(57)【要約】      （修正有）【課題】栽培植物に安全で、雑草に対する著しい除草活性を示し、実用的残効性と必要以上の土壌中への残留せず、環境への悪影響を及ぼさない新規な除草剤の提供。【解決手段】式（I）で表されるアリールスルホンアミド系化合物又はその塩。2017214292.tif 000041[R1はハロC1-C6アルキル；R2はＨ、C1-C6アルキル等；R3はハロゲン、C1-C6アルキル等；R4及びR5はＨ、C1-C6アルキル等；Tはハロゲン、C1-C6アルキル等；WはO又はS；Xは-O-Y、-S-Z1、-等；Yは置換されたC1-C6アルキル、置換されたC1-C6アルキルカルボニル等；Z1はH、ヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル等；mは0〜4の整数；nは0〜5の整数]【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（I）：
【化１】
2017214292.tif 000040
[式中、
R1はハロC1-C6アルキルであり；
R2は水素原子、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシカルボニルオキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキルオキシカルボニルオキシC1-C6アルキル、モノ(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル、ジ(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル、(フェニル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、(フェニル)(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基-カルボニルオキシC1-C6アルキル(複素環部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、C1-C12アルキルカルボニル、ハロC1-C12アルキルカルボニル、C2-C6アルケニルカルボニル、シクロC3-C7アルキルカルボニル、シクロC3-C7アルキルC1-C6アルキルカルボニル、C1-C12アルコキシカルボニル、ハロC1-C12アルコキシカルボニル、(シクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、(C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、C3-C6アルケニルオキシカルボニル、ハロC3-C6アルケニルオキシカルボニル、C3-C6アルキニルオキシカルボニル、C1-C6アルキルチオカルボニル、ハロC1-C6アルキルチオカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルチオカルボニル、C1-C6アルキルチオC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルコキシカルボニル、モノ(C1-C6アルキル)アミノカルボニル、モノ(ハロC1-C6アルキル)アミノカルボニル、ジ(C1-C6アルキル)アミノカルボニル、ジ(ハロC1-C6アルキル)アミノカルボニル、フェニルカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC2-C6アルケニルカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルハロC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基-カルボニル(複素環部分はJで置換されていてもよい)、C1-C6アルコキシオキサリル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、シクロC3-C7アルキルスルホニル、フェニルスルホニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)又は複素環基-スルホニル(複素環部分はJで置換されていてもよい)であり；
R3はハロゲン、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ又はハロC1-C6アルコキシであり；
R4及びR5は各々水素原子、C1-C6アルキル又はハロC1-C6アルキルであり；
Tはハロゲン、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、ハロゲンで置換されたシクロC3-C7アルキル、-OH、C1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニルオキシ、C1-C6アルキルチオ、ハロC1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、ハロC1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、フェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)又はフェニルC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり；
WはO又はSであり；
Xは-O-Y、-S-Z1、-SO-Z2又は-SO2-Z3であり；
YはAで置換されたC1-C6アルキル、Aで置換されたC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ハロC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルチオカルボニル、ハロC1-C6アルキルチオカルボニル、C3-C6アルケニル、ハロC3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、ハロC3-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又は複素環基(複素環部分はJで置換されていてもよい)であり；
Z1はH、ヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルであり；
Z2はC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、ヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はフェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり；
Z3はヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はフェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり；
Aは-OH、C1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ、ハロC1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、ハロC1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、モノ(C1-C6アルキル)アミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、フェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルコキシ(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシ(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基(複素環部分はJで置換されていてもよい)、シアノ又はニトロであり；
Jはハロゲン、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、ハロC2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、ハロC2-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、ハロゲンで置換されたシクロC3-C7アルキル、-OH、C1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ、ハロC1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、ハロC1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル、ハロC1-C6アルキルカルボニル、カルボキシル、C1-C6アルコキシカルボニル、ハロC1-C6アルコキシカルボニル、アミノ、モノ（C1-C6アルキル）アミノ、モノ（ハロC1-C6アルキル）アミノ、ジ（C1-C6アルキル）アミノ、ジ（ハロC1-C6アルキル）アミノ、シアノ又はニトロであり；
mは0〜4の整数であり；
nは0〜5の整数である]で表されるアリールスルホンアミド系化合物又はその塩。
【請求項２】
請求項１に記載のアリールスルホンアミド系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤。
【請求項３】
請求項１に記載のアリールスルホンアミド系化合物又はその塩の除草有効量を、望ましくない植物又はそれが生育する場所に施用し、当該望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アリールスルホンアミド系化合物又はその塩に関するものであり、より詳細には、除草剤の有効成分として有用な新規のアリールスルホンアミド系化合物又はその塩、並びにそれらを含有する除草剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
下記特許文献１及び特許文献２には、一定の化学構造を有するハロアルキルスルホンアニリド誘導体が開示されている。しかしながら、それら特許文献には後述する一般式（I）で表されるアリールスルホンアミド系化合物は開示されていない。より詳細には、下記特許文献１及び特許文献２の化合物と、後述する一般式（I）の化合物とは、当該一般式（I）中の置換基Xにおいて区別される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開公報「ＷＯ２０１０／０２６９８９号」
【特許文献２】国際公開公報「ＷＯ２０１０／１１９９０６号」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来から、雑草を防除する作業の省力化や農園芸用作物の生産性向上を図るため、雑草に対して優れた除草性能を有し、且つ栽培作物に対する安全性を有する除草剤が所望されている。これからの新しい除草剤の開発においては、その施用薬量を低く抑えつつも所望の除草効果を発揮することができる化合物の創出が希求されている。また、実用的な残効性を示しつつも必要以上に土壌中に残留したり、雨水などにより施用箇所以外の土壌へ有効成分が流出するなどして環境へ悪影響を及ぼしたりする恐れの少ない化合物の創出が希求されている。さらには、高い動物安全性を備えた化合物の創出が望まれている。しかし、そのような目的に適した新規化合物の探索は試行錯誤に頼っている。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、前記課題を解決するような、より優れた除草剤を見出すべく種々検討した。その結果、新規なヘテロアリールスルホンアミド系化合物が、多様な雑草に低薬量で高い除草効果を示し、尚且つ各種有用作物に高い安全性を示すことを見出し、本発明を完成した。
即ち、本発明は、一般式（I）：
【０００６】
【化１】
2017214292.tif 000002
【０００７】
[式中、
R1はハロC1-C6アルキルであり；
R2は水素原子、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシカルボニルオキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキルオキシカルボニルオキシC1-C6アルキル、モノ(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル、ジ(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル、(フェニル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、(フェニル)(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基-カルボニルオキシC1-C6アルキル(複素環部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、C1-C12アルキルカルボニル、ハロC1-C12アルキルカルボニル、C2-C6アルケニルカルボニル、シクロC3-C7アルキルカルボニル、シクロC3-C7アルキルC1-C6アルキルカルボニル、C1-C12アルコキシカルボニル、ハロC1-C12アルコキシカルボニル、(シクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、(C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、C3-C6アルケニルオキシカルボニル、ハロC3-C6アルケニルオキシカルボニル、C3-C6アルキニルオキシカルボニル、C1-C6アルキルチオカルボニル、ハロC1-C6アルキルチオカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルチオカルボニル、C1-C6アルキルチオC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルコキシカルボニル、モノ(C1-C6アルキル)アミノカルボニル、モノ(ハロC1-C6アルキル)アミノカルボニル、ジ(C1-C6アルキル)アミノカルボニル、ジ(ハロC1-C6アルキル)アミノカルボニル、フェニルカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC2-C6アルケニルカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルハロC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基-カルボニル(複素環部分はJで置換されていてもよい)、C1-C6アルコキシオキサリル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、シクロC3-C7アルキルスルホニル、フェニルスルホニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)又は複素環基-スルホニル(複素環部分はJで置換されていてもよい)であり；
R3はハロゲン、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシ又はハロC1-C6アルコキシであり；
R4及びR5は各々水素原子、C1-C6アルキル又はハロC1-C6アルキルであり；
Tはハロゲン、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、ハロゲンで置換されたシクロC3-C7アルキル、-OH、C1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルカルボニルオキシ、C1-C6アルキルチオ、ハロC1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、ハロC1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、フェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)又はフェニルC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり；
WはO又はSであり；
Xは-O-Y、-S-Z1、-SO-Z2又は-SO2-Z3であり；
YはAで置換されたC1-C6アルキル、Aで置換されたC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニル、ハロC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルチオカルボニル、ハロC1-C6アルキルチオカルボニル、C3-C6アルケニル、ハロC3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、ハロC3-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又は複素環基(複素環部分はJで置換されていてもよい)であり；
Z1はH、ヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルであり；
Z2はC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、ヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はフェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり；
Z3はヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はフェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり；
Aは-OH、C1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシ、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ、ハロC1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、ハロC1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、モノ(C1-C6アルキル)アミノ、ジ(C1-C6アルキル)アミノ、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、フェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルコキシ(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシ(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基(複素環部分はJで置換されていてもよい)、シアノ又はニトロであり；
