(57)【要約】【課題】簡易な構成で、マスクの破損を防止可能な照射装置を提供すること。【解決手段】照射装置は、照射器とワークとの間に、ワークの所定領域を遮光するマスク５０を重力に抗して保持するマスクホルダ５を備え、マスクホルダ５から脱落したマスク５０を、マスク５０との衝撃を緩和して受け止める受け止め部６０を有している。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
照射器とワークとの間に、前記ワークの所定領域を遮光するマスクを重力に抗して保持するマスクホルダを備える照射装置において、
前記マスクホルダから脱落した前記マスクを、前記マスクとの衝撃を緩和して受け止める受け止め部を有することを特徴とする照射装置。
【請求項２】
前記マスクホルダは、前記マスクを真空吸着により保持し、
前記受け止め部は、前記マスクホルダに保持された前記マスクの下方に、前記マスクとの間に隙間を空けて配置されることを特徴とする請求項１に記載の照射装置。
【請求項３】
前記受け止め部は、前記マスクホルダから脱落した前記マスクが当接する当接部と、前記当接部を前記マスクの落下方向に移動自在に支持する支持部と、前記当接部と前記支持部との間に介挿される衝撃緩和部材とを備えることを特徴とする請求項１又は２に記載の照射装置。
【請求項４】
前記受け止め部は、前記マスクホルダから脱落した前記マスクを受け止める受け止め位置と、前記受け止め位置から待避した待避位置とに移動自在であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の照射装置。
【請求項５】
前記ワークが配置されるステージの移動に応じて、前記受け止め部を前記前記受け止め位置と、前記待避位置とに移動させる移動機構を備えることを特徴とする請求項４に記載の照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、マスクを保持するマスクホルダを備える照射装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等の表示パネルの製造工程には、表示パネルの構成要素である２枚の光透過性基板を、その間に設けたシール材を光硬化させることによって貼り合わせる工程がある。
この工程で使用される照射装置は、紫外線の照射器とワークとの間に、ワークの紫外光を照射したくない領域を遮光するマスクを重力に抗して保持するマスクホルダを備え、マスクによってシール材の領域外への紫外線照射を回避している。
この種のマスクホルダを備える装置には、マスクが落下して破損する事態を避けるべく、マスクをマスクホルダの下面に吸着保持した後、駆動機構により作動してマスクの下面周縁を挟む１組のマスク支承体を備えた照射装置が開示されている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２９３４０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、従来の構成は、マスクの下面周縁を挟持自在に作動する一組のマスク支承体を設けるので、構造が複雑になる。しかも、一組のマスク支承体をマスクホルダの下面に沿って作動させるので、マスクホルダ側の構造変更が必要であり、従来部品の流用等が困難になる。
そこで、本発明は、簡易な構成で、マスクの破損を防止可能な照射装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、本発明は、照射器とワークとの間に、前記ワークの所定領域を遮光するマスクを重力に抗して保持するマスクホルダを備える照射装置において、前記マスクホルダから脱落した前記マスクを、前記マスクとの衝撃を緩和して受け止める受け止め部を有することを特徴とする。
【０００６】
また本発明は、上記照射装置において、前記マスクホルダは、前記マスクを真空吸着により保持し、前記受け止め部は、前記マスクホルダに保持された前記マスクの下方に、前記マスクとの間に隙間を空けて配置されることを特徴とする。
