(57)【要約】【課題】副生成物の生成を有効に抑制することにより従来技術より良好な収率で、効率的にポリメチン化合物を製造する方法を提供することにある。【解決手段】下記式（２）で表される化合物、下記式（３）で表される化合物、及び下記式（４）で表される化合物を含む混合物（Ｍ２）に塩基を添加しながら、下記式（２）で表される化合物と、下記式（４）で表される化合物とを反応させる工程（II）を含む、下記式（１）で表される化合物の製造方法。2017214369.tif 000042【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）
【化１】
2017214369.tif 000032
［式中、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ１及びＲ２は互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成していてもよく、前記炭素数１〜２０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−と置き換わっていてもよい。Ｒ３は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、前記炭素数１〜１０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−と置き換わっていてもよい。Ｒ４は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｘ１及びＸ２は互いに独立して、電子吸引性基を表し、Ｘ１とＸ２は互いに結合してそれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］
で表される化合物の製造方法であって、
下記式（２）
【化２】
2017214369.tif 000033
［式中、Ｒ５は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｚ-はアニオンを表す。Ｒ１〜Ｒ４は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物、下記式（３）
【化３】
2017214369.tif 000034
［式中、Ｒ１〜Ｒ５及びＺ-は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物、及び下記式（４）
【化４】
2017214369.tif 000035
［式中、Ｘ１及びＸ２は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物を含む混合物（Ｍ２）に、塩基を添加しながら、前記式（２）で表される化合物と、前記式（４）で表される化合物とを反応させる工程（II）を含む、製造方法。
【請求項２】
下記式（５）
【化５】
2017214369.tif 000036
［式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物に、下記式（６）
【化６】
2017214369.tif 000037
［式中、Ｒ６は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ４及びＲ５は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物を添加しながら、前記式（５）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物とを反応させることで、前記式（２）で表される化合物と、前記式（３）で表される化合物とを含む混合物（Ｍ１）を得る工程（I）を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記式（１）で表される化合物、前記式（２）で表される化合物及び前記式（３）で表される化合物は、それぞれＲ１及びＲ２が互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成している化合物である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記式（５）で表される化合物は、Ｒ１及びＲ２が互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成している化合物であり、前記式（６）で表される化合物は、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５及びＲ６がそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基である化合物である、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記工程（II）において、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、塩基を一時間あたり０．１７〜１０モルの速度で添加する、請求項１〜４のいずれかに記載の方法。
【請求項６】
前記工程（I）において、前記式（５）で表される化合物１モルに対して、前記式（６）で表される化合物を一時間あたり０．０２〜３００モルの速度で添加する、請求項２又は４に記載の方法。
【請求項７】
前記塩基は、酢酸塩、第二級アミン、第三級アミン、及びイミン類からなる群から選択される少なくとも１種である、請求項１〜６のいずれかに記載の方法。
【請求項８】
前記式（４）で表される化合物は、メルドラム酸、バルビツール酸、ジメドン、ベンゾイルアセトニトリル、マロノニトリル、シアノ酢酸エステル、マロン酸エステル、又は、それらの誘導体である、請求項１〜７のいずれかに記載の方法。
【請求項９】
前記工程（II）後に、工程（II）で得られた反応混合物を水中に加える工程を含む、請求項１〜８のいずれかに記載の方法。
【請求項１０】
下記式（５）
【化７】
2017214369.tif 000038
［式中、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ１及びＲ２は互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成していてもよく、前記炭素数１〜２０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−と置き換わっていてもよい。Ｒ３は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、前記炭素数１〜１０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−と置き換わっていてもよい。Ｚ-はアニオンを表す。］
で表される化合物に、下記式（６）
【化８】
2017214369.tif 000039
［式中、Ｒ４は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｒ５及びＲ６は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
で表される化合物を添加しながら、前記式（５）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物とを反応させることで、下記式（２）
【化９】
2017214369.tif 000040
［式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は式（５）中と、Ｒ４及びＲ５は式（６）中と同じ意味を表す。］
で表される化合物と、下記式（３）
【化１０】
2017214369.tif 000041
［式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は式（５）中と、Ｒ４及びＲ５は式（６）中と同じ意味を表す。］
で表される化合物とを含む混合物（Ｍ１）を製造する方法。
【請求項１１】
前記式（５）で表される化合物は、Ｒ１及びＲ２が互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成している化合物であり、前記式（６）で表される化合物は、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５及びＲ６がそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基である化合物である、請求項１０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポリメチン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
メロシアニン色素やピラゾロン色素等のポリメチン化合物は、一般に、モル吸光係数が大きく、かつ吸収の半値幅が小さいために光の選択吸収性に優れているものが多い。ポリメチン化合物はこれらの特性を有するため、写真印刷用増感色素、光記録媒体用材料、紫外線吸収剤等の用途に利用されており、重要な化合物として認識されている。特許文献１には、カラーフィルターに使用される紫外線吸収剤として、メロシアニン色素及びその製造方法が開示されている。また、特許文献２には油溶性色素として、ピラゾロン色素及びその製造方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１９４５０８号公報
【特許文献２】特開２００６−１６５６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、上記特許文献１に開示のポリメチン化合物（メロシアニン色素）は、電子ドナー部位となる構造がオキサゾリン環を有する化合物に限定されている。そこで、本発明者が、電子ドナー部位をオキサゾリン環に限定しないポリメチン化合物の製造方法を検討したところ、電子ドナー部位において、窒素原子の３位がメチレン構造（例えば、１−ピロリン環やピロリジン環）であるポリメチン化合物を製造する場合に、上記特許文献１及び２に記載された方法を適用すると、副生成物が高い割合で生成し、目的化合物の収率が低下することがわかった。
【０００５】
本発明の目的は、副生成物の生成を有効に抑制することにより従来技術より良好な収率で、効率的にポリメチン化合物を製造する方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者は、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、本発明を完成するに至った。すなわち、本発明には、以下の好適な態様が含まれる。
［１］下記式（１）
【化１】
2017214369.tif 000002
［式中、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ１及びＲ２は互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成していてもよく、前記炭素数１〜２０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−と置き換わっていてもよい。Ｒ３は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、前記炭素数１〜１０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−と置き換わっていてもよい。Ｒ４は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｘ１及びＸ２は互いに独立して、電子吸引性基を表し、Ｘ１とＸ２は互いに結合してそれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよい。］
