(57)【要約】【課題】感光性導電フィルムを用いて透明電極パターンを形成する場合において、露光量の裕度を向上させる。【解決手段】支持フィルムと、該支持フィルム上に導電膜を設け、該導電膜上に感光性樹脂層を備える感光性導電フィルムにおいて、前記感光性樹脂層は、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた導電膜及び該導電膜上に設けられた感光性樹脂層を備える感光性導電フィルムであって、前記感光性樹脂層は、
（ａ）バインダーポリマー、
（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、
（ｃ）光重合開始剤
を含有する、感光性導電フィルム。
【請求項２】
前記導電膜及び感光性樹脂層の合計厚みが１〜１０μｍのときに、４５０〜６５０ｎｍの波長域における光透過率が８０％以上である請求項１に記載の感光性導電フィルム。
【請求項３】
前記導電膜が、導電性繊維を少なくとも一種含有する請求項１又は２に記載の感光性導電フィルム。
【請求項４】
前記導電性繊維が、銀繊維である請求項３に記載の感光性導電フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、
前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、
前記支持フィルムを剥離後、露光した前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを備える導電パターンの形成方法。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、
前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する第一の露光工程と、前記支持フィルムを剥離後、酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、
前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを備える導電パターンの形成方法。
【請求項７】
基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を含み、前記感光性樹脂層は、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する導電パターンの形成方法。
【請求項８】
基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、
酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、
前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを含み、前記感光性樹脂層は、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する導電パターンの形成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性導電フィルム、導電パターンの形成方法及び導電膜基板に関する。より詳細には、液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ、タッチスクリーン、太陽電池等の装置の電極配線として用いられる導電パターンの形成方法及び導電膜基板に関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器では、液晶表示素子やタッチスクリーンが用いられている。これら液晶表示素子やタッチスクリーン、太陽電池等のデバイスでは、透明配線、画素電極又は端子の一部に透明導電膜が用いられている。
【０００３】
透明導電膜の材料としては、従来、可視光に対して高い透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウム、酸化スズ等が用いられている。液晶表示素子用基板等の電極では、前記の材料からなる透明導電膜をパターニングしたものが主流になっている。
【０００４】
透明導電膜のパターニング方法としては、透明導電膜を形成後、フォトリソグラフィー法によりレジストパターンを形成し、ウエットエッチングにより導電膜の所定部分を除去して導電パターンを形成する方法が一般的である。ＩＴＯ及び酸化インジウム膜の場合、エッチング液は塩酸と塩化第二鉄の２液よりなる混合液が一般に用いられている。
【０００５】
ＩＴＯ膜や酸化スズ膜は一般にスパッタ法により形成される。しかし、この方法は、スパッタ方式の違い、スパッタパワーやガス圧、基板温度、雰囲気ガスの種類等によって透明導電膜の性質が変わりやすい。スパッタ条件の変動による透明導電膜の膜質の違いは、透明導電膜をウエットエッチングする際のエッチング速度のばらつきの原因となり、パターンニング不良による製品の歩留り低下を招きやすい。また、前記の導電パターンの形成方法は、スパッタ工程、レジスト形成工程及びエッチング工程を経ていることから、工程が長く、コスト面でも大きな負担となっている。
【０００６】
最近、前記の問題を解消するために、ＩＴＯ、酸化インジウム、酸化スズ等に替わる材料を用いて透明導電パターンを形成する試みがなされている。
例えば、下記特許文献１には、基板上に、銀繊維等の金属繊維を含有する導電層を形成した後、導電層上に感光性樹脂層を形成し、その上からパターンマスクを介して露光し、現像する導電パターンの形成方法が開示されている。
