(57)【要約】      （修正有）【課題】航空機表面に設けられたリブレットの反射を防ぐ。【解決手段】ビークルの外部表面上の空気力学的微細構造３００と、空気力学的微細構造の上に重ね合わせられたサブ微細構造３１４とを含み、サブ微細構造は反射を低減するため離間されている。【選択図】図３
2017007651.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビークルの外部表面上の空気力学的微細構造と、
前記空気力学的微細構造の上に重ね合わせられたサブ微細構造とを備える装置であって、前記サブ微細構造は反射を低減するため離間されている装置。
【請求項２】
前記サブ微細構造間の間隔はおよそ可視光の波長である、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記空気力学的微細構造は航空機リブレットを含む、請求項１又は２に記載の装置。
【請求項４】
前記リブレットは、前記リブレットの先端近くに比較的小さなサブ微細構造と、前記リブレットの谷近くに比較的大きなサブ微細構造を有する、請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記サブ微細構造の表面は反射性コーティングで被覆されている、請求項１から４のいずれか一項に記載の装置。
【請求項６】
前記サブ微細構造間の前記間隔は約０．４ミクロン未満である、請求項１から５のいずれか一項に記載の装置。
【請求項７】
前記サブ微細構造間の前記間隔は約０．４〜０．７ミクロンである、請求項１から６のいずれか一項に記載の装置。
【請求項８】
前記空気力学的微細構造に隣接するカラー層を更に含む、請求項１から７のいずれか一項に記載の装置。
【請求項９】
空気力学的微細構造の上にサブ微細構造を設けること、
反射を低減するため、前記サブ微細構造を離間すること
を含む方法。
【請求項１０】
前記サブ微細構造間の間隔はおよそ可視光の波長である、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
前記サブ微細構造を設けることは、前記空気力学的微細構造の上に前記サブ微細構造を機械加工すること、鋳造すること又は押出加工することを含む、請求項９又は１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記サブ微細構造を設けることは、前記空気力学的微細構造の上に前記サブ微細構造をエンボス加工することを含む、請求項９から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記サブ微細構造を設けることは、前記微細構造を機械加工すること、又はエンボス加工することを含む、請求項９から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記空気力学的微細構造の上に前記サブ微細構造を設けるためツールを整列させることを更に含み、前記サブ微細構造を設けることは前記ツールによって実行される、請求項９から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記サブ微細構造間の前記間隔は約０．４〜０．７ミクロンである、請求項９から１４のいずれか一項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は概して微細構造に関し、より具体的にはサブ微細構造を有する空気力学的微細構造に関する。
【背景技術】
【０００２】
微細構造は典型的に、航空機の飛行特性及び／又は飛行力学を変えるため、航空機上で使用される。特に、リブレットなどの微細構造は、航空機翼、航空機の尾翼部又は胴体の表面上で、航空機の抗力又は抗力係数を低減するために使用され、これによって、全体的な燃料節約及び／又は二酸化炭素排出低減などをもたらすことができる。しかしながら、リブレット及び他の微細構造はまた、高い反射率、指向性反射を含む特定の光学的な効果や特性、及び／又はその幾何形状により航空機の美観にその他の潜在的な効果をもたらす又は妨げることがありうる。高い反射率及び関連する指向性反射は、しばしばグリント（ｇｌｉｎｔ）と称されるが、航空機の視認性及び／又は美観に影響を及ぼすことがありうる。リブレットは、典型的な航空機表面（例えば、翼表面、胴体表面など）と比較して、その幾何学的配置、形状及び／又は外観によって、不規則な方向にグリントを引き起こしうる。
【０００３】
ある状況では、高いグリントが好まれるが、別の状況では高いグリントは望ましくないグリントを低減するための既知の解決策には、平坦な黒色塗装又は多層フィルムコーティングなどの低反射率光学コーティングが含まれている。しかしながら、これらの解決策は、グリントがほぼ常時発生する高い視射角では（例えば、面法線から９０度に近づくと）、一般的に効果的ではない。他の既知の解決策には転写シールが含まれるが、これらをリブレットなどの空気力学的表面に貼付すると、リブレットの空気力学的特性に悪影響を及ぼし、その結果、リブレットの効果を低下させる。
【発明の概要】
【０００４】
例示的な装置は、ビークルの外部表面の空気力学的微細構造、及び空気力学的微細構造の上に重ね合わせられたサブ微細構造を含み、サブ微細構造は反射を低減するため離間されている。
【０００５】
例示的な方法は、ビークルを使用することを含み、サブ微細構造はビークルの空気力学的微細構造の上に重ね合わせられており、サブ微細構造は反射を低減するため、およそ可視光の波長の間隔だけ離されている。
【０００６】
別の例示的な方法は、空気力学的微細構造の上にサブ微細構造を設けることを含み、サブ微細構造は反射を低減するため離間されている。
【０００７】
更に別の例示的な方法は、グリントを低減するため、ビークルの外部表面に関連するリブレット上に、ツールを用いてテクスチャ加工された外部表面を設けることを含む。
【０００８】
別の例示的な装置は、ビークルの外部表面上に空気力学的微細構造を含み、その空気力学的微細構造は、一次ピークと一次ピーク間のベース表面、並びにベース表面の上又はベース表面の近傍に二次ピークを有し、その二次ピークは一次ピークの高さの３分の１未満の高さを有する。
【０００９】
