(57)【要約】      （修正有）【課題】ポリカーボネート樹脂が本来有する耐熱性、機械物性等を損なうことなく、日射反射性及び耐候性に極めて優れる波型成形板の提供。【解決手段】ポリカーボネート樹脂（Ａ）と近赤外線反射顔料（Ｂ）と環状亜燐酸エステル系酸化防止剤（Ｃ）とを含むコア層であって、該近赤外線反射顔料（Ｂ）が平均粒径が２μｍ以下の特定の複合酸化物顔料であり、該近赤外線反射顔料（Ｂ）の量が、該ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であるコア層と、ポリカーボネート樹脂（Ａ）とベンゾトリアゾール、トリアジン、シアノアクリレート又は一種以上を含む組み合わせからなる紫外線吸収剤（Ｄ）とを含み、その一方の表面が該コア層に密着配置されたキャップ層を備える波型成形板。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリカーボネート樹脂（Ａ）と近赤外線反射顔料（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）とを含むコア層であって、該近赤外線反射顔料（Ｂ）がクロム、鉄、コバルト、チタン、アンチモン、アルミニウム、亜鉛、およびニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む複合酸化物顔料であり、該近赤外線反射顔料（Ｂ）の量が該ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であるコア層と、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と紫外線吸収剤（Ｄ）とを含みその一方の表面が該コア層に密着配置されたキャップ層であって、該紫外線吸収剤（Ｄ）が、ベンゾトリアゾール、トリアジン、シアノアクリレート又はこれらの一種以上を含む組合せであるキャップ層を備えることを特徴とする、波型成形板。
【請求項２】
前記近赤外線反射顔料（Ｂ）の平均粒径が２μｍ以下である請求項１記載の波型成形板。
【請求項３】
前記酸化防止剤（Ｃ）の量が、前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜０．５重量部である請求項１記載の波型成形板。
【請求項４】
前記酸化防止剤（Ｃ）が、以下の一般式（１）で表される環状亜リン酸エステル系酸化防止剤である、請求項１記載の波型成形板。
一般式（１）：
【化１】
2017193144.tif 000019
（１）
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｘは単結合、硫黄原子もしくは−ＣＨＲ６基（Ｒ６は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す）を表す。Ａは炭素数１〜８のアルキレン基または＊−ＣＯＲ７基（Ｒ７は単結合または炭素数１〜８のアルキレン基を、＊は酸素側の結合手であることを示す。）を表す。Ｙ、Ｚは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【請求項５】
一般式（３）で表される亜リン酸エステル系化合物が、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−〔３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ〕ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピンである、請求項１記載の波型成形板。
【請求項６】
前記紫外線吸収剤（Ｄ）の量が、前記ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して１〜２０重量部である、請求項１記載の波型成形板。
【請求項７】
前記キャップ層の厚さが、１０〜２００μｍである、請求項１記載の波型成形板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、日射反射性及び耐候性に優れる波型成形板に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、成形品に赤外線や近赤外線などの熱線を反射させる特性、すなわち日射反射性を付与する場合には、酸化チタン、雲母、酸化アルミニウムなどのフィラーを成形品の表面に薄く積層する方法（特許文献１、特許文献２）、顔料を溶剤に分散させた塗料を成形品の表面に塗布する方法が知られている（特許文献３）。  
【０００３】
また、他の方法として成形品の表面に金属蒸着や金属層を積層するなどの二次加工を施す方法も利用されてきた（特許文献４）。
【０００４】
しかしながら、フィラーを用いる特許文献１や特許文献２の場合には、良好なフィラー分散性を得るのが難しいため成形品の外観が損なわれることがあった。また、顔料を分散させた塗料を塗布する特許文献３の場合には、有機溶剤を用いる必要があるため環境に負荷が掛かる場合があった。さらに、金属蒸着等を行う特許文献４の場合には、金属蒸着等のための特別な工程が必要であるためコスト上昇の要因となる場合があった。また、ポリカーボネート樹脂に無機系近赤外線吸収剤を添加する特許文献５の場合には、近赤外線を吸収するためテラスの屋根材等の多層シートに用いた場合、テラス内部の温度を上昇させるとの問題があった。
【０００５】
このように特許文献１〜５に記載の従来技術は、いずれも良好な外観で日射反射性と耐候性とを兼ね備える安価材料としての要求を充分に満足し得るものではなく、また、これまで良好な外観で日射反射性と耐候性とを兼ね備える安価材料としての要求特性を備えた波型成形板は知られていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−１３９８７
【特許文献２】特開平６−１４４８７４
【特許文献３】米国特許第６１７４３６０号
【特許文献４】特開２０１０−６４２９５号公報
【特許文献５】特許４８３９００５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ポリカーボネート樹脂が本来有する、耐熱性、機械物性等を損なうことなく、特別な工程が不要なため安価で、日射反射性及び耐候性に優れる波型成形板を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明者らは、ポリカーボネート樹脂に近赤外線反射顔料と酸化防止剤とを必須成分として特定割合にて配合したポリカーボネート樹脂組成物をコア層とし、そのコア層にポリカーボネート樹脂と紫外線吸収剤を含むキャップ層とを密着配置した波型成形板が、驚くべきことに、ポリカーボネート樹脂が本来有する良好な機械物性を損なうことなく、特別な工程が不要なため安価で、日射反射性及び耐候性に優れることを見出し、本発明を完成した。
【０００９】
