(57)【要約】【課題】  汚染地盤上において設定された略正六角形状からなる小領域の面積が、ある程度大きい場合でも無駄な浄化作業を行わずに済む効率的な汚染地盤の浄化方法を提供すること。【解決手段】  地面上において一辺が一定の長さを有する略正六角形状からなる小領域を隙間なく四方八方に地面上に連続してハニカム状に複数設定する。各小領域Ｒ１等の中心位置Ｏ１等に貫入された注入用の試錐管３に気体を供給して地中に注入する。各小領域の略正六角形状の頂点に相当する６箇所の位置にそれぞれ貫入された吸引用の試錐管３を介して地中から気体を吸引用の試錐管３ごとに時間をずらして個別に吸引して回収する。回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を吸引用の試錐管３ごとに個別に計測する。計測した汚染物質の濃度に基づいて新たに貫入した試錐管３を介してオゾン含有ガスを供給し地中に注入する。【選択図】図２
2017080668.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
地面上において一辺が一定の長さを有する略正六角形状からなる小領域を隙間なく四方八方に地面上に連続してハニカム状に複数設定し、
前記各小領域の中心位置に、地中の所定の深度までそれぞれ貫入された注入用の試錐管に気体を供給して該注入用の試錐管を介して地中に前記気体を注入する気体注入工程と、
前記各小領域の前記略正六角形状の頂点に相当する６箇所の位置に、前記所定の深度と略同じ深度まで前記注入用の試錐管と略平行に地中にそれぞれ貫入された吸引用の試錐管を介して、前記気体注入工程により地中に注入された気体を前記吸引用の試錐管ごとに時間をずらして個別に吸引して地上に回収する第１の気体回収工程と、
前記第１の気体回収工程により回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を前記吸引用の試錐管ごとに個別に計測する第１の濃度計測工程と、
前記第１の濃度計測工程による計測で取得された濃度計測値が所定の値を超えたか否かを前記吸引用の試錐管ごとに個別に判定する濃度判定工程とを備えた汚染地盤の浄化方法であって、
前記濃度判定工程による判定の結果、前記複数の小領域のうち少なくとも１つの小領域において前記略正六角形状の６辺のうち特定の一辺の両端に相当する位置に貫入された２箇所の吸引用の試錐管から回収された気体中に含まれる汚染物質の濃度計測値が共に前記所定の値を超えたと判定された場合は、
前記特定の一辺の両端に相当する２箇所の位置と、これら２箇所の位置を含む前記小領域の中心に相当する位置とで形成される略正三角形状の中心に相当する位置に、前記注入用の試錐管と略平行に新たに注入用の試錐管を地中に貫入する試錐管貫入工程と、
前記試錐管貫入工程により新たに貫入された前記注入用の試錐管に、組成ガスとしてオゾンを含むオゾン含有ガスを供給して該注入用の試錐管を介して地中に前記オゾン含有ガスを注入するオゾン含有ガス注入工程とを備えたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【請求項２】
請求項１に記載の汚染地盤の浄化方法において、
前記オゾン含有ガス注入工程の実施を開始した後に、前記略正三角形状の頂点に相当する位置にそれぞれ貫入された前記各試錐管を介して地中に存在する気体を吸引して地上に回収する第２の気体回収工程と、
前記第２の気体回収工程により回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を計測する第２の濃度計測工程とをさらに備えたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の汚染地盤の浄化方法において、
前記注入用および吸引用の各試錐管の側面には、これらの試錐管の長手方向に沿う方向に互いに一定の間隔を隔てて複数の貫通孔が穿設され、
前記気体注入工程においては、前記注入用の試錐管の前記複数の貫通孔を択一的に選択して該選択した貫通孔を介して地中に気体を注入することで、気体を注入する地中の深度を択一的に変更して地中に気体を注入する一方、
前記第１の気体回収工程においては、前記吸引用の試錐管の前記複数の貫通孔のうち、前記気体注入工程により気体を注入する地中の深度に対応する位置の貫通孔を選択し、該選択した貫通孔を介して気体を吸引して地上に回収し、
前記第１の濃度計測工程においては、前記第１の気体回収工程により回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を前記選択した吸引用の試錐管の貫通孔ごとに個別に計測し、
前記濃度判定工程においては、前記第１の濃度計測工程による計測で取得された濃度計測値が前記所定の値を超えたか否かを、前記選択した吸引用の試錐管の貫通孔ごとに個別に判定するようにしたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【請求項４】
請求項３に記載の汚染地盤の浄化方法において、
前記気体注入工程および前記第１の気体回収工程においては、前記各試錐管内に挿入用具を挿入するとともに前記各試錐管に対する前記挿入用具の相対位置を適宜設定することで前記各試錐管の前記複数の貫通孔のうち何れかの貫通孔を選択するようにし、
前記挿入用具は、その長手方向に互いに所定の間隔を隔てて配設され拡径可能な弾性材料からなる複数の膨張部材と、地中に貫入された前記各試錐管内に前記挿入用具が挿入されたとき前記各試錐管内と地上とを連通する連通路とを備え、
前記複数の膨張部材のうち隣り合う膨張部材間に前記選択された貫通孔を位置付けるように前記挿入用具を前記試錐管内に挿入した状態で前記各膨張部材を拡径させることで、前記選択された貫通孔と前記各膨張部材間における前記試錐管内と前記連通路とが連通するようにしたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【請求項５】
請求項３または請求項４に記載の汚染地盤の浄化方法において、
前記試錐管貫入工程においては、新たな注入用の試錐管を地中に貫入する深度を、前記濃度判定工程の実施により判定された前記吸引用の試錐管の貫通孔ごとの判定結果に基づいて設定するようにしたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のうち何れか一つに記載の汚染地盤の浄化方法において、
前記気体注入工程においては、前記複数の小領域の中心位置にそれぞれ貫入された前記注入用の試錐管のうち、特定の２つまたは３つの小領域にそれぞれ貫入された試錐管のみに前記気体を同時に供給してこれらの試錐管を介して地中に前記気体を同時に注入するようにし、
前記特定の２つまたは３つの小領域は、間に挟んだ１つもしくは２つの小領域にそれぞれ接する２つの小領域、または、１つの小領域のみを囲繞し互いに接し合うことなく隣接する３つの小領域であり、
前記第１の気体回収工程においては、前記特定の２つまたは３つの小領域における前記略正六角形状の頂点に相当する位置にそれぞれ貫入された前記吸引用の各試錐管を介して、前記気体注入工程により地中に注入された前記気体を吸引して地上に回収するようにしたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【請求項７】
請求項１ないし請求項６のうち何れか一つに記載の汚染地盤の浄化方法において、
前記オゾン含有ガス注入工程においては、前記注入用の試錐管に前記オゾン含有ガスと高温の水蒸気とを供給して該注入用の試錐管を介して地中に前記オゾン含有ガスと前記水蒸気とを注入するようにしたことを特徴とする汚染地盤の浄化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、汚染地盤の浄化方法に関し、特に、汚染された地盤の汚染状況を調査した結果に基づいて、汚染領域の地盤に貫入された試錐管を介して汚染領域の地中に、組成ガスとしてオゾンを含むオゾン含有ガスを注入するようにした汚染地盤の浄化方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１に示されている従来の汚染地盤の浄化方法においては、汚染された地盤の地面上に平面形状が正六角形状の領域を設定し、該正六角形の各頂点の位置に吸引管を貫入する一方、正六角形の中心位置に加熱流体供給管を貫入している。この加熱流体供給管を介して地中に高温の高圧水を注入し、該高圧水の熱量により地中の汚染物質である揮発性化合物を気化させ、この気化させた揮発性化合物を前記吸引管を介して地上に回収するようにしている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許４４１３１９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、従来の汚染地盤の浄化方法では、地面上に設定された正六角形状の領域ごとに浄化作業を行うようにしているため、設定された正六角形状の領域の面積が大きい場合には、その正六角形状の領域の全域に亘って汚染物質が分布していない虞があり、そのような場合は、汚染物質が分布していない領域への高圧水の注入が無駄になってしまう。逆に、設定された正六角形状の領域の面積が小さい場合は、多数の正六角形状の領域を設定して各正六角形の各頂点および中心位置にそれぞれ吸引管および加熱流体供給管を貫入する必要があり、その分、貫入する吸引管および加熱流体供給管の本数が多くなるとともに浄化作業も煩雑になるという問題があった。
【０００５】
本発明はこのような問題を解消するためになされたもので、設定された略正六角形状からなる小領域の面積が、ある程度大きい場合でも無駄な浄化作業を行わずに済む効率的な汚染地盤の浄化方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この目的を達成するために、本発明に係る汚染地盤の浄化方法は、地面上において一辺が一定の長さを有する略正六角形状からなる小領域を隙間なく四方八方に地面上に連続してハニカム状に複数設定し、前記各小領域の中心位置に、地中の所定の深度までそれぞれ貫入された注入用の試錐管に気体を供給して該注入用の試錐管を介して地中に前記気体を注入する気体注入工程と、前記各小領域の前記略正六角形状の頂点に相当する６箇所の位置に、前記所定の深度と略同じ深度まで前記注入用の試錐管と略平行に地中にそれぞれ貫入された吸引用の試錐管を介して、前記気体注入工程により地中に注入された気体を前記吸引用の試錐管ごとに時間をずらして個別に吸引して地上に回収する第１の気体回収工程と、前記第１の気体回収工程により回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を前記吸引用の試錐管ごとに個別に計測する第１の濃度計測工程と、前記第１の濃度計測工程による計測で取得された濃度計測値が所定の値を超えたか否かを前記吸引用の試錐管ごとに個別に判定する濃度判定工程とを備えた汚染地盤の浄化方法であって、前記濃度判定工程による判定の結果、前記複数の小領域のうち少なくとも１つの小領域において前記略正六角形状の６辺のうち特定の一辺の両端に相当する位置に貫入された２箇所の吸引用の試錐管から回収された気体中に含まれる汚染物質の濃度計測値が共に前記所定の値を超えたと判定された場合は、前記特定の一辺の両端に相当する２箇所の位置と、これら２箇所の位置を含む前記小領域の中心に相当する位置とで形成される略正三角形状の中心に相当する位置に、前記注入用の試錐管と略平行に新たに注入用の試錐管を地中に貫入する試錐管貫入工程と、前記試錐管貫入工程により新たに貫入された前記注入用の試錐管に、組成ガスとしてオゾンを含むオゾン含有ガスを供給して該注入用の試錐管を介して地中に前記オゾン含有ガスを注入するオゾン含有ガス注入工程とを備えたことを特徴とするものである。
【０００７】
請求項２に記載した発明に係る汚染地盤の浄化方法は、請求項１に記載の汚染地盤の浄化方法において、前記オゾン含有ガス注入工程の実施を開始した後に、前記略正三角形状の頂点に相当する位置にそれぞれ貫入された前記各試錐管を介して地中に存在する気体を吸引して地上に回収する第２の気体回収工程と、前記第２の気体回収工程により回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を計測する第２の濃度計測工程とをさらに備えたことを特徴とするものである。
【０００８】
請求項３に記載した発明に係る汚染地盤の浄化方法は、請求項１または請求項２に記載の汚染地盤の浄化方法において、前記注入用および吸引用の各試錐管の側面には、これらの試錐管の長手方向に沿う方向に互いに一定の間隔を隔てて複数の貫通孔が穿設され、前記気体注入工程においては、前記注入用の試錐管の前記複数の貫通孔を択一的に選択して該選択した貫通孔を介して地中に気体を注入することで、気体を注入する地中の深度を択一的に変更して地中に気体を注入する一方、前記第１の気体回収工程においては、前記吸引用の試錐管の前記複数の貫通孔のうち、前記気体注入工程により気体を注入する地中の深度に対応する位置の貫通孔を選択し、該選択した貫通孔を介して気体を吸引して地上に回収し、前記第１の濃度計測工程においては、前記第１の気体回収工程により回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を前記選択した吸引用の試錐管の貫通孔ごとに個別に計測し、前記濃度判定工程においては、前記第１の濃度計測工程による計測で取得された濃度計測値が前記所定の値を超えたか否かを、前記選択した吸引用の試錐管の貫通孔ごとに個別に判定するようにしたことを特徴とするものである。
【０００９】
