(57)【要約】【課題】流体中にエステルが存在する場合であっても、下流側へのエステル及びエステルの分解物の流出が起こりにくく、且つ、有機ケイ素化合物を効率的に除去可能な有機ケイ素化合物除去設備を提供する。【解決手段】シラノール化合物及びシロキサン化合物からなる群より選択される少なくとも一種の有機ケイ素化合物を除去する設備であって、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いた、前記有機ケイ素化合物を除去するためのケミカルフィルタ（Ａ）と、少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ）と、を有することを特徴とする有機ケイ素化合物除去設備。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シラノール化合物及びシロキサン化合物からなる群より選択される少なくとも一種の有機ケイ素化合物を除去する設備であって、
純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いた、前記有機ケイ素化合物を除去するためのケミカルフィルタ（Ａ）と、少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ）と、を有することを特徴とする有機ケイ素化合物除去設備。
【請求項２】
前記ケミカルフィルタ（Ｂ）としてエステルを除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ１）を有し、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）が前記ケミカルフィルタ（Ａ）の上流に設置されている、請求項１に記載の有機ケイ素化合物除去設備。
【請求項３】
前記ケミカルフィルタ（Ｂ）としてエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ２）を有し、前記ケミカルフィルタ（Ｂ２）が前記ケミカルフィルタ（Ａ）の下流に設置されている、請求項１又は２に記載の有機ケイ素化合物除去設備。
【請求項４】
前記無機シリカ系多孔質材料として、水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である、合成ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、及び活性白土からなる群より選択される少なくとも一種の無機シリカ系多孔質材料を、前記吸着剤の総重量に対して１０重量％以上含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の有機ケイ素化合物除去設備。
【請求項５】
前記有機ケイ素化合物除去設備が、下記（ｉ）〜（iii）の構成のうちの少なくとも一つの構成を有する、請求項２〜４のいずれか一項に記載の有機ケイ素化合物除去設備。
（ｉ）上流側から、塩基性物質除去用ケミカルフィルタ（Ｃ）、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）、前記ケミカルフィルタ（Ａ）、及び前記ケミカルフィルタ（Ｂ）がこの順に設けられている構成
（ii）上流側から、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）、前記ケミカルフィルタ（Ａ）、及び前記ケミカルフィルタ（Ｂ）としてのエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ２）がこの順に設けられている構成
（iii）上流側から、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）、前記ケミカルフィルタ（Ａ）、及び有機物質除去用ケミカルフィルタがこの順に設けられている構成
【請求項６】
配管用の除去設備である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の有機ケイ素化合物除去設備。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の有機ケイ素化合物除去設備を用いて前記有機ケイ素化合物を除去することを特徴とする流体浄化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ケイ素化合物を流体中（特に、空気中）から除去するための設備に関する。また、本発明は、該設備を用いた流体浄化方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
室内空間環境において、多くの環境下に有機ケイ素化合物が存在している。例えば、環状シロキサン化合物は、一般家庭、クリーンルーム内等の建物内に存在するパッキング部やシール材、建築現場等で使用される接着剤、シャンプー、化粧品等、生活環境内に存在する多くの物質に用いられている。
【０００３】
例えば、クリーンルーム内で行われる半導体製造プロセスの露光工程では、ヘキサメチルジシラザン（ＨＭＤＳ）のようなジシラザン化合物が、フォトレジスト密着剤として使用されている。ＨＭＤＳは、例えばガスとしてウエハ表面に吹き付けられることにより、ウエハ表面の水酸基をトリメチルシラノール基に置換させることで、ウエハ表面を疎水化させて、ウエハ表面のレジスト剤との密着性を向上させるのに用いられている。しかしながら、該露光工程の空気中に環状シロキサン化合物が存在する場合、環状シロキサン化合物がウエハ表面に付着すると半導体の特性を変えてしまい、低濃度でも製品歩留まりを低下させるおそれがある。
【０００４】
また、上記ＨＭＤＳは加水分解して低分子量物のトリメチルシラノール（ＴＭＳ）となり、工場内空間や露光装置内にガス状で浮遊することがある。浮遊したＴＭＳは、レンズ等の表面に結合してレンズ曇りの原因となり、露光障害等を引き起こすおそれがある。
【０００５】
このようなＴＭＳや環状シロキサン等の有機ケイ素化合物の除去には酸性添着剤を用いたケミカルフィルタが開示されている。例えば、ＴＭＳを除去するためのケミカルフィルタとして、酸性添着剤を用いたケミカルフィルタが開示されている（特許文献１参照）。このケミカルフィルタでは、空気中に含まれるシラノール化合物が酸性添着剤によって二量化されて吸着される。
【０００６】
一方、環状シロキサン化合物の除去には、通常、吸着剤として活性炭を用いたケミカルフィルタが使用されている。活性炭を用いた吸着剤としては、例えば、酸で洗浄された活性炭を用いた吸着剤材料（特許文献２参照）、平均細孔径が異なる二種類の活性炭を有するシロキサン除去用活性炭が知られている（特許文献３参照）。また、活性炭の他に、環状シロキサン化合物の吸着剤として、スルホン酸基等の酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料が使用されている。このような吸着剤としては、例えば、スルホン酸基を有する樹脂を含むシロキサン除去剤（特許文献４参照）、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させた多孔質物質（特許文献５、６参照）、平均細孔直径が３〜２０ｎｍの無機多孔質体に解離指数が２．２以下で、分子量が１０００以下である酸性化合物を含有したシロキサン除去剤（特許文献７参照）等が知られている。吸着剤として、このような酸性官能基が導入された樹脂又は多孔質材料を用いると、シロキサン類を選択的に効率良く除去できると記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２０１１／０９９６１６号
【特許文献２】特表２０１５−５１８４２２号公報
【特許文献３】特開２００５−１７７７３７号公報
【特許文献４】特開２０１１−２１２５６５号公報
【特許文献５】特開２０１３−１０３１５３号公報
【特許文献６】特開２０１３−１０３１５４号公報
【特許文献７】特開２０１５−４４１７５号公報
【特許文献８】特許第５７２１８８５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献１に記載のケミカルフィルタでは、空気中のシラノール化合物の濃度が極めて低濃度の場合には、二量化の反応が起こりにくいため、この方法では除去効率が必ずしも十分とは言えない。
【０００９】
また、上記特許文献２及び３のように、吸着剤として活性炭を用いた場合、一旦吸着されたシロキサン類が脱離することがあった。また、環状シロキサン化合物は、通常の環境においては有機ガス成分等の他のガス成分と共に大気中に存在することが多い。このため、他のガス成分が多く存在する場合、上記特許文献２及び３に記載のような、活性炭を用いた吸着剤では、環状シロキサン化合物の除去と他のガス成分の除去とは競合になるため、環状シロキサン化合物の除去効率（除去性能、又は除去能力）は他のガス成分の存在量に応じて変動する。さらに、他のガス成分が大気中に存在する量は日々異なることが多い。このため、活性炭が除去する環状シロキサン化合物の量が日々変動するため、活性炭を用いた吸着剤や該吸着剤を用いたフィルタの残り寿命の予測が困難であった。
【００１０】
特許文献４では、強酸型イオン交換樹脂を用いている。しかしながら、スルホン酸基を有する樹脂はシロキサン化合物の吸着能力が低いのが通常であり、多孔質担体への担持の有無に関わらず、シロキサン類ガスを十分に除去できないという問題がある。さらに、樹脂は分子量が大きいため、スルホン酸基の近傍には常に樹脂が存在しているが、前記樹脂はシロキサン化合物の吸着能力が低く、スルホン酸基とシロキサン化合物との反応の進行が遅くなり、脱離してしまうという問題がある。
【００１１】
また、特許文献４では、強酸型イオン交換樹脂により環状シロキサン類を重合させて吸着しており、特許文献７では、吸着したシロキサン類ガスが酸性化合物により活性化され、活性化されていないシロキサン類ガスと反応して吸着している。このように、引用文献４及び７には、シロキサン化合物同士を反応させて吸着することが記載されている。しかし、空気中のシロキサン化合物の濃度が極めて低濃度の場合には、シロキサン化合物同士の反応が起こりにくいため、この方法では除去効率が必ずしも十分とは言えない。
【００１２】
特許文献５及び６では、スルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを多孔質材料に添着させたものを用いている。しかし、このようなスルホン酸基修飾金属酸化物ゾルを得るためには煩雑な工程により作製する必要があり、シロキサン化合物を効率よく除去できる吸着剤やケミカルフィルタを容易に得ることができない。
【００１３】
そこで、本発明者らは、このような問題を解決するために鋭意検討した結果、吸着剤として、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を用いたケミカルフィルタを発明している。上記ケミカルフィルタは、ＴＭＳ等のシラノール化合物及びシロキサン化合物を一旦吸着した後に再度脱離しないため、活性炭と比較して除去効果が長時間持続する。また、シラノール化合物に対しては、シラノール化合物の除去にあたりシラノール化合物を二量化させる必要がないため、空気中のＴＭＳが９ｐｐｂもの極めて低濃度であってもＴＭＳを高効率で除去することができる（上記特許文献８参照）。また、シロキサン化合物に対しては、シロキサン化合物の除去にあたりシロキサン化合物同士を反応させる必要が無いため、低濃度環境下でも効率よく除去できる。また、吸着剤、及びケミカルフィルタの作製に煩雑な工程を経る必要がないため、容易に得ることができる。
【００１４】
しかしながら、半導体製造プロセスの露光工程では、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）が大量に使用されているため、クリーンルーム内の空気は、ＰＧＭＥＡを含有する。シラノール化合物やシロキサン化合物等の有機ケイ素化合物に加えてＰＧＭＥＡを含有する空気を上記ケミカルフィルタに通気させた場合、水混合物のｐＨが７以下の無機シリカ系多孔質材料が酸触媒として作用して加水分解が起こり、ＰＧＭＥＡが酢酸とプロピレングリコールモノメチルエーテルとに分解されたものと推測されるが、その結果ケミカルフィルタの下流に酢酸やプロピレングリコールモノメチルエーテル等の汚染物質が流出するという問題があった。酢酸がケミカルフィルタの下流側に流出した場合、クリーンルーム内の機器を腐食させるおそれがある。またケミカルフィルタの酸触媒作用により、エステル類だけでなくエーテル類も分解し、汚染物質となる場合もある。
【００１５】
従って、本発明の目的は、流体中にエステルが存在する場合であっても、下流側へのエステルの分解物の流出が起こりにくく、且つ、有機ケイ素化合物を効率的に除去可能な有機ケイ素化合物除去設備を提供することにある。また、本発明の他の目的は、容易に得ることができる有機ケイ素化合物除去設備を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１６】
本発明者らは、上記目的を達成するため鋭意検討した結果、純水との水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたケミカルフィルタと、エステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタとを有する設備によれば、エステルを含む空気を通気させた場合であってもエステルの分解物である酸やアルコール等の汚染物質の下流側への流出を起こりにくくし、且つ、空気中の有機ケイ素化合物を極めて効率よく除去できることを見出した。本発明は、これらの知見に基づいて完成させたものである。
【００１７】
すなわち、本発明は、シラノール化合物及びシロキサン化合物からなる群より選択される少なくとも一種の有機ケイ素化合物を除去する設備であって、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いた、前記有機ケイ素化合物を除去するためのケミカルフィルタ（Ａ）と、少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ）と、を有することを特徴とする有機ケイ素化合物除去設備を提供する。
【００１８】
前記有機ケイ素化合物除去設備は、前記ケミカルフィルタ（Ｂ）としてエステルを除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ１）を有し、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）が前記ケミカルフィルタ（Ａ）の上流に設置されていることが好ましい。
【００１９】
前記有機ケイ素化合物除去設備は、前記ケミカルフィルタ（Ｂ）としてエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ２）を有し、前記ケミカルフィルタ（Ｂ２）が前記ケミカルフィルタ（Ａ）の下流に設置されていることが好ましい。
【００２０】
前記無機シリカ系多孔質材料として、水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である、合成ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、及び活性白土からなる群より選択される少なくとも一種の無機シリカ系多孔質材料を、前記吸着剤の総重量に対して１０重量％以上含むことが好ましい。
【００２１】
前記有機ケイ素化合物除去設備は、下記（ｉ）〜（iii）の構成のうちの少なくとも一つの構成を有することが好ましい。
（ｉ）上流側から、塩基性物質除去用ケミカルフィルタ（Ｃ）、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）、前記ケミカルフィルタ（Ａ）、及び前記ケミカルフィルタ（Ｂ）がこの順に設けられている構成
（ii）上流側から、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）、前記ケミカルフィルタ（Ａ）、及び前記ケミカルフィルタ（Ｂ）としてのエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ２）がこの順に設けられている構成
（iii）上流側から、前記ケミカルフィルタ（Ｂ１）、前記ケミカルフィルタ（Ａ）、及び有機物質除去用ケミカルフィルタがこの順に設けられている構成
【００２２】
前記有機ケイ素化合物除去設備は、配管用の除去設備であることが好ましい。
【００２３】
また、本発明は、前記有機ケイ素化合物除去設備を用いて前記有機ケイ素化合物を除去することを特徴とする流体浄化方法を提供する。
【発明の効果】
【００２４】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備によれば、通気させる流体中にエステルが含まれる場合であっても、下流側にエステルの分解物を流出させにくく、且つ、一旦吸着した有機ケイ素化合物が再度脱離しないため、活性炭と比較して除去効果が長時間持続する。また、吸着剤、ケミカルフィルタ、及び有機ケイ素化合物除去設備の作製に煩雑な工程を経る必要がないため、容易に得ることができる。
