(57)【要約】【課題】光漏れを抑制することができる偏光板を提供する。【解決手段】偏光板（１）は、フィルム状の偏光子（７）と、偏光子（７）に重なる複数の光学フィルム（３，５，９，１１，１３）と、を備える。偏光板（７）を貫通する穴（２１）の鉛直度（ａ／ｂ）が、０．００以上０．３２未満である。穴（２１）の周囲における偏光解消部（２３）の幅（Ｗ）が、０．００μｍ以上３２μｍ未満である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム状の偏光子と、前記偏光子に重なる複数の光学フィルムと、を備える偏光板であって、
前記偏光板を貫通する穴の鉛直度が、０．００以上０．３２未満であり、
前記穴の周囲における偏光解消部の幅が、０．００μｍ以上３２μｍ未満である、
偏光板。
【請求項２】
前記穴の周囲における亀裂の数が、単位長さ１ｍｍあたり、０以上３以下である、
請求項１に記載の偏光板。
【請求項３】
前記穴の周囲における亀裂の長さが、０μｍ以上５０μｍ未満である、
請求項１又は２に記載の偏光板。
【請求項４】
前記偏光子を挟む一対の前記光学フィルムのうち少なくとも一方の光学フィルムが、トリアセチルセルロースを含む、
請求項１〜３のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項５】
前記偏光子を挟む一対の前記光学フィルムのうち少なくとも一方の光学フィルムが、環状オレフィンポリマーを含む、
請求項１〜４のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項６】
前記偏光子を挟む一対の前記光学フィルムのうち少なくとも一方の光学フィルムが、（メタ）アクリル系樹脂を含む、
請求項１〜５のいずれか一項に記載の偏光板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の偏光板を含む、
画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
偏光板は、液晶テレビ、有機ＥＬテレビ又はスマートフォン等の画像表示装置を構成する光学部品の一つである。下記特許文献１に示すように、偏光板は、フィルム状の偏光子と、偏光子に重なる光学フィルム（例えば、保護フィルム）と、を備える。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００２−３０３７３０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
テレビ又はスマートフォン等の一般的な画像表示装置の殆どは、四角形状の画面を有するので、画像表示装置に搭載される従来の偏光板も四角形であり、その全体が一様に偏光能を有する。一方、特殊な画像表示装置は、それらの用途に応じて異形を有しており、当該装置に搭載される従来の偏光板も異形である。例えば、スマートウォッチ又は車載メーターに用いられる画像表示装置には、指針の回転軸が貫通するための穴を形成しなければならないことがある。したがって、画像表示装置に搭載される偏光板にも貫通穴を形成することが必要である。偏光板の用途・目的は多様であるので、用途・目的に応じて偏光板に貫通穴を形成しなければならない様々な場合が想定される。
【０００５】
しかしながら、パンチ及びダイを用いたプレス加工（打抜き加工）、又はドリルによる切削加工等の従来の機械的方法によって、貫通穴を偏光板に形成する場合、貫通穴が斜いたり、貫通穴の近傍に亀裂が形成されたりすることがある。貫通穴の傾斜及び亀裂は、貫通穴の近傍における偏光能を損ない、光漏れを引き起こす。「光漏れ」とは、振動方向が偏光子の吸収軸に平行である光が偏光板を透過してしまう現象である。
【０００６】
上記のような機械的方法の代わりに、ＣＯ２レーザー等を用いたレーザー加工（例えば、熱加工）によって貫通穴を偏光板に形成する場合も、貫通穴が傾いたり、貫通穴の近傍に亀裂が形成されたりすることがある。さらに、レーザー加工では、貫通穴が形成される部分がレーザーで加熱されるため、偏光子の化学的な変質により偏光能が損なわれ易い。偏光子の化学的な変質とは、例えば、偏光子の変色又は溶解である。以下では、偏光子の化学的な変質により偏光機能が損なわれた部分を、偏光板の「偏光解消部」と呼ぶ。偏光解消部が広いほど、画像表示装置において光が漏れ易い。本発明者らによる研究の結果、ＣＯ２レーザーよりも波長が短いエキシマレーザーを用いた加工（例えば、アブレーション加工）の場合であっても、貫通穴の形成に伴う上記の技術的問題が起こり得ることがわかった。
【０００７】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、光漏れを抑制することができる偏光板、及び当該偏光板を含む画像表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面に係る偏光板は、フィルム状の偏光子と、偏光子に重なる複数の光学フィルムと、を備え、偏光板を貫通する穴の鉛直度が、０．００以上０．３２未満であり、穴の周囲における偏光解消部の幅が、０．００μｍ以上３２μｍ未満である。「光学フィルム」とは、偏光板を構成するフィルム状の部材（偏光子自体を除く。）を意味する。例えば、光学フィルムは、保護フィルム及び離型フィルムを含意する。
【０００９】
穴の周囲における亀裂の数が、単位長さ１ｍｍあたり、０以上３以下であってよい。
【００１０】
穴の周囲における亀裂の長さが、０μｍ以上５０μｍ未満であってよい。
【００１１】
偏光子を挟む一対の光学フィルムのうち少なくとも一方の光学フィルムが、トリアセチルセルロースを含んでよい。
【００１２】
偏光子を挟む一対の光学フィルムのうち少なくとも一方の光学フィルムが、環状オレフィンポリマーを含んでよい。
【００１３】
偏光子を挟む一対の光学フィルムのうち少なくとも一方の光学フィルムが、（メタ）アクリル系樹脂を含んでよい。
【００１４】
本発明の一側面に係る画像表示装置は、上記偏光板を含む。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、光漏れを抑制することができる偏光板、及び当該偏光板を含む画像表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の一実施形態に係る偏光板の斜視図である。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線方向における偏光板の矢視面（偏光板の表面に垂直な偏光板の断面）の模式図である。
【図３】図１中の偏光板の表面のうち領域ＩＩＩ（偏光板を貫通する穴の周囲）の拡大図である。
【図４】エキシマレーザーのスポットの模式図、及びエキシマレーザーのスポットの中心を通る直線に沿ったエキシマレーザーの強度分布である。
【図５】本発明の一実施形態に係る画像表示装置（液晶表示装置）の断面の模式図である。
【図６】図６中の（ａ）は、偏光板における光漏れを検査する際の偏光板の配置を示す模式的側面図であり、図６中の（ｂ）は、図６中の（ａ）に示す配置の模式的上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照しながら、本発明の好適な実施形態について説明する。図面において、同等の構成要素には同等の符号を付す。本発明は下記実施形態に限定されるものではない。各図に示すＸ，Ｙ及びＺは、互いに直交する３つの座標軸を意味する。各座標軸が示す方向は、全図に共通する。
