(57)【要約】【課題】液体の温度の過度な変動を抑制しながら、液体の流量を調整する。【解決手段】液体供給装置（１００）は、露光光（ＥＬ）を用いて物体（５１）を露光する露光装置（ＥＸ１）内に液体（ＬＱ）を供給する液体供給装置であって、液体の供給源（１１１）と液体の供給先（４）との間に位置し、液体が流れる第１流路（１３１ａ−１３１ｆ）と、第１流路内の第１分岐点（１１６）から分岐する第２流路（１３２ａ−１３２ｃ）と、第１流路内の第１分岐点の下流及び第２流路の少なくとも一方に位置し、第１流路から第２流路に流れ込む液体の流量を調整する流量調整器（１２１）と、第１流路内の第１分岐点の上流に位置し、内部を流れる液体の温度を調整可能な第１温度調整器（１１４）とを備える。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
露光光を用いて物体を露光する露光装置内に液体を供給する液体供給装置であって、
前記液体の供給源と前記液体の供給先との間に位置し、前記液体が流れる第１流路と、
前記第１流路内の第１分岐点から分岐する第２流路と、
前記第１流路内の前記第１分岐点の下流及び前記第２流路の少なくとも一方に位置し、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する流量調整器と、
前記第１流路内の前記第１分岐点の上流に位置し、前記液体の温度を調整可能な第１温度調整器と
を備える液体供給装置。
【請求項２】
前記第１温度調整器に供給される前記液体の流量を一定に維持する流量維持器を備える請求項１に記載の液体供給装置。
【請求項３】
前記流量維持器は、前記第１分岐点の下流を流れる前記液体の背圧の変動に起因した前
記第１温度調整器に供給される前記液体の流量の変動を抑制することで、前記第１温度調整器に供給される前記液体の流量を一定に維持する請求項２に記載の液体供給装置。
【請求項４】
前記流量維持器は、前記第１流路内の前記第１分岐点の上流であって且つ前記第１温度調整器の下流に位置する第１流量維持器を含む請求項２又は３に記載の液体供給装置。
【請求項５】
前記第１流量維持器は、（ｉ）前記第１温度調整器から流れ出す前記液体を貯留可能な第１貯留槽、（ｉｉ）前記第１流路内の前記第１温度調整器の下流を流れる前記液体の流量を調整する絞り機構、及び（ｉｉｉ）前記第１流路内の前記第１温度調整器の下流を流れる前記液体の圧力変動を吸収又は相殺するように容積を変動させることが可能な圧力吸収器のうちの少なくとも一つを含む請求項４に記載の液体供給装置。
【請求項６】
前記第１貯留槽内に貯留される前記液体の圧力を一定に維持する第１レギュレータを備える請求項５に記載の液体供給装置。
【請求項７】
前記第１貯留槽は、前記液体を保温しながら貯留可能である請求項５又は６に記載の液体供給装置。
【請求項８】
前記流量維持器は、前記第２流路内に位置する第２流量維持器を含む請求項２から７に記載の液体供給装置。
【請求項９】
前記第２流量維持器は、前記第２流路内の第２分岐点から分岐する第３流路を含む請求項８に記載の液体供給装置。
【請求項１０】
前記第２流量維持器は、前記第２流路から前記第３流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項９に記載の液体供給装置。
【請求項１１】
前記第２流量維持器は、前記第１分岐点の下流を流れる前記液体の背圧の変動を抑制するように、前記第２流路から前記第３流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項１０に記載の液体供給装置。
【請求項１２】
前記流量維持器は、前記第１流路内の前記第１分岐点の上流であって且つ前記第１温度調整器の上流に位置する第３流量維持器を含む請求項２から１１のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項１３】
前記第３流量維持器は、前記第１流路内の前記第１温度調整器の上流に位置する第３分岐点から分岐する第４流路を含む請求項１２に記載の液体供給装置。
【請求項１４】
前記第３流量維持器は、前記第１流路から前記第４流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項１３に記載の液体供給装置。
【請求項１５】
前記流量維持器は、前記第１流路内の前記第１分岐点の上流であって且つ前記第１温度調整器の上流に位置すると共に、前記第１温度調整器に供給される前記液体の圧力を維持する第２レギュレータを含む請求項２から１４のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項１６】
前記第１温度調整器は、前記液体を保温しながら貯留可能な第２貯留槽を含む請求項１から１５に記載の液体供給装置。
【請求項１７】
前記流量調整器は、前記第２流路に位置する第１流量調整器を含み、
前記第１流量調整器は、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整することで、前記第１流路から前記供給先に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項１から１６のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項１８】
前記流量調整器は、前記第１流路内の前記第１分岐点の下流に位置する第２流量調整器を含み、
前記第２流量調整器は、前記第２流量調整器から流れ出す前記液体の流量を調整することで、前記第１流路から前記供給先に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項１から１７のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項１９】
前記流量調整器は、少なくとも、前記液体が通過可能な第１の大きさの開口が形成された第１開口部材並びに弁開度を開状態と閉状態との間で切り替え可能な第１開閉弁を含む第１調整系統、及び、前記液体が通過可能な前記第１の大きさとは異なる第２の大きさの開口が形成された第２開口部材並びに弁開度を開状態と閉状態との間で切り替え可能な第２開閉弁を含む第２調整系統を含む請求項１から１８のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項２０】
前記第１流路、前記第２流路、前記流量調整器及び前記第１温度調整器を含む供給系統を複数備える請求項１から１９に記載の液体供給装置。
【請求項２１】
前記液体は、前記供給源と前記複数の供給系統が夫々備える複数の前記第１流路とをつなぐ第１共通流路を介して前記供給源から前記複数の第１流路へと流れ込み、
前記液体は、前記供給先と前記複数の前記第１流路とをつなぐ第２共通流路を介して前記複数の第１流路から前記供給先へと流れ込む請求項２０に記載の液体供給装置。
【請求項２２】
前記液体は、前記供給源と前記複数の供給系統が夫々備える複数の前記第１流路とをつなぐ第１共通流路を介して前記供給源から前記複数の第１流路へと流れ込み、
前記液体は、前記複数の第１流路から複数の前記供給先へと夫々流れ込む請求項２０に記載の液体供給装置。
【請求項２３】
前記第１共通経路内に、前記液体の温度を調整可能な第２温度調整器を更に備える請求項２２に記載の液体供給装置。
【請求項２４】
前記第１温度調整器は、前記第２温度調整器よりも高精度に前記液体の温度を調整可能である請求項２３に記載の液体供給装置。
【請求項２５】
前記複数の供給系統が夫々備える複数の前記第１温度調整器のうちの少なくとも２つの第１温度調整器は、前記複数の第１流路のうちの当該少なくとも２つの第１温度調整器に対応する少なくとも２つの第１流路を流れる前記液体の温度が異なるものとなるように、前記液体の温度を調整可能であり、
前記複数の供給系統が夫々備える複数の前記流量調整器は、前記第２共通流路を介して前記供給先に供給される前記液体の温度が所望温度に維持されるように、前記複数の第１流路から前記複数の供給系統が夫々備える複数の前記第２流路に夫々流れ込む前記液体の流量を夫々調整する請求項２１に記載の液体供給装置。
【請求項２６】
前記第１流路内に複数の前記第１温度調整器を備える請求項１から２５のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項２７】
前記複数の第１温度調整器のうち下流側に位置する第１温度調整器は、前記複数の第１温度調整器のうち上流側に位置する第１温度調整器よりも高精度に前記液体の温度を調整可能である請求項２６に記載の液体供給装置。
【請求項２８】
前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を測定する流量測定器を更に備え、
前記流量調整器は、前記流量測定器の測定結果に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する
請求項１から２７のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項２９】
前記供給先における所定空間内の前記液体の内圧を測定する内圧測定器を更に備え、
前記流量調整器は、前記内圧測定器の測定結果に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する
請求項１から２８のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項３０】
前記流量調整器は、前記内圧が大きくなるほど前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量が小さくなるように、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する
請求項２９に記載の液体供給装置。
【請求項３１】
露光光を用いて物体を露光する露光装置内に液体を供給する液体供給装置であって、
供給源から供給される前記液体が流れる第１共通流路と、
前記第１共通流路から分岐する複数の第１流路と、
前記複数の第１流路内に夫々位置し、前記複数の第１流路を流れる前記液体の温度を夫々調整可能な複数の第１温度調整器と、
前記複数の第１流路内の前記複数の第１温度調整器の下流を流れる前記液体の流量を夫々調整する複数の流量調整器と、
前記複数の第１流路から供給される前記液体を供給先へ導く第２共通流路と
を備える液体供給装置。
【請求項３２】
前記複数の前記第１温度調整器のうちの少なくとも２つの第１温度調整器は、前記複数の第１流路のうちの当該少なくとも２つの第１温度調整器に対応する少なくとも２つの第１流路を流れる前記液体の温度が異なるものとなるように、前記液体の温度を調整可能であり、
前記複数の流量調整器は、前記第２共通流路を介して前記供給先に供給される前記液体の温度が所望温度に維持されるように、前記複数の第１流路から前記複数の前記第２流路に夫々流れ込む前記液体の流量を夫々調整する請求項３１に記載の液体供給装置。
【請求項３３】
露光光を用いて物体を露光する露光装置であって、
請求項１から３２のいずれか一項に記載の液体供給装置を備える露光装置。
【請求項３４】
当該露光装置は、前記液体で満たされた液浸空間を介して投影される前記露光光を用いて前記物体を露光し、
前記供給先は、前記液浸空間を含む請求項３３に記載の露光装置。
【請求項３５】
当該露光装置は、前記液浸空間を介して投影される前記露光光を用いて、前記物体上に画定されている複数の露光対象領域を順次露光し、
前記流量調整器は、（ｉ）第１の露光対象領域が露光されている第１期間のうちの少なくとも一部、及び／又は、（ｉｉ）前記第１の露光対象領域の露光が完了してから前記第１の露光対象領域とは異なる第２の露光対象領域の露光が開始するまでの第２期間のうちの少なくとも一部に、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項３４に記載の露光装置。
【請求項３６】
前記液浸空間を形成する液浸部材を更に備え、
前記供給先は、前記液浸空間に加えて又は代えて、前記液浸部材を含む請求項３４又は３５に記載の露光装置。
【請求項３７】
前記液浸部材は、前記物体の表面に対向し、且つ、前記液体供給装置が供給する前記液体を前記液浸部材の外部に供給する第１供給口を備え、
前記流量調整器は、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整することで、前記第１供給口から供給される前記液体の流量を調整する請求項３６に記載の露光装置。
【請求項３８】
前記液浸部材には、前記露光光が通過する開口が形成されており、
前記液浸部材は、前記開口よりも上方側に形成され、且つ、前記液体供給装置が供給する前記液体を前記液浸部材の外部に供給する第２供給口を備え、
前記流量調整器は、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整することで、前記第２供給口から供給される前記液体の流量を調整する請求項３６又は３７に記載の露光装置。
【請求項３９】
前記液浸部材には、前記露光光が通過する開口が形成されており、
前記液浸部材は、
前記物体の表面に対向し、且つ、前記液体供給装置が供給する前記液体を前記液浸部材の外部に供給する第１供給口と、
前記開口よりも上方側に形成され、且つ、前記液体供給装置が供給する前記液体を前記液浸部材の外部に供給する第２供給口と、
前記物体の表面に対向し、且つ、前記液体供給装置が供給した前記液体を回収する第１回収口と、
前記開口よりも上方側に形成され、且つ、前記液体供給装置が供給した前記液体を回収する第２回収口と
を備え、
前記流量調整器は、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整することで、前記第１及び第２供給口のうちの少なくとも一方から供給される前記液体の流量を調整する請求項３６に記載の露光装置。
【請求項４０】
前記液浸空間を形成し且つ前記液体供給装置の少なくとも一部を含む液浸部材を更に備える
請求項３４から３９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４１】
前記液浸部材は、前記液体を前記液浸空間に向けて流す供給流路を備えており、
前記第１分岐点が前記供給流路内に形成されている
請求項４０に記載の露光装置。
【請求項４２】
前記液浸空間の内圧を測定する内圧測定器を更に備え、
前記流量調整器は、前記内圧測定器の測定結果に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する
請求項３４から４１のいずれか一項に記載の液体供給装置。
【請求項４３】
前記流量調整器は、前記内圧が大きくなるほど前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量が小さくなるように、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する
請求項４２に記載の露光装置。
【請求項４４】
前記流量調整器は、前記物体上における前記液浸空間の位置に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項３４から４３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４５】
前記流量調整器は、前記液浸空間が前記物体の第１領域上に形成されている第３期間に前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量が、前記液浸空間が前記物体の前記第１領域とは異なる第２領域上に形成されている第４期間に前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量よりも少なくなる又は多くなるように、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項４４に記載の露光装置。
【請求項４６】
前記第１領域は、前記液浸空間と前記物体の第１エッジとの間の距離が第１所定閾値以下になる領域を含み、
前記第２領域は、前記液浸空間と前記物体の第１エッジとの間の距離が前記第１所定閾値以上になる領域を含む請求項４５に記載の露光装置。
【請求項４７】
前記液浸空間を形成する液浸部材を更に備え、
前記流量調整器は、前記物体と前記液浸部材との間の位置関係に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項３４から４６のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項４８】
前記流量調整器は、前記液浸部材と前記物体との間の位置関係が第１関係となる第５期間に前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量が、前記液浸部材と前記物体との間の位置関係が第１関係とは異なる第２関係となる第６期間に前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量よりも少なくなる又は多くなるように、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項４７に記載の露光装置。
【請求項４９】
前記第１関係は、前記液浸部材と前記物体の第２エッジとの間の距離が第２所定閾値以下になる位置関係を含み、
前記第２関係は、前記液浸部材と前記物体の第２エッジとの間の距離が前記第２所定閾値以上になる位置関係を含む請求項４８に記載の露光装置。
【請求項５０】
夫々が前記物体及び前記物体とは異なるその他の構造物の少なくとも一方を保持可能な複数のステージを備え、
前記流量調整器は、前記複数のステージと前記液浸空間との間の位置関係に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項３４から４９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５１】
前記流量調整器は、前記複数のステージの間の境界と前記液浸空間との間の位置関係に基づいて、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項５０に記載の露光装置。
【請求項５２】
前記流量調整器は、前記境界と前記液浸空間との間の位置関係が第３関係となる第７期間に前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量が、前記境界と前記液浸空間との間の位置関係が第３関係とは異なる第４関係となる第８期間に前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量よりも少なくなるように、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する請求項５１に記載の露光装置。
【請求項５３】
前記第３関係は、前記液浸空間が前記境界を跨ぐことになる位置関係を含み、
前記第４関係は、前記液浸空間が前記境界を跨がない位置関係を含む請求項５２に記載の露光装置。
【請求項５４】
前記第３関係は、前記境界と前記液浸空間との間の距離が第３所定閾値以下になる位置関係を含み、
前記第４関係は、前記境界と前記液浸空間との間の距離が前記第３所定閾値以上になる位置関係を含む請求項５２又は５３に記載の露光装置。
【請求項５５】
前記液浸空間を形成する液浸部材を更に備え、
前記第３関係は、前記境界と前記液浸部材との間の距離が第４所定閾値以下になる位置関係を含み、
前記第４関係は、前記境界と前記液浸部材との間の距離が前記第４所定閾値以上になる位置関係を含む請求項５２から５４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５６】
前記液体供給装置から前記液浸空間に供給される前記液体の流量に応じて変動する制御パラメータに基づいて、前記物体を露光する露光動作を制御する制御装置を備える請求項３４から５５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項５７】
前記制御装置は、前記制御パラメータに基づいて、第９期間中の前記流量の変動を、第１０期間中の前記流量の変動よりも優先的に抑制するように、前記露光動作を制御する請求項５６に記載の露光装置。
【請求項５８】
液浸空間を介して投影される露光光を用いて物体を露光する露光動作を行う露光装置であって、
前記液浸空間に液体を供給する液体供給装置と、
前記液体供給装置から前記液浸空間に供給される前記液体の流量に応じて変動する制御パラメータに基づいて、第９期間中の前記流量の変動を、第１０期間中の前記流量の変動よりも優先的に抑制するように、前記物体を露光する露光動作を制御する制御装置と
を備える露光装置。
【請求項５９】
前記制御装置は、前記第９期間中の前記流量の変動量が、前記第１０期間中の前記流量の変動量よりも少なくなるように、前記露光動作を制御する請求項５７又は５８に記載の露光装置。
【請求項６０】
前記制御装置は、前記第９期間中の前記流量の変動量が第１所定値以下になるように、前記露光動作を制御する請求項５７から５９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６１】
前記制御装置は、前記第９期間中の前記流量の変動量がゼロになるように、前記露光動作を制御する請求項５７から６０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６２】
前記制御パラメータは、前記流量の指令値を示す第１パラメータを含み、
前記制御装置は、前記流量の変更を開始するタイミングとして前記指令値が指定している第１タイミングとは異なる第２タイミングで前記流量の変更を開始して前記第９期間中の前記流量の変動を抑制するように、前記露光動作を制御する請求項５７から６１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６３】
前記制御装置は、前記流量の変更の開始を指示してから前記流量が実際に変更し始めるまでに要する遅延時間を考慮して、前記第２タイミングで前記流量が実際に変更し始めるように、前記露光動作を制御する請求項６２に記載の露光装置。
【請求項６４】
前記第２タイミングは、前記第１０期間に含まれる請求項６２又は６３に記載の露光装置。
【請求項６５】
前記第９期間は、前記物体を露光する露光期間を含み、
前記第１０期間は、前記物体を露光しない非露光期間を含む請求項５７から６４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６６】
前記第９期間は、前記物体のうちの第１領域を露光する第１露光期間を含み、
前記第１０期間は、前記物体のうちの第２領域を露光する第２露光期間を含む請求項５７から６５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６７】
前記第１領域は、出荷されるデバイスを製造するための領域であり、
前記第２領域は、出荷されるデバイスを製造するための領域ではない請求項６６に記載の露光装置。
【請求項６８】
前記制御装置は、前記露光動作を制御するために、前記液体供給装置を制御する請求項５７から６７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項６９】
前記制御装置は、前記制御パラメータに基づいて、前記流量が第１流量となる第１１期間の前記露光動作の第１品質と、前記流量が第２流量となる第１２期間の前記露光動作の第２品質との間のズレ量が第１所定量以下になるように、前記露光動作を制御する請求項５６から６８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７０】
液浸空間を介して投影される露光光を用いて物体を露光する露光動作を行う露光装置であって、
前記液浸空間に液体を供給する液体供給装置と、
前記液体供給装置から前記液浸空間に供給される前記液体の流量に応じて変動する制御パラメータに基づいて、前記流量が第１流量となる第１１期間の前記露光動作の第１品質と、前記流量が第２流量となる第１２期間の前記露光動作の第２品質との間のズレ量が第１所定量以下になるように、前記物体を露光する露光動作を制御する制御装置と
を備える露光装置。
【請求項７１】
前記液浸空間を介して前記露光光を前記物体に投影する投影光学系を備えており、
前記制御装置は、前記第１１期間の前記投影光学系による前記露光光の投影位置と前記物体との位置関係と、前記第１２期間の前記投影位置と前記物体との位置関係との間のズレ量を第２所定量以下にして前記第１品質と前記第２品質との間のズレ量が前記第１所定量以下になるように、前記露光動作を制御する請求項６９又は７０に記載の露光装置。
【請求項７２】
前記物体を保持可能なステージを備えており、
前記制御装置は、前記露光動作を制御するために、前記ステージを制御する請求項６９から７１のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７３】
前記液浸空間を介して前記露光光を前記物体に投影する投影光学系を備え、
前記制御装置は、前記露光動作を制御するために、前記投影光学系を制御する請求項６９から７２のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７４】
前記制御パラメータは、前記流量の指令値に基づく第１パラメータを含む請求項５６から７３のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７５】
前記制御パラメータは、前記流量の実測値又は推定値に基づく第２パラメータを含む請求項５６から７４のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７６】
前記制御パラメータは、前記流量に依存して変化し得る前記露光装置の状態の実測値及び推定値の少なくとも一方に基づく第３パラメータを含む請求項５６から７５のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項７７】
前記液浸空間を介して前記露光光を前記物体に投影する投影光学系を備え、
前記投影光学系は、前記液浸空間に面する光学素子を備え、
前記第３パラメータは、前記流量に依存して変化し得る前記光学素子の変位量の実測値及び推定値の少なくとも一方を示す請求項７６に記載の露光装置。
【請求項７８】
前記第３パラメータは、前記液浸空間の内圧及び界面の位置のうちの少なくとも一方の実測値及び推定値の少なくとも一方を示す請求項７６又は７７に記載の露光装置。
【請求項７９】
前記制御パラメータは、実際に行われた前記露光動作の結果に基づいて生成される請求項５６から７８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８０】
前記制御パラメータは、前記露光動作を模擬するシミュレーションの結果に基づいて生成される請求項５６から７９のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８１】
前記露光装置の状態を検出可能な検出装置を備えており、
前記制御パラメータは、前記検出装置の検出結果に基づく請求項５６から８０のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項８２】
露光光を用いて物体を露光する露光方法であって、
請求項１から３２のいずれか一項に記載の液体供給装置を用いて、前記液体を供給する露光方法。
【請求項８３】
請求項３３から８１のいずれか一項に記載の露光装置を用いて感光剤が塗布された前記物体を露光し、当該物体にパターンを転写し、
露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成し、
前記露光パターン層を介して前記物体を加工するデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体供給装置、露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法の技術分野に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置として、液体で満たされた液浸空間を介して投影される露光光を用いて基板を露光する液浸露光装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特に、特許文献１に記載された液浸露光装置は、液体源から第１部品への液体の流量を変化させるコントローラと備えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許公開第２０１１／０２９９０５１号
【発明の概要】
【０００４】
第１の態様の液体供給装置は、露光光を用いて物体を露光する露光装置内に液体を供給する液体供給装置であって、前記液体の供給源と前記液体の供給先との間に位置し、前記液体が流れる第１流路と、前記第１流路内の第１分岐点から分岐する第２流路と、前記第１流路内の前記第１分岐点の下流及び前記第２流路の少なくとも一方に位置し、前記第１流路から前記第２流路に流れ込む前記液体の流量を調整する流量調整器と、前記第１流路内の前記第１分岐点の上流に位置し、前記液体の温度を調整可能な第１温度調整器とを備える。
【０００５】
第２の態様の液体供給装置は、露光光を用いて物体を露光する露光装置内に液体を供給する液体供給装置であって、供給源から供給される前記液体が流れる第１共通流路と、前記第１共通流路から分岐する複数の第１流路と、前記複数の第１流路内に夫々位置し、前記複数の第１流路を流れる前記液体の温度を夫々調整可能な複数の第１温度調整器と、前記複数の第１流路内の前記複数の第１温度調整器の下流を流れる前記液体の流量を夫々調整する複数の流量調整器と、前記複数の第１流路から供給される前記液体を供給先へ導く第２共通流路とを備える。
【０００６】
第１の態様の露光装置は、露光光を用いて物体を露光する露光装置であって、上述した第１又は第２の態様の液体供給装置を備える。
【０００７】
第２の態様の露光装置は、液浸空間を介して投影される露光光を用いて物体を露光する露光動作を行う露光装置であって、前記液浸空間に液体を供給する液体供給装置と、前記液体供給装置から前記液浸空間に供給される前記液体の流量に応じて変動する制御パラメータに基づいて、第９期間中の前記流量の変動を、第１０期間中の前記流量の変動よりも優先的に抑制するように、前記物体を露光する露光動作を制御する制御装置とを備える。
【０００８】
第３の態様の露光装置は、液浸空間を介して投影される露光光を用いて物体を露光する露光動作を行う露光装置であって、前記液浸空間に液体を供給する液体供給装置と、前記液体供給装置から前記液浸空間に供給される前記液体の流量に応じて変動する制御パラメータに基づいて、前記流量が第１流量となる第１１期間の前記露光動作の第１品質と、前記流量が第２流量となる第１２期間の前記露光動作の第２品質との間のズレ量が第１所定量以下になるように、前記物体を露光する露光動作を制御する制御装置とを備える。
【０００９】
第１の態様の露光方法は、露光光を用いて物体を露光する露光方法であって、上述した第１又は第２の態様の液体供給装置を用いて、前記液体を供給する。
