(57)【要約】      （修正有）【課題】水質の影響を軽減させる厚さ測定方法、厚さ測定装置及びガラス基板の製造方法を提供する。【解決手段】流水を噴出させて水柱Ｗ１、Ｗ２を形成させる工程と、水柱と被測定対象物Ｇとを接触させる工程と、被測定対象物において水柱と接触している位置に対し、センサ６００により、所定の波長帯域を有する光Ｓを、水柱の中を通過させて照射する工程と、センサにより、被測定対象物における所定の波長帯域を有する光の反射光を受ける工程と、反射光を用いて被測定対象物の厚さを算出する工程と、を有する。【選択図】図２
2017090151.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被測定対象物の厚さを測定する厚さ測定方法であって、
流水を噴出させて水柱を形成させる工程と、
前記水柱と前記被測定対象物とを接触させる工程と、
前記被測定対象物において前記水柱と接触している位置に対し、センサにより、所定の波長帯域を有する光を、前記水柱の中を通過させて照射する工程と、
前記センサにより、前記被測定対象物における前記所定の波長帯域を有する光の反射光を受ける工程と、
前記反射光を用いて前記被測定対象物の前記厚さを算出する工程と、を有する厚さ測定方法。
【請求項２】
前記水柱を形成させる工程は、
前記被測定対象物の表面に対し、前記水柱が直交する方向へ水を噴出させる、請求項１記載の厚さ測定方法。
【請求項３】
前記被測定対象物の表面と前記水柱とが直交した状態で前記被測定対象物もしくは前記センサを移動させる工程を有し、
前記厚さを算出する工程は、
移動した前記被測定対象物と前記水柱が接触している位置おいて、前記厚さを算出する請求項１又は２記載の厚さ測定方法。
【請求項４】
前記照射させる工程は、
前記水柱を形成させる工程において形成された、複数の前記水柱に対し、前記水柱の中を通過する前記所定の波長帯域を有する光を照射する請求項１乃至３の何れか一項に記載の厚さ測定方法。
【請求項５】
前記被測定対象物は、ガラス基板である請求項１乃至４の何れか一項に記載の厚さ測定方法。
【請求項６】
水の中に配置された前記被測定対象物を、前記水の水面上方で前記水面に対して垂直に保持する工程を含む請求項１乃至５の何れか一項に記載の厚さ測定方法。
【請求項７】
被測定対象物の厚さを測定する厚さ測定装置であって、
流水を噴出させて水柱を形成させる噴出部と、
前記被測定対象物を保持し、前記水柱と前記被測定対象物とを接触させる保持具と、
前記被測定対象物において前記水柱と接触している位置に対し、所定の波長帯域を有する光を、前記水柱の中を通過させて照射し、前記被測定対象物における前記所定の波長帯域を有する光の反射光を受けるセンサと、
前記反射光を用いて前記被測定対象物の前記厚さを算出する算出部と、を有する厚さ測定装置。
【請求項８】
前記保持具は、水の中に配置された前記被測定対象物を、前記水の水面上方で、前記水面に対して垂直に保持する請求項７記載の厚さ測定装置。
【請求項９】
前記被測定対象物の異なった位置を測定するために、前記センサ及び前記保持具をそれぞれ移動させる制御部を備える請求項８記載の厚さ測定装置。
【請求項１０】
前記保持具は、前記被測定対象物を保持し上下に移動する第二の保持具と、前記第二の保持具を上下移動可能に保持し、前記噴出部を有し、前後左右に移動可能な第一の保持具とを備える請求項９記載の厚さ測定装置。
【請求項１１】
ガラス板を所望の形状を有するガラス基板に加工する形状加工工程と、前記ガラス基板の端面を研磨する端面研磨工程と、前記ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程と、前記ガラス基板を洗浄する洗浄工程と、を有するガラス基板の製造方法であって、
前記主表面研磨工程は、
前記ガラス基板の厚さを測定する厚さ測定工程と、前記厚さ測定工程による測定結果に応じて前記ガラス基板に研磨を行う工程とを含み、
前記厚さ測定工程は、請求項１乃至６の何れか一項に記載の測定方法により前記ガラス基板の厚さを測定する工程を含む、ガラス基板の製造方法。
【請求項１２】