【０００７】
また本発明は、上記照射装置において、前記受け止め部は、前記マスクホルダから脱落した前記マスクが当接する当接部と、前記当接部を前記マスクの落下方向に移動自在に支持する支持部と、前記当接部と前記支持部との間に介挿される衝撃緩和部材とを備えることを特徴とする。
【０００８】
また本発明は、上記照射装置において、前記受け止め部は、前記マスクホルダから脱落した前記マスクを受け止める受け止め位置と、前記受け止め位置から待避した待避位置とに移動自在であることを特徴とする。
【０００９】
また本発明は、上記照射装置において、前記ワークが配置されるステージの移動に応じて、前記受け止め部を前記前記受け止め位置と、前記待避位置とに移動させる移動機構を備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１０】
本発明は、マスクを重力に抗して保持するマスクホルダから脱落したマスクを、マスクとの衝撃を緩和して受け止める受け止め部を有するので、マスクの破損を防止できる。また、受け止め部は、マスクホルダから脱落したマスクを受け止めるので、マスクホルダから離間して受け止め部を配置でき、マスクホルダ側に受け止め部の構成が不要である。従って、簡易な構成で、マスクの破損を防止可能である。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態に係る照射装置の内部構造を示した図である。
【図２】ワーク及びマスクを示した図であり、（Ａ）はワークの断面図、（Ｂ）はワーク及びマスクの斜視図である。
【図３】マスクホルダを受け止め部と共に模式的に示した図である。
【図４】受け止め部の当接部と支持部との連結構造を模式的に示した図である。
【図５】受け止め部の全体構成を示した図であり、（Ａ）は上方から見た図、（Ｂ）は正面図、（Ｃ）は側面図である。
【図６】図５（Ｂ）のＸ領域の拡大図である。
【図７】支持部の移動制御を説明する図であり、（Ａ）は支持部が待避位置の場合を示し、（Ｂ）は支持部が受け止め位置の場合を示し、図６（Ｃ）はマスクが脱落した場合を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
図１は実施形態に係る照射装置１の内部構造を示した図である。なお、図１は照射装置１を正面から見た場合の内部構造を示している。
この照射装置１は、ワーク２に光を照射することによってワーク２に設けられた光硬化性樹脂２Ｃ（後述する図２）を硬化させる光硬化装置として使用される。この照射装置１が照射する光は紫外線であり、光硬化性樹脂２Ｃには紫外線硬化樹脂が用いられる。
図１に示すように、照射装置１は、複数の照射器１Ａ〜１Ｅと、ワーク２が配置されるステージ３と、照射器１Ａ〜１Ｅとワーク２との間に、ワーク２の遮光すべき領域を遮光するマスク５０（遮光マスクとも称する）を保持するマスクホルダ５と、照射器１Ａ〜１Ｅ、ステージ３及びマスクホルダ５等を収容する筐体６とを備えている。なお、図１では、特に筐体６を模式的に示し、また筐体６の一部を省略している。
【００１３】
筐体６内には、上方から順に照射器１Ａ〜１Ｅ、マスク５０、及びステージ３が間隔を空けて配置され、各照射器１Ａ〜１Ｅは下方に向けて光をそれぞれ出射する。各照射器１Ａ〜１Ｅからの光は、マスクホルダ５が有する矩形の開口部６Ａを通ってステージ３に向けて出射される。
ステージ３は、マスクホルダ５の下方に配置され、少なくとも上下動可能な可動式の台に形成されている。図１では、ステージ３が、ワーク２に光を照射する照射位置まで上昇した状態を示している。この状態（照射時の状態に相当）では、ワーク２がマスクホルダ５の開口部６Ａに近接するので、開口部６Ａから出射される光をワーク２に効率良く照射させることができる。このときのマスクホルダ５に保持されたマスク５０とワーク２との間の距離δは例えば２ｍｍ程度に設定される。
【００１４】
各照射器１Ａ〜１Ｅは、被照射面２Ａ（ワーク２の表面に相当）に沿って間隔を空けて配置される。図１中、符号Ｗは、照射器１Ａ〜１Ｅの配列方向、換言すると、照射装置１の正面視で左右方向を示している。なお、Ｗ方向の右側は照射装置１の上流側、左側は照射装置１の下流側に相当する。
