(57)【要約】【課題】赤外線遮蔽性能及び長期耐久性に優れる赤外線遮蔽体形成用組成物及びその製造方法を提供する。【解決手段】下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含む赤外線遮蔽体形成用組成物。  （Ａ）下記（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分のアルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物（Ａ−１）下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物、又は前記アルコキシシラン化合物がシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）でつながったポリアルコキシシラン化合物      （Ｒ１）ｍＳｉ（ＯＲ２）４−ｍ     （１）（Ａ−２）下記式（２）で表されるアミノシラン化合物      （Ｒ１１）ｎＳｉ（ＯＲ１２）４−ｎ    （２）（Ａ−３）下記式（３）で表されるエポキシシラン化合物      （Ｒ２１）ｋＳｉ（ＯＲ２２）４−ｋ    （３）（Ａ−４）アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物  （Ｂ）硬化触媒  （Ｃ）分散媒体  （Ｄ）式ＭｘＷｙＯｚで表される複合タングステン酸化物  （Ｅ）（Ｄ）成分の分散剤【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含む赤外線遮蔽体形成用組成物。
（Ａ）下記（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分のアルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物
（Ａ−１）下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物、又は前記アルコキシシラン化合物がシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）でつながったポリアルコキシシラン化合物
（Ｒ１）ｍＳｉ（ＯＲ２）４−ｍ     （１）
（式中、Ｒ１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍは０，１又は２である。）
（Ａ−２）下記式（２）で表されるアミノシラン化合物
（Ｒ１１）ｎＳｉ（ＯＲ１２）４−ｎ    （２）
（式中、Ｒ１１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基及びアミノ基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１の少なくとも１つは、アミノ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。前記アミノ基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｎは１又は２である。）
（Ａ−３）下記式（３）で表されるエポキシシラン化合物
（Ｒ２１）ｋＳｉ（ＯＲ２２）４−ｋ    （３）
（式中、Ｒ２１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基、グリシドキシ基及び３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ２１の少なくとも１つは、グリシドキシ基又は３，４−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｋは１又は２である。）
（Ａ−４）アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物
（Ｂ）硬化触媒
（Ｃ）分散媒体
（Ｄ）式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ，Ｆ，Ｐ，Ｓ，Ｓｅ，Ｂｒ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｅ，Ｂｅ，Ｈｆ，Ｏｓ，Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素又はアンモニウム基であり、Ｗはタングステンであり、Ｏは酸素である。０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１であり、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０である。）で表される複合タングステン酸化物
（Ｅ）（Ｄ）成分の分散剤
【請求項２】
さらに（Ｆ）紫外線吸収基を有する単量体単位を含む共重合体からなる有機高分子微粒子を含む請求項１記載の赤外線遮蔽体形成用組成物。
【請求項３】
前記有機高分子微粒子が、ベンゾフェノン骨格、ベンゾトリアゾール骨格及びトリアジン骨格から選択される骨格を側鎖に有するアクリル系モノマーと、アクリル酸、アクリル酸誘導体、メタクリル酸、メタクリル酸誘導体、スチレン及び酢酸ビニルから選択されるエチレン系不飽和化合物との共重合体であって、その重量平均分子量が１万超である請求項２記載の赤外線遮蔽体形成用組成物。
【請求項４】
さらに（Ｇ）コロイダルシリカを含む請求項１〜３のいずれか記載の赤外線遮蔽体形成用組成物。
【請求項５】
（Ｄ）〜（Ｅ）成分及び（Ｃ）成分を混合した後、外力を加え（Ｄ）成分を分散させて、Ｙ液を形成し、
下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むＸ液と、前記Ｙ液を混合することで、赤外線遮蔽体形成用組成物を形成する、赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
（Ａ）下記（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分のアルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物
（Ａ−１）下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物、又は前記アルコキシシラン化合物がシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）でつながったポリアルコキシシラン化合物
（Ｒ１）ｍＳｉ（ＯＲ２）４−ｍ     （１）
（式中、Ｒ１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍは０，１又は２である。）
（Ａ−２）下記式（２）で表されるアミノシラン化合物
（Ｒ１１）ｎＳｉ（ＯＲ１２）４−ｎ    （２）
（式中、Ｒ１１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基及びアミノ基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１の少なくとも１つは、アミノ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。前記アミノ基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｎは１又は２である。）
（Ａ−３）下記式（３）で表されるエポキシシラン化合物
（Ｒ２１）ｋＳｉ（ＯＲ２２）４−ｋ    （３）
（式中、Ｒ２１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基、グリシドキシ基及び３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ２１の少なくとも１つは、グリシドキシ基又は３，４−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｋは１又は２である。）
（Ａ−４）アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物
（Ｂ）硬化触媒
（Ｃ）分散媒体
（Ｄ）式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ，Ｆ，Ｐ，Ｓ，Ｓｅ，Ｂｒ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｅ，Ｂｅ，Ｈｆ，Ｏｓ，Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素又はアンモニウム基であり、Ｗはタングステンであり、Ｏは酸素である。０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１であり、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０である。）で表される複合タングステン酸化物
（Ｅ）（Ｄ）成分の分散剤
【請求項６】
前記Ｘ液が、さらに（Ｆ）紫外線吸収基を有する単量体単位を含む共重合体からなる有機高分子微粒子を含む請求項５記載の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
【請求項７】
前記Ｘ液が、さらに（Ｇ）コロイダルシリカを含む請求項５又は６記載の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
【請求項８】
前記（Ｄ）〜（Ｅ）成分及び（Ｃ）成分の混合は、（Ｄ）成分を（Ｅ）成分及びエステル系溶剤を用いて分散させた後に、エステル系溶剤を含む溶液を加熱し、溶剤を蒸発させ、そこに上述の（Ｃ）成分を加え、行う請求項５〜７のいずれか記載の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
【請求項９】
請求項１〜４のいずれか記載の組成物、又は請求項５〜８の方法により製造される組成物を硬化してなる硬化膜。
