(57)【要約】【課題】困難なプロセス管理可能性は頻繁に局所的な過熱を招き、よって、フィルタ内の損傷を引き起こし、ひいてはフィルタの有用性を減少させる。【解決手段】製品ガス生成工場（１）の製品ガスライン（２）に配置されるフィルタ装置（３）を洗浄する構成及び方法。方法では、フィルタ装置（３）のフィルタ（５）が閉塞手段（４）を用いて製品ガスライン（２）から分離され、酸素を含む制御ガス（ＣＧ）が製品ガスライン（２）から分離されたフィルタ（５）内に給送され、再生ガス（ＲＧ）の少なくとも一部を形成する制御ガス（ＣＧ）がフィルタ（５）を洗浄し、フィルタ（５）を通過した再生ガス（ＲＧ）がフィルタ（５）から除去される。【選択図】図３ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
製品ガス生成工場の製品ガスラインに配置されるフィルタ装置を洗浄する構成であって、
前記フィルタ装置のフィルタを前記製品ガスラインから分離する閉塞手段と、
前記フィルタに接続され且つ給送通路と排出通路とを含む通路システムと、
前記給送通路を介して、酸素を含む制御ガスを前記製品ガスラインから分離される前記フィルタ内に給送する、再生手段とを含み、
前記制御ガスは、前記フィルタを洗浄する再生ガスの少なくとも一部を形成し、
前記排出通路は、前記フィルタを通過した再生ガス及びそれと共に流れる酸化材料を、当該構成から除去するために配置される、
構成。
【請求項２】
前記フィルタ内に給送されるべき及び／又は前記フィルタを通過した前記再生ガスの酸素含有量を測定するための測定手段と、
前記フィルタ内に給送されるべき及び／又は前記フィルタを通過した前記再生ガスの温度を測定するための測定手段と、
前記測定に基づき前記制御ガスの流速及び／又は組成を調節するための調節手段とを含む、
請求項１に記載の構成。
【請求項３】
前記閉塞手段は、前記給送通路の前で前記製品ガスラインに配置される第１の閉塞構成と、前記排出通路の後で前記製品ガスラインに配置される第２の閉塞構成とを含む、請求項１又は２に記載の構成。
【請求項４】
前記再生手段は、前記フィルタを通じて前記制御ガスを押し込むためのファンを含み、任意的に、前記再生ガスの温度を制御するためのクーラ及び／又はヒータも含む、請求項１乃至３のうちのいずれか１項に記載の構成。
【請求項５】
使用されるべき前記制御ガスは、酸素、又は空気若しくは煙道ガスのような、酸素を含むガス混合物である、請求項１乃至４のうちのいずれか１項に記載の構成。
【請求項６】
不活性掃気ガスを用いて前記製品ガスラインから分離される前記フィルタを掃気する掃気手段を更に含む、請求項１乃至５のうちのいずれか１項に記載の構成。
【請求項７】
前記不活性掃気ガスは、二酸化炭素、窒素、又は水蒸気を含む、請求項６に記載の構成。
【請求項８】
前記通路システムは、前記フィルタを通過した前記再生ガスを前記給送通路内に再循環させるために前記排出通路と前記給送通路との間に配置される再循環通路を含む、請求項１乃至７のうちのいずれか１項に記載の構成。
【請求項９】
前記フィルタ装置は、少なくとも２つの洗浄群にグループ分けされる複数の平行なフィルタを含み、前記洗浄は前記洗浄群に従って行われるように構成される、請求項１乃至８のうちのいずれか１項に記載の構成。
【請求項１０】
製品ガス生成工場の製品ガスラインに配置されるフィルタ装置を洗浄する方法であって、
閉塞手段を用いて前記フィルタ装置のフィルタを前記製品ガスラインから分離するステップと、
酸素を含む制御ガスを前記製品ガスラインから前記フィルタ内に給送するステップと、
前記フィルタを通過した前記再生ガスを前記フィルタから除去するステップとを含み、
前記制御ガスは、前記フィルタを洗浄する再生ガスの少なくとも一部を形成する、
方法。
【請求項１１】
前記フィルタ内に給送されるべき及び／又は前記フィルタを通過した前記再生ガスの酸素含有量を測定するステップと、
前記フィルタ内に給送されるべき及び／又は前記フィルタを通過した前記再生ガスの温度を測定するステップと、
前記制御ガスの流速及び／又は組成を必要なときに調節することによって前記再生ガスの温度を制御するステップとを含む、