前記ガラス基板は、中央部に円孔を有する円板形状の磁気記録媒体用ガラス基板である請求項１１記載のガラス基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、厚さ測定方法、厚さ測定装置及びガラス基板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、磁気記録媒体にガラス基板が用いられることが知られている。また、従来では、ガラス基板の製造工程において、ガラス基板に対する塵や埃等の不純物の付着を防止する目的で、ガラス基板を水中に沈めた状態で所定の波長帯域を有する光を照射して厚さを測定する手法が知られている（特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第５０６６４１０号公報
【特許文献２】特許第５６５０５２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１記載の技術では、水中での厚さの測定において、レーザ光を用いて角度差から厚さを測定しているため、水のゆらぎの影響を受けやすく、被測定物を設定してから安定して測定できるようになるまでに時間を要していた。また、特許文献２記載の技術では、水中でガラス基板を積載したキャリアを移動させて個々のガラス基板に焦点を合わせて行く必要があり、透過するガラス基板の枚数に相違が出る等、ガラス基板の厚さ測定の精度にバラツキを生じ易く、測定の精度が低下するおそれがある。また、特許文献２記載の技術では、水のゆらぎのため、同様に、安定して測定できるようになるまでに時間を要していた。
【０００５】
また、特許文献１及び２記載の技術では、水槽に滞留した水にガラス基板を沈めて厚さを測定する。滞留した水は、様々な不純物等が混入する可能性があり、水質が安定しない。このため、従来の厚さの測定方法では、水中でガラス基板の表面に不純物等が付着したり、所定の波長帯域を有する光の透過率が低下する等、水質の影響を受ける虞がある。
【０００６】
開示の技術は、水質の影響を軽減させ、測定時間を短縮させる厚さ測定方法、厚さ測定装置及びガラス基板の製造方法を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
開示の技術は、被測定対象物の厚さを測定する厚さ測定方法であって、流水を噴出させて水柱を形成させる工程と、前記水柱と前記被測定対象物とを接触させる工程と、前記被測定対象物において前記水柱と接触している位置に対し、センサにより、所定の波長帯域を有する光を、前記水柱の中を通過させて照射する工程と、前記センサにより、前記被測定対象物における前記所定の波長帯域を有する光の反射光を受ける工程と、前記反射光を用いて前記被測定対象物の前記厚さを算出する工程と、を有する。
【０００８】
開示の技術は、被測定対象物の厚さを測定する厚さ測定装置であって、流水を噴出させて水柱を形成させる噴出部と、前記被測定対象物を保持し、前記水柱と前記被測定対象物とを接触させる保持具と、前記被測定対象物において前記水柱と接触している位置に対し、所定の波長帯域を有する光を、前記水柱の中を通過させて照射し、前記被測定対象物における前記所定の波長帯域を有する光の反射光を受けるセンサと、前記反射光を用いて前記被測定対象物の前記厚さを算出する算出部と、を有する。
【発明の効果】
【０００９】
水質の影響を軽減させ、測定時間を短縮し、効率的な測定を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】ガラス基板の厚さ測定装置を説明する図である。
【図２】所定の波長帯域を有する光と水柱との関係を説明する概略断面図である。
【図３】測定装置による厚さ測定の手順を示すフローチャートである。
【図４】厚さ測定時のガラス基板の移動を説明する図である。
【図５】図上左右に２台のセンサを用いたガラス基板の厚さの測定を説明する概略断面図である。
【図６】第一の変形例を示す図である。
【図７】第二の変形例を示す図である。
【図８】第三の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に図面を参照して実施形態について説明する。図１は、測定装置を説明する図である。
【００１２】
本実施形態の測定装置１００は、水槽１１０、カセット１２０、１３０、アーム１４０、１５０、噴出部材１６０、１７０、センサ６００を有する。
【００１３】
本実施形態の測定装置１００は、水槽１１０内に設置されたカセット１２０に収納されたガラス基板Ｇをアーム１５０により保持して持ち上げ、他のカセット１３０に移し替える間に、ガラス基板Ｇの厚さを測定する厚さ測定装置である。
【００１４】
