(57)【要約】      （修正有）【課題】密着性、光学的に良好な特性（可視光透過率および遠赤外線反射率）と耐薬品性とに優れる酸化珪素被膜体の提供。【解決手段】基材と、基材の少なくとも一方の面に形成された、（１）〜（５）を満足する酸化珪素膜を有する酸化珪素被膜体。（１）酸化珪素膜が、酸化珪素、酸素、炭素および窒素を含む（２）酸素が、酸化珪素膜に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素から選ばれる少なくとも一種と酸化物を形成（３）窒素が、酸化珪素膜に含まれる金属元素、半金属元素及び半導体元素から選ばれる少なくとも一種と窒化物を形成（４）酸化珪素膜中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有％が１〜４０％である。（５）酸化珪素膜中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有％が１〜４０％。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材[Ａ]と、基材［Ａ］の少なくとも一方の面に形成された、以下（１）〜（５）を満足することを特徴とする酸化珪素膜[Ｂ]を有する酸化珪素被膜体。
（１）酸化珪素膜[Ｂ]が、珪素、酸素、炭素および窒素を含む。
（２）酸素が、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と酸化物を形成している。
（３）窒素が、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と窒化物を形成している。
（４）酸化珪素膜[Ｂ]中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が、１％以上４０％以下である。
（５）酸化珪素膜[Ｂ]中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有原子数％が、１％以上４０％以下である。
【請求項２】
基材[Ａ]の少なくとも一方の面に形成された金属膜[Ｃ]を有し、金属膜[Ｃ]に対して基材[Ａ]と反対側の位置に酸化珪素膜[Ｂ]が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の酸化珪素被膜体。
【請求項３】
金属膜[Ｃ] に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、金属膜[Ｃ]に含まれる銀の含有質量％が８０％以上であることを特徴とする請求項２に記載の酸化珪素被膜体。
【請求項４】
金属膜[Ｃ]の少なくとも一方の面に形成された屈折率が１．７以上である高屈折率膜[Ｄ]を有することを特徴とする請求項２又は３に記載の酸化珪素被膜体。
【請求項５】
高屈折率膜［Ｄ］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率膜［Ｄ］に含まれる錫の含有質量％が５０％以上９０％以下であり、かつ、高屈折率膜［Ｄ］に含まれる亜鉛の含有質量％が１０％以上５０％以下であることを特徴とする請求項４記載の酸化珪素被膜体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、密着性、膜硬度、屈折率など物理的、光学的に良好な特性を有し、耐薬品性に優れる酸化珪素被膜体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば飲食品、医薬品及び化粧品等の収容容器や各種ディスプレイ用などとして光学的な特性を付与したり保護したりする部材、建築物や移動体の窓に省エネ性能を付与する手段として、プラスチックフィルムなどの基材に加工した機能性材料が使用されている。そして、内容物や機能素材を変質から防ぐために、ガスバリア性や耐薬品性を付与する技術などが知られている。このような技術の例として、機能性材料の表面に、酸化アルミニウムや酸化珪素、窒化珪素等の珪素被膜を形成することによりガスバリア性を高めたプラスチックフィルムを得る技術が古くから知られている。例えば、ヘキサメチルジシロキサンなどの有機珪素化合物を用いて、化学蒸着（ＣＶＤ）プロセスによって金属酸化物膜や金属窒化物膜を得る技術が知られている(特許文献１参照)。また、別の例として、金属ターゲットや金属酸化物、金属窒化物のターゲットを用いたスパッタリングプロセスによって、金属酸化物膜や金属窒化物膜を得る技術が知られている(特許文献２参照)。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５３６２９４１号公報
【特許文献２】特表２００７−５２７３２８号公報
【特許文献３】特表２００２−５３９００４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１に記載のＣＶＤプロセスによって得られた金属酸化物膜や金属窒化物膜は、欠陥となるような微細構造間の境界が不明瞭な構造をとりやすく、ガスバリア性能や耐薬品性能等において、良好な特性が得やすい一方、材料に含まれる炭化水素が膜中成分として残りやすく、密着性や膜硬度、屈折率といった物理的、光学的な特性において良好な特性が得難いという欠点がある。
【０００５】
また、特許文献２に記載のスパッタリングプロセスによって得られた金属酸化物膜や金属窒化物膜は、膜硬度や屈折率などの物理的、光学的に良好な特性が得やすい一方、金属酸化物や金属窒化物の膜が、数多くの微細構造の集合体のようなマクロ構造をとることによって微細構造同士の境界に構造欠陥が生じ易くなるなど、ガスバリア性能や耐薬品性能などの特性が得難いという欠点がある。
【０００６】
本発明の課題は、密着性、光学的に良好な特性（可視光透過率および遠赤外線反射率）と耐薬品性とに優れる酸化珪素被膜体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、かかる課題を解決するために、次のような手段を採用する。すなわち、基材[Ａ]と、基材［Ａ］の少なくとも一方の面に形成された、以下（１）〜（５）を満足することを特徴とする酸化珪素膜[Ｂ]を有する酸化珪素被膜体。（１）酸化珪素膜[Ｂ]が、酸化珪素、酸素、炭素および窒素を含む。（２）酸素が、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と酸化物を形成している。（３）窒素が、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と窒化物を形成している。（４）酸化珪素膜[Ｂ]中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が、１％以上４０％以下である。（５）酸化珪素膜[Ｂ]中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有原子数％が、１％以上４０％以下である。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、密着性、光学的に良好な特性（可視光透過率および遠赤外線反射率）を有し、かつ良好な耐薬品性を示す酸化珪素被膜体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の酸化珪素被膜体の一態様であり、基材［Ａ］の一方の面に酸化珪素膜［Ｂ］が積層されたものの断面模式図である。
【図２】実施例１の酸化珪素被膜体断面模式図であり、基材［Ａ］の片面に、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］、酸化珪素膜［Ｂ］がこの順に積層されてなるものである。
【図３】本発明の酸化珪素被膜体の別の態様の断面模式図であり、基材［Ａ］の片面に、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］、酸化珪素膜［Ｂ］、表面保護膜［Ｆ］がこの順に積層されてなるものである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の酸化珪素被膜体は、基材[Ａ]と基材［Ａ］の少なくとも一方の面に形成された酸化珪素膜[Ｂ]とを有する酸化珪素被膜体であり、その酸化珪素膜[Ｂ]は、酸化珪素、酸素、炭素および窒素を含む。また、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる酸素は、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と酸化物を形成しており、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる窒素も、酸化珪素膜[Ｂ]に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と窒化物を形成している。さらに、酸化珪素膜[Ｂ]中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が、１％以上４０％以下であり、酸化珪素膜[Ｂ]中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有原子数％が、１％以上４０％以下であるものである。
