(57)【要約】【課題】環状エーテル化合物（シリコン系化合物）と、高分子化合物とが、均一に混合された組成物を提供する。【解決手段】１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物（Ａ）と、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより得られる高分子化合物（Ｂ）とを含有する組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物（Ａ）と、
シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより得られる高分子化合物（Ｂ）とを含有する組成物。
【請求項２】
１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物（Ａ）に、
高分子化合物（Ｂ）が溶解している組成物。
【請求項３】
前記環状エーテル残基が、式（１）で表される基、式（２）で表される基および式（３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、請求項１または２に記載の組成物。
【化１】
2016172846.tif 000041
（１）
［式中、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【化２】
2016172846.tif 000042
（２）
［式中、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
環Ｌは、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環を表し、この脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【化３】
2016172846.tif 000043
（３）
［式中、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【請求項４】
前記シロキサン化合物（Ａ）が、
前記式（１）で表される基および前記式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するシロキサン化合物、または、前記式（３）で表される基を有するシロキサン化合物である、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記シロキサン化合物（Ａ）が、式（４）で表されるシロキサン化合物である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の組成物。
【化４】
2016172846.tif 000044
（４）
［式中、
ｒおよびｔは、それぞれ独立に、１〜５の整数を表す。
Ｒ２１およびＲ２６は、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｓは、１〜１０の整数を表す。
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２２およびＲ２３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。］
【請求項６】
前記高分子化合物（Ｂ）が、
式（５）で表される化合物および式（６）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を重合させることにより得られる、
式（５’）で表される繰り返し単位および式（６’）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む高分子化合物である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の組成物。
【化５】
2016172846.tif 000045
（５）
［式中、
Ｒ１１は、水素原子またはメチル基を表す。
ａは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１２は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１２’−で表される基（Ｒ１２’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｐは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１３は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１３が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
【化６】
2016172846.tif 000046
（６）
［式中、
Ｒ１４は、水素原子またはメチル基を表す。
ｂは、０〜３の整数を表す。
Ｒ１５は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１５が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１６は、アルキル基またはシクロアルキル基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【化７】
2016172846.tif 000047
（５’）
［式中、Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐおよびＲ１３は、前記と同じ意味を表す。］
【化８】
2016172846.tif 000048
（６’）
［式中、Ｒ１４、ｂ、Ｒ１５およびＲ１６は、前記と同じ意味を表す。］
【請求項７】
前記高分子化合物（Ｂ）が、
前記式（５）で表される化合物および前記式（６）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、
式（７）で表される化合物とを重合させることにより得られる、
前記式（５’）で表される繰り返し単位および前記式（６’）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位と、
式（７’）で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物である、請求項６に記載の組成物。
【化９】
2016172846.tif 000049
（７）
［式中、
Ｒ１７は、水素原子またはメチル基を表す。
ｃは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１８は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１８’−で表される基（Ｒ１８’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１８が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｑは、１〜５の整数を表す。
Ｒ１９は、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基を表す。Ｒ１９が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２０は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１８が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
【化１０】
2016172846.tif 000050
（７’）
［式中、Ｒ１７、ｃ、Ｒ１８、ｑ、Ｒ１９およびＲ２０は、前記と同じ意味を表す。］
【請求項８】
電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を更に含有する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項９】
前記高分子化合物（Ｂ）が、
前記化合物（Ｃ）の存在下において、
前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下にて、重合させることにより得られる高分子化合物である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させる工程を含む、
請求項１〜９のいずれか一項に記載の組成物の製造方法。
【請求項１１】
前記化合物（Ｃ）の存在下において、
前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下において、重合させる工程を含む、
請求項８または９に記載の組成物の製造方法。
【請求項１２】
請求項８または９に記載の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される前記シロキサン化合物（Ａ）を架橋させる工程とを含む、膜の製造方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の製造方法により製造された膜。
【請求項１４】
請求項１３に記載の膜を絶縁層に有する、電子デバイス。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、組成物および該組成物を用いて製造される膜に関する。
【背景技術】
【０００２】
環状エーテル化合物（エポキシ基、オキセタン基等に代表される基を有する化合物）と高分子化合物とを含有する組成物を、架橋により硬化させた架橋体は、絶縁性、耐久性、密着性等に優れる。そのため、環状エーテル化合物と高分子化合物とを含有する組成物は、絶縁材料、成形材料等の原料として様々な技術分野で使用されている。
例えば、特許文献１には、エポキシ基を有するシリコン系化合物と、高分子化合物（具体的には、反応性含フッ素化合物（パーフルオロヘキシルエチレン等）と、反応性シリコン変性ウレタン化合物とを重合させた高分子化合物）とを含有する組成物を、成形材料（具体的には、樹脂モールド）の原料として使用することが提案されている。なお、特許文献１では、予め製造しておいた高分子化合物と、他の化合物とを混合することで、組成物が調製されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１２−５３２９８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記の組成物に含有される、エポキシ基を有するシリコン系化合物と、高分子化合物とは、相溶性が悪く、均一に混合することが困難であった。
【０００５】
そこで、本発明は、環状エーテル化合物（シリコン系化合物）と、高分子化合物とが、均一に混合された組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、下記の組成物、該組成物の製造方法、該組成物を用いた膜の製造方法、該製造方法により製造された膜、並びに、該膜を絶縁層に有する電子デバイスを提供する。
【０００７】
［１］１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物（Ａ）と、
シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより得られる高分子化合物（Ｂ）とを含有する組成物。
［２］１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物（Ａ）に、
高分子化合物（Ｂ）が溶解している組成物。
［３］前記環状エーテル残基が、式（１）で表される基、式（２）で表される基および式（３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基である、［１］または［２］に記載の組成物。
【化１】
2016172846.tif 000002
（１）
［式中、
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【化２】
2016172846.tif 000003
（２）
［式中、
Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
環Ｌは、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環を表し、この脂肪族炭化水素環は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
【化３】
2016172846.tif 000004
（３）
［式中、
Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
＊は、結合手を表す。］
［４］前記シロキサン化合物（Ａ）が、
前記式（１）で表される基および前記式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するシロキサン化合物、または、前記式（３）で表される基を有するシロキサン化合物である、［３］に記載の組成物。
［５］前記シロキサン化合物（Ａ）が、式（４）で表されるシロキサン化合物である、［１］〜［３］のいずれかに記載の組成物。
【化４】
2016172846.tif 000005
（４）
［式中、
ｒおよびｔは、それぞれ独立に、１〜５の整数を表す。
Ｒ２１およびＲ２６は、それぞれ独立に、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。
ｓは、１〜１０の整数を表す。
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は、それぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ２２およびＲ２３が複数存在する場合、それらはそれぞれ同一でも異なっていてもよい。］
［６］前記高分子化合物（Ｂ）が、
式（５）で表される化合物および式（６）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を重合させることにより得られる、
