(57)【要約】【課題】位置制御においてオーバーシュートを抑制する。【解決手段】実施形態によれば、制御装置は、整形器と、補償器とを含む。整形器は、制御対象の位置制御において、第１の目標値を入力とし、当該制御対象の共振周波数の１つに対応する周期またはそれより短い時間に亘って当該第１の目標値まで略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する。補償器は、制御対象を制御する制御信号を第２の目標値に基づいて補償する。【選択図】図１１
2016201039.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
制御対象の位置制御において、第１の目標値を入力とし、当該制御対象の共振周波数の１つに対応する周期またはそれより短い時間に亘って当該第１の目標値まで略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する整形器と、
前記制御対象を制御する制御信号を前記第２の目標値に基づいて補償する補償器と
を具備する、制御装置。
【請求項２】
前記整形器は、（ａ）前記第２の目標値が第１の速度で略ランプ状に変化して前記第１の目標値に到達するまでに必要な移動時間が前記周期またはそれより短ければ、当該移動時間と同じ長さの時間に亘って当該第１の目標値まで当該第１の速度で略ランプ状に変化する第２の目標値を生成し、（ｂ）前記移動時間が前記周期を超えるならば、当該周期と同じ長さの時間に亘って前記第１の目標値まで前記第１の速度よりも速い第２の速度で略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する、請求項１記載の制御装置。
【請求項３】
前記第１の速度は、前記第２の目標値が当該第１の速度で略ランプ状に変化する場合の前記制御対象のオーバーシュート量に基づいて予め定められている、請求項２記載の制御装置。
【請求項４】
前記補償器は、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達するまでフィードフォワード制御を適用し、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達してから前記フィードフォワード制御に加えてフィードバック制御を適用する、請求項１記載の制御装置。
【請求項５】
前記制御対象は、第１の駆動要素および第２の駆動要素の少なくとも一方からの駆動力に応じて移動する、請求項１記載の制御装置。
【請求項６】
前記補償器は、前記第１の駆動要素に対してフィードフォワード制御を適用し、前記第２の駆動要素に対してフィードバック制御を適用する、請求項５記載の制御装置。
【請求項７】
前記補償器は、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達するまで前記第１の駆動要素に対して前記フィードフォワード制御を適用し、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達してから前記第１の駆動要素に対して前記フィードフォワード制御を適用すると共に前記第２の駆動要素に対して前記フィードバック制御を適用する、請求項６記載の制御装置。
【請求項８】
基板と、
前記基板の第１の面に導体材料を用いてそれぞれパターン形成された複数の共振器と、
誘電体材料、磁性体材料または導体材料をそれぞれ含む複数の特性調整用部材と、
前記複数の特性調整用部材を前記複数の共振器と対向した状態で支持し、当該複数の特性調整用部材を制御信号に基づいて制御する複数のチューナブル機構と
を具備し、
前記制御信号は所望のフィルタ特性に応じて変化し、
前記複数のチューナブル機構は、前記制御信号が変化すると、前記複数の特性調整用部材を共通の方向に個別に移動させる、
チューナブルフィルタ装置。
【請求項９】
冷凍機によって冷却され、前記基板を支持するコールドプレートを更に具備し、
前記コールドプレートは、前記チューナブル機構から熱的に分離されている、
請求項８記載のチューナブルフィルタ装置。
【請求項１０】
前記複数の特性調整用部材の各々の位置制御において、第１の目標値を入力とし、当該特性調整用部材の共振周波数の１つに対応する周期またはそれより短い時間に亘って当該第１の目標値まで略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する整形器と、
前記制御信号を前記第２の目標値に基づいて補償する補償器と
をさらに具備する、請求項８記載のチューナブルフィルタ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
実施形態は、位置制御に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、アクチュエータなどの駆動要素を用いて、様々な対象の位置制御が実現されてきた。例えば、誘電体などの特性調整用部材をフィルタ基板に対して近づけたり遠ざけたりすることで、フィルタ特性を変更可能なチューナブルフィルタ装置が知られている。帯域通過型のチューナブルフィルタ装置は、使用条件の変更に応じて、例えば通過帯域の中心周波数、通過帯域幅などのフィルタ特性を柔軟に調整できる。
【０００３】
通常、制御対象を急激に移動させると、制御対象の位置は目標位置に対してオーバーシュートする。故に、上記チューナブルフィルタ装置では、特性調整用部材をフィルタ基板に対して急激に近づける場合に、当該特性調整用部材がフィルタ基板に衝突してフィルタ基板を損傷させるおそれがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−１４９２０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
実施形態は、位置や角度などを位置決めする位置制御においてオーバーシュートを抑制することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
実施形態によれば、制御装置は、整形器と、補償器とを含む。整形器は、制御対象の位置制御において、第１の目標値を入力とし、当該制御対象の共振周波数の１つに対応する周期またはそれより短い時間に亘って当該第１の目標値まで略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する。補償器は、制御対象を制御する制御信号を第２の目標値に基づいて補償する。