【００２５】
また、シラノール化合物の除去にあたりシラノール化合物を二量化させる必要が無いため、低濃度環境下でも効率よく除去できる傾向がある。シロキサン化合物の除去にあたりシロキサン化合物同士を反応させる必要が無いため、低濃度環境下でも効率よく除去できる傾向がある。さらに、本発明の有機ケイ素化合物除去設備によれば、特に、流体中の有機ケイ素化合物を極めて効率よく除去することができるため、吸着剤の使用量をごく少量とすることができ、また、フィルタ基材の枚数も削減することができ、省エネルギー、低コスト、省スペースとすることができる傾向がある。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】実施例で用いた通気試験装置の概略図である。
【図２】実施例で用いた通気試験装置の部分概略断面図である。
【図３】実施例１の通気試験結果を示すグラフ（ゼオライトの水混合物のｐＨとＴＭＳの除去効率の関係）である。
【図４】実施例１の通気試験結果を示すグラフ（シリカゲル、酸性白土、活性白土、珪藻土、ヒュームドシリカ、及びタルクの水混合物のｐＨとＴＭＳの除去効率の関係）である。
【図５】実施例２の通気試験結果を示すグラフ（ゼオライトの水混合物のｐＨとＴＭＳの除去効率の関係（時間変化））である。
【図６】実施例２の通気試験結果を示すグラフ（シリカゲル、酸性白土、活性白土、及び珪藻土の水混合物のｐＨとＴＭＳの除去効率の関係（時間変化））である。
【図７】実施例４で用いた通気試験装置の概略図である。
【図８】実施例４の通気試験結果を示すグラフ（ＴＭＳの除去効率の時間変化）である。
【図９】実施例５の通気試験結果を示すグラフ（バインダの水混合物のｐＨとＴＭＳの除去効率の関係（時間変化））である。
【図１０】実施例６の通気試験結果を示すグラフ（合成ゼオライトの含有量とＴＭＳの除去効率の関係（時間変化））である。
【図１１】実施例７の通気試験結果を示すグラフ（ゼオライトの水混合物のｐＨとオクタメチルシクロテトラシロキサンの除去効率の関係）である。
【図１２】実施例７の通気試験結果を示すグラフ（シリカゲル、酸性白土、活性白土、及び珪藻土の水混合物のｐＨとオクタメチルシクロテトラシロキサンの除去効率の関係）である。
【図１３】実施例１０の通気試験結果を示すグラフ（ゼオライト及び珪藻土の水混合物のｐＨとデカメチルテトラシロキサンの除去効率の関係）である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、シラノール化合物及びシロキサン化合物からなる群より選択される少なくとも一種の有機ケイ素化合物を除去する設備であって、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いた、上記有機ケイ素化合物を除去するためのケミカルフィルタ（Ａ）と、少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ）と、を少なくとも有する。本明細書では、上記「純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いた、上記有機ケイ素化合物を除去するためのケミカルフィルタ（Ａ）」を、単に「ケミカルフィルタ（Ａ）」と称する場合がある。また、本明細書において、上記「少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ）」を、単に「ケミカルフィルタ（Ｂ）」と称する場合がある。
【００２８】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、シラノール化合物及びシロキサン化合物からなる群より選択される少なくとも一種の有機ケイ素化合物を除去する設備である。即ち、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、シラノール化合物のみを除去するものであってもよいし、シロキサン化合物のみを除去するものであってもよいし、両方を除去するものであってもよい。上記有機ケイ素化合物は、揮発性を有するものが好ましい。
【００２９】
上記シラノール化合物は、Ｒ4-nＳｉ（ＯＨ）nで表されるように、シラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）を少なくとも有する化合物である。上記ｎは、１〜３の整数である。上記Ｒは、水素原子；フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；置換基を有していてもよい炭化水素基（好ましくはアルキル基、より好ましくは炭素数１〜３のアルキル基）などが挙げられる。なお、Ｒが複数ある場合、複数のＲのうちの２以上が同一であってもよいし、それぞれが異なっていてもよい。また、上記シラノール化合物は、揮発性を有するものが好ましい。上記シラノール化合物としては、特に、トリメチルシラノール（ＴＭＳ）が好ましい。
【００３０】
上記シロキサン化合物は、分子内にＳｉ−Ｏ−Ｓｉ骨格を少なくとも有する化合物である。シロキサン化合物としては、例えば、環状シロキサン化合物（例えば、ヘキサメチルシクロトリシロキサン、オクタメチルシクロテトラシロキサン、デカメチルシクロペンタシロキサン等のＤ３〜Ｄ２０の環状シロキサン化合物等）、直鎖状シロキサン化合物（例えば、ヘキサメチルジシロキサン、オクタメチルトリシロキサン、デカメチルテトラシロキサン等のケイ素原子数が２〜２０の直鎖状シロキサン化合物等）、分岐鎖状シロキサン化合物などが挙げられる。中でも、環状シロキサン化合物、直鎖状シロキサン化合物が好ましい。また、シロキサン化合物は、揮発性を有するものが好ましい。
【００３１】
［ケミカルフィルタ（Ａ）］
ケミカルフィルタ（Ａ）は、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いているケミカルフィルタである。なお、本明細書では、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を用いた吸着剤を、「本発明の吸着剤」と称する場合がある。また、本明細書において、「水混合物のｐＨ」は、特に断りのない限り、「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨ」を言うものとする。
【００３２】
（本発明の吸着剤）
ケミカルフィルタ（Ａ）は、無機シリカ系多孔質材料を必須の吸着剤として用いている。上記無機シリカ系多孔質材料は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を用いてもよい。
【００３３】
上記無機シリカ系多孔質材料は、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下（例えば、３〜７）であり、好ましくは７未満（例えば、３以上７未満）、より好ましくは３〜６．５、さらに好ましくは４〜６である。上記ｐＨが７以下であることにより、有機ケイ素化合物を高効率で除去することができる。これは、特にシラノール化合物に対しては、無機シリカ系多孔質材料の水混合物のｐＨが７以下であることにより、無機シリカ系多孔質材料中にシラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）が十分に存在し、このシラノール基が流体中のシラノール化合物の除去に密接に関連していることによるものと推測される。
【００３４】
本明細書において、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨとは、水混合物全体に対して、当該水混合物中に混合させる物質（対象物質）の含有割合が５ｗｔ％である条件で測定したときのｐＨをいう。例えば、無機シリカ系多孔質材料の、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨは、無機シリカ系多孔質材料の含有割合が５ｗｔ％である条件で測定したときのｐＨである。上記水混合物のｐＨは、例えば、ｐＨ測定器を用いて測定することができる。なお、上記無機シリカ系多孔質材料に添着剤等を添着したものを本発明の吸着剤として用いる場合、上記「純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨ」は、添着剤等を添着する前の状態（即ち、添着剤等を添着していない状態）の無機シリカ系多孔質材料の、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨを言うものとする。
【００３５】
本明細書において、水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、例えば、以下の「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法」によって作製することができる。
【００３６】
水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法
上記水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、例えば、含有割合が５ｗｔ％となるように、水混合物のｐＨの測定の対象とするサンプル（「対象サンプル」と称する場合がある）を純水に混合し、十分に撹拌したのち静置して作製することができる。上記水混合物の作製には純水を使用するが、有機溶媒と純水との混合溶媒を使用してもよい。ただし、有機溶媒を使用する場合、有機溶媒の種類や濃度によっては酸解離定数が大きく変動するため、一般的に、アルコールなどの水溶性の有機溶媒であって、ｐＨに大きな影響を与えない範囲の濃度とする。なお、上記「ｗｔ％」は、「重量％」と同一の意味である。含有割合が５ｗｔ％である水混合物を作製するには、具体的には、例えば、対象サンプルを、秤などを用いて５ｇ計り取り、さらに純水を加え、全体を１００ｇとし、液を十分に撹拌することで作製することができる。例えば、無機シリカ系多孔質材料の水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、無機シリカ系多孔質材料を上記対象サンプルとして作製することができる。
【００３７】
上記無機シリカ系多孔質材料は、特に限定されないが、比表面積（ＢＥＴ比表面積）が１０ｍ2／ｇ以上（例えば、１０〜１０００ｍ2／ｇ）であってもよく、好ましくは５０ｍ2／ｇ以上（例えば、５０〜８００ｍ2／ｇ）、より好ましくは１００ｍ2／ｇ以上（例えば、１００〜７００ｍ2／ｇ）である。
【００３８】
上記無機シリカ系多孔質材料は、特に限定されないが、多孔質材料中のＳｉＯ2の含有量が５重量％以上（例えば、５〜１００重量％）であってもよく、好ましくは１０重量％以上、より好ましくは２０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上、さらに好ましくは６５重量％以上、特に好ましくは７５重量％以上である無機シリカ系多孔質材料などが挙げられる。
【００３９】
上記無機シリカ系多孔質材料としては、特に限定されないが、例えば、ゼオライト（例えば、合成ゼオライト、天然ゼオライト等）、シリカゲル、シリカアルミナ、ケイ酸アルミニウム、多孔質ガラス、珪藻土、含水ケイ酸マグネシウム質粘土鉱物（例えば、タルク）、アロフェン、イモゴライト、酸性白土、活性白土、活性ベントナイト、メソポーラスシリカ、アルミノケイ酸塩、ヒュームドシリカ、フライアッシュ、クリンカアッシュなどが挙げられる。吸着剤として上記無機シリカ系多孔質材料を用いることにより、有機ケイ素化合物を高効率で除去することができる。中でも、ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、活性白土が好ましく、より好ましくは合成ゼオライト、珪藻土、シリカゲル、活性白土である。吸着剤としてゼオライト（特に、合成ゼオライト）、珪藻土、シリカゲル、又は活性白土を用いると、より長期間に亘って有機ケイ素化合物（シラノール化合物、シロキサン化合物）を効率よく除去し続けることができる。中でも、ゼオライト（特に、合成ゼオライト）、シリカゲルを用いた場合、直鎖状シロキサン化合物及び環状シロキサン化合物両方のシロキサン化合物の除去効率が顕著に優れる傾向がある。また、シリカゲル、珪藻土を用いた場合、該シロキサン化合物をより選択的に除去することができる傾向がある。上記無機シリカ系多孔質材料は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。なお、上記合成ゼオライトには、人工ゼオライトが含まれるものとする。
【００４０】
上記ゼオライトは、主にケイ素元素（Ｓｉ）、アルミニウム元素（Ａｌ）、及び酸素元素（Ｏ）から構成される骨格を有する多孔質材料であるが、当該骨格中の一部又は全部のアルミニウム元素（Ａｌ）を、鉄元素（Ｆｅ）、ホウ素元素（Ｂ）、ガリウム元素（Ｇａ）等の３価の金属元素；亜鉛元素（Ｚｎ）等の２価の金属元素に置き換えたものであってもよい。
【００４１】
上記ゼオライトの細孔構造は、特に限定されない。ゼオライトの員環数は、特に限定されないが、例えば４〜２０、好ましくは８〜２０、より好ましくは８〜１２である。なお、ゼオライトの員環数は、一般的に細孔環構造中のＯ原子数で表す。また、ゼオライトの細孔接続（channel system）は、特に限定されないが、１〜３次元が好ましく、より好ましくは３次元である。特に、員環数が１２であり、細孔接続が３次元である細孔構造を有するゼオライト（特に、合成ゼオライト）が好ましい。
【００４２】
上記合成ゼオライトとしては、特に限定されないが、例えば、Ａ型、フェリエライト、ＭＣＭ−２２、ＺＳＭ−５、ＺＳＭ−１１、ＳＡＰＯ−１１、モルデナイト、ベータ型、Ｘ型、Ｙ型、Ｌ型、チャバザイト、オフレタイト等の骨格構造を有する合成ゼオライトなどが挙げられる。なお、上記合成ゼオライトは、一種の骨格構造のゼオライトを使用してもよいし、二種以上のゼオライトを組み合わせて使用してもよい。また、合成ゼオライトの形状は、粉末状に作製されたものでもよいし、膜状に作製されたものを使用してもよい。
【００４３】
上記人工ゼオライトとしては、例えば、一般に、石炭火力発電所から排出される石炭灰や製紙工場から排出される製紙スラッジ焼却灰など、ケイ素やアルミニウムを含む廃棄物から製造されたゼオライトなどが挙げられる。上記人工ゼオライトは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００４４】
上記天然ゼオライトとしては、特に限定されないが、例えば、クリノプチロライト（斜プチロル沸石）、モルデナイト（モルデン沸石）、菱沸石、ナトロライト、ゴンナルダイト、エディングトナイト、アナルシム、リューサイト、ユガワラライト、ギスモンダイン、ポーリンジャイト、フィリップサイト、チャバザイト、エリオナイト、ホージャサイト、フェリエライト、ミューティナアイト、チェルニヒアイト、ヒューランダイト、スティルバイト、コウレサイト、アルミノケイ酸塩、ベリロケイ酸塩（ロギアナイト、シャンハライト等）、ジンコケイ酸塩（ガウルタイト）などが挙げられる。上記天然ゼオライトは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を併用してもよい。
【００４５】
上記ゼオライトは、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下（例えば、３〜７）であり、好ましくは７未満（例えば、３以上７未満）、より好ましくは３〜６．８、さらに好ましくは３．５〜６．７、特に好ましくは４〜６．５である。なお、ゼオライトの水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、上記「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法」により、ゼオライトを対象サンプルとして作製することができる。上記ｐＨが７以下であることにより、有機ケイ素化合物を高効率で除去することができる。これは、特にシラノール化合物に対しては、ゼオライトの水混合物のｐＨが７以下であることにより、ゼオライト中にシラノール基が十分に存在し、このシラノール基が流体中のシラノール化合物の除去に密接に関連していることによるものと推測される。
【００４６】
