(57)【要約】【課題】高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を有し、偏光板保護フィルム等の用途に有用に用いうる光学積層体；ならびに当該光学積層体を備え、高い性能を有する偏光板及び表示装置を提供する。【解決手段】第一表面層、基材層及び第二表面層をこの順に備える光学積層体であって、前記第一表面層及び第二表面層のそれぞれの厚さが０．５μｍ以上２μｍ以下であり、前記基材層は樹脂（Ｃ）からなり、前記第一表面層及び前記第二表面層は樹脂（Ｓ）からなり、前記樹脂（Ｓ）の、厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度が１．５×１０−２Ｊ以上であり、前記樹脂（Ｃ）の、厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が１８００ＭＰａ以上で、且つ前記樹脂（Ｃ）の、厚み５０μｍのフィルムの引張弾性率が２２００ＭＰａ以上である、光学積層体。【選択図】図１
2017177367.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一表面層、基材層及び第二表面層をこの順に備える光学積層体であって、
前記第一表面層及び第二表面層のそれぞれの厚さが０．５μｍ以上２μｍ以下であり、
前記基材層は樹脂（Ｃ）からなり、
前記第一表面層及び前記第二表面層は樹脂（Ｓ）からなり、
前記樹脂（Ｓ）の、厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度が１．５×１０−２Ｊ以上であり、
前記樹脂（Ｃ）の、厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が１８００ＭＰａ以上で、且つ
前記樹脂（Ｃ）の、厚み５０μｍのフィルムの引張弾性率が２２００ＭＰａ以上である、
光学積層体。
【請求項２】
前記基材層の厚みが５０μｍ以下である、請求項１に記載の光学積層体。
【請求項３】
前記基材層の厚みｔ２に対する前記第一表面層の厚みｔ１の比ｔ１／ｔ２および前記基材層の厚みｔ２に対する前記第二表面層の厚みｔ３の比ｔ３／ｔ２が、いずれも０．０１以上０．０４以下である、請求項１又は２に記載の光学積層体。
【請求項４】
ＪＩＳＫ７１２９  Ｂ−１９９２で測定した水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項５】
前記樹脂（Ｃ）が、重合体を含み、
前記重合体が、前記芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）を有するブロックＡと、前記芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び前記ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する共重合ブロックＢとを含み、
前記重合体は、１分子当たり２つの前記ブロックＡとしてブロックＡ１およびブロックＡ２を有し、前記ブロックＡ１と前記ブロックＡ２との重量比Ａ１／Ａ２が、６０／５〜８５／５である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項６】
軟化温度が１３５℃以上である、請求項５に記載の光学積層体。
【請求項７】
前記樹脂（Ｃ）の、厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度が１．５×１０−２Ｊ未満である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学積層体。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学積層体及び偏光子層を備える、偏光板。
【請求項９】
請求項８に記載の偏光板を備える、液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学積層体、偏光板及び液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置などの表示装置には、様々な光学フィルムが設けられる。例えば、液晶表示装置は通常偏光板を備え、かかる偏光板は、通常、ポリビニルアルコール等の樹脂により構成された偏光子と、偏光子を保護するための保護フィルムを備える。保護フィルムの材料としては、様々な材料が提案されている。例えば、アクリル樹脂の中間層と、この中間層の両側にそれぞれ設けられる表面層とを備えた複層フィルムの使用が提案されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２００７／１１９５６０号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
偏光板保護フィルムには、その表面に傷を生じにくいことが求められ、そのため高い表面硬度が求められる。一方、偏光板保護フィルムはまた、そのハンドリングが容易であることが求められる。具体的には、搬送を容易にする屈曲性、及びクラック等の発生を伴わずに容易に切断を行うことができるトリミング性が求められる。しかしながら、一般的に、高い表面硬度を有するフィルムは、屈曲性及びトリミング性が不良であることが多い。
【０００５】
従って、本発明の目的は、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を有し、偏光板保護フィルム等の用途に有用に用いうる光学積層体；ならびに当該光学積層体を備え、高い性能を有する偏光板及び表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、前記課題を解決するために検討を行い、特に、高い表面硬度を有する基材層と、その両面に設けられた、高い屈曲性を有する表面層とを備える、多層フィルムについて検討を行った。一般的に、高い表面硬度を有する基材層に、高い屈曲性を有する表面層を積層すると、高い表面硬度が得られなくなる。したがって、そのような多層フィルムを各種の特性に優れた光学積層体とすることは困難であった。しかしながら、本発明者がさらに検討を行ったところ、そのような多層フィルムにおいて、基材層及び表面層を構成する樹脂として特定の物性を有するものを採用し、且つ表面層を所定の薄い厚みのものとすることにより、高い表面硬度、高い屈曲性、及び高いトリミング性の全てを備えた光学積層体を構成することができることを見出した。本発明は、かかる知見に基づき完成したものである。
すなわち、本発明は以下の通りである。
【０００７】
〔１〕  第一表面層、基材層及び第二表面層をこの順に備える光学積層体であって、
前記第一表面層及び第二表面層のそれぞれの厚さが０．５μｍ以上２μｍ以下であり、
前記基材層は樹脂（Ｃ）からなり、
前記第一表面層及び前記第二表面層は樹脂（Ｓ）からなり、
前記樹脂（Ｓ）の、厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度が１．５×１０−２Ｊ以上であり、
前記樹脂（Ｃ）の、厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が１８００ＭＰａ以上で、且つ
前記樹脂（Ｃ）の、厚み５０μｍのフィルムの引張弾性率が２２００ＭＰａ以上である、
光学積層体。
〔２〕  前記基材層の厚みが５０μｍ以下である、〔１〕に記載の光学積層体。
〔３〕  前記基材層の厚みｔ２に対する前記第一表面層の厚みｔ１の比ｔ１／ｔ２および前記基材層の厚みｔ２に対する前記第二表面層の厚みｔ３の比ｔ３／ｔ２が、いずれも０．０１以上０．０４以下である、〔１〕又は〔２〕に記載の光学積層体。
〔４〕  ＪＩＳＫ７１２９  Ｂ−１９９２で測定した水蒸気透過率が２０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下である、〔１〕〜〔３〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔５〕  前記樹脂（Ｃ）が、重合体を含み、
前記重合体が、前記芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）を有するブロックＡと、前記芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及び前記ジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する共重合ブロックＢとを含み、
前記重合体は、１分子当たり２つの前記ブロックＡとしてブロックＡ１およびブロックＡ２を有し、前記ブロックＡ１と前記ブロックＡ２との重量比Ａ１／Ａ２が、６０／５〜８５／５である、〔１〕〜〔４〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔６〕  軟化温度が１３５℃以上である、〔５〕に記載の光学積層体。
