(57)【要約】【課題】微量の処理液を用いて基板を処理することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】ノズルユニット２１０の処理液貯留部２１３に処理液が貯留され、ノズル部２１１が処理液貯留部２１３に取り付けられる。逆止弁２１２の弁体２１２ａがノズル部２１１から処理液貯留部２１３へ向かって付勢されることにより、ノズル部２１１から処理液貯留部２１３への処理液の流れが阻止される。基板処理時に、駆動機構により待機部５３１から基板の上方の位置にノズルユニット２１０が移動され、回転保持装置により保持された基板が回転される。気体供給部から気体用管部材２４０を通してノズルユニット２１０に気体が供給されることにより、逆止弁２１２における弁体２１２ａの付勢力に抗して処理液貯留部２１３からノズル部２１１へ処理液が流れる。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を水平姿勢で保持して回転させるように構成された回転保持装置と、
前記回転保持装置により回転される基板上に処理液を供給するように構成された第１のノズル機構と、
駆動機構と、
前記回転保持装置、前記第１のノズル機構および前記駆動機構の動作を制御する制御装置とを備え、
前記第１のノズル機構は、
前記駆動機構により基板の上方の処理位置と基板の外方の待機位置との間で移動可能に構成されたノズルユニットと、
前記ノズルユニットに気体を供給するように構成された気体供給部と、
前記ノズルユニットと前記気体供給部とを接続する第１の管部材とを含み、
前記ノズルユニットは、
処理液を貯留する第１の処理液貯留部と、
第１の吐出口を有するとともに、前記第１の処理液貯留部に取り付けられ、前記第１の処理液貯留部内に貯留された処理液を前記第１の吐出口から吐出するように構成された第１のノズル部と、
前記第１のノズル部から前記第１の処理液貯留部への処理液の流れを阻止するように前記第１のノズル部から前記第１の処理液貯留部へ向かって付勢された弁体を有する逆止弁とを含み、
前記第１の管部材は、前記気体供給部により供給される気体を前記第１の処理液貯留部内に導くように設けられ、
前記制御装置は、基板処理時に、前記待機位置から前記処理位置に前記ノズルユニットを移動させるように前記駆動機構を制御し、保持した基板が回転するように前記回転保持装置を制御し、前記逆止弁における前記弁体の付勢力に抗して前記第１の処理液貯留部から前記第１のノズル部へ処理液が流れるように前記気体供給部を制御する、基板処理装置。
【請求項２】
前記第１のノズル部は中空の針形状を有する、請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記第１のノズル部の前記第１の吐出口の内径は２ｍｍ以下である、請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記第１の処理液貯留部は、５０ｍＬ以下の容量を有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記回転保持装置により回転される基板上に処理液を供給するように構成された第２のノズル機構をさらに備え、
前記第２のノズル機構は、
処理液を貯留する第２の処理液貯留部と、
第２の吐出口を有するとともに、前記第２の処理液貯留部内に貯留された処理液を前記第２の吐出口から吐出するように構成された第２のノズル部と、
前記第２の処理液貯留部に貯留された処理液を前記第２のノズル部に導くように設けられた第２の管部材とを含み、
前記第２の処理液貯留部の容量は前記第１の処理液貯留部の容量よりも大きく、
前記駆動機構は、前記第１のノズル機構の前記ノズルユニットと前記第２のノズル機構の前記第２のノズル部とを選択的に前記待機位置から前記処理位置に移動させるように構成され、
前記制御装置は、
第１の量の処理液を用いて基板を処理する第１の制御モードにおいては、前記待機位置から前記処理位置に前記ノズルユニットを移動させるように前記駆動機構を制御するとともに前記第１のノズル部の前記第１の吐出口から処理液を吐出するように前記第１のノズル機構を制御し、