【０００７】
実施形態によれば、チューナブルフィルタ装置は、基板と、複数の共振器と、複数の調整用部材と、複数のチューナブル機構とを含む。複数の共振器は、基板の第１の面に導体材料を用いてそれぞれパターン形成される。複数の特性調整用部材は、誘電体材料、磁性体材料または導体材料をそれぞれ含む。複数のチューナブル機構は、複数の特性調整用部材を複数の共振器と対向した状態で支持し、当該複数の特性調整用部材の位置を制御信号に基づいて制御する。制御信号は所望のフィルタ特性に応じて変化する。複数のチューナブル機構は、制御信号が変化すると、複数の特性調整用部材を共通の方向に個別に移動させる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１の実施形態に係る制御装置を適用可能なチューナブルフィルタ装置を例示する斜視図。
【図２】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化とを例示するグラフ。
【図３】図１のチューナブル機構と第１の実施形態に係る制御装置とを例示するブロック図。
【図４Ａ】図１の圧電素子の駆動法を例示する図。
【図４Ｂ】図１の圧電素子の駆動法を例示する図。
【図４Ｃ】図１の圧電素子の駆動法を例示する図。
【図５Ａ】図４Ｃの駆動法の説明図。
【図５Ｂ】図４Ｃの駆動法の説明図。
【図６】図３の圧電素子に印加される駆動電圧の周波数に対するセンサ信号の周波数特性を例示するボード線図。
【図７】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化とを例示するグラフ。
【図８】ＦＦ−Ｉ−Ｐ制御に加えてノッチフィルタを適用するコントローラを例示するブロック図。
【図９】図８に対応するブロック線図。
【図１０Ａ】目標値の変化を例示するグラフ。
【図１０Ｂ】図１０Ａの目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１０Ｃ】図１０Ａの目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１０Ｄ】図１０Ａの目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１０Ｅ】図１０Ａの目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１０Ｆ】図１０Ａの目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１１】第１の実施形態に係る制御装置に含まれるコントローラを例示するブロック線図。
【図１２】図１１の目標値整形器によって生成される目標値の変化を例示するグラフ。
【図１３】図１１の目標値整形器によって生成される目標値の変化を例示するグラフ。
【図１４】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１５】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１６】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図１７】図１１の目標値整形器によって生成される目標値の変化を例示するグラフ。
【図１８】図１１の目標値整形器の動作を例示するフローチャート。
【図１９】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図２０】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図２１】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図２２】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図２３】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図２４】第２の実施形態に係る制御装置に含まれるコントローラを例示するブロック線図。
【図２５】目標値の変化と、当該目標値が与えられた場合の特性調整用部材の位置の変化を例示するグラフ。
【図２６】第３の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置におけるギャップ長および特性調整用部材の位置の説明図。
【図２７】第３の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置の周波数特性の変化を例示するグラフ。
【図２８】比較例に係るチューナブルフィルタ装置を示す断面図。
【図２９】第４の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置を例示する断面図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、図面を参照しながら実施形態の説明が述べられる。尚、以降、説明済みの要素と同一または類似の要素には同一または類似の符号が付され、重複する説明は基本的に省略される。
【００１０】
（第１の実施形態）  
第１の実施形態に係る制御装置は、例えば図１に例示される帯域通過型のチューナブルフィルタ装置１に適用可能である。チューナブルフィルタ装置１は、コールドプレート２と、超伝導フィルタ基板３と、特性調整用部材４と、チューナブル機構５と、ベース６と、冷凍機７とを含む。
【００１１】
コールドプレート２は、略板状であって、その第１の面上には超伝導フィルタ基板３が配置される。コールドプレート２は、冷凍機７によって冷却される。この結果、コールドプレート２は、超伝導フィルタ基板３を低温状態に維持することができる。ここで、低温とは、後述される超伝導材料が超伝導特性を示す温度以下の温度を意味する。なお、コールドプレート２は、冷却効率を高めるために、ベース６から熱的に分離した状態で冷凍機７により固定されてもよい。
【００１２】
冷凍機７は、ベース６によって支持される。冷凍機７は、超伝導フィルタ基板３を十分に冷却する機能があればよく、例えば、パルスチューブ冷凍機、スターリング冷凍機、ＧＭ（Ｇｉｆｆｏｒｄ−ＭｃＭａｈｏｎ）冷凍機などの種々の冷凍機であってよい。
【００１３】
