(57)【要約】【課題】磁気吸着力を付与するための部材が表示へ及ぼす影響が小さな磁性シートを提供する。【解決手段】本発明の透明磁性シート１０は、透明樹脂２Ｒと、前記透明樹脂２Ｒ中に分散した磁性体粒子２Ｍとを含んだ透明磁性層２を備え、前記磁性体粒子２Ｍの平均粒径は１μｍ以下であり、前記透明磁性層２に占める前記磁性体粒子２Ｍの割合は０．１乃至５質量％の範囲内にある。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明樹脂と、前記透明樹脂中に分散した磁性体粒子とを含んだ透明磁性層を備え、前記磁性体粒子の平均粒径は１μｍ以下であり、前記透明磁性層に占める前記磁性体粒子の割合は０．１乃至５質量％の範囲内にある透明磁性シート。
【請求項２】
前記透明磁性層を支持した透明基材を更に備えた請求項１に記載の透明磁性シート。
【請求項３】
前記磁性体粒子の平均粒径は１００ｎｍ以下である請求項１又は２に記載の透明磁性シート。
【請求項４】
全光線透過率が３０％以上であり且つ８５％未満である請求項１乃至３の何れか１項に記載の透明磁性シート。
【請求項５】
前記透明樹脂は、脂環式エポキシ化合物（Ａ）とポリオール化合物（Ｂ）とを含んだ樹脂組成物の硬化物である請求項１乃至４の何れか１項に記載の透明磁性シート。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の透明磁性シートと、前記透明磁性シートに支持された印刷層とを具備した印刷物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明磁性シート及び印刷物に関する。
【背景技術】
【０００２】
印刷用途に用いられる記録シートとしては、これまでに、透明シートを基材とした記録シートが提案されている。これら記録シートには、印刷による情報の記録を容易にする層、例えば、インクジェットインキ受容層、熱転写受像層、及びトナー受容層が、透明シート上に設けられている。
【０００３】
このような記録シートに情報を印刷してなる印刷物は、情報を掲示する場合に、粘着テープを利用して掲示板に貼り付ける、画鋲等で掲示板に留める、又は、磁石片やゴム磁石テープで掲示板に留める、などの必要があった。そのため、上記の記録シートを用いて情報の掲示を行う場合、印刷物の掲示板への設置に手間がかかる、印刷物や掲示板に刺し傷を生じる、設置と撤去とを繰り返したときに粘着剤が印刷物や掲示板に残留する、などの不都合を生じることが多かった。
【０００４】
また、掲示のために、貼付用具を準備して使用するのは面倒であるため、その利便性を高める工夫として、透明な記録シートにゴム磁石テープが貼り付けてなる磁性シートを使用することが考えられた。こうすれば、掲示板として磁石が貼り付くものを使用することにより、情報の掲示は容易になる。しかしながら、ゴム磁石テープは厚さが３００μｍ以上あるため、そのような磁性シートは、通常の記録用紙と比較すると非常に厚く、プリンタ等において使用できないという欠点を有している。
【０００５】
特許文献１には、この問題に対して、透明な基材シートの一部の上に帯状の磁石層を形成するとともに、その磁石層に対応した部分の厚さとその他の部分の厚さとの差を１００μｍ以下とした磁性シートを用いることが記載されている。この磁性シートは、プリンタ等でも使用することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１３７３２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献に記載された磁性シートは、磁石層に対応した部分の透過率が、その他の部分の透過率と比較して著しく低い。そのため、この記録シートに情報を印刷してなる印刷物には、磁石層が透けて見えてしまうという問題がある。  
そこで、本発明は、磁気吸着力を付与するための部材が表示へ及ぼす影響が小さな磁性シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の第１側面によると、透明樹脂と、前記透明樹脂中に分散した磁性体粒子とを含んだ透明磁性層を備え、前記磁性体粒子の平均粒径は１μｍ以下であり、前記透明磁性層に占める前記磁性体粒子の割合は０．１乃至５質量％の範囲内にある透明磁性シートが提供される。
【０００９】
本発明の第２側面によると、第１側面に係る透明磁性シートと、前記透明磁性シートに支持された印刷層とを具備した印刷物が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によると、磁気吸着力を付与するための部材が表示へ及ぼす影響が小さな磁性シートが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態に係る透明磁性シートを概略的に示す断面図。
【図２】図１に示す透明磁性シートを用いて得られる印刷物の一例を概略的に示す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、図面を参照しながら、本発明の実施形態を説明する。なお、ここで使用する用語「シート」及び「フィルム」は、薄層形状及び可撓性を有している物品を意味しており、厚さの概念は含まない。
【００１３】
＜透明磁性シートの構成＞
図１は、本発明の一実施形態に係る透明磁性シートを概略的に示す断面図である。  
図１に示す透明磁性シート１０は、透明であり、鉄板などの軟質磁性材料からなる物品に対し、磁力によって付着する（即ち、磁気吸着する）。一例によれば、透明磁性シート１０は、可撓性を有している。
【００１４】
透明磁性シート１０は、透明性に優れており、高い透過率を有している。透明磁性シート１０の全光線透過率は、３０％以上であり且つ８５％未満であることが好ましい。全光線透過率が高いほど、透明磁性シート１０の背後の物品の視認性が高くなる。但し、全光線透過率を高めるためには、磁石としての機能を低下させる必要がある。
【００１５】
ここで、透明磁性シート１０の「全光線透過率」は、ＩＳＯ１３４６８−１に準拠して測定を行うことにより得られる値である。この測定には、例えば、日本電色工業（株）製のヘイズメーターＮＤＨ７０００ＳＰを使用する。
【００１６】
透明磁性シート１０の厚さは、５０乃至２６０μｍの範囲内にあることが好ましく、１００乃至２６０μｍの範囲内にあることがより好ましい。透明磁性シート１０が薄すぎる場合、十分な強度を達成できない可能性又は透明磁性シートの吸着力が低下する可能性がある。透明磁性シート１０が厚すぎる場合、プリンタ等の画像形成装置を用いて透明磁性シート１０上に印刷層を形成することが困難となる可能性がある。
【００１７】
透明磁性シート１０は、透明基材１と透明磁性層２とを含んでいる。透明磁性シート１０は、印刷による情報の記録を容易にする層として、下地層を更に含んでいてもよい。下地層としては、例えば、インクジェットインキ受容層、熱転写受像層、及びトナー受容層を挙げることができる。
【００１８】
透明基材１は、透明なフィルムである。透明基材１は、透明磁性層２を支持している。透明基材１は省略することができる。
【００１９】
透明基材１の厚さは、１０乃至２５０μｍの範囲内にあることが好ましく、３８乃至７５μｍの範囲内にあることがより好ましい。透明基材１を薄くすると、透明磁性シート１０の強度が低下するか、又は、透明磁性シート１０の製造過程で透明基材１の破断等を生じやすくなる場合がある。透明基材１を厚くすると、透明磁性シート１０の透過率や可撓性が低下する場合がある。
【００２０】
