(57)【要約】      （修正有）【課題】画素電極が形成された第１基板とレンズ等の光学素子が形成された第２基板とを貼り合わせた際に位置ずれが発生しても、画像の輝度むらを抑制することのできる電気光学装置、電子機器、および電気光学装置の製造方法を提供する。【解決手段】電気光学装置の第１基板１０において、複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘで隣り合う２つの画素電極９ａの第１方向Ｘにおける中心間の距離がいずれも第１ピッチＰａｘとなるように配列されている。第２基板２０において、複数の光学素子２５は、第１方向Ｘで隣り合う２つの光学素子２５の第１方向Ｘにおける中心間の距離がいずれも第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。このため、第１方向Ｘの端部に位置する光学素子２５の中心は、対向する画素電極９ａの中心より第１方向Ｘの外側に位置する。【選択図】図７
2016224323.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１方向に沿って複数の画素電極が配列された第１基板と、
前記複数の画素電極の各々に対応させるように複数の光学素子が配列された第２基板と
、
を有し、
前記複数の画素電極は、前記第１方向で隣り合う２つの前記画素電極の前記第１方向に
おける中心間の距離がいずれも第１ピッチとなるように配列され、
前記複数の光学素子は、前記第１方向で隣り合う２つの前記光学素子の前記第１方向に
おける中心間の距離がいずれも第２ピッチとなるように配列され、
前記第２ピッチは、前記第１ピッチより長く、
前記複数の光学素子のうち、前記第１方向の端部に位置する光学素子の中心は、前記複
数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位置することを特徴とする電
気光学装置。
【請求項２】
請求項１に記載の電気光学装置において、
前記複数の画素電極は、前記第１方向に対して交差する第２方向に沿って配列され、
前記複数の画素電極は、前記第２方向で隣り合う２つの前記画素電極の前記第２方向に
おける中心間の距離がいずれも第３ピッチとなるように配列され、
前記複数の光学素子は、前記第２方向で隣り合う２つの前記光学素子の前記第２方向に
おける中心間の距離がいずれも第４ピッチとなるように配列され、
前記第４ピッチは、前記第３ピッチより長く、
前記複数の光学素子のうち、前記第２方向の端部に位置する光学素子の中心は、前記複
数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位置することを特徴とする電
気光学装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光するレンズであることを特徴
とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光する第１レンズであり、
前記第１基板は、前記複数の画素電極の各々に対応させるように配列された複数の第２
レンズを備え、
前記複数の第２レンズは、前記第１方向で隣り合う２つの前記第２レンズの前記第１方
向における中心間の距離がいずれも第５ピッチとなるように配列され、
前記第５ピッチは、前記第１ピッチより長く、かつ、前記第２ピッチより短いことを特
徴とする電気光学装置。
【請求項５】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光の一部を遮光するブラックマトリク
スであることを特徴とする電気光学装置。
【請求項６】
請求項１または２に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光のうち一部の波長の光を透過するカ
ラーフィルターであることを特徴とする電気光学装置。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子の各々は、前記第１方向に沿った幅が、前記複数の画素電極の各々
の前記第１方向に沿った幅より大きいことを特徴とする電気光学装置。
【請求項８】
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置において、
前記複数の光学素子のうち、前記第１方向の端部に位置する光学素子の前記第１方向に
沿った幅は、前記第１方向の端部よりも中央側に位置する光学素子の前記第１方向に沿っ
た幅より大きいことを特徴とする電気光学装置。
【請求項９】
請求項１乃至８の何れか一項に記載の電気光学装置を備えていることを特徴とする電子
機器。
【請求項１０】
請求項９に記載の電子機器において、
前記電気光学装置に供給される光を出射する光源部と、
前記電気光学装置によって変調された光を投射する投射光学系と、
を有することを特徴とする電子機器。
【請求項１１】
第１方向に沿って複数の画素電極が配列された第１基板を準備する第１基板準備工程と
、
前記第１方向に沿って複数の光学素子が配列された第２基板を準備する第２基板準備工
程と、
前記複数の画素電極と前記複数の光学素子とがそれぞれ対応するように前記第１基板と
前記第２基板と貼り合わせる貼り合わせ工程と、
を有し、
前記複数の画素電極を前記第１方向で隣り合う２つの前記画素電極の前記第１方向にお
ける中心間の距離がいずれも第１ピッチとなるように配列しておき、
前記複数の光学素子を前記第１方向で隣り合う２つの前記光学素子の前記第１方向にお
ける中心間の距離がいずれも第２ピッチとなるように配列しておき、
前記第２ピッチを、前記第１ピッチより長くしておき、
前記貼り合わせ工程では、前記複数の光学素子のうち、前記第１方向の端部に位置する
光学素子の中心が、前記複数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位
置するように前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせることを特徴とする電気光学装
置の製造方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の電気光学装置の製造方法において、
前記第１基板準備工程では、前記複数の画素電極が配列された領域よりも外側に第１基
板側アライメントマークが形成された前記第１基板を準備し、
前記第２基板準備工程では、前記複数の光学素子が配列された領域よりも外側に第２基
板側アライメントマークが形成された前記第２基板を準備し、
前記貼り合わせ工程では、前記第１基板側アライメントマークと前記第２基板側アライ
メントマークとを位置合わせして前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせることを特
徴とする電気光学装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、レンズ等の光学素子が形成された基板を備えた電気光学装置、電気光学装置
を備えた電子機器、および電気光学装置の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
投射型表示装置のライトバルブ等として用いられる電気光学装置（液晶装置）では、図
１７に示すように、複数の画素電極が設けられた第１基板１０と、第２基板２０との間に
液晶層等の電気光学層が設けられている。第２基板２０では、いわゆるマイクロレンズと
称せられるレンズやブラックマトリクス等の光学素子が設けられており、光学素子を経由
して画素電極に到達した光が表示に寄与する（特許文献１、２参照）。一方、レンズを備
えた第２基板２０（レンズアレイ基板３０）を形成する際、レンズアレイ基板３０の中心
より端部においてレンズのピッチを狭めておき、電気光学装置１００の組み立て工程にお
いて加えられた熱によってレンズアレイ基板３０が膨張したときにレンズを画素電極に適
正に対向させる技術が提案されている（特許文献３参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００９−６３８８８号公報
【特許文献２】特開２０１１−２２３１１号公報
【特許文献３】特開２００４−６１６３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１、２に記載した電気光学装置１００を投射型表示装置に搭載した際、図１７
に示すように、光源から出射された光は、偏光変換素子１６４やコンデンサーレンズ１６
５等を経由して電気光学装置１００に照射される。その際、電気光学装置１００に外側か
ら斜めに入射する光は、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する光より強度が高い
。その場合でも、投射光学系１１８を介してスクリーン１１１等に投射される光では、外
側から斜めに入射した光と内側から斜めに入射した光とが合成されるので、スクリーン１
１１等に投射された画像には輝度むらが発生しにくい。
【０００５】
しかしながら、図１８に示すように、第１基板１０に対して第２基板２０（レンズアレ
イ基板３０）がずれた状態で貼り合わされると、電気光学装置１００の一方端側に向けて
外側から斜めに入射した光が電気光学装置１００から出射されにくくなる。その結果、ス
クリーン１１１等に投射された画像では、電気光学装置１００の一方端側に対応する部分
の輝度が低下する。かかる問題は、特許文献３に記載の技術を用いても解消することが困
難である。
【０００６】
以上の問題点に鑑みて、本発明の課題は、画素電極が形成された第１基板とレンズ等の
光学素子が形成された第２基板とを貼り合わせた際に位置ずれが発生しても、画像の輝度
むらを抑制することのできる電気光学装置、電気光学装置を備えた電子機器、および電気
光学装置の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る電気光学装置の一態様は、第１方向に沿って
複数の画素電極が配列された第１基板と、前記複数の画素電極の各々に対応させるように
複数の光学素子が配列された第２基板と、を有し、前記複数の画素電極は、前記第１方向
で隣り合う２つの前記画素電極の前記第１方向における中心間の距離がいずれも第１ピッ
チとなるように配列され、前記複数の光学素子は、前記第１方向で隣り合う２つの前記光
学素子の前記第１方向における中心間の距離がいずれも第２ピッチとなるように配列され
、前記第２ピッチは、前記第１ピッチより長く、前記複数の光学素子のうち、前記第１方
向の端部に位置する光学素子の中心は、前記複数の画素電極のうち、対応する画素電極の
中心よりも外側に位置することを特徴とする。
【０００８】
本発明において、第２基板の複数の光学素子は各々、第１基板の複数の画素電極に対向
しているが、光学素子の第１方向における中心間の距離（第２ピッチ）は、画素電極の第
