(57)【要約】【課題】生産コストを抑えつつ、ホウ化物粒子を各種溶媒に粉砕・分散処理させるための分散時間を大幅に短縮することを可能にするホウ化物微粒子の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素であり、ｍは一般式におけるホウ素の量を示す数字である）で表されるホウ化物微粒子の製造方法であって、平均結晶子径が１μｍ未満のホウ化物粗粉を得る第１工程、前記第１工程により得られたホウ化物粗粉を、水素ガスを含む雰囲気下に暴露する第２工程、前記第２工程により得られたホウ化物粗粉を室温以上１０００℃以下の減圧雰囲気下に暴露する第３工程含むことを特徴とするホウ化物微粒子の製造方法を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素であり、ｍは一般式におけるホウ素（Ｂ）の量を示す数字である）で表されるホウ化物微粒子の製造方法であって、
平均結晶子径が１μｍ未満のホウ化物粗粉を得る第１工程、
前記第１工程により得られたホウ化物粗粉を、水素ガスを含む雰囲気下に暴露する第２工程、及び
前記第２工程により得られたホウ化物粗粉を減圧雰囲気下に暴露する第３工程を含むことを特徴とするホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項２】
前記第３工程の減圧雰囲気が室温以上１０００℃以下であることを特徴とする請求項１に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項３】
前記第１工程が、
前記Ｘを含む化合物と、前記ホウ素（Ｂ）を含む化合物とを含む混合物を得る工程と、
前記混合物を、減圧雰囲気または不活性ガス雰囲気下において１２００℃以上１６００℃以下で熱処理して、前記一般式ＸＢｍで表されるホウ化物粗粉を得る工程とを含むことを特徴とする請求項１または２に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項４】
前記第１工程で、前記ホウ素（Ｂ）を含む化合物が、平均粒径６０μｍ以下のＢ４Ｃであり、前記Ｘを含む化合物が、平均粒径０．１μｍ以下のＸの水酸化物粒子及び／若しくは水和物粒子であるか、又は平均粒径２０μｍ以下のＸの酸化物粒子であることを特徴とする請求項３に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項５】
前記第１工程が、
前記Ｘを含む化合物と、ホウ素（Ｂ）と、炭素（Ｃ）とを含む混合物を得る工程と、
前記混合物を、減圧雰囲気または不活性ガス雰囲気下において１２００℃以上１６００℃以下で熱処理して、前記一般式ＸＢｍで表されるホウ化物粗粉を得る工程とを含むことを特徴とする請求項１または２に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項６】
前記一般式ＸＢｍにおけるｍが４．０以上６．３以下であることを特徴とする請求項１から５のいずれか一項に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項７】
前記第３工程により得られた前記ホウ化物微粒子中の炭素量が、燃焼−赤外線吸収で測定したときに０．２重量％以下であることを特徴とする請求項１から６のいずれか一項に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【請求項８】
前記第３工程で得られたホウ化物微粒子を粉砕する第４工程を含むことを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載のホウ化物微粒子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ホウ化物微粒子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、希土類元素のホウ化物は、厚膜抵抗ペースト材料、熱陰極材料、磁性材料、熱電変換材料、サーメット材料など、様々な材料に用いられてきた。
【０００３】
本出願人は特許文献１及び特許文献２にて、希土類元素のホウ化物粒子を可視光波長に比べて十分小さくなるまで微粒化することで、可視光線を透過しながらも熱源となる近赤外線を効率よく遮蔽する特性（赤外線遮蔽特性）を発現することを見出し、住宅や自動車の窓材に応用される赤外線遮蔽分散液と赤外線遮蔽膜を提案した。
【０００４】
ところが、赤外線遮蔽特性を発現させるためのホウ化物微粒子には、上述したように、その粒子径が可視光波長に比べて十分小さいことが求められる。このため、ホウ化物粒子（ホウ化物粗粉）を粉砕しなければならないが、粉砕対象となるホウ化物粒子の初期粒子径は出来るだけ小さいことが望ましい。なぜならば、塊状となって粗大化したホウ化物粒子は、湿式媒体撹拌ミル等を用いたメカニカル法によって強力な粉砕を行っても微粒子化が非常に困難である。さらに、ホウ化物粒子は比較的硬度が高いため、メカニカルな粉砕工程で粉砕機内壁材料を摩耗させ、不純物混入という事態を招いてしまう。この結果、粉砕工程を経て得られるホウ化物微粒子は、非常に生産コストの高いものか、あるいは、不純物混入のため十分な赤外線遮蔽特性を発揮できないものであった。
【０００５】
そこで、本出願人は特許文献３及び特許文献４にて、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕから選ばれた金属元素。ｍは、Ｘ元素１原子に対するホウ素（Ｂ）元素の原子数比を示すものであり、４≦ｍ＜６．３）で表されるホウ化物粒子の製造方法として、ホウ化物粒子を製造するための原料の粒子径を微細化すること、及び微細化した原料の粒子を焼成してホウ化物粒子を製造する際の焼成温度条件を最適化することによって、得られるホウ化物粒子の粗大化を回避できるような製造方法を提案した。これにより、ホウ化物粒子と各種溶媒とを混合したスラリーをビーズとともに湿式媒体撹拌ミルに投入し、赤外線遮蔽特性を発現する所望の分散粒子径になるまで粉砕・分散処理して、工業的に赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液を製造することができるようになった。