請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記再生ガスの流速は、前記フィルタを通じる通常の製品ガス流速と少なくとも等しい、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記再生ガスの流速は、前記フィルタを通じる通常の製品ガス流速よりも低い、請求項１０又は１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記フィルタを通じて流れる前記再生ガスは冷却される、請求項１０乃至１３のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記フィルタまで運ばれるべき前記再生ガスは加熱される、請求項１０乃至１４のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
空気又は煙道ガスのような、酸素又は酸素を含むガス混合物が、制御ガスとして給送される、請求項１０乃至１５のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記製品ガスラインから分離される前記フィルタは、前記制御ガスを給送する前に不活性掃気ガスで掃気される、請求項１０乃至１６のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記不活性掃気ガスは、二酸化炭素、窒素、又は水蒸気を含む、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記フィルタを通過した前記再生ガスの少なくとも一部は、前記フィルタに再循環させられる、請求項１０乃至１８のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
一度に前記フィルタ装置の一部のみが洗浄のために分離され、前記フィルタ装置内の前記フィルタの残余は製品ガスを濾過するための使用に留まる、請求項１０乃至１９のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記再生ガスは、前記製品ガスの流動方向において前記フィルタを通じて給送される、請求項１０乃至２０のうちのいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記再生ガスは、前記製品ガスの流動方向に関して反対方向において前記フィルタを通じて給送される、請求項１０乃至２０のうちのいずれか１項に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は製品ガス(product  gas)を生成する工場の製品ガスラインに配置されるフィルタ装置を洗浄する構成に関する。
【０００２】
本発明は製品ガスを生成する工場の製品ガスラインに配置されるフィルタ装置を洗浄する方法にも関する。
【背景技術】
【０００３】
製品ガス中に含まれる粒子を除去するために、製品ガスは製品ガスを生成する工場内で濾過される。製品ガス中の不純物はフィルタ素子を塞ぎ得る。炭素及び炭化水素で構成される汚濁、即ち、「タール」が、フィルタ内に蓄積し得る。フィルタを洗浄するために、必要であれば、酸化状態においてプロセスを推進することによって汚濁を除去することが、当該技術分野において知られている。
【０００４】
酸化状態においてプロセスを推進することは炭素及び炭化水素層中の燃焼を引き起こし、よって、高温並びに大きな局所的及び一時的な温度変動をもたらす。フィルタの温度はフィルタ構造又はフィルタの能力を局所的に超え得る。
【０００５】
ガス流中に不活性ガスを給送することによって酸素含有量を制御し得るが、殆どの場合、不活性ガスの利用可能性は給送量を制限する。更なる結果として、フィルタは低い総流量を用いて洗浄されなければならず、洗浄は極めて遅い。その上、低流動性はフィルタに不十分に分配され、よって、不均一な濾過結果をもたらす。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