前記第１の量よりも大きい第２の量の処理液を用いて基板を処理する第２の制御モードにおいては、前記待機位置から前記処理位置に前記第２のノズル部を移動させるように前記駆動機構を制御するとともに前記第２のノズル部の前記第２の吐出口から処理液を吐出するように前記第２のノズル機構を制御する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、処理液を用いて基板を処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板または光ディスク用ガラス基板等の基板に現像液、洗浄液、リンス液またはフォトレジスト液等の処理液を用いた処理を行うために回転式基板処理装置が用いられる。
【０００３】
回転式基板処理装置においては、回転保持部により水平に支持された基板の上面の略中央部にノズルが配置される。ノズルは、チューブを介して処理液貯留部に接続される。基板が回転保持部により回転された状態で、処理液貯留部に貯留された処理液がノズルから基板の上面中央部に滴下される。これにより、基板が処理液により処理される（例えば特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平６−２９１０２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１等の回転式基板処理装置においては、一般に処理液貯留部に数Ｌの処理液が貯留される。そのため、同一の処理液を用いて大量の基板に処理を行うことが可能である。一方で、特許文献１の回転式基板処理装置は、大量の処理液を必要としない基板処理には不向きである。
【０００６】
例えば、製品製作前の処理液の評価時には、処理液の選定のために数十ｍＬ程度の微量の処理液を用いて基板処理が行われる。また、少量多品種の製品製作時にも、微量の処理液を用いて基板処理が行われる。近年、処理液の価格が上昇しているため、このような大量の処理液を必要としない基板処理を行う場合には、必要最小限の量の処理液を用いることが望まれる。
【０００７】
本発明は、微量の処理液を用いて基板を処理することが可能な基板処理装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明に係る基板処理装置は、基板を水平姿勢で保持して回転させるように構成された回転保持装置と、回転保持装置により回転される基板上に処理液を供給するように構成された第１のノズル機構と、駆動機構と、回転保持装置、第１のノズル機構および駆動機構の動作を制御する制御装置とを備え、第１のノズル機構は、駆動機構により基板の上方の処理位置と基板の外方の待機位置との間で移動可能に構成されたノズルユニットと、ノズルユニットに気体を供給するように構成された気体供給部と、ノズルユニットと気体供給部とを接続する第１の管部材とを含み、ノズルユニットは、処理液を貯留する第１の処理液貯留部と、第１の吐出口を有するとともに、第１の処理液貯留部に取り付けられ、第１の処理液貯留部内に貯留された処理液を第１の吐出口から吐出するように構成された第１のノズル部と、第１のノズル部から第１の処理液貯留部への処理液の流れを阻止するように第１のノズル部から第１の処理液貯留部へ向かって付勢された弁体を有する逆止弁とを含み、第１の管部材は、気体供給部により供給される気体を第１の処理液貯留部内に導くように設けられ、制御装置は、基板処理時に、待機位置から処理位置にノズルユニットを移動させるように駆動機構を制御し、保持した基板が回転するように回転保持装置を制御し、逆止弁における弁体の付勢力に抗して第１の処理液貯留部から第１のノズル部へ処理液が流れるように気体供給部を制御する。
【０００９】
この基板処理装置においては、ノズルユニットの第１の処理液貯留部に処理液が貯留され、第１のノズル部が第１の処理液貯留部に取り付けられる。逆止弁の弁体が第１のノズル部から第１の処理液貯留部へ向かって付勢されることにより、第１のノズル部から第１の処理液貯留部への処理液の流れが阻止される。
【００１０】
基板処理時に、駆動機構により待機位置から処理位置に第１のノズル機構のノズルユニットが移動され、回転保持装置により保持された基板が回転される。また、気体供給部から第１の管部材を通してノズルユニットに気体が供給されることにより、逆止弁における弁体の付勢力に抗して第１の処理液貯留部から第１のノズル部へ処理液が流れる。
【００１１】
この構成によれば、駆動機構によりノズルユニットが第１の処理液貯留部と一体的に処理位置に移動される。この場合、第１の処理液貯留部として少量の処理液を貯留する小型の処理液貯留部を用いることにより、基板処理をより容易に行うことができる。したがって、気体供給部から第１の処理液貯留部に気体が供給されることにより、微量の処理液が第１のノズル部の第１の吐出口から基板に吐出される。これにより、微量の処理液を用いて基板を処理することができる。
