(57)【要約】【課題】硫黄酸化物を含有する排ガスの処理において従来の触媒に比べて性能低下が少なく、より長時間にわたって排ガス中の窒素酸化物や有機ハロゲン化合物を除去することができる排ガス処理触媒、および該触媒を用いた排ガス処理方法を提供することにある。【解決手段】本発明は、触媒Ａ成分としてチタン、タングステンおよびケイ素の三元系複合酸化物または混合酸化物、触媒Ｂ成分としてバナジウム、ニオブ、タンタルの少なくとも１種の元素の化合物ならびに触媒Ｃ成分としてモリブデン、タングステンの少なくとも１種の元素の化合物を含み、さらに硫黄化合物を硫黄原子換算で触媒の全質量に対し０．４〜１．０質量％を含む排ガス処理触媒であり、該触媒を用いて窒素酸化物（ＮＯｘ）および／または有機ハロゲン化合物を含む排ガスを処理する排ガス処理方法である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
窒素酸化物および／または有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを処理するための触媒であって、触媒Ａ成分としてチタン、タングステンおよびケイ素の三元系複合酸化物または混合酸化物、触媒Ｂ成分としてバナジウム、ニオブまたはタンタルの少なくとも１種の元素の化合物ならびに触媒Ｃ成分としてモリブデンまたはタングステンの少なくとも１種の元素の化合物を含有し、かつ硫黄化合物が硫黄原子換算で触媒の全体量に対し０．４〜１．０質量％含まれていることを特徴とする排ガス処理触媒。
【請求項２】
触媒Ｂ成分の含有量が、触媒Ａ成分と触媒Ｂ成分と触媒Ｃ成分の合計質量に対して１〜２０質量％であり、かつ触媒Ｃ成分の含有量が、触媒Ａ成分と触媒Ｂ成分と触媒Ｃ成分の合計質量に対して、２〜１０質量％であることを特徴とする請求項１に記載の排ガス処理触媒。
【請求項３】
請求項１または２に記載の触媒を用いて、窒素酸化物および／または有機ハロゲン化合物を含有する排ガスを処理することを特徴とする排ガス処理方法。
【請求項４】
排ガスがさらに硫黄酸化物を含有していることを特徴とする請求項３に記載の排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、排ガス中の窒素酸化物や有機ハロゲン化合物を除去するための排ガス処理触媒に関する。詳しくは、硫黄酸化物が含まれる排ガスの処理において耐久性を著しく向上させた排ガス処理用触媒に関する。
【背景技術】
【０００２】
窒素酸化物（ＮＯｘ）は人体にとって有害な物質である他、酸性雨や光化学スモッグの原因物質であり、その対策技術として、アンモニアまたは尿素などの還元剤を用いて排ガス中の窒素酸化物を触媒上で接触還元して窒素と水に分解する選択的触媒還元法（ＳＣＲ法）が一般的に用いられている。また、ダイオキシン類に代表される有機ハロゲン化合物も人体に深刻な影響を及ぼす有害物質であるが、その処理においても触媒による分解除去が広く用いられている。特に都市ごみ焼却炉など廃棄物処理施設から排出される排ガスでは、窒素酸化物と有機ハロゲン化合物の両方を除去することが必要になる場合も多い。
【０００３】
このような用途に用いられる排ガス処理触媒としては、例えば、チタン酸化物、バナジウム酸化物およびタングステン酸化物を含有する触媒（特許文献１、２）、またはチタン酸化物、バナジウム酸化物およびモリブデン酸化物を含有する触媒（特許文献３、４）について開示されている。
【０００４】
一方、近年では排ガス再加熱にかかるＣＯ２排出の低減などの観点から、排ガス処理温度の低温化が望まれており、例えば都市ごみ焼却炉排ガスの処理では２００℃未満の低温度域においても優れた除去性能および耐久性を有する触媒が求められている。これに関しては、性能および耐久性をより向上させた触媒として、チタン系酸化物、バナジウム酸化物、および銅、コバルトなどの金属の硫酸塩を含有する触媒について提案されているが（特許文献５）、このような触媒を用いたとしても排ガスの処理温度が２００℃未満になると硫黄酸化物による性能低下が大きく、要求される処理性能を維持する為には触媒を頻繁に交換する必要があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−２３５１９１号公報