【０００７】
しかしながら、下記特許文献１に記載の方法では、基板と導電パターンとの接着性を確保しつつ導電パターンの表面抵抗率の低抵抗率化を図ることが困難であることが本発明者らの検討により判明している。また、前記導電パターンを配線、画素電極又は端子として使用する場合には、感光性樹脂層を除去する工程が必要であり、導電パターン形成の工程が煩雑化するという問題がある。
【０００８】
前記問題を鑑みて、下記特許文献２には、支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた導電性繊維を含有する導電層と、該導電層上に設けられた感光性樹脂層とを備えた感光性導電フィルムを、基板上に感光性樹脂層が密着するようにラミネートし、これを露光、現像する、導電パターンの形成方法が開示されている。この方法は、簡便な工程で基板との接着性が充分であり、且つ表面抵抗率が小さい導電パターンを充分な解像度で形成することを可能としている。
【０００９】
また、下記特許文献３には、１回目の露光を支持フィルムを介して行い、２回目の露光を支持フィルムを除去した酸素存在下で行うという２段回の露光方法を用いることで、１回目の露光工程においてマスクで遮光した部分が樹脂硬化層となり、１回目の露光工程においてマスクで遮光せずに光照射した部分が導電パターンとなり、導電パターン部分と樹脂硬化層の高低差を小さくする手法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】米国特許公開第２００７／００７４３１６号明細書
【特許文献２】国際公開第２０１０／０２１２２４号
【特許文献３】国際公開第２０１３／０５１５１６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
ところで、タッチセンサーはモデルサイズの大型化、また、出荷台数の増加が年々進んでおり、タッチセンサーの製造においては時間の短縮化が課題のひとつとされた。その際、露光工程においては高出力の露光装置を使用することで、１回の露光を短い時間で実施し効率化を図っている。
【００１２】
しかしながら、高出力の露光装置は低い露光量領域の制御が難しく、前記特許文献に記載の感光性導電フィルムは、感度が高いために高出力露光装置の照射可能な露光量に対して、良好な解像度が得られる露光量裕度が低く狭すぎることが問題となった。
【００１３】
また、前記の感光性導電フィルムでは感度が高いために低露光量の活性光線を照射してパターン形成することが望ましいが、ネガマスクにキズや汚れがついている際、低露光量ではパターン状にあてた活性光線の進路がキズや汚れ起因の屈折や反射により乱れてしまい、結果、感光性導電フィルムのパターン欠損を発生させることが問題となった。感光性導電フィルムにおけるパターンの欠損は、導電性の欠落を発生させるためタッチセンサーの不良の原因になる。
【００１４】
本発明は、前記従来技術が有する問題に鑑みてなされたものであり、感光性導電フィルムを用いて透明電極パターンを形成する場合において、光の感度を低くすることで感光性導電フィルムの露光裕度を向上することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
前記課題を解決するため、本発明では、以下の具体的態様を提供する。
＜１＞支持フィルムと、該支持フィルム上に設けられた導電膜及び該導電膜上に設けられた感光性樹脂層を備える感光性導電フィルムであって、前記感光性樹脂層は（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する感光性導電フィルム。
＜２＞前記導電膜及び感光性樹脂層の合計厚みが１〜１０μｍのときに、４５０〜６５０ｎｍの波長域における光透過率が８０％以上である＜１＞に記載の感光性導電フィルム。
＜３＞前記導電膜が、導電性繊維を少なくとも一種含有する＜１＞〜＜２＞のいずれかに記載の感光性導電フィルム。
＜４＞前記導電性繊維が、銀繊維である＜３＞に記載の感光性導電フィルム。
＜５＞＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、前記支持フィルムを剥離後、露光した前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を備える導電パターンの形成方法。
＜６＞＜１＞〜＜４＞のいずれかに記載の感光性導電フィルムを、基板上に前記感光性樹脂層が密着するようにラミネートする工程と、前記基板上の前記感光性樹脂層の所定部分に活性光線を照射する第一の露光工程と、前記支持フィルムを剥離後、酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を備える導電パターンの形成方法。
＜７＞基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、前記感光性樹脂層と導電膜の未露光部を現像することにより導電パターンを形成する現像工程と、を含み、前記感光性樹脂層は、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する導電パターンの形成方法。
