(57)【要約】【課題】被転写材に精度よく凹凸構造を転写する。【解決手段】フィルム部材１１４の表面１１４Ａに、被転写材Ｍ２が塗布された基材Ｍ１を対向して配置する。ヤング率が３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下のゲル１１２の天面から第１圧力を付与して、変形するゲル１１２によりフィルム部材１１４を変形させ、フィルム部材１１４の表面１１４Ａにおける凹凸構造パターン１１４Ｃの頂部を、被転写材Ｍ２に押圧する。ゲル１１２の天面から第１圧力よりも高い第２圧力を付与して、変形するゲル１１２によりフィルム部材１１４を変形させ、凹凸構造パターン１１４Ｃの全体を、被転写材Ｍ２に押圧する。その後、被転写材Ｍ２を硬化させる。【選択図】図１
2017174960.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム部材において凹凸構造パターンが形成された表面に、被転写材が塗布された基材を対向して配置する配置工程と、
前記フィルム部材の裏面に接触して配置された、ヤング率が３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下のゲルに対し、前記フィルム部材に接触する側とは反対側から第１圧力を付与して、変形する前記ゲルにより前記フィルム部材を変形させ、前記フィルム部材の表面における前記凹凸構造パターンの頂部を、前記被転写材に押圧する第１押圧工程と、
前記ゲルに対し、前記フィルム部材に接触する側とは反対側から前記第１圧力よりも高い第２圧力を付与して、変形する前記ゲルにより前記フィルム部材を変形させ、前記フィルム部材の表面における前記凹凸構造パターンの全体を、前記被転写材に押圧する第２押圧工程と、
前記第２押圧工程の後、前記被転写材を硬化させる硬化工程と、を備えたことを特徴とするインプリント方法。
【請求項２】
前記ゲルが、第１開口部と前記第１開口部に対向する第２開口部とが形成された容器に収容され、
前記第１開口部には、流体圧により前記ゲルに前記第１圧力および前記第２圧力を付与する加圧装置が接続されており、
前記第２開口部には前記フィルム部材が配置されていることを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項３】
前記流体圧が油圧であることを特徴とする請求項２に記載のインプリント方法。
【請求項４】
前記第１開口部には、弾性を有する隔膜が前記ゲルに接触して設けられていることを特徴とする請求項２または３に記載のインプリント方法。
【請求項５】
前記第１開口部は前記第２開口部よりも開口面積が小さいことを特徴とする請求項２乃至４のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項６】
前記フィルム部材は、非加圧状態で表面が凸形状となるように形成されていることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項７】
前記被転写材は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載のインプリント方法。
【請求項８】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント方法により、前記基材として型本体の表面に、前記被転写材からなる膜を形成する型の製造方法。
【請求項９】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント方法により型を形成する工程と、
前記型を用いて光学部品を成形する工程と、を備えた光学部品の製造方法。
【請求項１０】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載のインプリント方法により、前記基材として光学部品本体の表面に、前記被転写材からなる膜を形成する光学部品の製造方法。
【請求項１１】
被転写材が塗布された基材に対向させる凹凸構造パターンが成形された表面を有するフィルム部材と、
前記フィルム部材の裏面に接触して配置された、ヤング率が３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下のゲルと、
前記ゲルに対し、前記フィルム部材に接触する側とは反対側から第１圧力を付与して、変形する前記ゲルにより前記フィルム部材を変形させ、前記フィルム部材の表面における前記凹凸構造パターンの頂部を、前記被転写材に押圧し、次いで、前記ゲルに対し、前記フィルム部材に接触する側とは反対側から前記第１圧力よりも高い第２圧力を付与して、変形する前記ゲルにより前記フィルム部材を変形させ、前記フィルム部材の表面における前記凹凸構造パターンの全体を、前記被転写材に押圧する加圧装置と、を備えたことを特徴とするインプリント装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルム部材の凹凸構造パターンを基材表面の被転写材に転写するインプリントに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、微細加工技術として、基材上に塗布した被転写材に型を押圧することで、所望の凹凸構造パターンを転写するインプリント（ナノインプリント）技術が提案されている（特許文献１参照）。
【０００３】
ナノインプリントリソグラフィ（ＮＩＬ）技術は、光の波長以下の凹凸構造を加工する電子線露光技術等により凹凸構造パターンを成形した型を前もって用意し、被転写材を塗布した基材に型を押し当て、凹凸構造パターンを被転写材に転写する技術である。型さえあれば露光装置は必要無く、通常の印刷機レベルの装置で複製物を量産できるので、電子線露光技術により直接基材に凹凸構造パターンを形成する場合と比較して、スループットが飛躍的に向上し、製造コストも大幅に低減される。
【０００４】
ＮＩＬ技術において、被転写材として熱可塑性樹脂（例えばＰＭＭＡ）を使用する場合、その材料のガラス転移温度（Ｔｇ）近傍又はそれ以上の温度に上げて加圧して転写し、冷却して硬化させる。この方式は熱転写方式と呼ばれる。熱転写方式は熱可塑性の樹脂であれば汎用の樹脂を広範に使用できる利点がある。被転写材として光硬化性樹脂を使用する場合、型を光硬化性樹脂に押し付けて転写し、紫外線などの光を曝露することにより硬化させる。この方式は光転写方式と呼ばれる。
