(57)【要約】      （修正有）【課題】エチレンのオリゴマー化により１−ブテンを製造するための装置の制御システムであって、多変数予測コントローラを用い、より良好な安定性を有する装置の提供。【解決手段】エチレンの１−ブテンへのオリゴマー化のための装置に適用され得る、液相中かつ泡立ち点で均一系触媒の存在下に操作される、高度プロセス制御（ＡＰＣ）であって、目標パラメータと称される、同時的かつ連続的に制御されるパラメータが、１−ブテンの生成１１（Ｄｐｒｏｄ）、反応器Ｃ１の圧力（Ｐｒｅａｃ）および反応器Ｃ１の温度（Ｔｒｅａｃ）であり、作用変数が、供給原料１流量（Ｄｃｈ）、注入される触媒２，３の構成要素のそれぞれの流量（Ｔ２およびＬＣ）および触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量である高度プロセス制御。【選択図】図１
2017105771.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレンの１−ブテンへのオリゴマー化のための装置に適用され得る、液相中かつ泡立ち点で均一系触媒の存在下に操作される、高度プロセス制御（ＡＰＣ）であって、目標パラメータと称される、同時的かつ連続的に制御されるパラメータが、１−ブテンの生成（Ｄｐｒｏｄ）、反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）および反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）であり、作用変数が、供給原料流量（Ｄｃｈ）、注入される触媒の構成要素のそれぞれの流量（Ｔ２およびＬＣ）および触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量であることを特徴とする高度プロセス制御。
【請求項２】
請求項１に記載の高度プロセス制御（ＡＰＣ）であって、該高度プロセス制御の多変数コントローラ（ＡＰＣコントローラと称される）は、３つの原則：
−  注入される触媒の量を変動させることによって、供給原料流量を作用させて生成に影響を及ぼす転化についての圧力の効果を補填することによって反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）を制御すること、
−  供給原料流量によって、触媒の量を作用させて圧力の効果を補填することによって、生成（Ｄｒｏｄ）を制御すること、
−  触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量を作用させることによって反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）を制御すること
に基づき、
ＡＰＣコントローラは、コンピュータにインストールされ、このコンピュータは、工業装置においてプロセスを制御するシステムに接続され、前記コンピュータは、以下のオペレーション：
・  作用変数および目標変数についてのシグナルを回収すること
・  作用変数についての新しい設定ポイントを生じさせること、および
・  ＡＰＣコントローラに新しい設定ポイントを送信すること
を行う、高度プロセス制御（ＡＰＣ）。
【請求項３】
触媒の流量Ｔ２およびＬＣは、比（Ｔ２／ＬＣ）が１．５〜３モル／モルの間、より特定的には１．９〜２．５モル／モルの間、大いに好ましくは２〜２．２モル／モルの間で維持されるような範囲内で自由に変動し、これにより、ポリマーの形成が制限される、請求項２に記載の高度プロセス制御。
【請求項４】
請求項１に記載の高度プロセス制御であって、
−  圧力設定ポイントの変更の際に、一定の生成で、触媒の構成要素の流量が改変され、これにより、は、圧力変動が制御され、供給原料流量の改変は、新しい圧力設定ポイントによって生じた、転化の変化、それ故に、１−ブテンの生成の変化を補填する、
−  生成設定ポイントの変更の際に、一定の圧力で、供給原料流量は改変され、これにより、生成の変動、すなわち、１−ブテンの流量が制御され、触媒の２つの構成要素の流量の改変が、新しい生成設定ポイントによって生じた圧力の変化の効果を補填する
高度プロセス制御。
【請求項５】
高度プロセス制御のパラメータ化は、実験データを得ることによって前もって行われ、これらの実験データは、作用変数において変動を生じさせることからなる試験のキャンペーンに由来し、目標変数についての装置の応答は、多変数識別ソフトウェアにおいて処理される、請求項１に記載の高度プロセス制御。