超伝導フィルタ基板３は、例えば、Ａｌ２Ｏ３（サファイア）、ＭｇＯ、ＬａＡｌＯ３などの誘電正接の小さな低損失材料を用いて略板状に形成される誘電体基板に相当する。超伝導フィルタ基板３の第１の面上には、回路要素（例えば、共振器）が超伝導材料を用いて形成されている。これらの回路要素は、例えばＹ−Ｂａ−Ｃｕ−Ｏ系超伝導材料（以下、ＹＢＣＯと称される）を用いて当該第１の面上に超伝導体膜を形成し、フォトリソグラフィ技術を用いて当該超伝導体膜を加工することでパターン形成することができる。共振器の総数（図１の例では３個）および各共振器の位置は、当該共振器が搭載されるチューナブルフィルタ装置に要求されるフィルタ特性などの種々の条件に依存する。
【００１４】
なお、超伝導材料として、ＹＢＣＯに代えて、例えば、Ｒ−Ｂａ−Ｃｕ−Ｏ系材料（Ｒは、Ｎｂ、Ｙｍ、ＳｍまたはＨｏである）、Ｂｉ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系材料、Ｐｂ−Ｂｉ−Ｓｒ−Ｃａ−Ｃｕ−Ｏ系材料、ＣｕＢａｐＣａｑＣｕｒＯｘ系材料（１．５＜ｐ＜２．５、２．５＜ｑ＜３．５、かつ、３．５＜ｒ＜４．５）などの他の酸化物超伝導材料を採用することが可能であるし、例えばニオブ、ニオブスズなどの金属超伝導材料などを採用することも可能である。また、回路要素の材料としては、必ずしも超伝導材料を採用する必要はなく、他の導体材料を採用することもできる。
【００１５】
特性調整用部材４は、典型的には、アルミナ、サファイアなどの誘電体材料、若しくは磁性体材料を含む。或いは、特性調整用部材４は、金属などの導体材料を含んでもよい。特性調整用部材４は、超伝導フィルタ基板３の第１の面にギャップを隔てて対向するようにチューナブル機構５によって支持されている。具体的には、特性調整用部材４は、超伝導フィルタ基板３の第１の面上に形成された共振器に対向した状態で配置されている。
【００１６】
特性調整用部材４は、典型的には、円柱、角柱などの柱状に形成される。特性調整用部材４は、その底面が超伝導フィルタ基板３の第１の面に対して略平行となるように支持されてもよい。共振器の短手方向の寸法に応じて、特性調整用部材４の底面の寸法が設計されてもよい。ここで、共振器の短手方向および長手方向は、いずれも超伝導フィルタ基板３の第１の面に略平行であるとする。
【００１７】
特性調整用部材４が超伝導フィルタ基板３の第１の面に対して例えば垂直に変位すれば、共振器と当該特性調整用部材４の底面との間のギャップ長は変化する。ギャップ長が増減すると、共振器の共振周波数は変化する。具体的には、ギャップ長が増加すると、チューナブルフィルタ装置１の通過帯域の中心周波数は高くなる。他方、ギャップ長が減少すると、チューナブルフィルタ装置１の通過帯域の中心周波数は低くなる。
【００１８】
なお、複数の共振器が超伝導フィルタ基板３の第１の面上に配置されている場合には、当該共振器と同数の特性調整用部材４およびチューナブル機構５が用意されてもよい。図１の例では、３組の特性調整用部材４およびチューナブル機構５が用意されている。複数の特性調整用部材４の各々は、対応する共振器に対向するようにチューナブル機構５によって支持される。各特性調整用部材４と対応する共振器との間のギャップ長は、個別に調整可能であってもよいし、一括して調整可能であってもよい。
【００１９】
チューナブル機構５は、特性調整用部材４を支持し、図１には示されない制御装置からの制御信号に従って特性調整用部材４を変位させる。特性調整用部材４の目標位置（ｒ）がステップ状に変化したとすれば、当該特性調整用部材４の位置（ｘ）は図２に例示されるようにオーバーシュートすることになる。なお、図２では、制御装置においてフィードバック制御を適用しなかった場合、ならびに、制御装置においてＦＦ（Ｆｅｅｄｆｏｒｗａｒｄ）−Ｉ（Ｉｎｔｅｇｒａｌ）−Ｐ（Ｐｒｏｐｏｒｔｉｏｎａｌ）制御に加えてノッチフィルタを適用した場合のそれぞれについて、特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化が例示されている。
【００２０】
より具体的には、図３に例示されるように、チューナブル機構５は、圧電素子８と、圧電素子９と、レバー１０と、レバー１１と、弾性ヒンジ１２と、弾性ヒンジ１３と、弾性ヒンジ１４と、弾性ヒンジ１５と、弾性ヒンジ１６と、歪センサ１７とを含む。チューナブル機構５は、後述される制御装置１８によって駆動制御される。
【００２１】
圧電素子８および圧電素子９は、略柱状であって、ベース６によって支持される。圧電素子８および圧電素子９の各々の第１の端部はベース６に固定される。圧電素子８の第２の端部は、弾性ヒンジ１２を介してレバー１１の第１の端部の付近に連結される。圧電素子９の第２の端部は、弾性ヒンジ１３を介してレバー１１の第１の端部に連結される。圧電素子８および圧電素子９は、制御装置１８によって印加される駆動電圧２４ａおよび駆動電圧２４ｂにそれぞれ従って伸縮することで、レバー１１に駆動力を与える。
【００２２】
レバー１０の第１の端部には特性調整用部材４が取り付けられ、レバー１０の第２の端部は弾性ヒンジ１４を介してコールドプレート２またはベース６によって支持される。さらに、レバー１０の第１の端部と第２の端部の間にはレバー１１の第２の端部が弾性ヒンジ１５および弾性ヒンジ１６を介して連結される。
【００２３】
レバー１０の第１の端部は、レバー１１から伝達される駆動力に応じて運動する。具体的には、レバー１０の第１の端部は超伝導フィルタ基板３の第１の面に対して略垂直に変位する。そして、レバー１０の第１の端部と共に特性調整用部材４も変位するので、前述のギャップ長が変化する。レバー１１は、圧電素子８および圧電素子９から受けた駆動力をレバー１０に伝達する。
【００２４】
弾性ヒンジ１４の近傍には、当該弾性ヒンジ１４の変形に伴う歪量を検出する歪センサ１７が取り付けられる。特性調整用部材４の位置は、この歪量に基づいて導出可能である。歪センサ１７は、検出した歪量を示すセンサ信号を制御装置１８へと出力する。
【００２５】
圧電素子８および圧電素子９は、様々な態様で駆動することが可能である。  
具体的には、図４Ａに例示されるように、圧電素子８および圧電素子９を共通の方向に駆動することができる（第１の駆動法）。図４Ａの例では、レバー１１の全体が圧電素子８および圧電素子９に連動し、レバー１０の第１の端部はレバー１１に連動する。すなわち、圧電素子８および圧電素子９が伸長すれば、特性調整用部材４は上昇してギャップ長は増加する。他方、圧電素子８および圧電素子９が収縮すれば、特性調整用部材４は降下してギャップ長は減少する。
