(57)【要約】【課題】本発明は、端子ピン保持部のワニス塗布面に塗布したワニスが、塗布面の反対側の裏面に漏れ出ないようにすることである。【解決手段】本発明によるレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法は、輪状ステータ(1)の磁極(2)に巻回されているステータ巻線(3)の端線(3a)のたるみ部(3b)をワニス塗布によって固定する場合、輪状ステータ(1)の外側に突出する端子ピン保持部(6)に形成されたたるみピン用貫通孔(8)に連通するワニストラップ用空間(15)を端子ピン保持部(6)に設け、端子ピン保持部(6)のワニス塗布面(6A)に塗布したワニスの漏れワニスを前記ワニストラップ用空間(15)内に収容する構成と方法である。【選択図】図１
2016201887.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定角度間隔毎に内方に向けて突出する磁極(2)を有する輪状ステータ(1)と、前記輪状ステータ(1)の両端面(1a,1b)に一体又は別体として設けられた輪状絶縁カバー(4)と、前記各磁極(2)に前記輪状絶縁カバー(4)を介して巻回されたステータ巻線(3)と、前記輪状絶縁カバー(4)の一部(4a)を半径方向(A)に向けて突出させて形成された端子ピン保持部(6)と、前記端子保持部(6)に設けられた複数の端子ピン(7)と、前記端子ピン(7)の近傍に設けられ、たるみピン(16)を挿入するためのたるみピン用貫通孔(8)と、を備え、
前記各磁極(2)に巻回された前記ステータ巻線(3)の端線(3a)を、前記たるみピン用貫通孔(8)に設けられたたるみピン(16)を介して前記端子ピン(7)にからげ、前記たるみピン(16)を前記たるみピン用貫通孔(8)から除去した後に前記端線(3a)にワニスを塗布するように構成したレゾルバ用ステータ構造において、
前記端子ピン保持部(6)内には、前記たるみピン用貫通孔(8)に連通すると共に前記各たるみピン(16)の配列方向(B)に沿って形成され、前記端子ピン保持部(6)の第１、第２側部(6a,6b)に開口(15a)を有すると共に壁部(30)によって二分された第１、第２空間(15A,15B)からなるワニストラップ用空間(15)が設けられている構成からなることを特徴とするレゾルバ用ステータ構造。
【請求項２】
前記ワニストラップ用空間(15)は、前記たるみピン用貫通孔(8)の長手方向Ｃの中央に位置していることを特徴とする請求項１記載のレゾルバ用ステータ構造。
【請求項３】
所定角度間隔毎に内方に向けて突出する磁極(2)を有する輪状ステータ(1)と、前記輪状ステータ(1)の両端面(1a,1b)に一体又は別体として設けられた輪状絶縁カバー(4)と、前記各磁極(2)に前記輪状絶縁カバー(4)を介して巻回されたステータ巻線(3)と、前記輪状絶縁カバー(4)の一部(4a)を半径方向(A)に向けて突出させて形成された端子ピン保持部(6)と、前記端子ピン保持部(6)に設けられた複数の端子ピン(7)と、前記端子ピン(7)の近傍に設けられ、たるみピン(16)を挿入するためのたるみピン用貫通孔(8)と、を備え、
前記各磁極(2)に巻回された前記ステータ巻線(3)の端線(3a)を、前記たるみピン用貫通孔(8)に設けられたたるみピン(16)を介して前記端子ピン(7)にからげ、前記たるみピン(16)を前記たるみピン用貫通孔(8)から除去した後に前記端線(3a)にワニスを塗布するように構成したレゾルバ用ステータ構造において、
前記端子ピン保持部(6)内には、前記たるみピン用貫通孔(8)に連通すると共に前記各たるみピン(16)の配列方向(B)に沿って形成され、前記端子ピン保持部(6)の第１、第２側部(6a,6b)に開口(15a)を有すると共に壁部(30)によって二分された第１、第２空間(15A,15B)からなるワニストラップ用空間(15)が設けられ、前記ワニスの一部を前記ワニストラップ用空間(15)に収容することを特徴とするレゾルバ用ステータ構造におけるワニス収容方法。
【請求項４】
前記ワニストラップ用空間(15)は、前記たるみピン用貫通孔(8)の長手方向(C)の中央に位置していることを特徴とする請求項１記載のレゾルバ用ステータ構造におけるワニス収容方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レゾルバ用ステータ構造に関し、特に、たるみ部形成後におけるワニス塗布時に、たるみピン用貫通孔に侵入したワニスが、ワニストラップ用空間に流れ、塗布面の反対側に漏れることのないようにするための新規な改良に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、用いられていたこの種のレゾルバ用ステータ構造としては、代表的な構成として、特許文献１の構成を挙げることができる。