本実施形態の測定装置１００では、アーム１４０によって、カセット１２０から測定対象のガラス基板Ｇを保持して持ち上げ、水槽１１０の上で、噴出部材１６０、１７０からガラス基板Ｇに向かって水を噴出させて水柱を形成する。噴出部材１６０、１７０には、それぞれに後述する２つのノズルが設けられており（図４参照）、このノズルから水が噴出される。また、図１の噴出部材１６０、１７０は、説明上表したもので、より正確には図４に示す形状で表される。
【００１５】
そして、測定装置１００は、ガラス基板Ｇの水柱が当たる部分に対して、センサ６００から照射される所定の波長帯域を有する光を照射し、ガラス基板Ｇの厚さを求める。水柱は、水の流れにより形成されるものである。つまり、本実施形態では、ガラス基板Ｇにおいて、流れる水（流水）と接触している部分の厚さを測定する。尚、本実施形態のガラス基板Ｇは、例えば磁気記録媒体用のガラス基板である。
【００１６】
測定装置１００は、厚さの測定が終了すると、水槽１１０の水面上方で保持されたガラス基板Ｇを水槽１１０内に設置されたカセット１３０へ移動させる。
【００１７】
したがって、本実施形態では、ガラス基板Ｇをカセット１２０からカセット１３０に移動させる途中に、水槽１１０の上で厚さを測定することができる。よって、本実施形態では、ガラス基板Ｇをカセット１２０からカセット１３０へ移動させる工程と、ガラス基板Ｇの厚さを測定する工程とを１つの工程にまとめることができる。
【００１８】
以下に、測定装置１００について説明する。
【００１９】
本実施形態の測定装置１００において、水槽１１０の内部には、カセット１２０、１３０が設定されている。カセット１２０、１３０は、ガラス基板Ｇを１枚毎に分離して支える溝部が複数形成されている（図示せず）。ガラス基板Ｇは、この溝部に挿入され、１枚毎に分離した状態で収納される。尚、ガラス基板Ｇは、中央部に円孔が形成されたドーナツ形状のものとした。
【００２０】
水槽１１０には、水が給水されており、カセット１２０、１３０及びカセット１２０、１３０に収納されたガラス基板Ｇが水没する水位まで水が貯められている。尚、水槽１１０に貯められている水は、定期的に補水され、洗浄され、交換されている。
【００２１】
本実施形態のアーム１４０、１５０は、ガラス基板Ｇを保持する保持具であり、それぞれが第一の保持具と第二の保持具を構成する。本実施形態の第一の保持具であるアーム１４０は、図示しない機構により、図１に示すＹ軸方向及びＸ軸方向に移動する。また、本実施形態の第二の保持具であるアーム１５０は、アーム１４０に上下に移動可能に連結されており、図１に示すＺ軸方向に移動する。
【００２２】
噴出部材１６０、１７０は、アーム１４０の先端に配置されており、それぞれに、ガラス基板Ｇが挿入される間隙５１、５２が形成されている。尚、噴出部材１６０、１７０は、図示しない部材により、アーム１４０に固定されていても良い。
【００２３】
噴出部材１６０、１７０は、ホース等により給水された水を、後述するそれぞれ２つのノズルからガラス基板Ｇの主表面と直交する方向へ噴出させ、水柱を形成させる。
【００２４】
センサ６００は、図示しない機構により、アーム１４０、１５０とは別に制御され、図１に示すＸ軸方向に移動する。本実施形態では、センサ６００は、ガラス基板Ｇの主表面に対して垂直に、所定の波長帯域を有する光を照射し、ガラス基板Ｇの一方の主表面から反射した反射光と、他方の主表面から反射した反射光とを受光する。尚、センサ６００は、複数個所測定のため、Ｘ軸方向に限らず各軸方向に移動可能であっても良い。
【００２５】
本実施形態のセンサ６００は、所定の波長帯域を有する赤外光を照射するＳＬＤ（Super Luminescent Diode）光源を有し、分光干渉方式を採用したものである。本実施形態では、例えば、ＫＥＹＥＮＣＥ社製のセンサヘッド（型番ＳＩ−Ｆ８０）と、分光ユニット（型番ＳＩ−Ｆ８０Ｕ３）を用いた。本実施形態では、例えばガラス基板Ｇから８０．００ｍｍ程度の距離から所定の波長帯域を有する光が照射されることが好ましい。また、本実施形態では、センサ６００を含む分光ユニットに、ガラス基板Ｇの厚さを算出する算出部が備えられていても良い。
【００２６】
本実施形態では、アーム１４０がＸ軸方向（左右）及びＹ軸方向（前後）に移動し、アーム１５０がＺ軸方向（上下）に移動することにより、カセット１２０から取り出したガラス基板Ｇを、噴出部材１６０、１７０が形成する間隙５１、５２に挿通し、噴出部材１６０、１７０から噴出される水柱をガラス基板Ｇに接触させる。そして、本実施形態では、センサ６００から照射される所定の波長帯域を有する光を、水柱の中を通過させてガラス基板Ｇに照射し、ガラス基板Ｇの厚さを測定する。
