(57)【要約】【課題】高繰り返しパルスレーザビームを容易に得ることが可能なレーザ装置を提供する。【解決手段】実施形態のレーザ装置は、複数のレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎと、複数のレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射するレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの発振パルスのタイミングをそれぞれ調整するパルスタイミング調整ユニット１１と、複数のレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射したそれぞれのレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを加工点６に集光させる照射点集光レンズ５と、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのそれぞれが照射点集光レンズ５を経て加工点６に集光するように調整可能に構成された駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎと、を備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のレーザ発振器と、
前記複数のレーザ発振器から出射するレーザビームの発振パルスのタイミングをそれぞれ調整するパルスタイミング調整ユニットと、
前記複数のレーザ発振器から出射したそれぞれのレーザビームを照射点に集光させる照射点集光レンズと、
前記各レーザビームのそれぞれが前記照射点集光レンズを経て前記照射点に集光するように調整可能に構成された駆動光学系と、
を備えることを特徴とするレーザ装置。
【請求項２】
前記駆動光学系は、前記複数のレーザ発振器から出射する前記レーザビームのそれぞれを反射させる複数の駆動ミラーと、これらの駆動ミラーを駆動させてレーザ反射角度を調整する駆動ミラー制御ユニットと、を備えることを特徴とする請求項1に記載のレーザ装置。
【請求項３】
前記複数の駆動ミラーと前記照射点集光レンズとの間の光路に設置され、前記レーザ発振器の台数以上の底面以外の複数の面を有し、これらの面に前記各駆動ミラーにより反射された各レーザビームが入射する角錐ミラーをさらに備えることを特徴とする請求項２に記載のレーザ装置。
【請求項４】
前記複数の駆動ミラーによりそれぞれ反射した各レーザビームをサンプリングするサンプリングミラーと、
前記サンプリングミラーから反射した各レーザビームを集光するための検出用集光レンズと、
前記集光された各レーザビームの位置情報と前記レーザ発振器から出射された発振パルスを検出するためのセンサユニットと、
前記センサユニットで検出されたパルスタイミング情報と、前記複数のレーザ発振器をそれぞれ駆動するレーザ駆動用電源のパルスタイミング情報とから検出したデータにより対応する前記駆動ミラーを判別するモニタユニットと、
をさらに備えることを特徴とする請求項２又は３に記載のレーザ装置。
【請求項５】
前記駆動ミラー制御ユニットは、前記センサユニットが検出する前記各レーザビームの位置情報から対応する前記駆動ミラーのレーザ反射角度を調整することを特徴とする請求項２ないし４のいずれか一項に記載のレーザ装置。
【請求項６】
前記パルスタイミング調整ユニットは、前記レーザ駆動用電源のパルスタイミングと、前記センサユニットにより検出された前記各レーザビームのパルスタイミグとが同期するように前記レーザ駆動用電源のパルスタイミングを調整することを特徴とする請求項４又は５に記載のレーザ装置。
【請求項７】
前記照射点集光レンズ及び前記検出用集光レンズは、前記サンプリングミラーからの光学的な距離が等しい位置に設置されていることを特徴とする請求項４ないし６のいずれか一項に記載のレーザ装置。
【請求項８】
複数のレーザ発振器から発振のタイミングをそれぞれ異ならせてレーザビームをそれぞれ出射するステップと、
出射した前記レーザビームが集光レンズに導かれるように前記レーザビームのそれぞれの光路を調整するステップと、
前記光路が調整された前記レーザビームをそれぞれ前記集光レンズから照射点に集光させるステップと、
を有することを特徴とするレーザ照射方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、複数のレーザ発振器から出射されたレーザビームを合成するレーザ装置及びレーザ照射方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
レーザ装置は、レーザビームを使用した加工、検査、計測、及び通信技術等の分野に広く適用されている。従来、レーザ出力を高め、パルスレーザの照射繰り返し数を向上させるため、複数のレーザユニットから出射されるレーザビームをそれぞれ偏光させて合成するレーザ装置が開発されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−４９３１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、ＹＡＧレーザ等の固体ジャイアントパルスレーザ発振器は、レーザ媒質の冷却効果が低く、単独での発振繰り返し周波数を高くすることが困難であり、市販製品では数１０〜２００Ｈｚ程度が限度である。
【０００５】
従来のレーザ装置では、垂直偏光と水平偏光の２種類の偏光を合成するため、垂直・水平の２種類の偏光以上のレーザビームを合成することが困難であった。
【０００６】
本実施形態が解決しようとする課題は、高繰り返しパルスレーザビームを容易に得ることが可能なレーザ装置及びレーザ照射方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本実施形態に係るレーザ装置は、複数のレーザ発振器と、前記複数のレーザ発振器から出射するレーザビームの発振パルスのタイミングをそれぞれ調整するパルスタイミング調整ユニットと、前記複数のレーザ発振器から出射したそれぞれのレーザビームを照射点に集光させる照射点集光レンズと、前記各レーザビームのそれぞれが前記照射点集光レンズを経て前記照射点に集光するように調整可能に構成された駆動光学系と、を備えることを特徴とする。
【０００８】
本実施形態に係るレーザ照射方法は、複数のレーザ発振器から発振のタイミングをそれぞれ異ならせてレーザビームをそれぞれ出射するステップと、出射した前記レーザビームが集光レンズに導かれるように前記レーザビームのそれぞれの光路を調整するステップと、前記光路が調整された前記レーザビームをそれぞれ前記集光レンズから照射点に集光させるステップと、を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本実施形態によれば、高繰り返しパルスレーザビームを容易に得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係るレーザ装置の第１実施形態を示す光路系統図である。
【図２】本発明に係るレーザ装置の第２実施形態を示す光路系統図である。
【図３】本発明に係るレーザ装置の第３実施形態を示す光路系統図である。
【図４】図３の各レーザ発振器の発振パルスを示すタイミングチャートである。
