(57)【要約】      （修正有）【課題】液浸空間を介して物体に光を照射する。【解決手段】光照射装置は、物体を保持する保持部材を有するステージ７と、ステージの上方に位置し、且つ、物体及びステージ７の上面の少なくとも一方との間に液浸空間ＬＳを形成する第１下面を含む液浸部材６とを備え、光学部材の光軸に垂直な所定方向に沿った第１下面の外縁のサイズは、物体のサイズに応じて定まるステージ７の所定部位のサイズ及び物体のサイズの少なくとも一方よりも大きい。【選択図】図１２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
液浸空間を介して物体に光学部材からの光を照射する光照射装置であって、
物体を保持する保持部材を有し且つ移動可能なステージと、
前記ステージの上方に位置し、且つ、前記保持部材に保持された前記物体及び前記ステージの上面の少なくとも一方との間に前記液浸空間を形成する第１下面を含む液浸部材と
を備え、
前記光学部材の光軸に垂直な所定方向に沿った前記第１下面の外縁のサイズは、前記物体のサイズに応じて定まる前記ステージの所定部位のサイズ及び前記保持部材に保持される前記物体のサイズの少なくとも一方よりも大きい光照射装置。
【請求項２】
前記物体は、円形の基板であり、
前記物体のサイズは、前記基板の直径である
請求項１に記載の光照射装置。
【請求項３】
前記所定部位のサイズは、前記所定方向に沿ったサイズである
請求項１又は２に記載の光照射装置。
【請求項４】
前記所定部材のサイズは、前記保持部材の上面のサイズである
請求項１から３のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項５】
前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記所定方向において、前記第１下面の外縁が、前記保持部材の前記上面の外縁よりも外側に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する
請求項４に記載の光照射装置。
【請求項６】
前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記光軸に垂直な所定面内において、前記第１下面の外縁が、前記保持部材の前記上面の外縁よりも外側に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する
請求項４又は５に記載の光照射装置。
【請求項７】
前記ステージは、前記保持部材が配置される凹部を有し、
前記ステージの上面は、前記凹部の周囲に配置され、
前記所定部材のサイズは、前記凹部のサイズである
請求項１から６のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項８】
前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記所定方向において、前記第１下面の外縁が、前記凹部の内壁よりも外側に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する
請求項７に記載の光照射装置。
【請求項９】
前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記光軸に垂直な所定面内において、前記第１下面の外縁が、前記凹部の内壁よりも外側に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する
請求項７又は８に記載の光照射装置。
【請求項１０】
前記第１下面の外縁のサイズは、前記所定部位のサイズ及び前記保持部材に保持される前記物体のサイズの少なくとも一方の少なくとも２倍である
請求項１から９のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項１１】
前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記物体の上面が、前記液浸空間内に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する
請求項１から１０のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項１２】
液浸空間を介して物体に光学部材からの光を照射する光照射装置であって、
物体を保持する保持部材を有し且つ移動可能なステージと、
前記ステージの上方に位置し、且つ、前記保持部材に保持された前記物体及び前記ステージの上面の少なくとも一方との間に前記液浸空間を形成する第１下面を含む液浸部材と
を備え、
前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記物体の上面が、前記液浸空間内に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する光照射装置。
【請求項１３】
前記液浸部材は、前記液浸空間に液体を供給する供給口と、前記液浸空間から液体を回収する回収口の少なくとも一方を備える
請求項１から１２のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項１４】
前記液浸部材は、前記供給口を備え、
前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記供給口を介して前記液体を供給しない
請求項１３に記載の光照射装置。
【請求項１５】
前記液浸部材は、前記回収口を備え、
前記ステージを移動しながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記回収口を介して前記液体を回収しない
請求項１３又は１４に記載の光照射装置。
【請求項１６】
前記液浸部材は、前記供給口と、前記回収口とを備え、
前記物体に前記光が照射されている期間中に、前記供給口からの前記液体の供給及び前記回収口からの前記液体の回収の少なくとも一方が停止され、
前記物体に前記光が照射されていない期間の少なくとも一部において、前記供給口からの前記液体の供給及び前記回収口からの前記液体の回収が行われる
請求項１３から１５のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項１７】
前記液浸部材は、前記光が通過する開口に対して前記第１下面よりも外側且つ上方に位置する第２下面を含み、
前記液浸部材は、前記回収口を前記第２下面に備える
請求項１３から１６のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項１８】
前記液浸部材は、前記供給口を前記第１下面に備える
請求項１７に記載の光照射装置。
【請求項１９】
前記液浸部材は、前記光が通過する開口に対して前記第１下面よりも外側且つ上方に位置する第２下面を含み、
前記液浸部材は、前記供給口を前記第１下面に備える
請求項１３から１６のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２０】
前記ステージは、第１方向に沿って移動可能であり、
前記液浸部材は、前記回収口を、前記第１方向に直交する第２方向において前記第１下面の外側に備える
請求項１３から１９のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２１】
前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われ、
前記複数の領域の少なくとも一部は、前記第１方向に並んでいる
請求項２０に記載の光照射装置。
【請求項２２】
前記液浸部材は、前記光が通過する開口に対して前記第１下面よりも外側且つ上方に位置する第２下面を含む
請求項１から１６のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２３】
前記液浸部材には、前記第１下面と前記第２下面との間の面に溝が形成されている
請求項１７から１９及び２２のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２４】
前記液浸部材は、前記光学部材を保持する
請求項１から２３のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２５】
前記光照射装置は、前記液浸空間を介して照射される前記光を用いて前記物体を露光する液浸露光装置である
請求項１から２４のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２６】
前記液浸部材は、前記保持部材に前記物体が搬入される期間及び前記保持部材から前記物体が搬出される期間の少なくとも一部において、前記ステージの上面との間に前記液浸空間を形成する
請求項１から２５のいずれか一項に記載の光照射装置。
【請求項２７】
請求項１から２６のいずれか一項に記載の光照射装置を用いて、前記物体を露光する露光装置。
【請求項２８】
請求項１から２６のいずれか一項に記載の光照射装置を用いて、前記物体を露光する露光方法。
【請求項２９】
請求項１から２６のいずれか一項に記載の光照射装置を用いて感光剤が塗布された前記物体を露光し、当該物体にパターンを転写し、
露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成し、
前記露光パターン層を介して前記物体を加工するデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
開示された技術は、例えば、物体に光を照射する光照射装置、このような光照射装置を用いて物体を露光する露光装置及び露光方法、並びに、このような光照射装置を用いて物体を加工するデバイス製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
多くの種類の半導体デバイスを少量だけ製造するミニマルファブ（Ｍｉｎｉｍａｌ  Ｆａｂ）構想が提案されている。ミニマルファブ構想においても、半導体デバイスを製造するために、露光装置が使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１４／０３２０８４０号
【発明の概要】
【０００４】
光照射装置の第１の態様は、液浸空間を介して物体に光学部材からの光を照射する光照射装置であって、物体を保持する保持部材を有し且つ移動可能なステージと、前記ステージの上方に位置し、且つ、前記保持部材に保持された前記物体及び前記ステージの上面の少なくとも一方との間に前記液浸空間を形成する第１下面を含む液浸部材とを備え、前記光学部材の光軸に垂直な所定方向に沿った前記第１下面の外縁のサイズは、前記物体のサイズに応じて定まる前記ステージの所定部位のサイズ及び前記保持部材に保持される前記物体のサイズの少なくとも一方よりも大きい。
【０００５】
光照射装置の第２の態様は、液浸空間を介して物体に光学部材からの光を照射する光照射装置であって、物体を保持する保持部材を有し且つ移動可能なステージと、前記ステージの上方に位置し、且つ、前記保持部材に保持された前記物体及び前記ステージの上面の少なくとも一方との間に前記液浸空間を形成する第１下面を含む液浸部材とを備え、前記液浸部材は、前記ステージを移動させながら前記物体の複数の領域に前記光を照射する照射動作が行われる期間中に、前記物体の上面が、前記液浸空間内に位置し続けるように、前記液浸空間を形成する。
