(57)【要約】【課題】表面の耐傷性に優れるフィルムミラーを提供する。【解決手段】樹脂基材および光反射層と、最も光入射側に位置するハードコート層と、前記ハードコート層に隣接して設けられるハードコート隣接層と、を有し、前記ハードコート隣接層のヤング率が０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である、フィルムミラー。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材および光反射層と、
最も光入射側に位置するハードコート層と、
前記ハードコート層に隣接して設けられるハードコート隣接層と、
を有し、
前記ハードコート隣接層のヤング率が０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である、フィルムミラー。
【請求項２】
前記ハードコート隣接層のヤング率が０．１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である、請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記ハードコート層の動摩擦係数が０．４以下である、請求項１または２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記ハードコート層の動摩擦係数が０．２５以下である、請求項３に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記光反射層が銀からなる、請求項１〜４のいずれか１項にフィルムミラー。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラーと、
支持体と、
を有する、太陽熱発電用反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーおよび太陽熱発電用反射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展し、将来の人類の生存すら脅かされる可能性がでてきている。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。したがって近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。
【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして、安定しておりかつ量の多い自然エネルギーの一つとして、太陽エネルギーが考えられる。特に世界のサンベルト地帯と呼ばれている赤道近くには、広大な砂漠が広がっており、ここに降りそそぐ太陽エネルギーは正に無尽蔵と言える。これに関して、米国南西部に拡がる砂漠のわずか数％を使えば、実に７，０００ＧＷものエネルギーを得ることが可能であると考えられている。また、アラビア半島、北アフリカの砂漠のわずか数％を使えば、全人類の使うエネルギーを全て賄うことができるとも考えられている。
【０００４】
このように、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを社会活動の中で活用するためには、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、および（２）太陽エネルギーの貯蔵および移送が困難であることが、問題となると考えられる。これに対して、太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な集光装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
当該集光装置は太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、従来から、当該集光装置にはガラス製ミラーが用いられてきた。ガラス製ミラーは環境に対する耐久性が高い反面、輸送時に破損するという問題や、重量が重いことからミラーを設置する架台の強度を持たせるということを行うために、プラントの建設費がかさむといった問題があった。
【０００６】
一方、樹脂製反射シート（フィルムミラー）は液晶ディスプレイのバックライトユニットの反射シートとして実用化されており、太陽光反射ミラーに適用すれば、ガラス製ミラーの欠点である外圧による破損や質量の重さといった問題が解消できる。
【０００７】
特許文献１には、樹脂基材と、その上に銀反射層、および該銀反射層よりも光源側の最外側にメタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層を有し、該メタロキサン骨格を有する材料よりなる最表層の水の接触角および動摩擦係数が特定の範囲にあるフィルムミラーが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２０１１／０９６３０９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
フィルムミラーは屋外、特に広大な砂漠に設置されるため、頻繁に砂嵐等に晒されることとなる。そのため、砂のような微粒子が高速で衝突することにより、フィルムミラーの表面は傷つけられる。そして、その傷により、反射光が散乱することになり、正反射率が低下し、集光効率が低下するという問題がある。この点、特許文献１に記載のフィルムミラーでは、耐傷性が十分ではなく、屋外設置後後正反射率が低下する現象が見られた。そこで、表面の耐傷性のより一層の向上が求められていた。
【００１０】
そこで、本発明は、表面の耐傷性に優れるフィルムミラーを提供することを目的とする。
【００１１】
また、本発明は、該フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は鋭意研究を行った。その結果、ヤング率を特定の範囲としたハードコート隣接層を、光入射側の最外層にあるハードコート層に隣接するようにして設けたフィルムミラーにより、上記課題が解決することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１３】
本発明の上記課題は、以下の手段により達成される。
【００１４】
１．樹脂基材および光反射層と、最も光入射側に位置するハードコート層と、前記ハードコート層に隣接して設けられるハードコート隣接層と、を有し、前記ハードコート隣接層のヤング率が０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である、フィルムミラー。
【００１５】
２．前記ハードコート隣接層のヤング率が０．１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である、１．に記載のフィルムミラー。
【００１６】
３．前記ハードコート層の動摩擦係数が０．４以下である、１．または２．に記載のフィルムミラー。
【００１７】
４．前記ハードコート層の動摩擦係数が０．２５以下である、３．に記載のフィルムミラー。
【００１８】
