(57)【要約】【課題】本発明は、シクロオレフィン樹脂等のプラスチック基材との密着性に優れ、透明性と高屈折率を有する層を形成することができるコーティング剤を提供することを課題とする。【解決手段】式（Ｉ）（式中、Ａは、電子供与性基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０の芳香族炭化水素基を表し、Ｚは、炭素原子又はケイ素原子を表し、Ｇは、酸素原子等を表し、Ｒ２は、水素原子等を表し、Ｘは、単結合等を表し、Ｙは、重合可能な官能基を表し、ｎは２又は３の整数を表し、ｍは１又は２の整数を表し、ｌは０又は１の整数を表し、但しｎ＋ｍ＋ｌ＝４であり、ｎが２又は３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。）で表される化合物を含有するコーティング剤。    【化１】2016033210.tif 000018【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）
【化１】
2016033210.tif 000017
（式中、
Ａは、電子供与性基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０の芳香族炭化水素基を表し、
Ｚは、炭素原子又はケイ素原子を表し、
Ｇは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又は−ＮＲ−（式中、Ｒは水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し、
Ｒ２は、水素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、又はＣ３〜Ｃ６のシクロアルコキシ基を表し、
Ｘは、
単結合、又は
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、及び−ＮＲ１−（式中、Ｒ１は水素原子またはＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表す。）から選ばれる一種以上の連結基を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基を表し、
Ｙは、重合可能な官能基を表し、
ｎは２又は３の整数を表し、
ｍは１又は２の整数を表し、
ｌは０又は１の整数を表し、
但しｎ＋ｍ＋ｌ＝４であり、ｎが２又は３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。）
で表される化合物を含有するコーティング剤。
【請求項２】
式（Ｉ）中、ｍが１である請求項１に記載のコーティング剤。
【請求項３】
式（Ｉ）中、ｎが３であり、ｍが１であり、ｌが０である請求項１に記載のコーティング剤。
【請求項４】
コーティング剤が、プラスチック基材上へのコーティング剤である請求項１〜３のいずれかに記載のコーティング剤。
【請求項５】
プラスチック基材が、シクロオレフィン樹脂基材である請求項４に記載のコーティング剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なコーティング剤、特に、プラスチック基材との密着性に優れるコーティング剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
式（１）
【化１】
2016033210.tif 000002
【０００３】
（式中、Ｒは、アクリロイル基、メタアクリロイル基、アリルオキシカルボニル基、アリル基を表す。）で表される化合物を少なくとも１つ含む化合物をモノマーとしてラジカル重合して得られる３次元重合体は、耐熱性、耐光性、透明性に優れた重合体であり、光学用プラスチック材料として使用されることが知られている。（特許文献１及び２を参照）
また下記式（２）
【０００４】
【化２】
2016033210.tif 000003
【０００５】
（式中、４つのフェニル基の有する置換基Ｚ１〜Ｚ４はそれぞれ独立に下記式（３）で表わされる置換基であり、ａ、ｂ、ｃおよびｄはそれぞれ独立して０〜３であり、かつ、その総和（ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄ）は１〜４である。４つのフェニル基はそれぞれ独立に、残る水素原子をそのまま有してなるか、あるいは、残る水素原子の一部又は全部がメチル基、メトキシ基、フッ素原子、トリフルオロメチル基又はトリフルオロメトキシ基で置換されてなる。ｉ、ｊ、ｋおよびｌは、それぞれ独立して０又は１である。）
【０００６】
【化３】
2016033210.tif 000004
【０００７】
（式中、Ｒ１は、水素原子又はメチル基を表し、Ｙは、単結合、炭素数１〜１２のアルキレン基、一部又は全部の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のアルキレン基、フェニル基側の末端に酸素原子を有する炭素数１〜１２のアルキレン基、あるいは、フェニル基側の末端に酸素原子を有し一部又は全部の水素原子がフッ素原子で置換された炭素数１〜１２のアルキレン基を表す。） で表されることを特徴とする重合性化合物を光重合させて得られる硬化物は、光学素子として用いられることが知られている。（特許文献３を参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開昭６３−１４５３１０号公報
【特許文献２】特開昭６３−１４５２８７号公報
【特許文献３】ＷＯ２００９／１３９４７６号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、これらの重合性化合物を光学用プラスチック基材以外に使用した例は知られていない。
一方、シクロオレフィン樹脂は、光学レンズ、光学部品、又は医療用として広く使用されているが、その表面改質を行うための密着性に優れたプライマー層は知られていなかった。
本発明は、シクロオレフィン樹脂等のプラスチック基材との密着性に優れ、透明性と高屈折率を有する層を形成することができるコーティング剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記課題達成のために鋭意検討した結果、式（Ｉ）で表される化合物の重合体が、シクロオレフィン樹脂等のプラスチック基材上に、密着性に優れた層を形成することを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１１】
すなわち、本発明は、
（１）式（Ｉ）
【００１２】
【化４】
2016033210.tif 000005
【００１３】
（式中、
Ａは、電子供与性基を有していてもよいＣ６〜Ｃ１０の芳香族炭化水素基を表し、
Ｚは、炭素原子又はケイ素原子を表し、
Ｇは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又は−ＮＲ−（式中、Ｒは水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表す。）を表し、
Ｒ２は、水素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、又はＣ３〜Ｃ６のシクロアルコキシ基を表し、
Ｘは、
単結合、又は
酸素原子、硫黄原子、セレン原子、及び−ＮＲ１−（式中、Ｒ１は水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表す。）から選ばれる一種以上の連結基を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基を表し、
Ｙは、重合可能な官能基を表し、
ｎは２又は３の整数を表し、
ｍは１又は２の整数を表し、
ｌは０又は１の整数を表し、
但しｎ＋ｍ＋ｌ＝４であり、ｎが２又は３の整数の場合、Ａは、同一でも相異なっていてもよい。）
で表される化合物を含有するコーティング剤、
（２）式（Ｉ）中、ｍが１である（１）に記載のコーティング剤、
（３）式（Ｉ）中、ｎが３であり、ｍが１であり、ｌが０である（１）に記載のコーティング剤、
（４）コーティング剤が、プラスチック基材上へのコーティング剤である（１）〜（３）のいずれかに記載のコーティング剤、及び
（５）プラスチック基材が、シクロオレフィン樹脂基材である（４）に記載のコーティング剤に関する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のコーティング剤を用いることで、プラスチック基材、特にシクロオレフィン樹脂等のプラスチック基材への密着性に優れる高屈折率の層（コーティング層）を形成することができる。従来、プラスチック基材に直接形成することができなかった機能性膜を本発明のコーティング層を介して積層させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】実施例３で得られた成形体［Ｃ−４］について、ＸＰＳにより測定した膜厚方向における各原子の分布を示す図である。
【図２】実施例３で得られた成形体［Ｃ−５］について、ＸＰＳにより測定した膜厚方向における各原子の分布を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
１．コーティング剤
〔式（Ｉ）で表される化合物〕
本発明のコーティング剤は、式（Ｉ）で表される化合物を含有する。式（Ｉ）で表される化合物は一種のみであってもよく、２種以上の混合物であってもよい。
【００１７】
式中、Ａは、電子供与性基を有してもよいＣ６〜Ｃ１０の芳香族炭化水素基を表す。
Ｃ６〜Ｃ１０の芳香族炭化水素基としては、具体的には、フェニル基、ナフチル基、テトラヒドロナフチル基等が挙げられる。
電子供与性基としては、具体的には、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基、Ｃ６〜Ｃ１０のアリール基、及びＣ６〜Ｃ１０のアリールオキシ基が挙げられる。
【００１８】
Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基としては、具体的には、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基等が挙げられる。
Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基としては、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓ−ブトキシ基、ｉ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ペントキシ基、ｎ−ヘキソキシ基等が挙げられる。
Ｃ１〜Ｃ６のアルキルチオ基としては、具体的には、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓ−ブチルチオ基、ｉ−ブチルチオ基、ｔ−ブチルチオ基、ｎ−ペンチルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基等が挙げられる。
Ｃ６〜Ｃ１０のアリール基としては、具体的には、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
Ｃ６〜Ｃ１０のアリールオキシ基としては、具体的には、フェノキシ基、ナフトキシ基等が挙げられる。
【００１９】
Ｚは、炭素原子又はケイ素原子を表す。
【００２０】
Ｇは、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又は−ＮＲ−を表す。Ｒは水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表し、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基としては、電子供与性基のＣ１〜Ｃ６アルキル基として例示した基と同様の基が挙げられる。
【００２１】
Ｒ２は、水素原子、水酸基、Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基、Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基、Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルキル基、又はＣ３〜Ｃ６のシクロアルコキシ基を表す。
Ｃ１〜Ｃ６のアルキル基としては、電子供与性基のＣ１〜Ｃ６アルキル基として例示した基と同様の基が挙げられる。
Ｃ１〜Ｃ６のアルコキシ基としては、電子供与性基のＣ１〜Ｃ６アルコキシ基として例示した基と同様の基が挙げられる。
Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルキル基としては、具体的には、シクロプロピル基、２−メチルシクロプロピル基、１−メチルシクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
Ｃ３〜Ｃ６のシクロアルコキシ基としては、具体的には、シクロプロピルオキシ基、シクロブチルオキシ基、シクロペンチルオキシ基、シクロヘキシルオキシ基等が挙げられる。
【００２２】
Ｘは、単結合、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、及び−ＮＲ１−（式中、Ｒ１は水素原子又はＣ１〜Ｃ６のアルキル基を表す。）から選ばれる一種以上の連結基（「酸素原子等の連結基」ということがある。）を含んでいてもよいＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基を表す。
Ｃ１〜Ｃ２０のアルキレン基は、二価の炭素化水素基であり、具体的には、メチレン基、メチルメチレン基、ジメチルメチレン基、１，２−エチレン基、１−メチル−１，２−エチレン基、１，３−プロピレン基、２−メチル−１，３−プロピレン基、１，４−ブチレン基、１，５−ペンチレン基、１，６−ヘキシレン基、１，８−オクチレン基、デカレン基等が挙げられる。
