(57)【要約】【課題】優れた接着信頼性を有する画像表示用装置を得ることが可能な積層体の製造方法を提供する。【解決手段】画像表示部材と、段差部１２４を有する光透過性カバー部材１２０と、画像表示部材及び光透過性カバー部材１２０の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える画像表示用装置を得るための積層体１５０ａの製造方法であって、光硬化性樹脂組成物を用いて、光透過性カバー部材１２０に接する光透過層１３０ａを形成する工程と、光透過層１３０ａに基材１６０ａが接するように基材１６０ａを光透過層１３０ａに積層する基材積層工程と、を備え、前記基材積層工程後の光透過層１３０ａが、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である、積層体１５０ａの製造方法。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
画像表示部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記画像表示部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える画像表示用装置を得るための積層体の製造方法であって、
光硬化性樹脂組成物を用いて、前記画像表示部材又は前記光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する工程と、
前記光透過層に基材が接するように当該基材を前記光透過層に積層する基材積層工程と、を備え、
前記基材積層工程後の前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である、積層体の製造方法。
【請求項２】
前記基材積層工程の後に、前記光透過層を硬化させる硬化工程を更に備える、請求項１に記載の積層体の製造方法。
【請求項３】
前記基材積層工程の前に、前記光透過層を硬化させる硬化工程を更に備える、請求項１又は２に記載の積層体の製造方法。
【請求項４】
前記硬化工程において、活性エネルギー線を照射して前記光透過層を硬化させる、請求項２又は３に記載の積層体の製造方法。
【請求項５】
前記画像表示部材が偏光板、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル又は視差バリアパネルである、請求項１〜４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項６】
前記光硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリル酸系重合体、及び、（メタ）アクリロイル基を有する重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、光重合開始剤と、（メタ）アクリロイル基を有する単量体と、を含有する、請求項１〜５のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項７】
前記光硬化性樹脂組成物の２５℃における粘度が５．０×１０２〜５．０×１０４ｍＰａ・ｓである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項８】
入力部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記入力部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える入力装置を得るための積層体の製造方法であって、
光硬化性樹脂組成物を用いて、前記入力部材又は前記光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する工程と、
前記光透過層に基材が接するように当該基材を前記光透過層に積層する基材積層工程と、を備え、
前記基材積層工程後の前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である、積層体の製造方法。
【請求項９】
前記基材積層工程の後に、前記光透過層を硬化させる硬化工程を更に備える、請求項８に記載の積層体の製造方法。
【請求項１０】
前記基材積層工程の前に、前記光透過層を硬化させる硬化工程を更に備える、請求項８又は９に記載の積層体の製造方法。
【請求項１１】
前記硬化工程において、活性エネルギー線を照射して前記光透過層を硬化させる、請求項９又は１０に記載の積層体の製造方法。
【請求項１２】
前記入力部材がタッチパネル、光センサ、ＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤセンサである、請求項８〜１１のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１３】
前記光硬化性樹脂組成物が、（メタ）アクリル酸系重合体、及び、（メタ）アクリロイル基を有する重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、光重合開始剤と、（メタ）アクリロイル基を有する単量体と、を含有する、請求項８〜１２のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１４】
前記光硬化性樹脂組成物の２５℃における粘度が５．０×１０２〜５．０×１０４ｍＰａ・ｓである、請求項８〜１３のいずれか一項に記載の積層体の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の積層体の製造方法により積層体を得る工程と、
前記積層体から前記基材を剥離する剥離工程と、
前記剥離工程の後に、前記段差部及び前記光透過層が前記画像表示部材と前記光透過性カバー部材との間に介在するように前記画像表示部材と前記光透過性カバー部材とを貼り合わせる工程と、を備える、画像表示用装置の製造方法。
【請求項１６】
請求項８〜１４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法により積層体を得る工程と、
前記積層体から前記基材を剥離する剥離工程と、
前記剥離工程の後に、前記段差部及び前記光透過層が前記入力部材と前記光透過性カバー部材との間に介在するように前記入力部材と前記光透過性カバー部材とを貼り合わせる工程と、を備える、入力装置の製造方法。
【請求項１７】
画像表示部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記画像表示部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える画像表示用装置を得るための積層体であって、
前記画像表示部材及び前記光透過性カバー部材のうちの一方の部材と、当該一方の部材に接する光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備え、
前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である、積層体。
【請求項１８】
前記画像表示部材が偏光板、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル又は視差バリアパネルである、請求項１７に記載の積層体。
【請求項１９】
入力部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記入力部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える入力装置を得るための積層体であって、
前記入力部材及び前記光透過性カバー部材のうちの一方の部材と、当該一方の部材に接する光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備え、
前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である、積層体。
【請求項２０】
前記入力部材がタッチパネル、光センサ、ＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤセンサである、請求項１９に記載の積層体。
【請求項２１】
請求項１〜１４のいずれか一項に記載の積層体の製造方法により得られた、積層体。
【請求項２２】
請求項１５に記載の画像表示用装置の製造方法により得られた、画像表示用装置。
【請求項２３】
請求項１６に記載の入力装置の製造方法により得られた、入力装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層体、画像表示用装置、入力装置及びこれらの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォーン等の情報端末に用いられている液晶表示パネルなどの画像表示用装置は、画像表示部材（液晶表示パネル、有機ＥＬパネル等）と光透過性カバー部材との間に配した光硬化性樹脂組成物に紫外線を照射し硬化させることにより形成される光透過性硬化樹脂層によって画像表示部材と光透過性カバー部材とを接着及び積層することにより製造されている（例えば、下記特許文献１参照）。
【０００３】
ところで、光透過性カバー部材における画像表示部材側の表面の周縁部には、表示画像の輝度又はコントラストの向上のために遮光層が設けられている場合がある。この場合、遮光層と画像表示部材との間に挟まれた光硬化性樹脂組成物の硬化が充分に進行しないことにより充分な接着力が得られず、画像表示部材と光透過性カバー部材との間の剥離、又は、その間隙への湿気の侵入による画像品質の低下等が生ずることが懸念されている。
【０００４】
そこで、光硬化性樹脂組成物に熱重合開始剤を配合して熱硬化性且つ光硬化性を有する樹脂組成物を用いることが提案されている。光透過性カバー部材における遮光層が形成された表面にこの樹脂組成物を塗布し、この塗布面を画像表示部材に重ね、紫外線を照射して光硬化させた後、全体を加熱することにより、遮光層と画像表示部材との間に挟まれた樹脂組成物を熱硬化させることが提案されている（例えば、下記特許文献２参照）。
【０００５】
また、熱重合開始剤を含有していない液状の光硬化性樹脂組成物を、遮光層を含む光透過性カバー部材の表面、又は、画像表示部材の表面に塗布した状態で紫外線を照射して、仮硬化させた仮硬化樹脂層を形成する仮硬化工程と、仮硬化樹脂層を介して画像表示部材と光透過性カバー部材とを積層する工程と、紫外線を照射し仮硬化樹脂層を本硬化させて光透過性硬化樹脂層を形成する光硬化工程と、を備える方法が提案されている（例えば、下記特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０２７０４１号
【特許文献２】国際公開第２００８／１２６８６０号
【特許文献３】特許第５１３８８２０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、画像表示部材及び光透過性カバー部材のうちの一方の部材に接するように光硬化性樹脂組成物層（光透過層）を形成した後に、光硬化性樹脂組成物層に接するように画像表示部材及び光透過性カバー部材のうちの他方の部材を配置して画像表示用装置を製造する傾向がある。この場合、光硬化性樹脂組成物層における前記他方の部材と接する部分の平滑性が低いと、塗布時の気泡の巻き込まれ等の問題が生じることにより接着信頼性が低下する場合がある。また、このように接着信頼性が低下する問題は、画像表示部材に代えて入力部材を備える構成を有する入力装置においても同様に生じ得る。
【０００８】
本発明は、以上の従来技術の問題点を解決するためになされたものであり、優れた接着信頼性を有する画像表示用装置又は入力装置を得ることが可能な積層体及びその製造方法を提供することを目的とする。また、本発明は、このような積層体を用いて得られる画像表示用装置及び入力装置を提供することを目的とする。さらに、本発明は、前記積層体を用いた画像表示用装置の製造方法及び入力装置の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る積層体の製造方法の第１実施形態は、画像表示部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記画像表示部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える画像表示用装置を得るための積層体の製造方法であって、光硬化性樹脂組成物を用いて、前記画像表示部材又は前記光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する工程と、前記光透過層に基材が接するように当該基材を前記光透過層に積層する基材積層工程と、を備え、前記基材積層工程後の前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である。
