(57)【要約】【課題】表示画質を向上させることが可能な表示装置を提供する。【解決手段】この表示装置は、２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素と、複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層とを備える。カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さくなっている。【選択図】図１
2017009625.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層と
を備え、
前記カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい
表示装置。
【請求項２】
前記複数のカラーフィルタは、前記中央部からの距離が大きくなるに従って、前記画素の中心位置からのシフト量が大きく、かつ厚みが小さくなるように構成されている
請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記カラーフィルタ層の厚みは、前記中央部から前記周辺部に向かって階段状に変化する
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第２基板は、前記発光素子の側に、階段状に深さが変化する凹みを有し、
前記カラーフィルタ層は前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成されている
請求項３に記載の表示装置。
【請求項５】
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第１基板は、前記発光素子の側に、階段状に深さが変化する凹みを有し、
前記発光素子は、前記第１基板上に前記凹みの形状に倣って配置され、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成されている
請求項３に記載の表示装置。
【請求項６】
前記カラーフィルタ層の厚みは、前記中央部から前記周辺部に向かってなだらかに変化する
請求項２に記載の表示装置。
【請求項７】
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第２基板は、前記発光素子の側に、なだらかに深さが変化する凹みを有し、
前記カラーフィルタ層は、前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成されている
請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第１基板は、前記発光素子の側に、なだらかに深さが変化する凹みを有し、
前記発光素子は、前記第１基板上に前記凹みの形状に倣って配置され、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成されている
請求項６に記載の表示装置。
【請求項９】
前記発光素子を駆動する画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第２基板の前記発光素子側の面の、前記中央部に親水性の領域を、前記周辺部に疎水性の領域をそれぞれ有する
請求項６に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記複数の画素に対向する１のレンズを更に備えた
請求項１に記載の表示装置。
【請求項１１】
２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素を形成し、
前記複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層を形成し、
前記カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい
表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記複数のカラーフィルタは、前記中央部からの距離が大きくなるに従って、前記画素の中心位置からのシフト量が大きく、かつ厚みが小さくなるように形成される
請求項１１に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１３】
前記カラーフィルタ層の厚みを、前記中央部から前記周辺部に向かって階段状に変化させる
請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１４】
画素回路を含む第１基板上に前記発光素子を形成し、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置される第２基板に、階段状に深さが変化する凹みを形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成される
請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１５】
画素回路を含む第１基板に、階段状に深さが変化する凹みを形成し、
前記第１基板上に、前記凹みの形状に倣って前記発光素子を形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成される
請求項１３に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１６】
前記カラーフィルタ層の厚みを、前記中央部から前記周辺部に向かってなだらかに変化させる
請求項１２に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１７】
画素回路を含む第１基板上に前記発光素子を形成し、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置される第２基板に、なだらかに深さが変化する凹みを形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成される