＜８＞基板上に設けられた感光性樹脂層と、前記感光性樹脂層の前記基板とは反対側の面に設けられた導電性繊維を含む導電膜の所定部分に活性光線を照射する露光工程と、酸素存在下で、前記第一の露光工程での未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する第二の露光工程と、前記第二の露光工程の後に、前記感光性樹脂層と導電膜を現像することにより導電パターンを形成する現像工程とを含み、前記感光性樹脂層は、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する導電パターンの形成方法。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、感光性導電フィルムを用いた透明電極パターンの形成において、露光裕度を向上させることができ、さらに、マスクのキズや汚れによるパターンの欠損を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】感光性導電フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】感光性導電フィルムの一実施形態を示す一部切欠き斜視図である。
【図３】本発明の導電パターンの形成方法の一実施形態を説明するための模式断面図である。
【図４】本発明の導電パターンの形成方法の別の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図５】静電容量式のタッチパネルセンサの一例を示す模式上面図である。
【図６】図５に示されるタッチパネルセンサの製造方法の一例を説明するための模式図である。
【図７】図５に示されるａ−ａ’線に沿った部分断面図である。
【図８】図５に示されるｂ−ｂ’線に沿った部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。尚、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
＜感光性導電フィルム＞
図１は、本発明の感光性導電フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。また、図２は該実施形態の一部切欠き斜視図である。
感光性導電フィルム１０は、支持フィルム１と、支持フィルム１上に設けられた導電膜２と、導電膜２上に設けられた感光性樹脂層３とを備える。尚、導電膜２及び感光性樹脂層３を纏めて感光層４という。
以下、感光性導電フィルム１０を構成する支持フィルム１、導電膜２及び感光性樹脂層３のそれぞれについて詳細に説明する。
【００１９】
支持フィルム１としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリカーボネートフィルム等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムが挙げられる。これらのうち、透明性や耐熱性の観点からは、ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。尚、これらの重合体フィルムは、後に感光層から除去可能な範囲で表面処理が施されたものであってもよい。
【００２０】
支持フィルム１のヘーズ値は、感度及び解像度を良好にできる観点から、０．０１〜５．０％であることが好ましく、０．０１〜３．０％であることがより好ましく、０．０１〜２．０％であることがさらに好ましく、０．０１〜１．１％であることが特に好ましい。尚、ヘーズ値はＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠して測定することができ、例えば、ＮＤＨ−５０００（日本電色工業株式会社製、商品名）等の市販の濁度計で測定が可能である。
【００２１】
導電膜２は、導電性を有する膜であり、導電性繊維を含有することが好ましい。導電性繊維としては、金、銀、白金等の金属繊維、カーボンナノチューブ等の炭素繊維などが挙げられる。本発明では、導電性繊維として金属繊維を用いることが好ましく、銀繊維がより好ましい。
【００２２】
金属繊維は、例えば、金属イオンをＮａＢＨ４等の還元剤で還元する方法、又は、ポリオール法により調製することができる。カーボンナノチューブは、Ｕｎｉｄｙｍ社のＨｉｐｃｏ単層カーボンナノチューブ等の市販品を使用することができる。
【００２３】
金属繊維の繊維径は、１ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、２ｎｍ〜２０ｎｍであることがより好ましく、３ｎｍ〜１０ｎｍであることがさらに好ましい。また、金属繊維の繊維長は、１μｍ〜１００μｍであることが好ましく、２μｍ〜５０μｍであることがより好ましく、３μｍ〜４０μｍであることがさらに好ましく、５μｍ〜３５μｍであることが特に好ましい。繊維径及び繊維長は、走査型電子顕微鏡により測定することができる。
【００２４】
導電膜２の厚みは、形成される導電膜、導電パターンの用途や求められる導電性によっても異なるが、１μｍ以下であることが好ましく、１ｎｍ〜０．５μｍであることがより好ましく、５ｎｍ〜０．１μｍであることがさらに好ましい。導電膜２の厚みが１μｍ以下であると、４５０〜６５０ｎｍの波長域での光透過率が高く、パターン形成性にも優れ、特に透明電極の作製に好適なものとなる。
【００２５】
導電膜２は、導電性繊維同士が接触してなる網目構造を有することが好ましい。このような網目構造を有する導電膜２は、感光性樹脂層３の支持フィルム側表面に形成されていてもよいが、支持フィルムを剥離したときに露出する表面においてその面方向に導電性が得られるのであれば、感光性樹脂層３の支持フィルム１側表層に含まれる形態で形成されていてもよい。尚、網目構造を有する導電膜２の厚みは、走査型電子顕微鏡写真によって測定される値を指す。
【００２６】
