(57)【要約】【課題】水素水における水素の濃度を確実に向上させることができる、水素水生成システム、及び水素風呂システムを提供すること。【解決手段】  水素風呂システム１００は、水素発生装置１と、マイクロバブル発生装置２とを備え、水素発生装置１は水素ガスを供給し、マイクロバブル発生装置２におけるマイクロバブル発生部２５の給水ポンプは水を供給し、マイクロバブル発生装置２におけるマイクロバブル発生部２５の発生ノズルは、給水ポンプによって供給された水に対して、水素発生装置１によって供給された水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である加圧水素水を生成する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素ガスを供給するガス供給手段と、
水を供給する水供給手段と、
水素のマイクロバブルが発生している状態の液体であるマイクロバブル水素水を生成するために減圧される加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段であって、前記水供給手段によって供給された前記水に対して、前記ガス供給手段によって供給された前記水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である前記加圧水素水を生成する前記加圧水素水生成手段と、
を備える水素水生成システム。
【請求項２】
水素ガスを供給するガス供給手段と、
水を供給する水供給手段と、
前記水供給手段によって供給された前記水に対して、前記ガス供給手段によって供給された前記水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段と、
前記加圧水素水生成手段によって生成された前記加圧水素水を浴槽に供給して減圧することにより、水素のマイクロバブルが発生している状態の液体であるマイクロバブル水素水を前記浴槽において生成するマイクロバブル水素水生成手段と、
を備える水素風呂システム。
【請求項３】
前記水供給手段は、前記浴槽に貯留されている貯留水を前記水として、前記加圧水素水生成手段に供給する、
請求項２に記載の水素風呂システム。
【請求項４】
前記浴槽が設けられている領域における気体中の水素濃度を検出する濃度検出手段と、
前記濃度検出手段の検出結果に基づいて、前記マイクロバブル水素水生成手段を制御する制御手段と、を備え、
前記検出手段が基準値以上の水素濃度を検出した場合に、前記制御手段は、前記マイクロバブル水素水の生成が停止されるように、前記マイクロバブル水素水生成手段を制御する、
請求項２又は３に記載の水素風呂システム。
【請求項５】
前記浴槽が設けられている領域の換気を行うために、前記浴槽が設けられている領域の外部から内部に空気を取り込む換気手段、を備える、
請求項２から４いずれか一項に記載の水素風呂システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水素水生成システム、及び水素風呂システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、水に水素を溶解させた水素水については、病気や老化の原因物質とされる活性酸素を消滅させる効能を有するものとして、健康増進を目的として、入浴用の水（又は、湯）として用いられることが注目されている。このような水素水を生成する装置として、水と水素ガスとを撹拌羽を用いて撹拌して、水素ガスを気泡化して溶解させることにより、水素水を生成する装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−５９７３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１の装置においては、撹拌羽を用いて水素ガスを気泡化しているのみであったので、気泡のサイズが比較的大きくなって浮力が増大してしまい、比較的短時間のうちに気泡が水中から抜け出てしまうために、水素水における水素の濃度を向上させるのが困難であった。
【０００５】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、水素水における水素の濃度を確実に向上させることができる、水素水生成システム、及び水素風呂システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、請求項１に記載の水素水生成システムは、水素ガスを供給するガス供給手段と、水を供給する水供給手段と、水素のマイクロバブルが発生している状態の液体であるマイクロバブル水素水を生成するために減圧される加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段であって、前記水供給手段によって供給された前記水に対して、前記ガス供給手段によって供給された前記水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である前記加圧水素水を生成する前記加圧水素水生成手段とを備える。
【０００７】
請求項２に記載の水素風呂システムは、水素ガスを供給するガス供給手段と、水を供給する水供給手段と、前記水供給手段によって供給された前記水に対して、前記ガス供給手段によって供給された前記水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段と、前記加圧水素水生成手段によって生成された前記加圧水素水を浴槽に供給して減圧することにより、水素のマイクロバブルが発生している状態の液体であるマイクロバブル水素水を前記浴槽において生成するマイクロバブル水素水生成手段とを備える。
【０００８】
請求項３に記載の水素風呂システムは、請求項２に記載の水素風呂システムにおいて、前記水供給手段は、前記浴槽に貯留されている貯留水を前記水として、前記加圧水素水生成手段に供給する。
【０００９】
請求項４に記載の水素風呂システムは、請求項２又は３に記載の水素風呂システムにおいて、前記浴槽が設けられている領域における気体中の水素濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段の検出結果に基づいて、前記マイクロバブル水素水生成手段を制御する制御手段と、を備え、前記検出手段が基準値以上の水素濃度を検出した場合に、前記制御手段は、前記マイクロバブル水素水の生成が停止されるように、前記マイクロバブル水素水生成手段を制御する。
【００１０】
請求項５に記載の水素風呂システムは、請求項２から４いずれか一項に記載の水素風呂システムにおいて、前記浴槽が設けられている領域の換気を行うために、前記浴槽が設けられている領域の外部から内部に空気を取り込む換気手段を備える。
【発明の効果】
【００１１】
請求項１に記載の水素水生成システムによれば、マイクロバブル水素水を生成するために減圧される加圧水素水を生成するので、例えば、加圧水素水において水素の微細気泡を大量に溶解させることができるために、水中での上昇速度が比較的遅く長時間にわたって水中に滞在できるマイクロバブルを大量に含むマイクロバブル水素水を生成することができ、水素水における水素の濃度を確実に向上させることができる。
【００１２】
請求項２に記載の水素風呂システムによれば、加圧水素水を浴槽に供給して減圧することにより、マイクロバブル水素水を浴槽において生成するので、例えば、加圧水素水において水素の微細気泡を大量に溶解させることができるために、水中での上昇速度が比較的遅く長時間にわたって水中に滞在できるマイクロバブルを大量に含むマイクロバブル水素水を、浴槽において生成することができ、浴槽の水素水における水素の濃度を確実に向上させることができる。
【００１３】
請求項３に記載の水素風呂システムによれば、浴槽に貯留されている貯留水を加圧水素水の生成のために用いられる水として供給するので、例えば、貯留水を水素風呂システムにおいて循環させて再利用することができるために、水道代を節約することができ、水素風呂システムの運用コストを低減することができる。また、例えば、加圧水素水を生成するための水を貯留するタンクが不要となるために、水素風呂システムの設置面積を削減することができ、水素風呂システムにおける設置の自由度を向上させることができる。
【００１４】
請求項４に記載の水素風呂システムによれば、基準値以上の水素濃度を検出した場合に、マイクロバブル水素水の生成が停止されるので、例えば、水素濃度の上昇に起因する事故（例えば、発火事故等）を防止することができるために、入浴者の安全性を確実に確保することが可能な水素風呂システムを提供することができる。
【００１５】
請求項５に記載の水素風呂システムによれば、換気手段を用いて浴槽が設けられている領域の外部から内部に空気を取り込むので、例えば、浴槽が設けられている領域内の気体（例えば、水素ガスを含む気体）が換気手段の周辺に留まるのを防止しつつ、浴槽が設けられている領域の換気を行うことができるために、換気手段の動作に起因して当該換気手段の周辺で発生する火花による発火事故が発生するのを防止しつつ換気を行うことができ、入浴者の安全性を一層確実に確保することが可能な水素風呂システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】水素風呂システムの電気的構成を機能概念的に示すブロック図である。
【図２】水素風呂システムにおける水素水を発生させる回路を示す図である。
【図３】水素水発生処理のフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係る水素風呂システムの実施の形態について図面を参照しつつ詳細に説明する。ただし、実施の形態によって本発明が限定されるものではない。
【００１８】
〔実施の形態の基本的概念〕