【０００５】
型を被転写材に転写する際、型の撓みや傾きに起因する押圧ムラが被転写材に発生しやすくなる。この現象を回避するため、フィルム状の型を空気圧で基材に押圧して転写する方法（特許文献２）や、凸状に湾曲させた型とシリコーンゲル等の押圧伝達部とを有するスタンプを用いて型を基材に転写する方法（特許文献３）が提案されている。
【０００６】
特許文献２では、空圧など流体の圧力で型を基材上の被転写材に押圧する。詳しくは、型と被転写材とが最初に複数の点で接触し、その後圧力の増加により型の微細凹凸を被転写材に転写する。
【０００７】
特許文献３では、凸状に湾曲させた凹凸転写面の頂部から被転写面に初期接触し、次いで、スタンパへの押圧により凹凸転写面が撓み変形しながら凹凸転写面全体が被転写面に接触する。また、スタンパへの押圧が除圧されると凹凸転写面の自己復元力により、接触端部側から徐々に加圧前の凸状態に凹凸転写面が復元する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許第５７７２９０５号公報
【特許文献２】特許第５４８８７６６号公報
【特許文献３】特開２０１２−２３０２７２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献２の方法では、型が剛体では無い場合、即ち型が可撓性を有するフィルム部材である場合、最初に型と基材とが接触するときには複数の点で接触し、接触した点と点との間に空間ができる。更に押圧力を増加させると点と点との間にできた空間を押し潰すように型が変形し、型が基材に圧接される。この空間が押し潰されたときに型にシワが発生することがあり、転写される凹凸構造の精度低下の原因となっていた。
【００１０】
また、特許文献３の方法では、凹凸転写面の頂部に作用する押圧力は、凹凸転写面の端部に作用する押圧力よりも高くなる傾向にあり、凹凸転写面の頂部と端部とで押圧力に差が生じてしまう。このような押圧力の差により、頂部において押圧が十分であっても、端部において押圧不足が生じて転写不良が生じることがあり、転写される凹凸構造の精度低下の原因となっていた。
【００１１】
そこで、本発明は、被転写材に精度よく凹凸構造を転写することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明のインプリント方法は、フィルム部材において凹凸構造パターンが形成された表面に、被転写材が塗布された基材を対向して配置する配置工程と、前記フィルム部材の裏面に接触して配置された、ヤング率が３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下のゲルに対し、前記フィルム部材に接触する側とは反対側から第１圧力を付与して、変形する前記ゲルにより前記フィルム部材を変形させ、前記フィルム部材の表面における前記凹凸構造パターンの頂部を、前記被転写材に押圧する第１押圧工程と、前記ゲルに対し、前記フィルム部材に接触する側とは反対側から前記第１圧力よりも高い第２圧力を付与して、変形する前記ゲルにより前記フィルム部材を変形させ、前記フィルム部材の表面における前記凹凸構造パターンの全体を、前記被転写材に押圧する第２押圧工程と、前記第２押圧工程の後、前記被転写材を硬化させる硬化工程と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、被転写材に精度よく凹凸構造を転写することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１実施形態に係るインプリント装置の概略構成を示す説明図である。
【図２】（ａ）〜（ｃ）は、第１実施形態に係るインプリント方法を説明するための模式図である。
【図３】（ａ）及び（ｂ）は、第１実施形態に係るインプリント方法を説明するための模式図である。
【図４】（ａ）及び（ｂ）は、第１実施形態に係る光学部品の製造方法の一部を示す説明図である。
【図５】（ａ）は、インプリント装置で実験を行ったときの模式図である。（ｂ）は、インプリント装置で実験を行ったときの実験結果を示す図である。
【図６】（ａ）〜（ｃ）は、第２実施形態に係るインプリント装置によるインプリント方法を説明するための模式図である。
【図７】（ａ）〜（ｃ）は、ヤング率が２９［ｋＰａ］のゲルを用いた場合の模式図である。
【図８】（ａ）及び（ｂ）は、ヤング率が１４３３［ｋＰａ］以上のゲルを用いた場合の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。
【００１６】
［第１実施形態］
図１は、第１実施形態に係るインプリント装置の概略構成を示す説明図である。第１実施形態ではインプリント装置１００は、インプリントとしてナノインプリントを行うナノインプリント装置である。
【００１７】
インプリント装置１００は、基材Ｍ１が搭載されるステージ１０１と、ステージ１０１に対向して配置されたモールドユニット１０２と、モールドユニット１０２に接続された加圧装置１０３と、を備えている。ステージ１０１は、不図示の駆動機構を有し、移動可能に構成されている。
【００１８】
ここで、ステージ１０１の搭載面に垂直な方向をＺ方向、ステージ１０１の搭載面に平行な直交する２方向をＸ，Ｙ方向とする。
【００１９】
基材Ｍ１の表面には、被転写材Ｍ２が塗布される。ステージ１０１上には、不図示の支持機構により基材Ｍ１が、被転写材Ｍ２をモールドユニット１０２にＺ方向で対向させた状態で固定される。
【００２０】
モールドユニット１０２は、筒状（具体的には円筒形状）の中空の容器１１１と、容器１１１の内部に収容されたゲル１１２と、を有している。容器１１１は、Ｚ方向に移動する不図示のステージに固定して設けられている。容器１１１の内部空間は、Ｚ方向に延びる中心軸に対して回転対称の円柱形状である。なお、容器１１１の内部空間は、円柱形状が好ましいが、円柱形状に限定するものではない。例えば、内部空間が多角柱形状であってもよい。
【００２１】