【請求項１０】
基材と、
前記基材上に形成された請求項９記載の硬化膜と、
を有する積層体。
【請求項１１】
前記基材が、フィルムである請求項１０記載の積層体。
【請求項１２】
前記基材が、ガラスである請求項１０記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、赤外線遮蔽体形成用組成物及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
地球温暖化防止及び省エネルギーの観点から、建築物の窓、自動車の窓等から入射する太陽光の熱線（赤外線）をカットし、内部の温度を低減させることが広く行われている。
【０００３】
赤外線カット材料として種々の材料が提案され、複層ガラスの内面、自動車のフロントガラス等の合わせガラスへの使用も検討されている。
【０００４】
例えば、金属薄膜を用いたもの（例えば、特許文献１参照）や屈折率の異なる無機物の積層多層膜を用いたもの（例えば、特許文献２参照）が提案されているが、使用性、生産性、加工性等に問題あった。
【０００５】
さらにアンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）やタングステン複合酸化物（ＭＷＯ）等を用いたもの（特許文献３）やコレステリック液晶ポリマーを用いた赤外線反射フィルム（特許文献４）が提案されたが、長期耐久性及び長期安定性には問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−３０９７６７号公報
【特許文献２】国際公開第２００７／０２０７９２号
【特許文献３】国際公開第２００５／０３７９３２号
【特許文献４】特開２０１４−８１５３２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の目的は、赤外線遮蔽性能及び長期耐久性に優れる赤外線遮蔽体形成用組成物及びその製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明によれば、以下の赤外線遮蔽体形成用組成物、その製造方法等が提供される。
１．下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含む赤外線遮蔽体形成用組成物。
（Ａ）下記（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分のアルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物
（Ａ−１）下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物、又は前記アルコキシシラン化合物がシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）でつながったポリアルコキシシラン化合物
（Ｒ１）ｍＳｉ（ＯＲ２）４−ｍ     （１）
（式中、Ｒ１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍは０，１又は２である。）
（Ａ−２）下記式（２）で表されるアミノシラン化合物
（Ｒ１１）ｎＳｉ（ＯＲ１２）４−ｎ    （２）
（式中、Ｒ１１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基及びアミノ基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１の少なくとも１つは、アミノ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。前記アミノ基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｎは１又は２である。）
（Ａ−３）下記式（３）で表されるエポキシシラン化合物
（Ｒ２１）ｋＳｉ（ＯＲ２２）４−ｋ    （３）
（式中、Ｒ２１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基、グリシドキシ基及び３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ２１の少なくとも１つは、グリシドキシ基又は３，４−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｋは１又は２である。）
（Ａ−４）アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物
（Ｂ）硬化触媒
（Ｃ）分散媒体
（Ｄ）式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ，Ｆ，Ｐ，Ｓ，Ｓｅ，Ｂｒ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｅ，Ｂｅ，Ｈｆ，Ｏｓ，Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素又はアンモニウム基であり、Ｗはタングステンであり、Ｏは酸素である。０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１であり、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０である。）で表される複合タングステン酸化物
（Ｅ）（Ｄ）成分の分散剤
２．さらに（Ｆ）紫外線吸収基を有する単量体単位を含む共重合体からなる有機高分子微粒子を含む１記載の赤外線遮蔽体形成用組成物。
３．前記有機高分子微粒子が、ベンゾフェノン骨格、ベンゾトリアゾール骨格及びトリアジン骨格から選択される骨格を側鎖に有するアクリル系モノマーと、アクリル酸、アクリル酸誘導体、メタクリル酸、メタクリル酸誘導体、スチレン及び酢酸ビニルから選択されるエチレン系不飽和化合物との共重合体であって、その重量平均分子量が１万超である２記載の赤外線遮蔽体形成用組成物。
４．さらに（Ｇ）コロイダルシリカを含む１〜３のいずれか記載の赤外線遮蔽体形成用組成物。
５．（Ｄ）〜（Ｅ）成分及び（Ｃ）成分を混合した後、外力を加え（Ｄ）成分を分散させて、Ｙ液を形成し、
下記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むＸ液と、前記Ｙ液を混合することで、赤外線遮蔽体形成用組成物を形成する、赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
（Ａ）下記（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分のアルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物
（Ａ−１）下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物、又は前記アルコキシシラン化合物がシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）でつながったポリアルコキシシラン化合物
（Ｒ１）ｍＳｉ（ＯＲ２）４−ｍ     （１）
（式中、Ｒ１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍは０，１又は２である。）
（Ａ−２）下記式（２）で表されるアミノシラン化合物
（Ｒ１１）ｎＳｉ（ＯＲ１２）４−ｎ    （２）
（式中、Ｒ１１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基及びアミノ基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１の少なくとも１つは、アミノ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。前記アミノ基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｎは１又は２である。）
（Ａ−３）下記式（３）で表されるエポキシシラン化合物
（Ｒ２１）ｋＳｉ（ＯＲ２２）４−ｋ    （３）
（式中、Ｒ２１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基、グリシドキシ基及び３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ２１の少なくとも１つは、グリシドキシ基又は３，４−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｋは１又は２である。）
（Ａ−４）アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物
（Ｂ）硬化触媒
（Ｃ）分散媒体
（Ｄ）式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ，Ｆ，Ｐ，Ｓ，Ｓｅ，Ｂｒ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｅ，Ｂｅ，Ｈｆ，Ｏｓ，Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素又はアンモニウム基であり、Ｗはタングステンであり、Ｏは酸素である。０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１であり、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０である。）で表される複合タングステン酸化物
（Ｅ）（Ｄ）成分の分散剤
６．前記Ｘ液が、さらに（Ｆ）紫外線吸収基を有する単量体単位を含む共重合体からなる有機高分子微粒子を含む５記載の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