【００２６】
或いは、図４Ｂに例示されるように、圧電素子８および圧電素子９を互いに反対の方向に駆動することもできる（第２の駆動法）。図４Ｂの例では、圧電素子８および圧電素子９の運動方向に応じてレバー１１は回転運動し、レバー１０の第１の端部はレバー１１の第２の端部に連動する。すなわち、圧電素子８が伸長して圧電素子９が収縮すれば、特性調整用部材４は上昇してギャップ長は増加する。他方、圧電素子８が収縮して圧電素子９が伸長すれば、特性調整用部材４は降下してギャップ長は減少する。
【００２７】
或いは、図４Ｃに例示されるように、圧電素子８および圧電素子９の一方を固定して他方を駆動することもできる（第３の駆動法）。図４Ｃの例では、圧電素子８の運動方向に応じてレバー１１は回転運動し、レバー１０の第１の端部はレバー１１の第２の端部に連動する。すなわち、図５Ａに例示されるように、圧電素子９を固定した状態で圧電素子８が伸長すれば、特性調整用部材４は上昇してギャップ長は増加する。他方、図５Ｂに例示されるように、圧電素子８を固定した状態で圧電素子９が伸長すれば、特性調整用部材４は降下してギャップ長は減少する。
【００２８】
第２の駆動法および第３の駆動法は、てこの原理を利用することで、第１の駆動法に比べて特性調整用部材４の変位を拡大できる点で有利である。また、第３の駆動法は、圧電素子８および圧電素子９の一方を制御する１入力１出力系に相当するので、第２の駆動法に比べてシンプルな制御アルゴリズムを適用できる点で有利である。故に、以降の説明では、第３の駆動法が採用されることとする。
【００２９】
制御装置１８は、歪センサ１７からフィードバックされるセンサ信号に基づいて特性調整用部材４の現在位置を推定し、当該特性調整用部材４が目標位置に近づくように圧電素子８の駆動電圧２４ａおよび圧電素子９の駆動電圧２４ｂを生成する。制御装置１８は、係るフィードバック制御を通じて、特性調整用部材４の位置を目標位置に収束させることができる。  
具体的には、制御装置１８は、信号処理回路１９と、コントローラ２１と、駆動回路２３とを含む。
【００３０】
信号処理回路１９は、歪センサ１７からセンサ信号を受け取る。信号処理回路１９は、所定の信号処理を行うことによって、特性調整用部材４の現在位置を（暗黙的に）示す位置信号２０を生成する。信号処理回路１９は、位置信号２０をコントローラ２１へと出力する。
【００３１】
コントローラ２１は、特性調整用部材４の目標位置を示す目標値２５を受け取り、信号処理回路１９から位置信号２０を受け取る。目標値２５は、例えばオペレータが手動で入力してもよいし、制御プログラムを実行する図示されないプロセッサが入力してもよい。コントローラ２１は、位置信号２０および目標値２５に基づいて、特性調整用部材４の位置を目標位置に近づけるための制御信号を生成する。なお、コントローラ２１は、目標値２５に対して後述される整形処理を施すことで、特性調整用部材４のオーバーシュートを効果的に抑制することができる。コントローラ２１は、制御信号２２を駆動回路２３へと出力する。
【００３２】
駆動回路２３は、コントローラ２１から制御信号２２を受け取る。駆動回路２３は、制御信号２２に応じて駆動電圧２４ａおよび駆動電圧２４ｂをそれぞれ生成し、圧電素子８および圧電素子９にそれぞれ印加する。
【００３３】
圧電素子８を固定して圧電素子９を駆動させる場合に、正弦波信号としての駆動電圧２４ｂの周波数に対して上記センサ信号は図６に例示されるように変化する。なお、前述の通り、センサ信号は、特性調整用部材４の位置に依存する。図６のゲイン特性に出現する各ピークを与える周波数が特性調整用部材４の共振周波数に対応する。これらのピークの最大値を与える周波数（Ｆ）は、以降の説明において特性調整用部材４の主共振周波数と称される。なお、圧電素子９を固定して圧電素子８を駆動させた場合にも、Ｆ［Ｈｚ］の近傍に主共振周波数を観察することができる。
【００３４】
また、ステップ状に変化する目標値２５（ｒ）に基づいて駆動電圧２４ａおよび駆動電圧２４ｂを生成する場合に、特性調整用部材４の位置（ｘ）は図７に例示されるように波打って変化する。なお、図７の例では、圧電素子８を固定して圧電素子９を駆動させている。図７の特性調整用部材４の位置（ｘ）の軌跡が表す波の周期は、上記特性調整用部材４の主共振周波数に対応する周期と概ね等しい長さである。
【００３５】
ところで、図２では、ＦＦ−Ｉ−Ｐ制御に加えてノッチフィルタを適用することで、フィードバック制御を適用しない場合に比べて、特性調整用部材４の位置（ｘ）が短時間で目標位置に収束すること（すなわち、整定時間が短いこと）が観察できる。図８には、ＦＦ−Ｉ−Ｐ制御に加えてノッチフィルタを適用するコントローラ３１が例示されている。なお、このコントローラ３１は、後述される目標値整形器２００を含まない点で本実施形態に係るコントローラ２１とは異なる。  
コントローラ３１は、減算器２１０と、ノッチフィルタ２２０と、ＦＦ−Ｉ−Ｐ補償器２３０とを含む。
【００３６】
減算器２１０は、目標値２５（ｒ）から現在位置（ｘ）の推定値を減算することによって残差信号を得る。現在位置（ｘ）の推定値は、例えば、信号処理回路１９から出力された位置信号２０をアナログ−ディジタル（ＡＤ）変換し、所定の変換利得（Ｋｐｍ）を乗じることによって導出されてもよい。
【００３７】
ノッチフィルタ２２０は、残差信号に含まれる不要な周波数成分を抑圧することでフィルタ処理された残差信号を得る。例えば、ノッチフィルタ２２０は、前述の主共振周波数付近の周波数成分を抑圧してもよい。係るフィルタ処理によれば、制御信号２２は特性調整用部材４の共振による影響を受けにくくなるので、整定時間を短縮することが可能となる。
【００３８】
ＦＦ−Ｉ−Ｐ補償器２３０は、目標値２５（ｒ）とフィルタ処理された残差信号とに基づいて、圧電素子８および圧電素子９の操作量（ｕ）を決定する。制御信号２２は、例えば、この操作量（ｕ）に所定の変換利得（Ｋｐｖ）を乗じ、ディジタル−アナログ（ＡＤ）変換することによって生成されてもよい。
【００３９】
