(57)【要約】【課題】凹凸パターンの形成領域における凹欠点の生成を抑制した、インプリントモールド用ガラス板の製造方法の提供。【解決手段】ガラス板の第１主表面の外周部を掘り下げることで、前記第１主表面の中央部に周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出した突出面を形成する突出面形成工程と、前記ガラス板の第２主表面の中央部に非貫通穴を形成する非貫通穴形成工程とを有し、前記非貫通穴形成工程は、前記ガラス板の前記第１主表面を加工テーブルの支持面で支持しながら、前記ガラス板を加工する加工工程を有し、前記加工テーブルは前記支持面に防傷穴を有し、前記加工工程では、平面視において、前記防傷穴の前記支持面における開口縁の内側に、前記突出面の形成領域が配される、インプリントモールド用ガラス板の製造方法。【選択図】図９
2017050528.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス板の第１主表面の外周部を掘り下げることで、前記第１主表面の中央部に周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出した突出面を形成する突出面形成工程と、
前記ガラス板の第２主表面の中央部に非貫通穴を形成する非貫通穴形成工程とを有し、
前記非貫通穴形成工程は、前記ガラス板の前記第１主表面を加工テーブルの支持面で支持しながら、前記ガラス板を加工する加工工程を有し、
前記加工テーブルは前記支持面に防傷穴を有し、
前記加工工程では、平面視において、前記防傷穴の前記支持面における開口縁の内側に、前記突出面の形成領域が配される、インプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【請求項２】
前記加工工程では、平面視において、前記非貫通穴の前記第２主表面における開口縁の内側に、前記防傷穴が配される、請求項１に記載のインプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【請求項３】
ガラス板の第１主表面の外周部を掘り下げることで、前記第１主表面の中央部に周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出した突出面を形成する突出面形成工程と、
前記ガラス板の第２主表面の中央部に非貫通穴を形成する非貫通穴形成工程とを有し、
前記非貫通穴形成工程は、前記ガラス板の前記第１主表面を加工テーブルの支持面で支持しながら、前記ガラス板を加工する加工工程を有し、
前記加工テーブルは板部材を挟んで前記ガラス板を支持し、前記板部材は前記ガラス板との対向面に防傷穴を有し、
前記加工工程では、平面視において、前記防傷穴の前記対向面における開口縁の内側に、前記突出面の形成領域が配される、インプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【請求項４】
前記加工工程では、平面視において、前記非貫通穴の前記第２主表面における開口縁の内側に、前記防傷穴が配される、請求項３に記載のインプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【請求項５】
前記加工工程では、前記ガラス板の前記第１主表面に、前記突出面の形成領域に対する異物の付着を防止する保護膜が形成されている、請求項１〜４のいずれか１項に記載のインプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【請求項６】
前記突出面形成工程は、前記ガラス板の前記第１主表面の外周部をエッチングによって掘り下げ、
前記保護膜は、前記突出面の形成領域を、前記エッチングから保護する、請求項５に記載のインプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【請求項７】
前記突出面に凹凸パターンを形成する工程をさらに有する、請求項１〜６のいずれか１項に記載のインプリントモールド用ガラス板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、インプリントモールド用ガラス板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ法の代替技術として、インプリント法が注目されている（例えば特許文献１参照）。インプリント法は、モールドと基板との間に転写材を挟み、モールドの凹凸パターンを転写材に転写する技術である。フォトリソグラフィ法では露光に使用する光の波長により分解能が制限されるが、インプリント法ではモールドに刻まれたパターン通りにパターンを形成することができ、非常に微細なパターン形成が可能となる。またフォトリソグラフィ法と比較し高価な光学系装置が不要になり、低コストの装置で超高分解能のリソグラフィを行うことが期待できる。インプリント法は、半導体素子だけでなく、反射防止シート、バイオチップ、磁気記録媒体など様々な製品の製造に適用できる。
【０００３】
