(57)【要約】【課題】脱炭酸膜モジュールの炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュールの膜の劣化を低減することができる脱炭酸膜装置を提供すること。【解決手段】脱炭酸膜モジュール１０の外部に炭酸ガスを含む掃引ガスＧ２を排出させるガス掃引手段と、脱炭酸膜モジュール１０の内部から脱炭酸膜モジュール１０の外部に向けて真空引きして、脱炭酸膜モジュール１０の外部に炭酸ガスを排出させる真空引き手段と、通常運転時において、掃引ガスＧ１を脱炭酸膜モジュール１０に流入させるようにガス掃引手段を制御するガス掃引運転を実行し、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合に実行される劣化抑制運転時において、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように真空引き手段を制御する真空引き運転を実行するように運転状態を切り換える制御部２０と、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理水から脱炭酸水を製造する脱炭酸膜モジュールと、
前記脱炭酸膜モジュールに流入される掃引ガスが流通する掃引ガスラインと、
前記脱炭酸膜モジュールにより被処理水に含まれる炭酸ガスを除去するために、前記掃引ガスラインを流通する掃引ガスを前記脱炭酸膜モジュールに流入させて、前記脱炭酸膜モジュールの外部に炭酸ガスを含む掃引ガスを排出させるガス掃引手段と、
前記脱炭酸膜モジュールにより被処理水に含まれる炭酸ガスを除去するために、前記脱炭酸膜モジュールの内部が真空状態になるように、前記脱炭酸膜モジュールの内部から前記脱炭酸膜モジュールの外部に向けて真空引きして、前記脱炭酸膜モジュールの外部に炭酸ガスを排出させる真空引き手段と、
通常運転時において、掃引ガスを前記脱炭酸膜モジュールに流入させるように前記ガス掃引手段を制御するガス掃引運転を実行し、前記脱炭酸膜モジュールの所定の劣化条件を満たした場合に実行される劣化抑制運転時において、前記通常運転時における前記ガス掃引運転の実行に代えて、前記脱炭酸膜モジュールの内部が真空状態になるように前記真空引き手段を制御する真空引き運転を実行するように運転状態を切り換える制御部と、
を備える脱炭酸膜装置。
【請求項２】
被処理水に含まれる塩素の濃度を検出する塩素濃度検出手段を更に備え、
前記劣化条件を満たした場合とは、前記塩素濃度検出手段により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合である
請求項１に記載の脱炭酸膜装置。
【請求項３】
被処理水又は脱炭酸水の水温を検出する水温検出手段を更に備え、
前記劣化条件を満たした場合とは、前記水温検出手段により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合である
請求項１に記載の脱炭酸膜装置。
【請求項４】
前記脱炭酸膜装置の外部の気温を検出する気温検出手段を更に備え、
前記劣化条件を満たした場合とは、前記気温検出手段により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合である
請求項１に記載の脱炭酸膜装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記脱炭酸膜装置の停止時において、前記通常運転時における前記ガス掃引運転を実行後、前記劣化抑制運転時における前記真空引き運転を実行する
請求項１から４のいずれかに記載の脱炭酸膜装置。
【請求項６】
被処理水を前記脱炭酸膜モジュールに向けて吐出する加圧ポンプを更に備え、
前記制御部は、前記劣化抑制運転時における前記真空引き運転時には、前記脱炭酸膜モジュールに流入させる被処理水の量を減らすように、前記加圧ポンプを制御する
請求項１から５のいずれかに記載の脱炭酸膜装置。
【請求項７】
請求項１から６のいずれかに記載の脱炭酸膜装置と、
供給水から透過水を分離する逆浸透膜モジュールを有する逆浸透膜分離装置と、を備える水処理システムであって、
前記逆浸透膜分離装置は、前記逆浸透膜モジュールにより分離された透過水を被処理水として前記脱炭酸膜装置に供給し、又は、前記脱炭酸膜装置は、前記脱炭酸膜モジュールにより製造された脱炭酸水を供給水として前記逆浸透膜分離装置に供給する
水処理システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、脱炭酸膜装置及びこれを備える水処理システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、脱炭酸水を製造する脱炭酸膜モジュールを備える脱炭酸膜装置が知られている。脱炭酸膜モジュールは、流入した掃引ガスにより被処理水に含まれる炭酸ガスを除去して、脱炭酸水を製造する。このような脱炭酸膜装置において、脱炭酸水を製造する際に、脱炭酸膜モジュールの内部が真空状態になるように脱炭酸膜モジュールの内部から外部に向けて真空引きをする真空引き運転を実行中に、所定時間毎に、空気（掃引ガス）を脱炭酸膜モジュールに流入させるガス掃引運転を実行する技術がある（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平８−２０６４０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
脱炭酸膜装置においては、被処理水中の塩素の濃度が高い場合に、ガス掃引運転を実行した状態で、脱炭酸膜モジュールに被処理水を通水すると、脱炭酸膜モジュールの膜が酸化することで劣化しやすい。更に、被処理水の温度が高い場合や雰囲気温度すなわち空気（掃引ガス）の温度が高い場合には、脱炭酸膜モジュールの膜が劣化しやすい。
一方、脱炭酸膜装置においては、真空引き運転を実行すると、被処理水中の塩素の濃度が高くても脱炭酸膜モジュールの膜の酸化による劣化の影響は小さくなる。しかし、脱炭酸膜モジュールの炭酸ガスを除去する性能は、低下しやすい。真空引き運転を実行する場合に、炭酸ガスを除去する性能を維持するためには、脱炭酸膜モジュールの膜の本数を増加させることなどが必要となる。
このような脱炭酸膜装置においては、脱炭酸膜モジュールの炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュールの膜の劣化を低減することが求められている。
【０００５】
