(57)【要約】      （修正有）【課題】膜割れを抑制または防止できる光学制御フィルムおよび光学制御体を提供する。【解決手段】ハードコート層４、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む熱線吸収層２、およびポリマーを含む熱線反射層３がこの順で配置されてなる光学制御フィルム１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハードコート層、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む熱線吸収層、およびポリマーを含む熱線反射層がこの順で配置されてなる光学制御フィルム。
【請求項２】
前記熱線吸収層の少なくとも一方の面に樹脂フィルムが配置される、請求項１に記載された光学制御フィルム。
【請求項３】
前記ハードコート層が最外層に配置され、かつ他方の最外層に粘着層が配置される、請求項１または２に記載の光学制御フィルム。
【請求項４】
前記粘着層が紫外線吸収剤を含有する、請求項３に記載の光学制御フィルム。
【請求項５】
前記ハードコート層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５いずれかの光学制御フィルムを用いた光学制御体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学制御フィルムおよびこれを用いた光制御体に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー対策への関心が高まり、建物や車両の窓ガラスから、太陽光の熱線の透過を遮断する近赤外光反射フィルムの開発が行われるようになっている。これにより冷房設備にかかる負荷を減らすことができ、省エネルギー対策として有効である。
【０００３】
近年、基材上に、高屈折率層および低屈折率層を含む光反射層が配置された積層膜が、特定波長の光を選択的に反射させることが理論的に裏付けられた。そこで、上記の積層膜は、所定の波長を有する光を遮蔽する光学反射フィルムとして種々の用途に使用されている。例えば、可視光を透過しつつ、熱線となる赤外線を遮蔽する積層膜は、赤外遮蔽フィルムとして建築物の窓や車両用部材に用いられている。
【０００４】
また、熱線吸収剤を含有した膜を塗布した赤外遮蔽フィルムも知られている。例えば、特許文献１には、タングステン酸化物および／または複合タングステン酸化物を含む熱線吸収層と、当該タングステン酸化物以外の金属酸化物を含む熱線反射層と、を有する熱線遮蔽ガラスが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−２１５４５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に記載の熱線遮蔽ガラスでは、複層ガラスではなくガラスに後貼りして使用すると、熱線吸収層に含まれるタングステン酸化物微粒子（熱線吸収粒子）が直接太陽光を吸収、発熱して、熱による膜収縮が生じ、フィルム（特に熱線吸収層）の割れを引き起こすという問題があった。
【０００７】
したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、膜割れ、特に熱線吸収層の割れを抑制または防止できる光学制御フィルムおよび光学制御体を提供することを目的とする。
【０００８】
本発明の他の目的は、ハードコート層の割れを抑制または防止できる光学制御フィルムおよび光学制御体を提供することを目的とする。
【０００９】
本発明のさらなる他の目的は、熱線遮蔽性に優れる光学制御フィルムおよび光学制御体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、ハードコート層とポリマーを含む熱線反射層との間に、タングステン酸化物や複合タングステン酸化物を含む熱線吸収層を配置することによって、上記課題を解決できることを知得し、本発明を完成させた。
【００１１】
すなわち、上記諸目的は、ハードコート層、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む熱線吸収層、および熱線反射層がこの順で配置されてなる光学制御フィルムによって達成できる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光学制御フィルムによれば、膜割れ、特に熱線吸収層の割れを抑制または防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１Ａは、本発明の第一の実施形態に係る光学制御フィルムの概略断面図であり、図１Ｂは、当該光学制御フィルムを用いてなる光学制御体の概略断面図である。
【図２】図２Ａは、本発明の第二の実施形態に係る光学制御フィルムの概略断面図であり、図２Ｂは、当該光学制御フィルムを用いてなる光学制御体の概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の光学制御フィルムは、ハードコート層、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方を含む熱線吸収層、およびポリマーを含む熱線反射層がこの順で配置されてなる。本明細書では、「タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方」を一括して「タングステン酸化物等」とも称する。また、「ポリマーを含む熱線反射層」は単に「熱線反射層」または「反射層」とも称する。同様にして、「熱線吸収層」は単に「吸収層」とも称する。
【００１５】
本発明は、ハードコート層と熱線反射層との間に、タングステン酸化物等を含む熱線吸収層を配置することを特徴とする。当該構成をとることによって、光学制御フィルムの構成部材である熱線吸収層の熱収縮による膜割れを抑制または防止できる。本発明の光学制御フィルムが効果を奏する詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。なお、本発明は下記メカニズムに何ら拘束されるものではない。
【００１６】
熱線の供給が太陽光から直接または間接的に供給される場合を例にして説明する。
【００１７】
まず、太陽光が入射する側に熱線反射層が配置される場合には、熱線反射層が熱線（赤外線）の透過を抑制するため、熱線吸収層に侵入する熱線（赤外線）量が低減する。このため、熱線吸収層に含まれるタングステン酸化物等の熱線（赤外線）の吸収による発熱が抑制または防止される。これにより、熱線吸収層の熱による収縮（熱収縮）を低減し、結果として熱線吸収層の割れ（熱割れ）を抑制または防止できる。特にハードコート層が熱線吸収層上に配置される場合には、熱線吸収層の割れの抑制／防止効果により、ハードコート層の割れも抑制または防止できる。
【００１８】
他方、太陽光が入射する側にハードコート層が配置される場合には、ハードコート層が硬いため、ハードコート層上に位置する熱線吸収層が割れ（熱割れ）により形状を変化しようとしても、ハードコート層は形状変化の影響を受けにくく、結果として熱線吸収層の熱収縮時に生じる応力が緩和されて、熱線吸収層の熱割れを抑制または防止する。なお、太陽光が入射する側にハードコート層が配置される場合において、上記効果は、紫外線吸収剤を含む粘着層が熱線吸収層（特にハードコート層）より太陽光が入射する側に配置される場合により顕著に発揮される。
【００１９】
また、タングステン酸化物等は光、水分により変色する性質がある。しかしながら、熱線吸収層をハードコート層と熱線反射層との間に設置することによって、外部の影響を受けにくくなるため、耐候性、特に色調の変化をも抑制または防止できる。
【００２０】
したがって、本発明の光学制御フィルムは、膜割れや色調の変化が少なくまたはなく、耐候性に優れる。ゆえに、本発明の光学制御フィルムは、建築物の窓や車両用部材などに設置される熱線遮蔽フィルム（赤外遮蔽フィルム）として好適に使用できる。
【００２１】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態に係る光学制御フィルム（図１Ａ）および当該光学制御フィルムを用いてなる光学制御体（図１Ｂ）の概略断面図である。図１Ａの光学制御フィルム１は、ハードコート層４、樹脂フィルム６、熱線吸収層２、樹脂フィルム５および熱線反射層３がこの順で積層されてなる。また、図１Ｂの光学制御体１０は、図１Ａの光学制御フィルム１の熱線反射層３上に、さらに粘着層７および基体８がこの順で積層されてなる。
【００２３】
図２は、本発明の他の実施形態に係る光学制御フィルム（図２Ａ）および当該光学制御フィルムを用いてなる光学制御体（図２Ｂ）の概略断面図である。図２Ａの光学制御フィルム１は、熱線反射層３、樹脂フィルム５、熱線吸収層２およびハードコート層４がこの順で積層されてなる。また、図２Ｂの光学制御体１０は、図２Ａの光学制御フィルム１のハードコート層４上に、さらに粘着層７および基体８がこの順で積層されてなる。
【００２４】
本発明において、樹脂フィルム５、６は、必ずしも必須の構成要件ではないが、図１、２に示されるように、熱線吸収層の少なくとも一方の面に樹脂フィルムが配置されることが好ましい。すなわち、樹脂フィルムは、熱線吸収層２と熱線反射層３との間または熱線吸収層２とハードコート層４との間に配置されることが好ましい。より好ましくは、樹脂フィルムは、少なくとも熱線吸収層２と熱線反射層３との間に配置され、図１に示されるように、樹脂フィルムが、熱線吸収層２と熱線反射層３との間および熱線吸収層２とハードコート層４との間双方に配置されることが特に好ましい。このような構成をとることによって、光、水分等の外部の影響をより受けにくくなるため、耐候性、特に色調の変化をより有効に抑制または防止できる。
【００２５】
また、光学制御フィルムの設置方法は特に制限されない。例えば、光学制御フィルムを熱線遮蔽フィルムとして窓ガラスに使用する場合には、太陽光が光学制御フィルムのハードコート層側または熱線反射層側から入射するように、設置されてもよい。好ましくは、図１に示されるように、太陽光が、光学制御フィルム１の熱線反射層３側から入射するように、光学制御フィルム１を設置することが好ましい。すなわち、ハードコート層が最外層に配置され、かつ他方の最外層に粘着層が配置されることが好ましい。このような形態では、例えば、光学制御フィルムを室内側の窓ガラス面に粘着層を介して貼り合わせる場合には、粘着層が太陽光入射側に配置され、他方の最外層にハードコート層が配置される形態となる。当該形態の場合には太陽光が入射する側に熱線反射層が配置されるため、熱線吸収層に侵入する熱線（赤外線）量をより有効に低減する。このため、熱線吸収層に含まれるタングステン酸化物等の熱線（赤外線）の吸収量がより低減され、結果として熱線吸収層の割れ（熱割れ）をより有効に抑制または防止できる。
【００２６】
本発明の光学制御フィルムが粘着層を有する場合、粘着層上に、さらに剥離層（図示せず）を設け、基体に貼りつける際に、この剥離層を剥がすようにしてもよい。また、他の層（例えば、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易粘着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上）を単独もしくは適当に組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
本発明の光学制御フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２〜３１５μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。
【００２８】
以下、下記構成部材の好ましい形態について詳細に説明する。
【００２９】
（熱線反射層）
本発明において、光学制御フィルムは、ポリマーを含む熱線反射層を有する。熱線反射層は、熱線（赤外線）の侵入を防ぐことができる限り、特に制限されない。熱線反射層は、屈折率の異なる層の積層体である、即ち、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層された積層体であることが好ましい。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。
