(57)【要約】【課題】外光反射による表示不良が抑制された表示装置を提供する。する表示装置を提供する。【解決手段】発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、第１の遮光層と、第２の遮光層とを具備し、第１の遮光層は、発光領域を開口する複数の第１の開口部と、複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第２の開口部とを有し、第２の遮光層は、第１の遮光層の下方に配置され、発光領域を開口する複数の第３の開口部を有し、第２の開口部の下方には遮光する領域が配置されることを特徴とする表示装置である。【選択図】図１２
2016134293.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、
第１の遮光層と、
第２の遮光層と、を具備し、
前記第１の遮光層は、
前記発光領域を開口する複数の第１の開口部と、
前記複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第２の開口部とを有し、
前記第２の遮光層は、
前記第１の遮光層の下方に配置され、
前記発光領域を開口する複数の第３の開口部を有し、
前記第２の開口部の下方には遮光する領域が配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記発光領域はカラーフィルタを有し、
前記第１の遮光層は前記カラーフィルタの上方に配置され、前記第２の遮光層は前記カラーフィルタの下方に配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記第２の開口部の下方おいて、隣接画素間の前記カラーフィルタが分離されることを特徴とする請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記複数の画素は、第１の画素と前記第１の画素に隣接する第２の画素を含み、
前記第２の開口部は、前記第１の画素と前記第２の画素との間に複数個設けられていることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項５】
前記複数の画素は、第１の画素と、前記第１の画素に隣接する第２の画素と、前記第１の画素に前記第２の画素とは異なる側で隣接する第３の画素と、を含み、
前記第２の開口部は、前記第１の画素と前記第２の画素との間に位置する１−２間開口部と、前記第１の画素と前記第３の画素との間に位置する１−３間開口部と、を含み、
前記１−２間開口部は第１の長手方向を有し、
前記１−３間開口部は、前記第１の長手方向とは異なる第２の長手方向を有することを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項６】
発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、
第１の遮光層と、
第３の遮光層と、を具備し、
前記第１の遮光層は、
前記発光領域を開口する複数の第１の開口部を有し、
前記第３の遮光層は、
前記発光領域を開口する複数の第３の開口部と、
前記複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第４の開口部とを有し、
前記第１の遮光層の上方に配置され、
前記表示領域の空間周波数は、前記第３の遮光層を除いた場合の前記表示領域の空間周波数よりも大きいことを特徴とする表示装置。
【請求項７】
前記表示領域の空間周波数は、９０ｃｐｄ以上１１０ｃｐｄ以下であることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記第３の遮光層は、半透過領域を更に含むことを特徴とする請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記半透過領域は、前記発光領域上に配置されることを特徴とする請求項８に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記第１の開口部の端部は、前記半透過領域に覆われることを特徴とする請求項９に記載の表示装置。
【請求項１１】
発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、
第１の遮光層と
を具備し、
前記第１の遮光層は、
前記発光領域を開口する複数の第１の開口部と、
前記複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第２の開口部と、を有し、
前記複数の第１の開口部は、略Ｌ字型の形状を成し、隣接する２行２列が点対称に配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項１２】