【００２７】
また、本実施形態では、間隙５１、５２に挿入されたガラス基板Ｇをアーム１５０によりＺ軸方向に移動させて、水柱と接触させる位置を変更し、センサ６００をそれに合わせて移動させて、変更した位置でガラス基板Ｇの厚さを測定することで、ガラス基板Ｇにおいて複数箇所の厚さを測定することができる。
【００２８】
次に、図２を参照して本実施形態の所定の波長帯域を有する光と水柱との関係について説明する。図２は、所定の波長帯域を有する光と水柱との関係を説明する概略断面図である。
【００２９】
図２は、図１に示すＡ―Ａを図１に示す矢印方向からみた概略断面図である。
【００３０】
図２（Ａ）は、アーム１５０により保持された状態のガラス基板Ｇにおいて、中央部の円孔Ｏより下の位置の厚さを測定する場合を示しており、図２（Ｂ）は、ガラス基板Ｇにおいて、中央部の円孔Ｏより上の位置の厚さを測定する場合を示している。
【００３１】
本実施形態の測定装置１００は、図２（Ａ）の示すように、ガラス基板Ｇの円孔Ｏより下で厚さを測定した後に、アーム１５０によってガラス基板Ｇを図２（Ｂ）に示す位置に移動させ、円孔Ｏより上の位置で厚さを測定しても良いし、図２（Ｂ）の位置で測定を行った後に図２（Ａ）の位置で測定を行っても良い。
【００３２】
本実施形態の噴出部材１６０は、ノズル１６１、１６２が形成されており、ノズル１６１、１６２は、間隙５１に挿通されたガラス基板Ｇと対向するよう形成されている。また、本実施形態の噴出部材１６０、１７０は、例えばアクリル樹脂等により形成される。
【００３３】
本実施形態の噴出部材１６０は、噴出部材１６０に供給される水を、ノズル１６１、１６２から噴出させる水路を形成している。
【００３４】
本実施形態において、厚さの測定対象のガラス基板Ｇは、アーム１５０に保持された状態で、間隙５１及び間隙５２に差し込まれ、挿通される。
【００３５】
本実施形態の測定装置１００では、ガラス基板Ｇが間隙５１及び５２に挿通されると、噴出部材１６０、１７０に対して水を供給し、ノズル１６１、１６２から水を噴出させる。このとき、各ノズルからは、ガラス基板Ｇの主表面と直交する方向へ水が噴出される。噴出した水は、ガラス基板Ｇの主表面に堰き止められ、各噴出部材とガラス基板Ｇの主表面との間に水柱を形成する。本実施形態では、両ノズル１６１、１６２から、それぞれが対向する方向へ水を噴出させるため、噴出された水がガラス基板Ｇを押す力が打ち消され、ガラス基板Ｇが動かずに安定した状態で保持され、精度の高い測定ができる。
【００３６】
本実施形態では、この水柱と、センサ６００から照射される所定の波長帯域を有する光とが重なるように、ガラス基板Ｇの位置とセンサ６００の位置を制御することで、水に濡れた状態の主表面に所定の波長帯域を有する光を照射し、ガラス基板Ｇの厚さを算出する。
【００３７】
具体的には、本実施形態のセンサ６００は、所定の波長帯域を有する光がノズル１６１、１６２の中を通るように、位置が決められる。より好ましくは、センサ６００は、所定の波長帯域を有する光が１６１、１６２の中心点を通るように、位置が決められる。
【００３８】
噴出部材１６０のノズル１６１から噴出した水は、ガラス基板Ｇの一方の主表面６１に堰き止められて、水柱Ｗ１を形成する。同様に、噴出部材１６０のノズル１６２から噴出した水は、ガラス基板Ｇの他方の主表面６２に堰き止められて、水柱Ｗ２を形成する。水柱Ｗ１、Ｗ２を形成した水は、ガラス基板Ｇを伝って水槽１１０へ流れ落ちる。
【００３９】
本実施形態では、ガラス基板Ｇの厚さを測定する際に、所定の波長帯域を有する光がノズル１６２の中心点を通る位置にセンサ６００を移動させ、所定の波長帯域を有する光Ｓを照射させる。すなわち、本実施形態では、所定の波長帯域を有する光Ｓは、水柱Ｗ１、Ｗ２の内を通過するように照射される。
【００４０】
センサ６００から照射された所定の波長帯域を有する光Ｓは、光軸が少なくとも水柱Ｗ２の軸と重なるように照射されることが好ましい。尚、光Ｓは、所定の波長帯域を有する光Ｓの光軸が、少なくとも水柱Ｗ２の軸と同軸となるように照射される。
【００４１】
所定の波長帯域を有する光Ｓが水柱Ｗ１、Ｗ２の内を通過するということは、言い換えれば、光Ｓは、水柱Ｗ２の内壁に触れないように直進し、水柱Ｗ２を通過してガラス基板Ｇに到達することである。    
本実施形態では、このように所定の波長帯域を有する光を照射させることで、ガラス基板Ｇの主表面６２において、水柱Ｗ２を堰き止めている領域６２１に対して所定の波長帯域を有する光Ｓを照射することになる。