【０００６】
しかし、上述の方法で作製したホウ化物粒子を経由して赤外線遮蔽特性を発現するホウ化物微粒子分散液を製造する場合、所望の分散粒子径にするまでの粉砕・分散処理に、長時間を要するという問題があった。そして、当該粉砕・分散処理に長時間を要するままでは、当該赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液やそれを用いて作製される赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体の生産コストを下げることが困難であるという問題があった。
【０００７】
そこで、本出願人は、特許文献５において、特許文献３及び４にさらに検討を重ねて、原料粒径及び焼成温度をより最適な条件に合わせてホウ化物粒子を焼成し、さらに焼成したホウ化物粒子をジェットミルで予備粉砕することによって、得られたホウ化物微粒子と各種溶媒とを混合したスラリーをビーズとともに湿式媒体撹拌ミルに投入し、赤外線遮蔽特性を発現する所望の分散粒子径になるまで粉砕・分散処理するときの処理時間が大幅に短縮され、赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液の生産コストを下げることに成功した。また、その赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液を用いて作製した赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体のヘイズ値（曇り度）も下げることができ、住宅や自動車の窓材に応用可能なレベルとなった。
【０００８】
さらに、本出願人は、特許文献６において、ホウ化物粒子の原料へ予め所定の元素（Ｚｎ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｃｄ、Ｔｌ、Ｐｂ及びＢｉから選択される少なくとも１種の金属元素）を添加しておくことで、焼成して得られるホウ化物が脆化し、粉砕・分散処理されるときの処理時間がさらに短縮されることを見出し、その製造方法を提案した。これにより赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液の生産コストをさらに下げ、それを用いて作製した赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体のヘイズ値もさらに下げることができるようになった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０００−０９６０３４号公報
【特許文献２】特開平１１−１８１３３６号公報
【特許文献３】特開２００４−２７７２７４号公報
【特許文献４】特開２００５−１９１８号公報
【特許文献５】特開２００７−２１０８２６号公報
【特許文献６】特開２００７−１９１３６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかし、特許文献５で提案されているホウ化物微粒子の製造方法では、ジェットミルにより予備粉砕工程を追加する必要があり、トータル生産コストの改善幅は一定に留まっていた。
【００１１】
また、本発明者らの検討によれば、上述の方法により得られたホウ化物粒子と各種溶媒とを混合したスラリーをビーズとともに湿式媒体撹拌ミルに投入し、赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液を製造する場合、所望の分散粒子径になるまでの粉砕・分散処理に、改善してもいまだに長時間を要するという問題があった。さらに、当該粉砕・分散処理に長時間を要すると、湿式媒体撹拌ミル中に投入するビーズや装置部材の摩耗が激しく、粉砕・分散処理途中で何度も装置停止させて部材等を交換する必要があり、生産性と生産コストの面において改善すべき課題を残していた。
【００１２】
本発明はこの様な課題に着目してなされたもので、その課題とするところは、生産コストを抑えつつ、ホウ化物微粒子を各種溶媒に投入し、所望の分散粒子径になるまで粉砕・分散処理させるための時間を大幅に短縮することを可能にする、ホウ化物微粒子の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題を解決するため鋭意研究を継続した結果、原料粒径及び焼成温度の制御によってホウ化物粒子（ホウ化物粗粉）を製造し、該ホウ化物粒子に水素を吸収させて崩壊させる水素処理工程と、崩壊したホウ化物粒子中に侵入した水素を除去する脱水素処理工程を経ることで、粉砕・分散処理するときの処理時間が大幅に短縮されることに想到し、本発明を完成したものである。
【００１４】
上記課題を解決するための本発明の一態様によれば、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素であり、ｍは一般式におけるホウ素の量を示す数字である）で表されるホウ化物微粒子の製造方法であって、平均結晶子径が１μｍ未満のホウ化物粗粉を得る第１工程、前記第１工程により得られたホウ化物粗粉を、水素ガスを含む雰囲気下に暴露する第２工程、前記第２工程により得られたホウ化物粗粉を減圧雰囲気下に暴露する第３工程を含むことを特徴とするホウ化物微粒子の製造方法を提供することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、水素の吸収によりホウ化物粗粉が崩壊するので、平均分散粒子径１．５μｍ以下のホウ化物微粒子を容易に得ることができる。所望の分散粒子径のホウ化物微粒子を得るために粉砕・分散処理を追加するとしても、本発明によれば、分散時間を大幅に短縮することができ、ひいては、高い生産効率の達成が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施形態に係る拡散透過プロファイルの測定原理を示す説明図である。
