(57)【要約】【課題】水素の発生を防止することが可能な、新規かつ改良されたベリライドおよびベリライドの表面処理方法を提供する。【解決手段】酸化ベリリウムを含む酸化物層により表面の少なくとも一部が被覆されたベリライド。ベリライドの表面処理方法において、前記表面処理方法は、ベリライドをアルゴン及び酸素からなる混合ガス雰囲気下および９００℃〜１３００℃の温度条件下とすることにより、ベリライドの表面の少なくとも一部に酸化ベリリウムを含む酸化物層を形成する酸化物層形成工程を少なくとも含み、前記混合ガスの酸素含有量は５ｐｐｍ〜２００００ｐｐｍである、ベリライドの表面処理方法。【選択図】図１
2017155320.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化ベリリウムを含む酸化物層により表面の少なくとも一部が被覆されたベリライド。
【請求項２】
水蒸気分解量が０ｇ／ｍ２／日〜０．０１５ｇ／ｍ２／日である、請求項１に記載のベリライド。
【請求項３】
前記酸化物層の厚みが０．３μｍ〜２５０μｍである、請求項１または２に記載のベリライド。
【請求項４】
前記ベリライドが微小球である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のベリライド。
【請求項５】
前記微小球の平均粒子径が、０．４ｍｍ〜２．０ｍｍである、請求項４に記載のベリライド。
【請求項６】
ベリライドの表面処理方法において、
前記表面処理方法は、ベリライドをアルゴン及び酸素からなる混合ガス雰囲気下および９００℃〜１３００℃の温度条件下とすることにより、ベリライドの表面の少なくとも一部に酸化ベリリウムを含む酸化物層を形成する酸化物層形成工程を少なくとも含み、
前記混合ガスの酸素含有量は５ｐｐｍ〜２００００ｐｐｍである、ベリライドの表面処理方法。
【請求項７】
前記酸化物層形成工程の温度条件は、１０００℃〜１２００℃である、請求項６に記載のベリライドの表面処理方法。
【請求項８】
前記酸化物形成工程は、酸化物を形成する処理時間が１時間〜２０時間である、請求項６または７のいずれか１項に記載のベリライドの表面処理方法。
【請求項９】
前記酸化物形成工程は、酸化物を形成する処理時間が２時間〜１０時間である、請求項６〜８のいずれか１項に記載のベリライドの表面処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ベリライドおよびベリライドの表面処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
核融合ブランケットでは、燃料であるトリチウムを効率良く生産するために、核融合反応で発生した中性子を前記ブランケット内で倍増させる。
【０００３】
中性子を倍増させることのできる中性子倍増材としては、ベリリウム（Ｂｅ）が挙げられる（例えば、特許文献１）。ベリリウム原子に１個の中性子が当たると、核反応によって２個の中性子が発生する。
【０００４】
また、ベリリウムの金属間化合物であるベリライドも、中性子倍増材として有用である（例えば、特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平６−２２８６７３号公報
【特許文献２】特開２０１３−２０９６９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、ベリリウムは高温の水蒸気と反応して水素を発生させるおそれがある。そのため、水冷型の核融合ブランケットにベリリウムを適用する場合には、冷却水破断事故等によって、冷却水が高温の水蒸気となってベリリウムと反応することを防止するべく、安全のために核融合ブランケットの使用温度を制限する場合がある。
【０００７】
また、ベリライドは、高温の水蒸気との反応性が低く、ベリリウムと比べて水素の発生量を低減することができる。しかし、ベリライドによっても、水素の発生を完全に防止することは困難である。
【０００８】
そこで、本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところは、水素の発生を防止することが可能な、新規かつ改良されたベリライドおよびベリライドの表面処理方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、酸化ベリリウムを含む酸化物層により表面の少なくとも一部が被覆されたベリライドが提供される。