第２の遮光層を更に具備し、
前記第２の遮光層は、
前記発光領域を開口する複数の第３の開口部を有し、
前記複数の第２の開口部の下方には遮光する領域が配置されることを特徴とする請求項１１に記載の表示装置。
【請求項１３】
第１の基板と、
前記第１の基板上に設けられ、発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、
第１の遮光層と、
第３の遮光層と、を具備し、
前記第１の遮光層は、前記発光領域を開口する複数の第１の開口部を有し、
前記第３の遮光層の少なくとも一部は、前記第１の遮光層の前記第１の基板とは反対側に配置され、
前記第３の遮光層は、前記複数の第１の開口部よりも数が多い複数の第４の開口部を有していることを特徴とする表示装置。
【請求項１４】
前記第１の遮光層の前記第１の基板とは反対側に光透光性のシートが配置され、
前記第３の遮光層は、前記シートに形成されていることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１５】
前記シートは、前記第１の遮光層に接して配置されていることを特徴とする請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１６】
前記第１の基板と対向する第２の基板を具備し、
前記第１の遮光層は、前記第１の基板と前記第２の基板との間に位置し、
前記シートは、前記第２の基板の前記第１の基板とは反対の側に位置していることを特徴とする請求項１４に記載の表示装置。
【請求項１７】
前記複数の第４の開口部は、前記複数の画素間に位置する開口部を含むことを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１８】
前記複数の第４の開口部は、前記発光領域の一つと重畳する複数の開口部を含むことを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【請求項１９】
前記第１の基板に設けられた発光層と画素電極と共通電極と、
前記第１の基板に設けられ、前記共通電極の前記第１の基板とは反対側に位置するカラーフィルタと、を具備し、
前記第１の遮光層は、前記カラーフィルタの前記共通電極とは反対側に位置していることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【請求項２０】
前記第１の基板に設けられた発光層と画素電極と共通電極と、
前記第１の基板に設けられ、前記共通電極の前記第１の基板とは反対側に位置するカラーフィルタと、を具備し、
前記第１の遮光層は、前記カラーフィルタの前記共通電極側に位置し、
前記第３の遮光層は、前記カラーフィルタの前記第１の遮光層とは反対側に位置していることを特徴とする請求項１３に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に関する。特に、表示装置における表示領域における画素の構成に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと呼ぶ。）表示装置は、各画素に発光素子が設けられ、個別に発光を制御することで画像を表示する。発光素子は、一方をアノード電極、他方をカソード電極として区別される一対の電極間に有機ＥＬ材料を含む層（以下、「発光層」ともいう）を挟んだ構造を有している。有機ＥＬ表示装置は、一方の電極が画素ごとに個別画素電極として設けられ、他方の電極は複数の画素に跨がって共通の電位が印加される共通画素電極として設けられている。有機ＥＬ表示装置は、この共通画素電極の電位に対し、個別画素電極の電位を画素ごとに印加することで、画素の発光を制御している。
【０００３】
特に、白色発光素子とカラーフィルタを組み合わせてフルカラーを実現する表示装置は、アレイ基板と、カラーフィルタ基板を貼り合わせて構成されるのが一般的である。アレイ基板は、行列状に配列された複数の発光素子を有している。カラーフィルタ基板は、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の三色が並ぶカラーフィルタと、各色のカラーフィルタを区画する遮光層（ブラックマトリクスとも呼ばれる）とが設けられている。遮光層を設けることによって画素間の光漏れを遮断し、各色の混色といった表示不良を防止する効果がある（特許文献１）。
【０００４】
しかしながら、表示装置の高精細化が進み、画素サイズや隣接画素間の距離が微細になると、隣接画素同士のアノード電極が接近するため、画素間の電荷リークによる混色の発生が懸念される。
【０００５】