Jはハロゲン、C1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C2-C6アルケニル、ハロC2-C6アルケニル、C2-C6アルキニル、ハロC2-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、ハロゲンで置換されたシクロC3-C7アルキル、-OH、C1-C6アルコキシ、ハロC1-C6アルコキシ、C1-C6アルキルチオ、ハロC1-C6アルキルチオ、C1-C6アルキルスルフィニル、ハロC1-C6アルキルスルフィニル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、C1-C6アルキルカルボニル、ハロC1-C6アルキルカルボニル、カルボキシル、C1-C6アルコキシカルボニル、ハロC1-C6アルコキシカルボニル、アミノ、モノ（C1-C6アルキル）アミノ、モノ（ハロC1-C6アルキル）アミノ、ジ（C1-C6アルキル）アミノ、ジ（ハロC1-C6アルキル）アミノ、シアノ又はニトロであり；
mは0〜4の整数であり；
nは0〜5の整数である]で表されるアリールスルホンアミド系化合物又はその塩に関する。
【０００８】
また、本発明は、前記一般式（I）のアリールスルホンアミド系化合物又はその塩を有効成分として含有する除草剤、当該化合物又はその塩の除草有効量を、望ましくない植物又はそれが生育する場所に施用し、望ましくない植物を防除又はその生育を抑制する方法に関する。
【発明の効果】
【０００９】
一般式（I）のアリールスルホンアミド系化合物又はその塩は、類似する従来化合物に比して望ましくない植物（雑草）への著しい除草活性の向上を実現する。また、作物への高い安全性を有する。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
一般式（I）中のハロゲン原子又は置換基としてのハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素又はヨウ素の各原子が挙げられる。置換基としてのハロゲン原子の数は１又は２以上であってよく、２以上の場合、各ハロゲン原子は各々同一でも相異なってもよい。また、ハロゲン原子の置換位置は何れの位置でもよい。
【００１１】
一般式（I）中のアルキル又はアルキル部分としては、例えば、メチル、エチル、ノルマルプロピル、イソプロピル、ノルマルブチル、イソブチル、セカンダリーブチル、ターシャリーブチル、ノルマルペンチル、ネオペンチル、ノルマルヘキシル、ノルマルヘプチル、ノルマルオクチル、ノルマルノニル、ノルマルデシル、ノルマルウンデシル、ノルマルドデシルのような直鎖又は分岐鎖状のC1-C12の基が挙げられる。また、置換基の位置によっては、C1-C6の基であってもよい。
【００１２】
一般式（I）中のアルコキシ又はアルコキシ部分としては、例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ペンチルオキシ、ヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、オクチルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシのような直鎖又は分岐鎖状のC1-C12の基が挙げられる。また、置換基の位置によっては、C1-C6の基であってもよい。
【００１３】
一般式（I）中のアルケニル又はアルケニル部分としては、例えば、ビニル、1-プロペニル、2-プロペニル、イソプロペニル、2-メチル-1-プロペニル、1-メチル-1-プロペニル、2-メチル-2-プロペニル、1-メチル-2-プロペニル、1-ブテニル、2-ブテニル、3-ブテニル、1-ペンテニル、2-ペンテニル、2-メチル-2-ブテニル、3-メチル-2-ブテニル、1-ヘキセニル、2,3-ジメチル-2-ブテニルのような直鎖又は分岐鎖状のC2-C6の基が挙げられる。また、置換基の位置によっては、上記アルケニル又はアルケニル部分は、直鎖又は分岐鎖状のC3-C6の基であってもよい。
【００１４】
一般式（I）中のアルキニル又はアルキニル部分としては、例えば、エチニル、1-プロピニル、2-プロピニル、1-ブチニル、2-ブチニル、3-ブチニル、1-メチル-2-プロピニル、2-メチル-3-ブチニル、1-ヘキシニル、2-ヘキシニル、3-ヘキシニル、4-ヘキシニル、5-ヘキシニルのような直鎖又は分岐鎖状のC2-C6の基が挙げられる。また、置換基の位置によっては、上記アルキニル又はアルキニル部分は、直鎖又は分岐鎖状のC3-C6の基であってもよい。
【００１５】
一般式（I）中のシクロアルキル又はシクロアルキル部分としては、例えば、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチルのようなC3-C7の基が挙げられる。
【００１６】
一般式（I）中のシクロアルキルオキシ部分としては、(シクロアルキル)-O-基を示し、例えば、シクロプロピルオキシ、シクロブチルオキシ、シクロペンチルオキシ、シクロヘキシルオキシ、シクロヘプチルオキシのようなC3-C7の基が挙げられる。
【００１７】
一般式（I）中の「C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル」は、前記のC1-C6アルキル基とカルボニルオキシ基とが結合した「(C1-C6アルキル)-C(=O)-O-(C1-C6アルキル)-基」を示す。一般式（I）中の他の同様の置換基について、表Ａに記載する。
【００１８】
【表１】
2017214292.tif 000003
【００１９】
【表２】
2017214292.tif 000004
【００２０】
一般式（I）中の「Jで置換されていてもよい」とは、Jで置換される場合は、Jが1以上であってもよいことを表す。また、「Aで置換された」とは、Aが1以上であってもよいことを表し、同様に、「C1-C6アルキルで置換された」又は「ハロC1-C6アルキルで置換された」とは、C1-C6アルキル又はハロC1-C6アルキルが1以上であってもよいことを表す。前述の置換基J、A、C1-C6アルキル又はハロC1-C6アルキルの置換数が２以上の場合、各置換基は各々同一でも相異なってもよい。また、各置換基の置換位置は何れの位置でもよい。
【００２１】
一般式（I）中の複素環基とは、O、S又はNを１〜４個含有する３〜６員複素環基、或いはO、S又はNを１〜２個含有する５〜６員複素環とベンゼン環との縮合複素環基を表す。具体例としては、オキソラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、1,3-ジオキソラン-2-イル、1,3-ジオキソラン-4-イル、1,4-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-2-イル、1,3-ジオキサン-4-イル、テトラヒドロチオフェン-2-イル、テトラヒドロチオピラン-2-イル、1,3-ジチアン-2-イル、1,4-ジチアン-2-イル、1,4-チオキサン-2-イル、1,4-チオキサン-3-イル、チエニル、フリル、ピロリル、オキサゾリル、イソオキサゾリル、イソオキサゾリニル、チアゾリル、イソチアゾリル、ピラゾリル、イミダゾリル、1,3,4-オキサジアゾリル、1,2,4-オキサジアゾリル、1,3,4-チアジアゾリル、1,2,4-チアジアゾリル、1,2,4-トリアゾリル、1,2,3-トリアゾリル、1,2,3-チアジアゾリル、1,2,3,4-テトラゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジニル、ピリダジニル、1,3,5-トリアジニル、1,2,4-トリアジニル、ベンゾチエニル、ベンゾフリル、インドリル、ベンゾチアゾリル、ベンゾイミダゾリル、ベンゾイソオキサゾリル、ベンゾイソチアゾリル、インダゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノリル、イソキノリル、キノキサリニル、フタラジニル、シンノリニル、キナゾリニル、イミダゾリニル、イミダゾリジニル、ピラゾリニル、ピラゾリジニルなどが挙げられる。
【００２２】
そして、一般式（I）のアリールスルホンアミド系化合物の塩としては、農業上許容されるものであればあらゆる塩が含まれるが、例えば、ナトリウム塩、カリウム塩のようなアルカリ金属塩；マグネシウム塩、カルシウム塩のようなアルカリ土類金属塩；ジメチルアミン塩、トリエチルアミン塩のようなアミン塩；塩酸塩、過塩素酸塩、硫酸塩、硝酸塩のような無機酸塩；酢酸塩、メタンスルホン酸塩のような有機酸塩などが挙げられる。
【００２３】
一般式（I）のアリールスルホンアミド系化合物には、ジアステレオ異性体や光学異性体のような異性体が存在する場合があるが、本発明には各異性体及び異性体混合物の双方が含まれる。本明細書においては、特に言及しない限り、異性体は混合物として記載する。尚、本発明には、当該技術分野における技術常識の範囲内において、前記異性体以外の各種異性体も含まれる。また、異性体の種類によっては、前記一般式（I）とは異なる化学構造となる場合があるが、当業者であればそれら化学構造が一般式（I）と異性体の関係にあることが十分認識できるため、本発明の範囲内であることは明らかである。
【００２４】
一般式（I）のアリールスルホンアミド又はその塩（以下、本発明化合物と略す）は、以下の製造方法、並びに通常の塩の製造方法、後述する合成例に従って製造することができるが、本発明化合物を得る方法は、これらの方法に限定されるものではない。
・製造方法〔１〕
【００２５】
【化２】
2017214292.tif 000005
【００２６】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、W、X、m及びnは前述の通りであり、R2-aはC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、C3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、C1-C6アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキルカルボニルオキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシカルボニルオキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキルオキシカルボニルオキシC1-C6アルキル、モノ(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル、ジ(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル、(フェニル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、(フェニル)(C1-C6アルキル)アミノカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基-カルボニルオキシC1-C6アルキル(複素環部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシカルボニルオキシC1-C6アルキル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、C1-C12アルキルカルボニル、ハロC1-C12アルキルカルボニル、C2-C6アルケニルカルボニル、シクロC3-C7アルキルカルボニル、シクロC3-C7アルキルC1-C6アルキルカルボニル、C1-C12アルコキシカルボニル、ハロC1-C12アルコキシカルボニル、(シクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、(C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、C3-C6アルケニルオキシカルボニル、ハロC3-C6アルケニルオキシカルボニル、C3-C6アルキニルオキシカルボニル、C1-C6アルキルチオカルボニル、ハロC1-C6アルキルチオカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシカルボニルC1-C6アルキルカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキルチオカルボニル、C1-C6アルキルチオC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルスルフィニルC1-C6アルコキシカルボニル、C1-C6アルキルスルホニルC1-C6アルコキシカルボニル、モノ(C1-C6アルキル)アミノカルボニル、モノ(ハロC1-C6アルキル)アミノカルボニル、ジ(C1-C6アルキル)アミノカルボニル、ジ(ハロC1-C6アルキル)アミノカルボニル、フェニルカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC2-C6アルケニルカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェニルハロC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、フェノキシC1-C6アルコキシカルボニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)、複素環基-カルボニル(複素環部分はJで置換されていてもよい)、C1-C6アルコキシオキサリル、C1-C6アルキルスルホニル、ハロC1-C6アルキルスルホニル、シクロC3-C7アルキルスルホニル、フェニルスルホニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)又は複素環基-スルホニル(複素環部分はJで置換されていてもよい)であり、L1はハロゲン原子、C1-C6アルキルスルホニルオキシ、C1-C6アルキルで置換されてもよいフェニルスルホニルオキシなどの脱離基を示す。）
一般式（I-b）で表される化合物は、一般式（I-a）で表される化合物と一般式L1-R2-aで表される化合物とを反応させて製造することができる。
【００２７】
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルアセトアミド（DMA）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（HMPA）、スルホランのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン（THF）、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル類；メタノール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール類；水；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００２８】
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に行うことができる。塩基としては、有機塩基及び無機塩基の何れでもよい。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（DBU）；ピリジン；4-（ジメチルアミノ）ピリジン；2,6-ルチジン；などが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸カルシウム、炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムのようなアルカリ金属水酸化物；水酸化カルシウム、水酸化バリウムのようなアルカリ土類金属水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類；水素化ナトリウム、水素化カリウムなどのアルカリ金属水素化物；ブチルリチウムなどのアルカリ金属アルキル類；酢酸ナトリウム、酢酸カリウムなどのアルカリ金属カルボン酸塩；などが挙げられる。塩基としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
【００２９】
上記反応は、必要に応じて相間移動触媒の存在下に行うことができる。相間移動触媒としては、例えば、テトラノルマルブチルアンモニウムブロミド、ベンジルトリエチルアンモニウムブロミドのような四級アンモニウム塩；18-クラウン6-エーテル；などが挙げられる。また、上記反応はトリメチルアミン塩酸塩やヨウ化カリウムなどの添加物の存在下に行うことができる。
上記反応の反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常１分間〜４８時間の範囲内で行うことができる。
・製造方法〔２〕
【００３０】
【化３】
2017214292.tif 000006
【００３１】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、X、m及びnは前述の通りである。）
一般式（I-c）で表される化合物は、一般式（II）で表される化合物と一般式（III）で表される化合物とを反応させて製造することができる。一般式（II）の化合物は、例えばJP2011-37746に記載の方法で製造できる。また、一般式（III）の化合物は、例えばTetrahedron, 69, 2319-2326 (2013)、J. Org. Chem., 67, 7869-7871 (2002)、Bulletin of the Chemical Society of Japan, 65, 3064-3067 (1992)、Tetrahedron Asymmetry,14,2587-2594(2003)、Tetrahedron, 58, 3137-3143 (2002)、J. Org. Chem., 57, 5741-5747 (1992)に記載の方法で製造できる。
上記反応は、JP2011-37746や前述の特許文献１に記載の方法（反応条件）に準じて行うことができる。
・製造方法〔３〕
【００３２】
【化４】
2017214292.tif 000007
【００３３】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、X、m及びnは前述の通りであり、R2-bはパラメトキシベンジル（PMB）基、2,4-ジメトキシベンジル基などの保護基である。）
一般式（I-c）で表される化合物は、一般式（I-d）で表される化合物の脱保護反応により製造することができる。
上記反応は、トリフルオロ酢酸を用いて行うことができ、トリエチルシランなどを加えてもよい。また、水素雰囲気下、パラジウム炭素を触媒として水素添加することで脱保護を行うことができる。
