(57)【要約】【課題】真空ポンプに発生する異常を事前に判断する真空ポンプの判断システム、および当該判断システムを備えた真空ポンプを提供する。【解決手段】本発明の実施形態１に係る判断システムを備えた真空ポンプ（ドライポンプ）は、当該真空ポンプに配設されるプロセス装置側から、プロセスが行われていない状態時に、当該プロセス装置に規定されているプロセスガス以外の異常測定用ガス（判断用ガス）を、通常流す量以上の量を流す構成にする。そして、各種パラメータを増長(増幅）させて表示することで、より正確に異常を事前判断することができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空ポンプに発生が予測される異常を、前記真空ポンプに関する各種のパラメータにより、事前に判断する真空ポンプの判断システムであって、
前記真空ポンプが配設される装置の非稼働中に、当該装置の稼働中に当該装置に流される量以上の量の判断用ガスを流す判断用ガス流入手段と、
前記判断用ガス流入手段により流される前記判断用ガスに起因した前記パラメータを取得するパラメータ取得手段と、
を備えることを特徴とする真空ポンプの判断システム。
【請求項２】
取得した前記パラメータの変化を取得するパラメータ変化取得手段を備え、
前記パラメータ変化取得手段により取得した前記パラメータの変化と、予め記憶されている所定の前記パラメータの変化の基準値を比較することにより、真空ポンプに発生する異常の有無を判断する判断手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプの判断システム。
【請求項３】
前記パラメータまたは前記パラメータの変化を表示する表示手段を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空ポンプの判断システム。
【請求項４】
前記判断用ガスは、前記装置の稼働中に当該装置に流されるプロセスガス以外のガスであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の真空ポンプの判断システム。
【請求項５】
前記判断用ガスは、窒素またはアルゴンであることを特徴とする請求項４に記載の真空ポンプの判断システム。
【請求項６】
前記判断用ガスは、前記装置の稼働中に当該装置に流されるプロセスガスであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の真空ポンプの判断システム。
【請求項７】
真空ポンプに発生が予測される異常を、前記真空ポンプに関する各種のパラメータにより、事前に判断する真空ポンプの判断システムであって、
前記真空ポンプが配設される装置の非稼働中に、前記真空ポンプの内部をクリーニングするガスを流すクリーニングガス流入手段と、
前記クリーニングガス流入手段により流される前記ガスに起因した前記パラメータを取得するパラメータ取得手段と、
を備えることを特徴とする真空ポンプの判断システム。
【請求項８】
前記パラメータ取得手段で取得した前記パラメータを表示する表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載の真空ポンプの判断システム。
【請求項９】
請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の真空ポンプの判断システムを備えることを特徴とする真空ポンプ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空ポンプの判断システム、および当該真空ポンプの判断システムを備える真空ポンプに関する。
詳しくは、発生が予測される異常状態を、真空ポンプに関わる各種パラメータから事前に判断可能な真空ポンプの判断システム、異常状態に対して策を講じ、講じた策により当該異常状態が解除されたことを判断可能な真空ポンプの判断システム、および当該真空ポンプの判断システムを備える真空ポンプに関する。
【背景技術】
【０００２】
真空ポンプの上流に配設されるプロセス装置が、たとえば半導体や太陽電池、液晶などを製造する際の工程の１つである成膜のための装置である場合、Ｓｉ膜を生成するための真空チャンバ内でシランガス（ＳｉＨ4）等のプロセスガスが使用される。