インプリント法は特に半導体集積回路用への展開が期待される。近年、半導体集積回路は微細化、集積化が進んでおり、その微細加工を実現するためのパターン転写技術としてフォトリソグラフィ装置の高精度化が進められてきた。しかし、パターンの微細化が進むにつれて装置を大型化せざるを得ないほか、高精度に制御する必要になるなど、装置価格が非常に高くなる課題があった。
【０００４】
これに対し、微細パターンを低コストで行うためにインプリント法があり、１０ナノメートル程度のパターンの転写が可能であるとされている。インプリント法は大容量記録媒体の記録ビット形成、半導体集積回路パターン形成等への応用が検討され、量産化に向けて検討が進められている。
【０００５】
ここで、インプリント技術を量産適応する上の課題の１つとして高スループット化がある。インプリント装置価格が安価でも、スループットが低い場合、製品コストが高くなり、従来のフォトリソグラフィ法で製造する製品と比較し、コストメリットが得られない。
【０００６】
また、パターンの転写工程において、モールドと基板との間に、気泡が巻き込まれやすい。巻き込まれた気泡は転写材に徐々に吸収され、気泡が消失する。転写工程では転写材が凹凸パターンと基板とで囲まれた空間に完全に充填するまで待機する必要がある。吸収しきれない気泡が存在したまま転写材を固化させた場合、パターン欠陥となるからである。
【０００７】
さらに、気泡の巻き込まれ量を少なくする技術として、パターンとは反対側の面に非貫通穴を有するモールドを湾曲させながら転写させる技術が開発されている。これはモールド中央部と転写材とをまず接触させ、この状態でモールド中央部からモールド外周部に転写材との接触部位を徐々に広げることで、気泡を外周に追い出し、気泡の取り込み量を低減させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特表２００９−５３６５９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
モールドの製造にはガラス板が用いられる。このガラス板は、第１主表面と第２主表面とを有する。第１主表面には、第１主表面の外周部を掘り下げることで、第１主表面の中央部に周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出するメサ（mesa）と呼ばれる突出面が形成される。突出面は、凹凸パターンが形成される領域である。尚、凹凸パターンの形成と突出面の形成との順序は特に限定されず、どちらが先でもよい。
【００１０】
一方、第２主表面には、非貫通穴が形成される。非貫通穴の形成は、ガラス板の第１主表面を加工テーブルの支持面で支持した状態で行われる。
【００１１】
従来、加工テーブルとガラス板との間に異物が侵入する場合に、荷重が異物に集中し、異物がガラス板の第１主表面を傷付けてしまうことがあった。その結果、凹凸パターンの形成領域に凹欠点が生じることがあり、半導体集積回路などに欠陥が生じることがあった。
【００１２】
また、ガラス板の第１主表面が保護膜で覆われ、加工テーブルが保護膜を介してガラス板を支持する場合も同様の問題があった。この場合、異物は、ガラス板と保護膜との間、または保護膜と加工テーブルとの間に侵入し得る。
【００１３】
さらに、保護膜と加工テーブルとの間に、保護板が挿入される場合も同様の問題があった。この場合、異物は、ガラス板と保護膜との間、保護膜と保護板との間、または保護板と加工テーブルとの間に侵入し得る。
【００１４】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、凹凸パターンの形成領域における凹欠点の生成を抑制した、インプリントモールド用ガラス板の製造方法の提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
ガラス板の第１主表面の外周部を掘り下げることで、前記第１主表面の中央部に周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出した突出面を形成する突出面形成工程と、
前記ガラス板の第２主表面の中央部に非貫通穴を形成する非貫通穴形成工程とを有し、
前記非貫通穴形成工程は、前記ガラス板の前記第１主表面を加工テーブルの支持面で支持しながら、前記ガラス板を加工する加工工程を有し、
前記加工テーブルは前記支持面に防傷穴を有し、
前記加工工程では、平面視において、前記防傷穴の前記支持面における開口縁の内側に、前記突出面の形成領域が配される、インプリントモールド用ガラス板の製造方法が提供される。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の一態様によれば、凹凸パターンの形成領域における凹欠点の生成を抑制した、インプリントモールド用ガラス板の製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】一実施形態によるインプリントモールド用ガラス板を用いて作製されるモールドの平面図である。
【図２】図１のII−II線に沿ったモールドの断面図である。
【図３】図２に示すモールドの変形状態の断面図である。
【図４】図３に示すモールドの変形解除状態の断面図である。
