(57)【要約】【課題】光透過性導電性フィルムにおいて、骨見え現象を抑制することを課題とする。【解決手段】（Ａ）光透過性導電層；（Ｂ）光透過性支持層；及び（Ｃ）ハードコート層が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ｂ）とは反対側の面と、光透過性導電層（Ａ）をエッチング液で溶解させて取り除いた面との複合弾性率差の絶対値が１０ＧＰａ以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）光透過性導電層；
（Ｂ）光透過性支持層；及び
（Ｃ）ハードコート層
が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ｂ）とは反対側の面と、光透過性導電層（Ａ）をエッチング液で溶解させて取り除いた面との複合弾性率差の絶対値が
１０ＧＰａ以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
【請求項２】
前記光透過性支持層（Ｂ）が、厚み２０〜７５μｍのポリエステルフィルムである、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項３】
さらに、
（Ｄ）光学干渉層
を含有し、前記光透過性導電層（Ａ）が、少なくとも前記光学干渉層（Ｄ）を介して、前記光透過性支持層（Ｂ）の一方の面に配置されている、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム、及びハードコート付き光透過性フィルム
に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、光透過性導電性フィルムが使用されている。光透過性導電性フィルムは、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層等を積層されている。光透過性導電性フィルムは、通常、光透過性導電層側をタッチパネルの操作面側を向けてタッチパネルに配置されている。光透過性導電性フィルムには、光透過性支持層表面の傷つきを防止する目的で、ハードコート層と呼ばれる、比較的表面硬度の高い層が設けられている。
【０００３】
タッチセンサーとして用いるために、光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した上でタッチパネルに搭載されている。センサー電極用パターンが形成された光透過性導電性フィルムでは、フィルム表面を見たときにセンサー電極用パターンが視認されること（いわゆる骨見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ  ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。ところで、光透過性導電層にエッチング処理を行ってセンサー電極用パターンを形成した光透過性導電性フィルムは、理由は不明であるが電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じることがあった。
【０００４】
なお、光透過性導電性フィルムの熱収縮率を抑制してフィルムに皺が発生しにくくする技術が提案されている（特許文献１）。また、ハードコート層に関する発明として、ハードコート層の平均厚みを０．０５μｍ〜１０μｍとし、ナノインデンターを用いた押し込み量が０．２μｍ程度の光透過性導電性フィルム（特許文献２）や、タッチパネル端部領域での筆記耐久性に着目した光透過性導電性フィルム（特許文献３）などがある。しかしながら、いずれの技術も、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面の反射光に歪みが生じるという上記の現象を解決するものではなかった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１４−９１２５５号公報
【特許文献２】特開２０１４−２５０６１号公報
【特許文献３】特開２００５−１０４１４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
光透過性導電性フィルムにおいて、電極用パターンの形状に起因して、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らが上記課題を解決するべく研究を進める中で、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象は、次の理由に因るものと考えられた。すなわち、光透過性導電層を有する部分と有しない部分とで各層間に働く応力に微小な差が生じてしまい、これにより光透過性導電性フィルムの変形、さらには反射の歪みが生じてしまうのではないかと考えられた。本発明者らは、この知見に基づいてさらに鋭意検討を重ね、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象の原因パラメータを特定し、かつ定量化することにより、確実にセンサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を低減できることを新たに見出した。本発明は、次に掲げるものである。