【００１８】
図１に示すように、本実施形態に係る偏光板１は、フィルム状の偏光子７と、偏光子７に重なる複数の光学フィルム（３，５，９，１３）と、を備える。偏光子７及び複数の光学フィルム（３，５，９，１３）のいずれも、四角形である。複数の光学フィルム（３，５，９，１３）とは、第一保護フィルム５、第二保護フィルム９、第三保護フィルム３、及び離型フィルム１３（セパレータ）である。つまり、偏光板１は、偏光子７、第一保護フィルム５、第二保護フィルム９、第三保護フィルム３、及び離型フィルム１３を備える。偏光板１は、第二保護フィルム９と離型フィルム１３との間に位置する粘着層１１も備える。偏光子７の一方の表面には第一保護フィルム５が重なっており、偏光子７の他方の表面には第二保護フィルム９が重なっている。第一保護フィルム５には第三保護フィルム３が重なっている。つまり、第一保護フィルム５は、偏光子７と第三保護フィルム３との間に位置する。第二保護フィルム９には、粘着層１１を介して、離型フィルム１３が重なっている。換言すると、第二保護フィルム９は、偏光子７と粘着層１１との間に位置する。
【００１９】
偏光板１の一方の表面（第一表面）は、第三保護フィルム３から構成される。偏光板１の他方の表面（第二表面）は、離型フィルム１３から構成される。図２に示す偏光板１の断面は、偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）に垂直である。換言すると、図２に示す偏光板１の断面は、Ｙ軸に垂直であり、ＺＸ面に平行である。換言すると、図２に示す偏光板１の断面は、偏光板１の受光面に垂直である。
【００２０】
偏光板１には、偏光板１を貫通する穴（貫通穴２１）が形成されている。貫通穴２１は、偏光板１の表面（ＸＹ平面）に略垂直であり、偏光子７及び複数の光学フィルム（３，５，９，１３）の積層方向（Ｚ軸方向）に略平行である。偏光板１の表面に平行な方向（ＸＹ平面方向）における貫通穴２１の形状は、例えば、図３に示すように円である。貫通穴２１の内壁は、平滑ではなくてもよい。
【００２１】
貫通穴２１の鉛直度は、０．００以上０．３２未満である。以下では、図２に基づき、鉛直度を説明する。
【００２２】
図２に示す偏光板１の断面は、偏光板１の表面に垂直であり、且つ円形の貫通穴２１の中心軸を含む。偏光板１の一方の表面（第一表面）に位置し、且つ貫通穴２１の縁に相当する第一光学フィルム（例えば、第三保護フィルム３）の端部を、第一端部３ｅと定義する。偏光板１の他方の表面（第二表面）に位置し、且つ貫通穴２１の縁に相当する第二光学フィルム（例えば、離型フィルム１３）の端部を、第二端部１３ｅと定義する。第一端部３ｅ及び第二端部１３ｅのいずれも、偏光板１の表面に垂直な同一断面上に位置する。偏光板１の表面に平行な方向（ＸＹ平面方向）における、第一端部３ｅと第二端部１３ｅとの距離を、ａと定義する。偏光板１の厚み（例えば、厚みの平均値）を、ｂと定義する。鉛直度は、ａ／ｂと定義される。鉛直度は、ａ’／ｂと定義されてもよい。ａ’は、偏光板１の表面に平行な方向における、第一端部３ｅ’と第二端部１３ｅ’との距離である。第一端部３ｅ’とは、上記の第一端部３ｅの向かい側に位置する別の第一端部である。第二端部１３ｅ’とは、上記の第二端部１３ｅの向かい側に位置する別の第二端部である。ａ／ｂは、ａ’／ｂと等しくてよい。ａ／ｂは、ａ’／ｂと異なっていてもよい。ａ／ｂが、ａ’／ｂと異なる場合、ａ／ｂ、及びａ’／ｂのいずれも、０．００以上０．３２未満である。上記の定義に適合する限り、偏光板１の任意の断面においてａ及びｂを測定してよく、ａ及びｂそれぞれの測定値からａ／ｂを計算すればよい。偏光板１の任意の複数の断面において鉛直度ａ／ｂを計算する場合、算出された複数の鉛直度ａ／ｂのうち最大値が、０．００以上０．３２未満であればよい。ａ、ａ’、ｂ、及びｂ’は、例えば、光学顕微鏡を用いた偏光板１の断面の観察に基づき、測定すればよい。
【００２３】
貫通穴２１の鉛直度ａ／ｂが、０．３２未満であることにより、光漏れが抑制される。貫通穴２１の鉛直度ａ／ｂが０．３２以上である場合、貫通穴２１内に露出する偏光子７の断面（端面）において、光の屈折等に起因する光漏れが顕著になる。貫通穴２１の鉛直度ａ／ｂは、０．００以上０．３０以下、０．００以上０．２８以下、０．００以上０．２７以下、０．０５以上０．３０以下、０．０５以上０．２８以下、又は０．０５以上０．２７以下であってよい。鉛直度ａ／ｂが小さいほど、光漏れが抑制され易い。したがって、ａはゼロであることが最も好ましい。つまり、鉛直度ａ／ｂはゼロであることが最も好ましい。鉛直度ａ／ｂがゼロであることは、貫通穴２１が偏光板１の表面（第一表面及び第二表面）に対して完全に垂直であることを意味する。
【００２４】
偏光板１の厚みｂは、例えば、１０μｍ以上１２００μｍ以下、１０μｍ以上５００μｍ以下、１０μｍ以上３００μｍ以下、又は１０μｍ以上２００μｍ以下であってよい。第一端部と第二端部との距離ａ又はａ’は、ａ／ｂが０．００以上０．３２未満である限り、任意の値であってよい。
【００２５】
貫通穴２１の両端の開口部が、一対の同心円である場合、鉛直度は、以下のように定義されてもよい。貫通穴２１の一端（開口部）の内径（直径）を、ｄ１と定義する。貫通穴２１の他端（開口部）の内径（直径）を、ｄ２と定義する。このとき、貫通穴２１の鉛直度は、（ｄ１−ｄ２）／２ｂの絶対値と定義されてよい。この定義は、上記の定義（ａ／ｂ）と矛盾しない。つまり、（ｄ１−ｄ２）／２の絶対値は、ａ又はａ’に等しい。ｄ１及びｄ２は、例えば、光学顕微鏡を用いた偏光板１の両表面の観察に基づき、測定すればよい。
【００２６】
貫通穴２１の周囲には、偏光解消部２３が形成されている場合がある。偏光解消部２３は、貫通穴２１の形成過程において、偏光子７又は偏光子７に重なる光学フィルム（３，５，９，１３）の化学的な変質によって生じる。偏光解消部２３は、第一表面（例えば、第三保護フィルム３の表面）に沿って形成されていてよい。偏光解消部２３は、第一表面の裏側にある第二表面（例えば、離型フィルム１３の表面）に沿って形成されていてもよい。偏光解消部２３は、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において連続的又は不連続的に存在していてよい。つまり、偏光解消部２３は、偏光板１の表面からの深さを有していてよい。言い換えれば、偏光解消部２３は、３次元的に分布していてよい。例えば、偏光解消部２３は、貫通穴２１の全体を囲む筒状の部分であってよい。偏光解消部２３は、光漏れの一因である。偏光解消部２３における光漏れは、偏光子７又は偏光子７に重なる光学フィルム（３，５，９，１３）の化学的組成の変化に起因する。例えば、偏光子７を構成するポリビニルアルコール又は色素分子（ヨウ素を含む化合物）の配向性の乱れによって、偏光解消部２３における光漏れが起こる。
【００２７】