この使用された後に排出させる排ガスは、半導体製造工程用の装置である真空チャンバに接続された真空ポンプの反応炉から外部に排気される。こうした排ガスによって、時間の経過とともに真空ポンプの内部に堆積物・生成物が堆積してしまうことがある。
この堆積物を取り除くために、真空ポンプを定期的にメンテナンスすることが必要になる。一般的に、このメンテナンスは三ヶ月に一度程度の頻度で、真空ポンプを取り外して実施される。このように真空ポンプを取り外すことは手間と時間がかかっていた。
また、運用面・費用面を鑑みたときに、当該メンテナンスから次のメンテナンスを行う迄の間隔（フリーメンテナンス期間）は長ければ長い方が良い。あるいは、取り外しを要するメンテナンスが必要になる前に、取り外さなくてもできるメンテナンスを実施できることが望ましい。
さらに、堆積物・生成物の体積を何らかの理由で見過ごし、真空ポンプが緊急停止すると、真空チャンバに大気が逆流し、莫大な損害に繋がるため、是非とも真空ポンプの緊急停止は回避しなければならない。
【０００３】
一方、近年、真空ポンプ（ドライポンプ）の、上述した堆積物・生成物が堆積してしまうことによる異常検知に関しては、異常発生に係る様々なパラメータをモニタリングすることで真空ポンプが停止することを事前に予知・予測することができるようなシステムの開発が進められている。
図５は、真空ポンプの異常発生に係るパラメータ分析（データ分析）をコンピュータを用いたシステムで行い、これを提示した一例を示した図である。
このシステムでは、パラメータ分析（データ分析）を所定の画面に表示し、管理者に提示している。
図５は、横軸に時間の値、縦軸にパラメータの値がとられ、時間の経過とともに、予めターゲティングされたパラメータがどのような数値を示しているかをモニタリングする画面の一例である。
時間の値は、真空ポンプが初めて稼働してから経過した分単位、時間単位、週単位、月単位など設定が可能であり、また、パラメータには、稼働中の真空ポンプの電流の値、圧力の値、温度の値、振動の値などが設定可能である。
図５では、一例として、地点Ａにて、真空ポンプのモニタリングが開始されたこと、地点Ｂにて、パラメータの値により真空ポンプのメンテナンス（オーバーホール）が必要であることが判断されたこと、そして、地点Ｃにて、パラメータの値により真空ポンプを新しいプロセスで稼働することの禁止が奨励されたこと、が示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５５０４１０７号
【０００５】
特許文献１には、真空ポンプの停止による真空チャンバ（チャンバー）への逆流を防止するとともに復旧を容易にすることを目的として、真空ポンプにおける所定箇所で検出された検出電流値が、予め設定された、真空ポンプを緊急停止する目安となる異常電流値よりも小さく且つ真空ポンプの常用電流値よりも大きい値である電流設定値を超えた場合に、バルブの閉止を行う技術について記載されている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、真空ポンプに異常な状態が発生することで真空ポンプが緊急停止することが前提となっている。そのため、真空ポンプに関わる、これから発生が予測される異常状態について、パラメータ（たとえば、電流や電圧、温度など）から事前に判断し、当該異常状態に対して何らかの策を講じることや、策を講じたことで当該異常状態が解除されたことを判断するということはできないという問題があった。
また、真空ポンプの緊急停止の発生が確定した後であるため、真空ポンプをオンサイトメンテナンスする（すなわち、プロセス装置から取り外さずにメンテナンスする）ことは不可能であるという問題があった。
【０００７】
本発明は、発生が予測される異常状態を、真空ポンプに関わるパラメータから事前に判断可能な真空ポンプの判断システム、異常状態に対して策を講じ、講じた策により当該異常状態が解除されたことを判断可能な真空ポンプの判断システム、および当該真空ポンプの判断システムを備える真空ポンプを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