一実施形態は、ビークルの外部表面上の空気力学的微細構造、及び空気力学的微細構造の上に重ね合わせられたサブ微細構造を含み、サブ微細構造は反射を低減するため離間されている装置に関係する。サブ微細構造間の間隔は、およそ可視光の波長になりうる。空気力学的微細構造は、航空機のリブレットを含みうる。リブレットは、リブレットの先端付近に比較的小さなサブ微細構造を、リブレットの谷付近に比較的大きなサブ微細構造を有しうる。サブ微細構造の表面は、反射性コーティングで被覆されている。サブ微細構造間の間隔は、約０．４ミクロン未満になりうる。反射品質のニーズにもよるが、サブ微細構造間の間隔は約０．４〜０．７ミクロンになりうる。また、装置は空気力学的微細構造に隣接するカラー層を含みうる。
【００１０】
本発明の実施形態は、ビークルを使用する方法に関し、サブ微細構造はビークルの空気力学的微細構造の上に重ね合わせられており、サブ微細構造は反射を低減するため、およそ可視光の波長の間隔だけ離されている。空気力学的微細構造の上にサブ微細構造を設け、反射を低減するためサブ微細構造を離間することは、反射を低減する本発明の性能を高める。サブ微細構造は、微細構造のベースと微細構造の先端とで異なる幾何形状を有しうる。サブ微細構造は、空気力学的微細構造の上に機械加工されうる。サブ微細構造間の間隔は、約０．４ミクロン未満になりうる。反射品質のニーズにもよるが、サブ微細構造間の間隔は約０．４〜０．７ミクロンである。サブ微細構造は、三角形状、溝型形状、正弦波形状、放物線形状、円錐形状、円筒形状、又は複数の段形状のうちの一又は複数を有しうる。
【００１１】
別の実施形態は、空気力学的微細構造の上にサブ微細構造を設けることを含む方法に関し、サブ微細構造は反射を低減するため離間されている。サブ微細構造間の間隔は、およそ可視光の波長になりうる。サブ微細構造を設けることは、空気力学的微細構造の上にサブ微細構造を機械加工すること、鋳造すること又は押出加工することを含みうる。サブ微細構造を設けることは、空気力学的微細構造の上にサブ微細構造をエンボス加工することを含みうる。サブ微細構造を設けることは、微細構造を機械加工すること又はエンボス加工することを含みうる。本方法はまた、空気力学的微細構造の上にサブ微細構造を設けるためのツールを位置合わせすること含み、サブ微細構造を設けることはツールを介して行われる。ツールはエンボス加工ツールであってもよい。サブ微細構造間の間隔は、約０．４〜０．７ミクロンである。
【００１２】
一実施形態は、グリントを低減するため、ビークルの外部表面に関連するリブレット上に、ツールによってテクスチャ加工された外部表面を設けることに関する方法を含む。テクスチャ加工された外部表面はサブ微細構造を含み、サブ微細構造間の間隔はおよそ可視光の波長である。サブ微細構造は、三角形状、溝型形状、正弦波形状、円錐形状、円筒形状、放物線形状又は複数の段形状のうちの一又は複数を有しうる。サブ微細構造間の間隔は約０．４〜０．７ミクロンの範囲にほぼ等しい。リブレットのピークは、リブレットの谷に対して約１０〜２００ミクロンの高さとなりうる。ビークルは航空機を含みうる。
【００１３】
一実施形態は、ビークルの外部表面上に空気力学的微細構造を含む装置に関し、その空気力学的微細構造は、一次ピークと一次ピーク間のベース表面、ベース表面上又はベース表面近傍の二次ピークを有し、その二次ピークは、一次ピークの高さの３分の１未満の高さを有する。一又は複数の一次ピーク又は二次ピークは、その上に性能を向上させるためのサブ微細構造を有しうる。一又は複数の一次ピーク又は二次ピークは、ある条件の間に空気力学的効率を高めるためのリッジ形状であってもよい。一次及び二次ピークは、リッジ形状であってもよく、一次及び二次ピークのリッジは一般的に互いにほぼ平行に延在する。二次ピークは、空気力学的微細構造のベース部分とカラー層との間の界面に配置されうる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本明細書で開示される例示的な方法及び装置を実装するために使われうる、例示的な航空機である。
【図２】本明細書で開示される実施例が実装されうる、図１の例示的な航空機の外部表面の例示的なリブレット微細構造である。
【図３】本開示の教示に従い重ね合わせられたサブ微細構造を有する例示的な微細構造の断面図である。
【図４】光の波長よりも小さくなりうる重ね合わせられたサブ微細構造を有する別の例示的な微細構造の例示的な表面部分を示す。
【図５】ＡからＧは、微細構造並びに微細構造の上に重ね合わせられるサブ微細構造を実装するために使用されうる例示的な形状を示す。
【図６】例示的な微細構造のベース表面上に重ね合わせられたサブ微細構造を有する別の例示的な微細構造の図である。
【図７】例示的な微細構造のベース表面上に重ね合わせられたサブ微細構造を有し、界面に付加的なサブ微細構造を有する別の例示的な微細構造の図である。
【図８】本明細書に開示の実施例の実装に使用されうる、例示的なロール形成システムを示す。
【図９】本明細書に開示の実施例の実装に使用されうる、例示的なエンボス加工システムを示す。
【図１０】図９の例示的なエンボス加工システムの詳細図である。
【図１１】本明細書に開示の実施例の実装に使用されうる、例示的な方法を表わすフロー図である。
【００１５】
図面及び添付の記載の全体を通して、可能な箇所にはすべて、同じ部分又は類似の部分を指すために同じ参照番号が使用される。本開示において使用される、任意の部分が、任意の方式で、別の部分の（例えば、上に配置される、上に位置する、上に設置される、上に形成される、など）の表現は、言及される部分がもう一方の部分と接触している、又は、言及される部分が、もう一方との間に一又は複数の中間部分を伴ってもう一方の部分の上部にある、のいずれをも意味する。任意の部分が別の部分と接触しているとの表現は、当該２つの部分の間に中間部分がないことを意味する。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
サブ微細構造を有する空気力学的構造体が開示される。例えば、リブレットなどの微細構造は典型的に、飛行特性を改変及び／又は改善して、航空機の全体的な抗力を低減するため、航空機の空気力学的表面上で使用される。これによって、例えば、全体的な燃料節約及び／又は二酸化炭素排出低減などをもたらすことができる。但し、これらのリブレット及び他の空気力学的微細構造はまた、特定の角度及び／又は視角での反射率の変化を含む、関連の及び／又は意図しない光学的／視覚的効果を引き起こすことがあり、その結果、グリント及び／又は航空機の美観にその他の潜在的な影響（例えば、光沢、色彩効果、色の歪みなど）をもたらす。