【００４２】
すなわち、本実施形態では、所定の波長帯域を有する光Ｓは、センサ６００から照射されると、空気層、アクリル層、水を通過して、領域６２１へ到達する。このとき、主表面６２の領域６２１には、水が接触しており、空気が含まれていない。
【００４３】
また、本実施形態では、所定の波長帯域を有する光Ｓは、ガラス基板Ｇを透過して主表面６１に到達した後には、水、アクリル層、空気層の順に透過していく。このとき、主表面６１の領域６１１には、領域６２１と同様に、水が接触しており空気が含まれていない。
【００４４】
このように、本実施形態では、主表面６２の反対側の主表面６１にも、安定した水の膜を生成するため、主表面６１（領域６１１）に中途半端な水滴が付着等により、反射の戻り光の精度が低下することを防止できる。
【００４５】
したがって、本実施形態では、ガラス基板Ｇの厚さの測定の際に、領域６１１、６２１を安定した状態に維持でき、高い精度でガラス基板Ｇの厚さを測定することができる。
【００４６】
また、本実施形態では、所定の波長帯域を有する光Ｓが照射される方向へ水が噴射され、水柱Ｗ２が遮られる主表面６２で所定の波長帯域を有する光Ｓが反射され、また、水柱Ｗ１で遮られる主表面６１で反射される。
【００４７】
つまり、本実施形態では、所定の波長帯域を有する光Ｓが主表面６２、６１で反射するまで、水は常に所定の波長帯域を有する光Ｓが照射される方向へ流れる。
【００４８】
このため、本実施形態では、所定の波長帯域を有する光Ｓが透過していく水の中では、所定の波長帯域を有する光Ｓが照射された方向と交わるような方向への水のゆらぎ（揺動）が抑えられる。したがって、本実施形態によれば、水のゆらぎが測定の精度に及ぼす影響を低減することができる。
【００４９】
さらに、本実施形態では、ガラス基板Ｇを水槽の中に沈めて厚さを測定する方法と比較すると、水槽の水のゆらぎが収まるまでの時間を考慮する必要がなく、厚さの測定の工程にかかる時間を短縮できる。
【００５０】
また、本実施形態では、水柱Ｗ２を堰き止めている領域６２１に対して所定の波長帯域を有する光Ｓを照射することで、領域６２が接触する水は、滞留した水ではなく、常に流れている流水となる。したがって、本実施形態によれば、ガラス基板Ｇの厚さを測定する際に、ガラス基板Ｇの乾燥を防ぐ目的で使用される水の水質による影響を低減させることができる。
【００５１】
また、本実施形態では、ガラス基板Ｇの厚さを測定するために使用する特別な水槽を設ける必要がなく、使用する水の量を削減できる。
【００５２】
また、本実施形態では、ガラス基板Ｇの主表面６１、６２の両方に対して水を噴出させるため、厚さの測定時にガラス基板Ｇが水の圧力により振動したりすることを抑制できる。
【００５３】
尚、本実施形態では、ノズル１６１、１６２の直径を４［ｍｍ］とし、噴出部材１６０が形成する間隙５１及び噴出部材１７０が形成する間隙５２の距離Ｌを１０［ｍｍ］とすることが好ましい。また、ノズル１６１、１６２、ノズル１７１、１７２から噴出される水の流量を１．５［Ｌ／ｍ］とすることが好ましい。
【００５４】
尚、図２では、噴出部材１６０が有するノズル１６１、１６２について説明したが、噴出部材１７０の有するノズル１７１、１７２も同様の構成である。
【００５５】
次に、本実施形態の測定装置１００によるガラス基板Ｇの厚さの測定の動作について説明する。
【００５６】
尚、本実施形態の測定装置１００によるガラス基板Ｇの厚さの測定は、ガラス基板の製造工程において行われる。一般に、磁気記録媒体用として使用されるガラス基板の製造ラインは、少なくとも以下の工程１〜工程７を含む。
（工程１）フロート法、フュージョン法、リドロー法、またはプレス成形法により成形されたガラス素基板を、中央部に円形孔を有する円板形状に加工する形状付与工程。
（工程２）ガラス基板の内周と外周の端面部の面取り加工をする面取り加工工程。
（工程３）ガラス基板の上下における主表面をラッピング（研削）するラップ工程。
（工程４）ガラス基板の端面（内周端面及び外周端面）を端面研磨する端面研磨工程。
（工程５）ガラス基板の主表面を研磨加工する主表面研磨工程。
（工程６）ガラス基板を洗浄して乾燥させる洗浄・乾燥工程。
【００５７】
本実施形態の測定装置１００によるガラス基板の厚さの測定は、工程５に含まれても良く、例えば工程５の研磨加工の一環として、ガラス基板の研磨後に行われても良い。
【００５８】
