(57)【要約】【課題】  水性顔料インクを用いて印刷した際に、高いレベルの画像の光学濃度が得られるマット調面質の記録媒体の提供。【解決手段】  本発明は、基材と、前記基材上にインク受容層と、を有するインクジェット用記録媒体において、前記インク受容層は、平均二次粒子径が３μｍ以上の非晶質シリカとバインダーを有し、前記インク受容層表面をＸ線光電子分光法で測定したときの炭素原子（Ｃ１ｓ）とケイ素原子（Ｓｉ２ｐ）のピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が０．７以上２．３以下であり、前記インク受容層表面に４μｌの純水と接触して１０ｍｓ経過した後の前記インク受容層表面の純水との接触角が６０°以下であることを特徴とする記録媒体である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、前記基材上にインク受容層と、を有するインクジェット用記録媒体において、前記インク受容層は、平均二次粒子径が３μｍ以上の非晶質シリカとバインダーを有し、
前記インク受容層表面をＸ線光電子分光法で測定したときの炭素原子（Ｃ１ｓ）とケイ素原子（Ｓｉ２ｐ）のピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が０．７以上２．３以下であり、
前記インク受容層表面に４μｌの純水と接触して１０ｍｓ経過した後の前記インク受容層表面の純水との接触角が６０°以下であることを特徴とする記録媒体。
【請求項２】
前記ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が、０．７以上２．０以下であることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項３】
前記ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が、１．０以上１．７以下であることを特徴とする請求項１または２に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項４】
前記接触角が、５２°以下であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項５】
上記インク受容層が、２層以上有することを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のインクジェット用記録媒体。
【請求項６】
上記インク受容層が、ＨＬＢが８．０以下の非イオン性界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか一項に記載のインクジェット用記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
インクジェット記録方法などに用いられる記録媒体において、光沢が抑えられ、落ち着きと深みのあるマット調の面質の記録媒体への要求がある。このような面質の記録媒体を得る方法として、記録媒体の表面層に二次粒子径の大きい顔料粒子を含有させることで、記録媒体の光沢度を低く抑える方法が一般的に行われている。近年では、上記マット調の記録媒体に水性顔料インクを用いて印刷し、高画質のアート調への要求が高まってきているが、そのためには、高い画像の光学濃度が要求されている。
【０００３】
上記課題に対して、特許文献１では、支持体上に１層以上のインク受容層を有する記録媒体が開示されている。この記録媒体は、最表層のインク受容層が、少なくとも平均粒子径が２．９μｍ以下で且つＢＥＴ比表面積が２６０ｍ２／ｇ以下である多孔性合成非晶質シリカと接着剤を含有する。この構成により、顔料インクの発色性を高めることができるとされている。また、特許文献２では、支持体上に、顔料、接着剤及びインク定着剤を含有する塗工層を設けたインクジェット記録用シートの塗工層が界面活性剤を含有し、塗工層表面の蒸留水に対する接触０．５秒後の接触角が１０〜３０°に調整している。こうすることで、画像均一性、耐水性を高めることができるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１１６７９７号公報
【特許文献２】特開２００５−１５３２２１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明者等が特許文献１に記載の発明について検討したところ、水性顔料インクを用いて印刷した際に、一定レベルの画像の光学濃度を得ることができたものの、本発明者等が求めるさらに高いレベルの画像の光学濃度を満足するものではなかった。
【０００６】
特許文献２に記載の発明について検討したところ、水性顔料インクを用いて印刷した際に、一定レベルの画像の光学濃度を得ることができたものの、本発明者等が求めるさらに高いレベルの画像の光学濃度を満足するものではなかった。
【０００７】
本発明は、上記した従来技術の課題を鑑みなされたものである。即ち、本発明は、水性顔料インクを用いて印刷した際に、高いレベルの画像の光学濃度を得ることが可能なマット調面質の記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記した課題は、以下に示す本発明によって解決される。
【０００９】