【０００６】
露光装置の第１の態様は、上述した光照射装置の第１又は第２の態様を用いて、前記物体を露光する。
【０００７】
露光方法の第１の態様は、上述した光照射装置の第１又は第２の態様を用いて、前記物体を露光する。
【０００８】
デバイス製造方法の第１の態様は、上述した光照射装置の第１又は第２の態様を用いて感光剤が塗布された前記物体を露光し、当該物体にパターンを転写し、露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成し、前記露光パターン層を介して前記物体を加工する。
【０００９】
本発明の作用及び他の利得は次に説明する実施するための形態から明らかにされる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施形態の露光装置の全体構成を示すブロック図である
【図２】図２（ａ）は、ＤＭＤの光反射面の構造を示す平面図であり、図２（ｂ）は、ＤＭＤの光反射面の一部の構造を示す斜視図であり、図２（ｃ）は、ＤＭＤが備えるミラー要素がとり得る２つの状態を示す側面図である。
【図３】図３（ａ）は、液浸部材及びステージの構成を示す断面図（ＸＺ平面に沿った断面図）である。
【図４】図４（ａ）は、液浸部材のサイズを示す平面図及び断面図であり、図４（ｂ）は、ステージのサイズを示す断面図及び平面図である。
【図５】図５（ａ）は、ウェハをローディングしている露光装置を示す断面図であり、図５（ｂ）は、ウェハを搬送する搬送アームを示す平面図である。
【図６】図６（ａ）は、ウェハをローディングしている露光装置を示す断面図であり、図６（ｂ）は、ウェハをローディングしている期間中のウェハとホルダと保持アームとの位置関係を示す断面図である。
【図７】図７は、ウェハをローディングしている露光装置を示す断面図である。
【図８】図８（ａ）は、ウェハの表面上における露光領域の移動経路の一例を示す平面図であり、図８（ｂ）及び図８（ｃ）は、それぞれ、複数のミラー要素の状態分布の一例を示す平面図である。
【図９】図９は、光源による露光光の射出のタイミング、ＤＭＤによる複数のミラー要素の状態遷移のタイミング及びステージの移動速度を示すタイミングチャートである。
【図１０】図１０（ａ）は、図９の期間ＡにおけるＤＭＤ及びステージの状態を示す断面図であり、図１０（ｂ）は、図９の期間ＢにおけるＤＭＤ及びステージの状態を示す断面図であり、図１０（ｃ）は、図９の期間ＣにおけるＤＭＤ及びステージの状態を示す断面図である。
【図１１】図１１は、ウェハ７１の上面に残留している液体ＬＱを除去するための除去動作を行っている露光装置を示す断面図である。
【図１２】図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、夫々、図８（ａ）に示す第１露光対象面の露光を開始した時点での液浸部材とステージとの位置関係を示す断面図及び平面図である。
【図１３】図１３（ａ）及び図１３（ｂ）は、夫々、図８（ａ）に示す第ｋ露光対象面の露光を終了した時点での液浸部材とステージとの位置関係を示す断面図及び平面図である。
【図１４】図１４は、液浸部材の他の構成を示す断面図（ＸＺ平面に沿った断面図）及び平面図である。
【図１５】図１５は、液浸部材の他の構成を示す断面図（ＸＺ平面に沿った断面図）及び平面図である。
【図１６】図１６は、第１変形例における投影光学系と液浸部材との位置関係を示す断面図である。
【図１７】図１７は、光反射面を示す平面図である。
【図１８】デバイスを製造する方法を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照しながら、光照射装置、露光装置及び露光方法、並びに、デバイス製造方法の実施形態について説明する。具体的には、光照射装置、露光装置及び露光方法、並びに、デバイス製造方法の実施形態が適用された露光装置ＥＸについて説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。
【００１２】
以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、露光装置ＥＸを構成する各構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、説明の便宜上、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれが水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、それぞれ、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。
【００１３】
（１）露光装置ＥＸの構成
初めに、図１から図４（ｂ）を参照しながら、露光装置ＥＸの構成について説明する。以下では、説明の便宜上、露光装置ＥＸの全体構成、露光装置ＥＸが備えるＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ）４の詳細な構成、並びに、露光装置ＥＸが備える液浸部材６及びステージ７の詳細な構成について順に説明する。
【００１４】
（１−１）露光装置ＥＸの全体構成
初めに、図１を参照しながら、露光装置ＥＸの全体構成について説明する。図１は、露光装置ＥＸの全体構成を示すブロック図である。
【００１５】
図１に示すように、露光装置ＥＸは、光源１と、照明光学系２と、導光光学系３と、ＤＭＤ４と、投影光学系５と、液浸部材６と、ステージ７と、コントローラ８とを、所定サイズの筐体内に備えている。筐体のサイズは、ミニマルファブに準拠したサイズ（例えば、幅２９４ｍｍ×奥行き４５０ｍｍ×高さ１４４０ｍｍのサイズ）である。但し、露光装置ＥＸの筐体のサイズは、ミニマルファブに準拠したサイズとは異なるサイズであってもよい。
【００１６】
光源１は、コントローラ８の制御下で、露光光ＥＬ１を射出する。光源１は、露光光ＥＬ１として、所定の周波数で明滅を繰り返すパルス光を射出する。つまり、光源１は、所定の発光時間（言い換えれば、パルス幅であり、例えば９マイクロ秒）で発光するパルス光を所定の周波数で射出する。露光光ＥＬ１は、波長が３６５ｎｍとなるｉ線である。この場合、光源１は、ｉ線を射出するＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）である。例えば、光源１は、マトリクス状に配置された４つのＬＥＤを備えている。
【００１７】
照明光学系２は、光源１から射出される露光光ＥＬ１の光量を均一化して、露光光ＥＬ２として射出する。照明光学系２が射出した露光光ＥＬ２は、ＤＭＤ４の光反射面４ａを照明する。上述したように、光源１がマトリクス状に配置された４つのＬＥＤを備えていることを考慮すると、光源１の発光点は、面積体とみなすことができる。この場合、照明光学系２は、フライアイレンズを備えていなくてもよい。従って、照明光学系２は、例えば、光源１から射出される露光光ＥＬ１を反射及び／又は屈折することで光反射面４ａに向けて露光光ＥＬ２を射出可能な光学素子（例えば、２つのリレーレンズ）を備えていればよい。この場合、照明光学系２は、像側テレセントリック光学系となる（つまり、照明光学系２から見てＤＭＤ４側がテレセントリック光学系となる）。
【００１８】
導光光学系３は、照明光学系２から射出される露光光ＥＬ２を偏向して、ＤＭＤ４の光反射面４ａに導く。導光光学系３は、光反射面４ａに対する露光光ＥＬ２の入射角度が所定角度となるように、露光光ＥＬ２を導く。但し、照明光学系２が光反射面４ａに向けて直接的に露光光ＥＬ２を射出する場合には、露光装置ＥＸは、導光光学系３を備えていなくてもよい。
【００１９】
ＤＭＤ４は、光反射面４ａを備える。光反射面４ａには、照明光学系２から導光光学系３を介して伝搬してくる露光光ＥＬ２が照射される。ＤＭＤ４は、光反射面４ａに照射された露光光ＥＬ２を、投影光学系５に向けて反射する。ＤＭＤ４は、露光光ＥＬ２を反射する際に、当該露光光ＥＬ２を、ウェハ７１に転写するべきデバイスパターン（つまり、半導体デバイス等のデバイスの回路パターン等）に応じて空間変調する。ここで、「光を空間変調する」とは、当該光の進行方向を横切る断面における当該光の振幅（強度）、光の位相、光の偏光状態、光の波長及び光の進行方向（言い換えれば、偏向状態）のうちの少なくとも１つである光特性の分布を変化させることを意味する。従って、ＤＭＤ４は、反射型の空間光変調器であるとも言える。
【００２０】
投影光学系５は、ＤＭＤ４によって空間変調された露光光ＥＬ３でウェハ７１に明暗パターンを投影する。投影光学系５は、露光光ＥＬ３でウェハ７１の表面（具体的には、ウェハ７１に塗布されている感光膜の表面）に、ＤＭＤ４による空間変調に応じた明暗パターンを投影する。
【００２１】
投影光学系５は、露光光ＥＬ３を、ウェハ７１の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡに照射する。つまり、投影光学系５は、ウェハ７１の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡが露光光ＥＬ３によって露光されるように、露光領域ＥＬＡに露光光ＥＬ３を照射する。投影光学系５の光軸ＡＸは、面状の露光領域ＥＬＡに直交する。面状の露光領域ＥＬＡは投影光学系５の光軸ＡＸ上に形成される。但し、面状の露光領域ＥＬＡは投影光学系５の光軸ＡＸから外れた位置に形成されてもよい。
【００２２】
投影光学系５は、縮小系である。本実施形態では、投影光学系５の投影倍率は、例えば１／１２０である。本実施形態における投影光学系５の解像度は、ＤＭＤ４の各ミラー要素４１（図２（ａ）から図２（ｃ）参照）の大きさ（各ミラー要素４１の一辺の寸法）に投影倍率を乗じた値よりも大きくなるように設定されている。但し、投影光学系５は、拡大系又は等倍系であってもよい。
【００２３】
液浸部材６は、液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、例えば純水である液体ＬＱで満たされた空間（言い換えれば、部分又は領域）を意味する。投影光学系５は、液浸空間ＬＳを介して、露光光ＥＬ３をウェハ７１に照射する。尚、液浸部材６の詳細な構成については、図３（ａ）から図４（ｂ）を参照しながら後に詳述する。
【００２４】
ステージ７は、ウェハ７１を保持可能である。ステージ７は、保持したウェハ７１をリリース可能である。尚、ステージ７の詳細な構成については、図３（ａ）から図４（ｂ）を参照しながら後に詳述する。
【００２５】
ウェハ７１は、デバイス（例えば、半導体デバイス）を製造するための基板である。ウェハ７１は、所定の大きさ（例えば、１２．５ｍｍ）の直径を有する円盤状の形状を有するが、その他の形状を有していてもよい。ウェハ７１は、例えば半導体ウェハ等の基材と、当該基材上に形成された感光膜とを含んでいる。感光膜は、例えば、感光材（例えば、フォトレジスト）の膜である。
【００２６】
