(57)【要約】【課題】基板搬送装置において、テーブルの上面におけるカレットを適切に除去する。【解決手段】基板搬送装置１は、脆弱性材料基板Ｍを第１テーブル３から第２テーブル５へ搬送するための装置であって、搬送体７と、第２清掃ユニット１１とを備えている。搬送体７は、第１テーブル３及び第２テーブル５の上方に配置され、基板Ｍを保持して第１テーブル３から第２テーブル５へ移動する。第２清掃ユニット１１は、搬送体７と一体に移動し、搬送中に第２テーブル５の上面３ａを清掃する。【選択図】図９
2017186149.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
脆弱性材料基板を第１テーブルから第２テーブルへ搬送するための搬送装置であって、
前記第１テーブル及び前記第２テーブルの上方に配置され、前記脆弱性材料基板を保持して前記第１テーブルから前記第２テーブルへ移動する搬送体と、
前記搬送体と一体に移動し、搬送中に前記第２テーブルの上面を清掃する清掃ユニットと、
を備える基板搬送装置。
【請求項２】
前記清掃ユニットは、清掃部と、前記清掃部を前記第２テーブルに対して上下方向に接近・離反が可能とする昇降機構とを有している、請求項１に記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板搬送装置、特に、基板をテーブル間で搬送する基板搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、ガラス基板等の脆弱性材料基板の分断方法は、基板表面にスクライブラインを形成するスクライブ工程と、スクライブラインに沿って基板表面に所定の力を付加するブレイク工程とを有している。スクライブラインの形成には、スクライブヘッドを備えたスクライブ装置が用いられる。
スクライブ装置は、例えば、基板が載置されるテーブルと、テーブルに載置された基板に対して水平方向および上下方向に移動するスクライブヘッドとを有している。スクライブヘッドの下端には、ホイールホルダが取り付けられており、このホイールホルダにカッターホイールが回転自在に保持される（例えば、特許文献１を参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２６５３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一般に、スクライブ装置では、スクライブラインを形成する際に、基板から微小なカレット（切り粉）が発生して、テーブル上又は基板上に付着する。そして、基板のテーブルと基板の間にカレットを挟んだ状態で基板の吸着を行うと、基板の表面に傷や局所的な色ムラをもたらすという問題点がある。
また、テーブル上に基板を載置するときにカレットが存在すれば、基板の上面の高さがあらかじめ想定した高さよりも高くなり、それが基板の分断不良の原因になるという問題点がある。
【０００５】
本発明の目的は、基板搬送装置において、テーブルの上面におけるカレットを適切に除去することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
以下に、課題を解決するための手段として複数の態様を説明する。これら態様は、必要に応じて任意に組み合せることができる。
【０００７】
本発明の一見地に係る基板搬送装置は、脆弱性材料基板を第１テーブルから第２テーブルへ搬送するための装置であって、搬送体と、清掃ユニットとを備えている。
搬送体は、第１テーブル及び第２テーブルの上方に配置され、脆弱性材料基板を保持して第１テーブルから第２テーブルへ移動する。
【０００８】
清掃ユニットは、搬送体と一体に移動し、搬送中に第２テーブルの上面を清掃する。
この装置では、搬送体が脆弱性材料基板を保持して第１テーブルから第２テーブルへ搬送しているときに、清掃ユニットは、搬送体と一体に移動し、搬送中に第２テーブルの上面を清掃する。したがって、第２テーブルの清掃が効率よく行われる。
なお、清掃ユニットによる清掃は、例えば、掃き出し、吸引、吹き飛ばしのいずれであってもよいし、それらの組み合わせでもよい。このことは、以下に述べる他の清掃ユニットにも当てはまる。
【０００９】
清掃ユニットは、清掃部と、前記清掃部を第２テーブルに対して上下方向に接近・離反が可能とする昇降機構とを有していてもよい。
この装置では、清掃ユニットの清掃部は第２テーブルの清掃時にはそれらテーブルに接近して、清掃時以外はテーブルから離反して他の装置との干渉を避けることができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る基板搬送装置では、テーブルの上面におけるカレットを適切に除去できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態としての基板搬送装置の概略斜視図。