本発明は、脱炭酸膜モジュールの炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュールの膜の劣化を低減することができる脱炭酸膜装置及びこれを備える水処理システムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、被処理水から脱炭酸水を製造する脱炭酸膜モジュールと、前記脱炭酸膜モジュールに流入される掃引ガスが流通する掃引ガスラインと、前記脱炭酸膜モジュールにより被処理水に含まれる炭酸ガスを除去するために、前記掃引ガスラインを流通する掃引ガスを前記脱炭酸膜モジュールに流入させて、前記脱炭酸膜モジュールの外部に炭酸ガスを含む掃引ガスを排出させるガス掃引手段と、前記脱炭酸膜モジュールにより被処理水に含まれる炭酸ガスを除去するために、前記脱炭酸膜モジュールの内部が真空状態になるように、前記脱炭酸膜モジュールの内部から前記脱炭酸膜モジュールの外部に向けて真空引きして、前記脱炭酸膜モジュールの外部に炭酸ガスを排出させる真空引き手段と、通常運転時において、掃引ガスを前記脱炭酸膜モジュールに流入させるように前記ガス掃引手段を制御するガス掃引運転を実行し、前記脱炭酸膜モジュールの所定の劣化条件を満たした場合に実行される劣化抑制運転時において、前記通常運転時における前記ガス掃引運転の実行に代えて、前記脱炭酸膜モジュールの内部が真空状態になるように前記真空引き手段を制御する真空引き運転を実行するように運転状態を切り換える制御部と、を備える脱炭酸膜装置に関する。
【０００７】
また、被処理水に含まれる塩素の濃度を検出する塩素濃度検出手段を更に備え、前記劣化条件を満たした場合とは、前記塩素濃度検出手段により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合であることが好ましい。
【０００８】
また、被処理水又は脱炭酸水の水温を検出する水温検出手段を更に備え、前記劣化条件を満たした場合とは、前記水温検出手段により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合であることが好ましい。
【０００９】
また、前記脱炭酸膜装置の外部の気温を検出する気温検出手段を更に備え、前記劣化条件を満たした場合とは、前記気温検出手段により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合であることが好ましい。
【００１０】
また、前記制御部は、前記脱炭酸膜装置の停止時において、前記通常運転時における前記ガス掃引運転を実行後、前記劣化抑制運転時における前記真空引き運転を実行することが好ましい。
【００１１】
また、被処理水を前記脱炭酸膜モジュールに向けて吐出する加圧ポンプを更に備え、前記制御部は、前記劣化抑制運転時における前記真空引き運転時には、前記脱炭酸膜モジュールに流入させる被処理水の量を減らすように、前記加圧ポンプを制御することが好ましい。
【００１２】
また、本発明は、前記脱炭酸膜装置と、供給水から透過水を分離する逆浸透膜モジュールを有する逆浸透膜分離装置と、を備える水処理システムであって、前記逆浸透膜分離装置は、前記逆浸透膜モジュールにより分離された透過水を被処理水として前記脱炭酸膜装置に供給し、又は、前記脱炭酸膜装置は、前記脱炭酸膜モジュールにより製造された脱炭酸水を供給水として前記逆浸透膜分離装置に供給する水処理システムに関する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、脱炭酸膜モジュールの炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュールの膜の劣化を低減することができる脱炭酸膜装置及びこれを備える水処理システムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】第１実施形態に係る水処理システム１００の全体構成図である。
【図２】第１実施形態の制御部２０において、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合の制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【図３】第１実施形態の制御部２０において、脱炭酸膜装置１の停止時の制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。
【図４】第２実施形態に係る水処理システム１００Ａの全体構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
（第１実施形態）
本発明の第１実施形態に係る水処理システム１００について、図面を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態に係る水処理システム１００の全体構成図である。
【００１６】
図１に示すように、第１実施形態に係る水処理システム１００は、脱炭酸膜装置１と、脱炭酸膜装置１の上流側に設けられる逆浸透膜分離装置４と、を備える。
詳述すると、水処理システム１００は、加圧ポンプ２と、加圧側インバータ３と、逆浸透膜モジュールとしてのＲＯ膜モジュール５と、比例制御排水弁６と、脱炭酸膜モジュール１０と、逆止弁１１と、真空ポンプ１２と、真空側インバータ１３と、エア開閉弁１４と、エアフィルタ１５と、制御部２０と、を備える。加圧ポンプ２、加圧側インバータ３及び制御部２０は、脱炭酸膜装置１及び逆浸透膜分離装置４において共用で用いられる。
【００１７】
また、水処理システム１００は、塩素濃度検出手段としての塩素センサＳ１と、水温検出手段としての水温センサＳ２と、流量センサＳ３と、気温検出手段としての外気温度センサＳ４と、を備える。図１では、電気的な接続の経路を破線で示す（後述する図４についても同じ）。
制御部２０には、加圧側インバータ３、比例制御排水弁６、真空側インバータ１３、エア開閉弁１４、塩素センサＳ１、水温センサＳ２、流量センサＳ３、外気温度センサＳ４が電気的に接続されている。
【００１８】
また、水処理システム１００は、供給水ラインＬ１と、透過水ラインＬ２と、濃縮水ラインＬ３と、循環水ラインＬ４と、排水ラインＬ５と、脱炭酸水ラインＬ６と、掃引ガスラインとしての空気吸引ラインＬ７と、排出ラインとしての空気排出ラインＬ８と、を備える。本明細書における「ライン」とは、流路、経路、管路等の流体の流通が可能なラインの総称である。
【００１９】
なお、本実施形態においては、脱炭酸膜装置１は、加圧ポンプ２と、加圧側インバータ３と、脱炭酸膜モジュール１０と、逆止弁１１と、真空ポンプ１２と、真空側インバータ１３と、エア開閉弁１４と、エアフィルタ１５と、制御部２０と、供給水ラインＬ１と、脱炭酸水ラインＬ６と、掃引ガスラインとしての空気吸引ラインＬ７と、排出ラインとしての空気排出ラインＬ８と、塩素濃度検出手段としての塩素センサＳ１と、水温検出手段としての水温センサＳ２と、気温検出手段としての外気温度センサＳ４と、を備えて構成される。
