(57)【要約】      （修正有）【課題】僅かな技術的コストで製造可能である、光パターンを投影するための装置及び方法を提供する。【解決手段】装置１０は、第１の光ビーム５１を供給するように構成された光供給装置１２と、エミッタ装置１６と、入射する第１の光ビーム５１を、エミッタ装置１６の方へ反射し、かつ、エミッタ装置１６上で光パターンの生成のための走査領域３０を走査するように構成された偏向装置１４とを備える。エミッタ装置１６は、入射する偏向された第１の光ビーム５１を、第２の光ビーム５２に変換する。第２の光ビーム５２は、第１の光ビーム５１とは異なる波長を有している。さらに、エミッタ装置１６上で走査領域３０をシフトさせる及び／又は歪ませるように構成された調節装置２０を備えている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光パターンを投影するための装置（１０；１１０；２１０；３１０）であって、
前記装置（１０；１１０；２１０；３１０）に、第１の光ビーム（５１）を供給するように構成された光供給装置（１２）と、
エミッタ装置（１６）と、
動作可能な偏向装置（１４；１１４；２１４）であって、当該偏向装置（１４；１１４；２１４）に入射する前記第１の光ビーム（５１）を、前記エミッタ装置（１６）の方へ反射し、かつ、前記エミッタ装置（１６）上で光パターンの生成のための走査領域（３０）を走査するように構成された偏向装置（１４；１１４；２１４）と、
を備え、
前記エミッタ装置（１６）は、当該エミッタ装置（１６）に入射する偏向された前記第１の光ビーム（５１）を、第２の光ビーム（５２）に変換するように構成され、前記第２の光ビーム（５２）は、前記第１の光ビーム（５１）とは異なる波長を有しており、さらに、
前記エミッタ装置（１６）上で前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませるように構成された調節装置（２０；１２０；２２０；３２０）を備えていることを特徴とする装置（１０；１１０；２１０；３１０）。
【請求項２】
前記調節装置（１２０）は、前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませるために、前記偏向装置（１１４；２１４）を少なくとも部分的に調整するように構成されている、請求項１に記載の装置（１１０；２１０；３１０）。
【請求項３】
前記調節装置（１２０）は、前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませるために、前記偏向装置（１１４；２１４）を少なくとも部分的に第１の回転角度だけ回転させる及び／又は回動させるように構成されている、請求項２に記載の装置（１１０；２１０；３１０）。
【請求項４】
前記調節装置（２２０；３２０）は、前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませるために、前記エミッタ装置（１６）を調整するように構成されている、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の装置（２１０；３１０）。
【請求項５】
前記調節装置（２２０；３２０）は、前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませるために、前記エミッタ装置（１６）を第２の回転角度だけ回転させる及び／又は回動させるように構成されている、請求項４に記載の装置（２１０；３１０）。
【請求項６】
前記装置（３１０）から光パターンを投影するために、前記第２の光ビーム（５２）を出力結合する出力結合装置（１１８）を備え、前記調節装置（３２０）は、さらに前記出力結合装置（１１８）を、前記エミッタ装置（１６）と同時に回転させる及び／又は回動させるように構成されている、請求項５に記載の装置（３１０）。
【請求項７】
前記調節装置（２０；１２０；２２０；３２０）は、マクロメカニカル調節装置（２０；１２０；２２０；３２０）として構成されている、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