まずは、実施の形態の基本的概念について説明する。実施の形態は、概略的に、水素ガスを供給するガス供給手段と、水を供給する水供給手段と、水供給手段によって供給された水と、ガス供給手段によって供給された水素ガスとを用いて、加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段と、加圧水素水生成手段によって生成された加圧水素水を用いて、マイクロバブル水素水を浴槽において生成するマイクロバブル水素水生成手段を備える水素風呂システムに関するものである。
【００１９】
ここで、「水素風呂システム」とは、水素水を生成する水素水生成システムであり、具体的には、浴槽に水素水を供給する供給手段であり、例えば、公衆浴場のための業務用のシステム、又は家庭の浴室のための家庭用のシステム等が該当する。「公衆浴場」とは、温湯、潮湯又は温泉等を用いて公衆を入浴させる設備であり、具体的には、浴場建屋と当該浴場建屋内の浴室とを備るものであり、例えば、温泉旅館、病院、フィットネスジム等である。また、「家庭の浴室」とは、家庭に設けられている浴室であり、例えば、一般住宅の浴室である。
【００２０】
「水素水」とは、水素が溶解されている（つまり、溶存している）液体であり、具体的には、水素が溶解されている水であって、例えば、浴槽に供給される湯又は水である。一般的に、入浴に用いる「水素水」は、入浴者の健康増進の観点から、基準水素量以上の水素が溶解されていることが望ましい。「基準水素量」とは、入浴者の健康増進に関する水素水の品質の判定の基準となる、水素水中の水素量であり、具体的には、入浴者のアンチエイジング（つまり、老化防止）効果又は治癒力向上の如き、医学的効果についての所定の医学理論又は医学実験等に基づいて任意に設定される量であり、例えば、水素水の溶存水素濃度、又は水素水の酸化還元電位を用いて表される量である。「溶存水素濃度」とは、水素が溶解している溶液中の水素の濃度であり、例えば、単位ｐｐｍ（パーツ・パー・ミリオン）を用いて表され、「酸化還元電位」とは、水素が溶解している溶液中の酸化還元状態を示す電位であり、例えば、単位ｍＶ（ミリ・ボルト）を用いて表される。そして、一般的には、「基準水素量」として、「溶存水素濃度」＝「０．２（ｐｐｍ）」に設定し、溶存水素濃度が０．２（ｐｐｍ）以上である場合に、健康増進のための効果が比較的大きいものと判定し、溶存水素濃度が０．２（ｐｐｍ）未満である場合に、健康増進のための効果がそれほど大きくないものと判定する場合がある。また、例えば、「基準水素量」として、「酸化還元電位」＝「−２００（ｍＶ）」に設定し、酸化還元電位が「−２００（ｍＶ）」以下（つまり、例えば「−３００（ｍＶ）」、「−５００（ｍＶ）」等）である場合に、健康増進のための効果が比較的大きいものと品質の判定し、酸化還元電位が「−２００（ｍＶ）」より大きい（つまり、例えば「−１００（ｍＶ）」、「−５０（ｍＶ）」）場合に、健康増進のための効果がそれほど大きくないものとする場合がある。ただし、水素は、大気圧中では水素水から比較的短時間で抜け出てしまうので、水に基準水素量以上の水素を溶解させて維持するのは困難であった。しかしながら、本出願人は、水素水としてマイクロバブル水素水を生成して用いることにより、基準水素量以上の水素が溶解されて維持される水素水を生成して用いることに想到した。
【００２１】
「マイクロバブル水素水」とは、水素水であり、具体的には、水素（例えば、水素ガス）のマイクロバブルが発生している状態の液体であり、例えば、水素のマイクロバブルが発生している状態の水である。「マイクロバブル」とは、液体中における気体の微細気泡であり、「微細気泡」とは、微細な気泡であり、例えば、直径が数十〜数百（μｍ）の気泡であって、１分間に数（ｍｍ）程度しか上昇しないために、比較的長い時間にわたって液体中に滞在し続けることが可能となる特徴を有するものである。
【００２２】
この「マイクロバブル水素水」を生成する手法としては、加圧発泡方式、気液せん断方式、及びその他の公知の方式を含む任意の方式を用いることが可能である。ここで、「加圧発泡方式」とは、液体（例えば、水）の過飽和を利用した方式であり、具体的には、加圧水素水を生成し、生成した加圧水素水を減圧することにより、マイクロバブル水素水を生成する方式である。なお、「加圧水素水」とは、大気圧（ここでは、１気圧）よりも高い圧力が加えられている水素水であり、具体的には、大気圧下の水に対する水素の溶解度よりも多い量の水素が溶解している水素水であって、例えば、大量の水素の微細気泡が溶解している水素水である。また、「気液せん断方式」とは、気体をせん断することを利用した方式であり、具体的には、水中において渦流（例えば、毎秒６００回転等）を生成し、生成した渦流に水素ガスを巻き込んで、巻き込んだ水素ガスをせん断することにより、マイクロバブル水素水を生成する方式である。
【００２３】
また、「マイクロバブル水素水」の生成のために用いる水としては、任意の水を用いることができるが、例えば、貯留水を用いてマイクロバブル水素水を生成する場合と、貯留水以外の水を用いてマイクロバブルを生成する場合とが挙げられる。ここで、「貯留水」とは、貯留している液体であり、具体的には、浴槽に貯留している湯又は水等である。また、「貯留水以外の水」とは、貯留水では無い水であり、具体的には、公衆浴場又は家庭の浴室の外から供給される水道水等である。
【００２４】
そして、以下に示す実施の形態においては、「水素風呂システム」が「公衆浴場のための業務用のシステム」であり、「公衆浴場」が「温泉旅館」であり、「水素水」が「浴槽に供給される湯」であり、「マイクロバブル水素水を生成する手法」として「加圧発泡方式」を用い、「マイクロバブルの生成のために用いる水」として「貯留水」を用い、「貯留水」が「湯」であり、水素水に関する判定について「溶存水素濃度」を用いる場合について説明する。また、実際には、浴槽に貯留される水の温度を調整するための温度調整手段（例えば、ボイラ装置等）、温泉水を浴槽に供給するための供給手段等の公知の装置も設けられているが、ここでは、これらの公知の装置の説明については省略する。
【００２５】
〔実施の形態の具体的内容〕
次に、実施の形態の具体的内容について説明する。
【００２６】
（構成）
まず、本実施の形態に係る水素風呂システムの構成について説明する。図１は、本実施の形態に係る水素風呂システムの電気的構成を機能概念的に示すブロック図である。また、図２は、水素風呂システムにおける水素水を発生させる回路を示す図である。図１に示す水素風呂システム１００は、温泉旅館の建屋９０１の浴室９０２に設けられている浴槽９０３にマイクロバブル水素水を供給するシステムであり、水素発生装置１、マイクロバブル発生装置２、第１濃度センサ３、第２濃度センサ４、安全装置５、制御装置６、図２の外部ガス配管Ｌ３１、外部水配管Ｌ４１、及び外部水素水配管Ｌ４２を備えており、これらのうちの所定の装置（例えば、水素発生装置１、マイクロバブル発生装置２、第１濃度センサ３、第２濃度センサ４、安全装置５、及び制御装置６）は所定の通信線を介して通信できるように接続されている。
【００２７】
（構成‐水素発生装置）
最初に、図１の水素発生装置１は、水素ガスを発生して供給するガス供給手段であって、具体的には、水素風呂システム１００のための専用装置、又は、水素風呂システム１００以外のシステムにも汎用的に用いられる装置等によって構成されているものであり、例えば、建屋９０１の外部に設けられている装置である。この水素発生装置１は、入力部１１、出力部１２、通信部１３、記憶部１４、水素ガス発生部１５、及び制御部１６を備える。
【００２８】
（構成‐水素発生装置‐入力部）
入力部１１は、水素発生装置１に対する操作入力を行うための入力手段であり、具体的には、操作ボタン、又は操作ハンドル等を備えて構成されている。
【００２９】
（構成‐水素発生装置‐出力部）
また、出力部１２は、水素発生装置１の情報を出力する手段であり、具体的には、水素発生装置１の動作状態を出力する状態表示ランプ等を備えて構成されている。
【００３０】
（構成‐水素発生装置‐通信部）
また、通信部１３は、水素風呂システム１００に含まれている装置との間で通信を行うための通信手段であり、具体的には、通信インターフェース等を備えて構成されている。
【００３１】
（構成‐水素発生装置‐記憶部）
また、記憶部１４は、水素発生装置１の動作に必要なプログラム及び各種のデータを記憶する記憶手段である。この記憶部１４は、例えば、外部記憶装置としてのハードディスク（図示省略）を用いて構成することができ、ハードディスクに代えてあるいはハードディスクと共に、磁気ディスクの如き磁気的記憶媒体、又はＤＶＤやブルーレイディスクの如き光学的記憶媒体を含む、その他の任意の記憶媒体を用いることもできる（この点については、他の装置や機器の記憶部も同様としてもよい）。この記憶部１４には、水素発生装置１を一意に識別するための識別情報（以下、水素発生装置ＩＤ）が格納されている。
【００３２】
（構成‐水素発生装置‐水素ガス発生部）
水素ガス発生部１５は、水素ガスを発生するガス発生手段であり、また、水素ガスを供給するガス供給である。この水素ガス発生部１５において用いられる水素ガスの発生手法については、公知の手法を含む任意の水素ガス発生手法を用いることができるが、ここでは、例えば、純水の電気分解による手法を用いるものとして、以下説明する。この水素ガス発生部１５は、例えば、図２の純水タンク１５１、水素ガス発生機構１５２、流量調整弁１５３、ガス出力口ＰＧＯ１、内部水配管Ｌ１１、及び内部ガス配管Ｌ１２を備える。
【００３３】
純水タンク１５１は、水を貯留するための貯留手段であり、具体的には、水素ガスを発生させるための純水を貯留するものである。
【００３４】
また、水素ガス発生機構１５２は、水素ガスを発生させるためのガス発生手段であり、具体的には、電気分解を行うための電極（不図示）である陽極及び陰極、純水タンク１５１の純水を電極に供給するための内部ポンプ（不図示）、発生した水素ガスを貯留する貯留タンク（不図示）等を備えて構成されている。
【００３５】
また、流量調整弁１５３は、水素ガスの出力流量を調整するための調整手段であり、具体的には、開度を調整可能な電磁弁等を備えて構成されている。
【００３６】