【００１２】
（２）第１のノズル部は中空の針形状を有してもよい。この場合、多量の処理液が第１の処理液貯留部から第１のノズル部中を流れることができず、微量の処理液が第１の処理液貯留部から第１のノズル部中を流れる。これにより、第１のノズル部の第１の吐出口から微量の処理液を吐出することが容易になる。
【００１３】
（３）第１のノズル部の第１の吐出口の内径は２ｍｍ以下であってもよい。この場合、第１のノズル部の第１の吐出口から微量の処理液を吐出することがより容易になる。
【００１４】
（４）第１の処理液貯留部は、５０ｍＬ以下の容量を有してもよい。この場合、多量の処理液が第１の処理液貯留部から第１のノズル部へ流れることがない。これにより、第１のノズル部の第１の吐出口から微量の処理液を吐出することがさらに容易になる。また、ノズルユニットが小型化されるので、駆動機構によるノズルユニットの移動を容易に行うことができる。
【００１５】
（５）基板処理装置は、回転保持装置により回転される基板上に処理液を供給するように構成された第２のノズル機構をさらに備え、第２のノズル機構は、処理液を貯留する第２の処理液貯留部と、第２の吐出口を有するとともに、第２の処理液貯留部内に貯留された処理液を第２の吐出口から吐出するように構成された第２のノズル部と、第２の処理液貯留部に貯留された処理液を第２のノズル部に導くように設けられた第２の管部材とを含み、第２の処理液貯留部の容量は第１の処理液貯留部の容量よりも大きく、駆動機構は、第１のノズル機構のノズルユニットと第２のノズル機構の第２のノズル部とを選択的に待機位置から処理位置に移動させるように構成され、制御装置は、第１の量の処理液を用いて基板を処理する第１の制御モードにおいては、待機位置から処理位置にノズルユニットを移動させるように駆動機構を制御するとともに第１のノズル部の第１の吐出口から処理液を吐出するように第１のノズル機構を制御し、第１の量よりも大きい第２の量の処理液を用いて基板を処理する第２の制御モードにおいては、待機位置から処理位置に第２のノズル部を移動させるように駆動機構を制御するとともに第２のノズル部の第２の吐出口から処理液を吐出するように第２のノズル機構を制御してもよい。
【００１６】
この場合、第１の制御モードにおいては、微量の処理液が第１のノズル部の第１の吐出口から基板に吐出される。これにより、微量の処理液を用いて少数の基板を処理することができる。一方、第２の制御モードにおいては、多量の処理液が第２のノズル部の第２の吐出口から基板に吐出される。これにより、多量の処理液を用いて多数の基板を処理することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、微量の処理液を用いて基板を処理することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の模式的平面図である。
【図２】ノズル機構の構成を示す端面図である。
【図３】処理液供給装置を示す一部切欠側面図である。
【図４】微量の処理液供給用のノズル機構を示す一部切欠側面図である。
【図５】多量の処理液供給用のノズル機構を示す一部切欠側面図である。
【図６】支持アームが駆動アームに保持された状態のノズル機構を示す一部切欠側面図である。
【図７】支持アームが最高位置に移動した状態のノズル機構を示す一部切欠側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置について図面を用いて説明する。なお、以下の説明において、基板とは、半導体基板、液晶表示装置用基板、プラズマディスプレイ用基板、光ディスク用基板、磁気ディスク用基板、光磁気ディスク用基板またはフォトマスク用基板等をいう。
【００２０】
（１）基板処理装置の構成
図１は、本発明の一実施の形態に係る基板処理装置の模式的平面図である。図１および図２以降の所定の図には、位置関係を明確にするために互いに直交するＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向を示す矢印を付している。Ｘ方向およびＹ方向は水平面内で互いに直交し、Ｚ方向は鉛直方向に相当する。図１に示すように、基板処理装置５００は、制御装置５１０、回転保持装置５２０および処理液供給装置５３０を含む。
【００２１】
