(57)【要約】【課題】  基体に反りが発生するのを防止することができ、反射層が形成された側の基体の表面が劣化しにくく、光が入射する側の基体表面も劣化しにくく、長期信頼性に優れるミラーを提供する。【解決手段】  樹脂製の基体と、上記基体の第１の主面側に順次形成された、第１ハードコート層及び反射層と、上記基体の第１の主面に対向する第２の主面側に順次形成された、第２ハードコート層及びセラミック層とからなり、上記基体の内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されたミラーであって、上記基体の両主面に形成された上記第１ハードコート層と上記第２ハードコート層との厚さの差は、下記の（１）式で表されることを特徴とするミラー。−３≦[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００≦３・・・（１）【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製の基体と、前記基体の第１の主面側に順次形成された、第１ハードコート層及び反射層と、前記基体の第１の主面に対向する第２の主面側に順次形成された、第２ハードコート層及びセラミック層とからなり、前記基体の内部を通過した光を前記反射層で反射するように構成されたミラーであって、
前記基体の両主面に形成された前記第１ハードコート層と前記第２ハードコート層との厚さの差は、下記の（１）式で表されることを特徴とするミラー。
−３≦[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００≦３・・・（１）
【請求項２】
前記第１ハードコート層及び前記第２ハードコート層は、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなる請求項１に記載のミラー。
【請求項３】
前記セラミック層は、前記第２ハードコート層の表面を覆うとともに、前記第２ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っている請求項１又は２に記載のミラー。
【請求項４】
前記基体の第１の主面側に順次形成された、前記第１ハードコート層及び前記反射層の側面を含む周囲全体は、被覆樹脂層により覆われており、さらに少なくとも前記基体の側面の一部も前記被覆樹脂層により覆われている請求項１〜３のいずれかに記載のミラー。
【請求項５】
前記セラミック層は、ＳｉＣ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、ＶＣ、ＨｆＣ、Ｂ４Ｃ、Ｍｏ２Ｃ、ＮｂＣ、Ｃｒ３Ｃ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＢＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＮｂＮ、Ｃｒ２Ｎ、ＶＮ及びＨｆＮからなる群から選択された少なくとも一種からなるセラミック層である請求項１〜４のいずれかに記載のミラー。
【請求項６】
前記ハードコート層は、透光性のフィラーを含む請求項１〜５のいずれかに記載のミラー。
【請求項７】
前記セラミック層は、ＳｉＣからなる請求項５又は６に記載のミラー。
【請求項８】
前記ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍである請求項１〜７のいずれかに記載のミラー。
【請求項９】
前記セラミック層の厚さは、１０〜５００ｎｍである請求項１〜８のいずれかに記載のミラー。
【請求項１０】
前記反射層は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＰｔからなる群から選択された少なくとも一種からなる請求項１〜９のいずれかに記載のミラー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラーに関する。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、樹脂基板の表面に金属反射層を有し、さらに上記金属反射層上にハードコート層を有する複合フィルムであって、上記ハードコート層がポリシラザンとシロキサン化合物とを含有する硬化性組成物の硬化物である複合フィルムが開示されている。
【０００３】
図３は、特許文献１に開示された複合フィルムを模式的に示す断面図であり、この複合フィルム１００では、樹脂基材１０１上に、順次、金属反射層１０２及びハードコート層１０３が形成されており、ミラーとして使用されると考えられる。その場合、太陽光等の光は、樹脂基材１０１を通過した後金属反射層１０２が形成されている樹脂基材１０１の裏面で反射され、樹脂基材１０１の内部を通過した後、空気中に出る。従って、樹脂基材１０１と金属反射層１０２とがしっかり密着するとともに、平坦であることが要求される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２３０５６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、樹脂基材１０１上に、直接、金属反射層１０２が形成されていると、金属により樹脂基材１０１の表面が劣化し易く、樹脂基材１０１の表面に凹凸等が形成され易いため、ミラーとしての特性が低下し易いという問題があった。
