(57)【要約】【課題】本発明が解決しようとする課題は、例えば太陽光等に長期間さらされた場合であっても、ハードコート層等の剥がれを引き起こすことがないレベルの耐候性に優れた光学フィルムを提供することである。【解決手段】本発明は、基材の少なくとも一方の面側にハードコート層（Ａ）を有する光学フィルムであって、前記ハードコート層（Ａ）の、波長３５０ｎｍ光の吸収率が、２５％以上であることを特徴とする光学フィルムに関するものである。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一方の面側にハードコート層（Ａ）を有する光学フィルムであって、前記ハードコート層（Ａ）の、波長３５０ｎｍ光の吸収率が、２５％以上であることを特徴とする光学フィルム。
【請求項２】
ヘイズが２％以下である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記基材がセルロース系基材である請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記ハードコート層（Ａ）が、重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と、重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）と、波長３００ｎｍ〜３５０ｎｍに最大吸収波長を有する紫外線吸収剤（ａ３）とを含有するハードコート剤を用いて形成されたものである請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記紫外線吸収剤（ａ３）が、トリアジン系紫外線吸収剤またはトリアゾール系紫外線吸収剤である請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ハードコート層（Ａ）の表面側に、反射低減層（Ｂ）を有するものである請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
基材の少なくとも一方の面側に、重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と、重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）と、波長３００ｎｍ〜３５０ｎｍに最大吸収波長を有する紫外線吸収剤（ａ３）とを含有するハードコート剤を塗工し、活性エネルギー線を照射することによって、波長３５０ｎｍ光の吸収率が２５％以上であるハードコート層（Ａ）を形成することを特徴とする光学フィルムの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムが、情報表示部の表面に設けられたものであることを特徴とする車載用情報表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えばハードコートフィルムや反射防止フィルム等の光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
パーソナルコンピュータ、電子手帳、携帯電話等の情報表示装置のうち、いわゆるタッチパネル機能が搭載されたものには、通常、タッチ入力した際に生じうる情報表示部の傷つきや破損等を防止したり、屋外での視認性を向上させたりすること等を目的として、前記情報表示部の上面にハードコートフィルムや反射防止フィルム等の光学フィルムが設置されることが多い。
【０００３】
前記光学フィルムとしては、例えば、透明樹脂フィルム上に干渉層を形成し、該干渉層上にハードコート層を設け、該ハードコート層上に低屈折率層を設けた特定の減反射材が記載されている（特許文献１参照。）。
【０００４】
しかし、前記光学フィルムは、例えば屋外等で太陽光等に長期間さらされた場合に、基材とハードコート層等との界面の密着性が低下し、ハードコート層等の剥がれ等を引き起こす場合があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−０３４１０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明が解決しようとする課題は、例えば太陽光等に長期間さらされた場合であっても、ハードコート層等の剥がれを引き起こすことがないレベルの耐候性に優れた光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者等は、基材の少なくとも一方の面側にハードコート層（Ａ）を有する光学フィルムであって、前記ハードコート層（Ａ）の、波長３５０ｎｍ光の吸収率が、２５％以上であることを特徴とする光学フィルムによって、上記課題を解決した。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光学フィルムは、例えば太陽光等に長期間さらされた場合であっても、ハードコート層等の剥がれを引き起こすことがないレベルの耐候性を有する。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の光学フィルムは、基材の少なくとも一方の面側にハードコート層（Ａ）を有する光学フィルムであって、前記ハードコート層（Ａ）の、波長３５０ｎｍ光の吸収率が、２５％以上であることを特徴とするものであって、例えば反射防止フィルムとして好適に使用可能なものである。
【００１０】
本発明の光学フィルムは、波長３５０ｎｍの光を２５％以上吸収するハードコート層（Ａ）を有する。
【００１１】
光学フィルムを構成する前記ハードコート層（Ａ）等の層間の剥がれは、例えば太陽光等に含まれる、主に波長３００〜４００ｎｍの紫外光によって引き起こされる。そのため、波長３５０ｎｍを中心とする紫外光を吸収することのできる光学フィルムであれば、前記ハードコート層（Ａ）等の剥がれを抑制することができる。
【００１２】
前記光学フィルムを構成するハードコート層（Ａ）の波長３５０ｎｍの光の吸収率は、３０％以上であることが好ましく、５０％以上であることが、より優れた耐候性を備えた光学フィルムを得るうえでより好ましい。
【００１３】
ハードコート層（Ａ）の波長３５０ｎｍの光の吸収率は、例えば日本分光株式会社製Ｖ−５７０等の紫外−可視分光光度計を用いて、ポリエチレンテレフタレート基材の３５０ｎｍの透過率、及びポリエチレンテレフタレート基材に前記ハードコート層を設けたフィルムの３５０ｎｍの透過率を測定し、ポリエチレンテレフタレート基材に前記ハードコート層を設けたフィルムの３５０ｎｍの透過率とポリエチレンテレフタレート基材の３５０ｎｍの透過率の差をもってハードコート層（Ａ）の波長３５０ｎｍの光の吸収率を算出することができる。
【００１４】
次に、ハードコート層（Ａ）について説明する。
【００１５】
前記ハードコート層（Ａ）は、ハードコート層形成用組成物（Ａ）を、基材の表面に塗布し、後述する方法により硬化させることによって形成することができる。
【００１６】
前記組成物（Ａ）としては、例えば活性エネルギー線硬化型化合物と、波長３００ｎｍ〜３５０ｎｍに最大吸収波長を有する紫外線吸収剤（ａ３）とを含有するものを使用することが好ましい。
【００１７】
前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、重合性不飽和二重結合を有するものを使用することができ、前記重合性不飽和二重結合を有するウレタン（メタ）アクリレート等を好適に使用することができる。
【００１８】