請求項４に記載した発明に係る汚染地盤の浄化方法は、請求項３に記載の汚染地盤の浄化方法において、前記気体注入工程および前記第１の気体回収工程においては、前記各試錐管内に挿入用具を挿入するとともに前記各試錐管に対する前記挿入用具の相対位置を適宜設定することで前記各試錐管の前記複数の貫通孔のうち何れかの貫通孔を選択するようにし、前記挿入用具は、その長手方向に互いに所定の間隔を隔てて配設され拡径可能な弾性材料からなる複数の膨張部材と、地中に貫入された前記各試錐管内に前記挿入用具が挿入されたとき前記各試錐管内と地上とを連通する連通路とを備え、前記複数の膨張部材のうち隣り合う膨張部材間に前記選択された貫通孔を位置付けるように前記挿入用具を前記試錐管内に挿入した状態で前記各膨張部材を拡径させることで、前記選択された貫通孔と前記各膨張部材間における前記試錐管内と前記連通路とが連通するようにしたことを特徴とするものである。
【００１０】
請求項５に記載した発明に係る汚染地盤の浄化方法は、請求項３または請求項４に記載の汚染地盤の浄化方法において、前記試錐管貫入工程においては、新たな注入用の試錐管を地中に貫入する深度を、前記濃度判定工程の実施により判定された前記吸引用の試錐管の貫通孔ごとの判定結果に基づいて設定するようにしたことを特徴とするものである。
請求項６に記載した発明に係る汚染地盤の浄化方法は、請求項１ないし請求項５のうち何れか一つに記載の汚染地盤の浄化方法において、前記気体注入工程においては、前記複数の小領域の中心位置にそれぞれ貫入された前記注入用の試錐管のうち、特定の２つまたは３つの小領域にそれぞれ貫入された試錐管のみに前記気体を同時に供給してこれらの試錐管を介して地中に前記気体を同時に注入するようにし、前記特定の２つまたは３つの小領域は、間に挟んだ１つもしくは２つの小領域にそれぞれ接する２つの小領域、または、１つの小領域のみを囲繞し互いに接し合うことなく隣接する３つの小領域であり、前記第１の気体回収工程においては、前記特定の２つまたは３つの小領域における前記略正六角形状の頂点に相当する位置にそれぞれ貫入された前記吸引用の各試錐管を介して、前記気体注入工程により地中に注入された前記気体を吸引して地上に回収するようにしたことを特徴とするものである。
【００１１】
請求項７に記載した発明に係る汚染地盤の浄化方法は、請求項１ないし請求項６のうち何れか一つに記載の汚染地盤の浄化方法において、前記オゾン含有ガス注入工程においては、前記注入用の試錐管に前記オゾン含有ガスと高温の水蒸気とを供給して該注入用の試錐管を介して地中に前記オゾン含有ガスと前記水蒸気とを注入するようにしたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１記載の発明によれば、濃度判定工程による判定の結果、複数の小領域のうち少なくとも１つの小領域における略正六角形状の６辺のうち特定の一辺の両端に相当する位置の汚染物質の濃度計測値が所定の値を超えたと判定された場合は、所定の位置に新たに注入用の試錐管を貫入して地中にオゾン含有ガスを注入するようにしたので、設定された略正六角形状からなる小領域の面積が、ある程度大きい場合でも、無駄な浄化作業を行わずに済み効率的な汚染地盤の浄化方法を提供することができる。
請求項２記載の発明によれば、オゾン含有ガス注入工程の実施を開始した後に、各小領域の略正六角形状の頂点および中心に相当する各位置に既に貫入していた試錐管を介して地中に存在する気体を吸引して地上に回収し汚染物質の濃度を計測するようにしたので、その濃度計測のために新たに試錐管を地中に貫入しなくて済む。
【００１３】
請求項３記載の発明によれば、長手方向に沿う方向に互いに一定の間隔を隔てて穿設された注入用および吸引用の各試錐管における複数の貫通孔を択一的に選択することで、気体を注入する地中の深度を択一的に変更し、その深度に対応する地中の気体を吸引するようにしたので、気体を注入したり吸引する地中の深度を所望の深度に容易に変更することができる。
また、そのようにして地中の深度を変更して地上に回収した気体中に含まれる汚染物質の濃度を吸引用の試錐管の貫通孔ごとに個別に計測し判定するようにしたので、地中の深度ごとの汚染状況を容易に、かつ、効率的に把握することができる。
【００１４】
請求項４記載の発明によれば、拡径可能な複数の膨張部材を備えた挿入用具の各試錐管に対する相対位置を適宜選定することで各試錐管の複数の貫通孔のうち何れかの貫通孔を選択するようにしたので、気体を注入したり吸引する地中の深度を所望の深度に変更する構成を単純な構成で達成することができる。
請求項５記載の発明によれば、計測判定工程の実施により判定された吸引用の試錐管の貫通孔ごとの判定結果に基づいて、新たに注入用の試錐管を地中に貫入する深度を設定するようにしたので、地中の適切な深度に新たな注入用の試錐管を貫入することができる。
【００１５】
請求項６記載の発明によれば、各小領域における注入用の各試錐管に気体を同時に供給し地中に注入するようにしたので、一つの小領域の第１の濃度計測工程を実施しているときには他の小領域の地中にも気体が既に十分注入されている。そのため、一つの小領域の第１の濃度計測工程が終了した後、直ちに他の小領域の第１の濃度計測工程を開始することができるので、汚染地盤の浄化方法を効率的に実施することができる。
また、２つまたは３つの小領域における注入用の試錐管のみに気体を同時に供給し地中に注入する一方、その注入した気体をそれらの小領域における吸引用の各試錐管を介して吸引し地上に回収するようにしたにも拘らず、２つまたは３つの小領域は互いに特定の位置関係で離間しているので、気体の注入および回収により地中に発生する圧力が各小領域同士で影響し合う虞を低減することができる。
請求項７記載の発明によれば、注入用の試錐管にオゾン含有ガスと高温の水蒸気とを供給して該注入用の試錐管を介して地中にオゾン含有ガスと水蒸気とを注入するようにしたので、地中の汚染物質は高温の水蒸気によって晒され温度が上昇するため、汚染物質とオゾンとの化学反応が活発化され地中の汚染物質を短時間に浄化することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法を実施するために複数の試錐管が貫入された地面を上方から見た状態を模式的に示した図である。
【図２】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の「汚染状況の把握工程」を、図１に示した地面の一部の領域について実施するために、各種機器が設置された地面を上方から見た状態を模式的に示した図である。
【図３】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の「汚染状況の把握工程」を実施する際に使用する空気供給装置および注入装置が各種の管を介して第一挿入用具に接続された状態を、一部を破断して示した図である。
【図４】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の「汚染状況の把握工程」を実施する際に使用する空気供給装置および濃度計測装置が各種の管を介して第一挿入用具に接続された状態を、一部を破断して示した図である。
【図５】試錐管内に第一挿入用具を挿入して膨張管を拡径した状態を、試錐管を破断して示した図である。
【００１７】
【図６】第一挿入用具の外観を側方から見た状態を示す側面図である。
【図７】（ａ）図および（ｂ）図は、図６における矢視Ａ−Ａ，矢視Ｂ−Ｂにそれぞれ沿う拡大断面図であり、（ｃ）図は、図６における矢視Ｃ１−Ｃ１，矢視Ｃ２−Ｃ２，矢視Ｃ３−Ｃ３，矢視Ｃ４−Ｃ４に沿う拡大断面図である。
【図８】（ｄ）図，（ｅ）図および（ｆ）図は、図６における矢視Ｄ−Ｄ，矢視Ｅ−Ｅ，矢視Ｆ−Ｆにそれぞれ沿う拡大断面図である。
【図９】図７の（ａ）図の矢視Ｚ−Ｚに沿う断面図である。
【図１０】図５の矢視Ｇ−Ｇ線に沿う拡大断面図である。
【図１１】（ｈ）図は、図５における矢視Ｈ１−Ｈ１，矢視Ｈ２−Ｈ２，矢視Ｈ３−Ｈ３，矢視Ｈ４−Ｈ４に沿う拡大断面図であり、（ｊ）図は、（ｈ）図に対応する図であって膨張管を拡径する前の状態を示した拡大断面図である。
【図１２】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の「汚染状況の把握工程」を、図１に示した地面の他の一部の領域について実施するために、各種機器が設置された地面を上方から見た状態を模式的に示した図である。
【図１３】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における後段の「汚染領域の浄化工程」を、図１２に示した地面の一部の領域について実施するために、各種機器が設置された地面を上方から見た状態を模式的に示した図である。
【００１８】
【図１４】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における後段の「汚染領域の浄化工程」を実施する際に使用する空気供給装置およびオゾン含有ガス供給装置が各種の管を介して第二挿入用具に接続された状態を、一部を破断して示した図である。
【図１５】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における後段の「汚染領域の浄化工程」を実施する際に使用する空気供給装置および濃度計測装置が各種の管を介して第三挿入用具に接続された状態を、一部を破断して示した図である。
【図１６】試錐管内に第二挿入用具を挿入して膨張管を拡径した状態を、試錐管を破断して示した図である。
【図１７】第二挿入用具の外観を側方から見た状態を示す側面図である。
【図１８】（ｋ）図および（ｍ）図は、図１７における矢視Ｋ−Ｋ，矢視Ｍ−Ｍにそれぞれ沿う拡大断面図であり、（ｎ）図は、図１７における矢視Ｎ１−Ｎ１，矢視Ｎ２−Ｎ２に沿う拡大断面図である。
【図１９】図１７における矢視Ｐ−Ｐに沿う拡大断面図である。
【図２０】図１８の（ｋ）図の矢視Ｚ−Ｚに沿う断面図である。
【００１９】
【図２１】図１６の矢視Ｑ−Ｑ線に沿う拡大断面図である。
【図２２】（ｒ）図は、図１６における矢視Ｒ１−Ｒ１，矢視Ｒ２−Ｒ２に沿う拡大断面図であり、（ｓ）図は、（ｒ）図に対応する図であって膨張管を拡径する前の状態を示した拡大断面図である。
【図２３】試錐管内に第三挿入用具を挿入して膨張管を拡径した状態を、試錐管を破断して示した図である。
【図２４】第三挿入用具の外観を側方から見た状態を示す側面図である。
【図２５】（ｔ）図，（ｕ）図および（ｖ）図は、図２４における矢視Ｔ−Ｔ，矢視Ｕ−Ｕ，矢視Ｖ−Ｖにそれぞれ沿う拡大断面図である。
【図２６】図２５の（ｔ）図の矢視Ｚ−Ｚに沿う断面図である。
【図２７】（ｗ）図は、図２３における矢視Ｗ−Ｗに沿う拡大断面図であり、（ｘ）図は、（ｗ）図に対応する図であって膨張管を拡径する前の状態を示した拡大断面図である。
【００２０】
【図２８】図１に示した地面の一部の領域の各地点をＸ，Ｙ座標で示し、これらの地点における地中の同じ深度で計測された濃度の値を縦軸に取って表した三次元グラフである。
【図２９】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法を実施するために複数の試錐管が貫入された地面を上方から見た状態を模式的に示した図である。
【図３０】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における後段の「汚染領域の浄化工程」を実施する際に使用する空気供給装置、オゾン含有ガス供給装置および水蒸気供給装置が各種の管を介して第二挿入用具に接続された状態を、一部を破断して示した図である。
【図３１】本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の作業工程における後段の「汚染領域の浄化工程」を実施する際に使用する空気供給装置、オゾン含有ガス供給装置および水蒸気供給装置が各種の管およびガス混入装置を介して第二挿入用具に接続された状態を、一部を破断して示した図である。
【図３２】（１）図はガス混入装置の構成を示す断面図であり、（２）図はそのガス混入装置に組み込まれた締結部材を示した断面図であり、（３）図はその締結部材を（２）図の矢視Ｘ線に沿う方向から見た状態の外観図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法の一例を図１ないし図２８を参照して詳細に説明する。なお、一部の図については、作図の都合上、それぞれの構成部材の縮尺の比率を互いに異ならせて図示している。図１は、汚染地盤の浄化方法を実施する箇所の地面を上方から見た状態を示しており、図１において符号Ｒで示すものは、主に、トリクロロエチレンやテトラクロロエチレン等の揮発性有機化合物（ｖｏｌａｔｉｌｅ ｏｒｇａｎｉｃ ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ  以下「ＶＯＣｓ」という。）からなる汚染物質によって地中Mの土壌が汚染されている領域を示している。領域Ｒ内には、地面上において一辺が一定の長さＬ１（例えば１メートル）を有する略正六角形状からなる小領域が隙間なく四方八方に地面上に連続してハニカム状に複数設定されている。これらの小領域は、図１では説明を簡単にするために５箇所（小領域Ｒ１ないしＲ５）に設定したものを図示している。
【００２２】
前記小領域Ｒ１ないしＲ５におけるそれぞれの略正六角形状の中心に相当する地点Ｏ１ないしＯ５に、互いに略平行に地中Ｍの所定の深度（例えば１０メートル）まで試錐管３がそれぞれ試錐装置（図示せず）により貫入されている。これらの試錐管３は、本発明でいう「注入用の試錐管」を構成する。
一方、前記小領域Ｒ１ないしＲ５におけるそれぞれの略正六角形状の各頂点に相当する６箇所の地点（小領域Ｒ１ないしＲ３においては地点Ａ１ないしＡ６）にも、地点Ｏ１ないしＯ５に貫入された試錐管３と略平行に前記所定の深度と略同じ深度まで地中Ｍに試錐管３がそれぞれ貫入されている。これらの試錐管３は、本発明でいう「吸引用の試錐管」を構成する。
なお、上述した略正六角形状の一辺の長さＬ１は、略正六角形状の中心に相当する地点Ｏ１ないしＯ５の試錐管３に、後述する注入装置２５により供給された気体が地中Ｍを流れて略正六角形状の各頂点に相当する地点Ａ１ないしＡ６の試錐管３まで到達することができる長さに設定される。
【００２３】