また、ガス出力口ＰＧＯ１は、水素ガスを出力するための出力手段であり、具体的には、水素ガス発生装置１の所定位置（例えば、背面側等）に設けられている出力口である。
【００３７】
また、内部水配管Ｌ１１は、純水を供給するための供給手段であり、具体的には、純水タンク１５１及び水素ガス発生機構１５２の間に流体接続されている配管である。なお、「流体接続」とは、流体的に接続されていることであり、具体的には、接続対象の装置（又は、装置の一部）間において流体（例えば、液体又は気体）を供給できるように、接続対象の装置間（又は、装置の一部）間を接続することである。
【００３８】
また、内部ガス配管Ｌ１２は、水素ガスを供給するための供給手段であり、具体的には、水素ガス発生機構１５２とガス出力口ＰＧＯ１との間に流体接続されており、途中の流路上に流量調整弁１５３が設けられている配管である。
【００３９】
（構成‐水素発生装置‐制御部）
図１に戻って、また、制御部１６は、水素発生装置１に関する各種の制御を行う制御手段であり、具体的には、ＣＰＵ、当該ＣＰＵ上で解釈実行される各種のプログラム（ＯＳなどの基本制御プログラムや、ＯＳ上で起動され特定機能を実現するアプリケ−ションプログラムを含む）、及びプログラムや各種のデ−タを格納するためのＲＡＭの如き内部メモリを備えて構成されるコンピュ−タである。特に、実施の形態に係るプログラムは、任意の記録媒体又はネットワ−クを介して制御部１６にインストールされることで、制御部１６の各機能を実質的に構成する（この点については、他の装置や機器の制御部も同様としてもよい）。
【００４０】
（構成‐マイクロバブル発生装置）
次に、マイクロバブル発生装置２は、マイクロバブルを発生する気泡発生手段であって、具体的には、水素風呂システム１００のための専用装置、又は、水素風呂システム１００以外のシステムにも汎用的に用いられる装置等によって構成されているものであり、例えば、建屋９０１の外部に設けられている装置である。このマイクロバブル発生装置２は、入力部２１、出力部２２、通信部２３、記憶部２４、マイクロバブル発生部２５、及び制御部２６を備える。
【００４１】
（構成‐マイクロバブル発生装置‐入力部）
まず、入力部２１は、マイクロバブル発生装置２に対する操作入力を行うための入力手段であり、具体的には、操作ボタン、又は操作ハンドル等を備えて構成されている。
【００４２】
（構成‐マイクロバブル発生装置‐出力部）
また、出力部２２は、マイクロバブル発生装置２の情報を出力する手段であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２の動作状態を出力する状態表示ランプ等を備えて構成されている。
【００４３】
（構成‐マイクロバブル発生装置‐通信部）
また、通信部２３は、水素風呂システム１００に含まれている装置との間で通信を行うための通信手段であり、具体的には、通信インターフェース等を備えて構成されている。
【００４４】
（構成‐マイクロバブル発生装置‐記憶部）
また、記憶部２４は、マイクロバブル発生装置２の動作に必要なプログラム及び各種のデータを記憶する記憶手段である。この記憶部２４には、マイクロバブル発生装置２を一意に識別するための識別情報（以下、マイクロバブル発生装置ＩＤ）が格納されている。
【００４５】
（構成‐マイクロバブル発生装置‐マイクロバブル発生部）
マイクロバブル発生部２５は、マイクロバブル水素水を生成するマイクロバブル水素水生成手段であり、また、加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段であり、また、水を供給する水供給手段であり、具体的には、前述の「加圧発泡方式」を用いてマイクロバブル水素水を生成するものである。このマイクロバブル発生部２５は、例えば、図２の給水ポンプ２５１、発生ノズル２５２、加圧水素水タンク２５３、流量調整弁２５４、ガス入力口ＰＧＩ２、液体入力口ＰＬＩ２、液体出力口ＰＬＯ２、内部水配管Ｌ２１、第１内部水素水配管Ｌ２２、第２内部水素水配管Ｌ２３、及び内部ガス配管Ｌ２４を備える。
【００４６】
給水ポンプ２５１は、水を供給する水供給手段であり、具体的には、浴槽９０３の貯留水Ｗ１を発生ノズル２５３に供給するものである。
【００４７】
また、発生ノズル２５３は、水素のマイクロバブルを発生させるためのマイクロバブル発生手段であり、特に、加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段であって、具体的には、水に対して水素ガスのマイクロバブルを発生させた上で溶解させるミキシングノズルであり、例えば、マイクロバブルの径に対応する水素ガス吐出口等を備えて構成されている。
【００４８】
また、加圧水素水タンク２５３は、加圧水素水を貯留するための貯留手段であり、具体的には、大気圧よりも高い圧力が内部に加えられているものである。なお、加圧水素水タンク２５３内の圧力については、大気圧よりも高い圧力であれば任意に設定することができるが、ここでは、例えば、大気圧の４倍（つまり、４気圧）に設定されているものとして、以下説明する。
【００４９】
また、流量調整弁２５４は、加圧水素水の出力流量を調整するための調整手段であり、特に、加圧水素水を浴槽９０３に供給するためのマイクロバブル生成手段であり、具体的には、開度を調整可能な電磁弁等を備えて構成されている。
【００５０】
また、ガス入力口ＰＧＩ２は、水素ガスを入力するための入力手段であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２の所定位置（例えば、背面側等）に設けられている入力口である。
【００５１】
また、液体入力口ＰＬＩ２は、水を入力するための入力手段であり、特に、浴槽９０３の貯留水Ｗ１を供給する水供給手段であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２の所定位置（例えば、背面側等）に設けられている入力口である。
【００５２】
また、液体出力口ＰＬＯ２は、加圧水素水を出力するための出力手段であり、特に、加圧水素水を浴槽９０３に供給するためのマイクロバブル生成手段であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２の所定位置（例えば、背面側等）に設けられている出力口である。
【００５３】
また、内部水配管Ｌ２１は、水を供給するための水供給手段であり、特に、浴槽９０３の貯留水Ｗ１を供給する水供給手段であり、具体的には、発生ノズル２５２及び液体入力口ＰＬＩ２の間に流体接続されており、途中の流路上に給水ポンプ２５１が設けられている配管である。
【００５４】
また、第１内部水素水配管Ｌ２２は、加圧水素水を供給するための加圧水素水供給手段であり、具体的には、発生ノズル２５２及び加圧水素水タンク２５３の間に流体接続されている配管である。
【００５５】
また、第２内部水素水配管Ｌ２３は、加圧水素水を供給する供給手段であり、特に、加圧水素水を浴槽９０３に供給するためのマイクロバブル生成手段であり、具体的には、加圧水素水タンク２５３及び液体出力口ＰＬＯ２の間に流体接続されており、途中の流路上に流量調整弁２５４が設けられている配管である。
【００５６】
また、内部ガス配管Ｌ２４は、水素ガスを供給するための水素ガス供給手段であり、具体的には、発生ノズル２５２とガス入力口ＰＧＩ２との間に流体接続されている配管である。
【００５７】
（構成‐マイクロバブル発生装置‐制御部）
図１に戻って、また、制御部２６は、マイクロバブル発生装置２に関する各種の制御を行う制御手段であり、マイクロバブル発生装置２の各機能を実質的に構成する。
【００５８】
（構成‐第１濃度センサ）
次に、第１濃度センサ３は、流体中の所定の検出対象物質の濃度を検出する濃度検出手段であり、具体的には、図２の浴槽９０３の貯留水Ｗ１中の溶存水素濃度（つまり、水素濃度）を検出し、検出結果を出力するものであり、例えば、貯留水Ｗ１中に設けられるものである。この第１濃度センサ３としては、公知のセンサを含む任意のセンサを用いることができるが、ここでは、例えば、第１濃度センサ３を一意に識別するための識別情報（以下、第１濃度センサＩＤ）が格納されてメモリを有しており、溶存水素濃度を単位ｐｐｍにて検出するセンサ装置を用いるものとして、以下説明する。また、第１濃度センサ３の個数及び設置位置については、測定精度等との関係に応じて任意に設定することが可能であるが、ここでは、例えば、図２に示すように１つのみの第１濃度センサ３を浴槽９０３の底の中央に設けるものとして、以下説明する。
【００５９】
（構成‐第２濃度センサ）
図１に戻って、第２濃度センサ４は、流体中の所定の検出対象物質の濃度を検出する濃度検出手段であり、具体的には、浴槽９０３が設けられている領域である浴室９０２における気体中の水素濃度を検出し、検出結果を出力するものであり、例えば、浴室９０２中に設けられるものである。この第２濃度センサ４としては、公知のセンサを含む任意のセンサを用いることができるが、ここでは、例えば、第２濃度センサ４を一意に識別するための識別情報（以下、第２濃度センサＩＤ）が格納されてメモリを有しており、気体中の水素濃度として空気中の水素の体積比（つまり、空気中における水素ガスの体積の割合）を単位パーセントにて検出するセンサ装置を用いるものとして、以下説明する。また、第２濃度センサ４の個数及び設置位置については、測定精度等との関係に応じて任意に設定することが可能であるが、ここでは、例えば、図１の第２濃度センサ４が複数の濃度センサの総称であり、これら複数の濃度センサが浴室９０２の天井における互いに離れた位置に設けられているものとして、以下説明する。
【００６０】
（構成‐安全装置）
次に、安全装置５は、安全性を確保するための安全手段であり、具体的には、換気を行う換気装置であって、例えば、通信部５１、記憶部５２、換気部５３、及び制御部５４を備える。
【００６１】
（構成‐安全装置‐通信部）
まず、通信部５１は、水素風呂システム１００に含まれている装置との間で通信を行うための通信手段であり、具体的には、通信インターフェース等を備えて構成されている。