光パターンを投影するための方法であって、
第１の光ビーム（５１）を供給するステップ（Ｓ０１）と、
前記光パターンを投影するために、前記第１の光ビーム（５１）を、動作可能な偏向装置（１４；１１４；２１４）を用いてエミッタ装置（１６）へ偏向させるステップ（Ｓ０２）であって、前記エミッタ装置（１６）は、当該エミッタ装置（１６）に入射する偏向された前記第１の光ビーム（５１）を、第２の光ビーム（５２）に変換するように構成されており、前記第２の光ビーム（５２）は、前記第１の光ビーム（５１）とは異なる波長を有している、ステップ（Ｓ０２）と、
前記エミッタ装置（１６）上で走査領域（３０）を走査するための動作可能な偏向装置（１４；１１４；２１４）を動作させるステップ（Ｓ０３）と、
前記エミッタ装置（１６）上で前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませるステップ（Ｓ０４）と、
を含んでいることを特徴とする方法。
【請求項９】
前記エミッタ装置（１６）上で前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませる前記ステップ（Ｓ０４）は、少なくとも前記偏向装置（１４；１１４；２１４）の少なくとも部分的な調整によっても行われる、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
前記エミッタ装置（１６）上で前記走査領域（３０）をシフトさせる及び／又は歪ませる前記ステップ（Ｓ０４）は、少なくとも前記エミッタ装置（１６）の調整によっても行われる、請求項８又は９に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光パターンを投影するための装置及び方法に関し、特に、車両のヘッドライト内に用いるか又は車両のヘッドライトとして用いるための装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
背景技術
車両用ヘッドライトには益々レーザスキャンシステムが用いられており、このレーザスキャンシステムでは、１つ以上の光源からのレーザビームが、ミラーによって偏向され、光エミッタ（これは燐光体とも称される）上に結像される。この光エミッタは、通常の青色レーザ光を白色光に変換し、集束されたレーザビームを拡張する。このシステムにより、白色像又は光パターンが、レンズを介して走行路上に投影される。この光パターンは、交通状況及び走行状況に適応化可能である。そのようなシステムは、アダプティブドライビングビームシステム（Adaptive Driving Beam;ＡＤＢ）とも称される。
【０００３】
国際公開第２０１１／１４１３７７号（ＷＯ２０１１／１４１３７７Ａ１）では、光ビームが発光体へ偏向される。
【０００４】
米国特許出願公開第２０１０／０７９８３６号明細書（ＵＳ２０１０／０７９８３６Ａ１）では例として、以下で図６に基づいてより詳細に説明するようなレーザスキャナが記載されている。図６には、レーザビーム３を生成し、マイクロミラー４へ偏向させるように構成された光源２を有する通常のレーザスキャナ１が示されている。マイクロミラー４に衝突したレーザビーム３は、走査領域６の方向に偏向されたレーザビーム５として偏向され、この場合、マイクロミラー４は、走査領域６を走査するために、制御装置７によって制御される。
【０００５】
そのことのためにマイクロミラー４は、高速回転軸とも称される第１の回転軸周りで回転し、それによって、走査領域６は、水平方向で、左方から右方へ、そして再び逆方向に周期的に掃引される。さらにマイクロミラー４は、光ビーム５が周期的に走査領域６を、上方から下方へ、そして再び逆方向に掃引するように、低速回転軸とも称される第２の回転軸周りで回転させられる。第１及び第２の、すなわち低速及び高速回転軸周りの運動が重なって、図６中に示されたジグザグパターンが生じる。制御装置７は、偏向装置４の各位置を示す位置信号８を受信し、これらの位置信号８に基づいて、偏向装置４の制御のための制御信号９を適合化する。この走査は、通常は周期的な、特に正弦波状の動きで行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１１／１４１３７７号
