(57)【要約】      （修正有）【課題】歪点が高く、低粘性であり、フッ酸によるエッチング速度が大きく、フロート成形が容易な無アルカリガラスの提供。【解決手段】歪点が６８０℃以上、平均熱膨張係数が３０×１０-7〜４３×１０-7／℃、粘度１０2ｄＰａ・ｓの温度が１６７０℃以下、粘度１０4ｄＰａ・ｓの温度が１３２０℃以下、２０分浸漬時のフッ酸処理質量減３．１ｍｇ／ｃｍ2以上であり、モル％表示で、ＳｉＯ2：６０〜７０、Ａｌ2Ｏ3：１１〜１６、Ｂ2Ｏ3：０〜１．５、ＭｇＯ：７〜１２、ＣａＯ：０〜７、ＳｒＯ：４．５〜１０、ＢａＯ：０〜０．５を含有し、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯが１６〜２２であり、（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が４．７以上であり、ＭｇＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、ＳｒＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、（ＭｇＯ＋ＳｒＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．７以上の無アルカリガラス。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
歪点が６８０℃以上であって、５０〜３５０℃での平均熱膨張係数が３０×１０-7〜４３×１０-7／℃であって、ガラス粘度が１０2ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ2が１６７０℃以下であって、ガラス粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4が１３２０℃以下であって、フッ酸（ＨＦ）を含有するエッチング液（２５℃、５％ＨＦ水溶液）に２０分間浸漬させた際の単位面積当たりの質量減少が３．１ｍｇ／ｃｍ2以上であって、
酸化物基準のモル％表示で
ＳｉＯ2             ６０〜７０、
Ａｌ2Ｏ3            １１〜１６、
Ｂ2Ｏ3                ０超１．５以下、
ＭｇＯ                ７超１２以下、
ＣａＯ                ０超７以下、
ＳｒＯ            ４．５超１０以下、
ＢａＯ                ０〜０．５を含有し
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ が１６〜２２であり、
（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が４．７以下であり、ＭｇＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、ＳｒＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、（ＭｇＯ＋ＳｒＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．７以上である無アルカリガラス。
【請求項２】
酸化物基準のモル％表示で
ＳｉＯ2             ６３〜６８、
Ａｌ2Ｏ3             １２〜１４、
Ｂ2Ｏ3                 ０．５〜１．３、
ＭｇＯ                ８〜１１、
ＣａＯ                １．５〜５、
ＳｒＯ                ５〜９、
ＢａＯ                ０〜０．３を含有し
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ が１７．５〜２０であり、
（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が４．６以下であり、ＭｇＯ／ＣａＯが１．３以上であり、ＳｒＯ／ＣａＯが１．１以上であり、（ＭｇＯ＋ＳｒＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．７５以上である請求項１に記載の無アルカリガラス。
【請求項３】
酸化物基準のモル％表示で
ＳｉＯ2             ６５．５〜６７．５、
Ａｌ2Ｏ3             １２．５〜１３．５、
Ｂ2Ｏ3                 ０．７〜１．２、
ＭｇＯ                ８．５〜１０、
ＣａＯ                ２〜４．５、
ＳｒＯ            ５．３〜８を含有し、
ＢａＯを実質的に含有せず、
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯが１８〜１９．５であり、