コントローラ３１のブロック線図が図９に例示されている。上記操作量（ｕ）は、ＦＦ項、Ｉ項およびＰ項の和に相当する。ＦＦ項は、目標値２５（ｒ）そのものに相当する。圧電素子８および圧電素子９は、モータとは異なり、印加電圧が０になると元の形に戻って特性調整用部材４が動いてしまうので、ＦＦ項によって係る戻りを補償する必要がある。また、Ｉ項は、フィルタ処理された残差信号に所定の係数（Ｋｉ）を乗算した値であって、定常偏差を抑制する役割がある。この定常偏差は、Ｋｐｖの誤差，ボード線図の計測誤差，特性調整用部材４の位置制御中に、操作量（ｕ）から当該特性調整用部材４の位置（ｘ）への伝達関数が変化することなどにより生じる。−Ｐ項は、現在位置（ｘ）の推定値に所定の係数（Ｋｐ）を乗算した値であって、外乱を抑制する役割がある。
【００４０】
図９のプラント２４０（Ｐ）は、駆動回路２３と、圧電素子８および圧電素子９のうち駆動対象となる一方と、歪センサ１７と、信号処理回路１９とをまとめたものであって、操作量（ｕ）から当該特性調整用部材４の位置（ｘ）への伝達関数に相当する。伝達関数は、例えば図６のボード線図を分析することで導出することができる。
【００４１】
なお、ノッチフィルタ２２０を除去したり、ＦＦ−Ｉ−Ｐ補償器２３０のうち一部の制御項に対応する要素を除去したりすることも可能である。具体的には、図１０Ａに示される目標値２５（ｒ）が与えられた場合に、特性調整用部材４の位置（ｘ）は図１０Ｂ、図１０Ｃ、図１０Ｄ、図１０Ｅおよび図１０Ｆに例示されるように変化する。
【００４２】
図１０Ｂは、フィードバック制御およびノッチフィルタが適用されない場合の特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化を例示する。図１０Ｃは、ＦＦ−Ｉ−Ｐ制御およびノッチフィルタが適用される（すなわち、図８および図９のコントローラ３１が採用される）場合の特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化を例示する。図１０Ｄは、ＦＦ−Ｉ−Ｐ制御が適用されるもののノッチフィルタが適用されない場合の特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化を例示する。
【００４３】
図１０Ｅは、ＦＦ−Ｉ制御が適用される（すなわち、−Ｐ制御は適用されない）もののノッチフィルタが適用されない場合の特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化を例示する。図１０Ｆは、ＦＦ−Ｉ制御およびノッチフィルタが適用される場合の特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化を例示する。図１０Ｅおよび図１０Ｆの例では、図１０Ｃおよび図１０Ｄの例に比べると、整定時間は長く定常的な振動が残留する。
【００４４】
図１０Ｃの例では、他の例に比べて整定時間は短いものの、ある程度のオーバーシュートは避けられない。対照的に、本実施形態に係る制御装置１８に含まれるコントローラ２１は、目標値２５（ｒ）に対して整形処理を施すことにより、特性調整用部材４のオーバーシュートを効果的に抑制する。
【００４５】
具体的には、このコントローラ２１は、図１１に例示されるように、目標値整形器２００と、減算器２１０と、ノッチフィルタ２２０と、ＦＦ−Ｉ−Ｐ補償器２３０とを含む。なお、図１１の減算器２１０は、目標値２５（ｒ）の代わりに目標値２６（ｒｓ）を入力する点で図８および図９の減算器２１０とは異なる。
【００４６】
目標値整形器２００は、入力された目標値２５（ｒ）を整形し、目標値２６（ｒｓ）を生成する。具体的には、目標値２６（ｒｓ）は、図１２に例示されるように、目標値２５（ｒ）まで略ランプ状に変化する。故に、目標値２６（ｒｓ）は略一定の速度で目標値２５（ｒ）まで増減するので、特性調整用部材４のオーバーシュートは抑制される。なお、目標値２６（ｒｓ）は、必ずしも一定の速度で（すなわち、固定の傾きで）変化しなくてもよく、例えばＳ字加減速制御されてもよい。
【００４７】
目標値２６（ｒｓ）の変化速度が小さければ、図１６に例示されるように、オーバーシュートの抑制効果は大きいが、当該目標値２６（ｒｓ）が目標値２５（ｒ）に到達するまでに必要な時間が長くなるので整定時間は長期化する。他方、目標値２６（ｒｓ）の変化速度が大きければ、図１５に例示されるように、整定時間への悪影響は小さくなるが、オーバーシュートの抑制効果も小さくなる。
【００４８】
故に、目標値整形器２００は、目標値２６（ｒｓ）が現在値（これは、典型的には、変更前の目標値２５（ｒ）に等しい）から規定速度（等速度）で略ランプ状に変化して目標値２５（ｒ）に到達するまでに必要な移動時間（ｔｓ）に基づいて、目標値２６（ｒｓ）を当該規定速度または規定時間（等時間）で変化させる。
【００４９】
具体的には、制御対象としての特性調整用部材４の共振周波数の１つである主共振周波数（Ｆ）に対応する周期（Ｔ）（これは、Ｆの逆数に等しい）を閾値として利用する。図１４に例示されるように、目標値２６（ｒｓ）を周期（Ｔ）またはそれより短い時間に亘って目標値２５（ｒ）まで略ランプ状に変化させることで、オーバーシュートを抑制しつつ整定時間への悪影響を低減することができる。
【００５０】
なお、コントローラ２１が目標値２６（ｒｓ）を離散的に変化させるとき、規定時間が周期（Ｔ）より端数分増減してもよい。また、Ｉゲインが小さい場合などにおいて、周期（Ｔ）で目標値２６（ｒｓ）を変化させた場合に特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化が目標値２６（ｒｓ）より遅くなることがある。この場合、特性調整用部材４の位置（ｘ）の変化が目標値２６（ｒｓ）に近付くように、規定時間を周期（Ｔ）より短くしてよい。
【００５１】
例えば、上記移動時間（ｔｓ）が閾値（Ｔ）またはそれより短いならば、目標値整形器２００は目標値２６（ｒｓ）を規定速度で変化させる。他方、移動時間（ｔｓ）が閾値（Ｔ）よりも大きければ、目標値整形器２００は目標値２６（ｒｓ）を規定時間（これは、閾値（Ｔ）に等しい）で変化させる。
【００５２】
なお、規定速度は、制御対象としての特性調整用部材４のオーバーシュート量に基づいて定めることができる。例えば、目標値２６（ｒｓ）が規定速度で略ランプ状に変化する場合のオーバーシュート量が所定の許容範囲（例えば、特性調整用部材４が超伝導フィルタ基板３に衝突しない範囲）に収まるように、当該規定速度は設計されてよい。また、オーバーシュート量が所定の許容範囲内に収まる速度を設計出来なかった場合は、規定速度を設定せず、常に規定時間で移動してもよい。
【００５３】