請求項１記載の本願発明では、真空ポンプに発生が予測される異常を、前記真空ポンプに関する各種のパラメータにより、事前に判断する真空ポンプの判断システムであって、前記真空ポンプが配設される装置の非稼働中に、当該装置の稼働中に当該装置に流される量以上の量の判断用ガスを流す判断用ガス流入手段と、前記判断用ガス流入手段により流される前記判断用ガスに起因した前記パラメータを取得するパラメータ取得手段と、を備えることを特徴とする真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項２記載の本願発明では、取得した前記パラメータの変化を取得するパラメータ変化取得手段を備え、前記パラメータ変化取得手段により取得した前記パラメータの変化と、予め記憶されている所定の前記パラメータの変化の基準値を比較することにより、真空ポンプに発生する異常の有無を判断する判断手段をさらに備えたことを特徴とする請求項１に記載の真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項３記載の本願発明では、前記パラメータまたは前記パラメータの変化を表示する表示手段を備えたことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項４記載の本願発明では、前記判断用ガスは、前記装置の稼働中に当該装置に流されるプロセスガス以外のガスであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項５記載の本願発明では、前記判断用ガスは、窒素またはアルゴンであることを特徴とする請求項４に記載の真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項６記載の本願発明では、前記判断用ガスは、前記装置の稼働中に当該装置に流されるプロセスガスであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項７記載の本願発明では、真空ポンプに発生が予測される異常を、前記真空ポンプに関する各種のパラメータにより、事前に判断する真空ポンプの判断システムであって、前記真空ポンプが配設される装置の非稼働中に、前記真空ポンプの内部をクリーニングするガスを流すクリーニングガス流入手段と、前記クリーニングガス流入手段により流される前記ガスに起因した前記パラメータを取得するパラメータ取得手段と、を備えることを特徴とする真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項８記載の本願発明では、前記パラメータ取得手段で取得した前記パラメータを表示する表示手段をさらに備えたことを特徴とする請求項７に記載の真空ポンプの判断システムを提供する。
請求項９記載の本願発明では、請求項１から請求項８のいずれか１項に記載の真空ポンプの判断システムを備えることを特徴とする真空ポンプを提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、発生が予測される異常状態を、真空ポンプに関わるパラメータから事前に判断することができる。また、異常状態に対して策を講じ、講じた策により当該異常状態が解除されたことを判断することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る真空ポンプの判断システムを説明するための概略構成例を示した図である。
【図２】本発明に係る真空ポンプの判断システムにおける監視画面を説明するための図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る真空ポンプの判断システムの動作を説明するためのフローチャートである。
【図４】本発明の実施形態２に係る真空ポンプの判断システムの動作を説明するためのフローチャートである。
【図５】異常発生に係るパラメータ分析を説明するための一例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
（ｉ）実施形態の概要