項１．
（Ａ）光透過性導電層；
（Ｂ）光透過性支持層；及び
（Ｃ）ハードコート層
が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ｂ）とは反対側の面と、光透過性導電層（Ａ）をエッチング液で溶解させて取り除いた面との複合弾性率差の絶対値が
１０ＧＰａ以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
項２．
前記光透過性支持層（Ｂ）が、厚み２０〜７５μｍのポリエステルフィルムである、項１に記載の光透過性導電性フィルム。
項３．
さらに、
（Ｄ）光学干渉層
を含有し、前記光透過性導電層（Ａ）が、少なくとも前記光学干渉層（Ｄ）を介して、前記光透過性支持層（Ｂ）の一方の面に配置されている、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を抑制できる。より詳細には、定量的な判断に基づく設計により、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象が抑制されたフィルムを確実に得ることができる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明の光透過性導電性フィルムは、
（Ａ）光透過性導電層；
（Ｂ）光透過性支持層；及び
（Ｃ）ハードコート層
が直接又は一以上の他の層を介してこの順に配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記ハードコート層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ｂ）とは反対側の面と、光透過性導電層（Ａ）をエッチング液で溶解させて取り除いた部分との複合弾性率差の絶対値が
１０ＧＰａ以上であることを特徴とする光透過性導電性フィルム。
である。
【００１０】
本明細書において、光透過性支持層（Ｂ）の一方の面に配置される複数の層のうち二つの層の相対的な位置関係について言及する場合、光透過性支持層（Ｂ）を基準にして、光透過性支持層（Ｂ）からの距離が大きい一方の層を「上の」又は「外側の」層等ということがある。
【００１１】
本発明において「光透過性」とは、光を透過させる性質を有する（ｔｒａｎｓｌｕｃｅｎｔ）ことを意味する。「光透過性」には、透明（ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ）が含まれる。「光透過性」とは、例えば、全光線透過率が８０％以上、好ましくは８５％以上、より好ましくは８８％以上である性質をいう。本発明において全光線透過率は、ヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定する。
【００１２】
本発明において、光透過性導電層（Ａ）、ハードコート層（Ｃ）及び光学干渉層（Ｄ）の光学厚さと屈折率は光干渉計算により算出する。具体的には、これらの層と屈折率が相違する適当な熱可塑性フィルム基板上に光透過性導電層（Ａ）、ハードコート層（Ｃ）又は光学干渉層（Ｄ）のいずれかを単層で形成した積層フィルムをそれぞれ用意し、これらの積層フィルムに形成された単層部分の厚みをあらかじめ測定する。次いで、上記積層面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピークもしくは極小ピークの波長とそのピーク反射率の値を用いて、これらの層に関する光学シミュレーションに必要なパラメータを算出する。ハードコート層（Ｃ）を裏面に有する光透過性支持層（Ｂ）の表側の面に、必要に応じて光学干渉層（Ｄ）、及び光透過性導電層（Ａ）をこの順に形成することにより本発明の光透過性導電性フィルムを得る過程で、ハードコート層（Ｃ）が形成されたフィルム（ハードコート付き支持フィルム）、光透過性支持層（Ｂ）の上に必要に応じて光学干渉層（Ｄ）がさらに形成されたフィルム、及び最終的に得られる光透過性導電性フィルムを順に得る。得られたそれぞれのフィルムについて最上面の光反射スペクトル上に光干渉効果に基づいて発現する反射率の極大ピーク又は極小ピークの波長とそれらのピークにおける反射率の値に基づいて、必要に応じて光学干渉層（Ｄ）及び光透過性導電層（Ａ）の光学厚さ及び屈折率を光干渉計算により算出する。
【００１３】