で表される化合物の製造方法であって、
下記式（２）
【化２】
2017214369.tif 000003
［式中、Ｒ５は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｚ-はアニオンを表す。Ｒ１〜Ｒ４は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物、下記式（３）
【化３】
2017214369.tif 000004
［式中、Ｒ１〜Ｒ５及びＺ-は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物、及び下記式（４）
【化４】
2017214369.tif 000005
［式中、Ｘ１及びＸ２は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物を含む混合物（Ｍ２）に、塩基を添加しながら、前記式（２）で表される化合物と、前記式（４）で表される化合物とを反応させる工程（II）を含む、製造方法。
［２］下記式（５）
【化５】
2017214369.tif 000006
［式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物に、下記式（６）
【化６】
2017214369.tif 000007
［式中、Ｒ６は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｒ４及びＲ５は前記と同じ意味を表す。］
で表される化合物を添加しながら、前記式（５）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物とを反応させることで、前記式（２）で表される化合物と、前記式（３）で表される化合物とを含む混合物（Ｍ１）を得る工程（I）を含む、［１］に記載の方法。
［３］前記式（１）で表される化合物、前記式（２）で表される化合物及び前記式（３）で表される化合物は、それぞれＲ１及びＲ２が互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子とともに環を形成している化合物である、［１］に記載の方法。
［４］前記式（５）で表される化合物は、Ｒ１及びＲ２が互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成している化合物であり、前記式（６）で表される化合物は、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５及びＲ６がそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基である化合物である、［２］に記載の方法。
［５］前記工程（II）において、前記式（２）で表される化合物１モルに対して、塩基を一時間あたり０．１７〜１０モルの速度で添加する、［１］〜［４］のいずれかに記載の方法。
［６］前記工程（I）において、前記式（５）で表される化合物１モルに対して、前記式（６）で表される化合物を一時間あたり０．０２〜３００モルの速度で添加する、［２］又は［４］に記載の方法。
［７］前記塩基は、酢酸塩、第二級アミン、第三級アミン、及びイミン類からなる群から選択される少なくとも１種である、［１］〜［６］のいずれかに記載の方法。
［８］前記式（４）で表される化合物は、メルドラム酸、バルビツール酸、ジメドン、ベンゾイルアセトニトリル、マロノニトリル、シアノ酢酸エステル、マロン酸エステル、又は、それらの誘導体である、［１］〜［７］のいずれかに記載の方法。
［９］前記工程（II）後に、工程（II）で得られた反応混合物を水中に加える工程を含む、［１］〜［８］のいずれかに記載の方法。
［１０］下記式（５）
【化７】
2017214369.tif 000008
［式中、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ１及びＲ２は互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成していてもよく、前記炭素数１〜２０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−と置き換わっていてもよい。Ｒ３は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、前記炭素数１〜１０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−と置き換わっていてもよい。Ｚ-はアニオンを表す。］
で表される化合物に、下記式（６）
【化８】
2017214369.tif 000009
［式中、Ｒ４は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｒ５及びＲ６は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。］
で表される化合物を添加しながら、前記式（５）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物とを反応させることで、下記式（２）
【化９】
2017214369.tif 000010
［式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は式（５）中と、Ｒ４及びＲ５は式（６）中と同じ意味を表す。］
で表される化合物と、下記式（３）
【化１０】
2017214369.tif 000011
［式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は式（５）中と、Ｒ４及びＲ５は式（６）中と同じ意味を表す。］
で表される化合物とを含む混合物（Ｍ１）を製造する方法。
［１１］前記式（５）で表される化合物は、Ｒ１及びＲ２が互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成している化合物であり、前記式（６）で表される化合物は、Ｒ４が水素原子であり、Ｒ５及びＲ６がそれぞれ置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基である化合物である、［１０］に記載の方法。
なお、本明細書中、「Ｃ１−６アルキル基」は、炭素数１〜６のアルキル基を意味し、他の置換基についても同様の意味であり、例えば「Ｃ６−１０アリール基」は、炭素数６〜１０のアリール基を示す。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の製造方法によれば、副生成物の生成を有効に抑制することにより従来技術より良好な収率で、効率的にポリメチン化合物を得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の製造方法により得られるポリメチン化合物は、下記式（１）で表される化合物［以下、化合物（１）又はポリメチン化合物（１）と示す場合があり、他の化合物についても同様に示す場合がある。］であり、好ましい実施態様においては、以下に示すように、工程(I)、及び工程(II)により製造できる。より詳細には、工程(I)において、下記式（５）で表される化合物に、下記式（６）で表される化合物を添加しながら化合物（５）と化合物（６）とを反応させることで、下記式（２）で表される化合物と下記式（３）で表される化合物とを含む混合物（Ｍ１）を得、さらに工程(II)において、工程(I)で得られた化合物（２）及び化合物（３）、並びに下記式（４）で表される化合物を含む混合物（Ｍ２）に、塩基を添加しながら、化合物（２）と化合物（４）とを反応させることで、化合物（１）を製造することができる。以下、本発明の実施の形態について、詳細に説明する。なお、本発明の範囲はここで説明する実施の形態に限定されるものではなく、本発明の趣旨を損なわない範囲で種々の変更をすることができる。
【０００９】
【化１１】
2017214369.tif 000012
［式中、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、Ｒ１及びＲ２は互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成していてもよく、前記炭素数１〜２０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−と置き換わっていてもよい。Ｒ３は置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、前記炭素数１〜１０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−Ｓ−と置き換わっていてもよい。Ｒ４は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表す。Ｒ５及びＲ６は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を表し、Ｘ１及びＸ２は互いに独立して、電子吸引性基を表し、Ｘ１とＸ２は互いに結合してそれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、Ｚ-はアニオンを表す。］
【００１０】
＜工程(I)＞
工程(I)は、化合物（５）に化合物（６）を添加しながら、化合物（５）と化合物（６）とを反応させることで、化合物（２）及び化合物（３）を含む混合物（Ｍ１）を得る工程である。
工程(I)では、化合物（５）が窒素原子の３位にメチレン基［Ｒ１に隣接するメチレン基（−ＣＨ２−）］を有するので、該メチレン基（−ＣＨ２−）に起因する副反応が生じ、副生成物として化合物（３）が生じる。しかし、本発明の工程(I)では、化合物（５）に、化合物（６）を添加（又は滴下）しつつ反応を行うことにより、副生成物である化合物（３）の生成を有効に抑制できる。このため、ポリメチン化合物（１）の製造方法に工程(I)を含むことにより、化合物（２）の収率が従来技術より良好となり、更には目的化合物である化合物（１）を良好な収率で得ることができる。
【００１１】
化合物（５）において、Ｒ１及びＲ２は互いに独立して、水素原子、又は置換基を有していてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表す。目的化合物である化合物（１）の種々の溶媒への溶解性、及び光吸収選択性の観点から、その炭素数は２〜１５であることが好ましく、３〜１２であることがより好ましく、４〜１０であることが更に好ましい。炭素数１〜２０のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−オクタデシル基等の直鎖アルキル基；イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、イソヘキシル基、２−エチルヘキシル基等の分岐鎖状アルキル基；シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル貴等のシクロアルキル基；ノルボルニル基、アダマンチル基等の架橋環式アルキル基等が挙げられる。これらアルキル基は、上記の好ましい炭素数を満たせば特に限定されない。
【００１２】