【特許文献２】米国特許出願公開第２０１０／０７９８３６号明細書
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００７】
発明の開示
本発明は、請求項１の特徴部分による装置及び請求項８の特徴部分による方法を開示している。
【０００８】
本発明によれば、光パターンを投影するための装置であって、当該装置に第１の光ビームを供給するように構成された光供給装置と、エミッタ装置と、動作可能な偏向装置であって、偏向装置に入射する第１の光ビームを、エミッタ装置の方へ反射し、かつ、エミッタ装置上で光パターンの生成のための走査領域を走査するように構成された偏向装置とを備え、ここでのエミッタ装置は、当該エミッタ装置に入射する偏向された第１の光ビームを、第２の光ビームに変換するように構成され、ここでの第２の光ビームは、第１の光ビームとは異なる波長を有しており、さらにエミッタ装置上で走査領域をシフトさせる及び／又は歪ませるように構成された調節装置を備えている装置が想定される。
【０００９】
光パターンの投影とは、第１の光ビームを用いたエミッタ装置への光パターンの投影とも、代替的又は付加的に、例えばヘッドライトとして、装置から生成された第２の光ビームを用いた光パターンの投影とも理解されたい。それによりこの装置は、ヘッドライトとも称され得る。
【００１０】
エミッタ装置とは、特に光エミッタ又は発光物質又は燐光体（元素のリンと取り違えないように）と理解されたい。このエミッタ装置は、特に所定の光ビームを第２の光ビームに変換する発光物質が被着された支持体を有し得る。第１の光ビームから第２の光ビームへのコンバート又は変換は、好ましくはエミッタ装置の特性に基づいて、特に発光物質に基づいて自ずと行われる。第１及び／又は第２の光ビームとは、好ましくはレーザビームであり得る。
【００１１】
第２の光ビームは、エミッタ装置によって、好ましくは、第１の光ビームが現時点でエミッタ装置に入射している箇所において、そのつどの現時点で生成され、そのためエミッタ装置上での第１の光ビームによる所定の光パターンの投影によって、第２の光ビームによって表される相応の光パターンが続く。
【００１２】
走査領域とは、特に二次元領域、例えば偏向装置の動作に起因して動作可能な偏向装置によって、最大限走査可能な、すなわちパターン化可能である、平坦な又は湾曲した面領域と理解されたい。走査領域の限界は、特に走査装置の最大変位によって定められる。スキャン又はスキャンニングとも称されるそのような走査又はパターン化とは、走査領域を横断する走行、例えばジグザクパターンと理解されたい。ここでの所望の走査密度は、それぞれの用途に依存し得る。走査領域内の最大強度は、走査運動（複数可）の折り返し点において頻繁に生じる。走査領域の歪みは、特に圧縮又は拡張を含み得る。
【００１３】
さらに光パターンを投影するための方法が提供され、この方法は、第１の光ビームを供給するステップと、光パターンを投影するために、動作可能な偏向装置を用いてエミッタ装置上へ第１の光ビームを偏向させるステップと、エミッタ装置上で走査領域を走査するための動作可能な偏向装置を動作させるステップとを含み、ここでのエミッタ装置は、当該エミッタ装置に入射する偏向された第１の光ビームを、第２の光ビームに変換するように構成され、ここでの第２の光ビームは、第１の光ビームとは異なる波長を有し、さらにエミッタ装置上で走査領域をシフトさせる及び／又は歪ませるステップを含んでいる。
【００１４】
走査領域のシフトとは、特に走査領域の圧縮又は拡張と光学的に結合した走査領域の移動と理解されたい。
【００１５】
発明の利点
本発明は、供給された光出力の効果的使用と同時に、投影された光パターンの最大強度のフレキシブルなシフトを伴う、特にマーキングランプ又はコーナリングランプのようなヘッドライト機能のための光パターンの投影を可能にする。さらに本発明に係る装置は、特に僅かな技術的コストで製造可能である。