１方向における中心間の距離（第１ピッチ）より長い。このため、第１方向の端部では、
光学素子の中心が画素電極の中心より第１方向における外側に位置する。従って、光が電
気光学装置に照射された際、第１方向の外側から斜めに入射した光は、光学素子を経由し
て、画素電極の略中央に入射する。それ故、第１方向の外側から斜めに入射する光が、電
気光学装置に内側から斜めに入射する光より強度が高い場合に、第１基板に対して第２基
板が第１方向にずれた状態で貼り合わされたときでも、投射された画像において、輝度が
部分的に低下するという事態の発生を抑制することができる。
【０００９】
本発明において、前記複数の画素電極は、前記第１方向に対して交差する第２方向に沿
って配列され、前記複数の画素電極は、前記第２方向で隣り合う２つの前記画素電極の前
記第２方向における中心間の距離がいずれも第３ピッチとなるように配列され、前記複数
の光学素子は、前記第２方向で隣り合う２つの前記光学素子の前記第２方向における中心
間の距離がいずれも第４ピッチとなるように配列され、前記第４ピッチは、前記第３ピッ
チより長く、前記複数の光学素子のうち、前記第２方向の端部に位置する光学素子の中心
は、前記複数の画素電極のうち、対応する画素電極の中心よりも外側に位置ことが好まし
い。かかる構成によれば、第２方向の端部では、光学素子の中心が画素電極の中心より第
２方向における外側に位置する。従って、光が電気光学装置に照射された際、第２方向の
外側から斜めに入射した光は、光学素子を経由して、画素電極の略中央に入射する。それ
故、第２方向の外側から斜めに入射する光が、電気光学装置に内側から斜めに入射する光
より強度が高い場合に、第１基板に対して第２基板が第２方向にずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑
制することができる。
【００１０】
本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光するレンズ
である態様を採用することができる。
【００１１】
本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光を集光する第１レ
ンズであり、前記第１基板は、前記複数の画素電極の各々に対応させるように配列された
複数の第２レンズを備え、前記複数の第２レンズは、前記第１方向で隣り合う２つの前記
第２レンズの前記第１方向における中心間の距離がいずれも第５ピッチとなるように配列
され、前記第５ピッチは、前記第１ピッチより長く、かつ、前記第２ピッチより短いこと
が好ましい。
【００１２】
本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光の一部を遮光する
ブラックマトリクスである態様を採用することができる。
【００１３】
本発明において、前記複数の光学素子の各々は、それぞれ入射した光のうち一部の波長
の光を透過するカラーフィルターである態様を採用してもよい。
【００１４】
本発明において、前記複数の光学素子の各々は、前記第１方向に沿った幅が、前記複数
の画素電極の各々の前記第１方向に沿った幅より大きいことが好ましい。かかる構成によ
れば、第１方向の端部では、第１方向の中央と同様、電気光学装置の正面や内側から入射
した光が光学素子を透過して画素電極に入射しやすい。
【００１５】
本発明において、前記複数の光学素子のうち、前記第１方向の端部に位置する光学素子
の前記第１方向に沿った幅は、前記第１方向の端部よりも中央側に位置する光学素子の前
記第１方向に沿った幅より大きいことが好ましい。かかる構成によれば、第１方向の端部
では、第１方向の中央と同様、電気光学装置の正面や内側から入射した光が光学素子を透
過して画素電極に入射しやすい。
【００１６】
本発明を適用した電気光学装置は、例えば、投射型表示装置や直視型表示装置等の電子
機器に用いられる。本発明に係る電気光学装置を投射型表示装置に用いる場合、投射型表
示装置には、前記電気光学装置に供給される光を出射する光源部と、前記電気光学装置に
よって変調された光を投射する投射光学系と、が設けられる。
【００１７】
本発明に係る電気光学装置の製造方法の一態様は、第１方向に沿って複数の画素電極が
配列された第１基板を準備する第１基板準備工程と、前記第１方向に沿って複数の光学素
子が配列された第２基板を準備する第２基板準備工程と、前記複数の画素電極と前記複数
の光学素子とがそれぞれ対応するように前記第１基板と前記第２基板と貼り合わせる貼り
合わせ工程と、を有し、前記複数の画素電極を前記第１方向で隣り合う２つの前記画素電
極の前記第１方向における中心間の距離がいずれも第１ピッチとなるように配列しておき
、前記複数の光学素子を前記第１方向で隣り合う２つの前記光学素子の前記第１方向にお
ける中心間の距離がいずれも第２ピッチとなるように配列しておき、前記第２ピッチを、
前記第１ピッチより長くしておき、前記貼り合わせ工程では、前記複数の光学素子のうち
、前記第１方向の端部に位置する光学素子の中心が、前記複数の画素電極のうち、対応す
る画素電極の中心よりも外側に位置するように前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わ
せることを特徴とする。
【００１８】
本発明に係る電気光学装置の製造方法において、前記第１基板準備工程では、前記複数
の画素電極が配列された領域よりも外側に第１基板側アライメントマークが形成された前
記第１基板を準備し、前記第２基板準備工程では、前記複数の光学素子が配列された領域
よりも外側に第２基板側アライメントマークが形成された前記第２基板を準備し、前記貼
り合わせ工程では、前記第１基板側アライメントマークと前記第２基板側アライメントマ
ークとを位置合わせして前記第１基板と前記第２基板とを貼り合わせることが好ましい。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明を適用した電気光学装置を用いた投射型表示装置（電子機器）の一態様の概略構成図である。
【図２】図１に示す投射型表示装置における電気光学装置に対する照明光の入射角度特性の一例を示す説明図である。
【図３】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置の平面図である。
【図４】図３に示す電気光学装置の断面図である。
【図５】図４に示す電気光学装置におけるレンズ等の断面構成を模式的に示す説明図である。
【図６】図４に示す電気光学装置におけるレンズと遮光層との平面的な位置関係の一例を示す説明図である。
【図７】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。
【図８】本発明の実施の形態１に係る電気光学装置におけるレンズと画素電極との位置関係を模式的に示す断面図である。
【図９】本発明の実施の形態１の変形例１に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。
【図１０】本発明の実施の形態１の変形例２に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。
【図１１】本発明の実施の形態２に係る電気光学装置におけるレンズ等の断面構成を模式的に示す説明図である。
【図１２】本発明の実施の形態２に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。
【図１３】本発明の実施の形態２の変形例１に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。
【図１４】本発明の実施の形態２の変形例２に係る電気光学装置におけるレンズのレイアウト等を模式的に示す平面図である。
【図１５】本発明の実施の形態３に係る電気光学装置の断面図である。
【図１６】本発明の実施の形態４に係る電気光学装置の断面図である。
【図１７】電気光学装置に入射する光の説明図である。
【図１８】第１基板と第２基板との位置ずれの影響を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。なお、以下の説明で参照する図にお
いては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に
縮尺を異ならしめてある。また、以下の説明では、電気光学装置１００の面内方向で互い
に交差する２方向のうちの一方を第１方向Ｘとし、他方を第２方向Ｙとして説明する。
【００２１】
［実施の形態１］
（投射型表示装置の構成）
図１は、本発明を適用した電気光学装置１００を用いた投射型表示装置１１０（電子機
器）の一態様の概略構成図である。なお、以下の説明では、互いに異なる波長域の光が供
給される複数の電気光学装置１００が用いられているが、いずれの電気光学装置１００に
も、本発明を適用した電気光学装置１００が用いられている。
【００２２】
図１に示す投射型表示装置１１０は、透過型の電気光学装置１００を用いた液晶プロジ
ェクターであり、スクリーン１１１等からなる被投射部材に光を照射し、画像を表示する
。投射型表示装置１１０は、装置光軸Ｌｐに沿って、照明装置１６０と、照明装置１６０
から出射された光が供給される複数の電気光学装置１００（液晶ライトバルブ１１５〜１
１７）と、複数の電気光学装置１００から出射された光を合成して出射するクロスダイク
ロイックプリズム１１９（光合成光学系）と、クロスダイクロイックプリズム１１９によ
り合成された光を投射する投射光学系１１８とを有している。また、投射型表示装置１１
０は、ダイクロイックミラー１１３、１１４、およびリレー系１２０を備えている。投射
型表示装置１１０において、電気光学装置１００およびクロスダイクロイックプリズム１
１９は、光学ユニット２００を構成している。
【００２３】
照明装置１６０では、装置光軸Ｌｐに沿って、光源部１６１、フライアイレンズ等のレ
ンズアレイからなる第１インテグレーターレンズ１６２、フライアイレンズ等のレンズア
レイからなる第２インテグレーターレンズ１６３、偏光変換素子１６４、およびコンデン
サーレンズ１６５が順に配置されている。光源部１６１は、赤色光Ｒ、緑色光Ｇおよび青
色光Ｂを含む白色光を出射する光源１６８と、リフレクター１６９とを備えている。光源
１６８は超高圧水銀ランプ等により構成されており、リフレクター１６９は、放物線状の
断面を有している。第１インテグレーターレンズ１６２および第２インテグレーターレン
ズ１６３は、光源部１６１から出射された光の照度分布を均一化する。偏光変換素子１６
４は、光源部１６１から出射された光を、例えばｓ偏光のような特定の振動方向を有する
偏光にする。
【００２４】
ダイクロイックミラー１１３は、照明装置１６０から出射された光に含まれる赤色光Ｒ
を透過させるとともに、緑色光Ｇおよび青色光Ｂを反射する。ダイクロイックミラー１１