困難なプロセス管理可能性は頻繁に局所的な過熱を招き、よって、フィルタ内の損傷を引き起こし、ひいては、それはフィルタの有用性を減少させる。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の構成及び方法は、独立項の特徴部分中に開示されるものによって特徴付けられる。本発明の他の実施態様は、他の請求項中に開示されるものによって特徴付けられる。
【０００８】
発明的な実施態様は、この出願の明細書及び図面中にも開示される。後続の請求項中に記載される方法と異なる方法においても本出願の発明的な着想を定め得る。特に本発明が明示的な又は暗示的な副次的作業において或いは得られる利益及び利益群の観点から検討されるならば、発明的な着想を幾つかの別個の発明で構成してもよい。そのような場合には、後続の請求項中に含められる定義の一部は別個の発明的な着想の観点において不要であり得る。基本的な発明的な着想の範囲内で本発明の異なる実施態様の特徴を他の実施態様に適用し得る。
【０００９】
本発明の着想は、再生ガス(regeneration  gas)の酸素含有量を制御することによりフィルタ上に堆積する汚濁を酸化させることによって、フィルタを再生することである。
【００１０】
以下、本発明の一部の実施態様の特徴は、無作為な順序において列挙される。
【００１１】
ある実施態様によれば、構成は、フィルタ内に給送されるべき及び／又はフィルタを通過した再生ガスの酸素含有量を測定する測定手段と、フィルタ内に給送されるべき及び／又はフィルタを通過した再生ガスの温度を測定する測定手段とを含み、追加的に、上記測定に基づき制御ガス(control  gas)の流速及び／又は組成を調節する調節手段を含む。利点は、フィルタの過熱を避け得ることであり、フィルタが洗浄されて再生を停止し得るときを検出することが可能であることである。
【００１２】
ある実施態様によれば、閉塞手段は、給送通路の前の製品ガスライン内の第１の閉塞構成と、排出通路の後の製品ガスライン内の第２の閉塞構成とを含む。利点は、フィルタを製品ガスラインから分離し得ることである。
【００１３】
ある実施態様によれば、再生手段は、フィルタを通じて制御ガスを押し込むためのファン、及び／又は再生ガスの温度を制御するためのヒータを含む。利点は、フィルタの再生を加速し得ることであり、再生プロセスを最適化し得ることである。
【００１４】
ある実施態様によれば、使用されるべき制御ガスは、酸素、又は空気若しくは煙道ガスのような酸素を含むガス混合物である。利点は、フィルタ内に残される汚濁を制御された方法において酸化させ得ることである。
【００１５】
ある実施態様によれば、構成は、二酸化炭素、窒素、又は水蒸気のような不活性掃気ガスを用いて、製品ガスラインから分離されるフィルタを掃気する掃気手段を更に含む。利点は、実際の再生に先立ち再生に有害な化合物又はその再生プロセスを取り除き得ることである。
【００１６】
ある実施態様によれば、通路システムは、排出通路と給送通路との間に配置される再循環通路を含み、フィルタを通過する再生ガスを給送通路内に再循環させる。利点は、再生ガスの温度及び組成をより良好に制御し得ることであり、大量の再生ガスを用いずにより高い流速を取得し得ることである。
【００１７】
ある実施態様によれば、フィルタ装置は少なくとも２つの洗浄群にグループ分けされる複数の平行なフィルタを含み、洗浄は洗浄群に従って行われるように構成される。利点は、洗浄プロセス中に製品ガスの生成を継続し得ることである。
【００１８】
ある実施態様によれば、再生ガス流速は、問題になっているフィルタを通じる通常の製品ガス流速と少なくとも等しい。利点は、これが洗浄プロセスを加速させることを可能にすると同時に、洗浄プロセスをフィルタの異なる領域に対して均一に向けることが可能であることである。
【００１９】
ある実施態様によれば、再生ガス流速は、問題となっているフィルタを通じる通常の製品ガス流速よりも低い。利点は、構成によって必要とされる機器を、必要とされる再生に従って、空きのない空間内にさえも適合するような寸法とし得ることである。
