(57)【要約】【課題】  透明電極の保護膜、不可視化の機能と、タッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムとその製造方法、及びそれを用いた屈折率調整パターンの形成方法、電子部品を提供する。【解決手段】  第一のフィルムと、その上に設けられた感光性樹脂層と、その上に設けられた高屈折率層と、その上に設けられた第二のフィルムとを備える転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法であって、前記第二のフィルムに高屈折率組成物を塗工し、乾燥後、保護フィルムをつけて巻き取り、第二のフィルム、高屈折率層、及び保護フィルムからなる積層体を作製し、前記第一のフィルムに感光性樹脂組成物を塗工、乾燥し感光性樹脂層を形成し、前記積層体から前記保護フィルムを剥離しながら、高屈折率層と感光性樹脂層を貼り合せる工程を含む製造方法。前記保護フィルムが、表面にエンボス加工されていると好ましい。【選択図】  図２
2017009854.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一のフィルムと、該第一のフィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた第二のフィルムとを備える転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法であって、前記第二のフィルムに高屈折率組成物を塗工し、乾燥後、保護フィルムをつけて巻き取り、第二のフィルム、高屈折率層、及び保護フィルムからなる積層体を作製し、前記第一のフィルムに感光性樹脂組成物を塗工、乾燥し感光性樹脂層を形成し、前記積層体から前記保護フィルムを剥離しながら、高屈折率層と感光性樹脂層を貼り合せる工程を含む転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記積層体を構成する保護フィルムが、表面にエンボス加工されたフィルムである請求項１に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記高屈折率組成物を塗工するために用いる溶媒と、前記感光性樹脂組成物を塗工するために用いる溶媒が異なることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の製造方法によって得られる第一のフィルム、感光性樹脂層、高屈折率層、第二のフィルムとを、備える転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項５】
前記高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率（２５℃）が１．５〜１．９である請求項４に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項６】
前記高屈折率層の膜厚が、０．０５〜１μｍである請求項４又は請求項５に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項７】
前記高屈折率層が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、トリアジン環を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物及びイソシアヌル酸骨格を有する化合物のうちいずれか１以上を含有する請求項４〜６のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項８】
前記感光性樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する請求項４〜７のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項９】
前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物を含有する請求項８に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項１０】
前記バインダーポリマーが、カルボキシル基を有するポリマーを含有する請求項８又は請求項９に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項１１】
４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が、９０％以上である請求項４〜１０のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項１２】
前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である請求項４〜１１のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルム。
【請求項１３】
請求項４〜１２のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程とを、備える屈折率調整パターンの形成方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、転写形感光性屈折率調整フィルムとその製造方法、及びそれを用いた屈折率調整パターンの形成方法、電子部品に関する。詳しくは透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
パソコンやテレビ等の大型電子機器、カーナビゲーション、携帯電話、電子辞書等の小型電子機器、ＯＡ・ＦＡ機器等の表示機器などには液晶表示素子やタッチパネル（タッチセンサー）が用いられている。これら液晶表示素子やタッチパネルには透明電極材料からなる電極が設けられている。透明電極材料としては、高い可視光透過率を示すことから、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ−Ｔｉｎ−Ｏｘｉｄｅ）、酸化インジウムや酸化スズが主流になっている。
【０００３】
タッチパネルは、すでに各種の方式が実用化されている。投影型静電容量方式のタッチパネルは、指先の多点検出が可能なため、複雑な指示を行うことができるという良好な操作性を備えている。そのため、携帯電話や携帯型音楽プレーヤ等の小型の表示装置を有する機器において、表示面上の入力装置として利用が進んでいる。
【０００４】
一般に、投影型静電容量方式のタッチパネルではＸ軸とＹ軸による２次元座標を表現するために、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造パターンを形成している。これらの電極として、近年、Ａｇナノワイヤ、カーボンナノチューブ等に代表される導電性繊維の利用が検討されているが、ＩＴＯが未だに主流である。
【０００５】
ところで、タッチパネルの額縁領域はタッチ位置を検出できない領域であるから、その額縁領域の面積を狭くすることが製品価値を向上させるための重要な要素である。額縁領域には、タッチ位置の検出信号を伝えるために金属配線が必要となるが、額縁面積の狭小化を図るためには、金属配線の幅を狭くする必要がある。ＩＴＯの導電性は充分に高くないので、一般的に金属配線は銅により形成されている。
【０００６】
タッチパネルは指先に接触される際に水分や塩分等の腐食成分がセンシング領域から内部に侵入することがある。タッチパネルの内部に腐食成分が侵入すると、上記金属配線が腐食し、電極と駆動用回路間の電気抵抗の増加や、断線の恐れがある。
【０００７】
ところで、上述したように投影型静電容量方式のタッチパネルでは、基材上に透明電極材料による、複数のＸ電極と、該Ｘ電極に直交する複数のＹ電極とが、２層構造の透明電極パターンを形成しているが、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分とでの光学的な反射により色差が大きくなり、モジュール化した際に透明導電パターンが画面上に映りこむ、いわゆる「骨見え現象」の問題がある。また、基材と透明電極との間、又はモジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着する視認性向上フィルム（ＯＣＡ：Ｏｐｔｉｃａｌ Ｃｌｅａｒ Ａｄｈｅｓｉｖｅ）と透明電極パターンとの間で、反射光強度が増加し画面の透過率を低下させるという問題もある。
【０００８】
骨見え現象や透過率の低下を防ぐために、仮支持体と、特定の屈折率の範囲に調整された低屈折率の第一硬化性透明樹脂および高屈折率の第二の硬化性透明樹脂層とを隣接して有する転写フィルムを用いることが開示されている。（特許文献１）
【０００９】
ところで、フィルムを多層化する方法は、ダイヘッドのマニホールドの数を増やす方法（特許文献２、特許文献３）や、塗工したい層数に応じた塗工機と乾燥機を配置する方法（特許文献４）等が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２０１１−２８５９４号公報