導電性繊維を含有する導電膜２は支持フィルム１上に、上述した導電性繊維を水又は有機溶剤、界面活性剤等の分散安定剤などを加えた導電性繊維分散液を塗工した後、乾燥することにより形成することができる。乾燥後、支持フィルム１上に形成した導電膜２は、必要に応じてラミネートされてもよい。
塗工は、ロールコート法、コンマコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法等の公知の方法で行うことができるが、膜厚分布が良好であることや密閉系で塗液への異物混入が少ないという観点からダイコート法が好ましい。
【００２７】
導電膜２を低抵抗化又は低ヘーズ化する観点では、乾燥工程において、均一な膜を形成するために２０℃以上６５℃未満で溶媒を揮発させることが好ましい。特に、導電性繊維が銀繊維である場合において、顕著に低抵抗化又は低ヘーズ化を達成することができる。対流が生じてベナールセルを形成することでムラとなり、低抵抗な導電膜が形成し難くなることを防ぐ観点から、乾燥温度が６５℃未満であることが好ましい。また、溶媒が揮発するために時間がかかり工程上問題となることを防ぐ観点から、２０℃以上であることが好ましい。乾燥温度は、２５℃以上６５℃未満がより好ましく、３５℃以上６５℃未満がさらに好ましく、４０〜６０℃未満が特に好ましい。
導電膜２において、導電性繊維は界面活性剤や分散安定剤と共存していてもかまわない。
【００２８】
感光性樹脂層３は、（ａ）バインダーポリマー、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、（ｃ）光重合開始剤を含有する、感光性樹脂組成物から形成される。
【００２９】
（ａ）成分はカルボキシル基を有することが好ましい。また、（ａ）成分の酸価は、パターン性に優れる観点から、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましい。
【００３０】
（ａ）バインダーポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、エポキシ樹脂、アミド樹脂、アミドエポキシ樹脂、アルキド樹脂、フェノール樹脂、エステル樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反応で得られるエポキシアクリレート樹脂、エポキシアクリレート樹脂と酸無水物の反応で得られる酸変性エポキシアクリレート樹脂等が挙げられる。
【００３１】
前記の中でも、アルカリ現像性及びフィルム形成性に優れる観点から、アクリル樹脂を用いることが好ましく、そのアクリル樹脂が（メタ）アクリル酸及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来するモノマー単位を構成単位として有するとより好ましい。
【００３２】
前記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、又は（メタ）アクリル酸エチルエステルが好ましい。
また、前記アクリル樹脂は、スチレン、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、又は（メタ）アクリル酸グリシジルエステルに基づく構成単位を含んでもよい。
【００３３】
（ｂ）成分である二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物は、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物及びジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物からなる群より選択される少なくとも１種の（メタ）アクリレート化合物を含む。
【００３４】
ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、下記一般式（１）で表される化合物が挙げられる。
【００３５】
【化１】
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【００３６】
上記一般式（１）中、Ｒ１は、水素原子、又は（メタ）アクリロイル基を示し、Ｌ１はアルキレンオキシ基を示す。ｎは、０又は１の整数を示す。尚、４つのＲ１はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、このうち少なくとも２つが（メタ）アクリロイル基である。アルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましい。
【００３７】
ジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、下記一般式（２）で表される化合物が挙げられる。
【００３８】
【化２】
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【００３９】
上記一般式（２）中、Ｒ２は、水素原子、又は（メタ）アクリロイル基を示し、Ｌ２はアルキレンオキシ基を示す。ｎは、０又は１の整数を示す。尚、４つのＲ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよいが、このうち少なくとも２つが（メタ）アクリロイル基である。アルキレンオキシ基としては、エチレンオキシ基又はプロピレンオキシ基が好ましい。
【００４０】