Ｒ１及びＲ２は互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成していてもよい。つまりこの場合、Ｒ１、Ｒ２、それらが結合する炭素原子、窒素原子、並びに、当該炭素原子及び当該窒素原子が結合する炭素原子と共に環を形成する。環を形成する場合、目的化合物である化合物（１）の種々の溶媒への溶解性、及び光吸収選択性の観点から、Ｒ１とＲ２の合計の炭素数は２〜１１であることが好ましく、２〜９であることがより好ましく、２〜７であることが更に好ましい。すなわち、当該環は、５〜１４員環であることが好ましく、５〜１２員環であることがより好ましく、５〜１０員環であることが更に好ましい。
また、Ｒ１又はＲ２で表される炭素数１〜２０のアルキル基を構成する−ＣＨ２−は（炭素数１〜２０のアルキル基が−ＣＨ２−を有する場合）、−Ｏ−、−Ｓ−、又は−ＮＨ−と置き換わっていてもよい。
【００１３】
Ｒ１及びＲ２が互いに結合して形成する環の具体例としては、例えば、下記式で表される環（ａ）〜（ｈ）が例示できる。
【化１２】
2017214369.tif 000013
【００１４】
Ｒ１及びＲ２は置換基を有していてよい。置換基としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等のハロゲン原子；上記Ｒ１及びＲ２として上記に例示したアルキル基；フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等のＣ６−１２アリール基；ベンジル基、フェネチル基等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキル基などのアラルキル基；水酸基；メトキシ基、エトキシ基、エトキシエチル基等のＣ１−６アルコキシ基などのアルコキシ基；シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等のＣ４−１０シクロアルコキシ基などのシクロアルコキシ基；フェノキシ基、ナフチルオキシ基、トルイルオキシ基等のＣ６−１０アリールオキシ基などのアリールオキシ基；ベンジルオキシ基等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルオキシ基などのアラルキルオキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基等のＣ１−１０アルキルチオ基などのアルキルチオ基；シクロへキシルチオ基等のＣ５−１０シクロアルキルチオ基などのシクロアルキルチオ基；チオフェノキシ等のＣ６−１０アリールチオ基などのアリールチオ基；ベンジルチオ等のＣ６−１０アリール−Ｃ１−４アルキルチオ基などのアラルキルチオ基；アセチル基等のＣ１−６アシル基などのアシル基；アミノ基；ジメチルアミノ基等のジＣ１−４アルキル−アミノ基などのジアルキルアミノ基；ジアセチルアミノ基等のジＣ１−４アルキル−カルボニルアミノ基などのジアルキルカルボニルアミノ基；メタンスルホンアミド等のＣ１−４アルキルスルホンアミド基などのスルホンアミド基；スクシンイミド、フタルイミドなどのイミド基；ベンジリデンアミノなどのイミノ基；メタンスルホニル等のＣ１−４アルキルスルホニル基などのアルキルスルホニル基；ベンゼンスルホニル等のＣ６−１０アリールスルホニル基などのアリールスルホニル基；ピリジル、モルホリノなどのヘテロ環基等が例示できる。これらのうち、ハロゲン原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等のＣ１−６アルキル基；フェニル基等のＣ６−１２アリール基；特にメチル基、エチル基等のＣ１−４アルキル基が好ましい。
【００１５】
Ｒ１及びＲ２は、製造される化合物（１）の光の吸収選択性や化合物（１）の耐光性の観点から、互いに結合して、それらが結合する炭素原子及び窒素原子と共に環を形成しているのが好ましい。
【００１６】
Ｒ３は、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基を表し、Ｒ３において−ＣＨ２−は−Ｏ−又は−Ｓ−に置き換わっていてもよい。炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、Ｒ１及びＲ２として上記に例示した炭素数１〜１０のアルキル基などが例示できる。また、Ｒ３のアルキル基は置換基を有していてもよい。有していてもよい置換基としては、例えば、Ｒ１及びＲ２が有していても良い置換基として上記に例示したものが挙げられる。Ｒ３としてはメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル、ｎ−ブチル基、イソブチル基などが好ましい。
【００１７】
Ｚ-はアニオン（カウンターアニオン）を表し、当該アニオンは、通常、ハロゲン原子、アルキル硫酸、又はハロゲン化ホウ素の陰イオンである。ハロゲン原子としては、例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が例示でき、アルキル硫酸としては、例えばメチル硫酸、エチル硫酸等の炭素数１〜６のアルキル硫酸等が例示でき、ハロゲン化ホウ素としては、例えばトリメチルオキソニウムテトラフルオロボレート、トリエチルオキソニウムテトラフルオロボレート等のＭｅｅｒｗｅｉｎ試薬が例示できる。これらのＺのうち、ハロゲン原子（例えば、塩素、臭素、ヨウ素等）が好ましく、ヨウ素が最も好ましい。Ｚがハロゲン原子、特にヨウ素であると、式（２）で表される化合物、及び式（３）で表される化合物がアルコール系有機溶媒やニトリル系有機溶媒に不溶であるため、工程（Ｉ）における精製プロセスが容易になるため、好ましい。
【００１８】
化合物（６）において、Ｒ４は水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１０のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を示す。炭素数１〜１０のアルキル基としては、例えば、Ｒ１及びＲ２として上記に例示した炭素数１〜１０のアルキル基などが挙げられ、これらのうち、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基等の直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−６アルキル基が好ましく、特にメチル基が好ましい。また、炭素数６〜１２のアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、ビフェニル基等が挙げられ、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基が最も好ましい。これらのＲ４の中でも、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、イソプロピル基、イソブチル基等のＣ１−４アルキル基が好ましく、水素原子が最も好ましい。また、Ｒ４のアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、Ｒ１及びＲ２の置換基として上記に例示した置換基等が挙げられる。
【００１９】
Ｒ５及びＲ６は互いに独立して、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、又は置換基を有していてもよい炭素数６〜１２のアリール基を示す。炭素数１〜６のアルキル基としては、例えば、Ｒ１及びＲ２として上記に例示した炭素数１〜６のアルキル基などが挙げられる。炭素数６〜１２のアリール基としては、例えば、Ｒ４として上記に例示した炭素数６〜１２のアリール基等が挙げられる。これらのＲ５及びＲ６のうち、メチル基、エチル基等のＣ１−４アルキル基、フェニル基等のＣ６−１２アリール基が好ましい。また、Ｒ５及びＲ６のアルキル基又はアリール基は置換基を有していてもよく、置換基としては、例えば、Ｒ１及びＲ２の置換基として上記に例示した置換基等が挙げられる。
【００２０】
なお、化合物（５）及び化合物（６）は、市販品を使用してもよく、慣用の方法により製造してもよい。化合物（６）の製造方法は、『新実験化学講座１４  有機化合物の合成と反応ＩＩＩ（１９７８年、丸善出版株式会社）』に例示されているものが挙げられる。化合物（６）は、例えば、Ｒ４を有するオルトカルボン酸エチルと、Ｒ５を有する第一級アミンと、Ｒ６を有する第一級アミンとを、酸触媒の共存下で混合加熱することで得られる粗生成物を、含水エタノールで再結晶することで得ることができる。化合物（５）は、例えば、以下に示す方法（工程Ａ）、すなわち、下記式（７）で表される化合物と下記式（８）で表される化合物とを反応させて得てもよい。
【化１３】
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（式中、Ｒ１〜Ｒ３及びＺ-は前記と同じ意味を表す。）
好ましい化合物（８）としては、例えばヨウ化メチル、ヨウ化エチル、ヨウ化ｎ−プロピル、ヨウ化イソプロピル、ヨウ化ｎ−ブチル、及びこれらの化合物のヨウ素原子を塩素原子又は臭素原子で置き換えた化合物、硫酸ジメチル、硫酸ジエチル等のアルキル硫酸エステル、Ｍｅｅｒｗｅｉｎ試薬に代表されるハロゲン化ホウ素化合物等が例示できる。
【００２１】
工程（Ａ）で使用する化合物（８）の割合は、化合物（７）１モルに対して、例えば０．５〜５モル、好ましくは１〜３モル、さらに好ましくは１．２〜２モルである。化合物（８）が上記割合であると、予期せぬ副反応なく良好な収率で化合物（５）を得られるため、好ましい。
【００２２】
工程（Ａ）における反応は、反応に不活性な溶媒（Ｙ１）中で行ってもよい。溶媒（Ｙ１）としては、反応に影響を与えない限り特に限定されないが、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等のエーテル類；アセトン、２−ブタノン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−エチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシド等の非プロトン性極性溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル等のエステル類；アセトニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル系溶媒；ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン等の炭化水素溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン等の芳香族炭化水素溶媒；塩化メチレン、クロロホルム、四塩化炭素、１，２−ジクロロエタン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素溶媒などが例示できる。これらの溶媒のうち、化合物（７）、及び化合物（５）の溶解性の観点から、アルコール類、エーテル類、ニトリル類が好ましい。溶媒（Ｙ１）の使用量は、化合物（７）１質量部に対して、好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２０質量部、更に好ましくは３〜１２質量部である。溶媒（Ｙ１）の使用量が上記範囲であると、化合物（７）、及び化合物（５）を十分に溶解し、かつ副反応を有効に抑制できるため、好ましい。
【００２３】
工程（Ａ）の反応温度は、例えば、１５〜５０℃、好ましくは２０〜３０℃であってよく、反応時間は、例えば、１分〜７２時間、好ましくは３０分〜１０時間、さらに好ましくは２時間〜６時間であってよい。反応は、空気中又は不活性ガス雰囲気［例えば窒素、希ガス（アルゴン等）］中、攪拌しながら行うことができ、常圧下、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。