本発明の実施形態１に係る真空ポンプの判断システムを備えた真空ポンプ（ドライポンプ）は、当該真空ポンプに配設されるプロセス装置側から、プロセスが行われていない状態時に、当該プロセス装置に規定されているプロセスガス以外の特定のガス（以後、異常測定用ガス（判断用ガス）とする）を、通常流す量以上の量を流す構成にする。すなわち、当該真空ポンプ（ドライポンプ）を過負荷の状態にする。こうすることで、各センサからより鋭敏に反応した各パラメータを取得するようにする。このように、鋭敏に反応させることで、各パラメータの変化をより正確に捉えることができる。
また、本発明の実施形態２に係る真空ポンプの判断システムを備えた真空ポンプ（ドライポンプ）は、真空チャンバ用のクリーニングガスを流して、真空ポンプ（ドライポンプ）内のクリーニングを行うと同時に、当該真空ポンプに関わるパラメータが、増長（増幅）した数値から元の数値に戻る過程をモニタリング（監視）する構成にする。
【００１２】
（ｉｉ）実施形態１の詳細
以下、本発明の好適な実施の形態について、図１から図４を参照して詳細に説明する。
図１は、本発明の実施形態１（および、後述する実施形態２）に係る真空ポンプの判断システム２０（および、後述する真空ポンプの判断システム２１）を説明するための概略構成例を示した図である。
本発明の実施形態１に係る真空ポンプの判断システム２０は、真空チャンバ１１、真空ポンプ１２、真空配管４、真空ポンプ２、真空ポンプ２から排出された排出ガスが流れる排気配管５、排気配管５から排気された排出ガスを除害するための除害装置３、そして、サーバ６などから構成される。
真空チャンバ１１は、ウェハ成膜装置などのプロセス装置（プロセスチャンバ）であり、クリーンルーム内に設置される。
真空ポンプ１２は、プロセス装置を真空にするための真空ポンプであり、たとえばターボ分子ポンプである。
真空配管４は、真空ポンプ１２から排出された排出ガスが流れる流路である。
真空ポンプ２は、真空ポンプ１２の補助ポンプのような役割を果たすドライポンプであり、真空配管４を介して真空ポンプ１２に連結される。
排気配管５は、真空ポンプ２から排出された排出ガスが流れる流路である。
除害装置３は、排気配管５を介して真空ポンプ２と連結される、燃焼式、プラズマ式、あるいはガソリンエンジン式の除害装置である。
真空チャンバ１１や真空ポンプ１２から構成されるプロセス装置１から排出された排出ガスは、真空配管４を通って真空ポンプ２を経由し、排気配管５を通って除害装置３へ運ばれ、除害装置３において酸化されることで無害なガスとして排出される。
【００１３】
サーバ６は、ＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  Ｕｎｉｔ）６１、ＲＯＭ（Ｒｅａｄ  Ｏｎｌｙ  Ｍｅｍｏｒｙ）６２、ＲＡＭ（Ｒａｎｄｏｍ  Ａｃｃｅｓｓ  Ｍｅｍｏｒｙ）６３、表示装置６４、通信部６５、記憶部６６およびバスライン６７などにより構成される。
ＣＰＵ６１は、サーバ６の中央演算処理装置であり、ＲＯＭ６２などに保存された、本実施形態１の真空ポンプの判断システム２０用アプリケーションなどのプログラムによって、ＲＡＭ６３で様々な数値計算や情報処理、機器制御などを行う。本実施形態１では、真空ポンプの判断システム２０の制御に係わる各種演算を行う。
表示装置６４は、情報の表示を行うための表示部であり、本実施形態１では、真空ポンプの判断システム２０に係るパラメータの増減を表示する。
なお、表示装置６４は、入力操作を受け付けることが可能な入力部を備える構成にしても良い。
【００１４】
通信部６５は、サーバ６が真空ポンプの判断システム２０内の他の装置（真空ポンプ２など）と通信をするための構成であり、無線通信と有線通信のいずれかの構成で設計可能である。
記憶部６６は、ハードディスクなどで構成された大規模記憶装置であり、たとえば各種判断に用いる基準パラメータが記憶されている。
上述した各構成は、サーバ６内で各々のデータを交換するために、共通の経路であるバスライン６７で接続されている。
このサーバ６は、各真空ポンプ２に各々設けても良いし、一つのサーバ６で工場内の複数の真空ポンプ２に接続して処理を行うようにしても良い。
また、インターネットなどで接続することで、複数の工場に設置された多数の真空ポンプ２を一つのサーバ６で処理を行うようにしても良い。
【００１５】