【請求項６】
エチレンをオリゴマー化させて１−ブテンを製造するための方法への請求項１〜５のいずれか１つに記載の高度プロセス制御の適用であって、以下の条件：
−  圧力：０．５〜８ＭＰａの範囲内、好ましくは１〜４ＭＰａの範囲内
−  温度：２０〜１５０℃の範囲内、好ましくは３０〜１００℃の範囲内
の下に操作される、適用。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、工業装置の高度プロセス制御（advanced process control：ＡＰＣ）およびレギュレーションの分野に関する。より特定的には、本発明は、液相中の均一系触媒の存在下に泡立ち点で操作されるオリゴマー化装置であって、当該触媒は、反応相中に可溶である、ものに関する。好ましくは、本発明による方法は、エチレンから出発して１−ブテンを製造するためのオリゴマー化方法に適用可能である。
【背景技術】
【０００２】
特許文献１には、装置のオペレーションパラメータのために閉ループ識別相（closed-loop identification phase）を採用する工業装置をモニタリングしかつレギュレートする方法が記載されている。当該方法は、多変数コントローラによってインプリメントされる。
【０００３】
現発明において、当該装置は、動的モデルによってモデリングされ、この動的モデルにおいて、３個の目標変数は、ブテンの生成速度、反応器の温度および圧力であり、４個の作用変数は、供給原料の流量、触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器に供給される冷却水の流量および触媒の２個の構成要素のための２つの流量または同じものの合計、触媒の構成要素の一方の流量および触媒の当該構成要素の流量と他の構成要素の流量との間の比である。
【０００４】
ＡＰＣなしで、すなわち、従来技術により、エチレンのオリゴマー化による１−ブテンの製造のための装置をレギュレートするための通常の様式は、装置に応じて変動してよい：
−  第１のレギュレーション様式において、触媒の流量の比（Ｔ２／ＬＣ）は、固定維持され、構成要素の流量Ｔ２または触媒の流量ＬＣは、可変である。通常、構成要素の流量Ｔ２は、装置の生産性を制御するように調整される。当該レギュレーション様式において、エチレンの流量が手動改変されないのは、それが、反応器の圧力制御によりカスケードされるからである。用語「カスケードされる（cascaded）」は、作用変数（Ｖａｃｔ）が目標変数（Ｖｔａｒ）を維持するように直接的に作用する単純ＰＩＤレギュレーションとは対照的に、目標変数（Ｖｔａｒ）が、別の目標変数（Ｖｔａｒ２）を介して一定に維持され、この別の目標変数（Ｖｔａｒ２）は、それ自体、別の作用変数（Ｖａｃｔ２）の制御下にあるという事実を意味する：
−  第２のレギュレーション様式において、触媒の流量の比（Ｔ２／ＬＣ）は、１−ブテンの製造を制御するように改変される。エチレンの流量は、反応器の圧力制御によりカスケードされる。
【０００５】
オペレータは、一般的に、触媒の各構成要素の流量を複数工程において変動させることによって続行し、各工程は、百分率点に対応し、一般的には、３〜２０％の範囲内、より好ましくは５〜１２％の範囲内であり、これにより、反応器中の圧力高下は制限される。
【０００６】
触媒の流量における変動により、装置の反応器において比較的迅速な効果が引き起こされるが、装置内の全体的な滞留時間が数時間を超えるため、場合に応じて３〜１０時間の範囲内の時間の期間にわたって待つことが必要であり、これにより、装置からの出口におけるこれらの変動の効果が判別される。高度制御システムは、この困難性を克服するために用いられ得る。
【０００７】
装置に応じて、１〜３個の触媒再循環ループがあってよい。上記の２つのレギュレーション様式において、温度は、単数または複数の触媒再循環ループの単数または複数の交換器に供給される冷却液の流量に作用することによって一定に維持される。オリゴマー化反応の大部分は、ポリマーの形成ももたらし、このポリマーは、冷却セクション、特に、交換器において沈着させられ得て、このことは、交換係数の変動および効率の降下を引き起こす。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】欧州特許第２２３９６３９号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（図面の簡単な説明）