すなわち、図１１及び図１４において、輪状ステータコア１の磁極２には、ステータ巻線３が巻回されている。輪状ステータコア１とステータ巻線３との間には、樹脂で形成された第１及び第２輪状絶縁カバー４,５が介在されている。すなわち、第１及び第２輪状絶縁カバー４,５は、前記輪状ステータコア１の両面で前記輪状ステータコア１と前記ステータ巻線３とを互いに電気的に絶縁している。なお、第１及び第２輪状絶縁カバー４,５は、互いに別体として設けられている場合と、インサート成形により前記輪状ステータコア1と共に一体に設けられている場合とがある。
【０００３】
第１輪状絶縁カバー４,５の一部には、径方向に突出する端子保持部６が設けられている。この端子保持部６には、複数の端子ピン７と複数の弛みピン挿入孔８とが設けられており、前記磁極２に巻回されたステータ巻線３の端線３ａ（図１４参照）が前記端子ビン７に絡げられる。弛みピン挿入孔８は、各端子ピン７と磁極２との間に配置されており、弛みピン９（図１４参照）が挿入される。
【０００４】
図１４に示すように、各端子ピン７と各弛みピン挿入孔８とは、端子保持部６の幅方向に互いにずれて配置されており、前記端線３ａが前記弛みピン９を経由して前記端子ピン７に絡げられることで、端線３ａが直線状にならないようにされている。すなわち、前記端線３ａが前記端子ピン７に絡げられた後に前記弛みピン９が取り外されることで、端線３ａに弛みが形成される。そして、端線３ａに弛みが形成された後にワニスが供給されて、ステータ巻線３及び端線３ａに含浸される。
【０００５】
次に、図１２は図１１の弛みピン挿入孔８を拡大して示す断面図である。図において、弛みピン挿入孔８は、第１孔部１１と第２孔部１２とにより構成されている。ここで、前記端線３ａが端子ピン７に絡げられる側の前記端子保持部６の端面を第１端面６ａと呼び、該第１端面６ａに対向する裏側の端面を第２端面６ｂと呼ぶ。
【０００６】
前記第１孔部１１は、前記第１端面６ａ側に形成されており、前記弛みピン９と同程度の第１内径Ｄ１を有している。すなわち、弛みピン９（図１４参照）は、第１孔部１１に挿入されることで位置決めされる。前記第２孔部１２は、前記第２端面６ｂ側に形成されており、前記第１内径Ｄ１よりも大きい第２内径Ｄ２を有している。すなわち、前記第２孔部１２は、弛みピン挿入孔８内で他の内径よりも内径が大である内径拡張部８ａを有している。前記含浸処理時に弛みピン挿入孔８内に浸入したワニスは、この内径拡張部８ａに溜められる。
【０００７】
また、前記第１孔部１１と前記第２孔部１２との接続部分、すなわち、段差部１５には、前記第１孔部１１の内壁１１ａから前記第１孔部１１の中心軸１１ｂに向かって突出する突出片１３が設けられている。ここで、前述したように、端子保持部６は樹脂で形成されている。すなわち、雄型と雌型との間に樹脂が注入されることで端子保持部６が形成される。前記突出片１３は、段差部１５において雄型と雌型との間に隙間を作ることにより意図的に形成された円環状のバリである。この突出片１３は、弛みピン９（図８参照）の着脱に妨げにならない柔軟性を持ち、かつ、前記第１孔部１１から前記第２孔部１２へのワニスの移動を妨げる強度を持つ厚さに調整される。
【０００８】
このようなレゾルバステータ構造によれば、含浸処理時に弛みピン挿入孔８内に浸入したワニスが内径拡張部８ａに溜まるように構成されているので、第１端面６ａから第２端面６ｂに弛みピン挿入孔８を伝ってワニスが流出することを抑制できる。これにより、第２端面６ｂを伝って輪状ステータコア１にワニスが付着することを抑制でき、製品の信頼性を向上できる。また、不必要なワニスを使用せずに済むと共に、ワニス不足によるワニス含浸不良の発生率を低下でき、生産性を向上できる。
【０００９】
また、突出片１３が設けられているので、第１孔部１１から第２孔部１２へのワニスの移動を抑制でき、より確実にワニスの流出を抑制できる。これにより、ワニスの流出を防ぐために従来行われていた作業を不必要とでき、コストを削減できる。
【００１０】
図１３は、他の形態２によるレゾルバステータ構造の弛みピン挿入孔８を拡大して示す断面図である。なお、実施の形態１と同一又は同等の部分については、同一の符号を用いて説明する。
