(57)【要約】      （修正有）【課題】雑草に対して高い除草効力を示す除草用組成物を提供すること。【解決手段】プロピリスルフロン（１−２−クロロ−６−プロピルイミダ［１，２−ｂ］ピリダジン−３−（イルスホニル）−３−（４，６−ジメトキシピリミジン−２−イル）尿素）と、プロホキシジム、イマゼタピルアンモニウム塩、ペノキススラム、プロパニル、カルフェントラゾンエチル、オキサジアゾン、オキサジアルギル、クロマゾン、ペンディメタリン、ブタクロール、テニルクロール、ナプロアニリド、アニロホス、ピペロホス、ジメピペレート、モリネート、ベンチオカーブ、ベンフレセート、２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＢ、キンクロラック、クミルロン及びインダノファン等の化合物から選ばれる１以上の化合物と、を含有する除草用組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロピリスルフロンと、プロホキシジム、イマゼタピルアンモニウム塩、ペノキススラム、プロパニル、カルフェントラゾンエチル、オキサジアゾン、オキサジアルギル、クロマゾン、ペンディメタリン、ブタクロール、テニルクロール、ナプロアニリド、アニロホス、ピペロホス、ジメピペレート、モリネート、ベンチオカーブ、ベンフレセート、２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジエチルアンモニウム、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオールアミン塩、２，４−Ｄドデシルアンモニウム、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム、２，４−Ｄイソオクチル、２，４−Ｄオソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄリチウム、２，４−Ｄメプチル、２，４−Ｄメチル、２，４−Ｄオクチル、２，４−Ｄペンチル、２，４−Ｄプロピル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄテフリル、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、２，４−Ｄトロールアミン塩、２，４−Ｄコリン塩、２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡイソオクチル、ＭＣＰＡブトチル、ＭＣＰＡブチル、ＭＣＰＡジオールアミン塩、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡイソブチル、ＭＣＰＡイソプロピル、ＭＣＰＡメチル、ＭＣＰＡオールアミン塩、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＡトロールアミン塩、ＭＣＰＡコリン塩、ＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル、ＭＣＰＢメチル、ＭＣＰＢナトリウム塩、ＭＣＰＢコリン塩、ＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩、キンクロラック、クミルロン及びインダノファンから成る化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物とを含有する除草用組成物。
【請求項２】
雑草を防除する方法であり、プロピリスルフロンと、プロホキシジム、イマゼタピルアンモニウム塩、ペノキススラム、プロパニル、カルフェントラゾンエチル、オキサジアゾン、オキサジアルギル、クロマゾン、ペンディメタリン、ブタクロール、テニルクロール、ナプロアニリド、アニロホス、ピペロホス、ジメピペレート、モリネート、ベンチオカーブ、ベンフレセート、２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジエチルアンモニウム、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオールアミン塩、２，４−Ｄドデシルアンモニウム、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム、２，４−Ｄイソオクチル、２，４−Ｄオソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄリチウム、２，４−Ｄメプチル、２，４−Ｄメチル、２，４−Ｄオクチル、２，４−Ｄペンチル、２，４−Ｄプロピル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄテフリル、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、２，４−Ｄトロールアミン塩、２，４−Ｄコリン塩、２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡイソオクチル、ＭＣＰＡブトチル、ＭＣＰＡブチル、ＭＣＰＡジオールアミン塩、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡイソブチル、ＭＣＰＡイソプロピル、ＭＣＰＡメチル、ＭＣＰＡオールアミン塩、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＡトロールアミン塩、ＭＣＰＡコリン塩、ＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル、ＭＣＰＢメチル、ＭＣＰＢナトリウム塩、ＭＣＰＢコリン塩、ＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩、キンクロラック、クミルロン及びインダノファンから成る化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物とを含有する除草剤組成物を散布する工程、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物を同時に散布する工程を有する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は除草用組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、除草剤の有効成分として多くの化合物が知られている（例えば、非特許文献１及び２参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００３】
【非特許文献１】Ｃｒｏｐ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  ｖｏｌ．９７（２０１１）
【非特許文献２】Ｈｅｒｂｉｃｉｄｅ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  Ｎｉｎｔｈ  ｅｄｉｔｉｏｎ（２００７）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、雑草に対して高い除草効力を示す除草用組成物を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者は、雑草に対して高い除草効力を示す除草用組成物を見出すべく検討した結果、特定の除草剤を組合せた組成物が雑草に対して高い除草効力を示すことを見出し、本発明に至った。
本発明は以下のものである。
【０００６】
［１］  プロピリスルフロンと、プロホキシジム、イマゼタピルアンモニウム塩、ペノキススラム、プロパニル、カルフェントラゾンエチル、オキサジアゾン、オキサジアルギル、クロマゾン、ペンディメタリン、ブタクロール、テニルクロール、ナプロアニリド、アニロホス、ピペロホス、ジメピペレート、モリネート、ベンチオカーブ、ベンフレセート、２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジエチルアンモニウム、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオールアミン塩、２，４−Ｄドデシルアンモニウム、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム、２，４−Ｄイソオクチル、２，４−Ｄオソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄリチウム、２，４−Ｄメプチル、２，４−Ｄメチル、２，４−Ｄオクチル、２，４−Ｄペンチル、２，４−Ｄプロピル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄテフリル、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、２，４−Ｄトロールアミン塩、２，４−Ｄコリン塩、２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡイソオクチル、ＭＣＰＡブトチル、ＭＣＰＡブチル、ＭＣＰＡジオールアミン塩、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡイソブチル、ＭＣＰＡイソプロピル、ＭＣＰＡメチル、ＭＣＰＡオールアミン塩、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＡトロールアミン塩、ＭＣＰＡコリン塩、ＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル、ＭＣＰＢメチル、ＭＣＰＢナトリウム塩、ＭＣＰＢコリン塩、ＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩、キンクロラック、クミルロン及びインダノファンから成る化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物とを含有する除草用組成物。
【０００７】
［２］  雑草を防除する方法であり、プロピリスルフロンと、プロホキシジム、イマゼタピルアンモニウム塩、ペノキススラム、プロパニル、カルフェントラゾンエチル、オキサジアゾン、オキサジアルギル、クロマゾン、ペンディメタリン、ブタクロール、テニルクロール、ナプロアニリド、アニロホス、ピペロホス、ジメピペレート、モリネート、ベンチオカーブ、ベンフレセート、２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジエチルアンモニウム、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオールアミン塩、２，４−Ｄドデシルアンモニウム、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム、２，４−Ｄイソオクチル、２，４−Ｄオソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄリチウム、２，４−Ｄメプチル、２，４−Ｄメチル、２，４−Ｄオクチル、２，４−Ｄペンチル、２，４−Ｄプロピル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄテフリル、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、２，４−Ｄトロールアミン塩、２，４−Ｄコリン塩、２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡイソオクチル、ＭＣＰＡブトチル、ＭＣＰＡブチル、ＭＣＰＡジオールアミン塩、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡイソブチル、ＭＣＰＡイソプロピル、ＭＣＰＡメチル、ＭＣＰＡオールアミン塩、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＡトロールアミン塩、ＭＣＰＡコリン塩、ＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル、ＭＣＰＢメチル、ＭＣＰＢナトリウム塩、ＭＣＰＢコリン塩、ＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩、キンクロラック、クミルロン及びインダノファンから成る化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物とを含有する除草剤組成物を散布する工程、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物を同時に散布する工程を有する方法。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の除草用組成物（以下、本発明組成物と記す）は相乗効果を示し、広範囲の雑草を効果的に防除できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明組成物は、プロピリスルフロン（１−（２−ｃｈｌｏｒｏ−６−ｐｒｏｐｙｌｉｍｉｄａｚｏ［１，２−ｂ］ｐｙｒｉｄａｚｉｎ−３−ｙｌｓｕｌｆｏｎｙｌ）−３−（４，６−ｄｉｍｅｔｈｏｘｙｐｙｒｉｍｉｄｉｎ−２−ｙｌ）ｕｒｅａ）と、下記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物とを含有する組成物である。
