(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた防曇性及び防汚性を有し、かつ加工性にも優れる防曇防汚積層体などの提供。【解決手段】樹脂製基材と、前記樹脂製基材上に、防曇性及び防汚性を有する防曇防汚層１２とを有し、防曇防汚層１２が、表面に、平滑な面を有する平滑領域１２Ａと、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する非平滑領域１２Ｂとを有し、好ましくは、防曇防汚層１２の表面において、非平滑領域１２Ｂの総面積が、平滑領域１２Ａの総面積よりも大きい防曇防汚積層体。【選択図】図１Ａ
2017080992.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製基材と、前記樹脂製基材上に、防曇性及び防汚性を有する防曇防汚層とを有し、
前記防曇防汚層が、表面に、平滑な面を有する平滑領域と、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する非平滑領域とを有することを特徴とする防曇防汚積層体。
【請求項２】
前記防曇防汚層の表面において、前記非平滑領域の総面積が、前記平滑領域の総面積よりも大きい請求項１に記載の防曇防汚積層体。
【請求項３】
前記防曇防汚層の表面において、前記非平滑領域が、一つの領域であり、前記平滑領域が、前記非平滑領域に囲まれて島状に存在している請求項２に記載の防曇防汚積層体。
【請求項４】
前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域の総面積が、前記非平滑領域の総面積よりも大きい請求項１に記載の防曇防汚積層体。
【請求項５】
前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域が、一つの領域であり、前記非平滑領域が、前記非平滑領域に囲まれて島状に存在している請求項４に記載の防曇防汚積層体。
【請求項６】
前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域及び前記非平滑領域の少なくともいずれかが、矩形の領域である請求項１から５のいずれかに記載の防曇防汚積層体。
【請求項７】
前記防曇防汚層が、表面において、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを交互に有する請求項１、２、４、及び６のいずれかに記載の防曇防汚積層体。
【請求項８】
前記防曇防汚層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物である請求項１から７のいずれかに記載の防曇防汚積層体。
【請求項９】
請求項１から８のいずれかに記載の防曇防汚積層体を表面に有し、
前記防曇防汚層が、表面に、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを有することを特徴とする物品。
【請求項１０】
請求項９に記載の物品の製造方法であって、
前記防曇防汚積層体を加熱する加熱工程と、
加熱された前記防曇防汚積層体を所望の形状に成形する防曇防汚積層体成形工程と、を含み、
前記防曇防汚積層体成形工程後の前記防曇防汚層が、表面に、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【請求項１１】
請求項１から８のいずれかに記載の防曇防汚積層体を、前記防曇防汚層が表面に前記平滑領域と前記非平滑領域とを有するように、物品の表面に積層することにより、前記物品の汚れを防ぐことを特徴とする防汚方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防曇性及び防汚性を有し、建築用途、産業用途、自動車用途、光学用途、太陽電池パネルなどの広範囲に使用でき、加工性に優れる防曇防汚積層体、前記防曇防汚積層体を用いた物品、及びその製造方法、並びに前記防曇防汚積層体を用いた防汚方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
種々の物品には、その表面を装飾及び保護するために、その表面に樹脂フィルム、ガラスなどが貼り付けられている。
しかし、物品の表面を装飾及び保護する樹脂フィルム、ガラスなどが曇ること及び汚れることにより物品の視認性及び美観が低下することがある。
そのため、そのような物品の視認性及び美観の低下を防ぐために、前記樹脂フィルム及びガラスには、防曇処理が施されている。
【０００３】
例えば、基材表面に、下地層としてのシラン系カップリング層、吸水層としての有機無機複合被膜、保護層としての撥水加工層を順次積層してなる防曇性被膜形成基材が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
また、撥水化処理の技術として、例えば、微小突起群を備えた微小突起構造体を有し、前記微小突起構造体の表面に、化学気相処理により、フッ素原子及びケイ素原子より選択される１種以上の原子を含む化合物が堆積されてなり、前記微小突起構造体側の表面における純水の静的接触角が、θ／２法で９０°〜１６０°である水保持シートが提案されている（例えば、特許文献２参照）。
しかし、これらの提案の技術では、防曇防汚処理が施されたシートである防曇防汚積層体を用いて物品を製造する際に、シートのブロッキングの発生、シートの外観低下などが生じ、加工性が十分ではないという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−２３３６３８号公報
【特許文献２】特許第５６２６３９５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、従来における前記諸問題を解決し、以下の目的を達成することを課題とする。即ち、本発明は、優れた防曇性及び防汚性を有し、かつ加工性にも優れる防曇防汚積層体、前記防曇防汚積層体を用いた物品、及びその製造方法、並びに前記防曇防汚積層体を用いた防汚方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記課題を解決するための手段としては、以下の通りである。即ち、
＜１＞  樹脂製基材と、前記樹脂製基材上に、防曇性及び防汚性を有する防曇防汚層とを有し、
前記防曇防汚層が、表面に、平滑な面を有する平滑領域と、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する非平滑領域とを有することを特徴とする防曇防汚積層体である。
＜２＞  前記防曇防汚層の表面において、前記非平滑領域の総面積が、前記平滑領域の総面積よりも大きい前記＜１＞に記載の防曇防汚積層体である。
＜３＞  前記防曇防汚層の表面において、前記非平滑領域が、一つの領域であり、前記平滑領域が、前記非平滑領域に囲まれて島状に存在している前記＜２＞に記載の防曇防汚積層体である。
＜４＞  前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域の総面積が、前記非平滑領域の総面積よりも大きい前記＜１＞に記載の防曇防汚積層体である。
＜５＞  前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域が、一つの領域であり、前記非平滑領域が、前記非平滑領域に囲まれて島状に存在している前記＜４＞に記載の防曇防汚積層体。
＜６＞  前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域及び前記非平滑領域の少なくともいずれかが、矩形の領域である前記＜１＞から＜５＞のいずれかに記載の防曇防汚積層体である。
＜７＞  前記防曇防汚層が、表面において、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを交互に有する前記＜１＞、＜２＞、＜４＞、及び＜６＞のいずれかに記載の防曇防汚積層体である。
＜８＞  前記防曇防汚層が、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物である前記＜１＞から＜７＞のいずれかに記載の防曇防汚積層体である。
＜９＞  前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の防曇防汚積層体を表面に有し、
前記防曇防汚層が、表面に、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを有することを特徴とする物品である。
＜１０＞  前記＜９＞に記載の物品の製造方法であって、
前記防曇防汚積層体を加熱する加熱工程と、
加熱された前記防曇防汚積層体を所望の形状に成形する防曇防汚積層体成形工程と、を含み、
前記防曇防汚積層体成形工程後の前記防曇防汚層が、表面に、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを有することを特徴とする物品の製造方法である。
＜１１＞  前記＜１＞から＜８＞のいずれかに記載の防曇防汚積層体を、前記防曇防汚層が表面に前記平滑領域と前記非平滑領域とを有するように、物品の表面に積層することにより、前記物品の汚れを防ぐことを特徴とする防汚方法である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、従来における前記諸問題を解決し、前記目的を達成することができ、優れた防曇性及び防汚性を有し、かつ加工性にも優れる防曇防汚積層体、前記防曇防汚積層体を用いた物品、及びその製造方法、並びに前記防曇防汚積層体を用いた防汚方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１Ａ】図１Ａは、防曇防汚層の一例を上面から見た概略図である。
【図１Ｂ】図１Ｂは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図１Ｃ】図１Ｃは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図１Ｄ】図１Ｄは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図１Ｅ】図１Ｅは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図１Ｆ】図１Ｆは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図２Ａ】図２Ａは、防曇防汚層の一例を上面から見た概略図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図２Ｃ】図２Ｃは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図２Ｄ】図２Ｄは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図２Ｅ】図２Ｅは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図２Ｆ】図２Ｆは、防曇防汚層の他の一例を上面から見た概略図である。
【図３Ａ】図３Ａは、凸部を有する非平滑領域の表面の一例を示す原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）像である。
【図３Ｂ】図３Ｂは、図３Ａのａ−ａ線に沿った断面図である。
【図４Ａ】図４Ａは、凹部を有する非平滑領域の表面の一例を示すＡＦＭ像である。
【図４Ｂ】図４Ｂは、図４Ａのａ−ａ線に沿った断面図である。
【図５Ａ】図５Ａは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、図５Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、図５ＢのトラックＴにおける断面図である。
【図５Ｄ】図５Ｄは、転写原盤であるロール原盤の構成の他の一例を示す斜視図である。
【図６】図６は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。
【図７Ａ】図７Ａは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図７Ｂ】図７Ｂは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図７Ｃ】図７Ｃは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図７Ｄ】図７Ｄは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図７Ｅ】図７Ｅは、ロール原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図８Ａ】図８Ａは、ロール原盤により平滑領域及び非平滑領域を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図８Ｂ】図８Ｂは、ロール原盤により平滑領域及び非平滑領域を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図８Ｃ】図８Ｃは、ロール原盤により平滑領域及び非平滑領域を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図９Ａ】図９Ａは、転写原盤である板状の原盤の構成の一例を示す平面図である。
【図９Ｂ】図９Ｂは、図９Ａに示したａ−ａ線に沿った断面図である。
【図９Ｃ】図９Ｃは、図９Ｂの一部を拡大して表す断面図である。
【図１０】図１０は、板状の原盤を作製するためのレーザー加工装置の構成の一例を示す概略図である。
【図１１Ａ】図１１Ａは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図１１Ｂ】図１１Ｂは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図１１Ｃ】図１１Ｃは、板状の原盤を作製する工程の一例を説明するための工程図である。
【図１２Ａ】図１２Ａは、板状の原盤により平滑領域及び非平滑領域を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図１２Ｂ】図１２Ｂは、板状の原盤により平滑領域及び非平滑領域を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図１２Ｃ】図１２Ｃは、板状の原盤により平滑領域及び非平滑領域を転写する工程の一例を説明するための工程図である。
