(57)【要約】【課題】露光光線の光軸が感光性樹脂の露光面に対して直交する状態でパターン露光ができる直描型露光装置を提供する。【解決手段】基材Ｂに保持された膜状の感光性樹脂ＰＰに、露光光線１ｂを直接照射することによりパターン露光を行なう直描型露光装置において、露光光線１ｂを出力する光源１と、基台２と、基材Ｂの下面中央領域を支持可能な支持部材３と、変位機構４ａ〜４ｄと、基材Ｂの下面周縁領域を支持可能な少なくとも１つの支持軸７ａ〜７ｄとを含む。変位機構４ａ〜４ｄは、露光光線１ｂの光軸方向において支持部材３を変位させるように動作する。支持部材３は、変位機構４ａ〜４ｄにより支持部材３を変位させて、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と支持部材３の上面とが直交するように、基台２の上方に配設されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の基材に保持された膜状の感光性樹脂に、露光光線を所定のパターンで直接照射することによりパターン露光を行なう直描型露光装置であって、
露光光線を出力する光源と、
基台と、
前記基材の下面中央領域を支持可能な支持部材と、
駆動部および駆動軸を備え、前記露光光線の光軸方向において前記支持部材を変位させるように動作する変位機構と、
前記基材の下面周縁領域を支持可能な少なくとも１つの支持軸と、
を含み、
前記支持部材は、前記変位機構により前記支持部材を変位させて、前記基材の下面周縁領域と前記支持軸の一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態において、前記露光光線の光軸と前記支持部材の上面とが直交するように、前記基台の上方に配設されていることを特徴とする、直描型露光装置。
【請求項２】
前記支持軸は、軸方向の応力に対して弾性変形する弾性変形部を有することを特徴とする、請求項１に記載の直描型露光装置。
【請求項３】
前記支持軸に接続され、前記支持軸の軸方向にかかる荷重を検知する荷重検知部と、制御装置とをさらに備え、
前記制御装置は、前記荷重検知部が検知する荷重が、所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、前記駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することを特徴とする、請求項１または２に記載の直描型露光装置。
【請求項４】
前記基材の下面周縁領域と前記支持軸の一方端部とが当接する箇所に対応する、前記基材の上面までの距離を検出する距離検知部と、制御装置とをさらに備え、
前記制御装置は、前記距離検知部からの、前記距離検知部と前記基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、前記駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することを特徴とする、請求項１または２に記載の直描型露光装置。
【請求項５】
傾斜検知機構と、傾斜調整機構とをさらに備え、
前記制御装置は、前記傾斜検知機構による情報に基づいて、前記基台の傾斜角を調整する動作指令を、前記傾斜調整機構に与えるように制御することを特徴とする、請求項３または４に記載の直描型露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、紫外線領域の波長を有する光線を、マスクを介さず感光性樹脂に直接照射して、所定のパターンを描画することにより、感光性樹脂をパターン露光する直描型露光装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子部品の製造における配線パターンおよび電極パターンの形成には、スクリーン印刷が利用されることが多い。
【０００３】
スクリーン印刷は、所定の開口パターンを有するように製版された紗と呼ばれる網目の布が枠体に張られてなるスクリーン印刷版を通して、印刷対象物にインクを印刷する技術である。
【０００４】
スクリーン印刷版の製版は、紗に感光性樹脂を塗布し、マスク（原版）を介して紫外線などを照射して露光した後、不要な部分を洗浄除去（現像）して、所定の開口パターンを得ることにより行なわれている。
【０００５】
ところで、近年、紫外線領域の波長を有する露光光線を、マスクを介さず感光性樹脂に直接照射して、所定のパターンを描画することにより、感光性樹脂をパターン露光する直描型露光装置が普及し始めている。
【０００６】
そのような直描型露光装置の一例として、例えば特開平１１−３２０９６８号公報（特許文献１）では、デジタル・マイクロミラー・デバイス（以下、ＤＭＤと呼称）を用いてパターン露光を行なう直描型露光装置が提案されている。
【０００７】
図１０は、特許文献１に記載されている直描型露光装置２００の説明図である。図１０（Ａ）は、直描型露光装置２００の概略構成図である。図１０（Ｂ）は、直描型露光装置２００に用いられているＤＭＤ２０５のミラー構成を示す模式図である。図１０（Ｃ）は、図１０（Ｂ）の部分拡大図である。
【０００８】
ＤＭＤ２０５は、正方形の微小ミラーＭが横方向（図１０（Ｂ）の左右方向であって、微小ミラーＭが列をなす方向）にｍ個、縦方向（図１０（Ｂ）の上下方向であって、微小ミラーＭの列が並ぶ方向）に６列配置されてなる。横方向において、互いに隣接する微小ミラーＭの間には、隙間ｇが設けられている。各列（Ｍ１１〜Ｍ１６）の微小ミラーＭは、隣接する上下の列における微小ミラーＭとそれぞれ所定の距離だけずらせて配置されている。
【０００９】
露光対象物である感光性樹脂ＰＰは、膜状であって、例えば樹脂単体のドライフィルムの状態で、または液状の樹脂を不図示の基材上に塗布後、乾燥させた状態で、テーブル２０３に載置される。テーブル２０３は、ベース２０２上をＹ方向に移動自在である。
【００１０】
そして、各微小ミラーＭは、一対の端部Ｍａを結ぶ対角線を回転軸として、端部Ｍｂが回転可能となるように構成されている。ＤＭＤ制御装置２０６は、ＤＭＤ２０５の各微小ミラーＭの回転を個別に制御する。
【００１１】
光源２０１から出力された紫外線領域の波長を有する光は、コリメーターレンズ２０４により平行光２０１ａに変換されてＤＭＤ２０５に入射する。そして、平行光２０１ａは、入射した各微小ミラーＭがどのように回転されているかにより、各ミラーＭによる反射光の方向が決められる。
【００１２】
幾つかの微小ミラーＭによる反射光は、マイクロレンズ２０７により集光されることにより、露光光線２０１ｂとなって感光性樹脂ＰＰの露光面に照射され、露光に寄与する。一方、別の微小ミラーＭによる反射光は、感光性樹脂ＰＰから離れた位置に照射され、露光に寄与しない。
【００１３】
すなわち、直描型露光装置２００では、ＤＭＤ２０５の微小ミラーＭの個別の回転角を制御することにより、感光性樹脂ＰＰをパターン露光することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１４】
【特許文献１】特開平１１−３２０９６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１５】
ここで、図１１（Ａ）に示すように、液状の感光性樹脂ＰＰを枠体Ｆに張られた紗Ｓ上に塗布後、乾燥させたスクリーン印刷版を、直描型露光装置２００によりパターン露光することを考える。
【００１６】
上記のスクリーン印刷版において、液状の感光性樹脂ＰＰの紗Ｓ上への塗布は、均一な膜厚で、図上での上面ＰＰｕと下面ＰＰｌとが平行となるように行なわれているが、枠体Ｆの厚みが均一ではなかったとする。
【００１７】