【００６２】
（構成‐安全装置‐記憶部）
また、記憶部５２は、安全装置５の動作に必要なプログラム及び各種のデータを記憶する記憶手段である。この記憶部５２には、安全装置５を一意に識別するための識別情報（以下、安全装置ＩＤ）が格納されている。
【００６３】
（構成‐安全装置‐換気部）
また、換気部５３は、浴室９０２の換気を行う換気手段であり、例えば、浴室９０２の外部から内部に空気を取り込むファン等を備えて構成されている。
【００６４】
（構成‐安全装置‐制御部）
また、制御部５４は、安全装置５に関する各種の制御を行う制御手段であり、安全装置５の各機能を実質的に構成する。
【００６５】
（構成‐制御装置）
次に、制御装置６は、水素風呂システム１００を制御する制御手段であり、具体的には、水素風呂システム１００のための専用装置、又は、水素風呂システム１００以外のシステムにも汎用的に用いられる装置等によって構成されているものであり、例えば、建屋９０１の内の管理室（不図示）等に設けられている装置である。この制御装置６は、入力部６１、出力部６２、通信部６３、記憶部６４、及び制御部６５を備える。
【００６６】
（構成‐制御装置‐入力部）
まず、入力部６１は、制御装置６に対する操作入力を行うための入力手段であり、具体的には、キーボード、マウス等を備えて構成されている。
【００６７】
（構成‐制御装置‐出力部）
また、出力部６２は、制御装置６の情報を出力する手段であり、具体的には、ディスプレイ等を備えて構成されている。
【００６８】
（構成‐制御装置‐通信部）
また、通信部６３は、水素風呂システム１００に含まれている装置との間で通信を行うための通信手段であり、具体的には、通信インターフェース等を備えて構成されている。
【００６９】
（構成‐制御装置‐記憶部）
また、記憶部６４は、マイクロバブル発生装置２の動作に必要なプログラム及び各種のデータを記憶する記憶手段である。この記憶部６４には、溶存水素濃度判定閾値特定情報、安全判定閾値特定情報、及び装置特定情報が格納されている。
【００７０】
「溶存水素濃度判定閾値特定情報」とは、溶存水素濃度判定閾値を特定する情報であり、「溶存水素濃度判定閾値」とは、判定に用いられる基準値であり、具体的には、溶存水素濃度判定に用いられる閾値であり、例えば、前述の「基準水素量」に基づいて設定される値である。ここで、「溶存水素濃度判定」とは、溶存水素濃度についての判定であり、具体的には、入浴者の健康増進の効果が比較的大きいか否かの判定である。そして、「溶存水素濃度判定閾値」については、前述の「基準水素量」である「溶存水素濃度」＝「０．２（ｐｐｍ）」よりも高い値であれば、任意の値に設定することができるが、ここでは、例えば、溶存度判定閾値として「０．４（ｐｐｍ）」を特定する情報が、入力部６１を介して入力されて格納されているものとして、以下説明する。
【００７１】
また、「安全判定閾値特定情報」とは、安全判定閾値を特定する情報であり、「安全判定閾値」とは、判定に用いられる基準値であり、具体的には、安全判定に用いられる閾値であり、例えば、所定の法令又は安全性を確認するための所定の実験（例えば、発火の危険性が無いことの確認実験等）に基づいて任意に設定される値である。ここで、「安全判定」とは、安全性についての判定であり、具体的には、入浴者が安全に入浴できるか否かの判定である。そして、「安全判定閾値」については、前述の「空気中の水素の体積比」（つまり、「気体中の水素濃度」）を用いて、安全判定閾値未満の濃度の場合には安全性を確実に確保できる（つまり、例えば、発火の危険性が無い）ように任意の値に設定することができるが、ここでは、例えば、安全判定閾値として「空気中の水素の体積比」＝「４（％）」を特定する情報が、入力部６１を介して入力されて格納されているものとして、以下説明する。
【００７２】
また、「装置特定情報」とは、装置を特定する情報であり、具体的には、水素風呂システム１００中の各装置の種別と各装置を一意に識別する識別情報とが対応付けられている情報である。この「装置特定情報」については、水素風呂システム１００のシステム構成に応じて任意に設定することができるが、ここでは、例えば、装置特定情報として、「種別」＝「水素発生装置」と「識別情報」＝「水素発生装置ＩＤ」との組合せ、「種別」＝「マイクロバブル発生装置」と「識別情報」＝「マイクロバブル発生装置ＩＤ」との組合せ、「種別」＝「溶存水素濃度センサ」と「識別情報」＝「第１濃度センサＩＤ」との組合せ、及び「種別」＝「気体中の水素濃度センサ」と「識別情報」＝「第２濃度センサＩＤ」との組合せ、「種別」＝「安全装置」と「識別情報」＝「安全装置ＩＤ」との組合せを特定する情報が、入力部６１を介して入力されて格納されているものとして、以下説明する。
【００７３】
（構成‐制御装置‐制御部）
また、制御部６５は、マイクロバブル発生装置２に関する各種の制御を行う制御手段であり、具体的には、装置制御部６５１を備えている。この装置制御部６５１は、水素風呂システム１００に含まれている装置を制御するための制御手段であり、特に、第２濃度センサ４の検出結果に基づいて、マイクロバブル発生装置２を制御する制御手段である。この装置制御部６５１による、水素風呂システム１００に含まれている装置の制御手法については、任意の手法を用いることができるが、ここでは、各装置との間において制御通信を行うことにより、各装置を制御するものとして、以下説明する。
【００７４】
ここで、「制御通信」とは、制御のための通信であり、具体的には、制御対象機器及び制御内容を特定する信号の通信であり、例えば、水素ガス発生信号、水素ガス停止信号、水素水発生信号、水素水停止信号、センサ値要求信号、センサ値応答信号、及び安全装置起動信号の通信である。これらの信号について具体的には、まず、「水素ガス発生信号」とは、水素ガスを発生して供給するための信号であり、具体的には、水素ガス流量特定情報、及び制御対象機器特定情報を含む信号である。ここで、「水素ガス流量特定情報」とは、水素ガスの流量を特定する情報であり、具体的には、水素発生装置１から出力される水素ガスの流量を特定する情報である。また、「制御対象機器特定情報」とは、制御対象機器を特定するための情報であり、具体的には、装置を識別する識別情報である。次に、「水素ガス停止信号」とは、水素ガスの発生を停止して供給を遮断するための信号であり、具体的には、前述の制御対象機器特定情報を含む信号である。次に、「水素水発生信号」とは、水素水を発生して供給するための信号であり、具体的には、水素水流量特定情報、及び前述の制御対象機器特定情報を含む信号である。ここで、「水素水流量特定情報」とは、水素水の流量を特定する情報であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２から出力される水素水（具体的には、加圧水素水）の流量を特定する情報である。次に、「水素水停止信号」とは、水素水の発生を停止して供給を遮断するための信号であり、具体的には、前述の制御対象機器特定情報を含む信号である。次に、「センサ値要求信号」とは、検出値を要求するための信号であり、具体的には、前述の制御対象機器特定情報を含む信号である。次に、「センサ値応答信号」とは、検出値を応答するための信号であり、具体的には、検出値特定情報、及びセンサ特定情報を含む信号である。ここで、「検出値特定情報」とは、検出値を特定する情報であり、具体的には、水素の濃度を特定する情報である。また、「センサ特定情報」とは、センサを特定する情報であり、具体的には、センサを識別する識別情報である。次に、「安全装置起動信号」とは、安全性を確保するための装置を起動するための信号であり、具体的には、前述の制御対象機器特定情報を含む信号である。
【００７５】
（構成‐外部ガス配管）
また、図２の外部ガス配管Ｌ３１は、水素ガスを供給するための供給手段であって、具体的には、水素発生装置１とマイクロバブル発生装置２との間に流体接続されている配管であり、例えば、一端が水素ガス発生装置１のガス出力口ＰＧＯ１に接続されており、他端がマイクロバブル発生装置２のガス入力口ＰＧＩ２に接続されている配管である。
【００７６】
（構成‐外部水配管）
また、外部水配管Ｌ４１は、水を供給するための水供給手段であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２と浴槽９０３との間に流体接続されている配管であり、例えば、一端がマイクロバブル発生装置２の液体入力口ＰＬＩ２に接続されており、他端が浴槽９０３の液体出力口ＰＬＯ９に接続されている配管である。ここで、液体出力口ＰＬＯ９は、水を出力するための出力手段であり、特に、水を供給するための水供給手段であり、具体的には、浴槽９０３の所定位置に設けられている出力口であり、例えば、貯留水Ｗ１を確実に出力できるように、浴槽９０３の底部寄りの位置に設けられているものである。
【００７７】
（構成‐外部水素水配管）
また、外部水素水配管Ｌ４２は、加圧水素水を供給するための供給手段であり、特に、加圧水素水を浴槽９０３に供給するためのマイクロバブル生成手段であり、具体的には、マイクロバブル発生装置２と浴槽９０３との間に流体接続されている配管であり、例えば、一端がマイクロバブル発生装置２の液体出力口ＰＬＯ２に接続されており、他端が浴槽９０３の液体入力口ＰＬＩ９に接続されている配管である。なお、液体入力口ＰＬＩ９は、加圧水素水を浴槽９０３に供給するためのマイクロバブル生成手段であり、であり、具体的には、浴槽９０３の所定位置に設けられている入力口であり、例えば、浴槽９０３の全体にわたってマイクロバブル水素水が生成されるように、浴槽９０３の側壁における底部寄りの位置に設けられているものである。
【００７８】
（処理）