図１には、エチレンの１−ブテンへのオリゴマー化方法のレイアウトが示され、同図中、主要な流れ、反応器（Ｃ１）および２つの蒸留塔（Ｃ２およびＣ３）が強調表示されている。このレイアウトには、本発明による制御およびレギュレーションのシステム、すなわち、作用変数（装置のための供給原料の流量、各触媒の流量、冷却水の流量）および目標変数（反応器の圧力、生成物の流量、反応器の温度）の制御またはレギュレーションのためのシステムの主要な要素も示されている。
【００１０】
図２には、時間の関数としての装置の反応器の温度の変動の２つのヒストグラムが示される。図２ａのグラフは、本発明に合致するものであり、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、図２ｂのグラフは、従来技術に合致するものである。ＡＰＣレギュレーションシステムによる値の分散におけるかなりの大幅な減少が観察され得る。
【００１１】
図３には、反応器の圧力の経時変動についての２つのヒストグラムが示される。図３ａのグラフは、本発明に合致したものであり、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、図３ｂのグラフは、従来技術に合致したものである。ＡＰＣレギュレーションシステムによる値の分散におけるかなりの大幅な低減が観察され得る。
【００１２】
図４には、供給原料流量および触媒の２つの構成要素の流量（それぞれ、Ｔ２について（２）およびＬＣについて（３）で表記される）に応じた、反応器の圧力（（４）で表記される）および１−ブテン生成の流量（（５）で表記される）の時間変動が示される。
【００１３】
右手のグラフは、本発明に合致したものであり、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、左手のグラフは、従来技術に合致したものである。２つの目標変数：反応器の圧力および１−ブテン生成の顕著な安定化が、右手のグラフ上に観察されることになる。
【００１４】
図５には、２つの作用変数である供給原料流量（（３）次いで（６）で表記される）および２つの触媒流量の間の比（（２）次いで（７）で表記される）が、目標変数：ブテン生成流量（（５）次いで（８）で表記される）および反応器の圧力（（１）次いで（４）で表記される）の２つの設定ポイント値における変更を実行するためにどのように作用するかが示される。
【００１５】
（発明の簡単な説明）
本発明による高度プロセス制御をインプリメントすること、すなわち、ＡＰＣを用いることは、多変数レギュレーションが行われ得ることを意味し、これにより、反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）、反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）および、その結果としての、装置の生産性（Ｄｐｒｏｄ）がはるかにより安定である。
【００１６】
本発明による方法は、多変数コントローラを用いる。エチレンのオリゴマー化による１−ブテンの製造方法の動的モデリングは、新規な高度制御の戦略が決定され得ることを意味しており、このことは、以降において、「本発明による高度プロセス制御」と称されることになり、これは、このタイプの装置をオペレートするために従来から採用されている戦略とは大幅に異なる。
【００１７】
本発明によると、一定に維持されることを目的とする、目標変数として知られている３個のパラメータは、反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）、反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）および生じた１−ブテンの流量（Ｄｐｒｏｄ）である。
【００１８】
目標変数を一定に維持することを目的として作用される４個の作用変数は以下の通りである：エチレンの流量（Ｄｃｈ）、２つの触媒構成要素の流量（Ｔ２およびＬＣ）および触媒再循環ループの交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量。
【００１９】