【図１３Ａ】図１３Ａは、防曇防汚シートの一例の概略断面図である。
【図１３Ｂ】図１３Ｂは、防曇防汚シートにおいて、凹面に直交する方向から見た一例の概略図である。
【図１３Ｃ】図１３Ｃは、防曇防汚シートにおいて、凹面に直交する方向から見た他の一例の概略図である。
【図１４Ａ】図１４Ａは、真空成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１４Ｂ】図１４Ｂは、真空成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１４Ｃ】図１４Ｃは、真空成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１４Ｄ】図１４Ｄは、真空成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１５Ａ】図１５Ａは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１５Ｂ】図１５Ｂは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１５Ｃ】図１５Ｃは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１５Ｄ】図１５Ｄは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１５Ｅ】図１５Ｅは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１５Ｆ】図１５Ｆは、インモールド成形により本発明の物品を製造する一例を説明するための工程図である。
【図１６】図１６は、本発明の物品の一例の概略断面図である（その１）。
【図１７】図１７は、本発明の物品の一例の概略断面図である（その２）。
【図１８】図１８は、本発明の物品の一例の概略断面図である（その３）。
【図１９】図１９は、本発明の物品の一例の概略断面図である（その４）。
【図２０】図２０は、製造例１で作製したガラスロール原盤の斜視図である。
【図２１】図２１は、実施例１−１で作製した円形シートである。
【図２２】図２２は、実施例１−２で作製した円形シートである。
【図２３】図２３は、比較例１−１で作製した円形シートである。
【図２４】図２４は、製造例２で作製したガラスロール原盤の斜視図である。
【図２５】図２５は、実施例２−１で作製した円形シートである。
【図２６】図２６は、比較例２−１で作製した円形シートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
（防曇防汚積層体）
本発明の防曇防汚積層体は、樹脂製基材と、防曇防汚層とを少なくとも有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
【００１０】
＜樹脂製基材＞
前記樹脂製基材の材質としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ポリエステル（ＴＰＥＥ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリアミド（ＰＡ）、アラミド、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリアクリレート、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、ジアセチルセルロース、ポリ塩化ビニル、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、エポキシ樹脂、尿素樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、ＰＣ／ＰＭＭＡ積層体、ゴム添加ＰＭＭＡなどが挙げられる。
【００１１】
前記樹脂製基材は、透明性を有することが好ましい。
【００１２】
前記樹脂製基材の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、フィルム状であることが好ましい。
前記樹脂製基材がフィルム状の場合、前記樹脂製基材の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５μｍ〜１，０００μｍが好ましく、５０μｍ〜５００μｍがより好ましい。
【００１３】
前記樹脂製基材の表面には、文字、模様、画像などが印刷されていてもよい。
【００１４】
前記樹脂製基材の表面には、前記防曇防汚積層体を成形加工時、前記樹脂製基材と成形材料との密着性を高めるため、又は成形加工時の成形材料の流動圧から前記文字、前記模様、及び前記画像を保護するために、バインダー層を設けてもよい。前記バインダー層の材質としては、アクリル系、ウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、エチレンブチルアルコール系、エチレン酢酸ビニル共重合体系等の各種バインダーの他、各種接着剤を用いることができる。なお、前記バインダー層は２層以上設けてもよい。使用するバインダーは、成形材料に適した感熱性、感圧性を有するものを選択できる。
【００１５】
＜防曇防汚層＞
前記防曇防汚層は、防曇性及び防汚性を有する。
前記防曇防汚層は、表面に、平滑領域と、非平滑領域とを有する。
前記平滑領域は、平滑な面を有する領域である。
前記非平滑領域は、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する領域である。
【００１６】
ここで、平滑な面とは、意図的に形成された凸部又は凹部を有さない面を意味する。例えば、前記防曇防汚層を形成する際に、物理的な加工による微細な凸部又は凹部が表面に形成されていない面を指す。
【００１７】
前記防曇防汚層としては、製造が容易な点で、樹脂製の防曇防汚層が好ましい。
前記防曇防汚層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物を含有することが好ましい。
【００１８】
−平滑領域、及び非平滑領域−
前記防曇防汚層の表面において、前記非平滑領域の総面積は、前記平滑領域の総面積よりも大きいことが好ましい。そうすることにより、加工性に優れる。具体的には、加工時の位置ずれを防止することができ、その結果、加工後の外観に優れる。
一方、前記防曇防汚層の表面において、前記平滑領域の総面積は、前記非平滑領域の総面積よりも大きいことが好ましい。そうすることにより、加工性に優れる。具体的には、耐ブロッキング性に優れる。ここで、「耐ブロッキング性が優れる」とは、複数のシートを重ねて放置した際に、シートの引き離しが容易に行えることを意味する。
【００１９】
ここで、非平滑領域の面積、及び平滑領域の面積は、前記防曇防汚層をその表面に直交する方向から見た時に、その領域が占める面積である。そのため、後述する、表面形状によって生じている表面積とは、異なる。そして、総面積とは、複数の前記非平滑領域、又は複数の前記平滑領域がある場合、それら全ての面積を合計した面積である。
【００２０】
前記平滑領域と、前記非平滑領域との配置については、特に制限はなく、前記防曇防汚積層体を用いて製造される物品の形状、大きさ等に応じて、適宜選択することができる。
【００２１】
ここで、平滑領域と、非平滑領域との配置について、具体例を挙げて説明する。
図１Ａ〜図１Ｆは、防曇防汚層１２を上面から見た概略図である。
図１Ａ〜図１Ｆは、防曇防汚層１２の表面において、非平滑領域の総面積が、平滑領域の総面積よりも大きい場合の配置例である。
図１Ａでは、平滑領域１２Ａと、非平滑領域１２Ｂとが並列し、交互に並んでいる。平滑領域１２Ａ及び非平滑領域１２Ｂは共に、帯状である。帯状の非平滑領域１２Ｂの幅は、帯状の平滑領域１２Ａの幅よりも大きい。平滑領域１２Ａの幅及び非平滑領域１２Ｂの幅としては、例えば、０．１ｍｍ〜５００ｍｍなどが挙げられる。
図１Ｂでは、非平滑領域１２Ｂが、１つの領域を形成し、その領域に囲まれるように、複数の平滑領域１２Ａが島状に存在している。平滑領域１２Ａの一つ一つは、矩形であり、複数の平滑領域１２Ａは、長辺方向、及び短辺方向にそれぞれ並列し、規則的に配置されている。
図１Ｃの配置の形態は図１Ｂと同じであるが、平滑領域１２Ａの一つ一つは、角が丸くなっている。
図１Ｄでは、非平滑領域１２Ｂが、１つの領域を形成し、その領域に囲まれるように、複数の平滑領域１２Ａが島状に存在している。平滑領域１２Ａの一つ一つは、円形であり、複数の平滑領域１２Ａは、規則的に配置されている。
図１Ｅでは、平滑領域１２Ａと非平滑領域１２Ｂとが、格子状に配置されている。
図１Ｆでは、非平滑領域１２Ｂが、１つの領域を形成し、その領域に囲まれるように、複数の平滑領域１２Ａが島状に存在している。平滑領域１２Ａの一つ一つは、円形であり、複数の平滑領域１２Ａは、規則的に配置されているが、配置は図１Ｄとは異なっている。
ここで、図１Ａ、図１Ｅの態様は、防曇防汚層１２が、平滑領域１２Ａと、非平滑領域１２Ｂとを交互に有する態様である。
【００２２】
図２Ａ〜図２Ｆは、防曇防汚層１２を上面から見た概略図である。
図２Ａ〜図２Ｆは、防曇防汚層１２の表面において、平滑領域の総面積が、非平滑領域の総面積よりも大きい場合の配置例である。
図２Ａでは、平滑領域１２Ａと、非平滑領域１２Ｂとが並列し、交互に並んでいる。平滑領域１２Ａ及び非平滑領域１２Ｂは共に、帯状である。帯状の平滑領域１２Ａの幅は、帯状の非平滑領域１２Ｂの幅よりも大きい。平滑領域１２Ａの幅及び非平滑領域１２Ｂの幅としては、例えば、０．１ｍｍ〜５００ｍｍなどが挙げられる。
図２Ｂでは、平滑領域１２Ａが、１つの領域を形成し、その領域に囲まれるように、複数の非平滑領域１２Ｂが島状に存在している。非平滑領域１２Ｂの一つ一つは、矩形であり、複数の非平滑領域１２Ｂは、長辺方向、及び短辺方向にそれぞれ並列し、規則的に配置されている。
図２Ｃの配置の形態は図２Ｂと同じであるが、非平滑領域１２Ｂの一つ一つは、角が丸くなっている。
図２Ｄでは、平滑領域１２Ａが、１つの領域を形成し、その領域に囲まれるように、複数の非平滑領域１２Ｂが島状に存在している。非平滑領域１２Ｂの一つ一つは、円形であり、複数の非平滑領域１２Ｂは、規則的に配置されている。
図２Ｅでは、平滑領域１２Ａと非平滑領域１２Ｂとが、格子状に配置されている。
図２Ｆでは、平滑領域１２Ａが、１つの領域を形成し、その領域に囲まれるように、複数の非平滑領域１２Ｂが島状に存在している。非平滑領域１２Ｂの一つ一つは、円形であり、複数の非平滑領域１２Ｂは、規則的に配置されているが、配置は図２Ｄとは異なっている。
ここで、図２Ａ、図２Ｅの態様は、防曇防汚層１２が、平滑領域１２Ａと、非平滑領域１２Ｂとを交互に有する態様である。
【００２３】
−微細な凸部、及び微細な凹部−
前記非平滑領域は、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する領域である。
前記非平滑領域は、前記防曇防汚層において、前記樹脂製基材側と反対側の面に形成されている。
【００２４】
ここで、微細な凸部とは、前記防曇防汚層の表面において、隣接する凸部の平均距離が、１，０００ｎｍ以下であることをいう。
ここで、微細な凹部とは、前記防曇防汚層の表面において、隣接する凹部の平均距離が、１，０００ｎｍ以下であることをいう。
【００２５】
前記凸部、及び前記凹部の形状としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、錐体状、柱状、針状、球体の一部の形状（例えば、半球体状）、楕円体の一部の形状（例えば、半楕円体状）、多角形状などが挙げられる。これらの形状は数学的に定義される完全な形状である必要はなく、多少の歪みがあってもよい。
【００２６】
前記凸部又は前記凹部は、前記非平滑領域の表面に２次元配列されている。その配列は、規則的な配列であってもよいし、ランダムな配列であってもよい。前記規則的な配列としては、充填率の点から、最密充填構造が好ましい。
【００２７】
隣接する前記凸部の平均距離としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍが特に好ましい。
隣接する前記凹部の平均距離としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、１０ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍが特に好ましい。
隣接する前記凸部の平均距離及び隣接する前記凹部の平均距離が、前記好ましい範囲内であると、本発明の防曇防汚積層体、及び物品において、防曇特性、耐磨耗性、及び汚れ払拭性が優れる点で有利である。
【００２８】
前記凸部の平均高さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍが特に好ましい。
前記凹部の平均深さとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１ｎｍ〜１，０００ｎｍが好ましく、５ｎｍ〜５００ｎｍがより好ましく、１０ｎｍ〜３００ｎｍが更に好ましく、５０ｎｍ〜３００ｎｍが特に好ましい。
前記凸部の平均高さ及び前記凹部の平均深さが、前記好ましい範囲内であると、ナノサイズの凹凸構造の転写性や転写原盤の剥離性に優れ、生産効率が良い。また、本発明の防曇防汚積層体、及び物品において、防曇特性、耐磨耗性、及び汚れ払拭性が優れる点で有利である。なお、高さ或いは深さが大きすぎると、耐磨耗性及び汚れ払拭性が劣化する傾向にある。一方、高さ或いは深さが小さすぎると、防曇特性が劣化する傾向にある。
【００２９】
前記凸部の平均アスペクト比（前記凸部の平均高さ／隣接する前記凸部の平均距離）及び前記凹部の平均アスペクト比（前記凹部の平均深さ／隣接する前記凹部の平均距離）としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．００１〜１，０００が好ましく、０．１〜１０がより好ましく、０．２〜１．０が特に好ましい。
前記凸部の平均アスペクト比及び前記凹部の平均アスペクト比が、前記好ましい範囲内であると、ナノサイズの凹凸構造の転写性や転写原盤の剥離性に優れ、生産効率が良い。また、本発明の防曇防汚積層体、及び物品において、防曇特性、耐磨耗性、及び汚れ払拭性が優れる点で有利である。なお、アスペクト比が大きすぎると、耐磨耗性及び汚れ払拭性が劣化する傾向にある。一方、アスペクト比が小さすぎると、防曇特性が劣化する傾向にある。
