(57)【要約】【課題】液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる液晶表示画面保護シートを提供する。【解決手段】液晶表示画面保護シート１は、基体３と、基体３の液晶表示画面２と反対側の表面に形成された保護被覆層４と、基体３の液晶表示画面２側の表面に形成された反射被覆層５とを備える。反射被覆層５は、５０〜７０ｎｍのＴｉ３Ｏ５膜６ａと、８５〜１０５ｎｍのＳｉＯ２膜７と、１３０〜１５０ｎｍのＺｒＯ２膜６ｂとからなる。【選択図】  図１
2017191161.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され５０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜と、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備えるＳｉＯ２膜と、該ＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備えるＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
【請求項２】
液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され５０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜と、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成され１０５〜１２５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され１〜１５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
【請求項３】
液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され５０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜と、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
【請求項４】
液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備えるＳｉＯ２膜と、該ＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
【請求項５】
液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され１２０〜１４０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され７５〜９５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され５５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜と、該第２のＺｒＯ２膜上に形成され７５〜９５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され５５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
【請求項６】
液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、
化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備え、
該反射被覆層は、該基体上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜と、該第２のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする液晶表示画面保護シート。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示画面保護シートに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、スマートフォン、タブレット端末、パーソナルコンピュータ等の液晶表示画面を擦過による傷つきや、衝撃による破損等から保護する液晶表示画面保護シートが知られている。
【０００３】
前記液晶表示画面保護シートは、例えば、化学強化ガラスを基体とするものであり、前記液晶表示画面に貼付されて用いられる。このとき、前記基体自体に防汚性、耐擦性、耐傷性等を付与するために、前記液晶表示画面と反対側の表面にダイアモンドライクドカーボン（以下、ＤＬＣと略記することがある）層を設けることが考えられる。
【０００４】
一方、スマートフォンの場合、利便性、ファッション性のための付加価値としてバックライトを消灯したときに、前記液晶表示画面に添付された前記液晶表示画面保護シートを鏡面として使用することが望まれている。そこで、前記基体の前記液晶表示画面側の表面に鏡面層を備える液晶表示画面保護シートが知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１２−１５３０３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、前記従来の液晶表示画面保護シートでは、鏡面としての性能が十分に得られないという不都合がある。
【０００７】
本発明は、かかる不都合を解消して、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる液晶表示画面保護シートを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
かかる目的を達成するために、本発明は、液晶表示画面の表面に貼付される液晶表示画面保護シートであって、化学強化ガラスからなる基体と、該基体の該液晶表示画面と反対側の表面に形成されたダイアモンドライクドカーボンからなる保護被覆層と、該基体の該液晶表示画面側の表面に形成され入射光を反射する反射被覆層とを備える。
【０００９】
ここで、本発明の第１の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され５０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜と、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備えるＳｉＯ２膜と、該ＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備えるＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする。
【００１０】
本発明の第１の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を１５〜２５％の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００１１】
また、本発明の第２の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され５０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜と、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成され１０５〜１２５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され１〜１５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする。