【００１０】
水蒸気分解量は、０ｇ／ｍ２／日〜０．０１５ｇ／ｍ２／日であることが好ましい。
【００１１】
前記酸化物層の厚みは、０．３μｍ〜２５０μｍであることが好ましい。
【００１２】
前記ベリライドは微小球であることが好ましい。
【００１３】
前記微小球の平均粒子径は、０．４ｍｍ〜２．０ｍｍであることが好ましい。
【００１４】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、ベリライドの表面処理方法において、前記表面処理方法は、ベリライドをアルゴン及び酸素からなる混合ガス雰囲気下および９００℃〜１３００℃の温度条件下とすることにより、ベリライドの表面の少なくとも一部に酸化ベリリウムを含む酸化物層を形成する酸化物層形成工程を少なくとも含み、前記混合ガスの酸素含有量は５ｐｐｍ〜２００００ｐｐｍである、ベリライドの表面処理方法が提供される。
【００１５】
前記酸化物層形成工程の温度条件は、１０００℃〜１２００℃であることが好ましい。
【００１６】
前記酸化物形成工程は、酸化物を形成する処理時間が１時間〜２０時間であることが好ましい。
【００１７】
前記酸化物形成工程は、酸化物を形成する処理時間が２時間〜１０時間であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように本発明によれば、水素の発生を防止することが可能な、新規かつ改良されたベリライドおよびベリライドの表面処理方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明のベリライドの表面処理方法について、真空置換型熱処理炉を用いた表面処理例を示す概略断面図である。
【図２】ベリライドの水素生成反応試験に用いた試験装置の概略図である。
【図３】実施例７のベリライドについて、水素生成反応試験を３回実施した際の熱履歴を示す図である。
【図４】実施例７のベリライドについて、水素生成反応試験を３回実施した際の水素発生量を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明のベリライドおよびベリライドの表面処理方法の実施の形態について、詳細に説明する。
【００２１】
＜酸化物被覆ベリライド＞
まず、本発明のベリライドは、ベリリウムの金属間化合物である。ベリライドとしては、具体的には、Ｂｅ１２Ｖ、Ｂｅ１２Ｔｉ、Ｂｅ１７Ｔｉ２、Ｂｅ１３Ｚｒ、Ｂｅ１７Ｚｒ２、Ｂｅ１２Ｃｒ、Ｂｅ１２Ｖ（１−Ｘ）Ｔｉ（Ｘ）等が挙げられる。
【００２２】
本発明のベリライドを被覆する酸化物層は、酸化ベリリウム（ＢｅＯ）を含む。酸化ベリリウムを含むことにより、水蒸気を遮断して中性子を透過させることのできる酸化物層となるからである。このような水蒸気と中性子との透過の選択性を有する酸化物層が被覆したベリライドであれば、水素の発生しない中性子倍増材として有用である。
【００２３】
そして、前記酸化物層は、水蒸気を遮断する性能を損なわない程度において、酸化ベリリウムの他、酸化バナジウム（ＶＯ、Ｖ２Ｏ５）、酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化クロム（Ｃｒ２Ｏ３、ＣｒＯ２）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等の酸化物を含む場合がある。また、前記酸化物層は不可避不純物を含む場合がある。
【００２４】
また、本発明のベリライドは、前記酸化物層により表面の少なくとも一部が被覆されている。水蒸気と接触するおそれのある表面のみが前記酸化物層により被覆されていれば、水素の発生を防止することができる。本発明において、ベリライドの表面の全体が前記酸化物層によって被覆されていれば、ベリライドの表面と水蒸気との接触を完全に防ぐことができるため、より好ましい。
【００２５】
＜水蒸気分解量＞
本発明のベリライドの水蒸気分解量は、０ｇ／ｍ２／日〜０．０１５ｇ／ｍ２／日未満であることが好ましい。この範囲であれば、前記酸化物層が水蒸気を遮断して、水蒸気がベリライドと接触することを防ぐことにより、水素の発生を防止する効果が向上するからである。ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、前記水蒸気分解量は、０ｇ／ｍ２／日〜０．０１３ｇ／ｍ２／日であることがより好ましい。