また、樹脂基材１０１の片側のみにハードコート層１０３を形成すると、ガラス等に比べてその強度が低い樹脂基材１０１に反りが発生しやすいという問題があった。
【０００６】
本発明は、上記のような問題点に鑑みてなされたものであり、光が入射する側の基体表面とは反対の基体面側に反射層が形成されたミラーであって、基体に反りが発生するのを防止することができ、反射層が形成された側の基体の表面が劣化しにくく、光が入射する側の基体表面も劣化しにくく、長期信頼性に優れるミラーを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するための本発明のミラーは、樹脂製の基体と、上記基体の第１の主面側に順次形成された、第１ハードコート層及び反射層と、上記基体の第１の主面に対向する第２の主面側に順次形成された、第２ハードコート層及びセラミック層とからなり、上記基体の内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されたミラーであって、上記基体の両主面に形成された上記第１ハードコート層と上記第２ハードコート層との厚さの差は、下記の（１）式で表されることを特徴とする。
−３≦[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００≦３・・・（１）
【０００８】
本発明のミラーは、通常のミラーと同様、基体内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されているが、基体の両主面にハードコート層が形成されているので、基体の表面が傷つくのを防止することができる。また、基体の両側に形成された２つのハードコート層の厚さには、上記（１）式に表されているように殆ど差がないので、ミラーに反りが発生するのを防止することができる。また、上記基体の第１の主面側に直接反射層が形成されていると、基体が反射層の形成時の環境、例えば温度により劣化するおそれがあるが、上記基体の第１の主面側には、第１ハードコート層を介して反射層が形成されているので、反射層により基体が劣化するおそれがない。さらに、上記基体の第２の主面側の最外層には、より耐摩耗性や機械的特性に優れるセラミック層が形成されているので、耐久性に優れ、ミラーとして、長期信頼性を有する。
また、第１の主面側に形成された第１ハードコート層は、基体及び反射層との密着性にも優れる。
【０００９】
上記第１ハードコート層と上記第２ハードコート層との厚さの差が、上記（１）式の範囲を外れた場合、すなわち、下記の（２）式、又は、（３）式で表される場合には、基体に反りが発生しやすくなる。
−３＞[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００・・・（２）
[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００＞３・・・（３）
【００１０】
本発明のミラーにおいて、上記第１ハードコート層及び上記第２ハードコート層は、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記第１ハードコート層及び上記第２ハードコート層が、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなるものであると、上記基体との密着性に優れるとともに、基体に反りが発生するのを確実に防止することができる。
【００１１】
本発明のミラーにおいて、上記セラミック層は、上記第２ハードコート層の表面を覆うとともに、上記第２ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っていることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記セラミック層は、上記第２ハードコート層の表面を覆うとともに、上記第２ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っていると、基体側面から水分等が侵入して基体表面やハードコート層が劣化するのを防止することができる。
【００１２】
本発明のミラーにおいて、上記基体の第１の主面側に順次形成された、上記第１ハードコート層及び上記反射層の側面を含む周囲全体は、被覆樹脂層により覆われており、さらに少なくとも上記基体の側面の一部も上記被覆樹脂層により覆われていることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記第１ハードコート層及び上記反射層の側面を含む周囲全体が、被覆樹脂層により覆われており、さらに少なくとも上記基体の側面の一部も上記被覆樹脂層により覆われていると、基体側面から空気や水分等が侵入してハードコート層や反射層が劣化するのを防止することができる。
【００１３】
上記被覆樹脂は、基体の側面の全体を覆っていてもよく、基体の側面を覆うセラミック層をさらに覆うように形成されていてもよい。この場合、より確実にハードコート層や反射層の劣化を防止することができる。
【００１４】