化合物群Ａ： クロジナホップ（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ）、クロジナホッププロパルギル（ｃｌｏｄｉｎａｆｏｐ−ｐｒｏｐａｒｇｙｌ）、シハロホップ（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ）、  シハロホップブチル（ｃｙｈａｌｏｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、ジクロホップ（ｄｉｃｌｏｆｏｐ）、ジクロホップメチル（ｄｉｃｌｏｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップ（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ）、フェノキサプロップエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、フェノキサプロップＰ（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ）、フェノキサプロップＰエチル（ｆｅｎｏｘａｐｒｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、フルアジホップ（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ）、フルアジホップブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−ｂｕｔｙｌ）、フルアジホップＰ（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−Ｐ）、フルアジホップＰブチル（ｆｌｕａｚｉｆｏｐ−Ｐ−ｂｕｔｙｌ）、ハロキシホップ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ）、ハロキシホップメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ハロキシホップＰ（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−Ｐ）、ハロキシホップＰメチル（ｈａｌｏｘｙｆｏｐ−Ｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、メタミホップ（ｍｅｔａｍｉｆｏｐ）、プロパキザホップ（ｐｒｏｐａｑｕｉｚａｆｏｐ）、キザロホップ（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ）、キザロホップエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−ｅｔｈｙｌ）、キザロホップＰ（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ）、キザロホップＰエチル（ｑｕｉｚａｌｏｆｏｐ−Ｐ−ｅｔｈｙｌ）、アロキシジム（ａｌｌｏｘｙｄｉｍ）、ブトロキシジム（ｂｕｔｒｏｘｙｄｉｍ）、クレトジム（ｃｌｅｔｈｏｄｉｍ）、シクロキシジム（ｃｙｃｌｏｘｙｄｉｍ）、プロホキシジム（ｐｒｏｆｏｘｙｄｉｍ）、セトキシジム（ｓｅｔｈｏｘｙｄｉｍ）、テプラロキシジム（ｔｅｐｒａｌｏｘｙｄｉｍ）、トラルコキシジム（ｔｒａｌｋｏｘｙｄｉｍ）、ピノキサデン（ｐｉｎｏｘａｄｅｎ）、アミドスルフロン（ａｍｉｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、アジムスルフロン（ａｚｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロン（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ベンスルフロンメチル（ｂｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロリムロン（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ）、クロリムロンエチル（ｃｈｌｏｒｉｍｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、クロルスルフロン（ｃｈｌｏｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シノスルフロン（ｃｉｎｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、シクロスルファムロン（ｃｙｃｌｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、エタメトスルフロン（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ）、エタメトスルフロンメチル（ｅｔｈａｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、エトキシスルフロン（ｅｔｈｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フラザスルフロン（ｆｌａｚａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルセトスルフロン（ｆｌｕｃｅｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロン（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ）、フルピルスルフロンメチルナトリウム（ｆｌｕｐｙｒｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、ホラムスルフロン（ｆｏｒａｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロン（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ハロスルフロンメチル（ｈａｌｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマゾスルフロン（ｉｍａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロン（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ヨードスルフロンメチルナトリウム（ｉｏｄｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ−ｓｏｄｉｕｍ）、イオフェンスルフロン（ｉｏｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イオフェンスルフロンナトリウム（ｉｏｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、メソスルフロン（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メソスルフロンメチル（ｍｅｓｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、メタゾスルフロン（ｍｅｔａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスルフロン（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ）、メトスルフロンメチル（ｍｅｔｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、ニコスルフロン（ｎｉｃｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、オルトスルファムロン（ｏｒｔｈｏｓｕｌｆａｍｕｒｏｎ）、オキサスルフロン（ｏｘａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロン（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ）、プリミスルフロンメチル（ｐｒｉｍｉｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、プロスルフロン（ｐｒｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロン（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、ピラゾスルフロンエチル（ｐｙｒａｚｏｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、リムスルフロン（ｒｉｍｓｕｌｆｕｒｏｎ）、スルホメツロン（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ）、スルホメツロンメチル（ｓｕｌｆｏｍｅｔｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、スルホスルフロン（ｓｕｌｆｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロン（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ）、チフェンスルフロンメチル（ｔｈｉｆｅｎｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリアスルフロン（ｔｒｉａｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリベニュロン（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ）、トリベニュロンメチル（ｔｒｉｂｅｎｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリフロキシスルフロンナトリウム塩（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、トリフロキシスルフロン（ｔｒｉｆｌｏｘｙｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフルスルフロン（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ）、トリフルスルフロンメチル（ｔｒｉｆｌｕｓｕｌｆｕｒｏｎ−ｍｅｔｈｙｌ）、トリトスルフロン（ｔｒｉｔｏｓｕｌｆｕｒｏｎ）、イマザピック（ｉｍａｚａｐｉｃ）、イマザピックアンモニウム塩（ｉｍａｚａｐｉｃ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、イマザメタベンズ（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ）、イマザメタベンズメチル（ｉｍａｚａｍｅｔｈａｂｅｎｚ−ｍｅｔｈｙｌ）、イマザモックス（ｉｍａｚａｍｏｘ）、イマザモックスアンモニウム塩（ｉｍａｚａｍｏｘ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、イマザピル（ｉｍａｚａｐｙｒ）、イマザピルイソプロピルアンモニウム塩（ｉｍａｚａｐｙｒ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、イマザキン（ｉｍａｚａｑｕｉｎ）、イマザキンアンモニウム塩（ｉｍａｚａｑｕｉｎ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、イマゼタピル（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ）、イマゼタピルアンモニウム塩（ｉｍａｚｅｔｈａｐｙｒ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、クロランスラム（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ）、クロランスラムメチル（ｃｌｏｒａｎｓｕｌａｍ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジクロスラム（ｄｉｃｌｏｓｕｌａｍ）、フロラスラム（ｆｌｏｒａｓｕｌａｍ）、フルメツラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、フルメトスラム（ｆｌｕｍｅｔｓｕｌａｍ）、メトスラム（ｍｅｔｏｓｕｌａｍ）、ペノキススラム（ｐｅｎｏｘｓｕｌａｍ）、ピロキシスラム（ｐｙｒｏｘｓｕｌａｍ）、ビスピリバック（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ）、ビスピリバックナトリウム塩（ｂｉｓｐｙｒｉｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリベンゾキシム（ｐｙｒｉｂｅｎｚｏｘｉｍ）、ピリフタリド（ｐｙｒｉｆｔａｌｉｄ）、ピリミノバック（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ）、ピリミノバックメチル（ｐｙｒｉｍｉｎｏｂａｃ−ｍｅｔｈｙｌ）、ピリチオバック（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ）、ピリチオバックナトリウム塩（ｐｙｒｉｔｈｉｏｂａｃ−ｓｏｄｉｕｍ）、ピリミスルファン（ｐｙｒｉｍｉｓｕｌｆａｎ）、トリアファモン（ｔｒｉａｆａｍｏｎｅ）、フルカルバゾン（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ）、フルカルバゾンナトリウム塩（ｆｌｕｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、プロポキシカルバゾン（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ）、プロポキシカルバゾンナトリウム塩（ｐｒｏｐｏｘｙｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、チエンカルバゾン（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、チエンカルバゾンメチル（ｔｈｉｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ−ｍｅｔｈｙｌ）、アメトリン（ａｍｅｔｒｙｎ）、アトラジン（ａｔｒａｚｉｎｅ）、シアナジン（ｃｙａｎａｚｉｎｅ）、デスメトリン（ｄｅｓｍｅｔｒｙｎ）、ジメタメトリン（ｄｉｍｅｔｈａｍｅｔｒｙｎ）、プロメトン（ｐｒｏｍｅｔｏｎ）、プロメトリン（ｐｒｏｍｅｔｒｙｎ）、プロパジン（ｐｒｏｐａｚｉｎｅ）、シマジン（ｓｉｍａｚｉｎｅ）、シメトリン（ｓｉｍｅｔｒｙｎ）、テルブメトン（ｔｅｒｂｕｍｅｔｏｎ）、テルブチラジン（ｔｅｒｂｕｔｈｙｌａｚｉｎｅ）、テルブトリン（ｔｅｒｂｕｔｒｙｎ）、トリエタジン（ｔｒｉｅｔａｚｉｎｅ）、ヘキサジノン（ｈｅｘａｚｉｎｏｎｅ）、メタミトロン（ｍｅｔａｍｉｔｒｏｎ）、メトリブジン（ｍｅｔｒｉｂｕｚｉｎ）、アミカルバゾン（ａｍｉｃａｒｂａｚｏｎｅ）、ブロマシル（ｂｒｏｍａｃｉｌ）、レナシル（ｌｅｎａｃｉｌ）、ターバシル（ｔｅｒｂａｃｉｌ）、クロリダゾン（ｃｈｌｏｒｉｄａｚｏｎ）、デスメジファム（ｄｅｓｍｅｄｉｐｈａｍ）、フェンメディファム（ｐｈｅｎｍｅｄｉｐｈａｍ）、クロルブロムロン（ｃｈｌｏｒｏｂｒｏｍｕｒｏｎ）、クロロトルロン（ｃｈｌｏｒｏｔｏｌｕｒｏｎ）、クロロクスロン（ｃｈｌｏｒｏｘｕｒｏｎ）、ジメフロン（ｄｉｍｅｆｕｒｏｎ）、ジウロン（ｄｉｕｒｏｎ）、エチジムロン（ｅｔｈｉｄｉｍｕｒｏｎ）、フェニュロン（ｆｅｎｕｒｏｎ）、フルオメツロン（ｆｌｕｏｍｅｔｕｒｏｎ）、イソプロツロン（ｉｓｏｐｒｏｔｕｒｏｎ）、イソウロン（ｉｓｏｕｒｏｎ）、リニュロン（ｌｉｎｕｒｏｎ）、ベンズチアズロン（ｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、メタベンズチアズウロン（ｍｅｔｈａｂｅｎｚｔｈｉａｚｕｒｏｎ）、メトブロムロン（ｍｅｔｏｂｒｏｍｕｒｏｎ）、メトキスロン（ｍｅｔｏｘｕｒｏｎ）、モノリニュロン（ｍｏｎｏｌｉｎｕｒｏｎ）、ネブロン（ｎｅｂｕｒｏｎ）、シデュロン（ｓｉｄｕｒｏｎ）、テブチウロン（ｔｅｂｕｔｈｉｕｒｏｎ）、プロパニル（ｐｒｏｐａｎｉｌ）、ペンタノクロール（ｐｅｎｔａｎｏｃｈｌｏｒ）、ブロモフェノキシム（ｂｒｏｍｏｆｅｎｏｘｉｍ）、ブロモキシニル（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ）、ブロモキシニルオクタノエート（ｂｒｏｍｏｘｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、アイオキシニル（ｉｏｘｙｎｉｌ）、アイオキシニルオクタノエート（ｉｏｘｙｎｉｌ−ｏｃｔａｎｏａｔｅ）、ベンタゾン（ｂｅｎｔａｚｏｎ）、シクロピリモレート（ｃｙｃｌｏｐｙｒｉｍｏｒａｔｅ）、ピリデート（ｐｙｒｉｄａｔｅ）、ピリダフォル（ｐｙｒｉｄａｆｏｌ）、ジクワット（ｄｉｑｕａｔ）、ジクワットジブロミド（ｄｉｑｕａｔ−ｄｉｂｒｏｍｉｄｅ）、パラコート（ｐａｒａｑｕａｔ）、パラコートジクロリド（ｐａｒａｑｕａｔ−ｄｉｃｈｌｏｒｉｄｅ）、アシフルオルフェン（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ）、アシフルオルフェンナトリウム塩（ａｃｉｆｌｕｏｒｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ビフェノックス（ｂｉｆｅｎｏｘ）、クロメトキシフェン（ｃｈｌｏｍｅｔｈｏｘｙｆｅｎ）、エトキシフェンエチル（ｅｔｈｏｘｙｆｅｎ‐ｅｔｈｙｌ）、フルオログリコフェンエチル（ｆｌｕｏｒｏｇｌｙｃｏｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、ホメサフェン（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ）、ホメサフェンナトリウム（ｆｏｍｅｓａｆｅｎ−ｓｏｄｉｕｍ）、ハロサフェン（ｈａｌｏｓａｆｅｎ）、ラクトフェン（ｌａｃｔｏｆｅｎ）、オキシフルオルフェン（ｏｘｙｆｌｕｏｒｆｅｎ）、フルアゾレート（ｆｌｕａｚｏｌａｔｅ）、ピラフルフェンエチル（ｐｙｒａｆｌｕｆｅｎ−ｅｔｈｙｌ）、シニドン（ｃｉｎｉｄｏｎ）、シニドンエチル（ｃｉｎｉｄｏｎ−ｅｔｈｙｌ）、フルミクロラック（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ）、フルミクロラックペンチル（ｆｌｕｍｉｃｌｏｒａｃ−ｐｅｎｔｙｌ）、フルミオキサジン（ｆｌｕｍｉｏｘａｚｉｎ）、フルチアセット（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ）、フルチアセットメチル（ｆｌｕｔｈｉａｃｅｔ−ｍｅｔｈｙｌ）、チジアジミン（ｔｈｉｄｉａｚｉｍｉｎ）、オキサジアゾン（ｏｘａｄｉａｚｏｎ）、オキサジアルギル（ｏｘａｄｉａｒｇｙｌ）、アザフェニジン（ａｚａｆｅｎｉｄｉｎ）、ベンカルバゾン（ｂｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、カルフェントラゾン（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、カルフェントラゾンエチル（ｃａｒｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ−ｅｔｈｙｌ）、スルフェントラゾン（ｓｕｌｆｅｎｔｒａｚｏｎｅ）、ペントキサゾン（ｐｅｎｔｏｘａｚｏｎｅ）、ベンズフェンジゾン（ｂｅｎｚｆｅｎｄｉｚｏｎｅ）、ブタフェナシル（ｂｕｔａｆｅｎａｃｉｌ）、サフルフェナシル（ｓａｆｌｕｆｅｎａｃｉｌ）、チアフェナシル（ｔｉａｆｅｎａｃｉｌ）、ピラクロニル（ｐｙｒａｃｌｏｎｉｌ）、プロフルアゾール（ｐｒｏｆｌｕａｚｏｌ）、フルフェンピル（ｆｌｕｆ
ｅｎｐｙｒ）、フルフェンピルエチル（ｆｌｕｆｅｎｐｙｒ−ｅｔｈｙｌ）、トリフルジモキサジン（ｔｒｉｆｌｕｄｉｍｏｘａｚｉｎ）、ノルフルラゾン（ｎｏｒｆｌｕｒａｚｏｎ）、ジフルフェニカン（ｄｉｆｌｕｆｅｎｉｃａｎ）、ピロコリナフェン（ｐｉｃｏｌｉｎａｆｅｎ）、ベフルブタミド（ｂｅｆｌｕｂｕｔａｍｉｄ）、フルリドン（ｆｌｕｒｉｄｏｎｅ）、フルロクロリドン（ｆｌｕｒｏｃｈｌｏｒｉｄｏｎｅ）、フルルタモン（ｆｌｕｒｔａｍｏｎｅ）、フェンキノトリオン（ｆｅｎｑｕｉｎｏｔｒｉｏｎｅ）、メソトリオン（ｍｅｓｏｔｒｉｏｎｅ）、スルコトリオン（ｓｕｌｃｏｔｒｉｏｎｅ）、テフリルトリオン（ｔｅｆｕｒｙｌｔｒｉｏｎｅ）、テンボトリオン（ｔｅｍｂｏｔｒｉｏｎｅ）、イソキサクロルトール（ｉｓｏｘａｃｈｌｏｒｔｏｌｅ）、イソキサフルトール（ｉｓｏｘａｆｌｕｔｏｌｅ）、ベンゾフェナップ（ｂｅｎｚｏｆｅｎａｐ）、ピラスルホトール（ｐｙｒａｓｕｌｆｏｔｏｌｅ）、ピラゾリネート（ｐｙｒａｚｏｌｙｎａｔｅ）、ピラゾキシフェン（ｐｙｒａｚｏｘｙｆｅｎ）、トプラメゾン（ｔｏｐｒａｍｅｚｏｎｅ）、ベンゾビシクロン（ｂｅｎｚｏｂｉｃｙｃｌｏｎ）、ビシクロピロン（ｂｉｃｙｃｌｏｐｙｒｏｎｅ）、トルピラレート（ｔｏｌｐｙｒａｌａｔｅ）、アミトロール（ａｍｉｔｒｏｌｅ）、アクロニフェン（ａｃｌｏｎｉｆｅｎ）、クロマゾン（ｃｌｏｍａｚｏｎｅ）、グリホサート（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ）、グリホサートイソプロピルアミン塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ  ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、グリホサートトリメシウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｔｒｉｍｅｔｈｙｌｓｕｌｆｏｎｉｕｍ）、グリホサートアンモニウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサートジアンモニウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｄｉａｍｍｏｎｉｕｍ）、グリホサートナトリウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｓｏｄｉｕｍ）、グリホサートカリウム塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、グリホサートグアニジン誘導体塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ  ｇｕａｎｉｄｉｎｅ  ｄｅｒｉｖａｔｉｖｅ  ｓａｌｔｓ）、グリホサートコリン塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、グリホサートＢＡＰＭＡ塩（ｇｌｙｐｈｏｓａｔｅ  Ｎ，Ｎ−Ｂｉｓ（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、グルホシネート（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ）、グルホシネートアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、グルホシネートＰ（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ）、グルホシネートＰナトリウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、グルホシネートＰアンモニウム塩（ｇｌｕｆｏｓｉｎａｔｅ−Ｐ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、ビアラホス（ｂｉａｌａｆｏｓｂｉａｌａｐｈｏｓ）、アシュラム（ａｓｕｌａｍ）、ベンフルラリン（ｂｅｎｆｌｕｒａｌｉｎ）、ブトルアリン（ｂｕｔｒａｌｉｎ）、ジニトラミン（ｄｉｎｉｔｒａｍｉｎｅ）、エタルフルラリン（ｅｔｈａｌｆｌｕｒａｌｉｎ）、オリザリン（ｏｒｙｚａｌｉｎ）、ペンディメタリン（ｐｅｎｄｉｍｅｔｈａｌｉｎ）、トリフルラリン（ｔｒｉｆｌｕｒａｌｉｎ）、アミプロホスメチル（ａｍｉｐｒｏｐｈｏｓ−ｍｅｔｈｙｌ）、ブタミホス（ｂｕｔａｍｉｆｏｓ）、ジチオピル（ｄｉｔｈｉｏｐｙｒ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、プロジアミン（ｐｒｏｄｉａｍｉｎｅ）、プロピザミド（ｐｒｏｐｙｚａｍｉｄｅ）、テブタム（ｔｅｂｕｔａｍ）、ＤＣＰＡ（クトルタールジメチル；ｃｈｌｏｒｔｈａｌ−ｄｉｍｅｔｈｙｌ）、クロルプロファム（ｃｈｌｏｒｐｒｏｐｈａｍ）、プロファム（ｐｒｏｐｈａｍ）、カルベタミド（ｃａｒｂｅｔａｍｉｄｅ）、フランプロップＭ（ｆｌａｍｐｒｏｐ−Ｍ）、アセトクロール（ａｃｅｔｏｃｈｌｏｒ）、アラクロール（ａｌａｃｈｌｏｒ）、ブタクロール（ｂｕｔａｃｈｌｏｒ）、ジメタクロール（ｄｉｍｅｔｈａｃｈｌｏｒ）、ジメテナミド（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ）、ジメテナミドＰ（ｄｉｍｅｔｈｅｎａｍｉｄ−Ｐ）、メタザクロール（ｍｅｔａｚａｃｈｌｏｒ）、メトラクロール（ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、Ｓ−メトラクロール（Ｓ−ｍｅｔｏｌａｃｈｌｏｒ）、ペトキサミド（ｐｅｔｈｏｘａｍｉｄ）、プレチラクロール（ｐｒｅｔｉｌａｃｈｌｏｒ）、プロパクロール（ｐｒｏｐａｃｈｌｏｒ）、プロピソクロール（ｐｒｏｐｉｓｏｃｈｌｏｒ）、テニルクロール（ｔｈｅｎｙｌｃｈｌｏｒ）、ジフェナミド（ｄｉｐｈｅｎａｍｉｄ）、ナプロパミド（ｎａｐｒｏｐａｍｉｄｅ）、ナプロパミドＭ（ｎａｐｒｏｐａｍｉｄｅ−Ｍ）、ナプロアニリド（ｎａｐｒｏａｎｉｌｉｄｅ）、フルフェナセット（ｆｌｕｆｅｎａｃｅｔ）、メフェナセット（ｍｅｆｅｎａｃｅｔ）、フェントラザミド（ｆｅｎｔｒａｚａｍｉｄｅ）、イプフェンカルバゾン（ｉｐｆｅｎｃａｒｂａｚｏｎｅ）、アニロホス（ａｎｉｌｏｆｏｓ）、カフェンストロール（ｃａｆｅｎｓｔｒｏｌｅ）、ピペロホス（ｐｉｐｅｒｏｐｈｏｓ）、ピロキサスルホン（ｐｙｒｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、フェノキサスルホン（ｆｅｎｏｘａｓｕｌｆｏｎｅ）、ジクロベニル（ｄｉｃｈｌｏｂｅｎｉｌ）、クロルチアミド（ｃｈｌｏｒｔｈｉａｍｉｄ）、イソキサベン（ｉｓｏｘａｂｅｎ）、フルポキサム（ｆｌｕｐｏｘａｍ）、インダジフラム（ｉｎｄａｚｉｆｌａｍ）、トリアジフラム（ｔｒｉａｚｉｆｌａｍ）、ＤＮＯＣ、ジノセブ（ｄｉｎｏｓｅｂ）、ジノテルブ（ｄｉｎｏｔｅｒｂ）、ブチレート（ｂｕｔｙｌａｔｅ）、シクロエート（ｃｙｃｌｏａｔｅ）、ジアレート（ｄｉ−ａｌｌａｔｅ）、ジメピペレート（ｄｉｍｅｐｉｐｅｒａｔｅ）、ＥＰＴＣ、エスプロカルブ（ｅｓｐｒｏｃａｒｂ）、モリネート（ｍｏｌｉｎａｔｅ）、オルベンカルブ（ｏｒｂｅｎｃａｒｂ）、ペブレート（ｐｅｂｕｌａｔｅ）、プロスルカルブ（ｐｒｏｓｕｌｆｏｃａｒｂ）、ベンチオカーブ（ｂｅｎｔｈｉｏｃａｒｂ）、チオカルバジル（ｔｉｏｃａｒｂａｚｉｌ）、トリアレート（ｔｒｉ‐ａｌｌａｔｅ）、バーナレート（ｖｅｒｎｏｌａｔｅ）、ベンスリド（ｂｅｎｓｕｌｉｄｅ）、ベンフレセート（ｂｅｎｆｕｒｅｓａｔｅ）、エトフメセート（ｅｔｈｏｆｕｍｅｓａｔｅ）、ＴＣＡ、ダラポン（ｄａｌａｐｏｎ）、フルプロパネート（ｆｌｕｐｒｏｐａｎａｔｅ）、クロメプロップ（ｃｌｏｍｅｐｒｏｐ）、２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム（２，４−Ｄ−ａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄブトチル（２，４−Ｄ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル（２，４−Ｄ−２−ｂｕｔｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル（２，４−Ｄ−３−ｂｕｔｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄブチル（２，４−Ｄ−ｂｕｔｙｌ）、２，４−Ｄジエチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｄｉｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄジメチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄジオールアミン塩（２，４−Ｄ  −ｄｉｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、２，４−Ｄドデシルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｄｏｄｅｃｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄエチル（２，４−Ｄ−ｅｔｈｙｌ）、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル（２，４−Ｄ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｈｅｐｔｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄイソオクチル（２，４−Ｄ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、２，４−Ｄオソプロピル（２，４−Ｄ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄリチウム（２，４−Ｄ−ｌｉｔｈｉｕｍ）、２，４−Ｄメプチル（２，４−Ｄ−ｍｅｐｔｙｌ）、２，４−Ｄメチル（２，４−Ｄ−ｍｅｔｈｙｌ）、２，４−Ｄオクチル（２，４−Ｄ−ｏｃｔｙｌ）、２，４−Ｄペンチル（２，４−Ｄ−ｐｅｎｔｙｌ）、２，４−Ｄプロピル（２，４−Ｄ−ｐｒｏｐｙｌ）、２，４−Ｄナトリウム塩（２，４−Ｄ−ｓｏｄｉｕｍ）、２，４−Ｄテフリル（２，４−Ｄ−ｔｅｆｕｒｙｌ）、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｔｅｔｒａｄｅｃｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム（２，４−Ｄ−ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム（２，４−Ｄ−ｔｒｉｓ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−Ｄトロールアミン塩（２，４−Ｄ−  ｔｒｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、２，４−Ｄコリン塩（２，４−Ｄ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩（２，４−Ｄ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、２，４−ＤＢ、２，４−ＤＢジメチルアンモニウム（２，４−ＤＢ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、２，４−ＤＢイソオクチル（２，４−ＤＢ−ｉｓｏｏｃｔｙｌ）、２，４−ＤＢブチル（２，４−ＤＢ−ｂｕｔｙｌ）、２，４−ＤＢナトリウム塩（２，４−ＤＢ−ｓｏｄｉｕｍ）、２，４−ＤＢカリウム塩（２，４−ＤＢ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、２，４−ＤＢコリン塩（２，４−ＤＢ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、２，４−ＤＢ  ＢＡＰＭＡ塩（２，４−ＤＢ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム（ＭＣＰＡ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル（ＭＣＰＡ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、ＭＣＰＡイソオクチル（ＭＣＰＡ−ｉｓｏｃｔｙｌ）、ＭＣＰＡブトチル（ＭＣＰＡ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、ＭＣＰＡブチル（ＭＣＰＡ−ｂｕｔｙｌ）、ＭＣＰＡジオールアミン塩（ＭＣＰＡ  ｄｉｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＡエチル（ＭＣＰＡ−ｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＡイソブチル（ＭＣＰＡ−ｉｓｏｂｕｔｙｌ）、ＭＣＰＡイソプロピル（ＭＣＰＡ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌ），ＭＣＰＡメチル（ＭＣＰＡ−ｍｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＡオールアミン塩（ＭＣＰＡ  ｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＡナトリウム塩（ＭＣＰＡ−ｓｏｄｉｕｍ）、ＭＣＰＡトロールアミン塩（ＭＣＰＡ  ｔｒｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＡコリン塩（ＭＣＰＡ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩（ＭＣＰＡ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル（ＭＣＰＢ−ｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＢメチル（ＭＣＰＢ−ｍｅｔｈｙｌ）、ＭＣＰＢナトリウム塩（ＭＣＰＢ−ｓｏｄｉｕｍ）、ＭＣＰＢコリン塩（ＭＣＰＢ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩（ＭＣＰＢ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、メコプロップ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ）、メコプロップジメチルアンモニウム（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、メコプロップジオールアミン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ  ｄｉｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、メコプロップエタジル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｅｔｈａｄｙｌ）、メコプロップ２エチルヘキシル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、メコプロップイソクチル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｉｓｏｃｔｙｌ）、メコプロップメチル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、メコプロップカリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、メコプロップナトリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、メコプロップトロールアミン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ  ｔｒｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、メコプロップコリン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、メコプロップＰ（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ）、メコプロップＰジメチルアンモニウム（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、メコプロップＰ  ２エチルヘキシル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、メコプロップＰイソブチル（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｉｓｏｂｕｔｙｌ）、メコプロップＰカリウム塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、メコプロップＰコリン塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｐ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、メコプロップＢ
ＡＰＭＡ塩（ｍｅｃｏｐｒｏｐ−Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジクロプロップ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ）、ジクロプロップブトチル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、ジクロプロップジメチルアンモニウム（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジクロプロップエチルアンモニウム（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジクロプロップ２エチルヘキシル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、ジクロプロップイソクチル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｉｓｏｃｔｙｌ）、ジクロプロップメチル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジクロプロップカリウム塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、ジクロプロップナトリウム塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジクロプロップコリン塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）ジクロプロップＢＡＰＭＡ塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジクロプロップＰ（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ）、ジクロプロップＰジメチルアンモニウム（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジクロプロップＰ  ２エチルヘキシル（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ−２−ｅｔｈｙｌｈｅｘｙｌ）、ジクロプロップＰコリン塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジクロプロップＰ  ＢＡＰＭＡ塩（ｄｉｃｈｌｏｒｐｒｏｐ−Ｐ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、クロランベン（ｃｈｌｏｒａｍｂｅｎ）、ジカンバ（ｄｉｃａｍｂａ）、ジカンバジクロールアミン塩（ｄｉｃａｍｂａ  ｄｉｇｌｙｃｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジカンバジメチルアンモニウム（ｄｉｃａｍｂａ−ｄｉｍｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジカンバジオールアミン塩（ｄｉｃａｍｂａ  ｄｉｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジカンバイソプロピルアンモニウム（ｄｉｃａｍｂａ−ｉｓｏｐｒｏｐｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、ジカンバメチル（ｄｉｃａｍｂａ−ｍｅｔｈｙｌ）、ジカンバオールアミン塩（ｄｉｃａｍｂａ  ｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジカンバカリウム塩（  ｄｉｃａｍｂａ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、ジカンバナトリウム塩（ｄｉｃａｍｂａ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジカンバトロールアミン塩（ｄｉｃａｍｂａ  ｔｒｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジカンバコリン塩（ｄｉｃａｍｂａ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ジカンバＢＡＰＭＡ塩（ｄｉｃａｍｂａ  Ｎ，  Ｎ−ｂｉｓ−（３−ａｍｉｎｏｐｒｏｐｙｌ）ｍｅｔｈｙｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、ＴＢＡ、トリクロピル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ）、トリクロピルブトチル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｂｕｔｏｔｙｌ）、トリクロピルエチル（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｅｔｈｙｌ）、トリクロピルトリエチルアンモニウム（ｔｒｉｃｌｏｐｙｒ−ｔｒｉｅｔｈｙｌａｍｍｏｎｉｕｍ）、チアゾピル（ｔｈｉａｚｏｐｙｒ）、フルオキシピル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ）、  フルオキシピルメプチル（ｆｌｕｒｏｘｙｐｙｒ−ｍｅｐｔｙｌ）、アミノピラリド（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ��、アミノピラリドカリウム塩（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、アミノピラリド  