【００３４】
トリフルオロ酢酸を用いて行う場合、必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、N,N-ジメチルアセトアミド（DMA）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（HMPA）、スルホランのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン（THF）、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル類；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、１分間〜２００時間の範囲内で行うことができる。
【００３５】
また、水素雰囲気下、パラジウム炭素を触媒として反応させる場合、用いる溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；メタノール、エタノール、イソプロパノールのようなアルコール類；水；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。反応温度は、好ましくは室温、反応時間は、通常、1時間〜４８時間の範囲内で行うことができる。また、必要に応じて加圧条件下で行うこともできる。
・製造方法〔４〕
【００３６】
【化５】
2017214292.tif 000008
【００３７】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、X、m及びnは前述の通りである。）
一般式（I-e）で表される化合物は、一般式（I-c）で表される化合物と硫化剤とを反応させて製造することができる。
上記反応で使用する硫化剤としては、例えば、五硫化リンやローソン試薬などが挙げられる。
また、上記反応は溶媒の存在下で行うことができる。溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；ノルマルヘキサン、ノルマルヘプタンのような炭化水素類；ジエチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン（THF）、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル類；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常、２０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常、１分間〜７２時間の範囲内で行うことができる。
・製造方法〔５〕
【００３８】
【化６】
2017214292.tif 000009
【００３９】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、X、m及びnは前述の通りであり、L2はハロゲン原子である。）
製造方法〔５〕の各工程について、以下に詳述する。
・製造方法〔５−１〕
一般式（IV）→  一般式（I-c）
上記反応は、一般式（IV）で表される化合物のスルホニル化反応であり、必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、前記製造方法〔３〕と同様のものなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００４０】
上記反応は、必要に応じて塩基の存在下に行うことができる。塩基としては、有機塩基及び無機塩基の何れでもよい。有機塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミンのような第三級アミン類；1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（DBU）；ピリジン；4-（ジメチルアミノ）ピリジン；2,6-ルチジン；などが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウムのようなアルカリ金属炭酸水素塩；炭酸カルシウム、炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；ナトリウムヒドリド、カリウムヒドリドなどのアルカリ金属ヒドリド類；などが挙げられる。塩基としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
【００４１】
上記反応の反応温度は、通常、−７０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、望ましくは、−２０℃〜５０℃の範囲内、反応時間は、通常、１分間〜７２時間の範囲内で行うことができる。
上記反応は、必要に応じて不活性ガスの存在下に行うことができる。当該不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、窒素ガスなどが挙げられる。
・製造方法〔５−２〕及び〔５−３〕
一般式（IV）→  一般式（V）→  一般式（I-c）
上記反応は、スルフィニル化反応に続くスルホニルへの酸化反応であり、WO2014/046244に記載の方法に準じて行うことができる。
・製造方法〔６〕
【００４２】
【化７】
2017214292.tif 000010
【００４３】
（式中、R1、R2-b、R3、R4、R5、T、m、n及びL2は前述の通りであり、L3はC1-C6アルキルスルホニルオキシ、C1-C6アルキルで置換されてもよいフェニルスルホニルオキシであり、X1は―Ｏ―Ｒ6又は―Ｓ―Ｒ7であり、R6はAで置換されたC1-C6アルキル、Aで置換されたC1-C6アルキルカルボニル、C3-C6アルケニル、ハロC3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、ハロC3-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又は複素環基(複素環部分はJで置換されていてもよい)であり、R7はC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルキル、ヒドロキシC1-C6アルキル、C1-C6アルコキシC1-C6アルキル、ハロC1-C6アルコキシC1-C6アルキル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル、ハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はフェニル(フェニル部分はJで置換されていてもよい)であり、Mは銀などである。）
製造方法〔６〕の各工程について、以下に詳述する。
・製造方法〔６−１〕
一般式（VI-a）→  一般式（I-f）
一般式（I-f）で表される化合物は、一般式（VI-a）で表される化合物にチオールやその金属塩、又はアルコールやその金属塩を作用させることで製造できる。
【００４４】
上記反応は、対応するチオールと無機塩基により調整したチオラートや対応するアルコールと無機塩基により調整したアルコキシドを作用させることで達成できる。
用いる無機塩基としては、例えば、前記製造方法〔１〕と同様のものなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
上記反応で用いる溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、前記製造方法〔１〕と同様のものなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
上記反応は、必要に応じて相間移動触媒やヨウ化カリウムなどの添加物の存在下に行うことができる。相間移動触媒としては、前記製造方法〔１〕と同様のものなどが挙げられる。
【００４５】
上記反応の反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常、１分間〜４８時間の範囲内で行うことができる。
・製造方法〔６−２〕
一般式（VI-a）→  一般式（VI-b）
上記反応は、Tetrahedron Asymmetry,14,2587-2594(2003)等に記載の方法に準じて行うことができる。
・製造方法〔６−３〕
一般式（VI-b）→  一般式（VI-c）
上記反応は、水酸基をC1-C6アルキルスルホニルオキシ、C1-C6アルキルで置換されてもよいフェニルスルホニルオキシなどの脱離基へと変換する反応であり、例えばメタンスルホニル化又はパラトルエンスルホニル化は、Tetrahedron Lett.,44,7981-7984(2003)、Bull.Chem.Soc.Jpn.,65,3064-3067(1992)、WO2011/146335、US4772597等に記載の方法に準じて行うことができる。
・製造方法〔６−４〕
一般式（VI-a）→  一般式（VI-c）
上記反応は、臭素などのハロゲン原子をC1-C6アルキルスルホニルオキシなどに変換する反応であり、例えば、J. Org. Chem., 78, 1718-1729 (2013)や、European Journal of Organic Chemistry, 1435-1439 (2010)等に記載の方法に準じて行うことができる。
例えば、メタンスルホン酸銀（ＣＡＳ番号２３８６−５２−９）を用いて行う場合、用いる溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、前記製造方法〔１〕と同様のものなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００４６】
上記反応の反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、好ましくは２０℃〜８０℃の範囲内、反応時間は、通常、０．１時間〜４８時間の範囲内で行うことができる。
・製造方法〔６−５〕
一般式（VI-c）→  一般式（I-f）
上記反応は、製造方法〔６−１〕に準じて行うことができる。
・製造方法〔７〕
【００４７】
【化８】
2017214292.tif 000011
【００４８】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、m及びnは前述の通りであり、R2-cは水素原子であるか、パラメトキシベンジル（PMB）基、2,4-ジメトキシベンジル基などの保護基であり、X2は―Ｏ―Ｒ8又は―Ｓ―Ｒ7（Ｒ7は前述の通り）であり、Ｒ8はAで置換されたC1-C6アルキル、C3-C6アルケニル、ハロC3-C6アルケニル、C3-C6アルキニル、ハロC3-C6アルキニル、シクロC3-C7アルキル、C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキル又はハロC1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルである。）
上記反応は、Ｘ2部位に対応するアルコール（HO―Ｒ8）、チオール（HS―Ｒ7）を塩基と共にα，β−不飽和カルボニル化合物（VI-d）と反応させることにより行われる。
【００４９】
上記反応は、必要に応じて溶媒を用いてもよく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルアセトアミド（DMA）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（HMPA）、スルホランのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン（THF）、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル類；ターシャリーブタノール、イソプロパノールのようなアルコール類；水；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００５０】
上記反応で用いる塩基としては、有機塩基及び無機塩基の何れでもよい。有機塩基としては、例えば、1,8-ジアザビシクロ[5.4.0]-7-ウンデセン（DBU）；フォスファゼン塩基などが挙げられる。無機塩基としては、例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸セシウムのようなアルカリ金属炭酸塩；炭酸カルシウム、炭酸バリウムのようなアルカリ土類金属炭酸塩；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムターシャリーブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド類；ナトリウムヒドリド、カリウムヒドリドなどのアルカリ金属ヒドリド類；などが挙げられる。塩基としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
【００５１】
上記反応の反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常、１分間〜４８時間の範囲内で行うことができる。
・製造方法〔８〕
【００５２】
【化９】
2017214292.tif 000012
【００５３】
（式中、R1、R2、R3、R4、R5、T、Y、m及びnは前述の通りである。）
上記反応は、水酸基の保護（例えばテトラヒドロピラニル（THP）基、メトキシメチル（MOM）基やアセチル（Ac）基）に用いられる条件、例えば、GREEN'S PROTECTIVE GROUPS in Organic Synthesis；4th Edition（John Wiley and Sons、2007年、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene）に記載の方法により行うことができる。
・製造方法〔９〕
【００５４】
【化１０】
2017214292.tif 000013
【００５５】
（式中、R1、R2、R3、R4、R5、R7、T、X、Z2、Z3、m及びnは前述の通りである。）
上記反応は硫黄の酸化反応であり、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類中で、一般式（I-i）で表される化合物とメタクロロ過安息香酸等の酸化剤とを反応させることにより行われる。上記反応は、例えばJ.Org.Chem.,57,5741-5747(1992)、Org. Lett.,11,4386-4389(2009)等に記載の方法に準じて行うことができる。
・製造方法〔１０〕
【００５６】
【化１１】
2017214292.tif 000014
【００５７】
（式中、R1、R3、R4、R5、T、X、L1、L2、m及びnは前述の通りであり、R2-dはC1-C12アルコキシカルボニル、ハロC1-C12アルコキシカルボニル、(シクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、(C1-C6アルキルで置換されたシクロC3-C7アルキルオキシ)カルボニル、C3-C6アルケニルオキシカルボニル、ハロC3-C6アルケニルオキシカルボニル、C3-C6アルキニルオキシカルボニルである。）
上記反応は、一般式（IV）で表される化合物から一般式（IV-a）で表される化合物を製造し、当該一般式（IV-a）の化合物をスルホニル化することにより行われる。
【００５８】
上記反応は、例えばJP2011-195490に記載の方法に準じて行うことができる。
次に、本発明で用いる中間体化合物（以下単に中間体と略す）の製造方法を以下に示す。
・中間体製造方法〔Ａ〕
【００５９】
【化１２】
2017214292.tif 000015
【００６０】
（式中、R1、R2-b、R3、R4、R5、T、L1、L2、m及びnは前述の通りであり、R9はC1-C12アルキルである。）
中間体製造方法〔Ａ〕の各工程について、以下に詳述する。
・中間体製造方法〔Ａ−１〕
一般式（VII）→  一般式（VIII）
上記反応は、一般式（VII）で表されるアミン化合物と、R2-b部位に対応するアルデヒド（例えば4-メトキシベンズアルデヒドや2,4-ジメトキシベンズアルデヒド）との還元的アミノ化により達成できる。当該反応は、例えば、J. Org. Chem.,61,3849-3862(1996)に記載の方法に準じて行うことができる。
【００６１】
・中間体製造方法〔Ａ−２〕
一般式（VIII）→  一般式（IX）
上記反応は、前記製造方法〔５−１〕に準じて行うことができる。
【００６２】
・中間体製造方法〔Ａ−３〕
一般式（IX）→  一般式（X）
上記反応で使用する還元剤としては、例えば、水素化リチウムアルミニウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス（2-メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、ボランTHF錯体などが挙げられる。
【００６３】
上記反応で使用する溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；ジエチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン（THF）、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル類；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００６４】
上記反応の反応温度は、通常、−７０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常、１分間〜７２時間の範囲内で行うことができる。
上記反応は、必要に応じて不活性ガスの存在下に行うことができる。当該不活性ガスとしては、例えば、アルゴンガス、窒素ガスなどが挙げられる。
【００６５】
・中間体製造方法〔Ａ−４〕
一般式（X）→  一般式（XI）
上記反応は、水酸基をハロゲン原子、C1-C6アルキルスルホニルオキシ、C1-C6アルキルで置換されてもよいフェニルスルホニルオキシなどの脱離基へと変換する反応である。
【００６６】
ハロゲン化反応は、例えば、N-クロロスクシンイミド（NCS）−トリフェニルホスフィン（PPh3）、四塩化炭素−PPh3、四臭化炭素−PPh3、ヨウ素−イミダゾール−PPh3などの組み合わせにより行うことができる。また、スルホニル化反応は、メタンスルホニルクロリド、p-トルエンスルホニルクロリドなどの塩化スルホニルと、前記製造方法〔１〕に例示した有機塩基と共に行うことができる。
【００６７】
上記反応で使用する溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、前記製造方法〔３〕と同様のものなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