次に、汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の工程である「汚染状況の把握工程」を実施するための機器について図２ないし図１２を参照して説明する。図２では説明の都合上、図１に示した小領域Ｒ１ないしＲ５のうち小領域Ｒ１ないしＲ３だけを示している。図２に示すように、小領域Ｒ１ないしＲ３のうち小領域Ｒ１における地点Ｏ１と小領域Ｒ３における地点Ｏ３とに貫入された各試錐管３内と、小領域Ｒ１およびＲ３におけるそれぞれの６箇所の地点Ａ１ないしＡ６に貫入された各試錐管３内とには、第一挿入用具５（図３ないし図６参照）がそれぞれ挿入されている。第一挿入用具５は本発明でいう「挿入用具」を構成する。
各試錐管３の上端からは、各第一挿入用具５の４本の管がそれぞれ突出しており、これらの４本の管は、それぞれ空気供給管７と流通管９ａ，９ｂ，９ｃとからなる。各流通管９ａ，９ｂ，９ｃの管内は本発明でいう「連通路」を構成する。なお、図２では、空気供給管７については、作図の都合上、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１の試錐管３にそれぞれ挿入された各第一挿入用具５の空気供給管７だけ図示しており、その他の地点の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の空気供給管７は省略している。
【００２４】
各試錐管３の上端から突出した各空気供給管７は１本の集合空気供給管１１に合流接続され、該集合空気供給管１１の端部は一定の圧力で空気を供給する空気供給装置１３に接続されている。集合空気供給管１１の長手方向中途部（集合空気供給管１１において、空気供給装置１３に最も近い空気供給管７の合流接続部と空気供給装置１３との間）には、該集合空気供給管１１内の空気が流れる通路を開閉する電磁式開閉弁１５が配設されている。
一方、小領域Ｒ１およびＲ３における各地点Ａ１ないしＡ６の合計１２本の試錐管３の上端からそれぞれ突出した各第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃの各端部はそれぞれ電磁式切替弁１７に接続され、これらの電磁式切替弁１７に一端部が接続された中継流通管１９の他端部は１本の集合流通管２１に集合接続され、該集合流通管２１の端部は濃度計測装置２３に接続されている。
また、地点Ｏ１と地点Ｏ３との各試錐管３の上端からそれぞれ突出した各第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃの各端部はそれぞれ電磁式切替弁１７に接続され、これらの電磁式切替弁１７に一端部が接続された中継流通管１９の他端部は１本の集合流通管２１に集合接続され、該集合流通管２１の端部は注入装置２５に接続されている。前記空気供給装置１３の電動駆動装置、電磁式開閉弁１５、各電磁式切替弁１７および注入装置２５の電動駆動装置は、それらの作動が適宜制御されるべく、それぞれ電線（図示せず）を介して制御盤２７内の制御装置２７ａに電気的に接続されている。
【００２５】
図３は、汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の工程の一部である気体注入工程（本発明でいう「気体注入工程」を構成する。）を説明するための図であり、小領域Ｒ１の地点Ｏ１と小領域Ｒ３の地点Ｏ３とに貫入された各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５に気体（例えば空気）を供給している状態を示している。なお、図３では、試錐管３および第一挿入用具５については、作図の都合上、小領域Ｒ１の地点Ｏ１と小領域Ｒ３の地点Ｏ３とのうち何れか一方のものだけを図示している。
一方、図４は、汚染地盤の浄化方法の作業工程における前段の工程の一部である気体回収工程（本発明でいう「第１の気体回収工程」を構成する。）を説明するための図であり、前記気体注入工程により地中Ｍに注入された空気を、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３とのそれぞれの地点Ａ１ないしＡ６に貫入された各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５を介して地上に回収している状態を示している。なお、図４では、試錐管３および第一挿入用具５については、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３とのそれぞれの地点Ａ１ないしＡ６のうち何れか一つのものだけを図示している。
【００２６】
前記試錐管３は、例えば、外径と内径がそれぞれ３４ミリメートルと２５．５ミリメートルで長さが１ないし２メートルの鉄製またはステンレス製の試錐短管を複数連結して長尺な１本の試錐管３として構成されている。試錐管３を地中Ｍに貫入するに連れて、試錐管３の長さが不足する場合は、前記試錐短管を連結して継ぎ足しながら試錐管３を地中Ｍに貫入していく。連結する構成としては、前記試錐短管の両端部にそれぞれ雄ねじ部と雌ねじ部とが刻設された試錐短管同士を、一方の試錐短管の雄ねじ部と他方の試錐短管の雌ねじ部とを螺合させて互いに連結するようにしている。
また、図５に示すように、試錐管３を構成する前記試錐短管の側面には、該試錐短管の長手方向に長いスリットで構成された複数の貫通孔３ａが穿設されている。貫通孔３ａは、例えば、その長さ（試錐短管の軸芯に沿う方向の寸法）が１５ミリメートルの長孔からなっており、かつ、試錐短管の外周面側および内周面側の各開口の幅寸法Ｙ１およびＹ２（図１０参照）がそれぞれ０．５ミリメートルと１．５ミリメートルで、高密度のレーザービームの照射によって穿設される。このため、貫通孔３ａは、その大きさが、試錐短管の外周面側より内周面側の方が大きくなっている。
また、貫通孔３ａは、試錐管３の前記試錐短管の軸芯に沿う方向に、長手方向全域に亘って一定の間隔を隔てて８箇所にそれぞれ４個ずつ穿設されている。これらの４個ずつの貫通孔３ａは、図１０に示すように、前記試錐短管の軸芯に沿う方向から見て、該軸芯回りに角度が９０度間隔で四方に向かって穿設されている。
【００２７】
前記第一挿入用具５は、鉄製またはステンレス製の円筒状の１本の外管２９と、この外管２９の長手方向に所定の間隔を隔てて外管２９の外周に嵌合された４個の膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄと、１本の空気供給管７と、３本の流通管９ａ，９ｂ，９ｃとを備えている。各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄは本発明でいう「膨張部材」を構成する。
これらの空気供給管７と流通管９ａ，９ｂ，９ｃとは、外管２９内に平行に並べた状態で配置されている。４個の膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの、外管２９の長手方向における配置間隔は、試錐管３の貫通孔３ａ…が穿設された間隔と同一とされている。空気供給管７および流通管９ａ，９ｂ，９ｃは、それぞれの一端側が外管２９内に挿入された状態で他端側が外管２９の一端側からそれぞれ突出している。
空気供給管７および流通管９ａ，９ｂ，９ｃは、それぞれの内径および外径が同一の寸法からなる鉄製またはステンレス製の円管状の管からなる。而して、空気供給管７と流通管９ａ，９ｂ，９ｃとの長手方向に沿って所定の間隔を隔てて各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄは配置される。
【００２８】
各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄは、それぞれ拡径可能な可撓性を有し、かつ、耐酸性を有する弾性材料（例えばゴム材）からなる。空気供給管７と流通管９ａ，９ｂ，９ｃと外管２９とは、それらの間隙に充填されて固化したエポキシ系樹脂等の樹脂等からなる充填材３３によって、強固に一体的に固定され一体化されている。
各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの両端部の外周部を円環状の締付部材３５により緊縛して各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを外管２９の外周部に気密に緊縛している。而して、膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄと外管２９とのそれぞれの間隙に、外部と気密に区画された円環状の区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄがそれぞれ形成されている（図５および図７の（ｃ）図参照）。各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄに空気を供給したり、その供給した空気を各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄから排出することで各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを拡径または縮径させる。
各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄは、外管２９の外周に嵌合して組付ける前の内径が外管２９の外径と略同一（好ましくは、外管２９の外径より若干大きな寸法）に形成されている。このため、各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄに空気を供給して各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄを拡径させる前の状態では、各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄの拡径または縮径させる部位の内径が外管２９の外径と略同一になっている。
【００２９】
外管２９の長手方向において各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが隣り合う間の外管２９の部位には、外管２９内と外部とを連通する第一連通孔３９ａ，３９ｂ，３９ｃがそれぞれ穿設されている。一方、各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄに対応する外管２９の部位には、前記各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄと外管２９内とを連通する第二連通孔４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄが各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄに対応してそれぞれ穿設されている。
流通管９ａ，９ｂ，９ｃの長手方向中途部における、各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが隣り合う間の部位にそれぞれ第三連通孔４３ａ，４３ｂ，４３ｃが穿設されており、流通管９ａ，９ｂ，９ｃ内と各第一連通孔３９ａ，３９ｂ，３９ｃとはそれぞれ対応して個別に連通されている。詳しくは、流通管９ａに穿設された第三連通孔４３ａを介して流通管９ａ内と第一連通孔３９ａとが連通され、流通管９ｂに穿設された第三連通孔４３ｂを介して流通管９ｂ内と第一連通孔３９ｂとが連通され、流通管９ｃに穿設された第三連通孔４３ｃを介して流通管９ｃ内と第一連通孔３９ｃとが連通されている（図８参照）。
【００３０】
また、各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄに対応する空気供給管７の部位に第四連通孔４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｄがそれぞれ穿設されており、前記各第二連通孔４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄを介して前記各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄと空気供給管７内とがそれぞれ連通されている。詳しくは、第四連通孔４５ａを介して空気供給管７内と第二連通孔４１ａおよび区画室３７ａとが連通され、第四連通孔４５ｂを介して空気供給管７内と第二連通孔４１ｂおよび区画室３７ｂとが連通され、第四連通孔４５ｃを介して空気供給管７内と第四連通孔４５ｃおよび区画室３７ｃとが連通され、第四連通孔４５ｄを介して空気供給管７内と第二連通孔４１ｄおよび区画室３７ｄとが連通されている（図７の（ｃ）図および図１１の（ｈ）図参照）。空気供給管７の第四連通孔４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｄを介して空気を各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄに供給したりその供給した空気を各区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄから排出することで各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが拡径または縮径させられる。
【００３１】
外管２９の他端側（図６では下端側）には、塩化ビニル等の樹脂材料からなる円柱状の栓部材４７が接着剤により接着された状態で嵌合され、外管２９の他端側の開口部が密栓されている（図９参照）。また、空気供給管７および流通管９ａ，９ｂ，９ｃのそれぞれの他端側（図６では下端側）には、塩化ビニル等の樹脂材料からなる円柱状の栓部材４９が接着剤により接着された状態でそれぞれ嵌合され、空気供給管７と流通管９ａ，９ｂ，９ｃとの他端側の開口部がそれぞれ密栓されている（図９参照）。
