(57)【要約】      （修正有）【課題】より現実に即した状態で防曇性を定量的、客観的に評価することが可能な防曇性評価装置および防曇性評価方法を提供する。【解決手段】防曇性評価装置１は、試料１００の表面１０１に曇りを生成する曇り生成装置１０、３０と、試料１００とは異なる位置に配置される被写体７０と、試料１００を介して被写体７０を撮像する撮像装置４０と、被写体７０を撮像した被写体画像に基づいて試料１００の防曇性を評価する評価装置９０と、を備えている。【選択図】図１
2017090085.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記試料とは異なる位置に配置される被写体と、
前記試料を介して前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備えることを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項２】
前記試料と前記被写体の間に配置される画像調整用レンズ光学系を備えることを特徴とする、
請求項１に記載の防曇性評価装置。
【請求項３】
前記被写体を背後から照明する照明装置を備えることを特徴とする、
請求項１または２に記載の防曇性評価装置。
【請求項４】
前記試料と前記撮像装置の間に配置される表面撮像用レンズ光学系と、
前記表面撮像用レンズ光学系を光路から退避させる退避装置と、を備えることを特徴とする、
請求項１乃至３のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項５】
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１乃至４のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項６】
前記評価装置は、前記被写体画像において画素値が所定の閾値以下または以上となる領域の面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項５に記載の防曇性評価装置。
【請求項７】
前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路における画素値の変化率に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項５に記載の防曇性評価装置。
【請求項８】
前記評価装置は、前記被写体画像中の第１の比較点および第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項５に記載の防曇性評価装置。
【請求項９】
前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路においてスタート点から最初に画素値が所定の閾値以上となるゴール点までの距離に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項５に記載の防曇性評価装置。
【請求項１０】
前記評価装置は、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項５に記載の防曇性評価装置。
【請求項１１】
前記評価装置は、前記被写体画像における画素値のヒストグラムの面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項５に記載の防曇性評価装置。
【請求項１２】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料とは異なる位置に配置された被写体を前記試料を介して撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１３】
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１２に記載の防曇性評価方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、窓ガラスや鏡、各種レンズ等の防曇性を評価するための装置、およびその評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、窓ガラスや鏡、各種レンズ等の曇りにくさを示す防曇性の評価は、主に目視による官能試験で行われていた。このような官能試験としては、例えば、呼気防曇性試験、蒸気防曇性試験、低温防曇性試験等がある。このうち、呼気防曇性試験は、試料に息を吹きかけて曇り状態を目視で確認し、曇りの有無や、試料を透過または反射して見える景色のぼやけ具合等を基準に３〜４段階程度に評価する試験方法である。そして、蒸気防曇性試験は、恒温水槽内の温水の上方に試料を設置して水滴の付着状態を目視で確認し、水滴の有無、水滴の大きさ等を基準に３〜４段階程度に評価する試験方法である。また、低温防曇性試験は、冷蔵庫や冷凍庫（例えば−２０〜５℃）内で冷却した試料を通常環境（例えば２０℃、６５％ＲＨ）に戻したときの曇りの有無を２段階に評価する試験方法である。但し、このような従来の官能試験では、個人差による評価のばらつきが大きいため、評価の安定性がなく、防曇性を定量的、客観的に評価することが困難であった。
【０００３】
これに対し、上記低温防曇性試験において、複数の縦線や枡目を描いた被写体の投射像を試料に映し出し、この縦線や枡目等に基づいて試料表面の結露面積（曇り部の面積）を測定することで客観的な防曇性の評価を行う手法が提案されている（例えば、特許文献１参照）。また、試料に照射したスポット光の散乱度合いに基づいて防曇性評価指数を算出し、この防曇性評価指数によって防曇性を定量的、客観的に評価する手法が本出願人らにより提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３５６４０８５号公報
【特許文献２】特許第５０１５１８３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載の評価手法は、結露面積の大きさを定量的に評価可能ではあるものの、曇りの程度、すなわちガラス等を介して（透過または反射して）見える景色の明瞭性（視認性）が曇りの発生によってどれだけ低下したかを定量的、客観的に評価可能なものではなかった。従って、当該手法においては、曇りの程度については依然として官能的な評価を行わざるを得なかった。
【０００６】
一方、上記特許文献２に記載の評価手法では、スポット光の散乱度合いに基づいて防曇性評価指数を算出するため、曇りの程度を考慮した防曇性を定量的、客観的に評価することが可能となっている。しかしながら、当該手法は、スポット光の散乱という単純化した現象に基づいて防曇性を評価するものであることから、例えば車窓からの風景の見え方や浴室の鏡に映った人物の顔の見え方といった実際の状況が評価結果からイメージしにくいという問題があった。このため、より現実に即した状態で防曇性を定量的、客観的に評価することの可能な評価手法が望まれている。
【０００７】
本発明は、斯かる実情に鑑み、より現実に即した状態で防曇性を定量的、客観的に評価することが可能な防曇性評価装置および防曇性評価方法を提供しようとするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
（１）本発明は、試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、前記試料とは異なる位置に配置される被写体と、前記試料を介して前記被写体を撮像する撮像装置と、前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備えることを特徴とする、防曇性評価装置である。
【０００９】
（２）本発明はまた、前記試料と前記被写体の間に配置される画像調整用レンズ光学系を備えることを特徴とする、上記（１）に記載の防曇性評価装置である。
【００１０】
（３）本発明はまた、前記被写体を背後から照明する照明装置を備えることを特徴とする、上記（１）または（２）に記載の防曇性評価装置である。
【００１１】
（４）本発明はまた、前記試料と前記撮像装置の間に配置される表面撮像用レンズ光学系と、前記表面撮像用レンズ光学系を光路から退避させる退避装置と、を備えることを特徴とする、上記（１）乃至（３）のいずれかに記載の防曇性評価装置である。
【００１２】
（５）本発明はまた、前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の防曇性評価装置である。
【００１３】
（６）本発明はまた、前記評価装置は、前記被写体画像において画素値が所定の閾値以下または以上となる領域の面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（５）に記載の防曇性評価装置である。
【００１４】
（７）本発明はまた、前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路における画素値の変化率に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（５）に記載の防曇性評価装置である。
【００１５】