本発明のミラーにおいて、上記セラミック層は、ＳｉＣ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、ＶＣ、ＨｆＣ、Ｂ４Ｃ、Ｍｏ２Ｃ、ＮｂＣ、Ｃｒ３Ｃ２、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＢＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＮｂＮ、Ｃｒ２Ｎ、ＶＮ及びＨｆＮからなる群から選択された少なくとも一種からなるセラミック層であることが好ましい。
【００１５】
上記した炭化物セラミックス又は窒化物セラミックス等の非酸化物系セラミックスは、一般に水や有機材料などに対するぬれ性が悪いことで知られている。このためゴミ等の異物をミラー側面に集めにくく、例えばミラー施工時等に異物のかみ込みによるミラー損傷を起こしにくいので信頼性の高いシステムの実現が可能となる。特にＳｉＣは半導体の性質を持ち、静電気による  ホコリ、ゴミを集めにくいので、ＳｉＣを用いた場合には、上記した効果が顕著である。
【００１６】
本発明のミラーにおいて、上記ハードコート層は、透光性のフィラーを含むことが好ましい。
上記ミラーにおいて、ハードコート層に上記フィラーが含まれていると、耐候性を改善することができる。特に、耐候性を改善するうえで、光が通過する第２ハードコート層に上記フィラーが含まれていることが望ましい。
また、ハードコート層に上記フィラーが含まれていると、ハードコート層の機械的特性が改善され、ミラーが破壊されにくくなるとともに、基体に反りも発生しにくくなる。
【００１７】
本発明のミラーにおいて、上記セラミック層は、ＳｉＣからなることが好ましい。
上記ミラーにおいて、ＳｉＣは、機械的特性、耐久性に優れるとともに、耐熱性、熱伝導性にも優れているので、セラミック層として、より好適に使用することができる。
【００１８】
本発明のミラーにおいて、上記ハードコート層の厚さは、１〜１０μｍであることが好ましい。
上記ミラーにおいて、上記ハードコート層の厚さが１〜１０μｍであると、ミラーの反りをより確実に防止することができる。
上記ハードコート層の厚さが１μｍ未満であると、ハードコート層が薄すぎるため、ミラーに反りが発生するのを防止するのが難しくなり、一方、ハードコート層の厚さが１０μｍを超えると、ハードコート層が厚すぎるため、ミラーとしての特性が劣化し易くなる。
【００１９】
本発明のミラーにおいて、上記セラミック層の厚さは、１０〜５００ｎｍであることが好ましい。
本発明のミラーにおいて、上記セラミック層の厚さが１０〜５００ｎｍであると、スパッタリング等により比較的容易に形成することができ、要求される機械的特性や耐久性の条件を充分に満たすことができる。
【００２０】
上記セラミック層の厚さが、１０ｎｍ未満であると、セラミック層の厚さが薄すぎるため、機械的特性や耐久性が不充分となる。
一方、上記セラミック層の厚さを、５００ｎｍを超えて厚くしても、特性に大きな変化はなく、そのような厚さのセラミック層を形成することが難しく、時間もかかるため、工程タクトが長くなりミラーが高価なものとなる。
【００２１】
本発明のミラーにおいて、上記反射層は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＰｔからなる群から選択された少なくとも一種からなることが好ましい。
【００２２】
本発明のミラーにおいて、上記反射層がＡｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＰｔからなる群から選択された少なくとも一種からなると、反射層としての特性を充分に発揮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】図１は、第１の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、第２の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、特許文献１に開示された複合フィルムを模式的に示す断面図である。
【００２４】
（発明の詳細な説明）
以下、本発明のミラーについて詳述する。
【００２５】
本発明のミラーは、樹脂製の基体と、上記基体の第１の主面側に順次形成された、第１ハードコート層及び反射層と、上記第１の主面に対向する第２の主面側に順次形成された、第２ハードコート層及びセラミック層とからなり、上記基体の内部を通過した光を上記反射層で反射するように構成されたミラーであって、
上記基体の両主面に形成された上記第１ハードコート層と上記第２ハードコート層との厚さの差は、下記の（１）式であらわされることを特徴とする。
−３≦[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００≦３・・・（１）
【００２６】
本発明のミラーは、基体の両主面にハードコート層が形成されているので、基体の表面が傷つくのを防止することができる。また、形成されたハードコート層の厚さには、上記のように殆ど差がないので、ミラーに反りが発生するのを防止することができる。また、上記基体の第１の主面側に直接反射層が形成されていると、基体が反射層の形成時の環境、例えば温度により劣化するおそれがあるが、上記基体の第１の主面側には、第１ハードコート層を介して反射層が形成されているので、反射層により基体が劣化するおそれがない。さらに、上記基体の第２の主面側には、最外層により耐摩耗性や機械的特性に優れるセラミック層が形成されているので、耐久性に優れ、ミラーとして、長期信頼性を有する。また、第１の主面側に形成された第１ハードコート層は、基体及び反射層との密着性にも優れる。