【００１１】
上記本発明の酸化珪素被膜体は、炭素と窒素をある範囲の含有量で含む酸化珪素膜を有することが重要である。発明者等が鋭意検討を行ったところ、炭素のみを含む酸化珪素膜でも、窒素のみを含む酸化珪素膜でも、良好な耐薬品性を得ることが出来なかったが、酸化珪素膜を炭素と窒素の両方を含むものとし、さらに、炭素および窒素の含有量を好適な範囲とすることによって、良好な耐薬品性を示す酸化珪素被膜体を得るに至ったものである。
【００１２】
また、本発明の酸化珪素被膜体の取り得る形態としては、図１〜３に示す３つの形態が例示できる。まず、一つ目が、図１に示すように、基材［Ａ］１の一方の面に酸化珪素膜［Ｂ］２が積層されたものである。次に、二つ目として、図２に示すように、基材［Ａ］１の片面に、内部緩衝膜［Ｅ］３、高屈折率膜［Ｄ２］４、金属膜［Ｃ］５、高屈折率膜［Ｄ１］６、酸化珪素膜［Ｂ］２がこの順に積層されてなるものである。三つ目としては、図３に示すように、基材［Ａ］１の片面に、内部緩衝膜［Ｅ］３、高屈折率膜［Ｄ２］４、金属膜［Ｃ］５、高屈折率膜［Ｄ１］６、酸化珪素膜［Ｂ］２、表面保護膜［Ｆ］７がこの順に積層されてなるものである。
【００１３】
以下に本発明における各構成を説明する。
【００１４】
［基材］
本発明に用いる基材［Ａ］としては、特に限定はされないが、化学的に保護することが必要な機能層を積層したガラスなどの金属酸化物や樹脂からなるものを用いることが出来る。連続加工や取り扱いを容易とするために、可撓性を有する樹脂フィルムであることがより好ましい。樹脂フィルムの材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレン−２，６−ナフタレートに代表される芳香族ポリエステル、ナイロン６やナイロン６６に代表される脂肪族ポリアミド、芳香族ポリアミド、ポリエチレンやポリプロピレンに代表されるポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレートフィルムなどに代表されるアクリル等が例示される。これらの中で、コストや取り扱いの容易さ、積層体を加工する際に受ける熱に対する耐熱性といった面で、芳香族ポリエステルが好ましく、中でもポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートがより好ましく、ポリエチレンテレフタレートフィルムが特に好ましい。また、機械強度を高めた二軸延伸フィルムが好ましく、特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。取り扱いの容易さや、加工単位の長尺化による生産性向上といった点からは、フィルムの厚みは５μｍ〜２５０μｍの範囲が好ましく、１５μｍ〜１５０μｍであることがさらに好ましい。
【００１５】
また、樹脂フィルム中には、各種添加剤、例えば、酸化防止剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、有機又は無機の微粒子、充填剤、耐電防止剤、核剤などが、樹脂フィルムの特性を悪化させない程度に添加されていても良い。
【００１６】
樹脂フィルムの接着性を改善するために、基板表面にポリエステル樹脂、アクリル樹脂やウレタン樹脂などからなる接着性向上層が設けられていることが好ましい。接着性をさらに改善するために、接着性向上層にメラミン架橋剤などを添加することがより好ましい。接着性向上層の厚みは、特に限定されないが、通常は０．０１μｍ〜５μｍの範囲が好ましく、より好ましくは０．０２μｍ〜２μｍ、さらに好ましくは０．０５μｍ〜０．５μｍである。接着性向上層の厚みが薄すぎると接着性不良となる場合がある。
【００１７】
［酸化珪素膜］
本発明に用いる酸化珪素膜［Ｂ］は、酸化珪素、酸素、炭素および窒素を有しており、酸素は酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と酸化物を形成しており、窒素は酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素からなる群から選ばれる少なくとも一種と窒化物を形成している。さらに、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が１％以上４０％以下であり、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有原子数％が１％以上４０％以下である。なお、本願でいう金属および半金属・半導体元素とは、Ｈ、Ｈｅ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｎｅ、Ｓ、Ｃｌ、Ａｒ、Ａｓ、Ｂｒ、Ｋｒ、Ｉ、Ｘｅ、Ａｔ、Ｒｎを除いたものである。
【００１８】
酸化珪素膜［Ｂ］中に炭素と窒素、酸素を含むことで良好な耐薬品性を得ること出来る。理由は定かではないが酸化珪素膜中に炭素を含有せしむることで、酸化珪素の基本骨格の自由度増加と緻密性向上が起こるとともに、酸素と窒素を含有せしめて酸化構造と窒化構造を混在させることによって、酸化珪素膜［Ｂ］の内部における歪みの発生や歪みの成長が抑制され、その結果、緻密で構造欠陥の少ない酸化珪素膜［Ｂ］を構築出来るためではないかと考えている。
【００１９】
酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる炭素の含有量は、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が１％以上であり、好ましくは２％以上、さらに好ましくは３％以上である。一方、酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる炭素の含有量が多くなると酸化珪素膜の硬度などの物性や光学特性の変化量も大きくなることから、酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる炭素の含有量は、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が４０％以下であり、好ましくは３０％以下であり、さらに好ましくは２０％以下である。
【００２０】
また、酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる窒素の含有量は、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有原子数％が１％以上であり、好ましくは２％以上、さらに好ましくは４％以上である。また、酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる窒素の含有量が多くなると酸化珪素膜［Ｂ］の光学特性の変化量も大きくなることから、酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる窒素の含有量は、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する窒素の含有原子数％が４０％以下であり、より好ましくは３０％以下である。
【００２１】
酸化珪素膜［Ｂ］の酸素と窒素の含有量を好適な範囲とすることで、酸化珪素膜［Ｂ］の可視光反射率や吸収率を低く抑えるなど光学特性を好ましい範囲に調整することが出来る。酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する酸素の含有原子数％と窒素の含有原子数％との和が、３０％以上であることが好ましく、４０％以上であることはより好ましく、５０％以上であることはさらに好ましい。一方、強固で安定した構造の酸化珪素膜［Ｂ］を得るためには、その値の上限は、７０％以下であることが好ましく、６５％以下であることはより好ましく、６０％以下であることはさらに好ましい。
【００２２】
酸化珪素膜［Ｂ］中の珪素に対する酸化珪素膜［Ｂ］に含まれる炭素の含有量を一定の範囲とすると、密着性の低下を抑制できるなど、物理的や光学的に良好な特性を得ることが出来る。その理由は定かではないが、酸化珪素膜［Ｂ］中に含有される炭化水素組成が増大することによる酸化珪素膜［Ｂ］の緻密性の低下が抑制されるためではないかと考えている。好適な珪素に対する炭素の含有量は、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる珪素原子（Ｓｉ）と炭素（Ｃ）の含有原子数％において、（Ｓｉの含有原子数％）＞（Ｃの含有原子数％）であり、より好ましくは（Ｓｉの含有原子数％）×０．８＞（Ｃの含有原子数％）であり、更に好ましくは（Ｓｉの含有原子数％）×０．６＞（Ｃの含有原子数％）である。
【００２３】
