(57)【要約】【課題】結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮを低くでき、配向性が良好で、且つ、相分離の発生の抑制が可能な、液晶性組成物を提供する。【解決手段】逆波長分散性の複屈折を発現しうる分子量５４０以上の重合性液晶化合物と、１９．０未満のＳＰ値を有する分子量２２０以上５４０未満の（メタ）アクリレート化合物とを含む、液晶性組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
逆波長分散性の複屈折を発現しうる分子量５４０以上の重合性液晶化合物と、１９．０未満のＳＰ値を有する分子量２２０以上５４０未満の（メタ）アクリレート化合物とを含む、液晶性組成物。
【請求項２】
前記（メタ）アクリレート化合物が、非液晶化合物である、請求項１記載の液晶性組成物。
【請求項３】
前記（メタ）アクリレート化合物が、１分子当たり２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する、請求項１又は２記載の液晶性組成物。
【請求項４】
前記液晶性組成物の結晶相からネマチック相への相転移温度が、９８℃以下である、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶性組成物。
【請求項５】
前記重合性液晶化合物が、前記重合性液晶化合物の分子中に、主鎖メソゲンと、前記主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶性組成物。
【請求項６】
前記重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶性組成物。
【化１】
2017002201.tif 000042
（前記式（Ｉ）において、
Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表す。）
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶化合物を用いて光学フィルムを製造する場合、液晶化合物を含む液晶性組成物を樹脂フィルム等の適切な基材上に塗布して層を形成し、この液晶性組成物の層において液晶化合物を配向させ、液晶化合物の配向を維持した状態で層を硬化させることにより、所望の光学フィルムを得ることがある。また、このような方法で用いる液晶性組成物は、液晶化合物に組み合わせて、溶媒及び添加剤を含みうる（特許文献１〜５参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２７７４８７号公報
【特許文献２】特開２０００−２８１６２８号公報
【特許文献３】特開２０１０−２４１８１４号公報
【特許文献４】特開２００４−２３１６３８号公報
【特許文献５】国際公開第２０１２／１４７９０４号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶化合物を配向させる際、通常は、液晶性組成物の層の温度を、液晶化合物が液晶相となる所定の温度に調整する。この温度は、一般に、液晶性組成物の結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮ以上の温度である。よって、前記の相転移温度ＴＣＮが高いと、液晶化合物を配向させる際の液晶性組成物の層の温度は高くすることが求められる。
【０００５】
一般に、液晶性組成物の層の温度を高くするために液晶性組成物の層を加熱すると、その層を支持する基材にも大きな熱が加えられる。このように大きな熱が加えられると、基材に歪みが生じ、得られる光学フィルムにシワ及びうねり等の変形が生じる可能性がある。このような変形は、光学フィルムの品質低下の原因となりうる。そこで、液晶性組成物の相転移温度ＴＣＮを低下させられる技術の開発が求められる。
【０００６】
また、製造される光学フィルムの光学特性を均一にするためには、液晶性組成物は、配向性が良好で、且つ、相分離の発生が抑制されていることが望ましい。
【０００７】
本発明は、上述した課題に鑑みて創案されたもので、結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮを低くでき、配向性が良好で、且つ、相分離の発生の抑制が可能な、液晶性組成物を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者は前記の課題を解決するべく鋭意検討した結果、逆波長分散性の複屈折を発現しうる所定の分子量の重合性液晶化合物は、所定の範囲のＳＰ値及び分子量を有する（メタ）アクリレート化合物と組み合わせることにより、配向性低下及び相分離の発生を抑制しながら相転移温度ＴＣＮを低くできることを見い出し、本発明を完成させた。
すなわち、本発明は下記の通りである。
【０００９】
〔１〕  逆波長分散性の複屈折を発現しうる分子量５４０以上の重合性液晶化合物と、１９．０未満のＳＰ値を有する分子量２２０以上５４０未満の（メタ）アクリレート化合物とを含む、液晶性組成物。
〔２〕  前記（メタ）アクリレート化合物が、非液晶化合物である、〔１〕記載の液晶性組成物。
〔３〕  前記（メタ）アクリレート化合物が、１分子当たり２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する、〔１〕又は〔２〕記載の液晶性組成物。
〔４〕  前記液晶性組成物の結晶相からネマチック相への相転移温度が、９８℃以下である、〔１〕〜〔３〕のいずれか一項に記載の液晶性組成物。
〔５〕  前記重合性液晶化合物が、前記重合性液晶化合物の分子中に、主鎖メソゲンと、前記主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを含む、〔１〕〜〔４〕のいずれか一項に記載の液晶性組成物。
〔６〕  前記重合性液晶化合物が、下記式（Ｉ）で表される、〔１〕〜〔５〕のいずれか一項に記載の液晶性組成物。
【化１】
2017002201.tif 000002
（前記式（Ｉ）において、
Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。
Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。前記Ａｘ及びＡｙが有する芳香環は、置換基を有していてもよい。また、前記ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。
Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。
Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。
Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。
Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表す。）
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮを低くでき、配向性が良好で、且つ、相分離の発生の抑制が可能な、液晶性組成物を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、例示物及び実施形態を示して本発明について詳細に説明する。ただし、本発明は以下に示す例示物及び実施形態に限定されるものではなく、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
【００１２】
以下の説明において、用語「（メタ）アクリレート」は、別に断らない限り、「アクリレート」及び「メタクリレート」の両方を包含する。また、以下の説明において、用語「（メタ）アクリロイル基」は、別に断らない限り、「アクリロイル基」及び「メタクリロイル基」の両方を包含する。
【００１３】
以下の説明において、用語「偏光板」及び用語「波長板」は、別に断らない限り、樹脂フィルム等の可撓性を有するフィルム及びシートを包含する。
【００１４】
以下の説明において、固有複屈折値が正の樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも大きくなる樹脂を意味する。また、固有複屈折値が負の樹脂とは、延伸方向の屈折率がそれに直交する方向の屈折率よりも小さくなる樹脂を意味する。固有複屈折値は、誘電率分布から計算しうる。
【００１５】
以下の説明において、ある層のレターデーションとは、別に断らない限り、面内レターデーションＲｅを表す。この面内レターデーションＲｅは、別に断らない限り、Ｒｅ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄで表される値である。ここで、ｎｘは、層の厚み方向に垂直な方向（面内方向）であって最大の屈折率を与える方向の屈折率を表す。ｎｙは、層の前記面内方向であってｎｘの方向に直交する方向の屈折率を表す。ｄは、層の厚みを表す。レターデーションの測定波長は、別に断らない限り、５５０ｎｍである。
【００１６】
以下の説明において、ある層の遅相軸の方向とは、別に断らない限り、面内方向の遅相軸の方向をいう。
【００１７】
以下の説明において、要素の方向が「平行」及び「垂直」とは、別に断らない限り、本発明の効果を損ねない範囲内、例えば±５°、好ましくは±３°、より好ましくは±１°の範囲内での誤差を含んでいてもよい。
【００１８】
［１．液晶性組成物の概要］
本発明の液晶性組成物は、逆波長分散性の複屈折を発現しうる重合性液晶化合物と、（メタ）アクリレート化合物とを含む。以下の説明において、逆波長分散性の複屈折を発現しうる重合性液晶化合物のことを、適宜「逆波長重合性液晶化合物」ということがある。前記の逆波長重合性液晶化合物は、所定範囲の分子量を有する。また、前記の（メタ）アクリレート化合物は、所定範囲のＳＰ値を有し、且つ、所定範囲の分子量を有する。このような液晶性組成物の結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮは、前記の逆波長重合性液晶化合物それ単独での結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮよりも低い。以下の説明において、結晶相からネマチック相への相転移温度ＴＣＮを、適宜「液晶化温度」ＴＣＮということがある。また、このような液晶性組成物は、配向性に優れ、且つ、相分離の発生が抑制されている。
【００１９】
［２．逆波長重合性液晶化合物］
逆波長重合性液晶化合物は、重合性を有する液晶化合物である。この逆波長重合性液晶化合物は、液晶性を有する液晶化合物であるので、当該逆波長重合性液晶化合物を配向させたときに、液晶相を呈しうる。また、逆波長重合性液晶化合物は、重合性を有する化合物であるので、前記のように液晶相を呈した状態で重合し、液晶相における分子の配向を維持したままま重合体となりうる。
【００２０】
さらに、逆波長重合性液晶化合物は、逆波長分散性の複屈折を発現しうる化合物である。ここで、逆波長分散性の複屈折を発現しうる化合物とは、前記のように重合体とした場合に、得られた重合体が逆波長分散性の複屈折を発現する化合物をいう。
【００２１】
逆波長分散性の複屈折とは、波長４５０ｎｍにおける複屈折Δｎ（４５０）及び波長６５０ｎｍにおける複屈折Δｎ（６５０）が、下記式（Ｄ１）を満たす複屈折をいう。このような逆波長分散性の複屈折を発現しうる前記の逆波長重合性液晶化合物は、通常、測定波長が長いほど、大きい複屈折を発現しうる。したがって、通常、逆波長重合性液晶化合物を前述のように重合させた重合体の複屈折は、下記式（Ｄ２）を満たす。下記式（Ｄ２）において、Δｎ（５５０）は、測定波長５５０ｎｍにおける複屈折を表す。
Δｎ（４５０）＜Δｎ（６５０）        （Ｄ１）
Δｎ（４５０）＜Δｎ（５５０）＜Δｎ（６５０）        （Ｄ２）
【００２２】
また、前記の逆波長重合性液晶化合物の分子量は、通常５４０以上、より好ましくは８００以上、特に好ましくは１０００以上である。一般に、このように大きい分子量を有する逆波長重合性液晶化合物は、液晶化温度ＴＣＮが高い傾向がある。これに対し、本発明の液晶性組成物では、逆波長重合性液晶化合物に特定の（メタ）アクリレート化合物を組み合わせているので、液晶性組成物全体として液晶化温度ＴＣＮを低下させることができる。逆波長重合性液晶化合物の分子量の上限は、特段の制限は無いが、好ましくは１８００以下、より好ましくは１６００以下、特に好ましくは１４００以下である。逆波長重合性液晶化合物の分子量が前記上限値以下であることにより、液晶性組成物の塗布性を特に良好にできるので、光学フィルムの製造を容易に行うことができる。
【００２３】
液晶化温度ＴＣＮを低くできるとの効果を有効に活用する観点では、逆波長重合性液晶化合物として、逆波長重合性液晶化合物それ単独での液晶化温度ＴＣＮが高いものを用いることが好ましい。逆波長重合性液晶化合物それ単独での具体的な液晶化温度ＴＣＮは、好ましくは９０℃以上、より好ましくは９５℃以上、特に好ましくは１００℃以上である。逆波長重合性液晶化合物それ単独での液晶化温度ＴＣＮの上限値に特段の制限は無いが、取り扱い性の観点から、好ましくは１８０℃以下、より好ましくは１５０℃以下、特に好ましくは１２０℃以下である。
【００２４】
このような逆波長重合性液晶化合物としては、当該逆波長重合性液晶化合物の分子中に、主鎖メソゲンと、前記主鎖メソゲンに結合した側鎖メソゲンとを含む化合物を用いうる。主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを含む前記の逆波長重合性液晶化合物は、当該逆波長重合性液晶化合物が配向した状態において、側鎖メソゲンが主鎖メソゲンと異なる方向に配向しうる。そのため、このような配向を維持したまま逆波長重合性液晶化合物を重合させて得た重合体においては、主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンは、異なる方向に配向しうる。このような場合、複屈折は主鎖メソゲンに対応する屈折率と側鎖メソゲンに対応する屈折率との差として発現するので、結果として、逆波長重合性液晶化合物及びその重合体は、逆波長分散性の複屈折を発現できる。