すなわち、本発明の波型成形板は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と近赤外線反射顔料（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）とを含むコア層であって、該近赤外線反射顔料（Ｂ）がクロム、鉄、コバルト、チタン、アンチモン、アルミニウム、亜鉛、およびニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む複合酸化物顔料であり、該近赤外線反射顔料（Ｂ）の量が該ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であるコア層と、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と紫外線吸収剤（Ｄ）とを含み、その一方の表面が該コア層に密着配置されたキャップ層であって、該紫外線吸収剤（Ｄ）がベンゾトリアゾール、トリアジン、シアノアクリレート又はこれらの一種以上を含む組合せである、キャップ層を備えることを特徴とする波型成形板を提供する。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の波型成形板は、ポリカーボネート樹脂が本来有する耐熱性、機械物性、等を損なうことなく、特別な工程が不要なため安価で、日射反射性及び耐候性に極めて優れる。このため、特に、エクステリア、建装材、産業資材、農業資材等として好適に用いることができ極めて産業上の利用価値は高い。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、実施の形態を詳細に説明する。ただし、必要以上に詳細な説明は省略する場合がある。例えば、既によく知られた事項の詳細説明や実質的に同一の構成に対する重複説明を省略する場合がある。これは、以下の説明が不必要に冗長になるのを避け、当業者の理解を容易にするためである。
【００１２】
尚、発明者らは、当業者が本開示を充分に理解するために以下の説明を提供するのであって、これらによって請求の範囲に記載の主題を限定することを意図するものではない。
【００１３】
（実施の形態）
本発明の波型成形板は、建材用樹脂製成形板やエクステリア用樹脂製成形板等、具体的には屋根材、壁材等、樹脂製窓等に好適に使用され得る波型状の表面形状を備える樹脂製成形板を意味し、単一樹脂製成形板、および他の樹脂製成形板やガラス製成形板等との積層樹脂製成形板をも包含するものである。
【００１４】
実施の形態に係る波型成形板は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と近赤外線反射顔料（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）とを含むコア層であって、該近赤外線反射顔料（Ｂ）がクロム、鉄、コバルト、チタン、アンチモン、アルミニウム、亜鉛、およびニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む複合酸化物顔料であり、該近赤外線反射顔料（Ｂ）の量が、該ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して０．０１〜２０重量部であるコア層と、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と紫外線吸収剤（Ｄ）とを含み、その一方の表面が該コア層に密着配置されたキャップ層であって、該紫外線吸収剤（Ｄ）が、ベンゾトリアゾール、トリアジン、シアノアクリレート又はこれらの一種以上を含む組合せであるキャップ層を備えるものである。コア層とは、基材層ともいい、キャップ層とは、表層ともいうことがある。
【００１５】
本発明にて使用されるポリカーボネート樹脂（Ａ）は、種々のジヒドロキシジアリール化合物とホスゲンとを反応させるホスゲン法、又はジヒドロキシジアリール化合物とジフェニルカーボネート等の炭酸エステルとを反応させるエステル交換法によって得られる重合体である。代表例としては、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）から製造されたポリカーボネート樹脂が挙げられる。また、本発明にて使用されるポリカーボネート樹脂（Ａ）として、２，２―ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）、分岐剤およびホスゲンから製造された分岐状ポリカーボネート樹脂や、植物由来のイソソルバイド（イソソルビド）が主原料のバイオポリカーボネート樹脂等も挙げられる。上記のポリカーボネート樹脂を単独または２種以上混合して使用してもよい。
【００１６】
前記ジヒドロキシジアリール化合物としては、ビスフェノールＡの他に、例えば、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルメタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル−３−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３−ブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３、５−ジブロモフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジクロロフェニル）プロパン等のビス（ヒドロキシアリール）アルカン類；１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等のビス（ヒドロキシアリール）シクロアルカン類；４，４´−ジヒドロキシジフェニルエーテル、４，４´−ジヒドロキシ−３，３´−ジメチルジフェニルエーテル等のジヒドロキシジアリールエーテル類；４，４´−ジヒドロキシジフェニルスルフィド等のジヒドロキシジアリールスルフィド類；４，４´−ジヒドロキシジフェニルスルホキシド、４，４´−ジヒドロキシ−３，３´−ジメチルジフェニルスルホキシド等のジヒドロキシジアリールスルホキシド類；４，４´−ジヒドロキシジフェニルスルホン、４，４´−ジヒドロキシ−３，３´−ジメチルジフェニルスルホン等のジヒドロキシジアリールスルホン類が挙げられ、これらは単独で又は２種類以上を混合して使用される。これらの他にも、ピペラジン、ジピペリジルハイドロキノン、レゾルシン、４，４´−ジヒドロキシジフェニル等を混合して使用してもよい。
【００１７】
さらに、前記ジヒドロキシジアリール化合物と、例えば以下に示す３価以上のフェノール化合物とを混合して使用してもよい。
【００１８】
前記３価以上のフェノール化合物としては、例えば、フロログルシン、４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプテン、２，４，６−ジメチル−２，４，６−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ヘプタン、１，３，５−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−ベンゾール、１，１，１−トリ−（４−ヒドロキシフェニル）−エタン及び２，２−ビス−［４，４−（４，４´−ジヒドロキシジフェニル）−シクロヘキシル］−プロパン等が挙げられる。
【００１９】
ポリカーボネート樹脂（Ａ）の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、特に制限はないが、シートにする際の成形加工性、機械物性の面より通常１００００〜１０００００であり、好ましくは１５０００〜３５０００、特に好ましくは１８０００〜３００００の範囲である。また、かかるポリカーボネート樹脂を製造するに際し、分子量調整剤、触媒等を必要に応じて使用することができる。また、予め分子量の異なるポリカーボネート樹脂を２種以上準備しておき、それらをブレンドして所望の分子量に調整しても何ら差し支えない。
