(57)【要約】【課題】触覚フィードバックが得られる部分が選択的に形成された触覚フィードバックセンサーの実現を可能とする透明導電性フィルムを提供すること。【解決手段】本発明の触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムは、基材と、該基材の片側または両側に配置され、かつ、該基材の少なくとも一部を覆うようにして形成されている絶縁層と、該基材と該絶縁層との間に配置され、かつ、パターニングして形成されている導電層とを備える。【選択図】図１
2016224848.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、
該基材の片側または両側に配置され、かつ、該基材の少なくとも一部を覆うようにして形成されている絶縁層と、
該基材と該絶縁層との間に配置され、かつ、パターニングして形成されている導電層とを備える、
触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルム。
【請求項２】
前記導電層の表面抵抗率が、１×１０４Ω／□〜９×１０１０Ω／□である、請求項１に記載の触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルム。
【請求項３】
前記導電層が、導電性ポリマーを含む、請求項１または２に記載の触覚フィードバックセンサー。
【請求項４】
前記基材の絶縁層とは反対側に、粘着剤層または接着剤層をさらに備える、請求項１から３のいずれかに記載の触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルム。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載の触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムを備えるタッチパネル。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載の触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムを備える触覚刺激装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、入力装置として、タッチパネルが多用されており、該タッチパネルとして、指で直接触れて操作可能なタッチパネルが知られている。通常、タッチパネルの操作は、平坦で滑らかな操作面を触れるという操作であるため、キーボード入力装置のように確かな入力感が得られない。そこで、操作者が操作面に触れた際にその触覚をフィードバックするという、いわゆる触覚センサーをタッチパネルに導入する技術が検討されている。例えば、操作者が触れた際に、操作面が振動するタッチパネルが実用に供されている。また、振動よりもさらに多様なパターンで触覚をフィードバックできる技術として、タッチパネルの操作面の電荷を制御して触覚刺激を発生させ、電気的な感覚により操作者に触覚を与える触覚フィードバックセンサーも提案されている（例えば、特許文献１）。
【０００３】
上記のような電気的な作用による触覚フィードバックセンサーは、操作面（または操作面の近傍）において、導電層と絶縁層とからなる構造部分を有することにより、操作面の電荷を制御する。しかしながら、従来の触覚フィードバックセンサーは、操作面全面から触覚刺激が発生する、すなわち、所望としない部分にまで、触覚刺激（触覚フィードバック）が発生するという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−０８７３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的とするところは、触覚フィードバックが得られる部分が選択的に形成された触覚フィードバックセンサーの実現を可能とする透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムは、基材と、該基材の片側または両側に配置され、かつ、該基材の少なくとも一部を覆うようにして形成されている絶縁層と、該基材と該絶縁層との間に配置され、かつ、パターニングして形成されている導電層とを備える。
１つの実施形態においては、上記導電層の表面抵抗率が、１×１０４Ω／□〜９×１０１０Ω／□である。
１つの実施形態においては、上記導電層が、導電性ポリマーを含む。
１つの実施形態においては、上記基材の絶縁層とは反対側に、粘着剤層または接着剤層をさらに備える。
本発明の別の局面によれば、タッチパネルが提供される。このタッチパネルは、上記触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムを備える。
