(57)【要約】      （修正有）【課題】キャリア基板上で配向膜層と液晶化合物層とを所望の光軸範囲になるようにして光学異方性層を形成できるようにした光学異方性フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】キャリア基板上１０に配向膜層２０を形成する段階と、前記配向膜層上２０に液晶化合物を含有する組成物を塗布して、光軸が制御された光学異方性層（液晶化合物層３０）を形成する段階、および表面粗さを制御する段階とを含む光学異方性フィルムの製造方法である。【選択図】図１ｄ
2016045498.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
キャリア基板上に配向膜層を形成する段階と、
前記配向膜層上に液晶化合物を含有する組成物を塗布して、光軸が制御された光学異方性層を形成する段階、および
表面粗さを制御する段階と、
を含む、光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記光学異方性層を、粘着剤または接着剤を用いて透明フィルムまたは偏光板に転写する段階をさらに含む、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記粘着剤および接着剤は、硬化性材料であり、
ポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ系、シリコン系、（メタ）アクリル系からなる群から選択される一つ以上の反応性オリゴマーを含む、請求項２に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項４】
前記キャリア基板はガラス基板である、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項５】
前記光学異方性層の光軸はキャリア基板のいずれか一方の面と平行に形成され、
偏光板の偏光子の吸収軸は前記光学異方性層の光軸に対して４５±５度になるように配置され、
前記偏光板を、キャリア基板に対して０または９０度になるように接合した後に転写する、請求項２に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項６】
光学異方性フィルムは、１１５〜１６０ｎｍの面内位相差値を有する、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項７】
前記光学異方性層の光軸はキャリア基板のいずれか一方の面に対して４５±５度になるように形成され、
偏光板の偏光子の吸収軸はキャリア基板に対して０または９０度になるように接合した後に転写する、請求項２に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項８】
表面粗さを制御する段階で、
光学異方性層をなす液晶化合物層の平均粗さが２００ｎｍを超えないようにする、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項９】
表面粗さを制御する段階で、
光学異方性層をなす液晶化合物層の平均粗さが１００ｎｍを超えないようにする、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項１０】
表面粗さを制御する段階で、
光学異方性層をなす液晶化合物層の平均粗さが５０ｎｍを超えないようにする、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記配向膜層を形成するための光配向剤として、光異性化、光分解、光硬化のうちの少なくとも一つの反応によって配向力を持つ高分子物質を用いる、請求項１に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性層に係り、具体的には、キャリア基板上で配向膜層と液晶化合物層とを所望の光軸範囲になるようにして光学異方性層を形成できるようにした光学異方性フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一般に、光学フィルムは、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）の視野角特性の向上、および反射型ＬＣＤやＯＬＥＤ（Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｅｖｉｃｅ）などでの反射防止および視認性の確保などのために使用されることがある。
【０００３】
このような位相差フィルム、視野角補償フィルムなどの光学フィルムは、基材上に液晶配向膜を形成する配向膜組成物を塗布した後、乾燥及び硬化して配向膜を形成させ、これに対してさらにラビングを施して配向性を与えた後、重合性液晶化合物をその上に塗布し、乾燥および硬化して固定させるといった工程を実施して作製されるのが一般的である。
【０００４】
このような工程で作製された配向膜は、液晶層および基材との接着力が十分ではないので液晶層が配向膜から剥離されたり、特に、高温多湿な環境で液晶層が剥離されたり収縮したりすることによる位相差変化などの問題が生じる可能性がある。
【０００５】
特に、従来技術では、液晶化合物を用いた光学異方性層を有するフィルムの製造のためにロールツーロール（Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ）方式が使用されているが、これでは、液晶コーティングから乾燥工程までのフィルムの流動または気流の流れによってコーティング均一度（ｕｎｉｆｏｒｍｉｔｙ）が低下するという問題が生じる。
【０００６】
このようなコーティング均一度の低下現象は液晶層の表面粗さを高くして、全体または一部の領域にわたって不均一な輝度特性により発生するムラとして視認されやすくなる。
【０００７】
また、配向膜と液晶層との間での転写不良が発生した場合、これもまたムラなどとして視認されやすくなる。
【０００８】
そして、前記光学異方性層を有するフィルムを使用して円偏光を実現しようとする場合、前記光学異方性層を有するフィルムの光軸と偏光子の吸収軸に対して４５度になるように接合する必要があるが、このための工程の実施時に偏光板または光学異方性層を有するフィルムの損失が発生するという問題がある。
【０００９】
従来技術の韓国公開特許第２００８−００５２６３３号では、このような問題を改善するために、環状オレフィン系樹脂を含むフィルムと前記フィルム上に設けられた配向性を持つ光学異方性層を有する光学フィルムに関する技術が提示されており、また、韓国公開特許第２００５−００２２３２７号では、離型フィルムに異方性コーティング層を形成して偏光子または透明樹脂フィルムに転写する技術を開示しているが、前記した問題の解決には至っていない。
【００１０】
したがって、このような問題を解決できる新規な方式の光学異方性層を有するフィルムの製造方法の開発が望まれている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】韓国公開特許第２００８−００５２６３３号
【特許文献２】韓国公開特許第２００５-００２２３２７号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、このような従来技術の光学異方性フィルムの問題を解決するためのものであって、キャリア基板上で配向膜層と液晶化合物層とを所望の光軸範囲になるようにして光学異方性層を形成できるようにした光学異方性フィルムの製造方法を提供することにその目的がある。
【００１３】
本発明は、キャリア基板上に光学異方性層を形成し、粘着剤または接着剤を用いて偏光板に転写できるようにした光学異方性フィルムの製造方法を提供することにその目的がある。
【００１４】
本発明は、キャリア基板に配向膜層および液晶層を導入した後、これを真空乾燥して、表面粗さが調節された光学異方性層を有するフィルムを製造できるようにした光学異方性フィルムの製造方法を提供することにその目的がある。
【００１５】
本発明は、キャリア基板上で光学異方性層を形成し、これを偏光板と接合する製造工程にてロールツーロール工程での転写不良を抑制できるようにした光学異方性フィルムの製造方法を提供することにその目的がある。
【００１６】
本発明は、キャリア基板と配向膜層との間の密着力、配向膜と液晶層との間の密着力を制御して、キャリア基板との分離を所望の形態で実施できるようにした光学異方性フィルムの製造方法を提供することにその目的がある。
【００１７】
本発明の目的は、以上で言及した目的に制限されず、言及されていない他の目的を以下の記載から当業者は明確に理解できるであろう。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