【００２０】
本発明にて使用される近赤外線反射顔料（Ｂ）は、特に限定されるものでもないが、クロム、鉄、コバルト、チタン、アンチモン、アルミニウム、亜鉛、およびニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む複合酸化物顔料が好ましく用いられる。当該複合酸化物顔料としては、クロム、鉄、およびコバルトから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む黒色系顔料、亜鉛、鉄、チタン、アンチモン、およびニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む黄色系顔料、チタン、アンチモン、クロム、鉄、アルミニウム、および亜鉛から選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む茶色系顔料、コバルト、ニッケル、亜鉛、およびチタンから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む緑色系顔料、ならびにコバルトおよびアルミニウムを含む青色の青色系顔料などが挙げられる。
【００２１】
クロム、鉄、およびコバルトから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む黒色系複合酸化物顔料としては、例えば、Ｃｒ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３：ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３、（Ｃｏ，Ｆｅ）（Ｆｅ，Ｃｒ）２Ｏ４の組成式で表される化合物が挙げられる。具体的に入手可能な商品としては、４２−７０３Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、４２−７０６Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、４２−７０７Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、４２−７０８Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株）））、Ｂｌａｃｋ２７（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、Ｂｌａｃｋ３５００（複合酸化物顔料、アサヒ化成工業製）等が挙げられる。
【００２２】
また、亜鉛、鉄、チタン、アンチモン、およびニッケルから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む黄色系複合酸化物顔料としては、（Ｚｎ，Ｆｅ）Ｆｅ２Ｏ４、（Ｔｉ，Ｓｂ，Ｎｉ）Ｏ２の組成式で表される化合物が挙げられる。具体的に入手可能な商品としては、Ｙｅｌｌｏｗ１１９（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、Ｙｅｌｌｏｗ５３（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、Ｙｅｌｌｏｗ５１５０（複合酸化物顔料、アサヒ化成工業製）等が挙げられる。
【００２３】
さらに、チタン、アンチモン、クロム、鉄、アルミニウム、および亜鉛から選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む茶色系複合酸化物顔料としては、（Ｔｉ，Ｓｂ，Ｃｒ）Ｏ２、Ｆｅ２ＴｉＯ５：Ａｌ２Ｏ３、（Ｚｎ，Ｆｅ）（Ｆｅ，Ｃｒ）２Ｏ４の組成式で表される化合物が挙げられる。具体的に入手可能な商品としては、Ｂｒｏｗｎ２４（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、Ｂｒｏｗｎ４８（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、Ｂｒｏｗｎ３３（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））等が挙げられる。
【００２４】
コバルト、ニッケル、亜鉛、およびチタンから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む緑色系複合酸化物顔料としては、（Ｃｏ，Ｎｉ，Ｚｎ）２ＴｉＯ４等が挙げられる。具体的に入手可能な商品としては、Ｇｒｅｅｎ５０（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））等が挙げられる。
【００２５】
コバルト、およびアルミニウムを含む青色系複合酸化物顔料としては、ＣｏＡｌ２Ｏ４等の組成式で表される化合物が挙げられる。具体的に入手可能な商品としては、Ｂｌｕｅ２８（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））等が挙げられる。
【００２６】
これらの複合酸化物顔料の中でも、クロム、鉄、およびコバルトから選ばれた少なくとも２種以上の元素を含む黒色系複合酸化物顔料（例えば、Ｃｒ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３：ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３、（Ｃｏ，Ｆｅ）（Ｆｅ，Ｃｒ）２Ｏ４の組成式で表される化合物）である４２−７０３Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、４２−７０６Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、４２−７０７Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））、４２−７０８Ａ（複合酸化物顔料、東罐マテリアル・テクノロジー（株））が、得られるシートの透明性の観点から好ましく用いられる。
【００２７】
本発明にて使用される近赤外線反射顔料（Ｂ）の量は、ポリカーボネート樹脂１００重量あたり、０．０１重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．０５〜１５重量部である。より好ましくは、０．０５〜１０重量部である。近赤外線反射顔料（Ｂ）の量が０．０１重量部よりも少ないと、得られる多層シートの日射反射性が十分に得られない場合があり、近赤外線反射顔料（Ｂ）の量が２０重量部より多い場合は、ポリカーボネート樹脂が分子量低下を起こし成形加工が困難になるため好ましくない。
【００２８】
本発明にて使用される近赤外線反射顔料（Ｂ）の平均粒径は、特に制限はないが、２μｍ以下が好ましく、より好ましくは１μｍ以下である。平均粒径が２μｍより大きいと、得られる樹脂シートの可視光透過性が悪化する場合がある。
【００２９】
本発明にて使用される近赤外線反射顔料（Ｂ）は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）へ配合する際、近赤外線反射顔料（Ｂ）を高濃度に含有するマスターバッチを作製し希釈して用いてもよい。このマスターバッチのベースとなるビヒクル（マトリクス樹脂）は、ポリカーボネート樹脂でもよいし、他の樹脂を用いてもよい。他の樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂等が挙げられる。
