(57)【要約】【課題】架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を有する絶縁電線において、耐バッテリー液性に優れる絶縁電線を提供すること。【解決手段】導体の周囲が架橋シリコーンゴムを含む絶縁層で被覆されている絶縁電線において、架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有する。絶縁層の表面において、架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することが好ましい。また、絶縁層の表面から厚さ方向に１μｍ以上の範囲において、架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することが好ましい。例えば、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層にフッ素ガスなどの活性フッ素含有化合物を接触させることにより、架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有するものとなる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導体の周囲が架橋シリコーンゴムを含む絶縁層で被覆されている絶縁電線において、
前記架橋シリコーンゴムが、Ｓｉ−Ｆ結合を含有することを特徴とする絶縁電線。
【請求項２】
前記絶縁層の表面において、前記架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することを特徴とする請求項１に記載の絶縁電線。
【請求項３】
前記絶縁層の表面から厚さ方向に１μｍ以上の範囲において、前記架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の絶縁電線。
【請求項４】
シリコーンゴムに活性フッ素含有化合物を接触させることにより、架橋シリコーンゴム中にＳｉ−Ｆ結合を形成することを特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【請求項５】
前記活性フッ素含有化合物が、フッ素ガス、フッ化水素ガスの少なくとも１種であることを特徴とする請求項４に記載の絶縁電線。
【請求項６】
前記絶縁層において、シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上であり、前記絶縁層中にシリカ以外のフィラーを含有していないことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【請求項７】
前記絶縁層中にシリカ以外のフィラーを含有していることを特徴とする請求項１から５のいずれか１項に記載の絶縁電線。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は絶縁電線に関し、さらに詳しくは、自動車等の車両に好適に用いられる絶縁電線に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
自動車等の車両に使用される絶縁電線の絶縁材料には、塩化ビニル樹脂やハロゲン系難燃剤を配合したコンパウンドなどのハロゲンを含むものが用いられている。ハロゲンを含む絶縁材料は、焼却廃棄した場合に腐食性ガスを発生することがある。そこで、環境保護などの観点から、ハロゲンを含まない絶縁材料を用いる試みがある。
【０００３】
例えば特許文献１には、絶縁電線の絶縁材料として、未架橋のシリコーンゴムに水酸化アルミニウムを配合したノンハロゲン系の絶縁材料を用いることが記載されている。未架橋のシリコーンゴムは、被覆材として成形した後、架橋される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第３５５５１０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
架橋シリコーンゴムを絶縁層に用いた絶縁電線は、耐バッテリー液性が悪いという問題があった。そのため、絶縁電線の耐バッテリー液性を向上させることが要望されている。
【０００６】
本発明の解決しようとする課題は、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を有する絶縁電線において、耐バッテリー液性に優れる絶縁電線を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため本発明に係る絶縁電線は、導体の周囲が架橋シリコーンゴムを含む絶縁層で被覆されている絶縁電線において、前記架橋シリコーンゴムが、Ｓｉ−Ｆ結合を含有することを要旨とするものである。
【０００８】
