(57)【要約】【課題】半導体工場内における処理装置の稼働率を低下させることなくウエハ搬送容器を清浄化する容器内清浄化装置等を提供する。【解決手段】  ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置であって、前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と、前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室と、前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させる開閉機構と、前記清浄化室の上部に配置され、前記清浄化室の下方に向かって、クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段と、前記清浄化室内に配置され、前記装置開口に向かって不活性ガスを放出可能な第２のガス放出手段と、を有する容器内清浄化装置。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置であって、
前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室と、
前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させる開閉機構と、
前記清浄化室の上部に配置され、前記清浄化室の下方に向かって、クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段と、
前記清浄化室内に配置され、前記装置開口に向かって不活性ガスを放出可能な第２のガス放出手段と、
を有する容器内清浄化装置。
【請求項２】
前記清浄化室の下部には、クリーンドライエアーおよび不活性ガスを、前記清浄化室から排出可能な排出口が形成されており、
前記清浄化室は、前記排出口を開閉する排出口開閉機構を有する請求項１に記載の容器内清浄化装置。
【請求項３】
前記清浄化室に設けられており前記清浄化室内における気体の成分を検出する検出手段を有する請求項１又は請求項２に記載の容器内清浄化装置。
【請求項４】
前記検出手段による検出値に応じて、少なくとも前記第１のガス放出手段および前記第２のガス放出手段のいずれかの放出量を調整するガス放出制御手段を有する請求項３に記載の容器内清浄化装置。
【請求項５】
前記開閉機構による前記蓋の移動距離は、前記容器主開口の開口長さより短いことを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の容器内清浄化装置。
【請求項６】
前記清浄化室は、前記装置開口に対向している背面壁部を有しており、前記装置開口から前記背面壁部までの距離は、前記ウエハの直径以下であることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかに記載の容器内清浄化装置。
【請求項７】
ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する清浄化方法であって、
前記ウエハ搬送容器を載置部に載置するステップと、
前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室内に配置される第１のガス放出手段から不活性ガスを放出し、前記清浄化室に不活性ガスを導入するステップと、
前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開き、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させるステップと、
前記清浄化室内に配置される第２のガス放出手段から不活性ガスを放出し、前記清浄化室に連通する前記ウエハ搬送容器内に不活性ガスを導入するステップと、
前記蓋および前記ドアを閉じ、前記ウエハ搬送容器内を前記清浄化室から分離させるステップと、
前記第１のガス放出手段からクリーンドライエアーを放出し、前記清浄化室内にクリーンドライエアーを導入するステップと、
を有する清浄化方法。
【請求項８】
