(57)【要約】【課題】複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計を、該複数枚の磁気記録媒体の厚さを測定することなく、高い確率で所定の範囲内とすることができる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。【解決手段】複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有し、  前記収納工程において、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とする磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。【選択図】図３
2017199442.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有し、
前記収納工程において、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とする磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項２】
前記収納工程において、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±０．５μｍ以下とする請求項１に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項３】
前記収納工程の前に、磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程をさらに有し、
前記最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項４】
前記収納工程の前に、磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程をさらに有し、
前記最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±０．５μｍ以下とする請求項１または２に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項５】
前記収納工程において、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値について、前記複数個の収納容器間のばらつき幅が、８．０μｍ以上１６．０μｍ以下となるように収納する請求項１乃至４のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項６】
前記複数個の収納容器が、磁気記録媒体用基板の出荷用収納容器、または磁気記録媒体用基板を磁性層成膜工程へ搬送する搬送用収納容器であり、収納した複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値を収納容器に表示した請求項１乃至５のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項７】
複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有し、
前記収納工程において、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、前記複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以下となるように収納する磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項８】
前記収納工程において、前記複数個の収納容器に分けて収納する、前記複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつき幅が１６．０μｍ以下である請求項７に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項９】
前記収納工程において、磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、前記複数枚の磁気記録媒体用基板を複数個の収納容器に分けて収納する請求項７または８に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１０】
複数枚の磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程と、
前記最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下となるように磁気記録媒体用基板を選定する供給基板選定工程と、をさらに有し、
前記収納工程においては、前記最終主表面研磨工程終了後の磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、磁気記録媒体用基板を各収納容器に収納する請求項７乃至９のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１１】
複数枚の磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程と、
前記最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±０．５μｍ以下となるように磁気記録媒体用基板を選定する供給基板選定工程と、をさらに有し、
前記収納工程においては、前記最終主表面研磨工程終了後の磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、磁気記録媒体用基板を各収納容器に収納する請求項７乃至９のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１２】
複数枚の磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程と、
製造した磁気記録媒体用基板の主表面の欠点の検査を実施する表面検査工程と、
製造した磁気記録媒体用基板の厚さを測定する測定工程と、
前記測定工程で測定した磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、前記複数個の収納容器に収納する、前記複数枚の磁気記録媒体用基板を選別する選別工程と、をさらに有し、
前記測定工程は、最終主表面研磨工程終了後から、前記表面検査工程終了直後までの間に実施する請求項７乃至１１のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１３】
前記複数個の収納容器が、磁気記録媒体用基板の出荷用収納容器、または磁気記録媒体用基板を磁性層成膜工程へ搬送する搬送用収納容器である請求項７乃至１２のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１４】
前記磁気記録媒体用基板が、磁気記録媒体用ガラス基板である請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用基板の製造方法。
【請求項１５】
複数枚の磁気記録媒体用基板を収納した収納容器を、複数個有する磁気記録媒体用基板の梱包体であって、
１個の収納容器に収納される複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下であり、
収納された複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値に基づく識別可能な表示を備えた磁気記録媒体用基板の梱包体。
【請求項１６】
複数枚の磁気記録媒体用基板を収納した収納容器を、複数個有する磁気記録媒体用基板の梱包体であって、
各収納容器の中の複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、前記複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以下である磁気記録媒体用基板の梱包体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用基板の梱包体に関する。
【背景技術】
【０００２】
コンピューター内の補助記憶装置、あるいは外部記憶装置としてハードディスクドライブ（以後、「ＨＤＤ」とも記載する）等の磁気記録装置が多く用いられている。
【０００３】
そして、データセンター、サーバー、デスクトップコンピューター等で用いられるＨＤＤには、記憶容量が大きいことが求められている。このため、ＨＤＤ内部を複数枚の磁気記録媒体（磁気ディスク）と、媒体面数に対応した数の磁気ヘッドとを積層した構造として、記憶容量を大きくする工夫がなされている。
【０００４】
特に近年の磁気記録媒体の記録密度の伸長が鈍化している状況下では、ＨＤＤの記憶容量を更に上げるため、ＨＤＤ製品規格内の高さ（厚さ）内に、できるだけ多数枚の磁気記録媒体を収納することが追求されるようになってきている。例えば１インチハイトのＨＤＤの筺体（高さ２５．４ｍｍ）内に直径φ９５ｍｍ、厚さ０．８ｍｍの磁気記録媒体を７枚搭載したものが製造、販売されている。更には同直径で厚さ０．６３５ｍｍの磁気記録媒体を８枚、あるいは同直径で厚さ０．５ｍｍの磁気記録媒体を９枚ないし１０枚搭載することも検討されている。
【０００５】
ところで、ＨＤＤに組み込まれる磁気記録媒体は、磁気記録媒体用基板の主表面上に磁性層等を配置した構造を有している。
【０００６】
このため、例えば磁気記録媒体用基板を作製後、一旦収納容器に収納、梱包し、該磁気記録媒体用基板の主表面上に磁性層等を成膜する工程へと搬送される（例えば特許文献１を参照）。そして、磁気記録媒体用基板の主表面上に磁性層等を成膜して磁気記録媒体とした後、ＨＤＤの筐体内に組み込む組み立て工程へと供されることになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−２４３３１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、磁気記録媒体用基板には、厚さについて、僅かではあるが製造工程上のばらつきが含まれている。
【０００９】
係る磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきは従来であれば問題とはされなかったが、上述のように、近年ではＨＤＤの記憶容量を多くするため、可能な限り多数枚の磁気記録媒体を、規格に沿った高さを有する筐体内に組み込もうとしている。このため、任意に組み合わせた複数枚の磁気記録媒体用基板に磁性層等を成膜し、磁気記録媒体とした後、ＨＤＤの筐体内に組み込もうとすると、磁気記録媒体用基板の組み合わせによっては、その厚さのばらつきから、複数枚の磁気記録媒体の合計の厚さが所定の範囲からずれる場合があった。このように複数枚の磁気記録媒体の合計の厚さが所定の範囲からずれると、該複数枚の磁気記録媒体を筐体内に収納できなかったり、筐体と複数枚の磁気記録媒との間に大きな隙間を生じたりするため、複数枚の磁気記録媒の組み合わせを変更し、組み立てなおす必要があり生産性の低下の原因となっていた。
【００１０】
しかし、上記問題を解決するために、ＨＤＤへの組み込みの前に、個々の磁気記録媒体の厚さを測定し、合計厚さが所定の範囲に入るように選択しようとすると、磁気記録媒体の記録面等に疵やパーティクル汚染等の問題が生じる恐れがある。
【００１１】
そこで、本発明の一側面では上記従来技術が有する問題に鑑み、複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計を、該複数枚の磁気記録媒体の厚さを測定することなく、高い確率で所定の範囲内とすることができる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記課題を解決するため本発明の一側面では、複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有し、
前記収納工程において、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とする磁気記録媒体用基板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の一側面によれば、複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計を、該複数枚の磁気記録媒体の厚さを測定することなく、高い確率で所定の範囲内とすることができる磁気記録媒体用基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】複数枚の磁気記録媒体を備えたハードディスクドライブの斜視図。