目標値２６（ｒｓ）が規定時間で変化した場合の特性調整用部材４の位置の変化が図２１に例示される。同様に、目標値２６（ｒｓ）が規定速度で変化した場合の特性調整用部材４の位置の変化が図２２に例示される。さらに、比較のために、目標値２５（ｒ）の整形を省略した場合の特性調整用部材４の位置の変化が図２０に例示される。
【００５４】
図２０、図２１および図２２から、目標値２６（ｒｓ）を規定速度または規定時間で変化させることにより、オーバーシュート量が効果的に抑制されることが観察できる。なお、係る効果は、ＦＦ−Ｉ−Ｐ制御およびノッチフィルタを適用した場合に限られずフィードバック制御を適用しなかった場合であっても観察することができる。
【００５５】
概括すれば、目標値整形器２００は、図１８に例示されるように動作する。目標値整形器２００は、新たな目標値２５（ｒ）が与えられると、目標値２６（ｒｓ）が現在値から規定速度で略ランプ状に変化して当該目標値２５（ｒ）に到達するまでに必要な移動時間（ｔｓ）を計算する（ステップＳ３０１）。
【００５６】
目標値整形器２００は、ステップＳ３０１において計算した移動時間（ｔｓ）を、特性調整用部材４の主共振周波数（Ｆ）に対応する周期（Ｔ）と比較する（ステップＳ３０２）。ｔｓがＴよりも大きければ処理はステップＳ３０３へと進み、そうでなければ処理はステップＳ３０４へと進む。
【００５７】
ステップＳ３０３において、目標値整形器２００は、目標値２６（ｒｓ）を目標値２５（ｒ）まで規定時間で略ランプ状に変化させる。なお、図１７に例示されるように、ステップＳ３０３では、目標値２６（ｒｓ）の変化速度は、当該目標値２６（ｒｓ）と目標値２５（ｒ）との間の差分に依存するので一様ではないが、当該差分に関わらず上記規定速度よりも速い。
【００５８】
他方、ステップＳ３０４において、目標値整形器２００は、目標値２６（ｒｓ）を目標値２５（ｒ）まで規定速度で略ランプ状に変化させる。なお、図１３に例示されるように、目標値２６（ｒｓ）が目標値２５（ｒ）に到達するまでに必要な時間は、当該目標値２６（ｒｓ）と目標値２５（ｒ）との間の差分に依存するので一様でないが、当該差分に関わらず上記周期（Ｔ）またはそれより短い。
【００５９】
従って、図１９に例示されるように、目標値２６（ｒｓ）は、特性調整用部材４の主共振周波数（Ｆ）に対応する周期（Ｔ）またはそれより短い時間で目標値２５（ｒ）に到達することができる。
【００６０】
以上説明したように、第１の実施形態に係る制御装置は、制御対象の目標位置を示す（第１の）目標値を整形することによって、当該制御対象の共振周波数の１つに対応する周期またはそれより短い時間に亘って当該第１の目標値まで略ランプ状に変化する（第２の）目標値を生成する。故に、この制御装置によれば、位置制御において、整定時間に対する悪影響を低減させながらオーバーシュートを抑制することができる。
【００６１】
なお、本実施形態に係る制御装置は、フィードフォワード制御とフィードバック制御（具体的には、Ｉ制御および−Ｐ制御（若しくは、Ｉ制御））との両方を必ずしも常に適用しなくてもよい。具体的には、制御装置は、目標値２６（ｒｓ）が目標値２５（ｒ）に到達するまでフィードフォワード制御を単独で適用し、目標値２６（ｒｓ）が目標値２５（ｒ）に到達してからフィードフォワード制御に加えてフィードバック制御を適用してもよい。
【００６２】
図２３の上側のグラフのうち、実線（細線）は目標値２６（ｒｓ）の変化を表しており、太線は目標値２５（ｒ）の変化を表している。他方、図２３の下側のグラフのうち、一点鎖線はフィードフォワード制御およびフィードバック制御を前述のように選択的に適用した場合の特性調整用部材４の位置の変化を表し、実線はフィードバック制御を適用しない場合の特性調整用部材４の位置の変化を表し、太線は目標値２５（ｒ）の整形を省略した場合の特性調整用部材４の位置の変化を表す。
【００６３】
また、本実施形態に係る制御装置は、特性調整用部材４に限らず種々の対象の位置制御に適用可能である。但し、制御対象は、その共振周波数が目標値に依存しないことが要求される。また、位置制御の目標値は、位置に限られず、角度でもよい。
【００６４】
（第２の実施形態）  
前述の第１の実施形態に係る制御装置は、１つの駆動要素（例えば、圧電素子）に対してフィードフォワード制御およびフィードバック制御の両方を適用する。他方、第２の実施形態に係る制御装置は、第１の駆動要素に対してフィードフォワード制御を適用し、第２の駆動要素に対してフィードバック制御を適用する。
【００６５】
第２の実施形態に係る制御装置に含まれるコントローラ２１は、図２４に例示されるように、目標値整形器２００と、減算器２１０と、ノッチフィルタ２２０と、Ｉ−Ｐ補償器４３０とを含む。
【００６６】
図２４の目標値整形器２００は、目標値２６（ｒｓ）を第１の駆動要素（例えば、圧電素子８）の第１の操作量（ｕ１）として出力する点で図１１の目標値整形器とは異なる。第１の駆動要素は、フィードフォワード制御の対象である。
【００６７】
図２４のノッチフィルタ２２０は、フィルタ処理された残差信号をＦＦ−Ｉ−Ｐ補償器２３０の代わりにＩ−Ｐ補償器４３０へと出力する点で図１１のノッチフィルタ２２０とは異なる。
【００６８】
Ｉ−Ｐ補償器４３０は、フィルタ処理された残差信号に基づいて、第２の駆動要素（例えば、圧電素子９）の第２の操作量（ｕ２）を決定する。第２の駆動要素は、フィードバック制御の対象である。
【００６９】
プラント４４１（Ｐ１）は、駆動回路２３と、第１の駆動要素と、歪センサ１７と、信号処理回路１９とをまとめたものであって、第１の操作量（ｕ１＝ｒｓ）から当該特性調整用部材４の位置（ｘ）への伝達関数に相当する。
【００７０】
プラント４４２（Ｐ２）は、駆動回路２３と、第２の駆動要素と、歪センサ１７と、信号処理回路１９とをまとめたものであって、第２の操作量（ｕ２）から当該特性調整用部材４の位置（ｘ）への伝達関数に相当する。
【００７１】
特性調整用部材４の位置を目標位置に収束させるためには、駆動力（すなわち、フィードフォワード制御）および制振力（フィードバック制御）の両方が必要となる。１つの駆動要素に対してフィードフォワード制御およびフィードバック制御の両方を適用すると、十分な大きさの駆動電圧２４ａまたは駆動電圧２４ｂを生成するために大出力の増幅器が駆動回路２３に必要となる。他方、フィードフォワード制御およびフィードバック制御をそれぞれ別個の駆動要素に適用すれば、駆動電圧２４ａまたは駆動電圧２４ｂの最大値を抑制することができる。