制御装置５１０は、ＣＰＵ（Central Processing Unit；中央演算処理装置）およびメモリを含み、回転保持装置５２０および処理液供給装置５３０の動作を制御する。また、制御装置５１０は、後述する第１および第２の制御モードで選択的に制御動作を行う。回転保持装置５２０は、スピンチャックを含み、図示しないモータの回転軸の先端に取り付けられる。回転保持装置５２０は、基板Ｗを水平姿勢で保持し、鉛直軸の周りで回転させる。
【００２２】
処理液供給装置５３０は、駆動機構１００およびノズル機構２００，３００を含む。また、処理液供給装置５３０は、回転保持装置５２０から離間した位置に待機部５３１を含む。なお、図１においては、後述するノズル機構２００のノズルユニット２１０の図示を省略している。図２は、ノズル機構２００，３００の構成を示す端面図である。図２に示すように、本実施の形態においては、処理液供給装置５３０は、１個のノズル機構２００および３個のノズル機構３００を含む。
【００２３】
ノズル機構２００はノズル部２１１を含み、各ノズル機構３００はノズル部３１０を含む。基板Ｗが行われない待機時には、ノズル機構２００および複数のノズル機構３００は、Ｘ方向に沿って並ぶように配置される。このとき、ノズル機構２００のノズル部２１１および各ノズル機構３００のノズル部３１０は、待機部５３１に挿入される。この場合、各ノズル部２１１，３１０は湿潤雰囲気中に配置される。これにより、各ノズル部２１１，３１０における処理液吐出口の乾燥が防止される。
【００２４】
基板処理時には、駆動機構１００は、いずれかのノズル部２１１，３１０が基板Ｗの上方に配置されるようにノズル機構２００，３００を把持して搬送する。ここで、微量の処理液を用いて少数の基板Ｗに処理を行う第１の制御モード時には、ノズル機構２００が基板Ｗの上方に配置される。一方、多量の処理液を用いて多数の基板Ｗに処理を行う第２の制御モード時には、いずれかのノズル機構３００が基板Ｗの上方に配置される。
【００２５】
回転保持装置５２０が回転しつつノズル部２１１，３１０から処理液が吐出されることにより、回転する基板Ｗ上に処理が行われる。基板処理後、駆動機構１００は、ノズル部２１１，３１０が待機部５３１に挿入されるようにノズル機構２００，３００を把持して搬送する。
【００２６】
（２）処理液供給装置
（ａ）ノズル機構
図３は、処理液供給装置５３０を示す一部切欠側面図である。図４は、微量の処理液供給用のノズル機構２００を示す一部切欠側面図である。ノズル機構２００は、ノズルユニット２１０、支持アーム２２０、気体供給部２３０および気体用管部材２４０を含む。
【００２７】
ノズルユニット２１０は、ノズル部２１１、逆止弁２１２および処理液貯留部２１３を含む。処理液貯留部２１３には、処理液が貯留される。処理液貯留部２１３の容量は、後述するノズル機構３００の処理液貯留部３３０（図５）の容量よりも小さい。処理液貯留部２１３の容量は、５０ｍＬ以下であることが好ましく、２０ｍＬ以下であることがより好ましい。本例においては、処理液貯留部２１３の容量は、例えば１０ｍＬである。
【００２８】
ノズル部２１１は中空の針形状を有し、ノズル部２１１の吐出口の内径は２ｍｍ以下であることが好ましい。本例においては、ノズル部２１１の吐出口の内径は、例えば１ｍｍ以下である。ノズル部２１１は、吐出口が下方を向くように処理液貯留部２１３の下部に取り付けられる。ノズル部２１１は、処理液貯留部２１３に貯留された処理液を吐出口から吐出可能である。
【００２９】
逆止弁２１２は、ノズル部２１１と処理液貯留部２１３との間に配置される。逆止弁２１２は、球状の弁体２１２ａおよびばね部材２１２ｂを含む。弁体２１２ａは、処理液貯留部２１３と接するように設けられ、ノズル部２１１から処理液貯留部２１３への処理液の流れを阻止するようにノズル部２１１から処理液貯留部２１３へ向かってばね部材２１２ｂにより付勢される。
【００３０】
支持アーム２２０は、支持ブロック２２１、軸部２２２、支持板２２３、ユニット保持部２２４および管保持部２２５を含む。支持ブロック２２１は、略直方体形状を有する。支持ブロック２２１の内部には、空間が形成される。支持ブロック２２１の上面には、下方に凹む凹部２２１ａおよび上方に突出する凸部２２１ｂが所定の距離だけ離間して形成される。
【００３１】
軸部２２２は円筒形状を有し、Ｚ方向に延びるように設けられる。軸部２２２の上端部は、支持ブロック２２１の下面に一体的に取り付けられる。軸部２２２の下方には、気体供給部２３０が配置される。
【００３２】