【図２】基板搬送装置の制御構成を示すブロック図。
【図３】基板搬送装置の制御動作を示すフローチャート。
【図４】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図５】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図６】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図７】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図８】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図９】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図１０】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図１１】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【図１２】基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
１．第１実施形態
（１）基板搬送装置の構成
図１を用いて、基板搬送装置１を説明する。基板搬送装置１は、本発明の一実施形態としての基板搬送装置の概略斜視図である。図１では、左右方向をＸ方向として、Ｘ方向に直交する水平方向をＹ方向とする。この実施形態では、後述する搬送方向がＸ方向になっている。
基板搬送装置１は、脆弱性材料基板Ｍ（以下、「基板Ｍ」という）を第１テーブル３から第２テーブル５へ搬送するための装置である。第１テーブル３は、例えば、前工程でスクライブラインが形成された基板Ｍがコンベア等の搬送装置で搬入されるテーブルである。第２テーブル５は、例えば、基板Ｍを反転機（図示せず）で反転させる反転テーブルである。なお、基板Ｍ、第１テーブル３及び第２テーブル５は全て長方形である。
【００１３】
第１テーブル３はＸ方向つまり搬送方向の後側（図左側）に配置され、第２テーブル５は搬送方向の前側（図右側）に配置されている。第１テーブル３と第２テーブル５は、Ｘ方向に離れて配置されている。
また、第１テーブル３及び第２テーブル５の搬送方向前側の下方には、図示しないダストシュートが設けられている。
【００１４】
基板搬送装置１は、搬送体７を有している。搬送体７は、第１テーブル３及び第２テーブル５の上方に配置され、基板Ｍを保持して第１テーブル３から第２テーブル５へ移動する。
搬送体７をさらに詳細に説明する。搬送体７は、第１テーブル３上の基板Ｍを吸着させて搬送する吸着搬送部２１を有している。吸着搬送部２１は、下面に吸引孔（図示せず）が形成された筐体２１ａを有しており、当該筐体２１ａはチューブで配管して、ブロア４３（図２）で排気される。それにより、吸着搬送部２１が基板Ｍの上面を吸着可能となっている。
【００１５】
搬送体７は、水平方向及び上下方向に移動可能である。具体的には、搬送体７は、水平方向駆動機構２３（図２）によって水平方向に移動可能である。水平方向駆動機構２３は、駆動用モータ、ピニオンとラックレール等の公知技術からなる。さらに、搬送体７は、昇降機構２５（図２）によって上下方向に移動可能である。昇降機構２５は、昇降用エアシリンダ等の公知技術からなる。
【００１６】
基板搬送装置１は、第１清掃ユニット９を有している。第１清掃ユニット９は、搬送体７と一体に移動し、搬送中に第１テーブル３の上面３ａを清掃する。したがって、搬送体７が基板Ｍを保持して第１テーブル３から第２テーブル５へ搬送しているときに、第１清掃ユニット９は、搬送体７と一体に移動し、搬送中に第１テーブル３の上面３ａを清掃する。したがって、第１テーブル３の清掃が効率よく行われる。特に、第１テーブルは前工程のスクライブライン形成工程で発生したカレットが付着しやすいので、第１テーブル３の上面３ａを清掃する意義は高い。
【００１７】
第１清掃ユニット９をさらに詳細に説明する。第１清掃ユニット９は、吸着搬送部２１の筐体２１ａの搬送方向後側に設けられている。第１清掃ユニット９は、第１ブラシ３１（清掃部の一例）を有している。第１ブラシ３１は、Ｙ方向に細長く伸びており、毛先がいる。第１ブラシ３１は、第１テーブル３の上面３ａをＸ方向に掃き続け、最後には第１テーブル３の搬送方向前側縁からカレットを掃き出す（後述）。なお、第１ブラシ３１は、例えば豚、馬の毛からなる公知のものであり、これは囲碁に述べる他のブラシも同様である。