【００３０】
本発明にて使用される近赤外線反射顔料（Ｂ）を使用する際、ポリカーボネート樹脂組成物の色相調整に限界がある場合には、赤外線透過性粉体を用いることもできる。
【００３１】
このような赤外線透過粉体としては、特に制限がなく、一般的な無機顔料や有機顔料が用いられるが、無機顔料としてはチタンホワイト、有機顔料としてはペリレン系顔料、アゾ系顔料、キナクリドン系顔料、銅フタロシアニン系（ブルー）顔料、ベンズイミダゾロン系顔料等が好適である。無機系顔料のチタンホワイトとして、具体的に市販にて入手可能な商品としては、タイピユアＲ７０６（酸化チタン、デュポン製）、ＴＩＴＡＮＩＸ  ＪＲ−１０００（酸化チタン、テイカ（株）製）、ＰＣＦ１０５（酸化チタン、石原産業（株）製）等が挙げられる。
【００３２】
上記の有機顔料であるペリレン系顔料としては、具体的に市販にて入手可能な商品としては、Ｌｕｍｏｇｅｎ  Ｂｌａｃｋ  ＦＫ４２８０（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、Ｌｕｍｏｇｅｎ  Ｂｌａｃｋ  ＦＫ４２８１（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、Ｐａｌｉｏｇｅｎ  Ｂｌａｃｋ  Ｓ００８４（ＢＡＳＦジャパン（株）製）、Ｐａｌｉｏｇｅｎ  Ｂｌａｃｋ  Ｌ００８６（ＢＡＳＦジャパン（株）製）が挙げられる。ベンズイミダゾロン系顔料としては、ＳＹＭＵＬＥＲＦＡＳＴ  ＹＥＬＬＯＷ４１９２（ＤＩＣ（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２０８０（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２０８１（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２０８５（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ３７００ＬＤ（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ３７０１（大日本精化工業（株）製）が、商業的に入手可能である。アゾ系顔料としては、ＳＹＭＵＬＥＲＦＡＳＴ  ＹＥＬＬＯＷ１０ＧＨ（ＤＩＣ（株）製）、ＳＹＭＵＬＥＲＦＡＳＴ  ＹＥＬＬＯＷ８ＧＴＦ（ＤＩＣ（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥＹＥＬＬＯＷ５９１０（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２７００Ｌ（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２０５４（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２７００（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷ２０３５（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＹＥＬＬＯＷＡ−３（大日本精化工業（株）製）が、商業的に入手可能である。キナクリドン系顔料としては、ＳＹＭＵＬＥＲＳＵＰＥＲ  ＲＥＤ７１００Ｙ（ＤＩＣ（株）製）、ＳＹＭＵＬＥＲＳＵＰＥＲ  ＭＡＧＥＮＴＡＲ（ＤＩＣ（株）製）、ＳＹＭＵＬＥＲＳＵＰＥＲ  ＭＡＧＥＮＴＡＲＨ（ＤＩＣ（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＲＥＤ６８２０（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＲＥＤ６８２１（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＲＥＤ６８３０（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＭＡＧＥＮＴＡ６８９１Ｎ（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＭＡＧＥＮＴＡ６８８７（大日本精化工業（株）製）が、商業的に入手可能である。銅フタロシアニン系（ブルー）顔料としては、ＳＹＭＵＬＥＲＢＵＬＥＲＳ（ＤＩＣ（株）製）、ＳＹＭＵＬＥＲＢＵＬＥＲＳＫ（ＤＩＣ（株）製）、ＳＹＭＵＬＥＲＢＵＬＥ５３８０（ＤＩＣ（株）製）、ＳＹＭＵＬＥＲＢＵＬＥ５４８５（ＤＩＣ（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥＳ−２１００（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ４９２７Ｂ（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ４９４０（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ４９３０ＰＫ（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ４９８２（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ４９６６（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ５１９１（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ５１９２（大日本精化工業（株）製）、Ｃ���ＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ５１９５Ｎ（大日本精化工業（株）製）、ＣＨＯＭＯＦＩＮＥ  ＢＵＬＥ５１６５（銅フタロシアニンブルー顔料、大日本精化工業（株）製）等が挙げられる。
【００３３】
実施の形態に係る波型成形板のコア層には、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と、近赤外線反射顔料（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）とが必須成分として配合されている。このように近赤外線反射顔料（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）とを必須成分として同時に配合することにより、ポリカーボネート樹脂（Ａ）が本来有する機械的強度等の特性や得られる波型成形板の外観を損なうことなく、熱安定性と日射反射性とに優れた波型成形板が得られる。
【００３４】
本発明にて使用される酸化防止剤としては、リン系酸化防止剤が好ましく用いられる。リン系酸化防止剤としては、下記一般式（１）で表される環状亜リン酸エステル系酸化防止剤が特に好ましい。
一般式（１）：
【化１】
2017193144.tif 000002