【００１０】
第１の態様のデバイス製造方法は、上述した第１、第２又は第３の態様の露光装置を用いて感光剤が塗布された前記物体を露光し、当該物体にパターンを転写し、露光された前記感光剤を現像して、前記パターンに対応する露光パターン層を形成し、前記露光パターン層を介して前記物体を加工する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、第１実施形態の露光装置の構成の一例を示す概略構成図である。
【図２】図２は、第１実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。
【図３】図３は、第１実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図４】図４（ａ）は、流量調整器の構成の一例を示すブロック図であり、図４（ｂ）は、第１の状態にある比例制御弁を示す断面図であり、図４（ｃ）は、第１の状態とは異なる第２の状態にある比例制御弁を示す断面図である。
【図５】基板上での投影領域の移動軌跡を示す平面図である。
【図６】図６（ａ）は、液浸空間と基板のエッジとの間の位置関係の例を示す平面図であり、図６（ｂ）は、液浸空間と基板のエッジとの間の位置関係と液体の流量との関係の一例を示すグラフである。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、夫々、液浸空間の界面と液浸部材の内面との位置関係を示す断面図である。
【図８】図８は、液浸空間の内圧と液体の流量との関係を示すグラフである。
【図９】図９（ａ）及び図９（ｂ）は、夫々、液浸空間の界面と液浸部材（特に、上面）との位置関係を示す断面図である。
【図１０】図１０（ａ）は、第１変形例の流量調整器の構成を示すブロック図であり、図１０（ｂ）は、第２変形例の流量調整器の構成を示すブロック図であり、図１０（ｃ）は、第３変形例の流量調整器の構成を示すブロック図であり、図１０（ｄ）は、第４変形例の流量調整器の構成を示すブロック図である。
【図１１】図１１は、第２実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１２】図１２は、第３実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１３】図１３は、背圧減衰器が恒温槽である液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１４】図１４は、第４実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１５】図１５は、第５実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１６】図１６は、第６実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１７】図１７は、第７実施形態の液浸部材の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。
【図１８】図１８は、第８実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図１９】図１９は、第９実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図２０】図２０は、第１０実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図２１】図２１は、第１１実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図２２】図２２は、第１２実施形態の液体供給装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図２３】図２３は、第１３実施形態の露光装置の構成の一例を示すブロック図である。
【図２４】図２４は、液浸空間と複数のステージとの位置関係と液体の流量との関係を示すグラフである。
【図２５】図２５は、液体供給装置が液浸空間に供給するべき液体の流量の指令値と、液浸空間に実際に供給される液体の流量との関係を示すタイミングチャートである。
【図２６】図２６（ａ）から図２６（ｃ）は、夫々、基板と終端光学素子との位置関係を示す断面図である。
【図２７】図２７は、液体供給装置が液浸空間に供給するべき液体の流量の指令値と、基板ステージの移動量との関係を示すタイミングチャートである。
【図２８】図２８は、液体供給装置が液浸空間に供給するべき液体の流量の指令値と、基板ステージの移動量との関係を示すタイミングチャートである。
【図２９】図２９は、デバイスの製造方法の一例を説明するためのフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。但し、本発明が以下に説明する実施形態に限定されることはない。
【００１３】
以下の説明では、互いに直交するＸ軸、Ｙ軸及びＺ軸から定義されるＸＹＺ直交座標系を用いて、露光装置を構成する各種構成要素の位置関係について説明する。尚、以下の説明では、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々が水平方向（つまり、水平面内の所定方向）であり、Ｚ軸方向が鉛直方向（つまり、水平面に直交する方向であり、実質的には上下方向）であるものとする。また、Ｘ軸、Ｙ軸及びＺ軸周りの回転方向（言い換えれば、傾斜方向）を、夫々、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向と称する。
（１）第１実施形態の露光装置ＥＸ１
図１から図１０を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１について説明する。
（１−１）第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成
はじめに、図１から図４を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の構成の一例について説明する。以下では、説明の便宜上、露光装置ＥＸ１の全体の構成の一例について説明した後に、露光装置ＥＸ１が備える液浸部材４及び液体供給装置１００の夫々の構成の一例について順に説明する。
（１−１−１）露光装置ＥＸ１の全体の構成
まず、図１を参照しながら、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の全体の構成の一例について説明する。図１は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１の全体の構成の一例を示す構成図である。
【００１４】
図１に示すように、露光装置ＥＸ１は、マスクステージ１と、照明系２と、投影光学系３と、液浸部材４と、基板ステージ５と、計測ステージ６と、計測システム７と、チャンバ装置８と、制御装置９と、液体供給装置１００と、流体回収装置１９９とを備えている。
【００１５】
マスクステージ１は、マスク１１を保持可能である。マスクステージ１は、保持したマスク１１をリリース可能である。
【００１６】
マスク１１は、基板ステージ５が保持する基板５１に投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスク１１は、例えば、ガラス板等の透明板と、当該透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたデバイスパターンとを含む透過型マスクであってもよい。但し、マスク１１は、いわゆる反射型マスクであってもよい。
【００１７】
マスクステージ１は、マスク１１を保持した状態で、照明系２から射出される露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。例えば、マスクステージ１は、平面モータを含む駆動システム１２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム１２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。但し、駆動システム１２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。マスクステージ１は、駆動システム１２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。
【００１８】
照明系２は、露光光ＥＬを射出する。照明系２が射出した露光光ＥＬは、照明領域ＩＲに照射される。照明系２が射出した露光光ＥＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスク１１の一部に照射される。
【００１９】
露光光ＥＬは、例えば、水銀ランプから射出される輝線（例えば、ｇ線、ｈ線若しくはｉ線等）であってもよい。露光光ＥＬは、例えば、ＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光：Ｄｅｅｐ  Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。露光光ＥＬは、例えば、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）又はＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光：Ｖａｃｕｕｍ  Ｕｌｔｒａ  Ｖｉｏｌｅｔ光）であってもよい。
【００２０】
投影光学系３は、マスク１１を透過した露光光ＥＬ（つまり、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像）を、基板５１に対して投影する。具体的には、投影光学系３は、投影領域ＰＲに露光光ＥＬを投影する。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、投影領域ＰＲに配置された基板５１の一部（例えば、後述するショット領域Ｓの少なくとも一部）に投影する。
【００２１】
投影光学系３は、縮小系である。例えば、投影光学系の投影倍率は、１／４であってもよいし、１／５であってもよいし、１／８であってもよいし、又は、その他の値であってもよい。但し、投影光学系３は、等倍系又は拡大系であってもよい。
【００２２】
投影光学系３は、反射光学素子を含まない屈折系であってもよい。投影光学系３は、屈折光学素子を含まない反射系であってもよい。投影光学系３は、反射光学素子及び屈折光学素子の双方を含む反射屈折系であってもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、倒立像として投影してもよい。投影光学系３は、デバイスパターンの像を、正立像として投影してもよい。
【００２３】
投影光学系３は、露光光ＥＬが射出される射出面３２を含む終端光学素子３１を備えている。射出面３２は、投影光学系３の像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子３１は、投影光学系３が含む複数の光学素子のうち、投影光学系３の像面に最も近い光学素子である。
【００２４】
終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸に平行である。この場合、終端光学素子３１の光軸ＡＸに平行な方向に着目すると、投影光学素子３１の入射面から射出面３２に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、射出面３２から終端光学素子３１の入射面に向かう方向が＋Ｚ軸方向である。但し、終端光学素子３１の光軸ＡＸは、Ｚ軸に平行でなくてもよい。
【００２５】
投影光学系３の光軸の少なくとも一部は、終端光学素子３１の光軸ＡＸと一致しており且つＺ軸に平行であってもよい。この場合、Ｚ軸方向に着目すると、投影光学系３から当該投影光学系３の像面に向かう方向が、−Ｚ軸方向であり、且つ、投影光学系３から当該投影光学系３の物体面に向かう方向が、＋Ｚ軸方向である。
【００２６】
射出面３２は、−Ｚ軸方向を向いている。従って、射出面３２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ軸方向に向かって進行する。射出面３２は、ＸＹ平面（つまり、水平面）に平行な平面である。但し、射出面３２の少なくとも一部は、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよい。射出面３２の少なくとも一部は、曲面（例えば、凹面又は凸面）であってもよい。
【００２７】
終端光学素子３１は、−Ｚ軸方向を向いている射出面３２に加えて、当該射出面３２の周囲に配置されている外面３３を含んでいる。露光光ＥＬは、射出面３２から射出される一方で、外面３３からは射出されなくてもよい。外面３３は、＋Ｚ軸方向側に向かうにつれて徐々に光軸ＡＸから遠ざかる形状（つまり、光軸ＡＸに対して傾斜する形状）を有している。但し、外面３３の少なくとも一部は、その他の形状を有していてもよい。
【００２８】
投影光学系３は、基準フレーム３７によって支持されている。基準フレーム３７は、当該基準フレーム３７の下側（つまり、−Ｚ軸方向側）に配置されている装置フレーム３８に支持されている。基準フレーム３７と装置フレーム３８との間には、防振装置３９が配置されている。防振装置３９は、装置フレーム３８から基準フレーム３７への振動の伝達を抑制する。防振装置３９は、例えば、バネ装置を含んでいてもよい。バネ装置の一例として、金属若しくはゴム等の弾性部材を含むバネ、又は、空気等の気体を含むバネ（いわゆる、エアマウント）が例示される。
【００２９】
液浸部材４は、液浸空間ＬＳを形成する。液浸空間ＬＳは、例えば純水である液体ＬＱで満たされた空間（言い換えれば、部分又は領域）を意味する。尚、液浸部材４の詳細な構成については、図２を参照しながら後に詳述する。
【００３０】
基板ステージ５は、基板５１をリリース可能に保持する保持部と、保持部の周囲に配置された上面５２とを備えている。上面５２は、基板５１の上面と平行な平面である。上面５２は、基板５１の上面と同一平面内に配置されている。但し、上面５２の少なくとも一部は、基板５１の上面に対して傾斜していてもよいし、曲面であってもよい。上面５２の少なくとも一部は、基板５１の上面と同一平面内に配置されていなくてもよい。尚、基板ステージ５の一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号及び米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号に開示されている。
【００３１】
基板ステージ５は、基板５１を保持した状態で、投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。基板ステージ５は、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。尚、ガイド面８１１と投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）とは、実質的に平行であってもよい。例えば、基板ステージ５は、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。尚、平面モータを含む駆動システム８２の一例は、例えば、米国特許第６，４５２，２９２号に開示されている。駆動システム８２が含む平面モータは、基板ステージ５に配置された可動子８２５と、ベース部材８１に配置された固定子８２８とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。基板ステージ５は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。
【００３２】
基板５１は、デバイスを製造するための基板である。基板５１は、例えば半導体ウェハ等の基材と、当該基材上に形成された感光膜とを含んでいる。感光膜は、例えば、感光材（例えば、フォトレジスト）の膜である。尚、基板５１は、感光膜に加えて、他の膜（例えば、基板５１の表面での露光光ＥＬの意図せぬ反射を防止する反射防止膜及び基板５１の表面を保護する保護膜の両方又は一方等）を含んでいてもよい。
【００３３】
計測ステージ６は、基板５１を保持しない一方で、露光光ＥＬを計測する計測部材（言い換えれば、計測器）６１を保持可能である。つまり、露光装置ＥＸ１は、基板ステージ５と計測ステージ６とを備える露光装置である。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，８９７，９６３号及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号に開示されている。
【００３４】
計測ステージ６は、計測部材６１を保持した状態で、投影領域ＰＲを含む平面（例えば、ＸＹ平面）に沿って移動可能である。計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、ベース部材８１のガイド面８１１上を移動可能である。計測ステージ６は、基板ステージ５と同様に、平面モータを含む駆動システム８２の動作により移動してもよい。駆動システム８２が含む平面モータは、計測ステージ６に配置された可動子８２６と、ベース部材８１に配置された固定子８２８とを含んでいてもよい。但し、駆動システム８２は、平面モータに加えて又は代えて、他のモータ（例えば、リニアモータ）を含んでいてもよい。計測ステージ６は、駆動システム８２の動作により、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能である。
【００３５】
計測システム７は、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測する。基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するために、計測システム７は、干渉計システムを含んでいてもよい。干渉計システムは、基板ステージ５に配置されている計測ミラー及び計測ステージ６に配置されている計測ミラーの夫々に計測光を照射すると共に、当該計測光の反射光を検出することで基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測してもよい。但し、計測システム７は、干渉計システムに加えて又は代えて、基板ステージ５及び計測ステージ６の位置を計測するエンコーダシステムを含んでいてもよい。尚、エンコーダシステムの一例は、例えば、米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されている。
【００３６】
チャンバ装置８は、空間ＣＳの環境（例えば、温度、湿度、圧力及びクリーン度のうちの少なくとも一つ）を調整する。空間ＣＳには、少なくとも、終端光学素子３１、液浸部材４、基板ステージ５及び計測ステージ６が配置されている。但し、マスクステージ１及び照明系２のうちの少なくとも一部が空間ＣＳに配置されていてもよい。
【００３７】
制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御する。制御装置９は、露光装置ＥＸ１全体の動作を制御するコントローラ９１と、コントローラ９１に接続され且つ露光装置ＥＸ１の動作に用いられる各種情報を記憶するメモリ９２とを含んでいる。
【００３８】
液体供給装置１００は、液浸部材４に対して液体ＬＱを供給する。液体供給装置１００が供給する液体ＬＱの少なくとも一部は、液浸部材４が液浸空間ＬＳを形成するために用いられる。尚、液体供給装置１００の構成の詳細については、図３を用いて後に詳述する。
【００３９】
流体回収装置１９９は、液浸部材４を介して、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの少なくとも一部を回収する。流体回収装置１９９が回収した液体ＬＱの少なくとも一部は、パーティクル等の不純物の除去が行われた後に、液体供給装置１００が供給する液体ＬＱとして再度用いられてもよい。但し、流体回収装置１９９が回収した液体ＬＱの少なくとも一部は、廃棄されてもよい。
【００４０】
内圧センサ１５０は、液浸空間ＬＳの内圧を測定する。
（１−１−２）第１実施形態の液浸部材４
続いて、図２を参照しながら、第１実施形態の液浸部材４について説明する。図２は、第１実施形態の液浸部材４の断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。
【００４１】
以下の説明では、特段の説明がない場合には、“上側（上方側）”は、＋Ｚ軸方向側を意味するものとする。“下側（下方側）”は、−Ｚ軸方向側を意味するものとする。“内側”とは、光軸ＡＸの放射方向における内側であって、光軸ＡＸに近づく側を意味するものとする。“外側”とは、光軸ＡＸの放射方向における外側であって、光軸ＡＸから遠ざかる側を意味するものとする。
【００４２】
図２に示すように、液浸部材４は、射出面３２及び液浸部材４の下側で移動可能な物体の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。従って、物体は、液浸空間ＬＳに面しつつ、射出面３２及び液浸部材４の両方に対向可能である。
【００４３】
物体は、基板ステージ５であってもよい。この場合、液浸部材４は、基板ステージ５の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。物体は、基板ステージ５が保持する基板５１であってもよい。この場合、液浸部材４は、基板５１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。物体は、計測ステージ６又は計測ステージ６が保持する計測部材６１であってもよい。この場合、液浸部材４は、計測ステージ６の少なくとも一部の上又は計測部材６１の少なくとも一部の上に液浸空間ＬＳを形成する。
【００４４】
液浸部材４は、２つの異なる物体に跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４は、上面５２と基板５１とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。例えば、液浸部材４は、基板ステージ５と計測ステージ６とに跨る液浸空間ＬＳを形成してもよい。
【００４５】
尚、以下の説明では、説明の簡略化の観点から、物体が基板５１であるものとして説明を進める。
【００４６】
液浸部材４は、露光光ＥＬの光路ＡＴの少なくとも一部が液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。例えば、液浸部材４は、光路ＡＴのうち射出面３２と基板５１との間の光路ＡＴＬが液体ＬＱで満たされるように、液浸空間ＬＳを形成する。液浸部材４は、投影領域ＰＲを含む基板５１の上面の少なくとも一部の領域が液体ＬＱで覆われるように、液浸空間ＬＳを形成する。射出面３２から射出した露光光ＥＬは、液体ＬＱを介して基板５１に投影される。つまり、露光装置ＥＸ１は、液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光する液浸露光装置である。
【００４７】
液浸部材４は、液浸空間ＬＳの一部を、終端光学素子３１と基板５１との間の空間に形成する。液浸部材４は、液浸空間ＬＳの一部を、液浸部材４と基板５１との間の空間に形成する。
【００４８】
このような液浸空間ＬＳを形成するために、液浸部材４は、以下に示す構成を有している。
【００４９】
液浸部材４は、光路ＡＴの周囲に配置されている。液浸部材４の形状は、光路ＡＴを取り囲むことが可能な形状である。ここで言う「光路ＡＴ」は、上述した光路ＡＴＬ及び終端光学素子３１内の露光光ＥＬの光路ＡＴＯの両方又は一方を含んでいてもよい。液浸部材４は、終端光学素子３１の周囲に配置されている。液浸部材４の形状は、終端光学素子３１を取り囲むことが可能な形状である。例えば、液浸部材４の形状は、光路ＡＴ及び終端光学素子３１を取り囲むことが可能な形状の一例である環状又は閉ループ状の形状であっていてもよい。例えば、液浸部材４の形状は、光路ＡＴ及び終端光学素子３１を取り囲むことが可能な形状の他の一例である枠状の形状（例えば、非円形若しくは多角形又は楕円等の枠を形成する形状）であっていてもよい。
【００５０】
液浸部材４は、液浸部材４と終端光学素子３１との間に間隙（具体的には、空間ＳＰ２）が形成されるように配置されている。液浸部材４は、液浸部材４の一部（例えば、後述する内面４２）が終端光学素子３１の外面３３と対向するように配置されている。液浸部材４は、液浸部材４と基板５１との間に間隙（具体的には、空間ＳＰ１）が形成されるように配置されている。液浸部材４は、液浸部材４の一部（例えば、後述する下面４１）が基板５１と対向するように配置されている。
【００５１】
液浸部材４の一部（例えば、後述する上面４４）は、射出面３２の下側に配置されている。但し、液浸部材４は、射出面３２の下側に配置されていなくてもよい。
【００５２】
液浸部材４は、下面４１と、内面４２と、上面４３と、上面４４と、内面４５とを備えている。
【００５３】
下面４１は、下側を向いている平面である。下面４１は、内面４２、上面４３及び上面４４よりも下側に配置されている。下面４１は、ＸＹ平面に平行（つまり、光軸ＡＸに垂直）である。下面４１は、液浸空間ＬＳとなり得る空間ＳＰ１を介して基板５１の一部に対向する。
【００５４】
内面４２は、内側を向いている平面である。内面４２は、上面４４の外側端部から上側に向かって延びる。内面４２の一部は、液浸空間ＬＳとなり得る空間ＳＰ２を介して外面３３に対向する。内面４２は、外面３３に平行である。内面４２は、ＸＹ平面に対して傾斜している。内面４２は、外面３３と同様に、下側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる。
【００５５】
上面４３は、上側を向いている平面である。上面４３は、内面４２よりも上側に配置されている。上面４３は、内面４２の上側端部から外側に向かって延びる。上面４３は、ＸＹ平面に平行である。
【００５６】
上面４４は、上側を向いている平面である。上面４４は、下面４１及び内面４５よりも上側に配置されている。上面４４は、内面４２よりも下側に配置されている。上面４４は、内面４２の内側端部から内側に向かって延びる。上面４４は、内面４５の上側端部から外側に向かって延びる。上面４４は、ＸＹ平面に平行である。
【００５７】
内面４５は、内側を向いている平面である。内面４５は、ＸＹ平面に対して傾斜している。内面４５は、内面４２と同様に、下側端部から上側に向かって且つ外側に向かって延びる。
【００５８】
下面４１、内面４２、上面４４及び内面４５は、液体ＬＱに対して親液性を有している。但し、下面４１、内面４２、上面４４及び内面４５の少なくとも一つは、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。上面４３は、液体ＬＱに対して撥液性を有している。但し、上面４３は、液体ＬＱに対して親液性を有していてもよい。
【００５９】
液浸部材４には、射出面３２から射出した露光光ＥＬが透過可能な開口４６が形成されている。開口４６の外縁は、内面４５によって規定されている。開口４６の周囲には、下面４１及び上面４４が配置されている。開口４６の中心は、光軸ＡＸ及び射出面３２の中心と一致している。ＸＹ平面に沿った開口４６の径及び面積は、射出面３２の径及び面積よりも小さい。ＸＹ平面上における開口４６の形状は、例えば、円形、楕円形又は矩形であってもよい。
【００６０】
液浸部材４には、更に、液体供給口４８１と、流体回収口４９１とが形成されている。
【００６１】
液体供給口４８１は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する開口である。液体供給口４８１は、内面４２に形成されている。液体供給口４８１は、空間ＳＰ２に面するように形成されている。液体供給口４８１は、終端光学素子３１の外面３３と対向していてもよいし、対向していなくてもよい。
【００６２】
液体供給口４８１は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）に断続的に分布するように形成されている。例えば、液体供給口４８１は、内面４２上で定義される仮想的な円（例えば、開口４６の中心周りの仮想的な円）に沿って、等間隔で又はランダムに複数形成されていてもよい。但し、液体供給口４８１は、終端光学素子３１の周囲に連続的に分布するように形成されていてもよい。
【００６３】
液体供給口４８１には、コントローラ９１の制御の下で、液体供給装置１００から、液体供給路４８２を介して、クリーンで温度調整された液体ＬＱが供給される。その結果、液体供給口４８１から空間ＳＰ２に対して、液体供給装置１００から供給される液体ＬＱが供給される。液体供給口４８１から空間ＳＰ２に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部によって、光路ＡＴＬを含む光路空間ＳＰＫが液体ＬＱで満たされる。
【００６４】
液体供給口４８１から空間ＳＰ２に対して供給された液体ＬＱの少なくとも一部は、開口４６を介して、空間ＳＰ１に供給される。その結果、空間ＳＰ１の少なくとも一部が液体ＬＱで満たされる。
【００６５】
流体回収口４９１は、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する開口である。流体回収口４９１は、下面４１に形成されている。流体回収口４９１は、空間ＳＰ１に面するように形成されている。流体回収口４９１は、空間ＳＰ１を介して基板５１に対向するように形成されている。尚、下面４１のうち流体回収口４９１よりも外側に位置する面部分は、液体ＬＱに対して撥液性を有していてもよい。
【００６６】
流体回収口４９１は、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）に連続的に分布するように形成されている。例えば、流体回収口４９１は、下面４１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４６の中心周りの仮想的な円）に沿って連続的に分布するように形成されていてもよい。但し、流体回収口４９１は、終端光学素子３１の周囲に沿って断続的に分布するように形成されていてもよい。
【００６７】
流体回収口４９１には、メッシュプレート等の多孔部材が配置されている。多孔部材は、基板５１の上面に対向する下面と、流体回収路に面する上面と、当該上面及び当該下面を結ぶ複数の孔とを含んでいる。流体回収口４９１は、多孔部材を介して、液浸空間ＬＳ（特に、空間ＳＰ１）から液体ＬＱを回収する。但し、流体回収口４９１には、多孔部材が配置されていなくてもよい。尚、多孔部材の複数の孔の一つを流体回収口４９１と称してもよい。
【００６８】