〔７〕  前記樹脂（Ｃ）の、厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度が１．５×１０−２Ｊ未満である、〔１〕〜〔６〕のいずれか１項に記載の光学積層体。
〔８〕  〔１〕〜〔７〕のいずれか１項に記載の光学積層体及び偏光子層を備える、偏光板。
〔９〕  〔８〕に記載の偏光板を備える、液晶表示装置。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を有し、偏光板保護フィルム等の用途に有用に用いうる光学積層体；ならびに当該光学積層体を備え、高い性能を有する偏光板及び表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、本発明の光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、本願におけるフィルムの衝撃強度の測定方法を説明する斜視図である。
【図３】図３は、本願におけるフィルムの衝撃強度の測定方法を説明する側面図である。
【図４】図４は、光学積層体のトリミング性の評価の操作を模式的に示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明について実施形態及び例示物を示して詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施形態及び例示物に限定されるものでは無く、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１１】
以下の説明において、「偏光板」とは、別に断らない限り、剛直な部材だけでなく、例えば樹脂製のフィルムのように可撓性を有する部材も含む。
【００１２】
〔１．光学積層体：概要〕
本発明の光学積層体は、第一表面層、基材層及び第二表面層をこの順に備える。基材層は、以下に説明する特定の樹脂（Ｃ）からなる。一方第一表面層及び第二表面層は、特定の厚さを有し、且つ以下に説明する特定の樹脂（Ｓ）からなる。
【００１３】
図１は、本発明の光学積層体の一例を模式的に示す断面図である。図１において、光学積層体１００は、基材層１１１、及び基材層１１１の一方の面側に設けられた第一表面層１２１、及び基材層１１１の他方の面側に設けられた第二表面層１２２を備える。
【００１４】
〔２．樹脂（Ｃ）〕
樹脂（Ｃ）は、その厚み１００μｍのフィルムの押込弾性率が１８００ＭＰａ以上で、且つその厚み５０μｍのフィルムの引張弾性率が２２００ＭＰａ以上、好ましくは２２５０ＭＰａ以上である。樹脂（Ｃ）としてこのような樹脂を採用し、特定の表面層と特定の態様で組み合わせることにより、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を有する光学積層体を得ることができる。押込弾性率の上限は特に限定されないが例えば３５００ＭＰａ以下としうる。引張弾性率の上限は特に限定されないが例えば４０００ＭＰａ以下としうる。
【００１５】
本願において、フィルムの押込弾性率は、押込弾性率試験機（フィッシャーインスツルメンツ社製、商品名「ピコメーター  Ｈｍ−５００」）を用いて測定しうる。
【００１６】
本願において、フィルムの引張弾性率は、測定対象のフィルムから切り出した矩形の試験片（幅１０ｍｍ×長さ２５０ｍｍ）について、引張試験機（例えばインストロンジャパン社製の５５６４型デジタル材料試験機）を用いて所定の条件にて測定された値である。具体的には、試験片をその長辺方向に引っ張って歪ませる際の応力を、ＪＩＳ  Ｋ７１１３に基づき、恒温恒湿槽付き引張試験機を用いて、温度２３℃、湿度６０±５％ＲＨ、チャック間距離１１５ｍｍ、引張速度１００ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定しうる。このような測定を、様々な応力において３回行う。そして、測定された応力とその応力に対応した歪みの測定データから、試験片の歪が０．６％〜１．２％の範囲で０．２％毎に測定データ（即ち、歪みが０．６％、０．８％、１．０％及び１．２％の時の測定データ）を選択し、この選択された３回分の測定データから最小二乗法を用いて、測定対象のフィルムの引張弾性率を計算する。
【００１７】
樹脂（Ｃ）としては、上に述べた特定の押込弾性率及び引張弾性率を有し、光学的な用途に用いうる任意の樹脂を用いうる。好ましい例において、樹脂（Ｃ）は、以下に述べる特定の重合体を含む。以下の説明においては、かかる特定の重合体を、「重合体Ｘ」と呼ぶ場合がある。
【００１８】
〔２．１．芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及びジエン化合物水素化物単位（ｂ）〕
重合体Ｘは、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及びジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体である。樹脂（Ｃ）が重合体Ｘを含むことにより、上記各種の特性を有する光学積層体を容易に得ることができる。
【００１９】
〔２．２．芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）〕
芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）は、芳香族ビニル化合物を重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する繰り返し単位である。ただし、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
同様に、本願においては、例えばスチレンを重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する繰り返し単位を、スチレン水素化物単位と呼ぶことがある。スチレン水素化物単位も、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）の例としては、以下の構造式（１）で表される繰り返し単位が挙げられる。
【００２０】
【化１】
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【００２１】
構造式（１）において、Ｒｃは脂環式炭化水素基を表す。Ｒｃの例を挙げると、シクロヘキシル基等のシクロヘキシル基類；デカヒドロナフチル基類等が挙げられる。
【００２２】
構造式（１）において、Ｒ１、Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもＲ１、Ｒ２及びＲ３としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００２３】
芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）のより具体的な例としては、下記式（１−１）で表される繰り返し単位が挙げられる。式（１−１）で表される繰り返し単位は、スチレン水素化物単位である。
【００２４】
【化２】
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【００２５】
芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）は、１種類だけも用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
〔２．３．ジエン化合物水素化物単位（ｂ）〕
ジエン化合物水素化物単位（ｂ）は、ジエン化合物を重合し、その得られた重合物が不飽和結合を有していればその不飽和結合を水素化して得られる構造を有する繰り返し単位である。但し、ジエン化合物水素化物単位（ｂ）は、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
【００２７】
同様に、本願においては、例えばイソプレンを重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有する繰り返し単位を、イソプレン水素化物単位と呼ぶことがある。イソプレン水素化物単位も、当該構造を有する限りにおいて、どのような製造方法で得られた単位をも含む。
【００２８】
ジエン化合物水素化物単位（ｂ）は、直鎖共役ジエン化合物等の共役ジエン化合物を重合し、その不飽和結合を水素化して得られる構造を有することが好ましい。その例としては、以下の構造式（２）で表される繰り返し単位、及び構造式（３）で表される繰り返し単位が挙げられる。
【００２９】
【化３】
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【００３０】
構造式（２）において、Ｒ４〜Ｒ９は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもＲ４〜Ｒ９としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００３１】
【化４】
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【００３２】