即ち、本発明は、基材と、前記基材上にインク受容層と、を有するインクジェット用記録媒体において、前記インク受容層は、平均二次粒子径が３μｍ以上の非晶質シリカとバインダーを有し、前記インク受容層表面をＸ線光電子分光法で測定したときの炭素原子（Ｃ１ｓ）とケイ素原子（Ｓｉ２ｐ）のピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が０．７以上２．３以下であり、前記インク受容層表面に４μｌの純水と接触して１０ｍｓ経過した後の前記インク受容層表面の純水との接触角が６０°以下であることを特徴とする記録媒体である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、水性顔料インクを用いて印刷した際に、高いレベルの画像の光学濃度が得ることが可能なマット調面質の記録媒体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、好適な実施の形態を挙げて、本発明を詳細に説明する。
【００１２】
本発明の記録媒体は、基材上に、非晶質シリカとバインダーとを含有するインク受容層を有する。また、本発明においては、インク受容層表面をＸ線光電子分光法で測定した炭素原子１ｓ電子（Ｃ１ｓ）に対するケイ素原子２ｐ電子（Ｓｉ２ｐ）のピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が０．７以上２．３以下を満足する。
【００１３】
Ｘ線光電子分光法は、元素にＸ線を照射し、元素から放出された特有の自由電子の運動エネルギーを定性及び定量的に測定する方法である。Ｘ線光電子分光法では、測定原理の特性上、インク受容層表面から５ｎｍ程度の深さの範囲における構成元素が測定される。Ｘ線光電子分光法によって得られたＸ線光電子分光スペクトルにおける炭素原子（Ｃ１ｓ）のピークは、主にバインダーの炭素原子に由来し、ケイ素原子（Ｓｉ２ｐ）のピークは、主に非晶質シリカのケイ素原子に由来するものである。従って、インク受容層表面をＸ線光電子分光法で測定したときの炭素原子（Ｃ１ｓ）とケイ素原子（Ｓｉ２ｐ）のピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）は、インク受容層の表面における主にバインダーと非晶質シリカの存在比率の指標に用いることができる。
【００１４】
ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が上記範囲内であることによって、非晶質シリカ表面に顔料インクを十分に定着させることが可能となり、顔料インク印刷時の高発色性に寄与することができる。
【００１５】
一方、ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が０．７を下回る場合、インク受容層表面でのバインダーの存在比率が低いことを意味する。そのため、表面でのバインダーによる結着が不十分となり、インク受容層表面に微小なクラックが発生しやすくなる。その結果、その微小なクラックに起因する表面散乱により、顔料インク印刷時の発色性が低下する。
【００１６】
また、ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）が２．３を上回る場合、インク受容層表面でのバインダーの存在比率が高いことを意味する。そのため、顔料インクで印刷した際に、顔料インクに含まれる溶剤のインク受容層内への速やかな吸収が起こりにくくなる。また、インク受容層の表面に、非晶質シリカに比べて顔料インクが定着しにくいバインダーが多く存在する状態となっているため、顔料インクのインク受容層の表面での定着性も低くなる。これらの理由から、顔料インク印刷時の発色性が低下するものと考えられる。
【００１７】
ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）より好ましくは、０．７以上２．０以下であり、更に好ましくは１．０以上１．７以下である。
【００１８】
上記ピーク面積比は、非晶質シリカとバインダーの含有比率の影響を大きく受けるが、必ずしもこれのみによって決定されるものではない。上記ピーク面積比は、インク受容層形成用の塗工液を塗布した後の乾燥状態にも影響を受ける。即ち、インク受容層を形成する際の乾燥過程において、その乾燥の初期段階が高温、あるいは高風速条件下で行われた際には、インク受容層形成用の塗工液の水が急激に蒸発する。それに伴い、バインダーもインク受容層の表面近傍に多く存在しやすくなり、インク受容層の表面のバインダーの非晶質シリカに対する相対的な量が増加することがある。そこで、本発明においては、基材へインク受容層用塗工液を塗布した後の乾燥過程において、乾燥の初期段階を低温（低温乾燥、あるいは乾燥開始を遅くする）、あるいは低風速条件下で行うことで、水の急激な乾燥を抑制することが好ましい。このような乾燥過程によって、インク受容層の表面のバインダーの存在量を調整し、ピーク面積比を調整することができる。
【００１９】
上記比率は、インク受容層作製後の後処理においても、調整が可能である。例えば、アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属の水酸化物をコートすることが挙げられる。前記コートは、乾燥塗工量で０．０５／ｍ２以上１ｇ／ｍ２以下であることが好ましい。本発明において、インク受容層表面が４μｌの純水と接触して１０ｍｓ経過した後の接触角が６０°以下であることを満足する。
【００２０】
接触角の値は、以下のように測定する。Ｆｉｂｒｏ社製ダイナミックアブソープションテスター（ＤＡＴ）１１００を用いて、２３℃、５０％ＲＨの環境下でインク受容層表面上に、純水を４μｌ滴下する。そして、滴下後、１０ｍｓ（ミリ秒）経過後の接触角を測定する。なお、本発明において、インク受容層は記録媒体の最表層である。また、インク受容層表面の純水に対する接触角は、記録媒体表面の純水に対する接触角を意味する。