【００２４】
工程（Ａ）の好ましい態様は、化合物（７）を前記溶媒（Ｙ１）に溶解させた溶液に対して、化合物（８）を添加（又は滴下）して反応させる。この際、化合物（８）が常温、常圧環境で液体であれば、そのまま添加（又は滴下）してもよいし、溶媒（Ｙ１）によって希釈して添加（又は滴下）してもよい。また、化合物（８）が常温、常圧環境で固体であれば、固体のまま添加してもよいし、溶媒（Ｙ１）に溶解させて添加（又は滴下）してもよい。
【００２５】
生成した化合物（５）は、慣用の方法、例えば、濾過、濃縮、抽出、晶析、再結晶、カラムクロマトグラフィーなどの分離手段や、これらを組み合わせた分離手段により分離精製してもよいし、未精製の状態で続く工程(I)に供してもよい。
【００２６】
［化合物（５）と化合物（６）との反応］
工程(I)は化合物（５）に化合物（６）を添加しながら、両化合物を反応させることを特徴とする。
工程(I)において、化合物（５）に添加する（又は滴下する）化合物（６）の割合は、化合物（５）１モルに対して、例えば、０．５〜５モルであって、好ましくは０．６〜３モル、より好ましくは０．７〜２モル、さらに好ましくは０．８〜１．５モル、とりわけ０．９〜１．１モルであることが好ましい。化合物（６）の割合が上記範囲であると、未反応で残存する化合物（５）の量を少なく抑えることができ、良好な転化率で反応を進行させることができ、かつ、副生する化合物（３）の量を効果的に抑制することができるため、好ましい。
【００２７】
工程(I)において、化合物（５）に添加（又は滴下）する化合物（６）の速度（モル速度）は、化合物（５）１モルに対して１時間あたり０．０２〜３００モルであり、好ましくは０．０５〜６モル、より好ましくは０．０７〜２モル、さらに好ましくは０．１〜１モル、とりわけ０．１５〜０．５５モルであることが好ましい。この範囲の速度で添加（又は滴下）すると、化合物（３）の生成をさらに有効に抑制できるため好ましい。
【００２８】
好ましい実施態様においては、化合物（５）と溶媒（Ｙ２）とを含む混合物（Ｍ３）に対して、化合物（６）と溶媒（Ｙ３）とを含む混合物（Ｍ４）を添加する。
【００２９】
前記混合物（Ｍ３）は、化合物（５）と溶媒（Ｙ２）とを混合（又は混合撹拌）することにより得ることができ、前記混合物（Ｍ４）は、化合物（６）と溶媒（Ｙ３）とを混合（又は混合撹拌）することにより得ることができる。
【００３０】
前記溶媒（Ｙ２）及び前記溶媒（Ｙ３）としては、例えば、溶媒（Ｙ１）として上記に例示した溶媒等が例示できる。これらの溶媒のうち、アルコール類、ニトリル類、炭化水素類（特に芳香族炭化水素類）が好ましく、化合物（５）、及び化合物（６）の溶解性、及び反応による化合物（３）の生成比率を有効に抑制できる観点から、アルコール類、ニトリル類が好ましく、アルコール類が特に好ましい。これらの溶媒は単独で用いてもよく、二種類以上を組み合わせて使用してもよい。なお、溶媒（Ｙ２）と溶媒（Ｙ３）は同一であってもよく、又は異なっていてもよい。通常、溶媒（Ｙ２）と溶媒（Ｙ３）は同一である。
【００３１】
混合物（Ｍ３）において、溶媒（Ｙ２）の使用量は、化合物（５）１質量部に対して、例えば０．５〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部、より好ましくは２〜１０質量部、特に好ましくは２．５〜５質量部である。溶媒（Ｙ２）の使用量が上記範囲であると、化合物（５）の溶解性を維持しながら化合物（６）と反応できるため、好ましい。
【００３２】
混合物（Ｍ４）において、溶媒（Ｙ３）の使用量は、化合物（６）１質量部に対して、例えば１〜３０質量部、好ましくは２〜２０質量部、より好ましくは３〜１５質量部、特に好ましくは４〜１０質量部である。溶媒（Ｙ３）の使用量が上記範囲であると、反応によって生成する化合物（３）の生成比率をより有効に抑制できるため、好ましい。
【００３３】
化合物（５）と溶媒（Ｙ２）、又は化合物（６）と溶媒（Ｙ３）の混合温度は、溶媒に化合物を溶解可能な温度、もしくは化合物（５）、又は化合物（６）が均一に分散される状態であれば特に限定されないが、好ましくは４０〜１３０℃、より好ましくは５０〜１００℃、さらに好ましくは６０〜９０℃である。また、混合時間は、溶媒に化合物を溶解可能な時間、もしくは化合物（５）、又は化合物（６）が均一に分散される時間であれば特に限定されない。当該混合は通常、撹拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性ガス雰囲気［例えば窒素、希ガス（アルゴン等）］下で行ってもよく、常圧、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下にて、撹拌しながら行う。
【００３４】
化合物（５）に化合物（６）［好ましい態様では混合物（Ｍ３）に混合物（Ｍ４）］を添加する際の添加温度は、例えば、２０〜１３０℃、好ましくは４０〜１００℃、より好ましくは６０〜９０℃である。また、添加する時間は、例えば、１分〜２４時間、好ましくは３０分〜１２時間、より好ましくは１時間〜１０時間、さらに好ましくは１．５時間〜８時間、とりわけ２時間〜６時間であってよい。この範囲の添加温度又は添加時間であると、化合物（３）の生成をさらに有効に抑制できる。また、当該添加は化合物（５）を撹拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性ガス雰囲気［例えば窒素、希ガス（アルゴン等）］下で行ってもよく、常圧、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下にて、化合物（５）を撹拌しながら化合物（６）を添加する。
【００３５】
化合物（５）に化合物（６）を添加後、得られた混合物をを直ぐに後述する精製工程に供してもよいが、該混合物を所定温度で、所定時間撹拌混合することが好ましい。撹拌混合する温度としては、例えば、２０〜１３０℃の範囲であり、好ましくは４０〜１００℃、より好ましくは６０〜９０℃である。また、撹拌混合する時間としては、例えば、１分〜２４時間の範囲であり、好ましくは３０分〜１８時間、より好ましくは１〜１２時間、特に好ましくは２〜６時間である。撹拌混合する温度、及び時間が上記範囲内であると、化合物（５）及び化合物（６）が残存することなく反応できるため、好ましい。
【００３６】
工程（I）で得られた化合物（２）及び化合物（３）（混合物（Ｍ１））は、慣用の方法、特に晶析により分離精製することができる。好ましい実施態様においては、工程（I）で得られた反応混合物（又は反応溶液）を、例えば、−２０〜４０℃、好ましくは−１０〜２０℃、更に好ましくは−５〜１０℃に冷却し、晶析により混合物（Ｍ１）の結晶を得る。この方法では、簡便かつ容易に混合物（Ｍ１）の結晶を得ることができるため、好ましい。
【００３７】
［工程（I）で得られる混合物（Ｍ１）］
工程（I）により、化合物（２）及び化合物（３）を含む混合物（Ｍ１）を得ることができる。本発明では、上述したように、化合物（５）に、所定の流量（モル流量）で化合物（６）を添加（又は滴下）しながら反応させるため、滴下せずに両者を一度に混合して反応させる場合或いは化合物（６）に、化合物（５）を添加（又は滴下）しながら反応させる場合と比較し、副生成物である化合物（３）の生成割合を低減することができる。このため、混合物（Ｍ１）に含有される化合物（２）と化合物（３）との割合［化合物（２）：化合物（３）］は、通常６０：４０〜９９：１の範囲で得られる。なお、化合物（２）と化合物（３）の割合は、慣用の方法（例えば、高速液体クロマトグラフィー等）により測定できる。また、工程（I）の方法では、化合物（２）及び化合物（３）との総量に係る収率（％）は、通常７０〜９９％の範囲で得られる。なお、化合物（２）及び化合物（３）との総量に係る収率（％）は、工程（Ｉ）に供した化合物（５）のモル量が工程（Ｉ）に供した化合物（６）のモル量以上である場合には、次式：［化合物（２）と化合物（３）との総モル量／化合物（６）のモル量］×１００を用いて算出でき、工程（Ｉ）に供した化合物（５）のモル量が化合物（６）のモル量未満である場合には、次式：［化合物（２）と化合物（３）との総モル量／化合物（５）のモル量］×１００を用いて算出できる。
【００３８】
化合物（２）及び化合物（３）を含む混合物（Ｍ１）の具体例としては、以下の表１に示す混合物等が例示できる。なお、表１の各行に記載の混合物は、各行に示されるＲ１〜Ｒ５を有する化合物（２）及び化合物（３）を含む混合物（Ｍ１）を意味する。また、表１において、Meはメチル基、Etはエチル基、i-Prはイソプロピル基、t-Buはｔｅｒｔ−ブチル基、Hは水素原子、Phはフェニル基を示し、Ｒ１及びＲ２の環構造は、Ｒ１及びＲ２が互いに形成する環を示す。
【表１】
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【００３９】
＜工程（II）＞
工程（II）は、工程（I）で得られた前記化合物（２）及び前記化合物（３）、並びに前記式（４）で表される化合物を含む混合物（Ｍ２）に塩基を添加しながら、化合物（２）と化合物（４）とを反応させることで化合物（１）を得る工程である。工程（II）の方法では、化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応できるため、工程（I）の副生成物である化合物（３）と、化合物（４）との反応（副反応）により生じる副生成物の生成を有効に抑制できる。このため、目的化合物であるポリメチン化合物（１）を良好な収率で得ることができる。さらには、かかる製造方法によれば、簡便な精製操作を経ることによって高純度のポリメチン化合物（１）を得ることができる。
【００４０】
化合物（４）において、Ｘ１及びＸ２は互いに独立して、電子吸引性基を示す。電子吸引性基としては、例えば、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；シアノ基；カルボキシル基；カルバモイル基；メチルアミド基、エチルアミド等のＣ１−１０アルキルアミド基などのアルキルアミド基；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、イソプロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基、ｓｅｃ−ブトキシカルボニル基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニル基、イソペントキシカルボニル基、ヘキトキシカルボニル基、２−メチル−ヘトキシカルボニル基、２−エチルブトキシカルボニル基、２−エチルヘトキシカルボニル基、ヘプトキシカルボニル基、オクトキシカルボニル基、２−ブチルオクトキシカルボニル基等の直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−２０アルコキシ−カルボニル基、好ましくは直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１０アルコキシ−カルボニル基などのアルコキシカルボニル基；２−エトキシエトキシカルボニル基、２−メトキシエトキシカルボニル基、１−エトキシメトキシカルボニル基、２−プロポキシエトキシカルボニル基等のＣ１−６アルコキシＣ１−６アルコキシ−カルボニル基などのポリ（アルコキシ）カルボニル基；フェノキシ基等のＣ６−１０アリールオキシ基などのアリールオキシ基；メチルカルボニル基、エチルカルボニル基等の直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１０アルキル−カルボニル基などのアルキルカルボニル基；フェニルカルボニル基等のＣ６−１０アリール−カルボニル基などのアリールカルボニル基；メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等の直鎖状又は分岐鎖状Ｃ１−１０アルキルスルホニル基などのアルキルスルホニル基；フェニルスルホニル基等のＣ６−１０アリール−スルホニル基などのアリールスルホニル基等が例示できる。これらのうち、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ポリ（アルコキシ）カルボニル基、アルキルカルボニル基、カルバモイル基などが好ましい。