前記重合性不飽和二重結合としては、具体的にはアクリロイル基、メタクリロイル基、アリル基等のビニル基が挙げられ、アクリロイル基、メタクリロイル基であることが好ましい。
【００１９】
前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、例えば重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と、重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）とを含有するものを使用することが好ましい。
【００２０】
重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と、重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）とを組み合わせ使用することによって、高い表面硬度と、優れた耐傷付き性とを保持し、カールの抑制された光学フィルムを得ることができる。また、前記（ａ１）及び（ａ２）を組み合わせ使用することによって、ハードコート層（Ａ）の硬化収縮が抑制または緩和され、その結果、太陽光等に長期間さらされた場合であっても、ハードコート層等の剥がれ等を引き起こすことを防止することができる。
【００２１】
重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と、重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）とは、より一層高い表面硬度と、優れた耐傷付き性を保持し、硬化収縮の少ない、カールの抑制された光学フィルムを得るうえで、〔（ａ１）／（ａ２）〕が１０／９０〜９０／１０の比率で使用することが好ましく、２０／８０〜８０／２０の比率で使用することがより好ましい。
【００２２】
重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）としては、例えば、重量平均分子量７００以上であるであるウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリアクリル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリアルキレングリコールポリ（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート等を使用することができ、なかでもポリウレタン（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレートおよびエポキシ（メタ）アクリレートを使用することが好ましく、ウレタン（メタ）アクリレートを使用することがより好ましい。
【００２３】
前記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、例えばポリイソシアネートと水酸基を有する（メタ）アクリレートとを反応させることによって得られたものを使用することができる。
【００２４】
前記ポリイソシアネートとしては、例えばトリレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート等の芳香族ジイソシアネート、メタ−キシリレンジイソシアネート、α，α，α’，α’−テトラメチル−メタ−キシリレンジイソシアネート等のアラルキルジイソシアネート等、テトラメチレンジイソシアネート、１，５−ペンタメチレンジイソシアネート、１，６−ヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチル−１，６−ヘキサメチレンジイソイシアネート、リジンイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添キシレンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、１，４−ジイソシアネートシクロヘキサン、１，３−ビス（ジイソシアネートメチル）シクロヘキサン、４，４’−ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート等の脂肪族ジイソシアネート、脂肪族ポリイソシアネートであるアロファネート型ポリイソシアネート、ビウレット型ポリイソシアネート、アダクト型ポリイソシアネート及びイソシアヌレート型ポリイソシアネート等を使用することができる。
【００２５】
前記水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、例えばヒドロキシメチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等を使用することができる。
【００２６】
前記ウレタン（メタ）アクリレートとしては、活性エネルギー線硬化後に、高い表面硬度を保持でき、太陽光等に長期間さらされた場合の変退色や劣化を防止できることから、イソホロンジイソシアネートや１，４−ジイソシアネートシクロヘキサン等の脂環式イソシアネートと、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能（メタ）アクリレートとを反応させて得られたものを使用することが好ましい。
【００２７】
前記重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニロキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、フェニルセロソルブ（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−アクリロイルオキシエチルハイドロゲンフタレート、ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、トリメチルシロキシエチルメタクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、スチレン等の、重合性不飽和二重結合を１個有するモノマー、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２’−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリエチレンオキシフェニル）プロパン、２，２’−ビス（４−（メタ）アクリロイルオキシポリプロピレンオキシフェニル）プロパン等の、重合性不飽和二重結合を２個有するモノマー、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート等の、重合性不飽和二重結合を３個有するモノマー、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の、重合性不飽和二重結合を４個有するモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等の、重合性不飽和二重結合を６個有するモノマー等、トリブチレングリコールビス（マレイミド酢酸エステル）等のマレイミド化合物を、単独または２種以上組み合わせ使用することができる。
【００２８】
前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）としては、より一層表面硬度が高い光学フィルムを得るうえで、重合性不飽和二重結合を２個以上有するモノマーを使用することが好ましく、重合性不飽和二重結合を３個以上有するモノマーを使用することがより好ましい。
【００２９】
