(57)【要約】【課題】単位画素間での光の混色を抑制する表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】画像を構成する複数の単位画素それぞれで輝度が制御されて発光する発光素子層３と、複数色の着色層を有し、いずれかの色の着色層がいずれかの単位画素に対応するカラーフィルタ層５と、対向基板８と、タッチ入力を検出するために対向基板８の両面にそれぞれ設けられた第１電極パターン６の電極６ａ及び第２電極パターン９の電極９ａと、を有し、隣同士の着色層は、隔壁によって区画され、隔壁は、高さ方向の少なくとも一部が第１電極パターン６によって構成されている。【選択図】図１
2017010726.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像を構成する複数の単位画素それぞれで輝度が制御されて発光する発光素子層と、
複数色の着色層を有し、いずれかの色の前記着色層がいずれかの前記単位画素に対応するカラーフィルタ層と、
絶縁層と、
タッチ入力を検出するために前記絶縁層の両面にそれぞれ設けられた第１電極及び第２電極と、
を有し、
隣同士の前記着色層は、隔壁によって区画され、
前記隔壁は、高さ方向の少なくとも一部が、前記第１電極によって構成されていることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記絶縁層は、前記カラーフィルタ層及び前記第１電極を覆う１つの層のみからなることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記絶縁層は、前記カラーフィルタ層及び前記第１電極を覆う第１層と、前記第１層に積層される第２層と、を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項４】
前記隔壁の高さは、前記カラーフィルタ層の高さ以上であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
隣同士の前記着色層は、前記隔壁によって分離されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
前記発光素子層を覆うように、前記カラーフィルタ層及び前記第１電極の下地層をさらに有し、
前記下地層は、前記隔壁の下部を構成する凸部を有し、
前記凸部の上に前記第１電極が設けられて、前記隔壁の上部を構成することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項７】
前記発光素子層を覆うように、前記カラーフィルタ層及び前記第１電極の下地層をさらに有し、
前記下地層は、平坦な上面を有し、
前記平坦な上面に前記第１電極が設けられて、前記隔壁を構成することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第１電極及び前記第２電極の少なくとも一方は、透明導電材料からなることを特徴とする請求項１〜７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記第１電極及び前記第２電極の少なくとも一方は、低反射金属膜からなることを特徴とする請求項１〜７に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置においては、カラーフィルタ層を構成する複数の着色層が、有機ＥＬ素子を覆う封止層上に、単位画素毎に区分されて形成される構成が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−８９８０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、着色層が互いに隣接して形成される場合、単位画素間において光の混色が生じるおそれがある。
【０００５】
上記課題に鑑みて、本発明は、単位画素間における光の混色を抑制する表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の一態様は、画像を構成する複数の単位画素それぞれで輝度が制御されて発光する発光素子層と、複数色の着色層を有し、いずれかの色の前記着色層がいずれかの前記単位画素に対応するカラーフィルタ層と、少なくとも１層からなる絶縁層と、タッチ入力を検出するために前記絶縁層の両面にそれぞれ設けられた第１電極及び第２電極と、を有し、隣同士の前記着色層は、隔壁によって区画され、前記隔壁は、高さ方向の少なくとも一部が、前記第１電極によって構成されていることを特徴とする。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】第１実施形態に係る表示装置の構成を示す模式断面図である。