前記絶縁層の表面において、前記架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することが好ましい。前記絶縁層の表面から厚さ方向に１μｍ以上の範囲において、前記架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することが好ましい。シリコーンゴムに活性フッ素含有化合物を接触させることにより、架橋シリコーンゴム中にＳｉ−Ｆ結合を形成するとよい。活性フッ素含有化合物としては、フッ素ガス、フッ化水素ガスの少なくとも１種が挙げられる。
【０００９】
前記絶縁層において、シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上であり、前記絶縁層中に、シリカ以外のフィラーを含有していなくてもよい。あるいは、前記絶縁層中にシリカ以外のフィラーを含有していてもよい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る絶縁電線によれば、絶縁層の架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有しているので、その結合解離エネルギーの高さおよび撥水性から、希硫酸からなるバッテリー液の浸漬をブロックし、絶縁層の侵食が抑えられる。これにより、耐バッテリー液性に優れる。
【００１１】
絶縁層の表面において架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有すると、その結合解離エネルギーの高さおよび撥水性により、絶縁層の表面から内部へのバッテリー液の浸入が抑えられる。これにより、絶縁層の内部においてバッテリー液によるシロキサン結合の解離などが抑えられるため、耐バッテリー液性に優れる。
【００１２】
絶縁層の表面から厚さ方向に１μｍ以上の範囲において架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有すると、Ｓｉ−Ｆ結合を含有する部分の厚さが十分厚いため、耐バッテリー液性に優れる。また、Ｓｉ−Ｆ結合を含有する部分の厚さが十分厚いことで、耐熱性も向上する。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
次に、本発明の実施形態について詳細に説明する。
【００１４】
本発明に係る絶縁電線は、導体とこの導体の周囲を被覆する絶縁層とを有している。絶縁層は、架橋シリコーンゴムを含有している。絶縁層の架橋シリコーンゴムは、Ｓｉ−Ｆ結合を含有している。本発明に係る絶縁電線は、絶縁層の架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有しているので、その結合解離エネルギーの高さおよび撥水性から、希硫酸からなるバッテリー液の浸漬をブロックし、絶縁層の侵食が抑えられる。これにより、耐バッテリー液性に優れる。耐バッテリー液性は、バッテリー液試験後においても耐電圧試験をクリアする（絶縁破壊しない）ことである。バッテリー液試験は、ＩＳＯ６７２２（２０１１年版）のメソッド２に準拠して行われる。
【００１５】
シリコーンゴムは、通常、金属シリコンにアルキル塩化物もしくはアリール塩化物を反応させ、その後、塩化物の加水分解と脱水縮合で合成される。つまり、シリコーンゴムは、通常、ジメチルシロキサンやメチルフェニルシロキサン、ジフェニルシロキサンの繰り返し単位などから構成される。そのため、シリコーンゴムは、通常、Ｓｉ−Ｃ結合およびＣ−Ｈ結合を有する。Ｓｉ−Ｃ結合は、Ｓｉ−Ｆ結合に比較して結合解離エネルギーが低い。また、Ｃ−Ｈ結合により、シリコーンゴムとバッテリー液の親和性が上がる。このため、シリコーンゴムは、通常、バッテリー液による侵食が発生しやすい。
【００１６】
本発明では、通常のシリコーンゴムに含有されるＳｉ−Ｃ結合をＳｉ−Ｆ結合に置き換えて、シリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合の数を少なくする、あるいは、Ｓｉ−Ｃ結合を無くすことにより、シリコーンゴムの結合解離エネルギーおよび撥水性を向上させて、架橋シリコーンゴムを含有する絶縁層の耐バッテリー液性を向上させるものである。シリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合をＳｉ−Ｆ結合に置き換える方法は、特に限定されるものではない。ただし、通常のシリコーンゴム合成方法では、Ｓｉ−Ｆ結合を導入することが難しい。
【００１７】