【００３０】
ここで、凸部又は凹部の平均距離（Ｐｍ）、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ）は、以下のようにして測定できる。
まず、凸部又は凹部を有する前記非平滑領域の表面Ｓを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、ＡＦＭの断面プロファイルから凸部又は凹部のピッチ、及び凸部の高さ又は凹部の深さを求める。これを前記非平滑領域の表面から無作為に選び出された１０箇所において繰り返し行い、ピッチＰ１、Ｐ２、・・・、Ｐ１０と、高さ又は深さＨ１、Ｈ２、・・・、Ｈ１０とを求める。
ここで、前記凸部のピッチは、前記凸部の頂点間の距離である。前記凹部のピッチは、前記凹部の最深部間の距離である。前記凸部の高さは、前記凸部間の谷部の最低点を基準とした前記凸部の高さである。前記凹部の深さは、前記凹部間の山部の最高点を基準とした前記凹部の深さである。
次に、これらのピッチＰ１、Ｐ２、・・・、Ｐ１０、及び高さ又は深さＨ１、Ｈ２、・・・、Ｈ１０をそれぞれ単純に平均（算術平均）して、凸部又は凹部の平均距離（Ｐｍ）、及び凸部の平均高さ又は凹部の平均深さ（Ｈｍ）を求める。
なお、前記凸部又は凹部のピッチが面内異方性を有している場合には、ピッチが最大となる方向のピッチを用いて前記Ｐｍを求めるものとする。また、前記凸部の高さ又は前記凹部の深さが面内異方性を有している場合には、高さ又は深さが最大となる方向の高さ又は深さを用いて前記Ｈｍを求めるものとする。
また、前記凸部又は凹部が棒状の場合には、短軸方向のピッチを、前記ピッチとして測定する。
なお、前記ＡＦＭ観察においては、断面プロファイルの凸の頂点、又は凹の底辺が、立体形状の凸部の頂点、又は凹部の最深部と一致するようにするため、断面プロファイルを、測定対象となる立体形状の凸部の頂点、又は立体形状の凹部の最深部を通る断面となるように、切り出している。
【００３１】
ここで、前記非平滑領域の表面に形成されている微細な形状が、凸部であるか、凹部であるかは、以下のようにして判断することができる。
凸部又は凹部を有する前記非平滑領域の表面Ｓを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、断面及び前記表面ＳのＡＦＭ像を得る。
そして、表面のＡＦＭ像を、最表面側を明るい像、深部側を暗い像にした場合、暗い像の中に、明るい像が島状に形成されている場合、その表面は、凸部を有するものとする。
一方、明るい像の中に、暗い像が島状に形成されている場合、その表面は、凹部を有するものとする。
例えば、図３Ａ及び図３Ｂに示す表面及び断面のＡＦＭ像を有する非平滑領域の表面は、凸部を有している。図４Ａ及び図４Ｂに示す表面及び断面のＡＦＭ像を有する非平滑領域の表面は、凹部を有している。
【００３２】
前記非平滑領域の表面の平均表面積率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１．１以上が好ましく、１．３以上がより好ましく、１．４以上が特に好ましい。前記表面積率とは、ある指定した領域における対象物の表面形状によって生じている表面積と指定領域の面積との比（表面積／面積）である。前記平均表面積率が大きいと、呼気などによる微細な水蒸気が前記非平滑領域に取り込まれやすくなり、防曇特性が向上する。この効果により、前記非平滑領域の材料選択肢が広がり、前記非平滑領域の硬化度を高めつつ、優れた防曇特性が得られ、本発明の防曇防汚積層体、及び物品において、優れた防曇特性、耐湿熱性、耐磨耗性、及び汚れ払拭性が同時に達成される。
【００３３】
ここで、非平滑領域の表面の平均表面積率は、以下のようにして測定できる。
凸部又は凹部を有する前記非平滑領域の表面Ｓを原子間力顕微鏡（ＡＦＭ：Ａｔｏｍｉｃ  Ｆｏｒｃｅ  Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ）により観察し、前記表面ＳのＡＦＭ像を得る。これを前記非平滑領域の表面から無作為に選び出された１０箇所において繰り返し行い、表面積Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓ１０を求める。次に、これらの表面積Ｓ１、Ｓ２、・・・、Ｓ１０と、それぞれの観察領域の面積との比（表面積／面積）ＳＲ１、ＳＲ２、・・・、ＳＲ１０を単純に平均（算術平均）して、非平滑領域の表面の平均表面積率ＳＲｍを求める。
【００３４】
−純水接触角−
前記平滑領域、及び前記非平滑領域の純水接触角は、９０°以上が好ましく、１００°以上がより好ましく、１１０°以上が更により好ましく、１１５°以上が特に好ましい。前記純水接触角の上限値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１７０°などが挙げられる。
前記純水接触角は、例えば、ＤＭ−７０１（協和界面化学株式会社製）を用い、下記条件で楕円フィッティング法によって測定することができる。
・蒸留水をプラスチックシリンジに入れて、その先端にステンレス製の針を取り付けて評価面に滴下する。
・水の滴下量：２μＬ
・測定温度：２５℃
水を滴下して４秒経過後の接触角を、防曇防汚層表面の任意の１０か所で測定し、その平均値を純水接触角とする。
【００３５】
−ヘキサデカン接触角−
前記平滑領域、及び前記非平滑領域の表面のヘキサデカン接触角は、３０°以上が好ましく、６０°以上がより好ましく、７０°以上が更により好ましく、８０°以上が特に好ましい。前記ヘキサデカン接触角の上限値としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、１５０°などが挙げられる。
前記ヘキサデカン接触角が、前記好ましい範囲内であると、表面に指紋、皮脂、汗、涙、化粧品などが付着した場合でも、簡単に払拭することができ、優れた防曇性が維持できる点で有利である。
前記ヘキサデカン接触角は、例えば、ＤＭ−７０１（協和界面化学株式会社製）を用い、下記条件で楕円フィッティング法によって測定することができる。
・ヘキサデカンをプラスチックシリンジに入れて、その先端にテフロンコートステンレス製の針を取り付けて評価面に滴下する。
・ヘキサデカンの滴下量：２μＬ
・測定温度：２５℃
ヘキサデカンを滴下して４秒経過後の接触角を、防曇防汚層表面の任意の１０か所で測定し、その平均値をヘキサデカン接触角とする。
【００３６】
−活性エネルギー線硬化性樹脂組成物−
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、例えば、ラジカル重合性不飽和基を有する親水性モノマー（以下、「親水性モノマー」と称することがある）と、光重合開始剤とを少なくとも含有し、好ましくはラジカル重合性不飽和基を有する撥水性モノマー（以下、「撥水性モノマー」と称することがある）を含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する。
【００３７】
−−撥水性モノマー−−
前記ラジカル重合性不飽和基を有する撥水性モノマーとしては、例えば、ラジカル重合性不飽和基とフッ素及びケイ素の少なくともいずれかとを有するモノマーが挙げられる。そのような撥水性モノマーとしては、例えば、フッ素及びケイ素の少なくともいずれかを有する（メタ）アクリレートが挙げられ、更には、例えば、フッ化（メタ）アクリレート、シリコーン（メタ）アクリレートなどが挙げられ、更に具体的には、フルオロアルキル基を有する（メタ）アクリレート、フルオロアルキルエーテル基を有する（メタ）アクリレート、ジメチルシロキサン基を有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
前記撥水性モノマーは、前記親水性モノマーと相溶することが好ましい。
ここで、本発明において、（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタアクリレートを意味する。（メタ）アクリロイル、（メタ）アクリルについても同様である。
【００３８】
前記撥水性モノマーは、市販品であってもよい。
前記フッ化（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、信越化学工業株式会社製ＫＹ−１２００シリーズ、ＤＩＣ株式会社製メガファックＲＳシリーズ、ダイキン工業株式会社製オプツールＤＡＣなどが挙げられる。
前記シリコーン（メタ）アクリレートの市販品としては、例えば、信越化学工業株式会社製Ｘ−２２−１６４シリーズ、エボニック社製ＴＥＧＯ  Ｒａｄシリーズなどが挙げられる。
【００３９】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記撥水性モノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１８質量％超が好ましく、０．０１８質量％超５．０質量％未満が好ましく、０．０７５質量％〜３．０質量％がより好ましく、０．１８質量％〜１．５質量％が特に好ましい。前記含有量が、５．０質量％以上であると、硬化物の撥水性は優れるものの、ガラス転移温度が低くなることで、柔らかくなりすぎ、耐磨耗性が低下することがある。また、前記防曇防汚層中に前記撥水性モノマーの反応物が多く存在する結果、呼気防曇性が低下することがある。なお、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が揮発分（例えば、有機溶剤）を含有する場合、前記含有量は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分に対する含有量である。
【００４０】
−−親水性モノマー−−
前記ラジカル重合性不飽和基を有する親水性モノマーとしては、例えば、ポリオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレート、４級アンモニウム塩含有（メタ）アクリレート、３級アミノ基含有（メタ）アクリレート、スルホン酸基含有モノマー、カルボン酸基含有モノマー、リン酸基含有モノマー、ホスホン酸基含有モノマーなどが挙げられる。これらは、単官能モノマーであってもよいし、多官能モノマーであってもよい。
前記ポリオキシアルキレン鎖としては、例えば、ポリオキシエチレン鎖、ポリオキシプロピレン鎖などが挙げられる。これらの中でも、ポリオキシエチレン鎖が、親水性に優れる点で好ましい。
【００４１】
前記親水性モノマーとしては、例えば、多価アルコール（ポリオール又はポリヒドロキシ含有化合物）と、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体からなる群から選択される化合物との反応によって得られるモノ若しくはポリアクリレート、又はモノ若しくはポリメタクリレートなどが挙げられる。前記多価アルコールとしては、例えば、２価のアルコール、３価のアルコール、４価以上のアルコールなどが挙げられる。前記２価のアルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、数平均分子量が３００〜１，０００のポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２，２’−チオジエタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノールなどが挙げられる。前記３価のアルコールとしては、例えば、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、ペンタグリセロール、グリセロール、１，２，４−ブタントリオール、１，２，６−ヘキサントリオールなどが挙げられる。前記４価以上のアルコールとしては、例えば、ペンタエリスリトール、ジグリセロール、ジペンタエリスリトールなどが挙げられる。
【００４２】
前記ポリオキシアルキレン鎖を有する（メタ）アクリレートとしては、例えば、ポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリン（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。前記ポリエチレングリコール（メタ）アクリレートとしては、例えば、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレートなどが挙げられる。前記ポリエチレングリコール（メタ）アクリレートにおけるポリエチレングリコールユニットの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、３００〜１，０００などが挙げられる。前記メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレートとしては、市販品を用いることができる。前記市販品としては、例えば、ＭＥＰＭ−１０００（第一工業製薬株式会社製）などが挙げられる。
これらの中でも、エトキシ化グリセリン（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが、防曇防汚層の適度な硬度と親水性とを両立できる点から、好ましい。
【００４３】
前記４級アンモニウム塩含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルジメチルグリシジルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、（メタ）アクリロイルオキシジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、（メタ）アクリロイルオキシエチルトリメチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルフォネート、（メタ）アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリルアミドプロピルジメチルベンジルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリルアミドプロピルジメチルグリシジルアンモニウムクロライド、（メタ）アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウムメチルサルフェート、（メタ）アクリルアミドプロピルジメチルエチルアンモニウムエチルサルフェート、（メタ）アクリルアミドプロピルトリメチルアンモニウム−ｐ−トルエンスルフォネートなどが挙げられる。