【図２】本発明の実施形態に係る拡散透過プロファイルの測定原理を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形及び置換を加えることができる。
【００１８】
１．ホウ化物微粒子について
本発明に係る製造方法によって製造されるホウ化物微粒子は一般式ＸＢｍで表されるものである。式中、Ｘは、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素である。また、ｍは、一般式におけるホウ素（Ｂ）の量を示す数字、具体的には、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（モル比）（Ｂ／Ｘ）である。ｍは、特に限定されるものではないが、３．０以上２０．０以下であることが好ましい。
【００１９】
一般式ＸＢｍで表されるホウ化物微粒子を構成するホウ化物としては、例えばＸＢ４、ＸＢ６、ＸＢ１２等が挙げられる。しかし、波長１０００ｎｍ付近における近赤外領域の光の透過率を選択的に効率よく低下させる観点から、本実施形態のホウ化物微粒子は、ＸＢ４、またはＸＢ６が主体となっていることが好ましく、一部にＸＢ１２を含んでいてもよい。
【００２０】
このため、上記一般式ＸＢｍにおける、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｘ）であるｍは、４．０以上６．３以下が好ましく、さらには５．６以上６．３以下であることがより好ましい。
【００２１】
なお、上記（Ｂ／Ｘ）が４．０以上の場合、ＸＢや、ＸＢ２等の生成を抑制することができ、理由は明らかではないが、日射遮蔽特性、特に赤外線遮蔽特性を向上させることができる。また、上記（Ｂ／Ｘ）が６．３以下の場合には、特に赤外線遮蔽特性に優れた六ホウ化物の含有割合を増加させることができ、赤外線遮蔽特性が向上するため好ましい。
【００２２】
特に、ホウ化物の中で近赤外線の遮蔽能が高いことから、本実施形態のホウ化物微粒子はＸＢ６が主体になっていることが好ましい。
【００２３】
このため、一般式ＸＢｍで表される本実施形態のホウ化物微粒子において、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｘ）であるｍは、５．６以上６．３以下であることがさらに好ましい。
【００２４】
なお、ホウ化物微粒子を製造した場合、得られるホウ化物微粒子を含む粉体は、単一の組成のホウ化物の粒子のみから構成されるものではなく、複数の組成のホウ化物を含む粒子とすることができる。具体的には例えばＸＢ４、ＸＢ６、ＸＢ１２等のホウ化物の混合物の微粒子とすることができる。
【００２５】
従って、例えば、代表的なホウ化物微粒子である六ホウ化物の粒子について、Ｘ線回折の測定を行った場合に、Ｘ線回折の分析上、単一相であっても、実際には微量に他相を含んでいると考えられる。
【００２６】
そこで、本実施形態のホウ化物微粒子の一般式ＸＢｍにおけるｍは、例えば得られたホウ化物微粒子を含む粉体をＩＣＰ発光分光分析法（高周波誘導結合プラズマ発光分光分析法）等により化学分析した場合の、Ｘ元素１原子に対するホウ素（Ｂ）の原子数比とすることができる。
【００２７】
本実施形態のホウ化物微粒子の金属元素（Ｘ）は上記一般式に示したように特に限定されるものではなく、例えばＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｇｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｙ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素とすることができる。
【００２８】
ただし、ランタンの六ホウ化物である、六ホウ化ランタンは特に近赤外線の吸収能が高いことから、本実施形態のホウ化物微粒子は、六ホウ化ランタン粒子を含むことが好ましい。
【００２９】
また、ホウ化物微粒子中の炭素量（炭素濃度）を所定値以下とすることで、容易に微粉砕できるホウ化物微粒子とすることができる。この理由は明らかではないが、例えばホウ化物微粒子中に含まれる炭素が、ホウ化物微粒子中の他の成分と反応する等して、ホウ化物微粒子の硬度を増加させるため、炭素の含有量を所定値以下にすることで、容易に微粉砕できるようになると考えられる。
【００３０】
本実施形態のホウ化物微粒子中に含まれる炭素量は、燃焼−赤外線吸収法により測定することができる。そして、燃焼−赤外線吸収法により測定した、本実施形態のホウ化物微粒子に含まれる炭素量は、０．２重量％以下であることが好ましく、０．１重量％以下であることがより好ましい。
【００３１】
なお、既述のホウ化物微粒子を用いた場合に、湿式粉砕の際のスラリーのゲル化等の問題が発生することなく効率的に平均分散粒子径が８５ｎｍ以下まで粉砕が可能になる理由について、本発明の発明者らは以下のように推察している。
【００３２】
なお、ここで、湿式粉砕とは湿式媒体撹拌ミルを用いて、水や溶媒等の液体とメディアビーズ等を用いる粉砕である。
【００３３】
ホウ化物微粒子は硬質なために、湿式媒体撹拌ミルを用いて粉砕する際に、メディアビーズが摩耗した微粉がスラリー中に混入してしまう。このとき、炭素濃度の増大に伴いホウ化物微粒子の硬度が増大するため、含有する炭素濃度が０．２重量％よりも高いホウ化物微粒子を湿式媒体撹拌ミルに投入した場合、大量のメディアビーズの摩耗微粉がスラリー中へ混入してしまう。係るメディアビーズの摩耗微粉の混入がスラリーの粘度を上昇させる原因となっている。
【００３４】