【００２０】
ある実施態様によれば、フィルタを通じて流れる再生ガスは冷却される。利点は、フィルタ及び構成の過熱を避け得ることである。
【００２１】
ある実施態様によれば、フィルタまで運ばれるべき再生ガスは加熱される。利点は、洗浄プロセスの作動を加速し得ることである。
【００２２】
ある実施態様によれば、再生ガスを製品ガス流動方向において又は反対方向においてフィルタを通じて給送し得る。利点は、構成が適用場所の要求に従って容易に調節可能であることである。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
添付の図面を参照して本発明をより詳細に記載する。
【図１】高温製品ガスを生成する工場に適用される構成及び方法を示す概略図である。
【図２】構成及び方法を示す概略図である。
【図３ａ】一部の構成及び方法を示す概略図である。
【図３ｂ】一部の構成及び方法を示す概略図である。
【図４ａ】構成及び方法の一部の実施態様を示す概略図である。
【図４ｂ】構成及び方法の一部の実施態様を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
図面には、明瞭性のために本発明を簡略化して示している。図面中、同等の参照番号は、同等の要素を特定している。
【００２５】
図１は、高温製品ガスを生成する工場に適用される構成及び方法の概略図である。
【００２６】
図面では、製品ガスを生成する工場１が点線及び破線によって描写されている。問題となっている工場は、製品ガス生成ユニット１７を含み、製品ガス生成ユニット１７は、例えば、それ自体既知のガス化工場又は熱分解工場であり得る。
【００２７】
製品ガス生成工場１は、製品ガスライン２を更に含み、生成ユニット１７によって生成される製品ガスが、製品ガスライン２に沿って、製品ガス利用ユニット１８での使用のために運ばれる。利用ユニット１８を製品ガス生成工場１に近接して配置してよいし、或いはそれを更に遠くに配置してもよく、その場合、製品ガスはそれ自体既知の従来技術の方法によって利用ユニット１８に供給される。製品ガス生成工場１によって生成される製品ガスを１つ又はそれよりも多くの（１つ以上の）利用ユニット１８における使用のために供給し得る。
【００２８】
製品ガス生成工場１は、製品ガスライン２内に含まれる粒子を除去するために製品ガスライン２に配置されて製品ガスを浄化する、フィルタ装置３を含む。フィルタ装置３と関連して、フィルタ装置３のフィルタを清浄し或いは再生するように配置される構成１００がある。
【００２９】
図２は、フィルタを清浄するための構成及び方法の概略的な断面図である。
【００３０】
構成１００は、フィルタ５に接続される通路システム６を含み、通路システム６は、給送通路７(feed  channel)及び排出通路８(discharge  channel)を含む。給送通路７及び排出通路８は、閉塞弁のような閉塞手段１９を通じてフィルタ５に接続されるのが好ましい。
【００３１】
構成１００は、洗浄されるべきフィルタ装置３のフィルタ５を製品ガスライン２から分離し得る閉塞手段４を含む。本実施態様において、閉塞手段４は、供給通路７の前で製品ガスライン２に配置される第１の閉塞構成１０ａと、排出通路８の後で製品ガスライン２に配置される第２の閉塞構成１０ｂとを含む。閉塞構成１０ａ，１０ｂは、例えば、製品ガスライン２内にブロック（塊）として装着し得る、溶接されたブラインドフランジ、すべりトラップ、又は弁を含み得る。
【００３２】
構成は、給送通路７を通じて酸素を含む制御ガスＣＧを製品ガスライン２から分離されたフィルタ５内に給送する、再生手段９を更に含む。この実施態様において、制御ガスＣＧは、フィルタを洗浄するガス、即ち、再生ガスＲＧを形成する。再生手段９は、フィルタ５を通じて再生ガスＲＧを押し込むための圧力差を生成するファン１１を含み得る。
【００３３】