上記一般式（１）で表される化合物としては、下記式（３）で表されるジトリメチロールプロパンテトラアクリレートが最も好ましい。ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートは、Ｔ−１４２０（Ｔ）（日本化薬株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。尚、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレートの二重結合濃度は表１に示すように０．００８６（官能基数／Ｍｗ）であり、モノマーであるモノメチルプロパンアクリレートの二重結合濃度０．０１０１と比べて低く、反応点が少ないことから重合度を低くすることができる。
【００４１】
【化３】
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【００４２】
【表１】
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【００４３】
尚、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物は、例えば、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化する方法、又は、中性触媒使用によるエステル交換法により得ることができる。当該化合物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記の化合物は、一分子中におけるエステル結合の数が２以上であることが好ましく、エステル結合の数が２〜４の化合物が混合していてもよい。
【００４４】
また、ジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物は、例えば、ジグリセリンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化する方法、又は、中性触媒使用によるエステル交換法により得ることができる。当該化合物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記の化合物は、一分子中におけるエステル結合の数が２以上であることが好ましく、エステル結合の数が２〜４の化合物が混合していてもよい。
【００４５】
本発明では、（ｂ）成分に二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物を使用することで、分子量あたりの反応点を少なくし、重合度を低下させることができる。
【００４６】
（ｂ）成分の含有割合は、（ａ）バインダーポリマー及び（ｂ）光重合性化合物の合計１００質量％に対して、３０〜８０質量％であることが好ましく、４０〜７０質量％であることがより好ましい。光硬化性及び転写した導電膜（導電膜及び感光性樹脂層）の塗膜性に優れる点では、３０質量％以上であることが好ましく、フィルムとして巻き取った場合の保管安定性に優れる点では、８０質量％以下であることが好ましい。
【００４７】
（ｃ）成分の光重合開始剤は、使用する露光機の光波長と、機能発現に必要な波長とが合うものを選択すれば、特に制限はない。光重合開始剤は、オキシムエステル化合物又はホスフィンオキサイド化合物を含むことが好ましい。
具体的には、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−フェニル，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］、エタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）等が挙げられる。これらは、それぞれＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１、ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ
０２（いずれもＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名）として商業的に入手可能である。
【００４８】
オキシムエステル化合物の中でも、１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−フェニル，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］が極めて好ましい。
【００４９】
（ｃ）成分の含有割合は、（ａ）バインダーポリマー及び（ｂ）光重合性化合物の合計１００質量部に対して、０．１〜２０質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましく、１〜５質量部であることがさらに好ましい。光感度に優れる点では、０．１質量部以上であることが好ましく、光硬化性に優れる点では、２０質量部以下であることが好ましい。
【００５０】
本発明で使用する感光性樹脂組成物には、上述した（ａ）〜（ｃ）成分の他に、必要に応じて、密着向上剤、ｐ−トルエンスルホンアミド等の可塑剤、充填剤、消泡剤、難燃剤、安定剤、レベリング剤、剥離促進剤、酸化防止剤、香料、イメージング剤、熱架橋剤等の添加剤を配合してもよい。
【００５１】
感光性樹脂層３は、上述した感光性樹脂組成物の溶液を塗布、乾燥することにより形成できる。
溶剤としては、メタノール、エタノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、トルエン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、プロピレングリコールモノメチルエーテル等が使用できる。
溶液中の固形分含有率は、１０〜６０質量％程度とすることが好ましい。
