(57)【要約】【課題】半硬化させた状態でタックが生じず巻き取りが可能であるとともに優れた延伸性を発現し、かつ、本硬化させた状態で優れた耐擦傷性を発現する被膜形成用エマルジョン組成物を提供すること。【解決手段】エポキシ樹脂（Ａ）、熱カチオン発生剤（Ｂ）、及び、非水溶性有機溶媒（Ｃ）を含有することを特徴とする、被膜形成用エマルジョン組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
エポキシ樹脂（Ａ）、
熱カチオン発生剤（Ｂ）、及び、
非水溶性有機溶媒（Ｃ）
を含有することを特徴とする、被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項２】
エポキシ樹脂（Ａ）が、脂環式エポキシ樹脂、芳香族エポキシ樹脂、及び、脂肪族エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１つである、請求項１に記載の被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項３】
非水溶性有機溶媒（Ｃ）の沸点が５０℃以上である、請求項１又は２に記載の被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項４】
水溶性有機溶媒の含有量が１５重量％以下である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項５】
水溶性酸（Ｄ）をさらに含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項６】
水溶性酸（Ｄ）が無機酸及び／又は有機酸である、請求項５に記載の被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項７】
被膜が成型加工用被膜である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の被膜形成用エマルジョン組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の被膜形成用エマルジョン組成物を用いることを特徴とする成型加工用被膜。
【請求項９】
（ａ）請求項１〜７のいずれか１項に記載の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する工程
を含むことを特徴とする成型加工用被膜の製造方法。
【請求項１０】
（ａ）請求項１〜７のいずれか１項に記載の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する工程、並びに、
（ｂ）工程（ａ）で形成された成型加工用被膜に対し、成型加工及び加熱処理を行う工程
を含むことを特徴とするハードコート被膜の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被膜形成用エマルジョン組成物、成型加工用被膜及びハードコート被膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＩＴＯスパッタリングのための基材等として用いられるハードコート被膜を生産する場合、特にインライン工程で生産する場合には、ハードコート被膜形成用組成物を半硬化させて被膜を得た後、その被膜を延伸させて巻き取ることが求められる。そのため、ハードコート被膜形成用組成物には、半硬化させた後にタックが生じず、優れた延伸性を発現することが求められ、さらに本硬化させた後には、優れた耐擦傷性を発現することが求められる。
【０００３】
しかしながら、従来のハードコート被膜形成用組成物は、本硬化させた後は優れた耐擦傷性を発現するものの、半硬化のみさせた状態ではタックが生じるため、インライン工程において巻き取ることができない、埃等が付着するといった問題があった。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、半硬化させた状態でタックが生じず巻き取りが可能であるとともに優れた延伸性を発現し、かつ、本硬化させた状態で優れた耐擦傷性を発現する被膜形成用エマルジョン組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、エポキシ樹脂、熱カチオン発生剤、及び、非水溶性有機溶媒を含有するエマルジョン組成物が、半硬化させた状態でタックが生じず巻き取りが可能であるとともに優れた延伸性を発現し、かつ、本硬化させた状態で優れた耐擦傷性を発現することを見出し、本発明を完成した。
【０００６】
すなわち、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、
エポキシ樹脂（Ａ）、
熱カチオン発生剤（Ｂ）、及び、
非水溶性有機溶媒（Ｃ）
を含有することを特徴とする。
【０００７】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、エポキシ樹脂（Ａ）が、脂環式エポキシ樹脂、芳香族エポキシ樹脂、及び、脂肪族エポキシ樹脂からなる群より選択される少なくとも１つであることが好ましい。
【０００８】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、非水溶性有機溶媒（Ｃ）の沸点が５０℃以上であることが好ましい。