【００２１】
本発明において、１０ｍｓ後の接触角が６０°以下であることで、顔料インクがインク受容層に着弾後速やかに、非晶質シリカ表面に濡れ拡がりことが可能となる。そのため、非晶質シリカの表面に均一に顔料インクを定着させることが可能となるため、顔料インク印刷時の高発色性に寄与することができる。接触角は、５２°以下であることが好ましく、更に好ましくは４９°以下である。本発明のように、顔料インクで印刷した際の発色性において、１０ｍｓとインク着弾後非常に短い時間で、速やかにインクが濡れ拡がることが重要である。そのため、本発明の記録媒体では、例えば０．５ｍｓと着弾後やや時間の経過した状態の接触角は１０°を大きく下回った値を示す。
【００２２】
本発明は、上記ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）及び接触角を同時に調整することで、顔料インクを多くの非晶質シリカ表面に均一に定着させることが可能となり、顔料インク印刷時に高い発色性を示す。
【００２３】
本発明において、インク受容層は２層以上有することが好ましい。２層以上のインク受容層のうち、基材から最も遠いインク受容層を、以下、インク受容層Ａと称する。また、インク受容層Ａと隣接するインク受容層を、以下、インク受容層Ｂと称する。インク受容層Ａの非晶質シリカとバインダーの質量比率（非晶質シリカの質量／バインダーの質量：Ｐ／Ｂ）は、インク受容層Ｂの非晶質シリカとバインダーの質量比率（Ｐ／Ｂ）より小さいことが好ましい。インク受容層Ｂ上にインク受容層Ａを形成した場合、インク受容層Ａを塗工する際に、インク受容層Ａ形成用の塗工液中の水溶性成分、例えば、バインダー等が、インク受容層Ｂに一部吸収されてしまうことがある。そのため、インク受容層Ａの塗工液には、比較的多くバインダーを有することが好ましい。その結果、インク受容層Ａを塗工後に微小クラックが生じにくくなり、顔料インクで印刷した際に、より高発色を向上させることができる。
【００２４】
本発明において、接触角を低く調整するためにも、インク受容層中に非イオン性の界面活性剤を含有していることが好ましく、非イオン性界面活性剤の中でも、ＨＬＢ値が８．０以下であることが好ましく、７．７以下であることがより好ましい。ＨＬＢ値が８．０以下の界面活性剤を使用することで、効果的に接触角を低くすることが可能となる。
【００２５】
以下、本発明の記録媒体に用いる材料についてより詳細に説明する。
【００２６】
＜基材＞
本発明に用いられる基材としては、キャストコート紙、バライタ紙、レジンコート紙（両面がポリオレフィンなどの樹脂で被覆された樹脂被膜紙）などの紙類を好ましく用いることができる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリ乳酸、ポリスチレン、ポリアセテート、ポリ塩化ビニル、酢酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等の透明な熱可塑性フィルムなどを好ましく用いることができる。
【００２７】
これ以外にも、適度なサイジングが施された紙である無サイズ紙やコート紙、無機物の充填もしくは微細な発泡により不透明化されたフィルムからなるシート状物質（合成紙など）を使用できる。また、ガラスまたは金属などからなるシートなどを使用しても良い。更に、これらの基材と多孔質インク受容層との接着強度を向上させるため、基材の表面にコロナ放電処理や各種アンダーコート処理を施すことも可能である。
【００２８】
上記基材の中でも、適度なサイジングを施された紙等の透気性を有する基材を用いることが好ましい。これらの基材を用いることで、マット調の風合いを実現することが可能となる。
【００２９】
＜インク受容層＞
本発明に用いるインク受容層は、非晶質シリカ、バインダーを含有する。本発明においては、上記した各インク受容層に含まれる材料を含む塗工液を調製し、係る塗工液を塗工、乾燥することで各インク受容層を形成することが好ましい。即ち、本発明において、インク受容層に含まれる材料は、インク受容層を形成するために用いる塗工液に含まれる材料と等しいことが好ましい。
【００３０】
本発明におけるインク受容層の非晶質シリカとバインダーの質量比率Ｐ／Ｂや厚みはインク受容層が１層の場合と２層以上に場合によって異なる。
【００３１】
本発明において、インク受容層が１層の場合、非晶質シリカとバインダーの質量比率Ｐ／Ｂは、１００／３０〜１００／８０であることが、ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）の調整や接触角の調整、更には受容層強度やインク吸収性の観点から好ましい。更に好ましくは、１００／３５〜１００／６０である。また、インク受容層の厚みは、１０μｍ以上４５μｍ以下であることが、受容層強度やインク吸収性の観点から好ましい。
【００３２】
一方、本発明において、インク受容層が２層以上の場合、インク受容層Ａの非晶質シリカとバインダーの質量比率Ｐ／Ｂは、１００／３５〜１００／８５であることが、インク受容層Ｂの非晶質シリカとバインダーの質量比率Ｐ／Ｂは、１００／１５〜１００／４０であることが、ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）の調整や接触角の調整、更には受容層強度やインク吸収性の観点から好ましい。更に好ましくは、インク受容層Ａは１００／５０〜１００／８０であり、インク受容層Ｂは１００／２０〜１００／３５である。また、インク受容層Ａの厚みは、８μｍ以上２０μｍ以下、インク受容層Ｂの厚みが２０μｍ以上３０μｍ以下であることが、ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）の調整や接触角の調整、更には受容層強度やインク吸収性の観点から好ましい。