トリス（２ヒドロキシプロピル）アンモニウム（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ−ｔｒｉｓ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ａｍｍｏｎｉｕｍ））、アミノピラリドコリン塩（ａｍｉｎｏｐｙｒａｌｉｄ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、クロピラリド（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ）、クロピラリドメチル（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｍｅｔｈｙｌ）、クロピラリドオールアミン塩（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ  ｏｌａｍｉｎｅ  ｓａｌｔ）、  クロピラリドカリウム塩（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、クロピラリド  トリス（２ヒドロキシプロピル）アンモニウム（ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ−ｔｒｉｓ（２−ｈｙｄｒｏｘｙｐｒｏｐｙｌ）ａｍｍｏｎｉｕｍ）、クロピラリドコリン塩（  ｃｌｏｐｙｒａｌｉｄ  ｃｈｏｌｉｎｅ  ｓａｌｔ）、キンクロラック（ｑｕｉｎｃｌｏｒａｃ）、キンメラック（ｑｕｉｎｍｅｒａｃ）、ベナゾリンエチル（ｂｅｎａｚｏｌｉｎ−ｅｔｈｙｌ）、ナプタラム（ｎａｐｔａｌａｍ）、ジフルフェンゾピル（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ）、ジフルフェンゾピル−ナトリウム塩（ｄｉｆｌｕｆｅｎｚｏｐｙｒ−ｓｏｄｉｕｍ）、ジフェンゾコート（ｄｉｆｅｎｚｏｑｕａｔ）、ＤＳＭＡ、ＭＳＭＡ、ブロモブチド（ｂｒｏｍｏｂｕｔｉｄｅ）、フルレノール（ｆｌｕｒｅｎｏｌ）、シンメチリン（ｃｉｎｍｅｔｈｙｌｉｎ）、クミルロン（ｃｕｍｙｌｕｒｏｎ）、ダゾメット（ｄａｚｏｍｅｔ）、ダイムロン（ｄａｉｍｕｒｏｎ）、メチルダイムロン（ｍｅｔｈｙｌ−ｄａｙｍｕｒｏｎ）、エトベンザニド（ｅｔｏｂｅｎｚａｎｉｄ）、ホサミン（ｆｏｓａｍｉｎｅ）、インダノファン（ｉｎｄａｎｏｆａｎ）、メタム（ｍｅｔａｍ）、オキサジクロメホン（ｏｘａｚｉｃｌｏｍｅｆｏｎｅ）、オレイン酸（ｏｌｅｉｃ  ａｃｉｄ）、ペラルゴン酸（ｐｅｌａｒｇｏｎｉｃ  ａｃｉｄ）、ピリブチカルブ（ｐｙｒｉｂｕｔｉｃａｒｂ）；メチオゾリン（ｍｅｔｈｉｏｚｏｌｉｎ）、フェニソファム（ｐｈｅｎｉｓｏｐｈａｍ）、スエップ（ｓｗｅｐ）、アミノシクロピラクロール（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ）、アミノシクロピラクロールメチル（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ−ｍｅｔｈｙｌ）、アミノシクロピラクロールカリウム（ａｍｉｎｏｃｙｃｌｏｐｙｒａｃｈｌｏｒ−ｐｏｔａｓｓｉｕｍ）、ジフェノクスロン（ｄｉｆｅｎｏｘｕｒｏｎ）、トリジファン（ｔｒｉｄｉｐｈａｎｅ）、マレイン酸ヒドラジド（ｍａｌｅｉｃ  ｈｙｄｒａｚｉｄｅ）、ＡＣＮ、ハラウキシフェン（ｈａｌａｕｘｉｆｅｎ）、ハラウシキフェンメチル（ｈａｌａｕｘｉｆｅｎ−ｍｅｔｈｙｌ）及び下記式（１）
2016172734.tif 000002
で示される化合物から成る群。
【００１０】
本発明組成物の好ましい態様は、プロピリスルフロンと、前記化合物群Ａに包含される、下記化合物群Ｂより選ばれる１以上の化合物とを含有する組成物である。
化合物群Ｂ：プロホキシジム、イマゼタピルアンモニウム塩、ペノキススラム、プロパニル、カルフェントラゾンエチル、オキサジアゾン、オキサジアルギル、クロマゾン、ペンディメタリン、ブタクロール、テニルクロール、ナプロアニリド、アニロホス、ピペロホス、ジメピペレート、モリネート、ベンチオカーブ、ベンフレセート、２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジエチルアンモニウム、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオールアミン塩、２，４−Ｄドデシルアンモニウム、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム、２，４−Ｄイソオクチル、２，４−Ｄオソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄリチウム、２，４−Ｄメプチル、２，４−Ｄメチル、２，４−Ｄオクチル、２，４−Ｄペンチル、２，４−Ｄプロピル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄテフリル、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、２，４−Ｄトロールアミン塩、２，４−Ｄコリン塩、２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＡ、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡイソオクチル、ＭＣＰＡブトチル、ＭＣＰＡブチル、ＭＣＰＡジオールアミン塩、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡイソブチル、ＭＣＰＡイソプロピル、ＭＣＰＡメチル、ＭＣＰＡオールアミン塩、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＡトロールアミン塩、ＭＣＰＡコリン塩、ＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩、ＭＣＰＢ、ＭＣＰＢエチル、ＭＣＰＢメチル、ＭＣＰＢナトリウム塩、ＭＣＰＢコリン塩、ＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩、キンクロラック、クミルロン及びインダノファンから成る群。
【００１１】
前記化合物群Ａを構成する化合物及びプロピリスルフロンは、Ｃｒｏｐ  Ｐｒｏｔｅｃｔｉｏｎ  Ｈａｎｄｂｏｏｋ,  ｖｏｌ．９７（２０１１）、ｈｔｔｐ：／／ｗｗｗ．ａｌａｎｗｏｏｄ．ｎｅｔ／ｐｅｓｔｉｃｉｄｅｓ／又は国際公開第２００８／１０６１０７号に記載され、公知の製造法により製造することができる。また、これを含有する市販の製剤を入手して用いることもできる。
【００１２】
本発明において、前記化合物群Ａより選ばれる化合物及びプロピリスルフロンは、一般の農薬のとりうる形態、即ち、化合物を適当な液体担体に溶解するか分散させるか、又は適当な固体担体と混合するか固体担体に吸着させ、例えば、乳剤、水和剤、フロアブル剤、ドライフロアブル剤、粒剤等の製剤に製剤化して用いることができる。これらの製剤は必要に応じ、更に乳化剤、分散剤、展着剤、浸透剤、湿潤剤、粘漿剤、安定剤等を含有させてよく、自体公知の方法で調製することができる。
【００１３】
前記化合物群Ａより選ばれる化合物及びプロピリスルフロンを製剤化する際に使用し得る液体担体（溶剤）としては、例えば、水、アルコール類（例、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、エテレングリコール等）、ケトン類（例、アセトン、メチルエチルケトン等）、エーテル類（例、ジオキサン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等）、脂肪族炭化水素類（例、ケロシン、燃料油、機械油等）、芳香族炭化水素類（例、ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、メチルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、酸アミド類（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、エステル類（例、酢酸エチルエステル、酢酸ブチルエステル、脂肪酸グリセリンエステル等）、ニトリル類（例、アセトニトリル、プロピオニトリル等）等の溶媒が挙げられ、これらは１種又は２種以上を適当な割合で混合して使用してもよい。固体担体（希釈・増量剤）としては、植物性粉末（例、大豆粉、タバコ粉、小麦粉、木粉等）、鉱物性粉末（例、カオリン、ベントナイト、酸性白土、クレイ等のクレイ類、滑石粉、ロウ石粉等のタルク類、珪藻土、雲母粉等のシリカ類等）、アルミナ、硫黄粉末、活性炭等が挙げられ、これらは１種又は２種以上を適当な割合で混合して使用してもよい。当該液体担体又は固体担体は、製剤全体に対して通常約１〜９９重量％程度、好ましくは約１〜８０重量％程度用いることができる。
【００１４】
前記化合物群Ａより選ばれる化合物及びプロピリスルフロンを製剤化する際に乳化剤、展着剤、浸透剤、分散剤等として使用し得る界面活性剤としては、例えば石鹸類、ポリオキシエチレンアルキルアリールエーテル類（例、ノイゲン、イー・エー１４２；第一工業製薬（株）製）、ポリオキシエチレンアリールエステル類（例、ノナール；東邦化学（株）製）、アルキル硫酸塩類（例、ユマール１０、ユマール４０；花王（株）製）、アルキルベンゼンスルホン酸塩類（例、ネオゲン、ネオゲンＴ；第一工業製薬（株）製、ネオペレックス；花王（株）製）、ポリエチレングリコールエーテル類（例、ノニポール８５、ノニポール１００、ノニポール１６０；三洋化成（株）製）、多価アルコールエステル類（例、ツイーン２０、ツイーン８０；花王（株）製）等の非イオン系及びアニオン系界面活性剤が用いられる。当該界面活性剤は、製剤全体に対して、通常０．１〜約５０重量％程度、好ましくは約０．１〜２５重量％程度用いることができる。
【００１５】
本発明組成物中の、前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物及びプロピリスルフロンの含有量は、通常０．０１〜９０重量％程度である。
【００１６】
本発明における、前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物及びプロピリスルフロンの使用量は、適用場面、適用時期、施用方法、対象雑草により異なるが、通常１ヘクタール当たり５ｇから４０００ｇ程度、好ましくは１０ｇから２０００ｇ程度、更に好ましくは２０ｇから１０００ｇ程度である。
【００１７】
本発明組成物において、プロピリスルフロンと前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物との混合割合は、重量比で１：０．００１〜１：２０００の範囲である。
【００１８】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとプロホキシジムとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとプロホキシジムとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５０、好ましくは１：０．０５〜１：１０、さらに好ましくは１：０．１〜１：５の範囲である。
【００１９】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとイマゼタピルアンモニウム塩とを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとイマゼタピルアンモニウム塩との混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：５０、好ましくは１：０．０５〜１：１０、さらに好ましくは１：０．１〜１：５の範囲である。
【００２０】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとペノキススラムとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとペノキススラムとの混合割合は、重量比で、１：０．００２〜１：５０、好ましくは１：０．０１〜１：１０、さらに好ましくは１：０．０５〜１：５の範囲である。
【００２１】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとプロパニルとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとプロパニルとの混合割合は、重量比で、１：０．２〜１：５０００、好ましくは１：１〜１：１０００、さらに好ましくは１：２〜１：５００の範囲である。
【００２２】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとカルフェントラゾンエチルとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとカルフェントラゾンエチルとの混合割合は、重量比で、１：０．００１〜１：４０、好ましくは１：０．００５〜１：８、さらに好ましくは１：０．０１〜１：４の範囲である。
【００２３】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとオキサジアゾンとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとオキサジアゾンとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：４００、好ましくは１：０．２５〜１：８０、さらに好ましくは１：０．５〜１：４０の範囲である。
【００２４】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとオキサジアルギルとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとオキサジアルギルとの混合割合は、重量比で、１：０．０１〜１：１５０、好ましくは１：０．０５〜１：３０、さらに好ましくは１：０．１〜１：１５の範囲である。
【００２５】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとクロマゾンとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとクロマゾンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：６００、好ましくは１：０．５〜１：１２０、さらに好ましくは１：１〜１：６０の範囲である。