【００１７】
航空機及び／又はリブレットなどの航空機に関連する外部微細構造は、仕上げられ、滑らかになった及び／又は研磨された表面を有する。これらの表面は反射率が高く、グリントを引き起こしうるフレネル反射をもたらしうる。リブレットに対してほぼ整列された方向に生ずるグリントは、他の航空機を操縦する操縦士及び／又は航空機監視員の方向に大量の光を反射しうる。また、グリントは航空機の操縦士の視認性及び／又は目視能力に影響を及ぼしうる（例えば、操縦士は自らが操縦している航空機の機首からの太陽光の反射によって視力が減弱される）。ある種の実施例では、光沢を少なくすること及び／又は反射性を低減することが有利になりうる（例えば、軍用など）。
【００１８】
本明細書に開示の実施例は、サブ微細構造（例えば、ナノ構造）を利用するが、このサブ微細構造は、例えば、微細構造によって引き起こされうるグリント及び／又は反射（例えば、フレネル反射など）を低減するため、微細構造（例えば、外部の空気力学的微細構造）の上又は下に重ね合わせられたナノスケール（例えば、寸法がおよそ１０−９メートル単位）となることもあれば、ならないこともある。幾つかの実施例では、実施例が実装される微細構造はビークル（例えば、航空機、地上ビークル、潜水艦など）に適用される。これらのリブレットは、ビークルの抗力係数低減に利用される。幾つかの実施例では、サブ微細構造は、例示的な微細構造が設けられるビークルの表面又は外観の光学特性及び／又は美観をカスタマイズするために使用される。
【００１９】
本明細書に開示の実施例により、低い反射率を有することが有利となりうる用途に関して、ビークルの表面はビークルからの反射及び／又はグリントを低減することができる。また、本明細書に開示の実施例により、ビークルの光学的効果をカスタマイズすることができる。特に、幾つかの実施例で、例えば、ビークルの可視外部表面に対する特定の位置及び／又は視角での反射率又は透過率を制限すること或いは高めることによって、カラー層などの特定の美的外観は所定の角度から見ることが可能になる。カラー層は、種々の装飾的効果及び／又は反射効果のため、微細構造に機械的に連結されてもよく、及び／又は微細構造に一体化されてもよい。幾つかの実施例では、カラー層及び／又は微細構造は、光吸収及又は屈折効果など、種々の光学的効果のため、カラー層と微細構造との間に界面特性（例えば、テクスチャ加工された表面）を有しうる。
【００２０】
幾つかの実施例では、サブ微細構造は、機械加工又は他の任意の適切な処理によって、微細構造に設けられる。特に、サブ微細構造は、例えば、ロール形成又はエンボス加工処理によって、微細構造の上に形成されうる。本明細書に開示の幾つかの実施例では、サブ微細構造は、微細構造が押し出されるにつれて（例えば、インライン二次処理）、微細構造の上に形成される。サブ微細構造を設けること及び／又は作成することは、直接的な表面修正によって、或いはロール形成又はエンボス加工のためのツールの作成によって間接的に、或いは押出成形、鋳造、吹き付け、エッチングなどによって行われうる。
【００２１】
本明細書で使用されているように、「微細構造」という用語は、幾何学的特徴、寸法、及び／又は、およそ１０〜２００ミクロン、典型的には７５〜１２５ミクロンのサイズを有する、幾何学的特徴の間の間隔（例えば、周期的な間隔、高さ及び／又は幅など）を示すことがある。本明細書で使用されているように、「サブ微細構造」という用語は、幾何学的特徴（例えば、周期的又は非周期的な間隔、高さ及び／又は幅など）が微細構造よりも大幅に小さくなる、幾何学的特徴、寸法及び／又は間隔を示すことがある。これらの実施例では、サブ微細構造はおよそ０．１〜１０ミクロンのサイズを有しうる。「ナノ構造」と称されることもある幾つかのサブ微細構造は、約０．４〜０．７ミクロンで、ほぼ可視光の波長以下のサイズ及び／又は間隔の範囲に及ぶ。したがって、「サブ微細構造」という用語はまた、約０．４ミクロン未満の寸法を示すことがある。そのため、本明細書で使用されている「微細構造」及び「サブ微細構造」という用語に関しては、「光の波長にほぼ等しい」という表現は、約０．１〜１０ミクロンの範囲に及ぶ寸法を意味する。
【００２２】
図１は、本明細書に開示の実施例が実装されうる例示的な航空機１００を示す。図解例の航空機１００は、背側フェアリング１０４に隣接した垂直尾翼１０２、水平安定板１０６を含む尾部１０１、機首部分（例えば、コクピット部分）１１０及び胴体１１４に取り付けられた翼１１２を含む。本明細書に記載の実施例は、尾部１０１、機首部分１１０、安定板１０６、翼１１２及び／又は胴体１１４のいずれかの表面及び／又は外観、或いはその他の外装又は機外構造体（例えば、翼ストラット、エンジンストラット、先尾翼安定板など）及び／又は表面に適用されうる。
【００２３】
図２は、本明細書に開示の実施例が実装されうる、図１の例示的な航空機１００の外部表面の例示的な微細構造２００である。図解例の微細構造２００は、互いに離間されているリッジ２０２、及びリッジ２０２を互いに離間するベース表面（例えば、谷、航空機表面など）２０４を含む。この実施例では、リッジ２０２の輪郭は概して三角形で、その結果、概して三角形の断面を有するリッジを画定する。微細構造２００の輪郭は、微細構造２００（例えば、微細構造２００の画定された容積）を画定するように押出成形される。この実施例では、例示的な微細構造２００が押出成形されるが、例示的な微細構造２００はエンボス加工、鋳造、加圧成形、熱成形、機械加工などによって成形されうる。他の実施例では、ベース表面２０４は、グリントを制御するため、リッジ２０２よりも小さいリッジ（例えば、リッジ２０２の高さの３分の１未満）を有しうる。
【００２４】
この実施例では、微細構造２００は航空機１００のリブレットで、航空機１００の抗力全体を低減することによって、航空機１００の空気力学特性を変えるために使用されるもので、例えば、航空機１００の任意の外部表面に配置されうる。図解例の微細構造２００は、航空機１００の外部表面に近い大気中で、乱流境界層を制御すること、及び／又は乱流境界層に関連する交差流を防止することによって、空気力学的抗力を低減するために使用される。特に、例示的な微細構造２００はリッジ２０２を有し、航空機１００の外部表面に取り付けられ、所望の気流の方向に整列されている。この整列により、リッジ２０２は、外部表面付近で横方向の気流の動きを分断する小さなフェンス又はガイドとして動作することが可能になり、一列に並んだ乱流を強化し、外部表面の外板摩擦を低減し、これによって航空機１００の全体的な抗力を低減する。幾つかの実施例では、微細構造２００は、航空機１００の製造中又は製造後に、外部表面に装着されたり取り付けられることはなく、外部表面に一体化されている。例えば、微細構造２００は、外部表面に連結（例えば、機械的に接着）されるのではなく、外部表面上にあらかじめ形成（例えば、外板表面に機械加工又は鋳造、複合材硬化部品に組み込み、ロボットにより配置）される。