前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させるステップは、前記清浄化室内の酸素濃度が所定値を下回ることを検出した後に行われることを特徴とする請求項７に記載の清浄化方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、容器内清浄化装置および清浄化方法に関し、より詳細には、ウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置および清浄化方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体の製造工程では、プープ（ＦＯＵＰ）等と呼ばれる容器を用いて、各処理装置の間のウエハの搬送が行われる。
【０００３】
ここで、ウエハが収納される容器内の環境は、ウエハ表面を酸化や汚染から守るために、所定の状態を上回る不活性状態及び清浄度が保たれることが好ましい。搬送容器内の気体の不活性状態や清浄度を向上させる方法としては、搬送容器の底面に形成された底孔や容器の主開口を介して、搬送容器に清浄化ガスを導入するロードポート装置や、これを含むＥＦＥＭが提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００３−４５９３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、ＥＦＥＭに含まれるロードポート装置により搬送容器内を清浄化する従来の方法では、ロードポート装置に搬送容器が載置されてからウエハの搬出を開始するまでの間に容器内を清浄化することになる。このため、容器内の清浄化が終了するまで容器からのウエハの取り出しを開始できないという不都合が生じる場合があり、ウエハの取り出しを待つことにより、処理装置の稼働率が低下するという問題が生じている。
【０００６】
本発明は、このような実状に鑑みてなされ、半導体工場内における処理装置の稼働率を低下させることなくウエハ搬送容器を清浄化する容器内清浄化装置および清浄化方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するために、本発明に係る容器内清浄化装置は、
ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する容器内清浄化装置であって、
前記ウエハ搬送容器を載置する載置部と、
前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室と、
前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開閉し、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させる開閉機構と、
前記清浄化室の上部に配置され、前記清浄化室の下方に向かって、クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段と、
前記清浄化室内に配置され、前記装置開口に向かって不活性ガスを放出可能な第２のガス放出手段と、を有する。
【０００８】
本発明に係る容器内清浄化装置は、半導体工場内において、ＥＦＥＭや処理室とは別途設置されるため、たとえばロードポート装置にウエハ搬送容器を設置する前に、容器内を清浄化することが可能である。容器内清浄化装置によって清浄化されたウエハ搬送容器を処理装置に付随するロードポート装置に移動させることにより、ロードポート装置では、移動後の搬送容器内に収容されたウエハを、ミニエンバイロメントや処理室に迅速に移動させることが可能となり、処理装置の稼働率を向上させることができる。また、容器内清浄化装置の清浄化室内には、ウエハの搬送装置等を設置する必要がないため、パーティクルの発生源が少なく、また、清浄化室は、ミニエンバイロメント等よりも容積が小さくてよいため、効果的にウエハ搬送容器内を清浄化することが可能である。
【０００９】
また、本発明に係る容器内清浄化装置は、クリーンドライエアーと不活性ガスとを切り替えて放出可能な第１のガス放出手段を有するため、清浄化室の状態を、クリーンドライエアー充填状態と不活性ガス充填状態とに切り換えることが可能である。ここで、ウエハ搬送容器内の清浄化にあたり、ウエハの表面の酸化を防ぐために不活性ガスを用いる必要がある。そのため、清浄化室内を常に不活性ガスによって清浄化することも考えられるが、この場合、作業者が誤って不活性ガスを吸入する恐れが生じたり、コスト面において負荷が大きくなるおそれがある。そのため、ウエハ搬送容器内を清浄化している状態以外においては、清浄化室内をクリーンドライエアーにて充填しておくことにより、これらの問題点を解消することが可能である。すなわち、ウエハ搬送容器の清浄化が終了した後は、清浄化室をクリーンドライエアー充填状態としておくことにより、作業者が誤って不活性ガスを吸入する問題などを効果的に防止でき、安全性に優れている。また、装置から不活性ガスが流出する問題を防止できるため、不活性ガスの消費量も抑制することが可能である。