これに対して、含有する炭素量（炭素濃度）が０．２重量％以下のホウ化物微粒子を原料として用いることで、平均分散粒子径が８５ｎｍ以下まで粉砕する場合、メディアビーズの摩耗微粉の混入量が大きく減少するので、スラリーの粘度が悪化することなく効率的に粉砕が可能であると推察している。但し、スラリーの粘度上昇については未解明な点も多く、上記以外の作用が働いている可能性もあるため、上記作用に限定されるわけではない。
【００３５】
ところで、六ホウ化物微粒子等のホウ化物の粒子は暗い青紫等に着色した粉末であるが、粒径が可視光波長に比べて十分小さくなるように粉砕し、膜中に分散した状態においては膜に可視光透過性が生じる。同時に、赤外線遮蔽能が発現する。
【００３６】
この理由については詳細に解明されていないが、これらのホウ化物材料は自由電子を比較的多く保有し、４ｆ−５ｄ間のバンド間遷移や電子−電子、電子−フォノン相互作用による吸収が近赤外領域に存在することに由来すると考えられる。
【００３７】
実験によれば、これらのホウ化物微粒子を十分細かくして平均分散粒子径が１００ｎｍ以下となったホウ化物微粒子を均一に分散した膜では、膜の透過率が、波長４００ｎｍ以上７００ｎｍ以下の領域内に極大値をもち、かつ波長７００ｎｍ以上１８００ｎｍ以下の領域に極小値をもつことが確認される。可視光波長が３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下であり、視感度が５５０ｎｍ付近をピークとする釣鐘型であることを考慮すると、このような膜では可視光を有効に透過し、それ以外の日射光を有効に吸収・反射することが理解できる。
【００３８】
本実施形態の、ホウ化物微粒子の平均分散粒子径は１．５μｍ以下であることが好ましい。
【００３９】
本実施形態のホウ化物微粒子の平均分散粒子径の下限値は特に限定されないが、例えば１ｎｍ以上であることが好ましい。
【００４０】
なお、ここでいう平均分散粒子径とは動的光散乱法に基づく粒径測定装置により測定することができる。
【００４１】
以上に説明した本実施形態のホウ化物微粒子は、炭素の含有量が所定値以下であるため、容易に微粉砕され、例えば平均分散粒子径が１００ｎｍ以下とすることができる。このため、本実施形態のホウ化物微粒子が分散された赤外線遮蔽光学部材は、太陽光やスポットライト等の強い光が照射された場合でもブルーヘイズが生じることを抑制できる。
【００４２】
２．ホウ化物微粒子の製造方法について
本発明に係るホウ化物微粒子の製造方法は、平均結晶子径が１μｍ未満のホウ化物粗粉を得る第１工程と、前記第１工程により得られた前記ホウ化物粗粉を、水素ガスを含む雰囲気下に暴露する第２工程と、前記第２工程により得られた前記ホウ化物粗粉を減圧雰囲気下に暴露する第３工程とを含む。
【００４３】
本願発明に係るホウ化物微粒子の製造方法によって、高い生産効率をもって赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液ならびにそれを用いた赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体を製造することができる。なお、本発明においては、第３工程（水素分子脱離工程）前のホウ化物粒子をホウ化物粗粉と呼ぶ。
【００４４】
２−１．第１工程
第１工程で得られるホウ化物粗粉は、一般式ＸＢｍ（但し、Ｘは、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｓｒ、Ｃａから選ばれる１種類以上の金属元素）で表され、平均結晶子径が１μｍ未満であれば特に限定されない。
【００４５】
ここで、第１工程で得られるホウ化物粗粉の平均結晶子径が１μｍ未満であると、後述する第４工程での粉砕処理が容易になる。ホウ化物粗粉は、次の第２工程によってホウ化物粗粉の結晶子の単位迄脆化されるからである。ホウ化物粗粉の平均結晶子径は０．８μｍ以下が望ましく、さらには０．６μｍ以下であることが望ましい。かかる平均結晶子径のホウ化物粗粉ならば、第４工程の粉砕処理で平均分散粒径を１００ｎｍ以下としやすい。
【００４６】
また、上記一般式ＸＢｍにおける、金属元素（Ｘ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｘ）であるｍは、４．０以上６．３以下であること好ましく、５．６以上６．３以下であるとより好ましい。
【００４７】
第１工程は、Ｘを含む化合物と、ホウ素（Ｂ）を含む化合物とを含む混合物を得る工程と、その混合物を、減圧雰囲気（真空）または不活性ガス雰囲気下において１２００℃以上１６００℃以下で熱処理して、一般式ＸＢｍで表されるホウ化物粗粉を得る工程とを含むものとすることができる。
【００４８】
ここで、ホウ化物粗粉の原料のうち前記Ｘを含む化合物は、Ｘの水酸化物粒子及び／又は水和物粒子の場合ならば平均粒径０．１μｍ未満であり、前記Ｘを含む化合物が、Ｘの酸化物粒子の場合ならば平均粒径２０μｍ以下が望ましい。一方、ホウ化物粗粉の原料のうち前記ホウ素（Ｂ）を含む化合物が、平均粒径６０μｍ以下のＢ４Ｃであることが望ましい。
【００４９】
ホウ化物粗粉の原料が上述の化合物と粒径の関係であれば、例えば後述の固相反応法で得られるホウ化物粗粉の平均結晶子径を１μｍ未満とすることが容易となる。
【００５０】
また、第１工程は、Ｘを含む化合物と、ホウ素（Ｂ）と、炭素（Ｃ）とを含む混合物を得る工程と、その混合物を、減圧雰囲気または不活性ガス雰囲気下において１２００℃以上１６００℃以下で熱処理して、一般式ＸＢｍで表されるホウ化物粗粉を得る工程とを含むものとすることができる。
【００５１】
第１工程の一構成例としては、固相反応法や熱プラズマ法等が挙げられる。中でも、炭素又は炭化ホウ素を還元剤として用いた固相反応法が好ましい。
【００５２】
以下、金属元素としてランタンを用いたホウ化物粗粉を製造する場合を例に説明する。
【００５３】
金属元素Ｘとしてランタンを用いたホウ化物粗粉は、ホウ素源と、還元剤と、ランタン源とを含む混合物を焼成することによって製造できる。
【００５４】