【００７２】
なお、圧電素子８および圧電素子９は、印加電圧の増加により伸長することが可能であるが、印加電圧が０の状態に比べて収縮することはできない。故に、第１の操作量（ｕ１）または第２の操作量（ｕ２）が負値の場合に、圧電素子８または圧電素子９が適切に動作できないおそれがある。故に、位置制御の開始時に、図４Ａに例示されるように、圧電素子８および圧電素子９に適当な電圧を印加し、これらを例えば変形可能な範囲の中心付近までオフセットさせ、これらがオフセットした状態での特性調整用部材４の位置を変位０に設定してもよい。
【００７３】
また、コントローラ２１は、目標値２６（ｒｓ）が目標値２５（ｒ）に到達するまで第１の駆動要素に対してフィードフォワード制御を適用し、目標値２６（ｒｓ）が目標値２５（ｒ）に到達してから第１の駆動要素に対してフィードフォワード制御を適用すると共に第２の駆動要素に対してフィードバック制御を適用してもよい。このようにフィードフォワード制御およびフィードバック制御を選択的に適用することで、図２５に例示されるようにオーバーシュートを効果的に抑制することができる。
【００７４】
以上説明したように、第２の実施形態に係る制御装置は、第１の駆動要素に対してフィードフォワード制御を適用し、第２の駆動要素に対してフィードバック制御を適用する。従って、この制御装置によれば、第１の駆動要素および第２の駆動要素のための駆動電圧の最大値を抑制することで、係る駆動電圧を生成するための増幅器の要求性能を緩和することができる。
【００７５】
（第３の実施形態）  
第３の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置は、例えば前述の第１の実施形態または第２の実施形態に係る制御装置を用いて、特性調整用部材の位置を制御することができる。  
具体的には、このチューナブルフィルタ装置は、帯域通過型フィルタに相当し、通過帯域内の信号の位相を３６０度に亘って変更できるように、４つ以上の特性調整用部材４（＃１〜＃４）を含んでいるものとする。そして、チューナブルフィルタ装置は、図２６に例示されるように、各特性調整用部材４（＃１）〜４（＃４）の位置（具体的には、初期位置からの変位ｄ１〜ｄ４）を個別に制御することで、当該特性調整用部材４（＃１）〜４（＃４）と超伝導フィルタ基板３の第１の面上に形成された各共振器との間のギャップ長Ｇ１〜Ｇ４を調整する。この結果、チューナブルフィルタ装置は、所望のフィルタ特性（例えば、通過帯域の中心周波数）を達成することができる。
【００７６】
目標値２５（ｒ）は、所望のフィルタ特性ｆｍに対応する変位ｄｎの組み合わせ（ｄ１，ｍ，ｄ２，ｍ，ｄ３，ｍ，ｄ４，ｍ）に相当し、例えば以下に示されるルックアップテーブルを用いて導出することができる。ここで、ｎは１以上４以下の整数である。
【００７７】
【表１】
2016201039.tif 000003
【００７８】
なお、変位ｄ１，ｍ、ｄ２，ｍ、ｄ３，ｍおよびｄ４，ｍは、理想的には一致するが、実際には必ずしも一致しない。これらが相違する要因として、例えば、特性調整用部材４（＃１）〜４（＃４）の設置位置の誤差、各特性調整用部材４（＃１）〜４（＃４）に対応する歪センサ１７によって検出された歪量を変位ｄｎ，ｍへと変換する際の変換誤差などが挙げられる。
【００７９】
また、仮にｆ１＜ｆ２＜ｆ３であるならば、ｄｎ，１＞ｄｎ，２＞ｄｎ，３が成立する。さらに、所望のフィルタ特性をｆｍ１からｆｍ２へと変更する場合の特性調整用部材４の移動量（ｄｎ，ｍ２−ｄｎ，ｍ１）は、必ずしも一致しない。故に、所望のフィルタ特性が変更される（すなわち、制御信号２２が変化する）と、図２７に例示されるように、特性調整用部材４（＃１）〜４（＃４）は、共通の方向に個別に移動することになる。なお、図２７では、特性調整用部材４（＃１）〜４（＃４）が一斉に移動を開始しているが、これらの移動開始タイミングを一致させる必要はない。
【００８０】
以上説明したように、第３の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置は、所望のフィルタ特性に応じて、複数の特性調整用部材を共通の方向に個別に移動させる。従って、このチューナブルフィルタ装置によれば、例えば、特性調整用部材の設置位置の誤差、特性調整用部材から検出された歪量を変位へと変換する際の変換誤差などの要因に関わらず、所望のフィルタ特性を達成することができる。
【００８１】
（第４の実施形態）  
第４の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置は、コールドプレートがチューナブル機構から熱的に分離されている点で、前述の第３の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置とは異なる。
【００８２】
第４の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置は、図２９に例示されるように、コールドプレート２と、超伝導フィルタ基板３と、特性調整用部材４と、ベース６と、冷凍機７と、圧電素子８と、圧電素子９と、レバー１０と、レバー１１と、弾性ヒンジ１２と、弾性ヒンジ１３と、弾性ヒンジ１４と、弾性ヒンジ１５と、弾性ヒンジ１６と、歪センサ１７とを含む。なお、圧電素子８、圧電素子９、レバー１０、レバー１１、弾性ヒンジ１２、弾性ヒンジ１３、弾性ヒンジ１４、弾性ヒンジ１５、弾性ヒンジ１６および歪センサ１７は、前述のチューナブル機構５に相当する。
【００８３】
図２９のレバー１０は、その第２の端部が弾性ヒンジ１４を介してベース６によって支持される点で図３および図２８のレバー１０とは異なる。図２９のレバー１０は、コールドプレート２に接触しないので、チューナブル機構５において発生した熱はコールドプレート２に伝導しない。故に、超伝導フィルタ基板３は低温状態に維持される。
【００８４】
以上説明したように、第４の実施形態に係るチューナブルフィルタ装置は、コールドプレートをチューナブル機構から熱的に分離する。故に、このチューナブルフィルタ装置によれば、超伝導フィルタ基板を低温状態に維持しやすいので、良好なフィルタ特性を達成することができる。
【００８５】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【００８６】
（付記）  
