(57)【要約】【課題】使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機を提供する。【解決手段】使用者の足を支持する足ユニット３と、前記足ユニット３に設けられた足施療部５ｃと、前記足施療部５ｃを制御する制御部６と、を有するマッサージ機１において、前記足ユニット３は、使用者の足裏の下側に空間Ｐを有しており、前記足施療部５ｃは、施療部材３ａと、前記施療部材３ａを前記空間Ｐ内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段４０と、使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、前記制御部６は、前記移動手段４０により前記施療部材３ａの移動可能範囲よりも短い範囲内で往復移動させることや、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段４０による前記施療部材３ａを前方から後方へ移動させる動作とを組合せて制御をするマッサージ機１である。【選択図】      図１
2017035349.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、
前記足施療部は、
ローラからなる施療部材と、
前記施療部材を使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、を有しており、
前記制御部は、前記移動手段により前記施療部材の移動可能範囲よりも短い範囲内で往復移動させることを特徴とするマッサージ機。
【請求項２】
使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、
前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、
前記足施療部は、
施療部材と、
前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、
使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、
前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を前方から後方へ移動させる動作とを組合せて制御をすることを特徴とするマッサージ機。
【請求項３】
使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、
前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、
前記足施療部は、
施療部材と、
前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、
使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、
前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を土踏まず付近に位置させる動作とを組合せて制御することを特徴とするマッサージ機。
【請求項４】
前記施療部材は、左右方向を軸として回転可能なローラを有することを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のマッサージ機。
【請求項５】
前記移動手段は、ピニオンと、ラックであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のマッサージ機。
【請求項６】
前記マッサージ機は、前記施療部材の足の長手方向位置を検出するセンサを有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のマッサージ機。
【請求項７】
前記押圧手段は、エアセルを有することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のマッサージ機。
【請求項８】
使用者の脚を支持する脚ユニットを有する前記マッサージ機において、
前記脚ユニットは、使用者の下腿をマッサージ可能な下腿施療部を有し、
前記下腿施療部は、下腿部をマッサージする施療子を有することを特徴する請求項１〜７のいずれかに記載のマッサージ機。
【請求項９】
前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、
前記制御部は、
前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、
前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が下腿部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、つま先側から心臓側に向かうように制御することを特徴とする請求項８に記載のマッサージ機。
【請求項１０】
前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、
前記制御部は、
前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、
前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が被施療部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、心臓側からつま先側に向かうように制御することを特徴とする請求項８に記載のマッサージ機。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明はマッサージ機に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、足裏を被施療部としてマッサージ施療を行うマッサージ機において、前記被施療部に対してマッサージ施療を行う施療子と、前記施療子を第１の方向と、第１の方向とは逆の第２の方向のいずれにも移動させるものが知られている（特許文献１の図１及び図２参照）。
【０００３】