（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が４．５以下であり、ＭｇＯ／ＣａＯが２以上であり、ＳｒＯ／ＣａＯが１．１５以上であり、（ＭｇＯ＋ＳｒＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ）が０．８以上である請求項１または２に記載の無アルカリガラス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種ディスプレイ用基板ガラスやフォトマスク用基板ガラスとして好適な、アルカリ金属酸化物を実質上含有せず、フロート成形が可能な、無アルカリガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、各種ディスプレイ用基板ガラス、特に表面に金属ないし酸化物薄膜等を形成するものでは、以下に示す特性が要求されてきた。
（１）アルカリ金属酸化物を含有していると、アルカリ金属イオンが薄膜中に拡散して膜特性を劣化させるため、実質的にアルカリ金属イオンを含まないこと。
（２）薄膜形成工程で高温にさらされる際に、ガラスの変形およびガラスの構造安定化に伴う収縮（熱収縮）を最小限に抑えうるように、歪点が高いこと。
【０００３】
（３）半導体形成に用いる各種薬品に対して充分な化学耐久性を有すること。特にＳｉＯXやＳｉＮXのエッチングのためのバッファードフッ酸（ＢＨＦ：フッ酸とフッ化アンモニウムの混合液）、およびＩＴＯのエッチングに用いる塩酸を含有する薬液、金属電極のエッチングに用いる各種の酸（硝酸、硫酸等）、レジスト剥離液のアルカリに対して耐久性のあること。
（４）内部および表面に欠点（泡、脈理、インクルージョン、ピット、キズ等）がないこと。
【０００４】
上記の要求に加えて、近年では、以下のような状況にある。
（５）ディスプレイの軽量化が要求され、ガラス自身も密度の小さいガラスが望まれる。
（６）ディスプレイの軽量化が要求され、基板ガラスの薄板化が望まれる。
【０００５】
（７）これまでのアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）タイプの液晶ディスプレイに加え、若干熱処理温度の高い多結晶シリコン（ｐ−Ｓｉ）タイプの液晶ディスプレイが作製されるようになってきた（ａ−Ｓｉ：約３５０℃→ｐ−Ｓｉ：３５０〜５５０℃）。
（８）液晶ディスプレイ作製熱処理の昇降温速度を速くして、生産性を上げたり耐熱衝撃性を上げるために、ガラスの平均熱膨張係数の小さいガラスが求められる。
【０００６】
一方、エッチングのドライ化が進み、耐ＢＨＦ性に対する要求が弱くなってきている。これまでのガラスは、耐ＢＨＦ性を良くするために、Ｂ2Ｏ3を６〜１０モル％含有するガラスが多く用いられてきた。しかし、Ｂ2Ｏ3は歪点を下げる傾向がある。Ｂ2Ｏ3を含有しないまたは含有量の少ない無アルカリガラスの例としては以下のようなものがある。
【０００７】
特許文献１にはＢ2Ｏ3を含有しない、ＳｉＯ2−Ａｌ2Ｏ3−ＳｒＯガラスが開示されているが、溶解に必要な温度が高く製造に困難を生ずる。
【０００８】
特許文献２にはＢ2Ｏ3を０〜５モル％含有するガラスが開示されているが、５０〜３００℃での平均熱膨張係数が５０×１０-7／℃を超える。
【０００９】
特許文献１〜２に記載のガラスにおける問題点を解決するため、特許文献３に記載の無アルカリガラスが提案されている。特許文献３に記載の無アルカリガラスは、歪点が高く、フロート法による成形ができ、ディスプレイ用基板、フォトマスク用基板等の用途に好適であるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開昭６２−１１３７３５号公報
【特許文献２】特開平５−２３２４５８号公報
【特許文献３】特開平１０−４５４２２号公報
【特許文献４】再公表特許２００９−０６６６２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
高品質のｐ−Ｓｉ  ＴＦＴの製造方法として固相結晶化法があるが、これを実施するためには、歪点をより高くすることが求められる。
一方、ガラス製造プロセス、特に溶解、成形における要請から、ガラスの粘性、具体的には、ガラス粘度が１０2ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ2、および、ガラス粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4を低くすることが求められている。