【００３０】
熱線反射層は、ポリマーを含む。このようにポリマーを用いることにより、金属酸化物材料のみで形成される無機膜の熱線反射層に比して層の柔軟性が向上するため、膜割れを有効に防ぐことができる。また、各層間の密着性を向上させることができる。さらに、塗布等により熱線反射層を製膜できるため、均一でかつ大面積な製膜が容易である。また、製膜速度を上げることができるため、製造コストや量産の点からも好ましい。加えて、高温で製膜する必要がないため、基材の選択範囲が広く、温度変化による熱線反射層と他の層（例えば、熱線吸収層、樹脂フィルム）との間のまたは熱線反射層（積層形態の場合）間の収縮率差に起因する層の剥離を有効に防止できる。さらに、ポリマーを含む熱線吸収層は、上述したように、柔軟性に優れるため、柔軟な基板に対しても適用でき、曲げ部分などに割れやキズなどの発生を抑制できる。なお、熱線反射層は、ポリマーに加えて、例えば、金属酸化物材料、その他の添加剤等の他の物質を含んでもよい。ここで、金属酸化物材料としては、可視光を透過し、熱線（赤外線）を反射するものであれば特に制限されない。具体的には、高屈折率層に使用される金属酸化物材料として、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、Ｔａ２Ｏ５等が挙げられ、低屈折率層に使用される金属酸化物材料として、ＳｉＯ２、ＭｇＦ２等が挙げられる。
【００３１】
より好ましくは、熱線反射層は、ポリマーを含む高屈折率層およびポリマーを含む低屈折率層が積層された積層体（ユニット）を少なくとも１つ有する。以下では、上記より好ましい形態について説明する。
【００３２】
前記高屈折率層と前記低屈折率層とは、以下のように考える。例えば、高屈折率層を構成する成分（以下、高屈折率層成分）と低屈折率層を構成する成分（以下、低屈折率層成分）とが、ふたつの層の界面で混合され、高屈折率層成分と低屈折率層成分とを含む層（混合層）が形成される場合がある。この場合、混合層において、高屈折率層成分が５０質量％以上である部位の集合を高屈折率層とし、低屈折率層成分が５０質量％を超える部位の集合を低屈折率層とする。具体的には、低屈折率層が、例えば、低屈折率成分として第１の金属酸化物を、また、高屈折率層は高屈折率成分として第２の金属酸化物を含有している場合、これらの積層膜における膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルを測定し、その組成によって、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。積層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで観測することが出来る。また、低屈折率成分または高屈折率成分に金属酸化物粒子が含有されておらず、高屈折率層または低屈折率層の一方が水溶性樹脂（有機バインダー）のみから形成されている積層体においても、同様にして、水溶性樹脂（有機バインダー）濃度プロファイルにて、例えば、膜厚方向での炭素濃度を測定することにより混合領域が存在していることを確認し、さらにその組成をＥＤＸにより測定することで、スパッタでエッチングされた各層が、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。
【００３３】
前記反射層は、ポリマーを含む高屈折率層および低屈折率層が交互に積層された積層体（ユニット）を少なくとも１つ以上有する構成であればよいが、高屈折率層および低屈折率層の層数（屈折率層の総数）は、特に制限はないが、好ましくは６〜２０００（すなわち、３〜１０００ユニット）であり、より好ましくは１０〜１０００（すなわち、５〜５００ユニット）であり、さらに好ましくは１０〜５００（すなわち、５〜２５０ユニット）である。層数が２０００を超えるとヘイズが高くなり、６未満であると所望の反射率に達しないことがある。また、本発明の光学制御フィルムは、上記基材上にユニットを少なくとも１つ以上有する構成であればよい。例えば、積層膜の最下層および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の隣接層（例えば、基体、熱線吸収層）への密着性、最上層の吹かれ耐性に優れるという観点から、最下層および最表層が低屈折率層である層構成が好ましい。
【００３４】
熱線反射層において、高屈折率層は、より高い屈折率が好ましいが、屈折率が、好ましくは１．７０〜２．５０であり、より好ましくは１．８０〜２．２０である。また、低屈折率層は、より低い屈折率が好ましいが、屈折率が、好ましくは１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５５であり、さらに好ましくは１．３０〜１．５０である。
【００３５】
熱線反射層においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で熱線反射率を高くすることができる観点から好ましい。高屈折率層および低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上であり、さらに好ましくは０．２５以上である。熱線反射層が低屈折率層および高屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、熱線反射層の最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
【００３６】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率（赤外遮蔽率）９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下する。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度である。
【００３７】
上記屈折率は、高屈折率層、低屈折率層の屈折率を下記の方法に従って求め、両者の差分として求める。すなわち、（必要により基材を用いて）各屈折率層を単層で作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
【００３８】
また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎ・ｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率をアップさせることができる。
【００３９】
本発明の光学制御フィルムは反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。即ち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。近赤外反射フィルムの場合、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８で示される可視光領域の５５０ｎｍでの透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることがさらに好ましい。また、１２００ｎｍでの透過率が３５％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。かような好適な範囲となるように光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。また、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００４０】
太陽光の入射スペクトルのうち赤外域が特に室内温度上昇に関係するため、近赤外光を遮蔽することが室内温度の上昇を抑えるのに特に有効である。日本工業規格ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長（７６０ｎｍ）から最長波長３２００ｎｍまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長７６０ｎｍから最長波長３２００ｎｍまでの赤外全域の総エネルギーを１００としたときの、７６０ｎｍから各波長までの累積エネルギーをみると、７６０から１３００ｎｍのエネルギー合計が赤外域全体の約７５％を占めている。従って、１３００ｎｍまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。
【００４１】
低屈折率層及び高屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３００ｎｍであることがさらにより好ましく、１００〜２００ｎｍであることが特に好ましい。低屈折率層および高屈折率層の厚みは、同じであってもまたは異なるものであってもよい。各屈折率層の１層あたりの厚みは、ダイスの押出口におけるフィルム厚さ方向の幅を変更すること、および／または延伸条件により、調節することができる。なお、積層体を延伸する場合は、上記膜厚は延伸後の厚さを示す。
【００４２】
屈折率層及び高屈折率層で使用されるポリマーは特に制限されない。各屈折率層は、塗布やスピンコートなどの成膜方法でポリマーを用いて形成できる。これらの方法は簡便であり、基材の耐熱性を問わないので選択肢が広く、特に樹脂基材に対して有効な成膜方法といえる。たとえば塗布型ならばロール・ツー・ロール法などの大量生産方式が採用でき、コスト面でもプロセス時間面でも有利になる。また、ポリマー材料を含む膜はフレキシブル性が高いため、生産時や運搬時に巻き取りを行っても、これらの欠陥が発生しづらく、取扱性に優れているという長所がある。
【００４３】
屈折率層に含まれるポリマーは、特に制限されず、特表２００２−５０９２７９号公報（米国特許第６，０４９，４１９号明細書に相当する）に記載のものを用いることができる。具体例としては、例えば、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）およびその異性体（例えば、２，６−、１，４−、１，５−、２，７−および２，３−ＰＥＮ）、ポリアルキレンテレフタレート（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、およびポリ−１，４−シクロヘキサンジメチレンテレフタレート）、ポリイミド（例えば、ポリアクリルイミド）、ポリエーテルイミド、アタクチックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリメタクリレート（例えば、ポリイソブチルメタクリレート、ポリプロピルメタクリレート、ポリエチルメタクリレート、およびポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ））、ポリアクリレート（例えば、ポリブチルアクリレート、およびポリメチルアクリレート）、セルロース誘導体（例えば、エチルセルロース、アセチルセルロース、セルロースプロピオネート、アセチルセルロースブチレート、および硝酸セルロース）、ポリアルキレンポリマー（例えば、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリブチレン、ポリイソブチレン、およびポリ（４−メチル）ペンテン）、フッ素化ポリマー（例えば、パーフルオロアルコキシ樹脂、ポリテトラフルオロエチレン、フッ素化エチレンプロピレンコポリマー、ポリフッ化ビニリデン、およびポリクロロトリフルオロエチレン）、塩素化ポリマー（例えば、ポリ塩化ビニリデンおよびポリ塩化ビニル）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリアクリロニトリル、ポリアミド、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリ酢酸ビニル、ポリエーテルアミド、アイオノマー樹脂、エラストマー（例えば、ポリブタジエン、ポリイソプレンおよびネオプレン）、ならびにポリウレタンが挙げられる。コポリマー、例えば、ＰＥＮのコポリマー［例えば、（ａ）テレフタル酸もしくはそのエステル、（ｂ）イソフタル酸もしくはそのエステル、（ｃ）フタル酸もしくはそのエステル、（ｄ）アルカングリコール、（ｅ）シクロアルカングリコール（例えば、シクロヘキサンジメタノールジオール）、（ｆ）アルカンジカルボン酸、および／または（ｇ）シクロアルカンジカルボン酸（例えば、シクロヘキサンジカルボン酸）と２，６−、１，４−、１，５−、２，７−、および／または２，３−ナフタレンジカルボン酸またはそれらのエステルとのコポリマー］、ポリアルキレンテレフタレートのコポリマー［例えば、（ａ）ナフタレンジカルボン酸もしくはそのエステル、（ｂ）イソフタル酸もしくはそのエステル、（ｃ）フタル酸もしくはそのエステル、（ｄ）アルカングリコール、（ｅ）シクロアルカングリコール（例えば、シクロヘキサンジメタノールジオール）、（ｆ）アルカンジカルボン酸、および／または（ｇ）シクロアルカンジカルボン酸（例えば、シクロヘキサンジカルボン酸）と、テレフタル酸もしくはそのエステルとのコポリマー］、並びにスチレンコポリマー（例えば、スチレン−ブタジエンコポリマー、およびスチレン−アクリロニトリルコポリマー）、４，４−ビス安息香酸およびエチレングリコールも適している。さらに、各層はそれぞれ、２種またはそれ以上の上記のポリマーまたはコポリマーのブレンド（例えば、シンジオタクチックポリスチレン（ＳＰＳ）とアタクチックポリスチレンとのブレンド）を包含してよい。本形態において、高屈折率層および低屈折率層を形成するポリマーの好ましい組み合わせとしては、ＰＥＮ／ＰＭＭＡ、ＰＥＴ／ＰＭＭＡ、ＰＥ／ＰＭＭＡ、ＰＥ／ポリフッ化ビニリデン、ＰＥＮ／ポリフッ化ビニリデン、ＰＥＮ／ＰＥＴ、ＰＥＮ／ポリブチレンテレフタレート等が挙げられる。