【特許文献２】特開平１０−２３５２０６号公報
【特許文献３】特開２００１−０６２２９２号公報
【特許文献４】特開２００１−２７６６１７号公報
【特許文献５】特開２００６−３２０８０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、硫黄酸化物を含有する排ガスの処理において従来の触媒に比べて性能低下が少なく、より長時間にわたって排ガス中の窒素酸化物や有機ハロゲン化合物を除去することができる排ガス処理触媒、および該触媒を用いた排ガス処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、上記課題を解決する為に鋭意検討を行った結果、以下に示す組成の触媒が有効であることを見出した。すなわち本発明の排ガス処理触媒は、触媒Ａ成分としてチタン、タングステンおよびケイ素の三元系複合酸化物または混合酸化物、触媒Ｂ成分としてバナジウム、ニオブまたはタンタルの少なくとも１種の元素の化合物ならびに触媒Ｃ成分としてモリブデンまたはタングステンの少なくとも１種の元素の化合物を含有し、かつ硫黄化合物が硫黄原子換算で触媒の全体量に対し０．４〜１．０質量％含まれていることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明を用いることで、低温度域においても硫黄酸化物による性能低下を抑制することが可能になり、排ガス中に含まれるＮＯｘや有機ハロゲン化合物を長時間にわたって安定的に処理することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の排ガス処理触媒は、触媒Ａ成分としてチタン、タングステンおよびケイ素の三元系複合酸化物または混合酸化物、触媒Ｂ成分としてバナジウム、ニオブ、タンタルの少なくとも１種の元素の化合物ならびに触媒Ｃ成分としてモリブデン、タングステンの少なくとも１種の元素の化合物を含み、さらに硫黄化合物を硫黄原子換算で触媒の全質量に対し０．４〜１．０質量％を含むものである。
【００１０】
本発明の触媒のＡの成分は出発原料として、各元素の酸化物、水酸化物、無機塩、有機塩などを用いることができる。たとえばチタン供給源としては、硫酸チタニル、四塩化チタン、テトライソプロピルチタネートなどが用いられ、ケイ素供給源としてはシリカゾル、水ガラス、四塩化ケイ素などが用いられ、タングステン源としてはパラタングステン酸アンモニウム、メタタングステン酸アンモニウム、タングステン酸などを用いることができる。触媒Ａ成分の調製方法としてはゾル―ゲル法、水熱合成、共沈法、沈着法、混練法などを用いることができる。
【００１１】
本発明の触媒のＢ成分はバナジウム、ニオブまたはタンタルの少なくとも１種の元素の化合物であるが、酸化物の形態で触媒に含有されているのが除去性能の点から好ましい。またその含有量も除去性能に大きく影響し、触媒Ａ成分と触媒Ｂ成分と触媒Ｃ成分の合計質量に対して酸化物換算で１〜２０質量％であるのが好ましく、より好ましくは３〜１５質量％、更に好ましくは５〜１０質量％であるのがよい。触媒Ｂ成分の含有量が１質量％未満では充分な除去性能が得られず、２０質量％を超えて多くすると金属種のシンタリングによって却って性能低下を引き起こす恐れがあるからである。なお、触媒Ｂ成分としてバナジウム、ニオブ、タンタルのうちから複数の元素の化合物を用いる場合には、各化合物の酸化物換算での合計量が上記範囲にあるのがよい。また、触媒Ｂ成分を調製する際の出発原料としては、各元素の酸化物、水酸化物、無機塩、有機塩などが用いられ、例えばバナジウム源としてはメタバナジン酸アンモニウムが好適に用いられ、ニオブ源としてはシュウ酸ニオブやそのアンモニウム塩を用いることができる。
【００１２】