次に、このように構成される水素風呂システム１００によって実行されるマイクロバブル水素水供給処理について説明する。「水素水発生処理」とは、水素水を発生する処理であり、具体的には、図２の浴槽９０３においてマイクロバブル水素水を生成する処理であり、つまり、浴槽９０３の貯留水Ｗ１の溶存水素濃度を向上させる処理である。この水素水発生処理は、水素風呂システム１００に含まれている各装置への電源投入後に、制御装置６の入力部６１を介して水素水供給命令が入力された場合に実行される。ここで、「水素水供給命令」とは、水素水を供給するための命令であり、具体的には、水素風呂システム１００から浴槽９０３に水素水を供給するための命令であり、例えば、前述の水素ガス流量特定情報、及び前述の水素水流量特定情報とを含む命令である。
【００７９】
図３は、水素水発生処理のフローチャートである。なお、以下では、「ステップ」を「Ｓ」と略記する。ここでは、例えば、水素風呂システム１００に含まれている各装置への電源投入直後には、水素発生装置１の流量調整弁１５３、及びマイクロバブル発生装置２の流量調整弁２５４は、「閉」（つまり、開度「０」）になっており、「水素ガス流量特定情報」＝「４００（ミリリットル／分）」、及び「水素水流量特定情報」＝「４（リットル／分）」の「水素水供給命令」が入力された場合の、水素水発生処理について説明する。
【００８０】
まず、ＳＡ１において制御装置６の装置制御部６５１は、水素発生装置１を制御して水素ガスを発生及び供給させる。具体的には、制御装置６の入力部６１に入力された水素水供給命令から、水素ガス流量特定情報を取得し、また、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「水素発生装置」である識別情報を特定し、「水素ガス流量特定情報」＝「取得した水素ガス流量特定情報」且つ「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となる水素ガス発生信号を生成し、生成した水素ガス発生信号を、通信部６３を介して出力する。
【００８１】
ここでは、例えば、入力された水素水供給命令の水素ガス流量特定情報として、「４００（ミリリットル／分）」を取得し、また、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」＝「水素発生装置」が含まれている組み合わせである、「種別」＝「水素発生装置」と「識別情報」＝「水素発生装置ＩＤ」との組合せを特定し、この特定した組合せ中の識別情報である「水素発生装置ＩＤ」を、「種別」が「水素発生装置」である識別情報として特定する。そして、「水素ガス流量特定情報」＝「４００（ミリリットル／分）」且つ「制御対象機器特定情報」＝「水素発生装置ＩＤ」となる水素ガス発生信号を生成し、生成した水素ガス発生信号を出力する。
【００８２】
一方、水素発生装置１は、通信部１３を介して受信した信号に含まれている識別情報と、記憶部１４に格納されている識別情報とが一致しているか否かを判定し、一致していると判定した場合にのみ、受信した信号に基づいて以下の処理を行う。処理について具体的には、水素ガス発生信号を受信した場合、水素ガスを発生して供給し、一方、水素ガス停止信号を受信した場合、水素ガスの発生を停止して供給を遮断する。
【００８３】
具体的には、水素発生装置１の制御部１６は、ＳＡ１において出力された水素ガス発生信号を受信し、受信した水素ガス発生信号から水素ガス流量特定情報を取得し、取得した水素ガス流量特定情報が特定する流量の水素ガスが出力されるように、水素ガス発生部１５を制御する。ここでは、例えば、「水素ガス流量特定情報」＝「４００（ミリリットル／分）」の水素ガスが供給されるように、まず、図２の水素ガス発生機構１５２の前述の内部ポンプ（不図示）を起動し、水素ガス発生機構１５２の前述の電極（不図示）に電源電圧を供給する。この場合、純水タンク１５１の純水は、内部水配管Ｌ１１を介して水素ガス発生機構１５２の電極（不図示）に供給されて、この電極にて電気分解が行われて水素ガスが発生し、発生した水素ガスが水素ガス発生機構１５２の前述の貯留タンク（不図示）に貯留される。次に、４００（ミリリットル／分）の流量にて水素ガスが供給されるように、流量調整弁１５３の開度を当該流量に対応する開度となるように調整する。この場合、水素ガス発生機構１５２の貯留タンクに貯留されている水素ガスは、内部ガス配管Ｌ１２を介してガス出力口ＰＧＯ１から４００（ミリリットル／分）の流量にて出力される。
【００８４】
図３に戻って、ＳＡ２において制御装置６の装置制御部６５１は、マイクロバブル発生装置２を制御して水素水を発生及び供給させる。具体的には、制御装置６の入力部６１に入力された水素水供給命令から、水素水流量特定情報を取得し、また、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「マイクロバブル発生装置」である識別情報を特定し、「水素水流量特定情報」＝「取得した水素水流量特定情報」且つ「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となる水素水発生信号を生成し、生成した水素水発生信号を、通信部６３を介して出力する。
【００８５】
ここでは、例えば、入力された水素水供給命令の水素水流量特定情報として、「４（リットル／分）」を取得し、また、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」＝「マイクロバブル発生装置」が含まれている組み合わせである、「種別」＝「マイクロバブル発生装置」と「識別情報」＝「マイクロバブル発生装置ＩＤ」との組合せを特定し、この特定した組合せ中の識別情報である「マイクロバブル発生装置ＩＤ」を、「種別」が「マイクロバブル発生装置」である識別情報として特定する。そして、「水素水流量特定情報」＝「４（リットル／分）」且つ「制御対象機器特定情報」＝「マイクロバブル発生装置ＩＤ」となる水素水発生信号を生成し、生成した水素水発生信号を出力する。
【００８６】
一方、マイクロバブル発生装置２は、通信部２３を介して受信した信号に含まれている識別情報と、記憶部２４に格納されている識別情報とが一致しているか否かを判定し、一致していると判定した場合にのみ、受信した信号に基づいて以下の処理を行う。処理について具体的には、水素水発生信号を受信した場合、水素水を発生して供給し、一方、水素水停止信号を受信した場合、水素水の発生を停止して供給を遮断する。
【００８７】
具体的には、マイクロバブル発生装置２の制御部２６は、ＳＡ２において出力された水素水発生信号を受信し、受信した水素ガス発生信号から水素水流量特定情報を取得し、取得した水素ガス流量特定情報が特定する水素水流量の水素水が出力されるように、マイクロバブル発生部２５を制御する。
【００８８】
ここでは、例えば、「水素水流量特定情報」＝「４（リットル／分）」の水素水が供給されるように、図２の給水ポンプ２５１を起動し、また、流量調整弁２５４の開度を当該流量（つまり、４（リットル／分））に対応する開度となるように調整する。この場合、まず、給水ポンプ２５１の吸引力によって、浴槽９０３の貯留水Ｗ１が、液体出力口ＰＬＯ９、外部水配管Ｌ４１、液体入力口ＰＬＩ２、内部水配管Ｌ２１（及び、内部水配管Ｌ２１の流路上の給水ポンプ２５１）を介して、発生ノズル２５２に供給される。また、水素発生装置１のガス出力口ＰＧＯ１から出力された水素ガスも、外部ガス配管Ｌ３１、ガス入力口ＰＧＩ２、及び内部ガス配管Ｌ２４を介して、発生ノズル２５２に供給される。
【００８９】
次に、この発生ノズル２５２では、供給された水において供給された水素ガスのマイクロバブルが発生する。ここでのマイクロバブルの発生手法（又は、発生原理）については公知の手法を含む任意の手法を用いることができるが、ここでは、例えば、給水ポンプ２５１によって発生ノズル２５２内で加圧（例えば、４気圧に加圧）された水に対して、発生ノズル２５２の水素ガス吐出孔を介して水素ガスを供給することにより、水素ガス吐出孔の出口付近でマイクロバブルを発生させる手法を用いるものとして、以下説明する。この手法を用いて発生したマイクロバブルについては、発生ノズル２５２内の圧力が高圧（ここでは、４気圧）となっているために、大気圧下の場合よりも多くが溶解することになり、実質的に全てのマイクロバブルが溶解して前述の加圧水素水が発生する。
【００９０】
次に、この発生した加圧水素水は、第１内部水素水配管Ｌ２２を介して加圧水素水タンク２５３に供給されて貯留される。この場合、前述のように加圧水素水タンク２５３内の圧力が高圧（ここでは、４気圧）に設定されているので、加圧水素水タンク２５３内ではマイクロバブルが発生しないことになる（つまり、加圧水素水タンク２５３内では、加圧水素水の状態が維持されることになる）。そして、前述のように流量調整弁２５４の開度が調整されているので、貯留されている加圧水素水は、第２内部水素水配管Ｌ２３、液体出力口ＰＬＯ２、外部水素水配管Ｌ４２、及び液体入力口ＰＬＩ９を介して、浴槽９０３に供給される。そして、この供給された加圧水素水については、浴槽９０３において（例えば、１気圧に）減圧されるので、加圧水素水タンク２５３中の場合よりも溶解度が低下し、溶解していた大量のマイクロバブルが再度発生することになる。従って、浴槽９０３中においてマイクロバブル水素水が発生し、浴槽９０３の貯留水Ｗ１に水素が溶存することになり、溶存水素濃度が上昇することになる。
【００９１】
図３に戻って、ＳＡ３において制御装置６の装置制御部６５１は、図１の浴室９０２の気体中の水素濃度を検出する。具体的には、記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「気体中の水素濃度センサ」である識別情報を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となるセンサ値要求信号を生成し、生成したセンサ値要求信号を、通信部６３を介して出力する。ここでは、例えば、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」＝「気体中の水素濃度センサ」が含まれている組み合わせである、「種別」＝「気体中の水素濃度センサ」と「識別情報」＝「第２濃度センサＩＤ」との組合せを特定し、この特定した組合せ中の識別情報である「第２濃度センサＩＤ」を、「種別」が「気体中の水素濃度センサ」である識別情報として特定する。そして、「制御対象機器特定情報」＝「第２濃度センサＩＤ」となるセンサ値要求信号を生成し、生成したセンサ値要求信号を出力する。