各照射器１Ａ〜１Ｅは、被照射面２Ａと平行に延びる線状光源１０と、線状光源１０を配光制御する主反射鏡１１と、線状光源１０及び主反射鏡１１を囲う箱状のケース１２とを備えている。なお、本実施形態では、線状光源１０が上記Ｗ方向と直交する方向に延びているが、線状光源１０がＷ方向と平行に延びても良い。
箱状のケース１２は、被照射面２Ａ側に矩形の開口部１２Ａを有し、この開口部１２Ａを介して、線状光源１０及び主反射鏡１１からの光を被照射面２Ａに向けて出射させる。
【００１５】
線状光源１０は、紫外線を出射する光源であり、直管型の高出力な紫外線ランプが用いられる。これら線状光源１０は、複数の光源を列状（直線状）に並べた構成でも良い。この光源には例えばショートアーク光源を用いることができる。
主反射鏡１１は、線状光源１０の下方（被照射面２Ａ側）を除く領域を包囲し、かつ当該線状光源１０に沿って延びる楕円鏡である。これによって、主反射鏡１１は、線状光源１０から被照射面２Ａと異なる方向に出射された光を、被照射面２Ａに向けて反射し、被照射面２Ａの照度を向上させることができる。また、楕円鏡の形状を適切に設定することにより、被照射面２Ａの照度分布の偏りを抑制している。
【００１６】
ケース１２の開口部１２Ａ近傍には、光硬化に寄与しない所定波長の光をカットする波長選択フィルタ１３が設けられている。この波長選択フィルタ１３により、光硬化に寄与しない所定波長の光がカットされた光を、各照射器１Ａ〜１Ｅから被照射面２Ａに向けて出射させる。なお、波長選択フィルタ１３をケース１２の外に配置しても良い。また、所定波長の光のカットが不要な場合は、波長選択フィルタ１３を省略しても良い。
【００１７】
照射器１Ａ〜１Ｅの出射側には、補助反射鏡１４が配置されている。補助反射鏡１４は、照射器１Ａ〜１Ｅの出射光を配光制御する反射鏡であり、照射器１Ａ〜１Ｅとマスクホルダ５との間に配置され、より具体的には、照射器１Ａ〜１Ｅの下方にスペースＳ１を空けるとともに、マスクホルダ５の上方にスペースＳ２を空けて配置される。
この補助反射鏡１４は、矩形枠状に配置された一対の補助端板２０と一対の補助側板２１とを備え、これら補助端板２０、及び補助側板２１の内壁面により、照射器１Ａ〜１Ｅから入射した光を、被照射面２Ａに向けて反射させる。上記スペースＳ１、Ｓ２の調整等により、補助反射鏡１４が、被照射面２Ａの外（ワーク２の外に相当）に向けて出射される光を、被照射面２Ａ内（ワーク２内）に反射させ、被照射面２Ａの照度を向上させるとともに、被照射面２Ａの照度の偏りを抑制可能である。
【００１８】
図２はワーク２及びマスク５０を示した図であり、図２（Ａ）はワーク２の断面図、図２（Ｂ）はワーク２及びマスク５０の斜視図である。
ワーク２は、液晶ディスプレイの表示パネルを構成する部品である。より具体的には、ワーク２は、図２（Ａ）に示すように、表示パネルの構成部品となる２枚の光透過性基板２Ｂ間にシール材（液晶封止材）となる光硬化性樹脂２Ｃが塗布され、内部に液晶２Ｄが封止されている。２枚の光透過性基板２Ｂの一方は、液晶２Ｄに対応する位置にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）回路（不図示）を有するアレイ基板に形成され、他方は液晶２Ｄに対応する位置にカラーフィルタ（不図示）を有するカラーフィルタ基板に形成されている。なお、図２（Ａ）では、ＴＦＴ回路を有する光透過性基板２Ｂが被照射面２Ａとして配置された場合を示している。
【００１９】
図２（Ｂ）に示すように、マスク５０は、液晶２Ｄに対応する位置に形成される遮光部５１と、光硬化性樹脂２Ｃに対応する位置に形成される透光部５２とを備えて構成されている。マスク５０は、透明材料（本実施形態では、ガラス）を用いて形成され、この透明素材には遮光が必要な部分に遮光素材（例えば、金属コート等）を設けて、遮光部５１を形成するとともに、遮光部５１以外の部分を透明素材のままの透光部５２に形成している。