容器１１１のＺ方向の一方の端面を天面、他方の端面を底面とする。容器１１１の天面及び底面には、それぞれ開口部Ｈ１，Ｈ２が形成されている。開口部Ｈ１が第１開口部、開口部Ｈ２が第２開口部であり、開口部Ｈ１，Ｈ２同士がゲル１１２を介してＺ方向で対向している。開口部Ｈ１は、容器１１１の天面の一部が開口するように形成されており、開口部Ｈ２は、容器１１１の底面の全部が開口するように形成されている。よって、開口部Ｈ１は、開口部Ｈ２よりも開口面積が小さい。また、開口部Ｈ１，Ｈ２は、容器１１１のＺ方向の中心軸を中心点とする円形状に形成されている。つまり、開口部Ｈ１の中心点と開口部Ｈ２の中心点とが一致するように開口部Ｈ１，Ｈ２が形成されている。
【００２２】
更に、モールドユニット１０２は、容器１１１の天面に固定され、開口部Ｈ１を閉塞する隔膜１１３と、容器１１１の底面に固定され、開口部Ｈ２を閉塞するフィルム部材１１４と、を有する。
【００２３】
フィルム部材１１４は、可撓性を有する（撓み変形する）部材であり、凹凸構造パターン１１４Ｃが形成された表面１１４Ａと、表面１１４Ａの反対側の裏面１１４Ｂと、を有するフィルム状の型である。凹凸構造パターン１１４Ｃは、光の波長以下の微細凹凸構造からなり、例えば電子線露光により形成される。
【００２４】
フィルム部材１１４の表面１１４Ａは、非変形状態で平面状に形成され、ステージ１０１に搭載された基材Ｍ１上の被転写材Ｍ２に間隔をあけて対向する。フィルム部材１１４の裏面１１４Ｂには、ゲル１１２が接触している。フィルム部材１１４と被転写材Ｍ２との間隔は、フィルム部材１１４が撓み変形により被転写材Ｍ２に接触するように設定されている。隔膜１１３は、弾性を有する部材であり、ゲル１１２に接触して配置されている。
【００２５】
隔膜１１３及びフィルム部材１１４は、不図示のシール材により容器１１１の内部を密閉するように容器１１１に固定されている。これら隔膜１１３及びフィルム部材１１４により密閉された容器１１１の内部には、ゲル１１２が隙間なく充填されている。よって、ゲル１１２は、非変形状態で容器１１１の内部の形状と同じ円柱形状である。
【００２６】
容器１１１の開口部Ｈ１、即ち隔膜１１３には、加圧装置１０３が配管１０４を通じて接続されている。加圧装置１０３は、ゲル１１２に対し、フィルム部材１１４に接触する側とは反対側から圧力を付与するものである。具体的には、加圧装置１０３は、配管１０４を通じて、ゲル１１２のＺ方向の一対の端面のうち、フィルム部材１１４が接触する端面（底面）とは反対側の端面（天面）に圧力を付与する。ゲル１１２は、容器１１１に収容されているので、開口部Ｈ１から天面（の一部、具体的には中央部）に隔膜１１３を介して圧力が付与される。
【００２７】
第１実施形態では、加圧装置１０３は、ゲル１１２に流体の圧力（流体圧）を付与するものである。この圧力は、空気圧でも油圧でもよいが、温度変化に対し安定性に優れる油圧を用いるのが好ましい。即ち、隔膜１１３には、配管１０４を通じて加圧装置１０３からの油圧が付与される。
【００２８】
ここで、被転写材Ｍ２は、フィルム部材１１４の凹凸構造パターン１１４Ｃに対応して形成されていればよく、基材Ｍ１の表面の一部に塗布されていても、全面に塗布されていてもよい。また、凹凸構造パターン１１４Ｃは、フィルム部材１１４の表面１１４Ａの一部に形成されていても、全面に形成されていてもよい。
【００２９】
基材Ｍ１の材料は、ナノインプリントに適用可能なものであればいかなる材料であってもよく、例えば、金属、シリコン、ガラス、その他の無機材料および有機材料を用いることができる。また、ディスプレイ製品や光学部材の製造においては、基材Ｍ１は、透明であることが好ましい。例えば、石英基板、ガラス基板などの透明無機基材、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状オレフィン共重合体樹脂などの透明有機基材が好ましい。
【００３０】
また、被転写材Ｍ２は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂または光硬化性樹脂等の樹脂であることが好ましい。
【００３１】
被転写材Ｍ２に用いる樹脂は、圧力が加えられると変形する性質をもつ樹脂であって、ナノインプリントに適用可能なものであればよい。熱によって可塑化する熱可塑性樹脂の場合、その可塑化した状態で圧力をかけることにより変形可能な樹脂であればよい。第１実施形態においては、基材Ｍ１の材質の自由度が高いことから、加熱によって架橋反応を起こして硬化する熱硬化性樹脂であることが好ましい。また、被転写材Ｍ２が、光硬化性樹脂、例えば紫外線硬化性樹脂の場合、基材Ｍ１の材料は、例えば石英基板や環状オレフィン共重合体樹脂などの透明有機基材のように、紫外線透過性の材料を用いればよい。この場合、基材Ｍ１の下面側から紫外線を照射して被転写材Ｍ２を硬化させることもできる。
【００３２】
基材Ｍ１上に被転写材Ｍ２を塗布する方法は、滴下の他、インクジェット法、スピンコート法、ダイコート法などを用いることができる。
【００３３】
基材Ｍ１の形状は、特に限定されず、角板状、円板状の他に、巻取り可能なフィルム状であってもよい。ディスプレイ製品や光学部材の製造においては、大面積化や低コスト化に向く、ロール・ツー・ロール方式に適した巻取り可能なフィルム状であることが好ましい。
【００３４】
フィルム部材１１４の材料は、可撓性を有し、ナノインプリントに適用可能なものであれば用いることができる。例えば、環状オレフィン、アクリル、ＰＰ、その他の無機および有機材料を用いることができる。熱転写方式においては、被転写材Ｍ２の硬化温度以上まで安定なものであればよい。例えば、凹凸構造パターン１１４Ｃを安定して形成できる環状オレフィン共重合体樹脂などからなる材料を用いることが好ましい。
【００３５】
フィルム部材１１４の厚みは、転写面の口径に応じて、また、硬化した被転写材Ｍ２からフィルム部材１１４を引き剥がす際にフィルム部材１１４へ加わる応力によりフィルム部材１１４が破損しないよう、決定する必要がある。そのためフィルム部材１１４の厚みは、０．０５［ｍｍ］以上１［ｍｍ］以下の範囲、特に０．１［ｍｍ］以上０．３［ｍｍ］以下の範囲であることが好ましい。０．０５［ｍｍ］未満では加圧や剥離に耐える強度が不足するおそれがあり、１［ｍｍ］よりも厚いと転写時の加圧による変形安定性やコストの面で不利だからである。