【００３３】
（非晶質シリカ）
本発明のインク受容層は、非晶質シリカを含有する。また、非晶質シリカのレーザー回折法で得られる平均二次粒子径は、インク受容層も３μｍ以上であることがマット調の面質を出す観点から好ましい。また、非晶質シリカは、１種類でも２種類以上を混合して使用しても良い。インク受容層に用いる非晶質シリカは、製造方法に依らず、いずれのものも好適に用いることができる。具体的には、非晶質シリカの製造方法としては、乾式法、湿式法が挙げられるが、本発明においては、いずれの方法により得られた非晶質シリカも、好適に用いることができる。以下、乾式法、湿式法についてより詳細に説明する。乾式法は更に燃焼法と加熱法に区別され、また、湿式法は更に沈殿法とゲル化法に区別される。乾式燃焼法は、気相法とも呼ばれる方法であり、気化させた四塩化ケイ素と水素との混合物を１５００〜２０００℃の空気中で燃焼させることで非晶質シリカを得る方法である。湿式沈殿法は、ケイ酸ソーダと硫酸等を水溶液中で反応させることで、非晶質シリカを沈殿物として得る方法であり、反応温度や酸の添加速度等の条件によりシリカの一次粒子径等を調整することができる。また、乾燥や粉砕条件等で二次粒子径等も変化させることができる。湿式ゲル化法は、ケイ酸ソーダと硫酸を同時に添加することで非晶質シリカを得る方法であり、係る方法を用いることで、シラノール基の脱水縮合によるシリカ粒子同士の重合が進んだ、三次元的なハイドロゲル構造を有する非晶質シリカを得ることができる。湿式ゲル化法で製造したシリカは、比較的小さなハイドロゲル構造であるため、湿式沈殿法と比べて比表面積の大きな二次粒子径を製造することが可能である。本発明においては、湿式ゲル化法による非晶質シリカが特に好ましい。
【００３４】
本発明に用いる非晶質シリカは、特に制限されるものでは無いが、ＪＩＳ−Ｋ６２１７−４に準じて測定される吸油量が、１５０ｍｌ／１００ｇ以上、３５０ｍｌ／１００ｇ以下であることが好ましく、より好ましくは１８０ｍｌ／１００ｇ以上、３３０ｍｌ／１００ｇ以下である。
【００３５】
本発明に用いる非晶質シリカは、特に制限されるものではないが、ＢＥＴ法で得られる細孔容積は、１．０ｍｌ／ｇ以上であることが好ましく、更に好ましくは、１．３ｍｌ／ｇ以上である。また、ＢＥＴ法で得られる比表面積は、２００ｍ２／ｇ以上５００ｍ２／ｇ以下であることが好ましい。
【００３６】
尚、本発明においては、非晶質シリカ以外の無機顔料も、本発明の効果を損なわない範囲であれば非晶質シリカと共に用いることができる。係る無機顔料としては、例えば、アルミナ、アルミナ水和物、コロイダルシリカ、軽質炭酸カルシウム等の白色無機顔料を挙げることができる。
【００３７】
（バインダー）
本発明のインク受容層はバインダーを含む。バインダーとしては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、酸化澱粉、エーテル化澱粉、リン酸エステル化澱粉、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カゼイン、ゼラチン、大豆蛋白、ポリビニルピロリドン、無水マレイン酸樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン共重合体等の共役重合体ラテックス、アクリル酸エステル及びメタクリル酸エステルの重合体等のアクリル系重合体ラテックス、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体ラテックス、メラミン樹脂、尿素樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル酸エステルやメタクリル酸エステルの重合体又は共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリビニルブチラール、アルキッド樹脂等が挙げられる。
【００３８】
上記バインダーは、単独で、又は複数種を混合して用いることができる。中でも最も好ましく用いられるバインダーはＰＶＡである。ＰＶＡとしては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のＰＶＡを好適に用いることができる。ＰＶＡの平均重合度は１５００以上５０００以下であることが好ましい。また、ＰＶＡのケン化度は７０以上１００以下であることが好ましい。上記したＰＶＡ以外にも、末端にシラノール基を有するシラノール変性ＰＶＡ等の変性ＰＶＡを用いても良い。前記ＰＶＡは、単独で用いても、２種以上を併用して用いてもよい。
【００３９】
（界面活性剤）
本発明のインク受容層は、界面活性剤を含有していることが好ましく、その中でも、非イオン性でＨＬＢ値が８．０以下である界面活性剤であることが好ましく、非イオン性でＨＬＢ値が７．７以下である界面活性剤であることがより好ましい。また、インク受容層が２層以上の場合、少なくともインク受容層Ａは非イオン性でＨＬＢ値が８．０以下の界面活性剤を含有していることが好ましく、非イオン性でＨＬＢ値が７．７以下の界面活性剤を含有していることがより好ましい。