【００２５】
微細構造２００の全体的な幾何形状は、一般的に、指向性（例えば、前方散乱又は後方散乱）のある反射、及び／又はグリントとして知られる光学的現象を引き起こしうる。グリントは、光が表面付近である角度（例えば、面法線から離れた入射角）で表面に当たるときに、最も一般的に発生し、これによって、微細構造２００の表面及び／又は小表面から、微細構造２００及び航空機１００に対してある視角及び／又は位置に向かって、前方に（例えば、前方散乱）光線を反射させる。入射光は、直接照明によって、或いは別の表面からの反射によって、表面に当たる。幾つかの実施例では、この反射率は微細構造２００に対して特定の視角及び／又は位置でグリントを引き起こす。図２に示すように、入射光線２０６はリッジ表面にほぼ平行にリッジ２０２の１つに当たり、その結果、反射２０８はベース表面２０４に向かって前方に進み、反射光線２０８はベース表面で吸収、透過、又は反射される。同様に、光線２１０は、例えば、ベース表面２０４からリッジ２０２の１つの表面に向かう反射２１２を引き起こしうる。反射２０８、２１２は、表面をかすめ（法線から離れた角度で表面に当たり）、強烈な反射及び／又はグリントを含む、好ましくない及び／又は意図しない光学的な影響を引き起こす入射光から生ずる反射であるため、グレージング角光反射と称されることもある。
【００２６】
図３は、本開示の教示に従い、重ね合わせられたサブ微細構造（例えば、ナノリッジ、サブ微細構造パターンなど）を有する微細構造（例えば、リブレット、押出リブレット）３００の断面図である。図解例の微細構造３００は、先端３０５を有する遠位部分３０４、中間部分３０６及びベース部分３０８を含む、種々の部分を有する。この例では、遠位部分３０４は移行部分３１０によって中間部分３０６から分離されており、ここで、サブ微細構造は１つのサイズから別のサイズに移行しうる（例えば、徐々に移行する）。移行部分３１０はサブ微細構造３１２を有し、中間部分３０６はサブ微細構造３１４を有する。同様に、図解例のベース部分３０８はサブ微細構造３１６を有する。幾つかの実施例では、先端３０５は小さすぎるため、先端３０５の上に重ね合わせられたサブ微細構造を有することはできない。但し、幾つかの実施例では、ナノスケールのサブ微細構造が先端３０５の近傍及び／又は先端３０５の上に重ね合わせられうる。
【００２７】
図解例のサブ微細構造３１２、３１４、３１６は、それぞれ特徴的な外観を有する。例えば、サブ微細構造３１４は、ベース表面（例えば、谷）３１８、間隔（例えば、周期的、非周期的）３２０、ピーク高３２２及び傾斜角度（例えば、微細構造３００の表面又は小平面に対する角度）３２４を含む、特徴的な外観を有する。この例では、光線３３０は中間部分３０６に向かうように示されている。この例では、光線３３０の波長は間隔３２０と同等で、光線３３０がサブ微細構造３１４に向かって進むにつれて、光線３３０の一部は、ベース表面３１８の１つに伝達され、光線３３０の別の部分はサブ微細構造３１４から反射される。光線３３０の波長が間隔３２０とほぼ同様の大きさであるため、光線３３０のかなりの部分はサブ微細構造３１４によって吸収され、その結果、サブ微細構造３１４から反射される光線３３０の部分は大幅に低減及び／又は除去され、これによって、光線３３０によって生成される反射及び／又はグリントは低減される。加えて、サブ微細構造３１４は、ベース表面３１８に向かってリッジ幅が比較的滑らかに増大する（例えば、サブ微細構造３１４は各先端と比較してベースでより幅が広い）リッジと、可視光の波長程度の間隔を有するため、微細構造３００の表面に屈折率の勾配を作り出す。代替的に、ベース表面３１８に向かって微細構造３１４の形状を変化させる幅全体は、光成分が微細構造３１４から反射するのを促進する（例えば、フレネル反射）。
【００２８】
移行部分３１０の遠位部分３０４の例示的なサブ微細構造３１２は、サブ微細構造３１４及び／又はサブ微細構造３１６と比較して、比較的小さなピーク高と離間間隔（例えば、周期的な間隔）を有する。したがって、上述のサブ微細構造３１４に適合する方法では、図解例のサブ微細構造３１２は、入射光線から生ずる反射又はグリントを低減及び／又は最小化する。この実施例では、微細構造３００にある程度の空気力学的な滑らかさを保持するため、サブ微細構造３１２は、サブ微細構造３１４と比較して、より小さくより密に詰まっている。特に、移行領域３１０及び／又は先端３０５付近のより大きな微細構造は、抗力及び／又は乱流の増大を引き起こしうる。この実施例では、微細構造３００の耐久性の問題、損傷及び／又は早期の構造的不具合を回避するため、サブ微細構造３１２は先端３０５まで延在していない。更に、幾つかの実施例では、微細構造の遠位端付近に位置するサブ微細構造、又は遠位端近傍の移行領域は、製造を大幅に容易にするため、及び／又は製造上の制約に基づいて、比較的小さくなっている（例えば、高さ及び／又は繰り返しの間隔など）。
【００２９】
この例では、サブ微細構造３１６は、サブ微細構造３１４と同等のピーク高及びピーク間隔を有する。代替的に、サブ微細構造３１６のピーク高及び／又は間隔は、サブ微細構造３１４及び／又はサブ微細構造３１２に比べて変化しうる。幾つかの実施例では、サブ微細構造３１６は場所によってはサブ微細構造３１４と異なることがあるが、移行傾斜部分を有する。ここで、サブ微細構造３１４に隣接するサブ微細構造３１６は、サブ微細構造３１４と同様の寸法特性を有するが、サブ微細構造３１４とは更に異なる。同様に、サブ微細構造３１４は、サブ微細構造３１２に移行傾斜部分を有しうるが、その逆もありうる。
【００３０】