【００９２】
一方、第２濃度センサ４は、受信した信号に含まれている識別情報と、自己のメモリに格納されている識別情報とが一致しているか否かを判定し、一致していると判定した場合にのみ、気体中の水素濃度を検出した上で、「検出値特定情報」＝「検出した気体中の水素濃度」且つ「センサ特定情報」＝「自己の識別情報」となるセンサ値応答信号を生成し、生成したセンサ値応答信号を出力する。ここでは、例えば、気体中の水素濃度として「０．１（％）」を検出した場合、「検出値特定情報」＝「０．１（％）」且つ「センサ特定情報」＝「第２濃度センサＩＤ」となるセンサ値応答信号を生成し、生成したセンサ値応答信号を出力する。
【００９３】
一方、制御装置６の装置制御部６５１は、通信部６３を介して受信したセンサ値応答信号に含まれている識別情報と、直近に自己が出力したセンサ値要求信号に含まれている識別情報とが一致しているか否かを判定し、一致していると判定した場合にのみ、前述の受信したセンサ値応答信号に含まれている「検出値特定情報」を、気体中の水素濃度として取得して検出する。ここでは、例えば、生成したセンサ値応答信号に「センサ特定情報」＝「第２濃度センサＩＤ」が含まれているので、このセンサ値応答信号の「検出値特定情報」である「０．１（％）」を、気体中の水素濃度として取得して検出する。
【００９４】
図３に戻って、ＳＡ４において制御装置６の装置制御部６５１は、安全判定を行う。具体的には、ＳＡ３において検出した気体中の水素濃度が、図１の記憶部６４に格納されている安全判定閾値特定情報が特定する安全判定閾値未満であるか否かを判定する。そして、気体中の水素濃度が安全判定閾値未満である場合、浴室９０２の安全性が確実に確保されているものと判定し（ＳＡ４のＹＥＳ）、ＳＡ５に移行する。また、気体中の水素濃度が安全判定閾値未満でない場合（つまり、気体中の水素濃度が安全判定閾値以上である場合）、浴室９０２の安全性が確実に確保されているわけではない（つまり、入浴者に水素に起因した危険が及ぶ可能性がある）もの判定し（ＳＡ４のＮＯ）、ＳＡ９に移行する。ここでは、例えば、ＳＡ３において「０．１（％）」を検出したので、浴室９０２の安全性が確実に確保されているものと判定し（ＳＡ４のＹＥＳ）、ＳＡ５に移行する。
【００９５】
次に、ＳＡ５において制御装置６の装置制御部６５１は、図２の浴槽９０３の貯留水Ｗ１中の溶存水素濃度を検出する。具体的には、ＳＡ３の場合と同様にして、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「溶存水素濃度センサ」である識別情報を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となるセンサ値要求信号を生成し、生成したセンサ値要求信号を、通信部６３を介して出力する。ここでは、例えば、「制御対象機器特定情報」＝「第１濃度センサＩＤ」となるセンサ値要求信号を生成し、生成したセンサ値要求信号を出力する。
【００９６】
一方、第１濃度センサ３は、ＳＡ３で説明した第２濃度センサ４の場合と同様にして、センサ値応答信号を生成し、生成したセンサ値応答信号を出力する。ここでは、例えば、「検出値特定情報」＝「０．５（ｐｐｍ）」且つ「センサ特定情報」＝「第１濃度センサＩＤ」となるセンサ値応答信号を生成し、生成したセンサ値応答信号を出力する。
【００９７】
一方、制御装置６の装置制御部６５１は、ＳＡ３の場合と同様にして、受信したセンサ値応答信号に含まれている「検出値特定情報」を、溶存水素濃度として取得して検出する。ここでは、例えば、「０．５（ｐｐｍ）」を、溶存水素濃度として取得して検出する。
【００９８】
図３に戻って、ＳＡ６において制御装置６の装置制御部６５１は溶存水素濃度判定を行う。具体的には、ＳＡ５において検出した溶存水素濃度が、図１の記憶部６４に格納されている溶存水素濃度判定閾値特定情報が特定する溶存水素濃度判定閾値以上であるか否かを判定する。そして、溶存水素濃度が溶存水素濃度判定閾値以上である場合、入浴者の健康増進の効果が比較的大きいものと判定し（ＳＡ６のＹＥＳ）、ＳＡ７に移行する。また、溶存水素濃度が溶存水素濃度判定閾値以上でない場合（つまり、溶存水素濃度が溶存水素濃度判定閾値未満である場合）、入浴者の健康増進の効果が比較的大きいとはいえない可能性がある（つまり、更に溶存水素濃度を向上させることが必要である）もの判定し（ＳＡ６のＮＯ）、ＳＡ３に移行する。ここでは、例えば、ＳＡ５において「０．５（ｐｐｍ）」を検出したので、入浴者の健康増進の効果が比較的大きいものと判定し（ＳＡ６のＹＥＳ）、ＳＡ７に移行する。
【００９９】
次に、ＳＡ７において制御装置６の装置制御部６５１は、水素発生装置１を制御して水素ガスを停止及び遮断する。具体的には、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「水素発生装置」である識別情報を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となる水素ガス停止信号を生成し、生成した水素ガス停止信号を、通信部６３を介して出力する。ここでは、例えば、図３のＳＡ１の場合と同様にして「制御対象機器特定情報」＝「水素発生装置ＩＤ」を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「水素発生装置ＩＤ」となる水素ガス停止信号を生成し、生成した水素ガス停止信号を出力する。
【０１００】
一方、図１の水素発生装置１は、通信部１３を介して受信した水素ガス停止信号に含まれている識別情報と、記憶部１４に格納されている識別情報とが一致しているものと判定し、水素ガスの発生を停止して供給を遮断する。具体的には、水素発生装置１の制御部１６は、図２の水素ガス発生機構１５２の前述の内部ポンプ（不図示）を停止し、水素ガス発生機構１５２の前述の電極（不図示）への電源電圧を遮断し、流量調整弁１５３の開度を「０」にする（つまり、流量調整弁１５３を閉鎖する）ことにより、水素ガスの発生を停止して供給を遮断する。
【０１０１】
図３に戻って、ＳＡ８において制御装置６の装置制御部６５１は、マイクロバブル発生装置２を制御して水素水を停止及び遮断する。具体的には、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「マイクロバブル発生装置」である識別情報を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となる水素水停止信号を生成し、生成した水素水停止信号を、通信部６３を介して出力する。ここでは、例えば、図３のＳＡ２の場合と同様にして「制御対象機器特定情報」＝「マイクロバブル発生装置ＩＤ」を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「マイクロバブル発生装置ＩＤ」となる水素水停止信号を生成し、生成した水素水停止信号を出力した後、水素水発生処理を終了する。
【０１０２】
一方、図１のマイクロバブル発生装置２は、通信部２３を介して受信した水素水停止信号に含まれている識別情報と、記憶部２４に格納されている識別情報とが一致しているものと判定し、水素水の発生を停止して供給を遮断する。具体的には、マイクロバブル発生装置２の制御部２６は、図２の給水ポンプ２５１を停止し、流量調整弁２５４の開度を「０」にする（つまり、流量調整弁２５４を閉鎖する）ことにより、水素水の発生を停止して供給を遮断する。
【０１０３】
図３に戻って、ＳＡ４において浴室９０２の安全性が確実に確保されているわけではない（つまり、入浴者に水素に起因した危険が及ぶ可能性がある）もの判定し（ＳＡ４のＹＥＳ）て、ＳＡ９に移行した場合、このＳＡ９において制御装置６の装置制御部６５１は、水素発生装置１を制御して水素ガスを停止及び遮断する。具体的には、ＳＡ７と同様な処理を行う。
【０１０４】
次に、ＳＡ１０において制御装置６の装置制御部６５１は、マイクロバブル発生装置２を制御して水素水を停止及び遮断する。具体的には、ＳＡ８と同様な処理を行う。
【０１０５】
次に、ＳＡ１１において御装置６の装置制御部６５１は、安全装置５を起動する。具体的には、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」が「安全装置」である識別情報を特定し、「制御対象機器特定情報」＝「特定した識別情報」となる安全装置起動信号を生成し、生成した安全装置起動信号を、通信部６３を介して出力した後、水素水発生処理を終了する。ここでは、例えば、図１の記憶部６４の装置特定情報において「種別」＝「安全装置」が含まれている組み合わせである、「種別」＝「安全装置」と「識別情報」＝「安全装置ＩＤ」との組合せとの組合せを特定し、この特定した組合せ中の識別情報である「安全装置ＩＤ」を、「種別」が「安全装置」である識別情報として特定する。そして、「制御対象機器特定情報」＝「安全装置ＩＤ」となる安全装置起動信号を生成し、生成した安全装置起動信号を出力する。
【０１０６】
一方、安全装置５の制御部５４は、通信部５１を介して受信した信号に含まれている識別情報と、自己のメモリに格納されている識別情報とが一致しているか否かを判定し、一致していると判定した場合にのみ、換気部５３に電源電圧を供給して起動する。この換気部５３が起動された場合、換気部５３のファン（不図示）によって、浴室９０２の外部から内部に空気が取り込まれることになり、換気が行われることになる。
【０１０７】
（実施の形態１の効果）