【特許文献２】国際公開第２０１３／０８４８７３号
【特許文献３】特開平８−２４０８００号公報
【特許文献４】特開２０１４−１０８５４１号公報
【特許文献５】特開２００２−８６０５０号公報
【特許文献６】特開２００３−２６０４００号公報
【特許文献７】特開２００３−２０５２６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
しかしながら、特許文献１の手法では、骨見え現象と、透過率低下の防止効果は充分ではなく、更なる改善の余地がある。また、上記手法では、ＩＭ層（インデックスマッチング層、光学調整層）を構築するために、スパッタ又はスピンコーター等の塗布が必要であるが、この工程に加え、タッチパネルの額縁領域にある金属配線の腐食防止を別工程で行う必要が生じ、工程数が増えるという課題があった。
また、工程数は増えるが、特許文献３の手法に特許文献２の手法を組み合わせようと、基材上にＩＭ層を設け、該ＩＭ層上に透明電極パターンを形成後、更に該透明電極パターン上にＩＭ層を作製しようと試みても、透明電極パターンの形成されている表面に凹凸があるため、ＩＭ層を均一に形成できないという課題があった。
【００１２】
特許文献４に記載のフィルムを多層化する方法では、１層目を塗工した上に塗工を行うため、下層を溶解しないような溶媒を用いる必要がある。
特許文献５に記載の多層化の方法では、多層化する樹脂同士を同時に塗工するという方法であるため、塗工する樹脂や溶媒の相性が重要となる。
特許文献６に記載の方法では、多層化する樹脂同士を同時に塗工するという方法であるため、塗工する樹脂や溶媒の相性が重要となる。
特許文献７に記載の多層化の方法では、１層目を塗工した上に塗工を行うため、下層を溶解しないような溶剤を用いる必要がある。
以上のことから、特許文献４〜７に記載の多層方法では、使用する溶媒、樹脂の相性が重要となり、材料選択の自由度が小さくなってしまうという課題があった。
本発明は、上記の事情に鑑みなされたもので、透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムとその製造方法、及びそれを用いた屈折率調整パターンの形成方法、電子部品を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、［１］  第一のフィルムと、該第一のフィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた第二のフィルムとを備える転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法であって、前記第二のフィルムに高屈折率組成物を塗工し、乾燥後、保護フィルムをつけて巻き取り、第二のフィルム、高屈折率層、及び保護フィルムからなる積層体を作製し、前記第一のフィルムに感光性樹脂組成物を塗工、乾燥し感光性樹脂層を形成し、前記積層体から前記保護フィルムを剥離しながら、高屈折率層と感光性樹脂層を貼り合せる工程を含む転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法である。
また、本発明は、［２］  前記積層体を構成する保護フィルムが、表面にエンボス加工されたフィルムである上記［１］に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法である。
また、本発明は、［３］  前記高屈折率組成物を塗工するために用いる溶媒と、前記感光性樹脂組成物を塗工するために用いる溶媒が異なることを特徴とする上記［１］又は［２］に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法である。
また、本発明は、［４］  上記［１］〜［３］のいずれか一項に記載の製造方法によって得られる第一のフィルム、感光性樹脂層、高屈折率層、第二のフィルムとを、備える転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［５］  前記高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率（２５℃）が１．５〜１．９である上記［４］に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［６］  前記高屈折率層の膜厚が、０．０５〜１μｍである上記［４］又は［５］に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［７］  前記高屈折率層が、酸化ジルコニウム、酸化チタン、トリアジン環を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物及びイソシアヌル酸骨格を有する化合物のうちいずれか１以上を含有する上記［４］〜［６］のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［８］  前記感光性樹脂層が、バインダーポリマーと、光重合性化合物と、光重合開始剤とを含有する上記［４］〜［７］のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［９］  前記光重合開始剤が、オキシムエステル化合物を含有する上記［８］に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［１０］  前記バインダーポリマーが、カルボキシル基を有するポリマーを含有する上記［８］又は［９］に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［１１］  ４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値が、９０％以上である上記［４］〜［１０］のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［１２］  前記感光性樹脂層と前記高屈折率層の合計の厚みが３０μｍ以下である上記［４］〜［１１］のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムである。
また、本発明は、［１３］  上記［４］〜［１２］のいずれか一項に記載の転写形感光性屈折率調整フィルムを基材上に前記高屈折率層が密着するように前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層をラミネートする工程と、
前記基材上の前記高屈折率層及び前記感光性樹脂層の所定部分を露光後、前記所定部分以外を除去し、屈折率調整パターンを形成する工程とを、備える屈折率調整パターンの形成方法である。
さらに、本発明は、［１４］  上記［１３］に記載の形成方法により得られる屈折率調整パターンを有する電子部品である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜を簡便に形成可能な転写形感光性屈折率調整フィルムを品質よく作製し、提供することができる。
また、これにより得られた転写形感光性屈折率調整フィルムを用いることで、透明電極の保護膜の機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を有する硬化膜パターンを簡便に形成でき、それらの特性を有する電子部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明で使用した塗工機の模式的構成図である。
【図２】本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを示す模式断面図である。
【図３】本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムを透明導電パターン付き基材へ用いた一実施形態を示す模式断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る電子部品を示す模式平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。なお、本明細書において、「（メタ）アクリル酸」とは、アクリル酸又はメタクリル酸を意味し、「（メタ）アクリレート」とは、アクリレート又はそれに対応するメタクリレートを意味する。「（ポリ）オキシエチレン鎖」はオキシエチレン基又はポリオキシエチレン基を意味し、「（ポリ）オキシプロピレン鎖」はオキシプロピレン基又はポリオキシプロピレン基を意味する。「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。
【００１７】
また、本明細書において「工程」との語は、独立した工程だけではなく、他の工程と明確に区別できない場合であってもその工程の所期の作用が達成されれば、本用語に含まれる。また、「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００１８】
さらに、本明細書において組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。また、例示材料は特に断らない限り単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１９】