【００２５】
前記のように主鎖メソゲン及び側鎖メソゲンを有する化合物の立体形状は、一般的な順波長分散性液晶化合物の立体形状とは異なる特異的な形状である。ここで、「順波長重合性液晶化合物」とは、順波長分散性の複屈折を発現しうる重合性液晶化合物をいう。また、順波長分散性の複屈折とは、測定波長が大きいほど当該複屈折の絶対値が小さくなる複屈折を表す。本発明者の検討によれば、逆波長重合性液晶化合物が前記のような特異的な立体形状を有することが、特定の（メタ）アクリレート化合物と組み合わせた場合に配向性の低下及び相分離の発生を抑制しながら液晶化温度ＴＣＮを低くできるとの効果を得られる一因になっているものと推察される。ただし、本発明の技術的範囲は、前記の推察によって制限されるものでは無い。
【００２６】
前記の逆波長重合性液晶化合物は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【００２７】
逆波長重合性液晶化合物の好適な具体例としては、下記式（Ｉ）で表される化合物が挙げられる。以下の説明において、式（Ｉ）で表される化合物を、適宜「化合物（Ｉ）」ということがある。
【００２８】
【化２】
2017002201.tif 000003
【００２９】
化合物（Ｉ）は、通常、下記式で表すように、基−Ｙ５−Ａ４−（Ｙ３−Ａ２）ｎ−Ｙ１−Ａ１−Ｙ２−（Ａ３−Ｙ４）ｍ−Ａ５−Ｙ６−からなる主鎖メソゲン１ａ、及び、基＞Ａ１−Ｃ（Ｑ１）＝Ｎ−Ｎ（Ａｘ）Ａｙからなる側鎖メソゲン１ｂの２つのメソゲン骨格を含む。また、これらの主鎖メソゲン１ａ及び側鎖メソゲン１ｂは、互いに交差している。上記の主鎖メソゲン１ａ及び側鎖メソゲン１ｂをあわせて１つのメソゲンとすることもできるが、本発明では、２つのメソゲンに分けて表記する。
【００３０】
【化３】
2017002201.tif 000004
【００３１】
主鎖メソゲン１ａの長軸方向における屈折率をｎ１、側鎖メソゲン１ｂの長軸方向における屈折率をｎ２とする。この際、屈折率ｎ１の絶対値及び波長分散性は、通常、主鎖メソゲン１ａの分子構造に依存する。また、屈折率ｎ２の絶対値及び波長分散性は、通常、側鎖メソゲン１ｂの分子構造に依存する。ここで、液晶相において逆波長重合性液晶化合物は、通常、主鎖メソゲン１ａの長軸方向を回転軸として回転運動を行うので、ここでいう屈折率ｎ１及びｎ２とは、回転体としての屈折率を表している。
【００３２】
主鎖メソゲン１ａ及び側鎖メソゲン１ｂの分子構造に由来して、屈折率ｎ１の絶対値は屈折率ｎ２の絶対値より大きい。さらに、屈折率ｎ１及びｎ２は、通常、順波長分散性を示す。ここで、順波長分散性の屈折率とは、測定波長が大きいほど当該屈折率の絶対値が小さくなる屈折率を表す。主鎖メソゲン１ａの屈折率ｎ１は、順波長分散性が小さいので、短波長で測定した屈折率よりも長波長で測定した屈折率は大幅には小さくならない。これに対し、側鎖メソゲン１ｂの屈折率ｎ２は、順波長分散性が大きいので、短波長で測定した屈折率よりも長波長で測定した屈折率は大幅に小さくなる。そのため、測定波長が短いと屈折率ｎ１と屈折率ｎ２との差Δｎは小さく、測定波長が長いと屈折率ｎ１と屈折率ｎ２との差Δｎが大きくなる。このようにして、主鎖メソゲン１ａ及び側鎖メソゲン１ｂに由来して逆波長分散性の複屈折が発現しうる。
【００３３】
前記式（Ｉ）において、Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ１−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１−、−Ｏ−ＮＲ１−、又は、−ＮＲ１−Ｏ−を表す。
【００３４】
ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表す。
Ｒ１の炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−へキシル基が挙げられる。
Ｒ１としては、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基が好ましい。
【００３５】
化合物（Ｉ）においては、Ｙ１〜Ｙ８は、それぞれ独立して、化学的な単結合、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、又は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−であることが好ましい。
【００３６】
前記式（Ｉ）において、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数１〜２０の二価の脂肪族基を表す。
炭素数１〜２０の二価の脂肪族基としては、例えば、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基；炭素数３〜２０のシクロアルカンジイル基、炭素数４〜２０のシクロアルケンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基等の二価の脂肪族基；が挙げられる。
【００３７】
Ｇ１及びＧ２の二価の脂肪族基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペンチルオキシ基、ｎ−へキシルオキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；が挙げられる。なかでも、フッ素原子、メトキシ基及びエトキシ基が好ましい。
【００３８】
また、前記脂肪族基には、１つの脂肪族基当たり１以上の−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−、−ＮＲ２−、又は、−Ｃ（＝Ｏ）−が介在していてもよい。ただし、−Ｏ−又は−Ｓ−がそれぞれ２以上隣接して介在する場合を除く。ここで、Ｒ２は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表し、水素原子又はメチル基であることが好ましい。
前記脂肪族基に介在する基としては、−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−が好ましい。
【００３９】
これらの基が介在する脂肪族基の具体例としては、例えば、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｓ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−ＮＲ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−ＮＲ２−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＨ２−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ２−が挙げられる。
【００４０】
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素数２〜２０のアルケニレン基等の鎖状構造を有する二価の脂肪族基が好ましく、メチレン基、エチレン基、トリメチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、デカメチレン基〔−（ＣＨ２）１０−〕等の、炭素数１〜１２のアルキレン基がより好ましく、テトラメチレン基〔−（ＣＨ２）４−〕、ヘキサメチレン基〔−（ＣＨ２）６−〕、オクタメチレン基〔−（ＣＨ２）８−〕、及び、デカメチレン基〔−（ＣＨ２）１０−〕が特に好ましい。
【００４１】
前記式（Ｉ）において、Ｚ１及びＺ２は、それぞれ独立して、ハロゲン原子で置換されていてもよい炭素数２〜１０のアルケニル基を表す。
該アルケニル基の炭素数としては、２〜６が好ましい。Ｚ１及びＺ２のアルケニル基の置換基であるハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等が挙げられ、塩素原子が好ましい。
【００４２】
Ｚ１及びＺ２の炭素数２〜１０のアルケニル基の具体例としては、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−、（ＣＨ３）２Ｃ＝ＣＨ−ＣＨ２−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、ＣＨ３−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ２−が挙げられる。
【００４３】
なかでも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ｚ１及びＺ２としては、それぞれ独立して、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−、ＣＨ２＝ＣＨ−ＣＨ２−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−ＣＨ２−ＣＨ２−が好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−、ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）−、又は、ＣＨ２＝Ｃ（Ｃｌ）−がより好ましく、ＣＨ２＝ＣＨ−が特に好ましい。
【００４４】
前記式（Ｉ）において、Ａｘは、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。「芳香環」は、Ｈｕｃｋｅｌ則に従う広義の芳香族性を有する環状構造、すなわち、π電子を（４ｎ＋２）個有する環状共役構造、及びチオフェン、フラン、ベンゾチアゾール等に代表される、硫黄、酸素、窒素等のヘテロ原子の孤立電子対がπ電子系に関与して芳香族性を示す環状構造を意味する。
【００４５】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基は、芳香環を複数個有するものであってもよく、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環の両方を有するものであってもよい。
【００４６】
前記芳香族炭化水素環としては、例えば、ベンゼン環、ナフタレン環、アントラセン環等が挙げられる。前記芳香族複素環としては、ピロール環、フラン環、チオフェン環、ピリジン環、ピリダジン環、ピリミジン環、ピラジン環、ピラゾール環、イミダゾール環、オキサゾール環、チアゾール環等の単環の芳香族複素環；ベンゾチアゾール環、ベンゾオキサゾール環、キノリン環、フタラジン環、ベンゾイミダゾール環、ベンゾピラゾール環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、チアゾロピリジン環、オキサゾロピリジン環、チアゾロピラジン環、オキサゾロピラジン環、チアゾロピリダジン環、オキサゾロピリダジン環、チアゾロピリミジン環、オキサゾロピリミジン環等の縮合環の芳香族複素環；が挙げられる。
【００４７】
Ａｘが有する芳香環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ５；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ５；−ＳＯ２Ｒ６；等が挙げられる。ここで、Ｒ５は炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、又は、炭素数３〜１２のシクロアルキル基を表し、Ｒ６は後述するＲ４と同様の、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。
【００４８】
また、Ａｘが有する芳香環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は単環であってもよく、縮合多環であってもよく、不飽和環であってもよく、飽和環であってもよい。
さらに、Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
【００４９】
Ａｘの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、例えば、芳香族炭化水素環基；芳香族複素環基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数３〜３０のアルキル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルケニル基；芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数４〜３０のアルキニル基；が挙げられる。
【００５０】
Ａｘの好ましい具体例を以下に示す。但し、Ａｘは以下に示すものに限定されるものではない。なお、下記式中、「−」は環の任意の位置からのびる結合手を表す（以下にて同じである。）。
（１）芳香族炭化水素環基
【００５１】
【化４】
2017002201.tif 000005
【００５２】
【化５】
2017002201.tif 000006
【００５３】
（２）芳香族複素環基
【００５４】
【化６】
2017002201.tif 000007
【００５５】
【化７】
2017002201.tif 000008
【００５６】
上記式中、Ｅは、ＮＲ６ａ、酸素原子又は硫黄原子を表す。ここで、Ｒ６ａは、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００５７】
【化８】
2017002201.tif 000009
【００５８】
上記式中、Ｘ、Ｙ及びＺは、それぞれ独立して、ＮＲ７、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、又は、−ＳＯ２−を表す（ただし、酸素原子、硫黄原子、−ＳＯ−、−ＳＯ２−が、それぞれ隣接する場合を除く。）。Ｒ７は、前記Ｒ６ａと同様の、水素原子；又は、メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００５９】