【０００９】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、水溶性有機溶媒の含有量が１５重量％以下であることが好ましい。
【００１０】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、水溶性酸（Ｄ）をさらに含むことが好ましく、水溶性酸（Ｄ）が無機酸及び／又は有機酸であることがより好ましい。
【００１１】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、被膜が成型加工用被膜であることが好ましい。
【００１２】
本発明の成型加工用被膜は、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いることを特徴とする。
【００１３】
本発明の成型加工用被膜の製造方法は、
（ａ）本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する工程
を含むことを特徴とする。
【００１４】
本発明のハードコート被膜の製造方法は、
（ａ）本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する工程、並びに、
（ｂ）工程（ａ）で形成された成型加工用被膜に対し、成型加工及び加熱処理を行う工程
を含むことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、エポキシ樹脂（Ａ）、熱カチオン発生剤（Ｂ）、及び、非水溶性有機溶媒（Ｃ）を含有するため、半硬化させた状態でタックが生じず巻き取りが可能であるとともに優れた延伸性を発現し、かつ、本硬化させた状態で優れた耐擦傷性を発現する。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
＜＜被膜形成用エマルジョン組成物＞＞
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、
エポキシ樹脂（Ａ）、
熱カチオン発生剤（Ｂ）、及び、
非水溶性有機溶媒（Ｃ）
を含有することを特徴とする。
【００１７】
＜エポキシ樹脂（Ａ）＞
エポキシ樹脂（Ａ）は、通常、反応性が非常に高く熱カチオン硬化反応が一気に進行するため、延伸加工には適さない。しかしながら、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物中では、エポキシ樹脂（Ａ）はエマルジョン化され、反応性が低く抑えられる。そのため、エポキシ樹脂（Ａ）の熱カチオン硬化反応が比較的穏やかに進行し、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を乾燥処理により半硬化させた後に加熱処理により本硬化させることが可能となり、半硬化させた状態で延伸加工を行うことが可能となる。
【００１８】
エポキシ樹脂（Ａ）としては、特に限定されないが、例えば、脂環式エポキシ樹脂、芳香族エポキシ樹脂、脂肪族エポキシ樹脂等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００１９】
脂環式エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、３’，４’−エポキシシクロヘキシルメチル、３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキセニルメチル−３’，４’−エポキシシクロヘキセンカルボキシレート、リモネンジオキシド、ジシクロペンタジエンジオキシド等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２０】
芳香族エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、レゾルシンジグリシジルエーテル、カテコールジグリシジルエーテル、ヒドロキノンジグリシジルエーテル、ｔ−ブチルヒドロキノンジグリシジルエーテル、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノンジグリシジルエーテル、フタル酸ジグリシジルエステル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタンジグリシジルエーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンジグリシジルエーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジグリシジルエーテル、テトラメチルビス（４−ヒドロキシフェニル）メタンジグリシジルエーテル、テトラメチルビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンジグリシジルエーテル、テトラメチルビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジグリシジルエーテル、テトラメチルビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテルジグリシジルエーテル、ジメチルジ−ｔ−ブチルビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィドジグリシジルエーテル、ビスフェノールフルオレン型エポキシ樹脂、ビスクレゾールフルオレン型エポキシ樹脂、ビフェニル型又はテトラメチルビフェニル型エポキシ樹脂類、ジヒドロキシナフタレンのジグリシジルエーテル等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２１】