【００５２】
感光性樹脂組成物の溶液を、支持フィルム１上に形成した導電膜２上に塗布、乾燥する。但し、この場合、乾燥後の感光性樹脂層中の残存有機溶剤量は、後の工程での有機溶剤の拡散を防止するため、２質量％以下であることが好ましい。
塗工は、ロールコート法、コンマコート法、グラビアコート法、エアーナイフコート法、ダイコート法、バーコート法、スプレーコート法等の公知の方法で行うことができる。塗工後、有機溶剤等を除去するための乾燥は、７０〜１５０℃で５〜３０分間程度、熱風対流式乾燥機等で行うことができる。
【００５３】
感光性樹脂層３の厚みは、用途により異なるが、乾燥後の厚みで０．５〜５０μｍであることが好ましく、０．５〜３０μｍであることがより好ましく、０．５〜１５μｍであることがさらに好ましく、０．５〜１０μｍであることが特に好ましい。この厚みが１μｍ未満では塗工が困難となる傾向があり、５０μｍを超えると光透過の低下による感度が不充分となり、転写する感光性樹脂層の光硬化性が低下する傾向がある。
【００５４】
本実施形態の感光性導電フィルムにおいて、導電膜２及び感光性樹脂層３の積層体は、両層の合計厚みを１〜１０μｍとしたときに、４５０〜６５０ｎｍの波長域における光透過率が８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。導電膜及び感光性樹脂層がこのような条件を満たす場合、ディスプレイパネル等での視認性が向上する。
【００５５】
本発明の感光性導電フィルムにおいて、感光性樹脂層３の支持フィルム１側と反対側の面に接するように保護フィルムを積層することができる。
保護フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリプロピレンフィルム、ポリエチレンフィルム等の耐熱性及び耐溶剤性を有する重合体フィルムを用いることができる。また、保護フィルムとして上述の支持体フィルムと同様の重合体フィルムを用いてもよい。
【００５６】
保護フィルムと感光層との間の接着力は、保護フィルムを感光層から剥離しやすくするために、感光層４と支持フィルム１との間の接着力よりも小さいことが好ましい。
【００５７】
＜導電パターンの製造方法＞
本発明の導電パターンの製造方法は、基板上に設けられた感光性樹脂層と導電膜にパターン状に活性光線を照射する露光工程と、感光性樹脂層と導電膜の未露光部を除去することにより導電パターンを形成する現像工程とを含む。
感光性樹脂層は、バインダーポリマー、二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合性化合物、光重合開始剤を含有する。
【００５８】
本発明の導電パターンの形成方法の一実施形態を、図３を用いて説明する。
導電パターンの形成には、図３（ａ）に示す積層体を用いることができる。図３（ａ）の積層体は、基板２０上に、感光性樹脂層３と導電膜２を含む感光層４、及び支持フィルム１を有する感光性導電フィルム１０が設けられている。
尚、この積層体は、例えば、上述した本発明の感光性導電フィルム１０を感光性樹脂層３が基板２０と接するように基板２０上にラミネートすることにより得ることができる。
【００５９】
まず、感光性導電フィルム１０上にマスク５を設け、マスク５を介して、感光層４（導電膜２及び感光性樹脂層３）に活性光線Ｌをパターン状に照射する（露光工程：図３（ｂ））。次に、現像により未硬化部分（未露光部分）を除去することにより、導電パターン（導電膜２）を形成する（現像工程：図３（ｃ））。
【００６０】
ここで、前記の方法で得られる導電パターンは、導電膜２の厚みに加えて樹脂硬化層３ｂの厚みを有している。これらの厚みは基板との段差Ｈｂとなる。段差Ｈｂが大きいと、ディスプレイ等に要求される平滑性が得られにくくなるおそれがあり、また、導電パターンが視認されやすくなるおそれがあるので、用途によって下記の方法（図４）と使い分けることができる。
尚、導電パターンの形成方法は本発明の感光性導電フィルムを用いて形成することが好ましいが、これに限られず、例えば、基板上に感光性樹脂層と導電膜を別々に形成後、露光、現像することにより形成してもよい。
【００６１】
本発明の導電パターンの形成方法の別の実施形態を、図４を用いて説明する。
図４に示す方法において、支持フィルム１を有する感光層４の所定部分に活性光線を照射する露光工程（第１の露光工程：図４（ｂ））までは前記の製造方法と同じである。
第１の露光工程の後に、支持フィルム１を剥離してから、酸素存在下で、第１の露光工程での露光部及び未露光部の一部又は全部に活性光線を照射する（第２の露光工程：図４（ｃ））。これにより、基板２０上に、導電パターン２ａとともに導電膜が形成されていない樹脂硬化層３ａが設けられることにより、基板上に導電パターンのみを設けた図３（ｃ）の場合に比べて、導電パターンの段差を小さくすることができる（図４（ｄ）に示す段差Ｈａ）。
尚、基板２０の材質、ラミネート条件等は上記特許文献２及び３を参照して設定することができる。
【００６２】
＜タッチパネルセンサ＞
本発明に係るタッチパネルセンサは、前記の導電パターン基板を備える。
図５は、静電容量式のタッチパネルセンサの一例を示す模式上面図である。図５に示されるタッチパネルセンサは、透明基板１０１の片面にタッチ位置を検出するためのタッチ画面１０２があり、この領域に静電容量変化を検出して、Ｘ位置座標とする透明電極１０３と、Ｙ位置座標とする透明電極１０４を備えている。これらのＸ、Ｙ位置座標とするそれぞれの透明電極１０３、１０４には、タッチパネルとしての電気信号を制御するドライバー素子回路と接続するための引き出し配線１０５と、その引き出し配線１０５と透明電極１０３、１０４を接続する接続電極１０６が配置されている。さらに、引き出し配線１０５の接続電極１０６と反対側の端部には、ドライバー素子回路と接続する接続端子１０７が配置されている。