ステージ７は、コントローラ８の制御下で、ウェハ７１を保持した状態で、露光領域ＥＬＡを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。ステージ７は、ウェハ７１が露光されている期間中に移動可能である。ウェハ７１が露光されている期間中におけるステージ７の移動速度の最大値は、例えば秒速１０ｍｍであってもよい。ステージ７は、ウェハ７１が露光されていない期間中に移動可能である。ウェハ７１が露光されていない期間中におけるステージ７の移動速度の最大値は、例えば秒速１００ｍｍであってもよい。ステージ７は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向、Ｚ軸方向、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。例えば、ステージ７は、モータ（例えば、平面モータや、リニアモータや、その他のモータ）を含むステージ駆動系７２の動作により移動してもよい。
【００２７】
ステージ７のＸＹ平面内での位置（但し、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿った回転角度を含んでいてもよい）は、位置計測装置７３（例えば、レーザ干渉計やエンコーダ等）によって、常時計測されている。位置計測装置７３の計測結果は、コントローラ８に出力される。
【００２８】
コントローラ８は、露光装置ＥＸの動作を制御する。コントローラ８は、例えば、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）や、メモリを含んでいてもよい。例えば、コントローラ８は、光源１による露光光ＥＬ１の射出動作を制御する。具体的には、コントローラ８は、所定のパルス幅を有すると共に所定の周波数でパルス発光するパルス光を露光光ＥＬ１として適切なタイミングで射出するように光源１を制御する。更に、コントローラ８は、ＤＭＤ４による露光光ＥＬ２の空間変調動作を制御する。具体的には、コントローラ８は、デバイスパターンに基づいて、複数のミラー要素４１の状態を制御する。更に、コントローラ８は、ステージ７の移動を制御する。具体的には、コントローラ８は、露光領域ＥＬＡがウェハ７１の表面上を所望の移動経路を通って相対的に移動するように、位置計測装置７３の計測結果等に基づいてステージ駆動系７２を制御する。
【００２９】
（１−２）ＤＭＤ４の構成
続いて、図２（ａ）から図２（ｃ）を参照しながら、ＤＭＤ４の構成について説明する。図２（ａ）は、ＤＭＤ４の光反射面４ａの構造を示す平面図である。図２（ｂ）は、ＤＭＤ４の光反射面４ａの一部の構造を示す斜視図である。図２（ｃ）は、ＤＭＤ４が備えるミラー要素４１がとり得る２つの状態を示す側面図である。
【００３０】
図２（ａ）及び図２（ｂ）に示すように、ＤＭＤ４は、複数のミラー要素４１を備えている。尚、図２（ｂ）は、図面の見易さを考慮して、図２（ａ）に示す複数のミラー要素４１の一部を抜粋した図面である。複数のミラー要素４１は、光反射面４ａに平行な面であるＸＹ平面上において、二次元のアレイ状に（言い換えれば、マトリクス状に）配列されている。例えば、複数のミラー要素４１のＹ軸方向に沿った配列数は、数百から数千（例えば、１０８０）である。例えば、複数のミラー要素４１のＸ軸方向に沿った配列数は、数百から数千（例えば、１９２０）である。複数のミラー要素４１は、Ｘ軸方向に沿って所定の配置間隔ｐｘの間隔を隔て且つＹ軸方向に沿って所定の配置間隔ｐｙの間隔を隔てるように、配列されている。
【００３１】
各ミラー要素４１は、正方形の形状を有している。各ミラー要素４１の大きさ（各ミラー要素の一辺の寸法）は、例えば、１０．８μｍである。尚、各ミラー要素４１の大きさが１０．８μｍである場合には、複数のミラー要素４１のＸ軸方向に沿った配列数及びＹ軸方向に沿った配列数が、夫々、１９２０及び１０８０であるとすると、Ｘ軸方向に沿った光反射面４ａの大きさが約２０．７ｍｍとなり、Ｙ軸方向に沿った光反射面４ａの大きさが約１１．７ｍｍとなる。また、投影光学系５の解像度は、各ミラー要素４１の分解能である９０ｎｍ（＝１０．８μｍ／１２０）よりも大きな値（例えば、１８０ｎｍ）に設定されてもよい。また、Ｘ軸方向に沿った露光領域ＥＬＡのサイズが約０．１７３ｍｍとなり、Ｙ軸方向に沿った露光領域ＥＬＡのサイズが約０．０９８ｍｍとなる。
【００３２】
各ミラー要素４１のうち露光光ＥＬ２が照射される面は、露光光ＥＬ２を反射する反射面４１ａとなっている。各ミラー要素４１のＸＹ平面に平行な２つの表面のうち−Ｚ方向側に位置する表面は、反射面４１ａとなっている。反射面４１ａには、例えば反射膜が形成されている。反射膜としては、例えば金属膜や誘電体多層膜を用いてもよい。複数のミラー要素の４１の反射面４１ａの集合が、実質的には、露光光ＥＬ２が照射される光反射面４ａとなる。
【００３３】
図２（ｃ）に示すように、各ミラー要素４１の状態は、露光光ＥＬ２を投影光学系５に向けて反射可能な第１状態と、露光光ＥＬ２を投影光学系５に向けて反射しない第２状態との間で切り替わる。例えば、不図示のアクチュエータは、ＸＹ平面に沿った軸周りに各ミラー要素４１を回転させる。その結果、各ミラー要素４１の状態は、第１及び第２状態の間で切り替わる。
【００３４】
ミラー要素４１が第１状態にある場合には、当該ミラー要素４１は、露光光ＥＬ２を投影光学系５（特に、その入射面）に向けて反射する。このため、第１状態にあるミラー要素４１は、ウェハ７１上に明パターンを形成する。他方で、ミラー要素４１が第２状態にある場合には、当該ミラー要素４１は、露光光ＥＬ２を投影光学系５（特に、その入射面）に向けて反射しない。言い換えれば、ミラー要素４１は、露光光ＥＬ２を投影光学系５が存在する領域とは異なる領域に向けて反射する。このため、第２状態にあるミラー要素４１は、ウェハ７１上に暗パターンを形成する。その結果、ウェハ７１は、デバイスパターンに対応する明暗パターンで露光される。
【００３５】
ＤＭＤ４は、コントローラ８の制御下で、ウェハ７１に転写するべきデバイスパターンに応じて、複数のミラー要素４１の状態を制御する。具体的には、コントローラ８は、ウェハ７１に転写するべきデバイスパターンに応じて、複数のミラー要素４１の状態の分布（言い換えれば、配列）を決定する。例えば、コントローラ８は、複数のミラー要素４１のそれぞれが第１状態となるべきか又は第２状態となるべきかを決定することで、複数のミラー要素４１の状態の分布を決定する。
【００３６】
（１−３）液浸部材６及びステージ７の構成
続いて、図３（ａ）及び図３（ｂ）を参照しながら、液浸部材６及びステージ７の構成について説明する。図３（ａ）は、液浸部材６及びステージ７の構成を示す断面図（ＸＺ平面に沿った断面図）である。図３（ｂ）は、ステージ７を示す平面図（ＸＹ平面に沿った平面図）である。尚、以下の説明では、特段の説明がない場合には、“上側（上方側）”は、＋Ｚ方向側を意味するものとする。“下側（下方側）”は、−Ｚ方向側を意味するものとする。“内側”とは、光軸ＡＸの放射方向における内側であって、光軸ＡＸに近づく側を意味するものとする。“外側”とは、光軸ＡＸの放射方向における外側であって、光軸ＡＸから遠ざかる側を意味するものとする。
【００３７】
図３（ａ）に示すように、液浸部材６は、投影光学系５及び液浸部材６の下側で移動可能なステージ７との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。ステージ７がウェハ７１を保持しているため、液浸部材６は、投影光学系５及び液浸部材６の下側で移動可能なウェハ７１との間に液浸空間ＬＳを形成可能である。
【００３８】
液浸部材６は、投影光学系５から射出される露光光ＥＬ３の光路が液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。具体的には、投影光学系５は、露光光ＥＬ３が射出される終端光学素子５１を備えている。終端光学素子５１の光軸は、投影光学系５の光軸ＡＸと一致している。終端光学素子５１は、ステージ７に対向可能であって且つ下側を向いている射出面５１１と、射出面５１１の周囲に配置されており且つ外側を向いている外側面５１２とを備えている。露光光ＥＬ３は、投影光学系５の射出面５１１からウェハ７１に向けて射出される。従って、液浸部材６は、射出面５１１とウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方との間の光路が液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。
【００３９】
このような液浸空間ＬＳを形成するために、液浸部材６は、下面６１と、外側面６２と、下面６３と、内側面６４とを備えている。
【００４０】
下面６１は、下側を向いている。下面６１は、ＸＹ平面に平行である。下面６１は、液浸空間ＬＳを介して、ウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方に対向可能である。下面６１は、射出面５１１の周囲に位置する。下面６１は、ＸＹ平面上において、射出面５１１を取り囲むことが可能な環状の形状を有する。下面６１は、射出面５１１と同じ高さに位置するが、射出面５１１よりも上側又は下側に位置してもよい。
【００４１】
外側面６２は、外側を向いている。外側面６２は、Ｚ軸に平行である。外側面６２は、下面６１の外側の端部から上側に向かって延びる。
【００４２】
下面６３は、下側を向いている。下面６３は、ＸＹ平面に平行である。下面６３は、ウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方に対向可能である。下面６３は、外側面６２の上側の端部から外側に向かって延びる。下面６３は、ＸＹ平面上において、下面６１の周囲に分布する環状の形状を有する。下面６３は、下面６１よりも上側に位置する。
【００４３】
内側面６４は、内側を向いている。内側面６４は、Ｚ軸に平行である。内側面６４は、下面６１の内側の端部から上側に向かって延びる。内側面６４は、終端光学素子５１の外側面５１２に対向する。内側面６４は、外側面５１２に平行である。
【００４４】
液浸部材６には、開口６６が形成されている。開口６６は、内側面６４の内側に形成されている。開口６６は、内側面６４によって規定される。ＸＹ平面上における開口６６の中心は、光軸ＡＸに一致している。開口６６には、投影光学系５の少なくとも一部（例えば、終端光学素子５１）が配置される。
【００４５】
液浸部材６は、更に、供給口６８と、回収口６９とを備えている。液浸部材６は、単一の供給口６８を備えていてもよいし、複数の供給口６８を備えていてもよい。液浸部材６は、単一の回収口６９を備えていてもよいし、複数の回収口６９を備えていてもよい。
【００４６】
供給口６８は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＳを供給する。供給口６８は、下面６１に形成されている。供給口６８には、液浸部材６内に形成される供給路６８ａを介して、露光装置ＥＸが備える液体供給装置１００から液体ＬＱが供給される。液体供給装置１００は、露光装置ＥＸの外部に設置される純水製造装置等の液体製造装置から液体ＬＱの供給を受ける。液体ＬＱは、供給口６８から、下面６１とウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方との間の空間に供給される。その結果、下面６１とウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方との間に液浸空間ＬＳが形成される。液体ＬＱは、更に、供給口６８から、内側面６４と終端光学素子５１との間の空間に供給されてもよい。その結果、内側面６４と終端光学素子５１との間に液浸空間ＬＳが形成されてもよい。
