(57)【要約】      （修正有）【課題】硫黄原子等のヘテロ原子特有の不快臭がなく、ハロゲン原子を含まないことから環境にやさしく、かつ、高い屈折率を有し、密着性にも優れた芳香族（メタ）アクリレート化合物の提供。【解決手段】式（１）で表されるモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物。2017024994.tif 000040（Ｒ１はＨ又はメチル基；Ｒ２はＨ又はＣ１〜８のアルキル基）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表されるモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物。
【化１】
2017024994.tif 000025
（上記一般式（１）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項２】
下記一般式（２）で表される３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物。
【化２】
2017024994.tif 000026
（上記一般式（２）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項３】
下記一般式（３）で表される７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物。
【化３】
2017024994.tif 000027
（上記一般式（３）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項４】
下記一般式（４）で表される５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物。
【化４】
2017024994.tif 000028
（上記一般式（４）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項５】
下記一般式（５）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物。
【化５】
2017024994.tif 000029
（上記一般式（５）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項６】
下記一般式（６）で表されるジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（１）で表されるモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【化６】
2017024994.tif 000030
（上記一般式（６）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【化７】
2017024994.tif 000031
（上記一般式（１）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項７】
下記一般式（７）で表される２，３−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（２）で表される３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【化８】
2017024994.tif 000032
（上記一般式（７）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【化９】
2017024994.tif 000033
（上記一般式（２）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項８】
下記一般式（８）で表される２，７−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（３）で表される７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【化１０】
2017024994.tif 000034
（上記一般式（８）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【化１１】
2017024994.tif 000035
（上記一般式（３）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項９】
下記一般式（９）で表される２，５−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（４）で表される５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【化１２】
2017024994.tif 000036
（上記一般式（９）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【化１３】
2017024994.tif 000037
（上記一般式（４）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項１０】
下記一般式（１０）で表される２，６−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（５）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法。
【化１４】
2017024994.tif 000038
（上記一般式（１０）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【化１５】
2017024994.tif 000039
（上記一般式（５）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。）
【請求項１１】
請求項１に記載のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
【請求項１２】
請求項２に記載の３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
【請求項１３】
請求項３に記載の７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
【請求項１４】
請求項４に記載の５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
【請求項１５】
請求項５に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物。
【請求項１６】
請求項１１乃至１５のいずれかに記載の重合性組成物に、さらにエチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、請求項２に記載の３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、請求項３に記載の７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、請求項４に記載の５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び請求項５に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）を配合することを特徴とする重合性組成物。
【請求項１７】
請求項１１乃至１６のいずれかに記載の重合性組成物を熱重合又は光重合して得られる重合物。
【請求項１８】
請求項１７に記載の重合物を含有する高屈折率材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、モノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、その製造法及びそれを含有する重合性組成物、重合物及び重合物よりなる高屈折率材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、高屈折率材料に対する要望が高くなってきている。高屈折率であるプラスチック材料の光学用物品への進出は著しく、液晶ディスプレイ用パネル、カラーフィルター、眼鏡レンズ、フレネルレンズ、レンチキュラーレンズ、ＴＦＴ用のプリズムレンズシート、非球面レンズ、光ディスク、光ファイバー、光道波路等への検討が盛んに行われている。