７．前記Ｘ液が、さらに（Ｇ）コロイダルシリカを含む５又は６記載の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
８．前記（Ｄ）〜（Ｅ）成分及び（Ｃ）成分の混合は、（Ｄ）成分を（Ｅ）成分及びエステル系溶剤を用いて分散させた後に、エステル系溶剤を含む溶液を加熱し、溶剤を蒸発させ、そこに上述の（Ｃ）成分を加え、行う５〜７のいずれか記載の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法。
９．１〜４のいずれか記載の組成物、又は５〜８の方法により製造される組成物を硬化してなる硬化膜。
１０．基材と、
前記基材上に形成された９記載の硬化膜と、
を有する積層体。
１１．前記基材が、フィルムである１０記載の積層体。
１２．前記基材が、ガラスである１０記載の積層体。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、赤外線遮蔽性能及び長期耐久性に優れる赤外線遮蔽体形成用組成物及びその製造方法が提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、下記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含む。これにより、赤外線遮蔽性能、長期耐久性、基材への密着性及び膜強度に優れる赤外線遮蔽体を形成することができる。
赤外線遮蔽体は、赤外線遮蔽体形成用組成物を硬化し、硬化膜とすることで形成でき、特に、耐水性に優れる。
【００１１】
（Ａ）成分は、（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分のアルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物である。
加水分解縮合物は（Ａ−１）〜（Ａ−４）の中の単独の化合物の加水分解縮合物であってもよいし、（Ａ−１）〜（Ａ−４）の中の任意の２種以上からなる混合物の加水分解縮合物であってもよい。
【００１２】
本明細書において、アルコキシ基を有するシラン化合物とは、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分縮合物であり、アルコキシシラン化合物の部分縮合物とは、アルコキシシラン化合物の一部が縮合し、分子内にシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）を形成してなるポリアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物を指す。
また、アルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物とは、アルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物の他に加水分解縮合前の該アルコキシ基を有するシラン化合物を含んでいる状態のものである。
【００１３】
（Ａ−１）成分は、下記式（１）で表されるアルコキシシラン化合物、又は前記アルコキシシラン化合物がシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）でつながったポリアルコキシシラン化合物である。
（Ｒ１）ｍＳｉ（ＯＲ２）４−ｍ     （１）
（式中、Ｒ１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｍは０，１又は２である。）
【００１４】
Ｒ１の炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基及び各種ブチル基が挙げられる。
Ｒ２のアルキル基はＲ１と同様である。Ｒ２が複数の場合、同一でも異なっていてもよい。
炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基及びイソプロピル基が挙げられる。
ｍは、０又は１が好ましい。
【００１５】
アルコキシシラン化合物として、具体的には、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン等が挙げられる。
【００１６】
ポリアルコキシシラン化合物の縮合数は、１〜１５の整数が好ましい。
ポリアルコキシシラン化合物として、具体的には、多摩化学工業株式会社製の「ＭＴＭＳ−Ａ」、「Ｍシリケート５１」、「シリケート４０」、「シリケート４５」、コルコート株式会社製の「ＳＳ−１０１」、「メチルシリケート５１」、「メチルシリケート５３Ａ」、「エチルシリケート４０」、「エチルシリケート４８」、東レ・ダウコーニング株式会社製の「ＡＺ−６１０１」「ＳＲ２４０２」、「ＡＹ４２−１６３」等が挙げられる。
【００１７】
（Ａ−１）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００１８】
（Ａ−２）成分は、下記式（２）で表されるアミノシラン化合物である。
（Ｒ１１）ｎＳｉ（ＯＲ１２）４−ｎ    （２）
（式中、Ｒ１１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基及びアミノ基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ１１の少なくとも１つは、アミノ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。前記アミノ基は置換基を有していてもよい。Ｒ１２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｎは１又は２である。）
【００１９】
炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜３のアルキル基は上記と同様である。
ｎは１が好ましい。
Ｒ１２が複数の場合、同一でも異なっていてもよい。
アミノ基の置換基としては、例えば２−アミノエチル基、フェニル基等が挙げられる。
【００２０】
アミノシラン化合物としては、具体的には３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）
−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニル−３−アミノプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００２１】
アミノシラン化合物の部分縮合物としては、例えば、信越シリコーン株式会社製の「ＫＢＰ−９０」等が挙げられる。
縮合数は、１〜１５の整数が好ましい。
【００２２】
（Ａ−２）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２３】
（Ａ−３）成分は下記式（３）で表されるエポキシシラン化合物である。
（Ｒ２１）ｋＳｉ（ＯＲ２２）４−ｋ    （３）
（式中、Ｒ２１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基、グリシドキシ基及び３，４−エポキシシクロヘキシル基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ２１の少なくとも１つは、グリシドキシ基又は３，４−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ２２は炭素数１〜４のアルキル基である。ｋは１又は２である。）
【００２４】
炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜３のアルキル基は上記と同様である。
ｋは１が好ましい。
Ｒ２２が複数の場合、同一でも異なっていてもよい。
【００２５】
エポキシシラン化合物としては、具体的に、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００２６】
エポキシシラン化合物の部分縮合物としては、例えば、信越シリコーン株式会社製の「Ｘ−４１−１０５３」、「Ｘ−４１−１０５９Ａ」等が挙げられる。
縮合数は、１〜１５の整数が好ましい。
【００２７】
（Ａ−３）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２８】
（Ａ−４）成分は、アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物である。
ブロック化イソシアナトシラン化合物とは、イソシアネート基をオキシム等のブロック剤で保護して不活性としておき、加熱により脱ブロック化してイソシアネート基が活性化（再生）されるイソシアナトシラン化合物（一般的にイソシアネートシラン化合物とも称される）である。
【００２９】
ブロック化イソシアナトシラン化合物は、下記式（４）で表される化合物が好ましい。
Ｒ３１ｊＳｉ（ＯＲ３２）4-ｊ・・・（４）
（式中、Ｒ３１は、同じでも異なってもよく、炭素数１〜４のアルキル基、ビニル基、フェニル基、又はメタクリロキシ基及びブロック化イソシアネート基からなる群から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ３１の少なくとも１つは、ブロック化イソシアネート基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ３２は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｊは１又は２である。）
【００３０】
炭素数１〜４のアルキル基及び炭素数１〜３のアルキル基は上記と同様である。
ｊは１が好ましい。
Ｒ３２が複数の場合、同一でも異なっていてもよい。
【００３１】
ブロック化イソシアナトシラン化合物の具合例としては、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルメチルジメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルメチルジエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルエチルジエトキシシラン等の化合物におけるイソシアネート基を、ブロック化剤で保護したものが挙げられる。中でも、３−ブロック化イソシアナトプロピルトリエトキシシランが好ましい。