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５はそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基またはフェニル基を表し、Ｒ３は水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。Ｘは単結合、硫黄原子もしくは−ＣＨＲ６基（Ｒ６は水素原子、炭素数１〜８のアルキル基または炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す）を表す。Ａは炭素数１〜８のアルキレン基または＊−ＣＯＲ７基（Ｒ７は単結合または炭素数１〜８のアルキレン基を、＊は酸素側の結合手であることを示す。）を表す。Ｙ、Ｚは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基または炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を表し、もう一方が水素原子または炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【００３５】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立して、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基、炭素数７〜１２のアラルキル基又はフェニル基を示す。
【００３６】
ここで、炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｉ−オクチル基、ｔ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等が挙げられる。炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘプチル基、シクロオクチル基等が挙げられる。炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基としては、例えば、１−メチルシクロペンチル基、１−メチルシクロヘキシル基、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキシル基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、α−メチルベンジル基、α，α−ジメチルベンジル基等が挙げられる。
【００３７】
前記Ｒ１、Ｒ２及びＲ４は、それぞれ独立して、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数５〜８のシクロアルキル基又は炭素数６〜１２のアルキルシクロアルキル基であることが好ましい。特に、Ｒ１及びＲ４は、それぞれ独立して、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基、ｔ−オクチル基等のｔ−アルキル基、シクロヘキシル基又は１−メチルシクロヘキシル基であることが好ましい。特に、Ｒ２は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましく、メチル基、ｔ−ブチル基又はｔ−ペンチル基であることがさらに好ましい。
【００３８】
前記Ｒ５は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基であることが好ましく、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｔ−ペンチル基等の炭素数１〜５のアルキル基であることがさらに好ましい。
【００３９】
一般式（１）において、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５の説明にて例示したアルキル基が挙げられる。特に、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基であることが好ましく、水素原子又はメチル基であることがさらに好ましい。
【００４０】
一般式（１）において、Ｘは、単結合、硫黄原子又は式：−ＣＨＲ６−で表される基を示す。ここで、式：−ＣＨＲ６−中のＲ６は、水素原子、炭素数１〜８のアルキル基又は炭素数５〜８のシクロアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルキル基及び炭素数５〜８のシクロアルキル基としては、例えば、それぞれ前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５の説明にて例示したアルキル基及びシクロアルキル基が挙げられる。特に、Ｘは、単結合、メチレン基、又はメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基等で置換されたメチレン基であることが好ましく、単結合であることがさらに好ましい。
【００４１】
一般式（１）において、Ａは、炭素数１〜８のアルキレン基又は式：＊−ＣＯＲ７−で表される基を示す。炭素数１〜８のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基、ペンタメチレン基、ヘキサメチレン基、オクタメチレン基、２，２−ジメチル−１，３−プロピレン基等が挙げられ、好ましくはプロピレン基である。また、式：＊−ＣＯＲ７−におけるＲ７は、単結合又は炭素数１〜８のアルキレン基を示す。Ｒ７を示す炭素数１〜８のアルキレン基としては、例えば、前記Ａの説明にて例示したアルキレン基が挙げられる。Ｒ７は、単結合又はエチレン基であることが好ましい。また、式：＊−ＣＯＲ７−における＊は、酸素側の結合手であり、カルボニル基がフォスファイト基の酸素原子と結合していることを示す。
【００４２】
一般式（１）において、Ｙ及びＺは、いずれか一方がヒドロキシル基、炭素数１〜８のアルコキシ基又は炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基を示し、もう一方が水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基を示す。炭素数１〜８のアルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基等が挙げられる。炭素数７〜１２のアラルキルオキシ基としては、例えば、ベンジルオキシ基、α−メチルベンジルオキシ基、α，α−ジメチルベンジルオキシ基等が挙げられる。炭素数１〜８のアルキル基としては、例えば、前記Ｒ１、Ｒ２、Ｒ４及びＲ５の説明にて例示したアルキル基が挙げられる。
【００４３】