このような目的を達成するための本発明に係る光学異方性フィルムの製造方法は、キャリア基板上に配向膜層を形成する段階と、前記配向膜層上に液晶化合物を含有する組成物を塗布して、光軸が制御された光学異方性層を形成する段階、および表面粗さを制御する段階と、を含むことを特徴とする。
【００１９】
ここで、前記光学異方性層を、粘着剤または接着剤を用いて透明フィルムまたは偏光板に転写する段階をさらに含むことが好ましい。
【００２０】
そして、前記粘着剤および接着剤は、硬化性材料であり、ポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ系、シリコン系、（メタ）アクリル系からなる群から選択される一つ以上の反応性オリゴマーを含むことが好ましい。
【００２１】
そして、前記キャリア基板はガラス基板であることが好ましい。
【００２２】
そして、前記光学異方性層の光軸はキャリア基板のいずれか一方の面と平行に形成され、偏光板の偏光子の吸収軸は前記光学異方性層の光軸に対して４５±５度になるように配設され、前記偏光板をキャリア基板に対して０または９０度になるように接合した後に転写することが好ましい。
【００２３】
そして、前記光学異方性層の光軸はキャリア基板のいずれか一方の面に対して４５±５度になるように形成され、偏光板の偏光子の吸収軸はキャリア基板に対して０または９０度になるように接合した後に転写することが好ましい。
【００２４】
そして、光学異方性フィルムは、１１５〜１６０ｎｍの面内位相差値を有することが好ましい。
【００２５】
そして、表面粗さを制御する段階で、光学異方性層をなす液晶化合物層の平均粗さが２００ｎｍを超えないようにすることが好ましい。
【００２６】
そして、表面粗さを制御する段階で、光学異方性層をなす液晶化合物層の平均粗さが１００ｎｍを超えないようにすることがより好ましい。
【００２７】
そして、表面粗さを制御する段階で、光学異方性層をなす液晶化合物層の平均粗さが５０ｎｍを超えないようにすることがさらに好ましい。
【００２８】
そして、前記配向膜層を形成するための光配向剤として、光異性化、光分解、光硬化のうちの少なくとも一つの反応によって配向力を持つ高分子物質を用いることが好ましい。
【発明の効果】
【００２９】
このような本発明に係る光学異方性フィルムの製造方法は次のような効果を有する。
【００３０】
第一に、キャリア基板上で配向膜層と液晶化合物層とを所望の光軸範囲になるようにして光学異方性層を形成することができる。
【００３１】
第二に、キャリア基板上に光学異方性層を形成し、粘着剤または接着剤を用いて偏光板に効率よく転写して、ロールツーロール工程での転写不良を抑えることができる。
【００３２】
第三に、キャリア基板に配向膜層および液晶層を導入した後、これを真空乾燥して、表面粗さが調節された光学異方性層を有するフィルムを製造することができる。
【００３３】
第四に、キャリア基板と配向膜層との間の密着力、配向膜と液晶層との間の密着力を制御して、キャリア基板との分離を所望の形態で実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３４】
【図１ａ】本発明に係る光学異方性フィルムの製造のための工程断面図である。
【図１ｂ】本発明に係る光学異方性フィルムの製造のための工程断面図である。
【図１ｃ】本発明に係る光学異方性フィルムの製造のための工程断面図である。
【図１ｄ】本発明に係る光学異方性フィルムの製造のための工程断面図である。
【図２ａ】本発明に係る光学異方性フィルムの転写工程を示す断面図である。
【図２ｂ】本発明に係る光学異方性フィルムの転写工程を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３５】
以下、本発明に係る光学異方性フィルムの製造方法の好適な実施例に関して詳述する。
【００３６】
本発明に係る光学異方性フィルムの製造方法の特徴および利点は、以下における各実施例に関する詳細な説明から明らかになるであろう。
【００３７】
図１ａ乃至図１ｄは、本発明に係る光学異方性フィルムの製造のための工程断面図であり、図２ａおよび図２ｂは、本発明に係る光学異方性フィルムの転写工程を示す断面図である。
【００３８】
本発明は、キャリア基板上で配向膜層と液晶化合物層とを所望の光軸範囲になるようにして光学異方性層を形成し、転写時に各層間の密着力を制御して、所望の層での分離が行われるようにしたものである。