【図２】図１のＡ−Ａ´線での断面図。
【図３】収納工程の概略説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
（磁気記録媒体用基板の製造方法、磁気記録媒体用基板の梱包体）
［第１の実施形態］
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法の一構成例について説明を行う。
【００１６】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有することができる。
【００１７】
そして、上記収納工程において、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。
【００１８】
ここでまず、複数枚の磁気記録媒体を有するＨＤＤの構成例について、図１、図２を用いて説明する。図１は、複数枚の磁気記録媒体を有するＨＤＤの斜視図を示しており、構成を示すため上蓋は記載を省略している。図２は、図１のＡ−Ａ´線でのスピンドル、及びスピンドルに固定された磁気記録媒体の断面図を示している。
【００１９】
図１に示したように、複数枚の磁気記録媒体を有するＨＤＤ１０では、スピンドル１１に複数枚の磁気記録媒体１２（１２ａ〜１２ｄ）が固定された構造を有している。具体的には、図２に示したように、スピンドル１１に、複数枚の磁気記録媒体１２ａ、１２ｂ、１２ｃ、１２ｄがスペーサー１１１ａ、１１１ｂ、１１１ｃを介して固定されている。スピンドル１１の下部には、スピンドルモーター１１２が設置されており、スピンドルモーター１１２により、スピンドル１１を回転させることで、複数枚の磁気記録媒体１２ａ〜１２ｄも回転することができる。なお、図２では４枚の磁気記録媒体を設置した例を示しているが、係る形態に限定されるものではなく、磁気記録媒体は３枚以下、または５枚以上であってもよい。
【００２０】
そして、図１に示したように、アーム１３１の先端に、サスペンション１３２を介して図示しない磁気ヘッドが取り付けられており、磁気記録媒体１２への情報の書き込み、読み取りを行うことができる。アーム１３１、サスペンション１３２、磁気ヘッドを有するヘッド・アセンブリ１３は、例えば矢印Ｘに沿って走査することができ、スピンドルモーター１１２により、例えば矢印Ｙに沿って回転する磁気記録媒体１２の任意の場所で情報の書き込み、読み取りを行うことができる。
【００２１】
なお、図１ではヘッド・アセンブリ１３を１つのみ示しているが、記録面（媒体面）の数に応じて同様の構成を有するヘッド・アセンブリを複数配置することができる。
【００２２】
そして、上述の磁気記録媒体１２等は、筐体１４内に収納されることになるが、筐体１４の高さｈ１は、規格により定められているため、複数枚の磁気記録媒体を固定したスピンドル１１の高さｈ２（図２を参照）は、筐体１４の高さｈ１に対応した高さとなっている必要がある。
【００２３】
しかしながら、磁気記録媒体用基板の厚さには、製造工程上の誤差によるばらつきが僅かながら含まれている。このため、係る磁気記録媒体用基板の表面に磁性層等を成膜して磁気記録媒体とした後に、スピンドル１１に固定し、組み立てた際に、スピンドル１１の高さｈ２が、該筐体１４の高さｈ１に対して適切な高さとなっていない場合があった。このように、スピンドル１１の高さｈ２が、筐体１４の高さｈ１に対して適切ではないと、筐体１４内にスピンドル１１を収納できない場合や、スピンドル１１の上端と筐体１４との間に大きな隙間が生じる場合があった。
【００２４】
そして、スペーサー１１１ａ〜１１１ｃの厚さはヘッド・アセンブリ１３等のサイズにより決定されるため変更することは困難であり、また磁気記録媒体用基板の厚さの誤差と比較して、磁性層等の厚さは薄い。このため、組み合わせた複数枚の磁気記録媒体を固定したスピンドルの高さｈ２を所定の範囲内とするためには、用いた複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの合計を、所定の範囲内とすることが求められる。
【００２５】
そこで、本発明の発明者らは、複数の磁気記録媒体を備えたＨＤＤを製造する際に、複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計が、該複数枚の磁気記録媒体の厚さを測定することなく、高い確率で所定の範囲内とすることができる磁気記録媒体用基板の製造方法について、鋭意検討を行った。
【００２６】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有することができる。そして、係る収納工程において、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。
【００２７】
なお、磁気記録媒体用基板は、製造後、上述のように複数個の収納容器に収納され、磁性層等を成膜して磁気記録媒体とするために、磁性層等を成膜する工場へと出荷されたり、磁性層等を成膜する工程ための装置へ搬送されたりする。このため、ここでの複数個の収納容器は、磁気記録媒体用基板の出荷用収納容器、または磁気記録媒体用基板を磁性層成膜工程へ搬送する搬送用収納容器とすることができる。
【００２８】
収納工程では、例えば図３に示した様に複数枚の磁気記録媒体用基板３１を、複数個の収納容器３２ａ〜３２ｃに分けて収納することができ、各収納容器には複数枚の磁気記録媒体用基板を収納することができる。なお、ここでは説明の便宜上、３個の収納容器に分けて収納する例を示しているが、係る形態に限定されず、収納する複数枚の磁気記録媒体用基板３１の枚数等により収納容器の数は任意に選択することができる。
【００２９】
この際、例えば収納容器３２ａにおいて、該収納容器３２ａに収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。また、収納容器３２ｂ、３２ｃにおいても同様に各収納容器３２ｂ、３２ｃに収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。
【００３０】
通常、製造された複数枚の磁気記録媒体用基板３１の厚さは、許容される誤差の範囲内、例えば中央値（中心値）を中心として±１．０μｍよりも大きな誤差の範囲内で、一定の分布を有している。
【００３１】
係る複数枚の磁気記録媒体用基板３１を複数個の収納容器３２ａ〜３２ｃに収納する際、各収納容器に収納する磁気記録媒体用基板の厚さの中央値を中心として±１．０μｍ以下、すなわち最大値と最小値との差であるばらつき幅が２．０μｍ以下となるように収納することで、１つの収納容器内の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを抑制できる。そして、複数枚の磁気記録媒体用基板３１を、１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを、中央値を中心として、±１．０μｍ以下となるように分けて収納することで、収納する磁気記録媒体用基板の厚さの中央値が異なる複数の収納容器を作製することができる。
【００３２】
この場合、例えば各収納容器が収納する磁気記録媒体用基板の厚さの中央値に基づいて、磁気記録媒体用基板を収納した複数の収納容器から、複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの合計が所定の範囲内となるように、複数枚の磁気記録媒体用基板を容易に選択できる。このため、例えば選択した複数枚の磁気記録媒体用基板に磁性層等を成膜し、複数枚の磁気記録媒体を有するＨＤＤを組み立てることで、磁気記録媒体の厚さを測定することなく、該複数枚の磁気記録媒体を固定したスピンドルの高さを、高い確率で筐体に対応した所定の高さとすることができる。
【００３３】
もしくは、磁気記録媒体に用いた磁気記録媒体用基板が収納されていた収納容器が収納する磁気記録媒体用基板の厚さの中央値を把握しておくことで、該中央値に基いて、複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの合計が所定の範囲となるようにして、複数枚の磁気記録媒体を容易に選択できる。このため、この場合も選択した複数枚の磁気記録媒体を用いて、該複数の磁気記録媒体を有するＨＤＤを組み立てることで、磁気記録媒体の厚さを測定することなく、該複数枚の磁気記録媒体を固定したスピンドルの高さを、高い確率で筐体に対応した所定の高さとすることができる。
【００３４】
収納工程において、各収納容器に収納する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきは小さい方が好ましく、例えば１個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきは±０．５μｍ以下であることがより好ましい。この場合、１個の収納容器において、収納した複数の磁気記録媒体用基板の厚さの最大値と最小値との差であるばらつき幅は１．０μｍ以下となる。
【００３５】
また、収納工程において、磁気記録媒体用基板を収納した複数個の収納容器を作製した場合に、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値について、該作製した複数個の収納容器間のばらつき幅は、８．０μｍ以上１６．０μｍ以下であることが好ましい。これは、複数個の収納容器間のばらつき幅を８．０μｍ以上とすることで複数個の収納容器から複数枚の磁気記録媒体用基板を選択する場合に、複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの合計を所定の範囲内とするための選択がし易くなり好ましいからである。ただし、複数個の収納容器間のばらつき幅が大きくなりすぎると、複数枚の磁気記録媒体用基板を選択する際に、選択されない収納容器が生じやすくなるため、好ましくない。このため、複数個の収納容器間のばらつき幅は１６．０μｍ以下であることが好ましい。
【００３６】
なお、複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以上とは、中央値を中心にして±４．０μｍ以上の範囲に分布していることを意味し、複数個の収納容器間のばらつき幅が１６．０μｍ以下とは、中央値を中心にして±８．０μｍ以下の範囲に分布していることを意味する。
【００３７】
収納工程は、磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、複数枚の磁気記録媒体用基板を複数個の収納容器に分けて収納する収納ステップを有することができる。
【００３８】
また、必要に応じて、収納ステップの前に、例えば複数個の収納容器３２ａ〜３２ｃに収納する、複数枚の磁気記録媒体用基板３１を選別する選別ステップを設けることもできる。
【００３９】
選別ステップを実施する場合、選別ステップでは、例えば各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下となるように複数枚の磁気記録媒体用基板を選別できる。また、選別ステップでは、例えば各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以上１６．０μｍ以下となるように複数枚の磁気記録媒体用基板３１を選別することもできる。
【００４０】
選別ステップで複数個の収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板に選別されなかった場合、例えば再度、主表面研磨工程等に供してそのサイズを調整し、使用することもできる。
【００４１】
さらに、収納工程は、上記選別ステップを実施する場合、必要に応じて複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さを測定する測定ステップを有することもできる。
【００４２】
なお、上記選別ステップや、測定ステップは収納工程とは別に選別工程、測定工程として実施することもできる。
【００４３】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法では、収納工程で収納した複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値を収納容器に表示することができる。このように収納した複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さを収納容器に表示することで、例えば収納容器から複数枚の磁気記録媒体用基板の組み合わせを選択する際に、選択ミス等が生じることを確実に防止できるため好ましい。なお、収納容器に表示する収納した複数枚の磁気記録媒体の厚さの中央値は、識別できるように記載されていればよい。例えば具体的な数字で表示することもできるが、その他にバーコード、ＱＲコード（登録商標）、記号、色等により識別できるように表示することもできる。また、表示する代わりに中央値の情報が記録または識別できるようにされたＩＣタグを収納容器に貼付する等してもよい。