式（５’）で表される繰り返し単位および式（６’）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む高分子化合物である、［１］〜［５］のいずれかに記載の組成物。
【化５】
2016172846.tif 000006
（５）
［式中、
Ｒ１１は、水素原子またはメチル基を表す。
ａは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１２は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１２’−で表される基（Ｒ１２’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｐは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１３は、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはハロゲン原子を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１３が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
【化６】
2016172846.tif 000007
（６）
［式中、
Ｒ１４は、水素原子またはメチル基を表す。
ｂは、０〜３の整数を表す。
Ｒ１５は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１５が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ１６は、アルキル基またはシクロアルキル基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。］
【化７】
2016172846.tif 000008
（５’）
［式中、Ｒ１１、ａ、Ｒ１２、ｐおよびＲ１３は、前記と同じ意味を表す。］
【化８】
2016172846.tif 000009
（６’）
［式中、Ｒ１４、ｂ、Ｒ１５およびＲ１６は、前記と同じ意味を表す。］
［７］前記高分子化合物（Ｂ）が、
前記式（５）で表される化合物および前記式（６）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、
式（７）で表される化合物とを重合させることにより得られる、
前記式（５’）で表される繰り返し単位および前記式（６’）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位と、
式（７’）で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物である、［６］に記載の組成物。
【化９】
2016172846.tif 000010
（７）
［式中、
Ｒ１７は、水素原子またはメチル基を表す。
ｃは、０〜５の整数を表す。
Ｒ１８は、アルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基、酸素原子、−ＣＯ−で表される基、または、−ＮＲ１８’−で表される基（Ｒ１８’は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表す）を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１８が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
ｑは、１〜５の整数を表す。
Ｒ１９は、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基を表す。Ｒ１９が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。
Ｒ２０は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基またはアリール基を表し、これらの基は置換基を有していてもよい。Ｒ１８が複数存在する場合、それらは同一でも異なっていてもよい。］
【化１０】
2016172846.tif 000011
（７’）
［式中、Ｒ１７、ｃ、Ｒ１８、ｑ、Ｒ１９およびＲ２０は、前記と同じ意味を表す。］
［８］電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を更に含有する、［１］〜［７］のいずれかに記載の組成物。
［９］前記高分子化合物（Ｂ）が、
前記化合物（Ｃ）の存在下において、
前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下にて、重合させることにより得られる高分子化合物である、［８］に記載の組成物。
［１０］前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させる工程を含む、
［１］〜［９］のいずれかに記載の組成物の製造方法。
［１１］前記化合物（Ｃ）の存在下において、
前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下において、重合させる工程を含む、
［８］または［９］に記載の組成物の製造方法。
［１２］［８］または［９］に記載の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有される前記シロキサン化合物（Ａ）を架橋させる工程とを含む、膜の製造方法。
［１３］［１２］に記載の製造方法により製造された膜。
［１４］［１３］に記載の膜を絶縁層に有する、電子デバイス。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、環状エーテル化合物（シリコン系化合物）と、高分子化合物とが、均一に混合された組成物を提供することができる。また、本発明の好ましい実施形態によれば、絶縁材料の原料として有用な組成物（具体的には、誘電性に優れる絶縁膜の形成に有用な組成物）を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
＜共通する用語の説明＞
以下、本明細書で共通して用いられる用語は、特記しない限り、以下の意味である。
【００１０】
「高分子化合物」とは、分子中に同じ構造単位を２個以上含む化合物を意味し、「繰り返し単位」とは、２個以上含まれる構造単位を意味する。高分子化合物のポリスチレン換算の数平均分子量は、通常、１×１０３〜１×１０８である。
【００１１】
高分子化合物は、単独重合体、ブロック共重合体、ランダム共重合体、交互共重合体、グラフト共重合体等の共重合体のいずれであってもよいし、その他の態様であってもよい。
【００１２】
アルキル基は、直鎖アルキル基、分岐アルキル基のいずれであってもよい。直鎖アルキル基の炭素原子数は、通常１〜３０であり、分岐アルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。
アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−ヘキサデシル基等の直鎖アルキル基、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、２−エチルヘキシル基、３，７−ジメチルオクチル基、２−ヘキシルデシル基、２−オクチルドデシル基、２−デシルテトラデシル基等の分岐アルキル基が挙げられる。シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が挙げられる。
アルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。シクロアルキル基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。置換基を有しているアルキル基としては、例えば、メトキシエチル基、ベンジル基、トリフルオロメチル基、パーフルオロヘキシル基が挙げられる。
【００１３】
アルコキシ基は、直鎖アルコキシ基、分岐アルコキシ基のいずれであってもよい。直鎖アルコキシ基の炭素原子数は、通常１〜３０であり、分岐アルコキシ基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、アルコキシ基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルコキシ基の炭素原子数は、通常３〜３０である。なお、シクロアルコキシ基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロピルオキシ基、ｎ−ブチルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｎ−ドデシルオキシ基、ｎ−ヘキサデシルオキシ基等の直鎖アルコキシ基、イソプロピルオキシ基、イソブチルオキシ基、ｓｅｃ−ブチルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブチルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、３，７−ジメチルオクチルオキシ基、２−ヘキシルデシルオキシ基、２−オクチルドデシルオキシ基、２−デシルテトラデシルオキシ基等の分岐アルコキシ基が挙げられる。シクロアルコキシ基としては、例えば、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基が挙げられる。
アルコキシ基は置換基を有していてもよく、置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。シクロアルコキシ基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられる。
【００１４】
アリール基は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団である。芳香族炭化水素の炭素原子数は、通常６〜６０であり、好ましくは６〜２０である。なお、芳香族炭化水素基の炭素数には、置換基の炭素数は含まれない。
芳香族炭化水素としては、ベンゼン、ベンゼンを含む炭化水素縮合環化合物、ベンゼンおよびベンゼンを含む炭化水素縮合環化合物からなる群から選ばれる２個以上が直接結合した化合物が含まれる。
アリール基としては、例えば、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アントラセニル基、２−アントラセニル基、９−アントラセニル基、１−ピレニル基、２−ピレニル基、４−ピレニル基、２−フルオレニル基、３−フルオレニル基、４−フルオレニル基、４−フェニルフェニル基が挙げられる。
アリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、１価の複素環基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００１５】
１価の複素環基とは、複素環式化合物から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた残りの原子団である。複素環式化合物の炭素原子数は通常２〜３０であり、好ましくは３〜２０である。なお、１価の複素環基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。１価の複素環基は、１価の芳香族複素環基であることが好ましい。
複素環式化合物とは、環式構造をもつ有機化合物のうち、環を構成する元素が炭素原子だけでなく、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、窒素原子、リン原子、ホウ素原子、ヒ素原子等のヘテロ原子を環内に含むものをいう。
複素環式化合物としては、単環の複素環式化合物、複素環式化合物を含む縮合環化合物、単環の複素環式化合物および複素環式化合物を含む縮合環化合物からなる群から選ばれる２個以上が直接結合した化合物が含まれる。
１価の複素環基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
１価の複素環基としては、例えば、２−フリル基、３−フリル基、２−チエニル基、３−チエニル基、２−ピロリル基、３−ピロリル基、２−オキサゾリル基、２−チアゾリル基、２−ピリジル基、３−ピリジル基、４−ピリジル基、２−ベンゾフリル基、２−ベンゾチエニル基、２−チエノチエニル基、４−（２，１，３−ベンゾチアジアゾリル）基が挙げられる。
【００１６】
ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００１７】
アルキレン基は、直鎖アルキレン基、分岐アルキレン基のいずれであってもよい。直鎖アルキレン基の炭素原子数は、通常１〜２０であり、分岐アルキレン基の炭素原子数は、通常３〜２０である。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基の炭素原子数は、通常３〜２０である。なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。
アルキレン基は置換基を有していてもよく、置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シアノ基、アルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げられる。
シクロアルキレン基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、シアノ基、アルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アルキルカルボニルオキシ基、シクロアルキルカルボニルオキシ基、アルキルオキシカルボニル基、シクロアルキルオキシカルボニル基、ハロゲン原子が挙げられる。
アルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピルレン基、ブチレン基、ペンチレン基、ヘキシレン基、イソプロピレン基、イソブチレン基、ジメチルプロピレン基が挙げられる。シクロアルキレン基としては、例えば、シクロプロピレン基、シクロブチレン基、シクロペンチレン基、シクロヘキシレン基が挙げられる。