具体的には、例えばホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素（ホウ素を含む化合物）を、ランタン源として酸化ランタン（金属元素Ｘを含む化合物）を用いて、ホウ化ランタン粒子を製造する場合、まず炭化ホウ素と、酸化ランタンとの原料混合物を調製する。次いで、該原料混合物を減圧雰囲気中もしくは不活性ガス雰囲気中で焼成することにより、炭化ホウ素中の炭素によってランタン酸化物が還元され、一酸化炭素及び二酸化炭素が発生して炭素は除去される。さらに、残ったランタンとホウ素からホウ化ランタンが得られる。減圧雰囲気中もしくは不活性ガス雰囲気中での焼成温度は１２００℃以上１６００℃以下が、平均結晶子径１μｍ未満のホウ化物粗粉を得るために望ましい。また、焼成の際は、反応時のガスの除去の観点から減圧条件がより望ましく、０．００１ＭＰａ以下の圧力がより望ましい。
【００５５】
なお、炭化ホウ素由来の炭素は、一酸化炭素及び二酸化炭素として完全に除去されるのではなく、一部がホウ化ランタン粒子中に残留して不純物炭素となる。そのため、原料中の炭化ホウ素の割合を増加させると得られるホウ化ランタン粒子中の不純物炭素濃度が増大する。
【００５６】
既述のように、得られるホウ化物粒子を含む粉体は、単一の組成のホウ化物の粒子のみから構成されるものではなく、ＬａＢ４、ＬａＢ６、ＬａＢ１２等の混合物の粒子となる。従って、得られるホウ化物粒子を含む粉体について、Ｘ線回折の測定を行った場合に、Ｘ線回折の分析上、ホウ化物について単一相であっても、実際には微量に他相を含んでいると考えられる。
【００５７】
ここで、上述のように炭化ホウ素と酸化ランタンとを原料として用いる場合、原料の炭化ホウ素中のホウ素、及び酸化ランタン中のランタンの元素比Ｂ／Ｌａは、特に限定されるものではないが、３．０以上２０．０以下であることが好ましい。
【００５８】
特に、原料の炭化ホウ素中のホウ素、及び酸化ランタン中のランタン元素の元素比Ｂ／Ｌａが４．０以上の場合、ＬａＢ、ＬａＢ２等の生成を抑制できる。また、理由は明らかではないが、赤外線遮蔽特性を向上することができる。
【００５９】
一方、原料の炭化ホウ素中のホウ素、及び酸化ランタン中のランタンの元素比Ｂ／Ｌａが６．３以下の場合、さらに好ましくは５．６以上６．３以下の場合、ホウ化物粒子以外に酸化ホウ素粒子が生成することが抑制される。酸化ホウ素粒子は吸湿性があるため、ホウ化物粒子を含む粉体中に酸化ホウ素粒子が混入するとホウ化物粒子を含む粉体の耐湿性が低下し、赤外線遮蔽特性の経時劣化が大きくなってしまう。
【００６０】
このため、原料の炭化ホウ素中のホウ素、及び酸化ランタン中のランタンの元素比Ｂ／Ｌａを６．３以下として酸化ホウ素粒子の生成を抑制することが好ましい。また、元素比Ｂ／Ｌａが６．３以下の場合には、特に赤外線遮蔽特性に優れた六ホウ化物の含有割合を増加させることができ、赤外線遮蔽特性が向上するため好ましい。
【００６１】
さらに不純物炭素濃度を低減するためには、可能な限り原料中の炭化ホウ素の割合を低下させることが有効である。そこで、例えばＢ／Ｌａを６．３以下としてホウ化ランタンの粒子を生成することで、より確実に不純物炭素濃度が０．２重量％以下のホウ化ランタンの粒子を含む粉体が得られる。
【００６２】
以上に説明したように、原料として、炭化ホウ素と、酸化ランタンを用いて、ホウ化ランタンの粒子を含む粉体を得る場合、炭化ホウ素中のホウ素とランタン酸化物中のランタンの元素比（モル比）Ｂ／Ｌａは４．０以上６．３以下とすることがより好ましい。原料の組成を上記範囲とすることで、得られるホウ化ランタンの粒子を含む粉体中の、不純物炭素濃度を低く抑制すると同時に高い赤外線遮蔽特性を示すホウ化ランタン粒子を含有する粉体を得ることができる。
【００６３】
また、特に、得られるホウ化ランタンの粒子は、ＬａＢ６が主体になっていることが好ましい。これは、ＬａＢ６は特に近赤外線の吸収能が高いからである。
【００６４】
このため、原料の炭化ホウ素中のホウ素、及び酸化ランタン中のランタン元素の元素比Ｂ／Ｌａは、５．６以上６．３以下であることがさらに好ましい。
【００６５】
なお、ここでは、ホウ素源及び還元剤として炭化ホウ素を、ランタン源として酸化ランタンを用いて、ホウ化ランタン粒子を製造する場合を例に説明したが、係る形態に限定されるものではない。例えばホウ素源としてホウ素を、還元剤として炭素を、ランタン源として酸化ランタンをそれぞれ用いることもできる。この場合、生成物中に、余剰の炭素や、酸素が残留しないように、予備試験等を行い、各成分の混合比率を選択することが好ましい。
【００６６】
２−２．第２工程
本発明に係るホウ化物微粒子の製造方法の第２工程では、第１工程により得られたホウ化物粗粉を水素ガスを含む雰囲気下に暴露する。水素ガスの水素分子は、ホウ化物粗粉の結晶子（一次粒子）の粒界に拡散し、体積膨張によってホウ化物粗粉が脆化する。
【００６７】
ホウ化物粗粉を水素ガスを含む雰囲気に暴露する条件は、温度が５０℃以下であることが望ましい。温度が５０℃を超えた水素ガスを含む雰囲気にホウ化物粗粉を暴露すると、ホウ化物粗粉への水素分子の吸着よりも水素分子の発散が促進し、ホウ化物粗粉の脆化が促進され難い。
【００６８】
水素ガスを含む雰囲気の圧力は、過度の減圧は望ましくなく、少なくとも０．００１ＭＰａ以上が望ましい。安全性や水素ガスを含む雰囲気を構成するガスのコストから０．００１ＭＰａから大気圧が望ましい。なお、前記第１工程を経たホウ化物粗粉を水素ガスを含む雰囲気に暴露する為には、前記ホウ化物粗粉を充填した容器内を減圧雰囲気に暴露して、その後、水素ガスで所望の圧力まで復圧すればよい。
【００６９】
第２工程で、第１工程で得たホウ化物粗粉１ｋｇを水素ガスを含む雰囲気に暴露する時間は３０分以上である。ただし、ホウ化物粗粉の量が１ｋｇを超える場合、水素ガスを含む雰囲気に暴露する時間を長くする必要がある。
【００７０】
水素ガスを含む雰囲気は、水素ガスの他にアルゴンガス等不活性ガスを含んでもよいが、不可避不純物が含まれる純水素ガスが望ましい。