また、足載せ用本体部上にローラ回転部が設けられるとともに、該本体部のローラ回転部より前方位置に、エアの排出・供給により収縮・膨張するエアセルを有する足先摘み部が配置された足マッサージ機において、足先のストレッチマッサージを行うものも知られている（特許文献２の図１及び図３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１４３２５７号公報
【特許文献２】特許第４５８１５５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上記特許文献１〜２に記載の様なマッサージ機は、施療子を移動させて使用者の足裏全体に対してマッサージを行うが、足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができないという問題や、施療子であるローラを前後移動させてより効果的な足先ストレッチを行うことができないという問題がある。そこで、本発明は、上述した問題を解消するためになされたものであり、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、前記足施療部は、ローラからなる施療部材と、前記施療部材を使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、を有しており、前記制御部は、前記移動手段により前記施療部材の移動可能範囲よりも短い範囲内で往復移動させることを特徴とする。
このような構成とすることにより、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができる。
【０００７】
本発明は、使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、前記足施療部は、施療部材と、前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を前方から後方へ移動させる動作とを組合せて制御をすることを特徴とする。
このような構成とすることにより、押圧動作と施療部材を前方から後方へ移動させる動作を組合せることで、施療部材が移動して空いた空間に足先を落として前屈させる足先ストレッチを行うことができる。
【０００８】
本発明は、使用者の足を支持する足ユニットと、前記足ユニットに設けられた足施療部と、前記足施療部を制御する制御部と、を有するマッサージ機において、前記足ユニットは、使用者の足裏の下側に空間を有しており、前記足施療部は、施療部材と、前記施療部材を前記空間内の使用者の足の長手方向へ移動させる移動手段と、使用者の足先を上方から押圧する押圧手段と、を有しており、前記制御部は、前記押圧手段による押圧動作と前記移動手段による前記施療部材を土踏まず付近に位置させる動作とを組合せて制御することを特徴とする。
このような構成とすることにより、押圧動作と施療部材を土踏まず付近に位置させる動作を組合せることで、使用者の足先を上方から押圧することによる下方への押さえつけと施療部材による使用者の土踏まずの持ち上げにより、つま先に対してより効果的なストレッチを行うことができる。
【０００９】
また、前記施療部材は、左右方向を軸として回転可能なローラを有することが好ましい。
このような構成とすることにより、施療部材を移動させることで、使用者の足裏に対してローラ作用を行うことができる。
【００１０】
また、記移動手段は、ピニオンと、ラックであることが好ましい。
このような構成とすることにより、施療部材を使用者の足の長手方向へ安定して移動させることができる。
【００１１】
また、前記マッサージ機は、前記施療部材の足の長手方向位置を検出するセンサを有することが好ましい。
このような構成とすることにより、施療部材を使用者の適切な施療位置に移動させることができる。
【００１２】
また、前記押圧手段は、エアセルを有することが好ましい。
このような構成とすることにより、エアセルによって足を上方から押圧することができる。
【００１３】
また、使用者の脚を支持する脚ユニットを有する前記マッサージ機において、前記脚ユニットは、使用者の下腿をマッサージ可能な下腿施療部を有し、前記下腿施療部は、下腿部をマッサージする施療子を有することが好ましい。
このような構成とすることにより、使用者の足先から下腿部にかけてマッサージを行うことができる。
【００１４】
また、前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、前記制御部は、前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が下腿部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、つま先側から心臓側に向かうように制御することが好ましい。
このような構成とすることにより、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法によるマッサージを行うことができる。
【００１５】
また、前記脚ユニットを下腿長手方向に移動させるアクチュエータを有する前記マッサージ機において、前記制御部は、前記移動手段による前記施療部材の移動方向と、前記脚ユニットの移動方向および前記施療子が被施療部に対してマッサージする施療方向のうち少なくともいずれかの方向とが、心臓側からつま先側に向かうように制御することが好ましい。
このような構成とすることにより、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法によるマッサージを行うことができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の一実施形態に係る短縮状態におけるマッサージ機の正面斜視図である。
【図２】短縮状態におけるマッサージ機の背面斜視図である。
【図３】伸長状態におけるマッサージ機の背面斜視図である。
【図４】短縮状態におけるマッサージ機の側面図である。
【図５】伸長状態におけるマッサージ機の側面図である。
【図６】脚ユニットの平面図である。
【図７】足ユニットの平面図である。
【図８】足ユニットの正面斜視図である。
【図９】足ユニットの足施療部を示す図である。
【図１０】足ユニットの足施療部を示す図である。
【図１１】足施療部の駆動部を示す図である。
【図１２】足施療部の駆動部を示す図である。
【図１３】脚ユニットの別実施形態の正面図である。
【図１４】マッサージ機の使用状態の説明図である。