酸素原子等の連結基を含むＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基とは、アルキレン基を構成する炭素−炭素結合間に酸素原子等の連結基を含むことを意味し、末端に酸素原子等の連結基を含む場合は除くことを意味する。
−ＮＲ１−中のＲ１のＣ１〜Ｃ６のアルキル基としては、電子供与性基のＣ１〜Ｃ６アルキル基として例示した基と同様の基が挙げられる。
【００２３】
Ｘにおける酸素原子等の連結基を含むＣ１〜Ｃ２０のアルキレン基としては、具体的には、以下に示す二価の基が挙げられる。
【００２４】
【化５】
2016033210.tif 000006
【００２５】
式中、Ｙは、重合可能な官能基を表す。
重合可能な官能基としては、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、（（ビニルオキシ）カルボニル）オキシ基、（（プロプ−１−エン−２−イルオキシ）カルボニル）オキシ基、ビニル基、アリルオキシ基、アリルオキシカルボニルオキシ基、エポキシ基が挙げられる。
その他にも、以下に示すポリエステル、ポリウレタン、ポリイソシアネート、又はポリカーボネートを形成できる官能基が挙げられる。
【００２６】
【化６】
2016033210.tif 000007
【００２７】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物のうちで、Ｘが単結合である化合物としては、具体的には、トリチルアクリレート、トリチルメタクリレート等が挙げられる。
その他には、本発明の式（Ｉ）で表される化合物としては、具体的には、以下の化合物が挙げられる。
【００２８】
【化７】
2016033210.tif 000008
【００２９】
【化８】
2016033210.tif 000009
【００３０】
【化９】
2016033210.tif 000010
【００３１】
【化１０】
2016033210.tif 000011
【００３２】
本発明の式（Ｉ）で表される化合物は、公知の方法により製造できるが、Ｊ．Ｍｅｄ．Ｃｈｅｍ．，２００６，４９，７７６６−７７７３、Ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ，２０１２，４４，７１７−７２２、Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，２００６，３５（７），  ７７８−７７９等に記載の方法により製造することができる。
【００３３】
具体的には、以下の製造方法を示すことができる。      
【００３４】
【化１１】
2016033210.tif 000012
【００３５】
式中、Ａ、Ｚ、Ｒ２、Ｘ、Ｇ、Ｙ、ｌ、ｍ、及びｎは、前記と同じ意味を表す。Ｑ及びＱ１は、Ｙ１が結合してＹを形成しうる官能基、又はＹ１がＸと結合してＹを形成するための脱離基を表し、具体的には、ハロゲン原子又はＨＧで表される基と同様の基を例示することができる。Ｙ１は、最終的にＸ又はＱと結合してＹを形成しうる官能基を表す。
【００３６】
〔その他の成分〕
（その他の共重合性化合物）
本発明のコーティング剤は、式（Ｉ）で表わされる化合物以外のその他の共重合性化合物を含んでいてもよい。
【００３７】
その他の共重合性化合物は、融点、粘度又は屈折率などの調整目的に応じて適宜選定すればよく、特に限定されるものではないが、具体的には、以下のものが挙げられる。
【００３８】
メチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ブロモフェニル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、トリス（２−（メタ）アクリロキシエチル）イソシアネート等の（メタ）アクリル酸エステル類；ジアリルフタレート、ジアリルイソフタレート、ジアリルテレフタレート、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレート等のアリルエステル類；スチレン、クロロスチレン、ブロモスチレン等の芳香族オレフィン類；
【００３９】
本発明のコーティング剤に含まれる重合性化合物の全量に対する式（Ｉ）の化合物の割合は、３０ｍｏｌ％以上とすることが好ましく、５０ｍｏｌ％以上とすることがより好ましい。
【００４０】
（重合開始剤）
また、本発明のコーティング剤は、重合開始剤を含んでいてもよい。ここで、重合反応としては、光重合反応や熱重合反応等が挙げられるが、プラスチック基材への熱的影響がない光重合反応が好ましい。光重合反応に用いる光線としては、紫外線又は可視光線が挙げられるが、重合速度が速い紫外線が好ましい。
【００４１】
光重合開始剤としては、（ａ）光照射によりカチオン種を発生させる化合物及び（ｂ）光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物等を挙げることができる。
【００４２】
光照射によりカチオン種を発生させる化合物としては、例えば、カチオン部分が、スルホニウム、ヨードニウム、ジアゾニウム、アンモニウム、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅカチオンであり、アニオン部分が、ＢＦ４−、ＰＦ６−、ＳｂＦ６−、［ＢＸ４］−（Ｘは、少なくとも２つ以上のフッ素又はトリフルオロメチル基で置換されたフェニル基を示す。）で構成されるオニウム塩が挙げられる。
【００４３】
具体的に、スルホニウム塩としては、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロホスフェート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビスヘキサフルオロアンチモネート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド ビステトラフルオロボレート、ビス［４−（ジフェニルスルホニオ）フェニル］スルフィド テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラフルオロボレート、ジフェニル−４−（フェニルチオ）フェニルスルホニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスフェート等が挙げられる。
【００４４】
ヨードニウム塩としては、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウム テトラフルオロボレート、ジフェニルヨードニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウム テトラフルオロボレート、ビス（ドデシルフェニル）ヨードニウムテトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００４５】