支持板２２３は、支持ブロック２２１の側面から水平方向に延びるように設けられる。支持板２２３の先端には、Ｚ方向に延びるようにユニット保持部２２４が取り付けられる。ユニット保持部２２４は、ノズル部２１１の吐出口が下方を向くようにノズルユニット２１０を保持する。支持板２２３の上面には、上方に突出するように管保持部２２５が設けられる。管保持部２２５は、気体用管部材２４０が蛇行しつつ撓むように気体用管部材２４０を保持する。
【００３３】
支持ブロック２２１および軸部２２２は、それぞれ内部空間を有する。支持ブロック２２１の内部空間と軸部２２２の内部空間とは連通する。気体用管部材２４０は、支持ブロック２２１および軸部２２２の内部空間を通るように配置される。
【００３４】
処理液貯留部２１３の上部と気体供給部２３０とが気体用管部材２４０により接続される。基板処理時には、逆止弁２１２のばね部材２１２ｂによる弁体２１２ａの付勢力に抗して気体用管部材２４０から処理液貯留部２１３の内部に気体が供給される。この場合、処理液貯留部２１３からノズル部２１１へ処理液が流れる。これにより、処理液貯留部２１３に貯留された処理液がノズル部２１１の吐出口から吐出される。
【００３５】
図５は、多量の処理液供給用のノズル機構３００を示す一部切欠側面図である。図３および図５に示すように、各ノズル機構３００は、ノズル部３１０、支持アーム３２０、処理液貯留部３３０および処理液用管部材３４０を含む。
【００３６】
支持アーム３２０は、支持ブロック３２１、軸部３２２および配管３２３を含む。支持ブロック３２１は、略直方体形状を有する。支持ブロック３２１の内部には、空間が形成される。支持ブロック３２１の上面には、下方に凹む凹部３２１ａおよび上方に突出する凸部３２１ｂが所定の距離だけ離間して形成される。
【００３７】
軸部３２２は円筒形状を有し、Ｚ方向に延びるように設けられる。軸部３２２の上端部は、支持ブロック３２１の下面に一体的に取り付けられる。軸部３２２の下方には、処理液を貯留する処理液貯留部３３０が配置される。処理液貯留部３３０の容量は、例えば４０００ｍＬである。
【００３８】
配管３２３は水平方向に延びるように設けられる。配管３２３の一端部は下方に屈曲する。ノズル部３１０は、吐出口が下方を向くように配管３２３の一端部に設けられる。配管３２３の他端部は、支持ブロック３２１の側面に一体的に取り付けられる。
【００３９】
支持ブロック３２１、軸部３２２および配管３２３は、それぞれ内部空間を有する。支持ブロック３２１の内部空間と軸部３２２の内部空間とは連通する。また、支持ブロック３２１の内部空間と配管３２３の内部空間とは連通する。処理液用管部材３４０は、支持ブロック３２１、軸部３２２および配管３２３の内部空間を通るように配置される。
【００４０】
ノズル部３１０と処理液貯留部３３０とが処理液用管部材３４０により接続される。処理液貯留部３３０に貯留された処理液は、処理液用管部材３４０を通してノズル部３１０の吐出口から吐出される。処理液用管部材３４０は、内部の処理液の温度を一定に維持する図示しない温調配管により覆われてもよい。
【００４１】
（ｂ）駆動機構
図３および図５に示すように、駆動機構１００は、水平駆動機構１１０、垂直駆動機構１２０、回転駆動機構１３０、アーム支持部１４０および駆動アーム１５０を含む。水平駆動機構１１０は、ガイド部１１１、可動部１１２および駆動部１１３を含む。ガイド部１１１は、例えば長尺状のガイドレールを含む。図１に示すように、ガイド部１１１は、平面視において回転保持装置５２０の回転中心に向かってＸ方向に延びるように設けられる。
【００４２】
図３および図５に示すように、可動部１１２は、Ｘ方向に延びるとともにＺ方向に延びる平面部１１２ａを有する。また、可動部１１２には、Ｘ方向に延びるラック１１２ｂが形成される。可動部１１２は、Ｘ方向に平行な軸に沿って移動可能にガイド部１１１に取り付けられる。可動部１１２の平面部１１２ａには、Ｘ方向に並ぶように複数のアーム支持部１４０が取り付けられる。具体的には、可動部１１２の平面部１１２ａに後述する複数のガイド部１２１が設けられ、複数のガイド部１２１に複数のアーム支持部１４０がそれぞれ取り付けられる。
【００４３】
複数のアーム支持部１４０は、複数のノズル機構２００，３００にそれぞれ対応する。各アーム支持部１４０は、対応するノズル機構２００の支持アーム２２０の軸部２２２またはノズル機構３００の支持アーム３２０の軸部３２２を支持する。これにより、支持アーム２２０は軸部２２２を中心に回転可能に固定され、支持アーム３２０は軸部３２２を中心に回転可能に固定される。また、各アーム支持部１４０には、後述する垂直駆動機構１２０の可動部１２２と当接するように水平に突出する当接部１４１を有する。