【図１５】マッサージ機のブロック図である。
【図１６】センサの説明図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
【図１７】マッサージ機を簡略化して示す図である。
【図１８】マッサージ機を簡略化して示す図である。
【図１９】マッサージ機を簡略化して示す図である。
【図２０】マッサージ機を簡略化して示す図である。
【図２１】マッサージ機を簡略化して示す図である。
【図２２】マッサージ機を簡略化して示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
［マッサージ機の全体構成］
以下、本発明のマッサージ機１の全体構成について説明する。
なお、以下の説明で用いる方向の概念は、椅子Ｃに着座した状態でマッサージ機を使用する使用者から見たときの方向の概念と一致するものとし、その他の場合は適宜説明するものとする。また、身体の表裏の定義については、起立した使用者の胸側を「表面」、背中側を「背面」として説明する。
【００１９】
図１は本発明の一実施形態に係る短縮状態におけるマッサージ機１の正面斜視図である。図２は短縮状態におけるマッサージ機１の背面斜視図である。図３は伸長状態におけるマッサージ機１の背面斜視図である。図４は短縮状態におけるマッサージ機１の側面図である。図５は伸長状態におけるマッサージ機１の側面図である。図６は脚ユニット２の平面図である。図７は足ユニット３の平面図である。図１３は脚ユニット２の別実施形態の正面図である。図１４はマッサージ機１の使用状態の説明図である。図１５はマッサージ機１のブロック図である。なお、図１４では、使用者の身体を二点鎖線で示している。
【００２０】
図１〜図５に示すとおり、本発明のマッサージ機１は、主として、使用者の下腿を支持する脚ユニット２と、使用者の足部を支持する足ユニット３と、脚ユニット２を下腿長手方向に移動させるアクチュエータ８と、を有している。足ユニット３は、床面等に安定して載置される。足ユニット３には、エアセル又はローラ等よりなる足施療部５ｃが設けられている。脚ユニット２は、足ユニット３の上側に設けられており、下腿長手方向へ移動可能である。脚ユニット２には、エアセル又はローラ等よりなる下腿施療部５ａと、エアセル又はバイブレータ等よりなる大腿施療部５ｂが設けられている。また、マッサージ機１は、各施療部５ａ〜５ｃ及びアクチュエータ８の駆動を制御する制御部６を有している。
【００２１】
以下、マッサージ機１の使用方法について説明する。図１４に示すとおり、使用者は、床面から所定の高さに位置する座部Ｓを有する椅子Ｃに着座して使用する。この椅子Ｃに着座した使用者は、膝を曲げて下腿を垂下させた状態で、足部を足ユニット３に載置する。この際、足ユニット３の上側に設けられた脚ユニット２に下腿が支持された状態となる。このようにして、下腿及び足部が脚ユニット２及び足ユニット３にそれぞれ支持される。この状態で各施療部５ａ〜５ｃ及び／又はアクチュエータ８を駆動することにより、使用者はマッサージを受けたり、脚ユニット２の位置決めを行ったりすることができる。なお、このマッサージ機１は、座部Ｓと分離したフットマッサージ機であってもよいし、座部Ｓの前側に設けられた椅子型マッサージ機であってもよい。
【００２２】
図１〜図６及び図１５に示すとおり、脚ユニット２は、下腿の背面に対向する後面からなる後壁２１と、後壁２１の左右両側から前方へ立設された下腿の外側面に対向する対の第一側壁２２と、後壁２１の左右中央から前方へ立設された下腿の内側面に対向する中央壁２３と、を有している。各壁２１〜２３により上方、下方及び前方が開口した凹部２５が形成されており、凹部２５に下腿を収容できるようになっている。また、第一側壁２２及び中央壁２３の上部には、略平坦面を有する上面カバー２４が設けられている。従って、脚ユニット２の上面は、上面カバー２４により略平坦面を形成しており、膝を曲げた状態の大腿部の背面と対向している。
【００２３】
第一側壁２２の内側面には、下腿の外側面をマッサージする下腿施療部Ａ１が設けられている。中央２３壁の両側面には、下腿の内側面をマッサージする下腿施療部Ａ２が設けられている。これら下腿施療部Ａ１〜Ａ２は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されている。脚ユニット２の上面を構成する上面カバー２４には、大腿部の背面をマッサージする大腿施療部Ａ３，Ｂ１が設けられている。大腿施療部Ａ３は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、左右それぞれエアセルを独立して制御させることが可能である。左右片側ずつ，左右交互又は左右同時に制御することで、使用者の大腿部の背面に対してより高いストレッチ効果や施療効果を得ることができる。また、大腿施療部Ｂ１は、振動部材としてバイブレータにより構成されている。このバイブレータは、モータの出力軸に偏心質量を取り付けたような公知の構成となっている。そして、制御部６からの指示によりバイブレータが駆動すると、使用者の大腿部の背面に対して振動作用を与えることができる。後壁２１の前側には、下腿の背面をマッサージする下腿施療部Ｒ１が設けられている。この下腿施療部Ｒ１は、施療子として左右方向を軸方向とする回転軸によって回転するローラにより構成されている。
【００２４】
脚ユニット２の別実施形態について説明する。図１３に示すとおり、脚ユニット２は、対となる第一側壁２２の上面から下腿の長手方向膝側に延設された左右一対の第二側壁２６を有している。第二側壁２６の内面には、大腿部の外側面をマッサージする大腿施療部Ａ４，Ｂ２が設けられている。大腿施療部Ａ４は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、左右それぞれエアセルを独立して制御させることが可能である。左右片側ずつ，左右交互又は左右同時に制御することで、使用者の大腿部の外側面に対してより高いストレッチ効果や施療効果を得ることができる。また、大腿施療部Ｂ２は、振動部材としてバイブレータにより構成されている。このバイブレータは、モータの出力軸に偏心質量を取り付けたような公知の構成となっている。そして、制御部６からの指示によりバイブレータが駆動すると、使用者の大腿部の外側面に対して振動作用を与えることができる。
【００２５】