【図２】第１実施形態に係る表示装置の概要を示す斜視図である。
【図３】図２の領域Ａ周辺の拡大図であって、第１電極パターンの様々な配列を示す図である。
【図４】図２で示した構成に加えてさらに第２電極パターンを図示した斜視図である。
【図５】図４の領域Ａ周辺の拡大図であって、第１電極パターン及び第２電極パターンの様々な配列を示す図である。
【図６】第１実施形態の変形例に係る表示装置を示す模式断面図である。
【図７】第２実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。
【図８】第２実施形態に係る表示装置の概要を示す斜視図である。
【図９】図８の領域Ｂ周辺の拡大図であって、第２電極パターンの様々な配列を示す図である。
【図１０】第２実施形態の変形例に係る表示装置を示す模式断面図である。
【図１１】第３実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。
【図１２】第４実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。
【図１３】第５実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に、本発明の各実施形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００９】
まず、図１〜図６を参照して、第１実施形態に係る有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示装置（以下、単に表示装置という）１００について説明する。表示装置１００は、第１電極パターン６と第２電極パターン９を有し、ユーザが画面上の表示を押すことによる第１電極パターン６の電極６ａ（第１電極）と第２電極パターン９の電極９ａ（第２電極）の間の静電容量の変化を検出し、機器を操作可能とするタッチ入力式の表示装置である。
【００１０】
図１は、第１実施形態に係る表示装置１００の構成を示す模式断面図である。表示装置１００は、回路層側基板１と、回路層２と、発光素子層３と、下地層４と、カラーフィルタ層５と、第１電極パターン６と、充填層７と、対向基板８と、第２電極パターン９とを有し、それらが積層して構成される。
【００１１】
回路層側基板１は透明なガラスからなる。回路層２は回路層側基板１上に形成される。回路層２は、詳細な構成に関しては図１においては省略するが、発光素子層３の発光を制御する薄膜トランジスタがマトリクス状に多数配列された基板である。
【００１２】
発光素子層３は、下部電極３１と、発光する有機ＥＬ層３２と、上部電極３３と、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウムスズ）層３４と、反射層３５と、バンク層３６とを有し、画素を構成する複数の単位画素（副画素）それぞれで輝度が制御されて発光する。ＩＴＯ層３４は、回路層２上に形成される透明導電層である。反射層３５は、ＩＴＯ層３４上に形成され、銀等の金属からなる層である。
【００１３】
なお、第１実施形態においては、一つの画素は複数の副画素で構成されている。発色の異なる副画素が複数集まって一画素が構成され、表示装置１００のカラー表示を可能としている。
【００１４】
図１においては簡略化して図示するが、有機ＥＬ層３２は、カソード側からアノード側に向けて順に、電子輸送層、発光層、ホール輸送層が積層して構成される。下部電極３１は、アノードとして機能し、ＩＴＯからなる。上部電極３３は、カソードとして機能し、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ、酸化インジウム亜鉛）からなる。
【００１５】
下部電極３１と上部電極３３に直流電圧が印加されると、下部電極３１側から注入されたホールがホール輸送層を経由し、一方、上部電極３３側から注入された電子が電子輸送層を経由して、それぞれ有機ＥＬ層３２に到達し、電子とホールが再結合する。このような電子とホールの再結合により、発光素子層３は所定の波長の発光を行う。下部電極３１は、発光領域となる部分を覆うように形成される。また、バンク層３６は、非発光領域となる部分に形成される。有機ＥＬ層３２は、下部電極３１を覆うように形成されるが、非発光領域では、バンク層３６によって下部電極３１から分離される。