一方、中小型の液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）や有機ＥＬディスプレイ（ＯＥＬＤ）、特にモバイル、デジタルカメラや携帯電話等の携帯型ディスプレイの分野では、ディスプレイの軽量化、薄型化が重要な課題となっている。更なるガラス基板の薄板化を実現するために、アレイ・カラーフィルタ貼合わせ工程後に、ガラス基板表面にエッチング処理を施し、板厚を薄くする（薄板化する）工程が広く採用されている。例えば、ガラス基板の表面を、フッ酸（ＨＦ）を含有するエッチング液でエッチング処理（以下、『フッ酸エッチング処理』という。）して、ガラス基板を薄板化することが行われている（特許文献４参照）。
フッ酸エッチング処理でガラス基板を薄板化する場合、フッ酸エッチング処理時のエッチング速度が大きいことが求められる。
【００１２】
本発明の目的は、上記欠点を解決し、歪点が高く、低粘性、具体的には、ガラス粘度が１０2ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ2、および、ガラス粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4が低く、フッ酸エッチング処理時のエッチング速度が大きく、フロート成形が容易な無アルカリガラスを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、歪点が６８０℃以上であって、５０〜３５０℃での平均熱膨張係数が３０×１０-7〜４３×１０-7／℃であって、ガラス粘度が１０2ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ2が１６７０℃以下であって、ガラス粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4が１３２０℃以下であって、フッ酸（ＨＦ）を含有するエッチング液（２５℃、５％ＨＦ水溶液）に２０分間浸漬させた際の単位面積当たりの質量減少が３．１ｍｇ／ｃｍ2以上であって、
酸化物基準のモル％表示で
ＳｉＯ2             ６０〜７０、
Ａｌ2Ｏ3            １１〜１６、
Ｂ2Ｏ3                ０超１．５以下、
ＭｇＯ                ７超１２以下、
ＣａＯ                ０超７以下、
ＳｒＯ            ４．５超１０以下、
ＢａＯ                ０〜０．５を含有し
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ が１６〜２２であり、
（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が４．７以下であり、ＭｇＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、ＳｒＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、（ＭｇＯ＋ＳｒＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．７以上である無アルカリガラスを提供する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の無アルカリガラスは、特に高歪点用途のディスプレイ用基板、フォトマスク用基板等に好適であり、また、フロート成形が容易なガラスである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
次に各成分の組成範囲について説明する。ＳｉＯ2は６０％（モル％、以下特記しないかぎり同じ）未満では、歪点が充分に上がらず、かつ、熱膨張係数が増大し、密度が上昇する。６３％以上が好ましく、６５％以上がより好ましく、６５．５％以上がさらに好ましい。７０％超では、溶解性が低下する。６９％以下が好ましく、６８％以下がより好ましく、６７．５％以下がさらに好ましい。
【００１６】
Ａｌ2Ｏ3はガラスの分相性を抑制し、熱膨脹係数を下げ、歪点を上げるが、１１％未満ではこの効果があらわれず、また、ほかの膨張を上げる成分を増加させることになるため、結果的に熱膨張が大きくなる。１１．５％以上が好ましく、１２％以上がより好ましく、１２．５％以上がさらに好ましい。１６％超ではガラスの溶解性が悪くなる。１５％以下が好ましく、１４％以下がより好ましく、１３．５％以下がさらに好ましい。
【００１７】
Ｂ2Ｏ3は、ガラスの溶解反応性をよくするため０％超１．５％以下添加できる。上記の効果を得るためには、０．２％以上が好ましく、０．５％以上がより好ましく、０．７％以上がさらに好ましい。しかし、多すぎると歪点が低くなる。したがって１．４％以下が好ましく、１．３％以下がより好ましく、１．２％以下がさらに好ましい。
【００１８】
ＭｇＯは、アルカリ土類の中では膨張を高くせず、かつ歪点を過大には低下させないという特徴を有し、溶解性も向上させる。