このようなスクリーン印刷版を、上面ＰＰｕを露光面としてテーブル２０３に載置すると、枠体Ｆに張られた紗Ｓは、テーブル２０３の上面に対してわずかに傾斜する。その傾斜角をθとすると、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃと上面ＰＰｕとは直交せず、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃに対して、上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎが角度θだけ傾くことになる。
【００１８】
その状態で露光した後、現像すると、図１１（Ｂ）に示すように、上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎに対して角度θだけ傾き、上面ＰＰｕ側の開口位置Ａｕと下面ＰＰｌ側の開口位置Ａｌとがずれた開口パターンが形成されてしまう。
【００１９】
スクリーン印刷は、図１１（Ｂ）における感光性樹脂の上面ＰＰｕが印刷対象物に接するようにして行なわれる。一方、印刷対象物との位置合わせは下面ＰＰｌ側から行なう。上面ＰＰｕ側と下面ＰＰｌ側とで開口位置がずれていると、下面ＰＰｌ側の開口位置で位置合わせを行なっても、実際に印刷対象物にインクが印刷されるのは上面ＰＰｕ側の開口位置となり、印刷ずれが生じることになる。
【００２０】
また、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃと上面ＰＰｕとが直交していない場合、露光光線２０１ｂの上面ＰＰｕ上における投影像は、直交からのずれに応じて歪むことになる。例えば、露光光線２０１ｂの光軸２０１ｃに直交する断面が円形であったとすると、上面ＰＰｕ上では、楕円形に歪んでしまう。露光光線２０１ｂの上面ＰＰｕ上における投影像が歪みを有すると、開口パターンとしても歪みが生じることになる。
【００２１】
そこで、この発明の目的は、感光性樹脂を支持する基材の厚みが不均一であったとしても、露光光線の光軸が感光性樹脂の露光面に対して常に直交する状態でパターン露光ができる直描型露光装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００２２】
この発明では、露光光線の光軸が感光性樹脂の露光面に対して直交する状態でパターン露光を行なうことができるようにするため、露光時における感光性樹脂を支持する基材の高さ位置を決める機構についての改良が図られる。
【００２３】
この発明に係る直描型露光装置は、下記の構成により、板状の基材に保持された膜状の感光性樹脂に、露光光線を所定のパターンで直接照射することによりパターン露光を行なう。
【００２４】
この発明に係る直描型露光装置は、露光光線を出力する光源と、基台と、基材の下面中央領域を支持可能な支持部材と、駆動部および駆動軸を備える変位機構と、基材の下面周縁領域を支持可能な少なくとも１つの支持軸と、を含む。
【００２５】
変位機構は、露光光線の光軸方向において支持部材を変位させるように動作する。支持部材は、変位機構により支持部材を変位させて、基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態において、露光光線の光軸と支持部材の上面とが直交するように、基台の上方に配設されている。
【００２６】
上記の直描型露光装置では、変位機構が支持部材を変位させ、基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態において、露光光線の光軸と基材の上面とが直交している。
【００２７】
そのため、露光光線の光軸が、基材の上面に設けられている感光性樹脂の上面（露光面）に対して、許容できる誤差範囲内において常に直交する状態で、パターン露光を行なうことができる。
【００２８】
すなわち、感光性樹脂の上面側と下面（位置合わせ面）側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。
【００２９】
したがって、感光性樹脂をスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、高精度の開口パターンを得ることができるため、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。
【００３０】
この発明に係る直描型露光装置における第１の好ましい実施形態は、支持軸が軸方向の応力に対して弾性変形する弾性変形部を有する。
【００３１】
基材は初期位置において支持部材により支持されている。
【００３２】
上記の直描型露光装置では、基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部とが当接することにより、基材の重量の少なくとも一部を支持軸が受けるようになる。その結果、支持軸の弾性変形部は、支持軸の軸方向に発生する応力に対して弾性変形する。
【００３３】
そのため、基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部とが当接した後に、変位機構がさらに少し支持部材を変位させたとしても、弾性変形部が上記のように弾性変形することにより、支持部材は基材を支持し続ける。すなわち、基材が急に支持軸のみによって支持されるようになることが避けられる。
【００３４】
例えば、基材として、前述のように紗が厚みの不均一な枠体に張られてなるものが用いられ、初期位置では紗の下面中央領域が支持部材によって支持されている状態を考える。また、支持軸は複数で、その一方端部が同一の高さ位置となるように備えられているものとする。この状態では、紗の上面に塗布されている感光性樹脂の露光面は、露光光線の光軸に対して直交している。また、枠体の下面は、まだ支持軸の一方端部に当接していない。
【００３５】
その状態から変位機構が支持部材をさらに変位させて、複数の支持軸の一方端部と枠体の下面とを順次当接させ、最終的に、厚みが均一ではない枠体が支持軸のみによって支持された状態とする。
【００３６】
支持軸が剛体である場合、上記の状態では、枠体に張られている紗の上面に塗布されている感光性樹脂の露光面が、露光光線の光軸に対して傾いてしまう。したがって、その状態で露光したとすると、所望の開口パターンとは異なるものとなってしまう（図１１およびその説明参照）。
【００３７】
一方、支持軸の一方端部と枠体の下面とが当接した後に、変位機構がさらに少し支持部材を変位させた場合、弾性変形部が上記のように弾性変形している状態を考える。この状態では、支持部材は紗の下面中央領域を支持し続けている。
【００３８】
この支持部材による紗の下面中央領域の支持は、支持軸のうち最初に枠体の下面に当接したものの弾性変形域内において継続する。すなわち、基材が急に支持軸のみによって支持されるようになることが避けられる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【００３９】
したがって、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【００４０】
この発明に係る直描型露光装置における第２の好ましい実施形態は、支持軸に接続され、支持軸の軸方向にかかる荷重を検知する荷重検知部と、制御装置とをさらに備える。
【００４１】
制御装置は、荷重検知部が検知する荷重が、所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【００４２】
上記の直描型露光装置では、基材が支持軸の一方端部の少なくとも１つに当接することにより、基材の重量の少なくとも一部を支持軸が受けるようになった結果、支持軸にかかる荷重が所定の値まで増加したことを荷重検知部で検知する。その情報は制御装置に送信され、制御装置はその情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与える。
【００４３】