【００３２】
イソシアネート基のブロック化剤としては、アセトオキシム、２−ブタノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、メチルイソブチルケトオキシム等のオキシム化合物、ε−カプロラクラム等のラクタム類、モノアルキルフェノール（クレゾール、ノニルフェノール等）等のアルキルフェノール類、３，５−キシレノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール等のジアルキルフェノール類、トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジエステル、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルのようなアセト酢酸エステル等の活性メチレン化合物類、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の水酸基含有エーテル類、乳酸エチル、乳酸アミル等の水酸基含有エステル類、ブチルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン等のメルカプタン類、アセトアニリド、アクリルアマイド、ダイマー酸アマイド等の酸アミド類、イミダゾール、２−エチルイミダゾール等のイミダゾール類、３，５−ジメチルピラゾール等のピラゾール類、１，２，４−トリアゾール等のトリアゾール類、コハク酸イミド、フタル酸イミド等の酸イミド類等を使用できる。またブロック化剤解離温度を制御するため、ジブチル錫ジラウレート等の触媒を併用してもよい。
【００３３】
ブロック化イソシアナトシラン化合物の部分縮合物としては、例えば、上記ブロック化イソシアナトシラン化合物を部分加水分解縮合させたもの等が挙げられる。
縮合数は、１〜１５の整数が好ましい。
【００３４】
（Ａ−４）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３５】
（Ｂ）成分は硬化触媒である。
硬化触媒は、前述した（Ａ）成分におけるシラン化合物（Ａ−１）〜（Ａ−４）成分を加水分解及び縮合（硬化）させる触媒であり、例えば、塩酸、硫酸、硝酸、リン酸、亜硝酸、過塩素酸、スルファミン酸等の無機酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、クエン酸、酒石酸、コハク酸、マレイン酸、グルタミン酸、乳酸、ｐ−トルエンスルホン酸等の有機酸が挙げられる。
【００３６】
また、水酸化リチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ｎ−ヘキシルアミン、ジメチルアミン、トリブチルアミン、ジアザビシクロウンデセン、酢酸エタノールアミン、ギ酸ジメチルアニリン、安息香酸テトラエチルアンモニウム塩、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、プロピオン酸ナトリウム、グルタミン酸ナトリウム、プロピオン酸カリウム、ギ酸ナトリウム、ギ酸カリウム、酢酸ベンゾイルトリメチルアンモニウム塩、テトラメチルアンモニウムアセテート、オクチル酸スズ等の有機金属塩、テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート、アルミニウムトリイソブトキシド、アルミニウムトリイソプロポキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、ＳｎＣｌ4、ＴｉＣｌ4、ＺｎＣｌ4等のルイス酸等が挙げられる。
【００３７】
これらの硬化触媒のうち、後述の（Ｆ）及び（Ｇ）成分を配合しても高分散化でき、得られる膜の透明性を向上できることから、有機酸が好ましく使用できる。特に有機カルボン酸、中でも酢酸が好ましく使用できる。
（Ｂ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００３８】
（Ｃ）成分は分散媒体である。
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、各成分粒子が分散媒体中に分散された状態で使用される。
分散媒体は、各成分粒子を均一に混合し分散できるものであればよく、特に限定されないが、例えば、アルコール類、芳香族炭化水素類、エーテル類、ケトン類、エステル類等の有機系分散媒体を挙げることができる。
【００３９】
分散媒体の好適な沸点は、塗布法により異なる。
分散媒体の沸点は、５０〜２５０℃が好ましい。
低すぎると均一な塗工が難しくなるおそれがあり、高すぎると乾燥に時間を要し生産性が悪化するおそれがある。
【００４０】
アルコール類の具体例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｎ−ヘキシルアルコール、ｎ−オクチルアルコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、１−メトキシ−２−プロパノール（プロピレングリコールモノメチルエーテル）、１−メトキシ−２−ブタノール、１−エトキシ−２−プロパノール、ジアセトンアルコール、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、プロピルセロソルブ等を挙げることができる。
【００４１】
その他の分散媒体の具体例としては、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、１，２−ジメトキシエタン、キシレン、ジクロロエタン、トルエン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸エトキシエチル、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等が挙げられる。
分散媒体としての性能の観点から、アルコール類が好ましい。
（Ｅ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
（Ｄ）成分は、式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ，Ｆ，Ｐ，Ｓ，Ｓｅ，Ｂｒ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｅ，Ｂｅ，Ｈｆ，Ｏｓ，Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素又はアンモニウム基であり、Ｗはタングステンであり、Ｏは酸素である。０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１であり、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０である。）で表される複合タングステン酸化物である。
【００４３】
安定性の観点からは、Ｍは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素であることがより好ましく、赤外線遮蔽材料としての光学特性、耐候性を向上させる観点からは、アルカリ金属、アルカリ土類金属元素、遷移金属元素、４Ｂ族元素、５Ｂ族元素に属する元素がさらに好ましい。
アルカリ金属が、特に好ましく、Ｃｓが最も好ましい。
【００４４】
複合タングステン酸化物は、可視光領域の透過及び近赤外領域の吸収の観点から、六方晶の結晶構造を有することが好ましく、六方晶のタングステンブロンズがより好ましい。
また、正方晶、立方晶のタングステンブロンズの構造でもよい。
【００４５】
複合タングステン酸化物は、結晶質であっても非晶質であってもよい。
【００４６】
ｘ／ｙは０．００１以上１．１以下であり、０．２以上０．５以下が好ましく、さらに好ましくは０．３３である。ｚ／ｙ＝３の時、ｘ／ｙの値が０．３３となることで、添加元素Ｍが六角形の空隙の全てに配置されると考えられる。
ｘ／ｙが０．００１以上であれば、十分な量の自由電子が生成され目的とする赤外線遮蔽効果を得ることができる。そして、Ｍの添加量が多いほど、自由電子の供給量が増加し、赤外線遮蔽効率も上昇するが、ｘ／ｙの値が１程度でその効果が飽和するおそれがある。ｘ／ｙが１．１以下であれば、複合タングステン酸化物中に不純物相が生成されるのを回避できる。
【００４７】
ｚ／ｙは、２．２以上３．０以下であり、２．４５以上２．９９９以下が好ましい。
ｚ／ｙが２．２以上であれば、複合タングステン酸化物中にＷＯ２の結晶相が現れるのを回避することができ、材料としての化学的安定性を得ることができる。一方、ｚ／ｙが３．０以下であれば、複合タングステン酸化物中に適量の自由電子が生成され、効率よい赤外線遮蔽効果を得ることができる。
【００４８】
複合タングステン酸化物は、微粒子であることが好ましい。
散乱により光を完全に遮蔽することが無く、可視光線領域の視認性を保持し、同時に効率良く透明性を保持することができるため、その粒子直径が８００ｎｍ以下であることが好ましい。
散乱の低減の観点からは、粒子直径は２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。
【００４９】
また、複合タングステン酸化物の表面が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌの一種類以上を含有する酸化物で被覆されていることは、耐候性の向上の観点から好ましい。
被覆方法は特に限定されないが、複合タングステン酸化物微粒子を分散した溶液中へ、上記金属のアルコキシドを添加することで、複合タングステン酸化物微粒子の表面を被覆することが可能である。
【００５０】
複合タングステン酸化物は、Ｃｓ０．３３ＷＯ３及びＲｂ０．３３ＷＯ３が好ましい。