４は、ダイクロイックミラー１１３で反射された緑色光Ｇおよび青色光Ｂのうち、青色光
Ｂを透過させるとともに緑色光Ｇを反射する。このように、ダイクロイックミラー１１３
、１１４は、照明装置１６０から出射された光を赤色光Ｒ、緑色光Ｇおよび青色光Ｂに分
離する色分離光学系を構成している。
【００２５】
液晶ライトバルブ１１５は、ダイクロイックミラー１１３を透過して反射ミラー１２３
で反射した赤色光Ｒを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である。液晶ライトバ
ルブ１１５は、λ／２位相差板１１５ａ、第１偏光板１１５ｂ、電気光学装置１００（赤
色用電気光学装置１００Ｒ）、および第２偏光板１１５ｄを備えている。ここで、液晶ラ
イトバルブ１１５に入射する赤色光Ｒは、ダイクロイックミラー１１３を透過しても光の
偏光は変化しないことから、ｓ偏光のままである。
【００２６】
λ／２位相差板１１５ａは、液晶ライトバルブ１１５に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換
する光学素子である。第１偏光板１１５ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光
板である。電気光学装置１００（赤色用電気光学装置１００Ｒ）は、ｐ偏光を画像信号に
応じた変調によってｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっ
ている。第２偏光板１１５ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。従
って、液晶ライトバルブ１１５は、画像信号に応じて赤色光Ｒを変調し、変調した赤色光
Ｒをクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて出射する。λ／２位相差板１１５ａお
よび第１偏光板１１５ｂは、偏光を変換させない透光性のガラス板１１５ｅに接した状態
で配置されており、λ／２位相差板１１５ａおよび第１偏光板１１５ｂが発熱によって歪
むのを回避することができる。
【００２７】
液晶ライトバルブ１１６は、ダイクロイックミラー１１３で反射した後にダイクロイッ
クミラー１１４で反射した緑色光Ｇを画像信号に応じて変調する透過型の液晶装置である
。液晶ライトバルブ１１６は、液晶ライトバルブ１１５と同様に、第１偏光板１１６ｂ、
電気光学装置１００（緑色用電気光学装置１００Ｇ）、および第２偏光板１１６ｄを備え
ている。液晶ライトバルブ１１６に入射する緑色光Ｇは、ダイクロイックミラー１１３、
１１４で反射されて入射するｓ偏光である。第１偏光板１１６ｂは、ｐ偏光を遮断してｓ
偏光を透過させる偏光板である。電気光学装置１００（緑色用電気光学装置１００Ｇ）は
、ｓ偏光を画像信号に応じた変調によってｐ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）
に変換する構成となっている。第２偏光板１１６ｄは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過さ
せる偏光板である。従って、液晶ライトバルブ１１６は、画像信号に応じて緑色光Ｇを変
調し、変調した緑色光Ｇをクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて出射する。
【００２８】
液晶ライトバルブ１１７は、ダイクロイックミラー１１３で反射し、ダイクロイックミ
ラー１１４を透過した後でリレー系１２０を経た青色光Ｂを画像信号に応じて変調する透
過型の液晶装置である。液晶ライトバルブ１１７は、液晶ライトバルブ１１５、１１６と
同様に、λ／２位相差板１１７ａ、第１偏光板１１７ｂ、電気光学装置１００（青色用電
気光学装置１００Ｂ）、および第２偏光板１１７ｄを備えている。液晶ライトバルブ１１
７に入射する青色光Ｂは、ダイクロイックミラー１１３で反射してダイクロイックミラー
１１４を透過した後にリレー系１２０の２つの反射ミラー１２５ａ、１２５ｂで反射する
ことから、ｓ偏光となっている。
【００２９】
λ／２位相差板１１７ａは、液晶ライトバルブ１１７に入射したｓ偏光をｐ偏光に変換
する光学素子である。第１偏光板１１７ｂは、ｓ偏光を遮断してｐ偏光を透過させる偏光
板である。電気光学装置１００（青色用電気光学装置１００Ｂ）は、ｐ偏光を画像信号に
応じた変調によってｓ偏光（中間調であれば円偏光又は楕円偏光）に変換する構成となっ
ている。第２偏光板１１７ｄは、ｐ偏光を遮断してｓ偏光を透過させる偏光板である。従
って、液晶ライトバルブ１１７は、画像信号に応じて青色光Ｂを変調し、変調した青色光
Ｂをクロスダイクロイックプリズム１１９に向けて出射する。なお、λ／２位相差板１１
７ａ、および第１偏光板１１７ｂは、ガラス板１１７ｅに接した状態で配置されている。
【００３０】
リレー系１２０は、リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂと反射ミラー１２５ａ、１２５ｂ
とを備えている。リレーレンズ１２４ａ、１２４ｂは、青色光Ｂの光路が長いことによる
光損失を防止するために設けられている。リレーレンズ１２４ａは、ダイクロイックミラ
ー１１４と反射ミラー１２５ａとの間に配置されている。リレーレンズ１２４ｂは、反射
ミラー１２５ａ、１２５ｂの間に配置されている。反射ミラー１２５ａは、ダイクロイッ
クミラー１１４を透過してリレーレンズ１２４ａから出射した青色光Ｂをリレーレンズ１
２４ｂに向けて反射する。反射ミラー１２５ｂは、リレーレンズ１２４ｂから出射した青
色光Ｂを液晶ライトバルブ１１７に向けて反射する。
【００３１】
クロスダイクロイックプリズム１１９は、２つのダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂ
をＸ字型に直交配置した色合成光学系である。ダイクロイック膜１１９ａは青色光Ｂを反
射して緑色光Ｇを透過する膜であり、ダイクロイック膜１１９ｂは赤色光Ｒを反射して緑
色光Ｇを透過する膜である。従って、クロスダイクロイックプリズム１１９は、液晶ライ
トバルブ１１５〜１１７のそれぞれで変調された赤色光Ｒと緑色光Ｇと青色光Ｂとを合成
し、投射光学系１１８に向けて出射する。
【００３２】
なお、液晶ライトバルブ１１５、１１７からクロスダイクロイックプリズム１１９に入
射する光はｓ偏光であり、液晶ライトバルブ１１６からクロスダイクロイックプリズム１
１９に入射する光はｐ偏光である。このようにクロスダイクロイックプリズム１１９に入
射する光を異なる種類の偏光としていることにより、クロスダイクロイックプリズム１１
９において各液晶ライトバルブ１１５〜１１７から入射する光を合成できる。ここで、一
般に、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂはｓ偏光の反射特性に優れている。このため
、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂで反射される赤色光Ｒ、および青色光Ｂをｓ偏光
とし、ダイクロイック膜１１９ａ、１１９ｂを透過する緑色光Ｇをｐ偏光としている。投
射光学系１１８は、投影レンズ（図示略）を有しており、クロスダイクロイックプリズム
１１９で合成された光をスクリーン１１１等の被投射部材に投射する。
【００３３】
（電気光学装置１００への照明光の入射角度特性）
図２は、図１に示す投射型表示装置１１０における電気光学装置１００に対する照明光
の入射角度特性の一例を示す説明図である。なお、図２では、各入射方向において光強度
が高い方向を白い領域を大きく示し、光強度が高い側に「Ｈ」を付し、光強度が低いい側
に「Ｌ」を付してある。
【００３４】
図１に示す投射型表示装置１１０においては、図１７を参照して説明したように、電気
光学装置１００に照射される光のうち、電気光学装置１００に外側から斜めに入射する光
は、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する光より強度が高い。例えば、図２に示
すように、電気光学装置１００の各位置Ｂ１〜Ｂ９に対する入射光の入射角度分布には偏
りが存在しており、電気光学装置１００に対して外側から斜めに入射する光は、電気光学
装置１００に内側から斜めに入射する光より強度が高い。このため、電気光学装置１００
の中央の位置Ｂ５では、図面に向かって左右対称および上下対称の強度で照明光が入射す
るが、端部に近い位置Ｂ１〜Ｂ４、Ｂ６〜Ｂ９では、図面に向かって左右および上下にお
いて、外側から入射する光の強度が内側から入射する光の強度より高い。
【００３５】
本発明では、上記の入射角度分布の偏りが存在する状態で、図１８を参照して説明した
第２基板２０と第１基板１０との位置ずれが発生しても、画像の輝度むらを抑制すること
を目的に、電気光学装置１００を以下に説明するように構成してある。
【００３６】
（電気光学装置１００の全体構成）
図３は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００の平面図である。図４は、図
３に示す電気光学装置１００の断面図である。
【００３７】
図３および図４に示すように、電気光学装置１００は、透光性の第１基板１０と透光性
の第２基板２０とが所定の隙間を介してシール材１０７によって貼り合わされており、第
１基板１０と第２基板２０との間でシール材１０７によって囲まれた領域に液晶層からな
る電気光学層８０が配置されている。シール材１０７は第２基板２０の外縁に沿うように
枠状に設けられている。シール材１０７は、光硬化性を備えた接着剤、あるいは光硬化性
および熱硬化性を備えた接着剤であり、両基板間の距離を所定値とするためのグラスファ
イバー、あるいはガラスビーズ等のギャップ材が配合されている。かかるシール材１０７
としては、アクリル樹脂系、エポキシ樹脂系、アクリル変性樹脂系、エポキシ変性樹脂系
等の光硬化性接着剤（紫外光硬化型接着剤／ＵＶ硬化型接着剤）を用いることができる。
【００３８】
第１基板１０および第２基板２０はいずれも四角形であり、電気光学装置１００の略中
央には、表示領域１０ａが四角形の領域として設けられている。かかる形状に対応して、
シール材１０７も略四角形に設けられ、シール材１０７の内周縁と表示領域１０ａの外周
縁との間には、矩形枠状の周辺領域１０ｂが設けられている。本形態において、表示領域
１０ａは、第１方向Ｘのサイズが第２方向Ｙのサイズより大きな長方形である。ここで、
第１基板１０および第２基板２０は、第１方向Ｘのサイズが等しいが、第１基板１０の第
１方向Ｘのサイズが第２基板２０の第１方向Ｘのサイズより大きい形態や、第１基板１０
の第１方向Ｘのサイズが第２基板２０の第１方向Ｘのサイズより小さい形態を採用しても
よい。
【００３９】
第１基板１０の第２基板２０側の面において、表示領域１０ａの外側には、第１基板１