（転写形感光性屈折率調整フィルム）
本発明は、第一のフィルムと、該第一のフィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、第二のフィルムとを備える転写形感光性屈折率調整フィルムおよび、その製造方法である。
本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法は、第一のフィルムと、該第一のフィルム上に設けられた感光性樹脂層と、該感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層と、該高屈折率層上に設けられた第二のフィルムとを備える転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法であって、前記第二のフィルムに高屈折率組成物を塗工し、乾燥後、保護フィルムをつけて巻き取り、第二のフィルム、高屈折率層、及び保護フィルムからなる積層体を作製し、前記第一のフィルムに感光性樹脂組成物を塗工、乾燥し感光性樹脂層を形成するときに、前記積層体から前記保護フィルムを剥離しながら、高屈折率層と感光性樹脂層を貼り合せる工程を含むものである。
【００２０】
（塗工機の説明）
図１は、本発明で使用した塗工機の模式的構成図である。
送出機１のＴ１から第１のフィルムを繰り出し、塗布機のＴ３で感光性樹脂組成物の塗工を行い、乾燥ゾーンのＴ４で乾燥し、ラミネートのＴ５で、送出機２のＴ７から第二のフィルム、高屈折率層、保護フィルムからなる積層体を繰り出し積層体から保護フィルムを剥離し、前記の感光性樹脂組成物を塗工、乾燥して得られた感光性樹脂層と高屈折率層が面するようにラミネートし、巻取機１のＴ６で巻き取る。Ｔ６で巻き取られたフィルムは、第一のフィルム、感光性樹脂層、高屈折率層、第二のフィルムが、この順に構成された転写形感光性屈折率調整フィルムとなる。積層体から剥離した保護フィルムは、巻取機２のＴ８に巻き取られる。
【００２１】
（高屈折率層の形成）
送出機１のＴ１に第二のフィルムをセットし、塗布機のＴ３で高屈折率組成物の塗工を行い、乾燥ゾーンのＴ４で乾燥して、高屈折率層とし、送出機２のＴ７に保護フィルムをセットし、ラミネートのＴ５で第二のフィルム上に形成された高屈折率層と保護フィルムをラミネートし、第二のフィルム、高屈折率層、保護フィルムの順に構成された積層体を巻取機１のＴ６で巻き取る。このとき巻取機２のＴ８は使用しない。
第二のフィルム及び保護フィルムとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン−酢酸ビニル共重合体等が挙げられる。厚さ１０〜５０μｍが好ましい。
【００２２】
Ｔ７で使用する保護フィルムは、厚さ１０〜５０μｍ、好ましくは２０〜４５μｍ、更に好ましくは２５〜４０μｍである。
表面が平滑なＯＰＰ（２軸延伸ポリプロピレンフィルム（Oriented Polypropylene））や、表面が平滑なＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレートフィルム）を使用するとしわや巻きずれが発生してしまい、うまく巻き取ることができない場合がある。また、保護フィルムを使用しなかった場合、高屈折率層が保護フィルムの非塗工面に転写してしまう場合がある。
本発明では、保護フィルムの表面がエンボス加工され、その面が高屈折率層に接するようにする。
本発明でのエンボスは、表面に凹凸が付与されたフィルムであり、保護フィルムの表面と高屈折率層を貼り合せる際にエアを抜けやすくして、しわの発生防ぐためである。
エンボスをフィルム表面に形成する手段として、エンボスロール法、マット法、充填材添加法等により形成することができる。エンボスロール法を用いる場合は、押し出しエンボス機を用いて作製する。エンボス装置の片方のロールに凹凸を配列した加工ロールを用い、軟化した樹脂を押し出しエンボス装置でフィルム状に加工し、冷却ロールで冷却して、目的のエンボス加工されたフィルムを得る。この際エンボス装置のロール組み合わせは、両ロールを金属製とするメタルマッチ方式を用いるのが望ましい。従来、ロール組み合わせとして金属ロールとゴムロールの組み合わせが一般的であるが、この組み合わせを用いるとゴムロールの弾性変形により、表面に形成する微小突起の寸法精度が低下する。また、金属ロールにすることにより、ロール温度の微細調整が可能となり、エンボス加工時の温度制御範囲の狭い結晶性熱可塑性樹脂も使用できる。フィルムを再加熱してエンボスを形成するアフターエンボス加工でもよい。エンボスロール法の特徴としては、ほとんどの熱可塑性樹脂の使用が可能で、安価に量産できることが挙げられる。光硬化性樹脂を用いてのエンボス面の転写法を用いてもよい。
【００２３】
マット法（サンドブラスト法）は、フィルムを送り出しながらフィルム表面に微細な粒子（砂等）を衝突させ表面に凹凸を形成する。
充填材添加法は、フィルム素材に充填剤を混合し、フィルム表面に充填剤の粒子が存在するようにしたフィルムである。
これ等の方法によるエンボスの表面の粗さＲａ（算術平均粗さ）は、０．０２〜１０μｍであり、０．０５〜３μｍが好ましく、０．１〜０．５μｍが更に好ましい。
【００２４】
（感光性樹脂層の形成）
送出機１のＴ１に第一のフィルムをセットし、塗布機のＴ３で感光性樹脂組成物の塗工を行い、乾燥ゾーンのＴ４で乾燥し、上記のようにラミネートのＴ５で、送出機２から第二のフィルム、高屈折率層、保護フィルムからなる積層体を繰り出し積層体から保護フィルムを剥離し、前記の感光性樹脂組成物を塗工、乾燥して得られた感光性樹脂層と高屈折率層が面するようにラミネートし、巻取機１のＴ６で転写形感光性屈折率調整フィルムを巻き取る。このとき巻取機２のＴ８で保護フィルムを巻取る。保護フィルムは、異物、キズなどの観点から、ラミネート直前で剥がすことが望ましい。
【００２５】
上記では、予め、第二のフィルム、高屈折率層、及び保護フィルムからなる積層体を形成し、これに感光性樹脂層を積層する例を挙げたが、予め、感光性樹脂層を形成し、これに高屈折率層をラミネートして転写型感光性屈折率調整フィルムを作製することができる。
すなわち、第一のフィルムに感光性樹脂組成物を塗工し、乾燥後、保護フィルムをつけて巻き取り、第一のフィルム、感光性樹脂層、及び保護フィルムからなる積層体を作製し、第二のフィルムに高屈折率組成物を塗工、乾燥し高屈折率層を形成し、前記積層体から前記保護フィルムを剥離しながら、感光性樹脂層と高屈折率層を貼り合せる工程を含む転写形感光性屈折率調整フィルムの製造方法である。
【００２６】
図２は、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムの一実施形態を示す模式断面図である。図２に示される転写形感光性屈折率調整フィルム１は、第一のフィルム（支持フィルム）１０と、第一のフィルム上に設けられた感光性樹脂層（以下、感光性樹脂層ともいう）２０と、上記感光性樹脂層上に設けられた高屈折率層（以下、高屈折率層ともいう）３０とを備える。なお、転写形感光性屈折率調整フィルムは、図２に示すように感光性樹脂層２０の第一のフィルム１０とは反対側に第２のフィルム４０が形成されている。なお、本発明の転写形感光性屈折率調整フィルムは、第２のフィルムがないものでもよい。
【００２７】
上記転写形感光性屈折率調整フィルムを用いることで、例えばタッチパネルの額縁にある金属配線や透明電極の保護機能と、透明電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を一括で形成することができる。
【００２８】
第一のフィルム１０としては、重合体フィルムを用いることができる。重合体フィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエーテルサルフォン、シクロオレフィンポリマー等が挙げられる。
【００２９】
第一のフィルム１０の厚さは、被覆性の確保と、第一のフィルム１０を介して活性光線を照射する際の解像度の低下を抑制する観点から、５〜１００μｍであることが好ましく、１０〜７０μｍであることがより好ましく、１５〜４０μｍであることが更に好ましく、１５〜３５μｍであることが特に好ましい。
【００３０】
（感光性樹脂層）
感光性樹脂層２０は、バインダーポリマー（以下、（Ａ）成分ともいう）と、光重合性化合物（以下、（Ｂ）成分ともいう）と、光重合開始剤（以下、（Ｃ）成分ともいう）とを含有する感光性樹脂組成物から形成されることが好ましい。
【００３１】
（Ａ）成分としては、アルカリ現像によりパターニングを可能とする観点から、カルボキシル基を有するポリマーを用いることが好ましい。
【００３２】
（Ａ）成分は、（メタ）アクリル酸、及び（メタ）アクリル酸アルキルエステルに由来する構成単位を含有する共重合体が好適である。上記共重合体は、上記（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アルキルエステルと共重合し得るその他のモノマーを構成単位に含有していてもよい。具体的には、（メタ）アクリル酸グリシジルエステル、（メタ）アクリル酸ベンジルエステル、スチレン等が挙げられる。