構造式（３）において、Ｒ１０〜Ｒ１５は、それぞれ独立に、水素原子、鎖状炭化水素基、ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、シリル基、又は、極性基（ハロゲン原子、アルコキシ基、ヒドロキシル基、エステル基、シアノ基、アミド基、イミド基、又はシリル基）で置換された鎖状炭化水素基を表す。中でもＲ１０〜Ｒ１５としては、耐熱性、低複屈折性及び機械強度等の観点から水素原子及び炭素原子数１〜６個の鎖状炭化水素基であることが好ましい。鎖状炭化水素基としては飽和炭化水素基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００３３】
ジエン化合物水素化物単位（ｂ）のより具体的な例としては、下記式（２−１）〜（２−３）で表される繰り返し単位が挙げられる。式（２−１）〜（２−３）で表される繰り返し単位は、イソプレン水素化物単位である。
【００３４】
【化５】
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【００３５】
ジエン化合物水素化物単位（ｂ）の例示物において立体異性体を有するものは、そのいずれの立体異性体も使用することができる。ジエン化合物水素化物単位（ｂ）は、１種類だけも用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００３６】
〔２．４．重合体Ｘ〕
重合体Ｘは、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）を有するブロックＡと、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及びジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する共重合ブロックＢとを含むことが好ましい。さらに、重合体Ｘは、１分子あたり１つの共重合ブロックＢと、その両端に連結された１分子当たり２つのブロックＡとを有するトリブロック分子構造を有することが好ましい。
【００３７】
トリブロック分子構造を有する重合体Ｘは、特に、１分子当たり２つのブロックＡとしてブロックＡ１及びブロックＡ２を有し、ブロックＡ１とブロックＡ２との重量比Ａ１／Ａ２が、特定の範囲内であることが好ましい。Ａ１／Ａ２は、好ましくは４０／２５〜８７／３、より好ましくは５５／１５〜８０／５である。重合体Ｘがトリブロック分子構造を有し、且つＡ１／Ａ２がかかる範囲内であることにより、上記各種の特性において優れた光学積層体を容易に得ることができる。
【００３８】
重合体Ｘにおいては、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）と、ジエン化合物水素化物単位（ｂ）との重量比（ａ）／（ｂ）が、特定の範囲内であることが好ましい。（ａ）／（ｂ）は、好ましくは９０／１０〜９５／５である。（ａ）／（ｂ）がかかる範囲内であることにより、上記各種の特性において優れた光学積層体を容易に得ることができる。
【００３９】
重合体Ｘの分子量は、好ましくは１００，０００以上であり、より好ましくは１１０，０００以上である。分子量の上限は、好ましくは１５０，０００以下、より好ましくは１４０，０００以下である。分子量がかかる範囲内、特に前記下限以上の値であることにより、上記各種の特性において優れた光学積層体を容易に得ることができる。ここでいう重合体Ｘの分子量は、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶媒とするゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されるポリスチレン換算の重量平均分子量を採用しうる。
【００４０】
重合体Ｘの分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は、好ましくは２以下、より好ましくは１．５以下、さらにより好ましくは１．２以下である。分子量分布の下限は１．０以上としうる。これにより、重合体粘度を低めて成形性を高めることができる。
【００４１】
ブロックＡは、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）のみからなることが好ましいが、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）以外に任意の単位を含みうる。任意の構造単位の例としては、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）以外のビニル化合物に基づく構造単位が挙げられる。ブロックＡにおける任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。
【００４２】
共重合ブロックＢは、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及びジエン化合物水素化物単位（ｂ）のみからなることが好ましいが、これら以外に任意の単位を含みうる。任意の構造単位の例としては、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）以外のビニル化合物に基づく構造単位が挙げられる。ブロックＢにおける任意の構造単位の含有率は、好ましくは１０重量％以下、より好ましくは５重量％以下、特に好ましくは１重量％以下である。
【００４３】
〔２．５．重合体Ｘの製造方法〕
重合体Ｘの製造方法は、特に限定されず任意の製造方法を採用しうる。重合体Ｘは、例えば、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及びジエン化合物水素化物単位（ｂ）に対応する単量体を用意し、これらを重合させ、得られた重合体を水素化することにより製造しうる。
【００４４】
芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）に対応する単量体としては、芳香族ビニル化合物を用いうる。その例としては、スチレン、α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−プロピルスチレン、α−イソプロピルスチレン、α−ｔ−ブチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、２，４−ジイソプロピルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、５−ｔ−ブチル−２−メチルスチレン、モノクロロスチレン、ジクロロスチレン、モノフルオロスチレン、及び４−フェニルスチレン等のスチレン類；ビニルシクロヘキサン、及び３−メチルイソプロペニルシクロヘキサン等のビニルシクロヘキサン類；並びに４−ビニルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセン、１−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、１−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、及び２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン等のビニルシクロヘキセン類が挙げられる。これらの単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４５】
ジエン化合物水素化物単位（ｂ）に対応する単量体の例としては、ブタジエン、イソプレン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、１，３−ペンタジエン、及び１，３−ヘキサジエン等の鎖状共役ジエン類挙げられる。これらの単量体は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４６】
重合の反応様式としては、通常、アニオン重合を採用しうる。また、重合は、塊状重合や、溶液重合等のいずれで行ってもよい。中でも、重合反応と水素化反応とを連続して行うためには、溶液重合が好ましい。
【００４７】
重合の反応溶媒の例としては、ｎ−ブタン、ｎ−ペンタン、イソペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、及びイソオクタン等の脂肪族炭化水素類；シクロペンタン、シクロヘキサン、メチルシクロペンタン、メチルシクロヘキサン、及びデカリン等の脂環式炭化水素類；並びにベンゼン及びトルエン等の芳香族炭化水素類が挙げられる。中でも脂肪族炭化水素類及び脂環式炭化水素類を用いると、水素化反応にも不活性な溶媒としてそのまま使用することができ、好ましい。
反応溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
反応溶媒は、通常、全単量体１００重量部に対して２００〜１０，０００重量部となるような割合で用いられる。
【００４８】