制御ガスは、例えば、空気又は煙道ガスのような、酸素を含むガス混合物であり得る。酸素含有量を調節することによって、フィルタ５内の洗浄中に起こる温度上昇を制御することが可能である。フィルタ５内に残留する材料の少なくとも一部は、再生ガスＲＧの影響によって酸化させられる。温度上昇のための標的値は事象特異的であり、フィルタ５の許容温度に依存する。標的温度は、例えば、３５０℃であり得るが、最大でもフィルタ５の最高動作温度と等しいのが好ましい。この温度範囲内で、最も典型的な酸化プロセスが急速に起こる。ある着想によれば、フィルタ５に入る再生ガスＲＧの酸素含有量は、最大でも５％である。
【００３４】
ある着想によれば、フィルタ５を通じる再生ガスＲＧの流速は、フィルタ５を通じる通常の製品ガス流速と少なくとも等しいように調節される。一部の場合、再生ガスＲＧの流速は、通常の製品ガスの流速よりも低い。簡潔に述べるならば、ガスの容量は所望の再生時間を達成するような大きさにされ、故に、流速は通常の動作状況における流速よりも高くてもよく、等しくてもよく、或いは低くてもよい。
【００３５】
ある着想によれば、フィルタ５を通じる再生ガスＲＧの流速は、通常の製品ガス流速よりもずっと高いように調整される。利点は、これが洗浄プロセスを速めると同時に、洗浄プロセスをフィルタ５に対してより均一に向け得ることである。何故ならば、高い流速は再生ガスＲＧをフィルタ５の全ての表面に対して押し込むからである。
【００３６】
再生ガスＲＧ及び、フィルタから離れてガスと共に流れるガス状酸化物、即ち、煙道ガスは、排出通路８を通じて構成１００から出る。排出通路８は、屋外に運ばれるために必要な程度まで煙道ガスを処理し得るトーチ、電気ボイラ、又は類似物のような、適切な場所に至り得る。当然ならば、排出通路８は煙道ガスを直接的に屋外に運び得る。
【００３７】
再生に関連して固形物Ｓも創り出される。それ自体既知の普通の道筋で固形物Ｓを除去し得る。
【００３８】
本方法の基本原理は以下の通りであり得る。
ａ）閉塞手段４によってフィルタ５が製品ガスライン２から分離される。
ｂ）酸素を含む制御ガスＣＧが製品ガスライン２から分離されたフィルタ５内に給送され、再生ガスＲＧの少なくとも一部を形成するガスはフィルタ５を通じて運ばれる。
ｃ）再生ガスＲＧはフィルタ５内に残留する酸化汚濁を酸化させる。
ｄ）フィルタを通過した再生ガスＲＧ及び酸化物は排出通路８を通じてフィルタ５から除去される。
【００３９】
図３ａは、第２の構成及び方法の概略図であり、図３ｂは、再生ガスＲＧの循環方向に関して図３ａにおけるものと異なる、第３の構成及び方法の概略図である。図３ａにおいて、再生ガスＲＧは製品ガスと同じ方向においてフィルタ５を通じて流れる。図３ｂにおいて、流動方向は逆である、即ち、製品ガスの流動方向と反対である。
【００４０】
また、図２の構成及び方法では、製品ガスの流動方向と反対の方向において再生ガスＲＧをフィルタ５内に給送し得る。
【００４１】
構成１００の通路システム６は、排出通路８と給送通路７との間に配置される再循環通路１５を今や含む。再循環通路１５は、フィルタ５を通過した再生ガスＲＧを供給通路７に戻し、そして、供給通路７からフィルタ５に戻す。フィルタ５を通過する再生ガスＲＧの一部は、排出通路８を通じて構成１００から外に運ばれる。この出て行く部分は、置換制御ガスＣＧを供給通路７内に給送することによって置換される。再循環通路１５の利点は、再生ガスの温度及び組成がより良好に制御し得ることであり、大量の制御ガスＣＧを用いずにより高い流速を入手し得ることである。
【００４２】
図３ａ，３ｂに示す構成１００は、掃気手段１４も含み、例えば、二酸化炭素、窒素、又は水蒸気であり得る、不活性な掃気ガスＩＧを、掃気手段１４を通じて製品ガスライン２から分離されたフィルタ５内に給送し得る。
【００４３】
不活性掃気ガスＩＧは、製品ガスライン２から、例えば、生成ユニット１７から或いは製品ガスライン２に開放されるべき供給通路を通じて給送されるのが好ましい。不活性掃気ガスＩＧを通路システム６内に給送してもよい。
【００４４】
不活性掃気ガスＩＧは、再生ガスＲＧを通路システム６及びフィルタ５内に給送する前に給送されるのが好ましい。掃気ガスＩＧを用いるならば、通路システム６及びフィルタから実質的に全ての製品ガスが除去されるようになり、その混合物成分は、実際の洗浄段階及び制御された温度調節中に酸化反応と干渉し得る。