サブ微細構造３１２、３１４、３１６は、場所によっては微細構造３００の表面に対して一般的に垂直に突出するように示されているが、サブ微細構造３１２、３１４、３１６はいずれも、延在する微細構造３００（傾斜されることもある）の各表面に対して角度付け及び／又は成形されてもよい。幾つかの実施例では、このようにサブ微細構造３１２、３１４、３１６を角度付けすることによって、サブ微細構造３１２、３１４、３１６を容易に製造できる可能性（例えば、機械加工、鋳造又は成形など）が高まる。更に、微細構造３００の表面に対してサブ微細構造３１２、３１４、３１６を角度付けすることによって、微細構造３００に入射する光線に対して様々な視覚効果及び又は反射角が可能になりうる。幾つかの実施例では、このような角度付け及び／又は成形はまた、微細構造３００に対する特定の角度（例えば、視角）においてのみ反射が見られるようにすることができる。
【００３１】
例示的なサブ微細構造３１２、３１４、３１６はまた、図３では、実質的に規則的なパターン（例えば、個々のサブ微細構造間の間隔は相対的に同様である）及び／又は個々のサブ微細構造の中で比較的一様な高さを有するように示されているが、サブ微細構造３１２、３１４、３１６の特徴は微細構造３００の場所によって変化しうる。例えば、サブ微細構造３１４の間隔（例えば、周期的な間隔）３２０は、ベース部分３０８から先端３０５まで変化しうる（例えば、間隔３２０の延長又は短縮及び／又はピーク高３２２の延長又は短縮）。幾つかの実施例では、サブ微細構造の全体形状、幾何形状及び／又は構造は、微細構造３００の様々な部分にわたって変化しうる（例えば、微細構造のある部分ではリッジ形状のサブ微細構造で、微細構造の別の部分では円錐形状のサブ微細構造）。追加的に又は代替的に、サブ微細構造３１２、３１４、３１６はいずれも、ランダムに分布するピーク高及び／又は個々のサブ微細構造間の間隔を有する。
【００３２】
図解例の微細構造３００はリッジ形状であるが、微細構造３００は、図５Ａ〜図５Ｆに関連して以下で説明される任意の形状及び／又はそれらの形状の任意の組み合わせを含む、任意の適切な形状又は幾何形状であってもよい。同様に、サブ微細構造３１２、３１４、３１６は、図３では実質的に三角形のリッジ形状の輪郭又は断面を有するように示されているが、以下に示す図５Ａ〜図５Ｆに関連した任意の形状及び／又はそれらの形状の任意の組み合わせを含む、任意の適切な形状であってもよい。
【００３３】
幾つかの実施例では、コーティングは、微細構造３００及び／又はサブ微細構造３１２、３１４、３１６のいずれかに適用されうる。例えば、微細構造３００及び／又はサブ微細構造３１２、３１４、３１６は、所定の方向及び／又は視角での光の反射を制御するため、全体的に、及び／又は１つの側面や小平面に部分的に、反射防止コーティング、反射コーティング及び／又はカラーコーティング（例えば、塗料、インク又染料注入）が被覆されうる。幾つかの実施例では、コーティングは、微細構造３００（例えば、ベース部分３０８、中間部分３０６及び／又は遠位部分３０４）の一部、及び／又はサブ微細構造３１２、３１４、３１６（例えば、サブ微細構造３１４の上向きの表面など）の一部に適用される。
【００３４】
図４は、表面４０４の上に、重ね合わせられたサブ微細構造（例えば、ナノ構造）４０２を有する、例示的な微細構造表面４００を示している。また、この実施例では、微細構造４００及び重ね合わせられたサブ微細構造４０２はポリマーで、これによって、入射光線に対して空気−ポリマー界面４０６を画定する。図３に関連して上述されたサブ微細構造３１２、３１４、３１６とは対照的に、図解例のサブ微細構造４０２は、モスアイ幾何形状と称されることもある丸い円錐様の突起を有する。一般的に表面４０４に対して垂直に延在する例示的なサブ微細構造４０２は、入射光の波長（例えば、光の波長未満）及び／又は微細構造の上に重ね合わせられたサブ微細構造の間隔と高さとの間で画定されるアスペクト比と同様な、或いは同程度の、関連する特徴的な寸法（例えば、間隔によって分離されており、対応するピッチ間隔を有するなど）を有する。
【００３５】
この実施例では、矢印４０８は、サブ微細構造４０２に向けて方向付けられた入射光の一般的な方向を表わす。サブ微細構造４０２に向けて方向付けられたことにより、例示的な入射光線は、矢印４１０によって表わされる小さな反射部分と、矢印４１２によって表わされる大きな透過及び／又は吸収部分とに分割される。後者は材料の特性に応じて材料に結合される。図解例の矢印４０８、４１０、４１２はそれぞれ、表面４０４に対して示される矢印４１６、４１８、４２０によっても表わされる。この実施例では、矢印４１８は反射され、矢印４２０は透過及び屈折される。しかしながら、図解例のサブ微細構造４０２は、空気から微細構造４００の材料まで屈折率の段階的変化を作り出すことによって、フレネル反射の強度を大幅に低減し、これによって表面４０４からグリントを低減する。
【００３６】
図５Ａ〜図５Ｇは、微細構造並びに微細構造の上に重ね合せられるサブ微細構造（例えば、ナノ構造）に対して使用されうる幾何構造（例えば、形状）の例を示している。図５Ａ〜図５Ｇの例示的な形状はまた、これらの形状の任意の組み合わせとして、及び／又は微細構造とサブ微細構造の双方に適した他の任意の形状として利用されうる。特に、図５Ａ〜図５Ｇに示した形状は、互いの上に（例えば、微細構造の上に重ね合わせられるサブ微細構造として）重ね合わせられうる。例えば、図５Ｅの例示的な突起５４０は、例示的な突起５６２又は図５Ｇのギャップ５６４の上にサブ微細構造として重ね合わせられてもよく、またその逆であってもよい。
【００３７】
図５Ａは、本明細書に記載の例示的な微細構造及び／又はサブ微細構造を実装するために使用されうる、例示的な突起（例えば、隆起、ベース表面からの突起など）形状５００を示している。例示的な突起形状５００はまた、対応する隆起の輪郭（例えば、断面形状）５０４を有する。この輪郭は複数の方向に沿って変化し、正弦波形、放物線形、三角形、又は他の任意の適切な幾何形状になりうる。放物線形の輪郭を有する例示的な微細構造では、サブ微細構造は、三角形の微細構造に対向する際に微細構造により近くなる放物線形の微細構造の上に重ね合わせられてもよい。幾つかの実施例では、三角形の微細構造の先端付近に配置されるサブ微細構造は、構造的な弱さを引き起こすこと、及び／又は製造上の制約（例えば、先端付近のサブ微細構造に損傷を与えることなく、三角形の微細構造からツールを引き抜くことはできない）によって不可能となることがありうる。
【００３８】