【００４７】
液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの上端は、下面６１とウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方との間に形成される。具体的には、下面６１が下面６３よりも下側に位置しているため、下面６１は、下面６３から下側に突き出た凸部を実質的に形成していると言える。このため、界面ＬＧの上端は、下面６１が構成する凸部とウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方との間に界面ＬＧの上端がとどまる現象（いわゆる、ピンニング現象）によって、下面６１とウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方との間に形成される。このため、界面ＬＧの上端は、外側面６２よりも内側に形成される。更に、界面ＬＧの上端は、下面６１のうち外側面６２に沿って分布する環状領域（つまり、下面６１の外縁付近に分布する環状領域）に形成される。更に、界面ＬＧの上端は、供給口６８よりも外側に形成される。
【００４８】
回収口６９は、液浸空間ＬＳから液体ＬＱを回収する。回収口６９は、下面６３に形成されている。回収口６９は、溝６５を介して液浸空間ＬＳから下面６３に漏れ出てくる液体ＬＱを回収する。溝６５は、下面６１の少なくとも一部と下面６３の少なくとも一部との間の面に形成される。溝６５は、下面６１の少なくとも一部と下面６３の少なくとも一部とを結ぶように形成される。回収口６９は、下面６３のうち開口６６から＋Ｘ方向及び−Ｘ方向のいずれか一方（後述するステップ方向）に向かってシフトした面部分に形成されている。尚、供給口６８もまた、下面６１のうち開口６６から＋Ｘ方向及び−Ｘ方向のいずれか他方（後述するステップ方向）に向かってシフトした面部分に形成されている。このため、回収口６９は、Ｘ軸方向に沿って供給口６８との間に開口６６が位置するように形成されている（図４（ａ）参照）。回収口６９から回収された液体ＬＱは、液浸部材６内に形成される回収路６９ａを介して、露光装置ＥＸが備える液体回収装置１９９によって回収される。液体回収装置１９９は、露光装置ＥＸの外部に設置される純水製造装置等の液体製造装置に対して、回収した液体ＬＱを供給してもよい。
【００４９】
続いて、ステージ７は、ウェハ７１及びステージ７の少なくとも一方の上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、ウェハ７１を保持しながら液浸部材６及び投影光学系５の下側で移動可能である。ウェハ７１を保持しながら移動するために、ステージ７は、ステージ部材７４と、ホルダ７５とを備える。
【００５０】
ステージ部材７４は、ステージ駆動系７２の動作により移動する。ステージ部材７４には、ホルダ７５が収容される凹部（空間）７６が形成されている。ステージ部材７４は、ホルダ７５が凹部７６内に収容されるように、ホルダ７５を保持する。その結果、ステージ部材７４の移動に伴い、ホルダ７５もまたステージ部材７４と同様に移動する。
【００５１】
ステージ部材７４は、上面７４１と、内側面７４２と、上面７４３と、内側面７４４とを備えている。
【００５２】
上面７４１は、上側を向いている。上面７４１は、ＸＹ平面に平行である。上面７４１は、液浸部材６（特に、下面６１及び６３）及び投影光学系５（特に、終端光学素子５１）の少なくとも一方に対向可能である。上面７４１は、ＸＹ平面上において、凹部７６の周囲に分布する。上面７４１は、液浸部材６及び投影光学系５との間に液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳの界面ＬＧは、液浸部材６と上面７４１及びウェハ７１の少なくとも一方との間に形成される。
【００５３】
内側面７４２は、内側を向いている。内側面７４２は、Ｚ軸に平行である。内側面７４２は、上面７４１の内側の端部から下側に向かって延びる。内側面７４２は、凹部７６のうちの第１凹部７６ａを規定する。第１凹部７６ａは、内側面７４２の内側に形成される。ＸＹ平面に沿った内側面７４２の形状は、円形である（図３（ｂ）参照）。このため、ＸＹ平面に沿った第１凹部７６ａの形状もまた、円形である（図３（ｂ）参照）。
【００５４】
上面７４３は、上側を向いている。上面７４３は、ＸＹ平面に平行である。上面７４３は、内側面７４２の下側の端部から内側に向かって延びる。上面７４３は、凹部７６のうちの第１凹部７６ａを規定する。第１凹部７６ａは、上面７４３の上側に形成される。ＸＹ平面に沿った上面７４３の形状は、環状の形状である。上面７４３には、回収口７４５が形成されている。回収口７４５は、ステージ部材７４とホルダ７５との間の隙間を介して液浸空間ＬＳから凹部７６に漏れ出した液体ＬＱを回収する。回収口７４５から回収された液体ＬＱは、ステージ部材７４内に形成される回収路７４５ａを介して、液体回収装置１９９によって回収される。
【００５５】
内側面７４４は、内側を向いている。内側面７４４は、Ｚ軸に平行である。内側面７４４は、上面７４３の内側の端部から下側に向かって延びる。内側面７４４は、凹部７６のうちの第２凹部７６ｂを規定する。第２凹部７６ｂは、内側面７４４の内側に形成される。ＸＹ平面に沿った内側面７４４の形状は、円形である。このため、ＸＹ平面に沿った第２凹部７６ｂの形状もまた、円形である。
【００５６】
ホルダ７５は、ウェハ７１を保持する。ホルダ７５は、不図示のホルダ駆動系の動作により、ウェハ７１を保持したまま又はウェハ７１を保持することなく、Ｚ軸及びθＺ軸のうちの少なくとも一方に沿って移動可能である。従って、凹部７６は、ホルダ７５を保持するために形成される空間であると共に、ホルダ７５が移動可能な空間でもある。
【００５７】
ウェハ７１を保持するために、ホルダ７５は、保持部７５ａと、軸部７５ｂとを備えている。保持部７５ａは、ウェハ７１を保持する。保持部７５ａは、ＸＹ平面に沿って広がる形状を有している。ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの形状は、円形である（図３（ｂ）参照）。ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの大きさ（言い換えれば、幅ないしは直径）は、ＸＹ平面に沿ったウェハ７１の大きさ（言い換えれば、幅ないしは直径）と同じである。保持部７５ａは、軸部７５ｂの上側に位置する。保持部７５ａの底面（下面）は、軸部７５ｂの上面に連結されている。軸部７５ｂは、Ｚ軸方向に沿って延びる形状を有している。ＸＹ平面に沿った軸部７５ｂの形状は、円形である。ＸＹ平面に沿った軸部７５ｂの大きさ（言い換えれば、幅ないしは直径）は、ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの大きさよりも小さい。
【００５８】
軸部７５ｂは、不図示のホルダ駆動系の動作により、Ｚ軸に沿って移動可能である。軸部７５ｂの移動に伴って、軸部７５ｂに連結されている保持部７５ａもまた、Ｚ軸及びθＺ軸のうちの少なくとも一方に沿って移動可能である。保持部７５ａ及び軸部７５ｂの移動に伴って、保持部７５ａは、第１凹部７６ａ内を移動する。或いは、保持部７５ａ及び軸部７５ｂの移動に伴って、保持部７５ａは、保持部７５ａの少なくとも一部が凹部７６の外側に位置するように移動する。このため、ＸＹ平面に沿った第１凹部７６ａの大きさ（言い換えれば、幅ないしは直径）は、ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの大きさよりも大きい。保持部７５ａ及び軸部７５ｂの移動に伴って、軸部７５ｂは、第１凹部７６ａのみならず、第２凹部７６ｂ内をも移動する。このため、ＸＹ平面に沿った第２凹部７６ｂの大きさ（言い換えれば、幅ないしは直径）は、ＸＹ平面に沿った軸部７５ｂの大きさよりも大きい。但し、保持部７５ａが第２凹部７６ｂ内を移動することがないため、ＸＹ平面に沿った第２凹部７６ｂの大きさは、ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの大きさよりも大きくなくてもよい。
【００５９】
保持部７５ａは、上面７５１を備えている。上面７５１は、ウェハ７１が保持される面である。ＸＹ平面に沿った上面７５１の形状は、円形である（図３（ｂ）参照）。ウェハ７１が露光光ＥＬ３で露光されている間は、上面７５１に保持されたウェハ７１の上面は、ステージ部材７４の上面７４１と同じ高さに位置する。
【００６０】
図３（ｂ）に示すように、上面７５１には、少なくとも一つの吸着孔７５３が形成されている。図３（ｂ）に示す例では、上面７５１には、４つの吸着孔７５３が形成されている。吸着孔７５３は、上面７５１に保持されたウェハ７１を真空吸着する。このため、吸着孔７５３は、ホルダ７５の内部に形成される排気管７５３ａを介して、外部の真空ポンプに接続されている。尚、図３（ｂ）では、上面７５１の構成を明確に示すために、上面７５１が保持するウェハ７１の記載が省略されている。
【００６１】
上面７５１には更に、少なくとも一つのガイド溝７５４が形成されている。図３（ｂ）に示す例では、上面７５１には、２つのガイド溝７５４が形成されている。ガイド溝７５４には、ウェハ７１がステージ７にロードされる又はウェハ７１がステージ７からアンロードされる際に、ウェハ７１を搬送する搬送アームＡＲＭ（図５（ｂ）参照）の一部が収容される。
【００６２】
ステージ駆動系７２の動作により移動するステージ部材７４の熱が、ホルダ７５が保持するウェハ７１に伝搬されることを抑制するために、ステージ部材７４とホルダ７５とは、熱的に絶縁されている。
【００６３】
本実施形態では、液浸部材６及びステージ７は、以下に説明するサイズ条件を満たしている。以下、図４（ａ）から図４（ｂ）を参照しながら、液浸部材６及びステージ７が満たすべきサイズ条件について説明する。図４（ａ）は、液浸部材６のサイズを示す平面図及び断面図である。図４（ｂ）は、ステージ７のサイズを示す断面図及び平面図である。
【００６４】
図４（ａ）に示すように、ＸＹ平面に沿った液浸部材６の下面６１の外縁の大きさ（例えば、Ｘ軸方向又はＹ軸方向に沿った大きさ、以下同じ）が、ｄ６であるものとする。尚、ここでいう「下面６１の外縁の大きさ」は、ＸＹ平面上における液浸部材６の開口６６の中心（つまり、光軸ＡＸ）を通り且つＸＹ平面に平行な（つまり、光軸ＡＸに垂直な）仮想的な直線Ｌ６上における下面６１の外縁の大きさを意味するものとする。また、図４（ｂ）に示すように、ＸＹ平面に沿った上面７５１の大きさが、ｄ７１であるものとする。尚、ここでいう「上面７５１の大きさ」は、上面７５１の中心を通り且つＸＹ平面に平行な（つまり、光軸ＡＸに垂直な）仮想的な直線Ｌ７１上における上面７５１の大きさ（つまり、上面７５１の直径）を意味するものとする。また、図４（ｂ）に示すように、ＸＹ平面に沿った凹部７６（特に、第１凹部７６ａ）の大きさが、ｄ７２であるものとする。尚、ここでいう「凹部７６の大きさ」は、ＸＹ平面上における凹部７６の中心を通り且つＸＹ平面に平行な（つまり、光軸ＡＸに垂直な）仮想的な直線Ｌ７２上における上面７５１の大きさ（つまり、上面７５１の直径）を意味するものとする。尚、本実施形態では、ＸＹ平面上における上面７５１の中心、ＸＹ平面上における凹部７６の中心、及び、ＸＹ平面上におけるウェハ７１の中心は一致するものとする。つまり、直線Ｌ７１、直線Ｌ７２、及び、直線Ｌ７３は一致するものとする。
