(57)【要約】      （修正有）【課題】生産性を低下させずに、波長８５０ｎｍにおける透明性(光伝搬性)に優れた光導波路の製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層４、コア部２、上部クラッド層３からなる光導波路であって、コア部が（Ｉ）感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層する工程、（ＩＩ）所望のパターンを露光する工程及び（ＩＩＩ）アルカリ性現像液を用いて現像する工程を含み、アルカリ性現像液中での前記感光性樹脂層の膨潤度が、１０質量％以下となる感光性樹脂組成物を用いる光導波路の製造方法。感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層が、（Ａ）酸性基を有する化合物、（Ｂ）重合性基を有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）連鎖移動剤を含む感光性樹脂組成物であると好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層、コア部、上部クラッド層からなる光導波路であって、前記コア部が（Ｉ）感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層する工程、（ＩＩ）所望のパターンを露光する工程及び（ＩＩＩ）アルカリ性現像液を用いて現像する工程を含み、前記アルカリ性現像液中での前記感光性樹脂層の膨潤度が、１０質量％以下となる感光性樹脂組成物を用いる光導波路の製造方法。
【請求項２】
前記アルカリ性現像液が、アルカリ金属を含む水溶液である請求項１に記載の光導波路の製造方法。
【請求項３】
前記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層が、（Ａ）酸性基を有する化合物、（Ｂ）重合性基を有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）連鎖移動剤を含む樹脂組成物からなる請求項１又は請求項２に記載の光導波路の製造方法。
【請求項４】
前記（Ｃ）光重合開始剤が、光ラジカル開始剤である請求項３に記載の光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記（Ｄ）連鎖移動剤が、硫黄原子を含む化合物である請求項３又は請求項４に記載の光導波路の製造方法。
【請求項６】
光伝播損失が、０．２０ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１〜５のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路の製造方法に関し、特に波長８５０ｎｍの透明性に優れ（低光伝搬損失）、かつ公知のフォトリソグラフィー法によって容易に所望のパターンを形成できる感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を用いた光導波路の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子素子間や配線基板間の高速・高密度信号伝送において、従来の電気配線による伝送では、信号の相互干渉や減衰が障壁となり、高速・高密度化の限界が見え始めている。これを打ち破るため電子素子間や配線基板間を光で接続する技術、いわゆる光インターコネクションが検討されている。光の伝送路として加工の容易さ、高い配線形成の自由度、かつ高密度化が可能な点からポリマー光導波路が注目を集めている。
【０００３】
ポリマー光導波路の形態として、光電気混載基板への適用を想定したガラスエポキシ樹脂基板上に作製するタイプやボード同士の接続を想定した硬い支持基板を持たないフレキシブルタイプが好適と考えられる。
【０００４】
ポリマー光導波路には、適用される機器の使用環境、部品実装等の観点から、高透明性（低光伝搬損失）と共に、生産性の観点から加工の容易さも要求される。
このような光導波路を形成できる樹脂組成物として、特許文献１には、オキセタン環構造含有（メタ）アクリロイル化合物及び酸性基を有するラジカル重合性化合物からなるラジカル共重合体等を含むカチオン硬化性樹脂組成物が開示されている。
また、特許文献２には、透明性及び耐熱性に優れる光導波路を形成できる樹脂組成物として、主鎖にウレタン骨格を有するアルカリ可溶性のエポキシ（メタ）アクリレートを用いた光学材料用樹脂組成物が開示されている。
【０００５】
特許文献１及び２では光導波路を簡便かつ高精度に形成する方法の１つとして、露光・現像によりコアパターンを形成する方法が用いられている。ここで、露光プロセスは光照射部の感光性樹脂を３次元架橋させて不溶化する工程であり、現像プロセスは未露光部、すなわち未反応部分の感光性樹脂を現像液（ここではアルカリ性水溶液のことをいう）に溶解させ除去する工程のことをいう。
【０００６】
特許文献１及び２で用いられている光導波路形成用材料は、アルカリ性現像液に可溶とするために、カルボキシル基が導入されており、そのため、露光により不溶化したコアパターンにおいても、酸性官能基がアルカリ性現像液によって中和されて塩を形成する。特に、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどのアルカリ金属化合物を含んでなるアルカリ性現像液を用いた場合、生成した１価の塩は化学的に不安定になる傾向がある。
【０００７】
不安定な塩が残存したコアパターンは、コアパターン内部が不均一構造となるために透明性（光伝搬損失）の観点から好ましくないばかりか、光導波路の信頼性の観点からも好ましくない。
【０００８】
現像後に酸性水溶液を用いて洗浄することで、前記１価の塩を元の酸性官能基へ戻す工程を加える方法も提唱されている（特許文献３）。この方法は光導波路の信頼性を確保する方法として好適に用いることができる。
【０００９】
この方法を用いることで光導波路の信頼性を確保することができるが、光導波路の製造における工程数が増えるため、コストの増加や生産性が低下しやすくなるなどの課題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１４−５９５０５号公報
【特許文献２】特開２０１３−１１９６０５号公報
【特許文献３】特許第５４３３９５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は、前記の課題を解決するためになされたもので、生産性を低下させずに、波長８５０ｎｍにおける透明性（光伝搬性）に優れた光導波路を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、光導波路のコア部に用いる樹脂層が連鎖移動剤を含有することで、アルカリ性水溶液中での膨潤度が１０質量％以下を示す樹脂を用いることによって、特許文献３で提唱されている方法を用いることなく、波長８５０ｎｍにおける高い光伝搬性（低光伝搬損失）を呈する光導波路が得られることを見出した。
【００１３】
すなわち、本発明は、以下の［１］〜[６]に関する。
［１］下部クラッド層、コア部、上部クラッド層からなる光導波路であって、前記コア部が（Ｉ）感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層する工程、（ＩＩ）所望のパターンを露光する工程及び（ＩＩＩ）アルカリ性現像液を用いて現像する工程を含み、前記アルカリ性現像液中での前記感光性樹脂層の膨潤度が、１０質量％以下となる感光性樹脂組成物を用いる光導波路の製造方法。
［２］前記アルカリ性現像液が、アルカリ金属を含む水溶液である上記［１］に記載の光導波路の製造方法。
［３］前記感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層が、（Ａ）酸性基を有する化合物、（Ｂ）重合性基を有する化合物、（Ｃ）光重合開始剤、（Ｄ）連鎖移動剤を含む樹脂組成物からなる上記［１］又は［２］に記載の光導波路の製造方法。
［４］前記（Ｃ）光重合開始剤が、光ラジカル開始剤である上記［３］に記載の光導波路の製造方法。
［５］前記（Ｄ）連鎖移動剤が、硫黄原子を含む化合物である上記［３］又は［４］に記載の光導波路の製造方法。
［６］光伝播損失が０．２ｄＢ／ｃｍ以下である上記［１］〜［５］のいずれか一項に記載の光導波路の製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の光導波路の製造方法によると、生産性を低下させずに、アルカリ金属を含むアルカリ性水溶液を用いたフォトリソグラフィーによって加工が可能であって、波長８５０ｎｍにおける透明性及び光伝搬性に優れた光導波路を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明に係る光導波路の形態を説明する断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の具体的な実施形態について、詳細に説明するが、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではなく、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。なお、本明細書では、（メタ）アクリレートは、アクリレート又はメタクリレートを意味する。
【００１７】
［感光性樹脂組成物］
本発明で用いる光導波路用感光性樹脂組成物は、（Ａ）酸性基を有する化合物（以下、「（Ａ）成分」ともいう）、（Ｂ）重合性基を有する化合物（以下、「（Ｂ）成分」ともいう）、（Ｃ）光重合開始剤（以下、「（Ｃ）成分」ともいう）、（Ｄ）連鎖移動剤（以下、「（Ｄ）成分」ともいう）を含有する感光性樹脂組成物であって、（Ｃ）光重合開始剤が、光ラジカル開始剤であり、（Ｄ）連鎖移動剤が、硫黄原子を含む化合物を含有する感光性樹脂組成物であると好ましい。
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、活性光線の照射によって硬化するものであり、必要に応じて加熱処理を加えてもよい。
【００１８】
＜（Ａ）酸性基を有する化合物（（Ａ）成分）＞
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、（Ａ）成分として、酸性基を有する化合物を含有する。
以下、（Ａ）酸性基含有化合物について説明する。
【００１９】
上記酸性基としてはカルボキシ基、フェノール性水酸基、スルホキシ基、ホスホノオキシ基等が挙げられる。これらの中でも透明性、耐熱性、保存安定性の観点から、カルボキシ基であることが好ましい。
【００２０】
カルボキシ基を有する（Ａ）成分としては、分子内にカルボキシ基及びエチレン性不飽和基を有する化合物と、カルボキシ基がなく、エチレン性不飽和基を有する上記以外の化合物との共重合体や、分子内に水酸基を２つ以上有するエポキシ（メタ）アクリレート化合物にカルボン酸無水物を反応させて得られる酸変性エポキシ（メタ）アクリレート化合物、分子内に２つ以上の水酸基を有するエポキシ（メタ）アクリレート化合物とジイソシアネート化合物、及び分子内にカルボキシ基を有するジオール化合物とを反応させて得られるウレタン結合を含有するエポキシ（メタ）アクリレート樹脂等が例示される。中でも現像性、透明性、及び耐熱性などの観点からウレタン結合を有するエポキシ（メタ）アクリレート樹脂を用いることが好ましい。
【００２１】
上記（Ａ）酸性基を有する化合物としては、さらに、分子内に重合性基を有していてもよい。ここで、重合性基とはエチレン性不飽和基やエポキシ基、オキセタニル基など加熱や活性光線の照射によって重合反応が進行する官能基のことをいう。中でも、反応性や硬化物の強度の観点から重合性基はエチレン性不飽和基であることが好ましい。
【００２２】
以下、例として、分子内にカルボキシ基及びウレタン結合を有するエポキシ（メタ）アクリレート樹脂（以下、「カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂」ともいう）について説明する。
【００２３】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は上述のように、分子内に２つ以上の水酸基を有するエポキシ（メタ）アクリレート化合物（以下、「原料エポキシ（メタ）アクリレート」ともいう）、ジイソシアネート化合物（以下、「原料ジイソシアネート」ともいう）、及び分子内にカルボキシ基を有するジオール化合物（以下、「原料ジオール」ともいう）とを反応させることによって製造することができる。
以下、各原料及び製造方法について詳細に説明する。
【００２４】
［エポキシ（メタ）アクリレート化合物（原料エポキシ（メタ）アクリレート）］
上記原料エポキシ（メタ）アクリレートとしては、分子内に水酸基を２つ以上有するエポキシ（メタ）アクリレート化合物であれば特に制限なく用いることができる。