５．前記光反射層が銀からなる、１．〜４．のいずれか１つに記載のフィルムミラー。
【００１９】
６．１．〜５．のいずれか１つに記載のフィルムミラーと、支持体と、を有する、太陽熱発電用反射装置。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、表面の耐傷性に優れるフィルムミラーが提供される。また、本発明によれば、該フィルムミラーを用いた太陽熱発電用反射装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明のフィルムミラーの構成の一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明は、樹脂基材および光反射層と、最も光入射側に位置するハードコート層と、前記ハードコート層に隣接して設けられるハードコート隣接層と、を有し、前記ハードコート隣接層のヤング率が０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である、フィルムミラーである。かような構成を有するフィルムミラーは、表面の耐傷性（サンドブラスト耐性）に優れる。
【００２３】
フィルムミラーは屋外、特に広大な砂漠に設置されるため、頻繁に砂嵐等に晒されることとなる。そのため、フィルムミラーの表面は、砂のような細かい粒子が高速で衝突することによって傷つけられる。そして、その傷により、反射光が散乱することになり、正反射率が低下し、集光効率が低下するという問題がある。
【００２４】
このような問題に対し、本発明のフィルムミラーは、光入射側の最表面に設けられるハードコート層に隣接して、ヤング率が０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下であるハードコート隣接層を備える。かような構成を有することにより、細かい粒子が高速で衝突することによるフィルムミラー表面の傷つきが軽減され、耐傷性（サンドブラスト耐性）が向上する。耐傷性（サンドブラスト耐性）が向上するメカニズムは、柔らかいハードコート隣接層が、砂等の粒子の衝突の衝撃を吸収するためであると考えられる。また、これにより、正反射率の低下を抑制でき、集光効率の低下を防止することができる。
【００２５】
以下、本発明の好ましい実施形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施形態のみには限定されない。
【００２６】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味し、「重量」と「質量」、「重量％」と「質量％」および「重量部」と「質量部」は同義語として扱う。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で測定する。
【００２７】
［フィルムミラーの構成］
本発明のフィルムミラーの全体の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００２８】
図１は、本発明の一実施形態に係るフィルムミラーの断面を模式的に表した図である。
図１に示すフィルムミラー１０は、光入射側からハードコート層１１、ハードコート隣接層１２、樹脂基材１３、光反射層１４、樹脂コート層（腐食防止層）１５、粘着層１６の順に積層されている。
【００２９】
本発明に係るフィルムミラー全体の厚さは、撓み防止、正反射率、取り扱い性等の観点から８０〜３００μｍが好ましく、８０〜２００μｍがより好ましく、８０〜１７０μｍがさらに好ましい。また、フィルムミラーの光入射側の最表面層、すなわちハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが、反射光の散乱を防止でき集光効率を高めるという観点から好ましい。
【００３０】
以下、本発明のフィルムミラーの構成について、詳細に説明する。
【００３１】
［樹脂基材］
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂を含むフィルムを用いることができる。樹脂の例としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステル等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等を挙げることができる。これら樹脂は、１種でもよいしまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、樹脂基材は単層構造でもよいし２層以上の多層構造であってもよい。多層構造の場合、それぞれの層に含まれる樹脂は、同じでもよいし異なっていてもよい。該樹脂基材は、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。また、該樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
【００３２】
樹脂基材が、光反射層よりも光入射側から遠い位置にある場合、紫外線が樹脂基材に到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある層等に紫外線吸収剤を含有させたりする場合は、紫外線が樹脂基材により到達しにくい。したがって、樹脂基材は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。このような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【００３３】
無論、該樹脂基材は紫外線吸収剤を含んでいてもよい。このような紫外線吸収剤としては、特に制限されず、有機系として、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、サリチル酸フェニル系、トリアジン系、ベンゾエート系等の紫外線吸収剤が挙げられ、また無機系としては、例えば、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄等が挙げられる。なお、紫外線吸収剤を多量に含有させた際にブリードアウトしてしまうという問題を低減するためには、分子量の１０００以上の高分子の紫外線吸収剤を用いることが好ましい。好ましくは、分子量１０００以上３０００以下である。該紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。紫外線吸収剤の具体的な例としては、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００３８」〜「００４２」に記載の化合物を用いることができる。
【００３４】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類および目的等に応じて適宜選択することができる。例えば、一般的には１０〜２５０μｍの範囲であり、好ましくは２０〜２００μｍである。
【００３５】
［光反射層］