【００２６】
ここで、水蒸気分解量は、所定の温度及び湿度の条件で単位時間に単位面積の試験片を通過する水蒸気の量（ＪＩＳＫ７１２９）である。例えば、感湿センサー法（Ｌｙｓｓｙ法）、カップ法、赤外センサー法（Ｍｏｃｏｎ法）を用いることにより、水蒸気分解量を測定することができる。また、ベリライドの水素発生量から算出することができる。
【００２７】
＜酸化物層の厚み＞
本発明のベリライドにおいて、前記酸化物層の厚みは、０．３μｍ〜２５０μｍであることが好ましい。この範囲であれば、前記酸化物層が水蒸気を遮断して、水蒸気がベリライドと接触することを防ぐことにより、水素の発生を防止する効果が向上するからである。前記酸化物層の厚みが０．３μｍ未満の場合、水蒸気の遮断効果を満足しない場合がある。また、前記酸化物層の厚みが２５０μｍより大きくても、水蒸気の遮断効果は十分に得られており、より向上することはない。ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、前記酸化物層の厚みが０．３μｍ〜１００μｍであることがより好ましい。
【００２８】
＜ベリライドの形状＞
本発明のベリライドの形状は、特に限定されない。形状としては、例えば、微粒子状、針状粒子状、粉末状、ハニカム状、板状、ブロック状、棒状、リング状、羽根形状等が挙げられる。例えば、本発明のベリライドをガスタービン用の羽根として用いると、耐酸化性が向上することから、軽量で、かつ、高温でのガスタービンの運転が可能となり、高いエネルギー変換効率を得ることができる。
【００２９】
＜ベリライド微小球の粒子径＞
なお、本発明のベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、中性子倍増の効率の観点から、本発明のベリライドの形状は表面積が大きく取り扱いの容易な微小球であることが好ましい。例えば、前記微小球の平均粒子径が、０．４ｍｍ〜２．０ｍｍであることにより、表面積が大きく取り扱いが容易であるため、中性子倍増材として有用であり、好ましい。なお、前記微小球の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法によって求めることができる。平均粒子径は、求めた粒度分布における積算値５０％での粒径を意味する。
【００３０】
＜ベリライドの表面処理方法＞
次に、本発明のベリライドの表面処理方法について説明する。本発明のベリライドの表面処理方法は、ベリライドの表面の少なくとも一部に酸化ベリリウムを含む酸化物層を形成する酸化物層形成工程を少なくとも含む。具体的には、ベリライドをアルゴン及び酸素からなる混合ガス雰囲気下および９００℃〜１３００℃の温度条件下とする工程である。ベリライド、酸化物層および酸化物層によりベリライドの表面の少なくとも一部を被覆することについては、本発明のベリライドにおいてした説明と同様である。
【００３１】
＜酸化物形成工程の温度条件＞
前記酸化物層形成工程において、ベリライドを９００℃〜１３００℃の温度条件下とする。この条件とすることにより、前記混合ガス中の酸素とベリライドとの酸化反応の効率を高めることができるため、前記酸化物層の形成が容易となる。前記温度条件が９００℃未満である場合、酸化反応が進まないおそれがあり、酸化物層の形成に時間がかかる場合がある。また、前記温度条件が１３００℃を超える場合、酸化物層の形成にかかる時間は短縮されず、ベリライドの溶融等、他の不具合が生じるおそれがある。ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、製造効率の観点から、前記酸化物層形成工程の温度条件は、１０００℃〜１２００℃であることがより好ましい。
【００３２】
＜酸化物形成工程における混合ガスの酸素含有量＞
前記酸化物層形成工程において、前記混合ガスの酸素含有量は５ｐｐｍ〜２００００ｐｐｍとする。この条件とすることにより、酸素とベリライドとの酸化反応の効率を高めることができるとともに、水蒸気の透過を防止するち密な酸化物層を形成することができる。前記酸素含有量が５ｐｐｍ未満の場合、酸素濃度が薄いことにより、酸化反応が進まないおそれがあり、酸化物層の形成に時間がかかる場合がある。また、前記酸素含有量が２００００ｐｐｍを超える場合、酸化物層の形成に十分な酸素があることから、酸化反応に関与しない酸素が増えるため、酸化物層の形成にかかる時間は短縮されないおそれがある。ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、製造効率の観点から、前記混合ガスの酸素含有量は、１０ｐｐｍ〜１００００ｐｐｍであることがより好ましい。
