(57)【要約】【課題】本発明は、金属腐食法によってガスバリア性を評価する試験片において、測定を正確に行うことが可能な、緩衝層を含むガス透過試験片を提供することを目的とする。【解決手段】ガス透過試験片２００は、基材１１と、基材１１の外面の少なくとも一部に形成されたバリア層１２とを含むガス透過試験対象１０と、バリア層１２の外面の少なくとも一部にバリア層１２を覆うように形成された緩衝層１３と、緩衝層１３の外面の少なくとも一部に形成された、特定のガスと反応して腐食する腐食性金属層１４と、緩衝層１３及び腐食性金属層１４の外面を覆うように形成されたガス不透過性材料１５とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材の外面の少なくとも一部に形成されたバリア層とを含むガス透過試験対象と、
前記バリア層の外面の少なくとも一部に前記バリア層を覆うように形成された緩衝層と、
前記緩衝層の外面の少なくとも一部に形成された、特定のガスと反応して腐食する腐食性金属層と、
前記緩衝層及び前記腐食性金属層の外面を覆うように形成されたガス不透過性材料と、を有することを特徴とするガス透過試験片。
【請求項２】
前記緩衝層は無機材料からなることを特徴とする請求項１に記載のガス透過試験片。
【請求項３】
前記緩衝層のガス透過率は前記ガス透過試験対象のガス透過率の２０倍より大きいことを特徴とする請求項１または２に記載のガス透過試験片。
【請求項４】
前記緩衝層の可視光線透過率は８０％以上であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか一項に記載のガス透過試験片。
【請求項５】
前記緩衝層はＳｉＯ２であることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか一項に記載のガス透過試験片。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、金属の腐食状態を測定することでガス透過性を評価するガス透過試験片に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガスバリアの機能を持つフィルムは、食料品、精密電子部品及び医薬品等の包装材料として用いられている。さらに近年、ガスバリアの機能を持つフィルムは、太陽電池モジュールの部材である裏面保護シートや、有機ＥＬ素子のガスバリア層などの産業資材として用いられるようになってきた。
【０００３】
ところで、フィルムのガスバリア性評価方法として、カルシウム腐食法を代表とする金属腐食法が知られている（例えば特許文献１を参照）。この方法は、対象のフィルムに目的のガスを接触させ、フィルムを透過したガスを腐食性金属と反応させ、腐食した金属の量を測定することで、フィルムのガスバリア性能を評価する方法である。
【０００４】
具体的には、図５に示すように、基材２１上にバリア層２２を積層したガス透過試験対象２０に、透過したガスのみに反応する腐食性金属層２４を形成した後、当該腐食性金属層を非腐食性材料層２５で密封してなる試験片２００を作製する。この試験片２００を、例えば特許文献２の試験片保管チャンバー内に配置し、この試験片２００を一定ガス濃度、一定温度の環境下に曝露し、ガス透過試験対象２０に目的ガスを透過させることにより、ガス透過試験対象２０を透過したガスを腐食性金属層２４の腐食性金属と反応させ、この腐食性金属層２４の腐食状態を測定する方法が知られている（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第３９５８２３５号
【特許文献２】特許第５７２４２５４号