【図５】一実施形態によるガラス板の製造方法のフローチャートである。
【図６】図５の非貫通穴形成工程のフローチャートである。
【図７】図５の突出面形成工程の完了後のガラス板の断面図である。
【図８】図５の非貫通穴形成工程の完了後のガラス板の断面図である。
【図９】一実施形態によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。
【図１０】一実施形態によるガラス板と防傷穴との位置関係を示す平面図である。
【図１１】第１変形例によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。
【図１２】第２変形例によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。
【図１３】第３変形例によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。
【図１４】図５とは異なる、ガラス板の製造方法のフローチャートである。
【図１５】図８とは異なる、内底面研磨工程の完了後のガラス板の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。各図面において、同一の又は対応する構成には、同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。本明細書において、インプリントモールドを単にモールドとも呼ぶ。また、本明細書において、平面視とは、主表面に対し垂直な方向から見たことを意味する。
【００１９】
図１は、一実施形態によるガラス板を用いて作製されるモールドの平面図である。図２は、図１のII−II線に沿ったモールドの断面図である。図３は、図２に示すモールドの変形状態の断面図である。図４は、図３に示すモールドの変形解除状態の断面図である。
【００２０】
モールド１０は、図４に示すように基板１５との間に転写材１７を挟み、モールド１０の凹凸パターンを転写材１７に転写する。転写材１７の凹凸パターンは、モールド１０の凹凸パターンが略反転したものとなる。
【００２１】
モールド１０は、例えばガラスで形成される。ガラスは、ＳｉＯ２を９０質量％以上含む石英ガラスが好ましい。石英ガラスに占めるＳｉＯ２含有量の上限値は、１００質量％である。
【００２２】
石英ガラスは、一般的なソーダライムガラスに比べて、紫外線の透過率が高い。また、石英ガラスは、一般的なソーダライムガラスに比べて、線膨張係数が小さく、温度変化による凹凸パターンの寸法変化が小さい。
【００２３】
石英ガラスは、ＳｉＯ２の他に、ＴｉＯ２含んでよい。ＴｉＯ２含有量が多いほど、ガラス面のＯＨ基の密度が大きく、ガラス面と転写材１７との親和性が高い。よって、モールド１０と基板１５との間に巻き込まれた気泡の消失時間が短縮できる。
【００２４】
石英ガラスは、ＳｉＯ２を９０〜９５質量％、ＴｉＯ２を５〜１０質量％含んでよい。ＴｉＯ２含有量が５〜１０質量％であると、室温付近での線膨張係数が略ゼロであり、室温付近での寸法変化がほとんど生じない。
【００２５】
石英ガラスは、ＳｉＯ２およびＴｉＯ２以外の微量成分を含んでもよいが、微量成分を含まないことが好ましい。
【００２６】
モールド１０は、図２に示すように、第１主表面１１と、第２主表面１２とを有する。外力が作用していない自然状態で、第１主表面１１と第２主表面１２とは略平行とされる。
【００２７】
第１主表面１１の中央部には、周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出するメサ（mesa）と呼ばれる突出面１３が形成されている。平面視において、突出面１３の形状は、例えば図１に示すように矩形である。突出面１３には、転写材１７に転写する凹凸パターンが形成されている。尚、平面視において、突出面１３の形状は、円形、楕円形、五角形以上の多角形などでもよい。
【００２８】
一方、第２主表面１２の中央部には、非貫通穴１４が形成されている。非貫通穴１４の形状は、例えば図１および図２に示すように円柱である。尚、非貫通穴１４の形状は、円錐台、角柱、角錐台などでもよい。
【００２９】
図１に示すように、平面視において、非貫通穴１４の開口縁１４ａの内側に、突出面１３が配される。また、平面視において、突出面１３の中心および非貫通穴１４の中心は、モールド１０の中心と一致している。
【００３０】
図２に示すように、モールド１０の非貫通穴１４が形成される部分は、その周辺部分に比べ薄いため、外力によって曲げ変形し易い。よって、図３に示すように、非貫通穴１４の中心線を中心に、突出面１３を基板１５に向けて凸に曲げ変形させることが可能である。この曲げ変形は、例えば、モールド１０の外周面や非貫通穴１４の内底面を押圧することにより実施される。非貫通穴１４の内底面は、非貫通穴１４内に形成されるガス室の気圧で押圧されてよい。
【００３１】
次に、図３〜図４を再度参照して、上記構成のモールド１０を用いたインプリント法について説明する。
【００３２】
図３に示すようにモールド１０の突出面１３を基板１５に向けて凸に曲げ変形させた状態で、モールド１０と基板１５とを接近させ、基板１５に予め塗布された液状の転写材１７に対しモールド１０の突出面１３を接触させる。