図５Ｂは例示的な幾何形状を表現したもので、個々の形状として示されており、微細構造又はサブ微細構造に適用されうる。例示的な幾何形状は、三角形５１０、円筒形５１２、長方形５１４、及び正弦波及び／又は放物線の形状５１６を含む。三角形５１０は、例えば、円錐、ピラミッド形、又は三角形リッジであってもよい。一般的に、図５Ｂの例示的な幾何形状は、対応する深さを有する形状輪郭（例えば、延伸又は押出される画定された深さを有する二次元形状）又は円錐などの三次元形状であってもよい。例えば、放物線形状５１６は、断面として押出／延伸されてもよく、或いは三次元放物線形状を有するように軸の周りに回転されてもよい。
【００３９】
図５Ｃは、高さが変化する例示的な幾何形状５２０を表わしており、微細構造又はサブ微細構造に適用されうる。図解例の幾何形状５２０は、ピーク５２２及びサブピーク５２４を含み、比較的規則的なパターン（例えば、交互パターン）で配置されてもよく、或いは規則的なパターンで配置されなくてもよい（例えば、ランダム分布）。代替的に、所定の数のサブピーク５２４は、ピーク５２２の間の範囲に配置されうる（例えば、一又は複数の方向で、ピーク５２２の間に３つのサブピーク５２４など）。これらの実施例のいずれにおいても、ピーク５２２及びサブピーク５２４の互いに対する配置は、種々の光学的効果及び／又はグリント低減を可能にしうる。幾つかの実施例では、サブピーク５２４は微細構造又はサブ微細構造になりうる。
【００４０】
図５Ｄは、二次元又は三次元の例示的な傾斜幾何形状５３０を表わしており、これによって改善された及び／又は所望の光学的効果が可能になること、及び／又は、例えば単純化されたツールのリリースによって製造が大幅に容易になることがありうる。図解例の傾斜幾何形状５３０は、微細構造又はサブ微細構造として実装されうる。例えば、傾斜幾何形状を有するサブ微細構造は、傾斜幾何形状を有する微細構造の上に重ね合せられうる。
【００４１】
図５Ｅは、表面から延在する（例えば、突出する）パターンを有する三次元突起５４０を表わしている。この実施例では、突起５４０は円錐様形状を有する。図解例の突起５４０は、長方形の小平面及び／又は円形断面を有する円錐を有しうる。図５Ｅの図解例は円錐様形状を示すが、本明細書に開示の実施例で説明されている形状を含む、任意の適切な形状が使用されうる。幾つかの実施例では、三次元突起を画定するため、三次元放物線関数（例えば、回転放物線関数）が使用されうる。
【００４２】
図５Ｆは、表面上の三次元段形状５５０を表わしている。例示的な段形状５５０は、本明細書に記載の形状を含む任意の適切な形状であってもよい。例えば、段形状は、楕円様又は円形の段形状（例えば、凹んだ段形状）、孔、リッジ及び／又は溝などであってもよい。幾つかの実施例では、独自の光学特性を有する微細構造又はサブ微細構造を画定するため、三次元段形状５５０と図５Ｅの円錐様幾何形状５４０などの円錐様突起の組み合わせが使用されうる。
【００４３】
図５Ｇは、突起（例えば、三角形リッジ）５６２が、図２の微細構造２００と同様なギャップ（例えば、平面ギャップ）５６４によって分離されているパターン５６０を表わしている。この実施例では、突起５６２は実質的に同様な或いは等しい間隔で互いに離間されている。しかしながら、他の実施例では、製造可能性（例えば、ツールの分離）を改善するため、及び／又はある種の所望の光学的効果のため、突起５６２の間の間隔は変化しうる。幾つかの実施例では、ギャップ５６４は湾曲しており、複数のセグメントを有すること、及び／又は輪郭形成されていることがある。
【００４４】
図６は、別の例示的な微細構造６００の図で、この実施例ではリブレットである。例示的な微細構造６００は、一般的に三角形の先端６０４とリッジ６０２の表面（例えば、小平面）６０６を有する微細構造リッジ（例えば、リブレットリッジ）６０２を含む。例示的な微細構造６００は、リブレットリッジ６０２と別の隣接するリブレットリッジとの間の微細構造６００のベース（例えば、両者間のスパン）を越えて延在するサブ微細構造リッジ６１０を含む。この実施例では、サブ微細構造リッジ６１０は、微細構造６００のベース上に設けられたサブ微細構造で、互いに隣接し、リッジ６１０のピークを画定するリッジ表面（例えば、小平面）６１２、６１４を含む。幾つかの実施例では、リッジ表面６１２、６１４は、互いに対する垂直線から異なる傾斜角にある（例えば、リッジ表面６１２、６１４は、図６に示した表示では垂直線に対して異なる角度となっている）。図解例の微細構造６００及びサブ微細構造リッジ６１０は、カラー層６２０に隣接している。
【００４５】
この実施例では、リブレットリッジ６０２及びサブ微細構造リッジ６１０は、互いに対して一般的に垂直な方向に延在する。他の実施例では、例示的なサブ微細構造リッジ６１０は、リブレットリッジ６０２に対して実質的に平行となるか、特定の角度を有してもよい。幾つかの実施例では、リッジ６０２と隣接リッジとの間に広がる表面は、比較的平坦で、リブレットエッジ６０２と隣接リブレットエッジとの間で湾曲した及び／又は角度付けされうる輪郭を有し、これにより、サブ微細構造リッジ６１０はこの輪郭に従いうる。幾つかの実施例では、サブ微細構造リッジ６１０は、グリント低減効果（例えば、例示的な微細構造６００に対する特定の視角範囲でのグリント低減）を含む種々の光学的効果を求めて、リブレットリッジ６０２に対して異なる角度で配向されており、及び／又は着色された（例えば、事前に着色された）材料から製造されうる。
【００４６】
図解例の微細構造６００は、カラー層６２０に機械的に連結及び／又は取り付けられている。幾つかの実施例では、カラー層６２０は微細構造６００と一体化されている。幾つかの実施例では、カラー層６２０は着色された（例えば、被覆された）微細構造の一部であってもよく、及び／又は二次処理（例えば、層化処理など）中に微細構造６００に付加されうる。
【００４７】
図６の図解例では、微細構造６００は半透光性、完全透光性であるか、透明である。特に、例示的な微細構造リッジ６０２及びサブ微細構造リッジ６１０は、少なくとも光の一部を通過させることができるが、一方で、光が通過する際の媒質の屈折率、及び界面での入射角に基づいて、光の別の部分を反射させる。この実施例では、入射光線６３０は、微細構造リッジ６０２の表面６０６に向けて配向されている。図解例の入射光線６３０は結果として、リッジ６０２に吸収される、及び／又はリッジ６０２を通過する伝播成分６３２を有する。入射光線はまた、サブ微細構造リッジ６１０に向かって配向される反射成分６３４も有する。幾つかの実施例では、入射光線６３０は、表面６０６の上に重ね合わせられたサブ微細構造（例えば、サブ微細構造３１２、３１４、３１６、４０２）を介して、微細構造リッジ６０２に少なくとも部分的に吸収される。