【００４０】
非イオン性の界面活性剤としては、上記ＨＬＢ値を満足していれば、エーテル型、エステル型のいずれも使用することができる。市販品としては、例えば、「サーフィノール」（エアプロダクツ社商標名）や「エマノーン」（花王社商標名）、「ノイゲン」（第一工業製薬社商標名）の各シリーズから選択できる。
【００４１】
（添加剤）
各インク受容層用の塗工液の添加剤として、顔料分散剤、堅牢性向上剤等を、適宜、使用することができる。塗工液の添加剤として、カチオン性ポリマーを加えることが、塗工液の高濃度分散性、画像の堅牢性、耐水性の観点からは好ましい。カチオン性ポリマーとしては、例えば、分子内に１〜３級アミンを有する高分子や、４級アンモニウム塩を有する高分子が挙げられる。具体的には、ポリアルキレンポリアミン類またはその誘導体、ジシアン系カチオン樹脂、ポリアミン系カチオン樹脂、エピクロルヒドリン‐ジメチルアミン付加重合物、ジメチルジアリルアンモニウムコロライド重合物、ジアリルアミン塩重合物等が挙げられる。添加剤の含有量は非晶質シリカ１００質量％に対し０．１質量％以上、３０質量％以下であることが好ましい。
【００４２】
＜記録媒体の製造方法＞
本発明の記録媒体の製造方法としては、特に限定されるものではないが、以下の方法を用いて記録媒体を製造することが好ましい。まず、非晶質シリカ及びバインダー含むインク受容層用塗工液を調製する。次に、調製したインク受容層用塗工液を透気性基材に塗工及び乾燥することで、インク受容層を得る。
【００４３】
本発明において、インク受容層用塗工液の塗工、乾燥方法は特に限定されず、いずれの方法も好適に用いることができる。具体的には、インク受容層用塗工液を塗工する際には、オンマシン、オフマシンのいずれの方法も用いることができる。また、塗工機としては各種カーテンコーター、エクストルージョン方式を用いたコーター、スライドホッパー方式を用いたコーター等の塗工機をいずれも好適に用いることができる。尚、インク受容層用塗工液の塗工時に、塗工液の粘度調製等を目的として、塗工液を加温してもよく、コーターヘッドを加温してもよい。また、塗工後の塗工液の乾燥には、直線トンネル乾燥機、アーチドライヤー、エアループドライヤー、サインカーブエアフロートドライヤー等の熱風乾燥機を好適に用いることができる。また、赤外線、加熱ドライヤー、マイクロ波等を利用した乾燥機等を、適宜選択して用いることができる。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例を挙げて本発明をより具体的に説明する。尚、下記実施例は、本発明のより一層深い理解のために示される具体例であって、本発明は、これらの具体例に何ら限定されるものではない。
【００４５】
＜基材の作製＞
下記条件にて透気性基材を作製した。まず、下記に示す組成の紙料を固形分濃度が３．０質量％となるように水で調製した。
【００４６】
（紙料）
濾水度４５０ｍｌＣＳＦの、広葉樹晒しクラフトパルプ（ＬＢＫＰ）    ８０質量部
濾水度４８０ｍｌＣＳＦの、針葉樹晒しクラフトパルプ（ＮＢＫＰ）    ２０質量部
カチオン化澱粉                                                ０．６０質量部
重質炭酸カルシウム                                                １０質量部
軽質炭酸カルシウム                                                １５質量部
アルキルケテンダイマー                                        ０．１０質量部
カチオン性ポリアクリルアミド                                ０．０３０質量部
尚、上記紙料組成中、ＣＳＦとはＣａｎａｄｉａｎ  Ｓｔａｎｄａｒｄ  Ｆｒｅｅｎｅｓｓの略である。
【００４７】
次に、上記紙料を固形分濃度で３質量％含む水を長網抄紙機で抄造し、３段のウエットプレスを行った後、多筒式ドライヤーで乾燥した。その後、サイズプレス装置で、固形分が１．０ｇ／ｍ２となるように酸化澱粉水溶液を含浸し、乾燥した。その後、マシンカレンダー仕上げをすることで、坪量２３０ｇ／ｍ２、厚み、３００μｍ、ステキヒトサイズ度１００秒、透気度５０秒、ベック平滑度１５秒の透気性基材を得た。
【００４８】
＜インクジェット用記録媒体の作製＞
（分散液Ａ、Ｂ、Ｃ、Ｄの調製）
純水中にシャロールＤＣ−９０２（商品名、第一工業製薬（株）製）をシリカ１００質量部に対して１０質量部となるように添加した溶液中に、非晶質シリカＡ（商品名：ニップゲルＡＹ−６０３（東ソーシリカ社製）、平均二次粒子径：１０μｍ）の固形分濃度が１９質量％となるように、非晶質シリカＡを加え、撹拌機で十分撹拌し、分散液を得た。得られた分散液を非晶質シリカの固形分濃度が１８質量％となるように適宜純水で希釈することで非晶質シリカが分散された分散液Ａを得た。
【００４９】
また、非晶質シリカＡを、非晶質シリカＢ（商品名：Ｇａｓｉｌ  ＨＰ３９（ＰＱコーポレーション社製）、平均二次粒子径：１０μｍ）、非晶質シリカＣ（商品名：Ｇａｓｉｌ  ２３Ｆ（ＰＱコーポレーション社製）、平均二次粒子径６μｍ）、非晶質シリカＤ（商品名：ミズカシルＰ７８Ｄ（水澤化学社製）、平均二次粒子径１２μｍ）にそれぞれ変更した以外は分散液Ａの調製と同様の操作を行い、非晶質シリカの固形分濃度が１８質量％である分散液Ｂ、Ｃ、Ｄをそれぞれ得た。尚、非晶質シリカの平均二次粒子径は、いずれもレーザー回折法により測定された値である。