ジアゾニウム塩としては、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオロホスフェート、フェニルジアゾニウム ヘキサフルオロアンチモネート、フェニルジアゾニウム テトラフルオロボレート、フェニルジアゾニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００４６】
アンモニウム塩としては、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロアンチモネート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム テトラフルオロボレート、１−ベンジル−２−シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム ヘキサフルオロホスフェート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウムヘキサフルオロアンチモネート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム テトラフルオロボレート、１−（ナフチルメチル）−２−シアノピリジニウム テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００４７】
（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ塩としては、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（ＩＩ）ヘキサフルオロホスフェート、（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（ＩＩ）ヘキサフルオロアンチモネート、２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（ＩＩ）テトラフルオロボレート、２，４−シクロペンタジエン−１−イル）［（１−メチルエチル）ベンゼン］−Ｆｅ（ＩＩ）テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等が挙げられる。
【００４８】
光照射により活性ラジカル種を発生させる化合物としては、具体的には、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等が挙げられる。
【００４９】
熱重合開始剤は、加熱によりラジカルを発生する化合物のことを指し、有機過酸化物、アゾ化合物及びレドックス開始剤等が挙げられる。
【００５０】
本発明において用いられる重合開始剤の配合量は、全重合性化合物の総量に対して、０．０１〜２０質量％配合することが好ましく、０．１〜１０質量％が、さらに好ましい。
【００５１】
なお、本発明においては、必要に応じて増感剤を添加することができる。また、本発明のコーティング剤には、必要に応じ、本発明の目的を損なわない範囲で、有機シラン化合物の縮合物、金属化合物、有機溶剤、紫外線吸収剤、染料、防錆剤、防腐剤等の添加成分を配合することができる。
【００５２】
（有機シラン化合物の縮合物）
本発明のコーティング剤には、有機無機層を積層することを目的として、有機シラン化合物の縮合物を含有することができる。これによって、基材と接着性のよい有機無機複合膜を形成することができる。
【００５３】
有機シラン化合物の縮合物は、式（II）で表される有機シラン化合物を公知のシラノール縮合方法を用いて製造することができる。
Ｒ４Ｓｉ（Ｒ３）３    （II）
【００５４】
式中、Ｒ４は、エポキシ基、グリシジルオキシ基若しくは（メタ）アクリロキシ基で置換されていても良いＣ１〜Ｃ３０のアルキル基、Ｃ２〜Ｃ８のアルケニル基、又はＣ６〜Ｃ１０のアリール基を表し、Ｒ３は水酸基又は加水分解性基を表す。
【００５５】
Ｒ４におけるＣ１〜Ｃ３０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、２−メチルブチル基、２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ノニル基、イソノニル基、デシル基、ラウリル基、トリデシル基、ミリスチル基、ペンタデシル基、パルミチル基、ヘプタデシル基、ステアリル基等が挙げられる。
Ｃ２〜Ｃ８のアルケニル基としては、ビニル基、アリル基、２−プロペニル基等が挙げられる。
Ｃ６〜Ｃ１０のアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられる。  
【００５６】
Ｒ３の加水分解性基とは、無触媒条件下若しくは過剰の水の共存下、２５℃〜１００℃で加熱することにより、加水分解されてシラノール基を生成することができる基や、シロキサン縮合物を形成することができる基を意味し、具体的には、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲノ基、イソシアネート基等を挙げることができ、Ｃ１〜４のアルコキシ基又はＣ１〜６のアシルオキシ基が好ましい。
【００５７】
ここで、Ｃ１〜４のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、イソブトキシ基、ｔ−ブトキシ基等が挙げられ、Ｃ１〜６のアシルオキシ基としては、アセチルオキシ基、ベンゾイルオキシ基等が挙げられる。ハロゲノ基としてはフルオロ基、クロロ基、ブロモ基、イオド基等が挙げられる。
【００５８】
また、本発明においては、式（II）で表わされる有機シラン化合物は、Ｆｅｄｏｒｓの推算法により求められたその化合物の溶解パラメータ（ＳＰ１）が、Ｆｅｄｏｒｓの推算法により求められた式（Ｉ）で表される化合物の溶解パラメータ（ＳＰ２）よりも１．６以上小さい溶解パラメータを有する化合物であることが好ましい。
ＳＰ１がＳＰ２よりも１．６以上小さい場合は、コーティング層の表面に無機成分が偏析しやすいという利点がある。
以下にＦｅｄｏｒｓの推算法を示す。
【００５９】
Ｆｅｄｏｒｓの推算式：ＳＰ値（δ）＝（Ｅｖ／ｖ）１／２＝（ΣΔｅｉ／ΣΔｖｉ）１／２
Ｅｖ：蒸発エネルギー  
ｖ：モル体積
Δｅｉ：各成分の原子又は原子団の蒸発エネルギー
Δｖｉ：各原子又は原子団のモル体積
【００６０】
上記の式の計算に使用する各原子又は原子団の蒸発エネルギー、モル体積はR. F. Fedors, Polym. Eng. Sci., 14, 147 (1974)を参照することができる。
【００６１】
式（Ｉ）で表わされる化合物及び式（II）で表わされる有機シラン化合物の溶解パラメータ（ＳＰ値）はＦｅｄｏｒｓの推算法に基づき計算することができるから、あらかじめ計算されたＳＰ値を基に、式（Ｉ）で表わされる化合物及び式（II）で表わされる有機シラン化合物の組み合わせを決定することができる。
【００６２】