通常のシリコーンゴム中にＳｉ−Ｆ結合を導入する簡便な方法として、活性フッ素（反応性フッ素）を含有する活性フッ素含有化合物をシリコーンゴムに接触させる方法が挙げられる。この方法によれば、シリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合をＳｉ−Ｆ結合に置き換えることが可能である。活性フッ素含有化合物は、シリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合をＳｉ−Ｆ結合に置き換えることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、例えば、Ｆ２ガス（フッ素ガス）、ＨＦガス（フッ化水素ガス）、ＳＦ４ガスなどが挙げられる。活性フッ素含有化合物は、シリコーンゴムと接触可能な状態であれば、気体（ガス）、液体、固体などいずれの状態であってもよい。これらのうちでは、より簡便で効率よく処理しやすいなどの観点から、Ｆ２ガス（フッ素ガス）、ＨＦガス（フッ化水素ガス）である。
【００１８】
フッ素ガスによるシリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合をＳｉ−Ｆ結合に置き換える処理は、常温・常圧でも行うことができる。したがって、シリコーンゴムが熱的ダメージ（熱履歴）を受けにくくすることができる。また、処理条件（時間、温度、圧力、ガス濃度等）を調整することにより、絶縁層におけるシリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合をＳｉ−Ｆ結合に置き換える部分の厚さを調整することができる。つまり、処理条件により、１μｍ未満のサブミクロンオーダーから１０μｍ未満までの非常に薄い厚さにすることもできる。もちろん、１０μｍ以上の厚さにすることもできる。
【００１９】
なお、シリコーンゴムにフッ素樹脂やフッ素ゴムを積層する方法は、フッ素樹脂やフッ素ゴムを押出する装置に、耐腐食性に優れる材質のものを用いる必要があり、コストが上昇する。また、フッ素樹脂やフッ素ゴムの押出条件が高温になり、シリコーンゴムが熱的ダメージ（熱履歴）を受けやすい。さらに、押出成形では、２０μｍ以下の薄層を形成しにくい。
【００２０】
活性フッ素含有化合物をシリコーンゴムに接触させると、ＳｉとＦの親和性の高さから、側鎖内の水素基よりもメチル基やフェニル基などの側鎖がＦと置き換わりやすい。つまり、Ｃ−Ｈ結合よりもＳｉ−Ｃ結合がＳｉ−Ｆ結合に置き換わりやすい。条件によっては、側鎖内の水素基がＦ基と置き換わることもあり得るが、Ｃ−Ｆ結合もＳｉ−Ｆ結合同様に結合解離エネルギーおよび撥水性が高い（少なくともＣ−Ｈ結合よりは高い）ので、耐バッテリー性の向上に寄与する。Ｃ−Ｆ結合、Ｓｉ−Ｆ結合いずれも結合解離エネルギーが高いため、これらを有することで、シリコーンゴムの化学的安定性が向上する。
【００２１】
なお、シリコーンゴム中にＣ−Ｆ結合を導入する他の方法としては、金属シリコンに反応させるアルキル塩化物やアリール塩化物中にパーフルオロアルキル基を導入する（パーフルオロアルキル基を有するアルキル塩化物やアリール塩化物を用いる）方法も挙げられる。
【００２２】
活性フッ素含有化合物をシリコーンゴムに接触させた場合、シリコーンゴムの側鎖（アルキル基、アリール基）は置換されるが、ＳｉとＯの親和性の高さから、主鎖であるシロキサン構造（−Ｓｉ−Ｏ−）は維持される。シリコーンゴムの基本構造は維持されるので、柔軟性（硬さ）はそれほど変化しない。つまり、シリコーンゴムの機械的物性を大きく変えることなく（維持しつつ）耐バッテリー液性を向上することができる。
【００２３】
絶縁層の表面において架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有すると、その結合解離エネルギーの高さおよび撥水性により、絶縁層の表面から内部へのバッテリー液の浸入が抑えられる。これにより、絶縁層の内部においてバッテリー液によるシロキサン結合の解離などが抑えられるため、耐バッテリー液性に優れる。活性フッ素含有化合物を絶縁層に接触させる方法では、絶縁層の表面が活性フッ素含有化合物に接触するので、絶縁層の表面においてシリコーンゴムのＳｉ−Ｃ結合がＳｉ−Ｆ結合に置き換えられる。これにより、絶縁層の表面において架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有する。
【００２４】
活性フッ素含有化合物を絶縁層に接触させる処理は、架橋剤の失活を防止する、架橋点を確保するなどの観点から、シリコーンゴムを架橋した後で行うことが好ましい。また、活性フッ素含有化合物を絶縁層に接触させる処理は、シリコーンゴムを架橋した後、線を巻き取ってオフラインで行ってもよいが、線を巻き取りする前のオンラインで行うほうが効率的である。
【００２５】