【００１６】
有機ＥＬ層３２及び上部電極３３は、非発光領域となる部分において、バンク層３６の形状に沿った形状となる。また、下地層４は、上部電極３３を覆うように形成され、上部電極３３（バンク層３６）の形状に沿って、上部電極３３と面する側の反対側の表面が凸となる。
【００１７】
また、第１実施形態においては、タッチ入力を検出する電極の一つである第１電極パターン６の電極６ａが下地層４の凸部４ａ上にそれぞれ形成される。
【００１８】
また、カラーフィルタ層５は複数色の着色層を有し、いずれかの色の着色層がいずれかの単位画素に対応するように下地層４上に形成される。第１実施形態においては、カラーフィルタ層５は、白色の着色層５Ｗ、赤色の着色層５Ｒ、緑色の着色層５Ｇ、青色の着色層５Ｂを有する。
【００１９】
着色層５Ｗ、５Ｒ、５Ｇ、５Ｂは、下地層４の凸部４ａ間にそれぞれ形成され、隣同士の着色層は隔壁によって区画されている。第１実施形態においては、下地層４の凸部４ａが隔壁の下部を形成し、第１電極パターン６が隔壁の上部を形成する。また、図１に示すように、隔壁の高さは着色層の高さと略同じであり、隣同士の着色層は隔壁により分離されている。
【００２０】
着色層５Ｗ、５Ｒ、５Ｇ、５Ｂは、インクジェットを用いた印刷方式により形成される。第１実施形態においては、各色の着色層の材料が充填される領域は、隔壁により区画されているため、着色層の充填時に各着色層の材料が混ざり合うことがない。
【００２１】
さらに、第１電極パターン６上には遮光膜として機能するブラックマトリックスＢＭが形成される。そのため、隣同士の着色層間（副画素間）において光が遮光され、光学的な混色が抑制される。なお、図１に示すように、ブラックマトリックスＢＭは、隣り合う着色層を掛け渡すように形成される。
【００２２】
さらに、充填層７がカラーフィルタ層５及び第１電極パターン６を覆うように形成され、充填層７上には対向基板８が積層される。充填層７及び対向基板８は、透明絶縁材料からなる。なお、第１実施形態の充填層７及び対向基板８が本発明の絶縁層に対応する構成であり、充填層７が絶縁層の第１層に対応し、対向基板８が絶縁層の第２層に対応する。
【００２３】
対向基板８上には第２電極パターン９が設けられる。ユーザが画面にタッチすると、第２電極パターン９の電極９ａと第１電極パターン６の電極６ａでタッチ入力が検出され、機器の操作が行われる。なお、第１実施形態においては、電極９ａは透明導電材料からなる。本発明においては電極６ａは透明導電材料で形成される必要は無く、金属の配線でもよい。第１電極パターン６の上にはブラックマトリクスＢＭが配置され、金属配線による外光の反射を防止している。なお、透明導電材料としては、例えば、ＩＴＯを用いるとよい。
【００２４】
ここで、図２、図３を参照して、第１電極パターン６の構成について説明する。図２は、第１実施形態に係る表示装置の概要を示す斜視図である。図３は、図２の領域Ａ周辺の拡大図であって、第１電極パターンの様々な配列を示す図である。
【００２５】
表示装置１００の積層構造は図１で説明した通りであり、図２においては、説明の便宜上、回路層側基板１、回路層２、発光素子層３、及び下地層４を含む基板１０１と、充填層７及び対向基板８を含む基板１０２と、第１電極パターン６のみを示し、第２電極パターン９等については省略する。第１電極パターン６は、基板１０１と基板１０２の間に形成されている。
【００２６】
表示装置１００は、マトリクス状に設けられる複数の副画素を含む表示領域Ｍと、表示領域Ｍの周辺の周辺領域Ｎを有する。表示領域Ｍに対応する領域には第１電極が設けられる。
【００２７】
図２に示すように、周辺領域Ｎには、電極６ａと電気的に接続される配線６ｃが設けられている。配線６ｃは複数本設けられ、それらの端部はの端子に接続される。なお、配線６ｃが接続される端子にはのフレキシブル配線基板が接続される。
【００２８】
ここで、電極６ａの配列の詳細について説明するが、まず、図３（ａ）を参照して、電極６ａの一の配列パターンについて説明する。図３（ａ）に示すように、第１電極パターン６は、一方向に延び、略等間隔に複数本設けられる細線状の電極６ａを有する。そして、電極６ａは、表示領域Ｍの周辺の周辺領域Ｎに設けられる配線６ｃと電気的に接続される。また、複数の電極６ａ間の領域には、電極６ａと直交する方向に延び、短い線状の電極６ｂが略等間隔で配列されている。電極６ｂを設けることにより、電極６ａ間の空白領域が埋められ、ユーザが表示領域Ｍを斜めから見た場合であっても、電極６ａが縞状に視認されることが抑制される。