０の一辺に沿ってデータ線駆動回路１０１および複数の端子１０２が形成されており、こ
の一辺に隣接する他の辺に沿って走査線駆動回路１０４が形成されている。端子１０２に
は、フレキシブル配線基板（図示せず）が接続されており、第１基板１０には、フレキシ
ブル配線基板を介して各種電位や各種信号が入力される。
【００４０】
また、第１基板１０の第２基板２０側の面において、表示領域１０ａには、ＩＴＯ（Ｉ
ｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜等からなる透光性の画素電極９ａ、および画素電極
９ａに電気的に接続する画素トランジスター（図示せず）がマトリクス状に形成されてい
る。従って、表示領域１０ａは、図８を参照して後述するように、第１方向Ｘおよび第１
方向Ｘに対して交差する第２方向Ｙに沿って複数の画素電極９ａが配列された画素電極配
列領域１０ｅからなる。画素電極９ａに対して第２基板２０側には配向膜１６が形成され
ている。また、第１基板１０において、周辺領域１０ｂには、画素電極９ａと同時形成さ
れたダミー画素電極９ｂが形成されている。
【００４１】
第２基板２０の第１基板１０と対向する面側には、ＩＴＯ膜等からなる透光性の共通電
極２１が形成されており、共通電極２１に対して第１基板１０側には配向膜２６が形成さ
れている。本形態において、共通電極２１は、第２基板２０の略全面に形成されている。
【００４２】
配向膜１６、２６は、ポリイミド等の樹脂膜、あるいはシリコン酸化膜等の斜方蒸着膜
からなる。本形態において、配向膜１６、２６は、ＳｉＯｘ（ｘ＜２）、ＳｉＯ２、Ｔｉ
Ｏ２、ＭｇＯ、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、Ｔａ２Ｏ５等の斜方蒸着膜からな
る無機配向膜（垂直配向膜）であり、電気光学層８０に用いた負の誘電率異方性を備えた
液晶分子を傾斜配向させ、電気光学装置１００をＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍ
ｅｎｔ）モードの液晶装置として動作させる。
【００４３】
第１基板１０には、シール材１０７より外側において第２基板２０の角部分と重なる領
域に、第１基板１０と第２基板２０との間で電気的導通をとるための基板間導通用電極１
０９が形成されている。基板間導通用電極１０９には、導電粒子を含んだ基板間導通材１
０９ａが配置されており、第２基板２０の共通電極２１は、基板間導通材１０９ａおよび
基板間導通用電極１０９を介して、第１基板１０側に電気的に接続されている。このため
、共通電極２１は、第１基板１０の側から共通電位が印加されている。
【００４４】
本形態の電気光学装置１００において、画素電極９ａおよび共通電極２１が透光性導電
膜により形成されており、電気光学装置１００は、透過型液晶装置として構成されている
。かかる電気光学装置１００では、第１基板１０および第２基板２０のうち、一方側の基
板から入射した光が他方側の基板を透過して出射される間に変調されて画像を表示する。
本形態では、矢印Ｌで示すように、第２基板２０から入射した光が第１基板１０を透過し
て出射される間に電気光学層８０によって画素毎に変調され、画像を表示する。
【００４５】
（第２基板２０の構成）
図５は、図４に示す電気光学装置１００におけるレンズ３１０等の断面構成を模式的に
示す説明図である。図６は、図４に示す電気光学装置１００におけるレンズと遮光層１０
８ｂとの平面的な位置関係の一例を示す説明図である。
【００４６】
図４に示すように、本形態の電気光学装置１００において、第２基板２０には、金属ま
たは金属化合物からなる遮光性の遮光層１０８が形成されている。遮光層１０８は、例え
ば、表示領域１０ａの外周縁に沿って延在する額縁状の見切り１０８ａとして形成されて
いる。また、遮光層１０８は、隣り合う画素電極９ａにより挟まれた領域と平面視で重な
る領域に遮光層１０８ｂとして形成されている。さらに、遮光層１０８は、表示領域１０
ａの外側にアライメントマート１０８ｃとして形成されている。
【００４７】
図５に示すように、第１基板１０は、透光性基板１９を有しているとともに、透光性基
板１９の第２基板２０側の面には複数の層間絶縁膜１８が積層されている。また、第１基
板１０では、透光性基板１９と層間絶縁膜１８との間や、層間絶縁膜１８の間等を利用し
て、隣り合う画素電極９ａの間と重なる領域に沿って延在する配線１７や、画素トランジ
スター１４が形成されており、配線１７や画素トランジスター１４は光を透過しない。こ
のため、第１基板１０では、画素電極９ａと平面視で重なる領域のうち、配線１７や画素
トランジスター１４と平面視で重なる領域や、隣り合う画素電極９ａに挟また領域と平面
視で重なる領域は、光を透過しない遮光領域１５ｂになっており、画素電極９ａと平面視
で重なる領域のうち、配線１７や画素トランジスター１４と平面視で重ならない領域は光
を透過する開口領域１５ａになっている。従って、開口領域１５ａを透過した光のみが画
像の表示に寄与し、遮光領域１５ｂに向かう光は、画像の表示に寄与しない。本形態では
、配線１７や画素トランジスター１４を構成する遮光層によって、第１基板側アライメン
トマーク１４ｃが形成されている。
【００４８】
第２基板２０には、入射した光を集光する集光素子、入射した光の一部を遮光するブラ
ックマトリクス、および入射した光のうち一部の波長の光を透過するカラーフィルター等
の光学素子２５が複数形成されている。かかる複数の光学素子２５は、複数の画素電極９
ａに対してそれぞれ対向するように配列されている。本形態において、第２基板２０は、
レンズアレイ基板３０として構成されており、第２基板２０（レンズアレイ基板３０）に
は、表示領域１０ａ（画素電極配列領域１０ｅ）に集光素子３０ａとしてのレンズ３１０
（マイクロレンズ）を複数備えたレンズアレイ３１が形成されている。複数のレンズ３１
０は、複数の画素電極９ａに対してそれぞれ対向している。従って、複数のレンズ３１０
（光学素子２５）の配列領域は、画素電極配列領域１０ｅと重なる。複数のレンズ３１０
は各々、光源からの光を第１基板１０の開口領域１５ａに収束させる光学素子２５を構成
しており、電気光学層８０に入射する光を平行光化している。それ故、電気光学層８０に
入射する光の光軸の傾きが小さいので、電気光学層８０での位相ずれを低減でき、透過率
やコントラストの低下を抑制することができる。特に本形態では、電気光学装置１００を
ＶＡ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ）モードの液晶装置として構成したため、
電気光学層８０に入射する光の光軸の傾斜によって、コントラストの低下等が発生しやす
いが、本形態によれば、コントラストの低下等が発生しにくい。
【００４９】
ここで、レンズ３１０は、図６に示すように、隣り合うレンズ３１０が接するように配
列されており、４つのレンズ３１０によって囲まれた領域に平面視で重なる領域に、図４
に示す遮光層１０８ｂが形成されている。このため、図６のＡ−Ａ′線での断面では、図
４に示すように遮光層１０８ｂが表れるが、図６のＢ−Ｂ′線での断面では、図５に示す
ように遮光層１０８ｂが表れない。なお、遮光層１０８ｂは、レンズ３１０の端部に平面
視で重なっている場合があるが、レンズ３１０の中央に平面視で重ならないように形成さ
れる。
【００５０】
図５に示すように、レンズアレイ基板３０（第２基板２０）を構成するにあたって、透
光性基板２９の一方の基板面２９１には、凹曲面からなる複数の凹部２９２が形成されて
いる。複数の凹部２９２は、複数の画素電極９ａに１対１の関係をもって平面視で重なっ
ている。また、透光性基板２９の一方の基板面２９１には、透光性のレンズ層５１（第１
レンズ層）、透光層５２（第１透光層）、および透光性の保護層５５が順に積層されてい
る。レンズ層５１は、透光性基板２９の基板面２９１を覆う面５１１と、面５１１とは反
対側に位置する平坦面５１２とを備えている。また、レンズ層５１の面５１１は、透光性
基板２９の凹部２９２を埋める半球状の凸部５１３を有している。透光性基板２９とレン
ズ層５１とは屈折率が相違しており、凹部２９２および凸部５１３は、レンズアレイ３１
のレンズ３１０を構成している。本形態において、レンズ層５１の屈折率は、透光性基板
２９の屈折率より大である。例えば、透光性基板２９は石英基板（シリコン酸化膜、Ｓｉ
Ｏ２）からなり、屈折率が１．４８であるのに対して、レンズ層５１は、シリコン酸窒化
膜（ＳｉＯＮ）からなり、屈折率が１．５８〜１．６８である。それ故、レンズ３１０は
、光源からの光を収束させるパワーを有している。
【００５１】
透光層５２は、レンズ層５１の平坦面５１２を覆う面５２１と、面５２１とは反対側に
位置する面５２２とを備えている。本形態において、透光層５２は、シリコン酸化膜（Ｓ
ｉＯx）からなり、屈折率が１．４８である。かかる透光層５２は、レンズアレイ３１か
ら第１基板１０までの光路長を調整する光路長調整層である。透光層５２の平坦面５２２
には、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）やシリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮ）等の保護層５５が形
成されており、かかる保護層５５に対して透光性基板２９とは反対側に共通電極２１が形
成されている。また、共通電極２１に対して保護層５５や透光性基板２９とは反対側に配
向膜２６が形成されている。
【００５２】
（金属膜１０８の詳細構成）
第２基板２０において、遮光層１０８（見切り１０８ａ、遮光層１０８ｂ、アライメン
トマーク１０８ｃ）は、例えば、上記の透光膜の層間に形成された金属層５６によって構
成されている。具体的には、第２基板２０には、表示領域１０ａの外周縁に沿って延在す
る額縁状の見切り１０８ａとして、レンズ層５１の平坦面５１２と透光層５２の面５２１
との間に金属層５６からなる見切り５６ａが形成されている。また、表示領域１０ａでは
、遮光層１０８ｂとして、金属層５６からなる遮光層５６ｂが形成されている。さらに、
表示領域１０ａの外側には、アライメントマーク５６ｃとして、金属層５６からなる第２
基板側アライメントマーク５６ｃが形成されている。
【００５３】
本形態において、遮光層１０８（金属層５６）は各々、Ｔｉ（チタン）、Ａｌ（アルミ
ニウム）、Ｃｒ（クロム）、Ｗ（タングステン）、Ｔａ（タンタル）、Ｍｏ（モリブデン
）、Ｐｄ（パラジウム）等の金属膜や、それらの窒化膜等の金属化合物膜からなる。また
、遮光層１０８は、上記の金属膜や金属化合物膜の単層膜あるいは複層膜のいずれであっ
てもよい。
【００５４】
（光学素子２５等のレイアウト）
図７は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装置１００におけるレンズ３１０のレイ