【００６３】
図６は、図５に示されるタッチパネルセンサの製造方法の一例を示す模式図である。本実施形態においては、本発明に係る導電パターンの形成方法によって透明電極１０３、１０４が形成される。まず、図６（ａ）に示すように、透明基板１０１上に透明電極（Ｘ位置座標）１０３を形成する。具体的には、感光性樹脂フィルム１０を感光性樹脂層が透明基板１０１に接するようラミネートする。転写した感光層４（導電膜２及び感光性樹脂層３）に対し、所望の形状に遮光マスクを介してパターン状に活性光線を照射する（第一の露光工程）。その後、遮光マスクを除き、さらに支持フィルムを剥離したうえで感光層４に活性光線を照射する（第二の露光工程）。露光工程の後、現像を行うことで、硬化が不充分な感光性樹脂層３と共に、導電膜２が除去され、導電パターン２ａが形成される。この導電パターン２ａによりＸ位置座標を検知する透明電極１０３が形成される（図６（ｂ））。図６（ｂ）は、図６（ａ）のＩ−Ｉ切断面の模式断面図である。本発明に係る導電パターンの形成方法により透明電極１０３を形成することで、段差の小さな透明電極１０３を設けることができる。
【００６４】
続いて、図６（ｃ）に示すように透明電極（Ｙ位置座標）１０４を形成する。前記の工程により形成された透明電極１０３を備える基板１０１に、さらに、新たな感光性導電フィルム１０をラミネートし、前記同様の操作により、Ｙ位置座標を検知する透明電極１０４が形成される（図６（ｄ））。図６（ｄ）は、図６（ｃ）のＩＩ−ＩＩ切断面の模式断面図である。本発明に係る導電パターンの形成方法により透明電極１０４を形成することで、透明電極１０３上に透明電極１０４を形成する場合であっても、段差や気泡の捲き込みにより視認性が低下することを防ぎ、平滑性の高いタッチパネルセンサを作製することができる。
【００６５】
次に、透明基板１０１の表面に、外部回路と接続するための引き出し線１０５と、この引き出し線と透明電極１０３、１０４を接続する接続電極１０６を形成する。図６では、引き出し線１０５及び接続電極１０６は、透明電極１０３及び１０４の形成後に形成するように示しているが、各透明電極形成時に同時に形成してもよい。引き出し線１０５は、例えば、フレーク状の銀を含有する導電ペースト材料を使って、スクリーン印刷法を用いて、接続電極１０６を形成するのと同時に形成することができる。
【００６６】
図７及び図８はそれぞれ、図５に示されるａ−ａ’及びｂ−ｂ’に沿った部分断面図である。これらは、ＸＹ位置座標の透明電極の交差部を示す。
【実施例】
【００６７】
以下、本発明を実施例に基づいて具体的に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００６８】
製造例１［銀繊維分散液の調製］
（１）ポリオール法による銀繊維の調製
２０００ｍｌの３口フラスコに、エチレングリコール５００ｍｌを入れ、窒素雰囲気下、マグネチックスターラーで撹拌しながらオイルバスにより１６０℃まで加熱した。ここに、別途用意したＰｔＣｌ２２ｍｇを５０ｍｌのエチレングリコールに溶解した溶液を滴下した。４〜５分後、ＡｇＮＯ３５ｇをエチレングリコール３００ｍｌに溶解した溶液と、重量平均分子量が４万のポリビニルピロリドン（和光純薬株式会社製）５ｇをエチレングリコール１５０ｍｌに溶解した溶液とを、それぞれの滴下漏斗から１分間で滴下し、その後１６０℃で６０分間撹拌した。
【００６９】
前記反応溶液が３０℃以下になるまで放置してから、アセトンで１０倍に希釈し、遠心分離機により２０００回転／分で２０分間遠心分離し、上澄み液をデカンテーションした。沈殿物にアセトンを加え撹拌後に前記と同様の条件で遠心分離し、アセトンをデカンテーションした。その後、蒸留水を用いて同様に２回遠心分離して、銀繊維を得た。得られた銀繊維を走査型電子顕微鏡で観察したところ、繊維径（直径）は３０ｎｍで、繊維長は３０μｍであった。
【００７０】
（２）銀繊維分散液の調製
純水に、前記（１）で得られた銀繊維を０．２質量％、及び、ドデシル−ペンタエチレングリコールを０．１質量％の濃度となるように分散し、銀繊維分散液１を得た。
【００７１】
製造例２［感光性樹脂組成物の溶液の調製］
表２に示す材料を同表に示す配合量（単位：質量部）で配合し、感光性樹脂組成物の溶液を調製した。
【００７２】
【表２】
2017072679.tif 000007
【００７３】
表２中の各成分を下記に示す。
・アクリル樹脂Ａ：メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル／スチレン＝２０／５０／２０／１０（モル比）の共重合体の溶液、重量平均分子量８０，０００
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート（日本化薬株式会社製）
・ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ−フェニル，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム））（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名）
【００７４】
（実施例１）（１）感光性導電フィルムの作製