図１〜図５及び図７に示すとおり、足ユニット３は、足裏に対向する底壁３０と、底壁３０の後部から上方へ立設された足部の後面（踵付近）に対向する後壁３１と、底壁３０の左右両側から上方へ立設された足部の外側面に対向する対の側壁３２と、底壁３０の左右中央から上方へ立設された足部の内側面に対向する中央壁３３と、により形成されたフレームで構成されている。各壁３０〜３３により上方及び前方が開口した凹部３５が形成されており、凹部３５に足部を収容できるようになっている。底壁３０は、後壁３１よりも後方へ延設された延設部３４を有している。
【００２６】
側壁３２の内側面には、足部の外側面をマッサージする足施療部Ａ５が設けられている。足施療部Ａ５は、前後方向に複数（２つ）設けられており、それぞれの足施療部Ａ５により足の甲及び足首をマッサージすることが可能である。中央壁３３の両側面には、足部の内側面をマッサージする足施療部Ａ６が設けられている。本実施形態では、足施療部Ａ６は、足首に対応する位置にのみ設けられているが、足の甲に対応する位置にも設けられていてもよい。これら足施療部Ａ５〜Ａ６は、足先を上方又は側方から押圧する押圧手段を有している。前記押圧手段は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルを有している。このように構成することで、エアセルにより足先を上方又は側方から押圧施療や足先を拘束することができる。
【００２７】
［足施療部Ｒ２の構成］
足ユニット３に設けられた足施療部Ｒ２を例にとって構成を説明する。
図８は足ユニット３の正面斜視図である。
図９は足施療部Ｒ２を示しており、底壁３０，中央壁３３，延設部３４を取り除いた正面斜視図である。
図１０は足施療部Ｒ２の駆動部４１を示す図である。
図１１は足施療部Ｒ２の減速機を示す図である。
図１２は足施療部Ｒ２の減速機を示す図である。
【００２８】
図８に示すとおり、足ユニット３には、フレームと、フレーム内に収納された足施療部Ｒ２と、を有している。
前記フレームは、足施療部Ｒ２を支持する支持部３６を有している。
図９〜図１０に示すとおり、足施療部Ｒ２は、施療部材３ａと、施療部材３ａを足の長手方向に移動させる移動手段４０を有している。前記移動手段４０は、駆動部４１と、駆動部４１内に設けられたモータ４２と、モータ４２の駆動により回転する駆動軸４３と、駆動軸４３に設けられた左右の足裏に対応して対をなす施療部材３ａと、駆動軸４３に設けられたピニオン４４と、後述する第二支持部３６ｂに設けられたラック４５により構成されている。前記駆動軸４３は、左右方向の軸方向としており、ギヤケース４６に収容された減速機を介して前記モータ４２に連結されている。
【００２９】
前記支持部３６は、前記駆動軸４３の中途部を支持する第一支持部３６ａと、前記駆動軸４３の中途部より外側部を支持する第二支持部３６ｂと、を有しており、前記第一支持部３６ａと前記第二支持部３６ｂは、足の長手方向に延設して設けられている。
このように構成することで、足施療部Ｒ２の駆動軸４３の中途部（中央）が撓むことを防止することが可能となる。
また、前記支持部３６を身体の長手方向に延設してあるので、足施療部Ｒ２が移動して、身体部位の重量が変わっても、駆動軸４３の撓みを防止することが可能となる。
【００３０】
図１２に示すモータ４２はブラシレスモータであり、モータ４２の駆動を行うドライブ基板４２ｂが組み込まれている。具体的には、ドライブ基板４２ｂの板面が左右方向を向くように、モータ４２の胴体の側面に取り付けられている。モータ４２は、減速機を収容するギヤケース４６に側方からネジ止めすることにより固定されている。モータ４２は、図１１に示すように一方向のみに突出する出力軸４２ｃを有しており、この出力軸４２ｃにウォームよりなるギヤ４２ｄが設けられている。駆動軸４３の軸方向は左右方向であり、モータ４２の出力軸４２ｃと同一方向である。また、モータ４２をドライブ基板４２ｂが組み込まれたブラシレスモータで構成することにより、駆動部４１を小型化することができ、またモータ４２の性能も高めることができる。
【００３１】
駆動部４１は、駆動軸４３の回転位置を検出するセンサ４８（図１５参照）を有している。このセンサ４８（図１５参照）は、ドライブ基板４２ｂのギヤケース４６とは反対側の板面に設けられた検出体（図示せず）と、駆動軸４３に設けられたマグネットホルダを有する被検出体（図示せず）と、により構成されている。ドライブ基板４２ｂは、制御部６に電気的に接続されており、検出体（図示せず）が被検出体（図示せず）であるマグネットホルダの存在を検出することにより、駆動軸４３の回転位置における特定位置（原点）を検出することができる。また、センサ４８（図１５参照）の検出情報を用いて、駆動軸４３に設けられた施療部材３ａの足の長手方向位置を検出することができる。このように、モータ４２のドライブ基板４２ｂに検出体（図示せず）を設けているため、センサ４８（図１５参照）を設けるための基板を別途必要とせず、駆動部４１を低コスト化することができる。
【００３２】
減速機は、出力軸４２ｃと交差する方向の回転軸４７ａと、出力軸４２ｃに一体回転可能に設けられたウォームよりなるギヤ４２ｄと、回転軸４７ａに一体回転可能に設けられ出力軸４２ｃのギヤ４２ｄに噛合するはすば歯車よりなる第１ギヤ４７ｂと、回転軸４７ａに一体回転可能に設けられ第１ギヤ４７ｂとは回転軸４７ａの軸方向に位置ずれしたウォームよりなる第２ギヤ４７ｃと、駆動軸４３に一体回転可能に設けられ第２ギヤ４７ｃに噛合するウォームホイールよりなる第３ギヤ４７ｄと、を有している。このように、回転軸４７ａ、第１ギヤ４７ｂ、及び第２ギヤ４７ｃは、出力軸４２ｃ及び駆動軸４３を連動連結する中間歯車を構成している。
【００３３】
従って、モータ４２を駆動すると、出力軸４２ｃの回転動力が第１ギヤ４７ｂを介して回転軸４７ａに伝達される。更に、回転軸４７ａの回転動力が第２ギヤ４７ｃ（ウォーム）と第３ギヤ４７ｄ（ウォームホイール）により、減速して駆動軸４３に伝達される。すなわち、減速機は、出力軸４２ｃの回転動力を２段階に減速して駆動軸４３に伝達する。駆動軸４３の回転は２段階の減速によって十分減速されるため、施療部材３ａを適した速度で動作させることができ、足施療部Ｒ２を同時に移動させることが可能となる。
【００３４】
駆動軸４３には、所定距離を存して施療部材３ａが設けられている。施療部材３ａは、左右方向を軸として回転可能なローラを有し、左右方向に複数のローラが駆動軸４３上に設けられている。