本発明の触媒のＣ成分はモリブデンまたはタングステンの少なくとも１種の元素の化合物であるが、酸化物の形態で触媒に含有されているのが除去性能の点から好ましい。また、その含有量は除去性能および耐久性に大きく影響し、触媒Ａ成分と触媒Ｂ成分と触媒Ｃ成分の合計質量に対して酸化物換算で２〜１０質量％であるのが好ましく、より好ましくは３〜８質量％、更に好ましくは４〜６質量％であるのがよい。含有量が２質量％未満では充分な耐久性が得られず、１０質量％を超えて多くすると除去性能が低下する場合があるからである。なお触媒Ｃ成分としてモリブデン、タングステンの複数の元素の化合物を用いる場合には、各化合物の酸化物換算での合計量が上記範囲にあるのがよい。また、触媒Ｃ成分を調製する際の出発原料としては、各元素の酸化物、水酸化物、無機塩、有機塩などが用いられ、例えばモリブデン源としては酸化モリブデン、パラモリブデン酸アンモニウムおよびモリブデン酸が好適に用いられる。
【００１３】
さらに、本発明の実施形態としては、触媒Ｂ成分としてバナジウム酸化物、触媒Ｃ成分としてモリブデン酸化物を用いるのが特に好ましく、これらを必須成分として含有することによって除去性能および耐久性に優れた触媒を得ることができる。
【００１４】
本発明の触媒中の硫黄化合物の含有量は除去性能および耐久性に大きく影響し、具体的には硫黄化合物が硫黄原子換算で触媒の全質量に対し、０．４〜１．０質量％であるのがよく、より好ましくは０．５〜０．９質量％であるのがよい。硫黄化合物が０．４質量％未満では充分な耐久性が得られず、１．０質量％を超えて多くするとＮＯｘや有機ハロゲン化合物の除去性能が低くなるからである。硫黄化合物の原料としては、硫酸アンモニウム、硫酸、亜硫酸アンモニウム、過硫酸アンモニウムなどを用いる事ができ、好適には硫酸アンモニウムである。硫黄化合物はＡ成分調製時、Ａ成分にＢ成分・Ｃ成分添加時、３成分の混合時などに導入することができる。
【００１５】
なお、本発明にかかる触媒の性能を損なわないものであれば更に他の化合物を添加することもできる。
【００１６】
本発明の排ガス処理触媒の比表面積は、５０〜２００ｍ２／ｇの範囲にあるのがよく、より好ましくは６０〜１５０ｍ２／ｇ、更に好ましくは７０〜１２０ｍ２／ｇの範囲にあるのがよい。触媒の比表面積が低すぎると十分な触媒性能が得られない他、活性成分のシンタリングが起こりやすくなり、高すぎても触媒性能はそれほど向上しないが、被毒物質の蓄積量が多くなって性能低下が大きくなる場合があるからである。
【００１７】
また、本発明で用いる脱硝触媒の細孔容積は、全細孔容積が０．２０〜０．７０ｍＬ／ｇの範囲にあるのがよく、より好ましくは０．２５〜０．６０ｍＬ／ｇ、更に好ましくは０．３０〜０．５０ｍＬ／ｇの範囲にあるのがよい。触媒の細孔容積が小さすぎると十分な触媒性能が得られず、大きすぎても触媒性能はそれほど向上しないが、触媒の機械的強度が低下してハンドリングに支障をきたすことや耐摩耗性が低くなるなどの弊害が生じるおそれがあるので好ましくない。
【００１８】
（触媒製造方法）
本発明の触媒の調製方法としては、（１）触媒Ａ成分にかかる三元系複合酸化物または混合酸化物を上記の方法で得た後、触媒Ｂ成分および触媒Ｃ成分の水性液を加えニーダーなどで十分混合し所定形状に成形し乾燥、焼成する方法、（２）触媒Ａ成分、触媒Ｂ成分および触媒Ｃ成分の原料を一度に混合し、乾燥、焼成し、更に水性媒体を加えスラリーとした後に所定形状に成形し乾燥、焼成する方法、（３）触媒Ａ成分、触媒Ｂ成分および触媒Ｃ成分の原料を一度に混合し、場合によってはｐＨ調整することで沈殿物を得た後、当該沈殿物を乾燥、焼成し、更に水性媒体を加えスラリーとした後に所定形状に成形し乾燥、焼成する方法、（４）（２）または（３）で得られたスラリーを通常触媒用担体として用いられる担体に被覆することもできる。（５）なお、（１）、（２）または（３）で成形する場合、ハニカム、ペレット、粒体に成形し乾燥、焼成し触媒とすることもできる。
【００１９】
本発明にかかる触媒は、押し出し成形、打錠成形、転動造粒などにより、サドル状、ペレット、球体、ハニカム状に成形して用いることができる。またサドル状、ペレット、球体、ハニカム状の担体に触媒の成分を被覆して用いることもできる。排ガス処理装置の圧力損失を少なくするにはハニカム状が好ましい。また、触媒の調製においては各種金属化合物を用いた一般的な調製方法を用いることができ、例えば、触媒Ａ成分の成形体に触媒Ｂ成分および触媒Ｃ成分の溶液を含浸する方法や、触媒Ａ成分の粉体に触媒Ｂ成分および触媒Ｃ成分の溶液または粉体を混合した後に混練する方法などが挙げられるが、細孔容積の制御などの点から混練法が好適に用いられる。