活性フッ素含有化合物を絶縁層に接触させる処理を行う場合、絶縁層において、架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有する部分は、絶縁層の表面から所定厚さの範囲にある。所定厚さとは、絶縁層の厚さ全体も含まれる。その厚さが厚くなるほど、耐バッテリー液性は向上する。また、耐熱性も向上する。一方、処理コストが高くなるとともに、生産性も低下する。耐バッテリー液性に優れるなどの観点から、上記厚さは、絶縁層の表面から厚さ方向に１μｍ以上であることが好ましい。より好ましくは、絶縁層の表面から厚さ方向に５μｍ以上、さらに好ましくは、絶縁層の表面から厚さ方向に１０μｍ以上である。一方、処理コスト、生産性などの観点から、上記厚さは、絶縁層の表面から厚さ方向に２００μｍ以下であることが好ましい。より好ましくは、絶縁層の表面から厚さ方向に１９０μｍ以下、さらに好ましくは、絶縁層の表面から厚さ方向に１８０μｍ以下である。上記厚さは、例えば絶縁層の周方向断面を厚さ方向に元素分析することにより求めることができる。分析方法としては、赤外分光法（ＩＲ（ＦＴ−ＩＲ−ＡＴＲ））、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ（ＦＩＢ−ＥＤＸ））などが挙げられる。上記分析によりＦ原子の存在を確認すればよい。また、ＮＭＲ（固体ＮＭＲ）で分析することにより、シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を有することを確認できる。
【００２６】
絶縁層は、未架橋のシリコーンゴムを含む絶縁層用のゴム組成物を用いて形成される。未架橋のシリコーンゴムは、架橋剤を混練した後、加熱架橋させることで弾性体となるミラブル型（加熱架橋型）、或いは架橋前は液状である液状ゴム型のいずれを用いてもよい。液状ゴム型シリコーンゴムは、室温付近で架橋が可能な室温架橋型（ＲＴＶ）と、混合後１００℃付近で加熱すると架橋する低温架橋型（ＬＴＶ）がある。
【００２７】
未架橋のシリコーンゴムとしては、ミラブル型シリコーンゴムが好ましい。ミラブル型シリコーンゴムは、架橋温度が１８０℃以上と比較的高温であり安定性が良いので、混練の際の混合がし易く、作業性に優れるという利点がある。これに対し、液状ゴム型シリコーンゴムは、架橋温度が通常１２０℃程度と低温であるため、安定性が低く混練の際の発熱を低く抑制する必要があり、温度管理などの面から作業性にやや劣る。ミラブル型シリコーンゴムは、直鎖状のオルガノポリシロキサンを主原料（生ゴム）として、補強剤、充填剤（増量剤）、分散促進剤、その他添加剤などを配合したゴムコンパウンドとして市販されているものを用いてもよい。
【００２８】
絶縁層用のゴム組成物において、未架橋のシリコーンゴムは、加熱等により架橋することが可能であるが、架橋剤（加硫剤）を用いて架橋しても良い。
【００２９】
架橋剤は、未架橋のゴムの種類や架橋条件などに応じて適宜選択することができる。架橋剤としては、例えば、有機過酸化物などのラジカル発生剤、金属石けん、アミン、チオール、チオカルバミン酸塩、有機カルボン酸などの化合物を挙げることができる。架橋剤としては、有機過酸化物などが、架橋速度の向上の点から好ましい。
【００３０】
有機過酸化物としては、例えば、ジへキシルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサンなどのジアルキルパーオキサイド、ｎ−ブチル４，４−ジ（ｔ―ブチルパーオキサイド）バレレートなどのパーオキシケタールなどを挙げることができる。
【００３１】
架橋剤の配合量は、適宜決定することができる。架橋剤の配合量は、例えば、未架橋のゴムと架橋剤の合計量に対し、０．０１〜１０質量％の範囲で配合するのが好ましい。
【００３２】
絶縁層は、架橋シリコーンゴムの他に、絶縁層の特性を損なわない範囲で、各種の添加剤を含有していても良いし、含有していなくてもよい。
【００３３】
絶縁層は、シリカ以外のフィラーを含有しない構成であってもよいし、シリカ以外のフィラーを含有する構成であってもよい。本発明は、絶縁層の架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有することにより耐バッテリー液性を改善するものであり、シリカ以外のフィラーを含有しない構成においても、耐バッテリー液性を改善することができる。シリカ以外のフィラーを含有しない構成であると、耐寒性（低温特性）を確保しやすい。
【００３４】
