(57)【要約】【課題】データ量が小さい描画データを作成できる描画データ作成プログラム、描画データ作成装置、描画データ作成方法を提供する。【解決手段】描画データ作成プログラム７５ａは、描画データ作成装置７０に、サブデータ２０から配置領域２１，２２に重複する重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂを抽出する重複図形抽出ステップを実行させ、メインデータ１１，１２のメイン領域１１ａ，１２ａに対して、サブデータ２０の重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂを合成することにより、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂを作成する新メインデータ作成ステップを実行させる。【選択図】図４
2017228603.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理前データに基づいて、被描画体に描画する描画データを作成する描画データ作成プログラムであって、
処理前データは、
メイン領域及び前記メイン領域内の描画図形のデータを有するメインデータと、
サブ領域及び前記サブ領域内の描画図形のデータを有し、描画図形の一部が前記メイン領域の配置領域に重複する重複図形であるサブデータとを備え、
コンピュータに、
前記サブデータから前記配置領域に重複する重複図形を抽出する重複図形抽出ステップを実行させ、
前記メインデータの前記メイン領域に対して、前記サブデータの重複図形を合成することにより、新メインデータを作成する新メインデータ作成ステップを実行させること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項２】
請求項１に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
コンピュータに、
前記サブ領域のうち前記配置領域に重複しない領域である外領域及び前記外領域内の描画図形のデータである外領域データを作成する外領域データ作成ステップと、
前記新メインデータ、前記外領域データを組み合わせることにより、被描画体への描画データを作成する組み合わせステップとを実行させること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項３】
請求項２に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
コンピュータに、前記メインデータの描画図形をサイジング処理し、前記サブデータの描画図形をサイジング処理するサイジングステップを実行させ、
前記重複図形抽出ステップは、サイジング処理後の前記サブデータから重複図形を抽出し、
前記新メインデータ作成ステップは、サイジング処理後の前記メインデータに対して、抽出した重複図形を合成することにより前記新メインデータを作成し、
前記外領域データ作成ステップは、サイジング処理後の前記サブデータから前記外領域データを作成し、
前記組み合わせステップは、前記新メインデータに対して、サイジング処理後の前記外領域データを組み合わせることにより、描画データを作成すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の描画データ作成プログラムにおいて、
処理前データは、前記サブデータの複数の前記配置領域に対して、同じ前記メインデータを複数配置するための配置情報を備えるものであり、
コンピュータに、前記サブデータの重複図形を複数の前記配置領域間で比較することにより、同一形状である同一重複図形を判定する同一重複図形判定ステップを実行させ、
前記新メインデータ作成ステップは、同一重複図形を有する前記配置領域である同一領域については、１つの前記新メインデータである同一新メインデータを作成し、
前記組み合わせステップは、複数の同一領域の描画データとして、１つの前記同一新メインデータ及び前記同一新メインデータの個数情報を作成すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項５】
請求項２から請求項４のいずれかに記載の描画データ作成プログラムにおいて、
コンピュータに、前記新メインデータ、前記外領域データの塗り潰された領域と塗り潰されていない領域とを反転し、前記新メインデータの塗り潰された領域と塗り潰されていない領域とを反転する塗り潰し領域反転ステップを実行させ、
前記組み合わせステップは、塗り潰し領域反転処理後の前記メインデータ、前記外領域データを組み合わせること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項６】
請求項１から請求項５のいずれかに記載の描画データ作成プログラムにおいて、
コンピュータに、前記サブデータから前記配置領域及び重複図形を一体で抜き出す配置領域抜き出しステップを実行させ、
前記重複図形抽出ステップは、一体で抜き出した前記配置領域及び重複図形から重複図形を抽出すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項７】
請求項１から請求項６のいずれかに記載の描画データ作成プログラムにおいて、
処理前データは、
第１メインデータと、
前記第１メインデータとは異なる種類の第２メインデータとを備え、
前記重複図形抽出ステップは、
前記サブデータから、前記第１メインデータの配置領域に重複する第１重複図形を抽出し、
前記サブデータから、前記第２メインデータの配置領域に重複する第２重複図形を抽出し、
前記組み合わせステップは、
前記第１メインデータの第１メイン領域に対して前記第１重複図形を合成することにより第１新メインデータを作成し、
前記第２メインデータの第２メイン領域に対して前記第２重複図形を合成することにより第２新メインデータを作成すること、
を特徴とする描画データ作成プログラム。
【請求項８】