上記反応の反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常、１分間〜７２時間の範囲内で行うことができる。
【００６８】
・中間体製造方法〔Ａ−５〕
一般式（XI）→  一般式（VI-f）
上記反応は、中間体（XI）と、市販されている、或いは公知の方法に準じて合成できる中間体（III-a）との反応により製造することができる。
【００６９】
上記反応は、必要に応じて溶媒の存在下に行うことができる。溶媒としては、反応に不活性であれば特に制限はなく、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタン、トリクロロエタン、四塩化炭素のようなハロゲン化炭化水素類；ベンゼン、トルエン、キシレン、ニトロベンゼン、クロロベンゼンのような芳香族炭化水素類；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピルのようなエステル類；アセトニトリル、N,N-ジメチルホルムアミド（DMF）、ジメチルスルホキシド（DMSO）、ジメチルアセトアミド（DMA）、ヘキサメチルリン酸トリアミド（HMPA）、スルホランのような非プロトン性極性溶媒；ジエチルエーテル、ターシャリーブチルメチルエーテル、1,4-ジオキサン、テトラヒドロフラン（THF）、1,2-ジメトキシエタンのようなエーテル類；などが挙げられる。溶媒としては、これらの１種又は２種以上を適宜選択することができる。
【００７０】
上記反応で用いる塩基としては、有機塩基及び無機塩基の何れでもよく、前記製造方法〔１〕と同様のものなどが挙げられ、これらの１種又は２種以上を適宜選択、混合して使用することができる。
上記反応は、必要に応じて相間移動触媒の存在下に行うことができる。相間移動触媒としては、例えば、前記製造方法〔１〕と同様のものなどが挙げられる。また、上記反応はヨウ化カリウムなどの添加物の存在下に行うことができる。
上記反応の反応温度は、通常、０℃から使用する溶媒の沸点までの範囲内、反応時間は、通常、１０分間〜４８時間の範囲内で行うことができる。
【００７１】
・中間体製造方法〔Ａ−６〕
一般式（VI-f）→  一般式（VI-g）
上記反応は、例えば、塩化メチレン、クロロホルム、ジクロロエタンのようなハロゲン化炭化水素類中で、トリエチルアミンのような第三級アミン類とトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルを反応させた後、トリメチルフェニルアンモニウムトリブロミドのような臭素化剤を作用させることで達成できる。
上記反応の反応温度は、通常、−２０℃〜室温の範囲内、反応時間は、通常、１分間〜４８時間の範囲内で行うことができる。
・中間体製造方法〔Ｂ〕
【００７２】
【化１３】
2017214292.tif 000016
【００７３】
（式中、R3、R4、R5、T、X、L1、L2、m及びnは前述の通りであり、R10はtert-ブチルジメチルシリル基やtert-ブチルジフェニルシリル基などの保護基である。）
中間体製造方法〔Ｂ〕の各工程について、以下に詳述する。
【００７４】
・中間体製造方法〔Ｂ−１〕
一般式（XII）→  一般式（XII-f）
上記反応は、市販の、又は公知の方法で合成できる中間体（XII）とChem. Comm.,3732-3734(2006)、Org. Lett., 13, 4938-4941 (2011)、J. Am. Chem. Soc., 122, 408-409 (2000)、Synthesis, 44, 3688-3692 (2012)、WO2013/185082などに記載の方法に準じて合成できる中間体（III-b）との反応であり、中間体製造方法〔Ａ−５〕に準じて行うことができる。
【００７５】
・中間体製造方法〔Ｂ−２〕
一般式（XII-f）→  一般式（XII-g）
上記反応は、シリルエーテル系保護基の脱保護であり、例えば、GREEN'S PROTECTIVE GROUPS in Organic Synthesis；4th Edition（John Wiley and Sons、2007年、Peter G. M. Wuts, Theodora W. Greene）に記載の方法により行うことができる。
【００７６】
・中間体製造方法〔Ｂ−３〕
一般式（XII-g）→  一般式（XII-h）
上記反応は、水酸基をハロゲン原子やC1-C6アルキルスルホニルオキシ、C1-C6アルキルで置換されてもよいフェニルスルホニルオキシなどの脱離基へと変換する反応であり、中間体製造方法〔Ａ−４〕に準じて行うことができる。
【００７７】
・中間体製造方法〔Ｂ−４〕
一般式（XII-h）→  一般式（XII-a）
上記反応は、製造方法〔６−１〕に準じて行うことができる。
【００７８】
・中間体製造方法〔Ｂ−５〕
一般式（XII）→  一般式（XII-a）
上記反応は、中間体製造方法〔Ａ−５〕に準じて行うことができる。
【００７９】
・中間体製造方法〔Ｂ−６〕
一般式（XII-a）→  一般式（IV）
上記反応は、ハロゲン化アリールのアミノ化反応であり、銅触媒やパラジウム触媒を用いて、アンモニアやアンモニア等価体と反応させることで達成できる。例えば、Chem. Comm., 3035-3037 (2009)、Org. Lett., 3, 3417-3419 (2001)に記載の方法に準じて行えば良い。
【００８０】
・中間体製造方法〔Ｂ−７〕
一般式（XII-g）→  一般式（XII-a）
上記反応は、Xが「―Ｏ―Ｙ」のとき、製造方法〔８〕に準じて行うことができる。
・中間体製造方法〔Ｃ〕
【００８１】
【化１４】
2017214292.tif 000017
【００８２】
（式中、R3、R4、R5、T、X、L1、L2、m及びnは前述の通りである。）
中間体製造方法〔Ｃ〕の各工程について、以下に詳述する。
【００８３】
・中間体製造方法〔Ｃ−１〕
一般式（XII）→  一般式（XII-b）
上記反応は、中間体製造方法〔Ａ−５〕に準じて行うことができる。
【００８４】
・中間体製造方法〔Ｃ−２〕
一般式（XII-b）→  一般式（XII-c）
上記反応は、中間体製造方法〔Ａ−６〕に準じて行うことができる。
【００８５】
・中間体製造方法〔Ｃ−３〕
一般式（XII-c）→  一般式（XII-d）
上記反応は、製造方法〔６−４〕に準じて行うことができる。
【００８６】
・中間体製造方法〔Ｃ−４〕
一般式（XII-c）又は一般式（XII-d）→  一般式（XII-e）
上記反応は、製造方法〔６−１〕に準じて行うことができる。
【００８７】
・中間体製造方法〔Ｃ−５〕
一般式（XII-e）→  一般式（IV-a）
上記反応は、中間体製造方法〔Ｂ−６〕に準じて行うことができる。
【００８８】
尚、本発明化合物を製造するにあたって用いる中間体の製造方法は、上記例示の製造方法に限定されるものではなく、如何なる製造方法を採用してもよい。また、各出発物質も、上記例示の化合物に限定されるものではなく、本発明化合物を製造することができる化合物であれば、如何なる化合物を使用してもよい。
【００８９】
本発明化合物は、一年生雑草や多年生雑草などの広範囲の望ましくない植物を防除することができる。具体的には、例えばイヌビエ又はタイヌビエ(barnyardgrass (Echinochloa crus-galli L.、Echinochloa oryzicola vasing.))、メヒシバ(crabgrass (Digitaria sanguinalis L.、Digitaria ischaemum Muhl. 、Digitaria adscendens Henr. 、Digitaria microbachne Henr. 、Digitaria horizontalis Willd.))、エノコログサ(green foxtail (Setaria viridis L.))、アキノエノコログサ(giant foxtail (Setaria faberiHerrm.))、キンエノコロ (yellow foxtail (Setaria lutescens Hubb.))、オヒシバ(goosegrass (Eleusine indica L.))、カラスムギ(wild oat (Avena fatua L.))、セイバンモロコシ(johnsongrass (Sorghum halepense L.))、シバムギ(quackgrass (Agropyron repens L.))、ビロードキビ(alexandergrass (Brachiaria plantaginea))、ギネアキビ（guineagrass (Panicum maximum Jacq.)）、パラグラス(paragrass (Panicum purpurascens))、オオクサキビ（smooth witchgrass (Panicum dichotomiflorum)、アゼガヤ(sprangletop (Leptochloa chinensis))、イトアゼガヤ(red sprangletop (Leptochloa panicea))、スズメノカタビラ(annual bluegrass (Poa annua L.))、スズメノテッポウ(black grass (Alopecurus myosuroides Huds.))、カモジグサ(cholorado bluestem (Agropyron tsukushiense (Honda) Ohwi))、メリケンニクキビ(broadleaf signalgrass(Brachiaria platyphylla Nash))、シンクリノイガ(southern sandbur (Cenchrus echinatus L.))、ネズミムギ(italian ryegrass (Lolium multiflorum Lam.))、ギョウギシバ(bermudagrass (Cynodon dactylon Pers.))のようなイネ科雑草(gramineae)；コゴメガヤツリ(rice flatsedge (Cyperus iria L.))、ハマスゲ(purple nutsedge (Cyperus rotundus L.))、キハマスゲ(yellow nutsedge (Cyperus esculentus L.))、ホタルイ(Japanese bulrush (Scirpus juncoides))、ミズガヤツリ(flatsedge (Cyperus serotinus))、タマガヤツリ(small-flower umbrellaplant (Cyperus difformis))、マツバイ(slender spikerush (Eleocharis acicularis))、クログワイ(water chestnut (Eleocharis kuroguwai))のようなカヤツリグサ科雑草(cyperaceae)；ウリカワ(Japanese ribbon waparo (Sagittaria pygmaea))、オモダカ(arrow-head (Sagittaria trifolia))、ヘラオモダカ(narrowleaf waterplantain (Alisma canaliculatum))のようなオモダカ科雑草(alismataceae)；コナギ(monochoria (Monochoria vaginalis))、ミズアオイ(monochoria species (Monochoria korsakowii))のようなミズアオイ科雑草(pontederiaceae)；アゼナ(false pimpernel (Lindernia pyxidaria))のようなアゼトウガラシ科雑草、アブノメ(abunome (Dopatrium junceum))のようなオオバコ科雑草(plantaginaceae)；キカシグサ(toothcup (Rotala india))、ヒメミソハギ(red stem (Ammannia multiflora))のようなミソハギ科雑草(lythraceae)；ミゾハコベ(long stem waterwort(Elatine triandra SCHK.))のようなミゾハコベ科雑草(elatinaceae)；イチビ(velvetleaf (Abutilon theophrastiMEDIC.))、アメリカキンゴジカ(prickly sida (Sida spinosaL.))のようなアオイ科雑草(malvaceae)；オナモミ(common cocklebur (Xanthium strumarium L.))、ブタクサ(common ragweed (Ambrosia elatior L.))、エゾノキツネアザミ(thistle (Breea setosa (BIEB.) KITAM.))、ハキダメギク(hairy galinsoga(Galinsoga ciliata Blake))、カミツレ(wild chamomile(Matricaria chamomilla L.))、ホトケノザ(henbit (Lamium amplexicaule L.))、セイヨウタンポポ（common dandelion (Taraxacum officinale weber)）、ヒメムカシヨモギ（horseweed (Erigeron Canadensis L.)）のようなキク科雑草(compositae)；イヌホウズキ(black nightshade (Solanum nigrum L.))、シロバナチョウセンアサガオ(jimsonweed (Datura stramonium))のようなナス科雑草(solanaceae)；アオビユ(slender amaranth (Amaranthus viridis L.))、アオゲイトウ(redroot pigweed (Amaranthus retroflexus L.))、シロザ(common lambsquarters (Chenopodium album L.))、ホウ��ギ(mexican burningbush(Kochia scoparia Schrad.))のようなヒユ科雑草(amaranthaceae)；サナエタデ(pale smartweed (Polygonum lapathifolium L.))、ハルタデ（ladysthumb (Polygonum persicaria L.)）、ソバカズラ(wild buckwheat(Polygonum convolvulus L.)) 、ミチヤナギ(knotweed(Polygonum aviculare L.))のようなタデ科雑草（polygonaceeae）；タネツケバナ(flexuous bittercress (Cardamine flexuosa WITH.))、ナズナ（shepherd's-purse(Capsella bursapastoris Medik.)）、セイヨウカラシナ(indian mustard(Brassica juncea Czern.))のようなアブラナ科雑草（cruciferae）；マルバアサガオ(tall morningglory (Ipomoea purpurea L.))、セイヨウヒルガオ(field bindweed (Convolvulus arvensis L.))、アメリカアサガオ（ivyleaf morningglory (Ipomoea hederacea Jacq.)）のようなヒルガオ科雑草(convolvulaceae)；スベリヒユ(common purslane (Portulaca oleracea L.))のようなスベリヒユ科雑草（Portulacaceae）；エビスグサ(sicklepod (Cassia obtusifolia L.))のようなマメ科雑草（fabaceae）；ハコベ(common chickweed (Stellariamedia L.))のようなナデシコ科雑草（caryophyllaceae）；ヤエムグラ(catchweed (Galium spurium L.))のようなアカネ科雑草（rubiaceae）；エノキグサ(threeseeded copperleaf (Acalypha australis L.))のようなトウダイグサ科雑草（euphorbiaceae）；ツユクサ（common dayflower (Commelina communis L.)）のようなツユクサ科雑草（Commelinaceae）などの各種有害雑草を防除することができる。よって、有用作物、例えばトウモロコシ(corn (Zea mays L.))、ダイズ(soybean (Glycine max Merr.))、ワタ (cotton (Gossypiumspp.))、コムギ(wheat (Triticum spp.))、イネ(rice (Oryza sativa L.))、オオムギ(barley (Hordeum Vulgare L.))、ライムギ(rye (Secalecereale L.))、エンバク(oat (Avena sativaL.))、ソルガム(sorgo (Sorghum bicolor Moench))、アブラナ(rape (Brassica napus L.))、ヒマワリ(sunflower (Helianthus annuus L.))、テンサイ(suger beet (Beta Vulgaris L.))、サトウキビ(suger cane (Saccharum officinarum L.))、芝(japanese lawngrass (Zoysia japonica stend))、ピーナッツ(peanut (Arachis hypogaea L.))、アマ(flax (Linum usitatissimum L.))、タバコ(tobacco (Nicotiana tabacum L.))、コーヒー(coffee (Coffea spp.))などの栽培において、選択的に有害雑草を防除する場合或いは非選択的に有害雑草を防除する場合において有効に使用される。
【００９０】
本発明化合物は、通常、各種農業上の補助剤と混合して粉剤、粒剤、顆粒水和剤、水和剤、錠剤、丸剤、カプセル剤（水溶性フィルムで包装する形態を含む）、水性懸濁剤、油性懸濁剤、マイクロエマルジョン製剤、サスポエマルジョン製剤、水溶剤、乳剤、液剤、ペースト剤などの種々の形態に製剤調製し、施用することができるが、本発明の目的に適合する限り、通常の当該分野で用いられているあらゆる製剤形態にすることができる。
【００９１】