７％以下では上述したＭｇＯ添加による効果が十分あらわれない。７．５％以上が好ましく、８％以上がより好ましく、８．５％以上がさらに好ましい。しかし、１２％を超えると、失透温度が上昇するおそれがある。１１％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、９．５％以下がさらに好ましい。
【００１９】
ＣａＯは、ＭｇＯに次いでアルカリ土類中では膨張を高くせず、かつ歪点を過大には低下させないという特徴を有し、溶解性も向上させるため、０％超７％以下添加できる。
１％以上が好ましく、１．５％以上がより好ましく、２％以下がさらに好ましい。しかし、７％を超えると、ＣａＯ原料である石灰石（ＣａＣＯ3）中の不純物であるリンが、多く混入するおそれがある。６％以下が好ましく、５％以下がより好ましく、４．５％以下がさらに好ましい。
【００２０】
ＳｒＯは、溶解性を向上させるが、４．５％以下ではこの効果が十分あらわれない。４．７％以上が好ましく、４．９％以上がより好ましく、５．３％以上がさらに好ましい。しかし、１０％を超えると膨脹係数が増大するおそれがある。９％以下が好ましく、８．５％以下がより好ましく、８％以下がさらに好ましい。
【００２１】
ＢａＯは必須ではないが溶解性向上のために含有できる。しかし、多すぎるとガラスの膨張と密度を過大に増加させるので０．５％以下とする。０．３％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことがさらに好ましい。実質的に含有しないとは、不可避的不純物を除き含有しない意味である。
【００２２】
ＺｒＯ2は、ガラス溶融温度を低下させるために、または焼成時の結晶析出を促進するために、０．５％まで含有してもよい。０．５％超ではガラスが不安定になる、またはガラスの比誘電率εが大きくなる。０．３％以下が好ましく、０．１％以下がより好ましく、実質的に含有しないことが特に好ましい。
【００２３】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯは合量で１６％よりも少ないと、溶解性に乏しい。１７％以上が好ましく、１７．５％以上がより好ましく、１８％以上がさらに好ましい。２２％よりも多いと、熱膨張係数を小さくできないという難点が生じるおそれがある。２１％以下が好ましく、２０％以下がより好ましく、１９．５％以下がさらに好ましい。
【００２４】
本発明の無アルカリガラスは、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯの合量が上記を満たし、かつ、下記条件を満たすことにより、熱膨張係数を増大することなく、ガラスの粘性、具体的には、ガラス粘度が１０2ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ2、および、ガラス粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4を下げることができる。
（ＳｉＯ2＋Ａｌ2Ｏ3）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が４．７以下であり、４．６以下が好ましく、４．５以下がより好ましく、４．４以下がさらに好ましい。
【００２５】
本発明の無アルカリガラスは、下記３条件を満たすことにより、ガラスの粘性、特にガラス粘度が１０4ｄＰａ・ｓとなる温度Ｔ4を下げることができ、かつ、フッ酸エッチング処理時のエッチング速度が大きくなる。
ＭｇＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、１．３以上が好ましく、１．５以上がより好ましく、２以上がさらに好ましい。
ＳｒＯ／ＣａＯが１．０５以上であり、１．０８以上が好ましく、１．１以上がより好ましく、１．１５以上がさらに好ましい。
（ＭｇＯ＋ＣａＯ）／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）が０．７以上であり、０．７５以上が好ましく、０．８以上がより好ましい。０．８２以上がさらに好ましい。
【００２６】
なお、本発明のガラスは、パネル製造時にガラス表面に設ける金属ないし酸化物薄膜の特性劣化を生じさせないために、アルカリ金属酸化物を不純物レベルを超えて（すなわち実質的に）含有しない。また、同様の理由で、Ｐ2Ｏ5を実質的に含有しないことが好ましい。さらに、ガラスのリサイクルを容易にするため、ＰｂＯ、Ａｓ2Ｏ3、Ｓｂ2Ｏ3は実質的に含有しないことが好ましい。
【００２７】
本発明の無アルカリガラスは上記成分以外にガラスの溶解性、清澄性、成形性（フロート成形性）を改善するため、ＺｎＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＳＯ3、Ｆ、Ｃｌ、ＳｎＯ2等を総量で１％以下、好ましくは０．９％以下、より好ましくは０．８％以下、さらに好ましくは０．７％以下添加できる。ＺｎＯは実質的に含有しないことが好ましい。