重合の際、通常は重合開始剤を使用する。重合開始剤の例としては、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、ｔ−ブチルリチウム、ヘキシルリチウム、及びフェニルリチウム等のモノ有機リチウム；並びにジリチオメタン、１，４−ジオブタン、及び１，４−ジリチオー２−エチルシクロヘキサン等の多官能性有機リチウム化合物が挙げられる。重合開始剤は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００４９】
重合体Ｘとして、ブロックＡ１及びＡ２並びに共重合ブロックＢを含むトリブロック共重合体を製造する場合の製造方法の例としては、下記の第一工程〜第三工程を含む製造方法が挙げられる。ここで、「モノマー組成物」と称する材料は、２種類以上の物質の混合物のみならず、単一の物質からなる材料をも包含する。
【００５０】
第一工程：芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ１）を重合させてブロックＡを形成する工程。
第二工程：かかるブロックＡの一端において、芳香族ビニル化合物及びジエン化合物を含有するモノマー組成物を重合させて共重合ブロックＢを形成し、Ａ−Ｂのジブロックの重合体を形成する工程。
第三工程：かかるジブロックの重合体の、共重合ブロックＢ側の末端において、芳香族ビニル化合物を含有するモノマー組成物（ａ２）を重合させて、ブロック共重合体を得る工程。ただし、モノマー組成物（ａ１）とモノマー組成物（ａ２）とは、同一でも異なっていてもよい。
【００５１】
それぞれの重合体ブロックを重合する際には、各ブロック内で、ある１成分の連鎖が過度に長くなることを防止するために、重合促進剤及びランダマイザーを使用しうる。例えば重合をアニオン重合により行う場合には、ルイス塩基化合物をランダマイザーとして使用しうる。ルイス塩基化合物の具体例としては、ジメチルエーテル、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジフェニルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、及びエチレングリコールメチルフェニルエーテル等のエーテル化合物；テトラメチルエチレンジアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、及びピリジン等の第３級アミン化合物；カリウム−ｔ−アミルオキシド、及びカリウム−ｔ−ブチルオキシド等のアルカリ金属アルコキシド化合物；並びにトリフェニルホスフィン等のホスフィン化合物が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
重合温度は重合が進行する限り制限は無いが、好ましくは０℃以上、より好ましくは２０℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１００℃以下、さらにより好ましくは８０℃以下である。
【００５３】
重合後は、必要であれば任意の方法により反応混合物から重合体を回収しうる。回収方法の例としては、スチームストリッピング法、直接脱溶媒法、及びアルコール凝固法が挙げられる。また、重合時に水素化反応に不活性な溶媒を反応溶媒として用いた場合は、重合溶液から重合体を回収せず、そのまま水素化工程に供することができる。
【００５４】
重合体の水素化方法に制限は無く、任意の方法を採用しうる。水素化は、例えば、適切な水素化触媒を用いて行いうる。より具体的には、有機溶媒中で、ニッケル、コバルト、鉄、ロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウムからなる群より選ばれる少なくとも１つの金属を含む水素化触媒を用いて、水素化を行いうる。水素化触媒は、不均一系触媒であってもよく、均一系触媒であってもよい。水素化触媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００５５】
不均一系触媒は、金属または金属化合物のままで用いてもよく、適切な担体に担持させて用いてもよい。担体の例としては、活性炭、シリカ、アルミナ、炭化カルシウム、チタニア、マグネシア、ジルコニア、ケイソウ土、及び炭化珪素が挙げられる。担体における触媒の担持量は、好ましくは０．０１重量％以上、より好ましくは０．０５重量％以上であり、好ましくは８０重量％以下、より好ましくは６０重量％以下である。
均一系触媒の例としては、ニッケル、コバルト、又は鉄の化合物と有機金属化合物（例えば、有機アルミニウム化合物、有機リチウム化合物）とを組み合わせた触媒；並びにロジウム、パラジウム、白金、ルテニウム、及びレニウム等の有機金属錯体触媒が挙げられる。ニッケル、コバルト、又は鉄の化合物の例としては、これらの金属のアセチルアセトン塩、ナフテン酸塩、シクロペンタジエニル化合物、及びシクロペンタジエニルジクロロ化合物が挙げられる。有機アルミニウム化合物の例としては、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム等のアルキルアルミニウム；ジエチルアルミニウムクロリド、エチルアルミニウムジクロリド等のハロゲン化アルミニウム；並びにジイソブチルアルミニウムハイドライド等の水素化アルキルアルミニウムが挙げられる。
有機金属錯体触媒の例としては、例えば、上記各金属のγ−ジクロロ−π−ベンゼン錯体、ジクロロ−トリス（トリフェニルホスフィン）錯体、ヒドリド−クロロ−トリフェニルホスフィン）錯体等の金属錯体が挙げられる。
水素化触媒の使用量は、重合体１００重量部に対して、好ましくは０．０１重量部以上、より好ましくは０．０５重量部以上、さらにより好ましくは０．１重量部以上であり、好ましくは１００重量部以下、より好ましくは５０重量部以下、さらにより好ましくは３０重量部以下である。
【００５６】
水素化反応の際の反応温度は、通常１０℃〜２５０℃であるが、水素化率を高くでき、且つ、重合体鎖切断反応を小さくできるという理由から、好ましくは５０℃以上、より好ましくは８０℃以上であり、好ましくは２００℃以下、より好ましくは１８０℃以下である。また、反応時の圧力は、通常０．１ＭＰａ〜３０ＭＰａであるが、上記理由に加え、操作性の観点から、好ましくは１ＭＰａ以上、より好ましくは２ＭＰａ以上であり、好ましくは２０ＭＰａ以下、より好ましくは１０ＭＰａ以下である。
水素化率は、好ましくは９０％以上、より好ましくは９５％以上、さらにより好ましくは９７％以上である。水素化率を高くすることにより、ビニル脂環式炭化水素重合体の低複屈折性及び熱安定性等を高めることができる。水素化率は１Ｈ−ＮＭＲにより測定できる。
【００５７】
〔２．６．重合体Ｘ以外の任意の成分〕
樹脂（Ｃ）は、重合体Ｘのみからなってもよいが、重合体Ｘ以外に任意の成分を含んでいてもよい。
任意の成分の例としては、紫外線吸収剤；無機微粒子；酸化防止剤、熱安定剤、近赤外線吸収剤等の安定剤；滑剤、可塑剤等の樹脂改質剤；染料や顔料等の着色剤；及び帯電防止剤が挙げられる。これらの任意の成分としては、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。ただし、本発明の効果を顕著に発揮させる観点からは、任意の成分の含有割合は少ないことが好ましい。例えば、紫外線吸収剤以外の任意の成分の合計の割合は、重合体Ｘ１００重量部に対して、１０重量部以下が好ましく、５重量部以下がより好ましく、３重量部以下が更に好ましい。特に、紫外線吸収剤以外の任意の成分は含まないことが好ましい。
【００５８】
〔３．樹脂（Ｓ）〕
樹脂（Ｓ）は、その厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度が１．５×１０−２Ｊ以上、好ましくは４．４×１０-2Ｊ以上である。樹脂（Ｓ）としてこのような樹脂を採用し、特定の基材層と特定の態様で組み合わせることにより、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を有する光学積層体を得ることができる。樹脂（Ｓ）の衝撃強度の上限は特に限定されないが例えば１２×１０−２Ｊ以下としうる。
【００５９】
一方、樹脂（Ｃ）の、厚み５０μｍのフィルムの衝撃強度は好ましくは１．５×１０−２Ｊ未満、より好ましくは１．０×１０−２J未満としうる。樹脂（Ｃ）の衝撃強度の下限は特に限定されないが例えば０．１×１０−２Ｊ以上としうる。
【００６０】
本願において、フィルムの衝撃強度は、以下に述べる特定の方法により測定されたものである。即ち、本願におけるフィルムの衝撃強度は、特定の治具により水平に固定された測定対象のフィルムの上面に、様々な高さｈから鋼球を落下させることにより測定され、フィルムが破れなかった場合及びフィルムが破れた場合の境界の高さｈにおける、鋼球の位置エネルギーを衝撃強度とする。
【００６１】