【０００３】
光重合性組成物としては、光重合性化合物の重合を開始する種の違いにより、光ラジカル重合性組成物と光カチオン重合性組成物とに分けられる。一般に、ラジカル重合型は、重合速度が速く、生成する塗膜硬度が高いという特徴を持つが、基材との密着性が弱いという欠点がある。また、酸素の影響を受けやすく、特に薄膜の生成においては窒素封入等の設備が必要となる。一方、カチオン重合型は、基材との密着性が高く、可とう性に優れており、酸素による影響を受けにくいという特徴を有する。そのため、電子材料分野においては光カチオン重合性組成物が用いられている。
【０００４】
有機化合物の屈折率を高くする方法としては、分子構造中にハロゲン原子や、硫黄化合物を導入することが有用であることは既に良く知られている。例えば、ハロゲン原子の有する高い固有屈折率を利用した、ハロゲン化高屈折率重合体が報告されているが、ハロゲン化によって、耐光性が著しく劣化し、また、高比重であるという欠点があった（特許文献１）。また、ハロゲン以外に高い固有屈折率を有する原子として、硫黄があり、この硫黄原子 を有する単量体組成物が報告されているが、これらは高い屈折率、優れた耐衝撃性を有するものの、得られたポリマーの耐光性が著しく劣り、また硫黄特有の不快臭が問題となる欠点があった（特許文献２）。
【０００５】
有機化合物の屈折率を高くするもう一つの方法としては、芳香族導入が知られている。しかしながら、通常、芳香族環を多く有する高屈折率樹脂組成物をガラス基板等にスピンコート法等により塗布した場合、高屈折率樹脂組成物と基板とのなじみが悪く、高屈折率樹脂組成物が基板状で玉状となってしまい、平滑に塗工しがたいという欠点があった。
【０００６】
紫外線ＬＥＤは発熱が少なく長寿命であることから最近光源としてよく使用されているが、アリールヨードニウム塩又はアリールスルホニウム塩を光重合開始剤として用いた場合、いずれも紫外線ＬＥＤ等の光源が発する長波長の光では光重合反応が進行しにくい等の問題があり、光重合増感剤を添加するのが一般的である。光重合増感剤としては、アントラセン化合物、チオキサントン化合物が知られており、特にアントラセン化合物が用いられることが多い（特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭５５−６９５４３号公報
【特許文献２】特開２００２−２０４３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
よって、本発明の目的は、硫黄原子等のヘテロ原子特有の不快臭がなく、ハロゲン原子を含まないことから環境にやさしく、かつ、高い屈折率を有し密着性にも優れた芳香族アクリレート化合物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、ナフタレン化合物の構造と光特性について鋭意検討した結果、ナフタレン環の２つの水酸基のうち、２位の水酸基が（メタ）アクリロイル化されたモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物が高い屈折率を有するだけでなく、フィルム等への密着性に優れることを見出し、本発明を完成させた。
【００１０】
すなわち、本発明は、以下に記載の骨子を要旨とするものである。まず、第一発明では、下記一般式（１）で表されるモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【００１１】
【化１】
2017024994.tif 000002
【００１２】
上記一般式（１）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００１３】
第二発明では、下記一般式（２）で表される３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【００１４】
【化２】
2017024994.tif 000003
【００１５】
上記一般式（２）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００１６】
第三発明では、下記一般式（３）で表される７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【００１７】
【化３】
2017024994.tif 000004
【００１８】
上記一般式（３）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００１９】
第四発明では、下記一般式（４）で表される５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【００２０】
【化４】
2017024994.tif 000005
【００２１】
上記一般式（４）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００２２】
第五発明では、下記一般式（５）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を提供する。
【００２３】
【化５】
2017024994.tif 000006
【００２４】
上記一般式（５）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００２５】
第六発明では、下記一般式（６）で表されるジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（１）で表されるモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法を提供する。
【００２６】
【化６】
2017024994.tif 000007
【００２７】
上記一般式（６）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００２８】
【化７】
2017024994.tif 000008
【００２９】
上記一般式（１）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３０】
第七発明では、下記一般式（７）で表される２，３−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（２）で表される３−ヒドロキシ−−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法を提供する。
【００３１】
【化８】
2017024994.tif 000009
【００３２】
上記一般式（７）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３３】
【化９】
2017024994.tif 000010
【００３４】
上記一般式（２）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３５】
第八発明では、下記一般式（８）で表される２，７−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（３）で表される７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法を提供する。
【００３６】
【化１０】
2017024994.tif 000011
【００３７】
上記一般式（８）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００３８】
【化１１】
2017024994.tif 000012
【００３９】
上記一般式（３）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４０】
第九発明では、下記一般式（９）で表される２，５−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（４）で表される５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法を提供する。
【００４１】
【化１２】
2017024994.tif 000013
【００４２】
上記一般式（９）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４３】
【化１３】
2017024994.tif 000014
【００４４】
上記一般式（４）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４５】