請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１８】
画素回路を含む第１基板に、なだらかに深さが変化する凹みを形成し、
前記第１基板上に、前記凹みの形状に倣って前記発光素子を形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成される
請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項１９】
画素回路を含む第１基板上に前記発光素子を形成し、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置される第２基板に、前記中央部に親水性の領域を、前記周辺部に疎水性の領域をそれぞれ有する機能層を形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記機能層上にその表面の濡れ性を利用して形成される
請求項１６に記載の表示装置の製造方法。
【請求項２０】
２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層と
を備え、
前記カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい
表示装置を備えた電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、例えばカメラのビューファインダあるいはヘッドマウントディスプレイ等に好適な表示装置、表示装置の製造方法および電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機電界発光（ＥＬ：Electro Luminescence）素子のような発光素子を用いた小型の表示装置では、接眼レンズを介して表示面が直視される。そのため、表示装置の視野角（輝度および色）が広いほど接眼レンズの構成枚数が少なくなる。ところが、視野角を広くしていくと、表示領域内の周辺部に配置された画素から発光した光は、筐体等の周辺構造物によって遮られてしまう。この結果、表示領域内の周辺部では光量が低下する。
【０００３】
このような周辺部での光量低下は、カメラ等に用いられるイメージセンサにおいても生じる。イメージセンサでは、カメラ本体のレンズが、イメージセンサ上に焦点が合うように配置されており、このレンズを透過した光が、画素上に設けられた集光レンズおよびカラーフィルタを介してフォトダイオードに到達することで、光が検出される。イメージセンサの受光面内の周辺部では、斜め方向から急な角度で画素に光が入射する一方で、一部の光はレンズの鏡筒にけられてしまう。そのため、周辺部の画素内で集光される位置は、画素の中心位置に比べ、外側になる。そこで、イメージセンサでは、受光面内の周辺部において画素位置（中心位置）をシフトさせることで、感度を維持できるようにしている。このような手法（いわゆる瞳補正）が、イメージセンサなどの撮像装置において提案されている（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１−２１３０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、表示装置では、撮像装置とは構成要素が異なることから、上記のような瞳補正の手法をそのまま採用することはできない。したがって、表示装置において、表示領域内の周辺部における光量低下を抑制し、表示画質を向上することが可能な手法の実現が望まれている。
【０００６】
本開示はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、表示画質を向上させることが可能な表示装置およびその製造方法ならびに電子機器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本開示の表示装置は、２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素と、複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層とを備えたものである。カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい。
【０００８】
本開示の表示装置の製造方法は、２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素を形成し、複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層を形成するものである。カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい。
【０００９】
本開示の電子機器は、上記本開示の表示装置を備えたものである。
【００１０】
本開示の表示装置および表示装置の製造方法ならびに電子機器では、カラーフィルタ層において、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置される。これにより、周辺部の画素から出射した光が周囲の構造物においてけられにくくなり、周辺部における光量低下が抑制される。ここで、周辺部に配置されたカラーフィルタの厚みが中央部に配置されたカラーフィルタよりも小さいことにより、周辺部におけるカラーフィルタの透過光の光路長と、中央部におけるカラーフィルタの透過光の光路長との差が低減される。
【発明の効果】
【００１１】