【化９】
2017002201.tif 000010
【００６０】
（上記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。）
（３）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキル基
【００６１】
【化１０】
2017002201.tif 000011
【００６２】
（４）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルケニル基
【００６３】
【化１１】
2017002201.tif 000012
【００６４】
（５）芳香族炭化水素環基及び芳香族複素環基からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、アルキニル基
【００６５】
【化１２】
2017002201.tif 000013
【００６６】
上記したＡｘの中でも、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基、又は炭素数４〜３０の芳香族複素環基であることが好ましく、下記に示すいずれかの基であることがより好ましい。
【００６７】
【化１３】
2017002201.tif 000014
【００６８】
【化１４】
2017002201.tif 000015
【００６９】
さらに、Ａｘは、下記に示すいずれかの基であることが更に好ましい。
【００７０】
【化１５】
2017002201.tif 000016
【００７１】
Ａｘが有する環は、置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；ビニル基、アリル基等の炭素数２〜６のアルケニル基；トリフルオロメチル基等の炭素数１〜６のハロゲン化アルキル基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ８；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８；−ＳＯ２Ｒ６；が挙げられる。ここでＲ８は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基；又は、フェニル基等の炭素数６〜１４のアリール基；を表す。なかでも、置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、及び炭素数１〜６のアルコキシ基が好ましい。
【００７２】
Ａｘが有する環は、同一又は相異なる置換基を複数有していてもよく、隣り合った二つの置換基が一緒になって結合して環を形成していてもよい。形成される環は、単環であってもよく、縮合多環であってもよい。
Ａｘの炭素数２〜３０の有機基の「炭素数」は、置換基の炭素原子を含まない有機基全体の総炭素数を意味する（後述するＡｙにて同じである。）。
【００７３】
前記式（Ｉ）において、Ａｙは、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表す。ここで、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。
【００７４】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、１−メチルペンチル基、１−エチルペンチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−へキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基、ｎ−ウンデシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−イコシル基が挙げられる。置換基を有してもよい炭素数１〜２０のアルキル基の炭素数は、１〜１２であることが好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。
【００７５】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数２〜２０のアルケニル基としては、例えば、ビニル基、プロペニル基、イソプロペニル基、ブテニル基、イソブテニル基、ペンテニル基、ヘキセニル基、ヘプテニル基、オクテニル基、デセニル基、ウンデセニル基、ドデセニル基、トリデセニル基、テトラデセニル基、ペンタデセニル基、ヘキサデセニル基、ヘプタデセニル基、オクタデセニル基、ノナデセニル基、イコセニル基が挙げられる。置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の炭素数は、２〜１２であることが好ましい。
【００７６】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の炭素数３〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基が挙げられる。
【００７７】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の炭素数２〜２０のアルキニル基としては、例えば、エチニル基、プロピニル基、２−プロピニル基（プロパルギル基）、ブチニル基、２−ブチニル基、３−ブチニル基、ペンチニル基、２−ペンチニル基、ヘキシニル基、５−ヘキシニル基、ヘプチニル基、オクチニル基、２−オクチニル基、ノナニル基、デカニル基、７−デカニル基が挙げられる。
【００７８】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、及び置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基等の炭素数１〜２０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、メトキシエトキシ基等の、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等の炭素数３〜８のシクロアルキルオキシ基；テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロピラニル基、ジオキソラニル基、ジオキサニル基等の炭素数２〜１２の環状エーテル基；フェノキシ基、ナフトキシ基等の炭素数６〜１４のアリールオキシ基；トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、−ＣＨ２ＣＦ３等の、少なくとも１個がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のフルオロアルコキシ基；ベンゾフリル基；ベンゾピラニル基；ベンゾジオキソリル基；ベンゾジオキサニル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ７ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ７ａ；−ＳＯ２Ｒ８ａ；−ＳＲ１０；−ＳＲ１０で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基；水酸基；が挙げられる。ここで、Ｒ７ａ及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基を表す。Ｒ８ａは、前記Ｒ４と同様の、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。
【００７９】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子等のハロゲン原子；シアノ基；ジメチルアミノ基等の置換アミノ基；メチル基、エチル基、プロピル基等の炭素数１〜６のアルキル基；メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基等の炭素数１〜６のアルコキシ基；ニトロ基；フェニル基、ナフチル基等のアリール基；シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等の炭素数３〜８のシクロアルキル基；−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ７ａ；−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ７ａ；−ＳＯ２Ｒ８ａ；水酸基；が挙げられる。ここでＲ７ａ及びＲ８ａは、前記と同じ意味を表す。
【００８０】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、例えば、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、及び、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基の置換基と同様な置換基が挙げられる。
【００８１】
Ａｙの、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３で表される基において、Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、炭素数５〜１２の芳香族炭化水素基を表す。これらの具体例は、前記Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の例として挙げたものと同様のものが挙げられる。
【００８２】
Ａｙの、−ＳＯ２−Ｒ４で表される基において、Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基、フェニル基、又は、４−メチルフェニル基を表す。Ｒ４の、炭素数１〜２０のアルキル基、及び炭素数２〜２０のアルケニル基の具体例は、前記Ａｙの、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基の例として挙げたものと同様のものが挙げられる。
【００８３】
Ａｙの、−Ｃ（＝Ｓ）ＮＨ−Ｒ９で表される基において、Ｒ９は、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数５〜２０の芳香族基を表す。これらの具体例は、前記Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基の例として挙げたものと同様のものが挙げられる。
【００８４】
Ａｙの、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基としては、前記Ａｘで説明したのと同様のものが挙げられる。
【００８５】
これらの中でも、Ａｙとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４、又は、芳香族炭化水素環及び芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基で表される基が好ましい。さらに、Ａｙとしては、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ３、−ＳＯ２−Ｒ４で表される基が更に好ましい。ここで、Ｒ３及びＲ４は、前記と同じ意味を表す。
【００８６】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基の置換基としては、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、フェニルスルホニル基、４−メチルフェニルスルホニル基、ベンゾイル基、−ＳＲ１０が好ましい。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【００８７】
Ａｙの、置換基を有していてもよい炭素数３〜１２のシクロアルキル基、置換基を有してもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基の置換基としては、フッ素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基が好ましい。
【００８８】
また、ＡｘとＡｙは、一緒になって、環を形成していてもよい。かかる環としては、例えば、置換基を有していてもよい、炭素数４〜３０の不飽和複素環、炭素数６〜３０の不飽和炭素環が挙げられる。
【００８９】
前記炭素数４〜３０の不飽和複素環、及び、炭素数６〜３０の不飽和炭素環は、特に制約はなく、芳香族性を有していても有していなくてもよい。
ＡｘとＡｙが一緒になって形成される環としては、例えば、下記に示す環が挙げられる。なお、下記に示す環は、式（Ｉ）中の
【００９０】
【化１６】
2017002201.tif 000017
【００９１】
として表される部分を示すものである。
【００９２】
【化１７】
2017002201.tif 000018
【００９３】
【化１８】
2017002201.tif 000019
【００９４】
【化１９】
2017002201.tif 000020
【００９５】
（式中、Ｘ、Ｙ、Ｚは、前記と同じ意味を表す。）
また、これらの環は置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、Ａｘが有する芳香環の置換基として説明したのと同様のものが挙げられる。
【００９６】
ＡｘとＡｙに含まれるπ電子の総数は、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、好ましくは４以上、より好ましくは６以上であり、好ましくは２４以下、より好ましくは２０以下、特に好ましくは１８以下である。
【００９７】
ＡｘとＡｙの好ましい組み合わせとしては、
（α）Ａｘが炭素数４〜３０の、芳香族炭化水素基又は芳香族複素環基であり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基及び−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせ、並びに、