第十発明では、下記一般式（１０）で表される２，６−ジヒドロキシナフタレン化合物を、塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることを特徴とする、下記一般式（５）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法を提供する。
【００４６】
【化１４】
2017024994.tif 000015
【００４７】
上記一般式（１０）において、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００４８】
【化１５】
2017024994.tif 000016
【００４９】
上記一般式（５）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００５０】
第十一発明では、第一発明に記載のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物を提供する。
【００５１】
第十二発明では、第二発明に記載の３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物を提供する。
【００５２】
第十三発明では、第三発明に記載の７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物を提供する。
【００５３】
第十四発明では、第四発明に記載の５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物を提供する。
【００５４】
第十五発明では、第五発明に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有することを特徴とする重合性組成物を提供する。
【００５５】
第十六発明では、第十一発明乃至第十五発明のいずれかに記載の重合性組成物に、さらにエチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、第二発明に記載の３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、第三発明に記載の７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、第四発明に記載の５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び第五発明に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）を配合することを特徴とする重合性組成物を提供する。
【００５６】
第十七発明では、第十一発明乃至第十六発明のいずれかに記載の重合性組成物を熱重合又は光重合して得られる重合物を提供する。
【００５７】
第十八発明では、第十七発明に記載の重合物を含有する高屈折率材料を提供する。
【発明の効果】
【００５８】
本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物は、硫黄原子等のヘテロ原子を有しないことから、ヘテロ原子特有の不快臭がなく、ハロゲン原子を含まないことから環境にやさしく、かつ、高い屈折率を有し密着性に優れた新規な芳香族アクリレート化合物であり、有用な化合物である。なお、本発明のおける（メタ）アクリレートとは、アクリレート又はメタクリレートを指し、（メタ）アクリロイルとは、アクリロイル又はメタクリロイルを指す。また、本発明において、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を併せてモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物と称す。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
（化合物）
以下、本発明を詳細に説明する。本発明は、下記一般式（１）で表されるモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物である。
【００６０】
【化１】
2017024994.tif 000017
【００６１】
上記一般式（１）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００６２】
上記一般式（１）において、Ｒ２で表される炭素数１〜８のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。
【００６３】
上記一般式（１）における水酸基が、ナフタレン環の３位にあるときは、本発明の下記一般式（２）で表される３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物となる。
【００６４】
【化２】
2017024994.tif 000018
【００６５】
上記一般式（２）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００６６】
上記一般式（１）における水酸基が、ナフタレン環の７位にあるときは、本発明の下記一般式（３）で表される７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物となる。
【００６７】
【化３】
2017024994.tif 000019
【００６８】
上記一般式（３）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００６９】
上記一般式（１）における水酸基が、ナフタレン環の５位にあるときは、本発明の下記一般式（４）で表される５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物となる。
【００７０】
【化４】
2017024994.tif 000020
【００７１】
上記一般式（４）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００７２】
上記一般式（１）における水酸基が、ナフタレン環の６位にあるときは、本発明の下記一般式（５）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物となる。
【００７３】
【化５】
2017024994.tif 000021
【００７４】
上記一般式（５）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００７５】
上記一般式（２）で表される３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物としては、例えば次のものが挙げられる。すなわち、３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、１−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−メチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６，７−ジメチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６，７−ジメチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５，８−ジメチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５，８−ジメチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−エチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６，７−ジエチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６，７−ジエチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５，８−ジエチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５，８−ジエチル−３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート等が挙げられる。
【００７６】
