(57)【要約】【課題】液滴に加える遠心力を大きくできる熱サイクル装置を提供する。【解決手段】熱サイクル装置１は、回転軸４ａ回りに回転する回転基板６と、回転基板６の回転軸４ａから外れた位置に設けられ、液滴２８を第１方向７に移動可能に内在する反応容器１１が装着された装着部９と、反応容器１１内の第１方向７の温度分布を所定の分布に制御する伝熱部１５と、回転基板６に対する反応容器１１の姿勢を変える姿勢変更部１６と、を備え、姿勢変更部１６は回転基板６と分離して設置されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主回転軸回りに回転する回転基板と、
前記回転基板の前記主回転軸から外れた位置に設けられ、液滴を第１方向に移動可能に内在する反応容器が装着された装着部と、
前記反応容器内の前記第１方向の温度分布を所定の分布に制御する温度制御部と、
前記回転基板に対する前記反応容器の姿勢を変える姿勢変更部と、を備え、
前記姿勢変更部は前記回転基板と分離して設置されていることを特徴とする熱サイクル装置。
【請求項２】
請求項１に記載の熱サイクル装置であって、
前記温度制御部は前記回転基板と分離して設置されることを特徴とする熱サイクル装置。
【請求項３】
請求項２に記載の熱サイクル装置であって、
前記温度制御部は前記反応容器に伝熱する伝熱部を備え、
前記伝熱部と前記反応容器との距離を変える伝熱部移動部を備えることを特徴とする熱サイクル装置。
【請求項４】
請求項３に記載の熱サイクル装置であって、
前記伝熱部移動部は前記反応容器の姿勢の変化に対応して前記伝熱部の姿勢を変えることを特徴とする熱サイクル装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の熱サイクル装置であって、
前記回転基板にレールが設置され、前記姿勢変更部は前記装着部を前記レールに沿って移動させて姿勢を変更することを特徴とする熱サイクル装置。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の熱サイクル装置であって、
前記装着部は前記回転基板に対して回転可能に設置され、前記姿勢変更部は前記装着部を回転させて前記反応容器の姿勢を変更することを特徴とする熱サイクル装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の熱サイクル装置であって、
前記回転基板が停止するときに前記液滴に前記第１方向の重力加速度が加わるように前記姿勢変更部が前記反応容器の姿勢を変えることを特徴とする熱サイクル装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱サイクル装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ＤＮＡやＲＮＡのような遺伝子の検査をするための方法の１つとして、ＰＣＲ（Ｐｏｌｙｍｅｒａｓｅ  Ｃｈａｉｎ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ）と称する検査方法が、研究用及び臨床検査用に広く用いられている。ＰＣＲでは通常、標的核酸及び試薬を含む反応液に、熱サイクルという複数段階の温度変化（例えば９５℃、７４℃、５５℃の温度変化を繰り返す）を施すことにより標的核酸を増幅させる。しかし、従来のＰＣＲの手法は、反応液の温度を変化させるために反応液を保持する容器全体の温度を変化させて行う手法であった。この手法では検査精度は向上するが、熱サイクルのために長時間を要した。
【０００３】
熱サイクルにかかる時間を短縮した熱サイクル装置が特許文献１に開示されている。それによると、円筒形の反応容器内にオイルが充填され、オイル内を反応液の液滴が移動する。反応容器の両端はそれぞれ所定の温度に制御されている。反応容器は回転板に設置されている。回転板を回転するとき液滴に遠心力が作用する。その結果、液滴は回転板の回転軸から離れる方向に移動する。
【０００４】
反応容器の一端は核酸がアニール及び伸長反応する温度に保持されている。反応容器の他端は標的核酸が熱変性する温度に保持されている。そして、液滴に遠心力を作用させて、液滴を一端側と他端側とを往復移動させることにより、核酸に熱サイクルを施していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１４３１６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１では反応容器の姿勢を変更する機構及び反応容器の温度を制御する部位が回転板に設置されていた。これにより、回転板に設置された部位を含む回転板のイナーシャが大きくなり回転板の回転速度を加減速し難かった。このため、液滴に加える遠心力を大きくできなかった。そこで、液滴に加える遠心力を大きくできる熱サイクル装置が望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、上述の課題を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００８】
［適用例１］
本適用例にかかる熱サイクル装置であって、主回転軸回りに回転する回転基板と、前記回転基板の前記主回転軸から外れた位置に設けられ、液滴を第１方向に移動可能に内在する反応容器が装着された装着部と、前記反応容器内の前記第１方向の温度分布を所定の分布に制御する温度制御部と、前記回転基板に対する前記反応容器の姿勢を変える姿勢変更部と、を備え、前記姿勢変更部は前記回転基板と分離して設置されていることを特徴とする。
【０００９】
本適用例によれば、熱サイクル装置は回転基板、装着部、温度制御部及び姿勢変更部を備えている。回転基板には装着部が設置され、装着部には反応容器が設置されている。反応容器内には液滴が設置され、液滴は第１方向に移動する。温度制御部は反応容器を所定の温度分布に制御する。液滴が反応容器内を移動するとき、反応容器の温度分布に応じて液滴の温度が変わる。そして、反応容器内の液滴の位置を制御することにより液滴の温度を制御することができる。
【００１０】
姿勢変更部は回転基板に対する反応容器の姿勢を変える。このとき、反応容器の一端を主回転軸から離れる側に配置し反応容器の他端を主回転軸に近づける側に配置する。そして、回転基板を回転するとき液滴には遠心力が作用する。これにより、液滴を主回転軸から離れる方向に移動させることができる。
【００１１】