【００１２】
本発明の第２の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を２５〜３５％の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００１３】
また、本発明の第３の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され５０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜と、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする。
【００１４】
本発明の第３の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を３５〜４５％の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００１５】
また、本発明の第４の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備えるＳｉＯ２膜と、該ＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする。
【００１６】
本発明の第４の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を１５〜２５％の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００１７】
また、本発明の第５の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され１２０〜１４０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され７５〜９５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され５５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜と、該第２のＺｒＯ２膜上に形成され７５〜９５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され５５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする。
【００１８】
本発明の第５の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を２５〜３５％の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００１９】
また、本発明の第６の態様の液晶表示画面保護シートは、前記反射被覆層が、前記基体上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜と、該第１のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜と、該第１のＳｉＯ２膜上に形成され６０〜８０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜と、該第２のＺｒＯ２膜上に形成され８５〜１０５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜と、該第２のＳｉＯ２膜上に形成され１３０〜１５０ｎｍの範囲の厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とからなることを特徴とする。
【００２０】
本発明の第６の態様の液晶表示画面保護シートによれば、前記構成を備えることにより前記反射被覆層の反射率を３５〜４５％の範囲とすることができ、液晶表示画面に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の液晶表示画面保護シートの一構成例を示す模式的断面図。
【図２】本発明の液晶表示画面保護シートの他の構成例を示す模式的断面図。
【図３】真空蒸着装置の構成を示す模式的断面図。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
次に、添付の図面を参照しながら本発明の実施の形態についてさらに詳しく説明する。
【００２３】
図１に示すように、本実施形態の第１の形態の液晶表示画面保護シート１は、液晶表示装置としてのスマートフォンの液晶表示画面２に貼付して用いられ、化学強化ガラスからなる基体３の液晶表示画面２と反対側の表面にＤＬＣからなる保護被覆層４を備え、液晶表示画面２側の表面に反射被覆層５を備えている。
【００２４】
基体３は、例えば、厚さ０．２〜０．４ｍｍの範囲の市販の化学強化ガラスを用いることができる。また、保護被覆層４は、アセチレン等の炭化水素ガスを原料とするプラズマＣＶＤ法等の公知の方法により、基体３の表面に厚さ１０〜３０ｎｍの範囲のＤＬＣ膜を形成することにより得ることができる。
【００２５】
反射被覆層５は、例えば、基体３の表面に、より屈折率の大きな大屈折率金属酸化物と、該大屈折率金属酸化物より屈折率の小さな小屈折率金属酸化物とを交互に積層することにより形成される。前記大屈折率金属酸化物としてはＴｉ３Ｏ５、ＺｒＯ２を挙げることができ、前記小屈折率金属酸化物としてはＳｉＯ２を挙げることができる。
【００２６】
図１に示す液晶表示画面保護シート１では、反射被覆層５は、例えば、基体３の表面に形成された大屈折率金属酸化物層６ａと、大屈折率金属酸化物層６ａ上に形成された小屈折率金属酸化物層７と、小屈折率金属酸化物層７上に形成された大屈折率金属酸化物層６ｂとの３層からなるものとすることができる。
【００２７】
ここで、液晶表示画面保護シート１は、反射被覆層５の大屈折率金属酸化物層６ａをＴｉ３Ｏ５膜又はＺｒＯ２膜とし、小屈折率金属酸化物層７をＳｉＯ２膜とし、大屈折率金属酸化物層６ｂをＺｒＯ２膜とし、各層の膜厚を調整することにより、液晶表示画面２に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００２８】
また、反射被覆層５は、例えば、図２に液晶表示画面保護シート１１として示すように、大屈折率金属酸化物層６ａ、小屈折率金属酸化物層７ａ、大屈折率金属酸化物層６ｂ、小屈折率金属酸化物層７ｂ、大屈折率金属酸化物層６ｃからなる５層構造としてもよい（以下、大屈折率金属酸化物層６ａ，６ｂ，６ｃを「大屈折率金属酸化物層６」に代表させて示すことがあり、小屈折率金属酸化物層７ａ，７ｂを「小屈折率金属酸化物層７」に代表させて示すことがある）。尚、図２では図１と同一の構成には同一の符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００２９】
ここで、液晶表示画面保護シート１１は、反射被覆層５の大屈折率金属酸化物層６ａをＺｒＯ２膜とし、小屈折率金属酸化物層７ａをＳｉＯ２膜とし、大屈折率金属酸化物層６ｂをＴｉ３Ｏ５膜又はＺｒＯ２膜とし、小屈折率金属酸化物層７ｂをＳｉＯ２膜とし、大屈折率金属酸化物層６ｃをＺｒＯ２膜とし、各層の膜厚を調整することにより、液晶表示画面２に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００３０】