本発明に係る光反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。光反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。光反射層は、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）からなる元素群の中から選ばれる少なくとも１種の元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性等の観点からアルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）を主成分としていることが好ましく、アルミニウムまたは銀からなることがさらに好ましく、銀からなることが特に好ましい。
【００３６】
このような金属の薄膜を２層以上形成するようにしてもよい。また、反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層をこの順に設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【００３７】
例えば、本発明に係る光反射層の形成方法としては、湿式法および乾式法のどちらも使用することができる。
【００３８】
湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応等がある。
【００３９】
一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等がある。本発明のフィルムミラーの製造方法としては、光反射層を蒸着法により形成することが好ましい。
【００４０】
乾式法を使用する場合、光反射層は樹脂フィルム上に形成することが好ましい。該樹脂フィルムの例としては、例えば、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等の樹脂を含むフィルムを挙げることができる。これら樹脂は、１種でもよいしまたは２種以上組み合わせて用いてもよい。また、樹脂フィルムは単層構造でもよいし２層以上の多層構造であってもよい。多層構造の場合、それぞれの層に含まれる樹脂は、同じでもよいし異なっていてもよい。該樹脂フィルムは、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。当該樹脂フィルムは、本発明のフィルムミラーを構成する樹脂基材であってもよい。すなわち、上記で説明した樹脂基材上に、乾式法により光反射層を形成し、本発明に係る樹脂基材および光反射層としてもよい。
【００４１】
光反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、３０〜１５０ｎｍがより好ましい。
【００４２】
光反射層が銀からなる場合、光反射層を形成する際に、配位子が気化・脱離しうる銀錯体化合物を含有する塗布膜を加熱焼成することにより、光反射層を形成するようにしてもよい。
【００４３】
「気化・脱離しうる配位子を有する銀錯体化合物」とは、溶液中では銀が安定に溶解するための配位子を有するが、溶媒を除去し、加熱焼成することによって、配位子が熱分解し、ＣＯ２や低分子量のアミン化合物となり、気化・脱離し、金属銀のみが残存することのできる銀錯体化合物のことをいう。
【００４４】
このような錯体の例は、特表２００９−５３５６６１号公報、特表２０１０−５００４７５号公報等の各公報等に記載されている。また、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００８０」〜「０１００」に記載されている製造方法により得られる錯体を用いることができる。
【００４５】
銀錯体化合物を用いる場合、該銀錯体化合物は銀コーティング液組成物に含有され、これを塗布することにより樹脂フィルム上に本発明に係る錯体を含有する塗布膜が形成される。すなわち、銀錯体化合物を用いて樹脂フィルム上に塗布膜を形成した後に、塗布膜を８０〜２５０℃の範囲内の温度において加熱焼成することにより銀反射層を形成することが好ましい。より好ましくは１００〜２２０℃の範囲内、さらに好ましくは１２０〜２００℃の範囲内である。加熱焼成手段としては、特に制限は無く、一般的に用いられる加熱手段はいかなるものでも適用できる。
【００４６】
光反射層は、樹脂基材に対して、光入射側にあってもよいし、光入射側とは反対の側にあってもよい。
【００４７】
［ハードコート層］
ハードコート層は、フィルムミラー表面の傷つきや汚れの付着を防止する目的で、本発明のフィルムミラーにおいては、光入射側の最表面に設けられる。なお、ハードコート層の厚みは、十分な耐傷性を得つつ、フィルムミラーにそりが発生するのを防止するという観点から、０．０５〜１０μｍであることが好ましく、１〜１０μｍであることがより好ましい。
【００４８】
ハードコート層を形成する材料としては、透明性、耐候性、硬度、機械的強度等が得られるものであれば、特に限定されるものではない。具体的には、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン樹脂等の樹脂材料；酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン、ポリシラザン等の無機材料などで構成することができる。特に、硬度と耐久性などの点で、シリコーン樹脂やアクリル樹脂が好ましい。さらに、硬化性、可撓性および生産性の点で、活性エネルギー線硬化型のアクリル樹脂、または熱硬化型のアクリル樹脂からなるものが好ましい。
【００４９】
活性エネルギー線硬化型のアクリル樹脂または熱硬化型のアクリル樹脂とは、重合硬化成分として多官能アクリレート、アクリルオリゴマー、または反応性希釈剤を含む組成物である。その他に必要に応じて光開始剤、光増感剤、熱重合開始剤あるいは改質剤等を含有しているものを用いてもよい。
【００５０】
アクリルオリゴマーとは、アクリル系樹脂骨格に反応性のアクリル基が結合されたものを始めとして、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレートなどであり、また、メラミンやイソシアヌール酸などの剛直な骨格にアクリル基を結合したものなども用いられ得る。
【００５１】
また、反応性希釈剤とは、塗工剤の媒体として塗工工程での溶剤の機能を担うと共に、それ自体が一官能性あるいは多官能性のアクリルオリゴマーと反応する基を有し、塗膜の共重合成分となるものである。
【００５２】
市販されている多官能アクリル系硬化塗料としては、三菱レイヨン株式会社製；（商品名“ダイヤビーム（登録商標）”シリーズなど）、長瀬産業株式会社製；（商品名“デナコール（登録商標）”シリーズなど）、新中村化学工業株式会社製；（商品名“ＮＫエステル”シリーズなど）、ＤＩＣ株式会社製；（商品名“ＵＮＩＤＩＣ（登録商標）”シリーズなど）、東亞合成株式会社；（商品名“アロニックス（登録商標）”シリーズなど）、日油株式会社製；（商品名“ブレンマー（登録商標）”シリーズなど）、日本化薬株式会社；（商品名“ＫＡＹＡＲＡＤ（登録商標）”シリーズなど）、共栄社化学株式会社；（商品名“ライトエステル”シリーズ、“ライトアクリレート”シリーズなど）などの製品を利用することができる。
【００５３】