姿勢変更部は回転基板と分離して設置されている。従って、姿勢変更部が回転基板に設置されているときに比べて回転基板のイナーシャを小さくすることができる。これにより、回転基板の回転速度の加減速を応答性良く制御することができる為、回転基板の回転速度を速くすることができる。液滴に加わる遠心力は回転速度の２乗に比例する。従って、液滴に加える遠心力を大きくすることができる。
【００１２】
［適用例２］
上記適用例にかかる熱サイクル装置において、前記温度制御部は前記回転基板と分離して設置されることを特徴とする。
【００１３】
本適用例によれば、温度制御部は回転基板と分離して設置されている。従って、温度制御部が回転基板に設置されているときに比べて回転基板のイナーシャを小さくすることができる。これにより、回転基板の回転速度の加減速を応答性良く制御することができる為、回転基板の回転速度を速くすることができる。液滴に加わる遠心力は回転速度の２乗に比例する。従って、液滴に加える遠心力を大きくすることができる。
【００１４】
［適用例３］
上記適用例にかかる熱サイクル装置において、前記温度制御部は前記反応容器に伝熱する伝熱部を備え、前記伝熱部と前記反応容器との距離を変える伝熱部移動部を備えることを特徴とする。
【００１５】
本適用例によれば、温度制御部は反応容器に伝熱する伝熱部を備えている。そして、熱サイクル装置は伝熱部移動部を備え、伝熱部移動部が伝熱部と反応容器との距離を変える。回転基板が停止するとき伝熱部移動部が伝熱部を反応容器に接近させる。回転基板が回転するとき伝熱部移動部が伝熱部を反応容器から離す。これにより、温度制御部は回転基板と分離して設置された構造において、反応容器の温度を制御することができる。
【００１６】
［適用例４］
上記適用例にかかる熱サイクル装置において、前記伝熱部移動部は前記反応容器の姿勢の変化に対応して前記伝熱部の姿勢を変えることを特徴とする。
【００１７】
本適用例によれば、回転基板が回転するとき反応容器の姿勢が変わる。このとき、反応容器の姿勢の変化に対応して伝熱部移動部が伝熱部の姿勢を変える。従って、伝熱部移動部は伝熱部を反応容器に接近させて反応容器の温度分布を所定の分布にすることができる。
【００１８】
［適用例５］
上記適用例にかかる熱サイクル装置において、前記回転基板にレールが設置され、前記姿勢変更部は前記装着部を前記レールに沿って移動させて姿勢を変更することを特徴とする。
【００１９】
本適用例によれば、回転基板にはレールが設置されている。そして、姿勢変更部は装着部をレールに沿って移動させている。従って、姿勢変更部は装着部を押すだけで所定の姿勢に変更できるので容易に回転基板に対する装着部の姿勢を変更することができる。
【００２０】
［適用例６］
上記適用例にかかる熱サイクル装置において、前記装着部は前記回転基板に対して回転可能に設置され、前記姿勢変更部は前記装着部を回転させて前記反応容器の姿勢を変更することを特徴とする。
【００２１】
本適用例によれば、装着部は回転基板に対して回転できる。そして、姿勢変更部は装着部を回転させるだけで反応容器を所定の姿勢に変更できるので、容易に回転基板に対する反応容器の姿勢を変更することができる。
【００２２】
［適用例７］
上記適用例にかかる熱サイクル装置において、前記回転基板が停止するときに前記液滴に前記第１方向の重力加速度が加わるように前記姿勢変更部が前記反応容器の姿勢を変えることを特徴とする。
【００２３】
本適用例によれば、回転基板が停止するときには液滴に第１方向の重力加速度が加わるように姿勢変更部が反応容器の姿勢を変える。これにより、回転基板が停止した後でも重力により液滴を移動させることができる。従って、遠心力により液滴が目標とする温度の場所に移動しきれないときにも液滴に重力を作用させて確実に目標とする温度の場所に移動させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】第１実施形態にかかわる熱サイクル装置の構成を示す模式正面図。
【図２】熱サイクル装置の構成を示す模式側断面図。
【図３】反応容器の構造を示す模式側断面図。
【図４】熱サイクル装置の電気制御ブロック図。
【図５】核酸増殖方法のフローチャート。
【図６】核酸増殖方法を説明するための模式図。
【図７】核酸増殖方法を説明するための模式図。
【図８】核酸増殖方法を説明するための模式図。
【図９】核酸増殖方法を説明するための模式図。
【図１０】核酸増殖方法を説明するための模式図。
【図１１】核酸増殖方法を説明するための模式図。
【図１２】第２実施形態にかかわる熱サイクル装置の構成を示す模式正面図。
【図１３】熱サイクル装置の構成を示す模式側断面図。
【図１４】第３実施形態にかかわる熱サイクル装置の構成を示す模式正面図。
【図１５】熱サイクル装置の構成を示す模式側断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、実施形態について図面に従って説明する。
尚、各図面における各部材は、各図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各部材毎に縮尺を異ならせて図示している。
【００２６】
（第１実施形態）
本実施形態では、熱サイクル装置と、この熱サイクル装置を用いて核酸を増殖させる、核酸の増殖方法との特徴的な例について、図に従って説明する。第１実施形態にかかわる熱サイクル装置について図１〜図１１に従って説明する。図１は、熱サイクル装置の構成を示す模式正面図である。図２は、熱サイクル装置の構成を示す模式側断面図であり、図１のＡＡ線に沿う面側から見た図である。図１及び図２に示すように、熱サイクル装置１は基台２を備えている。基台２は板状であり、基台２の厚み方向をＺ方向とする。基台２が延びる方向をＸ方向及びＹ方向とする。重力加速度が加わる方向を−Ｚ方向とする。図１の図中右側を＋Ｘ方向とする。
【００２７】
基台２上の＋Ｘ方向側には第１支持台３が立てて設置されている。第１支持台３の＋Ｘ方向側には第１モーター４が設置されている。第１モーター４が出力するトルクが小さいときには減速ギアを設置しても良い。第１モーター４の＋Ｘ方向側にはエンコーダー５が設置され、エンコーダー５は第１モーター４の主回転軸としての回転軸４ａの回転角度を検出する。
【００２８】