波長３００ｎｍ〜３５０ｎｍに最大吸収波長を有する紫外線吸収剤（ａ３）は、ハードコート層（Ａ）の耐候性を大幅に向上させるうえで使用する。
【００３０】
前記紫外線吸収剤（ａ３）としては、トリアジン系紫外線吸収剤またはトリアゾール系紫外線吸収剤を使用することが、太陽光等に長期間さらされた場合の変退色や剥がれ防止効果を奏するうえで好ましい。
【００３１】
また、前記紫外線吸収剤（ａ３）としては、（メタ）アクリロイル基を有するものを使用してもよい。
【００３２】
前記紫外線吸収剤（ａ３）としては、具体的には２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−（２‘−エチル）ヘキシル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（２−ヒドロキシ−４−ブチルオキシフェニル）−６−（２，４−ビス−ブチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−[１−オクチルオキシカルボニルエトキシ]フェニル）−４，６−ビス（４−フェニルフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤、２−（２−ヒドロキシ−５−ターシャリーブチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、オクチル−３−[３−ターシャリーブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル]プロピオネート、２−エチルヘキシル−３−[３−ターシャリーブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル]プロピオネート、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール等のトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゼンプロパン酸、３−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−５−（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−、Ｃ７−９分岐又は直鎖アルキルエステル等を使用することができる。
【００３３】
なかでも、前記紫外線吸収剤（ａ３）としては、２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−ドデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンと２−[４−[（２−ヒドロキシ−３−トリデシルオキシプロピル）オキシ]−２−ヒドロキシフェニル]−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジンの混合物（チヌビン４００、ＢＡＳＦ製）や、チヌビン３８４−２（ＢＡＳＦ製）として市販されているものを使用することが、前記前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）との良好な相溶性を維持し、ヘイズ２％以下の透明な光学フィルムを得るうえで好ましい。
【００３４】
前記、紫外線吸収剤（ａ３）は、本発明のハードコート層（Ａ）の波長３５０ｎｍの光の吸収率を２５％以上に調整できる範囲で使用すればよく、前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）との合計１００質量部に対して、０．１質量部〜２０質量部であることが好ましく、０．５質量部〜１０質量部であることがより好ましく、０．１質量部〜７質量部の範囲で使用することが、基材に対する良好な密着性を損なうことなく、前記前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）との良好な相溶性を維持し、ヘイズ２％以下の透明な光学フィルムを得るうえでより好ましい。
【００３５】
前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）としては、ヒンダードアミン系光安定剤を含有するものを使用することが、より一層優れた耐候性を備えた光学フィルムを得るうえで好ましい。
【００３６】
前記ヒンダードアミン系光安定剤としては、具体的にはビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）−[[３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル]メチル]ブチルマロネート、２，４−ビス[Ｎ−ブチル−Ｎ−（１−シクロヘキシルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ]−６−（２−ヒドロキシエチルアミン）−１，３，５−トリアジン、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、メチル（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジニル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート等が挙げられ、２種類以上混合して用いてもよい。前記ヒンダードアミン系光安定剤としては、（メタ）アクリロイル基を有するものを使用してもよい。
【００３７】
前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）としては、光重合開始剤を含有するものを使用してもよい。
【００３８】
前記光重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン等のアセトフェノン系化合物；ベンゾイン、ベンゾインイソプロピルエーテル等のベンゾイン系化合物；２，４，６−トリメチルベンゾインジフェニルホスフィンオキシド等のアシルホスフィンオキシド系化合物；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル−４−フェニルベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物；２，４−ジメチルチオキサントン等のチオキサントン系化合物；４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン等のアミノベンゾフェノン系化合物；ポリエーテル系マレイミドカルボン酸エステル化合物等を単独または組み合わせ使用することができる。
【００３９】
また、光重合開始剤としては、ベンジルスルホニウム塩やベンジルピリジニウム塩、アリールスルホニウム塩などのオニウム塩からなる光カチオン開始剤を使用することができる。
【００４０】
前記光重合開始剤の使用量は、重量平均分子量７００以上の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と、重量平均分子量７００未満の活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）との合計１００質量部に対して、０．１質量％〜１５質量％の範囲で使用することが好ましく、０．５質量％〜８質量％の範囲で使用することがより好ましい。
【００４１】
また、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）としては、光増感剤を含有するものを使用することができる。
【００４２】
