(57)【要約】【課題】透湿度が低く、低透湿層の密着性が優れており、かつ裁断時に発生する低透湿層の浮きが抑制された光学フィルム及びその製造方法、上記光学フィルムを用いた偏光板並びに液晶表示装置を提供すること。【解決手段】基材フィルムと、第１層と、第２層とをこの順に有する光学フィルムであって、第１層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである層であり、第２層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムと、第１層と、第２層とをこの順に有する光学フィルムであって、
前記第１層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである層であり、
前記第２層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルム。
【請求項２】
前記第１層形成用硬化性組成物は、前記第１層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を３０〜９９質量％含有する、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記第２層形成用硬化性組成物は、前記第２層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、前記環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを５０〜９９質量％含有する、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記第１層形成用硬化性組成物は、更に、エラストマーを含有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記エラストマーは、ポリウレタン系、アクリル系、又はポリスチレン系のエラストマーである、請求項４に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記第１層形成用硬化性組成物に含有される前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子量が２０００以下である、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記第１層形成用硬化性組成物に含有される前記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、アクリル当量が２００以下である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記第１層の膜厚は１．０μｍ未満である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記第２層形成用硬化性組成物は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を含有し、前記環状脂肪族炭化水素基が下記一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＶ）の少なくとも１種で表される基である請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【化１】
2016033623.tif 000014
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に二価以上の連結基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【化２】
2016033623.tif 000015
一般式（ＩＶ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表し、Ｌ２は水素原子、単結合又は２価以上の連結基を表す。
【請求項１０】
前記第２層形成用硬化性組成物は、更にロジン化合物を含有する、請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
偏光子と、前記偏光子の保護フィルムとして請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含む偏光板。
【請求項１２】
液晶セルと、前記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された請求項１１に記載の偏光板とを含み、前記光学フィルムが最表層となるように配置された液晶表示装置。
【請求項１３】
基材フィルムと、第１層と、第２層とをこの順に有する光学フィルムの製造方法であって、
前記基材フィルム上に、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである第１層を形成する工程と、
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して第２層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム及びその製造方法、偏光板並びに液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、液晶テレビや、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどの液晶パネル等の用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子とその両側の保護フィルムとからなり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしてはセルロースエステルフィルムなどが用いられている。
【０００３】
最近の液晶表示装置は、高品質化とともに、用途も多様化し、耐久性への要求が厳しくなってきている。例えば、屋外用途での使用においては環境変化に対する安定性が求められ、液晶表示装置に用いられる上記の偏光板用保護フィルムや光学補償フィルムなどの光学フィルムについても温度や湿度変化に対する寸法や光学特性の変化を抑えることが求められる。
【０００４】
液晶表示装置は従来の室内用途だけでなく、屋外などより過酷な環境で使用されるようになっており、液晶表示装置の最表面に配置される光学フィルムは、水分を透過させない性能が重要になっている。この問題は近年大型化が進むＴＶ用途では、液晶セルのガラスが薄手化する傾向の影響もあり、反りが大きくなりやすく、高温高湿環境経時後の光漏れへの影響が懸念されている。
【０００５】
特許文献１には、透明性が高く、低吸湿性、高耐熱性、力学的強度の高い光学フィルムの提供を目的として、セルロースエステルにポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などのアクリル樹脂を多量添加した光学フィルムが開示されている。
一方、基材フィルム上に、塗布層を設けたフィルムも知られている。例えば、特許文献２には、膜厚８０μｍのセルロースアシレートである基材フィルム上に、分子内に環状脂肪族炭化水素基と２個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物から形成されてなる塗布層を設けたフィルムが記載されている。
【０００６】
また、特許文献３〜５には、基材、下塗り層、上塗り層をこの順に有するフィルムが記載されており、下塗り層として特定の弾性率を有する層が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】国際公開第２００９／０４７９２４号
【特許文献２】特開２００６−８３２２５号公報
【特許文献３】特開２００１−２２９７３７号公報
【特許文献４】特開２００５−１８１５４８号公報
【特許文献５】特開２００８−１９７６７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年急速に広まっているタブレットＰＣやモバイル用途など中小型では薄型化・液晶表示装置内の省スペース要求が高いため、高温高湿環境経時後の光漏れの問題解決が強く望まれている。液晶表示装置の液晶セルの反りや光漏れの発生は、偏光板及びそれを構成する光学フィルム、特に偏光子が水分を吸収及び放出することにより、液晶表示装置の液晶セルの前面及び背面の偏光板に収縮差が生じてバランスが崩れ液晶セルが反り、液晶セルの四隅や四辺が筐体や背面側の部材と接触して光漏れが生じることが原因と考えられている。このため、偏光板の保護フィルムに対しては、湿度依存性や湿熱耐久性の改善が求められてきたが、抜本的な改良のためには、環境変化で水分の吸収及び放出を抑制する必要があり、特に偏光板の最表面の光学フィルムには更なる透湿度の低減が求められる。
【０００９】
偏光板の最表面の光学フィルムの透湿度を低減するためには、光学フィルムを基材フィルム上に低透湿層を塗設した構成とすることが考えられる。
しかしながら、低透湿層を形成するためのモノマーは、立体的に嵩高いものが多く、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートなどの従来より硬化層を形成するためのモノマーとして一般的に使用されるアクリレートモノマーに比べて疎水性が高いため、基材フィルムとの密着性確保が難しく、その結果、塗膜の密着性を評価する１００マス試験の評価結果が低くなる。
そこで、基材フィルムと低透湿層との間に、下塗り層を設けることにより、化学結合により基材フィルムと下塗り層との間の密着性の向上を図ることが考えられ、これにより、１００マス試験による密着性を大幅に改善できることが期待される。
しかしながら、例えば、長尺の偏光板を、液晶表示装置に組み込む大きさに加工するために、裁断、打ち抜き、又は切り出しをした場合に、低透湿層と下塗り層との界面において「浮き」が発生するという新たな問題が明らかになってきた。
【００１０】
特許文献３には、１００マス試験の評価結果は良好であることは開示されているものの、「浮き」の発生を低減することについては、検討されていなかった。即ち、「浮き」はフィルムの裁断時などの、短時間に大きな力が局所的にかかる場合に発生するものであり、一方、１００マス試験による密着性評価は、裁断と比べた場合、弱い力が継続的に広い面積にかかる場合の剥がれを評価するものであるため、両者は異なる課題である。
【００１１】
上記のような状況に鑑みて、本発明の目的は、透湿度が低く、低透湿層の密着性が優れており、かつ裁断時に発生する低透湿層の浮きが抑制された光学フィルム及びその製造方法を提供することである。
本発明の別の目的は、上記光学フィルムを用いた偏光板を提供することである。本発明の更に別の目的は、高温高湿環境経時後の光漏れが改善された液晶表示装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明が解決しようとする課題は、下記の手段により解決することができる。
【００１３】
［１］
基材フィルムと、第１層と、第２層とをこの順に有する光学フィルムであって、
上記第１層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである層であり、
上記第２層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルム。
［２］
上記第１層形成用硬化性組成物は、上記第１層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を３０〜９９質量％含有する、［１］に記載の光学フィルム。
［３］
上記第２層形成用硬化性組成物は、上記第２層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、上記環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを５０〜９９質量％含有する、［１］又は［２］に記載の光学フィルム。
［４］
上記第１層形成用硬化性組成物は、更に、エラストマーを含有する、［１］〜［３］のいずれか１項に記載の光学フィルム。
［５］
上記エラストマーは、ポリウレタン系、アクリル系、又はポリスチレン系のエラストマーである、［４］に記載の光学フィルム。
［６］
上記第１層形成用硬化性組成物に含有される上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子量が２０００以下である、［１］〜［５］のいずれか１項に記載の光学フィルム。
［７］
上記第１層形成用硬化性組成物に含有される上記エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、アクリル当量が２００以下である、［１］〜［６］のいずれか１項に記載の光学フィルム。
［８］
上記第１層の膜厚は１．０μｍ未満である、［１］〜［７］のいずれか１項に記載の光学フィルム。
［９］
上記第２層形成用硬化性組成物は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を含有し、上記環状脂肪族炭化水素基が下記一般式（Ｉ）及び一般式（ＩＶ）の少なくとも１種で表される基である［１］〜［８］のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【化１】
2016033623.tif 000002
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に二価以上の連結基を表し、ｎは１〜３の整数を表す。
【化２】
2016033623.tif 000003
一般式（ＩＶ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表し、Ｌ２は水素原子、単結合又は２価以上の連結基を表す。
［１０］
上記第２層形成用硬化性組成物は、更にロジン化合物を含有する、［１］〜［９］のいずれか１項に記載の光学フィルム。
［１１］
偏光子と、上記偏光子の保護フィルムとして［１］〜［１０］のいずれか１項に記載の光学フィルムとを少なくとも１枚含む偏光板。
［１２］
液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方の面に配置された［１１］に記載の偏光板とを含み、上記光学フィルムが最表層となるように配置された液晶表示装置。
［１３］
基材フィルムと、第１層と、第２層とをこの順に有する光学フィルムの製造方法であって、
上記基材フィルム上に、
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである第１層を形成する工程と、
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して第２層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００１４】
本発明により、透湿度が低く、低透湿層の密着性が優れており、かつ裁断時に発生する低透湿層の浮きが抑制された光学フィルム及びその製造方法を提供することができる。本発明の光学フィルムを用いることで、高温高湿環境経時後の光漏れ発生が抑えられた液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の実施例における浮きの評価方法を示す図である。