【００２９】
複数の電極６ａの間隔と、複数の電極６ｂの間隔は、隣り合う一対の電極６ａと隣り合う一対の電極６ｂとで１つの副画素を囲むような間隔であることが好ましい。言い換えると、隣り合う一対の電極６ａと、隣り合う一対の電極６ｂとの４つの電極で囲まれる領域が１つの副画素に対応する領域となる。
【００３０】
なお、図３（ａ）で示した第１電極パターン６の配列は例示であり、この配列に限られるものではない。例えば、第１電極パターン６は、図３（ｂ）〜図３（ｄ）に示すような配列であってもよい。
【００３１】
すなわち、図３（ｂ）に示すように、配線６ｃに接続される電極６ａを間引いた構成としてもよい。このように、配線６ｃに接続される電極６ａの本数を調整することで、第１電極パターン６の電極６ａと第２電極パターン９の電極９ａの間の静電容量を調整することができ、それにより、タッチ入力の感度を調整することができる。
【００３２】
また、図３（ｃ）に示すように、電極６ｂの一端が電極６ａと接続された構成としてもよい。図３（ａ）の構成においては、１つの副画素を囲む領域において電極６ａと電極６ｂとが離間する箇所が４箇所であるのに対して、図３（ｃ）の構成においては、１つの副画素を囲む領域において電極６ａと電極６ｂとが離間する箇所が２箇所であるため、副画素間の遮光性、反射性が向上する。それにより、副画素間での光学的な混色が抑制される。
【００３３】
また、図３（ｄ）に示すように、図３（ｃ）の構成において、配線６ｃに接続される電極６ａを間引いた構成としてもよい。このような構成を採用することにより、上述のように、タッチ入力の感度の調整を可能にしつつ、副画素間での光学的な混色を抑制できる。
【００３４】
さらに、図４、図５を参照して、第２電極パターン９の構成について説明する。図４は、図２で示した構成に加えてさらに第２電極パターン９を図示した斜視図であり、図５は、図４の領域Ａの拡大図であって、第１電極パターン６及び第２電極パターン９の様々な配列を示す図である。なお、第２電極パターン９は、基板１０２上に形成されている。
【００３５】
図５（ａ）は、図３（ａ）で示した第１電極パターン６上に第２電極パターン９が配置された状態を示しており、図５（ｂ）は、図３（ｃ）で示した第１電極パターン６上に第２電極パターン９が配置された状態を示している。
【００３６】
電極９ａは、周辺領域Ｎに設けられる配線９ｃと電気的に接続される。配線９ｃは複数本設けられ、それらの端部は端子に接続される。なお、配線９ｃが接続される端子にはフレキシブル配線基板が接続される。また、第２電極パターン９は、第１電極パターン６の電極６ａが延びる方向と直交する方向に延びる細線状の電極９ｂと、複数の副画素を覆う大きさの平面形状が略菱形の電極９ａを有している。
【００３７】
ここで、電極９ａ間の空白領域が大きいと、ユーザが表示領域Ｍを斜めから見たときに、表示ムラが視認されてしまう。そのため、第１実施形態においては、電極９ａと同じ材料で端子と電気的に接続されないダミーパターン９ｄを設けている。ダミーパターン９ｄを設けることにより、電極９ａ間の空白領域が埋められ、ユーザが表示領域Ｍを斜めから見た場合であっても、表示ムラが視認されにくい。
【００３８】
以上述べたように、第１実施形態においては、各着色層５Ｗ、５Ｒ、５Ｇ、５Ｂが、隔壁として機能する第１電極パターン６及び下地層４の凸部４ａによって区画されて形成されるため、光学的な混色が抑制される。その結果、コントラストや視認性が向上する。また、隔壁は着色層の材料が充填される領域と略同じ高さ形成されているため、着色層の充填時に隣り合う着色層の材料が混ざり合うことがなく、各着色層は隔壁により分離して形成され、光学的な混色が抑制される。また、タッチ入力を検出するための第１電極パターン６が隔壁としてしての役割を兼ねるため、別途隔壁を構成する部材を設ける必要がなく、装置の薄型化及びコストの抑制を実現できる。
【００３９】
図６は、第１実施形態の変形例に係る表示装置を示す模式断面図である。図１においては、第２電極パターン９が対向基板８の上面に形成される構成について説明したが、図６に示すように、第２電極パターン９を対向基板８の下面に形成する構成であってもよい。このように、タッチ入力を検出するための第１電極パターン６及び第２電極パターン９が、絶縁層としての充填層７の両面にそれぞれ設けられる構成であっても、第１実施形態で説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【００４０】
次に、図７〜図９を参照して、第２実施形態に係る表示装置について説明する。
【００４１】