前記光増感剤としては、例えば、トリエタノールアミン、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等のアミン類が挙げられる。
【００４３】
ハードコート層形成用組成物（Ａ）としては、前記したもののほかに、必要に応じて、レベリング剤、帯電防止剤等の添加剤を含有するものを使用することができる。また、ハードコート層形成用組成物（Ａ）としては、より一層高硬度のハードコート層（Ａ）を形成するうえで、無機フィラーを含有するものを使用することができる。
【００４４】
前記ハードコート層（Ａ）は、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）を基材の表面に塗工、乾燥し、活性エネルギー線を照射する等することによって形成することができる。
【００４５】
前記ハードコート層（Ａ）の、波長３５０ｎｍの光の吸収率を２５％以上に調整する際には、ハードコート層（Ａ）の組成、紫外線吸収剤（ａ３）の種類及びその含有量、ならびに、ハードコート層（Ａ）の膜厚に留意する必要がある。
【００４６】
すなわち、単に紫外線吸収剤（ａ３）の含有量を増加させても、ハードコート層（Ａ）の膜厚が非常に薄い場合には、前記吸収率を２５％以上にすることができない場合がある。
【００４７】
例えば前記ハードコート層（Ａ）の厚さが好ましくは３０μｍ未満、より好ましくは１５μｍ以下、さらに好ましくは１０μｍ以下である場合、前記紫外線吸収剤（ａ３）の含有量は、前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）との合計１００質量部に対して、１０質量部未満であることが好ましく、前記吸収率を２５％以上に調整するうえで好ましい。
【００４８】
一方、前記ハードコート層の厚さが好ましくは３０μｍ以上、より好ましくは５０μｍ以上である場合、前記紫外線吸収剤（ａ３）の含有量は、前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）との合計１００質量部に対して、５質量部未満であることが、前記吸収率を２５％以上に調整するうえで好ましい。
【００４９】
ハードコート層形成用組成物（Ａ）を用いて形成されたハードコート層（Ａ）は、０．１μｍ〜１００μｍの範囲の厚さであることが好ましく、１μｍ〜３０μｍの範囲の厚さを有するものであることがより好ましく、３μｍ〜１５μｍの範囲の厚さを有するものであることが、前記紫外線吸収剤（ａ３）の含有量が前記した１０質量部未満であっても、前記吸収率を２５％以上に調整しやすいため、基材に対する優れた密着性と、ハードコート層（Ａ）の剥がれ等を効果的に防止することができる。
【００５０】
また、前記光学フィルムとしては、車載用情報表示装置の表面に設置した場合であっても、表示される映像等の鮮明性を損なわないレベルの透明性を保持するうえで、ヘイズ値が２％以下であるものを使用することが好ましい。
【００５１】
前記ヘイズ値が２％以下である光学フィルムを得る際には、前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ１）と前記活性エネルギー線硬化性化合物（ａ２）と前記紫外線吸収剤（ａ３）の種類や使用量等を適宜設定し、それらの良好な相溶性を維持することが好ましい。
【００５２】
ハードコート層（Ａ）としては、その屈折率について制限はないが、後述する反射低減層（Ｂ）よりも大きい屈折率を有する層とすることが、後述する高屈折率層（ｂ２）を設けることなく、より一層優れた反射防止性を備えた光学フィルムを得ることができるため好ましい。
【００５３】
次に、本発明の光学フィルムを構成する基材について説明する。
【００５４】
前記基材としては、光学用途で使用可能なレベルの透明性を備えたものを使用することができる。
【００５５】
前記基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート基材、ポリエチレンナフタレート基材等のポリエステル基材、トリアセチルセルロース等のセルロース系基材、ポリエチレン基材、ポリプロピレン基材、ポリスチレン基材、エチレン−酢酸ビニル樹脂（ＥＶＡ）基材、ポリ塩化ビニル基材、ポリ塩化ビニリデン基材等のビニル系樹脂基材、ポリサルホン基材、ポリエーテルサルホン基材、ポリカーボネート基材、ポリアミド基材、ポリイミド基材、アクリル樹脂基材等のプラスチック基材、ガラス板、セラミック板等を用いることができる。
【００５６】
なかでも、前記基材としては、ポリエチレンテレフタレート基材、トリアセチルセルロース基材等を使用することが好ましく、透明性の点からトリアセチルセルロース基材を使用することがより好ましい。
【００５７】
前記基材としては、前記したとおり、高透明性のものを使用することが好ましく、具体的には、その全可視光線透過率が７０％以上であるものを使用することが好ましい。なお、前記基材としては、良好な透明性を維持可能な範囲で着色されたものを使用することもできる。
【００５８】
前記基材としては、優れた透明性と、良好な取扱性とを両立するうえで５μｍ〜３００μｍの厚さのものを使用することが好ましく、１０μｍ〜２５０μｍの厚さのものを使用することがより好ましく、２５μｍ〜２００μｍの厚さのものを使用することがさらに好ましい。
【００５９】
また、前記基材としては、単一の層からなる基材を使用することもできるが、同一または異なる材料からなる２層以上からなる多層基材を使用することもできる。前記基材の表面は、平滑面であることが好ましい。
【００６０】
また、前記基材としては、前記樹脂層（Ａ）との密着性をより一層向上させるうえで、その片面または両面に易接着処理の施されたものを使用することができる。前記易接着処理方法としては、例えば前記基材の片面または両面にプライマー層を設ける方法が挙げられる。
【００６１】
また、本発明の光学フィルムとしては、例えば情報表示装置の情報表示部の表面で太陽光等が反射することによる映像等の視認性の低下を防止するうえで、前記ハードコート層（Ａ）の表面に、反射低減層（Ｂ）を有するものを使用することができる。
【００６２】
前記反射低減層（Ｂ）は、いわゆる低屈折率層（ｂ１）単独によって構成されていてもよく、高屈折率層（ｂ２）と低屈折率層（ｂ１）とが積層されたものであってもよく、中屈折率層と高屈折率層（ｂ２）と低屈折率層（ｂ１）とが積層されたものによって構成されていてもよい。
【００６３】
前記低屈折率層（ｂ１）は、１．２０〜１．４５の範囲の屈折率を有するものであることが好ましく、１．２３〜１．４２の屈折率を有するものであることがより好ましい。
【００６４】
前記高屈折率層（ｂ２）は、１．５５〜２．００の屈折率を有するものであることが好ましく、１．６０〜１．８０の屈折率を有するものであることがより好ましい。
【００６５】
前記中屈折率層は、前記低屈折率層（ｂ１）が有する屈折率と、前記高屈折率層（ｂ２）が有する屈折率との中間の屈折率を有するものを使用することが好ましい。
【００６６】
前記反射低減層（Ｂ）は、反射低減層形成用組成物（Ｂ）を塗布し、乾燥等することによって形成することができる。
【００６７】
前記反射低減層形成用組成物（Ｂ）としては、例えば前記低屈折率層形成用組成物（ｂ１）、前記高屈折率層形成用組成物（ｂ２）等を使用することができる。
【００６８】
前記低屈折率層形成用組成物（ｂ１）としては、例えばフィラー及びバインダーを含有するものを使用することができる。
【００６９】
前記フィラーとしては、例えば空隙を有する粒子、金属フッ化物からなる粒子等を含有するものを使用することができる。
【００７０】