【００１６】
好ましい実施形態及び改善構成は、従属請求項及び図面に基づいた説明から明らかとなる。
【００１７】
好ましい改善構成によれば、調節装置は、走査領域を少なくとも部分的にシフトさせるために、偏向装置を調整するように設計又は構成されている。その下では、例えば偏向装置の調整とは、全体として、そのつどの現時点の走査領域の走査のために、偏向装置の動作と独立して行われる調整と理解されたい。偏向装置のこの調整は、特に次のことによって行うことが可能である。すなわち、調節装置が、走査領域をシフトさせる及び／又は歪ませるために、偏向装置を第１の回転角度だけ回転させる及び／又は回動させるように設計又は構成されていることによって行うことが可能である。代替的又は付加的に、調節装置は、偏向装置をシフトさせるように設計又は構成されていてもよい。それにより、そのつどの現時点の走査領域を走査する偏向装置の動作、すなわち駆動制御は、不変のまま維持することができ、それに対して走査領域自体は、例えば投影すべき光パターンの最大強度の位置をシフトさせるためにシフトされる。この偏向装置の代わりに、全体として、偏向装置の一部、特にマイクロミラーを分離させることも可能であり、これは調節装置によって調整又は移動が可能である。
【００１８】
さらに好ましい改善構成によれば、調節装置は、次のように設計又は構成されている。すなわちエミッタ装置が、特に全体として、走査領域をシフトするために調整されるように設計又は構成されている。特に調節装置は、走査領域をシフトするために、エミッタ装置が第２の回転角度だけ回転及び／又は回動するように設計又は構成されていてもよい。代替的又は付加的に、調節装置は、エミッタ装置をシフトするようにも設計又は構成されていてもよい。それにより、この動作、すなわち、そのつどの現時点の走査領域を走査するための偏向装置の駆動制御は、不変のまま維持でき、それに対して、走査領域自体は、例えば投影すべき光パターンの最大強度の位置をシフトさせる及び／又は歪ませるために、シフトされる。
【００１９】
さらに好ましい改善構成によれば、この装置は、光パターンを投影するための装置から第２の光ビームを出力結合するための出力結合装置を有しており、この出力結合装置は、二次光学系とも称され得る。調節装置は、エミッタ装置と同時に、及び／又は、偏向装置と同時に、出力結合装置も回転、シフト及び／又は回動するように構成されていてもよい。それにより、出力結合装置とエミッタ装置の共通の光軸を好適に維持することができ、それによって、出力結合装置を、走査領域上で、あらゆる任意の位置に最適に配向できるようになる。この出力結合装置は、その一部が、本発明に係る装置を構成するか、又は、本発明に係る装置に配置されているものとして、特に車両と固定的に結合されていてもよい。
【００２０】
さらに好ましい改善構成によれば、調節装置は、マクロメカニカル調節装置として構成されている。換言すれば、この調節装置は、好ましくは、マイクロメカニカル調節装置ではない。それにより、準静的調整又は共鳴励起のような複雑なマイクロメカニカル的動作方式を回避することができる。このようにして、この調節装置は、特に頑丈で、容易に調整、製造、交換及び保守が可能となり得る。この調節装置は、例えば、可動コイル及び／又は圧電駆動装置を有するか、又は、可動コイル若しくは圧電駆動装置として構成されていてもよい。
【００２１】
本発明に係る方法の好ましい改善構成によれば、エミッタ装置上での走査領域のシフト及び／又は歪みが、少なくとも偏向装置の調整によっても、特に全体としての又は部分的な、偏向装置のシフト、回動及び／又は回転によっても行われる。
【００２２】
さらなる好ましい改善構成によれば、エミッタ装置上での走査領域のシフト及び／又は歪みが、少なくともエミッタ装置の調整によっても、特に全体としての又は部分的な、エミッタ装置のシフト、回転及び／又は回動によっても行われる。
【００２３】