透明基材１としては、例えば、ポリエチレンフィルム及びポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルム；ポリエチレンテレフタレートフィルム及びポリエチレンナフタレートフィルム等のポリエステルフィルム；トリアセチルセルロースフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、及びセロファン等のセルロース系フィルム；６−ナイロンフィルム及び６，６−ナイロンフィルム等のポリアミドフィルム；ポリメチルメタクリレートフィルム等のアクリル樹脂フィルム；ポリスチレンフィルム；ポリ塩化ビニルフィルム；ポリイミドフィルム；ポリビニルアルコールフィルム；ポリカーボネートフィルム；並びに、エチレンビニルアルコールフィルムを挙げることができる。なお、透明基材１は、ここに例示したフィルムに限定されるわけではない。
【００２１】
透明磁性層２は、透明基材１に支持されている。一例によれば、透明磁性層２は、透明基材１上に形成されている。
【００２２】
透明磁性層２の厚さは、５０乃至２６０μｍの範囲内にあることが好ましく、１００乃至２６０μｍの範囲内にあることがより好ましい。透明磁性層２を薄くすると、透明磁性シート１０の磁気吸着力が不十分となるか、又は、透明磁性層２の強度が不十分となる場合がある。透明磁性層２を厚くすると、透明磁性シート１０の透過率や可撓性が低下する場合がある。
【００２３】
透明磁性層２は、透明樹脂２Ｒと磁性体粒子２Ｍとを含んでいる。  
磁性体粒子２Ｍは、透明樹脂２Ｒ中で分散している。磁性体粒子２Ｍは、透明磁性シート１０が、鉄、ニッケル、及びクロムなどの強磁性体を含んだ支持体、例えば掲示板やホワイトボードへ、磁気吸着することを可能とする。
【００２４】
磁性体粒子２Ｍは、例えば、ＫＳ鋼、ＭＴ鋼、ＭＫ鋼、及びアルニコ合金などの合金磁石、フェライト磁石、並びに希土類磁石などの硬質磁性材料からなる。磁性体粒子２Ｍの材料としては、バリウムフェライト磁石などのフェライト磁石が好ましい。フェライト磁石は、酸化物であるため、合金磁石とは異なり、酸化による性能の低下を生じない。
【００２５】
磁性体粒子２Ｍの平均粒径は、１μｍ以下である。透明磁性シート１０の透過率を十分に高くするには、磁性体粒子２Ｍの平均粒径を１μｍ以下とすることが必要である。
【００２６】
ここで、「平均粒径」は、以下の方法によって得られる値を意味している。  
即ち、透明磁性層２の表面及び裏面について、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）により二次電子像を撮影する。ＳＥＭとしては、例えば、（株）日立製作所製のＳ−４８００を使用する。この撮影は、測定倍率を２万倍とし、加速電圧を例えば１０ｋＶとし、面積が２００μｍ２の領域に対して行う。そして、透明磁性層２の表面及び裏面の各電子顕微鏡写真に写っている磁性体粒子のうち、全体が見えているものを選択し、それらの各々について面積を求める。そして、この面積と等しい面積を有する円の直径を、磁性体粒子の粒径とする。このようにして得られた粒径を算術平均することにより、磁性体粒子の平均粒径を得る。
【００２７】
磁性体粒子２Ｍの平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましい。磁性体粒子２Ｍの平均粒径を１００ｎｍ以下とすると、磁性体粒子２Ｍの粒径は可視光域内の波長と比較して十分に小さくなり、磁性体粒子２Ｍによる光の散乱を生じ難くなる。
【００２８】
磁性体粒子２Ｍの平均粒径は、１０ｎｍ以上であることが好ましく、５０ｎｍ以上であることがより好ましい。小さな磁性体粒子２Ｍは、透明樹脂２Ｒの中で均一に分散させることが難しい。
【００２９】
透明磁性層２に占める磁性体粒子２Ｍの割合は、０．１乃至５．０質量％の範囲内にある。この割合が０．１質量％未満である場合、透明磁性シート１０に十分な吸着力を付与することができない。また、この割合が５．０質量％を上回っている場合、透明磁性シート１０に十分な透過率を付与することができない。
【００３０】
透明磁性層２に占める磁性体粒子２Ｍの割合は、０．５乃至２．０質量％の範囲内にあることがより好ましい。この場合、透明磁性シート１０の吸着力及び透過率を特に高くすることができる。
【００３１】
透明樹脂２Ｒは、磁性体粒子２Ｍを分散させるための分散媒としての役割を果たしている。また、透明樹脂２Ｒは、透明磁性層２の形状を保持する役割を果たしている。
【００３２】
透明樹脂２Ｒとしては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエーテル樹脂、エポキシ樹脂、オキセタン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、及びポリチオールポリエーテル樹脂が挙げられる。透明樹脂２Ｒは、以下に説明する樹脂組成物の硬化物であることが好ましい。
【００３３】
＜樹脂組成物＞
樹脂組成物は、脂環式エポキシ化合物（Ａ）と、ポリオール化合物（Ｂ）とを含んでいる。この樹脂組成物は、酸発生剤（Ｃ）を更に含むことができる。以下に、各成分について説明する。
【００３４】
［脂環式エポキシ化合物（Ａ）］
脂環式エポキシ化合物（Ａ）は、１分子内に脂環（脂肪族環）構造とエポキシ基とを含んだ化合物である。エポキシ基は、脂環において互いに隣り合った２つの炭素原子と酸素原子とで構成されていてもよく（以下、そのようなエポキシ基を「脂環エポキシ基」と称する）、脂環に単結合で直接結合していてもよい。
【００３５】
脂環式エポキシ化合物（Ａ）が１分子内に含む脂環構造の数は、１であってもよく、２以上であってもよい。また、脂環式エポキシ化合物（Ａ）が１分子内に含むエポキシ基の数は、１であってもよく、２以上であってもよい。一例によれば、脂環式エポキシ化合物（Ａ）は、１分子内に、２つの脂環構造と、２つのエポキシ基とを含み、それらエポキシ基は別々の脂環構造の炭素原子を含んだ脂環エポキシ基である。
【００３６】
脂環エポキシ基を有する化合物としては、公知乃至慣用のものの中から任意に選択して使用することができる。脂環エポキシ基を有する化合物は、シクロヘキサン環において互いに隣り合った２つの炭素原子と酸素原子とで構成されるエポキシ基を有すること、即ち、シクロヘキセンオキシド基を有する化合物であることが好ましい。
【００３７】
脂環エポキシ基を有する化合物としては、特に、耐熱性、耐光性、及び透明性の点で、下記一般式（Ｉ）で表される脂環式エポキシ化合物（脂環式エポキシ樹脂）が好ましい。一般的に、エポキシ化合物は耐熱性に優れている。しかしながら、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物等のベンゼン環を有するエポキシ化合物は、共役二重結合を有しているため、共役二重結合を有していないエポキシ化合物と比較して透明性の点で劣る。下記一般式（Ｉ）で表される脂環式エポキシ化合物を使用した場合、特に高い透明性を達成できる。
【００３８】
【化１】
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【００３９】
上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１乃至Ｒ１８は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、及び有機基からなる群より選択される基である。
【００４０】
有機基としては、例えば、炭化水素基であっても、炭素原子とハロゲン原子とからなる基であっても、炭素原子及び水素原子とともに、ハロゲン原子、酸素原子、硫黄原子、窒素原子、及びケイ素原子のようなヘテロ原子を含むような基であってもよい。ハロゲン原子の例としては、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子、及びフッ素原子等が挙げられる。