アウト等を模式的に示す平面図である。図８は、本発明の実施の形態１に係る電気光学装
置１００におけるレンズ３１０と画素電極９ａとの位置関係を模式的に示す断面図である
。なお、図７では、複数の画素電極９ａの数を減らして、計２５個の画素電極９ａを示し
てある。また、以下の説明において、レンズ３１０の中心とは、レンズ面を構成する凸部
の頂部の中心、および凹部の底部の中心を意味する。また、図７では、第１基板１０や画
素電極９ａを実線で示し、第２基板２０や光学素子２５（レンズ３１０）を点線で示して
ある。
【００５５】
図７に示すように、本形態の電気光学装置１００において、複数の画素電極９ａは、第
１基板１０の第１方向Ｘにおいて、第１方向Ｘで隣り合う２つの画素電極９ａの第１方向
Ｘにおける中心間の距離がいずれも第１ピッチＰａｘとなるように配列されている。また
、複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘにおける幅が等しい。
【００５６】
複数のレンズ３１０（光学素子２５）は、第２基板２０の第１方向Ｘにおいて、第１方
向Ｘで隣り合う２つのレンズ３１０（光学素子２５）の第１方向Ｘにおける中心間の距離
がいずれも第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。また、複数のレンズ３１０は
、第１方向Ｘにおける幅が等しく、画素電極９ａの第１方向Ｘにおける幅は、レンズ３１
０（光学素子２５）の第１方向Ｘにおける幅と同等である。
【００５７】
ここで、第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。また、第１方向Ｘの中央Ｃ
ｘでは、画素電極９ａの第１方向Ｘにおける中心とレンズ３１０の第１方向Ｘにおける中
心とは重なっている。このため、図７および図８に示すように、複数のレンズ３１０のう
ち、画素電極配列領域１０ｅの第１方向Ｘの端部である第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ
３１０の中心（図７の点線Ｌｂｘ参照）は、複数の画素電極９ａのうち、第１端部Ｅｘ側
に位置する画素電極９ａの中心（図８の実線Ｌａｘ参照）より第１方向Ｘにおける外側（
図８に矢印Ｓｘで示す方向）にずれている。また、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１
０は、第１方向Ｘの中央Ｃｘと第１端部Ｅｘとの間に位置するレンズ３１０より、画素電
極９ａの第１方向Ｘの中心から第１方向Ｘの外側へのずれ量が徐々に大きくなっている。
【００５８】
また、図７に示すように、複数の画素電極９ａは、第１基板１０の第２方向Ｙにおいて
、第２方向Ｙで隣り合う２つの画素電極９ａの第２方向Ｙにおける中心間の距離がいずれ
も第３ピッチＰａｙとなるように配列されている。また、複数の画素電極９ａは、第２方
向Ｙにおける幅が等しい。
【００５９】
複数のレンズ３１０（光学素子２５）は、第２基板２０の第２方向Ｙにおいて、第２方
向Ｙで隣り合う２つのレンズ３１０（光学素子２５）の第２方向Ｙにおける中心間の距離
がいずれも第４ピッチＰｂｙとなるように配列されている。複数のレンズ３１０は、第２
方向Ｙにおける幅が等しく、画素電極９ａの第２方向Ｙにおける幅は、レンズ３１０（光
学素子２５）の第２方向Ｙにおける幅と同等である。
【００６０】
ここで、第４ピッチＰｂｙは、第３ピッチＰａｙより長い。また、第２方向Ｙの中央Ｃ
ｙでは、画素電極９ａの第２方向Ｙにおける中心とレンズ３１０の第２方向Ｙにおける中
心とは重なっている。このため、図７および図８に示すように、複数のレンズ３１０のう
ち、画素電極配列領域１０ｅの第２方向Ｙの端部である第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ
３１０の中心（図８の点線Ｌｂｙ参照）は、複数の画素電極９ａのうち、第２端部Ｅｙ側
に位置する画素電極９ａの中心（図７の実線Ｌａｙ参照）より第２方向Ｙにおける外側（
図８に矢印Ｓｙで示す方向）にずれている。また、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１
０は、第２方向Ｙの中央Ｃｙと第２端部Ｅｙとの間に位置するレンズ３１０より、画素電
極９ａの第２方向Ｙの中心から第２方向Ｙの外側へのずれ量が徐々に大きくなっている。
【００６１】
（電気光学装置１００の製造方法）
本形態の電気光学装置１００の製造工程では、まず、第１基板準備工程において、第１
方向Ｘおよび第２方向Ｙに沿って配列された複数の画素電極９ａが設けられた第１基板１
０を準備する。ここで、図７に示すように、複数の画素電極９ａを第１方向Ｘにおける中
心間の距離がいずれも第１ピッチＰａｘとなるように配列し、第２方向Ｙにおける中心間
の距離がいずれも第３ピッチＰａｙとなるように配列しておく。
【００６２】
また、第２基板準備工程では、レンズ３１０（集光素子３０ａ）の形成領域からなる複
数の光学素子２５が第１方向Ｘおよび第２方向Ｙに沿って配列された第２基板２０を準備
する。ここで、複数のレンズ３１０を第１方向Ｘにおける中心間の距離がいずれも第２ピ
ッチＰｂｘとなるように配列し、第２方向Ｙにおける中心間の距離がいずれも第４ピッチ
Ｐｂｙとなるように配列しておく。また、第２ピッチＰｂｘを、第１ピッチＰａｘより長
くしておき、第４ピッチＰｂｙを、第３ピッチＰａｙより長くしておく。
【００６３】
次に、貼り合わせ工程において、複数の画素電極９ａと複数のレンズ３１０とがそれぞ
れ対向するように第１基板１０と第２基板２０と貼り合わせる。その際、画素電極配列領
域１０ｅの第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心が、画素電極配列領域１０ｅの
第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの中心より第１方向Ｘにおける外側に位置するよ
うに第１基板１０と第２基板２０とを貼り合わせる。また、画素電極配列領域１０ｅの第
２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１０の中心が、画素電極配列領域１０ｅの第２端部Ｅｙ
側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置するように第１基板
１０と第２基板２０とを貼り合わせる。
【００６４】
ここで、第１基板準備工程では、画素電極配列領域１０ｅの外側に第１基板側アライメ
ントマーク１４ｃが形成された第１基板１０を準備し、第２基板準備工程では、複数のレ
ンズ３１０が配列された領域の外側に第２基板側アライメントマーク５６ｃが形成された
第２基板２０を準備する。そして、貼り合わせ工程では、第１基板側アライメントマーク
１４ｃと第２基板側アライメントマーク５６ｃとを位置合わせして第１基板１０と第２基
板２０とを貼り合わせる。
【００６５】
（本形態の主な効果）
以上説明したように、本形態の電気光学装置１００では、第２基板２０の複数のレンズ
３１０（光学素子２５）は各々、第１基板１０の複数の画素電極９ａに対向しているが、
レンズ３１０の第１方向Ｘにおける中心間の距離（第２ピッチＰｂｘ）は、画素電極９ａ
の第１方向Ｘにおける中心間の距離（第１ピッチＰａｘ）より長い。このため、画素電極
配列領域１０ｅの第１方向Ｘの端部（第１端部Ｅｘ）側では、レンズ３１０の中心が画素
電極９ａの中心より第１方向Ｘにおける外側に位置する。従って、第１方向Ｘの外側から
斜めに入射した光は、レンズ３１０を透過して、画素電極９ａの略中央に入射する。それ
故、第１基板１０に対して第２基板２０が第１方向Ｘにずれた状態で貼り合わされたとき
でも、第１方向Ｘの外側から斜めに入射した光は、レンズ３１０を透過して、画素電極９
ａに入射する。それ故、図１に示す投射型表装置１１０において、第１方向Ｘの外側から
斜めに入射する光の強度が、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する光の強度より
高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑
制することができる。
【００６６】
また、レンズ３１０の第２方向Ｙにおける中心間の距離（第４ピッチＰｂｙ）は、画素
電極９ａの第２方向Ｙにおける中心間の距離（第３ピッチＰａｙ）より長い。このため、
画素電極配列領域１０ｅの第２方向Ｙの端部（第２端部Ｅｙ）側では、レンズ３１０の中
心が画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置する。従って、第２方向Ｙの
外側から斜めに入射した光は、レンズ３１０を透過して、画素電極９ａの略中央に入射す
る。それ故、第１基板１０に対して第２基板２０が第２方向Ｙにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第２方向Ｙの外側から斜めに入射した光は、レンズ３１０を透過して、画
素電極９ａに入射する。それ故、図１に示す投射型表装置１１０において、第２方向Ｙの
外側から斜めに入射する光の強度が、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する光の
強度より高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の
発生を抑制することができる。
【００６７】
［実施の形態１の変形例１］
図９は、本発明の実施の形態１の変形例１に係る電気光学装置１００におけるレンズ３
１０のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実施
の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略す
る。
【００６８】
図９に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１と同様、複数の画
素電極９ａはいずれも、第１ピッチＰａｘとなるように配列され、複数のレンズ３１０（
光学素子２５）はいずれも、第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。また、複数
の画素電極９ａはいずれも、第３ピッチＰａｙとなるように配列され、複数のレンズ３１
０（光学素子２５）はいずれも、第４ピッチＰｂｙとなるように配列されている。また、
複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘにおける幅が等しく、第２方向Ｙにおける幅が等しい
。
【００６９】
本形態において、第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。このため、第１端
部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの中