【図５】図３のレーザ装置のセンサユニットが検出するレーザビームを示すタイミングチャートである。
【図６】図３のレーザ装置のセンサユニットが検出するレーザビームの位置を示す説明図である。
【図７】図３のレーザ装置のセンサユニットが検出する各レーザビームの位置を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本実施形態に係るレーザ装置及びレーザ照射方法について、図面を参照して説明する。
【００１２】
（第１実施形態）
（構  成）
図１は本発明に係るレーザ装置の第１実施形態を示す光路系統図である。
【００１３】
図１に示すように、例えばＹＡＧレーザ等の固体ジャイアントパルスレーザ発振器等のレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎは、それぞれレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを出射する。レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎには、それぞれレーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎが接続されている。これらレーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎには、パルスタイミング調整ユニット１１が接続されている。
【００１４】
このパルスタイミング調整ユニット１１は、レーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎを介して各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射する各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの発振パルスのタイミングを調整する。より具体的には、パルスタイミング調整ユニット１１は、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎからのそれぞれのレーザビームの出射のタイミングを異ならせるように調整することができる。
【００１５】
反射ミラー３ａ，３ｂ，…，３ｎは、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎの数と同数設置され、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射された各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを反射する。
【００１６】
駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎは、それぞれ反射ミラー３ａ，３ｂ，…，３ｎによって反射した各々のレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを照射点としての一つの共通の加工点６に集まるようにレーザ反射角度が調整可能に構成されている。駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎは、本実施形態の駆動光学系を構成する。各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度は、駆動ミラー制御ユニット１０から出力される駆動信号により調整される。
【００１７】
具体的には、駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎには、それぞれサーボモータ、ステッピングモータ等の駆動機構が取り付けられ、これらの駆動機構に駆動ミラー制御ユニット１０から駆動信号を出力することで、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度が調整される。この場合、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度を手動にて調整するようにしてもよい。すなわち、駆動ミラー制御ユニット１０により駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎの反射角度が調整されることにより、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎからのレーザビームの光路がそれぞれ調整される。
【００１８】
集光レンズ（照射点集光レンズ）５は、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎで反射されたレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを一つの共通の照射点としての加工点６に集光させる。各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎは、互いに接近した位置に配置されるとともに、集光レンズ５に対して離間した位置に配置されている。これにより、集光レンズ５に対する各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの入射角が小さくなる。
【００１９】
具体的に、本実施形態では、集光レンズ５に対する各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの入射角が１０ｍｒａｄ以下に設定されている。これにより、複数のレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射したレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、加工点６において一軸（１点）に合成される。
【００２０】
（作  用）
次に、本実施形態の作用を説明する。
【００２１】
各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射したレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、反射ミラー３ａ，３ｂ，…，３ｎにて反射される。その後、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎに対応した各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎに入射する。各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎに入射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎから離間して設置された集光レンズ５に向かって反射する。
【００２２】
ここで、レーザ加工に用いるスポット径を得るため、ある一定の距離の加工点６において光軸が共通の一点に集中して合成されるように、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度を、駆動ミラー制御ユニット１０から出力する駆動信号、又は手動により調整する。
【００２３】