【００３３】
その後、転写材１７の固化前に、突出面１３を図３に示す変形状態から図４に示す変形解除状態に戻す。これにより、突出面１３は、その中央部から外周部に向けて徐々に転写材１７と接触する。モールド１０と基板１５との間の気体が逃げやすく、気体の閉じ込めが抑制できる。
【００３４】
転写材１７の固化後、転写材１７とモールド１０とが分離される。転写材１７を固化してなる凹凸層と基板１５とで構成される製品が得られる。製品の凹凸パターンは、モールド１０の凹凸パターンが略反転したものである。
【００３５】
図５は、一実施形態によるガラス板の製造方法のフローチャートである。図６は、図５の非貫通穴形成工程のフローチャートである。図７は、図５の突出面形成工程の完了後のガラス板の断面図である。図７において、二点鎖線は突出面形成工程の開始前のガラス板の状態を示す。図８は、図５の非貫通穴形成工程の完了後のガラス板の断面図である。
【００３６】
インプリントモールド用ガラス板の製造方法は、図５に示すように、突出面形成工程Ｓ１１と、非貫通穴形成工程Ｓ１２とを有する。尚、図５では、突出面形成工程Ｓ１１の後に非貫通穴形成工程Ｓ１２が行われるが、その順序は逆でもよく、非貫通穴形成工程Ｓ１２の後に突出面形成工程Ｓ１１が行われてもよい。また、非貫通穴形成工程Ｓ１２の途中で、突出面形成工程Ｓ１１が行われてもよい。後述の図１４において同様である。
【００３７】
突出面形成工程Ｓ１１は、図７に示すようにガラス板２０の第１主表面２１の外周部を掘り下げることで、第１主表面２１の中央部に周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出したメサと呼ばれる突出面２３を形成する。第１主表面２１の外周部を掘り下げる方法としては、エッチングなどが用いられる。エッチングは、ドライエッチング、ウェットエッチングのいずれでもよい。
【００３８】
突出面形成工程Ｓ１１の後、第１主表面２１は、突出面２３と、突出面２３との間に段差を有する周辺面とを含む。周辺面は、突出面２３に対し平行とされる。以下、周辺面を周辺領域とも呼ぶ。
【００３９】
非貫通穴形成工程Ｓ１２は、図８に示すようにガラス板２０の第２主表面２２の中央部に非貫通穴２４を形成する。非貫通穴形成工程Ｓ１２は、図６に示すように、研削工程Ｓ１３と、内側面研磨工程Ｓ１４と、内底面研磨工程Ｓ１５とを有する。尚、図６では、内側面研磨工程Ｓ１４の後に内底面研磨工程Ｓ１５が行われるが、その順序は逆でもよく、内底面研磨工程Ｓ１５の後に内側面研磨工程Ｓ１４が行われてもよい。また、内側面研磨工程Ｓ１４と内底面研磨工程Ｓ１５とが同時に行われてもよい。後述の図１４において同様である。
【００４０】
研削工程Ｓ１３は、第２主表面２２を研削する。内側面研磨工程Ｓ１４は、研削工程Ｓ１３によって得られる非貫通穴２４の内側面を研磨する。内底面研磨工程Ｓ１５は、研削工程Ｓ１３によって得られる非貫通穴２４の内底面を研磨する。
【００４１】
研削工程Ｓ１３、内側面研磨工程Ｓ１４、および内底面研磨工程Ｓ１５が、それぞれ、特許請求の範囲に記載の加工工程に対応する。研削工程Ｓ１３、内側面研磨工程Ｓ１４、および内底面研磨工程Ｓ１５の全てに本発明が適用されるが、少なくとも１つに本発明が適用されてもよい。
【００４２】
インプリントモールド用ガラス板の製造方法は、図１４に示すように、突出面形成工程Ｓ１１、および非貫通穴形成工程Ｓ１２の他に、凹凸パターン形成工程Ｓ１６をさらに有してもよい。凹凸パターン形成工程Ｓ１６では、突出面２３に凹凸パターンを形成する。突出面２３に凹凸パターンを形成する方法としては、例えばエッチング法などが用いられる。エッチングのマスクパターンは、インプリント法、フォトリソグラフィ法のいずれによって作製されてもよい。図１４に示す上記製造方法により得られるガラス板２０は、モールド１０として用いられる。
尚、本実施形態では突出面形成工程Ｓ１１の後に凹凸パターン形成工程Ｓ１６が行われるが、その順序は逆であってもよい。つまり、凹凸パターンの形成後に、突出面２３の形成が行われてもよい。例えば、図５に示す突出面形成工程Ｓ１１に供されるガラス板は、第１主表面１１に凹凸パターンを有するものであってもよい。凹凸パターンの形成後に突出面２３の形成が行われる場合、後述の保護膜２５、２５Ａ、２５Ｂ、２５Ｃは凹凸パターンを覆うように形成される。
【００４３】
図９は、一実施形態によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。図１０は、一実施形態によるガラス板と防傷穴との位置関係を示す平面図である。
【００４４】
図９に示すように、加工工程は、ガラス板２０の第１主表面２１を加工テーブル３０の支持面３１で支持しながら、ガラス板２０を加工する。ガラス板２０の加工には、加工具４０が用いられる。
【００４５】
ガラス板２０の第１主表面２１には、加工工程の前に段差が形成されており、周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出する突出面２３が既に形成されている。そのため、本実施形態において突出面２３の形成領域とは、突出面２３そのもののことである。一方、ガラス板２０の第２主表面２２には、加工工程によって非貫通穴２４が形成される。