本発明のさらに別の局面によれば、触覚刺激装置が提供される。この触覚刺激装置は、上記触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムを備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、パターニングされた導電層を備えることにより、触覚フィードバックが得られる部分が選択的に形成された触覚フィードバックセンサーの実現を可能とする透明導電性フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の１つの実施形態による触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムの概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
Ａ．触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルムの全体構成
図１は、本発明の１つの実施形態による触覚フィードバックセンサー用透明導電性フィルム（以下、単に透明導電性フィルムともいう）の概略断面図である。図１に示すように、本発明の透明導電性フィルム１００は、基材１０と、基材の片側または両側（図示例では片側）に配置された絶縁層２０と、基材１０と絶縁層２０との間に配置された導電層３０とを備える。本発明の透明導電性フィルムは、触覚フィードバックセンサーに適用され得る。触覚フィードバックセンサーとは、タッチパネルに備えられて、操作者が該タッチパネルに触れた際に、その触覚を電気的な作用によりフィードバックさせるために設けられるセンサーを意味する。触覚フィードバックセンサーは、通常、導電層、絶縁層、接触を感知して電荷を制御する制御部等を備え、タッチセンサーを備えるタッチパネルの視認側（操作面側）に設けられる。上記制御部は、タッチセンサーの電極の通電を制御して、上記積層体の電荷を誘起する。触覚センサーに触れた操作者は、該電荷に起因する静電気力の強弱により凹凸等の触覚を感知する。本発明の透明導電性フィルムは、触覚フィードバックセンサーの導電層／絶縁層部分に適用され得るフィルムである。導電層は、上記のようにして誘起された電荷を蓄積する機能を有する。上記絶縁層は、導電層に蓄積された電荷に基づく電流が、直接、操作者に流入することを防止する機能を有する。
【００１０】
導電層３０は、基材１０の片側または両側において、パターニングして形成されている。このような透明導電性フィルムを、触覚フィードバックセンサーに適用した場合、導電層が存在する箇所においてのみ、電気的な触覚フィードバックを発生させることができる。
【００１１】
絶縁層２０は、基材１０の少なくとも一部を覆うようにして形成される。より詳細には、絶縁層２０は、基材１０上にパターニングして形成された導電層２０と、基材１０の少なくとも一部とを覆うようにして形成される。より好ましくは、図示例のように、基材１０と導電層２０とから構成される積層構造の表面全体を覆うようにして形成される。本発明においては、導電層２０だけでなく、基材１０上にも絶縁層を形成することにより、基材１０に特別な加工を施すことなく、表面平滑性に優れる透明導電性フィルムを得ることができる。より詳細には、本発明の透明導電性フィルムを用いれば、パターニングの段差の影響による、触覚フィードバックセンサーの操作面の凹凸が低減される。このような触覚フィードバックセンサーにおいては、段差・凹凸に起因する不要な物理的触覚刺激が抑制される。その結果、物理的触覚刺激と混同することなく、良好な仮想触覚刺激（電気的な触覚フィードバック）を得ることが可能となる。仮想触覚刺激により仮想的に段差・凹凸を知覚させたい場合、本発明の透明導電性フィルムは極めて有用である。
【００１２】
図示していないが、本発明の透明導電性フィルムは、任意の適切なその他の層を備え得る。その他の層としては、基材の絶縁層とは反対側の面に配置される粘着剤層または接着剤層、絶縁層の基材とは反対側の面に配置されるハードコート層等が挙げられる。
【００１３】
本発明の透明導電性フィルムの全光線透過率は、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、特に好ましくは８５％以上である。
【００１４】
Ｂ．導電層
上記導電層の表面抵抗率は、好ましくは１×１０４Ω／□〜９×１０１０Ω／□であり、より好ましくは１×１０５Ω／□〜９．９×１０８Ω／□である。導電層の表面抵抗値が１×１０４Ω／□より小さい場合、タッチパネルに適用した場合にタッチパネルが動作しないおそれがある。また、９×１０１０Ω／□より大きい場合、容量性結合の電界が発生し難く触覚フィードバックが得られないおそれがある。導電層の表面抵抗率は、該導電層の形成に用いられる導電性組成物の組成、導電層の厚み等により調整することができる。
【００１５】
上記導電層の厚みは、好ましくは１ｎｍ〜５００ｎｍであり、より好ましくは２０ｎｍ〜４００ｎｍであり、さらに好ましくは５０ｎｍ〜３００ｎｍである。このような範囲であれば、良好に電荷をチャージおよびリリースし得る導電層が形成される。