本実施形態では、研磨加工の一環として本実施形態の測定方法による測定を行うことで、水質の影響の軽減に加え、ガラス基板Ｇに残留した研磨剤に影響されることになく、厚さを測定できる。
【００５９】
図３は、測定装置による厚さ測定の手順を示すフローチャートである。
【００６０】
本実施形態の測定装置１００では、１枚のガラス基板Ｇについて、４箇所で厚さの測定を行う。
【００６１】
本実施形態の測定装置１００は、厚さの測定が開始されると、噴出部材１６０、１７０から水を噴出させて水柱を形成し、センサ６００からの光の照射を開始させる（ステップＳ３０１）。このとき、測定装置１００は、水柱Ｗ１、Ｗ２が形成されると、センサ６００を、所定の波長帯域を有する光Ｓがノズル１６１、１６２の中を通る位置に移動させて配置し、所定の波長帯域を有する光Ｓを照射させる。
【００６２】
続いて、測定装置１００は、制御部からの信号により、アーム１４０、１５０がカセット１２０の上に位置するように、アーム１４０をＸ軸方向及びＹ軸方向に移動させる（ステップＳ３０２）。続いて、測定装置１００は、アーム１５０をＺ軸方向に、水槽１１０へ近づけるように下降させ、測定対象のガラス基板Ｇを把持する（ステップＳ３０３）。
【００６３】
本実施形態では、例えば２００グラム程度の把持力でガラス基板Ｇを把持することが好ましい。このようにガラス基板Ｇを把持すれば、ガラス基板Ｇが変形することがなく、且つ水柱がガラス基板Ｇに当たった場合にも、ガラス基板Ｇを固定した状態を維持することができる。
【００６４】
次に、測定装置１００は、アーム１５０をＺ軸方向に水槽１１０から遠ざけるように移動させ、把持したガラス基板Ｇをカセット１２０から取り出す（ステップＳ３０４）。
【００６５】
続いて、測定装置１００は、ガラス基板Ｇが、噴出部材１６０、１７０により形成される間隙５１、間隙５２の間に挿通された状態となるように、アーム１５０を上昇するように制御し、ガラス基板Ｇを最初の測定位置へ移動させる（ステップＳ３０５）。
【００６６】
続いて、測定装置１００は、１回目の厚さの測定を行う（ステップＳ３０６）。
【００６７】
続いて、測定装置１００は、アーム１５０をＺ軸方向で上昇するように（水槽１１０から遠ざかる方向）に動かし、ガラス基板Ｇを上方へ移動させ（ステップＳ３０７）、２回目の厚さの測定を行う（ステップＳ３０８）。
【００６８】
このとき、測定装置１００は、ガラス基板Ｇが間隙５１、５２に挿通された状態を維持する範囲でアーム１５０を移動させる。言い換えれば、測定装置１００は、ノズル１６１、１６２から噴出されるそれぞれの水柱が、ガラス基板Ｇの主表面６１、６２のそれぞれに堰き止められる状態を維持するように、アーム１５０を移動させる。
【００６９】
次に、測定装置１００は、センサ６００をＸ軸方向に移動させる（ステップＳ３０９）。
【００７０】
続いて測定装置１００は、所定の波長帯域を有する光Ｓがノズル１６１、１６２の中を通る位置に固定し、３回目の厚さの測定を行う（ステップＳ３１０）。
【００７１】
続いて、測定装置１００は、アーム１５０をＺ軸方向で下降するように（水槽１１０へ近づく方向）に動かし、ガラス基板Ｇを下方へ移動させ（ステップＳ３１１）、４回目の厚さの測定を行う（ステップＳ３１２）。
【００７２】
測定装置１００は、４回目の厚さの測定が終了すると、アーム１４０、１５０を制御してアーム１５０を下降させ、アーム１４０をＸ軸方向に移動させて、把持していたガラス基板Ｇをカセット１３０へ収納し（ステップＳ３１３）、処理を終了する。
【００７３】
以下に、図４を参照して、厚さの測定の際のガラス基板Ｇの移動について説明する。図４は、厚さ測定時のガラス基板の移動を説明する図である。図４（Ａ）は、２回目と３回目の厚さの測定を説明する図であり、図４（Ｂ）は、１回目と４回目の厚さの測定を説明する図である。
【００７４】
図４（Ｂ）に示すように、ガラス基板Ｇが間隙５１、５２を挿通する位置で固定されると、測定装置１００は、始めに所定の波長帯域を有する光Ｓがノズル１７１、１７２の中を通る位置にセンサ６００を固定して、１回目（１箇所目）の厚さの測定を行う。
【００７５】
次に、測定装置１００は、図４（Ａ）に示すように、ガラス基板Ｇを持ち上げ、２回目（２箇所目）の厚さの測定を行う。
【００７６】
次に、測定装置１００は、図４（Ａ）の状態において、所定の波長帯域を有する光Ｓがノズル１６２、１６２の中を通る位置にセンサ６００を移動させて固定し、３回目（３箇所目）の厚さの測定を行う。