前記空隙を有する粒子としては、気体を内部に含む多孔質構造のもの等を使用することができる。具体的には、前記空隙を有する粒子としては、中空シリカ粒子、ナノポーラス構造を有するシリカ粒子等が挙げられる。
【００７１】
また、前記金属フッ化物からなる粒子としては、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等からなる粒子を使用することができる。
【００７２】
また、前記フィラーとしては、有機化合物等によって修飾されたものを使用することもできる。具体的には、前記修飾されたフィラーとしては、前記修飾されていない粒子の存在下で、架橋性モノマーまたはそのオリゴマー等を重合して得られるもの等を使用することができる。前記フィラーは、１種または２種以上を組み合わせ使用することができる。また、前記フィラーは、結晶性のもの、ゾル状のもの、ゲル状のもののいずれのものも用いることができる。
【００７３】
前記フィラーとしては、中空シリカ粒子を使用することが好ましい。
【００７４】
前記中空シリカ粒子の形状は、球状、鎖状、針状、板状、鱗片状、棒状、繊維状、不定形状のいずれであってもよい。なかでも、前記中空シリカ粒子としては、球状または針状のものを使用することが好ましい。
【００７５】
前記中空シリカ粒子の平均粒子径は、その形状が球状の場合、５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることがより好ましく、４０ｎｍ〜７０ｎｍであることが、低屈折率と優れた透明性とを両立できるためさらに好ましい。
【００７６】
前記低屈折率層形成用組成物（ｂ１）に使用可能な前記バインダーとしては、例えば重合性不飽和二重結合を有する化合物等の活性エネルギー線硬化型化合物を使用することができる。
【００７７】
前記重合性不飽和二重結合としては、具体的にはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられ、アクリロイル基、メタクリロイル基であることが好ましい。
【００７８】
前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性（ＰＯ変性）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリ（メタ）アクリレート、等のポリオールポリ（メタ）アクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、及び、それらの一部が重合し形成したオリゴマーを使用することができる。
【００７９】
なかでも、前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレートを使用することが、透光性や、外観品質に優れた反射防止フィルム等の光学フィルムを得るうえで好ましい。
【００８０】
前記活性エネルギー線硬化型化合物は、前記低屈折率層形成用組成物（ｃｂ１）の固形分の全量に対して、５質量％〜９５質量％の範囲で含まれることが好ましい。
【００８１】
また、前記バインダーとしては、フッ素系重合体、ケイ素系重合体等を使用することもできる。
【００８２】
前記フッ素系重合体としては、例えばフッ化ビニリデンやヘキサフルオロプロピレン等の単量体を重合して得られるものを使用することができる。
【００８３】
前記低屈折率層形成用組成物（ｂ１）としては、前記した成分の他に、必要に応じて、公知のシリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、滑り剤等を含有するものを使用することができる。
【００８４】
前記低屈折率層（ｂ１）の厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にあることがより好ましく、８０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲にあることが、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルム等の光学フィルムを得るうえで好ましい。
【００８５】
また、前記高屈折率層（ｂ２）は、高屈折率層形成用組成物（ｂ２）を用いることによって形成することができる。
【００８６】
前記高屈折率層形成用組成物（ｂ２）としては、重合性不飽和二重結合を有する化合物と、必要に応じて高屈折率の無機粒子とを含有するものを使用することができる。
【００８７】
前記重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、前記低屈折率層形成用組成物（ｂ１）で使用可能なものとして例示した活性エネルギー線硬化型化合物と同様のものを使用することができる。
【００８８】
前記高屈折率の無機粒子としては、１．６５〜２．００の屈折率を有するものを使用することが好ましく、例えば、屈折率１．９０である酸化亜鉛、屈折率２．３〜２．７であるチタニア、屈折率が．９５であるセリア、屈折率１．９５〜２．００である錫ドープ酸化インジウム、屈折率１．７５〜１．８５であるアンチモンドープ酸化錫、屈折率１．８７であるイットリア、屈折率２．１０であるジルコニア等を、単独または２種以上を組み合わせ使用することができる。
【００８９】
前記高屈折率層（ｂ２）の厚さは、１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。
【００９０】
前記低屈折率層（ｂ１）や前記高屈折率層（ｂ２）等を含む反射低減層（Ｂ）の厚さは、８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。
【００９１】
次に、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
【００９２】
本発明の光学フィルムは、例えば前記基材の表面にハードコート層（Ａ）を設ける工程［１］、及び、必要に応じて前記ハードコート層（Ａ）の表面に前記反射低減層（Ｂ）等の層を設ける工程［２］を経ることによって製造することができる。
【００９３】
はじめに、前記工程［１］について説明する。
【００９４】
前記工程［１］としては、例えば予め製造した基材の表面に、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の実質的にすべてを重合させることによってハードコート層（Ａ）を形成、または、その一部を重合させることによって半硬化のハードコート層（Ａ’）を形成する工程である。
【００９５】
前記基材の片面または両面に、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）を塗布する方法としては、例えばダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。
【００９６】
前記方法で塗布することによって形成された層に含まれる重合性不飽和二重結合の一部または全部を重合させる方法としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線のような活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。
【００９７】
前記活性エネルギー線の照射強度は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２〜７００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【００９８】