偏光板１の貫通穴２１の周囲における偏光解消部２３の幅Ｗは、０．００μｍ以上３２μｍ未満である。図３に示すように、偏光解消部２３の幅Ｗとは、偏光板１の表面に平行な方向における偏光解消部２３の幅である。ここで、「偏光板１の表面」とは、第一表面（例えば、第三保護フィルム３の表面）であってよく、第一表面の裏側にある第二表面（例えば、離型フィルム１３の表面）であってもよい。偏光板１の第一表面に垂直な方向において観察される偏光解消部２３の幅Ｗが０．００μｍ以上３２μｍ未満であり、且つ、偏光板１の第二表面に垂直な方向において観察される偏光解消部２３の幅Ｗが０．００μｍ以上３２μｍ未満であってよい。偏光解消部２３の幅Ｗは、ＸＹ平面方向における偏光解消部２３の幅と言い換えてもよい。偏光板１は略透明であるため、第二表面側（離型フィルム１３の表面側）に位置する偏光解消部２３が、第一表面側（第三保護フィルム３の表面側）から観察されてよい。つまり、第一表面側（第三保護フィルム３の表面側）で観察される偏光解消部２３は、必ずしも第一光学フィルム（第三保護フィルム３）に形成されているわけではない。また、偏光板１の内部に位置する偏光解消部２３が、第一表面側又は第二表面側から観察されてもよい。第一表面側（第三保護フィルム３の表面側）に位置している偏光解消部２３が、第二表面側（離型フィルム１３の表面側）から観察されてよい。つまり、第二表面側（離型フィルム１３の表面側）で観察される偏光解消部２３は、必ずしも第二光学フィルム（離型フィルム１３）に形成されているわけではない。偏光板１は略透明であるため、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において偏光板１の表面を観察した際に、３次元的に分布する偏光解消部２３が、重なり合った状態で見えてよい。つまり、貫通穴２１の周囲において３次元的に分布する偏光解消部２３が、偏光板１の表面（ＸＹ平面）における２次元の正射影（例えば、貫通穴２１を囲む環）として観察されてよい。
【００２８】
偏光解消部２３の幅Ｗが３２μｍ未満であることにより、光漏れが抑制される。偏光解消部２３の幅Ｗが３２μｍ以上である場合、偏光解消部２３における光漏れが顕著になる。偏光板１の偏光解消部２３の幅Ｗは、０．００μｍ以上２０μｍ以下、０．００μｍ以上１９μｍ以下、又は０．００μｍ以上１８μｍ以下であってよい。偏光解消部２３の幅Ｗが小さいほど、光漏れが抑制され易い。したがって、偏光解消部２３の幅Ｗは０．００μｍであることが最も好ましい。つまり、偏光解消部２３はないことが最も好ましい。貫通穴２１の周囲における偏光解消部２３の幅Ｗは、０．００μｍ以上３２μｍ未満の範囲内である限り、一定でなくてよい。偏光解消部２３の幅Ｗが一定でない場合、偏光解消部２３の幅Ｗの最大値が、３２μｍ未満である。
【００２９】
貫通穴２１の周囲には、亀裂２５が形成されている場合がある。亀裂２５は、第一表面（第三保護フィルム３の表面）に沿って形成されていてよい。亀裂２５は、第一表面の裏側にある第二表面（離型フィルム１３の表面）に沿って形成されていてもよい。亀裂２５は、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において連続的又は不連続的に形成されていてよい。つまり、亀裂２５は、偏光板１の表面からの深さを有していてよい。言い換えれば、亀裂２５は、３次元的に分布していてよい。
【００３０】
偏光板１の貫通穴２１の周囲における亀裂２５の数は、単位長さ１ｍｍあたり、０以上３以下であってよい。「単位長さ１ｍｍ」とは、貫通穴２１の縁に平行であり、且つ長さが１ｍｍである直線又は曲線である。例えば、貫通穴２１の形状が円である場合、単位長さとは、貫通穴２１の円形の縁に平行な円弧である。「亀裂２５の数」とは、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において観察される亀裂２５のうち、単位長さ１ｍｍと交わる亀裂２５の個数である。第一表面（例えば、第三保護フィルム３の表面）において観察される亀裂２５を数えてよい。第一表面の裏側にある第二表面（例えば、離型フィルム１３の表面）において観察される亀裂２５を数えてもよい。偏光板１の第一表面において観察される亀裂２５の数が、単位長さ１ｍｍあたり、０以上３以下であり、且つ、偏光板１の第二表面において観察される亀裂２５の数が、単位長さ１ｍｍあたり、０以上３以下であってよい。偏光板１は略透明であるため、第二表面側（離型フィルム１３の表面側）に位置する亀裂２５が、第一表面側（第三保護フィルム３の表面側）から観察されてよい。つまり、第一表面側（第三保護フィルム３の表面側）で観察される亀裂２５は、必ずしも第一光学フィルム（第三保護フィルム３）に形成されているわけではない。また、偏光板１の内部に位置する亀裂２５が、第一表面側又は第二表面側から観察されてもよい。第一表面側（第三保護フィルム３の表面側）に位置している亀裂２５が、第二表面側（離型フィルム１３の表面側）から観察されてよい。つまり、第二表面側（離型フィルム１３の表面側）で観察される亀裂２５は、必ずしも第二光学フィルム（離型フィルム１３）に形成されているわけではない。偏光板１は略透明であるため、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において偏光板１の表面を観察した際に、３次元的に分布する亀裂２５が、重なり合った状態で見えてよい。つまり、３次元的に分布する亀裂２５が、偏光板１の表面（ＸＹ平面）における２次元の正射影として観察されてよい。偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において重なり合う複数の亀裂２５が、偏光板１の表面においては一つの亀裂２５として見えてよい。つまり、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において重なり合う複数の亀裂２５が、偏光板１の表面においては一つの亀裂２５として数えられてよい。
【００３１】
亀裂２５の数が３以下である場合、光漏れが更に抑制され易い。亀裂２５の長さｌは、０μｍ以上５０μｍ未満であってよい。亀裂２５の長さｌは、偏光板１の表面に垂直な方向（Ｚ軸方向）において観察される亀裂２５の長さであり、亀裂２５の一方の端部と貫通穴２１の縁との最短距離である。亀裂２５の長さｌは、第一表面（例えば、第三保護フィルム３の表面）において測定されてよい。亀裂２５の長さｌは、第一表面の裏側にある第二表面（例えば、離型フィルム１３の表面）において測定されてもよい。偏光板１の第一表面において測定される亀裂２５の長さｌが０μｍ以上５０μｍ未満であり、且つ、偏光板１の第二表面において測定される亀裂２５の長さｌが０μｍ以上５０μｍ未満であってよい。亀裂２５の長さｌが５０μｍ未満である場合、視認される程度の光漏れが更に抑制され易い。亀裂２５の数が少なく、亀裂２５が短いほど、光漏れが更に抑制され易い。また、亀裂２５の数が少なく、亀裂２５が短いほど、偏光板１の機械的強度が高く、画像表示装置の製造過程における偏光板１の破損が抑制され易い。したがって、亀裂２５はないことが最も好ましい。
【００３２】
貫通穴２１の直径ｄ（内径ｄ１又はｄ２）は、例えば、５０〜５０００μｍであってよい。
【００３３】
本実施形態に係る偏光板１の製造方法は、
フィルム状の偏光子と、複数の光学フィルムと、を重ねて、積層体を形成する工程と、
積層体にエキシマレーザーのパルス波を照射して、積層体を貫通する穴（貫通穴２１）を形成する工程と、を備え、
エキシマレーザーの出力が、２０Ｗ未満であり、
エキシマレーザーのスポットの外周部分の強度が、スポットの強度の極大値の８０％より大きく、
エキシマレーザーの集光径が、５０μｍよりも大きく、
エキシマレーザーの繰り返し周波数が、１０００Ｈｚ未満である。
本実施形態では、上記積層体においてエキシマレーザーが照射された部分に、貫通穴２１が形成される。以下では、各工程について詳しく説明する。
【００３４】
積層体は、偏光子７と各光学フィルム（３，５，９，１３）との貼合、又は光学フィルム同士の貼合を繰り返すことにより得られる。なお、粘着層１１は、例えば、第二保護フィルム９の表面に粘着剤を塗布することによって形成されてよい。