更に、アノード電極として反射率の高い金属材料などを用いる場合、表示装置に入射した外光がそれらの界面で反射し、光の干渉によって表示不良が生じることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−０４９３１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、外光反射により視認性が低下するのを抑制した表示装置を提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明による表示装置の一態様は、発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、第１の遮光層と、第２の遮光層とを具備し、第１の遮光層は、発光領域を開口する複数の第１の開口部と、複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第２の開口部とを有し、第２の遮光層は、第１の遮光層の下方に配置され、発光領域を開口する複数の第３の開口部を有し、第２の開口部の下方には遮光する領域が配置されている。
【０００９】
本発明による表示装置の一態様は、発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、第１の遮光層と、第３の遮光層とを具備し、第１の遮光層は、発光領域を開口する複数の第１の開口部を有し、第３の遮光層は、発光領域を開口する複数の第３の開口部と、複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第４の開口部とを有し、第１の遮光層の上方に配置され、表示領域の空間周波数は、第３の遮光層を除いた場合の表示領域の空間周波数よりも大き値を有している。
【００１０】
本発明による表示装置の一態様は、発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、第１の遮光層とを具備し、第１の遮光層は、発光領域を開口する複数の第１の開口部と、複数の画素間の非発光領域を開口する複数の第２の開口部とを有し、複数の第１の開口部は、略Ｌ字型の形状を成し、隣接する２行２列が点対称に配置されている。
【００１１】
本発明による表示装置の一態様は、第１の基板と、第１の基板上に設けられ、発光領域を有する複数の画素が行列状に配列された表示領域と、第１の遮光層と、第３の遮光層と、を具備し、第１の遮光層は、発光領域を開口する複数の第１の開口部を有し、第３の遮光層の少なくとも一部は、第１の遮光層の第１の基板とは反対側に配置され、第３の遮光層は、複数の第１の開口部よりも数が多い複数の第４の開口部を有している。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す斜視図である。
【図２】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す平面図である。
【図３】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図４】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図５】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図７】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図８】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図９】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図１０】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図１１】本発明の一実施形態に係る表示装置に設けられる遮光層を示す平面図である。
【図１２】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図１４】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図１５】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図１６】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【図１７】本発明の一実施形態に係る表示装置の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態を、図面等を参照しながら説明する。但し、本発明は多くの異なる態様で実施することが可能であり、以下に例示する実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１４】