【００３６】
ゲル１１２は、加圧による変形が可能で、被転写材Ｍ２の硬化温度以上まで安定なもので、フィルム部材１１４に対し化学的に安定な材料である必要がある。第１実施形態においては、加圧及び加熱に対し安定であり、フィルム部材１１４とも化学的に安定なシリコーン系の材料が好ましい。
【００３７】
隔膜１１３は、配管１０４を経て印加される流体圧Ｐをゲル１１２に転嫁するものである。流体圧Ｐが印加されないときは、ゲル１１２に力を及ぼさないことと、流体圧Ｐが印加されたときは、精度良く流体圧Ｐをゲル１１２に転嫁することが必要となる。このため、隔膜１１３は、弾力性に富むこと、ゲル１１２に対し化学的に安定なこと、被転写材Ｍ２の硬化温度以上まで安定なことが必要である。よって、隔膜１１３は、弾力性を有し、加圧及び加熱に対し安定であり、フィルム部材１１４とも化学的に安定なゴムとすることが好ましい。具体的には非ジエン系合成ゴムが好ましく、エチレンプロピレンゴムやシリコーンゴムが好適である。また、短期間の使用であればジエン系でも耐油性を持つニトリルゴムを使用してもよい。
【００３８】
また、隔膜１１３が設置される位置は、ゲル１１２の天面の中央部（中心軸）に圧力を転嫁するため、容器１１１の天面の中央部が好ましい。ゆえに、開口部Ｈ１は、容器１１１の中心軸を中心とする円形状に形成されている。
【００３９】
第１実施形態では、ゲル１１２は、ヤング率が３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下である。
【００４０】
次に、インプリント装置１００を用いたインプリント方法について説明する。第１実施形態では、インプリント方法により、基材として型本体の表面に、被転写材からなる膜を形成する型の製造方法について説明する。なお、第１実施形態の製造方法で製造する型は、光学部品（例えばレンズ）を製造する型である。第１実施形態では、光学部品の表面に反射防止機能を付与するために、型本体の表面に、微細凹凸構造を形成する。
【００４１】
図２（ａ）〜図２（ｃ）は、第１実施形態に係るインプリント方法を説明するための模式図である。図３（ａ）及び図３（ｂ）は、第１実施形態に係るインプリント方法を説明するための模式図である。
【００４２】
まず、図２（ａ）に示すように、フィルム部材１１４において凹凸構造パターン１１４Ｃが形成された表面１１４Ａに、被転写材Ｍ２が塗布された基材Ｍ１を対向して配置する（配置工程）。具体的には、基材Ｍ１に被転写材Ｍ２を塗布した後、ステージ１０１を移動させて、基材Ｍ１上の被転写材Ｍ２をフィルム部材１１４に対向させる。このとき、フィルム部材１１４の裏面１１４Ｂに接触して配置されたゲル１１２に対し、フィルム部材１１４に接触する側の端面（底面）とは反対側の端面（天面）には、圧力が付与されていない状態である。したがって、隔膜１１３、ゲル１１２、フィルム部材１１４は非変形状態である。
【００４３】
次に、図２（ｂ）に示すように、ゲル１１２の天面から、加圧装置１０３（図１）により配管１０４を介して大気圧Ｐ０から第１圧力Ｐ１（＞Ｐ０）に漸次上昇する流体圧（油圧）Ｐを付与する。隔膜１１３の端部が容器１１１に固定され、隔膜１１３に流体圧Ｐが付与されるので、隔膜１１３は、流体圧Ｐに応じて放物面状に容器１１１内部側に湾曲変形する。これにより、ゲル１１２の天面の中央部には流体圧Ｐが転嫁され、ゲル１１２が変形する。ゲル１１２の変形によりフィルム部材１１４には図２（ｂ）に示すように圧力が転嫁される。
【００４４】
そして、図２（ｃ）に示すように、ゲル１１２の天面から第１圧力Ｐ１に達した流体圧Ｐを付与する（第１押圧工程）。この第１圧力Ｐ１の流体圧Ｐを受けて隔膜１１３が弾性変形してゲル１１２の天面の中央部を押圧し、ゲル１１２が変形して、フィルム部材１１４が変形する。
【００４５】
具体的に説明すると、フィルム部材１１４の端部が容器１１１に固定されているため、圧力Ｐ１を受けて変形するゲル１１２により、フィルム部材１１４の中央部１１４Ｄ（凹凸構造パターン１１４Ｃの中央部）が基材Ｍ１側に突出するよう放物面状に変形する。このように湾曲変形した凹凸構造パターン１１４Ｃの中央部１１４Ｄが頂部である。そして、変形したフィルム部材１１４の表面１１４Ａにおける凹凸構造パターン１１４Ｃの頂部１１４Ｄが、被転写材Ｍ２に接触し被転写材Ｍ２を押圧する。
【００４６】
これは後述するゲル１１２の特性により、印加された第１圧力Ｐ１が主にフィルム部材１１４の中央部１１４Ｄに転嫁されることと、フィルム部材１１４の端部が容器１１１に固定されているために生じた現象である。つまり、開口部Ｈ１のＺ方向の延長上にあるフィルム部材１１４の部分が中央部１１４Ｄであり、その中央部１１４Ｄが圧力を集中的に受けて突出するよう変形する。
【００４７】
次に図３（ａ）に示すように流体圧Ｐをさらに増加し、第１圧力Ｐ１よりも高い圧力とする。圧力の増加分は、隔膜１１３を更に変形させ、ゲル１１２を中央部から押し出すように転嫁される。容器１１１が所定の固定位置に固定されているため、フィルム部材１１４の中央部１１４Ｄは、基材Ｍ１上の被転写材Ｍ２に接触した後は移動できない。このため増加分の圧力は、ゲル１１２内で拡散する。しかし、容器１１１は剛体のため、容器１１１に向かう圧力は反射され、最終的にフィルム部材１１４の変形移動によって相殺することになる。基材Ｍ１上の被転写材Ｍ２は、ステージ１０１により所定の固定位置に固定されているため、フィルム部材１１４の変形移動に反発する。これにより、圧力が、フィルム部材１１４の中央部１１４Ｄから端部１１４Ｅに向かうことでフィルム部材１１４全体に均一にかかり、フィルム部材１１４の表面１１４Ａに形成された凹凸構造パターン１１４Ｃの全体が被転写材Ｍ２に接触する。これにより、フィルム部材１１４の表面１１４Ａにおける凹凸構造パターン１１４Ｃの全体が被転写材Ｍ２に押圧される。図３（ａ）の状態で更に第２圧力Ｐ２まで流体圧Ｐを増加させると、フィルム部材１１４が既に被転写材Ｍ２に全面で接触しているため、凹凸構造パターン１１４Ｃの全体が、増加分の圧力で被転写材Ｍ２に押圧される（第２押圧工程）。このように増加分の圧力でフィルム部材１１４上の凹凸構造パターン１１４Ｃが被転写材Ｍ２に押し込まれ、確実な転写が実現される。