【００３３】
上記（メタ）アクリル酸アルキルエステルとしては、（メタ）アクリル酸メチルエステル、（メタ）アクリル酸エチルエステル、（メタ）アクリル酸ブチルエステル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシルエチルエステル等が挙げられる。
【００３４】
（Ａ）成分の重量平均分子量は、解像度の観点から、１０，０００〜２００，０００であることが好ましく、１５，０００〜１５０，０００であることがより好ましく、３０，０００〜１５０，０００であることが更に好ましく、３０，０００〜１００，０００であることが特に好ましく、４０，０００〜１００，０００であることが極めて好ましい。なお、重量平均分子量は、本願明細書の実施例を参考にゲルパーミエーションクロマトグラフィー法により測定することができる。
【００３５】
（Ａ）成分の酸価は、所望の形状を有する保護膜（感光性樹脂層）をアルカリ現像で容易に形成する観点から、７５ｍｇＫＯＨ／ｇ以上とすることが好ましい。また、保護膜形状の制御容易性と保護膜の防錆性との両立を図る観点から、７５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましく、７５〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、７５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが更に好ましい。なお、酸価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
【００３６】
（Ａ）成分の水酸基価は、防錆性をより向上させる観点から、５０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることが好ましく、４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であることがより好ましい。なお、水酸基価は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
【００３７】
（Ｂ）成分は、エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物を用いることができる。エチレン性不飽和基を有する光重合性化合物としては、一官能ビニルモノマー、二官能ビニルモノマー、又は少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーが挙げられる。
【００３８】
上記一官能ビニルモノマーとしては、例えば、上記（Ａ）成分の好適な例である共重合体の合成に用いられるモノマーとして例示したものが挙げられる。
【００３９】
上記二官能ビニルモノマーとしては、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシポリプロポキシフェニル）プロパン、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
上記少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有する多官能ビニルモノマーとしては、従来公知のものを特に制限無く用いることができる。金属配線や透明電極の腐食防止及び現像性の観点から、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等のトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；テトラメチロールメタントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等のテトラメチロールメタン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等のペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等のジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート等のジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物；又はジグリセリン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物などを用いることが好ましい。
【００４１】
より具体的には、ペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが好ましく、ジペンタエリスリトール由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物、トリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物又はジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことがより好ましく、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を含むことが更に好ましい。
【００４２】
ここで、「〜由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物」について、ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレート化合物を例にとり説明する。ジトリメチロールプロパン由来の骨格を有する（メタ）アクリレートとは、ジトリメチロールプロパンと、（メタ）アクリル酸とのエステル化物を意味し、当該エステル化物には、アルキレンオキシ基で変性された化合物も包含される。上記エステル化物は、一分子中におけるエステル結合数が最大数の４であることが好ましいが、エステル結合の数が１〜３の化合物が混合していてもよい。
【００４３】
分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーと、一官能ビニルモノマーや二官能ビニルモノマーを組み合わせて用いる場合、使用する割合に特に制限は無いが、光硬化性及び電極腐食を防止する観点から、分子内に少なくとも３つの重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマーの割合が、感光性樹脂組成物に含まれる光重合性化合物の合計量１００質量部に対して、３０質量部以上であることが好ましく、５０質量部以上であることがより好ましく、７５質量部以上であることが更に好ましい。
【００４４】
（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が３５〜８５質量部であることが好ましく、４０〜８０質量部であることがより好ましく、５０〜７０質量部であることが更に好ましく、５５〜６５質量部であることが特に好ましい。特に、パターン形成性や硬化膜の透明性を維持する点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、（Ａ）成分が、３５質量部以上であることが好ましく、４０質量部以上であることがより好ましく、５０質量部以上であることが更に好ましく、５５質量部以上であることが特に好ましい
【００４５】
（Ｃ）成分としては、透明性の高い光重合開始剤であれば、従来公知のものを特に制限無く用いることができるが、基材（被着体）上に厚みが１０μｍ以下の薄膜であっても充分な解像度で樹脂硬化膜パターンを形成する点では、オキシムエステル化合物を含むことが好ましい。
【００４６】
オキシムエステル化合物としては、下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物、又は下記式（３）で表される化合物であることが好ましい。
【００４７】
【化１】
2017009854.tif 000003
【００４８】
式（１）中、Ｒ１１及びＲ１２は、それぞれ炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数４〜１０のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数４〜６のシクロアルキル基、フェニル基又はトリル基であることがより好ましく、メチル基、シクロペンチル基、フェニル基又はトリル基であることが更に好ましい。Ｒ１３は、−Ｈ、−ＯＨ、−ＣＯＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨを示す。−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）ＯＨ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、−ＣＯＯ（ＣＨ２）ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることが好ましく、−Ｈ、−Ｏ（ＣＨ２）２ＯＨ、又は−ＣＯＯ（ＣＨ２）２ＯＨであることがより好ましい。