また、酸化珪素膜［Ｂ］の耐キズ性などの膜物性を良好にする上では、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する珪素原子の含有原子数％は２０％以上であることが好ましく、３０％以上であることがより好ましく、３５％以上であることがさらに好ましい。一方、その上限値については、特には限定されないが、上述のとおり、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する炭素の含有原子数％が１％以上であることが好ましく、酸素の含有原子数％と窒素との含有原子数％の和が３０％以上であることが好ましいことを考慮すると、その上限値は、６９％以下が好ましい範囲となる。また、酸素と窒素を多く含んだ酸化珪素膜［Ｂ］では透明性が向上するため、酸化珪素膜［Ｂ］には酸素と窒素がより多く含まれることが好ましく、酸素と窒素の含有量を増やす分、珪素の含有量を減らすのが好ましいため、酸化珪素膜［Ｂ］中に含まれる水素を除き、１原子数％以上含まれる元素の総和に対する珪素原子の含有原子数％は６０％以下であることがより好ましく、５０％以下であることがさらに好ましい。
【００２４】
酸化珪素膜［Ｂ］は、水素を含めた全ての元素の含有原子数％の和が１００％となる範囲で、必要な特性に合わせて組成を調整することが出来る。なお調整の際には、全ての元素を精度良く観察することは困難であり、観察装置によっても測定が可能な元素の範囲は限られることなどを考慮することが必要である。また、後記する表面保護層［Ｆ］を改質するために、酸素、酸化珪素、炭素、そして窒素に加え、アルミニウムや亜鉛、フッ素などその他の成分を含有せしむることが可能であり、その他の成分の含有量に応じて、酸素、珪素、炭素そして窒素の含有量を調整して用いることができる。
【００２５】
酸化珪素膜［Ｂ］の膜厚は、５ｎｍ以上であることが好ましい。酸化珪素膜［Ｂ］の膜厚が５ｎｍ未満であると膜厚の均一性を確保するのが困難になるとともに、外力等の影響を受けることで膜に欠陥が発生しやすくなるためである。酸化珪素膜［Ｂ］の膜厚が、１０ｎｍ以上であることはより好ましく、１５ｎｍ以上であることはさらに好ましい。一方、酸化珪素膜［Ｂ］の膜厚は、３００ｎｍ以下であることが好ましい。酸化珪素膜［Ｂ］の膜厚が３００ｎｍを超えると製膜時に生ずる応力によって酸化珪素膜内や隣接する構造との層間に構造欠陥が生じ易くなるためである。酸化珪素膜［Ｂ］の膜厚が、１００ｎｍ以下であることはより好ましく、５０ｎｍ以下であることはさらに好ましい。
【００２６】
酸化珪素膜［Ｂ］は、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、ＣＶＤプロセスによって薄膜を得る方法などにより製膜することができる。
【００２７】
［金属膜］
本発明の酸化珪素膜[Ｂ]は、優れた耐薬品性を有するため、機能素材を保護するのに適している。例えば、基材[Ａ]の少なくとも一方の面に形成された金属膜[Ｃ]を有し、金属膜[Ｃ]に対して基材[Ａ]と反対側の位置に酸化珪素膜[Ｂ]が形成されていることは、金属膜[Ｃ]を腐食等から保護するために好ましい。
【００２８】
本発明の酸化珪素被膜体に金属膜［Ｃ］を設ける目的としては、導電性や電磁波防止性、そして赤外線の反射による遮熱や断熱性能を得ることなどが挙げられる。良好な赤外線反射性能を得るためには、優れた導電性を示す金属を用いることができ、そのような金属としてＡｌ、ＡｕやＡｇ（銀）等が挙げられる。中でも、可視光域の吸収が少なく、非常に優れた導電性を示すＡｇ（銀）が含有されていることが好ましく、金属膜［Ｃ］のＡｇ（銀）含有量は、金属膜［Ｃ］を構成する全成分を１００質量％とした場合に、８０質量％以上であることが好ましく、９０質量％以上であることがより好ましい。一方で、Ａｇ（銀）の含有量の上限は特に限定されず、Ａｇ（銀）の含有量が１００質量％、すなわち、金属膜［Ｃ］がＡｇ（銀）のみからなるものであってもよい。Ａｇ（銀）が硫黄や酸素などと反応して劣化することを抑えたり、凝集などにより欠点が発生するのを防いだりするため、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ｃｕ、Ｂｉ、Ｎｉ、Ｎｄ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｙ、Ｅｕ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｓｍ、Ｃａ、Ｂｅ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｃｒ、ＣｏおよびＮｉなどから選ばれる１種以上の金属とＡｇ（銀）との合金として用いることが好ましい。
【００２９】
金属膜［Ｃ］の膜厚は、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることはさらに好ましい。金属膜［Ｃ］の膜厚を５ｎｍ以上とすることで、金属膜［Ｃ］の厚みムラが抑制され、金属膜［Ｃ］は安定した遠赤外線反射性能を発揮することができる。一方、金属膜［Ｃ］の膜厚は、３０ｎｍ以下であることが好ましく、２５ｎｍ以下であることはさらに好ましい。金属膜［Ｃ］の膜厚を３０ｎｍ以下とすることで、酸化珪素被膜体の可視光透過性能をさらに向上させることができる。
【００３０】
また、金属膜［Ｃ］の製膜方法としては、各種金属や合金のターゲットを用いて、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、蒸着プロセスにより抵抗加熱、電子ビーム、レーザ、高周波誘導加熱、アークなどの方法で気化させた各種金属や合金を堆積させることによって薄膜を得る方法などが挙げられる。中でも、膜厚や膜質の制御に優れ、良好な膜密着性が得られるという観点から、スパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法が好ましい。
【００３１】
また、金属膜［Ｃ］を腐食や酸化から保護する観点から、金属膜［Ｃ］の片面もしくは両面を被覆するように、Ｙ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｃｒ、Ｍｏ、Ｗ、Ｒｕ、Ｉｒ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｕ、Ａｌ、Ｃｅ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｔｂなどから選ばれた金属やその混合物からなる金属薄膜［Ｃ２］をさらに設けることが好ましい。金属膜［Ｃ］を腐食や酸化から十分に保護するためには、上記金属薄膜［Ｃ２］の膜厚は０．５ｎｍ以上であることが好ましい。また、良好な可視光透過性能を得るためには、上記金属薄膜［Ｃ２］の膜厚は１０ｎｍ以下であることが好ましい。保護性能と可視光透過性能を両立するためには、上記金属薄膜［Ｃ２］の膜厚が１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることがさらに好ましい。上記金属薄膜［Ｃ２］は、金属膜［Ｃ］を腐食から保護するために設ける保護層であり、赤外線反射性能などの特性に対する影響は小さい。したがって、赤外線反射性能などの特性に対して金属膜［Ｃ］の厚みを考慮する際には、金属薄膜［Ｃ２］は除外して考える。
【００３２】
［高屈折率膜］
金属膜［Ｃ］を有する本発明の酸化珪素被膜体において、金属膜[Ｃ]の少なくとも一方の面に屈折率が１．７以上である高屈折率膜[Ｄ]が 形成されていることは、金属膜［Ｃ］界面における可視光線の反射を抑制することが出来るために好ましい。
【００３３】
金属膜［Ｃ］を有する本発明の酸化珪素被膜体において、金属膜［Ｃ］と酸化珪素膜［Ｂ］との間に、屈折率が１．７以上である高屈折率膜［Ｄ１］が積層されていることは、金属膜［Ｃ］と酸化珪素膜［Ｂ］との界面における可視光線反射を抑制することが出来るために好ましい。
【００３４】
また、金属膜［Ｃ］を有する本発明の酸化珪素被膜体において、基材［Ａ］と金属膜［Ｃ］との間に、屈折率が１．７以上である高屈折率膜［Ｄ２］が積層されていることは、基材［Ａ］と金属膜［Ｃ］との界面における可視光線反射を抑制することが出来るために好ましい。
【００３５】
高屈折率膜［Ｄ］の材料としては、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化錫および酸化ビスマスといった酸化物、および、窒化ケイ素などの窒化物、ならびにそれらの混合物やそれらにアルミニウムや銅などの金属や炭素を含有ドープしたものなどから、適宜選択して用いることができる。高屈折率膜［Ｄ］の屈折率および厚みによって、酸化珪素被膜体の界面反射や反射光や透過光の色調を調整することが可能となる。高屈折率膜［Ｄ］の屈折率が高いほど、薄い膜厚で大きな効果を得ることが出来るため、屈折率が１．７以上であることが好ましく、１．９以上であることがより好ましい。高屈折率膜［Ｄ］は、各種金属や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより薄膜を得る方法、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって薄膜を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって薄膜を得る方法などにより製膜することができる。金属層［Ｃ］をスパッタリングプロセスで製膜する場合においては、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］もスパッタリングプロセスで製膜することが、金属層［Ｃ］と連続して製膜するのに有利であるために好ましい。