請求項１から請求項７のいずれかに記載の描画データ作成プログラムを記憶する記憶部と、
描画データ作成プログラムを実行することにより、処理前データのメインデータ及びサブデータに基づいて、描画データを作成する制御部と、
を備える描画データ作成装置。
【請求項９】
処理前データに基づいて、被描画体に描画する描画データを作成する描画データ作成方法であって、
処理前データは、
メイン領域及び前記メイン領域内の描画図形のデータを有するメインデータと、
サブ領域及び前記サブ領域内の描画図形のデータを有し、描画図形の一部が前記メイン領域の配置領域に重複する重複図形であるサブデータとを備え、
前記サブデータから前記配置領域に重複する重複図形を抽出する重複図形抽出ステップと、
前記メインデータの前記メイン領域に対して、前記サブデータの重複図形を合成することにより、新メインデータを作成する新メインデータ作成ステップとを備えること、
を特徴とする描画データ作成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被描画体に描画する描画データを作成する描画データ作成プログラム、描画データ作成装置、描画データ作成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、所望のパターン形状の設計パターンに基づいて、描画装置で利用可能な描画データを作成する方法があった（例えば特許文献１）。
しかし、従来の描画データは、データ量が大きかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８‐１４５８５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、データ量が小さい描画データを作成できる描画データ作成プログラム、描画データ作成装置、描画データ作成方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下のような解決手段により、課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。また、符号を付して説明した構成は、適宜改良してもよく、また、少なくとも一部を他の構成物に代替してもよい。
【０００６】
・第１の発明は、処理前データ（１０，２１０）に基づいて、被描画体（Ｗ）に描画する描画データ（４０，２４０）を作成する描画データ作成プログラムであって、処理前データは、メイン領域（１１ａ，１２ａ，２１１ａ）及び前記メイン領域内の描画図形のデータを有するメインデータ（１１，１２，２１１）と、サブ領域（２０ａ）及び前記サブ領域内の描画図形のデータを有し、描画図形の一部が前記メイン領域の配置領域（２１，２２，２２１）に重複する重複図形（２１ａ，２２ａ，２２ｂ，２２５ｂ−１，２２５ｃ，２２５ｄ−１）であるサブデータ（２０，２２０）とを備え、コンピュータ（７０）に、前記サブデータから前記配置領域に重複する重複図形を抽出する重複図形抽出ステップ（Ｓ７）を実行させ、前記メインデータの前記メイン領域に対して、前記サブデータの重複図形を合成することにより、新メインデータ（Ｎ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ，Ｎ２１１）を作成する新メインデータ作成ステップ（Ｓ７）を実行させること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第２の発明は、第１の発明の描画データ作成プログラムにおいて、コンピュータ（７０）に、前記サブ領域（２０ａ）のうち前記配置領域（２１，２２，２２１）に重複しない領域である外領域（３０ａ，２３０ａ）及び前記外領域内の描画図形のデータである外領域データ（３０，２３０）を作成する外領域データ作成ステップ（Ｓ８）と、前記新メインデータ（Ｎ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ，Ｎ２１１）、前記外領域データを組み合わせることにより、被描画体への描画データを作成する組み合わせステップ（Ｓ１０）とを実行させること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第３の発明は、第２の発明の描画データ作成プログラムにおいて、コンピュータ（７０）に、前記メインデータ（２１１）の描画図形（２１５）をサイジング処理し、前記サブデータ（２２０）の描画図形（２２５ａ〜２２５ｄ）をサイジング処理するサイジングステップを実行させ、前記重複図形抽出ステップ（７）は、サイジング処理後の前記サブデータから重複図形（２２５ｂ−１，２２５ｃ，２２５ｄ−１）を抽出し、前記新メインデータ作成ステップ（７）は、サイジング処理後の前記メインデータに対して、抽出した重複図形を合成することにより前記新メインデータ（Ｎ２１１）を作成し、前記外領域データ作成ステップ（８）は、サイジング処理後の前記サブデータから前記外領域データ（２３０）を作成し、前記組み合わせステップ（１０）は、前記新メインデータに対して、サイジング処理後の前記外領域データを組み合わせることにより、描画データ（２４０）を作成すること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第４の発明は、第２又は第３の発明の描画データ作成プログラムにおいて、処理前データ（１０）は、前記サブデータ（２０）の複数の前記配置領域（２１，２２）に対して、同じ前記メインデータ（１１，１２）を複数配置するための配置情報を備えるものであり、コンピュータ（７０）に、前記サブデータの重複図形（２１ａ，２２ａ，２２ｂ）を複数の前記配置領域（２１，２２）間で比較することにより、同一形状である同一重複図形（２１ａ，２２ａ）を判定する同一重複図形判定ステップ（Ｓ４，Ｓ６）を実行させ、前記新メインデータ作成ステップ（Ｓ７）は、同一重複図形を有する前記配置領域である同一領域については、１つの前記新メインデータ（Ｎ１１，Ｎ１２ａ）である同一新メインデータ（Ｎ２１，Ｎ２２ａ）を作成し、前記組み合わせステップ（