前記複数のローラは、夫々径が異なっていてもよいし、駆動軸４３の端部側から駆動軸４３の中央側へ向かうにつれて、径が大きくなる様にしてもよい。ローラの形状は、被施療部に対して刺激を与える作用があればよく、順次大きく又は小さくなっていく様に設けてもよい。
また、ローラの周方向に複数の突起を設けるものであってもよい。
このように構成された足施療部Ｒ２は、モータ４２の駆動により駆動軸４３が回転すると、施療部材３ａが回転して足裏にマッサージを行い、足裏に隈なく指圧作用を与えることができる。
【００３５】
また、ローラは、前記駆動軸４３に固定されているので、駆動軸４３が回転すると、ローラが回転するようになっているが、駆動軸４３の回転に関わらず、ローラを自由に回転させてもよい。
この場合、ローラは、駆動軸４３にベアリングを介して取り付けられるため、負荷がかからない状態では、駆動軸４３の回転方向と同じ方向へ回転するが、ローラに被施療部を当接させて負荷がかかった状態では、ローラは、駆動軸４３とともに回転しなくなる。
【００３６】
また、前記移動手段４０は、前記足施療部Ｒ２を第一支持部３６ａと第二支持部３６ｂに沿って移動させるので、足の長手方向に沿って移動可能となる。
【００３７】
移動手段４０は、前記モータ４２の駆動により、被ガイドを駆動させ、被ガイドがガイド上を移動する。
前記被ガイドは、足施療部Ｒ２に設けられ、前記モータ４２の駆動により回転する駆動軸４３に設けられた左右で対をなすピニオン４４である。
前記ガイドは、フレームに設けられ、前記ピニオン４４に噛合する左右で対をなすラック４５である。なお、本実施例では、前記ラック４５と第二支持部３６ｂは、一体的に形成されている。
この様に移動手段４０は、前記駆動部４１に設けられたモータ４２と、前記モータ４２の駆動を受け、回動する駆動軸４３と、前記駆動軸４３に設けられたピニオン４４と、前記第二支持部３６ａに設けられたラック４５により構成される。
また、第一支持部３６ａにも前記ガイドが設けられている。第一支持部３６ａは、前記駆動部４１を支持しつつ、ガイドによってスムーズに移動できる様になっている。
足施療部Ｒ２は、駆動軸４３の中央付近に駆動部４１が設けられる。また、駆動部４１の重量や使用者の体重によって、力のかかりやすい駆動軸４３が撓んでしまうことを防止することが可能となる。
この様に構成することで、足施療部Ｒ２を移動させることが可能となる。
【００３８】
このように足施療部Ｒ２を被施療部に沿って移動可能とすることにより、マッサージの範囲を拡大することができるとともに、足裏に対してローラ作用を行うことができる。
なお、前述した実施形態では、単一のモータ４２で施療部材３ａの駆動と足施療部Ｒ２の移動を両立する構成としたが、これに限られない。
施療部材３ａの駆動と足施療部Ｒ２の移動を、別個のモータにより独立して行えるようにしてもよい。
また、単一のモータ４２であっても、クラッチを設けることにより、モータ４２を一方へ回転させると施療部材３ａの駆動と足施療部Ｒ２の移動が行われ、モータ４２を他方へ回転させると足施療部Ｒ２の移動が解除されるようにしてもよい。
【００３９】
また、図１０に示す様に、前記第二支持部３６ｂは、被施療部がガイドと被ガイドに接触することを防止するカバー部４９を有している。
前記第二支持部３６ｂには、開口が横方向に向いた凹状の切り欠きが設けられている。前記第二支持部３６ｂに設けられた凹状の切り欠きは、ラック４５とピニオン４４と駆動軸４３の端部を収容する。
前記カバー部４９は、この凹状の切り欠きを側方から塞ぐように設けられる。このカバー部４９は、前記ラック４５とピニオン４４が被施療部に接触することを防止するものであり、前記ラック４５とピニオン４４の露出を防ぐ様な形状であればよい。例えば、ラック４５とピニオン４４の上方から側方を覆う形状としてもよい。
また、前記カバー部４９は、駆動軸４３に接触しない程度に、前記第二支持部３６ｂの凹状の切り欠きを側方から塞いでいる。このため足施療部Ｒ２の移動を阻害しないようになっている。
このように被施療部がガイドと被ガイドに接触することを防止するカバー部４９を設けることで、使用者の身体が、前記ガイドであるラック４５と被ガイドであるピニオン４４に接触しない。
【００４０】
また、図１０と図１１に示す様に足施療部Ｒ２は、移動の限界位置を検知するセンサ３７を有している。
前記センサ３７は、前記駆動部４１は検出部３７ａを有しており、前記第一支持部３６ａの一端側と他端側に被検出部３７ｂを有している。
前記検出部３７ａは、ホールＩＣであって、前記被検出部３７ｂは、磁石である。
前記磁石は、第一支持部３６ａのつま先側と踵側にそれぞれ設けられている。
このつま先側に設置された磁石又は踵側に設置された磁石のいずれかの箇所で、足施療部Ｒ２を停止又は、反転させて移動させることで、足施療部Ｒ２が支持部３６からの脱落を防止することができる。
また、検出部３７ａを駆動部４１に設けているので、駆動部４１の配線と検出部３７ａの配線をまとめることができる。
【００４１】
また、被検出部３７ｂの磁石は、足施療部Ａ６付近に配置されていてもよい。
この様に足施療部Ａ６に対応する位置に被検出部３７ｂの磁石を配置することで、前記制御部６は、足施療部Ｒ２と足施療部Ａ６とを協働させることが可能となる。
また、前記足施療部Ｒ２を磁石の位置で停止して、足施療部Ａ５〜Ａ６と施療部材３ａでマッサージすることが可能となる。
【００４２】
脚ユニット２及び足ユニット３に設けられた各施療部５ａ〜５ｃの構成は、上述した実施形態に限られない。例えば、各施療部５ａ〜５ｃの構造、配置及び個数は、適宜変更することが可能である。図２〜図５に示すとおり、延設部３４の上面には、エアセルよりなる施療部Ａ１〜Ａ６に対してエアを給排気するポンプ及びバルブよりなる給排気装置７と、ローラよりなる施療部Ｒ１〜Ｒ２，バイブレータよりなる施療部Ｂ１〜Ｂ２及び後述するアクチュエータ８の駆動を制御する制御部６と、が設けられている。
【００４３】
図２〜図５に示すとおり、マッサージ機１は、足ユニット３に対して脚ユニット２を下腿長手方向へ移動させる移動機構４を有している。以下、移動機構４の構成について説明する。移動機構４は、脚ユニット２を駆動させるアクチュエータ８と、脚ユニット２の移動をガイドするガイド部材９と、を有している。
【００４４】