【００４４】
屈折率層に含まれるポリマーの重量平均分子量は、１００００〜１００００００程度であり、５００００〜８０００００であることが好ましい。なお、重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した値を採用する。
【００４５】
また、屈折率層中、ポリマーの含有量は、各屈折率層の全固形分に対して、例えば、３０〜１００質量％であり、好ましくは５０〜１００質量％であり、より好ましくは７０〜１００質量％である。
【００４６】
上記形態において、熱線反射層は溶融押出成形によって形成されうる。より具体的には、例えば特表２００２−５０９２７９号公報（米国特許第６，０４９，４１９号明細書に相当する）に記載されるように、樹脂を溶融して得られた溶融樹脂を、（多層）押出しダイスよりキャスティングドラム上に押出した後、急冷する。この際、溶融樹脂の押出し冷却後、樹脂シートを延伸させてもよい。塗布法や溶液流涎法のような溶媒を用いる方法と異なり、溶融押出成形によれば溶媒を用いずに熱線反射層を形成することができる。従って、溶融押出成形により熱線反射層を形成することは、製造効率の観点から利点がある。上記形態に係る光学制御フィルムは、第１のポリマーを含有する高屈折率層と第２のポリマーを含有する低屈折率層とが同時に積層される、多層押出しによって熱線反射層が形成されたものであることが好ましい。
【００４７】
本発明の他の実施形態において、前記高屈折率層および前記低屈折率層に含まれるポリマーは、バインダーとして機能する水溶性高分子であることが好ましい。高屈折率層および低屈折率層に、水溶性高分子を含ませることで、有機溶剤の使用を抑えた層形成方法を採用できるため、有機溶剤による環境上の問題を解決することができ、また塗膜の柔軟性も達成することができるから好ましい。なお、高屈折率層および低屈折率層に含有されるポリマーは、同じ構成成分であってもよく、異なる構成成分であってもよいが、異なることが好ましい。水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコールまたはその誘導体（ポリビニルアルコール系樹脂）、ゼラチン、または増粘多糖類などが挙げられるが、塗布ムラや膜厚均一性（ヘイズ）などの向上効果の観点から、屈折率層はポリマーとしてポリビニルアルコールまたはその誘導体を含むことが好ましい。ポリマーは、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、ポリマーは、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００４８】
ポリマーは特に制限されず、ＷＯ  ２０１２／１２８１０９、特開２０１３−１２１５６７号公報、特開２０１３−１４８８４９号公報等の、高屈折率層および前記低屈折率層に使用される公知のポリマーが同様にして使用できる。具体的には、ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他、各種の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【００４９】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が１，０００以上であることが好ましく、平均重合度が１，５００〜５，０００であることが特に好ましい。また、ケン化度は、７０〜１００モル％であることが好ましく、８０〜９９．９モル％であることが特に好ましい。
【００５０】
変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系ポリマーが挙げられる。また、酢酸ビニル系樹脂（例えば、株式会社クラレ製「エクセバール」）、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂（例えば、積水化学工業株式会社製「エスレック」）、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、株式会社クラレ製「Ｒ−１１３０」）、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、日本合成化学工業株式会社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ／ＷＲシリーズ」）等もポリビニルアルコール系樹脂に含まれる。
【００５１】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００５２】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されているような疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００５３】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００５４】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％であることが好ましく、０．２〜５モル％であることがより好ましい。
【００５５】
エチレン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開２００９−１０７３２４号公報、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報、特願２０１３−２０６８１３などに記載されるものが使用できる。または、エクセバール（商品名：株式会社クラレ製）等の市販品を使用してもよい。
【００５６】
ビニルアルコール系ポリマーとしては、エクセバール（商品名：株式会社クラレ製）やニチゴーＧポリマー（商品名：日本合成化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【００５７】
なお、上述のポリビニルアルコールは、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリビニルアルコールは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００５８】
ポリビニルアルコールの重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であることが好ましく、３，０００〜６０，０００であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、静的光散乱法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法（ＧＰＣ）、ＴＯＦＭＡＳＳなどによって測定した値を採用するものとする。水溶性高分子の重量平均分子量が上記範囲にあると、湿式製膜法における塗布が可能となり、生産性を向上させることができることから好ましい。
【００５９】
屈折率層における水溶性高分子の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、５〜７５質量％であることが好ましく、１０〜７０質量％であることがより好ましい。水溶性高分子の含有量が５質量％以上であると、湿式製膜法で低屈折率層を形成する場合に、塗布して得られた塗膜の乾燥時に、膜面が乱れによる透明性の劣化を防止できることから好ましい。一方、水溶性高分子の含有量が７５質量％以下であると、低屈折率層中に金属酸化物粒子を含有する場合に好適な含有量となり、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差を大きくできることから好ましい。なお、本明細書において、水溶性高分子の含有量は、蒸発乾固法の残固形分より求められる。具体的には、光学制御フィルムを９５℃の熱水に２時間浸し、残ったフィルムを除去した後、熱水を蒸発させ、得られた固形物の量を水溶性高分子量とする。この際、ＩＲ（赤外分光）スペクトルにおいて１７００〜１８００ｃｍ−１、９００〜１０００ｃｍ−１、および８００〜９００ｃｍ−１の領域にそれぞれ１つずつピークが見られる場合、その水溶性高分子はポリビニルアルコールであると断定することができる。
【００６０】
本形態の光学制御フィルムにおける低屈折率層または高屈折率層の少なくとも一方は、金属酸化物（粒子）を含有してもよい。金属酸化物粒子を含有することで各屈折率層間の屈折率差を大きくすることができ、反射特性が向上する。低屈折率層および高屈折率層の双方が金属酸化物粒子を含有することにより、屈折率差をより大きくすることができる。金属酸化物粒子を含むことにより、積層数を低減することができ、薄膜とすることができる。層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができる。
【００６１】
金属酸化物粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｉｒ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ及び希土類金属からなる群より選ばれる１種または２種以上の金属である金属酸化物を用いることができる。
【００６２】
高屈折率層に用いる金属酸化物粒子としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズ、酸化鉛、ならびにこれら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物（ＭｇＡｌ２Ｏ４）などが挙げられる。
【００６３】
また、金属酸化物粒子として、希土類酸化物を用いることもでき、具体的には、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等も挙げられる。
【００６４】
高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、屈折率が１．９０以上の金属酸化物粒子が好ましく、例えば、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸化亜鉛等を挙げることができる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成することのできることから、二酸化チタンが好ましく、特にルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子を用いることが好ましい。高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子は、１種単独であってもよいし、２種以上併用してもよい。