このような本実施の形態の水素風呂システム１００によれば、加圧水素水を浴槽９０３に供給して減圧することにより、マイクロバブル水素水を浴槽９０３において生成するので、例えば、加圧水素水において水素の微細気泡（つまり、マイクロバブル）を大量に溶解させることができるために、水中での上昇速度が比較的遅く長時間にわたって水中に滞在できるマイクロバブルを大量に含むマイクロバブル水素水を、浴槽９０３において生成することができ、浴槽９０３の貯留水Ｗ１における水素の濃度を確実に向上させることができる。例えば、浴槽９０３として内部が直方体形状（水平方向の長辺が２．５（ｍ）、水平方向の短辺が２．３（ｍ）、垂直方向の高さが０．５（ｍ））のものを採用し、貯留水Ｗ１の量を「１７２５（リットル）」として、「水素ガス流量特定情報」＝「４００（ミリリットル／分）」、及び「水素水流量特定情報」＝「１８（リットル／分）」の「水素水供給命令」を入力し、図１の記憶部６４の「溶存水素濃度判定閾値特定情報」として、充分高い値（例えば、「溶存水素濃度」＝「１０（ｐｐｍ）」）に設定し、マイクロバブル水素水を出力し続けた場合（つまり、浴槽９０３及水素風呂システム１００において液体（水又は水素水）を循環させ続けた場合）、数時間後（例えば、６時間）には、「溶存水素濃度」として０．９（ｐｐｍ）を超える値が検出された。そして、このように溶存水素濃度が比較的高くなるために、このマイクロバブル水素水を用いて貯留水Ｗ１自体及び浴槽９０３を洗浄することが可能になる。
【０１０８】
また、水素風呂システム１００によれば、浴槽９０３に貯留されている貯留水Ｗ１を加圧水素水の生成のために用いられる水として供給するので、例えば、貯留水Ｗ１を水素風呂システム１００において循環させて再利用することができるために、水道代を節約することができ、水素風呂システム１００の運用コストを低減することができる。また、例えば、加圧水素水を生成するための水を貯留するタンクが不要となるために、水素風呂システム１００の設置面積を削減することができ、水素風呂システム１００における設置の自由度を向上させることができる。
【０１０９】
また、水素風呂システム１００によれば、安全判定閾値以上の水素濃度を検出した場合に、マイクロバブル水素水の生成が停止されるので、例えば、水素濃度の上昇に起因する事故（例えば、発火事故等）を防止することができるために、入浴者の安全性を確実に確保することが可能な水素風呂システム１００を提供することができる。
【０１１０】
また、水素風呂システム１００によれば、浴槽９０３が設けられている領域である浴室９０２の外部から内部に空気を安全装置５の換気部５３に備えられているファンによって取り込むので、例えば、浴室９０２内の気体（例えば、水素ガスを含む気体）が換気部５３の周辺に留まるのを防止しつつ、浴室９０２の換気を行うことができるために、換気部５３の動作に起因して当該換気部５３の周辺で発生する火花による発火事故が発生するのを防止しつつ換気を行うことができ、入浴者の安全性を一層確実に確保することが可能な水素風呂システム１００を提供することができる。
【０１１１】
〔実施の形態に対する変形例〕
以上、本発明に係る実施の形態について説明したが、本発明の具体的な構成及び手段は、特許請求の範囲に記載した本発明の技術的思想の範囲内において、任意に改変及び改良することができる。以下、このような変形例について説明する。
【０１１２】
（解決しようとする課題や発明の効果について）
まず、発明が解決しようとする課題や発明の効果は、上述の内容に限定されるものではなく、発明の実施環境や構成の細部に応じて異なる可能性があり、上述した課題の一部のみを解決したり、上述した効果の一部のみを奏したりすることがある。例えば、従来のシステムよりも溶存水素濃度を向上できない場合であっても、従来のシステムと同程度の溶存水素濃度の向上を従来の装置とは異なる本願発明のシステムによって達成できている場合には、本願発明の課題が解決されている。
【０１１３】
（分散や統合について）
また、上述した各電気的構成要素は機能概念的なものであり、必ずしも物理的に図示の如く構成されていることを要しない。すなわち、各部の分散や統合の具体的形態は図示のものに限られず、その全部または一部を、各種の負荷や使用状況などに応じて、任意の単位で機能的または物理的に分散又は統合して構成できる。例えば、水素発生装置１の各部とマイクロバブル発生装置２の各部をそれぞれ複数の装置に分散して構成したり、当該各装置を統合したりしてもよい。具体的には、水素発生装置１の機能をマイクロバブル発生装置２に統合して、１つのみの装置にて水素水を生成できるようにしてもよい。また、マイクロバブル発生装置２の加圧水素水タンク２５３を省略して、コンパクト化した上で、発生ノズル２５２からの加圧水素水が直接浴槽９０３に供給されるようにしてもよい。また、例えば、制御装置６の各部（特に、装置制御部６５１）を水素発生装置１又はマイクロバブル発生装置２に統合してもよい。
【０１１４】
（形状、数値、構造、時系列について）
また、実施の形態や図面において例示した構成要素に関して、形状、数値、又は複数の構成要素の構造若しくは時系列の相互関係については、本発明の技術的思想の範囲内において、任意に改変及び改良することができる。
【０１１５】
（水素水発生方法について）
また、実施の形態で説明した方法に代えて、あるいは、実施の形態で説明した方法に加えて、他の水素水発生方法を適用してもよい。例えば、水素発生装置１で発生させた水素を、浴槽９０３に対してお湯を循環させる外部水配管Ｌ４１又は外部水素水配管Ｌ４２において混入させてもよい。例えば、浴槽９０３に対してお湯を供給する外部水素水配管Ｌ４２のうち、比較的工事が容易な箇所（例えば、外部水素水配管Ｌ４２のうち、水素発生装置１に近い箇所や、壁面に沿っている箇所）に穴を開口し、この穴に、外部ガス配管Ｌ３１を接続し、水素発生装置１で発生させた水素を、外部ガス配管Ｌ３１を介して、外部水素水配管Ｌ４２を流れるお湯に混入させることで水素水を発生させ、この水素水を浴槽９０３に供給してもよい。この場合には、水素水を、公知のお湯循環系統を介して浴槽９０３に循環させてもよい。このように圧力が高圧である配管中で水素を混入することで、溶存水素濃度を向上させることが可能になる。
【０１１６】
（水素水発生処理について）
また、実施の形態において、図３の水素水発生処理の一部を、ユーザのニーズに応じて変更してもよい。例えば、安全性についての事前実験等に基づいて、水素風呂システム１００による水素の発火事故が起こることが想定されない場合、ＳＡ３、ＳＡ４及びＳＡ９〜ＳＡ１１を省略してもよい。また、例えば、常に換気することが望ましい場合も、同様にＳＡ３、ＳＡ４及びＳＡ９〜ＳＡ１１を省略した上で、水素発生処理が起動しているか否かに関わらず、ＳＡ１１と同様な処理を行って、常時換気してもよい。また、例えば、溶存水素濃度の実験等に基づいて、マイクロバブル水素水を浴槽９０３に供給してから貯留水Ｗ１の溶存水素濃度が所望の濃度（例えば、０．５（ｐｐｍ）等）になるまでの時間を把握できる場合、ＳＡ５及びＳＡ６の処理を省略した上で、水素水発生処理を開始してから前述の実験等によって把握された時間（例えば、４時間等）を経過した場合に、ＳＡ７及びＳＡ８を行ってもよい。また、例えば、安全性をより一層向上させるために、ＳＡ４の判定で「ＮＯ」とされた場合（つまり、入浴者に水素に起因した危険が及ぶ可能性がある場合）、スピーカの如き音声出力手段を介して警報を出力してもよい。
【０１１７】
（マニュアル操作について）
また、実施の形態においては、制御装置６を用いて水素発生装置１及びマイクロバブル発生装置２を制御する場合について説明したが、これに限られない。例えば、制御装置６を省略した上で、水素発生装置１及びマイクロバブル発生装置２をマニュアル操作してもよい。具体的には、水素発生装置１及びマイクロバブル発生装置２の電源のオンオフを、これらの装置の各入力部を介してユーザがマニュアル操作するようにして、オンした場合に図３のＳＡ１及びＳＡ２と同様な処理が行われ、オフした場合にＳＡ７及びＳＡ８と同様な処理が行われるようにしてもよい。
【０１１８】
（検出情報の表示について）
また、実施の形態において、水素風呂システム１００に表示部を設けて、各種情報を表示してもよい。ここで、「表示部」とは、情報を表示する情報表示手段であり、具体的には、水素の濃度についての情報を表示するものであり、例えば、ディスプレイ装置等を備えて構成されている。この表示部を用いて表示する情報の内容、及び表示態様については、ユーザのニーズに応じて任意に設定することが可能であるが、例えば、貯留水Ｗ１中の溶存水素濃度の情報を表示したり、浴室９０２における気体中の水素濃度の情報を表示したりしてよい。溶存水素濃度の情報を表示する場合について具体的には、図３のＳＡ５と同様な処理を所定時間毎（例えば、１０秒毎等）に行って溶存水素濃度を検出し、溶存水素濃度を検出する毎に、表示部に検出結果を表示するようにしてよい。この検出結果の表示については、例えば、溶存水素濃度の数値をテキスト情報として表示してもよいし、図３のＳＡ６と同様な判定を行い、判定結果を表示してもよい。このように構成した場合、入浴の効能をユーザに通知することができる。また、浴室９０２における気体中の水素濃度を表示する場合について具体的には、図３のＳＡ３と同様な処理を所定時間毎（例えば、１０秒毎等）に行って気体中の水素濃度を検出し、気体中の水素濃度を検出する毎に、表示部に検出結果を表示するようにしてよい。この検出結果の表示については、例えば、気体中の水素濃度の数値をテキストとして表示してもよいし、図３のＳＡ４と同様な判定を行い、判定結果を表示してもよい。このように構成した場合、安全性をユーザに通知することができる。
【０１１９】
（浴槽との流体接続について）
また、実施の形態においては、図２の浴槽９０３に液体出力口ＰＬＯ９及び液体入力口ＰＬＩ９を設けて、これらに対して外部水配管Ｌ４１及び外部水素水配管Ｌ４２を流体接続することにより、マイクロバブル発生装置２を浴槽９０３に流体接続する場合について説明したが、これに限られない。例えば、浴槽９０３に液体出力口ＰＬＯ９及び液体入力口ＰＬＩ９を設けずに、外部水配管Ｌ４１及び外部水素水配管Ｌ４２の端部を、浴槽９０３の上側から当該浴槽９０３の内部に導入することにより、流体接続してもよい。
【０１２０】