また、前記濃度計測装置２３は、図４に示すように、集合流通管２１の端部が接続された気液分離装置５１と、接続管５３を介して気液分離装置５１に接続された吸引ポンプ５５と、接続管５７を介して吸引ポンプ５５に接続された濃度計測器５９を備えている。前記吸引ポンプ５５の電動駆動装置と濃度計測器５９とは、それらの作動が適宜制御されるべく、それぞれ電線（図示せず）を介して制御盤２７内の制御装置２７ａに電気的に接続されている。
【００３２】
次に、汚染地盤の浄化方法の作業工程における後段の工程である「汚染領域の浄化工程」を実施するための機器について図１２ないし図２７を参照して説明する。なお、これらの図において、前記「汚染状況の把握工程」を実施するための機器について既に説明したものと同一または同等の部材等については、同一符号を付し詳細な説明は省略する。
図１３は、汚染地盤の浄化方法を実施する箇所の地面を上方から見た状態を示しており、符号Ｏ６で示すものは、小領域Ｒ２の地点Ａ１，Ａ６，Ｏ２を頂点とする略正三角形状の中心に相当する地点であり、該地点Ｏ６に、地点Ａ１，Ａ６の各試錐管３と略平行に新たに試錐管３が地中Ｍに貫入されている。地点Ｏ６に貫入された試錐管３は、本発明でいう「注入用の試錐管」を構成する。この試錐管３内には、組成ガスとしてオゾンを含むオゾン含有ガスを供給するための第二挿入用具６１（図１４，１６および１７参照）が挿入され、小領域Ｒ２の地点Ａ１，Ａ６，Ｏ２の各試錐管３内には、地中Ｍの気体を回収するための第三挿入用具６３（図１５，２３および２４参照）がそれぞれ挿入されている。
地点Ｏ６の試錐管３の上端から突出した第二挿入用具６１の２本の管は空気供給管７とオゾン含有ガス供給管６５とからなり、小領域Ｒ２の地点Ａ１，Ａ６，Ｏ２の各試錐管３の上端から突出した第三挿入用具６３の２本の管は空気供給管７と気体回収管６７とからなる。なお、図１３では、空気供給管７については、作図の都合上、小領域Ｒ２の地点Ａ１の試錐管３に挿入された第二挿入用具６１の空気供給管７だけ図示しており、その他の地点の試錐管３内に挿入された第二挿入用具６１および第三挿入用具６３の空気供給管７は省略している。
【００３３】
各試錐管３の上端から突出した各空気供給管７は１本の集合空気供給管１１に合流接続され、該集合空気供給管１１の端部は空気供給装置１３に接続されている。集合空気供給管１１の長手方向中途部（集合空気供給管１１において、空気供給装置１３に最も近い空気供給管７の合流接続部と空気供給装置１３との間）には電磁式開閉弁１５が配設されている。
また、地点Ｏ６の試錐管３の上端から突出した第二挿入用具６１のオゾン含有ガス供給管６５の端部はオゾン含有ガス供給装置６９に接続され、該オゾン含有ガス供給装置６９は、酸素ガスが収容された酸素ボンベ７１に酸素ガス供給管７３を介して接続されている。
また、小領域Ｒ２の地点Ａ１，Ａ６，Ｏ２の各試錐管３の上端からそれぞれ突出した各第三挿入用具６３の気体回収管６７の長手方向中途部にはそれぞれ電磁式切替弁１７が配設され、該気体回収管６７の端部は１本の集合流通管２１に集合接続され、該集合流通管２１の端部は濃度計測装置２３に接続されている。
【００３４】
前記空気供給装置１３の電動駆動装置、電磁式開閉弁１５、各電磁式切替弁１７、濃度計測装置２３（吸引ポンプ５５の電動駆動装置および濃度計測器５９）およびオゾン含有ガス供給装置６９は、それらの作動が適宜制御されるべく、それぞれ電線（図示せず）を介して制御盤２７内の制御装置２７ａに電気的に接続されている。
前記第二挿入用具６１は、外管２９と、この外管２９の長手方向に所定の間隔を隔てて外管２９の外周に嵌合された２個の膨張管７５ａ，７５ｂと、１本の空気供給管７と、１本のオゾン含有ガス供給管６５とを備えている。第二挿入用具６１の膨張管７５ａは膨張管７５ｂより長尺に形成されている。
空気供給管７とオゾン含有ガス供給管６５とは、外管２９内に平行に並べた状態で配置され、それぞれの一端側が外管２９内に挿入された状態で他端側が外管２９の一端側からそれぞれ突出している。オゾン含有ガス供給管６５は、その内径および外径の各寸法が空気供給管７のそれらの寸法より大きい鉄製またはステンレス製の円管状の管からなる。
第二挿入用具６１の外管２９の他端側（図１７では下端側）には、栓部材４７が接着剤により接着された状態で嵌合され、外管２９の他端側の開口部が密栓されている（図２０参照）。また、空気供給管７およびオゾン含有ガス供給管６５のそれぞれの他端側（図１７では下端側）には、栓部材４９が接着剤により接着された状態でそれぞれ嵌合され、空気供給管７とオゾン含有ガス供給管６５との他端側の開口部がそれぞれ密栓されている（図２０参照）。
【００３５】
一方、前記第三挿入用具６３は、外管２９と、この外管２９と同一の長さを有し外管２９の外周に嵌合された１個の膨張管７７と、１本の空気供給管７と、１本の気体回収管６７とを備えている。空気供給管７と気体回収管６７とは、外管２９内に平行に並べた状態で配置され、それぞれの一端側が外管２９内に挿入された状態で他端側が外管２９の一端側からそれぞれ突出し、さらに、空気供給管７および気体回収管６７のうち気体回収管６７だけが外管２９の他端側から突出し、その突出した下端６７ａは開口している。気体回収管６７は、その内径および外径の各寸法が空気供給管７のそれらの寸法より大きい鉄製またはステンレス製の円管状の管からなる。
第三挿入用具６３の外管２９の他端側（図２４では下端側）には、栓部材４７が接着剤により接着された状態で嵌合され、外管２９の他端側の開口部が密栓されている（図２６参照）。気体回収管６７は栓部材４７を貫通して外管２９の他端側から一定の長さだけ突出している。また、空気供給管７の他端側（図２４では下端側）には、栓部材４９が接着剤により接着された状態で嵌合され、空気供給管７の他端側の開口部が密栓されている（図２６参照）。
【００３６】
第二挿入用具６１の空気供給管７とオゾン含有ガス供給管６５と外管２９とは充填材３３によって強固に一体的に固定され一体化されている。また同様に、第三挿入用具６３の空気供給管７と気体回収管６７と外管２９とは充填材３３によって強固に一体的に固定され一体化されている。
第二挿入用具６１の膨張管７５ａ，７５ｂおよび第三挿入用具６３の膨張管７７は、それぞれ拡径可能な可撓性を有し、かつ、耐酸性を有する弾性材料（例えばゴム材）からなる。また、各膨張管７５ａ，７５ｂ，７７のそれぞれの両端部外周部は、締付部材３５により緊縛され、各膨張管７５ａ，７５ｂ，７７が各外管２９の外周部にそれぞれ気密に緊縛されている。これによって、第二挿入用具６１においてはその膨張管７５ａ，７５ｂと外管２９とのそれぞれの間隙に外部と気密に区画された円環状の区画室７９ａ，７９ｂがそれぞれ形成され（図１６，図１８の（ｎ）図および図２０参照）、第三挿入用具６３においてはその膨張管７７と外管２９との間隙に外部と気密に区画された円環状の区画室８１が形成されている（図２３，図２５の（ｖ）図および図２６参照）。
【００３７】
第二挿入用具６１の外管２９の長手方向において両膨張管７５ａ，７５ｂ間の外管２９の部位には、外管２９内と外部とを連通する第一連通孔８３が穿設されている。一方、各膨張管７５ａ，７５ｂに対応する外管２９の部位には、前記各区画室７９ａ，７９ｂと外管２９内とを連通する第二連通孔８５ａ，８５ｂが各区画室７９ａ，７９ｂに対応してそれぞれ穿設されている。
オゾン含有ガス供給管６５の長手方向中途部における両膨張管７５ａ，７５ｂ間の部位であって外管２９の第一連通孔８３に対応する部位には第三連通孔８７が穿設されており、これらの第一連通孔８３と第三連通孔８７とを介してオゾン含有ガス供給管６５内と外管２９の外部とは連通されている（図１９および図２０参照）。
また、各膨張管７５ａ，７５ｂに対応する空気供給管７の部位であって外管２９の第二連通孔８５ａ，８５ｂに対応する部位には第四連通孔８９ａ，８９ｂがそれぞれ穿設されており、これらの第二連通孔８５ａ，８５ｂと第四連通孔８９ａ，８９ｂとを介して前記各区画室７９ａ，７９ｂと空気供給管７内とがそれぞれ連通されている。詳しくは、第四連通孔８９ａを介して空気供給管７内と第二連通孔８５ａおよび区画室７９ａとが連通され、第四連通孔８９ｂを介して空気供給管７内と第二連通孔８５ｂおよび区画室７９ｂとが連通されている（図１８の（ｎ）図，図２０および図２２の（ｒ）図参照）。
【００３８】
一方、第三挿入用具６３の外管２９の長手方向中途部には、前記区画室８１と外管２９内とを連通する第一連通孔９１が穿設されている（図２５の（ｖ）図および図２６参照）。
また、第三挿入用具６３の膨張管７７の長手方向中途部に対応する空気供給管７の部位であって外管２９の第一連通孔９１に対応する部位には第二連通孔９３が穿設されており、これらの第一連通孔９１と第二連通孔９３とを介して前記区画室８１と空気供給管７内とが連通されている（図２５の（ｖ）図，図２６および図２７の（ｗ）図参照）。
なお、図２２の（ｒ）図および図２７の（ｗ）図は空気供給装置１３により前記各膨張管７５ａ，７５ｂ，７７を拡径させた状態を示し、図２２の（ｓ）図および図２７の（ｘ）図は前記各膨張管７５ａ，７５ｂ，７７を縮径させた状態を示している。前記各膨張管７５ａ，７５ｂ，７７を拡径させたり縮径させる手段については、上述した第一挿入用具５の各膨張管３１ａ等をそれぞれ拡径させたり縮径させる手段と同様である。
【００３９】
《汚染地盤の浄化方法の作業工程》
次に、図３ないし図５に示すように各試錐管３内に第一挿入用具５が挿入され、かつ、図２ないし図４に示すように、空気供給管７，集合空気供給管１１，中継流通管１９および集合流通管２１を介して各第一挿入用具５が空気供給装置１３，濃度計測装置２３および注入装置２５に適宜接続された状態で実施される汚染地盤の浄化方法の作業工程について詳述する。
この汚染地盤の浄化方法の作業工程は、上述したように、大きく分けて、前段の工程である「汚染状況の把握工程」と後段の工程である「汚染領域の浄化工程」とからなる。以下に、これらの「汚染状況の把握工程」と「汚染領域の浄化工程」とについて詳述する。
〈汚染状況の把握工程〉
まず、「汚染状況の把握工程」について説明する。図２に示す状態では、小領域Ｒ１ないしＲ３における全ての地点（地点Ａ１ないしＡ６およびＯ１ないしＯ３）に試錐管３が地中Ｍの略同一の深度までそれぞれ貫入され、かつ、小領域Ｒ１およびＲ３の各地点Ａ１ないしＡ６、Ｏ１およびＯ３の試錐管３内には、各試錐管３の軸芯に沿う方向で略同一の位置に第一挿入用具５がそれぞれ挿入されているものとする。また、各第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ａ，３９ｂ，３９ｃと、当該第一挿入用具５が挿入された試錐管３の貫通孔３ａとは、該試錐管３の軸芯に沿う方向の位置を互いに略一致させられている（図５参照）。各試錐管３に対する各第一挿入用具５の相対位置を適宜設定することで各試錐管３の複数の貫通孔３ａのうち何れかの貫通孔が選択されることになる。
以下に、「汚染状況の把握工程」を構成する個々の工程について順を追って説明する。
【００４０】
（１）挿入用具の膨張管の拡径工程
汚染地盤の浄化方法の作業を開始すべく制御盤２７を操作すると、制御盤２７内の制御装置２７ａにより電磁式開閉弁１５が開弁されるとともに空気供給装置１３が作動して集合空気供給管１１を介して空気供給管７に加圧空気が供給される。これによって、空気供給管７内と、該空気供給管７の第四連通孔４５ａ，４５ｂ，４５ｃ，４５ｄと、外管２９の第二連通孔４１ａ，４１ｂ，４１ｃ，４１ｄとを介して、各第一挿入用具５の区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄに所定の高圧の空気が供給され、これらの区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄ内が所定の圧力に加圧される。その結果、膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが拡径され、それぞれの外周面が試錐管３の内周面に圧接される。この状態で、制御装置２７ａにより電磁式開閉弁１５が閉弁されて膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが拡径された状態で保持され、膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが試錐管３に圧接した部位は気密性が維持される。
【００４１】
（２）電磁式切替弁の切替工程
次に、地点Ｏ１およびＯ３の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された各電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより切り替えられ、各第一挿入用具５の３本の流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち何れか１つの流通管（ここでの説明では、例えば、流通管９ｃとする。）と中継流通管１９とがそれぞれ連通させられる。このとき、地点Ｏ１およびＯ３以外の地点の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された各電磁式切替弁１７は制御装置２７ａにより全て閉弁されている。
（３）気体注入工程
次に、制御装置２７ａにより注入装置２５の電動駆動装置が作動させられ、集合流通管２１を介して中継流通管１９に加圧空気が供給される。これによって、中継流通管１９内と、地点Ｏ１およびＯ３の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ｃ内と、これらの流通管９ｃの第三連通孔４３ｃと、前記各第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ｃとを介して前記各試錐管３内の膨張管３１ｃ，３１ｄ間の空間に所定の高圧の空気が供給され、該高圧の空気は前記各試錐管３のそれぞれ４箇所の貫通孔３ａ（膨張管３１ｃ，３１ｄ間に位置する貫通孔３ａ）を介して地中Ｍに注入される。この注入作業は、本発明でいう「気体注入工程」を構成する。なお、注入する気体としては、空気に限らず、窒素ガスのような不活性気体を使用してもよい。