【００２７】
本発明のミラーとして、以下のような構成のものが挙げられる。
第１の本発明のミラーは、基体と、基体の第１の主面側に順次形成された第１ハードコート層及び反射層と、第１ハードコート層の側面及び反射層の主面と側面とを含む周囲全体を覆うとともに、さらに基体の側面を覆う被覆樹脂層と、基体の第１の主面に対向する第２の主面側に順次形成された、第２ハードコート層及びセラミック層とからなる。
上記構成のミラーにおいて、セラミック層は、第２ハードコート層の主面に形成されているが、セラミック層は、第２ハードコート層の周囲全体を覆うとともに、基体の側面の一部又は全体に形成されていてもよい。
【００２８】
上記した第１の本発明のミラーの形状、構造等について、さらに詳述する。
図１は、第１の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。
図１に示すミラー１０は、基体１１と、基体１１の第１の主面１１ａ側に順次形成された第１ハードコート層１２及び反射層１３と、第１ハードコート層１２の側面１２ｂ及び反射層１３の主面１３ａと側面１３ｂとを覆うとともに、さらに基体１１の側面１１ｃを覆う被覆樹脂層１４と、
基体１１の第１の主面１１ａに対向する第２の主面１１ｂ側に順次形成された、第２ハードコート層１５及びセラミック層１６とからなる。
【００２９】
上記基体では、入射した光がセラミック層、第２ハードコート層及び基体の内部を通過し、光が入射した側の基体表面とは反対の基体面側に形成された反射層で反射され、再度、反射光が基体の内部、第２ハードコート層及びセラミック層を通過し、セラミック層の表面から出射する。第１の本発明のミラーでは、この出射した光を利用することとなるので、出射した光（反射光）が入射した光と比較して減衰が少なく、充分な強度を有することが望ましい。
【００３０】
第１の本発明のミラーを構成する基体は、樹脂からなるが、上記基体は、２４０ｎｍを超え、２６００ｎｍ未満の範囲の波長の光を８５％以上通す透光性を有することが望ましく、上記波長範囲の光を、９０％以上通すことがより望ましい。
基体の厚さは、０．１〜２．０ｍｍであることが望ましい。
【００３１】
基体を構成する透光性樹脂としては、ポリ塩化ビニール（ＰＶＣ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、アクリル樹脂（ＰＭＭＡ）等が挙げられる。これらの中では、ポリカーボネート（ＰＣ）等が好ましい。
【００３２】
第１の本発明のミラーにおいて、基体表面の表面粗さＲｚＪＩＳは、１〜５０ｎｍが望ましい。上記した表面粗さＲｚＪＩＳは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２００１）で定義される十点平均粗さである。
上記基体表面の表面粗さＲｚＪＩＳが１ｎｍ未満であると、基体の表面積が小さくなるため、基体と反射層との密着性が充分に得られにくくなる。一方、基体表面の表面粗さＲｚＪＩＳが５０ｎｍを超えると、基体表面に平坦な反射層が形成されにくくなり、ミラーとしての特性が劣化する。
なお、基体表面の表面粗さＲｚＪＩＳは、レーザー顕微鏡（キーエンス社製ＶＫ−Ｘ２００ｖｉｏｌｅｔ仕様）を用いて表面の輪郭曲線を測定した後、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２００１）に準拠して、走査距離は３０μｍとして測定することができる。
【００３３】
上記基体の第１の主面側には、第１ハードコート層が形成され、上記基体の第２の主面側には、第２ハードコート層が形成されている。
上記第１ハードコート層及び上記第２ハードコート層は、シリコーン系樹脂、アクリル系樹脂、又は、シリカハイブリッドコンポジットからなることが好ましい。
【００３４】
シリコーン系樹脂は、４官能型のテトラアルコキシシランを主成分に、トリアルコキシシラン等を組み合わせたもので、最終的には、樹脂中にＳｉＯの３次元的な構造が形成される。また、シリコーン系樹脂は、触媒を用いることにより、又は、加熱により硬化させることができる。シリコーン系樹脂からなるハードコート層は、ＳｉＯの３次元的な構造を有するので、硬く、耐摩耗性に優れている。
【００３５】
アクリル系樹脂は、多官能モノマー／単官能モノマー／ポリマー系からなり、多官能モノマーの種類、量によって架橋度を制御したものである。多官能モノマーとしては、ポリオールアクリレート、ポリエステルアクリレート、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート等が挙げられる。アクリル系樹脂からなるハードコート層は、紫外線により硬化させることができる。紫外線による硬化は、短時間で行うことができるという特徴を有している。
【００３６】
シリカハイブリッドコンポジットとは、シリカゾル等の無機微粒子又は上記したシリコーン系樹脂を用いたＳｉＯの３次元的な構造体とハードコート層の形成に用いられるアクリル系樹脂やその他の樹脂を組み合わせたものであり、ラジカル重合性のアクリロイル基（ＡＣ）、メタクリロイル基（ＭＡＣ）、又は、カチオン重合性のオキセタニル基（ＯＸ）を有する樹脂を組み合わせることにより、紫外線等の光により硬化させることができる。
【００３７】
上記ハードコート層は、透光性のフィラーを含むことが好ましい。