反射率はサンプルの裏面に黒色テープを貼り、分光光度計（島津製作所製ＵＶ−３１０１ＰＣ、又はその同等品）を用いて５度正反射を測定する。また、計算はＷＶＡＳＥ３２（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ社製、又はその同等品）で行う。
【００１４】
なお、本発明において、屈折率は特に言及しない限り、５５０ｎｍの波長の光についての屈折率とする。
【００１５】
１．１  光透過性支持層（Ｂ）
本発明において光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層（Ｂ）は、屈折率が１．６から１．７の光透過性高分子フィルムであれば特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１６】
光透過性支持層（Ｂ）の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子を挙げることができる。例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂、ポリビニルアルコール系樹脂、ポリアリレート系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。ポリエーテル系樹脂としては、ポリエーテルスルホン系樹脂等が挙げられる。光透過性支持層（Ｂ）の素材は、ポリエステル系樹脂及びポリオレフィン系樹脂が好ましい。ポリエステル系樹脂としては、特にＰＥＴが好ましい。ポリオレフィン系樹脂としては、特にシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）が好ましい。
【００１７】
光透過性支持層（Ｂ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００１８】
光透過性支持層（Ｂ）の厚さは、７５μｍ以下であり、好ましくは１２〜６５μｍ、より好ましくは２０〜５０μｍである。光透過性支持層（Ｂ）の厚さをこれらの下限値以上とすることによって、光透過性導電性フィルムに十分な機械的強度を付与できる。また、タッチパネルの軽量化、薄膜化の要望から光透過性導電性フィルムとしては、非常に薄い厚さであることが要求される。このように光透過性導電性フィルムとして通常要求される厚さを達成するためには、光透過性支持層（Ｂ）の厚さを上記の上限値以下とすることが好ましい。なお、光透過性支持層（Ｂ）の厚さが薄いほど、本発明の課題である、反射像の歪みを抑制が必要である。
【００１９】
１．２  光透過性導電層（Ａ）
光透過性導電層（Ａ）は電極用パターン形状を有していてもよい。電極用パターン形状としては、特に限定されず、通常採用されうる形状の中から幅広く選択できる。例えば、櫛状、外形がひし形の電極を鎖状につなげた形状、及び外形が円形の電極を鎖状につなげた形状等が挙げられる。特に限定されないが、櫛状のように基本単位となる形状の繰り返し形状を有する場合、繰り返し形状同士の間隔は、０．１μｍ〜５０μｍ、好ましくは０．３μｍ〜２０μｍである。本明細書において、光透過性導電性フィルムを光透過性導電層（Ａ）側から見たときに、電極用パターン形状が存在する部分のことをパターン部分、その他の部分を非パターン部分ということがある。
【００２０】
電極用パターン形状は、特に限定されないが、通常エッチング処理により得られる。エッチング処理の方法は、特に限定されないが、公知の方法を適用することができ、例えば、以下の方法等によって電極用パターン形状を得ることができる。
【００２１】
成膜及びアニール（１５０℃、１時間）後、スクリーン印刷にてレジスト印刷を行う。続いてＵＶ露光し、酸エッチングによりレジストが乗っていない箇所の透明導電層を溶かす。さらに、アルカリエッチングにより残っているレジストを剥がす。その後、アニール（１３０℃、４０分）し、ガラスにＯＣＡで貼り合せる。
【００２２】
レーザー顕微鏡を用いて測定される電極用パターン形状の段差は、０．２μｍ〜１．２μｍであることが好ましい。本発明において、レーザー顕微鏡を用いた段差の測定は、レーザー顕微鏡（ＫＥＹＥＮＣＥ製、ＶＫ−９５１０又はその同等品）を用いて電極パターン表面を測定した結果に基づき、解析ソフト（ＶＫ  Ａｎａｌｙｚｅｒ（ＫＥＹＥＮＣＥ製）、又はその同等品）により算出する。
【００２３】
本発明の光透過性導電性フィルムは、電極用パターン形状が形成された場合、後述する複合弾性率差の絶対値が特定範囲であることと相まって、電極用パターンの形状に起因する、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象をより抑制することができる。この効果の点で、レーザー顕微鏡を用いて測定される電極用パターン形状の段差は、好ましくは０．２μｍ〜１．２μｍであり、より好ましくは０．５μｍ〜１．０μｍである。
【００２４】