【００１０】
また、本発明は、清浄化室内の状態を変更する第１のガス放出手段と、ウエハ搬送容器内に不活性ガスを送り込む第２のガス放出手段とを有するため、ウエハ搬送容器内を素早く不活性ガスで満たし、効果的な清浄化を実現できる。
【００１１】
また、たとえば、前記清浄化室の下部には、クリーンドライエアーおよび不活性ガスを、前記清浄化室から排出可能な排出口が形成されており、
前記清浄化室は、前記排出口を開閉する排出口開閉機構を有してもよい。
【００１２】
このような排出口および排出口開閉機構を有する容器内清浄化装置は、クリーンドライエアー充填状態と不活性ガス充填状態とで、清浄化室内の状態を素早く変更することが可能である。また、排出口開閉機構を調整することにより、清浄化室内の状態を調整することが可能である。
【００１３】
また、たとえば、本発明に係る容器内清浄化装置は、前記清浄化室に設けられており前記清浄化室内における気体の成分を検出する検出手段を有してもよい。
【００１４】
このような容器内清浄化装置は、検出手段が検出した検出値を用いることで、清浄化室やウエハ搬送容器内が、不活性ガスで満たされたことなどを検出することが可能である。
【００１５】
また、たとえば、本発明に係る空気清浄化装置は、前記検出手段による検出値に応じて、少なくとも前記第１のガス放出手段および前記第２のガス放出手段のいずれかの放出量を調整するガス放出制御手段を有してもよい。
【００１６】
このような空気清浄化装置は、検出値に応じてガスの放出量を調整することにより、清浄化室やウエハ搬送容器内のガスの成分を調整することが可能となり、例えば清浄化室の酸素濃度を低減してウエハの酸化を防止したり、不活性ガスの放出量を増減させて、不活性ガスの消費量の抑制や、置換速度の最適化を行うことができる。
【００１７】
また、たとえば、前記開閉機構による前記蓋の移動距離は、前記容器主開口の開口長さより短くてもよい。
【００１８】
このような空気清浄化装置は、清浄化室内の可動部分を小さくして、清浄化室内でのパーティクルの発生を抑制することができる。また、蓋の移動距離が短いため、開閉機構による動作時間を短縮し、ウエハ搬送容器の清浄化動作を迅速に行うことが可能である。
【００１９】
また、たとえば、前記清浄化室は、前記装置開口に対向している背面壁部を有しており、前記装置開口から前記背面壁部までの距離は、前記ウエハの直径より小さくてもよい。
【００２０】
このような清浄化室を有する清浄化装置は、清浄化室の容積が小さいため、ウエハ搬送容器の清浄化動作を迅速に行うことが可能であるとともに、不活性ガスの消費量を抑制することが可能である。
【００２１】
また、例えば、本発明に係るウエハ搬送容器内の清浄化方法は、ウエハを取り出し可能な容器主開口を有するウエハ搬送容器内を清浄化する清浄化方法であって、
前記ウエハ搬送容器を載置部に載置するステップと、
前記容器主開口に接続する装置開口を備える清浄化室内に配置される第１のガス放出手段から不活性ガスを放出し、前記清浄化室に不活性ガスを導入するステップと、
前記容器主開口を閉鎖する蓋および前記装置開口を閉鎖するドアを開き、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させるステップと、
前記清浄化室内に配置される第２のガス放出手段から不活性ガスを放出し、前記清浄化室に連通する前記ウエハ搬送容器内に不活性ガスを導入するステップと、
前記蓋および前記ドアを閉じ、前記ウエハ搬送容器内を前記清浄化室から分離させるステップと、
前記第１のガス放出手段からクリーンドライエアーを放出し、前記清浄化室内にクリーンドライエアーを導入するステップと、
を有する。
【００２２】
本発明の清浄化方法では、ウエハ搬送容器の清浄化が終了した後は、清浄化室をクリーンドライエアー充填状態としておく。これにより、作業者が誤って不活性ガスを吸入する問題などを効果的に防止でき、本発明の清浄化方法は、安全性に優れている。また、装置から不活性ガスが流出する問題を防止できるため、不活性ガスの消費量も抑制できる。