レーザ加工を実施する前に上記のレーザ反射角度の調整を行い、パルスタイミング調整ユニット１１にてレーザ発振の時間を、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎからのそれぞれのレーザビームの出射のタイミングが異なるように調整してレーザビームがそれぞれレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎからタイミングを異ならせて順次出射するようにすれば、加工点６において繰り返し周波数がレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎの台数分増加したレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを取り出すことができる。
【００２４】
パルスタイミング調整ユニット１１は、各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎのレーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎの発振パルスのタイミングを調整することで、加工点６において複数のレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを一軸に集め、高繰り返しパルスレーザビームを得ることができる。
【００２５】
本実施形態は、駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎでの各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎ、及び集光レンズ５に入射する各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの光軸間距離を接近させ、入射角度を浅くすることにより、伝送中も各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの光路を調整して一軸に近づける、すなわち照射点である加工点６において１点に重ね合わせ、加工点６においては一軸の光軸から照射されたものと実質的に同等とすることができる。
【００２６】
そのため、伝送中の光学系及び図示しない加工ヘッドを共用することができるだけでなく、加工点６の位置においても各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのずれを抑制することが可能である。各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎでの各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの光軸の距離を可能な限り接近させ、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎから集光レンズ５を離間させている。そして、集光レンズ５に対する各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの入射角が１０ｍｒａｄ以下となることが望ましい。なお、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの入射角が１０ｍｒａｄを超えると、加工点６の位置において各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのずれが生じやすくなる。
【００２７】
このように本実施形態によれば、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎは、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを、集光レンズ５を経て一つの共通の加工点６に集光するようにレーザ反射角度を調整可能に構成したことにより、偏光を用いることなく、高繰り返しパルスレーザビームを容易に得ることができる。
【００２８】
すなわち、本実施形態によれば、低繰り返しの動作のレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎの各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを一つの共通の加工点６にて合成して高繰り返しレーザビームを容易に得ることができる。
【００２９】
また、本実施形態によれば、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎは、互いの距離を接近させるとともに、集光レンズ５との距離を各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎ間の距離よりも離間させているので、集光レンズ５に対する入射角度を浅くし、加工点６において各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの光路を調整して実質的に一軸に合成することができる。
【００３０】
（第２実施形態）
図２は本発明に係るレーザ装置の第２実施形態を示す光路系統図である。なお、本実施形態は、前記第１実施形態の変形例であり、前記第１実施形態と同一の部分又は対応する部分には、同一の符号を付して重複説明を省略する。
【００３１】
前記第１実施形態では、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎから直接集光レンズ５に各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを導くように構成している。
【００３２】
図２に示すように、本実施形態では、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎと集光レンズ５との間の光路に三角錐ミラー２１が設置されている。これにより、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎで反射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、それぞれ三角錐ミラー２１の底面以外の面に入射する。この入射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、それぞれ三角錐ミラー２１の底面以外の面で反射されて集光レンズ５に導かれる。
【００３３】
図２では、レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎが３本の場合を例に角錐ミラーとして三角錐ミラー２１を用いた実施形態を示している。三角錐ミラー２１は、底面以外の面（側面）は全て等しい形状であって、かつレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎに対してミラー面としている。
【００３４】
次に、本実施形態の作用を説明する。
【００３５】