【図２】浮きの評価において試料の観察方向を示す模式図である。
【図３】試料に発生した浮きを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明について詳細に説明する。
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
「アクリル樹脂」とはメタクリル酸又はアクリル酸の誘導体を重合して得られる樹脂、及びその誘導体を含有する樹脂を意味するものとする。また、特に限定しない場合には、「（メタ）アクリレート」はアクリレート及びメタクリレートを表し、「（メタ）アクリル」はアクリル及びメタクリルを表す。
更に、フィルムの「遅相軸方向」とはフィルム面内で屈折率が最大となる方向で、「進相軸方向」とはフィルム面内で遅相軸と直交する方向を意味するものとする。
【００１７】
［光学フィルム］
本発明の光学フィルムは、基材フィルムと、第１層と、第２層（「低透湿層」ともいう）とをこの順に有する光学フィルムであって、第１層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである層であり、第２層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である、光学フィルムである。
【００１８】
（光学フィルムの透湿度）
本発明の光学フィルムは、透湿度が５．０〜１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが好ましい。ここで、透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。
本発明の光学フィルムの透湿度は、１００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、９０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、８０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、７０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。透湿度が１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であれば、液晶表示装置の常温高湿及び高温高湿環境経時後の液晶セルの反りに伴う光漏れを抑制できる。
【００１９】
｛第１層｝
光学フィルムにおける第１層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を硬化して形成され、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである層である。
【００２０】
（第１層の弾性率）
第１層の弾性率は１．０〜５．０ＧＰａであり、１．０〜４．０ＧＰａであることが好ましく、１．０〜２．５ＧＰａであることがより好ましい。第１層の弾性率を上記範囲とすることで、光学フィルム裁断時に発生する低透湿層の浮きを抑制することができる。本発明において、弾性率とはナノインデンテーション弾性率（Ｅｒ）のことであり、実施例の項でその測定方法を詳述する。原理の詳細は、ＨａｎｄｂｏｏｋｏｆＭｉｃｒｏ／ＮａｎｏＴｒｉｂｏｌｏｇｙ（ＢｈａｒａｔＢｈｕｓｈａｎ編ＣＲＣ）に記載されている。
【００２１】
（第１層の膜厚）
第１層の膜厚は１．０μｍ未満であることが好ましく、０．０１μｍ以上０．８μｍ以下であることがより好ましく、０．０１μｍ以上０．６μｍ以下であることが更に好ましい。
【００２２】
〔エチレン性不飽和二重結合を有する化合物〕
第１層形成用硬化性組成物は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する。
【００２３】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００２４】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００２５】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、ＡＴＭ−４Ｅ、Ａ−２００、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ、日本合成化学（株）製ウレタンアクリレート  ＵＶ−１７００Ｂ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様のものを用いることができる。
【００２６】
第１層形成用硬化性組成物に含有されるエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的には−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ−、−ＣＨＯ、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【００２７】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、第１層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、３０〜９９質量％であることが好ましく、４０〜９０質量％であることがより好ましく、５０〜８０質量％であることが更に好ましい。ここで、硬化性組成物の全固形分とは、硬化性組成物から溶剤を除いた全成分のことをいう。
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は合計の含有量が上記範囲であることが好ましい。
【００２８】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、分子量が２０００以下の化合物であることが好ましく、２００以上１０００以下であることがより好ましい。分子量が２０００以下であると、第１層形成時に基材フィルムに染み込みやすくなり、基材フィルムと第１層との密着性を高めることができる。
【００２９】
また、第１層形成用硬化性組成物に含有されるエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、アクリル当量が２００以下であることが好ましく、７０以上１５０以下であることがより好ましい。アクリル当量が２００以下であると、第１層と第２層との化学結合により、第１層と第２層との密着性を高めることができる。
アクリル当量とは、アクリル当量をＥａ、分子量をＭ、分子内のアクリロイル基の数をＮａとしたときに、以下の式で表される値である。
Ｅａ＝Ｍ／Ｎａ
【００３０】
〔エラストマー〕
第１層形成用硬化性組成物は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物以外に、更に、エラストマーを含有することが好ましい。第１層形成用硬化性組成物中にエラストマーを含有させることにより、第１層の弾性率を所望の範囲に調整することができる。
エラストマーの含有量は、第１層形成用硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１〜７０質量％であることが好ましく、５〜６０質量％であることがより好ましく、１０〜５０質量％であることが更に好ましい。
エラストマーとしては、ポリスチレン系、ポリジエン系、ポリイソブチレン系、アクリル系、ポリウレタン系、ポリエステル系、ポリアミド系、フッ素系、シリコーン系のエラストマー等を挙げることができる。ポリスチレン系のエラストマーとしては、旭化成ケミカルズ社製のアサプレンＴ−４１１、アサプレンＴ−４３９、タフテックＨ１５０１、タフテックＨ１５０３、タフテックＨ１２７２、タフテックＭ１９１３、タフテックＨ１９４３、タフテックＰ１５００、タフプレンＡ、タフプレン１２６Ｓ、クラレ社製のセプトンＨＧ２５２、セプトンＳ１００１、セプトンＳ２００２、セプトンＳ２００６、セプトンＳ２０６３、セプトンＳ２１０４、セプトンＳ４０４４、セプトンＳ４０９９、セプトンＳ８１０４、ハイブラー５１２５、ハイブラー５１２７、ハイブラー７１２５、ハイブラー７３１１、日本ゼオン社製のゼオフィットＺＦＴ１３３０  、Ｑｕｉｎｔａｃ３４２１、Ｑｕｉｎｔａｃ３４５０、Ｑｕｉｎｔａｃ３３９０、ＪＳＲ社製のＪＳＲ  ＳＩＳ５００２、ＪＳＲ  ＳＩＳ５４０３、ＪＳＲ  ＴＲ１６００、ＪＳＲ  ＴＲ２００１、ＪＳＲ  ＴＲ２２５０等を挙げることができる。ポリジエン系のエラストマーとしては、ＪＳＲ社製のＪＳＲ  ＢＲ０１、ＪＳＲ  ＢＲ７３０、ＪＳＲ  ＲＢ８１０、ＪＳＲ  ＲＢ８４０、ＪＳＲ  ＩＲ２２００等を挙げることができる。ポリイソブチレン系のエラストマーとしては、カネカ社製のシブスター０６２Ｍ、シブスター０６２Ｔ、シブスター０７２Ｔ、シブスター０７３Ｔ、シブスター１０２Ｔ、シブスター１０３Ｔ等を挙げることができる。アクリル系のエラストマーとしては、カネカ社製のカネエースＢ−５４６、カネエースＦＭ−５０、カネエースＭ−２１０、カネエースＭＰ−９０、カネエースＭＲ−０１、ゼムラックＹＣ３６２３、ゼムラックＹＰ１９１５Ｂ、クラレ社製のクラリティＬＡ２１４０Ｅ、クラリティＬＡ２２５０、クラリティＬＡ２３３０、クラリティＬＡ４２８５、三菱レイヨン社製のメタブレンＣ−２２３Ａ、メタブレンＣ−３２３Ａ、メタブレンＳ−２００１、メタブレンＳ−２００６、メタブレンＳ−２０３０、メタブレンＳ−２１００、メタブレンＷ−４５０Ａ、メタブレンＷ−５５００等を挙げることができる。ポリウレタン系のエラストマーとしては、東洋紡社製のバイロンＵＲ−１３５０、バイロンＵＲ−１５１０、バイロンＵＲ−１７００、バイロンＵＲ−２３００、バイロンＵＲ−３２００、バイロンＵＲ−３２１０、バイロンＵＲ−３２６０、バイロンＵＲ−６１００、バイロンＵＲ−８２００、バイロンＵＲ−８３００、バイロンＵＲ−８７００等を挙げることができる。ポリエステル系のエラストマーとしては、東レ・デュポン社製のハイトレル２７５１、ハイトレル３０４６、ハイトレル４００１Ｔ−Ｘ０４、ＳＢ６５４、ハイトレルＳＣ７５３、東洋紡社製のペルプレンＰ３０Ｂ、ペルプレンＰ７０Ｂ、ペルプレンＳ１００１、ペルプレンＳ９００１、三菱化学社製のプリマロイＣＰ２００、プリマロイＣＰ３００等を挙げることができる。ポリアミド系のエラストマーとしては、宇部興産社製のＵＢＥＳＴＡ  ３０１２Ｕ、ＵＢＥＳＴＡ  ＸＰＡ  ９０４０Ｘ１、東洋紡社製のグリラックスＥ−２００ＬＶ、��リラックスＥＨ−６２０等を挙げることができる。フッ素系のエラストマーとしては、住友スリーエム社製のダイニオンＴＨＶ、セントラル硝子社製のセフラルソフトＧ１５０、ダイキン工業社製のダイエルサーモプラスチックＴ−５３０等を挙げることができる。シリコーン系のエラストマーとしては、ＮＵＣ社製のシルグラフト等を挙げることができる。特に、第１層形成用硬化性組成物中に、全固形分に対して１０質量％のエラストマーを添加したときに、第１層の弾性率を１０％以上低減できるような種類のエラストマーを使用することが好ましい。
エラストマーとしては、ポリウレタン系、アクリル系、ポリスチレン系のエラストマーが好ましい。
具体的には、ポリエステルウレタン、ＭＭＡ（メタクリル酸メチル）−ＢＡ（アクリル酸ブチル）の共重合体によるコアシェル、ＭＭＡ−ＢＡのブロック共重合体、スチレン・ブタジエン熱可塑性エラストマー等が挙げられる。
【００３１】
＜溶剤＞
本発明における第１層形成用硬化性組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、塗工時の乾燥性、透光性粒子の分散性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３２】
上記の溶剤のうち、炭酸ジメチル、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、アセトンのうち少なくとも１種類を用いることが好ましく、炭酸ジメチル、酢酸メチルの何れかを用いることがより好ましく、酢酸メチルを用いることが特に好ましい。
【００３３】
第１層形成用硬化性組成物の固形分の濃度は１〜５０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは１〜４０質量％であり、更に好ましくは１〜３０質量％である。
【００３４】
｛第２層（低透湿層）｝
本発明の光学フィルムにおける第２層は、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を硬化して形成される層である。
【００３５】
〔環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物〕
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は、バインダーとして機能し得る。
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物を用いることによって、低透湿性を実現でき、第１層や他の層と、第２層との密着性に優れ、更に偏光板の光漏れを防止できる。
詳細は明らかではないが、分子内に環状脂肪族炭化水素基を有する化合物を用いることで、第２層に疎水的な環状脂肪族炭化水素基を導入し、疎水化することで、外部から分子の取り込みを防止し、透湿度を低下させ得る。また、分子内にエチレン性不飽和二重結合を有することで、架橋点密度を上げ、第２層中の水分子の拡散経路を制限する。架橋点密度を上げることは、環状脂肪族炭化水素基の密度を相対的に上昇させる効果も有り、第２層内をより疎水的にし、水分子の吸着を防止し、透湿度を低下させると考えられる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は２以上であることがより好ましい。
【００３６】
環状脂肪族炭化水素基としては、好ましくは炭素数７以上の脂環式化合物から誘導される基であり、より好ましくは炭素数１０以上の脂環式化合物から誘導される基であり、更に好ましくは炭素数１２以上の脂環式化合物から誘導される基である。
環状脂肪族炭化水素基としては、特に好ましくは、二環式、三環式等の、多環式化合物から誘導される基である。
より好ましくは、特開２００６−２１５０９６号公報の特許請求の範囲記載の化合物の中心骨格、特開２００１−１０９９９号公報記載の化合物の中心骨格、あるいは、アダマンタン誘導体の骨格等が挙げられる。
【００３７】
環状脂肪族炭化水素基としては具体的には、ノルボルナン基、トリシクロデカン基、テトラシクロドデカン基、ペンタシクロペンタデカン基、アダマンタン基、ジアマンタン基等が挙げられる。
【００３８】
環状脂肪族炭化水素基（連結基含む）としては、下記一般式（Ｉ）〜（Ｖ）のいずれかで表される基が好ましく、下記一般式（Ｉ）、（ＩＩ）、又は（ＩＶ）で表される基がより好ましく、下記一般式（Ｉ）又は（ＩＶ）で表される基が更に好ましい。
【００３９】
【化３】
2016033623.tif 000004
【００４０】
一般式（Ｉ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜３の整数を表す。