【００４４】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、上記収納工程以外にも任意の工程を有することができる。
【００４５】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板（以下、単に「ガラス基板」とも記載する）を製造する場合、例えば以下の工程１〜工程５をさらに有することもできる。
（工程１）ガラス素板から、中央部に円孔を有する円板形状のガラス基板に加工する形状付与工程。
（工程２）ガラス基板の内周と外周の端面部分の面取りを行う面取り工程。
（工程３）ガラス基板の端面（内周端面及び外周端面）を研磨する端面研磨工程。
（工程４）ガラス基板の主表面を研磨する主表面研磨工程。
（工程５）ガラス基板を洗浄して乾燥する洗浄・乾燥工程。
【００４６】
上記工程は記載した順番に行う必要はなく、例えば、形状付与工程の前に主表面研磨工程を行ってもよい。また、各工程は１回ずつに限定されるものではなく、ガラス基板に要求される仕様等に応じて任意の回数実施することができる。例えば、形状付与工程後に主表面研磨工程を行い、その後に面取り工程と端面研磨工程を行った後、再度主表面研磨工程を実施することもできる。
【００４７】
ここで、（工程１）の形状付与工程は、フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法またはリドロー法で成形されたガラス素板を、中央部に円孔を有する円板形状のガラス基板に加工するものである。なお、用いるガラス素板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよく、ガラス素板の表層に強化層を有する強化ガラスでもよい。
【００４８】
（工程２）の面取り工程は、内周端面、及び外周端面の面取りを行うことができる。面取り工程を行うことで、内周端面に内周面取り部を、外周端面に外周面取り部をそれぞれ形成できる。
【００４９】
（工程３）の端面研磨工程は、ガラス基板の内周端面、及び外周端面（側面部と面取り部）の端面研磨を行うことができる。
【００５０】
（工程４）の主表面研磨工程では、ドーナツ形状を有するガラス基板の主表面に研磨液を供給し、ドーナツ形状を有するガラス基板の上下主表面を、例えば両面研磨装置により、同時に研磨できる。主表面研磨工程は、一次研磨のみでもよく、一次研磨及び二次研磨を行うものでもよく、二次研磨の後に三次研磨を行うものでもよい。
【００５１】
なお、（工程４）の主表面研磨工程の前に、主表面のラップ（例えば遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップ等）、すなわち主表面研削工程が実施されてもよい。主表面研削工程を実施する場合も、一次研削のみでもよく、複数の研削工程、例えば一次研削及び二次研削を行うものでもよい。また、各工程間にガラス基板の洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施してもよい。ここで、主表面のラップとは、広義の主表面研磨である。
【００５２】
（工程５）の洗浄・乾燥工程は、研磨後のガラス基板を洗浄し、乾燥する工程である。具体的な洗浄方法は特に限定されるものではない。例えば、洗剤を用いたスクラブ洗浄、洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄等により洗浄を行うことができる。また、乾燥方法についても特に限定されるものではなく、例えば、イソプロピルアルコール蒸気にて乾燥することができる。
【００５３】
さらに、上記各工程間にガラス基板の洗浄（工程間洗浄）やガラス基板表面のエッチング（工程間エッチング）を実施してもよい。また、ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を工程３、４で挙げた研磨工程前、または研磨工程後、あるいは研磨工程間で実施してもよい。
【００５４】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法が、例えば磁気記録媒体用アルミニウム合金基板（以下、単に「アルミニウム合金基板」とも記載する）を製造する場合であれば、以下の工程１´〜工程６´をさらに有することもできる。
（工程１´）アルミニウム合金板をプレス機等で打ち抜いて、中央部に円孔を有する円板形状のアルミニウム合金基板に加工する形状付与工程。
（工程２´）アルミニウム合金基板を上下から加圧し、焼鈍しを行う積付け焼き鈍し工程。
（工程３´）アルミニウム合金基板の端面（内周端面及び外周端面）を切削加工する端面切削工程。
（工程４´）ＮｉＰの無電解めっき処理を行う表面処理工程。
（工程５´）アルミニウム合金基板の主表面を研磨する主表面研磨工程。
（工程６´）アルミニウム合金基板を洗浄して乾燥する洗浄・乾燥工程。
【００５５】
上記工程は記載した順番に行う必要はなく、また、各工程は１回ずつに限定されるものではなく、アルミニウム合金基板に要求される仕様等に応じて任意の回数実施することができる。例えば、主表面研磨工程を複数回実施することもできる。
【００５６】
なお、（工程５´）の主表面研磨工程の前に、主表面を研削する主表面研削工程を実施することもできる。ただし、主表面研削工程を実施する場合、主表面研削工程は、ＮｉＰめっきを実施する表面処理工程の前に実施することが好ましい。主表面研削工程を実施する場合も、一次研削のみでもよく、複数の研削工程、例えば一次研削及び二次研削を行うものでもよい。
【００５７】
また、上記工程間にアルミニウム合金基板の洗浄（工程間洗浄）や、アルミニウム合金基板の表面をエッチング処理するエッチング工程等を実施することもできる。
【００５８】
磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板のいずれを作製する場合でも、すなわち製造する磁気記録媒体用基板の材料によらず、既述のように記録面となる主表面研磨工程（工程４、工程５´）を実施することができる。主表面研磨工程は、一次研磨のみでも良く、さらに二次研磨や、三次研磨を実施することもできる。
【００５９】
そして、一回または二回以上行う主表面研磨工程のうち、最後に行う主表面研磨工程を最終主表面研磨工程と呼ぶことができ、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、既述の収納工程の前に、磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程をさらに有することができる。
【００６０】
この際、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることが好ましく、±０．５μｍ以下とすることがより好ましい。
【００６１】
磁気記録媒体用基板の厚さは、主に主表面を研磨する際に変化することになり、最終主表面研磨工程終了後は大きな変化を生じない。そして、最終主表面研磨工程での研磨量は一般的に少ないため、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることで、最終主表面研磨工程終了後の同一バッチ内の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきも±１．０μｍ以下に抑制できる。
【００６２】
従って、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下にすることで、該最終主表面研磨工程終了後の同一バッチの磁気記録媒体用基板を、収納工程で例えば同じ収納容器に入れても、該収納容器内の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下にできる。このため、最終主表面研磨工程終了後、収納工程のために磁気記録媒体用基板の板厚を測定する際（測定工程）、全ての磁気記録媒体用基板の厚さを測定する必要がなく、磁気記録媒体用基板に疵や、パーティクルによる汚染の発生を低減できるため好ましい。
【００６３】
なお、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを所定の範囲とするため、最終主表面研磨工程を実施する前に、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板を選定する供給基板選定工程を設けることもできる。供給基板選定工程では、例えば最終主表面研磨工程を実施する前に最後に実施した主表面研磨工程後、任意のタイミングで測定した磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板を選定することができる。
【００６４】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、既述のように収納工程や、上述の供給基板選定工程等で磁気記録媒体用基板の厚さに基いて操作を行う工程（ステップ）がある。このため、磁気記録媒体用基板の材料によらず、上述した工程以外に、磁気記録媒体用基板の厚さを測定する測定工程（測定ステップ）を有することもできる。
【００６５】
測定工程を実施するタイミングは特に限定されるものではなく、必要に応じて任意のタイミングで、任意の回数実施することができる。測定工程は例えば最終主表面研磨工程を実施する前に最後に実施した主表面研磨工程後、供給基板選定工程の前に実施したり、最終主表面研磨工程や、収納工程の中で測定ステップとして実施したり、最終主表面研磨工程後、収納工程を実施する前等に実施することができる。
【００６６】
測定工程においては、対象となる複数枚の磁気記録媒体用基板の全てについて板厚を測定することもできるが、厚さが略等しいとすることができるグループについては、該グループのうちの一部の磁気記録媒体用基板についてのみ板厚を測定し、該グループに属する磁気記録媒体用基板の厚さとすることもできる。例えば上述のように、供給基板選定工程を実施してから最終主表面研磨工程を実施する場合、最終主表面研磨工程終了後の同一バッチ内の磁気記録媒体用基板の板厚のばらつきは特に小さくなっている。このため、最終主表面研磨工程で同一バッチの磁気記録媒体用基板については一部、例えば１枚の磁気記録媒体用基板について板厚を測定し、同一バッチに属する磁気記録媒体用基板の板厚とすることができる。
【００６７】
特に測定時に磁気記録媒体用基板に疵や、パーティクルによる汚染が生じることを防ぐ観点から、測定する磁気記録媒体用基板の枚数は少なくすることが好ましい。
【００６８】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、製造する磁気記録媒体用基板の材料によらず、製造した磁気記録媒体用基板の主表面について、例えば最終主表面研磨工程を実施した後、疵やパーティクルの付着の有無、すなわち欠点の有無等を検査する表面検査工程等を有することもできる。
【００６９】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法における磁気記録媒体用基板の材料は特に限定されるものではなく、ここまで説明したように、例えばアルミニウム合金や、ガラスを用いることができる。すなわち、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板や、磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。ただし、近年では磁気記録媒体には高記録密度化の要求がなされている。このため、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法で製造する磁気記録媒体用基板は、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板に比べて硬く、剛性が高く、平坦性や平滑性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板であることが好ましい。
【００７０】
ここまで説明した磁気記録媒体用基板の製造方法により得られた磁気記録媒体用基板は、既述の収納工程を実施した後、磁性層を成膜する工程等に供給され、主表面上に磁性層などの薄膜を形成する工程をさらに行うことによって、磁気記録媒体とすることができる。また、得られた磁気記録媒体を筐体内に組み込むことで、複数枚の磁気記録媒体を備えたＨＤＤを製造できる。
【００７１】
次に、本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体の一構成例について説明する。
【００７２】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体は、複数枚の磁気記録媒体用基板を収納した収納容器を、複数個有することができる。  