第１ブラシ３１は、筐体２１ａに対して上下方向に移動可能になっている。具体的には、第１清掃ユニット９は、第１昇降機構２７（図２）を有している。第１昇降機構２７は、第１ブラシ３１を昇降させる機構である。これにより、第１ブラシ３１は、搬送体７に対して、上下方向に移動可能である。
【００１８】
基板搬送装置１は、第２清掃ユニット１１を有している。第２清掃ユニット１１は、搬送体７と一体に移動し、搬送中に第２テーブル５の上面５ａを清掃する。したがって、搬送体７が基板Ｍを保持して第１テーブル３から第２テーブル５へ搬送しているときに、第２清掃ユニット１１は、搬送体７と一体に移動し、搬送中に第２テーブル５の上面５ａを清掃する。したがって、第２テーブル５の清掃が効率よく行われる。
第２清掃ユニット１１をさらに詳細に説明する。第２清掃ユニット１１は、搬送体７の筐体２１ａの搬送方向後側に設けられている。第２清掃ユニット１１は、第２ブラシ４１（清掃部の一例）を有している。第２ブラシ４１は、Ｙ方向に細長く伸びており、毛先が下側を向いている。第２ブラシ４１は、第２テーブル５の上面５ａをＸ方向に掃き続け、最後には第２テーブル５の搬送方向前側縁からカレットを掃き出す（後述）。
第２ブラシ４１は、筐体２１ａに対して上下方向に移動可能になっている。具体的には、第２清掃ユニット１１は、第２昇降機構２９（図２）を有している。第２昇降機構２９は、第２ブラシ４１を昇降させる機構である。これにより、第２ブラシ４１は、搬送体７に対して、上下方向に移動可能である。
【００１９】
以上に述べたように、第１清掃ユニット９及び第２清掃ユニット１１は、搬送体７の搬送方向両側部に設けられている。そして、第１清掃ユニット９及び第２清掃ユニット１１は、搬送体７に装着されており、水平方向に一体に移動する。
【００２０】
基板搬送装置１は、第３清掃ユニット５３を有している。第３清掃ユニット５３は、搬送中に基板Ｍの下面を清掃する装置である。したがって、基板Ｍの清掃が効率よく行われる。
第３清掃ユニット５３をさらに詳細に説明する。第３清掃ユニット５３は、第１テーブル３と第２テーブル５とのＸ方向間に配置されている。第３清掃ユニット５３は、第３ブラシ５５を有している。第３ブラシ５５は、Ｙ方向に細長く伸びている。第３ブラシ５５は、毛先が上を向くように配置されており、第３ブラシ５５の毛先は第１テーブル３及び第２テーブル５の上面３ａ及び上面５ａより高い位置に配置されている。第３ブラシ５５は、搬送される基板Ｍの下面に当接することで、下面に付着したカレットを掃き落とす（後述）。
【００２１】
図２を用いて、基板搬送装置１の制御構成を説明する。図２は、基板搬送装置１の制御構成を示すブロック図である。基板搬送装置１は、制御部５１を有している。制御部５１は、ＣＰＵ、ＲＡＭ、ＲＯＭを有するコンピュータから構成されている。制御部５１は、記憶部に保存されたプログラムを実行することで、各種制御動作を行う。
この実施形態では、制御部５１は、水平方向駆動機構２３、昇降機構２５、第１昇降機構２７、第２昇降機構２９、ブロア４３を制御できる。
【００２２】
制御部５１には、各種センサ及び入力スイッチが接続されている。
なお、制御部５１は、単一のプロセッサであってもよいし、各制御のために独立した複数のプロセッサから構成されていてもよい。
【００２３】
（２）基板搬送動作
図３〜図１２を用いて、基板搬送装置の基板搬送御動作を説明する。
図３は、基板搬送装置の制御動作を示すフローチャートである。図４〜図１２は、基板搬送装置の搬送・清掃動作を説明するための模式的正面図である。なお、以下に説明する制御動作では、各ステップは必要に応じて省略及び入れ替え可能である。また、複数のステップが同時に実行されたり、一部又は全てが重なって実行されたりしてもよい。
以下の制御動作は、制御部５１が水平方向駆動機構２３、昇降機構２５、第１昇降機構２７、第２昇降機構２９に制御信号を送信することで実行される。
【００２４】
最初に、図示しない搬送装置によって、第１テーブル３上に基板Ｍが載置される。
図３のステップＳ１では、図１及び図４に示すように、搬送体７が基板Ｍ及び第１テーブル３の上方まで移動して、その位置で停止する。このとき、第１ブラシ３１と第２ブラシ４１は搬送体７に対して上昇位置に配置されている。
【００２５】
ステップＳ２では、図５に示すように、昇降機構２５にって搬送体７が下降して基板Ｍに接触する。
ステップＳ３では、図示しないチューブを介してブロア４３で排気することにより基板Ｍの上面を吸着する。
【００２６】
ステップＳ４では、図６に示すように、昇降機構２５によって搬送体７が上昇する。
ステップＳ５では、第１昇降機構２７によって第１ブラシ３１が搬送体７に対して下降する。