また、逆浸透膜分離装置４は、ＲＯ膜モジュール５と、加圧ポンプ２と、加圧側インバータ３と、比例制御排水弁６と、制御部２０と、供給水ラインＬ１と、透過水ラインＬ２と、濃縮水ラインＬ３と、循環水ラインＬ４と、排水ラインＬ５と、流量センサＳ３と、を備えて構成される。
【００２０】
供給水ラインＬ１は、供給水Ｗ１をＲＯ膜モジュール５に供給するラインである。供給水ラインＬ１の上流側の端部は、供給水Ｗ１の供給源（不図示）に接続されている。供給水ラインＬ１の下流側の端部は、ＲＯ膜モジュール５の一次側入口ポートに接続されている。供給水ラインＬ１には、加圧ポンプ２が設けられている。
【００２１】
加圧ポンプ２は、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１を吸入し、ＲＯ膜モジュール５へ向けて圧送（吐出）する装置である。加圧ポンプ２には、加圧側インバータ３から周波数が変換された駆動電力が供給される。加圧ポンプ２は、供給（入力）された駆動電力の周波数（以下、「駆動周波数」ともいう）に応じた回転速度で駆動される。
【００２２】
加圧側インバータ３は、加圧ポンプ２に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路（又はその回路を持つ装置）である。加圧側インバータ３には、制御部２０から指令信号が入力される。加圧側インバータ３は、制御部２０により入力された指令信号（電流値信号又は電圧値信号）に対応する駆動周波数の駆動電力を加圧ポンプ２に出力する。
【００２３】
ＲＯ膜モジュール５は、加圧ポンプ２から吐出された供給水Ｗ１を、溶存塩類が除去された透過水Ｗ２と、溶存塩類が濃縮された濃縮水Ｗ３とに膜分離処理する設備である。ＲＯ膜モジュール５は、単一又は複数のＲＯ膜エレメント（不図示）を備える。ＲＯ膜モジュール５は、これらＲＯ膜エレメントにより供給水Ｗ１を膜分離処理し、透過水Ｗ２及び濃縮水Ｗ３を製造する。
本実施形態においては、逆浸透膜分離装置４は、ＲＯ膜モジュール５により分離された透過水Ｗ２を被処理水として脱炭酸膜装置１に供給する。
【００２４】
透過水ラインＬ２は、ＲＯ膜モジュール５で分離された透過水Ｗ２を送出するラインである。透過水ラインＬ２の上流側の端部は、ＲＯ膜モジュール５の二次側ポートに接続されている。透過水ラインＬ２は、被処理水としての透過水Ｗ２を脱炭酸膜モジュール１０に供給するラインである。透過水ラインＬ２の下流側の端部は、脱炭酸膜モジュール１０の水流入口１０ａに接続されている。透過水ラインＬ２には、上流側から下流側に向けて順に、塩素センサＳ１、脱炭酸膜モジュール１０が設けられている。
【００２５】
塩素センサＳ１は、透過水ラインＬ２を流通する透過水Ｗ２の残留塩素濃度（すなわち、塩素リーク量）を測定する機器である。塩素センサＳ１で測定された透過水Ｗ２の塩素リーク量は、制御部２０へ検出信号として送信される。
【００２６】
濃縮水ラインＬ３は、ＲＯ膜モジュール５で分離された濃縮水Ｗ３を送出するラインである。濃縮水ラインＬ３の上流側の端部は、ＲＯ膜モジュール５の一次側出口ポートに接続されている。また、濃縮水ラインＬ３の下流側は、接続部Ｊ１において、循環水ラインＬ４及び排水ラインＬ５に接続されている。
【００２７】
循環水ラインＬ４は、ＲＯ膜モジュール５で分離され且つ濃縮水ラインＬ３を流通する濃縮水Ｗ３の一部Ｗ３１を、供給水ラインＬ１におけるＲＯ膜モジュール５及び加圧ポンプ２よりも上流側に返送するラインである。循環水ラインＬ４の上流側の端部は、接続部Ｊ１において、濃縮水ラインＬ３に接続されている。また、循環水ラインＬ４の下流側の端部は、接続部Ｊ２において、供給水ラインＬ１における加圧ポンプ２よりも上流側に接続されている。
【００２８】
排水ラインＬ５は、ＲＯ膜モジュール５で分離され且つ濃縮水ラインＬ３を流通する濃縮水Ｗ３の残部Ｗ３２を装置外（系外）に排出するラインである。排水ラインＬ５には、比例制御排水弁６が設けられている。
【００２９】
比例制御排水弁６は、排水ラインＬ５から装置外へ排出する濃縮水Ｗ３の残部Ｗ３２の排水流量を調節する弁である。比例制御排水弁６の弁開度は、制御部２０から送信される駆動信号により制御される。制御部２０から電流値信号（例えば、４〜２０ｍＡ）を比例制御排水弁６に送信して、弁開度を制御することにより、濃縮水Ｗ３の残部Ｗ３２の排水流量を調節することができる。
【００３０】
脱炭酸膜装置１は、被処理水として供給された透過水Ｗ２から脱炭酸水Ｗ４を製造する。脱炭酸膜モジュール１０は、流入した空気Ｇ１（掃引ガス）により被処理水としての透過水Ｗ２に含まれる炭酸ガスを脱気処理（除去）して、脱炭酸水Ｗ４を製造する。脱炭酸膜モジュール１０は、空気Ｇ１が流入する空気流入口１０ｃ、炭酸ガスを含む空気Ｇ２（以下、「混合空気」ともいう）が排出される空気排出口１０ｄ、炭酸ガスを含む透過水Ｗ２が流入する水流入口１０ａ、及び炭酸ガスが除去された脱炭酸水Ｗ４が排出される脱炭酸水排出口１０ｂを備える。外部灌流式の気体分離膜モジュールの場合、空気流入口１０ｃ及び空気排出口１０ｄは、中空糸膜の内側と連通する。一方、水流入口１０ａ及び脱炭酸水排出口１０ｂは、中空糸膜の外側と連通する。脱炭酸膜モジュール１０の水流入口１０ａには、透過水ラインＬ２の下流側の端部が接続され、脱炭酸膜モジュール１０の脱炭酸水排出口１０ｂには、脱炭酸水ラインＬ６の上流側の端部が接続されている。
【００３１】
空気吸引ラインＬ７は、脱炭酸膜モジュール１０に流入される空気Ｇ１（掃引ガス）が流通するラインである。空気吸引ラインＬ７の上流側の端部は、エアフィルタ１５を介して、大気に解放されている。空気吸引ラインＬ７の下流側の端部は、脱炭酸膜モジュール１０の空気流入口１０ｃに接続されている。また、空気吸引ラインＬ７には、上流側から順に、エアフィルタ１５及びエア開閉弁１４が設けられている。エアフィルタ１５は、導入される空気Ｇ１から異物を除去するための部品である。エア開閉弁１４は、空気吸引ラインＬ７を開閉する。エア開閉弁１４は、後述する制御部２０により開閉状態が制御される。
【００３２】
空気排出ラインＬ８は、脱炭酸膜モジュール１０から排出される炭酸ガスを含む混合空気Ｇ２が流通するラインである。空気排出ラインＬ８の上流側の端部は、脱炭酸膜モジュール１０の空気排出口１０ｄに接続されている。空気排出ラインＬ８の下流側からは、混合空気Ｇ２が排出される。空気排出ラインＬ８には、上流側から順に、逆止弁Ｖ１１及び真空ポンプ１２が設けられている。