【００２０】
この照射装置１は、マスク５０を介してワーク２に紫外線を照射するので、２枚の光透過性基板２Ｂ間のシール材となる光硬化性樹脂２Ｃに紫外線を照射し、光硬化性樹脂２Ｃ以外の領域（液晶２Ｄ）には紫外線を照射しない。これにより、液晶２Ｄへの紫外線の影響を回避しながら光硬化性樹脂２Ｃを硬化させることができる。光硬化性樹脂２Ｃが硬化することにより、２枚の光透過性基板２Ｂ同士が貼り合わされる。
すなわち、この照射装置１は、２枚の光透過性基板２Ｂ間のシール材となる光硬化性樹脂２Ｃを硬化させて光透過性基板２Ｂを貼り合わせるシール材硬化装置として使用される。
【００２１】
図３はマスクホルダ５を後述する受け止め部６０と共に模式的に示した図である。
図１及び図３に示すように、マスクホルダ５は、ステージ３に配置されたワーク２の上方に配置される複数のマスク保持体３１を備えている。各マスク保持体３１は、直線状に延びるバー形状に形成され、ワーク２の表面（被照射面２Ａに相当）に沿って間隔を空けて平行に配置されている。各マスク保持体３１は、紫外線を透過する透明材料（例えば、ガラス材料）で形成され、その下面に、マスク５０を真空吸着する吸着溝３１Ａ（図３）を有し、各吸着溝３１Ａ内を不図示の真空発生装置により真空にすることで下面にマスク５０を吸着して保持する。これにより、マスク５０は重力に抗してマスクホルダ５に保持される。
【００２２】
ところで、マスク５０が重力に抗してマスクホルダ５に吸着保持されるので、何らかの原因で吸着破壊が発生するとマスク５０が脱落し、破損するおそれがある。例えば、内部の熱（照射器１Ａ〜１Ｅの光に含まれる赤外線等）の影響を受けてマスク保持体３１が熱変形した場合に吸着破壊が生じるおそれがある。
そこで、本実施形態では、マスクホルダ５から脱落したマスク５０を受け止める受け止め部６０（図３）を備えている。
【００２３】
図３に示すように、受け止め部６０は、マスクホルダ５から脱落したマスク５０が当接する複数の当接部６１と、当接部６１を少なくともマスク５０の落下方向に移動自在に支持する支持部６２とを備えている。当接部６１は、マスクホルダ５に保持されたマスク５０の下方に、隙間δＡを空けて配置されるとともに、上記マスク５０の下面に沿って水平方向に間隔を空けて配置されている。
上記隙間δＡは、マスクホルダ５から脱落したマスク５０が当接部６１に当接した際に受ける衝撃力が許容範囲となる隙間であって、マスク５０の保持位置にばらつきがあってもマスク５０に接触しない隙間に設定され、例えば５ｍｍに設定される。また、当接部６１は、マスク保持体３１のピッチ（配置間隔）よりも短いピッチで配置されている。
【００２４】
支持部６２は、マスクホルダ５に保持されたマスク５０の下方にて、マスク５０の下面に沿って平行に延びる棒状部材で形成され、互いに平行に間隔を空けて複数本の支持部６２が配置されている。本実施形態では、支持部６２が４本の場合を示しているが、これに限らず、例えば、ワーク２のサイズに応じて２本〜６本などに調整される。ここで、図４は当接部６１と支持部６２との連結構造を模式的に示した図である。
図４に示すように、支持部６２には、上方に突出する棒状ガイド６２Ａが設けられ、当接部６１は、この棒状ガイド６２Ａに挿通される孔部６１Ａを有する筒形状に形成され、棒状ガイド６２Ａに沿って上下に移動自在である。
【００２５】
当接部６１と支持部６２との間には、衝撃緩和部材として機能する弾性部材６３が介挿される。従って、マスクホルダ５からマスク５０が脱落した場合に、マスク５０が当接部６１に当接して当接部６１がマスク５０の落下方向に移動し、弾性部材６３を圧縮させることで、マスク５０に作用する衝撃力を緩和することができる。また、脱落したマスク５０は、複数の当接部６１によって支えられるので、マスクホルダ５から脱落したマスク５０を、衝撃力を緩和しつつ適切に受け止めることができる。
【００２６】