【００４４】
駆動部１１３は、例えば電動モータを含み、Ｙ方向に平行な軸を中心に正方向および逆方向に回転可能な回転軸１１３ａを有する。駆動部１１３の回転軸１１３ａには、ピニオンギヤ１１３ｂが取り付けられる。ピニオンギヤ１１３ｂは、可動部１１２のラック１１２ｂに噛み合わされる。この状態で、駆動部１１３の回転軸１１３ａが正方向または逆方向に回転することにより、可動部１１２がガイド部１１１に沿ってＸ方向における一方向または他方向にそれぞれ移動する。この場合、複数の支持アーム２２０，３２０が一体的にＸ方向に移動する。
【００４５】
垂直駆動機構１２０は、複数のガイド部１２１、可動部１２２，１２３および駆動部１２４，１２５，１２６を含む。各ガイド部１２１は、例えば長尺状のガイドレールを含む。複数のガイド部１２１は、Ｘ方向に並びかつＺ方向に延びるように可動部１１２の平面部１１２ａに設けられる。複数のガイド部１２１は、複数のノズル機構２００，３００にそれぞれ対応する。上述のように、複数のガイド部１２１に複数のアーム支持部１４０がそれぞれ取り付けられる。
【００４６】
可動部１２２は、複数のアーム支持部１４０に隣接するように配置される。可動部１２２は、いずれかのアーム支持部１４０の当接部１４１に下方から当接可能に水平に突出する当接部１２２ａを有する。可動部１２２の下部に駆動部１２４，１２５が取り付けられる。駆動部１２４，１２５は、例えばＺ方向に伸縮可能なエアシリンダを含む。駆動部１２４，１２５は、Ｚ方向に並ぶように直列に連結される。駆動部１２４，１２５が伸縮することにより、可動部１２２がＺ方向に移動する。
【００４７】
可動部１２２がＺ方向に移動することにより、可動部１２２と当接するいずれかのアーム支持部１４０がガイド部１２１に沿ってＺ方向に移動する。この場合、当該アーム支持部１４０に支持される支持アーム２２０，３２０がＺ方向に移動する。可動部１２２と当接するアーム支持部１４０は、水平駆動機構１１０がＸ方向に移動することにより任意に選択される。
【００４８】
基板Ｗが行われない待機時には、駆動部１２４，１２５の両方が縮む。これにより、支持アーム２２０，３２０は最も低い最低位置に移動する。支持アーム２２０，３２０の搬送時には、駆動部１２４，１２５の両方が伸びる。これにより、選択された支持アーム２２０，３２０は最も高い最高位置に移動する。基板処理時には、駆動部１２４，１２５の一方が伸び、駆動部１２４，１２５の他方が縮む。これにより、選択された支持アーム２２０，３２０は最低位置と最高位置との間の中間位置に移動する。
【００４９】
可動部１２２の下部には、駆動部１２６がさらに取り付けられる。駆動部１２６は、例えばＺ方向に伸縮可能なエアシリンダを含む。駆動部１２６には、Ｚ方向に延びる可動部１２３が取り付けられる。駆動部１２６が伸縮することにより、可動部１２３がＺ方向に移動する。
【００５０】
可動部１２３の上部には、回転駆動機構１３０および駆動アーム１５０が設けられる。回転駆動機構１３０は、駆動部１３１および動力伝達部１３２を含む。駆動部１３１は、例えば電動モータを含み、Ｚ方向に平行な軸を中心に正方向および逆方向に回転可能な回転軸１３１ａを有する。動力伝達部１３２は、例えばタイミングベルトを含む。動力伝達部１３２は、駆動部１３１の回転軸１３１ａと後述する駆動アーム１５０の支軸１５１とを連結する。
【００５１】
駆動アーム１５０は、平板形状を有する。駆動アーム１５０の上面には、Ｚ方向に平行な支軸１５１が形成される。駆動アーム１５０の下面には、下方に突出する凸部１５０ａが形成される。また、駆動アーム１５０には、Ｚ方向に貫通する凹部１５０ｂが形成される。駆動アーム１５０の凸部１５０ａおよび凹部１５０ｂは、支持ブロック２２１の凹部２２１ａおよび凸部２２１ｂにそれぞれ対応する。また、駆動アーム１５０の凸部１５０ａおよび凹部１５０ｂは、支持ブロック３２１の凹部３２１ａおよび凸部３２１ｂにそれぞれ対応する。
【００５２】
駆動アーム１５０の凸部１５０ａおよび凹部１５０ｂが、支持ブロック２２１の凹部２２１ａおよび凸部２２１ｂにそれぞれ嵌合するか、またはいずれかの支持ブロック３２１の凹部３２１ａおよび凸部３２１ｂにそれぞれ嵌合する。これにより、支持アーム２２０またはいずれかの支持アーム３２０が駆動アーム１５０により保持される。