例えば、式（Ｉ）で表わされる化合物として、仮にＳＰ値：１０．２の化合物を用いた場合、ＳＰ値が１．６以上小さい有機シラン化合物としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、イソプロピルトリメトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、ｎ−ブチルトリメトキシシラン、ｔ−ブチルトリメトキシシラン、ｓｅｃ−ブチルトリメトキシシラン、イソブチルトリメトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、デシルトリメトキシシラン等（これらはいずれもＳＰ値が８．６１以下である）が挙げられる。
【００６３】
式（Ｉ）で表される化合物（および、存在するならばその他の共重合性化合物）と式（II）で表される有機シラン化合物の縮合物との層中の質量比は、９９：１〜５５：４５が好ましい。
【００６４】
公知のシラノール縮合方法は、具体的には、シラノール縮合触媒を用いる方法を挙げることができる。シラノール縮合触媒は、式（II）で表される化合物中の加水分解性基を加水分解し、シラノールを縮合してシロキサン結合とするものであれば特に制限されず、有機金属、有機酸金属塩、金属水酸化物、酸、塩基、金属錯体、それらの加水分解物、それらの縮合物等が挙げられる。シラノール縮合触媒は１種単独又は２種以上の組合せで使用することができる。
【００６５】
有機金属としては、具体的には、テトラメチルチタン、テトラプロピルジルコニウム等のアルキル金属化合物；テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシジルコニウム等の金属アルコラート；等が挙げられる。
【００６６】
有機酸金属塩は、金属イオンと有機酸から得られる塩からなる化合物であり、有機酸としては、酢酸、シュウ酸、酒石酸、安息香酸等のカルボン酸類；スルフォン酸、スルフィン酸等の含硫黄有機酸；フェノール化合物；エノール化合物；オキシム化合物；イミド化合物；芳香族スルフォンアミド；等の酸性を呈する有機化合物が挙げられる。具体的にはカルボン酸金属塩、スルフォン酸金属塩、フェノール金属塩等が挙げられる。
【００６７】
金属水酸化物は、陰イオンとして水酸化物イオンをもつ金属化合物である。
【００６８】
金属錯体としては、水酸基若しくは加水分解性基を有する金属錯体であることが好ましく、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有する金属錯体であることがより好ましい。なお、２以上の水酸基若しくは加水分解性基を有するとは、加水分解性基及び水酸基の合計が２以上であることを意味する。加水分解性基としては、アルコキシ基、アシルオキシ基、ハロゲン基、イソシアネート基が挙げられ、Ｃ１〜４のアルコキシ基、Ｃ１〜４のアシルオキシ基が好ましい。
【００６９】
また、前記金属錯体としては、β−ケトカルボニル化合物、β−ケトエステル化合物、及びα−ヒドロキシエステル化合物が好ましく、具体的には、アセト酢酸メチル、アセト酢酸ｎ−プロピル、アセト酢酸イソプロピル、アセト酢酸ｎ−ブチル、アセト酢酸ｓｅｃ−ブチル、アセト酢酸ｔ−ブチル等のβ−ケトエステル類；アセチルアセトン、へキサン−２，４−ジオン、ヘプタン−２，４−ジオン、ヘプタン−３，５−ジオン、オクタン−２，４−ジオン、ノナン−２，４−ジオン、５−メチル−へキサン−２，４−ジオン等のβ−ジケトン類；グリコール酸、乳酸等のヒドロキシカルボン酸等が配位した化合物が挙げられる。
【００７０】
また、これら有機金属、有機酸金属塩、金属水酸化物、金属錯体における金属としては、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、ケイ素（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、タングステン（Ｗ）、鉛（Ｐｂ）等が挙げられ、これらの中でもチタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、アルミニウム（Ａｌ）、スズ（Ｓｎ）が好ましく、特にチタン（Ｔｉ）が好ましい。これらは１種単独で用いてもよいし、２種以上用いることもできる。
【００７１】
酸としては、有機酸、鉱酸が挙げられ、有機酸としては酢酸、ギ酸、シュウ酸、炭酸、フタル酸、トリフルオロ酢酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等、鉱酸としては、塩酸、硝酸、ホウ酸、ホウフッ化水素酸等が挙げられる。
ここで、光照射によって酸を発生する光酸発生剤、具体的には、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、トリフェニルホスホニウムヘキサフルオロホスフェート等も酸に包含される。
【００７２】
塩基としては、テトラメチルグアニジン、テトラメチルグアニジルプロピルトリメトキシシラン等の強塩基類；有機アミン類、有機アミンのカルボン酸中和塩、４級アンモニウム塩等が挙げられる。
【００７３】
シラノール縮合触媒の配合比は、有機シラン化合物の質量に対して、１：９９〜９９：１、好ましくは１：９９〜５０：５０である。
【００７４】
（金属化合物等）
本発明のコーティング剤には、形成されるコーティング層の屈折率や硬度をあげることを目的として、金属化合物を添加することができる。金属化合物としては、前述の有機シラン化合物や、シラノール縮合触媒として例示された有機金属、有機酸金属塩、金属水酸化物、金属キレート化合物が挙げられるが、それら以外の金属化合物としては、金属酸化物が挙げられ、具体的には、二酸化ケイ素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化クロム、酸化マンガン、酸化鉄、酸化ジルコニウム（ジルコニア）、酸化コバルトの金属酸化物粒子等が挙げられる。特に酸化ジルコニウムが好ましい。
粒子の形状としては、球状、多孔質粉末、鱗片状、繊維状等が挙げられるが、多孔質粉末状であることがより好ましい。
また、本発明の金属酸化物粒子としては、コロイド状金属酸化物粒子も使用できる。具体的には、コロイド状シリカ、コロイド状ジルコニウムを挙げることができ、水分散コロイド状、あるいはメタノール若しくはイソプロパノールなどの有機溶媒分散コロイド状の金属酸化物粒子を挙げることができる。
【００７５】
また、コーティング層の着色、厚膜化、下地への紫外線透過防止、防蝕性の付与、耐熱性などの諸特性を発現させるために、別途、充填材を添加・分散させることも可能である。充填材としては、有機顔料、無機顔料などの非水溶性の顔料又は顔料以外の粒子状、繊維状もしくは鱗片状の金属および合金ならびにこれらの酸化物、水酸化物、炭化物、窒化物、硫化物等が挙げられる。
その他、オルトギ酸メチル、オルト酢酸メチル、テトラエトキシシランなどの公知の脱水剤、各種界面活性剤、前記以外のシランカップリング剤、チタンカップリング剤、染料、分散剤、増粘剤、レベリング剤などの添加剤を添加することもできる。
【００７６】
（有機溶媒）