【００５０】
（インク受容層用塗工液Ａ、Ｂ、Ｃの調整）
バインダーＡ（ＰＶＡ２３５（ポリビニルアルコール）：クラレ（株）製）をイオン交換水中に溶解することで、固形分８．０質量％のＰＶＡ水溶液Ａを得た。同様に、バインダーＢ（ＰＶＡ１１７（ポリビニルアルコール）：クラレ（株）製）、バインダーＣ（Ｒ１１３０（シラノール変性ポリビニルアルコール）：クラレ（株）製）をそれぞれイオン交換水中に溶解することで、固形分１０．０質量％のＰＶＡ水溶液Ｂ及び固形分８．０質量％のＰＶＡ水溶液Ｃを得た。その後、得られたＰＶＡ溶液Ａを、非晶質シリカの固形分に対して、非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比が１００：４０となるように、上記した操作によって得られた分散液Ａに加えた。得られた混合液を混合液の総固形分濃度が１３質量％となるように純水で希釈し、さらに界面活性剤（サーフィノール４２０：エアプロダクツ製、ＨＬＢ値４．０）を上記希釈した液に対して０．１質量％添加し、撹拌することでインク受容層用塗工液Ａを得た。また、得られたＰＶＡ溶液Ａを、非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比が１００：２５となるように、上記した操作によって得られた分散液Ａに加えた。得られた混合液を混合液の総固形分濃度が１３質量％となるように純水で希釈し、さらに界面活性剤（サーフィノール４２０：エアプロダクツ製、ＨＬＢ値４．０）を上記希釈した液に対して０．１質量％添加し、撹拌することでインク受容層用塗工液Ｂを得た。また、得られたＰＶＡ溶液Ｂ及びＰＶＡ溶液Ｃを、非晶質シリカ：バインダーＢ（ＰＶＡ）：バインダーＣ（ＰＶＡ）の質量比が１００：３５：３５となるように、上記した操作によって得られた分散液Ａに加えた。得られた混合液を混合液の総固形分濃度が１３質量％となるように純水で希釈し、さらに界面活性剤（サーフィノール４２０：エアプロダクツ製、ＨＬＢ値４．０）を上記希釈した液に対して０．１質量％添加し、撹拌することでインク受容層用塗工液Ｃを得た。
【００５１】
（インク受容層塗工液Ｄの調整）
純水中にポリアクリル酸ナトリウム（アロンＡ９：東亜合成社製）をシリカ１００質量部に対して０．５質量部となるように添加した溶液中に、非晶質シリカＡの固形分濃度が１９質量％となるように、非晶質シリカＡを加えた。得られた混合物を、撹拌機で十分撹拌し、分散液を得た。得られた分散液を非晶質シリカの固形分濃度が１８質量％となるように適宜純水で希釈することで分散液Ｅを得た。
【００５２】
次いで、得られた分散液ＥにバインダーＣ、アクリル系樹脂（プライマルＰ−３７６：ロームアンドハース社製）、カチオンポリマー（ネオフィックスＩＪ−１１７：日華化学社製）を非晶質シリカＡ：バインダーＣ：アクリル系樹脂：カチオンポリマーの質量比が１００：２０：２０：２０となるように加えた。得られた混合液に更に界面活性剤（ノイゲンＥＴ−８３：第一工業製薬社製、ＨＬＢ値６．４）を非晶質シリカ１００部に対して１０部添加した。その後得られた混合液の総固形分濃度が１３質量％となるように適宜純水で希釈し、撹拌することでインク受容層用塗工液Ｄを得た。
【００５３】
（インク受容層塗工液Ｅの調整）
純水中に、非晶質シリカＡの固形分濃度が１４質量％、非晶質シリカＥ（商品名：ミズカシルＰ−５０（水澤化学社製）、平均二次粒子径７μｍ）が６質量％となるように、非晶質シリカＡと非晶質シリカＥを加え、分散液Ｆを得た。
【００５４】
次いで、得られた分散液Ｆに、バインダーＢ、エチレン酢酸ビニル共重合体ラテックス（リカボンド  ＢＥ−７０００：中央理化工業製）、カチオンポリマー（ポリマロン３６０：荒川化学工業製）を非晶質シリカＡ：非晶質シリカＥ：バインダーＣ：エチレン酢酸ビニル共重合体：カチオンポリマーの質量比が７０：３０：３５：２５：２となるように加えた。その後、得られた混合液の総固形分濃度が１８質量％となるように適宜純水で希釈し、撹拌することでインク受容層用塗工液Ｅを得た。
【００５５】
（インクジェット用記録媒体１〜３２の作製）
以下に記載の通りにインクジェット用記録媒体１〜３２を作製した。なお、インクジェット用記録媒体１〜３２の作製に用いた材料および作製条件を下記の表１及び２に示す。
【００５６】
【表１】
2017124622.tif 000002
【００５７】
【表２】
2017124622.tif 000003
【００５８】
［実施例１］
前記透気性基材上に、インク受容層用塗工液Ａを、乾燥後の厚みが３０μｍとなるように塗工後、９０℃で乾燥することでインクジェット用記録媒体１を得た。
【００５９】
［実施例２］
乾燥温度を９０℃から１２０℃に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２を得た。
【００６０】
［実施例３］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比を１００：６０に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体３を得た。
【００６１】
［実施例４］
インク受容層用塗工液Ａの界面活性剤を界面活性剤（サーフィノール４４０：エアプロダクツ製、ＨＬＢ値８．０）に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体４を得た。
【００６２】