ステップＳ６では、水平方向駆動機構２３によって搬送体７が図右側に移動する。これにより、図７に示すように、第１清掃ユニット９の第１ブラシ３１が第１テーブル３の上面３ａを清掃する。また、第３清掃ユニット５３の第３ブラシ５５が基板Ｍの下面の清掃を開始する。なお、第２ブラシ４１はあらかじめ上昇位置にあって第３ブラシ５５の上方を離れて移動するので、両者が干渉することはない。
【００２７】
ステップＳ７では、第２昇降機構２９によって、第２ブラシ４１が搬送体７に対して下降する。これにより、図８に示すように、第２ブラシ４１が第２テーブル５の上面５ａを清掃する。
ステップＳ８では、図９に示すように、第１昇降機構２７によって第１ブラシ３１が搬送体７に対して上昇する。このため、それ以降は第１ブラシ３１が第３ブラシ５５の上方を離れて移動することになり、両者が干渉することはない。
ステップＳ９では、図１０に示すように、搬送体７が第２テーブル５上まで移動して停止する。
ステップＳ１０では、第２昇降機構２９によって第２ブラシ４１が搬送体７に対して上昇する。
【００２８】
ステップＳ１１では、図１１に示すように、昇降機構２５によって搬送体７が下降して基板Ｍが第２テーブル５の上面５ａに当接する。
ステップＳ１２では、ブロア４３によって、基板Ｍの上面の吸着が解除される。
ステップＳ１３では、図１２に示すように、昇降機構２５によって搬送体７が上昇する。その結果、基板Ｍは第２テーブル５上に載置された状態で残される。
以上に述べたように、本実施形態では、基板Ｍの搬送動作中に、第１テーブル３の上面３ａ、第２テーブル５の上面５ａ、基板Ｍの下面が同時に清掃される。
【００２９】
２．他の実施形態
以上、本発明の複数の実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の変更が可能である。特に、本明細書に書かれた複数の実施形態及び変形例は必要に応じて任意に組み合せ可能である。
（１）第１清掃ユニットは省略されてもよい。すなわち、第２清掃ユニットと第３清掃ユニットのみの実施形態が可能である。
（２）第３清掃ユニットは省略されてもよい。すなわち、第１清掃ユニットと第２清掃ユニットのみの実施形態が可能である。
（３）第１清掃ユニットと第３清掃ユニットの両方が省略されてもよい。すなわち、第２清掃ユニットのみの実施形態が可能である。
【００３０】
（４）第１清掃ユニット及び第２清掃ユニットは、テーブルの上面を清掃可能な位置になるように、搬送体に対して固定されていてもよい。つまり、この場合は第１ブラシ及び第２ブラシを上下する昇降機構は設けられない。
（５）第３清掃ユニットの第３ブラシは、昇降機構によって上下方向に移動可能としてもよい。その場合は、上述のように第１清掃ユニット及び第２清掃ユニットの高さ位置が一定であっても、第３清掃ユニットが第１清掃ユニット及び第２清掃ユニットとの干渉を回避できる。
【００３１】
清掃部はブラシに限定されない。例えば、清掃部は、エアブロー装置又はエア吸引装置であってもよい。
また、ブラシと、エアブロー装置と、エア吸引装置とを適宜組み合わせてもよい。
【産業上の利用可能性】
【００３２】
本発明は、基板をテーブル間で搬送する基板搬送装置に広く適用できる。
【符号の説明】
【００３３】
１      ：基板搬送装置
３      ：第１テーブル
３ａ    ：上面
５      ：第２テーブル
５ａ    ：上面
７      ：搬送体
９      ：第１清掃ユニット
１１    ：第２清掃ユニット
２１    ：吸着搬送部
２１ａ  ：筐体
２３    ：水平方向駆動機構
２５    ：昇降機構
２７    ：第１昇降機構
２９    ：第２昇降機構
３１    ：第１ブラシ
４１    ：第２ブラシ
４３    ：ブロア
５１    ：制御部
５３    ：第３清掃ユニット
５５    ：第３ブラシ
Ｍ      ：脆弱性材料基板
Ｓ      ：スクライブライン
【図１】
2017186149.tif 000003
【図２】
2017186149.tif 000004
【図３】
2017186149.tif 000005
【図４】
2017186149.tif 000006
【図５】
2017186149.tif 000007
【図６】
2017186149.tif 000008
【図７】
2017186149.tif 000009
【図８】
2017186149.tif 000010
【図９】
2017186149.tif 000011
【図１０】
2017186149.tif 000012
【図１１】
2017186149.tif 000013
【図１２】
2017186149.tif 000014