【００４４】
前記３級アミノ基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、ジエチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド、１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル（メタ）アクリレート、２，２，６，６−テトラメチルピペリジル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４５】
前記スルホン酸基含有モノマーとしては、例えば、ビニルスルホン酸、アリルスルホン酸、ビニルトルエンスルホン酸、スチレンスルホン酸、スルホン酸基含有（メタ）アクリレートなどが挙げられる。前記スルホン酸基含有（メタ）アクリレートとしては、例えば、（メタ）アクリル酸スルホエチル、（メタ）アクリル酸スルホプロピル、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、末端スルホン酸変性ポリエチレングリコールモノ（メタ）クリレートなどが挙げられる。これらは、塩を形成していてもよい。前記塩としては、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩、アンモニウム塩などが挙げられる。
【００４６】
前記カルボン酸基含有モノマーとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸などが挙げられる。
【００４７】
前記リン酸基含有モノマーとしては、例えば、リン酸エステルを有する（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００４８】
前記親水性モノマーは、多官能の親水性モノマーであることが好ましい。
【００４９】
前記親水性モノマーの分子量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、２００以上が好ましい。
【００５０】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記親水性モノマーの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、６０質量％以上が好ましく、６０質量％〜９９．９質量％がより好ましく、６３質量％〜９５質量％が更により好ましく、６５質量％〜９０質量％が特に好ましい。なお、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が揮発分（例えば、有機溶剤）を含有する場合、前記含有量は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分に対する含有量である。
【００５１】
−−光重合開始剤−−
前記光重合開始剤としては、例えば、光ラジカル重合開始剤、光酸発生剤、ビスアジド化合物、ヘキサメトキシメチルメラミン、テトラメトキシグリコユリルなどが挙げられる。
前記光ラジカル重合開始剤としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、エトキシフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、ビス（２，６−ジクロルベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、１−フェニル２−ヒドロキシ−２メチルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニルエタンジオン、メチルフェニルグリオキシレートなどが挙げられる。
【００５２】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記光重合開始剤の含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．１質量％〜１０質量％が好ましく、０．５質量％〜８質量％がより好ましく、１質量％〜５質量％が特に好ましい。なお、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が揮発分（例えば、有機溶剤）を含有する場合、前記含有量は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の不揮発分に対する含有量である。
【００５３】
−−その他の成分−−
前記その他の成分としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸基含有（メタ）アクリレート、フィラーなどが挙げられる。
これらは、前記防曇防汚層の伸び率、硬度などを調整するために用いることがある。
【００５４】
前記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、脂肪族ウレタン（メタ）アクリレート、芳香族ウレタン（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも、脂肪族ウレタン（メタ）アクリレートが好ましい。
【００５５】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物における前記ウレタン（メタ）アクリレートの含有量としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０質量％〜４５質量％が好ましく、１５質量％〜４０質量％がより好ましく、２０質量％〜３５質量％が特に好ましい。なお、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が揮発分（例えば、有機溶剤）を含有する場合、前記含有量は、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成部物の不揮発分に対する含有量である。
【００５６】
前記フィラーとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、シリカ、ジルコニア、チタニア、酸化錫、酸化インジウム錫、アンチモンドープ酸化錫、五酸化アンチモンなどが挙げられる。前記シリカとしては、例えば、中実シリカ、中空シリカなどが挙げられる。
【００５７】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、使用時には、有機溶剤を用いて希釈して用いることができる。前記有機溶剤としては、例えば、芳香族系溶媒、アルコール系溶媒、エステル系溶媒、ケトン系溶媒、グリコールエーテル系溶媒、グリコールエーテルエステル系溶媒、塩素系溶媒、エーテル系溶媒、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ジメチルアセトアミドなどが挙げられる。
【００５８】
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物は、活性エネルギー線が照射されることにより硬化する。前記活性エネルギー線としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、電子線、紫外線、赤外線、レーザー光線、可視光線、電離放射線（Ｘ線、α線、β線、γ線等）、マイクロ波、高周波などが挙げられる。
【００５９】
前記防曇防汚層のマルテンス硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５Ｎ／ｍｍ２〜３００Ｎ／ｍｍ２が好ましく、１０Ｎ／ｍｍ２〜２９０Ｎ／ｍｍ２がより好ましく、１５Ｎ／ｍｍ２〜２８０Ｎ／ｍｍ２が特に好ましい。前記防曇防汚積層体を成形加工する際、例えば、ポリカーボネートの射出成形時には、防曇防汚積層体は、２９０℃、２００ＭＰａで加熱加圧される。前記マルテンス硬度が、５Ｎ／ｍｍ２未満であると、前記防曇防汚積層体を製造又は成形加工する際のハンドリング及び面清掃等の、通常使用時の面清掃などで前記防曇防汚層に傷が入り易いことがある。前記マルテンス硬度が、３００Ｎ／ｍｍ２を超えると、成形加工時、前記防曇防汚層にクラックが発生したり、前記防曇防汚層が剥離することがある。前記マルテンス硬度が、前記特に好ましい範囲内であると、前記防曇防汚積層体を、防曇性能を劣化させることなく、且つ傷付き、クラック、剥離等の不良を発生させることなく、様々な三次元形状に容易に成形加工できる点で有利である。
なお、前記防曇防汚積層体を成形加工後、前記防曇防汚層には射出成形工程にて高温高圧が加わるため、成形加工前よりも前記防曇防汚層のマルテンス硬度が高まることがある。
前記マルテンス硬度は、例えば、ＰＩＣＯＤＥＮＴＯＲ  ＨＭ５００（商品名；フィッシャー・インストルメンツ社製）を用いて測定できる。荷重１ｍＮ／２０ｓとし、針としてダイアモンド錐体を用い、面角１３６°で測定する。
【００６０】
前記防曇防汚層の鉛筆硬度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、Ｂ〜４Ｈが好ましく、ＨＢ〜４Ｈがより好ましく、Ｆ〜４Ｈが特に好ましい。前記鉛筆硬度が、Ｂ未満である（Ｂより柔らかい）と、前記防曇防汚積層体を製造又は成形加工する際のハンドリングや面清掃等の、通常使用時の面清掃などで前記防曇防汚層に傷が入り易い。前記鉛筆硬度が、４Ｈを超える（４Ｈより硬い）と、成形加工時、前記防曇防汚層にクラックが発生したり、前記防曇防汚層が剥離することがある。前記鉛筆硬度が、前記特に好ましい範囲内であると、前記防曇防汚積層体を、防曇性能を劣化させることなく、且つ傷付き、クラック、剥離等の不良を発生させることなく、様々な三次元形状に容易に成形加工できる点で有利である。
なお、前記防曇防汚積層体を成形加工後、前記防曇防汚層には射出成形工程にて高温高圧が加わるため、成形加工前よりも前記防曇防汚層の鉛筆硬度が高まることがある。
前記鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に従って測定する。
【００６１】
前記防曇防汚層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１μｍ〜１００μｍが好ましく、４μｍ〜５０μｍがより好ましく、１０μｍ〜３０μｍが特に好ましい。前記平均厚みが、好ましい範囲内であると、防曇性が優れ、干渉ムラが低減し、また生産性に優れる点で有利である。前記平均厚みが、特に好ましい範囲内であると、干渉ムラをより低減させることができる。
【００６２】
＜その他の部材＞
前記その他の部材としては、アンカー層、保護層などが挙げられる。
【００６３】
−アンカー層−
前記アンカー層は、前記樹脂製基材と、前記防曇防汚層との間に配される層である。
前記アンカー層を配することにより、前記樹脂製基材と前記防曇防汚層との接着性を向上できる。
前記アンカー層の屈折率は、干渉ムラを防止するために、前記防曇防汚層の屈折率と近いことが好ましい。そのため、前記アンカー層の屈折率は、前記防曇防汚層の屈折率の±０．１０以内が好ましく、±０．０５以内がより好ましい。または、前記アンカー層の屈折率は、前記防曇防汚層の屈折率と前記樹脂製基材の屈折率との間であることが好ましい。
【００６４】
前記アンカー層は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布することにより形成できる。即ち、前記アンカー層は、例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物が活性エネルギー線により硬化した硬化物である。前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレートと、光重合開始剤とを少なくとも含有し、更に必要に応じて、その他の成分を含有する活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。前記ウレタン（メタ）アクリレート、前記光重合開始剤としては、例えば、前記防曇防汚層の説明において例示した前記ウレタン（メタ）アクリレート、前記光重合開始剤がそれぞれ挙げられる。前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。
【００６５】
前記アンカー層の平均厚みとしては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、０．０１μｍ〜１０μｍが好ましく、０．１μｍ〜５μｍがより好ましく、０．３μｍ〜３μｍが特に好ましい。
【００６６】
なお、前記アンカー層には、反射率低減や帯電防止の機能を付与してもよい。
【００６７】
−保護層−
前記保護層は、前記防曇防汚層の表面を保護する層である。
前記保護層は、前記防曇防汚積層体を用いて後述する物品を製造する際に、前記表面を保護する。
前記保護層は、前記防曇防汚層の前記表面上に配される。
【００６８】
前記保護層の材質としては、例えば、前記アンカー層と同様の材質が挙げられる。
【００６９】
前記防曇防汚積層体の伸び率としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、１０％以上が好ましく、１０％〜２００％がより好ましく、４０％〜１５０％が特に好ましい。前記伸び率が、１０％未満であると、成形加工が困難になることがある。前記伸び率が、前記特に好ましい範囲内であると、成形加工性に優れる点で有利である。
前記伸び率は、例えば、以下の方法により求めることができる。
前記防曇防汚積層体を、長さ１０．５ｃｍ×幅２．５ｃｍの短冊状にして測定試料とする。得られた測定試料の引張り伸び率を引張り試験機（オートグラフＡＧ−５ｋＮＸｐｌｕｓ、株式会社島津製作所製）で測定（測定条件：引張り速度＝１００ｍｍ／ｍｉｎ；チャック間距離＝８ｃｍ）する。前記伸び率の測定においては、前記樹脂製基材の品種によって測定温度が異なり、前記伸び率は、前記樹脂製基材の軟化点近傍又は軟化点以上の温度で測定する。具体的には、１０℃〜２５０℃の間である。例えば、前記樹脂製基材が、ポリカーボネートやＰＣ／ＰＭＭＡ積層体の場合は、１５０℃で測定するのが好ましい。
【００７０】