【００３５】
エキシマレーザーは、下記のいずかであってよい。
Ｆ２レーザー（発振波長：１５７ｎｍ）
ＡｒＦレーザー（発振波長：１９３ｎｍ）
ＫｒＦレーザー（発振波長：２４８ｎｍ）
ＸｅＣｌレーザー（発振波長：３０８ｎｍ）
ＸｅＦレーザー（発振波長：３５１ｎｍ）
【００３６】
エキシマレーザーの発振波長は、他のレーザーの発振波長よりもはるかに短い。例えば、ＣＯ２レーザーの発振波長は、９．４μｍ又は１０．６μｍである。波長が短いエキシマレーザーを積層体に照射する場合、偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）を構成する高分子が瞬時に分解・昇華し易く、エキシマレーザーの照射に伴う積層体の加熱が抑制される。したがって、鉛直度が小さい貫通穴２１が瞬時に形成され易く、熱に起因する偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）の化学的な変質も抑制される。一方、波長が長いレーザーを積層体に照射する場合、レーザーが照射された部分において、温度は上昇し易いが、偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）を構成する高分子の分解・昇華は起き難い。つまり、レーザーの照射により加熱された部分が溶融・変形することによりはじめて、貫通穴が形成される。したがって、仮にエキシマレーザーよりも波長が長いレーザーを用いる場合、貫通穴の鉛直度を制御し難く、偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）の化学的な変質によって偏光解消部が形成され易い。
【００３７】
エキシマレーザーの出力は、１Ｗ以上２０Ｗ未満である。エキシマレーザーの出力が２０Ｗ以上である場合、貫通穴２１の周囲において亀裂２５が形成され易く、偏光解消部２３の幅Ｗが大きくなり易い。エキシマレーザーの出力は、５Ｗ以上８Ｗ以下であってよい。
【００３８】
図４に示すように、エキシマレーザーのスポットＬＳは円形である。エキシマレーザーのスポットＬＳの中心Ｌｃを通る直線に沿ったエキシマレーザーのスポットＬＳの強度分布ＩＤは、トップハット型である。スポットＬＳは、エキシマレーザーの進行方向に垂直なエキシマレーザーの断面と言い換えてよい。トップハット型のエキシマレーザーを用いて形成した貫通穴の鉛直度は、強度分布がガウス型であるエキシマレーザーを用いて形成した貫通穴の鉛直度に比べて、小さくなり易い。エキシマレーザーのスポットＬＳの外周部分Ｌｅの強度ＩＬｅは、スポットＬＳの強度の極大値ＩＬｃの８０％より大きく、ＩＬｃの１００％以下である。換言すれば、（ＩＬｅ／ＩＬｃ）×１００が、８０％より大きく１００％以下である。換言すれば、｛（ＩＬｃ−ＩＬｅ）／ＩＬｃ｝×１００が、０％以上２０％未満である。ＩＬｃは、強度分布ＩＤにおける平坦部（トップ部）の強度の平均値と言い換えてよい。ＩＬｃは、スポットＬＳの中心Ｌｃの強度と言い換えてもよい。ＩＬｅがＩＬｃの８０％以下である場合、鉛直度ａ／ｂが大きくなり易い。換言すると、（ＩＬｅ／ＩＬｃ）×１００が８０％以下である場合、鉛直度ａ／ｂが大きくなり易い。換言すると、｛（ＩＬｃ−ＩＬｅ）／ＩＬｃ｝×１００が２０％以上である場合、鉛直度ａ／ｂが大きくなり易い。ＩＬｅは、ＩＬｃの９０％以上９５％以下であってよい。換言すると、（ＩＬｅ／ＩＬｃ）×１００が、９０％以上９５％以下であってよい。換言すると、｛（ＩＬｃ−ＩＬｅ）／ＩＬｃ｝×１００は、５％以上１０％以下であってよい。強度ＩＬｅ及び強度ＩＬｃの単位は、例えば、Ｗ／ｍ２であってよい。
【００３９】
エキシマレーザーの集光径と同程度の直径ｄを有する貫通穴２１を形成する場合、エキシマレーザーの集光径は、５０μｍよりも大きく、２０００μｍ以下である。エキシマレーザーの集光径が５０μｍ以下である場合、鉛直度ａ／ｂが大きくなり易い。エキシマレーザーの集光径とは、エキシマレーザーのスポットＬＳの直径と言い換えてよい。エキシマレーザーの集光径は、６００μｍ以上１０００μｍ以下であってよい。エキシマレーザーの集光径は、貫通穴２１の直径ｄと一致しなくてよい。例えば、積層体の表面における所定の領域を、集光径が小さいエキシマレーザーで走査することにより、エキシマレーザー集光径よりも大きい直径ｄを有する貫通穴２１を形成してもよい。
【００４０】
エキシマレーザーの繰り返し周波数は、１０Ｈｚ以上１０００Ｈｚ未満である。エキシマレーザーの繰り返し周波数が１０００Ｈｚ以上である場合、亀裂２５が形成され易く、偏光解消部２３も形成され易い。エキシマレーザーの繰り返し周波数は、１００Ｈｚ以上５００Ｈｚ以下であってよい。
【００４１】
エキシマレーザーが照射された表面側（例えば、第三保護フィルム３側）の貫通穴２１の内径は、その反対側（例えば、離型フィルム１３側）の貫通穴２１の内径よりも大きい傾向がある。
【００４２】
偏光子７は、延伸、染色及び架橋等の工程によって作製されたフィルム状のポリビニルアルコール系樹脂であってよい。偏光子７の詳細は以下の通りである。
【００４３】
例えば、まず、フィルム状のポリビニルアルコール系樹脂を、一軸方向又は二軸方向に延伸する。一軸方向に延伸された偏光子７の二色比は、高い傾向がある。延伸に続いて、ヨウ化カリウム等を含む染色液を用いて、ポリビニルアルコール系樹脂をヨウ素又は二色性色素（ポリヨウ素）によって染色する。染色液は、ホウ酸、硫酸亜鉛、又は塩化亜鉛を含んでいてもよい。染色前にポリビニルアルコール系樹脂を水洗してもよい。水洗により、ポリビニルアルコール系樹脂の表面から、汚れ及びブロッキング防止剤が除去される。また水洗によってポリビニルアルコール系樹脂が膨潤する結果、染色の斑（不均一な染色）が抑制され易い。染色後のポリビニルアルコール系樹脂を、架橋のために、架橋剤の溶液（例えば、ホウ酸の水溶液）で処理する。架橋剤による処理後、ポリビニルアルコール系樹脂を水洗し、続いて乾燥する。以上の手順を経て、偏光子７が得られる。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリ酢酸ビニル系樹脂をケン化することにより得られる。ポリ酢酸ビニル系樹脂は、例えば、酢酸ビニルの単独重合体であるポリ酢酸ビニル、又は、酢酸ビニルと他の単量体との共重合体（例えば、エチレン−酢酸ビニル共重合体）であってよい。酢酸ビニルと共重合する他の単量体は、エチレンの他に、不飽和カルボン酸類、オレフィン類、ビニルエーテル類、不飽和スルホン酸類、又はアンモニウム基を有するアクリルアミド類であってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、アルデヒド類で変性されていてもよい。変性されたポリビニルアルコール系樹脂は、例えば、部分ホルマール化ポリビニルアルコール、ポリビニルアセタール、又はポリビニルブチラールであってよい。ポリビニルアルコール系樹脂は、ポリビニルアルコールの脱水処理物、又はポリ塩化ビニルの脱塩酸処理物等のポリエン系配向フィルムであってよい。延伸前に染色を行ってもよく、染色液中で延伸を行ってもよい。延伸された偏光子７の長さは、例えば、延伸前の長さの３〜７倍であってよい。
【００４４】
偏光子７の厚みは、例えば、１μｍ以上５０μｍ以下、又は４μｍ以上３０μｍ以下であってよい。一般的に、薄い偏光子７が一軸方向に延伸されている場合、穴開け工程又はチップカット工程において、延伸方向に沿った亀裂２５が形成され易い。しかし、エキシマレーザーを用いた上記の穴開け工程により、亀裂２５の形成を抑制することができる。