【００２０】
本発明は、前記本発明の触媒を用いて排ガス中のＮＯｘおよび／または有機ハロゲン化合物を除去する排ガス処理方法でもある。本発明の排ガスの処理温度は、１５０〜４００℃、好ましくは１５０〜３００℃、より好ましくは１６０〜２５０℃、更に好ましくは１６０〜１９０℃の範囲にあるのがよい。排ガスの処理温度が１５０℃未満ではＮＯｘや有機ハロゲン化合物の十分な除去効率が得られず、４００℃を超えるとモリブデンの飛散による触媒性能の低下や後流機器への悪影響を引き起こす場合があるからである。
【００２１】
（排ガス処理方法）
本発明にかかる触媒が処理対象とする排ガスは窒素酸化物（ＮＯｘ）および／または有機ハロゲン化合物を含むものであり、排ガス中のＮＯｘ濃度は５〜１０００ｐｐｍ（容量基準）であるのが好ましく、より好ましくは１０〜５００ｐｐｍ、更に好ましくは２０〜３００ｐｐｍの範囲にあるのがよい。排ガス中のＮＯｘ濃度が５ｐｐｍ未満では充分のＮＯｘ除去性能が発揮されず、一方、１０００ｐｐｍを超えると排ガス中に硫黄酸化物が含まれている場合、硫安化合物の蓄積量が増加して性能低下が大きくなるため好ましくないからである。
【００２２】
排ガス中の有機ハロゲン化合物の濃度は０．１ｐｐｔ〜３０００ｐｐｍ（容量基準）であるのが好ましく、より好ましくは０．５ｐｐｔ〜１０００ｐｐｍ、更に好ましくは１ｐｐｔ〜５００ｐｐｍの範囲にあるのがよい。排ガス中の有機ハロゲン化合物の濃度が０．１ｐｐｔ未満では充分な分解性能が発揮されず、一方、３０００ｐｐｍを超えると反応による発熱が大きくなり、触媒が熱的ダメージを受ける場合があるためである。
【００２３】
排ガスを処理する場合には排ガス中にアンモニアまたは尿素（アンモニア等とも称する）を添加することができる。特に排ガス中に窒素酸化物が含まれている場合には効果的である。アンモニア等の添加量は、窒素酸化物（ＮＯｘ換算）１モルに対して、アンモニア換算（尿素の場合は１／２モル）で０．２〜２０モル、好ましくは０．５〜１．０モルである。
【００２４】
有機ハロゲン化合物が排ガス中に含まれる場合はアンモニア等を加える必要はないが、アンモニア等が排ガス中に加えられても本発明にかかる触媒の効果は損なわれるものではない。
【００２５】
排ガス中に含まれる成分として酸素、水、ＳＯｘなどがある。例えば、排ガス中に酸素が存在する条件下で好適に用いられるが、この場合の酸素濃度は、０．１〜５０容量％の範囲にあるのが好ましく、より好ましくは０．３〜２０容量％、更に好ましくは０．５〜１６容量％の範囲にあるのがよい。酸素濃度が０．１容量％未満では除去効率が低下し、５０容量％を超えると副反応であるＳＯ２酸化が促進されるため、好ましくない。また、排ガス中に水分を含む場合には、その濃度は５０容量％以下であるのが好ましく、より好ましくは４０容量％以下、更に好ましくは３０容量％以下であるのがよい。排ガス中の水分濃度が５０容量％を超えると除去効率が低下する他、場合によっては性能低下が大きくなるからである。
【００２６】
排ガス中に硫黄酸化物（ＳＯｘ）を含有している場合であっても本発明にかかる触媒は好適に用いられるが、ＳＯｘ濃度としては０．１〜２０００ｐｐｍ（容量基準）、好ましくは０．２〜５００ｐｐｍ、より好ましくは０．５〜１００ｐｐｍ、更に好ましくは１〜５０ｐｐｍの範囲にあるのがよい。ＳＯｘ濃度が０．１ｐｐｍ以上である排ガスの処理において本発明の効果が発揮される。一方、排ガス中にＳＯｘ濃度が２０００ｐｐｍを超えるとＳＯｘによる性能低下が大きくなるため、好ましくない。
【００２７】