【００３９】
このために、キャリア基板上に配向膜層を形成する段階と、配向膜層上に液晶化合物を含有する組成物を塗布して、液晶化合物層を形成する段階と、液晶化合物層を真空乾燥して表面粗さを制御する段階、および液晶化合物層を、粘着剤または接着剤を用いてフィルムまたは偏光板に転写する段階と、を含む。
【００４０】
ここで、配向膜層と液晶化合物層の形成の際に、以降の転写工程の際に必要な光軸を有するように制御して形成する。
【００４１】
具体的には、光学異方性層の光軸はキャリア基板のいずれか一方の面と平行に形成され、偏光板の偏光子の吸収軸は前記光学異方性層の光軸に対して４５±５度になるように配置され、前記偏光板をキャリア基板に対して０または９０度になるように接合した後に転写する。
【００４２】
他の方法では、前記光学異方性層の光軸はキャリア基板のいずれか一方の面に対して４５±５度になるように形成され、偏光板の偏光子の吸収軸はキャリア基板に対して０または９０度になるように接合した後に転写する。
【００４３】
このような光学異方性層を形成するための配向膜層と液晶化合物層の光軸の制御および接合角度の制御は前記した例に制限されない。
【００４４】
そして、本発明において、各層間の密着力を制御して、液晶化合物層を粘着剤または接着剤を用いてフィルムまたは偏光板に転写する段階で所望の層での分離が行われるようにする。
【００４５】
例えば、キャリア基板と配向膜層との間の密着力を（Ａ）とし、配向膜層と液晶化合物層との間の密着力を（Ｂ）としたとき、（Ｂ）よりも（Ａ）の値が高いと配向膜層と液晶化合物層との間に分離が行われ、（Ａ）よりも（Ｂ）の値が高いとキャリア基板と配向膜層との間に分離が行われる。
【００４６】
ここで、（Ａ）から（Ｂ）の値を差し引いた絶対値が１Ｎ／２５ｍｍ以上になることが好ましく、これは、いずれの層間での分離が行われても一部が途切れて取り残されるような現象を防止できるようにするためである。
【００４７】
このような絶対値は前記値に限定されず、配向膜層と液晶化合物層を構成する物質の種類に応じて異なるように設定され得ることはいうまでもない。
【００４８】
そして、真空乾燥して液晶化合物層の表面粗さを制御する段階で、液晶化合物層の平均粗さが２００ｎｍを超えないようにする。
【００４９】
ここで、全体または一部の領域にわたって不均一な輝度特性により発生するムラを効率よく抑えるために、液晶化合物層の平均粗さが１００ｎｍを超えないようにすることが好ましく、より好ましくは、液晶化合物層の平均粗さが５０ｎｍを超えないようにする。
【００５０】
平均粗さとは、算術平均粗さであるＲａを意味する。
【００５１】
このような本発明に係る光学異方性フィルムの製造方法を、工程断面図を参考して具体的に説明すれば次のとおりである。
【００５２】
先ず、図１ａに示すように、キャリア基板１０上に配向膜層２０を形成する。
【００５３】
ここで、キャリア基板１０はガラス基板であることが好ましいが、必ずしもこれに制限されず、他の物質からなる基板が使用されていてもよい。
【００５４】
そして、配向膜層２０は、光配向剤を光配向してなるものであり、光配向剤としては、光異性化、光分解、光硬化のうちの少なくとも一つの反応によって配向力を持つ高分子物質を用いていてよい。
【００５５】
光配向剤は、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）、ポリアミック酸（Ｐｏｌｙａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリノルボルネン、フェニルマレイミド共重合体、ポリけい皮酸ビニル（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）、ポリアゾベンゼン（Ｐｏｌｙａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ）、ポリエチレンイミン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅｉｍｉｎｅ）、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ）、ポリアミド（Ｐｏｌｙａｍｉｄｅ）、ポリエチレン（Ｐｏｌｙｅｔｈｙｌｅｎｅ）、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ）、ポリフェニレンフタルアミド（Ｐｏｌｙｐｈｅｎｙｌｅｎｅｐｈｔｈａｌａｍｉｄｅ）、ポリエステル（Ｐｏｌｙｅｓｔｅｒ）、およびポリメチルメタクリレート（Ｐｏｌｙｍｅｔｈｙｌ  ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）からなる群から選択された高分子物質であってもよい。