なお、後述する工程［２］において反射低減層（Ｂ）等の他の層を形成する際に活性エネルギー線を照射する場合、工程［１］における活性エネルギー線の照射量は、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）がすべて硬化する量である必要はなく、半硬化のハードコート層（Ａ’）を形成する程度であることが、ハードコート層（Ａ）と反射低減層（Ｂ）等との密着性を向上させるうえで好ましい。前記工程［１］を経ることによって形成された半硬化状態のハードコート層（Ａ’）は、前記重合性不飽和二重結合の一部が残存した層である。かかる重合性不飽和二重結合の大部分は、後述する工程［２］でラジカル重合し消費される。
【００９９】
また、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ）として、前記熱硬化剤を含有するものを使用した場合、活性エネルギー線の照射前、照射と同時、または、照射後に、必要に応じて加熱等することによって、ハードコート層（Ａ）または半硬化のハードコート層（Ａ’）を形成してもよい。前記加熱は、例えば活性エネルギー線の照射後、８０℃程度で２０分〜４時間程度行ってもよい。
【０１００】
前記工程［２］は、前記工程［１］を経ることによって得られた光学フィルムを構成する前記ハードコート層（Ａ）またはハードコート層（Ａ’）の表面に、前記反射低減層形成用組成物（Ｂ）を塗布し乾燥した後、活性エネルギー線を照射し反応させることによって反射低減層（Ｂ）を形成する工程である。
【０１０１】
また、前記反射低減層形成用組成物（Ｂ）を塗布する方法としては、例えばダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられ、なかでもリバースロールコーター、マイクログラビアコーター、ダイコーターを用いる方法が好ましい。
【０１０２】
前記前記ハードコート層（Ａ）と前記反射低減層（Ｂ）との密着性をより一層向上させる方法としては、前記ハードコート層（Ａ’）の表面を、予めサンドブラスト法や溶剤処理法等で、その表面を凹凸化処理、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理、酸化処理する方法が挙げられる。
【０１０３】
前記工程［２］において、活性エネルギー線を照射する方法等としては、前記ハードコート層（Ａ）を形成する際に使用可能なものとして例示した線種及び装置と同様のものを用い、同様の方法で行うことができる。
【０１０４】
ここで、前記工程［１］においてハードコート層（Ａ）が形成された場合、工程［２］での活性エネルギー線照射によって反射低減層形成用組成物（Ｂ）の塗布層が硬化し反射低減層（Ｂ）が形成される。また、前記工程［１］において半硬化状態のハードコート層（Ａ’）が形成された場合、工程［２］での活性エネルギー線照射によって反射低減層形成用組成物（Ｂ）の塗布層が硬化し反射低減層（Ｂ）が形成されるとともに、前記ハードコート層（Ａ’）中に残存する重合性不飽和二重結合もまた重合しハードコート層（Ａ）を形成する。かかる方法を採用することによって、前記ハードコート層（Ａ）及び反射低減層（Ｂ）の層間の密着性を格段に向上させることができる。
【０１０５】
前記活性エネルギー線の照射強度は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２〜７００ｍＪ／ｃｍ２であることがハードコート層（Ａ）に残存する重合性不飽和二重結合の大部分または全部がラジカル重合する点でより好ましい。
【０１０６】
また、前記反射低減層（Ｂ）として高屈折率層（Ｂ２）と低屈折率層（Ｂ１）とが積層された構成を有する光学フィルムを製造する場合には、前記工程［３］として、前記ハードコート層（Ａ）または前記ハードコート層（Ａ’）の表面に、高屈折率層形成用組成物（Ｂ２）を塗布及び乾燥し、必要に応じて活性エネルギー線を照射した後、前記低屈折率層形成用組成物（Ｂ１）を塗布及び乾燥し、活性エネルギー線を照射することによって、前記ハードコート層（Ａ）の表面に高屈折率層（Ｂ２）及び低屈折率層（Ｂ１）が順に積層された反射低減層（Ｂ）を形成する工程を経ることが好ましい。
【０１０７】
前記高屈折率層（Ｂ２）の表面に、前記低屈折率層形成用組成物（Ｂ１）を塗布等する方法としては、例えばダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。
【０１０８】
前記製造方法により製造された光学フィルムの視感度反射率は、２．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
【０１０９】
前記方法で得られた本発明の光学フィルムの具体的な実施態様としては、例えば図１に示すように、基材１と低干渉層２とハードコート層３と低屈折層４等の反射低減層とが積層された光学フィルム５が挙げられる。
【０１１０】
前記製造方法により製造された光学フィルムは、必要に応じて、その片面または両面に、加飾層、粘着剤、電磁波シールド層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等の各種機能層を有していてもよい。
【０１１１】
前記機能層は、単層であっても複数の層であってもよい。例えば、機能層は、単層で複数の性能を有するものであってもよい。例えば、防汚性能と赤外線吸収性能とを備えた単層であってもよい。
【０１１２】
前記光学フィルムは、前記したとおり、その片面または両面の一部または全部に、加飾層や粘着剤層を有していてもよい。前記加飾層が一部または全部に設けられた反射防止フィルムは、加飾フィルムとして使用することができる。また、前記粘着剤層が一部または全部に設けられた反射防止フィルムは、保護フィルムとして使用することができる。
【０１１３】
前記加飾層としては、例えば文字、図形、記号をはじめ、隠ぺい用の額縁状の縁取りなどによって構成されるものが挙げられる。
【０１１４】
本発明の光学フィルムは、もっぱら液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の情報表示部の表面に設けられた状態で使用されることが好ましい。とりわけ、本発明の反射低減層を設けた本発明の光学フィルムは、反射防止性や透明性に優れ、干渉ムラを効果的に防止できることから、自動車等に搭載され使用される、いわゆる車載用の情報表示装置に使用されることが好ましい。
【０１１５】
実施例により本発明をより具体的に説明する。
【０１１６】
〔調製例１〕ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」（東亞合成株式会社製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、分子量５７８）２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」（ＤＩＣ株式会社製、多官能ウレタンアクリレート、重量平均分子量約８００）８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」（ＢＡＳＦ社製、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４００」（ＢＡＳＦ社製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤）４質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」（ＢＡＳＦ社製、Ｎ−ＣＨ３タイプ  ヒンダードアミン系光安定剤）１質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−１）を得た。