【００３３】
真空ポンプ１２は、エア開閉弁１４が開状態の場合に、空気吸引ラインＬ７を介して脱炭酸膜モジュール１０に空気Ｇ１を流入させると共に、空気排出ラインＬ８を介して脱炭酸膜モジュール１０から炭酸ガスを含む混合空気Ｇ２を排出させる装置である。
また、真空ポンプ１２は、エア開閉弁１４が閉状態の場合に、空気排出ラインＬ８を介して脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように、脱炭酸膜モジュール１０の内部から脱炭酸膜モジュール１０の外部に向けて真空引きする装置である。
真空ポンプ１２には、真空側インバータ１３から周波数が変換された駆動電力が供給される。真空ポンプ１２は、真空側インバータ１３から供給された駆動電力の周波数（以下、「駆動周波数」ともいう）に応じた回転速度で駆動される。
【００３４】
真空側インバータ１３は、真空ポンプ１２に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路（又はその回路を持つ装置）である。真空側インバータ１３には、制御部２０から指令信号が入力される。真空側インバータ１３は、制御部２０により入力された指令信号（電流値信号又は電圧値信号）に対応する駆動周波数の駆動電力を真空ポンプ１２に出力する。
【００３５】
脱炭酸膜装置１において、エア開閉弁１４を開状態にして、真空ポンプ１２を駆動すると、空気吸引ラインＬ７から吸引された空気Ｇ１が、エアフィルタ１５及びエア開閉弁１４を経て脱炭酸膜モジュール１０へ導入される。空気Ｇ１は、脱炭酸膜モジュール１０の内部において中空糸膜の内側を流通し、混合空気Ｇ２は、空気排出口１０ｄから空気排出ラインＬ８に排出される。これにより、脱炭酸膜モジュール１０において、空気が連続的に流通する。
本実施形態においては、空気吸引ラインＬ７、エア開閉弁１４、真空ポンプ１２、真空側インバータ１３及び空気排出ラインＬ８は、ガス掃引手段を構成する。ガス掃引手段は、脱炭酸膜モジュール１０により透過水Ｗ２に含まれる炭酸ガスを除去するために、空気吸引ラインＬ７を流通する空気Ｇ１を脱炭酸膜モジュール１０に流入させて、脱炭酸膜モジュール１０の外部に炭酸ガスを含む混合空気Ｇ２を排出させる。
【００３６】
一方、脱炭酸膜装置１において、エア開閉弁１４を閉状態にして、真空ポンプ１２を駆動すると、空気排出ラインＬ８を介して、脱炭酸膜モジュール１０の中空糸膜の内部が真空状態になるように、脱炭酸膜モジュール１０の内部から脱炭酸膜モジュール１０の外部に向けて真空引きする。
本実施形態においては、空気吸引ラインＬ７、エア開閉弁１４、真空ポンプ１２、真空側インバータ１３及び空気排出ラインＬ８は、真空引き手段を構成する。真空引き手段は、脱炭酸膜モジュール１０により透過水Ｗ２に含まれる炭酸ガスを除去するために、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように、脱炭酸膜モジュール１０の内部から脱炭酸膜モジュール１０の外部に向けて真空引きして、脱炭酸膜モジュール１０の外部に炭酸ガスを排出させる。
【００３７】
脱炭酸水ラインＬ６は、脱炭酸膜モジュール１０で製造された脱炭酸水Ｗ４を送出するラインである。脱炭酸水ラインＬ６の上流側の端部は、脱炭酸膜モジュール１０の脱炭酸水排出口１０ｂに接続されている。脱炭酸水ラインＬ６の下流側の端部は、需要先の装置（不図示）や処理水タンク（不図示）などに接続されている。脱炭酸水ラインＬ６には、上流側から下流側に向けて順に、水温センサＳ２、流量センサＳ３が設けられている。
【００３８】
水温センサＳ２は、脱炭酸水Ｗ４の温度を検出する機器である。水温センサＳ２で検出された脱炭酸水Ｗ４の温度（以下、「検出水温値」ともいう）は、制御部２０へ検出信号として送信される。
【００３９】
なお、本実施形態においては、水温センサＳ２を脱炭酸膜モジュール１０の下流側に配置して、水温センサＳ２が脱炭酸水Ｗ４の温度を検出するように構成したが、これに制限されない。水温センサＳ２を脱炭酸膜モジュール１０の上流側に配置して、水温センサＳ２が透過水Ｗ２の温度を検出するように構成してもよい。脱炭酸膜モジュール１０の上流側及び下流側において、水の温度をほぼ同じ水温値と看做せるためである。
【００４０】
流量センサＳ３は、脱炭酸水ラインＬ６を流通する脱炭酸水Ｗ４の流量を検出する機器である。流量センサＳ３で検出された脱炭酸水Ｗ４の流量（以下、「検出流量値」ともいう）は、制御部２０へパルス信号として送信される。
【００４１】
外気温度センサＳ４は、脱炭酸膜装置１の外気の気温を検出する。外気温度センサＳ４で測定された外気の温度（以下、「検出外気温度値」ともいう）は、制御部２０へ検出信号として送信される。
【００４２】
制御部２０は、ＣＰＵ及びメモリを含むマイクロプロセッサ（不図示）により構成される。制御部２０は、脱炭酸膜装置１及び逆浸透膜分離装置４を制御する。
【００４３】
制御部２０は、逆浸透膜分離装置４において、ＲＯ膜モジュール５における透過水Ｗ１１の流量フィードバック水量制御を実行する。制御部２０は、ＲＯ膜モジュール５における透過水Ｗ２の流量フィードバック水量制御として、流量センサＳ３の検出流量値が予め設定された目標流量値となるように、速度形デジタルＰＩＤアルゴリズムにより加圧ポンプ２の駆動周波数を演算し、当該駆動周波数の演算値に対応する指令信号（電流値信号又は電圧値信号）を加圧側インバータ３に出力する。制御部２０において、流量フィードバック水量制御を実行することにより、ＲＯ膜モジュール５で製造される透過水Ｗ２の流量を、予め設定された目標流量値に安定させることができる。
【００４４】
制御部２０は、脱炭酸膜装置１において、通常運転と劣化抑制運転とを実行可能である。
制御部２０による脱炭酸膜装置１における通常運転とは、脱炭酸水を製造するために、空気Ｇ１（掃引ガス）を脱炭酸膜モジュール１０に流入させた状態で、加圧ポンプ２を動作させて脱炭酸膜モジュール１０に透過水Ｗ２を通水することにより、脱炭酸水Ｗ４を製造する運転である。
【００４５】
具体的には、制御部２０は、通常運転時において、空気Ｇ１を脱炭酸膜モジュール１０に流入させるようにエア開閉弁１４（ガス掃引手段）及び真空側インバータ１３（ガス掃引手段）を制御するガス掃引運転を実行する。詳細には、制御部２０は、通常運転時において、エア開閉弁１４を開状態して、真空側インバータ１３を制御して、空気Ｇ１を脱炭酸膜モジュール１０に流入させるように、真空ポンプ１２を駆動する。これにより、制御部２０は、ガス掃引運転を実行する。そして、この状態で、制御部２０は、加圧側インバータ３を制御して加圧ポンプ２を動作させて、脱炭酸膜モジュール１０に透過水Ｗ２を通水させるように制御する。