製剤に使用する補助剤としては、珪藻土、消石灰、炭酸カルシウム、タルク、ホワイトカーボン、カオリン、ベントナイト、カオリナイト及びセリサイトの混合物、クレー、炭酸ナトリウム、重曹、芒硝、ゼオライト、澱粉などの固形担体；水、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、ジオキサン、アセトン、イソホロン、メチルイソブチルケトン、クロロベンゼン、シクロヘキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N-メチル-2-ピロリドン、アルコールなどの溶剤；脂肪酸塩、安息香酸塩、アルキルスルホコハク酸塩、ジアルキルスルホコハク酸塩、ポリカルボン酸塩、アルキル硫酸エステル塩、アルキル硫酸塩、アルキルアリール硫酸塩、アルキルジグリコールエーテル硫酸塩、アルコール硫酸エステル塩、アルキルスルホン酸塩、アルキルアリールスルホン酸塩、アリールスルホン酸塩、リグニンスルホン酸塩、アルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩、ポリスチレンスルホン酸塩、アルキルリン酸エステル塩、アルキルアリールリン酸塩、スチリルアリールリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル硫酸エステル塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルアリールリン酸エステル塩、ポリオキシエチレンアリールエーテルリン酸エステル塩、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物、アルキルナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物のような陰イオン系の界面活性剤や展着剤；ソルビタン脂肪酸エステル、グリセリン脂肪酸エステル、脂肪酸ポリグリセライド、脂肪酸アルコールポリグリコールエーテル、アセチレングリコール、アセチレンアルコール、オキシアルキレンブロックポリマー、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレンスチリルアリールエーテル、ポリオキシエチレングリコールアルキルエーテル、ポリエチレングリコール、ポリオキシエチレン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレングリセリン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン硬化ヒマシ油、ポリオキシプロピレン脂肪酸エステルのような非イオン系の界面活性剤や展着剤；オリーブ油、カポック油、ひまし油、シュロ油、椿油、ヤシ油、ごま油、トウモロコシ油、米ぬか油、落花生油、綿実油、大豆油、菜種油、亜麻仁油、きり油、液状パラフィンなどの植物油や鉱物油などが挙げられる。これら補助剤は本発明の目的から逸脱しない限り、１種又は２種以上を適宜選択して使用することができ、また、例えば、増量剤、増粘剤、沈降防止剤、凍結防止剤、分散安定剤、薬害軽減剤、防黴剤、発泡剤、崩壊剤、結合剤など、通常使用される各種補助剤も使用することができる。本発明化合物と各種補助剤との配合割合は、通常、0.1：99.9〜95：5、望ましくは0.2：99.8〜85：15である。尚、本発明化合物と各種補助剤との配合方法は、特に検定されるものではなく、公知の方法に準じて適宜配合することができる。
【００９２】
本発明化合物を含有する除草剤の施用量（除草有効量）は、気象条件、土壌条件、製剤形態、対象となる望ましくない植物の種類、施用時期などの相違により一概に規定できないが、一般に１ヘクタール当り本発明化合物が0.1〜5,000ｇ、望ましくは0.5〜3,000ｇ、更に望ましくは1〜1,000ｇとなるように施用する。本発明には、このような除草剤の施用による望ましくない植物の防除方法も含まれる。
【００９３】
また、本発明化合物を含有する除草剤は、他の農薬、肥料、薬害軽減剤などと混用或いは併用することができ、この場合に一層優れた効果、作用性を示すことがある。他の農薬としては、除草剤、殺菌剤、抗生物質、植物ホルモン、殺虫剤などが挙げられる。特に、本発明化合物と、他の除草剤の有効成分である化合物の１種又は２種以上とを混用或いは併用した混合除草性組成物は、適用草種の範囲、薬剤処理の時期、除草活性などを好ましい方向へ改良することが可能である。尚、本発明化合物と他の除草剤の有効成分である化合物は、各々別々に製剤したものを散布時に混合して使用してもよく、両者を一緒に製剤して使用してもよい。本発明には、上記混合除草性組成物も含まれる。
【００９４】
本発明化合物と他の除草剤の有効成分である化合物との混合比は、気象条件、土壌条件、薬剤の製剤形態、施用時期、施用方法などの相違により一概に規定できないが、本発明化合物１重量部に対し、他の除草剤は有効成分である化合物を１種あたり0.001〜10,000重量部、望ましくは0.01〜1,000重量部配合する。また、施用適量は１ヘクタール当りの有効成分の総化合物量として0.1〜10,000ｇ、望ましくは0.2〜5,000ｇ、更に望ましくは10〜3,000ｇである。本発明には、このような混合除草組成物の施用による望ましくない植物の防除方法も含まれる。
【００９５】
他の除草剤の有効成分である化合物としては、下記化合物（一般名；一部ＩＳＯ申請中を含む）を例示することができるが、特に記載がない場合であっても、これら化合物に塩、アルキルエステルなどが存在する場合は、当然それらも含まれる。
【００９６】
（１）２，４−Ｄ、２，４−Ｄブトチル（2,4-D-butotyl）、２，４−Ｄブチル（2,4-D-butyl）、２，４−Ｄジメチルアンモニウム（2,4-D-dimethylammonimum）、２，４−Ｄジオールアミン（2,4-D-diolamine）、２，４−Ｄエチル（2,4-D-ethyl）、２，４−Ｄ−２−エチルヘキシル（2,4-D-2-ethylhexyl）、２，４−Ｄイソブチル（2,4-D-isobutyl）、２，４−Ｄイソオクチル（2,4-D-isoctyl）、２，４−Ｄイソプロピル（2,4-D-isopropyl）、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム（2,4-D-isopropylammonium）、２，４−Ｄナトリウム（2,4-D-sodium）、２，４−Ｄイソプロパノールアンモニウム（2,4-D-isopropanolammonium）、２，４−Ｄトロールアミン（2,4-D-trolamine）、２，４−ＤＢ、２，４−ＤＢブチル（2,4-DB-butyl）、２，４−ＤＢジメチルアンモニウム（2,4-DB-dimethylammonium）、２，４−ＤＢイソオクチル（2,4-DB-isoctyl）、２，４−ＤＢカリウム（2,4-DB-potassium）、２，４−ＤＢナトリウム（2,4-DB-sodium）、２，４−Ｄコリン塩（2,4-D choline salt）、ジクロロプロップ（dichlorprop）、ジクロロプロップブトチル（dichlorprop-butotyl）、ジクロロプロップジメチルアンモニウム（dichlorprop-dimethylammonium）、ジクロロプロップイソオクチル（dichlorprop-isoctyl）、ジクロロプロップカリウム（dichlorprop-potassium）、ジクロロプロップ−Ｐ（dichlorprop-P）、ジクロロプロップ−Ｐジメチルアンモニウム（dichlorprop-P-dimethylammonium）、ジクロロプロップ−Ｐカリウム（dichlorprop-P-potassium）、ジクロロプロップ−Ｐナトリウム（dichlorprop-P-sodium）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡブトチル（MCPA-butotyl）、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム（MCPA-dimethylammonium）、ＭＣＰＡ−２−エチルヘキシル（MCPA-2-ethylhexyl）、ＭＣＰＡカリウム（MCPA-potassium）、ＭＣＰＡナトリウム（MCPA-sodium）、ＭＣＰＡチオエチル（MCPA-thioethyl）、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル（MCPB-ethyl）、ＭＣＰＢナトリウム（MCPB-sodium）、メコプロップ（mecoprop）、メコプロップブトチル（mecoprop-butotyl）、メコプロップナトリウム（mecoprop-sodium）、メコプロップ−Ｐ（mecoprop-P）、メコプロップ−Ｐブトチル（mecoprop-P-butotyl）、メコプロップ−Ｐジメチルアンモニウム（mecoprop-P-dimethylammonium）、メコプロップ−Ｐ−２−エチルヘキシル（mecoprop-P-2-ethylhexyl）、メコプロップ−Ｐカリウム（mecoprop-P-potassium）、ナプロアニリド（naproanilide）、クロメプロップ（clomeprop）、HIA-1のようなフェノキシ系化合物；２，３，６−ＴＢＡ、ジカンバ（dicamba）、ジカンバブトチル（dicamba-butotyl）、ジカンバジグリコールアミン（dicamba-diglycolamine）、ジカンバジメチルアンモニウム（dicamba-dimethylammonium）、ジカンバジオールアミン（dicamba-diolamine）、ジカンバイソプロピルアンモニウム（dicamba-isopropylammonium）、ジカンバカリウム（dicamba-potassium）、ジカンバナトリウム（dicamba-sodium）、ピクロラム（picloram）、ピクロラムジメチルアンモニウム（picloram-dimethylammonium）、ピクロラムイソオクチル（picloram-isoctyl）、ピクロラムカリウム（picloram-potassium）、ピクロラムトリイソプロパノールアンモニウム（picloram-triisopropanolammonium）、ピクロラムトリイソプロピルアンモニウム（picloram-triisopropylammonium）、ピクロラムトロールアミン（picloram-trolamine）、トリクロピル（triclopyr）、トリクロピルブトチル（triclopyr-butotyl）、トリクロピルトリエチルアンモニウム（triclopyr-triethylammonium）、クロピラリド（clopyralid）、クロ��ラリドオールアミン（clopyralid-olamine）、クロピラリドカリウム（clopyralid-potassium）、クロピラリドトリイソプロパノールアンモニウム（clopyralid-triisopropanolammonium）、アミノピラリド（aminopyralid）、アミノシクロピラクロール（aminocyclopyrachlor）、ハロウキシフェン（halauxifen）、ハロウキシフェンメチル（halauxifen-methyl）、DAS-534のような芳香族カルボン酸系化合物；その他、ナプタラム（naptalam）、ナプタラムナトリウム（naptalam-sodium）、ベナゾリン（benazolin）、ベナゾリンエチル（benazolin-ethyl）、キンクロラック（quinclorac）、キンメラック（quinmerac）、ダイフルフェンゾピル（diflufenzopyr）、ダイフルフェンゾピルナトリウム（diflufenzopyr-sodium）、フルオキシピル（fluroxypyr）、フルオキシピル−２−ブトキシ−１−メチルエチル（fluroxypyr-2-butoxy-1-methylethyl）、フルオキシピルメプチル（fluroxypyr-meptyl）、クロロフルレノール（chlorflurenol）、クロロフルレノールメチル（chlorflurenol-methyl）、クラシフォス（clacyfos）などのように植物のホルモン作用を攪乱することで除草効力を示すとされている化合物。
【００９７】
（２）クロロトルロン（chlorotoluron）、ジウロン（diuron）、フルオメツロン（fluometuron）、リニュロン（linuron）、イソプロチュロン（isoproturon）、メトベンズロン（metobenzuron）、テブチウロン（tebuthiuron）、ジメフロン（dimefuron）、イソウロン（isouron）、カルブチレート（karbutilate）、メタベンズチアズロン（methabenzthiazuron）、メトクスロン（metoxuron）、メトブロムロン（metoburomuron）、モノリニュロン（monolinuron）、ネブロン（neburon）、シデュロン（siduron）、ターブメトン（terbumeton）、トリエタジン（trietazine）のような尿素系化合物；シマジン（simazine）、アトラジン（atrazine）、アトラトン（atratone）、シメトリン（simetryn）、プロメトリン（prometryn）、ジメタメトリン（dimethametryn）、ヘキサジノン（hexazinone）、メトリブジン（metribuzin）、ターブチラジン（terbuthylazine）、シアナジン（cyanazine）、アメトリン（ametryn）、シブトリン（cybutryne）、ターブトリン(terbutryn)、プロパジン（propazine）、メタミトロン（metamitron）、プロメトン（prometon）のようなトリアジン系化合物；ブロマシル（bromacil）、ブロマシルリチウム（bromacyl-lithium）、レナシル（lenacil）、ターバシル（terbacil）のようなウラシル系化合物；プロパニル（propanil）、シプロミッド（cypromid）のようなアニリド系化合物；スエップ（swep）、デスメディファム（desmedipham）、フェンメディファム（phenmedipham）のようなカーバメート系化合物；ブロモキシニル（bromoxynil）、ブロモキシニルオクタノエート（bromoxynil-octanoate）、ブロモキシニルヘプタノエート（bromoxynil-heptanoate）、アイオキシニル（ioxynil）、アイオキシニルオクタノエート（ioxynil-octanoate）、アイオキシニルカリウム（ioxynil-potassium）、アイオキシニルナトリウム（ioxynil-sodium）のようなヒドロキシベンゾニトリル系化合物；その他、ピリデート（pyridate）、ベンタゾン（bentazone）、ベンタゾンナトリウム（bentazone-sodium）、アミカルバゾン（amicarbazone）、メタゾール（methazole）、ペンタノクロール（pentanochlor）、フェンメディファム(phenmedipham)などのように植物の光合成を阻害することで除草効力を示すとされている化合物。
【００９８】
（３）それ自身が植物体中でフリーラジカルとなり、活性酸素を生成させて速効的な除草効力を示すとされているパラコート（paraquat）、ジクワット（diquat）のような４級アンモニウム塩系化合物。
【００９９】
（４）ニトロフェン（nitrofen）、クロメトキシフェン（chlomethoxyfen）、ビフェノックス（bifenox）、アシフルオルフェン（acifluorfen）、アシフルオルフェンナトリウム（acifluorfen-sodium）、ホメサフェン（fomesafen）、ホメサフェンナトリウム（fomesafen-sodium）、オキシフルオルフェン（oxyfluorfen）、ラクトフェン（lactofen）、アクロニフェン（aclonifen）、エトキシフェンエチル（ethoxyfen-ethyl）、フルオログリコフェンエチル（fluoroglycofen-ethyl）、フルオログリコフェン（fluoroglycofen）のようなジフェニルエーテル系化合物；クロルフタリム（chlorphthalim）、フルミオキサジン（flumioxazin）、フルミクロラック（flumiclorac）、フルミクロラックペンチル（flumiclorac-pentyl）、シニドンエチル（cinidon-ethyl）、フルチアセットメチル（fluthiacet-methyl）、EK-5385のような環状イミド系化合物；その他、オキサジアルギル（oxadiargyl）、オキサジアゾン（oxadiazon）、スルフェントラゾン（sulfentrazone）、カルフェントラゾンエチル（carfentrazone-ethyl）、チジアジミン（thidiazimin）、ペントキサゾン（pentoxazone）、アザフェニジン（azafenidin）、イソプロパゾール（isopropazole）、ピラフルフェンエチル（pyraflufen-ethyl）、ベンズフェンジゾン（benzfendizone）、ブタフェナシル（butafenacil）、サフルフェナシル（saflufenacil）、フルアゾレート（fluazolate）、プロフルアゾール（profluazol）、フルフェンピルエチル（flufenpyr-ethyl）、ベンカルバゾン（bencarbazone）、チアフェナシル(tiafenacil)、ピラクロニル(pyrachlonil)、トリフルジモキサジン（trifludimoxazin）、HNPC-B4047、IR-6396、EK-5439、EK-5498、SYN-523、WO2008/008763（FMC）に記載の化合物などのように植物のクロロフィル生合成を阻害し、光増感過酸化物質を植物体中に異常蓄積させることで除草効力を示すとされている化合物。
【０１００】
（５）ノルフルラゾン（norflurazon）、クロリダゾン（chloridazon）、メトフルラゾン（metflurazon）のようなピリダジノン系化合物；ピラゾリネート（pyrazolynate）、ピラゾキシフェン（pyrazoxyfen）、ベンゾフェナップ（benzofenap）、トプラメゾン（topramezone）、ピラスルフォトール（pyrasulfotole）、トルピラレート（tolpyralate）のようなピラゾール系化合物；その他、アミトロール（amitrole）、フルリドン（fluridone）、フルルタモン（flurtamone）、ジフルフェニカン（diflufenican）、メトキシフェノン（methoxyphenone）、クロマゾン（clomazone）、スルコトリオン（sulcotrione）、メソトリオン（mesotrione）、テンボトリオン（tembotrione）、テフリルトリオン（tefuryltrione）、フェンキノトリオン(fenquinotrione)、シクロピリモレート（cyclopyrimorate）、イソキサフルトール（isoxaflutole）、ジフェンゾコート（difenzoquat）、ジフェンゾコートメチルサルフェート（difenzoquat-metilsulfate）、イソキサクロロトール（isoxachlortole）、ベンゾビシクロン（benzobicyclon）、ビシクロピロン（bicyclopyron）、ピコリナフェン（picolinafen）、ビフルブタミド（beflubutamid）、ケトスピラドックス（ketospiradox）、ケトスピラドックスカリウム（ketospiradox-potassium）、JP2012/2571（住友化学）記載化合物などのようにカロチノイドなどの植物の色素生合成を阻害し、白化作用を特徴とする除草効力を示すとされている化合物。
【０１０１】