本開示の表示装置および表示装置の製造方法ならびに電子機器では、カラーフィルタ層において、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置される。これにより、表示領域内の周辺部における光量低下を抑制できる。また、周辺部に配置されたカラーフィルタの厚みが中央部に配置されたカラーフィルタよりも小さいことにより、周辺部におけるカラーフィルタの透過光の光路長と、中央部におけるカラーフィルタの透過光の光路長との差を低減でき、これによって輝度低下および色度変化を抑制することができる。よって、表示画質を向上させることが可能となる。
【００１２】
尚、上記内容は本開示の一例である。本開示の効果は、上述したものに限らず、他の異なる効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本開示の一実施の形態に係る表示装置の構成を表す断面図である。
【図２】図１に示した表示装置の使用状態例を表す断面図である。
【図３】図１に示したカラーフィルタの位置シフトを説明するための模式図である。
【図４Ａ】中央部に配置された画素のカラーフィルタの位置と厚みを説明するための断面図である。
【図４Ｂ】周辺部に配置された画素のカラーフィルタの位置と厚みを説明するための断面図である。
【図５】カラーフィルタ層の構成の一例を表す断面図である。
【図６】表示装置の製造方法を表す流れ図である。
【図７Ａ】図５に示したカラーフィルタ層の形成方法を説明するための断面図である。
【図７Ｂ】図７Ａに続く工程を表す断面図である。
【図７Ｃ】図７Ｂに続く工程を表す断面図である。
【図７Ｄ】図７Ｃに続く工程を表す断面図である。
【図７Ｅ】図７Ｄに続く工程を表す断面図である。
【図８Ａ】図７Ｅに続く工程を表す断面図である。
【図８Ｂ】図８Ａに続く工程を表す断面図である。
【図９Ａ】表示装置の、接眼レンズまでの距離と大きさと視野角との関係について説明するための模式図である。
【図９Ｂ】表示装置の、接眼レンズまでの距離と大きさと視野角との関係について説明するための模式図である。
【図９Ｃ】表示装置の、接眼レンズまでの距離と大きさと視野角との関係について説明するための模式図である。
【図９Ｄ】表示装置の、接眼レンズまでの距離と大きさと視野角との関係について説明するための模式図である。
【図１０】比較例１に係る表示装置の作用を説明するための模式図である。
【図１１】図１に示した表示装置の作用を説明するための模式図である。
【図１２Ａ】比較例２に係る表示装置の周辺部の画素の出射光を表す模式図である。
【図１２Ｂ】比較例２に係る表示装置の中央部の画素の出射光を表す模式図である。
【図１３】撮像装置で用いられるカラーフィルタ層の分光特性を表す特性図である。
【図１４】表示装置で用いられるカラーフィルタ層の分光特性を表す特性図である。
【図１５Ａ】図１に示した表示装置の周辺部の画素の出射光を表す模式図である。
【図１５Ｂ】図１に示した表示装置の中央部の画素の出射光を表す模式図である。
【図１６】比較例１に係る表示装置の表示画像の模式図である。
【図１７】図１に示した表示装置の表示画像の模式図である。
【図１８Ａ】変形例１に係るカラーフィルタ層の形成方法を説明するための断面図である。
【図１８Ｂ】図１８Ａに続く工程を表す断面図である。
【図１８Ｃ】図１８Ｂに続く工程を表す断面図である。
【図１８Ｄ】図１８Ｃに続く工程を表す断面図である。
【図１９】変形例２に係るカラーフィルタ層の構成を表す断面図である。
【図２０】変形例３に係るカラーフィルタ層の構成を表す断面図である。
【図２１】変形例４に係るカラーフィルタ層の構成を表す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本開示の実施の形態について、図面を参照して詳細に説明する。なお、説明は以下の順序で行う。
１．実施の形態（周辺部において位置がオフセットされて配置されると共に、厚みが階段状に変化するカラーフィルタ層を有する表示装置の例）
２．変形例１（厚みがなだらかに変化するカラーフィルタ層の例）
３．変形例２（第１基板側に、底面が階段状の凹みを形成した場合の例）
４．変形例３（第１基板側に、底面がなだらかに傾斜する凹みを形成した場合の例）
５．変形例４（濡れ性の制御によりカラーフィルタ層の厚みを変化させる場合の例）
【００１５】
＜実施の形態＞
［構成］
図１は、本開示の一の実施の形態に係る表示装置（表示装置１）の断面構成を表すものである。表示装置１は、例えば有機ＥＬ表示装置から構成され、例えばカメラのビューファインダあるいはヘッドマウントディスプレイ等の電子機器に搭載される小型の表示装置である。表示装置１は、例えば図２に示したように、接眼レンズ２０と組み合わされた状態で、使用される（電子機器に搭載される）。ユーザは、表示装置１から出射された表示光Ｌを、接眼レンズ２０を通して見ることとなる。接眼レンズ２０は、複数の画素Ｐに対向して設けられた１のレンズ（レンズユニット）であり、表示装置１の視野角特性およびパネルサイズに応じて、１または複数枚のレンズを含んで構成されている。
【００１６】
この表示装置１は、表示領域（有効画素領域）に、例えばマトリクス状に２次元配置された複数の画素（サブピクセル）Ｐを有している。表示領域の周辺には、画素Ｐをアクティブマトリクス駆動するための信号線駆動回路、走査線駆動回路および電源線駆動回路などが設けられている。
【００１７】
各画素Ｐは、例えば赤（波長６２０ｎｍ〜７５０ｎｍ），緑（波長４９５ｎｍ〜５７０ｎｍ）および青（波長４５０ｎｍ〜４９５ｎｍ）の３色のいずれかのサブピクセルに相当するものである。画素Ｐは、例えば有機ＥＬ素子等の発光素子１０を含む。発光素子１０は、第１基板１１上に形成されると共に、第１基板１１の側から順に、例えば第１電極１２、有機層１３および第２電極１４を有している。第２電極１４上には、図示しない保護膜を介して、カラーフィルタ層１５および第２基板１６がこの順に配置されている。
【００１８】
第１基板１１は、画素Ｐ（発光素子１０）の画素回路を含み、例えばガラス、シリコン（Ｓｉ）あるいは樹脂などからなる基板上に、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ：Thin Film Transistor）、保持容量素子および各種配線などが形成されたものである。この第１基板１１は、例えば、表面が平坦化膜（図示せず）によって覆われており、この平坦化膜上に、第１電極１２が設けられている。