さらに、液晶表示画面保護シート１，１１は、液晶表示画面２側の最外層に光学透明（ＯＣＡ）両面シート８を備えており、ＯＣＡ両面シート８を介して液晶表示画面２に、貼付される。ＯＣＡ両面シート８としては、市販のものを用いることができる。
【００３１】
大屈折率金属酸化物層６と小屈折率金属酸化物層７とは、それぞれ図３に示す真空蒸着装置２１を用いて形成することができる。
【００３２】
真空蒸着装置２１は、イオンアシスト真空蒸着を行う装置であり、内部を排気可能とした真空チャンバ２２の底部に、電子銃２３ａ，２３ｂ、イオン銃２４を備えている。電子銃２３ａ，２３ｂ、イオン銃２４は、その上方にシャッタ２５ａ，２５ｂ，２５ｃを備えており、シャッタ２５ａ，２５ｂ，２５ｃは水平方向にスライドすることにより電子銃２３ａ，２３ｂ、イオン銃２４の上方を選択的に遮蔽することができる。
【００３３】
真空チャンバ２２の上部には、基板ドーム２６と、上下に９０°の角度で揺動自在とされた補正板２７とが備えられており、基板ドーム２６は真空チャンバ２２の外部に設けられたモータ２８により回転駆動される。さらに、真空チャンバ２２はその天面に図示しないヒータを備えている。
【００３４】
真空蒸着装置２１によれば、例えば、真空チャンバ２２内部を３．０×１０−３Ｐａ程度の真空とし、図示しないヒータにより例えば３００℃程度の高温に加熱した状態で電子銃２３ａ，２３ｂから金属酸化物分子を放射する。また、真空蒸着装置２１によれば、真空チャンバ２２内部を前記真空とし、前記ヒータにより例えば７０℃程度に加熱した状態で電子銃２３ａ，２３ｂから金属酸化物分子を放射することもできる。
【００３５】
このとき、例えば、電子銃２３ａからはＳｉＯ２、電子銃２３ｂからはＴｉ３Ｏ５又は、ＺｒＯ２を放射する。一方、イオン銃２４からは、酸素又はアルゴンのイオンが放射される。
【００３６】
前記金属酸化物分子は、イオン銃２４から放射されるイオンに補助されて、上方に向かい、補正板２７に案内されて、基板ドーム２６の内面に配設された基体３（図示せず）の表面に堆積され、大屈折率金属酸化物層６又は小屈折率金属酸化物層７を形成する。このとき、電子銃２３ａ，２３ｂに配設されたシャッタ２５ａ，２５ｂにより、電子銃２３ａ又は電子銃２３ｂの上方を選択的に遮蔽することにより、基体３の表面に大屈折率金属酸化物層６又は小屈折率金属酸化物層７のいずれか一方を堆積させることができる。また、堆積させる時間を調整することにより、大屈折率金属酸化物層６又は小屈折率金属酸化物層７を所望の膜厚とすることができる。
【００３７】
そこで、反射被覆層５は、大屈折率金属酸化物層６と小屈折率金属酸化物層７との材料、膜厚を変えることにより、その反射率を１５〜４５％の範囲で調整することができ、液晶表示画面保護シート１，１１が液晶表示画面２に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を付与することができる。
【００３８】
次に、本実施形態の液晶表示画面保護シート１，１１における反射被覆層５の具体的な構成について説明する。
【００３９】
まず、図１に示す液晶表示画面保護シート１において、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを、５０〜７０ｎｍの範囲、好ましくは５５〜６５ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜とし、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７を、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備えるＳｉＯ２膜とし、該ＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを、１３０〜１５０ｎｍの範囲、好ましくは１３５〜１４５ｎｍの範囲の厚さを備えるＺｒＯ２膜とすることができる。
【００４０】
このとき、さらに具体的には、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを６０ｎｍの厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜とし、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７を９４ｎｍの厚さを備えるＳｉＯ２膜とし、該ＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを１４１ｎｍの厚さを備えるＺｒＯ２膜とする。
【００４１】
また、図１に示す液晶表示画面保護シート１において、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを、６０〜８０ｎｍの範囲、好ましくは６５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７を、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備えるＳｉＯ２膜とし、該ＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを、１３０〜１５０ｎｍの範囲、好ましくは１３５〜１４５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とすることができる。
【００４２】
このとき、さらに具体的には、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを７１ｎｍの厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７を９５ｎｍの厚さを備えるＳｉＯ２膜とし、該ＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを１４２ｎｍの厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とする。
【００４３】
図１に示す液晶表示画面保護シート１は、前記いずれかの構成により、反射被覆層５の反射率を１５〜２５％の範囲とすることができ、液晶表示画面２に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００４４】
次に、図２に示す液晶表示画面保護シート１１において、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを、１３０〜１５０ｎｍの範囲、好ましくは１３５〜１４５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを、５０〜７０ｎｍの範囲、好ましくは５５〜６５ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜とし、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを、１０５〜１２５ｎｍの範囲、好ましくは１１０〜１２０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを、１〜１５ｎｍの範囲、好ましくは５〜１０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とすることができる。
【００４５】