【００４８】
図解例の反射成分６３４は、サブ微細構造リッジ６１０への入射光線である。入射光線６３４はサブ微細構造の小平面６１４に当たり、これによって、微細構造表面６０６に戻るように配向された別の反射光線６３５を生み出し、反射光線は微細構造表面で散乱され、微細構造表面を透過し、及び／又は吸収され、これによってグリントを低減する。加えて、結果として生ずる透過成分６３６は微細構造ベース層に結びつき、カラー層６２０に向かって配向される。次に、反射成分６３８は表面６１２、６１４に向かって配向され、別の部分６４０は微細構造６００のベース内で吸収又は散乱されうる。このような吸収及び／又は散乱は、別の部分６４０を複数の方向に再配向することによって、グリントを更に低減しうる。幾つかの実施例では、反射部分を他のサブ微細構造（例えば、表面６０６の上のサブ微細構造）に向かって配向することはまた、グリントを更に低減しうる（例えば、反射光成分をサブ微細構造に向かって経路設定すること）。
【００４９】
上述のように、幾つかの実施例では、表面６０６の上のサブ微細構造は、例えば、サブ微細構造リッジ６１０へ向かって反射される光量を低減する。幾つかの実施例では、リッジ６１０及び／又は表面６１２、６１４は、その上に重ね合わせられたサブ微細構造を有する。
【００５０】
追加的に又は代替的に、表面６１２、６１４のいずれかは、反射性（例えば、鏡面仕上げの）表面であってもよく、及び／又は反射光の強度及び方向を制御するため反射性の部分を有してもよい。この実施例では、リッジ６１０はサブ微細構造であるが、これらは微細構造（例えば、本明細書で説明したようにサブ微細構造よりも大きい寸法）であってもよく、さらに微細構造６００と比較して小さくてもよい。一次微細構造の間に（例えば、中間のベース表面に）配置された比較的小さな二次微細構造、並びに一次微細構造のサイズ及び／又は間隔のおよそ３分の１は、グリントを制御及び／又は低減することが、決定された。したがって、サブ微細構造リッジ６１０は、幾つかの実施例では、その上にサブ微細構造を有していても、有していなくても、むしろ微細構造となりうる。このような微細構造は、グリントを効果的に制御するため、微細構造リッジ６０２の高さ又は幅のおよそ３分の１の（又はさらに小さい）高さとなるような寸法（例えば、高さ）を有しうる。
【００５１】
図７は、表面７０５、７０７を含むリッジ７０２及びリッジ７０４を有する、別の例示的な微細構造７００の図である。図解例の微細構造７００は、図６の例示的な微細構造６００と同様であるが、比較的平坦なインターフェースの代わりに、カラー層７０６と微細構造７００の残りの部分との間のテクスチャ加工されたインターフェースを画定するサブ微細構造７０８を備えたテクスチャ加工されたカラー層７０６を有する。幾つかの実施例では、カラー層７０６は、リブレット先端７０２に延在する及び／又は部分的に延在する部分（例えば、拡張部分、突起など）７０９を有する。この実施例では、透過光線７１０はリッジ７０２の表面から反射され、次にサブ微細構造表面７０５を通ってベース層に透過し、例えば、サブ微細構造７０８によって吸収及び／又は散乱されうる。特に、サブ微細構造７０８は、可視光の波長と同程度の間隔で離間されうる。この実施例では、リッジ７０２に延在するカラー層７０６の部分７０９は、散乱及び／又は吸収される光の量に影響を及ぼすこと、或いは観測者がカラー層７０６を見る方法に影響を及ぼすことがありうる。追加的に又は代替的に、同様な方法で、カラー層７０６は、例えば、リッジ７０４に延在しうる（例えば、リッジ７０４の輪郭に少なくとも部分的に一致する）。幾つかの実施例では、カラー層７０６は、カラー層７０６がリブレット先端７０２及び／又はリッジ７０４に延在する界面に、テクスチャ加工された界面を有する。
【００５２】
幾つかの実施例では、サブ微細構造７０８及び／又はサブ微細構造７０８に関連した粗面が、微細構造ベースカラー層７０６への連結を強化するために使用される。特に、サブ微細構造７０８は、カラー層７０６と微細構造７００との間の接触面積を増やすことによって、微細構造７００への光学的及び機械的な連結を強化する。幾つかの実施例では、表面７０５、７０７は反射性（例えば、鏡面仕上げ）になりうる。追加的に又は代替的に、表面７０５だけが反射性で、一方、表面７０７は少なくとも半透光性（例えば、透光性、透明など）であってもよく、その逆であってもよい。表面の一部だけを反射性にすることによって、種々の視角からの反射率及び／又は光吸収を制御することができる。幾つかの実施例では、サブ微細構造７０８はサブ微細構造でないことがあり、代わりに、微細構造の寸法ほどのより大きなテクスチャ加工された外観となることがある。
【００５３】
図８は、本明細書に開示の実施例の実装に使用されうる、ロール形成を利用する例示的な形成システムを示している。例示的なロール形成システム８００は、溝８０４を形成するサブ微細構造を備えたローラー８０２を含む。図８の図解例では、ロール形成システム８００は、微細構造（例えば、リブレット）８１０のリッジ８０９の上にサブ微細構造（例えば、モスアイサブ微細構造、サブ微細構造リッジなど）８０８を形成（例えば、エンボス加工）するために使用される。
【００５４】
ロール形成システム８００の動作中、微細構造８１０は一般的に矢印８１２によって示された方向に移動し、一方、ローラー８０２は一般的に矢印８１４によって示された方向に回転する。この実施例では、リッジ８０９の上にサブ微細構造８０８を形成するモスアイ形成構造体は、溝８０４（例えば、サブ微細構造８０８を形成するために使用されるツーリング形状及び／又は幾何形状）内にあり、また、リッジ８０９を受け止める補完的な段形状を有する。溝８０４の中のモスアイ形成構造体は、例えば、微細構造リッジ８０９の先端付近により小さなサブ微細構造を形成し、一方で、微細構造リッジ８０９の別の場所により大きなサブ微細構造を形成するためサイズを変えることができる（図３参照）。幾つかの実施例では、ローラー８０２を介して微細構造８１０に適用される力は、微細構造８１０の上にサブ微細構造８０８が形成される程度を変えるため、調整される。追加的に又は代替的に、機械加工システム８００に対して微細構造８１０が動くときのライン速度、及び／又はローラー８０２の回転速度は、微細構造８１０の上にサブ微細構造８０８を形成する処理、及び／又は微細構造８１０の上にサブ微細構造８０８が形成される程度を制御するために、調整される。幾つかの実施例では、ローラー表面８０２は、微細構造リッジ８０９間の微細構造ベース領域８１８にサブ微細構造（例えば、リッジ）を形成（例えば、エンボス加工）するための構造体８１６を有しうる。