脂肪族エポキシ樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ジメチロールシクロヘキサンジグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジグリシジルエーテル、１，３−シクロヘキサンジグリシジルエーテル、１，２−シクロヘキサンジグリシジルエーテル、ジメチロールジシクロペンタジエンジグリシジルエーテル、ヘキサヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ヘキサヒドロテレフタル酸ジグリシジルエステル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２２】
＜熱カチオン発生剤（Ｂ）＞
熱カチオン発生剤（Ｂ）としては、特に限定されないが、例えば、１−ナフチルメチルメチルｐ−ヒドロキシフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモナート、ジメチルフェナシルスルホニウム、ジメチルベンジルスルホニウム、ジメチル−４−ヒドロキシフェニルスルホニウム、ジメチル−４−ヒドロキシナフチルスルホニウム、ジメチル−４，７−ジヒドロキシナフチルスルホニウム、ジメチル−４，８−ジヒドロキシナフチルスルホニウム、トリフェニルスルホニウム、ｐ−トリルジフェニルスルホニウム、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルスルホニウム、ジフェニル−４−フェニルチオフェニルスルホニウム等のクロリド又はブロミド、ｐ−トルエンスルホナート、トリフルオロメタンスルホナート、テトラフルオロボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルボレート、テトラキスペンタフルオロフェニルガレート、ヘキサフルオロフォスフェート、ヘキサフルオロアルセナート、ヘキサフルオロアンチモネート塩等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２３】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物において、熱カチオン発生剤（Ｂ）の含有量は、特に限定されないが、エポキシ樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．１〜２０重量部であることが好ましく、１〜１０重量部であることがより好ましい。熱カチオン発生剤（Ｂ）の含有量が０．１重量部未満であると、反応の進行が不十分となることがあり、２０重量部を超えると、成型加工用被膜やハードコート被膜の強度が低下することがある。
【００２４】
＜非水溶性有機溶媒（Ｃ）＞
非水溶性有機溶媒（Ｃ）は、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物において、熱カチオン発生剤（Ｂ）を溶解してエマルジョン化させる機能を有する。非水溶性有機溶媒（Ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、シクロヘキサン、酢酸エチル、イソホロン、トルエン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、デカン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００２５】
本明細書において、「非水溶性有機溶媒」とは、危険物４類の非水溶性溶媒に該当する溶媒をいい、「水溶性有機溶媒」とは、危険物４類の水溶性溶媒に該当する溶媒をいう。
【００２６】
非水溶性有機溶媒（Ｃ）としては、特に限定されないが、沸点が５０℃以上のものが好ましく、７０℃以上のものがより好ましい。沸点が５０℃未満であると、非水溶性有機溶媒（Ｃ）が揮発し熱カチオン発生剤（Ｂ）が析出してしまうことがある。
【００２７】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物において、非水溶性有機溶媒（Ｃ）の含有量は、特に限定されないが、組成物中１〜２０重量％であることが好ましく、３〜１０重量％であることがより好ましい。非水溶性有機溶媒の含有量が１重量％未満であると、熱カチオン発生剤（Ｂ）が完全に溶解しないことがあり、２０重量％を超えると、組成物が相分離してしまうことがある。
【００２８】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物は、上述の成分（Ａ）〜（Ｃ）に加えて、任意に他の成分を含有していても良い。他の成分としては、例えば、水溶性酸（Ｄ）、水溶性有機溶媒、界面活性剤、スリップ剤、無機フィラー等が挙げられる。
【００２９】
＜水溶性酸（Ｄ）＞
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物に水溶性酸（Ｄ）を配合することにより、エポキシ樹脂（Ａ）の熱カチオン硬化反応を促進することができる。水溶性酸（Ｄ）としては、特に限定されないが、例えば、無機酸、有機酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３０】