また、上記一般式（３）で表される７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物としては、例えば次のものが挙げられる。すなわち、７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、１−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−メチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５，８−ジメチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５，８−ジメチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−エチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５，８−ジエチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５，８−ジエチル−７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート等が挙げられる。
【００７７】
また、上記一般式（４）で表される５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物としては、例えば次のものが挙げられる。すなわち、５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、１−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−メチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７，８−ジメチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７，８−ジメチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、６−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−エチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７，８−ジエチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７，８−ジエチル−５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート等が挙げられる。
【００７８】
また、上記一般式（５）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物としては、例えば次のものが挙げられる。すなわち、６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、１−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−メチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７，８−ジメチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７，８−ジメチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、１−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、４−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、４−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、５−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、８−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、８−エチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート、７，８−ジエチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７，８−ジエチル−６−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート等が挙げられる。
【００７９】
これらのモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の中でも、特に高い屈折率が得られることから、３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート、５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート等が好ましい。
【００８０】
（製造方法）
次に、本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法について説明する。本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物は、原料として、ジヒドロキシナフタレン化合物を用い、これにハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させてモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を得ることができる。
【００８１】
本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の製造方法は、下記（反応式１）に示すように、ジヒドロキシナフタレン化合物を塩基性化合物の存在下、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応させることによりなる。
【００８２】
【化６】
2017024994.tif 000022
【００８３】
上記（反応式１）において、Ｒ１は水素原子又はメチル基を表し、Ｒ２は水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を表し、Ｒ４は、塩素原子又は臭素原子を表し、複数あるＲ２は互いに同一であっても異なっていてもよい。
【００８４】
上記（反応式１）において、原料として用いるジヒドロキシナフタレン化合物としては、水酸基が２位と３位にある２，３−ヒドロキシナフタレン化合物の場合では、２，３−ジヒドロキシナフタレン、１−メチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、４−メチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、５−メチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、６−メチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、７−メチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、８−メチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、６，７−ジメチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、５，８−ジメチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、１−エチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、４−エチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、５−エチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、６−エチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、７−エチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、８−エチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、６，７−ジエチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン、５，８−ジエチル−２，３−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