【００１８】
アリーレン基は、芳香族炭化水素から環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子２個を除いた残りの原子団である。芳香族炭化水素の炭素原子数は、通常６〜２０である。
なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基は置換基を有していてもよく、置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、１価の複素環基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはシクロアルキル基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
アリーレン基としては、例えば、フェニレン基、ナフチレン基、アンスリレン基、ジメチルフェニレン基、トリメチルフェニレン基、フェニレンメチレン基、フェニレンジメチレン基、フェニレントリメチレン基、フェニレンテトラメチレン基、メチルナフチレン基、ジメチルナフチレン基、トリメチルナフチレン基、ビニルナフチレン基、エテニルナフチレン基、メチルアンスリレン基、エチルアンスリレン基が挙げられる。
【００１９】
＜組成物＞
本発明の組成物は、
シロキサン化合物（Ａ）と、
シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより得られる高分子化合物（Ｂ）とを含有する。
本発明の組成物は、１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物（Ａ）に、高分子化合物（Ｂ）が溶解していることを特徴とする。
【００２０】
＜シロキサン化合物（Ａ）＞
シロキサン化合物（Ａ）は、１０℃で液体状態であり、環状エーテル残基（該環状エーテル残基は、環状エーテル化合物から１個以上の水素原子を除いてなる基である）を有し、且つ、エチレン性不飽和二重結合を有しないシロキサン化合物である。
【００２１】
ここで、シロキサン化合物とは、Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ結合を有する化合物である。
【００２２】
シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基は、開環反応の観点から、式（１）で表される基、式（２）で表される基および式（３）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基であることが好ましく、式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群より選ばれる１種以上の基であることがより好ましい。
【００２３】
【化１１】
2016172846.tif 000012
（１）
【００２４】
【化１２】
2016172846.tif 000013
（２）
【００２５】
【化１３】
2016172846.tif 000014
（３）
【００２６】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましく、１〜６（分岐アルキル基の場合は３〜６）であることがより好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
【００２７】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましく、３〜６であることがより好ましい。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００２８】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０で表されるアリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましく、６〜２０であることがより好ましい。なお、アリール基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリール基が有していてもよい置換基としては、アルキル基またはアルコキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
【００２９】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９およびＲ１０は、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましい。
【００３０】
環Ｌで表される、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環の炭素原子数は、４〜１０個であることが好ましく、５〜８個であることがより好ましい。なお、脂肪族炭化水素環の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。脂肪族炭化水素環が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基、ハロゲン原子が挙げられ、アルキル基またはアルコキシ基が好ましい。
【００３１】
環Ｌで表される、３〜１２個の炭素原子で構成される脂肪族炭化水素環としては、例えば、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、デカヒドロナフタレン環が挙げられ、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環またはデカヒドロナフタレン環が好ましく、シクロヘキサン環またはデカヒドロナフタレン環がより好ましい。
【００３２】
シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基としては、例えば、グリシジル基、２−メチルグリシジル基、２，２−ジメチルグリシジル基、２，３−エポキシシクロプロパニル基、１，２−エポキシシクロブチル基、２，３−エポキシシクロブチル基、１，２−エポキシシクロペンチル基、２，３−エポキシシクロペンチル基、３，４−エポキシシクロペンチル基、１，２−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロヘキシル基、３，４−エポキシシクロヘキシル基、２，３−エポキシシクロヘプチル基、２，３−エポキシシクロオクチル基、２，３−エポキシシクロノニル基、２，３−エポキシシクロデカニル基、２，３−エポキシシクロウンデカニル基、２，３−エポキシシクロドデカニル基、２，３−エポキシデカヒドロナフチル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【００３３】
シロキサン化合物（Ａ）は、エチレン性不飽和二重結合を有さない化合物である。これは、シロキサン化合物（Ａ）と、後述する高分子化合物（Ｂ）の原料である重合性モノマーとのラジカル重合を防止するためである。
【００３４】
シロキサン化合物（Ａ）は、開環反応の観点から、式（１）で表される基および式（２）で表される基からなる群から選ばれる１種以上の基を有するシロキサン化合物、または、式（３）で表される基を有するシロキサン化合物であることが好ましい。
【００３５】
シロキサン化合物（Ａ）は、本発明の組成物を用いた絶縁材料の誘電性が優れるため、式（４）で表されるシロキサン化合物であることが好ましい。
【００３６】
【化１４】
2016172846.tif 000015
（４）
【００３７】
ｒおよびｔは、１〜３の整数であることが好ましい。
【００３８】
Ｒ２１およびＲ２６で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００３９】
Ｒ２１およびＲ２６で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００４０】
Ｒ２１およびＲ２６で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が更に好ましい。
【００４１】
Ｒ２１およびＲ２６は、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることが好ましく、アルキレン基であることがより好ましく、プロピレン基であることが更に好ましい。
【００４２】
ｓは、１〜５の整数であることが好ましく、１〜３の整数であることがより好ましく、１であることが更に好ましい。
【００４３】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましく、１〜６（分岐アルキル基の場合は３〜６）であることがより好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００４４】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましく、３〜６であることがより好ましい。なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはアリール基がより好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基またはシクロアルコキシ基が更に好ましい。
【００４５】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５で表されるアリール基の炭素原子数は、６〜３０であることが好ましく、６〜２０であることがより好ましい。なお、アリール基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリール基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が更に好ましい。
【００４６】
Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２４およびＲ２５は、アルキル基またはシクロアルキル基であることが好ましく、アルキル基であることがより好ましく、メチル基であることが更に好ましい。
【００４７】
式（４）で表されるシロキサン化合物（Ａ）としては、例えば、下記式で表されるシロキサン化合物が挙げられる。
【００４８】
【化１５】
2016172846.tif 000016
【００４９】
【化１６】
2016172846.tif 000017
【００５０】
【化１７】
2016172846.tif 000018
【００５１】
シロキサン化合物（Ａ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【００５２】
＜高分子化合物（Ｂ）＞
高分子化合物（Ｂ）は、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより得られる高分子化合物である。
【００５３】
エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーとしては、芳香環を有する化合物および（メタ）アクリル酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物が好ましく、スチレン化合物および（メタ）アクリル酸エステル化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物がより好ましい。
【００５４】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物を用いた絶縁材料の誘電性が優れるため、式（５）で表される化合物および式（６）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を重合させることにより得られる、式（５’）で表される繰り返し単位および式（６’）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位を含む高分子化合物であることが好ましい。
【００５５】
【化１８】
2016172846.tif 000019
（５）
【００５６】
【化１９】
2016172846.tif 000020
（６）
【００５７】
【化２０】
2016172846.tif 000021
（５’）
【００５８】
【化２１】
2016172846.tif 000022
（６’）
【００５９】
Ｒ１１は、水素原子であることが好ましい。
【００６０】
ａは、０〜３の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。
【００６１】
Ｒ１２で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００６２】
Ｒ１２で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。
なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００６３】
Ｒ１２で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子がより好ましい。
【００６４】
Ｒ１２は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基であることが好ましく、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることがより好ましい。
【００６５】
ｐは、１〜５の整数であることが好ましく、３〜５の整数であることがより好ましく、５であることが更に好ましい。
【００６６】
Ｒ１３で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、ハロゲン原子が更に好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
【００６７】
Ｒ１３で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。
なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、ハロゲン原子が更に好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