より正確には、本発明による高度プロセス制御（ＡＰＣ）は、多変数コントローラ（ＡＰＣコントローラと称される）を用い、このものは、３個の原理：
−  供給原料流量（Ｄｃｈ）を作用させ、注入される触媒の量（Ｔ２またはＬＣ）を変動させて生成流量（Ｄｐｒｏｄ）に影響を及ぼす転化についての圧力の作用を補填することによって反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）を制御すること、
−  供給原料流量によって、触媒流量（ＬＣまたはＴ２）を作用させて圧力についての効果を補填することによって、生成流量（Ｄｐｒｏｄ）を制御すること、
−  触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量を作用させることによって反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）を制御すること。
に基づいている。
【００２０】
ＡＰＣコントローラは、コンピュータにインストールされ、このコンピュータは、工業装置におけるプロセスを制御するシステムに接続され、前記コンピュータは、以下のオペレーション：
−  作用変数および目標変数についてのシグナルを回収すること、
−  作用変数についての新しい設定ポイントを生じさせること、および
−  プロセス制御システムに新しい設定ポイントを送信すること
を行う。
【００２１】
本発明による高度プロセス制御の第１のバリエーションによると、触媒の２個の構成要素の比（Ｔ２／ＬＣ）は固定され、構成要素の流量Ｔ２のみが作用させられる。この場合、比（ＬＣ／Ｔ２）は、１．５〜３モル／モル、より特定的には１．９〜２．５モル／モル、大いに好ましくは２〜２．２モル／モルに維持されて、これによりポリマーの形成が制限される。
【００２２】
本発明による高度プロセス制御のバリエーションによると、触媒の流量（Ｔ２およびＬＣ）は、比（Ｔ２／ＬＣ）が１．５〜３モル／モル、より特定的には１．９〜２．５モル／モル、大いに好ましくは２〜２．２モル／モルで維持されるような範囲内で自由に変動し、これにより、ポリマーの形成が制限される。
【００２３】
本発明による高度プロセス制御のルーチンの機能様式において：
−  圧力設定ポイントにおける変更の際に、一定の生成で、触媒の構成要素の流量は、圧力変動を制御するように改変され、供給原料流量の改変は、新しい圧力設定ポイントによって生じた転化（それ故に生成）における変更を補填する、
−  生成設定ポイントにおける変更の際に、一定の圧力で、供給原料流量は、生成における変動を制御するように改変され、触媒の２つの構成要素の流量の改変は、新しい生成設定ポイントによって生じた圧力の変更の効果を補填する。
【００２４】
本発明による高度プロセス制御を得るために、前記高度プロセス制御のパラメータ化が、実験データを得ることによって先に行われ、前記実験データは、作用変数における変動を生じさせることおよび目標変数についての装置の応答を追跡することからなる試験のキャンペーンに由来し、作用変数における変動および目標変数の応答は、多変数識別ソフトウェアにおいて処理される。
【００２５】
本発明はまた、エチレンをオリゴマー化させて１−ブテンを製造するための方法への高度プロセス制御の適用であって、好ましくは以下：
−  圧力：０．５〜８ＭＰａの範囲内、好ましくは１〜４ＭＰａの範囲内、
−  温度：２０〜１５０℃の範囲内、好ましくは３０〜１００℃の範囲内
の条件下に操作される、適用に関する。
【００２６】
本発明による方法において用いられてよい触媒は、例えば、特許文献EP-A-2 388 069 およびEP-B-0 885 656において記載されている；それらの記載はここに参考として援用される。
【００２７】
好ましくは、触媒は、チタンまたはクロムをベースとする、より好ましくはチタンをベースとする第１の構成要素と、アルミニウムをベースとする第２の構成要素とを含む。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
（発明の詳細な説明）
本発明の良好な理解のために、液相中、泡立ち点で操作される反応器において、均一系触媒の存在下にエチレンを１−ブテンにオリゴマー化させるための方法の機能が思い起こされるべきである。
【００２９】
工業装置において、一旦、反応器における温度および液相レベルが正しく調節されると、２つの他のパラメータ：