【００２８】
本発明の無アルカリガラスは、歪点が６８０℃以上であるため、パネル製造時の熱収縮を抑えられる。また、ｐ−Ｓｉ  ＴＦＴの製造方法として固相結晶化法を適用することができる。
本発明の無アルカリガラスは、歪点が６８０℃以上であるため、高歪点用途（例えば、有機ＥＬ用のディスプレイ用基板または照明用基板、あるいは板厚１００μｍ以下の薄板のディスプレイ用基板または照明用基板）に適している。
好ましくは６９０℃以上、より好ましくは７００℃以上、さらに好ましくは７１０℃以上である。
【００２９】
また本発明の無アルカリガラスは、歪点と同様の理由で、ガラス転移点が好ましくは７４５℃以上であり、より好ましくは７５０℃以上であり、さらに好ましくは７５５℃以上である。
【００３０】
また本発明の無アルカリガラスは、５０〜３５０℃での平均熱膨張係数が３０×１０-7〜４３×１０-7／℃であり、耐熱衝撃性が大きく、パネル製造時の生産性を高くできる。本発明の無アルカリガラスにおいて、５０〜３５０℃での平均熱膨張係数は好ましくは３５×１０-7以上である。５０〜３５０℃での平均熱膨張係数は好ましくは４２×１０-7／℃以下、より好ましくは４１×１０-7／℃以下、さらに好ましくは４０×１０-7／℃以下である。
【００３１】
さらに、本発明の無アルカリガラスは、比重が好ましくは２．７以下であり、より好ましくは２．６７以下であり、さらに好ましくは２．６５以下である。
【００３２】
また、本発明の無アルカリガラスは、粘度ηが１０2ポイズ（ｄＰａ・ｓ）となる温度Ｔ2が１６７０℃以下、好ましくは１６７０℃未満、好ましくは１６６５℃以下、より好ましくは１６６０℃以下、さらに好ましくは１６５５℃以下であるため、溶解が容易である。
【００３３】
さらに、本発明の無アルカリガラスは粘度ηが１０4ポイズとなる温度Ｔ4が１３２０℃以下、好ましくは１３２０℃未満、好ましくは１３１５℃以下、より好ましくは１３１０℃以下、さらに好ましくは１３０５℃以下であり、フロート成形に適している。
【００３４】
また、本発明の無アルカリガラスは失透温度が、１３５０℃以下であることがフロート法による成形が容易となることから好ましい。好ましくは１３４０℃以下、より好ましくは１３３０℃以下である。
本明細書における失透温度は、白金製の皿に粉砕されたガラス粒子を入れ、一定温度に制御された電気炉中で１７時間熱処理を行い、熱処理後の光学顕微鏡観察によって、ガラスの表面及び内部に結晶が析出する最高温度と結晶が析出しない最低温度との平均値である。
【００３５】
また、本発明の無アルカリガラスは、ヤング率が８０ＧＰａ以上、さらには８２ＧＰａ以上、さらには８４ＧＰａ以上が好ましい。
【００３６】
本発明の無アルカリガラスは、後述する実施例に記載の手順で測定されるコンパクションが１２０ｐｐｍ以下であることが好ましい。コンパクションとは、加熱処理の際にガラス構造の緩和によって発生するガラス熱収縮率である。
本発明の無アルカリガラスは、後述する実施例に記載の手順で測定されるコンパクションがより好ましくは１００ｐｐｍ以下、さらに好ましくは８０ｐｐｍ以下、さらには６０ｐｐｍ以下、特に好ましくは５０ｐｐｍ以下である。
【００３７】
また、本発明の無アルカリガラスは、光弾性定数が３１ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であることが好ましい。
液晶ディスプレイパネル製造工程や液晶ディスプレイ装置使用時に発生した応力によってガラス基板が複屈折性を有することにより、黒の表示がグレーになり、液晶ディスプレイのコントラストが低下する現象が認められることがある。光弾性定数を３１ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下とすることにより、この現象を小さく抑えることができる。好ましくは３０ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下、より好ましくは２９ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下、さらに好ましくは２８．５ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下、特に好ましくは２８ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下である。
また、本発明の無アルカリガラスは、他の物性確保の容易性を考慮すると、光弾性定数が好ましくは２３ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以上、より好ましくは２５ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以上である。