【００４１】
【化４】
2016033623.tif 000005
【００４２】
一般式（ＩＩ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
【００４３】
【化５】
2016033623.tif 000006
【００４４】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。ｎは１〜２の整数を表す。
【００４５】
【化６】
2016033623.tif 000007
【００４６】
一般式（ＩＶ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表し、Ｌ２は水素原子、単結合又は２価以上の連結基を表す。
【００４７】
【化７】
2016033623.tif 000008
【００４８】
一般式（Ｖ）中、Ｌ、及びＬ１は各々独立に単結合又は２価以上の連結基を表す。
Ｌ、Ｌ１の２価以上の連結基としては、炭素数１〜６の置換されていてもよいアルキレン基、Ｎ位が置換されていてもよいアミド結合、Ｎ位が置換されていてもよいウレタン結合、エステル結合、オキシカルボニル基、エーテル結合等、及びこれらの２以上を組み合わせて得られる基が挙げられる。
【００４９】
エチレン性不飽和二重結合としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。より好ましくは下記Ｍ−１からＭ−４で例示するような、１分子内に２つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【００５０】
環状脂肪族炭化水素基を有し、かつ分子内に２個以上のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物は、上記の環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する基が連結基を介して結合することにより構成される。
【００５１】
これらの化合物は、例えば、上記環状脂肪族炭化水素基を有するジオール、トリオール等のポリオールと、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等を有する化合物のカルボン酸、カルボン酸誘導体、エポキシ誘導体、イソシアナート誘導体等との一段あるいは二段階の反応により容易に合成することができる。
好ましくは、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルクロリド、（メタ）アクリル酸無水物、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの化合物や、ＷＯ２０１２／００３１６Ａ号記載の化合物（例、１、１―ビス（アクリロキシメチル）エチルイソシアナート）を用いて、上記環状脂肪族炭化水素基を有するポリオールとの反応させることにより合成することができる。
【００５２】
以下、環状脂肪族炭化水素基を有しエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５３】
【化８】
2016033623.tif 000009
【００５４】
【化９】
2016033623.tif 000010
【００５５】
〔フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物〕
第２層に含有し得る、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物はバインダーとして機能し得る。また、フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となると同時に低透湿性を付与することができる。
架橋点密度を上げるために分子内に有するエチレン性不飽和二重結合の数は２以上であることがより好ましい。
【００５６】
フルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物は下記一般式（ＶＩ）で表されることが好ましい。
【００５７】
【化１０】
2016033623.tif 000011
【００５８】
式（ＶＩ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６はそれぞれ独立に、一価の置換基を表し、ｍ、ｎ、ｐ及びｑはそれぞれ独立に、０〜４の整数を表し、Ｒ１及びＲ２の少なくとも一方は、エチレン性不飽和二重結合を有する一価の有機基を表す。
【００５９】
分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物として上記一般式（ＶＩ）の好ましい態様は下記一般式（ＶＩＩ）で表される。
【００６０】
【化１１】
2016033623.tif 000012
【００６１】
式中、Ｒ７、Ｒ８は水素又はメチル基を、ｒ、ｓは０〜５の整数を示す。
【００６２】
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかの含有量は、上記第２層形成用の硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、５０〜９９質量％であることが好ましく、透湿度低減の顕著性の観点から、５０質量％より多く９９質量％以下であることがより好ましく、５５〜９５質量％であることが更に好ましく、６０〜９０質量％であることが特に好ましい。
環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。２種以上を併用する場合は合計の含有量が上記範囲であることが好ましい。
【００６３】
［環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物］
本発明に用いる第２層形成用硬化性組成物中には、分子内に環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を本発明の効果を損なわない範囲において併用できる。
【００６４】
環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さない（メタ）アクリレート化合物であることが好ましく、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【００６５】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【００６６】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様のものを用いることができる。
【００６７】
環状脂肪族炭化水素基を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的には−ＯＨ、−ＳＨ、−ＮＨ−、−ＣＨＯ、−ＣＯＮＨ−、−ＯＣＯＮＨ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
環状脂肪族炭化水素基及びフルオレン環を有さないエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合の含有量は、上記第２層形成用の硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、全固形分に対し１〜３０質量％であることが好ましく、２〜２０質量％がより好ましく、３〜１５質量％が更に好ましい。
【００６８】
〔ロジン化合物〕
第２層形成用硬化性組成物は、更に、ロジン化合物を含有することが好ましい。
ロジン化合物としては、具体的には、ロジン、水添ロジン（水素化ロジンとも称する）、酸変性ロジン及びエステル化ロジン（ロジンエステルとも称する）から選ばれる１種類以上であることが好ましい。
ロジンとしては、アビエチン酸、レボピマール酸、パルストリン酸、ネオアビエチン酸、デヒドロアビエチン酸、或いはジヒドロアビエチン酸など樹脂酸を主成分とするトール油ロジン、ガムロジン、ウッドロジンなどの未変性ロジンが挙げられる。
水添ロジンとは、上記ロジンを水素化したものをいう。テトラヒドロアビエチン酸等のテトラヒドロ体を高含量（例えば５０質量％以上）含むもの等が挙げられる。酸変性ロジンとしては、ディールズ・アルダー付加反応によりマレイン酸、フマル酸やアクリル酸などの不飽和酸を付加した不飽和酸変性ロジンが挙げられ、より具体的にはロジンにマレイン酸を付加したマレオピマール酸、フマル酸を付加したフマロピマール酸、アクリル酸を付加したアクリロピマール酸等が挙げられる。エステル化ロジンとしては、ロジンのアルキルエステル、ロジンとグリセリンとをエステル化反応させて得られるグリセリンエステル、ロジンとペンタエリスリトールとをエステル化して得られるペンタエリスリトールエステル等が挙げられる。
【００６９】
上記ロジンエステルとしては、スーパーエステルＥ−７２０、スーパーエステルＥ−７３０−５５、スーパーエステルＥ−６５０、スーパーエステルＥ−７８６−６０、タマノルＥ−１００、エマルジョンＡＭ−１００２、エマルジョンＳＥ−５０（以上全て商品名、特殊ロジンエステルエマルジョン、荒川化学工業（株）製）、スーパーエステルＬ、スーパーエステルＡ−１８、スーパーエステルＡ−７５、スーパーエステルＡ−１００、スーパーエステルＡ−１１５、スーパーエステルＡ−１２５、スーパーエステルＴ−１２５（以上全て商品名、特殊ロジンエステル、荒川化学工業（株）製）等が挙げられる。
また、ロジンエステルとして、エステルガムＡＡＧ、エステルガムＡＡＬ、エステルガムＡ、エステルガムＡＡＶ、エステルガム１０５、エステルガムＨＳ、エステルガムＡＴ、エステルガムＨ、エステルガムＨＰ、エステルガムＨＤ、ペンセルＡ、ペンセルＡＤ、ペンセルＡＺ、ペンセルＣ、ペンセルＤ−１２５、ペンセルＤ−１３５、ペンセルＤ−１６０、ペンセルＫＫ（以上全て商品名、ロジンエステル系樹脂、荒川化学工業（株）製）、が挙げられる。
【００７０】
更に、その他のロジンとしては、ロンヂスＲ、ロンヂスＫ−２５、ロンヂスＫ−８０、ロンヂスＫ−１８（以上全て商品名、ロジン誘導体、荒川化学工業（株）製）パインクリスタルＫＲ−８５、パインクリスタルＫＲ−１２０、パインクリスタルＫＲ−６１２、パインクリスタルＫＲ−６１４、パインクリスタルＫＥ−１００、パインクリスタルＫＥ−３１１、パインクリスタルＫＥ−３５９、パインクリスタルＫＥ−６０４、パインクリスタル３０ＰＸ、パインクリスタルＤ−６０１１、パインクリスタルＤ−６１５４、パインクリスタルＤ−６２４０、パインクリスタルＫＭ−１５００、パインクリスタルＫＭ−１５５０（以上全て商品名、超淡色系ロジン誘導体、荒川化学工業（株）製）、アラダイムＲ−１４０、アラダイムＲ−９５（以上全て商品名、重合ロジン、荒川化学工業（株）製）、ハイペールＣＨ（以上全て商品名、水素化ロジン、荒川化学工業（株）製）、ビームセット１０１（以上全て商品名、ロジンアクリレート、荒川化学工業（株）製）等が挙げられる。
【００７１】
ロジン化合物の酸価は、１５０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、２００〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであることがより好ましく、２８０〜４００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。基材フィルムがセルロースアシレートフィルムの場合、ロジン化合物の酸価をこの範囲に制御することで硬化層の透湿度低減効果を維持しながら極めて良好な密着効果が得られる。
酸価が上記範囲のロジン化合物としては、前出の酸変性ロジンが挙げられ、特にマレイン酸やフマル酸をディールズ・アルダー反応で付加したロジン化合物が本発明では好ましく用いられる。
また、本発明においてロジン化合物は酸変性した後に水添処理をしたものを用いるのが好ましい。水添処理を施すことでロジン化合物の残存二重結合が第２層内で酸化されフィルムが着色することを防止することが出来る。
ロジン化合物の軟化点は、７０〜１７０℃が好ましい。ロジン化合物の軟化点が７０℃以上のであると、硬化層が柔らかくならずブロッキング性に優れる。軟化点が１７０℃未満であると溶剤に対する溶解性を保つことができ、硬化層のヘイズが上昇しづらい利点がある。
本発明においてロジン化合物の軟化点は、ＪＩＳ  Ｋ−２５３１の環球法により測定することができる。
ロジン化合物を添加する場合、その含有量は、上記第２層形成用の硬化性組成物の全固形分を１００質量％とした場合に、１〜５０質量％であることが好ましく、５〜４０質量％であることがより好ましく、１５〜３０質量％であることが更に好ましい。
【００７２】
［無機層状化合物］
本発明の第２層の透湿度を更に低減するためには、上述の第２層に用いることが可能なバインダー中に無機層状化合物を分散することも好ましい。無機層状化合物は親水性の表面を有するため、有機化処理することが好ましい。
【００７３】
無機層状化合物とは、単位結晶層が積層した構造を有し、層間に溶剤を配位又は吸収することにより膨潤又はヘキ開する性質を示す無機化合物である。このような無機化合物としては、膨潤性の含水ケイ酸塩、例えば、スメクタイト群粘土鉱物（モンモリロナイト、サポナイト、ヘクトライト等）、パームキュライト群粘土鉱物、カオリナイト群粘土鉱物、フィロケイ酸塩（マイカ等）などが例示できる。また、合成無機層状化合物も好ましく用いられ、合成無機層状化合物としては、合成スメクタイト（ヘクトライト、サポナイト、スティブンサイトなど）、合成マイカなどが挙げられ、スメクタイト、モンモリロナイト、マイカが好ましく、モンモリロナイト、マイカがより好ましい。市販品として使用できる無機層状化合物としては、ＭＥＢ−３（コープケミカル（株）製合成マイカ水分散液）、ＭＥ−１００（コープケミカル（株）製合成マイカ）、Ｓ１ＭＥ（コープケミカル（株）製合成マイカ）、ＳＷＮ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）、ＳＷＦ（コープケミカル（株）製合成スメクタイト）、クニピアＦ（クニミネ化学工業（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲルＨＶ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲルＦＷ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ブライト１１（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ブライト２３（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ブライト２５（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  Ａ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）、ベンゲル  ２Ｍ（ホージュン（株）製精製ベントナイト）等を用いることができる。
また、かかる無機層状化合物は、これら無機層状化合物に有機化処理を施したものであることが好ましい。