さらに具体的には、例えば、電子線や紫外線の照射により硬化する樹脂や熱硬化性の樹脂等を使用でき、特にアルコキシシラン系化合物の部分加水分解オリゴマーからなる熱硬化型シリコーン系ハードコート、熱硬化型のポリシロキサン樹脂からなるハードコート、不飽和基を有するアクリル系化合物からなる紫外線硬化型アクリル系ハードコート、熱硬化型無機材料であることが好ましい。また、ハードコート層に用いることができる材料として、水性コロイダルシリカ含有アクリル樹脂（特開２００５−６６８２４号公報）、ポリウレタン系樹脂組成物（特開２００５−１１０９１８号公報）、水性シリコーン化合物をバインダーとして用いた樹脂膜（特開２００４−１４２１６１号公報）、酸化チタン等の光触媒性酸化物含有シリカ膜もしくはアルミナ、アスペクト比の高い酸化チタンもしくは酸化ニオブなどの光触媒膜（特開２００９−６２２１６号公報）、光触媒含有フッ素樹脂コーティング材料（株式会社ピアレックス・テクノロジーズ製）、有機／無機ポリシラザン膜、有機／無機ポリシラザンに親水化促進剤（ＡＺエレクトロニクスマテリアルズ株式会社製）を用いた膜等も挙げることができる。
【００５４】
ハードコート層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤等の安定剤、界面活性剤、レべリング剤、および帯電防止剤等を用いることができる。
【００５５】
その他、具体的なハードコート層に用いられる材料やハードコート層の形成方法については、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「０１２９」〜「０１６８」に記載の材料や形成方法を適宜採用することができる。
【００５６】
ハードコート層の動摩擦係数は、０．４以下であることが好ましく、０．２５以下であることがより好ましい。この範囲であれば、フィルムミラー表面の耐傷性（サンドブラスト耐性）がさらに向上する。該動摩擦係数は、ハードコート層の形成材料、粒子の添加、界面活性剤の添加等を制御することにより制御することができる。また、該動摩擦係数は、実施例に記載の方法により測定することができる。
【００５７】
また、ハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが、反射光の散乱を防止でき集光効率を高めるという観点から好ましい。なお、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：１９８２に基づく測定方法により求めることができる。
【００５８】
［ハードコート隣接層］
本発明のフィルムミラーは、ハードコート層の光入射側とは反対側に、ハードコート層に隣接するハードコート隣接層を有する。そして、該ハードコート隣接層のヤング率は、０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である。かようなヤング率を有するハードコート隣接層を設けることにより、本発明のフィルムミラーは耐傷性（サンドブラスト耐性）に優れたものとなる。
【００５９】
ハードコート隣接層を構成する材料は、特に制限されないが、光透過性を有する樹脂材料が挙げられる。
【００６０】
ハードコート隣接層に用いられる樹脂材料は、特に制限されないが、薄膜を形成した際に透明性を維持しうる、従来公知の種々の合成樹脂を用いることができる。例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類もしくはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、（メタ）アクリル樹脂、ポリアリレート、またはシクロオレフィン樹脂等が挙げられる。これら樹脂材料は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。また、これら樹脂材料は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の例としては、日本合成化学工業社製；ポリエスター（登録商標）シリーズ（ＬＰ−０３３、ＬＰ−０３５、ＬＰ−０５０など）、三菱レイヨン株式会社製；ＥＭＢ４５７、ＪＳＲ株式会社製；アートン（登録商標）、三井化学株式会社製；アペルなどの製品を利用することができる。これら樹脂材料の中でも、好ましくは、ポリエステル、アクリル樹脂が挙げられる。ハードコート隣接層中の樹脂材料の含有量はハードコート隣接層全体の質量に対して６０〜１００質量％が好ましい。
【００６１】
さらに、ハードコート隣接層は、フッ素系表面改質剤を含んでもよい。フッ素系表面改質剤を含むことにより、ハードコート層の動摩擦係数を制御できるという利点が得られる。フッ素系表面改質剤は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、メガファック（登録商標）ＲＳ−７６Ｅ、Ｆ−５５２、Ｆ−５５４（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。これらフッ素系表面改質剤は、単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。フッ素系表面改質剤の添加量は、特に制限されないが、ハードコート隣接層に含まれる樹脂材料に対して、０．０３〜１質量％であることが好ましい。
【００６２】
ハードコート隣接層は、微粒子を含んでいてもよい。ハードコート隣接層に含まれる微粒子の例としては、金、銀、ニッケル、銅、鉛、アルミニウム、鉄粉、酸化鉄、砂鉄等の金属粉；酸化アルミニウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化ケイ素（シリカ）、ケイ酸塩、窒化アルミニウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、水酸化アルミニウム、水酸化マグネシウム、酸化窒化アルミニウムとの金属化合物粒子；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等の樹脂からなる粒子；等が挙げられる。これら微粒子は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。中でも、シリカ、アクリル粒子が好ましい。
【００６３】
ハードコート隣接層には、紫外線による劣化を防止するために、紫外線吸収剤を含有させてもよい。含有される紫外線吸収剤には特に制限はないが、例えばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機系の紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系の紫外線遮断剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等などが挙げられるが、特に有機系の紫外線吸収剤が好ましい。
【００６４】