具体例としては、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物（以下、原料エポキシ化合物ともいう）とアクリル酸、メタクリル酸、及びこれらの誘導体でカルボキシ基を有する化合物（以下、「（メタ）アクリル酸化合物」ともいう）とを反応させて得られる化合物等が挙げられる。
すなわち、分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物のエポキシ基を各々（メタ）アクリル酸化合物のカルボキシ基とエステル化反応させることにより、エポキシ基の開環によって水酸基が生じることによって、２つ以上の水酸基と（メタ）アクリル酸化合物由来のエチレン性不飽和基を２つ以上有するエポキシ（メタ）アクリレート化合物が得られる。
【００２５】
上記分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ樹脂等の主骨格にビスフェノールＡ型骨格を有するエポキシ化合物、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦノボラック型エポキシ樹脂等の主骨格にビスフェノールＦ型骨格を有するエポキシ化合物、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳノボラック型エポキシ樹脂等の主骨格にビビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ化合物などのビスフェノール型骨格を有するエポキシ化合物；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、アラルキルノボラック型エポキシ樹脂、前記各種ビスフェノールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エポキシ化合物；ナフタレン、フルオレン等の多環芳香族基を有するエポキシ化合物、環状アルキル基及び鎖状アルキル基から選ばれる１種以上を有するエポキシ化合物等が挙げられる。
【００２６】
このようなエポキシ（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、下記一般式（１）であらわされる化合物が好適に挙げられる。
【００２７】
【化１】
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（一般式（１）中、Ｒ１１は前記分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物の２価の残基を示し、Ｒ１３は水素原子又はメチル基を示す。
なお、残基とは、原料成分から結合に供された官能基を除いた部分の構造をいう。）
【００２８】
これらのエポキシ（メタ）アクリレート化合物は単独で又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００２９】
［ジイソシアネート化合物（原料ジイソシアネート）］
上記原料ジイソシアネートとしては、イソシアナト基を２つ以上有する化合物であれば特に制限なく用いることができる。
ジイソシアネート化合物の具体例としては、フェニレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニルジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート化合物；ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、アリレンスルホンエーテルジイソシアネート、アリルシアンジイソシアネート、Ｎ−アシルジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアネートメチル）シクロヘキサン、ノルボルネンジイソシアネートメチル等の脂肪族ジイソシアネート化合物等の公知のジイソシアネート化合物が挙げられる。
これらのジイソシアネート化合物は単独で、又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３０】
［ジオール化合物（原料ジオール）］
上記原料ジオールとしては、カルボキシ基を有するジオール化合物であり、アルコール性水酸基及びフェノール性水酸基から選ばれる１種以上の水酸基を分子内に２つ以上有する化合物であれば特に制限なく用いることができる。特に、透明性の観点から、アルコール性水酸基を有していることが好ましい。
このようなジオール化合物としては、カルボキシ基を有する脂肪族ジオール化合物であってもよく、アルコール性水酸基を２つと、カルボキシ基を１つ有する脂肪族ジオール化合物であってもよく、メチロール基を２つと、カルボキシ基を１つ有する脂肪族ジオール化合物であってもよく、下記一般式（２）で表される化合物であってもよい。
【００３１】
【化２】
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（一般式（２）中、Ｒ１４は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、炭素数１〜５のアルキル基であってもよい。）
【００３２】
このようなジオール化合物としては、ジメチロールプロピオン酸、ジメチロールブタン酸、ジメチロールノナン酸等のジオール化合物が挙げられる。
これらのジオール化合物は、単独で、又は２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００３３】
次に、上述した原料成分を用いてカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂を製造する工程の例を説明する。
【００３４】
［カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の製造方法］
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の製造では、まず、原料エポキシ（メタ）アクリレート、原料ジイソシアネート、及び原料ジオールとを反応させる。
この反応において、原料エポキシ（メタ）アクリレートの水酸基と原料ジイソシアネートのイソシアナト基との間、及び原料ジオールの水酸基及び原料ジイソシアネートのイソシアナト基との間で、いわゆるウレタン化反応が生じる。
この反応により、例えば、原料エポキシ（メタ）アクリレート由来の構造単位と、原料ジオール由来の構造単位を介して、交互に又はブロック状に重合されたカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が生じる。
【００３５】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の製造工程では、上記原料エポキシ（メタ）アクリレート、原料ジイソシアネート、原料ジオール以外にこれらとは異なるエポキシ（メタ）アクリレート化合物及び／又はジオール化合物、及び／又はジイソシアネート化合物をさらに添加してもよい、これにより、得られるカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の主鎖構造を変えることが可能となり、後述する酸価等の特性を所望の範囲に調整できる。また、上述した工程では、適宜触媒等を用いてもよい。
【００３６】
このような製造方法により得られるカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の主鎖を構成する構造単位は下記一般式（３）で表される。
【００３７】
【化３】
2017138495.tif 000005
（一般式（３）中、Ａは原料エポキシ（メタ）アクリレート及び原料ジオールから選ばれる１種の化合物の２価の残基を示し、Ｂは原料ジイソシアネートの２価の残基を示す。ただし、カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂に複数存在する一般式（３）で表される構造単位の中でも、少なくとも１つの構造単位は原料エポキシ（メタ）アクリレートに由来する２価の残基であるＡを有するものであり、少なくとも１つの構造単位は原料ジイソシアネートに由来する２価の残基であるＢを有するものである。）
【００３８】
このようなカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては下記一般式（４−１）、及び（４−２）で表される構造単位を有する化合物であってもよく、これらの構造単位が交互に、又はブロック状に重合された化合物であってもよい。
【００３９】
【化４】
2017138495.tif 000006
（一般式（４−１）中、Ｒ１１は前記分子内に２つ以上のエポキシ基を有する化合物の２価の残基を示し、Ｒ１３は水素原子又はメチル基を示す。
一般式（４−１）及び（４−２）中、Ｒ１２は原料ジイソシアネート化合物の２価の残基を示す。
一般式（４−２）中、Ｒ１４は炭素数１〜１０のアルキル基を示し、炭素数１〜５のアルキル基であってもよい。また、式中に複数ある基は、それぞれ同一でも異なってもいてもよい。
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂が有する末端の水酸基は、飽和又は不飽和多塩基酸無水物で処理されていてもよい。）
【００４０】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂中における、前記一般式（４−１）で表される構造単位と前記一般式（４−２）で表される構造単位との合計含有量は、カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂中に含まれる前記一般式（３）で表される構造単位の総モル数に対して、５０〜１００モル％であってもよく、６０〜１００モル％であってもよく、８０〜１００モル％であってもよい。
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂中における、前記一般式（４−１）で表される構造単位の含有量は、カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂中に含まれる前記一般式（３）で表される構造単位の総モル数に対して、５〜９５モル％であってもよく、１０〜９０モル％であってもよく、１５〜８０モル％であってもよい。
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂における、前記一般式（４−２）で表される構造単位の含有量は、前記一般式（３）で表される構造単位の総モル数に対して、５〜９５モル％であってもよく、１０〜９０モル％であってもよく、１５〜８０モル％であってもよい。
【００４１】
すなわち、カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は、下記一般式（５）で表される構造単位を有する化合物であってもよい。
【００４２】
【化５】
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（一般式（５）中、Ｒ１１〜Ｒ１４は前記と同様である。）
【００４３】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては、前記一般式（５）で表される化合物の中でも、透明性や耐熱性の観点から、主骨格の一つとなる原料エポキシ（メタ）アクリレート化合物のハードセグメント部、すなわちＲ１１がビスフェノール型骨格のものであってもよく、中でも、ビスフェノールＡ型骨格のものであってもよい。
このようなカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては、市販品を用いてもよい。市販品のカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂としては「ＵＸＥ−３０００」、「ＵＸＥ−３０１１」、「ＵＸＥ−３０１２」、「ＵＸＥ−３０２４」（いずれも、日本化薬株式会社製）等が商業的に入手可能である。これらのカルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は単独で又は２種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４４】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の酸価は、２０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよく、３０〜１８０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよく、４０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであってもよい。これにより、感光性樹脂組成物のアルカリ性水溶液による現像性が良好となり、優れた解像度が得られる傾向にある。
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の酸価は原料組成により調整することができる。例えば、原料ジオール化合物の配合量を多くすることで酸価を高め、逆に原料ジオール化合物の配合量を少なくすることで酸価を低くすることができる。