【００６５】
本実施例では、液浸部材６及びステージ７は、「ｄ６＞ｄ７１」というサイズ条件＃１１を満たす。ここで、液浸空間ＬＳの界面ＬＧが液浸部材６の下面６１に形成されることを考慮すると、ＸＹ平面に沿った下面６１の外縁の大きさが大きくなるほど、ＸＹ平面に沿った液浸空間ＬＳの大きさもまた大きくなる。このため、サイズ条件＃１１が満たされる場合には、下面６１の外縁の大きさは、上面７５１の大きさよりも大きくなる。従って、サイズ条件＃１１が満たされる場合には、上面７５１の全体（更には、上面７５１が保持するウェハ７１の上面の全体）が液浸空間ＬＳに面することが可能になる。
【００６６】
ウェハ７１の全体が液浸空間ＬＳに面する場合は、液浸空間ＬＳの界面ＬＧがウェハ７１の外側に形成される。つまり、界面ＬＧがウェハ７１上に形成されない。このため、ステージ７の移動に伴って液浸空間ＬＳから分離してしまった液体ＬＱがウェハ７上に残る残水の発生が防止可能である。残水の発生が露光不良を引き起こす可能性があることを考慮すれば、露光装置ＥＸは、残水の発生に起因した露光不良を適切に抑制しながら、ウェハ７１を露光することができる。
【００６７】
但し、上述したように、ウェハ７１が露光されている期間中にステージ７が移動可能である。このため、ステージ７が移動しながらウェハ７が露光されている期間中に渡ってウェハ７１の上面の全体が液浸空間ＬＳに面するように、液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件を満たしていてもよい。言い換えれば、ステージ７が移動しながらウェハ７が露光されている期間中に渡ってウェハ７１の上面の全体が液浸空間ＬＳ内に位置し続けるように、液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件を満たしていてもよい。本実施形態では、液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件として、「ｄ６≧２×ｄ７１」というサイズ条件＃１２を満たす。
【００６８】
尚、液浸部材６及びステージ７は、「ｄ６＞ｄ７１」というサイズ条件＃１１に加えて、「ｄ６＞ｄ７２」というサイズ条件＃２１を満たしていてもよい。特に、液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件として、「ｄ６≧２×ｄ７１」というサイズ条件＃１２に加えて、「ｄ６≧２×ｄ７２」というサイズ条件＃２２を満たしていてもよい。但し、図４（ｂ）から分かるように、ホルダ７５とステージ部材７４との間に隙間が存在する限りは、ｄ７２はｄ７１よりも常に大きくなる。従って、液浸部材６及びステージ７がサイズ条件＃２１を満たしている場合には、液浸部材６及びステージ７は、サイズ条件＃１１を満たしている。同様に、液浸部材６及びステージ７がサイズ条件＃２２を満たしている場合には、液浸部材６及びステージ７は、サイズ条件＃１２を満たしている。尚、ホルダ７５とステージ部材７４との間に隙間が存在しない場合であっても、ｄ７２は常にｄ７１以上になる。従って、液浸部材６及びステージ７がサイズ条件＃２１（サイズ条件＃２２）を満たしている場合には、液浸部材６及びステージ７は、サイズ条件＃１１（サイズ条件＃１２）を満たしていることに変わりはない。
【００６９】
また、上述したように、ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの大きさ（つまり、上面７５１の大きさ）は、ＸＹ平面に沿ったウェハ７１の大きさと同一である。しかしながら、上面７５１がウェハ７１を適切に保持する限りは、ＸＹ平面に沿った保持部７５ａの大きさ（上面７５１の大きさ）は、ＸＹ平面に沿ったウェハ７１の大きさよりも大きく又は小さくなってもよい。この場合には、ＸＹ平面に沿ったウェハ７１の大きさがｄ７３であるものとすると、液浸部材６及びステージ７は、「ｄ６＞ｄ７１」というサイズ条件＃１１に加えて又は代えて、「ｄ６＞ｄ７３」というサイズ条件＃３１を満たしていてもよい。特に、液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件として、「ｄ６≧２×ｄ７１」というサイズ条件＃１２に加えて、「ｄ６≧２×ｄ７３」というサイズ条件＃３２を満たしていてもよい。
【００７０】
また、上述した「上面７５１の大きさｄ７１」は、上面７５１が保持するウェハ７１の大きさｄ７３に応じて定まる大きさであるとも言える。なぜならば、ウェハ７１が大きくなるほど当該ウェハ７１を保持する上面７５１もまた大きくなり、ウェハ７１が小さくなるほど当該ウェハ７１を保持する上面７５１もまた小さくすることが可能であるからである。従って、「ｄ６＞ｄ７１」というサイズ条件＃１１及び「ｄ６≧２×ｄ７１」というサイズ条件＃１２の夫々は、ウェハ７１の大きさｄ７３に応じて定まるサイズ条件であるとも言える。
【００７１】
同様に、上述した「凹部７６の大きさｄ７２」もまた、ウェハ７１の大きさｄ７３に応じて定まる大きさであるとも言える。なぜならば、ウェハ７１が大きくなるほど当該ウェハ７１を保持する上面７５１（つまり、ホルダ７５）が大きくなるがゆえに、凹部７６もまた大きくなり、ウェハ７１が小さくなるほど当該ウェハ７１を保持する上面７５１（つまり、ホルダ７５）を小さくすることが可能になるがゆえに、凹部７６もまた小さくすることが可能であるからである。従って、「ｄ６＞ｄ７２」というサイズ条件＃２１及び「ｄ６≧２×ｄ７２」というサイズ条件＃２２の夫々は、ウェハ７１の大きさｄ７３に応じて定まるサイズ条件であるとも言える。
【００７２】
このため、本実施例では、液浸部材６及びステージ７は、ウェハ７１の大きさｄ７３に応じて定まるサイズ条件を満たすと言える。言い換えれば、液浸部材６及びステージ７は、ＸＹ平面に沿った下面６１の外縁の大きさｄ６が、ＸＹ平面に沿ったウェハ７１の大きさｄ７３に応じて定まる所定サイズよりも大きくなるというサイズ条件を満たすと言える。但し、「上面７５１の大きさｄ７１」、「凹部７６の大きさｄ７２」及び「ウェハ７１の大きさｄ７３」は、互いに密接に関連する。このため、液浸部材６及びステージ７は、上面７５１の大きさｄ７１、凹部７６の大きさｄ７２及びウェハ７１の大きさｄ７３のうちの少なくとも一つに応じて定まるサイズ条件を満たすとも言える。
【００７３】
尚、ステージ７は、上面７５１及び凹部７６に加えて、ウェハ７１の大きさｄ７３に応じてその大きさが定まる任意の部材（或いは、任意の面）を備えていてもよい。この場合には、液浸部材６及びステージ７は、上述したサイズ条件に加えて又は代えて、任意の部材（或いは、任意の面）の大きさｄ７４に応じて定まるサイズ条件を満たしていてもよい。つまり、液浸部材６及びステージ７は、「ｄ６＞ｄ７４」というサイズ条件＃４１を満たしていてもよい。液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件として、「ｄ６≧２×ｄ７４」というサイズ条件＃４２を満たしていてもよい。但し、この場合のサイズ条件もまた、上面７５１の全体（更には、上面７５１が保持するウェハ７１の上面の全体）が液浸空間ＬＳに面することが可能になる状態を実現可能なサイズ条件である。
【００７４】
上述したサイズ条件は、ウェハ７１の全体が液浸空間ＬＳに面するという状態を実現するためのサイズ条件である。従って、液浸部材６及びステージ７は、上述したサイズ条件とは異なる一方でウェハ７１の全体が液浸空間ＬＳに面するという状態を実現可能な任意のサイズ条件を満たしていてもよい。
【００７５】
（２）露光装置ＥＸ１の動作
続いて、本実施形態の露光装置ＥＸの動作（特に、露光動作）について説明する。まず、露光装置１は、ウェハ７１をローディングする。言い換えれば、ステージ７上にウェハ７１が搭載される。ここで、図５（ａ）から図７を参照しながら、ウェハ７１のローディングについて更に説明する。ウェハ７１がローディングされる場合には、ステージ７は、搬送装置がウェハ７１をステージ７にローディングするべきローディング位置にホルダ７５が位置するように移動する。ローディング位置は、液浸空間ＬＳよりも外側に位置する。言い換えれば、ローディング位置は、液浸部材６よりも外側に位置する。ステージ７が移動する間に、搬送装置は、ウェハ７１をローディング位置まで搬送する。その結果、図５（ａ）に示すように、ステージ７及びウェハ７１の双方がローディング位置に位置する。尚、この段階では、ウェハ７１は、ステージ７の上方に位置する。
【００７６】
図５（ａ）は、搬送装置の搬送アームＡＲＭがウェハ７１を保持しながら搬送する例を示している。搬送アームＡＲＭは、図５（ｂ）に示すように、ウェハ７１を吸着保持すると共にホルダ７５のガイド溝７５４に収容可能な形状を有する保持アームＡ１と、保持アームＡ１を搬送装置本体に連結する連結アームＡ２とを含む。保持アームＡ１の数は、ガイド溝７５４の数と同一である（或いは、少ない）。従って、図５（ｂ）に示す例では、搬送アームＡＲＭは、２つの保持アームＡ１を含む。
【００７７】
ステージ７及びウェハ７１の双方がローディング位置に位置した後、ホルダ７５は、上側に向かって移動する。その結果、図６（ａ）及び図６（ｂ）に示すように、保持部７５ａの上面７５１がウェハ７１の下面に接触する。この場合、図６（ｂ）に示すように、保持アームＡ１は、ガイド溝７５４内に収容される。上面７５１がウェハ７１の下面に接触した後も、ホルダ７５は、わずかに上側に向かって移動する。その結果、ウェハ７１の状態は、ウェハ７１が保持アームＡ１に保持されている状態から、ウェハ７１が上面７５１に保持されている状態へと切り替わる。ウェハ７１の状態が、ウェハ７１が上面７５１に保持されている状態へと切り替わった後、搬送アームＡＲＭは、ウェハ７１から離れる（ホルダ７５から離れる）ように移動する。
【００７８】
搬送アームＡＲＭがウェハ７１から離れた後、ホルダ７５は、上面７５１に保持されたウェハ７１の上面がステージ部材７４の上面７４１と同じ高さに位置するように、下側に向かって移動する。その結果、図７に示すように、ステージ７へのウェハ７１のローディングが完了する。
【００７９】
図５（ａ）から図７に示すように、ウェハ７１がステージ７にローディングされている期間中には、液浸部材６とステージ７との間には、液浸空間ＬＳが形成され続ける。
【００８０】
その後、ステージ７は、ローディングされたウェハ７１が投影光学系５の下側に位置するまで移動する。つまり、ステージ７は、ローディングされたウェハ７１の上面が液浸空間ＬＳ内に位置するようになるまで移動する。その後、露光装置１は、ウェハ７１を露光する。ここで、図８（ａ）から図８（ｃ）を参照しながら、本実施形態の露光装置ＥＸの動作（特に、露光動作）について説明する。図８（ａ）は、ウェハ７１の表面上における露光領域ＥＬＡの移動経路の一例を示す平面図である。図８（ｂ）及び図８（ｃ）は、それぞれ、複数のミラー要素４１の状態分布の一例を示す平面図である。
【００８１】
図８（ａ）に示すように、露光光ＥＬ３は、ウェハ７１の表面に設定される面状の露光領域ＥＬＡに照射される。露光領域ＥＬＡは、露光光ＥＬ３であるパルス光のうちの１回又は複数回のパルス発光によって露光される。その結果、露光光ＥＬ３は、ウェハ７１の表面のうち露光領域ＥＬＡと重なる少なくとも一部の面部分である露光対象面１１０に照射される。