［実施例５］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比を１００：７０に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体５を得た。
【００６３】
［実施例６］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比を１００：８０に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体６を得た。
【００６４】
［実施例７］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比を１００：３５に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体７を得た。
【００６５】
［実施例８］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比を１００：３０に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体８を得た。
【００６６】
［実施例９］
透気性基材上に、インク受容層用塗工液Ｂを、乾燥後の厚みが２５μｍとなるように塗工後、９０℃で乾燥することでインク受容層Ｂを得た。その後、インク受容層Ｂ上にインク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：６０に変更した塗工液を、乾燥後の厚みが１０μｍとなるように塗工後、９０℃で乾燥することでインクジェット用記録媒体９を得た。
【００６７】
［実施例１０］
インク受容層用塗工液Ａをインク受容層用塗工液Ｃに変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１０を得た。
【００６８】
［実施例１１］
インク受容層用塗工液Ｃの非晶質シリカ：バインダーＢ（ＰＶＡ）：バインダーＣ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：３７．５：３７．５に変更した以外は実施例１０と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１１を得た。
【００６９】
［実施例１２］
インク受容層用塗工液Ｂの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：３０に変更した以外は実施例１０と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１２を得た。
【００７０】
［実施例１３］
インク受容層用塗工液Ｃの非晶質シリカ：バインダーＢ（ＰＶＡ）：バインダーＣ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：４０：４０に変更した以外は実施例１２と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１３を得た。
【００７１】
［実施例１４］
インク受容層用塗工液Ｃの非晶質シリカ：バインダーＢ（ＰＶＡ）：バインダーＣ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：４１：４１に変更した以外は実施例１２と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１４を得た。
【００７２】
［実施例１５］
インク受容層用塗工液Ｃの非晶質シリカ：バインダーＢ（ＰＶＡ）：バインダーＣ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：４２．５：４２．５に変更した以外は実施例１２と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１５を得た。
【００７３】
［実施例１６］
インク受容層用塗工液Ｂの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：３５に変更した以外は実施例１４と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１６を得た。
【００７４】
［実施例１７］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：５０に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１７を得た。
【００７５】
［実施例１８］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：４５に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１８を得た。
【００７６】
［実施例１９］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：３５に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体１９を得た。
【００７７】
［実施例２０］
インク受容層用塗工液Ａの界面活性剤を界面活性剤（ノイゲンＥＳ−９９Ｄ：第一工業製薬社製、ＨＬＢ値７．７）に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２０を得た。
【００７８】
［実施例２１］