図７は、第２実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。第１実施形態においては第２電極パターンの材料として透明導電材料を用いたが、第２実施形態においては、第２電極パターンの材料として低反射金属を用いる。なお、第２実施形態の第１電極パターン６は、第１実施形態で説明したものと同様とする。また、その他、第１実施形態と同じ構成については同じ符号を用いてその説明は省略する。
【００４２】
図７に示すように、第２実施形態に係る表示装置１００は、対向基板８上に低反射金属膜としての第２電極パターン１９を有する。低反射金属としては、例えば、アルミニウム等と比較して可視広域の反射率の低い金属であるチタン、タングステン、モリブデン等を用いるとよい。低反射金属は、入射された光の一部を反射し、残りの光を吸収する。
【００４３】
図８は、第２実施形態に係る表示装置の概要を示す斜視図である。図８に示すように、周辺領域Ｎには、電極１９ａ（第２電極）と電気的に接続される配線１９ｃが設けられている。配線１９ｃは複数本設けられ、それらの端部は不図示の端子に接続される。
【００４４】
図９は、図８の領域Ｂ周辺の拡大図であって、第２電極パターンの様々な配列を示す図である。ここで、第２実施形態の第２電極パターン１９の配列の詳細について説明するが、まず、図９（ａ）を参照して、第２電極パターン１９の一の配列パターンについて説明する。図９（ａ）に示すように、第２電極パターン１９は、一方向に延び、略等間隔に複数本設けられる細線状の電極１９ａを有する。そして、電極１９ａは、表示領域Ｍの周辺の周辺領域Ｎに設けられる配線１９ｃと電気的に接続される。
【００４５】
また、電極１９ａが配列される間の領域には、電極１９ａと直交する方向に延び、短い線状の電極１９ｂが略等間隔で配列されている。複数の電極１９ａの間隔と、複数の電極１９ｂの間隔は、隣り合う一対の電極１９ａと隣り合う一対の電極１９ｂとで副画素を囲むような間隔であることが好ましい。言い換えると、隣り合う一対の電極１９ａと、隣り合う一対の電極１９ｂとの４つの電極で囲まれる領域が副画素に対応する領域となる。
【００４６】
なお、図９（ａ）で示した第２電極パターン１９の配列は例示であり、この配列に限られるものではない。例えば、第２電極パターン１９は、図９（ｂ）〜図９（ｄ）に示すような配列であってもよい。
【００４７】
すなわち、図９（ｂ）に示すように、配線１９ｃに接続される電極１９ａを間引いた構成としてもよい。また、図９（ｃ）に示すように、電極１９ｂの一端が電極１９ａと接続された構成としてもよい。さらに、図９（ｄ）に示すように、図９（ｃ）の構成において、配線１９ｃに接続される電極１９ａを間引いた構成としてもよい。
【００４８】
第２実施形態においては、第２電極パターン１９として低反射金属層を用いたことにより、第２電極パターン１９の表示領域Ｍへの映り込みが抑制される。なお、表示領域Ｍへの映り込みを抑制するため、第１電極パターン６と第２電極パターン１９のうち少なくともいずれかに低反射金属層を用いるとよい。
【００４９】
図１０は、第２実施形態の変形例に係る表示装置を示す模式断面図である。図７においては、第２電極パターン１９が対向基板８の上面に形成される構成について説明したが、図１０に示すように、第２電極パターン１９を対向基板８の下面に形成する構成であってもよい。このように、タッチ入力を検出するための第１電極パターン６及び第２電極パターン１９が、絶縁層としての充填層７の両面にそれぞれ設けられる構成であっても、第２実施形態で説明した効果と同様の効果を得ることができる。
【００５０】
図１１は、第３実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。第１実施形態と同じ構成については同じ符号を用いてその説明は省略する。
【００５１】
第１実施形態及び第２実施形態においては第１電極パターンの材料として透明導電材料を用いたが、第３実施形態においては、第１電極パターンの材料として低反射金属を用いる。低反射金属としては、例えば、アルミニウム等と比較して可視広域の反射率の低い金属であるチタン、タングステン、モリブデン等を用いるとよい。
【００５２】