（Ｄ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５１】
（Ｅ）成分は、上記（Ｄ）成分の分散剤である。分散剤は、（Ｄ）成分を分散することができれば特に限定されないが、赤外線遮蔽体形成用組成物中の（Ｄ）成分の分散安定性の観点から、酸価を有し、アミン価を有さないものが好ましい。
分散剤としては、ポリアクリレート系分散剤、ポリアルキレングリコール系分散剤、ビックケミー・ジャパン株式会社製のＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１０２（酸価１０１ｍｇ  ＫＯＨ／ｇ、アミン価なし）、ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ−１９０（酸価１０ｍｇ  ＫＯＨ／ｇ、アミン価なし）等が挙げられる。
（Ｅ）成分は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００５２】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、さらに（Ｆ）成分として、紫外線吸収基を有する単量体単位を含む共重合体からなる有機高分子微粒子を含んでもよい。
【００５３】
有機高分子微粒子は、紫外線吸収基として作用することができる、ベンゾフェノン骨格、ベンゾトリアゾール骨格及びトリアジン骨格から選択される骨格を側鎖に有するアクリル系モノマーと、アクリル酸、アクリル酸誘導体、メタクリル酸、メタクリル酸誘導体、スチレン及び酢酸ビニルから選択されるエチレン系不飽和化合物との共重合体が好ましい。
【００５４】
また、有機高分子微粒子の重量平均分子量が1万超であることが好ましく、１０万〜１０００万がより好ましい。
重量平均分子量が１万超であることにより、マトリクスとの親和性や耐熱性等、従来からある低分子型紫外線吸収剤の欠点が改良され、長期にわたって耐候性能を付与できる。
【００５５】
アクリル系モノマーとしては、分子内に紫外線吸収基とアクリロイル基とを、それぞれ少なくとも１つ有する化合物であればよく、特に制限はない。このような化合物としては、例えば、下記一般式（１１）で表わされるベンゾトリアゾール系化合物、及び一般式（１２）で表わされるベンソフェノン系化合物を挙げることができる。
【００５６】
【化１】
2016069645.tif 000002
【００５７】
［式中、Ｘは水素原子又は塩素原子、Ｒ１０は水素原子、メチル基、又は炭素数４〜８の第３級アルキル基、Ｒ１１は直鎖状又は分岐鎖状の炭素数２〜１０のアルキレン基、Ｒ１２は水素原子又はメチル基を示し、ｐは０又は１を示す。］
【００５８】
【化２】
2016069645.tif 000003
【００５９】
［式中、Ｒ１３は水素原子又はメチル基、Ｒ１４は置換又は非置換の直鎖状又は分岐鎖状の炭素数２〜１０のアルキレン基、Ｒ１５は水素原子又は水酸基、Ｒ１６は水素原子、水酸基、又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示す。］
【００６０】
上記一般式（１１）で表されるベンゾトリアゾール系化合物の具体例としては、例えば、２−（２’−ヒドロキシ−５’−（メタ）アクリロキシフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（メタ）アクリロキシメチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−５’−（２−（メタ）アクリロキシエチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−ｔｅｒｔ−ブチル−５’−（２−（メタ）アクリロキシエチル）フェニル］−５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−メチル−５’−（８−（メタ）アクリロキシオクチル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール等を挙げることができる。
【００６１】
上記一般式（１２）で表されるベンゾフェノン系化合物の具体例としては、例えば、２−ヒドロキシ−４−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（４−（メタ）アクリロキシブトキシ）ベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）ベンゾフェノン、２，４−ジヒドロキシ−４’−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）ベンゾフェノン、２，２’，４−トリヒドロキシ−４’−（２−（メタ）アクリロキシエトキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−（３−（メタ）アクリロキシ−１−ヒドロキシプロポキシ）ベンゾフェノン等を挙げることができる。
アクリル系モノマーは、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６２】
有機高分子微粒子におけるアクリル系モノマーの含有量は、得られる硬化膜の紫外線吸収能、その他物性及び経済性のバランス等の観点から、通常５〜７０質量％、好ましくは１０〜６０質量％である。
【００６３】
有機高分子微粒子は、製造性、コーティング液中における分散性、コーティング液の塗工性及び硬化膜の透明性等の観点から、平均粒径が１〜２００ｎｍの範囲にあるものが好ましく、１〜１００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。尚、この高分子紫外線吸収樹脂微粒子の平均粒径は、レーザー回折散乱法により測定することができる。
【００６４】
有機高分子微粒子は、分散媒体に分散させた形態で用いることが好ましく、分散媒体としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール等の低級アルコール、メチルセロソルブ等のセロソルブ類等が好ましく挙げられる。このような分散媒体を用いることにより、有機高分子微粒子の分散性が向上し、沈降を防ぐことができる。
さらに好ましくは分散媒体が水のものである。分散媒体が水の場合、前述した（Ａ）成分由来のＳｉ−Ｏ結合を有するマトリックスの形成の際に必要な、シラン化合物の加水分解、縮合反応にも使用できる。
【００６５】
有機高分子微粒子の製造方法に特に制限はなく、従来公知の方法、例えば、乳化重合法や微細懸濁重合法等を採用することができる。
【００６６】
乳化重合に用いる水溶性重合開始剤としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の水溶性過酸化物、これらの開始剤又はクメンヒドロパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシドに、酸性亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、アスコルビン酸等の還元剤を組み合わせたレドックス系開始剤、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二塩酸塩等の水溶性アゾ化合物等を挙げることができる。
【００６７】
微細懸濁重合に用いる油溶性重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキシド類、ケトンパーオキシド類、パーオキシエステル類、パーオキシジカーボネート類等の油溶性有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物等を挙げることができる。
【００６８】
有機高分子微粒子の具体例としては、一方社油脂工業株式会社製のコーティング用高分子紫外線吸収剤ＵＬＳ−７００、ＵＬＳ−１７００、ＵＬＳ−３８３ＭＡ、ＵＬＳ−１３８３ＭＡ、ＵＬＳ−３８３ＭＧ、ＵＬＳ−３８５ＭＧ、ＵＬＳ−１３８３ＭＧ、ＵＬＳ−１３８５ＭＧ、ＵＬＳ−６３５ＭＨ等、株式会社ニッコー化学研究所製の高分子紫外線吸収樹脂塗料ＮＣＩ−９０５−２０ＥＭやＮＣＩ−９０５−２０ＥＭＡ（スチレンモノマーとベンゾトリアゾール系モノマーの共重合体でできた高分子紫外線吸収剤）等が挙げられる。
【００６９】
（Ｆ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７０】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、さらに（Ｇ）成分として、コロイダルシリカを含んでもよい。
コロイダルシリカとは、コロイドシリカ、コロイド珪酸ともいう。水中では、水和によって表面にＳｉ−ＯＨ基を有する酸化ケイ素のコロイド懸濁液をいい、珪酸ナトリウムの水溶液に塩酸を加えると生成することができる。
【００７１】
コロイダルシリカは、非水溶液中に分散したものや、気相法で作った微粉末状のものでもよい。
通常、粒子径は数ｎｍから数μｍであり、平均粒径としては１〜２００ｎｍが好ましい。平均粒径はレーザー回折散乱法により測定することができる。
【００７２】
粒子の組成は不定で、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を形成して、高分子化していてもよい。通常、粒子表面は多孔性で、水中では一般的に負に帯電している。
【００７３】
（Ｇ）成分としては、扶桑化学工業株式会社製「超高純度コロイダルシリカ」クォートロンＰＬシリーズ（品名：ＰＬ−１、ＰＬ−３、ＰＬ−７）、同社製「高純度オルガノゾル」や、日産化学工業株式会社製「コロイダルシリカ（品名：スノーテックス２０、スノーテックス３０、スノーテックス４０、スノーテックスＯ、スノーテックスＯ−４０、スノーテックスＣ、スノーテックスＮ、スノーテックスＳ、スノーテックス２０Ｌ、スノーテックスＯＬ等）」や「オルガノシリカゾル（品名：メタノールシリカゾル、ＭＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＭＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、ＥＧ−ＳＴ、ＮＰＣ−ＳＴ−３０、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＰＭＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＰＧＭ−ＳＴ等）」が挙げられる。