図２及び図３は、本願におけるフィルムの衝撃強度の測定方法を説明する斜視図及び側面図である。ここでは、フィルム１０の衝撃強度の測定を説明している。本願における衝撃強度の測定においては、図２及び図３に示す通りの円筒形の形状を有する上側の筒２０１及び下側の筒２０２を備える治具を用いる。筒２０１及び筒２０２の内径（矢印Ａ３で示される）はいずれも４ｃｍとする。上側の筒２０１を下側に付勢し、且つ下側の筒２０２を上側に付勢することにより、フィルム１０を治具に固定する。フィルム１０の上面１０Ｕの、治具内の中央の位置２０Ｐに、鋼球２１１（パチンコ玉、重さ５ｇ、直径１１ｍｍ）を様々な高さｈ（鋼球２１１の最下部の水準Ｈ１とフィルム１０の上面１０Ｕとの距離；矢印Ａ２で示す高さ）から、矢印Ａ１方向に落下させる。フィルム１０が破れなかった場合及びフィルム１０が破れた場合の境界の高さｈにおける、鋼球２１１の位置エネルギー（×１０−２Ｊ）を衝撃強度とする。
【００６２】
樹脂（Ｓ）としては、上に述べた特定の衝撃強度を有し、光学的な用途に用いうる任意の樹脂を用いうる。樹脂（Ｓ）の好ましい例としては、芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）及びジエン化合物水素化物単位（ｂ）を有する重合体であって、その単位の割合を変更し、上に述べた特定の衝撃強度を有するものとしたものが挙げられる。以下の説明においては、かかる特定の重合体を、「重合体Ｙ」と呼ぶ場合がある。
【００６３】
重合体Ｙを含む樹脂（Ｓ）の好ましい態様の例（重合体Ｙの好ましい例、その製造方法の好ましい例、樹脂（Ｓ）における重合体Ｙの割合の好ましい例、及び樹脂（Ｓ）における重合体Ｙ以外の成分の例等）としては、重合体Ｘを含む樹脂（Ｃ）におけるそれらの例と同様のものが挙げられる。但し、トリブロック分子構造を有する重合体Ｙが１分子当たり２つのブロックＡとしてブロックＡ１及びブロックＡ２を有する場合におけるブロックＡ１とブロックＡ２との重量比Ａ１／Ａ２、重合体Ｙにおける芳香族ビニル化合物水素化物単位（ａ）と、ジエン化合物水素化物単位（ｂ）との重量比（ａ）／（ｂ）、並びに重合体Ｙの分子量は、重合体Ｘの好ましい範囲と異なる特定の範囲であることが好ましい。Ａ１／Ａ２は、好ましくは３０／１５〜７２／３、より好ましくは３５／１０〜６０／５である。（ａ）／（ｂ）は、好ましくは７０／３０〜８５／１５、より好ましくは７５／２５〜８０／２０である。重合体Ｙの分子量は、好ましくは８０，０００以上、より好ましくは９０，０００以上であり、一方好ましくは１５０，０００以下、より好ましくは１３０，０００以下である。かかる範囲とすることにより、上に述べた特定の衝撃強度を有し、本発明の光学積層体の構成要素として有用に用いうる樹脂（Ｓ）を得ることができる。
【００６４】
樹脂（Ｓ）の別の好ましい例としては、脂環式構造含有重合体を含む樹脂が挙げられる。脂環式構造含有重合体とは、重合体の繰り返し単位中に脂環式構造を有する重合体であり、主鎖に脂環式構造を有する重合体、及び、側鎖に脂環式構造を有する重合体のいずれであってもよい。中でも、機械的強度、耐熱性などの観点から、主鎖に脂環式構造を含有する重合体が好ましい。
【００６５】
脂環式構造としては、例えば、シクロアルカン構造、シクロアルケン構造等が挙げられるが、熱安定性等の観点からシクロアルカン構造が好ましい。
１つの脂環式構造の繰り返し単位を構成する炭素数に特に制限はないが、好ましくは４〜３０個、より好ましくは５〜２０個、さらにより好ましくは６〜１５個である。
【００６６】
脂環式構造含有重合体中の脂環式構造を有する繰り返し単位の割合は使用目的に応じて適宜選択されるが、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上、さらにより好ましくは９０重量％以上である。
脂環式構造を有する繰り返し単位が過度に少ないと、フィルムの耐熱性が低下するおそれがある。
【００６７】
脂環式構造含有重合体は、具体的には、（１）ノルボルネン重合体、（２）単環の環状オレフィン重合体、（３）環状共役ジエン重合体、（４）ビニル脂環式炭化水素重合体、及びこれらの水素添加物などが挙げられる。
これらの中でも、透明性や成形性の観点から、ノルボルネン重合体及びこれらの水素添加物がより好ましい。
【００６８】
ノルボルネン重合体としては、例えば、ノルボルネンモノマーの開環重合体、ノルボルネンモノマーと開環共重合可能なその他のモノマーとの開環共重合体、及びそれらの水素添加物；ノルボルネンモノマーの付加重合体、ノルボルネンモノマーと共重合可能なその他のモノマーとの付加共重合体などが挙げられる。
これらの中でも、透明性の観点から、ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物が最も好ましい。
上記の脂環式構造含有重合体は、例えば特開２００２−３２１３０２号公報等に開示されている公知の重合体から選ばれる。
【００６９】
脂環式構造含有重合体は、そのガラス転移温度が、好ましくは８０℃以上、より好ましくは１００〜２５０℃の範囲である。ガラス転移温度がこのような範囲にある脂環式構造含有重合体は、高温下での使用における変形や応力が生じることがなく耐久性に優れる。
【００７０】
脂環式構造含有重合体の分子量は、溶媒としてシクロヘキサン（樹脂が溶解しない場合にはトルエン）を用いたゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（以下、「ＧＰＣ」と略す。）で測定したポリイソプレン換算（溶媒がトルエンのときは、ポリスチレン換算）の重量平均分子量（Ｍｗ）で、好ましくは１０，０００〜１００，０００、より好ましくは２５，０００〜８０，０００、さらにより好ましくは２５，０００〜５０，０００である。
重量平均分子量がこのような範囲にあるときに、得られる樹脂の機械的強度及び成形加工性が高度にバランスされ好適である。
【００７１】
脂環式構造含有重合体の分子量分布（重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ））は特に制限されないが、好ましくは１〜１０、より好ましくは１〜４、さらにより好ましくは１．２〜３．５の範囲である。
【００７２】
脂環式構造含有重合体を含む樹脂は、脂環式構造含有重合体のみからなってもよいが、本発明の効果を著しく損なわない限り、任意の成分を含んでもよい。任意の成分の具体例としては、重合体Ｘを含む樹脂（Ｃ）におけるそれらの例と同様のものが挙げられる。脂環式構造含有重合体を含む樹脂中の、脂環式構造含有重合体の割合は、好ましくは７０重量％以上、より好ましくは８０重量％以上である。
脂環式構造含有重合体を含む樹脂の好適な具体例としては、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０、ゼオノア１４２０Ｒ」などを挙げうる。
【００７３】
〔４．基材層及び表面層の厚み〕
本発明の光学積層体においては、第一表面層及び第二表面層のそれぞれの厚さが０．５μｍ以上、好ましくは１μｍ以上であり、一方２μｍ以下、好ましくは１．５μｍ以下である。また、基材層の厚みは、好ましくは８０μｍ以下、より好ましくは５０μｍ以下である。基材層の厚みの下限は、特に限定されないが、例えば２０μｍ以上としうる。また、基材層の厚みｔ２に対する第一表面層の厚みｔ１の比ｔ１／ｔ２および基材層の厚みｔ２に対する第二表面層の厚みｔ３の比ｔ３／ｔ２は、いずれも、好ましくは０．０１以上、より好ましくは０．０２以上であり、一方好ましくは０．０４以下、より好ましくは０．０３以下である。上に述べた特定の特性を有する樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）で基材層及び表面層を構成し、このような要件及び他の要件を満たす構成を採用することにより、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の特性において特に優れた光学積層体を得ることができる。
【００７４】
〔５．光学積層体の物性〕
本発明の光学積層体は、その高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性において優れたフィルムとしうる。これらの特性は、上に述べた要件を満たすことにより達成することができる。
【００７５】
本発明の光学積層体の表面硬度は、鉛筆硬度により評価しうる。本発明の光学積層体の鉛筆硬度は、好ましくはＨＢ以上、より好ましくはＦ以上である。かかる高い表面硬度を有する光学積層体は、表示装置において、高い耐久性を有する材料として有用に用いうる。また、その表面にさらにハードコート層を設けた場合において、偏光板保護フィルム等の光学フィルムの用途において有用に用いうる表面硬度を容易に得ることができる。本発明の光学積層体の表面硬度の上限は、特に限定されないが例えば１０Ｈ以下としうる。
【００７６】
光学積層体の表面硬度は、試料のフィルムを、コロナ処理によりガラス上に密着させた状態で測定しうる。具体的な測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準拠し、鉛筆の傾きは４５°とし、上から負荷する荷重は７５０ｇ重としうる。各硬度の鉛筆について５回試験を行い、２回以上において鉛筆跡が確認された場合はきず跡が生じたものと判定し、きず跡を生じなかった最も硬い鉛筆の硬度を、鉛筆硬度としうる。