インク受容層用塗工液Ａの界面活性剤を界面活性剤（サーフィノール４４０：エアプロダクツ製、ＨＬＢ値８．０）に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２１を得た。
【００７９】
［実施例２２］
インク受容層用塗工液Ａの界面活性剤を界面活性剤（サーフィノール４６５：エアプロダクツ製、ＨＬＢ値１３．０）に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２２を得た。
【００８０】
［実施例２３］
インク受容層用塗工液Ａの界面活性剤を界面活性剤（ノイゲンＤＬ−０４１５：第一工業製薬社製、ＨＬＢ値１５．０）に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２３を得た。
【００８１】
［実施例２４］
インク受容層用塗工液Ａの調整に用いた分散液Ａを分散液Ｂに変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２４を得た。
【００８２】
［実施例２５］
インク受容層用塗工液Ａの調整に用いた分散液Ａを分散液Ｃに変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２５を得た。
【００８３】
［実施例２６］
インク受容層用塗工液Ａの調整に用いた分散液Ａを分散液Ｄに変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２６を得た。
【００８４】
［比較例１］
インク受容層用塗工液Ａの界面活性剤を添加しなかったこと以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２７を得た。
【００８５】
［比較例２］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：８２に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２８を得た。
【００８６】
［比較例３］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：２５に変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体２９を得た。
【００８７】
［比較例４］
インク受容層用塗工液Ｃの非晶質シリカ：バインダーＢ（ＰＶＡ）：バインダーＣ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：４４：４４に変更した以外は実施例１２と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体３０を得た。
【００８８】
［比較例５］
インク受容層用塗工液Ａの非晶質シリカ：バインダーＡ（ＰＶＡ）の質量比率を１００：３０に変更した以外は実施例９と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体３１を得た。
【００８９】
［比較例６］
インク受容層用塗工液Ａをインク受容層用塗工液Ｄに変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体３２を得た。
【００９０】
［比較例７］
インク受容層用塗工液Ａをインク受容層用塗工液Ｅに変更した以外は実施例１と同様の操作を行い、インクジェット用記録媒体３３を得た。
【００９１】
＜記録媒体の評価＞
（ピーク面積比の算出）
炭素１ｓ電子（Ｃ１ｓ）及びケイ素２ｐ電子（Ｓｉ２ｐ）のピークは、ＸＰＳ装置「ＱＵＡＮＴＵＭ２０００」（商品名、アルバック  ファイ社製）にて測定した。具体的には、Ｘ線源の加速電圧１５ｋＶ、エミッション電流３ｍＡ、真空度１．２×１０−８ｍｂａｒ条件下、走査領域（Ｓｃａｎ  Ｓｉｚｅ）１ｍｍ×１ｍｍで上記操作により得られた記録媒体の表面を測定した。得られた炭素１ｓ電子及びケイ素２ｐ電子のピークは、半値幅法によりそれぞれの面積を求め、ピーク面積比（Ｃ１ｓ／Ｓｉ２ｐ）を算出した。測定結果を表３に示す。
【００９２】
（接触角値の測定）
接触角の値は、以下のように測定を行った。Ｆｉｂｒｏ社製ダイナミックアブソープションテスター（ＤＡＴ）１１００を用いて、２３℃、５０％ＲＨの環境下でインク受容層表面上に、純水を４μｌ滴下した。そして、滴下後、１０ｍｓ経過後の接触角を測定した。測定結果を表３に示す。
【００９３】
（画像の光学濃度の評価）
インクジェット方式を用いたプリンタ（商品名：「ＰＩＸＵＳ  Ｐｒｏ−１」、キヤノン社製）を用いて、ファインアート「写真用紙プレミアムマット」モードで、インクジェット用記録媒体１〜３２のそれぞれに、ブラックの１００％Ｄｕｔｙのベタバッチを印字した。尚、顔料インクとしては、上記プリンタのインクタンクである「ＰＧＩ−３９」（商品名、キヤノン社製）のブラックインクを用いた。その後、２５℃、５０％Ｒ．Ｈ．（相対湿度）環境で２日間保存後、分光光度計「スペクトロリノ」（商品名、グレタグマクベス社製）を用いて、ベタバッチを印字した部分の測色することで、各インクジェット用記録媒体のＯ．Ｄ．値（光学濃度）を算出した。得られたＯ．Ｄ．値と下記評価基準とを用い、顔料インクで印字した際の画像の光学濃度の評価を行った。評価結果を表３に示す。
Ａ：Ｏ．Ｄ．値が１．７３以上である。
Ｂ：Ｏ．Ｄ．値が１．６９以上１．７３未満である。
Ｂ：Ｏ．Ｄ．値が１．６５以上１．６９未満である。
Ｃ：Ｏ．Ｄ．値が１．６５未満である。
【００９４】
【表３】
2017124622.tif 000004