Ｓ１０）は、複数の同一領域の描画データとして、１つの前記同一新メインデータ及び前記同一新メインデータの個数情報を作成すること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第５の発明は、第２から第４のいずれかの発明の描画データ作成プログラムにおいて、コンピュータ（７０）に、前記新メインデータ（Ｎ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ）、前記外領域データ（３０）の塗り潰された領域と塗り潰されていない領域とを反転し、前記新メインデータの塗り潰された領域と塗り潰されていない領域とを反転する塗り潰し領域反転ステップ（Ｓ９ａ）を実行させ、前記組み合わせステップ（Ｓ１０）は、塗り潰し領域反転処理後の前記メインデータ、前記外領域データを組み合わせること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第６の発明は、第１から第５のいずれかの発明の描画データ作成プログラムにおいて、コンピュータ（７０）に、前記サブデータから前記配置領域（２１，２２，２２１）及び重複図形（２１ａ，２２ａ，２２ｂ，２１ａ，２２５ｂ−１，２２５ｃ，２２５ｄ−１）を一体で抜き出す配置領域抜き出しステップ（Ｓ３，Ｓ５）を実行させ、前記重複図形抽出ステップ（Ｓ７）は、一体で抜き出した前記配置領域及び重複図形から重複図形を抽出すること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第７の発明は、第１から第６のいずれかの発明の描画データ作成プログラムにおいて、処理前データ（１０）は、第１メインデータ（１１）と、前記第１メインデータとは異なる種類の第２メインデータ（１２）とを備え、前記重複図形抽出ステップ（Ｓ７）は、前記サブデータ（２０）から、前記第１メインデータの配置領域（２１）に重複する第１重複図形（２１ａ）を抽出し、前記サブデータから、前記第２メインデータの配置領域（２２）に重複する第２重複図形（２２ａ）を抽出し、前記組み合わせステップ（Ｓ１０）は、前記第１メインデータの第１メイン領域（１１ａ）に対して前記第１重複図形を合成することにより第１新メインデータ（Ｎ１１）を作成し、前記第２メインデータの第２メイン領域（１２ａ）に対して前記第２重複図形を合成することにより第２新メインデータ（Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ）を作成すること、を特徴とする描画データ作成プログラムである。
・第８の発明は、第１から第７のいずれかの発明の描画データ作成プログラム（７５ａ）を記憶する記憶部（７５）と、描画データ作成プログラムを実行することにより、処理前データ（１０，２１０）のメインデータ（１１，１２，２１１）及びサブデータ（２０，２２０）に基づいて、描画データ（４０，２４０）を作成する制御部（７６）と、を備える描画データ作成装置である。
・第９の発明は、処理前データ（１０，２１０）に基づいて、被描画体（Ｗ）に描画する描画データ（４０，２４０）を作成する描画データ作成方法であって、処理前データは、メイン領域（１１ａ，１２ａ，２１１ａ）及び前記メイン領域内の描画図形のデータを有するメインデータ（１１，１２，２１１）と、サブ領域（２０ａ）及び前記サブ領域内の描画図形のデータを有し、描画図形の一部が前記メイン領域の配置領域（２１，２２，２２１）に重複する重複図形（２１ａ，２２ａ，２２ｂ，２１ａ，２２５ｂ−１，２２５ｃ，２２５ｄ−１）であるサブデータ（２０，２２０）とを備え、前記サブデータから前記配置領域に重複する重複図形を抽出する重複図形抽出ステップ（Ｓ７）と、前記メインデータの前記メイン領域に対して、前記サブデータの重複図形を合成することにより、新メインデータ（Ｎ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ，Ｎ２１１）を作成する新メインデータ作成ステップ（Ｓ７）と備えること、を特徴とする描画データ作成方法である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、データ量が小さい描画データを作成できる描画データ作成プログラム、描画データ作成装置、描画データ作成方法を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１実施形態の設計データ１０を示す図である。
【図２】第１実施形態の描画システム５０の構成を説明する図である。
【図３】第１実施形態の描画データ作成装置７０の描画データ作成処理を示すフローチャートである。
【図４】第１実施形態の設計データ１０から描画データ４０を作成する処理を説明する図である。
【図５】第１実施形態の設計データ１０から描画データ４０を作成する処理を説明する図である。
【図６】第１実施形態の設計データ１０から描画データ４０を作成する処理を説明する図である。
【図７】第２実施形態の設計データ２１０から描画データ２４０を作成する処理を説明する図である。
【図８】比較例の設計データ１１０から描画データ１４０を作成する処理を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（実施形態）
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。
（第１実施形態）
（設計データ１０）
図１は、第１実施形態の設計データ１０を示す図である。
設計データ１０（処理前データ）は、描画データ作成装置７０（図２参照）の描画データ作成処理（図３参照）によって、描画データ４０に加工される。
設計データ１０は、ウェハ上に形成する配線パターン等の形状を示すデータである。
フォトマスクＷ（図２参照）には、描画データ４０を用いて電子線照射を照射することにより、設計データ１０と同一形状の描画形状が形成されている。