以下では本発明を、図面の概略図中に示されている実施例に基づいて、より詳細に説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態に係る光パターンを投影するための装置の概略的ブロック図。
【図２】本発明の別の実施形態に係る光パターンを投影するための装置の概略的ブロック図。
【図３】本発明のさらに別の実施形態に係る光パターンを投影するためのさらに別の装置の概略的ブロック図。
【図４】本発明のさらに別の実施形態に係る光パターンを投影するためのさらに別の装置の概略的ブロック図。
【図５】本発明のさらに別の実施形態に係る光パターンを投影するための方法を説明するための概略的フローチャート。
【図６】従来技術からのレーザスキャナを説明するための概略図。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
全ての図面において、同一の又は機能的に同一の要素及び装置には、特に断りのない限り、同じ参照番号が付されている。方法ステップのナンバリングは、明確化のために用いられており、特に断りのない限り、特定の時間順序を暗に含んだものではない。特に、複数の方法ステップを同時に実施することも可能である。
【００２６】
実施例の説明
図１は、光パターンを投影するための装置１０の概略的ブロック図を示す。この装置１０は、光供給装置１２を含み、この光供給装置１２は、装置１０に第１の光ビーム５１を供給するように構成されている。この第１の光ビーム５１は、特に１つのレーザビーム又は複数のレーザビームであり得る。光供給装置１２は、例えば、光源、若しくは、外部で生成された第１の光ビーム５１を装置１０内へ入力結合するための装置を含み、又は、それらからなり得る。光供給装置１２は、その目的のために、例えば複数の光学素子、例えばレンズ、絞り、光ファイバケーブル等を含み得る。
【００２７】
装置１０は、その他に、エミッタ装置１６に入射した第１の光ビーム５１を、第２の光ビーム５２に変換するように構成されたエミッタ装置１６を含む。第２の光ビーム５２は、特に第１の光ビーム５１とは異なる波長を有する。単純化の理由から以下では常に、第１の光ビーム５１及び第２の光ビーム５２をそれぞれ単数形で言及することとする。その際には、第１の光ビーム５１が、光供給装置１２によって連続的にも、定期的又は散発的にも供給可能であること、並びに、上記及び以下で説明する装置１０の機能もまた、複数の第１の光ビーム５１の時間的に順次連続した供給又は時間的に平行した供給によって、同様に実施可能であることを理解されたい。
【００２８】
エミッタ装置１６は、特に第１の光ビーム５１を、第２の光ビーム５２に変換するように設計又は構成された変換層を支持する支持体を有し得る。特に第１の光ビームは、青色波長スペクトルのレーザ光、すなわち特に４３０ｎｍ乃至４９０ｎｍの波長を有するレーザ光であり得る。エミッタ装置１６、特にエミッタ装置１６の変換層は、その目的のために、第１の光ビーム５１の青色光を、第２の光ビーム５２としての白色光に変換するように設計又は構成されていてもよい。
【００２９】
装置１０はその他に、動作可能な偏向装置１４を含み、この偏向装置１４は、当該偏向装置１４に入射した第１の光ビーム５１を、エミッタ装置１６の方へ反射するように設計又は構成されている。相応に光供給装置１２は、偏向装置１４に対して、次のように配置されている。すなわち供給される第１の光ビーム５１が、偏向装置１４に入射するように配置されている。偏向装置１４はさらに、この第１の光ビーム５１を、エミッタ装置１６上で次のように動かすように設計又は構成されている。すなわちこの第１の光ビーム５１が、偏向装置１４の動作の結果として、エミッタ装置１６上、特に変換層上で、走査領域３０を、投影すべき光パターンの生成のために走査するように、設計又は構成されている。図１では、この走査領域３０が、現時点で第１の位置３１に存在するように示されている。
【００３０】