（β）ＡｘとＡｙが一緒になって不飽和複素環又は不飽和炭素環を形成している組み合わせ、
が挙げられる。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【００９８】
ＡｘとＡｙのより好ましい組み合わせとしては、
（γ）Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせである。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【００９９】
【化２０】
2017002201.tif 000021
【０１００】
【化２１】
2017002201.tif 000022
【０１０１】
（式中、Ｘ、Ｙは、前記と同じ意味を表す。）
ＡｘとＡｙの特に好ましい組み合わせとしては、
（δ）Ａｘが下記構造を有する基のいずれかであり、Ａｙが水素原子、炭素数３〜８のシクロアルキル基、（ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、若しくは炭素数３〜８のシクロアルキル基）を置換基として有していてもよい炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、（ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、シアノ基）を置換基として有していてもよい炭素数３〜９の芳香族複素環基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルケニル基、又は、置換基を有していてもよい炭素数２〜２０のアルキニル基であり、当該置換基が、ハロゲン原子、シアノ基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜１２のアルコキシ基で置換された炭素数１〜１２のアルコキシ基、フェニル基、シクロヘキシル基、炭素数２〜１２の環状エーテル基、炭素数６〜１４のアリールオキシ基、水酸基、ベンゾジオキサニル基、ベンゼンスルホニル基、ベンゾイル基、及び、−ＳＲ１０のいずれかである組み合わせである。下記式中、Ｘは前記と同じ意味を表す。ここで、Ｒ１０は前記と同じ意味を表す。
【０１０２】
【化２２】
2017002201.tif 000023
【０１０３】
前記式（Ｉ）において、Ａ１は、置換基を有していてもよい三価の芳香族基を表す。三価の芳香族基としては、三価の炭素環式芳香族基であってもよく、三価の複素環式芳香族基であってもよい。本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、三価の炭素環式芳香族基が好ましく、三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がより好ましく、下記式に示す三価のベンゼン環基又は三価のナフタレン環基がさらに好ましい。なお、下記式においては、結合状態をより明確にすべく、置換基Ｙ１、Ｙ２を便宜上記載している（Ｙ１、Ｙ２は、前記と同じ意味を表す。以下にて同じ。）。
【０１０４】
【化２３】
2017002201.tif 000024
【０１０５】
これらの中でも、Ａ１としては、下記に示す式（Ａ１１）〜（Ａ２５）で表される基がより好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ１３）、（Ａ１５）、（Ａ１９）、（Ａ２３）で表される基がさらに好ましく、式（Ａ１１）、（Ａ２３）で表される基が特に好ましい。
【０１０６】
【化２４】
2017002201.tif 000025
【０１０７】
Ａ１の、三価の芳香族基が有していてもよい置換基としては、前記ＡＸの芳香族基の置換基として説明したのと同様のものが挙げられる。Ａ１としては、置換基を有さないものが好ましい。
【０１０８】
前記式（Ｉ）において、Ａ２及びＡ３は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基を表す。炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基としては、例えば、炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基、炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基が挙げられる。
【０１０９】
炭素数３〜３０のシクロアルカンジイル基としては、例えば、シクロプロパンジイル基；シクロブタン−１，２−ジイル基、シクロブタン−１，３−ジイル基等のシクロブタンジイル基；シクロペンタン−１，２−ジイル基、シクロペンタン−１，３−ジイル基等のシクロペンタンジイル基；シクロヘキサン−１，２−ジイル基、シクロヘキサン−１，３−ジイル基、シクロヘキサン−１，４−ジイル基等のシクロへキサンジイル基；シクロヘプタン−１，２−ジイル基、シクロヘプタン−１，３−ジイル基、シクロヘプタン−１，４−ジイル基等のシクロへプタンジイル基；シクロオクタン−１，２−ジイル基、シクロオクタン−１，３−ジイル基、シクロオクタン−１，４−ジイル基、シクロオクタン−１，５−ジイル基等のシクロオクタンジイル基；シクロデカン−１，２−ジイル基、シクロデカン−１，３−ジイル基、シクロデカン−１，４−ジイル基、シクロデカン−１，５−ジイル基等のシクロデカンジイル基；シクロドデカン−１，２−ジイル基、シクロドデカン−１，３−ジイル基、シクロドデカン−１，４−ジイル基、シクロドデカン−１，５−ジイル基等のシクロドデカンジイル基；シクロテトラデカン−１，２−ジイル基、シクロテトラデカン−１，３−ジイル基、シクロテトラデカン−１，４−ジイル基、シクロテトラデカン−１，５−ジイル基、シクロテトラデカン−１，７−ジイル基等のシクロテトラデカンジイル基；シクロエイコサン−１，２−ジイル基、シクロエイコサン−１，１０−ジイル基等のシクロエイコサンジイル基；が挙げられる。
【０１１０】
炭素数１０〜３０の二価の脂環式縮合環基としては、例えば、デカリン−２，５−ジイル基、デカリン−２，７-ジイル基等のデカリンジイル基；アダマンタン−１，２−ジイル基、アダマンタン−１，３−ジイル基等のアダマンタンジイル基；ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，３−ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，５-ジイル基、ビシクロ［２．２．１］へプタン−２，６−ジイル基等のビシクロ［２．２．１］へプタンジイル基；が挙げられる。
【０１１１】
これらの二価の脂環式炭化水素基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。置換基としては、前記ＡＸの芳香族基の置換基として説明したものと同様のものが挙げられる。
【０１１２】
これらの中でも、Ａ２及びＡ３としては、炭素数３〜１２の二価の脂環式炭化水素基が好ましく、炭素数３〜１２のシクロアルカンジイル基がより好ましく、下記式（Ａ３１）〜（Ａ３４）で表される基がさらに好ましく、下記式（Ａ３２）で表される基が特に好ましい。
【０１１３】
【化２５】
2017002201.tif 000026
【０１１４】
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、Ｙ１及びＹ３（又はＹ２及びＹ４）と結合する炭素原子の立体配置の相違に基づく、シス型及びトランス型の立体異性体が存在しうる。例えば、シクロヘキサン−１，４−ジイル基の場合には、下記に示すように、シス型の異性体（Ａ３２ａ）とトランス型の異性体（Ａ３２ｂ）が存在し得る。
【０１１５】
【化２６】
2017002201.tif 000027
【０１１６】
前記炭素数３〜３０の二価の脂環式炭化水素基は、シス型であってもよく、トランス型であってもよく、シス型及びトランス型の異性体混合物であってもよい。中でも、配向性が良好であることから、トランス型あるいはシス型であるのが好ましく、トランス型がより好ましい。
【０１１７】
前記式（Ｉ）において、Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、炭素数６〜３０の二価の芳香族基を表す。Ａ４及びＡ５の芳香族基は、単環のものであっても、多環のものであってもよい。Ａ４及びＡ５の好ましい具体例としては、下記のものが挙げられる。
【０１１８】
【化２７】
2017002201.tif 000028
【０１１９】
上記Ａ４及びＡ５の二価の芳香族基は、任意の位置に置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子、シアノ基、ヒドロキシル基、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、ニトロ基、−Ｃ（＝Ｏ）−ＯＲ８ｂ基；が挙げられる。ここでＲ８ｂは、炭素数１〜６のアルキル基である。なかでも、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、アルコキシ基が好ましい。また、ハロゲン原子としては、フッ素原子がより好ましく、炭素数１〜６のアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましく、アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基がより好ましい。
【０１２０】
これらの中でも、本発明の所望の効果をより良好に発現させる観点から、Ａ４及びＡ５は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよい、下記式（Ａ４１）、（Ａ４２）又は（Ａ４３）で表される基がより好ましく、置換基を有していてもよい式（Ａ４１）で表される基が特に好ましい。
【０１２１】
【化２８】
2017002201.tif 000029
【０１２２】
前記式（Ｉ）において、Ｑ１は、水素原子、又は、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を示す。置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基としては、前記ＡＸで説明したのと同様のものが挙げられる。これらの中でも、Ｑ１は、水素原子及び炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、水素原子及びメチル基がより好ましい。
【０１２３】
前記式（Ｉ）において、ｍ及びｎは、それぞれ独立に、０又は１を表す。中でも、ｍは好ましくは１であり、また、ｎは好ましくは１である。
【０１２４】
化合物（Ｉ）は、例えば、下記に示す反応により製造しうる。
【０１２５】
【化２９】
2017002201.tif 000030
【０１２６】
（式中、Ｙ１〜Ｙ８、Ｇ１、Ｇ２、Ｚ１、Ｚ２、Ａｘ、Ａｙ、Ａ１〜Ａ５、Ｑ１、ｍ及びｎは、前記と同じ意味を表す。）
【０１２７】
前記の反応式に示したように、式（３）で表されるヒドラジン化合物と式（４）で表されるカルボニル化合物とを反応させることにより、化合物（Ｉ）を製造することができる。以下、式（３）で表されるヒドラジン化合物を、適宜「ヒドラジン化合物（３）」ということがある。また、式（４）で表されるカルボニル化合物を、適宜「カルボニル化合物（４）」ということがある。
【０１２８】
前記の反応において、「ヒドラジン化合物（３）：カルボニル化合物（４）」のモル比は、好ましくは１：２〜２：１、より好ましくは１：１．５〜１．５：１である。このようなモル比で反応させることにより、高選択的かつ高収率で、目的とする化合物（Ｉ）を製造できる。
【０１２９】
この場合、反応系は、（±）−１０−カンファースルホン酸、パラトルエンスルホン酸等の有機酸；塩酸、硫酸等の無機酸；等の酸触媒を含んでいてもよい。酸触媒を用いることで、反応時間が短縮され、収率が向上する場合がある。酸触媒の量は、カルボニル化合物（４）１モルに対して、通常０．００１モル〜１モルである。また、酸触媒は、反応系にそのまま配合してもよく、適切な溶液に溶解させた溶液として配合してもよい。
【０１３０】
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものを用いうる。溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル等のエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及び、アルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
【０１３１】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類及び反応規模等を考慮して設定しうる。溶媒の具体的な使用量は、ヒドラジン化合物（３）１ｇに対し、通常１ｇ〜１００ｇである。
【０１３２】
反応は、通常、−１０℃以上、用いる溶媒の沸点以下の温度範囲で、円滑に進行しうる。各反応の反応時間は、反応規模によるが、通常、数分から数時間である。
【０１３３】
ヒドラジン化合物（３）は、次のようにして製造しうる。
【０１３４】
【化３０】
2017002201.tif 000031
【０１３５】
（式中、Ａｘ及びＡｙは、前記と同じ意味を表す。Ｘａは、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。）
【０１３６】
前記の反応式に示したように、式（２ａ）で表される化合物とヒドラジン（１）とを、適切な溶媒中で反応させることで、対応するヒドラジン化合物（３ａ）を得ることができる。この反応における「化合物（２ａ）：ヒドラジン（１）」のモル比は、好ましくは１：１〜１：２０、より好ましくは１：２〜１：１０である。さらに、ヒドラジン化合物（３ａ）と式（２ｂ）で表される化合物とを反応させることで、ヒドラジン化合物（３）を得ることができる。
【０１３７】