各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎで反射されたレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、三角錐ミラー２１の側面で反射されて集光レンズ５に導かれる。これにより、駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのようにミラーホルダー等による寸法の制約を受けることがないため、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの光軸の距離をより接近させることが可能になる。
【００３６】
また、本実施形態では、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎ間の距離を離間させることができることから、手動調整等が容易になる。
【００３７】
なお、本実施形態において角錐の側面の面数は、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎの台数、すなわち合成するレーザビームの本数と同数以上であればよいが、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの距離は側面の先端角度に制約を受けるため、側面の面数は合成するレーザビームの本数と同数であることが望ましい。
【００３８】
このように本実施形態によれば、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎと集光レンズ５との間の光路に三角錐ミラー２１が設置されていることにより、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの光軸の距離をより接近させることが可能になる。その結果、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを加工点６において確実に一軸（１点）に合成することが可能になる。
【００３９】
（第３実施形態）
（構  成）
図３は本発明に係るレーザ装置の第３実施形態を示す光路系統図である。図４は図３の各レーザ発振器の発振パルスを示すタイミングチャートである。図５は図３のレーザ装置のセンサユニットが検出するレーザビームを示すタイミングチャートである。図６は図３のレーザ装置のセンサユニットが検出するレーザビームの位置を示す説明図である。図７は図３のレーザ装置のセンサユニットが検出する各レーザビームの位置を示す説明図である。
【００４０】
なお、本実施形態は、前記第１実施形態の変形例であり、前記第１実施形態と同一の部分又は対応する部分には、同一の符号を付して重複説明を省略する。
【００４１】
前記第１実施形態では、レーザ加工前にレーザ加工に用いるスポット径を得るある一定の距離の加工点６において光軸が一点に集中するように各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度を、駆動ミラー制御ユニット１０から出力する駆動信号又は手動により調整している。
【００４２】
図３に示すように、本実施形態では、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎをサンプリングして計測することにより、駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎをフィードバック制御するか、あるいは手動にて調整することにある。
【００４３】
具体的には、本実施形態では、サンプリングミラー７、検出用集光レンズとしての集光レンズ５ｂ、センサユニット８、及びモニタユニット９を備える。サンプリングミラー７は、駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎと照射点集光レンズとしての集光レンズ５ａとの間の主光路に設置され、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎから反射された各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの一部を主光路から取り出す。
【００４４】
集光レンズ５ｂは、主光路から取り出された各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの一部の分岐光路に設置され、主光路に設置された集光レンズ５ａと同様の焦点距離である。集光レンズ５ｂのサンプリングミラー７に対する光学的な距離は、集光レンズ５ａのサンプリングミラー７に対する距離と等しくなっている。
【００４５】
センサユニット８は、ＣＣＤカメラ等のセンサを有し、主光路から取り出した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの一部を検出する。すなわち、センサユニット８は、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの位置情報を検出する。また、センサユニット８は、各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射された発振パルスを検出する。
【００４６】
このセンサユニット８には、仮想加工点６ｂが設けられ、この仮想加工点６ｂにおいて各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの一部が合成される。仮想加工点６ｂのサンプリングミラー７に対する光学的な距離は、加工点６ａのサンプリングミラー７に対する距離と等しくなっている。
【００４７】
モニタユニット９は、光電管又は光ダイオード等の光パルス検出器を備えている。モニタユニット９は、センサユニット８から出力されたパルスタイミング情報と、レーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎのパルスタイミング情報とから検出したデータにより対応する駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎを判別する。
【００４８】
駆動ミラー制御ユニット１０は、センサユニット８により検出した複数のレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの位置情報から対応する駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度を自動で調整する。
【００４９】
パルスタイミング調整ユニット１１は、レーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎのパルスタイミングと、センサユニット８により検出された複数のレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのパルスタイミグを同期してレーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎのパルスタイミングを調整する。
【００５０】
（作  用）