【０１１７】
〔調製例２〕ハードコート層形成用組成物（Ａ−２）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」７０質量部、「ユニディック  １７−８１３」３０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」（ＢＡＳＦ社製、ヒドロキシフェニルトリアジン系紫外線吸収剤）２質量部、「チヌビン３８４−２」（ＢＡＳＦ社製、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤）２質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」２質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−２）を得た。
【０１１８】
〔調製例３〕ハードコート層形成用組成物（Ａ−３）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」３質量部、「チヌビン３８４−２」３質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−３）を得た。
【０１１９】
〔調製例４〕ハードコート層形成用組成物（Ａ−４）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」１質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−４）を得た。
【０１２０】
〔調製例５〕ハードコート層形成用組成物（Ａ−５）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」１００質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」３質量部、「チヌビン３８４−２」３質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−５）を得た。
【０１２１】
〔調製例６〕ハードコート層形成用組成物（Ａ−６）の調製
「アクリット  ８ＢＲ−９３０Ｍ」（大成ファインケミカル社製、多官能ウレタンアクリレート、重量平均分子量約１６０００）１００質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」１０質量部ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−６）を得た。
【０１２２】
〔調製例７〕低屈折率層形成用組成物（Ｂ１−１）の調製
低屈折率層用組成物（Ｂ１−１）として、「Ｐ−５０６２」（日揮触媒化成株式会社製、中空シリカ微粒子分散液、不揮発分３質量％）を使用した。前記組成物（Ｂ１−１）の粘度は、Ｂ型粘度計（ＢＬ型、東京計器株式会社製）を用い、回転数６０ｒｐｍで測定したところ、２．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１２３】
〔調製例８〕高屈折率層形成用組成物（Ｂ２−１）の調製
高屈折率層用組成物（Ｂ２−１）として、「ＤＸ−１０５７ＺＲＣ」（日揮触媒化成株式会社製、ジルコニア微粒子分散液、不揮発分３質量％）を使用した。前記組成物（Ｂ２−１）の粘度は、Ｂ型粘度計（ＢＬ型、東京計器株式会社製）を用い、回転数６０ｒｐｍで測定したところ、２．０ｍＰａ・ｓであった。
【０１２４】
（実施例１）
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（商品名：「コスモシャイン  Ａ４３００」、東洋紡績株式会社製、両面易接着処理）の表面に、ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）を、乾燥後のハードコート層の厚さが５μｍになるように、バーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥した。
【０１２５】
次に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、酸素雰囲気下で照射量１００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）に含まれる（メタ）アクリロイル基が重合したハードコート層（Ａ−１）を有するハードコートフィルム（I）を作製した。
【０１２６】
次に、前記ハードコート層（Ａ−１）上に、前記高屈折率層形成用組成物（Ｂ２−１）を、乾燥後の高屈折率層の厚さが１５０ｎｍになるように、バーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０１２７】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、酸素雰囲気下で照射量６００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線を照射することによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の全部または大部分が重合した高屈折率層（Ｂ２−１）を形成した。
【０１２８】
次に、前記高屈折率層（Ｂ２−１）上に、前記低屈折率層形成用組成物（Ｂ１−１）を、乾燥後の低屈折率層の厚さが１００ｎｍになるように、バーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０１２９】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、窒素雰囲気下で照射量４００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線を照射することによって、前記高屈折率層（Ｂ２−１）上に低屈折率層（Ｂ１−１）を有する反射防止フィルム（I）を得た。
【０１３０】
（実施例２）
厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（商品名：「コスモシャイン  Ａ４３００」、東洋紡績株式会社製、両面易接着処理）の代わりに、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（商品名：「ＴＤ８０ＵＬＭ」、富士フィルム株式会社製）を使用すること、及び、ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−２）を使用すること以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（II）及び反射防止フィルム（II）を得た。
【０１３１】
（実施例３）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−３）を使用すること以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（III）及び反射防止フィルム（III）を得た。
【０１３２】
（実施例４）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−２）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−４）を使用すること、及び、ハードコート層の厚さを５μｍから３μｍに変更したこと以外は、実施例２と同様の方法でハードコートフィルム（IV）及び反射防止フィルム（IV）を得た。