【００３３】
＜酸化物形成工程の処理時間＞
前記酸化物形成工程は、酸化物を形成する処理時間が１時間〜２０時間であることが好ましい。この条件とすることにより、水蒸気の透過を防止するために十分な厚さの酸化物層を形成することが容易となる。前記処理時間が１時間未満である場合、水蒸気の透過を防止するために十分な厚さの酸化物層を形成することが、困難となるおそれがある。また、前記処理時間が２０時間を超える場合、水蒸気の透過を防止するための酸化層は十分に形成されていることから、製造効率が低下するおそれがある。ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、製造効率の観点から、前記酸化物を形成する処理時間は、２時間〜１０時間であることがより好ましい。
【００３４】
＜酸化物層の厚み＞
本発明のベリライドの表面処理方法において、前記酸化物層の厚みは、０．３μｍ〜２５０μｍであることが好ましい。この範囲であれば、前記酸化物層が水蒸気を遮断して、水蒸気がベリライドと接触することを防ぐことにより、水素の発生を防止する効果が向上するからである。ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、前記酸化物層の厚みが０．３μｍ〜１００μｍであることがより好ましい。
【００３５】
＜ベリライドの形状＞
本発明のベリライドの表面処理方法において、ベリライドの形状は、特に限定されない。形状としては、例えば、微粒子状、針状粒子状、粉末状、ハニカム状、板状、ブロック状、棒状、リング状、羽根形状等が挙げられる。例えば、本発明のベリライドをガスタービン用の羽根として用いると、耐酸化性が向上することから、軽量で、かつ、高温でのガスタービンの運転が可能となり、高いエネルギー変換効率を得ることができる。
【００３６】
＜ベリライド微小球の粒子径＞
なお、本発明のベリライドの表面処理方法において、ベリライドを中性子倍増材として使用することを考慮すると、中性子倍増の効率の観点から、本発明のベリライドの形状は表面積が大きく取り扱いの容易な微小球であることが好ましい。例えば、前記微小球の平均粒子径が、０．４ｍｍ〜２．０ｍｍであることにより、表面積が大きく取り扱いが容易であるため、中性子倍増材として有用であり、好ましい。なお、前記微小球の平均粒子径は、レーザー回折・散乱法によって求めることができる。平均粒子径は、求めた粒度分布における積算値５０％での粒径を意味する。
【００３７】
本発明のベリライドの表面処理方法は、前記酸化物層形成工程のほか、他の工程を含むことができる。例えば、炉内においてベリライドを表面処理する場合には、前記酸化物層形成工程の前に、炉内へ混合ガスを導入する工程（混合ガス導入工程）や、炉内を加熱する工程（炉内加熱工程）、ベリライドを炉内へ導入する工程（ベリライド導入工程）を含めることができる。また、前記酸化物層形成工程の後に、ベリライドを取り出せるよう炉内を冷却する工程（炉内冷却工程）、混合ガスの導入を停止する工程（混合ガス導入停止工程）、ベリライドを炉内から取り出す工程（取り出し工程）を含めることができる。
【００３８】
＜真空置換型熱処理炉を用いた表面処理例＞
以下、本発明のベリライドの表面処理方法について、その一例として真空置換型熱処理炉を用いた表面処理例を説明する。
【００３９】
図１は、本発明のベリライドの表面処理方法について、真空置換型熱処理炉１００を用いた表面処理例を示す概略断面図である。真空置換型熱処理炉１００は、ベリライドを導入して酸化物層形成工程を実施する炉心管１１０、炉心管１１０へ混合ガスを導入する導入管１２０、導入ガスのガス量を調整するバルブ１３０、炉心管１１０から混合ガスを排出する排出管１４０、炉心管１１０を上下より加熱してその内部を高温とする電気炉１５０を備える。ベリライド微小球２００は、ボート３００に載置され、炉心管１１０内に導入されている。
【００４０】