一般式（１）で表される化合物としては、例えば、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−〔３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ〕ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン、６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチルジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサホスフェピン、６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロポキシ］−４，８−ジ−ｔ−ブチル−２，１０−ジメチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン、６−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−４，８−ジ−ｔ−ブチル−２，１０−ジメチル−１２Ｈ−ジベンゾ［ｄ，ｇ］［１，３，２］ジオキサホスホシン等が挙げられる。これらの中でも、特に光学特性が求められる分野に、得られるポリカーボネート樹脂組成物を用いる場合には、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−〔３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ〕ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピンが好適であり、例えば、住友化学（株）製のスミライザーＧＰ（「スミライザー」は登録商標）として商業的に入手可能である。
【００４４】
本発明にて使用される酸化防止剤としては、環状亜リン酸エステル系酸化防止剤の他にも例えば、一般式（２）や一般式（３）や一般式（５）で表される亜リン酸エステル系酸化防止剤、または一般式（４）で表されるリン酸エステル系酸化防止剤も好適に用いることができる。これらの酸化防止剤を併用してもよい。
一般式（２）：
【化２】
2017193144.tif 000003
（式中、Ｒ８は、炭素数１〜２０のアルキル基を示し、ａは、０〜３の整数を示す。）
【００４５】
前記一般式（２）において、Ｒ８は、炭素数１〜２０のアルキル基であるが、さらには、炭素数１〜１０のアルキル基であることが好ましい。
【００４６】
一般式（２）で表される化合物としては、例えば、トリフェニルフォスファイト、トリクレジルフォスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト等が挙げられる。これらの中でも、特にトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトが好適であり、例えば、ＢＡＳＦ社製のイルガフォス１６８（「イルガフォス」はビーエーエスエフ  ソシエタス・ヨーロピアの登録商標）として商業的に入手可能である。
【００４７】
一般式（３）：
【化３】
2017193144.tif 000004
（式中、Ｒ９及びＲ１０は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基又はアルキル基で置換されていてもよいアリール基を示し、ｂ及びｃは、それぞれ独立して、０〜３の整数を示す）で表される化合物が挙げられる。）
【００４８】
前記一般式（３）において、Ｒ９及びＲ１０は、炭素数１〜２０のアルキル基又はアルキル基で置換されていてもよいアリール基であるが、さらには、炭素数１〜１０のアルキル基又はアルキル基で置換されていてもよいアリール基であることが好ましい。
【００４９】
一般式（３）で表される化合物としては、例えば、３，９−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジフォスファスピロ［５，５］ウンデカン、３，９−ビス（オクタデシロキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジフォスファスピロ［５，５］ウンデカン等が挙げられ、例えば、（株）ＡＤＥＫＡ製のアデカスタブＰＥＰ−３６Ａ、アデカスタブＰＥＰ−８（「アデカスタブ」は登録商標）が商業的に入手可能である。これらの中でも３，９−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノキシ）−２，４，８，１０−テトラオキサ−３，９−ジフォスファスピロ［５，５］ウンデカンが好適である。
【００５０】
一般式（４）：
【化４】
2017193144.tif 000005
（式中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３及びＲ１４は、それぞれ独立して、炭素数１〜２０のアルキル基又はアルキル基で置換されていてもよいアリール基を示す。）
【００５１】
一般式（４）で表される化合物としては、例えば、［１，１´−ビフェニル］−４，４´−ジイルビス［ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）フォスフィン］等が挙げられ、例えば、ＢＡＳＦ社製のイルガフォスＰ−ＥＰＱ（商品名）、クラリアントジャパン（株）製のサンドスタブＰ−ＥＰＱ（商品名）が商業的に入手可能である。
【００５２】
一般式（５）：
【化５】
2017193144.tif 000006
【００５３】
一般式（５）で表される化合物としては、例えばビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトール  ジホスファイト等が挙げられ、ＤＯＶＥＲ  ＣＨＥＭＩＣＡＬ社のＤｏｖｅｒｐｈｏｓ  Ｓ９２２８（商品名）が商業的に入手可能である。
【００５４】
本発明にて使用される酸化防止剤（Ｃ）の量は、ポリカーボネート樹脂（Ａ）１００重量部に対して、０．０１〜０．５重量部であり、さらに０．０５〜０．２重量部であることが好ましい。酸化防止剤（Ｃ）の量が０．０１重量部未満の場合は、光線透過率及び色相の向上効果が不充分である。逆に酸化防止剤（Ｃ）の量が０．５重量部を超える場合も、光線透過率及び色相の向上効果が不充分である。
【００５５】
更に本発明の効果を損なわない範囲で、コア層に各種の添加剤や樹脂を配合することができる。例えば、紫外線吸収剤、熱安定剤、導電性フィラー、無機フィラー、充填材、離型剤、帯電防止剤、軟化材、展着剤（流動パラフィン、エポキシ大豆油等）、難燃剤、難燃助剤、ゴム、ポリ（メタ）アクリル系樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリエステル系樹脂等が挙げられる。
【００５６】
本発明のコア層に使用されるポリカーボネート樹脂組成物の製造方法には特に限定がなく、ポリカーボネート樹脂（Ａ）、近赤外線反射顔料（Ｂ）、酸化防止剤（Ｃ）、並びに必要に応じて前記各種添加剤やポリカーボネート樹脂（Ａ）以外のポリマー等について、各成分の種類及び量を適宜調整し、これらを、例えばタンブラー、リボンブレンダー等の公知の混合機にて混合する方法や、押出機にて溶融混練する方法が挙げられる。
【００５７】
実施の形態に係る波型成形板のキャップ層には、紫外線吸収剤（Ｄ）が必須成分としてポリカーボネート樹脂に配合されている。このように、ポリカーボネート樹脂（Ａ）と近赤外線反射顔料（Ｂ）と酸化防止剤（Ｃ）からなるコア層に紫外線吸収剤（Ｄ）が必須成分として配合されたポリカーボネート樹脂組成物をキャップ層に積層することにより、ポリカーボネート樹脂（Ａ）が本来有する機械的強度等の特性や得られる波型成形板の外観を損なうことなく、日射反射性と耐候性に優れた波型成形板を得ることができる。
【００５８】
本発明の波型成形板のキャップ層に使用される紫外線吸収剤（Ｄ）としては、ベンゾトリアゾール系、トリアジン系、シアノアクリレート系、サリシレート系、オキザニリド系、及びベンゾフェノン系の紫外線吸収剤が好ましく用いられる。特に、一般式（６）、一般式（７）で表されるベンゾトリアゾール系化合物、一般式（８）で表されるトリアジン系化合物、および/または一般式（９）で表されるシアノアクリレート系化合物からなる紫外線吸収剤が好ましい。