【０１３３】
（実施例５）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−５）を使用すること以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（Ｖ）及び反射防止フィルム（Ｖ）を得た。
【０１３４】
（実施例６）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−２）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−６）を使用すること以外は、実施例２と同様の方法でハードコートフィルム（VI）及び反射防止フィルム（VI）を得た。
【０１３５】
〔調製例９〕比較例用ハードコート層形成用組成物（Ａ−７）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−７）を得た。
【０１３６】
〔調製例１０〕比較例用ハードコート層形成用組成物（Ａ−８）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」０．５質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−８）を得た。
【０１３７】
〔調製例１１〕比較例用ハードコート層形成用組成物（Ａ−９）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４７９」０．１質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−９）を得た。
【０１３８】
〔調製例１２〕比較例用ハードコート層形成用組成物（Ａ−１０）の調製
「アロニックス  Ｍ４０２」２０質量部、「ユニディック  １７−８１３」８０質量部、光重合開始剤として「イルガキュア１８４」３質量部、紫外線吸収剤として「チヌビン４００」１質量部、ヒンダードアミン系光安定剤として「チヌビン２９２」３質量部をメチルエチルケトンと酢酸エチルの混合溶剤（混合比１／１）に溶解させることによって、不揮発分４０質量％のハードコート層形成用組成物（Ａ−１０）を得た。
【０１３９】
（比較例１）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−７）を使用すること以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（VII）及び反射防止フィルム（VII）を得た。
【０１４０】
（比較例２）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−８）を使用すること、及び、ハードコート層の厚さを５μｍから３μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（VIII）及び反射防止フィルム（VIII）を得た。
【０１４１】
（比較例３）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−４）を使用すること、及び、ハードコート層の厚さを５μｍから１μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（IX）及び反射防止フィルム（IX）を得た。
【０１４２】
（比較例４）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−９）を使用すること以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（X）及び反射防止フィルム（Ｘ）を得た。
【０１４３】
（比較例５）
ハードコート層形成用組成物（Ａ−１）の代わりにハードコート層形成用組成物（Ａ−１０）を使用すること、及び、ハードコート層の厚さを５μｍから３μｍに変更したこと以外は、実施例１と同様の方法でハードコートフィルム（XI）及び反射防止フィルム（XI）を得た。
【０１４４】
[ハードコート層（Ａ）の波長３５０ｎｍの光の吸収率の測定方法]
実施例及び比較例で得たハードコートフィルム、ならびに、それらの製造に使用した機材である厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（商品名：「コスモシャイン  Ａ４３００」、東洋紡績株式会社製、両面易接着処理）及び厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（商品名：「ＴＤ８０ＵＬＭ」、富士フィルム株式会社製）の、波長３５０ｎｍ光の透過率を、日本分光株式会社製Ｖ−５７０等の紫外−可視分光光度計を用いて測定した。
【０１４５】
前記ハードコートフィルムの前記透過率と前記基材の透過率との差を、ハードコート層が有する波長３５０ｎｍ光の吸収率とした。
【０１４６】
[耐候性の評価方法]
実施例及び比較例で得た反射防止フィルムの耐候性は、前記反射防止フィルムをスガ試験機株式会社製サンシャインウェザーメーター  Ｓ−８０（ブラックパネル温度６３℃、槽内温度４０℃、槽内湿度５０％ＲＨ）内に１００時間静置した後、ハードコート層と基材との密着性をクロスカット法（ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６）に準じて評価した。評価結果は以下の基準にて評価した。
【０１４７】
○：基材から剥離したハードコート層及び反射防止層からなる塗膜片の数が０／１００であった。
【０１４８】
△：基材から剥離したハードコート層及び反射防止層からなる塗膜片の数が１／１００〜１０／１００であった。
【０１４９】
×：基材から剥離したハードコート層及び反射防止層からなる塗膜片の数が１１／１００以上であった。
【０１５０】
[反射防止フィルムのカール評価方法]
実施例及び比較例で得た反射防止フィルムを１００ｍｍ×１００ｍｍのサイズにカットし、埃や静電気を除去した水平板上に静置した際の、四つ角の水平板からの浮き高さを測定し、その平均値を算出した。算出した平均カール高さを以下の基準にて評価した。
【０１５１】
○：平均カール高さが１０ｍｍ未満
×：平均カール高さが１０ｍｍ以上
【０１５２】
〔ヘイズ（Ｈｚ）の測定方法〕
ヘイズメーターＮＤＨ２０００（日本電色社製）を用い、実施例及び比較例で得た反射防止フィルムのヘイズを測定した。
【０１５３】
〔透明性の評価方法〕
実施例及び比較例で得た反射防止フィルムを、強度４０ワットの蛍光灯から１．５ｍの距離にかざしたときの透明性の程度を目視で評価した。
○：反射防止フィルムは無色透明であった
△：反射防止フィルムが僅かに白みがかっていたが、反射防止フィルムとして使用可能な例ベルの透明性を保持していた
×：反射防止フィルムが明らかに白濁していたため、反射防止フィルムとして使用できなかった
【０１５４】
【表１】
2017009787.tif 000002
【０１５５】
【表２】
2017009787.tif 000003
【０１５６】
表１及び表２中の「Ｍ４０２」は、「アロニックス  Ｍ４０２」（東亞合成株式会社製、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、分子量５７８）を表し、「１７−８１３」は、「ユニディック  １７−８１３」（ＤＩＣ株式会社製、多官能ウレタンアクリレート、重量平均分子量約８００）を表し、「８ＢＲ−９３０Ｍ」は「アクリット  ８ＢＲ−９３０Ｍ」（大成ファインケミカル社製、多官能ウレタンアクリレート、重量平均分子量約１６０００）を表す。