【００６５】
また、本発明において、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタンが好ましいが、酸化チタンは含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態であってもよい。当該コアシェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。かようなコアシェル粒子を高屈折率層に含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、低屈折率層と高屈折率層との層間混合が抑制されうる。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。
【００６６】
高屈折率層で用いられる金属酸化物粒子の体積平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、ヘイズ値が低く可視光透過率に優れる観点から１〜３０ｎｍであることがさらに好ましく、１〜２０ｎｍであることがより好ましい。なお、ここで体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径である。
【００６７】
高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、熱線遮蔽の観点および曲面形状のガラスにフィルムを適用した場合の色ムラ低減の観点から、２０〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７５質量％であることがより好ましく、４０〜７０質量％であることがさらに好ましい。
【００６８】
また、低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。低屈折率層中の金属酸化物の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【００６９】
低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、低屈折率層の固形分に対して、屈折率の観点から、５〜７０質量％であることが好ましく、１０〜５０質量％であることがさらに好ましい。
【００７０】
コロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号パンフレットなどに記載されているものである。この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【００７１】
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業（株）から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００７２】
各屈折率層は、上記以外にも、例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報および同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。これらの添加物の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【００７３】
または、各屈折率層が水溶性高分子を含む場合には、水溶性高分子を硬化させるために、硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ホウ酸及びその塩、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬、ホウ砂等が挙げられる。屈折率層における硬化剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、１〜１０質量％であることが好ましい。
【００７４】
または、各屈折率層は、塗布時の表面張力調整のために、界面活性剤を含んでもよい。ここで、界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、１分子中に炭素数８〜３０の疎水性基とスルホン酸基又はその塩を含有するものが挙げられる。各屈折率層における界面活性剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．０１〜５質量％であることが好ましい。
【００７５】
（熱線吸収層）
本発明において、光学制御フィルムは、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物の少なくとも一方含む熱線吸収層をハードコート層と熱線反射層との間に少なくとも有する。上記構成をとることによって、光学制御フィルム（特に、熱線吸収層、ハードコート層）の膜割れを抑制または防止できる。
【００７６】
熱線吸収層は、１層のみでもまたは２層以上の積層体であってもよい。光学制御フィルムが２層以上の熱線吸収層を有する場合、各熱線吸収層の構成は同じでもよいし異なっていてもよい。
【００７７】
［タングステン酸化物および複合タングステン酸化物］
熱線吸収層は、タングステン酸化物および／または複合タングステン酸化物を必須に含む。ここで、熱線吸収層は、タングステン酸化物もしくは複合タングステン酸化物を含むものであっても、またはタングステン酸化物および複合タングステン酸化物を組み合わせて含むものであってもよい。また、タングステン酸化物および複合タングステン酸化物は、それぞれ、一種単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００７８】
タングステン酸化物は、一般式：ＷｙＯｚで示され、特開２０１３−６４０４２号や特開２０１０−２１５４５１号公報に記載されるのと同様のものが使用できる。上記一般式中、Ｗは、タングステンを表わす。Ｏは、酸素を表わす。ｙ及びｚは、タングステンと酸素との組成（タングステンに対する酸素の組成、ｚ／ｙ）が、３未満（ｚ／ｙ＜３）の関係を満たすことが好ましく、２．２〜２．９９９（２．２≦ｚ／ｙ≦２．９９９）の関係を満たすことがより好ましい。このようなｚ／ｙ比であれば、材料として化学的に安定であり、高い赤外線吸収能を発揮できる上、必要量の自由電子が生成され効率よい赤外線吸収材料となり得る。
【００７９】
また、複合タングステン酸化物の組成は、特に制限されないが、安定性の観点から、一般式：一般に、ＭｘＷｙＯｚで表される酸化物であることが好ましく、特開２０１３−６４０４２号や特開２０１０−２１５４５１号公報に記載されるのと同様のものが使用できる。上記一般式中、Ｍは、Ｈ、Ｈｅ、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ、Ｉうちから選択される１種類以上の元素を表わす。Ｗは、タングステンを表わす。Ｏは、酸素を表わす。ｘ、ｙ及びｚは、タングステンとＭとの組成（タングステンに対するＭの組成、ｘ／ｙ）が０．００１≦ｘ／ｙ≦１の関係を満たし、タングステンと酸素との組成（タングステンに対する酸素の組成、ｚ／ｙ）が２．２≦ｚ／ｙ≦３の関係を満たすことが好ましい。ここで、アルカリ金属は、水素を除く周期表第１族元素であり、リチウム、ナトリウム、カリウム、ルビジウム、セシウム、フランジウムである。アルカリ土類金属は、周期表第２族元素であり、カルシウム、ストロンチウム、バリウム、ラジウムである。希土類元素は、Ｓｃ、Ｙ及びランタノイド元素（５７番のランタンから７１番のルテチウムまでの元素）である。特に、赤外線吸収材料としての光学特性、耐候性向上効果の観点から、Ｍ元素が、Ｃｓ、Ｒｂ、Ｋ、Ｔｌ、Ｉｎ、Ｂａ、Ｌｉ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｆｅ、Ｓｎのうちの１種類以上であるものが好ましい。
【００８０】
タングステン酸化物等の形状は、特に制限されず、粒子状、球状、棒状、針状、板状、柱状、不定形状、燐片状、紡錘状など任意の構造をとりうるが、好ましくは粒子状である。また、タングステン酸化物等の大きさも特に制限されないが、タングステン酸化物等が粒子状である場合には、タングステン酸化物等粒子の平均粒径（平均一次粒子径、直径）は、可視光の反射を抑制しつつ、熱線吸収効果を確保できること、また散乱によるヘイズの劣化が生じず、透明性を確保できることから、５〜２００ｎｍであることが好ましく、１０〜１００ｎｍであることがより好ましい。上記平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【００８１】
また、熱線吸収層中、タングステン酸化物等の含有量は、熱線吸収層の全固形分に対して、好ましくは１０〜８０質量％であり、より好ましくは２０〜７０質量％である。このような量であれば、タングステン酸化物等は十分熱線を吸収できるため、光学制御フィルムの遮熱性能をより良くすることができる。
【００８２】
熱線吸収層は、タングステン酸化物等に加えて、成形容易性などの観点から、アクリレート樹脂のような活性エネルギー線硬化性樹脂をさらに含むことが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂をいう。活性エネルギー線硬化性樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性エネルギー線を照射することによって硬化するものが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する紫外線硬化性樹脂が好ましい。上記活性エネルギー線硬化性樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。
【００８３】
また、熱線吸収層中、上記活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、熱線吸収層の全固形分に対して、好ましくは２０〜７０質量％であり、より好ましくは３０〜６０質量％である。このような量であれば、製膜性が良く遮熱性も確保できる。
【００８４】
紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂、または紫外線硬化性エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。このうち、熱線吸収層が、紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂、または紫外線硬化性アクリルアクリレート樹脂から選択されるアクリレート樹脂を含有することがさらに好ましい。
【００８５】
紫外線硬化性ウレタンアクリレート樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下、アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のユニディック（登録商標）１７−８０６（ＤＩＣ株式会社製）１００質量部とコロネート（登録商標）Ｌ（日本ポリウレタン工業株式会社製）１質量部との混合物等が好ましく用いられる。
【００８６】
紫外線硬化性ポリエステルアクリレート樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、アクリル酸のようなモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【００８７】
紫外線硬化性エポキシアクリレート樹脂は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノマーを反応させて得られる。
【００８８】
紫外線硬化性ポリオールアクリレート樹脂としては、例えば、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート等のモノマーの１種または２種以上を硬化させて得られる樹脂を挙げることができる。
【００８９】