【００４１】
有機基としては、炭化水素基と、炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基と、ハロゲン化炭化水素基と、炭素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基と、炭素原子、水素原子、酸素原子、及びハロゲン原子からなる基とが好ましい。有機基が炭化水素基である場合、炭化水素基は、芳香族炭化水素基でも、脂肪族炭化水素基でも、芳香族骨格と脂肪族骨格とを含む基でもよい。
【００４２】
炭化水素基の具体例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、及びｎ−イコシル基等の鎖状アルキル基；ビニル基、１−プロペニル基、２−ｎ−プロペニル基（アリル基）、１−ｎ−ブテニル基、２−ｎ−ブテニル基、及び３−ｎ−ブテニル基等の鎖状アルケニル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、及びシクロヘプチル基等のシクロアルキル基；フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基、α−ナフチル基、β−ナフチル基、ビフェニル−４−イル基、ビフェニル−３−イル基、ビフェニル−２−イル基、アントリル基、及びフェナントリル基等のアリール基；並びに、ベンジル基、フェネチル基、α−ナフチルメチル基、β−ナフチルメチル基、α−ナフチルエチル基、及びβ−ナフチルエチル基等のアラルキル基が挙げられる。
【００４３】
ハロゲン化炭化水素基の具体例としては、クロロメチル基、ジクロロメチル基、トリクロロメチル基、ブロモメチル基、ジブロモメチル基、トリブロモメチル基、フルオロメチル基、ジフルオロメチル基、トリフルオロメチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、パーフルオロブチル基、及びパーフルオロペンチル基、パーフルオロヘキシル基、パーフルオロヘプチル基、パーフルオロオクチル基、パーフルオロノニル基、及びパーフルオロデシル基等のハロゲン化鎖状アルキル基；２−クロロシクロヘキシル基、３−クロロシクロヘキシル基、４−クロロシクロヘキシル基、２，４−ジクロロシクロヘキシル基、２−ブロモシクロヘキシル基、３−ブロモシクロヘキシル基、及び４−ブロモシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基；２−クロロフェニル基、３−クロロフェニル基、４−クロロフェニル基、２，３−ジクロロフェニル基、２，４−ジクロロフェニル基、２，５−ジクロロフェニル基、２，６−ジクロロフェニル基、３，４−ジクロロフェニル基、３，５−ジクロロフェニル基、２−ブロモフェニル基、３−ブロモフェニル基、４−ブロモフェニル基、２−フルオロフェニル基、３−フルオロフェニル基、及び４−フルオロフェニル基等のハロゲン化アリール基；並びに、２−クロロフェニルメチル基、３−クロロフェニルメチル基、４−クロロフェニルメチル基、２−ブロモフェニルメチル基、３−ブロモフェニルメチル基、４−ブロモフェニルメチル基、２−フルオロフェニルメチル基、３−フルオロフェニルメチル基、及び４−フルオロフェニルメチル基等のハロゲン化アラルキル基が挙げられる。
【００４４】
炭素原子、水素原子、及び酸素原子からなる基の具体例としては、ヒドロキシメチル基、２−ヒドロキシエチル基、３−ヒドロキシ−ｎ−プロピル基、及び４−ヒドロキシ−ｎ−ブチル基等のヒドロキシ鎖状アルキル基；２−ヒドロキシシクロヘキシル基、３−ヒドロキシシクロヘキシル基、及び４−ヒドロキシシクロヘキシル基等のハロゲン化シクロアルキル基；２−ヒドロキシフェニル基、３−ヒドロキシフェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、２，３−ジヒドロキシフェニル基、２，４−ジヒドロキシフェニル基、２，５−ジヒドロキシフェニル基、２，６−ジヒドロキシフェニル基、３，４−ジヒドロキシフェニル基、及び３，５−ジヒドロキシフェニル基等のヒドロキシアリール基；２−ヒドロキシフェニルメチル基、３−ヒドロキシフェニルメチル基、及び４−ヒドロキシフェニルメチル基等のヒドロキシアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、イソプロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、ｎ−ノニルオキシ基、ｎ−デシルオキシ基、ｎ−ウンデシルオキシ基、ｎ−トリデシルオキシ基、ｎ−テトラデシルオキシ基、ｎ−ペンタデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基、ｎ−ヘプタデシルオキシ基、ｎ−オクタデシルオキシ基、ｎ−ノナデシルオキシ基、及びｎ−イコシルオキシ基等の鎖状アルコキシ基；ビニルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、２−ｎ−プロペニルオキシ基（アリルオキシ基）、１−ｎ−ブテニルオキシ基、２−ｎ−ブテニルオキシ基、及び３−ｎ−ブテニルオキシ基等の鎖状アルケニルオキシ基；フェノキシ基、ｏ−トリルオキシ基、ｍ−トリルオキシ基、ｐ−トリルオキシ基、α−ナフチルオキシ基、β−ナフチルオキシ基、ビフェニル−４−イルオキシ基、ビフェニル−３−イルオキシ基、ビフェニル−２−イルオキシ基、アントリルオキシ基、及びフェナントリルオキシ基等のアリールオキシ基；ベンジルオキシ基、フェネチルオキシ基、α−ナフチルメチルオキシ基、β−ナフチルメチルオキシ基、α−ナフチルエチルオキシ基、及びβ−ナフチルエチルオキシ基等のアラルキルオキシ基；メトキシメチル基、エトキシメチル基、ｎ−プロピルオキシメチル基、２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基、２−ｎ−プロピルオキシエチル基、３−メトキシ−ｎ−プロピル基、３−エトキシ−ｎ−プロピル基、３−ｎ−プロピルオキシ−ｎ−プロピル基、４−メトキシ−ｎ−ブチル基、４−エトキシ−ｎ−ブチル基、及び４−ｎ−プロピルオキシ−ｎ−プチル基等のアルコキシアルキル基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、ｎ−プロピルオキシメトキシ基、２−メトキシエトキシ基、２−エトキシエトキシ基、２−ｎ−プロピルオキシエトキシ基、３−メトキシ−ｎ−プロピルオキシ基、３−エトキシ−ｎ−プロピルオキシ基、３−ｎ−プロピルオキシ−ｎ−プロピルオキシ基、４−メトキシ−ｎ−ブチルオキシ基、４−エトキシ−ｎ−ブチルオキシ基、及び４−ｎ−プロピルオキシ−ｎ−ブチルオキシ基等のアルコキシアルコキシ基；２−メトキシフェニル基、３−メトキシフェニル基、及び４−メトキシフェニル基等のアルコキシアリール基；２−メトキシフェノキシ基、３−メトキシフェノキシ基、及び４−メトキシフェノキシ基等のアルコキシアリールオキシ基；ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ペンタノイル基、ヘキサノイル基、ヘプタノイル基、オクタノイル基、ノナノイル基、及びデカノイル基等の脂肪族アシル基；ベンゾイル基、α−ナフトイル基、及びβ−ナフトイル基等の芳香族アシル基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロピルオキシカルボニル基、ｎ−ブチルオキシカルボニル基、ｎ−ペンチルオキシカルボニル基、ｎ−ヘキシルカルボニル基、ｎ−ヘプチルオキシカルボニル基、ｎ−オクチルオキシカルボニル基、ｎ−ノニルオキシカルボニル基、及びｎ−デシルオキシカルボニル基等の鎖状アルキルオキシカルボニル基；フェノキシカルボニル基、α−ナフトキシカルボニル基、及びβ−ナフトキシカルボニル基等のアリールオキシカルボニル基；ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、プロピオニルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ペンタノイルオキシ基、ヘキサノイルオキシ基、ヘプタノイルオキシ基、オクタノイルオキシ基、ノナノイルオキシ基、及びデカノイルオキシ基等の脂肪族アシルオキシ基；並びに、ベンゾイルオキシ基、α−ナフトイルオキシ基、及びβ−ナフトイルオキシ基等の芳香族アシルオキシ基が挙げられる。