各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射したレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、反射ミラー３ａ，３ｂ，…，３ｎにて反射される。その後、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎに対応した各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎに入射する。各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎに入射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎは、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎから離間して設置された集光レンズ５ａに向かって反射する。
【００５１】
ここで、各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎから反射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎの一部は、サンプリングミラー７により主光路から取り出される。その取り出された各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎをセンサユニット８に設けたＣＣＤカメラ等のセンサで検出し、図６に示すようにセンサユニット８と接続されたモニタユニット９によりビーム軸の一致精度を確認する。
【００５２】
不一致が生じた場合には、センサユニット８に光電管又は光ダイオード等の光パルス検出器を設けるか、モニタユニット９内でＣＣＤカメラ等のセンサ信号からパルス波形に変換するシステムを用いる。
【００５３】
図５に示すようにセンサユニット８のセンサが検出する各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎからの発振パルスとして示す各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのパルスタイミング情報と、図４に示す各レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎからの発振パルス、すなわちレーザ駆動用電源１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎのパルスタイミング情報とから検出したデータを比較する。次いで、図６に示すセンサが検出する各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのデータと、図７に示す各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎとの対応関係を付ける。これにより、対応する複数の駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎを判別することができる。
【００５４】
そして、不一致が生じたレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎに対応する各駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎを駆動ミラー制御ユニット１０により自動調整する。
【００５５】
ここで、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを加工点６ａに集光させるための集光レンズ５ａと、サンプリングミラー７からのレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを集光するための集光レンズ５ｂとのサンプリングミラー７からの光学的な距離と、集光レンズ５ａ，５ｂの焦点距離を完全に等しくすることにより、上記調整を高精度に行えるだけでなく、レーザ加工中の加工点６ａでの各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎのビーム強度等のプロファイル情報を取得することが可能である。
【００５６】
以上の操作によって加工中に光路長が変わるような施工装置や振動等による光軸ずれ等が生じても、高精度に、かつ加工点６ａにおいて繰り返し周波数がレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎの台数分増加したレーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを取り出すことができる。
【００５７】
なお、本実施形態では、駆動ミラー制御ユニット１０により駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度を自動で調整するようにしたが、これに限らず、モニタユニット９で判別された駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎのレーザ反射角度を作業者が手動にて調整するようにしてもよい。
【００５８】
（その他の実施形態）
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更、組み合わせを行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【００５９】
なお、前記第２実施形態及び前記第３実施形態を組み合わせて構成してもよい。
【００６０】
また、前記第１実施形態〜前記第３実施形態では、レーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを反射ミラー３ａ，３ｂ，…，３ｎを経て駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎに入射するように構成したが、これに限らずレーザ発振器１ａ，１ｂ，…，１ｎから出射した各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを直接駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎに入射するようにしてもよい。
【００６１】
さらに、前記第１実施形態〜前記第３実施形態では、各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを用いて対象物を加工する例について説明したが、これに限らず各レーザビーム２ａ，２ｂ，…，２ｎを検査、計測に使用してもよい。
【００６２】
前記第１実施形態〜前記第３実施形態では、駆動光学系として駆動ミラー４ａ，４ｂ，…，４ｎを用いた例について説明したが、これに限らず他の光学系でもよい。
【符号の説明】
【００６３】
１ａ，１ｂ，…，１ｎ…レーザ発振器、２ａ，２ｂ，…，２ｎ…レーザビーム、３ａ，３ｂ，…，３ｎ…反射ミラー、４ａ，４ｂ，…，４ｎ…駆動ミラー（駆動光学系）、５，５ａ…集光レンズ（照射点集光レンズ）、５ｂ…集光レンズ（検出用集光レンズ）、６，６ａ…加工点（照射点）、６ｂ…仮想加工点、７…サンプリングミラー、８…センサユニット、９…モニタユニット、１０…駆動ミラー制御ユニット、１１…パルスタイミング調整ユニット、１２ａ，１２ｂ，…，１２ｎ…レーザ駆動用電源、２１…三角錐ミラー（角錐ミラー）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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