さらにまた、これらの樹脂の光増感剤（ラジカル重合開始剤）として、ベンゾイン、べンゾインメチルエーテル、べンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等のべンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（商品名：イルガキュア（登録商標）１８４、ＢＡＳＦ社製）等のアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン等のアントラキノン類；チオキサントン、２，４―ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントン等のチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタール等のケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノべンゾフェノン等のベンゾフェノン類およびアゾ化合物等を用いることができる。これらは単独でもまたは２種以上組み合わせても使用することができる。加えて、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミン等の第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル等の安息香酸誘導体等の光開始助剤等と組み合わせて使用することができる。これらラジカル重合開始剤の使用量は、樹脂の重合性成分１００質量部に対して好ましくは０．５〜２０質量部、より好ましくは１〜１５質量部である。
【００９０】
熱線吸収層形成に用いられる活性エネルギー線硬化性樹脂の市販品の例としては、上記の他に、例えば、ユニディック（登録商標）シリーズ（ＤＩＣ株式会社）（例えば、ユニディック（登録商標）Ｖ−４０１８、ユニディック（登録商標）Ｖ−４０２５、ユニディック（登録商標）１７−８０６、ユニディック（登録商標）１７−８２４−９）、ヒタロイド（登録商標）シリーズ（日立化成株式会社製）、紫光（登録商標）シリーズ（日本合成化学工業株式会社製）、ビームセットシリーズ（荒川化学工業株式会社）（例えば、ビームセット（登録商標）５７５、ビームセット（登録商標）５７７）、ＥＴＥＲＭＥＲ２３８２（ＥＴＥＲＮＡＬ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社製）等を挙げることができる。
【００９１】
本形態において熱線吸収層の形成には、タングステン酸化物等、ならびに任意に含まれる活性エネルギー線硬化性樹脂、界面活性剤、赤外線吸収剤、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤等を含む熱線吸収層形成用塗布液を、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布して成膜する方法が採用される。または、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置を用いて塗布、製膜することも可能である。また、熱線吸収層が活性エネルギー線硬化性樹脂を含む場合の、成膜条件は、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を適切に選択することが好ましい。例えば、活性エネルギー線として紫外線ランプを用いる場合、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【００９２】
熱線吸収層を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、炭化水素類（例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン等）、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール等）、ケトン類（例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン等）、グリコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル（ブチルセロソルブ）、エチレングリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシブタノール、３−メトキシ−３−メチルブタノール、３−メトキシ−３−メチルブチルアセテート、１−メトキシ−２−プロピルアセテート、１−エトキシ−２−プロパノール、１−プロポキシ−２−プロパノール、３−メトキシブチルアセテート、３−エトキシプロピオン酸エチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルプロピオネート等）、エステル類（例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等）、その他の有機溶媒の中から適宜選択し、またはこれらを混合し利用できる。
【００９３】
熱線吸収層形成のための塗布液は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤を含む熱線吸収層形成用塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、ハードコート層の密着性が向上することが期待できる。また、ハードコート層に、撥水性、滑り性等を付与することができる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。フッ素系界面活性剤の例としては、例えば、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（登録商標）Ｆシリーズ（Ｆ−４３０、Ｆ−４７７、Ｆ−５５２〜Ｆ−５５９、Ｆ−５６１、Ｆ−５６２等）、ＤＩＣ株式会社製のメガファック（登録商標）ＲＳシリーズ（ＲＳ−７６−Ｅ等）、ＡＧＣセイミケミカル株式会社製のサーフロン（登録商標）シリーズ、ＯＭＮＯＶＡ  ＳＯＬＵＴＩＯＮＳ社製のＰＯＬＹＦＯＸシリーズ、株式会社Ｔ＆Ｋ  ＴＯＫＡのＺＸシリーズ、ダイキン工業株式会社製のオプツール（登録商標）シリーズ、（株）ネオス製のフタージェント（登録商標）シリーズ（６０２Ａ、６５０Ａ等）等の市販品を使用することができる。アクリル系界面活性剤としては、ポリフローシリーズ（共栄社化学株式会社製）、ニューコールシリーズ（日本乳化剤株式会社製）、ＢＹＫ（登録商標）−３５４（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。シリコーン系界面活性剤としては、ＢＹＫ（登録商標）−３４５、ＢＹＫ（登録商標）−３４７、ＢＹＫ（登録商標）−３４８、ＢＹＫ（登録商標）−３４９（ビックケミー・ジャパン社製）が挙げられる。界面活性剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。
【００９４】
熱線吸収層の厚さは、特に制限されないが、例えば、０．５〜２０μｍであり、１．２〜１０μｍが好ましい。熱線吸収層の厚さが０．５μｍ以上であれば十分熱線を吸収できる。また、２０μｍ以下であれば応力によって熱線吸収層が割れる危険性が低くなる。また、熱線吸収層の厚さを１．２〜１０μｍとすることで、耐久性と耐候性のバランスが良く、好ましく使用できる。
【００９５】
熱線吸収層は熱線反射層またはハードコート層上に直接設けられても良いが、以下に詳述するように、熱線吸収層の少なくとも一方の面に樹脂フィルムが形成される場合には、当該樹脂フィルム上に形成されてもよい。または、熱線吸収層と熱線反射層またはハードコート層との間に導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、本発明の熱線反射層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）などの機能層を含む場合は、これらの層上に配置されてもよい。
【００９６】
（ハードコート層）
本発明において、ハードコート層は、熱線反射層が形成されていない熱線吸収層に配置される。ここで、ハードコート層は熱線吸収層上に形成されてもよいが、ハードコート層と熱線吸収層との間に他の層（例えば、樹脂フィルム）が設けられてもよい。ハードコート層は、光学制御フィルムの耐擦過性を高めるための表面保護層として機能する。なお、本明細書において「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層である。
【００９７】
ハードコート層は、１層のみでもまたは２層以上の積層体であってもよい。光学制御フィルムが２層以上のハードコート層を有する場合、各ハードコート層の構成は同じでもよいし異なっていてもよい。
【００９８】
本発明に係るハードコート層を構成するハードコート材料としては、特に制限されないが、ポリシロキサン系に代表される無機系材料（ポリシロキサン系ハードコート材料）、熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂などが好ましく使用される。上記ハードコート材料は、単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００９９】
ここで、活性エネルギー線硬化性樹脂は、特に制限されないが、熱線吸収層で使用されうる活性エネルギー線硬化性樹脂が同様にして好ましく使用されるため、ここでは説明を省略する。
【０１００】
また、ハードコート層の形成に適用可能なポリシロキサン系ハードコート材料としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【０１０１】
【化１】
2017223716.tif 000003
【０１０２】
上記一般式（１）において、ＲおよびＲ１は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
【０１０３】
具体的な化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライドを挙げることができる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基がヒドロキシ基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコート材料といわれている。
【０１０４】
前記ポリオルガノシロキサン系ハードコート材料は、具体的にはサーコートシリーズ、ＢＰ−１６Ｎ（以上、株式会社動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング株式会社製）、Ｐｅｒｍａ−Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ社製）などを利用することができる。
【０１０５】
これらのうち、硬化後の硬さ及び収縮応力等を考慮すると、活性エネルギー線硬化性樹脂を使用することが好ましい。すなわち、ハードコート層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。
【０１０６】
ハードコート層中のハードコート材料の量は、特に制限されないが、ハードコート層の固形分に対して２０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９．９質量％であることがより好ましい。
【０１０７】