【００４５】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の酸価は以下の方法により測定することができる。まず、測定を行う樹脂溶液を約１ｇ精秤した後、その樹脂溶液にアセトンを約３０ｇ添加し、樹脂溶液を均一に溶解する。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１Ｎの水酸化カリウム（ＫＯＨ）水溶液を用いて滴定を行う。そして、次式により酸価を算出する。
Ａ＝１０×Ｖｆ×５６．１１／（Ｗｐ×Ｉ）
なお、式中のＡは酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）を、Ｖｆは０．１ＮのＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）を、Ｗｐは測定する樹脂溶液の質量（ｇ）を、Ｉは測定する樹脂溶液の不揮発分の割合（質量％）をそれぞれ示す。
【００４６】
カルボキシ基含有ウレタン／エポキシ（メタ）アクリレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、塗膜性の観点から、２，０００〜５０，０００であってもよく、３，０００〜３０，０００であってもよく、５，０００〜２０，０００であってもよい。
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）はゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）による標準ポリスチレン換算値から求めることができ、具体的には実施例に記載の方法から求めることができる。
【００４７】
本発明で用いる感光性樹脂組成物中における（Ａ）酸性基を有する化合物の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜９０質量％であってもよい。（Ａ）成分の含有量が１０質量％以上であれば、露光による未硬化部の現像性が十分となり、（Ａ）成分の含有量が９０質量％以下であれば、露光時に（Ｂ）成分によって絡めこまれて容易に硬化し、耐現像液性が十分となる傾向にある。以上の観点から、（Ａ）成分の含有量が２０〜８０質量％であってもよく、３０〜７０質量％であってもよい。
【００４８】
＜（Ｂ）重合性基を有する化合物（（Ｂ）成分）＞
以下、本発明に用いられる（Ｂ）成分について説明する。
（Ｂ）重合性基を有する化合物としては、活性光線の照射によって重合反応が進行する官能基を有する化合物であれば特に制限なく用いることができる。中でも、硬化物の強度の観点から、１分子中に２つ以上の重合性基を有する化合物を用いることが好ましい。重合性基としては、エチレン性不飽和基、エポキシ基、オキセタニル基、イソシアナト基等が挙げられる。中でも反応性や透明性の観点からエチレン性不飽和基及びエポキシ基を用いることが好ましい。
【００４９】
上記エチレン性不飽和基をその分子中に２つ以上有する化合物としては、例えば、２官能（メタ）アクリレート化合物や３官能以上を有する多官能（メタ）アクリレート化合物が挙げられる。
【００５０】
上記２官能（メタ）アクリレートとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化シクロヘキサンジメタノール（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリシクロデカンジメタノール（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化水添ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化水添ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化水添ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、１，２−デカヒドロナフタレンジメタクリレート、１，３−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、１，４−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、１，５−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、１，６−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、１，７−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、１，８−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、２，３−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、２，６−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、２，７−デカヒドロナフタレンジ（メタ）アクリレート、等の脂環式（メタ）アクリレート；エトキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、エトキシ化ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、エトキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化フルオレン型ジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート；これらのカプロラクトン変性体；ネオペンチルグリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート等の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＳ型エポキシジ（メタ）アクリレート、デカヒドロナフタレン型エポキシジ（メタ）アクリレートなどの脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；レゾルシノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳ型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレン型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェニル型エポキシジ（メタ）アクリレート、ナフタレン型エポキシジ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
これらの中でも透明性及び耐熱性の観点から、上記脂環式（メタ）アクリレート；上記芳香族（メタ）アクリレート；上記複素環式（メタ）アクリレート；上記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；上記芳香族エポキシ（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５１】
上記３官能以上の多官能（メタ）アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の脂肪族多官能（メタ）アクリレート；エトキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート、エトキシ化プロポキシ化イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の複素環式多官能（メタ）アクリレート；これらの多官能（メタ）アクリレートのカプロラクトン変性体；（メタ）アクリロイル基を３つ以上有する、フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、ビフェニルアラルキル型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスナフタレン型エポキシ（メタ）アクリレート等の芳香族多官能エポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらの中でも透明性、加工性、サイズ制御性及び耐熱性の観点から、複素環式多官能（メタ）アクリレート、芳香族多官能エポキシ（メタ）アクリレートであってもよい。
【００５２】
これらの２官能又は３官能以上の多官能の（メタ）アクリレートは、各々単独で又は２種類以上を組み合わせて使用してもよく、さらに、その他の重合性化合物と組み合わせて使用してもよい。
【００５３】
また、前記エチレン性不飽和基以外に好ましい官能基としてエポキシ基が挙げられる。エポキシ基を含有する化合物を用いることで、前記（Ａ）酸性基を有する化合物のカルボン酸との間で、いわゆるエポキシ−カルボキシラート反応が生じ、耐熱性や硬化物の強度を高めることが期待される。
【００５４】
上記エポキシ基を含有する化合物としては、分子中に２つ以上エポキシ基を有する化合物であることが好ましく、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル；水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、水添２，２´−ビフェノール型エポキシ樹脂、水添４，４´−ビフェノール型エポキシ樹脂等の水添２官能フェノールグリシジルエーテル；フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ジシクロペンタジエン−フェノール型エポキシ樹脂、テトラフェニロールエタン型エポキシ樹脂等の多官能フェノールグリシジルエーテル；ポリエチレングリコール型エポキシ樹脂、ポリプロピレングリコール型エポキシ樹脂、ネオペンチルグリコール型エポキシ樹脂、１，６−ヘキサンジオール型エポキシ樹脂等の２官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル；シクロヘキサンジメタノール型エポキシ樹脂、トリシクロデカンジメタノール型エポキシ樹脂等の２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル；トリメチロールプロパン型エポキシ樹脂、ソルビトール型エポキシ樹脂、グリセリン型エポキシ樹脂等の多官能脂肪族アルコールグリシジルエーテル；フタル酸ジグリシジルエステル等の２官能芳香族グリシジルエステル；テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル等の２官能脂環式グリシジルエステル；Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルトリフルオロメチルアニリン等の２官能芳香族グリシジルアミン；Ｎ，Ｎ，Ｎ´，Ｎ´−テトラグリシジル−４，４−ジアミノジフェニルメタン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−グリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、Ｎ，Ｎ，Ｏ−トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール等の多官能芳香族グリシジルアミン；アリサイクリックジエポキシアセタール、アリサイクリックジエポキシアジペート、アリサイクリックジエポキシカルボキシレート、ビニルシクロヘキセンジオキシド等の２官能脂環式エポキシ樹脂；２，２−ビス（ヒドロキシメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加体等の多官能脂環式エポキシ樹脂；トリグリシジルイソシアヌレート等の多官能複素環式エポキシ樹脂；オルガノポリシロキサン型エポキシ樹脂等の２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂などが挙げられる。
【００５５】
これらの中で、透明性及び耐熱性の観点から、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡＤ型エポキシ樹脂、ビフェニル型エポキシ樹脂、ナフタレン型エポキシ樹脂、フルオレン型エポキシ樹脂等の２官能フェノールグリシジルエーテル；上記水添２官能フェノールグリシジルエーテル；上記多官能フェノールグリシジルエーテル；上記２官能脂環式アルコールグリシジルエーテル；上記２官能芳香族グリシジルエステル；上記２官能脂環式グリシジルエステル；上記２官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能脂環式エポキシ樹脂；上記多官能複素環式エポキシ樹脂；上記２官能又は多官能ケイ素含有エポキシ樹脂であることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用することもできる。
【００５６】