【００７４】
（Ｇ）成分は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７５】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、シラン化合物で処理（前処理）された酸化セリウムを含んでもよい。
前処理とは、酸化セリウムのＯＨ基とシラン化合物のシラノール基が反応し、共有結合を形成することで酸化セリウムの表面状態を変えることをいう。シラン処理酸化セリウムは、アニオン性粒子が分散したゾル（例えばコロイダルシリカ等）と混合させても凝集や析出物を生じることがなく、さらにこのシラン処理酸化セリウムは水及びアルコールの両方に分散することができる。
使用する酸化セリウムは、特に限定されないが、粒子状で平均粒径が１〜２００ｎｍのものが好ましく、透明性の観点から１〜１００ｎｍのものがより好ましい。また、分散性向上の点から、添加に際しては、水やアルコール等の分散媒に分散させてから添加するのが好ましい。
【００７６】
「分散」とは、分散相(固体)が分散媒（液体）に浮遊懸濁した状態のことをいう。また、「ゾル」とは、液体を分散媒とし固体を分散粒子とするコロイドで、コロイド溶液といわれることもある。また、上記酸化セリウム微粒子の平均粒径は、レーザー回折散乱法により、測定することができる。
分散媒としては、前述の（Ｃ）成分と同様のものが挙げられ、水又はアルコールが好ましい。アルコールは、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、１−メトキシ−２−プロパノール等の低級アルコール等が挙げられる。
分散媒は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００７７】
シラン化合物は、上記（Ａ）成分と同様のものが挙げられる。単独で用いてもよく、両方組み合わせて用いても良い。
表面処理の構造は、完全な２層構造でも、それぞれのアルコキシシラン又はその加水分解縮合物もしくはポリアルコキシシランが混在した構造であってもよい。
【００７８】
シラン化合物で処理された酸化セリウムにおけるシラン化合物の質量の割合が、５０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは２〜４０質量％である。
これより少ないと、酸化セリウムそのものが凝集又はゲル化するおそれがあり、さらにこれよりも多いとシラン化合物そのものが反応して凝集又はゲル化するおそれがある。
【００７９】
シラン化合物で処理された酸化セリウムは、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８０】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、分散安定剤を含んでもよい。
分散安定剤により、（Ａ）成分の反応物等を安定に分散させ、凝集沈降やゲル化を抑制することができる。本発明コーティング液において、（Ｆ）、（Ｇ）成分、及び分散安定剤の微粒子は凝集沈降やゲル化を起こすことなく分散した状態を保つのが好ましく、例えば、安定に浮遊懸濁したコロイド状態であることが好ましい。
【００８１】
分散安定剤として有機酸、なかでも有機カルボン酸が好ましく利用できる。例えば、蟻酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ピバル酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸等が挙げられる。また、本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物の硬化時に硬化膜内に残留しない程度の沸点を持つものが好ましく、より好ましくは酢酸が利用できる。
分散安定剤は、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８２】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、レベリング剤を含んでもよい。
レベリング剤により、得られる硬化膜の平滑性、及びコートの際のフロー性を向上させることができる。
【００８３】
レベリング剤として、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、アクリル系レベリング剤、ビニル系レベリング剤、及び、フッ素系とアクリル系が複合化されたレベリング剤等が挙げられる。全て、塗膜表面に働き、表面張力を低下させることができる。レベリング剤は、目的に応じて使用することができる。表面張力の低下能力は、シリコーン系とフッ素系が強く、アクリル系とビニル系はリコートを行う場合、濡れ不良が生じにくいため、有利である。
【００８４】
シリコーン系レベリング剤の具体例としては、ポリオキシアルキレンとポリジメチルシロキサンの共重合体等を用いることができる。シリコーン系レベリング剤の市販品としては、東レ・ダウコーニング株式会社製ＦＺ−２１１８、ＦＺ−７７、ＦＺ−２１６１等、信越化学工業株式会社製ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１等、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４１、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０等、ビックケミー・ジャパン株式会社製ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−３５７０等のポリエーテル変性シリコーンオイル（ポリオキシアルキレン変性シリコーンオイル）等を挙げることができる。
【００８５】
また、１５０℃以上の耐熱性が求められる場合は、ポリエステル変性やベンゼン環を有するアラルキル変性シリコーンオイルが適している。ポリエステル変性シリコーンオイルの市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３７０等、ベンゼン環を有するアラルキル変性シリコーンオイルの市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３等が挙げられる。
【００８６】
フッ素系レベリング剤としては、ポリオキシアルキレンとフルオロカーボンとの共重合体等を用いることができる。
フッ素系レベリング剤の市販品としては、ＤＩＣ株式会社製のＭＥＧＡＦＡＣシリーズ、住友スリーエム株式会社製のＦＣシリーズ等を挙げられる。
アクリル系レベリング剤の市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２等、フッ素を導入したＢＹＫ−３４０等が挙げられる。
【００８７】
レベリング剤を配合することにより、硬化膜の仕上がり外観が改善され、薄膜としても均一に塗布することができる。レベリング剤の使用量は、赤外線遮蔽体形成用組成物全量に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％、さらに好ましくは０．０２〜５質量％である。
レベリング剤を配合する方法としては、赤外線遮蔽体形成用組成物を調製する際に配合してもよいし、硬化膜を形成する直前に赤外線遮蔽体形成用組成物に配合してもよく、さらには赤外線遮蔽体形成用組成物の調製と硬化膜の形成直前の両方の段階で配合してもよい。
【００８８】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、可とう性付与剤を含んでもよい。
可とう性付与剤としては、例えば、シリコーン樹脂等を用いることができる。
シリコーン樹脂の市販品としては、Ｗａｃｋｅｒ社製Ｒｅｓｉｎ  ＭＫシリーズ、例えば、Ｂｅｌｓｉｌ  ＰＭＳ  ＭＫ（ＣＨ3ＳｉＯ3/2の繰り返し単位（単位Ｔ）を含むポリマーであって、１質量％までの（ＣＨ3）2ＳｉＯ2/2単位（単位Ｄ）を含むもの）や、信越化学工業株式会社製ＫＲ−２４２Ａ（９８質量％の単位Ｔと２質量％のジメチル単位Ｄを含みＳｉ−ＯＨ末端基を含むもの）、ＫＲ−２５１（８８質量％の単位Ｔと１２質量％のジメチル単位Ｄを含みＳｉ−ＯＨ末端基を含むもの）、ＫＲ−２２０Ｌ（式ＣＨ3ＳｉＯ3/2の単位Ｔからなり、Ｓｉ−ＯＨ（シラノール）末端基を含むもの）等が挙げられる。
【００８９】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、着色剤（色調調整剤）を含んでもよい。着色剤を含むことにより、赤外線遮蔽体の色調を調整できる。
【００９０】
例えば、複合タングステン酸化物Ｃｓ０．３３ＷＯ３は青色を呈しているが、そこに青色光を吸収する色調調整剤を配合することによって赤外線遮蔽体の色調を緑色系統にすることができる。
【００９１】
着色剤としては、有機色素、有機顔料、無機顔料等を用いることができる。
具体的には、クマリン系色素、ローダミン系色素、ペリレン系色素、フタロシアニン系顔料、ジケトピロロピロール系顔料、酸化クロム系顔料、亜鉛コバルト酸化物系顔料及び酸化鉄系顔料等が挙げられる。
【００９２】
着色剤の使用量は、赤外線遮蔽体形成用組成物全量に対して、好ましくは０．００１〜１０質量％、さらに好ましくは０．０１〜５質量％である。
【００９３】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、さらには潤滑性付与剤、酸化防止剤、ブルーイング剤、帯電防止剤、消泡剤（発泡防止剤）、光安定化剤、耐候性付与剤、微粒子の分散剤（沈降防止剤）や微粒子表面活性の改質剤等を含むことができる。