なお、実際には、ウェハから転写時の形状を補正等するために、設計データ１０のパターン形状と、描画データ４０のパターン形状とは異なるが、第１実施形態では、分かりやすく説明するために、便宜上、両者を同一形状とした。
【００１０】
設計データ１０は、２種類のＩＣチップを、それぞれ３つずつ製造するためのデータである。
設計データ１０は、３つのメインデータ１１（第１メインデータ）、３つのメインデータ１２（第２メインデータ）、１つのサブデータ２０を備える。
また、設計データ１０は、サブデータ２０の描画領域であるサブ領域２０ａに、メインデータ１１，１２の描画領域であるメイン領域１１ａ，１２ａ（第１メイン領域，第２メイン領域）を配置するための配置情報（座標情報等）を有する。これにより、設計データ１０は、右図の設計データ１０Ａと同様な情報を表す。
【００１１】
メインデータ１１は、一方の種類のＩＣチップに関する主要なデータである。メインデータ１１は、四角形のメイン領域１１ａ、及びこれに描画される描画図形等の情報を備える。
メインデータ１２は、他方の種類のＩＣデータに関する主要なデータである。メインデータ１２は、四角形のメイン領域１２ａ、及びこれに描画される描画図形等の情報を備える。
なお、実施形態では、メインデータ１１，１２のメイン領域１１ａ，１２ａの外形は、同じである例を説明するが、これに限定されず、両者は、異なっていてもよい。
また、図面において、メインデータ１１，１２の描画図形は、簡略して示すが、実際には複数の微細パターンを備える。
【００１２】
サブデータ２０は、スクライブ（ウェハをＩＣチップに個片化する場合に切断される枠の部分）等のデータである。
サブ領域２０ａの外形は、各メイン領域１１ａ，１２ａの外形よりも大きい四角形である。
図面では、サブ領域２０ａ内の描画図形の詳細な図示は、省略する。
サブ領域２０ａに形成されるパターンの量は、メインデータ１１，１２のメイン領域１１ａ，１２ａに形成されるパターンの量に比べると、格段に少ない。このため、サブデータ２０のデータ量は、メインデータ１１，１２のデータ量に比べると、格段に小さい。
【００１３】
サブデータ２０は、配置領域２１，２２、枠領域３０ａ（外領域）を備える。
配置領域２１，２２は、メインデータ１１，１２のメイン領域１１ａ，１２ａが配置される領域である。
配置領域２１，２２は、重複図形２１ａ（第１重複図形）、重複図形２２ａ，２２ｂ（第２重複図形）を備える。
重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂは、配置領域２１，２２のコーナ部に設けられた小さな描画図形である。重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂと、配置領域２１，２２とは、重なっている。重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂは、例えば、製造上の理由等で、適宜設けられる。このため、同一種類のＩＣチップであっても、重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂの図形が異なる場合がある。
【００１４】
すなわち、一方の種類のＩＣチップのメインデータ１１に関しては、３つのメイン領域１１ａの配置領域２１の３つの重複図形２１ａは、全て同じ形状であり、また、同じ位置（左上コーナ部、右下コーナ部）に設けられている。
これに対して、他方の種類のメインデータ１２に関しては、３つのメイン領域１２ａの配置領域２２の重複図形２２ａ，２２ｂは、一部が異なる。つまり、上側及び中央の配置領域２２内の重複図形２２ａは、同じ形状であり、また、同じ位置（左上コーナ部、右下コーナ部）に設けられている。これに対して、下側の配置領域２２の重複図形２２ｂは、右下コーナ部のみである。
【００１５】
枠領域３０ａは、サブ領域２０ａのうち、配置領域２１，２２以外の枠状の部分である。
【００１６】
図２は、第１実施形態の描画システム５０の構成を説明する図である。
描画システム５０は、設計装置６０、描画データ作成装置７０、描画装置８０を備える。図示は省略するが、設計装置６０、描画データ作成装置７０、描画装置８０は、それぞれ送受信部（通信インターフェース等）を備えており、ＬＡＮ、インターネット等の通信網５２を介して、情報（設計データ１０、描画データ４０等）を送受信できる。
なお、これらの情報は、記憶媒体（ＣＤＲＯＭ等）を利用することにより、装置間を移動してもよい。この場合には、各装置は、記憶媒体に情報を書き込んだり、記憶媒体から情報を読み込むためのリーダライタ等を備えればよい。
【００１７】
なお、実施形態では、コンピュータとは、記憶装置（ハードディスク等）、制御装置（ＣＰＵ等）等を備えた情報処理装置をいい、設計装置６０、描画データ作成装置７０、描画装置８０は、記憶部６５，７５，８５、制御部６６，７６，８６等を備えた情報処理装置であり、コンピュータの概念に含まれる。
設計装置６０は、設計者が設計データ１０を作成するためのＣＡＤ等である。
【００１８】
描画データ作成装置７０は、設計データ１０に基づいて、描画データ４０を作成するための装置である。
描画データ作成装置７０は、記憶部７５、制御部７６を備える。
また、図示は省略するが、描画データ作成装置７０は、利用者が装置を操作するための操作部（キーボード、マウス等）、データを確認するための表示部（液晶表示装置等）を備える。
【００１９】
記憶部７５は、描画データ作成プログラム７５ａ、設計データ１０、描画データ４０を記憶する。
描画データ作成プログラム７５ａは、設計データ１０に基づいて、描画データ４０を作成するプログラムである。
設計データ１０は、設計装置６０で作成されたデータである。
描画データ４０は、描画データ作成処理で作成した描画データ４０である。
【００２０】
制御部７６は、描画データ作成プログラム７５ａに従って、描画データ作成処理を行うことにより、描画データ４０を作成する。
制御部７６は、サブデータ処理部７６ａ（サブデータ処理手段）、新メインデータ作成部７６ｂ（新メインデータ手段）、反転部７６ｃ（塗り潰し領域反転手段）、組み合わせ部７６ｄ（組み合わせ手段）を備える。