本発明のコーティング剤には、有機溶媒を含むことができる。使用可能な代表的有機溶媒としては、エーテル系、エステル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系、ケトン系、有機ハロゲン化物系等が挙げられる。
エーテル系の有機溶媒としてはジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、ジブチルエーテル、ジアミルエーテル；エステル系の有機溶媒としてはエチルアセテート、プロピルアセテート、ブチルアセテート、アミルアセテート、ヘプチルアセテート、エチルブチレート、イソアミルイソバリレート；脂肪族系炭化水素系の有機溶媒としてはノルマルヘキサン、ノルマルヘプタン、シクロヘキサン；芳香族系の有機溶媒としてはトルエン、キシレン；ケトン系の有機溶媒としてはメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン；有機ハロゲン化物系の有機溶媒としてはトリクロロエタン、トリクロロエチレン；等が挙げられる。さらには、プロピレングリコールモノメチルエーテルやプロピレングリコールモノエチルエーテルなどの比較的非活性な有機溶媒も使用可能である。
中でも、本発明が自然環境下の開放系で用いられることが多いことを考慮すると、揮発性を有するプロピルアセテート、ブチルアセテート、イソアミルアセテート、ヘプチルアセテート、エチルブチレート、イソアミルイソバリレートなどのエステル系の有機溶媒が好ましい。
【００７７】
（コーティング剤の調製）
本発明におけるコーティング剤は、通常、有機溶媒中に前記式（Ｉ）で表される化合物のほか、必要に応じて、前記有機シラン化合物の縮合物、光重合開始剤、金属化合物等を混合して調製される。
本発明のコーティング剤中の固形分は、１〜９０質量％であることが好ましく、５〜６０質量％であることがより好ましい。
【００７８】
２．成形体
本発明の成形体は、上記式（Ｉ）で表される化合物を含有するコーティング剤を、プラスチック基材上に塗布し、前記コーティング剤を硬化させた層（コーティング層）を直接設けたものである。
【００７９】
（基材）
本発明のコーティング剤が使用できる基材としては、プラスチック基材が好ましく、例えば、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、液晶ポリマー樹脂、ポリエーテルスルフォンが挙げられるが、特に、シクロオレフィン樹脂が好適に用いられる。
【００８０】
（コーティング層の形成）
本発明のコーティング層は、光重合開始剤を使用する場合には、（Ａ）上述したコーティング剤を基材上に塗布し、乾燥する工程、（Ｂ）紫外線を含む光を照射し、コーティング剤を硬化する工程を経ることにより形成できる。熱重合開始剤を使用する場合は、上記（Ｂ）工程で光を照射する代わりに加熱すればよい。
【００８１】
本発明のコーティング剤は、上記（Ｂ）工程を経ることで、式（Ｉ）で表わされる化合物が重合し、コーティング層が形成される。さらに、式（II）で表わされる有機シラン化合物の縮合物を含有する場合は、形成されるコーティング層の表面部の炭素原子含有量が、コーティング層の内部（基材との接合部付近）の炭素原子含有量に比して少ない構成となり、コーティング層の表面に有機シラン化合物の縮合物の濃縮層を形成することができる。
【００８２】
コーティング剤の塗布方法としては、公知の塗布方法を用いることができ、ディッピング法、スプレー法、バーコート法、ロールコート法、スピンコート法、カーテンコート法、グラビア印刷法、シルクスクリーン法、インクジェット法等が挙げられる。また、形成されるコーティング層の厚さは、特に制限されるものではなく、０．１〜２００μｍ程度である。
【００８３】
コーティング層の乾燥処理は、４０〜２００℃で０．５〜１２０分程度行うことが好ましく、６０〜１２０℃で１〜６０分程度行うことがより好ましい。
【００８４】
紫外線の照射は、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、エキシマーランプ等の公知の装置を用いて行うことができる。
【００８５】
（機能性膜）
必要に応じて、本発明のコーティング層の上に、さらに機能性膜を設けることができる。
本発明のコーティング層は、非常にプラスチック基材と密着性がよいため、本発明のコーティング層を接着層又は中間層として用いることができる。従来、プラスチック基材に直接形成することができなかった機能性膜を、本発明のコーティング層を介して積層させることができる。複数層を積層することができ、また、本発明のコーティング剤を複数層上にさらに塗布し、さらに積層することもできる。
【００８６】
機能性膜としては、透明導電膜やガスバリア膜が挙げられる。
透明導電膜としては、スズがドープされた酸化インジウム膜（ＩＴＯ膜）、フッ素がドープされた酸化スズ膜（ＦＴＯ膜）、アンチモンがドープされた酸化亜鉛膜やインジウムがドープされた酸化亜鉛膜等が挙げられる。
ガスバリア膜は、酸素、水蒸気等のガスバリア性を有する限り特に制限はないが、好ましくは、無機化合物の薄膜であり、特に、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、ケイ素、ゲルマニウム、インジウム、スズ、タンタル、亜鉛、タングステン及び鉛から成る群より選ばれた金属元素を有する金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物又はそれらの複合物の薄膜が好ましい。
【００８７】
これらの機能性膜の厚さは、通常１０〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２００ｎｍ、より好ましくは１０〜１００ｎｍである。
【００８８】
無機化合物からなる透明導電性膜又はガスバリア膜を、本発明のコーティング層上に形成する方法は、公知の方法により形成することが可能であるが、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法等の物理的方法や、スプレー法、ディップ法、熱ＣＶＤ法、プラズマＣＶＤ法等の化学的方法等により行うことができる。
【００８９】
例えば、スパッタリング法等によれば、ケイ素化合物を酸素ガス存在下で焼結させたもの等をターゲットとして用いることにより、酸化ケイ素からなる膜を形成することもでき、金属シリコンをターゲットとして酸素存在下で反応性スパッターすることによっても膜を形成することができる。また、プラズマＣＶＤ法によれば、シランガスを、酸素ガスおよび窒素ガスと共に、プラズマを発生させたチャンバーの中に供給し、反応させ、基材上に酸化窒化ケイ素からなる膜を形成することができる。また、熱ＣＶＤ法等によれば、ケイ素化合物を含有する有機溶媒溶液等を蒸発物として用いることにより、酸化ケイ素からなる膜を形成することができる。
【００９０】
本発明においては、特に、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法又はプラズマＣＶＤ法により、機能性膜を形成するのが好ましい。
【００９１】