【特許文献３】特開２００５−１８１３００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、図５に示すガス透過試験片２００のように、バリア層２２と腐食性金属層２４が接している試験片で評価を続けていると、腐食性金属層２４の腐食の進行が突如として速くなり、腐食面積がこれまでの拡大率と大きく乖離して急拡大をすることがある。これは腐食性金属層２４が腐食して膨張したことで、バリア層２２を破壊しバリア層２２に欠陥が生じるためと推測される。これにより、正確な評価を継続できなくなるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、金属腐食法によってガスバリア性を評価する試験片において、測定を正確に行うことが可能な、緩衝層を含むガス透過試験片を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するため、本発明の一態様に係るガス透過試験片は、基材と、基材の外面の少なくとも一部に形成されたバリア層とを含むガス透過試験対象と、バリア層の外面の少なくとも一部にバリア層を覆うように形成された緩衝層と、緩衝層の外面の少なくとも一部に形成された、特定のガスと反応して腐食する腐食性金属層と、緩衝層及び腐食性金属層の外面を覆うように形成されたガス不透過性材料とを有する。
【０００９】
また、上記本発明の一態様に係るガス透過試験片において、緩衝層は無機材料で形成されてもよい。
【００１０】
また、上記本発明の一態様に係るガス透過試験片において、緩衝層のガス透過率はガス透過試験対象のガス透過率の２０倍より大きいことが好ましい。
【００１１】
また、上記本発明の一態様に係るガス透過試験片において、緩衝層の可視光線透過率は８０％以上であることが好ましい。
【００１２】
また、上記本発明の一態様に係るガス透過試験片において、緩衝層はＳｉＯ２であってもよい。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、バリア層と腐食性金属層の間に緩衝層を形成することで、腐食性金属層が腐食して膨張したときに、緩衝層が膨張による応力を緩和し、バリア層が破壊されることが抑制されるため、金属腐食法によるガス透過測定を正確に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の実施の形態に係るガス透過試験片を模式的に示す断面図である。
【図２】本発明のガス透過試験片を用いる腐食度測定装置の概略断面図である。
【図３】本発明のガス透過試験片の腐食面の面積あるいは吸光度とその経時変化を比較する方法を用いる測定装置の概略構成図である。
【図４】４０℃９０％ＲＨの雰囲気にガス透過試験片を曝露した時間と、観察面積（１ｃｍ２）内のカルシウムが腐食した面積の関係を示す図（グラフ）である。
【図５】従来例のガス透過試験片を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明を適用した実施の形態について詳細に説明する。なお、以下の説明で用いる図面は、本発明の実施形態の構成を説明するためのものであり、図示される各部の大きさや厚さや寸法等は、実際のガス透過試験片の寸法関係とは異なる場合がある。
【００１６】
＜実施形態の概要＞
図１は、本発明の実施の形態に係るガス透過試験片を模式的に示す断面図である。本発明の実施形態に係るガス透過試験片２００は、基材１１と基材１１の外面の少なくとも一部に形成されたバリア層１２と、バリア層１２の外面の一部またはバリア層１２の外面の全部を覆うように形成された緩衝層１３と、緩衝層１３の外面の少なくとも一部に形成された腐食性金属層１４と、緩衝層１３及び腐食性金属層１４の外面を覆うように形成されたガス不透過性材料１５を有する。
【００１７】
緩衝層１３によってバリア層１２と腐食性金属層１４は接しない。腐食性金属層１４の体積が膨張した場合でも緩衝層１３があることで、バリア層１２は破壊されることが無い。その結果、腐食金属法による正確なガス透過率評価を実現することができる。
【００１８】
＜ガス透過試験片＞
図１を参照するに、本実施の形態のガス透過試験片１００は、基材１１と、バリア層１２と、緩衝層１３と、腐食性金属層１４と、ガス不透過性材料１５とを有する。
【００１９】
＜基材＞
基材１１は、特に限定されず、フィルム状とされた基材でもよいし、フィルム状とされていない基材でもよい。
【００２０】
＜バリア層＞