【００８５】
原料として用いるジヒドロキシナフタレン化合物としては、水酸基が２位と７位にある２，７−ヒドロキシナフタレン化合物の場合では、２，７−ジヒドロキシナフタレン、１−メチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、４−メチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、５−メチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、６−メチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、３−メチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、８−メチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、３，６−ジメチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、５，８−ジメチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、１−エチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、４−エチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、５−エチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、６−エチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、３−エチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、８−エチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、３，６−ジエチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン、５，８−ジエチル−２，７−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
【００８６】
原料として用いるジヒドロキシナフタレン化合物としては、水酸基が２位と５位にある２，５−ヒドロキシナフタレン化合物の場合では、２，５−ジヒドロキシナフタレン、１−メチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、４−メチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、７−メチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、６−メチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、３−メチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、８−メチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、３，６−ジメチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、７，８−ジメチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、１−エチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、４−エチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、７−エチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、６−エチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、３−エチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、８−エチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、３，６−ジエチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン、７，８−ジエチル−２，５−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
【００８７】
原料として用いるジヒドロキシナフタレン化合物としては、水酸基が２位と６位にある２，６−ヒドロキシナフタレン化合物の場合では、２，６−ジヒドロキシナフタレン、１−メチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、４−メチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、７−メチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、５−メチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、３−メチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、８−メチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、３，５−ジメチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、７，８−ジメチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、１−エチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、４−エチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、７−エチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、５−エチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、３−エチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、８−エチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、３，５−ジエチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン、７，８−ジエチル−２，６−ジヒドロキシナフタレン等が挙げられる。
【００８８】
（反応式１）において、原料として用いるハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物としては、例えば塩化アクリロイル、塩化メタクリロイル、臭化アクリロイル、臭化メタクリロイル等が挙げられる。
【００８９】
（反応式１）において、用いる塩基性化合物としては、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の無機塩基；トリメチルアミン、トリエチルアミン、ピペリジン、ピリジン等の有機アミン化合物等が用いられる。
【００９０】
塩基性化合物の使用量は、ジヒドロキシナフタレン化合物１モルに対して１．０モル倍以上、１．５モル倍以下、より好ましくは１．１モル倍以上，１．３モル倍以下である。１．０モル倍未満の場合は、原料のジヒドロキシナフタレン化合物が未反応で残留し、１．５モル倍より多く使用した場合は、副生物が副生し、目的物の純度が低下し好ましくない。
【００９１】
ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物の使用量は、原料であるジヒドロキシナフタレン化合物１モルに対して１．０モル倍以上、２．０モル倍以下、より好ましくは１．１モル倍以上，１．５モル倍以下である。１．０モル倍未満では未反応のヒドロキシナフタレンの量が多くなり、原料回収等の処理が必要となる場合がある。