【００４８】
その後、この状態を保持したまま、図３（ｂ）に示すように、加熱装置２００により熱硬化性樹脂である被転写材Ｍ２の硬化温度まで昇温して、被転写材Ｍ２を硬化させる（硬化工程）。
【００４９】
被転写材Ｍ２が硬化した後、加熱装置２００による加熱を停止し、冷却する。最後に、流体圧Ｐを大気圧Ｐ０にし、フィルム部材１１４に掛かっていた圧力を解放し、フィルム部材１１４を硬化した被転写材Ｍ２から外して、微細な凹凸構造が転写された型ＭＡの製造が終了する。以上のインプリント方法により、反射防止機能を備えた光学部品を製造する型ＭＡが形成される。
【００５０】
次に、上述した製造方法により製造された型ＭＡを用いて光学部品を製造する。図４（ａ）及び図４（ｂ）は、第１実施形態に係る光学部品の製造方法の一部を示す説明図である。
【００５１】
図４（ａ）に示すように上下型（駒）ＭＡ，ＭＢと、胴型ＭＣとを用いて、例えば射出成型により型ＭＡ，ＭＢ，ＭＣで囲まれた空間に光学基材Ｗ１を注入して冷却固化する。そして、離型することにより、図４（ｂ）に示すような光学部品（中間生成体または最終生成体）ＷＡが形成される。光学部品ＷＡの表面には、反射防止機能を有する凹凸構造が形成されている。
【００５２】
次に、圧力の拡散を確認するための実験を行った。実験ではヤング率の異なるゲルを用意し、流体圧Ｐを変化させた時にゲルがフィルム部材１１４にどのような圧力を及ぼすかを調べた。
【００５３】
図５（ａ）は、インプリント装置で実験を行ったときの模式図である。基材Ｍ１の替わりに圧力検知シートＳ１をステージ１０１上に設置した。容器１１１には、第１実施形態のゲル１１２と、ゲル１１２よりもヤング率の低いゲル１１２Ｘと、ゲル１１２よりもヤング率の高いゲル１１２Ｙとをそれぞれ充填して実験を行った。このとき、ゲル１１２，１１２Ｘ，１１２Ｙがステージ１０１上に作用する圧力をより精密に測定するため、フィルム部材１１４を圧力検知シートＳ１に接触した状態とした。
【００５４】
図５（ｂ）は、インプリント装置で実験を行ったときの実験結果を示す図である。なお、ヤング率が２９［ｋＰａ］、３８［ｋＰａ］、１２０［ｋＰａ］、４８０［ｋＰａ］、６７０［ｋＰａ］、１４３３［ｋＰａ］のゲル１１２Ｘ，１１２，１１２Ｙをそれぞれ容器１１１に充填して実験を行った。隔膜１１３に付与した圧力は、０．２５［ＭＰａ］、０．５［ＭＰａ］、１［ＭＰａ］、２［ＭＰａ］、３［ＭＰａ］とした。
【００５５】
図５（ｂ）中の記号「×」は、圧力検知シートＳ１の中央部のみが赤色に着色、つまり圧力がかかったことを示し、端部には圧力が殆どかからなかった場合を示す。図５（ｂ）中の記号「△」は、圧力検知シートＳ１に同心円状の色ムラがあり、圧力にムラを確認されたことを示す。図５（ｂ）中の記号「○」は、圧力検知シートＳ１が単色に染まり、均一な圧力を確認されたことを示す。
【００５６】
ヤング率が２９［ｋＰａ］のゲル１１２Ｘを用いた場合、付与する流体圧Ｐが低い状態（０．２５［ＭＰａ］）であっても、圧力がフィルム部材１１４全体に広がってしまう。
【００５７】
図７（ａ）〜図７（ｃ）は、ヤング率が２９［ｋＰａ］のゲルを用いた場合の模式図である。ゲル１１２Ｘは、ヤング率が低いため、水などの非圧縮性流体と置き換えると考えやすい。図７（ａ）に示すように、隔膜１１３を介して流体圧Ｐをゲル１１２Ｘに印加すると、圧力はゲル１１２Ｘ中で拡散する。そして、ゲル１１２Ｘは容器１１１及びフィルム部材１１４の内壁面に均等な密度で作用し、広がろうとする。流体圧Ｐが増加すると、フィルム部材１１４は、端部が容器１１１に固定されているため、図７（ｂ）に示すように、中央部１１４Ｄを含む広い領域が凸状に膨らんで、圧力の増加分を吸収しようとする。その際に、フィルム部材１１４に歪みや撓みがあると、図７（ｃ）に示すように、フィルム部材１１４が複数の点で被転写材Ｍ２に接触する。このため、複数の点の間に浮き（空間）Ｆが発生する。フィルム部材１１４と被転写材Ｍ２とが近接しているほど、この現象は発生しやすい。このまま圧力が増加すると、フィルム部材１１４において浮きＦで余剰分となった部分が被転写材Ｍ２上でシワとなり、凹凸構造パターン１１４Ｃの転写不良の原因となる。
【００５８】
一方、ヤング率が６７０［ｋＰａ］以上のゲル１１２Ｙを用いた場合、付与する流体圧Ｐを高めても、圧力がフィルム部材１１４の一部分のみに掛り、フィルム部材１１４全体に均一に広がることがない。
【００５９】
図８（ａ）及び図８（ｂ）は、ヤング率が６７０［ｋＰａ］以上のゲルを用いた場合の模式図である。隔膜１１３に流体圧Ｐを印加すると、図８（ａ）に示すように、ゲル１１２Ｙに転嫁された圧力がフィルム部材１１４の中央部を押圧するように作用する。更に圧力を増加させても、圧力の増加分はゲル１１２Ｙ中で拡散せずに、フィルム部材１１４の中央部を押圧し続ける。したがって、局所的に押圧力が付与され、中央部と端部とで圧力差が生じてしまい、転写不良の原因となる。そして、更に圧力を増加させると、最終的にゲル１１２Ｙはフィルム部材１１４を突き破り、容器１１１から飛び出す。
【００６０】
この実験結果より、３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下のヤング率を有するゲル１１２が圧力を効果的にフィルム部材１１４に作用させることがわかった。特に、ゲル１１２のヤング率が３８［ｋＰａ］以上１２０［ｋＰａ］以下の場合、第１圧力Ｐ１として０．２５［ＭＰａ］を付与し、第２圧力Ｐ２として１［ＭＰａ］以上の圧力を付与するのがよいことがわかった。また、ゲル１１２のヤング率が４８０［ｋＰａ］の場合、第１圧力Ｐ１として１［ＭＰａ］を付与し、第２圧力Ｐ２として３［ＭＰａ］を付与すればよいことがわかった。第１圧力Ｐ１を付与することで、フィルム部材１１４（凹凸構造パターン１１４Ｃ）の中央部１１４Ｄを被転写材Ｍ２に接触させることができる。次いで第２圧力Ｐ２を付与することで、均一な圧力でフィルム部材１１４の凹凸構造パターン１１４Ｃ全体を被転写材Ｍ２に接触させることができる。ゲル１１２のヤング率が３８［ｋＰａ］以上１２０［ｋＰａ］以下の場合、第１圧力Ｐ１及び第２圧力Ｐ２を低くすることができるので好ましい。また、ゲル１１２のヤング率が１２０［ｋＰａ］の場合、より均一な圧力でフィルム部材１１４の凹凸構造パターン１１４Ｃ全体を被転写材Ｍ２に接触させることができるのでより好ましい。