バリア層１２は、基材１１の外面の少なくとも一部に配置されている。バリア層１２は有機材料で形成してもよいし、無機材料で形成してもよい。例えば、無機材料ではＡｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａなどのうち少なくとも１つを含む無機酸化膜や、無機窒化膜、無機酸窒化膜を用いることができる。バリア層１２はガスバリア性を有しており、そのガス透過率は特に限定されないが、例えば水蒸気透過率の場合、０．１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）より小さいことが好ましい。水蒸気透過率が０．１ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）以上の場合、腐食性金属層１４が非常に短時間で腐食されるため、正確に測定できないことがある。
【００２１】
なお、図１では、一例として、基材１１の外面を覆うように、バリア層１２を配置させた場合を例に挙げて説明したが、バリア層１２は、基材１１の外面の少なくとも一部に配置されていればよく、図１に示す構成に限定されない。また、図１では、バリア層１２が１層である場合を例に挙げて説明したが、バリア層１２として複数の層が構成されていてもよい。
【００２２】
＜緩衝層＞
緩衝層１３は、バリア層１２の外面の少なくとも一部に配置されている。緩衝層１３が腐食性金属層１４を腐食させるガス、水分などを含んでいると、ガス透過試験対象のガス透過率とは無関係の腐食が発生し、正確な測定ができないため好ましくない。したがって、緩衝層に１３には、ガス、水分などが内在しにくい無機材料を用いることが好ましいが、腐食性金属層１４を形成する前に、例えば減圧下で長時間脱ガスを行うことを前提に、ガスが吸着しやすい有機材料を用いることもできる。
【００２３】
緩衝層１３としては、例えば、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａなどのうち少なくとも１つを含む無機酸化膜や、無機窒化膜、無機酸窒化膜を用いることができる。
【００２４】
緩衝層１３の厚さは、ガス透過評価の目的に応じて任意に設定することができる。例えば、緩衝層１３の厚さが２００ｎｍ以上であると、バリア層１２の表面に存在する多くの異物を覆うことができるので、異物によって腐食性金属層１４に生じるガス透過試験対象のガス透過率とは無関係の欠陥を抑制することができる。一方で２００ｎｍ未満であると、バリア層１２の欠陥及び異物を評価することができる。
【００２５】
特に、バリア層１２の欠陥及び異物を評価するために２００ｎｍ未満の緩衝層１３を形成する場合は、緩衝層１３の形成方法として原子層堆積法を用いるよい。原子層堆積法はステップカバレッジ性に優れるため、バリア層１２の表面に存在する異物を覆って均す恐れがない。原子層堆積法で形成する緩衝層１３としてはＳｉＯ２膜を用いることが好ましい。例えばＡｌ２Ｏ３を用いた場合、ガス透過試験対象１０に対して２０倍以下のガス透過率を有することがあり、正確にガス透過率の評価ができないため、好ましくない。ＳｉＯ２を用いた場合、ガス透過率がガス透過試験対象１０に対して十分に大きく、かつ透明であるため、好ましい。
【００２６】
＜腐食性金属層＞
腐食性金属層１４は、緩衝層１３の外面の少なくとも一部に配置されている。
腐食性金属層１４は、特定のガスと反応して腐食する金属層であれば良く、例えば、アルカリ金属、アルカリ土類金属またはその何れかの合金のうち一つを含むものである。アルカリ金属、アルカリ土類金属あるいはその何れかの合金は、反応性に富み、水蒸気によって容易に腐食されるので、水蒸気のガス透過性を示す水蒸気透過度を求めるのに適している。例えば、腐食性金属層１４にはカルシウムを用いることができる。腐食性金属層１４の厚さは、特に限定されないが、３０ｎｍ以上２００ｎｍ以下とすることができ、例えば１００ｎｍとすることができる。
【００２７】
＜ガス不透過性材料＞
ガス不透過性材料１５は、例えばＡｌ、Ｚｎ、Ｐｂ、Ａｇ、Ｃｕなどの金属を用いることができる。他にも、Ａｌ、Ｔｉ、Ｓｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａなどのうち少なくとも１つを含む無機酸化膜や、無機窒化膜、無機酸窒化膜を用いることができる。ガス不透過性材料の厚さは、特に限定されないが、３００ｎｍ以上５０００ｎｍ以下とすることができる。
【００２８】
＜ガス透過性評価装置＞