言い換えると、変位機構は、支持軸の少なくとも１つにかかる荷重が所定の値まで増加したことを荷重検知部が検知するまで、支持部材を確実に変位させる。したがって、基材の下面中央領域と支持部材の上面との当接、および基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部の少なくとも１つとの当接を両立させ、露光光線の光軸と支持部材の上面とを確実に直交させることができる。上記の所定の値は、支持軸の少なくとも１つが基材を支えることにより、基材の弾性変形が解消した状態で、基材を支えている支持軸にかかる荷重であることが好ましい。
【００４４】
また、上記の直描型露光装置では、支持軸の少なくとも１つにかかる荷重が所定の値に到達したことを荷重検知部が検知した時点で、制御装置が駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することにより、変位機構が支持部材を変位させ過ぎずに済む。すなわち、基材が支持軸のみによって支持されることを避けることができる。
【００４５】
例えば、基材として、前述のように紗が枠体に張られてなるものが用いられ、初期位置では紗の下面中央領域が支持部材によって支持されている状態を考える。
【００４６】
そして、支持部材を変位させ、支持軸にかかる荷重の増加開始を荷重検知部が検知した時点で制御装置が駆動部に動作を停止させ、紗の下面中央領域が引き続き支持部材によって支持されるようにする。この状態では、紗の上面に塗布されている感光性樹脂の露光面は、露光光線の光軸に対して傾いていない。さらに、枠体が支持軸によって支持されているため、紗に無視できない弾性変形が発生することがない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【００４７】
したがって、第１の好ましい実施形態と同様に、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【００４８】
この発明に係る直描型露光装置における第３の好ましい実施形態は、基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部の少なくとも１つとが当接する箇所に対応する、基材の上面までの距離を検出する距離検知部と、制御装置とをさらに備える。
【００４９】
制御装置は、距離検知部からの、距離検知部と基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【００５０】
上記の直描型露光装置では、変位機構が支持部材を変位させた結果、距離検知部と基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことを距離検出部で検知する。その情報は制御装置に送信され、制御装置はその情報に基づいて、駆動部に動作を停止する動作指令を与える。
【００５１】
言い換えると、変位機構は、距離検知部と基材の上面との間の距離が所定の値まで増加したことが検知されるまで、支持部材を確実に変位させる。したがって、基材の下面中央領域と支持部材の上面との当接、および基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部との当接を両立させ、露光光線の光軸と支持部材の上面とを確実に直交させることができる。上記の所定の値は、支持軸の少なくとも１つが基材を支えることにより、基材の弾性変形が解消した状態で、基材を支えている支持軸の上方の距離検知部と基材の上面との間の距離であることが好ましい。
【００５２】
上記の直描型露光装置では、距離検知部が検知する距離がその値となった時点で、制御装置が駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することにより、変位機構が支持部材を変位させ過ぎずに済む。すなわち、第１および第２の好ましい実施形態と同様に、基材が支持部材のみによって支持されることを避けることができる。
【００５３】
例えば、基材として、前述のように紗が枠体に張られてなるものが用いられ、初期位置では紗の下面中央領域が支持部材によって支持されている状態を考える。
【００５４】
そして、支持部材を変位させ、距離検知部が検知する距離が上記の所定の値となった時点で制御装置が駆動部に動作を停止させ、紗の下面中央領域が引き続き支持部材によって支持されるようにする。この状態では、紗の上面に塗布されている感光性樹脂の露光面は、露光光線の光軸に対して傾いていない。さらに、枠体が支持軸によって支持されているため、紗に無視できない弾性変形が発生することがない。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【００５５】
したがって、第１および第２の好ましい実施形態と同様に、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【００５６】
この発明に係る直描型露光装置における第４の好ましい実施形態では、傾斜検知機構と、傾斜調整機構とをさらに備える。制御装置は、傾斜検知機構による情報に基づいて、基台の傾斜角を調整する動作指令を、傾斜調整機構に与えるように制御する。
【００５７】
上記の直描型露光装置では、制御装置は、傾斜検知機構による情報に基づいて傾斜調整機構を動作させることにより、基台の傾斜角を調整している。
【００５８】
支持部材は基台上に設置されているので、その傾斜角は、基台の傾斜角を調整することで調整することができる。
【００５９】
したがって、基台の傾斜角を調整することにより、支持部材の上面と基材の下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線の光軸と基材の上面との角度が直交となるように調整することができる。すなわち、その状態で露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【発明の効果】
【００６０】
この発明に係る直描型露光装置では、変位機構が支持部材を変位させ、基材の下面周縁領域と支持軸の一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態において、露光光線の光軸と基材の上面とが直交している。
【００６１】
そのため、露光光線の光軸が、基材の上面に設けられている感光性樹脂の上面（露光面）に対して、許容できる誤差範囲内において常に直交する状態で、パターン露光を行なうことができる。
【００６２】
すなわち、感光性樹脂の上面側と下面（位置合わせ面）側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。
【００６３】
したがって、感光性樹脂をスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、高精度の開口パターンを得ることができるため、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。
【図面の簡単な説明】
【００６４】
【図１】この発明に係る直描型露光装置１００の断面図（図２のＹ１−Ｙ１線を含む面の矢視断面図）である。
【図２】この発明に係る直描型露光装置１００の要部の上面図である。
【図３】この発明に係る直描型露光装置１００における、支持部材３による基材Ｂの高さ位置の位置決めを模式的に説明するための、図１に相当する断面図である。（Ａ）は、支持部材３が初期位置（変位機構４ａおよび４ｂが動作する前の位置）にある状態の断面図である。（Ｂ）は、枠体Ｆの下面が支持軸７ａの一方端部に当接した状態の断面図である。（Ｃ）は、紗Ｓの下面中央領域が支持部材３によって支持され、かつ枠体Ｆが支持軸７ａによって支持された状態の断面図である。
【図４】この発明に係る直描型露光装置における第１の変形例１００Ａの、図１に相当する断面図である。
【図５】この発明に係る直描型露光装置における第２の変形例１００Ｂの、図１に相当する断面図である。
【図６】この発明に係る直描型露光装置における第３の変形例１００Ｃの、図１に相当する断面図である。