第１モーター４は特に限定されずステップモーター、ＡＣサーボモーター、ＤＣサーボモーター等を用いることができる。本実施形態では、例えば、第１モーター４にステップモーターを用いている。ステップモーターはサーボモーターに比べて制御が容易なので、モーター駆動回路を簡便にすることができる。また、ステップモーターが回転軸４ａの回転角度を精度良く制御できるときにはエンコーダー５を省略しても良い。
【００２９】
回転軸４ａには回転基板６が設置されている。回転基板６は一方向に長い直方体の形状をしている。回転基板６の長手方向を第１方向７とする。図中では第１方向７はＺ方向になっている。そして、第１モーター４は回転軸４ａ回りに回転基板６を回転する。これにより、第１方向７は重力加速度方向に対して変化する。
【００３０】
回転基板６には第１方向７に延びる一対のレール８が設置されている。レール８の−Ｘ方向側には装着部９が設置され、装着部９はレール８に沿って移動可能になっている。例えば、装着部９にリニアガイドを設置することにより装着部９をレール８に沿って移動させることができる。そして、装着部９はレール８の−Ｘ方向側に移動しないように規制されている。レール８は回転軸４ａと直交する方向に延びている。そして、装着部９を移動させて回転軸４ａから外れた場所に設置することができる。
【００３１】
回転基板６の両端には固定装置１０が設置されている。固定装置１０は可動部１０ａをＸ方向に往復移動させる直動機構を備えている。直動機構は特に限定されないが本実施形態では、例えば、リニアソレノイドを用いている。固定装置１０が可動部１０ａを−Ｘ方向側に突出させるとき、可動部１０ａが装着部９を押圧する。これにより、可動部１０ａと装着部９との間の摩擦抵抗が大きくなる。そして、装着部９が移動しないように固定装置１０は装着部９を固定することができる。
【００３２】
装着部９の内部には反応容器１１が設置されている。装着部９の図中＋Ｚ方向側には容器固定部１２が設置されている。容器固定部１２は円板状であり、側面に雄ネジが形成されている。装着部９には反応容器１１を収納する孔が設置され、孔には雌ネジが形成されている。そして、容器固定部１２を装着部９の孔に螺合させることにより、容器固定部１２は反応容器１１を装着部９に固定することができる。
【００３３】
反応容器１１にはさらに第１伝熱部１３及び第２伝熱部１４が設置され、第１伝熱部１３及び第２伝熱部１４等により温度制御部としての伝熱部１５が構成されている。伝熱部１５の構成としては、例えば、電熱ヒーター、ペルチェ素子、または、蓄熱媒体や冷媒の循環機構、あるいはそれらの組合せを含んで構成できる。第１支持台３と回転基板６との間の伝熱部１５に対する配線等は公知の方法で適宜行うことができる。例えば、回転軸４ａにスリップリング等を設けて電力を伝達してもよい。第１伝熱部１３は装着部９の容器固定部１２側に設置され、第２伝熱部１４は容器固定部１２の逆側に設置されている。そして、伝熱部１５は反応容器１１の第１方向７の温度分布を所定の分布にする。
【００３４】
基台２上において−Ｘ方向側には姿勢変更部１６が設置されている。姿勢変更部１６は第２支持台１７を備え、第２支持台１７は基台２上に立てて設置されている。第２支持台１７の＋Ｘ方向側には一対のレール１７ａが設置されている。レール１７ａの＋Ｘ方向側には第１ステージ１８が設置され、第１ステージ１８はレール１７ａに沿って移動可能になっている。第２支持台１７には第１ステージ１８をＺ方向に移動させる直動機構が設置されている。
【００３５】
第１ステージ１８の＋Ｘ方向側には＋Ｘ方向に延びる第３支持台２１が設置されている。第３支持台２１の＋Ｚ方向側には一対のレール２１ａが設置されている。レール２１ａの＋Ｚ方向側には第２ステージ２２が設置され、第２ステージ２２はレール２１ａに沿って移動可能になっている。第３支持台２１には第２ステージ２２をＸ方向に移動させる直動機構が設置されている。
【００３６】
第２支持台１７に設置される直動機構及び第３支持台２１に設置される直動機構の構造は特に限定されない。直動機構にはステップモーターやサーボモーターとボールネジとを組み合わせて構成することができる。他にもリニアモーターを用いても良い。本実施形態では例えば、この直動機構はステップモーターとボールネジとを組み合わせて構成されている。
【００３７】
第２ステージ２２の＋Ｘ方向側には押圧部２３が設置されている。押圧部２３の＋Ｘ方向側には凹部２３ａが設置されている。凹部２３ａの形状は装着部９の相似形であり、装着部９より少々大きな形状になっている。姿勢変更部１６は押圧部２３を用いて装着部９の姿勢を変更する構造物であり、回転基板６及び装着部９とは分離して設置されている。
【００３８】
装着部９の−Ｚ方向側では基台２上に蛍光測定装置２４が設置されている。蛍光測定装置２４は発光部２５と受光部２６とを備えている。発光部２５は反応容器１１に複数種類の波長の測定光を照射する。本実施形態では、例えば、発光部２５は５００ｎｍ、５７０ｎｍ、６００ｎｍの３種類の波長の測定光を照射する。そして、受光部２６は反応容器１１で反射する反射光を受光する。
【００３９】
姿勢変更部１６の−Ｘ方向側には制御部２７が設置されている。制御部２７は第１モーター４、固定装置１０、伝熱部１５、第１ステージ１８、第２ステージ２２及び蛍光測定装置２４を制御する。
【００４０】
図３は反応容器の構造を示す模式側断面図である。図３に示すように、反応容器１１は容器本体１１ａ及び蓋部１１ｂにより構成されている。容器本体１１ａは第１方向７に延びる有底円筒形であり、容器本体１１ａの内部には液滴２８及び包囲液体２９が設置されている。包囲液体２９は液滴２８を包囲する液体である。蓋部１１ｂは容器本体１１ａから液滴２８及び包囲液体２９が漏出しないように栓をしている。
【００４１】
液滴２８には増殖させる対象である核酸、プライマー及び増殖具合を検出するプローブ等が含まれている。核酸、プライマー及びプローブは公知であり説明を省略する。液滴２８は極性分子の液体を溶媒としている。本実施形態では、例えば、液滴２８の媒体は水溶液である。一方、包囲液体２９は無極性分子の液体である。本実施形態では、例えば、包囲液体２９にはシリコンオイルを用いている。このため、反応容器１１の内では液滴２８が包囲液体２９と混じらずに球形状となっている。
【００４２】
液滴２８の直径は容器本体１１ａの内径より小さくなっている。このため、液滴２８は反応容器１１の内部を容易に移動できる。容器本体１１ａの内側に撥水処理を施しても良い。例えば、容器本体１１ａの内側をフッ素樹脂やシリコン樹脂でコーティングしても良い。これにより、液滴２８が容器本体１１ａの内側側面に接触するときにも、液滴２８を移動し易くすることができる。