図２に示すガス透過性評価装置３００は、本発明の図１に示す基材１１と、バリア層１２と、緩衝層１３と、腐食性金属層１４と、ガス不透過性材料１５とを有するガス透過試験片１００を収納し、評価条件に基づき、腐食性金属層１４を腐食可能な状態に保持しバリア層１２のガス透過性を評価するための装置の一例である。
【００２９】
なお、本発明のガス透過試験片１００は、上記ガス透過性評価装置３００を用いることなく、同様の評価環境を提供できる恒温恒湿装置内や測定室内にガス透過試験片１００を配置して試験することも可能である。
【００３０】
一例としての図２に示すガス透過性評価装置３００は、ガス透過試験片１００を収納する試験片保管チャンバー３６、試験片保管チャンバー３６内部の温度を調節する温度調節機３５、試験片保管チャンバー３６内部の透過ガスの濃度を検出する透過ガス濃度センサー３３、試験片保管チャンバー３６内部の圧力を検出する圧力センサー３４、試験片保管チャンバー３６内部に透過ガスを供給する透過ガス供給装置３０、試験片保管チャンバー３６内部に供給する透過ガスと反応しないガスの供給装置３１、試験片保管チャンバー３６内部のガスを排気するガス排気装置３２で構成される。
【００３１】
なお、ガス透過性評価装置３００において、試験片が保管される内部を有する容器としての試験片保管チャンバー３６が、試験片保管チャンバー３６の内部の環境を一定のガス濃度、一定の温度、かつ大気圧より高い一定の圧力に維持する環境維持手段を備えることにより、保管時間をより短くすることも可能である。
【００３２】
ガス透過性評価装置３００の使用方法は、ガス透過試験片１００を試験片保管チャンバー３６にセットし、温度調節機３５を用いて、試験片保管チャンバー３６を予め定めた温度に調節する。
【００３３】
その後、透過ガス濃度センサー３３により、試験片保管チャンバー３６内部の透過ガス濃度を検出し、予め定めた値になるように透過ガス供給装置３０とガス排気装置３２を用いて透過ガスを供給する。
【００３４】
これと同時に、圧力センサー３４により、試験片保管チャンバー３６内部の圧力を検出し、予め定めた大気圧以上の値になるように、透過ガスと反応しないガスの供給装置３１とガス排気装置３２を用いて、透過ガスと反応しないガスを供給する。
【００３５】
＜腐食度測定方法＞
腐食性金属層１４の腐食度を求めるためには、腐食面の面積、吸光度、あるいは電気抵抗と、その経時変化を比較する方法等、様々な手法を用いることができる。緩衝層１３に不透明な材料を用いると、腐食度の測定方法が、腐食面の電気抵抗とその経時変化を比較する方法に限定される。一方、緩衝層１３に透明な、例えば可視光線透過率が８０％以上の材料を用いることで、腐食面の面積あるいは吸光度とその経時変化を比較する方法を用いることができる。特に、腐食面の面積を観察する方法は異物または欠陥点の評価することもできるため、好ましい。
【００３６】
＜腐食度測定装置＞
ガス透過試験片１００の腐食面の面積により腐植度を測定する腐食度測定装置４００の一例として概略構成図を図３に示す。
【００３７】
照明装置４０の光をガス透過試験片１００の表面に照射し、その反射光をＣＣＤ、ＣＭＯＳなどのカメラまたはラインセンサなどの撮像装置４１で画像として取り込む。取り込んだ入力画像は、画像入力装置４２を介して画像処理装置４３に出力される。画像処理装置４３は、試験片１００の入力画像を処理し、腐食面の面積を測定する。測定結果は表示装置４４に表示すると共に、記憶装置４５に記録することができる。
【００３８】
また、ガス透過試験片１００の測定対象領域を１回の撮影では撮影しきれない場合は、試験片１００を載置し移動させるための移動機構４６を設け、撮影領域をずらしながら撮影を繰り返し行うことにより測定対象領域全体の測定を可能とすることができる。なお、撮像装置を移動させることも可能である。
【００３９】
腐食度測定装置４００の照明装置４０、撮像装置４１、画像入力装置４２、画像処理装置４３、表示装置４４、記憶装置４５、移動機構４６などの各装置の制御は、制御装置４７により行うことができる。
【００４０】
この腐食度測定装置４００は、ガス透過試験片１００を載置（図３では移動機構４６上に載置する）してもよく、または試験片保管チャンバー３６の上面を透過させて測定することも可能である。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明の試験例、実施例、及び比較例について説明するが、本発明は、下記実施例により何ら限定されるものではない。