【００４９】
【化２】
2017009854.tif 000004
【００５０】
式（２）中、Ｒ１４は、それぞれ炭素数１〜６のアルキル基を示し、プロピル基であることが好ましい。Ｒ１５は、ＮＯ２又はＡｒＣＯ（ここで、Ａｒはアリール基を示す。）を示し、Ａｒとしては、トリル基が好ましい。
Ｒ１６及びＲ１７は、それぞれ炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基、又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましい。
【００５１】
【化３】
2017009854.tif 000005
【００５２】
式（３）中、Ｒ１８は、炭素数１〜６のアルキル基を示し、エチル基であると好ましい。
Ｒ１９はアセタール結合を有する有機基であり、後述する式（３−１）に示す化合物が有するＲ１９に対応する置換基であることが好ましい。
Ｒ２０及びＲ２１は、それぞれ炭素数１〜１２のアルキル基、フェニル基又はトリル基を示し、メチル基、フェニル基又はトリル基であることが好ましく、メチル基であることがより好ましい。
【００５３】
上記式（１）で表される化合物としては、例えば、下記式（１−１）で表される化合物及び下記式（１−２）で表される化合物が挙げられる。下記式（１−１）で表される化合物はＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ−０１（ＢＡＳＦ社製、製品名）として入手可能である。
【００５４】
【化４】
2017009854.tif 000006
【００５５】
上記式（２）で表される化合物としては、例えば、下記式（２−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（２−１）で表される化合物は、ＤＦＩ−０９１（ダイトーケミックス株式会社製、製品名）として入手可能である。
【００５６】
【化５】
2017009854.tif 000007
【００５７】
上記式（３）で表される化合物としては、例えば、下記式（３−１）で表される化合物が挙げられる。下記式（３−１）で表される化合物は、アデカオプトマーＮ−１９１９（株式会社ＡＤＥＫＡ製、製品名）として入手可能である。
【００５８】
【化６】
2017009854.tif 000008
【００５９】
その他のオキシムエステル化合物としては、下記式（４）で表される化合物、下記式（５）で表される化合物を用いることが好ましい。
【００６０】
【化７】
2017009854.tif 000009
【００６１】
【化８】
2017009854.tif 000010
【００６２】
（Ｃ）成分の含有量は、光感度及び解像度に優れる点では、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．１〜１０質量部であることが好ましく、１〜５質量部であることがより好ましく、１〜３質量部であることが更に好ましく、１〜２質量部であることが特に好ましい。
【００６３】
本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、保護膜の防錆性をより向上させる観点から、メルカプト基を有するトリアゾール化合物、メルカプト基を有するテトラゾール化合物、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物、アミノ基を有するトリアゾール化合物又はアミノ基を有するテトラゾール化合物（以下、（Ｄ）成分ともいう）を更に含有することが好ましい。メルカプト基を有するトリアゾール化合物としては、例えば、３−メルカプト−トリアゾール（和光純薬工業株式会社製、製品名：３ＭＴ）が挙げられる。また、メルカプト基を有するチアジアゾール化合物としては、例えば、２−アミノ−５−メルカプト−１，３，４−チアジアゾール（和光純薬工業株式会社製、製品名：ＡＴＴ）が挙げられる。
【００６４】
上記アミノ基を有するトリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−アセトニトリル、ベンゾトリアゾール−５−カルボン酸、１Ｈ−ベンゾトリアゾール−１−メタノール、カルボキシベンゾトリアゾール等にアミノ基が置換した化合物、３−メルカプトトリアゾール、５−メルカプトトリアゾール等のメルカプト基を含むトリアゾール化合物にアミノ基が置換した化合物等が挙げられる。
【００６５】
上記アミノ基を有するテトラゾール化合物としては、５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール、１−メチル−５−アミノ−テトラゾール、１−メチル−５−メルカプト−１Ｈ−テトラゾール、１−カルボキシメチル−５−アミノ−テトラゾール等が挙げられる。これらのテトラゾール化合物は、その水溶性塩であってもよい。具体例としては、１−メチル−５−アミノ−テトラゾールのナトリウム、カリウム、リチウム等のアルカリ金属塩等が挙げられる。
【００６６】
（Ｄ）成分を含有する場合、その含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の合計量１００質量部に対し、０．０５〜５．０質量部が好ましく、０．１〜２．０質量部がより好ましく、０．２〜１．０質量部が更に好ましく、０．３〜０．８質量部が特に好ましい。
【００６７】
本実施形態に係る感光性樹脂組成物は、ＩＴＯ電極、高屈折率層に対する密着性と、現像残りの発生を防ぐ観点から、光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（以下、（Ｅ）成分ともいう）を含有することが好ましい。
【００６８】
（Ｅ）成分である光重合性不飽和結合を含むリン酸エステルとしては、形成する保護膜の防錆性を充分確保しつつ、ＩＴＯ電極、高屈折率層に対する密着性と現像性とを高水準で両立する観点から、ユニケミカル株式会社製のＰｈｏｓｍｅｒシリーズ（Ｐｈｏｓｍｅｒ−Ｍ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＣＬ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＥ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＭＨ、Ｐｈｏｓｍｅｒ−ＰＰ等）、又は日本化薬株式会社製のＫＡＹＡＭＥＲシリーズ（ＰＭ２１、ＰＭ−２等）が好ましい。
【００６９】
（高屈折率層）
上記高屈折率層は、６３３ｎｍにおける屈折率（２５℃）が１．５〜１．９であることが好ましく、１．５３〜１．８５であることがより好ましく、１．５５〜１．７５であることが更に好ましい。高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率が１．５〜１．９であることにより、図３に示す積層体とした場合、ＩＴＯ等の透明電極パターン５０ａと、感光性樹脂層２０の上に使用される各種部材（例えば、モジュール化する際に使用するカバーガラスと透明電極パターンとを接着するＯＣＡ（Optical Clear Adhesive、フィルム状の粘着シート）との屈折率の中間値となり、ＩＴＯ等の透明電極パターンが形成されている部分と形成されていない部分での光学的な反射による色差を小さくすることが可能となり、骨見え現象を防止できる。また、画面全体の反射光強度を低減することが可能となり、画面上の透過率低下を防止することが可能となる。なお、屈折率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
【００７０】
ＩＴＯ等の透明電極の屈折率は、１．８０〜２．１０であることが好ましく、１．８５〜２．０５であることがより好ましく、１．９０〜２．００であることが更に好ましい。また、ＯＣＡ等の部材の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましく、１．４７〜１．５３であることがより好ましく、１．４８〜１．５１であることが更に好ましい。
【００７１】
上記高屈折率層の膜厚は、５０〜１０００ｎｍであることが好ましく、６０〜８００ｎｍであることがより好ましく、７０〜６００ｎｍであることが更に好ましく、８０〜５００ｎｍであることが特に好ましく、８０〜３００ｎｍであることが極めて好ましい。膜厚が、５０〜１０００ｎｍであることにより、上述の画面全体の反射光強度をより低減することが可能となる。
【００７２】
高屈折率層３０を構成する高屈折率組成物は、酸化ジルコニウム、酸化チタン、トリアジン環を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物又はイソシアヌル酸骨格を有する化合物（以下、（Ｆ）成分とも呼ぶ）を含有することが好ましい。これにより、６３３ｎｍにおける屈折率を向上させることが可能となる。
【００７３】
高屈折率層３０を構成する高屈折率組成物は、必要に応じて上記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有してもよい。