また、ハードコート隣接層には、劣化を防止するために、酸化防止剤を含有させてもよい。酸化防止剤としては、特に制限されないが、フェノール系酸化防止剤、ヒンダードアミン系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤などが挙げられる。より具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００４８」〜「００５２」に記載の化合物が使用できる。
【００６５】
また、該酸化防止剤と光安定剤とを併用してもよい。光安定剤としてはニッケル系紫外線安定剤が挙げられ、より具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００５３」に記載の化合物が使用できる。
【００６６】
ハードコート隣接層に帯電防止剤を加えて、帯電防止性能を付与することも可能である。また、ハードコート隣接層にリン系難燃剤を加えてもよい。
【００６７】
さらに、ハードコート隣接層中には、本発明の効果が損なわれない範囲で、界面活性剤、レべリング剤、および帯電防止剤等の添加剤を添加することができる。
【００６８】
ハードコート隣接層の形成方法は特に制限されないが、例えば、有機溶媒中で、上記の樹脂材料、微粒子および必要に応じて他の成分を混合してハードコート隣接層形成用塗布液を調製した後、該塗布液を塗布し乾燥する方法が挙げられる。塗布の具体的な方法としては、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート法、スピンコート法、バーコート法、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等の方法を用いることができる。
【００６９】
塗布液に用いられる有機溶媒としては、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；ヘキサン、シクロヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類等が挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合しても用いることができる。
【００７０】
このような塗布法でハードコート隣接層を形成することによって、ハードコート隣接層の平滑性を高めることができる。具体的には、塗布法で形成したハードコート隣接層の中心線平均粗さ（Ｒａ）は、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下が好ましい。換言すれば、中心線平均粗さがこの値を満たせば、溶融製膜によって製造されたハードコート隣接層ではなく、そのハードコート隣接層が塗布によって設けられたものとみなすことができる。
【００７１】
ハードコート隣接層の厚さ（乾燥膜厚）は、特に制限されないが、５〜１５０μｍが好ましく、１０〜１００μｍがより好ましく、２０〜８０μｍがさらに好ましい。このような厚みであれば、十分な透光性を確保することができ、また、製膜時に乾燥により溶剤を十分に蒸発することができ、生産性の観点から好ましい。
【００７２】
ハードコート隣接層のヤング率は、０．０１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下である。ヤング率が０．０１ＧＰａより小さい、または１．０ＧＰａより大きい場合、フィルムミラー表面の耐傷性（サンドブラスト耐性）が低下する。該ヤング率は、０．１ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下であることが好ましく、０．４ＧＰａ以上１．０ＧＰａ以下であることがより好ましい
ハードコート隣接層のヤング率は、樹脂材料の種類や、界面活性剤の種類および添加量などを制御すること、並びに前記の微粒子の種類および添加量を制御することにより制御することができる。なお、ハードコート隣接層のヤング率は、実施例に記載の方法により測定することができる。
【００７３】
本発明のフィルムミラーは、必要に応じて、接着層、樹脂コート層、ガスバリア層、アンカー層、粘着層、剥離層等の各層を有していてもよい。以下、これらの層について説明する。
【００７４】
［接着層］
接着層は、層同士の接着性を高める機能があるものであれば特に限定はない。接着であっても粘着であってもよい。好ましくは、ハードコート層と樹脂コート層とを接着させる層である。接着層は、層同士を密着する密着性、光反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
【００７５】
接着層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。接着層の厚さは、密着性、平滑性、反射材の反射率等の観点から、１〜１０μｍが好ましく、３〜８μｍがより好ましい。
【００７６】
接着層が樹脂からなる場合、材料としては特に制限はなく、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂等が使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにアクリル樹脂にイソシアネートを混合させるような、イソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。接着層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００７７】
また、接着層が金属酸化物からなる場合、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタン等、各種真空製膜法により製膜することができる。例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【００７８】
［樹脂コート層（腐食防止層）］
本発明のフィルムミラーは、光反射層に隣接するように樹脂コート層（腐食防止層）を有していてもよい。樹脂コート層が光反射層に隣接している場合、樹脂コート層が光反射層の腐食を防止するように、腐食防止剤を含有していることが好ましい。
【００７９】
樹脂コート層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。樹脂コート層の厚さは、好ましくは１〜１０μｍ、より好ましくは２〜８μｍである。
【００８０】
樹脂コート層のバインダーとしては、例えば、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、またはアクリル樹脂等を挙げることができる。中でも、アクリル樹脂が好ましい。さらに、樹脂コート層は、２．４−トリレンジイソシアネート等の硬化剤を含んでもよい。
【００８１】
腐食防止剤としては、光反射層を構成する金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属がそれをとり囲む環境物質によって、化学的もしくは電気化学的に浸食されるかまたは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３：２００４参照）。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００８２】