【００２３】
また、たとえば、前記ウエハ搬送容器内と前記清浄化室とを連通させるステップは、前記清浄化室内の酸素濃度が所定値を下回ることを検出した後に行ってもよい。
【００２４】
このような清浄化方法によれば、清浄化動作において、ウエハ搬送容器内の酸素濃度が一時的に高まる問題を防止し、搬送容器内のウエハの酸化を効果的に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、本発明の一実施形態に係る容器内清浄装置の半導体工場内における設置状態を表す概略図である。
【図２】図２は、本発明の一実施形態に係る容器内清浄化装置の概略断面図である。
【図３】図３は、図２に示す容器内清浄装置による清浄方法の第１および第２の段階を表す模式断面図である。
【図４】図４は、図２に示す容器内清浄装置による清浄方法の第３および第４の段階を表す模式断面図である。
【図５】図５は、図２に示す容器内清浄装置による清浄方法の第５および第６の段階を表す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明を、図面に示す実施形態に基づき説明する。
図１は、本発明の一実施形態に係る容器内清浄化装置１０の半導体工場内における配置状態を表す概略図である。図１に示すように、容器内清浄化装置１０は、ロードポート装置５１が付随する処理装置５０に隣接して、半導体工場内に配置される。容器内清浄化装置１０は、半導体工場内において、ＥＦＥＭや処理室を有する処理装置５０とは別途設置される。
【００２７】
容器内清浄化装置１０は、ウエハ搬送容器としてのフープ（ＦＯＵＰ）２内を清浄化する、他の処理室とは分離した装置である。したがって、容器内清浄化装置１０における清浄化室には、フープ２内からウエハ１を取り出すための搬送ロボット等は配置されておらず、また、他のミニエンバイロメントや処理室へ繋がるドア等も形成されていない（図２参照）。図１に示すように、容器内清浄化装置１０は、フープ２を載置するための載置部１４等については、処理室に付随するロードポート装置５１等と同様のサイズであるが、ウエハ１をフープ２から取り出したり、取り出したウエハ１を処理したりするためのスペースが必要ないため、処理装置５０に比べて小型である。
【００２８】
図２は、容器内清浄化装置１０の概略断面図であり、載置部１４にフープ２が載置された状態を表している。容器内清浄化装置１０による清浄化の対象となるフープ２は、ウエハ１を取り出し可能な容器主開口２ｂを有している。容器主開口２ｂは、蓋４によって封止されており、フープ２内には、処理装置５０での処理前又は処理後の複数のウエハ１が、密封して保管される。なお、本実施形態の容器内清浄化装置１０が清浄化する対象は、側面に容器主開口２ｂが形成されたフープ２であるが、本発明に係る容器内清浄化装置としてはこれに限定されず、フープ２以外のウエハ搬送容器を清浄化するものであってもかまわない。
【００２９】
図２に示すように、容器内清浄化装置１０は、フープ２を載置する載置部１４と、清浄化室１１と、フープ２内と清浄化室１１とを連通させるための開閉機構１５と、第１のガス放出手段１６と、第２のガス放出手段１７とを有する。また、容器内清浄化装置１０は、清浄化室１１内における気体の成分を検出する検出手段２０と、ガス放出制御手段２２と、排出口開閉機構１９等を有する。
【００３０】
載置部１４は、固定台１４ａと、固定台１４ａの上をスライド移動するスライドテーブル１４ｂとを有する。スライドテーブル１４ｂは、図２に示すようにフープ２を載せた状態で移動し、フープ２の容器主開口２ｂを、清浄化室１１の装置開口１２ａに接続する。
【００３１】
清浄化室１１は、略直方体状の形状を有している。清浄化室１１における載置部１４側の壁である前面壁部１２には、フープ２の容器主開口２ｂに接続する装置開口１２ａが備えられる。前面壁部１２の装置開口１２ａには、装置開口１２ａを閉鎖するドア１３が備えられており、ドア１３によって装置開口１２ａが閉鎖されることにより、清浄化室１１は外気から遮蔽されている。
【００３２】
清浄化室１１には、フープ２の蓋４および装置開口１２ａを閉鎖するドア１３を開閉し、フープ２と清浄化室１１とを連通させる開閉機構１５が設けられている。開閉機構１５は、ドア１３及びドア１３に係合する蓋４を、清浄化室１１の内部へ移動させることにより、容器主開口２ｂおよび装置開口１２ａを開放する。開閉機構１５は、たとえばドア１３に接続するアームや、アームが接続するドア１３を平行移動または回動させるモータ等を有するが、開閉機構１５の具体的構成は特に限定されない。