【００７４】
酸化ジルコニウムとしては、透明導電パターンを不可視化する観点から、酸化ジルコニウムナノ粒子であることが好ましい。また、酸化ジルコニウムナノ粒子の中でも、粒度分布の最大径Ｄｍａｘが４０ｎｍ以下であることが好ましい。
酸化ジルコニウムナノ粒子は、ＯＺ−Ｓ３０Ｋ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＯＺ−Ｓ４０Ｋ−ＡＣ（日産化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｋ（酸化ジルコニウムメチルエチルケトン分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）、ＳＺＲ−Ｍ（酸化ジルコニウムメタノール分散液、堺化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
【００７５】
酸化チタンとしては、透明導電パターンを不可視化する観点から、酸化チタンナノ粒子であることが好ましい。また、酸化チタンナノ粒子の中でも、粒度分布の最大径Ｄｍａｘが５０ｎｍ以下であることが好ましく、１０〜５０ｎｍがより好ましい。
【００７６】
イソシアヌル酸骨格を有する化合物としては、イソシアヌル酸トリアリルが好ましい。トリアジン環を有する化合物は、トリアジン環を含有するハイパーブランチポリマーが好ましく、例えば、ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ ＵＲ−１０１（日産化学工業株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
【００７７】
フルオレン骨格を有する化合物としては、９，９−ビス［４−２−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン骨格を有する化合物が好ましい。上記化合物は（ポリ）オキシエチレン又は（ポリ）オキシプロピレンで変性されていてもよい。これらは、例えば、ＥＡ−２００（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）として商業的に入手可能である。
【００７８】
高屈折率組成物における（Ｆ）成分の含有量は、高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率を１．５〜１．９の範囲に調整するため、以下の範囲が好ましい。
【００７９】
フルオレン骨格を有する化合物を含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、１０〜１００質量部含むことが好ましく、２０〜９０質量部含むことがより好ましく、３０〜８０質量部含むことが更に好ましく、３０〜６０質量部含むことが特に好ましい。
【００８０】
トリアジン環を有する化合物を含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、１０〜１００質量部含むことが好ましく、２０〜９０質量部含むことがより好ましく、３０〜８０質量部含むことが更に好ましく、３０〜７０質量部含むことが特に好ましい。
【００８１】
酸化ジルコニウム又は酸化チタンを含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、２０〜９０質量部含むことが好ましく、３０〜８０質量部含むことがより好ましく、３０〜７０質量部含むことが更に好ましい。
【００８２】
イソシアヌル酸骨格を有する化合物を含有する場合、高屈折率組成物１００質量部に対し、１０〜９０質量部含むことが好ましく、２０〜８０質量部含むことがより好ましく、３０〜７０質量部含むことが更に好ましい。
【００８３】
転写形感光性屈折率調整フィルムの４００〜７００ｎｍにおける可視光透過率の最小値は９０．００％以上であることが好ましく、９０．５０％以上であることがより好ましく、９０．７０％以上であることが更に好ましい。一般的な可視光波長域である４００〜７００ｎｍにおける透過率が９０．００％以上であれば、タッチパネル（タッチセンサー）のセンシング領域の透明電極を保護する場合において、センシング領域での画像表示品質、色合い、輝度が低下することを充分抑制することができる。なお、可視光透過率は、本願明細書の実施例を参考に測定することができる。
【００８４】
転写形感光性屈折率調整フィルムは、上記の製造方法の他に、転写形感光性屈折率調整フィルムの感光性樹脂層２０、高屈折率層３０は、例えば、感光性樹脂組成物、高屈折率組成物を含有する塗布液を調製し、これを各々支持フィルムである第一のフィルム１０、第二のフィルム４０上に塗布、乾燥し、貼り合わせることにより形成できる。または、支持フィルムである第一のフィルム１０上に感光性樹脂組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、その後、感光性樹脂層２０上に、高屈折率組成物を含有する塗布液を塗布、乾燥し、第二のフィルム４０を貼り付けることにより形成することもできる。
【００８５】
塗布液は、上述した本実施形態に係る感光性樹脂組成物、高屈折率組成物を構成する各成分を溶剤に均一に溶解又は分散することにより得ることができる。
【００８６】
塗布液として用いる溶剤は、特に制限は無く、公知のものが使用できる。具体的には、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、メチレングリコール、エチレングリコール、プロピレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、クロロホルム、塩化メチレンが挙げられる。
上記の溶剤は、高屈折率組成物を塗工するために用いる溶媒（溶剤）と、感光性樹脂組成物を塗工するために用いる溶媒（溶剤）が異なることが好ましい。高屈折率層と感光性樹脂層を貼り合せた場合の、各成分の層間移動を抑制したりするためである。
【００８７】
塗布方法としては、ドクターブレードコーティング法、マイヤーバー（MEYER BAR、WIRE BAR)コーティング法、ロールコーティング法、スクリーンコーティング法、スピナーコーティング法、インクジェットコーティング法、スプレーコーティング法、ディップコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、ダイコーティング法等が挙げられる。
【００８８】
乾燥条件に特に制限は無いが、乾燥温度は、６０〜１３０℃とすることが好ましく、乾燥時間は、０．５〜３０分とすることが好ましい。
【００８９】
感光性樹脂層と高屈折率層の合計（以下、感光性屈折率調整層ともいう）の厚みは、ラミネート時の追従性向上の観点から、３０μｍ以下であることが好ましく、２０μｍ以下であることがより好ましく、１０μｍ以下であることが更に好ましい。
【００９０】
次に、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いた透明電極の保護機能と、電極パターンの不可視化又はタッチ画面の視認性向上の両機能を満たす硬化膜を形成する方法について説明する。
【００９１】
まず、転写形感光性屈折率調整フィルム１の第二のフィルム４０を除去した後、転写形感光性屈折率調整フィルムを基材（被着材）表面に高屈折率層３０が面するように圧着することによりラミネート（転写）する。圧着手段としては、圧着ロールが挙げられる。圧着ロールは、加熱圧着できるように加熱手段を備えたものであってもよい。
【００９２】
加熱圧着する場合の加熱温度は、高屈折率層３０と基材（被着材）との密着性と、感光性樹脂層や高屈折率層の構成成分が熱硬化又は熱分解されにくいようにする観点から、１０〜１６０℃とすることが好ましく、２０〜１５０℃とすることがより好ましく、３０〜１５０℃とすることが更に好ましい。
【００９３】
また、加熱圧着時の圧着圧力は、高屈折率層３０と基材（被着材）との密着性を充分確保しながら、基材の変形を抑制する観点から、線圧で５０〜１×１０５Ｎ／ｍとすることが好ましく、２．５×１０２〜５×１０４Ｎ／ｍとすることがより好ましく、５×１０２〜４×１０４Ｎ／ｍとすることが更に好ましい。
【００９４】
転写形感光性屈折率調整フィルムを上記のように加熱圧着すれば、基材（被着材）の予熱処理は必ずしも必要ではないが、高屈折率層３０と基材との密着性をさらに向上させる点から、基材を予熱処理してもよい。このときの処理温度は、３０〜１５０℃とすることが好ましい。
【００９５】
基材（被着材）としては、例えばタッチパネル（タッチセンサー）に用いられる、ガラス板、プラスチック板、セラミック板等の基材が挙げられる。この基材上には、硬化膜を形成する対象となる電極が設けられる。電極としては、ＩＴＯ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｍｏ等の電極が挙げられる。また、基材上には、基材と電極との間に絶縁層が設けられていてもよい。
【００９６】
次に、転写後の感光性屈折率調整層の所定部分に、フォトマスクを介して、活性光線をパターン状に照射する。活性光線を照射する際、感光性屈折率調整層上の支持フィルムである第一のフィルム１０が透明の場合には、そのまま活性光線を照射することができ、不透明の場合には除去してから活性光線を照射する。活性光線の光源としては、公知の活性光源を用いることができる。