【００４２】
（４）１回目の第１の濃度計測工程
前記（３）気体注入工程において、地中Ｍへの空気の注入が開始された時点からの経過時間が制御装置２７ａ内のタイマにより計測され、その計測時間が予め設定された時間（例えば１０ないし２０分間程度）に到達すると、小領域Ｒ１およびＲ３のそれぞれの地点Ａ１ないしＡ６のうち何れか１つの地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ１の地点Ａ１とする。）の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられ、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ｃと中継流通管１９とが連通させられる。
【００４３】
次に、制御装置２７ａにより吸引ポンプ５５の電動駆動装置が作動させられ、地中Ｍへの空気の注入作業と並行して、小領域Ｒ１の地点Ａ１における試錐管３の貫通孔３ａ（膨張管３１ｃ，３１ｄ間に位置する貫通孔３ａ）を介して、地中Ｍの空気とＶＯＣｓとが含まれる気体が吸引される。これによって、第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ｃと、流通管９ｃの第三連通孔４３ｃと、流通管９ｃ内と、中継流通管１９内と、集合流通管２１内とを介して、地中Ｍの気体が吸引ポンプ５５により吸引され地上に回収される。この回収作業の工程は、本発明でいう「第１の気体回収工程」を構成する。この気体の回収によって気体と共に吸引された地中Ｍの水は、気液分離装置５１を通過する際に分離され、気体だけが接続管５３を介して吸引されて接続管５７を介して濃度計測器５９に送出される。濃度計測器５９内に流入した気体に含まれるＶＯＣｓの濃度Ｄが濃度計測器５９により計測される。この濃度計測作業は、吸引ポンプ５５による吸引が開始され時点から予め設定された時間（例えば１ないし２分間程度）行われる。その時間は、制御装置２７ａ内のタイマにより計測される。この濃度計測作業の工程は、本発明でいう「第１の濃度計測工程」を構成する。濃度計測器５９により計測された計測値に相当する信号は制御装置２７ａに送信され、その計測値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。濃度Ｄは、単位容積当たりの気体中に存在するＶＯＣｓの容積または質量で表される。
【００４４】
小領域Ｒ１の地点Ａ１に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、小領域Ｒ１の地点Ａ１以外の次の地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ１の地点Ａ２とする。）の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられ、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ｃと中継流通管１９とが連通させられる。その電磁式切替弁１７が切り替えられた時点からの経過時間が制御装置２７ａ内のタイマにより計測され、その計測時間が予め設定された時間（例えば１ないし２分間程度）に到達すると、濃度計測器５９内に流入した気体（小領域Ｒ１の地点Ａ２の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ｃを介して回収された気体）に含まれるＶＯＣｓの濃度Ｄが濃度計測器５９により計測される。この濃度計測作業は、その計測が開始され時点から予め設定された時間（例えば１ないし２分間程度）行われる。その時間は、制御装置２７ａ内のタイマにより計測される。この濃度計測作業の工程は、本発明でいう「第１の濃度計測工程」を構成する。濃度計測器５９により計測された計測値に相当する信号は制御装置２７ａに送信され、その計測値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。
【００４５】
小領域Ｒ１の地点Ａ２に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、小領域Ｒ１の地点Ａ２以外の次の地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ１の地点Ａ３とする。）の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられ、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ｃと中継流通管１９とが連通させられる。以下、同様にして小領域Ｒ１の地点Ａ３、Ａ４、Ａ５およびＡ６に関する濃度計測器５９による計測がこれらの地点の順番に順次行われる。このようにして、地中Ｍに注入された気体が、試錐管３ごとに時間をずらして個別に吸引されて地上に回収され、試錐管３ごとに濃度計測が行われる。
小領域Ｒ１の地点Ａ６に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、小領域Ｒ３の地点Ａ１ないしＡ６のうち何れか１つの地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ３の地点Ａ１とする。）の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられ、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ｃと中継流通管１９とが連通させられる。そして、小領域Ｒ１における濃度計測器５９による計測作業と同様にして小領域Ｒ３の地点Ａ１ないしＡ６に関する濃度計測器５９による計測がこれらの地点の順番に順次行われる。
【００４６】
（５）２回目以降の第１の濃度計測工程
次に、２回目以降の第１の濃度計測工程について説明する。小領域Ｒ３の地点Ａ６に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、再び小領域Ｒ１の地点Ａ１の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられ、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ｃと中継流通管１９とが連通させられる。
以下、上述した濃度計測器５９による計測作業と同様にして小領域Ｒ１の地点Ａ１に関する濃度計測器５９による計測が再び行われ、これに引き続いて同様に、小領域Ｒ１の地点Ａ２ないしＡ６と小領域Ｒ３の地点Ａ１ないしＡ６とに関する濃度計測器５９による計測がこれらの地点の順番に再び順次行われる。このようにして、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６に関する濃度計測器５９による計測がそれぞれ２回以上の所定の回数だけ行われ、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６の合計１２箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められる。これらの平均値は制御装置２７ａ内の演算装置により求められ、制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。濃度計測器５９による計測をそれぞれ２回以上行い、それらの計測値の平均値を求めるようにしたので、濃度計測器５９による計測値の精度を向上させることができる。
【００４７】
（６）深度変更後の気体注入工程
次に、気体を注入する地中Ｍの深度を変更して行う気体注入工程について説明する。小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６の試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ｃを介して回収された気体の濃度計測器５９による計測が終了したら、地点Ｏ１およびＯ３の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された各電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより切り替えられ、各第一挿入用具５の３本の流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち何れか１つの流通管（ここでの説明では、例えば、流通管９ｂとする。）と中継流通管１９とがそれぞれ連通させられる。これによって、中継流通管１９内と、地点Ｏ１およびＯ３の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ｂ内と、これらの流通管９ｂの第三連通孔４３ｂと、前記各第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ｂとを介して前記各試錐管３内の膨張管３１ｂ，３１ｃ間の空間に所定の高圧の空気が供給され、該高圧の空気は前記各試錐管３のそれぞれ４箇所の貫通孔３ａ（膨張管３１ｂ，３１ｃ間に位置する貫通孔３ａ）を介して地中Ｍに注入される。図３は、このときの状態を示している。この注入作業は、本発明でいう「気体注入工程」を構成する。
【００４８】
（７）深度変更後の第１の濃度計測工程
次に、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、小領域Ｒ１およびＲ３のそれぞれの地点Ａ１ないしＡ６のうち何れか１つの地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ１の地点Ａ１とする。）の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられて、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ｂと中継流通管１９とが連通させられる。この制御装置２７ａによる切り替えが行われると、小領域Ｒ１の地点Ａ１における試錐管３の各貫通孔３ａ（膨張管３１ｂ，３１ｃ間に位置する貫通孔３ａ）を介して、地中Ｍの空気とＶＯＣｓとが含まれる気体が吸引される。図４は、このときの状態を示している。これによって、第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ｂと、流通管９ｂの第三連通孔４３ｂと、流通管９ｂ内と、中継流通管１９内と、集合流通管２１内とを介して、地中Ｍの気体が地上に回収される。この回収作業の工程は、本発明でいう「第１の気体回収工程」を構成する。回収された地中Ｍの気体は、上述した（４）１回目の第１の濃度計測工程および（５）２回目以降の第１の濃度計測工程と同様の工程が順次行われ、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６の合計１２箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められ、それらの平均値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。
【００４９】
（８）２回目以降の深度変更後の気体注入工程
次に、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、地点Ｏ１およびＯ３の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された各電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより切り替えられ、各第一挿入用具５の３本の流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ａと中継流通管１９とがそれぞれ連通させられる。これによって、中継流通管１９内と、地点Ｏ１およびＯ３の各試錐管３内に挿入された各第一挿入用具５の流通管９ａ内と、これらの流通管９ａの第三連通孔４３ａと、前記各第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ａとを介して前記各試錐管３内の膨張管３１ａ，３１ｂ間の空間に所定の高圧の空気が供給され、該高圧の空気は前記各試錐管３のそれぞれ４箇所の貫通孔３ａ（膨張管３１ａ，３１ｂ間に位置する貫通孔３ａ）を介して地中Ｍに注入される。この注入作業は、本発明でいう「気体注入工程」を構成する。
【００５０】
（９）２回目以降の深度変更後の第１の濃度計測工程
次に、最後に切り替え制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、小領域Ｒ１およびＲ３のそれぞれの地点Ａ１ないしＡ６のうち何れか１つの地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ１の地点Ａ１とする。）の試錐管３内に挿入された第一挿入用具５の流通管９ａ，９ｂ，９ｃに接続された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより切り替えられて、該流通管９ａ，９ｂ，９ｃのうち流通管９ａと中継流通管１９とが連通させられる。これにより、小領域Ｒ１の地点Ａ１における試錐管３の各貫通孔３ａ（膨張管３１ａ，３１ｂ間に位置する貫通孔３ａ）を介して、地中Ｍの空気とＶＯＣｓとが含まれる気体が吸引され、第一挿入用具５の外管２９の第一連通孔３９ａと、流通管９ａの第三連通孔４３ａと、流通管９ａ内と、中継流通管１９内と、集合流通管２１内とを介して、地中Ｍの気体が地上に回収される。回収された地中Ｍの気体は、上述した（４）１回目の第１の濃度計測工程および（５）２回目以降の第１の濃度計測工程と同様の工程が順次行われ、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６の合計１２箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められ、それらの平均値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。