サブデータ処理部７６ａは、サブデータ２０の加工等を行う。
新メインデータ作成部７６ｂは、メインデータ１１，１２に対して、サブデータ２０の一部を合成することにより、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂを作成する。
反転部７６ｃは、描画領域のネガポジ反転処理をする。
組み合わせ部７６ｄは、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂに対して、サブデータ２０の枠領域３０ａの情報を組み合わせることにより、描画データ４０を作成する。
制御部７６の処理な詳細は、後述する。
【００２１】
描画装置８０は、フォトマスクＷ上に描画形状を描画する電子線描画装置である。描画装置８０は、描画データ作成装置７０が作成した描画データ４０に基づいて、描画形状を描画する。描画装置８０は、各形状に対応したアパーチャを用いて、フォトマスクＷ上に描画形状を描画する。
描画装置８０は、電子線照射器８１、記憶部８５、制御部８６を備える。
電子線照射器８１は、実際にフォトマスクＷに電子線を照射する装置である。
記憶部８５は、実描画データ作成プログラム８５ａ、描画データ４０、実描画データ４５を記憶する。
実描画データ作成プログラム８５ａは、描画データ４０に基づいて、実描画データ４５を作成するプログラムである。実描画データ４５は、電子線照射器８１で実際に電子線描画するためのデータである。
制御部８６は、実描画データ作成プログラム８５ａに従って実描画データ４５を作成したり、電子線照射器８１を制御することによりフォトマスクＷに描画したりする。
【００２２】
［描画データ作成処理、描画データ作成方法］
図３は、第１実施形態の描画データ作成装置７０の描画データ作成処理を示すフローチャートである。
図４から図６は、第１実施形態の設計データ１０から描画データ４０を作成する処理を説明する図である。
なお、描画データ作成処理の前提として、設計装置６０で作成された設計データ１０が、描画データ作成装置７０の記憶部７５に記憶されている状態とする。
【００２３】
ステップＳ（以下「Ｓ」という）１において、制御部７６は、操作部の操作に応じて、処理を開始する。制御部７６は、記憶部７５から設計データ１０を、読み出す。
Ｓ２（配置領域重ねステップ）において、図４に示すように、サブデータ処理部７６ａは、サブデータ２０、メインデータ１１，１２に基づいて、サブ領域２０ａに６つの配置領域２１，２２を重ねる。
図４には、配置領域２１，２２の外形、サブ領域２０ａの外形を、太線で示した。
【００２４】
Ｓ３（配置領域抜き出しステップ）において、サブデータ処理部７６ａは、サブデータ２０から３つの配置領域２１及びこれらに含まれる３つの重複図形２１ａを抜き出す。この場合、サブデータ処理部７６ａは、各配置領域２１及びその重複図形２１ａを、一体で抜き出す。
なお、配置領域２１，２２を抜き出す処理は、種々の方法が可能であり、限定されない。例えば、この方法は、サブデータ２０のサブ領域２０ａに対して、配置領域２１，２２を重ねた状態で、配置領域２１及びこれに重複する重複図形２１ａを抜き出すものでもよい。また、この方法は、サブデータ２０から、配置領域２１の外形よりも内側の範囲を求めるものでもよい。
【００２５】
Ｓ４（同一重複図形判定ステップ）において、サブデータ処理部７６ａは、サブデータ２０の重複図形２１ａを、３つの配置領域２１間で比較し、同一形状の重複図形（同一重複図形）を判定する。
図４の例では、３つの重複図形２１ａは、同じ形状であり、また、各配置領域２１の同じ位置に配置されている。このため、サブデータ処理部７６ａは、３つの重複図形２１ａが、同一形状であると判定する。
そして、サブデータ処理部７６ａは、重複図形２１ａの情報、３つの重複図形２１ａが同一である情報、重複図形２１ａの各領域内の位置情報等を記憶部７５に記憶する。
これらの比較処理は、サブデータ２０の図形のデータサイズが小さいので、装置への負荷が少なく、また、短時間で処理できる。
【００２６】
Ｓ５、Ｓ６において、サブデータ処理部７６ａは、Ｓ３、Ｓ４と同様に、配置領域２２を抜き出し、また、同一形状の重複図形を判定する。
図４に示すように、すなわち、サブデータ処理部７６ａは、以下のように処理する。
Ｓ５（配置領域抜き出しステップ）において、サブデータ処理部７６ａは、サブデータ２０から３つの配置領域２２及びこれらに含まれる重複図形２２ａ，２２ｂを抜き出す。
Ｓ６（同一重複図形判定ステップ）において、サブデータ処理部７６ａは、上側及び中央の配置領域２２の２つの重複図形２２ａが、同一であると判定する。また、この２つの重複図形２２ａと、下側の配置領域２２の重複図形２２ｂとは、異なると判定する。
そして、サブデータ処理部７６ａは、重複図形２２ａ，２２ｂの情報、２つの重複図形２２ａが同一である情報、各配置領域２２内における重複図形２２ａ，２２ｂの位置情報等を記憶部７５に記憶する。
【００２７】
Ｓ７（新メインデータ作成ステップ）において、新メインデータ作成部７６ｂは、メインデータ１１，１２のメイン領域１１ａ，１２ａに対して、サブデータ２０のうち配置領域２１，２２の図形を合成することにより、新メインデータＮ１１（第１新メインデータ）、新メインデータＮ１２ａ，Ｎ１２ｂ（第２新メインデータ）を作成する。
【００２８】
（新メインデータＮ１１の作成）
前述したように、３つの配置領域２１の重複図形２１ａは、同一である。このため、新たに作成する新メインデータＮ１１は、３つの配置領域２１において、同一である。そのため、新メインデータ作成部７６ｂは、３つ個別に作成することなく、１つメインデータ１１のメイン領域１１ａに対して、１つの配置領域２１及び重複図形２１ａを合成することにより１つの新メインデータＮ１１（同一新メインデータ）を作成し、これを記憶部７５に記憶する。また、新メインデータＮ１１の個数情報「３つ」と、これらのメイン領域１１ａの配置情報（座標等）を記憶する。
【００２９】