上記合成ゼオライトにおけるＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3の比（モル比）［ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3］は、特に限定されないが、有機ケイ素化合物の除去効率の観点から、４〜２０００であってもよく、好ましくは１０〜１５００、より好ましくは１５〜１０００、さらに好ましくは１００〜５００である。上記［ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3］は、ゼオライトの親水性或いは疎水性を示す指標と考えられる。［ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3］が高い（即ち、シリカ比が高くアルミナ比が低い）と、疎水性が高くなる傾向がある。一方、［ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3］が低い（即ち、シリカ比が低くアルミナ比が高い）と、親水性が高くなる傾向がある。親水性が高すぎる（即ち、疎水性が低すぎる）と、骨格表面が水分子で覆われ、疎水性の有機ケイ素化合物が吸着サイト（吸着する場所）へ近づきにくくなる。親水性が低すぎる（即ち、疎水性が高すぎる）と、ゼオライト中の吸着サイトが少なくなり、有機ケイ素化合物の除去効率が低下する傾向がある。このため、例えば、［ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3］を上記範囲内とすることにより、ゼオライトの親水性或いは疎水性を適宜調節でき、有機ケイ素化合物の除去効率がより優れるようにすることができる。中でも、有機ケイ素化合物が環状シロキサン化合物である場合、上記合成ゼオライトは疎水性が高いことが好ましく［ＳｉＯ2／Ａｌ2Ｏ3］が高い方が好ましい。
【００４７】
上記ゼオライトは、特に限定されないが、骨格構造中に陽イオンを含んでいてもよい。上記陽イオンとしては、特に限定されないが、例えば、水素イオン（Ｈ+）；アンモニウムイオン（ＮＨ4+）；アルキル置換のアンモニウムイオン（例えば、メチルアンモニウムイオン（（ＣＨ3）Ｈ3Ｎ+）、ジメチルアンモニウムイオン（（ＣＨ3）2Ｈ2Ｎ+）、トリメチルアンモニウムイオン（（ＣＨ3）3ＨＮ+）、テトラメチルアンモニウムイオン（（ＣＨ3）4Ｎ+）等）；アリール又はアラルキル置換のアンモニウムイオン；リチウムイオン（Ｌｉ+）、ナトリウムイオン（Ｎａ+）、カリウムイオン（Ｋ+）等のアルカリ金属イオン；マグネシウムイオン（Ｍｇ2+）、カルシウムイオン（Ｃａ2+）、バリウムイオン（Ｂａ2+）等のアルカリ土類金属イオン；亜鉛イオン（Ｚｎ2+）、スズイオン（Ｓｎ2+、Ｓｎ4+）、鉄イオン（Ｆｅ2+、Ｆｅ3+）、白金イオン（Ｐｔ2+）、パラジウムイオン（Ｐｄ2+）、チタンイオン（Ｔｉ3+）、銀イオン（Ａｇ+）、銅イオン（Ｃｕ+、Ｃｕ2+）、マンガンイオン（Ｍｎ2+、Ｍｎ4+）、コバルトイオン（Ｃｏ2+）等の遷移金属イオン；ガリウムイオン（Ｇａ+）などが挙げられる。上記陽イオンは一種のみ含まれていてもよいし、二種以上含まれていてもよい。上記ゼオライト中の上記陽イオンの含有量は特に限定されない。特に、プロトン型ゼオライトと呼ばれる、骨格構造中に含まれている陽イオンとして水素イオン（Ｈ+）の含有率が多いゼオライトが好ましい。
【００４８】
なお、上記ゼオライトの比表面積（ＢＥＴ比表面積）、平均粒子径（平均粒径）、平均細孔径（直径）、全細孔容積などは、特に限定されない。また、上記ゼオライトは、一種のみを用いてもよいし、二種以上を用いてもよい。
【００４９】
上記ゼオライトとして、天然ゼオライト又は合成ゼオライトを酸処理して得られる酸処理物、天然ゼオライト又は合成ゼオライトを水熱処理して得られる水熱処理物、アンモニウム型ゼオライトを焼成処理して得られるアンモニウム処理物、プロトン型ゼオライトを用いてもよい。
【００５０】
上記酸処理物及び上記水熱処理物は、酸処理における酸又は水熱処理における加熱水蒸気によってゼオライト中の陽イオンとアルミニウム元素が脱離することによってゼオライト中のシラノール基が増加するためと推測されるが、水混合物のｐＨが７以下となり、有機ケイ素化合物の除去効率が高くなる。
【００５１】
上記プロトン型ゼオライトとしては、例えば、天然ゼオライトや合成ゼオライト中の水素イオン以外の全陽イオン（例えば、金属イオン、アンモニウムイオン等）のうちの少なくとも一部の陽イオンを水素イオンに置き換えたもの、水素イオンを多く含むように作製された合成ゼオライトなどが挙げられる。また、上記プロトン型ゼオライトは、例えば、天然ゼオライト又は合成ゼオライト中のナトリウムイオンなどの陽イオンをアンモニウムイオンにイオン交換した後、焼成する方法などを用いて作製することもできる。なお、一般的には、ゼオライト中の陽イオンを水素イオンに置き換えられたものをプロトン型ゼオライトと称されており、上記プロトン型ゼオライトは、ゼオライト中の少なくとも一部の陽イオンが水素イオンに置き換えられていればよく、ゼオライト中の全ての陽イオンが水素イオンに置き換えられているものには限定されない。
【００５２】
上記酸性白土としては、特に限定されず、各地で産出される酸性白土を用いることができる。例えば、新潟県産の酸性白土、山形県産の酸性白土などが挙げられる。上記酸性白土は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を用いてもよい。
【００５３】
上記活性白土は、上記酸性白土を酸処理することによって得られ、例えば、上記酸性白土を硫酸等の鉱酸でモンモリロナイトの基本構造の全部を破壊しない程度に酸処理することにより、ＭｇやＦｅの酸化物等の金属酸化物が溶出し、比表面積や細孔容積を増大させたものなどが挙げられる。上記活性白土は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を用いてもよい。
【００５４】
上記活性白土の比表面積（ＢＥＴ比表面積）は、特に限定されないが、中でも、５０〜６００ｍ2／ｇが好ましく、より好ましくは１００〜５００ｍ2／ｇ、さらに好ましくは２００〜４００ｍ2／ｇである。活性白土の比表面積が上記範囲内である場合、有機ケイ素化合物の除去性能により優れる傾向がある。
【００５５】
上記酸性白土及び上記活性白土は、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下（例えば、３〜７）であり、好ましくは７未満（例えば、３以上７未満）、より好ましくは３〜６．５、さらに好ましくは３．２〜５、特に好ましくは３．５〜４．７である。なお、酸性白土の水混合物（含有割合：５ｗｔ％）及び活性白土の水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、上記「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法」により、酸性白土又は活性白土を対象サンプルとして作製することができる。
【００５６】
上記活性白土の細孔径（平均細孔径）は、特に限定されないが、１０〜５００Åが好ましく、より好ましくは３０〜３００Å、さらに好ましくは４０〜２００Åである。活性白土の細孔径が上記範囲内である場合、有機ケイ素化合物の除去性能により優れる傾向がある。
【００５７】
上記珪藻土としては、特に限定されず、各地で産出される珪藻土を用いることができる。例えば、北海道稚内産の珪藻土（珪藻頁岩）、秋田県綴子産の珪藻土、岡山県蒜山産の珪藻土、大分県九重産の珪藻土、石川県能登産の珪藻土（珪藻泥岩）などのいずれの珪藻土であってもよい。上記珪藻土は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を用いてもよい。
【００５８】
上記珪藻土は、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下（例えば、３〜７）であり、好ましくは７未満（例えば、３以上７未満）、より好ましくは３〜６．７、さらに好ましくは３．２〜６．５、特に好ましくは３．５〜６．２である。なお、珪藻土の水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、上記「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法」により、珪藻土を対象サンプルとして作製することができる。
【００５９】
上記珪藻土の比表面積（ＢＥＴ比表面積）は、特に限定されないが、中でも、１０〜５００ｍ2／ｇが好ましく、より好ましくは３０〜３００ｍ2／ｇ、さらに好ましくは５０〜２００ｍ2／ｇである。珪藻土の比表面積が上記範囲内である場合、有機ケイ素化合物の除去性能により優れる傾向がある。有機ケイ素化合物がシロキサン化合物である場合、中でも、北海道稚内産の珪藻土が好ましい。
【００６０】
上記珪藻土の細孔径（平均細孔径）は、特に限定されないが、５〜４００Åが好ましく、より好ましくは１０〜２５０Å、さらに好ましくは２０〜１００Åである。珪藻土の細孔径が上記範囲内である場合、有機ケイ素化合物の除去性能により優れる傾向がある。
【００６１】
上記シリカゲルの比表面積（ＢＥＴ比表面積）は、特に限定されないが、５０〜１０００ｍ2／ｇが好ましく、より好ましくは１００〜５００ｍ2／ｇ、さらに好ましくは２００〜３５０ｍ2／ｇである。シリカゲルの比表面積が上記範囲内である場合、有機ケイ素化合物の除去性能により優れる傾向がある。
【００６２】
上記シリカゲルの細孔径（平均細孔径）は、特に限定されないが、５０〜７００Åが好ましく、より好ましくは１００〜５００Å、さらに好ましくは２００〜４００Åである。シリカゲルの細孔径が上記範囲内である場合、有機ケイ素化合物の除去性能により優れる傾向がある。
【００６３】
合成ゼオライト、酸性白土、活性白土、珪藻土以外の無機シリカ系多孔質材料（「その他の無機シリカ系多孔質材料」と称する場合がある）は、純水に混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下（例えば、３〜７）であり、好ましくは７未満（例えば、３以上７未満）、より好ましくは３〜６．５、さらに好ましくは３．５〜６．３、特に好ましくは４〜６である。なお、その他の無機シリカ系多孔質材料の水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、上記「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法」により、その他の無機シリカ系多孔質材料を対象サンプルとして作製することができる。
【００６４】
上記合成ゼオライト以外の無機シリカ系多孔質材料において、ＳｉＯ2の含有量は、特に限定されないが、無機シリカ系多孔質材料の総重量（１００重量％）に対して、５０重量％以上（例えば、５０〜１００重量％）であってもよく、好ましくは６０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上である。
【００６５】
上記無機シリカ系多孔質材料は、特に限定されないが、添着剤等が添着されていないことが好ましい。即ち、上記無機シリカ系多孔質材料には、添着剤等が添着された無機シリカ系多孔質材料が除かれることが好ましい。上記添着剤としては、酸性物質の添着剤や塩基性物質の添着剤、酸化剤などが挙げられる。例えば、酸性物質の添着剤を添着すると、上記無機シリカ系多孔質材料の骨格が変化したり、細孔が添着剤で埋まることで有機ケイ素化合物との反応性が低下するおそれがある。
【００６６】
本発明の吸着剤は、特に限定されないが、必要に応じて、上記水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料以外の吸着剤（他の吸着剤）を含んでいてもよい。即ち、本発明の吸着剤として、上記水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料とともに、他の吸着剤を用いてもよい。上記他の吸着剤としては、例えば、上記水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料以外の多孔質材料、その他のシリカ、粘土鉱物、活性炭、アルミナ、ガラスなどが挙げられる。吸着剤として上記他の吸着剤を併用することで、本発明の効果に加えて、他の吸着剤の効果を有するケミカルフィルタとすることもできる。
【００６７】
本発明の吸着剤中（全吸着剤中）の上記水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料の含有量は、特に限定されないが、有機ケイ素化合物の除去効率の観点から、吸着剤の総重量（１００重量％）に対して、１０重量％以上（例えば、１０〜１００重量％）が好ましく、より好ましくは３０重量％以上、さらに好ましくは５０重量％以上、特に好ましくは７０重量％以上である。
【００６８】
本発明の吸着剤は、有機ケイ素化合物をより高効率で除去できる観点から、中でも、水混合物のｐＨが７以下の無機シリカ系多孔質材料として、ゼオライト（特に、合成ゼオライト）、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、又は活性白土を、吸着剤の総重量（１００重量％）に対して１０重量％以上（例えば、１０〜１００重量％、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上）含有することが好ましい。なお、上記無機シリカ系多孔質材料として、ゼオライト（特に、合成ゼオライト）、珪藻土、シリカゲル、酸性白土、及び活性白土のうちの２以上を含む場合、上記含有量は、上記２以上の合計の含有量である。
【００６９】
本発明の吸着剤は、シラノール化合物をよりいっそう高効率で除去できる観点から、中でも、水混合物のｐＨが７以下の無機シリカ系多孔質材料として、ゼオライト（特に、合成ゼオライト）を、吸着剤の総重量（１００重量％）に対して、１０重量％以上（例えば、１０〜１００重量％、好ましくは５０重量％以上、より好ましくは７０重量％以上）含有することが好ましい。
【００７０】
ケミカルフィルタ（Ａ）は、水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたものであれば、特に限定されない。上記ケミカルフィルタとしては、例えば、フィルタ基材に本発明の吸着剤が付着（固着）されているケミカルフィルタが挙げられる。なお、本発明の吸着剤がバインダとしての機能も有するものである場合、バインダを用いずに吸着剤をフィルタ基材に付着させることもできるが、本発明の吸着剤はバインダを用いてフィルタ基材に付着されていることが好ましい。即ち、上記ケミカルフィルタは、フィルタ基材に、バインダを用いずに本発明の吸着剤が付着されている（あるいは、本発明の吸着剤のみが付着されている）ケミカルフィルタであってもよいが、フィルタ基材に本発明の吸着剤がバインダを用いて付着されているケミカルフィルタであることが好ましい。
【００７１】
本発明の吸着剤は、特に限定されないが、ペレット化されていてもよい。即ち、本発明の吸着剤は、ペレット化された吸着剤であってもよい。即ち、ケミカルフィルタ（Ａ）は、ペレット化された本発明の吸着剤を含んでもよい。上記ペレット化は、例えば、本発明の吸着剤の粉末を、上記バインダを用いて造粒して行うことができる。
【００７２】
（フィルタ基材）
上記フィルタ基材としては、特に限定されず、ケミカルフィルタのフィルタ基材として一般に用いられるものを使用できる。上記フィルタ基材としては、例えば、有機繊維や無機繊維等の繊維から構成される繊維状基材（織布あるいは不織布）、紙、ポリウレタンフォーム等から構成される発泡体、耐火性金属酸化物や耐火性無機物（例えば、アルミニウム等の金属、セラミックスなど）を使用したフィルタ基材などが挙げられる。上記繊維状基材の織布の形状は特に限定されず、例えば、メッシュ状に繊維を織ったものなどが挙げられる。中でも、上記フィルタ基材として、繊維状基材が好ましい。
【００７３】
上記繊維状基材における繊維としては、例えば、シリカアルミナ繊維、シリカ繊維、アルミナ繊維、ムライト繊維、ガラス繊維、ロックウール繊維、炭素繊維等の無機繊維；ポリエチレン繊維、ポリプロピレン繊維、ナイロン繊維、ポリエステル繊維（例えば、ポリエチレンテレフタレート繊維等）、ポリテトラフルオロエチレン繊維、ポリビニルアルコール繊維、アラミド繊維、パルプ繊維、レーヨン繊維等の有機繊維などが挙げられる。上記の中でも、ケミカルフィルタの強度を高める観点、及び繊維からのアウトガスなどによる汚染が少ない観点から、無機繊維が好ましく、より好ましくはガラス繊維である。即ち、上記フィルタ基材としては、ガラス繊維を用いた繊維状基材（ガラスクロス（ガラス布））が好ましい。上記繊維は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を組み合わせて使用してもよい。また、上記無機繊維及び上記有機繊維の形状は特に限定されない。
【００７４】
（バインダ）
上記バインダは、吸着剤のフィルタ基材への付着を促進させることや、吸着剤のペレット化に使用することができる。上記バインダとしては、特に限定されず、公知乃至慣用のフィルタ用（例えば、エアフィルタ用、ケミカルフィルタ用等）のバインダを用いることができる。上記バインダとしては、有機バインダであってもよいし、無機バインダであってもよい。上記バインダは、特に限定されないが、無機バインダであることが好ましい。上記バインダは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【００７５】