【００４３】
容器本体１１ａは第１方向７に長い形状であり、容器本体１１ａの蓋部１１ｂ側を第１場所１１ｄとする。第１伝熱部１３により第１場所１１ｄの温度が制御される。そして、容器本体１１ａの底部１１ｃ側を第２場所１１ｅとする。第２伝熱部１４により第２場所１１ｅの温度も制御される。これにより、包囲液体２９は第１場所１１ｄと第２場所１１ｅとが異なる温度に維持されている。そして、反応容器１１内の包囲液体２９は所定の温度分布に制御されている。
【００４４】
容器本体１１ａの材質は耐熱性があり光透過性があれば良く、例えば、ガラス、シリコン、耐熱性樹脂を用いることができる。本実施形態では、例えば、容器本体１１ａの材質にポリプロピレンを用いている。
【００４５】
反応容器１１の寸法は特に限定されないが、本実施形態では、例えば、内径が約２ｍｍ、第１方向７の長さが約２４ｍｍになっている。そして、液滴２８は直径が約１．４ｍｍになっている。第１場所１１ｄは蓋部１１ｂ側から８ｍｍの範囲の場所であり、第２場所１１ｅは底部１１ｃ側から８ｍｍの範囲の場所である。
【００４６】
図４は熱サイクル装置の電気制御ブロック図である。図４において、熱サイクル装置１は熱サイクル装置１の動作を制御する制御部２７を備えている。そして、制御部２７はプロセッサーとして各種の演算処理を行うＣＰＵ３０（中央演算処理装置）と、各種情報を記憶するメモリー３１とを備えている。モーター駆動装置３２、伝熱部駆動装置３３、固定装置１０、ステージ駆動装置３４及び蛍光測定装置２４は入出力インターフェイス３５及びデータバス３６を介してＣＰＵ３０に接続されている。さらに、入出力装置３７及び表示装置３８も入出力インターフェイス３５及びデータバス３６を介してＣＰＵ３０に接続されている。
【００４７】
モーター駆動装置３２は第１モーター４を駆動する装置である。モーター駆動装置３２はＣＰＵ３０から指示信号を入力する。そして、エンコーダー５を用いて回転基板６の角度及び回転速度を検出する。そして、指示信号に示す回転基板６の角度に回転基板６が回転するように第１モーター４を駆動する。
【００４８】
伝熱部駆動装置３３は伝熱部１５を駆動する装置である。伝熱部駆動装置３３はＣＰＵ３０から指示信号を入力する。伝熱部１５には温度センサーが設置されている。そして、温度センサーを用いて伝熱部１５の温度を検出する。そして、指示信号に示す温度になるように伝熱部１５を駆動する。
【００４９】
ステージ駆動装置３４は第１ステージ１８及び第２ステージ２２を駆動する装置である。ステージ駆動装置３４はＣＰＵ３０から指示信号を入力する。第１ステージ１８及び第２ステージ２２にはそれぞれ位置を検出するスケールが設置されている。ステージ駆動装置３４はスケールを用いて第１ステージ１８及び第２ステージ２２の位置を検出する。そして、ステージ駆動装置３４は、第１ステージ１８及び第２ステージ２２が指示信号の示す場所に移動するように駆動する。
【００５０】
蛍光測定装置２４はＣＰＵ３０から指示信号を入力する。指示信号に従って蛍光測定装置２４は光を反応容器１１に照射する。そして、反応容器１１で反射した反射光の光量を検出する。そして、反射光の光量を示すデータをＣＰＵ３０に出力する。
【００５１】
入出力装置３７にはキーボードやマウス型入力装置、ペン型入力装置の他、外部コンピューターと有線及び無線の通信を行う装置が含まれる。これらの入出力装置３７によりメモリー３１に各種のデータが入力される。
【００５２】
表示装置３８は液晶式等の表示装置の他、異常を知らせるライトやスピーカー、外部コンピューターと有線及び無線の通信を行う装置等が含まれる。これにより、制御部２７は熱サイクル装置１の状態や操作者が設定した装置の駆動条件を表示することができる。
【００５３】
メモリー３１は、ＲＡＭ、ＲＯＭ等といった半導体メモリーや、ハードディスク、ＤＶＤ−ＲＯＭといった外部記憶装置を含む概念である。機能的には、熱サイクル装置１の動作の制御手順が記述されたプログラムソフト４１を記憶する記憶領域や、反応容器１１の温度分布のデータである温度プロファイルデータ４２を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、回転基板６、第１ステージ１８及び第２ステージ２２の位置や角度のデータであるステージ関連データ４３を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、蛍光測定装置２４が発光する光の強度や、蛍光測定装置２４が反射光を用いて反応の進行具合の判定に用いるデータ等の蛍光関連データ４４を記憶するための記憶領域が設定される。他にも、ＣＰＵ３０のためのワークエリアやテンポラリーファイル等として機能する記憶領域やその他各種の記憶領域が設定される。
【００５４】
ＣＰＵ３０は、メモリー３１内に記憶されたプログラムソフト４１に従って、回転基板６を回転して液滴２８を移動させる。そして、液滴２８に加える温度を切り替える制御を行うものである。具体的な機能実現部としてＣＰＵ３０は反応容器制御部４５を有する。反応容器制御部４５は第１モーター４及び姿勢変更部１６を駆動させて反応容器１１を移動させる制御を行う。
【００５５】
他にも、ＣＰＵ３０は回転基板制御部４６を有する。回転基板制御部４６はエンコーダー５が検出する回転基板６の角度を入力する。そして、回転基板制御部４６はモーター駆動装置３２に指示信号を出力し、第１モーター４を駆動させて回転基板６を回転させる制御を行う。
【００５６】
他にも、ＣＰＵ３０は温度制御部４７を有する。温度制御部４７は伝熱部駆動装置３３に指示信号を出力し、伝熱部駆動装置３３に伝熱部１５を駆動させて反応容器１１の温度分布を所定の分布にする制御を行う。具体的には第１場所１１ｄの温度を第１温度にする。第１温度は核酸に熱変性の反応を進行させる温度である。本実施形態では、例えば、第１温度は９５度に設定されている。さらに、第２場所１１ｅの温度を第２温度にする。第２温度は核酸にアニール・伸長の反応を進行させる温度である。本実施形態では、例えば、第２温度は６０度に設定されている。第１温度及び第２温度は特に限定されず対象とする核酸に最適な温度を設定するのが好ましい。
【００５７】
他にも、ＣＰＵ３０はステージ制御部４８を有する。ステージ制御部４８は第１ステージ１８及び第２ステージ２２に設置されたスケールが検出する各ステージの位置のデータを入力する。そして、ステージ制御部４８はステージ駆動装置３４に指示信号を出力し、第１ステージ１８及び第２ステージ２２を駆動させて押圧部２３を移動させる制御を行う。