【００１９】
第１電極１２は、たとえばアノードとして機能するものである。この第１電極１２は、画素Ｐ毎に分離して設けられ、第１基板１１に設けられた画素回路と電気的に接続されている。第１電極１２の構成材料としては、例えば光反射性をもつ導電膜材料、具体的にはクロム（Ｃｒ），金（Ａｕ），白金（Ｐｔ），ニッケル（Ｎｉ），銅（Ｃｕ），モリブデン（Ｍｏ），タングステン（Ｗ），チタン（Ｔｉ），タンタル（Ｔａ）および銀（Ａｇ）などのうちのいずれかの金属元素の単体、またはそれらのうちの少なくとも１種を含む合金が挙げられる。
【００２０】
この第１電極１２上には、図示はしないが、表示領域の全体にわたって有機絶縁膜（画素分離膜）が形成されている。有機絶縁膜には、第１電極１２に対向して開口が設けられ、この開口を通じて第１電極１２と有機層１３とが電気的に接続される。
【００２１】
有機層１３は、発光層（有機電界発光層）を含むものである。ここでは、有機層１３は、各画素Ｐに共通の白色発光層を含んでいる。但し、有機層１３は、発光層の他にも例えば正孔輸送層（ＨＴＬ：Hole Transport Layer）、正孔注入層（ＨＩＬ：Hole Injection Layer）および電子輸送層（ＥＴＬ：Electron Transport Layer）などを含んでいてもよい。また、有機層１３と第２電極１４との間には、例えばＬｉＦなどの電子注入層（ＥＩＬ：Electron Injection Layer）が設けられていてもよい。
【００２２】
第２電極１４は、例えばカソードとして機能するものである。この第２電極１４は、光透過性を有し、各画素Ｐに共通の電極として形成されている。第２電極１４は、例えばＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）またはＺｎＯ（酸化亜鉛）などの透明導電膜を含んで構成されている。
【００２３】
カラーフィルタ層１５は、画素Ｐ毎に（各画素Ｐに対応して）、複数色（例えばＲ，Ｇ，Ｂ）のいずれかのカラーフィルタを有している。カラーフィルタ層１５では、隣り合うカラーフィルタ同士の間の領域（画素間の領域）にブラックマトリクス（遮光層）が形成されている。本実施の形態では、カラーフィルタ層１５において、表示領域内の周辺部におけるカラーフィルタがシフトして配置されている（オフセットされている）。望ましくは、中央部から周辺部に向かって徐々にシフト量が増すように、各カラーフィルタの位置がオフセットされている。
【００２４】
図３は、カラーフィルタの平面構成を模式的に表したものである。尚、図３におけるａ１〜ａ９は各画素Ｐの第１電極１２を、ｂ１〜ｂ９は各画素Ｐに配置されたカラーフィルタを、それぞれ表す。また、図４Ａには、表示領域１１０内の中央部に配置された画素Ｐの断面構成を、図４Ｂには、表示領域１１０内の周辺部に配置された画素Ｐの断面構成を、それぞれ示す。ここでは、第１電極１２の中心位置を画素Ｐの中心位置として説明する。
【００２５】
このように、表示領域１１０の中央部に配置された画素Ｐでは、第１電極１２（ａ１）とカラーフィルタ１５Ａ１（ｂ１）とが正対しており、即ち、画素Ｐ（第１電極ａ１）の中心位置ａ１１とカラーフィルタ１５Ａ１（ｂ１）との中心位置ｂ１１とが一致している。
【００２６】
一方、周辺部に配置された画素Ｐでは、第１電極１２（ａ２）とカラーフィルタ１５Ａ２（ｂ２）とが正対せず、画素Ｐ（第１電極ａ２）の中心位置ａ２１とカラーフィルタ１５Ａ２（ｂ２）との中心位置ｂ２１が一致していない。即ち、カラーフィルタ１５Ａ２（ｂ２）は、画素Ｐの中心位置からシフトして配置されている。具体的には、画素Ｐ内において、カラーフィルタ１５Ａ２（ｂ２）が表示領域の中央部寄りの位置に配置されている（第１電極ａ２が周辺部寄りの位置に配置されている）。
【００２７】
本実施の形態では、カラーフィルタ層１５において、カラーフィルタの厚みが面内で異なっている。具体的には、表示領域の周辺部に配置されたカラーフィルタ１５Ａ２（ｂ２）では、中央部に配置されたカラーフィルタ１５Ａ１（ｂ１）に比べ、厚みが小さくなっている。尚、周辺部に配置された他のカラーフィルタｂ３〜ｂ９についても、カラーフィルタｂ２と同様、画素Ｐの中心位置からシフトして配置されると共に、中央部のカラーフィルタｂ１よりも厚みが小さくなっている。
【００２８】
また、カラーフィルタ層１５では、中央部からの距離が大きくなるに従って、カラーフィルタの画素Ｐの中心位置からのシフト量が大きく、かつ厚みが小さくなるように構成されている。例えば、各カラーフィルタの厚みは、表示領域の中央部から周辺部に向かって、階段状またはなだらかに変化するように構成されている。
【００２９】
図５に、上記のようなカラーフィルタ層１５の一例を示す。このように、本実施の形態では、例えば、各カラーフィルタの厚みが、中央部から周辺部に向かって階段状に小さくなるように構成されている。この例では、Ｒ，Ｇ，Ｂの３つの画素Ｐの群（画素群Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ１４）毎に厚みが変化している。中央部に配置された画素群Ｐ１１におけるカラーフィルタ１５１，１５２，１５３の厚みが最も大きく（ｔ１１）、周辺部に近づくに従って（画素群Ｐ１２，Ｐ１３，Ｐ１４では）、カラーフィルタ１５１，１５２，１５３の厚みが徐々に小さくなっている（ｔ１１＞ｔ１２＞ｔ１３＞ｔ１４）。尚、カラーフィルタの厚みは、ここでは、３つの画素Ｐからなる画素群毎に変化しているが、２つあるいは４つ以上の画素Ｐを含む画素群毎に変化してもよいし、１つの画素Ｐ毎に変化してもよい。
【００３０】
このカラーフィルタ層１５は、例えば第２基板１６の発光素子１０側の面に設けられた凹み（段差）１６ａを利用して形成されている。凹み１６ａでは、階段状に深さが変化している。カラーフィルタ層１５の第２基板１６側の面は、その第２基板１６の凹み１６ａの形状に倣い、カラーフィルタ層１５の発光素子１０側の面は、略平坦となっている。このカラーフィルタ層１５の形成方法については後述する。