本明細書において、ある部材又は領域が、他の部材又は領域の「上に（又は下に）」あるとする場合、特段の限定がない限り、これは他の部材又は領域の直上（又は直下）にある場合のみでなく、他の部材又は領域の上方（又は下方）にある場合を含み、すなわち、他の部材又は領域の上方（又は下方）において間に別の構成要素が含まれている場合も含む。
【００１５】
＜第１実施形態＞
表示装置の高精細化を進めていくと、表示装置に入射した外光の反射光によって表示領域に虹模様が発生し、表示画像の視認性が劣化する問題が発生することがわかった。また、非表示時にもこの問題は発生するために、製品イメージとしても好ましくない。
【００１６】
この問題は、特に円偏光板を用いない白色発光素子とカラーフィルタを組合せた表示装置で顕著である。遮光層（ブラックマトリクスとも呼ばれる。）の開口端部で発生する光干渉が起因していると考えられる。本実施形態では係る課題を解決するための構成について示す。
【００１７】
本実施形態に係る表示装置１００の構成を、図１を参照して説明する。表示装置１００は、第１基板１０２に表示領域１０６が設けられている。表示領域１０６は複数の画素１０８が配列することによって構成されている。表示領域１０６の上面には封止材としての第２基板１０４が設けられている。第２基板１０４は表示領域１０６を囲むシール材１１０によって、第１基板１０２に固定されている。第１基板１０２に形成された表示領域１０６は、封止材である第２基板１０４とシール材１１０によって大気に晒されないように封止されている。このような封止構造により画素１０８に設けられる発光素子の劣化を抑制している。
【００１８】
第１基板１０２は、一端部に端子領域１１４が設けられている。端子領域１１４は第２基板１０４の外側に配置されている。端子領域１１４は、複数の接続端子１１６によって構成されている。接続端子１１６には、映像信号を出力する機器や電源などと表示パネルとを接続する配線基板が配置される。配線基板と接続する接続端子１１６の接点は、外部に露出している。第１基板１０２には端子領域１１４から入力された映像信号を表示領域１０６に出力するドライバ回路１１２が設けられていてもよい。
【００１９】
図２〜図４を参照し、本実施形態に係る表示装置１００の構成について説明する。図２は、本実施形態に係る表示装置１００の構成を示す平面図である。図３は、本実施形態に係る表示装置１００の構成を示す断面図である。図４は、本実施形態に係る表示装置１００に設けられる遮光層を示す平面図である。
【００２０】
図２に示すように、第１基板１０２上に表示画面を形成する表示領域１０６には複数の画素１０８が行列状に配列されている。第１基板１０２上の周辺部には、他の要素として表示領域１０６に信号を入力する垂直走査回路、水平走査回路等が設けられていてもよい。
【００２１】
図３は、図２に示した一つの画素を通過するＡ―Ｂ間の断面図である。複数の画素１０８の各々は、複数の発光領域を有している。複数の発光領域の各々は、その周辺に設けられたバンク１３０によって、隣接する発光領域と分離されている。複数の発光領域の各々は、トランジスタ１１８と、白色光を発する発光素子１２０と、その上部に配置される赤、緑、青又は白のいずれかのカラーフィルタ１２２を有し、各色の光を発するサブ画素を構成している。
【００２２】
発光素子１２０は、個別画素電極１２４(単に、画素電極とも言う)、発光層１２８、共通画素電極１２６（共通電極とも言う）の順に積層された構造を有している。個別画素電極１２４は各発光素子１２０に個別に設けられ、トランジスタ１１８を介してサブ画素毎に異なる電位が供給される。共通画素電極は全ての発光素子に共通して設けられる。
【００２３】
個別画素電極１２４は、発光層１２８で発生した光を共通画素電極１２６側に反射させるため、反射率の高い金属膜で形成されていることが好ましい。或いは、個別画素電極１２４を金属膜と透明導電膜との積層構造とし、光反射面が含まれる構造としてもよい。
【００２４】
発光層１２８は複数の画素１０８に共通して設けられ、個別画素電極１２４及びサブ画素間のバンク１３０を覆うように設けられる。
【００２５】
発光層１２８が、例えば有機ＥＬ層から成る場合、低分子系又は高分子系の有機材料を用いて形成される。低分子系の有機材料を用いる場合、発光層１２８は発光性の有機材料を含む発光層１２８に加え、当該発光層を挟むように正孔注入層や電子注入層、更に正孔輸送層や電子輸送層等を含んで構成される。本実施形態においては、発光層１２８は、白色発光を呈するものを用い、カラーフィルタによってフルカラー発光を実現している。尚、発光層１２８は、複数の発光層（例えば有機ＥＬ層）を重ねた所謂タンデム型の構造を用いても良い。
【００２６】
共通画素電極１２６は、発光層１２８で発光した光を透過させるため、透光性を有しかつ導電性を有するＩＴＯ（酸化スズ添加酸化インジウム）やＩＺＯ（酸化インジウム・酸化亜鉛）等の透明導電膜で形成されていることが好ましい。または、共通画素電極１２６として、出射光が透過できる程度の膜厚で金属層を形成しても良い。