【図７】この発明に係る直描型露光装置における第４の変形例１００Ｄの、図１に相当する断面図である。
【図８】この発明に係る直描型露光装置における第５の変形例１００Ｅの部分透視斜視図である。
【図９】この発明に係る直描型露光装置における第５の変形例１００Ｅの要部の上面図である。
【図１０】背景技術の直描型露光装置２００の説明図である。（Ａ）は、直描型露光装置２００の概略構成図である。（Ｂ）は、直描型露光装置２００に用いられているＤＭＤ２０５のミラー構成を示す模式図である。（Ｃ）は、（Ｂ）の部分拡大図である。
【図１１】この発明が解決しようとする課題を説明するためのもので、均一ではない厚みを有する枠体Ｆに張られた紗Ｓ上の感光性樹脂ＰＰを、図１０に示した背景技術の直描型露光装置２００を用いてパターン露光する場合の、直描型露光装置２００の要部を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００６５】
以下にこの発明の実施形態を示して、本発明の特徴とするところをさらに詳しく説明する。
【００６６】
−この発明に係る直描型露光装置の実施形態−
この発明に係る直描型露光装置の実施形態について、図１および図２を用いて説明する。
【００６７】
図１は、この実施形態に係る直描型露光装置１００の断面図である。図２は、この実施形態に係る直描型露光装置１００の要部の上面図である。図１は、図２のＹ１−Ｙ１線を含む面の矢視断面図となっている。
【００６８】
この実施形態に係る直描型露光装置１００は、下記の構成により、板状の基材Ｂの上面に保持された膜状の感光性樹脂ＰＰに、露光光線１ｂを所定のパターンで直接照射することによりパターン露光を行なう。
【００６９】
図１では、基材Ｂとして、前述のように紗Ｓと呼ばれる網目の布が枠体Ｆに張られてなるものが用いられている。基材Ｂには、任意の材質の板状部材など、所望のものを用いることができる。感光性樹脂ＰＰも、前述のように、膜状であって、例えば樹脂単体のドライフィルムの状態のものや、液状の樹脂を紗Ｓ上に塗布後、乾燥させた状態のものなど、所望のものを用いることができる。
【００７０】
なお、感光性樹脂ＰＰの厚みの不均一は無視できるものとし、上面ＰＰｕ（露光面）は、基材Ｂ（紗Ｓ）の上面と実質的に平行となっているとする。
【００７１】
直描型露光装置１００は、光源１と、基台２と、支持部材３と、変位機構４ａ〜４ｄと、支持軸７ａ〜７ｄとを含む。
【００７２】
光源１は、露光光線１ｂを出力する。露光光線１ｂは、感光性樹脂ＰＰに化学変化を生じさせる波長を有する光線である。そのための光源１の発光体としては、例えば紫外線レーザー、超高圧水銀ランプ、またはＬＥＤなど、紫外線領域の波長を有する光を発するものを用いることができる。光源１は、コリメーターレンズや集光レンズなどのレンズ系をさらに含んでもよい。
【００７３】
図１では、光源１は、水平移動機構１ｈと上下移動機構１ｖにより、水平方向および上下方向に移動可能となっている。すなわち、図１では、基台２を動かさず、水平移動機構１ｈにより光源１を水平移動させてパターン露光を行なう。また、上下移動機構１ｖにより光源１を上下移動させて焦点位置の調節を行なう。
【００７４】
なお、パターン露光を行なうためには、光源１を移動させずに、特許文献１に記載のＤＭＤや、ガルバノミラーなどの反射鏡を用いることにより、露光光線の照射位置を変えるようにしてもよい。また、別途設けた水平移動機構および上下移動機構の少なくとも一方により、基台２を水平方向および垂直方向の少なくとも一方に移動させてパターン露光を行なうようにしてもよい。
【００７５】
基台２は、特に形状の限定はなく、平板状のものであっても、底部と側壁とにより形成される凹部を備えるものであってもよい。この実施形態に係る直描型露光装置１００では、後述の変位機構４ａ〜４ｄをそれぞれ駆動させる駆動部５ａ〜５ｄは、基台２の上面に設置される。なお、駆動部５ａ〜５ｄは、基台２の上面に凹部を設け、その凹部内にそれぞれ設置されるようにしてもよい。
【００７６】
変位機構４ａ〜４ｄは、駆動部と、駆動部により変位する駆動軸とを備える。例えば、変位機構４ａは、駆動部５ａと、駆動部５ａにより変位する駆動軸６ａとを備える。変位機構４ｂ〜４ｄも、変位機構４ａと同様の構成であり、それぞれ駆動部５ｂおよび駆動軸６ｂ、駆動部５ｃおよび駆動軸６ｃ、駆動軸５ｄおよび駆動軸６ｄを備える。駆動部５ａ〜５ｄは、前述のように、基台２の上面にそれぞれ設置されている。
【００７７】
駆動部５ａ〜５ｄとしては、例えば空圧または油圧によるシリンダーストローク調整機構、サーボモータに接続されたボールねじによる直動機構、およびリードスクリュー付きのステッピングモータなどを好ましく用いることができる。また、駆動部と駆動軸との位置関係は、図１に示したものに限らず、例えば駆動軸が基台２の上面に設置され、その駆動軸上を、後述の支持部材３が取り付けられた駆動部が移動するリニアモータのようなものでもよい。
【００７８】
変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが備える駆動軸により、支持部材３の下面周縁領域を支持している。さらに、変位機構４ａ〜４ｄは、駆動軸を、それぞれが接続される駆動部により駆動させることにより、支持部材３を露光光線１ｂの光軸方向において変位させる。
【００７９】
すなわち、変位機構４ａ〜４ｄを動作させて支持部材３を変位させることにより、基材Ｂの下面周縁領域と、後述の支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態とすることができる。
【００８０】
この実施形態に係る直描型露光装置１００においては、変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが連動するように構成されている。なお、駆動部５ａ〜５ｄは、所定の位置で、接続されている駆動軸の駆動を停止し、その状態を維持できるように（ホールド状態となるように）設定されている。
【００８１】
支持部材３は、支持部材３の上面と基材Ｂの下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と支持部材３の上面とが、許容できる誤差範囲内において直交するように、変位機構４ａ〜４ｄにより基台２の上方の所定の高さに設置されている。また、支持部材３の下面には、ステム８が取り付けられており、ステム８の内部には、空気通路８Ａが設けられている。
【００８２】
また、支持部材３は、その上面に開口する空気通路３Ａをその内部に有している。この空気通路３Ａは、ステム８の鍔部８Ｇと支持部材３の下面に設けられた凹部とにより形成される空気室３Ｒおよび空気通路３Ａを通じて不図示の減圧機構に連通している。このような構成により、支持部材３の上面は、基材Ｂの下面中央領域を減圧吸着可能となっている。
【００８３】
すなわち、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、支持部材３の上面と基材Ｂの下面中央領域とが密着した状態で、基材Ｂの下面中央領域が、支持部材３により吸着固定される。
【００８４】
したがって、この状態では、支持部材３の上面と基材Ｂの上面に保持された感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ（露光面）とが平行となっている。
【００８５】
支持軸７ａ〜７ｄは、変位機構４ａ〜４ｄを動作させて支持部材３を変位させた際に、支持部材３に吸着固定されている基材Ｂの下面周縁領域と当接可能な位置に設置されている。支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つは、基材Ｂの下面周縁領域と当接することにより、基材Ｂの下面周縁領域を基台２上に支持する。
【００８６】
次に、支持部材３および支持軸７ａ〜７ｄによる、露光時における基材Ｂの高さ位置の位置決めについて、図３を用いて説明する。