また、分子中に上記エチレン性不飽和基とエポキシ基の両方を有する化合物を使用することができる。
【００５７】
上記エチレン性不飽和基とエポキシ基の両方を有する化合物としては、１分子中に２つ以上のエポキシ基を有するエポキシ樹脂を、１当量未満の（メタ）アクリル酸化合物と反応させて得られるエポキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとエピハロヒドリンとを反応させて得られるヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００５８】
前記１分子中に２つ以上のエポキシ基を含有するエポキシ樹脂としては、上記２官能又は３官能以上の多官能エポキシ化合物を用いることができる。なかでも、透明性の観点から用いるエポキシ化合物はビスフェノール型エポキシ化合物であってもよい。
【００５９】
前記ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとエピハロヒドリンとを反応させて得られるヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートグリシジルエーテルの具体例としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、２−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、４−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、５−ヒドロキシペンチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、２−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、４−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、５−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
これらのエポキシ基を有するエポキシ（メタ）アクリレートは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用してもよく、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて使用してもよい。
【００６０】
また、分子中にエチレン性不飽和基とエポキシ基の両方を有する化合物は、耐熱性及び透明性の観点から、さらに、分子中にアリーレン基、アリーレンオキシ基、アルキレンアリーレン基、脂環式炭化水素基、及びアルキレン基から選ばれる１種以上を有する化合物であってもよい。なお、アリーレン基とは、フェニレン基、ナフチレン基、ビフェニレン基、フルオレニレン基等の２価の芳香族炭化水素基、及びカルバゾリレン基、ピリジレン基等の２価の芳香族複素環基を表す。
【００６１】
より具体的にはエチレン性不飽和基、エポキシ基、及びアリーレン基を有する下記一般式（６）であらわされる化合物及び下記一般式（７）で表される化合物から選ばれる１種以上であってもよい。
【００６２】
【化６】
2017138495.tif 000008
（一般式（６）中、Ｘ２１及びＸ２２は各々独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ−及び−Ｏ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］ｂ−のいずれかの２価の基を示し、ａ及びｂは各々独立して１〜３０の整数を示す。
一般式（６）中、Ｙ２は、
【化７】
2017138495.tif 000009
のいずれかで示される２価の基を示し、ｃは２〜１０の整数を示す。
一般式（６）中、Ｒ２１は水素原子及びメチル基のいずれかを示す。Ｒ２２〜Ｒ２５は各々独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数１〜２０の有機基及び炭素数１〜２０の含フッ素有機基のいずれかを示す。）
【００６３】
なお、本明細書中、２価の基における−は結合手を意味し、
【化８】
2017138495.tif 000010
で表される基は、ｃ＋１個の炭素数を有する２価のシクロアルキレン基を意味する。
【００６４】
【化９】
2017138495.tif 000011
（一般式（７）中、Ｘ３１及びＸ３２は各々独立に−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ａ−及び−Ｏ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］ｂ−のいずれかの２価の基を示し、ａ及びｂは各々独立して１〜３０の整数を示し、ｄは１〜１０の整数を示す。
一般式（７）中、Ｙ３は、
【化１０】
2017138495.tif 000012
のいずれかで示される２価の基を示し、ｃは２〜１０の整数を示す。
一般式（７）中、Ｒ３１は水素原子及びメチル基のいずれかを示す。Ｒ３２〜Ｒ３５は各々独立して、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子、炭素数１〜２０の有機基及び炭素数１〜２０の含フッ素有機基のいずれかを示す。）
【００６５】
一般式（６）及び（７）における有機基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基等の１価の基が挙げられ、それらはさらに、ヒドロキシ基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基等で置換されていてもよい。
【００６６】
上記（Ｂ）重合性基を有する化合物の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜９０質量％であってもよい。（Ｂ）成分の含有量が１０質量％以上であると、（Ａ）成分とともに硬化することが容易となり、耐現像液性の不足が抑制される傾向にある。（Ｂ）成分の含有量が９０質量％以下であると、硬化物の強度及び可撓性が十分となる傾向にある。これらの観点から（Ｂ）成分の含有量は２０〜８０質量％であってもよく、３０〜７０質量％であってもよい。
【００６７】
＜（Ｃ）光重合開始剤（（Ｃ）成分）＞
以下、本発明に用いられる（Ｃ）光重合開始剤について説明する。
（Ｃ）光重合開始剤としては、活性光線の照射によって、（Ｂ）重合性化合物の重合を開始させるものであれば、特に制限なく用いることができる。
【００６８】
（Ｃ）光重合開始剤の具体例としては、（Ｂ）成分にエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、常温で硬化が可能であることから光ラジカル重合開始剤が好適に挙げられる。
【００６９】
上記光ラジカル重合開始剤としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のα−アミノケトン；１−［（４−フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタジオン−２−（ベンゾイル）オキシム等のオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラメチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ´−テトラエチル−４，４´−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４´−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９´−アクリジニルヘプタン）等のアクリジン化合物；Ｎ−フェニルグリシン；クマリンなどが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、加工性、サイズ制御性及び耐熱性の観点から、α−ヒドロキシケトン及びホスフィンオキシドから選ばれる１種以上であってもよい。
【００７０】
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また、ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン化合物と３級アミンとを組み合わせてもよい。
【００７１】
上記光ラジカル開始剤に加えて、さらに、加熱によってラジカル種を発生させ重合を開始させる熱ラジカル開始剤を用いてもよい。
【００７２】
上記熱ラジカル重合開始剤としては、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド；α，α´−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウリレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル；２，２´−アゾビスイソブチロニトリル、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２´−アゾビス（４−メトキシ−２´−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物などが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、加工性、サイズ制御性及び耐熱性の観点から、ジアシルパーオキシド、パーオキシエステル及びアゾ化合物から選ばれる１種以上であってもよい。
【００７３】
これらのラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用してもよく、適切な増感剤と組み合わせて使用してもよい。
【００７４】
また、（Ｂ）成分として、エポキシ基を含有する化合物を用いる場合、（Ｃ）重合開始剤としては、常温硬化が可能である光カチオン重合開始剤を用いてもよい。
【００７５】
上記光カチオン重合開始剤としては、ｐ−メトキシベンゼンジアゾニウムヘキサフルオロホスフェート等のアリールジアゾニウム塩、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアリールヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−チオフェノキシフェニルスルホニウムペンタフルオロヒドロキシアンチモネート等のトリアリールスルホニウム塩；トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルセレノニウムテトラフルオロボレート、トリフェニルセレノニウムヘキサフルオロアンチモネート等のトリアリールセレノニウム塩；ジメチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジエチルフェナシルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキルフェナシルスルホニウム塩；４−ヒドロキシフェニルジメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ヒドロキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のジアルキル−４−ヒドロキシ塩；α−ヒドロキシメチルベンゾインスルホン酸エステル、Ｎ−ヒドロキシイミドスルホネート、α−スルホニロキシケトン、β−スルホニロキシケトン等のスルホン酸エステルなどが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、加工性、サイズ制御性及び耐熱性の観点から、前記トリアリールスルホニウム塩であってもよい。
【００７６】
さらに、加熱によってカチオン種を生じ、硬化を開始する熱カチオン重合開始剤を使用してもよい。
【００７７】
上記熱カチオン重合開始剤としては、ｐ−アルコキシフェニルベンジルメチルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のベンジルスルホニウム塩；ベンジル−ｐ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−ナフチルメチル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、シンナミル−ｏ−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート等のピリジニウム塩；ベンジルジメチルフェニルアンモニウムヘキサフルオロアンチモネート等のベンジルアンモニウム塩などが挙げられる。
これらの中でも、硬化性、透明性、加工性、サイズ制御性及び耐熱性の観点から、前記ベンジルスルホニウム塩であってもよい。
【００７８】
これらのカチオン重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用してもよく、適切な増感剤と組み合わせて使用してもよい。
【００７９】