（８）本発明はまた、前記評価装置は、前記被写体画像中の第１の比較点および第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（５）に記載の防曇性評価装置である。
【００１６】
（９）本発明はまた、前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路においてスタート点から最初に画素値が所定の閾値以上となるゴール点までの距離に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（５）に記載の防曇性評価装置である。
【００１７】
（１０）本発明はまた、前記評価装置は、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（５）に記載の防曇性評価装置である。
【００１８】
（１１）本発明はまた、前記評価装置は、前記被写体画像における画素値のヒストグラムの面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（５）に記載の防曇性評価装置である。
【００１９】
（１２）本発明はまた、試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、前記試料とは異なる位置に配置された被写体を前記試料を介して撮像する撮像ステップと、前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有することを特徴とする、防曇性評価方法である。
【００２０】
（１３）本発明はまた、前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、上記（１２）に記載の防曇性評価方法である。
【発明の効果】
【００２１】
本発明に係る防曇性評価装置および防曇性評価方法によれば、より現実に即した状態で防曇性を定量的、客観的に評価することが可能という優れた効果を奏し得る。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の実施の形態に係る防曇性評価装置の概略図である。
【図２】（ａ）〜（ｄ）被写体の例を示した概略図である。
【図３】（ａ）試料の表面に曇りが生じていない状態での被写体画像の一例を示した概略図である。（ｂ）試料の表面に曇りが生じている状態での被写体画像の一例を示した概略図である。
【図４】（ａ）および（ｂ）面積比法の概要を示した概略図である。
【図５】（ａ）および（ｂ）傾斜比法の概要を示した概略図である。
【図６】（ａ）および（ｂ）明暗比法の概要を示した概略図である。
【図７】（ａ）および（ｂ）距離比法の概要を示した概略図である。
【図８】（ａ）および（ｂ）圧縮比法の概要を示した概略図である。
【図９】（ａ）および（ｂ）ヒストグラム法の概要を示した概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、本発明の実施の形態を、添付図面を参照して説明する。
【００２４】
まず、本発明の実施の形態に係る防曇性評価装置１について説明する。図１は、本実施形態に係る防曇性評価装置１の概略図である。図１に示されるように、防曇性評価装置１は、試料１００が載置される試料台１０と、試料台１０を収容する測定チャンバ２０と、測定チャンバ２０内と接続された水蒸気噴射装置３０と、測定チャンバ２０の外側に配置される撮像装置４０と、測定チャンバ２０と撮像装置４０の間に配置されるハーフミラー５０と、ハーフミラー５０の側方に配置される照明装置６０と、照明装置６０とハーフミラー５０の間に配置される被写体７０と、被写体７０とハーフミラー５０の間に配置される画像調整用レンズ光学系８１と、ハーフミラー５０と撮像装置４０の間に配置される表面撮像用レンズ光学系８２と、防曇性評価装置１全体を制御する制御装置９０と、を備えている。
【００２５】
本実施形態の防曇性評価装置１は、試料１００の表面１０１に結露により曇りを発生させ、この状態の試料１００を介して被写体７０を撮像した画像（被写体画像）に基づいて試料１００の防曇性を評価するものである。すなわち、防曇性評価装置１は、被写体７０からの光を試料１００を透過させて、または試料１００で反射させて撮像し、これにより得られる被写体７０の画像に基づいて試料１００の防曇性を評価するものである。
【００２６】
試料１００としては、防曇性を評価する窓ガラスやレンズ、鏡等を適宜の寸法の板状に切り出したものを使用する。試料１００の厚みは、防曇性を正確に評価するためには実際に使用されるものと同一の厚みであることが好ましいが、特に限定されるものではない。窓ガラス等の表面に施すコーティングの防曇性の評価においては、適宜のガラス片等の一方の面にコーティングを施したものを試料１００としてもよい。
【００２７】
試料台１０は、防曇性を評価する試料１００が載置される架台である。試料台１０は、試料１００が載置される載置面１１と、試料１００を冷却するペルチェ素子１２と、ペルチェ素子１２の発熱側を冷却する熱交換器１３と、を備えている。そして、熱交換器１３には、冷却水を循環させる試料台用水循環器１４が接続されている。
【００２８】
すなわち、試料台１０は、試料１００を雰囲気の露点以下の温度まで冷却し、これにより試料１００の表面１０１に結露を生じさせることが可能に構成されている。試料台１０上に載置された試料１００の表面１０１には、表面温度センサ１５が配置されている。制御装置９０は、この表面温度センサ１５の検出結果に基づいて試料台１０を制御し、試料１００の表面温度を所定の温度（例えば、５℃）まで低下させる。
【００２９】
また、本実施形態では、試料台１０の載置面１１を鏡面に構成し、窓ガラスやレンズ等の光を透過するものが試料１００である場合、載置面１１に映し出された被写体７０を、試料１００を透過して撮像するようにしている。このようにすることで、光を透過する試料１００であっても、鏡等の光を反射する試料１００の場合と同様に被写体７０を撮像することが可能となる。すなわち、本実施形態では、試料１００が光を透過するか否かによって撮像装置４０や被写体７０等の配置を変更する必要がないため、装置全体を簡素且つコンパクトに構成することが可能となっている。
【００３０】
なお、本実施形態ではアルミ蒸着によって載置面１１を鏡面に構成しているが、載置面１１を鏡面に構成するのではなく、試料１００と試料台１０の間に鏡を配置するようにしてもよい。また、試料台１０は、例えば熱交換器１３による直接冷却等、ペルチェ素子１２以外の機器によって試料１００を冷却するものであってもよい。
【００３１】
測定チャンバ２０は、試料台１０と共に試料１００を収容し、試料１００の周囲の雰囲気を所定の温度および湿度に保つ恒温恒湿槽である。測定チャンバ２０の外壁はジャケット構造となっており、所定の温度の温水または冷水を循環させる温冷水循環器２１が接続されている。また、測定チャンバ２０には、水蒸気を供給して測定チャンバ２０内の湿度を調整する湿度調節器２２が接続され、測定チャンバ２０の内部には、チャンバ内温度センサ２３およびチャンバ内湿度センサ２４が配置されている。制御装置９０は、チャンバ内温度センサ２３およびチャンバ内湿度センサ２４の検出結果に基づいて温冷水循環器２１および湿度調節器２２を制御することで、測定チャンバ２０内の雰囲気を所定の温度および湿度（例えば２０℃、５０％ＲＨ）に保持する。
【００３２】
測定チャンバ２０の上部には、適宜の曇り止めが施されたガラスからなる観測窓２５が設けられている。撮像装置４０は、この観測窓２５を介して被写体７０を撮像する。具体的に、被写体７０からの光は、この観測窓２５を通過して試料１００に向かい、載置面１１または試料１００の表面１０１で反射した後に再び観測窓２５を通過して撮像装置４０に入射するようになっている。
【００３３】
なお、観測窓２５における曇り止めの方法は、特に限定されるものではなく、例えば電熱線ヒータ等によってガラスを加熱するようにしてもよいし、曇り止めコーティング等をガラス表面に施すようにしてもよい。また、測定チャンバ２０は、温冷水循環器２１以外の機器によって内部の温度を調整するものであってもよい。
【００３４】
水蒸気噴射装置３０は、測定チャンバ２０内の試料１００の表面１０１に向けて水蒸気を噴射し、試料１００の表面１０１に曇りを強制的に生成するものである。すなわち、本実施形態では、試料１００の表面１０１を露点以下に冷却して自然に結露を生じさせるだけでなく、試料１００の表面１０１に水滴を付着させ、試料１００の表面１０１が露点以上であっても強制的に曇りを生成することが可能となっている。測定チャンバ２０内には、先端が試料１００の表面１０１に向けられたノズル３１が配置されており、水蒸気噴射装置３０は、このノズル３１を介して試料１００の表面１０１に向けて水蒸気を噴射する。
【００３５】
撮像装置４０は、試料１００を介して被写体７０を撮像するものであり、観測窓２５およびハーフミラー５０を挟んで試料１００の表面１０１と対向する位置に配置されている。上述のように撮像装置４０は、試料１００が窓ガラスやレンズ場合は、試料１００の背後の載置面１１に映し出された被写体７０を、試料１００を透過して撮像する。撮像装置４０はまた、試料１００が光を反射する場合は、試料１００の表面１０１に映し出された被写体７０を撮像する。撮像装置４０は制御装置９０に制御されて撮像を行い、撮像された画像は制御装置９０に送信されて記憶される。
【００３６】