上記バインダは、酸性であってもよいし、塩基性であってもよいが、酸性であることが好ましい。酸性のバインダは、純水と混合させて得られる水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが７以下（例えば、３〜７）であり、好ましくは７未満（例えば、３以上７未満）、より好ましくは３〜６．８、さらに好ましくは３．５〜６．７、特に好ましくは４〜６．５である。なお、バインダの水混合物（含有割合：５ｗｔ％）は、上記「水混合物（含有割合：５ｗｔ％）の作製方法」により、バインダを対象サンプルとして作製することができる。なお、上記バインダがコロイダルシリカなど溶媒を含むバインダである場合、上記含有割合は、上記水混合物に対する、上記バインダ中の固形分の含有割合である。
【００７６】
上記有機バインダとしては、例えば、ポリエチレン系樹脂、ポリプロピレン系樹脂、メタクリル酸メチル等のアクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＰＥＴ等のポリエステル系樹脂、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、酢酸ビニル系樹脂、ポリビニルアルコール、カルボキシメチルセルロース等のセルロース、アラビヤゴムなどが挙げられる。上記有機バインダは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【００７７】
上記無機バインダとしては、上記無機シリカ系多孔質材料の表面を完全に覆わない粒子状のものが好ましく、例えば、ケイ酸ソーダ、シリカゾル、アルミナゾル、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイド状酸化スズ、コロイド状酸化チタンなどの無機酸化物粒子等が挙げられ、中でも、コロイダルシリカ、コロイダルアルミナ、コロイド状酸化スズ、コロイド状酸化チタン等のコロイド状の無機酸化物粒子などが好ましく挙げられる。中でも、コロイダルシリカが好ましい。上記無機バインダは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【００７８】
上記無機バインダの平均粒子径（一次粒子径）、比表面積（ＢＥＴ比表面積）、平均細孔径（直径）、全細孔容積などは、特に限定されない。
【００７９】
（ケミカルフィルタ（Ａ）の構造）
ケミカルフィルタ（Ａ）が有する構造は、特に限定されず、ハニカム構造、プリーツ構造、ペレット充填構造、三次元網目構造、シート包装構造などが挙げられる。これらの中でも、ハニカム構造、プリーツ構造、三次元網目構造が好ましく、圧力損失を抑制する観点から、ハニカム構造が特に好ましい。本発明の吸着剤として、ペレット化された吸着剤（ペレット）を用いる場合は、特に限定されないが、プリーツ構造、ペレット充填構造、又は三次元網目構造であることが好ましい。ケミカルフィルタ（Ａ）は、一種の構造のみを有していてもよいし、二種以上の構造を組み合わせて有していてもよい。
【００８０】
上記ハニカム構造には、いわゆる蜂の巣状の構造の他、例えば、断面が格子状、円形状、波形状、多角形状、不定形状、全部あるいは一部に曲面を有する形状などであって、流体（特に、空気）が構造体の要素となるセルを通過し得る構造が全て含まれる。
【００８１】
上記ハニカム構造としては、例えば、コルゲート加工によって成形されたコルゲート状のシートと平坦状のシートが交互に積層して得られる構造（コルゲート状ハニカム構造）、プリーツ形状のシートと平坦状のシートからなる構造であって、通気方向に対して、プリーツ形状のシートと直角に平坦状のシートを順に積層した構造などが挙げられる。
【００８２】
ハニカム構造を有するケミカルフィルタとしては、例えば、繊維状基材を用いたフィルタ基材がコルゲート状ハニカム構造を有するケミカルフィルタ、繊維状基材を用いたフィルタ基材が蜂の巣状の構造を有するケミカルフィルタ、アルミニウム等の金属製のフィルタ基材が蜂の巣状の構造を有するケミカルフィルタなどが挙げられる。
【００８３】
上記プリーツ構造には、例えば、限られたスペースの中でろ過面積を効率的に拡大することを目的として、波形あるいはＶ字型が連続するように加工されたジャバラ形状を有する構造が含まれる。
【００８４】
上記ペレット充填構造は、例えば、上記ペレット化された吸着剤を、流体（特に、気体）が内部を通過できる構造のケーシング内に充填した構造が挙げられる。また、吸着剤の粉末の粒径が、ケーシング内で保持できる程度に大きい粒径を有する場合は、上記ペレット充填構造の代わりに、ペレット化せず、粉末のままでもケーシング内に充填した構造とすることもできる。
【００８５】
上記三次元網目構造は、例えば、上記ポリウレタンフォーム等から構成される発泡体や、ガラス繊維（グラスウール等）やロックウール繊維、あるいは上記繊維状基材の繊維を立体的に加工して作製した網目構造体のフィルタ基材を有する構造、あるいは針状繊維化されたポリテトラフルオロエチレンなどが好ましく例示される。
【００８６】
上記シート包装構造は、例えば、不織布やＰＴＦＥなどのエアが通気するシートを任意の大きさの袋状に成型し、その内部に吸着剤を充填した構造等が挙げられる。また、吸着剤の粒径はシートの外に吸着剤の粒子が漏れないようにペレット化することもあるが、シート次第では粉末のまま使用することもできる。
【００８７】
（ケミカルフィルタ（Ａ）の製造方法）
ケミカルフィルタ（Ａ）の製造方法は、特に限定されず、公知乃至慣用の吸着剤を有するケミカルフィルタの製造方法を用いることができる。ケミカルフィルタ（Ａ）は、特に限定されないが、例えば、フィルタ基材に本発明の吸着剤を付着させる工程（吸着剤付着工程）を少なくとも有する。ケミカルフィルタ（Ａ）の製造方法は、特に限定されないが、上記吸着剤付着工程以外の工程（他の工程）を有していてもよい。また、上記フィルタ基材は、市販のフィルタ基材を購入してそのまま使用してもよい。
【００８８】
上記吸着剤付着工程において、本発明の吸着剤の付着は、例えば、上記フィルタ基材を、本発明の吸着剤、溶媒（例えば水など）、及び、必要に応じて上記バインダを含む懸濁液中に浸漬した後、懸濁液から取り出し、乾燥することにより行うことができる。上記懸濁液には、本発明の効果を損なわない範囲内で、沈降防止剤を含んでいてもよい。
【００８９】
本発明の吸着剤の付着は、他に、上記フィルタ基材に、上記溶媒と必要に応じて上記バインダを含む懸濁液中に浸漬した後、懸濁液から取り出し、乾燥し、その後、フィルタ基材表面に本発明の吸着剤を分散して付着させることにより行うこともできる。
【００９０】
本発明の吸着剤の付着は、他に、本発明の吸着剤と、上記溶媒と、必要に応じて上記バインダを含む混合溶液を、スプレー等を用いて上記フィルタ基材（特に、不織布）に塗布して付着させることにより行うこともできる。
【００９１】
本発明の吸着剤の付着は、他に、上記フィルタ基材に、本発明の吸着剤の粉末を造粒して製造したペレットを、接着剤等で付着させたり、フィルタ基材内部に充填したりして行うこともできる。本発明の吸着剤の粉末を造粒する際には、必要に応じて上記バインダを混合してもよい。本発明の吸着剤の粉末、上記バインダ及び溶媒（好ましくは水）を適量含んだ状態で混合すると、粘土状の粘性と可塑性を示すようになり、造粒が可能となる。
【００９２】
本発明の吸着剤の付着は、他に、針状繊維化されたポリテトラフルオロエチレン樹脂を用い、該針状繊維に本発明の吸着剤を捕捉させて担持させることにより行うこともできる。
【００９３】
本発明の吸着剤は、他に、本発明の吸着剤がナノファイバー中に含有される状態で付着していてもよい。上記ナノファイバーとしては、公知乃至慣用のナノファイバーを用いることができる。また、上記ナノファイバーは、公知乃至慣用のナノファイバーの製造方法により作製することもできる。上記ナノファイバーの製造方法としては、例えば、エレクトロスピニング（ＥＳ）法（電解紡糸、静電紡糸）、メルトブロー法、複合溶融紡糸法などが挙げられる。上記ＥＳ法は、本発明の吸着剤をポリマー溶液に分散させた懸濁液に高電圧を与え、アース表面（例えば、表面が０電位のフィルタ基材（例えば、不織布など））にスプレーして行う。上記ＥＳ法では、懸濁液を高電圧でスプレーした際に、本発明の吸着剤を含有したナノファイバーが形成される。
【００９４】
また、吸着剤が付着しにくいフィルタ基材（例えば、金属製のフィルタ基材等）を用いたケミカルフィルタの場合、本発明の吸着剤の付着は、接着剤を用いてフィルタ基材に担持させて行ってもよい。
【００９５】
なお、上記プリーツ構造のケミカルフィルタにおいて、本発明の吸着剤の付着は、例えば２枚の不織布製のフィルタ基材の間に、本発明の吸着剤の粉末やペレット化された吸着剤を、接着剤等を用いて挟み込むことにより行うこともできる。
【００９６】
上記他の工程としては、例えば、フィルタ基材を加工する工程（フィルタ基材加工工程）などが挙げられる。なお、上記フィルタ基材加工工程と上記吸着剤付着工程の順序は、特に限定されないが、作業性の観点から、フィルタ基材加工工程、吸着剤付着工程の順が好ましい。
【００９７】
上記フィルタ基材加工工程としては、例えば、上述したように、フィルタ基材にコルゲート加工を施す工程、ハニカム構造を形成する工程、フィルタ基材に細孔を設ける工程などが挙げられる。上記フィルタ基材加工工程は、１工程のみを行ってもよいし、同一又は異なる２以上の工程を行ってもよい。上記フィルタ基材加工工程を２工程以上行う場合も、その順序は特に限定されない。
【００９８】
また、ケミカルフィルタ（Ａ）は、抄紙法により製造されたケミカルフィルタであってもよい。上記抄紙法により製造されたケミカルフィルタは、例えば、繊維状基材及び本発明の吸着剤を少なくとも有するケミカルフィルタであって、上記繊維状基材を構成する繊維及び本発明の吸着剤を含有する懸濁液に凝集剤を加えることにより生成される物質（フロック）を湿式抄紙法でシート化した後、熱処理して得られる。
【００９９】
また、ケミカルフィルタ（Ａ）は、セラミック型のケミカルフィルタであってもよい。上記セラミック型のケミカルフィルタは、公知乃至慣用のセラミックス材料の加工方法により作製することができる。例えば、本発明の吸着剤を、セラミックス原料とともに成形及び焼成して製造することができる。具体的には、例えば、本発明の吸着剤、上記バインダ、造孔材、及び必要に応じて他のセラミックス原料を秤量及び混練を行って坏土を作製した後、この坏土をスクリュー式押出機等の押出機により押出加工し、成形体を作製する。得られた成形体を乾燥及び焼成して、多孔質のセラミック型のケミカルフィルタが得られる。上記セラミック型のケミカルフィルタは、特に限定されないが、ハニカム構造であるセラミック型のケミカルフィルタが好ましい。上記セラミック型のケミカルフィルタは、適宜、端面をダイヤモンドカッター、ダイヤモンドソー等の研削工具で、所定の長さに加工することもできる。
【０１００】
ケミカルフィルタ（Ａ）は、上記の中でも、表面に本発明の吸着剤が無機バインダにより付着された波形シートが、薄板シートを介して複数個積層されたハニカム構造を有するケミカルフィルタが特に好ましい。
【０１０１】
特に限定されないが、ケミカルフィルタ（Ａ）において、添着剤（例えば、酸性物質、塩基性物質、酸化剤等）が添着されている吸着剤を備えていないことが好ましい。即ち、ケミカルフィルタ（Ａ）には、添着剤が添着されている吸着剤を備えたものが除かれることが好ましい。
【０１０２】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、ケミカルフィルタ（Ａ）は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０３】
［ケミカルフィルタ（Ｂ）］
ケミカルフィルタ（Ｂ）は、少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタである。上記エステルとしては、例えば、揮発性のエステルや常温常圧で気体状のエステルが挙げられ、例えばＰＧＭＥＡ等がある。上記エステルの分解物としては、上記エステルを構成する酸とアルコール（例えば、ＰＧＭＥＡの場合は酢酸とポリエチレングリコールモノメチルエーテル）などが挙げられる。
【０１０４】
ケミカルフィルタ（Ｂ）としては、エステルを除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ１）（以下、「ケミカルフィルタ（Ｂ１）」と称する場合がある）、エステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ２）（以下、「ケミカルフィルタ（Ｂ２）」と称する場合がある）などが挙げられる。なお、ケミカルフィルタ（Ｂ１）とケミカルフィルタ（Ｂ２）は、同一のケミカルフィルタであってもよく、異なるケミカルフィルタであってもよい。
【０１０５】
ケミカルフィルタ（Ｂ）としては、例えば、吸着剤を有するフィルタなどが挙げられる。上記吸着剤としては、エステル又はエステルの分解物を除去できる公知乃至慣用の吸着剤が挙げられる。
【０１０６】
（吸着剤）
上記ケミカルフィルタ（Ｂ）に用いられる吸着剤としては、例えば、活性炭、上記無機シリカ系多孔質材料などが挙げられる。また、上記吸着剤は、酸性物質、塩基性物質等の添着剤が添着されていてもよく、添着剤が添着されていなくてもよい。上記吸着剤は、一種のみを使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１０７】
上記添着剤としての塩基性物質としては、例えば、エタノールアミン、ポリエチレンイミン、アニリン、Ｐ−アニシジン、スルファニル酸等のアミン系化合物、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸グアニジン、リン酸グアニジン、アミノグアニジン硫酸塩、５，５−ジメチルヒダントイン、ベンゾグアナミン、２，２−イミノジエタノール、２，２，２−ニトロトリエタノール、エタノールアミン塩酸塩、２−アミノエタノール、２，２−イミノジエタノール塩酸塩、ｐ−アミノ安息香酸、スルファニル酸ナトリウム、Ｌ−アルギニン、メチルアミン塩酸塩、セミカルバジド塩酸塩、ヒドラジン、ヒドロキノン、硫酸ヒドロキシルアミン、過マンガン酸塩、炭酸カリウム、炭酸水素カリウムなどが挙げられる。上記塩基性物質の添着剤は、一種のみを使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１０８】
上記添着剤としての酸性物質としては、例えば、硫酸銅（II）（ＣｕＳＯ4）、硫酸鉄（II）（ＦｅＳＯ4）、硫酸鉄（III）（Ｆｅ2（ＳＯ4）3）、硫酸アルミニウム（Ａｌ2（ＳＯ4）3）、硫酸水素カリウム（ＫＨＳＯ4）等の硫酸塩；硝酸鉄（III）（Ｆｅ（ＮＯ3）3）、硝酸銀（ＡｇＮＯ3）、硝酸アルミニウム（Ａｌ（ＮＯ3）3）、硝酸マンガン（II）(Ｍｎ（ＮＯ3）2）等の硝酸塩；硫酸、リン酸、ホスホン酸等の無機酸；クエン酸等の有機酸などが挙げられる。上記酸性物質の添着剤は、一種のみを使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１０９】
ケミカルフィルタ（Ｂ１）としては、公知乃至慣用のエステル等の有機物質の除去が可能なケミカルフィルタを用いることができる。ケミカルフィルタ（Ｂ１）に用いられる吸着剤としては、中でも、添着剤が添着されていない活性炭（無添着の活性炭）が好ましい。この場合、ケミカルフィルタ（Ｂ１）における吸着剤には、無添着の活性炭以外の吸着剤が一部（例えば、吸着剤全体に対して１０重量％以下、好ましくは５重量％以下）用いられていてもよい。
【０１１０】
ケミカルフィルタ（Ｂ１）における吸着剤が、無添着の活性炭を含む場合、吸着剤の総重量（１００重量％）に対する無添着の活性炭の含有量は、特に限定されないが、５０重量％以上が好ましく、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは９５重量％以上である。なお、上限は１００重量％であってもよい。
【０１１１】
ケミカルフィルタ（Ｂ２）としては、公知乃至慣用の少なくとも酸又はアルコールの除去が可能なケミカルフィルタを用いることができる。ケミカルフィルタ（Ｂ２）に用いられる吸着剤としては、中でも、酸を効率的に除去し、下流側への酸の流出を削減する観点から、塩基性物質が添着された活性炭が好ましい。また、アルコールを効率的に除去し、下流側へのアルコールの流出を削減する観点から、無添着の活性炭であることが特に好ましい。さらに、上記吸着剤は、酸及びアルコールの両方を効率的に除去し、これらの下流側への流出を削減できる観点からは、塩基性物質が添着された活性炭と、無添着の活性炭とを含むことが特に好ましい。なお、この場合、ケミカルフィルタ（Ｂ２）における吸着剤には、塩基性物質が添着された活性炭及び無添着の活性炭以外の吸着剤が一部（例えば、吸着剤全体に対して１０重量％以下、好ましくは５重量％以下）用いられていてもよい。また、上記塩基性物質が添着された活性炭における塩基性物質は、中でも、炭酸カリウムが好ましい。また、上記塩基性物質が添着された活性炭における塩基性物質の添着量は、特に限定されないが、添着された活性炭の総重量（１００重量％）に対して１〜２０重量％（好ましくは５〜１５重量％）が好ましい。