そして、１個の収納容器に収納される複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下であり、収納された複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値に基づく識別可能な表示を備えておくことができる。
【００７３】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体は、既述の磁気記録媒体用基板の製造方法により製造することができるため、具体的な説明はここでは省略する。
【００７４】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体によれば、各収納容器に収納される複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下である、複数個の収納容器を有することができる。このため、複数枚の磁気記録媒体を備えたＨＤＤを製造する際に、各収納容器に収納された複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値に基づいて、磁気記録媒体用基板、または該磁気記録媒体用基板を用いた磁気記録媒体を組み合わせることができる。従って、複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計を、高い確率で所定の範囲内とすることができる。
［第２の実施形態］
次に本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法の他の構成例について説明する。
【００７５】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、複数枚の磁気記録媒体用基板を、複数個の収納容器に分けて収納する収納工程を有することができる。
【００７６】
そして、上記収納工程において、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以下となるように収納することができる。
【００７７】
なお、上記複数個の収納容器は、磁気記録媒体用基板の出荷用収納容器、または磁気記録媒体用基板を磁性層成膜工程へ搬送する搬送用収納容器とすることができる。
【００７８】
収納工程では、第１の実施形態の場合と同様に、例えば図３に示した様に複数枚の磁気記録媒体用基板３１を、複数個の収納容器３２ａ〜３２ｃに分けて収納することができる。なお、第１の実施形態でも既述のように、ここでは３個の収納容器に分けて収納する例を示しているが、係る形態に限定されず、収納する複数枚の磁気記録媒体用基板３１の枚数等により収納容器の数は任意に選択することができる。
【００７９】
この際、例えば収納容器３２ａにおける、該収納容器３２ａに収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値を例えばＡとする。そして、収納容器３２ｂ、３２ｃに収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値をそれぞれＢ、Ｃとする。
【００８０】
この場合に、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値Ａ〜Ｃについて、複数個の収納容器間のばらつき幅を８．０μｍ以下とすることができる。すなわち、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値のうち、最大値がＡ、最小値がＣの場合、Ａ−Ｃ≦８．０μｍの関係を満たすように、収納工程で各収納容器に磁気記録媒体用基板を収納することができる。なお、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以下とは、複数個の収納容器の、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値が、中央値を中心として±４．０μｍ以内に分布していることを意味する。
【００８１】
収納工程で、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が所定の範囲となるように収納することで、複数個の収納容器から任意に選択した複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの合計を高い確率で所定の範囲とすることができる。これは、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が小さい程、複数個の収納容器に収納した複数枚の磁気記録媒体用基板の板厚のばらつきが小さいことを意味しているからである。
【００８２】
特に、本発明の発明者らの検討によれば、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅を８．０μｍ以下とすることで、９５％以上の確率で、磁気記録媒体とした際の、複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計が所定の範囲内となるように、複数枚の磁気記録媒体用基板を選択でき、好ましい。各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値についての、複数個の収納容器間のばらつき幅は、７．０μｍ以下がより好ましく、６．０μｍ以下がさらに好ましく、５．０μｍ以下が特に好ましい。
【００８３】
なお、収納工程では、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が８．０μｍ以下となるように、磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、複数枚の磁気記録媒体用基板を複数個の収納容器に分けて収納することができる。
【００８４】
また、収納工程において、複数個の収納容器に分けて収納する、複数枚の磁気記録媒体用基板３１（図３を参照）の厚さのばらつき幅は特に限定されないが１６．０μｍ以下であることが好ましく、１４．０μｍ以下であることがより好ましく、１２．０μｍ以下が更に好ましく、１０．０μｍ以下が特に好ましい。
【００８５】
これは、収納工程において、複数個の収納容器に分けて収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつき幅が１６．０μｍ以下の場合、収納工程後に複数個の収納容器から任意に複数枚の磁気記録媒体用基板を選択した場合に、その厚さの合計を特に高い確率で所定の範囲内とすることができ、好ましいからである。
【００８６】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板においても上述の収納工程以外に任意の工程を有することができる。なお、磁気記録媒体用ガラス基板を製造する場合、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板を製造する場合のそれぞれにおいて、例えば第１の実施形態で説明した場合と同様の任意の工程（工程１〜工程５、もしくは工程１´〜工程６´）を有することができるため、任意の工程の例についての記載は省略する。
【００８７】
そして、磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板のいずれを作製する場合でも、第１の実施形態で既述のように、記録面となる主表面を研磨する主表面研磨工程（工程４、工程５´）を実施することができる。主表面研磨工程は、一次研磨のみでも良く、さらに二次研磨、三次研磨を実施することもできる。
【００８８】
一回または二回以上行う主表面研磨工程のうち、最後に行う主表面研磨工程を最終主表面研磨工程と呼ぶことができ、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、複数枚の磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程をさらに有することができる。
【００８９】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、最終主表面研磨工程を実施する際、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下となるように磁気記録媒体用基板を選定する供給基板選定工程を有することもできる。特に、供給基板選定工程では、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±０．５μｍ以下となるように磁気記録媒体用基板を選定することがより好ましい。
【００９０】
そして、収納工程においては、最終主表面研磨工程終了後の磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、磁気記録媒体用基板を各収納容器に収納することができる。
【００９１】
磁気記録媒体用基板の厚さは、主に主表面を研磨する際に変化することになり、最終主表面研磨工程終了後は大きな変化を生じない。そして、最終主表面研磨工程での研磨量は一般的に少ないため、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることで、最終主表面研磨工程終了後の同一バッチ内の磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきも±１．０μｍ以下に抑制できる。
【００９２】
そして、最終主表面研磨工程を例えば複数バッチを実施し、得られた複数枚の磁気記録媒体用基板について、収納工程において、最終主表面研磨工程終了後の磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、磁気記録媒体用基板を各収納容器に収納することができる。
【００９３】
なお、上述のように最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきを所定の範囲とするため、最終主表面研磨工程を実施する前に、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板を選定する供給基板選定工程を設けることもできる。供給基板選定工程では、例えば最終主表面研磨工程を実施する前に最後に実施した主表面研磨工程後、任意のタイミングで測定した磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給する磁気記録媒体用基板を選定することができる。
【００９４】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、既述のように収納工程や、上述の供給基板選定工程等で磁気記録媒体用基板の厚さに基いて操作を行う工程がある。このため、磁気記録媒体用基板の材料によらず、上述した工程以外に、磁気記録媒体用基板の厚さを測定する測定工程（測定ステップ）を有することもできる。
【００９５】
測定工程を実施するタイミングは特に限定されるものではなく、必要に応じて任意のタイミングで、任意の回数実施することができる。測定工程は例えば最終主表面研磨工程を実施する前に最後に実施した主表面研磨工程後、供給基板選定工程の前に実施したり、最終主表面研磨工程や、収納工程の中で測定ステップとして実施したり、最終主表面研磨工程後、収納工程を実施する前等に実施することができる。
【００９６】
測定工程においては、対象となる複数枚の磁気記録媒体用基板の全てについて板厚を測定することもできるが、厚さが略等しいとすることができるグループについては、該グループのうちの一部の磁気記録媒体用基板についてのみ板厚を測定し、該グループに属する磁気記録媒体用基板の厚さとすることもできる。例えば上述のように、供給基板選定工程を実施してから最終主表面研磨工程を実施する場合、最終主表面研磨工程終了後の同一バッチ内の磁気記録媒体用基板の板厚のばらつきは特に小さくなっている。このため、最終主表面研磨工程で同一バッチの磁気記録媒体用基板については一部、例えば１枚の磁気記録媒体用基板について板厚を測定し、同一バッチに属する磁気記録媒体用基板の板厚とすることができる。
【００９７】
特に測定時に磁気記録媒体用基板に疵や、パーティクルによる汚染が生じることを防ぐ観点から、測定する磁気記録媒体用基板の枚数は少なくすることが好ましい。
【００９８】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、製造する磁気記録媒体用基板の材料によらず、製造した磁気記録媒体用基板の主表面について、例えば最終主表面研磨工程を実施した後、疵やパーティクルの付着の有無、すなわち欠点の有無等を検査する表面検査工程等を有することもできる。
【００９９】