製造例１で調製した銀繊維分散液１を支持フィルムである１６μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡株式会社製、商品名「Ａ−１５１７」）上に２５ｇ／ｍ２で均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥し、室温（２５℃）において１０ｋｇ／ｃｍの線圧で加圧した。これにより、支持フィルム上に導電性繊維を含有する導電膜を形成した。尚、導電膜の乾燥後の膜厚は、約０．０１μｍであった。
【００７５】
次に、製造例２で調製した感光性樹脂組成物の溶液を撹拌後、導電膜が形成された１６μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流式乾燥機で１０分間乾燥して感光性樹脂層を形成した。その後、感光性樹脂層を、ポリエチレン製の保護フィルム（タマポリ株式会社製、商品名「ＮＦ−１３」）で覆い、感光性導電フィルムを得た。尚、感光性樹脂層の乾燥後の膜厚は５μｍであった。
【００７６】
（２）導電パターンの形成
ＰＥＴ基板（東洋紡株式会社製、商品名「Ａ４３００」）を１１０℃に加温し、その表面上に前記で得られた感光性導電フィルムの保護フィルムを剥離しながら、感光性樹脂層をＰＥＴ基板に対向させて、１１０℃、０．４ＭＰａの条件でラミネートした。
ラミネート後、基板を冷却し基板の温度が２３℃になった時点で、感光特性調査用ステップタブレット（Ｓ／Ｔ；Ｌ／Ｓ＝ｘ／４００、ｘ＝６〜４７）マスクを被せ、支持フィルム側から高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、３０ｍＪ／ｃｍ２又は４０ｍＪ／ｃｍ２又は５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で、光照射した。光照射後、支持フィルムを剥離した。
【００７７】
続いて、支持フィルムを剥離した基板において、感光性導電フィルム側から高圧水銀灯ランプを有する露光機（株式会社オーク製作所製、商品名「ＥＸＭ−１２０１」）を用いて、５０ｍＪ／ｃｍ２の露光量で、光照射した。
【００７８】
次に、３０℃で１質量％炭酸ナトリウム水溶液を４０秒間スプレーすることにより現像した。さらにＵＶ露光機により、１Ｊ／ｃｍ２の露光量を光照射した。
以上の操作により、ＰＥＴ基板上に、図４（ｄ）に示す導電パターンを形成した。
【００７９】
（評価）
露光裕度を評価するために、感度、解像度、オープン率、及び、ショート率を測定した。感度と解像度は感光特性評価用ステップタブレット（Ｓ／Ｔ；Ｌ／Ｓ＝ｘ／４００、ｘ＝６〜４７）にて評価した。感度は、数値が高いほど感度が高いことを示す。解像度は、解像しているスペースの幅が狭いほど解像度が良好であることを示す。また、オープン率とショート率は、オープン／ショート評価用パターン（Ｌ／Ｓ＝１５０／３０μｍ、ライン本数１８本、スペース本数１５本）の導通をテスタにより確認し、ライン間の導電性がない場合をオープンとし、ライン間に導電性がある場合をショートしているとして評価した。結果を表３に示す。
【００８０】
（比較例１〜４）
感光性樹脂組成物溶液の組成を表３に示すようにした他は、実施例１と同様にして感光性導電フィルムを作製し、導電パターンを形成した。結果を表３に示す。
【００８１】
【表３】
2017072679.tif 000008
【００８２】
比較例１から感度を低下させるために、（ｂ）二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合成化合物を添加した場合（実施例１）、光重合開始剤を減量した場合（比較例２〜３）、光重合開始剤の減量と二重結合濃度１．０×１０−２未満の光重合成化合物の添加をした場合（比較例４）を比較した。比較例１から開始剤量を減量した比較例２〜３は感度低下の効果が小さく、１回目の露光量５０ｍＪ／ｃｍ２以上ではショートが多発した。また、比較例４では５０ｍＪ／ｃｍ２以下でオープンが多発した。
【００８３】
以上の結果より、感光性導電フィルムを用いた透明電極パターンの形成において、良好な解像度が得られる露光量範囲を広げることができ、さらに、マスクのキズや汚れによるパターンの欠損を低減させることができた。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明の感光性導電フィルム及び導電パターンは、液晶表示素子等のフラットパネルディスプレイ、タッチスクリーン、太陽電池等の装置の電極配線として用いられる導電パターンの形成等に用いることができる。本発明のタッチパネルセンサは、液晶表示素子やタッチスクリーンに用いることができる。
【符号の説明】
【００８５】
１  支持フィルム
２  導電膜
２ａ  導電パターン
３  感光性樹脂層
３ａ，３ｂ  樹脂硬化層
４  感光層
５  マスク
１０  感光性樹脂フィルム
２０  基板
１０１  透明基板
１０２  タッチ画面
１０３  透明電極（Ｘ位置座標）
１０４  透明電極（Ｙ位置座標）
１０５  引き出し配線
１０６  接続電極
１０７  接続端子
【図１】
2017072679.tif 000009
【図２】
2017072679.tif 000010
【図３】
2017072679.tif 000011
【図４】
2017072679.tif 000012
【図５】
2017072679.tif 000013
【図６】
2017072679.tif 000014
【図７】
2017072679.tif 000015
【図８】
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