【００５６】
そして、光異性化反応によって配向力を持つ高分子物質としては、アゾベンゼンユニット（ａｚｏｂｅｎｚｅｎｅ  ｕｎｉｔ）を含む物質が用いられていてもよい。側鎖であるアゾベンゼンユニットが光によってシス（ｃｉｓ）形に変形された場合は、サイドチェーン（ｓｉｄｅ  ｃｈａｉｎ）が基板に平行して配列され、液晶もサイドチェーンに平行して配列される。
【００５７】
アゾベンゼンユニットが光によってトランス（ｔｒａｎｓ）形に変形された場合は、サイドチェーンが基板に対して垂直に配列され、液晶もサイドチェーンに平行して配列される。
【００５８】
光分解反応によって配向力を持つ高分子物質としては、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）が用いられてもよい。
【００５９】
ポリイミドは、偏光した紫外線を照射すると鎖が切れて酸化反応が伴うが、この際、鎖の分離が非等方的に起こることで液晶配向力が発生するものである。
【００６０】
光硬化反応によって配向力を持つ高分子物質としては、ポリけい皮酸ビニル（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌｃｉｎｎａｍａｔｅ）が用いられていてもよい。
【００６１】
ポリけい皮酸ビニルは、偏光した紫外線を照射すると、偏光方向に配向されていた光反応基が選択的に反応して紫外線の偏光方向と垂直をなす方向に液晶を配向する性質を呈するものである。
【００６２】
そして、図１ｂに示すように、配向膜層２０上に液晶化合物を含有する組成物を塗布して液晶化合物層３０を形成する。
【００６３】
このように液晶化合物層３０を形成し、真空乾燥して液晶化合物層３０の表面粗さを制御して、液晶化合物層３０の平均粗さが２００ｎｍを超えないようにする。
【００６４】
ここで、全体または一部の領域にわたって不均一な輝度特性により発生するムラを効率よく抑えるために、液晶化合物層３０の平均粗さが１００ｎｍを超えないようにすることが好ましく、より好ましくは、液晶化合物層３０の平均粗さが５０ｎｍを超えないようにする。
【００６５】
そして、液晶化合物層３０を形成するための液晶化合物を含有する組成物は、液晶性を持つ化合物であり、分子中に１以上の重合性基を有する。重合性基は、反応性液晶化合物の重合反応に関与する基のことを意味する。重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、およびオキセタニル基が挙げられる。
【００６６】
前記反応性液晶化合物は、その分子中に２以上の環構造を有することが好ましく、３以上の環構造を有することがより好ましい。環構造としては、フェニル環（ベンゼン環）、シクロヘキサン環、ナフタレン環、ピリミジン環、ピリジン環、およびチオフェン環が挙げられ、その中でもフェニル環（ベンゼン環）およびシクロヘキサン環が好ましい。２以上の環構造を結合する結合基としては、−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、および−Ｃ≡Ｃ−が挙げられ、その中でも−ＣＯ−Ｏ−が好ましい。
【００６７】
そして、配向膜層２０と液晶化合物層３０の形成の際、以降の転写工程段階で必要な光軸を有するように制御して形成する。
【００６８】
具体的に、キャリア基板１０上に光学異方性層を形成するための配向膜層２０と液晶化合物層３０を、キャリア基板１０のいずれか一方の面と光軸が平行になるように形成し、吸収軸が偏光子のいずれか一方の面に対して４５度である偏光板を、キャリア基板１０に対して０または９０度になるように接合した後に転写する。
【００６９】
他の方法では、キャリア基板１０上に光学異方性層を形成するための配向膜層２０と液晶化合物層３０を、キャリア基板１０のいずれか一方の面に対して４５度になるように形成し、吸収軸が偏光子のいずれか一方の面に対して０度である偏光板を、キャリア基板（１０）に対して０または９０度になるように接合した後に転写する。
【００７０】