足ユニット３の延設部３４には、アクチュエータ８を支持するブラケット１１が設けられている。このブラケット１１は、モータ１２と、モータ１２の駆動により回転する上下方向を軸方向とするネジ軸１３と、ネジ軸１３に螺合されたナット１４と、を支持している。モータ１２、ネジ軸１３及びナット１４によりアクチュエータ８が構成されている。ナット１４には、脚ユニット２の後壁２１に固定された第一移動部材１５が取り付けられている。第一移動部材１５の左右両側には、第一移動部材１５の移動をガイドするガイドブロック１６が設けられている。ガイドブロック１６は足ユニット３に固定されている。
【００４５】
脚ユニット２の左右両側には、上下方向に延設されたレール状の第二移動部材１７が設けられている。足ユニット３の左右両側には、上下方向に延設されたガイドブロック１８が設けられている。ガイドブロック１８は、第二移動部材１７に対してスライド可能に嵌合している。このように、第一移動部材１５、第二移動部材１７及びガイドブロック１６，１８によりガイド部材９が構成されている。アクチュエータ８を駆動すると脚ユニット２は、ガイド部材９によりガイドされながら、足ユニット３に対して下腿長手方向へ移動することができる。
【００４６】
図２及び図３に示すとおり、マッサージ機１は、脚ユニット２の下腿長手方向の可動範囲における上限位置を検出する上限センサ５１と、下限位置を検出する下限センサ５２と、を有している。上限センサ５１及び下限センサ５２はそれぞれ、足ユニット側３であるブラケット１１の上下に設けられている。各センサ５１，５２は、ホールＩＣ等よりなる非接触式の検出器により構成されている。脚ユニット２側であるナット１４には磁石が設けられている。各センサ５１，５２がナット１４の存否を検出することにより、脚ユニット２の上限位置及び下限位置を検出することができる。各センサ５１，５２による検出結果は制御部６に伝達される。
【００４７】
図６に示すとおり、脚ユニット２には、脚ユニット２と使用者の大腿部との相対位置を検出する第一センサ５３が設けられている。以下、第一センサ５３の構成について説明する。第一センサ５３は、脚ユニット２の上面を構成する上面カバー２４に設けられている。本実施形態では、第一センサ５３は大腿施療部Ａ３の下側に重ねて配置しているが、大腿施療部Ａ３との位置関係はこれに限られない。例えば、第一センサ５３と大腿施療部Ａ３は、上下方向に重ねずに左右方向へ位置ずれさせて配置してもよい。第一センサ５３は、脚ユニット２が膝を曲げた状態の大腿部の背面に接触したことを検出することができる。すなわち、この第一センサ５３は、大腿部に対する脚ユニット２の位置を検出することにより、下腿と所定角度をなす大腿部を基準として、下腿に対する脚ユニット２の位置も検出することができる。
【００４８】
図７に示すとおり、足ユニット３には、脚ユニット２と足ユニット３の間に存在する異物を検出する第二センサ５４が設けられている。以下、第二センサ５４の構成について説明する。第二センサ５４は、足ユニット３の上面（脚ユニット２との対向面）に設けられている。具体的には、後壁３１、側壁３２及び中央壁３３の上面に設けられている。脚ユニット２と足ユニット３の間に異物が位置した状態で脚ユニット２を下降させていくと、第二センサ５４が異物の存在を検出する。第二センサ５４が異物の存在を検出すると、制御部６は脚ユニット２の下降を停止する、又は脚ユニット材２を上昇させるよう制御する。従って、使用者等の身体の一部が挟まって怪我をしたり、マッサージ機１が故障したりすることを防止できる。なお、第二センサ５４は、脚ユニット２の下面（足ユニット３との対向面）に設けてもよい。
【００４９】
第一センサ５３及び第二センサ５４（以下、総称してセンサという）の構造の一例を説明する。図１６はセンサの説明図であり、（ａ）は平面図、（ｂ）は側面図である。
図１６に示すとおり、センサは、電線５５が格子状に配設された２枚のシート５６を上下方向に重ねた構造とする。センサに対して上下方向から負荷がない状態では、上下のシート５６は非接触の状態が保たれており、それぞれのシート５６に設けられた電線５５は通電していない。センサに対して上下方向から所定の負荷が作用すると、上下のシート５６が接触して、それぞれに設けられた電線５５が通電する。このように構成した第一センサ５３を脚ユニット２の上面に設けた場合、脚ユニット２を上昇させる過程で大腿部の背面が第一センサ５３に接触すると、大腿部からの負荷が作用して第一センサ５３は通電する。すなわち、脚ユニット２が大腿部の背面に接触したことを検出する。また、このように構成した第二センサ５４を足ユニット３の上面に設けた場合、脚ユニット２を下降させる過程で足ユニット３との間で異物が挟み込まれると、異物からの負荷が作用して第二センサ５４は通電する。すなわち、脚ユニット２と足ユニット３の間に異物が挟まったことを検出する。
【００５０】
図１５に示すとおり、制御部６は、プログラマブルなマイコン等を有しており、各施療部５ａ〜５ｃ、給排気装置７及びアクチュエータ８を駆動制御する。制御部６には、各センサ（３７、４８、５１〜５４）が電気的に接続されており、各センサ（３７、４８、５１〜５４）による検出結果に関する情報を取得する。制御部６には、使用者が操作するコントローラ１０が電気的に接続されている。マッサージ機１は、所定のプログラムに従って各施療部５ａ〜５ｃ及びアクチュエータ８を駆動させるマッサージコースを実行可能である。制御部６には、複数のマッサージコースが記憶されており、コントローラ１０の操作によりマッサージコースを選択可能である。コントローラ１０の操作により、各施療部５ａ〜５ｃ又はアクチュエータ８の動作を任意に操作することができる。例えば、動作させる各施療部５ａ〜５ｃを選択したり、脚ユニット２を下腿長手方向へ位置調整したりできる。
【００５１】
以下、マッサージ機１の制御について説明する。
図１７は、足ユニット３の足施療部Ｒ２の駆動を示す図である。
図１７（ａ），図１７（ｂ）は、施療部材３ａを異なる足裏の適切な施療位置で往復移動させた状態を示しており、図１７（ａ）は、施療部材３ａをつま先周辺で往復移動させた図であり、図１７（ｂ）は、施療部材３ａを土踏まず付近で往復移動させた図である。
図１８は、足ユニット３の足施療部Ｒ２と押圧手段である足施療部Ａ５の駆動を示す図である。
図１８（ａ）は、足施療部Ａ５（図示せず）は収縮させて施療部材３ａを前方に位置させた図であり、