【００１０】
本発明に係る積層体の製造方法の第１実施形態によれば、光透過層に基材が接するように当該基材を光透過層に積層することにより、基材と光透過層との接触面が物理的に押圧されるため、基材と光透過層との接触面の平滑性に優れる積層体を得ることができる。このような接触面に画像表示部材又は光透過性カバー部材を配置することにより、優れた接着信頼性を有する画像表示用装置を得ることができる。
【００１１】
ところで、従来の画像表示用装置の製造に際しては、画像表示部材及び光透過性カバー部材のうちの一方の部材に接するように光透過層を形成した後、比較的短時間に画像表示部材及び光透過性カバー部材のうちの他方の部材を配置している。そのため、従来は、画像表示部材及び光透過性カバー部材のうちの一方のみが光透過層に接した状態の積層体を保管する必要がない傾向がある。これに対し、本発明者らは、このような積層体を保管する使用態様に着想した。本発明に係る積層体の製造方法の第１実施形態により得られる積層体では、基材により光透過層を保護することができるため、光透過層の状態変化又は破損を抑制することもできる。
【００１２】
また、本発明に係る積層体の製造方法の第１実施形態によれば、基材と、画像表示部材又は光透過性カバー部材との間に光透過層を介在させることにより、光透過層の盛り上がり等の変形を基材によって抑制することで、光透過層と、画像表示部材又は光透過性カバー部材との位置ずれを抑制することもできる。これにより、充分な接着力が発揮されると共に、高い伸び率に起因して優れた衝撃吸収性を得ることができる。また、本発明に係る積層体の製造方法の第１実施形態によれば、画像表示用装置の製造工程を簡便化することが可能な積層体を得ることができる。
【００１３】
本発明に係る積層体の製造方法の第２実施形態は、入力部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記入力部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える入力装置を得るための積層体の製造方法であって、光硬化性樹脂組成物を用いて、前記入力部材又は前記光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する工程と、前記光透過層に基材が接するように当該基材を前記光透過層に積層する基材積層工程と、を備え、前記基材積層工程後の前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である。
【００１４】
本発明に係る積層体の製造方法の第２実施形態によれば、光透過層に基材が接するように当該基材を光透過層に積層することにより、基材と光透過層との接触面が物理的に押圧されるため、基材と光透過層との接触面の平滑性に優れる積層体を得ることができる。このような接触面に入力部材又は光透過性カバー部材を配置することにより、優れた接着信頼性を有する入力装置を得ることができる。
【００１５】
ところで、従来の入力装置の製造に際しては、入力部材及び光透過性カバー部材のうちの一方の部材に接するように光透過層を形成した後、比較的短時間に入力部材及び光透過性カバー部材のうちの他方の部材を配置している。そのため、従来は、入力部材及び光透過性カバー部材のうちの一方のみが光透過層に接した状態の積層体を保管する必要がない傾向がある。これに対し、本発明者らは、このような積層体を保管する使用態様に着想した。本発明に係る積層体の製造方法の第２実施形態により得られる積層体では、基材により光透過層を保護することができるため、光透過層の状態変化又は破損を抑制することもできる。
【００１６】
また、本発明に係る積層体の製造方法の第２実施形態によれば、基材と、入力部材又は光透過性カバー部材との間に光透過層を介在させることにより、光透過層の盛り上がり等の変形を基材によって抑制することで、光透過層と、入力部材又は光透過性カバー部材との位置ずれを抑制することもできる。これにより、充分な接着力が発揮されると共に、高い伸び率に起因して優れた衝撃吸収性を得ることができる。また、本発明に係る積層体の製造方法の第２実施形態によれば、入力装置の製造工程を簡便化することが可能な積層体を得ることができる。
【００１７】
本発明に係る積層体の製造方法は、前記基材積層工程の後に、前記光透過層を硬化させる硬化工程を更に備えていてもよい。この場合、基材が光透過層に接した状態で光透過層を硬化させることにより、酸素を遮蔽しつつ硬化物を得ることができる。
【００１８】
本発明に係る積層体の製造方法は、前記基材積層工程の前に、前記光透過層を硬化させる硬化工程を更に備えていてもよい。
【００１９】
本発明に係る積層体の製造方法は、前記硬化工程において、活性エネルギー線を照射して前記光透過層を硬化させる態様であってもよい。
【００２０】
本発明に係る積層体の製造方法の第１実施形態における前記画像表示部材は、偏光板、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル又は視差バリアパネルであってもよい。本発明に係る積層体の製造方法の第２実施形態における前記入力部材は、タッチパネル、光センサ、ＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤセンサであってもよい。
【００２１】
前記光硬化性樹脂組成物は、（メタ）アクリル酸系重合体、及び、（メタ）アクリロイル基を有する重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種と、光重合開始剤と、（メタ）アクリロイル基を有する単量体と、を含有してもよい。前記光硬化性樹脂組成物の２５℃における粘度は、５．０×１０２〜５．０×１０４ｍＰａ・ｓであってもよい。
【００２２】
本発明に係る画像表示用装置の製造方法は、第１実施形態に係る積層体の製造方法により積層体を得る工程と、前記積層体から前記基材を剥離する剥離工程と、前記剥離工程の後に、前記段差部及び前記光透過層が前記画像表示部材と前記光透過性カバー部材との間に介在するように前記画像表示部材と前記光透過性カバー部材とを貼り合わせる工程と、を備える。本発明に係る画像表示用装置の製造方法によれば、優れた接着信頼性を有する画像表示用装置を得ることができる。
【００２３】
本発明に係る入力装置の製造方法は、第２実施形態に係る積層体の製造方法により積層体を得る工程と、前記積層体から前記基材を剥離する剥離工程と、前記剥離工程の後に、前記段差部及び前記光透過層が前記入力部材と前記光透過性カバー部材との間に介在するように前記入力部材と前記光透過性カバー部材とを貼り合わせる工程と、を備える。本発明に係る入力装置の製造方法によれば、優れた接着信頼性を有する入力装置を得ることができる。
【００２４】
本発明に係る積層体の第１実施形態は、画像表示部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記画像表示部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える画像表示用装置を得るための積層体であって、前記画像表示部材及び前記光透過性カバー部材のうちの一方の部材と、当該一方の部材に接する光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備え、前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である。
【００２５】
本発明に係る積層体の第１実施形態によれば、光透過層に基材が接していることにより、基材と光透過層との接触面が物理的に押圧されているため、基材と光透過層との接触面の平滑性に優れる。このような接触面に画像表示部材又は光透過性カバー部材を配置することにより、優れた接着信頼性を有する画像表示用装置を得ることができる。
【００２６】
本発明に係る積層体の第１実施形態によれば、基材により光透過層を保護することができるため、光透過層の状態変化又は破損を抑制することもできる。本発明に係る積層体の第１実施形態によれば、基材と、画像表示部材又は光透過性カバー部材との間に光透過層を介在させることにより、光透過層の盛り上がり等の変形を基材によって抑制することで、光透過層と、画像表示部材又は光透過性カバー部材との位置ずれを抑制することもできる。これにより、充分な接着力が発揮されると共に、高い伸び率に起因して優れた衝撃吸収性を得ることができる。また、本発明に係る積層体の第１実施形態によれば、画像表示用装置の製造工程を簡便化することができる。
【００２７】
本発明に係る積層体の第１実施形態における前記画像表示部材は、偏光板、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル又は視差バリアパネルであってもよい。
【００２８】
本発明に係る積層体の第２実施形態は、入力部材と、段差部を有する光透過性カバー部材と、前記入力部材及び前記光透過性カバー部材の間に配置された光透過性硬化樹脂層と、を備える入力装置を得るための積層体であって、前記入力部材及び前記光透過性カバー部材のうちの一方の部材と、当該一方の部材に接する光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備え、前記光透過層が、前記光透過性硬化樹脂層として用いられる層、又は、前記光透過性硬化樹脂層を得るための層である。
【００２９】
本発明に係る積層体の第２実施形態によれば、光透過層に基材が接していることにより、基材と光透過層との接触面が物理的に押圧されているため、基材と光透過層との接触面の平滑性に優れる。このような接触面に入力部材又は光透過性カバー部材を配置することにより、優れた接着信頼性を有する入力装置を得ることができる。
【００３０】
本発明に係る積層体の第２実施形態によれば、基材により光透過層を保護することができるため、光透過層の状態変化又は破損を抑制することもできる。本発明に係る積層体の第２実施形態によれば、基材と、入力部材又は光透過性カバー部材との間に光透過層を介在させることにより、光透過層の盛り上がり等の変形を基材によって抑制することで、光透過層と、入力部材又は光透過性カバー部材との位置ずれを抑制することもできる。これにより、充分な接着力が発揮されると共に、高い伸び率に起因して優れた衝撃吸収性を得ることができる。また、本発明に係る積層体の第２実施形態によれば、入力装置の製造工程を簡便化することができる。
【００３１】
本発明に係る積層体の第２実施形態における前記入力部材は、タッチパネル、光センサ、ＣＭＯＳセンサ又はＣＣＤセンサであってもよい。
【００３２】
本発明に係る積層体は、前記積層体の製造方法により得られた積層体であってもよい。このような積層体によれば、優れた接着信頼性を有する画像表示用装置又は入力装置を得ることが可能であり、第１実施形態及び第２実施形態に係る積層体と同様の上記効果を得ることができる。
【００３３】
本発明に係る画像表示用装置は、前記画像表示用装置の製造方法により得られた画像表示用装置であってもよい。本発明に係る入力装置は、前記入力装置の製造方法により得られた入力装置であってもよい。これらの画像表示用装置及び入力装置は、優れた接着信頼性を有している。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、優れた接着信頼性を有する画像表示用装置又は入力装置を得ることが可能な積層体及びその製造方法を提供することができる。また、本発明によれば、このような積層体を用いて得られる画像表示用装置及び入力装置を提供することができる。さらに、本発明は、前記積層体を用いた画像表示用装置の製造方法及び入力装置の製造方法を提供することができる。
【００３５】
本発明によれば、光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備える積層体の画像表示用装置の製造への使用を提供することができる。また、本発明によれば、光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備える積層体の入力装置の製造への使用を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】図１は、画像表示用装置及び入力装置の実施形態を示す模式断面図である。
【図２】図２は、積層体の実施形態を示す模式断面図である。
【図３】図３は、積層体の実施形態を示す模式断面図である。