【００５１】
（１０）挿入用具の挿入位置変更工程
小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６に関する前記第１の濃度計測工程が終了したら、制御盤２７を操作して電磁式開閉弁１５を開弁させ、各第一挿入用具５の区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄ内の空気を空気供給管７および集合空気供給管１１を介して流出させる。これによって、各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄが縮径されて、各膨張管３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄのそれぞれの外周面と各試錐管３の内周面との間に隙間が形成され、各試錐管３に対して各第一挿入用具５が各試錐管３の軸芯に沿う方向に相対移動可能となる。
次に、上述した（１）挿入用具の膨張管の拡径工程ないし（９）２回目以降の深度変更後の第１の濃度計測工程の全ての工程において、第一挿入用具５の膨張管３１ａ，３１ｄ間にまだ位置させていない試錐管３の貫通孔３ａを膨張管３１ａないし３１ｄのうち試錐管３の軸芯に沿う方向で隣り合う膨張管の間の何れかに位置付けるべく、各試錐管３に対してそれらの軸芯に沿う方向の同じ位置に全ての第一挿入用具５をそれぞれ相対移動させる。ここでの説明では、例えば、各第一挿入用具５の膨張管３１ａ，３１ｂ間と、膨張管３１ｂ，３１ｃ間と、膨張管３１ｃ，３１ｄ間とに試錐管３の貫通孔３ａをそれぞれ位置付けるものとする。
【００５２】
（１１）挿入用具の挿入位置変更後の濃度計測工程
次に、上述した（１）挿入用具の膨張管の拡径工程ないし（９）２回目以降の深度変更後の第１の濃度計測工程と同様の各工程がこれらの順番に順次行われ、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６の合計１２箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められ、それらの平均値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。この行程での第１の濃度計測工程が終了して、第一挿入用具５の膨張管３１ａ，３１ｄ間にまだ位置させていない試錐管３の貫通孔３ａがまだ残存している場合は、次の（１２）挿入用具の挿入位置再変更後の濃度計測工程に移行し、残存していない場合は、そのまま（１３）計測未実施領域の濃度計測工程に移行する。
（１２）挿入用具の挿入位置再変更後の濃度計測工程
前記（１０）挿入用具の挿入位置変更工程および（１１）挿入用具の挿入位置変更後の濃度計測工程と同様の行程を実施し、予め予定されていた深度に対応する試錐管３の貫通孔３ａの全てについて第１の濃度計測工程を実施する。
（１３）計測未実施領域の濃度計測工程
小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６の濃度計測器５９による計測が終了したら、制御盤２７を操作して注入装置２５および吸引ポンプ５５の各電動駆動装置の作動を停止させるとともに電磁式開閉弁１５を開弁させ、各第一挿入用具５の区画室３７ａ，３７ｂ，３７ｃ，３７ｄ内の空気を空気供給管７および集合空気供給管１１を介して流出させる。
【００５３】
次に、濃度計測器５９による計測がまだ終了していない小領域Ｒ２の地点Ａ１，Ａ４，Ｏ２の試錐管３内に新たに第一挿入用具５をそれぞれ挿入するとともに、これらの第一挿入用具５を空気供給管７，集合空気供給管１１，中継流通管１９および集合流通管２１を介して空気供給装置１３，濃度計測装置２３および注入装置２５に適宜接続する。図１２は、このときの状態を示している。そして、上述した（１）挿入用具の膨張管の拡径工程ないし（１２）挿入用具の挿入位置再変更後の濃度計測工程の各工程と同様の各工程がこれらの順番に順次行われ、小領域Ｒ２の各地点Ａ１ないしＡ６の合計６箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められ、それらの平均値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。
小領域Ｒ２の各地点Ａ１ないしＡ６の濃度計測器５９による計測が終了したら、同様にして小領域Ｒ４およびＲ５の各地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められ、それらの平均値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。
【００５４】
（１４）濃度計測に基づく判定工程
上述した（１）挿入用具の膨張管の拡径工程ないし（１３）計測未実施領域の濃度計測工程の各工程が終了したら、制御盤２７を操作して濃度計測装置２３および注入装置２５の作動を停止させるとともに各電磁式切替弁１７は制御装置２７ａにより全て閉弁の状態にされる。そして、領域Ｒの地点Ａ１等の全ての地点ごと（試錐管３ごと）で、かつ、地中Ｍの深度ごと（試錐管３の貫通孔３ａごと）の濃度計測器５９による計測値がそれぞれ取得される。取得された全ての計測値が、予め設定された許容値Ｄ１（本発明でいう「所定の値」を構成する。）を超えているか否かが、地点ごと（試錐管３ごと）に、かつ、深度ごと（試錐管３の貫通孔３ａごと）に制御装置２７ａ内の判定処理部により判定され、許容値Ｄ１より大きい値が取得された地点とその地点における深度と計測値とが、地点ごと（試錐管３ごと）に、かつ、深度ごと（試錐管３の貫通孔３ａごと）に整理されて制御盤２７の表示装置２７ｂに表示される。図２８は、図１中の小領域Ｒ１およびＲ２の各地点（１０箇所）における地中Ｍの、ある同じ深度で計測されたＶＯＣｓの濃度Ｄを縦軸に取って表した三次元グラフで、濃度が高いほど縦軸の正方向に位置するように表している。この図２８では、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６だけが、破線で示す許容値Ｄ１より大きい値であることを示している。
【００５５】
〈汚染領域の浄化工程〉
次に、前記（１４）濃度計測に基づく判定工程に引き続いて、汚染領域の浄化工程を構成する個々の工程について詳細に説明する。
（１５）新たな試錐管の貫入工程
上述した（１４）濃度計測に基づく判定工程による判定の結果、小領域Ｒ１ないしＲ３の略正六角形状の６辺のうち特定の一辺の両端に相当する位置（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６とする。）に貫入された２箇所の試錐管３から回収された気体中に含まれるＶＯＣｓの濃度計測値だけが共に許容値Ｄ１を超えていると判定された場合は、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６と地点Ｏ２とで形成される略正三角形状の中心に相当する位置である地点Ｏ６（図１３参照）に、地点Ａ１およびＡ６の各試錐管３と略平行に新たに試錐管３を試錐装置により地中Ｍに貫入する。この試錐管３の貫入作業は本発明でいう「試錐管貫入工程」を構成する。この地点Ｏ６の試錐管３は、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６の中で、濃度計測器５９による計測値が許容値Ｄ１を超えていると判定された地点の深度のうち最も深い深度と同一の深度または該深度より少しだけ深い深度に、試錐管３の最も下方に位置する貫通孔３ａが位置付けられるように貫入される。
【００５６】
（１６）配管の接続変更工程
次に、前記地点Ｏ６の試錐管３の最も下方に位置する貫通孔３ａの位置と略同一の深度に第二挿入用具６１の第一連通孔８３が位置付けられるように地点Ｏ６の試錐管３内に第二挿入用具６１を挿入するとともに、該試錐管３の上端から突出したオゾン含有ガス供給管６５の端部をオゾン含有ガス供給装置６９に接続する。また、小領域Ｒ２の地点Ｏ２，Ａ１およびＡ６の試錐管３内に挿入されていた各第一挿入用具５に替えて第三挿入用具６３をそれぞれ挿入するとともにそれらの第三挿入用具６３の各気体回収管６７を集合流通管２１を介して濃度計測装置２３にそれぞれ接続し替える（図１３および図１５参照）。また、地点Ｏ６の試錐管３内に挿入された第二挿入用具６１のオゾン含有ガス供給管６５の第一連通孔８３より１メートルほど上方に第三挿入用具６３の気体回収管６７の下端６７ａが位置するように各試錐管３に対して第三挿入用具６３を位置付ける。
【００５７】
（１７）挿入用具の膨張管の拡径工程
次に、汚染領域の浄化工程の作業を開始すべく制御盤２７を操作すると、制御盤２７内の制御装置２７ａにより、上述した（１）挿入用具の膨張管の拡径工程と同様の工程が行われる。
（１８）オゾン含有ガス注入工程
次に、制御装置２７ａによりオゾン含有ガス供給装置６９が作動させられ、酸素ボンベ７１内の酸素ガスが酸素ガス供給管７３を介してオゾン含有ガス供給装置６９に導入される。オゾン含有ガス供給装置６９の内部で放電管による無声放電によってオゾンが発生し、酸素に対してオゾンが所定の割合で混合されてオゾン含有ガスが生成される。オゾン含有ガスとしては、例えば、容積比でオゾンが１パーセントないし１０パーセントで残りが酸素からなるガスを挙げることができる。このようにして生成されたオゾン含有ガスは、例えば０．３ＭＰａ（メガパスカル）ないし１．１ＭＰａ（メガパスカル）のうちの何れかの圧力でオゾン含有ガス供給装置６９からオゾン含有ガス供給管６５を介して第二挿入用具６１に供給される。これによって、オゾン含有ガス供給管６５内と、オゾン含有ガス供給管６５の第三連通孔８７と、第二挿入用具６１の外管２９の第一連通孔８３とを介して試錐管３内の膨張管７５ａ，７５ｂ間の空間にオゾン含有ガスが供給され、該オゾン含有ガスは試錐管３の４箇所の貫通孔３ａ（膨張管７５ａ，７５ｂ間に位置する貫通孔３ａ）を介して地中Ｍに注入される。この注入作業は、本発明でいう「オゾン含有ガス注入工程」を構成する。
【００５８】
（１９）１回目の第１の濃度計測工程
上述した（１８）オゾン含有ガス注入工程により、オゾン含有ガスがまだ注入されていない地中Ｍの深度の地点にオゾン含有ガスの注入が開始された時点からの経過時間が制御装置２７ａ内のタイマにより計測され、その計測時間が予め設定された時間（例えば１０ないし２０分間程度）に到達すると、地点Ｏ２の試錐管３内に挿入された第三挿入用具６３の気体回収管６７に配設された電磁式切替弁１７が開弁されるとともに制御装置２７ａにより吸引ポンプ５５の電動駆動装置が作動させられる。これにより、地中Ｍへのオゾン含有ガスの注入作業と並行して、地点Ｏ２における試錐管３の各貫通孔３ａ（膨張管７７より下方に位置する貫通孔３ａ）を介して、地中Ｍの気体とＶＯＣｓとが含まれる気体が第三挿入用具６３の気体回収管６７における下端６７ａの開口から吸引される。これによって、気体回収管６７内と集合流通管２１内とを介して地中Ｍの気体が地上に回収される。この回収作業の工程は、本発明でいう「第２の気体回収工程」を構成する。この気体の回収によって気体と共に吸引された地中Ｍの水は、気液分離装置５１を通過する際に分離され、気体だけが接続管５３を介して吸引されて接続管５７を介して濃度計測器５９に送出される。濃度計測器５９内に流入した気体に含まれるＶＯＣｓの濃度Ｄが濃度計測器５９により計測される。この計測作業の工程は、本発明でいう「第２の濃度計測工程」を構成する。濃度計測器５９により計測された計測値に相当する信号は制御装置２７ａに送信され、その計測値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。濃度Ｄは、単位容積当たりの気体中に存在するＶＯＣｓの容積または質量で表される。
【００５９】
地点Ｏ２に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、地点Ｏ２の試錐管３内に挿入された第三挿入用具６３の気体回収管６７に配設された電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、地点Ｏ２以外の次の地点（ここでの説明では、例えば、小領域Ｒ２の地点Ａ１とする。）の試錐管３内に挿入された第三挿入用具６３の気体回収管６７に配設された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより開弁される。その電磁式切替弁１７が開弁された時点からの経過時間が制御装置２７ａ内のタイマにより計測され、その計測時間が予め設定された時間（例えば１ないし２分間程度）に到達すると、濃度計測器５９内に流入した気体（小領域Ｒ２の地点Ａ１の試錐管３内に挿入された第三挿入用具６３の気体回収管６７を介して回収された気体）に含まれるＶＯＣｓの濃度Ｄが濃度計測器５９により計測される。この濃度計測作業は、その計測が開始され時点から予め設定された時間（例えば１ないし２分間程度）行われる。その時間は、制御装置２７ａ内のタイマにより計測される。この濃度計測作業の工程は、本発明でいう「第２の濃度計測工程」を構成する。濃度計測器５９により計測された計測値に相当する信号は制御装置２７ａに送信され、その計測値が制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。
小領域Ｒ２の地点Ａ１に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、最後に開弁制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、小領域Ｒ２の地点Ａ６の試錐管３内に挿入された第三挿入用具６３の気体回収管６７に配設された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより開弁される。そして、小領域Ｒ２の地点Ａ１に関する計測と同様に地点Ａ６に関する濃度計測器５９による計測が行われる。