上記有機化処理された無機層状化合物としては、特開２０１２−２３４０９４号公報段落００３８〜００４４に記載の有機化処理された無機層状化合物が挙げられる。
【００７４】
［重合開始剤］
分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び／又は分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物には、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤としては光重合開始剤が好ましい。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、及び好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
【００７５】
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、及び、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【００７６】
市販の光開裂型の光ラジカル重合開始剤としては、ＢＡＳＦ社製（旧チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）の「イルガキュア６５１」、「イルガキュア１８４」、「イルガキュア８１９」、「イルガキュア９０７」、「イルガキュア１８７０」（ＣＧＩ−４０３／イルガキュア１８４＝７／３混合開始剤）、「イルガキュア５００」、「イルガキュア３６９」、「イルガキュア１１７３」、「イルガキュア２９５９」、「イルガキュア４２６５」、「イルガキュア４２６３」、「イルガキュア１２７」、“ＯＸＥ０１”等；日本化薬（株）製の「カヤキュアーＤＥＴＸ−Ｓ」、「カヤキュアーＢＰ−１００」、「カヤキュアーＢＤＭＫ」、「カヤキュアーＣＴＸ」、「カヤキュアーＢＭＳ」、「カヤキュアー２−ＥＡＱ」、「カヤキュアーＡＢＱ」、「カヤキュアーＣＰＴＸ」、「カヤキュアーＥＰＤ」、「カヤキュアーＩＴＸ」、「カヤキュアーＱＴＸ」、「カヤキュアーＢＴＣ」、「カヤキュアーＭＣＡ」など；サートマー社製の“Ｅｓａｃｕｒｅ（ＫＩＰ１００Ｆ，ＫＢ１，ＥＢ３，ＢＰ，Ｘ３３，ＫＴＯ４６，ＫＴ３７，ＫＩＰ１５０，ＴＺＴ）”等、及びそれらの組み合わせが好ましい例として挙げられる。
【００７７】
本発明に用いられる分子内に環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物及び／又は分子内にフルオレン骨格とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する組成物中の光重合開始剤の含有量は、上記組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させ、かつ開始点が増えすぎないように設定するという理由から、組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【００７８】
［紫外線吸収剤］
第２層を含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示装置部材に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、第２層に紫外線吸収剤を含有することで、光学フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
紫外線吸収剤としては、公知のものを用いることができる。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例、及び好ましい例としては、｛基材フィルム｝＜紫外線吸収剤＞の項において後述する紫外線吸収剤の具体例、及び好ましい例と同様のものが挙げられる。
【００７９】
［溶剤］
本発明における第２層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、第１層形成用硬化性組成物と同様の各種溶剤を用いることができる。
【００８０】
第２層形成用の硬化性組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
【００８１】
（第２層の膜厚）
第２層（低透湿層）の膜厚は、０．５〜２５μｍであることが好ましく、１〜２０μｍであることがより好ましく、２〜１８μｍであることが更に好ましく、３〜１７μｍであることが特に好ましい。
【００８２】
（第２層の透湿度）
複合フィルムの気体透過式より（例えば、「包装材料のバリア性の科学（包装学基礎講座５）」ｐ６８〜７２  仲川勤著  日本包装学会）、定常状態の光学フィルムの透湿度をＪｆ、基材フィルムと第１層との積層体の透湿度をＪｓ、光学フィルムを、基材フィルムと第１層との積層体と、第２層とに分離したときの第２層の透湿度をＪｂとしたときに、以下の式が成り立つ。
１／Ｊｆ＝１／Ｊｓ＋１／Ｊｂ    ・・・・・式（１）
光学フィルムの透湿度Ｊｆと基材フィルムと第１層との積層体の透湿度Ｊｓは直接測定することができ、それらの測定値を基に、第２層の透湿度Ｊｂを計算で求めることができる。
本発明において、第２層の透湿度が５．０〜１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙであることが好ましい。
【００８３】
（第２層の単位膜厚当たりの透湿度）
一般に定常状態に於ける透湿度は膜厚に反比例することが知られている。従って、上記膜厚の範囲で第２層が到達できる透湿度は材料の特性値である単位膜厚当たりの透湿度で決まり、その値が小さいほどより低透湿度に到達することができる。一方、上記の関係を基に第２層の膜厚調整で透湿度の調整をすることができるが、単位膜厚当たりの透湿度が低過ぎると光学フィルムの透湿度の制御が難しくなる。
両者を考慮して、第２層の膜厚１０μｍあたりの透湿度は５．０〜１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、１０〜１２０ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、２０〜１００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、３０〜８０ｇ／ｍ２／ｄａｙが特に好ましい。
（透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
なお、第２層の膜厚１０μｍにあたりの透湿度は、基材フィルムと第１層との積層体の透湿度、光学フィルムの透湿度、第２層の膜厚から以下のように見積もられる。
【００８４】
第２層の膜厚１０μｍに対する透湿度Ｃｂ（１０μｍ）は上記で算出したＪｂを基に以下の式で表すことができる。
Ｃｂ（１０μｍ）＝Ｊｂ×ｄｂ／１０  ［ｇ／ｍ２／ｄａｙ］・・・・・式（２）
（ここで、ｄｂ［μｍ］は第２層の膜厚であり、上記の通り、第２層積層前後の膜厚差から求めることができる。）
【００８５】
本発明の光学フィルムの第２層は透湿度ハードコート層機能、反射防止機能、防汚機能などを併せて持たせることも好ましい。
【００８６】
｛基材フィルム｝
［基材フィルムの材質］
基材フィルムを形成する材料としては、光学性能透明性、機械的強度、熱安定性、等方性などに優れるポリマーが好ましい。本発明でいう透明とは、可視光の透過率が６０％以上であることを示し、好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは９０％以上である。例えば、ポリカーボネート系ポリマー、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレート等のポリエステル系ポリマー、ポリメチルメタクリレート等の（メタ）アクリル系ポリマー、ポリスチレンやアクリロニトリル・スチレン共重合体（ＡＳ樹脂）等のスチレン系ポリマーなどがあげられる。また、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体の如きポリオレフィン系ポリマー、塩化ビニル系ポリマー、ナイロンや芳香族ポリアミド等のアミド系ポリマー、イミド系ポリマー、スルホン系ポリマー、ポリエーテルスルホン系ポリマー、ポリエーテルエーテルケトン系ポリマー、ポリフェニレンスルフィド系ポリマー、塩化ビニリデン系ポリマー、ビニルブチラール系ポリマー、アリレート系ポリマー、ポリオキシメチレン系ポリマー、エポキシ系ポリマー、又は上記ポリマーを混合したポリマーも例としてあげられる。また本発明の高分子フィルムは、アクリル系、ウレタン系、アクリルウレタン系、エポキシ系、シリコーン系等の紫外線硬化型、熱硬化型の樹脂の硬化層として形成することもできる。
【００８７】
また、基材フィルムを形成する材料としては、従来偏光板の透明保護フィルムとして用いられてきた、トリアセチルセルロースに代表される、セルロース系ポリマー（特に好ましくは、セルロースアシレート）も好ましく用いることができる。また、近年偏光板保護フィルムとして導入が提案されているアクリル系フィルムにも好ましく用いることができる。以下に、本発明の基材フィルムの例として、主にセルロースアシレートと（メタ）アクリル系ポリマーについて詳細を説明するが、その技術的事項は、他の高分子フィルムについても同様に適用できる。
【００８８】
［セルロースアシレート置換度］
次に上述のセルロースを原料に製造されるセルロースアシレートについて記載する。セルロースアシレートはセルロースの水酸基がアシル化されたもので、その置換基はアシル基の炭素原子数が２のアセチル基から炭素原子数が２２のものまでいずれも用いることができる。基材フィルムの材料として用いられるセルロースアシレートにおいて、セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、セルロースの水酸基をアシル化する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２のカルボン酸の結合度を測定し、計算によって置換度を得ることができる。測定方法としては、ＡＳＴＭのＤ−８１７−９１に準じて実施することが出来る。
【００８９】
セルロースの水酸基へのアシル基の置換度は特に限定されないが、２．５０〜３．００であることが好ましく、２．７５〜３．００であることがより好ましく、２．８５〜３．００であることが更に好ましい。
【００９０】
セルロースの水酸基をアシル化する酢酸及び／又は炭素原子数３〜２２のカルボン酸としては、脂肪族カルボン酸でも芳香族カルボン酸でもよく、単一でも２種類以上の混合物でもよい。これらによりアシル化されたセルロースエステルとしては、例えばセルロースのアルキルカルボニルエステル、アルケニルカルボニルエステルあるいは芳香族カルボニルエステル、芳香族アルキルカルボニルエステルなどであり、それぞれ更に置換された基を有していてもよい。好ましいアシル基としては、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブタノイル基、へプタノイル基、ヘキサノイル基、オクタノイル基、デカノイル基、ドデカノイル基、トリデカノイル基、テトラデカノイル基、ヘキサデカノイル基、オクタデカノイル基、ｉｓｏ−ブタノイル基、シクロヘキサンカルボニル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などを挙げることが出来る。これらの中でも、アセチル基、プロピオニル基、ブタノイル基、ドデカノイル基、オクタデカノイル基、ｔ−ブタノイル基、オレオイル基、ベンゾイル基、ナフチルカルボニル基、シンナモイル基などが好ましく、アセチル基、プロピオニル基、ｎ−ブタノイル基がより好ましい。
【００９１】
＜セルロースアシレート系基材フィルム＞
［セルロースアシレートの重合度］
本発明で好ましく用いられるセルロースアシレートの重合度は、粘度平均重合度で１８０〜７００であり、セルロースアセテートにおいては、１８０〜５５０がより好ましく、１８０〜４００が更に好ましく、１８０〜３５０が特に好ましい。
【００９２】
上記基材フィルムは、（メタ）アクリル系ポリマーであることも好ましく、主鎖にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも１種を有する（メタ）アクリル系ポリマーであることがより好ましい。
【００９３】
なお、（メタ）アクリル系ポリマーは、メタクリル系重合体とアクリル系ポリマーの両方を含む概念である。また、（メタ）アクリル系ポリマーには、アクリレート／メタクリレートの誘導体、特にアクリレートエステル／メタクリレートエステルの（共）重合体も含まれる。
【００９４】
＜（メタ）アクリル系ポリマー＞
基材フィルムは、（メタ）アクリル系ポリマーから形成されることも好ましい。
【００９５】
本発明で好ましく用いられる（メタ）アクリル系ポリマーについては、繰り返し構造単位として（メタ）アクリル酸エステル単量体由来の繰り返し構造単位を主鎖に有し、主鎖には更にラクトン環構造、無水グルタル酸環構造、及びグルタルイミド環構造のいずれか少なくとも１種を有していてもよい。
【００９６】
（メタ）アクリル系ポリマーは、繰り返し構造単位として、更に、水酸基含有単量体、不飽和カルボン酸及び下記一般式（２０１）で表される単量体から選ばれる少なくとも１種を重合して得られる繰り返し構造単位を含んでいてもよい。
【００９７】
一般式（２０１）
ＣＨ２＝Ｃ（Ｘ）Ｒ２０１
式中、Ｒ２０１は水素原子又はメチル基を表し、Ｘは水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＣＮ基、−ＣＯ−Ｒ２０２基、又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒ２０３基を表し、Ｒ２０２及びＲ２０３は各々独立に水素原子又は炭素数１〜２０の有機残基を表す。
【００９８】
（メタ）アクリル酸エステルとしては、特に限定されないが、例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなどのアクリル酸エステル；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ｎ−ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジルなどのメタクリル酸エステル；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、耐熱性、透明性が優れる点から、メタクリル酸メチルが好ましい。
（メタ）アクリル酸エステルを用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは１０〜１００質量％、より好ましくは１０〜１００質量％、更に好ましくは４０〜１００質量％、特に好ましくは５０〜１００質量％である。
【００９９】
水酸基含有単量体としては、α−ヒドロキシメチルスチレン、α−ヒドロキシエチルスチレン、２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸メチルなどの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸エステル；２−（ヒドロキシエチル）アクリル酸などの２−（ヒドロキシアルキル）アクリル酸；などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