【００６８】
Ｒ１３で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましく、ハロゲン原子が更に好ましく、フッ素原子が特に好ましい。
【００６９】
Ｒ１３で表されるハロゲン原子は、フッ素原子であることが好ましい。
【００７０】
Ｒ１３は、ハロゲン原子を置換基として有するアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有するシクロアルキル基、ハロゲン原子を置換基として有するアリール基、または、ハロゲン原子であることが好ましく、フッ素原子を置換基として有するアルキル基、フッ素原子を置換基として有するシクロアルキル基、フッ素原子を置換基として有するアリール基、または、フッ素原子であることがより好ましく、フッ素原子であることが更に好ましい。
【００７１】
式（５）で表される化合物としては、例えば、スチレン、２，４−ジメチル−α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、２，４−ジメチルスチレン、２，５−ジメチルスチレン、２，６−ジメチルスチレン、３，４−ジメチルスチレン、３，５−ジメチルスチレン、２，４，６−トリメチルスチレン、２，４，５−トリメチルスチレン、ペンタメチルスチレン、ｏ−エチルスチレン、ｍ−エチルスチレン、ｐ−エチルスチレン、ｏ−クロロスチレン、ｍ−クロロスチレン、ｐ−クロロスチレン、ｏ−ブロモスチレン、ｍ−ブロモスチレン、ｐ−ブロモスチレン、ｏ−メトキシスチレン、ｍ−メトキシスチレン、ｐ−メトキシスチレン、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、２−ビニルビフェニル、３−ビニルビフェニル、４−ビニルビフェニル、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、４−ビニル−ｐ−ターフェニル、１−ビニルアントラセン、α−メチルスチレン、ｏ−イソプロペニルトルエン、ｍ−イソプロペニルトルエン、ｐ−イソプロペニルトルエン、２，４−ジメチル−α−メチルスチレン、２，３−ジメチル−α−メチルスチレン、３，５−ジメチル−α−メチルスチレン、ｐ−イソプロピル−α−メチルスチレン、α−エチルスチレン、α−クロロスチレン、４−メトキシスチレン、４−メチルスチレン、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン、２−トリフルオロメチルスチレン、３−トリフルオロメチルスチレン、４−トリフルオロメチルスチレンが挙げられる。
【００７２】
式（５’）で表される繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。
【００７３】
【化２２】
2016172846.tif 000023
【００７４】
Ｒ１４は、水素原子であることが好ましい。
【００７５】
ｂは、０または１であることが好ましく、０であることがより好ましい。
【００７６】
Ｒ１５で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００７７】
Ｒ１５で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。
なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００７８】
Ｒ１５で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子がより好ましい。
【００７９】
Ｒ１５は、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることが好ましい。
【００８０】
Ｒ１６で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
【００８１】
Ｒ１６で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。
なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基が好ましく、アルキル基またはアルコキシ基がより好ましい。
【００８２】
Ｒ１６は、アルキル基であることが好ましい。
【００８３】
式（６）で表される化合物としては、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸−ｎ−プロピル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸−ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸−２−エチルヘキシル、アクリル酸デシル、アクリル酸イソボルニル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、アクリル酸−２−ヒドロキシブチル、アクリル酸−２−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールペンタアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリン、メタアクリル酸メチル、メタアクリル酸エチル、メタアクリル酸−ｎ−プロピル、メタアクリル酸イソプロピル、メタアクリル酸−ｎ−ブチル、メタアクリル酸イソブチル、メタアクリル酸−ｓｅｃ−ブチル、メタアクリル酸ヘキシル、メタアクリル酸オクチル、メタアクリル酸−２−エチルヘキシル、メタアクリル酸デシル、メタアクリル酸イソボルニル、メタアクリル酸シクロヘキシル、メタアクリル酸フェニル、メタアクリル酸ベンジル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシエチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−３−ヒドロキシプロピル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシブチル、メタアクリル酸−２−ヒドロキシフェニルエチル、エチレングリコールジメタアクリレート、プロピレングリコールジメタアクリレート、１，４−ブタンジオールジメタアクリレート、ジエチレングリコールジメタアクリレート、トリエチレングリコールジメタアクリレート、トリメチロールプロパンジメタアクリレート、トリメチロールプロパントリメタアクリレート、ペンタエリスリトールペンタメタアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチルメタアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）エチルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）エチルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、２−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）エチルメタアクリレート、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−テトラフルオロプロピルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−オクタフルオロペンチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，７Ｈ−ドデカフルオロヘプチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，９Ｈ−ヘキサデカフルオロノニルメタアクリレート、１Ｈ−１−（トリフルオロメチル）トリフルオロエチルメタアクリレート、１Ｈ，１Ｈ，３Ｈ−ヘキサフルオロブチルメタアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリンが挙げられる。
【００８４】
式（６’）で表される繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。
【００８５】
【化２３】
2016172846.tif 000024
【００８６】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物の架橋性が優れるため、
式（５）で表される化合物および式（６）で表される化合物からなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、
式（７）で表される化合物を重合させることにより得られる、
式（５’）で表される繰り返し単位および式（６’）で表される繰り返し単位からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位と、
式（７’）で表される繰り返し単位とを含む高分子化合物であることがより好ましい。
【００８７】
【化２４】
2016172846.tif 000025
（７）
【００８８】
【化２５】
2016172846.tif 000026
（７’）
【００８９】
Ｒ１７は、水素原子であることが好ましい。
【００９０】
ｃは、０〜３の整数であることが好ましく、０であることがより好ましい。
【００９１】
Ｒ１８で表されるアルキレン基の炭素原子数は、１〜６（分岐アルキレン基の場合は３〜６）であることが好ましい。なお、アルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００９２】
Ｒ１８で表されるシクロアルキレン基の炭素原子数は、３〜６であることが好ましい。
なお、シクロアルキレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００９３】
Ｒ１８で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【００９４】
Ｒ１８は、アルキレン基、シクロアルキレン基またはアリーレン基であることが好ましく、アルキレン基またはシクロアルキレン基であることがより好ましい。
【００９５】
ｑは、１〜３の整数であることが好ましく、１であることがより好ましい。
【００９６】
Ｒ１９は、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基を表す。
【００９７】
Ｒ１９は、通常、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが２００ｋＪ以下である１価の有機基であり、好ましくは、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが１５０ｋＪ以下である１価の有機基であり、より好ましくは、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが１００ｋＪ以下である１価の有機基であり、更に好ましくは、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが８０ｋＪ以下である１価の有機基である。Ｒ１９が酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーは、例えば、示差走査熱量測定法により測定することができる。
【００９８】
−ＯＲ１９で表される基に対して酸が作用した場合、Ｒ１９が酸素原子から脱離して、式（７’）で表される繰り返し単位中にフェノール性水酸基が生成する。生成したフェノール性水酸基は、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基と反応することで架橋体を形成することができるためである。
【００９９】
Ｒ１９で表される、酸により酸素原子から脱離することが可能な１価の有機基としては、例えば、ヒドロフラニル基、ヒドロピラニル基、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するシクロアルキル基、三級アルキル基、および、環状炭化水素構造を有する基が挙げられ、これらの基は置換基を有していてもよい。これらの基は、酸により酸素原子から脱離する際の活性化エネルギーが２００ｋＪ以下である１価の有機基である。
【０１００】
ヒドロフラニル基とは、ジヒドロフランまたはテトラヒドロフランの環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた基を意味し、ヒドロフラニル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基が挙げられる。
ヒドロフラニル基としては、例えば、ジヒドロフラニル基、テトラヒドロフラニル基が挙げられる。
【０１０１】
ヒドロピラニル基とは、ジヒドロピランまたはテトラヒドロピランの環を構成する炭素原子に直接結合する水素原子１個を除いた基を意味し、ヒドロフラニル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルコキシ基、シクロアルコキシ基、水酸基が挙げられる。
ヒドロピラニル基としては、例えば、ジヒドロピラニル基、テトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基が挙げられる。
【０１０２】
アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基の炭素原子数は、２〜２０（分岐アルキル基の場合は４〜２０）であることが好ましい。なお、該アルキル基の炭素原子数には、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基の炭素原子数は含まれない。該アルキル基が有していてもよいアルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基としては、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アリール基がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