光透過性導電層（Ａ）は導電性物質を含有する。導電性物質としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて通常用いられる導電性物質を用いることができる。
【００２５】
光透過性導電層（Ａ）は、好ましくは、金属酸化物を含有する。
【００２６】
光透過性導電層（Ａ）の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層（Ａ）としては、光透過性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層（Ａ）は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００２７】
光透過性導電層（Ａ）の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層（Ａ）の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００２８】
光透過性導電層（Ａ）は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。
【００２９】
光透過性導電層（Ａ）は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００３０】
光透過性導電層（Ａ）の厚さは、特に限定されないが、通常は５〜５０ｎｍであり、好ましくは１０〜４０ｎｍ、より好ましくは１２〜３５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜３０ｎｍである。
【００３１】
光透過性導電層（Ａ）を形成する方法としては、特に限定されないが、例えば、イオンプレーティング法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、及びパルスレーザーデポジション法等が挙げられる。これらのうち、タッチパネル用途に低抵抗で大面積の均質な膜を安定に生産するという観点において、スパッタリング法が好ましい。
【００３２】
光透過性導電層（Ａ）を形成する方法としては、導電性物質を焼成する工程を含有する方法が好ましい。焼成方法としては、特に限定されないが、例えばスパッタリング等を行う際のドラム加熱や、熱風式焼成炉、遠赤外線焼成炉などを例として挙げることができる。焼成温度は、特に限定されないが、通常は３０〜２５０℃であり、好ましくは５０〜２００℃、より好ましくは８０〜１８０℃、さらに好ましくは１００〜１６０℃である。焼成時間は、好ましくは３分〜１８０分、より好ましくは５分〜１２０分、さらに好ましくは１０分〜９０分である。焼成を行う雰囲気としては、真空下、大気、窒素やアルゴンなどの不活性ガス、酸素、若しくは水素添加窒素等、又はこれらのうち二種以上の組合せが挙げられる。導電性物質を焼成することにより、導電性物質の結晶化が促進される。
【００３３】
１．３  ハードコート層（Ｃ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性支持層（Ｂ）の前記光透過性導電層（Ａ）とは反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介してハードコート層（Ｃ）が形成されている。これにより、後述する複合弾性率差の絶対値が特定範囲であることと相まって、電極用パターンの形状に起因する、センサー電極用パターンの表面で反射する反射光に歪みが生じる現象を効果的に抑制することができる。なお、ハードコート層（Ｃ）は光透過性支持層（Ｂ）に形成された密着層の上に形成されていてもよい。
【００３４】
一層のハードコート層（Ｃ）が光透過性支持層（Ｂ）の上に配置されていてもよい。また、二層以上のハードコート層（Ｃ）が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して光透過性支持層（Ｂ）の上に配置されていてもよい。
【００３５】
本発明においてハードコート層とは、プラスチック表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層（Ｃ）としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００３６】
ハードコート層（Ｃ）の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層（Ｃ）の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層（Ｃ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。ハードコート層（Ｃ）としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。
【００３７】