装置１０の動作装置２０を用いて、エミッタ装置１６上の走査領域３０は、シフト可能及び／又は歪み可能であり、特に、エミッタ装置１６上の第１の位置３１から、エミッタ装置１６上の第２の位置３２の方へ、シフト可能である。第１及び／又は第２の位置３１，３２は、好ましくは、変換層の上に位置している。特に好ましいのは、走査領域３０が第１の位置３１に存在する状況において、エミッタ装置１６により生成された第２の光ビーム５２は、その方向ベクトルにおいて、走査領域３０が第２の位置３２に存在する状況においてエミッタ装置１６により生成される第２の光ビーム５２’とは異なっていることである。
【００３１】
第１及び第２の位置３１，３２は、第１の位置３１の走査領域３０と、第２の位置３２の走査領域３０とが、部分的に交差するように選択されてもよい。しかしながら、それらはまた、異なる位置３１，３２における走査領域３０が離接的であるように選択されてもよい。調節装置２０は、走査領域３０を、重畳可能ではあるが、しかしながら、それが必須ではない離散的な位置３１，３２の間でシフトするように設計又は構成されていてもよい。調節装置２０は、代替的にまた、走査領域３０を、連続的又は恒常的に、例えば、第１の極値位置としての第１の位置３１と、第２の極値位置としての第２の位置３２との間でシフトするように設計又は構成されていてもよい。さらにまた、エミッタ装置１６、特に変換層上の閉じられた軌道上での走査領域３０のシフトが想定されていてもよい。
【００３２】
図２は、本発明の別の実施形態に係る光パターンを投影するための装置１１０の概略的ブロック図を示している。この装置１１０は、装置１０の変形例であり、装置１０に基づいて説明した全ての変更及び改善構成に係る適合化が可能であり、さらにその逆も可能である。特に断りのない限り、装置１１０の全ての機能及び要素は、装置１０に基づいて説明したのと同じように構成されていてもよい。
【００３３】
装置１１０は、偏向装置１１４を有しており、この偏向装置１１４は、図２中では反射表面１１３及びアクチュエータ１１５と共に図示されている。このアクチュエータ１１５は、反射表面１１３を、次のように動作するように設計又は構成されている。すなわち当該反射表面１１３上に入射する、光供給装置１２からの第１の光ビーム５１が、そのつどの現時点の走査領域３０の走査のために偏向されるように、設計又は構成されている。反射表面１１３は、例えばアクチュエータ１１５によって共振的又は準静的に動作させられるマイクロミラーに所属し得る。
【００３４】
装置１１０は、装置１０の調節装置２０の代わりに、調節装置１２０を含んでいる。この調節装置１２０は、偏向装置１１４を移動させることによって、特にシフト、回転及び／又は回動させることによって、エミッタ装置１６上で走査領域３０をシフトするように設計又は構成されている。調節装置１２０は、例えばピエゾアクチュエータ又は可動コイル等を有し得る。すなわちマクロメカニカルな調節装置であってもよい。
【００３５】
偏向装置１１４は、反射表面１１３を有する第１のマイクロミラーも有し得る。この第１のマイクロミラーからは、供給された第１の光ビーム５１がまず第１の反射ミラー１１７へ反射され、この第１の反射ミラー１１７からは、第１の光ビーム５１が、走査領域３０の走査のためにエミッタ装置１６へ反射される。調節装置１２０は、特に、エミッタ装置１６上で走査領域３０を、例えば第１の位置３１から第２の位置３２へシフトさせるために、特にマイクロミラーとして構成可能である第１の反射ミラー１１７を、調整又は移動するように構成されていてもよい。第１の反射ミラー１１７の調整は、特に第１の反射ミラー１１７のシフト、回転及び／又は回動を含み得る。代替的に調節装置１２０は、偏向装置１１４を全体として、調整するように、特にシフト、回転及び／又は回動させるように設計又は構成されていてもよい。
【００３６】