【００５３】
この状態で、駆動部１３１の回転軸１１３ａが正方向または逆方向に回転すると、その回転力が動力伝達部１３２により駆動アーム１５０の支軸１５１に伝達される。この場合、駆動アーム１５０が支軸１５１を中心に回転することにより、図１に矢印で示すように、駆動アーム１５０に保持された支持アーム２２０，３２０が駆動アーム１５０の支軸１５１を中心に回転する。
【００５４】
これにより、いずれかの支持アーム２２０，３２０を搬送することができる。図１の例では、一点鎖線で示すように、中央に配置されたノズル機構３００の支持アーム３２０が搬送されている。搬送された支持アーム２２０に取り付けられたノズル部２１１または支持アーム３２０に取り付けられたノズル部３１０は、基板Ｗの略中心の上方に位置する。
【００５５】
（３）基板処理装置の動作
図６は、支持アーム２２０が駆動アーム１５０に保持された状態のノズル機構２００を示す一部切欠側面図である。図７は、支持アーム２２０が最高位置に移動した状態のノズル機構２００を示す一部切欠側面図である。図１〜図７を参照しながら、ノズル機構２００を用いた基板処理装置５００の動作を説明する。なお、ノズル機構３００を用いた基板処理装置５００の動作は、ノズル機構２００を用いた基板処理装置５００の動作と同様である。
【００５６】
図３および図５に示すように、基板処理前には、ノズル部２１１，ノズル部３１０が待機部５３１に挿入されるように支持アーム２２０，３２０が最低位置に維持される。次に、水平駆動機構１１０の駆動部１１３の回転軸１１３ａが回転する。この場合、可動部１１２がガイド部１１１に沿ってＸ方向に移動する。これにより、垂直駆動機構１２０の可動部１２２とＹ方向に隣り合う位置にノズル機構２００が配置される。
【００５７】
続いて、垂直駆動機構１２０の駆動部１２６が伸びることにより、可動部１２３が下方にわずかに移動する。この場合、駆動アーム１５０の凸部１５０ａおよび凹部１５０ｂが支持ブロック２２１の凹部２２１ａおよび凸部２２１ｂにそれぞれ嵌合する。これにより、図６に示すように、支持アーム２２０が駆動アーム１５０により保持される。
【００５８】
その後、図７に示すように、駆動部１２４，１２５の両方が伸びることにより、支持アーム２２０が最高位置に移動する。この場合、ノズル機構２００の下端は、他のノズル機構３００の上端よりも上方に位置する。これにより、他のノズル機構３００と干渉することなくノズル機構２００を搬送することができる。
【００５９】
次に、回転駆動機構１３０の駆動部１３１の回転軸１３１ａが所定の角度だけ順方向に回転する。回転駆動機構１３０の回転軸１３１ａの回転力は、動力伝達部１３２を通して駆動アーム１５０の支軸１５１に伝達される。この場合、駆動アーム１５０が支軸１５１を中心に回転することにより、駆動アーム１５０に保持された支持アーム２２０の先端が回転保持装置５２０に保持された基板Ｗの略中心の上方に移動する。これにより、支持アーム２２０に取り付けられたノズル部２１１を基板Ｗの略中心の上方に移動させることができる。
【００６０】
続いて、駆動部１２４，１２５のいずれか一方が縮むことにより、支持アーム２２０が中間位置に移動する。この場合、ノズル部２１１の吐出口が基板Ｗの表面の近傍に位置する。その後、回転保持装置５２０が回転することにより基板Ｗが回転する。
【００６１】
ここで、気体用管部材２４０から処理液貯留部２１３の内部に気体が供給される。処理液貯留部２１３の内部に供給される気体の圧力は、逆止弁２１２による閉止の圧力よりも大きい。この場合、処理液貯留部２１３に貯留された処理液がノズル部２１１の吐出口から吐出される。これにより、回転保持装置５２０により回転される基板Ｗの表面に微量の処理液が供給される。このようにして、微量の処理液を用いた基板処理を行うことができる。
【００６２】
基板処理の終了後、駆動部１２４，１２５の両方が伸びることにより、支持アーム２２０が最高位置に移動する。次に、回転駆動機構１３０の駆動部１３１の回転軸１３１ａが所定の角度だけ逆方向に回転することにより、ノズル部２１１が待機部５３１の上方に位置するように支持アーム２２０が搬送される。
【００６３】
続いて、駆動部１２４，１２５の両方が縮むことにより、支持アーム２２０が最低位置に移動する。これにより、ノズル部２１１が待機部５３１に挿入される。その後、駆動部１２６が縮むことにより可動部１２３が上方にわずかに移動し、一連の基板処理装置５００の動作が終了する。
【００６４】
（４）効果