ハードコート層が透光性のフィラーを含んでいると耐候性を改善させることができる。上記フィラーとしては、例えば、チタニア、インジウム−錫酸化物（ＩＴＯ）、錫−アンチモン酸化物（ＡＴＯ）、ガラス繊維等が挙げられる。上記フィラーは、製造時に凝集しやすいので、カップリング剤等の分散剤を用いてフィラーを分散させることが望ましい。
【００３８】
基体の両主面に形成された第１ハードコート層と第２ハードコート層との厚さの差は、下記の（１）式で表される。
−３≦[(第１ハードコート層の厚さ−第２ハードコート層の厚さ)／第１ハードコート層の厚さ]×１００≦３・・・（１）
【００３９】
すなわち、上記（１）式によれば、第１ハードコート層の厚さを基準とすると、第２ハードコート層の厚さは、第１ハードコート層の厚さより厚い場合も、薄い場合もあるが、その差の絶対値は、３％より小さい。第１ハードコート層の厚さと第２ハードコート層の厚さは等しいことが望ましい。
第１ハードコート層の厚さと第２ハードコート層の厚さとを、上記のように設定することにより、基体に反りが発生するのを防止することができる。また、第１ハードコート層及び第２ハードコート層は、基体の表面を保護し、基体の表面が傷つき、鏡としての特性が劣化するのを防止することができる。
【００４０】
第１ハードコート層及び第２ハードコート層は、２４０ｎｍを超え、２６００ｎｍ未満の範囲の波長の光を８５％以上通す透光性を有することが望ましく、上記波長範囲の光を、９０％以上通すことがより望ましい。
【００４１】
第１の本発明のミラーを構成する基体の第１の主面側に形成された、第１ハードコート層の主面には、反射層が形成されている。
反射層は、光を反射するミラーとしての機能を有するものであり、平坦性が要求される。
反射層は、Ａｇ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｒ、Ｎｉ及びＰｔからなる群から選択された少なくとも一種からなるものであることが望ましい。これらのなかでは、Ａｇが特に望ましい。
反射層の厚さは、５０〜２００ｎｍが望ましい。
【００４２】
反射層の基体表面側の表面は、ミラーとして機能するので、反射層の基体表面側の面の表面粗さＲｚＪＩＳは、１〜５０ｎｍが望ましい。
反射層の表面粗さＲｚＪＩＳを１ｎｍ未満とすると、ハードコート層との密着性が劣化し、一方、反射層の表面粗さＲｚＪＩＳが５０ｎｍを超えた値とすると、反射層の表面の凹凸が大きくなるため、反射層としての機能が低下してしまう。
【００４３】
第１ハードコート層の側面及び反射層の主面及び側面を覆うとともに、さらに基体の側面を覆う被覆樹脂層を構成する樹脂としては、シリコーン系樹脂、エポキシ系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は、紫外線を吸収又は反射するように、黒色系の顔料を含むことが望ましい。
黒色系の顔料としては、例えば、黒鉛等の炭素系顔料、鉄の酸化物、銅とクロムの複合酸化物、銅、クロム、亜鉛の複合酸化物等が挙げられる。
【００４４】
反射層及び第１ハードコート層の周囲に被覆樹脂層を形成することにより、紫外線等によりハードコート層や反射層が劣化するのを防止することができるとともに、ハードコート層と基体との間及びハードコート層と反射層との間に空気や水蒸気等が侵入して、これらの層が劣化するのを防止することができる。
【００４５】
第１の本発明のミラーにおいて、第２ハードコート層の主面に形成されたセラミック層は、第２ハードコート層及び基体を外気雰囲気から保護するとともに、第２ハードコート層及び基体が傷つくのを防止する役割を果たす。
このため、セラミック層は、炭化物系セラミック又は窒化物系セラミックからなることが望ましい。
セラミック層が、炭化物系セラミック又は窒化物系セラミックからなるものであると、充分に硬く、耐摩耗性にも優れているので、過酷な条件でも被覆層の表面がより傷つきにくく、長期にわたる耐久性に優れる。また、ゴミ等の異物をミラーに集めにくく、信頼性の高いシステムの実現が可能となる。
【００４６】
第１の本発明のミラーでは、セラミック層を構成する炭化物系セラミックとしては、ＳｉＣ、ＷＣ、ＴｉＣ、ＴａＣ、ＺｒＣ、ＶＣ、ＨｆＣ、Ｂ４Ｃ、Ｍｏ２Ｃ、ＮｂＣ、Ｃｒ３Ｃ２等が挙げられる。また、窒化物系セラミックとしては、Ｓｉ３Ｎ４、ＴｉＮ、ＡｌＮ、ＢＮ、ＺｒＮ、ＴａＮ、ＮｂＮ、Ｃｒ２Ｎ、ＶＮ、ＨｆＮ等が挙げられる。
また、第１の本発明のミラーでは、炭窒化物セラミックも、炭化物系セラミック又は窒化物系セラミックに含まれ、炭窒化物セラミックとしては、炭窒化タングステン等が挙げられる。
セラミック層は、これらの炭化物系セラミック及び窒化物系セラミックのうちの１種のみを含んでいてもよいし、２種以上の炭化物系セラミック及び窒化物系セラミックを含んでいてもよい。
これらの中では、硬度の高いセラミックが好ましく、ビッカース硬度が５００〜１００００ＨＶであるセラミックが好ましい。また、セラミック層はＳｉＣであることが好ましい。
【００４７】
また、第１の本発明のミラーでは、セラミック層は非晶質であることが好ましい。セラミック層が非晶質であると、セラミック層の厚さが薄い場合でも紫外線を吸収する作用を発現でき、ハードコート層や基体が紫外線により劣化するのを防止することができる。
【００４８】
第１の本発明のミラーにおいて、セラミック層の厚さは１０〜５００ｎｍであることが好ましく、１０〜２００ｎｍであることがより好ましい。