このような光学異方性層を形成するための配向膜層２０と液晶化合物層３０の光軸の制御および接合角度の制御は、前記した例に制限されるものではない。
【００７１】
前記光学異方性層の面内位相差値は特に制限されないが、偏光板の吸収軸に対して４５度になるように配置されることを考慮して、１００〜１７５ｎｍであることが好ましく、より好ましくは、１１５ｎｍ〜１６０ｎｍである。
【００７２】
そして、図１ｃに示すように、表面粗さが制御された液晶化合物層３０上に接合物質層４０を形成し、図１ｄに示すように転写対象体５０に接合して転写する。
【００７３】
ここで、接合物質層４０は粘着剤または接着剤であり、転写対象体５０は透明フィルムまたは偏光板であってもよい。
【００７４】
接合物質層４０として用いられる粘着剤および接着剤は、硬化性材料であり、ポリエステル系、ポリエーテル系、ウレタン系、エポキシ系、シリコン系、（メタ）アクリル系からなる群から選択される一つ以上の反応性オリゴマーを含む。
【００７５】
転写対象体５０の偏光板は、ディスプレイ装置用偏光板が用いられていてよく、一般に、主にポリビニルアルコール系フィルムを原材料とする。
【００７６】
また、偏光板は、十分な光学特性を得るために、ヨードなどの異色性材料を含有したＰＶＡ系フィルムを延伸し、これに透明保護フィルムを貼り付けて作製したものが使用されていてもよい。
【００７７】
また、透明保護フィルムの代わりに、偏光子を保護するための高分子樹脂をコーティングして作製したものが使用されていてもよい。偏光板は、他の光学層と積層して転写対象体として使用されていてもよい。
【００７８】
その光学層については特に限定はないが、例えば、反射板や半透過板、輝度向上フィルム、位相差板（１／２や１／４などの波長板、正のＣプレート、負のＣプレート、二軸性波長板を含む）、視野角補償フィルムなどのフラットパネルディスプレイ装置などの形成に使用される光学層を１層または２層以上使用していてもよい。
【００７９】
そして、転写対象層が透明フィルムである場合は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れるフィルムが使用されていてもよい。
【００８０】
具体的な例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレートなどのポリエステル系樹脂；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロースなどのセルロース系樹脂；ポリカーボネート系樹脂；ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリエチル（メタ）アクリレートなどのアクリル系樹脂；ポリスチレン、アクリロニトリル−スチレン共重合体などのスチレン系樹脂；ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロ系またはノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン−プロピレン共重合体などのポリオレフィン系樹脂；塩化ビニル系樹脂；ナイロン、芳香族ポリアミドなどのアミド系樹脂；イミド系樹脂；ポリエーテルスルホン系樹脂；ポリエーテルエーテルケトン系樹脂；硫化ポリフェニレン系樹脂；ビニルアルコール系樹脂；塩化ビニリデン系樹脂；ピニルブチラル系樹脂；アリレート系樹脂；ポリオキシメチレン系樹脂；エポキシ系樹脂などのような熱可塑性樹脂からなるフィルムが挙げられ、前記熱可塑性樹脂のブレンド物からなるフィルムも使用されていてもよい。また、（メタ）アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコン系などの熱硬化性樹脂または紫外線硬化型樹脂からなるフィルムが使用されていてもよい。
【００８１】
このような透明フィルムの厚さは適宜決められるが、一般には、強度や取扱い性などの作業性、薄層性などの点から１〜５００μｍ程度である。特に１〜３００μｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましい。
【００８２】
透明フィルムは、等方性フィルムまたは位相差フィルムであってもよい。
【００８３】