【００２６】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとペンディメタリンとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとペンディメタリンとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：８００、好ましくは１：０．５〜１：１６０、さらに好ましくは１：１〜１：８０の範囲である。
【００２７】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとブタクロールとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとブタクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．２〜１：４０００、好ましくは１：１〜１：８００、さらに好ましくは１：２〜１：４００の範囲である。
【００２８】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとテニルクロールとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとテニルクロールとの混合割合は、重量比で、１：０．０２〜１：４００、好ましくは１：０．１〜１：８０、さらに好ましくは１：０．２〜１：４０の範囲である。
【００２９】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとナプロアニリドとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとナプロアニリドとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：１６００、好ましくは１：０．５〜１：３２０、さらに好ましくは１：１〜１：１６０の範囲である。
【００３０】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとアニロホスとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとアニロホスとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：６００、好ましくは１：０．２５〜１：１２０、さらに好ましくは１：０．５〜１：６０の範囲である。
【００３１】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとピペロホスとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとピペロホスとの混合割合は、重量比で、１：０．１〜１：２０００、好ましくは１：０．５〜１：４００、さらに好ましくは１：１〜１：２００の範囲である。
【００３２】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとジメピペレートとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとジメピペレートとの混合割合は、重量比で、１：０．２〜２５：４０００、好ましくは１：１〜１：８００、さらに好ましくは１：２．５〜１：４００の範囲である。
【００３３】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとモリネートとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとモリネートとの混合割合は、重量比で、１：０．５〜１：４０００、好ましくは１：２．５〜１：８００、さらに好ましくは１：５〜１：４００の範囲である。
【００３４】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとベンチオカーブとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとベンチオカーブとの混合割合は、重量比で、１：０．２〜２５：４０００、好ましくは１：１〜１：８００、さらに好ましくは１：２．５〜１：４００の範囲である。
【００３５】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとベンフレセートとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとベンフレセートとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：８００、好ましくは１：０．２５〜１：１６０、さらに好ましくは１：０．５〜１：８０の範囲である。
【００３６】
本発明組成物が、プロピリスルフロンと２，４−Ｄ又はその塩又はそのエステル（即ち、２，４−Ｄ２，４−Ｄ、２，４−Ｄアンモニウム、２，４−Ｄブトチル、２，４−Ｄ  ２−ブトキシプロピル、２，４−Ｄ  ３−ブトキシプロピル、２，４−Ｄブチル、２，４−Ｄジエチルアンモニウム、２，４−Ｄジメチルアンモニウム、２，４−Ｄジオールアミン塩、２，４−Ｄドデシルアンモニウム、２，４−Ｄエチル、２，４−Ｄ  ２−エチルヘキシル、２，４−Ｄヘプチルアンモニウム、２，４−Ｄイソオクチル、２，４−Ｄオソプロピル、２，４−Ｄイソプロピルアンモニウム、２，４−Ｄリチウム、２，４−Ｄメプチル、２，４−Ｄメチル、２，４−Ｄオクチル、２，４−Ｄペンチル、２，４−Ｄプロピル、２，４−Ｄナトリウム塩、２，４−Ｄテフリル、２，４−Ｄテトラデシルアンモニウム、２，４−Ｄトリメチルアンモニウム、２，４−Ｄトリス（２−ヒドロキシプロピル）アンモニウム、２，４−Ｄトロールアミン塩、２，４−Ｄコリン塩及び２，４−Ｄ  ＢＡＰＭＡ塩）とを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンと２，４−Ｄ又はその塩又はそのエステルとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：２０００、好ましくは１：０．２５〜１：４００、さらに好ましくは１：０．５〜１：２００の範囲である。
【００３７】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとＭＣＰＡ又はその塩又はそのエステル（即ち、ＭＣＰＡジメチルアンモニウム、ＭＣＰＡ  ２−エチルヘキシル、ＭＣＰＡイソオクチル、ＭＣＰＡブトチル、ＭＣＰＡブチル、ＭＣＰＡジオールアミン塩、ＭＣＰＡエチル、ＭＣＰＡイソブチル、ＭＣＰＡイソプロピル、ＭＣＰＡメチル、ＭＣＰＡオールアミン塩、ＭＣＰＡナトリウム塩、ＭＣＰＡトロールアミン塩、ＭＣＰＡコリン塩及びＭＣＰＡ  ＢＡＰＭＡ塩）とを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとＭＣＰＡ又はその塩又はそのエステルとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：１２００、好ましくは１：０．２５〜１：２４０、さらに好ましくは１：０．５〜１：１２０の範囲である。
【００３８】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとＭＣＰＢ又はその塩又はそのエステル（即ち、ＭＣＰＢエチル、ＭＣＰＢメチル、ＭＣＰＢナトリウム塩、ＭＣＰＢコリン塩及びＭＣＰＢ  ＢＡＰＭＡ塩）とを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとＭＣＰＢ又はその塩又はそのエステルとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：１２００、好ましくは１：０．２５〜１：２４０、さらに好ましくは１：０．５〜１：１２０の範囲である。
【００３９】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとキンクロラックとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとキンクロラックとの混合割合は、重量比で、１：０．０５〜１：５００、好ましくは１：０．２５〜１：１００、さらに好ましくは１：０．５〜１：５０の範囲である。
【００４０】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとクミルロンとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとクミルロンとの混合割合は、重量比で、１：０．２〜１：１２００、好ましくは１：１〜１：２４０、さらに好ましくは１：２．５〜１：１２０の範囲である。
【００４１】
本発明組成物が、プロピリスルフロンとインダノファンとを含有する組成物である場合、プロピリスルフロンとインダノファンとの混合割合は、重量比で、１：０．０４〜１：６００、好ましくは１：０．２〜１：１２０、さらに好ましくは１：０．４〜１：６０の範囲である。
【００４２】
本発明において、前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物及びプロピリスルフロンは、必要に応じて他の除草剤と混合して用いることもできる。また、殺虫剤、殺菌剤、植物成長調節剤、肥料、薬害軽減剤、土壌改良剤等と併用することもできる。
【００４３】
本発明組成物は、広範囲の雑草に対し除草活性を有し、通常の耕起栽培、不耕起栽培が行われる農作物畑、野菜畑、水田、樹園地又は非農耕地において、効果的に広範囲の雑草を防除することができ、有用植物に対し問題となるような薬害を生じない。
【００４４】
本発明における農作物畑としては、例えば、ピーナッツ畑、ダイズ畑、トウモロコシ畑、ムギ畑、イネ畑等の食用作物畑、ソルガム畑、エンバク畑等の飼料作物畑、ワタ畑等の工芸作物畑、サトウキビ畑等の糖科作物畑が挙げられる。本発明における野菜畑としては、例えば、ナス科野菜（ナス、トマト、ピーマン、トウガラシ、ジャガイモ等）を栽培する畑、ウリ科野菜（キュウリ、カボチャ、ズッキーニ、スイカ、メロン等）を栽培する畑、アブラナ科野菜（ダイコン、カブ、セイヨウワサビ、コールラビ、ハクサイ、キャベツ、カラシナ、ブロッコリー、カリフラワー等）を栽培する畑、キク科野菜（ゴボウ、シュンギク、アーティチョーク、レタス等）を栽培する畑、ユリ科野菜（ネギ、タマネギ、ニンニク、アスパラガス）を栽培する畑、セリ科野菜（ニンジン、パセリ、セロリ、アメリカボウフウ等）を栽培する畑、アカザ科野菜（ホウレンソウ、フダンソウ等）を栽培する畑、シソ科野菜（シソ、ミント、バジル、ラベンダー）を栽培する畑、イチゴ畑、サツマイモ畑、ヤマノイモ畑、サトイモ畑等が挙げられる。
【００４５】
本発明における樹園地としては、果樹園、茶園、桑園、コーヒー園、バナナ園、ヤシ園、花木園、花木畑、苗木畑、養樹場、林地、庭園等が挙げられる。本発明における果樹としては、仁果類（リンゴ、セイヨウナシ、ニホンナシ、カリン、マルメロ等）、核果類（モモ、スモモ、ネクタリン、ウメ、オウトウ、アンズ、プルーン等）、カンキツ類（ウンシュウミカン、オレンジ、レモン、ライム、グレープフルーツ等）、堅果類（クリ、クルミ、ハシバミ、アーモンド、ピスタチオ、カシューナッツ、マカダミアナッツ等）、液果類（ブルーベリー、クランベリー、ブラックベリー、ラズベリー等）、ブドウ、カキ、オリーブ、ビワ等が挙げられる。
【００４６】
本発明における非農耕地としては、運動場、空き地、線路端、公園、駐車場、道路端、河川敷、送電線下、宅地、工場敷地等が挙げられる。
【００４７】
本発明組成物が使用される農作物畑、野菜畑及び水田で栽培される作物は、一般的に作物として栽培される品種であれば限定されない。
【００４８】
かかる品種の植物には、フルミオキサジン等のプロトポルフィリノーゲンＩＸオキシダーゼ阻害剤、イソキサフルトール等の４-ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素阻害剤、セトキシジム等のアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤、グリホサート等の５-エノールピルビルシキミ酸-３-リン酸シンターゼ阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、２,４-Ｄ、ダイカンバ等のオーキシン型除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法又は遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
【００４９】
古典的な育種法により耐性が付与された作物の例として、イマゼタピル等のイミダゾリノン系アセト乳酸合成酵素阻害型除草剤に耐性のトウモロコシがあり、Ｃｌｅａｒｆｉｅｌｄ（登録商標）の商品名で既に販売されている。チフェンスルフロンメチル等のスルホニルウレア系アセト乳酸合成酵素阻害型除草剤に耐性のＳＴＳダイズ等がある。同様に古典的な育種法によりトリオンオキシム系、アリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤などのアセチルＣｏＡカルボキシラーゼ阻害剤に耐性が付与された植物の例としてＳＲコーン等がある。
また、遺伝子組換え技術により耐性を付与された植物の例として、グリホサート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタがあり、ＲｏｕｎｄｕｐＲｅａｄｙ（登録商標）、Ａｇｒｉｓｕｒｅ（登録商標）ＧＴ、Ｇｌｙ−Ｔｏｌ（登録商標）等の商品名で既に販売されている。同様に遺伝子組換え技術によるグルホシネート耐性のトウモロコシ、ダイズ、ワタがあり、ＬｉｂｅｒｔｙＬｉｎｋ（登録商標）等の商品名で既に販売されている。グリホサート及びＡＬＳ阻害剤の両方に耐性であるＯｐｔｉｍｕｍ（登録商標）ＧＡＴ（登録商標）の商品名のトウモロコシ、ダイズの品種がある。同様に遺伝子組換え技術によるイミダゾリノン系アセト乳酸合成酵素阻害剤耐性のダイズがあり、Ｃｕｌｔｉｖａｎｃｅの名前で開発されている。同様に遺伝子組換え技術によるブロモキシニル耐性のワタがあり、ＢＸＮ（登録商標）の商品名で既に販売されている。
シュードモナス・マルトフィリア（Ｐｓｅｕｄｏｍｏｎａｓ  ｍａｌｔｏｐｈｉｌｉａ）より単離されたジカンバモノオキシゲナーゼ（ｄｉｃａｍｂａ  ｍｏｎｏｏｘｙｇｅｎａｓｅ）等のジカンバの分解酵素を植物に導入し、ジカンバに耐性のダイズ等の作物を作出することができる（Ｂｅｈｒｅｎｓ  ｅｔ  ａｌ．  ２００７  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ３１６：１１８５〜１１８８）。