前記防曇防汚積層体は、前記防曇防汚積層体の面内におけるＸ方向とＹ方向の加熱収縮率差が小さい方が好ましい。前記防曇防汚積層体の前記Ｘ方向と前記Ｙ方向とは、例えば、防曇防汚積層体がロール形状の場合、ロールの長手方向と幅方向とに相当する。成形時の加熱工程に使用する加熱温度にて、防曇防汚積層体におけるＸ方向の加熱収縮率とＹ方向の加熱収縮率との差は５％以内であることが好ましい。この範囲外であると、成形加工時に、前記防曇防汚層に剥離やクラックが発生したり、樹脂製基材の表面に印刷された前記文字、前記模様、前記画像などが変形や位置ズレを起こしてしまい、成形加工が困難になることがある。
【００７１】
前記防曇防汚積層体は、熱曲げ用フィルム、インモールド成形用フィルム、インサート成形用フィルム、オーバーレイ成形用フィルムに特に適している。
【００７２】
前記防曇防汚積層体の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、後述する防曇防汚積層体の製造方法が好ましい。
【００７３】
（防曇防汚積層体の製造方法）
本発明に関する防曇防汚積層体の製造方法は、未硬化樹脂層形成工程と、防曇防汚層形成工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、その他の工程を含む。
前記防曇防汚積層体の製造方法は、本発明の前記防曇防汚積層体を製造する方法である。
【００７４】
＜未硬化樹脂層形成工程＞
前記未硬化樹脂層形成工程としては、樹脂製基材上に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して未硬化樹脂層を形成する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００７５】
前記樹脂製基材としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記防曇防汚積層体の説明において例示した前記樹脂製基材などが挙げられる。
前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記防曇防汚積層体の前記防曇防汚層の説明において例示した前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物などが挙げられる。
【００７６】
前記未硬化樹脂層は、前記樹脂製基材上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して、必要に応じて乾燥を行うことにより形成される。前記未硬化樹脂層は、固体の膜であってもよいし、前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物に含有される低分子量の硬化性成分によって流動性を有した膜であってもよい。
【００７７】
前記塗布の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ワイヤーバーコーティング、ブレードコーティング、スピンコーティング、リバースロールコーティング、ダイコーティング、スプレーコーティング、ロールコーティング、グラビアコーティング、マイクログラビアコーティング、リップコーティング、エアーナイフコーティング、カーテンコーティング、コンマコート法、ディッピング法などが挙げられる。
【００７８】
前記未硬化樹脂層は、活性エネルギー線が照射されていないため、硬化していない。
【００７９】
前記未硬化樹脂層形成工程においては、アンカー層が形成された前記樹脂製基材の前記アンカー層上に前記活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を塗布して前記未硬化樹脂層を形成してもよい。
前記アンカー層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記防曇防汚積層体の説明において例示した前記アンカー層などが挙げられる。
【００８０】
＜防曇防汚層形成工程＞
前記防曇防汚層形成工程としては、前記未硬化樹脂層に、平滑な面を有する平滑領域と、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する非平滑領域とを有する転写原盤を密着させ、前記転写原盤が密着した前記未硬化樹脂層に活性エネルギー線を照射し前記未硬化樹脂層を硬化させて、前記平滑領域及び前記非平滑領域を転写することにより、防曇防汚層を形成する工程あれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００８１】
−転写原盤−
前記転写原盤は、平滑領域と、非平滑領域とを有する。
前記平滑領域は、平滑な面を有する。
前記非平滑領域は、微細な凸部及び凹部のいずれかを有する。
前記転写原盤の材質、大きさ、構造としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記転写原盤に、前記平滑領域、及び前記非平滑領域を形成する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として前記転写原盤の表面をエッチングすることにより形成することが好ましい。また、レーザーを前記転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより形成することが好ましい。
【００８２】
前記未硬化樹脂層に密着する前記転写原盤の表面は、フッ素及びケイ素の少なくともいずれかを含有する化合物で処理（以下、「低表面エネルギー化処理」と称することがある）されてなることが好ましい。そうすることにより、前記転写原盤の表面エネルギーを低くでき、前記転写原盤と、前記未硬化樹脂層とを密着させた際に、前記未硬化樹脂層中において、低表面エネルギー成分（例えば、フッ素及びケイ素の少なくともいずれかを有する有機化合物）が前記転写原盤の表面側に局在化する。前記低表面エネルギー化処理を施した転写原盤の表面の純水接触角は、９０°以上が好ましい。この範囲であると、前記転写原盤と、前記未硬化樹脂層とを密着させた際に、前記未硬化樹脂層中において、前記低表面エネルギー成分が前記転写原盤の表面側に効果的に局在化する。
前記純水接触角は、例えば、ＰＣＡ−１（協和界面化学株式会社製）を用い、下記条件でθ／２法によって測定することができる。
・蒸留水をプラスチックシリンジに入れて、その先端にステンレス製の針を取り付けて評価面に滴下する。
・水の滴下量：２μＬ
・測定温度：２５℃
水を滴下して５秒経過後の接触角を、転写原盤表面の任意の１０か所で測定し、その平均値を純水接触角とする。
【００８３】
前記低表面エネルギー化処理に用いるフッ素及びケイ素の少なくともいずれかを含有する化合物としては、例えば、フルオロアルキル基、フルオロアルキルエーテル基、及びジメチルシロキサン基の何れかを有する金属アルコキシドなどが挙げられる。前記金属アルコキシドとしては、例えば、Ｓｉアルコキシド、Ｔｉアルコキシド、Ａｌアルコキシドなどが挙げられる。
【００８４】
前記低表面エネルギー化処理は、例えば、前記転写原盤を、前記フッ素及びケイ素の少なくともいずれかを含有する化合物を含有する液に浸漬した後に、加熱することにより、行うことができる。
前記液に浸漬する時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記加熱の温度、及び時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００８５】
前記活性エネルギー硬化性樹脂組成物が、前記フッ素及びケイ素の少なくともいずれかを有する有機化合物（例えば、前記撥水性モノマー）と、前記ポリオキシアルキル基及びポリオキシアルキレン基の少なくともいずれかを有する化合物（例えば、前記親水性モノマー）とを有し、かつ、前記低表面エネルギー化処理がされた前記転写原盤を用いることにより、得られる防曇防汚層においては、低表面エネルギー成分が表面に局在化する一方で、前記防曇防汚層中には、親水性成分（吸水性成分）が存在する。そうすることにより、水滴は、前記防曇防汚層の表面において撥水化され、水蒸気は、防曇防汚層中に捕捉されやすくなる。その結果、より優れた防曇性が得られる。
【００８６】
−活性エネルギー線−
前記活性エネルギー線としては、前記未硬化樹脂層を硬化させる活性エネルギー線であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、本発明の前記防曇防汚積層体の説明において例示した前記活性エネルギー線などが挙げられる。
【００８７】
ここで、前記防曇防汚層形成工程の具体例を、図を用いて説明する。
【００８８】
［第１の実施形態］
第１の実施形態は、所定のパターン形状を有するフォトレジストを保護膜として転写原盤の表面をエッチングすることにより平滑領域及び非平滑領域を形成した転写原盤を用いて行う前記防曇防汚層形成工程の一例である。
【００８９】
まず、転写原盤及びその製造方法について説明する。
【００９０】
〔転写原盤の構成〕
図５Ａは、転写原盤であるロール原盤の構成の一例を示す斜視図である。図５Ｂは、図５Ａに示したロール原盤の一部を拡大して表す平面図である。図５Ｃは、図５ＢのトラックＴにおける断面図である。ロール原盤２３１は、上述した構成を有する防曇防汚積層体を作製するための転写原盤、より具体的には、前記防曇防汚層の表面に前記平滑領域及び前記非平滑領域を成形するための原盤である。ロール原盤２３１は、例えば、円柱状又は円筒状の形状を有し、その円柱面又は円筒面が防曇防汚層の表面に前記平滑領域及び前記非平滑領域を成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体２３２が２次元配列されている。図５Ｃにおいて、構造体２３２は、成形面に対して凹状を有している。ロール原盤２３１の材料としては、例えば、ガラスを用いることができるが、この材料に特に限定されるものではない。
そして、複数の構造体２３２が存在する領域が、非平滑領域であり、複数の構造体２３２が存在しない領域が平滑領域である。
なお、転写原盤の表面形状は上記に限定されず、例えば、図５Ｄに示すように、平滑領域と、非平滑領域とが周方向に交互に並んだ態様であってもよい。
【００９１】
ロール原盤２３１の成形面に配置された複数の構造体２３２と、前記防曇防汚層の表面に配置された複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。すなわち、ロール原盤２３１の構造体２３２の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、高さ又は深さ、及びアスペクト比などは、前記防曇防汚層の凸部又は凹部と同様である。
【００９２】
〔ロール原盤露光装置〕
図６は、ロール原盤を作製するためのロール原盤露光装置の構成の一例を示す概略図である。このロール原盤露光装置は、光学ディスク記録装置をベースとして構成されている。
【００９３】
レーザー光源２４１は、記録媒体としてのロール原盤２３１の表面に着膜されたレジストを露光するための光源であり、例えば、波長λ＝２６６ｎｍの記録用のレーザー光２３４を発振するものである。レーザー光源２４１から出射されたレーザー光２３４は、平行ビームのまま直進し、電気光学素子（ＥＯＭ：Ｅｌｅｃｔｒｏ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）２４２へ入射する。電気光学素子２４２を透過したレーザー光２３４は、ミラー２４３で反射され、変調光学系２４５に導かれる。
【００９４】
ミラー２４３は、偏光ビームスプリッタで構成されており、一方の偏光成分を反射し他方の偏光成分を透過する機能をもつ。ミラー２４３を透過した偏光成分はフォトダイオード２４４で受光され、その受光信号に基づいて電気光学素子２４２を制御してレーザー光２３４の位相変調を行う。
【００９５】
変調光学系２４５において、レーザー光２３４は、集光レンズ２４６により、ガラス（ＳｉＯ２）などからなる音響光学素子（ＡＯＭ：Ａｃｏｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉｃ  Ｍｏｄｕｌａｔｏｒ）２４７に集光される。レーザー光２３４は、音響光学素子２４７により強度変調され発散した後、レンズ２４８によって平行ビーム化される。変調光学系２４５から出射されたレーザー光２３４は、ミラー２５１によって反射され、移動光学テーブル２５２上に水平かつ平行に導かれる。
【００９６】
移動光学テーブル２５２は、ビームエキスパンダ２５３、及び対物レンズ２５４を備えている。移動光学テーブル２５２に導かれたレーザー光２３４は、ビームエキスパンダ２５３により所望のビーム形状に整形された後、対物レンズ２５４を介して、ロール原盤２３１上のレジスト層へ照射される。ロール原盤２３１は、スピンドルモータ２５５に接続されたターンテーブル２５６の上に載置されている。そして、ロール原盤２３１を回転させると共に、レーザー光２３４をロール原盤２３１の高さ方向に移動させながら、ロール原盤２３１の周側面に形成されたレジスト層へレーザー光２３４を間欠的に照射することにより、レジスト層の露光工程が行われる。形成された潜像は、円周方向に長軸を有する略楕円形になる。レーザー光２３４の移動は、移動光学テーブル２５２の矢印Ｒ方向への移動によって行われる。
【００９７】
露光装置は、上述した複数の凸部又は凹部の２次元パターンに対応する潜像をレジスト層に形成するための制御機構２５７を備えている。制御機構２５７は、フォーマッタ２４９とドライバ２５０とを備える。フォーマッタ２４９は、極性反転部を備え、この極性反転部が、レジスト層に対するレーザー光２３４の照射タイミングを制御する。ドライバ２５０は、極性反転部の出力を受けて、音響光学素子２４７を制御する。
【００９８】
このロール原盤露光装置では、２次元パターンが空間的にリンクするように１トラック毎に極性反転フォーマッタ信号と回転コントローラを同期させて信号を発生し、音響光学素子２４７により強度変調している。角速度一定（ＣＡＶ）で適切な回転数と適切な変調周波数と適切な送りピッチでパターニングすることにより、六方格子パターンなどの２次元パターンを記録することができる。
【００９９】
〔レジスト成膜工程〕
まず、図７Ａの断面図に示すように、円柱状又は円筒状のロール原盤２３１を準備する。このロール原盤２３１は、例えば、ガラス原盤である。次に、図７Ｂの断面図に示すように、ロール原盤２３１の表面にレジスト層（例えば、フォトレジスト）２３３を形成する。レジスト層２３３の材料としては、例えば、有機系レジスト、無機系レジストなどが挙げられる。前記有機系レジストとしては、例えば、ノボラック系レジスト、化学増幅型レジストなどが挙げられる。前記無機系レジストとしては、例えば、金属化合物などが挙げられる。