【００４５】
Ｒ１乃至Ｒ１８は、特に硬化性組成物を用いて得られる硬化物の硬度の観点から、全てが水素原子であることがより好ましい。
【００４６】
また、上記一般式（Ｉ）において、Ｘは、単結合又は連結基（１以上の原子を有する２価の基）である。
【００４７】
上記連結基としては、例えば、２価の炭化水素基、カルボニル基、エーテル基（エーテル結合）、チオエーテル基（チオエーテル結合）、エステル基（エステル結合）、カーボネート基（カーボネート結合）、アミド基（アミド結合）、及びこれらが複数個連結した基等が挙げられる。
【００４８】
上記２価の炭化水素基としては、例えば、炭素数が１乃至１８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基、及び、２価の脂環式炭化水素基等が挙げられる。炭素数が１乃至１８の直鎖状又は分岐鎖状のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、エチレン基、プロピレン基、及びトリメチレン基が挙げられる。２価の脂環式炭化水素基としては、例えば、１，２−シクロペンチレン基、１，３−シクロペンチレン基、シクロペンチリデン基、１，２−シクロヘキシレン基、１，３−シクロヘキシレン基、１，４−シクロヘキシレン基、及びシクロヘキシリデン基等の２価のシクロアルキレン基（シクロアルキリデン基を含む）が挙げられる。
【００４９】
上記連結基Ｘとしては、酸素原子を含有する連結基が好ましい。そのような連結基Ｘとしては、例えば、−ＣＯ−（カルボニル基）、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−（カーボネート基）、−ＣＯＯ−（エステル基）、−Ｏ−（エーテル基）、−ＣＯＮＨ−（アミド基）、これらの基が複数個連結した基、及びこれらの基の１又は２以上と２価の炭化水素基の１又は２以上とが連結した基が挙げられる。２価の炭化水素基としては、例えば、上記で例示したものが挙げられる。
【００５０】
上記一般式（Ｉ）で表される脂環式エポキシ化合物としては、例えば、商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」及び「セロキサイド２０８１」（何れも（株）ダイセル製）等の市販品を使用することもできる。また、一般式（Ｉ）で表される脂環式エポキシ化合物のうちＸが単結合であるものとして、例えば、商品名「セロキサイド８０００」（（株）ダイセル製）などの市販品を用いることもできる。
【００５１】
脂環式エポキシ化合物（Ａ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。上記の中でも、脂環式エポキシ化合物（Ａ）としては、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート（商品名「セロキサイド２０２１Ｐ」）及びε−カプロラクトン変性３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートの少なくとも一方を使用することが特に好ましい。
【００５２】
脂環式エポキシ化合物（Ａ）とポリオール化合物（Ｂ）との合計量に占める脂環式エポキシ化合物（Ａ）の量の割合は、５０乃至８０質量％の範囲内にあることが好ましく、７０乃至７５質量％の範囲内にあることがより好ましい。この割合が小さすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が低くなり、高い耐熱性が得られない可能性がある。この割合が大きすぎると、樹脂組成物の硬化物は、硬く脆い性状となり、高い可撓性が得られない可能性がある。
【００５３】
［ポリオール化合物（Ｂ）］
樹脂組成物にポリオール化合物（Ｂ）を含めることにより、高い可撓性を有している硬化物を形成できる。
【００５４】
ポリオール化合物（Ｂ）とは、１分子内に２個以上の水酸基を有し、数平均分子量が例えば２００以上の重合体（オリゴマー又はポリマー）である。ポリオール化合物（Ｂ）には、例えば、ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオールが含まれる。なお、ポリオール化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００５５】
ポリオール化合物（Ｂ）が有する水酸基（２個以上の水酸基）は、アルコール性水酸基であってもよいし、フェノール性水酸基であってもよい。また、ポリオール化合物（Ｂ）が１分子内に有する水酸基の数は、２以上であればよく、特に限定されない。
【００５６】
ポリオール化合物（Ｂ）における水酸基（２個以上の水酸基）の位置は、特に限定されないが、硬化剤との反応性の観点で、ポリオール分子の少なくとも一方の末端（重合体主鎖の末端）に存在することが好ましく、ポリオール分子の少なくとも両末端に存在することが特に好ましい。
【００５７】
ポリオール化合物（Ｂ）は、その他の成分と配合した後に液状の樹脂組成物を形成できればよく、それ自体は、固体であってもよいし、液体であってもよい。
【００５８】
ポリオール化合物（Ｂ）の数平均分子量は、特に限定されないが、例えば２００以上であり、２００乃至１０００００の範囲内にあることが好ましく、３００乃至１０００の範囲内にあることがより好ましい。数平均分子量が小さすぎると、樹脂組成物を塗工する基材から樹脂組成物の硬化物であるフィルムを剥離する際に、フィルムに破断やクラックが発生する場合がある。一方、数平均分子量が大きすぎると、液状の樹脂組成物においてポリオール化合物が析出するか、又は、ポリオール化合物を他の成分中に溶解させることができない場合がある。なお、ポリオール化合物（Ｂ）の数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定される、標準ポリスチレン換算の数平均分子量を意味する。
【００５９】
ポリオール化合物（Ｂ）は、水酸基価が１９０乃至５５０ＫＯＨｍｇ／ｇの範囲内にあることが好ましい。水酸基価が小さすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が低くなり、高い耐熱性が得られない可能性がある。水酸基価が大きすぎると、エポキシ基の量に対し、水酸基の量が過剰となり、反応に寄与しない浮遊モノマーが硬化物中に発生する可能性がある。その結果、熱重量変化が大きくなり、耐熱性の低下、更には吸湿性の増加を生じる可能性がある。
【００６０】