【００７７】
本発明の光学積層体の屈曲性は、好ましくは３００回以上であり、より好ましくは１０００回以上である。かかる高い衝撃強度及び屈曲性を有する光学積層体は、表示装置において、高い耐久性を有する材料として有用に用いうる。特に、上記の屈曲性回数を満たすことでフィルムを良好に搬送することが可能になる。本発明の光学積層体の屈曲性の上限は、特に限定されないが例えば１０００００回以下としうる。
【００７８】
本願において、フィルムの屈曲性は、以下に述べる特定の方法により測定されたものである。即ち、本願におけるフィルムの屈曲性は、測定対象のフィルムを切断し、３０ｍｍ×４００ｍｍの試験片とし、これについて、特定の屈曲を繰り返し行い、クラック又は折れ目が入った時点の回数を、屈曲性の指標とする。屈曲は、Ｒ＝２．５ｍｍのマンドレルを用いて、フィルムが１６５°屈曲するように試験片をセッティングし、試験片の４００ｍｍの辺の延長上に、５００ｇの錘を吊るし、３０ｍｍの辺と平行に折れ曲げ線が入るように行う。屈曲スピードは、１００ｒｐｍとする。屈曲のための装置としては、屈曲試験機（商品名「ＴＣＤＭＬＨ−Ｐ１５０」、ユアサシステム機器株式会社製）を用いうる。
【００７９】
本発明の光学積層体は、表面層及び基材層の材料として上に述べた特定のものを採用し、且つ表面層として上に述べた特定の厚さを有するものを採用することにより、高い表面硬度と、良好なトリミング性の両方を備えたものとしうる。
【００８０】
本願において、フィルムのトリミング性は、光学積層体にカッターナイフにで直線状の切れ込みを入れ、クラックの有無を目視で判断することにより評価しうる。かかるクラックが発生しない光学積層体を、高いトリミング性を有するものと評価しうる。このトリミング性評価におけるクラックとは、切れ込みを起点として、切れ込みに対して非平行な方向に延長する、光学積層体の割れ目を意味する。
【００８１】
本願における、フィルムのトリミング性の評価の操作を、図４を参照して説明する。図４は、光学積層体のトリミング性の評価の操作を模式的に示す斜視図である。図４においては、光学積層体１００に、カッターナイフ４１で直線状の切れ込み１０１を入れた状態の例を示している。この例では、切れ込み１０１を起点として、切れ込み１０１に対して非平行な方向に延長するクラック１０２が複数発生している。クラックは、第一表面層、基材層及び第二表面層のうちの１層以上において発生した場合、「有り」と評価される。
【００８２】
本発明の光学積層体は、その水蒸気透過率が、好ましくは２０ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であり、より好ましくは１８ｇ／ｍ2・２４ｈ以下である。かかる低い水蒸気透過率を有する光学積層体は、表示装置において、偏光子層、発光層等の、変質しやすい他の層を保護する能力に優れた層として、有用に用いうる。水蒸気透過率は、水蒸気透過度測定装置（例えばＭＯＣＯＮ社製「ＰＥＲＭＡＴＲＡＮ−Ｗ」）を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９  Ｂ−１９９２に従って、温度４０℃、湿度９０％ＲＨの条件にて測定しうる。本発明の光学フィルムの水蒸気透過率の下限は、特に限定されないが理想的には０ｇ／ｍ２・２４ｈとしうる。
【００８３】
本発明の光学積層体は、その軟化温度が好ましくは１３５℃以上であり、より好ましくは１４５℃以上である。かかる高い軟化温度を有する光学積層体は、表示装置において、高い耐熱性を有する材料として有用に用いうる。軟化温度の測定は、測定対象のフィルムを５ｍｍ×２０ｍｍの形状に切り出し試料とし、ＴＭＡ（熱機械的分析）測定装置（例えばエスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製「ＴＭＡ／ＳＳ７１００」）を用い、ＴＭＡ測定において、試料の長手方向に５０ｍＮの張力を加えた状態で、温度を変化させ、線膨張が５％変化した時の温度（℃）を記録することにより行いうる。
【００８４】
〔６．任意の層〕
本発明の光学積層体は、第一表面層、基材層及び第二表面層に加えて、任意の層を有しうる。任意の層の例としては、フィルムの滑り性を良くするマット層、耐衝撃性ポリメタクリレート樹脂層などのハードコート層、反射防止層、防汚層等が挙げられる。
【００８５】
特に、本発明の光学積層体は、ハードコート層を有することが好ましい。ハードコート層を有することにより、例えば液晶表示装置において、表示面側の偏光子よりも表示面側に位置し、装置の表示面最外層を構成する保護フィルムとして、本発明の光学積層体を好適に用いうる。
表示装置において、装置の表示面最外層を構成する面の鉛筆硬度はＨ以上であることが求められる場合が多い。本発明の光学積層体は、第一表面層、基材層及び第二表面層のみからなる場合であっても、その表面の鉛筆硬度をＨＢ以上としうるので、その上にさらにハードコート層を形成することにより、その表面の鉛筆硬度を、容易に、Ｈ以上といった高い値とすることができる。
ハードコート層を構成する材料の例としては、有機系シリコーン系、メラミン系、エポキシ系、アクリル系、ウレタンアクリレート系などの有機ハードコート材料；および、二酸化ケイ素などの無機系ハードコート材料が挙げられる。なかでも、接着力が良好であり、生産性に優れる観点から、ウレタンアクリレート系および多官能アクリレート系ハードコート材料の使用が好ましい。ハードコート層の厚みは、好ましくは０．３μｍ以上、より好ましくは０．８μｍ以上、特に好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは２０μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下、特に好ましくは３μｍ以下である。
【００８６】
〔７．光学積層体の製造方法〕
本発明の光学積層体の製造方法は特に限定されず、任意の製造方法を採用しうる。例えば、樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）を所望の形状に成形することにより、本発明の光学積層体を製造しうる。
【００８７】
樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）の成形方法は、特に限定されず、任意の成形方法を採用しうる。成形方法の例としては、樹脂（Ｃ）のフィルム、及び樹脂（Ｓ）のフィルムを成形してこれらを貼合する方法、及び樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）のフィルムを、所望の層構成となるよう共押出する方法が挙げられる。特に、樹脂（Ｃ）及び樹脂（Ｓ）のフィルムを共押出する方法は、効率よく本発明の光学積層体を製造しうる観点から特に好ましい。押出成形法による成形を行うと、長尺のフィルムを得ることができる。フィルムの形状に成形された樹脂は、そのまま本発明の光学積層体としうる。又は、フィルムの形状に成形された樹脂を、さらに任意の処理に供し、それにより得られたものを本発明の光学積層体としうる。かかる任意の処理としては、延伸処理が挙げられる。
【００８８】
〔８．偏光板〕
本発明の偏光板は前記本発明の光学積層体と、偏光子層とを備える。本発明の偏光板はさらに、光学積層体と偏光子層との間に、これらを接着するための接着剤層を備えてもよい。本発明の光学積層体は、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を有しうるため、偏光板において、偏光子層を保護する保護フィルムとして特に良好に機能することができる。
【００８９】
偏光子層は、特に限定されず、任意の既知の偏光子の層を用いうる。偏光子層の例としては、ポリビニルアルコール偏光子層が挙げられる。ポリビニルアルコール偏光子層とは、ポリビニルアルコールフィルム（ポリビニルアルコール、又はポリビニルアルコールに修飾基が導入された重合体のフィルム）を主成分とし、偏光子層としての機能を有する層であり、具体的にはポリビニルアルコールフィルムに、ヨウ素、二色性染料等の材料を吸着させた後、延伸加工したものが挙げられる。接着剤層を構成する接着剤としては、各種の重合体をベースポリマーとしたものが挙げられる。かかるベースポリマーの例としては、例えば、アクリル重合体、シリコーン重合体、ポリエステル、ポリウレタン、ポリエーテル、及び合成ゴムが挙げられる。
【００９０】
本発明の偏光板が備える偏光子層と保護フィルムの層の数は任意であるが、本発明の偏光板は、通常は、１層の偏光子層と、その両面に設けられた２層の保護フィルムを備えうる。かかる２層の保護フィルムのうち、両方が本発明の光学積層体であってもよく、どちらか一方のみが本発明の光学積層体であってもよい。特に、光源及び液晶セルを備え、かかる液晶セルの光源側及び表示面側の両方に偏光板を有するもの等の通常の液晶表示装置において、表示面側の偏光子よりも表示面側に位置し、装置の表示面最外層を構成する保護フィルムとして、本発明の光学積層体を備えることが特に好ましい。かかる構成を有することにより、高い表面硬度、高い屈曲性、高いトリミング性、及びその他の様々な優れた特性を生かし、良好な表示品質及び耐久性を有する液晶表示装置を容易に構成することができる。