セラミック層の厚さが上記範囲であると内部のハードコート層や基体が十分に保護され、耐摩耗性も充分に付与される。
セラミック層の厚さが１０ｎｍ未満であると、セラミック層の厚さが薄すぎるため、機械的特性や耐久性が不充分となる。セラミック層の厚さが５００ｎｍを超えて厚くしても、特性に大きな変化はなく、そのような厚さのセラミック層を形成することが難しく、時間もかかるため、工程タクトが長くなりミラーが高価なものとなる。
【００４９】
第１の本発明のミラーにおいて、第１ハードコート層、第２ハードコート層、反射層、セラミック層及び被覆樹脂層の厚さは、例えば、レーザー顕微鏡を用いて測定することができる。
基体表面に第１ハードコート層、第２ハードコート層、反射層、セラミック層、又は、被覆樹脂層が形成された部分と上記した層が形成されていない部分がある試料を準備し、基体表面に上記した層が形成された部分と上記した層が形成されていない部分の境界の段差をまたぐようにレーザー顕微鏡を走査して、その段差の高さを測定することにより、第１ハードコート層、第２ハードコート層、反射層、セラミック層及び被覆樹脂層の厚さを測定することができる。
上記測定用試料は、第１ハードコート層、第２ハードコート層、反射層、セラミック層、被覆樹脂層の形成時に一部をマスキングして上記した層を形成することにより作製してもよいし、形成した上記層の一部を除去することによって作製してもよい。
【００５０】
次に、第１の本発明のミラーの製造方法について説明する。なお、下記する工程は、必ずしも順次行う必要はなく、順番が前後してもよく、他の工程が挿入されてもよい。
（ａ）基体の準備
第１の本発明のミラーの製造方法では、はじめに、基体を準備する。
基体としては第１の本発明のミラーを構成する基体の説明で説明した材料を使用することができる。樹脂材料を基体として使用する場合、使用する用途に応じて任意の形状に切削加工、押出成形等により成形した材料を準備する。
【００５１】
また、基体の表面の不純物を除去するために洗浄処理を行うことが好ましい。
上記洗浄処理としては特に限定されず、従来公知の洗浄処理を用いることができ、具体的には、例えば、水やアルコール溶媒中で超音波洗浄を行う方法等を用いることができる。
また、スパッタリング装置内に基体を設置し、プラズマを発生させることによって基体の表面をプラズマ洗浄してもよい。この場合、プラズマ洗浄の後にそのまま塗布等の方法によりハードコート層を形成してもよい。
【００５２】
また、上記洗浄処理後には、必要に応じて、基体の表面の粗さを調整するために、基体の表面に鏡面化処理や粗化処理を施してもよい。具体的には、例えば、サンドブラスト処理、エッチング処理等の処理を施してもよい。これらは単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。
上記処理の後に、さらに洗浄処理を施してもよい。
基体を構成する材料や基体表面の好ましい表面粗さ等については、既に説明したので、ここでは、その説明を省略する。
【００５３】
（ｂ）ハードコート層の形成
ハードコート層を形成する際には、予め、ハードコート層として機能するフィルムを作製しておき、このフィルムを基体に貼り付けることにより、ハードコート層を形成してもよい。
また、ハードコート層の原料であるモノマー又はポリマー、溶剤、フィラー等を混合してハードコート用組成物を調製した後、このハードコート用組成物を基体に塗布し、加熱、紫外線照射等により塗布層を硬化させ、ハードコート層を形成してもよい。
ハードコート層用組成物を塗布する方法としては、スピンコート、ディップ法、スプレー法、スライドコート法、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ダイコート法等の塗布方法が挙げられる。
第１ハードコート層及び第２ハードコート層の材料や組成は、同じであることが望ましく、硬化後の厚さが上記（１）式を満足するように、第１ハードコート層及び第２ハードコート層を形成する。
【００５４】
（ｃ）反射層の形成
第１の本発明のミラーの製造方法では、ＰＶＤ（物理蒸着）法等を用いて、反射層をハードコート層の主面に形成する。
具体的なＰＶＤ（物理蒸着）法としては、例えば、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム蒸着法、分子線エピタキシー法等の蒸着法、イオンめっき法、イオンビームデポジション法、スパッタリング法等が挙げられる。
これらの方法のなかでは、スパッタリング法が望ましく、Ａｇ、Ａｕ等の材料は金属であり、導電性を有するので、ＤＣ（直流）スパッタリング法がより望ましい。
【００５５】
（ｄ）セラミック層の形成
第１の本発明のミラーの製造方法では、第１ハードコート層の主面にセラミック層を形成する。
セラミック層の形成は、反射層の形成と同様に、ＰＶＤ（物理蒸着）法により行うことができる。
物理蒸着法によりセラミック層を形成する場合、基体の温度が高温にならず、基体に樹脂材料を用いた場合であっても、樹脂材料の耐熱温度以下の温度でセラミック層を形成することができるので、セラミック層の形成方法として適している。
具体的には、物理蒸着を５〜２００℃で行うことが好ましい。この温度はチャンバー内の設定温度であり、常温（２５℃±１５℃）であることも好ましい。
【００５６】