また、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法は、収納工程以外に、例えば、複数枚の磁気記録媒体用基板の主表面を研磨する最終主表面研磨工程と、製造した磁気記録媒体用基板の主表面の欠点の検査を実施する表面検査工程と、製造した磁気記録媒体用基板の厚さを測定する測定工程と、測定工程で測定した磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、複数個の収納容器に収納する、複数枚の磁気記録媒体用基板を選別する選別工程と、を有することもできる。
【０１００】
この場合、測定工程は、最終主表面研磨工程終了後から選別工程を実施する前までに実施することができる。特に、測定工程は、最終主表面研磨工程終了後から、前記表面検査工程終了直後までの間に実施することが好ましい。なお、選別工程内で測定工程を実施することもできる。
【０１０１】
最終主表面研磨工程、表面検査工程、及び測定工程については既に説明したため、ここでは説明を省略する。
【０１０２】
選別工程では、収納工程において、各収納容器に収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅が所定の範囲となるように、複数個の収納容器３２ａ〜３２ｃに収納する、複数枚の磁気記録媒体用基板３１を選別できる。
【０１０３】
また、選別工程では、複数個の収納容器３２ａ〜３２ｃに分けて収納する、複数枚の磁気記録媒体用基板３１の厚さのばらつき幅が所定の範囲となるように、収納する複数枚の磁気記録媒体用基板３１を選別することもできる。
【０１０４】
選別工程では、例えば全ての複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さを測定し（測定ステップ）、測定した磁気記録媒体用基板の厚さに基いて、複数枚の磁気記録媒体用基板を選別できる。
【０１０５】
また、選別工程では磁気記録媒体用基板に疵や、パーティクル汚染の発生を防止する観点から、例えば最終主表面研磨工程時の同一バッチ内の磁気記録媒体用基板の一部のみについて厚さを測定し、測定した板厚を該グループの板厚とすることもできる。これは、最終主表面研磨工程では、例えば両面研磨装置により磁気記録媒体用基板の主表面を上下の定盤により押圧しながら研磨を行うため、同一バッチ内では磁気記録媒体用基板の厚さのばらつきが比較的小さくなるためである。
【０１０６】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法における磁気記録媒体用基板の材料は特に限定されるものではなく、例えばアルミニウム合金や、ガラスを用いることができる。すなわち、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板や、磁気記録媒体用ガラス基板を製造することができる。ただし、近年では磁気記録媒体には高記録密度化の要求がなされている。このため、本実施形態の磁気記録媒体用基板の製造方法で製造する磁気記録媒体用基板は、磁気記録媒体用アルミニウム合金基板に比べて硬く、平坦性や平滑性に優れる磁気記録媒体用ガラス基板であることが好ましい。
【０１０７】
ここまで説明した磁気記録媒体用基板の製造方法により得られた磁気記録媒体用基板は、既述の収納工程を実施した後、磁性層を成膜する工程等に供給され、主表面上に磁性層などの薄膜を形成する工程をさらに行うことによって、磁気記録媒体とすることができる。また、得られた磁気記録媒体を筐体内に組み込むことで、複数枚の磁気記録媒体を備えたＨＤＤを製造できる。
【０１０８】
次に、本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体の一構成例について説明する。
【０１０９】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体は、複数枚の磁気記録媒体用基板を収納した収納容器を、複数個有することができる。  
そして、各収納容器に収納された複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、上記複数個の収納容器間のばらつき幅を８．０μｍ以下とすることができる。
【０１１０】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体は、既述の磁気記録媒体用基板の製造方法により製造することができるため、具体的な説明はここでは省略する。
【０１１１】
本実施形態の磁気記録媒体用基板の梱包体によれば、各収納容器に収納された複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅を８．０μｍ以下とすることができる。このため、複数枚の磁気記録媒体を備えたＨＤＤを製造する際に、複数個の収納容器から任意に選択した磁気記録媒体用基板、または該磁気記録媒体用基板を用いた磁気記録媒体を組み合わせても、その合計を高い確率で所定の範囲内とすることができる。
（磁気記録媒体の製造方法、ＨＤＤの製造方法）
次に、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法の一構成例について説明する。
【０１１２】
本実施形態では、垂直記録方式の磁気記録媒体を製造する場合を例に説明するが、既述の磁気記録媒体用基板は、各種記録方式の磁気記録媒体に適用することができるため、本実施形態の磁気記録媒体の構成は特に限定されるものではない。
【０１１３】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法では、既述の磁気記録媒体用基板の製造方法で製造した磁気記録媒体用基板を収納した複数個の収納容器内から、ＨＤＤを組み立てるための複数枚の磁気記録媒体用基板を取出す磁気記録媒体用基板取り出し工程を有することができる。
【０１１４】
磁気記録媒体用基板取り出し工程で、例えば第１の実施形態で作製、収納した複数個の収納容器を用いる場合、各収納容器が収納する複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値に基いて、複数個の収納容器から複数枚の磁気記録媒体用基板を、組み合わせた際の厚さの合計がＨＤＤの筐体に対応した厚さとなるように取り出すことができる。そして、収納容器から取り出し、組み合わせた複数枚の磁気記録媒体用基板のセットが識別できるようにして以下の磁性層を成膜するための工程等に供することができる。
【０１１５】
また、磁気記録媒体用基板取り出し工程で、例えば第１の実施形態で作製、収納した複数個の収納容器を用いる場合、磁気記録媒体用基板取り出し工程では、磁気記録媒体用基板の組み合わせを作製せず、任意に取り出すこともできる。
【０１１６】
この場合、磁気記録媒体用基板の主表面上に磁性層等を成膜する際、該磁気記録媒体用基板が収納されていた収納容器が収納していた、複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値の情報を、識別できるようにしておく。すなわち、磁気記録媒体とした後も、用いた磁気記録媒体用基板が収納されていた収納容器が収納していた複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値の情報が把握できるようにしておく。
【０１１７】
そして、ＨＤＤを組み立てる際に、各磁気記録媒体に用いた、磁気記録媒体用基板が収納されていた収納容器が収納していた複数枚の磁気記録媒体用基板の厚さの中央値に基いて、該厚さの中央値の合計が所定の範囲内になるように、複数枚の磁気記録媒体を選択し、組み合わせることもできる。
【０１１８】
一方、磁気記録媒体用基板取り出し工程で、例えば第２の実施形態で作製、収納した複数個の収納容器を用いる場合、任意の収納容器からＨＤＤを組み立てるのに必要な複数枚の磁気記録媒体用基板を取出し、以下の磁性層を成膜するための工程等に供することができる。そして、ＨＤＤを組み立てる際には、任意に磁気記録媒体を組み合わせることができる。
【０１１９】
本実施形態の磁気記録媒体の製造方法で製造する磁気記録媒体は、既述の磁気記録媒体用基板の主表面に、垂直磁性層、保護層、潤滑膜等が形成された構成を有することができる。垂直磁性層は垂直磁気記録方式に対応した材料を用いることができる。なお、記録密度を更に向上させたい場合は、エネルギーアシスト磁気記録方式（例えば、熱アシスト磁気記録方式、マイクロ波アシスト磁気記録方式など）が好ましく、この場合には、垂直磁性層にはエネルギーアシスト磁気記録方式に対応した材料を用いることができる。
【０１２０】
そして、本実施形態の磁気記録媒体の製造方法は、磁気記録媒体用基板の主表面上に磁性層等を成膜するため、例えば以下の工程を有することができる。
（工程Ａ）磁気記録媒体用基板の主表面上に、密着層を設ける密着層形成工程。
（工程Ｂ）密着層上に軟磁性材料からなる軟磁性下地層を形成する軟磁性下地層形成工程。
（工程Ｃ）軟磁性下地層上に、シード層を設けるシード層形成工程。
（工程Ｄ）シード層上に配向制御層を設ける配向制御層形成工程。
（工程Ｅ）配向制御層上に垂直磁性層を形成する磁性層成膜工程。
（工程Ｆ）垂直磁性層上に保護層を形成する保護層形成工程。
（工程Ｇ）保護層上に潤滑層を形成する潤滑層形成工程。
【０１２１】
（工程Ａ）の密着層形成工程において形成する密着層は、磁気記録媒体用基板の主表面における吸着ガスや吸着水分の影響、あるいは磁気記録媒体用基板に含まれる成分の拡散等による後述する軟磁性下地層の腐食を抑制する働きを有することができる。密着層を形成する材料としては、Ｃｒ、Ｃｒ合金、Ｔｉ、Ｔｉ合金等が挙げられ、密着層は厚さ２ｎｍ以上４０ｎｍ以下程度が好ましい。密着層は、例えば、スパッタリングによる成膜により形成することができる。
【０１２２】
（工程Ｂ）の軟磁性下地層形成工程において形成する軟磁性下地層は、磁気ヘッドからの記録磁界を環流させる役割を有することができる。軟磁性下地層を形成する材料としては、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉ等を含む軟磁性材料が用いられる。具体的には、ＦｅＣｏ系合金、ＦｅＮｉ系合金、ＦｅＡｌ系合金、ＦｅＣｒ系合金、ＦｅＴａ系合金、ＦｅＭｇ系合金、ＦｅＺｒ系合金、ＦｅＣ系合金、ＦｅＮ系合金、ＦｅＳｉ系合金、ＦｅＰ系合金、ＦｅＮｂ系合金、ＦｅＨｆ系合金、ＦｅＢ系合金等が用いられる。
【０１２３】
（工程Ｃ）のシード層形成工程により、軟磁性下地層と配向制御層との間に、配向制御層の結晶粒径を制御するためのシード層を設けることができる。シード層を形成する材料としては、例えば、ＮｉＷ系合金を用いることができる。
【０１２４】
（工程Ｄ）の配向制御層形成工程において、軟磁性下地層と垂直磁性層との間に、配向制御層を設けることにより、垂直磁性層の結晶粒を微細化し、記録再生特性を向上させることができる。配向制御層は、ＲｕやＲｕ合金、Ｐｔ、Ａｕ及びＡｇを含む材料ならびにＣｏＣｒ系合金、ＴｉまたはＴｉ合金等の材料を用いることができ、膜厚は２ｎｍ以上２０ｎｍ以下程度が好ましい。配向制御層は、垂直磁性層のエピタキシャル成長を容易にする機能及び軟磁性下地層と垂直磁性層との磁気交換結合を断つ機能を有している。
【０１２５】
（工程Ｅ）の磁性層成膜工程（垂直磁性層形成工程）で形成する垂直磁性層は、磁化容易軸が磁気記録媒体用基板の主表面に対して垂直方向に向いている磁性層であり、例えばＣｏ、Ｃｒ、Ｐｔ等を含む材料により形成できる。
【０１２６】
垂直磁性層は、高い固有媒体ノイズの原因となる粒間交換結合を低減するため、良好に隔離された微粒子構造、即ち、グラニュラ構造とすることが好ましい。具体的には、ＣｏＣｒＰｔ系合金、ＦｅＰｔ系合金等に、酸化物（ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｏＯ、Ｔａ２Ｏ５、ＴｉＯ２等）や、Ｃｒ、Ｂ、Ｔａ、Ｚｒ等を添加することが好ましい。
【０１２７】
垂直磁性層は、磁性層と非磁性層とが交互に積層された構造としてもよい。この場合、非磁性層は、例えば、ＲｕまたはＲｕ合金の材料を用い、厚さ０．６ｎｍ以上１．２ｎｍ以下とすることにより、磁性層をＡＦＣ結合（反強磁性交換結合）させることができる。
【０１２８】
（工程Ｆ）の保護層形成工程で形成する保護層は、垂直磁性層の腐食を防ぎ、かつ、磁気ヘッドが媒体に接触した際において、磁気記録媒体の表面の損傷を防ぐことができる。保護層を形成する材料としては、Ｃ、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２等を含む材料が挙げられ、スパッタリング、ＣＶＤ（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）等による成膜により形成することができる。
【０１２９】