ヒドラジン（１）としては、通常１水和物のものを用いうる。ヒドラジン（１）は、市販品をそのまま使用することができる。
【０１３８】
この反応に用いる溶媒としては、反応に不活性なものを用いうる。溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール等のアルコール系溶媒；ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；及びこれらの２種以上からなる混合溶媒；が挙げられる。これらの中でも、アルコール系溶媒、エーテル系溶媒、及び、アルコール系溶媒とエーテル系溶媒の混合溶媒が好ましい。
【０１３９】
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類及び反応規模等を考慮して設定しうる。溶媒の具体的な使用量は、ヒドラジン１ｇに対し、通常１ｇ〜１００ｇである。
【０１４０】
反応は、通常、−１０℃以上、用いる溶媒の沸点以下の温度範囲で、円滑に進行しうる。各反応の反応時間は、反応規模によるが、通常、数分から数時間である。
【０１４１】
また、ヒドラジン化合物（３）は、次のように、公知の方法を用いて、ジアゾニウム塩（５）を還元することによっても製造しうる。
【０１４２】
【化３１】
2017002201.tif 000032
【０１４３】
式（５）中、Ａｘ及びＡｙは、前記と同じ意味を表す。Ｘｂ−は、ジアゾニウムに対する対イオンである陰イオンを示す。Ｘｂ−としては、例えば、ヘキサフルオロリン酸イオン、ホウフッ化水素酸イオン、塩化物イオン、硫酸イオン等の無機陰イオン；ポリフルオロアルキルカルボン酸イオン、ポリフルオロアルキルスルホン酸イオン、テトラフェニルホウ酸イオン、芳香族カルボン酸イオン、芳香族スルホン酸イオン等の有機陰イオン；が挙げられる。
【０１４４】
上記反応に用いる還元剤としては、例えば金属塩還元剤が挙げられる。金属塩還元剤とは、一般に、低原子価金属を含む化合物、もしくは金属イオンとヒドリド源からなる化合物である（「有機合成実験法ハンドブック」１９９０年社団法人有機合成化学協会編  丸善株式会社発行８１０ページを参照）。
【０１４５】
金属塩還元剤としては、例えば、ＮａＡｌＨ４、ＮａＡｌＨｐ（Ｏｒ）ｑ（ｐ及びｑは、それぞれ独立して１〜３の整数を表し、ｐ＋ｑ＝４である。ｒは、炭素数１〜６のアルキル基を表す。）、ＬｉＡｌＨ４、ｉＢｕ２ＡｌＨ、ＬｉＢＨ４、ＮａＢＨ４、ＳｎＣｌ２、ＣｒＣｌ２、ＴｉＣｌ３が挙げられる。ここで「ｉＢｕ」は、イソブチル基を表す。
【０１４６】
還元反応においては公知の反応条件を採用しうる。例えば、特開２００５−３３６１０３号公報、新実験化学講座  １９７８年  丸善株式会社発行  １４巻、実験化学講座  １９９２年  丸善株式会社発行  ２０巻、等の文献に記載の条件で反応を行いうる。
また、ジアゾニウム塩（５）は、アニリン等の化合物から常法により製造しうる。
【０１４７】
カルボニル化合物（４）は、例えば、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）及びアミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適切に結合及び修飾することにより、製造しうる。
【０１４８】
エーテル結合の形成は、以下のようにして行いうる。
（ｉ）式：Ｄ１−ｈａｌ（ｈａｌはハロゲン原子を表す。以下にて同じ。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔ（Ｍｅｔはアルカリ金属（主にナトリウム）を表す。以下にて同じ。）で表される化合物とを、混合して縮合させる（ウイリアムソン合成）。なお、式中、Ｄ１及びＤ２は任意の有機基を表す（以下にて同じ。）。
（ii）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（iii）式：Ｄ１−Ｊ（Ｊはエポキシ基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨで表される化合物とを、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して縮合させる。
（iv）式：Ｄ１−ＯＦＮ（ＯＦＮは不飽和結合を有する基を表す。）で表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物とを、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等の塩基存在下、混合して付加反応させる。
（ｖ）式：Ｄ１−ｈａｌで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＭｅｔで表される化合物とを、銅あるいは塩化第一銅の存在下、混合して縮合させる（ウルマン縮合）。
【０１４９】
エステル結合及びアミド結合の形成は、以下のようにして行いうる。
（vi）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、脱水縮合剤（Ｎ，Ｎ−ジシクロヘキシルカルボジイミド等）の存在下に脱水縮合させる。
（vii）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物にハロゲン化剤を作用させることにより、式：Ｄ１−ＣＯ−ｈａｌで表される化合物を得て、このものと式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、塩基の存在下に反応させる。
（viii）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物に酸無水物を作用させることにより、混合酸無水物を得た後、このものと式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを反応させる。
（ix）式：Ｄ１−ＣＯＯＨで表される化合物と、式：Ｄ２−ＯＨ又はＤ２−ＮＨ２で表される化合物とを、酸触媒あるいは塩基触媒の存在下に脱水縮合させる。
【０１５０】
カルボニル化合物（４）は、より具体的には、下記反応式に示す方法により製造しうる。
【０１５１】
【化３２】
2017002201.tif 000033
【０１５２】
（式中、Ｙ１〜Ｙ８、Ｇ１、Ｇ２、Ｚ１、Ｚ２、Ａ１〜Ａ５、Ｑ１、ｍ及びｎは、前記と同じ意味を表す。Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、水酸基、ハロゲン原子、メタンスルホニルオキシ基、ｐ−トルエンスルホニルオキシ基等の脱離基を表す。−Ｙ１ａは、−Ｌ１と反応して−Ｙ１−となりうる基を表し、−Ｙ２ａは、−Ｌ２と反応して−Ｙ２−となりうる基を表す。）
【０１５３】
前記の反応式に示したように、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、又は、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）の形成反応を用いることにより、式（６ｄ）で表される化合物に、式（７ａ）で表される化合物、次いで、式（７ｂ）で表される化合物を反応させて、カルボニル化合物（４）を製造することができる。
【０１５４】
具体例として、Ｙ１が、式：Ｙ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−で表される基であり、且つ、式：Ｚ２−Ｙ８−Ｇ２−Ｙ６−Ａ５−（Ｙ４−Ａ３）ｍ−Ｙ２−で表される基が、式：Ｚ１−Ｙ７−Ｇ１−Ｙ５−Ａ４−（Ｙ３−Ａ２）ｎ−Ｙ１−で表される基と同一である、化合物（４’）の製造方法を以下に示す。
【０１５５】
【化３３】
2017002201.tif 000034
【０１５６】
（式中、Ｙ３、Ｙ５、Ｙ７、Ｇ１、Ｚ１、Ａ１、Ａ２、Ａ４、Ｑ１、ｎ及びＬ１は、前記と同じ意味を表す。Ｙ１１は、Ｙ１１−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−がＹ１となる基を表す。Ｙ１は前記と同じ意味を表す。）
【０１５７】
前記の反応式に示したように、式（６）で表されるジヒドロキシ化合物（化合物（６））と式（７）で表される化合物（化合物（７））とを反応させることにより、化合物（４’）を製造し得る。この反応における「化合物（６）：化合物（７）」のモル比は、好ましくは１：２〜１：４、より好ましくは１：２〜１：３である。このようなモル比で反応させることにより、高選択的かつ高収率で目的とする化合物（４’）を得ることができる。
【０１５８】
化合物（７）が、Ｌ１が水酸基である化合物（カルボン酸）である場合には、１−エチル−３−（３−ジメチルアミノプロピル）カルボジイミド塩酸塩、ジシクロヘキシルカルボジイミド等の脱水縮合剤の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。脱水縮合剤の使用量は、化合物（７）１モルに対し、通常１モル〜３モルである。
【０１５９】
また、化合物（７）が、Ｌ１が水酸基である化合物（カルボン酸）である場合には、メタンスルホニルクロリド、ｐ−トルエンスルホニルクロリド等のスルホニルハライド、及びトリエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ピリジン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基の存在下に反応させることによっても、目的物を得ることができる。スルホニルハライドの使用量は、化合物（７）１モルに対し、通常１モル〜３モルである。また、塩基の使用量は、化合物（７）１モルに対し、通常１モル〜３モルである。この場合、前記式（７）中、Ｌ１がスルホニルオキシ基の化合物（混合酸無水物）を単離して、次の反応を行ってもよい。
【０１６０】
さらに、化合物（７）が、Ｌ１がハロゲン原子である化合物（酸ハライド）である場合には、塩基の存在下に反応させることにより、目的物を得ることができる。塩基としては、例えば、トリエチルアミン、ピリジン等の有機塩基；水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム等の無機塩基が挙げられる。塩基の使用量は、化合物（７）１モルに対し、通常１モル〜３モルである。
【０１６１】
上記反応に用いる溶媒としては、例えば、クロロホルム、塩化メチレン等の塩素系溶媒；Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルリン酸トリアミド等のアミド系溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン等のエーテル溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の脂肪族炭化水素系溶媒；シクロペンタン、シクロヘキサン等の脂環式炭化水素系溶媒；及びこれらの溶媒の２種以上からなる混合溶媒；等が挙げられる。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類及び反応規模等を考慮して設定しうる。溶媒の具体的な使用量は、ヒドロキシ化合物（６）１ｇに対し、通常１ｇ〜５０ｇである。
【０１６２】
化合物（６）の多くは公知物質であり、公知の方法により製造しうる。例えば、下記反応式に示す方法により製造しうる（国際公開第２００９／０４２５４４号、及び、Ｔｈｅ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２０１１，７６，８０８２−８０８７等参照。）。化合物（６）として市販されているものを、所望により精製して用いてもよい。
【０１６３】
【化３４】
2017002201.tif 000035
【０１６４】
（式中、Ａ１及びＱ１は、前記と同じ意味を表し、Ａ１ａは、ホルミル化又はアシル化されることによりＡ１になりうる２価の芳香族基を表し、Ｒ’は、メチル基、エチル基等の炭素数１〜６のアルキル基、メトキシメチル基等の炭素数２〜６のアルコキシアルキル基等の、水酸基の保護基を表す。）
【０１６５】
前記の反応式に示したように、式（６ａ）で表されるジヒドロキシ化合物（１，４−ジヒドロキシベンゼン、１，４−ジヒドロキシナフタレン等）の水酸基をアルキル化して、式（６ｂ）で表される化合物を得た後、ＯＲ’基のオルト位を、公知の方法により、ホルミル化又はアシル化することにより、式（６ｃ）で表される化合物を得、このものを脱保護（脱アルキル化）することにより、目的とする化合物（６）を製造しうる。
また、化合物（６）として、市販されているものをそのまま、又は所望により精製して用いてもよい。
【０１６６】
化合物（７）の多くは公知化合物であり、例えば、エーテル結合（−Ｏ−）、エステル結合（−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−）、カーボネート結合（−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−）及びアミド結合（−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＨ−、−ＮＨ−Ｃ（＝Ｏ）−）の形成反応を任意に組み合わせて、所望の構造を有する複数の公知化合物を適切に結合及び修飾することにより、製造しうる。
【０１６７】
例えば、化合物（７）が、下記式（７’）で表される化合物（化合物（７’））である場合には、式（９’）で表されるジカルボン酸（化合物（９’））を用いて、下記のようにして製造することができる。
【０１６８】
【化３５】
2017002201.tif 000036
【０１６９】
（式中、Ｙ５、Ｙ７、Ｇ１、Ｚ１、Ａ２、Ａ４及びＹ１１は、前記と同じ意味を表す。Ｙ１２は、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｙ１２がＹ３となる基を表す。Ｒは、メチル基、エチル基等のアルキル基；フェニル基、ｐ−メチルフェニル基等の置換基を有していてもよいアリール基；を表す。）
【０１７０】