【００３６】
酸化珪素被膜体全体の可視光透過性能および赤外線反射性能を制御するためには、例えば、（高屈折率層）ｍ（／金属層／高屈折率層）ｎのように高屈折率層と金属層が連続して積層されているものが挙げられる（ここで、ｍは０または１であり、かつｎは１以上の整数である。）。ここで、繰り返し構造であるｎの数や、高屈折率層や金属層の屈折率や膜厚を調整することは、酸化珪素被膜体の可視光透過率や赤外線反射性能を調整ための有効な手段である。
【００３７】
また、本発明の酸化珪素被膜体が有する（／金属膜［Ｃ］／高屈折率膜［Ｄ］）の数「ｎ」は、１以上であれば赤外線反射性能および可視光透過性能に優れた酸化珪素被膜体を得ることができる。さらに、（／金属膜［Ｃ］／高屈折率膜［Ｄ］）の数「ｎ」を２以上とすることが赤外線反射性能および可視光透過性能をさらに向上することができるため好ましい。また、（／金属膜［Ｃ］／高屈折率膜［Ｄ］）の数「ｎ」の上限については特に限定はないが、製造工程の煩雑さと得られる赤外線反射性能および可視光透過性能とのバランスの観点から３以下が好ましい。
【００３８】
また一方、酸化珪素被膜体をより耐候性に優れたものとするためには、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］が、それと隣接し得る基材[Ａ]や金属膜［Ｃ］、または、酸化珪素膜［Ｂ］、後記する内部緩衝膜［Ｅ］と、強固に密着していることが重要である。ここで、例えば、特許文献３（特表２００２−５３９００４）では、ポリマー基板と透明金属酸化物層の密着性向上を図るはかるために、ポリマー基板と透明金属酸化物層との間にアルミニウムや銀などの金属層を密着力向上層として設ける技術が示されているが、当該金属層は可視光線を反射・吸収してしまうために、可視光透過性能が低下するという問題がある。そこで、本発明者は、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］に含まれる錫の含有質量％を５０％以上９０％以下とし、かつ、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］に含まれる金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］に含まれる亜鉛の含有質量％を１０％以上５０％以下とし、さらに、高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］を、それらに隣接しうる基材[Ａ]や金属膜［Ｃ］、または、酸化珪素膜［Ｂ］、後記する内部緩衝膜［Ｅ］の少なくともいずれか一方に直接接積層するものとすることで、酸化珪素被膜体の可視光透過性を低下させずに、高屈折率膜[Ｄ]とそれに隣接しうる層との密着性や酸化珪素被膜体の耐候性を向上させることができ、その形態が好ましいものであることを見出した。上記の構成により層間の密着力や酸化珪素被膜体の耐候性が向上する理由は定かではないが、高屈折率膜[Ｄ]の組成を上記のものとすることで、出願組成の錫を主成分とした亜鉛を含む金属酸化物を用いると、製膜時に高屈折率膜［Ｄ１］や［Ｄ２］に生じる歪や、それに隣接しうる層する基材[Ａ]や金属膜［Ｃ］、後記する内部緩衝膜［Ｅ］に与えるダメージが少なくなるためではないかと考えられる。また、金属膜［Ｃ］の製膜時に、金属膜［Ｃ］に生じる歪や、高屈折率膜[Ｄ２]に与えるダメージが少なくなるためではないかと推測される。
【００３９】
なお、本発明において、金属および半金属・半導体元素とは、Ｈ、Ｈｅ、Ｎ、Ｏ、Ｆ、Ｎｅ、Ｓ、Ｃｌ、Ａｒ、Ａｓ、Ｂｒ、Ｋｒ、Ｉ、Ｘｅ、Ａｔ、Ｒｎを除いたものである。
【００４０】
［内部緩衝膜］
内部緩衝膜とは、基材［Ａ］と酸化珪素膜［Ｂ］や金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］および高屈折率膜［Ｄ２］との界面が破損するのを抑制するために設ける膜である。本発明の酸化珪素被膜体においては、基材［Ａ］と酸化珪素膜［Ｂ］や金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］および高屈折率膜［Ｄ２］との間に、内部緩衝膜［Ｅ］を設けることが好ましい。これにより、酸化珪素被膜体の有する各層の内部や層間の界面に応力が集中し破損するのを防ぐことができる。また、内部緩衝膜［Ｅ］の表面形状を設計することにより酸化珪素被膜体の光学特性を改善することができる。、内部緩衝膜［Ｅ］の厚みは、０．２μｍ〜１０μｍの範囲で、酸化珪素被膜体の構成や各層の組成、酸化珪素被膜体の用途によって適宜選択することが出来る。
【００４１】
内部緩衝膜［Ｅ］の材料は、基材［Ａ］、酸化珪素膜［Ｂ］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］および高屈折率膜［Ｄ２］との組み合わせに応じて、酸化珪素被膜体の有する各層の内部や層間の界面への応力集中を防ぐためや、酸化珪素被膜体の遠赤外線反射性能もしくは可視光透過性能、または、金属膜［Ｃ］や高屈折率膜［Ｄ２］と内部緩衝膜［Ｅ］との密着力などの観点から適宜選ぶことができる。そして、密着性、耐キズ性、耐湿熱性または耐候性などの各特性に対する要求に適応するように、架橋性樹脂を主成分とする有機系膜、金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系膜、そして有機系膜に無機微粒子を分散したものや、無機系膜素材の有機変性物を用いたもの、あるいはそれらを混合して用いたものなどの有機−無機ハイブリッド系膜などから適宜選択して用いることができる。
【００４２】
例えば、内部緩衝膜［Ｅ］が、アクリル系、ウレタン系、メラミン系などの架橋性樹脂を主成分とする有機系膜であることは、主鎖や側鎖の種類や量、含有官能基や含有粒子の種類や量によって、膜特性を比較的容易に調整することが出来るために好ましい。有機系膜を得る方法としては、（メタ）アクリレートを主成分とする樹脂組成物を溶剤に希釈した塗液を乾燥・硬化して得る方法などが挙げられる。
【００４３】
有機系膜が（メタ）アクリレートを架橋して得られるアクリル系の架橋樹脂であることは、光重合開始剤などを配合することによって、紫外線などのエネルギー線にて有機系膜の硬化を制御することができ、有機系膜の硬化による物性制御が容易になるため好ましい。（メタ）アクリレートの例としては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、各種ウレタンアクリレートやメラミンアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、１．４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１．６−ヘキサンジオールジメタクレート、１．９−ノナンジオールジメタクリレート、１．１０−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。一般的に官能基数の多いアクリレートを用いるほど有機系膜の表面硬度が高くなる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上の多官能（メタ）アクリレートや低官能基数の不飽和基を持つ樹脂を併用して、有機系膜の特性を調整することもできる。（メタ）アクリレートは、モノマーで用いてもプレポリマーで用いてもよく、複数種類のモノマーやプレポリマーを混合して使用してもよい。また、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステルウレタン系樹脂および、シリコーン樹脂からなる群から選ばれる少なくとも１種類を内部緩衝膜［Ｅ］に、もしくは複数種類添加することにより内部緩衝膜［Ｅ］を改質することは、金属層や高屈折率層と内部緩衝膜［Ｅ］との密着性を向上させるために好ましい。特に、内部緩衝膜［Ｅ］としてアクリル系の架橋樹脂を用いる際に、添加樹脂としてシリコーン樹脂を用いることは、上記の架橋樹脂やその溶媒と添加樹脂との相溶性に優れることから好ましい。添加量は酸化珪素被膜体全体の組み合わせによる各物性や耐久性によって適宜選択するものであるが、十分な改質効果を得るとともに、内部緩衝膜［Ｅ］の物性に及ぼす悪影響を抑えるためには、内部緩衝膜［Ｅ］１００質量％に対し、樹脂を０．１質量％以上〜３０質量％以下の範囲で添加することが好ましく、０．１質量％〜１５質量％以下であることがより好ましい。
【００４４】