水酸基含有単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１００】
不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、α−置換アクリル酸、α−置換メタクリル酸などが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、アクリル酸、メタクリル酸が好ましい。
不飽和カルボン酸を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１０１】
一般式（２０１）で表される単量体としては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、α−メチルスチレン、アクリロニトリル、メチルビニルケトン、エチレン、プロピレン、酢酸ビニルなどが挙げられ、これらは１種のみ用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。これらの中でも特に、本発明の効果を十分に発揮させる点で、スチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
一般式（２０１）で表される単量体を用いる場合、重合工程に供する単量体成分中のその含有割合は、本発明の効果を十分に発揮させる上で、好ましくは０〜３０質量％、より好ましくは０〜２０質量％、更に好ましくは０〜１５質量％、特に好ましくは０〜１０質量％である。
【０１０２】
［主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系ポリマー］
（メタ）アクリル系ポリマーの中でも主鎖に環構造を有するものが好ましい。主鎖に環構造を導入することで、主鎖の剛直性を高め、耐熱性を向上することができる。
主鎖に環構造を有する（メタ）アクリル系ポリマーの中でも主鎖にラクトン環構造を含有する重合体、主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体、主鎖にグルタルイミド環構造を有する重合体のいずれかであることが好ましい。中でも主鎖にラクトン環構造を形成する重合体であることがより好ましい。
以下のこれらの主鎖に環構造を有する重合体について順に説明する。
【０１０３】
（主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系ポリマー）
主鎖にラクトン環構造を有する（メタ）アクリル系ポリマー（以降ラクトン環含有重合体とも称す）は、主鎖にラクトン環を有する（メタ）アクリル系ポリマーであり、特開２００６−０９６９６０号公報、特開２００７−０６３５４１号公報等に記載された樹脂を用いることができる。
【０１０４】
（主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体）
主鎖に無水グルタル酸環構造を有する重合体とは、グルタル酸無水物単位を有する重合体であり、特開２００９−２１０９０５号公報、特開２００９−０３０００１号公報等に記載された樹脂を用いることができる。
【０１０５】
（主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系ポリマー）
主鎖にグルタルイミド環構造を有する（メタ）アクリル系ポリマー（以降グルタルイミド系樹脂とも称す）は、主鎖にグルタルイミド環構造を有することによって光学特性や耐熱性などの点で好ましい特性バランスを発現できる。
【０１０６】
グルタルイミド系樹脂は、米国特許３２８４４２５号、米国特許４２４６３７４号、特開平２−１５３９０４号公報等に記載されており、イミド化可能な単位を有する樹脂としてメタクリル酸メチルエステルなどを主原料として得られる樹脂を用い、上記イミド化可能な単位を有する樹脂をアンモニアまたは置換アミンを用いてイミド化することにより得ることができる。
【０１０７】
［紫外線吸収剤］
上記基材フィルムに好ましく使用される紫外線吸収剤について説明する。上記基材フィルムを含む本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示用部材等に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、紫外線吸収剤が好ましく用いられる。紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、かつ良好な液晶表示性の観点から、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。紫外線吸収剤は１種のみ用いても良いし、２種以上を併用しても良い。例えば、特開２００１−７２７８２号公報や特表２００２−５４３２６５号公報に記載の紫外線吸収剤が挙げられる。紫外線吸収剤の具体例としては、例えばオキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられる。
【０１０８】
その中でも、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）、（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイトなどが挙げられる。特に（２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、（２（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル）−５−クロルベンゾトリアゾール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジンなどのヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどの燐系加工安定剤を併用してもよい。
【０１０９】
紫外線吸収剤は、紫外線吸収能を有する構成単位として樹脂に導入することもできる。例えば、重合性基を導入したベンゾトリアゾール誘導体、トリアジン誘導体又はベンゾフェノン誘導体である。導入する重合性基は、樹脂が有する構成単位に応じて、適宜選択できる。
【０１１０】
単量体の具体例は、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ）エチルフェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（大塚化学製、商品名ＲＵＶＡ−９３）、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロイルオキシ）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メタクリロイルオキシ）フェニル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールである。
【０１１１】
［その他の添加剤］
上記基材フィルムには、マット剤、レターデーション発現剤、可塑剤、紫外線吸収剤、劣化防止剤、剥離剤、赤外線吸収剤、波長分散調整剤などの添加剤を加えることができ、それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に可塑剤の混合などであり、例えば特開２００１−１５１９０１号公報などに記載されている。更にまた、赤外吸収染料としては例えば特開２００１−１９４５２２号公報に記載されている。またその添加する時期はドープ作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、光学フィルムが多層から形成される場合、各層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。例えば特開２００１−１５１９０２号公報などに記載されているが、これらは従来から知られている技術である。これらの詳細は、発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて１６頁〜２２頁に詳細に記載されている素材が好ましく用いられる。
【０１１２】
また上記基材フィルムには、ゴム状粒子を含有しても良い。たとえば、軟質アクリル系樹脂、アクリルゴム、及び、ゴム−アクリル系グラフト型コアシェルポリマーなどアクリル粒子、又はスチレン−エラストマー共重合体があげられる。更に、特公昭６０−１７４０６、特公平３−３９０９５号公報等に記載の、耐衝撃性、耐応力白化性が改善する添加剤も好ましく用いられる。
【０１１３】
上記基材フィルムにおいては、これらの添加剤を添加する場合、添加剤の総量は、基材フィルムに対して５０質量％以下であることが好ましく、３０質量％以下であることが好ましい。
これらの添加剤により、フィルムの脆性が改良され、フィルムの耐折試験（１８０度折り曲げ時の割れ評価など）が大幅に改善する。
また、低ヘイズを達成するためには、上記添加物の屈折率は基材フィルムと略同一の屈折率を持つ事が好ましく、屈折率差は０．５以下が好ましく、０．３以下がより好ましい。
【０１１４】
＜基材フィルムの特性＞
（基材フィルムの厚さ）
上記基材フィルムの膜厚は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７０μｍが特に好ましく、２０〜６０μｍがより特に好ましい。膜厚を上記の範囲に制御することで、第２層を積層した後に液晶表示装置の置かれる環境、すなわち温湿度変化に伴うパネルのムラを小さくすることができる。
【０１１５】
（基材フィルムの透湿度）
上記基材フィルムの透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８をもとに、４０℃、相対湿度９０％の条件において測定される。
上記基材フィルムの透湿度は、３００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが好ましく、２５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることがより好ましく、２００ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが更に好ましく、１５０ｇ／ｍ２／ｄａｙ以下であることが特に好ましい。基材フィルムの透湿度を上記範囲に制御することで、第１層及び第２層を積層した本発明の光学フィルムを搭載した液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の、液晶セルの反りや、光漏れを抑制できる。
【０１１６】
（基材フィルムの単位膜厚当たりの透湿度）
第２層の（単位膜厚当たりの透湿度）で説明したように、基材フィルム１０μｍの透湿度は以下の式で与えられる。
Ｃｓ（１０μｍ）＝Ｊｓ×ｄｓ／１０  ［ｇ／ｍ２／ｄａｙ］
（ここで、ｄｓ［μｍ］は基材フィルムの膜厚であり、Ｊｓは基材フィルムの透湿度である。）
基材フィルムの膜厚が１０μｍに対する透湿度は５０〜２０００ｇ／ｍ２／ｄａｙが好ましく、８０〜１５００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、１００〜１０００ｇ／ｍ２／ｄａｙがより好ましく、１５０〜８００ｇ／ｍ２／ｄａｙが特に好ましい。
（透湿度は、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８の手法で、４０℃、相対湿度９０％で２４時間経過後の値である。）
下限値以上で充分な低透湿効果が得られ、上限値以下でカールを抑止できる。
【０１１７】
（基材フィルムの酸素透過係数）
透湿度を低減するためには、フィルム中の水の拡散を抑える事が好ましく、すなわちフィルムの自由体積を下げる事が好ましい。一般的にフィルムの自由体積はフィルムの酸素透過係数と相関する。
上記基材フィルムの酸素透過係数は、１００ｃｃ・ｍｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下が好ましく、３０ｃｃ・ｍｍ／（ｍ２・ｄａｙ・ａｔｍ）以下がより好ましい。
【０１１８】
（基材フィルムの平衡含水率）
上記基材フィルムの含水率（平衡含水率）は、偏光板の保護フィルムとして用いる際、ポリビニルアルコールなどの水溶性熱可塑性との接着性を損なわないために、膜厚のいかんに関わらず、２５℃、相対湿度８０％における含水率が、０〜４質量％であることが好ましい。０〜２．５質量％であることがより好ましく、０〜１．５質量％であることが更に好ましい。平衡含水率が４質量％以下であれば、レターデーションの湿度変化による依存性が大きくなり過ぎず、液晶表示装置の常温、高湿及び高温高湿環境経時後の光漏れを抑止の点からも好ましい。
含水率の測定は、フィルム試料７ｍｍ×３５ｍｍを水分測定器、試料乾燥装置“ＣＡ−０３”及び“ＶＡ−０５”｛共に三菱化学（株）製｝にて、カールフィッシャー法により水分量（ｇ）を求めた後、水分量（ｇ）を試料質量（ｇ）で除して行うことができる。
【０１１９】
（基材フィルムの寸度変化）
上記基材フィルムの寸度安定性は、６０℃、相対湿度９０％の条件下に２４時間静置した場合（高湿）の寸度変化率、及び８０℃、ＤＲＹ環境（相対湿度５％以下）の条件下に２４時間静置した場合（高温）の寸度変化率が、いずれも０．５％以下であることが好ましい。より好ましくは０．３％以下であり、更に好ましくは０．１５％以下である。
【０１２０】
＜基材フィルムの製造方法＞
上記基材フィルムの製造方法は、熱可塑性樹脂及び溶剤を含む高分子溶液を支持体上に流延して高分子膜（上記基材フィルム）を形成する工程、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜して基材フィルムを形成する工程を含むことが好ましい。すなわち、上記基材フィルムは、上記熱可塑性樹脂及び溶剤を含む高分子溶液を支持体上に流延して製膜されてなること、あるいは、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることが好ましく、熱可塑性樹脂を溶融製膜されてなることがより好ましい。
【０１２１】
（表面処理）
基材フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、基材フィルムと第１層やそれ以外の層（例えば、偏光子、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【０１２２】
｛機能層｝
また本発明の光学フィルムは、上記第１層（密着層）と第２層（低透湿層）とを有するが、更に、少なくとも一方の表面に、機能層を積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層、などが挙げられる。
上記機能層は、１層であってもよいし、複数層設けてもよい。上記機能層の積層方法は特に限定されない。
機能層は基材フィルムの第２層を設けた面に積層しても良い。この場合、機能層が第２層と接していても接していなくても良い。また、第２層を積層していない面に積層しても良い。複数の機能層を積層する場合一つの機能層を第２層上に積層し、もう一つの機能層を第２層が積層していない面に積層することもできる。なかでも第２層を積層後の本発明の光学フィルム上に、更に他の機能層を塗設して設けることが好ましい。