先ず、化合物（９’）に、式（１０）で表されるスルホニルクロライドを、トリエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基存在下で反応させる。次いで、反応混合物に、化合物（８）と、トリエチルアミン、４−（ジメチルアミノ）ピリジン等の塩基を加えて反応を行う。
スルホニルクロライドの使用量は、化合物（９’）１当量に対して、通常０．５当量〜０．７当量である。
また、化合物（８）の使用量は、化合物（９’）１当量に対して、通常０．５当量〜０．６当量である。
塩基の使用量は、化合物（９’）１当量に対して、通常０．５当量〜０．７当量である。
反応温度は、２０℃〜３０℃であり、反応時間は反応規模等にもよるが、数分から数時間である。
【０１７１】
上記反応に用いる溶媒としては、前記化合物（４’）を製造する際に用いうる溶媒として例示したものが挙げられる。なかでも、エーテル溶媒が好ましい。
溶媒の使用量は、特に限定されず、用いる化合物の種類及び反応規模等を考慮して設定しうる。溶媒の具体的な使用量は、化合物（９’）１ｇに対し、通常１ｇ〜５０ｇである。
【０１７２】
いずれの反応においても、反応終了後は、有機合成化学における通常の後処理操作を行いうる。また、所望により、カラムクロマトグラフィー、再結晶法、蒸留法等の公知の分離精製手段を施すことにより、目的物を単離しうる。
目的とする化合物の構造は、ＮＭＲスペクトル、ＩＲスペクトル、マススペクトル等の測定、元素分析等により、同定できる。
【０１７３】
［３．（メタ）アクリレート化合物］
（メタ）アクリレート化合物は、（メタ）アクリロイル基を有するエステル化合物である。（メタ）アクリロイル基を有するので、（メタ）アクリレート化合物は、重合性を有し、逆波長重合性液晶化合物と重合できる。本発明の液晶性組成物は、この（メタ）アクリレート化合物として、所定範囲のＳＰ値を有し、且つ、所定範囲の分子量を有するものを用いる。
【０１７４】
具体的には、前記の（メタ）アクリレート化合物のＳＰ値は、通常１９．０未満、好ましくは１８．７以下である。このような範囲のＳＰ値を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることにより、液晶性組成物の配向性の低下及び相分離の発生を抑制しながら液晶化温度ＴＣＮを低くできる。（メタ）アクリレート化合物のＳＰ値の下限は、特段の制限は無いが、好ましくは１６．０以上、より好ましくは１７．０以上である。前記の下限値以上のＳＰ値を有する（メタ）アクリレート化合物は、容易に入手することが可能である。
【０１７５】
前記のＳＰ値は、ヒルデブラントの溶解度パラメーター（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ  ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ  ｐａｒａｍｅｔｅｒ）のことを意味する。このＳＰ値は、ＳＰ値計算ソフトウェア「ＨＳＰｉＰ  ｖｅｒ．４．１．７」（ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ｈａｎｓｅｎ−ｓｏｌｕｂｉｌｉｔｙ．ｃｏｍ／ｉｎｄｅｘ．ｈｔｍｌ）により測定しうる。
【０１７６】
また、前記の（メタ）アクリレート化合物の分子量は、逆波長重合性液晶化合物の分子量よりも小さく、通常２２０以上、好ましくは２２５以上であり、通常５４０未満、好ましくは５２０以下である。このような範囲の分子量を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることにより、液晶性組成物の配向性の低下及び相分離の発生を抑制しながら液晶化温度ＴＣＮを低くできる。
【０１７７】
前記の（メタ）アクリレート化合物１分子が有する（メタ）クリロイル基の数は、１個でもよく、２個以上でもよい。中でも、（メタ）アクリレート化合物は、１分子当たり２個以上の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。１分子当たり２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート化合物を用いることにより、液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮを効果的に低くできる。さらに、逆波長重合性液晶化合物として、化合物（Ｉ）のように１分子当たり２個以上の重合性基を有する化合物を用いた場合には、液晶性組成物を用いて製造される光学フィルムの機械的強度等の物性を高めることができる。
【０１７８】
また、（メタ）アクリレート化合物は、アクリロイル基を有していてもよく、メタクリロイル基を有していてもよく、アクリロイル基とメタクリロイル基とを組み合わせて有していてもよい。
【０１７９】
さらに、（メタ）アクリレート化合物は、液晶性を有する液晶化合物であってもよく、液晶性を有さない非液晶化合物であってもよいが、市販品が多く、入手が容易であるという観点からは、液晶性を有さない非液晶化合物であることが好ましい。
【０１８０】
好ましい（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート等の、アルカンジオールジアクリレート類；１，２−ブタンジオールジメタクリレート、１，３−ブタンジオールジメタクリレート、１，４−ブタンジオールジメタクリレート、ネオペンタンジオールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタリレート等の、アルカンジオールジメタクリレート類；テトラエチレングリコールジアクリレート等の、エチレングリコールジアクリレート類；ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、テトラプロピレングリコールジアクリレート等の、プロピレングリコールジアクリレート類；ジオキサングリコールジアクリレート；ジエチレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリコールジメタクリレート、テトラエチレングリコールジメタクリレート等の、エチレングリコールジメタクリレート類；ジプロピレングリコールジメタクリレート、トリプロピレングリコールジメタクリレート、テトラプロピレングリコールジメタクリレート等の、プロピレングリコールジメタクリレート類；ビスフェノールＡエトキシレートジアクリレート等の、ビスフェノールエトキシレートジアクリレート類；トリメチロールプロパントリアクリレート；トリメチロールプロパントリメタクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリアクリレート；トリメチロールプロパンエトキシレートトリメタクリレート；トリメチロールプロパンプロポキシレートトリアクリレート；トリメチロールプロパンプロポキシレートトリメタクリレート；グリセロールエトキシレートトリアクリレート；グリセロールプロポキシレートトリアクリレート；ペンタエリスリトールエトキシレートテトラアクリレート；などが挙げられる。これらの中でも、アクリレート化合物が好ましい。また、これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１８１】
逆波長重合性液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物の合計１００重量部に対して、（メタ）アクリレート化合物の量は、好ましくは５重量部以上、より好ましくは１０重量部以上、特に好ましくは１５重量部以上であり、好ましくは５０重量部以下、より好ましくは４５重量部以下、特に好ましくは３５重量部以下である。（メタ）アクリレート化合物の量を、前記範囲の下限値以上にすることにより、液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮを効果的に低くできる。また、前記範囲の上限値以下にすることにより、液晶性組成物の配向性を効果的に高めたり、液晶性組成物の相分離を効果的に抑制したりできる。
【０１８２】
［４．溶媒］
液晶性組成物は、溶媒を含みうる。溶媒としては、逆波長重合性液晶化合物を溶解できるものが好ましい。このような溶媒としては、通常、有機溶媒を用いる。有機溶媒の例としては、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトン、アセトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸ブチル、酢酸アミル等の酢酸エステル溶媒；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン等のハロゲン化炭化水素溶媒；１，４−ジオキサン、シクロペンチルメチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラヒドロピラン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；及びトルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素系溶媒；が挙げられる。また、溶媒は、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせた混合溶媒として用いてもよい。
【０１８３】
溶媒の沸点は、取り扱い性に優れる観点から、好ましくは６０℃〜２５０℃、より好ましくは６０℃〜１５０℃である。
【０１８４】
溶媒の量は、逆波長重合性液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物の合計１００重量部に対して、好ましくは２００重量部以上、より好ましくは２５０重量部以上、特に好ましくは３００重量部以上であり、好ましくは６５０重量部以下、より好ましくは５５０重量部以下、特に好ましくは４５０重量部以下である。溶媒の量を、前記範囲の下限値以上にすることにより異物発生の抑制ができ、前記範囲の上限値以下にすることにより乾燥負荷の低減ができる。
【０１８５】
［５．任意の成分］
液晶性組成物は、逆波長重合性液晶化合物、（メタ）アクリレート化合物及び溶媒に組み合わせて、更に任意の成分を含みうる。任意の成分としては、例えば、逆波長重合性液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物以外の重合性化合物；金属；金属錯体；酸化チタン等の金属酸化物；染料、顔料等の着色剤；蛍光材料、燐光材料等の発光材料；レベリング剤；チキソ剤；ゲル化剤；多糖類；界面活性剤；重合開始剤；紫外線吸収剤；赤外線吸収剤；抗酸化剤；イオン交換樹脂；等が挙げられる。これらは、１種類を単独で用いてもよく、２種類以上を任意の比率で組み合わせて用いてもよい。
【０１８６】
前記の任意の成分の量は、本発明の効果を著しく損なわない範囲で任意に設定しうる。任意の成分の量は、具体的には、逆波長重合性液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物の合計１００重量部に対して、各々０．１重量部〜２０重量部としうる。
【０１８７】
［６．液晶性組成物の物性］
（液晶化温度）
本発明の液晶性組成物は、当該液晶性組成物が含む逆波長重合性液晶化合物それ単独での液晶化温度ＴＣＮよりも低い液晶化温度ＴＣＮを有する。液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮと液晶化合物それ単独での液晶化温度ＴＣＮとの温度差ΔＴＣＮは、大きいことが好ましい。具体的には、前記の温度差ΔＴＣＮは、好ましくは５℃以上、より好ましくは１０℃以上、特に好ましくは１５℃以上である。前記の温度差ΔＴＣＮの上限に特段の制限は無いが、通常５０℃以下である。
【０１８８】
本発明の液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮは、低温であることが好ましい。液晶性組成物の具体的な液晶化温度ＴＣＮは、好ましくは９８℃以下、より好ましくは９３℃以下、特に好ましくは８８℃以下である。このように低い液晶化温度ＴＣＮを有する液晶性組成物は、配向のために大きな熱が不要であるので、光学フィルムを製造する際における基材の歪みの発生を抑制できる。液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮの下限に特段の制限は無いが、通常５３℃以上である。
【０１８９】
液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮは、下記の方法によって測定しうる。
ガラス板上に液晶性組成物の層を形成したサンプル板を用意する。また、偏光板をクロスニコルに設定した偏光光学顕微鏡を用意し、この偏光光学顕微鏡に、サンプル板を設置する。その後、サンプル板を昇温しながら液晶性組成物の層の光学組織を観察して、その層に含まれる液晶性組成物が結晶相からネマチック相への相転移を生じる液晶化温度ＴＣＮを測定しうる。
【０１９０】
（配向性）
一般に、ある液晶化合物を別の化合物と混合すると当該液晶化合物の配向性が低下する傾向がある。しかし、前述のように逆波長重合性液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物を組み合わせた本発明の液晶性組成物では、そのような配向性の低下が抑制されている。そのため、本発明の液晶性組成物は、配向性に優れる。具体的には、本発明の液晶性組成物は、当該液晶性組成物が含む逆波長重合性液晶化合物を配向させてネマチック相としたときに、配向欠陥が少なく、また、逆波長重合性液晶化合物の配向方向のバラツキが小さい。
【０１９１】
液晶性組成物の配向性は、下記の方法によって評価しうる。
ガラス板上に液晶性組成物の層を形成したサンプル板を用意する。また、偏光板をクロスニコルに設定した偏光光学顕微鏡を用意し、この偏光光学顕微鏡に、サンプル板を設置する。その後、液晶性組成物をネマチック相にして液晶化合物を配向した状態にし、この状態でサンプル板の位置を、（ｉ）消光位及び（ii）液晶性組成物の層の遅相軸を消光位から数°ずらした位置に合わせて、観察する。そして、観察された配向欠陥の程度及び漏れ光の状態から、液晶性組成物の配向性を評価しうる。