また、太陽光曝露状況下においても、ハードコート層は収縮を促進しないような構成を有することが望ましい。このような収縮を抑制または防止することを目的として、該ハードコート層は、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤を含有してもよい。ハードコート層が紫外線吸収剤または酸化防止剤を含む場合に使用できる紫外線吸収剤および／または酸化防止剤は、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤および酸化防止剤を使用できる。具体的には、酸化防止剤としては、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等のフェノール系酸化防止剤；ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等のチオール系酸化防止剤；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等のホスファイト系酸化防止剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系酸化防止剤；などが挙げられる。なお、酸化防止剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、酸化防止剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ノクラック（登録商標）シリーズ（大内新興化学工業株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）シリーズ（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）シリーズ、ＩＲＧＡＦＯＳ（登録商標）シリーズ（以上いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）シリーズ（以上、住友化学株式会社製）等が挙げられる。
【０１０８】
また、紫外線吸収剤としては、下記粘着層に記載されるのと同様のものが使用できる。
【０１０９】
ハードコート層が紫外線吸収剤または酸化防止剤を含む場合の、これらの含有量は、ハードコート層の全質量に対して、０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％以下であることがより好ましい。これは、ハードコート層に紫外線が照射された場合、ハードコート層内の反応が促進し収縮応力が上昇する。また、ハードコート層内において、樹脂が分解することにより、ハードコート層自身が脆くなるという現象が起こりうる。そのため、ハードコート層内に紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有させることで、ハードコート層の収縮や分解を抑えることができるため、耐候密着性を向上させることができる。なお、上記含有量は、ハードコート層が紫外線吸収剤および酸化防止剤双方を含む場合には、これらの合計量を意図する。
【０１１０】
または、ハードコート層は、上記赤外線吸収剤以外の無機微粒子を含有してもよい。好ましい無機微粒子としては、チタン、シリカ、ジルコニウム、アルミニウム、マグネシウム、アンチモン、亜鉛またはスズなどの金属を含む無機化合物の微粒子が挙げられる。この無機微粒子の平均粒径は、可視光線の透過性を確保することから、１０００ｎｍ以下が好ましく、１０〜５００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。また、無機微粒子は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂との結合力が高い方がハードコート層からの脱落を抑制できることから、単官能または多官能のアクリレートなどの光重合反応性を有する感光性基を表面に導入しているものが好ましい。
【０１１１】
または、ハードコート層に染料や顔料を添加して色相を調整することができる。例えば、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムパーミリオン、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、ウルトラマリンブルー、紺青、ベルリンブルー、ミロリブルー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛ブルー、マンガンバイオレット、ミネラルバイオレッド、コバルトバイオレット等の有色無機顔料や、フタロシアニン顔料等の有機顔料、アントラキノン系染料が好ましく使用される。
【０１１２】
ハードコート層の層厚は０．１〜５０μｍが好ましく、０．５〜２０μｍがより好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましい。０．１μｍ以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、逆に５０μｍ以下であれば光学制御フィルムの透明性が向上できる。
【０１１３】
反射層膜上へのハードコート層の形成方法としては、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等によりハードコート層用塗布液を、高屈折率層及び低屈折率層からなる反射層上に塗布し製膜する方法が挙げられ、蒸着などの乾式製膜法でも形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。例えば、ポリシロキサン系ハードコート材料の場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコート材料の硬化、架橋を促進するため、５０〜１５０℃の温度範囲内で３０分〜数日間の熱処理を行うことが好ましい。塗布基材の耐熱性や積層ロール状にした時の基材の安定性を考慮して、４０〜８０℃の範囲内で２日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要があるため一概には言えない。しかしながら、例えば、活性エネルギー線として紫外線ランプを用いる場合、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【０１１４】
ハードコート層を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等が挙げられる。これらの溶媒は、単独でまたは混合し利用できる。
【０１１５】
ハードコート層形成のための塗布液は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤を含むハードコート層形成用塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、ハードコート層の密着性が向上することが期待できる。また、ハードコート層に、撥水性、滑り性等を付与することができる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。これらの界面活性剤の例としては熱線吸収層で上述したものを利用可能である。
【０１１６】
ハードコート層中の界面活性剤の量は、ハードコート塗布液中の界面活性剤の配合量を変更することで調節でき、ハードコート層の乾燥質量当たり界面活性剤の質量が０．０１〜５質量％であることが好ましい。
【０１１７】
（樹脂フィルム）
上述したように、熱線吸収層の少なくとも一方の面に樹脂フィルムが配置されてもよい。ここで、適用可能な樹脂フィルムとしては、フィルム支持体であることが好ましく、フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の樹脂フィルムを用いることができる。
【０１１８】
例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。
【０１１９】
本発明に用いられる樹脂フィルムの厚みは、１０〜３００μｍ、特に２０〜１５０μｍであることが好ましい。また、樹脂フィルムは、２枚以上重ねたものであっても良く、この場合、各樹脂フィルムは同じでも異なってもよい。さらに、樹脂フィルムが熱線吸収層の両面に配置される場合には、各樹脂フィルムは同じでも異なってもよい。
【０１２０】
（粘着層）
本発明の光学制御フィルムは、熱線吸収層を形成した層とは反対側の熱線反射層またはハードコート層上に粘着層を有してもよい。
【０１２１】
粘着層は、基体（例えば、ガラス）との貼付け時点の即粘着力が２〜８Ｎ／２５ｍｍであり、前記即粘着力が４〜８Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。即粘着力とは、光学制御フィルムをガラスに貼付けて２４時間後に計測した粘着層の粘着力のことを示す。粘着層の粘着力は粘着層を構成する材料を適切に選択することで調整が可能である。
【０１２２】
また、貼付け時点の前記粘着層とガラスとの即粘着力が４〜８Ｎ／２５ｍｍであり、貼付け状態のまま、３０℃、湿度６０％の条件で１週間放置した時点の粘着層とガラスとの経時粘着力が７〜１５Ｎ／２５ｍｍであることが曲面密着性の観点から好ましい。更に、前記経時粘着力が１０〜１５Ｎ／２５ｍｍであることが耐久性向上と糊残りが減少するという観点からより好ましい。経時粘着力とは、光学制御フィルムをガラスに貼付け、一定期間経過した後に計測した粘着層の粘着力のことを示す。
【０１２３】
本発明の光学制御フィルムは、窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に光学制御フィルムの粘着層を合わせる貼り方、いわゆる水貼り法が張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い粘着剤が好ましい。
【０１２４】
粘着層を構成する粘着剤は、特に限定されず、公知の粘着剤が同様にして使用できる。具体的には、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。これらのうち、アクリル系粘着剤が、耐久性、透明性、粘着特性の調整の容易さなどの面から好ましい。アクリル系粘着剤は、アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これに極性単量体成分を共重合したアクリル系ポリマーを用いたものである。上記アクリル酸アルキルエステルとはアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステルであって、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ラウリル等が挙げられる。また、粘着剤は、市販品を使用してもよく、具体的には、東洋インキ社製ＢＰＳ５９７８、日本合成化学製コーポニール（例えば、Ｎ−２１４７、５６９７、５６９８、５７０５Ｌ）などが使用できる。
【０１２５】
また、粘着剤層をアクリル系粘着剤で形成する場合には、アクリル系粘着剤の硬化剤を使用することができる。アクリル系粘着剤の硬化剤は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アリジリン系硬化剤が利用できる。イソシアネート系硬化剤では、長期保存後も安定した粘着力を得ることと、より硬い粘着層とする目的で、トノレイレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等の芳香族系のタイプを好ましく用いることができる。具体的には、東洋インキ社製ＢＸＸ５１３４を使用することができる。
【０１２６】
硬化剤の添加量（固形分換算）は、粘着剤に対して、２〜９質量％であることが好ましく、より好ましくは３〜７質量％である。このような範囲であれば、粘着剤が残りにくく、十分な接着力も確保できる。
【０１２７】
粘着層は、上記粘着剤に加えて、添加剤を含んでもよい。ここで、添加剤としては、特に制限されないが、例えば、安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等が得られる。これらのうち、粘着層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含む粘着層を熱線吸収層に対して太陽光の入射側に設けることによって、熱線吸収層に侵入するの太陽光（特に赤外光）量（熱線吸収層の太陽光吸収量）はより低減する。このため、熱線吸収層に含まれるタングステン酸化物等の太陽光の吸収による発熱をより有効に抑制または防止し、熱線吸収層の熱による収縮、ゆえに熱線吸収層の熱割れをより有効に抑制または防止できる。また、本発明の光学制御フィルムを窓貼用として使用する場合には、紫外線による光反射フィルムの劣化を抑制できる。
【０１２８】