本発明において、ハードコート層（Ｃ）のナノインデンター硬さは、以下のようにして測定する。ナノインデンター（ＴＩ ９５０（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）又はその同等品）を用い、２３℃、５０％ＲＨの環境下にて、押し込みモードで「押し込み量：５０ｎｍ、押しこみ速度１０ｎｍ/秒」の条件で、探針（ＢｅｒｋｏｖｉｃｈｐｒｏｂｅＴＩ−００３９（Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製）又はその同等品）を用いて測定する。具体的には、一度表面に針を触れさせて距離を認識させ、５秒かけて表面から５０ｎｍ持ち上げる。その後１０秒かけて装置上１００ｎｍ押し込み、押し込んだまま２秒保持し、その後１０ｎｍ/ｓｅｃの速度で針を抜く。一連の操作により得た測定値を、ハードコート層（Ｃ）の複合弾性率とする。
【００３８】
ハードコート層（Ｃ）の複合弾性率を調整するためには、ハードコート層（Ｃ）を形成する際に添加するウレタン又は重合開始剤の量を増減させるか、あるいは露光量を増減する等の方法で硬さを制御すればよい。
【００３９】
また、本発明の光透過性導電性フィルムは、ハードコート層（Ｃ）の前記光透過性支持層（Ｂ）とは反対側の面と、光透過性導電層（Ａ）をエッチング液で溶解させて取り除いた面（すなわち、光透過性導電層（Ａ）の、下側（（Ｂ）光透過性支持層側）に隣接する面）との複合弾性率差の絶対値が１０ＧＰａ以上である場合に、骨見えの改善効果が特に優れるという効果を奏する。この効果の点で、前記複合弾性率差の絶対値が１２ＧＰａ以上であればより好ましく、１５ＧＰａ以上であればさらに好ましい。特に限定されないが、前記複合弾性率差の絶対値は、通常２０ＧＰａ以下である。
【００４０】
ハードコート層（Ｃ）を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００４１】
１．４  光学干渉層（Ｄ）
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、
（Ｄ）光学干渉層
を含有し、前記光透過性導電層（Ａ）が、少なくとも前記光学干渉層（Ｄ）を介して、前記光透過性支持層（Ｂ）の一方の面に配置されていてもよい。
光学干渉層（Ｄ）の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。光学干渉層（Ｄ）の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサン及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン等が挙げられる。光学干渉層（Ｄ）は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもあってもよい。酸化ケイ素を含む光学干渉層（Ｄ）が好ましく、酸化ケイ素からなる光学干渉層（Ｄ）がより好ましい。
【００４２】
一層の光学干渉層（Ｄ）が、他の層（例えばハードコート層）の上に配置されていてもよい。また、二層以上の光学干渉層（Ｄ）が、互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間してハードコート層の上に配置されていてもよい。例えば二層が互いに隣接して配置されている場合、光透過性支持層（Ｂ）側にＳｉＯ２からなる光透過性下地層（Ｃ−１）を配置し、光透過性導電層（Ａ）側にＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる光透過性下地層（Ｃ−２）を配置する態様が挙げられる。なお、光学干渉層と隣接してハードコート層が形成されている場合は、ハードコート層より屈折率が高い高屈折率干渉層およびハードコートより屈折率が低い低屈折率干渉層の少なくとも二層が設けられていることがより好ましい。
【００４３】
光学干渉層（Ｄ）の一層あたりの厚さは、１０〜１００ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全ての光学干渉層（Ｄ）の合計厚さが上記範囲内であればよい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の厚みは３０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましく、低屈折率干渉層の厚み１０ｎｍ〜５０ｎｍであることが好ましい。
【００４４】
光学干渉層（Ｄ）の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムが目的とする用途に使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．５が好ましい。高屈折率干渉層と低屈折率干渉層の二層の光学干渉層を設ける場合は、高屈折率干渉層の屈折率は１．６〜１．７であることが好ましく、低屈折率干渉層の屈折率は１．４５〜１．５５であることが好ましい。