【００８７】
具体例として、基材Ｂが枠体Ｆとそれに張られた紗Ｓを含むスクリーン印刷版であって、枠体Ｆの厚みが不均一な場合を考える。説明を簡略化するため、変位機構４ａおよび４ｂにより、基材Ｂを露光光線１ｂの光軸方向において変位させるものとする。実際には、変位機構４ｃおよび４ｄも含めて、基材Ｂを露光光線１ｂの光軸方向において変位させ、露光時における基材Ｂの高さ位置の位置決めを行なう。
【００８８】
ここで、支持軸７ａの上方の枠体Ｆの厚み（Ｆａ）は、支持軸７ｂの上方の枠体Ｆの厚み（Ｆｂ）より厚いとする（図１１（Ａ）も参照）。
【００８９】
また、支持部材３は、前述のように、支持部材３の上面と基材Ｂの下面中央領域とを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と支持部材３の上面とが、許容できる誤差範囲内において直交するように、変位機構４ａ〜４ｄにより基台２の上方の所定の高さに設置されている。
【００９０】
図３（Ａ）は、そのような枠体Ｆに張られている紗Ｓを吸引固定している支持部材３が、初期位置（変位機構４ａおよび４ｂがそれぞれ動作する前の位置）にある状態を表す断面図である。なお、初期位置において、支持部材３の上面と基台２の上面との間の距離をＨ１とする。この状態では、紗Ｓは支持部材３の上面に吸着固定されているため、紗Ｓの上面に塗布されている感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎは、露光光線１ｂの光軸１ｃと一致している。
【００９１】
ただし、枠体Ｆの下面は、支持軸７ａおよび７ｂの一方端部と当接しておらず、枠体Ｆの重量が紗Ｓにかかることにより、紗Ｓには無視できない程度の弾性変形部ＥＤが存在している。
【００９２】
図３（Ｂ）は、変位機構４ａおよび４ｂが動作して、支持部材３の上面と基台２の上面との間の距離がＨ２となるように支持部材３が変位することにより、支持軸７ａの一方端部が枠体Ｆの下面に当接した状態を表す断面図である。
【００９３】
図３（Ａ）の状態から支持部材３が変位すると、支持軸７ａの上方の枠体Ｆの下面が、支持軸７ａの一方端部に、ＦａとＦｂとの厚みの差の分だけ先に当接する。
【００９４】
ただし、この時点では、支持軸７ａが枠体Ｆの重量をほとんど支えておらず、枠体Ｆの重量がまだ紗Ｓにかかっているため、紗Ｓには引き続き弾性変形部ＥＤが存在している。
【００９５】
図３（Ｃ）は、支持部材３の上面と基台２の上面との間の距離がＨ３となるように支持部材３がさらに変位することにより、支持軸７ａが枠体Ｆを十分支えるようになった状態を表す断面図である。
【００９６】
図３（Ｂ）の状態から支持部材３がさらに変位することにより、支持軸７ａが枠体Ｆを十分支えるようになり、紗Ｓにかかる枠体Ｆの重量が十分減少する。その結果、紗Ｓの弾性変形が解消する。そして、紗Ｓの弾性変形が解消した時点で、変位機構４ａおよび４ｂのそれぞれの駆動部５ａおよび５ｂの動作を停止させ、変位機構４ａおよび４ｂをホールド状態とする。
【００９７】
上記のようにすることで、支持部材３がさらに変位して、枠体Ｆが支持軸７ａによって相対的に突き上げられることにより、紗Ｓが支持部材３の上面から離されて傾くことがない。あるいは、支持軸７ｂの一方端部と枠体Ｆの下面とが当接し、最終的に、厚みが均一ではない枠体Ｆが支持軸７ａおよび７ｂのみによって支持された状態となって、枠体Ｆの厚みの差により、紗Ｓが傾くことがない。
【００９８】
すなわち、紗Ｓの上面に塗布されている感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕの法線方向ＰＰｎと、露光光線１ｂの光軸１との一致は維持されることになる。
【００９９】
上記のように、枠体Ｆは、支持軸７ａの一方端部に当接し、枠体Ｆの重量を支持軸７ａが支えることにより、紗Ｓの弾性変形が解消した状態で基台２上に支持されている。なお、支持軸７ｂの一方端部は、枠体Ｆの下面に当接していなくとも、少なくとも１つの支持軸が枠体Ｆの重量を支えることにより、紗Ｓの弾性変形は大幅に改善される。
【０１００】
すなわち、紗Ｓの上面に保持されている感光性樹脂ＰＰも、弾性変形のない状態となる。
【０１０１】
以上の段階を経ることにより、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、支持部材７の上面と紗Ｓの下面中央領域とが密着して当接し、かつ支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つが、枠体Ｆを基台２上に支持するように、基材Ｂの高さ位置が位置決めされる。
【０１０２】
なお、上記の説明では、紗Ｓの弾性変形を考慮したが、例えば枠体Ｆの重量が軽く、枠体Ｆの重量による紗Ｓの弾性変形が無視できるような場合は、支持軸７ａの一方端部が枠体Ｆの下面に当接した時点で、変位機構４ａおよび４ｂをホールド状態とするようにしてもよい。
【０１０３】
なお、このことは、基材Ｂが例えば剛性の高い板状部材などからなり、仮に枠体Ｆの重量がかかっても、本質的に弾性変形し難いものである場合についても同様である。
【０１０４】
上記の具体例から分かるように、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、基材Ｂの厚みが不均一であっても、上記の基材Ｂと支持部材３、および基材Ｂと支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとの当接状態において、露光光線１ｂの光軸と基材Ｂの上面とは、確実に直交することになる。そのため、露光光線１ｂの光軸が感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ（露光面）に対して直交する状態で、パターン露光を行なうことができる。
【０１０５】
また、基材Ｂの重量を支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つが十分支えることにより、基材Ｂに無視できない弾性変形が発生することがないため、その上面に保持されている感光性樹脂ＰＰも、弾性変形のない状態となる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１０６】
したがって、この実施形態に係る直描型露光装置１００では、感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ側と下面ＰＰｌ側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。すなわち、感光性樹脂ＰＰをスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。また、印刷パターンの寸法ばらつきを小さくすることができる。
【０１０７】
−この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第１の変形例−
この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第１の変形例１００Ａについて、図４を用いて説明する。
【０１０８】
図４は、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第１の変形例１００Ａの断面図である。なお、第１の変形例１００Ａは、支持部材３を変位させる変位機構４が、ステム８を駆動部５によって駆動するようにしたものである。すなわち、ステム８が駆動軸６となる。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【０１０９】