【００４５】
第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９は、透光性を有する熱可塑性樹脂であればよく、光学的に透明な熱可塑性樹脂であってもよい。第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９を構成する樹脂は、例えば、鎖状ポリオレフィン系樹脂、環状オレフィンポリマー系樹脂（ＣＯＰ系樹脂）、セルロースエステル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、又はこれらの混合物若しくは共重合体であってよい。第一保護フィルム５の組成は、第二保護フィルム９の組成と全く同じであってよい。第一保護フィルム５の組成は、第二保護フィルム９の組成と異なっていてもよい。
【００４６】
鎖状ポリオレフィン系樹脂は、例えば、ポリエチレン樹脂又はポリプロピレン樹脂のような鎖状オレフィンの単独重合体であってよい。鎖状ポリオレフィン系樹脂は、二種以上の鎖状オレフィンからなる共重合体であってもよい。
【００４７】
環状オレフィンポリマー系樹脂（環状ポリオレフィン系樹脂）は、例えば、環状オレフィンの開環（共）重合体、又は環状オレフィンの付加重合体であってよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、例えば、環状オレフィンと鎖状オレフィンとの共重合体（例えば、ランダム共重合体）であってよい。共重合体を構成する鎖状オレフィンは、例えば、エチレン又はプロピレンであってよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、上記の重合体を不飽和カルボン酸若しくはその誘導体で変性したグラフト重合体、又はそれらの水素化物であってもよい。環状オレフィンポリマー系樹脂は、例えば、ノルボルネン又は多環ノルボルネン系モノマー等のノルボルネン系モノマーを用いたノルボルネン系樹脂であってよい。
【００４８】
セルロースエステル系樹脂は、例えば、セルローストリアセテート（トリアセチルセルロース（ＴＡＣ））、セルロースジアセテート、セルローストリプロピオネート又はセルロースジプロピオネートであってよい。これらの共重合物を用いてもよい。水酸基の一部が他の置換基で修飾されたセルロースエステル系樹脂を用いてもよい。
【００４９】
セルロースエステル系樹脂以外のポリエステル系樹脂を用いてもよい。ポリエステル系樹脂は、例えば、多価カルボン酸又はその誘導体と多価アルコールとの重縮合体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、ジカルボン酸又はその誘導体であってよい。多価カルボン酸又はその誘導体は、例えば、テレフタル酸、イソフタル酸、ジメチルテレフタレート、又はナフタレンジカルボン酸ジメチルであってよい。多価アルコールは、例えば、ジオールであってよい。多価アルコールは、例えば、エチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、又はシクロヘキサンジメタノールであってよい。
【００５０】
ポリエステル系樹脂は、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンナフタレート、ポリトリメチレンテレフタレート、ポリトリメチレンナフタレート、ポリシクロへキサンジメチルテレフタレート、又はポリシクロヘキサンジメチルナフタレートであってよい。
【００５１】
ポリカーボネート系樹脂は、カルボナート基を介して重合単位（モノマー）が結合された重合体である。ポリカーボネート系樹脂は、修飾されたポリマー骨格を有する変性ポリカーボネートであってよく、共重合ポリカーボネートであってもよい。
【００５２】
（メタ）アクリル系樹脂は、例えば、ポリ（メタ）アクリル酸エステル（例えば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ））；メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸共重合体；メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸エステル共重合体；メタクリル酸メチル−アクリル酸エステル−（メタ）アクリル酸共重合体；（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体（例えば、ＭＳ樹脂）；メタクリル酸メチルと脂環族炭化水素基を有する化合物との共重合体（例えば、メタクリル酸メチル−メタクリル酸シクロヘキシル共重合体、メタクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ノルボルニル共重合体等）であってよい。
【００５３】
偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）のうち少なくとも一方の光学フィルムが、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）を含んでよい。偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）のうち少なくとも一方の光学フィルムが、環状オレフィンポリマー系樹脂（ＣＯＰ系樹脂）を含んでよい。偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）のうち少なくとも一方の光学フィルムが、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）を含んでよい。偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）の両方が、トリアセチルセルロースを含んでもよい。偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）のうち一方のフィルムが、トリアセチルセルロースを含み、偏光子７を挟む一対の光学フィルムのうち他方のフィルムが、環状オレフィンポリマーを含んでもよい。偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）のうち一方のフィルムが、トリアセチルセルロースを含み、偏光子７を挟む一対の光学フィルムのうち他方のフィルムが、ポリメタクリル酸メチルを含んでもよい。偏光子７を挟む一対の光学フィルム（第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９）のうち一方のフィルムが、環状オレフィンポリマー系樹脂を含み、偏光子７を挟む一対の光学フィルムのうち他方のフィルムが、ポリメタクリル酸メチルを含んでもよい。ＴＡＣ、ＣＯＰ系樹脂又はＰＭＭＡから構成される光学フィルムが偏光子７に接する場合、従来の加工方法によって貫通穴２１の鉛直度ａ／ｂを低減し、且つ偏光解消部２３及び亀裂２５の形成を抑制することは困難である。しかし、エキシマレーザーを用いた上記の穴開け工程により、貫通穴２１の鉛直度ａ／ｂを低減し、且つ偏光解消部２３及び亀裂２５の形成を抑制する。
【００５４】