有機系膜の収縮、表面硬度、光学特性や表面形状を改質する他の方法として、無機または有機の粒子またはそれらを組み合わせて、１種または２種以上の粒子を組み合わせて有機系膜に添加して用いることができる。例えば、無機粒子として、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化セリウムなどを使用することができる。有機微粒子として、粒子内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができる。粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、これらの粒子表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、架橋性樹脂と粒子表面の間に架橋反応が起こることで、内部緩衝膜［Ｅ］の特性を改質することができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
【００４５】
また、例えば、内部緩衝膜［Ｅ］が、シリカ、アルミナ、ジルコニアやダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの金属や酸素、炭素などを主成分とする無機系膜であることは、金属膜［Ｃ］や高屈折率膜［Ｄ２］との親和性が良好であり、スパッタ等のドライコーティングプロセスで連続して加工することが可能であるなどプロセス適合性が高いことから好ましい。内部緩衝膜［Ｅ］が無機系膜である場合、緻密な膜を得やすいことから、高硬度が得やすいなどの長所を有する一方、製膜速度が遅いことから厚膜化が難しかったり、製膜時に発生する収縮応力によって酸化珪素被膜体が受ける歪が大きくなりやすいなどの制約が生じる場合がある。無機系膜を得る方法の例としては、各種金属や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素などのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより内部緩衝膜［Ｅ］を得る方法などが挙げられる。
【００４６】
内部緩衝膜［Ｅ］としては、上述した有機系膜と無機系膜の長所を兼ね備えるものとして、有機−無機ハイブリッド系膜を用いることもできる。有機−無機ハイブリッド系膜を得る方法の例としては、アルキルシリケートやアルキルチタネートなどの有機金属化合物を原料として、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって内部緩衝膜［Ｅ］を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって内部緩衝膜［Ｅ］を得る方法などがある。
【００４７】
耐キズ性や表面硬度などの物性を得るためには内部緩衝膜［Ｅ］の厚みを厚くすることが好ましく、内部緩衝膜［Ｅ］の製膜時に生じる応力によるカール等の歪みを抑制するためには内部緩衝膜［Ｅ］の厚みを薄くすることが好ましいことから、内部緩衝膜［Ｅ］の厚みが０．１μｍ〜１０μｍであることが好ましく、０．２μｍ〜５μｍであることがより好ましく、０．４μｍ〜３μｍであることがさらに好ましい。
【００４８】
内部緩衝膜［Ｅ］が、架橋性樹脂を主成分とする有機系膜である場合、内部緩衝膜［Ｅ］の柔軟性が高まり変形に対する追従性が良好になるが、膜硬度は低下するため、内部緩衝膜［Ｅ］の厚みを０．４μｍ以上に調整する必要があり、０．５μｍ以上とすることはより好ましく、１μｍ〜３μｍであることはさらに好ましい。
【００４９】
［表面保護膜］
本発明の酸化珪素被膜体において、表面保護膜［Ｆ］を、基材［Ａ］や金属層［Ｃ］、酸化珪素膜［Ｂ］など酸化珪素被膜体の構成に応じて、酸化珪素被膜体表面や酸化珪素被膜体を構成する各層や、層間の界面への水分等の侵入や応力集中、汚れの蓄積等を防ぐために設けることができる。また、酸化珪素被膜体の遠赤外線反射性能ならびに可視光透過性能、酸化珪素被膜体を構成する各層の層間密着性、および、表面保護膜［Ｆ］自体の耐キズ性、耐湿熱性ならびに耐候性等の各種特性に対する要求に適応するように、下記の成分を適宜選択して表面保護膜［Ｆ］を形成することができる。
【００５０】
表面保護膜［Ｆ］は、特に限定はされないが、金属や炭素などを主成分とする無機系保護膜、ポリプロピレンやポリノルボルネンなどの遠赤外線の吸収が小さいポリオレフィン系樹脂やポリアクリロニトリル系樹脂を主成分とする表面保護膜、架橋性樹脂を主成分とする有機系保護膜、そして有機系保護膜に無機微粒子を分散したものや、無機系保護膜の有機変性物を用いたもの、それらの中から２種類以上を混合して用いるハイブリッド系保護膜などや、それらにフッ素等を導入することで撥水性や撥油性を付与したものから適宜選択して用いることができる。例えば、表面保護膜［Ｆ］が、アクリル系、ウレタン系、メラミン系などの架橋性樹脂を主成分とする有機系ハードコートであることは、主鎖や側鎖の種類や量、含有官能基や含有粒子の種類や量によって、膜特性を比較的容易に調整することが出来るために好ましい。
【００５１】
有機系表面保護層を得る方法としては、（メタ）アクリレートを主成分とする樹脂組成物を溶剤に希釈した塗液を乾燥・硬化して得る方法などが挙げられる。
【００５２】
有機系保護膜が（メタ）アクリレートを架橋して得られるアクリル系の架橋樹脂であることは、光重合開始剤などを配合することによって、紫外線などのエネルギー線にて表面保護層の硬化を制御することができ、表面保護層の硬化による物性制御が容易になるため好ましい。（メタ）アクリレートの例としては、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジシクロペンタニルジアクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジアクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、イソシアヌレートジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、各種ウレタンアクリレートやメラミンアクリレート、エチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、１．４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１．６−ヘキサンジオールジメタクレート、１．９−ノナンジオールジメタクリレート、１．１０−デカンジオールジメタクリレート、グリセリンジメタクリレート、ジメチロールートリシクロデカンジメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートやエトキシ化トリメチロールプロパントリメタクリレートなどが挙げられる。一般的に官能基数の多いアクリレートを用いるほど表面保護層の表面硬度が高くなる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上の多官能（メタ）アクリレートや低官能基数の不飽和基を持つ樹脂を併用して、表面保護膜［Ｆ］の特性を調整することもできる。（メタ）アクリレートは、モノマーで用いてもプレポリマーで用いてもよく、複数種類のモノマーやプレポリマーを混合して使用してもよい。
【００５３】
有機系表面保護層の収縮、表面硬度、光学特性や表面形状を改質するために、無機または有機の粒子またはそれらを組み合わせて、１種または２種以上の粒子を組み合わせて有機系表面保護層に添加して用いることができる。例えば、無機粒子として、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化セリウムなどを使用することができる。有機微粒子として、内部架橋タイプのスチレン系樹脂、スチレン−アクリル系共重合樹脂、アクリル系樹脂、ジビニルベンゼン樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン樹脂、メラミン樹脂、スチレン−イソプレン系樹脂、ベンゾグアナミン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂などを使用することができる。粒子の形状は、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、不定形状などがあり、必要特性に合わせて適宜選択することができる。さらに、これらの粒子表面に官能基を導入するような表面処理を行なうことで、架橋性樹脂と粒子表面の間に架橋反応が起こることで、表面保護膜［Ｆ］の特性を改質することができる。官能基を導入する表面処理としては、例えば、重合性不飽和基を含む有機化合物を粒子と結合させることができる。重合性不飽和基としては、特に制限はないが、例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、プロペニル基、ブタジエニル基、スチリル基、エチニル基、シンナモイル基、マレエート基およびアクリルアミド基を挙げることができる。
【００５４】