【０１１２】
ケミカルフィルタ（Ｂ２）における吸着剤が、塩基性物質が添着された活性炭及び無添着の活性炭を含む場合、吸着剤の総重量（１００重量％）に対する塩基性物質が添着された活性炭及び無添着の活性炭の含有量の合計は、特に限定されないが、５０重量％以上が好ましく、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは９５重量％以上である。なお、上限は１００重量％であってもよい。
【０１１３】
ケミカルフィルタ（Ｂ２）における吸着剤が、塩基性物質が添着された活性炭及び無添着の活性炭を含む場合、塩基性物質が添着された活性炭と無添着の活性炭の比率［前者：後者］（重量比）は、特に限定されないが、１０：９０〜９０：１０が好ましく、より好ましくは３０：７０〜７０：３０である。
【０１１４】
ケミカルフィルタ（Ｂ）における吸着剤は、特に限定されないが、ペレット化されていてもよい。即ち、上記吸着剤は、ペレット化された吸着剤であってもよい。即ち、ケミカルフィルタ（Ｂ）は、ペレット化された吸着剤を含んでもよい。上記ペレット化は、本発明の吸着剤のペレット化と同様の方法により行うことができる。
【０１１５】
ケミカルフィルタ（Ｂ）としては、例えば、フィルタ基材に上記吸着剤が付着（固着）されているケミカルフィルタが挙げられる。なお、上記吸着剤がバインダとしての機能も有するものである場合、バインダを用いずに吸着剤をフィルタ基材に付着させることもできるが、上記吸着剤はバインダを用いてフィルタ基材に付着されていることが好ましい。即ち、上記ケミカルフィルタ（Ｂ）は、フィルタ基材に、バインダを用いずに上記吸着剤が付着されている（あるいは、上記吸着剤のみが付着されている）ケミカルフィルタであってもよいが、フィルタ基材に上記吸着剤がバインダを用いて付着されているケミカルフィルタであることが好ましい。
【０１１６】
（フィルタ基材）
上記フィルタ基材としては、特に限定されず、ケミカルフィルタのフィルタ基材として一般に用いられるものを使用できる。上記フィルタ基材としては、例えば、上述のケミカルフィルタ（Ａ）におけるフィルタ基材として例示及び説明されたものが挙げられる。中でも、ケミカルフィルタ（Ｂ）におけるフィルタ基材として、発泡体（特に、ウレタンフォーム）が好ましい。上記フィルタ基材は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【０１１７】
（バインダ）
上記バインダとしては、特に限定されず、公知乃至慣用のフィルタ用（例えば、エアフィルタ用、ケミカルフィルタ用等）のバインダを用いることができる。上記バインダとしては、例えば、上述のケミカルフィルタ（Ａ）におけるバインダとして例示及び説明されたものが挙げられる。上記バインダは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【０１１８】
（ケミカルフィルタ（Ｂ）の構造）
ケミカルフィルタ（Ｂ）が有する構造としては、特に限定されず、例えば、上述のケミカルフィルタ（Ａ）が有していてもよい構造として例示及び説明されたものが挙げられる。これらの中でも、ハニカム構造、プリーツ構造、三次元網目構造が好ましく、除去性能及び通気性の観点から、三次元網目構造が特に好ましい。ケミカルフィルタ（Ｂ）は、一種の構造のみを有していてもよいし、二種以上の構造を組み合わせて有していてもよい。
【０１１９】
ケミカルフィルタ（Ｂ）は、公知乃至慣用の方法により製造してもよいし、市販品を購入してもよい。また、本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、ケミカルフィルタ（Ｂ）は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。例えば、ケミカルフィルタ（Ｂ）として、ケミカルフィルタ（Ｂ１）とケミカルフィルタ（Ｂ２）とを組み合わせて用いてもよい。
【０１２０】
［本発明の有機ケイ素化合物除去設備］
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、ケミカルフィルタ（Ａ）を有する。ケミカルフィルタ（Ａ）は、シラノール化合物に対しては、ケミカルフィルタ中に水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料の表面が存在することで固体酸として作用し、シラノール化合物の脱水縮合によりシラノール化合物を強固に吸着するため、シラノール化合物を効果的に除去できるものと推測される。また、ケミカルフィルタ（Ａ）は、シロキサン化合物に対しては、ケミカルフィルタ中に水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料がシロキサン化合物を強固に吸着するため、シロキサン化合物を効果的に除去できるものと推測される。なお、吸着剤として他の吸着剤を併用した場合であっても、ケミカルフィルタ内に水混合物のｐＨが７以下である無機シリカ系多孔質材料の表面が存在するため、有機ケイ素化合物を効果的に除去できるという効果を維持することができる。このため、ケミカルフィルタ（Ａ）を有する本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、有機ケイ素化合物を効率的に除去することができる。
【０１２１】
さらに、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、ケミカルフィルタ（Ａ）とともに、ケミカルフィルタ（Ｂ）を有する。これにより、流体中に有機ケイ素化合物とともにＰＧＭＥＡ等のエステルが含まれている場合であっても、ケミカルフィルタ（Ｂ）によりエステルが吸着除去され、及び／又はケミカルフィルタ（Ａ）により分解された酸やアルコール等のエステルの分解物をケミカルフィルタ（Ｂ）により吸着除去されるため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側にはエステル又はエステルの分解物の流出を起こりにくくすることができる。
【０１２２】
ケミカルフィルタ（Ｂ）は、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側に設けられていてもよいし、下流側に設けられていてもよいし、上流側と下流側の両方に設けられていてもよい。
【０１２３】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、ケミカルフィルタ（Ｂ１）は、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側に設けられていることが好ましい。この場合、流体中のエステルが上流側のケミカルフィルタ（Ｂ１）で除去されるため、下流側のケミカルフィルタ（Ａ）に流れ込む流体中のエステルの割合が低くなる。これにより、ケミカルフィルタ（Ａ）によりエステルが分解されて発生する酸等の汚染物質の量が少なくなるため、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側に流出する汚染物質の量が少なくなる。
【０１２４】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、ケミカルフィルタ（Ｂ２）は、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側に設けられていることが好ましい。この場合、流体中のエステルが上流側のケミカルフィルタ（Ａ）において分解されて酸又はアルコールがケミカルフィルタ（Ａ）の下流側に流出したとしても、下流側のケミカルフィルタ（Ｂ２）により酸やアルコール等のエステルの分解物が除去されるなるため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側に流出する汚染物質の量が少なくなる。
【０１２５】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、ケミカルフィルタ（Ａ）及びケミカルフィルタ（Ｂ）以外のケミカルフィルタ（「その他のケミカルフィルタ」と称する場合がある）を有していてもよい。上記その他のケミカルフィルタとしては、エステル以外の有機物質を除去するためのケミカルフィルタ（有機物質除去用ケミカルフィルタ）、塩基性物質を除去するためのケミカルフィルタ（塩基性物質除去用ケミカルフィルタ）などが挙げられる。流体中に、エステル以外の有機物質や塩基性物質が多く含まれている場合に、これらのその他のケミカルフィルタを組み合わせることによって、エステル以外の有機物質や塩基性物質を効率的に除去し、これらの有機ケイ素化合物除去設備の下流側への流出を抑制することができる。
【０１２６】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、中でも、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側にケミカルフィルタ（Ｂ１）が設けられている構成を少なくとも有することが好ましい。この場合、上述のように、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側に流出する汚染物質の量が少なくなる。
【０１２７】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、さらに、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側にケミカルフィルタ（Ｂ１）が設けられており、且つ、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側にケミカルフィルタ（Ｂ２）が設けられている構成を少なくとも有することが好ましい。即ち、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、上流側から、ケミカルフィルタ（Ｂ１）、ケミカルフィルタ（Ａ）、及びケミカルフィルタ（Ｂ２）がこの順に設けられている構成を少なくとも有することが好ましい。この場合、上記ケミカルフィルタ（Ｂ１）によって完全に除去されなかったエステルが流出した場合であっても、流体が流れ込む上記ケミカルフィルタ（Ａ）によって分解されたエステルの分解物やエステルが下流側に流れ込むことになるが、さらに下流側の上記ケミカルフィルタ（Ｂ２）により上記分解物又はエステルが除去されるため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側にエステル又はエステルの分解物がより流出しにくくなる。
【０１２８】
特に限定されないが、本発明の有機ケイ素化合物除去設備には、塩基性物質除去用ケミカルフィルタ（Ｃ）（単に、「ケミカルフィルタ（Ｃ）」と称する場合がある）が設けられていてもよい。半導体製造プロセスの露光工程では、ＨＭＤＳの加水分解により、ＴＭＳと同時にアンモニアも発生するため、上記露光工程の周辺の空気中にはアンモニアが存在する可能性が高い。このため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を上記露光工程の周辺で用いる場合は、アンモニア等の塩基性物質を除去するためのケミカルフィルタ（Ｃ）が設けられていることが好ましい。
【０１２９】
ケミカルフィルタ（Ｃ）としては、塩基性物質を除去できる公知乃至官能のケミカルフィルタが挙げられる。ケミカルフィルタ（Ｃ）としては、例えば、吸着剤やイオン交換樹脂を有するフィルタなどが挙げられる。上記吸着剤又はイオン交換樹脂としては、塩基性物質を除去できる公知乃至慣用の吸着剤又はイオン交換樹脂が挙げられる。
【０１３０】
（吸着剤）
上記ケミカルフィルタ（Ｃ）に用いられる吸着剤としては、例えば、活性炭や多孔質材料などが挙げられる。また、上記吸着剤は、酸性物質、塩基性物質等の添着剤が添着されていてもよく、添着剤が添着されていなくてもよい。上記吸着剤は、一種のみを使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１３１】
上記添着剤としては、上述のケミカルフィルタ（Ｂ）に用いられる吸着剤における添着剤として例示及び説明したものが挙げられる。中でも、酸性物質が添着された活性炭が好ましい。上記酸性物質としては、中でも、リン酸が好ましい。上記添着剤は、一種のみを使用してもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。また、この場合、ケミカルフィルタ（Ｃ）における吸着剤には、酸性物質が添着された活性炭以外の吸着剤が一部（例えば、吸着剤全体に対して１０重量％以下、好ましくは５重量％以下）用いられていてもよい。
【０１３２】
ケミカルフィルタ（Ｃ）における吸着剤が、酸性物質が添着された活性炭を含む場合、吸着剤の総重量（１００重量％）に対する酸性物質が添着された活性炭の含有量は、特に限定されないが、５０重量％以上が好ましく、より好ましくは７０重量％以上、さらに好ましくは９０重量％以上、特に好ましくは９５重量％以上である。なお、上限は１００重量％であってもよい。
【０１３３】
ケミカルフィルタ（Ｃ）における吸着剤は、特に限定されないが、ペレット化されていてもよい。即ち、上記吸着剤は、ペレット化された吸着剤であってもよい。即ち、ケミカルフィルタ（Ｃ）は、ペレット化された吸着剤を含んでもよい。上記ペレット化は、本発明の吸着剤のペレット化と同様の方法により行うことができる。
【０１３４】
ケミカルフィルタ（Ｃ）としては、例えば、フィルタ基材に上記吸着剤が付着（固着）されているケミカルフィルタが挙げられる。なお、上記吸着剤がバインダとしての機能も有するものである場合、バインダを用いずに吸着剤をフィルタ基材に付着させることもできるが、上記吸着剤はバインダを用いてフィルタ基材に付着されていることが好ましい。即ち、上記ケミカルフィルタ（Ｃ）は、フィルタ基材に、バインダを用いずに上記吸着剤が付着されている（あるいは、上記吸着剤のみが付着されている）ケミカルフィルタであってもよいが、フィルタ基材に上記吸着剤がバインダを用いて付着されているケミカルフィルタであることが好ましい。
【０１３５】
（フィルタ基材）
上記フィルタ基材としては、特に限定されず、ケミカルフィルタのフィルタ基材として一般に用いられるものを使用できる。上記フィルタ基材としては、例えば、上述のケミカルフィルタ（Ａ）におけるフィルタ基材として例示及び説明されたものが挙げられる。中でも、ケミカルフィルタ（Ｃ）におけるフィルタ基材として、発泡体（特に、ウレタンフォーム）が好ましい。上記フィルタ基材は、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【０１３６】
（バインダ）
上記バインダとしては、特に限定されず、公知乃至慣用のフィルタ用（例えば、エアフィルタ用、ケミカルフィルタ用等）のバインダを用いることができる。上記バインダとしては、例えば、上述のケミカルフィルタ（Ａ）におけるバインダとして例示及び説明されたものが挙げられる。上記バインダは、一種のみを使用してもよいし、二種以上を使用してもよい。
【０１３７】
（ケミカルフィルタ（Ｃ）の構造）
ケミカルフィルタ（Ｃ）が有する構造としては、特に限定されず、例えば、上述のケミカルフィルタ（Ａ）が有していてもよい構造として例示及び説明されたものが挙げられる。これらの中でも、ハニカム構造、プリーツ構造、三次元網目構造が好ましく、除去性能及び通気性の観点から、三次元網目構造が特に好ましい。ケミカルフィルタ（Ｃ）は、一種の構造のみを有していてもよいし、二種以上の構造を組み合わせて有していてもよい。
【０１３８】
ケミカルフィルタ（Ｃ）は、公知乃至慣用の方法により製造してもよいし、市販品を購入してもよい。また、本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、ケミカルフィルタ（Ｃ）は、一種のみを用いてもよいし、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１３９】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備における上記ケミカルフィルタ（Ｃ）の位置は、特に限定されないが、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側であることが好ましい。流体中に塩基性物質が含まれている場合、ケミカルフィルタ（Ａ）の吸着剤として用いられている水混合物のｐＨが７以下の無機シリカ系多孔質材料中の酸点が、塩基性物質との中和反応により消失する傾向がある。このため、塩基性物質は、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側で除去することが好ましい。