【００２７】
共通画素電極１２６上には、封止膜１３２が設けられる。封止膜１３２は、水分の浸入を遮断できる絶縁膜が好ましい。絶縁膜として無機絶縁膜又は有機絶縁膜を用いることができる。
【００２８】
例えば、絶縁膜として無機絶縁膜を使用する場合、酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）、窒化系ケイ素（ＳｉＮｘ）、酸化窒化ケイ素（ＳｉＯｘＮｙ）、窒化酸化ケイ素（ＳｉＮｘＯｙ）、酸化アルミニウム（ＡｌＯｘ）、窒化アルミニウム（ＡｌＮｘ）、酸化窒化アルミニウム（ＡｌＯｘＮｙ）、窒化酸化アルミニウム（ＡｌＮｘＯｙ）等の膜を使用することができる（ｘ、ｙは任意）。また、これらの膜を積層した構造を使用してもよい。成膜方法としてはプラズマＣＶＤ法やスパッタリング法を用いることができる。
【００２９】
絶縁膜として有機絶縁膜を使用する場合、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、シロキサン樹脂等の膜を使用することができる。また、これらの材料を積層した構造を使用してもよい。成膜方法としては蒸着法や蒸着重合法を用いることができる。
【００３０】
封止膜１３２としては更に、上記の無機絶縁膜及び有機絶縁膜を組み合わせて積層した構造を使用してもよい。
【００３１】
第１基板１０２には、シール材１１０によって第１基板１０２との間隔を保持された透明な第２基板１０４が被せられている。これら第２基板１０４、シール材１１０及び封止膜１３２によって囲まれた空間には、例えば透明なエポキシ樹脂からなる充填剤１３４が充填されている。
【００３２】
図２には示していないが、表示領域は、複数の開口部を有する第１の遮光層１３６で覆われている。第１の遮光層１３６は、カラーフィルタ１２２の上方に配置され、発光領域を開口する複数の第１の開口部１４２と、非発光領域を開口する複数の第２の開口部１４４を有している。第２の開口部１４４の配置は、非発光領域であればよく、画素内に配置してもよいし、画素間に配置してもよい。つまり、発光領域が発した光の内、第１の開口部１４２を通過した光が観測者に視認される。
【００３３】
第２の開口部１４４は、非発光領域の上方に配置される疑似的な開口部である。一方、非表示時において、表示装置の外部から光が入射すると、個別画素電極１２４は反射層であるために、そこで反射した光の干渉によって、表示領域１０６に虹模様が発生する場合がある。特に、高精細化が進むに伴い、発生しやすくなる。
【００３４】
第２の開口部を設けることによって、表示領域１０６の空間周波数が増加する。空間周波数とは、視角一度あたりの繰り返し数と定義され、単位はｃｐｄ（ｃｙｃｌｅ  ｐｅｒ  ｄｅｇｒｅｅ）である。本明細書においては、視角一度当たりの開口部の繰り返し数（或いは、単に視角一度当たりの開口部の数）である。空間周波数は、人間が視認するコントラストと相関を持つ。空間周波数が一定以上であれば、空間周波数の増加に伴い、コントラストは低下する。
【００３５】
つまり、第２の開口部１４４を設けて空間周波数を増加させることによって、外光反射による虹模様のコントラストが低下し、それが視認されにくくなる。
【００３６】
よって、高精細化が進むに伴い表示装置の非表示時に発生しやすくなる虹模様を抑えることができ、製品イメージを劣化させることが無く、高精細な表示装置１００を提供することができる。
【００３７】
図４は、本実施形態に係る表示装置１００が有する第１の遮光層１３６の平面図である。第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４の形状は特に限定されるものではないが、高開口率という観点からは、可能な限り大きな面積を確保することが好ましい。
【００３８】
図４に示した第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２の形状は、略Ｌ字型の形状をしている。換言すると、正方形の隣り合う二辺に、当該正方形と合同な二つの正方形の一辺をそれぞれ接続した形状をしている。
【００３９】
第２の開口部１４４の形状は、本実施形態においては正方形の態様を示しているが、これに限定されるものではない。第２の開口部１４４は、空間周波数を増加させるために設けられるものであって、可能な限り密に配置することが好ましい。本実施形態においては、一画素内に１個の第２の開口部１４４を設けているが、これに限られず、一画素内に複数個設けてもよいし、画素間に複数個設けてもよい。
【００４０】
本実施形態による表示装置１００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
【００４１】
＜変形例＞
第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの変形例について、図５〜図１１を参照して示す。