アリルオキシアルカノエートジオキゲナーゼ（ａｒｙｌｏｘｙａｌｋａｎｏａｔｅ  ｄｉｏｘｙｇｅｎａｓｅ）をコードする遺伝子を導入し、２，４−Ｄ、ＭＣＰＡ、ジクロプロップ、メコプロップ等のフェノキシ酸系除草剤と、キザロホップ、ハロキシホップ、フルアジホップ、ジクロホップ、フェノキサプロップ、メタミホップ、シハロホップ、クロジナホップ等のアリールオキシフェノキシプロピオン酸系除草剤とに耐性となる作物を作出することができる（Ｗｒｉｇｈｔ  ｅｔ  ａｌ．  ２０１０  ：  Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ａｃａｄｅｍｙ  ｏｆ  Ｓｃｉｅｎｃｅ．  １０７（４７）：  ２０２４０〜２０２４５、ＷＯ２００５／１０７４３７、ＷＯ２００７／０５３４８２、ＷＯ２００８／１４１１５４））。
【００５０】
４−ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ（以下ＨＰＰＤと称する）阻害剤に対して抵抗性を示すＨＰＰＤをコードする遺伝子を導入し、ＨＰＰＤ阻害剤に耐性の植物を作出することができる（ＵＳ２００４／００５８４２７、ＷＯ２００５／１０７４３７、ＷＯ２００７／０５３４８２、ＷＯ２００８／１４１１５４）。ＨＰＰＤ阻害剤によりＨＰＰＤが阻害されても、別の代謝経路でＨＰＰＤの生成物であるホモゲンチジン酸を合成できるような遺伝子を導入し、結果としてＨＰＰＤ阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる（ＷＯ０２／０３６７８７）。ＨＰＰＤを過剰に発現させる遺伝子を導入し、ＨＰＰＤ阻害剤の存在下においても、植物の生育に影響が出ないまでの量のＨＰＰＤを生産させ、結果としてＨＰＰＤ阻害剤に対して耐性を示す植物を作出することができる（ＷＯ９６／３８５６７）。前出のＨＰＰＤを過剰に発現させる遺伝子の導入に加え、さらに、ＨＰＰＤの基質であるｐ−ヒドロキシフェニルピルビン酸の生成量を増加させるためにプレフェナレートデヒドロゲナーゼをコードする遺伝子を導入し、ＨＰＰＤ阻害剤に対して耐性を示す植物を作出できる（Ｒｉｐｐｅｒｔ  Ｐ  ｅｔ．ａｌ．  ２００４  Ｅｎｇｉｎｅｅｒｉｎｇ  ｐｌａｎｔ  ｓｈｉｋｉｍａｔｅ  ｐａｔｈｗａｙ  ｆｏｒ  ｐｒｏｄｕｃｔｉｏｎ  ｏｆ  ｔｏｃｏｔｒｉｅｎｏｌ  ａｎｄ  ｉｍｐｒｏｖｉｎｇ  ｈｅｒｂｉｃｉｄｅ  ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ．  Ｐｌａｎｔ  Ｐｈｙｓｉｏｌ．  １３４：９２−１００）。
【００５１】
作物を除草剤に対して耐性にする方法として、他にＷＯ９８／２０１４４、ＷＯ２００２／４６３８７、ＵＳ２００５／０２４６８００に記載される遺伝子を導入する方法が挙げられる。
【００５２】
上記の作物は、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含む。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｅｒｅｕｓ）やバチルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃなどのδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ-ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
また、この様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１、 Ｃｒｙ９Ｃ、Ｃｒｙ３４Ａｂ又はＣｒｙ３５Ａｂなどのδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は、組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組合せによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素は、天然型の毒素のアミノ酸の１つ又は複数が置換されている。これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３７４７５３、ＷＯ９３／０７２７８、ＷＯ９５／３４６５６、ＥＰ−Ａ−０４２７５２９、ＥＰ−Ａ−４５１８７８、ＷＯ０３／０５２０７３等に記載されている。これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
また、１つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組換え植物は既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換え植物の例として、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｂ毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｒｏｏｔｗｏｒｍ（登録商標）（Ｃｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、ＹｉｅｌｄＧａｒｄ  Ｐｌｕｓ（登録商標）（Ｃｒｙ１ＡｂとＣｒｙ３Ｂｂ１毒素を発現するトウモロコシ品種）、Ｈｅｒｃｕｌｅｘ  Ｉ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ｆａ２毒素とグルホシネートへの耐性を付与する為にホスフィノトリシン  Ｎ−アセチルトランスフェラーゼ（ＰＡＴ）を発現するトウモロコシ品種）、ＮａｔｕｒｅＧａｒｄ（登録商標）、ＡＧＲＩＳＵＲＥ（登録商標）  ＣＢ  Ａｄｖａｎｔａｇｅ（Ｂｔ１１コーンボーラー（ＣＢ）形質）、Ｐｒｏｔｅｃｔａ（登録商標）等が挙げられる。
また、１つ若しくは複数の殺虫性の害虫抵抗性遺伝子を含み、１つ又は複数の毒素を発現する遺伝子組み換えワタは既に知られており、いくつかのものは市販されている。これら遺伝子組換えワタの例として、ＢｏｌｌＧａｒｄ（登録商標）（Ｃｒｙ１Ａｃ毒素を発現するワタ品種）、ＢｏｌｌＧａｒｄ（登録商標）  ＩＩ（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２Ａｂ毒素を発現するワタ品種）、ＢｏｌｌＧａｒｄ（登録商標）  ＩＩＩ（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ２ＡｂとＶＩＰ３Ａ毒素を発現するワタ品種）  ＶｉｐＣｏｔ（登録商標）（ＶＩＰ３ＡとＣｒｙ１Ａｂ毒素を発現するワタ品種）、ＷｉｄｅＳｔｒｉｋｅ（登録商標）（Ｃｒｙ１ＡｃとＣｒｙ１Ｆ毒素を発現するワタ品種）等が挙げられる。
本発明に用いられる植物としては、例えばＲａｇ１（Ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ Ａｐｈｉｄ Ｇｅｎｅ 1）遺伝子が導入されたダイズ等のアブラムシに対する耐性が付与された植物も挙げられる。
【００５３】
上記の作物は、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含む。抗病原性物質の例として、ＰＲタンパク等が知られている（ＰＲＰｓ、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０３９２２２５、ＷＯ９５／３３８１８、ＥＰ−Ａ−０３５３１９１等に記載されている。こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ＰＲタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、ＷＯ０３／０００９０６に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
上記の作物は、遺伝子組換え技術を用いて、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質を付与した植物も含む。例として、ＶＩＳＴＩＶＥ（登録商標）（リノレン含量を低減させた低リノレンダイズ）又は、ｈｉｇｈ−ｌｙｓｉｎｅ  （ｈｉｇｈ−ｏｉｌ）  ｃｏｒｎ（リジン又はオイル含有量を増量したトウモロコシ）等が挙げられる。
さらに、上記の古典的な除草剤形質又は除草剤耐性遺伝子、殺虫性害虫抵抗性遺伝子、抗病原性物質産生遺伝子、油糧成分改質やアミノ酸含量増強形質などの有用形質について、これらを複数組み合わせたスタック品種も含まれる。
【００５４】
かかる作物には、イソキサフルトール等の４-ヒドロキシフェニルピルビン酸ジオキシゲナーゼ阻害剤、イマゼタピル、チフェンスルフロンメチル等のアセト乳酸合成酵素（以後ＡＬＳと略する）阻害剤、グリホサート等の５-エノールピルビルシキミ酸-３-リン酸シンターゼ（以後ＥＰＳＰと略する）阻害剤、グルホシネート等のグルタミン合成酵素阻害剤、２,４-Ｄ、ダイカンバ等のオーキシン型除草剤、ブロモキシニル等の除草剤に対する耐性が、古典的な育種法、又は遺伝子組換え技術により付与された植物も含まれる。
【００５５】
上記の作物には、遺伝子組換え技術を用いて、例えば、バチルス属で知られている選択的毒素等を合成する事が可能となった作物も含まれる。
この様な遺伝子組換え植物で発現される毒素として、バチルス・セレウス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｃｅｒｅｕｓ）やバチルス・ポピリエ（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｐｏｐｉｌｌｉａｅ）由来の殺虫性タンパク；バチルス・チューリンゲンシス（Ｂａｃｉｌｌｕｓ  ｔｈｕｒｉｎｇｉｅｎｓｉｓ）由来のＣｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１又はＣｒｙ９Ｃなどのδ−エンドトキシン、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパク；線虫由来の殺虫タンパク；さそり毒素、クモ毒素、ハチ毒素又は昆虫特異的神経毒素等動物によって産生される毒素；糸状菌類毒素；植物レクチン；アグルチニン；トリプシン阻害剤、セリンプロテアーゼ阻害剤、パタチン、シスタチン、パパイン阻害剤等のプロテアーゼ阻害剤；リシン、トウモロコシ−ＲＩＰ、アブリン、ルフィン、サポリン、ブリオジン等のリボゾーム不活性化タンパク（ＲＩＰ）；３−ヒドロキシステロイドオキシダーゼ、エクジステロイド−ＵＤＰ−グルコシルトランスフェラーゼ、コレステロールオキシダーゼ等のステロイド代謝酵素；エクダイソン阻害剤；ＨＭＧ−ＣｏＡリダクターゼ；ナトリウムチャネル、カルシウムチャネル阻害剤等のイオンチャネル阻害剤；幼若ホルモンエステラーゼ；利尿ホルモン受容体；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ等が挙げられる。
また、この様な遺伝子組換え作物で発現される毒素として、Ｃｒｙ１Ａｂ、Ｃｒｙ１Ａｃ、Ｃｒｙ１Ｆ、Ｃｒｙ１Ｆａ２、Ｃｒｙ２Ａｂ、Ｃｒｙ３Ａ、Ｃｒｙ３Ｂｂ１、  Ｃｒｙ９Ｃ、Ｃｒｙ３４Ａｂ又はＣｒｙ３５Ａｂなどのδ−エンドトキシンタンパク、ＶＩＰ１、ＶＩＰ２、ＶＩＰ３又はＶＩＰ３Ａなどの殺虫タンパクのハイブリッド毒素、一部を欠損した毒素、修飾された毒素も含まれる。ハイブリッド毒素は、組換え技術を用いて、これらタンパクの異なるドメインの新しい組合せによって作り出される。一部を欠損した毒素としては、アミノ酸配列の一部を欠損したＣｒｙ１Ａｂが知られている。修飾された毒素は、天然型の毒素のアミノ酸の１つ又は複数が置換されている。これら毒素の例及びこれら毒素を合成する事ができる組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０  ３７４  ７５３、ＷＯ  ９３／０７２７８、ＷＯ  ９５／３４６５６、ＥＰ−Ａ−０  ４２７  ５２９、ＥＰ−Ａ−４５１  ８７８、ＷＯ  ０３／０５２０７３等に記載されている。これらの組換え植物に含まれる毒素は、特に、甲虫目害虫、双翅目害虫、鱗翅目害虫への耐性を植物へ付与する。
【００５６】
上記の作物には、遺伝子組換え技術を用いて、選択的な作用を有する抗病原性物質を産生する能力を付与されたものも含まれる。抗病原性物質の例として、ＰＲタンパク等が知られている（ＰＲＰｓ、ＥＰ−Ａ−０  ３９２  ２２５）。このような抗病原性物質とそれを産生する遺伝子組換え植物は、ＥＰ−Ａ−０  ３９２  ２２５、ＷＯ  ９５／３３８１８、ＥＰ−Ａ−０  ３５３  １９１等に記載されている。こうした遺伝子組換え植物で発現される抗病原性物質の例として、例えば、ナトリウムチャネル阻害剤、カルシウムチャネル阻害剤（ウイルスが産生するＫＰ１、ＫＰ４、ＫＰ６毒素等が知られている。）等のイオンチャネル阻害剤；スチルベンシンターゼ；ビベンジルシンターゼ；キチナーゼ；グルカナーゼ；ＰＲタンパク；ペプチド抗生物質、ヘテロ環を有する抗生物質、植物病害抵抗性に関与するタンパク因子（植物病害抵抗性遺伝子と呼ばれ、ＷＯ  ０３／０００９０６に記載されている。）等の微生物が産生する抗病原性物質等が挙げられる。
【００５７】
本発明組成物が使用される水田で栽培される作物としては、特にイネが挙げられる。ここでいうイネとは、イネ属（Ｏｒｙｚａ）の一年生植物のうち、栽培種であるＯｒｙｚａ  ｓａｔｉｖａとＯｒｙｚａ  ｇｌａｂｅｒｒｉｍａを指す。
【００５８】
本発明方法は、本発明組成物を散布する工程、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物を同時に散布する工程を有する。本発明組成物、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物は、雑草又は雑草が発生すると予測される場所に処理される。雑草への処理としては、雑草そのものへの処理及び雑草が発生した後の土壌への処理が挙げられる。雑草が発生すると予測される場所への処理としては、例えば雑草が発生する前の土壌表面への処理が挙げられる。
【００５９】
本発明方法における処理方法としては、例えば以下の態様が挙げられる。