流体回収口４９１からは、コントローラ９１の制御の下で、流体回収口４９１に配置された多孔部材を介して液体ＬＱが回収される。例えば、コントローラ９１の制御の下で、多孔部材の上面側の圧力と多孔部材の下面側の圧力との差が調整されることで、流体回収口４９１から液体ＬＱが回収される。流体回収口４９１から回収された液体は、流体回収路を介して、液体回収装置１９９によって回収される。
【００６９】
尚、図２では、説明の便宜上、断続的に分布する複数の液体供給口４８１のうちの一の液体供給口４８１に液体ＬＱを供給する一の液体供給装置１００と、複数の液体供給口４８１のうちの他の液体供給口４８１に液体ＬＱを供給する他の液体供給装置１００とが別々に記載されている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、実際には、複数の液体供給口４８１に液体ＬＱを供給する単一の液体供給装置１００を備えている。但し、後に図１５を参照しながら説明するように、露光装置ＥＸ１は、夫々が対応する少なくとも一つの液体供給口４８１に液体ＬＱを供給する複数の液体供給装置１００を備えていてもよい。
【００７０】
同様に、図２では、説明の便宜上、連続的に分布する流体回収口４９１のうちの一の回収口部分から液体ＬＱを回収する一の流体回収装置１９９と、流体回収口４９１のうちの他の回収口部分から液体ＬＱを回収する他の流体回収装置１９９とが別々に記載されている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、実際には、流体回収口４９１から液体ＬＱを回収する単一の流体回収装置１９９を備えている。但し、露光装置ＥＸ１は、夫々が対応する回収口部分から液体ＬＱを回収する複数の流体回収装置１９９を備えていてもよい。
【００７１】
第１実施形態の液浸部材４では、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、液浸部材４（特に、下面４１）と基板５１との間に形成される。以下、液浸部材４と基板５１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ１”と称する。加えて、液浸空間ＬＳ内の液体ＬＱの界面ＬＧの一部は、液浸部材４（特に、内面４２）と終端光学素子３１（特に、外面３３）との間に形成される。以下、終端光学素子３１と第１部材４１との間に形成される界面ＬＧを、適宜“界面ＬＧ２”と称する。
【００７２】
尚、図２を用いて説明した液浸部材４は一例である。従って、液浸部材４の一部の構成が適宜改変されてもよい。
【００７３】
例えば、液浸部材４は、下面４１、内面４２、上面４３、上面４４及び内面４５とは異なる他の面を備えていてもよい。液浸部材４は、下面４１、内面４２、上面４３、上面４４及び内面４５の少なくとも一つを備えていなくてもよい。
【００７４】
下面４１、内面４２、上面４３、上面４４及び内面４５のうちの少なくとも一つは、曲面を含んでいてもよい。下面４１、上面４３及び上面４４のうちの少なくとも一つは、ＸＹ平面に対して傾斜する面を含んでいてもよい。内面４２及び内面４５のうちの少なくとも一方は、ＸＹ平面に平行な面を含んでいてもよい。
【００７５】
液浸部材４は、コントローラ９１によって制御される駆動装置（例えば、アクチュエータ）の動作によって移動可能な可動部材であってもよい。例えば、液浸部材４は、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸方向、並びに、θＸ方向、θＹ方向及びθＺ方向のうちの少なくとも一つに沿って移動可能な可動部材であってもよい。例えば、液浸部材４は、実質的に固定されている終端光学素子３１に対して移動可能な可動部材であってもよい。例えば、液浸部材４は、光路ＡＴの外側で移動可能な可動部材であってもよい。例えば、液浸部材４２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で移動可能な可動部材であってもよい。
【００７６】
例えば、液浸部材４は、物理的に又は機能的に区別可能な複数の部材を備えていてもよい。液浸部材４が複数の部材を備えている場合には、複数の部材の少なくとも一つの部材は、上述した可動部材であってもよい。
【００７７】
液体供給口４８１は、内面４２に加えて又は代えて、液浸空間ＬＳに面する可能性がある液浸部材４の任意の面に形成されていてもよい。流体回収口４９１は、下面４１に加えて又は代えて、液浸空間ＬＳに面する可能性がある液浸部材４の任意の面に形成されていてもよい。尚、液体供給口４８１及び流体回収口４９１の形成位置の他の一例（つまり、図２に示す形成位置とは異なる形成位置の例）については、後に詳述する図１７に例示されている。
【００７８】
流体回収口４９１からは、液体ＬＱが回収される一方で気体が回収されなくてもよい。多孔部材が配置された流体回収口４９１を介して液体ＬＱを回収する一方で気体を回収しない技術の一例は、例えば、米国特許第７，２９２，３１３号に開示されている。但し、流体回収口４９１からは、液体ＬＱ及び気体の双方が回収されてもよい。
【００７９】
露光装置ＥＸ１は、液体供給装置１００に加えて又は代えて、露光装置ＥＸ１内の任意の領域（典型的には、液浸部材４、液体供給路４８２、液体供給口４８１、光路空間ＳＰＫ又は液浸空間ＬＳとは異なる領域）に対して液体を供給する他の液体供給装置を備えていてもよい。例えば、露光装置ＥＸ１は、基板テーブル５内の少なくとも一部の領域に液体を供給する他の液体供給装置を備えていてもよい。他の液体供給装置の構成は、液体供給装置１００の構成と同一であってもよい。
【００８０】
（１−１−３）液体供給装置１００の構成
続いて、図３を参照しながら、第１実施形態の液体供給装置１００の構成の一例について説明する。図３は、第１実施形態の液体供給装置１００の構成の一例を示すブロック図である。
【００８１】
図３に示すように、液体供給装置１００は、液体供給源に接続可能である。液体供給装置１００は、レギュレータ１１１と、ポンプ１１２と、流量調整器１１３と、熱交換器１１４と、フィルタ１１５と、分岐器１１６と、流量計１１７と、流量調整器１２１と、ポンプ１２２とを備えている。
【００８２】
液体供給源は、液体供給装置１００が液浸部材４に対して供給するべき液体ＬＱの供給源である。流体供給源は、第１所望流量の液体を所望のタイミングで液体供給装置１００に供給可能である。このような液体供給源の一例は、純水である液体ＬＱを製造可能な純水製造装置である。液体供給源は、露光装置ＥＸ１が設置される工場等が備える施設の一つである。但し、露光装置ＥＸ１が流体供給源の一例である純水製造装置を備えていてもよい。この場合、純水製造装置が、工場等から供給される任意の液体から液体ＬＱを生成してもよい。
【００８３】
液体供給源は、配管によって、レギュレータ１１１に連結されている。レギュレータ１１１は、配管１３１ａによって、レギュレータ１１１よりも下流側に位置するポンプ１１２に連結されている。レギュレータ１１１は、圧力調整弁である。レギュレータ１１１は、レギュレータ１１１が下流側に向けて供給する液体ＬＱの圧力（つまり、レギュレータ１１１に連結されている配管１３１ａ内の液体ＬＱの圧力）を所望圧力に設定する。第１実施形態では、レギュレータ１１１は、レギュレータ１１１からポンプ１１２に供給される液体ＬＱの圧力（つまり、配管１３１ａ内の液体ＬＱの圧力）を一定に維持する。尚、本実施形態における「圧力を一定に維持する」という動作は、「圧力が全く変動しないように圧力を一定に維持する」という動作のみならず、「圧力が一定であると同一視することができる程度の圧力の微小な変動（例えば、露光装置ＥＸ１の動作に対して悪影響を及ぼさない程度の圧力の変動）を許容するように圧力を制御する（典型的には、ほぼ一定に維持する）」という動作をも含む。
【００８４】
尚、第１実施形態での「下流」及び「上流」とは、液体供給装置１００内での液体ＬＱの流れる方向を基準に規定されている。液体供給装置１００内では、液体ＬＱは、レギュレータ１１１から液体供給口４８１及びポンプ１２２の夫々に向かって流れる。
【００８５】
ポンプ１１２は、例えば、ウォーターポンプである。ポンプ１１２は、必要に応じて液体ＬＱの圧力を高めた上で、ポンプ１１２の下流側に連結された配管１３１ｂに液体ＬＱを送り出す。ポンプ１１２は、配管１３１ｂによって、ポンプ１１２よりも下流側に位置する流量調整器１１３に連結されている。配管１３１ｂを介して、ポンプ１１２から流量調整器１１３に対して液体ＬＱが供給される。
【００８６】
流量調整器１１３は、流量調整器１１３の下流側に連結された配管１３１ｃへ送り出される液体ＬＱの流量を制御する。流量調整器１１３は、配管１３１ｃへ送り出される液体ＬＱの流量が所望の第１流量となるように、配管１３１ｃへ送り出される液体ＬＱの流量を調整する。尚、コントローラ９１の制御下で、ポンプ１１２は、ポンプ１１２から送り出される液体ＬＱの量を調整してもよい。
【００８７】
流量調整器１１３は、配管１３１ｃによって、流量調整器１１３よりも下流側に位置する熱交換器１１４に連結されている。配管１３１ｃを介して、流量調整器１１３から熱交換器１１４に対して液体ＬＱが供給される。流量調整器１１３から熱交換器１１４に対して供給される液体ＬＱの流量が、一定に維持される。尚、本実施形態における「流量を一定に維持する」という動作は、「流量が全く変動しないように流量を一定に維持する」という動作のみならず、「流量が一定であると同一視することができる程度の流量の微小な変動（例えば、露光装置ＥＸ１の動作に対して悪影響を及ぼさない程度の流量の変動）を許容するように流量を制御する（典型的には、ほぼ一定に維持する）」という動作をも含む。
【００８８】
熱交換器１１４は、熱交換器１１４の内部を流れる液体ＬＱとの間で熱交換を行う。熱交換器１１４は、熱交換を行うことで、熱交換器１１４が下流側に向けて供給する液体ＬＱの温度を所望温度に設定する。第１実施形態では、熱交換器１１４は、流量調整器１１３から熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの温度の高低又は変動に関わらず、熱交換器１１４が下流側に向けて供給する液体ＬＱの温度を一定に維持する。
【００８９】
熱交換器１１４は、配管１３１ｄによって、熱交換器１１４よりも下流側に位置するフィルタ１１５に連結されている。配管１３１ｄを介して、熱交換器１１４からフィルタ１１５に対して液体ＬＱが供給される。このとき、熱交換器１１４が下流側に向けて供給する液体ＬＱの温度が一定に維持されるがゆえに、熱交換器１１４からフィルタ１１５に対して、流量及び温度が一定である液体ＬＱが供給される。
【００９０】
フィルタ１１５は、フィルタ１１５を通過する液体ＬＱから不純物を除去する。フィルタ１１５は、配管１３１ｅによって、分岐器１１６と連結されている。配管１３１ｅを介して、フィルタ１１５から分岐器１１６に対して、流量及び温度が一定に維持された液体ＬＱが流れ込む。
【００９１】
分岐器１１６は、配管１３１ｅを分岐する。分岐器１１６は、例えば分岐配管である。分岐器１１６は、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流路を２系統に分岐する。具体的には、分岐器１１６は、配管１３１ｅを、配管１３１ｆと配管１３２ａとに分岐する。つまり、分岐器１１６は、分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流路を、（ｉ）分岐器１１６から液浸部材４へと向かう流路と、（ｉｉ）分岐器１１６から流量調整器１２１へと向かう流路とに分岐する。
【００９２】
分岐器１１６から分岐している配管１３１ｆは、液浸部材４の液体供給路４８２に連結されている。液体供給装置１００は、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの少なくとも一部を、配管１３１ｆを介して、液体供給路４８２に供給することができる。つまり、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの少なくとも一部は、液浸空間ＬＳを構成するための液体ＬＱとして、液体供給口４８１から、光路空間ＳＰＫに供給される。その結果、液浸空間ＬＳが形成される。
【００９３】
流量計１１７は、分岐器１１６と液浸部材４との間の任意の位置（図３に示す例では、配管１３１ｆ）に設置されている。流量計１１７は、分岐器１１６から液浸部材４に流れ込む液体ＬＱの流量（つまり、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量）を測定可能である。
【００９４】
一方で、分岐器１１６から分岐している配管１３２ａは、流量調整器１２１に連結されている。液体供給装置１００は、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの少なくとも他の一部を、配管１３２ａを介して、流量調整器１２１に供給することができる。但し、液体供給装置１００は、流量調整器１２１の下流側に流れ出す液体ＬＱの量をゼロに設定することで、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの全てを液浸部材４に供給してもよい。
【００９５】
流量調整器１２１は、コントローラ９１の制御下で、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する（言い換えれば、変更する、増やす又は減らす）。分岐器１１６を起点に配管１３２ａ、流量調整器１２１及び配管１３２ｂをこの順に液体ＬＱが通過することを考慮すると、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する動作は、配管１３２ａから流量調整器１２１に流れ込む液体ＬＱの流量を調整する動作に相当する。つまり、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する動作は、分岐器１１６から配管１３２ａに流れ込む液体ＬＱの流量を調整する動作に相当する。更に、分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流路が２系統に分岐することを考慮すると、分岐器１１６から配管１３２ａに流れ込む液体ＬＱの流量を調整する動作は、分岐器１１６から配管１３１ｆに流れ込む液体ＬＱの流量（つまり、液体供給口４８１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量）を調整する動作に相当する。このため、流量調整器１２１は、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整することで、液体供給口４８１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。
【００９６】
流量調整器１２１は、必要に応じて流量計１１７の測定結果を参照しながら、液体供給口４８１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量が第２所望流量となるように、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。例えば、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流量がＦ０であり、且つ、第２所望流量がＦ１である場合には、流量調整器１２１は、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を、Ｆ０−Ｆ１に設定する。例えば、配管１３１ｅを介して分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流量がＦ０のまま第２所望流量がＦ１からＦ１’に変化した場合には、流量調整器１２１は、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を、Ｆ０−Ｆ１からＦ０−Ｆ１’に変更する。このように、流量調整器１２１は、分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流量（実質的には、熱交換器１１４が下流側に向けて供給する液体ＬＱの流量）が一定である場合であっても、分岐器１１６から液体供給口４８１を介して光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。
【００９７】
ここで、図４（ａ）から図４（ｃ）を参照しながら、流量調整器１２１の構成の一例について説明する。図４（ａ）は、流量調整器１２１の構成の一例を示すブロック図である。図４（ｂ）は、第１の状態にある比例制御弁１２１１を示す断面図である。図４（ｃ）は、第１の状態とは異なる第２の状態にある比例制御弁１２１１を示す断面図である。
【００９８】
図４（ａ）に示すように、流量調整器１２１ａは、通過する液体ＬＱの流量を測定可能な流量計１２１１と、比例制御弁１２１２と、流量計１２１１及び比例制御弁１２１２を連結する配管１２１３とを備えている。比例制御弁１２１２には、配管１２１２を介して液体ＬＱが供給される。比例制御弁１２１２は、比例制御弁１２１２を通過する液体ＬＱの流量を調整可能な弁である。
【００９９】
比例制御弁１２１２は、比例制御弁１２１２を通過する液体ＬＱの流量を調整するために、比例制御弁１２１２内において液体ＬＱが通過する流路の面積（具体的には、流路に交わる方向に沿った流路の断面の面積）を調整してもよい。この場合、比例制御弁１２１２内において液体ＬＱが通過する流路の当該流路に交わる方向に沿った断面を示す図４（ｂ）及び図４（ｃ）に示すように、比例制御弁１２１２は、例えば、可動弁体ＶＬＶと、アクチュエータＡＣＴとを備える。
【０１００】
可動弁体ＶＬＶは、流路の面積（言い換えれば、液体ＬＱが通過可能な開口の面積）を調整するように、移動することができる。例えば、図４（ｂ）は、流路の面積が相対的に大きくなる位置に可動弁体ＶＬＶが位置している、第１の状態にある比例制御弁１２１２を示す。例えば、図４（ｃ）は、流路の面積が相対的に小さくなる位置に可動弁体ＶＬＶが位置している、第２の状態にある比例制御弁１２１２を示す。第１の状態にある比例制御弁１２１２を通過する液体ＬＱの流量は、第２の状態にある比例制御弁１２１２を通過する液体ＬＱの流量よりも大きい。
【０１０１】
尚、図４（ａ）から図４（ｃ）を用いて説明した流量調整器１２１は一例である。従って、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量（つまり、分岐器１１６から配管１３２ａに流れ込む液体ＬＱの流量）を調整する任意の流量調整器が、流量調整器１２１として用いられてもよい。
【０１０２】
再び図３において、流量調整器１２１は、配管１３２ｂによって、ポンプ１２２と連結されている。ポンプ１２２は、ウォーターポンプである。ポンプ１２２は、流量調整器１２１から下流側に向けて液体ＬＱを送り出す。ポンプ１２２が下流側に向けて送り出した液体ＬＱは、液浸部材４（特に、液体供給路４８２及び液体供給口４８１）及び光路空間ＳＰＫには供給されない。ポンプ１２２が下流側に向けて送り出した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳを構成するための液体ＬＱとして用いられない。ポンプ１２２が下流側に向けて送り出した液体ＬＱは、上述した流体回収装置１９９によって又は上述した流体回収装置１９９とは異なる流体回収装置によって回収されてもよい。ポンプ１２２が下流側に向けて送り出した液体ＬＱの少なくとも一部は、パーティクル等の不純物の除去が行われた後に、液体供給装置１００が供給する液体ＬＱとして再度用いられてもよい。ポンプ１２２がドレイン管に接続され、ポンプ１２２が下流側に向けて送り出した液体ＬＱの少なくとも一部は、廃棄されてもよい。
【０１０３】
以上説明したように、第１実施形態の液体供給装置１００は、分岐器１１６に流れ込む液体ＬＱの流路を２系統に分岐する。このため、液体供給装置１００は、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量（つまり、液浸空間ＬＳに供給される液体の流量）を調整することができる。例えば、液体供給装置１００は、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を、必要に応じて増やす又は減らすことができる。
【０１０４】
液体供給装置１００は、流量調整器１２１から流れ出す液体ＬＱの流量（つまり、光路空間ＳＰＫに供給されない液体ＬＱの流量）を調整することで、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。従って、液体供給装置１００は、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を、相対的に速く調整することができる。例えば、液体供給装置１００は、後述するショット領域Ｓ（図５参照）の半分を露光する期間ないしは後述するショット領域Ｓを５つ露光する期間中に、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を必要量だけ調整する（つまり、変更する、増やす又は減らす）ことができる。尚、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量の具体的な調整態様については、後に詳述する（図６から図９参照）。
【０１０５】
第１実施形態では、熱交換器１１４は、分岐器１１６の上流側に配置されている。このため、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量が調整される場合であっても、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が一定に維持される。従って、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が一定に維持されない又は維持されにくい場合と比較して、熱交換器１１４から供給される液体ＬＱの温度の変動が抑制される。
【０１０６】
ここで、熱交換器１１４が分岐器１１６の下流側（例えば、配管１３１ｆ中）に配置されている比較例の液体供給装置について検討する。比較例の液体供給装置では、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量が調整される場合には、熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの流量もまた同時に調整されることになる。つまり、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が一定に維持されない。このため、熱交換器１１４内での熱交換の対象となる液体ＬＱの流量の変化に起因して、熱交換器１１４から下流側に供給される液体ＬＱの温度の変動量が相対的に大きくなる可能性がある。つまり、比較例の液体供給装置は、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの温度の変動量を一定量以下に抑制しながら、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量を好適に調整することができない可能性がある。熱交換器１１４から下流側に供給される液体ＬＱの温度の変動量が相対的に大きくなると、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの温度の変動量もまた相対的に大きくなってしまう。液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの温度の変動量が相対的に大きくなると、露光装置ＥＸ１が行う露光動作の精度に対して何らかの影響が生ずる可能性がある。
【０１０７】
しかるに、第１実施形態の液体供給装置１００では、熱交換器１１４内での熱交換の対象となる液体ＬＱの流量が一定に維持される。このため、比較例の液体供給装置と比較して、熱交換器１１４から下流側に供給される液体ＬＱの温度の変動量が相対的に小さくなる。その結果、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの温度の変動量が相対的に小さくなる。このため、第１実施形態の液体供給装置１００を備える露光装置ＥＸ１は、比較例の液体供給装置を備える露光装置と比較して、露光動作を相対的に高精度に行うことができる。
【０１０８】
加えて、レギュレータ１１１、ポンプ１１２、流量調整器１１３及び熱交換器１１４は、フィルタ１１５及び分岐器１１６の上流側に配置されている。従って、レギュレータ１１１、ポンプ１１２、流量調整器１１３及び熱交換器１１４のうちの少なくとも一つがフィルタ１１５及び分岐器１１６のうちの少なくとも一方の下流側に配置される場合と比較して、分岐器１１６よりも下流側において、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱにパーティクル等の不純物が混入する可能性が小さくなる。
【０１０９】
尚、図３を用いて説明した液体供給装置１００は一例である。従って、液体供給装置１００の一部の構成が適宜改変されてもよい。以下、液体供給装置１００の構成の改変例の一部について説明する。
【０１１０】
液体供給源は、純水製造装置が製造した液体ＬＱを一時的に蓄積するタンクであってもよい。液体供給装置１００が、液体供給源を備えていてもよい。液体供給装置１００は、レギュレータ１１１、ポンプ１１２及び流量調整器１１３のうちの少なくとも一つを備えていなくてもよい。流量調整器１１３の構成は、流量調整器１２１の構成と同一であってもよい。液体供給装置１００が流量計１１７を備えていなくてもよい。
【０１１１】
熱交換器１１４は、配管１３１ｃを介して流量調整器１１３から供給される液体ＬＱが流れる第１配管と、第１配管を流路内に包含する共に第１配管内を流れる液体ＬＱと熱交換するための他の液体が第１配管内を液体ＬＱが流れる方向とは逆方向に向かって流れる第２配管とを備える熱交換器であってもよい。熱交換器１１４は、所定量の液体ＬＱを、当該液体ＬＱの温度を一定に維持しながら一時的に蓄積可能な熱交換器（いわゆる、「第２貯留槽」の一具体例である恒温槽であり、後述する図１３参照）であってもよい。熱交換器１１４は、その他の形式の熱交換器であってもよい。或いは、液体供給装置１００は、熱交換器１１４に加えて又は代えて、液体ＬＱの温度を調整可能な任意の温度調整装置を備えていてもよい。温度調整装置の一例として、液体ＬＱの温度を増加可能な温度調整装置（例えば、ヒータ等）、液体ＬＱの温度を減少可能な温度調整装置（例えば、冷却器等）や、液体ＬＱの温度を維持可能な温度調整装置や、液体ＬＱの温度を増加及び／又は減少及び／又は維持可能な温度調整装置等があげられる。
【０１１２】
フィルタ１１５は、分岐器１１６の下流側（例えば、配管１３１ｆ内）に配置されていてもよい。液体供給装置１００は、フィルタ１１５を備えていなくてもよい。
【０１１３】
液体供給装置１００は、流量計１１７を備えていなくてもよい。液体供給装置１００が流量計１１７を備えていない場合には、流量調整器１２１は、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整するために、流量計１１７の測定結果を参照しなくてもよい。
【０１１４】
液体供給装置１００は、ポンプ１２２を備えていなくてもよい。この場合、配管１３２ｂが大気に開放されていてもよい。配管１３２ｂは、液体供給装置１００が備える又は露光装置ＥＸ１が設置されている工場に設置された真空源（いわゆる、バキューム）に連結されていてもよい。
【０１１５】
液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳ、光路空間ＳＰＫ又は液浸部材４に加えて又は代えて、露光装置ＥＸ１内の所望領域に液体ＬＱを供給してもよい。
【０１１６】
配管１３１ａ、配管１３１ｂ、配管１３１ｃ、配管１３１ｄ、配管１３１ｅ及び配管１３１ｆのうちの少なくとも一つは、「第１流路」の一具体例である。配管１３２ａ、配管１３２ｂ及び配管１３２ｃのうちの少なくとも一つは、「第２流路」の一具体例である。分岐器１６１は、「第１分岐点」の一具体例である。流量調整器１２１は、「第１流量調整器」の一具体例である。レギュレータ１１１は、「第２レギュレータ」の一具体例である。
【０１１７】
（１−２）露光装置ＥＸ１の動作
続いて、露光装置ＥＸ１の動作（特に、基板５１を露光するための一連の動作）について説明する。まずは、コントローラ９１は、液浸部材４から離れた基板交換位置に基板ステージ５が移動するように、駆動システム８２を制御する。その後、コントローラ９１は、基板交換位置に位置している基板ステージ５に、露光前の基板５１を搬入する（つまり、搬入するように、不図示の基板搬入装置を制御する）。
【０１１８】
液浸部材４から離れた基板交換位置に基板ステージ５が位置している間に、コントローラ９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４とＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が配置されるように、駆動システム８２を制御する。尚、終端光学素子３１及び液浸部材４とＺ軸方向に沿って対向する位置に計測ステージ６が配置されている期間に、計測ステージ６が保持する計測部材６１によって、液体ＬＱを介して露光光ＥＬを受光する計測が行われてもよい。
【０１１９】
露光前の基板５１を基板ステージ５が保持した後、コントローラ９１は、終端光学素子３１及び液浸部材４とＺ軸方向に沿って対向する位置に、露光前の基板５１が搬入された基板ステージ５を移動させる。
【０１２０】
尚、上述の動作が行われている間も、基板ステージ５又は計測ステージ６と終端光学素子３１との間に液浸空間ＬＳが形成され続ける。
【０１２１】
次に、コントローラ９１は、基板５１に対する露光処理を開始する。具体的には、コントローラ９１の制御の下で、照明系２がマスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。マスク１１からの露光光ＥＬは、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して、基板５１に投影される。その結果、基板５１には、マスク１１に形成されたデバイスパターンの像が投影される（つまり、基板５１が露光される）。
【０１２２】
露光装置ＥＸ１は、露光時にマスク１１及び基板５１の両方を所定の走査方向（スキャン方向）に沿って移動させる走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である。第１実施形態では、マスク１１の走査方向及び基板５１の走査方向が、共にＹ軸方向であるものとする。従って、コントローラ９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。コントローラ９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。
【０１２３】
ここで、図５を参照しながら、マスク１１及び基板５１の移動態様について説明する。図５は、基板５１上での投影領域ＰＲの移動軌跡を示す平面図である。
【０１２４】