一般式（６）：
【００５９】
【化６】
2017193144.tif 000007
一般式（７）：
【００６０】
【化７】
2017193144.tif 000008
一般式（８）：
【００６１】
【化８】
2017193144.tif 000009
一般式（９）：
【００６２】
【化９】
2017193144.tif 000010
【００６３】
本発明の波型成形板のキャップ層に使用される紫外線吸収剤の分子量は、４００以上のものが好ましい。ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤は、例えばＢＡＳＦ社製ＴＩＮＵＶＩＮ２３４或いはＡＤＥＫＡ社製ＬＡ３１が商業的に入手可能であり、トリアジン系紫外線吸収剤としては、例えばＢＡＳＦ社製ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７ＦＦが商業的に入手可能であり、シアノアクリレート系紫外線吸収剤としては、例えばＢＡＳＦ社製ＵＶＩＮＵＬ３０３０が商業的に入手可能である。
【００６４】
本発明の波型成形板のキャップ層に使用される紫外線吸収剤の配合量は、ポリカーボネート樹脂組成物に対して１〜２０重量部である。より好ましくは、２〜１０重量部の範囲である。１重量部未満では波型成形板の耐候性が不足し、２０重量部を超えるとポリカーボネート樹脂組成物の造粒加工が困難になり樹脂組成物のペレットを得ることができなくなることから好ましくない。
【００６５】
本発明の波型成形板のキャップ層に使用されるポリカーボネート樹脂組成物において、実用上、耐候性以外に要求される性能により、公知の各種添加剤、ポリマーなどを必要に応じて添加することができる。例えば、鮮やかな色調を得るために、ベンゾオキサゾール系の蛍光増白剤およびこれらを併用して添加してもよい。
【００６６】
本発明の波型成形板のキャップ層に使用されるポリカーボネート樹脂組成物には、上記以外の公知の添加剤、例えばフェノール系またはリン系熱安定剤［２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２−（１−メチルシクロヘキシル）−４，６−ジメチルフェノール、４，４′−チオビス−（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）、２，２−メチレンビス−（４−エチル−６−ｔ−メチルフェノール）、ｎ−オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト、４，４′−ビフェニレンジホスフィン酸テトラキス−（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）等］、滑剤［パラフィンワックス、ｎ−ブチルステアレート、合成蜜蝋、天然蜜蝋、グリセリンモノエステル、モンタン酸ワックス、ポリエチレンワックス、ペンタエリスリトールテトラステアレート等］、着色剤［例えば酸化チタン、カーボンブラック、染料］、充填剤［炭酸カルシウム、クレー、シリカ、ガラス繊維、ガラス球、ガラスフレーク、カーボン繊維、タルク、マイカ、各種ウィスカー類等］、流動性改良剤、展着剤［エポキシ化大豆油、流動パラフィン等］、さらには他の熱可塑性樹脂や各種耐衝撃改良剤（ポリブタジエン、ポリアクリル酸エステル、エチレン・プロピレン系ゴム等のゴムに、メタアクリル酸エステル、スチレン、アクリロニトリル等の化合物をグラフト重合してなるゴム強化樹脂等が例示される。）を必要に応じて添加することができる。
【００６７】
本発明の波型成形板のキャップ層に使用されるポリカーボネート樹脂の実施の形態および順序には何ら制限はない。例えば、ポリカーボネート樹脂、紫外線吸収剤（Ｄ）を任意の配合量で計量し、タンブラー、リボブレンダー、高速ミキサー等により一括混合した後、混合物を通常の単軸押出機または２軸押出機を用いて溶融混練し、ペレット化させる方法、あるいは、個々の成分を一部または全てを別々に計量し、複数の供給装置から押出機内へ投入し、溶融混合する方法、さらには、ポリカーボネート樹脂及び紫外線吸収剤とを高濃度に配合し、一旦溶融混合してペレット化し、マスターバッチとした後、当該マスターバッチとポリカーボネート樹脂を所望の比率により混合することもできる。そして、これらの成分を溶融混合する際の、押出機へ投入する位置、押出温度、スクリュウ回転数、供給量など、状況に応じて任意の条件が選択され、ペレット化することができる。
【００６８】
本発明の波型成形板の製造方法としては、コア層およびキャップ層に使用される樹脂組成物をそれぞれ別の単軸または二軸押出機を用いて溶融混錬し、それぞれの溶融物を共押出用ダイのコア層フィードブロックおよびキャップ層フィードブロックにそれぞれ供給し積層させる、いわゆる共押出法、あるいはコア層およびキャップ層の板状成形品を熱プレスにより積層する方法、表層をフィルム化してラミネーションする方法等が挙げられる。なかでも共押出法が製造効率の面で優れるため好適に用いられる。
【００６９】
本発明の波型成形板のコア層およびキャップ層の厚みは、特に制限されるものでは無いが、得られた波型成形板の剛性および耐候性の発揮等を考慮すれば、コア層として０．３〜１０ｍｍ、キャップ層として１０〜２００μｍが好ましく、さらに好ましくはコア層として０．６〜５．０ｍｍ、キャップ層として２０〜１００μｍの範囲である。
【００７０】
本発明の波型成形板の成形する温度は、通常、２２０〜３８０℃であり、２５０℃〜３２０℃が好ましい。
【実施例】
【００７１】
以下に、本開示を実施例により具体的に説明するが、本開示はこれらの実施例に制限されるものではない。尚、特にことわりがない限り、「部」及び「％」はそれぞれ重量基準である。
【００７２】
原料として以下のものを使用した。
１．ポリカーボネート樹脂（Ａ）：
住化スタイロン ポリカーボネート（株）製  カリバー２００―１３
粘度平均分子量（Ｍｖ）：２０７００  （以下、Ａと略記）
【００７３】
２．近赤外線反射顔料（Ｂ）：
黒色の複合酸化物顔料
（組成式：Ｃｒ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３：ＣｏＯ、Ｃｒ２Ｏ３：Ｆｅ２Ｏ３、（Ｃｏ，Ｆｅ）
（Ｆｅ，Ｃｒ）２Ｏ４ ）
東罐マテリアル・テクノロジー（株）社製  ４２―７０７Ａ
平均粒径：０．９μｍ  （以下、Ｂと略記）
【００７４】
３．酸化防止剤（Ｃ）： 
３−１．環状亜リン酸エステル系酸化防止剤
以下の式で表される、２，４，８，１０−テトラ−ｔ−ブチル−６−〔３−（３−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）プロポキシ〕ジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン
【化１０】
2017193144.tif 000011
住友化学（株）製  スミライザーＧＰ  （以下、Ｃ−１と略記）
【００７５】
３−２．リン系エステル系酸化防止剤
以下の式で表される、［１，１´−ビフェニル］−４，４´−ジイルビス［ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェノキシ）フォスフィン］
クラリアントジャパン（株）製  ＳＡＮＤＳＴＡＢ  Ｐ−ＥＰＱ（以下、Ｃ−２と略記）
【化１１】
2017193144.tif 000012