【００４１】
また、Ｘ１とＸ２は互いに結合してそれらが結合する炭素原子と共に環を形成していてもよく、この環は、例えば、５〜１０員環であり、好ましくは５〜８員環、さらに好ましくは５員環又は６員環である。
【００４２】
化合物（４）の具体例としては、例えば、メルドラム酸；バルビツール酸；１，３−ジメチルバルビツール酸、１，３−ジエチルバルビツール酸等の１，３−ジアルキルバルビツール酸；１，３−ジフェニルバルビツール酸等の１，３−ジアリールバルビツール酸；ジメドン；ベンゾイルアセトニトリル；マロノニトリル；シアノ酢酸メチル、シアノ酢酸エチル、シアノ酢酸ｎ−プロピル、シアノ酢酸イソプロピル、シアノ酢酸ｎ−ブチル、シアノ酢酸ｓｅｃ−ブチル、シアノ酢酸ｔｅｒｔ−ブチル、シアノ酢酸イソペンチル、シアノ酢酸ヘキシル、シアノ酢酸２−メチルヘキシル、シアノ酢酸２−エチルブチル、シアノ酢酸２−エチルヘキシル、シアノ酢酸２−ブチルオクチル等のシアノ酢酸Ｃ１−２０アルキル、好ましくはシアノ酢酸Ｃ１−１０アルキル、シアノ酢酸２−エトキシエチル、シアノ酢酸２−メトキシエチル、シアノ酢酸１−エトキシメチル、シアノ酢酸２−プロポキシエチル等のシアノ酢酸Ｃ１−６アルコキシＣ１−６アルキルなどのシアノ酢酸エステル；マロン酸ジメチル、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジＣ１−１０アルキルなどのマロン酸エステル又はそれらの誘導体などが挙げられる。
【００４３】
前記混合物（Ｍ２）に添加する塩基としては、例えば酢酸塩、第二級アミン、第三級アミン、及びイミン類からなる群から選択される少なくとも１種が例示できる。
【００４４】
酢酸塩としては、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、酢酸カルシウム等の酢酸アルカリ金属塩又はアルカリ土類金属塩、酢酸アンモニウムなどが例示できる。これらの酢酸塩は単独で使用してもよいし二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４５】
第二級アミンとしては、例えば、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジｎ−プロピルアミン、ジイソプロピルアミン等の脂肪族第二級アミン；ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、ピペラジン等の脂環式第二級アミン；Ｎ−メチルアニリン、ジベンジルアミン等の芳香族第二級アミンなどが例示できる。第三級アミンとしては、例えば、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリｎ−プロピルアミン、トリイソプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルプロパンジアミン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等の脂肪族第三級アミン；ジシクロヘキシルエチルアミン、ジエチルシクロヘキシルアミン、１−メチルピペリジン、１−エチルピペリジン、１−メチルピロリジン、１−エチルピロリジン等の脂環式第三級アミン；Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアニリン、トリベンジルアミン等の芳香族第三級アミンなどが例示できる。これらのアミン類は単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００４６】
イミン類としては、例えば、１−プロパンイミン、イソプロパンイミン、１−ブタンイミン、Ｎ−ベンジリデンメチルアミン、１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンなどが例示できる。これのイミン類は単独で用いてもよいし、二種以上を組み合わせて使用してもよい。また、上述の酢酸塩、第二級アミン、第三級アミンと併用して使用してもよい。
【００４７】
これらの塩基のうち、酢酸塩、第二級アミン、第三級アミンから選ばれる少なくとも一つが好ましく、酢酸塩、第三級アミンがさらに好ましく、特に第三級アミンが好ましい。第三級アミンの中でも、脂肪族第三級アミンが特に好ましい。工程（ＩＩ）において化合物（２）と化合物（４）のみを選択的に反応できる観点から、好ましい。
【００４８】
混合物（Ｍ２）に添加する塩基の使用量は、化合物（２）１モルに対して、例えば、０．５〜５モルであり、好ましくは０．８〜３モル、さらに好ましくは１〜２モル、特に好ましくは１．１〜１．５モルである。塩基の使用量が上記範囲内であると、意図しない副反応を抑制しながら化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応でき、良好な収率で化合物（１）を得ることができるため、好ましい。さらには、簡便な精製操作を経ることによって高純度のポリメチン化合物（１）を得ることができるため、好ましい。
【００４９】
工程(II)において、混合物（Ｍ２）に添加（又は滴下）する塩基の速度（モル速度）は、化合物（２）１モルに対して一時間あたり、例えば、０．１７〜１０モルであり、好ましくは０．２〜７．５モル、より好ましくは０．２５〜６．７モル、さらに好ましくは０．５〜５モルである。これらの範囲の速度で塩基を添加（又は滴下）すると、化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応させ、化合物（３）と化合物（４）との反応（副反応）により生じる副生成物の生成を有効に抑制できるため、好ましい。
【００５０】
工程(II)において、混合物（Ｍ２）に添加（又は滴下）する塩基の添加時間は、例えば１０分〜６時間の範囲であり、好ましくは４０分〜５時間、より好ましくは４５分〜４時間、さらに好ましくは１〜２時間の範囲である。塩基の添加時間が上記範囲内であると、前述の好ましい塩基の添加流量を得られるため、好ましい。
【００５１】
［化合物（２）と化合物（４）との反応］
工程(II)は、化合物（２）、化合物（３）、及び化合物（４）を含む混合物（Ｍ２）に塩基を添加しながら、化合物（２）と化合物（４）とを反応させることを特徴とする。このような方法であると、化合物（３）と化合物（４）との反応を抑制しながら化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応させることができる。このため、良好な収率で化合物（１）を得ることができる。さらには、簡便な精製操作を経ることによって高純度のポリメチン化合物（１）を得ることができる。
【００５２】
工程(II)において、化合物（４）の使用量は、化合物（２）１モルに対して、例えば、０．５〜５モルであり、好ましくは０．８〜３モル、さらに好ましくは１〜２モル、特に好ましくは１．１〜１．５モルでる。化合物（４）の使用量が上記範囲であると、化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応できるため、好ましい。
【００５３】
工程(II)における好ましい態様において、混合物（Ｍ２）はカルボン酸無水物（以下、酸無水物と記す。）を含む。混合物（Ｍ２）に酸無水物を含有させると、工程(II)の反応を温和な条件で行うことができる。
【００５４】
工程(II)で使用する酸無水物としては、例えば、無水酢酸、無水プロピオン酸、ｎ−酪酸無水物、イソ酪酸無水物、無水コハク酸、無水マレイン酸、無水フタル酸等が挙げられる。使用する酸無水物と化合物（２）との反応性の観点から、脂肪族カルボン酸の酸無水物が好ましく、中でも無水酢酸が特に好ましい。
【００５５】
工程(II)における酸無水物の使用量は、化合物（２）１モルに対して、例えば、０．５〜５モルであり、好ましくは０．８〜３モル、さらに好ましくは１〜２モル、特に好ましくは１．１〜１．８モルである。酸無水物の使用量が上記範囲内であると、目的とする化合物（２）と化合物（４）との反応を阻害することなく化合物（１）を高収率で得られるため、好ましい。
【００５６】
工程(II)の好ましい実施態様においては、化合物（２）、化合物（３）、化合物（４）、必要に応じて酸無水物、及び溶媒（Ｙ４）を含む混合物（Ｍ２）に対して、塩基を添加する。
【００５７】
溶媒（Ｙ４）を含む混合物（Ｍ２）は、化合物（２）、化合物（３）、化合物（４）、必要に応じて酸無水物と溶媒（Ｙ４）とを混合（又は撹拌混合）することにより得ることができる。
【００５８】
溶媒（Ｙ４）としては、例えば、溶媒（Ｙ１）として上記に例示した溶媒が例示でき、その中でもアルコール類、ニトリル類が好ましく、特に、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、アセトニトリルから選ばれる少なくとも一つが好ましい。溶媒（Ｙ４）がこれらから選ばれる少なくとも一つであると、後述する精製工程において溶媒（Ｙ４）が水と任意の割合で混和し、反応で得られた化合物（１）と反応せずに残存した化合物（３）とを容易に分離できるため、好ましい。溶媒（Ｙ４）として、これらの溶媒を単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【００５９】
混合物（Ｍ２）において、溶媒（Ｙ４）の使用量は、化合物（２）及び化合物（３）の混合物１質量部に対して、例えば０．５〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部、より好ましくは２〜１０質量部、さらに好ましくは３〜５質量部である。溶媒（Ｙ４）の使用量が上記範囲内であると、化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応でき、かつ後述する精製工程において高収率で化合物（１）の結晶を得られるため、好ましい。
【００６０】
混合物（Ｍ２）の各成分の混合温度は、溶媒に化合物を溶解可能な温度であれば特に限定されないが、好ましくは０〜６５℃、より好ましくは１０〜５０℃、さらに好ましくは２０〜３０℃である。また、混合時間は、特に限定されないが、好ましくは１分〜２時間、さらに好ましくは１０分〜１時間である。当該混合は通常、撹拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性ガス雰囲気［例えば窒素、希ガス（アルゴン等）］下で行ってもよく、常圧、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、撹拌しながら行う。
【００６１】
混合物（Ｍ２）に塩基を添加する際の添加温度は、例えば、０〜１００℃であり、好ましくは５〜８０℃、より好ましくは１０〜７０℃、さらに好ましくは１５〜６０℃である。添加温度が上記範囲内であると、化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応させ、化合物（３）と化合物（４）との反応（副反応）により生じる副生成物の生成を有効に抑制できるため、好ましい。
【００６２】