【００９２】
使用する溶媒としては、ハロゲン化（メタ）アクリロイル化合物と反応しない非水系溶媒を用いることが好ましい。通常用いられる溶媒はトルエン、キシレン等の芳香族系溶媒、塩化メチレン、ジクロロエチレン等のハロゲン系溶媒である。
【００９３】
反応温度は通常、室温以上、８０℃以下で行うのが好ましい。反応の進行とともに沈殿が生じるので、ろ過乾燥すれば、モノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物化合物が得られる。必要に応じて再結晶して精製することも可能である。
【００９４】
（重合性組成物）
本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物は、熱重合開始剤及び／又は光重合開始剤を含有させることにより、重合性組成物とすることができる。このとき、エチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）を配合することもできる。モノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び熱重合開始剤及び／もしくは光重合開始剤を含有する重合性組成物、もしくはさらにエチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）を配合する重合性組成物は、熱又は光により重合させることができる。これにより得られた重合物は高屈折率材料として有用である。
【００９５】
エチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）としては、例えば、スチレン、瘁|メチルスチレン等の側鎖アルキル置換スチレン；ビニルトルエン等の核アルキル置換スチレン、ブロモスチレン、クロルスチレン等のハロゲン化スチレン；ジビニルベンゼン、ビニルナフタレン等を挙げることができる。シアン化ビニル系単量体としては、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、フマロニトリル、マレオニトリル、瘁|クロロアクリロニトリル等を挙げることができる。（メタ）アクリル酸エステル類としては、メチルメタクリレート、エチルメタクリレート、プロピレンメタクリレート、ブチルメタクリレート、アミルメタクリレート、ヘキシルメタクリレート、フェニルメタクリレート、メチルアクリレート、エチルアクリレート、アミルアクリレート、ヘキシルアクリレート、オクチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ドデシルアクリレート、フェニルアクリレート、ベンジルアクリレート等を挙げることができる。またコーティング用の多官能アクリレートとしては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、１、６−ヘキサンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリブタジエンアクリレート、ポリオールアクリレート、ポリエーテルアクリレート等が挙げることができる。
【００９６】
熱重合開始剤としては、有機過酸化物やアゾ系化合物等のどちらでも使用することができる。有機過酸化物としては、例えばｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルカーボネート類等のパーオキシエステル類、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）３，５，５−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール類、ラウロイルパーオキサイド等のジアシルパーオキサイド類等を挙げることができる。またアゾ系化合物としては、例えば２，２’−アゾビスイソブチロニトリルや、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カーボニトリル）等のアゾニトリル類を挙げることができる。
【００９７】
光重合開始剤としては、例えば、２、２−ジメトキシ−１、２−ジフェニルエタン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド、２−イソプロピルチオキサントン、２−ｔ−ブチルアントラキノン等が挙げられる。実際に入手可能な工業製品としては、イルガキュア６５１（「イルガキュア」はビー・エー・エス・エフ社の登録商標、以下同じ。）、イルガキュア１８４、ダロキュア１１７３（「ダロキュア」はビー・エー・エス・エフ社の登録商標、以下同じ。）、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、ダロキュアＴＰＯ、イルガキュア８１９等が挙げられる。
【００９８】
本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物とエチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）の組成比は、重量比で１００：１から１：１００まで自由に選ぶことができるが、好ましくは、５：１から１：５であり、より好ましくは２：１から１：４である。エチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）の組成比がモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物に対して重量比で４倍を超えると、得られたポリマーの屈折率が十分に高くならず、一方、モノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物の重量比がエチレン性不飽和二重結合を有する単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）に対して重量比で２倍を超えると重合性組成物の塗布性が悪化し好ましくない。
【００９９】
重合開始剤の使用量は、モノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物とエチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体（ただし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、５−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物、７−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び６−ヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物を除く。）の合計１００重量部に対して、通常０．１重量部以上５重量部以下であり、好ましくは０．３重量部以上２重量部以下である。重合開始剤の使用量が０．１重量部未満では重合反応に時間がかかり、また５重量部より多く使用しても、生成した重合物に重合開始剤が多量に残存してしまい、物性に悪影響を与えるため好ましくない。
【０１００】
重合は、フィルム状で行うこともできるし、塊状で行うこともできる。フィルム状でフィルム状に硬化させる場合は、例えばガラス基板に光硬化性組成物をバーコーター用いて塗布し、ついで光照射する。用いるランプとしては、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、紫外線ＬＥＤ、青色ＬＥＤ、白色ＬＥＤ、フュージョン社製のＨバルブ、Ｄバルブ、Ｖバルブ等が挙げられる。太陽光の使用も可能である。
【０１０１】
光照射は酸素非存在下で実施することが望ましい。酸素存在下では酸素阻害のためフィルム表面のべたつきがなかなか取れず、重合開始剤の添加量を多くする必要がなる。酸素非存在下での硬化方法としては、窒素ガス、ヘリウムガス等の雰囲気で行うことが挙げられる。また、酸素非過性の膜をかぶせて光硬化させる方法も有効である。かくして得られたフィルムは高い屈折率を示す。
【実施例】
【０１０２】
下記の実施例により本発明を例示するが、これらの実施例は本発明の範囲を限定するものではない。また、特記しない限り、すべての部は重量部である。生成物の確認は下記の機器による測定に基づいて行った。
【０１０３】