実施の形態１では、内径拡張部８ａは直線状に形成されていたが、この実施の形態２の内径拡張部８ａは、前記端子保持部６の第２端面６ｂ側へ向けて拡開するテーパ形状に形成されている。
【００１１】
このように、テーパ形状に形成された内径拡張部８ａでも、第２孔部１２にワニスを溜めることができ、より確実にワニス流出を抑制できる。なお、実施の形態２の構成においても、実施の形態１で説明した突出片１３を形成してよい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１２】
【特許文献１】特開２００９−１３１０３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１３】
従来のレゾルバ用ステータ構造は、以上のように構成されていたため、次のような課題が存在していた。
すなわち、前述の従来構成においても、たるみピン挿入孔の下部に形成された内径拡張部によってある程度の漏れワニスを保つことはできるが、ワニス塗布量が多くなり、漏れワニスの量が多くなると、端子ピン保持部の裏側に付着することになっていた。
また、従来構成では、ワニス塗布時にたるみピン挿入孔を通じて、ワニスの塗布面と反対側の裏面に漏れることを予め見込んでおき、漏れ出て硬化したワニス量を目視によって最終的に良品判定を行っていた。
また、塗布するワニス量を管理する手法も用いることがあった。
【００１４】
本発明は、以上のような課題を解決するためになされたもので、特に、たるみ線形成後におけるワニス塗布時に、たるみピン用貫通孔に侵入したワニスが、ワニストラップ用空間に流れ、塗布面の反対側に漏れることのないようにしたレゾルバ用ステータ構造を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明によるレゾルバ用ステータ構造は、所定角度間隔毎に内方に向けて突出する磁極を有する輪状ステータと、前記輪状ステータの両端面に一体又は別体として設けられた輪状絶縁カバーと、前記各磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、前記輪状絶縁カバーの一部を半径方向に向けて突出させて形成された端子ピン保持部と、前記端子保持部に設けられた複数の端子ピンと、前記端子ピンの近傍に設けられ、たるみピンを挿入するためのたるみピン用貫通孔と、を備え、前記各磁極に巻回された前記ステータ巻線の端線を、前記たるみピン用貫通孔に設けられたたるみピンを介して前記端子ピンにからげ、前記たるみピンを前記たるみピン用貫通孔から除去した後に前記端線にワニスを塗布するように構成したレゾルバ用ステータ構造において、前記端子ピン保持部内には、前記たるみピン用貫通孔に連通すると共に前記各たるみピンの配列方向に沿って形成され、前記端子ピン保持部の第１、第２側部に開口を有すると共に壁部によって二分された第１、第２空間からなるワニストラップ用空間が設けられている構成であり、また、前記ワニストラップ用空間は、前記たるみピン用貫通孔の長手方向の中央に位置している構成であり、また、本発明によるレゾルバ用ステータ構造におけるワニス収容方法は、所定角度間隔毎に内方に向けて突出する磁極を有する輪状ステータと、前記輪状ステータの両端面に一体又は別体として設けられた輪状絶縁カバーと、前記各磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、前記輪状絶縁カバーの一部を半径方向に向けて突出させて形成された端子ピン保持部と、前記端子ピン保持部に設けられた複数の端子ピンと、前記端子ピンの近傍に設けられ、たるみピンを挿入するためのたるみピン用貫通孔と、を備え、前記各磁極に巻回された前記ステータ巻線の端線を、前記たるみピン用貫通孔に設けられたたるみピンを介して前記端子ピンにからげ、前記たるみピンを前記たるみピン用貫通孔から除去した後に前記端線にワニスを塗布するように構成したレゾルバ用ステータ構造において、前記端子ピン保持部内には、前記たるみピン用貫通孔に連通すると共に前記各たるみピンの配列方向に沿って形成され、前記端子ピン保持部の第１、第２側部に開口を有すると共に壁部によって二分された第１、第２空間からなるワニストラップ用空間が設けられ、前記ワニスの一部を前記ワニストラップ用空間に収容する方法であり、また、前記ワニストラップ用空間は、前記たるみピン用貫通孔の長手方向の中央に位置している方法である。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によるレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法は、以上のように構成されているため、次のような効果を得ることができる。