また、本発明の排ガス処理に際しての空間速度は、１００〜５０，０００ｈ−１（ＳＴＰ）、好ましくは２００〜１０，０００ｈ−１（ＳＴＰ）、より好ましくは５００〜５，０００ｈ−１（ＳＴＰ）の範囲にあるのがよい。空間速度が５０，０００ｈ−１（ＳＴＰ）を超えるとＮＯｘや有機ハロゲン化合物の十分な除去効率が得られず、１００ｈ−１（ＳＴＰ）未満では除去効率は大きく変わらないが排ガス処理装置の圧力損失が高くなり、また装置自体も大きくなって非効率だからである。更に本発明の排ガス処理に際しての触媒層を通過するガスの線速度は、０．１〜１０ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）、好ましくは０．５〜７ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）、より好ましくは０．７〜４ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）の範囲にあるのがよい。線速度が０．１ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）未満では充分な除去効率が得られず、１０ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）を超えると除去効率は大きくはらないが、排ガス処理装置の圧力損失が高くなるからである。
【実施例】
【００２８】
以下に実施例により発明を詳細に説明するが、本発明の効果を奏するものであれば以下の実施例に限定されるものではない。
【００２９】
（実施例１）
＜触媒の製造＞
４Ｌの水にメタバナジン酸アンモニウム１．４２ｋｇとシュウ酸２．５５ｋｇ、さらにモノエタノールアミン０．７７ｋｇを混合し、溶解させ、均一溶液を調製した。硫黄化合物が硫黄原子換算で０．８質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体（質量比がＴｉＯ２：ＳｉＯ２：ＷＯ３＝９３：５：２）２１．１ｋｇとモリブデン酸（Ｈ２ＭｏＯ４・Ｈ２Ｏ）１．１８ｋｇをニーダーに投入後、有機バインダーなどの成形助剤とともにバナジウム含有均一溶液を加え、よく撹拌した。さらに適量の水を加えつつブレンダ―でよく混合した後、連続ニーダーで充分混練りし、外形８０ｍｍ角、長さ５５０ｍｍ、目開き２．９０ｍｍ、肉厚０．４ｍｍのハニカム状に押し出し成形した。得られた成形物を６０℃で１．５時間乾燥後、４２０℃で５時間焼成して触媒Ａを得た。この触媒Ａの組成は、ＴｉＯ２：ＳｉＯ２：ＷＯ３：ＭｏＯ３：Ｖ２Ｏ５＝７８：７：２：６：７（質量比）であり、ＢＥＴ比表面積は７３ｍ２／ｇ、全細孔容積は０．４０ｍＬ／ｇ、であった。また触媒Ａに含有される硫黄化合物は硫黄原子換算で触媒Ａの全体量に対し０．５質量％であった。
【００３０】
（実施例２）
実施例１において、硫黄化合物が硫黄原子換算で２．０質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体２１．１ｋｇの代わりに硫黄化合物が硫黄原子換算で２．０質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体２１．１ｋｇを使用した以外は実施例１と同様にして、触媒Ｂを得た。この触媒Ｂの組成は、ＴｉＯ２：ＳｉＯ２：ＷＯ３：ＭｏＯ３：Ｖ２Ｏ５＝７８：７：２：６：７（質量比）であり、ＢＥＴ比表面積は７５ｍ２／ｇ、全細孔容積は０．４１ｍＬ／ｇ、であった。また触媒Ｂに含有される硫黄化合物は硫黄原子換算で触媒Ｂの全体量に対し質量０．８％であった。
【００３１】
（比較例１）
実施例１において、硫黄化合物が硫黄原子換算で０．６質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体２１．１ｋｇの代わりに硫黄化合物が硫黄原子換算で０．６質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体２１．１ｋｇを使用した以外は実施例１と同様にして、触媒Ｃを得た。この触媒Ｃの組成は、ＴｉＯ２：ＳｉＯ２：ＷＯ３：ＭｏＯ３：Ｖ２Ｏ５＝７８：７：２：６：７（質量比）であり、ＢＥＴ比表面積は７９ｍ２／ｇ、全細孔容積は０．４５ｍＬ／ｇ、であった。また触媒Ｃに含有される硫黄化合物は硫黄原子換算で触媒Ｃの全体量に対し０．３質量％であった。
【００３２】