使用する粒子の大きさは、必要とする特性に合わせて適宜選択することが出来る。例えば、粒子径が大きくなると、体積あたりの表面積が小さくなるため界面効果が小さくなるとともに、塗膜表面に凹凸が生じやすくなり、光の散乱効果が大きくなる。表面保護膜［Ｆ］の透明性を高くするためや、平滑性を高めるためには、使用する粒子の平均一次粒子径が１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましい。一方、表面保護膜［Ｆ］に光の散乱効果を付与するためや、表面凹凸を付与するためには、使用する粒子の平均一次粒子径が０．１μｍ〜３μｍであることが好ましい。光の散乱効果が大きな粒子の濃度を低くする際に、特に観察されやすいく現象としては、粒子の多い部分と粒子の少ない部分に分かれて粒子の分散状態が不均一化して外観が悪化する現象がある。その現象を防ぐためには、例えば、平均一次粒子径が０．２μｍ〜２μｍである粒子と平均一次粒子径が１００ｎｍ以下である粒子とを混合して用いるなど、平均一次粒子径の大きな粒子と粒子径の小さな粒子を混合して用いることで、総粒子濃度を高く保つことが好ましい。
【００５５】
表面保護膜［Ｆ］が、架橋性樹脂を主成分とする有機系ハードコートである場合、該架橋樹脂中にリン酸基が含有されていることが、表面保護膜［Ｆ］と、酸化珪素膜［Ｂ］との密着性が良好であることから好ましい。
【００５６】
架橋樹脂にリン酸基を導入する方法としては、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体を、（メタ）アクリレートや重合開始剤などと混合し、熱や紫外線（以降、ＵＶと略記することもある）などの電磁波を照射することによって架橋を形成する方法などが挙げられる。
【００５７】
このような、リン酸基を有する（メタ）アクリル酸誘導体の例としては、リン酸２−（メタクリロイルオキシ）エチル、ビス（２−メタクリロイルオキシエチル）リン酸エステルなどが挙げられる。これらは単独で使用しても良いが、２種以上を混合することでリン酸基による密着性の向上効果と架橋樹脂の硬度や耐久性などの特性を適宜調整して使用してもよい。
【００５８】
架橋樹脂中にリン酸基が含有されている表面保護膜［Ｆ］は、
（Ｆｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂からなる単層構成、
（Ｆｉｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂からなる層、および、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量が異なる層、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と組成が異なる架橋樹脂からなる層もしくは前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量および組成が異なる架橋樹脂からなる層からなる群より選ばれる１以上の層との多層構成、
（Ｆｉｉｉ）前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量が異なる架橋樹脂、前記リン酸基が含有されている架橋樹脂と組成が異なる架橋樹脂もしくは前記リン酸基が含有されている架橋樹脂とリン酸含有量および組成が異なる架橋樹脂からなる群より選ばれる１以上の架橋樹脂とからなる層であって、リン酸含有量および／または架橋樹脂組成が厚み方向に連続的に変化している傾斜構成、
のいずれの構成であっても良い。（Ｆｉｉ）多層構成または（Ｆｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、酸化珪素膜［Ｂ］と接する層（多層構成の場合）または、酸化珪素膜［Ｂ］と接する領域（傾斜構成の場合）に前記リン酸基が含有されている架橋樹脂を含むものである。
【００５９】
表面保護膜［Ｆ］におけるリン酸基の含有量は、酸化珪素被膜体全体の構成や要求特性に応じて調整するものであるが、リン酸基含有量が少ないと密着性向上効果が小さくなる一方、リン酸基含有量が過剰になると、表面保護膜［Ｆ］において、硬度低下や耐湿熱環境における耐久性低下などの物性変化を伴うことになる。
【００６０】
例えば、リン酸基の含有量の指標としては、セクター磁場型二次イオン質量分析装置にて得たリンに帰属される信号の強度を炭素に帰属される信号の強度で除して算出される規格化強度値を用いることができる。セクター磁場型二次イオン質量分析装置を用いた測定では、厚み方向のリンおよび炭素に帰属される信号の強度プロファイル（Ｐ［３１（Ｐ）］プロファイル，Ｃ［１３（Ｃ）］プロファイル）を得ることができる。かかるデータから着目する位置における各信号強度値を取得し、その位置での規格化強度値［Ｐ／Ｃ］を得る。（Ｆｉ）単層構成の場合、表面保護膜［Ｆ］の中心部±５０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均が、０．０１〜３０となる範囲であることが好ましく、０．１〜１０であることがより好ましい。（Ｆｉｉ）多層構成または（Ｆｉｉｉ）傾斜構成の場合は、酸化珪素膜［Ｂ］との境界から０〜２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｆ１］とし、領域［Ｆ１］の中心部±２０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均を領域［Ｆ１］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｆ１）とすると、［Ｐ／Ｃ］（Ｆ１）が０．０１〜３０の範囲であることが好ましく、０．１〜１０であることがより好ましい。
【００６１】
また、表面保護膜［Ｆ］が（Ｆｉｉ）多層構成または（Ｆｉｉｉ）傾斜構成を採る場合は、表面保護膜［Ｆ］において、酸化珪素膜［Ｂ］の反対側（酸化珪素被膜体の表面側）に位置する面から０〜２００ｎｍの範囲の領域を領域［Ｆ２］とし、基材［Ａ］側の界面から１００ｎｍの位置を中心に±２０ｎｍの範囲における規格化強度値［Ｐ／Ｃ］の平均を領域［Ｆ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｆ２）とすると、領域［Ｆ２］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｆ２）は、領域［Ｆ１］の規格化強度値［Ｐ／Ｃ］（Ｆ１）の１０％以下であることが好ましい。すなわち、領域［Ｆ２］のリン酸基含有量が、領域［Ｆ１］のリン酸基含有量と比較して、大幅に小さいことが好ましい。さらには、領域［Ｆ２］は、リン酸基を含まないことがより好ましい。この理由は、酸化珪素膜［Ｂ］との境界領域である領域［Ｆ１］に存在するリン酸基は、表面保護膜［Ｆ］と酸化珪素膜［Ｂ］との親和性向上に寄与するが、それ以外の領域に存在するリン酸基は、親和性向上に寄与せず、過剰に存在すると、むしろ表面保護膜［Ｆ］自体の物性を低下させるためではないかと推測する。
【００６２】
したがって、表面保護膜［Ｆ］が（Ｆｉｉ）多層構成または（Ｆｉｉｉ）傾斜構成の場合は、領域［Ｆ１］以外の領域には、前記リン酸基を含まないか、架橋樹脂自体の物性を低下させない含有量であることが好ましい。前記極性基を含まない領域の厚みが、表面保護膜［Ｆ］の厚みの２０％以上であることが好ましく、５０％以上であることがより好ましく、８０％以上であることがさらに好ましい。
【００６３】
また、例えば、表面保護膜［Ｆ］が、シリカ、アルミナ、ジルコニアやＤＬＣなどの金属や炭素などを主成分として、酸素や窒素、フッ素等を含む無機系保護膜であることは、酸化珪素膜［Ｂ］との親和性が良好であり、スパッタリングプロセス等のドライコーティングプロセスで連続して加工することが可能であるなどプロセス適合性が高いことから好ましい。表面保護膜［Ｆ］が無機系保護膜である場合、緻密な膜を得やすいことから、高硬度が得やすいなどの長所を有する一方、製膜速度が遅いことから厚膜化が困難であり、製膜時に発生する収縮応力によって酸化珪素被膜体が受ける歪が大きくなりやすいなどの制約が生じる場合がある。無機系保護膜を得る方法の例としては、各種金属や合金、それらの酸化物、窒化物、亜酸化物、亜窒化物、酸窒化物、亜酸窒化物などのターゲットを用いて、必要に応じて酸素や窒素、炭酸ガスやフッ素ガスなどのガスと反応させるスパッタリングプロセスにより保護膜を得る方法などが挙げられる。
【００６４】
表面保護膜［Ｆ］としては、上述した有機系保護膜と無機系保護膜の長所を兼ね備えるものとして、有機−無機ハイブリッド系保護膜を用いることもできる。有機−無機ハイブリッド系保護膜を得る方法の例としては、アルキルシリケートやアルキルチタネートなどの有機金属化合物やそのフッ化物を原料として、気化させた有機金属化合物と酸素や窒素などのガスをプラズマ等で反応させるＣＶＤプロセスによって保護膜を得る方法、溶剤に希釈した有機金属化合物を乾燥・硬化させるウエットコーティングプロセスによって保護膜を得る方法などがある。
【００６５】
表面保護膜［Ｆ］の膜厚は、薄すぎると酸化珪素被膜体の表面全体を均一に保護する役割を果たすことが難しくなるため、５ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましい。
【００６６】