（１）融点：ゲレンキャンプ社製の融点測定装置、型式ＭＦＢ−５９５（ＪＩＳ Ｋ００６４に準拠）
（２）赤外線（ＩＲ）分光光度計：日本分光社製、型式ＩＲ−８１０
（３）核磁気共鳴装置（ＮＭＲ）：日本電子社製、型式ＧＳＸ ＦＴ ＮＭＲ Ｓｐｅｃｔｏｒｏｍｅｔｅｒ
【０１０４】
（合成実施例１）３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの合成
温度計、攪拌機付の１００ｍｌ三つ口フラスコに２，３−ジヒドロキシナフタレン１．６０ｇ（１０ミリモル）を脱気水１８ｇ中で良く分散し、次いで、窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム０．４８ｇ（１２ミリモル）の水２ｇ溶液を添加した。２，３−ジヒドロキシナフタレンは速やかに溶解し無色の水溶液となった。次に、得られた水溶液に塩化アクリロイル１．３５ｇ（１５ミリモル）のトルエン３．５ｇ溶液を添加した。すると、直ちに白い沈殿が生じた。室温で２０分攪拌した後、スラリーを吸引濾過し、水洗い、さらにはトルエン洗いした。得られた粉末を乾燥し、３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの白い粉末１．５３ｇ（７．１ミリモル）を得た。原料の２，３−ジヒドロキシナフタレンに対する単離収率は７１モル％であった。
【０１０５】
（１）融点：１４４−１４５℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３５００，３４００，３０２８，１７３２，１６３８，１６０３，１５３５，１４８５，１４０８，１３６０，１２８０，１２６０，１１５８，１１０２，１０２２，９８６，８７２，８１０，７５２，６０４，５８３，４８６ｃｍ−１．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ５．５７（ｓ，１Ｈ），６．１１（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ），６．４２（ｄｄ，Ｊ１＝１７Ｈｚ，Ｊ２＝８Ｈｚ，１Ｈ），６．７０（ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ，１Ｈ），７．１９（ｓ，１Ｈ），７．２８−７．４０（ｍ，２Ｈ），７．６３（ｓ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）．
【０１０６】
（合成比較例１）２−ナフチルアクリレートの合成
温度計、攪拌機付の１００ｍｌ三つ口フラスコに２−ヒドロキシナフタレン１．４４ｇ（１０ミリモル）、塩化アクリロイル１．０８ｇ（１２ミリモル）をアセトン７ｇ中に溶解し、次いで、窒素雰囲気下トリエチルアミン１．２ｇ（１２ミリモル）のアセトン２ｇ溶液を室温で添加した。直ちに白い沈殿が生成するので、室温で３０分攪拌した。水を６ｇ加え沈殿を溶解し、上層のオイルをトルエンに溶解し、メタノールを加えて、濃縮した。うす茶色の結晶が析出するので、吸引濾過・乾燥し、２−ナフチルアクリレートの薄茶色の結晶１．３２ｇ（６．６ミリモル）を得た。原料の２−ヒドロキシナフタレンに対する単離収率は６１モル％であった。
【０１０７】
（１）融点：４２−４３℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３０５０，３０２０，１７３３，１６２３，１５９８，１５０８，１３９８，１２５４，１２３７，１２０７，１１５５，９６０，８４７，８１２，７５５，４８０，４７１ｃｍ−１．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ６．０４（ｄ、Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ），６．４０（ｄｄ，Ｊ１＝１７Ｈｚ，Ｊ２＝８Ｈｚ，１Ｈ），６．６８（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ），７．２７（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．４６−７．５２（ｍ，２Ｈ），７．６２（ｓ，１Ｈ），７．７９−７．８９（ｍ，２Ｈ），７．９０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）．
【０１０８】
（合成実施例２）３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレートの合成
温度計、攪拌機付の１００ｍｌ三つ口フラスコに２，３−ジヒドロキシナフタレン１．６０ｇ（１０ミリモル）を脱気水１６ｇ中で良く分散し、次いで、窒素雰囲気下、水酸化ナトリウム０．４８ｇ（１２ミリモル）の水２ｇ溶液を添加した。２，３−ジヒドロキシナフタレンは速やかに溶解し無色の水溶液となる。次に、得られた水溶液に塩化メタクリロイル１．５６ｇ（１５ミリモル）のトルエン５ｇ溶液を添加した。しばらくして白い沈殿が生じた。室温で２０分攪拌した後、スラリーを吸引濾過し、水洗い、さらにはトルエン洗いした。得られた粉末を乾燥し、３−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレートの白い粉末１．１８ｇ（５．５ミリモル）を得た。原料の２，３−ジヒドロキシナフタレンに対する単離収率は５５モル％であった。
【０１０９】
（１）融点：１７３−１７４℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３３９０，３０２５，２９８６，２９７３，１７３０，１６３２，１５３０，１４０２，１３０８，１２５３，１２０８，１１６２，１０９６，９５２，９０２，８６０，７５０，４８２ｃｍ−１．
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ２．１２（ｓ，３Ｈ），５．５５（ｓ，１Ｈ），５．８６（ｓ、１Ｈ），６．４６（ｓ，１Ｈ），７．３０（ｓ，１Ｈ），７．３１−７．４１（ｍ，２Ｈ），７．６１（ｓ，１Ｈ），７．６５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．７２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）．
【０１１０】
（合成実施例３）７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの合成
温度計、攪拌機付の１００ｍｌ三つ口フラスコに２，７−ジヒドロキシナフタレン１．６０ｇ（１０ミリモル）を脱気水１６ｇに分散させ、次いで水酸化ナトリウム０．４８ｇ（１２ミリモル）の水２ｇ水溶液を加え、うす黒い溶液を得た。次に、塩化アクリロイル１．３５ｇ（１５ミリモル）のトルエン溶液を加えたところ、薄緑色の固形分が沈殿した。３０分室温で撹拌したのち、反応物を吸引濾過し、水洗い、トルエン洗いを行った。乾燥後、７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート１．４１ｇ（６．６ミリモル）の薄緑色の粉末を得た。原料の２，７−ジヒドロキシナフタレンに対する単離収率は６６モル％であった。
【０１１１】
（１）融点：１３５−１３６℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３４５０，１７２２，１６２４，１５２６，１４５２，１４０４，１３９０，１２７７，１２６５，１１９２，１１４５，１０２６，９６８，９１８，８４０，８０８，６０４，４８０ｃｍ−１
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ５．１６（ｓ，１Ｈ），６．０５（ｄ，Ｊ＝８Ｈｚ，１Ｈ），６．３８（ｄｄ，Ｊ１＝１７Ｈｚ，Ｊ２＝８Ｈｚ，１Ｈ），６．６５（ｄ，Ｊ＝１７Ｈｚ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．４２（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．７１（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．７６（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）．
【０１１２】
（合成実施例４）７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレートの合成