このような真空置換型熱処理炉を用いた表面処理手順としては、例えば、ベリライド微小球２００をボート３００に載置して炉心管１１０内に導入し（ベリライド導入工程）、バルブ１３０を開けて炉心管１１０内へ混合ガスを導入して（混合ガス導入工程）、炉心管１１０内を所定の混合ガス雰囲気下とした後、電気炉１５０により炉心管１１０を加熱して（炉内加熱工程）、炉心管１１０内を所定の温度条件下とする手順が挙げられる。この手順により、ベリライド微小球２００の表面に酸化物層を形成することができる。
【００４１】
酸化物の形成後は、電気炉１５０による加熱を停止することにより放冷等により炉心管１１０内を冷却し（炉内冷却工程）、バルブ１３０を閉じて混合ガスの導入を停止して（混合ガス導入停止工程）、炉心管１１０内よりボート２００を回収することによりベリライド微小球２００を取り出す（取り出し工程）ことができる。以上の手順により、ベリライドの表面処理を実施することができる。
【実施例】
【００４２】
以下、実施例および比較例に基づき、本発明を更に具体的に説明する。ただし、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
【００４３】
＜ベリライドの表面処理＞
真空置換型熱処理炉の炉心管に平均粒子径１ｍｍのＢｅ１２Ｖ微小球を導入し、炉心管内を所定のアルゴン及び酸素からなる混合ガス雰囲気下とした。その後、炉心管を加熱して炉心管内を所定の温度条件下として、ベリライドの表面に酸化物層を形成した。電子線プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）（日本電子社製ＪＸＡ‐８５３０Ｆ）により酸化物層の元素分析を行ったところ、酸化物層からは、ＢｅＯが検出された。ＶＯ、Ｖ２Ｏ５等のバナジウムの酸化物は検出されなかった。表面処理条件として、炉心管内温度、処理時間、混合ガス中の酸素量を表１に示す。
【００４４】
＜酸化物層の層厚測定＞
電子線プローブマイクロアナライザ（ＥＰＭＡ）を用いて、Ｂｅ１２Ｖ微小球の表面に形成された酸化物層の厚みを測定した。酸化物層の平均厚さを表１に示す。
【００４５】
＜水蒸気との反応性の評価＞
表面に酸化物層が形成されたＢｅ１２Ｖ微小球と水蒸気との反応性を評価するべく、水蒸気発生率測定装置を用いて試験を実施した。比較として、無処理のベリライドおよび無処理のベリリウムについても、同じ試験を実施した。
【００４６】
図２は、ベリライドの水素生成反応試験に用いた試験装置（水蒸気発生率測定装置５００）の概略図である。試験手順としては、まず、ヒーター５１０に囲まれた反応槽５２０内に試料（Ｂｅ１２Ｖ微小球等）６００を設置し、水蒸気発生装置５３０で水蒸気を発生させた。次に、ボンベ５４０のバルブを開けて、Ａｒガス導入管５５０を介して水蒸気発生装置５３０内へアルゴンを導入してアルゴンと水蒸気との混合ガスを生成させ、混合ガス導入管５６０を介して混合ガスを反応槽５２０内に導入し、試料と混合ガスを接触させた。試料と水蒸気との反応により発生した水素の発生量は、反応槽５２０からガスを排出するガス排出管５７０からガスをガスクロマトグラフ５８０へ導入することにより測定した。反応槽５２０内の温度は、１０００℃とし、混合ガス中のアルゴンと水蒸気との混合比（Ａｒ：Ｈ２Ｏ）は、体積比で９９：１とした。なお、図２において、ヒーター５１０および反応槽５２０は概略断面図として示している。
【００４７】
水素発生量、水蒸気分解量および中性子倍増材としての適用性の評価結果について、表１に示す。中性子倍増材としての適用性の評価は、以下の基準とした。
【００４８】
◎：水素発生量が１x１０-１０Ｌ／ｍｇ／ｓ以下（ガスクロマトグラムにおいてバックグラウンドと同等レベル）であって、中性子倍増材として好適である。
○：水素発生量が１x１０-１０Ｌ／ｍｇ／ｓより多く１x１０-８Ｌ／ｍｇ／ｓ未満であって、無処理のベリライドよりも水素発生量が少なく、中性子倍増材として好適である。
△：水素発生量が１x１０-１０Ｌ／ｍｇ／ｓより多く１x１０-８Ｌ／ｍｇ／ｓ未満であって、無処理のベリライドと同レベルの水素発生量であり、中性子倍増材として適用可能である。
×：水素発生量が１x１０-８Ｌ／ｍｇ／ｓ以上であって、中性子倍増材として適用する場合に制限が必要である。
【００４９】
また、酸化物層の水蒸気分解量は、１０００℃での水素発生量から換算して算出した。具体的には、下記式（１）により、算出した。
【００５０】
【数１】
2017155320.tif 000003