（６）ジクロホップメチル（diclofop-methyl）、ジクロホップ（diclofop）、ピリフェノップナトリウム（pyriphenop-sodium）、フルアジホップブチル（fluazifop-butyl）、フルアジホップ（fluazifop）、フルアジホップ-Ｐ（fluazifop-P）、フルアジホップ−Ｐ−ブチル（fluazifop-P-butyl）、ハロキシホップメチル（haloxyfop-methyl）、ハロキシホップ（haloxyfop）、ハロキシホップエトチル（haloxyfop-etotyl）、ハロキシホップ−Ｐ（haloxyfop-P）、ハロキシホップ−Ｐ−メチル（haloxyfop-P-methyl）、キザロホップエチル（quizalofop-ethyl）、キザロホップ−Ｐ（quizalofop-P）、キザロホップ−Ｐ−エチル（quizalofop-P-ethyl）、キザロホップ−Ｐ−テフリル（quizalofop-P-tefuryl）、シハロホップブチル（cyhalofop-butyl）、フェノキサプロップエチル（fenoxaprop-ethyl）、フェノキサプロップ−Ｐ（fenoxaprop-P）、フェノキサプロップ−Ｐ−エチル（fenoxaprop-P-ethyl）、メタミホッププロピル（metamifop-propyl）、メタミホップ（metamifop）、クロジナホッププロパルギル（clodinafop-propargyl）、クロジナホップ（clodinafop）、プロパキザホップ（propaquizafop）、HNPC-A8169、SYP-1924のようなアリールオキシフェノキシプロピオン酸系化合物；アロキシジムナトリウム（alloxydim-sodium）、アロキシジム（alloxydim）、クレソジム（clethodim）、セトキシジム（sethoxydim）、トラルコキシジム（tralkoxydim）、ブトロキシジム（butroxydim）、テプラロキシジム（tepraloxydim）、プロホキシジム（profoxydim）、シクロキシジム（cycloxydim）のようなシクロヘキサンジオン系化合物；ピノキサデン（pinoxaden）のようなフェニルピラゾリン系化合物;などのように脂肪酸の生合成を阻害し、植物に除草効力を示すとされている化合物。
【０１０２】
（７）クロリムロンエチル（chlorimuron-ethyl）、クロリムロン（chlorimuron）、スルホメツロンメチル（sulfometuron-methyl）、スルホメツロン（sulfometuron）、プリミスルフロンメチル（primisulfuron-methyl）、プリミスルフロン（primisulfuron）、ベンスルフロンメチル（bensulfuron-methyl）、ベンスルフロン（bensulfuron）、クロルスルフロン（chlorsulfuron）、メトスルフロンメチル（metsulfuron-methyl）、メトスルフロン（metsulfuron）、シノスルフロン（cinosulfuron）、ピラゾスルフロンエチル（pyrazosulfuron-ethyl）、ピラゾスルフロン（pyrazosulfuron）、フラザスルフロン（flazasulfuron）、リムスルフロン（rimsulfuron）、ニコスルフロン（nicosulfuron）、イマゾスルフロン（imazosulfuron）、フルセトスルフロン（flucetosulfuron）、シクロスルファムロン（cyclosulfamuron）、プロスルフロン（prosulfuron）、フルピルスルフロンメチルナトリウム（flupyrsulfuron-methyl-sodium）、フルピルスルフロン（flupyrsulfuron）、トリフルスルフロンメチル（triflusulfuron-methyl）、トリフルスルフロン（triflusulfuron）、ハロスルフロンメチル（halosulfuron-methyl）、ハロスルフロン（halosulfuron）、チフェンスルフロンメチル（thifensulfuron-methyl）、チフェンスルフロン（thifensulfuron）、エトキシスルフロン（ethoxysulfuron）、オキサスルフロン（oxasulfuron）、エタメトスルフロン（ethametsulfuron）、エタメトスルフロンメチル（ethametsulfuron-methyl）、イオドスルフロン（iodosulfuron）、イオドスルフロンメチルナトリウム（iodosulfuron-methyl-sodium）、スルフォスルフロン（sulfosulfuron）、トリアスルフロン（triasulfuron）、トリベヌロンメチル（tribenuron-methyl）、トリベヌロン（tribenuron）、トリトスルフロン（tritosulfuron）、フォーラムスルフロン（foramsulfuron）、トリフルオキシスルフロン（trifloxysulfuron）、トリフルオキシスルフロンナトリウム（trifloxysulfuron-sodium）、メソスルフロンメチル（mesosulfuron-methyl）、メソスルフロン（mesosulfuron）、オルソスルファムロン（orthosulfamuron）、アミドスルフロン（amidosulfuron）、アジムスルフロン（azimsulfuron）、プロピリスルフロン（propyrisulfuron）、メタゾスルフロン(metazosulfuron)、メチオピルスルフロン(methiopyrsulfuron)、モノスルフロンメチル(monosulfuron-methyl)、オルソスルフロン(orsosulfuron)、イオフェンスルフロン（iofensulfuron）、イオフェンスルフロンナトリウム（iofensulfuron-sodium）のようなスルフォニルウレア化合物；フルメツラム（flumetsulam）、メトスラム（metosulam）、ジクロスラム（diclosulam）、クロランスラムメチル（cloransulam-methyl）、フロラスラム（florasulam）、ペノクススラム(penoxsulam)、ピロクススラム（pyroxsulam）のようなトリアゾロピリミジンスルホンアミド系化合物；イマザピル（imazapyr）、イマザピルイソプロピルアンモニウム（imazapyr-isopropylammonium）、イマゼタピル（imazethapyr）、イマゼタピルアンモニウム（imazethapyr-ammonium）、イマザキン（imazaquin）、イマザキンアンモニウム（imazaquin-ammonium）、イマザモックス（imazamox）、イマザモックスアンモニウム（imazamox-ammonium）、イマザメタベンズ（imazamethabenz）、イマザメタベンズメチル（imazamethabenz-methyl）、イマザピック（imazapic）のようなイミダゾリノン系化合物；ピリチオバックナトリウム（pyrithiobac-sodium）、ビスピリバックナトリウム（bispyribac-sodium）、ピリミノバックメチル（pyriminobac-methyl）、ピリベンゾキシム（pyribenzoxim）、ピリフタリド（pyriftalid）、ピリミスルファン（pyrimisulfan）、トリアファモン（triafamone）のようなピリミジニルサリチル酸系化合物；フルカーバゾン（flucarbazone）、フルカーバゾンナトリウム（flucarbazone-sodium）、プロポキシカーバゾンナトリウム（propoxycarbazone-sodium）、プロポキシカーバゾン（propoxycarbazone）、チエンカルバゾンメチル(thiencarbazone-methyl)のようなスルホニルアミノカルボニルトリアゾリノン系化合物；その他、グリホサート（glyphosate）、グリホサートナトリウム（glyphosate-sodium）、グリホサートカリウム（glyphosate-potassium）、グリホサートアンモニウム（glyphosate-ammonium）、グリホサートジアンモニウム（glyphosate-diammonium）、グリホサートイソプロピルアンモニウム（glyphosate-isopropylammonium）、グリホサートトリメシウム（glyphosate-trimesium）、グリホサートセスキナトリウム（glyphosate-sesquisodium）、グルホシネート（glufosinate）、グルホシネートアンモニウム（glufosinate-ammonium）、グルホシネート-Ｐ（glufosinate-Ｐ）、グルホシネート-Ｐアンモニウム（glufosinate-Ｐ-ammonium）、グルホシネート-Ｐナトリウム（glufosinate-Ｐ-sodium）、ビラナホス（bilanafos）、ビラナホスナトリウム（bilanafos-sodium）、シンメチリン（cinmethylin）などのように植物のアミノ酸生合成を阻害することで除草効力を示すとされている化合物。
【０１０３】
（８）トリフルラリン（trifluralin）、オリザリン（oryzalin）、ニトラリン（nitralin）、ペンディメタリン（pendimethalin）、エタルフルラリン（ethalfluralin）、ベンフルラリン（benfluralin）、プロジアミン（prodiamine）、ブトラリン（butralin）、ジニトラミン（dinitramine）のようなジニトロアニリン系化合物；ベンスリド（bensulide）、ナプロパミド（napropamide）、ナプロパミド-M（napropamide-M）、プロピザミド（propyzamide）、プロナミド（pronamide）のようなアミド系化合物；アミプロホスメチル（amiprofos-methyl）、ブタミホス（butamifos）、アニロホス（anilofos）、ピペロホス（piperophos）のような有機リン系化合物；プロファム（propham）、クロルプロファム（chlorpropham）、バーバン（barban）、カルベタミド（carbetamide）のようなフェニルカーバメート系化合物；ダイムロン（daimuron）、クミルロン（cumyluron）、ブロモブチド（bromobutide）、メチルダイムロン（methyldymron）のようなクミルアミン系化合物；その他、アシュラム（asulam）、アシュラムナトリウム（asulam-sodium）、ジチオピル（dithiopyr）、チアゾピル（thiazopyr）、クロルタールジメチル（chlorthal-dimethyl）、クロルタール（chlorthal）、ジフェナミド（diphenamid）、フラムプロップ−Ｍ−メチル（flamprop-M-methyl）、フラムプロップ−Ｍ（flamprop-M）、フラムプロップ−Ｍ−イソプロピル（flamprop-M-isopropyl）などのように植物の細胞有糸分裂を阻害することで除草効力を示すとされている化合物。
【０１０４】
（９）アラクロール（alachlor）、メタザクロール（metazachlor）、ブタクロール（butachlor）、プレチラクロール（pretilachlor）、メトラクロール（metolachlor）、Ｓ−メトラクロール（S-metolachlor）、テニルクロール（thenylchlor）、ペトキサマイド（pethoxamid）、アセトクロール（acetochlor）、プロパクロール（propachlor）、ジメテナミド（dimethenamide）、ジメテナミド−Ｐ（dimethenamide−Ｐ）、プロピソクロール（propisochlor）、ジメタクロール（dimethachlor）のようなクロロアセトアミド系化合物；モリネート（molinate）、ジメピペレート（dimepiperate）、ピリブチカルブ（pyributicarb）、ＥＰＴＣ、ブチレート（butylate）、ベルノレート（vernolate）、ペブレート（pebulate）、シクロエート（cycloate）、プロスルホカルブ（prosulfocarb）、エスプロカルブ（esprocarb）、チオベンカルブ（thiobencarb）、ジアレート（diallate）、トリアレート（tri-allate）、オルベンカルブ（orbencarb）のようなチオカーバメート系化合物；その他、エトベンザニド（etobenzanid）、メフェナセット（mefenacet）、フルフェナセット（flufenacet）、トリディファン（tridiphane）、カフェンストロール（cafenstrole）、フェントラザミド（fentrazamide）、オキサジクロメフォン（oxaziclomefone）、インダノファン（indanofan）、ベンフレセート（benfuresate）、ピロキサスルフォン（pyroxasulfone）、フェノキサスルフォン（fenoxasulfone）、メチオゾリン（methiozolin）、ダラポン（dalapon）、ダラポンナトリウム（dalapon-sodium）、ＴＣＡナトリウム（TCA-sodium）、トリクロロ酢酸（trichloroacetic acid）などのように植物のタンパク質生合成あるいは脂質生合成を阻害することで除草効力を示すとされている化合物。
【０１０５】
（１０）ジクロベニル（dichlobenil）、トリアジフラム（triaziflam）、インダジフラム（indaziflam）、フルポキサム（flupoxam）、イソキサベン（isoxaben）などのように植物のセルロース生合成を阻害することで除草効力を示すとされている化合物。
【０１０６】
（１１）ＭＳＭＡ、ＤＳＭＡ、ＣＭＡ、エンドタール（endothall）、エンドタールジカリウム（endothall-dipotassium）、エンドタールナトリウム（endothall-sodium）、エンドタールモノ（Ｎ，Ｎ−ジメチルアルキルアンモニウム）（endothall-mono(N,N-dimethylalkylammonium)）、エトフメセート（ethofumesate）、ソディウムクロレート（sodium chlorate）、ペラルゴン酸（pelargonic acid）、ノナン酸（nonanoic acid）、ホスアミン（fosamine）、ホスアミンアンモニウム（fosamine-ammonium）、イプフェンカルバゾン（ipfencarbazone）、アクロレイン（aclolein）、スルファミン酸アンモニウム（ammonium sulfamate）、ボラックス（borax）、クロロ酢酸（chloroacetic acid）、クロロ酢酸ナトリウム（sodium chloroacete）、シアナミド（cyanamide）、メチルアルソン酸（methylarsonic acid）、ジメチルアルソン酸（dimethylarsinic acid）、ジメチルアルソン酸ナトリウム（sodium dimethylarsinate）、ジノターブ（dinoterb）、ジノターブアンモニウム（dinoterb-ammonium）、ジノターブジオールアミン（dinoterb-diolamine）、ジノターブアセテート（dinoterb-acetate）、ＤＮＯＣ、硫酸第一鉄（ferrous sulfate）、フルプロパネート（flupropanate）、フルプロパネートナトリウム（flupropanate-sodium）、メフルイジド（mefluidide）、メフルイジドジオールアミン（mefluidide-diolamine）、メタム（metam）、メタムアンモニウム（metam-ammonium）、メタムカリウム（metam-potassium）、メタムナトリウム（metam-sodium）、イソチオシアン酸メチル（methyl isothiocyanate）、ペンタクロロフェノール（pentachlorophenol）、ペンタクロロフェノールナトリウム（sodium pentachlorophenoxide）、ペンタクロロフェノールラウレート（pentachlorophenol laurate）、キノクラミン（quinoclamine）、硫酸（sulfuric acid）、ウレアサルフェート（urea sulfate）、ザンチノシン（xanthinosin）、ハービマイシン（herbimycin）、アングイノール（unguinol）、メタチロシン（metatyrosine）、サルメンチン（sarmentine）、タキシトミンA（thaxtominA）、メバロシジン（mevalocidin）、α-リモネン（alpha-limonene）、ピリバムベンズプロピル（pyribambenz-propyl）、ピリバムベンズイソプロピル（pyribambenz-isopropyl）、JS-913、KHG-23844、H-9201、SIOC-0163、SIOC-0171、SIOC-0172、SIOC-0285、SIOC-0426、SIOC-H-057、ZJ-0166、ZJ-1835、ZJ-0453、ZJ-0777、ZJ-0862、WO2008/096398（クミアイ化学）記載の化合物などのその他の除草剤。
【０１０７】
（１２）ザントモナス  キャンペストリス（Xanthomonas campestris）、エピココロシルス  ネマトソルス（Epicoccosirus nematosorus）、エピココロシルス  ネマトスペラス（Epicoccosirus nematosperus）、エキセロヒラム  モノセラス（Exserohilum monoseras）、ドレクスレラ  モノセラス（Drechsrela monoceras）などのように植物に寄生することで除草効力を示すとされているもの。
【０１０８】
他の除草剤の有効成分である上記化合物は、１種又は２種以上を適宜選択することができる。尚、他の除草剤の有効成分は、上記例示の化合物に限定されるものではない。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例に従って本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例のみに限定されて解釈されるものではない。まず、本発明化合物の合成例を記載する。
【０１１０】
・合成例１
N-{2-[(3-シクロブトキシ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（化合物No.1-110 THO-  ）の合成
（１）2-アミノ安息香酸メチル（10.0 g）をクロロホルム（80 mL）に溶解させ、窒素雰囲気下、室温でナトリウムトリアセトキシボロヒドリド（80 wt%, 17.5 g）、4-メトキシベンズアルデヒド（9.01 g）及び酢酸（3.79 mL）を加えて１時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、水層をクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ溶媒を減圧下留去し、メチル 2-[(4-メトキシベンジル)アミノ]ベンゾエート（17.4 g）を無色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 9.08 (brs, 1H), 7.92 (d, 1H), 7.26-7.33 (m, 3H), 8.87 (d, 2H), 6.57-6.66 (m, 2H), 4.37 (d, 2H), 3.86 (s, 3H), 3.80 (s, 3H).