【００４６】
加工テーブル３０は、例えばガラス板２０を吸着することで、ガラス板２０を支持する。吸着は、真空吸着、静電吸着のいずれでもよい。真空吸着の場合、支持面３１には吸着穴が形成される。真空ポンプが吸着穴の内部を排気することで、加工テーブル３０がガラス板２０を真空吸着する。尚、加工テーブル３０によるガラス板２０の支持は、吸着ではなくてもよく、バイスなどの固定具による機械的な固定でもよい。
【００４７】
加工テーブル３０は、支持面３１に防傷穴３２を有する。防傷穴３２の深さは、突出面２３の形成領域とその周辺領域との間に形成される段差よりも大きい。防傷穴３２は、図９では非貫通穴であるが、貫通穴であってもよい。また、防傷穴３２の断面形状は、図９では矩形であるが、半円形などであってもよく、多種多様であってよい。また、防傷穴３２は、防傷穴３２の内側面と支持面３１との境界部に、支持面３１に対し斜めの傾斜面を有してもよい。傾斜面の代わりに、丸みを帯びた面が形成されてもよい。これらの面は、面取りなどによって形成される。これらの面を面取りによって形成する場合、これらの面を面取り面と総称する。尚、これらの面は、面取り以外の方法で形成されてもよく、例えば加工テーブル３０の成形時に支持面３１と同時に形成されてもよい。また、平面視における防傷穴３２の形状は、図１０では矩形であるが、円形、楕円形、多角形などでもよい。尚、真空吸着時に、真空ポンプは防傷穴３２の内部を排気しなくてもよい。
【００４８】
図１０に示すように、加工工程では、平面視において、防傷穴３２の支持面３１における開口縁３２ａの内側に、突出面２３の形成領域が配される。図９に示すように突出面２３の形成領域は加工テーブル３０で支持されておらず、突出面２３の周辺領域が加工テーブル３０で支持されている。そのため、突出面２３の形成領域と加工テーブル３０との間に異物が侵入する場合に、加工具４０の荷重が異物にほとんど作用せず、異物が突出面２３の形成領域をほとんど押さない。よって、突出面２３の形成領域における凹欠点の形成が抑制できる。
【００４９】
また、突出面２３の周辺にアライメントマーク、バーコード、製品番号、記号など突出面２３近傍に作製される突出面２３より低い構造物がある場合、この構造物が加工工程において平面視で防傷穴３２の開口縁３２ａの内側に配されてもよい。構造物の損傷が抑制できる。
【００５０】
また、図１０に示すように、加工工程では、平面視において、非貫通穴２４の第２主表面２２における開口縁２４ａの内側に、防傷穴３２が配されてもよい。図９に示すように非貫通穴２４の内側面と非貫通穴２４の内底面との境界部が加工テーブル３０によって支持されているので、境界部におけるクラックの発生が抑制できる。
【００５１】
さらに、加工工程では、平面視において、加工具４０のガラス板２０と接触する加工面４１が、常に防傷穴３２からはみ出してもよい。図９に示すように加工具４０の荷重を常に加工テーブル３０で受けることができ、ガラス板２０の変形を抑制することができる。
【００５２】
図９に示すように、加工工程では、ガラス板２０の第１主表面２１に、保護膜２５が形成されていてもよい。この場合、加工テーブル３０は、保護膜２５を介してガラス板２０を支持する。
【００５３】
保護膜２５は、突出面２３の形成領域を覆っており、突出面２３の形成領域に対する異物の付着を防止する。突出面２３における凸欠点の形成が抑制できる。尚、付着した異物が洗浄によって除去できる場合、保護膜２５はなくてもよい。
【００５４】
保護膜２５は、突出面２３の形成領域だけではなく、突出面２３の周辺領域を覆っていてもよい。突出面２３の周辺領域において、加工テーブル３０との接触が防止でき、当該接触による凹欠点の生成が防止できる。
【００５５】
保護膜２５の材料は、無機物、有機物のいずれでもよい。無機物は、金属、金属化合物のいずれでもよい。有機物は、レジスト、粘着樹脂シート、両面粘着樹脂シートのいずれでもよい。また、保護膜２５はこれら複数の材料の組み合わせでもよい。保護膜２５の材料は、一般的なエッチングのマスク材料が用いられてもよく、例えば金属クロム、金属クロム化合物、レジストなどが用いられてもよい。保護膜２５はガラス板２０に傷、腐食（エッチング）などの変化を与えずに除去できるものが望ましい。
【００５６】
保護膜２５は、突出面形成工程Ｓ１１において、突出面２３の形成領域をエッチングから保護してもよい。突出面２３の形成に保護膜２５を流用することができ、工程数を削減することができる。
【００５７】
上記製造方法により得られるガラス板２０は、突出面２３に凹凸パターンを形成することで、モールド１０として用いられる。
【００５８】
図１１は、第１変形例によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。図１１に示すように、加工工程は、ガラス板２０Ａの第１主表面２１Ａを加工テーブル３０Ａの支持面３１Ａで支持しながら、ガラス板２０Ａを加工する。ガラス板２０Ａの加工には、加工具４０Ａが用いられる。
【００５９】