【００３３】
容器内清浄化装置１０では、フープ２からウエハ１を取り出す必要がないため、開閉機構１５による蓋４の移動距離は、フープ２の容器主開口２ｂの開口長さより短くてもよい。容器主開口２ｂの開放の程度は、フープ２内に不活性ガスを導入可能であれば足りるからである。また、容器内清浄化装置１０は、装置開口１２ａが形成される前面壁部１２に対向する背面壁部２６を有しており、装置開口１２ａから背面壁部２６までの距離は、ウエハ１の直径以下であってもよい。装置開口１２ａから背面壁部２６までの距離を小さくすることにより、清浄化室１１の容積を小さくし、フープ２内の効率的な清浄化が可能となる。また、清浄化室１１は、ロードポート装置５１等によって接続されるミニエンバイロメント等は異なり、ウエハ１が通過可能な容積を有する必要がない。なお、蓋４が平行移動しない場合、蓋４の移動距離は重心移動距離とする。
【００３４】
容器内清浄化装置１０には、第１のガス放出手段１６と、第２のガス放出手段１７の２つのガス放出手段を有する。第１のガス放出手段１６は、清浄化室１１の上部（本実施形態では清浄化室１１の上面壁部２８）に放出口が配置されており、清浄化室１１の上方から下方に向かってガスを放出する。第１のガス放出手段１６は、クリーンドライエアー（ＣＤＡ）と不活性ガスとを切り替えて放出可能である。クリーンドライエアーおよび不活性ガスは、図示しない配管部を介して、第１のガス放出手段１６に供給される。第１のガス放出手段１６によるガスの放出および停止や、クリーンドライエアーと不活性ガスの切り換えは、ガス放出制御手段２２によって制御される。なお、ここでクリーンドライエアーとは、一般的な環境における空気から水分やパーティクルを除去し清浄化した空気のことを意味する。
【００３５】
第２のガス放出手段１７は、清浄化室１１内に放出口が配置されており、装置開口１２ａに向かって不活性ガスを放出する。第２のガス放出手段１７の放出口は、清浄化室１１における上面壁部２８および前面壁部１２に垂直である側面壁部２４に配置されていることが、開いたドア１３と前面壁部１２との隙間からフープ２内に清浄化ガスを送り込む観点で好ましい。また、第２のガス放出手段１７の放出口は、互いに対向する２つの側面壁部２４に分けて配置されてもよく、これによりフープ２内に均一に不活性ガスを送り込むことが可能である。第２のガス放出手段１７が放出する不活性ガスは、第１のガス放出手段１６と同様に、図示しない配管部を介して、第２のガス放出手段１７に供給される。
【００３６】
第１および第２ガス放出手段が放出する不活性ガスとしては、窒素ガスやアルゴンガスが考えられるが、不活性ガスの成分は特に限定されない。
【００３７】
清浄化室１１の下部には、第１のガス放出手段１６および第２のガス放出手段１７から放出されたクリーンドライエアーおよび不活性ガスを清浄化室１１から排出可能な排出口１８が形成されている。また、清浄化室１１は、排出口１８を開閉する排出口開閉機構１９を有しており、排出口開閉機構１９の動作は、後述するガス放出制御手段２２によって制御される。
【００３８】
また、清浄化室１１は、清浄化室１１内における気体の成分を検出する検出手段２０が設けられている。検出手段２０の設置場所は特に限定されないが、たとえば前面壁部１２、特に装置開口１２ａ周辺の前面壁部１２に設置されることが、検出値からフープ２内の気体の成分を推定する観点から好ましい。検出手段２０が検出する気体の成分としては特に限定されないが、たとえば酸素濃度や、水分量、パーティクル量等が挙げられる。
【００３９】
清浄化室１１の外部に設けられるガス放出制御手段２２は、マイクロプロセッサ等の演算手段を有しており、検出手段２０の検出値に応じて、少なくとも第１のガス放出手段１６および第２のガス放出手段１７のいずれかからのガスの放出量を調整する。また、ガス放出制御手段２２は、排出口開閉機構１９による排出口１８の開放量についても、検出手段２０の検出値に応じて変更することができる。さらに、ガス放出制御手段２２は、第１のガス放出手段１６における放出ガスの切り替えや、第１および第２のガス放出手段１６、１７におけるガスの放出開始及び放出停止についても、検出手段２０の検出値やその他の信号等に応じて、制御することができる。
【００４０】