【００５８】
他にも、ＣＰＵ３０は固定制御部４９を有する。固定制御部４９は固定装置１０を駆動して可動部１０ａを移動させる。装着部９を回転基板６に固定するときに固定制御部４９は可動部１０ａを−Ｘ方向に突出させる指示信号を出力する。装着部９を回転基板６に対して移動可能にするときには固定制御部４９は可動部１０ａを＋Ｘ方向に移動させる指示信号を出力する。
【００５９】
他にも、ＣＰＵ３０は蛍光測定制御部５０を有する。蛍光測定制御部５０は所定のタイミングで蛍光測定装置２４に蛍光測定する指示信号を出力する。そして、蛍光測定制御部５０は測定結果を入力して液滴２８における反応の進行具合を判定する。尚、本実施形態では、上記の各機能がＣＰＵ３０を用いてプログラムソフトで実現することとしたが、上記の各機能がＣＰＵ３０を用いない単独の電子回路（ハードウェア）によって実現できる場合には、そのような電子回路を用いることも可能である。
【００６０】
次に上述した熱サイクル装置１を用いて液滴２８内の核酸を増殖させる核酸増殖方法について図５〜図１１にて説明する。図５は、核酸増殖方法のフローチャートであり、図６〜図１１は核酸増殖方法を説明するための模式図である。
【００６１】
図５のフローチャートにおいて、ステップＳ１は準備工程に相当し、反応容器１１内に液滴２８及び包囲液体２９を投入する。さらに、伝熱部駆動装置３３が伝熱部１５を駆動して第１場所１１ｄ及び第２場所１１ｅの温度を所定の温度に制御する工程である。次にステップＳ２に移行する。ステップＳ２は反応容器設置工程である。この工程は、操作者が反応容器１１を装着部９に設置する工程である。次にステップＳ３に移行する。ステップＳ３は熱変性工程である。この工程は核酸に熱変性の反応を進行させる工程である。次にステップＳ４に移行する。ステップＳ４は第１移動工程である。この工程は、熱サイクル装置１が液滴２８を第１場所１１ｄから第２場所１１ｅに移動する工程である。次にステップＳ５に移行する。
【００６２】
ステップＳ５はアニール・伸長工程である。この工程は核酸にアニール・伸長の反応を進行させる工程である。次にステップＳ６に移行する。ステップＳ６は蛍光測定工程である。この工程は、蛍光測定装置２４が液滴２８に蛍光を照射して核酸増殖の程度を検出する工程である。次にステップＳ７に移行する。ステップＳ７は第２移動工程である。この工程は、熱サイクル装置１が液滴２８を第２場所１１ｅから第１場所１１ｄに移動する工程である。次にステップＳ８に移行する。
【００６３】
ステップＳ８は終了判定工程である。この工程は蛍光測定制御部５０が反応の進行具合を判定する工程である。液滴２８で反射する蛍光光量が判定値に到達しないとき、ステップＳ３に移行する。液滴２８で反射する蛍光光量が判定値に到達したとき、ステップＳ９に移行する。ステップＳ９は反応容器除去工程である。この工程は、操作者が装着部９から反応容器１１を除去する工程である。以上の工程により核酸を増殖する工程が終了する。
【００６４】
次に、図６〜図１１を用いて、図５に示したステップと対応させて、核酸増殖方法を詳細に説明する。図６はステップＳ１の準備工程及びステップＳ２の反応容器設置工程に対応する図である。図６に示すように、ステップＳ１では操作者が反応容器１１内に包囲液体２９を投入し、次に、液滴２８の材料を投入する。反応容器１１の内では液滴２８が包囲液体２９と混じらずに球形状となる。そして、操作者は容器本体１１ａに蓋部１１ｂを設置して密閉する。
【００６５】
次に、温度制御部４７が伝熱部駆動装置３３に指示信号を出力し、伝熱部駆動装置３３に伝熱部１５を駆動させる。反応容器１１が装着部９に設置されたときに、伝熱部１５は装着部９を介して反応容器１１に熱を伝導する。そして、第１場所１１ｄの温度を第１温度に制御し、第２場所１１ｅの温度を第２温度に制御する。第１温度は核酸に熱変性の反応を進行させる温度である。第２温度は核酸にアニール・伸長の反応を進行させる温度である。この工程では反応容器１１が設置される前に予め伝熱部１５の温度を所定の温度に制御しておく。
【００６６】
回転基板制御部４６は容器固定部１２が＋Ｚ方向を向くようにモーター駆動装置３２に第１モーター４を駆動させる。これにより、容器固定部１２が＋Ｚ方向を向く姿勢になる。そして、ステージ制御部４８はステージ駆動装置３４に姿勢変更部１６の第１ステージ１８及び第２ステージ２２を駆動させて装着部９を＋Ｚ方向に移動する。そして、固定制御部４９は固定装置１０に可動部１０ａを突出させる。これにより、装着部９は回転基板６に固定される。
【００６７】
図１を参照して、姿勢変更部１６が装着部９を移動する動作を説明する。姿勢変更部１６の動作は第１ステージ１８及び第２ステージ２２をステージ駆動装置３４が駆動して行う。そして、ステージ制御部４８が第１ステージ１８及び第２ステージ２２の動作を制御する。これにより、ステージ制御部４８は押圧部２３を移動することができる。
【００６８】
最初、押圧部２３は装着部９及び回転基板６と分離し−Ｘ方向に移動して待機している。まず、ステージ制御部４８はステージ駆動装置３４に第１ステージ１８を駆動させて、押圧部２３を装着部９と対向する場所に移動する。次に、ステージ制御部４８はステージ駆動装置３４に第２ステージ２２を駆動させて、押圧部２３を装着部９に接近させる。そして、押圧部２３の凹部２３ａに装着部９が入るようにする。
【００６９】
次に、固定制御部４９は固定装置１０に可動部１０ａを＋Ｘ方向に移動させる。これにより、装着部９はＺ方向に移動可能になる。続いて、ステージ制御部４８はステージ駆動装置３４に第１ステージ１８を駆動させて、押圧部２３を上昇または下降させる。これにより、装着部９はレール８に沿って上昇または下降する。次に、固定制御部４９は固定装置１０に可動部１０ａを−Ｘ方向に移動させる。これにより、装着部９は固定される。続いて、ステージ制御部４８が押圧部２３を−Ｘ方向に移動させる。これにより、押圧部２３は装着部９及び回転基板６と分離する。
【００７０】
姿勢変更部１６は装着部９を移動させた後、装着部９及び回転基板６と分離する。回転基板６には装着部９を移動する機構が設置されていないので第１モーター４が回転する部材のイナーシャを小さくすることができる。これにより、回転基板制御部４６は回転基板６の回転速度の加減速を応答性良く制御することができる為、回転基板６の回転速度を速くすることができる。液滴２８に加わる遠心力は回転速度の２乗に比例する。従って、液滴２８に加える遠心力を大きくすることができる。