偏光子７又は各光学フィルム（３，５，９，又は１３）のガラス転移温度Ｔｇは、１００〜１８０℃、又は１０８〜１８０℃であってよい。光学フィルム（３，５，９，又は１３）がトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）からなる場合、光学フィルム（３，５，９，又は１３）のガラス転移温度Ｔｇは、１６０〜１８０℃であってよい。光学フィルム（３，５，９，又は１３）が環状オレフィンポリマー系樹脂（ＣＯＰ系樹脂）からなる場合、光学フィルム（３，５，９，又は１３）のガラス転移温度Ｔｇは、１２６〜１３６℃であってよい。光学フィルム（３，５，９，又は１３）がポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）からなる場合、光学フィルム（３，５，９，又は１３）のガラス転移温度Ｔｇは、１０８〜１３６℃であってよい。偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）のガラス転移温度Ｔｇが１００℃以上である場合、偏光板１は耐熱性に優れ、エキシマレーザーの照射に伴う熱に起因する偏光板１の変形が抑制され易い。
【００５５】
第一保護フィルム５又は第二保護フィルム９は、滑剤、可塑剤、分散剤、熱安定剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、及び酸化防止剤からな群より選ばれる少なくとも一種の添加剤を含んでよい。
【００５６】
第一保護フィルム５の厚みは、例えば、５μｍ以上９０μｍ以下、５μｍ以上８０μｍ以下、又は５μｍ以上５０μｍ以下であってよい。第二保護フィルム９の厚みも、例えば、５μｍ以上９０μｍ以下、５μｍ以上８０μｍ以下、又は５μｍ以上５０μｍ以下であってよい。
【００５７】
第一保護フィルム５又は第二保護フィルム９は、位相差フィルム又は輝度向上フィルムのように、光学機能を有するフィルムであってよい。例えば、上記熱可塑性樹脂からなるフィルムを延伸したり、該フィルム上に液晶層等を形成したりすることにより、任意の位相差値が付与された位相差フィルムが得られる。
【００５８】
第一保護フィルム５は、接着層を介して、偏光子７に貼合されていてよい。第二保護フィルム９も、接着層を介して、偏光子７に貼合されていてよい。接着層は、ポリビニルアルコール等の水系接着剤を含んでよく、後述する活性エネルギー線硬化性樹脂を含んでもよい。
【００５９】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、活性エネルギー線を照射されることにより、硬化する樹脂である。活性エネルギー線は、例えば、紫外線、可視光、電子線、又はＸ線であってよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線硬化性樹脂であってよい。
【００６０】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、一種の樹脂であってよく、複数種の樹脂を含んでもよい。例えば、活性エネルギー線硬化性樹脂は、カチオン重合性の硬化性化合物、又はラジカル重合性の硬化性化合物を含んでよい。活性エネルギー線硬化性樹脂は、上記硬化性化合物の硬化反応を開始させるためのカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤を含んでよい。
【００６１】
カチオン重合性の硬化性化合物は、例えば、エポキシ系化合物（分子内に少なくとも一つのエポキシ基を有する化合物）、又はオキセタン系化合物（分子内に少なくとも一つのオキセタン環を有する化合物）であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、例えば、（メタ）アクリル系化合物（分子内に少なくとも一つの（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物）であってよい。ラジカル重合性の硬化性化合物は、ラジカル重合性の二重結合を有するビニル系化合物であってもよい。
【００６２】
活性エネルギー線硬化性樹脂は、必要に応じて、カチオン重合促進剤、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤、消泡剤、帯電防止剤、レベリング剤、又は溶剤等を含んでよい。
【００６３】
粘着層１１は、例えば、アクリル系感圧型接着剤、ゴム系感圧型接着剤、シリコーン系感圧型接着剤、又はウレタン系感圧型接着剤などの感圧型接着剤を含んでよい。粘着層１１の厚みは、例えば、２μｍ以上５００μｍ以下、２μｍ以上２００μｍ以下、又は２μｍ以上５０μｍ以下であってよい。
【００６４】
第三保護フィルム３を構成する樹脂は、第一保護フィルム５又は第二保護フィルム９を構成する樹脂として列挙された上記の樹脂と同じであってよい。第三保護フィルム３の厚みは、例えば、５μｍ以上２００μｍ以下であってよい。
【００６５】
離型フィルム１３を構成する樹脂は、第一保護フィルム５又は第二保護フィルム９を構成する樹脂として列挙された上記の樹脂と同じであってよい。離型フィルム１３の厚みは、例えば、５μｍ以上２００μｍ以下であってよい。
【００６６】
本発明に係る画像表示装置は、例えば、液晶表示装置又は有機ＥＬ表示装置等であってよい。例えば、図５に示すように、本実施形態に係る液晶表示装置３０は、液晶セル１０と、液晶セル１０の一方の表面（第一表面）に重なる偏光板１ａ（第一偏光板）と、液晶セル１０の他方の表面（第二表面）に重なる別の偏光板１ｂ（第二偏光板）と、を備える。図５に示す偏光板１ａ及び１ｂは、離型フィルム１３及び第三保護フィルム３を備えない点を除いて、図１及び２に示す偏光板１と同じである。偏光板１ａ（第一偏光板）は、粘着層１１を介して、液晶セル１０の第一表面に貼着されている。偏光板１ａ（第一偏光板）は、液晶セル１０の第一表面に重なる粘着層１１と、粘着層１１に重なる第二保護フィルム９と、第二保護フィルム９に重なる偏光子７と、偏光子７に重なる第一保護フィルム５と、を有する。別の偏光板１ｂ（第二偏光板）は、粘着層１１を介して、液晶セル１０の第二表面に貼着されている。別の偏光板１ｂ（第二偏光板）は、液晶セル１０の第二表面に重なる粘着層１１と、粘着層１１に重なる第二保護フィルム９と、第二保護フィルム９に重なる偏光子７と、偏光子７に重なる第一保護フィルム５と、を有する。液晶セル１０と、一対の偏光板１ａ及び１ｂとが、液晶パネル２０を構成する。液晶パネル２０と、バックライト（面光源装置）その他の部材とが、液晶表示装置３０を構成する。バックライトその他の部材は、図５において省略する。
【００６７】
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に何ら限定されるものではない。
【００６８】
偏光板の形状は、用途に応じた様々な形であってよい。ここで、偏光板の形状とは、図１〜３のＺ方向（偏光板１の表面に垂直な方向）から見た偏光板全体の形状である。例えば、偏光板の形状は、四角形以外の多角形であってよい。例えば、偏光板は、円形、楕円形、又は不定形であってもよい。偏光板の外縁は、直線（複数の辺）のみからなっていってよい。ここで、偏光板の外縁とは、図１〜３のＺ方向（偏光板の表面に垂直な方向）から見た偏光板の外縁である。偏光板の外縁は、曲線のみからなっていってよい。偏光子７及び各光学フィルム（３，５，９，１３）それぞれの形状も、用途に応じた様々な形であってよい。
【００６９】