すなわち、所定角度間隔毎に内方に向けて突出する磁極を有する輪状ステータと、前記輪状ステータの両端面に一体又は別体として設けられた輪状絶縁カバーと、前記各磁極に前記輪状絶縁カバーを介して巻回されたステータ巻線と、前記輪状絶縁カバーの一部を半径方向に向けて突出させて形成された端子ピン保持部と、前記端子保持部に設けられた複数の端子ピンと、前記端子ピンの近傍に設けられ、たるみピンを挿入するためのたるみピン用貫通孔と、を備え、前記各磁極に巻回された前記ステータ巻線の端線を、前記たるみピン用貫通孔に設けられたたるみピンを介して前記端子ピンにからげ、前記たるみピンを前記たるみピン用貫通孔から除去した後に前記端線にワニスを塗布するように構成したレゾルバ用ステータ構造において、前記端子ピン保持部内には、前記たるみピン用貫通孔に連通すると共に前記各たるみピンの配列方向に沿って形成され、前記端子ピン保持部の第１、第２側部に開口を有すると共に壁部によって二分された第１、第２空間からなるワニストラップ用空間が設けられている構成からなることにより、たるみピン挿入孔に侵入した余分のワニスは、従来よりもさらに大きい各ワニストラップ用空間に収容されるため、ワニス塗布面の反対面へのワニス漏れを防止することができる。
また、前記ワニストラップ用空間は、前記たるみピン用貫通孔の長手方向の中央に位置していることにより、端子ピン保持部内で最も大きい領域に形成することができ、余分な漏れワニスを完全に内部に収容することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明によるレゾルバ用ステータ構造を示す断面図である。
【図２】図１の要部を示す拡大断面図である。
【図３】図１の右側面図である。
【図４】図３の右側面図である。
【図５】図４のＤ−Ｄ線による拡大断面図である。
【図６】図３の要部の拡大平面図である。
【図７】図２のレゾルバのたるみピン用貫通孔が２個の場合を示す斜視図である。
【図８】図７のＥ−Ｅ断面拡大斜視図である。
【図９】図７の要部を示す拡大断面図である。
【図１０】図７の底面図である。
【図１１】従来のレゾルバ用ステータ構造を示す断面図である。
【図１２】図１１の要部の拡大断面図である。
【図１３】図６の他の従来構成を示す断面図である。
【図１４】図１１の拡大平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明によるレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法は、たるみ線形成後におけるワニス塗布時に、たるみピン用貫通孔に侵入したワニスが、ワニストラップ用空間に流れ、塗布面の反対側への漏れワニスの流れを防止することである。
【実施例】
【００１９】
以下、図面と共に本発明によるレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法の好適な実施の形態について説明する。
尚、従来例と同一又は同等部分には、同一符号を付して説明する。
図１及び図２において、符号１で示されるものは、所定角度間隔で内方に突出する複数の磁極２を有する輪状ステータであり、この輪状ステータ１の第１、第２端部１ａ，１ｂには、一体又は別体にて形成された輪状絶縁カバー４が設けられ、前記各磁極２には、前記輪状絶縁カバー４を介してステータ巻線３が巻回されている。
【００２０】
前記輪状絶縁カバー４の一部４ａは、前記輪状ステータ１の半径方向Ａに沿って一体に突出する端子ピン保持部６が形成されており、この端子ピン保持部６には、内側に複数のたるみピン用貫通孔８が一列状に形成され、このたるみピン用貫通孔８の近傍でその外側に複数の端子ピン７が一列状にインサート成形によって設けられている。
【００２１】
前記端子ピン保持部６の第１側部６ａから第２側部６ｂに向けて、かつ、前記各たるみピン用貫通孔８の配列方向Ｂに沿って直線状にワニストラップ用空間１５が形成されている。
前記ワニストラップ用空間１５は、図２及び図３に示されるように、前記各たるみピン用貫通孔８に連通すると共にその両端に開口１５ａを有し壁部３０によって二分され、前記たるみピン用貫通孔８の長手方向Ｃの中央位置に形成されている。前記ワニストラップ用空間１５の前記配列方向Ｂと直交する方向の幅Ｗは、前記たるみピン用貫通孔８の直径より大で、２〜４倍に設定されている。