【０１２３】
｛光学フィルムの特性｝
（光学フィルムの膜厚）
本発明の光学フィルムの膜厚（基材フィルムに第１層及び第２層を積層した後の総膜厚）は、５〜１００μｍが好ましく、１０〜８０μｍがより好ましく、１５〜７５μｍが特に好ましい。
【０１２４】
［光学フィルムの層構成］
本発明の光学フィルムは、基材フィルムの一方の面上に、第１層、第２層をこの順に有し、偏光板保護フィルムでありかつ、液晶表示装置の表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムが表面フィルムの場合、ハードコート層が積層されていることが好ましい。この場合の好ましい層構成を以下に示す。
【０１２５】
基材フィルム／第１層（密着層）／第２層（低透湿層）／ハードコート層
第２層（低透湿層）／第１層（密着層）／基材フィルム／ハードコート層
基材フィルム／第１層（密着層）／第２層（低透湿層）／ハードコート層／反射防止層
第２層（低透湿層）／第１層（密着層）／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
基材フィルム／第１層（密着層）／第２層（低透湿層）／ハードコート層／反射防止層／防汚層
【０１２６】
［ハードコート層］
本発明の光学フィルムには、機能層としてハードコート層を設けることも好ましい。
本明細書において、ハードコート層とは、上記層を形成することで透明支持体の鉛筆硬度が上昇する層をいう。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ−５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。
ハードコート層の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、更に好ましくは１〜３０μｍであり、最も好ましくは１．５〜２０μｍである。
本発明においてハードコート層は１層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
本発明の光学フィルムのハードコート層の表面は平坦であって凹凸があっても構わない。また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。
【０１２７】
［ハードコート層形成材料物］
本発明において、ハードコート層は、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物、重合開始剤、必要に応じて、透光性粒子、含フッ素又はシリコーン系化合物、溶剤を含有する組成物を、支持体上に直接又は他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。以下各成分について説明する。
【０１２８】
［エチレン性不飽和二重結合を有する化合物］
本発明において使用することができるハードコート層形成用組成物にはエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。上記重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。これらモノマーは、１又は２官能のモノマーと３官能以上のモノマーを併用して用いることもできる。
【０１２９】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１３０】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１３１】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１３２】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１３３】
エチレン性不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、支持体との密着性、低カール、後述する含フッ素又はシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【０１３４】
ハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の無機成分を除いた全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、６０〜９９質量％がより好ましく、７０〜９９質量％が更に好ましく、８０〜９９質量％が特に好ましい。
【０１３５】
ハードコート層形成用組成物としては、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、ハードコート層に低透湿性を付与することができる。ハードコート性を高めるために、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を２以上有する化合物を用いることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物はハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物中、１〜９０質量％が好ましく、２〜８０質量％がより好ましく、５〜７０質量％が特に好ましい。
【０１３６】
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素とエチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、更に５官能以上の（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
ハードコート層形成用組成物が更に、５官能以上の（メタ）アクリレートを含有する場合、５官能以上の（メタ）アクリレートは、ハードコート層形成用組成物中のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物中、１〜７０質量％が好ましく、２〜６０質量％がより好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。
【０１３７】
［透光性粒子］
本発明においては、ハードコート層に透光性粒子を含有させることで、ハードコート層表面に凹凸形状を付与したり、内部ヘイズを付与することもできる。
【０１３８】
ハードコート層に用いることができる透光性粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）、シリカ粒子（屈折率１．４６）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、又は中空や細孔を有する粒子等が挙げられる。
【０１３９】
なかでも架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、本発明の光学フィルムのハードコート層に好適な表面凹凸、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全ヘイズを達成することができる。
【０１４０】
バインダー（透光性樹脂）の屈折率は、１．４５〜１．７０であることが好ましく、より好ましくは１．４８〜１．６５である。
また、透光性粒子と、ハードコート層のバインダーとの屈折率の差（「透光性粒子の屈折率」−「上記透光性粒子を除くハードコート層の屈折率」）は、絶対値として、好ましくは０．０５未満であり、より好ましくは０．００１〜０．０３０、更に好ましくは０．００１〜０．０２０である。ハードコート層中の透光性粒子とバインダーとの屈折率の差を０．０５未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、光学異方性層の透過光の偏光を解消するなどの悪化作用が無く好ましい。
【０１４１】
上記の粒子とバインダーの屈折率差を実現するためには、透光性粒子の屈折率を調節しても、バインダーの屈折率を調節してもよい。
好ましい第１の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましい。低屈折率であるアクリル成分と高屈折率であるスチレン成分の組成比を調節することで、透光性粒子とバインダーとの屈折率差を０．０５未満にすることが容易である。アクリル成分とスチレン成分の比率は質量比で５０／５０〜１００／０が好ましく、更に好ましくは６０／４０〜１００／０であり、最も好ましくは６５／３５〜９０／１０である。架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子の屈折率としては、１．４９〜１．５５が好ましく、更に好ましくは１．５０〜１．５４であり、最も好ましくは１．５１〜１．５３である。
好ましい第２の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダーに対して、１〜１００ｎｍの平均粒子サイズの無機微粒子を併用することで、モノマーと無機微粒子からなるバインダーの屈折率を調節し、既存の透光性粒子との屈折率差を調節するものである。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物、具体例としては、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。好ましくは、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３などが挙げられる。これら無機粒子は、モノマーの総量に対して１〜９０質量％の範囲で混合して用いることができ、好ましくは５〜６５質量％である。
ここで、上記透光性粒子を除くハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。上記透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶剤の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶剤中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶剤の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【０１４２】
透光性粒子の平均粒径は、１．０〜１２μｍが好ましく、より好ましくは３．０〜１２μｍ、更に好ましくは４．０〜１０．０μｍ、最も好ましくは４．５〜８μｍである。屈折率差及び粒子サイズを上記範囲に設定することで、光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプレイの文字ボケ、コントラスト低下を引き起こしにくい。添加する層の膜厚を厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じにくい点で、１２μｍ以下が好ましい。更に上記範囲内にすることは、塗工時の塗布量を抑えられ、乾燥が速く、乾燥ムラ等の面状欠陥を生じにくい点でも好ましい。
【０１４３】
透光性粒子の平均粒径の測定方法は、粒子の平均粒径を測る測定方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とできる。
【０１４４】
透光性粒子の形状は特に限定されないが、真球状粒子の他に、異形粒子（例えば、非真球状粒子）といった形状の異なる透光性粒子を併用して用いてもよい。特に非真球状粒子の短軸をハードコート層の法線方向にそろえると、真球粒子に比べ、粒子径が小さなものが使用できるようになる。
【０１４５】
上記透光性粒子は、ハードコート層全固形分中に０．１〜４０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは１〜３０質量％、更に好ましくは１〜２０質量％、である。透光性粒子の配合比を上記範囲にすることで内部ヘイズを好ましい範囲に制御することができる。
【０１４６】
また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは１０〜２５００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは３０〜２０００ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１００〜１５００ｍｇ／ｍ２である。
【０１４７】
＜透光性粒子調製、分級法＞
透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁及び１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、及び特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【０１４８】
透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。粒子径の均一さを表すＣＶ値は１５％以下が好ましく、より好ましくは１３％以下、更に好ましくは１０％以下である。更に平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製又は合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【０１４９】
［増粘剤］
塗布液の粘度を調整するために増粘剤を用いることができる。
ここでいう増粘剤とは、それを添加することにより液の粘度が増大するものを意味する。
【０１５０】
このような増粘剤としては以下のものが挙げられるが、これに限定されない。
ポリ−ε−カプロラクトン
ポリ−ε−カプロラクトンジオール
ポリ−ε−カプロラクトントリオール
ポリビニルアセテート
ポリ（エチレンアジペート）
ポリ（１，４−ブチレンアジペート）
ポリ（１，４−ブチレングルタレート）
ポリ（１，４−ブチレンスクシネート）
ポリ（１，４−ブチレンテレフタレート）
ポリ（エチレンテレフタレート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（２−メチル−１，３−プロピレングルタレート）
ポリ（ネオペンチルグリコールアジペート）
ポリ（ネオペンチルグリコール  セバケート）
ポリ（１，３−プロピレンアジペート）
ポリ（１，３−プロピレン  グルタレート）
ポリビニルブチラール
ポリビニルホルマール
ポリビニルアセタール
ポリビニルプロパナール
ポリビニルヘキサナール
ポリビニルピロリドン
ポリアクリル酸エステル
ポリメタクリル酸エステル
セルロースアセテート
セルロースプロピオネート
セルロースアセテートブチレート
【０１５１】
この他にも特開平８−３２５４９１号公報記載のスメクタイト、マイカ、ベントナイト、シリカ、モンモリロナイトなどの層状化合物及びポリアクリル酸ソーダ、特開平１０−２１９１３６エチルセルロース、ポリアクリル酸、有機粘土など、公知の粘度調整剤やチキソトロピー性付与剤を使用することが出来る。チキソトロピー性付与剤としては、０．３μｍ以下の粒径の層状化合物を有機化処理したものが特に好ましい。０．１μｍ以下の粒径のものが更に好ましい。層状化合物の粒径は、長軸の長さで考えることができる。通常、紫外線硬化型樹脂１００質量部に対して、１〜１０質量部程度とするのが好適である。