図１８（ｂ）は、施療部材３ａを前方から土踏まず付近への移動と足施療部Ａ５を膨張させている図であり、図１８（ｃ）は、施療部材３ａを前方から踵側への移動と足施療部Ａ５を膨張させている図である。
図１９は、足ユニット３の足施療部Ｒ２と押圧手段である足施療部Ａ５の駆動を示す図である。
図１９（ａ）は、施療部材３ａを土踏まず付近に位置させた状態と足施療部Ａ５を膨張させている図であり、図１９（ｂ）は、施療部材３ａを前方から土踏まず付近に移動と足施療部Ａ５を膨張させている図であり、図１９（ｃ）は、施療部材３ａを後方から土踏まず付近に移動と足施療部Ａ５を膨張させている図である。
図２０は、足ユニット３の足施療部５ｃと脚ユニット２の下腿施療部５ａと脚ユニット２を下腿長手方向に移動させるアクチェータ８とを駆動させて、つま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心動作を示す図である。
図２１は、足ユニット３の足施療部５ｃと脚ユニット２の下腿施療部５ａと脚ユニット２を下腿長手方向に移動させるアクチェータ８とを駆動させて、心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心動作を示す図である。
【００５２】
［動作１について］
以下、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うマッサージ動作の一例について、図１７（ａ），図１７（ｂ）に基づいて説明する。
前記制御部６は、前記センサ３７の検出情報より、施療部材３ａの移動可能範囲を設定することができ、前記センサ４８の検出情報より施療部材３ａの足の長手方向位置を検出することができる。まず、前記制御部６は、第１ステップにおいて、足裏の適切な施療位置（図１７（ａ）参照）に施療部材３ａを前記移動手段４０により移動させる。第２ステップにおいて、第１ステップにより移動した施療位置（図１７（ａ）参照）から施療部材３ａの後述する移動可能範囲より短い範囲内で施療部材３ａを前記移動手段４０により往復移動させる。前記移動可能範囲は、前記センサ３７が検知する足施療部Ｒ２の移動の限界位置であり、被検出部３７ｂである磁石が設けられているつま先側から踵側までの範囲である。図１７（ａ），図１７（ｂ）中の矢印破線は、施療部材３ａの移動可能範囲を示す。次に、第３ステップにおいて、第１ステップにて移動した足裏の適切な施療位置以外の施療位置（図１７（ｂ）参照）に前記移動手段４０により移動させる。第４ステップにおいて、第３ステップにより移動した施療位置（図１７（ｂ）参照）から施療部材３ａの移動可能範囲より短い範囲内で施療部材３ａを前記移動手段４０により往復移動させる。このように制御することで、足裏の適切な施療位置に対して、集中的にマッサージを行うことができる。なお、第１ステップ〜第４ステップの際に、前記押圧手段である足施療部Ａ５〜Ａ６を膨張させて、足を上方又は側方から押圧してもよい。
【００５３】
［動作２について］
以下、使用者の足先を前屈させる足先ストレッチ動作の一例について、図１８（ａ），図１８（ｂ），図１８（ｃ）に基づいて説明する。
前記制御部６は、第１ステップにおいて、前方位置（図１８（ａ）参照）に施療部材３ａを前記移動手段４０により移動させる。第２ステップにおいて、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて行う押圧動作と第１ステップにより移動した前方位置から後方位置（図１８（ｂ），図１８（ｃ）参照）へ施療部材３ａを前記移動手段４０により移動させる動作とを組合せて動作させる。このように制御することで、施療部材３ａが移動して空いた後述する空間Ｐに足先を落として前屈させる足先ストレッチを行うことができる。前記空間Ｐは、前記底壁３０，前記側壁３２，前記中央壁３３，施療部材３ａにより構成される。前記空間Ｐは、施療部材３ａが前方に位置する時は狭く、施療部材３ａが前方から後方に移動するにつれて、広くなる。図１８（ｂ）、図１８（ｃ）中の四角破線は、前記空間Ｐを示す。
図１８（ｂ）は、前記移動手段４０により施療部材３ａを前方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作とを組合せて動作させることで、土踏まず付近を支点としてつま先を前記空間Ｐに落として前屈させ、つま先に対するストレッチを行うことができる。
図１８（ｃ）は、前記移動手段４０により施療部材３ａを前方位置から踵付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作とを組合せて動作させることで、踵付近を支点として足先を前記空間Ｐに落として前屈させ、足首に対するストレッチを行うことができる。
【００５４】
［動作３について］
以下、使用者のつま先に対してより効果的なストレッチ動作の一例について、図１９（ａ），図１９（ｂ），図１９（ｃ）に基づいて説明する。
前記制御部６は、第１ステップにおいて、施療部材３ａを土踏まず付近（図１９（ａ），図１９（ｂ），図１９（ｃ）参照）に位置させる動作と、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて行う押圧動作と、を組合せて動作させる。このように制御することで、足先を上方からの押圧による下方への押さえつけと施療部材３ａによる土踏まずの持ち上げにより、つま先に対してより効果的なストレッチを行うことができる。
図１９（ａ）は、前記移動手段４０により施療部材３ａを土踏まず付近に位置させ、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて、足先を上方から押圧することにより、足先の下方への押さえつけと施療部材３ａによる土踏まずの持ち上げにより、つま先に対するストレッチを行うことができる。
図１９（ｂ）は、前記移動手段４０により施療部材３ａを前方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作と、を組合せて動作させることで、前方からの土踏まずの持ち上げ作用と足先の下方への押さえつけにより、つま先に対してより効果的にストレッチを行うことができる。
図１９（ｃ）は、前記移動手段４０により施療部材３ａを後方位置から土踏まず付近に移動させる動作と、前記押圧手段である足施療部Ａ５を膨張させて、足先を上方から押圧する押圧動作と、を組合せて動作させることで、後方からの土踏まずの持ち上げ作用と足先の下方への押さえつけにより、つま先に対してより効果的にストレッチを行うことができる。