心より第１方向Ｘにおける外側に位置する。また、第４ピッチＰｂｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１０の中心は、第２端部Ｅｙ
側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置する。従って、図１
に示す投射型表装置１１０において、第１方向Ｘの外側や第２方向Ｙの外側から斜めに入
射する光の強度が、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する光の強度より高い場合
でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑制するこ
とができる等、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００７０】
ここで、レンズ３１０（光学素子２５）の第１方向Ｘにおける幅は、画素電極９ａの第
１方向Ｘにおける幅より大きい。このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第１方
向Ｘにずれた状態で貼り合わされたときでも、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側および第１端部Ｅ
ｘでは、レンズ３１０が画素電極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第１方向Ｘの
内側および外側から斜めに入射した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射し
やすい。また、レンズ３１０（光学素子２５）の第２方向Ｙにおける幅は、画素電極９ａ
の第２方向Ｙにおける幅より大きい。このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第
２向Ｙにずれた状態で貼り合わされたときでも、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側および第２端部
Ｅｙでは、レンズ３１０が画素電極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第２方向Ｙ
の内側および外側から斜めに入射した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射
しやすい。それ故、投射された画像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
【００７１】
［実施の形態１の変形例２］
図１０は、本発明の実施の形態２の変形例２に係る電気光学装置１００におけるレンズ
３１０のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実
施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略
する。
【００７２】
図１０に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１と同様、複数の
画素電極９ａはいずれも、第１ピッチＰａｘとなるように配列され、複数のレンズ３１０
（光学素子２５）はいずれも、第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。また、複
数の画素電極９ａはいずれも、第３ピッチＰａｙとなるように配列され、複数のレンズ３
１０（光学素子２５）はいずれも、第４ピッチＰｂｙとなるように配列されている。また
、複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘにおける幅が等しく、第２方向Ｙにおける幅が等し
い。
【００７３】
本形態において、第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。このため、第１端
部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの中
心より第１方向Ｘにおける外側に位置する。また、第４ピッチＰｂｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１０の中心は、第２端部Ｅｙ
側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置する。従って、図１
に示す投射型表装置１１０において、第１方向Ｘの外側や第２方向Ｙの外側から斜めに入
射する光の強度が、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する光の強度より高い場合
でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事態の発生を抑制するこ
とができる等、実施の形態１と同様な効果を奏する。
【００７４】
ここで、第１方向Ｘの中央Ｃｘでは、レンズ３１０（光学素子２５）の第１方向Ｘにお
ける幅が画素電極９ａの第１方向Ｘにおける幅と略等しいが、第１端部Ｅｘ側に位置する
レンズ３１０の第１方向Ｘにおける幅は、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側に位置するレンズ３１
０の第１方向Ｘにおける幅より大きい。また、第１方向Ｘの中央Ｃｘと第１端部Ｅｘとの
間では、第１方向Ｘの中央Ｃｘからから第１端部Ｅｘに向けて、レンズ３１０の第１方向
Ｘにおける幅が徐々に大きくなっている。例えば、レンズ３１０の第１方向Ｘにおける幅
は、１つレンズ３１０を単位として、あるいは複数のレンズ３１０を単位として徐々に大
きくなっている。
【００７５】
このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第１方向Ｘにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側および第１端部Ｅｘでは、レンズ３１０が画素電
極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第１方向Ｘの内側および外側から斜めに入射
した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射しやすい。それ故、投射された画
像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
【００７６】
また、第２方向Ｙの中央Ｃｙでは、レンズ３１０（光学素子２５）の第２方向Ｙにおけ
る幅が画素電極９ａの第２方向Ｙにおける幅と略等しいが、第２端部Ｅｙ側に位置するレ
ンズ３１０の第２方向Ｙにおける幅は、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側に位置するレンズ３１０
の第２方向Ｙにおける幅より大きい。また、第２方向Ｙの中央Ｃｙと第２端部Ｅｙとの間
では、第２方向Ｙの中央Ｃｙから第２端部Ｅｙに向けて、レンズ３１０の第２方向Ｙにお
ける幅が徐々に大きくなっている。例えば、レンズ３１０の第２方向Ｙにおける幅は、１
つレンズ３１０を単位として、あるいは複数のレンズ３１０を単位として徐々に大きくな
っている。
【００７７】
このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第２方向Ｙにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側および第２端部Ｅｙでは、レンズ３１０が画素電
極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第２方向Ｙの内側および外側から斜めに入射
した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射しやすい。それ故、投射された画
像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
【００７８】
［実施の形態２］
図１１は、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置１００におけるレンズ３１０等の
断面構成を模式的に示す説明図である。図１２は、図１１に示す電気光学装置１００にお
けるレンズ３１０のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な
構成は、実施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの
説明を省略する。また、図１２では、第１基板１０や画素電極９ａを実線で示し、第２基
板２０、光学素子２５（レンズ３１０）、レンズ３２０を点線や一点鎖線等の破線で示し
てある。
【００７９】
図１１において、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１と同様、集光素子３
０ａとしてのレンズ３１０（第１レンズ）の形成領域によって光学素子２５が構成されて
いる。本形態において、第２基板２０は、複数の光学素子２５の各々に、レンズ３１０に
対して第１基板１０で対向する複数のレンズ３２０（第２レンズ）を備えたレンズアレイ
３２を有している。より具体的には、透光層５２と保護層５５との間には、透光性のレン
ズ層５３（第２レンズ層）、および透光層５４（第２透光層）が順に積層されている。レ
ンズ層５３は、透光層５２の面５２２を覆う面５３１と、面５３１とは反対側の面５３２
とを有しており、面５３２には、凹部２９２と平面視で重なる位置に、透光性基板２９と
は反対側に向けて突出した凸部、または透光性基板２９に向けて凹んだ凹部が形成されて
いる。本形態において、レンズ層５３の面５３２には、凹部２９２と平面視で重なる位置
に、透光性基板２９とは反対側に向けて半球状に突出した凸部５３３が形成されている。
このため、透光層５４は、レンズ層５３の面５３２を覆う面５４１に、レンズ層５３の凸
部５３３が内側に位置する凹曲面からなる凹部５４３が形成されている。透光層５４は、
面５４１とは反対側に平坦面５４２を備えている。
【００８０】
ここで、レンズ層５３と透光層５４とは屈折率が相違しており、凹部５４３および凸部
５３３は、レンズ３２０を構成している。本形態において、レンズ層５３の屈折率は、透
光層５４の屈折率より大である。例えば、レンズ層５３は、シリコン酸窒化膜（ＳｉＯＮ
）からなり、屈折率が１．５８〜１．６８であるのに対して、透光層５４は、シリコン酸
化膜（ＳｉＯｘ）からなり、屈折率が１．４８である。それ故、レンズ３２０は、光源か
らの光を収束させるパワーを有している。本形態において、透光層５４は、レンズアレイ
３２から第１基板１０までの光路長を調節する光路長調整層である。