本発明の実施形態１に係る真空ポンプの判断システム２０では、プロセスが行われていない状態時に、真空ポンプ２に配設されるプロセス装置１側の真空配管４から、通常プロセス装置１に流される量以上の量の、当該プロセス装置１に規定されているプロセスガス以外の特定のガスである異常測定用ガスが、真空ポンプ２に流される構成にする。
本実施形態１では、異常測定用ガスを流したことに起因するパラメータの増減（判断画面）が表示装置６４に表示される。
なお、表示装置６４には、取得したパラメータ自体を表示しても良いし、取得したパラメータを所定の基準値と比較することで、その変化を表示するようにしても良い。
【００１６】
図２は、本発明に係る真空ポンプの判断システム２０における判断（監視）画面を説明するための図である。
真空ポンプの判断システム２０では、上述したように真空ポンプ２に規定以上の量の異常測定用ガスを流すと、図２に示したように、真空ポンプ２についてモニタリングしている各種パラメータ（たとえば、電流の数値、電圧の数値、温度の数値、振動の数値、あるいは各々を組み合わせた数値など）の可変要因が増長した様子が表示装置６４に表示される。この実施形態１では、通常の量のガスより多い量のガスを流すようにする。こうすることで、検知する異常測定用ガスにより鋭敏に反応させることができ、取得する各パラメータの精度を高めることができる。
【００１７】
「ＳＵＲＧＥ」は、通常の量のガスを流している場合の基準値よりも異常に高い数値を示したポイントである。
「ＤＩＰ」は、通常の量のガスを流している場合の基準値よりも異常に低い数値を示したポイントである。これらの基準値は、記憶部６６に予め記憶されている。
このようにして得られるパラメータの変動数値から、事前に、発生が予測される真空ポンプ２の異常状態についてその前兆を捉え、異常発生の目安や予定・予測を早期に立てることができる。
なお、「ＳＵＲＧＥ」レベルや「ＤＩＰ」レベルをどこに設定するかは、装置（真空ポンプ２）ごとの状況に合わせ、最適な値を設定する構成にする。
【００１８】
なお、異常測定用ガスは、窒素（Ｎ2）やアルゴン（Ａｒ）などの堆積物が生成されないガスか、あるいはシラン（ＳｉＨ4、モノシラン）であることが望ましい。
また、異常測定用ガスは、定期的に流す構成にしても良いし、不定期に流す構成にしても良い。なお、通常流す量以上とは、通常流しているプロセスガスの量の数倍、数百倍、数千倍など、状況に応じて対応可能とする。
さらに、上述した構成では、真空ポンプ２に配設される真空配管４から異常測定用ガスを流す構成にしたが、これに限られることはない。たとえば、真空ポンプ２の上流に配設されるプロセス装置１を経由して異常測定用ガスが流される構成にしても良い。
【００１９】
図３は、本発明の実施形態１に係る真空ポンプの判断システム２０の動作を説明するためのフローチャートである。
本実施形態１に係る真空ポンプの判断システム２０では、まず、サーバ６（ＣＰＵ６１）は、真空ポンプ２の上流に配設されたプロセス装置１がプロセス中か否かを判断する（ステップ１０）。
プロセス装置１がプロセス中であると判断された場合（ステップ１０：Ｙ）、サーバ６は、プロセス中か否かの監視を続ける。あるいは、ここで一連の動作を終了する構成にしても良い（エンド）。
プロセス装置１がプロセス中であると判断されなかった場合（ステップ１０：Ｎ）、サーバ６は、異常測定用ガスを真空ポンプ２へ大量に（すなわち、プロセス中にプロセス装置１に流すガス量以上の量を）流入させる（ステップ２０）。
この異常測定用ガスの流入は、サーバ６による制御で、自動的に真空配管４に設けられた流入口（図示せず）から流入させるようにする。また、サーバ６からの信号に基づいて、管理者が異常測定用ガスを流入させるようにしても良い。
さらに、サーバ６による制御で、プロセス装置１に設けられた流入口（図示せず）から流入させるようにしても良い。
【００２０】
次に、サーバ６は、異常測定用ガスを流したことで増長した真空ポンプ２のパラメータを示す分析画面（図２）を表示装置６４に表示する（ステップ３０）。
このとき、増長された（つまり、異常値を示した）パラメータが「ＳＵＲＧＥ」レベルと「ＤＩＰ」レベルの範囲内にあるか否かを判断し、範囲内にない場合に、警告音などのワーニングを出す構成にしても良い。なお、その場合は、サーバ６には音声装置を備える構成にする。この警告は、緊急な警告と、その前段階とを分けて行うようにする。