また、塩基の添加は混合物（Ｍ２）を撹拌しながら行ってもよく、空気中又は不活性ガス雰囲気［例えば窒素、希ガス（アルゴン等）］下で行ってもよく、常圧、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、混合物（Ｍ２）を撹拌しながら塩基を添加する。
【００６３】
混合物（Ｍ２）に塩基を添加後、混合物（Ｍ２）を直ぐに後述する精製工程に供してもよいが、混合物（Ｍ２）を所定温度で所定時間撹拌混合することが好ましい。撹拌混合する温度としては、通常、０〜１００℃の範囲であり、好ましくは５〜８０℃、さらに好ましくは１０〜６０℃である。撹拌混合する時間としては、通常、１分〜２４時間の範囲であり、好ましくは３０分〜１８時間、さらに好ましくは１〜８時間である。撹拌混合する温度、及び時間が上記範囲内であると、化合物（２）を残存することなく消費でき、かつ化合物（３）と化合物（４）との反応（副反応）を有効に抑制できる結果、化合物（１）が良好な収率で得られるため、好ましい。さらには、簡便な精製操作を経ることによって高純度のポリメチン化合物（１）を得ることができるため、好ましい。
＜化合物（１）の精製方法＞
【００６４】
以下、工程(II)で得られた化合物（１）の精製方法について説明する。工程（II）の後に、工程（II）で得られた反応混合物（又は反応溶液）を水中に加える（又は添加する）工程（以下、晶析工程という場合がある）を行い、化合物（１）を晶析させると同時に、工程(II)において未反応で残存した化合物（３）を溶媒中に溶解させて分離することができる。
【００６５】
晶析工程における水の温度は、通常０〜４０℃の範囲であり、好ましくは０〜１０℃、さらに好ましくは０〜５℃である。また、工程(II)で得られた反応混合物（又は反応溶液）は、晶析工程に供する前に上記の好ましい水の温度範囲と同様の温度に調製しておき、晶析工程を実施している間も内温を上記の好ましい温度範囲に維持することが好ましい。晶析工程における内温が上記範囲内であると、化合物（１）を良好な性状（例えば、粉状、もしくは粒状の形状）で得られ、かつ、化合物（３）の溶媒への溶解性を維持できるため、好ましい。
【００６６】
晶析工程における水の使用量は、工程(II)で使用した溶媒（Ｙ４）１質量部に対して、通常、０．５〜３０質量部であり、好ましくは１〜２０質量部、より好ましくは２〜１０質量部、さらに好ましくは３〜７質量部である。水の使用量が上記範囲内であると、化合物（１）の溶媒への溶解を抑制でき、かつ化合物（３）の溶媒への溶解性を維持できるため、このような簡便な精製操作によって、良好な収率で、高純度の化合物（１）の結晶が得られるため、好ましい。
【００６７】
晶析工程は、水を撹拌した状態で工程(II)で得られた反応混合物（又は反応溶液）を水中へ添加（又は滴下）するのが好ましい。また、晶析工程は、空気中又は不活性ガス雰囲気［例えば窒素、希ガス（アルゴン等）］下で行ってもよく、常圧、加圧下又は減圧下で行ってもよい。好ましい態様では、常圧及び／又は不活性ガス雰囲気下、水を撹拌しながら工程(II)で得られた反応混合物（又は反応溶液）を添加する。
【００６８】
晶析工程で得られた化合物（１）の結晶は、溶媒を用いて分散洗浄する工程（分散洗浄工程という場合がある）を行うことにより、純度を更に向上させることができる。特に、工程(II)において酸無水物を使用した場合、反応により下記式（９）で表される化合物を副生するため、分散洗浄を実施することが好ましい。
【化１４】
2017214369.tif 000016
（式（９）中、Ｒ５は式（６）中と同様であり、Ｒ７は工程(II)で使用した酸無水物に起因するアルキル基を表す。例えば、工程(II)で無水酢酸を使用した場合、Ｒ７はメチル基を表し、無水プロピオン酸を使用した場合、Ｒ７はｎ−プロピル基を表す。）
【００６９】
分散洗浄は、複数回（例えば、２〜１０回）行ってもよく、異なる溶媒を用いて複数回行ってもよいし、複数の溶媒を組み合わせて複数回行ってもよい。分散洗浄に使用する溶媒としては、例えば、溶媒（Ｙ１）として上記に例示した溶媒の中から適宜選択できるが、水、炭化水素類（例えばヘキサン、ヘプタン、オクタン等の脂肪族炭化水素類など）、水とニトリル類（例えばアセトニトリル等）との混合溶媒が好ましい。特に好ましい態様においては、水とアセトニトリルとの混合溶媒により、複数回分散洗浄した後、脂肪族炭化水素類（好ましくはヘキサン、ヘプタン等）で複数回分散洗浄を行う。水とアセトニトリルの混合溶媒において、アセトニトリルの割合は、水１００質量部に対して、好ましくは１〜１００質量部、より好ましくは５〜５０質量部、さらに好ましくは１０〜３０質量部である。このように、本発明では、水中添加工程及び／又は分散洗浄工程により、工程（II）で得られた化合物（１）を容易かつ簡便な分離精製方法によって、高純度の化合物（１）を良好な性状で、かつ高収率で得ることができる。
【００７０】
［工程（II）で得られる化合物（１）］
本発明によれば、工程(II)において化合物（２）と化合物（４）とを選択的に反応させることにより、化合物（３）と化合物（４）との反応（副反応）による副生成物の発生を有効に抑制する。また、続く晶析工程、場合によっては更に分散洗浄工程を実施することにより、高純度の化合物（１）を得ることができる。得られる化合物（１）の純度は、通常、８０〜９９．９％の範囲である。
なお、化合物（１）の純度（％）は、次式：［ポリメチン化合物（１）の質量／ポリメチン化合物（１）と他の成分との総質量］×１００を用いて算出できる。他の成分は、目的化合物であるポリメチン化合物（１）に混入した成分、例えば、副生成物などを示す。また、工程（II）では、化合物（３）と化合物（４）との反応により生じる副生成物の生成を有効に抑制できるため、目的化合物である化合物（１）が高い収率（例えば、７０〜９９％）で得られる。なお、化合物（１）の収率（％）は、化合物（２）のモル量が化合物（４）のモル量以上である場合には、次式：［化合物（１）のモル量／化合物（４）のモル量］×１００を用いて算出でき、化合物（２）のモル量が化合物（４）のモル量未満である場合には、次式：［化合物（１）のモル量／化合物（２）のモル量］×１００を用いて算出できる。
【００７１】
本発明の製造方法により得られるポリメチン化合物（１）は、副生成物の含有量が少ない、好ましくは副生成物を含有しないため、光の吸収選択能（例えば、紫外線の吸収選択能）に優れている。ポリメチン化合物（１）の光の極大吸収波長は、通常、３００〜４５０ｎｍの範囲であり、好ましくは３５０〜４３０ｎｍ、より好ましくは３８０〜４００ｎｍの範囲である。当該ポリメチン化合物（１）は、写真印刷用増感色素、光記録媒体用材料、紫外線吸収剤等として有用である。
【００７２】
化合物（１）のＲ１及びＲ２が互いに形成する環の具体例としては、例えば、下記式で表される環（ｉ）〜（ｐ）等が例示できる。
【化１５】
2017214369.tif 000017
【００７３】
化合物（１）の具体例としては、例えば、以下の表２及び表３に示す化合物等が例示できる。なお、表２及び表３の各行に記載された化合物は、各行に示されるＲ１〜Ｒ４、Ｘ１及びＸ２を有する化合物（１）を意味する。また、表２及び表３において、Meはメチル基、Etはエチル基、i-Prはイソプロピル基、t-Buはｔｅｒｔ−ブチル基、Hは水素原子、Phはフェニル基、CNはシアノ基、CO2Meはメトキシカルボニル基、CO2Etはエトキシカルボニル基、CO2Ht(2-Et)は２−エチルヘトキシカルボニル基、CO2Et(2-OEt)は２−エトキシエトキシカルボニル基、COPhはフェニルカルボニル基を示し、Ｒ１及びＲ２の環構造は、Ｒ１及びＲ２が互いに形成する環を示し、Ｘ１及びＸ２の環構造はＸ１及びＸ２が互いに形成する環を示し、環（I）は２，２-ジメチル−１，３−ジオキサン−４，６−ジオン、環（II）はピリミジン-２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、環（III）は５，５−ジメチル−１，３−シクロヘキサンジオンを示す。
【００７４】
【表２】
2017214369.tif 000018
【００７５】
【表３】
2017214369.tif 000019
【００７６】
本発明の製造方法は、少なくとも工程（II）を含む方法であればよい。工程（II）を含むと、上述したように副生成物の生成を有効に抑制でき、良好な収率でポリメチン化合物を効率良く得ることができる。また、上述した本発明の好ましい製造方法、すなわち、工程（II）に加えて工程（I）を含む方法は、両工程において上記副生成物の生成を抑制できるため、より良好な収率でポリメチン化合物（１）を得ることができる。特に好ましい実施態様、すなわち、工程（II）に加えて工程（I）及び水中添加工程（好ましくは水中添加工程及び分散洗浄工程）を含む方法を用いると、高純度の化合物（１）を効率的に製造することも可能となる。この方法の場合、化合物（１）を、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上、とりわけ９９％以上の純度で得ることができる。このため、吸収選択性に優れたポリメチン化合物を効率的に得ることが可能である。なお、本発明の製造方法は、工程（Ａ）、工程（I）及び工程（II）を含む方法であってもよい。
【００７７】
本発明の別の実施態様においては、前記式（５）で表される化合物に、前記式（６）で表される化合物を添加しながら、前記式（５）で表される化合物と前記式（６）で表される化合物とを反応させて、前記式（２）で表される化合物及び前記式（３）で表される化合物を含む混合物（Ｍ１）を製造する方法も提供される。
【００７８】
この方法では、化合物（５）に、化合物（６）を添加（又は滴下）しつつ反応を行うことにより、化合物（３）の生成を有効に抑制でき、化合物（２）の含有率が高い混合物（Ｍ２）を効率的に得ることができる。このため、例えば、化合物（２）を原料とする前記ポリメチン化合物（１）を製造する場合に、このような方法で製造された混合物（Ｍ１）を原料として用いることにより、良好な収率で効率的に化合物（１）を得ることができる。
【実施例】
【００７９】
以下、実施例及び比較例を示して本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されるものではない。なお、特記がない限り、例中の「％」及び「部」は、質量％及び質量部を示す。
【００８０】
高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）の分析条件を以下に示す。
＜ＨＰＬＣ分析条件１＞
測定装置：ＬＣ−１０ＡＴ［（株）島津製作所製］
カラム：Ｋｉｎｅｔｅｘ（登録商標）  ＯＤＳ（５μｍ、４.６ｍｍφ×１０ｃｍ）
カラム温度：４０℃
移動相：
Ａ：０．１％トリフルオロ酢酸水溶液
Ｂ：０．１％トリフルオロ酢酸アセトニトリル溶液
グラジエント：
０分  Ｂ＝２％
２５分  Ｂ＝３０％
３０分  Ｂ＝３０％
３０.１分  Ｂ＝２％
４０分  ＳＴＯＰ（ＴＯＴＡＬ分析時間４０分）
流量：１．０ｍＬ／分
検出：紫外吸収（波長：２５４ｎｍ）
【００８１】
＜ＨＰＬＣ分析条件２＞
測定装置：ＬＣ−１０ＡＴ［（株）島津製作所製］
カラム：Ｋｉｎｅｔｅｘ（登録商標）  ＯＤＳ（５μｍ、４.６ｍｍφ×１０ｃｍ）
カラム温度：４０℃
移動相：
Ａ：０．１％トリフルオロ酢酸水溶液
Ｂ：０．１％トリフルオロ酢酸アセトニトリル溶液
グラジエント：０分  Ｂ＝２％
３０分  Ｂ＝１００％
３５分  Ｂ＝１００％
３５.１分  Ｂ＝２％
４５分  ＳＴＯＰ（ＴＯＴＡＬ分析時間４５分）
流量：１．０ｍＬ／分
検出：紫外吸収（波長：２５４ｎｍ）
【００８２】
（合成例１）
【化１６】
2017214369.tif 000020
【００８３】