偏光板１の表面に平行な方向（ＸＹ平面方向）における貫通穴の形状は、偏光板の用途に応じた様々な形であってよい。貫通穴の形状は、円以外であってよい。例えば、貫通穴の形状は、楕円形、多角形、又は不定形であってよい。複数の貫通穴２１が偏光板１に形成されていてよい。形が同じである複数の貫通穴が、偏光板１に形成されていてよい。互いに形が異なる複数の貫通穴が、偏光板１に形成されていてよい。偏光板１における貫通穴の位置は、限定されない。例えば、偏光板１が円形である場合、貫通穴は、偏光板１の表面の中心（円の中心）に形成されていてよい。
【００７０】
偏光板が備える光学フィルム（偏光子に重なる光学フィルム）の枚数は限定されない。偏光板が備える光学フィルムの枚数が１枚であってよい。例えば、図１及び２に示す偏光板１は、第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９のうち、いずれか一方の保護フィルムを備えないものであってもよいし、両方の保護フィルムを備えないものであってもよい。例えば、図５に示す偏光板１ａ（第一偏光板）及び偏光板１ｂ（第二偏光板）のうちいずれか一方の偏光板あるいは両方の偏光板が、第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９のうち、いずれか一方の保護フィルムを備えなくてもよい。図５に示す偏光板１ａ（第一偏光板）及び偏光板１ｂ（第二偏光板）のうちいずれか一方の偏光板あるいは両方の偏光板が、両方の保護フィルムを備えなくてもよい。
【００７１】
離型フィルムが、粘着層を介して、偏光板の両面に配置されていてもよい。
【００７２】
偏光板が備える光学フィルムは、反射型偏光フィルム、防眩機能付フィルム、表面反射防止機能付フィルム、反射フィルム、半透過反射フィルム、視野角補償フィルム、光学補償層、タッチセンサー層、帯電防止層又は防汚層であってもよい。
【００７３】
偏光板が、ハードコート層をさらに備えてもよい。例えば、偏光板１が、第一保護フィルム５が、ハードコート層と偏光子７との間に位置してよく、ハードコート層は、第一保護フィルム５と第三保護フィルム３との間に位置してよい。この場合、第一保護フィルム５が、トリアセチルセルロースを含んでよい。ハードコート層の表面硬度（鉛筆硬度）は、Ｈ以上５Ｈ以下、又は２Ｈ以上５Ｈ以下であってよい。鉛筆硬度は、日本工業規格（ＪＩＳ  Ｋ  ５４００）に基づく。鉛筆硬度が上記範囲になるハードコート層は、偏光板１の製造過程において傷付き難い。しかし、ハードコード層は硬くて脆いので、従来の加工方法によって貫通穴を形成する場合、亀裂がハードコート層に形成され易い。しかし、エキシマレーザーを用いた上記の穴開け工程により、ハードコート層における亀裂の形成を抑制することができる。
【００７４】
ハードコート層は、例えば、微細な凹凸形状が表面に設けられたアクリル系樹脂フィルムから構成される層である。ハードコート層は、例えば、有機微粒子又は無機微粒子を含有する塗膜から形成されてよい。この塗膜を、凹凸形状を有するロールに押し当てる方法（たとえばエンボス法等）を用いてもよい。有機微粒子又は無機微粒子を含有しない塗膜を形成後、この塗膜を、凹凸形状を有するロールに押し当てる方法を用いてもよい。
無機微粒子は、例えば、シリカ、コロイダルシリカ、アルミナ、アルミナゾル、アルミノシリケート、アルミナ−シリカ複合酸化物、カオリン、タルク、マイカ、炭酸カルシウム、リン酸カルシウム等であってよい。また、有機微粒子（樹脂粒子）は、例えば、架橋ポリアクリル酸粒子、メタクリル酸メチル／スチレン共重合体樹脂粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋ポリメチルメタクリレート粒子、シリコーン樹脂粒子、ポリイミド粒子等であってよい。
無機微粒子又は有機微粒子を分散させるためのバインダー成分は、高硬度（ハードコート）となる材料から選定されればよい。バインダー成分は、例えば、紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂等であってよい。生産性、硬度などの観点から、バインダー成分としては、紫外線硬化性樹脂が好ましく使用される。
ハードコート層の厚みは、例えば、２μｍ以上３０μｍ以下、又は３μｍ以上３０μｍ以下であってよい。ハードコート層の厚みが２μｍ以上ある場合、ハードコート層の十分な硬度が得られ易く、ハードコート層の表面がより傷付き難い。ハードコート層の厚みが３０μｍ以下である場合、ハードコート層がより割れ難くなり、ハードコート層の硬化収縮に因る偏光板の湾曲（カール）が抑制され易く、生産性が向上し易い傾向がある。
【００７５】
偏光子７の厚みが３０μｍ以下であり、且つ偏光子７の単体透過率Ｔが４２．５以上であり、且つ偏光子７の偏光度Ｐが９９．９以上であってよい。従来、偏光子が薄くて単体透過率及び偏光度が大きい場合、偏光板に形成された貫通穴の周囲において光漏れが認識され易かった。しかし、エキシマレーザーを用いた上記の穴開け工程によって鉛直度の小さい貫通穴２１を形成する場合、薄くて単体透過率及び偏光度が大きい偏光子７を備える偏光板１における光漏れを抑制することができる。
【００７６】
偏光子７、第一保護フィルム５及び第二保護フィルム９の３つのフィルムから構成される積層体の水分率は、１．０〜５．０％、０．５〜５．５％、又は１．０〜５．０％であってよい。水分率が上記範囲内であることにより、加熱に伴う偏光板１の反りが抑制され易く、偏光板１における光漏れが更に抑制され易い。
【００７７】
図１及び２に示す偏光板１では、第三保護フィルム３側（第一光学フィルム側）における貫通穴２１の内径ｄ１が、離型フィルム１３側（第二光学フィルム側）における貫通穴２１の内径ｄ２よりも大きいが、第三保護フィルム３側（第一光学フィルム側）における貫通穴２１の内径ｄ１が、離型フィルム１３側（第二光学フィルム側）における貫通穴２１の内径ｄ２よりも小さくてもよい。換言すれば、図１及び２に示す偏光板１では、第一保護フィルム５側における貫通穴２１の内径ｄ１が、第二保護フィルム９側における貫通穴２１の内径ｄ２よりも大きいが、第一保護フィルム５側における貫通穴２１の内径ｄ１が、第二保護フィルム９側における貫通穴２１の内径ｄ２よりも小さくてもよい。
【００７８】
偏光板１は、第三保護フィルム３及び離型フィルム１３のうち一方又は両方を備えなくてもよい。例えば、第三保護フィルム３は、画像表示装置の製造過程において、偏光板１から剥離され、除去されてよい。つまり、第三保護フィルム３は、仮保護フィルムであってよい。離型フィルム１３も、画像表示装置の製造過程において、偏光板１から剥離され、除去されてよい。
【実施例】
【００７９】
以下、本発明を実施例により更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００８０】
（実施例１）
図１に示すような偏光子７及び光学フィルム（３，５，９，１３）から構成される板状の積層体を形成した。積層体は、離型フィルム１３と、離型フィルム１３に重なる粘着層１１と、粘着層１１に重なる第二保護フィルム９と、第二保護フィルム９に重なる偏光子７と、偏光子７に重なる第一保護フィルム５と、第一保護フィルム５に重なる第三保護フィルム３と、を備えていた。偏光子７としては、延伸され、且つ染色されたフィルム状のポリビニルアルコールを用いた。第一保護フィルム５としては、ハードコート付きトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（凸版印刷（株）製の２５ＫＣＨＣＮ−ＴＣ）を用いた。第二保護フィルム９としては、環状オレフィンポリマー系樹脂（ＣＯＰ系樹脂）から構成されるフィルム（日本ゼオン（株）製のＺＦ１４−０２３−１３５０）を用いた。第三保護フィルム３としては、粘着剤付きＰＥＴプロテクトフィルム（藤森工業（株）製のＡＳ３−３０４）を用いた。離型フィルム１３としては、ＰＥＴ（リンテック（株）製のＳＰ−ＰＬＲ３８２０５０）を用いた。離型フィルム１３の厚みは、３８μｍであった。粘着層１１の厚みは、２０μｍであった。第二保護フィルム９の厚みは、２３μｍであった。偏光子７の厚みは、１２μｍであった。第一保護フィルム５の厚みは、３２μｍであった。第三保護フィルム３の厚みは、６０μｍであった。積層体全体の厚み（偏光板１の厚みｂに相当する厚み）は、１８５μｍであった。積層体全体の縦幅は、１１０ｍｍであった。積層体全体の横幅は、６０ｍｍであった。