ガラス板２０Ａの第１主表面２１Ａには、加工工程の前に段差が形成されており、周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出する突出面２３Ａが既に形成されている。そのため、本変形例において突出面２３Ａの形成領域とは、突出面２３Ａそのもののことである。一方、ガラス板２０Ａの第２主表面２２Ａには、加工工程によって非貫通穴２４Ａが形成される。
【００６０】
加工テーブル３０Ａは、板部材５０Ａを挟んでガラス板２０Ａを支持する。板部材５０Ａは、予めガラス板２０Ａに貼り付けられるが、予め加工テーブル３０Ａに貼り付けられてもよい。後者の場合、板部材５０Ａには加工テーブル３０Ａの吸着穴に連通する貫通穴が形成されてもよい。板部材５０Ａは、フレキシブル性を有してもよいし、フレキシブル性を有しなくてもよい。板部材５０Ａの材料は、金属、樹脂、セラミック、ガラスなどのいずれでもよい。
【００６１】
板部材５０Ａは、ガラス板２０Ａとの対向面５１Ａに防傷穴５２Ａを有する。防傷穴５２Ａの深さは、突出面２３Ａの形成領域とその周辺領域との間に形成される段差よりも大きい。防傷穴５２Ａは、図１１では貫通穴であるが、非貫通穴であってもよい。また、防傷穴５２Ａの断面形状は、図１１では矩形であるが、半円形などであってもよく、多種多様であってよい。また、防傷穴５２Ａは、防傷穴５２Ａの内側面と対向面５１Ａとの境界部に、対向面５１Ａに対し斜めの傾斜面を有してもよい。傾斜面の代わりに、丸みを帯びた面が形成されてもよい。これらの面は、面取りなどによって形成される。これらの面を面取りによって形成する場合、これらの面を面取り面と総称する。尚、これらの面は、面取り以外の方法で形成されてもよく、例えば板部材５０Ａの成形時に対向面５１Ａと同時に形成されてもよい。また、平面視における防傷穴５２Ａの形状は、矩形であるが、円形、楕円形、多角形などでもよい。
【００６２】
加工工程では、平面視において、防傷穴５２Ａの対向面５１Ａにおける開口縁５２Ａａの内側に、突出面２３Ａの形成領域が配される。図１１に示すように突出面２３Ａの形成領域は加工テーブル３０Ａで支持されておらず、突出面２３Ａの周辺領域が加工テーブル３０Ａで支持されている。そのため、突出面２３Ａの形成領域と加工テーブル３０Ａとの間に異物が侵入する場合に、加工具４０Ａの荷重が異物にほとんど作用せず、異物が突出面２３Ａの形成領域をほとんど押さない。よって、突出面２３Ａの形成領域における凹欠点の形成が抑制できる。
【００６３】
また、突出面２３Ａの周辺にアライメントマークなど突出面２３Ａ近傍に作製される突出面２３Ａより低い構造物がある場合、この構造物が加工工程において平面視で防傷穴５２Ａの開口縁５２Ａａの内側に配されてもよい。構造物の損傷が抑制できる。
【００６４】
また、加工工程では、平面視において、非貫通穴２４Ａの第２主表面２２Ａにおける開口縁２４Ａａの内側に、防傷穴５２Ａが配されてもよい。図１１に示すように非貫通穴２４Ａの内側面と非貫通穴２４Ａの内底面との境界部が加工テーブル３０Ａによって支持されているので、境界部におけるクラックの発生が抑制できる。
【００６５】
さらに、加工工程では、平面視において、加工具４０Ａのガラス板２０Ａと接触する加工面４１Ａが、常に防傷穴５２Ａからはみ出してもよい。図１１に示すように加工具４０Ａの荷重を常に加工テーブル３０Ａで受けることができ、ガラス板２０Ａの変形を抑制することができる。
【００６６】
図１１に示すように、加工工程では、ガラス板２０Ａの第１主表面２１Ａに、保護膜２５Ａが形成されていてもよい。この場合、保護膜２５Ａに、板部材５０Ａが貼り付けられてもよい。
【００６７】
保護膜２５Ａは、突出面２３Ａの形成領域を覆っており、突出面２３Ａの形成領域に対する異物の付着を防止する。突出面２３Ａにおける凸欠点の形成が抑制できる。尚、付着した異物が洗浄によって除去できる場合、保護膜２５Ａはなくてもよい。
【００６８】
保護膜２５Ａは、突出面２３Ａの形成領域だけではなく、突出面２３Ａの周辺領域を覆っていてもよい。突出面２３Ａの周辺領域において、板部材５０Ａとの接触が防止でき、当該接触による凹欠点の生成が防止できる。
【００６９】
保護膜２５Ａは、突出面形成工程Ｓ１１において、突出面２３Ａの形成領域をエッチングから保護してもよい。突出面２３Ａの形成に保護膜２５Ａを流用することができ、工程数を削減することができる。
【００７０】
上記製造方法により得られるガラス板２０Ａは、突出面２３Ａに凹凸パターンを形成することで、モールド１０として用いられる。
【００７１】
図１２は、第２変形例によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。図１２に示すように、加工工程は、ガラス板２０Ｂの第１主表面２１Ｂを加工テーブル３０Ｂの支持面３１Ｂで支持しながら、ガラス板２０Ｂを加工する。ガラス板２０Ｂの加工には、加工具４０Ｂが用いられる。
【００７２】
ガラス板２０Ｂの第１主表面２１Ｂには、加工工程の前に段差が形成されておらず、周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出する突出面が未だ形成されていない。突出面は、加工工程の後に形成される。そのため、本変形例において突出面の形成領域２３Ｂとは、突出面を形成する予定の領域のことである。一方、ガラス板２０Ｂの第２主表面２２Ｂには、加工工程によって非貫通穴２４Ｂが形成される。