【００３１】
第２基板２０は、例えばガラス、シリコンまたは樹脂などにより構成されている。本実施の形態では、この第２基板２０の発光素子１０側の面が加工されており、例えば階段状に深さが変化する凹み１６ａ（段差）が形成されている。
【００３２】
［製造方法］
上記のような表示装置１は例えば次のようにして製造することができる。図６に、表示装置１の製造方法の流れについて示す。このように、第１基板１１を作製し（ステップＳ１１）、その後、第２基板１６を作製する（ステップＳ１２）。尚、第１基板１１と第２基板１６との作製工程は、同時でもよいし、逆でもよい。この後、第１基板１１上に表示素子１０を形成し（ステップＳ１３）、第２基板１６を貼り合わせる。これにより、表示装置１を完成する。
【００３３】
ここで、図５に示したカラーフィルタ層１５を形成する場合、上記のステップＳ１２において、例えば次のようにして第２基板１６を作製する。即ち、まず、図７Ａに示したように、上述した材料よりなる第２基板１６の一面に、フォトレジスト膜１２０を形成し、画素群Ｐ１１に相当する領域に開口を形成する。この後、図７Ｂに示したように、フォトレジスト膜１２０をマスクとしたエッチングを行った後、フォトレジスト膜１２０を除去する。続いて、図７Ｃに示したように、第２基板１６上に、フォトレジスト膜１２１を形成し、画素群Ｐ１１，Ｐ１２に相当する領域に開口を形成した後、このフォトレジスト膜１２１をマスクとしたエッチングを行う。エッチング後、フォトレジスト膜１２１を除去する。同様にして、図７Ｄに示したように、第２基板１６上に、フォトレジスト膜１２２を形成し、画素群Ｐ１１，Ｐ１２，Ｐ１３に相当する領域に開口を形成した後、このフォトレジスト膜１２２をマスクとしたエッチングを行う。このようにして、複数回にわたってエッチングを行うことで、図７Ｅに示したように、階段状の凹み１６ａを形成する。
【００３４】
次に、図８Ａに示したように、第２基板１６の凹み１６ａが形成されている面に、カラーフィルタ材料（例えば緑色カラーフィルタの材料）１５２ａを塗布する。これにより、カラーフィルタ材料１５２ａは、第２基板１６上に、凹み１６ａを平坦化するように埋め込み形成される。この後、図８Ｂに示したように、形成したカラーフィルタ材料をパターニングすることにより、画素群Ｐ１１〜Ｐ１４毎に厚みを変化させつつ、カラーフィルタ１５２を形成することができる。他の色のカラーフィルタ（１５１，１５３）も同様にして形成することで、図５に示したようなカラーフィルタ層１５を形成することができる。
【００３５】
［作用，効果］
本実施の形態の表示装置１では、発光素子１０の第１電極１１および第２電極１４を通じて有機層１３に駆動電流が印加されると、有機層１３において発光を生じる。この発光光は、カラーフィルタ層１５を通過することで、例えばＲ，Ｇ，Ｂのいずれかの色光となって、第２基板１６の上方へ出射する。このようにして映像表示がなされる。
【００３６】
ここで、本実施の形態の表示装置１では、例えば表示された映像は、図９Ａに示したように、接眼レンズ２０を介して直視される。そのため、図９Ｂに示したように、表示装置１の視野角が広いほど接眼レンズの構成枚数が少なくなる。ところが、図９Ｃに示したように、表示装置１のパネルサイズが接眼レンズ２０に対して大きくなると、接眼レンズ２０と表示装置１との間の距離が大きくなり、小型化が難しい。そこで、図９Ｄに示したように、視野角を広くすることで、接眼レンズ２０との距離を縮め、小型化（あるいは薄型化）を図ることができる。
【００３７】
しかしながら、接眼レンズ２０に対して視野角を広くしていくと、次のような不具合がある。図１０は、比較例１に係る表示装置１００を接眼レンズ１０１と共に模式的に表したものである。このように、表示領域内の中央部に配置された画素から出射した光Ｌ１０１は、接眼レンズ１０１に入射するが、周辺部に配置された画素から出射した光の一部（光Ｌ１０２）は、筐体等の周辺構造物１０２によって遮られてしまう（接眼レンズ１０２へ入射しない）。この結果、表示領域内の周辺部では光量が低下する。
【００３８】
これに対し、本実施の形態では、カラーフィルタ層１５において、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタが画素Ｐの中心位置からシフトして配置されている。詳細には、カラーフィルタが中央部側にシフトして、かつ中央部から離れるに従ってそのシフト量が大きくなるように配置されている。これにより、周辺部に配置された画素から出射した光Ｌ２は、周辺構造物２１によってけられにくく、中央部に配置された画素Ｐから出射した光Ｌ１と同様に、接眼レンズ２０へ入射する。よって、表示用域の周辺部における光量の低下を抑制することができる。
【００３９】
この一方で、表示領域内の周辺部においてカラーフィルタの位置をシフトさせた場合、次のような不具合が生じる。図１２Ａは、比較例２に係る表示装置の周辺部に配置された画素の出射光を、図１２Ｂは、比較例２に係る表示装置の中央部に配置された画素の出射光を、それぞれ表すものである。比較例２の表示装置では、第１基板１０３上に、第１電極１０４、有機層１０５および第２電極１０６がこの順に配置されている。第２電極１０６上には、カラーフィルタ１０７Ａを介して第２基板１０８が配置されている。このような構成において、周辺部のカラーフィルタ１０７Ａの位置をシフトさせた場合、周辺部のカラーフィルタ１０７Ａを透過（通過）する光Ｌ１０２（図１２Ａ）の光路長が、中央部のカラーフィルタ１０７Ａを透過する光Ｌ１０１（図１２Ｂ）の光路長よりも長くなる。具体的には、中央部では、光Ｌ１０１がカラーフィルタ１０７Ａを垂直方向に沿って透過する一方で、周辺部では、光Ｌ１０２がカラーフィルタ１０７Ａを斜め方向に沿って透過する。このため、中央部と周辺部との間においてカラーフィルタの透過光の光路長に差が生じる。
【００４０】