以下、図３から図５に示す模式断面図を用いて、図２に示す容器内清浄化装置１０を用いて行われるフープ２の清浄化方法の一例について、具体的に説明する。なお、図３〜図５の模式断面図では、説明の都合上、図２に示す容器内清浄化装置１０に含まれる構成の一部を図示していない。図３（ａ）は、清浄化方法の第１の段階を表している。図３（ａ）に示すように、清浄化方法の第１の段階では、容器内清浄化装置１０における第１のガス放出手段１６からは、クリーンドライエアーが放出されており、ドア１３が閉じられて該環境から遮蔽されている清浄化室１１は、クリーンドライエアーで充填されている。また、排出口１８を開放しておくことにより、清浄化室１１の上方から下方へ向かうクリーンドライエアーの流れが形成されるため、清浄化室１１の内部をよりクリーンな状態に保つことができる。この状態において、図３（ａ）に示すように、工場内のＯＨＴ（オーバーヘッドトランスポート）等を介して、フープ２が載置部１４に搬送および設置される。
【００４１】
図３（ｂ）は、清浄化方法の第２の段階を表している。図３（ｂ）に示すように、清浄化方法の第２の段階では、フープ２内の清浄化を行う準備処理として、清浄化室１１に不活性ガスを導入する。より具体的には、図２に示すガス放出制御手段２２は、フープ２が載置部１４に搬送されたことを検出した後、第１のガス放出手段１６が放出するガスをクリーンドライエアーから不活性ガスに切り換え、第１のガス放出手段１６から不活性ガスを放出させることにより、清浄化室１１に不活性ガスを導入する。不活性ガスの導入により、図３（ａ）に示す第１の段階において清浄化室１１内に充填されていたクリーンドライエアーは、排出口１８から排出されるため、清浄化室１１は不活性ガスで満たされる。
【００４２】
清浄化方法の第２の段階では、載置部１４のスライドテーブル１４ｂが清浄化室１１へ向かって移動し、清浄化室１１の装置開口１２ａは、フープ２の容器主開口２ｂに接続する。
【００４３】
図４（ａ）は、清浄化方法の第３の段階を表している。図４（ａ）に示すように、清浄化方法の第３の段階では、図２に示す開閉機構１５が容器主開口２ｂを閉鎖する蓋４および装置開口１２ａを閉鎖するドア１３を開き、フープ２内と清浄化室１１とを連通させる。なお、開閉機構１５による蓋４およびドア１３の開放動作は、図２に示す検出手段２０の検出値により、清浄化室１１の酸素濃度が所定値を下回ったことを検出した後に行われる。
【００４４】
さらに、図４（ａ）に示す清浄化方法の第３の段階では、第２のガス放出手段１７から不活性ガスを放出し、清浄化室１１に連通するフープ２内に、不活性ガスを導入する。第２のガス放出手段１７は、装置開口１２ａおよび装置開口１２ａを介して連通するフープ２に向かって不活性ガスを放出することにより、フープ２内を効率的に清浄化することができる。清浄化前においてフープ２内に存在していた気体は、清浄化室１１を経て、排出口１８から排出される。なお、図４（ａ）に示す清浄化方法の第３の段階では、第１のガス放出手段１６により放出された不活性ガスの一部を、例えば整流板や清浄化室１１内に移動された蓋４などを用いて流れの方向を調整し、フープ２内に導入してもよい。
【００４５】
図４（ｂ）は、清浄化方法の第４の段階を表している。図４（ｂ）に示すように、清浄化方法の第４の段階では、第２のガス放出手段１７による不活性ガスの放出を停止する。より具体的には、図２に示すガス放出制御手段２２は、検出手段２０による検出値や第２のガス放出手段１７によるフープ２内への不活性ガスの導入時間等に基づき、フープ２内の清浄化が完了したと判断した後、第２のガス放出手段１７による不活性ガスの放出を停止する。この場合、ガス放出制御手段２２は、排出口１８の近傍に配置された検出手段２０の検出値に基づき、不活性ガスの放出を継続するか、停止するかの判断をおこなうことにより、フープ２内の清浄化状態をより適切に反映した制御を行うことができる。
【００４６】
図５（ａ）は、清浄化方法の第５の段階を表している。図５（ａ）に示すように、清浄化方法の第５の段階では、図２に示す開閉機構１５が容器主開口２ｂを閉鎖する蓋４および装置開口１２ａを閉鎖するドア１３を閉じ、フープ２内を清浄化室１１から分離させる。さらに、清浄化方法の第５の段階では、第１のガス放出手段１６からクリーンドライエアーを放出させ、清浄化室１１にクリーンドライエアーを導入する。より具体的には、図２に示すガス放出制御手段２２は、ドア１３および蓋４が閉じられてフープ２内が清浄化室１１から分離されたことを検出した後、第１のガス放出手段１６が放出するガスを不活性ガスからクリーンドライエアーに切り換え、第１のガス放出手段１６からクリーンドライエアーを放出させることにより、清浄化室１１にクリーンドライエアーを導入する。クリーンドライエアーの導入により、図３（ｂ）〜図４（ｂ）に示す第２〜第４の段階において清浄化室１１内に充填されていた不活性ガスは、排出口１８から排出される。