【００６０】
（２０）２回目以降の第２の濃度計測工程
次に、２回目以降の第２の濃度計測工程について説明する。小領域Ｒ２の地点Ａ６に関する濃度計測器５９による前記計測が終了したら、最後に開弁制御が行われた電磁式切替弁１７が制御装置２７ａにより閉弁され、再び小領域Ｒ２の地点Ｏ２の試錐管３内に挿入された第三挿入用具６３の気体回収管６７に配設された電磁式切替弁１７のみが制御装置２７ａにより開弁される。
以下、上述した濃度計測器５９による計測作業と同様にして小領域Ｒ２の地点Ｏ２に関する濃度計測器５９による計測が再び行われ、これに引き続いて同様に、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に関する濃度計測器５９による計測がこれらの地点の順番に再び順次行われる。このようにして、小領域Ｒ２の各地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６に関する濃度計測器５９による計測がそれぞれ２回以上の所定の回数だけ行われ、これらの地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６の合計３箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値が求められる。これらの平均値は制御装置２７ａ内の演算装置により求められ、制御装置２７ａ内のメモリに記憶される。濃度計測器５９による計測をそれぞれ２回以上行い、それらの計測値の平均値を求めるようにしたので、濃度計測器５９による計測値の精度を向上させることができる。
【００６１】
（２１）濃度計測に基づく判定工程
小領域Ｒ２の地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６に関する前記（２０）２回目以降の第２の濃度計測工程が終了したら、これらの地点に関する濃度計測器５９による計測値の平均値が予め設定された許容値Ｄ１を超えているか否かが制御装置２７ａ内の判定処理部により判定される。
（２２）濃度計測に基づく浄化処理工程
前記（２１）濃度計測に基づく判定工程による判定の結果、小領域Ｒ２の地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６のうち少なくとも１つの地点に関する濃度計測器５９による計測値の平均値が許容値Ｄ１を超えていると判定された場合は、前記オゾン含有ガス注入工程が継続して行われる。
一方、小領域Ｒ２の地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６の全ての地点に関する濃度計測器５９による計測値の平均値が許容値Ｄ１以下であると制御装置２７ａ内の判定処理部により判定された場合は、その旨が制御盤２７の表示装置２７ｂに表示される。そして、上述した（１４）濃度計測に基づく判定工程で、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に関するＶＯＣｓの濃度計測値が許容値Ｄ１を超えていると判定された深度につき全て浄化を完了したときは、濃度計測装置２３およびオゾン含有ガス供給装置６９の作動が制御装置２７ａにより停止されるとともに浄化完了の旨が制御盤２７の表示装置２７ｂに表示される。
一方、上述した（１４）濃度計測に基づく判定工程において、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に関するＶＯＣｓの濃度計測値が許容値Ｄ１を超えていると判定された深度のうち浄化を完了していない深度がまだ残存していたときは、次の（２３）挿入用具の挿入位置変更後の浄化処理工程に移行する。
【００６２】
（２３）挿入用具の挿入位置変更後の浄化処理工程
次に、制御盤２７を操作して吸引ポンプ５５の電動駆動装置およびオゾン含有ガス供給装置６９の作動を停止させるとともに電磁式開閉弁１５を開弁させる。これによって、第二挿入用具６１の区画室７９ａ，７９ｂ内および第三挿入用具６３内の区画室８１内の空気が空気供給管７および集合空気供給管１１を介して流出して第二挿入用具６１の膨張管７５ａ，７５ｂおよび第三挿入用具６３の膨張管７７は縮径され、第二挿入用具６１および各第三挿入用具６３は各試錐管３に対して相対移動可能となる。
【００６３】
次に、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に関するＶＯＣｓの濃度計測値が許容値Ｄ１を超えていると判定された深度で、まだ浄化を完了していない深度に対応する試錐管３の貫通孔３ａのうち、何れかの貫通孔３ａと略同一の位置に第二挿入用具６１の第一連通孔８３が位置付けられるように地点Ｏ６の試錐管３に対して第二挿入用具６１を相対移動させ位置付ける。また、小領域Ｒ２の地点Ｏ２，Ａ１およびＡ６の試錐管３内に挿入された各第三挿入用具６３の気体回収管６７の下端６７ａが、第二挿入用具６１のオゾン含有ガス供給管６５の第一連通孔８３より１メートルほど上方に位置するように各試錐管３に対して各第三挿入用具６３を位置付ける。
そして、上述した（１７）挿入用具膨張管の拡径工程ないし（２２）濃度計測に基づく浄化処理工程と同様の各工程がこれらの順番に順次行われる。これによって、浄化を完了していない深度の地中Ｍにオゾン含有ガスが試錐管３の各貫通孔３ａを介して注入される。
【００６４】
（２４）２回目以降の挿入用具の挿入位置変更後の浄化処理工程
上述した（１４）濃度計測に基づく判定工程において、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に関するＶＯＣｓの濃度計測値が許容値Ｄ１を超えていると判定された深度のうち浄化を完了していない深度が、前記（２３）挿入用具の挿入位置変更後の浄化処理工程を実施してもなお残存していたときは、その（２３）挿入用具の挿入位置変更後の浄化処理工程と同様の工程が、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に関するＶＯＣｓの濃度計測値が許容値Ｄ１以下になるまで順次行われる。
（２５）浄化処理の終了
而して、小領域Ｒ２の地点Ａ１，Ａ６の浄化が全て完了したら、濃度計測装置２３およびオゾン含有ガス供給装置６９の作動が制御装置２７ａにより停止されるとともに全ての浄化が完了した旨が制御盤２７の表示装置２７ｂに表示される。
【００６５】
上述したような本発明の実施の形態に係る汚染地盤の浄化方法によれば、濃度判定工程による判定の結果、複数の小領域Ｒ１ないしＲ５のうち少なくとも１つの小領域Ｒ２における略正六角形状の６辺のうち、特定の一辺の両端に相当する位置（地点Ａ１およびＡ６）のＶＯＣｓの濃度計測値が所定の値である許容値Ｄ１を超えたと判定された場合は、所定の位置（地点Ｏ６）に新たに注入用の試錐管３を貫入して地中Ｍにオゾン含有ガスを注入するようにしたので、設定された略正六角形状からなる小領域の面積が、ある程度大きい場合でも、無駄な浄化作業を行わずに済み効率的な汚染地盤の浄化方法を実施することができる。
また、オゾン含有ガス注入工程の実施を開始した後に、小領域Ｒ２の略正六角形状の頂点および中心に相当する各位置（地点Ａ１，Ａ６，Ｏ２）に既に貫入していた試錐管３を介して地中Ｍに存在する気体を吸引して地上に回収しＶＯＣｓの濃度を計測するようにしたので、その濃度計測のために新たに試錐管３を地中Ｍに貫入しなくて済む。
また、濃度計測器５９による濃度計測に基づく判定の結果に基づいて、オゾン含有ガス注入工程の実施を継続し、または、完了するようにしたので、汚染地盤の浄化を確実に行うことができるとともに、浄化が完了したにも拘わらずオゾン含有ガス注入工程の実施を継続するという無駄な浄化作業を行わずに済む。
【００６６】
また、長手方向に沿う方向に互いに一定の間隔を隔てて穿設された注入用および吸引用の各試錐管３における複数の貫通孔３ａを択一的に選択することで、気体を注入する地中Ｍの深度を択一的に変更し、その深度に対応する地中Ｍの気体を吸引するようにしたので、気体を注入したり吸引する地中Ｍの深度を所望の深度に容易に変更することができる。
また、そのようにして地中Ｍの深度を変更して地上に回収した気体中に含まれるＶＯＣｓの濃度を吸引用の試錐管３の貫通孔３ａごとに個別に計測し判定するようにしたので、地中Ｍの深度ごとの汚染状況を容易に、かつ、効率的に把握することができる。
【００６７】
また、拡径可能な複数の膨張管３１ａないし３１ｄを備えた第一挿入用具５の各試錐管３に対する相対位置を適宜選定することで各試錐管３の複数の貫通孔３ａのうち何れかの貫通孔３ａを選択するようにしたので、気体を注入したり吸引する地中Ｍの深度を所望の深度に変更する構成を単純な構成で達成することができる。
また、計測判定工程の実施により判定された吸引用の試錐管３の貫通孔３ａごとの判定結果に基づいて、新たに注入用の試錐管３を地中Ｍに貫入する深度を設定するようにしたので、地中Ｍの適切な深度に新たな注入用の試錐管３を貫入することができる。
【００６８】
また、小領域Ｒ１の地点Ｏ１と小領域Ｒ３の地点Ｏ３とにおける注入用の各試錐管３に気体を同時に供給し地中Ｍに注入するようにしたので、小領域Ｒ１の第１の濃度計測工程を実施しているときには小領域Ｒ３の地中Ｍにも気体が既に十分注入されている。そのため、小領域Ｒ１の第１の濃度計測工程が終了した後、直ちに小領域Ｒ３の第１の濃度計測工程を開始することができるので、「汚染状況の把握工程」を効率的に実施することができる。
さらにまた、小領域Ｒ１の地点Ｏ１と小領域Ｒ３の地点Ｏ３とにおける注入用の各試錐管３のみに気体を同時に供給し地中Ｍに注入する一方、その注入した気体をそれらの小領域Ｒ１，Ｒ３における吸引用の各試錐管３を介して吸引し地上に回収するようにしたにも拘らず、各小領域Ｒ１，Ｒ３は互いに特定の位置関係で離間しているので、気体の注入および回収により地中Ｍに発生する圧力が各小領域Ｒ１，Ｒ３同士で影響し合う虞を低減することができる。
【００６９】
上述した本発明の実施の形態は本発明を説明するための一例であり、本発明は、前記の実施の形態に限定されるものではなく、特許請求の範囲と明細書との全体から読み取れる発明の要旨または思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更後の汚染地盤の浄化方法もまた、本発明の技術的範囲に含まれるものである。
例えば、上述した実施の形態では、説明を簡単にするために小領域をＲ１ないしＲ５の５箇所に設定した例を示したが、小領域の個数は、ＶＯＣｓによって土壌が汚染されている領域Ｒの面積に応じて設定される。例えば、図２９では小領域が１１箇所（Ｒ１ないしＲ１１）に設定された例を示している。
【００７０】
また、上述した実施の形態の汚染地盤の浄化方法においては、前記（５）２回目以降の第１の濃度計測工程等では、小領域Ｒ１と小領域Ｒ３との各地点Ａ１ないしＡ６に関する濃度計測器５９による計測をそれぞれ２回以上の所定の回数だけ行い、これらの地点Ａ１ないしＡ６の合計１２箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値を求め、それらの平均値を制御装置２７ａ内のメモリに記憶するようにした。また、前記（２０）２回目以降の第２の濃度計測工程等では、小領域Ｒ２の各地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６に関する濃度計測器５９による計測をそれぞれ２回以上の所定の回数だけ行い、これらの地点Ｏ２，Ａ１，Ａ６の合計３箇所の地点ごとに濃度計測器５９による計測値の平均値を求め、それらの平均値を制御装置２７ａ内のメモリに記憶するようにした。
濃度計測器５９による計測値の精度を向上させるためには、複数回、計測を行ってその平均値を求めるのが望ましいが、計測値の精度より作業時間の短縮を優先する場合は、各地点ごとの濃度計測器５９による計測を１回だけ行い、その計測値を制御装置２７ａ内のメモリに記憶するようにしてもよい。
【００７１】
また、上述した実施の形態の汚染地盤の浄化方法においては、前記（１４）濃度計測に基づく判定工程では、小領域Ｒ２の地点Ａ１およびＡ６に貫入された２箇所の試錐管３から回収された気体中に含まれるＶＯＣｓの濃度計測値だけが共に許容値Ｄ１を超えていると判定された例を示した。しかし、もし、同じ小領域Ｒ２の地点Ａ５に貫入された試錐管３から回収された気体中に含まれるＶＯＣｓの濃度計測値も許容値Ｄ１を超えていると判定された場合は、小領域Ｒ２の地点Ａ５およびＡ６と地点Ｏ２とで形成される略正三角形状の中心に相当する位置の地点Ｏ７に同様に新たに試錐管３を地中Ｍに貫入してオゾン含有ガスを地中Ｍに注入するとともに小領域Ｒ２の地点Ｏ２，Ａ５，Ａ６の各試錐管３を介して地中Ｍの気体を地上に回収してＶＯＣｓの濃度Ｄを計測すればよい。
さらに、もし、小領域Ｒ３の地点Ａ３およびＡ４に貫入された２箇所の試錐管３から回収された気体中に含まれるＶＯＣｓの濃度計測値が共に許容値Ｄ１を超えていると判定された場合は、小領域Ｒ３の地点Ａ３およびＡ４と地点Ｏ３とで形成される略正三角形状の中心に相当する位置の地点Ｏ８に同様に新たに試錐管３を地中Ｍに貫入してオゾン含有ガスを地中Ｍに注入するとともに小領域Ｒ３の地点Ｏ３，Ａ３，Ａ４の各試錐管３を介して地中Ｍの気体を地上に回収してＶＯＣｓの濃度Ｄを計測すればよい。
【００７２】
また、上述した実施の形態の汚染地盤の浄化方法では、間に挟んだ１つの小領域にそれぞれ接する２つの小領域から「汚染状況の把握工程」の実施を開始する例を示した。具体的には、間に挟んだ１つの小領域Ｒ２にそれぞれ接する２つの小領域Ｒ１，Ｒ３を選定し、これら２つの小領域Ｒ１，Ｒ３から「汚染状況の把握工程」の実施を開始するようにした。
しかし、これに限らず、間に挟んだ２つの小領域にそれぞれ接する２つの小領域を選定し、これら２つの小領域から「汚染状況の把握工程」の実施を開始するようにしてもよい。図２９で具体的に説明すると、例えば、間に挟んだ２つの小領域Ｒ２，Ｒ５にそれぞれ接する２つの小領域Ｒ１，Ｒ６を選定し、これら小領域Ｒ１，Ｒ６から「汚染状況の把握工程」の実施を開始するようにしてもよい。この場合は、２つの小領域Ｒ１，Ｒ６の各中心位置にそれぞれ貫入された各試錐管３を介して気体が同時に注入され、その注入された気体が小領域Ｒ１，Ｒ６における吸引用の各試錐管３を介して吸引され地上に回収される。