絶縁層がシリカ以外のフィラーを含有しない構成である場合には、耐摩耗性の観点から、シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度は５０以上であることが好ましい。シリコーンゴムに配合するシリカ量を増量することにより、シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度を高くすることができる。シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度は、耐摩耗性の観点から、より好ましくは５５以上、さらに好ましくは６０以上である。一方、絶縁電線の柔軟性、耐寒性を確保するなどの観点から、シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度は、８０以下であることが好ましい。より好ましくは７５以下、さらに好ましくは７０以下である。ショアＡ硬度は、ＪＩＳ  Ｋ６２５３に規定される、デュロメータタイプＡスプリング式硬さ試験で測定される硬さである。
【００３５】
絶縁層がシリカ以外のフィラーを含有する構成である場合には、フィラーによる耐バッテリー液性の改善効果も期待できる。バッテリー液によるシリコーンゴムの劣化は、希硫酸によるシロキサン結合の加水分解が要因と推測される。シリカは、シリコーンゴムと同様、シロキサン結合を有するため、耐バッテリー液性の改善に効果がない。シリカ以外のフィラーは、シロキサン結合を有していないものであるため、バッテリー液の希硫酸によって加水分解されず、配合することによってバッテリー液による絶縁層の劣化を抑える効果が期待できる。
【００３６】
シリカ以外のフィラーとしては、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、クレー、タルク、水酸化マグネシウム、酸化マグネシウムなどが挙げられる。シリカも含めたフィラーの平均粒子径は、シリコーンゴム中の分散性の観点から、１０μｍ以下であることが好ましい。また、取扱い性などの観点から、０．０１μｍ以上であることが好ましい。フィラーの平均粒子径は、レーザー光散乱法により測定することができる。
【００３７】
シリカ以外のフィラーの含有量としては、耐摩耗性に優れるなどの観点から、架橋シリコーンゴム（シリカを含む場合には、シリカを含めた量で）１００質量部に対し、０．１質量部以上であることが好ましい。より好ましくは０．５質量部以上、さらに好ましくは１質量部以上である。一方、外観悪化を抑える、柔軟性、耐寒性を確保するなどの観点から、架橋シリコーンゴム（シリカを含む場合には、シリカを含めた量で）１００質量部に対し、１００質量部以下であることが好ましい。より好ましくは５０質量部以下、さらに好ましくは３０質量部以下である。
【００３８】
絶縁層は、例えば次のようにして形成することができる。すなわち、まず、絶縁層を形成するための絶縁層用のゴム組成物を調製する。次いで、調製したゴム組成物を導体の周囲に押出して、導体の周囲に未架橋ゴムを含む被覆層を成形する。次いで、加熱などの架橋手段により、被覆層の未架橋ゴムを架橋する。これにより、導体の周囲に架橋ゴムを含む絶縁層が形成される。絶縁層は、押出成形に代えて、導体の周囲に絶縁層用のゴム組成物を塗工して被覆層を形成し、加熱などの架橋手段により被覆層の未架橋ゴムを架橋することによっても形成することができる。
【００３９】
絶縁層用のゴム組成物は、未架橋のシリコーンゴムと、必要に応じて配合される架橋剤、フィラーなどとを混練することにより調製することができる。ゴム組成物の成分を混練する際には、例えば、バンバリーミキサー、加圧ニーダー、混練押出機、二軸混練押出機、ロールなどの通常の混練機を用いることができる。
【００４０】
絶縁層用のゴム組成物の押出成形には、通常の絶縁電線の製造に用いられる電線押出成形機などを用いることができる。導体は、通常の絶縁電線に使用されるものを利用できる。例えば、銅系材料やアルミニウム系材料よりなる単線の導体や撚線の導体を挙げることができる。また、導体の径や絶縁層の厚みなどは特に限定されず、絶縁電線の用途などに応じて適宜決めることができる。
【００４１】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。例えば、上記態様の絶縁電線は、単一層の絶縁層から構成したが、本発明の絶縁電線は、２層以上の絶縁層から構成してもよい。
【００４２】
本発明に係る絶縁電線は、自動車、電子・電気機器に使用される絶縁電線に利用することができる。特に、耐バッテリー液性に優れ、バッテリー液が被水するところでの使用に適する。
【実施例】
【００４３】
以下、本発明の実施例、比較例を示す。
【００４４】
〔実施例１〜７〕
表１に示す配合組成となるように各成分を混合することにより、未架橋のシリコーンゴムを含む絶縁層用のゴム組成物を調製した。次いで、押出成形機を用いて、軟銅線を７本撚り合わせた軟銅撚線の導体（断面積０．５ｍｍ２）の外周に絶縁層用のゴム組成物を０．２ｍｍ厚で押出被覆し、この架橋シリコーンゴムを含有する絶縁層にフッ素ガスを接触させる処理を行った後、２００℃×４時間の条件で熱処理を行った。以上により、実施例１〜７の絶縁電線を得た。
【００４５】