図５に示すように、基板５１の上面には、マトリクス状に分布する複数のショット領域Ｓが画定されている。ショット領域Ｓは、露光光ＥＬによる１回の露光処理で露光される領域である。
【０１２５】
例えば、ある一つのショット領域Ｓ１に対する露光処理を行う際には、当該ショット領域Ｓ１の上側に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラ９１は、露光光ＥＬが投影される投影領域ＰＲに対して基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる。更に、コントローラ９１は、露光光ＥＬが照射される照明領域ＩＲに対してマスク１１をＹ軸方向に沿って移動させる。基板５１及びマスク１１の移動と並行して、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射する。その結果、ショット領域Ｓ１は、投影光学系３及び液浸空間ＬＳを介して投影される露光光ＥＬによって露光される。
【０１２６】
ショット領域Ｓ１が露光終了位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了する。ショット領域Ｓ１に対する露光処理が終了した後には、次のショット領域Ｓ２（例えば、＋Ｘ軸方向側においてショット領域Ｓ１と隣接するショット領域Ｓ２）に対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われる。具体的には、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、コントローラ９１は、Ｙ軸方向に交わる方向（例えば、Ｘ軸方向、又は、Ｘ軸方向及びＹ軸方向の夫々に対して傾斜する方向）に沿って基板５１を移動する。次のショット領域Ｓ２を露光開始位置に移動させる動作が行われている間は、照明系２は、マスク１１に対して露光光ＥＬを照射しない。次のショット領域Ｓ２が露光開始位置に到達すると、ショット領域Ｓ１に対する露光光ＥＬの露光処理と同様の態様で、ショット領域Ｓ２に対する露光光ＥＬの露光処理が開始する。以降、同様の動作が、基板５１上の複数のショット領域を対象として行われる。尚、図５中の軌跡Ｓｒは、基板５１上での投影領域ＰＲの相対的な移動軌跡を示している。
【０１２７】
以下の説明では、ショット領域Ｓに対する露光処理を行うために、投影領域ＰＲに対してショット領域ＳがＹ軸方向に沿って移動するように基板５１をＹ軸方向に沿って移動させる動作を、適宜“スキャン移動動作”と称する。また、スキャン移動動作が行われている期間を、適宜“スキャン移動期間”と称する。スキャン移動期間中は、照明系２によって、マスク１１に対して露光光ＥＬが照射され、基板５１に露光光ＥＬが照射される。スキャン移動期間中は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けている。
【０１２８】
一方で、あるショット領域Ｓに対する露光処理が終了した後に次のショット領域Ｓに対する露光処理を開始するために、次のショット領域Ｓが露光開始位置に移動するように基板５１をＹ軸方向に交わる方向に沿って移動させる動作を、適宜“ステップ移動動作”と称する。また、ステップ移動動作が行われている期間を、適宜“ステップ移動期間”と称する。ステップ移動期間中は、照明系２によって、マスク１１に対して露光光ＥＬが照射されず、基板５１に露光光ＥＬが照射されない。ステップ移動期間中は、液浸空間ＬＳが形成されている又は形成され続けていてもよい。
【０１２９】
尚、図５及び後述する図６においては、液浸空間ＬＳのＸＹ平面内での形状が円形である。しかしながら、液浸空間ＬＳのＸＹ平面内での形状が、他の形状であってもよい。例えば、液浸空間ＬＳのＸＹ平面内での形状は、光軸ＡＸと交差するＹ軸に沿って一つの対角線を有するひし形であってもよい。液浸空間ＬＳのＸＹ平面内での形状は、基板５１（基板ステージ）の移動によって変化する場合もある。
【０１３０】
露光装置ＥＸ１は、このようなスキャン移動動作とステップ移動動作とを交互に繰り返すことで、基板５１上に画定されている複数のショットＳに対する露光処理を順次行う。この際、露光装置ＥＸ１が備える液体供給装置１００は、以下に示す態様で、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整する。以降、特段の表記がない場合には、「液体ＬＱの流量」は、「光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量」を意味するものとする。
【０１３１】
液体供給装置１００は、スキャン移動動作が行われている期間の少なくとも一部において、液体ＬＱの流量を変更する、増やす又は減らしてもよい。但し、液体供給装置１００は、スキャン移動動作が行われている期間の少なくとも一部において、液体ＬＱの流量を一定に維持してもよい。
【０１３２】
液体供給装置１００は、ステップ移動動作が行われている期間の少なくとも一部において、液体ＬＱの流量を変更してもよい（例えば、増やす又は減らしてもよい）。但し、液体供給装置１００は、ステップ移動動作が行われている期間の少なくとも一部において、液体ＬＱの流量を一定に維持してもよい。
【０１３３】
液体供給装置１００は、スキャン移動動作が行われている期間と当該スキャン移動期間に続くステップ移動動作が行われている期間とに跨る期間において、液体ＬＱの流量を変更してもよい（例えば、増やす又は減らしてもよい）。但し、液体供給装置１００は、スキャン移動期間と当該スキャン移動期間に続くステップ移動期間とに跨る期間において、液体ＬＱの流量を一定に維持してもよい。
【０１３４】
尚、液体ＬＱの流量を変更する動作は、液体ＬＱの流量を初期設定流量から増やす動作、及び、液体ＬＱの流量を初期設定流量から減らす動作のうちの少なくとも一方を含んでいてもよい。液体ＬＱの流量を変更する動作は、液体ＬＱの流量を変更前の流量から増やす動作、及び、液体ＬＱの流量を変更前の流量から減らす動作のうちの少なくとも一方を含んでいてもよい。液体ＬＱの流量を変更する動作は、初期設定流量から増やした又は減らした液体ＬＱの流量を初期設定流量に戻す動作を含んでいてもよい。
【０１３５】
第１実施形態では特に、液体供給装置１００は、以下の２つの観点から、液体ＬＱの流量を調整してもよい。具体的には、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジ（言い換えれば、基板５１と上面５２との間の境界）との間の位置関係に基づいて、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液浸空間ＬＳが液浸部材４によって形成されることを考慮すると、液体供給装置１００は、液浸部材４と基板５１のエッジとの間の位置関係に基づいて、液体ＬＱの流量を調整してもよい。更に、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に加えて又は代えて、液浸空間ＬＳの内圧に基づいて、液体ＬＱの流量を調整してもよい。
【０１３６】
以下、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づく液体ＬＱの流量の調整動作及び液浸空間ＬＳの内圧に基づく液体ＬＱの調整動作について、順に説明する。
【０１３７】
（１−２−１）液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づく液体ＬＱの流量の調整動作
まず、図６（ａ）及び図６（ｂ）を参照しながら、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づく液体ＬＱの流量の調整動作の一例について説明する。図６（ａ）は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係の例を示す平面図である。図６（ｂ）は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係と液体ＬＱの流量との関係の一例を示すグラフである。
【０１３８】
図６（ａ）に示すように、液浸部材４が基板５１のエッジの近傍に位置する場合には、液浸空間ＬＳもまた、基板のエッジ５１の近傍に形成される可能性が高い。例えば、基板５１のエッジの近傍に位置するショット領域Ｓａ又はＳｃが露光されている期間中には、液浸部材４が基板５１のエッジの近傍に位置する。その結果、液浸空間ＬＳは、基板のエッジ５１の近傍に形成される可能性が高い。
【０１３９】
一方で、液浸部材４が基板５１のエッジの近傍から離れている（つまり、基板５１のエッジの近傍に位置しない）場合には、液浸空間ＬＳは、基板のエッジ５１の近傍から離れている可能性が高い。例えば、基板５１のエッジの近傍から離れているショット領域Ｓｂが露光されている期間中には、液浸部材４が基板５１のエッジの近傍から離れている。その結果、液浸空間ＬＳは、基板のエッジ５１の近傍から離れている。
【０１４０】
尚、第１実施形態では、「液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する」状態は、液浸空間ＬＳの一部分（例えば、液浸空間ＬＳの外縁であり、典型的には界面ＬＧ１）と基板５１のエッジとの間の距離が第１所定距離以下になる（或いは、よりも小さくなる）状態を意味するものとする。逆に、「液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍から離れている」状態は、液浸空間ＬＳの一部分と基板５１のエッジとの間の距離が第１所定距離以上になる（或いは、よりも大きくなる）状態を意味するものとする。
【０１４１】
同様に、第１実施形態では、「液浸部材４が基板５１のエッジの近傍に位置する」状態は、液浸部材４の一部分（例えば、下面４１の外側端部又は流体回収口４９１）と基板５１のエッジとの間の距離が第２所定距離以下になる（或いは、よりも小さくなる）状態を意味するものとする。逆に、「液浸部材４が基板５１のエッジの近傍から離れている」状態は、液浸部材４の一部分と基板５１のエッジとの間の距離が第２所定距離以上になる（或いは、よりも大きくなる）状態を意味するものとする。
【０１４２】
液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍から離れている場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合の液体ＬＱの流量が、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍から離れている場合の液体ＬＱの流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。このように調整される液体ＬＱの流量の一例は、図６（ｂ）に示される。
【０１４３】
ここで、図７（ａ）から図７（ｂ）を参照しながら、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づいて液体ＬＱの流量を調整する理由の一つについて説明する。図７（ａ）及び図７（ｂ）は、夫々、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１と液浸部材４の内面４５との位置関係を示す断面図である。
【０１４４】
第１実施形態では、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整することができる。液体ＬＱの流量が相対的に小さくなると、液浸空間ＬＳの体積が相対的に小さくなる。液体ＬＱの流量が相対的に小さくなると、像面近傍におけるＸＹ平面内での液浸空間ＬＳの面積が小さくなる。液体ＬＱの流量が相対的に小さくなると、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１を光路ＡＴＬに近づけることができる。その結果、液体ＬＱの流量が相対的に大きいまま液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合と比較して、界面ＬＧ１が基板５１のエッジに接触する可能性が小さくなる。或いは、液体ＬＱの流量が相対的に大きいまま液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合と比較して、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジを覆うように形成される可能性が小さくなる。このため、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、残水となって基板５１又は上面５２上に残留する可能性が相対的に小さくなる。つまり、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づいて液体ＬＱの流量を調整することで、基板５１又は上面５２上における残水の発生を防止することができる。
【０１４５】
一方で、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍から離れている場合には、界面ＬＧ１が基板５１のエッジに接触する可能性が小さいがゆえに、残水が発生する可能性が相対的に小さい。他方で、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍から離れている場合にまで液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように液体ＬＱの流量が調整され続けてしまうと、液浸空間ＬＳの体積の減少に起因して、図７（ａ）に示すように、界面ＬＧ１が液浸部材４の内面４５よりも内側に位置する可能性が出てくる。その結果、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに気体空間が形成される可能性がある。
【０１４６】
第１実施形態では、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍から離れている場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整することができる。液体ＬＱの流量が相対的に大きくなると、液浸空間ＬＳの体積が相対的に大きくなる。その結果、界面ＬＧ１が内面４５よりも外側に位置する状態が維持される。その結果、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに気体空間が形成される可能性が相対的に小さくなる。つまり、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づいて液体ＬＱの流量を調整することで、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに気体空間が形成されるのを防止しながら、基板５１又は上面５２上における残水の発生を防止することができる。
【０１４７】
液浸部材４及び液浸空間ＬＳ（特に、界面ＬＧ１）のうちの少なくとも一方の位置が直接的に検出されてもよい。例えば、液体供給装置１００又は露光装置ＥＸ１は、液浸部材４及び液浸空間ＬＳのうちの少なくとも一方の位置を検出する位置センサを備えていてもよい。この場合、検出した液浸部材４及び液浸空間ＬＳのうちの少なくとも一方の位置に基づいて、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係が検出可能である。検出した液浸部材４又は液浸空間ＬＳの位置に基づいて、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かが判定可能である。
【０１４８】
液浸空間ＬＳの位置を推定可能なパラメータが検出又は算出されることで、液浸空間ＬＳの位置が間接的に検出されてもよい。液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係を推定可能なパラメータが検出又は算出されることで、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係が間接的に検出されてもよい。液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かを推定可能なパラメータが検出又は算出されることで、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かが間接的に判定されてもよい。
【０１４９】
例えば、露光装置ＥＸ１が今まさに露光しているショット領域Ｓの基板５１上での位置は、実質的には、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かを特定可能な情報である。従って、基板上５１に画定されている複数のショット領域Ｓのうちのいずれのショット領域Ｓを露光しているかが特定されることで、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かが判定されてもよい。
【０１５０】
例えば、露光装置ＥＸ１がある基板５１の露光を開始してからの経過時間は、実質的には、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かを特定可能な情報である。従って、露光装置ＥＸ１がある基板５１の露光を開始してからの経過時間に基づいて、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置しているか否かが判定されてもよい。
【０１５１】
なお、基板５１にノッチが形成されている場合には、そのノッチの位置も考慮して、基板５１のノッチに液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触しないように、液体ＬＱの供給量が調整されてもよい。
【０１５２】
また、液体ＬＱに対して親液性の領域と液体ＬＱに対して撥液性の領域との境界が、基板５１のエッジに存在する場合には、その境界の位置も考慮して、その境界に液浸空間ＬＳの液体ＬＱが接触しないように、液体ＬＱの供給量が調整されてもよい。例えば、基板５１の上面に撥液性の膜（トップコートまたはレジスト）が形成され、基板５１の上面のエッジにおいて当該撥液性の膜が除去されることで当該撥液性の膜の下に存在する親液性の膜が露出している場合には、その境界に（或いは、親液性の膜に）液体ＬＱが接触しないように、液体ＬＱの供給量が調整されてもよい。
【０１５３】
液体供給装置１００は、基板５１上のある領域では残水が相対的に発生しやすい一方で、基板５１上の他の領域では残水が発生しにくいという現象を利用して、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に基づく液体ＬＱの流量の調整動作を行っている。このため、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと基板５１のエッジとの間の位置関係に関わらず、残水の発生を防止するように液体ＬＱの流量を調整してもよい。例えば、液体供給装置１００は、残水が相対的に発生しやすい領域に液浸空間ＬＳが位置している場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、残水が相対的に発生しにくい領域に液浸空間ＬＳが位置している場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、残水が相対的に発生しやすい領域に液浸空間ＬＳが位置している場合の液体の流量が、残水が相対的に発生しにくい領域に液浸空間ＬＳが位置している場合の液体の流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。
【０１５４】
（１−２−２）液浸空間ＬＳの内圧に基づく液体ＬＱの流量の調整動作
続いて、図８を参照しながら、液浸空間ＬＳの内圧に基づく液体ＬＱの流量の調整動作の一例について説明する。図８は、液浸空間ＬＳの内圧と液体ＬＱの流量との関係の一例を示すグラフである。
【０１５５】
液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に小さい場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に大きい場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に小さい場合の液体ＬＱの流量が、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に大きい場合の液体ＬＱの流量よりも大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。このように調整される液体ＬＱの流量の一例は、図８に示される。
【０１５６】
ここで、図９（ａ）から図９（ｂ）を参照しながら、液浸空間ＬＳの内圧に基づいて液体ＬＱの流量を調整する理由の一つについて説明する。図９（ａ）及び図９（ｂ）は、夫々、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ２と液浸部材４（特に、上面４３）との位置関係を示す断面図である。
【０１５７】
図９（ａ）に示すように、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に大きい場合には、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ２が液浸部材４の内面４２よりも上側に形成される可能性がある。その結果、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、液浸部材４の上面４３を乗り越えて流出する可能性がある。このような液体ＬＱの流出が発生する可能性は、液浸空間ＬＳの内圧が大きくなるほど大きくなる。
【０１５８】
第１実施形態では、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に大きい場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整することができる。液体ＬＱの流量が相対的に小さくなると、液浸空間ＬＳの体積が相対的に小さくなる。その結果、図９（ｂ）に示すように、界面ＬＧ２が上面４３よりも下方に形成されやすくなる。つまり、界面ＬＧ２が内面４２に面するように形成されやすくなる。その結果、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの一部が、液浸部材４の上面４３を乗り越えて流出する可能性が相対的に小さくなる又はなくなる。つまり、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧に基づいて液体ＬＱの流量を調整することで、液体ＬＱの流出を防止することができる。
【０１５９】
一方で、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に小さい場合には、液体ＬＱが流出する可能性が相対的に小さい。他方で、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に小さい場合にまで液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように液体ＬＱの流量が調整され続けてしまうと、液浸空間ＬＳの体積の減少に起因して、上述の図７（ａ）に示すように、界面ＬＧ１が液浸部材４の内面４５よりも内側に位置する可能性が出てくる。その結果、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに気体空間が形成される可能性がある。そこで、第１実施形態では、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧が相対的に小さい場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整することができる。その結果、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに気体空間が形成される可能性が相対的に小さくなる。つまり、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳの内圧に基づいて液体ＬＱの流量を調整することで、露光光ＥＬの光路ＡＴＬに気体空間が形成されるのを防止しながら、液体ＬＱの流出を防止することができる。
【０１６０】
上述したように、露光装置ＥＸ１は、液浸空間ＬＳの内圧を直接的に検出する内圧センサ１５０を備えている。この場合、内圧センサ１５０が検出した液浸空間ＬＳの内圧に基づいて、液体ＬＱの流量が調整されてもよい。
【０１６１】
但し、露光装置ＥＸ１は、内圧センサ１５０を備えていなくてもよい。露光装置ＥＸ１が内圧センサ１５０を備えていない場合には、液浸空間ＬＳの内圧を推定可能なパラメータが検出又は算出されることで、液浸空間ＬＳの内圧が間接的に検出されてもよい。或いは、露光装置ＥＸ１が内圧センサ１５０を備えている場合であっても、液浸空間ＬＳの内圧を推定可能なパラメータが検出又は算出されることで、液浸空間ＬＳの内圧が間接的に検出されてもよい。例えば、基板５１と液浸部材４（特に、下面４１）又は終端光学素子３３（特に、射出面３２）との間の距離が相対的に小さくなると、液浸空間ＬＳの内圧は大きくなる。このため、基板５１と液浸部材４又は終端光学素子３３との間の距離は、実質的には、液浸空間ＬＳの内圧を特定可能な情報である。或いは、基板５１のＺ軸方向の位置又は基板５１のＺ軸方向に沿った移動量は、実質的には、基板５１と液浸部材４又は終端光学素子３３との間の距離を規定する。このため、基板５１のＺ軸方向の位置又は基板５１のＺ軸方向に沿った移動量もまた、液浸空間ＬＳの内圧を特定可能な情報である。
【０１６２】
（１−３）流量調整器１２１の変形例
続いて、図１０（ａ）から図１０（ｄ）を参照しながら、流量調整器１２１の変形例について説明する。図１０（ａ）は、第１変形例の流量調整器１２１ａの構成を示すブロック図である。図１０（ｂ）は、第２変形例の流量調整器１２１ｂの構成を示すブロック図である。図１０（ｃ）は、第３変形例の流量調整器１２１ｃの構成を示すブロック図である。図１０（ｄ）は、第４変形例の流量調整器１２１ｄの構成を示すブロック図である。
【０１６３】
図１０（ａ）に示すように、第１変形例の流量調整器１２１ａは、ＦＣ（Ｆｌｏｗ  Ｃｏｎｔｒｏｌ）バルブ１２１１ａを備えている。ＦＣバルブ１２１１ａは、図４に示す流量計１２１１及び比例制御弁１２１２がパッケージ化されたバルブである。
【０１６４】
図１０（ｂ）に示すように、第２変形例の流量調整器１２１ｂは、分岐器１２１１ｂと、可変開口弁１２１３ｂ−１、開閉弁１２１５ｂ−１及び流量計１２１７ｂ−１を含む第１調整系統と、可変開口弁１２１３ｂ−２、開閉弁１２１５ｂ−２及び流量計１２１７ｂ−２を含む第２調整系統と、合流配管１２１９ｂとを備えている。
【０１６５】
分岐器１２１１ｂは、例えば分岐配管である。分岐器１２１１ｂは、配管１３２ａを分岐する。つまり、分岐器１２１１ｂは、配管１３２ａを介して分岐器１２１１ｂに流れ込む液体ＬＱの流路を、第１調整系統及び第２調整系統に分岐する。具体的には、分岐器１２１１ｂは、配管１３２ａを、配管１２１２ｂ−１と配管１２１２ｂ−２とに分岐する。従って、配管１３２ａを介して分岐器１２１１ｂに流れ込む液体ＬＱの少なくとも一部は、配管１２１２ｂ−１を介して第１調整系統に供給される。配管１３２ａを介して分岐器１２１１ｂに流れ込む液体ＬＱの少なくとも他の一部は、配管１２１２ｂ−２を介して第２調整系統に供給される。
【０１６６】
配管１２１２ｂ−１を介して第１調整系統に供給された液体ＬＱは、可変開口弁１２１３ｂ−１に供給される。可変開口弁１２１３ｂ−１は、液体ＬＱが通過可能な開口が形成された弁である。可変開口弁１２１３ｂ−１は、コントローラ９１の制御下で、開口の開度を任意に調整可能な弁である。可変開口弁１２１３ｂ−１は、可変開口弁１２１３ｂ−１を通過する液体ＬＱの流量を第１所定流量に維持するように、開口の開度を調整する。可変開口弁１２１３ｂ−１を通過した液体ＬＱは、配管１２１４ｂ−１を介して、開閉弁１２１５ｂ−１に供給される。開閉弁１２１５ｂ−１は、コントローラ９１の制御下で、当該開閉弁１２１５ｂ−１の状態を、開閉弁１２１５ｂ−１を液体ＬＱが通過する開状態と開閉弁１２１５ｂ−１を液体ＬＱが通過しない閉状態との間で切り替える。従って、開閉弁１２１５ｂ−１が開状態にある場合には、可変開口弁１２１３ｂ−１を通過した液体ＬＱは、開閉弁１２１５ｂ−１を通過し、配管１２１６ｂ−１を介して流量計１２１７ｂ−１に供給される。一方で、開閉弁１２１５ｂ−１が閉状態にある場合には、可変開口弁１２１３ｂ−１を通過した液体ＬＱは、開閉弁１２１５ｂ−１を通過することはない。流量計１２１７ｂ−１は、流量計１２１７ｂ−１が配置された配管を通過する液体ＬＱの流量を測定可能である。
【０１６７】
一方で、配管１２１２ｂ−２を介して第２調整系統に供給された液体ＬＱは、可変開口弁１２１３ｂ−２に供給される。可変開口弁１２１３ｂ−２は、液体ＬＱが通過可能な開口が形成された弁である。可変開口弁１２１３ｂ−２は、コントローラ９１の制御下で、開口の開度を任意に調整可能な弁である。可変開口弁１２１３ｂ−２は、可変開口弁１２１３ｂ−２を通過する液体ＬＱの流量を第２所定流量（但し、第２所定流量は、第１所定流量とは異なる）に維持するように、開口の開度を調整する。可変開口弁１２１３ｂ−２を通過した液体ＬＱは、配管１２１４ｂ−２を介して、開閉弁１２１５ｂ−２に供給される。開閉弁１２１５ｂ−２は、コントローラ９１の制御下で、当該開閉弁１２１５ｂ−２の状態を、開閉弁１２１５ｂ−２を液体ＬＱが通過する開状態と開閉弁１２１５ｂ−２を液体ＬＱが通過しない閉状態との間で切り替える。従って、開閉弁１２１５ｂ−２が開状態にある場合には、可変開口弁１２１３ｂ−２を通過した液体ＬＱは、開閉弁１２１５ｂ−２を通過し、配管１２１６ｂ−２を介して流量計１２１７ｂ−２に供給される。一方で、開閉弁１２１５ｂ−２が閉状態にある場合には、可変開口弁１２１３ｂ−２を通過した液体ＬＱは、開閉弁１２１５ｂ−２を通過することはない。流量計１２１７ｂ−２は、流量計１２１７ｂ−２が配置された配管を通過する液体ＬＱの流量を測定可能である。
【０１６８】
流量計１２１７ｂ−１を通過した液体ＬＱは、配管１２１８ｂ−１を介して、合流配管１２１９ｂに流れ込む。同様に、流量計１２１７ｂ−２を通過した液体ＬＱは、配管１２１８ｂ−２を介して、合流配管１２１９ｂに流れ込む。その結果、第１調整系統を通過した液体ＬＱ及び第２調整系統を通過した液体ＬＱは、合流配管１２１９ｂを介して、配管１３２ｂに流れ込む。
【０１６９】