ハーフミラー５０は、撮像装置４０と観測窓２５の間に配置され、被写体７０からの光を試料１００に向けて反射させると共に、載置面１１または試料１００の表面１０１で反射した光を透過させて撮像装置４０に入射させるものである。本実施形態では、ハーフミラー５０を設けることで、撮像装置４０、被写体７０および画像調整用レンズ光学系８１の配置の自由度を高め、装置全体をコンパクトに構成することを可能としている。
【００３７】
照明装置６０は、被写体７０を背後から照明するものである。照明装置６０は、例えばハロゲンランプやＬＥＤ等の光源を備え、ハーフミラー５０の反対側から被写体７０に向けて光を放射するように配置されている。また、照明装置６０の前方（照明装置６０と被写体７０の間）には、光を拡散させる拡散板６１が配置されている。
【００３８】
被写体７０は、撮像装置４０の撮像した画像中に適宜の像を形成するためのものである。図２（ａ）〜（ｄ）は、被写体７０の例を示した概略図である。詳細は後述するが、本実施形態では、試料１００を介して撮像した被写体画像における試料１００の表面１０１に生じた曇りに起因する変化に基づいて、試料１００の防曇性を評価する。従って、被写体７０は、撮像装置４０の撮像した被写体画像中に適宜の画素値（グレースケールの階調、ＲＧＢ値またはＨＳＶ値等）の変化を含ませるようなものであればよい。
【００３９】
被写体７０としては、例えば図２（ａ）および（ｂ）に示されるように、ガラスや樹脂等からなる透明な基板７１の表面に光を透過しない金属膜７２を形成したものや、金属膜７２を２枚の透明な基板７１の間に挟んだもの等を使用することができる。本実施形態では、被写体７０を背後から照明するようにしているため、このような被写体７０を使用することで、コントラストの明瞭なシルエット画像を取得することができる。
【００４０】
この場合、金属膜７２の形状、すなわち撮像装置４０の撮像した画像中に形成する像の形状は、特に限定されるものではなく、図２（ａ）および（ｂ）に示されるように円形状や円環状であってもよいし、多角形状や星形状、各種記号等のその他の形状であってもよい。さらに、１つの基板７１に複数の金属膜７２を形成するようにしてもよく、この場合、金属膜７２ごとに形状を変えるようにしてもよい。また、接触角計の校正に使用される既存の液滴標準サンプルを、被写体７０として活用するようにしてもよい。液滴標準サンプルであれば、金属膜７２の形状精度が高いため、防曇性の評価を高精度に行うことが可能となる。
【００４１】
また、基板７１に金属膜７２を形成するのではなく、例えば図２（ｃ）および（ｄ）に示されるように、基板７１に図柄や記号、絵画、写真等を印刷したものや、既存のポジフィルム等を被写体７０として使用するようにしてもよい。この場合、風景や人物等のグレースケール写真やカラー写真等を被写体７０として使用することで、より実際の状況に近い状態で防曇性の評価を行うことが可能となる。
【００４２】
その他、図示は省略するが、透明な基板７１を使用するのではなく、例えば金属や樹脂等の光を透過しない素材からなる平板や立体、彫像等をそのまま被写体７０として使用するようにしてもよい。
【００４３】
図１に戻って、画像調整用レンズ光学系８１は、載置面１１または試料１００の表面１０１に映し出される被写体７０の大きさを調整すると共に、撮像装置４０に入射する光量を調節するためのものである。画像調整用レンズ光学系８１を設けることで、被写体７０の大きさおよび配置の自由度が高まるため、装置全体をコンパクト且つ効率的に構成することができる。
【００４４】
また、画像調整用レンズ光学系８１と共に被写体７０を試料１００から適度に離隔させて配置することができるため、試料１００および被写体７０を測定チャンバ２０の内外に分けて配置することが可能となる。これにより、試料１００の表面１０１に結露を生じさせる際に被写体７０の表面にも結露が生じるのを防止し、被写体７０の表面に生じた結露による影響を排除することができる。
【００４５】
さらに、画像調整用レンズ光学系８１を被写体７０と試料１００の間に配置し、被写体７０からの光を集光することで、撮像装置４０によって撮像した画像が試料１００の表面１０１の曇りによって暗くなりすぎないようにすることができる。すなわち、被写体７０に照射する光を強くする必要がないため、より自然な状態の被写体７０の像を載置面１１または試料１００の表面１０１に映し出し、これを撮像することが可能となる。
【００４６】
なお、本実施形態では、２つの凸レンズ８１ａから画像調整用レンズ光学系８１を構成しているが、画像調整用レンズ光学系８１を構成する凸レンズ８１ａの個数はこれに限定されるものではない。また、凸レンズ８１ａと凹レンズの組み合わせから画像調整用レンズ光学系８１を構成してもよい。また、画像調整用レンズ光学系８１にズーム機構を設けたり、画像調整用レンズ光学系８１または被写体７０を移動させて両者の相対位置を変更する移動機構を設けたりすることで、載置面１１または試料１００の表面１０１に映し出される被写体７０の大きさを調整するようにしてもよい。
【００４７】
表面撮像用レンズ光学系８２は、試料１００の表面１０１における結露の状態を撮像装置４０によって撮像するためのものである。上述のように、防曇性評価装置１は試料１００を介して被写体７０を撮像した画像に基づいて試料１００の防曇性を評価するものであるため、撮像装置４０の焦点距離は、基本的に被写体７０の位置に合わせたものとなっている。従って、本実施形態では、ハーフミラー５０と撮像装置４０の間に表面撮像用レンズ光学系８２を挿入することで焦点距離を変更し、１つの撮像装置４０によって被写体７０および試料１００の表面１０１の両方を撮像することを可能としている。
【００４８】
表面撮像用レンズ光学系８２は、適宜の凸レンズ８２ａを備えて構成されると共に、制御装置９０に制御される退避機構８３によって光路から退避させることが可能に構成されている。すなわち、本実施形態では、被写体７０を撮像して防曇性の評価を行う際には表面撮像用レンズ光学系８２を光路から退避させておき、試料１００の表面１０１における結露の状態を観察する際には表面撮像用レンズ光学系８２を光路上に配置するようになっている。
【００４９】
なお、表面撮像用レンズ光学系８２の構成は、画像調整用レンズ光学系８１と同様に、特に限定されるものではなく、既知の各種構成を採用することができる。また、表面撮像用レンズ光学系８２は、測定チャンバ２０とハーフミラー５０の間に配置されるものであってもよいし、撮像装置４０に組み込まれたものであってもよい。また、退避機構８３は、手動で表面撮像用光学系８２を移動させるものであってもよい。
【００５０】
制御装置９０は、防曇性評価装置１全体を制御して、試料１００の防曇性の評価を実行するものである。制御装置９０は、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭと共に、ハードディスクまたはフラッシュディスク等の記憶手段を備えるコンピュータから構成され、防曇性評価装置１の各部と電気的に接続されている。また、制御装置９０には、図示を省略したキーボードおよびマウス等の入力装置、ならびに液晶ディスプレイ等からなる表示装置が接続されており、使用者はこれらを介して防曇性評価装置１を操作する。
【００５１】
制御装置９０はまた、ハードディスク等に記憶されたプログラムをＣＰＵが実行することによって実現される機能構成として、制御手段９１と、評価手段９２と、を備えている。制御手段９１は、試料台１０、温冷水循環器２１、湿度調節器２２、水蒸気噴射装置３０および撮像装置４０等を制御して試料１００の表面１０１に曇りを生成すると共に、試料１００を介した被写体７０の撮像を実行する。制御手段９１はまた、退避装置８３および撮像装置４０を制御して試料１００の表面１０１の撮像を実行する。評価手段９２は、制御手段９１の取得した被写体画像に基づき、試料１００の防曇性を評価するための防曇性評価指数を所定の手法により導出する。評価手段９２を備える評価装置を、制御装置９０とは別に設けるようにしてもよい。
【００５２】
なお、上述した防曇性評価装置１の各部の配置構成は、図１に示したものに限定されず、その他の配置構成を採用するようにしてもよい。例えば表面１０１を側方に向けて試料１００を配置し、側方に配置した撮像装置４０によって撮像を行うように構成してもよいし、表面１０１を下方や斜め方向に向けて試料１００を配置するようにしてもよい。試料１００の表面１０１を側方等に向けることにより、結露に対する重力の影響を考慮して防曇性を評価することが可能となる。
【００５３】
次に、防曇性評価装置１による防曇性の評価手順について説明する。防曇性の評価では、まず試料１００を試料台１０の載置面１１上に配置する。この試料１００の配置は、手動で行ってもよいし、適宜の搬送装置等によって自動的に行ってもよい。次に、制御装置９０の制御手段９１が温冷水循環器２１および湿度調節器２２を制御して、測定チャンバ２０内の雰囲気を予め設定された温度および湿度に保持する（雰囲気設定ステップ）。
【００５４】
チャンバ内温度センサ２３およびチャンバ内湿度センサ２４の検出結果から測定チャンバ２０内が予め設定された温度および湿度に保持されたことが確認できたならば、制御手段９１は、照明装置６０および撮像装置４０を制御して試料１００を介した被写体７０の撮像を行い、試料１００の表面１０１に曇りが生じていない状態での被写体画像を取得する（曇り生成前撮像ステップ）。取得した被写体画像は制御装置９０の備える記憶手段に記憶されると共に、表示装置に表示される。