新メインデータ作成部７６ｂは、Ｓ３で抜き出した配置領域２１及び重複図形２１ａから、重複図形２１ａを抽出し（重複図形抽出ステップ）、重複図形２１ａのみをメイン領域１１ａに合成する。つまり、合成処理は、メイン領域１１ａ及びその描画図形と、配置領域２１及びその重複図形２１ａとを、ＯＲ処理することにより行う。これにより、配置領域２１は、メイン領域１１ａ内の描画図形を上塗りすることがない。
なお、詳細な説明は省略するが、メイン領域１１ａの描画図形と、配置領域２１の重複図形２１ａとが重なる場合がある。この場合、合成時にＯＲ処理することにより、重ならない図形のデータを有する新メインデータＮ１１を作成できる。つまり、オーバラップした領域を、オーバラップしない領域に補正できる。これにより、新メインデータ作成部７６ｂは、新メインデータＮ１１を作成することにより、メイン領域１１ａの描画図形及び配置領域２１の重複図形２１ａの重なりを除去することができる。
【００３０】
（新メインデータＮ１２ａ，Ｎ１２ｂの作成）
同様に、新メインデータ作成部７６ｂは、Ｓ５で抜き出した配置領域２２及び重複図形２２ａ，２２ｂから、重複図形２２ａ，２２ｂを抽出する。
そして、１つメインデータ１２のメイン領域１２ａに対して、重複図形２２ａを合成することにより、新メインデータＮ１２ａ（同一新メインデータ）を作成する。また、新メインデータ作成部７６ｂは、これらのメイン領域１２ａの配置情報を記憶する。
また、新メインデータ作成部７６ｂは、１つメインデータ１２のメイン領域１２ａに対して、重複図形２２ｂを合成することにより、新メインデータＮ１２ｂを作成する。また、そのメイン領域１２ａの配置情報を記憶する。
なお、新メインデータＮ１２ａ，Ｎ１２ｂも、新メインデータＮ１１と同様に、オーバラップした領域を、オーバラップしない領域に補正できる。
【００３１】
このように、新メインデータ作成部７６ｂは、合成処理を、配置領域の全てについて行うのではなく、重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂの種別分（つまり３回分）だけ行う。このため、合成処理は、装置への負荷が少なく、また、短時間で処理できる。
【００３２】
（枠データ３０の作成）
Ｓ８（外領域データ作成ステップ）において、図４に示すように、サブデータ処理部７６ａは、枠データ３０（外領域データ）を作成する。枠データ３０は、サブデータ２０のうち、配置領域２１，２２外の枠領域３０ａ及びこれに含まれる描画図形を有する。
サブデータ処理部７６ａは、サブデータ２０のサブ領域２０ａにメイン領域１１ａ，１２ａの配置領域２１，２２を重ねた状態で（図４参照）、配置領域２１，２２以外の領域を抜き出す。これにより、サブデータ２０から、枠領域３０ａ及びこれに含まれる描画図形が抜き出される。
【００３３】
これまでの処理によって、サブデータ２０は、配置領域２１，２２及びこれらに含まれる重複図形２１ａ，２２ａ，２２ｂのデータ（図４参照）と、枠データ３０（図５参照）とに分離される。
前者のデータは、メインデータ１１，１２に合成されることにより、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂの一部を構成する（図４参照）。
このように、設計データ１０は、処理前には、メインデータ１１，１２と、サブデータ２０で定義されていたのものが、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ、枠データ３０で定義されるデータに変形される。
【００３４】
（ネガポジ反転処理）
Ｓ９において、反転部７６ｃは、ネガポジ反転処理をするか否かを判定する。
なお、ネガポジ反転処理とは、説明の便宜上、用いる用語であり、各描画図形内の塗り潰された領域（斜線部）と、各描画図形外の塗り潰されていない領域（白）とを反転する処理（塗り潰し領域反転処理）をいう。
ネガポジ反転処理をするか否かは、使用するフォトレジストの性質（ネガティブ型、ポジティブ型）に応じて、予め、処理前に、描画データ作成装置７０に入力されている。
反転部７６ｃは、ネガポジ反転処理すると判定した場合（Ｓ９：ＹＥＳ）、Ｓ９ａに進み、一方、ネガポジ反転処理しないと判定した場合には（Ｓ９：ＮＯ）、Ｓ１０に進む。
【００３５】
Ｓ９ａ（塗り潰し領域反転ステップ）において、図６に示すように、反転部７６ｃは、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂの描画形状を、ネガポジ反転処理する。
また、反転部７６ｃは、枠データ３０をネガポジ反転処理する。
但し、反転部７６ｃは、配置領域２１，２２に対応する領域は、ネガポジ反転処理をしない。この処理は、配置領域２１，２２に対応する領域をネガポジ反転処理の対象外とし、つまり、これらの領域を目隠しした状態で、枠データ３０のネガポジ反転処理をすればよい。
【００３６】
（描画データ４０の作成）
Ｓ１０（組み合わせステップ）において、組み合わせ部７６ｄは、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ、枠データ３０を組み合わせることにより、描画データ４０を作成する。
図５は、ネガポジ反転していない場合（Ｓ９：ＮＯ）の描画データ４０である。
図６は、ネガポジ反転した場合（Ｓ９：ＹＥＳ）の描画データ４０である。
図５に示すように、描画データ４０は、枠データ３０の枠領域３０ａ及びその描画形状と、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂのメイン領域１１ａ，１２ａ及びその描画形状と、メイン領域１１ａ，１２ａの配置情報４１，４２ａ，４２ｂとを備える。
これにより、設計データ１０は、右図の設計データ１０Ａと同様な情報を表す。図６のネガポジ反転した場合も、同様である。
【００３７】
描画データ４０は、６つの新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂを個別に備えるものではない。描画データ４０は、同一形状の重複図形２１ａを備える配置領域２１については、１つの新メインデータＮ１１及びその個数情報「×３」を備える。同一形状の重複図形２１ａを備える配置領域２２についても、同様に、１つの新メインデータＮ１２ａ及びその個数情報「×２」を備える。