【００７１】
また、ホウ化物粗粉の粒界に水素が吸着しやすいことから、ホウ化物粗粉のＸ元素は希土類元素が望ましい。
【００７２】
２−３．第３工程
本発明に係るホウ化物微粒子の製造方法の第３工程では、第２工程で水素分子を吸着したホウ化物粗粉から水素分子を脱離させる。そのため、第２工程により得られたホウ化物粗粉を減圧雰囲気下に暴露し、さらに好ましくは室温以上１０００℃以下の減圧雰囲気下に暴露する。第３工程で第２工程を経たホウ化物粗粉１ｋｇを暴露する時間は３０分以上である。ただし、ホウ化物粗粉の量が１ｋｇよりも多い場合、減圧雰囲気下に暴露する時間を長くする必要がある。ここで、室温とは１５℃である。また、第３工程の減圧雰囲気は、０．００１ＭＰａ以下の減圧雰囲気が望ましく、ホウ化物粗粉の表面酸化や粒界の酸化を防ぐ為、アルゴンガス等の希ガスの不活性ガスで満たされた減圧雰囲気が望ましい。
【００７３】
第３工程によりホウ化物粗粉から水素分子が脱離すると、結晶子径（一次粒子）と等しい粒子径のホウ化物微粒子が得られる。ただし、第３工程で得られるホウ化物微粒子は、各微粒子が接近し凝集していることがあるので、第４工程の粉砕処理などにより解砕をすることが望ましい。
【００７４】
２−４．第４工程
第３工程により得られたホウ化物微粒子は、例えば湿式媒体撹拌ミルを用いて第４工程の粉砕処理等を行うことで、例えば１００ｎｍ以下の平均分散粒子径を有するホウ化物微粒子とすることができる。なお、粉砕処理は湿式粉砕処理には限定されず、ジェットミルなどの乾式粉砕処理を用いてもよい。また、メカニカル法による解砕処理を用いてもよい。
【００７５】
湿式媒体撹拌ミルを用いる場合の溶媒には、具体的には、メタノール（ＭＡ）、エタノール（ＥＡ）、１−プロパノール（ＮＰＡ）、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、ペンタノール、ベンジルアルコール、ジアセトンアルコール等のアルコール系溶媒、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルプロピルケトン、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、シクロヘキサノン、イソホロン等のケトン系溶媒、３−メチル−メトキシ−プロピオネート（ＭＭＰ）等のエステル系溶媒、エチレングリコールモノメチルエーテル（ＭＣＳ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（ＥＣＳ）、エチレングリコールイソプロピルエーテル（ＩＰＣ）、プロピレングリコールメチルエーテル（ＰＧＭ）、プロピレングリコールエチルエーテル（ＰＥ）、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールエチルエーテルアセテート（ＰＥ−ＡＣ）等のグリコール誘導体、フォルムアミド（ＦＡ）、Ｎ−メチルフォルムアミド、ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）等のアミド類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、エチレンクロライド、クロルベンゼン等のハロゲン化炭化水素類等を挙げることができ、これらの中から選択した１種類、または２種類以上を組みあわせて用いることができる。
【００７６】
上記した中でも、溶媒としては極性の低い有機溶媒をより好ましく用いることができ、特にＭＩＢＫ、ＭＥＫ等のケトン類や、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、ＰＧＭＥＡ、ＰＥ−ＡＣ等のグリコールエーテルアセテート類等、疎水性の高いものがより好ましい。このため、これらの中から選択した１種類または２種類以上を組みあわせて用いることがより好ましい。
【実施例】
【００７７】
以下、本発明について実施例を挙げ、さらに具体的に説明する。但し、本発明は、以下の実施例に限定されるものではない。
【００７８】
ここでまず以下の実施例、比較例における試料の評価方法について説明する。
【００７９】
（ホウ化物粒子の平均結晶子径）
以下の実施例、比較例で焼成したホウ化物粒子について、粉末ＸＲＤ装置（スペクトリス（株）ＰＡＮａｌｙｔｉｃａｌ製  型式：Ｘ'Ｐｅｒｔ−ＰＲＯ／ＭＰＤ）を用いて粉末Ｘ線回折法（θ―２θ法）によりＸ線回折パターンを測定し、リートベルト解析法を用いた結晶構造解析により、ホウ化物粒子の平均結晶子径を算出した。
【００８０】
（ホウ化物粗粉及びホウ化物微粒子中の炭素濃度）
以下の実施例、比較例で作製したホウ化物粗粉及びホウ化物微粒子中の炭素量（炭素濃度）は、燃焼−赤外線吸収法で測定した。
【００８１】
（ホウ化物粗粉及びホウ化物微粒子の組成）
以下の実施例、比較例で得られたホウ化物粗粉及びホウ化物微粒子について、ＩＣＰ（島津製作所製社製  型式：ＩＣＰＥ９０００）を用いて分析を行い、一般式ＬａＢｍで表した場合のランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（モル比）（Ｂ／Ｌａ）であるｍの値を算出した。
【００８２】
（平均分散粒子径）
以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散液中のホウ化物微粒子の平均分散粒子径は動的光散乱法に基づく粒径測定装置（大塚電子（株）製  型式：ＥＬＳ−８０００）により測定した。粒子屈折率は１．８１とし、粒子形状は非球形を用いた。バックグラウンドはトルエンで測定し、溶媒屈折率は１．５０とした。
【００８３】
（可視光透過率）