金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾール等トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物の少なくとも１種またはこれらの２種以上の混合物から選ばれることが好ましい。ベンゾトリアゾール等の化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。さらに具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００６３」〜「００７２」に記載の腐食防止剤を使用することができる。
【００８３】
［ガスバリア層］
銀反射層よりも光入射側にガスバリア層を設けてもよい。ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材および樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。
【００８４】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【００８５】
ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法等の方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理および／または紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。
【００８６】
無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。例えば、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）等の元素の酸化物であり、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム等である。これらのうち、好ましくは酸化ケイ素である。
【００８７】
無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。ゾル−ゲル法に用いられる化合物や詳細については、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「０１７４」〜「０１９１」に記載の化合物や方法を適宜採用することができる。
【００８８】
［アンカー層］
アンカー層は樹脂からなり、樹脂基材および光反射層、または光反射層の支持基材（樹脂フィルム）および光反射層を密着させるために設けられる層である。したがって、アンカー層は、樹脂基材（支持基材）と光反射層とを密着させる密着性、光反射層を真空蒸着法等で形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
【００８９】
アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、および平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂等の単独またはこれらの混合樹脂等が使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート等の硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００９０】
アンカー層の厚さは、好ましくは０．０１〜３μｍ、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果としてフィルムミラーの反射率を高めることが可能となる。
【００９１】
また、アンカー層には、上述の［樹脂コート層］の項に記載の腐食防止剤を含有させることができる。
【００９２】
アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９３】
［粘着層］
フィルムミラーの粘着層は、当該粘着層によってフィルムミラーを支持体に貼り付けて、太陽光発電用反射装置を形成するための層である。なお、フィルムミラーは粘着層の光入射側とは逆側に剥離層を有していてもよい。フィルムミラーが剥離層を有する場合、剥離層を粘着層から剥離した後、粘着層を介してフィルムミラーを支持体に貼り付けることができる。
【００９４】
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、アクリル樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。ラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行うのが経済性および生産性の点から好ましい。また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜１００μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【００９５】
［剥離層］
本発明のフィルムミラーは、粘着層の光入射側と逆側に剥離層を有していてもよい。例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有するフィルムミラーを剥離し、他の基材に貼り合わせて太陽光反射用ミラーを形成することができる。
【００９６】
剥離層としては、光反射層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルムもしくはシート、ポリカーボネートフィルムもしくはシート、ポリアリレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムもしくはシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムもしくはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルムもしくはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウム等の金属を金属蒸着などの表面加工を施したりした樹脂フィルムもしくはシートが用いられる。
【００９７】
剥離層の厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【００９８】
また、これらの剥離層をフィルムミラーと貼り合わせる前に凹部や凸部を設けてから貼り合せてもよく、貼り合せた後で凹部や凸部を有するように成形してもよく、貼り合わせと凹部や凸部を有するように成形することを同時にしてもよい。
【００９９】
［太陽熱発電用反射装置］
本発明の太陽熱発電用反射装置は、本発明のフィルムミラーと、自己支持性の支持体とを有し、粘着層を介してフィルムミラーが支持体に接合されている。すなわち、本発明は、本発明のフィルムミラーと、支持体と、を有する太陽熱発電用反射装置をも提供する。
【０１００】
自己支持性の支持体は、以下のＡおよびＢのいずれかの構成を有することが好ましい。
【０１０１】