第１の変形例１００Ａでは、変位機構４の駆動軸６とステム８とを兼用しているため、直描型露光装置の構成を簡略化することができる。また、複数の変位機構により支持部材３を変位させる場合、露光光線１ｂの光軸と支持部材３の上面の上面との直交を確実なものとするためには、それらの変位機構間の連動を正確に調整する必要がある。一方、第１の変形例１００Ａでは、ステム８と兼用される１つの駆動軸６のみで支持部材３を変位させるため、そのようなは調整は必要がない。
【０１１０】
すなわち、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第１の変形例１００Ａでは、直描型露光装置の製造コストを低減し、また維持管理の手間とコストを低減させることができる。
【０１１１】
−この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第２の変形例−
この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第２の変形例１００Ｂについて、図５を用いて説明する。
【０１１２】
図５は、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第２の変形例１００Ｂの断面図である。なお、第２の変形例１００Ｂは、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとが当接した後に、基材Ｂが急に支持軸のみによって支持されることを防止する構成を、駆動軸６ａ〜６ｄに付加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【０１１３】
第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂは、支持軸７ａ〜７ｄ（支持軸７ｃおよび７ｄは不図示）がそれぞれ剛体部と弾性変形部とを備える。例えば、支持軸７ａは、剛体部７ａｓと、剛体部７ａｓの一方端部に接続された弾性変形部７ａｅとを備える。支持軸７ｂ〜７ｄも、支持軸７ａと同様の構成であり、それぞれ剛体部７ｂｓおよび弾性変形部７ｂｅ、剛体部７ｃｓおよび弾性変形部７ｃｅ、剛体部７ｄｓおよび弾性変形部７ｄｅを備える。
【０１１４】
弾性変形部７ａｅ〜７ｄｅとしては、例えばゴムおよびばねなどを好ましく用いることができる。また、支持軸７ａ〜７ｄにおける剛体部と弾性変形部との位置関係は、図５に示したものに限らず、例えば２本の剛体部を弾性変形部で接続した形態でもよい。
【０１１５】
前述のように、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとが当接することにより、基材Ｂの重量の少なくとも一部を、基材Ｂと当接した支持軸が受けるようになる。その結果、第２の変形例に係る直描型露光装置１００Ｂでは、基材Ｂと当接した支持軸の弾性変形部は、支持軸の軸方向に発生する応力に対して弾性変形する。当接した支持軸の弾性変形部が弾性変形すると、基材Ｂが当接した支持軸によって相対的に突き上げられず、基材Ｂと支持部材３の上面とが密着した状態が維持される。
【０１１６】
そのため、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとが当接した後に、変位機構４ａ〜４ｄがさらに少し支持部材３を変位させたとしても、支持部材３は基材Ｂを支持し続ける。すなわち、基材Ｂが急に支持軸７ａ〜７ｄのみによって支持されるようになることが避けられる。
【０１１７】
例えば、基材Ｂとして、前述のように紗Ｓが厚みの不均一な枠体Ｆに張られてなるものが用いられ、初期位置では紗Ｓの下面中央領域が支持部材によって支持されている状態を考える。また、支持軸７ａ〜７ｄの一方端部は、同一の高さ位置となるように備えられているものとする。
【０１１８】
その状態から変位機構４ａ〜４ｄが支持部材３を変位させて、支持軸７ａ〜７ｄの一方端部と、枠体Ｆの下面とを順次当接させ、最終的に、厚みが均一ではない枠体Ｆが支持軸のみによって支持された状態とする。
【０１１９】
支持軸７ａ〜７ｄの弾性変形部が弾性変形する場合、支持部材３は、上記のように、紗Ｓの下面中央領域を支持し続けることができる。
【０１２０】
この支持部材３による紗Ｓの下面中央領域の支持は、支持軸７ａ〜７ｄの一方端部のうち、最初に枠体Ｆの下面に当接したものの弾性変形域内において継続する。すなわち、基材Ｂが急に支持軸のみによって支持されるようになることが避けられる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１２１】
したがって、その状態で感光性樹脂ＰＰを露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【０１２２】
−この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第３の変形例−
この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第３の変形例１００Ｃについて、図６を用いて説明する。
【０１２３】
図６（Ａ）は、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第３の変形例１００Ｃの断面図である。なお、第３の変形例１００Ｃは、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態で説明した、支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つが基材Ｂの重量を十分支えるようになった状態を、確実に検知するための構成を付加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【０１２４】
第３の変形例に係る直描型露光装置１００Ｃは、支持軸７ａ〜７ｄ（支持軸７ｃおよび７ｄは不図示）のそれぞれに接続され、支持軸７ａ〜７ｄのそれぞれにおける軸方向にかかる荷重を検知する荷重検知部と、荷重検知部および駆動部が接続される制御装置１１とをさらに備える。
【０１２５】
例えば、荷重検知部９ａは、支持軸７ａの枠体Ｆに当接する一方端部に取り付けられており、かつ制御装置１１と接続されている。図６（Ａ）では、接続状態を点線で表している。また、制御装置１１は、荷重検知部９ａからの情報に基づいて、駆動部５ａに動作指令を与えることができるように、駆動部５ａと接続されている。
【０１２６】
荷重検知部９ｂ〜９ｄ（荷重検知部９ｃおよび９ｄは不図示）も、荷重検知部９ａと同様に、それぞれ対応する支持軸の端部に取り付けられており、かつそれぞれ制御装置１１と接続されている。また、制御装置１１は、上記と同様に、駆動部５ｂ〜５ｄのそれぞれと接続されている。
【０１２７】
制御装置１１は、荷重検知部９ａ〜９ｄが検知する荷重が、所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、それぞれの荷重検知部と対応する駆動部に、動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１２８】
荷重検知部９ａ〜９ｄとしては、例えば圧力センサおよびロードセルなどを好ましく用いることができる。また、支持軸７ａ〜７ｄにおける荷重検知部の取り付け位置は、図６（Ａ）に示したものに限らず、例えば支持軸中に荷重検知部を取り付けたものでもよい。
【０１２９】
第３の変形例１００Ｃでは、基材Ｂが支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つに当接することにより、基材Ｂの重量の少なくとも一部を当接した支持軸が受けるようになった結果、当接した支持軸にかかる荷重が所定の値まで増加したことを、支持軸７ａ〜７ｄにそれぞれ取り付けられている荷重検知部で検知する。
【０１３０】
その情報は制御装置１１に送信され、制御装置１１は、情報を送信した荷重検知部に対応する駆動部に、動作を停止する動作指令を与える。この場合、変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが連動するように構成されていることが好ましい。