【００８１】
エキシマレーザーのパルス波を、積層体の第三保護フィルム３側の表面に照射して、図１及び２に示すような貫通穴２１を積層体に形成した。以上の諸工程により、実施例１の偏光板１を得た。エキシマレーザーとしては、発振波長が１９３ｎｍであるＡｒＦレーザーを用いた。エキシマレーザーの発振器としては、Ｍｌａｓｅ社製のＭＬＩシリーズ（モデル１０００）を用いた。エキシマレーザーの出力は、５Ｗに設定した。図４に示すように、エキシマレーザーのスポットＬＳは円形であった。エキシマレーザーのスポットＬＳの外周部分Ｌｅの強度をＩＬｅと表記し、スポットＬＳの強度の極大値（平坦なトップ部の強度）をＩＬｃと表記するとき、｛（ＩＬｃ−ＩＬｅ）／ＩＬｃ｝×１００は、５％であった。以下では、｛（ＩＬｃ−ＩＬｅ）／ＩＬｃ｝×１００を、「密度分布」と呼ぶ。エキシマレーザーの集光径は、１０００μｍに設定した。エキシマレーザーの繰り返し周波数は、１００Ｈｚに設定した。
【００８２】
図３に示すように、偏光板１の表面に平行な方向（ＸＹ平面方向）における貫通穴２１の形状は、円であった。貫通穴２１の第三保護フィルム３側の開口部と、貫通穴２１の離型フィルム１３側の開口部とは、一対の同心円であった。第三保護フィルム３側における貫通穴２１（円形の開口部）の内径ｄ１（直径）を測定した。また、離型フィルム１３側における貫通穴２１（円形の開口部）の内径ｄ２（直径）も測定した。エキシマレーザーが照射された第三保護フィルム３側における貫通穴２１の内径ｄ１は、その反対側（離型フィルム１３側）における貫通穴２１の内径ｄ２よりも大きかった。ｄ１及びｄ２の測定値のいずれも、エキシマレーザーの集光径に近い値であった。ｄ１及びｄ２の測定値から、貫通穴２１の鉛直度である（ｄ１−ｄ２）／２ｂを計算した。実施例１の鉛直度は、０．０６であった。
【００８３】
エキシマレーザーが照射された第三保護フィルム３側の貫通穴２１の周囲を、光学顕微鏡で観察した。この観察により、貫通穴２１の周囲に形成されている亀裂のうち、長さｌが５０μｍ未満である亀裂の数と、長さｌが５０μｍ以上である亀裂の数とを数えようと試みた。なお、亀裂の個数の定義は上記の実施形態と同様であった。また、亀裂の長さｌの定義は、上記の実施形態と同様であった。観察の結果、実施例１の偏光板１の貫通穴２１の周囲には、長さｌが５０μｍ未満である亀裂がなかった。また、実施例１の偏光板１の貫通穴２１の周囲には、長さｌが５０μｍ以上である亀裂もなかった。
【００８４】
光学顕微鏡を用いた上記観察により、貫通穴２１の周囲における偏光解消部２３（変色部）の幅Ｗの測定を試みた。しかし、偏光板１の貫通穴２１の周囲において、偏光解消部２３はなかった。
【００８５】
図６中の（ａ）及び（ｂ）に示すように、バックライト６４（面光源）の全面を、下側偏光板６２で覆った。下側偏光板６２は、実施例１の偏光板とは別の偏光板である。実施例１の偏光板（１ｓ）の離型フィルム１３を、下側偏光板６２へ対面させた。実施例１の偏光板１ｓを、下側偏光板６２の上に重ねて、実施例１の偏光板１ｓの吸収軸Ａ１ｓを、下側偏光板６２の吸収軸Ａ６２に直交させた。上側偏光板６０を、実施例１の偏光板１ｓの上に重ねて、上側偏光板６０の吸収軸Ａ６０を、実施例１の偏光板１ｓの吸収軸Ａ１ｓに平行に配置した。上側偏光板６０も、実施例１の偏光板とは別の偏光板である。
【００８６】
実施例１の偏光板１ｓを上記のように配置した状態でバックライト６４を点灯させ、実施例１の偏光板１ｓを目視で観察した。観察の結果、偏光板１ｓの貫通穴２１ｓの周囲における光漏れはなかった。
【００８７】
（実施例２〜７、比較例１〜４）
実施例６では、エキシマレーザーとして、ＡｒＦレーザーの代わりに、ＫｒＦレーザー（発振波長：２４８ｎｍ）を用いた。
【００８８】
実施例７では、離型フィルム１３、粘着層１１及び第三保護フィルム３を備えないこと以外は実施例１の場合と同じ積層体を用いた。以下では、説明の便宜上、実施例７の偏光板の第二保護フィルム側を、実施例７の偏光板の「離型フィルム側」とみなす。実施例７の偏光板の第一保護フィルム側を、実施例７の偏光板の「第三保護フィルム側」とみなす。下記表１において、第三保護フィルムを「Ｐｆ」と表記し、離型フィルムを「Ｓｐ」と表記する。
【００８９】
実施例２〜７及び比較例１〜４では、エキシマレーザーの出力、密度分布、集光径及び繰り返し周波数を下記表１に示す値に設定した。
【００９０】
以上の事項を除いて実施例１と同様に、エキシマレーザーを用いて積層体に貫通穴を形成して、実施例２〜７及び比較例１〜４それぞれの偏光板を得た。
【００９１】
実施例１と同様の方法で、実施例２〜７及び比較例１〜４それぞれの偏光板の貫通穴の鉛直度を求めた。実施例２〜７及び比較例１〜４それぞれの鉛直度を下記表１に示す。
【００９２】
実施例１と同様の方法で、実施例２〜７及び比較例１〜４ごとに、エキシマレーザーが照射された第三保護フィルムの表面を観察して、貫通穴の周囲に形成されている亀裂の数を数え、各亀裂の長さを測定した。実施例２〜７及び比較例１〜４ごとに、亀裂の数を下記表１に示す。いずれの実施例においても、貫通穴の周囲に形成されていた亀裂の数は、３以下であった。いずれの実施例においても、貫通穴の周囲に形成されていた亀裂の長さは、５０μｍ未満であった。
【００９３】
実施例１と同様の方法で、実施例２〜７及び比較例１〜４ごとに、第三保護フィルム側の表面を観察して、貫通穴の周囲における偏光解消部（変色部）の幅を測定した。実施例２〜７及び比較例１〜４ごとに、偏光解消部（変色部）の幅Ｗを下記表１に示す。いずれの実施例においても、偏光解消部（変色部）の幅は、３２μｍ未満であった。
【００９４】
実施例１と同様の方法で、実施例２〜７及び比較例１〜４ごとに、偏光板の貫通穴の周囲における光漏れを検査した。検査結果を下記表１に示す。
【００９５】
【表１】
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【産業上の利用可能性】
【００９６】
本発明に係る偏光板は、例えば、液晶セル又は有機ＥＬデバイス等に貼着され、液晶テレビ、有機ＥＬテレビ又はスマートフォン等の画像表示装置を構成する光学部品として適用される。
【符号の説明】
【００９７】
１，１ａ，１ｂ，１ｓ…偏光板、３…第三保護フィルム、５…第一保護フィルム、７…偏光子、９…第二保護フィルム、１０…液晶セル、１１…粘着層、１３…離型フィルム、２０…液晶パネル、２１…貫通穴、２３…偏光解消部、２５…亀裂、３０…液晶表示装置（画像表示装置），Ｗ…偏光解消部の幅、ｌ…亀裂の長さ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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