【０１００】
〔露光工程〕
次に、図７Ｃの断面図に示すように、ロール原盤２３１の表面に形成されたレジスト層２３３に、レーザー光（露光ビーム）２３４を照射する。具体的には、図６に示したロール原盤露光装置のターンテーブル２５６上にロール原盤２３１を載置し、ロール原盤２３１を回転させると共に、レーザー光（露光ビーム）２３４をレジスト層２３３に照射する。このとき、レーザー光２３４をロール原盤２３１の高さ方向（円柱状又は円筒状のロール原盤２３１の中心軸に平行な方向）に移動させながら、レーザー光２３４を間欠的に照射することで、レジスト層２３３を全面にわたって露光する。これにより、レーザー光２３４の軌跡に応じた潜像２３５が、レジスト層２３３の全面にわたって形成される。
この際の潜像２３５の配置が、後に、平滑領域と非平滑領域とを形成する。
【０１０１】
潜像２３５は、例えば、ロール原盤表面において複数列のトラックＴをなすように配置されると共に、所定の単位格子Ｕｃの規則的な周期パターンで形成される。潜像２３５は、例えば、円形状又は楕円形状である。潜像２３５が楕円形状を有する場合には、その楕円形状は、トラックＴの延在方向に長軸方向を有することが好ましい。
【０１０２】
〔現像工程〕
次に、例えば、ロール原盤２３１を回転させながら、レジスト層２３３上に現像液を滴下して、レジスト層２３３を現像処理する。これにより、図７Ｄの断面図に示すように、レジスト層２３３に複数の開口部が形成される。レジスト層２３３をポジ型のレジストにより形成した場合には、レーザー光２３４で露光した露光部は、非露光部と比較して現像液に対する溶解速度が増すので、図７Ｄの断面図に示すように、潜像（露光部）２３５に応じたパターンがレジスト層２３３に形成される。開口部のパターンは、例えば、所定の単位格子Ｕｃの規則的な周期パターンである。
【０１０３】
〔エッチング工程〕
次に、ロール原盤２３１の上に形成されたレジスト層２３３のパターン（レジストパターン）をマスクとして、ロール原盤２３１の表面をエッチング処理する。これにより、図７Ｅの断面図に示すように、錐体形状を有する構造体（凹部）２３２を得ることができる。錐体形状は、例えば、トラックＴの延在方向に長軸方向をもつ楕円錐形状又は楕円錐台形状であることが好ましい。前記エッチングとしては、例えば、ドライエッチング、ウエットエッチングを用いることができる。このとき、エッチング処理とアッシング処理とを交互に行うことにより、例えば、錐体状の構造体２３２のパターンを形成することができる。以上により、平滑領域と、非平滑領域とを有する、目的とするロール原盤２３１が得られる。
【０１０４】
次に、必要に応じて、前記低表面エネルギー化処理を行うことで、ロール原盤２３１の表面の表面エネルギーを低くできる。
【０１０５】
〔転写処理〕
図８Ａの断面図に示すような未硬化樹脂層２３６が形成された樹脂製基材２１１を用意する。
次に、図８Ｂの断面図に示すように、ロール原盤２３１と、樹脂製基材２１１上に形成された未硬化樹脂層２３６とを密着させ、未硬化樹脂層２３６に活性エネルギー線２３７を照射し未硬化樹脂層２３６を硬化させて、平滑領域及び非平滑領域を転写し、平滑領域と、微細な凸部及び凹部のいずれか２１２ａを有する非平滑領域が形成された防曇防汚層２１２を得る。
最後に、ロール原盤２３１から、得られた防曇防汚層２１２を剥離して、防曇防汚積層体を得る（図８Ｃ）。
なお、樹脂製基材２１１が紫外線などの活性エネルギー線を透過しない材料で構成されている場合には、活性エネルギー線を透過可能な材料（例えば、石英）でロール原盤２３１を構成し、ロール原盤２３１の内部から未硬化樹脂層２３６に対して活性エネルギー線を照射するようにしてもよい。なお、転写原盤は上述のロール原盤２３１に限定されるものではなく、平板状の原盤を用いるようにしてもよい。ただし、量産性向上の観点からすると、転写原盤として上述のロール原盤２３１を用いることが好ましい。
【０１０６】
［第２の実施形態］
第２の実施形態は、レーザーを転写原盤の表面に照射して前記転写原盤をレーザー加工することにより、平滑領域及び非平滑領域を形成した転写原盤を用いて行う前記防曇防汚層形成工程の一例である。
【０１０７】
まず、転写原盤及びその製造方法について説明する。
【０１０８】
〔転写原盤の構成〕
図９Ａは、板状の原盤の構成の一例を示す平面図である。図９Ｂは、図９Ａに示したａ−ａ線に沿った断面図である。図９Ｃは、図９Ｂの一部を拡大して表す断面図である。板状の原盤３３１は、上述した構成を有する防曇防汚積層体を作製するための原盤、より具体的には、前記防曇防汚層の表面に、平滑領域と、非平滑領域とを成形するための原盤である。板状の原盤３３１は、例えば、平滑領域と、非平滑領域とが設けられた表面を有し、その表面が防曇防汚層の表面に平滑領域と、非平滑領域とを成形するための成形面とされる。この成形面には、例えば、複数の構造体３３２が設けられている。図９Ａにおいて、白抜き部分が平滑領域であり、複数の構造体３３２が存在している部分が非平滑領域である。図９Ｃに示す構造体３３２は、成形面に対して凹状を有している。板状の原盤３３１の材料としては、例えば、金属材料を用いることができる。前記金属材料としては、例えば、Ｎｉ、ＮｉＰ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ、及びその合金を用いることができる。前記合金としては、ステンレス鋼（ＳＵＳ）が好ましい。前記ステンレス鋼（ＳＵＳ）としては、例えば、ＳＵＳ３０４、ＳＵＳ４２０Ｊ２などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【０１０９】
板状の原盤３３１の成形面に設けられた複数の構造体３３２と、前記防曇防汚層の表面に設けられた複数の凸部又は凹部とは、反転した凹凸関係にある。即ち、板状の原盤３３１の構造体３３２の配列、大きさ、形状、配置ピッチ、及び高さ又は深さなどは、前記防曇防汚層の凸部又は凹部と同様である。
【０１１０】
〔レーザー加工装置の構成〕
図１０は、板状の原盤を作製するためのレーザー加工装置の構成の一例を示す概略図である。レーザー本体３４０は、例えば、サイバーレーザー株式会社製のＩＦＲＩＴ（商品名）である。レーザー加工に用いるレーザーの波長は、例えば、８００ｎｍである。ただし、レーザー加工に用いるレーザーの波長は、４００ｎｍや２６６ｎｍなどでもかまわない。繰り返し周波数は、加工時間と、形成される凹部又は凸部の狭ピッチ化とを考慮すると、大きいほうが好ましく、１，０００Ｈｚ以上であることが好ましい。レーザーのパルス幅は短い方が好ましく、２００フェムト秒（１０−１５秒）〜１ピコ秒（１０−１２秒）程度であることが好ましい。
【０１１１】
レーザー本体３４０は、垂直方向に直線偏光したレーザー光を射出するようになっている。そのため、本装置では、波長板３４１（例えば、λ／２波長板）を用いて、偏光方向を回転などさせることで、所望の方向の直線偏光又は円偏光を得るようにしている。また、本装置では、四角形の開口を有するアパーチャー３４２を用いて、レーザー光の一部を取り出すようにしている。これは、レーザー光の強度分布がガウス分布となっているので、その中央付近のみを用いることで、面内強度分布の均一なレーザー光を得るようにしている。また、本装置では、直交させた２枚のシリンドリカルレンズ３４３を用いて、レーザー光を絞ることにより、所望のビームサイズになるようにしている。板状の原盤３３１を加工する際には、リニアステージ３４４を等速で移動させる。
【０１１２】
板状の原盤３３１へ照射されるレーザーのビームスポットは、四角形形状であることが好ましい。ビームスポットの整形は、例えば、アパーチャー、シリンドリカルレンズなどによって行うことができる。また、ビームスポットの強度分布は、なるべく均一であることが好ましい。これは、型に形成する凹凸の深さなどの面内分布をなるべく均一化することが好ましいためである。一般的には、ビームスポットのサイズは、加工を行いたい面積よりも小さいため、ビームを走査することで加工を行いたい面積全てに凸凹形状を付与する必要がある。
【０１１３】
前記防曇防汚層の表面の形成に用いられる原盤（型）は、例えば、ＳＵＳ、ＮｉＰ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ等の金属などの基板に、パルス幅が１ピコ秒（１０−１２秒）以下の超短パルスレーザー、いわゆるフェムト秒レーザーを用いてパターンを描画することにより形成される。また、レーザー光の偏光は、直線偏光であっても円偏光であっても楕円偏光であってもよい。このとき、レーザー波長、繰り返し周波数、パルス幅、ビームスポット形状、偏光、サンプルへ照射するレーザー強度、レーザーの走査速度などを適宜設定することにより、所望の凹凸を有するパターンを形成することができる。
【０１１４】
所望の形状を得るために変化させることが可能なパラメーターには以下のようなものが挙げられる。フルエンスは、パルス１つあたりのエネルギー密度（Ｊ／ｃｍ２）であり、以下の式で求められるものである。
Ｆ＝Ｐ／（ｆＲＥＰＴ×Ｓ）
Ｓ＝Ｌｘ×Ｌｙ
Ｆ：フルエンス
Ｐ：レーザーのパワー
ｆＲＥＰＴ：レーザーの繰り返し周波数
Ｓ：レーザーの照射位置での面積
Ｌｘ×Ｌｙ：ビームサイズ
なお、パルス数Ｎは、１箇所に照射されたパルスの数であり、以下の式で求められるものである。
Ｎ＝ｆＲＥＰＴ×Ｌｙ／ｖ
Ｌｙ：レーザーの走査方向のビームサイズ
ｖ：レーザーの走査速度
【０１１５】
また、所望の形状を得るために板状の原盤３３１の材質を変化させてもいい。板状の原盤３３１の材質によってレーザー加工される形状は変化する。ＳＵＳ、ＮｉＰ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｆｅ等の金属などを用いるほかに、原盤表面に、例えば、ＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）などの半導体材料を被覆してもよい。前記原盤表面に前記半導体材料を被覆する方法としては、例えば、プラズマＣＶＤ、スパッタリングなどが挙げられる。被覆する前記半導体材料としては、ＤＬＣのほかにも、例えば、フッ素（Ｆ）を混入したＤＬＣ、窒化チタン、窒化クロムなどを使用できる。被覆して得られる被膜の平均厚みは、例えば、１μｍ程度とすればよい。
【０１１６】
〔レーザー加工工程〕
まず、図１１Ａに示すように、板状の原盤３３１を準備する。この板状の原盤３３１の被加工面である表面３３１Ａは、例えば、鏡面状態となっている。
【０１１７】
次に、図１０に示したレーザー加工装置を用いて、以下のようにして板状の原盤３３１の表面３３１Ａをレーザー加工する。まず、板状の原盤３３１の表面３３１Ａに対して、パルス幅が１ピコ秒（１０−１２秒）以下の超短パルスレーザー、いわゆるフェムト秒レーザーを用いてパターンを描画する。例えば、図１１Ｂに示したように、板状の原盤３３１の表面３３１Ａに対して、フェムト秒レーザー光Ｌｆを照射すると共に、その照射スポットを表面３３１Ａに対してスキャンさせる。
【０１１８】
このとき、レーザー波長、繰り返し周波数、パルス幅、ビームスポット形状、偏光、表面３３１Ａへ照射するレーザーの強度、レーザーの走査速度等が適宜設定されることにより、図１１Ｃに示すように、所望の形状を有する複数の構造体３３２が形成される。
このとき、レーザーが照射されない領域が、平滑領域となる。図１１Ｃにおいて、白抜き部分が平滑領域であり、複数の構造体３３２が存在している部分が非平滑領域である。
【０１１９】
次に、必要に応じて、前記低表面エネルギー化処理を行うことで、平滑領域、及び非平滑領域の表面の表面エネルギーを低くできる。
【０１２０】
〔転写処理〕
図１２Ａの断面図に示すような未硬化樹脂層３３３が形成された樹脂製基材３１１を用意する。
次に、図１２Ｂの断面図に示すように、板状の原盤３３１と、樹脂製基材３１１上に形成された未硬化樹脂層３３３とを密着させ、未硬化樹脂層３３３に活性エネルギー線３３４を照射し未硬化樹脂層３３３を硬化させて板状の原盤３３１の平滑領域及び非平滑領域を転写し、平滑領域及び非平滑領域が形成された防曇防汚層３１２を得る。
最後に、板状の原盤３３１から、得られた防曇防汚層３１２を剥離して、防曇防汚積層体を得る（図１２Ｃ）。
なお、樹脂製基材３１１が紫外線などの活性エネルギー線を透過しない材料で構成されている場合には、活性エネルギー線を透過可能な材料（例えば、石英）で板状の原盤３３１を構成し、板状の原盤３３１の裏面（成形面とは反対側の面）から未硬化樹脂層３３３に対して活性エネルギー線を照射するようにしてもよい。
【０１２１】
（物品）
本発明の物品は、本発明の前記防曇防汚積層体を表面に有し、更に必要に応じて、その他の部材を有する。
前記物品において、前記防曇防汚層は、表面に、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを有する。
【０１２２】
前記物品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス窓、冷蔵・冷凍ショーケース、自動車のウインドウ等の窓材、浴室内の鏡、自動車サイドミラー等の鏡、浴室の床及び壁、太陽電池パネル、防犯監視カメラなどが挙げられる。
また、前記物品は、眼鏡、ゴーグル、ヘルメット、レンズ、マイクロレンズアレイ、自動車のヘッドライトカバー、フロントパネル、サイドパネル、リアパネルなどであってもよい。これらは、インモールド成形、インサート成形、オーバーレイ成形により形成されることが好ましい。
【０１２３】
前記防曇防汚積層体は、前記物品の表面の一部に形成されていてもよいし、全面に形成されていてもよい。
【０１２４】
ここで、本発明の物品の一例を図を用いて説明する。
図１３Ａ及び図１３Ｂに示す物品は、曲面を有する防曇防汚シート５０である。防曇防汚シート５０は、樹脂製基材５１と、樹脂製基材５１の凹部に防曇防汚層５２とを有している。
図１３Ａは、防曇防汚シート５０の断面図であり、図１３Ｂは、防曇防汚シート５０の凹面に直交する方向から見た概略図である。
図１３Ｂに示す防曇防汚層５２は、表面に、平滑領域１２Ａと、非平滑領域１２Ｂとを有する。
図１３Ｂにおいては、非平滑領域の総面積が、平滑領域の総面積よりも大きくなっている。この場合、平板状の防曇防汚シートを曲面に加工する際に、金型に設置した際の位置ずれが起こらないため、位置ずれに起因するシワ等が生じず、外観の低下が起こらない。
【０１２５】