【００９４】
（Ａ−１）成分の含有量は、（Ａ）成分中、０．０１〜７０質量％が好ましく、０．１〜６０質量％がより好ましい。（Ａ−２）成分の含有量は、（Ａ）成分中、０．１〜３０質量％が好ましく、０．３〜２０質量％がより好ましい。（Ａ−３）成分の含有量は、０．１〜３０質量％が好ましく、０．３〜２０質量％より好ましい。（Ａ−４）成分の含有量は、０．１〜５０質量％が好ましい、１〜４０質量％がより好ましい。
尚、（Ａ−２）成分と（Ａ−４）成分の配合モル比としては特に制限はないが、好ましくは１：１〜１：５であり、より好ましくは１：２〜１：４である。（Ａ−２）成分と（Ａ−４）成分との配合モル比が上記範囲にあれば、得られる硬化膜の耐久性がより向上する。
【００９５】
（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．００１〜３０質量部が好ましく、０．００１〜２０質量部がより好ましい。
【００９６】
（Ｃ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、５〜１０００質量部が好ましく、２０〜８００質量部がより好ましい。
（Ｃ）成分の含有量が５質量部未満であると、組成物の保管中にバインダ成分が硬化を起こしてしまうおそれがある。（Ｃ）成分の含有量が１０００質量部を超えると、乾燥に時間を要し生産性が悪化するおそれがある。
【００９７】
（Ｄ）及び（Ｅ）成分の合計の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、２５〜１５０質量部が好ましく、４０〜１００質量部がより好ましい。
（Ｄ）及び（Ｅ）成分の合計の含有量が２５質量部未満であると、赤外線遮蔽性能が低下するおそれがある。（Ｄ）及び（Ｅ）成分の合計の含有量が１５０質量部を超えると、膜強度が低下するおそれがある。
【００９８】
（Ｄ）成分の含有量は、（Ｄ）及び（Ｅ）成分１００質量％に対して、２０〜９０質量％が好ましく、４０〜８０質量％がより好ましい。
（Ｅ）成分の含有量は、（Ｄ）及び（Ｅ）成分１００質量％に対して、１０〜８０質量％が好ましく、２０〜６０質量％がより好ましい。
（Ｅ）成分の含有量が１０質量％未満であると、赤外線遮蔽成分を安定して分散できないおそれがある。（Ｅ）成分の含有量が８０質量％を超えると、過剰な分散成分が膜から滲み出すおそれがある。
【００９９】
（Ｆ）成分を含有する場合、（Ｆ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１〜５０質量部が好ましく、１〜４０質量部がより好ましい。
（Ｇ）成分を含有する場合、（Ｇ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．１〜７０質量部が好ましく、１〜５０質量部がより好ましい。
尚、分散状態として好ましく用いられる（Ｆ）及び（Ｇ）成分はそれぞれの固形分のみを用いて計算し、各成分に含まれる分散媒体は（Ｃ）成分に含まれるものとする。
【０１００】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物において、全組成中、（Ａ）〜（Ｅ）成分又は（Ａ）〜（Ｇ）成分が、９０質量％以上、９５質量％以上、９８質量％以上、１００質量％でもよい。
【０１０１】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物の製造方法では、上述の（Ｄ）〜（Ｅ）成分及び（Ｃ）成分を混合した後、外力を加え（Ｄ）成分を分散させて、Ｙ液を形成し、上記（Ａ）〜（Ｃ）成分を含むＸ液と、前記Ｙ液を混合する。これにより、赤外線遮蔽体形成用組成物を形成することができる。
【０１０２】
Ｘ液は、上述の（Ｆ）〜（Ｇ）成分を含んでもよい。また、Ｘ液は、上述のシラン化合物で処理（前処理）された酸化セリウム、レベリング剤、可とう性付与剤、潤滑性付与剤、酸化防止剤、ブルーイング剤、帯電防止剤、消泡剤（発泡防止剤）、光安定化剤、耐候性付与剤、着色剤、微粒子の分散剤（沈降防止剤）や微粒子表面活性の改質剤等を含んでもよい。
【０１０３】
（Ｄ）〜（Ｅ）成分及び（Ｃ）成分の混合は、より微細に（Ｄ）成分を分散させることができることから、（Ｄ）成分を（Ｅ）成分及びエステル系溶剤を用いて分散させた後に、エステル系溶剤を含む溶液を加熱し、溶剤を蒸発させ、そこに上述の（Ｃ）成分を加え、行うことが好ましい。
これにより、Ｙ液をＸ液とより均一に混合することができる。
【０１０４】
外力の印加は、ビーズミル、サンドグラインダー、ボールミル、ジェットミル、超音波分散装置等を用いて行うことが好ましい。
【０１０５】
エステル系溶剤としては、酢酸ブチル，２−アセトキシ−１−メトキシプロパン等が挙げられる。
上記溶液の加熱温度は、７０〜１５０℃が好ましい。
また、加熱時間は１２０分以下が好ましい。加熱時間が１２０分を超えると（Ｄ）成分の凝集を招くおそれがある。
蒸発は、溶液の溶剤を完全に除去してもよく、また、一部溶剤を残してもよい。
Ｘ液とＹ液の混合は公知の方法で行うことができる。
【０１０６】
本発明の硬化膜は、赤外線遮蔽体形成用組成物を硬化することで得ることができる。
硬化は、１００〜２８０℃で行うことが好ましい。１３０〜２５０℃がより好ましい。硬化時間は、１〜６０分が好ましい。
【０１０７】
本発明の積層体は、基材と、基材上に形成された上記硬化膜と、を有する。
基材としては、ガラス、フィルム、金属、木材、ゴム、コンクリート、石材、セラミックス、皮革、紙、布、繊維等が挙げられる。
【０１０８】
フィルムとしては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィン系樹脂（例：ＪＳＲ株式会社製「ＡＲＴＯＮ」、日本ゼオン株式会社製「ＺＥＯＮＯＲ」「ＺＥＯＮＥＸ」）、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート等のセルロース系樹脂、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）等のスチレン系樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド等のイミド系樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン等のケトン系樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等のスルホン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリビニルアルコール、エポキシ樹脂、フッ素樹脂等を挙げることができ、前記ポリマーを複数混合したポリマーアロイ・ポリマーブレンドでもよい。また、上記樹脂を複数積層した積層構造体でもよい。上記樹脂の中でも、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂及びポリカーボネート樹脂が好ましい。
【０１０９】
本発明の積層体の可視光透過率は、６０％以上が好ましい。１００％でもよい。
また、遮蔽係数は、０．８０以下が好ましい。０でもよい。
【実施例】
【０１１０】
実施例１
（１）Ｘ液の製造
容積５０ｍｌのサンプル管に、有機高分子微粒子ＵＬＳ−１３８５ＭＧ（一方社油脂工業株式会社製、紫外線吸収骨格種：ベンゾトリアゾール系、水分散／固形分濃度３０質量％）０．８０ｇを仕込み５００ｒｐｍで撹拌しながら、１−メトキシ−２−プロパノール４．２５ｇ、水０．５０ｇ、酢酸０．５０ｇ、Ｍシリケート５１（多摩化学工業株式会社製、「テトラメトキシシランの部分縮合物（平均３〜５量体）であるポリアルコキシシラン」）０．４０ｇ、メチルトリメトキシシラン１．５１ｇ、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン０．５５ｇ、２０質量％ｐ−トルエンスルホン酸メタノール液０．０５ｇの順に、それぞれ１分間かけて滴下した。引き続き、室温、５００ｒｐｍで６０分撹拌後、一日静置し、これをＸ１液とした。
容積２０ｍｌのサンプル管に、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン１．１０ｇ及び２−ブタノンオキシム（イソシアネート基のブロック化剤）０．３５ｇを仕込み、室温、５００ｒｐｍで１０分撹拌後、一日静置し、これをＸ２液とした。イソシアネート基がブロック化されたことについては、13Ｃ−ＮＭＲでイソシアネート基のシグナルが消失することにより確認した。３−イソシアナトプロピルトリエトキシシランと２−ブタノンオキシムの配合量の合計をブロック化イソシアナトシラン化合物：（Ａ−４）成分の量とした。
【０１１１】
冷却管を取り付けた２００ｍｌ三口フラスコに、Ｘ１液と撹拌子を入れ、５００ｒｐｍで撹拌しながら、これにＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（日産化学工業株式会社製（コロイダルシリカ、イソプロパノール分散、コロイダルシリカ濃度３０質量％、平均粒子径４０〜５０ｎｍ（メーカー公表値））６．５０ｇを５分間かけて滴下し、室温で６０分間撹拌した。続いて、窒素気流下、６００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。引き続き、Ｘ２液を加え、同条件にて８０℃で４時間撹拌後、室温で一晩静置した。
さらに、これに３−アミノプロピルトリメトキシシラン０．４０ｇを２分間かけて滴下した。室温で１０分撹拌後、さらに窒素気流下、７００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。
引き続き１週間静置し、Ｘ液を得た。
【０１１２】
（２）Ｙ液の製造
セシウムタングステン複合酸化物分散液ＹＭＳ−０１Ａ−２（住友金属鉱山製、セシウムタングステン複合酸化物（Ｃｓ０．３３ＷＯ３）及び分散剤（ポリアルキレングリコール系分散剤）を含有、固形分濃度４０％、セシウムタングステン複合酸化物：分散剤＝１００：６０）６ｇを１００℃に加熱して含有する溶剤を蒸発させ２．７ｇに濃縮した。そこに６ｇになるまで１−メトキシ−２−プロパノールを加え、サンドグラインダー（アイメックス株式会社製ＢＳＧ−０１型）を用いて均一になるまで撹拌混合し、Ｙ液を得た。