【００９７】
活性光線の照射量は、１×１０２〜１×１０４Ｊ／ｍ２であり、照射の際に、加熱を伴うこともできる。この活性光線の照射量が、１×１０２Ｊ／ｍ２以上であれば、光硬化を充分に進行させることが可能となり、１×１０４Ｊ／ｍ２以下であれば感光性屈折率調整層が変色することを抑制できる傾向がある。
【００９８】
続いて、活性光線照射後の感光性樹脂層及び高屈折率層の未露光部を現像液で除去して、透明電極の一部又は全部を被覆する屈折率調整パターンを形成する。なお、活性光線の照射後、感光性屈折率調整層に支持フィルムである第一のフィルム１０が積層されている場合にはそれを除去した後、現像工程が行われる。
【００９９】
現像工程は、アルカリ水溶液、水系現像液、有機溶剤等の公知の現像液を用いて、スプレー、シャワー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング等の公知の方法により行うことができる。中でも、環境、安全性の観点からアルカリ水溶液を用いて、スプレー現像することが好ましい。なお、現像温度や時間は従来公知の範囲で調整することができる。
【０１００】
本実施形態に係る電子部品は、転写形感光性屈折率調整フィルムを用いて形成した屈折率調整パターンを備えている。電子部品としては、タッチパネル、液晶ディスプレイ、有機エレクトロルミネッサンス、太陽電池モジュール、プリント配線板、電子ペーパ等が挙げられる。
【０１０１】
図４は、静電容量式のタッチパネルの一例を示す模式上面図である。図４に示されるタッチパネルは、透明基材１０１の片面にタッチ位置座標を検出するためのセンシング領域（タッチ画面）１０２があり、この領域の静電容量変化を検出するための透明電極１０３及び透明電極１０４が透明基材１０１上に設けられている。
【０１０２】
透明電極１０３及び透明電極１０４はそれぞれタッチ位置のＸ位置座標及びＹ位置座標を検出する。
【０１０３】
透明基材１０１上には、透明電極１０３及び透明電極１０４からタッチ位置の検出信号を外部回路に伝えるための引き出し配線１０５が設けられている。また、引き出し配線１０５と、透明電極１０３及び透明電極１０４とは、透明電極１０３及び透明電極１０４上に設けられた接続電極１０６により接続されている。また、引き出し配線１０５の透明電極１０３及び透明電極１０４との接続部と反対側の端部には、外部回路との接続端子１０７が設けられている。
【０１０４】
図４に示すように、透明電極パターンが形成された部分と、形成されていない部分にまたがって屈折率調整パターン１２３を形成することによって、透明電極１０３、透明電極１０４、引き出し配線１０５、接続電極１０６及び接続端子１０７の保護膜の機能と、透明電極パターンから形成されるセンシング領域（タッチ画面）１０２の屈折率調整機能を同時に奏する。
【実施例】
【０１０５】
（実施例）
以下、実施例を挙げて本発明についてより具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【０１０６】
［バインダーポリマー溶液（Ａ１）の作製］
撹拌機、還流冷却機、不活性ガス導入口及び温度計を備えたフラスコに、表１に示した（１）を仕込み、窒素ガス雰囲気下で８０℃に昇温し、反応温度を８０℃±２℃に保ちながら、表１に示した（２）を４時間かけて均一に滴下した。（２）の滴下後、８０℃±２℃で６時間撹拌を続け、重量平均分子量が６５，０００、酸価が７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価が２ｍｇＫＯＨ／ｇのバインダーポリマーの溶液（固形分４５質量％）（Ａ１）を得た。
【０１０７】
【表１】
2017009854.tif 000011
【０１０８】
なお、重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算することにより導出した。ＧＰＣの条件を以下に示す。
＜ＧＰＣ条件＞
ポンプ：Ｌ−６０００（株式会社日立製作所製、製品名）
カラム：Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４２０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４３０、Ｇｅｌｐａｃｋ ＧＬ−Ｒ４４０（以上、日立化成株式会社製、製品名）
溶離液：テトラヒドロフラン
測定温度：４０℃
流量：２．０５ｍＬ／分
検出器：Ｌ−３３００（ＲＩ検出器、株式会社日立製作所製、製品名）
【０１０９】
［酸価の測定方法］
バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、このポリマーにアセトンを３０ｇ添加し、これを均一に溶解した。次いで、指示薬であるフェノールフタレインをその溶液に適量添加して、０．１ＮのＫＯＨ水溶液を用いて滴定を行った。そして、次式により酸価を算出した。
酸価＝０．１×Ｖ・ｆ×５６．１／（Ｗｐ×Ｉ／１００）
式中、ＶはＫＯＨ水溶液の滴定量（ｍＬ）、ｆはファクターを示し、Ｗｐは測定した樹脂溶液の質量（ｇ）を示し、Ｉは測定した樹脂溶液中の不揮発分の割合（質量％）を示す。
【０１１０】
［水酸基価の測定方法］
バインダーポリマーの溶液を１３０℃で１時間加熱し、揮発分を除去して、固形分を得た。そして、上記固形分のポリマー１ｇを精秤した後、ポリマーを三角フラスコに入れ、１０質量％の無水酢酸ピリジン溶液を１０ｍＬ加えてこれを均一に溶解し、１００℃で１時間加熱した。加熱後、水１０ｍＬとピリジン１０ｍＬを加えて１００℃で１０分間加熱後、自動滴定機（平沼産業株式会社製、製品名：ＣＯＭ−１７００）を用いて、０．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化カリウムのエタノール溶液により中和滴定を行った。そして、次式により水酸基価を算出した。
水酸基価＝（Ａ−Ｂ）×ｆ×２８．０５／試料（ｇ）＋酸価
式中、Ａは空試験に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、Ｂは滴定に用いた０．５ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウムエタノール溶液の量（ｍＬ）を示し、ｆはファクターを示す。
【０１１１】
（実施例１）
［感光性樹脂層を形成する塗布液の作製］
下記に示した化合物を、攪拌機を用いて１５分間混合し感光性樹脂層を形成するための感光性樹脂組成物の塗布液を作製した。
（Ａ１）                        ６０質量部
Ｔ−１４２０（Ｔ）              ４０質量部
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１  １．７質量部
ＨＡＴ                        ０．４質量部
ＰＭ−２１                  ０．２５質量部
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００       ０．１質量部
Ｌ−７００１                ０．０７質量部
メチルエチルケトン              ５０質量部
【０１１２】
上記に用いた感光性樹脂組成物の各成分は、以下のとおりである。
（Ａ）成分（バインダーポリマー）
（Ａ１）：モノマー配合比（メタクリル酸／メタクリル酸メチル／アクリル酸エチル＝１２／５８／３０（質量比））である共重合体のプロピレングリコールモノメチルエーテル／トルエン溶液、重量平均分子量６５，０００、酸価７８ｍｇＫＯＨ／ｇ、水酸基価２ｍｇＫＯＨ／ｇ、Ｔｇ６０℃
【０１１３】
（Ｂ）成分（光重合性化合物）
Ｔ−１４２０（Ｔ）：ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート（日本化薬株式会社製、製品名）
【０１１４】
（Ｃ）成分（光重合開始剤）
ＩＲＧＡＣＵＲＥ ＯＸＥ ０１：１，２−オクタンジオン，１−［（４−フェニルチオ）フェニル−，２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ社製、製品名）
【０１１５】
（Ｄ）成分（アミノ基を有するテトラゾール化合物）
ＨＡＴ：５−アミノ−１Ｈ−テトラゾール（東洋紡株式会社製、製品名）
【０１１６】
（Ｅ）成分（光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル）
ＰＭ−２１：光重合性不飽和結合を含むリン酸エステル（日本化薬株式会社製、製品名）
その他の成分
Ａｎｔａｇｅ Ｗ−５００：２，２´−メチレン−ビス（４−エチル−６−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール）（川口化学工業株式会社製、製品名）
Ｌ−７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
メチルエチルケトン（東燃化学株式会社製）
【０１１７】