（工程Ｇ）の潤滑膜形成工程で形成する潤滑膜は、磁気ヘッドと磁気記録媒体との摩擦を低減することができる。潤滑膜を形成する材料としては、例えば、パーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などが挙げられる。これら潤滑膜は、ディップ法、スプレー法等により形成することができる。
【０１３０】
そして、以上の工程により得られた磁気記録媒体は、図１、図２を用いて説明した構造を有するＨＤＤとするため、スピンドルに製造した複数枚の磁気記録媒体を組み込み、筐体内に設置する組み立て工程を実施することでＨＤＤを製造することができる。
【０１３１】
スピンドルに複数枚の磁気記録媒体を組み込む際、既述の複数個の収納容器から選択した複数枚の磁気記録媒体用基板のセットを用いて製造した複数枚の磁気記録媒体を用いることで、該複数枚の磁気記録媒体の厚さの合計を、複数枚の磁気記録媒体の厚さを測定することなく、高い確率で所定の範囲内とすることができる。このため、ＨＤＤを製造する際の生産性を高めることが可能になる。また、磁気記録媒体の記録面等に疵やパーティクル汚染等の問題が生じることを抑制できる。
【実施例】
【０１３２】
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
［実施例１−１］
以下の順に各工程を実施して、磁気記録媒体用基板、および磁気記録媒体、ＨＤＤの作製を行った。なお、磁気記録媒体用基板としては、磁気記録媒体用ガラス基板を製造している。
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
（形状付与工程）
フロート法で成形された、ＳｉＯ２を主成分とするアルミノシリケートガラス素板を用意する。具体的には、モル百分率表示でＳｉＯ２を６５％、Ａｌ２Ｏ３を１２％、Ｌｉ２Ｏを１３％、Ｎａ２Ｏを５％、Ｋ２Ｏを３％、ＺｒＯ２を２％含有するガラス素板を用意する。そして、該ガラス素板から、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０．６３５ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように、中央部に円孔を有するドーナツ形状を有するガラス基板に加工する。
【０１３３】
なお、内径とは、中央開口部の直径を意味する。
（面取り工程）
形状付与工程で得られたガラス基板の内周端面と外周端面とに、それぞれ内周面取り部、及び外周面取り部を形成する。
（主表面研削工程：一次主表面研削工程）
研磨具として鋳鉄定盤と、アルミナ砥粒を含有する研削液とを用いて、１６Ｂ型両面研磨装置により、ガラス基板の上下の主表面の研削を行う。一次主表面研削工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研削液その他の汚れを除去する。
（端面研磨工程：外周端面研磨工程）
外周側面部と外周面取り部とを、研磨ブラシと平均粒子直径（以下、平均粒径と略す）が約１．５μｍの酸化セリウム砥粒を含有する研磨剤とを用いて研磨し、外周側面及び外周面取り部の疵を除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工する。
【０１３４】
なお、平均粒径は、レーザー回折・散乱法によって求めた粒度分布における積算値５０％での粒径を意味する。なお、本明細書の他の部分でも、平均粒径は同様の意味を有する。
（端面研磨工程：内周端面研磨工程）
内周端面については、ガラス基板の内周側面部と内周面取り部とを、研磨ブラシと平均粒径約１．５μｍの酸化セリウム砥粒を含有する研磨剤とを用いて研磨を行っている。これにより、内周側面及び内周面取り部の疵を除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工している。
【０１３５】
外周端面、および内周端面を研磨後はガラス基板を洗浄し、研磨剤その他の汚れを除去する。
（主表面研削工程：二次主表面研削工程）
研磨具として平均粒径４μｍのダイヤモンド粒子を含有する固定砥粒工具と、界面活性剤を含有する研削液とを用いて、１６Ｂ型両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研削する。
【０１３６】
二次主表面研削工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研削液その他の汚れの除去を行う。
（主表面研磨工程：一次主表面研磨工程）
一次主表面研磨工程では、研磨具として、軟質ウレタン製研磨パッドと、平均粒径が約１．０μｍの酸化セリウムを主成分として含有する研磨剤とを用いて、１６Ｂ型の両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研磨（ポリッシュ）する。
【０１３７】
一次主表面研磨工程における、メインの研磨加工圧力は１２ｋＰａ、下定盤回転数は３０ｒｐｍ、上定盤回転数は下定盤と逆方向に１０ｒｐｍ、研磨キャリア公転数は１０ｒｐｍ、自転数は３ｒｐｍとし、上下両主平面を板厚方向で合計３０μｍ研磨する。
【０１３８】
そして、１研磨バッチ当りに投入するガラス基板は１０５枚とし、同じ条件で１１バッチ実施する。
【０１３９】
一次主表面研磨工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研磨剤その他の汚れを除去する。
（測定工程）
一次主表面研磨工程終了後、洗浄したガラス基板について、非接触板厚測定装置(板厚測定センサー部；キーエンス社製 型式：センサベッドＳＩ−Ｆ８０、分光ユニットＳＩ−Ｆ８０Ｕ）により厚さの測定を行う。
（供給基板選定工程）
供給基板選定工程では、測定工程で測定したガラス基板の厚さに基いて、最終主表面研磨工程の同一バッチ内に投入するガラス基板のグループを選定する。なお、最終主表面研磨工程における１研磨バッチ当り１０５枚のガラス基板を投入することから１つのグループは、１０５枚のガラス基板により構成できる。
【０１４０】
本実施例では、グループ内のガラス基板の厚さが、６３６μｍ±０．５μｍ以内であるガラス基板のグループを３グループを作製する。また、同様に６３７μｍ±０．５μｍ以内、６３９μｍ±０．５μｍ以内、６４１μｍ±０．５μｍ以内、６４３μｍ±０．５μｍ以内、６３５μｍ±０．５μｍ以内、６３３μｍ±０．５μｍ以内、６３１μｍ±０．５μｍ以内、６２９μｍ±０．５μｍ以内の厚さのグループを各１グループ選定する。
【０１４１】
なお、いずれのグループも既述のように１グループあたり１０５枚のガラス基板により構成される。
【０１４２】
また、各グループのガラス基板の厚さのばらつきは上述のように±０．５μｍ以下であるため、最終主表面研磨工程の１バッチをグループ毎に実施することで、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきを±０．５μｍ以下とすることができる。
（主表面研磨工程：最終主表面研磨工程）
最終主表面研磨工程では、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて、１６Ｂ型の両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研磨（ポリッシュ）する。
【０１４３】
最終主表面研磨工程における、メインの研磨加工圧力は１０ｋＰａ、下定盤回転数は１０ｒｐｍ、上定盤回転数は下定盤と逆方向に５ｒｐｍ、研磨キャリア公転数は４．９ｒｐｍ、自転数は１．７ｒｐｍとし、上下両主平面を板厚方向で合計１μｍ研磨する。
【０１４４】
最終主表面研磨工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研磨液その他の汚れの除去を行う。研磨後洗浄終了後、最終主表面研磨工程における１バッチの中から１枚のガラス基板を任意に選択し、板厚を非接触板厚測定装置により測定する（測定ステップ）。測定した板厚を該バッチの板厚の代表値とし、以下の収納工程の際に用いる。
（洗浄・乾燥工程）
最終主表面研磨工程を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い（精密洗浄）、次いでイソプロピルアルコール蒸気にて乾燥を行う。
（表面検査工程）
自動欠点検査装置（日立ハイテク社製  ＮＳ７０００）により、製造したガラス基板の主表面の欠点の有無を検査し、合格となったガラス基板を以下の収納工程に供した。
（収納工程）
最終主表面研磨工程における同一バッチのガラス基板について、４個の収納容器（出荷用収納容器）に分けて収納し、梱包する。なお、収納容器は２５枚入りのものを用いている。そして、収納容器には、最終主表面研磨後の測定ステップで測定したガラス基板厚さを代表値（中央値）として記載する。
【０１４５】
なお、各収納容器に収納する複数枚のガラス基板の厚さのばらつきは±０．５μｍ以下となっている。また、収納工程で作製した複数個の収納容器の、各収納容器に収納するガラス基板の厚さの中央値について、複数個の収納容器間のばらつき幅は１４．０μｍとなっている。
【０１４６】
作製したガラス基板を収納した収納容器を以下の磁気記録媒体の製造工程に供するために出荷し、以下の手順により磁気記録媒体を作製する。
（２）磁気記録媒体の製造
収納容器からガラス基板を取り出し、以下の手順により磁気記録媒体を作製する。
（密着層形成工程）
得られたガラス基板を精密洗浄して表面のパーティクルを除去した後、インライン型スパッタリング装置により、ガラス基板の主表面上に密着層を、Ｃｒターゲットとして、１０ｎｍの膜厚で成膜する。
（軟磁性下地層形成工程）
密着層の上には、軟磁性下地層を、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｚｒ−Ｔａ合金をターゲットとして、３０ｎｍの膜厚で形成する。
（シード層形成工程）
次に、シード層を、ＮｉＷ合金をターゲットとして、１０ｎｍの膜厚で形成する。
（配向制御層形成工程）
シード層の上には、配向制御層を、Ｒｕをターゲットとして、１０ｎｍの膜厚で形成する。
（垂直磁性層形成工程）
配向制御層の上には、垂直磁性層としてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２のグラニュラ構造層を１０ｎｍの膜厚で形成し、非磁性中間層としてＲｕ膜を０．６ｎｍの膜厚で形成し、更に磁性層としてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２のグラニュラ構造層を６ｎｍの膜厚で形成する。
（保護層形成工程）
上記の各層が積層されたガラス基板をインライン型スパッタリング装置から取り出し、ＣＶＤ法により保護層としてカーボン膜を３ｎｍの膜厚で形成する。
（潤滑膜形成工程）
この後、ディップ法により、保護層の上に、パーフルオロポリエーテルの潤滑膜を２ｎｍの膜厚で形成する。
【０１４７】
以上の工程を実施することで、ガラス基板上に磁性層等を成膜し、磁気記録媒体とする。
【０１４８】
上記各工程でガラス基板上に磁性層等を成膜する際、ガラス基板が収納されていた収納容器に記載された、該収納容器に収納した複数枚のガラス基板の厚さの中央値の情報を、各ガラス基板について識別できるようにしている。すなわち、磁気記録媒体とした後も、用いたガラス基板が収納されていた収納容器が収納していた複数枚のガラス基板の厚さの中央値の情報が把握できるようになっている。
（３）ハードディスクドライブ（以下、ＨＤＤと略す）の組み立て
製造した磁気記録媒体は、用いた各ガラス基板が収納されていた収納容器の、該収納容器に収納した複数枚のガラス基板の厚さの中央値（以下、「ガラス基板の厚さの中央値」とも記載する）が把握されている。
【０１４９】
そこで、用いたガラス基板の厚さの代表値（中央値）の合計が５．０８０ｍｍ±３２μｍ以内となるように磁気記録媒体を８枚選択し、組み合わせた。同様の８枚の磁気記録媒体のグループを１００組作製した。磁気記録媒体に用いたガラス基板の厚さの組み合わせは、合計の厚さが５．０８０ｍｍ±３２μｍ以内となればどのような組み合わせでもよい。例えばそれぞれ中央値が０．６４４ｍｍから１枚、０．６４２ｍｍから１枚、０．６３８ｍｍから２枚、０．６３４ｍｍから２枚、０．６３２ｍｍから２枚、すなわち代表値の合計が５．０９４ｍｍとなるように選択することができる。
【０１５０】
そして、係る８枚の磁気記録媒体のグループ毎にＨＤＤを組み立て、合計１００台のＨＤＤを作製する。
【０１５１】
このようにして得られる１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは０台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは０台となる。すなわち組み立ての成功率は１００％となる。
［実施例１−２］
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