【００４５】
掃気ガスＩＧの給送が停止され、制御ガスＣＧの給送が開始されると、フィルタ５及び再循環通路１５内を循環する再生ガスＲＧの含有量は漸進的に変化し、二酸化炭素のような酸化物は、汚濁の酸化の結果として、それと混ざるようになる。
【００４６】
図２の構成１００の一部の実施態様は不活性掃気ガスＩＧを給送するための掃気手段１４も含むことがこの時点で留意されなければならない。
【００４７】
洗浄方法は、典型的には熱を生成し、再生ガスＲＧがフィルタ５を通過するときに、熱は再生ガスＲＧの温度を上昇させる。過剰な熱エネルギを循環からクーラ１２（冷却器）内に排出し得る。クーラ１２はそれ自体既知であり、熱エネルギを使用のために移転し得る或いは熱エネルギを環境中に放出し得る熱交換器であり得る。
【００４８】
再生手段９は、フィルタ５の温度を再生反応によって要求されるレベルまで増大させ得るヒータ１３（加熱器）を更に含み得る。これは少なくとも再生プロセスの開始時に必要であり得る。ある着想によれば、クーラ１２及びヒータ１３は、プロセス要求に従って適切に制御される１つの同じ装置である。図２の構成１００の一部の実施態様はクーラ１２及び／又はヒータ１３も含むことがこの時点で留意されなければならない。
【００４９】
構成１００の動作は、制御手段２０によって制御される。制御手段２０は、例えば、再生ガスＲＧの酸素含有量、温度、及び流速を調節するために用いられる。構成１００の動作を完全に自動化させ得るが、代替的に、本方法によって必要とされる手段の少なくとも一部は手動で制御される。洗浄プロセスの状態及び構成１００の機能は、温度、流速、圧力、酸素含有量を測定し得る測定装置２１によって制御されるのが好ましい。
【００５０】
図３ａ又は３ｂの構成を用いて実施されるとき、再生プロセスは、例えば、以下に開示するように進行する。
１．再生を活性化するのに適した雰囲気が通路システム６及びフィルタ内で達成されるまで不活性掃気ガスＩＧが給送され、掃気ガス導管が遮断される。
２．通路システム６及びフィルタ５は、閉塞構成１０ａ，１０ｂで製品ガスライン２から分離される。
３．閉塞手段１９が開放され、通路システム６内への制御ガスＣＧの給送が開始される。初めに、フィルタ５に入る再生ガスの酸素含有量は極めて低くてよく、ゼロであってさえもよい。
４．再生ガスＲＧは通路システム６及びフィルタ５内で循環させられる。初めに、再生ガスＲＧは、通路システム６及びフィルタ５内にあった掃気ガスＩＧと制御ガスＣＧの混合物であるが、再生反応が開始すると、酸化物及び類似物が漸進的にそれと混じる。再生反応を活性化させるために、必要であれば、ヒータ１３で再生ガスＲＧを加熱し得る。反応が構成１００の温度を適切なレベルまで上昇させるときにヒータ１３の使用を停止し得る。
５．全プロセス中、構成１００内で優勢である温度が測定される。温度が高く上昇し過ぎる危険性があるならば、給送されるべき酸素の量が減少させられる。制御ガスＣＧの流速又は酸素含有量を減少させることによってこれを実施し得る。他方、温度が降下し過ぎるならば、給送されるべき酸素の量が増大される。
６．再生ガスＲＧ並びにガスによって運搬される汚濁及び／又は酸化物を除去するために排出通路８は適切な地点で開放される。必要であれば、排出通路８の流速を調節し得る。
７．給送される酸素の量が増大させられるにも拘わらず構成１００の温度が上昇するのを停止するとき、フィルタ５には酸化汚濁がない。よって、洗浄プロセスを終了させ、フィルタ５を製品ガスライン２に再接続し得る。
【００５１】
図４ａ，４ｂは、構成及び方法の一部の実施態様の概略図である。主題の提示を単純化するために構成の主要ラインのみが示されていることが留意されるべきである。
【００５２】