【００５５】
制御手段９１は、次に試料台１０を制御して試料１００の温度を露点以下まで冷却し、表面１０１に曇りを生成する（曇り生成ステップ）。制御手段９１はまた、これと並行して撮像装置４０を制御し、試料１００を介した被写体７０の撮像を行う（曇り生成後撮像ステップ）。この曇り生成後撮像ステップでは、制御手段９１は、試料１００の表面１０１に曇りが生じた状態での被写体画像を所定の周期（例えば１秒ごと）で取得し、曇りの経時的変化を記録する。取得した被写体画像は制御装置９０の備える記憶手段に記憶されると共に、表示装置に表示される。
【００５６】
水蒸気噴射装置３０によって試料１００の表面１０１に曇りを生成する場合、曇り生成ステップにおいて制御手段９１は、水蒸気噴射装置３０を制御して試料１００の表面に水蒸気を吹き付ける。なお、この場合、試料台１０によって試料１００の表面１０１を所定の温度まで冷却した後に水蒸気を吹き付けるようにしてもよい。
【００５７】
被写体画像を記憶手段に記憶したならば、次に制御装置９０の評価手段９２が、記憶した被写体画像に基づいて防曇性評価指数を導出する（評価ステップ）。導出した防曇性評価指数は、記憶手段に記憶されると共に表示装置に表示される。以上の手順により、試料１００の防曇性の評価が完了する。
【００５８】
なお、曇り生成前撮像ステップおよび曇り生成後撮像ステップでは、試料１００を介した被写体７０の撮像と共に試料１００の表面１０１の撮像を行うようにしてもよい。この場合、制御手段９１は、被写体７０の撮像の前後における適宜のタイミングで退避装置８３および撮像装置４０を制御して試料１００の表面１０１を撮像し、表面画像を取得する。曇り生成後撮像ステップにおいて表面画像を取得する周期は、被写体画像と同一であってもよいし、異なっていてもよい。防曇性の評価と共に表面１０１の結露状態を観察することで、より多面的な評価が可能となる。
【００５９】
また、予め表面撮像用レンズ光学系８２を光路上に配置した状態で上記手順を実行し、曇り生成前撮像ステップおよび曇り生成後撮像ステップにおいて試料１００の表面１０１の撮像のみを行うようにしてもよい。この場合、防曇性評価指数の導出はできないが、試料１００の表面１０１の状態の変化を詳細に観察することが可能となる。
【００６０】
次に、防曇性評価指数を導出する手法の詳細について説明する。図３（ａ）は、試料１００の表面１０１に曇りが生じていない状態での被写体画像２００の一例を示した概略図であり、図３（ｂ）は、試料１００の表面１０１に曇りが生じている状態での被写体画像２０１の一例を示した概略図である。なお、これらの図では、図２（ａ）に示した被写体７０を撮像した場合の例を模式的に示している。
【００６１】
被写体７０を撮像した画像は、上述のようにシルエット画像となる。具体的に、被写体７０の金属膜７２は、照明装置６０からの光を透過しないことから周囲よりも暗い暗領域２００ａ、２０１ａとなって映し出され、透明な基板７１は暗領域２００ａ、２０１ａよりも明るい明領域２００ｂ、２０１ｂとなる。試料１００の表面１０１に曇り（結露）が生じていない場合には、曇りによる光の散乱が生じないため、試料１００を介して被写体７０を撮像した場合にも、図３（ａ）に示されるように、被写体７０の金属膜７２の形状が明瞭に映し出され、暗領域２００ａと明領域２００ｂの境界線（輪郭線）が略明確な被写体画像２００が得られる。
【００６２】
一方、試料１００の表面１０１に曇り（結露）が生じている場合には、曇りによって光が散乱するため、図３（ｂ）に示されるように、被写体７０の金属膜７２の形状がぼけて映し出され、暗領域２０１ａと明領域２０１ｂの境界線（輪郭線）が不明確な被写体画像２０１が得られることとなる。また、被写体画像２０１における明領域２０１ｂは、光の散乱によって被写体画像２００における明領域２００ｂよりも全体的に明るさが低下することとなる。
【００６３】
すなわち、試料１００の表面１０１に曇りが生じている場合の被写体画像２０１は、試料１００の表面１０１に曇りが生じていない場合の被写体画像２００から変化することとなる。より詳細には、被写体画像２０１における少なくとも一部の画素の画素値（グレースケールの階調、ＲＧＢ値またはＨＳＶ値等）は、曇りによる光の散乱に起因して被写体画像２００における同一位置の画素の画素値から変化することとなる。
【００６４】
本実施形態では、このような被写体画像２０１における被写体画像２００からの変化の度合いを数値化した防曇性評価指数を導出することで、試料１００の防曇性を定量的、客観的に評価することを可能としている。また、被写体画像２０１における被写体画像２００からの変化の度合いは、試料１００を介した（透過または反射した）景色の見え方の変化の度合いを示すものであるため、防曇性をより現実に即した形で、直接的に評価することが可能となっている。
【００６５】
防曇性評価指数の導出方法は、特に限定されるものではなく、既知の各種画像処理方法や画像解析方法を利用した種々の手法を採用することができる。但し、本実施形態では、以下に説明する面積比法、傾斜比法、明暗比法、距離比法、圧縮比法およびヒストグラム法の６つの手法のいずれかによって防曇性評価指数を導出するようにしている。なお、以下の各手法の説明では、図３（ａ）および（ｂ）に示した被写体画像２００、２０１を２５６階調のグレースケール画像として取得する場合を例として説明する。
【００６６】
＜面積比法＞
図４（ａ）および（ｂ）は、面積比法の概要を示した概略図である。面積比法では、曇り生成前後の被写体画像２００、２０１における、領域内の画素の画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔａ以下となる領域Ａ０、Ａ１の面積Ｓ０、Ｓ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。具体的には、制御装置９０の評価手段９２は、まず図４（ａ）に示されるように、試料１００に曇りが生じていない場合の被写体画像２００において、領域内の画素の画素値Ｐ（ここでは、グレースケールの階調）が所定の閾値Ｐｔａ以下となる領域Ａ０の面積Ｓ０を導出する。
【００６７】
次に、評価手段９２は、図４（ｂ）に示されるように、試料１００に曇りが生じている場合の被写体画像２０１において、画素の画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔａ以下となる領域Ａ１の面積Ｓ１を導出する。そして、評価手段９２は、面積Ｓ１と面積Ｓ０の比Ｓ１／Ｓ０またはＳ０／Ｓ１を防曇性評価指数として導出する。
【００６８】
面積Ｓ１は、試料１００の曇りによる光の散乱度合いが大きい程、暗領域２０１ａを照らして明るくする（すなわち、階調を上げる）ため、面積Ｓ０よりも小さくなる。また、曇りによる光の散乱が殆ど生じない場合には、面積Ｓ１は、面積Ｓ０に近い値となる。従って、防曇性評価指数としてＳ１／Ｓ０を導出した場合、試料１００の防曇性は、防曇性評価指数の値が大きい程（１に近い程）高く、小さい程低いということとなる。また、防曇性評価指数としてＳ０／Ｓ１を導出した場合には、この逆となる。
【００６９】
なお、面積の比Ｓ１／Ｓ０またはＳ０／Ｓ１を求めるのではなく、面積Ｓ１の値をそのまま防曇性評価指数としてもよい。また、被写体画像２００、２０１をカラー画像として取得する場合は、Ｒ（Ｒｅｄ）値、Ｇ（Ｇｒｅｅｎ）値およびＢ（Ｂｌｕｅ）値、またはＨ（Ｈｕｅ）値、Ｓ（Ｓａｔｕｒａｔｉｏｎ）値およびＶ（Ｖａｌｕｅ）値の中間値、平均値または加重平均値等を画素値Ｐとしてもよいし、Ｒ値、Ｇ値もしくはＢ値のいずれか、またはＨ値、Ｓ値もしくはＶ値のいずれかを画素値Ｐとしてもよい。
【００７０】
また、画素の画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔａ以上となる領域の面積に基づいて防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。この場合、光の散乱度合いが大きい程、明領域２０１ｂは暗くなるため、画素の画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔａ以上となる領域の面積も小さくなる。また、被写体画像２００、２０１を所定の閾値Ｐｔａに基づいて二値化した画像を生成し、表示装置に表示等することで、領域Ａ０、Ａ１の面積の変化や形状の変化を視覚的に示すようにしてもよい。
【００７１】
＜傾斜比法＞
図５（ａ）および（ｂ）は、傾斜比法の概要を示した概略図である。傾斜比法では、曇り生成前後の被写体画像２００、２０１に設定した経路Ｒにおける画素値Ｐの変化率に基づいて防曇性評価指数を導出する。具体的には、制御装置９０の評価手段９２は、まず図５（ａ）に示されるように、試料１００に曇りが生じていない場合の被写体画像２００において暗領域２００ａと明領域２００ｂに跨がる水平方向（ｘ方向）の経路Ｒを設定し、この経路Ｒ上の画素の画素値Ｐを取得して境界Ｂにおける画素値Ｐの変化率として平均傾き角θ０を導出する。
【００７２】
次に、評価手段９２は、図５（ｂ）に示されるように、試料１００に曇りが生じている場合の被写体画像２０１において被写体画像２００と同一の経路Ｒを設定し、この経路Ｒ上の画素の画素値Ｐを取得して境界Ｂにおける画素値Ｐの変化率として平均傾き角θ１を導出する。そして、評価手段９２は、平均傾き角θ１と平均傾き角θ０の比θ１／θ０またはθ０／θ１を防曇性評価指数として導出する。