無機酸としては、特に限定されないが、硫酸、硝酸、塩酸、シュウ酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３１】
有機酸としては、特に限定されないが、ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）、グルタル酸、ｐ−トルエンスルホン酸、コハク酸、酢酸、ポリアクリル酸等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３２】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物が水溶性酸（Ｄ）を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、組成物中１５重量％以下であることが好ましく、５重量％以下であることがより好ましい。水溶性酸（Ｄ）の含有量が１５重量％を超えると、エマルジョンが維持できなくなり、エポキシ樹脂（Ａ）が沈殿することがある。
【００３３】
＜水溶性有機溶媒＞
水溶性有機溶媒としては、特に限定されないが、例えば、２−プロパノール（ＩＰＡ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、γ−ブチルラクトン、アセトニトリル、エチレングリコール、エタノール、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３４】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物が水溶性有機溶媒を含有する場合、その含有量は、特に限定されないが、組成物中１５重量％以下であることが好ましく、５重量％以下であることがより好ましい。水溶性有機溶媒の含有量が１５重量％を超えると、エポキシ樹脂（Ａ）が沈殿してしまうことがある。
【００３５】
＜界面活性剤＞
界面活性剤としては、特に限定されないが、例えば、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３６】
＜スリップ剤＞
スリップ剤としては、特に限定されないが、例えば、シリカ微粒子、アルミナ微粒子、酸化チタン微粒子、酸化ジルコニア微粒子等の無機微粒子系スリップ剤、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、ポリエステル変性ポリジメチルシロキサン等のシリコン系スリップ剤、パーフルオロアルキルエチレンオキサイド付加物等のフッ素系スリップ剤等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３７】
＜無機フィラー＞
無機フィラーとしては、特に限定されないが、例えば、粒子径が５〜５００ｎｍの酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、チタン酸バリウム等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００３８】
＜＜成型加工用被膜＞＞
本発明の成型加工用被膜は、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて形成されることを特徴とする。
【００３９】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて本発明の成型加工用被膜を形成する方法については、後述の本発明の成型加工用被膜の製造方法における工程（ａ）と同様である。
【００４０】
＜＜ハードコート被膜＞＞
本発明のハードコート被膜は、本発明の成型加工用被膜に対し、成型加工及び加熱処理を行うことにより得られ、鉛筆硬度がＢ以上であることを特徴とする。
【００４１】
本発明の成型加工用被膜に対し、成型加工及び加熱処理を行うことにより本発明のハードコート被膜を得る方法については、後述の本発明のハードコート被膜の製造方法における工程（ｂ）と同様である。
【００４２】
本発明のハードコート被膜の鉛筆硬度は、特に限定されないが、Ｂ以上であることが好ましく、Ｈ以上であることがより好ましい。鉛筆硬度がＢ未満であると、輸送等取扱いの際に傷がつくことがある。
【００４３】
＜＜成型加工用被膜の製造方法＞＞
本発明の成型加工用被膜の製造方法は、
（ａ）本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する工程
を含むことを特徴とする。
【００４４】
＜工程（ａ）＞
工程（ａ）では、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する。本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を基材上に塗布した後、必要に応じて加熱しつつ、乾燥処理を行う方法等が挙げられる。
【００４５】
基材の材質としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、アクリル、ポリスチレン、ポリカーボネート（ＰＣ）、ガラス等が挙げられる。これらは単独で用いても良いし、２種以上を併用しても良い。
【００４６】
基材の厚さは、特に限定されないが、２〜４００μｍであることが好ましく、１０〜２００μｍであることがより好ましい。厚さが２μｍ未満であると、機械特性が不十分となることがあり、４００μｍを超えると、透明性が不十分となることがある。