【００７１】
図６に戻って、装着部９は熱サイクル装置１の＋Ｚ方向側に位置している。次に、ステップＳ２において操作者が反応容器１１を装着部９に設置する。装着部９の＋Ｚ方向側には空間が広がっているので、操作者は反応容器１１を設置し易くなっている。操作者は容器固定部１２を外して、反応容器１１を装着部９に挿入する。次に、操作者は装着部９に容器固定部１２を設置し、反応容器１１を装着部９に固定する。反応容器１１内の液滴２８は包囲液体２９より比重が重くなるように調整されている。液滴２８には重力が作用するので反応容器１１の−Ｚ方向に移動に移動している。そして、液滴２８は第２場所１１ｅに位置している。
【００７２】
操作者は装着部９に反応容器１１を設置した後、入出力装置３７を用いて設置作業を終了したことを入力する。反応容器制御部４５は設置作業終了の入力を受けて、回転基板制御部４６に回転基板６を回転させる指示信号を出力する。回転基板制御部４６は指示信号を入力してモーター駆動装置３２に第１モーター４を回転させる。
【００７３】
図７はステップＳ２及びステップＳ３の熱変性工程に対応する図である。図７に示すように、回転基板６が回転して、装着部９が−Ｚ方向側に移動する。回転基板６が回転するとき、液滴２８には遠心力が作用する。このため、液滴２８は−Ｚ方向である第１場所１１ｄに移動する。そして、第１方向７はＺ方向と平行になり、液滴２８に重力加速度が加わる。従って、液滴２８が第１場所１１ｄに到達していないときも、液滴２８が第１場所１１ｄに移動する。回転基板６の回転数は特に限定されず０．５回転、１．５回転、２．５回転、３．５回転等から選択することができる。
【００７４】
姿勢変更部１６が装着部９を移動するとき、反応容器１１の第１方向７がＺ方向となるように移動している。これにより、回転基板６を回転して停止したとき、液滴２８に第１方向７の重力加速度が加わるようになっている。
【００７５】
液滴２８が位置する第１場所１１ｄは第１伝熱部１３により第１温度に制御されている。従って、液滴２８内の核酸は熱変性反応が行われる。熱変性反応の時間は特に限定されないが、本実施形態では、例えば、４秒〜１５秒の間で設定されている。
【００７６】
図８はステップＳ４の第１移動工程に対応する図である。図９はステップＳ４及びステップＳ５のアニール・伸長工程に対応する図である。図８に示すように、ステップＳ４では、装着部９を＋Ｚ方向に移動する。まず、反応容器制御部４５がステージ制御部４８及び固定制御部４９に装着部９を移動する指示信号を出力する。
【００７７】
ステージ制御部４８は姿勢変更部１６の動作を制御して押圧部２３を装着部９に接近させる。そして、押圧部２３の凹部２３ａに装着部９が入るようにする。次に、固定制御部４９が固定装置１０の可動部１０ａを＋Ｘ方向に移動させる。続いて、姿勢変更部１６が装着部９を＋Ｚ方向に移動する。装着部９はレール８に沿って移動する。そして、移動後は反応容器１１の第１方向７がＺ方向となるように移動する。姿勢変更部１６は装着部９を押すだけで、装着部９の姿勢を回転軸４ａに対して第２場所１１ｅを第１場所１１ｄの外側に位置する姿勢に変更できる。従って、容易に回転基板６に対する装着部９の姿勢を変更することができる。
【００７８】
姿勢変更部１６が装着部９を移動した後、固定制御部４９が固定装置１０の可動部１０ａを−Ｘ方向に移動させる。そして、固定装置１０により装着部９が回転基板６に固定される。次に、姿勢変更部１６は押圧部２３を回転基板６及び装着部９から分離させる。
【００７９】
図９に示すように、続いて、第１モーター４が回転基板６を回転させて、装着部９が−Ｚ方向側に移動する。回転基板６が回転するとき、液滴２８には遠心力が作用する。このため、液滴２８は−Ｚ方向である第２場所１１ｅに移動する。そして、回転後の第１方向７はＺ方向と平行になり、液滴２８に重力加速度が加わる。従って、液滴２８が第２場所１１ｅに到達していないときは、液滴２８が第２場所１１ｅに移動する。回転基板６の回転数は０．５回転、１．５回転、２．５回転、３．５回転等から選択することができる。
【００８０】
姿勢変更部１６が装着部９を移動するとき、反応容器１１の第１方向７がＺ方向となるように移動している。これにより、回転基板６を回転して停止したとき、液滴２８に第１方向７の重力加速度が加わるようになっている。
【００８１】
ステップＳ５では、回転基板６の位置を維持する。これにより、液滴２８は第２場所１１ｅにて静止する。第２場所１１ｅは第２伝熱部１４により第２温度に制御されている。このとき、液滴２８はアニール・伸長の反応を進行させる温度になり、核酸はアニール・伸長の反応が進行する。
【００８２】
図１０はステップＳ６の蛍光測定工程に対応する図である。図１０に示すように、ステップＳ６において、蛍光測定制御部５０が蛍光測定装置２４に測定光５１を発光させる指示信号を出力する。蛍光測定装置２４は指示信号を入力して発光部２５から測定光５１を照射する。
【００８３】
液滴２８にはプローブに接続して蛍光物質が含まれている。そして、核酸の増殖に従って蛍光物質による反射光５２が増加するようになっている。蛍光測定装置２４では受光部２６が反射光５２を検出する。そして、蛍光測定装置２４が反射光５２の光強度を測定し蛍光測定制御部５０に出力する。
【００８４】
図１１はステップＳ７の第２移動工程に対応する図である。図１１に示すように、ステップＳ７において、姿勢変更部１６及び固定装置１０が連携して装着部９を＋Ｚ方向に移動する。装着部９を移動する手順はステップＳ４と同様であり説明を省略する。これにより、回転基板６に対する装着部９の姿勢はステップＳ２と同じ姿勢となる。
【００８５】
次に、図７に示すように、回転基板６が回転して、装着部９が−Ｚ方向側に移動する。回転基板６が回転するとき、液滴２８には遠心力が作用する。このため、液滴２８は−Ｚ方向である第１場所１１ｄに移動する。そして、第１方向７はＺ方向と平行になり、液滴２８に重力加速度が加わる。従って、液滴２８が第１場所１１ｄに到達していないときも、液滴２８が第１場所１１ｄに移動する。回転基板６の回転数は特に限定されず０．５回転、１．５回転、２．５回転、３．５回転等から選択することができる。
【００８６】
ステップＳ８の終了判定工程では蛍光測定制御部５０がメモリー３１から蛍光関連データ４４を入力する。蛍光関連データ４４には反射光５２を用いて反応の進行具合を判定する判定値のデータが含まれている。蛍光測定制御部５０は反射光５２の光強度と判定値とを比較する。