一方、例えば、遠赤外線反射性能を示す金属膜［Ｃ］を有する酸化珪素被膜体の場合、表面保護膜［Ｆ］の膜厚を厚くすると、遠赤外線の吸収が大きくなるために遠赤外線反射性能が低下する。以上のことから、遠赤外線反射性能を示す金属膜［Ｃ］を有する酸化珪素被膜体の場合、表面保護膜［Ｆ］の膜厚は２μｍ以下にすることが好ましく、１μｍ以下であることがより好ましく、０．５μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００６７】
次に、本発明の酸化珪素被膜体について説明する。
【００６８】
［酸化珪素被膜体の可視光透過率］
本発明の酸化珪素被膜体は、基材［Ａ］、酸化珪素膜［Ｂ］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ］、内部緩衝膜［Ｅ］、表面保護膜［Ｆ］］や他の構成層について、成分、膜質および膜厚を調整することで、用途に合わせた可視光透過率を設計することができる。多層積層体の可視光透過率は４０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７０％以上がさらに好ましい。
【００６９】
［酸化珪素被膜体の遠赤外線反射率］
本発明の酸化珪素被膜体は、基材［Ａ］、酸化珪素膜［Ｂ］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ］、内部緩衝膜［Ｅ］、表面保護膜［Ｆ］］や他の構成層について、成分、膜質、膜厚および抵抗値などの特性を調整することで、用途に合わせた遠赤外線反射率を設計することができる。酸化珪素被膜体の遠赤外線反射率は、６０％以上であることが好ましく、７０％以上がより好ましく、８０％以上がさらに好ましい。
【００７０】
［用途］
本発明の酸化珪素被膜体は、その優れた耐薬品性を活かし、建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギーの遮断による冷暖房効果の向上するために金属層を設けた透明断熱、遮熱ウインドウ材、や電磁波シールド材、有機ＥＬなど環境ガスの影響で性能が劣化する素材を保護するためのガスバリア性基板などとして利用することができる。
【００７１】
上記したような本発明の酸化珪素被膜体は、前記説明の基材［Ａ］表面に前記説明の酸化珪素膜［Ｂ］等の各構成膜を、たとえば図面の簡単な説明の段落で示したように、積層することにより製造される。
【実施例】
【００７２】
以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明は必ずしもこれらに限定されるものではない。
［特性の評価方法］
本実施例で用いた酸化珪素被膜体の特性の評価方法は、下記のとおりである。
【００７３】
（１）密着性
１）評価用試験体の作製
ア．酸化珪素被膜体を５０ｍｍ角正方形にカットする。
イ．ア項でカットした試料の基材側の面に粘着層を形成する。
ウ．イ項で形成した粘着層を介して、３ｍｍ厚のフロートガラスに貼合し、酸化珪素被膜体のガラス貼合体を得る。
エ．ウ項で得たガラス貼合体に、クロスカット用間隔スペーサー（コーテック株式会社製：型番ＣＲＯＳＳＣＣＵＴ  ＧＵＩＤＥ１．０）、カッターナイフを用い、酸化珪素被膜体に縦方向６回、横方向６回の切り込みを１ｍｍ間隔で入れた評価用試験体を得る（本操作により、酸化珪素被膜体表面に５×５＝２５マスの格子が作製される）。
２）評価用試験体の判定
作製した評価用試験体の格子上に透明感圧付着テープ（日東電工株式会社製：型番３１Ｂ）を圧着し、圧着したテープを約６０度の方向に引き剥がす。
ア．判定基準
○：２５マス全ての格子で剥離無し。
×：２５マス中１マス以上の格子が剥離が発生。
【００７４】
（２）耐薬品性
１）評価用試験体の作製
ア．酸化珪素被膜体を５０ｍｍ角正方形にカットする。
イ．前記ア項でカットした試料の基材側の面に粘着層を形成する。
ウ．次に、イ項で形成した粘着層を介して、３ｍｍ厚のフロートガラスに貼合し、評価用試験体を得る。
２）評価用試験体の判定
ア．作製した評価用試験体の表面に硫化アンモニウム水溶液（２０％）を滴下し、２４時間室温にて乾燥する。
イ．評価用試験体の上に析出した硫化アンモニウム結晶を水で洗い落とす。
３）評価用試験体の判定
評価用試験体上の硫化アンモニウム水溶液滴下箇所を、レーザー顕微鏡を用いて評価用試験体の腐食による変色点の有無、表層剥離の有無を観察する。
・測定機器：ＶＫ−Ｘ１１０（キーエンス社製）
・対物レンズ：標準レンズ  １０倍・光学ズーム：１．０倍
ア．判定基準
Ａ：変色点なし、表層剥離なし。
Ｂ：変色点あり、表層剥離なし。
Ｃ：表層剥離あり。
【００７５】
（３）可視光透過率
可視光透過率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長３８０〜７８０ｎｍの分光透過率より求めたものを可視光透過率（％）とした。
・測定装置：島津製作所製  紫外可視近赤外分光光度計  ＵＶ−３１５０
・波長範囲：３８０〜７８０ｎｍ
・スリット幅：（２０）
・スキャンスピード：高速
・サンプリング：１ｎｍ
・グレーティング：７２０ｎｍ
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００７６】
（４）遠赤外線反射率
遠赤外線反射率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ  ３１０６（１９９８）に準拠して行い、波長５〜２５μｍの分光反射率より、２８３Ｋの熱放射に対する反射率を求めたものを遠赤外線反射率（％）とした。
・測定装置：島津製作所製  フーリエ変換赤外分光光度計  ＩＲＰｒｅｓｔｉｇｅ−２１
・正反射測定ユニット：ＳＲＭ−８０００Ａ
・波数範囲：４００〜２０００ｃｍ−１
・測定モード：％Ｔｒａｎｓｍｉｔｔａｎｃｅ
・アボダイズ係数：Ｈａｐｐ−Ｇｅｎｚｅｌ
・積算回数：４０
・分解：４．０
・測定内容：５検体を測定し、最大値を示す検体と最小値を示す検体除外した３検体の平均値をもとめた。
【００７７】
（５）酸化珪素膜［Ｂ］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ］の厚み
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ２１００Ｆ）を用いて観察した、ＳＴＥＭ(Scanning Transmission Electron Microscopy)像から厚みを測長した。
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  ＦＢ−２１００μ-Sampling System）
・ＳＴＥＭ像観察条件：加速電圧  ２００ｋＶ、beam spot size １ｎｍφ程度
・測定ｎ数：１。
【００７８】
（６）酸化珪素膜［Ｂ］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ］の含有質量％
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製ＪＥＭ２１００Ｆ）に搭載されたＥＤＸ（検出器：日本電子製ＪＥＤ−２３００Ｔ、ソフト：日本電子製Analysis Station）を用いて測定し、得られたＥＤＸスペクトルから、質量％を算出した。なお、質量％が１％未満となる元素については、質量％の計算において除外した。
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  ＦＢ−２１００μ-Sampling System）
・ＳＴＥＭ像観察条件：加速電圧  ２００ｋＶ、beam spot size １ｎｍφ程度
・観察元素：Ｃ〜Ｕ
・測定ｎ数：１。
【００７９】
（７）酸化珪素膜［Ｂ］の含有原子数％
電界放出型電子顕微鏡（日本電子製JEM2100F）に搭載されたＥＤＸ（検出器：日本電子製JED-2300T、ソフト：日本電子製Analysis Station）を用いて測定し、得られたＥＤＸスペクトルから、原子数％を算出した。なお、原子数％が１％未満となる元素については、原子数％の計算において除外した。また、炭素の原子数％については、分析装置やサンプルの汚染が起因として疑われる測定値を示すことがあるため、製造工程で保護層［Ｆ」に取り込まれる炭素がないプロセスのものをブランクとして、差異分を含有原子数％とした。
・試料作製：ＦＩＢマイクロサンプリング法（日立製  FB-2100μ-Sampling System）
・STEM像観察条件：加速電圧  200kV、beam spot size 1nmφ程度
・観察元素：Ｃ〜Ｕ
・測定ｎ数：１。
【００８０】
（８）屈折率
以下の方法により波長５８９ｎｍにおける屈折率を求めた。
１）測定法
下記の装置および測定条件により、測定サンプルからの反射光の偏光状態の変化を測定し、光学定数（屈折率および消衰係数）を計算により求めた。計算は、試料で測定されたΔ（位相差）とψ（振幅反射率）のスペクトルを計算モデルから算出された（Δ、ψ）と比較し、測定値（Δ、ψ）に近づくように誘電関数を変化させてフィッティングしていく。ここで示されたフィッティング結果は、測定値と理論値がベストフィット（平均二乗誤差が最小に収束）した結果である。