【００８１】
透光層５４の平坦面５４２には、シリコン酸化膜（ＳｉＯｘ）やシリコン酸窒化膜（Ｓ
ｉＯＮ）等の保護層５５が形成されており、かかる保護層５５に対して透光層５４や透光
性基板２９とは反対側に共通電極２１が形成されている。また、共通電極２１に対して保
護層５５や透光性基板２９とは反対側に配向膜２６が形成されている。
【００８２】
図１２に示すように、本形態の電気光学装置１００においても、実施の形態１と同様、
複数の画素電極９ａはいずれも、第１ピッチＰａｘとなるように配列され、複数のレンズ
３１０（光学素子２５）はいずれも、第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。ま
た、複数の画素電極９ａはいずれも、第３ピッチＰａｙとなるように配列され、複数のレ
ンズ３１０（光学素子２５）はいずれも、第４ピッチＰｂｙとなるように配列されている
。また、複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘにおける幅が等しく、第２方向Ｙにおける幅
が等しい。また、複数のレンズ３１０（光学素子２５）は、第１方向Ｘにおける幅が等し
く、第２方向Ｙにおける幅が等しい。
【００８３】
本形態において、第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。このため、第１端
部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの中
心より第１方向Ｘにおける外側に位置する。また、第４ピッチＰｂｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１０の中心は、第２端部Ｅｙ
側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置する。
【００８４】
また、複数のレンズ３２０は、第１方向Ｘで隣り合う２つのレンズ３２０の第１方向Ｘ
における中心間の距離がいずれも第５ピッチＰｃｘとなるように配列され、第２方向Ｙで
隣り合う２つのレンズ３２０の第２方向Ｙにおける中心間の距離がいずれも第６ピッチＰ
ｃｙとなるように配列されている。また、複数のレンズ３２０は、第１方向Ｘにおける幅
が等しく、第２方向Ｙにおける幅が等しい。
【００８５】
ここで、第５ピッチＰｃｘは、第１ピッチＰａｘより長く、第２ピッチＰｂｘより短い
。このため、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３２０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置す
る画素電極９ａの中心より第１方向Ｘにおける外側に位置し、第１端部Ｅｘ側に位置する
レンズ３１０の中心より第１方向Ｘにおける内側に位置する。また、第６ピッチＰｃｙは
、第３ピッチＰａｙより長く、第４ピッチＰｂｙより短い。このため、第２端部Ｅｙ側に
位置するレンズ３２０の中心は、第２端部Ｅｙ側に位置する画素電極９ａの中心より第２
方向Ｙにおける外側に位置し、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心より第２方
向Ｙにおける内側に位置する。
【００８６】
このように構成した場合も、第１基板１０に対して第２基板２０が第１方向Ｘにずれた
状態で貼り合わされたときでも、第１方向Ｘの外側から斜めに入射した光は、レンズ３１
０、３２０を透過して、画素電極９ａに入射する。それ故、図１に示す投射型表装置１１
０において、第１方向Ｘの外側から斜めに入射する光の強度が、電気光学装置１００に内
側から斜めに入射する光の強度より高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分
的に低下するという事態の発生を抑制することができる。
【００８７】
また、第１基板１０に対して第２基板２０が第２方向Ｙにずれた状態で貼り合わされた
ときでも、第２方向Ｙの外側から斜めに入射した光は、レンズ３１０、３２０を透過して
、画素電極９ａに入射する。それ故、図１に示す投射型表装置１１０において、第２方向
Ｙの外側から斜めに入射する光の強度が、電気光学装置１００に内側から斜めに入射する
光の強度より高い場合でも、投射された画像において、輝度が部分的に低下するという事
態の発生を抑制することができる。
【００８８】
［実施の形態２の変形例１］
図１３は、本発明の実施の形態２の変形例１に係る電気光学装置１００におけるレンズ
３１０のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実
施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略
する。
【００８９】
図１３に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１、２と同様、複
数の画素電極９ａはいずれも、第１ピッチＰａｘとなるように配列され、複数のレンズ３
１０（光学素子２５）はいずれも、第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。また
、複数の画素電極９ａはいずれも、第３ピッチＰａｙとなるように配列され、複数のレン
ズ３１０（光学素子２５）はいずれも、第４ピッチＰｂｙとなるように配列されている。
また、複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘにおける幅が等しく、第２方向Ｙにおける幅が
等しい。また、実施の形態２と同様、複数のレンズ３２０はいずれも、第１方向Ｘにおい
て第５ピッチＰｃｘとなるように配列され、第２方向Ｙにおいて第６ピッチＰｃｙとなる
ように配列されている。
【００９０】
本形態において、第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。このため、第１端
部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの中
心より第１方向Ｘにおける外側に位置する。また、第４ピッチＰｂｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１０の中心は、第２端部Ｅｙ
側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置する。また、第５ピ
ッチＰｃｘは、第１ピッチＰａｘより長く、第２ピッチＰｂｘより短い。このため、第１
端部Ｅｘ側に位置するレンズ３２０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの
中心より第１方向Ｘにおける外側に位置し、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中
心より第１方向Ｘにおける内側に位置する。また、第６ピッチＰｃｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長く、第４ピッチＰｂｙより短い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３
２０の中心は、第２端部Ｅｙ側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外
側に位置し、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心より第２方向Ｙにおける内側
に位置する。
【００９１】
ここで、レンズ３１０（光学素子２５）の第１方向Ｘにおける幅が画素電極９ａの第１
方向Ｘにおける幅より大きい。また、レンズ３２０の第１方向Ｘにおける幅が画素電極９
ａの第１方向Ｘにおける幅より大きく、レンズ３１０の第１方向Ｘにおける幅より小さい
。このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第１方向Ｘにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側および第１端部Ｅｘでは、レンズ３１０およびレ
ンズ３２０が画素電極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第１方向Ｘの内側および
外側から斜めに入射した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射しやすい。
【００９２】
また、レンズ３１０（光学素子２５）の第２方向Ｙにおける幅が画素電極９ａの第２方
向Ｙにおける幅より大きい。また、レンズ３２０の第２方向Ｙにおける幅が画素電極９ａ
の第２方向Ｙにおける幅より大きく、レンズ３１０の第２方向Ｙにおける幅より小さい。
このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第２方向Ｙにずれた状態で貼り合わされ
たときでも、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側および第２端部Ｅｙでは、レンズ３１０およびレン
ズ３２０が画素電極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第２方向Ｙの内側および外
側から斜めに入射した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射しやすい。
【００９３】
［実施の形態２の変形例２］
図１４は、本発明の実施の形態２の変形例２に係る電気光学装置１００におけるレンズ
３１０のレイアウト等を模式的に示す平面図である。なお、本形態の基本的な構成は、実
施の形態１と同様であるため、共通する部分には同一の符号を付してそれらの説明を省略
する。
【００９４】
図１４に示すように、本形態の電気光学装置１００でも、実施の形態１、２と同様、複
数の画素電極９ａはいずれも、第１ピッチＰａｘとなるように配列され、複数のレンズ３
１０（光学素子２５）はいずれも、第２ピッチＰｂｘとなるように配列されている。また
、複数の画素電極９ａはいずれも、第３ピッチＰａｙとなるように配列され、複数のレン
ズ３１０（光学素子２５）はいずれも、第４ピッチＰｂｙとなるように配列されている。
また、複数の画素電極９ａは、第１方向Ｘにおける幅が等しく、第２方向Ｙにおける幅が
等しい。また、実施の形態２と同様、複数のレンズ３２０はいずれも、第１方向Ｘにおい
て第５ピッチＰｃｘとなるように配列され、第２方向Ｙにおいて第６ピッチＰｃｙとなる
ように配列されている。
【００９５】
本形態において、第２ピッチＰｂｘは、第１ピッチＰａｘより長い。このため、第１端
部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの中