【００８２】
露光領域ＥＬＡがウェハ７１の表面上を所望の移動経路を通って相対的に移動していくようにステージ７が移動する。図８（ａ）中に示す矢印は、露光領域ＥＬＡの移動経路の一例を示している。図８（ａ）に示す例では、ステージ７は、あるタイミングで露光領域ＥＬＡが＋Ｙ方向に向かって移動するように、−Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ７は、露光領域ＥＬＡが＋Ｘ方向に向かって移動するように、−Ｘ方向に向かって移動する。その後、ステージ７は、露光領域ＥＬＡが−Ｙ方向に向かって移動するように、＋Ｙ方向に向かって移動する。その後、ステージ７は、露光領域ＥＬＡが＋Ｘ方向に向かって移動するように、−Ｘ方向に向かって移動する。以降、ステージ７は、−Ｙ方向に向かう移動、−Ｘ方向に向かう移動、＋Ｙ方向に向かう移動及び−Ｘ方向に向かう移動を繰り返す。その結果、露光領域ＥＬＡは、ウェハ７１の表面を図８（ａ）中の矢印が示す経路を通って相対的に移動する。尚、以下では、必要に応じて、＋Ｘ方向及び−Ｘ方向を夫々ステップ方向と称し、＋Ｙ方向及び−Ｙ方向を夫々スキャン方向と称する。また、必要に応じて、＋Ｘ方向又は−Ｘ方向に向かうステージ７の移動を、ステップ移動と称し、＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に向かうステージ７の移動を、スキャン移動と称する。
【００８３】
ウェハ７１の表面は、複数の露光対象面１１０に区分可能である。この場合、ステージ７は、露光領域ＥＬＡが複数の露光対象面１１０に順次重なるように移動する。ステージ７は、露光領域ＥＬＡが複数の露光対象面１１０を順次トレースするように移動する。本実施形態では、複数の露光対象面１１０のうちのＹ軸方向に沿って隣接する２つの露光対象面１１０の一部が重複している。尚、図８（ａ）は、図面の見易さを考慮して、Ｙ軸方向に沿って隣り合う２つの露光対象面１１０が重複する様子を描画していない。但し、複数の露光対象面１１０のうちのＹ軸方向に沿って隣接する２つの露光対象面１１０の一部が重複しなくてもよい。
【００８４】
ステージ７の移動に伴って、露光領域ＥＬＡは、一の露光対象面１１０に重なる。露光領域ＥＬＡが一の露光対象面１１０に重なるタイミングで露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、一の露光対象面１１０）を露光するように、光源１は、露光光ＥＬ１を射出する。つまり、光源１は、露光領域ＥＬＡが一の露光対象面１１０に重なるタイミングと光源１によるパルス光の発光のタイミングとが一致するように、露光光ＥＬ１を射出する。更に、ＤＭＤ４が備える複数のミラー要素４１は、露光領域ＥＬＡが一の露光対象面１１０に重なる時点で、一の露光対象面１１０に対する露光によってウェハ７１に転写されるべきデバイスパターン（つまり、一の露光対象面１１０の下部に位置するウェハ７１に転写されるべきデバイスパターン）に基づく状態への遷移が完了している。言い換えれば、複数のミラー要素４１は、他の露光対象面１１０に重なっていた露光領域ＥＬＡが次に一の露光対象面１１０に重なるまでの間に、他の露光対象面１１０に対する露光によってウェハ７１に転写されるべきデバイスパターンに基づく状態（図８（ｂ）参照）から、一の露光対象面１１０に対する露光によってウェハ７１に転写されるべきデバイスパターンに基づく状態（図８（ｃ）参照）へと遷移する。このため、本実施形態では、光源１による露光光ＥＬ１の射出、ＤＭＤ４による複数のミラー要素４１の状態遷移及びステージ７の移動は、コントローラ８の制御下で、互いに同期しながら行われる。このような動作が繰り返されることで、複数の露光対象面１１０が順次露光される。
【００８５】
ここで、図８（ａ）に加えて図９及び図１０（ａ）から図１０（ｃ）を参照しながら、複数の露光対象面１１０を順次露光する動作について説明する。図９は、光源１による露光光ＥＬ１の射出のタイミング、ＤＭＤ４による複数のミラー要素４１の状態遷移のタイミング及びステージ７の移動速度を示すタイミングチャートである。図１０（ａ）は、図９の期間ＡにおけるＤＭＤ４及びステージ７の状態を示す断面図である。図１０（ｂ）は、図９の期間ＢにおけるＤＭＤ４及びステージ７の状態を示す断面図である。図１０（ｃ）は、図９の期間ＣにおけるＤＭＤ４及びステージ７の状態を示す断面図である。
【００８６】
以下では、図８（ａ）に示すように、第１露光対象面１１０−１に露光領域ＥＬＡが重なり、その後、Ｙ軸方向に沿って第１露光対象面１１０−１に隣接する第２露光対象面１１０−２に露光領域ＥＬＡが重なるように、ステージ７が−Ｙ方向に向かって所定の移動速度Ｖ１で移動する例について説明する。
【００８７】
まず、図９に示すように、時刻ｔ９１において露光領域ＥＬＡが第１露光対象面１１０−１に重なるものとする。この場合、図９及び図１０（ａ）に示すように、露光領域ＥＬＡが第１露光対象面１１０−１に重なる時刻ｔ９１において露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、第１露光対象面１１０−１）に照射されるように、光源１は、露光光ＥＬ１を射出する。光源１は、時刻ｔ９１から時刻ｔ９２までの期間Ａ（例えば、上述したパルス幅に相当する期間であって、例えば、９マイクロ秒）に渡って露光光ＥＬ１を射出する。加えて、ＤＭＤ４が備える複数のミラー要素４１は、時刻ｔ９１において、第１露光対象面１１０−１に転写されるべきデバイスパターンに基づく第１状態への遷移が完了している。ＤＭＤ４の状態は、時刻ｔ９１から時刻ｔ９２までの期間Ａに渡って第１状態に維持される。その結果、図１０（ａ）に示すように、第１露光対象面１１０−１の下部に位置するウェハ７１に、所望のデバイスパターンが転写される。
【００８８】
その後、図８（ａ）に示すように、第１露光対象面１１０−１から第２露光対象面１１０−２に向かって露光領域ＥＬＡが移動するように、ステージ７が移動する。その結果、図９に示すように、時刻ｔ９３において露光領域ＥＬＡが第２露光対象面１１０−２に重なるものとする。
【００８９】
図９及び図１０（ｂ）に示すように、時刻ｔ９２から時刻ｔ９３までの期間Ｂには、光源１は露光光ＥＬ１を射出しない。更に、期間Ｂには、ＤＭＤ４が備える複数のミラー要素４１は、第１露光対象面１１０−１に転写されるべきデバイスパターンに基づく第１状態から、第２露光対象面１１０−２に転写されるべきデバイスパターンに基づく第２状態へと遷移する。尚、第１状態（図１０（ａ）参照）と第２状態（図１０（ｃ）参照）とを比較すると、第２状態における明暗パターンは、第１状態における明暗パターンをＹ軸方向に沿って所定ピクセル分だけシフトすることで得られる明暗パターンを含む。所定ピクセル分は、ステージ７の移動速度Ｖ１に応じて定まる。
【００９０】
その後、図９及び図１０（ｃ）に示すように、露光領域ＥＬＡが第２露光対象面１１０−２に重なる時刻ｔ９３において露光光ＥＬ３が露光領域ＥＬＡ（つまり、第２露光対象面１１０−２）に照射されるように、光源１は、露光光ＥＬ１を射出する。光源１は、時刻ｔ９３から時刻ｔ９４までの期間Ｃ（例えば、上述したパルス幅に相当する期間であって、例えば、９マイクロ秒）に渡って露光光ＥＬ１を射出する。加えて、ＤＭＤ４が備える複数のミラー要素４１は、時刻ｔ９３において、第２状態への遷移が完了している。ＤＭＤ４の状態は、時刻ｔ９３から時刻ｔ９４までの期間Ｃに渡って第２状態に維持される。その結果、図１０（ｃ）に示すように、第２露光対象面１１０−１の下部に位置するウェハ７１に、所望のデバイスパターンが転写される。
【００９１】
以降は、図８（ａ）に示す移動経路を通って露光対象面ＥＬＡが移動するように、上述した動作が繰り返される。その結果、ウェハ７１の全面（言い換えれば、露光光ＥＬ３によって露光されるべき所望領域の全体）に渡ってデバイスパターンが転写される。
【００９２】
複数の露光対象面１１０が順次露光される期間中は、液浸部材６とステージ７及びウェハ７１との間には、液浸空間ＬＳが形成され続ける。但し、本字実施形態では、供給口６８は、複数の露光対象面１１０が順次露光される期間（つまり、図８（ａ）に示す例では、第１露光対象面１１０−１の露光を開始してから第ｋ露光対象面１１０−ｋの露光が完了するまでの期間であり、以降、適宜“露光期間”と称する）中は、液体ＬＱを供給しない。同様に、回収口６９は、露光期間中は、液体ＬＱを回収しない。一方で、供給口６８は、露光期間以外の期間（つまり、図５（ａ）に示す例では、第１露光対象面１１０−１の露光を開始する前の期間及び第ｋ露光対象面１１０−ｋの露光が完了した後の期間のうちの少なくとも一方であり、以降、適宜“非露光期間”と称する）のうちの少なくとも一部において、液体ＬＱを供給する。同様に、回収口６９は、非露光期間の少なくとも一部において、液体ＬＱを回収する。尚、非露光期間は、露光装置ＥＸにローディングされるウェハ７１が交換される期間を含んでいてもよい。つまり、非露光期間は、ウェハ７１がステージ７にローディングされる期間及びウェハ７１からステージ７がアンローディングされる期間を含んでいてもよい。露光装置１が露光光ＥＬ３等を計測するための計測機器を備えている場合には、非露光期間は、計測機器が露光光ＥＬ３等を計測する期間を含んでいてもよい。
【００９３】
但し、供給口６８は、露光期間の少なくとも一部において、液体ＬＱを供給してもよい。回収口６９は、露光期間の少なくとも一部において、液体ＬＱを回収してもよい。供給口６８は、非露光期間の少なくとも一部において、液体ＬＱを供給しなくてもよい。回収口６９は、非露光期間の少なくとも一部において、液体ＬＱを回収しなくてもよい。
【００９４】
ウェハ７１上の複数の露光対象面１１０の全てにデバイスパターンが転写された後には、露光装置ＥＸは、ウェハ７１をアンローディング（つまり、搬出）する。尚、ウェハ７１をアンローディングする動作の流れは、上述したウェハ７１をローディングする動作の流れと逆になるだけである。つまり、ステージ７は、搬送装置がウェハ７１をステージ７からアンローディングするアンローディング位置にホルダ７５が位置するように移動する。アンローディング位置は、液浸空間ＬＳよりも外側に位置する。言い換えれば、アンローディング位置は、液浸部材６よりも外側に位置する。ステージ７がアンローディング位置まで移動する間に、搬送装置は、搬送アームＡＲＭをアンローディング位置まで移動する。その後、ステージ７及びホルダ７５がアンローディング位置に位置した後、保持アームＡ１がガイド溝７５４内に収容されるように、ホルダ７５が上側に向かって移動すると共に保持アームＡＲＭがホルダ７５に向かって移動する。保持アームＡ１がガイド溝７５４内に収容された後、ホルダ７５は、下側に向かって移動する。その結果、ウェハ７１の状態は、ウェハ７１がホルダ７５の上面７５１に保持されている状態から、ウェハ７１が保持アームＡ１に保持されている状態へと切り替わる。ウェハ７１の状態が、ウェハ７１が保持アームＡ１に保持されている状態へと切り替わった後、搬送アームＡＲＭは、ホルダ７５から離れるように移動する。その結果、ステージ７からのウェハ７１のアンローディングが完了する。その後、ステージ７への新たなウェハ７１のローディングが行われる。
【００９５】
ウェハ７１がステージ７にアンローディングされている期間中には、ウェハ７１がステージ７にローディングされている期間と同様に、液浸部材６とステージ７との間には、液浸空間ＬＳが形成され続ける。