ポリオール化合物（Ｂ）としては、例えば、分子内にエステル骨格（ポリエステル骨格）を有するポリエステルポリオール（ポリエステルポリオールオリゴマーを含む）、分子内にエーテル骨格（ポリエーテル骨格）を有するポリエーテルポリオール（ポリエーテルポリオールオリゴマーを含む）、及び分子内にカーボネート骨格（ポリカーボネート骨格）を有するポリカーボネートポリオール（ポリカーボネートポリオールオリゴマーを含む）などが挙げられる。ポリオール化合物（Ｂ）には、その他化合物、例えば、フェノキシ樹脂、エポキシ当量が１０００ｇ／ｅｑ．を超えるビスフェノール型高分子エポキシ樹脂、水酸基を有するポリブタジエン類、及びアクリルポリオールも含まれる。
【００６１】
上記ポリエステルポリオールとしては、例えば、ポリオールとポリカルボン酸（多塩基酸）との又はヒドロキシカルボン酸の縮合重合（例えば、エステル交換反応）により得られるポリエステルポリオールや、ラクトン類の開環重合により得られるポリエステルポリオールなどが挙げられる。
【００６２】
上記ポリエステルポリオールを得るための縮合重合に使用するポリオールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，３，５−トリメチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−エチル−１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジオール、２，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−ジメチロールシクロヘキサン、１，３−ジメチロールシクロヘキサン、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、１，１２−ドデカンジオール、ポリブタジエンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，３−ジヒドロキシアセトン、ヘキシレングリコール、１，２，６−ヘキサントリオール、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソルビトール、及びペンタエリスリトールが挙げられる。
【００６３】
上記ポリエステルポリオールを得るための縮合重合に使用するポリカルボン酸としては、例えば、シュウ酸、アジピン酸、セバシン酸、フマル酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アゼライン酸、クエン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、シトラコン酸、１，１０−デカンジカルボン酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロフタル酸無水物、テトラヒドロフタル酸無水物、無水ピロメリット酸、及び無水トリメリット酸が挙げられる。
【００６４】
上記ポリエステルポリオールを得るための縮合重合に使用するヒドロキシカルボン酸としては、例えば、乳酸、りんご酸、グリコール酸、ジメチロールプロピオン酸、及びジメチロールブタン酸が挙げられる。
【００６５】
上記ポリエステルポリオールを得るための開環重合に使用するラクトン類としては、例えば、ε−カプロラクトン、δ−バレロラクトン、及びγ−ブチロラクトンが挙げられる。
【００６６】
上記ポリエステルポリオールとしては、例えば、商品名「プラクセル２０５」、「プラクセル２０５Ｈ」、「プラクセル２０５Ｕ」、「プラクセル２０５ＢＡ」、「プラクセル２０８」、「プラクセル２１０」、「プラクセル２１０ＣＰ」、「プラクセル２１０ＢＡ」、「プラクセル２１２」、「プラクセル２１２ＣＰ」、「プラクセル２２０」、「プラクセル２２０ＣＰＢ」、「プラクセル２２０ＮＰ１」、「プラクセル２２０ＢＡ」、「プラクセル２２０ＥＤ」、「プラクセル２２０ＥＢ」、「プラクセル２２０ＥＣ」、「プラクセル２３０」、「プラクセル２３０ＣＰ」、「プラクセル２４０」、「プラクセル２４０ＣＰ」、「プラクセル２１０Ｎ」、「プラクセル２２０Ｎ」、「プラクセルＬ２０５ＡＬ」、「プラクセルＬ２０８ＡＬ」、「プラクセルＬ２１２ＡＬ」、「プラクセルＬ２２０ＡＬ」、「プラクセルＬ２３０ＡＬ」、「プラクセル３０５」、「プラクセル３０８」、「プラクセル３１２」、「プラクセルＬ３１２ＡＬ」、「プラクセル３２０」、「プラクセルＬ３２０ＡＬ」、「プラクセルＬ３３０ＡＬ」、「プラクセル４１０」、「プラクセル４１０Ｄ」、「プラクセル６１０」、「プラクセルＰ３４０３」、及び「プラクセルＣＤＥ９Ｐ」（何れも（株）ダイセル製）等の市販品を使用することができる。
【００６７】
上記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、ポリオール類への環状エーテル化合物の付加反応により得られるポリエーテルポリオール、及びアルキレンオキシドの開環重合により得られるポリエーテルポリオールが挙げられる。
【００６８】
上記ポリエーテルポリオールとしては、より具体的には、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，２−プロパンジオール（プロピレングリコール）、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール（テトラメチレングリコール）、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２−メチル−１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、２，３，５−トリメチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２−エチル−１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジオール、２，６−ヘキサンジオール、１，８−オクタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−ジメチロールシクロヘキサン、１，３−ジメチロールシクロヘキサン、１，４−ジメチロールシクロヘキサン、１，１２−ドデカンジオール、ポリブタジエンジオール、ネオペンチルグリコール、ジプロピレングリコール、グリセリン、トリメチロールプロパン、１，３−ジヒドロキシアセトン、ヘキシレングリコール、１，２，６−ヘキサントリオール、ジトリメチロールプロパン、マンニトール、ソルビトール、及びペンタエリスリトールなどのポリオール類の多量体；上記ポリオール類と、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、１，２−ブチレンオキサイド、１，３−ブチレンオキサイド、２，３−ブチレンオキサイド、テトラヒドロフラン、及びエピクロロヒドリン等のアルキレンオキサイドとの付加物；並びにテトラヒドロフラン類などの環状エーテルの開環重合体（例えば、ポリテトラメチレングリコール）が挙げられる。
【００６９】
上記ポリエーテルポリオールとしては、例えば、商品名「ＰＥＰ−１０１」（フロイント産業（株）製）、商品名「アデカプルロニックＬ」、「アデカプルロニックＰ」、「アデカプルロニックＦ」、「アデカプルロニックＲ」、「アデカプルロニックＴＲ」、及び「アデカＰＥＧ」（何れもアデカ（株）製）；商品名「ＰＥＧ＃１０００」、「ＰＥＧ＃１５００」、及び「ＰＥＧ＃１１０００」（何れも日油（株）製）；商品名「ニューポールＰＥ−３４」、「ニューポールＰＥ−６１」、「ニューポールＰＥ−７８」、「ニューポールＰＥ−１０８」、「ＰＥＧ−２００」、「ＰＥＧ−６００」、「ＰＥＧ−２０００」、「ＰＥＧ−６０００」、「ＰＥＧ−１００００」、及び「ＰＥＧ−２００００」（何れも三洋化成工業（株）製）；商品名「ＰＴＭＧ１０００」、「ＰＴＭＧ１８００」、及び「ＰＴＭＧ２０００」（何れも三菱化学（株）製）；並びに「ＰＴＭＧプレポリマー」（三菱樹脂（株）製）等の市販品を使用することができる。