【０１４０】
また、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流側にケミカルフィルタ（Ｂ）が設けられている場合、上記ケミカルフィルタ（Ｃ）は、上記ケミカルフィルタ（Ｂ）の上流側に設けられていることが好ましい。流体中に塩基性物質が含まれている場合、ケミカルフィルタ（Ｂ）が塩基性物質を除去することにより、ケミカルフィルタ（Ｂ）のエステル又はエステルの分解物の除去能が低下し、その結果エステル又はエステルの分解物の下流側への流出を削減しにくくなる。このため、塩基性物質は、ケミカルフィルタ（Ｂ）の上流側で除去することが好ましい。
【０１４１】
従って、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、上流側から、ケミカルフィルタ（Ｂ１）及びケミカルフィルタ（Ａ）がこの順に設けられている構成を有することが好ましく、上流側から、ケミカルフィルタ（Ｂ１）、ケミカルフィルタ（Ａ）、及びケミカルフィルタ（Ｂ２）がこの順に設けられている構成を有することがより好ましい。
【０１４２】
また、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、下記（ｉ）〜（iii）の構成のうちの少なくとも一つの構成を有することが特に好ましい。なお、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、下記（ｉ）〜（iii）の構成のうちの二以上の構成を有していてもよい。
（ｉ）上流側から、ケミカルフィルタ（Ｃ）、ケミカルフィルタ（Ｂ１）、ケミカルフィルタ（Ａ）、及びケミカルフィルタ（Ｂ）（特に、ケミカルフィルタ（Ｂ２））がこの順に設けられている構成
（ii）上流側から、ケミカルフィルタ（Ｂ１）、ケミカルフィルタ（Ａ）、及びケミカルフィルタ（Ｂ２）がこの順に設けられている構成
（iii）上流側から、ケミカルフィルタ（Ｂ１）、ケミカルフィルタ（Ａ）、及び有機物質除去用ケミカルフィルタがこの順に設けられている構成
【０１４３】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備が上記（ｉ）の構成を有する場合、有機ケイ素化合物及びエステルを含む流体がさらに塩基性物質を含んでいたとしても、ケミカルフィルタ（Ｃ）によりアンモニア等の塩基性物質が除去されるため、下流側のケミカルフィルタ（Ｂ１）のエステル除去能が低下しにくい。また、下流側のケミカルフィルタ（Ａ）にも塩基性物質が流れ込みにくくなり、無機シリカ系多孔質材料の酸点や細孔がつぶされにくくなるため、ケミカルフィルタ（Ａ）の有機ケイ素化合物の除去能が低下しにくい。さらに、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側のケミカルフィルタ（Ｂ）により、わずかに流れ込むエステル又はエステルの分解物も除去される。このため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側には、有機ケイ素化合物に加えて、エステル又はエステルの分解物である酸やアルコールが流出しにくい。さらに、ケミカルフィルタ（Ａ）における無機シリカ系多孔質材料は、塩基性物質による除去能の低下が起こりにくいため、ケミカルフィルタ（Ａ）の有機ケイ素化合物除去能が低下しにくく、フィルタ寿命が長持ちする。
【０１４４】
上記（ii）の構成は、上記（ｉ）の構成からケミカルフィルタ（Ｃ）を除いた構成である。流体中にアンモニアがほとんど存在しない場合はケミカルフィルタ（Ｃ）を設けなくてもよい。従って、この場合も、上記（ｉ）の構成を有する場合と同じく、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側には、有機ケイ素化合物に加えて、エステル又はエステルの分解物である酸やアルコールが流出しにくい。
【０１４５】
上記（iii）の構成は、上記（ii）の構成におけるケミカルフィルタ（Ｂ２）を有機物質除去用ケミカルフィルタに置換した構成である。上記（ｉ）の構成及び（ii）の構成とは異なり、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側にケミカルフィルタ（Ｂ２）ではなく有機物質除去用ケミカルフィルタが設けられている。流体中のエステルがケミカルフィルタ（Ｂ１）で十分に除去される場合には、ケミカルフィルタ（Ａ）の下流側にケミカルフィルタ（Ｂ２）を設けることは必須ではない。代わりに、有機物質除去用ケミカルフィルタを設けることにより、流体中に含まれ得る他の有機物質や、上流のケミカルフィルタから流出する有機物質を除去できるため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側に汚染物質となり得る有機物質の流出も起こりにくくすることができる。このため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備の下流側には、有機ケイ素化合物に加えて、エステル又はエステルの分解物である酸やアルコール、並びに他の有機物質が流出しにくい。なお、上記（iii）の構成において、有機物質除去用ケミカルフィルタとしては、例えば、上記ケミカルフィルタ（Ｂ１）を用いることができる。
【０１４６】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、有機ケイ素化合物を含む流体が各ケミカルフィルタ（ケミカルフィルタ（Ａ）、ケミカルフィルタ（Ｂ）等）を通過するような構成であれば特に限定されない。従って、本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、各ケミカルフィルタ（例えば、ケミカルフィルタ（Ａ）、ケミカルフィルタ（Ｂ）等）は、一部又は全部が隔離して配置されていてもよいし、一部又は全部が積層して配置されていてもよい。一部又は全部が隔離して配置されている場合、隔離の間隔は特に限定されない。一部又は全部が積層して配置されている例としては、例えば、後述の、一部又は全部のケミカルフィルタがまとめて枠入れされたケミカルフィルタ（パネル型フィルタ、セル型フィルタ、配管用ケミカルフィルタ等）などが挙げられる。一部又は全部が隔離して配置されている例としては、例えば、一部又は全部のケミカルフィルタがそれぞれで枠入れされたケミカルフィルタであり、それぞれの枠入れされたケミカルフィルタが一つの長い流路に隔離して配置されている装置などが挙げられる。
【０１４７】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備の使用方法としては、例えば、通気ファンなどの動力を用いて、ケミカルフィルタ（Ａ）及びケミカルフィルタ（Ｂ）を備えた装置の内部へ、除去対象の物質を含む空気を強制的に導入し、その除去対象の物質を除去する通気法の他に、ケミカルフィルタ（Ａ）及びケミカルフィルタ（Ｂ）を備えた装置の内部へ動力を用いて空気を導入するのではなく、自然拡散や自然対流のみの接触で除去対象の物質の除去を行う静置法が挙げられる。即ち、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、通気法あるいは静置法のいずれでも使用することができる。上記通気法を用いた有機ケイ素化合物除去設備としては、例えば、通気ファン（例えば、空気を取り込む装置、空気を排出する装置など）とケミカルフィルタ（Ａ）とケミカルフィルタ（Ｂ）とが一体なったユニット（「ファンフィルタユニット（ＦＦＵ）」と称する場合がある）が挙げられる。また、上記ＦＦＵは、天井やクリーンブースに取りつけたり、ダクトの途中に設けたりすることができる。
【０１４８】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、各ケミカルフィルタ（ケミカルフィルタ（Ａ）、ケミカルフィルタ（Ｂ）等）は、それぞれ、枠入れされた状態のケミカルフィルタ（枠入れされたケミカルフィルタ）であってもよい。また、本発明の有機ケイ素化合物除去設備における全てのケミカルフィルタが枠入れされたケミカルフィルタであってもよいし、一部のケミカルフィルタが枠入れされたケミカルフィルタであってもよい。また、ケミカルフィルタ毎に枠入れされていてもよいし、一部又は全部のケミカルフィルタがまとめて一つに枠入れされていてもよい。
【０１４９】
上記枠入れされたケミカルフィルタは、例えば、フィルタ基材に吸着剤が付着しているケミカルフィルタ（濾材）を枠に入れて得られる。上記枠入れされたケミカルフィルタとしては、例えば、パネル型フィルタ、セル型フィルタ、配管用ケミカルフィルタなどが挙げられる。なお、上記濾材及び上記枠入れされたケミカルフィルタの両方が本明細書におけるケミカルフィルタに相当する。
【０１５０】
上記パネル型フィルタとしては、例えば、額縁のように、板状の濾材の縁を枠にはめ込んだケミカルフィルタが挙げられる。上記パネル型フィルタは、一般的に、板状の濾材の厚み方向に有機ケイ素化合物を含む流体を通過させるように使用される。枠の形状は、特に限定されず、使用態様によって適宜選択することができる。上記枠の形状としては、例えば、多角形状（例えば、三角形状、四角形状、六角形状、額縁形状等）、円形状、楕円形状、多角形の一部又は全部の角が丸められた形状、これらの形状を組み合わせた形状などが挙げられる。また、上記板状の濾材は、１枚のみを用いてもよいし、複数の濾材を重ねたものを用いてもよい。
【０１５１】
上記セル型フィルタとしては、例えば、六面体形状（立方体、直方体等）等のセルの内部に、有機ケイ素化合物を含む流体が濾材を通過するように濾材が配置されたフィルタが挙げられる。上記セル型フィルタとしては、例えば、濾材が、連続したＶ字型となるように一連の折り曲げ部を有し、該折り曲げ部が通気方向と対向するように配置されているケミカルフィルタが挙げられる。なお、上記セル型フィルタは、上記の各折り曲げ部が切断された状態、即ち複数の濾材がＶ字構造となるように、屏風状に配置したケミカルフィルタであってもよい。なお、濾材をＶ字構造となるように配置したセル型フィルタでは、有機ケイ素化合物を含む流体が、Ｖ字構造となるように配置されている濾材の厚み方向に通過するように配置されている。
【０１５２】
上記配管用ケミカルフィルタとしては、例えば、筒状（例えば、円筒状、角筒状等）等の配管の内部の一部に濾材が詰められたケミカルフィルタが挙げられる。なお、濾材が詰められている部分においては、有機ケイ素化合物を含む流体全てが濾材を通過するように、筒状の配管の断面の全面に濾材が詰められていることが好ましい。上記配管用ケミカルフィルタは、圧力配管中に好ましく用いることができる。
【０１５３】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備において、各ケミカルフィルタが隔離して配置されている場合、各ケミカルフィルタが設置されている環境は同じであってもよいし、それぞれで異なっていてもよい。
【０１５４】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、中でも、半導体製造プロセス周辺に用いられることが好ましい観点から、配管用ケミカルフィルタ（配管用の除去設備）であることが好ましい。より具体的には、少なくともケミカルフィルタ（Ａ）及びケミカルフィルタ（Ｂ）が濾材として１つの筒状の配管（１つのユニット）の内部に詰められたケミカルフィルタ（除去設備）であることが好ましい。本発明の有機ケイ素化合物除去設備、特に、上記（ｉ）〜（iii）の構成のうちの少なくともいずれかの構成を有する構成（特に、いずれか１つの構成）で各ケミカルフィルタが濾材として１つの筒状の配管（１つのユニット）の内部に詰められたケミカルフィルタ（除去設備）であることが好ましい。
【０１５５】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備が配管用ケミカルフィルタ（配管用の除去設備）である場合、ケミカルフィルタ（Ａ）及びケミカルフィルタ（Ｂ）のうちの一方がハニカム構造であり、他方が三次元網目構造であることが好ましく、ケミカルフィルタ（Ａ）はハニカム構造であり、且つ、ケミカルフィルタ（Ｂ）は三次元網目構造であることがより好ましい。配管用ケミカルフィルタでは、圧力損失が大きくなりやすいため、ハニカム構造の濾材を用いることが好ましい。流体をユニット内で断面方向に広がりやすくするために、上記配管用ケミカルフィルタの配管（ユニット）において、流体の入り口は、配管用ケミカルフィルタに繋がるラインの太さから配管の太さまで徐々に広がる構造をしており、出口は、配管の太さからラインの太さまで徐々に狭くなる構造をしているものが知られている。しかしながら、このような構造の配管用ケミカルフィルタであっても、筒状のユニットの断面の全面にハニカム構造のケミカルフィルタ（特に、濾材）が詰められていても、ユニットの入り口から出口まで最短距離で流体が流れるため、ハニカム構造の濾材の一部のみしか流体が通過しない。そうすると、濾材の一部のみが消費されるため、流体が通過しない部分が全く消費されていなくても濾材を新品に取り替えなければならず、その結果濾材としての寿命が短くなる。そこで、ハニカム構造のケミカルフィルタに加えて三次元網目構造のケミカルフィルタを用いることにより、配管内で流体が三次元網目構造のケミカルフィルタに衝突することにより該ケミカルフィルタの上流及び下流（特に、上流）で乱流が生じると推測されるが、流体がハニカム構造のケミカルフィルタの全体に行き渡るようになり、物質の除去がハニカム構造のケミカルフィルタの全体で行われ、その結果除去量が増え、ハニカム構造のケミカルフィルタの寿命がより長くなるという効果が得られる。なお、このような効果は、配管用ケミカルフィルタ以外でも得られるが、スペースが限られており流体が拡散しにくい配管用ケミカルフィルタにおいて特に有用である。例えば、ハニカム構造のケミカルフィルタと三次元網目構造のケミカルフィルタの間の距離が短いほど、例えば積層されている場合、配管内の断面方向に流体が広がりにくい。しかしながら、ケミカルフィルタ（Ａ）及びケミカルフィルタ（Ｂ）のうちの一方がハニカム構造であり他方が三次元網目構造であると、両ケミカルフィルタが積層されている場合であっても上記効果が得られるため、特に有用である。また、ケミカルフィルタ（Ａ）は、有機ケイ素化合物を除去する際に有機ケイ素化合物を多量化せずに除去可能であるため、吸着剤周辺の有機ケイ素化合物の濃度が低くても除去効率が優れる。このため、ケミカルフィルタ（Ａ）は、圧力損失を少なくすることを重視して、ハニカム構造であることが好ましい。
【０１５６】
配管用ケミカルフィルタにおけるケミカルフィルタのハニカム構造は、上記コルゲート状ハニカム構造をコルゲート形状が見える方向が通過方向となるように打ち抜いた濾材であってもよいし、コルゲート状のシートと平坦状のシートが積層されたシートを丸めた濾材であってもよい。上記丸めた濾材は、コルゲート状のシートが内向きとなるように丸められていてもよいが、濾材のクッション性を向上させ、配管内への設置のしやすさ及びリーク防止性（濾材と配管との隙間を流体が通過することを防止する特性）の観点から、外向きとなるように丸められていてもよい。また、上記打ち抜いた濾材を用いた場合も、濾材のクッション性が向上し、配管内への設置のしやすさ及びリーク防止性が向上する。
【０１５７】
配管用ケミカルフィルタにおいて、ハニカム構造のケミカルフィルタは、上流側と下流側の両方に三次元網目構造のケミカルフィルタを有することが好ましい。即ち、配管用ケミカルフィルタ（配管用除去設備）は、上流側から、三次元網目構造のケミカルフィルタ、ハニカム構造のケミカルフィルタ、及び三次元網目構造のケミカルフィルタをこの順に有することが好ましい。この構成においては、流体の乱流がより起こりやすく、ハニカム構造のケミカルフィルタ全体に流体がより行き渡りやすくなる。特に、上記ハニカム構造のケミカルフィルタがケミカルフィルタ（Ａ）であり、上記三次元網目構造のケミカルフィルタのうち少なくとも１つがケミカルフィルタ（Ｂ）であることが好ましい。従って、上記（ｉ）〜（iii）の構成においては、ケミカルフィルタ（Ａ）がハニカム構造であり、それ以外のケミカルフィルタが三次元網目構造であることが好ましい。
【０１５８】
配管用ケミカルフィルタにおいて、各ケミカルフィルタ（濾材）は、通気性の袋体（メッシュコップ、不織布等）に収納されていることが好ましい。この場合、リーク防止性が優れ、吸着剤の脱落による下流側への汚染を防ぐことができる。また、各ケミカルフィルタは、それぞれが袋体に収納されていてもよいし、複数のケミカルフィルタが一つの袋体に収納されていてもよい。
【０１５９】
［流体浄化方法］