以下の実施例、比較例中の可視光透過率とは、試料に垂直入射する昼光の光束について透過光束の入射光束に対する比である。ここで、上記昼光とは、国際照明委員会が定めたＣＩＥ昼光を意味する。このＣＩＥ昼光では、観測データに基づき黒体放射の色温度と同じ色温度の昼光の分光照度分布を波長５６０ｎｍの値に対する相対値で示している。また、上記光束とは、放射の波長ごとの放射束と視感度（人の目の光に対する感度）の値の積の数値を波長について積分したものである。つまり、可視光透過率とは、波長３８０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下の領域の光透過量を人の目の視感度で規格化した透過光量の積算値で人の目の感じる明るさを意味する値である。
【００８４】
可視光透過率は、分光光度計（日立製作所製  型式：Ｕ−４１００）を使用して、以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体について、波長３００ｎｍ以上２６００ｎｍ以下の範囲において５ｎｍの間隔で測定している。
【００８５】
（ヘイズ）
以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体のヘイズ値はヘイズメーター（村上色彩技術研究所製  型式：ＨＭ−１５０）を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５−１９８１に基づき測定を行なった。
【００８６】
（拡散透過プロファイルの極大値）
以下の実施例、比較例で作製した赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体について、分光器として、分光光度計（日立製作所製  型式：Ｕ−４１００）を使用し、波長３００ｎｍ以上８００ｎｍ以下の範囲で１ｎｍの間隔で拡散透過率を測定した。そして、得られた拡散透過プロファイルから極大値を求めた。なお、各実施例、比較例において、可視光透過率が５０％となるように、厚さを調整した点以外は、各実施例、比較例と同様の条件で、拡散透過プロファイル測定用の赤外線遮蔽ホウ化物微粒子分散体を作製し、評価を行った。
【００８７】
拡散透過プロファイルを測定する測定装置については、図１および図２を用いて以下の通り説明する。
【００８８】
図１、図２に示すように該測定装置１０は、積分球１４を備えている。そして、積分球１４は、球状本体内面が拡散反射性を有し、かつ測定試料１２（図２参照）が取り付けられる第一開口部１４１、標準反射板１５またはライトトラップ部品１６が取り付けられる第二開口部１４２、及び受光器１３が取り付けられる第三開口部１４３を有している。
【００８９】
また、第一開口部１４１を介して球状空間内に入射される直線光を出射する光源１１と、上記受光器１３に取り付けられかつ受光された反射光または散乱光を分光する図示しない分光器と、上記分光器に接続されかつ分光された反射光または散乱光の分光データを保存する図示しないデータ保存手段と、保存されたブランク透過光強度と拡散透過光強度の各分光データから拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を得る図示しない演算手段を具備している。
【００９０】
ここで、積分球１４は、球状本体内面に硫酸バリウム若しくはスペクトラロン（ＳＰＥＣＴＲＡＬＯＮ：登録商標）等が塗布されて拡散反射性を有するもので、標準反射板１５への入射角は、標準側、対照側とも例えば１０°とすることができる。また、上記受光器１３としては、例えば、光電子倍増管(紫外・可視光領域)や、冷却硫化鉛（近赤外光領域）を使用したものを用いることができる。また、受光器１３に取り付けられる図示しない分光器については、紫外・可視光領域の波長測定範囲、測光正確さ（±０．００２Ａｂｓ）が必要である。
【００９１】
次に、球状空間内に入射される直線光を出射する光源１１としては、例えば、紫外領域は重水素ランプ、可視・近赤外領域は５０Ｗハロゲンランプを適用できる。
【００９２】
また、標準反射板１５には、例えば材質がスペクトラロン（ＳＰＥＣＴＲＡＬＯＮ）の白板を用いることができ、上記ライトトラップ部品１６には、入射された直線光を反射させずにトラップする機能が必要で、例えば、入射された直線光をほぼ完全に吸収するダークボックスが用いられる。
【００９３】
そして、上記拡散透過プロファイルの測定装置を用いて、測定試料である赤外線遮蔽粒子分散体等の拡散透過プロファイルの極大値を、ブランク透過光強度測定工程と、拡散透過光強度測定工程と、拡散透過率演算工程との各工程により評価できる。
【００９４】
まず、ブランク透過光強度測定工程においては、図１に示すように積分球１４の第二開口部１４２に標準反射板１５を取り付け、第一開口部１４１に測定試料を取り付けない状態で光源１１からの直線光を第一開口部１４１を介し球状空間内に入射させる。そして、標準反射板１５で反射された反射光を受光器１３で受光し、かつ、受光器１３に取り付けられた図示しない分光器により分光して反射光の分光データを得る。この際の分光データが、ブランク透過光強度となる。
【００９５】
次に、上記拡散透過光強度測定工程においては、図２に示すように積分球１４の第二開口部１４２にライトトラップ部品１６を取り付ける。そして、第一開口部１４１に測定試料１２を取り付けた状態で光源１１からの直線光を測定試料１２と第一開口部１４１を介し、球状空間内に入射させると共に、ライトトラップ部品１６でトラップされた光以外の散乱光を受光器１３で受光する。この際、受光器１３に取り付けられた図示しない分光器により分光して散乱光の分光データを得る。この際の分光データが、拡散透過光強度となる。
【００９６】
そして、上記拡散透過率演算工程において、図示しないデータ保存手段（図示せず）により保存されたブランク透過光強度と拡散透過光強度の各分光データに基づき、図示しない演算手段により拡散透過光強度とブランク透過光強度の波長毎の比をそれぞれ演算して波長毎の拡散透過率を求めると共に、得られた波長毎の拡散透過率から、測定試料１２の拡散透過プロファイルにおける波長３６０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の領域の極大値を求めることができる。