【０１１３】
Ｘ液６ｇに、Ｙ液６ｇを加えて撹拌混合し、赤外線遮蔽体液を得た。
【０１１４】
（３）赤外線遮蔽膜付きガラスの作製
得られた赤外線遮蔽体液を、厚さ３ｍｍのソーダライム系ガラス基板上にバーコーターを用いて、硬化膜が３μｍになるように、塗布した。５０℃にて１分乾燥し、その後、２５０℃に昇温して５分間保持して、赤外線遮蔽膜（硬化膜）付きガラスを得た。
【０１１５】
（４）赤外線遮蔽膜付きガラスの評価
赤外線遮蔽膜付きガラスの透過率を分光光度計ＵＶ−３６００（株式会社日立製作所製）を用いて測定し、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に従って可視光透過率、遮蔽係数を算出した。
可視光透過率＝６５％、遮蔽係数＝０．６２であった。
【０１１６】
また、赤外線遮蔽膜付きガラスを沸騰水２００ｍｌに６０分間浸漬した。
外観に変化はなく、可視光透過率は６５％のままであった。
【０１１７】
実施例２
セシウムタングステン複合酸化物分散液１０ｇを４．３ｇに濃縮し、１−メトキシ−２−プロパノールを用いて６ｇにしたことに代えて、１−メトキシ−２−ブタノールを用いて１０ｇにした以外、実施例１と同様にして、Ｙ液を製造した。
また、Ｘ液１０ｇに上記Ｙ液１０ｇを加えた以外、実施例１と同様にして、赤外線遮蔽体液を製造した。
ソーダライム系ガラス基板に代えて、ＰＥＴフィルム（東洋紡製、コスモシャインＡ４１００、厚さ１００μｍ）を用い、昇温を１００℃、保持を１０分間にした以外、実施例１と同様に、赤外線遮蔽膜付きフィルムを製造し、評価した。
【０１１８】
可視光透過率＝７８％、遮蔽係数＝０．７７であった。
沸騰水浸漬後、外観に変化はなく、可視光透過率は７８％のままであった。
【０１１９】
比較例１
Ｘ２液を配合せず、メチルトリメトキシシランを１．５１ｇから２．１２ｇに変更した以外、実施例１と同様にして、赤外線遮蔽体液及び赤外線遮蔽膜付きガラスを製造し、評価した。
【０１２０】
可視光透過率＝６５％、遮蔽係数＝０．６２であった。
沸騰水浸漬後、外観が曇り、可視光透過率が５３％に低下していた。
【０１２１】
実施例３
（１）Ｘ液の製造
容積５０ｍｌのサンプル管に、有機高分子微粒子ＵＬＳ−１３８５ＭＧ（一方社油脂工業株式会社製、紫外線吸収骨格種：ベンゾトリアゾール系、水分散／固形分濃度３０質量％）２．４０ｇを仕込み５００ｒｐｍで撹拌しながら、１−メトキシ−２−プロパノール１２．７５ｇ、水１．５０ｇ、酢酸１．５０ｇ、Ｍシリケート５１（多摩化学工業株式会社製、「テトラメトキシシランの部分縮合物（平均３〜５量体）であるポリアルコキシシラン」）１．２０ｇ、メチルトリメトキシシラン４．５３ｇ、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン１．６５ｇ、２０質量％ｐ−トルエンスルホン酸メタノール液０．１５ｇの順に、それぞれ１分間かけて滴下した。引き続き、室温、５００ｒｐｍで６０分撹拌後、一日静置し、これをＸ１ａ液とした。
容積２０ｍｌのサンプル管に、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン３．３０ｇ及び２−ブタノンオキシム（イソシアネート基のブロック化剤）１．０５ｇを仕込み、室温、５００ｒｐｍで１０分撹拌後、一日静置し、これをＸ２ａ液とした。イソシアネート基がブロック化されたことについては、１３Ｃ−ＮＭＲでイソシアネート基のシグナルが消失することにより確認した。３−イソシアナトプロピルトリエトキシシランと２−ブタノンオキシムの配合量の合計をブロック化イソシアナトシラン化合物：（Ａ−４）成分の量とした。
【０１２２】
冷却管を取り付けた２００ｍｌ三口フラスコに、Ｘ１ａ液と撹拌子を入れ、５００ｒｐｍで撹拌しながら、これにイソプロピルアルコール１３．６５ｇを５分間かけて滴下し、室温で６０分間撹拌した。続いて、窒素気流下、６００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。引き続き、Ｘ２ａ液を加え、同条件にて８０℃で４時間撹拌後、室温で一晩静置した。
さらに、これに３−アミノプロピルトリメトキシシラン１．２０ｇを２分間かけて滴下した。室温で１０分撹拌後、さらに窒素気流下、７００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。
引き続き１週間静置し、Ｘ液を得た。
【０１２３】
（２）Ｙ液の製造
セシウムタングステン複合酸化物分散液ＹＭＳ−０１Ａ−２（住友金属鉱山製、セシウムタングステン複合酸化物（Ｃｓ０．３３ＷＯ３）及び分散剤（ポリアルキレングリコール系分散剤）を含有、固形分濃度４０％、セシウムタングステン複合酸化物：分散剤＝１００：６０）６ｇを１００℃に加熱して含有する溶剤を蒸発させ２．７ｇに濃縮した。そこに６ｇになるまで１−メトキシ−２−プロパノールを加え、サンドグラインダー（アイメックス株式会社製ＢＳＧ−０１型）を用いて均一になるまで撹拌混合し、Ｙ液を得た。
【０１２４】
Ｘ液２ｇに、Ｙ液４ｇ及び１―メトキシ―２−ブタノール２ｇを加えて撹拌混合し、赤外線遮蔽体液を得た。
【０１２５】
（３）赤外線遮蔽膜付きガラスの作製
得られた赤外線遮蔽体液を、厚さ３ｍｍのソーダライム系ガラス基板上にバーコーターを用いて、硬化膜が３μｍになるように、塗布した。５０℃にて１分乾燥し、その後、２００℃に昇温して１０分間保持して、赤外線遮蔽膜（硬化膜）付きガラスを得た。
【０１２６】
（４）赤外線遮蔽膜付きガラスの評価
赤外線遮蔽膜付きガラスの透過率を分光光度計ＵＶ−３６００（株式会社日立製作所製）を用いて測定し、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に従って可視光透過率、遮蔽係数を算出した。
可視光透過率＝７１％、遮蔽係数＝０．６７であった。
【０１２７】
実施例４
（１）Ｘ液の製造
容積５０ｍｌのサンプル管に、１−メトキシ−２−プロパノール１２．７５ｇを仕込み５００ｒｐｍで撹拌しながら、水３．１８ｇ、酢酸１．５０ｇ、Ｍシリケート５１（多摩化学工業株式会社製、「テトラメトキシシランの部分縮合物（平均３〜５量体）であるポリアルコキシシラン」）１．２０ｇ、メチルトリメトキシシラン４．５３ｇ、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン１．６５ｇ、２０質量％ｐ−トルエンスルホン酸メタノール液０．１５ｇの順に、それぞれ１分間かけて滴下した。引き続き、室温、５００ｒｐｍで６０分撹拌後、一日静置し、これをＸ１ｂ液とした。
容積２０ｍｌのサンプル管に、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン３．３０ｇ及び２−ブタノンオキシム（イソシアネート基のブロック化剤）１．０５ｇを仕込み、室温、５００ｒｐｍで１０分撹拌後、一日静置し、これをＸ２ｂ液とした。イソシアネート基がブロック化されたことについては、１３Ｃ−ＮＭＲでイソシアネート基のシグナルが消失することにより確認した。３−イソシアナトプロピルトリエトキシシランと２−ブタノンオキシムの配合量の合計をブロック化イソシアナトシラン化合物：（Ａ−４）成分の量とした。
【０１２８】
冷却管を取り付けた２００ｍｌ三口フラスコに、Ｘ１ｂ液と撹拌子を入れ、５００ｒｐｍで撹拌しながら、これにＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（日産化学工業株式会社製（コロイダルシリカ、イソプロパノール分散、コロイダルシリカ濃度３０質量％、平均粒子径４０〜５０ｎｍ（メーカー公表値））１９．５０ｇを５分間かけて滴下し、室温で６０分間撹拌した。続いて、窒素気流下、６００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。引き続き、Ｘ２ｂ液を加え、同条件にて８０℃で４時間撹拌後、室温で一晩静置した。
さらに、これに３−アミノプロピルトリメトキシシラン１．２０ｇを２分間かけて滴下した。室温で１０分撹拌後、さらに窒素気流下、７００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。
引き続き１週間静置し、Ｘ液を得た。
【０１２９】
（２）Ｙ液の製造
セシウムタングステン複合酸化物分散液ＹＭＳ−０１Ａ−２（住友金属鉱山製、セシウムタングステン複合酸化物（Ｃｓ０．３３ＷＯ３）及び分散剤（ポリアルキレングリコール系分散剤）を含有、固形分濃度４０％、セシウムタングステン複合酸化物：分散剤＝１００：６０）６ｇを１００℃に加熱して含有する溶剤を蒸発させ２．７ｇに濃縮した。そこに６ｇになるまで１−メトキシ−２−プロパノールを加え、サンドグラインダー（アイメックス株式会社製ＢＳＧ−０１型）を用いて均一になるまで撹拌混合し、Ｙ液を得た。
【０１３０】
Ｘ液２ｇに、Ｙ液４ｇ及び１―メトキシ―２−ブタノール２ｇを加えて撹拌混合し、赤外線遮蔽体液を得た。
【０１３１】
（３）赤外線遮蔽膜付きガラスの作製
得られた赤外線遮蔽体液を、厚さ３ｍｍのソーダライム系ガラス基板上にバーコーターを用いて、硬化膜が３μｍになるように、塗布した。５０℃にて１分乾燥し、その後、２５０℃に昇温して１０分間保持して、赤外線遮蔽膜（硬化膜）付きガラスを得た。
【０１３２】
（４）赤外線遮蔽膜付きガラスの評価
赤外線遮蔽膜付きガラスの透過率を分光光度計ＵＶ−３６００（株式会社日立製作所製）を用いて測定し、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に従って可視光透過率、遮蔽係数を算出した。
可視光透過率＝７３％、遮蔽係数＝０．６９であった。
【産業上の利用可能性】
【０１３３】
本発明の赤外線遮蔽体形成用組成物は、建築分野、輸送機器分野等に用いられる窓材等や電子機器等に用いることができる。