【００４２】
（試験例１）
試験例１では、緩衝層１３によるバリア層１２の保護効果を検証するため、ガス透過試験片を作製し、評価した。
【００４３】
＜実施例１のガス透過試験片の作製＞
図１を参照して、実施例１のガス透過試験片２００の作製方法について説明する。
はじめに、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡株式会社製のＡ４１００（型番））よりなる基材１１の外面に、膜厚が１０ｎｍのバリア層１２が形成されたガス透過試験対象１０を用意し、バリア層１２の外面に、緩衝層１３として原子層堆積法を用いて膜厚が３０ｎｍのＳｉＯ２膜を形成した。
【００４４】
次いで、緩衝層１３の外面の一部に蒸着法を用いて腐食性金属層１４として、膜厚が１００ｎｍのＣａ膜を形成した。さらに、緩衝層１３及び腐食性金属層１４を覆うように、ガス不透過性材料１５として、膜厚が２μｍのＡｌ膜を形成した。
【００４５】
このような方法で、実施例１のガス透過試験片を得た。
【００４６】
＜比較例１のガス透過試験片の作製＞
比較例１では、実施例１のガス透過試験片から緩衝層１３を省略したガス透過試験片を作製した。具体的には、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡株式会社製のＡ４１００（型番））よりなる基材１１の外面に、膜厚が１０ｎｍのバリア層１２が形成されたガス透過試験対象１０を用意し、バリア層１２の外面の一部に蒸着法を用いて腐食性金属層１４として、膜厚が１００ｎｍのＣａ膜を形成した。さらに、腐食性金属層１４を覆うように、ガス不透過性材料１５として、膜厚が２μｍのＡｌを形成した。
【００４７】
このような方法で、比較例１のガス透過試験片を作製した。
【００４８】
＜実施例１及び比較例１の水蒸気透過率評価方法＞
実施例１及び比較例１のガス透過試験片は４０℃９０％ＲＨの雰囲気に曝露し、一定の時間ごとに取り出して、Ｃａの腐食度を求めた。腐食度を求める方法は、腐食性金属層１４を画像処理することにより腐食面積を求める方法を用いた。
【００４９】
Ｃａの腐食状態は、Ｃａ面を写真撮影し、記録した。腐食した部分は金属Ｃａが水分と反応してＣａ（ＯＨ）２となり、白色部として観察された。観察した面積は１ｃｍ２で、この範囲での白色部の面積（腐食面積）を求めた。この腐食面積を縦軸、４０℃９０％ＲＨ雰囲気の曝露時間を横軸にして作成したグラフを図４に示す。
【００５０】
次に、特許文献１に従うと、ガス透過試験対象の水蒸気透過率は、腐食面積及び４０℃９０％ＲＨ雰囲気への曝露時間を用いて（式１）及び（式２）で示される。
Ｘ＝（δ×ｔ×ｄ（ＭＯＨ））／Ｍ（ＭＯＨ）  （式１）
水蒸気透過率＝Ｘ×１８×ｍ×（１００００／Ａ）×（２４／Ｔ）  （式２）
ただし、
Ｘ          ：腐食後の金属酸化物のモル量
δ          ：腐食された金属層の面積（ｃｍ２）
ｔ          ：腐食性金属層の厚み（ｃｍ）
ｄ（ＭＯＨ）：腐食後の金属水酸化物密度（ｇ／ｃｍ３）
Ｍ（ＭＯＨ）：腐食後の金属水酸化物分子量
ｍ          ：腐食性金属の価数
Ａ          ：腐食性金属層の面積（ｃｍ２）
Ｔ          ：４０℃９０％ＲＨ雰囲気への曝露時間（ｈ）
以上より、ガス透過試験対象の水蒸気透過率を求めた。
【００５１】
（試験例２）
試験例２では、カルシウム腐食法ではない方法でガス透過試験対象の水蒸気透過率を評価し、試験例１のカルシウム腐食法で求めた水蒸気透過率の正確性を確かめた。また、試験例２では、緩衝層１３を形成したことによるガス透過試験対象の水蒸気透過率の変化の有無について評価した。
【００５２】
＜参考例１の試験片の作製方法＞
参考例１では、実施例１のガス透過試験片から腐食性金属層１４及びガス不透過性材料１５を省略した試験片を作製した。具体的には、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡株式会社製のＡ４１００（型番））よりなる基材１１の外面に、原子層堆積法を用いて膜厚が１０ｎｍのＡｌ２Ｏ３からなるバリア層１２が形成されたガス透過試験対象１０を用意し、バリア層１２の外面に原子層堆積法を用いて膜厚が３０ｎｍのＳｉＯ２膜を形成した。