【００７３】
加工テーブル３０Ｂは、図９に示す加工テーブル３０と同様に、支持面３１Ｂに防傷穴３２Ｂを有する。尚、防傷穴３２Ｂの深さは、突出面の形成領域２３Ｂとその周辺領域との間に形成される段差よりも大きくてもよいが、小さくてもよい。加工工程の前に段差は形成されていないためである。また、防傷穴３２Ｂは、防傷穴３２Ｂの内側面と支持面３１Ｂとの境界部に、支持面３１Ｂに対し斜めの傾斜面を有してもよい。傾斜面の代わりに、丸みを帯びた面が形成されてもよい。これらの面は、面取りなどによって形成される。これらの面を面取りによって形成する場合、これらの面を面取り面と総称する。尚、これらの面は、面取り以外の方法で形成されてもよく、例えば加工テーブル３０Ｂの成形時に支持面３１Ｂと同時に形成されてもよい。
【００７４】
加工工程では、平面視において、防傷穴３２Ｂの支持面３１Ｂにおける開口縁３２Ｂａの内側に、突出面の形成領域２３Ｂが配される。図１２に示すように突出面の形成領域２３Ｂは加工テーブル３０Ｂで支持されておらず、突出面の周辺領域が加工テーブル３０Ｂで支持されている。そのため、突出面の形成領域２３Ｂと加工テーブル３０Ｂとの間に異物が侵入する場合に、加工具４０Ｂの荷重が異物にほとんど作用せず、異物が突出面の形成領域２３Ｂをほとんど押さない。よって、突出面の形成領域２３Ｂにおける凹欠点の形成が抑制できる。
【００７５】
また、加工工程では、平面視において、非貫通穴２４Ｂの第２主表面２２Ｂにおける開口縁２４Ｂａの内側に、防傷穴３２Ｂが配されてもよい。図１２に示すように非貫通穴２４Ｂの内側面と非貫通穴２４Ｂの内底面との境界部が加工テーブル３０Ｂによって支持されているので、境界部におけるクラックの発生が抑制できる。
【００７６】
さらに、加工工程では、平面視において、加工具４０Ｂのガラス板２０Ｂと接触する加工面４１Ｂが、常に防傷穴３２Ｂからはみ出してもよい。図１２に示すように加工具４０Ｂの荷重を常に加工テーブル３０Ｂで受けることができ、ガラス板２０Ｂの変形を抑制することができる。
【００７７】
図１２に示すように、加工工程では、ガラス板２０Ｂの第１主表面２１Ｂに、保護膜２５Ｂが形成されていてもよい。この場合、加工テーブル３０Ｂは、保護膜２５Ｂを介してガラス板２０Ｂを支持する。
【００７８】
保護膜２５Ｂは、突出面の形成領域２３Ｂを覆っており、突出面の形成領域２３Ｂに対する異物の付着を防止する。突出面の形成領域２３Ｂにおける凸欠点の形成が抑制できる。尚、付着した異物が洗浄によって除去できる場合、保護膜２５Ｂはなくてもよい。
【００７９】
保護膜２５Ｂは、突出面の形成領域２３Ｂだけではなく、突出面の周辺領域を覆っていてもよい。突出面の周辺領域において、加工テーブル３０Ｂとの接触が防止でき、当該接触による凹欠点の生成が防止できる。
【００８０】
保護膜２５Ｂは、突出面形成工程Ｓ１１において、突出面の形成領域２３Ｂをエッチングから保護してもよい。突出面の形成に保護膜２５Ｂを流用することができ、工程数を削減することができる。本変形例のように、加工工程の後に、突出面形成工程Ｓ１１が行われる場合に特に有効である。
【００８１】
上記製造方法により得られるガラス板２０Ｂは、突出面に凹凸パターンを形成することで、モールド１０として用いられる。
【００８２】
図１３は、第３変形例によるガラス板の加工時の状態を示す断面図である。図１３に示すように、加工工程は、ガラス板２０Ｃの第１主表面２１Ｃを加工テーブル３０Ｃの支持面３１Ｃで支持しながら、ガラス板２０Ｃを加工する。ガラス板２０Ｃの加工には、加工具４０Ｃが用いられる。
【００８３】
ガラス板２０Ｃの第１主表面２１Ｃには、加工工程の前に段差が形成されておらず、周囲を段差で取り囲まれ周囲よりも突出する突出面が未だ形成されていない。突出面は、加工工程の後に形成される。そのため、本変形例において突出面の形成領域２３Ｃとは、突出面を形成する予定の領域のことである。一方、ガラス板２０Ｃの第２主表面２２Ｃには、加工工程によって非貫通穴２４Ｃが形成される。
【００８４】
加工テーブル３０Ｃは、図１１に示す加工テーブル３０Ａと同様に、板部材５０Ｃを挟んでガラス板２０Ｃを支持する。板部材５０Ｃは、図１１に示す板部材５０Ａと同様に、ガラス板２０Ｃとの対向面５１Ｃに防傷穴５２Ｃを有する。尚、防傷穴５２Ｃの深さは、突出面の形成領域２３Ｃとその周辺領域との間に形成される段差よりも大きくてもよいが、小さくてもよい。加工工程の前に段差は形成されていないためである。また、防傷穴５２Ｃは、防傷穴５２Ｃの内側面と対向面５１Ｃとの境界部に、対向面５１Ｃに対し斜めの傾斜面を有してもよい。傾斜面の代わりに、丸みを帯びた面が形成されてもよい。これらの面は、面取りなどによって形成される。これらの面を面取りによって形成する場合、これらの面を面取り面と総称する。尚、これらの面は、面取り以外の方法で形成されてもよく、例えば板部材５０Ｃの成形時に対向面５１Ｃと同時に形成されてもよい。
【００８５】