この弾性部材６３には、本実施形態ではコイルばねを用いているが、コイルばね以外の弾性部材でも良いし、弾性部材６３に代えて、衝撃を緩和可能な他の部材を適用しても良い。また、受け止め部６０を構成する各部材（少なくとも当接部６１、支持部６２）の材料は、耐候性を有し、且つ、割れにくい素材が好ましく、例えば、紫外線吸収剤を配合した樹脂が好ましい。また、マスク５０に作用する衝撃力を緩和する構造（衝撃緩和構造）は、上記の構造に限らず、公知の他の構造を適用しても良い。
【００２７】
また、この受け止め部６０は、上述した脱落したマスク５０を受け止める位置（以下、「受け止め位置」という）の他に、この受け止め位置から待避した待避位置とに移動自在に構成されている。以下、受け止め部６０の移動機構７１等を説明する。
図５は受け止め部６０の全体構成を示した図であり、図５（Ａ）は上方から見た図、図５（Ｂ）は正面図、図５（Ｃ）は側面図である。図５（Ａ）において、下側が照射装置１の正面側であり、上側が背面側、右側が上流側、左側が下流側に相当している。また、図５（Ａ）中、支持部６２が待避位置に移動した状態を実線で示し、支持部６２が受け止め位置から移動した状態を二点鎖線で示している。また、図６は、図５（Ｂ）のＸ領域の拡大図を示している。
【００２８】
受け止め部６０は、矩形枠状の台座６５に支持され、受け止め部６０の構成要素である複数本の支持部６２は、上流側と下流側との間を延在し、正面側と背面側との間を移動自在に支持されている。なお、支持部６２が、上記と直交する配置でも良く、つまり、支持部６２が、正面側と背面側との間を延在し、上流側と下流側との間を移動自在に支持されても良い。
図５（Ａ）に示すように、矩形枠状の台座６５には、正面側と背面側との中間位置を示す基準線ＬＡを境にして、受け止め部６０の移動機構７１がそれぞれ配置されている。これら移動機構７１は、基準線ＬＡを基準にして対称構造に形成されるので、以下、正面側の移動機構７１に符号を付して説明する。
【００２９】
移動機構７１は、台座６５における下流側と上流側とに間隔を空けて、駆動源となる一対のエアシリンダ７２を備え、一対のエアシリンダ７２により２本の支持部６２を、実線で示す待機位置と、二点鎖線で示す受け止め位置とに移動させる。図５（Ａ）及び図５（Ｃ）に示すように、２本の支持部６２のうちの一方は、基準線ＬＡに向けて相対的に長い移動ストロークＳＡ（図５（Ｃ１）参照）で移動し、他方は基準線ＬＡに向けて相対的に短い移動ストロークＳＢ（本構成では、ストロークＳＢがストロークＳＢの半分以下）に移動する。
各支持部６２が異なる位置に配置されるので、大型のマスク５０を広範囲の位置で受け止めることができ、また、マスク５０の大きさや形状が異なっても、これらマスク５０を受け止めることができる。
【００３０】
図６に示す符号７３は、支持部６２を支持するスライダ７４（図６）を移動自在に支持するガイドレールであり、符号７５は、エアシリンダ７２の伸び側及び戻り側の駆動を停止させるとともに停止時のショックを緩和するショックアブソーバである。一方の支持部６２は、このショックアブソーバ７５近傍まで移動することによって、移動ストロークＳＡだけ移動する。また、符号７６は他方の支持部６２を移動ストロークＳＢの位置に停止させるストッパである。
【００３１】
この移動機構７１は、既存の台座６５を利用して取り付けることができ、比較的簡易に設置することが可能である。また、当接部６１及び支持部６２は、マスクホルダ５と別部品であり、マスクホルダ５及びマスク５０と離間して配置されるので、従来のマスクホルダにマスク支承体を設ける構造と比べて、マスクホルダ側の構造変更が不要である。従って、マスクホルダ５等に従来のマスクホルダ等を流用できる。また、移動機構７１は上記の機構に限らず、公知の他の移動機構を適用しても良い。
【００３２】
上記移動機構７１、照射器１Ａ〜１Ｅ、ステージ３等は照射装置１の制御装置８０（図１）によって制御される。この制御装置８０及び移動機構７１により、支持部６２は以下のように移動する。
図７は支持部６２の移動を説明する図であり、図７（Ａ）は支持部６２が待避位置の場合を示し、図７（Ｂ）は支持部６２が受け止め位置の場合を示し、図７（Ｃ）はマスク５０が脱落した場合を示している。