【００４７】
図５（ｂ）は、清浄化方法の第６の段階を表している。図５（ｂ）に示すように、清浄化方法の第６の段階では、載置部１４のスライドテーブル１４ｂが清浄化室１１から離れる方向へ移動し、清浄化室１１の装置開口１２ａとフープ２の容器主開口２ｂとの接続が解除される。スライドテーブル１４ｂは、フープ２をＯＨＴによる受渡位置まで移動させ、受渡位置に移動したフープ２は、所定のタイミングで他の処理装置５０のロードポート装置５１に搬送される。以下、半導体工場内のフープ２が載置部１４に搬送される度に、上述した第１〜第６の段階が繰り返される。
【００４８】
なお、図５（ｂ）に示すようにフープ２が清浄化室１１から分離された後、次のフープ２が図３（ａ）に載置されるまでの間、第１のガス放出ノズル１６は、連続的にクリーンドライエアーを清浄化室１１に放出しても良いが、たとえば所定時間のクリーンドライエアーの放出を行って清浄化室１１の不活性ガスを排出した後、ガスの放出を停止してもよい。第１のガス放出手段１６からのガスの放出を停止している間は、図２に示す排出口開閉機構１９は、排出口１８を閉じておくことが好ましい。
【００４９】
上述のような清浄化方法によれば、フープ２の清浄化が終了した後は、清浄化室１１をクリーンドライエアー充填状態としておくため、作業者が誤って不活性ガスを吸入する問題を効果的に防止でき、工場設備の安全性の観点で優れている。また、容器内清浄化装置１０から不活性ガスが流出する問題を防止できるため、不活性ガスの消費量も抑制できる。
【００５０】
また、処理装置５０に付随したロードポート装置５１とは別途設置される容器内清浄化装置１０を用いてフープ２内の清浄化を行うことにより、処理室に付随したロードポート装置５１では、清浄化処理を行うことなく迅速に処理前のウエハ１を取り出したり、処理後のウエハ１を収容したフープ２を迅速に移動させたりすることが可能となり、処理装置５０の稼働率を向上させることができる。また、スタンドアローンタイプの容器内清浄化装置１０は、清浄化室１１に、ウエハ１の搬送装置等を設置する必要がないためパーティクルの発生源が少なく、また、清浄化室１１は、ミニエンバイロメント等よりも容積が小さくてよいため、効果的にフープ２内を清浄化することが可能である。
【００５１】
また、容器内清浄化装置１０は、清浄化室１１の環境を変化させる第１のガス放出手段１６と、フープ２内を清浄化する第２のガス放出手段１７とを有するため、フープ２内を効率的に清浄化することが可能である。さらに、容器内清浄化装置１０は、規格が統一されている主開口２ｂを介してフープ２内の清浄化を行うため、例えば工場内で複数種類のフープ２が使用されるような場合であっても、問題なく使用することができる。
【００５２】
以上、実施形態を挙げて本発明を説明したが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されず、様々な変形例を含むことは言うまでもない。たとえば、図４（ａ）および（ｂ）に示すように、開閉機構１５によってフープ２の容器主開口２ｂまたは清浄化室１１の装置開口１２ａから取り外された蓋４およびドア１３は、背面壁部２６に対して斜めに保持されてもよいが、背面壁部２６に対して平行に保持されてもよい。
【符号の説明】
【００５３】
１…  ウエハ
２…  フープ
２ｂ…  容器主開口
４…  蓋
１０…  容器内清浄化装置
１１…  清浄化室
１２…  前面壁部
１２ａ…  装置開口
１３…  ドア
１４…  載置部
１４ａ…  固定台
１４ｂ…  スライドテーブル
１５…  開閉機構
１６…  第１のガス放出手段
１７…  第２のガス放出手段
１８…  排出口
１９…  排出口開閉機構
２０…  検出手段
２２…  ガス放出制御手段
２４…  側面壁部
２６…  背面壁部
２８…  上面壁部
５０…  処理装置
５１…  ロードポート装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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