ここで、紫外線吸収剤としては、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤を使用できる。例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；フェニルサリチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸フェニル系紫外線吸収剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等のヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤；等が挙げられる。
【０１２９】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。
【０１３０】
なお、紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、紫外線吸収剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）６２２（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−３１（以上、株式会社アデカ製）、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）５０１（以上、シプロ化成株式会社製）などが挙げられる。
【０１３１】
紫外線吸収剤の添加量（固形分換算）は、粘着剤に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。このような範囲であれば、熱線吸収層の太陽光吸収量をより有効に低減できる。
【０１３２】
粘着層の厚さは、１〜１００μｍが好ましく、３〜５０μｍがより好ましい。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であれば光学制御フィルムの透明性が向上するだけでなく、光学制御フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。
【０１３３】
反射層上への粘着層の形成方法としては、特に制限されないが、反射層とは別に、セパレーター上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を形成した後、粘着層と反射層とを貼り合わせる方法が好ましい。
【０１３４】
この際用いられるセパレーターとしては、例えば、シリコーンコート離型ＰＥＴフィルム、シリコーンコートＰＥフィルム等が挙げられる。セパレーター上への粘着層用塗布液の塗布方法は、特に制限されず、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布液を塗布し製膜する方法が挙げられ、また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。
【０１３５】
なお、本明細書において、「粘着力」は、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８  ６．８粘着力試験に準じて測定することによって求められ、より具体的には、下記実施例に記載される方法に従って測定される。
【０１３６】
（光反射体）
本発明により提供される光学制御フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、赤外遮蔽効果を付与する赤外遮蔽フィルム等の窓貼用フィルムとして用いることができる。
【０１３７】
すなわち、本発明のさらに他の形態によれば、上述の光学制御フィルムを用いてなる光学制御体が提供される。具体的には、上述の光学制御フィルムを光透過性基体に貼り付けた光反射体も提供される。前記光反射体は、光学制御フィルムが粘着層を介して光透過性基体に接合されてなる構造を有する。
【０１３８】
前記光透過性基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。また、前記光透過性基体は、全光透過性を有していても、部分的な波長領域に対する光透過性を有していてもよい。
【０１３９】
本発明の作用効果は、前記前記光透過性基体が曲面であるときに、よりいっそう効果的に発現させられる。「曲面」とは、曲率半径が３ｍ以下の範囲である面を意味する。曲率半径が３ｍ以下とするのは、曲率半径が３ｍを超えると、平面状の基体との差異がなくなるからである。
【実施例】
【０１４０】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。
【０１４１】
（実施例１）
＜低屈折率層用塗布液の作製＞
低屈折率層用塗布液を以下のようにして調製した。具体的には、３８０部のコロイダルシリカ（１０質量％）（スノーテックスＯＸＳ、一次粒子の平均粒径＝４〜６ｎｍ；日産化学工業株式会社製）、５０部のホウ酸水溶液（３質量％）、３００部のポリビニルアルコール（４質量％）（ＪＰ−４５；重合度：４５００、ケン化度：８８ｍｏｌ％；日本酢ビ・ポバール株式会社製）、３部の界面活性剤（５質量％）（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ；川研ファインケミカル株式会社製）を、４５℃でこの順に添加した。そして、純水で１００部に仕上げ、低屈折率層用塗布液を調製した。
【０１４２】
＜高屈折率層塗布液の作製＞
１５．０質量％酸化チタンゾル（ＳＲＤ−Ｗ、体積平均粒径：５ｎｍ、ルチル型二酸化チタン粒子、堺化学社製）０．５質量部に純水２質量部を加えた後、９０℃に加熱した。次いで、ケイ酸水溶液（ケイ酸ソーダ４号（日本化学社製）をＳｉＯ２濃度が０．５質量％となるように純水で希釈したもの）０．５質量部を徐々に添加し、ついでオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、冷却後、限外濾過膜にて濃縮することにより、固形分濃度が６質量％のＳｉＯ２を表面に付着させた二酸化チタンゾル（以下、シリカ付着二酸化チタンゾル）（体積平均粒径：９ｎｍ）を得た。
【０１４３】
このようにして得られたシリカ付着二酸化チタンゾル（２０質量％）１１３質量部に対して、クエン酸水溶液（１．９２質量％）を４８質量部加え、さらにエチレン変性ポリビニルアルコール（クラレ社製、エクセバールＲＳ−２１１７、鹸化度：９７．５〜９９モル％、エチレン変性度：３．０ｍｏｌ％、重合度：１７００、粘度（４％、２０℃）：２３．０〜３０．０（ｍＰａ・ｓ）、８質量％）を１１３質量部加えて撹拌し、最後に界面活性剤の５質量％水溶液（ソフタゾリンＬＳＢ−Ｒ、川研ファインケミカル社製）０．４質量部を加えて、高屈折率層塗布液を作製した。
【０１４４】
＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞
スライドホッパー塗布装置を用い、上記で得られた低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液を４５℃に保温しながら、４５℃に加温した樹脂フィルム（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム；東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００）上に、１１層同時重層塗布（熱線反射層の全膜厚；１．５μｍ）を行った。この際、最下層および最上層は低屈折率層とし、それ以外は低屈折率層および高屈折率層がそれぞれ交互に積層されるように設定した。塗布量については、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍ、高屈折率層は各層１２０ｎｍになるように調節した。なお、前記膜厚は、製造した積層体（樹脂フィルムおよび熱線反射層）を切断し、その切断面を電子顕微鏡により観察することで確認した。この際、２つの層間の界面を明確に観測することができない場合には、ＸＰＳ表面分析装置により得た層中に含まれるＴｉＯ２の厚さ方向のＸＰＳプロファイルにより界面を決定した。
【０１４５】
塗布直後、５℃の冷風を吹き付けてセットした。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間（セット時間）は５分であった。セット完了後、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、１１層からなる熱線反射層を樹脂フィルム上に形成した。
【０１４６】
＜熱線反射層を形成した樹脂フィルムへの熱線吸収層の形成＞
近赤外線吸収剤としてセシウム含有酸化タングステン粒子（住友金属鉱山（株）製、ＹＭＦ−０２、組成：Ｃｓ０．３３ＷＯ３、平均粒子径５０ｎｍ）を用い、紫外線硬化性樹脂としてウレタンアクリレート樹脂（紫光ＵＶ７６００Ｂ、日本合成化学株式会社製）を用い、溶媒としてメチルエチルケトンを添加した。さらに、フッ素系界面活性剤（フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）を０．０８質量％添加し、全固形分が４０質量部であり、セシウム含有酸化タングステン粒子の添加量が全固形分に対して５５質量％および紫外線硬化性樹脂の添加量が全固形分に対して約４５質量％となるように調製して、熱線吸収層用塗布液Ｂを作製した。
【０１４７】
上記にて熱線反射層を形成した層とは反対側の樹脂フィルム表面（最外層）に、上記調製した熱線吸収層用塗布液Ｂを、グラビアコーターにて、乾燥層厚が５μｍとなる条件で塗工後、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥させた。その後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２として塗工層を硬化させ、熱線反射層を形成していない樹脂フィルム表面上に熱線吸収層（厚さ：５μｍ）を形成した（積層体１）。なお、積層体１は、熱線反射層、樹脂フィルムおよび熱線吸収層が順次形成された構造を有する。
【０１４８】
＜熱線吸収層上へのハードコート層形成＞
紫外線硬化性樹脂として、ウレタンアクリレート樹脂（ビームセット５７７、荒川化学工業株式会社製）を用い、溶媒としてメチルエチルケトンを添加した。さらに、フッ素系界面活性剤（フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）を０．０８質量％の濃度となるように添加し、全固形分が４０質量部、となるように調製して、ハードコート層用塗布液Ａを作製した。
【０１４９】
上記にて形成した熱線吸収層に、上記調製したハードコート層用塗布液Ａを、グラビアコーターにて、乾燥層厚が３μｍとなる条件で塗工後、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥した。その後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２として塗工層を硬化させ、熱線吸収層上にハードコート層（厚さ：３μｍ）を形成した。
【０１５０】
＜ハードコート層上への粘着層形成＞
下記の処方で粘着層塗布液Ａを作製した。
【０１５１】
【化２】
2017223716.tif 000004
【０１５２】
上記粘着層塗布液ＡをセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ、三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥して粘着層を形成した。この粘着層に、上記にてハードコート層を形成したフィルムを載置して、ハードコート層上に粘着層を形成した。
【０１５３】
以上のようにして、熱線反射層、樹脂フィルム、熱線吸収層、ハードコート層および粘着層（紫外線吸収剤含有）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム１を作製した。
【０１５４】
（実施例２）
実施例１と同様にして、樹脂フィルムの両面に、熱線反射層および熱線吸収層をそれぞれ形成した積層体１を作製した。
【０１５５】