（Ｃ）重合開始剤の含有量は（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量％に対して、０．１〜１０質量％であってもよい。（Ｃ）重合開始剤の含有量が０．１質量％以上であると、硬化が十分となる傾向にあり、１０質量％以下であると、十分な光透過性が得られる傾向にある。このような観点から、（Ｃ）重合開始剤の含有量は、０．３〜７質量％であってもよく、０．５〜５質量％であってもよい。
【００８０】
＜（Ｄ）連鎖移動剤（（Ｄ）成分）＞
以下、本発明に用いられる（Ｄ）連鎖移動剤について説明する。
本発明において、（Ｄ）連鎖移動剤としては、ラジカル重合反応における連鎖移動剤として機能するものであれば、特に制限なく用いることができる。具体的には、スチレンダイマー誘導体等のエチレン性不飽和基を有する化合物や、ピラゾール誘導体等の窒素原子を含有する化合物、アルキルチオール誘導体等の硫黄原子を含有する化合物が好適に挙げられる。なかでも、反応性や溶解性の観点から、アルキルチオール誘導体であってもよく、より好ましくは１分子中に２個以上のチオール基を含有する化合物であってもよい。
【００８１】
前記１分子中に２個以上のチオール基を含有する化合物としては、例えば、下記一般式（８）で表される化合物から選ばれる１種であってもよい。
【００８２】
【化１１】
2017138495.tif 000013
（一般式（８）中、Ｒ４１はメチレン基、炭素数２〜１０のアルキレン基である。但し、これらの基は水素原子の一部または全部がアルキル基で置換されていてもよい。Ｙ４は、単結合、−ＣＯ−または−Ｏ−ＣＯ−である。ｎは２〜１０の整数である。Ａ１は、１個または複数個のエーテル結合を有していてもよい炭素数２〜７０のｎ価の炭化水素基、または、ｎが３の場合下記一般式（９）で示される基である。）
【００８３】
【化１２】
2017138495.tif 000014
（上記式（９）中、Ｒ５１〜Ｒ５３は、それぞれ独立してメチレン基又は炭素数２〜１０の炭化水素基である。）
【００８４】
上記式（８）で表される化合物としては、メルカプトカルボン酸と多価アルコールとのエステル化物等を使用することができる。エステル化物を構成するメルカプトカルボン酸としては、チオグリコール酸、３−メルカプトプロピオン酸、３−メルカプトブタン酸、３−メルカプトペンタン酸等が挙げられる。また、エステル化物を構成する多価アルコールとしては、エチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、テトラエチレングリコール、ジペンタエリスリトール、１，４−ブタンジオール、ペンタエリスリトール等が挙げられる。
【００８５】
具体的にはトリメチロールプロパントリス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトプロピオネート）、テトラエチレングリコールビス（３−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカプトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトペンチレート）、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン等が好適に挙げられる。
【００８６】
これら連鎖移動剤としては、単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８７】
（Ｄ）連鎖移動剤の含有量としては、（Ａ）成分と（Ｂ）成分の総量１００質量％に対して、０．１〜２０質量％であってもよい。０．１質量％以上であれば、（Ｂ）重合性基を有する化合物による重合が促進され、硬化物の強度が高くなる傾向にあり、２０質量％以下であればパターンのサイズ制御を容易に行える傾向にある。このような観点から（Ｄ）連鎖移動剤の含有量としては、０．３〜１５質量％であってもよく、０．５〜１０質量％であってもよい。
【００８８】
また、本発明に用いられる感光性樹脂組成物中には、必要に応じて、上記（Ａ）〜（Ｄ）成分の他に、酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤、可視光吸収剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等の添加剤を、本発明の効果を阻害しない範囲で添加してもよい。
【００８９】
本発明で用いられる感光性樹脂組成物は（Ａ）酸性基を有する化合物、（Ｂ）重合性基を有する化合物、（Ｃ）重合開始剤、及び（Ｄ）連鎖移動剤を混合することにより製造できる。混合は上記（Ａ）〜（Ｄ）成分を溶解する有機溶剤中で行ってもよく、有機溶剤を使用せずに（Ａ）〜（Ｄ）成分を公知の混合機を用いて混合してもよい。
【００９０】
本発明で用いられる感光性樹脂組成物は、さらに、有機溶剤を用いて希釈し、感光性樹脂ワニスとして使用してもよい。
なお、本明細書において、「感光性樹脂ワニス」とは、有機溶剤を５質量％以上含有する本発明で用いる感光性樹脂組成物を意味し、本明細書では単に「ワニス」ともいう。
【００９１】
＜感光性樹脂ワニス＞
感光性樹脂ワニスの製造に用いる有機溶剤としては、本発明で用いられる感光性樹脂組成物を構成する（Ａ）〜（Ｄ）成分を溶解し得るものであれば特に制限はなく、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメン、ベンゼン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、１−プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、３−ペンタノン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
【００９２】
これらの中でも、溶解性及び沸点の観点から、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、３−ペンタノン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート又はＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドであってもよい。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
また、感光性樹脂ワニス中の固形分濃度は１０〜８０質量％であってもよい。
【００９３】
感光性樹脂ワニスを調合する際は、混合方法に特に制限はないが、撹拌により混合してもよい。撹拌方法としては特に制限はないが、撹拌効率の観点から、プロペラを用いた撹拌であってもよく、プロペラの回転速度は１０〜１，０００回転／分（ｒｐｍ）であってもてもよい。プロペラの回転速度が１０回転／分以上であれば（Ａ）〜（Ｄ）成分及び有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合される傾向にあり、１，０００回転／分以下であればプロペラの回転による気泡の巻き込みを抑制できる傾向にある。
撹拌時間は、特に制限はないが、１〜２４時間であってもよい。撹拌時間が１時間以上であると、（Ａ）〜（Ｄ）成分が十分に混合される傾向にあり、２４時間以下であると、ワニスの調合時間を短縮できる傾向にある。
【００９４】
調合したワニスは、フィルタを用いて濾過してもよい。
フィルタの孔径は、１００μｍ以下であってもよく、５０μｍ以下であってもよく、３０μｍ以下であってもよい。フィルタ孔径が１００μｍ以下であると、大きな異物等が除去されて、ワニス塗布時におけるいわゆる「はじき」の発生が抑制される傾向にあり、またコア部を伝搬する光の散乱が抑制される傾向にある。
【００９５】
調合したワニスは、脱泡して用いてもよい。脱泡方法には、特に制限はなく、真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置等を用いた公知の減圧脱泡法を適用することができる。
【００９６】
減圧時の圧力には特に制限はないが、ワニスに含まれる有機溶剤が沸騰しない圧力であることが好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、１〜６０分間であってもよい。減圧脱泡時間が１分間以上であると、ワニス内に溶解した気泡を十分に取り除くことができる傾向にあり、６０分間以下であると、ワニスに含まれる有機溶剤が過度に揮発することを抑制できる傾向にある。
【００９７】
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、基材フィルムに塗布し、必要に応じて溶剤を除去することにより製造される感光性樹脂フィルムとして用いてもよい。
【００９８】
上記基材フィルムとしては、特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」ともいう）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマなどが挙げられる。
これらの中でも、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート又はポリスルホンであってもよい。
【００９９】
上記基材フィルムの厚みは、目的とする柔軟性に応じて適宜選択すればよいが、３〜２５０μｍであってもよく、５〜２００μｍであってもよく、１０〜１５０μｍであってもよい。基材フィルムの厚みが３μｍ以上であると、フィルム強度が十分となる傾向にあり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる傾向にある。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、基材フィルムとして、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等の離型剤により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【０１００】
本発明に用いられる感光性樹脂フィルムは、基材フィルム、感光性樹脂層及び保護フィルムをこの順に有する構造としてもよく、基材フィルム、感光性樹脂層及び保護フィルムからなり、これらをこの順に有する３層構造としてもよい。
【０１０１】
上記保護フィルムとしては、特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンなどが挙げられる。これらの中でも、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンであってもよい。
なお、感光性樹脂層との剥離性向上の観点から、保護フィルムとして、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等の離型剤により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性に応じて適宜選択すればよいが、１０〜２５０μｍであってもよく、１５〜２００μｍであってもよく、２０〜１５０μｍであってもよい。保護フィルムの厚みが１０μｍ以上であると、フィルム強度が十分となる傾向にあり、２５０μｍ以下であると、十分な柔軟性が得られる傾向にある。
【０１０２】
本発明に用いられる感光性樹脂フィルムの厚みは、特に限定されないが、乾燥後の厚みで、１〜５００μｍであってもよく、３〜２００μｍであってもよく、５〜１５０μｍであってもよい。樹脂層の厚みが１μｍ以上であると、感光性樹脂フィルム又は該フィルムの硬化物の強度が十分となる傾向にあり、５００μｍ以下であると、乾燥を十分に行えるため、感光性樹脂フィルム中の残留溶剤量を低く抑えることができ、該フィルムの硬化物を加熱したときの発泡を抑制できる傾向にある。
【０１０３】
このようにして得られた感光性樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状として保存することもできる。
【０１０４】
本発明に用いる感光性樹脂組成物は、光導波路形成用感光性樹脂組成物として好適であり、同様に、該感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂フィルムは、光導波路形成用感光性樹脂フィルムとして好適である。
【０１０５】
上記感光性樹脂フィルムを、光導波路形成用感光性樹脂フィルムとして用いる場合、基材フィルムとしては、後述のコアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレートなどが挙げられる。これらの中でも、露光用活性光線の透過率、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリプロピレン等のポリオレフィンであってもよい。
さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプの基材フィルムを用いてもよい。このような高透明タイプの基材フィルムとしては、東洋紡株式会社製「コスモシャインＡ１５１７」、「コスモシャインＡ４１００」等が商業的に入手可能である。
なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等の離型剤により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【０１０６】
光導波路形成用感光性樹脂フィルムの基材フィルムの厚みは、３〜２００μｍであってもよく、５〜１５０μｍであってもよく、１０〜１００μｍであってもよい。コア部形成用感光性樹脂フィルムの基材フィルムの厚みが３μｍ以上であると、支持体としての強度が十分となる傾向にあり、２００μｍ以下であると、パターン形成時にフォトマスクと光導波路形成用感光性樹脂組成物層とのギャップが大きくならず、パターン形成性が良好となる傾向にある。
【０１０７】
光導波路形成用感光性樹脂フィルムは、基材フィルム、光導波路形成用感光性樹脂層（感光性樹脂組成物）及び保護フィルムをこの順に有する構造としてもよく、基材フィルム、光導波路形成用感光性樹脂層及び保護フィルムからなり、これらをこの順に有する３層構造としてもよい。
【０１０８】
このようにして得られた光導波路形成用感光性樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。また、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【０１０９】
先述の感光性樹脂組成物又は該感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂フィルムを積層した感光性樹脂層の硬化物としては、後述するアルカリ性水溶液に対する膨潤度が１０質量％以下とする。アルカリ性水溶液に対する膨潤度が１０質量％以下であることで、現像液の感光性樹脂層への染み込みが抑制できる傾向にあり、サイズ制御性や、信頼性の観点から好ましい。このような観点から、７質量％以下であってもよく、５質量％以下であってもよい。
なお、膨潤度とは、感光性樹脂組成物又は該感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂フィルムを硬化して得られた硬化物を任意のアルカリ性水溶液に浸すことによって、該硬化物の質量変化量から算出される割合のことをいい、膨潤性の指標として用いることができる。
【０１１０】
本発明に係る光導波路は、下部クラッド層、コア部及び上部クラッド層から構成され、コア部に（Ｉ）感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層する工程、（ＩＩ）所望のパターンを露光する工程及び（ＩＩＩ）アルカリ性現像液を用いて現像する工程により得られる光導波路である。
【０１１１】
図１の（ａ）には本発明の光導波路の製造方法により得られる光導波路１の断面図を示す。光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用感光性樹脂組成物から形成されるコア部２、及び低屈折率であるクラッド層形成用感光性樹脂組成物から形成される下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
本発明で用いる感光性樹脂組成物又は感光性樹脂フィルムは、コア部２に用いるが、屈折率を小さくした組成物として光導波路１の下部クラッド層４、又は上部クラッド層３の少なくとも１つに用いることができる。
【０１１２】
先述の感光性樹脂組成物及び／又は該感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂フィルムを用いることによって、耐現像液性に優れ、パターン形成時のパターン形成性（細線又は狭線間対応性）を保持して、線幅及び線間の小さい微細パターン形成が可能となる。また、大面積の光導波路を一度に製造できるという生産性に優れたプロセスを提供することが可能となる。
【０１１３】
基材５としては、シリコン基板、ガラス基板、及びＦＲ−４等のガラスエポキシ樹脂基板のような硬い基材を用いることができる。
また、光導波路１は、基材５として、柔軟性及び強靭性のある前記基材フィルムを用いて、フレキシブル光導波路としてもよい。
基材５として柔軟性及び強靭性のある前記基材フィルムを用いる場合、基材５は光導波路１のカバーフィルムとして機能させてもよい。カバーフィルムを配置することにより、カバーフィルムの柔軟性及び強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。また、光導波路１への汚れの付着及び傷付きを防止できるため、取り扱い性が向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側に基材（カバーフィルム）５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側に基材（カバーフィルム）５が配置されていてもよい。
また、光導波路１に柔軟性及び強靭性が十分に備わっている場合、図１の（ｄ）のように、基材（カバーフィルム）が配置されていなくてもよい。
【０１１４】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであってもよく、５〜１００μｍであってもよく、７〜８０μｍであってもよい。下部クラッド層４の厚みが２μｍ以上であると、伝搬光をコア内部に閉じ込めることが容易となる傾向にあり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが過度に大きくなることを抑制できる傾向にある。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
なお、下部クラッド層４を形成するために用いられる光導波路形成用の樹脂フィルムの厚みは、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように適宜調整すればよい。
【０１１５】
コア部２の高さは、特に制限はないが、１０〜１００μｍであってもよく、１５〜８０μｍであってもよく、２０〜７０μｍであってもよい。コア部２の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることを抑制できる傾向にあり、１００μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることを抑制できる傾向にある。
なお、コア部２を形成するために用いられる感光性樹脂フィルムの厚みは、硬化後のコア部２の高さが上記の範囲となるように適宜調整すればよい。
【０１１６】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、１２〜５００μｍであってもよく、１５〜２００μｍであってもよく、２０〜１５０μｍであってもよい。
上部クラッド層３の厚みは、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なっていてもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くしてもよい。
なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【０１１７】
本発明に係る光導波路１は、波長８５０ｎｍにおける光伝搬損失が、０．２０ｄＢ／ｃｍ以下であってもよい。光伝搬損失が０．２０ｄＢ／ｃｍ以下であると、光の損失が小さくなり、伝送信号の強度が十分となる傾向にある。
【０１１８】
＜光導波路の製造方法＞
本発明に係る光導波路１を製造する方法としては、コア部が（Ｉ）感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂層を積層する工程、（ＩＩ）所望のパターンを露光する工程及び（ＩＩＩ）アルカリ性現像液を用いて現像する工程により得られる。すなわち、感光性樹脂ワニスを、コア部形成用感光性樹脂ワニス及びクラッド層形成用感光性樹脂ワニスとして用いて、スピンコート法等により感光性樹脂層を積層する方法、感光性樹脂フィルムを、コア部形成用樹脂フィルム及びクラッド層形成用樹脂フィルムとして用いて、積層法により感光性樹脂層を積層する方法等が挙げられる。また、これらの方法を組み合わせて製造することもできる。これらの中でも、生産性に優れた光導波路製造プロセスが提供可能という観点からは、感光性樹脂フィルムを用いる積層法を適用してもよい。
【０１１９】
以下、感光性樹脂フィルムを下部クラッド層４、コア部２及び上部クラッド層３に用いて光導波路１を形成する製造方法について説明する。
【０１２０】
まず、第１の工程として下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを基材５上に積層して下部クラッド層４を形成する。
第１の工程における積層方式としては、ロールラミネータ、平板型ラミネータ等を用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法が挙げられる。これらの中でも、密着性及び追従性の観点から、平板型ラミネータを用いて減圧下で下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを積層してもよい。なお、本発明において平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式平板型ラミネータを用いることができる。
ここでの加熱温度は、例えば、４０〜１５０℃であってもよく、圧着圧力は、０．１〜２．０ＭＰａであってもよいが、特に限定されるものではない。下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合には、保護フィルムを除去した後に積層する。
【０１２１】
なお、真空加圧式平板型ラミネータによる積層の前に、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。
ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りしてもよく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行ってもよい。ラミネート温度は、２０〜１５０℃であってもよく、４０〜１３０℃であってもよい。温度が２０℃以上であると、下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムと基材５との密着性が向上する傾向にあり、１５０℃以下であると、樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる傾向にある。同様の観点から、ラミネート時の圧着圧力は、例えば、０．１〜２．０ＭＰａであってもよく、ラミネート速度は０．０１〜１０ｍ／ｍｉｎであってもよいが、特に限定されるものではない。
【０１２２】
続いて、基材５上に積層された下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを光及び／又は熱により硬化し、下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムの基材フィルムを除去し、下部クラッド層４を形成する。
下部クラッド層４を形成する際の活性光線の照射量は、例えば、１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよく、加熱温度は３０〜２００℃であってもよいが、特に限定されるものではない。
【０１２３】
次いで、第２の工程としてコア部形成用感光性樹脂フィルムを第１の工程と同様の方法で積層する。ここで、コア部形成用感光性樹脂フィルムは下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムより高屈折率となるように設計される。
本発明で用いる感光性樹脂組成物は、活性光線により硬化するため、コア部形成用感光性樹脂フィルムとして好適である。
【０１２４】
次に、第３の工程として積層後のコア部形成用感光性樹脂フィルムを露光し、光導波路のコアパターン（コア部２）を形成する。具体的には、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを通して活性光線を画像状に照射する。また、レーザー直接描画を用いてフォトマスクを通さずに直接活性光線を画像状に照射してもよい。活性光線の光源としては、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものが挙げられる。
【０１２５】
ここでの活性光線の照射量は、１０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよく、５０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよく、１００〜３，０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよい。１０ｍＪ／ｃｍ２以上であると、硬化反応が十分に進行し、後述する現像工程によるコア部２の流失が抑制される傾向にあり、１０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下であると、露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成できる傾向にある。