等方性フィルムの場合、面内位相差（Ｒｏ、Ｒｏ＝［（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ]、ｎｘ、ｎｙはフィルム平面内の主屈折率、ｎｚはフィルム厚さ方向の屈折率、ｄはフィルム厚さである）が４０ｎｍ以下であり、１５ｎｍ以下が好ましく、また、厚さ方向位相差（Ｒｔｈ、Ｒｔｈ＝［（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ］×ｄ）が−９０ｎｍ〜＋７５ｎｍであり、好ましくは−８０ｎｍ〜＋６０ｎｍ、特に−７０ｎｍ〜＋４５ｎｍが好ましい。
【００８４】
位相差フィルムは、高分子フィルムの一軸延伸、二軸延伸、高分子コーティング、液晶コーティングの方法にて製造されたフィルムであり、一般に、ディスプレイの視野角補償、色感の改善、光漏れの改善、色合いの調節などの光学特性の向上および調節のために使用される。
【００８５】
位相差フィルムの種類には１／２や１／４などの波長板、正のＣプレート、負のＣプレート、正のＡプレート、負のＡプレート、二軸性波長板を含む。
【００８６】
等方性フィルムまたは位相差フィルムの透明フィルムの液晶層に向かう面には、易接着処理を実施していてよい。易接着処理としては、プラズマ処理、コロナ処理などのドライ処理、アルカリ処理などの化学処理、易接着剤層を形成するコーティング処理などが挙げられる。
【００８７】
そして、易接着剤層の形成には、ポリオール樹脂、ポリカルボン酸樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ウレタンアクリレート樹脂、ポリアクリル樹脂などの各種の易接着材料を用いてもよい。
【００８８】
また、易接着剤層の厚さは、通常、０．０１〜１０μｍ程度、より好ましくは０．０５〜５μｍ程度、特に０．１〜１μｍ程度とすることが好ましい。
【００８９】
そして、このような本発明は、各層間の密着力を制御して、液晶化合物層を、粘着剤または接着剤を用いてフィルムまたは偏光板に転写する段階で所望の層での分離が行われるようにする。
【００９０】
例えば、キャリア基板１０と配向膜層２０との間の密着力を（Ａ）とし、配向膜層２０と液晶化合物層３０との間の密着力を（Ｂ）としたとき、（Ｂ）よりも（Ａ）の値が高いと配向膜層と液晶化合物層との間に分離が行われ、（Ａ）よりも（Ｂ）の値が高いとキャリア基板と配向膜層との間に分離が行われる。
【００９１】
図２ａは、キャリア基板１０と配向膜層２０とが分離することを示す図であり、（Ａ）よりも（Ｂ）の値が高い場合を示すものである。
【００９２】
そして、図２ｂは、配向膜層２０と液晶化合物層３０とが分離することを示す図であり、（Ｂ）よりも（Ａ）の値が高い場合を示すものである。
【００９３】
ここで、（Ａ）から（Ｂ）の値を差し引いた絶対値が１Ｎ／２５ｍｍ以上になることが好ましく、これは、いずれの層間での分離が行われても一部が途切れて取り残されるような現象を防止できるようにするためである。
【００９４】
このような絶対値は前記値に限定されず、配向膜層と液晶化合物層を構成する物質の種類に応じて異なるように設定され得ることはいうまでもない。
【００９５】
このような本発明に係る光学異方性フィルムの製造方法は、キャリア基板上で配向膜層と液晶化合物層とを所望の光軸範囲になるようにして光学異方性層を形成することができ、ロールツーロール工程での転写不良を抑えることができるようにしたものである。
【００９６】
また、キャリア基板と配向膜層との間の密着力、配向膜層と液晶層との間の密着力を制御して、キャリア基板との分離を所望の形態で実施できるようにしたものである。
【００９７】
以上の説明のように本発明の本質的な特性から逸脱しない範囲内で変形された形態で本発明を実現できることが理解できるであろう。
【００９８】
したがって、明示された実施例は限定的な観点でなく説明的な観点で考慮されるべきであり、本発明の範囲は前述した説明でなく特許請求の範囲に示されており、それと同等な範囲内にあるすべての相違点は本発明に含まれるものと解釈されるべきである。
【符号の説明】
【００９９】
１０  キャリア基板
２０  配向膜層
３０  液晶化合物層
４０  接合物質層
５０  転写対象体
【図１ａ】
2016045498.tif 000003
【図１ｂ】
2016045498.tif 000004
【図１ｃ】
2016045498.tif 000005
【図１ｄ】
2016045498.tif 000006
【図２ａ】
2016045498.tif 000007
【図２ｂ】
2016045498.tif 000008