装置１１０は、第１の反射ミラー１１７に対して付加的に第２の反射ミラー１１９を有し得る。この第２の反射ミラー１１９は、第１の反射ミラー１１７から偏向された第１の光ビーム５１を、さらにエミッタ装置１６へ偏向するように配置されている。このケースでは、調節装置１２０は、第２の反射ミラー１１９を、調節するように、特にシフト、回転及び／又は回動させるように設計又は構成されていてもよい。第１及び第２の反射ミラー１１７，１１９の相互作用によって、走査領域３０は、エミッタ装置１６上で二次元的にシフト可能である。好ましくは、走査領域３０は、第１の反射ミラー１１７を用いて第１の方向にシフト可能であり、さらに第２の反射ミラー１１９を用いて第２の方向にシフト可能である。ここで、これらの第１及び第２の方向は、相互に垂直な関係にある。これらの第１及び第２の方向は、第１の光ビーム５１が走査領域３０の走査のために反射表面１１３によって偏向される方向と同一の方向であってもよいし、異なる方向であってもよい。
【００３７】
第２の反射ミラー１１９を設けることに対して代替的に、第１の反射ミラー１１７を、単独で用いることも可能であり、当該第１の反射ミラー１１７が、エミッタ装置１６上の走査領域３０をシフトさせるために、反射表面１１３から偏向された第１の光ビーム５１を、二次元的に偏向できるように構成してもよい。
【００３８】
装置１１０は、その他に、制御装置１４０を有し得る。この制御装置１４０は、光供給装置１２、偏向装置１１４及び／又は調節装置１２０を制御するように設計又は構成可能である。
【００３９】
特に制御装置１４０は、第１の制御信号７２を光供給装置１２に伝送し、当該第１の制御信号７２に基づいて光供給装置１２が、第１の光ビーム５１を供給し、特に、活性化又は非活性化するように設計又は構成されていてもよい。第１の光ビーム５１の所期の活性化又は非活性化により、特にレーザプロジェクタの方式において、任意の光パターンを、そのつどの現時点の走査領域内で逐次生成可能になる。
【００４０】
制御装置１４０は、その他に、第２の制御信号７３を、偏向装置１１４のアクチュエータ１１５に伝送し、当該第２の制御信号７３に基づいてアクチュエータ１１５が、そのつどの現時点の走査領域３０の走査のために制御されるように設計又は構成されていてもよい。制御装置１４０は、その他に、第３の制御信号７４を、調節装置１２０に伝送し、当該第３の制御信号７４に基づいて調節装置１２０がエミッタ装置１６上で走査領域３０のシフトのために制御されるように設計又は構成されていてもよい。この第１、第２及び／又は第３の制御信号７２，７３，７４は、それぞれ例えば当該装置１１０が配置されている車両の概ね車両制御部のような外部制御装置から制御装置１４０に伝送される入力信号７１に基づくことが可能である。この入力信号７１は、特に、投影すべき光パターンを、インデックス化又は符号化して含んでいる。
【００４１】
装置１１０は、さらに、任意の出力結合装置１１８を含み、この出力結合装置１１８は、生成された第２の光ビーム５２，５２’を、光パターンの投影のために、装置１１０から出力結合するように設計又は構成されている。この出力結合装置１１８は、特にレンズ、絞り、グラスファイバのような光導波路等を有し又はそれらからなり得る。
【００４２】
図３は、本発明のさらに別の実施形態に係る装置２１０の概略的ブロック図を示す。この装置２１０は、装置１１０の変形例であり、装置１１０に基づいて説明した全ての変形及び変更に係る適合化が可能であり、さらにその逆も可能である。
【００４３】
装置１１０とは異なり、装置２１０は、調節装置２２０を有しており、この調節装置２２０は、エミッタ装置１６上の走査領域３０を、例えば第１の位置３１から第２の位置３２へシフトさせるために、エミッタ装置１６を移動させるように設計又は構成されている。装置１１０の偏向装置１１４の代わりに、装置２１０の偏向装置２１４は、特に反射ミラー１１７は有さないが、その代わりに、ミラー装置に関係する、反射表面１１３を有する（単一の）マイクロミラーのみを有している。この反射表面１１３を有するマイクロミラーは、アクチュエータ１１５により、そのつどの走査領域３０を走査させる第２の制御信号７３に従って動作可能である。
【００４４】
図４は、本発明のさらに別の実施形態に係る光パターンを投影するためのさらに別の装置３１０の概略的ブロック図を示す。この装置３１０は、装置２１０の変形例であり、装置２１０に基づいて説明した全ての変形及び変更に係る適合化が可能であり、さらにその逆も可能である。