なお、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分間以内であってもよい。１０分間以内であると紫外線照射により発生した活性種の失活を抑制できる傾向にある。露光後加熱の温度は、例えば、４０〜２００℃であってもよく、加熱時間は３０秒〜１０分間であってもよいが、特に限定されるものではない。
【０１２６】
露光後、コア部形成用感光性樹脂フィルムの基材フィルムを除去し、アルカリ性水溶液等のコア部形成用感光性樹脂フィルムをアルカリ性現像液を用いて、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング、ディップ、パドル等の公知の方法により現像する。また、必要に応じて２種類以上の現像方法を併用してもよい。
【０１２７】
前記アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等のアルカリ金属含有水酸化物；リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等のアルカリ金属含有炭酸塩；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属含有リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属含有ピロリン酸塩；ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリン等の有機塩基などが挙げられる。なかでも現像性や環境負荷低減の観点から、アルカリ金属含有水酸化物、アルカリ金属含有炭酸塩、アルカリ金属含有リン酸塩、アルカリ金属含有ピロリン酸塩等であってもよい。
【０１２８】
現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１であってもよく、その温度はコア部形成用感光性樹脂組成物層の現像性に合わせて調節すればよい。また、アルカリ性水溶液中には、本発明の効果を阻害しない範囲で、表面活性剤、消泡剤、現像等を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【０１２９】
現像後の処理として、必要に応じて水と前記有機溶剤からなる洗浄液を用いてコア部２を洗浄してもよい。
現像又は洗浄後の処理としては、必要に応じて、６０〜２５０℃程度の加熱及び／又は１０〜１０，０００ｍＪ／ｃｍ２程度の露光を行うことにより、コア部２を更に硬化して用いてもよい。
【０１３０】
続いて、第４の工程として上部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを、コア部２を形成した面上に、第１及び第２の工程と同様の方法で積層して上部クラッド層３を形成する。ここで、上部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムは、コア部形成用感光性樹脂フィルムよりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド層３の厚みは、コア部２の高さより大きくしてもよい。
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムを光及び／又は熱によって硬化し、上部クラッド層３を形成する。クラッド層形成用感光性樹脂フィルムの基材フィルムの材質がポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）である場合、活性光線の照射量は、５０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよい。一方、基材フィルムの材質がポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン等である場合、ＰＥＴに比べて紫外線等の短波長の活性光線を通しにくいことから、活性光線の照射量は、１００〜３０，０００ｍＪ／ｃｍ２であってもよい。照射量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上であると、硬化反応が十分に進行する傾向にあり、３０，０００ｍＪ／ｃｍ２以下であると、光照射の時間が長くかかりすぎることがない。
【０１３１】
なお、硬化反応をより進行させるために、両面から同時に活性光線を照射することが可能な両面露光機を使用してもよい。また、加熱しながら活性光線を照射してもよい。活性光線照射中又は照射後の加熱温度は、例えば、４０〜２００℃であってもよいが、特に限定されるものではない。
上部クラッド層３を形成後、必要であれば基材フィルムを除去して、光導波路１を作製することができる。
【０１３２】
本発明に係る光導波路は、耐熱性及び透明性に優れているために光モジュールの光伝送路として用いてもよい。光モジュールの形態としては、光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板とを複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器等が挙げられる。なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板としては、特に制限はなく、ガラスエポキシ基板等のリジッド基板、ポリイミド基板等のフレキシブル基板のどちらを用いてもよい。
【実施例】
【０１３３】
以下、本発明を実施例及び比較例を挙げて具体的に説明する。ただし、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
【０１３４】
（合成例１）［（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−１）の調製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下漏斗、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部及び乳酸メチル２３質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート４７質量部、ブチルアクリレート３３質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１６質量部、メタクリル酸１４質量部、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４６質量部、及び乳酸メチル２３質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−１）溶液（固形分４７質量％）を得た。以下、（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−１）溶液を「Ｐ−１溶液」とも称する。
得られた（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−１）の酸価は７９ｍｇＫＯＨ／ｇであり、重量平均分子量は３９，０００であった。
【０１３５】
（合成例２）［（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−２）の調製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下漏斗、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４２質量部及び乳酸メチル２１質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド１４．５質量部、ベンジルアクリレート２０質量部、ｏ−フェニルフェノール１．５ＥＯアクリレート３９質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１４質量部、メタクリル酸１２．５質量部、２，２´−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）４質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート３７質量部、及び乳酸メチル２１質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−２）溶液（固形分４５質量％）を得た。以下、（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−２）溶液を「Ｐ−２溶液」とも称する。
得られた（メタ）アクリルポリマ（Ｐ−２）の酸価は８２ｍｇＫＯＨ／ｇであり、重量平均分子量は３２，０００であった。
【０１３６】
（製造例１）［クラッド層形成用感光性樹脂ワニスＣＬＶ−１の調合］
前記Ｐ−１溶液（固形分４７質量％）８４質量部（固形分４０質量部）、カルボキシ基含有ウレタンジアクリレート（日立化成株式会社製、商品名ＨＡ９０８２−９５、固形分７６質量％）を３７質量部（固形分２８質量部）、イソシアヌル環構造を有するウレタントリメタクリレート（日立化成株式会社製、商品名ＦＡ−７３１Ｍ）２０質量部（固形分２０質量部）、及びヘキサメチレンジイソシアネート型三量体をメチルエチルケトンオキシムで保護したブロックイソシアネート（住化バイエルウレタン株式会社製、商品名：スミジュール（登録商標）ＢＬ３１７５、固形分７５質量％）１６質量部（固形分１２質量部）、光重合開始剤として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア（登録商標）２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア（登録商標）８１９）１質量部、及び希釈用有機溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４０質量部を撹拌しながら混合した。得られた溶液を孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製、商品名：ＰＦ０２０）を用いて加圧濾過を行った後、減圧脱泡し、クラッド層形成用感光性樹脂ワニスＣＬＶ−１を得た。
【０１３７】
（製造例２）［クラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製］
上記で得られたクラッド層形成用感光性樹脂ワニスＣＬＶ−１を、基材フィルムであるＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：コスモシャイン（登録商標）Ａ４１００、厚み５０μｍ）の非処理面上に、塗工機（株式会社ヒラノテクシード製、商品名：マルチコーターＴＭ−ＭＣ）を用いて塗布し、１００℃で２０分間乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ピューレックス（登録商標）Ａ３１、厚み２５μｍ）を貼付け、クラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−１を得た。
このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能である。
本製造例で得た上部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムの厚みは７０μｍであり、下部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムの厚みは３０μｍであった。
クラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−１の屈折率は、後述の方法で測定したところ１．４９７であった。
【０１３８】