【００７３】
この例では、被写体画像２００のコントラストが高いため、被写体画像２００の経路Ｒにおける画素値Ｐは境界Ｂにおいて最大値（２５５）で略一定の状態から略最小値（０）で略一定の状態に急激に変化し、平均傾き角θ０は略９０°となる。一方、被写体画像２０１の経路Ｒにおいては、試料１００の曇りによる光の散乱度合いが大きい程、明領域２０１ｂが暗くなると共に、境界Ｂの幅Ｗが広がって画素値Ｐはこの幅Ｗ内で漸次変化することとなるため、平均傾き角θ１は小さくなる。また、曇りによる光の散乱が殆ど生じない場合には、平均傾き角θ１は、平均傾き角θ０に近い値となる。
【００７４】
従って、防曇性評価指数としてθ１／θ０を導出した場合、試料１００の防曇性は、防曇性評価指数の値が大きい程（１に近い程）高く、小さい程低いということとなる。また、防曇性評価指数としてθ０／θ１を導出した場合には、この逆となる。
【００７５】
なお、面積比法の場合と同様に、平均傾き角θ１の値をそのまま防曇性評価指数としてもよい。また、被写体画像２００、２０１をカラー画像として取得する場合は、Ｒ値、Ｇ値およびＢ値、またはＨ値、Ｓ値およびＶ値の中間値、平均値または加重平均値等を画素値Ｐとしてもよいし、Ｒ値、Ｇ値もしくはＢ値のいずれか、またはＨ値、Ｓ値もしくはＶ値のいずれかを画素値Ｐとしてもよい。
【００７６】
また、経路Ｒの位置は、特に限定されるものではなく、画素値Ｐの変化する境界Ｂを横切る位置に設定すればよい。また、経路Ｒの方向は、ｘ方向に限定されるものではなく、いずれの方向であってもよい。また、取得する画素値Ｐは、経路Ｒ上の画素の画素値Ｐのみを取得するようにしてもよいし、経路Ｒ上の画素およびこれに隣接する画素の画素値Ｐの平均値等を取得するようにしてもよい。また、経路Ｒを複数設定し、各経路Ｒにおける平均傾き角θ０の平均値、および各経路Ｒにおける平均傾き角θ１の平均値に基づいて防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。
【００７７】
＜明暗比法＞
図６（ａ）および（ｂ）は、明暗比法の概要を示した概略図である。明暗比法では、曇り生成前後の被写体画像２００、２０１に設定した第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂにおける画素値Ｐの差分ΔＰ０、ΔＰ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。具体的には、制御装置９０の評価手段９２は、まず図６（ａ）に示されるように、試料１００に曇りが生じていない場合の被写体画像２００において、暗領域２００ａ内に第１の比較点Ｌａを設定し、明領域２００ｂ内に第２の比較点Ｌｂを設定する。そして、評価手段９２は、第１の比較点Ｌａにおける画素値Ｐａ０および第２の比較点Ｌｂにおける画素値Ｐｂ０を取得し、両者の差分ΔＰ０（＝Ｐｂ０−Ｐａ０）を導出する。
【００７８】
次に、評価手段９２は、図６（ｂ）に示されるように、試料１００に曇りが生じている場合の被写体画像２０１において被写体画像２００と同一位置に第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂを設定し、第１の比較点Ｌａにおける画素値Ｐａ１および第２の比較点Ｌｂにおける画素値Ｐｂ１を取得して両者の差分ΔＰ１（＝Ｐｂ１−Ｐａ１）を導出する。そして、評価手段９２は、差分ΔＰ１と差分ΔＰ０の比ΔＰ１／ΔＰ０またはΔＰ０／ΔＰ１を防曇性評価指数として導出する。
【００７９】
この例では、上述のように被写体画像２００のコントラストが高いため、被写体画像２００における第１の比較点Ｌａの画素値Ｐａ０は略最小値（０）となり、第２の比較点Ｌｂの画素値Ｐｂ０は略最大値（２５５）となる。従って、差分ΔＰ０は略最大値（２５５）となる。一方、被写体画像２０１においては、試料１００の曇りによる光の散乱度合いが大きい程、明領域２０１ｂが暗くなり、第２の比較点Ｌｂにおける画素値Ｐｂ１が減少するため、差分ΔＰ１は小さくなる。また、曇りによる光の散乱が殆ど生じない場合には、差分ΔＰ１は、差分ΔＰ０に近い値となる。
【００８０】
従って、防曇性評価指数としてΔＰ１／ΔＰ０を導出した場合、試料１００の防曇性は、防曇性評価指数の値が大きい程（１に近い程）高く、小さい程低いということとなる。また、防曇性評価指数としてΔＰ０／ΔＰ１を導出した場合には、この逆となる。
【００８１】
なお、上述の各手法の場合と同様に、差分ΔＰ１の値をそのまま防曇性評価指数としてもよい。また、被写体画像２００、２０１をカラー画像として取得する場合は、Ｒ値、Ｇ値およびＢ値、またはＨ値、Ｓ値およびＶ値の中間値、平均値または加重平均値等を画素値Ｐとしてもよいし、Ｒ値、Ｇ値もしくはＢ値のいずれか、またはＨ値、Ｓ値もしくはＶ値のいずれかを画素値Ｐとしてもよい。
【００８２】
また、第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂの位置は、特に限定されるものではなく、被写体７０の構成等に応じた適宜の位置に設定すればよい。また、取得する画素値Ｐは、第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂにおける画素の画素値Ｐのみを取得するようにしてもよいし、第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂにおける画素およびこれに隣接する画素の画素値Ｐの平均値等を取得するようにしてもよい。また、第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂの位置を固定するのではなく、例えば画像全体または画像中の所定の経路上において、画素値Ｐが最小値の画素を第１の比較点Ｌａとし、画素値Ｐが最大値の画素を第２の比較点Ｌｂとするようにしてもよい。
【００８３】
また、第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂを複数設定し、複数の差分ΔＰ０の平均値、および複数の差分ΔＰ１の平均値に基づいて防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。また、差分ΔＰ０、ΔＰ１ではなく、画素値Ｐａ０と画素値Ｐｂ０の比Ｐｂ０／Ｐａ０またはＰａ０／Ｐｂ０、および画素値Ｐａ１と画素値Ｐｂ０の比Ｐｂ１／Ｐａ１またはＰａ１／Ｐｂ１に基づいて、防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。
【００８４】
＜距離比法＞
図７（ａ）および（ｂ）は、距離比法の概要を示した概略図である。距離比法では、曇り生成前後の被写体画像２００、２０１に設定した経路Ｒにおいて、スタート点Ｌｓから最初に画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔｄ以上となるゴール点Ｌｇ０、Ｌｇ１までの距離Ｄ０、Ｄ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。具体的には、制御装置９０の評価手段９２は、まず図７（ａ）に示されるように、試料１００に曇りが生じていない場合の被写体画像２００において、暗領域２００ａ内にスタート点Ｌｓを設定し、スタート点Ｌｓから水平方向（ｘ方向）の経路Ｒを設定する。次に、スタート点Ｌｓから経路Ｒ上の画素の画素値Ｐを順に取得していき、画素値Ｐが最初に所定の閾値Ｐｔｄ以上となった点（画素）をゴール点Ｌｇ０に設定する。そして、スタート点Ｌｓからゴール点Ｌｇ０までの距離Ｄ０を導出する。
【００８５】
次に、評価手段９２は、図７（ｂ）に示されるように、試料１００に曇りが生じている場合の被写体画像２０１において被写体画像２００と同一位置にスタート点Ｌｓを設定し、被写体画像２００と同一の経路Ｒを設定する。そして、スタート点Ｌｓから経路Ｒ上の画素の画素値Ｐを順に取得していって画素値Ｐが最初に所定の閾値Ｐｔｄ以上となった点をゴール点Ｌｇ１に設定し、スタート点Ｌｓからゴール点Ｌｇ１までの距離Ｄ１を導出する。最後に、評価手段９２は、距離Ｄ０と距離Ｄ１の比Ｄ１／Ｄ０またはＤ０／Ｄ１を防曇性評価指数として導出する。
【００８６】
距離Ｄ１は、試料１００の曇りによる光の散乱度合いが大きい程、暗領域２０１ａの周辺を暗くする（すなわち、階調を下げる）ため、距離Ｄ０よりも大きくなる。また、曇りによる光の散乱が殆ど生じない場合には、距離Ｄ１は、距離Ｄ０に近い値となる。従って、防曇性評価指数としてＤ１／Ｄ０を導出した場合、試料１００の防曇性は、防曇性評価指数の値が小さい程（１に近い程）高く、大きい程低いということとなる。また、防曇性評価指数としてＤ０／Ｄ１を導出した場合には、この逆となる。
【００８７】
なお、上述の各手法の場合と同様に、距離Ｄ１の値をそのまま防曇性評価指数としてもよい。また、被写体画像２００、２０１をカラー画像として取得する場合は、Ｒ値、Ｇ値およびＢ値、またはＨ値、Ｓ値およびＶ値の中間値、平均値または加重平均値等を画素値Ｐとしてもよいし、Ｒ値、Ｇ値もしくはＢ値のいずれか、またはＨ値、Ｓ値もしくはＶ値のいずれかを画素値Ｐとしてもよい。
【００８８】