なお、光弾性定数は円板圧縮法により測定波長５４６ｎｍで測定できる。
【００３８】
本発明無アルカリガラスは、フッ酸エッチング処理時のエッチング速度の指標となる、２５℃の５質量％フッ酸（ＨＦ）に２０分間浸漬した場合の単位面積当たりの質量減少が３．１ｍｇ／ｃｍ2以上である。
【００３９】
本発明の無アルカリガラスは、例えば次のような方法で製造できる。通常使用される各成分の原料を目標成分になるように調合し、これを溶解炉に連続的に投入し、１５００〜１８００℃に加熱して熔融する。この熔融ガラスをフロート法またはフュージョン法、好ましくはフロート法により所定の板厚に成形し、徐冷後切断することによって板ガラスを得ることができる。前記成形された所定の板厚は、０．７ｍｍ以下が好ましく、０．５ｍｍ以下がより好ましく、０．３ｍｍ以下でもよく、０．１ｍｍ以下でもよい。
【実施例】
【００４０】
以下において例１〜１２は実施例、例１３〜１４は比較例である。各成分の原料を目標組成になるように調合し、白金坩堝を用いて１５００〜１６５０℃の温度で溶解した。溶解にあたっては、白金スターラを用い撹拌しガラスの均質化を行った。次いで溶解ガラスを流し出し、板状に成形後徐冷した。
【００４１】
表１および表２には、ガラス組成（単位：モル％）と５０〜３５０℃での熱膨脹係数（単位：×１０-7／℃）、歪点（単位：℃）、ガラス転移点（単位：℃）、比重、ヤング率（ＧＰａ）（超音波法により測定）、高温粘性値として、溶解性の目安となる温度Ｔ2（ガラス粘度ηが１０2ポイズとなる温度、単位：℃）、とフロート成形性およびフュージョン成形性の目安となる温度Ｔ4（ガラス粘度ηが１０4ポイズとなる温度、単位：℃）、失透温度（単位：℃）、光弾性定数（単位：ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ）（円板圧縮法により測定波長５４６ｎｍで測定）、２５℃の５質量％フッ酸（ＨＦ）に２０分間浸漬した場合の単位面積当たりの質量減少（表中、「５％ＨＦ浸漬後質量減少」と記載。）（下記手順により測定）、および、コンパクション（単位：ｐｐｍ）を示す。なお、５％ＨＦ浸漬後質量減少の測定方法、および、コンパクションの測定方法は以下に記載した通りである。
［単位面積当たりの質量減少の測定方法］
各成分の原料を、表１および表２に示す目標組成になるように調合し、連続溶融窯にて溶解を行い、フロート法にて板成形を行い、無アルカリガラス基板を得る。鏡面研磨された４０ｍｍ四方に切断した無アルカリガラス基板を洗浄後、質量を測定する。２５℃の５質量％フッ酸に２０分間浸漬し、浸漬後の質量を測定する。サンプル寸法から表面積を算出し、質量減少量を表面積で割ったのち、さらに浸漬時間で割ることで、単位面積および単位時間当たりの質量減少を求める。
［コンパクションの測定方法］
ガラス板試料（酸化セリウムで鏡面研磨した長さ１００ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚さ１ｍｍの試料）をガラス転移点＋１００℃の温度で１０分間保持した後、毎分４０℃で室温まで冷却する。ここで試料の全長（長さ方向）Ｌ１を計測する。その後、毎時１００℃で６００℃まで加熱し、６００℃で８０分間保持し、毎時１００℃で室温まで冷却し、再度試料の全長Ｌ２を計測する。６００℃での熱処理前後での全長の差（Ｌ１−Ｌ２）と、６００℃での熱処理前の試料全長Ｌ１と、の比（Ｌ１−Ｌ２）／Ｌ１をコンパクションとする。
なお、表１および表２中、括弧書で示した値は計算値である。
【００４２】
【表１】
2017114685.tif 000002
【００４３】
【表２】
2017114685.tif 000003
【００４４】
表から明らかなように、実施例のガラスはいずれも、熱膨脹係数は３０×１０-7〜４３×１０-7／℃と低く、歪点が６８０℃以上である。
【００４５】
溶解性の目安となる温度Ｔ2も１６７０℃以下と低く溶解が容易であり、成形性の目安となる温度Ｔ4が１３２０℃以下であり、フロート法による成形が容易である。
【００４６】
光弾性定数が３１ｎｍ／ＭＰａ／ｃｍ以下であり、液晶ディスプレイのガラス基板として使用した場合にコントラストの低下を抑制することができる。
【００４７】
フッ酸エッチング処理時のエッチング速度の指標となる、２５℃の５質量％フッ酸（ＨＦ）に２０分間浸漬した場合の単位面積当たりの質量減少が３．１ｍｇ／ｃｍ2以上である。
【産業上の利用可能性】
【００４８】
本発明の無アルカリガラスは、歪点が高く、フロート法による成形ができ、ディスプレイ用基板、フォトマスク用基板等の用途に好適である。また、磁気ディスク用基板、太陽電池用基板等の用途にも好適である。