【００５５】
図９は、本明細書に開示の実施例の実装に使用されうる、例示的な形成システム９００を示す。例示的な形成システム９００は、整列固定具９０４が取り付けられるエンボス加工リグ９０２を含む。各固定具９０４は、微細構造９１０の上にサブ微細構造を形成（例えば、エンボス加工）するため、形成ローラー（例えば、テーパー処理されたエンボス加工ローラー）９０６、９０８を有する。
【００５６】
動作中、図解例の形成システム（例えば、二次処理システム）９００は、微細構造９１０が一般的に矢印９１２によって示された方向に押し出されるにつれて、微細構造９１０の上にサブ微細構造を形成する。この実施例では、微細構造９１０は押し出されるリブレット（例えば、リブレット基板）である。エンボス加工リグ９０２の動作中、エンボス加工リグ９０２は、一般的に両方向矢印９１６によって示される上方又は下方に移動しうる。微細構造９１０の上にサブ微細構造を形成及び／又は付加するため、図解例のローラー９０６、９０８は、一般的に矢印９２０、９２２によってそれぞれ示される方向に回転する。
【００５７】
図１０は、図９の例示的な形成システム９００の詳細図である。上述のように、例示的なローラー９０６、９０８は、微細構造９１０の上にサブ微細構造を形成する。ローラー９０６、９０８が回転し、微細構造９１０がローラー９０６、９０８に対して移動する間に、表面特徴１００６は、微細構造９１０の上にサブ微細構造１００８をエンボス加工するために使用される。特に、表面特徴１００６は、微細構造９１０の上にサブ微細構造１００８をエンボス加工するため、モスアイサブ微細構造及び／又はモスアイ形成構造体又は他の任意の適切なサブ微細構造形成構造体（例えば、リッジ）を含みうる。幾つかの実施例では、ローラー９０６、９０８を（例えば、上方又は下方、側方に）移動すること、或いは微細構造９１０が形成システム９００に対して移動するにつれて微細構造９１０に対する圧力を変えることによって、サブ微細構造１００８の高さは、微細構造９１０の押し出された深さに沿って変化しうる。この実施例では、微細構造９１０の各リッジは、寸法１０１０で示されているように、およそ５０〜１００ミクロンだけ離されており、各リッジ高は、寸法１０１２で示されているように、およそ３０〜６０ミクロンで、また各リッジは、寸法１０１４で示されているように、ベースでおよそ５〜３０ミクロンの幅になっている。この実施例では、微細構造９１０の各リッジのピーク間の間隔はおよそ７５〜１００ミクロンである。前述の寸法及び／又はパラメータは例に過ぎず、用途、ビークルが通過する流体の流体特性及び／又は所定の環境動作条件、などによって変化しうる。
【００５８】
図１１は、本明細書に開示の実施例の実装に使用されうる、例示的な方法を表わすフロー図である。例示的な方法はブロック１１００で開始され、微細構造（例えば、微細構造３００、４００、６００、７００、９１０）が形成され（例えば、押出加工及び／又は機械加工される）、微細構造の一又は複数の上にサブ微細構造を受けとめるように準備される。この実施例では、微細構造の視認性及び／又はグリントを低減するため、微細構造の上にサブ微細構造が付加される。
【００５９】
ツールは微細構造の表面に整列される（ブロック１１０４）。例えば、シリンダ８０２などのロール形成シリンダは微細構造（例えば、微細構造８０６）に整列される。図解例のツールは、視角的手段及び／又は機械的な付勢（例えば、押し出されるにつれて微細構造に負荷をかけるばねなど）によって整列されうる。幾つかの実施例では、微細構造は、ツールに対して正しく整列されるように移動及び／又は位置決めされる。他の実施例では、エンボス加工リグ９０２などのエンボス加工リグの機械加工ローラー（例えば、ローラー９０６、９０８）は、微細構造が押し出されるにつれて（例えば、サブ微細構造を形成するためのインライン二次処理）、視角的手段及び／又は機械的手段によって、微細構造に整列される。
【００６０】
次に、ツールは微細構造の上にサブ微細構造を設ける（ブロック１１０６）。この実施例では、サブ微細構造はエンボス加工によって微細構造の上に形成される。幾つかの実施例では、微細構造がエンボス加工される程度を調整するため、エンボス加工ツールに印加される力は変化する。幾つかの実施例では、微細構造のライン速度及び／又はエンボス加工ローラー（例えば、ローラー８０２）の回転速度は、微細構造にサブ微細構造が設けられる程度を制御するために変化する。
【００６１】
サブ微細構造が検証される（ブロック１１０８）。幾つかの実施例では、カメラベースのシステムなどの検査システムは、サブ微細構造が微細構造の上に正しく形成されていることを（例えば、目視検証によって）検証する。追加的に又は代替的に、微細構造の上にサブ微細構造が設けられる（例えば、エンボス加工される）程度が決定及び／又は検証される（例えば、カバーされる微細構造の面積、サブ微細構造の高さ及び／又は高さなど）。
【００６２】
次に、付加的なサブ微細構造が追加されるかどうかが決定される（ブロック１１１０）。この決定は、例えば、微細構造がどの程度押し出されているか及び／又は微細構造がどの程度押し出し可能であるかを決定することによって行われうる。付加的なサブ微細構造が追加されることになっている場合には、処理は反復される（ブロック１１００）。付加的なサブ微細構造が追加されることになっていない場合には、処理は終了する（ブロック１１１２）。
【００６３】
本明細書では特定の例示的な方法、装置、及び製品が記載されるが、本特許出願の範囲はこれらに限定されるものではない。反対に、本特許出願は、本特許出願の特許請求の範囲内に公正に当てはまるすべての方法、装置、及び製品を包含する。航空機が記載されているが、例示的な方法及び装置は、他のビークル、船舶、空気力学的構造などに適用されうる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【外国語明細書】
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