作物の播種又は移植前、かつ雑草発生前に土壌表面に散布する方法；
作物の播種又は移植前、かつ雑草発生後に土壌表面に散布する方法；
作物の播種又は移植前、かつ雑草発生後に雑草に散布する方法；
作物の播種後で作物の出芽前、かつ雑草発生前に土壌表面に散布する方法；
作物の播種後で作物の出芽前、かつ雑草発生後に土壌表面に散布する方法；
作物の播種後で作物の出芽前、かつ雑草発生後に雑草に散布する方法；
作物の存在下で雑草の出芽前に土壌表面に散布する方法；
作物の存在下で雑草の出芽後に土壌表面に散布する方法；及び／又は
作物の存在下で雑草の出芽後に雑草に散布する方法。
【００６０】
本発明方法において、本発明組成物、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物は、その使用に際して、そのまま散布する、または、水等で適宜希釈増量（例えば、１００〜１００,０００倍）し、噴霧器を用いて散布することができる。
【００６１】
本発明方法において、本発明組成物、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物は、その使用に際して、土壌または固形の肥料に混合し、ヘクタール当たり１００〜１０００ｋｇの割合で、土壌表面または水面に散布することができる。
【００６２】
本発明方法を水田に適用する際は、通常、水稲の湛水直播後、乾田直播後又は水稲移植後に施用する。本発明組成物、又は、プロピリスルフロンを含有する除草用組成物及び前記化合物群Ａより選ばれる１以上の化合物を含有する除草用組成物を施用する時期は、水稲の播種又は移植直後〜水稲の播種又は移植２１日後である。
【００６３】
本発明方法により防除可能な雑草としては、例えば以下のものを挙げることができる。
イヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ）、タイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｉｃｏｌａ）、ヒメタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｒｕｓ−ｇａｌｌｉ  ｖａｒ  ｆｏｒｍｏｓｅｎｓｉｓ）、コヒメビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｃｏｌｏｎａ）、タイワンイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｇｌａｂｒｅｓｃｅｎｓ）、ノゲイタイヌビエ（Ｅｃｈｉｎｏｃｈｌｏａ  ｏｒｙｚｏｉｄｅｓ）、アゼガヤ（Ｌｅｐｔｏｃｈｌｏａ  ｃｈｉｎｅｎｉｓｉｓ）、オオクサキビ（Ｐａｎｉｃｕｍ  ｄｉｃｈｏｔｏｍｉｆｌｏｒｕｍ）、タイワンアイアシ（Ｉｓｃｈａｅｍｕｍ  ｒｕｇｏｓｕｍ）、タマガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｄｉｆｆｏｒｍｉｓ）、コゴメガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｉｒｉａ）、ヒナガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｆｌａｃｃｉｄｕｓ）、カヤツリグサ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｍｉｃｒｏｉｒｉａ）、ミズガヤツリ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｓｅｒｏｔｉｎｕｓ）、ハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｒｏｔｕｎｄｕｓ）、キハマスゲ（Ｃｙｐｅｒｕｓ  ｅｓｃｕｌｅｎｔｕｓ）、イヌホタルイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓ  ｊｕｎｃｏｉｄｅｓ）、タイワンヤマイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓ  ｗａｌｌｉｃｈｉｉ）、ヒメカンガレイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓ  ｍｕｃｒｏｎａｔｕｓ）、シズイ（Ｓｃｈｏｅｎｏｐｌｅｃｔｕｓ  ｎｉｐｐｏｎｉｃｕｓ）、コウキヤガラ（Ｂｏｌｂｏｓｃｈｏｅｎｕｓ  ｋｏｓｈｅｖｎｉｋｏｖｉｉ）、ヒメクグ（Ｋｙｌｌｉｎｇａ  ｇｒａｃｉｌｌｉｍａ）、クログワイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ｋｕｒｏｇｕｗａｉ）、マツバイ（Ｅｌｅｏｃｈａｒｉｓ  ａｃｉｃｕｌａｒｉｓ）、ヒデリコ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ  ｍｉｌｉａｃｅａ）、テンツキ（Ｆｉｍｂｒｉｓｔｙｌｉｓ  ｄｉｃｈｏｔｏｍａ）、コナギ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  ｖａｇｉｎａｌｉｓ）、ミズアオイ（Ｍｏｎｏｃｈｏｒｉａ  ｋｏｒｓａｋｏｗｉｉ）、アメリカコナギ（Ｈｅｔｅｒａｎｔｈｅｒａ  ｌｉｍｏｓａ）、アゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｐｏｃｕｍｂｅｎｓ）、アメリカアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｄｕｂｉａ  ｓｕｂｓｐ．  ｍａｊｏｒ）、タケトアゼナ（Ｌｉｎｄｅｒｎｉａ  ｄｕｂｉａ  ｓｕｂｓｐ．  ｄｕｂｉａ）、ウキアゼナ（Ｂａｃｏｐａ  ｒｏｔｕｎｄｉｆｏｌｉａ）アブノメ（Ｄｏｐａｔｒｉｕｍ  ｊｕｎｃｅｕｍ）、オオアブノメ（Ｇｒａｔｉｏｌａ  ｊａｐｏｎｉｃａ）、キカシグサ（Ｒｏｔａｌａ  ｉｎｄｉｃａ）、ヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ  ｍｕｌｔｉｆｌｏｒａ）、ホソバヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ  ｃｏｃｃｉｎｅａ）、ナンゴクヒメミソハギ（Ａｍｍａｎｎｉａ  ａｕｒｉｃｕｌａｔａ）、ミゾハコベ（Ｅｌａｔｉｎｅ  ｔｒｉａｎｄｒａ）、ウリカワ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｐｙｇｍａｅａ）、オモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｔｒｉｆｏｌｉａ）、タイリンオモダカ（Ｓａｇｉｔｔａｒｉａ  ｍｏｎｔｅｖｉｄｅｎｓｉｓ）、キバナオモダカ（Ｌｉｍｎｏｃｈａｒｉｓ  ｆｌａｖａ）、ヘラオモダカ（Ａｌｉｓｍａ  ｃａｎａｌｉｃｕｌａｔｕｍ）、サジオモダカ（Ａｌｉｓｍａ  ｐｌａｎｔａｇｏ−ａｑｕａｔｉｃａ）、ヒルムシロ（Ｐｏｔａｍｏｇｅｔｏｎ  ｄｉｓｔｉｎｃｔｕｓ）、セリ（Ｏｅｎａｎｔｈｅ  ｊａｖａｎｉｃａ）、クサネム（Ａｅｓｃｈｙｎｏｍｅｎｅ  ｉｎｄｉｃａ）、アメリカツノクサネム（Ｓｅｓｂａｎｉａ  ｅｘａｌｔａｔａ）、チョウジタデ（Ｌｕｄｗｉｇｉａ  ｐｒｏｓｔｒａｔａ）、キダチキンバイ（Ｌｕｄｗｉｇｉａ  ｏｃｔｏｖａｌｖｉｓ）、タウコギ（Ｂｉｄｅｎｓ  ｔｒｉｐａｒｔｉｔａ）、アメリカセンダングサ（Ｂｉｄｅｎｓ  ｆｒｏｎｄｏｓａ）、タカサブロウ（Ｅｃｌｉｐｔａ  ｔｈｅｒｍａｌｉｓ）、アメリカタカサブロウ（Ｅｃｌｉｐｔａ  ａｌｂａ）、ナガボノウルシ（Ｓｐｈｅｎｏｃｈｌｅａ  ｚｅｙｌａｎｉｃａ）、デンジソウ（Ｍａｒｓｉｌｅａ  ｑｕａｄｒｉｆｏｌｉａ）、マメアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｌａｃｕｎｏｓａ）、ホシアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｔｒｉｌｏｂａ）、アメリカアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｈｅｄｅｒａｃｅａ）、マルバアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｐｕｒｐｕｒｅａ）、フウリンアサガオ（Ｉｐｏｍｏｅａ  ｗｒｉｇｈｔｉｉ）。
【実施例】
【００６４】
以下、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下の実施例において、化合物Ｂ及び化合物Ｃは、試薬として市販されている薬剤を使用する。また、表１に記載される「ｇ/ｈａ」は、１ヘクタール当たりの有効成分の重量グラムを示し、「ｇ  ａ．ｅ．／ｈａ」は、１ヘクタール当たりの有効成分の酸当量グラムを示す。
【００６５】
実施例１
１／２０００アール ワグネルポットに水田土壌を詰め、これに水を入れて代かきし、水を抜いた後、該ポットに、イネ、イヌビエ、アゼガヤ、オオクサキビ、ヒデリコ、テンツキ、カヤツリグサ、コゴメガヤツリ、ヒナガヤツリ及びナガボノウルシの種子を播種し、温室で栽培する。
播種直後、播種７日後、播種１４日後、又は播種２１日後に、表１に示す化合物Ｂと化合物Ｃとの組合せのうち、いずれか１の組合せを、イネ及び雑草を栽培しているポットに次のようにして処理する。
処理したときの薬量が表１に示す値となるように、化合物Ｂ及び化合物Ｃを含有する除草剤散布液を調製する。該除草剤散布液の調製は、以下の手順で行う。ツイーン２０を２％（ｗ／ｖ）含有するアセトンに、化合物Ｂ及び化合物Ｃをそれぞれ所定量溶解し、化合物Ｂのアセトン溶液と、化合物Ｃのアセトン溶液とをそれぞれ得る。それぞれのアセトン溶液を、アセトン濃度が１０容量％となるように水で希釈し、化合物Ｂの水希釈液と、化合物Ｃの水希釈液とをそれぞれ得る。次いで、化合物Ｂの水希釈液と、化合物Ｃの水希釈液とを混合することにより、化合物Ｂ及び化合物Ｃを含有する除草剤散布液を得る。水を抜いた状態でポット上面より散布水量１００〜１０００Ｌ／ｈａで該除草剤散布液を散布し、散布１日後にポットを３〜５ｃｍに湛水する。
その結果、表１に示す化合物Ｂと化合物Ｃとの組合せは、いずれの組合せにおいても、イネに対して実用上問題となる害を及ぼすことなく、雑草に対して高い除草効果（相乗効果）が得られる。
【００６６】
表１
2016172734.tif 000003
【００６７】
表１（続き）
2016172734.tif 000004
【００６８】
表１（続き）
2016172734.tif 000005
【００６９】
表１（続き）
2016172734.tif 000006
【００７０】
表１（続き）
2016172734.tif 000007
【００７１】
表１（続き）
2016172734.tif 000008
【００７２】
表１（続き）
2016172734.tif 000009
【００７３】
表１（続き）
2016172734.tif 000010
【００７４】
表１（続き）
2016172734.tif 000011
【００７５】
表１（続き）
2016172734.tif 000012
【００７６】
表１（続き）
2016172734.tif 000013
【００７７】
表１（続き）
2016172734.tif 000014
【００７８】
表１（続き）
2016172734.tif 000015
【００７９】
表１（続き）
2016172734.tif 000016
【００８０】
表１（続き）
2016172734.tif 000017
【００８１】
表１（続き）
2016172734.tif 000018
【００８２】
表１（続き）
2016172734.tif 000019
【００８３】
表１（続き）
2016172734.tif 000020
【００８４】
表１（続き）
2016172734.tif 000021
【００８５】
表１（続き）
2016172734.tif 000022
【００８６】
表１（続き）
2016172734.tif 000023
【００８７】
表１（続き）
2016172734.tif 000024
【００８８】
表１（続き）
2016172734.tif 000025
【００８９】
表１（続き）
2016172734.tif 000026
【００９０】
表１（続き）
2016172734.tif 000027
【００９１】
表１（続き）
2016172734.tif 000028
【００９２】
表１（続き）
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【００９３】
表１（続き）
2016172734.tif 000030
【００９４】
実施例２
１／２０００アール ワグネルポットに水田土壌を詰め、これに水を入れて代かきし、水を抜いた後、該ポットにタイヌビエ、イヌビエ、イヌホタルイ、ヒメカンガレイ、コナギ、ミズオアイ、アゼナ、アメリカアゼナ及びタマガヤツリの種子を播種し、２〜４葉のイネを湛水深２〜３ｃｍで移植する。また、同様に準備した別のポットに、ウリカワ、オモダカ、ヒルムシロ、ミズガヤツリ、コウキヤガラ、クログワイ及びシズイの塊茎を植え付け、２〜４葉のイネを湛水深２〜３ｃｍで移植する。それぞれのポットを温室に置き、雑草及びイネを栽培する。
イネの移植直後、移植７日後、移植１４日後、又は移植２１日後に、表１に示す化合物Ｂと化合物Ｃとの組合せのうち、いずれか１の組合せを、雑草及びイネを栽培しているそれぞれのポットに次のようにして処理する。
処理したときの薬量が表１に示す値となるように、化合物Ｂ及び化合物Ｃを含有する除草剤散布液を調製する。該除草剤散布液の調製は、以下の手順で行う。ツイーン２０を２％（ｗ／ｖ）含有するアセトンに、化合物Ｂ及び化合物Ｃをそれぞれ所定量溶解し、化合物Ｂのアセトン溶液と、化合物Ｃのアセトン溶液とをそれぞれ得る。それぞれのアセトン溶液を、アセトン濃度が１０容量％となるように水で希釈し、化合物Ｂの水希釈液と、化合物Ｃの水希釈液とをそれぞれ得る。次いで、化合物Ｂの水希釈液と、化合物Ｃの水希釈液とを混合することにより、化合物Ｂ及び化合物Ｃを含有する除草剤散布液を得る。ポットを３〜５ｃｍに湛水し、該除草剤散布液を水面に滴下する。
その結果、表１に示す化合物Ｂと化合物Ｃとの組合せは、いずれの組合せにおいても、イネに対して実用上問題となる害を及ぼすことなく、雑草に対して高い除草効果（相乗効果）が得られる。
【産業上の利用可能性】
【００９５】
本発明方法により、水稲の栽培において雑草を効果的に防除するための方法が得られた。