【００９１】
〔９．液晶表示装置〕
本発明の液晶表示装置は、前記本発明の偏光板を備える。本発明の液晶表示装置において、本発明の光学積層体は、偏光板において偏光子を保護する保護フィルムとして設けうる。
【００９２】
通常、液晶表示装置は、光源、光源側偏光板、液晶セル及び視認側偏光板を、この順に備える。本発明の表示装置が液晶表示装置である場合、本発明の光学積層体は、例えば光源側偏光板及び視認側偏光板のいずれか又は両方の両面又は片面の保護フィルムとして用いうる。液晶表示装置の液晶セルの駆動方式としては、例えば、インプレーンスイッチング（ＩＰＳ）モード、バーチカルアラインメント（ＶＡ）モード、マルチドメインバーチカルアラインメント（ＭＶＡ）モード、コンティニュアスピンホイールアラインメント（ＣＰＡ）モード、ハイブリッドアラインメントネマチック（ＨＡＮ）モード、ツイステッドネマチック（ＴＮ）モード、スーパーツイステッドネマチック（ＳＴＮ）モード、オプチカルコンペンセイテッドベンド（ＯＣＢ）モードなどが挙げられる。
【００９３】
本発明の液晶表示装置において、本発明の偏光板はまた、上記の用途以外の用途に用いられる偏光板として設けうる。例えば、反射防止機能を発現するための構成要素、所謂サングラスリーダブル機能（観察者が偏光サングラスを着用している場合において、観察角度による表示の相違を低減する機能）を発現するための構成要素の一部である偏光板として、本発明の偏光板を設けうる。
【実施例】
【００９４】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温常圧大気中において行った。
【００９５】
〔評価方法〕
（分子量等）
重合体の重量平均分子量及び数平均分子量は、ＴＨＦを溶離液とするＧＰＣによる標準ポリスチレン換算値として３８℃において測定した。測定装置としては、東ソー社製ＨＬＣ８０２０ＧＰＣを用いた。また、重合体の水素化率は１Ｈ−ＮＭＲにより測定した。
【００９６】
（引張弾性率）
測定対象のフィルムから、矩形の試験片（幅１０ｍｍ×長さ２５０ｍｍ）を切り出した。試験片をその長辺方向に引っ張って歪ませる際の応力を、ＪＩＳ  Ｋ７１１３に基づき、恒温恒湿槽付き引張試験機（インストロンジャパン社製の５５６４型デジタル材料試験機）を用いて、温度２３℃、湿度６０±５％ＲＨ、チャック間距離１１５ｍｍ、引張速度１００ｍｍ／ｍｉｎの条件で、測定した。このような測定を、３回行った。そして、測定された応力とその応力に対応した歪みの測定データから、試験片の歪が０．６％〜１．２％の範囲で０．２％毎に測定データ（即ち、歪みが０．６％、０．８％、１．０％及び１．２％の時の測定データ）を選択し、この選択された３回分の測定データから最小二乗法を用いて、測定対象のフィルムの引張弾性率を計算した。
【００９７】
（押込弾性率）
測定対象のフィルムについて、押込弾性率試験機（フィッシャーインスツルメンツ社製、商品名「ピコメーター  Ｈｍ−５００」）を用いて押込弾性率（単位：ＭＰａ）を測定した。測定に際して、圧子としては対面角１３６°正四角錐ダイヤモンド圧子を用いた。荷重速度は２．５ｍＦ／ｓｅｃで一定とし、ｄＦ／ｄｔは一定の条件で実施した。最大荷重は５０ｍＮ、荷重時間は２０ｓｅｃ、クリープ時間は６０ｓｅｃとした。
【００９８】
（鉛筆硬度）
測定対象のフィルム、並びに測定対象のフィルムの表面にハードコート層を形成したもののそれぞれについて、鉛筆硬度を測定した。
ハードコート層用材料としては、日立化成株式会社ヒタロイド７９７５Ｄを塗布し、乾燥後の膜厚を３μｍとした。
鉛筆硬度は、試料のフィルムを、コロナ処理によりガラス上に密着させた状態で測定した。具体的な測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４に準拠した。鉛筆の傾きは４５°とし、上から負荷する荷重は７５０ｇ重とした。各硬度の鉛筆について５回試験を行い、２回以上において鉛筆跡が確認された場合はきず跡が生じたものと判定し、きず跡を生じなかった最も硬い鉛筆の硬度を、鉛筆硬度として記録した。表２において、測定対象のフィルムそのものついての鉛筆硬度の測定結果は「ＨＣなし」の行に、測定対象のフィルムの表面にハードコート層を形成したものについての鉛筆硬度の測定結果は「ＨＣあり」の行に、それぞれ記載した。
【００９９】
（屈曲性）
測定対象のフィルムを切断し、３０ｍｍ×４００ｍｍの試験片を準備した。
小型卓上型  屈曲試験機（商品名「ＴＣＤＭＬＨ−Ｐ１５０」、ユアサシステム機器株式会社製）を用いて、屈曲性を試験した。Ｒ＝２．５ｍｍのマンドレルを用いて、フィルムが１６５°屈曲するようにセッティングした。試験片の４００ｍｍの辺の延長上に、５００ｇの錘を吊るし、３０ｍｍの辺と平行に折れ曲げ線が入るように屈曲を行った。屈曲スピードは、１００ｒｐｍとした。屈曲を行った後、クラックや折れ目がないかを、ＬＥＤライトを当て、状態をビデオカメラで撮影し記録した。
屈曲性の評価では、クラック又は折れ目が入った時点の回数を、屈曲性の指標として記録した。
【０１００】
（トリミング性）
測定対象のフィルムに、カッターナイフで直線状の切れ込みを入れ、クラックの有無を目視で判断した。クラックが認められなかったものを、トリミング性「良」と評価し、クラックが認められたものを、トリミング性「不良」と評価した。クラックは、第一表面層、基材層及び第二表面層のうちの１層以上において発生した場合、「有り」とし、不良と評価した。
【０１０１】
（衝撃強度）
図２〜図３に概略的に示す装置を用いて測定した。実施例、比較例及び参考例で得られた光学フィルム１００を、上側の筒２０１及び下側の筒２０２を備える治具により、水平に固定した。筒２０１及び筒２０２の内径（矢印Ａ３で示される）は４ｃｍであった。治具に固定されたフィルム１００の上面１００Ｕの、治具内の中央の位置２０Ｐに、鋼球２１１（パチンコ玉、重さ５ｇ、直径１１ｍｍ）を様々な高さｈ（鋼球２１１の最下部の水準Ｈ１と光学フィルム１００の上面１００Ｕとの距離；矢印Ａ２で示す高さ）から、矢印Ａ１方向に落下させて、光学フィルム１００が破れなかった場合及び光学フィルム１００が破れた場合の境界の高さｈにおける、鋼球２１１の位置エネルギー（×１０−２Ｊ）を衝撃強度とした。
【０１０２】
（軟化温度）
測定対象のフィルムを５ｍｍ×２０ｍｍの形状に切り出し試料とした。測定装置として、ＴＭＡ／ＳＳ７１００（エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社製）を用いた。ＴＭＡ（熱機械的分析）測定において、試料の長手方向に５０ｍＮの張力を加えた状態で、温度を変化させた。線膨張が５％変化した時の温度（℃）を、軟化温度とした。
【０１０３】
〔製造例１：樹脂Ｐ１〕
（Ｐ１−１．第１段階の重合反応：ブロックＡ１の伸長）
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン３２０部、スチレン７５部、及びジブチルエーテル０．３８部を仕込み、６０℃で攪拌しながらｎ−ブチルリチウム溶液（１５重量％含有ヘキサン溶液）０．４１部を添加して重合反応を開始させ、第１段階の重合反応を行った。反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により分析した結果、重合転化率は９９．５％であった。
【０１０４】
（Ｐ１−２．第２段階の反応：ブロックＢの伸長）
（Ｐ１−１）で得られた反応混合物に、スチレン１０部及びイソプレン１０部からなる混合モノマー２０部を添加し、引き続き第２段階の重合反応を開始した。第２段階の重合反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、ＧＣにより分析した結果、重合転化率は９９．５％であった。
【０１０５】
（Ｐ１−３．第３段階の反応：ブロックＡ２の伸長）
（Ｐ１−２）で得られた反応混合物に、スチレン５部を添加し、引き続き第３段階の重合反応を開始した。第３段階の重合反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎを測定した。またこの時点でサンプリングした試料をＧＣにより分析した結果、重合転化率はほぼ１００％であった。その後直ちに、反応混合物にイソプロピルアルコール０．２部を添加して反応を停止させた。これにより、Ａ１−Ｂ−Ａ２のトリブロック分子構造を有する重合体Ｐ１を含む混合物を得た。
【０１０６】
（Ｐ１−１）及び（Ｐ１−２）では重合反応を十分に進行させたことから、重合転化率は略１００％であり、したがってブロックＢにおけるＳｔ／Ｉｐの重量比は１０／１０であると考えられる。
これらの値から、得られた重合体Ｐ１は、Ｓｔ−（Ｓｔ／Ｉｐ）−Ｓｔ＝７５−（１０／１０）−５のトリブロック分子構造を有する重合体であることが分かった。重合体Ｐ１の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０６，９００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