【００３８】
描画データ４０：新メインデータＮ１１×３＋新メインデータＮ１２ａ×２＋新メインデータＮ１１ｂ×１＋枠データ３０
【００３９】
ここで、各新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂは、枠データ３０に比べると極端に大きい。
例えば、各新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂは、それぞれ５００ＧＢ（ｇｉｇａｂｙｔｅ）程度、枠データ３０は、１ＧＢ程度である。この場合には、描画データ４０の合計データ量は、以下のように１５０１ＧＢである。
１５０１ＧＢ＝５００ＧＢ×１＋５００ＧＢ×１＋５００ＧＢ×１＋１ＧＢ
【００４０】
これに対して。従来の描画データは、全ての領域に個別の描画形状を作成する。このため、従来の描画データの合計データ量は、以下のように３００１ＧＢになる。
３００１ＧＢ＝５００ＧＢ×６＋１ＧＢ
このように、実施形態の描画データ４０は、新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂを１つずつ備えればよいので、データ量を少なくすることができる。
【００４１】
作業者は、描画データ４０を、描画データ作成装置７０から描画装置８０に転送する（描画データ転送ステップ、図２のステップ♯１参照）。
この場合、描画データ４０のデータ量が少ないので、描画データ４０の転送時間を短縮できる。なお、描画データ４０を記憶媒体（ＣＤＲＯＭ等）を用いて描画データ作成装置７０から描画装置８０に移す場合でも、描画データ作成装置７０から記憶媒体への書き込み時間、描画装置８０での記憶媒体からの読み込み時間を短縮できる。
【００４２】
さらに、描画装置８０の制御部８６は、記憶部８５に記憶した描画データ４０に基づいて、実描画データ作成処理を行う（実描画データ作成ステップ、図２のステップ♯２参照）。実描画データ作成は、描画前に、描画データ４０のデータチェック等を経ることにより、実際に電子線描画するための実描画データ４５を作成する処理である。
描画装置８０の制御部８６は、実描画データ作成を、描画データ４０の新メインデータＮ１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂについて、それぞれ１回行えばよい。そして、共通した部分には、同一のデータを、配置していけばよい。このため、実描画データ作成は、短期間で行うことができる。
これに対して、従来の描画データは、共通の形状であっても、個別に実描画データ作成を行っていた。このため、上記例の場合、データ量に基づいて単純比較すると、２倍程度の時間を必要である。
実描画データ作成は、長時間かかる。実描画データ作成処理において、エラーが重なった場合には、実描画データ作成は、数日に渡る場合もある。実施形態では、実描画データ作成を短期間で行うことができるので、時間短縮の効果が大きい。
【００４３】
以上説明したように、実施形態の描画システム５０は、描画データ４０の情報量を少なくでき、また、描画データ４０の作成時間及び実描画データ４５の作成時間を、短縮できる。
【００４４】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態について説明する。
なお、以下の説明及び図面において、前述した第１実施形態と同様の機能を果たす部分には、末尾（下２桁）に同一の符号を適宜付して、重複する説明を適宜省略する。
第１実施形態では、サイジング処理の説明を省略したが、本実施形態では、サイジング処理について、詳細に説明する。
【００４５】
図７は、第２実施形態の設計データ２１０から描画データ２４０を作成する処理を説明する図である。図７は、配置領域２２１のコーナ部近傍を拡大した図である。
サブデータ２２０は、配置領域２２１のコーナ部近傍に、描画図形２２５ａ〜２２５ｄを備える。
描画図形２２５ｂは、配置領域２２１及び枠領域２３０ａ（外領域）の境界線２２６を跨って配置されている。描画図形２２５ｄも同様である。
サイジング処理は、フォトマスクＷに描画される描画形状の太さの補正等のために行う。
本実施形態の描画データ作成装置の構成は、第１実施形態と同様である（図２参照）。
サイジング処理（サイジングステップ）は、描画データ作成装置の記憶部７５の描画データ作成プログラム７５ａが、描画データ作成装置の制御部７６（サイジング処理手段）に実行させる。
【００４６】
図７（Ａ）、図７（Ｂ）に示すように、サイジング処理は、設計データ２１０（処理前データ）のメインデータ２１１の描画図形２１５、サブデータ２２０の描画図形２２５ａ〜２２５ｄに対して行う。
サイジング処理によって、描画図形２１５，２２５ａ〜２２５ｄは、同一の幅だけ太くされる。
図７（Ｂ）には、サイジング前の描画図形２１５，２２５ａ〜２２５ｄの外形を破線で示した。
【００４７】
その後の処理は、第１実施形態と同様に、処理後のメインデータ２１１、サブデータ２２０を、以下のように処理する（詳細な説明は、省略する）。
（１）図７（Ｂ）、図７（Ｃ）に示すように、サブデータ２２０から配置領域２２１及び描画図形２２５ｂ−１，２２５ｃ，２２５ｄ−１（重複図形）を抜き出す（図４のＳ２参照）。
この処理によって、描画図形２２５ｂ，２２５ｄは、それぞれ、境界線２２６によって、描画図形２２５ｂ−１，２２５ｄ−１に分離される。
【００４８】
（２）図７（Ｄ）に示すように、サイジング処理後のメインデータ２１１と、配置領域２２１及び描画図形２２５ｂ−１，２２５ｃ，２２５ｄ−１とを合成することにより、新メインデータＮ２１１を作成する（図４のＳ７参照）。
（３）図７（Ｃ）に示すように、サブデータ２２０から枠データ２３０（枠領域２３０ａ及び描画図形２２５ａ，２２５ｂ−２，２２５ｄ−２）を抜き出す（図４のＳ８参照）。