（比較例２）
実施例１において、硫黄化合物が硫黄原子換算で３．１質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体２１．１ｋｇの代わりに硫黄化合物が硫黄原子換算で３．０質量％含まれるＴｉ−Ｓｉ−Ｗ複合酸化物粉体２１．１ｋｇを使用した以外は実施例１と同様にして、触媒Ｄを得た。この触媒Ｄの組成は、ＴｉＯ２：ＳｉＯ２：ＷＯ３：ＭｏＯ３：Ｖ２Ｏ５＝７８：７：２：６：７（質量比）であり、ＢＥＴ比表面積は８４ｍ２／ｇ、全細孔容積は０．４１ｍＬ／ｇ、であった。また触媒Ｄに含有される硫黄化合物は硫黄原子換算で触媒Ｄの全体量に対し１．３質量％であった。
【００３３】
（ＮＯｘ除去試験）
実施例１〜２および比較例１〜２で得た触媒Ａ〜Ｄを用い、下記性能評価条件でＮＯｘ除去性能の評価を行った。
【００３４】
（ＳＯ２曝露耐久試験）
下記条件で３００時間曝露した後、ＮＯｘ除去性能の評価を行った。
【００３５】
［ＮＯｘ除去性能評価条件］
ＮＯｘ：３００ｐｐｍ，ＮＨ３：３００ｐｐｍ，Ｏ２：１２容量％，Ｈ２Ｏ：１０容量％，Ｎ２：ｂａｌａｎｃｅ，ガス温度：２５０℃，空間速度：２３，０００ｈ−１（ＳＴＰ），ガス線速度：１．０ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）
［曝露条件］
ＮＯｘ：１，０００ｐｐｍ，ＮＨ３：１，０００ｐｐｍ，ＳＯｘ：６００ｐｐｍ，ＳＯ３：１０ｐｐｍ，Ｏ２：１２容量％，Ｈ２Ｏ：１０容量％，Ｎ２：ｂａｌａｎｃｅ，ガス温度：２５０℃，空間速度：１２，５００ｈ−１（ＳＴＰ），ガス線速度：０．５ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）
次に、触媒入口および触媒出口のＮＯｘ濃度を測定し、次式に従って脱硝率（ＮＯｘ除去率）を算出した。結果を表１に示す。
【００３６】
【数１】
2017177051.tif 000002
【００３７】
（クロロトルエン分解試験）
実施例１〜２触媒Ａ〜Ｂを用い、下記条件でクロロトルエン分解性能評価を行った。
【００３８】
［クロロトルエン分解性能評価条件］
クロロトルエン：３０ｐｐｍ，Ｏ２：１０容量％，Ｈ２Ｏ：１５容量％，Ｎ２：ｂａｌａｎｃｅ，ガス温度：２００℃，空間速度：８２５０ｈ−１（ＳＴＰ），ガス線速度０．５ｍ／ｓ（Ｎｏｒｍａｌ）
次に、触媒入口および触媒出口のクロロトルエン（ＣＴ）濃度を測定し、次式に従ってクロロトルエン（ＣＴ）分解率を算出した。結果を表１に示す。
【００３９】
【数２】
2017177051.tif 000003
【００４０】
【表１】
2017177051.tif 000004
【００４１】
比較例１の触媒Ｃは、Ｓ含有率が低いため曝露前の脱硝率は高いものの、３００時間曝露後の脱硝率が大きく低下し十分な耐久性を有していない。比較例２の触媒Ｄは、Ｓ含有率が高いために、曝露前の脱硝率が低く、３００時間曝露後の脱硝率も大きく低下した。これに対して、本発明の実施例１、２の触媒Ａ、Ｂは、いずれも３００時間曝露後に高い脱硝率を有しており、暴露前後の脱硝率の低下割合が触媒Ｃ、Ｄよりも小さいことから十分な耐久性を有していることが分かる。このように本発明の触媒では硫黄酸化物による性能低下が軽減されるので触媒交換の頻度が減り、排ガス処理装置のランニングコストを低減することが可能になる。
【００４２】
また、触媒Ａと触媒Ｂのクロロトルエン分解率はそれぞれ７２．０％、６６．４％であり、本発明の触媒は有機ハロゲン化合物の分解においても有効であることが分かる。
【産業上の利用可能性】
【００４３】
本発明は排ガス処理に関する技術であり、各種産業排ガスの処理、特に窒素酸化物や有機ハロゲン化合物を含む排ガスの処理に用いることができる。更に詳しくは、都市ごみや産業廃棄物を処理する焼却施設、重油焚きボイラや石炭焚きボイラ、ディーゼルエンジン、火力発電所および各種工業プロセスから排出される排ガス中に含まれる窒素酸化物（ＮＯｘ）および／または有機ハロゲン化合物を接触還元または分解除去する為の排ガス処理触媒、およびこの触媒を用いた排ガス処理方法に応用することができる。