温度計、攪拌機付の１００ｍｌ三つ口フラスコに２，７−ジヒドロキシナフタレン１．６０ｇ（１０ミリモル）を脱気水１６ｇに分散させ、次いで水酸化ナトリウム０．４８ｇ（１２ミリモル）の水３ｇ水溶液を加え、うす黒い溶液を得た。次に、塩化メタクリロイル１．４６ｇ（１４ミリモル）のトルエン溶液を加えたところ、灰色の固形分が沈殿した。３０分室温で撹拌したのち、反応物を吸引濾過し、水洗い、トルエン洗いを行った。乾燥後、７−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート１．８９ｇ（８．３ミリモル）の藤色の粉末を得た。原料の２，７−ジヒドロキシナフタレンに対する単離収率は８３モル％であった。
【０１１３】
（１）融点：１７７−１７８℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３４３０，３０２８，２９７０，２９４０，１７２８，１７１８，１６４０，１６１２，１５２２，１４５０，１３９０，１３３２，１３０８，１２２０，１２０４，１１６０，９５２，９０２，８３６，８０４，６１７，４７８ｃｍ−１
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ２．０９（ｓ，３Ｈ），５．２７（ｓ，１Ｈ），６．４０（ｓ，１Ｈ），７．０５（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．０７（ｓ，１Ｈ），７．１０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．３８（ｓ，１Ｈ），７．７０（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）），７．７７（ｄ、Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ）．
【０１１４】
（合成実施例５）５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレートの合成
温度計、攪拌機付の１００ｍｌ三つ口フラスコに２，５−ジヒドロキシナフタレン１．６０ｇ（１０ミリモル）を脱気水２０ｇに分散させ、次いで水酸化ナトリウム０．４８ｇ（１２ミリモル）の水３ｇ水溶液を加え、黒えんじ色の溶液を得た。次に、塩化メタクリロイル１．５６ｇ（１５ミリモル）のトルエン溶液を加えたところ、薄い紫色の固形分が沈殿した。３０分室温で撹拌したのち、反応物を吸引濾過し、水洗い、トルエン洗いを行った。乾燥後、５−ヒドロキシ−２−ナフチルメタクリレート１．００ｇ（４．４ミリモル）の灰色の粉末を得た。原料の２，５−ジヒドロキシナフタレンに対する単離収率は４４モル％であった。
【０１１５】
（１）融点：１２５−１２７℃
（２）ＩＲ（ＫＢｒ、ｃｍ−１）：３３８０，１７１０，１６３８，１５８２，１４６３，１３７２，１３２３，１３００，１２７６，１２１０，１１６０，１０８１，１０４２，９５３，８７６，８４３，８２０，７８０，７４０，６３７，４２６ｃｍ−１
（３）１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，４００ＭＨｚ）：δ２．１０（ｓ，３Ｈ），５．４８（ｓ，１Ｈ），５．８０（ｓ，１Ｈ），６．４１（ｓ，１Ｈ），６．７３（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ），７．１８−７．３０（ｍ，２Ｈ），７．５３（ｓ，１Ｈ），８．１６（ｄ，Ｊ＝７Ｈｚ，１Ｈ））．
【０１１６】
合成実施例１乃至５で得られたモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物及び合成比較例１で得られた２−ナフチルアクリレート化合物の屈折率を測定した。その結果を表１に示す。
【０１１７】
【表１】
2017024994.tif 000023
【０１１８】
（評価実施例１）トリメチロールプロパントリアクリレートと３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの共重合
エチレン性不飽和二重結合を有する共重合性単量体として、トリメチロールプロパントリアクリレート５０部と、モノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物として、３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート５０部に光重合開始剤として、イルガキュア８１９（ビー・エー・エス・エフ社製）１部を加え、加熱溶融し光重合性組成物とする。これを、ポリエステルフィルム（東レ社製ルミラー、膜厚１００μｍ）上に、バーコーターを用いて膜厚１２μとなるよう塗布した。次いで窒素雰囲気下、紫外線ＬＥＤ（光の中心波長は３９５ｎｍ、照射強度３ｍｗ／ｃｍ２）を３０分照射した。光照射した結果、フィルム上の重合性組成物はきれいに硬化した。得られたフィルムを、ナイフで１ｃｍ画の筋をいれ、粘着テープで上から覆った。その後、粘着テープをはがし、はがれた画数の数から、フィルムの密着性を判定した。その評価結果は、表２にまとめた。
【０１１９】
（評価実施例２）トリメチロールプロパントリアクリレートと７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの共重合
３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの代わりに、７−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートを用いること以外は、評価実施例１と同様の方法で重合性組成物を調製し、同様の方法で該重合性組成物をポリエステルフィルム上に塗布し、同様の方法で該重合性組成物に光照射し、同様の方法でフィルムの密着性を評価した。その評価結果は、表２にまとめた。
【０１２０】
（評価実施例３）トリメチロールプロパントリアクリレートと５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの共重合
３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの代わりに、５−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートを用いること以外は、評価実施例１と同様の方法で重合性組成物を調製し、同様の方法で該重合性組成物をポリエステルフィルム上に塗布し、同様の方法で該重合性組成物に光照射し、同様の方法でフィルムの密着性を評価した。その評価結果は、表２にまとめた。
【０１２１】
（評価比較例１）トリメチロールプロパントリアクリレートと２−ナフチルアクリレートの共重合
３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートの代わりに、２−ナフチルアクリレートを用いること以外は、評価実施例１と同様の方法で重合性組成物を調製し、同様の方法で該重合性組成物をポリエステルフィルム上に塗布し、同様の方法で該重合性組成物に光照射し、同様の方法でフィルムの密着性を評価した。その評価結果は、表２にまとめた。
【０１２２】
（評価比較例２）トリメチロールプロパントリアクリレートの単独重合
トリメチロールプロパントリアクリレートを１００部とし、３−ヒドロキシ−２−ナフチル３−ヒドロキシ−２−ナフチルアクリレートを使用しないこと以外は、評価実施例１と同様の方法で重合性組成物を調製し、同様の方法で該重合性組成物をポリエステルフィルム上に塗布し、同様の方法で該重合性組成物に光照射し、同様の方法でフィルムの密着性を評価した。その評価結果は、表２にまとめた。
【０１２３】
【表２】
2017024994.tif 000024
【０１２４】
表１及び２の評価結果から、以下のことが明らかである。すなわち、表１において、本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物は、公知の２−ナフチルアクリレートと比較して高い屈折率を有することがわかる。また、表２において、本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチルアクリレート化合物を用いて得られた光重合性組成物は、光照射により速やかに光重合して硬化するとともに、フィルムに対する密着性に優れていることがわかる。したがって、本発明のモノヒドロキシ−２−ナフチル（メタ）アクリレート化合物は、工業的に有用な化合物であるといえる。