【図４】図４は、積層体の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図５】図５は、積層体の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図６】図６は、積層体の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図７】図７は、積層体の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図８】図８は、積層体の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図９】図９は、積層体の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【図１０】図１０は、画像表示用装置の製造方法の実施形態を説明するための模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、積層体、画像表示用装置、入力装置及びこれらの製造方法の実施形態を詳細に説明する。なお、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。図面中、同一又は相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する。
【００３８】
本明細書において、「（メタ）アクリレート」とは、「アクリレート」又はそれに対応する「メタクリレート」を意味する。「（メタ）アクリル」とは、「アクリル」又はそれに対応する「メタクリル」を意味する。「（メタ）アクリロイル」とは、「アクリロイル」又はそれに対応する「メタクリロイル」を意味する。
【００３９】
本明細書において、「Ａ又はＢ」とは、ＡとＢのどちらか一方を含んでいればよく、両方とも含んでいてもよい。以下で例示する材料は、特に断らない限り、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。組成物中の各成分の含有量は、組成物中に各成分に該当する物質が複数存在する場合、特に断らない限り、組成物中に存在する当該複数の物質の合計量を意味する。「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【００４０】
本明細書において、分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定し、標準ポリスチレンの検量線を用いて換算した値であり、具体的には下記の条件により測定した値である。なお、検量線の作成には、標準ポリスチレンとして５サンプルセット（ＰＳｔＱｕｉｃｋＭＰ−Ｈ，ＰＳｔＱｕｉｃｋ  Ｂ［東ソー株式会社製、商品名］）を用いることができる。
装置：高速ＧＰＣ装置  ＨＣＬ−８３２０ＧＰＣ（検出器：示差屈折計又はＵＶ）（東ソー株式会社製、商品名）
使用溶媒：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
カラム：カラムＴＳＫＧＥＬ  ＳｕｐｅｒＭｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＺ−Ｈ（東ソー株式会社製、商品名）
カラムサイズ：カラム長が１５ｃｍ、カラム内径が４．６ｍｍ
測定温度：４０℃
流量：０．３５ｍｌ／分
試料濃度：１０ｍｇ／ＴＨＦ５ｍｌ
注入量：２０μｌ
【００４１】
数平均分子量及び重量平均分子量は、以下のように定義される。
（ａ）数平均分子量（Ｍｎ）
Ｍｎ＝Σ（ＮｉＭｉ）／ΣＮｉ＝ΣＸｉＭｉ
（Ｘｉ＝分子量Ｍｉの分子のモル分率＝Ｎｉ／ΣＮｉ）
（ｂ）重量平均分子量（Ｍｗ）
Ｍｗ＝Σ（ＮｉＭｉ２）／ΣＮｉＭｉ＝ΣＷｉＭｉ
（Ｗｉ＝分子量Ｍｉの分子の重量分率＝ＮｉＭｉ／ΣＮｉＭｉ）
【００４２】
＜積層体、画像表示用装置及び入力装置＞
図１は、本実施形態に係る画像表示用装置１００及び入力装置２００を示す模式断面図である。画像表示用装置１００は、画像表示部材１１０と、段差部１２４を有する光透過性カバー部材（保護パネル等）１２０と、画像表示部材１１０及び光透過性カバー部材１２０の間に配置された光透過性硬化樹脂層１３０と、を備える。光透過性カバー部材１２０は、支持部材１２２と段差部１２４とを有しており、支持部材１２２は、段差部１２４が配置された表面１２２ａを有している。段差部１２４は、例えば、支持部材１２２の表面１２２ａの周縁部に配置されている。画像表示部材１１０及び光透過性カバー部材１２０は、画像表示部材１１０と光透過性カバー部材１２０との間に段差部１２４及び光透過性硬化樹脂層１３０が配置されるように積層されている。光透過性硬化樹脂層１３０は、例えば、樹脂組成物の硬化物である。
【００４３】
入力装置２００は、入力部材２１０と、段差部２２４を有する光透過性カバー部材（保護パネル等）２２０と、入力部材２１０及び光透過性カバー部材２２０の間に配置された光透過性硬化樹脂層２３０と、を備える。光透過性カバー部材２２０は、支持部材２２２と段差部２２４とを有しており、支持部材２２２は、段差部２２４が配置された表面２２２ａを有している。段差部２２４は、例えば、支持部材２２２の表面２２２ａの周縁部に配置されている。入力部材２１０及び光透過性カバー部材２２０は、入力部材２１０と光透過性カバー部材２２０との間に段差部２２４及び光透過性硬化樹脂層２３０が配置されるように積層されている。光透過性硬化樹脂層２３０は、例えば、樹脂組成物の硬化物である。
【００４４】
入力装置２００は、例えば、画像表示用装置１００の画像表示部材１１０に代えて入力部材２１０を備える構成を有している。光透過性カバー部材１２０及び光透過性カバー部材２２０は、同一であってもよく、異なっていてもよい。光透過性硬化樹脂層１３０及び光透過性硬化樹脂層２３０は、同一であってもよく、異なっていてもよい。
【００４５】
画像表示部材としては、偏光板、液晶表示パネル、有機ＥＬ表示パネル、プラズマ表示パネル、視差バリアパネル等が挙げられる。入力部材としては、タッチパネル、光センサ、ＣＭＯＳセンサ、ＣＣＤセンサ等が挙げられる。ここで、タッチパネルとは、タッチパッドのような位置入力部を含む、入力のためのパネルを意味する。
【００４６】
光透過性カバー部材としては、ガラス、アクリル樹脂、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート等から構成される板状部材及びシート状部材などが挙げられる。これらの部材には、片面又は両面にハードコート処理、反射防止処理等を施すことができる。光透過性カバー部材の厚さ、弾性等の物性は、使用目的に応じて適宜決定することができる。また、光透過性カバー部材は、タッチセンサー層、裸眼３Ｄ用視差バリア層等を有していてもよい。
【００４７】
段差部は、画像のコントラストを上げるため等に設けられる、遮光性を有する部材（「遮光層」ということもある）であってもよい。段差部は、黒色等に着色された塗料をスクリーン印刷法等で塗布した後に乾燥及び硬化させて得ることができる。段差部の厚さは、例えば５〜１．０×１０２μｍである。
【００４８】
画像表示用装置又は入力装置における光透過性硬化樹脂層の厚さは、耐衝撃性又は視認性に優れる観点から、６μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましく、５０μｍ以上が特に好ましく、１．０×１０２μｍ以上が極めて好ましい。光透過性硬化樹脂層の厚さは、塗膜形成時の作業性又は深部硬化性に優れる観点から、１．５×１０３μｍ以下が好ましく、１．０×１０３μｍ以下がより好ましく、５．０×１０２μｍ以下が更に好ましい。光透過性硬化樹脂層の光透過性のレベルは、画像表示部材に形成された画像が視認可能となるような光透過性であればよい。また、外部からの光等の情報が入力部材を通して光センサ等の入力装置に入力可能となるような光透過性であってもよい。
【００４９】
第１実施形態に係る積層体は、画像表示用装置を得るための積層体（以下、「積層体Ａ」という）であり、画像表示部材及び光透過性カバー部材のうちの一方の部材と、当該一方の部材に接する光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備える。図２は、積層体１５０ａ〜１５０ｄを示す模式断面図である。図３は、積層体１５０ｅ〜１５０ｈを示す模式断面図である。図２に示す積層体１５０ａ〜１５０ｄは、光透過性カバー部材１２０と、光透過性カバー部材１２０に接する光透過層１３０ａ，１３０ｂと、当該光透過層１３０ａ，１３０ｂに接する基材１６０ａ，１６０ｂと、を積層方向においてこの順に備える。図３に示す積層体１５０ｅ〜１５０ｈは、画像表示部材１１０と、画像表示部材１１０に接する光透過層１３０ａ，１３０ｂと、当該光透過層１３０ａ，１３０ｂに接する基材１６０ａ，１６０ｂと、を積層方向においてこの順に備える。光透過層１３０ａ，１３０ｂは、例えば光硬化性を有しており、画像表示部材及び光透過性カバー部材を接着する接着層となる。
【００５０】
第２実施形態に係る積層体は、入力装置を得るための積層体（以下、「積層体Ｂ」という）であり、入力部材及び光透過性カバー部材のうちの一方の部材と、当該一方の部材に接する光透過層と、当該光透過層に接する基材と、を備える。例えば、積層体Ｂとしては、図２に示す積層体１５０ａ〜１５０ｄにおいて光透過性カバー部材１２０に代えて光透過性カバー部材２２０を備える構成を有する積層体、又は、図３に示す積層体１５０ｅ〜１５０ｈにおいて画像表示部材１１０に代えて入力部材２１０を備える構成を有する積層体を用いることができる。
【００５１】
光透過層１３０ｂは、光透過層１３０ａよりも硬化が進行した樹脂層である。例えば、光透過層１３０ａは、光透過性樹脂組成物を含む光透過性樹脂組成物層を乾燥して得られる樹脂層であり、光透過層１３０ｂは、光透過層１３０ａを更に硬化（光硬化等）して得られる樹脂層である。光透過層は、光透過性硬化樹脂層１３０，２３０として用いられる層であってもよく、光透過性硬化樹脂層１３０，２３０を得るための層であってもよい。例えば、光透過層１３０ａは、更に硬化することにより光透過性硬化樹脂層１３０，２３０が得られる層である。また、光透過層１３０ｂは、光透過性硬化樹脂層１３０，２３０として用いられる層であってもよく、更に硬化することにより光透過性硬化樹脂層１３０，２３０が得られる層であってもよい。
【００５２】
基材１６０ａは、透明基材であり、例えば、光透過性の基材である。基材１６０ｂは、光非透過性の基材である。基材１６０ａ，１６０ｂは、例えばフィルム状の基材である。透明基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の重合体フィルムが好ましく、中でも、ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。光非透過性の基材の構成成分としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリエステル等の重合体；添加剤（色素等）が挙げられる。光非透過性の基材としては、色素を含有する基材等を用いることができる。
【００５３】
なお、基材に対しては表面処理を施していてもよい。表面処理方法としては、例えば、シリコーン系化合物又はフッ素系化合物で離型処理する方法が挙げられる。基材と画像表示部材又は入力部材との積層体において基材と光透過層との剥離力は、光透過層と画像表示部材又は入力部材との接着力よりも低いことが好ましい。基材と光透過性カバー部材との積層体において基材と光透過層との剥離力は、光透過層と光透過性カバー部材との接着力よりも低いことが好ましい。
【００５４】
基材の厚みは、作業性に優れる観点から、２５μｍ以上が好ましく、３０μｍ以上がより好ましく、４０μｍ以上が更に好ましい。基材の厚みは、作業性に優れる観点から、１５０μｍ以下が好ましく、１００μｍ以下がより好ましく、７５μｍ以下が更に好ましい。基材の厚みは、作業性に優れる観点から、２５μｍ以上１５０μｍ以下が好ましく、３０μｍ以上１００μｍ以下がより好ましく、４０μｍ以上７５μｍ以下が更に好ましい。
【００５５】
基材の平面形状（垂直方向から見た形状）は、光透過層の平面形状よりも大きいことが好ましく、基材の外縁は、光透過層の外縁よりも外側に張り出していることが好ましい。基材の外縁が光透過層の外縁よりも張り出す量は、取り扱い易さ及び剥がし易さに優れる観点、及び、埃等の付着を更に抑制できる観点から、２ｍｍ以上２０ｍｍ以下が好ましく、４ｍｍ以上１０ｍｍ以下がより好ましい。
【００５６】
基材及び光透過層の平面形状が矩形状（長方形等）である場合、基材の外縁が光透過層の外縁よりも張り出す量は、少なくとも１つの辺において２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましく、少なくとも１つの辺において４ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることがより好ましい。また、基材の外縁が光透過層の外縁よりも張り出す量は、全ての辺において２ｍｍ以上２０ｍｍ以下であることが好ましく、全ての辺において４ｍｍ以上１０ｍｍ以下であることがより好ましい。