実施例１と同様にして調製した粘着層塗布液Ａを、セパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥して粘着層を形成した。この粘着層に、上記積層体１の熱線反射層を載置して、熱線反射層上に粘着層を形成した（積層体２）。なお、積層体２は、熱線吸収層、樹脂フィルム、熱線反射層および粘着層（紫外線吸収剤含有）が順次形成された構造を有する。
【０１５６】
次に、実施例１と同様にして調製したハードコート層用塗布液Ａを、グラビアコーターにて、乾燥層厚が３μｍとなる条件で熱線吸収層上に塗工後、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥した。その後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２として塗工層を硬化させ、熱線吸収層上にハードコート層を形成した。
【０１５７】
以上のようにして、ハードコート層、熱線吸収層、樹脂フィルム、熱線反射層および粘着層（紫外線吸収剤含有）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム２を作製した。
【０１５８】
（実施例３）
実施例２と同様にして、積層体２を作製した。
【０１５９】
次に、樹脂フィルム（厚さ１２μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム；ＰＥＴフィルム）を、アクリル系接着樹脂を用いて、上記積層体２の熱線吸収層に貼り付けた。
【０１６０】
上記にて積層したＰＥＴフィルムに、実施例１と同様にして調製したハードコート層用塗布液Ａを、グラビアコーターにて、乾燥層厚が３μｍとなる条件で塗工後、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥した。その後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２として塗工層を硬化させ、ハードコート層をＰＥＴフィルム上に形成した。
【０１６１】
以上のようにして、ハードコート層、樹脂フィルム、熱線吸収層、樹脂フィルム、熱線反射層および粘着層（紫外線吸収剤含有）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム３を作製した。
【０１６２】
（実施例４）
実施例３において、粘着層塗布液Ａの代わりに、以下の処方で作製した粘着層塗布液Ｂ使用して粘着層を形成する以外は、実施例３と同様にして、ハードコート層、樹脂フィルム、熱線吸収層、樹脂フィルム、熱線反射層および粘着層（紫外線吸収剤含まず）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム４を作製した。
【０１６３】
【化３】
2017223716.tif 000005
【０１６４】
（実施例５）
実施例３において、樹脂フィルムへの熱線反射層の形成を下記方法によって行った以外は、実施例３と同様にして、ハードコート層、樹脂フィルム、熱線吸収層、樹脂フィルム、熱線反射層、樹脂フィルムおよび粘着層（紫外線吸収剤含有）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム５を作製した。
【０１６５】
＜樹脂フィルムへの熱線反射層の形成＞
米国特許第６０４９４１９号に記載の溶融押し出し方法に従い、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）ＴＮ８０６５Ｓ（帝人化成社製）とポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）樹脂アクリペットＶＨ（三菱レイヨン社製）とを、３００℃に溶融し、押出しにより積層し、（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４／（ＰＭＭＡ（１６４ｎｍ）／ＰＥＮ（１４８ｎｍ））６４となるように縦横約３倍に延伸した後、熱固定、冷却を行って、計１２８層交互積層した反射層を得た。ここで、上記層構成において、「（ＰＭＭＡ（１５２ｎｍ）／ＰＥＮ（１３７ｎｍ））６４」とは、膜厚１５２ｎｍのＰＭＭＡ、膜厚１３７ｎｍのＰＥＮをこの順に積層したユニットを６４個積層させたという意味である。また、最下層と最上層はＰＥＴ（１０μｍ）を押し出して上記構成を挟む形とした。
【０１６６】
（比較例１）
実施例１と同様にして、樹脂フィルム（厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム；東洋紡株式会社製、コスモシャインＡ４３００）の片面に熱線反射層を形成した（積層体３）。
【０１６７】
次に、実施例１と同様にして調製した粘着層塗布液Ａを、セパレーターＳＰ−ＰＥＴ（銘柄：ＰＥＴ−Ｏ２−ＢＵ）（三井化学東セロ株式会社製）のシリコン面に対して、コンマコーターにて乾燥膜厚が１０μｍになるように塗工し、８０℃、１分間乾燥して粘着層を形成した。この粘着層に、上記積層体３の熱線反射層を載置して、熱線反射層上に粘着層を形成した（積層体４）。なお、積層体４は、樹脂フィルム、熱線反射層および粘着層（紫外線吸収剤含有）が順次形成された構造を有する。
【０１６８】
＜樹脂フィルム上へのハードコート層形成＞
赤外線吸収剤としてセシウム含有酸化タングステン粒子（ＹＭＦ−０２、住友金属鉱山社製）を用い、紫外線硬化性樹脂としてウレタンアクリレート樹脂（ビームセット５７７、荒川化学工業株式会社製）を用い、溶媒としてメチルエチルケトンを添加した。さらに、フッ素系界面活性剤（フタージェント（登録商標）６５０Ａ、株式会社ネオス製）を０．０８質量％添加し、全固形分が４０質量部、および酸化タングステン粒子の添加量が全固形分に対して５５質量％となるように調製して、ハードコート層用塗布液Ｃを作製した。
【０１６９】
上記のようにして調製したハードコート層用塗布液Ｃを、グラビアコーターにて、乾燥層厚が３μｍとなる条件で、積層体４の熱線反射層が形成されていない樹脂フィルム上に塗工後、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥した。その後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２として塗工層を硬化させ、ハードコート層を樹脂フィルム上に形成した。
【０１７０】
以上のようにして、ハードコート層、樹脂フィルム、熱線反射層および粘着層（紫外線吸収剤含有）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム６を作製した。
【０１７１】
（比較例２）
特開２０１０−２１５４５１号公報の実施例１に記載の類似の方法に従って、ハードコート層、熱線反射層、樹脂フィルム、熱線吸収層および接着樹脂層（粘着層）がこの順で積層されてなる光学制御フィルム７を作製した。
【０１７２】
すなわち、下記成分を含む組成物を、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ：１００μｍ）上に、アプリケータを用いて塗布し、乾燥させ、高圧水銀灯により５００ｍＪ／ｃ２の積算光量で紫外線を照射させることにより、ＰＥＴフィルム上に熱線吸収層（厚さ：８μｍ）を作製した。
【０１７３】
【化４】
2017223716.tif 000006
【０１７４】
次に、スズをターゲットとして用い、装置内に酸素を導入したスパッタリング法により、熱線吸収層を形成した層とは反対側のＰＥＴフィルム上に、酸化スズ（ＳｎＯ２）よりなる熱線反射層（厚さ：０．０６μｍ）を形成した。
【０１７５】
また、実施例１と同様にして調製したハードコート層用塗布液Ａを、グラビアコーターにて、乾燥層厚が３μｍとなる条件で熱線反射層上に塗工後、乾燥区間温度９０℃で１分間乾燥した。その後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１００ｍＷ／ｃｍ２で、照射量を０．５Ｊ／ｃｍ２として塗工層を硬化させ、熱線反射層上にハードコート層を形成した。
【０１７６】
さらに、下記の配合を原料としてカレンダ成形法によりシート状の接着樹脂層（厚さ：０．４ｍｍ）を、熱線吸収層上に形成した。なお、配合物の混練は８０℃で１５分間行い、カレンダロールの温度は８０℃、加工速度は５ｍ／分に設定した。なお、下記接着樹脂層の配合において、エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂として、東ソー株式会社製  ウルトラセン６３５（エチレン・酢酸ビニル共重合樹脂１００質量部に対する酢酸ビニルの含有量２５質量部）を使用した。
【０１７７】
【化５】
2017223716.tif 000007
【０１７８】
上記実施例および比較例で作製した光学制御フィルム１〜７について、以下方法によって、赤外／可視光透過率、耐候性（色調変化、吸収層の割れ、ハードコート層の割れ）を評価した。結果を下記表１に示す。なお、表１中、「耐候性（ハードコート層の割れ）」は「耐候性（ＨＣ層の割れ）」と記載する。
【０１７９】
＜赤外透過率、可視光透過率の測定＞
各光学制御フィルムからセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（剥離フィルム）を剥がし、水貼りにてガラスに貼り付けて、サンプルを作製した。このサンプルを、分光光度計（積分球使用、日立製作所社製、Ｕ−４０００型）を用い、各赤外遮蔽フィルム試料の３００ｎｍ〜２０００ｎｍの領域における赤外透過率（８００〜１３００ｎｍ）及び可視光透過率（３８０〜７５０ｎｍ）を測定した。
【０１８０】
＜耐候性（色調変化）の評価＞
各光学制御フィルムからセパレーターＳＰ−ＰＥＴ（剥離フィルム）を剥がし、水貼りにてガラスに貼り付けて、サンプルを作製した。このサンプルに、キセノンランプ（スガ試験機  ＳＸ７５）を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２、５００時間照射を行った後、分光光度計（Ｕ−４０００型）を用いて色差（ΔＥ）を測定した。得られた色差（ΔＥ）によって、耐候性（色調変化）を以下の評価基準に従って評価した。なお、「○」及び「△」は許容される。
【０１８１】
【化６】
2017223716.tif 000008
【０１８２】
＜耐候性（吸収層の割れ）＞
各光学制御フィルムに、光入射面側に対しスーパーキセノンウェザーメーター（スガ試験機  ＳＸ−７５）を用いて、降雨１８分／１２０分のサイクル条件で１０００ｈ照射した。その後、光学制御フィルムについて電子顕微鏡で観察を行い、熱線吸収層について、耐候性（吸収層の割れ）を以下の評価基準に従って評価した。なお、下記評価基準において、「○」及び「△」は許容される。電子顕微鏡で見にくい場合には断面観察あるいは熱線吸収層を剥がして評価した。
【０１８３】
【化７】
2017223716.tif 000009
【０１８４】
＜耐候性（ハードコート層の割れ）＞
各光学制御フィルムに、光入射面側に対しスーパーキセノンウェザーメーター（スガ試験機  ＳＸ−７５）を用いて、降雨１８分／１２０分のサイクル条件で１０００ｈ照射した。その後、光学制御フィルムについて電子顕微鏡で観察を行い、ハードコート層について、耐候性（ハードコート層の割れ）を以下の評価基準に従って評価した。なお、下記評価基準において、「○」及び「△」は許容される。なお電子顕微鏡で見にくい場合には断面観察あるいはハードコート層を剥がして評価した。
【０１８５】
【化８】
2017223716.tif 000010
【０１８６】
【表１】
2017223716.tif 000011
【０１８７】
上記表１から、本発明の光学制御フィルムは、高い熱線遮蔽性は維持しつつ、耐候性に優れることが分かる。なお、比較例１では、タングステン酸化物を含むハードコート層（吸収層）が最外層にあり外部の影響を受けやすいため、タングステン酸化物が光、水分等の外部因子により変色してしまう（ΔＥ＝×）ものと考察される。
【符号の説明】
【０１８８】
１…光学制御フィルム、
２…熱線吸収層、
３…熱線反射層、
４…ハードコート層、
５，６…樹脂フィルム、
７…粘着層、
８…基体、
１０…光学制御体。
【図１】
2017223716.tif 000012
【図２】
2017223716.tif 000013