−  反応器の圧力；これは、設計仕様の範囲内に維持するかまたは選択性の大きな損失を受けなければならない、
−  １−ブテンの生成；これは、下流の製造装置の要求に適合させられなければならない
を制御することが重要である。
【００３０】
本発明における高度プロセス制御（ＡＰＣ）において、多変数予測コントローラにおける動的モデルの使用は、以下の閉鎖ループ動的シミュレーションによって例証される以下の戦略が採用され得ることを意味する：
−  注入される触媒の量を変動させ、供給原料流量を作用させて生成に影響を及ぼす転化についての圧力の効果を補填することによって反応器の圧力を制御すること、
−  供給原料流量によって、触媒の量を作用させて圧力についての効果を補填することによって、生成を制御すること、
−  触媒再循環ループ（単数または複数）の交換器（単数または複数）に供給される冷却液の流量を作用させることによって温度を制御すること。
【００３１】
ループ交換器（単数または複数）中のポリマーの堆積の場合、高度プロセス制御の多変数コントローラはまた、これらの交換器の効率における低下を予測するために用いられ得る。
【００３２】
ここでは例証の目的で与えられる、本発明のＡＰＣプロセスによるシミュレーションの一例は、以下の点によって要約される（以下の説明に現れる参照符号は、図５を参照して与えられる）：
−  圧力設定ポイントにおける変更の際に（１）、一定の生成において、触媒の構成要素の流量は改変され（２）、これにより、圧力における変動は制御される。さらに、供給原料流量の改変（３）が、新しい圧力設定ポイントによって生じた転化（およびそれ故に生成）における変更（４）を補填する；
−  生成設定ポイントにおける変更の際に（５）、一定の圧力で、供給原料流量は改変され（６）、これにより、生成における変動が制御され、触媒の流量の改変（７）は、新しい生成設定ポイントによって生じた圧力の変更の効果（８）を補填する。
【００３３】
この例では、温度制御は示されていない。発熱性に影響を及ぼす転化、それ故に反応器の温度および冷却水の流量におけるあらゆる変動が、結果として調節されることになる。
【００３４】
ＡＰＣを用いることによって：
−  触媒流量をレギュレートすることは、圧力に影響を及ぼす摂動が最小にされ得ることを意味する。圧力は安定である；
−  供給原料流量および関連する生成は安定である。
−  温度は、交換器（単数または複数）の効率の喪失が見込まれるため、従来のレギュレーションシステムによるより安定である。
【００３５】
ＡＰＣシステムと称される本発明によるレギュレーションシステムにおいて、エチレン供給原料流量と１−ブテン生成流量との間にある直接比例リンクが利用される。
【００３６】
（１−ブテンの製造方法の説明）
図１には、エチレンから出発して１−ブテンを製造する方法の典型的なレイアウトの原理が示される。
【００３７】
本方法は、供給原料（１）を供給される反応器（Ｃ１）を含む。供給原料（１）は、エチレンを本質的に含む。反応器（Ｃ１）は、懸濁液中の均一系触媒も供給され、この懸濁液中の均一系触媒は、２つの構成要素（ＬＣおよびＴ２）を含み、これらは、それぞれの流れ（３）および（２）を介して反応セクションに別々に導入される。
【００３８】
液相中のエチレンの触媒ダイマー化が操作される際の圧力は、０．５〜８ＭＰａの範囲内、好ましくは１〜４ＭＰａの範囲内であり、その際の温度は、２０〜１５０℃の範囲内、好ましくは３０〜１００℃の範囲内である。
【００３９】
反応は発熱性であるので、反応器内の温度は、ループにおいて流出物の一部を冷却することによってレギュレートされる。このループは水交換器（Ｅ１）を含み、この水交換器（Ｅ１）は、冷却液として水を有する。
【００４０】
反応セクションからの流出物（４）は、次いで、触媒回収帯域（ＣＲ）中の触媒インヒビターと接触させられる。本発明による方法においてあらゆる触媒インヒビターが用いられてよいが、特には、特許ＦＲ２７３３４９７において記載されたものである。インヒビターの流れ（４）は、触媒回収帯域に導入され、使用済み触媒の流れ（５）が回収される。
【００４１】
触媒濃縮溶液が、（７）において触媒不含有反応流出物から分離され、前記流出物（７）は、第１の塔（Ｃ２）を含む分留セクションに送られ、この第１の塔（Ｃ２）は、塔頂の未転化エチレン（８）と、底部からの流出物の残り（１０）とを分離するために用いられ得、未転化エチレン（８）は、反応セクションに再循環させられ、流出物の残り（１０）は、第２の分離塔（Ｃ３）に供給される。