【００５７】
＜積層体、画像表示用装置及び入力装置の製造方法＞
【００５８】
本実施形態に係る積層体Ａの製造方法は、樹脂層形成工程（光透過層形成工程）と基材積層工程とをこの順に備える。樹脂層形成工程は、光硬化性樹脂組成物を用いて、画像表示部材又は光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する工程である。基材積層工程は、光透過層に基材が接するように当該基材を光透過層に積層する工程である。
【００５９】
本実施形態に係る積層体Ｂの製造方法は、樹脂層形成工程（光透過層形成工程）と基材積層工程とをこの順に備える。樹脂層形成工程は、光硬化性樹脂組成物を用いて、入力部材又は光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する工程である。基材積層工程は、光透過層に基材が接するように当該基材を光透過層に積層する工程である。
【００６０】
本実施形態に係る積層体Ａ，Ｂの製造方法は、基材積層工程の後、及び／又は、基材積層工程の前に、光透過層を硬化させる硬化工程を更に備えていてもよい。すなわち、積層体Ａ，Ｂの製造方法の第１態様は、樹脂層形成工程と基材積層工程と硬化工程とをこの順に備える。積層体Ａ，Ｂの製造方法の第２態様は、樹脂層形成工程と硬化工程と基材積層工程とをこの順に備える。積層体Ａ，Ｂの製造方法の第３態様は、樹脂層形成工程と第１の硬化工程と基材積層工程と第２の硬化工程とをこの順に備える。
【００６１】
本実施形態に係る画像表示用装置の製造方法及び入力装置の製造方法は、例えば、積層体作製工程と剥離工程と貼り合わせ工程とをこの順に備える。
【００６２】
画像表示用装置の製造方法における積層体作製工程は、本実施形態に係る積層体Ａの製造方法により積層体Ａを得る工程である。画像表示用装置の製造方法における剥離工程は、積層体Ａから基材を剥離する工程である。画像表示用装置の製造方法における貼り合わせ工程は、段差部及び光透過層が画像表示部材と光透過性カバー部材との間に介在するように画像表示部材と光透過性カバー部材とを貼り合わせることにより画像表示用装置を得る工程である。
【００６３】
入力装置の製造方法における積層体作製工程は、本実施形態に係る積層体Ｂの製造方法により積層体Ｂを得る工程である。入力装置の製造方法における剥離工程は、積層体Ｂから基材を剥離する工程である。入力装置の製造方法における貼り合わせ工程は、段差部及び光透過層が入力部材と光透過性カバー部材との間に介在するように入力部材と光透過性カバー部材とを貼り合わせることにより入力装置を得る工程である。
【００６４】
以下、積層体、画像表示用装置及び入力装置の製造方法について工程毎に更に説明する。
【００６５】
（樹脂層形成工程）
積層体Ａを用いた樹脂層形成工程では、光硬化性樹脂組成物を用いて、画像表示部材又は光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する。積層体Ｂを用いた樹脂層形成工程では、光硬化性樹脂組成物を用いて、入力部材又は光透過性カバー部材に接する光透過層を形成する。光硬化性樹脂組成物の詳細については後述する。
【００６６】
樹脂層形成工程において光透過層は、例えば、画像表示部材もしくは入力部材の一方の表面（光透過性カバー部材の段差部に対向する面。例えば表面の全体）、又は、光透過性カバー部材の一方の表面（段差部形成側の面。例えば表面の全体）に形成されてもよい。光透過層は、例えば、これらの面に平坦に形成されてもよい。光透過層は、例えば、段差部を埋め込むように形成されてもよい。
【００６７】
光透過層は、例えば、画像表示部材の一方の表面（段差部に対向する面）の一部、又は、光透過性カバー部材の一方の表面（段差部形成側の面）の一部に形成されてもよい。例えば、段差部に接することなく光透過層を形成してもよい。この場合、後続の貼り合わせ工程において、光透過性カバー部材と、画像表示部材又は入力部材とを加圧することにより、光透過性カバー部材と、画像表示部材又は入力部材との間の全体に光透過層を充填することができる。
【００６８】
光透過層の形成方法としては、スクリーン印刷；メタルマスク印刷；スリットコーター、バーコーター等による一般的なコーティング；マルチノズル（ディスペンサーのノズルを横に無数に並べたもの）を用いたディスペンスなどが挙げられる。これらの少なくとも１種の方法を用いて、必要な厚さが得られるように光透過層を形成することができる。必要な厚さが得られるように樹脂組成物を複数回塗布して光透過層を形成してもよい。
【００６９】
（基材積層工程）
基材積層工程では、樹脂層形成工程で得られた光透過層に基材が接するように当該基材を光透過層に積層する。光透過性カバー部材又は画像表示部材もしくは入力部材と、基材との間に光透過層が配置されるように基材を積層すればよく、基材の積層条件に特に制限はない。
【００７０】
（硬化工程）
硬化工程では、樹脂層形成工程で得られた光透過層、又は、基材積層工程において基材が積層された光透過層を硬化させる。
【００７１】
硬化工程では、例えば、活性エネルギー線を照射して光透過層を硬化させることができる。基材が積層された光透過層を硬化させる場合、例えば、基材として透明基材を用いて、透明基材を介して光透過層に対して活性エネルギー線を照射することにより光透過層を硬化させることができる。活性エネルギー線としては、紫外線（ＵＶ）等を用いることができる。活性エネルギー線の照射に関し、光源の種類、出力、累積光量等は特に制限はない。例えば、公知の活性エネルギー線（紫外線等）の照射による（メタ）アクリレートの光ラジカル重合プロセス条件を採用することができる。
【００７２】
樹脂層形成工程と硬化工程との間に基材積層工程を行わない場合、樹脂層形成工程から硬化工程に移行する待機時間として、光透過層の形成（組成物の塗布及び乾燥）完了から露光までの間隔は、６０秒以内が好ましく、３０秒以内がより好ましく、１０秒以内が更に好ましく、５秒以内が特に好ましい。このような間隔であれば、光透過層の端部が表面張力により厚膜化することが抑制されると共に、樹脂の染み出しが抑制されることにより、更に優れた平滑性（膜厚均一性）を得ることができる。
【００７３】
硬化工程において硬化した光透過層の厚さは、６μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２０μｍ以上が更に好ましく、５０μｍ以上が特に好ましく、１．０×１０2μｍ以上が極めて好ましい。硬化工程において硬化した光透過層の厚さは、１．５×１０３μｍ以下が好ましく、１．０×１０３μｍ以下がより好ましく、５．０×１０２μｍ以下が更に好ましい。
【００７４】
硬化工程後の光透過層の硬化率は、８０％以上が好ましく、９０％以上がより好ましく、９５％以上が更に好ましい。この場合、硬化物の信頼性が更に高く、光透過性カバー部材の段差部と透過部の硬化率のギャップが小さいため、応力による気泡発生を防止できると共に、画像表示部等の色ムラを防止できる。なお、画像表示用装置又は入力装置における光透過性硬化樹脂層の硬化率もこれらの条件を満たすことが好ましい。
【００７５】
硬化率は、ゲル分率として求めることができる。例えば、ゲル分率は、活性エネルギー線（紫外線等）の照射前の樹脂組成物中の（メタ）アクリロイル基の存在量に対する、活性エネルギー線（紫外線等）の照射後の（メタ）アクリロイル基の存在量の割合（消費量割合）と定義することができる。当該割合が大きいほど、硬化が進行していることを示す。
【００７６】
ゲル分率は、ＦＴ−ＩＲにより測定することが可能であり、例えば、以下の方法により測定することができる。すなわち、活性エネルギー線を照射する前の光透過層のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの８００〜８２０ｃｍ−１の吸収ピーク高さ（Ｘ）と、照射量２．０×１０３ｍＪ／ｃｍ２で活性エネルギー線を照射した後の光透過層のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの８００〜８２０ｃｍ−１の吸収ピーク高さ（Ｙ）と、照射量２．０×１０４ｍＪ／ｃｍ２で活性エネルギー線を照射した後の光透過層のＦＴ−ＩＲ測定チャートにおけるベースラインからの８００〜８２０ｃｍ−１の吸収ピーク高さ（Ｚ）とを、以下の数式（１）に代入することにより硬化率（ゲル分率）を算出できる。
硬化率（％）＝｛（Ｘ−Ｙ）／（Ｘ−Ｚ）｝×１００    （１）
【００７７】
（貼り合わせ工程）
画像表示用装置の製造方法における貼り合わせ工程では、段差部及び光透過層が画像表示部材と光透過性カバー部材との間に介在するように画像表示部材と光透過性カバー部材とを貼り合わせることにより画像表示用装置を得る。入力装置の製造方法における貼り合わせ工程では、段差部及び光透過層が入力部材と光透過性カバー部材との間に介在するように入力部材と光透過性カバー部材とを貼り合わせることにより入力装置を得る。
【００７８】
貼り合わせは、例えば、公知の圧着装置を用いて、１０〜８０℃の温度にて加圧することにより行うことができる。
【００７９】
貼り合わせ工程の後、活性エネルギー線（紫外線等）を更に照射してもよい（第２の硬化工程）。これにより、貼り合わせ工程時よりも硬化率が上がり、光透過層が更に硬くなることにより接着力を更に向上させることができる。
【００８０】
以下、図４〜１０を用いて、積層体Ａの製造方法及び画像表示用装置の製造方法の例について説明する。図４〜６は、光透過性カバー部材を備える積層体Ａの製造方法を説明するための模式断面図である。図７〜９は、画像表示部材を備える積層体Ａの製造方法を説明するための模式断面図である。図１０は、光透過性カバー部材を備える積層体Ａを用いた画像表示用装置の製造方法を説明するための模式断面図である。なお、以下の方法で用いられる画像表示部材１１０に代えて入力部材２１０を用いることにより、積層体Ｂ及び入力装置を製造することができる。
【００８１】
図４及び図５に基づき、光透過性カバー部材を備える積層体Ａを用いる方法の一例として、基材積層工程の後に硬化工程を備える画像表示用装置の製造方法を説明する。まず、図４（ａ）に示すように、光透過性カバー部材１２０を用意する。光透過性カバー部材１２０は、支持部材１２２と、支持部材１２２の一方の表面１２２ａの周縁部に形成された段差部１２４とを有している。
【００８２】
次に、図４（ｂ）に示すように、光透過性樹脂組成物を用いて、支持部材１２２の表面（段差部形成側の面）１２２ａに光透過層１３０ａを形成する（樹脂層形成工程）。段差部１２４と支持部材１２２の表面１２２ａとで形成される段差（段差部１２４の厚さ）Ｄを埋め込むように、光透過性カバー部材１２０の表面の全体に光透過層１３０ａを平坦に形成する。光透過層１３０ａの厚さを段差部１２４の厚さより厚く調整し、段差部１２４を埋め込むように光透過層１３０ａを形成する。なお、光透過層１３０ａは必ずしも平坦になるように形成される必要はなく、平坦でないものの段差部１２４を埋め込むように光透過層１３０ａが形成されてもよい。
【００８３】
次に、図５（ａ）に示すように、基材（透明基材）１６０ａを光透過層１３０ａに貼り付けることにより、光透過層１３０ａ上に基材１６０ａを積層する（基材積層工程）。これにより、積層体１５０ａ（図２（ａ））が得られる。なお、基材１６０ａに代えて基材１６０ｂを光透過層１３０ａ上に積層することにより積層体１５０ｂ（図２（ｂ））を得ることもできる。
【００８４】
次に、図５（ｂ）に示すように、透明基材である基材１６０ａを介して光透過層１３０ａに活性エネルギー線Ｌを照射する（硬化工程）。これにより、図５（ｃ）に示すように、光透過層１３０ａが硬化されて光透過層１３０ｂが形成されると共に積層体１５０ｃ（図２（ｃ））が得られる。
【００８５】
図４及び図６に基づき、光透過性カバー部材を備える積層体Ａを用いる方法の一例として、基材積層工程の前に硬化工程を備える画像表示用装置の製造方法を説明する。まず、図４に示すように、光透過性カバー部材１２０上に光透過層１３０ａを形成する（樹脂層形成工程）。次に、図６（ａ）に示すように、光透過層１３０ａに活性エネルギー線Ｌを照射する（硬化工程）。これにより、図６（ｂ）に示すように、光透過層１３０ａが硬化されて光透過層１３０ｂが形成される。次に、図６（ｃ）に示すように、基材１６０ｂを光透過層１３０ｂに貼り付けることにより、光透過層１３０ｂ上に基材１６０ｂを積層する（基材積層工程）。これにより、積層体１５０ｄ（図２（ｄ））が得られる。なお、基材１６０ｂに代えて基材１６０ａを光透過層１３０ｂ上に積層することにより積層体１５０ｃ（図２（ｃ））を得ることもできる。
【００８６】