本実施の形態に係る基板処理装置５００においては、回転保持装置５２０により保持された基板Ｗが回転される。第１の制御モードにおいては、駆動機構１００により待機部５３１から基板Ｗの上方にノズル機構２００のノズルユニット２１０が移動される。また、気体供給部２３０から気体用管部材２４０を通してノズルユニット２１０に気体が供給される。これにより、逆止弁２１２における弁体２１２ａの付勢力に抗して処理液貯留部２１３からノズル部２１１へ処理液が流れる。
【００６５】
この構成によれば、駆動機構１００によりノズルユニット２１０が処理液貯留部２１３と一体的に基板Ｗの上方に移動される。この場合、処理液貯留部２１３として少量の処理液を貯留する小型の処理液貯留部を用いることにより、基板処理をより容易に行うことができる。したがって、気体供給部２３０から処理液貯留部２１３に気体が供給されることにより、微量の処理液がノズル部２１１の吐出口から基板Ｗに吐出される。これにより、微量の処理液を用いて基板Ｗを処理することができる。また、処理液貯留部２１３が小型であるので、駆動機構１００によるノズルユニット２１０の移動を容易に行うことができる。
【００６６】
一方で、第２の制御モードにおいては、駆動機構１００によりノズル機構３００のノズル部３１０が基板Ｗの上方に移動される。この状態で、多量の処理液がノズル部３１０の吐出口から基板Ｗに吐出される。これにより、多量の処理液を用いて多数の基板Ｗを処理することができる。
【００６７】
（５）他の実施の形態
上記実施の形態において、処理液供給装置５３０に１個のノズル機構２００および３個のノズル機構３００が設けられるが、本発明はこれに限定されない。処理液供給装置５３０にノズル機構３００が設けられなくてもよいし、２個以上のノズル機構２００が設けられてもよい。
【００６８】
（６）請求項の各構成要素と実施の形態の各要素との対応関係
以下、請求項の各構成要素と実施の形態の各構成要素との対応の例について説明するが、本発明は下記の例に限定されない。
【００６９】
上記実施の形態においては、基板Ｗが基板の例であり、回転保持装置５２０が回転保持装置の例であり、ノズル機構２００，３００がそれぞれ第１および第２のノズル機構の例である。駆動機構１００が駆動機構の例であり、制御装置５１０が制御装置の例であり、ノズルユニット２１０がノズルユニットの例であり、気体供給部２３０が気体供給部の例である。
【００７０】
気体用管部材２４０および処理液用管部材３４０がそれぞれ第１および第２の管部材の例であり、処理液貯留部２１３，３３０がそれぞれ第１および第２の処理液貯留部の例である。ノズル部２１１，３１０がそれぞれ第１および第２のノズル部の例であり、弁体２１２ａが弁体の例であり、逆止弁２１２が逆止弁の例であり、基板処理装置５００が基板処理装置の例である。
【００７１】
請求項の各構成要素として、請求項に記載されている構成または機能を有する他の種々の構成要素を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００７２】
本発明は、種々の処理液ノズルを有する基板処理に有効に利用することができる。
【符号の説明】
【００７３】
１００  駆動機構
１１０  水平駆動機構
１１１，１２１  ガイド部
１１２，１２２，１２３  可動部
１１２ａ  平面部
１１２ｂ  ラック
１１３，１２４〜１２６，１３１  駆動部
１１３ａ，１３１ａ  回転軸
１１３ｂ  ピニオンギヤ
１２０  垂直駆動機構
１２２ａ，１４１  当接部
１３０  回転駆動機構
１４０  アーム支持部
１５０  駆動アーム
１５０ａ，２２１ｂ，３２１ｂ  凸部
１５０ｂ，２２１ａ，３２１ａ  凹部
１５１  支軸
２００，３００  ノズル機構
２１０  ノズルユニット
２１１，３１０  ノズル部
２１２  逆止弁
２１２ａ  弁体
２１２ｂ  ばね部材
２１３，３３０  処理液貯留部
２２０，３２０  支持アーム
２２１，３２１  支持ブロック
２２２，３２２  軸部
２２３  支持板
２２４  ユニット保持部
２２５  管保持部
２３０  気体供給部
２４０  気体用管部材
３２３  配管
３４０  処理液用管部材
５００  基板処理装置
５１０  制御装置
５２０  回転保持装置
５３０  処理液供給装置
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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