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した３００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、２−メチル−１−ピロリン（シグマ・アルドリッチジャパン（株）製）２０ｇ、アセトニトリル２００ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温２５℃にて保温した。ヨウ化メチル（和光純薬工業（株）製）５１．２ｇを滴下漏斗からで２時間かけて滴下し、滴下終了後、さらに２時間保温した。次いで、減圧エバポレーターを用いて減圧濃縮し、アセトニトリルを除去した後、析出した薄茶色結晶を温度３５℃の減圧乾燥器に投入し、化合物（Ａ−１）の乾燥粗結晶を５３．６ｇ得た。見かけ収率は９９％であった。
【００８４】
１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（５−１）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ）］：２．３６（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、２．６３（ｓ、３Ｈ）、３．４０−３．４８（ｍ、２Ｈ）、３．５７（ｓ、３Ｈ）、４．３０−４．３６（ｍ、２Ｈ）。
【００８５】
（実施例１）
＜工程（I）＞
【化１７】
2017214369.tif 000021
【００８６】
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した３００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、化合物（５−１）の粗結晶５０ｇ及び１−ブタノール（和光純薬工業（株）製）１５０ｇを仕込んで攪拌を開始し、混合物（Ｍ３−１）を調製後、オイルバスを用いて内温を８０℃にした。
【００８７】
別途準備した、攪拌機、ジムロート冷却管及び温度計を設置した３００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジン（東京化成工業（株）製）４３．２ｇ及び１−ブタノール２１６ｇを仕込んで攪拌を開始し、混合物（Ｍ４−１）を調製後、オイルバスを用いて内温を８０℃にした。次いで、混合物（Ｍ３−１）中へ混合物（Ｍ４−１）を、化合物（５−１）１モルに対して、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジンを滴下して添加する速度が一時間あたり０．２５モルとなるように、４時間かけて滴下し、さらに内温８０℃にて４時間保温した。
【００８８】
ＨＰＬＣ分析により、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジンの消費を確認した後、冷却して内温を１０℃にし、析出した湿結晶を濾取した。該湿結晶を２−プロパノールで洗浄した後、４０℃の減圧乾燥器に投入し、化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶６２．８ｇを得た。
【００８９】
乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件１）を行った結果、化合物（２−１）と化合物（３−１）との検出ピーク面積比は８１：１９だった。
また、１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（２−１）と化合物（３−１）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＤＭＦ−ｄ６、δ（ｐｐｍ）］：１．７０−１．８１（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、２．３１（ｓ、０．６Ｈ）、２．５０−２．６２（ｍ、０．４Ｈ）、２．８９（ｓ、３Ｈ）、３．００−３．０８（ｍ、５Ｈ）、３．５４−３．６０（ｍ、２Ｈ）、３．６９−３．７５（ｍ、０．４Ｈ）、５．６２（ｄ、１Ｈ）、６．６７−６．８０（ｍ、１Ｈ）、６．９４−７．１５（ｍ、５Ｈ）、７．６０（ｓ、０．２Ｈ）、７．９６（ｓ、０．１Ｈ）、８．１２（ｄ、１Ｈ）、１０．８９（ｓ、１Ｈ）。
【００９０】
＜工程（II）＞
【化１８】
2017214369.tif 000022
【００９１】
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業（株）製）３．０ｇ、シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）３．３ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）３０ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温を２５℃にした。２５℃の内温下、滴下漏斗からトリエチルアミン（和光純薬工業（株）製）３．０ｇを、化合物（２−１）１モルに対してトリエチルアミンを滴下して添加する速度が一時間あたり約０．６２モルとなるように、２時間かけて滴下し、さらに内温２５℃にて２時間保温した。
【００９２】
ＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）により反応の終了を確認後、フラスコを氷浴に浸して内温を２℃にした。次いで３００ｍＬビーカーに氷水１５０ｇを仕込んで攪拌し、該ビーカー中へ反応溶液を滴下して化合物（１−１）を晶析し、得られた湿結晶を濾取した。この湿結晶の分散洗浄を、水：アセトニトリル＝５：１の混合溶媒を用いて、合計５回実施した後、さらにヘプタンを用いて、湿結晶の分散洗浄を合計３回実施した。このようにして得られた湿結晶を７５℃の減圧乾燥器中で乾燥し、黄色粉末の化合物（１−１）（乾燥結晶）を４．１６ｇ得た。収率は７４％であった。
【００９３】
１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（１−１）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ）］： １．３１（ｔ、３Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、３．０１（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．２３（ｑ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、１Ｈ）、７．９２（ｄ、１Ｈ）。
【００９４】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、上記化合物（３−１）に起因する下記構造の副生成物（Ａ）が混入していないことを確認した。
【化１９】
2017214369.tif 000023
【００９５】
（実施例２）
【化２０】
2017214369.tif 000024
【００９６】
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、実施例１の工程（I）で得られた化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶２０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業（株）製）６．０ｇ、シアノ酢酸２−エチルヘキシル（東京化成工業（株）製）１１．６ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）６０ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温を２５℃にした。２５℃の内温下、滴下漏斗からＮ，Ｎ’−ジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＰＥＡと略す。東京化成工業（株）製）７．６ｇを、化合物（２−１）１モルに対してＤＩＰＥＡを滴下して添加する速度が一時間あたり約０．６２モルとなるように、２時間かけて滴下し、さらに内温２５℃にて２時間保温した。
【００９７】
ＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）により反応の終了を確認後、フラスコを氷浴に浸して内温を２℃にした。次いで５００ｍＬビーカーに氷水３００ｇを仕込んで攪拌し、該ビーカー中へ反応溶液を滴下して化合物（１−２）を晶析し、得られた湿結晶を濾取した。この湿結晶の分散洗浄を、水：アセトニトリル＝５：１の混合溶媒を用いて、合計５回実施した後、さらにヘプタンを用いて、湿結晶の分散洗浄を合計３回実施した。このようにして得られた湿結晶を７５℃の減圧乾燥器中で乾燥し、黄色粉末の化合物（１−２）（乾燥結晶）を１２．９ｇ得た。収率は８３％であった。
【００９８】
１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（１−２）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ）］：０．８７−０．９４（ｍ、６Ｈ）、１．３２−１．６７（ｍ、８Ｈ）、１．５９−１．６６（ｍ、２Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ、２Ｈ）、３．００（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、２Ｈ）、７．８７（ｄ、２Ｈ）。
【００９９】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、上記化合物（３−１）に起因する下記構造の副生成物（Ｂ）が混入していないことを確認した。
【化２１】
2017214369.tif 000025
【０１００】
（実施例３）
【化２２】
2017214369.tif 000026
【０１０１】
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、実施例１の工程（I）で得られた化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶２０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業（株）製）６．０ｇ、シアノ酢酸２−エトキシエチル（東京化成工業（株）製）９．３ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）１２０ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温を２５℃にした。２５℃の内温下、滴下漏斗からＤＩＰＥＡ（東京化成工業（株）製）７．６ｇを、化合物（２−１）１モルに対してＤＩＰＥＡを滴下して添加する速度が一時間あたり約０．６２モルとなるように、２時間かけて滴下し、さらに内温２５℃にて２時間保温した。
【０１０２】
ＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）により反応の終了を確認後、フラスコを氷浴に浸して内温を２℃にした。次いで５００ｍＬビーカーに氷水３００ｇを仕込んで攪拌し、該ビーカー中へ反応溶液を滴下して化合物（１−３）を晶析し、得られた湿結晶を濾取した。この湿結晶の分散洗浄を、水：アセトニトリル＝５：１の混合溶媒を用いて、合計５回実施した後、さらにヘプタンを用いて、湿結晶の分散洗浄を合計３回実施した。得られた湿結晶を７５℃の減圧乾燥器中で乾燥し、黄色粉末の化合物（１−３）（乾燥結晶）を９．０５ｇ得た。収率は６７％であった。