【０１１１】
（２）メチル 2-[(4-メトキシベンジル)アミノ]ベンゾエート（17.4 g）及びジイソプロピルアミン（16.8 ml）をクロロホルム（100 ml）に溶解させ、窒素雰囲気下、トリフルオロメタンスルホン酸無水物（12.5 ml）を0℃で滴下した。この溶液を室温まで昇温しながら、さらに１7時間攪拌した。反応溶液を水で洗浄し、水層をクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2）で精製しメチル2-{[1,1,1,-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メチル]スルホンアミド}ベンゾエート (19.3 g）を褐色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 7.99 (d, 1H), 7.35-7.45 (m, 2H), 7.02 (d, 2H), 6.75-6.83 (m, 3H), 4.94 (dd, 2H), 3.92 (s, 3H), 3.77 (s, 3H).
【０１１２】
（３）メチル 2-{[1,1,1,-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メチル]スルホンアミド}ベンゾエート（19.3 g）をTHF（15 ml）に溶解させ、窒素雰囲気下、予め氷冷した水素化リチウムアルミニウム（4.04 g）とTHF（85 ml）の懸濁液に5分かけて滴下した。室温にて1時間撹拌後、氷冷下で水を加え反応を停止させ、しばらく攪拌した。不溶物をセライトによって除去後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝6：1）で精製し1,1,1-トリフルオロ-N-[2-(ヒドロキシメチル)フェニル]-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（13.8 g）を褐色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 7.21-7.58 (m, 3H), 6.97-7.07 (m, 3H), 6.73-6.89 (m, 2H), 5.02 (d, 1H), 4.76 (d, 1H), 4.23-4.37 (m, 2H), 3.77 (s, 3H).
【０１１３】
（４）1,1,1-トリフルオロ-N-[2-(ヒドロキシメチル)フェニル]-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（13.8 g）をクロロホルム（70 ml）に溶解させ、四臭化炭素（14.6 g）とトリフェニルホスフィン（11.6 g）を室温で加えた。室温にて１時間撹拌後、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2）で精製し、N-[2-(ブロモメチル)フェニル]- 1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（14.22 g）を無色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 7.58 (d, 1H), 7.38 (t, 1H), 7.25-7.26 (m, 1H), 6.97-7.06 (m, 3H), 6.78 (d, 2H), 4.89 (dd, 2H), 4.31 (dd, 2H), 3.78 (s, 3H).
【０１１４】
（５）N-[2-(ブロモメチル)フェニル]- 1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（14.0 g）、2−ピペリドン（4.75 g）及びヨウ化カリウム（5.30 g）をDMF（70 ml）に溶解させ、この混合溶液を撹拌しながら、そこに水素化ナトリウム（60 wt%, 1.92 g）を室温で加えた。２時間撹拌後、水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝5：5〜3：7）で精製し、1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)-N-{2-[(2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}メタンスルホンアミド（12.7 g）を無色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 7.26-7.34 (m, 2H), 7.01-7.18 (m, 4H), 6.78 (d, 2H), 4.11-5.07 (m, 4H) , 3.77 (s, 3H), 2.68-2.74 (m, 2H), 2.44-2.46 (m, 2H), 1.61-1.79 (m, 4H).
【０１１５】
（６）1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)-N-{2-[(2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}メタンスルホンアミド（8.50 g）をクロロホルム（100 ml）に溶解させ、窒素雰囲気下、トリエチルアミン（5.19 ml）及びトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリルエステル（5.71 ml）を0℃で滴下した。１時間撹拌後、フェニルトリメチルアンモニウムトリブロミド（8.40 g）を４回に分け添加した。反応溶液を水、チオ硫酸ナトリウム水溶液で洗浄し、水層をクロロホルムで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥させ溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝6：4）で精製し、N-{2-[(3-ブロモ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド (8.54 g）を無色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 7.13-7.41 (m, 4H), 6.994-7.06 (m, 2H), 6.76-6.81 (m, 2H), 4.53-5.15 (m, 4H), 3.76 (s, 3H), 2.24-3.00 (m, 1H), 1.22-2.26 (m, 4H).
【０１１６】
（７）N-{2-[(3-ブロモ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（1.50 g）、メタンスルホン酸銀（1.14 g）をアセトニトリル（50 ml）に溶解させ、還流条件下で２時間撹拌した。水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、2-オキソ-1-(2-{[1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メチル]スルホンアミド}ベンジル)ピペリジン-3-イル メタンスルホネート（1.50 g）を無色オイルとして得た。
1H-NMR (300 MHz, CDCl3, δppm)： 7.26-7.36 (m, 3H), 7.00-7.02 (m, 3H), 6.76 (d, 2H), 4.96-5.13 (m, 2H) , 4.49-4.68 (m, 2H), 3.76-3.87 (m, 1H), 3.73 (s, 3H), 3.24 (s, 3H), 2.43-2.64 (m, 2H), 2.05-2.20 (m, 2H), 1.62-1.80 (m, 2H).
【０１１７】
（８）水素化ナトリウム（60 wt%, 52.3 mg）とDMF（5 ml）の懸濁溶液にシクロブタノール（0.10 ml）を０℃下で滴下し、２分攪拌した。そこに2-オキソ-1-(2-{[1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メチル]スルホンアミド}ベンジル)ピペリジン-3-イル メタンスルホネート（240 mg）をDMF（5 ml）に溶解させ滴下し、室温で６時間攪拌した。１N塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2〜2：8）で精製し、目的物（180 mg）を無色オイルとして得た。
【０１１８】
・合成例２
N-{2-[(3-シクロブトキシ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物No.1-2 THO-374）の合成
メチル N-{2-[(3-シクロブトキシ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（150 mg）をエタノール（5 ml）に溶解させ、パラジウム炭素（Pd 10 wt%, 15.0 mg）とエタノール（5 ml）の懸濁液に滴下した。容器内を水素で置換し、室温で３時間撹拌後、不溶物をセライトによって除去後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2〜2：8）で精製し、目的物（101 mg）を無色オイルとして得た。
【０１１９】
・合成例３
メチル {2-[(3-シクロブトキシ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}[(トリフルオロメチル)スルホニル]カーバメート（化合物No.1-3 THO-408）の合成
N-{2-[(3-シクロブトキシ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロメタンスルホンアミド（75.0 mg）をTHF（10 ml）に溶解させ、ピリジン（0.04 ml）とクロロギ酸メチル（0.04 ml）を加えて、室温で３時間攪拌した。1 N塩酸水溶液を加え反応を停止させた後、水層を酢酸エチルで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄した後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2〜2：8）で精製し、目的物（78.3 mg）を淡黄色オイルとして得た。
【０１２０】
・合成例４
N-[2-({3-[2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エトキシ]-2-オキソピペリジン-1-イル}メチル)フェニル]-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（化合物No.1-111 THO-    ）の合成
水素化ナトリウム（60 wt%, 82.8 mg）とDMF（5 ml）の懸濁溶液に2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エタノール（245 mg）を０℃で滴下し、２分間攪拌した。そこに2-オキソ-1-(2-{[1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メチル]スルホンアミド}ベンジル)ピペリジン-3-イル メタンスルホネート（380 mg）をDMF（5 ml）に溶解させ滴下し、室温で５時間攪拌した。１N塩酸を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2〜2：8）で精製し、目的物（294 mg）を無色オイルとして得た。
【０１２１】
・合成例５
メチル N-[2-({3-[2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エトキシ]-2-オキソピペリジン-1-イル}メチル)フェニル]-1,1,1-トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物No.1-70 THO-414）の合成
N-[2-({3-[2-(1,3-ジオキソラン-2-イル)エトキシ]-2-オキソピペリジン-1-イル}メチル)フェニル]-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（294 mg）をエタノール（5 ml）に溶解させ、パラジウム炭素（Pd 10 wt%, 28.0 mg）とエタノール（5 ml）の懸濁液に滴下した。容器内を水素で置換し、室温にて１７時間撹拌後、不溶物をセライトによって除去後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2〜2：8）で精製し、目的物（219 mg）を無色オイルとして得た。
【０１２２】
・合成例６
N-(2-{[3-(シクロペンチルチオ)-2-オキソピペリジン-1-イル]メチル}フェニル)-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（化合物No.1-112 THO-    ）の合成
水素化ナトリウム（60 wt%, 16.1 mg）とTHF（5 ml）の懸濁溶液にシクロペンタンチオール（68.7 mg）を０℃で滴下し、２分間攪拌した。そこにN-{2-[(3-ブロモ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（300 mg）をTHF（5 ml）に溶解させ滴下し、室温で４時間攪拌した。水を加えて反応を停止させ、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝8：2〜2：8）で精製し、目的物（230 mg）を淡黄色オイルとして得た。
【０１２３】
・合成例７
メチル N-{2-[(3-(シクロペンチルチオ)-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物No.1-36 THO-362）の合成
N-(2-{[3-(シクロペンチルチオ)-2-オキソピペリジン-1-イル]メチル}フェニル)-1,1,1-トリフルオロ-N-(4-メトキシベンジル)メタンスルホンアミド（230 mg）にトリエチルシラン（0.10 mL）、トリフルオロ酢酸（15.0 mL）を加え、８０℃に加熱し７時間攪拌した。溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝4：6〜3：7）で精製し、目的物（110 mg）を黄色オイルとして得た。
【０１２４】
・合成例８
N-{2-[(3-シクロブトキシ-2-オキソピペリジン-1-イル)メチル]フェニル}-1,1,1-トリフルオロメタンスルホンアミド（化合物No.1-2  THO-374）の合成（その２）
【０１２５】
（１）2-ヨードベンジルブロミド（10.0 g）、2-ピペリドン（5.30 g）及びヨウ化カリウム（0.680 g）をDMF (100 ml)に溶解させ、そこに攪拌しながら室温で水素化ナトリウム（60 w%, 1.62 g）を加えた。窒素雰囲気下、室温で２１時間攪拌した後、飽和塩化アンモニウム水溶液を加え反応を停止させた。混合物を酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄、無水硫酸ナトリウムで乾燥後、溶媒を減圧下留去し、得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝７：３〜３：７）で精製し、1-(2-ヨードベンジル)ピペリジン-2-オン（9.30 g）を黄色オイルとして得た。
1H-NMR (500 MHz, acetone-d6, δppm)： 7.86-7.88 (m, 1H), 7.36-7.39 (m, 1H), 7.16-7.17 (m, 1H), 7.01-7.02 (m, 1H), 4.54 (s, 2H), 3.27-3.29 (m, 2H), 2.36-2.38 (m, 2H), 1.83-1.88 (m, 4H).
【０１２６】
（２）1-(2-ヨードベンジル)ピペリジン-2-オン（10.1 g）とトリエチルアミン（9.00 ml）をクロロホルム（150 ml）溶解し、窒素雰囲気下、攪拌しながら氷浴で冷却した。そこへトリフルオロメタンスルホン酸トリメチルシリル（8.70 ml）をゆっくりと滴下した。約０℃で１時間攪拌後、トリメチルフェニルアンモニウムトリブロミド（18.1 g）を少しずつ加えた。氷浴を取り除き、窒素雰囲気下、室温で２４時間攪拌した後、水を加えて反応を停止させた。水層をクロロホルムで抽出し、合わせた有機層を亜硫酸ナトリウム水溶液と飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝７：３）で精製し、3-ブロモ-1-(2-ヨードベンジル)ピペリジン-2-オン（6.97 g）を褐色オイルとして得た。
1H-NMR (500 MHz, acetone-d6, δppm)： 7.88-7.90 (m, 1H), 7.38-7.41 (m, 1H), 7.20-7.22 (m, 1H), 7.03-7.06 (m, 1H), 4.76 (d, 1H), 4.72 (m, 1H), 4.34 (d, 1H), 3.36-3.49 (m, 2H), 2.43-2.51 (m, 1H), 2.20-2.30 (m, 2H), 1.88-1.94 (m, 1H).
【０１２７】
（３）3-ブロモ-1-(2-ヨードベンジル)ピペリジン-2-オン（6.97 g）とメタンスルホン酸銀（5.40 g）をアセトニトリル（73 ml）中で混合し、窒素雰囲気下、加熱還流させながら４時間攪拌した。室温まで冷却後、生じた沈殿物を濾過により除去し、濾液を濃縮した。残渣に２規定塩酸水溶液を加えて酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、減圧下溶媒を留去することで、粗製の1-(2-ヨードベンジル)-2-オキソピペリジン-3-イル メタンスルホナート（7.05 g）を淡褐色オイルとして得た。
1H-NMR (500 MHz, acetone-d6, δppm)： 7.89-7.91 (m, 1H), 7.39-7.42 (m, 1H), 7.23-7.25 (m, 1H), 7.04-7.07 (m, 1H), 5.13 (dd, 1H), 4.65 (d, 1H), 4.53 (d, 1H), 3.31-3.44 (m, 2H), 3.24 (s, 3H), 2.30-2.36 (m, 1H), 2.12-2.19 (m, 1H), 1.98-2.08 (m, 2H).