この処理によって、描画図形２２５ｂ，２２５ｄは、それぞれ、境界線２２６によって、描画図形２２５ｂ−２，２２５ｄ−２に分離される。
【００４９】
（４）図７（Ｅ）に示すように、新メインデータＮ２１１と、枠データ２３０とを組み合わせることにより、描画データ２４０を作成する（図４のＳ１０参照）。
なお、図７（Ｅ）には、説明の便宜上、新メインデータＮ２１１と、枠データ２３０とを合わせた状態を図示するが、描画データ２４０は、第１実施形態と同様に、新メインデータＮ２１１と、枠データ２３０と、新メインデータＮ２１１の配置情報とを備える。
【００５０】
上記処理によって、描画図形２２５ｂは、図７（Ｃ）に示すように、描画図形２２５ｂ−１，２２５ｂ−２に分離された後、図７（Ｅ）に示すように、描画データ２４０において、再度、組み合わされる。描画図形２２５ｄも同様である。
描画データ２４０の描画図形２２５ｂ，２２５ｂは、サイジング後に分離され、再度、組み合わさった状態でも、均一の幅でサイジングされた状態を維持できる。これにより、描画データ２４０は、従来の描画データ２４０と同様な描画形状を有する。
これは、設計データ２１０のメインデータ２１１、サブデータ２２０の状態においてサイジング処理してから、その後の処理を行ったためである。
【００５１】
本実施形態が均一の幅でサイジングできる作用、効果を、比較例と比較することにより説明する。
図８は、比較例の設計データ１１０から描画データ１４０を作成する処理を説明する図である。
図７（Ａ）、図８（Ａ）に示すように、比較例の設計データ１１０と、実施形態の設計データ２１０とは、同じである。
比較例では、以下のように、設計データ１１０から描画データ１４０を作成する。
（１）図８（Ｂ）に示すように、サイジング処理する前にサブデータ１２０から配置領域１２１及び描画図形１２５ｂ−１，１２５ｃ，１２５ｄ−１を抜き出し、また、枠データ１３０を抜き出す。
ここで、描画図形１２５ｂは、境界線１２６で分離されることにより、細線状の描画図形１２５ｂ−１，１２５ｂ−２に分離される。同様に、描画図形１２５ｄは、細線状の描画図形１２５ｄ−１，１２５ｄ−２に分離される。
【００５２】
（２）図８（Ｃ）に示すように、抜き出した配置領域１２１の描画図形１２５ｂ−１，１２５ｃ，１２５ｄ−１、枠データ１３０の描画図形１２５ａ，１２５ｂ−２，１２５ｄ−２に対して、サイジング処理する。また、設計データ１１０のメインデータ１１１の描画図形１１５に対して、サイジング処理する。
ここで、サイジング処理は、細線の図形の幅付量を、細線ではない図形の幅付量よりも、大きくすることが技術常識である。これは、フォトマスクＷへの描画時において、細線の図形は、より細く描画されてしまうためである。
このため、細線状の描画図形１２５ｂ−２，１２５ｄ−１の幅付量ｄは、他の描画図形の幅付量よりも大きい。図８（Ｃ）の例では、幅付量ｄは、他の幅付量の２倍とした。
【００５３】
（３）図８（Ｄ）に示すように、サイジング処理後のメインデータ１１１と、サイジング処理後の描画図形１２５ｂ−１，１２５ｃ，１２５ｄ−１とを合成することにより、新メインデータＮ１１１を作成する。
（４）図８（Ｅ）に示すように、新メインデータＮ１１１と、枠データ１３０とを組み合わせることにより、描画データ１４０を作成する。
【００５４】
このように、比較例では、細線状の描画図形１２５ｂ−２をサイジング処理する必要がある。
図８（Ｅ）に示すように、このため、描画データ１４０の状態において、描画図形１２５ｂ−１，１２５ｂ−２が合わさった形態は、均一に幅付けされた形状にならない。描画図形１２５ｄ−１，１２５ｄ−２も同様である。
さらに、図８（Ｅ）の矢印ａに示すように、描画図形１２５ｂ−１と、描画図形１２５ｃとが重複してしまう。
【００５５】
これに対して、図７（Ｅ）に示すように、本実施形態の描画データ２４０は、サイジング処理を、描画図形を均一に幅付けでき、また、描画図形同士が重複しない。
このように、本実施形態の描画データ作成装置は、新メインデータ及び枠データを組み合わせる形態であっても、描画形状に対して、均一に幅付等をすることができる。
【００５６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、例えば、後述する変形形態等のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
【００５７】
実施形態において、被描画体は、フォトマスクであり、描画データは、フォトマスクに描画するためのデータである例を示したが、これに限定されない。描画データは、メインデータ、サブデータから作成されるものであればよく、また、被描画体は、描画データに用いて描画可能であるものであればよい。
例えば、また、被描画体は、ウェハであり、また、描画データは、ウェハ上に直接描画するためのデータでもよい。
【符号の説明】
【００５８】
１０，２１０…設計データ    １１，１２，２１１…メインデータ    １１ａ，１１ｂ…メイン領域    ２０，２２０…サブデータ    ２０ａ…サブ領域    ２１，２２，２２１…配置領域    ２１ａ，２２ａ，２２ｂ…重複図形    ３０，２３０…枠データ    ３０ａ，２３０ａ…枠領域    ４０，２４０…描画データ    ４１，４１，４２ａ，４２ｂ…配置情報    ４５…実描画データ    ５０…描画システム    ７０…描画データ作成装置    ７５…記憶部    ７５ａ…描画データ作成プログラム    ７６…制御部    ７６ａ…サブデータ処理部    ７６ｂ…新メインデータ作成部    ７６ｃ…反転部    ７６ｄ…組み合わせ部    ２１５，２２５ａ，２２５ｂ，２２５ｂ−１，２２５ｂ−２，２２５ｃ，２２５ｄ，２２５ｄ−１，２２５ｄ−２…描画図形    Ｎ１１，Ｎ１１１，Ｎ１２ａ，Ｎ１２ｂ，Ｎ２１１…新メインデータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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