第２変形例では、開閉弁１２１５ｂ−１及び開閉弁１２１５ｂ−２の開閉タイミング（つまり、状態の切替タイミング）がコントローラ９１によって適宜調整される。その結果、流量調整器１２１ｂは、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整することができる。例えば、開閉弁１２１５ｂ−１及び開閉弁１２１５ｂ−２が共に開状態にある場合には、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量は、第１所定流量＋第２所定流量に設定される。例えば、開閉弁１２１５ｂ−１が開状態にある一方で開閉弁１２１５ｂ−２が閉状態にある場合には、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量は、第１所定流量に設定される。例えば、開閉弁１２１５ｂ−１が閉状態にある一方で開閉弁１２１５ｂ−２が開状態にある場合には、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量は、第２所定流量に設定される。
【０１７０】
特に、第２変形例では、流量調整器１２１ｂは、開閉弁１２１５ｂ−１及び開閉弁１２１５ｂ−２の状態を開状態と閉状態という２つの状態の間で切り替えることで、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。つまり、流量調整器１２１ｂは、上述した比例制御弁１２１１が備える可動弁体ＶＬＶ（図４参照）の移動量を、調整するべき液体ＬＱの流量に応じて微調整することなく、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。このため、流量調整器１２１ｂは、相対的に速く、流量調整器１２１ｂから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整することができる。
【０１７１】
尚、可変開口弁１２１３ｂ−１及び可変開口弁１２１３ｂ−２のうちの少なくとも一方に代えて、液体ＬＱが通過する開口の開度が固定された（言い換えれば、調整不可能な）固定開口弁が用いられてもよい。
【０１７２】
また、図１０（ｂ）に示す例では、流量調整器１２１ｂは、２つの調整系統を備えている。しかしながら、流量調整器１２１ｂは、３つ以上の調整系統を備えていてもよい。この場合、３つ以上の調整系統が夫々備える３つ以上の可変開口弁１２１３ｂを通過する液体ＬＱの流量は、互いに異なる。
【０１７３】
図１０（ｃ）に示すように、第３変形例の流量調整器１２１ｃは、ポンプ１２１１ｃを備えている。ポンプ１２１１ｃは、例えば、ウォーターポンプである。ポンプ１２１１ｃは、配管１３２ａに供給された液体ＬＱを下流側に向けて送り出す。ポンプ１２１１ｃは、ポンプ１２１１ｃから下流側に向けて送り出される液体ＬＱの流量が第３所望流量となるように、液体ＬＱを送り出す。つまり、ポンプ１２１１ｃは、ポンプ１２１１ｃから下流側に向けて送り出される液体ＬＱの流量を適宜調整しながら、液体ＬＱを送り出す。
【０１７４】
尚、流量調整器１２１ｃがポンプ１２１１ｃを備えている場合には、液体供給装置１００は、ポンプ１２２を備えていなくてもよい。
【０１７５】
図１０（ｄ）に示すように、第４変形例の流量調整器１２１ｄは、タンク１２１１ｄと、レギュレータ１２１２ｄとを備えている。タンク１２１１ｄは、配管１３２ａを介してタンク１２１１ｄに供給される液体ＬＱを内部に貯留可能な貯留槽である。レギュレータ１２１２ｄは、露光装置ＥＸ１が備える又は露光装置ＥＸ１が設置されている工場に設置された真空源（いわゆる、バキューム）に連結されている。レギュレータ１２１２ｄは、タンク１２１１ｄ内の圧力（特に、タンク１２１１ｄ内の気体の圧力）を調整する。その結果、タンク１２１１ｄから配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量が調整される。
【０１７６】
尚、液体供給装置１００が流量調整器１２１ｄを備えている場合には、液体供給装置１００は、ポンプ１２２を備えていなくてもよい。
【０１７７】
上述した流量調整器１２１の各変形例は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１に限らず、後述する第２実施形態の露光装置ＥＸ２から第９実施形態の露光装置ＥＸ９のうちの少なくとも一つに採用されてもよい。
【０１７８】
（２）第２実施形態の露光装置ＥＸ２
続いて、図１１を参照しながら、第２実施形態の露光装置ＥＸ２について説明する。尚、第２実施形態の露光装置ＥＸ２は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置２００を備えているという点で異なる。第２実施形態の露光装置ＥＸ２が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第２実施形態の液体供給装置２００に着目して説明を進める。図１１は、第２実施形態の液体供給装置２００の構成の一例を示すブロック図である。
【０１７９】
尚、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備える構成要素と同一の構成要素については、同一の参照番号を付することで、その詳細な説明については省略する。以下の、第３実施形態から第７実施形態においても同様である。
【０１８０】
図１１に示すように、第２実施形態の液体供給装置２００は、分岐器２１１と、流量調整器２２１とを更に備えているという点において、第１実施形態の液体供給装置１００とは異なる。第２実施形態の液体供給装置２００が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液体供給装置１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。尚、流量調整器２２１の下流側に、ポンプ１２２と同様の機能を有するポンプが配置されていてもよい。
【０１８１】
分岐器２１１は、例えば分岐配管である。分岐器２１１は、配管１３２ａを分岐する。分岐器２１１は、配管１３２ａを介して分岐器２１１に流れ込む液体ＬＱの流路を２系統に分岐する。具体的には、分岐器２１１は、配管１３２ａを、配管２３２ａと配管２３３ａとに分岐する。
【０１８２】
分岐器２１１から分岐している配管２３２ａは、流量調整器１２１に連結されている。流量調整器１２１は、上述したように、液体供給口４８１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量が第２所望流量となるように、流量調整器１２１から配管１３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。
【０１８３】
一方で、分岐器２１１から分岐している配管２３３ａは、流量調整器２２１に連結されている。流量調整器２２１の構成は、第１実施形態の流量調整器１２１の構成と同一である。流量調整器２２１は、コントローラ９１の制御下で、主として、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制する（言い換えれば、吸収又は相殺する）ように、流量調整器２２１から配管２３３ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。
【０１８４】
具体的には、流量調整器２２１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が一定に維持されるように、流量調整器２２１から配管２３３ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。例えば、流量調整器２２１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が第１圧力である場合には、流量調整器２２１から配管２３３ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を、第３所定流量に設定する。例えば、流量調整器２２１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が第１圧力から第２圧力に変化した場合には、総背圧を第２圧力から第１圧力に戻すように、流量調整器２２１から配管２３３ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を、第３所定流量から第４所定流量に変更する。その結果、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が一定に維持されるがゆえに、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動が抑制される。
【０１８５】
以上説明した第２実施形態の露光装置ＥＸ２は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０１８６】
加えて、第２実施形態の露光装置ＥＸ２は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの温度の変動を、好適に抑制することができる。
【０１８７】
具体的には、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧は、分岐器１１６から液体供給口４８１を介して光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量の変動に起因して変動する可能性がある。分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動は、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量の変動につながる。分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量の変動は、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動に繋がる。熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動は、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの温度の変動に繋がることは上述したとおりである。
【０１８８】
第２実施形態では、液体供給装置２００は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因して熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が変動しないように、流量調整器２２１から配管２３３ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。言い換えれば、液体供給装置２００は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動を吸収又は打ち消すように、流量調整器２２１から配管２３３ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。その結果、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因して、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することは殆ど又は全くない。このため、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因して、液浸空間ＬＳを構成する液体ＬＱの温度が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することは殆ど又は全くない。このため、第２実施形態の液体供給装置２００を備える露光装置ＥＸ２は、露光動作を相対的に高精度に行うことができる。
【０１８９】
尚、流量調整器２２１は、「第２流量維持器」の一具体例である。分岐器２１１は、「第２分岐点」の一具体例である。配管２３３ａ及び２３３ｂのうちの少なくとも一方は、「第３流路」の一具体例である。
【０１９０】
（３）第３実施形態の露光装置ＥＸ３
続いて、図１２を参照しながら、第３実施形態の露光装置ＥＸ３について説明する。尚、第３実施形態の露光装置ＥＸ３は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置３００を備えているという点で異なる。第３実施形態の露光装置ＥＸ３が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第３実施形態の液体供給装置３００に着目して説明を進める。図１２は、第３実施形態の液体供給装置３００の構成の一例を示すブロック図である。
【０１９１】
図１２に示すように、第３実施形態の液体供給装置３００は、熱交換器１１４とフィルタ１１５との間に、配管３３１ａを介して熱交換器１１４と連結され且つ配管３３１ｂを介してフィルタ１１５と連結されている背圧減衰器３１１が配置されているという点において、第１実施形態の液体供給装置１００とは異なる。第３実施形態の液体供給装置３００が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液体供給装置１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０１９２】
背圧減衰器３１１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制する（言い換えれば、吸収又は相殺する）。
【０１９３】
背圧減衰器３１１は、例えば、バッファタンクを含んでいてもよい。バッファタンクは、配管３３１ａを介して熱交換器１１４からバッファタンクに供給される液体ＬＱを内部に貯留可能な貯留槽である。分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が変動すると、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動し得ることは上述したとおりである。この場合、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量の変動は、バッファタンクによって吸収される。その結果、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動する場合であっても、バッファタンクよりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することはない。このため、背圧減衰器３１１の一例であるバッファタンクは、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制することができる。
【０１９４】
背圧減衰器３１１は、例えば、絞り（言い換えれば、オリフィス板）を含んでいてもよい。絞りは、絞りを通過する液体の流量を調整可能である。分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が変動すると、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動し得ることは上述したとおりである。この場合、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量の変動は、絞りによって遮られる。その結果、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動する場合であっても、絞りよりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することはない。このため、背圧減衰器３１１の一例である絞りは、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制することができる。
【０１９５】
背圧減衰器３１１は、例えば、アキュムレータを含んでいてもよい。アキュムレータは、アキュムレータの下流側の流路を流れる液体ＬＱの圧力の変動を吸収又は相殺するように、当該アキュムレータ内の液体ＬＱの流路の容積を変更可能である。その結果、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動する場合であっても、アキュムレータよりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することはない。このため、背圧減衰器３１１の一例であるアキュムレータは、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制することができる。
【０１９６】
背圧減衰器３１１は、例えば、恒温槽を含んでいてもよい。ここで、図１３を参照しながら、背圧減衰器３１１が恒温槽である液体供給装置３００ａの例について説明する。図１３は、背圧減衰器３１１が恒温槽である液体供給装置３００ａの構成の一例を示すブロック図である。
【０１９７】
図１３に示すように、液体供給装置３００ａは、背圧減衰器３１１の一具体例である恒温槽３１１ａを備える。恒温槽３１１ａは、配管３３１ａを介して熱交換器１１４から恒温槽３１１ａに供給される液体ＬＱを内部に貯留可能な貯留槽である。加えて、恒温槽３１１ａは、内部に貯留する液体ＬＱの温度を一定に維持可能な貯留槽である。
【０１９８】
恒温槽３１１ａの内部の圧力は、レギュレータ３１２によって調整される。特に、レギュレータ３１２は、恒温槽３１１ａの内部の圧力を一定に維持する。このため、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動する場合であっても、恒温槽３１１ａの内部の圧力が一定に維持される。その結果、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が変動する場合であっても、恒温槽３１１ａよりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することはない。このため、恒温槽３１１ａは、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制することができる。
【０１９９】
加えて、恒温槽３１１ａは、内部に貯留する液体ＬＱの温度を一定に維持可能である。このため、恒温槽３１１ａから下流側に向けて供給される液体ＬＱ（例えば、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱ）の温度の変動量が相対的に小さくなる。
【０２００】
以上説明した第３実施形態の露光装置ＥＸ３は、第２実施形態の露光装置ＥＸ２が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２０１】
尚、背圧減衰器３１１は、上述した流量調整器１２１（但し、その変形例を含む）であってもよい。背圧減衰器３１１は、上述した流量調整器１２１（但し、その変形例を含む）を含んでいてもよい。なぜならば、背圧減衰器３１１を通過する液体ＬＱの流量の調整によって、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動が抑制（言い換えれば、吸収又は相殺）可能であるからである。
【０２０２】
尚、背圧減衰器３１１は、「第１流量維持器」の一具体例である。バッファタンクは、「第１貯留槽」の一具体例である。恒温槽３１１ａは、「第１貯留槽」の一具体例である。アキュムレータは、「圧力吸収器」の一具体例である。レギュレータ３１２は、「第１レギュレータ」の一具体例である。
【０２０３】
（４）第４実施形態の露光装置ＥＸ４
続いて、図１４を参照しながら、第４実施形態の露光装置ＥＸ４について説明する。尚、第４実施形態の露光装置ＥＸ４は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置４００を備えているという点で異なる。第４実施形態の露光装置ＥＸ４が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第４実施形態の液体供給装置４００に着目して説明を進める。図１４は、第４実施形態の液体供給装置４００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２０４】
図１４に示すように、第４実施形態の液体供給装置４００は、分岐器４１１と、流量調整器４２１とを備えているという点において、第１実施形態の液体供給装置１００とは異なる。第４実施形態の液体供給装置４００が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液体供給装置１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。尚、流量調整器４２１の下流側に、ポンプ１２２と同様の機能を有するポンプが配置されていてもよい。
【０２０５】
分岐器４１１は、例えば分岐配管である。分岐器４１１は、流量調整器１１３を通過した液体ＬＱが流れ込む配管４３１ａを分岐する。分岐器４１１は、配管４３１ａを介して分岐器４１１に流れ込む液体ＬＱの流路を２系統に分岐する。具体的には、分岐器４１１は、配管４３１ａを、配管４３１ｂと配管４３２ａとに分岐する。
【０２０６】
分岐器４１１から分岐している配管４３１ｂは、熱交換器１１４に連結されている。このため、配管４３１ａを介して分岐器４１１に流れ込む液体ＬＱの少なくとも一部は、配管４３１ｂ等を介して、光路空間ＳＰＫに供給される。その結果、液浸空間ＬＳが形成される。
【０２０７】
一方で、分岐器４１１から分岐している配管４３２ａは、流量調整器４２１に連結されている。流量調整器４２１の構成は、第１実施形態の流量調整器１２１の構成と同一である。流量調整器４２１は、コントローラ９１の制御下で、流量調整器４２１から配管４３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する（言い換えれば、変更する、増やす又は減らす）。ここで、流量調整器４２１から配管４３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する動作は、配管４３２ａから流量調整器４２１に流れ込む液体ＬＱの流量（つまり、分岐器４１１から配管４３２ａに流れ込む液体ＬＱの流量）を調整する動作に相当する。更に、分岐器４１１から配管４３２ａに流れ込む液体ＬＱの流量を調整する動作は、分岐器４１１から配管４３１ｂに流れ込む液体ＬＱの流量（つまり、熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの流量）を調整する動作に相当する。このため、流量調整器４２１は、流量調整器４２１から配管４３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整することで、熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。
【０２０８】
第４実施形態では、流量調整器４２１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動を抑制する（言い換えれば、吸収又は相殺する）ように、流量調整器４２１から配管４３２ｂに流れ出す液体ＬＱの流量を調整する。具体的には、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が変動すると、分岐器１１６よりも上流側の流路を流れる液体ＬＱの流量（つまり、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量）が変動し得ることは上述したとおりである。流量調整器４２１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動に起因した熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量の変動が、熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの流量の流量調整器４２１による調整によって吸収又は相殺されるように、熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの流量を調整する。具体的には、流量調整器４２１は、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧の変動する場合であっても熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が一定に維持されるように、熱交換器１１４に供給される液体ＬＱの流量を調整する。
【０２０９】
その結果、分岐器１１６よりも下流側の流路の総背圧が変動する場合であっても、熱交換器１１４を通過する液体ＬＱの流量が、露光動作に影響を与える程度に大きく変動することはない。このため、第４実施形態の露光装置ＥＸ４は、第２実施形態の露光装置ＥＸ２が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２１０】
尚、分岐器４１１は、「第３分岐点」の一具体例である。流量調整器４２１は、「第３流量維持器」の一具体例である。配管４３２ａ及び配管４３２ｂのうちの少なくとも一方は、「第４流路」の一具体例である。
【０２１１】
（５）第５実施形態の露光装置ＥＸ５
続いて、図１５を参照しながら、第５実施形態の露光装置ＥＸ５について説明する。尚、第５実施形態の露光装置ＥＸ５は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００を複数備えているという点で異なる。第５実施形態の露光装置ＥＸ５が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第５実施形態の露光装置ＥＸ５のうち第１実施形態の露光装置ＥＸ１とは異なる構成要素に着目して説明を進める。図１５は、第５実施形態の露光装置ＥＸ５の構成の一部を示すブロック図である。
【０２１２】
図１５に示すように、第５実施形態の露光装置ＥＸ５は、複数の液体供給装置１００を含んでいる。図１５に示す例では、露光装置ＥＸ５は、２つの液体供給装置１００を備えている。尚、図１５では、２つの液体供給装置１００を区別するために、便宜上、２つの液体供給装置１００が、液体供給装置１００−１及び液体供給装置１００−２であるものとする。
【０２１３】
液体供給装置１００−１は、配管１３１ｆ（便宜上、“配管１３１ｆ−１”と称する）を介して、液体供給路４８２（便宜上、“液体供給路４８２−１”と称する）に液体ＬＱを供給する。その結果、液体供給装置１００−１が配管１３１ｆ−１を介して液浸部材４に供給した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳを構成するための液体ＬＱとして、液体供給口４８１（便宜上、“液体供給口４８１−１”と称する）から、光路空間ＳＰＫに供給される。
【０２１４】
一方で、液体供給装置１００−２は、配管１３１ｆ（便宜上、“配管１３１ｆ−２”と称する）を介して、液体供給路４８２（便宜上、“液体供給路４８２−２”と称する）に液体ＬＱを供給する。その結果、液体供給装置１００−２が配管１３１ｆ−２を介して液浸部材４に供給した液体ＬＱは、液浸空間ＬＳを構成するための液体ＬＱとして、液体供給口４８１（便宜上、“液体供給口４８１−２”と称する）から、光路空間ＳＰＫに供給される。
【０２１５】
液体供給口４８１−１は、液体供給口４８１−２とは物理的に独立した液体供給口である。液体供給路４８２−１は、液体供給路４８２−２とは物理的に独立した液体供給路である。
【０２１６】
例えば、液体供給口４８１−１は、液浸部材４の内面４２のうちの第１面部分に形成されていてもよい。例えば、液体供給口４８１−１は、液浸部材４の内面４２のうち光軸ＡＸよりも一方側（例えば、−Ｘ軸側又は−Ｙ軸側）に位置する第１面部分に形成されていてもよい。図２に示す例で言えば、液体供給口４８１−１は、液浸部材４の内面４２のうち図２中の左側に位置する第１面部分に形成されていてもよい。
【０２１７】
一方で、液体供給口４８１−２は、液浸部材４の内面４２のうちの第１面部分とは異なる第２面部分に形成されていてもよい。液体供給口４８１−２は、例えば、液浸部材４の内面４２のうち光軸ＡＸよりも他方側（例えば、＋Ｘ軸側又は＋Ｙ軸側）に位置する第２面部分に形成されていてもよい。例えば、図２に示す例で言えば、液体供給口４８１−１は、液浸部材４の内面４２のうち図２中の右側に位置する第２面部分に形成されていてもよい。
【０２１８】
このような第５実施形態の露光装置ＥＸ５は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２１９】
加えて、第５実施形態の露光装置ＥＸ５は、複数の液体供給口４８１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を、液体供給口４８１毎に個別に調整することができる。例えば、液体供給装置１００−１は、液体供給口４８１−２から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量とは独立して、液体供給口４８１−１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。例えば、液体供給装置１００−２は、液体供給口４８１−１から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量とは独立して、液体供給口４８１−２から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。従って、露光装置ＥＸ５は、液浸空間ＬＳのうちの第１空間部分に供給される液体ＬＱの流量の調整態様と、液浸空間ＬＳのうちの第１空間部分とは異なる第２空間部分に供給される液体ＬＱの流量の調整態様とを異ならしめることができる。例えば、第１空間部分においてボイドの混入が発生する可能性が相対的に高い一方で第２空間部分において残水が発生する可能性が相対的に高い場合には、露光装置ＥＸ５は、第１空間部分に供給される液体ＬＱの流量を増やしつつ、第２空間部分に供給される液体ＬＱの流量を減らすことができる。このため、露光装置ＥＸ５は、液浸空間ＬＳを形成するために供給される液体ＬＱの流量をより柔軟に調整することができる。
【０２２０】
（６）第６実施形態の露光装置ＥＸ６
続いて、図１６を参照しながら、第６実施形態の露光装置ＥＸ６について説明する。尚、第６実施形態の露光装置ＥＸ６は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置６００を備えているという点で異なる。第６実施形態の露光装置ＥＸ６が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第６実施形態の液体供給装置６００に着目して説明を進める。図１６は、第６実施形態の液体供給装置６００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２２１】