図１３Ｃは、防曇防汚シート５０の凹面に直交する方向から見た他の一例の概略図である。
図１３Ｃに示す防曇防汚層５２は、表面に、平滑領域１２Ａと、非平滑領域１２Ｂとを有する。
図１３Ｃにおいては、平滑領域の総面積が、非平滑領域の総面積よりも大きくなっている。この場合、平板状の防曇防汚シートを重ねて放置しても、各シートの引き離しが容易であり、作業性が低下せず、結果、加工性に優れる。
【０１２６】
前記物品の製造方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、後述する本発明の物品の製造方法が好ましい。
【０１２７】
（物品の製造方法）
本発明の物品の製造方法は、加熱工程と、防曇防汚積層体成形工程とを少なくとも含み、更に必要に応じて、射出成形工程などのその他の工程を含む。
前記物品の製造方法は、本発明の前記物品の製造方法である。
【０１２８】
＜加熱工程＞
前記加熱工程としては、防曇防汚積層体を加熱する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
前記防曇防汚積層体は、本発明の前記防曇防汚積層体である。
【０１２９】
前記加熱としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、赤外線加熱であることが好ましい。
前記加熱の温度としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、前記樹脂製基材のガラス転移温度近傍若しくはガラス転移温度以上であることが好ましい。
前記加熱の時間としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０１３０】
＜防曇防汚積層体成形工程＞
前記防曇防汚積層体成形工程としては、加熱された前記防曇防汚積層体を所望の形状に成形する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定の金型に密着させて、空気圧により、所望の形状に成形する工程などが挙げられる。
【０１３１】
前記防曇防汚積層体成形工程後の前記防曇防汚層は、表面に、前記平滑領域と、前記非平滑領域とを有する。
【０１３２】
＜射出成形工程＞
前記射出成形工程としては、所望の形状に成形された前記防曇防汚積層体の樹脂製基材側に成形材料を射出し、前記成形材料を成形する工程であれば、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【０１３３】
前記成形材料としては、例えば、樹脂などが挙げられる。前記樹脂としては、例えば、オレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体）、ＡＳ樹脂（アクリロニトリル−スチレン共重合体）、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンオキシド・ポリスチレン系樹脂、ポリカーボネート、ポリカーボネート変性ポリフェニレンエーテル、ポリエチレンテレフタレート、ポリスルホン、ポリフェニレンサルファイド、ポリフェニレンオキシド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリアミド、液晶ポリエステル、ポリアリル系耐熱樹脂、各種複合樹脂、各種変性樹脂などが挙げられる。
【０１３４】
前記射出の方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、所定の金型に密着させた前記防曇防汚積層体の樹脂製基材側に、溶融した前記成形材料を流し込む方法などが挙げられる。
【０１３５】
前記物品の製造方法は、インモールド成形装置、インサート成形装置、オーバーレイ成形装置を用いて行うことが好ましい。
【０１３６】
ここで、本発明の物品の製造方法の他の一例を、図を用いて説明する。この製造方法は真空成形装置を用いた製造方法である。
まず、金型４０１を用意する（図１４Ａ）。金型４０１には、吸気用の小さい穴が空いている。
続いて、図１４Ｂに示すように、赤外線ヒーター４０２により、防曇防汚積層体４００を加熱する。
続いて、図１４Ｃに示すように、防曇防汚積層体４００を金型４０１に押し付ける。そして、金型４０１の穴から吸気することにより、防曇防汚積層体４００は、金型４０１に密着し、金型４０１の形状に成形される。
最後に、図１４Ｄに示すように、周辺部の余分な部分をトリミングすることにより、成形物品が得られる。
ここで、成形前及び成形後の防曇防汚積層体４００は、重ねて保存されることが多い。その際、従来の防曇防汚積層体であると、ブロッキングが発生し、引き離し難くなり加工の効率を低下させる。一方、本発明の防曇防汚積層体であると、ブロッキングを防止して、容易に引き離すことも可能である。
【０１３７】
ここで、本発明の物品の製造方法の他の一例を、図を用いて説明する。この製造方法はインモールド成形装置を用いた製造方法である。
まず、防曇防汚積層体５００を加熱する。加熱は赤外線加熱が好ましい。
続いて、図１５Ａに示すように、加熱した防曇防汚積層体５００を、第１金型５０１と第２金型５０２との間の所定の位置に配置する。このとき、防曇防汚積層体５００の樹脂製基材が第１金型５０１を向き、防曇防汚層が第２金型５０２を向くように配置する。図１５Ａにおいて、第１金型５０１は、固定型であり、第２金型５０２は、可動型である。
【０１３８】
第１金型５０１と第２金型５０２との間に防曇防汚積層体５００を配置した後、第１金型５０１と第２金型５０２とを型締めする。続いて、第２金型５０２のキャビティ面に開口されている吸引穴５０４で防曇防汚積層体５００を吸引して、第２金型５０２のキャビティ面に防曇防汚積層体５００を装着する。そうすることにより、キャビティ面が防曇防汚積層体５００で賦形される。また、このとき、図示されていないフィルム押さえ機構で防曇防汚積層体５００の外周を固定し位置決めしてもよい。その後、防曇防汚積層体５００の不要な部位をトリミングする（図１５Ｂ）。
なお、第２金型５０２が吸引穴５０４を有さず、第１金型５０１に圧空孔（図示せず）を有する場合には、第１金型５０１の圧空孔から防曇防汚積層体５００に圧空を送ることにより、第２金型５０２のキャビティ面に防曇防汚積層体５００を装着する。
【０１３９】
続いて、防曇防汚積層体５００の樹脂製基材に向けて、第１金型５０１のゲート５０５から溶融した成形材料５０６を射出し、第１金型５０１と第２金型５０２を型締めして形成したキャビティ内に注入する（図１５Ｃ）。この際、従来の防曇防汚積層体を用いると、防曇防汚積層体が位置ずれを起こし、防曇防汚積層体にシワが生じるなどの外観低下が生じることがある。一方、本発明の防曇防汚積層体であると、位置ずれを起こさず、外観低下を防ぐことも可能である。
続いて、溶融した成形材料５０６がキャビティ内に充填される（図１５Ｄ）。更に、溶融した成形材料５０６の充填完了後、溶融した成形材料５０６を所定の温度まで冷却して固化する。
【０１４０】
その後、第２金型５０２を動かして、第１金型５０１と第２金型５０２とを型開きする（図１５Ｅ）。そうすることにより、成形材料５０６の表面に防曇防汚積層体５００が形成され、かつ所望の形状にインモールド成形された物品５０７が得られる。
最後に、第１金型５０１から突き出しピン５０８を押し出して、得られた物品５０７を取り出す。
【０１４１】
前記オーバーレイ成形装置を用いる場合の製造方法は、下記の通りである。これは、防曇防汚積層体を成形材料の表面に直接加飾する工程であり、その一例としては、ＴＯＭ（Ｔｈｒｅｅ  ｄｉｍｅｎｓｉｏｎ  Ｏｖｅｒｌａｙ  Ｍｅｔｈｏｄ）工法が挙げられる。前記ＴＯＭ工法を用いた本発明の物品の製造方法の一例を下記に説明する。
まず、固定枠に固定された防曇防汚積層体によって分断された装置内の両空間について、真空ポンプ等で空気を吸引し、前記両空間内を真空引きする。
この時、片側の空間に事前に射出成形した成形材料を設置しておく。同時に、防曇防汚積層体が軟化する所定の温度になるまで赤外線ヒーターで加熱する。防曇防汚積層体が加熱され軟化したタイミングで、装置内空間の成形材料がない側に大気を送り込むことにより真空雰囲気下で、成形材料の立体形状に、防曇防汚積層体をしっかりと密着させる。必要に応じ、さらに大気を送り込んだ側からの圧空押付けを併用してもよい。防曇防汚積層体が成形体に密着した後、得られた加飾成形品を固定枠から外す。真空成形は、通常８０℃〜２００℃、好ましくは１１０℃〜１６０℃程度で行われる。
【０１４２】
オーバーレイ成形の際には、前記防曇防汚積層体と前記成形材料とを接着するために、前記防曇防汚積層体の防曇防汚層面とは反対側の面に粘着層を設けてもよい。前記粘着層としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、アクリル系粘着剤、ホットメルト接着剤などが挙げられる。前記粘着層の形成方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記樹脂製基材上に前記防曇防汚層を形成後に、前記樹脂製基材の前記防曇防汚層側とは逆側に、粘着層用塗工液を塗工して、前記粘着層を形成する方法などが挙げられる。また、剥離シート上に粘着層用塗工液を塗工して前記粘着層を形成した後に、前記樹脂製基材と前記剥離シート上の前記粘着層とをラミネートして、前記樹脂製基材上に前記粘着層を積層してもよい。
【０１４３】
ここで、本発明の物品の一例を図を用いて説明する。
図１６〜図１９は、本発明の物品の一例の概略断面図である。
【０１４４】
図１６の物品は、成形材料５０６と、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２とを有し、成形材料５０６上に、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２とがこの順で積層されている。
この物品は、例えば、インサート成形により製造できる。
【０１４５】
図１７の物品は、成形材料５０６と、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２と、ハードコート層６００とを有し、成形材料５０６上に、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２とがこの順で積層されている。また、成形材料５０６の樹脂製基材２１１側と反対側には、ハードコート層６００が形成されている。
この物品は、例えば、図１６の物品を製造後、防曇防汚層２１２上に保護層を形成した後で、成形材料５０６の表面にハードコート層６００を、成形材料５０６をハードコート液に浸漬、その後乾燥、硬化させること等により形成し、更に、保護層を剥離することで製造できる。
【０１４６】
図１８の物品は、成形材料５０６と、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２とを有し、成形材料５０６の両側に、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２とがこの順に積層されている。
【０１４７】
図１９の物品は、成形材料５０６と、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２と、光学フィルム６０１とを有し、成形材料５０６上に、樹脂製基材２１１と、防曇防汚層２１２とがこの順で積層されている。成形材料５０６の樹脂製基材２１１側と反対側には、光学フィルム６０１が形成されている。光学フィルム６０１としては、例えば、ハードコートフィルム、反射防止フィルム、防眩フィルム、偏光フィルムなどが挙げられる。
図１８又は図１９に示す物品は、例えば、ダブルインサート成形により製造できる。ダブルインサート成形は、両面積層フィルム一体品を成形する方法であって、例えば、特開平０３−１１４７１８号公報に記載の方法などを用いて行うことができる。
【０１４８】
（防汚方法）
本発明の防汚方法は、本発明の前記防曇防汚積層体を物品の表面に積層することにより前記物品の汚れを防ぐ方法である。
前記防曇防汚積層体は、前記防曇防汚層が表面に前記平滑領域と前記非平滑領域とを有するように、前記物品の表面に、積層される。
【０１４９】
前記物品としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、ガラス窓、冷蔵・冷凍ショーケース、自動車のウインドウ等の窓材、浴室内の鏡、自動車サイドミラー等の鏡、浴室の床及び壁、太陽電池パネル、防犯監視カメラなどが挙げられる。
また、前記物品は、眼鏡、ゴーグル、ヘルメット、レンズ、マイクロレンズアレイ、自動車のヘッドライトカバー、フロントパネル、サイドパネル、リアパネルなどであってもよい。これらは、インモールド成形、インサート成形により形成されることが好ましい。
【０１５０】
前記物品の表面に前記防曇防汚積層体を積層する方法としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができ、例えば、前記物品の表面に前記防曇防汚積層体を貼り付ける方法などが挙げられる。また、本発明の前記物品の製造方法によっても、前記物品の表面に前記防曇防汚積層体を積層することができる。
【実施例】
【０１５１】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明は、これらの実施例に何ら限定されるものではない。
【０１５２】
（製造例１）
＜微細な凸部及び凹部のいずれかを有する転写原盤（ガラスロール原盤）の作製＞
まず、外径１２６ｍｍのガラスロール原盤を準備し、このガラスロール原盤の表面に以下のようにしてレジスト層を形成した。即ち、シンナーでフォトレジストを質量比で１／１０に希釈し、この希釈レジストをディッピング法によりガラスロール原盤の円柱面上に平均厚み７０ｎｍ程度に塗布することにより、レジスト層を形成した。次に、ガラスロール原盤を、図６に示したロール原盤露光装置に搬送し、レジスト層を露光することにより、１つの螺旋状に連なると共に、隣接する３列のトラック間において六方格子パターンをなす潜像がレジスト層にパターニングされた。具体的には、六方格子状の露光パターンが形成されるべき領域に対して、０．５０ｍＷ／ｍのレーザー光を照射し六方格子状の露光パターンを形成した。
なお、平滑領域と、微細な凹部を有する非平滑領域とを作製するために、露光パターンは、一様とはせず、平滑領域にする箇所には露光を行わなかった。
【０１５３】