【００４６】
一方、制御部２０による脱炭酸膜装置１における劣化抑制運転とは、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように脱炭酸膜モジュール１０の内部から外部に向けて真空引きした状態で、加圧側インバータ３を制御して加圧ポンプ２を動作させて脱炭酸膜モジュール１０に透過水Ｗ２を通水させる運転である。透過水Ｗ２中の塩素の濃度が高い場合などに、通常運転時におけるガス掃引運転を実行した状態で、脱炭酸膜モジュール１０に透過水Ｗ２を通水すると、脱炭酸膜モジュール１０が劣化する可能性がある。そのため、脱炭酸膜装置１における劣化抑制運転は、脱炭酸膜モジュール１０の劣化を抑制するために実行される。
【００４７】
具体的には、制御部２０は、劣化抑制運転時において、エア開閉弁１４を閉状態して、真空側インバータ１３を制御して、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように、真空ポンプ１２を駆動する。これにより、制御部２０は、真空引き運転を実行する。そして、この状態で、制御部２０は、加圧側インバータ３を制御して加圧ポンプ２を動作させて、脱炭酸膜モジュール１０に透過水Ｗ２を通水させるように制御する。
【００４８】
このように制御される脱炭酸膜装置１においては、透過水Ｗ２中の塩素の濃度が高い場合に、通常運転時におけるガス掃引運転を実行した状態で、脱炭酸膜モジュール１０に透過水Ｗ２を通水すると、脱炭酸膜モジュール１０の膜が酸化することで劣化しやすい。更に、透過水Ｗ２や脱炭酸水Ｗ４の温度が高い場合には、透過水Ｗ２が脱炭酸膜モジュール１０の膜を通過しやすいため、膜を通過する水の量が増加して、脱炭酸膜モジュール１０の膜が劣化しやすい。
一方、脱炭酸膜装置１においては、真空引き運転を実行すると、透過水Ｗ２中の塩素の濃度が高くても、脱炭酸膜モジュール１０の膜の酸化による劣化の影響は小さくなる。しかし、脱炭酸膜モジュール１０の炭酸ガスを除去する性能は低下しやすい。
そのため、脱炭酸膜装置１は、通常運転時におけるガス掃引運転において、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合にのみ、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行する。
【００４９】
具体的には、制御部２０は、通常運転時におけるガス掃引運転を実行中に、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合に実行される劣化抑制運転時において、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるようにエア開閉弁１４（ガス掃引手段）及び真空側インバータ１３（真空引き手段）を制御する真空引き運転を実行するように運転状態を切り換える。
【００５０】
脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合とは、塩素センサＳ１により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合や、水温センサＳ２により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合や、外気温度センサＳ４により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合などを挙げることができる。
【００５１】
脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合を塩素センサＳ１により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合とした理由は、塩素センサＳ１により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合においては、透過水Ｗ２中の塩素の濃度が高いため、脱炭酸膜モジュール１０の膜が酸化により早期に劣化しやすい状態であるためである。
また、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合を水温センサＳ２により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合とした理由は、水温センサＳ２により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合においては、透過水Ｗ２が脱炭酸膜モジュール１０の膜を通過しやすいため、膜を通過する水の量が増加して、脱炭酸膜モジュール１０の膜が早期に劣化しやすい状態であるためである。
また、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合を外気温度センサＳ４により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合とした理由は、外気温度センサＳ４により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合においては、脱炭酸膜装置１が高温となり、脱炭酸膜モジュール１０の膜が早期に劣化しやすい状態であるためである。
【００５２】
また、制御部２０は、脱炭酸膜装置１の停止時において、通常運転時におけるガス掃引運転を実行後、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行する。
【００５３】
また、制御部２０は、劣化抑制運転時における真空引き運転時には、脱炭酸膜モジュール１０に流入させる透過水Ｗ２の量を減らすように、加圧側インバータ３により、加圧ポンプ２を制御する。
【００５４】
次に、制御部２０による脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合における処理手順について、図２を参照して説明する。図２は、第１実施形態の制御部２０において、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合の制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図２に示すフローチャートの処理は、脱炭酸膜装置１の運転中において、繰り返し実行される。
本実施形態においては、脱炭酸膜装置１は、透過水Ｗ２から脱炭酸水Ｗ４を製造する通常時には、通常運転を実行しており、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合にのみ、劣化抑制運転を実行する。