（製造例３）［コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）成分として、カルボン酸変性ビスフェノールＡ／ウレタン型エポキシアクリレート（日本化薬株式会社製、商品名：ＫＡＲＡＹＡＤ（登録商標）ＵＸＥ−３０２４、重量平均分子量：１．０×１０４、酸価：６０ｍｇＫＯＨ／ｇ、固形分７１．９質量％）７０質量部（固形分５０質量部）、（Ｂ）成分として、ビスフェノールＡ型エポキシモノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名：ＥＡ−１０１０Ｎ、エポキシ当量５１８ｇ／ｅｑ）１５質量部（固形分１５質量部）、ビスフェノールＡ型エポキシジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名：ＥＡ−１０２０）２０質量部（固形分２０質量部）、ＥＯ変性ビスフェノールフルオレン型ジアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名：Ａ−ＢＰＥＦ）１５質量部（固形分１５質量部）、（Ｃ）成分として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア（登録商標）２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア（登録商標）８１９）１質量部、（Ｄ）成分としてペンタエリスリトール テトラキス(３−メルカプトブチレート)（昭和電工株式会社製、商品名：カレンズ（登録商標）ＭＴ―ＰＥ１）５質量部（固形分５質量部）、及び希釈溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを固形分が５５質量％となるよう加え、撹拌しながら混合した。得られた溶液を孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製、商品名：ＰＦ０２０）を用いて加圧濾過を行った後、減圧脱泡し、コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−１（固形分５５質量％）を得た。
【０１３９】
（製造例４）［コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−２の調合］
（Ｄ）成分の連鎖移動剤の配合量を３質量部に代えた以外、コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−１と同様にして、コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−２を得た。
【０１４０】
（製造例５）［コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−３の調合］
（Ｄ）成分の連鎖移動剤を加えずに、ＣＯＶ−１で用いた（Ａ）〜（Ｃ）成分を混合した以外、コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−１と同様にして、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−３を得た。
【０１４１】
（製造例６）［コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−４の調合］
コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−３で用いた（Ａ）〜（Ｃ）成分の中で、（Ｂ）重合性基を有する化合物として、ビスフェノールＡ型エポキシモノアクリレート（新中村化学株式会社製、商品名：ＥＡ−１０１０Ｎ）の代わりにビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ＤＩＣ株式会社製、ＥＰＩＣＬＯＮ（登録商標）８５０）に代えた以外、コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−３と同様にしてコア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−４を得た。
【０１４２】
（製造例７）［コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−５］
（Ａ）成分として上記Ｐ−２溶液（固形分４５．０質量％）１３３質量部（固形分６０質量部）、（Ｂ）成分としてビスフェノールＡ型エポキシモノアクリレート（新中村化学工業株式会社製、商品名：ＥＡ−１０１０Ｎ、エポキシ当量５１８ｇ／ｅｑ）４０質量部（固形分４０質量部）、（Ｃ）成分として、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア（登録商標）２９５９）１質量部、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア（登録商標）８１９）１質量部、及び希釈溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートを固形分が５５質量％となるよう加え、コア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−１と同様にしてコア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−５を得た。
【０１４３】
(製造例８)［コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
上記で得られたコア部形成用感光性樹脂ワニスＣＯＶ−１を、基材フィルムであるＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製、商品名：コスモシャイン（登録商標）Ａ１５１７、厚み１６μｍ）の非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、８０℃で１０分間、１００℃で１０分間乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製、商品名：ピューレックス（登録商標）Ａ３１、厚み２５μｍ）を貼り付け、コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。
コア部形成用感光性樹脂フィルムの樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調整することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が５０μｍとなるように調整した。
【０１４４】
（製造例９）［コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−２〜５の作製］
上記コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−１と同様にして、コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−２〜５を得た。
【０１４５】
[光導波路の作製]
以下、光導波路の製造方法を下記に示す表１に記載の実施例１を例に説明する。なお、実施例２〜４及び比較例１〜３は同様にして作製した。
真空加圧ラミネータ（ニチゴー・モートン株式会社製、商品名：Ｖ１３０）を用い、圧着圧力０．５ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で、保護フィルムを除去した前記下部クラッド形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−１を、ガラスエポキシ樹脂基板（日立化成株式会社製、商品名：ＭＣＬ（登録商標）−Ｅ−６７９−ＦＢ、板厚０．６ｍｍ、表面銅箔はエッチングにより除去）上に積層した。次に紫外線露光機（株式会社大日本スクリーン製、商品名：ＭＡＰ−１２００）を用い、基材フィルムの上から紫外線（波長３６５ｎｍ）を４，０００ｍＪ／ｃｍ２照射後、基材フィルムを除去し、１０５℃で１０分、１７０℃で１時間加熱処理をすることによって、下部クラッド層４を形成した。
【０１４６】
続いて、ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製、商品名：ＨＬＭ−１５００）を用い、保護フィルムを除去した前記コア部形成用感光性樹脂フィルムＣＯＦ−１を下部クラッド層４上に、圧着圧力０．５ＭＰａ、温度５０℃、及び速度０．２ｍ／分の条件で積層した。次いで、幅５０μｍの光導波路形成用パターンを有するネガフォトマスクを介し、基材フィルム上から前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し、コア部２（コアパターン）を露光した。基材フィルムを除去した後、スプレー式現像装置（株式会社山縣機械製、商品名：ＲＸ−４０Ｄ）を用い、１質量％の炭酸カリウム水溶液にて温度３０℃、スプレー圧０．１５ＭＰａで現像した。続いて、純水にて洗浄し、８０℃で１０分、１６０℃で１時間加熱処理を行った。
【０１４７】
次に、前記真空ラミネータを用い、保護フィルムを除去した上部クラッド層形成用感光性樹脂フィルムＣＬＦ−１をコア部２及び下部クラッド層４上に、圧着圧力０．５ＭＰａ、温度８５℃、及び加圧時間９０秒の条件で積層した。次に基材フィルム上から前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を４，０００ｍＪ／ｃｍ２照射し、基材フィルムを除去した後、温度１７０℃で１時間加熱処理をし、上部クラッド層３を形成し、図１（ａ）に示す光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（株式会社ディスコ製、商品名：ＤＡＤ−３３５０）を用いて長さ１０ｃｍのリジッド光導波路を切り出した。
【０１４８】
以下、各特性の評価方法を説明する。
【０１４９】
［屈折率の測定］
保護フィルムを除去した前記クラッド層形成用感光性樹脂フィルムに対して、前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を４，０００ｍＪ／ｃｍ２照射した後、１０５℃で１０分間、次いで１７０℃で１時間加熱して、クラッド層形成用感光性樹脂フィルムの硬化物を得た。
また、保護フィルムを除去した前記コア部形成用感光性樹脂フィルムに対して、前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を４，０００ｍＪ／ｃｍ２照射した後、８０℃で１０分間、次いで１６０℃で１時間加熱して、コア部形成用感光性樹脂フィルムの硬化物を得た。
得られた硬化物を、各々、サイズ縦３０ｍｍ、横３０ｍｍに切断し、屈折率測定用サンプルを作製した。このサンプルの波長８３０ｎｍにおける屈折率を、プリズム結合式屈折率計（Ｍｅｔｒｉｃｏｎ社製、商品名：Ｍｏｄｅｌ２０２０）を用いて測定した。各コア部形成用感光性樹脂フィルムの硬化物の屈折率を表１に示した。
【０１５０】
［膨潤度の測定］
膨潤度は、各コア部形成用感光性樹脂フィルムを水晶振動子（ＩＮＦＩＣＯＮ社製）に上記ロールラミネータを用いて積層し、水晶振動式膜厚モニター（Ｍａｘｔｅｃ社製）を用いて感光性樹脂組成物及び水晶振動子の周波数を測定し、初期周波数とした。その後、アルカリ性水溶液に浸漬して各感光性樹脂組成物及び水晶振動子の周波数変化を測定し、膨潤度を算出した。各コア部形成用感光性樹脂フィルムの硬化物のアルカリ性水溶液中での膨潤度を表１に示した。
なお、膨潤度は以下の式により算出した。
【０１５１】
膨潤度（％）＝［（任意の浸漬時間における感光性樹脂組成物及び水晶振動子の周波数）−（水晶振動子単体を該アルカリ性水溶液に浸漬したときの周波数）］/［（初期周波数）−（水晶振動子固有の周波数）］×１００
【０１５２】
［光伝搬損失の測定］
上記の方法により得られた光導波路の光伝搬損失を、波長８５０ｎｍを中心波長とするＶＣＳＥＬ（垂直共振器面発光レーザー）光源（ＥＸＦＯ社製、商品名：ＦＬＳ−３００−０１−ＶＣＬ）、受光センサ（株式会社アドバンテスト製、商品名：Ｑ８２２１４）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）、及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４・１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２２）を用いて測定した。光伝搬損失は光損失測定値（ｄＢ）を光導波路長（１０ｃｍ）で割ることにより算出した。各光伝搬損失を表１に示した。
【０１５３】
実施例１〜４、及び比較例１〜３の評価結果を表１にまとめて示した。
【０１５４】
【表１】
2017138495.tif 000015
【０１５５】
本発明の光導波路の製造方法に用いる感光性樹脂組成物は（Ｄ）成分の連鎖移動剤を含有してなる樹脂組成物であり、実施例１〜４は比較例１のように（Ｄ）成分の連鎖移動剤を含有しない感光性樹脂組成物と比べて、アルカリ金属を含有するアルカリ性水溶液に対する膨潤度を１０質量％以下に低減できることが分かった。さらに、（Ｄ）成分の連鎖移動剤を含有してなる樹脂組成物を用いて作製した光導波路は比較例１〜３と比べて光伝搬性に優れていることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【０１５６】
本発明の光導波路の製造方法で用いる感光性樹脂組成物及び該感光性樹脂組成物からなる感光性樹脂フィルムは、アルカリ金属を含有するアルカリ性水溶液による膨潤を抑制でき、これらを用いて作製した光導波路は波長８５０ｎｍにおける透明性、低光伝搬損失等に優れたものである。したがって、本発明は、各種光学装置、光インターコネクション等の幅広い分野に優れた特性を有するものとして適用が可能である。
【符号の説明】
【０１５７】
１  光導波路
２  コア部
３  上部クラッド層
４  下部クラッド層
５  基材（又は支持フィルム）
【図１】
2017138495.tif 000016