【００４２】
図５は、複数の第１の開口部１４２の各々の形状は、本実施形態と同様に略Ｌ字型であるが、一つの画素において点対称の形状を成すように、隣接する２行２列の４個のサブ画素が配置されている。このような第１の開口部１４２の形状及び配置を選択すると、表示時の特性に優れることがわかった。
【００４３】
外光反射による視認性劣化への対策として設けられた複数の第２の開口部１４４は、本変形例では菱形の形状を有し、一つの画素に１個、上下左右及び斜めの隣接画素間に１個が配置されている。しかし、第２の開口部１４４の形状、配置及び個数については限定されるものではない。
【００４４】
図６に、本実施形態による第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの他の変形例を示す。図５と比較すると第１の開口部１４２の形状及び配置は同様であるが、第２の開口部１４４の形状及び個数が異なっている。第２の開口部１４４の形状は正方形であり、図５に比べてその個数が増えている。表示面内の第２の開口部１４４の個数が増えることによって、空間周波数が増加し、外光反射による虹模様の発生を更に抑制することができる。
【００４５】
図７に、本実施形態による第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの更に他の変形例を示す。第１の開口部１４２は菱形の形状を有し、第２の開口部１４４は正方形の形状を有する。
【００４６】
図８に、本実施形態による第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの更に他の変形例を示す。第１の開口部１４２は図７と同様に菱形の形状を有し、第２の開口部１４４は図７と比較すると、図７の第２の開口部１４４を３個に分割した形状を有し、複数の第２の開口部は共通の長手方向を有する。このように、隣接する画素間に複数の第２の開口部１４４を設けてもよい。これによって、図７に比べて空間周波数が増加し、外光反射による虹模様の発生を更に抑制することができる。
【００４７】
図９に、本実施形態による第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの更に他の変形例を示す。第１の開口部１４２は図７及び図８と同様に菱形の形状を有し、第２の開口部１４４は図８と比較すると、それらが有する長手方向が異なるものが含まれる。図８の第２の開口部１４４は全て、共通の長手方向を有するのに対し、図９では、互いに直交する長手方向を有する第２の開口部が同数含まれる。これによって、図７に比べて空間周波数が増加して、外光反射による虹模様の発生を更に抑制することができるとともに、画質の視認方向依存を抑えることができる。
【００４８】
尚、この形状に限らず、複数の画素１０８の内、任意の画素を第１の画素とし、第１の画素に隣接する画素を第２の画素とし、第１の画素に第２の画素とは異なる側で隣接する画素を第３の画素としたとき、第２の開口部１４４について、第１の画素と第２の画素との間に位置する１−２間開口部は、第１の長手方向を有し、第１の画素と第３の画素との間に位置する１−３間開口部は、第１の長手方向とは異なる第２の長手方向を有してもよい。
【００４９】
図１０に、本実施形態による第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの更に他の変形例を示す。第１の開口部１４２は図７乃至図９と同様に菱形の形状を有し、第２の開口部１４４は図８及び図９に比較してその数を更に増加させている。これによって、外光反射による虹模様の発生に対して更に高い耐性を有する。
【００５０】
図１１に、本実施形態による第１の遮光層１３６が有する第１の開口部１４２及び第２の開口部１４４のレイアウトの更に他の変形例を示す。第１の開口部１４２は全て縦長の長方形の形状を有し、その上方に配置される第２の開口部１４４は正方形の形状を有している。
【００５１】
以上、本発明の好ましい実施形態による表示装置１００について説明した。本実施形態によれば、高精細化が進むに伴い表示装置１００の非表示時に発生しやすくなる虹模様を抑えることができ、製品イメージを劣化させることが無く、高精細な表示装置１００を提供することができる。
【００５２】
＜第２実施形態＞
本実施形態に係る表示装置２００の構成を、図１２（ａ）を参照して説明する。
【００５３】
本実施形態による表示装置２００は、第１実施形態による表示装置１００と比較すると、第２の遮光層１３８を有している点で相違している。第１の遮光層は、前述の変形例及び図４〜図１１に示したレイアウトを用いることができる。第２の遮光層１３８は、カラーフィルタ１２２の下方に配置されている。そして、発光領域を開口する複数の第３の開口部１４６を有している。つまり、第２の遮光層１３８は、第１の遮光層１３６が有している第２の開口部１４４を遮光するような開口部のレイアウトとなっている。