このとき、さらに具体的には、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを１４１ｎｍの厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを９５ｎｍの厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを６０ｎｍの厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜とし、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを１１４ｎｍの厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを７ｎｍの厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とする。
【００４６】
また、図２に示す液晶表示画面保護シート１１において、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを、１２０〜１４０ｎｍの範囲、好ましくは１２５〜１３５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを、７５〜９５ｎｍの範囲、好ましくは８０〜９０ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを、５５〜７５ｎｍの範囲、好ましくは６０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とし、該第２のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを、７５〜９５ｎｍの範囲、好ましくは８０〜９０ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを、５５〜７５ｎｍの範囲、好ましくは６０〜７０ｎｍの範囲の厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とすることができる。
【００４７】
このとき、さらに具体的には、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを１２８ｎｍの厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを８６ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを６４ｎｍの厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とし、該第２のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを８６ｎｍの厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを６４ｎｍの厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とする。
【００４８】
図２に示す液晶表示画面保護シート１１は、前記いずれかの構成により、反射被覆層５の反射率を２５〜３５％の範囲とすることができ、液晶表示画面２に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【００４９】
次に、図２に示す液晶表示画面保護シート１１において、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを、６０〜８０ｎｍの範囲、好ましくは６５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを、５０〜７０ｎｍの範囲、好ましくは５５〜６５ｎｍの範囲の厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜とし、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを、１３０〜１５０ｎｍの範囲、好ましくは１３５〜１４５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とすることができる。
【００５０】
このとき、さらに具体的には、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを７０ｎｍの厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを９４ｎｍの厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを６０ｎｍの厚さを備えるＴｉ３Ｏ５膜とし、該Ｔｉ３Ｏ５膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを９４ｎｍの厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを１４１ｎｍの厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とする。
【００５１】
また、図２に示す液晶表示画面保護シート１１において、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを、６０〜８０ｎｍの範囲、好ましくは６５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを、６０〜８０ｎｍの範囲、好ましくは６５〜７５ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とし、該第２のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを、８５〜１０５ｎｍの範囲、好ましくは９０〜１００ｎｍの範囲の厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを、１３０〜１５０ｎｍの範囲、好ましくは１３５〜１４５ｎｍの範囲の厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とすることができる。
【００５２】
このとき、さらに具体的には、反射被覆層５は、基体３上に形成される大屈折率金属酸化物層６ａを７０ｎｍの厚さを備える第１のＺｒＯ２膜とし、該第１のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ａを９４ｎｍの範囲の厚さを備える第１のＳｉＯ２膜とし、該第１のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｂを７０ｎｍの厚さを備える第２のＺｒＯ２膜とし、該第２のＺｒＯ２膜上に形成される小屈折率金属酸化物層７ｂを９４ｎｍの厚さを備える第２のＳｉＯ２膜とし、該第２のＳｉＯ２膜上に形成される大屈折率金属酸化物層６ｃを１４０ｎｍの厚さを備える第３のＺｒＯ２膜とする。
【００５３】
図２に示す液晶表示画面保護シート１１は、前記いずれかの構成により、反射被覆層５の反射率を３５〜４５％の範囲とすることができ、液晶表示画面２に貼付されたときに、鏡面として優れた性能を得ることができる。
【符号の説明】
【００５４】
１，１１…液晶表示画面保護シート、  ２…液晶表示画面、  ３…基体、  ４…保護被覆層、  ５…反射被覆層、  ６…大屈折率金属酸化物層、  ７…小屈折率金属酸化物層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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