【００７０】
上記ポリカーボネートポリオールとは、分子内に２個以上の水酸基を有するポリカーボネートである。中でも、上記ポリカーボネートポリオールとしては、分子内に２個の末端水酸基を有するポリカーボネートジオールが好ましい。
【００７１】
上記ポリカーボネートポリオールは、通常のポリカーボネートポリオールを製造する方法と同じく、ホスゲン法、又は、ジメチルカーボネート及びジエチルカーボネートのようなジアルキルカーボネート又はジフェニルカーボネートを用いるカーボネート交換反応（特開昭６２−１８７７２５号公報、特開平２−１７５７２１号公報、特開平２−４９０２５号公報、特開平３−２２０２３３号公報、特開平３−２５２４２０号公報等）などにより合成される。上記ポリカーボネートポリオールにおけるカーボネート結合は熱分解を受けにくいため、ポリカーボネートポリオールを含む樹脂組成物の硬化物は高温高湿下でも優れた安定性を示す。
【００７２】
上記ジアルキルカーボネート又はジフェニルカーボネートと共にカーボネート交換反応で用いられるポリオールとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２，３−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１２−ドデカンジオール、ブタジエンジオール、ネオペンチルグリコール、テトラメチレングリコール、プロピレングリコール、及びプロピレングリコールが挙げられる。
【００７３】
上記ポリカーボネートポリオールとしては、例えば、商品名「プラクセルＣＤ２０５ＰＬ」、「プラクセルＣＤ２０５ＨＬ」、「プラクセルＣＤ２１０ＰＬ」、「プラクセルＣＤ２１０ＨＬ」、「プラクセルＣＤ２２０ＰＬ」、及び「プラクセルＣＤ２２０ＨＬ」（何れも（株）ダイセル製）；商品名「ＵＨ−ＣＡＲＢ５０」、「ＵＨ−ＣＡＲＢ１００」、「ＵＨ−ＣＡＲＢ３００」、「ＵＨ−ＣＡＲＢ９０（１／３）」、「ＵＨ−ＣＡＲＢ９０（１／１）」、及び「ＵＣ−ＣＡＲＢ１００」（何れも宇部興産（株）製）；並びに、商品名「ＰＣＤＬ  Ｔ４６７１」、「ＰＣＤＬ  Ｔ４６７２」、「ＰＣＤＬ  Ｔ５６５０Ｊ」、「ＰＣＤＬ  Ｔ５６５１」、及び「ＰＣＤＬ  Ｔ５６５２」（何れも旭化成ケミカルズ（株）製）等の市販品を使用することができる。
【００７４】
上記ポリエーテルポリオール、ポリエステルポリオール、及びポリカーボネートポリオール以外のポリオールとしては、例えば、商品名「ＹＰ−５０」、「ＹＰ−５０Ｓ」、「ＹＰ−５５Ｕ」、「ＹＰ−７０」、「ＺＸ−１３５６−２」、「ＹＰＢ−４３Ｃ」、「ＹＰＢ−４３Ｍ」、「ＦＸ−３１６」、「ＦＸ−３１０Ｔ４０」、「ＦＸ−２８０Ｓ」、「ＦＸ−２９３」、「ＹＰＳ−００７Ａ３０」、及び「ＴＸ−１０１６」（何れも新日鐵化学（株）製）や、商品名「ｊＥＲ１２５６」、「ｊＥＲ４２５０」、及び「ｊＥＲ４２７５」（何れも三菱化学（株）製）などのフェノキシ樹脂；商品名「エポトートＹＤ−０１４」、「エポトートＹＤ−０１７」、「エポトートＹＤ−０１９」、「エポトートＹＤ−０２０Ｇ」、「エポトートＹＤ−９０４」、「エポトートＹＤ−９０７」、及び「エポトートＹＤ−６０２０」（何れも新日鐵化学（株）製）や、商品名「ｊＥＲ１００７」、「ｊＥＲ１００９」、「ｊＥＲ１０１０」、「ｊＥＲ１００５Ｆ」、「ｊＥＲ１００９Ｆ」、「ｊＥＲ１００６ＦＳ」、及び「ｊＥＲ１００７ＦＳ」（何れも三菱化学（株）製）などのエポキシ当量が１０００ｇ／ｅｑ．を超えるビスフェノール型高分子エポキシ樹脂；商品名「Ｐｏｌｙ  ｂｄ  Ｒ−４５ＨＴ」、「Ｐｏｌｙ  ｂｄ  Ｒ−１５ＨＴ」、「Ｐｏｌｙ  ｉｐ」、及び「ＫＲＡＳＯＬ」（何れも出光興産（株）製）や、商品名「α−ωポリブタジエングリコール  Ｇ−１０００」、「α−ωポリブタジエングリコール  Ｇ−２０００」、及び「α−ωポリブタジエングリコール  Ｇ−３０００」（何れも日本曹達（株）製）などの水酸基を有するポリブタジエン類；並びに、商品名「ヒタロイド３９０３」、「ヒタロイド３９０４」、「ヒタロイド３９０５」、「ヒタロイド６５００」、「ヒタロイド６５００Ｂ」、及び「ヒタロイド３０１８Ｘ」（何れも日立化成工業（株）製）や、商品名「アクリディックＤＬ−１５３７」、「アクリディックＢＬ−６１６」、「アクリディックＡＬ−１１５７」、「アクリディックＡ−３２２」、「アクリディックＡ−８１７」、「アクリディックＡ−８７０」、「アクリディックＡ−８５９−Ｂ」、「アクリディックＡ−８２９」、及び「アクリディックＡ−４９−３９４−ＩＭ」（何れもＤＩＣ（株）製）、商品名「ダイヤナールＳＲ−１３４６」、「ダイヤナールＳＲ−１２３７」、及び「ダイヤナールＡＳ−１１３９」（何れも三菱レイヨン（株）製）などのアクリルポリオール等の市販品を使用することができる。
【００７５】
なお、上記ポリオール化合物は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。ポリオール化合物（Ｂ）は、ポリエステルポリオール、例えば商品名「プラクセル３０５」及び「プラクセル３０８」（何れも（株）ダイセル製）などのポリカプロラクトントリオール、並びに、商品名「プラクセルＣＤ２０５ＰＬ」（（株）ダイセル製）などのカーボネートジオールの少なくとも一方であることが特に好ましい。
【００７６】
脂環式エポキシ化合物（Ａ）とポリオール化合物（Ｂ）との合計量に占めるポリオール化合物（Ｂ）の量の割合は、２０乃至５０質量％の範囲内にあることが好ましく、２５乃至３０質量％の範囲内にあることがより好ましい。この割合が小さすぎると、樹脂組成物の硬化物は、硬く脆い性状となり、高い可撓性が得られない可能性がある。この割合が大きすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が低くなり、エポキシ基の量に対して水酸基の量が過剰となり、樹脂組成物を十分に硬化させることができない可能性がある。
【００７７】
［酸発生剤（Ｃ）］
酸発生剤（Ｃ）は、樹脂組成物中のエポキシ基を有する化合物の重合を開始させる働きを有する。酸発生剤（Ｃ）としては、紫外線照射などの電離放射線照射又は加熱処理を施すことによりカチオン種を発生して、脂環式エポキシ化合物（Ａ）の重合を開始させるカチオン重合開始剤が好ましい。酸発生剤（Ｃ）は、単独で又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００７８】
電離放射線照射によりカチオン種を発生するカチオン重合開始剤としては、例えば、ヘキサフルオロアンチモネート塩、ペンタフルオロヒドロキシアンチモネート塩、ヘキサフルオロホスフェート塩、ヘキサフルオロアルゼネート塩、トリアリルスルホニウム塩及びその誘導体、並びに、ジアリルヨウドニウム塩及びその誘導体を挙げることができる。
【００７９】
トリアリルスルホニウム塩及びその誘導体としては、例えば、トリアリルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート塩及びその誘導体、並びに、トリアリルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート塩及びその誘導体が挙げられる。  
ジアリルヨウドニウム塩及びその誘導体としては、例えば、ジアリルヨウドニウムヘキサフルオロホスフェート塩及びその誘導体、並びに、ジアリルヨウドニウムテトラフルオロボレート塩及びその誘導体が挙げられる。  
これらのカチオン重合開始剤（カチオン触媒）は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００８０】
このようなカチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「ＵＶＡＣＵＲＥ１５９０」（ダイセル・サイテック（株）製）；商品名「ＣＤ−１０１０」、「ＣＤ−１０１１」、及び「ＣＤ−１０１２」（何れも米国サートマー社製）；商品名「イルガキュア２６４」及び「イルガキュア２５０」（何れもチバ・ジャパン（株）製）；商品名「ＣＩＴ−１６８２」（日本曹達（株）製）；商品名「ＣＰＩ−１０１Ａ」、「ＣＰＩ−１００Ｐ」、「ＣＰＩ−２１０Ｓ」、及び「ＣＰＩ−１１０Ａ」（何れもサンアプロ（株）製）；商品名「アデカオプトマーＳＰ−１７０」、「アデカオプトマーＳＰ−１７２」、及び「アデカオプトマーＳＰ−１５０」（何れも（株）ＡＤＥＫＡ製）；並びに、商品名「シリコリース  ＵＶ  ＣＡＴＡ２１１」（荒川化学工業（株）製）等の市販品を使用できる。好ましくは、商品名「ＳＰ−１７０」及び「ＳＰ−１７２」（何れも（株）ＡＤＥＫＡ製）、並びに、商品名「ＣＰＩ−２１０Ｓ」、「ＣＰＩ−１０１Ａ」及び「ＣＰＩ−１１０Ａ」（何れもサンアプロ（株）製）の１以上である。
【００８１】
加熱処理を施すことによりカチオン種を発生するカチオン重合開始剤としては、例えば、アリールジアゾニウム塩、アリールヨードニウム塩、アリールスルホニウム塩、及びアレン−イオン錯体が挙げられる。
【００８２】
このようなカチオン重合開始剤としては、例えば、商品名「ＰＰ−３３」、「ＣＰ−６６」、及び「ＣＰ−７７」（何れもＡＤＥＫＡ（株）製）；商品名「ＦＣ−５０９」（スリーエム（株）製）；商品名「ＵＶＥ１０１４」（Ｇ．Ｅ．（株）製）；商品名「サンエイド  ＳＩ−６０Ｌ」、「サンエイド  ＳＩ−８０Ｌ」、「サンエイド  ＳＩ−１００Ｌ」、「サンエイド  ＳＩ−１１０Ｌ」、及び「サンエイド  ＳＩ−１５０Ｌ」（何れも三新化学工業（株）製）；並びに、商品名「ＣＧ−２４−６１」（チバ・ジャパン（株）製）等の市販品を使用できる。
【００８３】
更に、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とトリフェニルシラノール等のシラノールとの化合物、又は、アルミニウムやチタンなどの金属とアセト酢酸若しくはジケトン類とのキレート化合物とビスフェノールＳ等のフェノール類との化合物も、上記カチオン重合開始剤として使用できる。
【００８４】
酸発生剤（Ｃ）の量は、脂環式エポキシ化合物（Ａ）とポリオール化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、０．０５乃至０．５質量部の範囲内にあることが好ましく、０．０５乃至０．１質量部の範囲内にあることがより好ましい。酸発生剤（Ｃ）の量が少なすぎると、樹脂組成物の硬化物において架橋密度が小さくなり、高い耐熱性が得られない可能性がある。酸発生剤（Ｃ）の量が多すぎると、高い透明性を有する硬化物を得られない可能性がある。
【００８５】
［その他の成分（Ｄ）］
樹脂組成物は、必要に応じて、他の成分（Ｄ）を更に含有することができる。  
例えば、樹脂組成物は、硬化性調整のためにビニルエーテル化合物のようなカチオン反応性化合物を更に含有していてもよい。また、樹脂組成物は、その低粘度化や反応速度調整のためにオキセタン化合物を更に含有していてもよい。また、樹脂組成物は、基材と樹脂組成物を硬化してなる層との密着性調整のためにラジカル反応性化合物を更に含有していてもよい。
【００８６】
樹脂組成物は、その他の成分、例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤（ＨＡＬＳ等）、つや消し剤（シリカ、ガラス粉、金属酸化物等）、着色剤（染料、顔料等）、光拡散剤、低収縮剤、沈降防止剤、消泡剤、帯電防止剤、防曇剤、分散剤、増粘剤、タレ止め剤、乾燥剤、レベリング剤、カップリング剤、付着促進剤、防錆顔料、熱安定剤、皮膜物質改質剤、スリップ剤、スリキズ剤、可塑剤、防菌剤、防カビ剤、防汚剤、難燃剤、重合防止剤、光重合促進剤、増感剤、熱開始剤（熱カチオン重合開始剤、熱ラジカル重合開始剤）、及び離型剤等の添加剤の１以上を更に含有していてもよい。
【００８７】
成分（Ｄ）の量は、脂環式エポキシ化合物（Ａ）とポリオール化合物（Ｂ）との合計量１００質量部に対して、１０質量部以下であることが好ましく、１質量部以下であることがより好ましい。
【００８８】
＜樹脂組成物の調製＞
上記の樹脂組成物は、上述した成分を均一に混合することにより得る。この混合には、例えば、特に限定されないが、ディスパーミキサ、ウルトラミキサ、ホモジナイザ、及び遊星攪拌脱泡機等の攪拌機を用いることができる。この混合は、酸発生剤の活性化を防止するため、電離放射線が照射されない環境下で行うことが好ましい。
【００８９】
＜透明磁性シートの製造＞
透明磁性シート１０は、例えば、以下の方法により製造する。  
先ず、透明基材１を準備する。また、透明磁性層２の原料である塗布液を準備する。塗布液は、例えば、上述した樹脂組成物に磁性体粒子２Ｍを分散させることにより得ることができる。なお、この段階では、磁性体粒子２Ｍは着磁させていない。従って、磁性体粒子２Ｍは、一般的な分散方法により、樹脂組成物中に分散させることができる。
【００９０】
次に、この塗布液を、透明基材１上に塗工する。これにより、塗布液からなる塗膜を形成する。塗布液の塗工には、例えば、ダイコート法、ディッピング法、ワイヤーバーを使用する方法、ロールコート法、グラビアコート法、リバースコート法、エアナイフコート法、コンマコート法、カーテン法、スクリーン印刷法、スプレーコート法、及びグラビアオフセット法等の周知の方法を用いることができる。また、容器に収容された塗布液を、ダイヘッドなどの塗工部へ、一定の流量で供給する必要がある場合は、例えば、モーノポンプ、ダイアフラムポンプ、及びギアポンプなどの供給装置を用いることができる。
【００９１】
続いて、この塗膜に対して、電離放射線を照射する。ここで、用語「電離放射線」は、樹脂組成物が含む成分、具体的には酸発生剤を分解（電離）させて、樹脂組成物中に酸を発生させ得る高エネルギーな放射線、例えば、Ｘ線又は紫外線を意味している。電離放射線としては、典型的には、紫外線を利用する。
【００９２】
塗膜に電離放射線を照射すると、樹脂組成物が含んでいる酸発生剤を活性化する。即ち、酸発生剤が分解（電離）して、樹脂組成物中に酸が発生する。酸は、樹脂組成物中での重合や架橋を促進する触媒としての役割を果たす。従って、塗膜への電離放射線照射により、樹脂組成物では重合や架橋が進行し、その結果、塗膜は硬化する。
【００９３】
次いで、必要に応じて、電離放射線を照射した塗膜に対してポストベークを行う。ポストベークを行うことにより、樹脂組成物中での上記反応を完結させる。ポストベークを行うと、透明磁性層２における架橋密度を高めることができ、耐熱性が高まる。ポストベークには、例えば、熱風乾燥、熱ロール乾燥、高周波照射、及び赤外線照射等の加熱方法を、単独で又は２種類以上組み合わせて用いることができる。
【００９４】
その後、磁性体粒子２Ｍを着磁させる。この着磁には、公知の方法を利用することができる。  
以上のようにして、透明磁性シート１０を得る。
【００９５】
＜透明磁性シートの応用例＞
上述した透明磁性シート１０は、例えば、印刷用途に用いられる記録シートとして使用することができる。これについて、図２を参照しながら説明する。
【００９６】
図２は、図１に示す透明磁性シートを用いて得られる印刷物の一例を概略的に示す断面図である。  
図２に示す印刷物１００は、透明磁性シート１０と印刷層２０とを含んでいる。印刷層２０は、透明磁性シート１０に支持されている。印刷層２０は、例えば、画像や文字などの情報を表示する。
【００９７】