このように上側から導入して流体接続する場合の外部水素水配管Ｌ４２について具体的には、入浴の邪魔にならないように、外部水素水配管Ｌ４２の長手方向における一部（以下、第１部分）を浴室９０２の床下に敷設し、この敷設されている一部よりも長手方向において浴槽９０３側の他の一部（以下、第２部分）を床下から引き出して浴槽９０３の内部に導入する構成としてもよい。この場合の外部水素水配管Ｌ４２の第２部分については、加圧水素水を浴槽９０３の内部に供給できるのであれば任意に構成することができるが、例えば、浴槽９０３の内側において側壁に沿って上側から下側（つまり、底）に向かってに導入されて、底に沿って先端部分が折り曲がる（浴槽９０３の内部において）Ｌ字形状を呈する折り曲げ金属管として構成することもできる。なお、上側から導入して流体接続する場合の外部水配管Ｌ４１についても、外部水素水配管Ｌ４２と同様に構成してもよい。
【０１２１】
また、実施の形態において、液体入力口ＰＬＩ９の液体出力口ＰＬＯ９の位置については、図２に示すように水平方向における浴槽９０３の略中央を基準に点対称となる位置（つまり、互いに対向する位置）に設けてもよい。この場合、浴槽９０３内で液体入力口ＰＬＩ９から液体出力口ＰＬＯ９に至るマイクロバブル水素水の水流が発生することになり、マイクロバブルが貯留水Ｗ１全体に迅速に拡散されることになり、貯留水Ｗ１の溶存水素濃度を全体にわたって迅速且つ確実に上昇させることが可能になる。また、例えば、上述のように外部水素水配管Ｌ４２の第２部分を、Ｌ字形状を呈する折り曲げ金属管として構成した場合、マイクロバブルを拡散させたい方向に、当該金属管の先端を向けることにより、貯留水Ｗ１における所望する部分の溶存水素濃度を迅速且つ確実に上昇させることが可能になる。
【０１２２】
（貯留水の温度調整について）
また、実施の形態において、溶存水素濃度の変化速度を調整するために、貯留水Ｗ１の温度を調整してもよい。例えば、貯留水Ｗ１の温度と溶存水素濃度の変化速度との関係を確認するための確認実験の結果、貯留水Ｗ１の温度が高いほど溶存水素濃度の変化速度が速いことが確認されている場合、貯留水Ｗ１の温度を上昇させることにより溶存水素濃度を迅速に上昇させて、溶存水素濃度の上昇後に貯留水Ｗ１の温度を低下させることにより、貯留水Ｗ１の比較的高い溶存水素濃度を長時間にわたって維持できるように調整してもよい。貯留水Ｗ１の温度の調整については、図１の制御装置６の装置制御部６５１による、貯留水Ｗ１の温度を上昇又は維持するためのボイラ装置（不図示）のオンオフ制御によって行ってもよい。
【０１２３】
（その他の構成について）
また、実施の形態において、貯留水Ｗ１中の塵埃がマイクロバブル発生装置２に混入するのを防止するために、外部水配管Ｌ４１中に塵埃除去フィルタを設けてもよい。また、実施の形態において、水素発生装置１又はマイクロバブル発生装置２の動作音が比較的大きい場合には、防音材でこれらの装置を覆ってもよい。また、実施の形態において、水素発生装置１又はマイクロバブル発生装置２の設置環境に応じてこれらの装置が凍結する虞がある場合には、断熱材でこれらの装置を覆ってもよい。
【０１２４】
（その他の用途について）
また、実施の形態においては、水素発生装置１及びマイクロバブル発生装置２を用いて浴槽９０３の貯留水Ｗ１の溶存水素濃度を上昇させる場合について説明したが、これに限られない。例えば、貯留水Ｗ１とは異なる水（例えば、水道水等）を貯留水Ｗ１の代わりにマイクロバブル発生装置２に供給して加圧水素水を生成し、加圧水素水を浴槽９０３以外の貯留槽に供給することにより、この貯留槽内にてマイクロバブル水素水を生成して、生成したマイクロバブル水素水を所定の用途に使用してもよい。なお、所定の用途については、例えば、打たせ湯等のいわゆる滝水、浴槽９０３以外のための洗浄水、及び害虫駆除、農産物の成長促進等のための農業用水等が挙げられる。
【０１２５】
（付記）
付記１の水素水生成システムは、水素ガスを供給するガス供給手段と、水を供給する水供給手段と、水素のマイクロバブルが発生している状態の液体であるマイクロバブル水素水を生成するために減圧される加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段であって、前記水供給手段によって供給された前記水に対して、前記ガス供給手段によって供給された前記水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である前記加圧水素水を生成する前記加圧水素水生成手段とを備える。
【０１２６】
付記２の水素風呂システムは、水素ガスを供給するガス供給手段と、水を供給する水供給手段と、前記水供給手段によって供給された前記水に対して、前記ガス供給手段によって供給された前記水素ガスの微細気泡を、加圧しつつ溶解させることにより、水素の微細気泡が溶解された状態の液体である加圧水素水を生成する加圧水素水生成手段と、前記加圧水素水生成手段によって生成された前記加圧水素水を浴槽に供給して減圧することにより、水素のマイクロバブルが発生している状態の液体であるマイクロバブル水素水を前記浴槽において生成するマイクロバブル水素水生成手段とを備える。
【０１２７】
付記３の水素風呂システムは、付記２に記載の水素風呂システムにおいて、前記水供給手段は、前記浴槽に貯留されている貯留水を前記水として、前記加圧水素水生成手段に供給する。
【０１２８】
付記４の水素風呂システムは、付記２又は３に記載の水素風呂システムにおいて、前記浴槽が設けられている領域における気体中の水素濃度を検出する濃度検出手段と、前記濃度検出手段の検出結果に基づいて、前記マイクロバブル水素水生成手段を制御する制御手段と、を備え、前記検出手段が基準値以上の水素濃度を検出した場合に、前記制御手段は、前記マイクロバブル水素水の生成が停止されるように、前記マイクロバブル水素水生成手段を制御する。
【０１２９】
付記５の水素風呂システムは、付記２から４いずれか一項に記載の水素風呂システムにおいて、前記浴槽が設けられている領域の換気を行うために、前記浴槽が設けられている領域の外部から内部に空気を取り込む換気手段を備える。
【０１３０】
（付記の効果）
付記１に記載の水素水生成システムによれば、マイクロバブル水素水を生成するために減圧される加圧水素水を生成するので、例えば、加圧水素水において水素の微細気泡を大量に溶解させることができるために、水中での上昇速度が比較的遅く長時間にわたって水中に滞在できるマイクロバブルを大量に含むマイクロバブル水素水を生成することができ、水素水における水素の濃度を確実に向上させることができる。
【０１３１】
付記２に記載の水素風呂システムによれば、加圧水素水を浴槽に供給して減圧することにより、マイクロバブル水素水を浴槽において生成するので、例えば、加圧水素水において水素の微細気泡を大量に溶解させることができるために、水中での上昇速度が比較的遅く長時間にわたって水中に滞在できるマイクロバブルを大量に含むマイクロバブル水素水を、浴槽において生成することができ、浴槽の水素水における水素の濃度を確実に向上させることができる。
【０１３２】
付記３に記載の水素風呂システムによれば、浴槽に貯留されている貯留水を加圧水素水の生成のために用いられる水として供給するので、例えば、貯留水を水素風呂システムにおいて循環させて再利用することができるために、水道代を節約することができ、水素風呂システムの運用コストを低減することができる。また、例えば、加圧水素水を生成するための水を貯留するタンクが不要となるために、水素風呂システムの設置面積を削減することができ、水素風呂システムにおける設置の自由度を向上させることができる。
【０１３３】
付記４に記載の水素風呂システムによれば、基準値以上の水素濃度を検出した場合に、マイクロバブル水素水の生成が停止されるので、例えば、水素濃度の上昇に起因する事故（例えば、発火事故等）を防止することができるために、入浴者の安全性を確実に確保することが可能な水素風呂システムを提供することができる。
【０１３４】
付記５に記載の水素風呂システムによれば、換気手段を用いて浴槽が設けられている領域の外部から内部に空気を取り込むので、例えば、浴槽が設けられている領域内の気体（例えば、水素ガスを含む気体）が換気手段の周辺に留まるのを防止しつつ、浴槽が設けられている領域の換気を行うことができるために、換気手段の動作に起因して当該換気手段の周辺で発生する火花による発火事故が発生するのを防止しつつ換気を行うことができ、入浴者の安全性を一層確実に確保することが可能な水素風呂システムを提供することができる。
【符号の説明】
【０１３５】
１  水素発生装置
２  マイクロバブル発生装置
３  第１濃度センサ
４  第２濃度センサ
５  安全装置
６  制御装置
１１  入力部
１２  出力部
１３  通信部
１４  記憶部
１５  水素ガス発生部
１６  制御部
２１  入力部
２２  出力部
２３  通信部
２４  記憶部
２５  マイクロバブル発生部
２６  制御部
５１  通信部
５２  記憶部
５３  換気部
５４  制御部
６１  入力部
６２  出力部
６３  通信部
６４  記憶部
６５  制御部
１００  水素風呂システム
１５１  純水タンク
１５２  水素ガス発生機構
１５３  流量調整弁
２５１  給水ポンプ
２５２  発生ノズル
２５３  加圧水素水タンク
２５４  流量調整弁
６５１  装置制御部
９０１  建屋
９０２  浴室
９０３  浴槽
ＰＧＯ１  ガス出力口
ＰＧＩ２  ガス入力口
ＰＬＩ２  液体入力口
ＰＬＯ２  液体出力口
ＰＬＩ９  液体入力口
ＰＬＯ９  液体出力口
Ｌ１１  内部水配管
Ｌ１２  内部ガス配管
Ｌ２１  内部水配管
Ｌ２２  第１内部水素水配管
Ｌ２３  第２内部水素水配管
Ｌ２４  内部ガス配管
Ｌ３１  外部ガス配管
Ｌ４１  外部水配管
Ｌ４２  外部水素水配管
Ｗ１  貯留水
【図１】
2017113086.tif 000003
【図２】
2017113086.tif 000004
【図３】
2017113086.tif 000005