［高屈折率層を形成する塗布液の作製］
下記に示した化合物を、攪拌機を用いて１５分間混合し高屈折率層を形成するための高屈折率組成物の塗布液を作製した。
ＵＲ１０１                      ５０質量部
ＥＡ−Ｆ５５０３                ５０質量部
Ｌ−７００１                      １質量部
【０１１８】
（Ｆ）成分（トリアジン環を有する化合物、フルオレン骨格を有する化合物）
ＵＲ１０１：トリアジン骨格を有するポリマー（日産化学工業株式会社製、製品名：ＨＹＰＥＲＴＥＣＨ（商標名））
ＥＡ−Ｆ５５０３：ポリオキシエチレン変性９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート／ベンジルアクリレート／９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレン骨格化合物の混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
ＥＡ−ＨＣ９３１：ポリオキシエチレン変性９，９−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フルオレンジアクリレート他混合物（大阪ガスケミカル株式会社製、製品名）
Ｌ−７００１：オクタメチルシクロテトラシロキサン（東レ・ダウコーニング株式会社製、製品名）
【０１１９】
［転写形感光性屈折率調整フィルムの作製］
第二のフィルムとして厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：Ｅ−２０１Ｆ）を使用し、上記で作製した高屈折率層を形成するための塗布液を第二のフィルム上にダイコーターを用いて均一に塗布し、ポリエチレンフィルム（タマポリ株式会社製、製品名：ＮＦ１５−Ａ、厚み２８μｍ）を保護フィルムとして、第二のフィルム、高屈折率層、保護フィルムからなる積層体を形成した。
【０１２０】
第一のフィルム（支持フィルム）として厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）を使用し、上記で作製した感光性樹脂層を形成する塗布液を第一のフィルム（支持フィルム）上にダイコーターを用いて均一に塗布し、上記で作製した第二のフィルム、高屈折率層、及び保護フィルムからなる積層体の保護フィルムを剥離しながら、高屈折率層と感光性樹脂層を貼り合せて、第一のフィルム、感光性樹脂層、高屈折率層、第二のフィルムがこの順に積層された転写形感光性屈折率調整フィルムを製造した。感光性樹脂層は、厚み８μｍで、高屈折率層の厚みは約２００ｎｍであった。
【０１２１】
（高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率）
上記の高屈折率層の６３３ｎｍにおける屈折率（２５℃）は、１．６１５であった。屈折率は、上記で作製した高屈折率層を形成するための塗布液を厚さ０．７ｍｍのガラス基材上にスピンコーターで均一に塗布し、１００℃の熱風滞留式乾燥機で３分間乾燥して溶剤を除去し、高屈折率層を形成した。次いで、上記で得られた高屈折率層に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、露光量５×１０２J／ｍ２（３６５ｎｍにおける測定値）で紫外線を照射した後、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、高屈折率層を有する屈折率測定用試料を得た。次いで、得られた屈折率測定用試料をＥＴＡ−ＴＣＭ（ＡｕｄｉｏＤｅｖ  ＧｍｂＨ社製、製品名）にて６３３ｎｍにおける屈折率を測定した。
【０１２２】
（可視光透過率）
上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの可視光透過率は、９１．５％であった。可視光透過率は、上記で作製した転写形感光性屈折率調整フィルムの第二のフィルムをはがしながら、厚さ０．７ｍｍのガラス基材上に、高屈層が接するようにラミネータ（日立化成株式会社製、製品名：ＨＬＭ−３０００型）を用いて、ロール温度１２０℃、基材送り速度１ｍ／分、圧着圧力（シリンダ圧力）４×１０５Ｐａの条件でラミネートして、ガラス基材上に、高屈折率層、感光性樹脂層及び第一のフィルムが積層された積層体を作製した。次いで、得られた積層体に、平行光線露光機（株式会社オーク製作所製、ＥＸＭ１２０１）を使用して、感光性樹脂層側上方より露光量５×１０２Ｊ／ｍ２（波長３６５ｎｍにおける測定値）で、紫外線を照射した後、第一のフィルムを除去し、１４０℃に加熱した箱型乾燥機（三菱電機株式会社製、型番：ＮＶ５０−ＣＡ）内に３０分間静置し、透過率測定用試料を得た。次いで、得られた透過率測定用試料をヘーズメーター（日本電色工業株式会社製、製品名：ＮＤＨ ７０００）を使用して、測定波長域４００〜７００ｎｍで可視光線透過率を測定した。
【０１２３】
（高屈折率層の保護フィルムの選定）
高屈折率層を得るため、高屈折率組成物を第二のフィルム（Ｅ−２０１Ｆ）上に塗工し、高屈折率層を保護するために用いる保護フィルムの選定をするために高屈折率組成物を塗工、乾燥し、各種の保護フィルムを使用して第二のフィルム、高屈折率層、保護フィルムがこの順に積層されたサンプル（積層体の巻物）を作製した。作製したサンプルの外観を目視で確認し、巻取り性と高屈折率層の品質について下記のように評価を行った。
巻取り性評価
「○」：外観上しわ、巻きずれなし。
「△」：外観上しわ、巻きずれはあるが数が少ない。
「×」：外観上しわ、巻きずれ多発。
高屈折率層の品質
「○」：外観上しわ、高屈折率層のはがれなし。
「△」：外観上しわ、高屈折率層のはがれはあるが、数が少ない。
「×」：外観上しわ、高屈折率層のはがれ多発。
【０１２４】
【表２】
2017009854.tif 000012
【０１２５】
評価結果を表２に示した。高屈折率層のカバーフィルムとしては、ポリエチレンフィルム（タマポリ株式会社製、製品名：ＮＦ１５−Ａ）が最適であった。ポリエチレンフィルム（タマポリ株式会社製、製品名：ＮＦ１５−Ａ）は、表面がエンボス処理されているため第二のフィルム上に形成された高屈折率層と保護フィルムの間のエアが抜けやすく、しわが発生しにくい。ポリエチレンフィルム（タマポリ株式会社製、製品名：ＮＦ１５）も同じくエンボス処理はされているが、材料の強度がないためポリエチレンフィルム（タマポリ株式会社製、製品名：ＮＦ１５−Ａ）よりはしわが入りやすくなってしまう。
【０１２６】
厚さ３０μｍのポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：ＯＰＰフィルム、Ｅ−２０１Ｆ）や、厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）などは、巻取り時にしわや巻きずれが発生してしまった。しわや巻きずれの発生した箇所は、著しく光学特性が低下してしまうため、ＮＦ１５−Ａ以外のフィルムでは、品質良く高屈折率層を形成することができなかった。ポリプロピレンフィルム（王子エフテックス株式会社製、製品名：Ｅ−２０１Ｆ）や、厚さ１６μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ株式会社製、製品名：ＦＢ４０）を使用した場合、塗工フィルムとカバーフィルムの間のエアが抜けにくいためしわが発生した。
【０１２７】
また、保護フィルムなしで高屈折率層を作製した場合、しわや巻きずれなどの問題は発生しないが、感光性樹脂層に、高屈折率層を貼り合せる際に、高屈折率層を巻きだすと屈折率層がはがれて第二のフィルムの裏側（塗工面の反対側）へ転写してしまう部分があり貼り合せ性に難があった。
【０１２８】
（他の作製方法−比較例）
感光性樹脂層を塗工−乾燥した後、その感光性樹脂層の上に高屈折率層を塗工した場合、高屈折率層の濡れ広がりが悪く、高屈折率層の膜厚が均一なフィルムを作製することができなかった。
【０１２９】
高屈折率層を塗工−乾燥した後、その高屈折率層の上に感光性樹脂層を塗工使用とした場合、感光性樹脂層は均一に形成することができたが、高屈折率層と感光性樹脂層の界面がぼやけてしまい、光学特性が著しく低下したしまった。感光性樹脂層の溶媒として使用しているＭＥＫが高屈折率層を一部溶解してしまったため、光学特性が著しく低下した。
【符号の説明】
【０１３０】
Ｔ１…送出機１、Ｔ２…バックアップロール、Ｔ３…塗布機、Ｔ４…乾燥ゾーン、Ｔ５…ラミネート、Ｔ６…巻取機１、Ｔ７…送出機２、Ｔ８…巻取機２、
１…転写形感光性屈折率調整フィルム、１０…第一のフィルム（支持フィルム）、２０…感光性樹脂層、３０…高屈折率層、４０…第二のフィルム、５０…透明導電パターン付き基材、５０ａ…透明導電パターン、１００…積層体、１０１…透明基材、１０２…センシング領域、１０３，１０４…透明電極、１０５…引き出し配線、１０６…接続電極、１０７…接続端子、１２３…屈折率調整パターン。
【図１】
2017009854.tif 000013
【図２】
2017009854.tif 000014
【図３】
2017009854.tif 000015
【図４】
2017009854.tif 000016