心より第１方向Ｘにおける外側に位置する。また、第４ピッチＰｂｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３１０の中心は、第２端部Ｅｙ
側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外側に位置する。また、第５ピ
ッチＰｃｘは、第１ピッチＰａｘより長く、第２ピッチＰｂｘより短い。このため、第１
端部Ｅｘ側に位置するレンズ３２０の中心は、第１端部Ｅｘ側に位置する画素電極９ａの
中心より第１方向Ｘにおける外側に位置し、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中
心より第１方向Ｘにおける内側に位置する。また、第６ピッチＰｃｙは、第３ピッチＰａ
ｙより長く、第４ピッチＰｂｙより短い。このため、第２端部Ｅｙ側に位置するレンズ３
２０の中心は、第２端部Ｅｙ側に位置する画素電極９ａの中心より第２方向Ｙにおける外
側に位置し、第１端部Ｅｘ側に位置するレンズ３１０の中心より第２方向Ｙにおける内側
に位置する。
【００９６】
ここで、第１方向Ｘの中央Ｃｘでは、レンズ３１０（光学素子２５）の第１方向Ｘにお
ける幅が画素電極９ａの第１方向Ｘにおける幅と略等しいが、第１端部Ｅｘ側に位置する
レンズ３１０の第１方向Ｘにおける幅は、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側に位置するレンズ３１
０の第１方向Ｘにおける幅より大きい。また、第１方向Ｘの中央Ｃｘと第１端部Ｅｘとの
間では、第１方向Ｘの中央Ｃｘからから第１端部Ｅｘに向けて、レンズ３１０の第１方向
Ｘにおける幅が徐々に大きくなっている。また、第１方向Ｘの中央Ｃｘでは、レンズ３２
０の第１方向Ｘにおける幅が画素電極９ａの第１方向Ｘにおける幅と略等しいが、第１端
部Ｅｘ側に位置するレンズ３２０の第１方向Ｘにおける幅は、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側に
位置するレンズ３２０の第１方向Ｘにおける幅より大きい。また、第１方向Ｘの中央Ｃｘ
と第１端部Ｅｘとの間では、第１方向Ｘの中央Ｃｘからから第１端部Ｅｘに向けて、レン
ズ３２０の第１方向Ｘにおける幅が徐々に大きくなっている。但し、第１方向Ｘの中央Ｃ
ｘより第１端部Ｅｘの側では、レンズ３２０の第１方向Ｘにおける幅がレンズ３１０の第
１方向Ｘにおける幅より小さい。
【００９７】
このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第１方向Ｘにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第１方向Ｘの中央Ｃｘ側および第１端部Ｅｘでは、レンズ３１０および第
２レンズ３２０が画素電極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第１方向Ｘの内側お
よび外側から斜めに入射した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射しやすい
。それ故、投射された画像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
【００９８】
また、第２方向Ｙの中央Ｃｙでは、レンズ３１０（光学素子２５）の第２方向Ｙにおけ
る幅が画素電極９ａの第２方向Ｙにおける幅と略等しいが、第２端部Ｅｙ側に位置するレ
ンズ３１０の第２方向Ｙにおける幅は、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側に位置するレンズ３１０
の第２方向Ｙにおける幅より大きい。また、第２方向Ｙの中央Ｃｙと第２端部Ｅｙとの間
では、第２方向Ｙの中央Ｃｙから第２端部Ｅｙに向けて、レンズ３１０の第２方向Ｙにお
ける幅が徐々に大きくなっている。また、第２方向Ｙの中央Ｃｙでは、レンズ３２０の第
２方向Ｙにおける幅が画素電極９ａの第２方向Ｙにおける幅と略等しいが、第２端部Ｅｙ
側に位置するレンズ３２０の第２方向Ｙにおける幅は、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側に位置す
るレンズ３２０の第２方向Ｙにおける幅より大きい。また、第２方向Ｙの中央Ｃｙと第２
端部Ｅｙとの間では、第２方向Ｙの中央Ｃｙからから第２端部Ｅｙに向けて、レンズ３２
０の第２方向Ｙにおける幅が徐々に大きくなっている。但し、第２方向Ｙの中央Ｃｙより
第２端部Ｅｙの側では、レンズ３２０の第２方向Ｙにおける幅がレンズ３１０の第２方向
Ｙにおける幅より小さい。
【００９９】
このため、第１基板１０に対して第２基板２０が第２方向Ｙにずれた状態で貼り合わさ
れたときでも、第２方向Ｙの中央Ｃｙ側および第２端部Ｅｙでは、レンズ３１０およびレ
ンズ３２０が画素電極９ａに広い範囲で重なっている。従って、第２方向Ｙの内側および
外側から斜めに入射した光がレンズ３１０を透過して、画素電極９ａに入射しやすい。そ
れ故、投射された画像全体において、輝度が高い等の効果を奏する。
【０１００】
［実施の形態３］
図１５は、本発明の実施の形態２に係る電気光学装置１００の断面図である。実施の形
態１、２では、集光素子３０ａとしてのレンズ３１０の形成領域によって第２基板２０の
光学素子２５が規定されていた。これに対して、本形態においては、図１５に示すように
、第２基板２０にレンズ３１０が形成されておらず、第２基板２０において、画素電極９
ａと対向する光学素子２５は、ブラックマトリクスとして形成された遮光層１０８ｅから
なる。かかるブラックマトリクス（遮光層１０８ｅ）は、入射した光の一部を遮光し、ブ
ラックマトリクス（遮光層１０８ｅ）で囲まれた領域に入射した光を透過させる。
【０１０１】
かかる構成の場合も、光学素子２５（遮光層１０８ｅで囲まれた領域）を実施の形態１
、２で説明したようにレイアウトすれば、第１基板１０と第２基板２０との位置ずれに起
因する輝度むらの発生を抑制することができる。
【０１０２】
［実施の形態４］
図１６は、本発明の実施の形態４に係る電気光学装置１００の断面図である。実施の形
態１、２では、集光素子３０ａとしてのレンズ３１０の形成領域によって第２基板２０の
光学素子２５が規定されていた。これに対して、本形態においては、図１６に示すように
、第２基板２０にレンズ３１０が形成されておらず、第２基板２０において、画素電極９
ａと対向する光学素子２５は、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、および青色（Ｂ）に対応するカ
ラーフィルター２４（Ｒ）、２４（Ｇ）、２４（Ｂ）が形成された領域からなる。かかる
カラーフィルター２４（Ｒ）、２４（Ｇ）、２４（Ｂ）は、入射した光のうち一部の波長
の光を透過する。なお、図１６に示す態様では、第２基板２０において、画素電極９ａと
対向する光学素子２５は、ブラックマトリクスとして形成された遮光層１０８ｅが形成さ
れている。
【０１０３】
かかる構成の場合も、光学素子２５（カラーフィルター２４（Ｒ）、２４（Ｇ）、２４
（Ｂ）の形成領域）を実施の形態１、２で説明したようにレイアウトすれば、第１基板１
０と第２基板２０との位置ずれに起因する輝度むらの発生を抑制することができる。
【０１０４】
［実施の形態５］
実施の形態１、２では、集光素子３０ａとしてのレンズ３１０の形成領域によって第２
基板２０の光学素子２５が規定されていたが、集光素子３０ａとしてプリズムを第２基板
２０に形成した場合、かかるプリズムが形成された領域を光学素子２５として、実施の形
態１、２で説明したようにレイアウトしてもよい。
【０１０５】
［他の電気光学装置への適用例］
上記実施の形態では、電気光学装置として液晶装置を例に挙げて説明したが、本発明は
これに限定されず、電気泳動表示パネルを用いた電気光学装置等に本発明を適用してもよ
い。
【０１０６】
［他の投射型表示装置］
上記投射型表示装置においては、透過型の電気光学装置１００を用いたが、反射型の電
気光学装置１００を用いて投射型表示装置を構成してもよい。また、投射型表示装置にお
いては、光源部として、各色の光を出射するＬＥＤ光源等を用い、かかるＬＥＤ光源から
出射された色光を各々、別の液晶装置に供給するように構成してもよい。
【０１０７】
［他の電子機器］
本発明を適用した電気光学装置１００については、上記の電子機器の他にも、携帯電話
機、情報携帯端末（ＰＤＡ：Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ａｓｓｉｓｔａｎｔｓ
）、デジタルカメラ、液晶テレビ、カーナビゲーション装置、テレビ電話、ＰＯＳ端末、
タッチパネルを備えた機器等の電子機器において直視型表示装置として用いてもよい。
【符号の説明】
【０１０８】
９ａ  画素電極、１０  第１基板、１０ａ  表示領域、１０ｅ  画素電極配列領域、１４
画素トランジスター、１４ｃ  第１基板側アライメントマーク、１５ａ  開口領域、１
５ｂ  遮光領域、２０  第２基板、２１  共通電極、２５  光学素子、２９  透光性基板
、３０  レンズアレイ基板、３０ａ  集光素子、３１  レンズアレイ（第１レンズアレイ
）、３２  レンズアレイ（第２レンズアレイ）、５６ｃ  第２基板側アライメントマーク
、８０  電気光学層、１００  電気光学装置、１１０  投射型表示装置、１１１  スクリ
ーン、１１８  投射光学系、１６１  光源部、３１０  レンズ（第１レンズ）、３２０  
レンズ（第２レンズ）、Ｃｘ  第１方向の中心、Ｃｙ  第２方向の中心、Ｅｘ  第１端部
、Ｅｙ  第２端部、Ｐａｘ  第１ピッチ、Ｐａｙ  第３ピッチ、Ｐｂｘ  第２ピッチ、Ｐ
ｂｙ  第４ピッチ、Ｐｃｘ  第５ピッチ、Ｐｃｙ  第６ピッチ、Ｘ  第１方向、Ｙ  第２
方向
【図１】
2016224323.tif 000003
【図２】
2016224323.tif 000004
【図３】
2016224323.tif 000005
【図４】
2016224323.tif 000006
【図５】
2016224323.tif 000007
【図６】
2016224323.tif 000008
【図７】
2016224323.tif 000009
【図８】
2016224323.tif 000010
【図９】
2016224323.tif 000011
【図１０】
2016224323.tif 000012
【図１１】
2016224323.tif 000013
【図１２】
2016224323.tif 000014
【図１３】
2016224323.tif 000015
【図１４】
2016224323.tif 000016
【図１５】
2016224323.tif 000017
【図１６】
2016224323.tif 000018
【図１７】
2016224323.tif 000019
【図１８】
2016224323.tif 000020