前記ワニストラップ用空間１５は、図５で示されるように、その水平方向における中央位置でかつ、たるみピン用貫通孔８が形成されていない位置に形成されていることにより、内部が第１、第２空間１５Ａ，１５Ｂに二分されている。すなわち、金型で端子ピン保持部６を成形する時にスライド金型で成形できる。
【００２２】
次に、前述の構成において、レゾルバ用ステータ構造の組立の最終工程においては、各たるみピン用貫通孔８にたるみピン１６を挿入した後、前記各ステータ巻線３の端線３ａを前記たるみピン１６の外周を経由して曲折した状態で各端子ピン７に絡げた後に、各たるみピン１６を各たるみピン用貫通孔８から抜くと、端線３ａにはたるみ部３ｂが形成された状態となる。
【００２３】
前述の状態で、前記端子ピン保持部６のワニス塗布面６Ａ（すなわち、たるみ部３ｂが形成されている面）にワニスを塗布すると、ステータ巻線３のたるみ部３ｂを含む端線３ａがワニスで覆われると共に、ワニスがたるみピン用貫通孔８に侵入するが、この侵入したワニスは、前記ワニストラップ用空間１５の中に入って収容されるため、前記ワニス塗布面６Ａの反対側の裏面６Ｂ側に漏れ出ることは防止される。
【００２４】
尚、本発明によるレゾルバ用ステータ構造及びワニス収容方法の要旨とするところは、以下の通りである。
すなわち、所定角度間隔毎に内方に向けて突出する磁極２を有する輪状ステータ１と、前記輪状ステータ１の両端面１ａ,１ｂに一体又は別体として設けられた輪状絶縁カバー４と、前記各磁極２に前記輪状絶縁カバー４を介して巻回されたステータ巻線３と、前記輪状絶縁カバー４の一部４ａを半径方向Ａに向けて突出させて形成された端子ピン保持部６と、前記端子保持部６に設けられた複数の端子ピン７と、前記端子ピン７の近傍に設けられ、たるみピン１６を挿入するためのたるみピン用貫通孔８と、を備え、前記各磁極２に巻回された前記ステータ巻線３の端線３ａを、前記たるみピン用貫通孔８に設けられたたるみピン１６を介して前記端子ピン７にからげ、前記たるみピン１６を前記たるみピン用貫通孔８から除去した後に前記端線３ａにワニスを塗布するように構成したレゾルバ用ステータ構造において、前記端子ピン保持部６内には、前記たるみピン用貫通孔８に連通すると共に前記各たるみピン１６の配列方向Ｂに沿って形成され、前記端子ピン保持部６の第１、第２側部６ａ,６ｂに開口１５ａを有すると共に壁部３０によって二分された第１、第２空間１５Ａ,１５Ｂからなるワニストラップ用空間１５が設けられている構成からなることを特徴とするレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法であり、また、前記ワニストラップ用空間１５は、前記たるみピン用貫通孔８の長手方向Ｃの中央に位置していることを特徴とするレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法である。
【産業上の利用可能性】
【００２５】
本発明によるレゾルバ用ステータ構造及びそのワニス収容方法は、端子ピン保持部内に設けられた孔状のワニストラップ用空間内に漏れワニスを収容できるため、反対側に漏れワニスが出ることはなく、製品の歩留まりを大幅に向上させることができる。
【符号の説明】
【００２６】
１    輪状ステータ
１ａ，１ｂ    第１、第２端面
１Ａ    ロータ
２    磁極
３    ステータ巻線
３ａ    端線
３ｂ    たるみ部
４    輪状絶縁カバー
４ａ    一部
６    端子ピン保持部
６Ａ    ワニス塗布面
６Ｂ    裏面
７    端子ピン
８    たるみピン用貫通孔
１５    ワニストラップ用空間
１５ａ    開口
１５Ａ，１５Ｂ    第１、第２空間
１６    たるみピン
２０    レゾルバ
３０    壁部
Ａ    半径方向
Ｂ    配列方向
Ｃ    長手方向
【図１】
2016201887.tif 000003
【図２】
2016201887.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2016201887.tif 000011
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
2016201887.tif 000014
【図１３】
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【図１４】
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