図１６に示すように、第６実施形態の液体供給装置６００は、第１実施形態の液体供給装置１００と比較して、熱交換器１１４、フィルタ１１５、分岐器１１６、流量計１１７、流量調整器１２１及びポンプ１２２を含む供給系統を複数備えているという点で異なっている。第６実施形態の液体供給装置６００が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液体供給装置１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０２２２】
図１６は、説明の便宜上、液体供給装置６００が２つの供給系統を備える例を示している。以下、説明の便宜上、第１供給系統が備える構成要素の参照符号の末尾に「−１」を付すると共に、第２供給系統が備える構成要素の参照符号の末尾に「−２」を付することで、両者を区別する。但し、液体供給装置６００は、３つ以上の供給系統を備えていてもよい。
【０２２３】
具体的には、液体供給装置６００は、分岐器６１１を備えている。分岐器６１１は、例えば、分岐配管である。分岐器６１１は、配管１３１ｃを、配管６３１ａ−１と配管６３１ａ−２とに分岐する。つまり、分岐器６１１は、配管１３１ｃを介して分岐器６１１に流れ込む液体ＬＱの流路を、第１供給系統及び第２供給系統に分岐する。
【０２２４】
配管６３１ａ−１を介して第１供給系統に供給された液体ＬＱは、熱交換器１１４−１を通過する。熱交換器１１４−１は、熱交換器１１４−１を通過する液体ＬＱの温度を、第１所望温度に設定する。熱交換器１１４−１を通過した液体ＬＱは、フィルタ１１５−１を通過した後に、分岐器１１６−１に流れ込む。流量調整器１２１−１の動作により、分岐器１１６−１に流れ込んだ液体ＬＱの一部が、配管１３１ｆ−１に流れ込む一方で、分岐器１１６−１に流れ込んだ液体ＬＱの他の一部が、配管１３２ａ−１に流れ込む。つまり、流量調整器１２１−１は、配管１３１ｆ−１に流れ込む液体ＬＱの流量を調整する。
【０２２５】
一方で、配管６３１ａ−２を介して第２供給系統に供給された液体ＬＱは、熱交換器１１４−２を通過する。熱交換器１１４−２は、熱交換器１１４−２を通過する液体ＬＱの温度を、第１所望温度とは異なる第２所望温度に設定する。熱交換器１１４−２を通過した液体ＬＱは、フィルタ１１５−２を通過した後に、分岐器１１６−２に流れ込む。流量調整器１２１−２の動作により、分岐器１１６−２に流れ込んだ液体ＬＱの一部が、配管１３１ｆ−２に流れ込む一方で、分岐器１１６−２に流れ込んだ液体ＬＱの他の一部が、配管１３２ａ−２に流れ込む。つまり、流量調整器１２１−２は、配管１３１ｆ−２に流れ込む液体ＬＱの流量を調整する。
【０２２６】
配管１３１ｆ−１に流れ込んだ液体ＬＱ及び配管１３１ｆ−２に流れ込んだ液体ＬＱは、合流配管６１２に流れ込む。尚、配管１３１ｆ−１に流れ込んだ液体ＬＱの流量は、配管１３１ｆ−１に設置されている流量計１１７−１によって測定される。配管１３１ｆ−２に流れ込んだ液体ＬＱの流量は、配管１３１ｆ−２に設置されている流量計１１７−２によって測定される。第１供給系統から供給される液体ＬＱ及び第２供給系統から供給される液体ＬＱは、合流配管６１２を介して、配管６３１ｃに流れ込む。配管６３１ｃに流れ込んだ液体ＬＱは、液体供給路４８２に流れ込む。その結果、液体供給口４８１から光路空間ＳＰＫに液体ＬＱが供給される。
【０２２７】
第６実施形態では、流量調整器１２１−１は、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの温度が第３所望温度となるように、第１供給系統から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱ（つまり、配管１３１ｆ−１を介して合流配管６１２に流れ込む液体ＬＱ）の流量を調整する。同時に、流量調整器１２１−２は、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの温度が第３所望温度となるように、第２供給系統から光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱ（つまり、配管１３１ｆ−２を介して合流配管６１２に流れ込む液体ＬＱ）の流量を調整する。つまり、液体供給装置６００は、第１供給系統から第４所望流量で供給される第１所望温度の液体ＬＱと第２供給系統から第５所望流量で供給される第２所望温度の液体ＬＱとを混合することで、第３所望温度の液体ＬＱを第６所望流量で光路空間ＳＰＫに供給する。
【０２２８】
このような第６実施形態の露光装置ＥＸ６は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２２９】
尚、第６実施形態では、液体供給装置６００は、分岐器１１６−１、配管１３２ａ−１、流量調整器１２１−１、配管１３２ｂ−１、ポンプ１２２−１及び配管１３２ｃ−１に加えて又は代えて、配管１３１ｆ−１に流れ込む液体ＬＱの流量を任意の手法で調整する流量調整機構を備えていてもよい。例えば、熱交換器１１４−１と合流配管６１２との間の流路上に、流量調整機構が配置されていてもよい。
【０２３０】
同様に、第６実施形態では、液体供給装置６００は、分岐器１１６−２、配管１３２ａ−２、流量調整器１２１−２、配管１３２ｂ−２、ポンプ１２２−２及び配管１３２ｃ−２に加えて又は代えて、配管１３１ｆ−２に流れ込む液体ＬＱの流量を任意の手法で調整する流量調整機構を備えていてもよい。例えば、熱交換器１１４−２と合流配管６１２との間の流路上に、流量調整機構が配置されていてもよい。
【０２３１】
（７）第７実施形態の露光装置ＥＸ７
続いて、図１７を参照しながら、第７実施形態の露光装置ＥＸ７について説明する。尚、第７実施形態の露光装置ＥＸ７は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液浸部材４に代えて液浸部材４ａを備えているという点で異なる。第７実施形態の露光装置ＥＸ７が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第７実施形態の露光装置ＥＸ７が備える液浸部材４ａに着目して説明を進める。図１７は、第７実施形態の液浸部材４ａの断面図（ＸＺ平面に平行な断面図）である。
【０２３２】
図１７に示すように、第７実施形態の液浸部材４ａは、第１実施形態の液浸部材４と比較して、液体供給口４８１及び流体回収口４９１の形成位置及び数が異なるという点で異なっている。第７実施形態の液浸部材４ａが備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液浸部材４が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０２３３】
具体的には、液浸部材４ａは、液体供給口４８１ａと、液体供給口４８１ｂと、流体回収口４９１ａと、流体回収口４９１ｂとを備えている。
【０２３４】
液体供給口４８１ａは、空間ＳＰ２に面するように液浸部材４ａの内面４２に形成されている。液体供給口４８１ａは、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）の一部に形成されている。終端光学素子３１の周囲の他の一部には、液体供給口４８１ａが形成されていなくてもよい。液体供給口４８１ａは、空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給する。
【０２３５】
液体供給口４８１ｂは、空間ＳＰ１に面するように液浸部材４ａの下面４１に形成されている。液体供給口４８１ｂは、開口４６の周囲に配置されている。液体供給口４８１ｂは、下面４１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４６の中心周りの仮想的な円）に沿って断続的に又は連続的に形成されている。液体供給口４８１ｂは、空間ＳＰ１に液体ＬＱを供給する。なお、液体供給口４８１ｂが、仮想的な多角形（例えば、ひし形）に沿って形成されていてもよい。
【０２３６】
液体供給口４８１ａ及び４８１ｂのその他の特徴は、第１実施形態の液体供給口４８１のその他の特徴と同一であってもよい。
【０２３７】
流体回収口４９１ａは、空間ＳＰ２に面するように液浸部材４ａの内面４２に形成されている。流体回収口４９１ａは、終端光学素子３１の周囲（言い換えれば、光路ＡＴの周囲）の一部に形成されている。終端光学素子３１の周囲の他の一部には、流体回収口４９１ａが形成されていなくてもよい。流体回収口４９１ａは、空間ＳＰ２から液体ＬＱを回収する。
【０２３８】
流体回収口４９１ｂは、空間ＳＰ１に面するように液浸部材４ａの内面４２に形成されている。流体回収口４９１ｂは、下面４１上で定義される仮想的な円（例えば、開口４６の中心周りの仮想的な円）に沿って断続的に又は連続的に形成されている。流体回収口４９１ｂは、液体回収口４８１ｂよりも外側に形成される。流体回収口４９１ｂは、空間ＳＰ１から液体ＬＱを回収する。なお、液体回収口４９１ｂが、仮想的な多角形（例えば、ひし形）に沿って形成されていてもよい。
【０２３９】
流体回収口４９１ａ及び４９１ｂのその他の特徴は、第１実施形態の流体回収口４９１のその他の特徴と同一であってもよい。
【０２４０】
このような第７実施形態の露光装置ＥＸ７は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２４１】
尚、第７実施形態の露光装置ＥＸ７は、第５実施形態の露光装置ＥＸ５と同様に、複数の液体供給装置１００を備えていてもよい。例えば、露光装置ＥＸ７は、液体供給口４８１ａに液体ＬＱを供給する液体供給装置１００と、液体供給口４８１ｂに液体ＬＱを供給する液体供給装置１００とを備えていてもよい。この場合、図１７中の液体供給口４８１ａ及び４８１ｂが、夫々、図１５中の液体供給口４８１−１及び４８１−２に相当する。
【０２４２】
露光装置ＥＸ７は、液体供給口４８１ｂのうちの一部に液体ＬＱを供給する液体供給装置１００と、液体供給口４８１ｂのうちの他の一部に液体ＬＱを供給する液体供給装置１００とを備えていてもよい。この場合、図１７中の液体供給口４８１ｂの一部及び液体供給口４８１ｂの他の一部が、夫々、図１５中の液体供給口４８１−１及び４８１−２に相当する。
【０２４３】
（８）第８実施形態の露光装置ＥＸ８
続いて、図１８を参照しながら、第８実施形態の露光装置ＥＸ８について説明する。尚、第８実施形態の露光装置ＥＸ８は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置８００を備えているという点で異なる。第８実施形態の露光装置ＥＸ８が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第８実施形態の液体供給装置８００に着目して説明を進める。図１８は、第８実施形態の液体供給装置８００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２４４】
図１８に示すように、第８実施形態の液体供給装置８００は、配管１３１ｆに（図１８に示す例では、分岐器１１６と流量計１１７との間に）流量調整器８１８を備えているという点において、第１実施形態の液体供給装置１００とは異なる。第８実施形態の液体供給装置８００が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液体供給装置１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０２４５】
流量調整器８１８の構成は、第１実施形態の流量調整器１２１の構成と同一である。流量調整器８１８は、コントローラ９１の制御下で、流量調整器８１８から液浸部材４に流れ出す液体ＬＱの流量を調整する（言い換えれば、変更する、増やす又は減らす）。特に、流量調整器８１８は、流量調整器８１８から液浸部材４に流れ出す液体ＬＱの流量を調整することで、必要に応じて流量調整器１２１と協調しながら、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱの流量を調整する。
【０２４６】
但し、第８実施形態では、流量調整器８１８がフィルタ１１５の下流側に位置する流路であって且つ分岐器１１６から光路空間ＳＰＫに至る流路に設置されている。このため、第１実施形態の液体供給装置１００と比較して、光路空間ＳＰＫに供給される液体ＬＱにパーティクル等の不純物が混入する可能性が大きくなりかねない。この場合には、流量調整器８１８は、液体ＬＱへの不純物の混入によって露光動作が影響を受ける可能性がある又は大きい第１期間（或いは、第１期間の一部）において、流量調整器８１８から流れ出す液体ＬＱの流量を調整する動作を停止してもよい。流量調整器８１８は、液体ＬＱへの不純物の混入によって露光動作が影響を受ける可能性がない又は小さい第２期間（或いは、第２期間の一部）において、流量調整器８１８から流れ出す液体ＬＱの流量を調整する動作を行ってもよい。第１期間の一例として、露光装置ＥＸ１が露光光ＥＬで基板５１を露光する期間があげられる。第１期間の一例として、露光装置ＥＸ１が計測部材６１を用いて露光光ＥＬを計測する期間があげられる。第２期間の一例として、第１期間以外の期間があげられる。
【０２４７】
このような第８実施形態の露光装置ＥＸ８は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２４８】
（９）第９実施形態の露光装置ＥＸ９
続いて、図１９を参照しながら、第９実施形態の露光装置ＥＸ９について説明する。尚、第９実施形態の露光装置ＥＸ９は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置９００を備えているという点で異なる。第９実施形態の露光装置ＥＸ９が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第９実施形態の液体供給装置９００に着目して説明を進める。図１９は、第９実施形態の液体供給装置９００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２４９】
図１９に示すように、第９実施形態の液体供給装置９００は、分岐器１１６及び流量計１１７が液浸部材４内（特に、液体供給路４８２内）に設置されているという点において、第１実施形態の液体供給装置１００とは異なる。第８実施形態の液体供給装置８００が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の液体供給装置１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０２５０】
第９実施形態では、フィルタ１１５と分岐器１１６とを連結する配管１３１ｅの少なくとも一部は、液体供給路４８２の一部を構成する。つまり、配管１３１ｅの少なくとも一部は、液浸部材４の内部に形成されている。分岐器１１６と流量計１１７を連結する配管１３１ｆの少なくとも一部は、液体供給路４８２の一部を構成する。つまり、配管１３１ｆの少なくとも一部は、液浸部材４の内部に形成されている。分岐器１１６と流量調整器１２１を連結する配管１３２ａの少なくとも一部は、液浸部材４の内部に形成されている。
【０２５１】
このような第９実施形態の露光装置ＥＸ９は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２５２】
（１０）第１０実施形態の露光装置ＥＸ１０
続いて、図２０を参照しながら、第１０実施形態の露光装置ＥＸ１０について説明する。尚、第１０実施形態の露光装置ＥＸ１０は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、液体供給装置１００に代えて液体供給装置１０００を備えているという点で異なる。第１０実施形態の露光装置ＥＸ１０が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第１０実施形態の液体供給装置１０００に着目して説明を進める。図２０は、第１０実施形態の液体供給装置１０００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２５３】
図２０に示すように、第１０実施形態の液体供給装置１０００は、熱交換器１１４を複数備えているという点で、液体供給装置１００とは異なる。図２０は、液体供給装置１０００が、分岐器１６１の上流に２つの熱交換器１１４（つまり、熱交換器１１４−Ａ及び１１４−Ｂ）を備えている例を示している。しかしながら、液体供給装置１０００は、分岐器１６１の上流に３つ以上の熱交換器１１４を備えていてもよい。
【０２５４】
第１０実施形態では、流量調整器１１３は、配管１３１ｃによって熱交換器１１４−Ａに連結されている。熱交換器１１４−Ａは、配管１３１ｄ−Ａによって熱交換器１１４−Ｂに連結されている。熱交換器１１４−Ｂは、配管１３１ｄ−Ｂによってフィルタ１１５に連結されている。
【０２５５】
熱交換器１１４−Ａは、第１の調整精度で、液体ＬＱの温度を調整可能である。熱交換器１１４−Ｂは、第１の調整精度よりも高い第２の調整精度で、液体ＬＱの温度を調整可能である。つまり、熱交換器１１４−Ｂは、熱交換器１１４−Ａよりも高精度に液体ＬＱの温度を調整可能である。従って、第１０実施形態では、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの温度を所望温度に設定するために、熱交換器１１４−Ａが液体ＬＱの温度を大まかに調整した後に、熱交換器１１４−Ｂが液体ＬＱの温度を微調整する。
【０２５６】
熱交換器１１４−Ａが、液体ＬＱの温度が所望温度より第１微小量だけ低くなるように液体ＬＱとの間で熱交換を行い、その後、熱交換器１１４−Ｂが、所望温度から第１微小量だけ低い液体ＬＱの温度が所望温度に一致するように液体ＬＱとの間で熱交換を行ってもよい。或いは、熱交換器１１４−Ａが、液体ＬＱの温度が所望温度より第２微小量だけ高くなるように液体ＬＱとの間で熱交換を行い、その後、熱交換器１１４−Ｂが、所望温度から第２微小量だけ高い液体ＬＱの温度が所望温度に一致するように液体ＬＱとの間で熱交換を行ってもよい。或いは、熱交換器１１４−Ａ及び１１４−Ｂの夫々が、液体ＬＱの温度が所望温度に一致するように液体ＬＱとの間で熱交換を行ってもよい。
【０２５７】
このような第１０実施形態の露光装置ＥＸ１０は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。特に、第１０実施形態では、液体供給装置１０００が複数の熱交換器１１４を備える。このため、液体供給装置１０００は、単一の熱交換器１１４を備える液体供給装置１００と比較して、液体ＬＱの温度をより適切に所望温度に設定することができる。
【０２５８】
尚、熱交換器１１４−Ａによる液体ＬＱの温度の調整精度は、熱交換器１１４−Ｂによる液体ＬＱの温度の調整精度と同一であってもよい。
【０２５９】
（１１）第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１
続いて、図２１を参照しながら、第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１について説明する。尚、第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１は、第６実施形態の露光装置ＥＸ６（図１６参照）と比較して、液体供給装置６００に代えて液体供給装置１１００を備えているという点で異なる。第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１が備えるその他の構成要素は、第６実施形態の露光装置ＥＸ６が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第１１実施形態の液体供給装置１１００に着目して説明を進める。図２１は、第１１実施形態の液体供給装置１１００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２６０】
図２１に示すように、第１１実施形態の液体供給装置１１００は、第６実施形態の液体供給装置６００と同様に、熱交換器１１４、フィルタ１１５、分岐器１１６、流量計１１７、流量調整器１２１及びポンプ１２２を含む供給系統を複数備えている。図２１は、説明の便宜上、液体供給装置１１００が２つの供給系統を備える例を示している。以下、説明の便宜上、第１供給系統が備える構成要素の参照符号の末尾に「−１」を付すると共に、第２供給系統が備える構成要素の参照符号の末尾に「−２」を付することで、両者を区別する。但し、液体供給装置１１００は、３つ以上の供給系統を備えていてもよい。
【０２６１】
第１１実施形態の液体供給装置１１００は、以下の点で第６実施形態の液体供給装置６００とは異なる。まず、上述の第６実施形態の液体供給装置６００は、熱交換器１１４−１を通過する液体ＬＱの温度及び熱交換器１１４−２を通過する液体ＬＱの温度を夫々異なる温度に設定している。一方で、第１１実施形態の液体供給装置１１００は、熱交換器１１４−１を通過する液体ＬＱの温度及び熱交換器１１４−２を通過する液体ＬＱの温度を同じ温度に設定してもよいし、夫々異なる温度に設定してもよい。更に、上述の第６実施形態の液体供給装置６００では、合流配管６１２によって第１及び第２供給系統が合流しており、第１供給系統から供給される液体ＬＱ及び第２供給系統から供給される液体ＬＱが同じ液体供給路４８２（更には、同じ液体供給口４８１）に供給される。一方で、第１１実施形態の液体供給装置１１００では、第１及び第２供給系統が合流しておらず、第１供給系統から供給される液体ＬＱ及び第２供給系統から供給される液体ＬＱが夫々異なる液体供給路４８２を介して異なる液体供給口４８１に供給される。
【０２６２】
図２１は、第１供給系統から供給される液体ＬＱが液体供給路４８２−３を介して液体供給口４８１−３に供給され、第２供給系統から供給される液体ＬＱが、液体供給路４８２−４を介して液体供給口４８１−４に供給される例を示している。液体供給口４８１−３は、液体供給口４８１−４とは物理的に独立した液体供給口である。液体供給路４８２−３は、液体供給路４８２−４とは物理的に独立した液体供給路である。液体供給口４８１−３が液浸部材４の内面４２に形成されている一方で、液体供給口４８１−４が液浸部材４の下面４１に形成されていてもよい。つまり、液体供給口４８１−３が第７実施形態の液浸部材４ａの液体供給口４８１ａ（図１７参照）であり、液体供給口４８１−４が第７実施形態の液浸部材４ａの液体供給口４８１ｂ（図１７参照）であってもよい。但し、液体供給口４８１−３及び４８１−４の双方が液浸部材４の下面４１に形成されていてもよい。液体供給口４８１−３及び４８１−４の双方が液浸部材４の内面４２に形成されていてもよい。液体供給口４８１−３及び４８１−４の夫々が、液浸部材４の任意の面に形成されていてもよい。
【０２６３】
このような第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１は、第６実施形態の露光装置ＥＸ６が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。更には、第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１は、複数の供給先に対して独立して液体ＬＱを供給可能である。
【０２６４】
尚、第１１実施形態の液体供給装置１１００は、上述した第１０実施形態の液体供給装置１０００と同様に、単一の熱交換器１１４−１に代えて、複数の熱交換器１１４−１を第１供給系統に備えていてもよい。第１１実施形態の液体供給装置１１００は、上述した第１０実施形態の液体供給装置１０００と同様に、単一の熱交換器１１４−２に代えて、複数の熱交換器１１４−２を第２供給系統に備えていてもよい。
【０２６５】
（１２）第１２実施形態の露光装置ＥＸ１２
続いて、図２２を参照しながら、第１２実施形態の露光装置ＥＸ１２について説明する。尚、第１２実施形態の露光装置ＥＸ１２は、第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１（図２１参照）と比較して、液体供給装置１１００に代えて液体供給装置１２００を備えているという点で異なる。第１２実施形態の露光装置ＥＸ１２が備えるその他の構成要素は、第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。従って、以下では、第１２実施形態の液体供給装置１２００に着目して説明を進める。図２２は、第１２実施形態の液体供給装置１２００の構成の一例を示すブロック図である。
【０２６６】
図２２に示すように、第１２実施形態の液体供給装置１２００は、第１１実施形態の液体供給装置１１００と比較して、分岐器６１１の上流に熱交換器１１４−Ｃを備えているという点で異なっている。第１２実施形態の液体供給装置１２００が備えるその他の構成要素は、第１１実施形態の液体供給装置１１００が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０２６７】
第１２実施形態では、流量調整器１１３は、配管１３１ｃによって熱交換器１１４−Ｃに連結されている。熱交換器１１４−Ｃは、配管１３１ｇによって分岐器６１１に連結されている。熱交換器１１４−Ｃは、熱交換器１１４−１及び１１４−２の夫々よりも低い調整精度で、液体ＬＱの温度を調整可能である。つまり、熱交換器１１４−１及び１１４−２の夫々は、熱交換器１１４−Ｃよりも高精度に液体ＬＱの温度を調整可能である。但し、熱交換器１１４−Ｃは、熱交換器１１４−１及び１１４−２の夫々と同じ又は高い調整制度で、液体ＬＱの温度を調整可能であってもよい。
【０２６８】
このような第１２実施形態の露光装置ＥＸ１２は、第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。
【０２６９】
尚、液体供給装置１２００は、熱交換器１１４−１及び１１４−２のうちの少なくとも一方を備えていなくてもよい。液体供給装置１２００は、上述した第１０実施形態の液体供給装置１０００と同様に、単一の熱交換器１１４−Ｃに代えて、複数の熱交換器１１４−Ｃを備えていてもよい。
【０２７０】
尚、第１１及び第１２実施形態の夫々においては、液浸部材４よりも上流側に分岐器６１１が配置されている。しかしながら、分岐器６１１は、液浸部材４の内部に配置されていてもよい。この場合、分岐器６１１よりも下流側に配置される部材の少なくとも一部もまた、液浸部材４の内部に配置されていてもよい。
【０２７１】
（１３）第１３実施形態の露光装置ＥＸ１３
続いて、図２３を参照しながら、第１３実施形態の露光装置ＥＸ１３について説明する。図２３に示すように、第１３実施形態の露光装置ＥＸ１３は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、複数の基板ステージ５を備えるツインステージ型又はマルチステージの露光装置であるという点で異なっている。図２３は、露光装置ＥＸ１３が２つの基板ステージ５（つまり、基板５１Ａを保持可能な基板ステージ５Ａ及び基板５１Ｂを保持可能な基板ステージ５Ｂ）を備えるツインステージが他の露光装置である例を示している。尚、ツインステージ型の露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，３４１，００７号、米国特許第６，２０８，４０７号及び米国特許第６，２６２，７９６号に開示されている。第１３実施形態の露光装置ＥＸ１３が備えるその他の構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備えるその他の構成要素と同一であってもよい。
【０２７２】
露光装置ＥＸ１３は、以下の手順で露光動作を行う。露光装置ＥＸ１３は、まず、基板ステージ５Ａが保持する基板５１Ａを露光する。この場合、液浸空間ＬＳは、基板ステージ５Ａ及び基板５１Ａのうちの少なくとも一方の上に形成される。露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ａの露光と並行して、基板ステージ５Ｂが保持する基板５１Ｂを計測する。露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ａの露光が完了するまでに、基板５１Ｂの計測を完了する。その後、基板５１Ａの露光が完了すると、露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ｂの露光を開始する。基板５１Ｂの露光を開始するために、露光装置ＥＸ１３は、基板ステージ５Ａ及び５１Ｂが隣接するように基板ステージ５Ａ及び５Ｂを移動させ、基板ステージ５Ａと基板ステージ５Ｂとの間の境界Ｂ１を跨いで基板ステージ５Ａから基板ステージ５Ｂへと液浸空間ＬＳが移動するように、基板ステージ５Ａ及び５Ｂを移動させる。その後、液浸空間ＬＳが基板ステージ５Ｂ及び基板５１Ｂのうちの少なくとも一方の上に形成されている状態で、露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ｂの露光を開始する。露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ｂの露光と並行して、露光済みの基板５１Ａをリリースしてから露光されていない新たな基板５１Ａを保持するように基板ステージ５Ａを制御する。その後、露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ｂの露光と並行して、基板ステージ５Ａが保持する新たな基板５１Ａを計測する。その後、基板５１Ｂの露光が完了すると、露光装置ＥＸ１３は、基板５１Ａの露光及び基板５１Ｂの計測を開始する。このため、露光装置ＥＸ１３は、基板ステージ５Ｂ及び５Ａが隣接するように基板ステージ５Ａ及び５Ｂを移動させ、基板ステージ５Ａと基板ステージ５Ｂとの間の境界Ｂ１を跨いで基板ステージ５Ｂから基板ステージ５Ａへと液浸空間ＬＳが移動するように、基板ステージ５Ａ及び５Ｂを移動させる。以降は、基板５１Ａの露光及び基板５１Ｂの計測と、基板５１Ｂの露光及び基板５１Ａの計測とが繰り返される。
【０２７３】
露光装置ＥＸ１３が複数の基板ステージ５を備える場合には、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと複数の基板ステージ５との間の位置関係に基づいて、液体ＬＱの流量を調整してもよい。
【０２７４】
例えば、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが複数の基板ステージ５の間の境界Ｂ（図２３に示す例では、基板ステージ５Ａと基板ステージ５Ｂとの間の境界Ｂ１）を跨いでいる期間の少なくとも一部において液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが境界Ｂを跨いでいない期間（つまり、液浸空間ＬＳが複数の基板ステージ５のうちのいずれか一つの上に形成されている期間）の少なくとも一部において液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが境界Ｂを跨いでいる期間の少なくとも一部における液体ＬＱの流量が、液浸空間ＬＳが境界Ｂを跨いでいない期間の少なくとも一部における液体ＬＱの流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。このように調整される液体ＬＱの流量の一例は、図２４に示される。
【０２７５】