【０１３１】
また、上記の所定の値は、支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つが基材を支えることにより、基材Ｂの弾性変形が解消した状態で、基材Ｂを支えている支持軸にかかる荷重であることが好ましい。
【０１３２】
上記の構成では、支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つにかかる荷重が所定の値に到達したことを、支持軸７ａ〜７ｄにそれぞれ取り付けられている荷重検知部が検知した時点で、制御装置１１が、対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１３３】
言い換えると、変位機構４ａ〜４ｄは、支持軸の少なくとも１つにかかる荷重が所定の値まで増加したことを荷重検知部が検知するまで、支持部材３を確実に変位させる。したがって、基材Ｂの下面中央領域と支持部材３の上面との当接、および基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとの当接を両立させ、露光光線１ｂの光軸と支持部材３の上面とを確実に直交させ、かつ基材Ｂにおける無視できない弾性変形の発生を避けることができる。
【０１３４】
また、第３の変形例１００Ｃでは、支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つにかかる荷重が所定の値に到達したことを荷重検知部が検知した時点で、制御装置１１が対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御することにより、変位機構４ａ〜４ｄが支持部材３を変位させ過ぎずに済む。すなわち、基材Ｂが支持軸７ａ〜７ｄのみによって支持されることを避けることができる。
【０１３５】
すなわち、第３の変形例１００Ｃでは、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態と同様に、感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ側と下面ＰＰｌ側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。
【０１３６】
したがって、感光性樹脂ＰＰをスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。また、印刷パターンの寸法ばらつきを小さくすることができる。
【０１３７】
なお、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第３の変形例１００Ｃは、図６（Ｂ）に示すように、支持軸７ａ〜７ｄ（支持軸７ｃおよび７ｄは不図示）がそれぞれ剛体部と弾性変形部とを備えるようにしてもよい（前述の第２の変形例１００Ｂ参照）。
【０１３８】
この場合、支持部材３の変位により、基材Ｂが急に支持軸のみによって支持されるようになることが避けられる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１３９】
−この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第４の変形例−
この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第４の変形例１００Ｄについて、図７を用いて説明する。
【０１４０】
図７（Ａ）は、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第４の変形例１００Ｄの断面図である。第４の変形例も、第３の変形例と同様に、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態で説明した、支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つが基材Ｂの重量を十分支えるようになった状態を、確実に検知するための構成を付加したものである。したがって、その他の部分については、前述のこの発明に係る直描型露光装置の実施形態と同様であるため、説明を省略する。
【０１４１】
第４の変形例に係る直描型露光装置１００Ｄは、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄ（支持軸７ｃおよび７ｄは不図示）の一方端部の少なくとも１つとが当接する箇所に対応する、基材Ｂの上面までの距離を検出する距離検知部と、制御装置１１とをさらに備える。
【０１４２】
例えば、距離検知部１０ａは、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａの一方端部の少なくとも１つとが当接する箇所に対応する、基材Ｂの上面までの距離を検知することができるような位置に設けられており、かつ制御装置１１と接続されている。図７（Ａ）では、接続状態を点線で表している。図７（Ａ）では、距離検知部１０ａは、その検知軸（一点鎖線）と、支持軸７ａの中心軸とが同一となるように設けられている。また、制御装置１１は、距離検知部１０ａからの情報に基づいて、駆動部５ａに動作指令を与えることができるように、駆動部５ａと接続されている。
【０１４３】
距離検知部１０ｂ〜１０ｄ（距離検知部１０ｃおよび１０ｄは不図示）も、距離検知部１０ａと同様に、それぞれ支持軸７ｂ〜７ｄに対応する位置に設けられており、かつそれぞれ制御装置１１と接続されている。また、距離検知部１０ｂ〜１０ｄは、その検知軸（一点鎖線）と、それぞれ対応する支持軸７ｂ〜７ｄの中心軸とが同一となるように設けられている。さらに、制御装置１１は、上記と同様に、駆動部５ｂ〜５ｄのそれぞれと接続されている。
【０１４４】
制御装置１１は、距離検知部１０ａ〜１０ｄからの、それぞれの距離検知部と基材Ｂの上面との間の距離が所定の値まで増加したことを伝える情報に基づいて、それぞれの距離検知部と対応する駆動部に、動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１４５】
距離検知部１０ａ〜１０ｄとしては、例えばレーザー変位計などを好ましく用いることができる。
【０１４６】
第４の変形例に係る直描型露光装置１００Ｄでは、変位機構４ａ〜４ｄが支持部材３を変位させた結果、距離検知部１０ａ〜１０ｄと基材Ｂの上面との間の距離が所定の値まで増加したことを、距離検知部１０ａ〜１０ｄで検知する。
【０１４７】
その情報は制御装置１１に送信され、制御装置１１は、情報を送信した距離検知部に対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与える。この場合、変位機構４ａ〜４ｄは、それぞれが連動するように構成されていることが好ましい。
【０１４８】
また、上記の所定の値は、支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つが基材Ｂを支えることにより、基材Ｂの弾性変形が解消した状態での、基材Ｂを支えている支持軸の上方の距離検知部と基材Ｂの上面との間の距離であることが好ましい。
【０１４９】
上記の構成においては、距離検知部１０ａ〜１０ｄが検知する距離がその値となった時点で、制御装置１１が、対応する駆動部に動作を停止する動作指令を与えるように制御する。
【０１５０】
言い換えると、変位機構４ａ〜４ｄは、距離検知部１０ａ〜１０ｄの少なくとも１つと基材Ｂの上面との間の距離が所定の値まで増加したことを距離検知部が検知するまで、支持部材３を確実に変位させる。したがって、基材Ｂの下面中央領域と支持部材３の上面との当接、および基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの少なくとも１つの一方端部との当接を両立させ、露光光線１ｂの光軸と支持部材３の上面とを確実に直交させ、かつ基材Ｂにおける無視できない弾性変形の発生を避けることができる。