第３実施形態においては、低反射金属膜としての第１電極パターン１６が、遮光膜としての機能を兼ねるため、別途ブラックマトリックスＢＭを設ける必要がない。なお、第３実施形態においては、第１電極パターン１６の上部にブラックマトリックスＢＭが形成されない分、第１実施形態及び第２実施形態よりも、第１電極パターン１６を高く形成する。図１１に示すように、隔壁は着色層の材料が充填される領域よりも高く形成されているため、着色層の充填時に隣り合う着色層の材料が混ざり合うことがなく、各着色層は隔壁により分離して形成され、光学的な混色が抑制される。また、第３実施形態の構成においては、ブラックマトリックスＢＭを用いない分コストを抑制することができる。
【００５３】
図１２は、第４実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。第１実施形態と同じ構成については同じ符号を用いてその説明は省略する。
【００５４】
第４実施形態においては、発光素子層３上に下地層１４が形成され、さらに下地層１４上に第１電極パターン６及びカラーフィルタ層５が形成されている。
【００５５】
第４実施形態においては、下地層１４の上面は、平坦面となっている。これは、下地層１４が有機層を含む積層構造をとるためである。具体的には、上部電極３３上にＳｉＮ（窒化ケイ素）層が形成され、ＳｉＮ層はバンク３６層の形状に沿って上面が凸となる。このＳｉＮ層上に有機層が形成されている。有機層は、ＳｉＮ層に面する側はＳｉＮ層の凸形状に沿った形状となるが、ＳｉＮ層に面する側と反対側は平坦面となる。そして、その有機層の平坦面上にさらにＳｉＮ層が形成されている。平坦面である有機層上に形成されるＳｉＮ層の上面は平坦となる。ここで平坦面とは、上部電極３３の凹凸の程度よりも、下地層１４の凹凸の程度の方が低減している状態のことを示し、完全に平坦な面でなくてもよい。
【００５６】
以上説明したように、第４実施形態においては、下地層１４として、ＳｉＮ層、有機層、ＳｉＮ層がこの順で積層された積層構造を有するものを採用した。ただし、そのような積層構造に限られるものではなく、下地層１４は、少なくとも１層の有機層を有し、上面が平坦面であればよい。
【００５７】
下地層１４上には、第１電極パターン６が形成される。第４実施形態においては、第１電極パターン６が、隔壁の下部から上部までの全体を構成する。そして、第１電極パターン６で構成される隔壁間に、着色層の材料が充填され、各着色層５Ｗ、５Ｒ、５Ｇ、５Ｂが隔壁によって区画されて形成される。第４実施形態においては、下地層１４の上面が平坦面であるため、他の実施形態と比較して、第１電極パターン６の形成、及び着色層５Ｗ、５Ｒ、５Ｇ、５Ｂのパターニングが容易となる。
【００５８】
図１３は、第５実施形態に係る表示装置を示す模式断面図である。第１〜第４実施形態と同じ構成については同じ符号を用いてその説明は省略する。
【００５９】
図１３に示すように、第５実施形態に係る表示装置１００は、第１実施形態で示した充填層７の代わりに透明なカバー層１７を有し、かつ対向基板８を有しない構成となっている。すなわち、第５実施形態においては、タッチ入力を検出するための第１電極パターン６及び第２電極パターン１９が、絶縁層としてのカバー層７の両面にそれぞれ設けられる構成となっている。
【００６０】
第５実施形態においては、他の実施形態で説明したのと同様に着色層間が隔壁によって区画されることにより光学的な混色を抑制できるという効果に加えて、対向基板が無い分、表示装置１００の薄型化を実現できる。
【００６１】
なお、第１〜第５実施形態においては、白色の着色層５Ｗ、赤色の着色層５Ｒ、緑色の着色層５Ｇ、及び青色の着色層５Ｂを有するカラーフィルタ層５を用いて説明したが、これに限られるものではなく、複数色の着色層を有するカラーフィルタ層であればよい。またカラーフィルタ層の形成方法としてインクジェット方式以外に、凸版印刷やフレキソ印刷等の他の印刷方式や、ホトリソ方式、レーザー転写方式等のパターニング方法を用いてもよい。
【符号の説明】
【００６２】
１  回路層側基板、２  回路層、３  発光素子層、４，１４  下地層、４ａ  凸部、５  カラーフィルタ層、５Ｗ，５Ｒ，５Ｇ，５Ｂ  着色層、６，１６  第１電極パターン、６ａ，６ｂ  電極、６ｃ  配線、７  充填層、８  対向基板、９,１９  第２電極パターン、９ａ，９ｂ，１９ａ，１９ｂ  電極、９ｃ，１９ｃ  配線、１７  カバー層、３１  下部電極、３２  有機ＥＬ層、３３  上部電極、３４  ＩＴＯ層、３５  反射層、３６  バンク層、１００  表示装置、１０１，１０２  基板、Ｍ  表示領域、Ｎ  周辺領域、ＢＭ  ブラックマトリックス。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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