【００４２】
第２の分留塔（Ｃ３）は、所望の生成物である１−ブテンを本質的に含む留分（１１）を、流れ（１２）によって示されるより重質のオリゴマーから分離するために用いられ得る。
【００４３】
（高度プロセス制御（ＡＰＣ）の説明）
本発明による高度プロセス制御（以降、ＡＰＣと称する）は、一般的に、気体状の供給原料から出発する、液相中でかつ泡立ち点で操作するあらゆる装置において、液相に可溶である触媒（均一系触媒）を用いて実行され得る。
【００４４】
本発明による高度プロセス制御において、オペレータは、目標変数の値を限定し、ＡＰＣは、作用変数の全てを考慮する；オペレータは、もはや、それらについて懸念することを必要としない。この戦略は、操作中の装置についてのより良好な安定性を得るために適用され得る。
【００４５】
高度プロセス制御のパラメータ化は、実験データを得ることによって先に行われる。これらの実験データは、作用変数において変動を生じさせることからなる試験のキャンペーンに由来する。目標変数に対する装置の応答が、次いで、多変数識別ソフトウェアにおいて加工処理される。それ故に、例えば、作用変数が操られた瞬間と目標変数に対する応答の開始との間に経過した時間に相当する時間遅延が得られる；時間定数および利得が得られ得るが、これらは一緒に、作用変数の設定ポイントにおける変化を考慮する目標変数における変化の動態を規定する。
【００４６】
反応器の温度（Ｔｒｅａｃ）は、流量コントローラを操ることによって制御される。それを測定することにより、反応器底部における温度が、目標にあるか（または設定ポイント値にあるか）が検証される。
【００４７】
反応器（Ｃ１）中に（当該技術においてポンプアラウンドとして知られる）触媒を含む液体再循環ループ中の交換器（Ｅ１）の入口温度も制御される。
【００４８】
気相再循環の分析は、存在するエチレンおよび１−ブテンの量を決定するために用いられ得る。
【００４９】
反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）は、触媒の構成要素の流量ＬＣおよびＴ２を作用させることによって、または、流量ＬＣおよび比Ｔ２／ＬＣの両方をレギュレートすることによって制御される。
【００５０】
通過当たりの転化は、一般的に、９０％より下に、好ましくは８７％より下に維持され、これにより、ポリマー形成のリスクが制限される。
【００５１】
生成は、通過当たりの転化およびエチレンの入口流量を作用させることによって制御される。
【００５２】
作用変数は、目標変数を同時的かつ連続的に制御するために用いられ得るが、これは、ＡＰＣを用いることなしでは可能ではない。単純なＰＩＤ制御は、マルチなパラメータに依存する目標変数を安定にするために正しく機能しないからである。
【００５３】
さらに、生じた１−ブテンの流量（Ｄｐｒｏｄ）は、入来エチレン供給原料流量に比例し、反応器の圧力（Ｐｒｅａｃ）を制御するためのその操作は、それ故に、生成物流量（Ｄｐｒｏｄ）の制御と対抗される。多変数ＡＰＣを用いることによってのみ、目標変数の全ての同時的かつ連続的な制御が得られ得る。
【００５４】
（本発明による実施例）
図１のレイアウトによるエチレンのオリゴマー化による１−ブテンの製造のための工業装置は、本発明による高度プロセス制御システムを、本説明において言及されかつ図１に示されるコントローラにより備えていた。
【００５５】
反応器を、２．１ＭＰａおよび５２℃で作動させることによって、この装置は、３．０ｔ／ｈの１−ブテンを製造した。第１の構成要素は、AXENSによって販売されるLC2253であり、第２の成分は、ＴＥＡ（TriEthylAluminium（Ｃ２Ｈ５）３Ａｌ（ｎ−ヘキサン中に希釈）であった。この比は、好ましくは１．５〜３モル／モル、より好ましくは１．９〜２．５モル／モル、大いに好ましくは２〜２．２モル／モルに維持され、これにより、ポリマーの形成が制限された。
【００５６】
ＡＰＣコントローラは、コンピュータにインストールされ、このコンピュータは、工業装置のプロセス制御システムに接続された。このコンピュータは、作用変数および目標変数のシグナルを回収し、新しい作用変数の設定ポイントを発生させ、それらをプロセス制御システムに送信した。
【００５７】