【０１０３】
１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（１−３）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ）］：１．２１（ｔ、３Ｈ）、２．１０（ｑｕｉｎ．２Ｈ）、２．９８−３．０４（ｍ、５Ｈ）、３．５４−３．７２（ｍ、６Ｈ）、４．３１（ｔ、２Ｈ）、５．５３（ｄ、２Ｈ）、７．９３（ｄ、２Ｈ）。
【０１０４】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）に起因する下記構造の副生成物（Ｃ）が混入していないことを確認した。
【化２３】
2017214369.tif 000027
【０１０５】
（実施例４）
反応に使用する溶媒をアセトニトリルに代えて、エタノール（ナカライテスク（株）製）を使用したこと以外は全て実施例１と同様にして、黄色粉末の化合物（１−１）を３．６６ｇ得た。収率は６５％であった。
【０１０６】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）に起因する上記に示した副生成物（Ａ）が混入していないことを確認した。
【０１０７】
（実施例５）
ＤＩＰＥＡを滴下する際の四ツ口フラスコ内の内温を７０℃とし、ＤＩＰＥＡの滴下終了時点でＨＰＬＣ分析を行い、反応終了を確認したこと以外は全て実施例２と同様にして、黄色粉末の化合物（１−２）を１２．３ｇ得た。収率は７９％であった。
【０１０８】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）に起因する上記に示した副生成物（Ｂ）が混入していないことを確認した。
【０１０９】
（実施例６）
【化２４】
2017214369.tif 000028
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、実施例１の工程（I）で得られた化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶２０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業（株）製）６．３ｇ、シアノ酢酸−２−エチルブチル１０．４ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）６０ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温を２５℃にした。２５℃の内温下、滴下漏斗からＤＩＰＥＡ（東京化成工業（株）製）８．０ｇを、化合物（２−１）１モルに対してＤＩＰＥＡを滴下して添加する速度が一時間あたり約０．６３モルとなるように、２時間かけて滴下し、さらに内温２５℃にて２時間保温した。
【０１１０】
ＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）により反応の終了を確認後、フラスコを氷浴に浸して内温を２℃にした。次いで５００ｍＬビーカーに氷水３００ｇを仕込んで攪拌し、該ビーカー中へ反応溶液を滴下して化合物（１−４）を晶析し、得られた湿結晶を濾取した。この湿結晶の分散洗浄を、水：アセトニトリル＝５：１の混合溶媒を用いて、合計５回実施した後、さらにヘプタンを用いて、湿結晶の分散洗浄を合計３回実施した。得られた湿結晶を７５℃の減圧乾燥器中で乾燥し、黄色粉末の化合物（１−４）（乾燥結晶）を１１．６ｇ得た。収率は８５％であった。
【０１１１】
１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（１−４）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ）］：０．９１（ｔ、６Ｈ）、１．３５−１．４６（ｍ、４Ｈ）、１．５３−１．６３（ｍ、１Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ．２Ｈ）２．９８−３．０４（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．１０（ｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、１Ｈ）、７．９２（ｄ、２Ｈ）。
【０１１２】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）に起因する下記構造の副生成物（Ｄ）が混入していないことを確認した。
【化２５】
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【０１１３】
（実施例７）
【化２６】
2017214369.tif 000030
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した２００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、実施例１の工程（I）で得られた化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶２０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業（株）製）６．３ｇ、シアノ酢酸−２−ブチルオクチル１５．６ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）６０ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温を２５℃にした。２５℃の内温下、滴下漏斗からＮ，Ｎ’−ジイソプロピルエチルアミン（以下、ＤＩＰＥＡと略す。東京化成工業（株）製）８．０ｇを、化合物（２−１）１モルに対してＤＩＰＥＡを滴下して添加する速度が一時間あたり約０．６３モルとなるように、２時間かけて滴下し、さらに内温２５℃にて２時間保温した。
【０１１４】
ＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）により反応の終了を確認後、フラスコを氷浴に浸して内温を２℃にした。次いで５００ｍＬビーカーに氷水３００ｇを仕込んで攪拌し、該ビーカー中へ反応溶液を滴下して化合物（１−５）を晶析し、得られた湿結晶を濾取した。この湿結晶の分散洗浄を、水：アセトニトリル＝５：１の混合溶媒を用いて、合計５回実施した後、さらにヘプタンを用いて、湿結晶の分散洗浄を合計３回実施した。得られた湿結晶を７５℃の減圧乾燥器中で乾燥し、黄色粉末の化合物（１−５）（乾燥結晶）を１４．８ｇ得た。収率は８３％であった。
【０１１５】
１Ｈ−ＮＭＲ解析により、上記化合物（１−５）が生成したことを確認した。以下に１Ｈ−ＮＭＲ分析の結果を示す。
１Ｈ−ＮＭＲ［ＣＤＣｌ３、δ（ｐｐｍ）］：０．８５−０．９０（ｍ、６Ｈ）、１．２６（ｍ、１６Ｈ）１．６８（ｍ、１Ｈ）、２．０９（ｑｕｉｎ．２Ｈ）２．９４−３．０３（ｍ、５Ｈ）、３．６４（ｔ、２Ｈ）、４．０７（ｄ、２Ｈ）、５．５２（ｄ、１Ｈ）、７．９１（ｄ、２Ｈ）。
【０１１６】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）に起因する下記構造の副生成物（Ｅ）が混入していないことを確認した。
【化２７】
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【０１１７】
（比較例１）
＜工程（I）＞
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した３００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、化合物（５−１）の粗結晶５０ｇ、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジン（東京化成工業（株）製）４３．６ｇ及び１−ブタノール（和光純薬工業（株）製）２００ｇを仕込んで攪拌を開始し、オイルバスを用いて内温を８０℃にし、４時間保温した。ＨＰＬＣ分析により、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジンの消費を確認し、冷却して内温を１０℃にし、析出した湿結晶を濾取した。この湿結晶を２−プロパノールで洗浄した後、４０℃の減圧乾燥器に投入し、化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶を６０．３ｇ得た。
【０１１８】
乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件１）を行った結果、化合物（２−１）と化合物（３−１）との検出ピーク面積比は５７：４３であった。この結果を実施例１の結果と比較すると、化合物（２−１）の収率が２４％低下していることがわかった。
【０１１９】
＜工程（II）＞
攪拌機、ジムロート冷却管、及び温度計を設置した１００ｍＬ−四ツ口フラスコ内に、窒素雰囲気下、化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶１０ｇ、無水酢酸（和光純薬工業（株）製）３．０ｇ、トリエチルアミン（和光純薬工業（株）製）３．０ｇ、シアノ酢酸エチル（東京化成工業（株）製）３．３ｇ、及びアセトニトリル（和光純薬工業（株）製）３０ｇを仕込んで攪拌を開始し、内温２５℃で３時間保温した。
【０１２０】
ＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）により反応の終了を確認後、フラスコを氷浴に浸して内温を２℃にした。３００ｍＬビーカーに氷水１５０ｇを仕込んで攪拌し、該ビーカー中へ反応溶液を滴下して化合物（１−１）を晶析し、得られた湿結晶を濾取した。この湿結晶の分散洗浄を、水：アセトニトリル＝５：１の混合溶媒を用いて、合計５回実施した後、さらにヘプタンを用いて、湿結晶の分散洗浄を合計３回実施した。このようにして得られた湿結晶を７５℃の減圧乾燥器中で乾燥し、黄色粉末の化合物（１−１）（乾燥結晶）を３．９９ｇ得た。収率は７１％であった。
【０１２１】
得られた乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）に起因する上記に示した副生成物（Ａ）が１７％（面積百分率）混入していることを確認した。また、ＨＰＬＣ装置に付属のフォトダイオードアレイ（ＰＤＡ）検出器を用いて各成分の極大吸収波長を測定した結果、化合物（１−１）は３８３ｎｍであるのに対し、副生成物（Ａ）は４０４ｎｍであり、副生成物（Ａ）が着色成分として混入することを確認した。
【０１２２】
（比較例２）
混合物（Ｍ４−１）中へ混合物（Ｍ３−１）を、化合物（５−１）１モルに対して、Ｎ，Ｎ’−ジフェニルホルムアミジンを滴下して添加する速度が一時間あたり０．２５モルとなるように、４時間かけて滴下し、さらに内温８０℃にて４時間保温したこと以外は、全て実施例１の工程（I）と同様にして、化合物（２−１）と化合物（３−１）の混合物の乾燥結晶を６２．５ｇ得た。
【０１２３】
乾燥結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件１）を行った結果、化合物（２−１）と化合物（３−１）との検出ピーク面積比は５５：４５であった。この結果を実施例１の結果と比較すると、化合物（２−１）の収率が２６％低下していることがわかった。
【０１２４】
（参考例１）
実施例１において、工程（II）の反応終了を確認した時点で析出していた結晶を濾取し、湿結晶を得た。該湿結晶のＨＰＬＣ分析（上記分析条件２）を行った結果、化合物（３−１）が６．１％（面積百分率）混入していることを確認した。