【０１２８】
（４）前記工程（３）で得た粗製の1-(2-ヨードベンジル)-2-オキソピペリジン-3-イル メタンスルホナート（7.05 g）をＤＭＦ（50 ml）に溶解させ、シクロブタノール（1.00 g）を加えた。そこへ攪拌しながら水素化ナトリウム（60 wt%、1.00 g）を少しずつ加えた。窒素雰囲気下、室温で２時間攪拌後、２規定塩酸水溶液を加え反応を停止させた。酢酸エチルで抽出し、有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝10：0〜７：３）で精製し、3-シクロブトキシ-1-(2-ヨードベンジル)ピペリジン-2-オン（4.96 g）を淡褐色オイルとして得た。
1H-NMR (500 MHz, acetone-d6, δppm)： 7.86-7.88 (m, 1H), 7.36-7.39 (m, 1H), 7.15-7.17 (m, 1H), 7.01-7.04 (m, 1H), 4.58 (d, 1H), 4.46 (d, 1H), 4.37 (m, 1H), 3.81 (dd, 1H), 3.23-3.31 (m, 2H), 2.13-2.25 (m, 2H), 1.74-2.06 (m, 6H), 1.58-1.64 (m, 1H), 1.39-1.48 (m, 1H).
【０１２９】
（５）3-シクロブトキシ-1-(2-ヨードベンジル)ピペリジン-2-オン（1.77 g）、２８％アンモニア水溶液（12 ml）、酸化銅（I）（215 mg）及び1-メチル-2-ピロリドン（8 ml）をオートクレーブに仕込み、６時間攪拌しながら１４０℃の油浴で加熱した。室温まで冷却後、反応溶液を水に注ぎ、酢酸エチルで抽出した。有機層を２規定塩酸水溶液で洗浄後、酸性の水層を２規定水酸化ナトリウム水溶液で塩基性にし、酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝７：３〜５：５）で精製し、1-(2-アミノベンジル)-3-シクロブトキシピペリジン-2-オン（263 mg）を淡褐色オイルとして得た。
1H-NMR (500 MHz, acetone-d6, δppm)： 6.98-7.04 (m, 2H), 6.64-6.66 (m, 1H), 6.49-6.52 (m, 1H), 5.08 (brs, NH2), 4.47 (d, 1H), 4.38 (d, 1H), 4.35 (m, 1H), 3.75 (dd, 1H), 3.14-3.26 (m, 2H), 2.12-2.24 (m, 2H), 1.77-1.93 (m, 5H), 1.57-1.71 (m, 2H), 1.39-1.48 (m, 1H).
（６）1-(2-アミノベンジル)-3-シクロブトキシピペリジン-2-オン（453 mg）とN,N-ジイソプロピルエチルアミン（0.45 ml）をクロロホルム（10 ml）に溶解させ、窒素雰囲気下、攪拌しながら０℃に冷却した。そこに無水トルフルオロメタンスルホン酸（0.40 ml）を滴下した。滴下後、室温で１７時間攪拌した。２規定塩酸水溶液を加えて反応を停止させ、水層をクロロホルムで抽出した。有機層を合わせて飽和食塩水で洗浄後、無水硫酸ナトリウムで乾燥し、溶媒を減圧下留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー（ヘプタン：酢酸エチル＝８：２〜７：３）で精製し、目的物（315 mg）を淡褐色オイルとして得た。
【０１３０】
次に、本発明化合物の代表例を第１表から第４表に挙げる。これらの化合物は、前記合成例或いは前記種々の製造方法に基づいて合成することができる。第１表から第４表中、No.は化合物No.を、Meはメチル基を、Etはエチル基を、n-Prはノルマルプロピル基を、i-Prはイソプロピル基を、n-Buはノルマルブチル基を、i-Buはイソブチル基を、t-Buはターシャリーブチル基を、c-Prはシクロプロピル基を、c-Buはシクロブチル基を、c-Peはシクロペンチル基を、Phはフェニル基を各々示す。また、表中、「c-Pr（1-CF3）」は１位にトリフルオロメチル基が置換したシクロプロピルを、「c-Pr（1-Me）」は１位にメチル基が置換したシクロプロピルを、「Ph（4-OMe）」は4位にメトキシが置換したフェニル基を示し、他の同様の記載もこれらに準じる。また、表中の他の略号は、以下のものを示す。
【０１３１】
2017214292.tif 000018
【０１３２】
また、第１表から第４表に挙げた化合物の1H-NMRスペクトルデータを第５表に挙げる。
【０１３３】
【表３】
2017214292.tif 000019
【０１３４】
【表４】
2017214292.tif 000020
【０１３５】
【表５】
2017214292.tif 000021
【０１３６】
【表６】
2017214292.tif 000022
【０１３７】
【表７】
2017214292.tif 000023
【０１３８】
【表８】
2017214292.tif 000024
【０１３９】
【表９】
2017214292.tif 000025
【０１４０】
【表１０】
2017214292.tif 000026
【０１４１】
【表１１】
2017214292.tif 000027
【０１４２】
【表１２】
2017214292.tif 000028
【０１４３】
【表１３】
2017214292.tif 000029
【０１４４】
【表１４】
2017214292.tif 000030
【０１４５】
【表１５】
2017214292.tif 000031
【０１４６】
【表１６】
2017214292.tif 000032
【０１４７】
【表１７】
2017214292.tif 000033
【０１４８】
次に、本発明の試験例を記載する。
・試験例1
1／170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物の種子を播種した。その後、植物が一定の葉令（（１）イヌビエ(barnyardgrass (Echinochloa crus-galli L.))；0.5〜3.5葉期、（２）メヒシバ(crabgrass (Digitaria sanguinalis L.))；1.5〜3.0葉期、（３）エノコログサ(green foxtail (Setariaviridis L.))；1.0〜3.5葉期、（４）アオゲイトウ(redroot pigweed (Amaranthus retroflexus L.))；0.2〜2.0葉期、（５）アメリカキンゴジカ(prickly sida (Sida spinosa L.))；子葉〜1.5葉期、（６）イチビ(velvetleaf (Abutilon theophrastiMEDIC.))；0.5〜2.5葉期、（７）イネ(rice (Oryza sativa L.))；1.0〜2.5葉期、（８）トウモロコシ(corn (Zea maysL.))；2.0〜3.5葉期、（９）コムギ(wheat (Triticum spp.))；2.0〜3.5葉期、（10）ワタ(cotton (Gossypium spp.))；初生葉〜1.0葉期、（11）ダイズ(soybean (Glycine maxMerr.))；初生葉〜1.0葉期）に達したとき、本発明に係る化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定の有効成分量となるように秤量し、1ヘクタール当り500リットル相当の水（農業用展着剤（クサリノー：日本農薬株式会社製）を0.1容量％含有）に希釈した。調製した散布液を小型スプレーで茎葉処理した。
薬剤処理後、14〜21日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0（無処理区と同等）〜100（完全枯殺）の生育抑制率（％）で除草効果を評価し、第６表の結果を得た。
【０１４９】
【表１８】
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【０１５０】
・試験例2
1／170,000ヘクタールポットに畑作土壌をつめ、各種植物（(イヌビエ(barnyardgrass(Echinochloa crus-galli L.))、メヒシバ(crabgrass (Digitaria sanguinalis L.))、エノコログサ(green foxtail (Setaria viridis L.))、アオゲイトウ(redroot pigweed (Amaranthus retroflexus L.))、アメリカキンゴジカ(prickly sida (Sida spinosa L.))、イチビ(velvetleaf (Abutilon theophrasti MEDIC.))、イネ(rice (oryza sativa L.))、トウモロコシ(corn (Zea mays L.))、コムギ(wheat (Triticum spp.))、ワタ(cotton (Gossypium spp.))、ダイズ(soybean (Glycine max Merr.))）の種子を播種した。播種翌日、本発明に係る化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤を所定の有効成分量となるように秤量し、１ヘクタール当り500リットル相当の水に希釈し、小型スプレーで土壌処理した。
薬剤処理後、14〜21日目に各種植物の生育状態を肉眼観察し、0（無処理区と同等）〜100（完全枯殺）の生育抑制率（％）で除草効果を評価し、第７表の結果を得た。
【０１５１】
【表１９】
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【０１５２】
【表２０】
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【０１５３】
・試験例3
1／1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、タイヌビエ(barnyardgrass (Echinochloa oryzicola vasing.))及びホタルイ(Japanese bulrush (Scirpus juncoides))の種子を播種し、その上に軽く覆土した。その後、湛水深0.5〜1ｃｍの状態で温室内に静置し、翌日にウリカワ(Japanese ribbon waparo (Sagittaria pygmaea))の塊茎を植え込んだ。その後、湛水深を3〜4ｃｍに保ち、タイヌビエ及びホタルイが0.5葉期、ウリカワが初生葉期に達した時点で、本発明に係る化合物を通常の製剤方法に準じて調製した水和剤又は乳剤の水希釈液を、所定の有効成分量になるようにピペットで均一に滴下処理した。また、1／1,000,000ヘクタールポットに水田土壌を詰め、代かきを行い、湛水深を3〜4ｃｍとし、翌日に2葉期のイネ(rice (Oryza sativa L.))（品種：日本晴）を移植深3ｃｍに移植した。移植翌日に本発明に係る化合物を前述と同様に処理した。
薬剤処理後、12〜17日目にタイヌビエ、ホタルイ及びウリカワの生育状態を、また薬剤処理後、11〜19日目にイネの生育状態を各々肉眼観察し、0（無処理区と同等）〜100（完全枯殺）の生育抑制率（％）で評価し、第８表の結果を得た。
【０１５４】
【表２１】
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【０１５５】
【表２２】
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【０１５６】
【表２３】
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【０１５７】
次に、本発明の製剤例を記載する。
・製剤例１
（１）本発明化合物                                      ７５      重量部
（２）ゲロポンＴ−７７（商品名；ローヌ・プーラン社製）  １４．５  重量部
（３）ＮａＣｌ                                          １０      重量部
（４）デキストリン                                        ０．５  重量部
以上の（１）〜（４）の各成分を高速混合細粒機に入れ、さらにそこへ２０％の水を加え造粒、乾燥することにより顆粒水和剤が得られる。
【０１５８】
・製剤例２
（１）カオリン                                          ７８  重量部
（２）ラベリンＦＡＮ（商品名；第一工業製薬（株）製）      ２  重量部
（３）ソルポール５０３９（商品名；東邦化学工業（株）製）  ５  重量部
（４）カープレックス（商品名；ＤＳＬジャパン（株）製）  １５  重量部
以上の（１）〜（４）の成分の混合物と本発明化合物とを９：１の重量割合で混合することにより水和剤が得られる。
【０１５９】
・製剤例３
（１）ハイフィラーＮｏ．１０（商品名；松村産業（株）製）  ３３  重量部
（２）ソルポール５０５０（商品名；東邦化学工業（株）製）    ３  重量部
（３）ソルポール５０７３（商品名；東邦化学工業（株）製）    ４  重量部
（４）本発明化合物                                        ６０  重量部
以上の（１）〜（４）の各成分を混合することにより水和剤が得られる。
【０１６０】
・製剤例４
（１）本発明化合物                                            ４      重量部
（２）ベントナイト                                          ３０      重量部
（３）炭酸カルシウム                                        ６１．５  重量部
（４）トキサノンＧＲ−３１Ａ（商品名；三洋化成工業（株）製）  ３      重量部
（５）リグニンスルホン酸カルシウム塩                          １．５  重量部
予め粉砕した（１）と、（２）及び（３）とを混合し、そこへ（４）、（５）及び水を加えて混合し、押出造粒する。その後、乾燥、整粒することにより粒剤が得られる。
【０１６１】
・製剤例５
（１）本発明化合物                                        ３０  重量部
（２）ジークライト（商品名；ジークライト（株）製）        ６０  重量部
（３）ニューカルゲン  ＷＧ−１（商品名；竹本油脂（株）製）  ５  重量部
（４）ニューカルゲン  ＦＳ−７（商品名；竹本油脂（株）製）  ５  重量部
上記（１）、（２）及び（３）を混合し、粉砕機を通した後、（４）を加えて混練後、押出造粒する。その後、乾燥、整粒することにより顆粒水和剤が得られる。
【０１６２】
・製剤例６
（１）本発明化合物                                            ２８  重量部
（２）ソプロポールＦＬ（商品名；ローヌ・プーラン社製）          ２  重量部
（３）ソルポール３５５（商品名；東邦化学工業（株）製）          １  重量部
（４）ＩＰソルベント１６２０（商品名；出光石油化学（株）製）  ３２  重量部
（５）エチレングリコール                                        ６  重量部
（６）水                                                      ３１  重量部
以上の（１）〜（６）の各成分を混合し、湿式粉砕機（ダイノーミル）を用いて粉砕することにより水性懸濁剤が得られる。
【０１６３】
本発明は上述した各実施形態に限定されるものではなく、請求項に示した範囲で種々の変更が可能であり、異なる実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を適宜組み合わせて得られる実施形態についても本発明の技術的範囲に含まれる。さらに、各実施形態にそれぞれ開示された技術的手段を組み合わせることにより、新しい技術的特徴を形成することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１６４】
本発明化合物は、類似する従来化合物に比して望ましくない植物への著しい除草活性の向上を実現する。また、作物への高い安全性を有する。それゆえ、本発明に係るヘテロアリールスルホンアミド系化合物又はその塩は、除草剤の有効成分として使用した場合に、優れた除草効果を示す。その適用範囲は、水田、畑地、果樹園、桑園などの農耕地、山林、農道、グランド、工場敷地などの非農耕地と多岐にわたり、適用方法も土壌処理、茎葉処理、湛水処理などを適宜選択できる。