【００４５】
光学干渉層（Ｄ）を配置するための方法としては、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。
【００４６】
光学干渉層（Ｄ）を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
【００４７】
１．５  その他の層
本発明の光透過性導電性フィルムは、ハードコート層（Ｃ）が裏面に形成された光透過性支持層（Ｂ）の反対側の面に、光透過性導電層（Ａ）及び必要に応じて光学干渉層（Ｄ）と、さらに、それらと異なる少なくとも１種のその他の層（Ｅ）とが配置されていてもよい。
【００４８】
その他の層（Ｅ）としては、特に限定されないが、例えば、前記密着層のほか、接着層等が挙げられる。
【００４９】
密着層としては、特に限定されないが、例えば、シリコン、チタン、錫及び亜鉛からなる群より選択される少なくとも一種の金属若しくはその合金を含む金属酸化物層、又はポリエステル等の樹脂からなる樹脂層等が挙げられる。
【００５０】
接着層は、接着したい二層の間に当該二層と互いに隣接して配置される。接着層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル等に用いる光透過性導電性フィルムにおいて接着層として通常用いられるものを用いることができる。接着層は、単層の接着層であってもよいし、二層以上の接着層であってもよい。
【００５１】
１．６  本発明の光透過性導電性フィルムの用途
本発明の光透過性導電性フィルムは、骨見え現象が抑制できるので、例えば静電容量型タッチパネル用光透過性導電性フィルムとして好ましい。タッチパネルについて詳細は、２で説明する通りである。
【００５２】
２．本発明のタッチパネル
本発明の静電容量型タッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００５３】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
【００５４】
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明の静電容量型タッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００５５】
３．本発明の光透過性導電性フィルムの製造方法
本発明の光透過性導電性フィルムは、たとえば、ハードコート層（Ｃ）を裏面に有する光透過性支持層（Ｂ）の反対側の面に、直接又は一以上の他の層を介して、光透過性導電層（Ａ）を配置する方法により製造できる。
【実施例】
【００５６】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００５７】
実施例１
＜光透過性導電性フィルムの製造方法＞
次のようにして本発明の光透過性導電性フィルムを得た。
【００５８】
厚さ５０μｍのＰＥＴ樹脂基材（ｎＡ＝１．６６）の易接着処理側の表面の上に、下記したアクリレート系樹脂を含む光反応性塗工液を塗布し、加熱乾燥後に紫外線を照射してハードコート層を形成し、本発明のハードコート付き支持フィルムを得た。
【００５９】
［光反応性塗工液の調製］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製）            ７５重量部
エポキシアクリレート（日本化薬社製）                                ２０重量部
マクロモノマーＡＡ−６（東亞合成社製）                              １１重量部
光重合開始剤イルガキュアー（登録商標）１８４（チバガイギー社製）      ７重量部
スチレン系樹脂微粒子（平均粒径１μｍ）                            ０．３重量部
上記成分をブチルセロソルブ３５重量部、メチルエチルケトン９４．５重量部の混合溶媒を用いて希釈し、よく攪拌して固形分４０％の塗工液を得た。
【００６０】
次いで、ハードコート層が形成されていない側のＰＥＴ樹脂基材の上に光学干渉層としてジルコニア粒子を含んだ厚さ４２ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ１＝１．６８）および厚さの３３．５ｎｍのアクリレート系樹脂からなる層（ｎＣ２＝１．４９）を形成した。次いで、その上に密着性向上のためのＳｉＯｘ層を介して光透過性導電層として酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）からなる層（ｎＤ＝１．８７）を厚さ２６ｎｍとなるように成膜して、本発明の光透過性導電性フィルムを得た。なお、ターゲット材として酸化インジウム：９７重量％及び酸化スズ：３重量％からなる焼結体材料を用いた。また、ＤＣマグネトロンスパッタリング法により、ハードコート層の上にＳｉＯｘ層を形成し、その上に、酸化インジウムスズ層を形成した。