Ａ：一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層とを有し、当該中間層は中空構造を有する層または樹脂材料から構成される層である。
【０１０２】
Ｂ：中空構造を有する樹脂材料層からなる。
【０１０３】
「自己支持性の支持体」という場合の、「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持体として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、支持体を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持体が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１０４】
構成Ａのように、自己支持性の支持体を、一対の金属平板と、当該金属平板の間に設けられた中間層からなる構成とし、中間層は中空構造を有する層か樹脂材料から構成される層とすることにより、金属平板による高い平面性を有する。それとともに、中間層が中空構造を有する層か、樹脂材料から構成される層とされていることにより、金属平板のみで支持体を構成する場合に比べて、支持体を大幅に軽量化することが可能となるとともに、比較的軽量な中間層により剛性を上げることができるため、軽量かつ自己支持性を有する支持体とすることが可能となる。中間層として樹脂材料から構成される層を用いる場合においても、中空構造を有する樹脂材料の層とすることでさらに軽量化が可能である。
【０１０５】
また、中間層を中空構造とした場合には、中間層が断熱材としての機能を果たすため、裏面の金属平板の温度変化がフィルムミラーへ伝わることを抑制し、結露の防止や、熱による劣化を抑制することが可能となる。
【０１０６】
構成Ａの表面層を形成する、金属平板としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板など熱伝導率の高い金属材料が好ましく用いることができる。本発明においては、特に、耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることが好ましい。
【０１０７】
構成Ａの中間層を中空構造とする場合、金属、無機材料（ガラス等）、樹脂等の素材を用いることができる。中空構造としては、発泡樹脂からなる気泡構造、金属、無機材料または樹脂材料からなる壁面を有する立体構造（ハニカム構造等）や、中空微粒子を添加した樹脂材料等を用いることができる。発泡樹脂の気泡構造は、樹脂材料中にガスを細かく分散させ、発泡状または多孔質形状に形成されたものを指し、材料としては、公知の発泡樹脂材料を使用可能であるが、ポリオレフィン樹脂、ポリウレタン、ポリエチレン、ポリスチレン等が好ましく用いられる。ハニカム構造とは、空間が側壁で囲まれた複数の小空間で構成される立体構造全般を表すものとする。中空構造を樹脂材料からなる壁面を有する立体構造とする場合、壁面を構成する樹脂材料としては、エチレン、プロピレン、ブテン、イソプレンペンテン、メチルペンテン等のオレフィン類の単独重合体あるいは共重合体であるポリオレフィン（例えば、ポリプロピレン、高密度ポリエチレン）、ポリアミド、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアクリロニトリル、エチレン−エチルアクリレート共重合体等のアクリル誘導体、ポリカーボネート、エチレン−酢酸ビニル共重合体等の酢酸ビニル共重合体、アイオノマー、エチレン−プロピレン−ジエン類等のターポリマー、ＡＢＳ樹脂、ポリオレフィンオキサイド、ポリアセタール等の熱可塑性樹脂が好ましく用いられる。なお、これらは１種を単独で用いても、２種以上を混合して用いてもよい。特に、熱可塑性樹脂のなかでもポリオレフィン樹脂またはポリオレフィン樹脂を主体にした樹脂、ポリプロピレン樹脂またはポリプロピレン樹脂を主体にした樹脂が、機械的強度および成形性のバランスに優れている点で好ましい。樹脂材料には、添加剤が含まれていてもよく、その添加剤としては、シリカ、マイカ、タルク、炭酸カルシウム、ガラス繊維、カーボン繊維等の無機フィラー、可塑剤、安定剤、着色剤、帯電防止剤、難燃剤、発泡剤等が挙げられる。
【０１０８】
また、中間層を樹脂プレートからなる層とすることも可能であり、この場合に中間層を構成する樹脂材料としては、前述のフィルムミラーの支持体を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができる。
【０１０９】
中間層は、基材の全ての領域に設けられる必要はなく、金属平板の平面性および支持体としての自己支持性を担保できる範囲であれば、一部の領域に設けられていてもよい。中間層を上述の立体構造とする場合、金属平板の面積に対して、９０〜９５％程度の領域に立体構造を設けることが好ましく、発泡樹脂を用いる場合は、３０〜４０％程度の領域に設けることが好ましい。
【０１１０】
上記の構成Ｂのように、自己支持性の支持体を、中空構造を有する樹脂材料からなる層とすることも可能である。支持体を樹脂のみからなる層とした場合、自己支持性を持たせる程度の剛性を得るために必要な厚さが大きくなり、結果として支持体の質量が重くなるが、樹脂基材に中空構造を持たせることにより、自己支持性を持たせながら軽量化が可能となる。中空構造を有する樹脂材料からなる層とする場合、表面層として平滑な面を有する樹脂シートを設け、中空構造を有する樹脂材料を中間層として用いることが、フィルムミラーの正反射率を高める観点で好ましい。この樹脂シートの材料としては、前述のフィルムミラーの樹脂基材を構成する材料と同様のものを好ましく用いることができ、中空構造を構成する樹脂材料としては、上述の発泡材料や、立体構造に用いられるものと同様の樹脂材料を好ましく用いることができる。
【０１１１】
〔保持部材〕
本発明に係る太陽熱発電用反射装置は、保持部材を有してもよい。保持部材は、フィルムミラーおよび支持体を、太陽を追尾可能な状態で保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、フィルムミラーおよび支持体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態でフィルムミラーおよび支持体を保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０１１２】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。また、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。また、下記操作において、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で行う。
【０１１３】
（実施例１）
樹脂基材として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ）を用いた。ハードコート隣接層形成用塗布液として、ポリエステル樹脂（ポリエスター  ＬＰ−０５０  Ｓ５０ＴＯ  日本合成化学工業株式会社製）を、固形分が２０質量％になるようにメチルエチルケトンで希釈した。得られた塗布液を、バーコート法にて上記ＰＥＴフィルムの一方の面にコーティングし、８０℃で１分間乾燥することにより、厚さ２５μｍのハードコート隣接層を形成した。