【００７７】
続いて、測定装置１００は、ガラス基板Ｇを下に下げて図４（Ｂ）に示す状態とし、所定の波長帯域を有する光Ｓがノズル１６１、１６２の中を通る位置にガラス基板Ｇを固定し、４回目（４箇所目）の厚さの測定を行う。
【００７８】
尚、本実施形態では、１回目の厚さの測定を行った後に、ガラス基板Ｇを持ち上げて２回目の測定を行い、続いてセンサ６００を移動させて３回目の測定を行った後にガラス基板Ｇを下側に下げて４回目の測定を行うものとしたが、これに限定されない。本実施形態では、例えば図４（Ａ）の状態で１回目と２回目の厚さの測定を行い、図４（Ｂ）の状態で３回目と４回目の厚さの算出を行っても良い。また、本実施形態では、１枚のガラス基板Ｇについて４箇所で厚さを測定するものとしたが、厚さを測定する回数はこれに限定されない。厚さを測定する回数は、任意の回数であって良い。
【００７９】
また、本実施形態では、水槽１１０に貯められる液体と、噴出部材１６０、１７０から噴出される液体を水としたが、水に限定されない。本実施形態では、例えば水の代わりに、アルコール、オイル、アルカリ性洗剤、中性洗剤等の薬剤を用いても良い。洗剤を用いる場合には、泡が立たない洗剤を用いることが好ましい。
【００８０】
また、本実施形態では、センサ６００は、ＳＬＤ光源を有するものとしたが、これに限定されない。本実施形態では、レーザ光を照射するセンサを用いても良い。この場合、センサ６００からガラス基板Ｇの一方の主表面までの距離と、他方の主表面までの距離と算出し、この差分をガラス基板Ｇの厚さとすればよい。
【００８１】
また、本実施形態では、２台のセンサ６００を用いて両者を対向させて、ガラス基板Ｇの厚さを算出しても良い。図５は、図上左右に２台のセンサを用いたガラス基板の厚さの測定を説明する概略断面図である。図５に示す例は、図１で表せば、Ｙ軸方向奥側にセンサ８００、手前側に、もう１つのセンサ８１０が配置されている構成となる。センサ８００はセンサ６００と同様に分光干渉方式のセンサであるがガラス基板の表面での反射光を検出する測長タイプのものである。
【００８２】
図５の例では、ガラス基板Ｇの主表面６１側にセンサ８１０、主表面６２側にセンサ８００を設ける。センサ８１０は、センサ８００と同様の仕様のものとした。
【００８３】
このとき、主表面６１側のセンサ８１０から照射される光は、水柱Ｗ１の内壁に触れずに水柱Ｗ１の中を通過するように照射され、主表面６２側のセンサ８００から照射される光は、水柱Ｗ２の内壁に触れずに水柱Ｗ２の中を通過するように照射される。
【００８４】
図５の例では、センサ８００の光の照射面８０２と、センサ８１０の光の照射面８０１の間の距離をＷ５１、照射面８０１から主表面６１までの距離をＷ５２、照射面８０２から主表面６２までの距離をＷ５３としたとき、ガラス基板Ｇの厚さｔは、以下のように求められる。
【００８５】
ガラス基板Ｇの厚さｔ＝Ｗ５１−（Ｗ５２＋Ｗ５３）
図５に示す方法では、例えは厚いガラス基板Ｇでも、高い精度で厚さを特定できる。
【００８６】
＜本実施形態の効果＞
以下に、本実施形態の効果について説明する。本実施形態によれば、ガラス基板Ｇをカセット１２０からカセット１３０へ移動させる途中でガラス基板Ｇの厚さを測定する。したがって、本実施形態によれば、ガラス基板Ｇのハンドリング中に板厚を測定することができ、迅速な測定を行うことができる。
【００８７】
また、本実施形態によれば、水を噴出させて形成した水柱をガラス基板Ｇへ当てて、水柱の中に所定の波長帯域を有する光を通して厚さを測定する。したがって、本実施形態では、水のゆらぎが安定するまでの待ち時間を短縮することができる。
【００８８】
さらに、本実施形態によれば、流水をガラス基板Ｇに当てるため、ガラス基板Ｇにおいて光が照射される領域に滞留した水が接することがなく、水質の影響による測定精度の低下を防止できる。
【００８９】
以下に、本実施形態の変形例を示す。
【００９０】
図６は、第一の変形例を示す図である。図６に示す変形例では、ガラス基板Ｇの主表面６１と対向する位置に配置された板７００Ａと、主表面６２と対向する位置に配置された板７００Ｂとを有する。板７００Ａ、７００Ｂは、例えばアクリル樹脂で形成されている。
【００９１】
図６の例では、板７００Ａと板７００Ｂとの間に水を供給し、主表面６１と板７００Ａの間と、主表面６２と板７００Ｂとの間に水路Ｗ１１と水路Ｗ１２を形成する。
【００９２】