第１の本発明のミラーの製造方法では、物理蒸着法は、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング、又は、イオンビーム蒸着により行われることが好ましい。
これらの中でもスパッタリングにより行われることがより好ましく、スパッタリングは、マグネトロンスパッタリング、イオンビームスパッタリング、２極スパッタリング、反応性スパッタリング、又は、ＥＣＲスパッタリングであることが好ましい。
特に、ＲＦ（交流、高周波）スパッタリングであることが好ましく、ＲＦマグネトロンスパッタリングであることがより好ましい。
ＲＦスパッタリングであると、絶縁体であるセラミックターゲットについてもスパッタリングが可能であり、マグネトロンスパッタリングとすることによって成膜速度を速くすることができる。
【００５７】
ＲＦマグネトロンスパッタリングによる物理蒸着を行う場合には、スパッタリング装置にセラミック層の材料となるターゲットを設置して、反射層が形成された基体をチャンバー内に載置し、チャンバー内をアルゴン雰囲気としてチャンバー内の圧力を例えば０．２〜１．２Ｐａに減圧する。
そして、高周波電圧を印加してスパッタリングを所定時間行い、所定の厚さのセラミック層を第２ハードコート層の主面に形成する。
【００５８】
（ｅ）被覆樹脂層の形成
被覆樹脂層の原料であるモノマー又はポリマー、溶剤、顔料等を混合して被覆樹脂層用組成物を調製した後、反射層の主面と側面、ハードコート層の側面、及び、基体の側面に被覆樹脂層用組成物を塗布するか、又は、被覆樹脂層用組成物中に基体、ハードコート層、及び、反射層をディップし、被覆樹脂層用組成物の層を形成し、乾燥させた後、硬化させて被覆樹脂層を形成する。
【００５９】
第１の本発明のミラーは、耐紫外線性及び耐摩耗性が必要な用途に使用することができ、例えば、自動車、航空機、船舶、鉄道、自転車、２輪車等のミラーや、太陽熱発電のミラー（集光）等の用途に使用することができる。下記する第２の本発明のミラーの用途も同様である。
【００６０】
本発明のミラーは、上記した構成以外の構成のものであってもよい。以下に、第２の本発明のミラーについて説明する。
第２の本発明のミラーは、基体と、基体の第１の主面側に順次形成された第１ハードコート層及び反射層と、第１ハードコート層の側面及び反射層の主面及び側面を覆うとともに、さらに基体の側面を覆う被覆樹脂層と、基体の第１の主面に対向する第２の主面側に順次形成された、第２ハードコート層及びセラミック層とからなり、セラミック層は、第２ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成されている。
セラミック層は、第２ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の全部を覆って形成されていてもよい。
上記した例では、セラミック層が、第２ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成されているほかは、第１の本発明のミラーと同様に構成されている。
【００６１】
上記した第２の本発明のミラーの形状、構造等について、さらに詳述する。
図２は、第２の本発明のミラーの一例を模式的に示す断面図である。
図２に示すミラー２０は、基体２１と、基体２１の第１の主面２１ａ側に順次形成された第１ハードコート層２２及び反射層２３と、第１ハードコート層２２の側面２２ｂ及び反射層２３の主面２３ａ及び側面２３ｂを覆うとともに、さらに基体２１の側面２１ｃを覆う被覆樹脂層２４と、基体２１の第１の主面２１ａに対向する第２の主面２１ｂ側に順次形成された、第２ハードコート層２５及びセラミック層２６とからなり、セラミック層２６は、第２ハードコート層２５の主面２５ａ及び側面２５ｂを覆うとともに、基体２１の側面２１ｂの一部を覆って形成されている。
なお、反射層２３は、第１ハードコート層２２の主面２２ａに形成されている。
【００６２】
第２の本発明のミラーでは、セラミック層が、第２ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成されているほかは、第１の本発明のミラーと同様に構成されている。なお、セラミック層は、基体の側面の一部を覆うとともに、被覆樹脂層の側面の一部を覆っていてもよく、被覆樹脂層は、基体の側面の一部を覆うとともに、セラミック層の側面の一部を覆っていてもよい。
第２の本発明の基体、第１ハードコート層、反射層、被覆樹脂層、及び、第２ハードコート層は、第１の本発明のミラーと同様に構成されており、本発明のミラーの製造方法の一部である上記した層の形成方法も第１の本発明のミラーの場合と同様であるので、上記した層及びその形成方法の詳しい説明は、省略することとする。
【００６３】
第２の本発明のミラーを構成するセラミック層の材料や特性等は、第１の本発明のミラーを構成するセラミック層の材料と同様であるので、これらの説明は、省略することとする。
第２の本発明のミラーにおいて、セラミック層の厚さは１０〜５００ｎｍであることが好ましく、１０〜２００ｎｍであることがより好ましい。
セラミック層の厚さが上記範囲であり、セラミック層が第２ハードコート層の表面を覆うとともに、第２ハードコート層の側面及び少なくとも基体の側面の一部を覆っていると、内部のハードコート層や基体が十分に保護され、耐摩耗性も充分に付与される。また、基体側面から水分等が侵入して基体表面やハードコート層が劣化するのを防止することができる。