【０１９２】
（相分離）
一般に、ある液晶化合物を別の化合物と混合すると相分離を生じ易くなる傾向がある。しかし、前述のように逆波長重合性液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物を組み合わせた本発明の液晶性組成物では、そのような相分離の発生が抑制されている。
【０１９３】
液晶性組成物の相分離は、下記の方法によって評価しうる。
ガラス板上に液晶性組成物の層を形成したサンプル板を用意する。また、偏光板をクロスニコルに設定した偏光光学顕微鏡を用意し、この偏光光学顕微鏡に、サンプル板を設置する。その後、液晶性組成物をネマチック相にして液晶化合物を配向した状態にし、この状態でサンプル板の位置を、（ｉ）消光位及び（ii）液晶性組成物の層の遅相軸を消光位から数°ずらした位置に合わせて、観察する。そして、観察された像から相分離を評価しうる。
【０１９４】
（その他の物性）
本発明の液晶性組成物は、流体状であってもよく、固体状であってもよい。液晶性組成物の状態は、液晶性組成物の使用態様に応じて調整しうる。例えば、液晶性組成物を基材上に塗布して液晶性組成物の層を形成する際には、液晶性組成物は流体状であることが好ましい。また、例えば、液晶性組成物の層に含まれる逆波長重合性液晶化合物を配向させる際には、液晶性組成物は流体状であることが好ましい。
【０１９５】
［７．光学フィルムの製造方法］
本発明の液晶性組成物を用いることにより、光学フィルムを製造しうる。本発明の液晶性組成物を用いた光学フィルムの製造方法としては、例えば、基材上に液晶性組成物の層を形成する工程、液晶性組成物の層に含まれる逆波長重合性液晶化合物を配向させる工程、及び、液晶性組成物の層に含まれる逆波長重合性液晶化合物を重合する工程を含む製造方法が挙げられる。以下、この製造方法について具体的に説明する。
【０１９６】
基材としては、通常、樹脂フィルムを用いる。樹脂としては、通常、熱可塑性樹脂を用いる。中でも、配向規制力の高さ、機械的強度の高さ及びコストの低さといった観点から、樹脂としては、正の固有複屈折値を有する樹脂が好ましい。更には、透明性、低吸湿性、寸法安定性及び軽量性に優れることから、ノルボルネン系樹脂等の、脂環式構造含有重合体を含む樹脂を用いることが好ましい。基材に含まれる樹脂の好適な例を商品名で挙げると、ノルボルネン系樹脂として、日本ゼオン社製「ゼオノア１４２０」及び「ゼオノア１４２０Ｒ」を挙げうる。
【０１９７】
また、基材に含まれる樹脂のガラス転移温度は、液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮよりも高いことが好ましい。基材に含まれる樹脂が液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮより高いガラス転移温度を有することにより、逆波長重合性液晶化合物を配向させる工程において、熱による基材の歪みを効果的に抑制できる。
【０１９８】
基材の面のうちで液晶性組成物の層を形成される面を、以下、適宜「塗布面」ということがある。塗布面は、液晶性組成物の層における逆波長重合性液晶化合物の配向を促進するため、配向規制力を有することが好ましい。配向規制力とは、液晶性組成物中の逆波長重合性液晶化合物を配向させうる、塗布面の性質をいう。塗布面に配向規制力を生じさせるため処理としては、例えば、光配向処理、ラビング処理、配向膜形成処理、延伸処理などが挙げられる。中でも、延伸処理が好ましい。
【０１９９】
基材に適切な条件で延伸処理を施すことにより、基材に含まれる重合体の分子を配向させることができる。これにより、基材に含まれる重合体の分子の配向方向に逆波長重合性液晶化合物を配向させる配向規制力を、基材の塗布面に付与できる。特に、このような延伸処理では、基材の厚み方向全体に亘って分子ダイレクターが略均一に配向する。そのため、延伸処理によれば、ラビング処理のように基材の表面近傍の分子配向のみで基材に配向規制力を付与する方法に比べ、環境の影響（熱、光、酸素など）による経時的な配向規制力の緩和が生じ難い。さらに、延伸処理は、発塵、キズ及び異物混入を抑制できる。
【０２００】
基材の延伸は、基材に異方性を付与して、当該基材に遅相軸を発現させられるように行うことが好ましい。これにより、通常は、基材の遅相軸と平行又は垂直な方向に逆波長重合性液晶化合物を配向させる配向規制力が、基材の表面に付与される。例えば、基材の材料として正の固有複屈折値を有する樹脂を用いた場合、通常は、基材に含まれる重合体の分子が延伸方向に配向することにより延伸方向に平行な遅相軸が発現するので、基材の遅相軸と平行な方向に逆波長重合性液晶化合物を配向させる配向規制力が、基材の表面に付与される。したがって、基材の延伸方向は、逆波長重合性液晶化合物を配向させようとする所望の配向方向に応じて設定しうる。また、延伸は、１の方向のみに行ってもよく、２以上の方向に行ってもよい。このような延伸は、テンター延伸機などの延伸機を用いて行いうる。
【０２０１】
基材を用意した後で、その基材上に液晶性組成物の層を形成する工程を行う。通常は、基材の塗布面に液晶性組成物を塗布して、前記液晶性組成物の層を形成する。液晶性組成物を塗布する方法としては、例えば、カーテンコーティング法、押し出しコーティング法、ロールコーティング法、スピンコーティング法、ディップコーティング法、バーコーティング法、スプレーコーティング法、スライドコーティング法、印刷コーティング法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、キャップコーティング法、及びディッピング法が挙げられる。
【０２０２】
本例に示す光学フィルムの製造方法は、基材上に液晶性組成物の層を形成する工程の後、逆波長重合性液晶化合物を重合する工程の前に、必要に応じて、液晶性組成物の層を乾燥させる工程を含んでいてもよい。かかる乾燥は、自然乾燥、加熱乾燥、減圧乾燥、減圧加熱乾燥等の乾燥方法で達成しうる。かかる乾燥により、液晶性組成物の層から、溶媒を除去することができる。
【０２０３】
液晶性組成物の層を形成した後で、当該液晶性組成物の層に含まれる逆波長重合性液晶化合物を配向させる工程を行う。この工程では、液晶性組成物の層に配向処理を施すことにより、基材の配向規制力に応じた方向に逆波長重合性液晶化合物を配向させる。
【０２０４】
配向処理は、通常、液晶性組成物の層の温度を所定の配向温度に調整することによって行う。配向温度は、液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮ以上の温度としうる。これにより、液晶性組成物をネマチック相等の液晶相に相転移させて、液晶性組成物の層に含まれる逆波長重合性液晶化合物を効果的に配向させることができる。この際、配向温度は、基材に含まれる樹脂のガラス転移温度未満の温度であることが好ましい。これにより、配向処理による基材の歪みの発生を抑制できる。また、配向処理の処理時間は、例えば３０秒間〜５分間としうる。
【０２０５】
逆波長重合性液晶化合物を配向させた後で、逆波長重合性液晶化合物を重合する工程を行う。逆波長重合性液晶化合物の重合方法としては、液晶性組成物に含まれる成分の性質に適合した方法を選択しうる。重合方法としては、例えば、活性エネルギー線を照射する方法、及び、熱重合法が挙げられる。中でも、加熱が不要であり、室温で重合反応を進行させられるので、活性エネルギー線を照射する方法が好ましい。ここで、照射される活性エネルギー線には、可視光線、紫外線、及び赤外線等の光、並びに電子線等の任意のエネルギー線が含まれうる。
【０２０６】
なかでも、操作が簡便なことから、紫外線等の光を照射する方法が好ましい。紫外線照射時の温度は、基材のガラス転移温度以下とすることが好ましく、好ましくは１５０℃以下、より好ましくは１００℃以下、特に好ましくは８０℃以下である。紫外線照射時の温度の下限は、１５℃以上としうる。紫外線の照射強度は、好ましくは０．１ｍＷ／ｃｍ２以上、より好ましくは０．５ｍＷ／ｃｍ２以上であり、好ましくは１０００ｍＷ／ｃｍ２以下、より好ましくは６００ｍＷ／ｃｍ２以下である。
【０２０７】
これにより、逆波長重合性液晶化合物の重合体を含む光学異方性層が基材上に形成されるので、基材及び光学異方性層を備える複層フィルムが得られる。前記の重合によって、通常、逆波長重合性液晶化合物の液晶相は失われ、光学異方性層は硬化した層として形成される。また、光学異方性層において、逆波長重合性液晶化合物の重合体は、逆波長重合性液晶化合物の配向状態を維持している。そのため、光学異方性層は、逆波長重合性液晶化合物の配向状態に応じた光学特性を有することができる。
【０２０８】
このように光学異方性層が有する光学特性を利用して、前記の複層フィルムは、そのまま光学フィルムとして用いてもよい。また、前記の複層フィルムに更に任意の層を形成することにより、光学フィルムを得てもよい。さらには、前記の複層フィルムの光学異方性層から基材を剥離し、光学異方性層を単層構造の光学フィルムとして用いてもよい。
【０２０９】
前記のようにして得られた光学フィルムは、配向処理のための熱による基材の歪みが抑制されているので、光学特性のバラツキを抑制することが可能である。また、液晶性組成物の配向性が良好で且つ相分離が抑制されていたので、前記の液晶性組成物から得られる光学異方性層は、高品質であり、また、高い歩留まりで製造できる。
【０２１０】
逆波長重合性液晶化合物を重合させた重合体を含むので、光学異方性層は、逆波長分散性の複屈折を有する。したがって、光学異方性層は、逆波長分散性のレターデーションを有することができる。ここで、逆波長分散性のレターデーションとは、波長４５０ｎｍにおけるレターデーションＲｅ（４５０）、波長５５０ｎｍにおけるレターデーションＲｅ（５５０）及び波長６５０ｎｍにおけるレターデーションＲｅ（６５０）が、通常下記式（Ｄ３）を満たすレターデーションを言い、好ましくは下記式（Ｄ４）を満たすレターデーションを言う。逆波長分散性のレターデーションを有することにより、前記の光学異方性層は、１／４波長板又は１／２波長板等の光学用途において、広い波長帯域において均一に機能を発現できる。
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（６５０）        （Ｄ３）
Ｒｅ（４５０）＜Ｒｅ（５５０）＜Ｒｅ（６５０）        （Ｄ４）
【０２１１】
光学異方性層の具体的なレターデーションの範囲は、光学異方性層の用途に応じて任意に設定しうる。例えば、光学異方性層を１／４波長板として機能させたい場合には、光学異方性層のレターデーションＲｅ（５５０）は、好ましくは８０ｎｍ以上、より好ましくは１００ｎｍ以上、特に好ましくは１２０ｎｍ以上であり、好ましくは１８０ｎｍ以下、より好ましくは１６０ｎｍ以下、特に好ましくは１５０ｎｍ以下である。また、例えば、光学異方性層を１／２波長板として機能させたい場合には、光学異方性層のレターデーションＲｅ（５５０）は、好ましくは２４５ｎｍ以上、より好ましくは２６５ｎｍ以上、特に好ましくは２７０ｎｍ以上であり、好ましくは３０５ｎｍ以下、より好ましくは２８５ｎｍ以下、特に好ましくは２８０ｎｍ以下である。
【０２１２】
光学異方性層の厚みは、レターデーション等の特性を所望の範囲にできるように、適切に設定しうる。具体的には、光学異方性層の厚みは、好ましくは０．５μｍ以上、より好ましくは１．０μｍ以上であり、好ましくは１０μｍ以下、より好ましくは７μｍ以下である。
【実施例】
【０２１３】
以下、実施例を示して本発明について具体的に説明する。ただし、本発明は以下に示す実施例に限定されるものでは無く、本発明の特許請求の範囲及びその均等の範囲を逸脱しない範囲において任意に変更して実施しうる。
以下の説明において、量を表す「％」及び「部」は、別に断らない限り重量基準である。また、以下に説明する操作は、別に断らない限り、常温及び常圧の条件において行った。さらに、以下の説明において、順波長分散性の複屈折を発現しうる重合性液晶化合物を、適宜「順波長重合性液晶化合物」と呼ぶことがある。
【０２１４】
［評価方法］
〔液晶化温度ＴＣＮの低下効果の評価方法〕
偏光光学顕微鏡（ニコン社製「ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００ＰＯＬ」）を用意した。この偏光光学顕微鏡が備える２枚の偏光板をクロスニコルに設定し、この偏光光学顕微鏡に、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板を設置した。その後、ホットステージ（メトラー社製「ＦＰ−８０」）を用いてサンプル板を４０℃から２００℃まで昇温しながら液晶性組成物の層の光学組織を観察して、その層に含まれる液晶性組成物が結晶相からネマチック相への相転移を生じる液晶化温度ＴＣＮを測定した。
【０２１５】
こうして測定された液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮの、液晶化合物それ単独での液晶化温度ＴＣＮからの低下温度（温度差）ΔＴＣＮを計算し、この低下温度ΔＴＣＮを基づいて下記の基準で判定した。
○：低下温度ΔＴＣＮが１５℃以上である。
△：低下温度ΔＴＣＮが５℃以上１５℃未満である。
×：低下温度ΔＴＣＮが５℃未満である。
【０２１６】
〔配向性の評価方法〕
偏光光学顕微鏡（ニコン社製「ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００ＰＯＬ」）を用意した。この偏光光学顕微鏡が備える２枚の偏光板をクロスニコルに設定し、この偏光光学顕微鏡に、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板を設置した。液晶性組成物をネマチック相にして液晶化合物を配向した状態にし、この状態でサンプル板の位置を、（ｉ）消光位及び（ii）液晶性組成物の層の遅相軸を消光位から数°ずらした位置に合わせて、観察した。そして、観察された配向欠陥の程度及び漏れ光の状態から、下記の基準に基づいて、配向性を評価した。
○：配向欠陥が見られず、消光位での漏れ光がほとんど無い。