図７及び図８に基づき、画像表示部材を備える積層体Ａを用いる方法の一例として、基材積層工程の後に硬化工程を備える画像表示用装置の製造方法を説明する。まず、図７（ａ）に示すように、画像表示部材１１０を用意する。次に、図７（ｂ）に示すように、光透過性樹脂組成物を用いて、画像表示部材１１０の表面（段差部形成側の面）に光透過層１３０ａを形成する（樹脂層形成工程）。
【００８７】
次に、図８（ａ）に示すように、基材（透明基材）１６０ａを光透過層１３０ａに貼り付けることにより、光透過層１３０ａ上に基材１６０ａを積層する（基材積層工程）。これにより、積層体１５０ｅ（図３（ａ））が得られる。なお、基材１６０ａに代えて基材１６０ｂを光透過層１３０ａ上に積層することにより積層体１５０ｆ（図３（ｂ））を得ることもできる。
【００８８】
次に、図８（ｂ）に示すように、透明基材である基材１６０ａを介して光透過層１３０ａに活性エネルギー線Ｌを照射する（硬化工程）。これにより、図６（ｃ）に示すように、光透過層１３０ａが硬化されて光透過層１３０ｂが形成されると共に積層体１５０ｇ（図３（ｃ））が得られる。
【００８９】
図７及び図９に基づき、画像表示部材を備える積層体Ａを用いる方法の一例として、基材積層工程の前に硬化工程を備える画像表示用装置の製造方法を説明する。まず、図７に示すように、画像表示部材１１０上に光透過層１３０ａを形成する（樹脂層形成工程）。次に、図９（ａ）に示すように、光透過層１３０ａに活性エネルギー線Ｌを照射する（硬化工程）。これにより、図９（ｂ）に示すように、光透過層１３０ａが硬化されて光透過層１３０ｂが形成される。次に、図９（ｃ）に示すように、基材１６０ｂを光透過層１３０ｂに貼り付けることにより、光透過層１３０ｂ上に基材１６０ｂを積層する（基材積層工程）。これにより、積層体１５０ｈ（図３（ｄ））が得られる。なお、基材１６０ｂに代えて基材１６０ａを光透過層１３０ｂ上に積層することにより積層体１５０ｇ（図３（ｃ））を得ることもできる。
【００９０】
図１０に基づき、光透過性カバー部材１２０及び光透過層１３０ａを備える積層体１５０ａ，１５０ｂを用いる画像表示用装置の製造方法を説明する。まず、上記のとおり積層体１５０ａ，１５０ｂを作製する（積層体作製工程）。次に、図１０（ａ）に示すように、積層体１５０ａ，１５０ｂの基材１６０ａ，１６０ｂを剥離する（剥離工程）。次に、図１０（ｂ）に示すように、光透過層１３０ａに活性エネルギー線Ｌを照射する（硬化工程）。これにより、図１０（ｃ）に示すように、光透過層１３０ａが硬化されて光透過層１３０ｂが形成される。次に、図１０（ｄ）に示すように、画像表示部材１１０を光透過層１３０ｂに貼り付けることにより、画像表示部材１１０、光透過層１３０ｂ及び光透過性カバー部材１２０を積層する（貼り合わせ工程）。これにより、光透過性硬化樹脂層１３０として光透過層１３０ｂを備える画像表示用装置１００が得られる。
【００９１】
積層体１５０ａ，１５０ｂを用いる場合、上記のとおり、基材１６０ａ，１６０ｂを剥離する工程、光透過層１３０ａを硬化する工程、及び、画像表示部材１１０と積層体１５０ａ，１５０ｂとを積層する工程を行うことにより画像表示用装置を得ることができる。積層体１５０ｃ，１５０ｄを用いる場合、基材１６０ａ，１６０ｂを剥離する工程、及び、画像表示部材１１０と積層体１５０ｃ，１５０ｄとを積層する工程を行うことにより画像表示用装置を得ることができる。積層体１５０ｅ，１５０ｆを用いる場合、基材１６０ａ，１６０ｂを剥離する工程、光透過層１３０ａを硬化する工程、及び、光透過性カバー部材１２０と積層体１５０ｅ，１５０ｆとを積層する工程を行うことにより画像表示用装置を得ることができる。積層体１５０ｇ，１５０ｈを用いる場合、基材１６０ａ，１６０ｂを剥離する工程、及び、光透過性カバー部材１２０と積層体１５０ｇ，１５０ｈとを積層する工程を行うことにより画像表示用装置を得ることができる。
【００９２】
＜光硬化性樹脂組成物＞
本実施形態に係る積層体の光透過性硬化樹脂層を得るための光硬化性樹脂組成物（以下、単に「樹脂組成物」ともいう）としては、例えば、（Ａ）（メタ）アクリル酸系重合体、及び、（メタ）アクリロイル基を有する重合体からなる群より選ばれる少なくとも一種（以下、「（Ａ）成分」ともいう）と、（Ｂ）光重合開始剤（以下、「（Ｂ）成分」ともいう）と、（Ｃ）（メタ）アクリロイル基を有する単量体（モノマー。以下、「（Ｃ）成分」ともいう）と、を含有する樹脂組成物を用いることができる。本実施形態に係る樹脂組成物は、ペースト状であってもよく、フィルム状（フィルム状樹脂組成物）であってもよい。
【００９３】
本実施形態に係る樹脂組成物によれば、光硬化後の液浮き（表面が大気に触れている状態の塗膜を光硬化した後、硬化樹脂層に接触した被着体を引き上げた際に、被着体が硬化樹脂層から脱離すると共に硬化樹脂層の成分が被着体に付着する現象）を抑制することに有効である。また、本実施形態に係る光硬化性樹脂組成物は、画像表示用装置における光透過性カバー部材と画像表示部材との間の空間、又は、入力装置における光透過性カバー部材と入力部材との間の空間を充填するために好適に用いることができる。
【００９４】
（（Ａ）成分：（メタ）アクリル酸系重合体及び（メタ）アクリロイル基を有する重合体）
「（メタ）アクリル酸系重合体」は、（メタ）アクリロイル基を有する単量体を重合させて得られる重合体を意味し、（メタ）アクリロイル基を有する単量体由来の構造単位を主鎖に有する重合体である。（メタ）アクリル酸系重合体としては、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する単量体を１種単独で重合させて得られる単独重合体、（メタ）アクリロイル基を有する少なくとも１種の単量体を共重合させて得られる共重合体等が挙げられる。（メタ）アクリロイル基を有する単量体としては、分子内に１個の（メタ）アクリロイル基を有する単量体、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する単量体等が挙げられる。共重合体は、（メタ）アクリロイル基を有する２種以上の単量体を共重合させて得られる共重合体であってもよく、（メタ）アクリロイル基を有する単量体と、（メタ）アクリロイル基を有していない単量体とを共重合させて得られる共重合体であってもよい。（メタ）アクリロイル基を有していない単量体としては、重合性不飽和結合を分子内に１個有する化合物（アクリロニトリル、スチレン、酢酸ビニル、エチレン、プロピレン等）、重合性不飽和結合を分子内に２個以上有する化合物（ジビニルベンゼン等）などが挙げられる。
【００９５】
（メタ）アクリロイル基を有する単量体として、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸アミド、アルキル（メタ）アクリレート、芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステル、アルコキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステル、脂環式基を有する（メタ）アクリル酸エステル、水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステル、ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールエチルエーテル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９６】
アルキル（メタ）アクリレートとしては、アルキル基の炭素数が１〜３２であるアルキル（メタ）アクリレート等が挙げられる。アルキル（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９７】
芳香環を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。アルコキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート等が挙げられる。脂環式基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ポリエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレートとしては、テトラエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールメチルエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ポリプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレートとしては、ヘプタプロピレングリコールモノメチルエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ポリエチレングリコールエチルエーテル（メタ）アクリレートとしては、テトラエチレングリコールエチルエーテル（メタ）アクリレート等が挙げられる。ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９８】
（メタ）アクリロイル基を有する単量体の中でも、炭素数４〜３２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートが好ましい。炭素数４〜３２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの共重合割合は、粘着シートを形成した後の加工性において、光透過性カバー部材に対する接着性が更に向上する観点から、（メタ）アクリル酸系重合体を与える単量体の全質量を基準として、５質量％以上が好ましく、１０質量％以上がより好ましい。炭素数４〜３２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートの共重合割合は、粘着シートを形成した後の加工性において、光透過性カバー部材に対する接着性が更に向上する観点から、（メタ）アクリル酸系重合体を与える単量体の全質量を基準として、９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましい。このような共重合割合の重合体は、一般に、各単量体を上記共重合割合と同じ割合で配合し、共重合させることで得ることができる。重合率を実質的に１００質量％に近づくように調整することが好ましい。
【００９９】
炭素数４〜３２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレートと共重合する単量体としては、上記したものに限定されないが、水酸基、モルホリノ基、アミノ基、カルボキシル基、シアノ基、カルボニル基、ニトロ基等の極性基を有する単量体が好ましく、これらの極性基を有する（メタ）アクリレートがより好ましい。これら極性基を有する単量体（例えば（メタ）アクリレート）は、光透過性カバー部材に対する接着性を更に向上させることができる。
【０１００】
（メタ）アクリロイル基を有する重合体としては、（メタ）アクリロイル基を有するポリエステルオリゴマー、（メタ）アクリロイル基を有するウレタン重合体、（メタ）アクリロイル基を有するブタジエン重合体、（メタ）アクリロイル基を有するイソプレン重合体等が挙げられる。（メタ）アクリル酸系重合体に該当する成分は、（メタ）アクリロイル基を有する重合体からは除外する。
【０１０１】
（Ａ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０２】
（Ａ）成分の重合方法としては、溶液重合、乳化重合、懸濁重合、塊状重合等の既知の重合方法を用いることができる。
【０１０３】
（Ａ）成分を得るための重合開始剤としては、熱によりラジカルを発生する化合物を用いることができる。熱によりラジカルを発生する化合物としては、有機過酸化物、アゾ系化合物等が挙げられる。有機過酸化物としては、過酸化ベンゾイル、ラウロイルパーオキシド、ｔ−ブチルパーベンゾエイト、クメンヒドロパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシジカーボネート、ジ−ｎ−プロピルパーオキシジカーボネート、ジ（２−エトキシエチル）パーオキシジカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシネオデカノエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート、（３，５，５−トリメチルヘキサノイル）パーオキシド、ジプロピオニルパーオキシド、ジアセチルパーオキシド、ジドデシルパーオキシド等が挙げられる。アゾ系化合物としては、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチル−４−メトキシバレロニトリル）、ジメチル２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオネート）、４，４’−アゾビス（４−シアノバレリック酸）、２，２’−アゾビス（２−ヒドロキシメチルプロピオニトリル）、２，２’−アゾビス［２−（イミダゾリン−２−イル）プロパン］等が挙げられる。