【００６４】
セラミック層の厚さが１０ｎｍ未満であると、セラミック層の厚さが薄すぎるため、機械的特性や耐久性が不充分となる。セラミック層の厚さが５００ｎｍを超えて厚くしても、特性に大きな変化はなく、そのような厚さのセラミック層を形成することが難しく、時間もかかるため、工程タクトが長くなりミラーが高価なものとなる。
【００６５】
第２の本発明におけるセラミック層の形成方法は、第１の本発明におけるセラミック層の形成方法とほぼ同様であるが、スパッタリングの際、セラミック層は、第２ハードコート層の主面及び側面を覆うとともに、基体の側面の一部を覆って形成される必要があるので、ターゲットの大きさを第１の本発明の場合よりも大きく設定することが望ましい。
【００６６】
なお、第１の本発明のミラーや第２の本発明のミラーにおいて、上記被覆樹脂層は、必ず形成する必要はなく、被覆樹脂層がなくてもよい。また、単に、本発明のミラーという場合には、第１の本発明のミラー及び第２の本発明のミラーの両方を含んだ発明を意味している。
【００６７】
以下に、本発明のミラーの作用効果について列挙する。
（１）本発明のミラーは、通常のミラーと同様、基体内部を通過した光を前記反射層で反射するように構成されているが、基体の両主面にハードコート層が形成されているので、基体の表面が傷つくのを防止することができる。
【００６８】
（２）本発明のミラーでは、基体の両側に形成された形成された２つのハードコート層の厚さには、上記（１）式に示されているように殆ど差がないので、ミラーに反りが発生するのを防止することができる。
【００６９】
（３）上記基体の第１の主面側に直接反射層が形成されていると、基体が反射層の形成時の環境、例えば温度により劣化するおそれがあるが、本発明のミラーでは、基体の第１の主面側に、第１ハードコート層を介して反射層が形成されているので、反射層により基体が劣化するおそれがない。
【００７０】
（４）本発明のミラーでは、第２の主面側の最外層には、より耐摩耗性や機械的特性に優れるセラミック層が形成されているので、耐久性に優れ、ミラーとして、長期信頼性を有する。
【００７１】
（実施例）
以下、本発明をより具体的に開示した実施例を示す。なお、本発明は、これらの実施例のみに限定されるものではない。
【００７２】
（実施例１）
ハードコート層用組成物として、シリコーン樹脂を含む液状の組成物を用意し、まず、鏡面加工された厚さ２ｍｍ、縦３００ｍｍ、横３００ｍｍのアクリル樹脂製の基体の第１の主面にフローコート法により被膜を形成し、乾燥した後、熱硬化することにより硬化させ、厚さが５μｍの第１ハードコート層を形成した。
【００７３】
次に、基体の第２の主面に対しても、同様の方法を用い、厚さが５μｍの第２ハードコート層を形成した。
【００７４】
次に、両面に第１ハードコート層及び第２ハードコート層が形成された基体を、スパッタリング装置に搬入し、１×１０−５Ｐａとなるまで排気し、ＤＣ電源を用い、２００Ｗで１２０ｎｍの厚さのＡｇ膜（反射層）を、第１ハードコート層の主面に形成した。
【００７５】
さらに、ＳｉＣターゲットを使用し、ＲＦ電源を用いて５００Ｗで、２０ｎｍの厚さのＳｉＣ膜（セラミック層）を形成した。ＳｉＣ膜を形成する際には、大きいターゲットを用い、ＳｉＣ膜（セラミック層）が第２ハードコート層の主面及び側面（第２ハードコート層の全体）を覆い、かつ、基体の側面の一部を覆うように、ＳｉＣ膜（セラミック層）を形成した。
【００７６】
次に、第１の主面側に第１ハードコート層及び反射層が順次形成され、第２の主面側に第２ハードコート層及びセラミック層が順次形成された基体を、カーボンブラックが添加されたエポキシ樹脂を含む被覆樹脂層形成用の液状の組成物にディップし、引き上げて乾燥し、加熱して硬化させることにより、基体の第１の主面側に順次形成された、第１ハードコート層及び反射層の側面を含む周囲全体を覆うとともに、セラミック層で覆われていない基体の側面を覆う被覆樹脂層を形成し、ミラーの製造を終了した。
【００７７】
上記方法により製造したミラーは、基体の第１の主面側に第１ハードコート層及び反射層が順次形成され、基体の第２の主面側に第２ハードコート層及びセラミック層が順次形成されている。また、被覆樹脂層が、第１ハードコート層及び反射層の側面を含む周囲全体を覆うとともに、セラミック層で覆われていない基体の側面を覆っており、セラミック層は、第２ハードコート層の主面及び側面（第２ハードコート層の全体）を覆い、かつ、基体の側面の一部を覆っている。なお、各層の厚さは、レーザー顕微鏡を用いて測定した。
【符号の説明】
【００７８】
１０、２０  ミラー
１１、２１  基体
１１ａ、２１ａ  基体の第１の主面
１１ｂ、２１ｂ  基体の第２の主面  
１１ｃ、２１ｃ  基体の側面
１２、２２  第１ハードコート層
１２ａ、２２ａ  第１ハードコート層の主面
１２ｂ、２２ｂ  第１ハードコート層の側面
１３、２３  反射層
１３ａ、２３ａ  反射層の主面
１３ｂ、２３ｂ  反射層の側面
１４、２４  被覆樹脂層
１５、２５  第２ハードコート層
１５ａ、２５ａ  第２ハードコート層の主面
１５ｂ、２５ｂ  第２ハードコート層の側面
１６、２６  セラミック層
【図１】
2017024195.tif 000003
【図２】
2017024195.tif 000004
【図３】
2017024195.tif 000005