また、スタート点Ｌｓの位置は、特に限定されるものではなく、被写体７０の構成等に応じた適宜の位置に設定すればよい。また、経路Ｒの方向は、ｘ方向に限定されるものではなく、いずれの方向であってもよい。また、取得する画素値Ｐは、経路Ｒ上の画素の画素値Ｐのみを取得するようにしてもよいし、経路Ｒ上の画素およびこれに隣接する画素の画素値Ｐの平均値等を取得するようにしてもよい。また、スタート点Ｌｓまたは経路Ｒを複数設定し、複数の距離Ｄ０の平均値、および複数の距離Ｄ１の平均値に基づいて防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。
【００８９】
＜圧縮比法＞
図８（ａ）および（ｂ）は、圧縮比法の概要を示した概略図である。圧縮比法では、曇り生成前後の非圧縮の被写体画像２００ｏ、２０１ｏを所定の画像圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率Ｃｒ０、Ｃｒ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。具体的には、制御装置９０の評価手段９２は、まず図８（ａ）に示されるように、試料１００に曇りが生じていない場合の非圧縮（例えばＲＡＷ形式やＢＭＰ形式等）の被写体画像２００ｏを所定の画像圧縮方法で圧縮し、例えばＪＰＥＧ形式等の被写体画像２００を生成する。そして、評価手段９２は、被写体画像２００ｏのファイル容量Ｃ０ｏおよび被写体画像２００のファイル容量Ｃ０を取得し、圧縮率Ｃｒ０（＝Ｃ０／Ｃ０ｏ）を導出する。
【００９０】
次に、評価手段９２は、図８（ｂ）に示されるように、試料１００に曇りが生じている場合の非圧縮の被写体画像２０１ｏを被写体画像２００ｏの場合と同一の画像圧縮方法で圧縮し、被写体画像２００と同一形式の被写体画像２０１を生成する。そして、評価手段９２は、被写体画像２０１ｏのファイル容量Ｃ１ｏおよび被写体画像２０１のファイル容量Ｃ１を取得し、圧縮率Ｃｒ１（＝Ｃ１／Ｃ１ｏ）を導出する。最後に、評価手段９２は、圧縮率Ｃｒ１と圧縮率Ｃｒ０の比Ｃｒ１／Ｃｒ０またはＣｒ０／Ｃｒ１を防曇性評価指数として導出する。
【００９１】
この例では、上述のように被写体画像のコントラストが高いため、被写体画像２００は略二値画像に近いものとなり、圧縮率Ｃｒ０は高くなる。一方、被写体画像２０１では、試料１００の曇りによる光の散乱度合いが大きい程、階調、すなわち画素値Ｐの変化が増大するため、圧縮率Ｃｒ１は低くなる。また、曇りによる散乱が殆ど生じない場合には、圧縮率Ｃｒ１は、圧縮率Ｃｒ０に近い値となる。
【００９２】
従って、防曇性評価指数としてＣｒ１／Ｃｒ０を導出した場合、試料１００の防曇性は、防曇性評価指数の値が大きい程（１に近い程）高く、小さい程低いということとなる。また、防曇性評価指数としてＣｒ０／Ｃｒ１を導出した場合には、この逆となる。
【００９３】
なお、圧縮率Ｃｒ０、Ｃｒ１ではなく、圧縮後のファイル容量Ｃ０、Ｃ１を用いて防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。また、上述の各手法の場合と同様に、圧縮率Ｃｒ１の値や圧縮後のファイル容量Ｃ０、Ｃ１の値をそのまま防曇性評価指数としてもよい。また、非圧縮の被写体画像２００ｏ、２０１ｏの画像形式および圧縮後の被写体画像２００、２０１の画像形式は特に限定されるものではなく、既知の種々の画像形式を採用することができる。また、画像の圧縮方法も特に限定されるものではなく、例えば被写体画像２００ｏ、２０１ｏをＺＩＰ形式等に圧縮した場合の圧縮率Ｃｒ０、Ｃｒ１に基づいて防曇性評価指数を導出するようにしてもよい。
【００９４】
また、例えば図２（ｃ）および（ｄ）に示したような複雑な構成の被写体７０を使用する場合、曇りによる光の散乱度合いが大きい程、画素値Ｐの変化が減少し、圧縮率Ｃｒ１が圧縮率Ｃｒ０よりも低くなることがある。従って、圧縮比法においては、使用する被写体７０に応じて防曇性評価指数の値と防曇性の関係を事前に確認しておくことが好ましい。
【００９５】
＜ヒストグラム法＞
図９（ａ）および（ｂ）は、ヒストグラム法の概要を示した概略図である。ヒストグラム法では、曇り生成前後の被写体画像２００、２０１における、画素値Ｐのヒストグラムの面積Ｓｈ０、Ｓｈ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。具体的には、制御装置９０の評価手段９２は、まず図９（ａ）に示されるように、試料１００に曇りが生じていない場合の被写体画像２００について、縦軸が出現頻度Ｆ、横軸が画素値Ｐのヒストグラムを生成し、その面積Ｓｈ０を導出する。
【００９６】
次に、評価手段９２は、図９（ｂ）に示されるように、試料１００に曇りが生じている場合の被写体画像２００について、被写体画像２００と同様に軸が出現頻度Ｆ、横軸が画素値Ｐのヒストグラムを生成し、その面積Ｓｈ１を導出する。そして、評価手段９２は、面積Ｓｈ１と面積Ｓｈ０の比Ｓｈ１／Ｓｈ０またはＳｈ０／Ｓｈ１を防曇性評価指数として導出する。
【００９７】
この例では、上述のように被写体画像２００のコントラストが高いため、被写体画像２００における画素値Ｐの出現頻度Ｆは最小値（０）および最大値（２５５）の近傍の値に集中し、ヒストグラムの面積Ｓｈ０は小さくなる。一方、被写体画像２０１においては、試料１００の曇りによる光の散乱度合いが大きい程、中間の画素値Ｐの出現頻度Ｆが増加してヒストグラムの面積Ｓｈ１は大きくなる。また、曇りによる光の散乱が殆ど生じない場合には、面積Ｓｈ１は、面積Ｓｈ０に近い値となる。
【００９８】
従って、防曇性評価指数としてＳｈ１／Ｓｈ０を導出した場合、試料１００の防曇性は、上述の各手法とは逆に防曇性評価指数の値が小さい程（１に近いほど）高く、大きい程低いということとなる。また、防曇性評価指数としてＳｈ０／Ｓｈ１を導出した場合は、この逆となる。
【００９９】
なお、上述の各手法の場合と同様に、面積Ｓｈ１の値をそのまま防曇性評価指数としてもよい。また、被写体画像２００、２０１をカラー画像として取得する場合は、Ｒ値、Ｇ値およびＢ値、またはＨ値、Ｓ値およびＶ値の中間値、平均値または加重平均値等を画素値Ｐとしてもよいし、Ｒ値、Ｇ値もしくはＢ値のいずれか、またはＨ値、Ｓ値もしくはＶ値のいずれかを画素値Ｐとしてもよい。特に、図２（ｄ）に示したような複雑な構成の被写体７０を使用する場合、Ｒ値、Ｇ値もしくはＢ値のいずれか、またはＨ値、Ｓ値もしくはＶ値のいずれかにヒストグラムを限定することで、より適切な防曇性評価指数を導出することが可能となる場合がある。
【０１００】
制御装置９０の評価手段９２は、上述の各手法のいずれかを使用して、防曇性評価指数を導出する。各手法のいずれを使用するかは、使用者が手動で選択するようにしてもよいし、被写体７０の種類や取得した被写体画像２００の構成等に応じて評価手段９２がいずれの手法を使用するかを判定するようにしてもよい。
【０１０１】
以上説明したように、本実施形態に係る防曇性評価装置１は、試料１００の表面１０１に曇りを生成する曇り生成装置（試料台１０および水蒸気噴射装置３０）と、試料１００とは異なる位置に配置される被写体７０と、試料１００を介して被写体７０を撮像する撮像装置４０と、被写体７０を撮像した被写体画像２００、２０１に基づいて試料１００の防曇性を評価する評価装置（制御装置９０の評価手段９２）と、を備えている。
【０１０２】
このような構成とすることで、例えば車窓から外の風景を見る場合や鏡に映った顔を見る場合等、試料１００の実際の使用状況に近い状態で、試料１００を介して被写体７０を撮像し、これにより得られる被写体画像２００、２０１に基づいて試料１００の防曇性を評価することが可能となるため、より現実に即した状態で防曇性を定量的、客観的に評価することができる。
【０１０３】
また、防曇性評価装置１は、試料１００と被写体７０の間に配置される画像調整用レンズ光学系８１を備えている。このようにすることで、適切な大きさの被写体７０の像をより自然な状態で撮像することができる。
【０１０４】
また、防曇性評価装置１は、被写体７０を背後から照明する照明装置６０を備えている。このようにすることで、コントラストの高い被写体画像２００、２０１を得ることが可能となるため、被写体画像２００、２０１に基づく防曇性の評価を高精度に行うことができる。
【０１０５】
また、防曇性評価装置１は、試料１００と撮像装置４０の間に配置される表面撮像用レンズ光学系８２と、表面撮像用レンズ光学系８２を光路から退避させる退避装置８３と、を備えている。このようにすることで、撮像装置４０によって試料１００の表面１０１の状態を撮像することが可能となり、防曇性の評価をより多面的に行うことが可能となる。
【０１０６】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、曇り生成装置（試料台１０および水蒸気噴射装置３０）によって試料１００の表面に曇りを生成した場合の被写体画像２０１の変化に基づいて試料１００の防曇性評価指数を導出する。このようにすることで、試料１００を介した景色の見え方の変化の度合いに基づいて防曇性を評価することが可能となるため、防曇性をより現実に即した形で、直接的に評価することができる。