供給基板選定工程において、測定したガラス基板の厚さに基いて、最終主表面研磨工程の同一研磨処理バッチ内に投入するガラス基板のグループを選別する際、グループ内のガラス基板の厚さが、６３６μｍ±１．０μｍ以内であるガラス基板のグループを２グループ作製する。また、同様に６３７μｍ±１．０μｍ以内を２グループ、６３９μｍ±１．０μｍ以内、６４１μｍ±１．０μｍ以内、６４３±１．０μｍ以内、６３５μｍ±１．０μｍ以内、６３３μｍ±１．０μｍ以内、６３１μｍ±１．０μｍ以内、６２９μｍ±１．０μｍ以内の厚さのグループを各１グループ、合計１１グループ作製する。
【０１５２】
なお、いずれのグループも既述のように１グループあたり１０５枚のガラス基板により構成される。
【０１５３】
また、各グループのガラス基板の厚さのばらつきは上述のように±１．０μｍ以下であるため、最終主表面研磨工程の１バッチをグループ毎に実施することで、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。
【０１５４】
以上の点以外は、実施例１−１と同様にしてガラス基板を作製する。
【０１５５】
なお、収納工程おいて各収納容器に収納する複数枚のガラス基板の厚さのばらつきは±１．０μｍ以下となっている。また、収納工程で作製した複数個の収納容器の、各収納容器に収納するガラス基板の厚さの中央値について、複数個の収納容器間のばらつき幅は１４．０μｍとなっている。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例１−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。
（３）ＨＤＤの組み立て
実施例１−１の場合と同様にして、用いた８枚のガラス基板の厚さの中央値の合計が５．０８０ｍｍ±３２μｍ以内となるように磁気記録媒体を選択して、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤを１００台組み上げる。このようにして得られた１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは１台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは０台となる。すなわち組み立ての成功率は９９％となる。
［実施例１−３］
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
供給基板選定工程において、測定したガラス基板の厚さに基いて、最終主表面研磨工程の同一研磨処理バッチ内に投入するガラス基板のグループを選定する際、グループ内のガラス基板の厚さが、６３６μｍ±１．０μｍ以内であるガラス基板のグループを２グループ作製する。また、同様に６３８μｍ±１．０μｍ以内、６４０μｍ±１．０μｍ以内、６４３μｍ±１．０μｍ以内の厚さのグループを各３グループ、合計１１グループ作製する。
【０１５６】
なお、いずれのグループも既述のように１グループあたり１０５枚のガラス基板により構成される。
【０１５７】
また、各グループのガラス基板の厚さのばらつきは上述のように±１．０μｍ以下であるため、最終主表面研磨工程の１バッチをグループ毎に実施することで、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。
【０１５８】
以上の点以外は、実施例１−１と同様にしてガラス基板を作製した。
【０１５９】
なお、収納工程において各収納容器に収納する複数枚のガラス基板の厚さのばらつきは±１．０μｍ以下となっている。また、収納工程で作製した複数個の収納容器の、各収納容器に収納するガラス基板の厚さの中央値について、複数個の収納容器間のばらつき幅は７．０μｍとなっている。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例１−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。
（３）ＨＤＤの組み立て
実施例１−１と同様にして用いた８枚のガラス基板の厚さの中央値の合計が５．０８０ｍｍ±３２μｍ以内となるように磁気記録媒体を選択して、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤを１００台組み上げる。ただし、本実施例では、磁気記録媒体を組み合わせる際に、何組かは選択肢がなく、ガラス基板の厚さの中央値の合計が５．１１２ｍｍを超えるグループも生じている。
【０１６０】
このようにして得られる１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは５台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは０台となる。すなわち組み立ての成功率は９５％となる。
［比較例１−１］
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
供給基板選定工程は実施せず、一次主表面研磨工程のバッチ毎の基板のグループを、そのまま最終主表面研磨工程における１バッチとして１６Ｂ型研磨機に投入し、研磨を行う。
【０１６１】
ただし、一次主表面研磨工程後の、ガラス基板の板厚が６２８μｍ以上６４４μｍ以下の範囲にあるバッチのみを最終主表面研磨工程に供している。
【０１６２】
そして、最終主表面研磨工程、洗浄・乾燥工程、表面検査工程を実施した後、任意の収納容器に順次収納する。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例１−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。ただし、この際、各ガラス基板が収納されていた収納容器については識別できるように構成せずに実施している。
（３）ＨＤＤの組み立て
作製した磁気記録媒体を任意に取り出し、８枚１組のグループを１００組作製し、係る８枚の磁気記録媒体のグループ毎にＨＤＤを組み立て、合計１００台のＨＤＤを作製する。
【０１６３】
このようにして製造した１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは８台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは７台となる。すなわち組み立ての成功率は８７％となる。
［実施例２−１］
以下の順に各工程を実施して、磁気記録媒体用基板、および磁気記録媒体、ＨＤＤの作製を行う。なお、磁気記録媒体用基板としては、磁気記録媒体用ガラス基板を製造している。
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
（形状付与工程）
フロート法で成形された、ＳｉＯ２を主成分とするアルミノシリケートガラス素板を用意する。具体的には、モル百分率表示でＳｉＯ２を６７％、Ａｌ２Ｏ３を１３％、Ｂ２Ｏ３を１％、ＭｇＯを９％、ＣａＯを５．５％、ＳｒＯを４．５％含有するガラス素板を用意する。そして、該ガラス素板から、外径６５ｍｍ、内径２０ｍｍ、板厚０．６３５ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように、中央部に円孔を有するドーナツ形状を有するガラス基板に加工する。
【０１６４】
なお、内径とは、中央開口部の直径を意味する。
（面取り工程）
形状付与工程で得られたガラス基板の内周端面と外周端面とに、それぞれ内周面取り部、及び外周面取り部を形成する。
（主表面研削工程：一次主表面研削工程）
研磨具として鋳鉄定盤と、アルミナ砥粒を含有する研削液とを用いて、１６Ｂ型両面研磨装置により、ガラス基板の上下の主表面の研削を行う。一次主表面研削工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研削液その他の汚れを除去する。
（端面研磨工程：外周端面研磨工程）
外周側面部と外周面取り部とを、研磨ブラシと平均粒子直径（以下、平均粒径と略す）が約１．５μｍの酸化セリウム砥粒を含有する研磨剤とを用いて研磨し、外周側面及び外周面取り部の疵を除去し、鏡面となるように外周端面を研磨加工する。
（端面研磨工程：内周端面研磨工程）
内周端面については、ガラス基板の内周側面部と内周面取り部とを、研磨ブラシと平均粒径約１．５μｍの酸化セリウム砥粒を含有する研磨剤とを用いて研磨を行っている。これにより、内周側面及び内周面取り部の疵を除去し、鏡面となるように内周端面を研磨加工している。
【０１６５】
外周端面、および内周端面を研磨後はガラス基板を洗浄し、研磨剤その他の汚れを除去する。
（主表面研削工程：二次主表面研削工程）
研磨具として平均粒径４μｍのダイヤモンド粒子を含有する固定砥粒工具と、界面活性剤を含有する研削液とを用いて、１６Ｂ型両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研削する。
【０１６６】
二次主表面研削工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研削液その他の汚れの除去を行う。
（主表面研磨工程：一次主表面研磨工程）
一次主表面研磨工程では、研磨具として、軟質ウレタン製研磨パッドと、平均粒径が約１．０μｍの酸化セリウムを主成分として含有する研磨剤とを用いて、１６Ｂ型の両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研磨（ポリッシュ）する。
【０１６７】
一次主表面研磨工程における、メインの研磨加工圧力は１２ｋＰａ、下定盤回転数は３０ｒｐｍ、上定盤回転数は下定盤と逆方向に１０ｒｐｍ、研磨キャリア公転数は１０ｒｐｍ、自転数は３ｒｐｍとし、上下両主平面を板厚方向で合計３０μｍ研磨する。
【０１６８】
そして、１研磨バッチ当りに投入するガラス基板は１０５枚とし、同じ条件で１１バッチ実施する。
【０１６９】
一次主表面研磨工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研磨剤その他の汚れを除去する。
（測定工程）
一次主表面研磨工程終了後、洗浄したガラス基板について、非接触板厚測定装置(板厚測定センサー部；キーエンス社製 型式：センサベッドＳＩ−Ｆ８０、分光ユニットＳＩ−Ｆ８０Ｕ）により厚さの測定を行う。
（供給基板選定工程）
供給基板選定工程では、測定工程で測定したガラス基板の厚さに基いて、最終主表面研磨工程の同一バッチ内に投入するガラス基板のグループを選定する。なお、最終主表面研磨工程における１研磨バッチ当り１０５枚のガラス基板を投入することから１つのグループは、１０５枚のガラス基板により構成できる。
【０１７０】
本実施例では、ガラス基板の厚さが６２８μｍ以上６４４μｍ以下の範囲にあり、かつ最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下となるように最終主表面研磨工程の１バッチに供給するグループを１１組選定した。
【０１７１】
また、各グループのガラス基板の厚さのばらつきは上述のように±１．０μｍ以下であるため、最終主表面研磨工程の１バッチをグループ毎に実施することで、最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきを±１．０μｍ以下とすることができる。
（主表面研磨工程：最終主表面研磨工程）
最終主表面研磨工程では、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッドと、平均粒径が２０ｎｍのコロイダルシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて、１６Ｂ型の両面研磨装置によりガラス基板の上下の主表面を研磨（ポリッシュ）する。
【０１７２】
最終主表面研磨工程における、メインの研磨加工圧力は１０ｋＰａ、下定盤回転数は１０ｒｐｍ、上定盤回転数は下定盤と逆方向に５ｒｐｍ、研磨キャリア公転数は４．９ｒｐｍ、自転数は１．７ｒｐｍとし、上下両主平面を板厚方向で合計１μｍ研磨する。
【０１７３】
最終主表面研磨工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研磨液その他の汚れを除去を行う。
研磨後洗浄終了後、最終主表面研磨工程における１バッチの中から１枚のガラス基板を任意に選択し、板厚を非接触板厚測定装置により測定する（測定ステップ）。測定した板厚を該バッチの板厚の代表値とし、以下の収納工程の際に用いる。
（洗浄・乾燥工程）
最終主表面研磨工程を行ったガラス基板は、アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄、アルカリ性洗剤溶液に浸漬した状態での超音波洗浄、純水に浸漬した状態での超音波洗浄、を順次行い（精密洗浄）、次いでイソプロピルアルコール蒸気にて乾燥を行う。
（表面検査工程）
自動欠点検査装置（日立ハイテク社製ＮＳ７０００）により、製造したガラス基板の主表面の欠点の有無を検査し、合格となったガラス基板を以下の収納工程に供した。