【００５３】
このような方法で、参考例１のガス透過試験片を得た。
【００５４】
＜参考例２の試験片の作製方法＞
参考例２では、比較例１のガス透過試験片から腐食性金属層１４及びガス不透過性材料１５を省略した試験片を作製した。具体的には、厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東洋紡株式会社製のＡ４１００（型番））よりなる基材１１の外面に、原子層堆積法を用いて膜厚が１０ｎｍのＡｌ２Ｏ３からなるバリア層１２が形成されたものを試験片として用いた。
【００５５】
＜参考例１及び参考例２の水蒸気透過率の測定＞
水蒸気透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ，ＩＮＣ．製のＡｑｕａｔｒａｎ（商標登録））を用いて、ガス透過試験対象を４０℃／９０％ＲＨの雰囲気で水蒸気透過率を測定した。結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2017072551.tif 000003
【００５７】
＜カルシウム腐食法による水蒸気透過率評価結果＞
図２に示すように、比較例１のガス透過試験片を用いた評価では５０ｈを超えると腐食面積の急拡大が見られた。０ｈ、２４ｈ、４８ｈの結果を用いて、上記の式１及び２により水蒸気透過率を求めたところ、６．７×１０−４ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であった。一方、実施例１のガス透過試験片を用いた評価では３００ｈを超えてもカルシウムが腐食した面積の増加率がほぼ一定であり、上記の式１及び２により水蒸気透過率を求めたところ、１．０×１０−３ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であった。
【００５８】
＜Ａｑｕａｔｒａｎによる水蒸気透過率評価結果＞
表１に示すように、Ａｑｕａｔｒａｎで評価した参考例１の水蒸気透過率と、カルシウム腐食法で評価した実施例１の水蒸気透過率とはよく一致していた。また、表１に示す参考例１と参考例２とを比較すると、ガス透過試験対象１０の外面に緩衝層１３としてＳｉＯ２膜を形成した参考例１の水蒸気透過率は１．０×１０−３ｇ／（ｍ２・ｄａｙ）であり、緩衝層１３を形成していない参考例２の水蒸気透過率と変わらないことがわかった。
【００５９】
＜まとめ＞
以上述べたように、本発明のガス透過試験片によれば、緩衝層１３をバリア層１２と腐食性金属層１４の間に形成することが、ガス透過率を変化させるなどガス透過率に影響を与えること無く、正確に腐食金属法でのガス透過率測定を可能としている。ただし、本発明の具体的な構成は上述した実施形態の内容に限定されるものではなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても、それらは本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、ガスバリア性を有する材料のガス透過性の評価に利用できる。
【符号の説明】
【００６１】
１０…ガス透過試験対象
１１…基材
１２…バリア層
１３…緩衝層
１４…腐食性金属層
１５…ガス不透過性材料
２０…ガス透過試験対象
２１…基材
２２…バリア層
２４…腐食性金属層
２５…ガス不透過性材料
３０…透過ガス供給装置
３１…透過ガスと反応しないガスの供給装置
３２…ガス排気装置
３３…温度調節機
３４…圧力センサー
３５…温度調節機
３６…試験片保管チャンバー
４０…照明装置
４１…撮像装置
４２…画像入力装置
４３…画像処理装置
４４…表示装置
４５…記憶装置
４６…移動機構
１００…ガス透過試験片
２００…ガス透過試験片
３００…ガス透過性評価装置
４００…腐食度測定装置
【図１】
2017072551.tif 000004
【図２】
2017072551.tif 000005
【図３】
2017072551.tif 000006
【図４】
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【図５】
2017072551.tif 000008