図２には、高度制御システムが非常に効率的に反応器の底部温度をレギュレートするために用いられ得るだろうことが示され、この底部温度の変動は、高度制御の存在下では、高度制御を有していなかった装置と比較して４倍小さかった。
【００５８】
図３には、反応器の圧力の非常に良好なレギュレーションが示され、この圧力の値の経時変動の範囲は著しく低減した。目標値についての変動が、従来技術のレギュレーションシステムにより得られた変動と比較して６倍低減したからである。
【００５９】
図４には、供給原料流量および２つの触媒の流量に応じた反応器の圧力および１−ブテン生成流量の時間変動が示される。
【００６０】
右手のグラフは、本発明に合致している、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、左手のグラフは、従来技術に合致する。
−  ＡＰＣレギュレーションによらないシステムにより、オペレータは、もっぱら供給原料流量を操作し、触媒流量はわずかな程度にのみ操作することが理解され得る。触媒の流量（１）は、ほぼ一定のままである。オペレータは、生成流量を制御することと反応器の圧力を制御することとの間で妥協しなければならない。
−  ＡＰＣレギュレーションシステムにより、供給原料流量および２つの触媒が同時的かつ連続的に操作されて、これにより、生成流量および反応器の圧力が制御されることが理解され得る。生成流量および反応器の圧力が効果的にはるかに良好に制御されること、すなわち、それぞれが、設定ポイント値に非常に近接して維持されることも理解され得るが、これが、本発明のシステムの第１の利点である。
【００６１】
図５には、作用変数：供給原料流量（（３）、次いで、（６）で表記される）および２つの触媒流量の間の比（（２）、次いで、（７）で表記される）の２つの作用が示され、これにより、目標変数：ブテンのための生成流量（（５）、次いで、（８）で表記される）および反応器の圧力（（１）、次いで、（４）で表記される）の２つについての設定ポイント値における変更がオペレートされる。
【００６２】
目標変数の２つ、すなわち、１−ブテンの生成および反応器の圧力についての２つの変更は、
−  供給原料流量の変数により、最初に、非常にゆっくりとした上昇により（（３）で表記される）、次いで、第二に、より迅速な上昇により（（６）で表記される）、
−  触媒の比である変数により、第一に、値における低減により（（２）で表記される）、次いで、第二に、出発値と実質的に同一のレベルでの値の上昇により（（７）で表記される）
管理を引き受けられる。
【図面の簡単な説明】
【００６３】
【図１】図１には、エチレンの１−ブテンへのオリゴマー化方法のレイアウトが示され、同図中、主要な流れ、反応器（Ｃ１）および２つの蒸留塔（Ｃ２およびＣ３）が強調表示されている。
【図２】２には、時間の関数としての装置の反応器の温度の変動の２つのヒストグラムが示される。図２ａのグラフは、本発明に合致するものであり、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、図２ｂのグラフは、従来技術に合致するものである。
【図３】図３には、反応器の圧力の経時変動についての２つのヒストグラムが示される。図３ａのグラフは、本発明に合致したものであり、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、図３ｂのグラフは、従来技術に合致したものである。
【図４】図４には、供給原料流量および触媒の２つの構成要素の流量（それぞれ、Ｔ２について（２）およびＬＣについて（３）で表記される）に応じた、反応器の圧力（（４）で表記される）および１−ブテン生成の流量（（５）で表記される）の時間変動が示される。右手のグラフは、本発明に合致したものであり、すなわち、ＡＰＣの適用によるものであり、左手のグラフは、従来技術に合致したものである。
【図５】図５には、２つの作用変数である供給原料流量（（３）次いで（６）で表記される）および２つの触媒流量の間の比（（２）次いで（７）で表記される）が、目標変数：ブテン生成流量（（５）次いで（８）で表記される）および反応器圧力（（１）次いで（４）で表記される）の２つの設定ポイント値における変更を実行するためにどのように作用するかが示される。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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