ここで、表示装置では、イメージセンサ等に用いられる撮像装置に比べ、カラーフィルタの特性に起因して輝度の低下および色度点の変化が生じ易い。これは、以下のような理由による。即ち、撮像装置の場合、集光した光がどのような色であるか分類するために、カラーフィルタの分光特性は、図１３に示したように、ブロードな透過幅を持っており、かつ各帯域同士が重なっている。このため、撮像装置において瞳補正を行う場合、ＯＣＬ（オンチップレンズ）あるいはＯＣＣＦ（オンチップカラーフィルタ）の位置を調整しても、カラーフィルタの特性に対応することができる。一方、表示装置では、カラーフィルタを透過した後の光は、図１４に示したように、Ｒ，Ｇ，Ｂの各色の色度点に近い波長で、かつ波長幅はできるだけ狭いほうが良いとされている。したがって、表示装置では、光がカラーフィルタを透過する際、その透過距離が長くなると、光の減衰量が多くなる。このように、表示装置では、撮像装置と異なり、カラーフィルタの位置調整だけを行った場合、色度点および輝度が変化してしまう。
【００４１】
そこで、本実施の形態では、周辺部に配置されたカラーフィルタの厚みが、中央部に配置されたカラーフィルタよりも小さくなるように構成されている。これにより、周辺部のカラーフィルタ１５Ａ２を斜め方向に沿って透過する光Ｌ２（図１５Ａ）の光路長と、中央部のカラーフィルタ１５Ａ１を垂直方向に沿って透過する光Ｌ１（図１５Ｂ）の光路長との差が軽減される。
【００４２】
これにより、比較例１に比べ、周辺部における光量低下を抑制しつつ、輝度低下および色度の変化を抑制することができる。図１６に比較例１の表示映像について、図１７に本実施の形態の表示映像についてそれぞれ模式的に示す。このように本実施の形態では、比較例１に比べ、面内輝度を均一化することができる。
【００４３】
以上のように本実施の形態では、カラーフィルタ層１５において、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素Ｐの中心位置からシフトして配置される。これにより、表示領域内の周辺部における光量低下を抑制できる。また、周辺部に配置されたカラーフィルタの厚みが中央部に配置されたカラーフィルタよりも小さいことにより、周辺部におけるカラーフィルタの透過光の光路長と、中央部におけるカラーフィルタの透過光の光路長との差を低減でき、これによって輝度低下および色度変化を抑制することができる。よって、表示画質を向上させることが可能となる。
【００４４】
次に、上記実施の形態の変形例について説明する。以下では、上記実施の形態と同様の構成要素については、同一の符号を付し、適宜その説明を省略する。
【００４５】
＜変形例１＞
図１８Ａ〜図１８Ｄは、変形例１に係るカラーフィルタ層（カラーフィルタ層１５Ｂ）の形成手法を工程順に表したものである。上記実施の形態では、カラーフィルタ層１５の厚みが階段状に変化した構成を例示したが、カラーフィルタ層の厚みの変化は、本変形例のようになだらかであってもよい。この場合にも、第２基板１６の発光素子１０側の面を加工し、所定の凹み（凹みｃ２）を形成することで、厚みの変化するカラーフィルタ層１５Ｂを形成することができる。
【００４６】
具体的には、まず、図１８Ａに示したように、第２基板１６の一面側にフォトレジスト膜１２３を成膜し、パターニングした後、図１８Ｂに示したようにフォトレジスト膜１２３をマスクとしてエッチングを行うことにより、凹部ｃ１を所定のパターン（大きさ、数および密度等）で形成する。この後、フォトレジスト膜１２３を剥離し、図１８Ｃに示したように、第２基板１６の凹部ｃ1の形成面を研磨することにより、なだらかに深さが変化する凹みｃ２（湾曲面）を形成する。このとき、凹部ｃ1の形成箇所では基板が削られ易く、研磨が進み易い。これを利用して、凹みｃ２の深さがなだらかに変化するように、凹部ｃ１をパターン形成する。続いて、図１８Ｄに示したように、形成した凹みｃ２を埋め込みつつ平坦化するように、カラーフィルタ層１５Ｂを塗布形成する。カラーフィルタ層１５Ｂは、第２基板１６側の面が、凹みｃ２の形状に倣って形成されると共に、反対側の面が平坦な面となっている。これにより、中央部から周辺部に向かってなだらかに厚みが変化する（小さくなる）カラーフィルタ層１５Ｂが形成される。
【００４７】
上記実施の形態のカラーフィルタ層１５に代えて、本変形例のようなカラーフィルタ層１５Ｂを用いてもよく、この場合にも、上記実施の形態と同様、中央部と周辺部との間において、カラーフィルタの透過光の光路長の差を軽減することができる。よって、上記実施の形態と同等の効果を得ることができる。
【００４８】
＜変形例２＞
図１９は、変形例２に係るカラーフィルタ層（カラーフィルタ層１５Ｃ）の断面構成を表したものである。上記実施の形態では、第２基板１６を加工してこの加工面にカラーフィルタ層を形成したが、第１基板１１を加工して同様の凹みを形成してもよい。具体的には、第１基板１１の発光素子１０側の面に階段状に深さが変化する凹み１１ａが形成されていてもよい。発光素子１０は、この凹み１１ａの形状に倣って形成され、カラーフィルタ層１５Ｃは、発光素子１０上に、凹み１１ａを平坦化するように形成されている。
【００４９】
このように、第１基板１１が、階段状に深さが変化する凹み１１ａを有していてもよい。この凹み１１ａを平坦化するようにカラーフィルタ層１５Ｃが形成されることで、カラーフィルタ層１５Ｃの厚みを、中央部から周辺部に向かって階段状に変化させる（小さくする）ことができる。
【００５０】
上記実施の形態のカラーフィルタ層１５に代えて、本変形例のようなカラーフィルタ層１５Ｃを用いてもよく、この場合にも、上記実施の形態と同様、中央部と周辺部との間において、カラーフィルタの透過光の光路長の差を軽減することができる。よって、上記実施の形態と同等の効果を得ることができる。
【００５１】
＜変形例３＞