【００８７】
反射光５２の光強度が判定値に到達していないとき、核酸の増殖反応が進行中であると判断する。そして、ステップＳ３に移行する。反射光５２の光強度が判定値に到達したとき、核酸の増殖反応を終了する判断を行う。そして、ステップＳ９に移行する。
【００８８】
ステップＳ９の反応容器除去工程では操作者が装着部９から反応容器１１を除去する。以上の工程により核酸を増殖する工程が終了する。
【００８９】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、姿勢変更部１６は回転基板６と分離して設置されている。従って、装着部９の姿勢を変更する機構が回転基板６に設置されているときに比べて回転基板６のイナーシャを小さくすることができる。このとき、回転基板６の回転速度の加減速を応答性良く制御することができる為、回転基板６の回転速度を速くすることができる。液滴２８に加わる遠心力は回転速度の２乗に比例する。従って、液滴２８に加える遠心力を大きくすることができる。
【００９０】
（２）本実施形態によれば、回転基板６にはレール８が設置されている。そして、姿勢変更部１６は装着部９をレール８に沿って移動させている。従って、姿勢変更部１６は装着部９を押すだけで所定の姿勢に変更できるので容易に回転基板６に対する装着部９の姿勢を変更することができる。
【００９１】
（３）本実施形態によれば、回転基板６が停止するときには液滴２８に第１方向７の重力加速度が加わるように姿勢変更部１６が反応容器１１の姿勢を変える。これにより、回転基板６が停止した後でも重力により液滴２８を移動させることができる。従って、遠心力により液滴が目標とする場所に移動しきれないときにも液滴２８に重力を作用させて確実に目標とする場所に移動させることができる。
【００９２】
（第２実施形態）
次に、熱サイクル装置の一実施形態について図１２及び図１３を用いて説明する。図１２は、熱サイクル装置の構成を示す模式正面図である。図１３は、熱サイクル装置の構成を示す模式側断面図であり、図１２のＢＢ線に沿う面側から見た図である。本実施形態が第１実施形態と異なるところは、図１及び図２に示した伝熱部１５が姿勢変更部に設置されている点にある。尚、第１実施形態と同じ点については説明を省略する。
【００９３】
すなわち、本実施形態では、図１２及び図１３に示すように、熱サイクル装置５５はレール８の−Ｘ方向側に装着部５６が設置されている。装着部５６はレール８に沿って移動可能になっている。上記第１実施形態とは異なり装着部５６には伝熱部１５が設置されていない構成になっている。
【００９４】
装着部５６の−Ｘ方向側には姿勢変更部５７が設置されている。姿勢変更部５７では第２ステージ２２の＋Ｘ方向側に伝熱部移動部としての第２モーター５８が設置されている。第２モーター５８の＋Ｘ方向側には押圧部６０が設置され、押圧部６０は第２モーター５８の回転軸に固定されている。そして、第２モーター５８は押圧部６０を回転する。
【００９５】
上記第１実施形態における姿勢変更部１６と同様に、姿勢変更部５７は押圧部６０を移動する。そして、姿勢変更部５７は押圧部６０を装着部５６に接触させて装着部５６をＺ方向に移動する。
【００９６】
押圧部６０には第１伝熱部６１及び第２伝熱部６２を有する温度制御部としての伝熱部６３が設置されている。ステップＳ３の熱変性工程では、まず、第２モーター５８が押圧部６０を回転して第１伝熱部６１を第１場所１１ｄと対向する場所に移動する。次に、姿勢変更部５７が押圧部６０を装着部５６に接触させる。第１伝熱部６１は上記第１実施形態における第１伝熱部１３と同じ機能を備え、第１伝熱部６１は第１場所１１ｄを第１温度に制御する。
【００９７】
ステップＳ５のアニール・伸長工程では、まず、第２モーター５８が押圧部６０を回転して第２伝熱部６２を第２場所１１ｅと対向する場所に移動する。次に、姿勢変更部５７が押圧部６０を装着部５６に接触させる。第２伝熱部６２は上記第１実施形態における第２伝熱部１４と同じ機能を備え、第２伝熱部６２は第２場所１１ｅを第２温度に制御する。このようにして伝熱部６３は反応容器１１内の第１方向７の温度分布を所定の分布に制御する。
【００９８】
伝熱部移動部としての第２ステージ２２は伝熱部６３と反応容器１１との距離を変える。ステップＳ４の第１移動工程及びステップＳ７の第２移動工程において第１モーター４が回転基板６を回転する前に、第２ステージ２２が装着部５６及び回転基板６と伝熱部６３とを分離する。従って、回転基板６には伝熱部６３が設置されていないので、第１モーター４が回転する部材のイナーシャを小さくすることができる。このとき、回転基板６の回転速度の加減速を応答性良く制御することができる為、回転基板６の回転速度を速くすることができる。従って、液滴２８に加える遠心力を大きくすることができる。
【００９９】
回転基板６が停止するとき第２ステージ２２が伝熱部６３を反応容器１１に接近させる。回転基板６が回転するとき第２ステージ２２が伝熱部６３を反応容器１１から離す。これにより、伝熱部６３は回転基板６と分離して設置された構造において、反応容器１１の温度を制御することができる。
【０１００】
第１モーター４が回転基板６を回転することにより、反応容器１１の姿勢が変えられる。そして、第２モーター５８は反応容器１１の姿勢の変化に対応して伝熱部６３の姿勢を変える。従って、第２ステージ２２は伝熱部６３を反応容器１１に接近させることができる。
【０１０１】
熱サイクル装置５５は熱サイクル装置５５の動作を制御する制御部６４を備えている。制御部６４は第１実施形態の制御部２７に加え、第２モーター５８の回転を制御する伝熱部姿勢制御部を備えている。そして、反応容器制御部４５は温度制御部４７及び伝熱部姿勢制御部と連携して反応容器１１の温度分布を制御する。
【０１０２】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、伝熱部６３は回転基板６と分離して設置されている。従って、伝熱部６３が回転基板６に設置されているときに比べて回転基板６のイナーシャを小さくすることができる。このとき、回転基板６の回転速度の加減速を応答性良く制御することができる為、回転基板６の回転速度を速くすることができる。液滴２８に加わる遠心力は回転速度の２乗に比例する。従って、液滴２８に加える遠心力を大きくすることができる。
【０１０３】