【００９７】
ここで、拡散透過プロファイルを測定する測定装置においては、上記光源１１と測定試料１２との間に光線調整用の光学系を設けてもよい。そして、この光学系では、例えば複数枚のレンズを組み合わせて平行光を調整し、絞りにより光量の調整を行う。場合によっては、フィルターによって特定波長のカットを行ってもよい。
【００９８】
［実施例１］
１０％Ｌａ(ＮＯ３)３６Ｈ２Ｏ水溶液１０ｋｇに、室温で攪拌しながら、１５％ＮＨ４ＯＨ溶液２．９ｋｇを２０分間かけて滴下して沈殿を生成させ、滴下後さらに１０分間攪拌を継続して熟成した。
【００９９】
次に、純水を用い、デカンテーションにて生成した沈殿の洗浄を行い、上澄み液の電導度が１ｍＳ／ｃｍ以下になるまで、これを繰り返した。洗浄後の沈殿を１０５℃で乾燥し、大気中６００℃で１時間焼成してＬａ２Ｏ３を約３００ｇ得た。該Ｌａ２Ｏ３粒子の平均粒子径Ｄ５０は、約１０μｍであった。
【０１００】
得られた平均粒子径が約１０μｍのＬａ２Ｏ３２５１．８ｇと、平均粒子径が約２２μｍのＢ4Ｃ粒子１２８．１ｇとを、Ｌａ元素とＢ元素との原子数比が１：６となるよう混合して均一混合物とした後、この均一混合物を減圧雰囲気下（約０．０２Ｐａ）、１５００℃で３時間焼成して、第１工程を経たＬａＢ６（六ホウ化ランタン）粗粉を主として含む粉体を約３００ｇ得た。該ＬａＢ６粗粉の平均粒子径Ｄ５０は、５．０μｍであった。また、該ＬａＢ６粗粉のＸ線回折パターンを測定し、平均結晶子径を算出したところ、０．６μｍであった。
【０１０１】
次に、該ＬａＢ６粗粉を、円筒形のヒーター内蔵型ステンレス容器（φ１００ｍｍ）に入れ、容器内をロータリーポンプで減圧して水素ガスを導入し、水素ガス圧力を約０．０１ＭＰａとした。約５分後に水素の吸収が始まり、反応容器内の水素ガス圧力を０．０１〜０．０２ＭＰａになるように調整して約１時間室温で暴露し、第２工程を経たＬａＢ６粗粉を得た。
【０１０２】
次に、再び容器内をロータリーポンプで減圧して、容器内圧力を０．００１ＭＰａ以下とし、室温の状態で３０分保持して、崩壊したＬａＢ６粗粉の粒界中に侵入した水素分子を除去した。その後、容器から第３工程を経たＬａＢ６微粒子を取り出した。
【０１０３】
得られたＬａＢ６微粒子の含有炭素濃度を燃焼−赤外線吸収法で測定したところ、炭素量は０．０５重量％であった。得られたＬａＢ６微粒子の組成を評価したところ、一般式ＬａＢｍにおける、ランタン元素（Ｌａ）に対するホウ素（Ｂ）の元素比（Ｂ／Ｌａ）であるｍは、６．０であることが確認できた。
【０１０４】
次に、得られたＬａＢ６微粒子をトルエン中に投じたところ、崩壊してスラリーが得られた。崩壊したＬａＢ６微粒子の平均分散粒子径は０．８μｍであった。スラリー組成がＬａＢ６微粒子１０重量部、トルエン８０重量部、分散剤（アミノ基を有するアクリル系高分子分散剤）１０重量部の割合となるように秤量、混合し、３ｋｇのスラリーを調製した。このスラリーをビーズと共に湿式媒体撹拌ミルに投入し、スラリーを循環させ、第４工程として１０時間の粉砕・分散処理を行った。
【０１０５】
使用した湿式媒体撹拌ミルは横型円筒形のアニュラータイプ（アシザワ株式会社製）であり、ベッセル内壁とローター（回転撹拌部）の材質はＺｒＯ２とした。また、上記ビーズには、直径０．３ｍｍのＹＳＺ（Ｙｔｔｒｉａ−Ｓｔａｂｉｌｉｚｅｄ  Ｚｉｒｃｏｎｉａ：イットリア安定化ジルコニア）製のビーズを使用した。ローターの回転速度は１３ｍ／秒とし、スラリー流量１ｋｇ／分にて粉砕し、ＬａＢ６微粒子分散液を得た。第４工程を経て得られたＬａＢ６微粒子の平均分散粒子径を測定したところ７０ｎｍであった。
【０１０６】
さらに、得られたＬａＢ６微粒子分散液に紫外線硬化樹脂及び溶媒のトルエンと混合し、厚さ３ｍｍのガラス基板上にバーコーター（井元製作所製ＩＭＣ−７００）で塗布して塗布膜を形成し、この塗布膜から溶媒を蒸発させた後、紫外線照射して塗布膜を硬化させてコーティング層を得て、赤外線遮蔽ガラスを得た。このとき、当該赤外線遮蔽ガラスの可視光透過率が７０％になるように予め溶媒のトルエンによる希釈で分散液の濃度を調整した。
【０１０７】
得られた赤外線遮蔽ガラスの可視光透過率を測定したところ、可視光透過率は約７０％で可視光領域の光を十分透過していることが確認された。また、得られた赤外線遮蔽ガラスのヘイズを測定したところ、０．３％であった。また、波長３６０ｎｍ〜５００ｎｍ領域における拡散透過プロファイルの極大値は０．８％であり、透明性が極めて高いことが確認された。
【０１０８】
また、実施例１において第２工程から第４工程のおおよその合計時間は１３時間であった。
【０１０９】
［比較例１］
焼成したＬａＢ６粗粉に水素を吸収させて崩壊させる工程と、ＬａＢ６粗粉中に侵入した水素を除去する工程を省き、それらの工程の代わりに、焼成したＬａＢ６粗粉を、ジェットミルを使用して粉砕する工程を追加した。その変更以外は、実施例１と同様の操作をすることで、比較例１に係るＬａＢ６微粒子を得た。ジェットミル工程においては、ガス圧０．６ＭＰａ／ｃｍ２、使用空気量０．８ｍ３／分の条件でＬａＢ６粒子を粉砕した。
【０１１０】
さらに、得られたＬａＢ６微粒子に対して、実施例１と同様の操作をすることで、比較例１に係るＬａＢ６微粒子分散液を調製した。このとき、ＬａＢ６微粒子の平均分散粒子径が７０ｎｍになるまで粉砕・分散処理したところ、要した時間は２０時間となり、粉砕・分散処理に長時間を要した。
【０１１１】
得られたＬａＢ６微粒子に対して、実施例１と同様の操作をすることで、比較例１に係る赤外線遮蔽ガラスを得た。得られた赤外線遮蔽ガラスに対して、実施例１と同様の評価を実施したところ、実施例１に係る赤外線遮蔽ガラスと同等の光学特性を示した。
【図１】
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【図２】
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