（収納工程）
最終主表面研磨工程終了後に測定した各バッチのガラス基板の板厚の代表値（中央値）を用いて、２５枚入りの収納容器（出荷用収納容器）１個ごとに、その中の２５枚のガラス基板の板厚の平均値が６３５μｍ±４μｍ以内となるようにガラス基板を選択して、収納、梱包する。
【０１７４】
なお、本実施例では、収納容器内に収納した２５枚のガラス基板の板厚の平均値が、６３２μｍの収納容器が８個、６３４μｍの収納容器が８個、６３５μｍの収納容器が８個、６３７μｍの収納容器が８個、６３９μｍの収納容器が８個となるよう、ガラス基板を収納し、梱包を行っている。このため、複数の収納容器間の、該収納容器が収納する複数枚のガラス基板の厚さの平均値のばらつき幅は、７．０μｍとなっている。
【０１７５】
また、４０個の収納容器に分けて収納した複数枚のガラス基板の板厚のばらつきは１６．０μｍとなっている。
【０１７６】
作製したガラス基板を収納した収納容器を以下の磁気記録媒体の製造工程に供するために出荷し、磁気記録媒体を作製する。
（２）磁気記録媒体の製造
収納容器からガラス基板を取り出し、以下の手順により磁気記録媒体を作製する。
（密着層形成工程）
得られたガラス基板を精密洗浄して表面のパーティクルを除去した後、インライン型スパッタリング装置により、ガラス基板の主表面上に密着層を、Ｃｒターゲットとして、１０ｎｍの膜厚で成膜する。
（軟磁性下地層形成工程）
密着層の上には、軟磁性下地層を、Ｃｏ−Ｆｅ−Ｚｒ−Ｔａ合金をターゲットとして、３０ｎｍの膜厚で形成する。
（シード層形成工程）
次に、シード層を、ＮｉＷ合金をターゲットとして、１０ｎｍの膜厚で形成する。
（配向制御層形成工程）
シード層の上には、配向制御層を、Ｒｕをターゲットとして、１０ｎｍの膜厚で形成する。
（垂直磁性層形成工程）
配向制御層の上には、垂直磁性層としてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２のグラニュラ構造層を１０ｎｍの膜厚で形成し、非磁性中間層としてＲｕ膜を０．６ｎｍの膜厚で形成し、更に磁性層としてＣｏＣｒＰｔ−ＳｉＯ２のグラニュラ構造層を６ｎｍの膜厚で形成する。
（保護層形成工程）
上記の各層が積層されたガラス基板をインライン型スパッタリング装置から取り出し、ＣＶＤ法により保護層としてカーボン膜を３ｎｍの膜厚で形成する。
（潤滑膜形成工程）
この後、ディップ法により、保護層の上に、パーフルオロポリエーテルの潤滑膜を２ｎｍの膜厚で形成する。
【０１７７】
以上の工程を実施することで、ガラス基板上に磁性層等を成膜し、磁気記録媒体とした。
（３）ＨＤＤの組み立て
作製した磁気記録媒体を任意に選択し、８枚１組のグループを１００組作製し、係る８枚の磁気記録媒体のグループ毎にＨＤＤを組み立て、合計１００台のＨＤＤを作製する。
【０１７８】
このようにして得られる１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは０台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは１台となる。すなわち組み立ての成功率は９９％となる。
［実施例２−２］
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
供給基板選定工程において、ガラス基板の厚さが６２８μｍ以上６４４μｍ以下の範囲にあり、かつ最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきが±０．５μｍ以下となるように最終主表面研磨工程の１バッチに供給するグループを１１組選定した。
【０１７９】
以上の点以外は、実施例２−１と同様にしてガラス基板を作製した。
【０１８０】
なお、本実施例では、収納工程で収納容器内に収納した２５枚のガラス基板の板厚の平均値が、６３２μｍの収納容器が６個、６３４μｍの収納容器が９個、６３５μｍの収納容器が１０個、６３７μｍの収納容器が９個、６３９μｍの収納容器が６個となるよう、ガラス基板を収納し、梱包を行っている。このため、複数の収納容器間の、該収納容器が収納する複数枚のガラス基板の厚さの平均値のばらつき幅は、７．０μｍとなっている。
【０１８１】
また、４０個の収納容器に分けて収納した複数枚のガラス基板の板厚のばらつきは１６．０μｍとなっている。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例２−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。
（３）ＨＤＤの組み立て
実施例２−１と同様にして、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤを１００台組み上げる。このようにして得られる１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは０台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは０台となる。すなわち組み立ての成功率は１００％となる。
［実施例２−３］
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
供給基板選定工程において、ガラス基板の厚さが６２４μｍ以上６４８μｍ以下の範囲にあり、かつ最終主表面研磨工程の同一バッチに供給するガラス基板の厚さのばらつきが±１．０μｍ以下となるように最終主表面研磨工程の１バッチに供給するグループを１１組選定した。
【０１８２】
以上の点以外は、実施例２−１と同様にしてガラス基板を作製した。
【０１８３】
なお、本実施例では、収納工程で収納容器内に収納した２５枚のガラス基板の板厚の平均値が、６３２μｍの収納容器が８個、６３４μｍの収納容器が８個、６３６μｍの収納容器が８個、６３８μｍの収納容器が８個、６４０μｍの収納容器が８個となるよう、ガラス基板を収納し、梱包を行っている。このため、複数の収納容器間の、該収納容器が収納する複数枚のガラス基板の厚さの平均値のばらつき幅は、８．０μｍとなっている。
【０１８４】
また、４０個の収納容器に分けて収納した複数枚のガラス基板の板厚のばらつきは２４．０μｍとなっている。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例２−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。
（３）ＨＤＤの組み立て
実施例２−１と同様にして、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤを１００台組み上げる。このようにして得られる１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは２台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは２台となる。すなわち組み立ての成功率は９６％となる。
［実施例２−４］
（１）磁気記録媒体用ガラス基板の製造
一次主表面研磨工程までは実施例２−１と同様にして実施する。そして、一次主表面研磨工程終了後、供給基板選定工程を実施せず、洗浄したガラス基板を、一次主表面研磨工程の各バッチのガラス基板のグループを、そのまま最終主表面研磨工程の同一バッチとなるように１６Ｂ型研磨機に投入し、最終主表面研磨工程を実施する。ただし、一次主表面研磨工程終了後の各バッチを代表するガラス基板の厚さが、６２８μｍ以上６４４μｍ以下の範囲にある研磨バッチのものだけを最終主表面研磨工程に供する。
【０１８５】
最終主表面研磨工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研磨液その他の汚れの除去を行い、さらに、洗浄・乾燥工程、表面検査工程を実施例２−１と同様にして実施する。
【０１８６】
次いで、表面検査工程終了後、収納工程を実施する前に、以下の測定工程、選別工程を実施する。
（測定工程）
測定工程は、表面検査工程終了直後に実施する。測定工程では、表面検査工程を合格したガラス基板全数について、非接触板厚測定装置により厚さを測定する。
（選別工程）
測定工程で測定したガラス基板の厚さに基いて、２５枚入りの各収納容器について、収納した２５枚のガラス基板の板厚の平均値が６３５μｍ±４μｍ以内となる組を４０組作製できるように複数枚のガラス基板の選別を行い、選別した複数枚のガラス基板を収納工程に供する。
（収納工程）
本実施例では、収納する２５枚のガラス基板の板厚の平均値が、６３２μｍの収納容器が７個、６３４μｍの収納容器が８個、６３５μｍの収納容器が９個、６３７μｍの収納容器が９個、６３９μｍの収納容器が７個となるよう、収納容器にガラス基板を収納し、梱包する。従って、各収納容器に収納する複数枚のガラス基板の厚さの平均値について、複数個の収納容器間のばらつき幅は７．０μｍとなっている。
【０１８７】
また、４０個の収納容器に分けて収納した複数枚のガラス基板の板厚のばらつきは１６．０μｍとなるよう、測定工程の情報に基づき、あらかじめ選別工程で選別している。
【０１８８】
作製したガラス基板を収納した収納容器を以下の磁気記録媒体の製造工程に供するために出荷し、磁気記録媒体を作製した。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例２−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。
（３）ＨＤＤの組み立て
実施例２−１と同様にして、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤを１００台組み上げる。このようにして製造した１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは１台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは０台となる。すなわち組み立ての成功率は９９％となる。
［比較例２−１］
一次主表面研磨工程までは実施例２−１と同様にして実施する。そして、一次主表面研磨工程終了後、供給基板選定工程を実施せず、洗浄したガラス基板を、一次主表面研磨工程の各バッチのガラス基板のグループを、そのまま最終主表面研磨工程の同一バッチとなるように１６Ｂ型研磨機に投入し、最終主表面研磨工程を実施する。ただし、一次主表面研磨工程終了後の各バッチを代表するガラス基板の厚さが、６２６μｍ以上６４６μｍ以下の範囲にある研磨バッチのものだけを最終主表面研磨工程に供する。
最終主表面研磨工程終了後、ガラス基板を洗浄し、研磨液その他の汚れの除去を行い、さらに、洗浄・乾燥工程、表面検査工程を実施例２−１と同様にして実施する。
【０１８９】
収納工程においては、表面検査工程を合格したガラス基板を、無作為に２５枚入りの収納容器４０個に分けて収納を行う。
【０１９０】
なお、最終主表面研磨工程終了後に、最終主表面研磨工程における１バッチの中から１枚のガラス基板を選択し、測定した板厚から、各収納容器が収納する複数枚のガラス基板の板厚の平均値の算出をした。その結果、収納容器内に収納した２５枚のガラス基板の板厚の平均値が、６２９μｍの収納容器が４個、６３０μｍの収納容器が５個、６３２μｍの収納容器が５個、６３４μｍの収納容器が５個、６３５μｍの収納容器が６個、６３７μｍの収納容器が５個、６３９μｍの収納容器が４個、６４０μｍが４個、６４１μｍの収納容器が２個となっている。このため、複数の収納容器間の、該収納容器が収納する複数枚のガラス基板の厚さの平均値のばらつき幅は、１２．０μｍとなっている。
【０１９１】
また、４０個の収納容器に分けて収納した複数枚のガラス基板の板厚のばらつきは２０．０μｍとなっている。
【０１９２】
作製したガラス基板を収納した収納容器を以下の磁気記録媒体の製造工程に供するために出荷し、磁気記録媒体を作製する。
（２）磁気記録媒体の製造
上記手順により作製し、収納容器に収納したガラス基板を用いた点以外は実施例２−１と同様にして磁気記録媒体の作製を行う。
（３）ＨＤＤの組み立て
実施例２−１と同様にして、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤを１００台組み上げる。このようにして得られる１００台の、８枚の磁気記録媒体を含むＨＤＤは、８枚の磁気記録媒体とその間に挿入するスペーサーの合計厚みが厚過ぎてＨＤＤに組み込めないものは７台、薄すぎてケースとの間に隙間ができるものは５台となる。すなわち組み立ての成功率は８６％となる。
【符号の説明】
【０１９３】
３１                    複数枚の磁気記録媒体用基板
３２ａ、３２ｂ、３２ｃ  収納容器
【図１】
2017199442.tif 000003
【図２】
2017199442.tif 000004
【図３】
2017199442.tif 000005