（２）本実施形態によれば、熱サイクル装置５５は第２ステージ２２を備え、第２ステージ２２が伝熱部６３と反応容器１１との距離を変える。回転基板６が停止するとき第２ステージ２２が伝熱部６３を反応容器１１に接近させる。回転基板６が回転するとき第２ステージ２２が伝熱部６３を反応容器１１から離す。これにより、伝熱部６３を回転基板６と分離して設置された構造にして、反応容器１１の温度を制御することができる。
【０１０４】
（３）本実施形態によれば、回転基板６が回転するとき反応容器１１の姿勢が変わる。このとき、反応容器１１の姿勢の変化に対応して第２モーター５８が伝熱部６３の姿勢を変える。従って、第２ステージ２２は伝熱部６３を反応容器１１に接近させて、反応容器１１を所定の温度分布にすることができる。
【０１０５】
（第３実施形態）
次に、熱サイクル装置の一実施形態について図１４及び図１５を用いて説明する。図１４は、熱サイクル装置の構成を示す模式正面図である。図１５は、熱サイクル装置の構成を示す模式側断面図であり、図１４のＣＣ線に沿う面側から見た図である。本実施形態が第２実施形態と異なるところは、図１２に示した装着部５６が直線移動でなく回転移動する点にある。尚、第１実施形態と同じ点については説明を省略する。
【０１０６】
すなわち、本実施形態では、図１４及び図１５に示すように、熱サイクル装置６７は回転基板６の−Ｘ側の面に軸６８が設置されている。軸６８はＸ方向に延びている。さらに、回転基板６の−Ｘ側には装着部６９が設置されている。装着部６９には軸受７０が設置され、軸受７０には軸６８が挿入されている。そして、装着部６９は軸６８回りに回転する。回転基板６にはレール８が設置されておらず、装着部６９は直進移動しない。
【０１０７】
回転基板６には固定装置１０が設置されている。固定装置１０が可動部１０ａを−Ｘ方向側に突出させるとき、可動部１０ａが装着部６９を押圧する。装着部６９が回転しないように固定装置１０は装着部６９を固定することができる。固定装置１０が可動部１０ａを＋Ｘ方向側に移動させるとき、装着部６９は回転可能になる。
【０１０８】
装着部６９の−Ｘ方向側には姿勢変更部５７が設置されている。姿勢変更部５７が装着部６９の姿勢を変更する方法を説明する。まず、姿勢変更部５７が第１ステージ１８を移動させて押圧部６０を装着部６９と対向する位置に移動する。そして、姿勢変更部５７が第２ステージ２２を移動させて押圧部６０を装着部６９に接触させる。そして、固定装置１０が可動部１０ａを＋Ｘ方向側に移動させる。次に、第２モーター５８が押圧部６０を回転させることにより、装着部６９を軸６８まわりに回転させて装着部６９の姿勢を変える。以上の手順で姿勢変更部５７が装着部６９の姿勢を変更する。
【０１０９】
ステップＳ４の第１移動工程では姿勢変更部５７は装着部６９を回転させて、装着部６９の姿勢を回転軸４ａに対して第２場所１１ｅを第１場所１１ｄの外側に位置する姿勢に変更する。また、ステップＳ７の第２移動工程では姿勢変更部５７は装着部６９の姿勢を回転軸４ａに対して第１場所１１ｄを第２場所１１ｅの外側に位置する姿勢に変更する。このように、姿勢変更部５７は回転基板６に対する装着部６９の姿勢を変更することができる。
【０１１０】
熱サイクル装置６７は熱サイクル装置６７の動作を制御する制御部７１を備えている。制御部７１は第２実施形態の制御部６４に加え、装着部６９の回転を制御する装着部回転制御部を備えている。そして、反応容器制御部４５は回転基板制御部４６、ステージ制御部４８、固定制御部４９及び装着部回転制御部と連携して反応容器１１内における液滴２８の位置を制御する。
【０１１１】
上述したように、本実施形態によれば、以下の効果を有する。
（１）本実施形態によれば、回転基板６に対して装着部６９及び反応容器１１は回転可能になっている。そして、姿勢変更部５７は装着部６９を回転させるだけで反応容器１１を所定の姿勢に変更できる。従って、熱サイクル装置６７は容易に回転基板６に対する反応容器１１の姿勢を変更することができる。
【０１１２】
尚、本実施形態は上述した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で当分野において通常の知識を有する者により種々の変更や改良を加えることも可能である。変形例を以下に述べる。
（変形例１）
前記第１実施形態では、装着部９をレール８に沿って移動させて、回転基板６に対する反応容器１１の姿勢を変更した。装着部９に伝熱部１５が設置されているときにも前記第３実施形態のように装着部９を回転して反応容器１１の姿勢を変更しても良い。このときにも容易に反応容器１１の姿勢を変更できる。
【０１１３】
（変形例２）
前記第１実施形態では、ステップＳ３の熱変性工程及びステップＳ５のアニール・伸長工程では反応容器１１の第１方向７が重力加速度方向となるように反応容器１１の姿勢を設定した。液滴２８に加わる遠心力が大きく、液滴２８を確実に移動できるときには、第１方向７を重力加速度方向に対して斜めにしてもよい。また、第１方向７を重力加速度方向に対して直交する方向にしてもよい。
【０１１４】
（変形例３）
前記第１実施形態では、回転軸４ａが水平方向になるように第１モーター４が設置された。液滴２８に加わる遠心力が大きいときには、回転軸４ａが鉛直方向になるように第１モーター４を設置してもよい。第１モーター４は重量が大きいので、基台２に直接設置して安定した構造にすることができる。
【０１１５】
（変形例４）
前記第１実施形態では、姿勢変更部１６が直交ロボットの形態をしていた。他にも、姿勢変更部１６を多関節ロボットの形態にしても良い。また、熱サイクル装置１が１つの姿勢変更部１６と複数の回転基板６及び装着部９を備えていても良い。そして、１つの姿勢変更部１６が複数の装着部９の姿勢を変更させてもよい。効率よく装着部９の姿勢を変更することができる。
【符号の説明】
【０１１６】
１，５５，６７…熱サイクル装置、４ａ…主回転軸としての回転軸、６…回転基板、７…第１方向、９，５６，６９…装着部、１１…反応容器、１５，６３…温度制御部としての伝熱部、１６，５７…姿勢変更部、２１ａ…レール、２２…伝熱部移動部としての第２ステージ、２８…液滴、４７…温度制御部、５８…伝熱部移動部としての第２モーター、６８…軸。
【図１】
2017093354.tif 000003
【図２】
2017093354.tif 000004
【図３】
2017093354.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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