図２０は、変形例３に係るカラーフィルタ層（カラーフィルタ層１５Ｄ）の断面構成を表したものである。上記変形例１では、第２基板１６を加工してこの加工面にカラーフィルタ層を形成したが、第１基板１１を加工して同様の凹みを形成してもよい。具体的には、第１基板１１の発光素子１０側の面になだらかに深さが変化する凹みｃ３が形成されていてもよい。発光素子１０は、この凹みｃ３の形状に倣って形成され、カラーフィルタ層１５Ｄは、発光素子１０上に、凹みｃ３を平坦化するように形成されている。
【００５２】
このように、第１基板１１が、なだらかに深さが変化する凹みｃ３を有していてもよい。この凹みｃ３を平坦化するようにカラーフィルタ層１５Ｄが形成されることで、カラーフィルタ層１５Ｄの厚みを、中央部から周辺部に向かってなだらかに変化させる（小さくする）ことができる。
【００５３】
上記実施の形態のカラーフィルタ層１５に代えて、本変形例のようなカラーフィルタ層１５Ｄを用いてもよく、この場合にも、上記実施の形態と同様、中央部と周辺部との間において、カラーフィルタの透過光の光路長の差を軽減することができる。よって、上記実施の形態と同等の効果を得ることができる。
【００５４】
＜変形例４＞
図２１は、変形例４に係るカラーフィルタ層（カラーフィルタ層１５Ｅ）の断面構成を表したものである。上記実施の形態および変形例１〜３では、カラーフィルタ層の厚みを変化させるために、第１基板１１あるいは第２基板１６に凹みを形成したが、本変形例では、第２基板１６の表面の濡れ性を制御する。具体的には、第２基板１６の一面に、表面処理等により、親水領域１６１と疎水領域１６２とが形成される。疎水領域１６２は、親水領域１６１を囲んで形成される。この第２基板１６上に、カラーフィルタ層１５Ｅが塗布形成されると、表面張力によって、中央部から周辺部に向かってなだらかに厚みが変化する湾曲形状を形成することができる。
【００５５】
このように、濡れ性を利用してカラーフィルタ層１５Ｅの厚みを、中央部から周辺部に向かってなだらかに変化させる（小さくする）ことも可能である。
【００５６】
上記実施の形態のカラーフィルタ層１５に代えて、本変形例のようなカラーフィルタ層１５Ｅを用いてもよく、この場合にも、上記実施の形態と同様、中央部と周辺部との間において、カラーフィルタの透過光の光路長の差を軽減することができる。よって、上記実施の形態と同等の効果を得ることができる。
【００５７】
以上、実施の形態および変形例を挙げて説明したが、本開示は上記実施の形態等に限定されるものではなく、種々変形が可能である。例えば、上記実施の形態等では、発光素子として、有機ＥＬ素子を用いた場合を例に挙げたが、発光素子（表示素子）としては、この他にも、発光ダイオードなどの様々な自発光素子を用いることができる。
【００５８】
更に、上記実施の形態等に記載した各層の材料および厚みは列挙したものに限定されるものではなく、他の材料および厚みとしてもよい。また、表示装置では、上述した全ての層を備えている必要はなく、あるいは上述した各層に加えて更に他の層を備えていてもよい。また、上記実施の形態等において説明した効果は一例であり、他の効果であってもよいし、更に他の効果を含んでいてもよい。
【００５９】
尚、本開示は以下のような構成であってもよい。
（１）
２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層と
を備え、
前記カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい
表示装置。
（２）
前記複数のカラーフィルタは、前記中央部からの距離が大きくなるに従って、前記画素の中心位置からのシフト量が大きく、かつ厚みが小さくなるように構成されている
上記（１）に記載の表示装置。
（３）
前記カラーフィルタ層の厚みは、前記中央部から前記周辺部に向かって階段状に変化する
上記（２）に記載の表示装置。
（４）
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第２基板は、前記発光素子の側に、階段状に深さが変化する凹みを有し、
前記カラーフィルタ層は前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成されている
上記（３）に記載の表示装置。
（５）
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第１基板は、前記発光素子の側に、階段状に深さが変化する凹みを有し、
前記発光素子は、前記第１基板上に前記凹みの形状に倣って配置され、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成されている
上記（３）に記載の表示装置。
（６）
前記カラーフィルタ層の厚みは、前記中央部から前記周辺部に向かってなだらかに変化する
上記（２）に記載の表示装置。
（７）
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第２基板は、前記発光素子の側に、なだらかに深さが変化する凹みを有し、
前記カラーフィルタ層は、前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成されている
上記（６）に記載の表示装置。
（８）
画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第１基板は、前記発光素子の側に、なだらかに深さが変化する凹みを有し、
前記発光素子は、前記第１基板上に前記凹みの形状に倣って配置され、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成されている
上記（６）に記載の表示装置。
（９）
前記発光素子を駆動する画素回路を含む第１基板と、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置された第２基板と
を備え、
前記第２基板の前記発光素子側の面の、前記中央部に親水性の領域を、前記周辺部に疎水性の領域をそれぞれ有する
上記（６）に記載の表示装置。
（１０）
前記複数の画素に対向する１のレンズを更に備えた
上記（１）〜（９）のいずれか１つに記載の表示装置。
（１１）