この判断は、記憶部６６に記憶された各パラメータに対する「ＳＵＲＧＥ」レベルと「ＤＩＰ」レベルの基準値に基づいて判断される。この基準値は、多数の処理を経る過程で順次更新するようにする。すなわち、各基準値が高すぎる、又は低すぎるといった処理の評価を織り込むことで、より適切な基準値を設定できるようにする。
この基準値の更新は管理者からの入力によりＣＰＵ６１が、記憶部６６に記憶されている基準値の値を変更することにより行う。
この基準値は、真空ポンプ２の設置場所の条件、使用するガスの種類、当該真空ポンプの使用年数、通算の使用時間等により細かく、詳細に設定するようにしても良い。
なお、管理者に対する警告は、サーバ６の管理者が表示装置６４を目視することで、真空ポンプ２に異常が発生する前兆を判断する構成にしても良い。
【００２１】
次に、サーバ６は、異常測定用ガスを流す動作を続行するか否かを判断する（ステップ４０）。この続行の判断については、異常測定用ガスを流し始めてからカウントを開始した流入継続時間や、事前に指定されたパラメータが、事前に設定された閾値に達した時点、などと設定しておく構成にしても良いし、サーバ６の管理者による動作停止の入力を受け付ける構成にしても良い。
動作を続行する場合（ステップ４０：Ｙ）、サーバ６は異常測定用ガスを流し続け（ステップ２０）、一方、動作を続行しない場合（ステップ４０：Ｎ）、サーバ６は一連の動作を終了する（エンド）。
【００２２】
上述した構成により、本発明の実施形態１に係る真空ポンプの判断システム２０が備わる真空ポンプ２では、規定以上の量の異常測定用ガスを流すことで、真空ポンプ２についてモニタリングしている各種パラメータ（たとえば、電流の数値、電圧の数値、温度の数値、振動の数値や、各々を組み合わせた数値など）の可変要因を増長させ、そうして得られるパラメータの変動数値（図２）から、事前に、発生が予測される真空ポンプ２の異常状態についてその目安や予定・予測を早期に立てることができる。
その結果、真空ポンプ２の異常発生について、早期に検知できたり、あるいは検知の確率を向上させたり、または、故障診断の信頼性を向上させることができる。
また、当該予測に基づき、異常状態が発生する前に真空ポンプ２のメンテナンスを行うことができるので、真空ポンプ２の寿命を延長させることができる。
【００２３】
（ｉｉｉ）実施形態２の詳細
次に、再度図１を用いて、本発明の実施形態２に係る真空ポンプの判断システム２１について説明する。
本発明の実施形態２では、先述した実施形態１と同様に、真空チャンバ１１や、ターボ分子ポンプなどの真空ポンプ１２から構成されるプロセス装置１から排出された排出ガスは、真空配管４を通ってドライポンプである真空ポンプ２を経由し、排気配管５を通って除害装置３へ運ばれる。
しかし、本実施形態２では、サーバ６のＣＰＵ６１は、ＲＯＭ６２などに保存された真空ポンプの判断システム２１用アプリケーションなどのプログラムによって、ＲＡＭ６３において、真空ポンプの判断システム２１の制御に係わる各種演算である様々な数値計算や情報処理、機器制御などを行う。
また、本実施形態２では、表示装置６４は真空ポンプの判断システム２１に係るパラメータの増減を表示する。
【００２４】
本発明の実施形態２に係る真空ポンプの判断システム２１では、真空ポンプ２に、真空チャンバ１１用のクリーニングガスが、当該真空ポンプ２に配設されるプロセス装置１側の真空配管４から流される構成にする。
つまり、真空ポンプの判断システム２１では、真空チャンバ１１用のクリーニングガスを真空ポンプ２に流しながら、真空ポンプ２内部のクリーニングを行うと同時に、真空ポンプ２に関わる、通常の数値に比べて増長していた（すなわち、真空ポンプ２が異常状態であることを示していた）パラメータが元の数値に戻る過程（たとえば、図２において、「ＳＵＲＧＥ」レベルを超えていた値や「ＤＩＰ」レベルを下回っていた値が、「ＳＵＲＧＥ」レベルと「ＤＩＰ」レベルの範囲内におさまる様子）を表示装置６４に表示する。
【００２５】
なお、使用するクリーニングガスは、ＮＦ3（三フッ化窒素）や、Ｆ2（フッ素）などの堆積物を低減するガスであることが望ましい。