【０１５２】
［光重合開始剤］
ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を含有させることが好ましい。第２層で説明した光重合開始剤をハードコート層形成用組成物でも好ましく用いることができる。
【０１５３】
ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１５４】
〔紫外線吸収剤〕
本発明の光学フィルムは、偏光板又は液晶表示装置部材に使用されるが、偏光板又は液晶等の劣化防止の観点から、ＵＶ硬化を阻害しない範囲でハードコート層に紫外線吸収剤を含有することで、光学フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
【０１５５】
［溶剤］
本発明の光学フィルムにハードコート層を積層する場合、ハードコート層形成用の組成物には、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。係る有機溶剤としては、例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１５６】
ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶剤を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
【０１５７】
［反射防止層］
上記のようにハードコート層上に反射防止層を積層することも本発明の好ましい態様の一つである。本発明では公知の反射防止層を好ましく用いることができる、中でもＵＶ硬化型の反射防止層が好ましい。
反射防止層は１層構成の膜厚λ／４の低反射率層でも多層構成でも良いが、１層構成の膜厚λ／４の低反射率層が特に好ましい。本発明で好ましく使用することが出来る低屈折材料に関し、以下に説明するが本発明は以下に限定されるものではない。
【０１５８】
［低屈折率層の材料］
以下に反射防止層に含まれる低屈折率層の材料について説明する。
【０１５９】
［無機微粒子］
低屈折率化、耐擦傷性改良の観点から、低屈折率層に無機微粒子を用いることが好ましい。上記無機微粒子は、平均粒子サイズが５〜１２０ｎｍであれば特に制限はないが、低屈折率化の観点からは、無機の低屈折率粒子が好ましい。
【０１６０】
無機微粒子としては、低屈折率であることからフッ化マグネシウムやシリカの微粒子が挙げられる。特に、屈折率、分散安定性、コストの点でシリカ微粒子が好ましい。これら無機粒子のサイズ（１次粒径）は、５〜１２０ｎｍが好ましく、より好ましくは１０〜１００ｎｍ、２０〜１００ｎｍ、最も好ましくは３０〜９０ｎｍである。
【０１６１】
無機微粒子の粒径が小さすぎると、耐擦傷性の改良効果が少なくなり、大きすぎると低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりといった外観、積分反射率が悪化する。また、後述の中空シリカ微粒子を用いた場合は粒径が小さすぎると、空腔部の割合が減り屈折率の充分な低下が見込めない。無機微粒子は、結晶質でも、アモルファスのいずれでも良く、また単分散粒子でも、所定の粒径を満たすならば凝集粒子でも構わない。形状は、球径が最も好ましいが、不定形であってもよい。
【０１６２】
無機微粒子の塗設量は、１ｍｇ／ｍ２〜１００ｍｇ／ｍ２が好ましく、より好ましくは５ｍｇ／ｍ２〜８０ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１０ｍｇ／ｍ２〜６０ｍｇ／ｍ２である。少なすぎると、充分な低屈折率化が見込めなかったり、耐擦傷性の改良効果が減ったりし、多すぎると、低屈折率層表面に微細な凹凸ができ、黒の締まりなどの外観や積分反射率が悪化する。
【０１６３】
（多孔質又は中空の微粒子）
低屈折率化を図るには、多孔質又は中空構造の微粒子を使用することが好ましい。特に中空構造のシリカ粒子を用いることが好ましい。これら粒子の空隙率は、好ましくは１０〜８０％、更に好ましくは２０〜６０％、最も好ましくは３０〜６０％である。中空微粒子の空隙率を上述の範囲にすることが、低屈折率化と粒子の耐久性維持の観点で好ましい。
【０１６４】
多孔質又は中空粒子がシリカの場合には、微粒子の屈折率は、１．１０〜１．４０が好ましく、更に好ましくは１．１５〜１．３５、最も好ましくは１．１５〜１．３０である。ここでの屈折率は粒子全体として屈折率を表し、シリカ粒子を形成している外殻のシリカのみの屈折率を表すものではない。
【０１６５】
また、中空シリカは粒子平均粒子サイズの異なるものを２種以上併用して用いることができる。ここで、中空シリカの平均粒径は電子顕微鏡写真から求めることができる。
【０１６６】
本発明において中空シリカの比表面積は、２０〜３００ｍ２／ｇが好ましく、更に好ましくは３０〜１２０ｍ２／ｇ、最も好ましくは４０〜９０ｍ２／ｇである。表面積は窒素を用いＢＥＴ法で求めることができる。
【０１６７】
本発明においては、中空シリカと併用して空腔のないシリカ粒子を用いることができる。空腔のないシリカの好ましい粒子サイズは、３０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下、更に好ましくは３５ｎｍ以上１００ｎｍ以下、最も好ましくは４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下である。
【０１６８】
［無機微粒子の表面処理方法］
また、本発明においては無機微粒子は常法によりシランカップリング剤等により表面処理して用いることができる。
特に、低屈折率層形成用バインダーへの分散性を改良するために、無機微粒子の表面はオルガノシラン化合物の加水分解物及び／又はその部分縮合物により処理がされているのが好ましく、処理の際に、酸触媒及び金属キレート化合物のいずれか、あるいは両者が使用されることが更に好ましい。無機微粒子の表面の処理方法については、特開２００８−２４２３１４号公報の段落番号［００４６］〜［００７６］に記載されており、上記文献に記載されたオルガノシラン化合物、シロキサン化合物、表面処理の溶剤、表面処理の触媒、金属キレート化合物などは本発明においても好適に用いることができる。
【０１６９】
低屈折率層には、（ｂ２）重合性不飽和基を有する含フッ素又は非含フッ素モノマーを用いることができる。非含フッ素モノマーについては、ハードコート層で使用できるとして説明したエチレン性不飽和二重結合を有する化合物も用いることが好ましい。含フッ素のモノマーとしては、下記一般式（１）で表され、フッ素を３５質量％以上含有し、全ての架橋間分子量の計算値が５００よりも小さい含フッ素多官能モノマー（ｄ）を用いることが好ましい。
一般式（１）：  Ｒｆ２｛−（Ｌ）ｍ−Ｙ｝ｎ
（一般式（１）中、Ｒｆ２は少なくとも炭素原子及びフッ素原子を含むｎ価の基を表し、ｎは３以上の整数を表す。Ｌは単結合又は二価の連結基を表し、ｍは０又は１を表す。Ｙは重合性不飽和基を表す。）
Ｒｆ２は酸素原子及び水素原子の少なくともいずれかを含んでも良い。また、Ｒｆ２は鎖状（直鎖又は分岐）又は環状である。
【０１７０】
Ｙは、不飽和結合を形成する２つの炭素原子を含む基であることが好ましく、ラジカル重合性の基であることがより好ましく、（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及び−Ｃ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２から選ばれるものが特に好ましい。これらの中でも、重合性の観点から、より好ましいのは、ラジカル重合性を有する（メタ）アクリロイル基、アリル基、α−フルオロアクリロイル基、及びＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２である。
【０１７１】
Ｌは二価の連結基を表し、詳しくは、炭素数１〜１０のアルキレン基、炭素数６〜１０のアリーレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ）−、炭素数１〜１０のアルキレン基と−Ｏ−、−Ｓ−又はＮ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基、炭素数６〜１０のアリーレン基と−Ｏ−、−Ｓ−又はＮ（Ｒ）−を組み合わせて得られる基を表す。Ｒは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基を表す。Ｌがアルキレン基又はアリーレン基を表す場合、Ｌで表されるアルキレン基及びアリーレン基はハロゲン原子で置換されていることが好ましく、フッ素原子で置換されていることが好ましい。
一般式（１）で表される化合物の具体例は、特開２０１０−１５２３１１号公報［０１２１］〜［０１６３］段落に記載されている。
【０１７２】
［光学異方性層］
本発明の光学フィルムに光学異方性層を設けることもできる。光学異方性層としては、一定の位相差を有する膜が面内均一に形成された光学異方性層であっても良いし、遅相軸の方向や位相差の大きさが互いに異なる、位相差領域が規則的に面内に配置されたパターンを形成した光学異方性層であっても良い。
上記のように本発明の光学フィルムは液晶表示装置のハードコート層が積層された表面フィルムであることが好ましい。本発明の光学フィルムがハードコート層と光学異方性層の両方を有する場合、光学異方性層は基材フィルムを介してハードコート層が積層されていない面に形成されていることが好ましい。
【０１７３】
本発明の光学フィルムがこのような態様を有する場合、第１層及び第２層は、基材フィルムに対してはハードコート層と同じ側に積層されていても良いし、ハードコート層と反対側に設けられても良いし、基材フィルムの両面に積層されていても良い。
第１層及び第２層が基材フィルムに対してハードコート層と同じ側に積層されている場合の好ましい層構成は、上記のハードコート層を積層する場合の好ましい層構成を用いることができる。
一方、第１層及び第２層が基材フィルムに対してハードコート層と光学異方性層と同じ側に積層されている場合、第１層及び第２層は基材フィルムと光学異方性層の間に積層されていても良いし、基材フィルム、光学異方性層、第１層、第２層の順に積層されていても良い。
【０１７４】
光学異方性層は各種用途に合わせ材料及び製造条件を選択することができるが、本発明では重合性液晶性化合物を用いた光学異方性層が好ましい。その場合、光学異方性層と基材フィルムの間に光学異方性層と接して配向膜が形成されていることも好ましい態様である。
【０１７５】
面内均一に形成された光学異方性層を有する好ましい例として、光学異方性層がλ／４膜である態様が挙げられ、特にアクティブ方式の３Ｄ液晶表示装置の部材として有用である。λ／４膜の光学異方性層とハードコート層が、基材フィルムを介して反対の面に積層した態様として特開２０１２−０９８７２１号公報、特開２０１２−１２７９８２号公報に記載されており、本発明の光学フィルムで、このような態様を好ましく用いることができる。
【０１７６】
一方、パターンを形成した光学異方性層の好ましい例としては、パターン型のλ／４膜が挙げられ、特許４８２５９３４号公報、特許４８８７４６３号公報に記載された態様を、本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
また、特表２０１２−５１７０２４号公報（ＷＯ２０１０／０９０４２９号公報）に記載された光配向膜とパターン露光を組み合わせた態様も本発明の光学フィルムで好ましく用いることができる。
【０１７７】
［光学異方性層を有する時の光学フィルムの層構成］
本発明の光学フィルムが光学異方性層を有する場合の好ましい層構成を以下に示す。
【０１７８】
光学異方性層／基材フィルム／第１層（密着層）／第２層（低透湿層）／ハードコート層
光学異方性層／第２層（低透湿層）／第１層（密着層）／基材フィルム／ハードコート層
光学異方性層／基材フィルム／第１層（密着層）／第２層（低透湿層）／ハードコート層／反射防止層
光学異方性層／第２層（低透湿層）／第１層（密着層）／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
【０１７９】
光学異方性層を有する場合、光学異方性が不飽和重合性基等の硬化性基を有する液晶化合物から形成されることが好ましく、液晶層の下層に配向膜が形成されていることが好ましい。本発明では配向膜がラジカル重合性化合物を含む硬化性組成物から形成されることも好ましく、その場合特に以下の層構成が好ましい。
【０１８０】
光学異方性層／第２層（低透湿層）／第１層（密着層）／基材フィルム／ハードコート層
光学異方性層／第２層（低透湿層）／第１層（密着層）／基材フィルム／ハードコート層／反射防止層
【０１８１】
［光学フィルムの製造方法］
本発明の光学フィルムの製造方法は、基材フィルムと、第１層と、第２層とをこの順に有する光学フィルムの製造方法であって、基材フィルム上に、エチレン性不飽和二重結合を有する化合物を含有する第１層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して、弾性率が１．０〜５．０ＧＰａである第１層を形成する工程と、環状脂肪族炭化水素基とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物、及びフルオレン環とエチレン性不飽和二重結合とを有する化合物の少なくともいずれかを含有する第２層形成用硬化性組成物を塗布し、硬化して第２層を形成する工程と、を有する光学フィルムの製造方法である。
【０１８２】
第１層形成用硬化性組成物及び第２層形成用硬化性組成物の塗布方法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、ダイコート法等が挙げられる。マイクログラビアコート法、ワイヤーバーコート法、ダイコート法（米国特許２６８１２９４号明細書、特開２００６−１２２８８９号公報参照）がより好ましく、ダイコート法が特に好ましい。
【０１８３】
第１層形成用硬化性組成物及び第２層形成用硬化性組成物は、塗布された後、溶剤を乾燥するために乾燥ゾーンで加熱乾燥されることが好ましい。その際の乾燥ゾーンの温度は２５℃〜１４０℃が好ましく、乾燥ゾーンの前半は比較的低温であり、後半は比較的高温であることが好ましい。但し、各層の塗布組成物に含有される溶剤以外の成分の揮発が始まる温度以下であることが好ましい。
【０１８４】
溶剤の乾燥ゾーンの後に、ウェブで電離放射線照射により各層を硬化させるゾーンを通過させ、塗膜を硬化することが好ましい。例えば塗膜が紫外線硬化性であれば、紫外線ランプにより１０ｍＪ／ｃｍ２〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を照射して塗膜を硬化するのが好ましい。その際、ウェブの幅方向の照射量分布は中央の最大照射量に対して両端まで含めて５０〜１００％の分布が好ましく、８０〜１００％の分布がより好ましい。更に表面硬化を促進する為に窒素ガス等をパージして酸素濃度を低下する必要がある際には、酸素濃度０．０１％〜５％が好ましく、幅方向の分布は酸素濃度で２％以下が好ましい。紫外線照射の場合、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の光線から発する紫外線等が利用できる。また、硬化反応を促進するために、硬化時に温度を高めることもでき、２５〜１００℃が好ましく、更に好ましくは３０〜８０℃、最も好ましくは４０〜７０℃である。