【００５４】
従来の遮光層は、画素間への光漏れや混色を防止するために、非発光領域を遮光する。しかしながら、第１実施形態において、第１の遮光層１３６は第２の開口部１４４のために光漏れや混色が懸念される。そこで、本実施形態では、第２の開口部１４４を遮光するために第２の遮光層１３８を配置する。
【００５５】
第２の遮光層１３６を設けることによって、第１の遮光層１３６により増加させた表示領域の空間周波数を維持したまま、光漏れや混色といった表示不良を抑制することができる。
【００５６】
本実施形態による表示装置２００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
【００５７】
変形例として、図１２（ｂ）に示す表示装置２５０のように、第２の開口部１４４の下方でカラーフィルタ１２２を隣接するサブ画素間で分離してもよい。
【００５８】
＜第３実施形態＞
本実施形態に係る表示装置３００の構成を、図１３を参照して説明する。
【００５９】
本実施形態による表示装置３００は、第３の遮光層１４０を有している。本実施形態による第３の遮光層１４０は、第２基板１０４と第１の遮光層１３６の間に配置される。つまり、第３の遮光層１４０は、第１の遮光層１３６の第１基板１０２とは反対側に配置される。第３の遮光層１４０は、特に、第１の遮光層１３６に接して配置されていてもよい。
【００６０】
本実施形態による第３の遮光層１４０は、表示領域１０６の空間周波数を増加させるために設けられた遮光層であり、複数の第４の開口部１４８を有している。複数の第４の開口部１４８は、発光領域及び画素間の非発光領域を開口し、その数は、第１の遮光層が有する第１の開口部の数よりも多い。つまり、複数の第４の開口部１４８は、複数の画素間に位置する開口部と、発光領域の一つと重畳する複数の開口部を含む。第３の遮光層１４０を設けることによって空間周波数が増加し、外光反射による虹模様の発生を抑制することができる。
【００６１】
第３の遮光層１４０は、シート状であってもよい。シート状の第３の遮光層１４０は、光透光性のシートに非透光領域が設けられている。光透光性のシートとしては、例えば、アクリル、ポリイミド等の透明樹脂を用いることができ、非透光領域としては、アルミニウム、クロム、モリブデン等の金属や黒色の樹脂を塗布することによって形成することができる。非透光領域以外の領域が、第４の開口部１４８に相当する。また、非透光領域は完全に光を遮断せず、半透過の領域であってもよい。  
【００６２】
本実施形態による表示装置３００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
＜第４の実施形態＞
本実施形態に係る表示装置４００の構成を、図１４を参照して説明する。
【００６３】
本実施形態による表示装置４００は、第３実施形態による表示装置３００と比較すると、第４の開口部１４８のレイアウトが異なっている。本実施形態においては、発光領域の上部の領域も遮光されるような第４の開口部１４８のレイアウトとなっている。このとき、高開口率の観点からは、遮光部の材料としては完全に遮光する材料ではなく、半透過の材料を用いることが好ましい。半透過の材料としては、その直下に配置されるカラーフィルタと補色の関係にある色の樹脂等を用いることが好ましい。
【００６４】
第３の遮光層１４０によって、表示領域の一部の領域も遮光することにより、空間周波数を更に増加させることができる。これによって、外光反射による虹模様の発生を効率よく抑制することができる。
【００６５】
本実施形態による表示装置４００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
【００６６】
＜第５実施形態＞
本実施形態に係る表示装置５００の構成を、図１５を参照して説明する。
【００６７】
本実施形態による表示装置５００は、第４実施形態による表示装置４００と比較すると、第３の遮光層１４０の配置が異なっている。本実施形態のように、第１の遮光層１３６は、第１の基板１０２と第２の基板１０４との間に配置され、第３の遮光層１４０は第２基板１０４の第１基板１０２とは反対の側に配置されてもよい。第３の遮光層１４０は、前述のシート状の遮光層であってもよい。
【００６８】
本実施形態による表示装置５００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
【００６９】
＜第６実施形態＞
本実施形態に係る表示装置６００の構成を、図１６を参照して説明する。前述の実施形態の表示装置１００乃至５００は、製造工程において先ず第２基板１０４側にカラーフィルタ１２２を設け、その後、第１基板１０２と張り合わされる。本実施形態の表示装置６００の構造は、第１基板１０２側にカラーフィルタ１２２を設けることを想定している。