【０１０７】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、被写体画像２００、２０１において画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔａ以下または以上となる領域Ａ０、Ａ１の面積Ｓ０、Ｓ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。このようにすることで、防曇性評価指数による防曇性の定量的、客観的な評価を簡便且つ高精度に行うことできる。
【０１０８】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、被写体画像２００、２０１中に設定した経路Ｒにおける画素値Ｐの変化率（平均傾き角θ０、θ１）に基づいて防曇性評価指数を導出する。この場合においても、防曇性評価指数による防曇性の定量的、客観的な評価を簡便且つ高精度に行うことできる。
【０１０９】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、被写体画像２００、２０１中の第１の比較点Ｌａおよび第２の比較点Ｌｂにおける画素値Ｐの差分ΔＰ０、ΔＰ１または比に基づいて防曇性評価指数を導出する。この場合においても、防曇性評価指数による防曇性の定量的、客観的な評価を簡便且つ高精度に行うことできる。
【０１１０】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、被写体画像２００、２０１中に設定した経路Ｒにおいてスタート点Ｌｓから最初に画素値Ｐが所定の閾値Ｐｔｄ以上となるゴール点Ｌｇ０、Ｌｇ１までの距離Ｄ０、Ｄ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。この場合においても、防曇性評価指数による防曇性の定量的、客観的な評価を簡便且つ高精度に行うことできる。
【０１１１】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、非圧縮の被写体画像２００ｏ、２０１ｏを所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率Ｃｒ０、Ｃｒ１または圧縮後のファイル容量Ｃ０、Ｃ１に基づいて、防曇性評価指数を導出する。この場合においても、防曇性評価指数による防曇性の定量的、客観的な評価を簡便且つ高精度に行うことできる。
【０１１２】
また、評価装置（制御装置９０の評価手段９２）は、被写体画像２００、２０１における画素値Ｐのヒストグラムの面積Ｓｈ０、Ｓｈ１に基づいて防曇性評価指数を導出する。この場合においても、防曇性評価指数による防曇性の定量的、客観的な評価を簡便且つ高精度に行うことできる。
【０１１３】
また、本実施形態に係る防曇性評価方法は、試料１００の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、試料１００とは異なる位置に配置された被写体７０を試料１００を介して撮像する撮像ステップと、被写体７０を撮像した被写体画像２００、２０１に基づいて試料２００の防曇性を評価する評価ステップと、を有している。
【０１１４】
このような構成とすることで、試料１００の実際の使用状況に近い状態で、試料１００を介して被写体７０を撮像し、これにより得られる被写体画像２００、２０１に基づいて試料１００の防曇性を評価することが可能となるため、より現実に即した状態で防曇性を定量的、客観的に評価することができる。
【０１１５】
また、評価ステップでは、曇り生成ステップにおいて試料１００の表面に曇りを生成した場合の被写体画像２００、２０１の変化に基づいて試料１００の防曇性評価指数を導出する。このようにすることで、試料１００を介した景色の見え方の変化の度合いに基づいて防曇性を評価することが可能となるため、防曇性をより現実に即した形で、直接的に評価することができる。
【０１１６】
以上、本発明の実施の形態について説明したが、本発明に係る防曇性評価装置および防曇性評価方法は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。また、上記実施形態において示した作用および効果は、本発明から生じる最も好適な作用および効果を列挙したものに過ぎず、本発明による作用および効果は、これらに限定されるものではない。
【産業上の利用可能性】
【０１１７】
本発明に係る防曇性評価装置および防曇性評価方法は、光を透過または反射する各種素材の防曇性の評価や、各種素材の表面にコーティングされるコート剤の防曇性の評価に利用することができる。
【符号の説明】
【０１１８】
１  防曇性評価装置
１０  試料台
３０  水蒸気噴射装置
４０  撮像装置
６０  照明装置
７０  被写体
８１  画像調整用レンズ光学系
８２  表面撮像用レンズ光学系
８３  退避装置
９０  制御装置
９２  評価手段
１００  試料
１０１  試料の表面
２００、２０１  被写体画像
２００ｏ、２０１ｏ  非圧縮の被写体画像
Ａ０、Ａ１  領域
Ｃ０、Ｃ１  圧縮後のファイル容量
Ｃｒ０、Ｃｒ１  圧縮率
Ｄ０、Ｄ１  距離
Ｌａ  第１の比較点
Ｌｂ  第２の比較点
Ｌｓ  スタート点
Ｌｇ０、Ｌｇ１  ゴール点
Ｐ  画素値
Ｐｔａ、Ｐｔｄ  所定の閾値
Ｒ  経路
Ｓ０、Ｓ１  領域の面積
Ｓｈ０、Ｓｈ１  ヒストグラムの面積
ΔＰ０、ΔＰ１  画素値の差分
θ０、θ１  平均傾き角
【図１】
2017090085.tif 000003
【図２】
2017090085.tif 000004
【図３】
2017090085.tif 000005
【図４】
2017090085.tif 000006
【図５】
2017090085.tif 000007
【図６】
2017090085.tif 000008
【図７】
2017090085.tif 000009
【図８】
2017090085.tif 000010
【図９】
2017090085.tif 000011
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月25日(2016.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記試料とは異なる位置に配置される被写体と、
前記試料を介して前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備え、
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項２】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記試料とは異なる位置に配置される被写体と、
前記試料を介して前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備え、
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、前記被写体画像中において暗い領域から選定される第１の比較点、および、明るい領域から選定される第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項３】
試料を収容する測定チャンバと、
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記測定チャンバの観測窓を経由して前記試料の表面側から自身の像を投影可能な位置であって、前記測定チャンバの外部に配置される被写体と、
前記試料を介した反射像として、前記測定チャンバの外部の前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備えることを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項４】
前記試料と前記被写体の間に配置される画像調整用レンズ光学系を備えることを特徴とする、
請求項１乃至３のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項５】
前記被写体を背後から照明する照明装置を備えることを特徴とする、
請求項１乃至４のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項６】
前記試料と前記撮像装置の間に配置される表面撮像用レンズ光学系と、
前記表面撮像用レンズ光学系を光路から退避させる退避装置と、を備えることを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項７】
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項３に記載の防曇性評価装置。
【請求項８】
前記評価装置は、前記被写体画像において画素値が所定の閾値以下または以上となる領域の面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１、２、７のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項９】
前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路における画素値の変化率に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１、２、７のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項１０】