次に、ガラスロール原盤上のレジスト層に現像処理を施して、露光した部分のレジスト層を溶解させて現像を行った。具体的には、図示しない現像機のターンテーブル上に未現像のガラスロール原盤を載置し、ターンテーブルごと回転させつつガラスロール原盤の表面に現像液を滴下してその表面のレジスト層を現像した。これにより、レジスト層が六方格子パターンに開口しているレジストガラス原盤が得られた。
【０１５４】
次に、ロールエッチング装置を用い、ＣＨＦ３ガス雰囲気中でのプラズマエッチングを行った。これにより、ガラスロール原盤の表面において、レジスト層から露出している六方格子パターンの部分のみエッチングが進行し、その他の領域はレジスト層がマスクとなりエッチングはされず、楕円錐形状の凹部がガラスロール原盤に形成された。この際、エッチング量（深さ）は、エッチング時間によって調整した。次に、Ｏ２アッシングにより完全にレジスト層を除去した。
【０１５５】
続いて、ガラスロール原盤表面に、フッ素含有シランカップリング剤（オプツールＤＳＸ、ダイキン工業株式会社製）をディップコートし、１００℃で９０分間焼成した。
以上により、凹形状の六方格子パターンを有する非平滑領域と、平滑な表面を有する平滑領域とを有するガラスロール原盤を得た。得られたガラスロール原盤表面の純水接触角は、１２０°であった。
なお、非平滑領域における凹部は、ピッチ２５０ｎｍ、深さ２２０ｎｍである。
得られたガラスロール原盤の概略図を図２０に示す。ガラスロール原盤の表面には、帯状の平滑領域１０１と、帯状の非平滑領域１０２とが、軸方向に交互に並んでいる。平滑領域１０１の幅は、１５ｍｍであり、中央部の非平滑領域の幅は、５０ｍｍである。
【０１５６】
＜防曇防汚積層体の作製＞
次に、上述のようにして得られたガラスロール原盤を用いて、ＵＶインプリントにより防曇防汚積層体を作製した。具体的には、以下のようにして行った。
樹脂製基材として、三菱ガス化学株式会社製のＦＥ−２０００（ＰＣ基材、平均厚み１８０μｍ）を用いた。
前記樹脂製基材の表面に、コロナ処理を行った。
【０１５７】
次に、下記組成の硬化性樹脂組成物を、得られる防曇防汚層の平均厚みが２．５μｍとなるように、前記樹脂製基材上に塗布した。硬化性樹脂組成物が塗布された前記樹脂製基材と、上述のようにして得られたガラスロール原盤とを密着させ、メタルハライドランプを用いて、前記樹脂製基材側から照射量１，０００ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して、防曇防汚層を硬化させた。その後、防曇防汚層と、ガラスロール原盤とを剥離した。以上により、防曇防汚積層体を得た。
【０１５８】
−硬化性樹脂組成物−
・ＫＹ−１２０３（撥水性モノマー、フッ化アクリレート、信越化学工業株式会社製）  １質量部
・Ａ−６００（親水性モノマー、新中村化学工業株式会社製）  ３０質量部
・Ａ−ＧＬＹ−２０Ｅ（親水性モノマー、新中村化学工業株式会社製）  １８質量部
・ＰＥＴＩＡ（ペンタエリスリトールアクリレート、ダイセル・オルネクス株式会社製）  ４８質量部
・Ｌｕｃｉｒｉｎ  ＴＰＯ（光重合開始剤、ＢＡＳＦ社製）  ３質量部
【０１５９】
＜プレフォーム＞
得られた防曇防汚積層体と金型との位置関係を適宜調整し、両面真空成形機（到達真空度０．２ＫＰａ、赤外線によるフィルム加熱温度１４０℃、加圧３００ＫＰａ、８カーブ、８０ｍｍφ外形、凹型）を用いて、防曇防汚面が金型に触れないように配置して、熱加圧成形した。
【０１６０】
（実施例１−１）
＜フィルム打ち抜き＞
プレフォームしたシートを、図２１のように両サイドが平滑領域となるように、円形トムソン刃を用いて打ち抜き、レンズ形状部の頂点が中心である、７６ｍｍφのシートを得た。シートの凹面が、防曇防汚面である。平滑領域の幅Ｗは、約１３ｍｍである。
【０１６１】
＜フィルムインサート成形＞
円形のシートをインサート成形の凸型金型にセットした（防曇防汚面が金型に触れる方向）。溶融ＰＣ（ポリカーボネート）温度２９０℃、射出圧１１５０Ｋｇｆ／ｃｍ、圧型温度９０℃で、厚み２ｍｍ、８１ｍｍφ外形の８カーブレンズを成形し、防曇防汚物品を得た。
【０１６２】
（実施例１−２）
図２２となるようにした以外は、実施例１−１と同様にして、円形のシートを得た。
円形のシートを、インサート成形の凸型金型に、ゲート口に平滑領域がくるようにセットした以外は、実施例１−１と同様にして、防曇防汚物品を得た。
【０１６３】
（比較例１−１）
図２３のように、全面が非平滑領域となるようにした以外は、実施例１−１と同様にして、円形のシートを得た。すなわち、凹面の防曇防汚面に平滑領域を設けなかった。
実施例１−１と同様にして成形を行い、防曇防汚物品を得た。
【０１６４】
（実施例１−３）
＜プレフォーム＞
下記条件で作製したプレフォームしたシートを作製した。
防曇防汚積層体と金型の位置関係を適宜調整し、両面真空成形機（到達真空度０．２ＫＰａ、赤外線によるフィルム加熱温度１４０℃、加圧３００ＫＰａ、８カーブ、８０ｍｍφ外形、凸型）を用いて、防曇防汚面が金型に触れないように配置して、熱加圧成形した。
【０１６５】
＜フィルム打ち抜き＞
プレフォームしたシートを、図２１のように両サイドが平滑領域となるように、円形トムソン刃を用いて打ち抜き、レンズ形状部の頂点が中心である、７６ｍｍφのシートを得た。シートの凸面が、防曇防汚面である。平滑領域の幅Ｗは、約１３ｍｍである。
【０１６６】
＜フィルムダブルインサート成形＞
円形のシートをダブルインサート成形の凹型金型にセットし、実施例１−１で得たシートをダブルインサート成形の凸型金型にセットした。溶融ＰＣ温度２９０℃、射出圧１１５０Ｋｇｆ／ｃｍ、圧型温度９０℃で、厚み２ｍｍ、８１ｍｍφ外形の８カーブレンズを成形し、両面に防曇防汚面を有する防曇防汚物品を得た。
【０１６７】
［防曇性］
実施例１−１〜１−３、及び比較例１−１で作製した防曇防汚物品について、２５℃３７％ＲＨの環境で、防曇防汚層の表面に対して、レンズ中心部から法線方向に５ｃｍ離れた距離から息を大きく１回吐きかけた後直ちに、目視で表面を観察した結果、作製した防曇防汚物品の１０個全てにおいて、防曇防汚層表面に外観変化が全くなかった。
即ち、実施例１−１〜１−３、及び比較例１−１で作製した防曇防汚物品について、防曇性を有することが確認できた。
【０１６８】
［防汚性］
実施例１−１〜１−３、及び比較例１−１で作製した防曇防汚物品について、以下の試験を行った。
防曇防汚層の表面に人差し指で指紋を付着させ、これをティッシュ（カミ商事株式会社製、エルモア）で１０回、円を描くように払拭後に目視で表面を観察したところ、指紋汚れがなくなっていた。
即ち、実施例１−１〜１−３、及び比較例１−１で作製した防曇防汚物品について、防汚性を有することが確認できた。
【０１６９】
［加工性］
−防曇防汚物品の外観評価−
防曇防汚物品を１０個作製し、下記基準で評価した。結果を表１に示した。
〔評価基準〕
○：１０個全てにおいて、シワなどの外観不良を発生しなかった。
△：１０個中６個〜９個で、シワなどの外観不良を発生しなかった。
×：１０個中５個以上で、シワなどの外観不良を発生した。
【０１７０】
−シート移動量−
ゲート口に設置したシート端の成形後の移動距離を測定した。具体的には、防曇防汚物品を１０個作製したときの前記移動距離の平均値を求めた。結果を表１に示した。
【０１７１】
【表１】
2017080992.tif 000003
【０１７２】
平滑領域と、非平滑領域との両方を設けることで、成形樹脂材料の注入時における防曇防汚積層体の横滑りが抑止され、防曇防汚物品を効率良く製造できた。
一方、平滑領域がない場合、シート（防曇防汚積層体）がゲート口反対に移動して金型の壁に当たりシワが発生してしまった。
【０１７３】
また、成形方法をキャスト成形としても同様の評価結果であり、平滑領域を設けることで、成形樹脂材料の注入時における防曇防汚積層体の横滑りが抑止され、防曇防汚物品を効率良く製造できた。
【０１７４】
（製造例２）
＜ガラスロール原盤の作製＞
製造例１において、平滑領域と、非平滑領域とを作製するために、露光パターンを、調整した。それ以外は、製造例１と同様にして、ガラスロール原盤を作製した。平滑領域と、微細な凹部を有する非平滑領域とを作製するために、露光パターンは、一様とはせず、平滑領域にする箇所には露光を行わなかった。この製造例では、平滑領域の総面積が、非平滑領域の総面積よりも大きくなるような露光パターンとした。
【０１７５】
以上により、凹形状の六方格子パターンを有する非平滑領域と、平滑な表面を有する平滑領域とを有するガラスロール原盤を得た。得られたガラスロール原盤表面の純水接触角は、１２０°であった。
なお、非平滑領域における凹部は、ピッチ２５０ｎｍ、深さ２２０ｎｍである。
得られたガラスロール原盤の概略図を図２４に示す。ガラスロール原盤の表面には、帯状の平滑領域１０１と、帯状の非平滑領域１０２とが、軸方向に交互に並んでいる。非平滑領域１０２の幅は、１５ｍｍであり、中央部の平滑領域１０１の幅は、５０ｍｍである。
【０１７６】
＜防曇防汚積層体の作製＞
上記で作製したガラスロール原盤を用いた以外は、製造例１と同様にして、防曇防汚積層体を作製した。
【０１７７】
＜プレフォーム＞
上記で作製した防曇防汚積層体を用いた以外は、製造例１と同様にして、プレフォームを行った。
【０１７８】
（実施例２−１）
＜フィルム打ち抜き＞
プレフォームしたシートを、図２５のように両サイドが非平滑領域となるように、円形トムソン刃を用いて打ち抜き、レンズ形状部の頂点が中心となる、７６ｍｍφのシートを得た。シートの凹面が防曇防汚面である。非平滑領域の幅Ｗは、約１３ｍｍである。
【０１７９】
（比較例２−１）
＜フィルム打ち抜き＞
図２６のように、全面が平滑領域となるようにした以外は、実施例２−１と同様にして、シートを得た。すなわち、凹面の防曇防汚面に非平滑領域を設けなかった。
【０１８０】
［加工性］
−耐ブロッキング性−
該シートを１０枚作製して積み重ね、６０秒間放置した後、引き離した。その際の状態を以下の評価基準で評価した。結果を表２に示した。
〔評価基準〕
○：容易に１枚ずつ引き離すことができる。
×：１枚ずつ引き離すことが困難であり、引き離した際に、シートに折れ目が入る。
【０１８１】
【表２】
2017080992.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【０１８２】
本発明の防曇防汚積層体は、ガラス窓、冷蔵・冷凍ショーケース、自動車のウインドウ等の窓材、浴室内の鏡、自動車サイドミラー等の鏡、浴室の床及び壁、太陽電池パネル表面、防犯監視カメラなどへ貼り合わせて用いることができる。また、本発明の防曇防汚積層体は、成形加工が容易であることから、インモールド成形、インサート成形を利用して、眼鏡、ゴーグル、ヘルメット、レンズ、マイクロレンズアレイ、自動車のヘッドライトカバー、フロントパネル、サイドパネル、リアパネルなどに用いることができる。
【符号の説明】
【０１８３】
２１１    樹脂性基材
２１２    防曇防汚層
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図１Ｃ】
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【図１Ｄ】
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【図１Ｅ】
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【図１Ｆ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
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【図２Ｅ】
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【図２Ｆ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図４Ａ】
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【図４Ｂ】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
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【図５Ｃ】
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【図５Ｄ】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図７Ｃ】
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【図７Ｄ】
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【図７Ｅ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図８Ｃ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図９Ｃ】
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【図１０】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１１Ｃ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１２Ｃ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１３Ｃ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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【図１４Ｃ】
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【図１４Ｄ】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１５Ｅ】
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【図１５Ｆ】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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