【００７０】
本実施形態による表示装置６００は、第１基板１０２上に、個別画素電極１２４、発光層１２８、共通画素電極１２６、封止膜１３２、カラーフィルタ１２２、第１の遮光層１３６、第３の遮光層１４０の順で配置されている。つまり、第１の遮光層は、カラーフィルタの共通電極とは反対側に配置されていることを特徴としている。尚、図１６において封止膜１３２は、共通画素電極１２６上に位置すると共に、バンク１３０の形状に基づく凹凸を平坦化するように形成されている。封止膜１３２は図３と同様に形成し、該封止膜１３２上に平坦化膜を設け、該平坦化膜上にカラーフィルタ１２２を配置しても良い。
【００７１】
本実施形態による表示装置２００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
【００７２】
ここで、第３の遮光層１４０の非透光領域としては半透過の層であってもよく、発光領域上に配置されていてもよい。これによって空間種は数を増加させ、外光反射による虹模様の発生を効率よく抑えることができる。
【００７３】
また、第３の遮光層１４０の非透光領域は、第１の遮光層１３６の遮光領域の端部を覆うように配置されてもよい。これによって、第１の遮光層１３６の遮光領域の端部付近での回折現象を低減させることができ、表示画像のにじみが少なく、高画質な表示装置６００を提供することができる。
【００７４】
＜第７実施形態＞
本実施形態に係る表示装置７００の構成を、図１７を参照して説明する。本実施形態による表示装置７００は、第１基板１０２上に、個別画素電極１２４、発光層１２８、共通画素電極１２６、封止膜１３２、第１の遮光層１３６、カラーフィルタ１２２、第３の遮光層１４０の順で配置されている点で、第６実施形態による表示装置６００と相違している。つまり、第１の遮光層は、カラーフィルタの共通電極側に配置されることを特徴としている。
【００７５】
本実施形態による表示装置７００の空間周波数としては、９０ｃｐｄ〜１１０ｃｐｄの範囲である。この範囲であれば、外光反射の視認性について問題の無い表示特性となる。
【００７６】
第３の遮光層１４０の非透光領域としては半透過の層であってもよく、発光領域上に配置されていてもよい。これによって空間種は数を増加させ、外光反射による虹模様の発生を効率よく抑えることができる。
【００７７】
また、第３の遮光層１４０の非透光領域は、第１の遮光層１３６の遮光領域の端部を覆うように配置されてもよい。これによって、第１の遮光層１３６の遮光領域の端部付近での回折現象を低減させることができ、表示画像のにじみが少なく、高画質な表示装置７００を提供することができる。
【００７８】
以上、本発明の好ましい態様を第１の実施形態乃至第７の実施形態によって説明した。しかし、これらは単なる例示に過ぎず、本発明の技術的範囲はそれらには限定されない。当業者であれば、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の変更が可能であろう。よって、それらの変更も当然に、本発明の技術的範囲に属すると解されるべきである。
【符号の説明】
【００７９】
１００、２００、２５０、３００、４００、５００、６００、７００・・・表示装置
１０２、１０４・・・基板
１０６・・・表示領域
１０８・・・画素
１１０・・・シール材
１１２・・・ドライバ回路
１１４・・・端子領域
１１６・・・接続端子
１１８・・・トランジスタ
１２０・・・発光素子
１２２・・・カラーフィルタ
１２４・・・個別画素電極
１２６・・・共通画素電極
１２８・・・発光層
１３０・・・バンク
１３２・・・封止膜
１３４・・・充填材
１３６、１３８、１４０・・・遮光層
１４２、１４４、１４６、１４８・・・開口部
【図１】
2016134293.tif 000003
【図２】
2016134293.tif 000004
【図３】
2016134293.tif 000005
【図４】
2016134293.tif 000006
【図５】
2016134293.tif 000007
【図６】
2016134293.tif 000008
【図７】
2016134293.tif 000009
【図８】
2016134293.tif 000010
【図９】
2016134293.tif 000011
【図１０】
2016134293.tif 000012
【図１１】
2016134293.tif 000013
【図１２】
2016134293.tif 000014
【図１３】
2016134293.tif 000015
【図１４】
2016134293.tif 000016
【図１５】
2016134293.tif 000017
【図１６】
2016134293.tif 000018
【図１７】
2016134293.tif 000019