さらに、上述した構成では、プロセス装置１側の真空配管４からクリーニングガスを流す構成にしたが、これに限られることはない。たとえば、プロセス装置１（真空チャンバ１１）に真空チャンバ１１用のクリーニングガスを流すタイミングと同じタイミングで、真空ポンプ２にも当該クリーニングガスを流す（流用する）構成にしても良い。
【００２６】
図４は、本発明の実施形態２に係る真空ポンプの判断システム２１の動作を説明するためのフローチャートである。
本実施形態２に係る真空ポンプの判断システム２１では、サーバ６は、まず、真空ポンプ２の上流に配設されたプロセス装置１がプロセス中か否かを判断する（ステップ５０）。
プロセス装置１がプロセス中であると判断された場合（ステップ５０：Ｙ）、サーバ６はプロセス中か否かの監視を続ける。あるいは、ここで一連の動作を終了する構成にしても良い（エンド）。
一方、プロセス装置１がプロセス中であると判断されなかった場合（ステップ５０：Ｎ）、サーバ６は、真空ポンプ２へクリーニングガスを流入させる（ステップ６０）。
次に、サーバ６は、クリーニングガスを流したことで降下した（すなわち、正常値に戻った）パラメータを示す分析画面を表示装置６４に表示する（ステップ７０）。
このとき、降下したパラメータが「ＳＵＲＧＥ」レベルと「ＤＩＰ」レベルの範囲内にあるか否かを判断し、範囲内にない場合に、警告音などのワーニングを出す構成にしても良い。この判断は、記憶部６６に記憶されている基準値と比較することにより行う。
なお、その場合は、サーバ６には音声装置を備える構成にする。
また、サーバ６の管理者が表示装置６４を目視することで、その判断をする構成にしても良い。
【００２７】
次に、真空ポンプの判断システム２１のサーバ６は、クリーニングガスを流す動作を続行するか否かを判断する（ステップ８０）。この続行の判断については、クリーニングガスを流し始めてからカウントを開始した流入継続時間や、事前に指定されたパラメータが、事前に設定された閾値に達した時点、などと設定しておく構成にしても良いし、サーバ６の管理者による動作停止の入力を受け付ける構成にしても良い。
動作を続行する場合（ステップ８０：Ｙ）、サーバ６はクリーニングガスを流し続け（ステップ６０）、一方、動作を続行しない場合（ステップ８０：Ｎ）、サーバ６は一連の動作を終了する（エンド）。
クリーニングガスを流すことで、真空ポンプ２のパラメータの変化によって、当該真空ポンプ２の状態がどの程度改善しているかも判断できる。
【００２８】
上述した構成により、本発明の実施形態２に係る真空ポンプの判断システム２１が備わる真空ポンプ２では、モニタリングしているパラメータの変化から当該異常状態が解除されたことを判断することができる。
その結果、真空ポンプ２を取り外すことなく（交換せずに）メンテナンスを行うことができる。また、異常状態が発生する前にメンテナンスを行うので、真空ポンプ２の寿命を延長させることができる。
本発明での特定のガスは、プロセス装置に規定されているプロセスガス以外としたが、通常のプロセス装置の稼働中に流される量以上の流量を流すのであれば、プロセスガスとしても良い。
【００２９】
なお、本発明の実施形態１および実施形態２は、組み合わせる構成にしても良い。
【符号の説明】
【００３０】
１  プロセス装置
２  真空ポンプ（ドライポンプ）
３  除害装置
４  真空配管
５  排気配管
６  サーバ
１１  真空チャンバ
１２  真空ポンプ（ターボ分子ポンプ）
２０  真空ポンプの判断システム
２１  真空ポンプの判断システム
６１  ＣＰＵ
６２  ＲＯＭ
６３  ＲＡＭ
６４  表示装置
６５  通信部
６６  記憶部
６７  バスライン
【図１】
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【図２】
2017089462.tif 000004
【図３】
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【図４】
2017089462.tif 000006
【図５】
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