【００９６】
露光装置ＥＸは、ウェハ７１の状態が、ウェハ７１が保持アームＡ１に保持されている状態へと切り替わる前に、ウェハ７１の上面に残留している液体ＬＱを除去するための除去動作を行ってもよい。ここで、図１１を参照しながら、除去動作について説明する。図１１に示すように、除去動作を行うために、ホルダ７５は、アンローディング位置に位置した後に、ウェハ７１の上面がステージ部材７４の上面７４１よりも下側に位置するように、下側に向かって移動する。その後、ホルダ７５は、θＺ方向に向かって移動（つまり、回転）する。その結果、ウェハ７１の上面に残留していた液体ＬＱは、遠心力によって除去される。尚、除去された液体ＬＱは、回収口７４５によって回収される。除去動作が行われた後には、ウェハ７１をアンローディングする動作の続きが行われる。
【００９７】
その後、ステージ７からアンローディングされたウェハ７１は、所定の収容具（例えば、真空状態でウェハ７１を収容可能な収容具）に収容された状態で、露光装置ＥＸから取り出されてもよい。搬送装置は、露光装置ＥＸから取り出したウェハ７１を、不図示のデベロッパーに搬送する。その後、ウェハ７１は、デベロッパーによって現像される。その後、ウェハ７１は、搬送装置によって、デベロッパーから不図示のエッチング装置に搬送される。その後、ウェハ７１は、エッチング装置によってエッチングされる。その結果、ウェハ７１上に、デバイスパターンが形成される。
【００９８】
本実施形態では、液浸部材６及びステージ７は、上述した「ｄ６＞ｄ７１」というサイズ条件＃１１を満たしている。特に、液浸部材６及びステージ７は、ステージ７の移動をも考慮したサイズ条件として、上述した「ｄ６≧２×ｄ７１」というサイズ条件＃１２を満たしている。このため、露光期間中に渡って、ウェハ７１の上面の全体が液浸空間ＬＳに面し続けることが可能になる。つまり、露光期間中に渡って、ウェハ７１の上面の全体が液浸空間ＬＳ内に位置し続けることが可能になる。このため、露光装置ＥＸは、残水の発生に起因した露光不良を適切に抑制しながら、ウェハ７１を露光することができる。
【００９９】
以下、図１２（ａ）から図１３（ｂ）を参照しながら、「ｄ６≧２×ｄ７１」というサイズ条件＃１２を満たすことで、露光期間中に渡ってウェハ７１の全体が液浸空間ＬＳに面し続けることが可能になる理由を説明する。図１２（ａ）及び図１２（ｂ）は、夫々、図８（ａ）に示す第１露光対象面１１０−１の露光を開始した時点での液浸部材６とステージ７との位置関係を示す断面図及び平面図である。図１３（ａ）及び図１３（ｂ）は、夫々、図８（ａ）に示す第ｋ露光対象面１１０−ｋの露光を終了した時点での液浸部材６とステージ７との位置関係を示す断面図及び平面図である。
【０１００】
図１２（ａ）及び図１２（ｂ）に示すように、第１露光対象面１１０−１は、複数の露光対象面１１０のうち最も−Ｘ側に位置する露光対象面１１０である。このため、第１露光対象面１１０−１の露光を開始した時点では、ステージ７は、露光期間中にステージ７が移動可能な移動領域のうち最も＋Ｘ側の領域部分に位置する。ステージ７が最も＋Ｘ側の領域部分に位置する場合であっても、液浸部材６の下面６１の外縁の大きさｄ６が上面７５１の大きさｄ７１の２倍以上となるため、上面７５１の外縁が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。
【０１０１】
その後、複数の露光対象面１１０が順次露光され、第ｋ露光対象面１１０−ｋの露光が開始されるものとする。図１３（ａ）及び図１３（ｂ）に示すように、第ｋ露光対象面１１０−ｋは、複数の露光対象面１１０のうち最も＋Ｘ側に位置する露光対象面１１０である。このため、第ｋ露光対象面１１０−ｋの露光を終了した時点では、ステージ７は、露光期間中にステージ７が移動可能な移動領域のうち最も−Ｘ側の領域部分に位置する。ステージ７が最も−Ｘ側の領域部分に位置する場合であっても、液浸部材６の下面６１の外縁の大きさｄ６が上面７５１の大きさｄ７１の２倍以上となるため、上面７５１の外縁が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。
【０１０２】
尚、同じ理由から、ステージ７が最も＋Ｙ軸方向側に位置する場合であっても、上面７５１の外縁が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。同様に、ステージ７が最も−Ｙ軸方向側に位置する場合であっても、上面７５１の外縁が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。
【０１０３】
このため、露光期間中には、上面７５１の外縁が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。つまり、露光期間中には、下面６１の外縁は、上面７５１の外縁よりも外側に位置し続ける。言い換えれば、露光期間中には、下面６１の外縁は、上面７５１の外縁よりも外側に位置し続ける。その結果、上面７５１が保持するウェハ７１の外縁もまた、下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。このため、露光期間中は、ウェハ７１の上面が液浸空間ＬＳに面し続ける。つまり、ウェハ７１の上面が液浸空間ＬＳ内に位置し続ける。従って、ウェハ７１上の残水の発生が防止される。このため、露光装置ＥＸは、残水の発生に起因した露光不良を適切に抑制しながら、ウェハ７１を露光することができる。
【０１０４】
尚、「ｄ６≧２×ｄ７２」というサイズ条件＃２２が満たされる場合には、露光期間中には、凹部７６が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。その結果、凹部７６の内側に位置する上面７５１が保持するウェハ７１もまた、下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。また、「ｄ６≧２×ｄ７３」というサイズ条件＃３２が満たされる場合には、ウェハ７１が液浸部材６の下面６１の外縁よりも外側に位置することはない。従って、いずれのサイズ条件が満たされる場合であっても、ウェハ７１が液浸空間ＬＳ内に位置し続ける。尚、ステージ７が移動しない（或いは、微少量しか移動しない）場合には、上述したサイズ条件＃１１、＃２１、＃３１又は＃４１（つまり、ステージ７の移動を考慮していないサイズ条件）が満たされれば、ウェハ７１が液浸空間ＬＳ内に位置し続ける。
【０１０５】
加えて、本実施形態では、供給口６８は、露光期間中は液体ＬＱを供給しない。同様に、回収口６９は、露光期間中は液体ＬＱを回収しない。このため、露光装置ＥＸが純水製造装置等の液体製造装置に接続されていない場合であっても、露光装置ＥＸは、ウェハ７１を露光することができる。つまり、露光装置ＥＸがスタンドアロンな環境下で使用されている場合であっても、露光装置ＥＸは、ウェハ７１を露光することができる。
【０１０６】
加えて、回収口６９は、下面６３のうち開口６６からＸ軸方向（ステップ方向）に沿ってシフトした面部分に形成されている。つまり、回収口６９は、下面６３のうち開口６６からＹ軸方向（スキャン方向）に沿ってシフトした面部分に形成されていない。ここで、図５（ａ）に示すように、露光期間中は、ステージ７は、Ｙ軸方向に沿って相対的に長時間移動した後に、Ｘ軸方向に沿って相対的に短時間だけ移動する。このため、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱは、ステージ７の移動に伴って、Ｙ軸方向に沿って相対的に移動しやすい。このため、下面６３のうち開口６６からステップ方向に沿ってシフトした面部分に回収口６９が形成されている場合には、下面６３のうち開口６６からスキャン方向に沿ってシフトした面部分に回収口６９が形成されている場合と比較して、溝６５を介して回収口６９に漏れ出てくる液体ＬＱの総量が少なくなる。従って、露光期間中における回収口６９からの液体ＬＱの回収量が相対的に少なくなる。このため、露光期間中は供給口６８が液体ＬＱを供給せず且つ回収口６９が液体ＬＱを回収しない場合であっても、液浸部材６とステージ７及びウェハ７１の少なくとも一方との間に液浸空間ＬＳが適切に形成され続ける。
【０１０７】
加えて、回収口６９は、Ｘ軸方向に沿って供給口６８との間に開口６６が位置するように形成されている（図４（ａ）参照）。このため、供給口６８及び回収口６９の双方が開口６６から同じ方向に向かってシフトした位置に形成されている場合と比較して、供給口６８から供給された液体ＬＱが回収口６９によって即座に回収されてしまう可能性が小さくなる。つまり、過去に供給口６８から供給された古い液体ＬＱがいつまでも液浸空間ＬＳを形成し続ける可能性が小さくなる。従って、液浸部材６とステージ７及びウェハ７１の少なくとも一方との間に、液体ＬＱが適切に入れ替えられた液浸空間ＬＳが形成され続ける。
【０１０８】
但し、供給口６８及び回収口６９は、上述した位置に形成されていなくてもよい。例えば、図１４に示すように、供給口６８及び供給口６９の双方が下面６１に形成されていてもよい。図１５に示すように、供給口６８は、開口６６から＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に向かってシフトした位置に形成されていてもよい。供給口６８は、開口６６から任意の方向に向かってシフトした位置に形成されていてもよい。回収口６９は、開口６６から＋Ｙ方向又は−Ｙ方向に向かってシフトした位置に形成されていてもよい。回収口６９は、開口６６から任意の方向に向かってシフトした位置に形成されていてもよい。供給口６８は、下面６１とは異なる液浸部材６の面（例えば、内側面６４）に形成されていてもよい。供給口６８は、下面６１及び下面６３とは異なる液浸部材６の面（例えば、外側面６２及び内側面６４の少なくとも一方）に形成されていてもよい。
【０１０９】
（３）変形例
続いて、本実施形態の露光装置ＥＸの変形例について説明する。
【０１１０】
（３−１）第１変形例
はじめに、第１変形例の露光装置ＥＸ１の第１変形例について説明する。第１変形例の露光装置ＥＸ１は、上述した露光装置ＥＸと比較して、投影部材５と液浸部材６との位置関係が異なる。このため、以下では、図１６を参照しながら、投影光学系５と液浸部材６との位置関係について説明する。図１６は、第１変形例における投影光学系５と液浸部材６との位置関係を示す断面図である。
【０１１１】
図１６に示すように、第１変形例では、終端光学素子５１の外側面５１２は、液浸部材６の内側面６４と接触している。液浸部材６は、内側面６４で終端光学素子５１を保持する。終端光学素子５１が、内側面６４によって規定される開口６６にはめ込まれている。従って、液浸部材６は、実質的には、投影光学系５の一部（例えば、終端光学素子５１）を保持する部材としても機能する。
【０１１２】
通常、液体ＬＱの供給及び回収に伴う微小なゆれが液浸部材６には生じえる。このような微小なゆれが投影光学系５に伝搬すると、露光精度が悪化する可能性がある。このため、通常は、投影光学系５と液浸部材６とが物理的に接触することは殆どない。しかしながら、本実施形態では、露光期間中は、供給口６８から液体ＬＱが供給されず、且つ、回収口６９から液体ＬＱが回収されない。従って、本実施形態では、露光期間中は、液体ＬＱの供給及び回収に伴う微小なゆれが液浸部材６には生じにくい。このため、投影光学系５と液浸部材６とが物理的に接触していたとしても、このような接触が露光精度を悪化させることは殆どない。