【０１５１】
すなわち、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第４の変形例１００Ｄでは、第３の変形例と同様の効果が得られ、感光性樹脂ＰＰの上面ＰＰｕ側と下面ＰＰｌ側とで、開口パターンの開口位置がずれることがない。また、開口パターンの歪みも生じることがない。
【０１５２】
したがって、感光性樹脂ＰＰをスクリーン印刷版などの印刷版に用いた場合、位置合わせを行なった所望の箇所に、高精度でインクを印刷することができる。また、印刷パターンの寸法ばらつきを小さくすることができる。
【０１５３】
なお、この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第４の変形例１００Ｄは、図７（Ｂ）に示すように、支持軸７ａ〜７ｄ（支持軸７ｃおよび７ｄは不図示）がそれぞれ剛体部と弾性変形部とを備えるようにしてもよい（前述の第２の変形例１００Ｂ参照）。
【０１５４】
この場合、支持部材３の変位により、基材Ｂが急に支持軸のみによって支持されるようになることが避けられる。その結果、露光パターンと現像後の開口パターンとを、高精度で一致させることができる。
【０１５５】
−この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第５の変形例−
この発明に係る直描型露光装置の実施形態の第５の変形例１００Ｅについて、図８および図９を用いて説明する。
【０１５６】
図８は、第５の変形例に係る直描型露光装置１００Ｅにおいて、図示を簡略化した基台２を透視した透視斜視図である。図９は、第５変形例に係る直描型露光装置１００Ｅにおける要部の上面図である。第５の変形例は、基台２について、何らかの理由で発生した傾斜を調整する機構を追加したものである。したがって、その他の部分については、前述の実施形態と同様であるため、説明を省略する。例えば、図８では、図１で図示した駆動部５ａ〜５ｄ、およびステム８などの図示も省略している。
【０１５７】
第５の変形例では、直描型露光装置１００Ｅは、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃと、傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃと、制御装置１１とをさらに備える。
【０１５８】
傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃは、台座１３の上面に設置されており、駆動部と、駆動部により変位する駆動軸とを備える。例えば、傾斜調整機構１４ａは、駆動部１５ａと、駆動部１５ａにより変位する駆動軸１６ａとを備える。傾斜調整機構１４ｂおよび１４ｃも、傾斜調整機構１４ａと同様の構成であり、それぞれ駆動部１５ｂおよび駆動軸１６ｂ、駆動部１５ｃおよび駆動軸１６ｃを備える。
【０１５９】
なお、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃとしては、上記の機構に限らず、任意の角度に傾斜を調整できるものであればよい。例えば、２軸傾斜ステージや傾斜ユニットを用いることができる。
【０１６０】
駆動軸１６ａ〜１６ｃは、それぞれ基台２の下面に設けられた凹部１２ａ〜１２ｃに挿入され、凹部１２ａ〜１２ｃ内の天面に当接することにより、基台２を支持している。なお、図９においては、駆動部１５ａ〜１５ｃの図示を省略している。駆動部１５ａ〜１５ｃとしては、例えば空圧または油圧によるシリンダーストローク調整機構、サーボモータに接続されたボールねじによる直動機構、およびリードスクリュー付きのステッピングモータなどを好ましく用いることができる。
【０１６１】
傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃとしては、例えばレーザー変位計などを好ましく用いることができる。傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃのそれぞれは、基材２上の所定の検知スポット１８ａ〜１８ｃにレーザー光を照射して、基台２と傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃとの間の距離を測定する。
【０１６２】
制御装置１１は、傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃにより得られた３点の距離を相互に比較することによって基台２の傾きを検知する。そして、基台２の傾斜角を調整する動作指令を、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃに与えるように制御する。
【０１６３】
図８では、基台２を透視して傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃを示し、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃと傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃとの位置関係を示している。例えば、傾斜検知機構１７ａと検知スポット１８ａと傾斜調整機構１４ａとは、同一の軸線上にあるように構成されている。
【０１６４】
その他の位置における傾斜検知機構と検知スポットと傾斜調整機構の配置関係も同様である。すなわち、傾斜検知機構１７ｂと検知スポット１８ｂと傾斜調整機構１４ｂとが同一軸線上にあり、傾斜検知機構１７ｃと検知スポット１８ｃと傾斜調整機構１４ｃとが同一軸線上にある。なお、傾斜検知機構および検知スポットと、対応する傾斜調整機構とは、同一軸線上に存在していなくてもよい。
【０１６５】
また、図８では、傾斜検知機構を３箇所に配置して基台２の傾きを検知し、対応する３つの傾斜調整機構により、基台２の傾斜角を調整しているが、傾斜検知機構および傾斜調整機構は、それぞれ３つ以上であればよい。さらに、傾斜検知機構および傾斜調整機構の数が異なっていてもよい。
【０１６６】
制御装置１１は、傾斜検知機構１７ａ〜１７ｃによる情報に基づいて、傾斜調整機構１４ａ〜１４ｃを動作させることにより、基台２の傾斜角を調整している。
【０１６７】
支持部材３は、変位機構４ａ〜４ｄにより基台２の上方に支持されているので、その傾斜角は、基台２の傾斜角を調整することで調整することができる。
【０１６８】
したがって、第５の変形例では、基台２の傾斜角を調整することにより、基材Ｂの下面周縁領域と支持軸７ａ〜７ｄの一方端部の少なくとも１つとを当接させた状態において、露光光線１ｂの光軸と基材Ｂの上面との角度が直交となるように調整することができる。すなわち、その状態で露光することにより、さらに高精度な開口パターンを得ることができる。
【０１６９】
なお、この発明は上記の実施形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内において、種々の応用、変形を加えることが可能である。
【符号の説明】
【０１７０】
１００、１００Ａ〜１００Ｅ    直描型露光装置
１    光源
１ｂ    露光光線
２    基台
３    支持部材
４、４ａ〜４ｄ    変位機構
５、５ａ〜５ｄ    駆動部
６、６ａ〜６ｄ    駆動軸
６ａｅ〜６ｄｅ    弾性変形部
７ａ〜７ｄ    支持軸
９ａ〜９ｄ    荷重検知部
１０ａ〜１０ｃ    距離検知部
１１  制御装置
Ｂ  基材
ＰＰ  感光性樹脂
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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