【０１０４】
（Ａ）成分の重量平均分子量は、高湿（例えば９０％以上）の環境下で光透過性カバー部材等に対して剥がれの発生しない接着力を容易に得ることができる観点、及び、塗膜の特性に優れる観点から、１×１０４以上が好ましく、８×１０４以上がより好ましく、１×１０５以上が更に好ましい。（Ａ）成分の重量平均分子量は、高湿（例えば９０％以上）の環境下で光透過性カバー部材等に対して剥がれの発生しない接着力を容易に得ることができる観点、及び、塗膜の特性に優れる観点から、１×１０７以下が好ましく、７×１０５以下がより好ましく、５×１０５以下が更に好ましい。
【０１０５】
（Ａ）成分の含有量は、樹脂組成物の粘度が接着層を作製する際の適正粘度範囲に入り、加工性が良好となる観点、及び、光透過性カバー部材に対する接着性が更に良好となる観点から、下記の範囲が好ましい。（Ａ）成分の含有量は、樹脂組成物の全質量を基準として、１質量％以上が好ましく、５質量％以上がより好ましく、１０質量％以上が更に好ましい。（Ａ）成分の含有量は、樹脂組成物の全質量を基準として、７０質量％以下が好ましく、６０質量％以下がより好ましく、５０質量％以下が更に好ましい。
【０１０６】
（（Ｂ）成分：光重合開始剤）
光重合開始剤は、紫外線、電子線、α線、β線等の活性エネルギー線の照射によりラジカルを発生させ、樹脂組成物の硬化反応を促進させる重合開始剤の一種である。
【０１０７】
光重合開始剤としては、芳香族ケトン化合物、ベンゾイン化合物、ベンゾインエーテル化合物、ベンジル化合物、エステル化合物、アクリジン化合物、２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体、アルキルフェノン系化合物、α−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物、フォスフィンオキサイド系化合物等が挙げられる。（Ｂ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１０８】
芳香族ケトン化合物、としては、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ'−テトラメチル−４，４'−ジアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ'−テトラエチル−４，４'−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４，４'−ジメチルアミノベンゾフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２−エチルアントラキノン、ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロロ−２−メチルアントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシアセトフェノン等が挙げられる。ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等が挙げられる。ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等が挙げられる。ベンジル化合物としては、ベンジル、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。エステル化合物としては、β−（アクリジン−９−イル）（メタ）アクリル酸等が挙げられる。アクリジン化合物としては、９−フェニルアクリジン、９−ピリジルアクリジン、１，７−ジアクリジノヘプタン等が挙げられる。２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体としては、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（ｍ−メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２，４−ジ（ｐ−メトキシフェニル）５−フェニルイミダゾール二量体、２−（２，４−ジメトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メチルメルカプトフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等が挙げられる。アルキルフェノン系化合物としては、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−１−ブタノン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパン等が挙げられる。α−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物としては、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、オリゴ｛２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノン｝等が挙げられる。フォスフィンオキサイド系化合物としては、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオ���サイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド等が挙げられる。
【０１０９】
（Ｂ）成分の中でも、膜全体の硬化性、反応性及び表面硬化性に優れる観点から、芳香族ケトン化合物、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステル、α−ヒドロキシアルキルフェノン系化合物が好ましく、表面硬化性に更に優れる観点から、フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルがより好ましい。
【０１１０】
（Ｂ）成分の含有量は、硬化反応が容易に促進される観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、１質量％以上が好ましく、２質量％以上がより好ましく、２．５質量％以上が更に好ましい。（Ｂ）成分の含有量は、硬化反応が容易に促進される観点、及び、更に優れた接着性を得る観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、１０質量％以下が好ましく、４質量％以下がより好ましく、４質量％未満が更に好ましい。
【０１１１】
フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルの含有量は、硬化反応が容易に促進される観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、０質量％を超えることが好ましく、０．５質量％以上がより好ましく、１．０質量％以上が更に好ましく、１．２５質量％以上が特に好ましく、１．５質量％以上が極めて好ましい。フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルの含有量は、更に良好な接着性を得ることができる観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、４質量％以下が好ましく、４質量％未満がより好ましく、３質量％以下が更に好ましく、３質量％未満が特に好ましく、２質量％以下が極めて好ましい。
【０１１２】
フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルの含有量は、硬化反応が容易に促進され、更に良好な接着性が得られる観点から、（Ｂ）成分の全質量を基準として、８０質量％以上が好ましく、９０質量％以上がより好ましく、９５質量％以上が更に好ましい。フェニルグリオキシリックアシッドメチルエステルの含有量の上限は、例えば、（Ｂ）成分の全質量を基準として１００質量％である。
【０１１３】
（（Ｃ）成分：（メタ）アクリロイル基を有する単量体）
（Ｃ）成分としては、アルキル（メタ）アクリレート、水酸基を有する（メタ）アクリレート、（メタ）アクリルアミド、水酸基を有する（メタ）アクリルアミド、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、モルホリン基を有する（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル基を有する（メタ）アクリレ−ト、ジシクロペンテニル基を有する（メタ）アクリレ−ト、イソボルニル基を有する（メタ）アクリレート等が挙げられる。（Ｃ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１４】
アルキル（メタ）アクリレートとしては、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｎ−ペンチル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ヘキシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、イソステアリルアクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリレートとしては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。（メタ）アクリルアミドとしては、ジメチル（メタ）アクリルアミド、イソプロピル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。水酸基を有する（メタ）アクリルアミドとしては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール等が挙げられる。ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール等が挙げられる。ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレートとしては、ジブチレングリコール、トリブチレングリコール等が挙げられる。モルホリン基を有する（メタ）アクリレートとしては、アクリロイルモルホリン等が挙げられる。ジシクロペンタニル基を有する（メタ）アクリレ−トとしては、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレ−ト等が挙げられる。ジシクロペンテニル基を有する（メタ）アクリレ−トとしては、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレ−ト等が挙げられる。イソボルニル基を有する（メタ）アクリレートとしては、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１５】
（Ｃ）成分の中でも、誘電率、光学特性、液浮き抑制効果、接着力、耐湿熱信頼性及び硬化後の接着性に更に優れる観点から、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基及びイソボルニル基からなる群より選ばれる少なくとも一種を有する（メタ）アクリレートが好ましく、ジシクロペンテニル基及びイソボルニル基からなる群より選ばれる少なくとも一種を有する（メタ）アクリレートがより好ましく、ジシクロペンテニル基を有する（メタ）アクリレートが更に好ましい。これらの化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１６】
（Ｃ）成分としては、常温（２５℃）で液状である単量体が好ましく、下記一般式（１）で表される化合物がより好ましく、式（１）におけるＲ１２が、アルキル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基及びイソボルニル基からなる群より選ばれる少なくとも一種である化合物が更に好ましく、式（１）におけるＲ１２が、アルキル基、ジシクロペンテニル基及びイソボルニル基からなる群より選ばれる少なくとも一種である化合物が特に好ましく、式（１）におけるＲ１２がイソステアリル基である化合物が極めて好ましい。これらの化合物は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１１７】