【００５５】
図２に示すステップＳＴ１１において、制御部２０は、脱炭酸膜装置１において通常運転を実行する。具体的には、制御部２０は、通常運転時におけるガス掃引運転を実行し、エア開閉弁１４を開状態として、空気Ｇ１（掃引ガス）を脱炭酸膜モジュール１０に流入させるように、真空ポンプ１２を駆動するように真空側インバータ１３を制御する。また、制御部２０は、加圧ポンプ２を駆動するように加圧側インバータ３を制御して、透過水Ｗ２を脱炭酸膜モジュール１０に通水させる。
【００５６】
ステップＳＴ１２において、制御部２０は、脱炭酸膜モジュール１０が所定の劣化条件を満たしたか否かを判定する。脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合とは、塩素センサＳ１により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合や、水温センサＳ２により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合や、外気温度センサＳ４により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合などを挙げることができる。
脱炭酸膜モジュール１０が所定の劣化条件を満たしたと判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ１３へ移行する。また、脱炭酸膜モジュール１０が所定の劣化条件を満たしていないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１２を繰り返す。
【００５７】
ステップＳＴ１３において、制御部２０は、脱炭酸膜装置１について、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行するように、運転状態を切り換える。具体的には、制御部２０は、エア開閉弁１４を閉状態として、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように、真空ポンプ１２を駆動するように真空側インバータ１３を制御する。また、制御部２０は、加圧ポンプ２を駆動するように加圧側インバータ３を制御して、透過水Ｗ２を脱炭酸膜モジュール１０に通水させる。
このように、脱炭酸膜モジュール１０が所定の劣化条件を満たしている場合には、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、劣化抑制運転時における真空引き運転が実行される。
【００５８】
ステップＳＴ１４において、制御部２０は、劣化抑制運転時における真空引き運転時には、脱炭酸膜モジュール１０に流入させる透過水Ｗ２の量を減らすように、加圧側インバータ３により、加圧ポンプ２を制御する。
【００５９】
ステップＳＴ１５において、制御部２０は、劣化抑制運転を所定時間実行したか否かを判定する。劣化抑制運転を所定時間実行したと判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ１６へ移行する。また、劣化抑制運転を所定時間実行していないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ１５を繰り返す。
【００６０】
ステップＳＴ１６において、制御部２０は、劣化抑制運転時における真空引き運転の実行を終了して、通常運転時におけるガス掃引運転を実行するように、運転状態を切り換える。これにより、制御部２０は、ステップＳＴ１１と同様の制御を実行することで、通常運転を実行する。
そして、本フローチャートの処理は終了する（ステップＳＴ１１へリターンする）。
【００６１】
次に、制御部２０における脱炭酸膜装置１の停止時の処理手順について、図３を参照して説明する。図３は、第１実施形態の制御部２０において、脱炭酸膜装置１の停止時の制御を実行する場合の処理手順を示すフローチャートである。図３に示すフローチャートの処理は、脱炭酸膜装置１の運転中において、繰り返し実行される。
【００６２】
図３に示すステップＳＴ２１において、制御部２０は、脱炭酸膜装置１において通常運転を実行する。具体的には、制御部２０は、エア開閉弁１４を開状態として、空気Ｇ１（掃引ガス）を脱炭酸膜モジュール１０に流入させるように、真空ポンプ１２を駆動するように真空側インバータ１３を制御する。また、制御部２０は、加圧ポンプ２を駆動するように加圧側インバータ３を制御して、透過水Ｗ２を脱炭酸膜モジュール１０に通水させる。
【００６３】
ステップＳＴ２２において、制御部２０は、脱炭酸膜装置１を停止させる信号を受信したか否かを判定する。脱炭酸膜装置１を停止させる信号を受信したと判定された場合（ＹＥＳ）には、処理は、ステップＳＴ２３へ移行する。また、脱炭酸膜装置１を停止させる信号を受信していないと判定された場合（ＮＯ）には、処理は、ステップＳＴ２２を繰り返す。
【００６４】
ステップＳＴ２３において、制御部２０は、加圧ポンプ２が停止するように、加圧側インバータ３を制御する。これにより、脱炭酸膜装置１の脱炭酸膜モジュール１０への透過水Ｗ２の通水は停止される。
【００６５】
ステップＳＴ２４において、通常運転時におけるガス掃引運転を実行しているため、制御部２０は、引き続き、一定時間、通常運転時におけるガス掃引運転を実行する。なお、前述のステップＳＴ１３のように、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行した場合には、運転状態を切り換えて、一定時間、通常運転時におけるガス掃引運転を実行する。
【００６６】
ステップＳＴ２５において、制御部２０は、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行する。具体的には、制御部２０は、エア開閉弁１４を閉状態として、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように、真空ポンプ１２を駆動するように真空側インバータ１３を制御する。
そして、本フローチャートの処理は終了する。
【００６７】
上述した第１実施形態に係る脱炭酸膜装置１によれば、例えば、以下のような効果が得られる。