液浸空間ＬＳが境界Ｂを跨ぐ場合には、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍に位置する可能性が高い。一方で、液浸空間ＬＳが境界Ｂを跨がない場合には、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍から離れている可能性が高い。このため、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍に位置する場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍から離れている場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍に位置する場合の液体ＬＱの流量が、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍から離れている場合の液体ＬＱの流量よりも大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。尚、「液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍に位置する」状態の一例として、液浸空間ＬＳの一部分（例えば、液浸空間ＬＳの外縁であり、典型的には界面ＬＧ１）と境界Ｂとの間の距離が第３所定距離以下になる（或いは、よりも小さくなる）状態があげられる。逆に、「液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍から離れている」状態の一例として、液浸空間ＬＳの一部分と境界Ｂとの間の距離が第３所定距離以上になる（或いは、よりも大きくなる）状態があげられる。
【０２７６】
液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍に位置する場合には、当該液浸空間ＬＳを形成する液浸部材４もまた境界Ｂの近傍に位置する可能性が高い。一方で、液浸空間ＬＳが境界Ｂの近傍から離れている場合には、液浸部材４もまた境界Ｂの近傍から離れている可能性が高い。このため、液体供給装置１００は、液浸部材４が境界Ｂの近傍に位置する場合に液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸部材４が境界Ｂの近傍から離れている場合に液体ＬＱの流量が相対的に大きくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。液体供給装置１００は、液浸部材４が境界Ｂの近傍に位置する場合の液体ＬＱの流量が、液浸部材４が境界Ｂの近傍から離れている場合の液体ＬＱの流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。尚、「液浸部材４が境界Ｂの近傍に位置する」状態の一例として、液浸部材４の一部分（例えば、下面４１の外側端部又は流体回収口４９１）と境界Ｂとの間の距離が第４所定距離以下になる（或いは、よりも小さくなる）状態があげられる。逆に、「液浸部材４が境界Ｂの近傍から離れている」状態の一例として、液浸部材４の一部分と境界Ｂとの間の距離が第４所定距離以上になる（或いは、よりも大きくなる）状態があげられる。
【０２７７】
このような第１３実施形態の露光装置ＥＸ１３は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。加えて、液浸空間ＬＳが複数の基板ステージ５の間の境界Ｂを跨ぐ場合に液体ＬＱの流量が小さくなるがゆえに、境界Ｂを介して複数の基板ステージ５の下方に向かって漏れ出る液体ＬＱの流量の低減が可能になる。
【０２７８】
尚、露光装置ＥＸ１３は、少なくとも一つの基板ステージ５及び少なくとも一つの計測ステージ６を備えるツインステージ型又はマルチステージ型の露光装置であってもよい。この場合であっても、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳと複数の基板ステージ５との間の位置関係に基づいて液体ＬＱの流量を調整する場合と同様の調整態様で、液浸空間ＬＳと基板ステージ５及び計測ステージ６との間の位置関係に基づいて、液体ＬＱの流量を調整してもよい。例えば、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板ステージ５と計測ステージ６の間の境界を跨いでいる期間の少なくとも一部における液体ＬＱの流量が、液浸空間ＬＳが基板ステージ５と計測ステージ６の間の境界を跨いでいない期間の少なくとも一部における液体ＬＱの流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。例えば、液体供給装置１００は、液浸空間ＬＳが基板ステージ５と計測ステージ６の間の境界の近傍に位置する場合の液体ＬＱの流量が、液浸空間ＬＳが基板ステージ５と計測ステージ６の間の境界の近傍から離れている場合の液体ＬＱの流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。例えば、液体供給装置１００は、液浸部材４が基板ステージ５と計測ステージ６の間の境界の近傍に位置する場合の液体ＬＱの流量が、液浸部材４が基板ステージ５と計測ステージ６の間の境界の近傍から離れている場合の液体ＬＱの流量よりも小さくなるように、液体ＬＱの流量を調整してもよい。
【０２７９】
（１４）第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４
上述したように、第１実施形態の露光装置ＥＸ１から第１３実施形態の露光装置ＥＸ１３の夫々は、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量を調整可能である。一方で、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量が変動すると、液浸空間ＬＳから投影光学系３が受ける力（特に、投影光学系３が備える終端光学素子３１が受ける力）が変動する可能性がある。液浸空間ＬＳから終端光学素子３１が受ける力が変動すると、終端光学素子３１の位置が変動する（つまり、終端光学素子３１が変位又は移動する）可能性がある。終端光学素子３１の位置が変動すると、投影光学系３による露光光ＥＬのフォーカス位置（つまり、投影光学系３の像面の位置であり、投影光学系３による露光光ＥＬの投影位置）が意図せず変動してしまう可能性がある。その結果、露光品質が悪化してしまう可能性がある。
【０２８０】
そこで、第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４は、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量の変動に起因した露光品質の悪化を防ぐために、液体ＬＱの流量を変動させるタイミングを制御するためのタイミング制御を行う。つまり、第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１と比較して、タイミング制御を行うという点で異なる。第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４が備える構成要素は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が備える構成要素と同一であってもよい。
【０２８１】
露光装置ＥＸ１４は、基板５１に露光光ＥＬが照射されるスキャン移動期間中における液体ＬＱの流量の変動を、基板５１に露光光ＥＬが照射されないステップ移動期間中における液体ＬＱの流量の変動よりも優先的に抑制（言い換えれば、低減）するための第１のタイミング制御を行う。露光装置ＥＸ１４は、第１のタイミング制御に加えて又は代えて、基板５１上の複数のショット領域Ｓのうちのデバイスを製造するために実際に使用される第１のショット領域Ｓ１に露光光ＥＬが照射される有効露光期間中における液体ＬＱの流量の変動を、基板５１上の複数のショット領域Ｓのうちのデバイスを製造するために実際に使用されない第２のショット領域Ｓ２に露光光ＥＬが照射される非有効露光期間中における液体ＬＱの流量の変動よりも優先的に抑制（言い換えれば、低減）するための第２のタイミング制御を行う。以下、第１及び第２のタイミング制御について順に説明する。
【０２８２】
（１４−１）第１のタイミング制御
図２５を参照しながら、第１のタイミング制御について説明する。
【０２８３】
液体供給装置１００は、液体供給装置１００が供給すべき液体ＬＱの流量を指示するための指令値を示す第１制御パラメータに基づいて、液体ＬＱの流量を調整する。例えば、図２５の１段目のタイミングチャートに示す例では、流量の指令値は、時刻ｔ１０から時刻ｔ１２までの期間中は相対的に多い流量の液体ＬＱを供給し、時刻ｔ１２から時刻ｔ１６までの期間中は相対的に少ない流量の液体ＬＱを供給し、時刻ｔ１６から時刻ｔ１９までの期間中は相対的に多い流量の液体ＬＱを供給することを液体供給装置１００に対して指示している。尚、第１制御パラメータは、指令値に基づいて新たに生成される制御パラメータであってもよい。
【０２８４】
ここで、第１のタイミング制御を行うことなくこのような指令値に基づいて液体供給装置１００が液体ＬＱの流量を調整すると、液体ＬＱの流量は、図２５の２段目のタイミングチャートに示すように変化する。具体的には、液体ＬＱの流量の減少を開始することを指令値が指示している時刻ｔ１２において、液体供給装置１００は、液体ＬＱの流量を減少させるための制御を開始する。具体的には、液体供給装置１００は、時刻ｔ１２において、液体ＬＱの流量を減少させるための流量調整器１２１の制御を開始する。しかしながら、液体供給装置１００の制御遅れ（例えば、図１に示す流量調整器１２１等の制御遅れ）に起因して、液体ＬＱの流量は、時刻ｔ１２から制御遅れに相当する時間だけ遅れた時刻ｔ１３に実際に減少し始める。ここで、図２５に示す例では、時刻ｔ１３から時刻ｔ１４の間の期間は、露光光ＥＬが基板５１に照射されるスキャン移動期間である。つまり、図２５に示す指令値によれば、第１のタイミング制御が行われないと、液体ＬＱの流量は、スキャン移動期間の開始と共に減少し始める。その結果、液体ＬＱの流量が減少している期間（図２５の２段目のグラフに示す例では、時刻ｔ１３から時刻ｔ１５までの期間）中において、時刻ｔ１３から時刻ｔ１４までのスキャン移動期間中における液体ＬＱの流量の変動量（つまり、減少量）ΔＦｓｃは、時刻ｔ１４から時刻ｔ１５までのステップ移動期間中における液体ＬＱの流量の変動量（つまり、減少量）ΔＦｓｔよりも大きくなる。尚、第１４実施形態における変動量ΔＦｓｃは、あるスキャン移動期間中の流量の変動量の合計であるが、スキャン移動期間中の流量の単位時間当たりの変動量であってもよい。同様に、第１４実施形態における変動量ΔＦｓｔは、あるステップ移動期間中の流量の変動量の合計であるが、ステップ移動期間中の流量の単位時間当たりの変動量であってもよい。図２５に示す例では、液体ＬＱの流量が増加している期間（図２５の２段目のグラフに示す例では、時刻ｔ１７から時刻ｔ１９までの期間）においても、液体ＬＱの流量がスキャン移動期間の開始と共に増加し始めるがゆえに、時刻ｔ１７から時刻ｔ１８までのスキャン移動期間中の変動量（つまり、増加量）ΔＦｓｃは、時刻ｔ１８から時刻ｔ１９までのステップ移動期間中における液体ＬＱの流量の変動量（つまり、増加量）ΔＦｓｔよりも大きくなる。このため、第１制御パラメータが示す指令値の増減のタイミングによっては、投影光学系３を介して露光光ＥＬが基板５１に照射されているスキャン移動期間中において、投影光学系３による露光光ＥＬのフォーカス位置が相対的に大きく変動してしまう可能性がある。その結果、スキャン移動期間中に照射される露光光ＥＬによる露光品質が悪化してしまう可能性がある。
【０２８５】
そこで、液体供給装置１００は、コントローラ９１の制御下で、このような変動量ΔＦｓｃの増大を抑制するように、液体ＬＱの流量が変動（つまり、増加又は減少）し始めるタイミングを調整する。変動量ΔＦｓｃの増大を抑制するために、液体供給装置１００は、ある一つのショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射するあるスキャン移動期間中の変動量ΔＦｓｃが、当該スキャン移動期間の前又は後のあるステップ移動期間中の変動量ΔＦｓｔよりも小さくなるように、液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整する。
【０２８６】
具体的には、液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃが変動量ΔＦｓｔよりも大きくなってしまう状態を実現してしまうタイミングで液体ＬＱの流量を変動させるための制御（以降、“変動制御”と称する）を開始することを指令値が指示している場合には、指令値が指示するタイミングとは異なるタイミングで変動制御を開始する。液体供給装置１００は、指令値が指示するタイミングよりも遅れたタイミングで変動制御を開始してもよい（図２５の３段目のタイミングチャート参照）。或いは、液体供給装置１００は、指令値が指示するタイミングよりも早いタイミングで変動制御を開始してもよい（図２５の４段目のタイミングチャート参照）。いずれの場合であっても、変動制御を開始するタイミングの調整によって、液体ＬＱの流量が実際に変動し始めるタイミングが適切に調整される。
【０２８７】
変動量ΔＦｓｃを変動量ΔＦｓｔよりも小さくするために、液体供給装置１００は、ステップ移動期間中に液体ＬＱの流量が実際に変動し始めるように、変動制御を開始するタイミングを調整する（図２５の３段目のタイミングチャート参照）。具体的には、液体ＬＱの流量は、変動制御を開始してから制御遅れに相当する時間が経過した時点で、実際に変動し始める。このため、液体供給装置１００は、変動制御を開始するタイミングとして指令値が指示しているタイミングにできるだけ近く（或いは、最も近く）且つ変動制御を開始してから制御遅れに相当する時間が経過するとステップ移動期間になるタイミングに変動制御を開始する。
【０２８８】
特に、変動量ΔＦｓｃを変動量ΔＦｓｔよりも小さくするために、液体供給装置１００は、ステップ移動期間の開始と共に液体ＬＱの流量が実際に変動し始めるように、変動制御を開始するタイミングを調整してもよい（図２５の４段目のタイミングチャート参照）。つまり、液体供給装置１００は、変動制御を開始するタイミングとして指令値が指示しているタイミングにできるだけ近く（或いは、最も近く）且つ変動制御を開始してから制御遅れに相当する時間が経過するとステップ移動期間が開始するタイミングに変動制御を開始してもよい。
【０２８９】
液体ＬＱの流量の単位時間あたりの変動量は、液体ＬＱの流量が変動し始めてからの経過時間が長くなるほど小さくなる。このため、図２５の３段目及び４段目のタイミングチャートに示すように、ステップ移動期間中に液体ＬＱの流量が実際に変動し始めれば、変動量ΔＦｓｃが変動量ΔＦｓｔよりも小さくなる。その結果、変動量ΔＦｓｃの増大が適切に抑制される。従って、スキャン移動期間中のフォーカス位置の意図せぬ変動もまた適切に抑制される。その結果、露光品質の悪化もまた適切に抑制される。
【０２９０】
但し、液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃが変動量ΔＦｓｔよりも小さくなる状態を実現可能なタイミングで変動制御を開始することを指令値が指示している場合には、指令値が指示するタイミングとは異なるタイミングで変動制御を開始しなくてもよい。この場合、液体供給装置１００は、指令値が指示するタイミングで変動制御を開始してもよい。
【０２９１】
液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃが変動量ΔＦｓｔよりも小さくなるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整することに加えて又は代えて、変動量ΔＦｓｃが第１所定値以下になるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整してもよい。この場合の「第１所定値」は、例えば、フォーカス位置を殆ど若しくは全く変動させない又は露光品質に殆ど若しくは全く影響を与えない程度にしかフォーカス位置を変動させない変動量ΔＦｓｃと、露光品質に影響を与えてしまう程度にフォーカス位置を変動させてしまう変動量ΔＦｓｃとを区別可能な値に設定される。この場合であっても、変動量ΔＦｓｃの増大が適切に抑制される。
【０２９２】
液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃが変動量ΔＦｓｔよりも小さくなるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整することに加えて又は代えて、変動量ΔＦｓｃがゼロになるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整してもよい。この場合の「変動量ΔＦｓｃがゼロになる」状態は、文字通り変動量ΔＦｓｃが完全にゼロになる状態のみならず、変動量ΔＦｓｃが実質的にゼロになる（つまり、概ねゼロになる）状態をも含む。変動量ΔＦｓｃが実質的にゼロになる状態は、例えば、露光品質に殆ど若しくは全く影響を与えない程度にしかフォーカス位置を変動させないがゆえに実質的に液体ＬＱの流量が変動していないものとみなすことが可能な状態を含む。
【０２９３】
（１４−２）第２のタイミング制御
スキャン移動期間は、基板５１上の複数のショット領域Ｓのうちのデバイスを製造するために実際に使用される第１のショット領域Ｓ１に露光光ＥＬが照射される有効露光期間に相当する第１のスキャン移動期間と、基板５１上の複数のショット領域Ｓのうちのデバイスを製造するためには使用されない第２のショット領域Ｓ２に露光光ＥＬが照射される非有効露光期間に相当する第２のスキャン移動期間とを含む。尚、第２のショット領域Ｓ２は、例えば、基板５１の外縁付近に設定される欠けたショット領域Ｓ、テスト用のショット領域Ｓ及び予備のショット領域Ｓの少なくとも一つを含む。
【０２９４】
ここで、有効露光期間中において投影光学系３による露光光ＥＬのフォーカス位置が相対的に大きく変動してしまうと、製造されたデバイスの品質が悪化してしまう可能性がある。一方で、非有効露光期間中において投影光学系３による露光光ＥＬのフォーカス位置が相対的に大きく変動したとしても、第２のショット領域Ｓ２がデバイスの製造に使用されることがないため、製造されたデバイスの品質が悪化することはない。このため、非有効露光期間中のフォーカス位置の変動よりも、有効露光期間中のフォーカス位置の変動が優先的に抑制されれば、製造されるデバイスの品質の悪化をより適切に抑制可能である。
【０２９５】
そこで、第２のタイミング制御は、有効露光期間中の液体ＬＱの流量の変動量ΔＦｓｃ１の増大を抑制する。つまり、液体供給装置１００は、コントローラ９１の制御下で、このような変動量ΔＦｓｃ１の増大を抑制するように、液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミング（つまり、変動制御を開始するタイミング）を調整する。変動量ΔＦｓｃ１の増大を抑制するために、液体供給装置１００は、ある第１のショット領域Ｓ１に露光光ＥＬを照射するある有効露光期間中の液体ＬＱの流量の変動量ΔＦｓｃ１が、当該有効露光期間の前又は後のある非有効露光期間中の液体ＬＱの流量の変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくなるように、変動制御を開始するタイミングを制御する。
【０２９６】
変動量ΔＦｓｃ１を変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくするために、液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃを変動量ΔＦｓｔよりも小さくする場合と同様の態様で、変動制御を開始するタイミングを調整する。具体的には、液体供給装置１００は、非有効露光期間中に液体ＬＱの流量が実際に変動し始めるように、変動制御を開始するタイミングを調整する。つまり、液体供給装置１００は、変動制御を開始するタイミングとして指令値が指示しているタイミングにできるだけ近く（或いは、最も近く）且つ変動制御を開始してから制御遅れに相当する時間が経過すると非有効露光期間になるタイミングに変動制御を開始する。特に、変動量ΔＦｓｃ１を変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくするために、液体供給装置１００は、非有効露光期間の開始と共に液体ＬＱの流量が実際に変動し始めるように、変動制御を開始するタイミングを調整してもよい。つまり、液体供給装置１００は、変動制御を開始するタイミングとして指令値が指示しているタイミングにできるだけ近く（或いは、最も近く）且つ変動制御を開始してから制御遅れに相当する時間が経過すると非有効露光期間が開始するタイミングに変動制御を開始してもよい。その結果、変動量ΔＦｓｃ１が変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくなる。このため、変動量ΔＦｓｃ１の増大が適切に抑制される。従って、有効露光期間中のフォーカス位置の意図せぬ変動もまた適切に抑制される。その結果、露光品質の悪化もまた適切に抑制されるがゆえに、製造されるデバイスの品質の悪化もまた適切に抑制される。
【０２９７】
但し、液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃ１が変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくなる状態を実現可能なタイミングで変動制御を開始することを指令値が指示している場合には、指令値が指示するタイミングとは異なるタイミングで変動制御を開始しなくてもよい。この場合、液体供給装置１００は、指令値が指示するタイミングで変動制御を開始してもよい。
【０２９８】
液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃ１が変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくなるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整することに加えて又は代えて、変動量ΔＦｓｃ１が第２所定値以下になるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整してもよい。この場合の「第２所定値」は、例えば、フォーカス位置を殆ど若しくは全く変動させない又は露光品質に殆ど若しくは全く影響を与えない程度にしかフォーカス位置を変動させない変動量ΔＦｓｃ１と、露光品質に影響を与えてしまう程度にフォーカス位置を変動させてしまう変動量ΔＦｓｃ１とを区別可能な値に設定される。この場合であっても、変動量ΔＦｓｃ１の増大が適切に抑制される。
【０２９９】
液体供給装置１００は、変動量ΔＦｓｃ１が変動量ΔＦｓｃ２よりも小さくなるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整することに加えて又は代えて、変動量ΔＦｓｃがゼロになるように液体ＬＱの流量が変動し始めるタイミングを調整してもよい。この場合の「変動量ΔＦｓｃ１がゼロになる」状態は、文字通り変動量ΔＦｓｃ１が完全にゼロになる状態のみならず、変動量ΔＦｓｃ１が実質的にゼロになる（或いは、概ねゼロになる）状態をも含む。変動量ΔＦｓｃ１が実質的にゼロになる（或いは、概ねゼロになる）状態は、例えば、露光品質に殆ど若しくは全く影響を与えない程度にしかフォーカス位置を変動させないがゆえに実質的に液体ＬＱの流量が変動していないものとみなすことが可能な状態を含む。
【０３００】
このような第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。更に、第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４は、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量の調整（言い換えれば、変動）に起因した露光品質の悪化を適切に抑制可能である。
【０３０１】
尚、上述の説明では、液体ＬＱの流量の調整に起因して投影光学系３のフォーカス位置が意図せず変動し、このようなフォーカス位置の意図しない変動によって露光品質が悪化してしまう例を説明している。しかしながら、液体ＬＱの流量の調整に起因してフォーカス位置の意図しない変動とは異なる他の影響が露光装置ＥＸ１に生じ、その結果、このような他の影響によって露光品質が悪化する可能性もある。例えば、液体ＬＱの流量の調整に起因して終端光学素子３１の位置が変動すると、投影光学系３の投影倍率（例えば、Ｘ軸方向の倍率）が意図せず変動したり、投影光学系３に意図しない収差が発生したり、投影光学系３に発生する収差が意図せず変動したりする可能性がある。また、液体ＬＱを介して投影光学系３により投影される像の位置がＸＹ平面内で変化することもある。これらもまた、露光品質の悪化に繋がる。第１４実施形態の露光装置ＥＸ１４は、このようなフォーカス位置の意図しない変動とは異なる要因によって露光品質が悪化をも適切に抑制可能である。
【０３０２】
（１５）第１５実施形態の露光装置ＥＸ１５
第１４実施形態において既に説明したように、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量の変動に起因して、投影光学系３による露光光ＥＬのフォーカス位置が意図せず変動してしまう可能性がある。このようなフォーカス位置の変動について、図２６（ａ）及び図２６（ｂ）を用いて具体的に説明する。
【０３０３】
図２６（ａ）に示すように、フォーカス位置は、本来は、基板５１の表面（より具体的には、基板５１上のレジストの表面又はレジストの内部）に合わせられている。ここで、図２６（ａ）に示す状態において液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量が増加すると、液浸空間ＬＳの容積が増加する。その結果、終端光学素子３１が液浸空間ＬＳから受ける圧力が増加するがゆえに、図２６（ｂ）に示すように、液浸空間ＬＳに面する終端光学素子３１の位置が変動してしまう。尚、図２６（ｂ）に示す例では、終端光学素子３１の位置は、＋Ｚ軸方向に向かって変動している。その結果、図２６（ｂ）に示すように、流量が増加する前は基板５１の表面に合わせられていたフォーカス位置が、基板５１の表面から離れてしまう。
【０３０４】
そこで、第１５実施形態の露光装置ＥＸ１５は、フォーカス位置が変動する場合であっても、当該変動したフォーカス位置が基板５１の表面に合わせられるように、基板ステージ５を制御する。具体的には、図２６（ｃ）に示すように、コントローラ９１は、終端光学素子３１の位置の変動量（つまり、変位量）に応じて定まる移動量だけ基板ステージ５が移動するように、基板ステージ５を制御する。例えば、コントローラ９１は、終端光学素子３１の位置の変動量（つまり、変位量）と同じ移動量だけ基板ステージ５が移動するように、基板ステージ５を制御する。更に、コントローラ９１は、終端光学素子３１の位置が変動した方向に応じて定まる方向に向かって基板ステージ５が移動するように、基板ステージ５を制御する。例えば、更に、コントローラ９１は、終端光学素子３１の位置が変動した方向と同じ方向に向かって基板ステージ５が移動するように、基板ステージ５を制御する。その結果、図２６（ｃ）に示すように、フォーカス位置が変動する場合であっても、当該変動したフォーカス位置が基板５１の表面に合わせられる。なお、投影光学系３の構成によるが、終端光学素子３１の移動方向と基板ステージ５の移動方向とが必ずしも同じでなくてもよい。要は、コントローラ９１は、フォーカス位置（つまり、像面位置）の変動方向と変動量に基づいて、基板ステージ５の移動方向と移動量とを制御すればよい。
【０３０５】
このため、流量が増加した後におけるフォーカス位置と基板５１との間の位置関係は、流量が増加する前におけるフォーカス位置と基板５１との間の位置関係と同じになる。このため、流量が増加した後における露光品質は、流量が増加する前における露光品質と同じになる。このため、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を適切に抑制可能である。
【０３０６】
基板ステージ５１の移動量は、フォーカス位置の変動量（つまり、終端光学素子３１の変位量）に依存する。フォーカス位置の変動量は、液体ＬＱの流量の変動量に依存する。液体ＬＱの流量は、液体供給装置１００が供給すべき液体ＬＱの流量を指示するための指令値（つまり、第１制御パラメータ）によって定められている。このため、コントローラ９１は、流量の指令値に基づいて、基板ステージ５１を制御してもよい。例えば、図２７に示す例では、指令値は、時刻ｔ２１までの期間中は相対的に多い流量Ｆｔｇ１の液体ＬＱを供給し、時刻ｔ２１から時刻ｔ２２までの期間中は相対的に少ない流量Ｆｔｇ２の液体ＬＱを供給し、時刻ｔ２２以降の期間中は相対的に多い流量Ｆｔｇ１の液体ＬＱを供給することを指示している。この場合、図２７に示すように、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量が流量Ｆｔｇ１から流量Ｆｔｇ２に減少する時刻ｔ２１において、基板ステージ５１の位置（例えば、Ｚ軸方向の位置）を、位置Ｐ１から位置Ｐ２に移動させる。更に、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量が流量Ｆｔｇ２から流量Ｆｔｇ１に増加する時刻ｔ２２において、基板ステージ５１の位置を、位置Ｐ２から位置Ｐ１に移動させる。尚、位置Ｐ１は、流量Ｆｔｇ１の液体ＬＱが液浸空間ＬＳに供給されている状態でフォーカス位置が基板５１の表面に位置する状態を実現可能な基板ステージ５の位置である。同様に、位置Ｐ２は、流量Ｆｔｇ２の液体ＬＱが液浸空間ＬＳに供給されている状態でフォーカス位置が基板５１の表面に位置する状態を実現可能な基板ステージ５の位置である。
【０３０７】
但し、第１４実施形態において既に説明したように、液浸空間ＬＳに実際に供給される液体ＬＱの流量は、指令値が示す流量とは一致しない可能性がある。このため、コントローラ９１は、図２８に示すように、指令値に基づいて液浸空間ＬＳに実際に供給される液体ＬＱの流量を推定し、当該推定した実際の流量を示す（或いは、当該推定した実際の流量から新たに生成される）第２制御パラメータに基づいて基板ステージ５を制御してもよい。或いは、液体供給装置１００から液浸部材４（更には、液浸空間ＬＳ）に流れ込む液体ＬＱの流量が流量計１１７によって測定されるがゆえに、コントローラ９１は、流量計１１７の測定結果が示す液体ＬＱの実際の流量を示す第２制御パラメータに基づいて基板ステージ５を制御してもよい。或いは、コントローラ９１は、流量計１１７の測定結果に基づいて新たな制御パラメータを生成し、当該新たに生成した制御パラメータに基づいて基板ステージ５を制御してもよい。