さらに、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を用いて流体中の有機ケイ素化合物を除去することによって、流体を浄化することができる。このように、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を用いて流体中の有機ケイ素化合物を除去して流体を浄化する方法を、「本発明の流体浄化方法」と称する場合がある。このため、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、流体中（例えば、空気中）の有機ケイ素化合物を除去するため適宜な場所に設置できる。例えば、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、クリーンルーム内の設備（特に、露光設備の内部設備、塗布現像設備の内部設備、半導体チップの切削加工工程周辺の設備等の半導体製造工程周辺の設備）、磁気ディスク記憶装置内部の設備（例えば、ＨＤＤ内部の設備）、液晶ディスプレイの製造工程周辺の設備、下水処理場の設備、埋め立て地の設備など、有機ケイ素化合物の除去が求められている用途として、特に好ましく用いることができる。
【０１６０】
上記クリーンルーム（例えば、ガス状汚染物質が制御されたクリーンルーム、特に、半導体の製造工場のクリーンルームなど）では、シラノール化合物、シロキサン化合物等の様々なガス状有機化合物が存在している。シラノール化合物やシロキサン化合物は、半導体のシリコンウエハ表面や液晶ガラス基板表面に吸着し、これら製品に不具合を生じさせることがある。また、上記レーザー加工装置周辺では、シラノール化合物、シロキサン化合物等のガス状有機化合物が存在している場合、レーザー光がガス状有機化合物に衝突して散乱し、ガス状有機化合物がレーザー照射の妨げとなったり、レーザーの光学系、特にレンズ表面に付着してレーザー照射の障害となるため、レーザー加工に不具合が生じたり、被加工物の表面に付着し、被加工物を汚染することがある。また、上記下水処理場において、消化槽から発生する消化ガスには、シャンプーや化粧品に含まれるシリコーンオイルに起因する微量のシラノール化合物やシロキサン化合物が含まれている。さらに、上記埋め立て地においては、埋め立てに使用する泥（活性汚泥など）中のバイオガスに含まれるシロキサン化合物やシラノール化合物が問題となることがあった。従って、本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、このような用途の流体浄化（特に、空気浄化）に特に好ましく使用することができる。
【０１６１】
また、ガスセンサ、反応触媒等の有機ケイ素化合物による被毒の回避が求められる用途にも好ましく使用することができる。その他にも、各種分析装置の周辺、ガス供給ライン、細胞再生加工が行われる周辺、微細孔加工が行われる周辺、原子力プラント等にも用いることができる。また、有機ケイ素化合物は、燃料電池の起電力を低下させるおそれがあるため、燃料電池の製造工程等でも好ましく用いることができる。さらに、有機ケイ素化合物は、ガスタービン、ボイラーのバーナーや、熱交換器等に堆積して効率を低下させたり、不調や故障の発生要因となるおそれがあるため、このような場所で用いることもできる。
【０１６２】
上記クリーンルーム内の有機ケイ素化合物除去設備は、半導体製造装置用の有機ケイ素化合物除去設備として使用されることが好ましい。中でも、半導体製造プロセスの露光工程で用いる露光装置の内部用の有機ケイ素化合物除去設備、塗布現像装置の内部用の有機ケイ素化合物除去設備であることが好ましい。半導体製造プロセスの露光工程で用いる露光装置の内部、あるいは塗布現像装置（コーターデベロッパー）その他において、ＴＭＳが発生することがあり、浮遊しているＴＭＳはレンズ等に結合して曇りの原因となり、露光障害等を引き起こすおそれがある。また、上記露光工程の空気中に環状シロキサン化合物が存在する場合、環状シロキサン化合物がウエハ表面に付着すると半導体の特性を変えてしまい、低濃度でも製品歩留まりを低下させるおそれがある。本発明の有機ケイ素化合物除去設備を半導体製造装置の内部に用いることで、本発明の半導体製造設備とすることができる。また、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を上記露光装置の内部や、塗布現像装置に用いることで、本発明の露光設備、あるいは本発明の塗布現像設備とすることができる。
【０１６３】
［半導体製造設備］
本発明の半導体製造設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を備えている。上記半導体製造設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を有する半導体製造設備であれば特に限定されない。本発明の半導体製造設備によれば、内部ケミカルフィルタとして、本発明の吸着剤を用いたケミカルフィルタ（Ａ）が用いられているため、活性炭を吸着剤とする従来のケミカルフィルタを用いた半導体製造装置と比較して、流体中（特に、空気中）の有機ケイ素化合物を効率よく除去でき、さらに、エステルやエステルの分解物の流出も抑制できる。特に、シラノール化合物の除去効率は短時間で低下することはなく、活性炭のようにシラノール化合物を放出してマイナス効率（フィルタ上流よりも下流側の方が高濃度）になることがない。また、シラノール化合物を二量化せずに吸着できるので、流体中（特に、空気中）の有機ケイ素化合物が低濃度であっても効率よく除去できる。そのため、流体中（特に、空気中）のシラノール化合物に起因する露光障害等を顕著に抑制できる。
【０１６４】
［露光設備、塗布現像設備］
本発明の露光設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を備えている。上記露光設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を有する露光設備であれば特に限定されない。また、本発明の塗布現像設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を備えている。上記塗布現像設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を有する塗布現像設備であれば特に限定されない。本発明の露光設備及び本発明の塗布現像設備によれば、内部ケミカルフィルタとして、本発明の吸着剤を用いたケミカルフィルタ（Ａ）が用いられているため、活性炭を吸着剤とする従来のケミカルフィルタを用いた露光装置及び塗布現像装置と比較して、流体中（特に、空気中）の有機ケイ素化合物を効率よく除去でき、さらに、エステルやエステルの分解物の流出も抑制できる。特に、シラノール化合物の除去効率は短時間で低下することはなく、活性炭のようにＴＭＳを放出してマイナス効率（フィルタ上流よりも下流側の方が高濃度）になることがない。また、シラノール化合物を二量化せずに吸着できるので、流体中（特に、空気中）のシラノール化合物が低濃度であっても効率よく除去できる。そのため、流体中（特に、空気中）のシラノール化合物に起因する露光障害等を顕著に抑制できる。
【０１６５】
本発明の有機ケイ素化合物除去設備は、レーザー加工装置用の有機ケイ素化合物除去設備として使用されることが好ましい。レーザー加工装置の内部、あるいはその周辺において有機ケイ素有機化合物が発生することがあり、レーザー光が有機ケイ素化合物に衝突して散乱することによってレーザー照射が妨げとなったり、レーザーの光学系、特にレンズ表面に付着してレーザー照射の障害となるため、レーザー加工に不具合が生じたり、被加工物の表面に付着し、被加工物を汚染することがある。また、本発明の有機ケイ素化合物除去設備をレーザー加工装置の内部に用いることで、本発明のレーザー加工設備とすることができる。
【０１６６】
［レーザー加工設備］
本発明のレーザー加工設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を備えている。上記レーザー加工設備は、本発明の有機ケイ素化合物除去設備を有するレーザー加工設備であれば特に限定されない。本発明のレーザー加工設備によれば、内部ケミカルフィルタとして、本発明の吸着剤を用いたケミカルフィルタ（Ａ）が用いられているため、活性炭を吸着剤とする従来のケミカルフィルタを用いたレーザー加工装置と比較して、流体中（特に、空気中）のシラノール化合物やシロキサン化合物を効率よく除去でき、さらに、エステルやエステルの分解物の流出も抑制できる。特に、シラノール化合物の除去効率は短時間で低下することはなく、活性炭のようにＴＭＳを放出してマイナス効率（フィルタ上流よりも下流側の方が高濃度）になることがない。また、シラノール化合物を二量化せずに吸着できるので、流体中（特に、空気中）のシラノール化合物が低濃度であっても効率よく除去できる。そのため、流体中（特に、空気中）のシラノール化合物に起因するレーザー加工の不具合を顕著に抑制できる。
【０１６７】
本発明のレーザー加工設備におけるレーザー加工装置としては、公知乃至慣用のレーザー加工装置が挙げられ、例えば、レーザーによりガラスやフィルム等を切断する装置、レーザーにより金属の微細加工を行う装置等、レーザーを使用する様々な加工装置が挙げられる。また、レーザーは、炭酸ガスレーザー、ＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）レーザー等、公知乃至慣用のレーザーが挙げられ、特に限定されない。
【実施例】
【０１６８】
以下に、実施例を挙げて、本発明をより具体的に説明する。ただし、本発明は、それらに何ら制限されるものではない。なお、「ｐｐｂ」は、特に断りのない限り、重量基準である。
【０１６９】
なお、以下の実施例１〜１０で使用したＶＯＣにはエステルは含まれていない。即ち、以下の実施例１〜１０は、ケミカルフィルタ（Ａ）の上流にケミカルフィルタ（Ｂ）が設けられている場合を想定したものである。
【０１７０】
（ＴＭＳの除去）
実施例１
図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。実施例１では、２本のアクリル製の円筒状の試験カラム（内径５０ｍｍ、長さ３０ｃｍ）１を直列につないだものを６系列並列に配置し、カラムの上流側にガス供給用のチューブ２を取り付け、カラムの下流側に、流量計３、流量調整バルブ４、ポンプ５をこの順に取り付けた。直列につないだ２本のカラムの間に不織布６を挟み、不織布６上に試験サンプル（吸着剤）７を５ｍｍ厚で敷き、試験サンプルのろ過風速が５ｃｍ／ｓとなるように流量を調整したエアを流した。カラムに流すエアは、恒温恒湿槽を用いて温度２３℃、湿度５０％に調整した空気に、ＴＭＳ３ｐｐｂ、ＶＯＣ２５０ｐｐｂを混ぜて使用した。上記通気試験装置の概略断面図（１系列分）を図２に示す。
試験サンプル（吸着剤）として、表１に示す水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが異なる複数のゼオライト（合成ゼオライト）（平均粒子径：３〜２０μｍ）、表２に示す水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが異なる複数のシリカゲル、酸性白土、活性白土、珪藻土、ヒュームドシリカ、及びタルク（平均粒子径：５〜３０μｍ）を用いた。なお、ヒュームドシリカは、ペレット状に加工したものを用いた。試験サンプル６つごとに除去効率の測定を行い、測定を行う６つの試験サンプルをそれぞれ、６系列並列に配置したそれぞれのカラム１に用いた。
通気試験開始後３日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、ＴＭＳのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＴＭＳのガス濃度からＴＭＳの除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの水混合物のｐＨと除去効率の関係のグラフを作成した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を図３（ゼオライト）、図４（シリカゲル、酸性白土、活性白土、珪藻土、ヒュームドシリカ、タルク）に示す。図４中、四角印（□）はシリカゲルのデータ、三角印（△）は酸性白土のデータ、丸印（○）は活性白土のデータ、バツ印（×）は珪藻土のデータ、菱形印（◇）はヒュームドシリカのデータ、アスタリスク印（＊）はタルクのデータをそれぞれ示す。グラフの横軸は試験サンプルの水混合物のｐＨ、縦軸は除去効率（％）である。
【０１７１】
【表１】
2017064618.tif 000002
【０１７２】
【表２】
2017064618.tif 000003
【０１７３】
表１及び図３に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のゼオライトは、水混合物のｐＨが７を超えるゼオライトに比べて、ＴＭＳの除去効率が著しく大きい。また、水混合物のｐＨが低いゼオライトほどＴＭＳの除去効率が高い傾向にある。表２及び図４に示されるように、ｐＨが低い無機シリカ系多孔質材料ほどＴＭＳの除去効率が高い傾向にある。このため、エステルが、ケミカルフィルタ（Ｂ）により除去され、ケミカルフィルタ（Ａ）に流れ込まない場合は、ケミカルフィルタ（Ａ）によってシラノール化合物が高い除去効率で除去されることが明らかである。
【０１７４】
実施例２
カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度２３℃、湿度５０％に調整した空気に、ＴＭＳ７ｐｐｂ、ＶＯＣ２００ｐｐｂを混ぜたものを使用し、試験サンプルのろ過風速が３ｃｍ／ｓとなるように流量を調整したエアを流したこと以外は、実施例１と同様に、図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
試験サンプル（吸着剤）として、表１及び表２に示す中でも、特定のゼオライト、シリカゲル、酸性白土、活性白土、珪藻土をそれぞれ用いた。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、ＴＭＳのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＴＭＳのガス濃度からＴＭＳの除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの時間変化のグラフを作成した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を図５（ゼオライト）、図６（シリカゲル、酸性白土、活性白土、珪藻土）に示す。図５中、バツ印（×）はゼオライトＡのデータ、菱形印（◇）はゼオライトＢのデータ、アスタリスク印（＊）はゼオライトＣのデータ、三角印（△）はゼオライトＤのデータ、四角印（□）はゼオライトＧのデータをそれぞれ示す。図６中、菱形印（◇）はシリカゲルＡのデータ、四角印（□）はシリカゲルＣのデータ、三角印（△）は酸性白土Ａのデータ、バツ印（×）は酸性白土Ｂのデータ、アスタリスク印（＊）は活性白土Ｂのデータ、丸印（○）は珪藻土Ａのデータをそれぞれ示す。また、図５及び図６中、グラフの横軸は経過日数（日）、縦軸は除去効率（％）である。
【０１７５】
図５に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のゼオライト（ゼオライトＡ、ゼオライトＢ、ゼオライトＣ、ゼオライトＤ）は、水混合物のｐＨが７を超えるゼオライト（ゼオライトＧ）に比べて、日数が経過してもＴＭＳの除去効率が著しく大きい。また、図６に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のシリカゲル（シリカゲルＡ）、酸性白土（酸性白土Ａ）、活性白土（活性白土Ｂ）、珪藻土（珪藻土Ａ）は、水混合物のｐＨが７を超えるシリカゲル（シリカゲルＣ）、酸性白土（酸性白土Ｂ）に比べて、日数が経過してもＴＭＳの除去効率が大きい。このため、エステルが、ケミカルフィルタ（Ｂ）により除去され、ケミカルフィルタ（Ａ）に流れ込まない場合、ケミカルフィルタ（Ａ）のシラノール化合物の除去効率は、日数が経過しても著しく大きいことが明らかである。
【０１７６】
実施例３
実施例２の通気試験の終了後のゼオライトＡを３０ｍｌのアセトン溶媒に入れ、２時間振とうした。その後、上澄み液をＧＣ−ＦＩＤ分析に付した。ＴＭＳのＧＣ−ＦＩＤで測定した面積値を表３に示した。なお、比較対象として、ヤシ殻活性炭（フタムラ化学（株）製、商品名「太閤ＣＢ」）を吸着剤として、実施例２と同様の通気試験を行った後、上記測定サンプルと同様にＴＭＳのＧＣ−ＦＩＤで測定した面積値を表３に示した。
【０１７７】
【表３】
2017064618.tif 000004
【０１７８】
表３に示されるように、ヤシ殻活性炭の場合は、吸着されたＴＭＳはアセトン抽出により脱離するが、ゼオライトＡの場合は、吸着されたＴＭＳはアセトン抽出によって脱離しない。このことから、ＴＭＳは水混合物のｐＨが７以下のゼオライトに、活性炭と比較して極めて強い力で吸着していることが分かる。