第１実施形態に係る脱炭酸膜装置１は、脱炭酸膜モジュール１０により透過水Ｗ２に含まれる炭酸ガスを除去するために、空気吸引ラインＬ７を流通する空気Ｇ１を脱炭酸膜モジュール１０に流入させて、脱炭酸膜モジュール１０の外部に炭酸ガスを含む混合空気Ｇ２を排出させるガス掃引手段（空気吸引ラインＬ７、エア開閉弁１４、真空ポンプ１２、真空側インバータ１３及び空気排出ラインＬ８）と、脱炭酸膜モジュール１０により透過水Ｗ２に含まれる炭酸ガスを除去するために、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるように、脱炭酸膜モジュール１０の内部から脱炭酸膜モジュール１０の外部に向けて真空引きして、脱炭酸膜モジュール１０の外部に炭酸ガスを排出させる真空引き手段（空気吸引ラインＬ７、エア開閉弁１４、真空ポンプ１２、真空側インバータ１３及び空気排出ラインＬ８）と、通常運転時において、空気Ｇ１を脱炭酸膜モジュール１０に流入させるようにエア開閉弁１４及び真空側インバータ１３を制御するガス掃引運転を実行する。また、脱炭酸膜装置１は、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合に実行される劣化抑制運転時において、通常運転時におけるガス掃引運転の実行に代えて、脱炭酸膜モジュール１０の内部が真空状態になるようにエア開閉弁１４及び真空側インバータ１３を制御する真空引き運転を実行するように運転状態を切り換える制御部２０を備える。
【００６８】
そのため、通常運転時におけるガス掃引運転を実行している際に、脱炭酸膜モジュール１０の所定の劣化条件を満たした場合には、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行するように運転状態を切り換えることができる。これにより、脱炭酸膜装置１は、ガス掃引運転を中断して真空引き運転を実行することで、脱炭酸膜モジュール１０の炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減することができる。
【００６９】
また、本実施形態に係る脱炭酸膜装置１においては、劣化条件を満たした場合とは、塩素センサＳ１により検出された塩素の濃度が所定の塩素濃度閾値を上回る場合である。そのため、透過水Ｗ２中に塩素がリークしている場合に、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減することができる。これにより、透過水Ｗ２中に塩素のリーク量が多い場合に、炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減して、脱炭酸水の水質を維持することができる。
【００７０】
また、本実施形態に係る脱炭酸膜装置１においては、劣化条件を満たした場合とは、水温センサＳ２により検出された水温が所定の水温閾値を上回る場合である。そのため、脱炭酸水Ｗ４の水温が高温の場合に、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減することができる。これにより、脱炭酸水Ｗ４の水温が高温の場合に、炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減して、脱炭酸水の水質を維持することができる。
【００７１】
また、本実施形態に係る脱炭酸膜装置１においては、劣化条件を満たした場合とは、外気温度センサＳ４により検出された気温が所定の気温閾値を上回る場合である。そのため、外気温度が高温になった場合に、脱炭酸膜装置１が外気温度の影響により高温となっても、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減することができる。これにより、脱炭酸膜装置１の外気温度が高温になった場合に、炭酸ガスを除去する性能を維持しつつ、脱炭酸膜モジュール１０の膜の劣化を低減して、脱炭酸水の水質を維持することができる。
【００７２】
また、本実施形態に係る脱炭酸膜装置１においては、制御部２０は、脱炭酸膜装置１の停止時において、通常運転時におけるガス掃引運転を実行後、劣化抑制運転時における真空引き運転を実行する。これにより、脱炭酸膜モジュール１０における気相側の部分の真空状態を保持して、脱炭酸膜装置１を停止することができる。よって、脱炭酸膜装置１の停止時において、脱炭酸膜モジュール１０における気相側の部分の酸化による劣化を抑制することができる。
【００７３】
また、本実施形態に係る脱炭酸膜装置１においては、制御部２０は、劣化抑制運転時における真空引き運転時には、脱炭酸膜モジュール１０に流入させる透過水Ｗ２の量を減らすように、加圧ポンプ２を制御する。これにより、脱炭酸膜モジュール１０の炭酸ガスを除去する性能が低下しやすい真空引き運転の実行中において、脱炭酸水Ｗ６を製造する量を少なくして、脱炭酸膜モジュール１０の炭酸ガスを除去する性能を維持するように制御できる。よって、脱炭酸水の水質を維持することができる。
【００７４】
（第２実施形態）
次に、本発明の第２実施形態に係る水処理システム１００Ａの構成について、図４を参照して説明する。図４は、第２実施形態に係る水処理システム１００Ａの全体構成図である。
図４に示すように、第１実施形態では逆浸透膜分離装置４を脱炭酸膜装置１の上流側に配置したのに対して、第２実施形態では逆浸透膜分離装置４を脱炭酸膜装置１の下流側に配置した点において、第２実施形態に係る水処理システム１００Ａは、第１実施形態の水処理システム１００とは異なる。
なお、第２実施形態では、主に第１実施形態との相違点について説明する。第２実施形態では、第１実施形態と同一又は同等の構成については同じ符号を付して説明する。また、第２実施形態では、第１実施形態と重複する説明を適宜に省略する。
【００７５】
図４に示すように、第２実施形態に係る水処理システム１００Ａにおいては、第１実施形態に係る水処理システム１００において供給水ラインＬ１、ＲＯ膜モジュール５、透過水ラインＬ２、脱炭酸膜モジュール１０及び脱炭酸水ラインＬ６が上流側から下流側に向かってこの順に配置される（図１参照）のに対して、供給水ラインＬ１、脱炭酸膜モジュール１０、脱炭酸水ラインＬ６、ＲＯ膜モジュール５及び透過水ラインＬ２が上流側から下流側に向かってこの順に配置される。また、第２実施形態に係る水処理システム１００Ａにおいては、供給水ラインＬ１に、供給ポンプ２ａが設けられている。
【００７６】
供給水ラインＬ１は、被処理水としての供給水Ｗ１を脱炭酸膜モジュール１０に供給するラインである。供給水ラインＬ１の上流側の端部は、供給水Ｗ１の供給源（不図示）に接続されている。供給水ラインＬ１の下流側の端部は、脱炭酸膜モジュール１０の水流入口１０ａに接続されている。供給水ラインＬ１には、上流側から下流側に向けて順に、供給ポンプ２ａ、塩素センサＳ１、脱炭酸膜モジュール１０が設けられている。
本実施形態においては、脱炭酸膜装置１は、脱炭酸膜モジュール１０により製造された脱炭酸水Ｗ６を供給水として逆浸透膜分離装置４に供給する。