加工工程では、平面視において、防傷穴５２Ｃの対向面５１Ｃにおける開口縁５２Ｃａの内側に、突出面の形成領域２３Ｃが配される。図１３に示すように突出面の形成領域２３Ｃは加工テーブル３０Ｃで支持されておらず、突出面の周辺領域が加工テーブル３０Ｃで支持されている。そのため、突出面の形成領域２３Ｃと加工テーブル３０Ｃとの間に異物が侵入する場合に、加工具４０Ｃの荷重が異物にほとんど作用せず、異物が突出面の形成領域２３Ｃをほとんど押さない。よって、突出面の形成領域２３Ｃにおける凹欠点の形成が抑制できる。
【００８６】
また、加工工程では、平面視において、非貫通穴２４Ｃの第２主表面２２Ｃにおける開口縁２４Ｃａの内側に、防傷穴５２Ｃが配されてもよい。図１３に示すように非貫通穴２４Ｃの内側面と非貫通穴２４Ｃの内底面との境界部が加工テーブル３０Ｃによって支持されているので、境界部におけるクラックの発生が抑制できる。
【００８７】
さらに、加工工程では、平面視において、加工具４０Ｃのガラス板２０Ｃと接触する加工面４１Ｃが、常に防傷穴５２Ｃからはみ出してもよい。図１３に示すように加工具４０Ｃの荷重を常に加工テーブル３０Ｃで受けることができ、ガラス板２０Ｃの変形を抑制することができる。
【００８８】
図１３に示すように、加工工程では、ガラス板２０Ｃの第１主表面２１Ｃに、保護膜２５Ｃが形成されていてもよい。この場合、保護膜２５Ｃに、板部材５０Ｃが貼り付けられてもよい。
【００８９】
保護膜２５Ｃは、突出面の形成領域２３Ｃを覆っており、突出面の形成領域２３Ｃに対する異物の付着を防止する。突出面の形成領域２３Ｃにおける凸欠点の形成が抑制できる。尚、付着した異物が洗浄によって除去できる場合、保護膜２５Ｃはなくてもよい。
【００９０】
保護膜２５Ｃは、突出面の形成領域２３Ｃだけではなく、突出面の周辺領域を覆っていてもよい。突出面の周辺領域において、板部材５０Ｃとの接触が防止でき、当該接触による凹欠点の生成が防止できる。
【００９１】
保護膜２５Ｃは、突出面形成工程Ｓ１１において、突出面の形成領域２３Ｃをエッチングから保護してもよい。突出面の形成に保護膜２５Ｃを流用することができ、工程数を削減することができる。本変形例のように、加工工程の後に、突出面形成工程Ｓ１１が行われる場合に特に有効である。
【００９２】
上記製造方法により得られるガラス板２０Ｃは、突出面に凹凸パターンを形成することで、モールド１０として用いられる。
【００９３】
以上、インプリントモールド用ガラス板の製造方法の実施形態などについて説明したが、本発明は上記実施形態などに限定されず、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
【００９４】
例えば、ガラス板２０、２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃは、検査工程において、加工工程と同様に支持されてもよい。検査工程において、突出面の形成領域に凹欠点の生成が抑制できる。検査工程では、ガラス板２０の欠陥の有無、欠陥の位置、欠陥の種類、ガラス板２０の寸法や物性の測定などが行われる。
【００９５】
図６に示す内底面研磨工程Ｓ１５において、平面視において防傷穴３２と重なる領域の研磨圧は、平面視において防傷穴３２の外の領域の研磨圧に比べ低い。そのため、図１５に示すように、非貫通穴２４の内底面の中央部の深さＤ１が非貫通穴２４の内底面の外周部の深さＤ２に比べ小さいガラス板２０を得ることが可能である。このガラス板２０の突出面２３に凹凸パターンを形成しモールド１０として使用すれば、突出面１３の変形を低減できる。ガラス板２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃにおいて同様である。
【符号の説明】
【００９６】
１０  モールド
１１  第１主表面
１２  第２主表面
１３  突出面
１４  非貫通穴
１５  基板
１７  転写材
２０  ガラス板
２１  第１主表面
２２  第２主表面
２３  突出面
２４  非貫通穴
２４ａ  開口縁
２５  保護膜
３０  加工テーブル
３１  支持面
３２  防傷穴
３２ａ  開口縁
４０  加工具
５０Ａ  板部材
５１Ａ  対向面
５２Ａ  防傷穴
５２Ａａ  開口縁
【図１】
2017050528.tif 000003
【図２】
2017050528.tif 000004
【図３】
2017050528.tif 000005
【図４】
2017050528.tif 000006
【図５】
2017050528.tif 000007
【図６】
2017050528.tif 000008
【図７】
2017050528.tif 000009
【図８】
2017050528.tif 000010
【図９】
2017050528.tif 000011
【図１０】
2017050528.tif 000012
【図１１】
2017050528.tif 000013
【図１２】
2017050528.tif 000014
【図１３】
2017050528.tif 000015
【図１４】
2017050528.tif 000016
【図１５】
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