アルコキシ基を置換基として有するアルキル基としては、例えば、メトキシメチル基、メトキシエトキシメチル基、１−メトキシエチル基、１−メトキシプロピル基、１−エトキシエチル基、２−エトキシエチル基、１−エトキシプロピル基、ビス（２−クロロエトキシ）メチル基、１−メチル−１−メトキシエチル基、１−イソプロポキシエチル基が挙げられる。
【０１０３】
アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するシクロアルキル基の炭素原子数は、４〜２０であることが好ましい。なお、該シクロアルキル基の炭素原子数には、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基の炭素原子数は含まれない。
該シクロアルキル基が有していてもよいアルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基以外の置換基としては、アルキル基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基またはアリール基がより好ましく、アルキル基が更に好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１０４】
三級アルキル基としては、例えば、ターシャリーブチル基、２−メチル−２−ブチル基、２−メチル−２−プロピル基、２−メチル−２−ペンチル基が挙げられる。
【０１０５】
環状炭化水素構造を有する基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。
環状炭化水素構造を有する基としては、例えば、シクロプロピルメチル基、シクロヘキシル基等のシクロアルキル基、２−メチルアダマンチル基が挙げられる。
【０１０６】
Ｒ１９は、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するシクロアルキル基、三級アルキル基、または、環状炭化水素構造を有する基であることが好ましく、アルコキシ基もしくはシクロアルコキシ基を置換基として有するアルキル基、三級アルキル基、または、環状炭化水素構造を有する基であることがより好ましい。
【０１０７】
Ｒ２０で表されるアルキル基の炭素原子数は、１〜２０（分岐アルキル基の場合は３〜２０）であることが好ましい。なお、アルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アルキル基が有していてもよい置換基としては、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１０８】
Ｒ２０で表されるシクロアルキル基の炭素原子数は、３〜２０であることが好ましい。
なお、シクロアルキル基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。シクロアルキル基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１０９】
Ｒ２０で表されるアリーレン基の炭素原子数は、６〜２０であることが好ましい。なお、アリーレン基の炭素原子数には、置換基の炭素原子数は含まれない。アリーレン基が有していてもよい置換基としては、アルキル基、アルコキシ基、アリール基またはハロゲン原子が好ましく、アルキル基、アルコキシ基またはハロゲン原子がより好ましい。ハロゲン原子としては、フッ素原子が好ましい。
【０１１０】
Ｒ２０は、水素原子、アルキル基、アルコキシ基またはアリール基であることが好ましく、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基であることがより好ましい。
【０１１１】
式（７）で表される化合物としては、例えば、４−（メトキシメトキシ）スチレン、４−（メトキシエトキシメトキシ）スチレン、４−（１−エトキシエトキシ）スチレン、４−（テトラヒドロピラニルオキシ）スチレン、４−（シクロプロピルメチルオキシ）スチレン、および、４−（シクロヘキシルオキシ）スチレン、４-ターシャリーブトキシスチレン、４−（２−（２-メチルアダマンチル）オキシ）スチレンが挙げられる。
【０１１２】
式（７’）で表される繰り返し単位としては、例えば、下記式で表される基が挙げられる。
【０１１３】
【化２６】
2016172846.tif 000027
【０１１４】
エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーは、
式（５）で表される化合物、式（６）で表される化合物および式（７）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上の化合物であることが好ましいが、
エチレン性不飽和二重結合を有する他の重合性モノマーであってもよい。
【０１１５】
高分子化合物（Ｂ）は、
式（５）で表される化合物、式（６）で表される化合物および式（７）で表される化合物からなる群から選ばれる１種以上の化合物と、エチレン性不飽和二重結合を有する他の重合性モノマーを重合させることにより得られる高分子化合物であってもよいし、
エチレン性不飽和二重結合を有する他の重合性モノマーを重合させることにより得られる高分子化合物であってもよい。
【０１１６】
式（５）で表される化合物、式（６）で表される化合物および式（７）で表される化合物以外の、エチレン性不飽和二重結合を有する他の重合性モノマーとしては、例えば、アクリルアミドおよびその誘導体、メタアクリロニトリルおよびその誘導体、アクリロニトリルおよびその誘導体、有機カルボン酸のビニルエステルおよびその誘導体、有機カルボン酸のアリルエステルおよびその誘導体、フマル酸のジアルキルエステルおよびその誘導体、マレイン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体、イタコン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体、有機カルボン酸のＮ−ビニルアミド誘導体、末端不飽和炭化水素およびその誘導体、並びに、不飽和炭化水素基を含む有機ゲルマニウム誘導体が挙げられる。他の重合性モノマーは、本発明の組成物に要求される特性に応じて適宜選択することができる。
【０１１７】
アクリルアミドおよびその誘導体としては、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド、Ｎ−アクリロイルモルフォリンが挙げられる。
【０１１８】
メタアクリロニトリルおよびその誘導体としては、例えば、メタアクリロニトリルが挙げられる。
【０１１９】
アクリロニトリルおよびその誘導体としては、例えば、アクリロニトリルが挙げられる。
【０１２０】
有機カルボン酸のビニルエステルおよびその誘導体としては、例えば、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、安息香酸ビニル、アジピン酸ジビニルが挙げられる。
【０１２１】
有機カルボン酸のアリルエステルおよびその誘導体としては、例えば、酢酸アリル、安息香酸アリル、アジピン酸ジアリル、テレフタル酸ジアリル、イソフタル酸ジアリル、フタル酸ジアリルが挙げられる。
【０１２２】
フマル酸のジアルキルエステルおよびその誘導体としては、例えば、フマル酸ジメチル、フマル酸ジエチル、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、フマル酸ジイソブチル、フマル酸ジ−ｎ−ブチル、フマル酸ジ−２−エチルヘキシル、フマル酸ジベンジルが挙げられる。
【０１２３】
マレイン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体としては、例えば、マレイン酸ジメチル、マレイン酸ジエチル、マレイン酸ジイソプロピル、マレイン酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、マレイン酸ジイソブチル、マレイン酸ジ−ｎ−ブチル、マレイン酸ジ−２−エチルヘキシル、マレイン酸ジベンジル、Ｎ−メチルマレイミド、Ｎ−エチルマレイミドが挙げられる。
【０１２４】
イタコン酸のジアルキルエステルおよびその誘導体としては、例えば、イタコン酸ジメチル、イタコン酸ジエチル、イタコン酸ジイソプロピル、イタコン酸ジ−ｓｅｃ−ブチル、イタコン酸ジイソブチル、イタコン酸ジ−ｎ−ブチル、イタコン酸ジ−２−エチルヘキシル、イタコン酸ジベンジルが挙げられる。
【０１２５】
有機カルボン酸のＮ−ビニルアミド誘導体としては、例えば、Ｎ−メチル−Ｎ−ビニルアセトアミドが挙げられる。
【０１２６】
末端不飽和炭化水素およびその誘導体としては、例えば、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、ビニルシクロヘキサン、塩化ビニル、アリルアルコールが挙げられる。
【０１２７】
不飽和炭化水素基を含む有機ゲルマニウム誘導体としては、例えば、アリルトリメチルゲルマニウム、アリルトリエチルゲルマニウム、アリルトリブチルゲルマニウム、トリメチルビニルゲルマニウム、トリエチルビニルゲルマニウムが挙げられる。
【０１２８】
高分子化合物（Ｂ）は、
光ラジカル重合開始剤もしくは熱ラジカル重合開始剤の存在下において、
シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）をラジカル重合させることにより得られる高分子化合物であることが好ましい。これは、重合性モノマーのラジカル重合の際に、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応を防止することができるためである。
【０１２９】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、
アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、４−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、ベンゾフェノン、メチル（ｏ−ベンゾイル）ベンゾエート、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインオクチルエーテル、ベンジル、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタール、ジアセチル等のカルボニル化合物、
メチルアントラキノン、クロロアントラキノン、クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等のアントラキノン誘導体およびチオキサントン誘導体、並びに、
ジフェニルジスルフィド、ジチオカーバメート等の含硫黄化合物が挙げられる。
【０１３０】
熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、
２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビスイソバレロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリックアシッド）、１、１’−アゾビス（シクロヘキサンカルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロパン）、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）２塩酸塩等のアゾ化合物、
メチルエチルケトンパーオキシド、メチルイソブチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、アセチルアセトンパーオキシド等のケトンパーオキシド化合物、
イソブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキシド、ｏ−メチルベンゾイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ｐ−クロロベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド化合物、
２，４，４−トリメチルペンチル−２−ヒドロパーオキシド、ジイソプロピルベンゼンヒドロパーオキシド、クメンヒドロパーオキシド、ターシャリーブチルヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド化合物、
ジクミルパーオキシド、ターシャルーブチルクミルパーオキシド、ジターシャリーブチルパーオキシド、トリス（ターシャリーブチルパーオキシ）トリアジン等のジアルキルパーオキシド化合物、
１，１−ジターシャリーブチルパーオキシシクロヘキサン、２，２−ジ（ターシャリーブチルパーオキシ）ブタン等のパーオキシケタール化合物、
ターシャリーブチルパーオキシピバレート、ターシャリーブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシイソブチレート、ジターシャリーブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート、ジターシャリーブチルパーオキシアゼレート、ターシャリーブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ターシャリーブチルパーオキシアセテート、ターシャリーブチルパーオキシベンゾエート、ジターシャリーブチルパーオキシトリメチルアジペート等のアルキルパーエステル化合物、
ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｓｅｃ−ブチルパーオキシジカーボネート、ターシャリーブチルパーオキシイソプロピルカーボネート等のパーオキシカーボネート化合物が挙げられる。
【０１３１】
エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの重合に光ラジカル重合開始剤を使用する場合、重合性モノマーに照射する光の波長は、３６０ｎｍ以上であることが好ましく、３６０ｎｍ以上４５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１３２】
エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの重合に熱ラジカル重合開始剤を使用する場合、重合性モノマーを加熱する温度は、４０℃以上１５０℃以下であることが好ましく、５０℃以上１２０℃以下であることがより好ましい。
【０１３３】
高分子化合物（Ｂ）のポリスチレン換算の重量平均分子量は、３０００〜１００００００であることが好ましく、５０００〜５０００００であることがより好ましい。高分子化合物（Ｂ）は、直鎖状の高分子化合物であってもよく、分岐状の高分子化合物であってもよく、環状の高分子化合物であってもよい。
【０１３４】
高分子化合物（Ｂ）としては、例えば、ポリ（メチルメタクリレート−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（スチレン−ｃｏ−メチルメタクリレート）、ポリ（スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン−ｃｏ−メチルメタクリレート）、ポリ（スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（１−エトキシエトキシ）スチレンｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（メトキシメトキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（メトキシエトキシメトキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（テトラヒドロピラニルオキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（４−（シクロプロピルメチルオキシ）スチレン−ｃｏ−ペンタフルオロスチレン）、ポリ（ペンタフルオロスチレン−ｃｏ−４−(１−エトキシエトキシ)スチレン−ｃｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド）、ポリ（４−（１−エトキシエトキシ）スチレン−ｃｏ−[２−〔Ｏ−（１’−メチルプロピリデンアミノ）カルボキシアミノ〕エチル−メタクリレート]−ｃｏ−アクリロニトリル−ｃｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド）、ポリ（ペンタフルオロスチレン−ｃｏ−４−(１−エトキシエトキシ)スチレン−ｃｏ−Ｎ，Ｎ−ジエチルアクリルアミド−ｃｏ−ドデシルメタクリレート）が挙げられる。
【０１３５】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【０１３６】
高分子化合物（Ｂ）は、本発明の組成物がより均一になるため、１０℃で液体状態であるシロキサン化合物（Ａ）に溶解する高分子化合物であることが好ましい。
【０１３７】
＜化合物（Ｃ）＞
本発明の組成物は、本発明の組成物を用いて製造される膜の架橋性が優れるため、電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を更に含有することが好ましい。
【０１３８】
電磁波としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線が挙げられ、好ましくは紫外線である。電磁波の波長は、好ましくは４５０ｎｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下である。
【０１３９】
化合物（Ｃ）が加熱により分解して酸を発生する化合物である場合、酸を発生する温度は、通常２００℃以下であり、好ましくは６０℃以上２００℃以下であり、より好ましくは８０℃以上２００℃以下である。
【０１４０】
電磁波もしくは電子線の照射により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）としては、例えば、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩、スルホニウム塩が挙げられる。加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）としては、例えば、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物が挙げられる。
【０１４１】
スルホン酸エステル化合物としては、フッ素化アルキルスルホン酸エステル化合物またはトルエンスルホン酸エステル化合物が好ましい。
【０１４２】
フッ素化アルキルスルホン酸エステル化合物としては、例えば、Ｎ-ヒドロキシナフタルイミドトリフレート、Ｎ-ヒドロキシナフタルイミドパーフルオロブチルトリフレート、Ｎ-ヒドロキシフタルイミドトリフレート、Ｎ-ヒドロキシフタルイミドパーフルオロブチルトリフレートが挙げられる。
【０１４３】
トルエンスルホン酸エステル化合物としては、例えば、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシメチル）ベンゾイン、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−ｏ−ニトロトルエン、α−（ｐ−トルエンスルホニルオキシ）−ｐ−ニトロトルエンが挙げられる。
【０１４４】
トリアジン化合物としては、例えば、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−メチル−１，３，５−トリアジン、２，４，６−トリス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−フェニル−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４’−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（３’，４’−ジメトキシフェニル）−１，３，５−トリアジンが挙げられる。
【０１４５】
ヨードニウム塩としては、例えば、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリルキュミルヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレートが挙げられる。
【０１４６】
スルホニウム塩としては、例えば、トリフェニルスルホニウムホスフェート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、ｐ−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４，４’−ビス［ジ（β−ヒドロキシエトキシ）フェニルスルホニオ］フェニルスルフィド−ビス−ヘキサフルオロアンチモネート、４−［４−（４−ｔｅｒｔ−ブチルベンゾイル）フェニルチオ］フェニル−ジ（４−メチルフェニル）スルホニウムヘキサフルオロホスフェートが挙げられる。
【０１４７】
化合物（Ｃ）は、ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物等のヨードニウム塩またはスルホニウム塩であってもよい。これらの化合物は、光カチオン重合開始剤として機能する。
【０１４８】
化合物（Ｃ）は、ＴＡ−１００（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１２０（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１６０（サンアプロ株式会社製、商品名）等のヨードニウム塩またはスルホニウム塩であってもよい。これらの化合物は、熱カチオン重合開始剤として機能する。
【０１４９】
化合物（Ｃ）は、スルホン酸エステル化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩であることが好ましく、ヨードニウム塩またはスルホニウム塩であることがより好ましい。
【０１５０】
化合物（Ｃ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【０１５１】
化合物（Ｃ）は、本発明の組成物がより均一になるため、１０℃で液体状態であるシロキサン化合物（Ａ）に溶解する化合物であることが好ましい。
【０１５２】
＜架橋剤（Ｄ）＞
本発明の組成物は、本発明の組成物を用いて製造される膜の架橋性が優れるため、架橋剤（Ｄ）を更に含有することが好ましい。
【０１５３】
架橋剤（Ｄ）は、シロキサン化合物（Ａ）と反応することで、シロキサン化合物（Ａ）との化学結合（シロキサン化合物（Ａ）と架橋剤（Ｄ）との架橋）を形成する化合物である。なお、架橋剤（Ｄ）は、通常、電磁波もしくは電子線の照射、または、加熱により分解して酸を発生しない化合物である。
【０１５４】
架橋剤（Ｄ）としては、例えば、イミダゾール誘導体、フェノール誘導体、変性アミン化合物、メルカプタン化合物、３級アミン化合物、ケティミン化合物、酸無水物およびジシアンジアミド化合物が挙げられ、イミダゾール誘導体、フェノール誘導体、変性アミン化合物、ケティミン化合物、酸無水物またはジシアンジアミド化合物が好ましく、イミダゾール誘導体、フェノール誘導体、変性アミン化合物、酸無水物またはジシアンジアミド化合物がより好ましい。
【０１５５】
架橋剤（Ｄ）は、本発明の組成物に、１種単独で含有されていてもよく、２種以上が含有されていてもよい。
【０１５６】
架橋剤（Ｄ）は、本発明の組成物がより均一になるため、１０℃で液体状態であるシロキサン化合物（Ａ）に溶解する架橋剤であることが好ましい。
【０１５７】
＜組成比＞
本発明の組成物において、高分子化合物（Ｂ）の含有量は、シロキサン化合物（Ａ）の含有量を１００重量部とした場合、１〜２００重量部であることが好ましく、５〜１５０重量部であることがより好ましい。
【０１５８】
本発明の組成物が化合物（Ｃ）を含有する場合、化合物（Ｃ）の含有量は、シロキサン化合物（Ａ）の含有量を１００重量部とした場合、０．００１〜５重量部であることが好ましく、０．００５〜２重量部であることがより好ましい。
【０１５９】
本発明の組成物が架橋剤（Ｄ）を含有する場合、架橋剤（Ｄ）の含有量は、シロキサン化合物（Ａ）の含有量を１００重量部とした場合、１〜３０重量部であることが好ましく、５〜２０重量部であることがより好ましい。
【０１６０】
＜組成物の製造方法＞
【０１６１】
本発明の組成物は、
前記シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより、製造することができる（以下、「本発明の組成物の製造方法１」ともいう）。
【０１６２】
エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの例および好ましい形態は、前述の＜高分子化合物（Ｂ）＞に記載のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの例および好ましい形態と同じである。
また、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの重合条件の例および好ましい形態は、前述の＜高分子化合物（Ｂ）＞に記載のエチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーの重合条件の例および好ましい形態と同じである。
【０１６３】
化合物（Ｃ）または架橋剤（Ｄ）を含有する本発明の組成物は、
シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより、シロキサン化合物（Ａ）と高分子化合物（Ｂ）とを含有する組成物を製造した後、
該組成物に化合物（Ｃ）または架橋剤（Ｄ）を混合することにより、製造することができる（以下、「本発明の組成物の製造方法２」ともいう）。
【０１６４】
また、化合物（Ｃ）を含有する本発明の組成物は、
化合物（Ｃ）の存在下において、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させることにより、製造することができる（以下、「本発明の組成物の製造方法３」ともいう）。
【０１６５】
本発明の組成物の製造方法３では、光ラジカル重合開始剤または熱ラジカル重合開始剤の存在下において、エチレン性不飽和二重結合を有する重合性モノマーをラジカル重合させることが好ましい。これは、重合性モノマーのラジカル重合の際に、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応を防止することができるためである。
【０１６６】
化合物（Ｃ）を含有する本発明の組成物は、シロキサン化合物（Ａ）と、高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とがより均一に混合されるため、本発明の組成物の製造方法３で製造された組成物であることが好ましい。
【０１６７】
本発明の組成物の製造方法３において、
化合物（Ｃ）の存在下において、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させる場合、重合性モノマーの重合は、化合物（Ｃ）が酸を発生しない条件下において行うことが好ましい。
【０１６８】
本発明の組成物の製造方法３において、
化合物（Ｃ）および光ラジカル重合開始剤の存在下において、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させる場合、
加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を用いることが好ましい。
【０１６９】
本発明の組成物の製造方法３において、
化合物（Ｃ）および熱ラジカル重合開始剤の存在下において、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させる場合、
電磁波もしくは電子線の照射により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）を用いることが好ましい。
【０１７０】
本発明の組成物の製造方法３において、
化合物（Ｃ）および熱ラジカル重合開始剤の存在下において、シロキサン化合物（Ａ）に溶解している重合性モノマー（該重合性モノマーは、エチレン性不飽和二重結合を有する）を重合させる場合、