【００７３】
また、上述したような２つの小領域の選定に替えて、１つの小領域のみを囲繞し互いに接し合うことなく隣接する３つの小領域を選定し、これら３つの小領域から「汚染状況の把握工程」の実施を開始するようにしてもよい。図２９で具体的に説明すると、例えば、１つの小領域Ｒ５のみを囲繞し互いに接し合うことなく隣接する３つの小領域Ｒ１，Ｒ６，Ｒ８を選定し、これら３つの小領域Ｒ１，Ｒ６，Ｒ８から「汚染状況の把握工程」の実施を開始するようにしてもよい。この場合は、３つの小領域Ｒ１，Ｒ６，Ｒ８の各中心位置にそれぞれ貫入された各試錐管３を介して気体が同時に注入され、その注入された気体が小領域Ｒ１，Ｒ６，Ｒ８における吸引用の各試錐管３を介して吸引され地上に回収される。
上述したように選定された２つの小領域または３つの小領域に対する「汚染状況の把握工程」の実施においても、各小領域Ｒ１，Ｒ６および各小領域Ｒ１，Ｒ６，Ｒ８はそれぞれ互いに特定の位置関係で離間しているので、気体の注入および回収により地中Ｍに発生する圧力が各小領域Ｒ１，Ｒ６同士および各小領域Ｒ１，Ｒ６，Ｒ８同士で影響し合う虞を低減することができる。
【００７４】
また、上述した実施の形態の汚染地盤の浄化方法においては、前記（２０）２回目以降の第２の濃度計測工程等において、オゾン含有ガスを地中Ｍに注入した後、浄化の進捗状況を確認するために地中Ｍから気体を回収して濃度計測器５９により計測するようにした。
しかし、前記（１４）濃度計測に基づく判定工程において、許容値Ｄ１より大きい値が取得された地点とその地点における深度と計測値とが、地点ごとに、かつ、深度ごとに取得されているので、これらのデータおよび過去の他の地盤における浄化の実績データに基づいて、オゾン含有ガスを地中Ｍに注入する適切な時間を導き出し、この導き出した時間だけオゾン含有ガスを地中Ｍに注入するだけで、浄化の進捗状況を確認するための気体の回収や濃度計測器５９による計測を省略してもよい。その場合は、省略した分、作業時間の短縮を図ることができる。
【００７５】
さらにまた、上述した実施の形態では、オゾン含有ガス供給装置６９により生成したオゾン含有ガスを地中Ｍに注入して浄化する例を示したが、図３０に示すように、水蒸気供給装置９５をさらに設けて、該水蒸気供給装置９５により発生させた高温の水蒸気と、オゾン含有ガス供給装置６９により生成したオゾン含有ガスとを地中Ｍに注入するようにしてもよい。前記水蒸気供給装置９５は、その本体を構成するボイラー９５ａと該ボイラー９５ａの上部に配設された圧力調整弁９５ｂとを備える。圧力調整弁９５ｂには水蒸気供給管９７の一端部が接続され、この水蒸気供給管９７の他端部はオゾン含有ガス供給管６５の長手方向中途部に接続されている。前記圧力調整弁９５ｂはボイラー９５ａから水蒸気供給管９７に供給される水蒸気の圧力が一定になるよう調整する機能を有する。オゾン含有ガス供給管６５の長手方向中途部（水蒸気供給管９７が接続された部位とオゾン含有ガス供給装置６９との間）には電磁式開閉弁９９が配設され、水蒸気供給管９７の長手方向中途部には電磁式開閉弁１０１が配設されている。これらの電磁式開閉弁９９，１０１は、それらの作動が適宜制御されるべく、それぞれ電線（図示せず）を介して制御盤２７内の制御装置２７ａに電気的に接続されている。
【００７６】
浄化作業としては、まず、制御装置２７ａにより電磁式開閉弁９９が閉弁されるとともに電磁式開閉弁１０１が開弁される。次に、水蒸気供給装置９５により発生された水蒸気が所定の圧力（例えば０．８ＭＰａ（メガパスカル））で水蒸気供給管９７に供給され、オゾン含有ガス供給管６５を介して第二挿入用具６１の第一連通孔８３から吐出される。そして、この吐出された水蒸気が試錐管３の貫通孔３ａを介して地中Ｍに注入される。水蒸気の圧力と温度とは相関関係があり、圧力が定まるとその圧力に応じて温度も定まる。例えば、水蒸気の圧力が０．８ＭＰａ（メガパスカル）のときの温度は約１７０℃で、水蒸気の圧力が０．３ＭＰａ（メガパスカル）のときの温度は約１３４℃である。水蒸気供給装置９５から水蒸気供給管９７を介して第二挿入用具６１のオゾン含有ガス供給管６５に供給される水蒸気の温度は比較的高いので、第二挿入用具６１の各膨張管７５ａ，７５ｂおよび第三挿入用具６３の膨張管７７は、耐酸性に加えて耐熱性をも有する弾性材料（例えばゴム材）で構成されている。
【００７７】
地中Ｍへの水蒸気の注入を開始してから所定の時間（例えば６０分間程度）が経過したら、制御装置２７ａにより電磁式開閉弁１０１が閉弁されるとともに電磁式開閉弁９９が開弁され、オゾン含有ガス供給装置６９により生成されたオゾン含有ガスが所定の圧力（例えば０．３ＭＰａ（メガパスカル）ないし１．１ＭＰａ（メガパスカル）のうちの何れかの圧力）でオゾン含有ガス供給管６５に供給されて第二挿入用具６１の第一連通孔８３から所定の時間（例えば６０分間程度）吐出される。そして、この吐出されたオゾン含有ガスが試錐管３の貫通孔３ａを介して地中Ｍに注入される。上述した地中Ｍへの水蒸気の注入とオゾン含有ガスの注入とが交互に予め設定された回数だけ行われる。この結果、地中Ｍの土壌中に残留するＶＯＣｓのトリクロロエチレンなどの揮発性有機塩素系化合物は、オゾンにより塩素，塩化水素，ジクロロ酢酸等に酸化分解され、水に対して可溶性となり地下水に溶け込む。地下水に溶け込んだ塩素や塩化水素は地中Ｍの土壌に含まれる鉱物と化学反応を起こして無害な化合物となる。このとき、地中Ｍの土壌中のＶＯＣｓは、高温の水蒸気に晒され温度が上昇するため、オゾンによる酸化分解や鉱物との化学反応が活発に行なわれ、地中Ｍに存在するＶＯＣｓを短時間に浄化することができる。
【００７８】
なお、上述した地中Ｍへの水蒸気およびオゾン含有ガスの注入は、交互に行う例を示したが、これに限らず、水蒸気とオゾン含有ガスとの注入を開始するタイミングをずらして注入するか、または、同じタイミングで注入を開始するようにして双方の注入作業を同時に行うようにしてもよい。同時に行う場合は、図３１に示すように、さらにガス混入装置１０３を設けて、前記水蒸気供給装置９５により発生させた高温の水蒸気と、オゾン含有ガス供給装置６９により生成したオゾン含有ガスとをガス混入装置１０３により混合させて地中Ｍに注入するようにする。圧力調整弁９５ｂには水蒸気供給管１０５の一端部が接続され、この水蒸気供給管１０５の他端部は、後述するガス混入装置１０３の一方の締結部材１１１に接続され、ガス混入装置１０３の他方の締結部材１１１はオゾン含有ガス供給管６５の端部に接続されている。後述するガス混入装置１０３の注入部１０９ｂには、オゾン含有ガス送出管１０７の一端部が接続され、該オゾン含有ガス送出管１０７の他端部はオゾン含有ガス供給装置６９に接続されている。前記圧力調整弁９５ｂは、ボイラー９５ａから水蒸気供給管１０５に供給される水蒸気の圧力が一定になるよう調整する機能を有する。水蒸気供給管１０５の長手方向中途部には電磁式開閉弁１０１が配設され、オゾン含有ガス送出管１０７の長手方向中途部には電磁式開閉弁９９が配設されている。これらの電磁式開閉弁９９，１０１は、それらの作動が適宜制御されるべく、それぞれ電線（図示せず）を介して制御盤２７内の制御装置２７ａに電気的に接続されている。
【００７９】
ガス混入装置１０３は、図３２に示すように、円筒状の外管１０９と、この外管１０９の両端部の内周面に刻設された雌ねじ部１０９ａにそれぞれの雄ねじ部１１１ａが螺合された略円環状の締結部材１１１と、それぞれの締結部材１１１の一端部の内周部に形成された段付き拡径部１１１ｂに両端部が嵌合された円筒状の内管１１３と、この内管１１３内に挿入された通路形成部材１１５とを備える。外管１０９の長手方向中途部には、外部から外管１０９内にオゾン含有ガスを注入するための注入部１０９ｂが設けられている。この注入部１０９ｂに、前記オゾン含有ガス送出管１０７が接続される。通路形成部材１１５は、その長手方向に沿う軸回りに捩れた帯状に形成されている。通路形成部材１１５は、その長手方向に沿う方向から見た外形は、内管１１３の内径の寸法より僅かに小さい直径を有する円形となっている。
前記各締結部材１１１，１１１の段付き拡径部１１１ｂが形成された部位とは反対側の端部には前記段付き拡径部１１１ｂの内径より小径の小径部１１１ｃが形成され、該小径部１１１ｃ内に円筒状の内嵌管１１７がそれぞれ嵌合されている。
内管１１３と各内嵌管１１７，１１７との対向するそれぞれの端部同士内には内管１１３と内嵌管１１７とに跨って支持管１１９が嵌合されている。通路形成部材１１５の両端部は、各支持管１１９，１１９内に嵌合され、各支持管１１９，１１９の長手方向の中途部までそれぞれ嵌合されている。
【００８０】
通路形成部材１１５が内管１１３内に挿入されることで内管１１３の軸芯回りに捩じれた螺旋状の通路１２１，１２１が内管１１３内に形成される。すなわち、通路形成部材１１５の帯状の壁面によって内管１１３内が２つの通路１２１，１２１に区画され、これらの２つの通路１２１，１２１は共に螺旋状の通路とされる。
外管１０９の各雌ねじ部１０９ａ，１０９ａと各締結部材１１１，１１１の雄ねじ部１１１ａとはテーパねじ構造とされ、互いに強固に螺合することによって両ねじ部同士の締結が緩み難くされるとともに螺合部が気密状態に保持される。前記外管１０９、各締結部材１１１，１１１、通路形成部材１１５、各内嵌管１１７，１１７および各支持管１１９，１１９はステンレス製の部材、または、表面が亜鉛メッキ，クロムメッキ，ニッケルメッキ，もしくはニッケル−クロムメッキ等の表面処理で被覆された鉄製の部材で構成され、内管１１３は多孔質セラミックスで構成されている。
【００８１】
多孔質セラミックスとしては、例えば、アルミナ、ムライト、コーディエライト、シリコンナイトライド等を挙げることができる。
なお、内管１１３は、細孔が無数に形成されたものであれば多孔質セラミックスでなくてもよく、例えば、ガラス，シリコン，発泡塩化ビニールまたはテフロン（登録商標、正確にはＰＴＦＥ（ポリテトラフルオロエチレン））系発泡体等の材料で形成してもよい。
図３１に示すように、高温の水蒸気とオゾン含有ガスとをガス混入装置１０３により混合させて同時に地中Ｍに注入する場合は、水蒸気供給装置９５の圧力調整弁９５ｂから水蒸気供給管１０５に水蒸気を供給する際の圧力を所定の圧力（例えば０．５ＭＰａ（メガパスカル））とする一方、オゾン含有ガス供給装置６９からオゾン含有ガス送出管１０７に水蒸気を供給する際の圧力を前記水蒸気の供給圧力より高い所定の圧力（例えば０．６ＭＰａ（メガパスカル）ないし０．７ＭＰａ（メガパスカル）のうちの何れかの圧力）とする。
【００８２】
而して、水蒸気供給管１０５を介して高温の水蒸気をガス混入装置１０３内に供給することで、内管１１３の一部の部位に偏ることなく広い領域に亘って均一にオゾン含有ガスが内管１１３内を通過するようになり、内管１１３内を流れる水蒸気にオゾン含有ガスが均一に混入する。
なお、上述したガス混入装置１０３は、外管１０９と内管１１３と通路形成部材１１５とを１個ずつ備えている例を示したが、これに限らず、これらの外管１０９等と同一または同等のものを軸方向にそれぞれ２個以上、連設して、さらに長尺のガス混入装置を構成し、そのガス混入装置を使用して水蒸気とオゾン含有ガスとを同時に注入するようにしてもよい。その場合は、オゾン含有ガス送出管１０７を分岐してそれらの分岐端部を各外管１０９に設けられた注入部１０９ｂにそれぞれ接続する。これによっても、オゾン含有ガス供給装置６９からガス混入装置にオゾン含有ガスが供給され、オゾン含有ガスが水蒸気に均一に混入される。
【符号の説明】
【００８３】
３  試錐管
３ａ  貫通孔
５  第一挿入用具（挿入用具）
９ａ，９ｂ，９ｃ  流通管（連通路）
３１ａ，３１ｂ，３１ｃ，３１ｄ  膨張管（膨張部材）
６１  第二挿入用具（挿入用具）
Ｄ１  所定の値
Ｍ  地中
Ｒ１〜Ｒ１１  小領域
【図１】
2017080668.tif 000003
【図２】
2017080668.tif 000004
【図３】
2017080668.tif 000005
【図４】
2017080668.tif 000006
【図５】
2017080668.tif 000007
【図６】
2017080668.tif 000008
【図７】
2017080668.tif 000009
【図８】
2017080668.tif 000010
【図９】
2017080668.tif 000011
【図１０】
2017080668.tif 000012
【図１１】
2017080668.tif 000013
【図１２】
2017080668.tif 000014
【図１３】
2017080668.tif 000015
【図１４】
2017080668.tif 000016
【図１５】
2017080668.tif 000017
【図１６】
2017080668.tif 000018
【図１７】
2017080668.tif 000019
【図１８】
2017080668.tif 000020
【図１９】
2017080668.tif 000021
【図２０】
2017080668.tif 000022
【図２１】
2017080668.tif 000023
【図２２】
2017080668.tif 000024
【図２３】
2017080668.tif 000025
【図２４】
2017080668.tif 000026
【図２５】
2017080668.tif 000027
【図２６】
2017080668.tif 000028
【図２７】
2017080668.tif 000029
【図２８】
2017080668.tif 000030
【図２９】
2017080668.tif 000031
【図３０】
2017080668.tif 000032
【図３１】
2017080668.tif 000033
【図３２】
2017080668.tif 000034