この印刷物１００は、鉄板などの軟質磁性材料からなる物品に対して磁気吸着する。従って、この印刷物１００は、掲示板やホワイトボードなどへの設置や、掲示板やホワイトボードなどからの撤去が容易である。
【００９８】
また、この印刷物１００が含んでいる透明磁性シート１０は、透明樹脂２Ｒの中に磁性体粒子２Ｍを均一に分散させてなる透明磁性層２によって、磁気吸着を可能としている。それ故、この透明磁性シート１０は、ゴム磁石テープを含んだ記録シートとは異なり、均一な厚さに形成することができる。従って、印刷層２０は、プリンタ等を用いて容易に形成することができる。
【００９９】
また、この印刷物１００が含んでいる透明磁性シート１０は、ゴム磁石テープや帯状の磁石層を含んでおらず、透明磁性層２を含んでいる。透明磁性層２は、その全体に亘って均一な光学特性を有し得る。それ故、この透明磁性シート１０では、ゴム磁石テープや帯状の磁石層を用いた場合とは異なり、磁気吸着力を付与するための部材によって外観が損なわれることがない。
【０１００】
また、この印刷物１００では、印刷層２０は、透明磁性シート１０の一主面のうち、一部の領域のみを被覆している。そして、上記の通り、透明磁性シート１０は、透明性に優れている。それ故、印刷物１００のうち他の領域に対応した部分では、背後の物品が透けて見える。即ち、透明磁性シート１０は目立たない。従って、この印刷物１００によれば、印刷層２０による画像又は常法の表示へ透明磁性シート１０が及ぼす影響を最小とすることができる。
【０１０１】
なお、透明磁性シート１０は、他の目的で使用することも可能である。例えば、透明磁性シート１０は、車体などの物品を保護する保護シートとして利用することができる。
【実施例】
【０１０２】
以下に、本発明の実施例について説明する。なお、以下の説明は、本発明の理解を容易にするためのものであり、ここに記載した内容に限定することを意図するものではない。
【０１０３】
＜実施例１＞
図１に示す透明磁性シート１０を、以下の方法により製造した。  
先ず、以下の組成を有する塗布液を調製した。  
主剤（セロキサイドＰ２０２１Ｐ；（株）ダイセル製）：        ７０質量部
添加樹脂（プラクセルＣＤ２０５ＰＬ；（株）ダイセル製）：    ３０質量部
酸発生剤（ＳＰ−１７０；（株）ＡＤＥＫＡ製）：            ０．５質量部
バリウムフェライト（６３７６０２；シグマアルドリッチ社製）：  １質量部
この塗布液は、上記の成分をビーズミルに投入して、磁性体粒子２Ｍを十分に分散させ、その後、この分散液に対して減圧脱泡機による脱泡を行うことによって調製した。なお、ここで使用したバリウムフェライトの平均粒径は５０μｍ以下であった。
【０１０４】
次に、ロール・ツー・ロール式のダイコータを用いて、透明基材１上に透明磁性層２を形成した。具体的には、透明基材１としては、ポリエチレンテレフタレートフィルムを使用した。透明基材１は、１０ｍ／ｍｉｎの速度で搬送した。上記の塗布液は、透明磁性層２が２５０μｍの厚さを有するように、ダイアフラムポンプ（スムーズフロー（登録商標）ポンプ；（株）タクミナ製）を用いて、貯蔵タンクからダイヘッドへと供給した。上記塗布液からなる塗膜には、紫外線を積算光量が５００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射した。露光後の塗膜には、温度を１５０℃に設定したオーブンを用いて１８０秒間に亘るポストベークを施した。
【０１０５】
その後、磁性体粒子Ｍを着磁させた。この着磁には、オイルコンデンサータイプの着磁器を用いた。  
以上のようにして、図１に示す透明磁性シート１０を得た。
【０１０６】
＜実施例２＞
主剤と添加剤との合計１００質量部に対してバリウムフェライトの量を５質量部としたこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。
【０１０７】
＜実施例３＞
主剤と添加剤との合計１００質量部に対してバリウムフェライトの量を０．１質量部としたこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。
【０１０８】
＜実施例４＞
バリウムフェライトとして平均粒径が１μｍであるものを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。
【０１０９】
＜比較例１＞
主剤と添加剤との合計１００質量部に対してバリウムフェライトの量を１０質量部としたこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。
【０１１０】
＜比較例２＞
主剤と添加剤との合計１００質量部に対してバリウムフェライトの量を０．０５質量部としたこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。
【０１１１】
＜比較例３＞
バリウムフェライトとして平均粒径が２μｍであるものを使用したこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。
【０１１２】
＜比較例４＞
主剤としてビスフェノールＡ型エポキシ樹脂を使用したこと以外は、実施例１と同様の方法により、図１に示す透明磁性シート１０を製造した。なお、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂の硬化物は不透明であった。
【０１１３】
＜評価＞
実施例１乃至３及び比較例１乃至５に係る透明磁性シート１０の各々について、全光線透過率及び磁性体粒子２Ｍの平均粒径を、上述した方法により測定した。全光線透過率が８５％以上であったものを「◎」と評価し、全光線透過率が５０％以上８５％未満であったものを「○」と評価し、全光線透過率が３０％以上５０％未満であったものを「△」と評価し、全光線透過率が３０％未満であったものを「×」と評価した。
【０１１４】
また、実施例１乃至３及び比較例１乃至５に係る透明磁性シート１０の各々について、磁気吸着力、及び、外観異常の有無を調べた。磁気吸着力については、ＳＵＳ４３０からなり、５ｍｍの厚さを有しているステンレス鋼板を、その主面が重力方向に対して平行になるように設置し、透明磁性シート１０のうち、ステンレス鋼板へ磁気吸着したものを「○」と評価し、ステンレス鋼板へ磁気吸着しなかったものを「×」と評価した。外観異常の有無は、透明磁性シート１０を肉眼で観察することにより調べた。  
結果を、以下の表１に纏める。
【０１１５】
【表１】
2017187675.tif 000004
【０１１６】
実施例１乃至３と比較例１との対比から明らかなように、透明磁性層２に占める磁性体粒子２Ｍの割合を大きくすると、全光線透過率は低下した。そして、実施例１乃至３と比較例２との対比から明らかなように、透明磁性層２に占める磁性体粒子２Ｍの割合を小さくすると、磁気吸着力が不十分となった。
【０１１７】
また、実施例１及び４と比較例３との対比から明らかなように、磁性体粒子２Ｍの平均粒径を大きくすると、全光線透過率が低下した。そして、平均粒径を２μｍとしたときには、磁性体粒子２Ｍの凝集体が肉眼で観察された。
【０１１８】
更に、実施例１と比較例４との対比から明らかなように、透明樹脂２Ｒの代わりに不透明な樹脂を使用した場合、十分な全光線透過率を達成することはできなかった。
【符号の説明】
【０１１９】
１…透明基材、２…透明磁性層、２Ｍ…磁性体粒子、２Ｒ…透明樹脂、１０…透明磁性シート、２０…印刷層、１００…印刷物。
【図１】
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【図２】
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