加熱により分解して酸を発生する化合物（Ｃ）であって、熱ラジカル重合開始剤の分解温度では分解しない化合物（Ｃ）を用いてもよい。
【０１７１】
本発明の組成物の製造方法３に用いる化合物（Ｃ）としては、
ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物等の光カチオン重合開始剤、または、ＴＡ−１００（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１２０（サンアプロ株式会社製、商品名）、ＴＡ−１６０（サンアプロ株式会社製、商品名）等の熱カチオン重合開始剤が好ましく、
ロードシル２０７４（ローディアジャパン株式会社製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１５２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７０（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、アデカオプトマ−ＳＰ−１７２（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名）、特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、または、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物がより好ましく、
特開平９−１１８６６３号公報に記載の化合物、または、特開２００７−２６２４０１号公報に記載の化合物が更に好ましい。
【０１７２】
＜膜および膜の製造方法＞
本発明の組成物には、１０℃で液体状態であるシロキサン化合物（Ａ）が含有される。
そのため、本発明の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成することができる。
本発明の組成物を基材上に塗布する方法としては、例えば、スピンコート法、ダイコート法、スクリーン印刷法、インクジェット印刷法が挙げられる。
【０１７３】
本発明の組成物に架橋剤（Ｄ）が含有される場合、本発明の膜は、
本発明の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜を加熱することにより、膜中に含有されるシロキサン化合物（Ａ）と架橋剤（Ｄ）とを架橋させる工程とを含む、膜の製造方法により製造された膜である。
【０１７４】
本発明の組成物に化合物（Ｃ）が含有される場合、本発明の膜は、
本発明の組成物を基材上に塗布することにより、膜を形成する工程と、
形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有されるシロキサン化合物（Ａ）を架橋させる工程を含む、膜の製造方法により製造された膜であってもよい。
ここで、形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射する際の温度は、通常、２０℃以上３５℃以下の常温である。
【０１７５】
シロキサン化合物（Ａ）を架橋させる工程において、形成された膜に電磁波または電子線を照射する場合、形成された膜に電磁波または電子線を照射した後、加熱することが好ましい。
【０１７６】
本発明の組成物に、式（６’）で表される繰り返し単位を含む高分子化合物（Ｂ）と、化合物（Ｃ）とが含有される場合、
本発明の組成物を基材上に塗布することにより形成された膜に、電磁波もしくは電子線を照射し加熱することにより、または、形成された膜を加熱することにより、膜中に含有されるシロキサン化合物（Ａ）および高分子化合物（Ｂ）を架橋させることができる。
ここで、形成された膜に電磁波もしくは電子線を照射する際の温度は、通常、２０℃以上３５℃以下の常温である。
【０１７７】
これは、高分子化合物（Ｂ）に含まれる式（７’）で表される繰り返し単位中の−ＯＲ１９で表される基に対して、化合物（Ｃ）が分解することで発生した酸が作用することにより、式（７’）で表される繰り返し単位中にフェノール性水酸基が発生する。そして、このフェノール性水酸基が、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基と反応することで（より詳細には、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応が起こるため）、シロキサン化合物（Ａ）および高分子化合物（Ｂ）の架橋体が形成するためである。
【０１７８】
本発明の膜の製造方法において、電磁波としては、例えば、赤外線、可視光線、紫外線が挙げられ、好ましくは紫外線である。電磁波の波長は、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応の観点から、好ましくは４５０ｎｍ以下であり、より好ましくは２００ｎｍ以上４１０ｎｍ以下である。
【０１７９】
本発明の膜の製造方法において、紫外線の照射は、例えば、露光装置、ＵＶランプを用いて行うことができる。
本発明の膜の製造方法において、電子線の照射は、例えば、超小型電子線照射管を用いて行うことができる。
【０１８０】
本発明の膜の製造方法において、形成された膜を加熱する際の温度は、通常６０℃以上２３０℃以下であり、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応の観点から、好ましくは８０℃以上２００℃以下である。
本発明の膜の製造方法において、形成された膜を加熱する際の時間は、通常５分間以上１２０分間以下であり、シロキサン化合物（Ａ）が有する環状エーテル残基の開環反応の観点から、好ましくは１０分間以上６０分間以下である。
【０１８１】
本発明の膜の製造方法において、形成された膜の加熱は、例えば、ヒーター、オーブンを用いて行うことができる。
【０１８２】
本発明の膜は、絶縁性、誘電性、耐久性、密着性に優れるため、絶縁材料、形成材料または印刷版（ブランケット）材料として好適に使用することができる。絶縁材料としては、例えば、電子デバイスの絶縁層として使用することができる。また、成形材料としては、例えば、樹脂モールドとして使用することができる。
【０１８３】
本発明の膜を絶縁層に有する電子デバイスとしては、例えば、有機薄膜トランジスタ、ＲＦＩＤタグ、液晶表示デバイス、有機エレクトロルミネッセンスデバイス、電子ペーパー、センサーが挙げられ、有機薄膜トランジスタ、液晶表示デバイスまたは有機エレクトロルミネッセンスデバイスが好ましく、有機薄膜トランジスタがより好ましい。
【０１８４】
本発明の膜を絶縁層に有する有機薄膜トランジスタにおいて、該絶縁層は、ゲート絶縁層またはオーバーコート層であることが好ましく、ゲート絶縁膜であることがより好ましい。
【０１８５】
本発明の膜を絶縁層に有する有機薄膜トランジスタは、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス装置等に代表されるディスプレイのアクティブ素子として使用することができる。
【実施例】
【０１８６】
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【０１８７】
実施例１
（組成物１の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を１４．４９ｇ、スチレンモノマー（純正化学社製）を１．１５ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を５．００ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０６ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．１８ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１４ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０１８８】
【化２７】
2016172846.tif 000028
ＭＢＺ−１０１
【０１８９】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物１（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物１を得た。組成物１中の高分子化合物１は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０１９０】
【化２８】
2016172846.tif 000029
高分子化合物１
【０１９１】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物１の重量平均分子量は、４００００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０１９２】
実施例２
（組成物２の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を２０．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を５．８９ｇ、スチレンモノマー（純正化学社製）を７．４４ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０７ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．０６ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、１０時間ラジカル重合させた。
【０１９３】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物２（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物２を得た。組成物２中の高分子化合物２は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０１９４】
【化２９】
2016172846.tif 000030
高分子化合物２
【０１９５】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物２の重量平均分子量は、２８０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０１９６】
実施例３
（組成物３の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を２０．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を４．００ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を９．４４ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０７ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．０４ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、１０時間ラジカル重合させた。
【０１９７】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物３（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物３を得た。組成物３中の高分子化合物３は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０１９８】
【化３０】
2016172846.tif 000031
高分子化合物３
【０１９９】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物３の重量平均分子量は、５００００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２００】
実施例４
（組成物４の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を２０．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を１．５０ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を３．５４ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０３ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．０２ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、９時間ラジカル重合させた。
【０２０１】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物４（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物４を得た。組成物４中の高分子化合物４は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２０２】
【化３１】
2016172846.tif 000032
高分子化合物４
【０２０３】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物４の重量平均分子量は、２８０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２０４】
実施例５
（組成物５の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を２０．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を５．８９ｇ、メチルメタクリレート（和光純薬社製）を７．１７ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．２６ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．０６ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０２０５】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物５（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物５を得た。組成物５中の高分子化合物５は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２０６】