【００６１】
以上、隔膜１１３を介して第１圧力Ｐ１をゲル１１２に印加すると、圧力は初めに隔膜１１３に対向するゲル１１２の中央部に主に作用する。したがって、フィルム部材１１４の中央部１１４Ｄが凸状に膨らみ、圧力の増加分を吸収しようとする。その際にフィルム部材１１４に歪みや撓みがあっても、ゲル１１２が中央部から膨らもうとするため、中央部の一点で被転写材Ｍ２に接触する。
【００６２】
更に流体圧Ｐが増加すると、ゲル１１２内の圧力はフィルム部材１１４からの反作用の力を受けて拡散し、容器１１１及びフィルム部材１１４の内壁面に作用し広がろうとする。その結果、フィルム部材１１４の中央部が被転写材Ｍ２に突き当り、その周囲が順次膨らみ、圧力増加分を吸収しようとする。そして、第２圧力Ｐ２でフィルム部材１１４の凹凸構造パターン１１４Ｃの全体が被転写材Ｍ２に接触する。
【００６３】
したがって、第１圧力Ｐ１から第２圧力Ｐ２に向かって流体圧Ｐを漸次上昇させると、凹凸構造パターン１１４Ｃが中央部１１４Ｄから端部１１４Ｅに向かって被転写材Ｍ２に均一な押圧力で順次垂直に侵入するので、ずれが生じるのを回避できる。そして、流体圧Ｐが第２圧力Ｐ２に到達したときには、凹凸構造パターン１１４Ｃの全体が被転写材Ｍ２に均一な圧力で押圧することになる。したがって、被転写材Ｍ２に精度よく凹凸構造を転写することができる。
【００６４】
（実施例１−１）
次に、基材Ｍ１として直径１００［ｍｍ］、厚さ０．６［ｍｍ］のＳｉウェハを用いた。このＳｉウェハの表面全域に、被転写材（樹脂層）Ｍ２として膜厚５００［ｎｍ］の紫外線硬化樹脂ＯＦＰＲ−８００（東京応化製）をスピン塗布により形成した。
【００６５】
フィルム部材１１４として、ＺＥＯＮＯＲ  Ｆｉｌｍ  ＺＦ１４（厚さ１００［μｍ］のＣＯＰ樹脂フィルム、日本ゼオン製）を用い、微細凹凸構造を有する面の大きさが１５０［ｍｍ］丸を用意した。このフィルム部材１１４の接触面６０［ｍｍ］角の領域には、凹凸構造パターン１１４Ｃとして、直径２５０［ｎｍ］、ピッチ２５０［ｎｍ］、深さ２５０［ｎｍ］のホール・パターンを形成した。
【００６６】
ゲルの収納用の円筒型の容器１１１として、天面の中央部に２０［ｍｍ］の円形の開口部Ｈ１を形成し、この開口部Ｈ１に隔膜１１３としてエチレンプロピレンゴム（厚さ１［ｍｍ］）で封止し、ゲル１１２で満たした。フィルム部材１１４は、容器１１１の底面の周端部に固定した。容器１１１内には、空気が残らないようにした。
【００６７】
モールドユニット１０２のフィルム面を下にして、上下駆動機構を備えた不図示のステージ上の支持機構に固定した。更に開口部Ｈ１に配置した隔膜１１３に、油圧機である加圧装置１０３を内径１０［ｍｍ］の配管１０４で接続し、圧力を掛けられるようにした。
【００６８】
被転写材Ｍ２を形成した基材Ｍ１をステージ１０１に固定した。モールドユニット１０２の容器１１１を不図示のステージにより基材Ｍ１に近接させた状態で位置決め固定した。フィルム部材１１４と基材Ｍ１との距離は、１［ｍｍ］のドーナツ型のステンレス板をステージ１０１とフィルム部材１１４との間に挟むことで規定した。
【００６９】
実施例１−１では、ゲル１１２としてヤング率３８［ｋＰａ］（Ｔａｉｃａ製  θ−７）のゲルを用いた。
【００７０】
次に、加圧装置１０３により隔膜１１３に流体圧（油圧）Ｐを加えた。流体圧Ｐは加圧装置１０３の油圧調節器を用いて０．１［ＭＰａ／ｓｅｃ］の速度で第２圧力Ｐ２として３０［ＭＰａ］まで連続的に増加させた。３０［ＭＰａ］到達後に加熱装置２００で１２０［℃］に昇温（基材温度を測定）し、１２０［℃］で５［分］保持した後、加熱を停止した。基材温度が室温になった後、隔膜１１３に加えていた油圧を解除し、モールドユニット１０２を上昇させて離型した。離型後の基材表面には柱状の樹脂パターンがフィルム部材１１４の凹凸構造パターン１１４Ｃに対応した位置に形成されていた。
【００７１】
ＦＥ−ＳＥＭ（ＦＥＩ製ＸＬ３０）で基材表面を観察したところ、凹凸構造の中央部で直径２４７［ｎｍ］から２４９［ｎｍ］、高さ２２０［ｎｍ］から２３０［ｎｍ］の柱状パターンが形成されていた。凹凸構造の端部も観察したが同様の結果であった。このように、中央部と端部とで均一な凹凸構造が形成されていることが確認された。
【００７２】
なお、柱状パターンの高さがフィルム部材１１４上のホール・パターン深さより低いのは、ホール内に残留した大気によるものと考えられる。また、柱状パターンの肩の部分にダレが生じていたことからも、残留した大気の影響と考えられる。
【００７３】
（実施例１−２）
実施例１−２において、実施例１−１と同じ条件で、ゲル１１２としてヤング率１２０［ｋＰａ］のゲルを用いて凹凸構造パターン１１４Ｃの転写を行った。転写後の基材表面の凹凸構造を実施例１−１と同じくＦＥ−ＳＥＭで観察したところ、実施例１−１とほとんど同じ形状が観察された。
【００７４】
（比較例１）
比較例１において、実施例１−１，１−２と同じ条件でゲル１１２Ｙとしてヤング率１４３３［ｋＰａ］のゲルを用いて凹凸構造パターン１１４Ｃの転写を行った。転写後の基材表面の凹凸構造を実施例１−１，１−２と同じくＦＥ−ＳＥＭで観察したところ、凹凸構造の中央部では、同じ形状が観察された。しかし、凹凸構造の端部では直径２４７［ｎｍ］から２４９［ｎｍ］、高さ３０［ｎｍ］から５０［ｎｍ］の柱状パターンであった。このことからゲル１１２Ｙに転嫁された圧力が分散されず、端部ではフィルム部材１１４の押圧不足が確認された。
【００７５】
［第２実施形態］
次に、本発明の第２実施形態に係るインプリント装置について説明する。図６（ａ）〜図６（ｃ）は、第２実施形態に係るインプリント装置によるインプリント方法を説明するための模式図である。なお、第２実施形態では、モールドユニット２０２の構成が第１実施形態の構成と異なり、それ以外の構成は、第１実施形態と同様である。また、ステージ１０１上には、凹形状の曲面である凹面部が形成された型本体である基材Ｍ３が載置されている。基材Ｍ３の凹面部には、被転写材Ｍ４が塗布されている。