【００７６】
４．紫外線吸収剤（Ｄ）：
４−１．ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
以下の式で表される、２−［２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル］−４−［１，１，３，３−テトラメチルブチル］フェノール
ＡＤＥＫＡ社製  ＬＡ−３１（以下、Ｄ−１と略記）
【化１２】
2017193144.tif 000013
【００７７】
４−２．ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤
以下の式で表される、２，４―ビス［１―メチル−１−フェニルエチル］−６−［２Ｈ―ベンゾトリアゾール−２−イル］フェノール
ＢＡＳＦ社製  ＴＩＮＵＶＩＮ２３４（以下、Ｄ−２と略記）
【化１３】
2017193144.tif 000014
【００７８】
４−３．トリアジン系紫外線吸収剤
以下の式で表される、２−［４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−［ヘキシロキシ］フェノール
ＢＡＳＦ社製  ＴＩＮＵＶＩＮ１５７７（以下、Ｄ−３と略記）
【化１４】
2017193144.tif 000015
【００７９】
使用した押出機は以下のとおりである。
コア層、キャップ層の樹脂組成物用の溶融混錬用押出機：
日本製鋼所社製ＴＥＸ３０α  二軸押出機
（Ｌ／Ｄ＝４２、Φ＝３０ｍｍ）
共押出用の押出機：
コア層用押出機：田辺プラスチック社製ＶＳ４０単軸押出機
（Ｌ／Ｄ＝３２、４０Φ）
キャップ層用押出機：プラ技研社製ＰＥＸ-２５-２４型単軸押出機
（Ｌ／Ｄ＝２４、２５Φ）
【００８０】
（ａ）コア層及びキャップ層の樹脂組成物ペレットの作成
前述の各種原料を表１〜３に示す配合比率にて、それぞれタンブラーに投入し、１０分間乾式混合した後、二軸押出機（日本製鋼所社製ＴＥＸ３０α）を用いて、溶融温度２６０℃にて溶融混錬しペレットを得た。
【００８１】
（ｂ）共押出法による加工
得られたキャップ層用樹脂組成物のペレットを１２５℃×２時間の乾燥条件にて、熱風循環式乾燥機（タバイ社製ＰＥＲＦＥＣＴ  ＯＶＥＮ  ＰＶ−３３０）を用いて事前乾燥を行った。併せて、コア層用ポリカーボネート樹脂組成物のペレットも同じ条件にて事前乾燥を行った。事前乾燥を行なったコア層用ポリカーボネート樹脂のペレットを、コア層用押出機（田辺プラスチック社製ＶＳ４０単軸押出機）を用いて、２６０℃の条件下で溶融混錬し、共押出用ダイのコア層フィードブロックに供給した。また、同時に、事前乾燥したキャップ層用樹脂組成物のペレットを、キャップ層用押出機（プラ技研社ＰＥＸ-２５-２４型単軸押出機）を用いて２６０℃の条件下で溶融混錬してキャップ層フィードに供給し、ロール温度１３０℃にて波型成形板（２５０ｍｍ×３００ｍｍ×０．８３ｍｍ）を作成し、これらのシート中央部から試験片（６３ｍｍ×６３ｍｍ×０．８３ｍｍ）を切り出した。尚、キャップ層およびコア層の厚みは、それぞれ ３０μｍ、０．８ｍｍに設定した。
【００８２】
（ｃ）可視光透過率の測定（単位：％）
（ｂ）で得られた各試験片を分光光度計（日立ハイテクサイエンス（株）製  ＵＨ−４１５０形分光光度計）を用いてＤ６５光源で３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの波長範囲において１ｎｍ間隔で透過率を測定して、得られた透過率の値を用い、ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８に準じて可視光透過率を算出した。表１〜３に測定で得られた可視光透過率の測定値を示した。この可視光透過率の値は、本発明の波型成形板の可視光透過性を表す値であり、大きい値ほど透明性が良好であり、肉眼で見た際、向こう側が見えやすいことを意味する。尚、可視光透過性が２５％以上を良好とした。
【００８３】
（ｄ）日射反射率の測定（単位：％）
（ｂ）で得られた各試験片を分光光度計（日立ハイテクサイエンス（株）製  ＵＨ−４１５０形分光光度計）を用いてＤ６５光源で３００ｎｍ〜２５００ｎｍの波長範囲において１ｎｍ間隔で反射率を測定して、得られた反射率の値を用い、ＪＩＳ Ｋ５６７５−２０１１に準じて日射反射率を算出した。測定に際しては積分球側面の試料ホルダーを使用して白色板を外して試験片を固定して測定を行った。表１〜３に測定で得られた日射透過率の測定値を示した。この日射反射率の値は、本発明の波型成形板の日射反射率を表す値であり、値が大きいほど、近赤外線領域の反射性が良好であることを意味する。尚、日射反射率が１０以上を良好とした。
【００８４】
（ｅ）耐候性能の測定
得られた各試験片を促進耐候試験機キセノンウェザーメーター（スガ試験機社製ＳＸ−７５）の中に設置し、６００時間照射を行った。その後、照射前後の試験片をスペクトロフォトメータ（村上色彩技術研究所製ＣＭＳ−３５ＳＰ）により、色差（ΔＥ）を測定した。△Ｅとは照射前後の色の違いの程度を表し、△Ｅが小さい程、変色は小さく耐光性に優れている。△Ｅの評価基準としては、△Ｅの値が３．０未満であるものを合格（○）、３．０以上であるものを不合格（×）とした。
【００８５】
【表１】
2017193144.tif 000016
【００８６】
【表２】
2017193144.tif 000017
【００８７】
【表３】
2017193144.tif 000018
【００８８】
表１，表２で示した通り、波型成形板が本発明の要件を満足する場合（実施例１〜１０）は、いずれの波型成形板も良好な日射反射率と耐候性を示した。
【００８９】
一方、表３に示す通り、本発明の構成を満足しない場合（比較例１〜４）には、いずれの場合にも欠点を有していた。
【００９０】
比較例１は、近赤外線反射顔料（Ｂ）の配合量が少なかったことにより、試験片の日射反射率が劣っていた。
【００９１】
比較例２は、紫外線吸収剤（Ｄ）の配合量が少なかったことにより、試験片の耐候性が劣っていた。
【００９２】
比較例３は、紫外線吸収剤（Ｄ）の配合量が多かったことにより、キャップ層用材料を造粒することが出来なかった。
【００９３】
比較例４は、近赤外線反射顔料（Ｂ）の配合量が多かったことにより、キャップ層用材料の粘度が低下し成形加工出来なかった。
【００９４】
以上のように、本開示における技術の例示として、実施の形態を説明した。そのために、詳細な説明を提供した。
【００９５】
したがって、詳細な説明に記載された構成要素の中には、課題解決のために必須な構成要素だけでなく、上記技術を例示するために、課題解決のためには必須でない構成要素も含まれ得る。そのため、それらの必須ではない構成要素が詳細な説明に記載されていることをもって、直ちに、それらの必須ではない構成要素が必須であるとの認定をするべきではない。
【００９６】
また、上述の実施の形態は、本開示における技術を例示するためのものであるから、特許請求の範囲またはその均等の範囲において種々の変更、置き換え、付加、省略などを行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明の波型成形板は、ポリカーボネート樹脂が本来有する耐熱性、機械物性、等を損なうことなく、特別な工程が不要なため安価で、日射反射性及び耐候性に極めて優れる。このため、特に、エクステリア、建装材、産業資材、農業資材等として好適に用いることができ、極めて産業上の利用価値は高い。