【００４５】
装置２１０とは異なり、この装置３１０では、調節装置２２０の代わりに、当該装置３１０の調節装置３２０が設けられており、この調節装置３２０は、エミッタ装置１６及び出力結合装置１１８を同時に移動させるように、すなわちシフト、回転及び／又は回動させるように、設計又は構成されている。これらの出力結合装置１１８とエミッタ装置１６は、そのために機械的に、特に堅固に相互接続されていてもよい。
【００４６】
装置２１０も装置３１０も、装置１１０による調節装置１２０を、特に反射ミラー１１７を有さないか又は正確に１つの反射ミラー１１７を有する変形例で有することも可能である。このケースでは、調節装置２２０は、第１の調節装置として、走査領域３０をエミッタ装置１６上で第１の方向にエミッタ装置１６を移動させることにより、シフトさせるように設計又は構成されていてもよい。それに対して、調節装置１２０は、第２の調節装置として、走査領域３０を、偏向装置２１４の全体としての又は部分的な移動により、第２の方向にシフトさせるように設計又は構成されており、ここで、第１の方向及び第２の方向は、好ましくは相互に垂直な関係にある。装置２１０及び装置３１０は、調節装置１２０を、例えば走査領域３０をシフトさせるための手段に冗長性を提供するために、２つの反射ミラー１１７，１１９を有する変形例で有することも可能である。
【００４７】
図５は、本発明のさらに別の実施形態に係る光パターンを投影するための方法の概略的ブロック図を示す。図５によるこの方法は、特に本発明に係る装置１０；１１０；２１０；３１０によって実施可能であり、それ故、本発明に係る装置、特に装置１０；１１０；２１０；３１０に基づいて説明した全ての変更及び変形に係る適合化が可能であり、さらにその逆も可能である。
【００４８】
ステップＳ０１では、例えば前述したように光供給装置１２を用いて第１の光ビーム５１を供給する。それに応じて、この供給するステップＳ０１は、第１の光ビーム５１を装置１０；１１０；２１０；３１０に入力結合するステップを含み、及び／又は、第１の光ビーム５１を生成するステップを含む。
【００４９】
ステップＳ０２では、供給された第１の光ビーム５１を、動作可能な偏向装置１４；１１４；２１４を用いてエミッタ装置１６へ偏向させる。このエミッタ装置１６は、好ましくは、当該エミッタ装置１６に入射する偏向された第１の光ビーム５１を、第２の光ビーム５２に変換するように構成されている。ここで、この第２の光ビーム５２，５２’は、第１の光ビーム５１とは異なる波長を有している。
【００５０】
ステップＳ０３では、エミッタ装置１６上で光パターンを生成し、その後に投影するために走査領域３０を走査するための動作可能な偏向装置を動作させる。走査領域３０は、好ましくは二次元的に走査され、例えば高速回転軸と低速回転軸とにより、例えばジグザグパターンで走査される。
【００５１】
ステップＳ０４では、走査領域３０を、エミッタ装置１６上でシフトさせる及び／又は歪ませる。特に、エミッタ装置１６上の走査領域３０は、少なくとも３つの異なる位置３１，３２の間でシフトされ、これらの異なる位置は、１つのライン上に存在しない。換言すれば、この走査領域３０をシフトさせるステップＳ０４は、好ましくは二次元的に行われる。
【００５２】
エミッタ装置１６上で走査領域３０をシフトさせる及び／又は歪ませるステップＳ０４は、少なくとも、偏向装置１４；１１４；２１４の少なくとも部分的な、特に総合的な調整によっても行うことが可能であり、特にそれのみで行うことが可能である。エミッタ装置１６上で走査領域３０をシフトさせるステップＳ０４は、少なくともエミッタ装置１６の調整によっても行うことが可能であり、特にそれのみで行うことが可能である。偏向装置１４；１１４；２１４又はエミッタ装置１６の調整とは、特にシフト、回転及び／又は回動と理解されたい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【外国語明細書】
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