【００５１】
【表１】
2017155320.tif 000004
【００５２】
表１より、ベリライドの表面に酸化物層を形成することにより、水素発生量および水蒸気分解量が著しく減少した（実施例１〜１３）。この結果から、酸化物層がベリライドと水蒸気との反応を抑制する効果があることは明らかである。特に、酸化物層の厚みが０．３μｍ〜１００μｍであれば、水素発生量はバックグラウンドと同等であり、検出限界以下の結果であることから、水冷型の核融合ブランケットへの適用に適した中性子倍増材として使用可能であることがわかった（実施例１〜１２）。また、実施例１３の微小球は、水素が若干量発生するものの、無処理のベリライド（比較例１）よりも水素の発生量が少ないことから、無処理のベリライドよりも核融合ブランケットの使用温度の制限を緩和することが可能であり、中性子倍増材として十分に適用可能であることがわかった。
【００５３】
一方、無処理のベリライド（比較例１）は、無処理のベリリウム（比較例２）よりも水素発生量が少ないことから、無処理のベリリウムよりも核融合ブランケットの使用温度の制限を緩和することが可能であり、中性子倍増材としての適用が可能であることを確認した。
【００５４】
また、無処理のベリリウム（比較例２）は、水素の発生が明らかであり、場合によっては、核融合ブランケットの使用温度を制限する必要があることを確認した。
【００５５】
＜表面処理ベリライドの耐久性の評価＞
表面に酸化物層を形成したベリライドが中性子倍増材として繰り返し使用可能であるか、その耐久性を評価するべく、実施例７の条件において表面処理した微小球を用いて評価を行った。
【００５６】
具体的な試験手順としては、まず、図２に示す水蒸気発生率測定装置５００の反応槽５２０に対象試料６００（実施例７のＢｅ１２Ｖ微小球）を設置し、１０℃／分の昇温条件にて室温から１０００℃まで加熱した。１０００℃で２４時間保持すると共に、反応槽５２０内にアルゴンと水蒸気との混合ガスを導入し、試料と混合ガスを接触させた。試料と水蒸気との反応により発生した水素の発生量は、ガスクロマトグラフ５８０により測定した。混合ガス中のアルゴンと水蒸気との混合比（Ａｒ：Ｈ２Ｏ）は、体積比で９９：１とした。２４時間後、反応槽５２０への混合ガスの導入を停止し、３０℃／分の冷却条件にて１０００℃から室温まで冷却した。上記試験手順を３回繰り返すことにより、図３に示す熱履歴のとおり、水素生成反応試験を３回実施した。
【００５７】
図４に、水素生成反応試験を３回実施した際の、各発生試験における水素発生量について、無処理のベリライド（比較例１）と比較したグラフを示す。３回実施した水素生成反応試験のいずれにおいても、水素発生量はバックグラウンドと同等であり、検出限界以下の結果であった。この結果より、表面に酸化物層を有するベリライドが、中性子倍増材として繰り返し使用可能であることが明らかとなった。
【００５８】
＜まとめ＞
以上の結果より、本発明のベリライドであれば、酸化層により水素の発生を抑制することが可能である。そのため、本発明のベリライドは、特に中性子倍増材として有用であるだけでなく、耐酸化性の要求される環境下における触媒や、ガスタービン等の部材等の用途に対しても好適である。
【００５９】
以上、添付図面等を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【産業上の利用可能性】
【００６０】
本発明は、耐酸化性の要求される部材の材料として適用可能であり、特に中性子倍増材として適用可能であることから、産業上有用である。
【符号の説明】
【００６１】
１００    真空置換型熱処理炉
１１０    炉心管
１２０    導入管
１３０    バルブ
１４０    排出管
１５０    電気炉
２００    ベリライド微小球
３００    ボート
５００    水蒸気発生率測定装置
５１０    ヒーター
５２０    反応槽
５３０    水蒸気発生装置
５４０    ボンベ
５５０    Ａｒガス導入管
５６０    混合ガス導入管
５７０    ガス排出管
５８０    ガスクロマトグラフ
６００    試料
【図１】
2017155320.tif 000005
【図２】
2017155320.tif 000006
【図３】
2017155320.tif 000007
【図４】
2017155320.tif 000008