【０１７９】
実施例４
ガラスクロス（フィルタ基材）を波型に成形した後、シート状のガラスクロスを介して積層し（接着剤で固定）、この積層体を、ゼオライトＡと無機バインダ（コロイダルシリカ、日産化学工業（株）製、商品名「スノーテックスＯ」）と水を含む懸濁液中に浸漬した後、懸濁液から取り出し、乾燥して、ハニカム構造のフィルタ構造体Ａを作製した。フィルタ構造体Ａの通気孔（通気路）の断面は波形であり、該波形の底辺の長さは１〜５ｍｍ、高さは１〜５ｍｍである。上記フィルタ構造体Ａを粉砕したものを純水に浸漬して浸漬液（フィルタ構造体Ａの割合：５ｗｔ％）を作製し、当該浸漬液のｐＨを測定したところ、４．８１であった。なお、比較材料として、ヤシ殻活性炭（フタムラ化学（株）製、商品名「太閤ＣＢ」）を同様にハニカム構造化したフィルタ構造体Ｂを用いた。
図７に示すような通気試験装置を用いて、フィルタ構造体のガス除去効率を測定した。
すなわち、アクリル製の四角筒状の試験カラム（１９ｍｍ×１９ｍｍ×長さ２０ｃｍ）８を２本並列に配置し、カラムの上流側にガス供給用のチューブ２を取り付け、カラムの下流側に、流量計３、流量調整バルブ４、ポンプ５をこの順に取り付けた。カラムの中にフィルタ構造体（長さ８０ｍｍ）９を入れた。フィルタ構造体のろ過風速が０．５ｍ／ｓとなるように流量を調整したエアを流した。カラムに流すエアは、恒温恒湿槽を用いて温度２３℃、湿度５０％に調整した空気に、ＴＭＳ７ｐｐｂ、ＶＯＣ２５０ｐｐｂを混ぜて使用した。
フィルタ構造体として、上記で作製したフィルタ構造体Ａ、フィルタ構造体Ｂを用いた。上記の２つのフィルタ構造体を、２本並列に配置したそれぞれのカラム１に用いた。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、ＴＭＳのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＴＭＳのガス濃度からＴＭＳの除去効率を下記式で算出し、時間変化のグラフを作成した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を図８に示す。図中、三角印（△）はフィルタ構造体Ａのデータを示し、菱形印（◇）はフィルタ構造体Ｂのデータを示す。グラフの横軸は経過日数（日）、縦軸は除去効率（％）である。
【０１８０】
図８に示されるように、ゼオライトＡを用いたフィルタ構造体Ａは活性炭を用いたフィルタ構造体Ｂに比べて、ＴＭＳの除去効率の経日による低下率が極めて小さい。活性炭の場合は、日数がある程度経過すると、除去効率がマイナスとなる。すなわち、一旦吸着されたＴＭＳが脱離して、放出されるようになる。これに対し、フィルタ構造体Ａの場合は、４０日を過ぎても除去効率がマイナスにならない。
【０１８１】
実施例５
無機シリカ系多孔質材料としてゼオライトＡを６０重量部、バインダとして粘土であるカオリン石２５重量部とコロイダルシリカ１５重量部を混合し、純水を加えて粘土状の試料を作製した。この粘土状の試料を網目に通して糸状にし、オーブンで十分に乾燥した後乳鉢で粉砕し、ふるいで粒径２００〜５００μｍのものを採取して、ペレット化された吸着剤（ペレット）を得た。なお、上記コロイダルシリカとして、ｐＨの異なる３つのコロイダルシリカをそれぞれ用いて、３種類のペレット（ペレットＡ〜Ｃ）を作製した。
上記で得られた、表４に示すペレットＡ〜Ｃを試験サンプルとして用いたこと以外は、実施例２と同様にして、図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、ＴＭＳのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＴＭＳのガス濃度からＴＭＳの除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの時間変化のグラフを作成した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を表４及び図９に示す。図９中、菱形印（◇）はペレットＡのデータ、四角印（□）はペレットＢのデータ、三角印（△）はペレットＣのデータをそれぞれ示す。また、図９中、グラフの横軸は経過日数（日）、縦軸は除去効率（％）である。
【０１８２】
【表４】
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【０１８３】
表４及び図９に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のゼオライト（ゼオライトＡ）をペレット化された吸着剤は、バインダの水混合物のｐＨの値にかかわらず、日数が経過してもＴＭＳの除去効率が大きい。また、中でも、水混合物のｐＨが低いバインダを用いて作製したペレットの方が、ＴＭＳの除去効率が高い傾向にある。
【０１８４】
実施例６
合成ゼオライトであるゼオライトＡと天然ゼオライトとを混合したもの（混合ゼオライト）を試験サンプルとして用いたこと以外は、実施例２と同様にして、図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。なお、試験サンプルとする混合ゼオライトとして、混合ゼオライトＡ（混合割合：ゼオライトＡ１０重量％、天然ゼオライト９０重量％）、及び混合ゼオライトＢ（混合割合：ゼオライトＡ１５重量％、天然ゼオライト８５重量％）を用いた。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、ＴＭＳのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＴＭＳのガス濃度からＴＭＳの除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの時間変化のグラフを作成した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を表５及び図１０に示す。図１０中、三角印（△）は混合ゼオライトＡのデータ、四角印（□）は混合ゼオライトＢのデータをそれぞれ示す。また、図１０中、グラフの横軸は経過日数（日）、縦軸は除去効率（％）である。
【０１８５】
【表５】
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【０１８６】
表５及び図１０に示されるように、吸着剤中の合成ゼオライトの含有量が高いほどＴＭＳの除去効率が高い傾向にある。
【０１８７】
（オクタメチルシクロテトラシロキサンの除去）
実施例７
カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度２３℃、湿度５０％ＲＨに調整した空気に、オクタメチルシクロテトラシロキサン（「Ｄ４」と称する場合がある）２００ｐｐｂを混ぜたものを使用したこと以外は、実施例１と同様に、図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、Ｄ４のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＤ４のガス濃度からＤ４の除去効率を下記式で算出した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を表６、表７、図１１（ゼオライト）、及び図１２（シリカゲル、酸性白土、珪藻土）に示す。図１２中、四角印（□）はシリカゲルのデータ、三角印（△）は酸性白土のデータ、丸印（○）は活性白土のデータ、バツ印（×）珪藻土のデータをそれぞれ示す。グラフの横軸は試験サンプルの水混合物のｐＨ、縦軸は除去効率（％）である。
【０１８８】
【表６】
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【０１８９】
【表７】
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【０１９０】
表６、表７、図１１、及び図１２に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のゼオライト、シリカゲル、活性白土、珪藻土等の無機シリカ系多孔質材料は、水混合物のｐＨが７を超える無機シリカ系多孔質材料に比べて、Ｄ４の除去効率が著しく大きい。このため、エステルが、ケミカルフィルタ（Ｂ）により除去され、ケミカルフィルタ（Ａ）に流れ込まない場合は、ケミカルフィルタ（Ａ）によって環状シロキサン化合物が高い除去効率で除去されることが明らかである。
【０１９１】
比較例１
試験サンプル（吸着剤）として、酸性イオン交換樹脂（スルホン酸基含有）を使用したこと以外は実施例７と同様にして、図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。
通気試験開始後３日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、Ｄ４のガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のＤ４のガス濃度からＤ４の除去効率を下記式で算出した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
その結果、酸性イオン交換樹脂を用いた場合のＤ４の除去効率は０％であった。
【０１９２】
実施例８
実施例７の通気試験の終了後の一部の試験サンプルについて、アセトンによる抽出試験を行った。上記の一部の試験サンプルを３０ｍｌのアセトン溶媒に入れ、２時間振とうした。その後、上澄み液をＧＣ−ＦＩＤ分析に付した。Ｄ４のＧＣ−ＦＩＤで測定した面積値を表８に示した。なお、比較対象として、ヤシ殻活性炭（フタムラ化学（株）製、商品名「太閤ＣＢ」、水混合物のｐＨ：１０．１７）、及び酸添着活性炭（上記ヤシ殻活性炭に硫酸水素カリウムを添着したもの、添着剤の活性炭に対する添着量：６重量％、水混合物のｐＨ：２．６１）、薬品賦活活性炭（フタムラ化学（株）製、商品名「太閤Ｓ」、水混合物のｐＨ：４．４８）を吸着剤として、実施例７と同様の通気試験を行った後、上記試験サンプルと同様にＤ４のＧＣ−ＦＩＤで測定した面積値を表８に示した。なお、表３に示す面積値は、ヤシ殻活性炭の面積値を１００（体積換算）とした場合の数値である。
【０１９３】
【表８】
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【０１９４】
表８に示されるように、ヤシ殻活性炭、酸添着活性炭、薬品賦活活性炭の場合は、吸着されたＤ４はアセトン抽出により脱離するが、水混合物のｐＨが７以下のゼオライト、シリカゲル、活性白土、珪藻土等の無機シリカ系多孔質材料の場合は、吸着されたＤ４はアセトン抽出によって脱離しない。このことから、Ｄ４は水混合物のｐＨが７以下の無機多孔質シリカ系材料に、活性炭と比較して極めて強い力で吸着していることが分かる。
【０１９５】
実施例９
実施例７の通気試験の終了後の一部の試験サンプル（ゼオライトＮ、ゼオライトＯ、シリカゲルＡ、活性白土Ｂ、及び珪藻土Ａ）それぞれについて、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ分析を行った。上記試験サンプル０．５ｇと、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１ｇとを混合して溶出処理し、濾別した後、ゲルパーミエーションクロマトグラフィにより分子量を測定した。すなわち、分子量測定装置（ＣＯ−８０２０  ＵＶ−８０２０  ＲＩ−９２０２  ＤＰ−８０２０、東ソー（株）製）に、充填剤入りカラム（ｓｈｏｗｄｅｘ  ＫＥ−８０６Ｍ  ８０４  ８０２、昭和電工（株）製）を装着し、溶出液としＴＨＦ（安定剤無添加のＴＨＦ、和光純薬（株）製）を用い、カラム温度４０℃で１．０ｍＬ／分で測定した。その結果、重量平均分子量が数百のピークは検出されたが、それより大きな、重量平均分子量が数十万のものは検出されなかった。
この結果から、本発明の吸着剤は、シロキサン化合物を重合して吸着しているのではなく、無機シリカ系多孔質材料とシロキサン化合物を直接反応させて除去していることが分かる。
【０１９６】
（デカメチルテトラシロキサンの除去）
実施例１０
カラムに流すエアとして、恒温恒湿槽を用いて温度２３℃、湿度５０％に調整した空気に、デカメチルテトラシロキサン６０ｐｐｂを混ぜたものを使用したこと以外は実施例１と同様にして、図１に示すような通気試験装置を用いて、吸着剤のガス除去効率を測定した。なお、試験サンプル（吸着剤）として、表９に示す水混合物（含有割合：５ｗｔ％）のｐＨが異なる複数のゼオライト及び珪藻土を用いた。
通気試験開始後３日目に、カラムの上流側、下流側のエアを吸着管により捕集し、エアを捕集した吸着管をＡＴＤ（加熱脱着装置）−ＧＣ／ＭＳによるガス分析に付し、デカメチルテトラシロキサンのガス濃度を測定した。測定したカラムの上流側、下流側のデカメチルテトラシロキサンのガス濃度からデカメチルテトラシロキサンの除去効率を下記式で算出し、試験サンプルの水混合物のｐＨと除去効率の関係のグラフを作成した。
除去効率（％）＝｛（上流側のガス濃度−下流側のガス濃度）／上流側のガス濃度｝×１００
結果を表９及び図１３に示す。図１３中、菱形（◇）はゼオライトのデータ、バツ印（×）は珪藻土のデータをそれぞれ示す。グラフの横軸は試験サンプルの水混合物のｐＨ、縦軸は除去効率（％）である。
【０１９７】
【表９】
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【０１９８】
表９及び図１３に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のゼオライト、珪藻土等の無機シリカ系多孔質材料は、水混合物のｐＨが７を超える無機シリカ系多孔質材料に比べて、デカメチルテトラシロキサンの除去効率が著しく大きい。このため、エステルが、ケミカルフィルタ（Ｂ）により除去され、ケミカルフィルタ（Ａ）に流れ込まない場合は、ケミカルフィルタ（Ａ）によって直鎖状シロキサン化合物が高い除去効率で除去されることが明らかである。
【０１９９】
（酸の発生の確認）
実施例１１
０．４ｇのＰＧＭＥＡが入ったφ５０ｍｍのＳＵＳ製シャーレをテドラーバッグ（５Ｌ容量、「テトラ−バッグＡ」と称する場合がある）の中に入れて密閉した。このテドラーバッグＡに、吸着剤（商品名「ギガコールＡ」及び商品名「ギガコールＣ」の混合物、いずれもニッタ（株）製）をセットした恒温恒湿槽を使用して得た、２３℃、５５％ＲＨの空気を４Ｌ封入した。そして、１時間かけてテトラ−バッグＡ内のＰＧＭＥＡを揮発させた。一方、上記テドラーバッグＡとは別のテドラーバッグ（５Ｌ容量、「テトラ−バッグＢ」と称する場合がある）を用意し、その中に下記表１０に示す無機シリカ系多孔質材料（０．０４ｇ）が入ったφ５０ｍｍのＳＵＳ製シャーレを入れて密閉した。そして、上記テドラーバッグＡ内の空気を全て上記テトラ−バッグＢ内にコックを介して移した。その後、テドラーバッグＢを室温下で静置し、２６時間経過後に、検知管でテドラーバックＢ内のＰＧＭＥＡと酢酸の濃度を測定した。なお、途中、室温下の静置の２１時間後に７０℃のオーブンで、３０分間加熱した。表１０に、発生した酢酸の濃度を示す。なお、ブランクとして、無機シリカ系多孔質材料を設置していない場合の濃度を測定した結果、酢酸濃度は０ｐｐｍであり、無機シリカ系多孔質材料の不存在下では酢酸は発生していないことを確認した。また、ＰＧＭＥＡの濃度の分析値はいずれも定量の上限値である２２０ｐｐｍであり、実際の濃度は上限値を超えているものと推測された。実施例１１で使用した薬品、器具等は以下の通りである。
検知管（酢酸用）：商品名「１１１ＬＬ」、（株）ガステック製、測定範囲０．１２５〜２５ｐｐｍ
検知管（ＰＧＭＥＡ用）：商品名「８１Ｌ」、（株）ガステック製、測定範囲２〜２０ｐｐｍ（但し、吸引回数１回、係数１１とし、測定範囲を２０〜２２０ｐｐｍとした。）
ＰＧＭＥＡ：サーモフィッシャーサイエンティフィック（株）製
テドラーバッグ：５Ｌ１つ口キャップ付き（１−６３３２−０４）
【０２００】
【表１０】
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【０２０１】
表１０に示されるように、水混合物のｐＨが７以下のゼオライト、シリカゲル、活性白土等の無機シリカ系多孔質材料は、ＰＧＭＥＡ等のエステルを分解して酢酸等の酸を発生することが分かる。このため、水混合物のｐＨが７以下の無機シリカ系多孔質材料を吸着剤として用いたケミカルフィルタ（Ａ）に加えて、少なくともエステル又はエステルの分解物を除去するためのケミカルフィルタ（Ｂ）を備えることにより、ケミカルフィルタ（Ａ）の有機ケイ素化合物の除去能を低下しにくくし有機ケイ素化合物を効率的に除去できることが明らかである。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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