２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素を形成し、
前記複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層を形成し、
前記カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい
表示装置の製造方法。
（１２）
前記複数のカラーフィルタは、前記中央部からの距離が大きくなるに従って、前記画素の中心位置からのシフト量が大きく、かつ厚みが小さくなるように形成される
上記（１１）に記載の表示装置の製造方法。
（１３）
前記カラーフィルタ層の厚みを、前記中央部から前記周辺部に向かって階段状に変化させる
上記（１２）に記載の表示装置の製造方法。
（１４）
画素回路を含む第１基板上に前記発光素子を形成し、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置される第２基板に、階段状に深さが変化する凹みを形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成される
上記（１３）に記載の表示装置の製造方法。
（１５）
画素回路を含む第１基板に、階段状に深さが変化する凹みを形成し、
前記第１基板上に、前記凹みの形状に倣って前記発光素子を形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成される
上記（１３）に記載の表示装置の製造方法。
（１６）
前記カラーフィルタ層の厚みを、前記中央部から前記周辺部に向かってなだらかに変化させる
上記（１２）に記載の表示装置の製造方法。
（１７）
画素回路を含む第１基板上に前記発光素子を形成し、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置される第２基板に、なだらかに深さが変化する凹みを形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記凹みを埋め込むと共に平坦化して形成される
上記（１６）に記載の表示装置の製造方法。
（１８）
画素回路を含む第１基板に、なだらかに深さが変化する凹みを形成し、
前記第１基板上に、前記凹みの形状に倣って前記発光素子を形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記発光素子上に、前記凹みを平坦化するように形成される
上記（１６）に記載の表示装置の製造方法。
（１９）
画素回路を含む第１基板上に前記発光素子を形成し、
前記発光素子を間にして前記第１基板と対向配置される第２基板に、前記中央部に親水性の領域を、前記周辺部に疎水性の領域をそれぞれ有する機能層を形成し、
前記カラーフィルタ層は、前記機能層上にその表面の濡れ性を利用して形成される
上記（１６）に記載の表示装置の製造方法。
（２０）
２次元配置されると共に各々が発光素子を含む複数の画素と、
前記複数の画素のそれぞれに対向して複数色のうちのいずれかのカラーフィルタを有するカラーフィルタ層と
を備え、
前記カラーフィルタ層の複数のカラーフィルタのうち、表示領域内の周辺部に配置されたカラーフィルタは、対応する画素の中心位置からシフトして配置されると共に、表示領域内の中央部に配置されたカラーフィルタよりも厚みが小さい
表示装置を備えた電子機器。
【符号の説明】
【００６０】
１…表示装置、１０…発光素子、１１…第１基板、１２，ａ１〜ａ９…第１電極、１３…有機層、１４…第２電極、１５，１５Ｂ，１５Ｃ，１５Ｄ，１５Ｅ…カラーフィルタ層、１５Ａ１，１５Ａ２，１５１，１５２，１５３，ｂ１〜ｂ９…カラーフィルタ、１６…第２基板、１６ａ，１１ａ，ｃ２，ｃ３…凹み、２０…接眼レンズ、Ｐ…画素。
【図１】
2017009625.tif 000003
【図２】
2017009625.tif 000004
【図３】
2017009625.tif 000005
【図４Ａ】
2017009625.tif 000006
【図４Ｂ】
2017009625.tif 000007
【図５】
2017009625.tif 000008
【図６】
2017009625.tif 000009
【図７Ａ】
2017009625.tif 000010
【図７Ｂ】
2017009625.tif 000011
【図７Ｃ】
2017009625.tif 000012
【図７Ｄ】
2017009625.tif 000013
【図７Ｅ】
2017009625.tif 000014
【図８Ａ】
2017009625.tif 000015
【図８Ｂ】
2017009625.tif 000016
【図９Ａ】
2017009625.tif 000017
【図９Ｂ】
2017009625.tif 000018
【図９Ｃ】
2017009625.tif 000019
【図９Ｄ】
2017009625.tif 000020
【図１０】
2017009625.tif 000021
【図１１】
2017009625.tif 000022
【図１２Ａ】
2017009625.tif 000023
【図１２Ｂ】
2017009625.tif 000024
【図１３】
2017009625.tif 000025
【図１４】
2017009625.tif 000026
【図１５Ａ】
2017009625.tif 000027
【図１５Ｂ】
2017009625.tif 000028
【図１６】
2017009625.tif 000029
【図１７】
2017009625.tif 000030
【図１８Ａ】
2017009625.tif 000031
【図１８Ｂ】
2017009625.tif 000032
【図１８Ｃ】
2017009625.tif 000033
【図１８Ｄ】
2017009625.tif 000034
【図１９】
2017009625.tif 000035
【図２０】
2017009625.tif 000036
【図２１】
2017009625.tif 000037