前記評価装置は、前記被写体画像中の第１の比較点および第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１又は７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１１】
前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路においてスタート点から最初に画素値が所定の閾値以上となるゴール点までの距離に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１、２、７のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項１２】
前記評価装置は、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項２又は７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１３】
前記評価装置は、前記被写体画像における画素値のヒストグラムの面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１、２、７のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項１４】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料とは異なる位置に配置された被写体を前記試料を介して撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有し、
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１５】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料とは異なる位置に配置された被写体を前記試料を介して撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有し、
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、前記被写体画像中において暗い領域から選定される第１の比較点、および、明るい領域から選定される第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１６】
測定チャンバの内部に配置される試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料の表面側から自身の像を投影可能な位置であって、前記測定チャンバの外部に配置された被写体を、前記試料を介した反射像として撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１７】
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１６に記載の防曇性評価方法。
【手続補正書】
【提出日】平成29年2月9日(2017.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記試料とは異なる位置に配置される被写体と、
前記試料を介して前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備え、
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項２】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記試料とは異なる位置に配置される被写体と、
前記試料を介して前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備え、
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、前記被写体画像中において暗い領域から選定される第１の比較点、および、明るい領域から選定される第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項３】
試料を収容する測定チャンバと、
試料の表面に曇りを生成する曇り生成装置と、
前記測定チャンバの観測窓を経由して前記試料の表面側から自身の像を投影可能な位置であって、前記測定チャンバの外部に配置される被写体と、
前記試料を介した反射像として、前記測定チャンバの外部の前記被写体を撮像する撮像装置と、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価装置と、を備えることを特徴とする、
防曇性評価装置。
【請求項４】
前記試料と前記被写体の間に配置される画像調整用レンズ光学系を備えることを特徴とする、
請求項１乃至３のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項５】
前記被写体を背後から照明する照明装置を備えることを特徴とする、
請求項１乃至４のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項６】
前記試料と前記撮像装置の間に配置される表面撮像用レンズ光学系と、
前記表面撮像用レンズ光学系を光路から退避させる退避装置と、を備えることを特徴とする、
請求項１乃至５のいずれかに記載の防曇性評価装置。
【請求項７】
前記評価装置は、前記曇り生成装置によって前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項３に記載の防曇性評価装置。
【請求項８】
前記評価装置は、前記被写体画像において画素値が所定の閾値以下または以上となる領域の面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項７に記載の防曇性評価装置。
【請求項９】
前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路における画素値の変化率に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１０】
前記評価装置は、前記被写体画像中の第１の比較点および第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１１】
前記評価装置は、前記被写体画像中に設定した経路においてスタート点から最初に画素値が所定の閾値以上となるゴール点までの距離に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１２】
前記評価装置は、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１３】
前記評価装置は、前記被写体画像における画素値のヒストグラムの面積に基づいて前記防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項７に記載の防曇性評価装置。
【請求項１４】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料とは異なる位置に配置された被写体を前記試料を介して撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有し、
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、非圧縮の前記被写体画像を所定の圧縮方法で圧縮した場合の圧縮率または圧縮後のファイル容量に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１５】
試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料とは異なる位置に配置された被写体を前記試料を介して撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有し、
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化として、前記被写体画像中において暗い領域から選定される第１の比較点、および、明るい領域から選定される第２の比較点における画素値の差分または比に基づいて、前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１６】
測定チャンバの内部に配置される試料の表面に曇りを生成する曇り生成ステップと、
前記試料の表面側から自身の像を投影可能な位置であって、前記測定チャンバの外部に配置された被写体を、前記試料を介した反射像として撮像する撮像ステップと、
前記被写体を撮像した被写体画像に基づいて前記試料の防曇性を評価する評価ステップと、を有することを特徴とする、
防曇性評価方法。
【請求項１７】
前記評価ステップでは、前記曇り生成ステップにおいて前記試料の表面に曇りを生成した場合の前記被写体画像の変化に基づいて前記試料の防曇性評価指数を導出することを特徴とする、
請求項１６に記載の防曇性評価方法。