【００７６】
モールドユニット２０２は、第１実施形態と同様、容器１１１と、隔膜１１３と、を有する。また、モールドユニット２０２は、第１実施形態と異なる形状のフィルム部材２１４と、容器１１１の内部に収容（充填）されたゲル２１２と、を有している。
【００７７】
フィルム部材２１４は、非加圧状態で表面２１４Ａが基材Ｍ３上に塗布した被転写材Ｍ４に向かって突出する凸形状となるように形成されている。表面２１４Ａには、凹凸構造パターン２１４Ｃが形成されており、裏面２１４Ｂには、ゲル２１２が接触している。
【００７８】
基材Ｍ３の材料は、ナノインプリントに適用可能なものであれば用いることができる。但し、凹凸構造が形成される転写面が曲面形状をしているため、金属、ガラス、セラミックスなど剛性の高いものが好ましい。また、ディスプレイ製品や光学部材の製造においては、透明な基材であることが好ましい。例えば、ガラスなどの透明無機基材、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、環状オレフィン共重合体樹脂などの透明有機基材が好ましい。但し、剛性が足りない場合、凹凸構造の転写時に圧力で破損する可能性がある。この場合には剛性を補強する構成が必要になる。基材Ｍ３の形状は微細凹凸構造の転写面に影響しなければ特に限定しない。
【００７９】
フィルム部材２１４の曲率は、基材Ｍ３の凹面部の曲率に応じて設定される。仮にフィルム部材２１４の曲率が基材Ｍ３の曲率よりも小さい場合、フィルム部材２１４が基材Ｍ３の側壁に接触してしまい、フィルム部材２１４を基材Ｍ３に近接することができない。また、仮にフィルム部材２１４の曲率が大きすぎる場合、ゲル２１２に圧力をかけフィルム部材２１４を基材Ｍ３に接触させる際の引き伸ばし量が大きく、フィルム部材２１４上の凹凸構造パターン２１４Ｃが変形してしまう。したがって、フィルム部材２１４は、基材Ｍ３の凹面部の曲率よりも少し大きい曲率に成形してある。
【００８０】
レンズなど光学部品ＷＡ（図４（ｂ））の曲面へ微細な凹凸構造を形成する場合、微細凹凸構造の変化は光学特性に影響を及ぼす。光学部品ＷＡに反射防止機能を付与する場合、１０［％］以下の歪みにすることが求められ、好適には６［％］以下の歪みにするのがよい。
【００８１】
ゲル２１２は、第１実施形態と同様、ヤング率が３８［ｋＰａ］以上４８０［ｋＰａ］以下である。
【００８２】
以下、第２実施形態のインプリント方法について説明する。第２実施形態では、インプリント方法により、基材Ｍ３として型本体の表面に、被転写材Ｍ４からなる膜を形成して型ＭＢを製造する製造方法について説明する。第２実施形態の製造方法で製造する型ＭＢは、光学部品ＷＡ（図４（ｂ））を製造する型である。第２実施形態では、光学部品ＷＡの表面に反射防止機能を付与するために、型本体の表面に、微細な凹凸構造を形成する。
【００８３】
まず、図６（ａ）に示すように、フィルム部材２１４において凹凸構造パターン２１４Ｃが形成された表面２１４Ａに、被転写材Ｍ４が塗布された基材Ｍ３を対向して配置する（配置工程）。具体的には、基材Ｍ３に被転写材Ｍ４を塗布した後、ステージ１０１を移動させて、基材Ｍ３上の被転写材Ｍ４をフィルム部材２１４に対向させる。このとき、フィルム部材２１４の裏面２１４Ｂに接触して配置されたゲル２１２に対し、フィルム部材２１４に接触する側の端面（底面）とは反対側の端面（天面）には、圧力が付与されていない状態である。したがって、隔膜１１３、ゲル２１２、フィルム部材２１４は非変形状態である。
【００８４】
次に、図６（ｂ）に示すように、ゲル２１２の天面から、配管１０４を介して大気圧Ｐ０から第１圧力Ｐ１に漸次上昇する流体圧（油圧）Ｐを付与する。隔膜１１３の端部が容器１１１に固定され、隔膜１１３に流体圧Ｐが付与されるので、隔膜１１３は、流体圧Ｐに応じて放物面状に容器１１１内部側に湾曲変形する。これにより、ゲル２１２の天面の中央部には流体圧Ｐが転嫁され、ゲル２１２が変形する。ゲル２１２の変形によりフィルム部材２１４には圧力が転嫁される。そして、ゲル２１２の天面から第１圧力Ｐ１に達した流体圧Ｐを付与する（第１押圧工程）。この第１圧力Ｐ１の流体圧Ｐを受けて隔膜１１３が弾性変形してゲル２１２の天面の中央部を押圧し、ゲル２１２が変形して、フィルム部材２１４が変形する。
【００８５】
具体的に説明すると、フィルム部材２１４の端部が容器１１１に固定されているため、第１圧力Ｐ１を受けて変形するゲル２１２により、フィルム部材２１４の中央部２１４Ｄ（凹凸構造パターン２１４Ｃの中央部）が基材Ｍ３側に突出するよう変形する。このように湾曲変形した凹凸構造パターン２１４Ｃの中央部２１４Ｄが頂部である。そして、変形したフィルム部材２１４の表面２１４Ａにおける凹凸構造パターン２１４Ｃの頂部２１４Ｄが、被転写材Ｍ４に接触し被転写材Ｍ４を押圧する。
【００８６】
次に図６（ｃ）に示すように流体圧Ｐをさらに増加し、第１圧力Ｐ１よりも高い第２圧力Ｐ２とする（第２押圧工程）。圧力の増加分は、隔膜１１３を更に変形させ、ゲル２１２を中央部から押し出すように転嫁される。容器１１１が所定の固定位置に固定されているため、フィルム部材２１４の中央部２１４Ｄは、基材Ｍ３上の被転写材Ｍ４に接触した後は移動できない。このため増加分の圧力は、ゲル２１２内で拡散する。しかし、容器１１１は剛体のため、容器１１１に向かう圧力は反射され、最終的にフィルム部材２１４の変形移動によって相殺することになる。基材Ｍ３上の被転写材Ｍ４は、ステージ１０１により所定の固定位置に固定されているため、フィルム部材２１４の変形移動に反発する。これにより、圧力が、フィルム部材２１４の中央部２１４Ｄから端部２１４Ｅに向かうことでフィルム部材２１４全体に均一にかかり、フィルム部材２１４の表面２１４Ａに形成された凹凸構造パターン２１４Ｃの全体が被転写材Ｍ４に接触する。これにより、フィルム部材２１４の表面２１４Ａにおける凹凸構造パターン２１４Ｃの全体が被転写材Ｍ４に押圧されて押し込まれ、転写が実現される。
【００８７】
その後、この状態を保持したまま、加熱装置２００により熱硬化性樹脂である被転写材Ｍ４の硬化温度まで昇温して、被転写材Ｍ４を硬化させる（硬化工程）。