【化１】
2016224256.tif 000003
［式（１）中、Ｒ１１は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ１２はアルキル基、ジシクロペンタニル基、ジシクロペンテニル基、ジシクロペンテニルオキシエチル基、イソボルニル基又はオキシアルキレン基を示す。Ｒ１２は、柔軟性を付与する観点から、炭素数４〜３２のアルキル基が好ましく、炭素数６〜２４のアルキル基がより好ましく、炭素数８〜１８のアルキル基が更に好ましい。］
【０１１８】
上記一般式（１）で表される（メタ）アクリレートとしては、上述したアルキル（メタ）アクリレート、水酸基を有する（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレ−ト、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレ−ト、イソボルニル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【０１１９】
（Ｃ）成分の含有量は、適度な粘度を有する樹脂組成物を得る観点、更に良好な接着性を得る観点、及び、硬化物の透明性を向上させる観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、１０質量％以上が好ましく、１５質量％以上がより好ましく、２０質量％以上が更に好ましい。（Ｃ）成分の含有量は、優れた硬化収縮率及び硬化物の弾性率を得る観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、８０質量％以下が好ましく、７０質量％以下がより好ましく、６０質量％以下が更に好ましい。適度な粘度を有する樹脂組成物を用いることにより、塗布等の作業性が向上する。優れた硬化収縮率を得ることにより、画像表示用装置に用いた場合に、表示ムラ及びモジュールの反りの発生を抑制することができる。
【０１２０】
（（Ｄ）成分：酸化防止剤）
本実施形態に係る樹脂組成物は、液浮きを更に抑制できる観点、及び、黄変を抑制できる観点から、酸化防止剤（以下「（Ｄ）成分ともいう」）を含有することができる。（Ｄ）成分としては、ヒンダードフェノール構造を有する化合物（以下「（Ｄ１）成分」ともいう）、アミン系化合物、リン系化合物（リンを含有する化合物）、イオウ系化合物（硫黄を含有する化合物）、ヒドラジン系化合物、アミド系化合物が好ましい。これらの中でも、ブリードアウトを抑制できる観点から、（Ｄ１）成分がより好ましい。また、（Ｄ１）成分とイオウ系化合物とを併用することが好ましい。イオウ系化合物としては、後述する、チオエーテル構造を有する化合物（以下、「（Ｄ２）成分」ともいう）が好ましい。ヒンダードフェノール構造を有するアミン系化合物、リン系化合物、イオウ系化合物、ヒドラジン系化合物又はアミド系化合物は、ヒンダードフェノール構造を有する化合物に帰属するものとする。
【０１２１】
［（Ｄ１）成分：ヒンダードフェノール構造を有する化合物］
（Ｄ１）成分としては、下記一般式（２）で表される化合物が好ましい。（Ｄ１）成分の中でも、黄変を更に抑制できる観点から、チオエーテル構造を有するヒンダードフェノール系化合物（ヒンダードフェノール−チオエーテル系化合物）が好ましく、下記一般式（３）で表される化合物（ヒンダードフェノール−チオエーテル系化合物）がより好ましい。
【０１２２】
【化２】
2016224256.tif 000004
［式（２）中、Ｒ２１は炭素数１〜５のアルキル基又は−ＣＨ２−Ｓ−Ｒａを示し、Ｒ２１はそれぞれ独立の置換基として複数個存在してもよく、Ｒ２２はｔｅｒｔ−ブチル基又は−ＣＨ２−Ｓ−Ｒａを示し、ｎは１〜４の整数を示す。Ａはｎ価の有機基を示す。前記Ｒａは炭素数１〜２０のアルキル基を示す。］
【０１２３】
【化３】
2016224256.tif 000005
［式（３）中、Ｒ３１は炭素数１〜５のアルキル基を示し、Ｒ３２及びＲ３３は、それぞれ独立に炭素数１〜２０のアルキル基を示す。］
【０１２４】
（Ｄ１）成分としては、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０）、チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０３５）、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０７６）、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオンアミド］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１０９８）、ベンゼンプロパン酸，３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ，Ｃ７−Ｃ９側鎖アルキルエステル（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１１３５）、２，４−ジメチル−６−（１−メチルペンタデシル）フェノール（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１１４１）、ジエチル［｛３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル｝メチル］ホスフォネート（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１２２２）、３，３’，３”，５，５’，５”−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−ａ，ａ’，ａ”−（メシチレン−２，４，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１３３０）、カルシウムジエチルビス［［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ホスフォネート］とポリエチレンワックスの混合物（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１４２５ＷＬ）、４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾール（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ１５２０Ｌ）、エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ２４５）、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ２５９）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ３１１４）、１，３，５−トリス［（４−ｔｅｒｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−キシリル）メチル］−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ３７９０）、Ｎ−フェニルベンゼンアミンと２，４，４−トリメチルペンテンとの反応生成物（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ５０５７）、６−（４−ヒドロキシ−３−５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−２，４−ビスオクチルチオ−１，３，５−トリアジン（ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ５６５）、１，３，５−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌル酸（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−２０）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ブタン（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−３０）、４，４’−ブチリデンビス（６−ｔｅｒｔ−ブチル−３−メチルフェノール）（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−４０）、３−（４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）プロピオン酸−ｎ−オクタデシル（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−５０）、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−６０）、トリエチレングリコールビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート］（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−７０）、３，９−ビス［１，１−ジメチル−２−［β−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルプロピオニルオキシ］エチル］２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］−ウンデカン（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−８０）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン（株式会社ＡＤＥＫＡ製アデカスタブＡＯ−３３０）、２，２−オキサミドビス−［エチル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］（Ｃｈｅｍｔｕｒａ社製ナウガードＸＬ−１）、１，１，３−トリス｛２−メチル−４−[３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ]−５−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル｝ブタン（株式会社エーピーアイ  コーポレーション製ＧＳＹ−２４２）等が挙げられる。
【０１２５】
（Ｄ１）成分の中でも、ブリードアウトを抑制できる観点から、ペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］及び４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾールが好ましく、ブリードアウト及び黄変を容易に抑制できると共に扱い易い観点から、分子内にチオエーテル構造を有する４，６−ビス（オクチルチオメチル）−ｏ−クレゾールがより好ましい。また、（Ｄ１）成分の中でも、広面積に塗布する用途に使用し、臭気が問題となる場合等は、ブリードアウトを更に容易に抑制でき、低臭気であり、操作性に優れる観点から、液状であるベンゼンプロパン酸，３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ，Ｃ７−Ｃ９側鎖アルキルエステルが好ましい。
【０１２６】
［（Ｄ２）成分：チオエーテル構造を有する化合物］
（Ｄ２）チオエーテル構造を有する化合物は、下記一般式（４）で表される化合物が好ましい。
【０１２７】
【化４】
2016224256.tif 000006
［式（４）中、Ｒ４は炭素数１〜３２のアルキル基を示す。］
【０１２８】
（Ｄ２）成分としては、ジドデシルチオジプロピオネート（シプロ化成株式会社製ＳＥＥＮＯＸ  ＤＬ、ＢＡＳＦジャパン株式会社製ＩＲＧＡＮＯＸ  ＰＳ  ８００  ＦＬ、住友化学株式会社製Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＴＰＬ−Ｒ）、ジトリデシル３，３’−チオジプロピオネート（株式会社ＡＤＥＫＡ製ＡＯ−５０３）、ジテトラデシルチオジプロピオネート（住友化学株式会社製Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＴＰＭ）、ジステアリルチオジプロピオネート（住友化学株式会社製Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ  ＴＰＤ）等が挙げられる。
【０１２９】