【００７７】
供給ポンプ２ａは、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１を吸入し、脱炭酸膜モジュール１０へ向けて圧送（吐出）する装置である。供給ポンプ２ａには、供給側インバータ３ａから周波数が変換された駆動電力が供給される。供給ポンプ２ａは、供給（入力）された駆動電力の周波数（以下、「駆動周波数」ともいう）に応じた回転速度で駆動される。
【００７８】
供給側インバータ３ａは、供給ポンプ２ａに、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路（又はその回路を持つ装置）である。供給側インバータ３ａは、制御部２０と電気的に接続されている。供給側インバータ３ａには、制御部２０から指令信号が入力される。供給側インバータ３ａは、制御部２０により入力された指令信号（電流値信号又は電圧値信号）に対応する駆動周波数の駆動電力を供給ポンプ２ａに出力する。
【００７９】
塩素センサＳ１は、供給水ラインＬ１を流通する供給水Ｗ１の残留塩素濃度（すなわち、塩素リーク量）を測定する機器である。塩素センサＳ１で測定された供給水Ｗ１の塩素リーク量は、制御部２０へ検出信号として送信される。
【００８０】
脱炭酸水ラインＬ６は、脱炭酸水Ｗ４をＲＯ膜モジュール５に供給するラインである。脱炭酸水ラインＬ６の上流側の端部は、脱炭酸膜モジュール１０の脱炭酸水排出口１０ｂに接続されている。脱炭酸水ラインＬ６の下流側の端部は、ＲＯ膜モジュール５の一次側入口ポートに接続されている。脱炭酸水ラインＬ６には、加圧ポンプ２が設けられている。
【００８１】
加圧ポンプ２は、脱炭酸水ラインＬ６を流通する脱炭酸水Ｗ４を吸入し、ＲＯ膜モジュール５へ向けて圧送（吐出）する装置である。加圧ポンプ２には、加圧側インバータ３から周波数が変換された駆動電力が供給される。加圧ポンプ２は、供給（入力）された駆動電力の周波数（以下、「駆動周波数」ともいう）に応じた回転速度で駆動される。
【００８２】
加圧側インバータ３は、加圧ポンプ２に、周波数が変換された駆動電力を供給する電気回路（又はその回路を持つ装置）である。加圧側インバータ３には、制御部２０から指令信号が入力される。加圧側インバータ３は、制御部２０により入力された指令信号（電流値信号又は電圧値信号）に対応する駆動周波数の駆動電力を加圧ポンプ２に出力する。
【００８３】
ＲＯ膜モジュール５は、加圧ポンプ２から吐出された脱炭酸水Ｗ４を、溶存塩類が除去された透過水Ｗ２と、溶存塩類が濃縮された濃縮水Ｗ３とに膜分離処理する設備である。ＲＯ膜モジュール５は、単一又は複数のＲＯ膜エレメント（不図示）を備える。ＲＯ膜モジュール５は、これらＲＯ膜エレメントにより脱炭酸水Ｗ４を膜分離処理し、透過水Ｗ２及び濃縮水Ｗ３を製造する。
【００８４】
透過水ラインＬ２は、ＲＯ膜モジュール５で分離された透過水Ｗ２を送出するラインである。透過水ラインＬ２の上流側の端部は、ＲＯ膜モジュール５の二次側ポートに接続されている。透過水ラインＬ２の下流側の端部は、需要先の装置（不図示）や処理水タンク（不図示）などに接続されている。透過水ラインＬ２には、流量センサＳ３が設けられている。
【００８５】
流量センサＳ３は、透過水ラインＬ２を流通する透過水Ｗ２の流量を検出する機器である。流量センサＳ３で検出された透過水Ｗ２の流量（以下、「検出流量値」ともいう）は、制御部２０へパルス信号として送信される。
【００８６】
濃縮水ラインＬ３及び排水ラインＬ５は、第１実施形態の水処理システム１００と同様の構成であるため、第１実施形態の説明を援用して、その説明を省略する。
循環水ラインＬ４は、ＲＯ膜モジュール５で分離され且つ濃縮水ラインＬ３を流通する濃縮水Ｗ３の一部Ｗ３１を、脱炭酸水ラインＬ６における脱炭酸膜モジュール１０と加圧ポンプ２との間に返送するラインである。循環水ラインＬ４の上流側の端部は、接続部Ｊ１において、濃縮水ラインＬ３に接続されている。また、循環水ラインＬ４の下流側の端部は、接続部Ｊ２において、脱炭酸水ラインＬ６における脱炭酸膜モジュール１０と加圧ポンプ２との間に接続されている。
【００８７】
第２実施形態においては、脱炭酸膜装置１は、脱炭酸膜モジュール１０により製造された脱炭酸水Ｗ６を供給水として逆浸透膜分離装置４に供給する。
また、制御部２０は、第１実施形態と同様に、脱炭酸膜装置１及び逆浸透膜分離装置４を制御する。
【００８８】
第２実施形態の脱炭酸膜装置１によれば、前述の第１実施形態と同様の効果が奏される。
【００８９】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明した。しかし、本発明は、上述した実施形態に限定されることなく、種々の形態で実施することができる。
例えば、第１実施形態では、逆浸透膜分離装置４を脱炭酸膜装置１の上流側に配置し、逆浸透膜分離装置４を、逆浸透膜モジュール５により分離された透過水Ｗ２を被処理水として脱炭酸膜装置１に供給するように構成した。また、第２実施形態では、逆浸透膜分離装置４を脱炭酸膜装置１の下流側に配置し、脱炭酸膜装置１を、脱炭酸膜モジュール１０により製造された脱炭酸水Ｗ４を供給水として逆浸透膜分離装置４に供給するように構成した。しかし、これに制限されず、逆浸透膜分離装置４を備えない構成であってもよい。
【００９０】
また、前記実施形態では、脱炭酸膜モジュールに流入される掃引ガスを空気Ｇ１で構成したが、これに制限されない。掃引ガスを、例えば、窒素等の不活性ガスで構成してもよい。
【符号の説明】
【００９１】
１  脱炭酸膜装置
４  逆浸透膜分離装置
５  ＲＯ膜モジュール（逆浸透膜モジュール）
１０  脱炭酸膜モジュール
１２  真空ポンプ（ガス掃引手段、真空引き手段）
１３  真空側インバータ（ガス掃引手段、真空引き手段）
１４  エア開閉弁（ガス掃引手段、真空引き手段）
２０  制御部
１００，１００Ａ  水処理システム
Ｇ１  空気（掃引ガス）
Ｇ２  混合空気（炭酸ガスを含む掃引ガス）
Ｌ７  空気吸引ライン（掃引ガスライン、ガス掃引手段、真空引き手段）
Ｌ８  空気排出ライン（排出ライン、ガス掃引手段、真空引き手段）
Ｓ１  塩素センサ（塩素濃度検出手段）
Ｓ２  水温センサ（水温検出手段）
Ｓ４  外気温度センサ（気温検出手段）
Ｗ１  供給水（被処理水）
Ｗ２  透過水（被処理水）
Ｗ４  脱炭酸水
【図１】
2017064577.tif 000003
【図２】
2017064577.tif 000004
【図３】
2017064577.tif 000005
【図４】
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