【０１１３】
（３−３）第２変形例
続いて、第２変形例の露光装置ＥＸ２の第１変形例について説明する。第２変形例の露光装置ＥＸ２は、上述した露光装置ＥＸと比較して、露光領域ＥＬＡに照射された露光光ＥＬ３の光量むらの影響を抑制するようにＤＭＤ４が制御されるという点で異なる。このため、以下では、図１７を参照しながら、光量むらの影響を抑制するためのＤＭＤ４の制御について説明する。
【０１１４】
上述したように、ウェハ７１は、露光領域ＥＬＡが複数の露光対象面１１０に順次重なるように露光される。更に、複数の露光対象面１１０のうちの隣り合う２つの露光対象面１１０は部分的に重なっている。この場合には、ウェハ７１に転写するべきデバイスパターンは、複数回の露光によってウェハ７１に転写される。従って、ＤＭＤ４の複数のミラー要素４１の状態分布は、デバイスパターンに応じて、パルス発光毎にＹ軸方向に沿って所定ピクセルずつ移動する（図１０（ａ）から図１０（ｃ）参照）。
【０１１５】
このため、デバイスパターンのうちの第１パターン部分が転写されるウェハ７１上の第１領域部分は、ミラー要素４１＃１（１）が反射した露光光ＥＬ３、ミラー要素４１＃１（１）からＹ軸方向にＮピクセルシフトした位置にあるミラー要素４１＃２（１）が反射した露光光ＥＬ３、・・・、ミラー要素４１＃ｍ（但し、ｍは２以上の整数）−２（１）からＹ軸方向にＮピクセルシフトした位置にあるミラー要素４１＃ｍ−１（１）が反射した露光光ＥＬ３、及び、ミラー要素４１＃ｍ−１（１）からＹ軸方向にＮピクセルシフトした位置にあるミラー要素４１＃ｍ（１）が反射した露光光ＥＬ３によって重複的に露光される。従って、第１領域部分に照射される露光光ＥＬ３の光量は、ミラー要素４１＃１（１）が反射した露光光ＥＬ３の光量、ミラー要素４１＃２（１）が反射した露光光ＥＬ３の光量、・・・、ミラー要素４１＃ｍ−１（１）が反射した露光光ＥＬ３の光量、及び、ミラー要素４１＃ｍ（１）が反射した露光光ＥＬ３の光量の総和となる。同様の理由から、デバイスパターンのうちの第ｎ（但し、ｎは１以上の整数）パターン部分が転写されるウェハ７１上の第ｎ領域部分に照射される露光光ＥＬ３の光量は、ミラー要素４１＃１（ｎ）が反射した露光光ＥＬ３の光量、ミラー要素４１＃１（ｎ）からＹ軸方向にＮピクセルシフトした位置にあるミラー要素４１＃２（ｎ）が反射した露光光ＥＬ３の光量、・・・、ミラー要素４１＃ｍ−２（ｎ）からＹ軸方向にＮピクセルシフトした位置にあるミラー要素４１＃ｍ−１（ｎ）が反射した露光光ＥＬ３の光量、及び、ミラー要素４１＃ｍ−１（ｎ）からＹ軸方向にＮピクセルシフトした位置にあるミラー要素４１＃ｍ（ｎ）が反射した露光光ＥＬ３の光量の総和となる。
【０１１６】
第２変形例では、光量むらの影響を抑制するために、この光量の総和がウェハ７１上の全ての領域部分で概ね同一になるように、複数のミラー要素４１の状態がコントローラ８によって制御される。
【０１１７】
例えば、ウェハ７１上の第１領域部分における光量がウェハ７１上の第２領域部分における光量よりも多い場合には、第１領域部分に向けて露光光ＥＬ３を反射するように制御されるべき少なくとも一つのミラー要素４１が、露光光ＥＬ３を反射しないように制御されてもよい。つまり、第１領域部分に転写するべきデバイスパターンに従えば第１領域部分に向けて露光光ＥＬ３を反射するように制御されるべき少なくとも一つのミラー要素４１が、デバイスパターンに関わらずに露光光ＥＬ３を反射しないように制御されてもよい。このため、本来は露光光ＬＥ３を反射するべきミラー要素４１が露光光ＥＬ３を反射しないことに起因して、第１領域部分における光量が減少する。その結果、第１領域部分における光量がウェハ７１上の第２領域部分における光量と概ね同一となる。
【０１１８】
例えば、ウェハ７１上の第１領域部分における光量がウェハ７１上の第２領域部分における光量よりも少ない場合には、第１領域部分に向けて露光光ＥＬ３を反射しないように制御されるべき少なくとも一つのミラー要素４１が、露光光ＥＬ３を反射するように制御されてもよい。つまり、第１領域部分に転写するべきデバイスパターンに従えば第１領域部分に向けて露光光ＥＬ３を反射しないように制御されるべき少なくとも一つのミラー要素４１が、デバイスパターンに関わらずに露光光ＥＬ３を反射するように制御されてもよい。このため、本来は露光光ＬＥ３を反射するべきでないミラー要素４１が露光光ＥＬ３を反射することに起因して、第１領域部分における光量が増加する。その結果、第１領域部分における光量がウェハ７１上の第２領域部分における光量と概ね同一となる。
【０１１９】
つまり、第２変形例では、原則としてデバイスパターンに応じた状態になるように各ミラー要素４１が制御されるものの、必要に応じて、光量むらの影響を抑制することを目的に露光光ＥＬ３を反射しない状態になるように各ミラー要素４１が制御される。
【０１２０】
第２変形例では、複数のミラー要素４１は、デバイスパターンに応じた状態となるように常に制御される第１ミラー要素４１ａと、光量むらの影響を抑制することを目的に露光光ＥＬ３を反射する又は反射しない状態に固定される第２ミラー要素４１ｂとに便宜上区別されてもよい。例えば、図１３に示すように、光反射面４ａは、第１ミラー要素４１ａを含む一方で第２ミラー要素４１ｂを含まない第１反射面４ａ−１と、第１ミラー要素４１ａ及び第２ミラー要素４１ｂの双方を含み得る第２反射面４ａ−２とに便宜上区別されてもよい。この場合、コントローラ８は、複数のミラー要素４１が構成するマトリクスにおける各列（つまり、Ｙ軸方向の集合）に属するミラー要素４１による光量が全ての列の間で概ね同一となるように、各列に属する第２ミラー要素４１ｂの数を適宜調整してもよい。その結果、光量の総和がウェハ７１上の全ての領域部分で概ね同一になる。
【０１２１】
本実施形態では特に、上述したように、照明光学系２はフライアイレンズを備えていなくてもよい。このため、光源１の発光点が面積体とみなすことができるがゆえに、露光領域ＥＬＡは均一な照度分布の（つまり、光量むらの少ない）露光光ＥＬ３が照射されるものの、照明光学系２がフライアイレンズを備えている場合と比較して、光量むらの影響が生ずる可能性がゼロではない。このような場合であっても、第２変形例では、光量むらによる影響がより適切に排除される。従って、露光精度が向上する。
【０１２２】
（４）デバイス製造方法
半導体デバイス等のデバイスは、上述した露光装置ＥＸを用いて、図１８に示す各ステップを経て製造されてもよい。デバイスを製造するためのステップは、デバイスの機能及び性能設計を行うステップＳ２０１、機能及び性能設計に基づいてＤＭＤ４の制御データを生成するステップＳ２０２、デバイスの基材であるウェハ７１を製造するステップＳ２０３、ＤＭＤ４が露光光ＥＬ２を反射することで得られる露光光ＥＬ３を用いてウェハ７１を露光し且つ露光されたウェハ７１を現像するステップＳ２０４、デバイス組み立て処理（ダイシング処理、ボンディング処理、パッケージ処理等の加工処理）を含むステップＳ２０５及びデバイスの検査を行うステップＳ２０６を含んでいてもよい。
【０１２３】
尚、上述した露光装置ＥＸの構成（例えば、露光装置ＥＸを構成する各部材（或いは、各装置）の形状や、配置位置や、サイズ等）はあくまで一例である。従って、露光装置ＥＸの構成の少なくとも一部が適宜改変されてもよい。同様に、上述した露光装置ＥＸの動作（例えば、動作の内容や、動作の流れや、動作の順序等）はあくまで一例である。従って、露光装置ＥＸの動作の少なくとも一部が適宜改変されてもよい。
【０１２４】
光源１は、ＬＥＤとは異なる光源であってもよい。例えば、光源１は、レーザ光源やランプであってもよい。露光光ＥＬ１は、ｉ線以外の輝線（例えば、ｇ線又はｈ線等）であってもよい。露光光ＥＬは、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光：Ｄｅｅｐ  Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。露光光ＥＬは、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）又はＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光：Ｖａｃｕｕｍ  Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。
【０１２５】
露光装置ＥＸは、ＤＭＤ４に代えて、露光光ＥＬ２を空間変調可能な任意の空間光変調器を備えていてもよい。例えば、露光装置ＥＸは、露光光ＥＬ２の通過を制御可能な液晶素子を備える空間光変調器（透過型の空間光変調器）を備えていてもよい。
【０１２６】
露光装置１は、半導体デバイスとは異なる任意のデバイスを製造するために用いられてもよい。例えば、露光装置ＥＸは、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等のディスプレイを製造するために用いられてもよい。露光装置ＥＸは、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（例えば、ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ及びマスク１１（或いは、レチクル）のうちの少なくとも一つを製造するために用いられてもよい。露光装置１は、細胞、ＤＮＡ又は細菌等の生体構造物を利用した生体デバイス（或いは、ウイルス等の微小構造物を利用したデバイス）を製造するために用いられてもよい。
【０１２７】
上述の各実施形態の構成要件の少なくとも一部は、上述の各実施形態の構成要件の少なくとも他の一部と適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の構成要件のうちの一部が用いられなくてもよい。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【０１２８】
本発明は、上述した実施例に限られるものではなく、特許請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う光照射装置、露光装置及び露光方法、並びに、デバイス製造方法もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【０１２９】
ＥＸ  露光装置
１  光源
２  照明光学系
４  ＤＭＤ
４ａ  光反射面
４１  ミラー要素
５  投影光学系
５１  終端光学素子
５１１  射出面
５１２  外側面
６  液浸部材
６１  下面
６２  外側面
６３  下面
６４  内側面
６８  供給口
６９  回収口
７  ステージ
７１  ウェハ
７４  ステージ部材
７４１  上面
７４２  内側面
７４３  上面
７４４  内側面
７４５  回収口
７５  ホルダ
７５ａ  保持部
７５ｂ  軸部
７５１  上面
７５３  吸着口
７６  凹部
７６ａ  第１凹部
７６ｂ  第２凹部
８  コントローラ
ＥＬ１、ＥＬ２、ＥＬ３  露光光
ＬＳ  液浸空間
ＬＱ  液体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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