△：配向欠陥がわずかに見られ、消光位での漏れ光が僅かにある。
×：配向欠陥が明らかに見られ、消光位で光が漏れる。
【０２１７】
〔相分離の評価方法〕
偏光光学顕微鏡（ニコン社製「ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００ＰＯＬ」）を用意した。この偏光光学顕微鏡が備える２枚の偏光板をクロスニコルに設定し、この偏光光学顕微鏡に、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板を設置した。液晶性組成物をネマチック相にして液晶化合物を配向した状態にし、この状態でサンプル板の位置を（ｉ）消光位及び（ii）液晶性組成物の層の遅相軸を消光位から数°ずらした位置に合わせて、観察した。観察された像から、下記の基準に基づいて、相分離を評価した。
○：相分離が見られない。
△：相分離がわずかに認められる。
×：明らかな相分離が見られる。
【０２１８】
［参考例１：液晶化合物（Ｅ１）の評価］
下記式（Ｅ１）で表される逆波長重合性液晶化合物（Ｅ１、分子量１，１７０）１００．０部と、溶媒として１，３−ジオキソラン（東邦化学製）４００．０部とを混合して、液晶性組成物を製造した。
【０２１９】
【化３６】
2017002201.tif 000037
【０２２０】
２．５ｃｍ角に裁断されたラビング処理済みのポリイミド水平配向膜を備えた、ガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ社製）を用意した。このガラス基板の配向膜上に、スピンコーター（ミカサ社製「Ａ−２００」）を用いたスピンコートによって、前記の液晶性組成物を塗布し、液晶性組成物の層を形成した。この際の塗布条件は、回転速度１１００ｒｐｍ、塗布時間５ｓｅｃであった。その後、液晶性組成物の層から、風乾により溶媒を除去して、ガラス基板及び液晶化合物の層を備えるサンプル板を得た。
【０２２１】
偏光光学顕微鏡（ニコン社製「ＥＣＬＩＰＳＥ  ＬＶ１００ＰＯＬ」）を用意した。この偏光顕光学微鏡が備える２枚の偏光板をクロスニコルに設定し、この偏光光学顕微鏡に前記のサンプル板を設置した。その後、ホットステージ（メトラー社製「ＦＰ−８０」）を用いてサンプル板を４０℃から２００℃まで昇温しながら液晶化合物の層の光学組織を観察して、液晶化合物（Ｅ１）が結晶相からネマチック相への相転移を生じる液晶化温度ＴＣＮを測定した。測定の結果、逆波長重合性液晶化合物（Ｅ１）それ単独での液晶化温度ＴＣＮは１０３℃であった。
【０２２２】
また、液晶化合物の層がネマチック相となって配向した状態で、この液晶化合物の層の面内レターデーションＲｅを測定した。面内レターデーションＲｅの測定は、測定波長４５０ｎｍ及び６５０ｎｍにおいて行い、測定波長４５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（４５０）と測定波長６５０ｎｍにおける面内レターデーションＲｅ（６５０）との比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）を求めた。測定の結果、面内レターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）は０．７６５であり、逆波長重合性液晶化合物（Ｅ１）が逆波長分散性の複屈折を発現しうることが確認された。
【０２２３】
［参考例２］
逆波長重合性液晶化合物（Ｅ１）の代わりに下記式（Ｅ２）で表される逆波長重合性液晶化合物（Ｅ２、分子量１，１８６）を用いたこと以外は参考例１と同様にして、逆波長重合性液晶化合物（Ｅ２）の液晶化温度ＴＣＮ及び面内レターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）の測定を行った。
【０２２４】
【化３７】
2017002201.tif 000038
【０２２５】
測定の結果、逆波長重合性液晶化合物（Ｅ２）それ単独での液晶化温度ＴＣＮは１０８℃であった。
また、逆波長重合性液晶化合物（Ｅ２）の層の面内レターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）は０．８１９であり、逆波長重合性液晶化合物（Ｅ２）が逆波長分散性の複屈折を発現しうることが確認された。
【０２２６】
［参考例３］
逆波長重合性液晶化合物（Ｅ１）の代わりにある順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）を用いたこと、及び、溶媒の種類を１，３−ジオキソランからメチルエチルケトン（丸善石油化学製）に変更したこと、以外は参考例１と同様にして、この順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）の液晶化温度ＴＣＮ及び面内レターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）の測定を行った。
【０２２７】
測定の結果、前記順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）それ単独での液晶化温度ＴＣＮは１０１℃であった。
また、順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）の層の面内レターデーションの比Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（６５０）は１．１８８であり、この順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）が順波長分散性の複屈折を発現しうることが確認された。
【０２２８】
［１．（メタ）アクリレート化合物を１０重量％用いた例］
〔実施例１−１〜実施例１−７、並びに、比較例Ｃ１−１〜比較例Ｃ１−１４〕
表１に示す種類の逆波長重合性液晶化合物９０．０部と、表１に示す（メタ）アクリレート化合物１０．０部と、溶媒として１，３−ジオキソラン（東邦化学製）４００．０部とを混合して、液晶性組成物を製造した。
【０２２９】
２．５ｃｍ角に裁断されたラビング処理済みのポリイミド水平配向膜を備えた、ガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ社製）を用意した。このガラス基板の配向膜上に、スピンコーター（ミカサ社製「Ａ−２００」）を用いたスピンコートによって、前記の液晶性組成物を塗布し、液晶性組成物の層を形成した。この際の塗布条件は、回転速度１１００ｒｐｍ、塗布時間５ｓｅｃであった。その後、液晶性組成物の層から、風乾により溶媒を除去して、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板を得た。
このサンプル板について、上述した方法で評価を行った。
【０２３０】
〔比較例Ｃ１−１５〜比較例Ｃ１−１７〕
順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）９０．０部と、表１に示す（メタ）アクリレート化合物１０．０部と、溶媒としてメチルエチルケトン（丸善石油化学社製）４００．０部とを混合して、液晶性組成物を製造した。
【０２３１】
こうして製造した液晶性組成物を用いて、実施例１−１と同様の方法によりサンプル板を製造した。すなわち、２．５ｃｍ角に裁断されたラビング処理済みのポリイミド水平配向膜を備えた、ガラス基板（Ｅ．Ｈ．Ｃ社製）を用意した。このガラス基板の配向膜上に、スピンコーター（ミカサ社製「Ａ−２００」）を用いたスピンコートによって、前記の液晶性組成物を塗布し、液晶性組成物の層を形成した。この際の塗布条件は、回転速度１１００ｒｐｍ、塗布時間５ｓｅｃであった。その後、液晶性組成物の層から、風乾により溶媒を除去して、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板を得た。
このサンプル板について、上述した方法で評価を行った。
【０２３２】
［２．（メタ）アクリレート化合物を２０重量％用いた例］
〔実施例２−１〜実施例２−７、並びに、比較例Ｃ２−１〜比較例Ｃ２−１４〕
逆波長重合性液晶化合物の量を８０．０部に変更し、（メタ）アクリレート化合物の量を２０．０部に変更したこと以外は実施例１−１〜実施例１−７並びに比較例Ｃ１−１〜比較例Ｃ１−１４と同様にして、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板の製造及び評価を行った。
【０２３３】
〔比較例Ｃ２−１５〜比較例Ｃ２−１７〕
順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）の量を８０．０部に変更し、（メタ）アクリレート化合物の量を２０．０部に変更したこと以外は比較例Ｃ１−１５〜比較例Ｃ１−１７と同様にして、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板の製造及び評価を行った。
【０２３４】
［３．（メタ）アクリレート化合物を３０重量％用いた例］
〔実施例３−１〜実施例３−７、並びに、比較例Ｃ３−１〜比較例Ｃ３−１４〕
逆波長重合性液晶化合物の量を７０．０部に変更し、（メタ）アクリレート化合物の量を３０．０部に変更したこと以外は実施例１−１〜実施例１−７並びに比較例Ｃ１−１〜比較例Ｃ１−１４と同様にして、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板の製造及び評価を行った。
【０２３５】
〔比較例Ｃ３−１５〜比較例Ｃ３−１７〕
順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）の量を７０．０部に変更し、（メタ）アクリレート化合物の量を３０．０部に変更したこと以外は比較例Ｃ１−１５〜比較例Ｃ１−１７と同様にして、ガラス基板及び液晶性組成物の層を備えるサンプル板の製造及び評価を行った。
【０２３６】
［結果］
前記の実施例及び比較例の結果を、下記の表１〜表３に示す。下記の表において、略称の意味は、下記の通りである。
Ｅ１：逆波長重合性液晶化合物（Ｅ１）。
Ｅ２：逆波長重合性液晶化合物（Ｅ２）。
Ｘ１：順波長重合性液晶化合物（Ｘ１）。
波長分散：液晶化合物の波長分散性。
逆波長：逆波長分散性。
順波長：順波長分散性。
Ｒ−６０４：ジオキサングリコールジアクリレート（日本化薬社製）。
ＨＸ−２２０：３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピル−３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピオナートの６−ヘキサノリド付加重合物（重合度１−７）とアクリル酸とのエステル化物（日本化薬社製）。
ＨＸ−６２０：３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピル−３−ヒドロキシ−２，２−ジメチルプロピオナートの６−ヘキサノリド付加重合物（重合度１−７）とアクリル酸とのエステル化物（日本化薬社製）。
Ｒ−７１２：ビスフェノールＦ  エチレンオキシド変性アクリレート（日本化薬社製）。
ＴＰＡ−３３０：トリメチロールプロパンのプロピオンオキサイド付加物のアクリル酸エステル（日本化薬社製）。
ＢＰ−４ＥＡＬ：ビスフェノールＡのエチレンオキシド付加物ジアクリレート（共栄社化学社製）。
ＵＡ−３０６Ｉ：ペンタエリスリトールトリアクリレートイソホロンジイソシアネート  ウレタンプレポリマー（共栄社化学社製）。
ＵＡ−３０６Ｈ：ペンタエリスリトールトリアクリレートヘキサメチレンジイソシアネート  ウレタンプレポリマー（共栄社化学社製）。
ＵＡ−３０６Ｔ：ペンタエリスリトールトリアクリレートトルエンジイソシアネート  ウレタンプレポリマー（共栄社化学社製）。
８０ＭＦＡ：共栄社化学社製「エポライト８０ＭＦ」のアクリル酸付加物（共栄社化学社製）。
３００２Ａ（Ｎ）：共栄社化学社製「エポライト３００２（Ｎ）」のアクリル酸付加物（共栄社化学社製）。
１，６−ＨＸ−Ａ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート（共栄社化学社製）。
ＮＰ−Ａ：ネオペンチルグリコールジアクリレート（共栄社化学社製）。
Ａ−９３００：エトキシ化イソシアヌル酸トリアクリレート（新中村化学社製）。
Ａ−９３００−１ＣＬ：ε−カプロラクトン変性トリス−（２−アクリロキシエチル）イソシアヌレート（新中村化学社製）。
Ａ−ＢＰＥＦ：９，９−ビス［４−（２−アクリロイルオキシエトキシ）フェニル］フルオレン（新中村化学社製）。
Ｖ＃２６０：１，９−ノナンジオールジアクリレート（大阪有機化学社製）。
Ｖ＃２９５：トリメチロールプロパントリアクリレート（大阪有機化学社製）。
Ｖ＃５４０：ビスフェノールＡジグリシジルエーテル  アクリル酸付加物（大阪有機化学社製）。
ＬＲ９０００：２−ヒドロキシエチル＝アクリラートと１，６−ジイソシアナトヘキサンとの重合物（ＢＡＳＦ社製）。
Ｍｗ：（メタ）アクリレート化合物の分子量。
ＳＰ：（メタ）アクリレート化合物のＳＰ値。
量：液晶化合物及び（メタ）アクリレート化合物の合計１００％に占める（メタ）アクリレート化合物の重量割合。
ＴＣＮ：液晶化温度ＴＣＮの低下効果の評価結果。
ΔＴＣＮ：液晶性組成物の液晶化温度ＴＣＮの、液晶化合物それ単独での液晶化温度ＴＣＮからの低下温度（温度差）。
【０２３７】
【表１】
2017002201.tif 000039
【０２３８】
【表２】
2017002201.tif 000040
【０２３９】
【表３】
2017002201.tif 000041
【０２４０】
［検討］
前記の表から分かるように、実施例に係る液晶性組成物では、逆波長重合性液晶化合物と所定の分子量及びＳＰ値を有する（メタ）アクリレート化合物とを組み合わせることにより、液晶化温度ＴＣＮを低くでき、配向性が良好で、且つ、相分離の発生の抑制が可能であるとの効果が得られた。また、前記の効果が順波長分散性液晶化合物を用いた比較例では得られていないことから、前記の効果が、逆波長重合性液晶化合物において特異的に得られる効果であることが分かる。