このとき、水路Ｗ１１は、主表面６１と板７００Ａとの間に空気が含まれないように形成されることが望ましい。同様に、水路Ｗ１２は、主表面６２と板７００Ｂとの間に空気が含まれないように形成されることが望ましい。
【００９３】
水路Ｗ１１、Ｗ１２を形成した水は、水受け７１０に流れおちる。尚、水受け７１０は、水槽１１０により実現されても良い。
【００９４】
図６の例では、水路Ｗ１１、Ｗ１２が形成された後に、センサ６００は、主表面６２に対して直交する方向へ所定の波長帯域を有する光を照射し、ガラス基板Ｇの厚さの測定を行う。図６に示す変形例によれば、簡易な構成で水路を形成することができる。
【００９５】
図７は、第二の変形例を示す図である。図７の例では、水受け７１１の上に台座７２０が設けられている。図７の例では、台座７２０の上に水を供給し、台座７２０上に水路を形成する。尚、台座７２０は、供給された水が一方向へ流れていくように、傾斜して取り付けられている。台座７２０は、例えばアクリル樹脂で形成されている。
【００９６】
図７の例では、例えば台座７２０上に水を供給して水路Ｗを形成し、その上にガラス基板Ｇを保持する。このとき、ガラス基板Ｇは、両方の主表面が水路Ｗに浸されるように保持される。言い換えれば、ガラス基板Ｇは、両方の主表面が水と接触し、両方の主表面と水との間に空気層が含まれないように、保持される。
【００９７】
図７の例では、この状態において、台座７２０と水受け７１１との間にセンサ６００を保持し、台座７２０を介してガラス基板Ｇの厚さを測定する。
【００９８】
図７に示す変形例によれば、ガラス基板Ｇを台座７２０に配置するだけで厚さを測定でき、厚さの測定において、簡単にガラス基板Ｇを配置することができる。また、図７に示す変形例によれば、ガラス基板Ｇは水平であり、保持し易い。
【００９９】
図８は、第三の変形例を示す図である。図８の例では、水受け７１０の上に、噴出装置７３０を設けている。噴出装置７３０は、水受け７１０側から水が供給され、水受け７１０から遠ざかる向きに供給された水を噴出させる。
【０１００】
図８の例では、噴出装置７３０の噴出口７３１が、ガラス基板Ｇの中央部に形成された円孔１１１と重なる位置にガラス基板Ｇが保持される。噴出装置７３０は、ガラス基板Ｇの主表面６１、６２の両方が水に覆われるように、水を噴出させる。図１１では、このようにすることで、主表面６１、６２の両方に水を接触させ、主表面６１、６２と水の間に空気層が含まれないようにする。
【０１０１】
図８の例では、主表面６１、６２の両方が水に覆われると、センサ６００による厚さの測定が行われる。
【０１０２】
尚、図８の例では、ガラス基板Ｇの主表面６１を、アクリル樹脂等で形成された板等で覆っても良い。この場合、噴出口７３１から噴出された水は、板により堰き止められて、ガラス基板Ｇの主表面６１上に広がっても良い。
【０１０３】
図８に示す変形例によれば、台座が不要となるため、簡易に構成でガラス基板Ｇの厚さを測定できる。また、図８に示す変形例によれば、ガラス基板Ｇが水平であり、保持し易い。
【０１０４】
上記の図６乃至図８に示す第一乃至第三の変形例では、何れもガラス基板Ｇの主表面を流れている水（流水）と接触させ、流水と接触している位置において厚さを測定している。したがって、第一乃至第三の変形例においても、ガラス基板Ｇを滞留した水の中に沈める必要はなく、厚さの測定において水質の影響を軽減させることができる。
【０１０５】
尚、本実施形態では、測定装置１００による被測定対象物をガラス基板としたが、これに限定されない。本実施形態の測定装置１００による被測定対象物は、ガラス基板でなくても良い。厚さの被測定対象物は、板状であって、少なくとも一方の主表面を液体と接触させた状態で測定するものであれば、本実施形態の測定装置１００による測定方法を適用することができる。
【０１０６】
以上、各実施形態に基づき本発明の説明を行ってきたが、上記実施形態に示した要件に本発明が限定されるものではない。これらの点に関しては、本発明の主旨をそこなわない範囲で変更することができ、その応用形態に応じて適切に定めることができる。
【符号の説明】
【０１０７】
１００  測定装置
１１０  水槽
１２０、１３０  カセット
１４０，１５０  アーム
１６０、１７０  噴出部材
１６１、１６２、１７１、１７２  ノズル
６００、８００、８１０  センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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