【００４７】
基材の全光線透過率は、特に限定されないが、８０％以上であることが好ましく、８５％以上であることがより好ましい。全光線透過率が８０％未満であると、透明性が不十分となることがある。全光線透過率の上限は１００％である。
【００４８】
基材は、透明性、耐熱性、機械特性の観点からはポリエステルフィルムであることが好ましく、ＰＥＴフィルムであることがより好ましい。
【００４９】
本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を基材上に塗布する方法としては、特に限定されないが、例えば、ロールコート法、バーコート法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、ブレードコート法、カーテンコート法、スプレーコート法、ドクターコート法等を用いることができる。
【００５０】
乾燥処理に用いる機器としては、特に限定されず、例えば、送風乾燥機等が挙げられる。乾燥処理の条件としては、特に限定されず、例えば、７０〜１００℃で０．５〜１０分間の条件を採用することができる。
【００５１】
＜＜ハードコート被膜の製造方法＞＞
本発明のハードコート被膜の製造方法は、
（ａ）本発明の被膜形成用エマルジョン組成物を用いて成型加工用被膜を形成する工程、並びに、
（ｂ）工程（ａ）で形成された成型加工用被膜に対し、成型加工及び加熱処理を行う工程
を含むことを特徴とする。
【００５２】
＜工程（ａ）＞
工程（ａ）については、上述の通りである。
【００５３】
＜工程（ｂ）＞
工程（ｂ）では、工程（ａ）で形成された成型加工用被膜に対し、成型加工及び加熱処理を行う。成型加工及び加熱処理は同時に行っても良いし、成型加工を行った後に加熱処理を行っても良い。
【００５４】
成型加工としては、特に延伸加工が想定される。
【００５５】
加熱処理に用いる機器としては、特に限定されず、例えば、送風乾燥機等が挙げられる。加熱処理の条件としては、特に限定されず、例えば、１００〜２５０℃で０．１〜２０分間の条件を採用することができる。
【実施例】
【００５６】
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されない。以下、「部」又は「％」は特記ない限り、それぞれ「重量部」又は「重量％」を意味する。
【００５７】
（使用材料）
１．エポキシ樹脂（Ａ）
・クレゾールノボラック型エポキシ化合物（ナガセケムテックス株式会社製、デナコールＥＭ−１６０）
２．熱カチオン発生剤（Ｂ）
・サンエイドＳＩ−６０（三新化学工業株式会社製）
・サンエイドＳＩ−８０（三新化学工業株式会社製）
・ＴＡ−１００（サンアプロ株式会社製）
・ＣＸＣ−１８２１（Ｋｉｎｇ  Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ社製）
３．非水溶性有機溶媒（Ｃ）
・シクロヘキサン（沸点８０．７℃）
・イソホロン（沸点２１５℃）
・トルエン（沸点１１０．６℃）
・メチルエチルケトン（ＭＥＫ）（沸点７９．５℃）
４．水溶性有機溶媒
・２−プロパノール（ＩＰＡ）
・Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）
・γ−ブチルラクトン
・アセトニトリル
・エチレングリコール
５．水溶性酸（Ｄ）
・ポリスチレンスルホン酸（ＰＳＳ）
・硫酸
・硝酸
・グルタル酸
６．界面活性剤
・ＢＹＫ−３４８（ビックケミー・ジャパン株式会社製）
・ＢＹＫ−３３３（ビックケミー・ジャパン株式会社製）
【００５８】
（実施例１〜５、比較例１〜７）
表１に記載した重量比で各成分を混合して組成物を得た。得られた組成物を、ＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、ルミラーＴ６０、厚さ５０μｍ）にワイヤーバーＮｏ．４を用いて塗布した後、送風乾燥機を用いて１００℃で1分間乾燥処理を行うことにより被膜を得た。得られた被膜に対し、送風乾燥機を用いて２４０℃で１分間加熱処理を行うことによりハードコート被膜を得た。各実施例及び比較例において、下記の方法により、均一性、タックの有無、耐擦傷性及び延伸性を評価した。結果を表１に示す。
【００５９】
（評価方法）
１．均一性
各実施例及び比較例で得られた組成物について、目視観察により均一性を以下の基準で評価した。
○：沈殿や相分離がみられない。
×：沈殿や相分離がみられる。
【００６０】
２．タックの有無
各実施例及び比較例で得られた被膜について、触診によりタックの有無を評価した。
【００６１】
３．耐擦傷性
スチールウール（日本スチールウール株式会社製、＃００００）に２００ｇの荷重をかけて、各実施例及び比較例で得られたハードコート被膜の表面を１０往復擦傷した。傷の本数を目視にて確認し、下記基準で評価した。
○：傷の本数が２０本以内である。
×：傷の本数が２０本を超える。
【００６２】
４．延伸性
各実施例及び比較例で得られた組成物をＰＥＴフィルム（東レ株式会社製、ルミラーＴ６０、厚さ５０μｍ）にバーコーターを用いて塗布した後、送風乾燥機を用いて１００℃で１分間乾燥処理を行い、次いで１１０℃で２分間加熱処理を行った。加熱処理の直後に、２倍に延伸し、以下の基準で評価した。
○：割れが発生せず、膜厚も均一である。
×：割れが発生したり、膜厚が不均一である。
【００６３】
【表１】
2017082170.tif 000002