上記エアシリンダ７２は、制御装置８０（図１）の制御の下、図７（Ａ）に示すように、ステージ３が上昇してステージ３上のワーク２に光を照射する照射時の状態になる直前に、支持部６２のそれぞれを、ステージ３の領域から外れた待避位置（正面側及び背面側に待避した位置）に移動させる。また、ステージ３がマスク５０から離れた下方位置に待避した場合には、図７（Ｂ）に示すように、支持部６２のそれぞれを、マスク５０の下方に対応する受け止め位置へと移動させる。これにより、マスクホルダ５からマスク５０が脱落した際に、図７（Ｃ）に示すように、マスク５０を受け止めることができる。
【００３３】
以上説明したように、本実施形態に係る照射装置１は、照射器１Ａ〜１Ｅとワーク２との間に、ワーク２の所定領域を遮光するマスク５０を重力に抗して保持するマスクホルダ５を備え、マスクホルダ５から脱落したマスク５０を、マスク５０との衝撃を緩和して受け止める受け止め部６０を有している。これにより、マスク５０が脱落してもマスク５０との衝撃を緩和してマスク５０を受け止めることができ、マスク５０の破損を防止できる。
しかも、受け止め部６０は、マスクホルダ５から脱落したマスク５０を受け止めるので、マスクホルダ５から離間して受け止め部６０を配置でき、マスクホルダ５側に受け止め部６０の構成が不要である。従って、従来のマスク脱落防止機構を設けた構成と比べて、簡易な構成で、マスク５０の破損を防止できる。また、既存のマスクホルダ等を流用できるので、マスク５０の脱落防止機構を備えない従来装置の一部改良によって、本構成の照射装置１を容易に製作することが可能である。
【００３４】
また、マスクホルダ５は、マスク５０を真空吸着により保持し、受け止め部６０は、マスクホルダ５に保持されたマスク５０の下方に、マスク５０との間に隙間δＡを空けて配置されるので、何らかの原因で吸着破壊が起こった場合にマスク５０の破損を防止できる。
また、受け止め部６０は、マスクホルダ５から脱落したマスク５０が当接する当接部６１と、当接部６１をマスク５０の落下方向に移動自在に支持する支持部６２と、当接部６１と支持部６２との間に介挿される弾性部材６３（衝撃緩和部材）とを備えるので、受け止め部６０そのものを簡易な構成にすることができる。
【００３５】
さらに、受け止め部６０は、マスクホルダ５から脱落したマスク５０を受け止める受け止め位置と、受け止め位置から待避した待避位置とに移動自在であるので、マスク５０周辺に存在するワーク２、及びステージ３等から受け止め部６０を待避させることができ、受け止め部６０が邪魔とならない。
しかも、ステージ３の移動に応じて受け止め部６０を受け止め位置と待避位置とに移動させる移動機構７１を備えるので、ステージ３の移動を妨げず、且つ、ステージ３が待避した待機時に、マスク５０が脱落して破損する事態を効果的に防止できる。
【００３６】
上述した実施形態は、あくまでも本発明の一実施の態様であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で任意に変形、及び応用が可能である。
例えば、上述した実施形態において、照射装置１が硬化させる材料は、光硬化性の樹脂に限らず、光照射によって硬化する材料であれば任意の光硬化性材料を用いることができる。また光硬化性材料は紫外線によって硬化する材料に限らず、他の所定波長の光によって硬化する材料を用いることができる。
【００３７】
また、本発明の照射装置１は、表示パネルの構成部品となる２枚の光透過性基板２Ｂ間のシール材（液晶封止材）を硬化させるシール材硬化装置に限らず、マスクを重力に抗して保持する構成を具備する照射装置に広く適用可能である。
【符号の説明】
【００３８】
１  照射装置
２  ワーク
３  ステージ
５  マスクホルダ
６０  受け止め部
６１  当接部
６２  支持部
６３  弾性部材（衝撃緩和部材）
７１  移動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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