製品ガスラインに配置されるフィルタ装置３は、複数の平行なフィルタ５を含んでよく、濾過されるべき製品ガスは、浄化のために複数の平行なフィルタ５に分配される。ある着想によれば、これらのフィルタ５は、複数の、少なくとも２つの洗浄群１６ａ，１６ｂに分割され、洗浄は一度に１つの洗浄群で行われるように配置される。その場合には、フィルタ装置３内のフィルタ５の一部のみが洗浄のために分離されるのに対し、フィルタ装置３内の残余のフィルタ５は製品ガス濾過における使用のために残される。
【００５３】
図４ａに示される構成１００の実施態様は、２つの洗浄群１６ａ，１６ｂを有し、各群には１つのフィルタ５がある。洗浄のために、例えば、第１の洗浄群１６ａ、即ち、その中に含められるフィルタ５を取ることが今や可能である。第１の洗浄群１６ａが洗浄されているとき、第２の洗浄群１６ｂは、同時に、製品ガスを濾過し得る。そして、その逆も同様である。よって、洗浄プロセスに拘わらず製品ガスの生成を継続することが可能である。洗浄群１６ａ，１６ｂは複数のフィルタ５さえも有し得ることが留意されるべきである。洗浄群の数は２つよりも大きくてもよいのは当然である。同様に、全ての洗浄群１６ａ，１６ｂを同時に洗浄し得ることも明らかである。
【００５４】
図４ｂは、１つの洗浄群１６内に配置される複数のフィルタ、この場合には、４つのフィルタ５を備える実施態様を例示している。４つのフィルタは全て同時に洗浄される。
【００５５】
フィルタ５の形状及び構造は異なり得ることが留意されるべきである。フィルタ５は、フィルタホース、フィルタキャンドル等を含み得る。濾過材料は、金属、セラミック、セラミック不織布、又は不織マット等であり得る。
【００５６】
よって、一部の場合には、この出願に開示する特徴を他の特徴に拘わらず用い得る。他方、必要なときには、異なる組み合わせをもたらすために、この出願に開示する特徴を組み合わせ得る。
【００５７】
要約すれば、本発明の構成は、フィルタ装置のフィルタを製品ガスラインから分離する閉塞手段と、フィルタに接続され且つ給送通路と排出通路とを含む通路システムと、給送通路を通じて酸素を含む制御ガスを製品ガスラインから分離されるフィルタ内に給送する再生手段とを含み、制御ガスはフィルタを洗浄する再生ガスの少なくとも一部を形成し、排出通路は、フィルタを通過した再生ガス及びフィルタから分離させられてガスと共に流れる材料を、構成から除去するよう配置されることにおいて特徴付けられる。
【００５８】
次いで、本発明の方法は、閉塞手段を用いてフィルタ装置のフィルタを製品ガスラインから分離すること、酸素を含む制御ガスを製品ガスラインからフィルタ内に給送すること、制御ガスはフィルタを洗浄する再生ガスの少なくとも一部を形成すること、並びにフィルタを通過する再生ガスをフィルタから除去することによって特徴付けられる。
【００５９】
図面及び関連する記載は本発明の着想を例示することを意図するに過ぎない。本発明が一部の実施例を通じて本発明を開示する上述の実施態様に限定されず、付属の請求項中に定められる発明的な着想内で本発明の様々な変形及び異なる用途が実現可能であることは、当業者に明らかであろう。
【符号の説明】
【００６０】
１      製品ガスを生成する工場
２      製品ガスライン
３      フィルタ装置
４      閉塞手段
５      フィルタ
６      通路システム
７      供給通路
８      排出通路
９      再生手段
１０ａ  閉塞構成
１０ｂ  閉塞構成
１１    ファン
１２    クーラ
１３    ヒータ
１４    掃気手段
１５    再循環通路
１６    洗浄群
１６ａ  洗浄群
１６ｂ  洗浄群
１７    製品ガス生成ユニット
１８    製品ガス利用ユニット
１９    閉塞手段
２０    制御手段
２１    測定装置
１００  構成
ＩＧ    不活性掃気ガス
ＣＧ    制御ガス
ＲＧ    再生ガス
Ｓ      固形物
【図１】
2016016406.tif 000003
【図２】
2016016406.tif 000004
【図３ａ】
2016016406.tif 000005
【図３ｂ】
2016016406.tif 000006
【図４ａ】
2016016406.tif 000007
【図４ｂ】
2016016406.tif 000008