２）装置
・高速分光エリプソメーター  Ｍ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ  社製）
・回転補償子型（ＲＣＥ：  Ｒｏｔａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒ  Ｅｌｌｉｐｓｏｍｅｔｅｒ）
・３００ｍｍ  Ｒ−Ｔｈｅｔａ  ステージ
３）測定条件
・入射角：６５度、７０度、７５度
・測定波長：  １９５ｎｍ〜１６８０ｎｍ
・解析ソフト：ＷＶＡＳＥ３２
・ビーム径：１×２ｍｍ  程度
・測定ｎ数：１。
【００８１】
［実施例１］
厚さ２．５μｍの内部緩衝膜［Ｅ］を有する基材［Ａ］として、ハードコートフィルム（タフトップ（商品名）ＴＨＳ：東レフィルム加工（株）製）を使用した。
該フィルムの内部緩衝膜［Ｅ］の上に、金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、錫の含有質量％が７０％、亜鉛の含有質量％が３０％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン：酸素の圧力比を９０％／１０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み３２ｎｍの高屈折率膜［Ｄ２］を形成した。続いて金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、銀（Ａｇ）の含有質量％が９７％、金の含有質量％が３％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン１００％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み１５ｎｍの金属膜［Ｃ］を形成した。続いて、金属元素、半金属元素および半導体元素の総和に対して、錫の含有質量％が７０％、亜鉛の含有質量％が３０％である金属酸化物ターゲットを用いて、アルゴン：酸素の圧力比を９８％／２％とした製膜ガス条件下で膜厚４ｎｍ相当量のスパッタリング加工を行った後、アルゴン：酸素の圧力比を９０％／１０％とした製膜ガス条件下で膜厚３２ｎｍ相当量のスパッタリング加工を行い、厚み３６ｎｍの高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。高屈折率膜［Ｄ１］の屈折率は２であった。
【００８２】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を４７％／３％／３０％／２０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。実施例１の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００８３】
［実施例２］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００８４】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を７０％／０％／１０％／２０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。実施例２の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００８５】
［実施例３］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００８６】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を８０％／５％／５％／１０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。実施例３の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００８７】
［比較例１］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００８８】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を５０％／４０％／０％／１０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例１の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００８９】
［比較例２］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００９０】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を５０％／３０％／２０％／０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例２の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００９１】
［比較例３］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００９２】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を５０％／２０％／０％／３０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例３の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００９３】
［比較例４］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００９４】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を５０％／０％／０％／５０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例４の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００９５】
［比較例５］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００９６】
更に続いて、Ｂ−Ｓｉターゲット（三菱マテリアル製）を用いて、アルゴン／酸素／二酸化炭素／窒素の圧力比を６０％／０％／４０％／０％とした製膜ガス条件下でスパッタリング加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例５の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００９７】
［比較例６］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【００９８】
更に続いて、キャリアガスに酸素を用いてヘキサメチレンジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を反応させるＣＶＤ加工を行い、厚み２５ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例６の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【００９９】
［比較例７］
実施例１と同様に基板［Ａ］、内部緩衝膜［Ｅ］、高屈折率膜［Ｄ２］、金属膜［Ｃ］、高屈折率膜［Ｄ１］を形成した。
【０１００】
更に続いて、比較例６と同様に、ＣＶＤ加工を行い、厚み１５０ｎｍの酸化珪素膜［Ｂ］を形成し、酸化珪素被膜体を得た。比較例７の酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の成膜条件を表１、その酸化珪素被膜体の酸化珪素膜の物性を表２、その酸化珪素被膜体の評価結果を表３に示す。
【０１０１】
【表１】
2017024235.tif 000002
【０１０２】
【表２】
2017024235.tif 000003
【０１０３】
【表３】
2017024235.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【０１０４】
本発明の酸化珪素被膜体は、その優れた耐薬品性を活かし、建築物や乗り物などの窓から流出入する熱エネルギーの遮断による冷暖房効果の向上するために金属層を設けた透明断熱、遮熱ウインドウ材や電磁波シールド材、有機ＥＬなど環境ガスの影響で性能が劣化する素材を保護するためのガスバリア性基板などとして利用することができる。
【符号の説明】
【０１０５】
１：基材［Ａ］
２：酸化珪素膜［Ｂ］
３：内部緩衝膜［Ｅ］
４：高屈折率膜[Ｄ２]
５：金属膜[Ｃ]
６：高屈折率膜[Ｄ１]
７：表面保護膜[Ｆ]
【図１】
2017024235.tif 000005
【図２】
2017024235.tif 000006
【図３】
2017024235.tif 000007