（Ｄ）成分の含有量は、樹脂組成物の黄変及びブリードアウトを更に抑制できる観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、０．５質量％以上が好ましく、０．６質量％以上がより好ましく、０．７質量％以上が更に好ましい。（Ｄ）成分の含有量は、硬化性及び感度の低下を抑制できる観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、３．０質量％以下が好ましく、２．７質量％以下がより好ましく、２．５質量％以下が更に好ましい。
【０１３０】
（Ｄ１）成分と（Ｄ２）成分とを併用する場合、（Ｄ２）成分に対する（Ｄ１）成分の質量比（Ｄ１）／（Ｄ２）は、０．２５以上が好ましく、０．３以上がより好ましく、０．５以上が更に好ましい。質量比（Ｄ１）／（Ｄ２）は、４以下が好ましく、３以下がより好ましく、２以下が更に好ましい。
【０１３１】
（（Ｅ）成分：可塑剤）
本実施形態に係る樹脂組成物は、粘度を調整する観点から、可塑剤（以下、「（Ｅ）成分」ともいう）を含有することができる。
【０１３２】
（Ｅ）成分として用いる可塑剤は、実質的に（メタ）アクリロイル基を有さない。（Ｅ）成分としては、樹脂組成物の作製時の作業性に優れる観点、及び、再結晶化等による可塑剤の析出を抑制する観点から、２５℃で液状の成分であることが好ましい。
【０１３３】
（Ｅ）成分としては、例えば、ブタジエンゴム、イソプレンゴム、シリコンゴム、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ニトリルゴム、ブチルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴム、アクリルゴム、クロルスルホン化ポリエチレンゴム、フッ素ゴム、水素化ニトリルゴム、エピクロルヒドリンゴム等の液状物；ポリブテン等のポリα−オレフィン；水添ポリブテン等の水添α−オレフィンオリゴマー；アタクチックポリプロピレン等のポリビニル系オリゴマー；ビフェニル、トリフェニル等の芳香族系オリゴマー；水添液状ポリブタジエン等の水添ポリエン系オリゴマー；パラフィン油、塩化パラフィン油等のパラフィン系オリゴマー；ナフテン油等のシクロパラフィン系オリゴマー；ジメチルフタレート、ジエチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−（２−エチルヘキシル）フタレート、ジ−ｎ−オクチルフタレート、ジイソブチルフタレート、ジヘプチルフタレート、ジフェニルフタレート、ジイソデシルフタレート、ジトリデシルフタレート、ジウンデシルフタレート、ジ（ヘプチル，ノニル，ウンデシル）フタレート、ベンジルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジノニルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等のフタル酸誘導体；ジメチルイソフタレート、ジ−（２−エチルヘキシル）イソフタレート、ジイソオクチルイソフタレート等のイソフタル酸誘導体；ジ−（２−エチルヘキシル）テトラヒドロフタレート、ジ−ｎ−オクチルテトラヒドロフタレート、ジイソデシルテトラヒドロフタレート等のテトラヒドロフタル酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルアジペート、ジ（２−エチルヘキシル）アジペート、ジイソデシルアジペート、ジイソノニルアジペート等のアジピン酸誘導体；ジ−（２−エチルヘキシル）アゼレート、ジイソオクチルアゼレート、ジ−ｎ−ヘキシルアゼレート等のアゼライン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルセバケート、ジ−（２−エチルヘキシル）セバケート等のセバシン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルマレート、ジメチルマレート、ジエチルマレート、ジ−（２−エチルヘキシル）マレート等のマレイン酸誘導体；ジ−ｎ−ブチルフマレート、ジ−（２−エチルヘキシル）フマレート等のフマル酸誘導体；トリ−（２−エチルヘキシル）トリメリテート、トリ−ｎ−オクチルトリメリテート、トリイソデシルトリメリテート、トリイソオクチルトリメリテート、トリ−ｎ−ヘキシルトリメリテート、トリイソノニルトリメリテート等のトリメリット酸誘導体；テトラ−（２−エチルヘキシル）ピロメリテート、テトラ−ｎ−オクチルピロメリテート等のピロメリット酸誘導体；トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−（２−エチルヘキシル）シトレート等のクエン酸誘導体；モノメチルイタコネート、モノブチルイタコネート、ジメチルイタコネート、ジエチルイタコネート、ジブチルイタコネート、ジ−（２−エチルヘキシル）イタコネート等のイタコン酸誘導体；ブチルオレート、グリセリルモノオレート、ジエチレングリコールモノオレート等のオレイン酸誘導体；メチルアセチルリシノレート、ブチルアセチルリシノレート、グリセリルモノリシノレート、ジエチレングリコールモノリシノレート等のリ��ノール酸誘導体；ｎ−ブチルステアレート、グリセリンモノステアレート、ジエチレングリコールジステアレート等のステアリン酸誘導体；ジエチレングリコールモノラウレート、ジエチレングリコールジペラルゴネート、ペンタエリスリトール脂肪酸エステル等のその他の脂肪酸誘導体；トリエチルホスフェート、トリブチルホスフェート、トリ−（２−エチルヘキシル）ホスフェート、トリブトキシエチルホスフェート、トリフェニルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、トリキシレニルホスフェート、トリス（クロロエチル）ホスフェート等のリン酸誘導体；ジエチレングリコールジベンゾエート、ジプロピレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジベンゾエート、トリエチレングリコールジ−（２−エチルブチレート）、トリエチレングリコールジ−（２−エチルヘキソエート）、ジブチルメチレンビスチオグリコレート等のグリコール誘導体；グリセロールモノアセテート、グリセロールトリアセテート、グリセロールトリブチレート等のグリセリン誘導体；エポキシ化大豆油、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジイソデシル、エポキシトリグリセライド、エポキシ化オレイン酸オクチル、エポキシ化オレイン酸デシル等のエポキシ誘導体などが挙げられる。
【０１３４】
（Ｅ）成分の数平均分子量は、可塑剤の揮発を抑制する観点、可塑剤の光学特性に優れる観点、及び、樹脂組成物の粘度を調整し易い観点から、３．５×１０２以上が好ましく、４．０×１０２以上がより好ましく、５．０×１０２以上が更に好ましく、８．０×１０２以上が特に好ましい。（Ｅ）成分の数平均分子量は、樹脂組成物の粘度を調整し易い観点、及び、可塑剤の白濁を抑制する観点から、３．０×１０４以下が好ましく、１．０×１０４以下がより好ましく、５．０×１０３以下が更に好ましく、３．５×１０３以下が特に好ましい。（Ｅ）成分の数平均分子量が３．５×１０２以上であれば、可塑剤の揮発を抑制することができる。（Ｅ）成分の数平均分子量が３．０×１０４以下であれば、可塑剤の粘度が高くなりすぎること、又は、可塑剤の白濁を抑制することができる。
【０１３５】
（Ｅ）成分の含有量は、硬化物の粘度を適度な範囲に調整し、ブリードアウトを抑制する観点から、樹脂組成物の全質量を基準として、４０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましく、２０質量％以下が更に好ましく、１０質量％以下が特に好ましい。（Ｅ）成分の含有量は、粘度が高くなりすぎることによる作業性の低下を抑制する観点から、１０質量％以上が好ましい。
【０１３６】
（連鎖移動剤）
本実施形態に係る樹脂組成物は、分子量の調整、及び、光硬化時の酸素阻害防止のために連鎖移動剤を含有することができる。
【０１３７】
連鎖移動剤としては、２−メルカプトエタノール、ラウリルメルカプタン、グリシジルメルカプタン、メルカプト酢酸、チオグリコール酸２−エチルヘキシル、２，３−ジメチルカプト−１−プロパノール、α−メチルスチレンダイマー、１，４−ビス（３−メルカプトブチリルオキシ）ブタン、１，３，５−トリス（３−メルカプトブチルオキシエチル）−１，３，５−トリアジン−２，４，６（１Ｈ，３Ｈ，５Ｈ）−トリオン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）等のチオール化合物などが挙げられる。
【０１３８】
（安定剤）
本実施形態に係る樹脂組成物は、分子量の調整、及び、光硬化時の酸素阻害防止のために安定剤を含有することができる。安定剤としては、亜燐酸トリフェニル等が挙げられる。
【０１３９】
（有機溶媒）
本実施形態に係る樹脂組成物は、耐湿熱信頼性に優れる観点、及び、硬化物中の気泡発生を抑制し易い観点から、実質的に有機溶媒（溶剤）を含有しないことが好ましい。なお、「有機溶媒」とは、（メタ）アクリロイル基を有さず、２５℃において液状であり、且つ、大気圧における沸点が２５０℃以下の有機化合物を意味する。
【０１４０】
ここで、「実質的に有機溶媒を含有しない」とは、意図的に有機溶媒を添加しないという意味であり、本実施形態に係る樹脂組成物の光硬化後の特性を著しく低下させない程度であれば、微量の有機溶媒が存在していてもよい。具体的には、樹脂組成物中の有機溶媒の含有量は、樹脂組成物の全質量を基準として、１．０×１０３ｐｐｍ以下が好ましく、５．０×１０２ｐｐｍ以下がより好ましく、１．０×１０２ｐｐｍ以下が更に好ましい。本実施形態に係る樹脂組成物は、有機溶媒を全く含有しない（有機溶媒の含有量が０ｐｐｍである）ことが好ましい。
【０１４１】
（その他の添加剤）
本実施形態に係る樹脂組成物は、その他の添加剤を更に含有することができる。その他の添加剤としては、例えば、接着改善剤（シランカップリング剤等）、熱重合開始剤、湿気硬化剤、チキソトロピック剤、光増感剤などの一般的な添加剤が挙げられる。
【０１４２】
（樹脂組成物の粘度）
本実施形態に係る樹脂組成物の２５℃における粘度は、作業性に優れる観点から、５．０×１０２ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１．０×１０３ｍＰａ・ｓ以上がより好ましく、２．０×１０３ｍＰａ・ｓ以上が更に好ましく、３．０×１０３ｍＰａ・ｓ以上が特に好ましい。本実施形態に係る樹脂組成物の２５℃における粘度は、塗膜形成時の作業性に優れる観点から、５．０×１０４ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、２．０×１０４ｍＰａ・ｓ以下がより好ましく、１．５×１０４ｍＰａ・ｓ以下が更に好ましい。なお、２５℃における粘度は、例えば、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３に基づいて測定した値である。粘度は、具体的には、Ｂ型粘度計（東機産業株式会社製、ＢＬ２）により測定することができる。なお、粘度計の校正は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０９−ＪＳ１４０００に基づいて行うことができる。
【産業上の利用可能性】
【０１４３】
本発明によれば、光透過性硬化樹脂層と、当該光透過性硬化樹脂層に接する基材と、を備える積層体の画像表示用装置の製造への使用を提供することができる。また、本発明によれば、光透過性硬化樹脂層と、当該光透過性硬化樹脂層に接する基材と、を備える積層体の入力装置の製造への使用を提供することができる。本発明は、タッチパネル、裸眼３Ｄ用視差バリア等を備えたスマートフォーン；タッチパッド、パーソナルコンピュータ、テレビ等の情報端末などの工業的製造に有用である。
【符号の説明】
【０１４４】
１００…画像表示用装置、１１０…画像表示部材、１２０，２２０…光透過性カバー部材、１２２，２２２…支持部材、１２２ａ，２２２ａ…表面、１２４，２２４…段差部、１３０，２３０…光透過性硬化樹脂層、１３０ａ，１３０ｂ…光透過層、１５０ａ，１５０ｂ，１５０ｃ，１５０ｄ，１５０ｅ，１５０ｆ，１５０ｇ，１５０ｈ…積層体、１６０ａ，１６０ｂ…基材、２００…入力装置、２１０…入力部材、Ｄ…段差、Ｌ…活性エネルギー線。
【図１】
2016224256.tif 000007
【図２】
2016224256.tif 000008
【図３】
2016224256.tif 000009
【図４】
2016224256.tif 000010
【図５】
2016224256.tif 000011
【図６】
2016224256.tif 000012
【図７】
2016224256.tif 000013
【図８】
2016224256.tif 000014
【図９】
2016224256.tif 000015
【図１０】
2016224256.tif 000016