【００５５】
［動作４について］
以下、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法に基づくマッサージ動作の一例について説明する。
図２０に示すとおり、前記制御部６は、第１ステップにおいて、前記移動手段４０による施療部材３ａをつま先側から踵側へ移動させる動作を行い、つま先側から踵側へ向かう方向にマッサージを行う。つま先側から踵側へ向かう際、足施療部Ａ５〜Ａ６によるマッサージを行ってもよい。第２ステップにおいて、前記アクチュエータ８と下腿施療部Ａ１〜Ａ２を駆動させて、前記脚ユニット２を下腿の足首側から膝側へ向かう方向に移動させる動作を行い、足首側から膝側へ向かう方向にマッサージを行う。なお、前記アクチュエータ８と下腿施療部Ａ１〜Ａ２とを同時に駆動させて、足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ８と下腿施療部Ａ１〜Ａ２とを交互に駆動させて、徐々に足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ８は駆動させたまま、下腿施療部Ａ１〜Ａ２の膨張収縮の駆動を行い、足首側から膝側へ向かうマッサージを行ってもよい。また、前記下腿施療部Ｒ１を下腿の足首側から膝側へ向かう方向に回転駆動させてもよい。第２ステップは、前記アクチュエータ８および前記下腿施療部Ｒ１のうち少なくともいずれか駆動させればよい。
【００５６】
この様に、第１ステップ〜第２ステップと順にさせることにより、使用者のつま先側から心臓に向けて血行を促進させる求心法に基づくマッサージを行うことができる。なお、第１ステップと第２ステップは、同時に行ってもよいし、逆に行ってもよい。
【００５７】
［動作５について］
以下、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法に基づくマッサージ動作の一例について説明する。
図２１に示すとおり、前記制御部６は、第１ステップにおいて、前記アクチュエータ８と下腿施療部Ａ１〜Ａ２を駆動させて、前記脚ユニット２を下腿の膝側から足首側へ向かう方向に移動させる動作を行い、膝側から足首側へ向かう方向にマッサージを行う。なお、前記アクチュエータ８と下腿施療部Ａ１〜Ａ２とを同時に駆動させて、膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ８と下腿施療部Ａ１〜Ａ２とを交互に駆動させて、徐々に膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよいし、前記アクチュエータ８は駆動させたまま、下腿施療部Ａ１〜Ａ２の膨張収縮の駆動を行い、膝側から足首側へ向かうマッサージを行ってもよい。また、前記下腿施療部Ｒ１を下腿の膝側から足首側へ向かう方向に回転駆動させてもよい。第１ステップは、前記アクチュエータ８および前記下腿施療部Ｒ１のうち少なくともいずれか駆動させればよい。第２ステップにおいて、前記移動手段４０による施療部材３ａを踵側からつま先側へ移動させる動作を行い、足裏の踵側からつま先側へ向かうよう方向にマッサージを行う。踵側からつま先側へ向かう際、足施療部Ａ５〜Ａ６によるマッサージを行ってもよい。
【００５８】
この様に、第１ステップ〜第２ステップと順にさせることにより、使用者の心臓からつま先側に向けて血行を促進させる遠心法に基づくマッサージを行うことができる。なお、第１ステップと第２ステップは、同時に行ってもよいし、逆に行ってもよい。
【００５９】
［他の実施形態］
また、本発明のマッサージ機１は、図示する形態に限らず、この発明の範囲内において他の形態のものであってもよい。
例えば、足施療部５ｃを上肢に設置する場合は、以下の様になる。
図２２は、被施療部である上肢（肩から手先部）が図示されており、肩から手部を支持する肘掛け部７が簡略化して図示されている。
図１５，図２２に示すとおりに、前記肘掛け部７は、使用者の前腕を支持する前腕ユニット７０と、使用者の上腕を支持する上腕ユニット７１と、を有している。前腕ユニット７０には、エアセル又はローラ等よりなる前腕施療部５ｄが設けられている。また、上腕ユニット７１には、エアセル又はローラ等よりなる上腕施療部５ｅが設けられている。
【００６０】
前記前腕施療部５ｄは、手先をマッサージする前腕施療部Ａ７と、前腕をマッサージする前腕施療部Ａ８と、前腕から手の長手方向を移動し、手のひらから連なる前腕の面をマッサージする前腕施療部Ｒ３と、を有している。これら前腕施療部Ａ７〜Ａ８は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、前腕施療部Ｒ３は、前記足施療部Ｒ２と同じ構造のローラで構成されている。また、前記上腕施療部５ｅは、上腕をマッサージする上腕施療部Ａ９と、肩から上腕の長手方向を移動し、上腕三頭筋部分をマッサージする上腕施療部Ｒ４と、を有している。上腕施療部Ａ９は、エアの給排気により膨張収縮するエアセルにより構成されており、上腕施療部Ｒ４は、前記足施療部Ｒ２と同じ構造のローラで構成されている。前記制御部６は、各施療部５ｄ〜５ｅを駆動させて、手先，前腕及び上腕に対して集中的にマッサージを行うことができ、手先及び前腕に対してストレッチを行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
本発明は、使用者の足裏の適切な位置に対して集中的にマッサージを行うことができ、またより効果的な足先ストレッチを行うことができるマッサージ機に適用することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１  マッサージ機
２  脚ユニット
３  足ユニット
３ａ  施療部材（ローラ）
５ａ  下腿施療部（施療子）
５ｃ  足施療部（押圧手段，エアセル）
６  制御部
８  アクチュエータ
４０  移動手段
４４  ピニオン（移動手段）
４５  ラック（移動手段）
４８  センサ
Ｐ  空間
【図１】
2017035349.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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