実施例１〜７の絶縁電線については、絶縁電線の絶縁層を取り出し、絶縁層の周方向断面を厚さ方向に元素分析することにより、絶縁層の表面から厚さ方向にどのくらいの深さまでフッ素化されている（Ｓｉ−Ｆ結合を有する）か、を確認した。これを、Ｓｉ−Ｆ結合の存在深さ（μｍ）とした。分析方法としては、赤外分光法（ＩＲ（ＦＴ−ＩＲ−ＡＴＲ））、エネルギー分散型Ｘ線分光法（ＥＤＸ（ＦＩＢ−ＥＤＸ））を用いた。
【００４６】
〔比較例１〜７〕
表２に示す配合組成となるように各成分を混合することにより、未架橋のシリコーンゴムを含む絶縁層用の組成物を調製した。次いで、実施例と同様にして、導体の外周に架橋シリコーンゴムを含む絶縁層を形成した。これにより、比較例１〜７の絶縁電線を得た。比較例１〜７の絶縁電線は、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層にフッ素ガスを接触させる処理を行わなかったものである。
【００４７】
実施例１〜７、比較例１〜７の絶縁電線について、耐バッテリー液性を評価した。また、あわせて耐寒性、耐摩耗性を評価した。その結果を表１及び表２に合わせて示す。尚、表１及び表２の各成分組成、試験方法及び評価は、下記の通りである。
【００４８】
〔表１及び表２の成分〕
・シリコーンゴム１：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−５０（硬さ５０、タイプＡデュロメーター、以下同じ）
・シリコーンゴム２：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−６０（硬さ６０）
・シリコーンゴム３：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−７０（硬さ７０）
・シリコーンゴム４：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−８０（硬さ８０）
・シリコーンゴム５：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−４０（硬さ４０）
・シリコーンゴム６：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−３０（硬さ３０）
・シリコーンゴム７：旭化成ワッカーシリコーン社製、Ｒ４０１−２０（硬さ２０）
・シリコーンゴム８：ＫＣＣ社製、ＳＨ００３０Ｕ（硬さ３０）
・架橋剤：日本油脂社製、パークミルＤ
【００４９】
〔耐寒性試験方法〕
ＪＩＳ  Ｃ３００５に準拠して行った。すなわち作製した絶縁電線を３８ｍｍの長さに切断し試験片とした。この試験片を耐寒性試験機に装着し、所定の温度まで冷却し、打撃具で打撃して、試験片の打撃後の状態を観察した。５本の試験片を用いて、５本の試験片が全て割れた温度を耐寒温度とした。
【００５０】
〔耐摩耗性試験方法〕
社団法人自動車技術規格「ＪＡＳＯ  Ｄ６１８」に準拠して、ブレード往復法により試験を行った。すなわち、実施例、比較例の絶縁電線を７５０ｍｍの長さに切り出して試験片とした。そして、２３±５℃の室温下で試験片の被覆材（絶縁層）に対し軸方向に１０ｍｍ以上の長さでブレードを毎分５０回の速さで往復させ、導体に接するまでの往復回数を測定した。この際、ブレードにかかる荷重は、７Ｎとした。回数については２００回以上のものを合格「○」とし、２００回未満のものを不合格「×」とした。また、回数が３００回以上のものは特に優れる「◎」とした。
【００５１】
〔耐バッテリー液性〕
ＩＳＯ６７２２（２０１１年版）のメソッド２に準拠して行った。すなわち、密度１．２６の硫酸水溶液を絶縁電線の絶縁層に垂らして９０℃の恒温槽に投入し、８時間後、１６時間後、３２時間後にそれぞれ再度硫酸水溶液を垂らして恒温槽に投入するのを繰り返し、４８時間後に取り出した。その後、３％の塩水に１０分間浸漬後、１ｋＶ×１分間の耐電圧試験を実施した。絶縁破壊しなかったものを良好「○」とし、絶縁破壊したものを不良「×」とした。
【００５２】
【表１】
2016126923.tif 000002
【００５３】
【表２】
2016126923.tif 000003
【００５４】
比較例１〜７に示すように、通常の架橋シリコーンゴムを含む絶縁層は、バッテリー液に対する耐性が低いことがわかる。これに対し、実施例のように、絶縁層の架橋シリコーンゴムがＳｉ−Ｆ結合を含有するようにしたことで、架橋シリコーンゴムを含む絶縁層のバッテリー液に対する耐性が改善されることがわかる。また、実施例の絶縁層は、シリカを含む架橋シリコーンゴムのショアＡ硬度が５０以上であるため、耐摩耗性にも優れている。また、耐寒性にも優れることがわかる。
【００５５】
以上、本発明の実施の形態について詳細に説明したが、本発明は上記実施の形態に何ら限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲で種々の改変が可能である。