【０１１４】
次に、ハードコート層形成用塗布液として、アクリルシリコーン系熱硬化性樹脂のサーコートＢＰ−１６Ｎ（株式会社動研製、４５質量％のメタノール溶液）を１−プロパノールで固形分が３０質量％になるように塗布液を作製した。この塗布液を、バーコート法にてハードコート隣接層上にコーティングし、８０℃で１分間乾燥することにより、厚さ３μｍのハードコート層を形成した。
【０１１５】
次いで、樹脂基材のハードコート隣接層を形成した反対側の面に、真空蒸着法にて厚さ１００ｎｍのアルミニウムからなる光反射層を形成した。
【０１１６】
ポリエステル樹脂と２．４−トリレンジイソシアネートとを、質量比で１０：２に混合した混合物に対して、アルミニウムの腐食防止剤として２−メルカプトベンゾチアゾールを、上記混合物に対して１０質量％となるように添加し、さらにメチルエチルケトン中での固形分濃度が５質量％となるようにして、腐食防止層形成用塗布液を調製した。この塗布液を、グラビアコート法により光反射層の樹脂基材がある側とは反対側の光反射層上にコーティングし、８０℃で１分間乾燥することにより、厚さ３μｍの腐食防止層を形成した。
【０１１７】
このようにして、フィルムミラーを得た。
【０１１８】
（実施例２）
ハードコート隣接層に使用するポリエステル樹脂をポリエスター  ＬＰ−０３３  Ｓ３０ＴＭ（日本合成化学工業株式会社製）に変更した以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１１９】
（実施例３）
ハードコート隣接層に使用するポリエステル樹脂を、ポリエスター  ＬＰ−０３５  Ｓ５０ＴＯ（日本合成化学工業株式会社製）に変更し、さらに、ハードコート隣接層形成用塗布液に、ＤＩＣ株式会社製のＵＶ反応型表面改質剤であるメガファック（登録商標）ＲＳ−７６Ｅをポリエステル樹脂に対して０．０５質量％添加したこと以外は、実施例１と同様にしてフィルムミラーを作製した。
【０１２０】
（実施例４）
メガファック（登録商標）ＲＳ−７６Ｅの添加量をポリエステル樹脂に対して０．１質量％に変更した以外は、実施例３と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１２１】
（実施例５）
ハードコート隣接層に使用するポリエステル樹脂をポリエスターＬＰ−０３３  Ｓ３０ＴＭ（日本合成化学工業株式会社製）にし、ＤＩＣ株式会社製のＵＶ反応型表面改質剤であるメガファック（登録商標）ＲＳ−７６Ｅをポリエステル樹脂に対して０．１質量％添加し、さらにシリカ粒子（富士シリシア化学製  サイリシア４７０）をポリエステル樹脂に対して１質量％添加した以外は実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１２２】
（実施例６）
シリカ粒子を添加せず、ＲＳ−７６Ｅを０．１２５質量％添加し、さらに、光反射層を、真空蒸着法により形成した厚さ１００ｎｍの銀からなる層に替えたこと以外は、実施例５と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１２３】
（比較例１）
ハードコート隣接層形成用塗布液として、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂（ＥＭＢ４５７、三菱レイヨン株式会社製）、アクリルゴム（デルペットＳＲＢ２１５、旭化成ケミカルズ株式会社製）、および１，６−ヘキサメチレンジイソシアネートを、固形分比率で１７：３：２（質量比）となるように、さらに、シリカ粒子（富士シリシア化学製  サイリシア４７０）をＰＭＭＡ樹脂に対して３質量％添加し、固形分全体の濃度が２２質量％となるようにメチルエチルケトン中で上記成分を混合したものを調整した以外は実施例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１２４】
（比較例２）
ハードコート隣接層に使用するポリエステル樹脂をＬＰ−０１１  Ｓ５０ＴＯ（日本合成化学工業株式会社製）にした以外は、実施例１と同様にしてフィルムミラーを作製した。
【０１２５】
（比較例３）
シリカ粒子を添加せず、メガファック（登録商標）ＲＳ−７６Ｅの添加量をＰＭＭＡ樹脂に対して０．０７５質量％添加した以外は、比較例１と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１２６】
（比較例４）
メガファック（登録商標）ＲＳ−７６Ｅの添加量をＰＭＭＡ樹脂に対して０．１２５質量％添加した以外は、比較例３と同様にして、フィルムミラーを作製した。
【０１２７】
［評価］
得られたフィルムミラーは、以下の動摩擦係数測定、初期反射率測定、およびサンドブラスト後反射率測定により評価した。
【０１２８】
（動摩擦係数測定）
フィルムミラー試料を１０ｃｍ×２０ｃｍの大きさに切り出し、ＪＩＳ  Ｋ７１２５：１９９９に準拠して、ハードコート層の動摩擦係数を測定した。
【０１２９】
（初期反射率測定）
フィルムミラー試料を５ｃｍ×５ｃｍの大きさに切り出し、分光光度計Ｕ−４１００（株式会社島津製作所製）を使用し、反射面の法線に対して、入射角５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの平均反射率として測定した。
【０１３０】
（サンドブラスト後反射率測定）
フィルムミラー試料を５ｃｍ×５ｃｍに切り出し、サンドブラスト試験を行った。サンドブラスト試験では、フィルムミラー面に対して６０°の角度から、風速１０ｍ／ｓで＃１０００のガラスビーズを１５秒間噴射した。サンドブラスト試験後、初期反射率測定と同様にして、反射角５°の正反射率を測定した。
【０１３１】
（ハードコート隣接層のヤング率測定）
ハードコート隣接層のヤング率を測定するために、ハードコート隣接層の単膜試料を１ｃｍ×５ｃｍの短冊状に切り出した。この単膜試料を、株式会社エー・アンド・デイ製のテンシロン万能材料試験機、ＲＴＦ−２４３０を用いて、５０ｍｍ／分の速さで引っ張り試験を行い、ヤング率を求めた。
【０１３２】
実施例および比較例のフィルムミラーの構成、および評価結果を表１に示す。なお、表１中の「Δ反射率」は、サンドブラスト後反射率と初期反射率との差を示しており、０に近いほど、サンドブラスト後の正反射率の低下が少なく、耐傷性（サンドブラスト耐性）に優れていることを表す。
【０１３３】
【表１】
2017067797.tif 000002
【０１３４】
上記表１から明らかなように、本発明のフィルムミラーは、表面サンドブラスト後の正反射率の低下が少なく、表面のサンドブラスト耐性、すなわち耐傷性に優れている。
【符号の説明】
【０１３５】
１０    フィルムミラー、
１１    ハードコート層、
１２    ハードコート隣接層、
１３    樹脂基材、
１４    光反射層、
１５    樹脂コート層（腐食防止層）、
１６    粘着層。
【図１】
2017067797.tif 000003