【００８８】
被転写材Ｍ４が硬化した後、加熱装置２００による加熱を停止し、冷却する。最後に、流体圧Ｐを大気圧Ｐ０にし、フィルム部材２１４に掛かっていた圧力を解放し、フィルム部材２１４を硬化した被転写材Ｍ４から外して、微細な凹凸構造が転写された型ＭＢの製造が終了する。以上のインプリント方法により、反射防止機能を備えた光学部品を製造する型ＭＢが形成される。
【００８９】
次に、第１実施形態と同様、上述した製造方法により製造された型ＭＢを用いて光学部品ＷＡを製造する（図４（ａ）及び図４（ｂ））。
【００９０】
以上、隔膜１１３を介して第１圧力Ｐ１をゲル２１２に印加すると、圧力は初めに隔膜１１３に対向するゲル２１２の中央部に主に作用する。したがって、フィルム部材２１４の中央部２１４Ｄが凸状に膨らみ、圧力の増加分を吸収しようとする。その際にフィルム部材２１４に歪みや撓みがあっても、ゲル２１２が中央部から膨らもうとするため、中央部の一点で被転写材Ｍ４に接触する。
【００９１】
更に流体圧Ｐが増加すると、ゲル２１２内の圧力はフィルム部材２１４からの反作用の力を受けて拡散し、容器１１１及びフィルム部材２１４の内壁面に作用し広がろうとする。その結果、フィルム部材２１４の中央部が被転写材Ｍ４に突き当り、その周囲が順次膨らみ、圧力増加分を吸収しようとする。そして、第２圧力Ｐ２でフィルム部材２１４の凹凸構造パターン２１４Ｃの全体が被転写材Ｍ４に接触する。
【００９２】
したがって、第１圧力Ｐ１から第２圧力Ｐ２に向かって流体圧Ｐを漸次上昇させると、凹凸構造パターン２１４Ｃが中央部２１４Ｄから端部２１４Ｅに向かって被転写材Ｍ４に均一な押圧力で順次垂直に侵入するので、ずれが生じるのを回避できる。そして、流体圧Ｐが第２圧力Ｐ２に到達したときには、凹凸構造パターン２１４Ｃの全体が被転写材Ｍ４に均一な圧力で押圧することになる。したがって、被転写材Ｍ４に精度よく凹凸構造を転写することができる。
【００９３】
（実施例２）
次に、基材Ｍ３として、直径４０［ｍｍ］、半開角３０［度］の光学レンズ射出成型用のステンレス製の凹面部を有する面型を用いた。基材Ｍ３の表面全域に、被転写材（樹脂層）Ｍ４として膜厚５００［ｎｍ］の紫外線硬化樹脂ＯＦＰＲ−８００（東京応化製）をスピン塗布により形成した。
【００９４】
フィルム部材２１４として、ＺＥＯＮＯＲ  Ｆｉｌｍ  ＺＦ１４（厚さ１００［μｍ］の環状オレフィン樹脂フィルム、日本ゼオン製）を用い、微細凹凸構造を有する面の大きさが１００［ｍｍ］丸を用意した。このフィルム部材２１４の接触面には、実施例１と同様に、凹凸構造パターン２１４Ｃとして、直径２５０［ｎｍ］、ピッチ２５０［ｎｍ］、深さ２５０［ｎｍ］のホール・パターンを形成した。
【００９５】
次にフィルム部材２１４をフリーブロー成型法でおおよそ３０［度］の半開角を持つ凸形状に成形した。このとき、凹凸構造パターン２１４Ｃが凸側の面上となるようにした。同じものを複数製作し、その中から基材Ｍ３に押圧される面の端部で外周が６［％］小さく成形されたものを用いた。フィルム部材２１４は、容器１１１の底面の周端部に固定した。容器１１１の天面中央部に形成された開口部からゲル２１２を注ぎ、空気が容器１１１内に残留しないようにエチレンプロピレンゴムの隔膜１１３で封止した。
【００９６】
モールドユニット２０２のフィルム面を下にして、上下駆動機構を備えた不図示のステージ上の支持機構に固定した。更に隔膜１１３に油圧機である加圧装置１０３を内径１０［ｍｍ］の配管１０４で接続し、圧力を掛けられるようにした。
【００９７】
被転写材Ｍ４を形成した基材Ｍ３をステージ１０１に固定した。モールドユニット２０２の容器１１１を不図示のステージにより基材Ｍ３に近接させた状態で位置決め固定した。フィルム部材２１４と基材Ｍ３との距離は、０．３５［ｍｍ］のドーナツ型のステンレス板を基材Ｍ３の縁とフィルム部材２１４との間に挟むことで規定した。
【００９８】
実施例２では、ゲル２１２としてヤング率３８［ｋＰａ］（Ｔａｉｃａ製  θ−７）のゲルを用いた。インプリント方法の各工程は実施例１−１と同じである。
【００９９】
次に凹面部に凹凸構造が形成されたステンレス製の型を、実施例１−１と同様にＦＥ−ＳＥＭで観察した。凹面部の中央部で直径２４７［ｎｍ］から２４９［ｎｍ］、高さ２２０［ｎｍ］から２３０［ｎｍ］の柱状パターンが形成されていた。凹面部の端部でも観察したが同様の結果であった。なお、柱状パターンの肩の部分にダレが生じていた。このように、中央部と端部とで均一な凹凸構造が形成されていることが確認された。
【０１００】
なお、本発明は、以上説明した実施形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想内で多くの変形が可能である。また、上述の実施例において、具体例を挙げて説明したが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。また、本発明の実施形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施形態に記載されたものに限定されない。
【０１０１】
上述した実施形態では、インプリント方法により光学部品を製造する型を製造する場合について説明したが、これに限定するものではない。上述したインプリント方法により、基材として光学部品本体の表面に、凹凸構造が転写された被転写材からなる膜（例えば反射防止膜）を形成する場合であってもよい。
【符号の説明】
【０１０２】
１００…インプリント装置、１０３…加圧装置、１１１…容器、１１２…ゲル、１１４…フィルム部材、１１４Ｃ…凹凸構造パターン、Ｈ１…開口部（第１開口部）、Ｈ２…開口部（第２開口部）、Ｍ１…基材、Ｍ２…被転写材
【図１】
2017174960.tif 000003
【図２】
2017174960.tif 000004
【図３】
2017174960.tif 000005
【図４】
2017174960.tif 000006
【図５】
2017174960.tif 000007
【図６】
2017174960.tif 000008
【図７】
2017174960.tif 000009
【図８】
2017174960.tif 000010