【０１０７】
次に、上記の重合体Ｐ１を含む混合物を攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（製品名「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％、日揮触媒化成社製）８．０部及び脱水シクロヘキサン１００部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて８時間水素化反応を行った。水素化反応により得られた反応溶液に含まれる重合体Ｐ１水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１３，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０５であった。
【０１０８】
水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（製品名「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」、松原産業社製）０．１部を溶解したキシレン溶液２．０部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器（製品名「コントロ」、日立製作所社製）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。溶融ポリマーをダイからストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーにより重合体Ｐ１水素化物のペレット９５部を作製した。
得られたペレット状の重合体Ｐ１水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１２，２００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１１、水素化率はほぼ１００％であった。この重合体Ｐ１水素化物を、以下において、樹脂Ｐ１として用いた。
【０１０９】
〔製造例２：樹脂Ｐ２〕
（Ｐ２−１．第１段階の重合反応：ブロックＡ１の伸長）
十分に乾燥し窒素置換した、攪拌装置を備えたステンレス鋼製反応器に、脱水シクロヘキサン３２０部、スチレン５５部、及びジブチルエーテル０．３８部を仕込み、６０℃で攪拌しながらｎ−ブチルリチウム溶液（１５重量％含有ヘキサン溶液）０．４１部を添加して重合反応を開始させ、第１段階の重合反応を行った。反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、ガスクロマトグラフィー（ＧＣ）により分析した結果、重合転化率は９９．５％であった。
【０１１０】
（Ｐ２−２．第２段階の反応：ブロックＢの伸長）
（Ｐ２−１）で得られた反応混合物に、スチレン２０部及びイソプレン２０部からなる混合モノマー４０部を添加し、引き続き第２段階の重合反応を開始した。第２段階の重合反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、ＧＣにより分析した結果、重合転化率は９９．５％であった。
【０１１１】
（Ｐ２−３．第３段階の反応：ブロックＡ２の伸長）
（Ｐ２−２）で得られた反応混合物に、スチレン５部を添加し、引き続き第３段階の重合反応を開始した。第３段階の重合反応開始後１時間の時点で、反応混合物から、試料をサンプリングし、重合体の重量平均分子量Ｍｗ及び数平均分子量Ｍｎを測定した。またこの時点でサンプリングした試料をＧＣにより分析した結果、重合転化率はほぼ１００％であった。その後直ちに、反応混合物にイソプロピルアルコール０．２部を添加して反応を停止させた。これにより、Ａ１−Ｂ−Ａ２のトリブロック分子構造を有する重合体Ｐ２を含む混合物を得た。
【０１１２】
（Ｐ２−１）及び（Ｐ２−２）では重合反応を十分に進行させたことから、重合転化率は略１００％であり、したがってブロックＢにおけるＳｔ／Ｉｐの重量比は２０／２０であると考えられる。
これらの値から、得られた重合体Ｐ２は、Ｓｔ−（Ｓｔ／Ｉｐ）−Ｓｔ＝５５−（２０／２０）−５のトリブロック分子構造を有する重合体であることが分かった。重合体Ｐ２の重量平均分子量（Ｍｗ）は１０５，５００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０４であった。
【０１１３】
次に、上記の重合体Ｐ２を含む混合物を攪拌装置を備えた耐圧反応器に移送し、水素化触媒として珪藻土担持型ニッケル触媒（製品名「Ｅ２２Ｕ」、ニッケル担持量６０％、日揮触媒化成社製）８．０部及び脱水シクロヘキサン１００部を添加して混合した。反応器内部を水素ガスで置換し、さらに溶液を攪拌しながら水素を供給し、温度１９０℃、圧力４．５ＭＰａにて６時間水素化反応を行った。水素化反応により得られた反応溶液に含まれる重合体Ｐ２水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１１，８００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．０５であった。
【０１１４】
水素化反応終了後、反応溶液をろ過して水素化触媒を除去した後、フェノール系酸化防止剤であるペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（製品名「Ｓｏｎｇｎｏｘ１０１０」、松原産業社製）０．１部を溶解したキシレン溶液２．０部を添加して溶解させた。
次いで、上記溶液を、円筒型濃縮乾燥器（製品名「コントロ」、日立製作所社製）を用いて、温度２６０℃、圧力０．００１ＭＰａ以下で、溶液から、溶媒であるシクロヘキサン、キシレン及びその他の揮発成分を除去した。溶融ポリマーをダイからストランド状に押出し、冷却後、ペレタイザーにより重合体Ｐ２水素化物のペレット９５部を作製した。
得られたペレット状の重合体Ｐ２水素化物の重量平均分子量（Ｍｗ）は１１０，３００、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は１．１０、水素化率はほぼ１００％であった。この重合体Ｐ２水素化物を、以下において、樹脂Ｐ２として用いた。
【０１１５】
〔製造例３：樹脂Ｐ３〕
脂環式構造含有重合体樹脂（ノルボルネンモノマーの開環重合体水素添加物、ガラス転移温度１２６℃、日本ゼオン株式会社製）のペレットを、樹脂Ｐ３として用意した。
【０１１６】
〔参考例：樹脂Ｐ１〜Ｐ３の評価〕
製造例１〜３で得られた樹脂Ｐ１〜Ｐ３のそれぞれのペレットを、押出機（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｎｔｒｏｌ  Ｓｙｓｔｅｍ（ＯＣＳ）社製）にて加熱し溶融させた状態で単層押出成形し、様々な厚みのフィルムを形成した。これらのフィルムについて、引張弾性率、押込弾性率、鉛筆硬度、屈曲性、トリミング性、及び衝撃強度を測定した。引張弾性率の測定には厚み５０μｍのフィルムを用い、押込弾性率の測定には厚み１００μｍのフィルムを用い、鉛筆硬度の測定には厚み５０μｍのハードコート層を有しないフィルムを用い、屈曲性の測定には厚み５０μｍのフィルムを用い、トリミング性の測定には厚み５０μｍのフィルムを用い、衝撃強度の測定には厚み５０μｍのフィルムを用いた。結果を表１に示す。
【０１１７】
【表１】
2017177367.tif 000008
【０１１８】
〔実施例１〜４、及び比較例１〜７〕
（１−１．光学積層体の製造）
樹脂Ｐ１〜Ｐ３のいずれか１種を樹脂（Ｃ）として用い、且つ樹脂Ｐ１〜Ｐ３のいずれか１種を樹脂（Ｓ）として用い、これらの２種のペレットを、押出機（Ｄｒ．Ｃｏｌｌｉｎ社製）にて加熱し溶融させた状態で共押出成形し、樹脂（Ｃ）からなる基材層及び樹脂（Ｓ）からなる第一表面層及び第二表面層を備え、第一表面層／基材層／第二表面層の２種３層の層構成を有する光学積層体を得た。使用した樹脂の種類及び各層の厚みは、下記表２〜表３に示す通りとした。
【０１１９】
（１−２．光学積層体の評価）
（１−１）で得た光学積層体について、鉛筆硬度、屈曲性試験、トリミング性、及び軟化温度を評価した。結果を表２〜表３に示す。
【０１２０】
【表２】
2017177367.tif 000009
【０１２１】
【表３】
2017177367.tif 000010
【０１２２】
表２〜表３の結果から明らかな通り、本発明の要件を満たす実施例においては、偏光板保護フィルムに求められる鉛筆硬度、屈曲性、及びトリミング性等の諸条件をいずれも満たす光学積層体が得られた。
【符号の説明】
【０１２３】
１０：フィルム
４１：カッターナイフ
１０Ｕ：フィルムの上面
１００：光学積層体
１０１：直線状の切れ込み
１０２：クラック
１１１：基材層
１２１：第一表面層
１２２：第二表面層
２０１：上側の筒
２０２：下側の筒
２０Ｐ：治具内の中央の位置
２１１：鋼球
【図１】
2017177367.tif 000011
【図２】
2017177367.tif 000012
【図３】
2017177367.tif 000013
【図４】
2017177367.tif 000014