【０３０８】
尚、図２８に示す指令値は、図２７に示す指令値と同一である。この場合、実際の流量は、時刻ｔ２１から制御遅れに相当する時間だけ遅れた時刻ｔ２３において、流量Ｆｔｇ１から流量Ｆｔｇ２へと減少し始める。同様に、実際の流量は、時刻ｔ２２から制御遅れに相当する時間だけ遅れた時刻ｔ２４において、流量Ｆｔｇ２から流量Ｆｔｇ１へと増加し始める。従って、コントローラ９１は、時刻ｔ２３において基板ステージ５の移動を開始して、基板ステージ５の位置を位置Ｐ１から位置Ｐ２へと徐々に変化させる。同様に、コントローラ９１は、時刻ｔ２４において基板ステージ５の移動を開始して、基板ステージ５の位置を位置Ｐ２から位置Ｐ１へと徐々に変化させる。
【０３０９】
このような第１５実施形態の露光装置ＥＸ１５は、第１実施形態の露光装置ＥＸ１が享受することが可能な効果を好適に享受することができる。更に、第１５実施形態の露光装置ＥＸ１５は、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を適切に抑制可能である。
【０３１０】
尚、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化が終端光学素子３１の位置の変動が原因であることを考慮すれば、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の指令値に基づく第１制御パラメータ及び推定若しくは計測した流量に基づく第２制御パラメータに加えて又は代えて、液体ＬＱの流量の調整に起因した終端光学素子３１の変位量を示す第３制御パラメータに基づいて、基板ステージ５を制御してもよい。
【０３１１】
第３制御パラメータは、終端光学素子３１の変位量の実測値に基づく制御パラメータであってもよい。例えば、第３制御パラメータは、終端光学素子３１の変位量の実測値を示していてもよい。例えば、第３制御パラメータは、終端光学素子３１の変位量の実測値から生成される新たな制御パラメータであってもよい。この場合、露光装置ＥＸ１５は、終端光学素子３１の位置を検出可能なセンサを備えていてもよい。
【０３１２】
第３制御パラメータは、終端光学素子３１の変位量の推定値に基づく制御パラメータであってもよい。例えば、第３制御パラメータは、終端光学素子３１の変位量の推定値を示していてもよい。例えば、第３制御パラメータは、終端光学素子３１の変位量の推定値から生成される新たな制御パラメータであってもよい。この場合には、コントローラ９１（或いは、露光装置ＥＸ１５の外部の演算装置）は、液体ＬＱの流量の指令値等に基づいて、終端光学素子３１の変位量を推定してもよい。
【０３１３】
終端光学素子３１の位置の変動は、終端光学素子３１が液浸空間ＬＳから受ける力の変動に起因していることは上述したとおりである。終端光学素子３１が液浸空間ＬＳから受ける力は、液浸空間ＬＳの内圧に依存する。このため、第３制御パラメータは、液浸空間ＬＳの内圧に基づく制御パラメータであってもよい。例えば、第３制御パラメータは、液浸空間ＬＳの内圧の実測値（例えば、上述した内圧センサ１５０の検出結果）を示していてもよい。例えば、第３制御パラメータは、液浸空間ＬＳの内圧の実測値から生成される新たな制御パラメータであってもよい。例えば、第３制御パラメータは、液浸空間ＬＳの内圧の推定値を示していてもよい。例えば、第３制御パラメータは、液浸空間ＬＳの内圧の推定値から生成される新たな制御パラメータであってもよい。第３制御パラメータが液浸空間ＬＳの内圧の推定値に基づく制御パラメータである場合には、コントローラ９１（或いは、露光装置ＥＸ１５の外部の演算装置）は、液体ＬＱの流量の指令値等に基づいて、液浸空間ＬＳの内圧を推定してもよい。
【０３１４】
終端光学素子３１が液浸空間ＬＳから受ける力が変動する（或いは、液浸空間ＬＳの内圧が変動する）と、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ（例えば、界面ＬＧ１及びＬＧ２の少なくとも一方）の位置もまた変動する可能性がある。このため、第３制御パラメータは、界面ＬＧの位置に基づく制御パラメータであってもよい。例えば、第３制御パラメータは、界面ＬＧの位置の実測値を示していてもよい。例えば、第３制御パラメータは、界面ＬＧの位置の実測値から生成される新たな制御パラメータであってもよい。例えば、第３制御パラメータは、界面ＬＧの位置の推定値を示していてもよい。例えば、第３制御パラメータは、界面ＬＧの位置の推定値から生成される新たな制御パラメータであってもよい。第３制御パラメータが界面ＬＧの位置の実測値に基づく制御パラメータである場合には、露光装置ＥＸ１５は、界面ＬＧの位置を検出するセンサを備えていてもよい。第３制御パラメータが界面ＬＧの位置の推定値に基づく制御パラメータである場合には、コントローラ９１（或いは、露光装置ＥＸ１５の外部の演算装置）は、液体ＬＱの流量の指令値等に基づいて、界面ＬＧの位置を推定してもよい。
【０３１５】
上述した第１制御パラメータから第３制御パラメータの少なくとも一つは、露光装置ＥＸ１５によるテスト露光の結果に基づいて、コントローラ９１（或いは、露光装置ＥＸ１５の外部の演算装置）によって生成されてもよい。つまり、露光装置ＥＸ１５がテストパターンを基板５に実際に転写するテスト露光が行われている間に、露光装置ＥＸ１５の状態（特に、第１制御パラメータから第３制御パラメータの少なくとも一つに関連する状態が測定され、当該状態の測定結果に基づいて、液体ＬＱの流量の変動に起因した露光品質の悪化を抑制可能な第１制御パラメータから第３制御パラメータの少なくとも一つが生成されてもよい。尚、テストパターンを基板５に実際に転写するテスト露光の結果に加えて又は代えて、実際のデバイスパターンを基板５に実際に転写する露光の結果に基づいて、第１制御パラメータから第３制御パラメータの少なくとも一つが生成されてもよい。
【０３１６】
上述した第１制御パラメータから第３制御パラメータの少なくとも一つは、露光装置ＥＸ１５による露光動作を模擬するシミュレーションの結果に基づいて、コントローラ９１（或いは、露光装置ＥＸ１５の外部の演算装置）によって生成されてもよい。つまり、所望のパターンを基板５１に露光する露光装置ＥＸ１５の露光動作がシミュレーションによって模擬されている間にシミュレーションが模擬している露光装置の状態がシミュレーションによって算出され、当該状態の算出結果に基づいて、液体ＬＱの流量の変動に起因した露光品質の悪化を抑制可能な第１制御パラメータから第３制御パラメータの少なくとも一つが生成されてもよい。
【０３１７】
上述した説明では、コントローラ９１は、流量が増加した後におけるフォーカス位置と基板５１との間の位置関係が、流量が増加する前におけるフォーカス位置と基板５１との間の位置関係と同じになるように、基板ステージ５を制御している。しかしながら、コントローラ９１は、流量が増加した後におけるフォーカス位置と基板５１との間の位置関係と、流量が増加する前におけるフォーカス位置と基板５１との間の位置関係との間のズレ量が、第２所定量以下になるように、基板ステージ５を制御してもよい。尚、第２所定量は、例えば、流量の変動に起因したフォーカス位置の変動が露光品質に殆ど又は全く影響を与えない程度にしかフォーカス位置と基板５１との間の位置関係が変動しない状態と、流量の変動に起因したフォーカス位置の変動が露光品質に影響を与えてしまうほどにフォーカス位置と基板５１との間の位置関係が変動してしまう状態とを区別可能な値に設定される。この場合であっても、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を適切に抑制可能である。
【０３１８】
尚、第１４実施形態において既に説明したように、液体ＬＱの流量の調整に起因して、フォーカス位置の意図しない変動とは異なる要因によって露光品質が悪化する可能性もある。このよう場合も、コントローラ９１は、流量が増加した後における露光品質が、流量が増加する前における露光品質と同じになるように、基板ステージ５を制御してもよい。或いは、コントローラ９１は、流量が増加した後における露光品質と流量が増加する前における露光品質との間のズレ量が、第１所定量以下になるように、基板ステージ５を制御してもよい。尚、第１所定量は、例えば、露光動作によって製造されるデバイスの品質に殆ど又は全く影響を与えない程度にしか露光品質が変動しない状態と、露光動作によって製造されるデバイスの品質に影響を与えてしまうほどに露光品質が変動してしまう状態とを区別可能な値に設定される。
【０３１９】
例えば、液体ＬＱの流量の調整に起因して終端光学素子３１の位置が変動すると、投影光学系３によって投影される像の位置がＸＹ平面内において意図せず変動してしまう可能性がある。このよう場合も、コントローラ９１は、流量を調整した後においても投影像が基板上の所望の位置投影されるように、基板ステージ５を制御してもよい。
【０３２０】
尚、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の調整に起因して終端光学素子３１の位置が変動しないように、基板ステージ５の移動を制御してもよい。コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の調整に起因して液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力が変動しないように、基板ステージ５の移動を制御してもよい。例えば、液体ＬＱの供給量を増加させることによって液浸区間ＬＳの液体の圧力が高まった（或いは、高まる可能性がある）場合には、コントローラ９１は、基板ステージ５を光学素子３１から離すように基板ステージ５を−Ｚ軸方向に移動することで、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの圧力を下げる（或いは、圧力の変動を抑える）ように構成してもよい。
【０３２１】
投影像の位置ずれ（つまり、シフト）による露光品質の悪化を抑制する場合には、コントローラ９１は、Ｚ軸に沿って基板ステージ５を移動させることに加えて又は代えて、Ｘ軸、Ｙ軸の少なくとも一つに沿って基板ステージ５を移動させてもよい。もちろん、投影像の位置ずれ（つまり、シフト）とは異なる要因による露光品質の悪化を抑制する場合であっても、コントローラ９１は、Ｚ軸に沿って基板ステージ５を移動させることに加えて又は代えて、Ｘ軸、Ｙ軸、θＸ軸、θＹ軸及びθＺ軸の少なくとも一つに沿って基板ステージ５を移動させてもよい。
【０３２２】
上述した説明では、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を抑制するために、基板ステージ５を制御している。しかしながら、コントローラ９１は、基板ステージ５を制御することに加えて又は代えて、投影光学系３を制御してもよい。例えば、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を抑制するように、投影光学系３を構成する少なくとも一つの光学素子（例えば、終端光学素子３１又はその他の光学素子）を移動させてもよい。この場合、コントローラ９１は、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ軸、θＹ軸及びθＺ軸の少なくとも一つに沿って少なくとも一つの光学素子を移動させてもよい。
【０３２３】
例えば、液体ＬＱの流量の調整に起因して終端光学素子３１の位置が変動すると、投影光学系３に意図しない収差が発生する又は投影光学系３に発生する収差が意図せず変動してしまう可能性がある。この場合も、コントローラ９１は、流量を調整した後における収差が、流量を調整する前における収差と同じになるように、投影光学系３を制御してもよい。
【０３２４】
コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を抑制するために、基板ステージ５及び投影光学系３に加えて又は代えて、露光装置ＥＸ１５が備える任意の構成要素を制御してもよい。つまり、コントローラ９１は、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化を抑制するために、露光装置ＥＸ１５が行う露光動作を制御してもよい。例えば、コントローラ９１は、マスクステージ１、照明系２、液浸部材４、チャンバ装置８、液体供給装置１００及び流体回収装置１９９の少なくとも一つを制御してもよい。
【０３２５】
露光装置ＥＸ１５は、露光装置ＥＸ１４が行う第１のタイミング制御及び第２のタイミング制御の少なくとも一方を更に行なってもよい。この場合、液体ＬＱの流量の調整に起因した露光品質の悪化がより適切に抑制される。
【０３２６】
第１５実施形態では、液体供給装置１００が液浸空間ＬＳに供給する液体ＬＱの流量を変動させる場合に行われる動作について説明している。しかしながら、第１５実施形態で説明した動作は、液体供給装置１００が液浸空間ＬＳに供給する液体ＬＱの流量を一定に維持する場合に行われてもよい。その結果、本来一定に維持されるべき液体ＬＱの流量が液体供給装置１００の精度に起因してわずかに変動してしまう場合であっても、当該流量の変動に起因した露光品質の悪化が適切に抑制される。
【０３２７】
（１６）第１６実施形態の露光装置ＥＸ１６
上述した第１１実施形態の露光装置ＥＸ１１又は第１２実施形態の露光装置ＥＸ１２（つまり、複数の供給系統を介して複数の供給口から液浸空間ＬＳに夫々液体ＬＱを供給する露光装置）は、複数の供給系統を介して複数の供給口から液浸空間ＬＳに夫々供給される液体ＬＱの流量を調整することで、液浸空間ＬＳから投影光学系３が受ける力（特に、終端光学素子３１が受ける力）の変動を抑制してもよい。
【０３２８】
例えば、液体供給装置１１００又は１２００は、第１供給系統を介して供給口４８１−３から液浸空間ＬＱに供給される液体ＬＳの流量（つまり、供給量）を減少させる一方で、第２供給系統を介して供給口４８１−４から液浸空間ＬＱに供給される液体ＬＳの流量を増加させることで、液浸空間ＬＳから終端光学素子３１が受ける力の変動を抑制してもよい。液体供給装置１１００又は１２００は、第１供給系統を介して供給口４８１−３から液浸空間ＬＱに供給される液体ＬＳの流量を増加させる一方で、第２供給系統を介して供給口４８１−４から液浸空間ＬＱに供給される液体ＬＳの流量を減少させることで、液浸空間ＬＳから終端光学素子３１が受ける力の変動を抑制してもよい。その結果、終端光学素子３１の位置の変動が抑制され、上述したような液体ＬＱの供給量の調整に起因する技術的不具合が防止可能である。この場合、供給口４８１−３から供給される液体ＬＱの流量の減少量は、供給口４８１−４から供給される液体ＬＱの増加量と、同じであってもよいし、同じでなくてもよい。供給口４８１−３から供給される液体ＬＱの流量の増加量は、供給口４８１−４から供給される液体ＬＱの減少量と、同じであってもよいし、同じでなくてもよい。
【０３２９】
一例として、例えば、液体供給口４８１−３が第７実施形態の液浸部材４ａの液体供給口４８１ａ（図１７参照）であり、液体供給口４８１−４が第７実施形態の液浸部材４ａの液体供給口４８１ｂ（図１７参照）である場合には、液体供給装置１１００又は１２００は、供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量を調整してＸＹ平面（例えば、基板５１の上面）における液浸空間ＬＳの面積を調整しつつ、供給口４８１ａから供給される液体ＬＱの流量を調整して液浸空間ＬＳから終端光学素子３１が受ける力の変動を抑制してもよい。例えば、液体供給装置１１００又は１２００は、供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量を減らしてＸＹ平面（例えば、基板５１の上面）における液浸空間ＬＳの面積を小さくしつつ、供給口４８１ａから供給される液体ＬＱの流量を増やして、液浸空間ＬＳから終端光学素子３１が受ける力の変動を抑制してもよい。
【０３３０】
具体的には、例えば、液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合（図６（ａ）参照）には、液体供給装置１１００又は１２００は、供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量が相対的に小さくなるように、供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量を調整することができる。供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量が相対的に小さくなると、像面近傍におけるＸＹ平面内での液浸空間ＬＳの面積が小さくなる。供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量が相対的に小さくなると、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１を光路ＡＴＬに近づけることができる。その結果、供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量が相対的に大きいまま液浸空間ＬＳが基板５１のエッジの近傍に位置する場合と比較して、界面ＬＧ１が基板５１のエッジに接触する可能性が小さくなる。また、液体供給装置１１００又は１２００は、供給口４８１ｂから供給される液体ＬＱの流量の減少に合わせて供給口４８１ａから供給される液体ＬＱの流量を増やすことで、液浸空間ＬＳから終端光学素子３１が受ける力の変動を抑制することができる。このため、供給口４８１ｂからの供給される液体ＬＱの流量が減少したとしても、終端光学素子３１の位置ずれを防止可能である。
【０３３１】
（１７）その他の変形例
尚、上述した第１実施形態から第１６実施形態において、コントローラ９１は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含んでいてもよい。コントローラ９１は、コンピュータシステムと外部装置との間の通信させるためのインタフェースを含んでいてもよい。コントローラ９１には、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、例えば、キーボード、マウス及びタッチパネル等のうちの少なくとも一つを含む入力機器等を含んでいてもよい。入力装置は、例えば、外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含んでいてもよい。コントローラ９１には、液晶ディスプレイ等の表示装置が接続されていてもよい。
【０３３２】
メモリ９２は、例えば、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）、ハードディスク及びＣＤ−ＲＯＭ等のうちの少なくとも一つを含む記憶媒体を含んでいてもよい。メモリ９２には、コンピュータシステムを制御するためのＯＳ（オペレーティングシステム）がインストールされていてもよい。メモリ９２には、露光装置ＥＸ１（ＥＸ２からＥＸ７、以下同じ）を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。メモリ９２には、光路ＡＴに満たされた液体ＬＱを介して投影される露光光ＥＬを用いて基板５１を露光するように露光装置ＥＸ１を制御するためのプログラムが記憶されていてもよい。
【０３３３】
メモリ９２に記憶されているプログラムは、コントローラ９１によって読み込まれ且つ実行されてもよい。その結果、液浸部材４、基板ステージ５及び計測ステージ６等の露光装置ＥＸ１が備える各種構成要素が協働して、液浸空間ＬＳが形成された状態で基板５１を露光する露光処理等の各種処理が行われる。
【０３３４】
上述の説明では、終端光学素子３１の射出面３２側（つまり、像面側）の光路ＡＴが液体ＬＱで満たされている投影光学系３が例示されている。しかしながら、終端光学素子３１の入射側（つまり、物体面側）の光路ＡＴが液体ＬＱで満たされている投影光学系が用いられてもよい。終端光学素子３１の入射側の光路が液体ＬＱで満たされている投影光学系の一例は、例えば、国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されている。
【０３３５】
上述の説明では、液体ＬＱが水（例えば、純水）である例が例示されている。しかしながら、液体ＬＱは、水以外の液体であってもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性を有していてもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有していてもよい。液体ＬＱは、投影光学系３又は基板５１の表面を形成する感光材（つまり、フォトレジスト）等に対して安定しているという特性を有してもよい。このような液体ＬＱの一例として、例えば、フッ素系液体（例えば、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）又はフォンブリンオイル等）があげられる。液体ＬＱは、様々な流体（例えば、超臨界流体）であってもよい。
【０３３６】
基板５１は、半導体デバイス製造用の半導体ウェハを含んでいてもよい。基板５１は、ディスプレイデバイス用のガラス基板を含んでいてもよい。基板５１は、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウェハを含んでいてもよい。基板５１は、露光装置で用いられるマスク又はレチクルの原版（例えば、合成石英又はシリコンウェハ）を含んでいてもよい。
【０３３７】
上述の説明では、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを移動させることでマスク１１に形成されたデバイスパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（いわゆる、スキャニングステッパ）である例が例示されている。しかしながら、露光装置ＥＸ１は、マスク１１と基板５１とを静止させた状態でマスク１１に形成されたデバイスパターンを一括露光すると共に、当該一括露光が終了する毎に基板５１をステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（いわゆる、ステッパ）であってもよい。ステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置は、第１マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第１マスク１１に形成された第１デバイスパターンの縮小像を基板５１に露光した後に、第２マスク１１と基板５１とをほぼ静止させた状態で第２マスク１１に形成された第２デバイスパターンの縮小像を、第１デバイスパターンの縮小像に重ねて基板５１に露光する露光装置（いわゆる、スティッチ方式の露光装置）であってもよい。スティッチ方式の露光装置は、基板５１上で２つ以上のデバイスパターンを部分的に重ねて露光すると共に、基板５１を順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置であってもよい。
【０３３８】
露光装置ＥＸ１は、投影光学系３を介して２つのマスク１１のデバイスパターンを基板５１上で合成すると共に、１回の走査露光によって基板５１上のショット領域Ｓをほぼ同時に二重露光する露光装置であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、米国特許第６，６１１，３１６号に開示されている。露光装置ＥＸ１は、プロキシミティ方式の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、ミラープロジェクションアライナー等であってもよい。
【０３３９】
露光装置ＥＸ１は、基板５１に半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、液晶表示素子製造用の又はディスプレイ製造用の露光装置であってもよい。露光装置ＥＸ１は、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（例えば、ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ及びマスク１１（或いは、レチクル）のうちの少なくとも一つを製造するための露光装置であってもよい。
【０３４０】
上述の説明では、マスク１１が、光透過性の透明板の上に所定の遮光パターン（或いは、移動パターン又は減光パターン）を形成した透過型マスクである例が例示されている。しかしながら、マスク１１は、露光すべきデバイスパターンの電子データに基づいて透過パターン、反射パターン又は発光パターンを形成する可変成形マスク（いわゆる、電子マスク、アクティブマスク又はイメージジェネレータ）であってもよい。可変成形マスクの一例は、援用によって本願明細書の一部となる米国特許第６，７７８，２５７号に開示されている。マスク１１は、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を備えるパターン形成装置であってもよい。
【０３４１】
上述の説明では、投影光学系３を備える露光装置ＥＸ１が例示されている。しかしながら、投影光学系３を備えていない露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成すると共に光学部材を介して投影される露光光で基板を露光する露光装置及び露光方法に対して、上述した各種実施形態が適用されてもよい。
【０３４２】
露光装置ＥＸ１は、干渉縞を基板５１に形成することで基板５１にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（いわゆる、リソグラフィシステム）であってもよい。このような露光装置の一例は、例えば、国際公開第２００１／０３５１６８号パンフレットに開示されている。
【０３４３】
上述の露光装置ＥＸ１は、上述の各種構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度及び光学的精度を保つように組み合わせることで製造されてもよい。機械的精度を保つために、組み合わせの前後において、機械的精度を達成するための調整処理が各種機械系に行われてもよい。電気的精度を保つために、組み合わせの前後において、電気的精度を達成するための調整処理が各種電気系に行われてもよい。光学的精度を保つために、組み立ての前後において、光学的精度を達成するための調整処理が各種光学系に行われてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の機械的接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の電気回路の配線接続を行う工程を含んでいてもよい。各種サブシステムを組み合わせる工程は、各種サブシステムの間の気圧回路の配管接続を行う工程を含んでいてもよい。尚、各種サブシステムを組み合わせる工程の前に、各種サブシステムの夫々を組み立てる工程が行われる。各種サブシステムを組み合わせる工程が終了した後には、総合調整が行われることで露光装置ＥＸ１の全体としての各種精度が確保される。尚、露光装置ＥＸ１の製造は、温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行われてもよい。
【０３４４】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２９に示す各ステップを経て製造されてもよい。マイクロデバイスを製造するためのステップは、マイクロデバイスの機能及び性能設計を行うステップＳ２０１、機能及び性能設計に基づいたマスク（レチクル）１１を製造するステップＳ２０２、デバイスの基材である基板５１を製造するステップＳ２０３、上述の実施形態に従って、マスク１１のデバイスパターンからの露光光ＥＬで基板５１を露光し且つ露光された基板５１を現像するステップＳ２０４、デバイス組み立て処理（ダイシング処理、ボンディング処理、パッケージ処理等の加工処理）を含むステップＳ２０５及び検査ステップＳ２０６を含んでいてもよい。
【０３４５】
尚、上述の第１実施形態（更には、第２実施形態から第１６実施形態）では、液体供給装置１００（液体供給装置２００から１２００も同様、以下同じ）は、熱交換器１１４の下流に配置される分岐器１１６によって液体供給源からの流路を２つの分岐流路に分岐し、液浸部材４に連結される一方の分岐流路を流れる液体の流量を、液浸部材４に連結されない他方の分岐流路を流れる液体ＬＱの流量を調整することで調整している。しかしながら、液体供給装置１００等は、液浸部材４に供給される液体ＬＱの流量を調整可能である限りは、どのような構成を有していてもよい。例えば、液体供給装置１００等は、分岐器１１６、流量調整器１２１及びポンプ１２２に代えて、液体供給源と液浸部材４との間の流路の任意の位置に配置される任意の流量調整器を備えていてもよい。或いは、例えば、液体供給装置１００等が分岐器１１６、流量調整器１２１及びポンプ１２２を備えることに代えて、上述した流量調整器１１３が、液浸空間ＬＳに供給される液体ＬＱの流量を調整するための流量調整器として用いられてもよい。
【０３４６】
上述の第１実施形態（更には、第２実施形態から第１６実施形態）では、熱交換器１１４が分岐器１１６の上流に配置されている。しかしながら、熱交換器１１４は、分岐器１１６の下流に配置されていてもよい。
【０３４７】
上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。上述の各実施形態の要件のうちの一部が用いられなくてもよい。上述の各実施形態の要件は、適宜他の実施形態の要件と置き換えることができる。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【０３４８】
また、本発明は、請求の範囲及び明細書全体から読み取るこのできる発明の要旨又は思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う液体供給装置、露光装置及び露光方法並びにデバイス製造方法もまた本発明の技術思想に含まれる。
【符号の説明】
【０３４９】
１  マスクステージ
２  照明系
３  投影光学系
３１  終端光学素子
３２  射出面
３３  外面
４  液浸部材
４８１  液体供給口
４９１  流体回収口
５  基板ステージ
５１  基板
６  計測ステージ
７  計測システム
８  チャンバ装置
９  制御装置
９１  コントローラ
１００、２００、３００、４００、６００、８００  液体供給装置
１１１  レギュレータ
１１２  ポンプ
１１３  流量調整器
１１４  熱交換器
１１５  フィルタ
１１６  分岐器
１２１、２２１、４２１  流量調整器
１２２  ポンプ
３１１  背圧減衰器
３１１ａ  恒温槽
ＡＴ  光路
ＡＸ  光軸
ＥＬ  露光光
ＥＸ１−ＥＸ１５  露光装置
ＬＱ  液体
ＬＳ  液浸空間
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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