また、機能性膜を形成する際に、必要に応じて、本発明のコーティング層の表面を予めプラズマ処理又はＵＶオゾン処理しておいてもよい。
【００９２】
以下に実施例を示すが、本発明の技術的範囲はこれら実施例により限定されるものではない。
【実施例】
【００９３】
（合成例１）
５−トリチルオキシペンチルアクリレート（Ａ−１）の製造
５００ｍｌの４つ口フラスコに、１，５−ペンタンジオール７４．９ｇ（７９ｍｍｏｌ）、ジメチルアミノピリジン０．３５ｇ（２．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン７．９ｇ（７９ｍｍｏｌ）および塩化メチレン３００ｍｌを仕込み、０℃に冷却し、トリチルクロライド２０ｇ（７２ｍｍｏｌ）の塩化メチレン１００ｍｌの溶液を同温度で滴下し、滴下後、室温まで昇温し、室温で２４時間撹拌した。反応液を水洗し、分液し、有機層を乾燥、ろ過、溶媒を減圧留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝１／１０）で分離精製し、５−トリチルオキシ−1−ペンタノール２１．７ｇ（収率８７％）を得た。
窒素置換した３００ｍｌの４つ口フラスコに、得られた５−トリチルオキシ−１−ペンタノール１０．０ｇ（２８．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン５．８ｇ（５７．７ｍｍｏｌ）、無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１７８ｇを仕込み、０℃に冷却し、アクリル酸クロライド３．９ｇ（４３ｍｍｏｌ）を同温度で滴下し、滴下後、室温まで昇温し、室温で２４時間撹拌した。反応液を飽和重曹水、希塩酸、及び水で洗浄し、分液し、有機層を乾燥、ろ過、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８）で分離精製し目的とする５−トリチルオキシペンチルアクリレート（Ａ−１）７．１ｇ（収率６１％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、５００ＭＨｚ、３００Ｋ）δ  １．４，１．６，２．０，３．０，４．１，５．７，６．２，６．３，７．２，７．３，７．４５．
【００９４】
(合成例２)
２−（２−トリチルオキシエトキシ）エチルアクリレート（Ａ−２）の製造
５００ｍｌの４つ口フラスコに、ジエチレングリコール１６８ｇ（１．５８ｍｏｌ）、トリエチルアミン２７．８ｇ（０．２ｍｏｌ）および塩化メチレン２００ｍｌを仕込み、０℃に冷却し、トリチルクロライド２２ｇ（７９ｍｍｏｌ）の塩化メチレン１００ｍｌの溶液を同温度で滴下し、滴下後、室温まで昇温し、室温で２４時間撹拌した。反応液を水洗し、分液し、有機層を乾燥、ろ過、溶媒を減圧留去して、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝２／８）で分離精製し、２−（２−トリチルオキシエトキシ）エタノール２４．５ｇ（収率８９％）を得た。
窒素置換した３００ｍｌの４つ口フラスコに、得られた２−（２−トリチルオキシエトキシ）エタノール１０．０ｇ（２８．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン５．８ｇ（５７．４ｍｍｏｌ）、無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１７８ｇを仕込み、０℃に冷却し、アクリル酸クロライド３．９ｇ（４３ｍｍｏｌ）を同温度で滴下し、滴下後、室温まで昇温し、室温で２４時間撹拌した。反応液を飽和重曹水、希塩酸、及び水で洗浄し、分液し、有機層を乾燥、ろ過、溶媒を減圧留去し、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘキサン＝３／７）で分離精製し目的とする２−（２−トリチルオキシエトキシ）エチルアクリレート（Ａ−２）７．４ｇ（収率６４％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、５００ＭＨｚ、３００Ｋ）δ  ３．２，３．８，４．３，５．７，６．２，６．３，７．２，７．３，７．４５．
【００９５】
(合成例３)
２−トリチルオキシエチルアクリレート（Ａ−３）の製造
５００ｍｌの４つ口フラスコに、エチレングリコール２００ｇ（３．２２ｍｏｌ）、トリフェニルメタノール２０ｇ（７７ｍｍｏｌ）を仕込み、１９０℃まで昇温し、同温度で２時間撹拌した。反応液に水を加え、酢酸エチルで抽出し、さらに、有機層を水洗、分液、乾燥、ろ過し、溶媒を減圧留去し、ヘキサンで再結晶して、２−トリチルオキシエタノール２１．６ｇ（収率９２％）を得た。
窒素置換した３００ｍｌの４つ口フラスコに、得られた２−トリチルオキシエタノール１０．０ｇ（３２．９ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン６．７ｇ（６５．７ｍｍｏｌ）、無水テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）１９０ｇを仕込み、０℃に冷却し、アクリル酸クロライド４．５ｇ（４９ｍｍｏｌ）を同温度で滴下し、滴下後、室温まで昇温し、室温で２４時間撹拌した。反応液を飽和重曹水、希塩酸、及び水で洗浄し、分液し、有機層を乾燥、ろ過、溶媒を減圧留去し、プロピレングリコールモノメチルエーテルで再結晶することにより、目的とする２−トリチルオキシエチルアクリレート（Ａ−３）７．７ｇ（収率６５％）を得た。
１Ｈ−ＮＭＲ（アセトン−ｄ６、５００ＭＨｚ、３００Ｋ）δ  ３．３，４．４，５．９，６．２，６．３，７．２，７．３，７．４５．
【００９６】
[実施例１]
上記化合物（Ａ−１）〜（Ａ−３）のそれぞれ１ｇをシクロヘキサン４ｇに加え、完全に溶解するまで、攪拌した。その後、光重合開始剤  Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（ＢＡＳＦ社製、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン）０．０４ｇを添加し、コーティング剤（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）を作成した。
【００９７】
（Ｂ−１）〜（Ｂ−３）のコーティング剤をシクロオレフィン樹脂フィルム（ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）ＺＦ−１６（膜厚１８８μｍ）、日本ゼオン社製）にバーコートにて塗付し、温風循環型乾燥機にて１００℃、３分間加熱した。集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１灯型、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してコーティング層を形成し、成形体（Ｃ−１）〜（Ｃ−３）を得た。
【００９８】