【００６１】
＜評価方法＞
＜骨見え評価方法＞
光透過性導電性フィルムの光透過性導電層の上にポリイミドテープを貼り付けた積層体をＩＴＯエッチング液（関東化学社製、商品名「ＩＴＯ−０６Ｎ」）に１分間浸漬し、ポリイミドテープを貼り付けていない部分のＩＴＯを除去し、洗浄及び乾燥後にポリイミドテープを剥離することで、４ｍｍ間隔で１．５ｍｍ幅のラインアンドスペースでＩＴＯ膜がパターニングされた光透過性導電性フィルムを得た。次いで、作製した光透過性導電性フィルムを乾燥オーブンに入れて１３０℃で４０分間加熱した。
【００６２】
乾燥オーブンから取り出された光透過性導電性フィルムを室温に達するまで放置した後、縦４５ｍｍ、横４５ｍｍの大きさに切り出し、光透過性導電層に縦４０ｍｍ、横４０ｍｍサイズの透明接着フィルム(ＥＷ１５０２−Ａ１、エリエールテクセル社製)を介して縦５０ｍｍ、横８０ｍｍサイズで厚さ１ｍｍのガラスに貼り付けた。次いで、同様のエッチング方法により、ＩＴＯ膜が格子間隔４ｍｍで１．５ｍｍ幅の格子模様にパターニングされた縦４５ｍｍ、横４５ｍｍの大きさの光透過性導電性フィルムを得た。
【００６３】
ガラスに貼り付けられている光透過性導電性フィルムの上に、透明接着フィルム(ＥＷ１５０２−Ａ１、エリエールテクセル社製)を介してＩＴＯ膜が格子間隔４ｍｍで１．５ｍｍ幅の格子模様にパターニングされた光透過性導電性フィルムを光透過性導電層側から貼り付けた。得られたガラス付きフィルムに白色灯、蛍光灯、ＬＥＤランプを光源とする光をそれぞれあてて反射像を観察し、歪みの有無を観察した。なお、評価基準は次のとおりとした。
○○  白色灯、蛍光灯、及びＬＥＤランプの光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えなし
○    白色灯及び蛍光灯の光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えなし、ＬＥＤランプの光をあてた時に骨見えあり
△    白色灯の光をあてた時に骨見えなし、蛍光灯及びＬＥＤランプの光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えあり
×    白色灯、蛍光灯、及びＬＥＤランプの光をそれぞれあてた時にいずれも骨見えあり
【００６４】
骨見え評価方法にて得られたガラス付きフィルムについて、次の試験を行った。
＜ハードコート層の硬さの測定方法＞
ナノインデンター(ＴＩ  ９５０  Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製)  を用い、２３℃  ５０％ＲＨの環境下で  押し込みモードで、押し込み量５０ｎｍ、押しこみ速度１０ｎｍ/秒、の条件で、 探針（Ｂｅｒｋｏｖｉｃｈ  ｐｒｏｂｅ ＴＩ−００３９、  Ｈｙｓｉｔｒｏｎ社製)を用いて、実施例、および比較例で得られた光透過性導電性フィルムについて、光透過性導電層が配置される側を表側、その反対側を裏側として、表側はＩＴＯエッチング液で光透過性導電層を取り除いた面と、裏面それぞれの面について複合弾性率（ＧＰａ）を測定した。なお、表側の測定箇所はパターン形状を有する光透過性導電層ではなく、光透過性導電層が取り除かれた部分である。具体的な測定方法としては、一度表面に針を触れさせ距離を認識させ、５秒かけ表面から５０ｎｍ持ち上げた。その後１０秒かけ装置上１００ｎｍ押し込み、押し込んだまま２秒保持しその後１０ｎｍ／ｓｅｃの速度で針を抜いた。一連の操作により得た裏側の測定値から表側の測定値を引いた値を、「複合弾性率差」とした。
【００６５】
実施例２〜１４、比較例１〜８
ハードコート層を変え複合弾性率を表１に記載した硬さのハードコートに変えたこと以外は実施例１と同様にして光透過性導電性フィルムを作製した。なお、実施例４〜６、実施例１０〜１４、比較例１〜５ではスチレン系樹脂微粒子を含まない光反応性塗布液を用いてハードコート層を形成した。
【００６６】
【表１】
2017193142.tif 000002
【００６７】
【表２】
2017193142.tif 000003
【００６８】
表１（実施例）及び表２（比較例）に示した通り、特定の硬さのハードコート層を備えたハードコート付き支持フィルムを用いた光透過性導電性フィルムであることにより、エッチングされた光透過性導電性フィルムの光透過性導電性層の表面で反射する反射像の歪みを抑制できる。特に、裏側の複合弾性率から表側の複合弾性率を引いた値（表１及び２の「複合弾性率差」）の絶対値が１０ＧＰａ以上である場合に、優れた骨見え改善効果がみられることが判った。