以下に、本願の第１の実施形態乃至第４の実施形態の組み合わせに係るチューナブルフィルタ装置の発明が付記される。
【００８７】
［１］基板と、前記基板の第１の面に導体材料を用いてそれぞれパターン形成された複数の共振器と、誘電体材料、磁性体材料または導体材料をそれぞれ含む複数の特性調整用部材と、前記複数の特性調整用部材を前記複数の共振器と対向した状態で支持し、当該複数の特性調整用部材を制御信号に基づいて制御する複数のチューナブル機構と、前記複数の特性調整用部材の各々の位置制御において、第１の目標値を入力とし、当該特性調整用部材の共振周波数の１つに対応する周期またはそれより短い時間に亘って当該第１の目標値まで略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する整形器と、前記制御信号を前記第２の目標値に基づいて補償する補償器とを具備し、前記制御信号は所望のフィルタ特性に応じて変化し、前記複数のチューナブル機構は、前記制御信号が変化すると、前記複数の特性調整用部材を共通の方向に個別に移動させる、チューナブルフィルタ装置。
【００８８】
［２］前記整形器は、（ａ）前記第２の目標値が第１の速度で略ランプ状に変化して前記第１の目標値に到達するまでに必要な移動時間が前記周期またはそれより短ければ、当該移動時間と同じ長さの時間に亘って当該第１の目標値まで当該第１の速度で略ランプ状に変化する第２の目標値を生成し、（ｂ）前記移動時間が前記周期を超えるならば、当該周期と同じ長さの時間に亘って前記第１の目標値まで前記第１の速度よりも速い第２の速度で略ランプ状に変化する第２の目標値を生成する、［１］記載のチューナブルフィルタ装置。
【００８９】
［３］前記第１の速度は、前記第２の目標値が当該第１の速度で略ランプ状に変化する場合の前記特性調整用部材のオーバーシュート量に基づいて予め定められている、［２］記載のチューナブルフィルタ装置。
【００９０】
［４］前記補償器は、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達するまでフィードフォワード制御を適用し、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達してから前記フィードフォワード制御に加えてフィードバック制御を適用する、［１］記載のチューナブルフィルタ装置。
【００９１】
［５］前記特性調整用部材は、第１の駆動要素および第２の駆動要素の少なくとも一方からの駆動力に応じて移動する、［１］記載のチューナブルフィルタ装置。
【００９２】
［６］前記補償器は、前記第１の駆動要素に対してフィードフォワード制御を適用し、前記第２の駆動要素に対してフィードバック制御を適用する、［５］記載のチューナブルフィルタ装置。
【００９３】
［７］前記補償器は、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達するまで前記第１の駆動要素に対して前記フィードフォワード制御を適用し、前記第２の目標値が前記第１の目標値に到達してから前記第１の駆動要素に対して前記フィードフォワード制御を適用すると共に前記第２の駆動要素に対して前記フィードバック制御を適用する、［６］記載のチューナブルフィルタ装置。
【符号の説明】
【００９４】
１・・・チューナブルフィルタ装置
２・・・コールドプレート
３・・・超伝導フィルタ基板
４・・・特性調整用部材
５・・・チューナブル機構
６・・・ベース
７・・・冷凍機
８，９・・・圧電素子
１０，１１・・・レバー
１２，１３，１４，１５，１６・・・弾性ヒンジ
１７・・・歪センサ
１８・・・制御装置
１９・・・信号処理回路
２０・・・位置信号
２１，３１・・・コントローラ
２２・・・制御信号
２３・・・駆動回路
２４ａ，２４ｂ・・・駆動電圧
２５，２６・・・目標値
２００・・・目標値整形器
２１０・・・減算器
２２０・・・ノッチフィルタ
２３０・・・ＦＦ−Ｉ−Ｐ補償器
２４０，４４１，４４２・・・プラント
４３０・・・Ｉ−Ｐ補償器
【図１】
2016201039.tif 000004
【図２】
2016201039.tif 000005
【図３】
2016201039.tif 000006
【図４Ａ】
2016201039.tif 000007
【図４Ｂ】
2016201039.tif 000008
【図４Ｃ】
2016201039.tif 000009
【図５Ａ】
2016201039.tif 000010
【図５Ｂ】
2016201039.tif 000011
【図６】
2016201039.tif 000012
【図７】
2016201039.tif 000013
【図８】
2016201039.tif 000014
【図９】
2016201039.tif 000015
【図１０Ａ】
2016201039.tif 000016
【図１０Ｂ】
2016201039.tif 000017
【図１０Ｃ】
2016201039.tif 000018
【図１０Ｄ】
2016201039.tif 000019
【図１０Ｅ】
2016201039.tif 000020
【図１０Ｆ】
2016201039.tif 000021
【図１１】
2016201039.tif 000022
【図１２】
2016201039.tif 000023
【図１３】
2016201039.tif 000024
【図１４】
2016201039.tif 000025
【図１５】
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【図１６】
2016201039.tif 000027
【図１７】
2016201039.tif 000028
【図１８】
2016201039.tif 000029
【図１９】
2016201039.tif 000030
【図２０】
2016201039.tif 000031
【図２１】
2016201039.tif 000032
【図２２】
2016201039.tif 000033
【図２３】
2016201039.tif 000034
【図２４】
2016201039.tif 000035
【図２５】
2016201039.tif 000036
【図２６】
2016201039.tif 000037
【図２７】
2016201039.tif 000038
【図２８】
2016201039.tif 000039
【図２９】
2016201039.tif 000040