【０１８５】
［偏光板］
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光子の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを少なくとも１枚含むことを特徴とする。
本発明の光学フィルムは、偏光板用保護フィルムとして用いることができる。偏光板用保護フィルムとして用いる場合、偏光板の作製方法は特に限定されず、一般的な方法で作製することができる。得られた光学フィルムをアルカリ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリ処理の代わりに特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。また上記のような表面処理を行ってもよい。光学フィルムの偏光子との貼合面は第２層を積層した面でも良いし、第２層を積層していない面であっても構わない。
保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
偏光板は偏光子及びその両面を保護する保護フィルムで構成されており、更に上記偏光板の一方の面にプロテクトフィルムを、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成される。プロテクトフィルム及びセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。又、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
【０１８６】
［液晶表示装置］
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、上記液晶セルの少なくとも一方に配置された本発明の偏光板とを含み、上記偏光板中に含まれる本発明の光学フィルムが最表層となるように配置されたことを特徴とする。
【０１８７】
（一般的な液晶表示装置の構成）
液晶表示装置は、二枚の電極基板の間に液晶を担持してなる液晶セル、その両側に配置された二枚の偏光板、及び必要に応じて上記液晶セルと上記偏光板との間に少なくとも一枚の光学補償フィルムを配置した構成を有している。
液晶セルの液晶層は、通常は、二枚の基板の間にスペーサーを挟み込んで形成した空間に液晶を封入して形成する。透明電極層は、導電性物質を含む透明な膜として基板上に形成する。液晶セルには、更にガスバリアー層、ハードコート層あるいは（透明電極層の接着に用いる）アンダーコート層（下塗り層）を設けてもよい。これらの層は、通常、基板上に設けられる。液晶セルの基板は、一般に５０μｍ〜２ｍｍの厚さを有する。
【０１８８】
液晶表示装置には通常２枚の偏光板の間に液晶セルを含む基板が配置されているが、本発明の光学フィルムを適用した偏光板用保護フィルムは、２枚の偏光板のいずれの保護フィルムとして用いることができるが、各偏光板の２枚の保護フィルムのうち、偏光子に対して液晶セルの外側に配置される保護フィルムとして用いられることが好ましい。
２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置することが特に好ましい。
また、２枚の偏光板のうち、視認側偏光板の、視認側の保護フィルムとして本発明の光学フィルムを配置した上で、更にバックライト側偏光板のバックライト側保護フィルムにも本発明の光学フィルムを配置し、２枚の偏光板に含まれる偏光子の伸縮を抑止し、パネルの反りを防止することも好ましい態様である。
【０１８９】
（液晶表示装置の種類）
本発明のフィルムは、様々な表示モードの液晶セルに用いることができる。ＴＮ（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）、ＦＬＣ（Ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＡＦＬＣ（Ａｎｔｉ−ｆｅｒｒｏｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ）、ＯＣＢ（Ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｍｐｅｎｓａｔｏｒｙ  Ｂｅｎｄ）、ＳＴＮ（Ｓｕｐｅｒ  Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）、ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌｌｙ  Ａｌｉｇｎｅｄ）、ＥＣＢ（Ｅｌｅｃｔｒｉｃａｌｌｙ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｂｉｒｅｆｒｉｎｇｅｎｃｅ）、及びＨＡＮ（Ｈｙｂｒｉｄ  Ａｌｉｇｎｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ）のような様々な表示モードが提案されている。また、上記表示モードを配向分割した表示モードも提案されている。本発明の光学フィルムは、いずれの表示モードの液晶表示装置においても有効である。また、透過型、反射型、半透過型のいずれの液晶表示装置においても有効である。
【実施例】
【０１９０】
以下、実施例に基づいて本発明を具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、試薬、物質量とその割合、操作等は本発明の趣旨から逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明は以下の実施例に限定され制限されるものではない。
【０１９１】
［実施例１］
〔第１層形成用硬化性組成物の調製〕
以下に示す組成で、第１層形成用硬化性組成物を調製した。
ＭＥＫ                                                      １６．９０質量部
ＭＩＢＫ                                                    ５９．１６質量部
酢酸メチル                                                    ８．４５質量部
Ａ−ＴＭＭＴ（新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル）        １４．２４質量部
バイロンＵＲ−１５１０（ポリエステルウレタン［東洋紡（株）製］）
０．７７質量部
Ｉｒｇ１２７（イルカギュア１２７）［ＢＡＳＦ社製］            ０．４６質量部
【０１９２】
〔第２層形成用硬化性組成物の調製〕
以下に示す組成で、第２層形成用硬化性組成物を調製した。
ＭＥＫ                                                      １３．５０質量部
ＭＩＢＫ                                                    ３７．５０質量部
Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製］
５３．３５質量部
Ｉｒｇ９０７（イルカギュア９０７）［ＢＡＳＦ社製］            １．６５質量部
【０１９３】
〔光学フィルムの作製〕
基材フィルムとしてフジタックＴＤ６０（富士フイルム（株）製、幅１，３４０ｍｍ、厚さ６０μｍ）をロール形態から巻き出して、特開２００６−１２２８８９号公報実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で、上記第１層形成用硬化性組成物を塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約１．０体積％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量７０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。第１層の膜厚は０．３μｍになるよう塗布量を調整した。得られた第１層について、ナノインデンテーション弾性率（Ｅｒ）を測定した。ナノインデンテーション弾性率（Ｅｒ）の測定は、フィッシャー社製超微小硬さ試験システムピコデンターを用いて測定した。測定には、圧子としてベルコビッチ型圧子（先端稜角１４２．３°）と呼ばれる三角錘型ダイヤモンド製圧子を用いた。三角錘型ダイヤモンド製圧子を試料表面に直角に当て、徐々に荷重を印加し、最大荷重到達後に荷重を０にまで徐々に戻した。この時の最大荷重Ｐを圧子接触部の投影面積Ａで除した値Ｐ／Ａをナノインデンテーション硬度（Ｈ）として算出した。ナノインデンテーション弾性率（Ｅｒ）は、除荷曲線の傾きＳとしたとき、下記式を用いて算出した。
Ｅｒ＝（Ｓ×√π）／（２√Ａ）（πは円周率）
原理の詳細は、Ｈａｎｄｂｏｏｋ  ｏｆ  Ｍｉｃｒｏ／ＮａｎｏＴｒｉｂｏｌｏｇｙ（ＢｈａｒａｔＢｈｕｓｈａｎ編ＣＲＣ）に記載されている。
次に、特開２００６−１２２８８９号公報の実施例１記載のスロットダイを用いたダイコート法で、搬送速度３０ｍ／分の条件で、上記第１層の上に、上記第２層形成用硬化性組成物を塗布し、６０℃で１５０秒乾燥させた。その後、更に窒素パージ下酸素濃度約１．０体積％で出力１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量２８０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、巻き取った。第２層の膜厚は１０μｍになるよう塗布量を調整した。
得られた光学フィルムを実施例１とした。
【０１９４】
＜実施例２〜２７、比較例１〜７の作製＞
上記実施例１の作製において、第１層形成用硬化性組成物及び第２層形成用硬化性組成物の組成を下記表１に記載のようにした以外は、実施例１と同様にして、実施例２〜２７及び比較例６〜７の光学フィルムを作製した。また、第１層を形成せず、第２層形成用硬化性組成物の組成を下記表１に記載のようにして、比較例１〜５の光学フィルムを作製した。なお、実施例９及び比較例３の第２層形成用硬化性組成物中には、ロジン（ＫＲ−６１４［荒川化学工業（株）製］）を添加した。
【０１９５】
使用した材料を以下に示す。
・Ａ−ＴＭＭＴ：ＮＫエステル［新中村化学工業（株）製］
（分子量：  ３５２、アクリル当量：    ８８）
・ＡＴＭ−４Ｅ：ＮＫエステル［新中村化学工業（株）製］
（分子量：  ５２９、アクリル当量：  １３２）
・Ａ−２００：ＮＫエステル［新中村化学工業（株）製］
（分子量：  ３０８、アクリル当量：  １５４）
・ＵＶ−１７００Ｂ：ウレタンアクリレート  [日本合成化学（株）製]
（分子量：２０００、アクリル当量：  ２００）
・バイロンＵＲ−１５１０：ポリエステルウレタン［東洋紡（株）製］
・カネエースＭ２１０：ＭＭＡ−ＢＡコアシェル［（株）カネカ製］
・クラリティＬＡ２１４０Ｅ：ＭＭＡ−ＢＡブロック［（株）クラレ製］
・Ｉｒｇ１２７（イルカギュア１２７）：重合開始剤［ＢＡＳＦ社製］
・Ａ−ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジアクリレート［新中村化学工業（株）製］
・ＤＣＰ：トリシクロデカンジメタノールジメタクリレート［新中村化学工業（株）製］
・ＡＤ−ＤＡ：１，３−アダマンタンジオールジアクリレート［新中村化学工業（株）製］
・Ｉｒｇ９０７（イルカギュア９０７）：重合開始剤［ＢＡＳＦ社製］
・ＫＲ−６１４：パインクリスタル［荒川化学工業（株）製］
【０１９６】
［光学フィルムの評価］
作製した各実施例及び比較例の光学フィルムについて、下記の物性測定と評価を行った。結果は下記表１に示す。
【０１９７】
（ａ）光学フィルム及び第２層の透湿度（４０℃９０％相対湿度での透湿度）
各実施例及び比較例の光学フィルム試料７０ｍｍφを４０℃、相対湿度９０％でそれぞれ２４時間調湿し、ＪＩＳ  Ｚ−０２０８記載の方法により、光学フィルムの透湿度を測定した。
また、各実施例及び比較例の各光学フィルムの基材フィルム及び第１層の透湿度を測定し、基材フィルム及び第１層の透湿度と、光学フィルムの透湿度から、明細書中で前述した式（１）を用いて、第２層の透湿度を算出した。
【０１９８】
（ｂ）密着性評価
光学フィルムの第２層を有する側の表面に、カッターナイフで碁盤目状に縦１１本、横１１本の切り込みを入れて合計１００個の１ｃｍ×１ｃｍの大きさの正方形の升目を刻み、日東電工（株）製のポリエステル粘着テープ“ＮＯ．３１Ｂ”を圧着し、１分間放置した後に勢いよく剥離することにより、基材フィルムと塗布層の密着試験を行った。
上記密着試験後の剥がれの有無を目視で観察し、升内の１／４以上の面積が剥離しているものを剥離升とみなして、剥離升数をカウントし、下記の２段階評価を行った。
Ａ：剥離升が０〜１０升であったもの
Ｂ：剥離升が１１〜１００升であったもの
【０１９９】
（ｃ）浮きの評価
浮きの評価方法について、図１〜３を参照して以下に説明する。
図１に示すように、光学フィルム１をトムソン刃（ＭＩＲ−ＣＩ２３：株式会社ナカヤマ製）を用いて、６０ｍｍ×６０ｍｍの四角形に打ち抜き、評価用試料２を作製した。なお、打ち抜き方法は、第２層が形成されている側に刃を接触させ、基材フィルムの方向に向かって垂直に打ち抜いた。
その後、図２の破線で示すように、打ち抜いた評価用試料２の打ち抜き線の内側５ｍｍを切片３として切り出し、その断面を図２の矢印の方向から１０００倍の光学顕微鏡で観察した。
図３に示すように、浮きが発生している断面は、評価用試料２から切り出した切片３の端部において、基材フィルム上に形成された第１層Ｂから第２層Ａが浮き上がり、空隙部が発生する。
本実施例においては、評価用試料２の４辺の任意の３０箇所について、上記の方法で断面の観察を行い、評価用試料２から切り出した切片３の端部から第１層Ｂと第２層Ａとの界面に沿って５μｍ以上の幅で空隙部が認められる場合を浮きありとみなし、浮きありと認定された断面の箇所を数え、下記の４段階の評価を行った。
Ａ：浮きが０箇所であったもの
Ｂ：浮きが１箇所であったもの
Ｃ：浮きが２〜３箇所であったもの
Ｄ：浮きが４箇所以上であったもの
【０２００】
【表１】
2016033623.tif 000013
【０２０１】
上記表中の［ｗｔ％］は、組成物の全固形分に対する質量％を表す。
【０２０２】
表１に示すように、実施例１〜２７は特定の組成物からなる第２層を形成したものであるので、光学フィルムの透湿度及び密着性の評価結果が優れたものとなった。また、特定の組成物からなる第１層を形成しており、第１層の弾性率が制御されているので、比較例２〜７と比較して、浮きの評価結果が良好なものとなった。
【符号の説明】
【０２０３】
１；光学フィルム
２；評価用試料
３；切片
Ａ；第２層
Ｂ；第１層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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