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。成形体のコーティング層に１ｍｍ間隔の切り込みを縦横１１本ずつ入れて１００個の碁盤目を作成した。各試料にセロテープ（登録商標）を貼付け、指の腹で複数回擦り付けて密着させた後テープを剥し、コーティング層が剥離せずに残存した格子の目数で評価した。その結果を表１に示す。
【００９９】
【表１】
2016033210.tif 000013
【０１００】
コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。
【０１０１】
[実施例２]
Ａ−１〜Ａ−３の各種溶媒への溶解度を調査した。各化合物を、表２に示す各溶媒に固形分２０質量％になるように添加し完全に溶解した場合は○、一部でも解け残った場合を×で示す。その結果を表２に示す。
【０１０２】
【表２】
2016033210.tif 000014
【０１０３】
[実施例３]
上記生成物（Ａ−１）又は（Ａ−２）０．１８ｇを０．７２ｇのイソプロパノール／ＰＧＭＥＡ（５／５：体積比）に溶解して、液[Ｄ−１]、［Ｄ−２］を調製した。
ジイソプロポキシビスアセチルアセトナートチタン（日本曹達製、Ｔ−５０、酸化チタン換算固形分量：１６．５重量％）３０３．０３ｇをエタノール５８４．２１ｇに溶解した後、攪拌しながらイオン交換水１１２．７６ｇ（１０倍モル／酸化チタンのモル）を加えた。この溶液を４０℃に加温しながら２時間攪拌し加水分解させた。次に溶液をろ過し、黄色透明な酸化チタン換算濃度５重量％の酸化チタンナノ分散液［Ｅ−１］を得た。酸化チタンの平均粒径は４．１ｎｍで単分散性であった。
ビニルトリメトキシシラン２６４．７６ｇ（信越化学工業株式会社製、ＫＢＭ−１００３）と３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１９０．１９ｇ（信越化学工業株式会社製、ＫＢＭ−５０３）を（ビニルトリメトキシシラン／３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン＝７０／３０：モル比）混合し、液［Ｆ−１］を調製した。
次に、元素比（Ｔｉ／Ｓｉ＝１／９）となるように［Ｅ−１］４５３．０９ｇと［Ｆ−１］４５４．９５ｇを混合し、さらに、イオン交換水を９１．９６ｇ（２倍モル／有機ケイ素化合物のモル）を加え、２４時間攪拌し、液［Ｇ−１］を調製した。
［Ｄ−１］又は［Ｄ−２］に[Ｇ−１]０．１ｇを加え、３０分間加熱撹拌し、さらに光重合開始剤  Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（ＢＡＳＦ社製、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン）７．２ｍｇを添加して１５分間攪拌して溶解させ、コーティング剤（Ｂ−４）、（Ｂ−５）を調製した。
【０１０４】
コーティング剤（Ｂ−４）、（Ｂ−５）を厚さ１８８μｍのシクロオレフィン樹脂フィルム（ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）ＺＦ−１６、日本ゼオン社製）にバーコーター（ＦＩＬＭＥ  ＣＯＡＴＥＲ  ＰＩ−１２１０、バーＮｏ６、テスター産業社製）にて塗付し、温風循環型乾燥機（ＫＬＣ−４５Ｍ、アズワン社製）にて１３０℃、３０秒間加熱した。続いて、集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量（３６５ｎｍ）４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射してコーティング層を形成し、成形体（Ｃ−４）、（Ｃ−５）を得た。これを用いて碁盤目テープ剥離試験、ヘイズ率、全光線透過率、イエローインデックス（ＹＩ）の測定を行った。その結果を表３に示す。
【０１０５】
［測定条件］
・碁盤目テープ剥離試験（密着性試験）
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６のクロスカット法に準拠し、成形体のコーティング層に１ｍｍ間隔の切り込みを縦横１１本ずつ入れて１００個の碁盤目を作成した。各試料にセロテープ（登録商標）を貼付け、指の腹で複数回擦り付けて密着させた後テープを剥し、コーティング層が剥離せずに残存した格子の目数で評価した。
・ヘイズ率
コーティング層のヘイズ率を、ヘイズメーター（日本電色工業製）を用いて測定した。
・全光線透過率、ＹＩ
各成形体を色彩・濁度同時測定器（日本電色工業；ＣＯＨ  ４００）を用いて測定した。
【０１０６】
【表３】
2016033210.tif 000015
【０１０７】
以上の結果から、コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。また透明性に優れていることも確認された。
【０１０８】
（Ｃ−４）及び（Ｃ−５）のＸ線光電子分光（ＸＰＳ）（測定機器：Ｑｕａｎｔｕｍ２０００、アルバックファイ製）を測定した結果を図１及び２に示す。
測定結果より、コーティング層の表面から２０ｎｍ付近までに、ケイ素成分が偏在していることがわかった。
【０１０９】
[実施例４]
トリチルメタクリレート１ｇをシクロヘキサン４ｇに加え、完全に溶解するまで、攪拌した。その後、光重合開始剤  Ｉｒｇａｃｕｒｅ（登録商標）９０７（ＢＡＳＦ社製）０．０４ｇを添加し、コーティング剤（Ａ−１）を作成した。
【０１１０】
（Ａ−１）のコーティング剤を厚さ１８８μｍのシクロオレフィン樹脂フィルム（ＺＥＯＮＯＲ（登録商標）ＺＦ−１６、日本ゼオン社製）にバーコーターにて塗布し、温風循環型乾燥機にて１００℃、３分間加熱した。集光型高圧水銀灯（３６５ｎｍ、３１３ｎｍ、２５４ｎｍの波長の光を主成分とするＵＶ光、アイグラフィックス社製、１灯型、１２０Ｗ／ｃｍ、ランプ高９．８ｃｍ、コンベア速度５ｍ／分）により、積算照射量（３６５ｎｍ）４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して成形体（Ｂ−１）を得た。
【０１１１】
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６のクロスカット法に準拠して密着性試験を行った。成形体のコーティング層に１ｍｍ間隔の切り込みを縦横１１本ずつ入れて１００個の碁盤目を作成した。各試料にセロテープ（登録商標）を貼付け、指の腹で複数回擦り付けて密着させた後テープを剥し、コーティング層が剥離せずに残存した格子の目数で評価した。その結果を表４に示す。
【０１１２】
【表４】
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【０１１３】
コーティング層の剥離は見られず、密着性に優れていることが確認された。
【図１】
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【図２】
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