【化３２】
2016172846.tif 000033
高分子化合物５
【０２０７】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物５の重量平均分子量は、４８０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２０８】
実施例６
（組成物６の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を２０．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を３．９０ｇ、メチルメタクリレート（和光純薬製）を４．７５ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．１７ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．０４ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１０ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０２０９】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物６（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物６を得た。組成物６中の高分子化合物６は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２１０】
【化３３】
2016172846.tif 000034
高分子化合物６
【０２１１】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物６の重量平均分子量は、３２０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２１２】
実施例７
（組成物７の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を１５．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を２．０２ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を８．１７ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０５ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．１０ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．１５ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０２１３】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物７（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物７を得た。組成物７中の高分子化合物７は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２１４】
【化３４】
2016172846.tif 000035
高分子化合物７
【０２１５】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物７の重量平均分子量は、４００００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２１６】
実施例８
（組成物８の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を１２．００ｇ、EPICLON  ４８５０（ＤＩＣ社製）を３．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を４．０２ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を６．１０ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．１０ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．１０ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．０８ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を８０℃のオイルバス中に浸し、１４時間ラジカル重合させた。
【０２１７】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物８（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物８を得た。組成物８中の高分子化合物８は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２１８】
【化３５】
2016172846.tif 000036
高分子化合物８
【０２１９】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物８の重量平均分子量は、３００００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２２０】
実施例９
（組成物９の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を１０．００ｇ、２−エチルヘキシルオキセタン（東亞合成社製、商品名：アロオキセタンＯＸＴ−２１２）を６．６７ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を２．６７ｇ、３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，１０，１０，１０−ヘプタデカフルオロデシルメタクリレート（和光純薬社製）を１．８５ｇ、ブチルアクリレート（東京化成社製）を６．６８ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．１１ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．１１ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．０５ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を８０℃のオイルバス中に浸し、８時間ラジカル重合させた。
【０２２１】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物９（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物９を得た。組成物９中の高分子化合物９は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２２２】
【化３６】
2016172846.tif 000037
高分子化合物９
【０２２３】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物９の重量平均分子量は、３３０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２２４】
実施例１０
（組成物１０の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を１０．００ｇ、２−エチルヘキシルオキセタン（東亞合成社製、商品名：アロオキセタンＯＸＴ−２１２）を２．５０ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を０．５６ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を２．２６ｇ、ブチルアクリレート（東京化成社製）を５．６１ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．０８ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．０８ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．０４ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を８０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。
【０２２５】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物１０（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物１０を得た。組成物１０中の高分子化合物１０は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２２６】
【化３７】
2016172846.tif 000038
高分子化合物１０
【０２２７】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物１０の重量平均分子量は、４１０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２２８】
実施例１１
（組成物１１の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を１６．００ｇ、４−（１-エトキシエトキシ）スチレン（東ソー有機化学製、商品名：PEES）を０．６４ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を５．８２ｇ、ブチルアクリレート（東京化成社製）を４．２７ｇ、ＯＴａｚｏ−１５（大塚化学社製）を０．１１ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．１１ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．０５ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を８０℃のオイルバス中に浸し、８時間ラジカル重合させた。
【０２２９】
これらの操作により、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物１１（高分子化合物（Ｂ）に該当する）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物１１を得た。組成物１１中の高分子化合物１１は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２３０】
【化３８】
2016172846.tif 000039
高分子化合物１１
【０２３１】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物１１の重量平均分子量は、２９０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２３２】
比較例１
（組成物２の製造）
５０ｍＬの耐圧容器（ＡＣＥ  ＧＬＡＳＳ社製）に、スチレンモノマー（純正化学社製）を２．３０ｇ、２，３，４，５，６−ペンタフルオロスチレン（アルドリッチ社製）を１０．００ｇ、ＡＩＢＮ（和光純薬社製）を０．１２ｇ、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（東京化成社製）を２８．９８ｇ加えた後、溶存酸素を取り除くためにアルゴンガスでバブリングし、密栓した。耐圧容器を６０℃のオイルバス中に浸し、７時間ラジカル重合させた。得られた反応混合物を、イソプロパノールに滴下することで沈殿物を生じさせた。得られた沈殿物をろ過し、減圧乾燥することにより、高分子化合物２を得た。高分子化合物２は、下記の繰り返し単位を含む高分子化合物である。括弧の添え数字は繰り返し単位のモル分率を示している。
【０２３３】
【化３９】
2016172846.tif 000040
高分子化合物２
【０２３４】
標準ポリスチレンから求めた、高分子化合物２の重量平均分子量は、３９０００であった（島津製ＧＰＣ、Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  ＨＭ−Ｈ  １本＋Ｔｓｋｇｅｌ  ｓｕｐｅｒ  Ｈ２０００  １本、移動相＝ＴＨＦ）。
【０２３５】
１００ｍＬの三つ口フラスコに、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（ローディアジャパン社製、商品名：ＰＣ−６０６ＰＥＸ）を２０．００ｇ、高分子化合物２を４．００ｇ、ＭＢＺ−１０１（みどり化学社製）を０．４０ｇ、ＬＷ−Ｓ１（サンアプロ社製）を０．２０ｇ加えた後、メカニカルスターラーを用いて、室温でゆっくり攪拌した。
【０２３６】
これらの操作により得られた組成物２は、１，３−（ビスグリシジルオキシプロピル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン（シロキサン化合物（Ａ）に該当する）に、高分子化合物２（高分子化合物（Ｂ）に該当しない）、ＭＢＺ−１０１（化合物（Ｃ）に該当する）およびＬＷ−Ｓ１（化合物（Ｃ）に該当する）が均一に溶解した、透明粘稠な組成物ではなかった。