【００１６】
上記導電層の全光線透過率は、好ましくは７５％以上であり、より好ましくは８０％以上であり、さらに好ましくは８５％以上である。
【００１７】
上記導電層を形成する材料としては、任意の適切な材料が用いられ得る。例えば、導電性ポリマー、ＩＴＯ等の金属酸化物等が用いられ得る。上記導電層は、好ましくは導電性ポリマーを含む。導電性ポリマーを含む導電層は、例えば、上記基材上に、導電性ポリマーを含む導電性組成物を塗工することにより形成させることができる。また、導電層のパターンは、任意の適切な方法により形成され得る。例えば、印刷法、マスク法、エッチング方等が挙げられる。
【００１８】
上記導電性組成物に含まれる導電性ポリマーとしては、例えば、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリチオフェン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマー、ポリピロール系ポリマー、ポリフェニレン系ポリマー、アクリル系ポリマーで変性されたポリエステル系ポリマー等が挙げられる。好ましくは、導電層は、ポリアセチレン系ポリマー、ポリパラフェニレン系ポリマー、ポリアニリン系ポリマー、ポリチオフェン系ポリマー、ポリパラフェニレンビニレン系ポリマーおよびポリピロール系ポリマーからなる群より選ばれた１種以上のポリマーを含む。
【００１９】
より好ましくは、上記導電性ポリマーとしてポリチオフェン系ポリマーが用いられる。ポリチオフェン系ポリマーを用いれば、透明性および化学的安定性に優れる導電層を形成することができる。ポリチオフェン系ポリマーの具体例としては、ポリチオフェン；ポリ（３−ヘキシルチオフェン）等のポリ（３−Ｃ１−８アルキル−チオフェン）；ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）、ポリ（３，４−プロピレンジオキシチオフェン）、ポリ［３，４−（１，２−シクロヘキシレン）ジオキシチオフェン］等のポリ（３，４−（シクロ）アルキレンジオキシチオフェン）；ポリチエニレンビニレン等が挙げられる。
【００２０】
好ましくは、上記導電性ポリマーは、アニオン性ポリマーの存在下で重合される。例えば、ポリチオフェン系ポリマーは、アニオン性ポリマーの存在下で酸化重合させることが好ましい。アニオン性ポリマーとしては、カルボキシル基、スルホン酸基および／またはその塩を有する重合体が挙げられる。好ましくは、ポリスチレンスルホン酸等のスルホン酸基を有するアニオン性ポリマーが用いられる。
【００２１】
上記導電性ポリマー、該導電性ポリマーから構成される導電層、および該導電層の形成方法は、例えば、特開２０１１−１７５６０１号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。
【００２２】
上記導電層は、任意の適切な方法により、形成され得る。導電層は、例えば、上記基材上に、導電性組成物を塗工することにより形成させることができる。導電性組成物は、例えば、上記導電性ポリマーと、任意の適切な溶媒（例えば、水）とを含み、該溶媒中に該導電性ポリマーが分散した分散液である。該分散液中の導電性ポリマーの分散濃度は、好ましくは０．０１重量％〜５０重量％であり、より好ましくは０．０１重量％〜３０重量％である。
【００２３】
上記導電性組成物の塗布方法としては、任意の適切な方法を採用し得る。例えば、バーコート法、ロールコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットオリフィスコート法、カーテンコート法、ファウンテンコート法、コンマコート法が挙げられる。上記のとおり、導電層はパターン化される。パターン化の方法としては、導電層の形態に応じて、任意の適切な方法が採用され得、例えば、マスク法、エッチング法、スクリーン印刷法、フレキソ印刷法、ディスペンサー法等が挙げられる。塗布後の導電性組成物の乾燥温度としては、代表的には５０℃以上、好ましくは９０℃以上、さらに好ましくは１１０℃以上である。乾燥温度は、好ましくは２００℃以下、さらに好ましくは１８０℃以下である。乾燥時間は、好ましくは１分〜１時間、より好ましくは１分〜３０分、さらに好ましくは１分〜１０分である。
【００２４】
上記導電性組成物は、必要に応じて任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤の具体例としては、分散安定剤、界面活性剤、消泡剤等が挙げられる。使用される添加剤の種類および量は、目的に応じて適宜設定され得る。
【００２５】
Ｃ．絶縁層
上記絶縁層を構成する材料としては、絶縁性および光透過性を有する限りにおいて、任意の適切な材料が用いられ得る。例えば、アクリル系樹脂等の樹脂材料が用いられ得る。
【００２６】
１つの実施形態においては、絶縁層を構成する材料として、硬化型樹脂が用いられる。硬化型樹脂を用いれば、防汚性、耐擦傷性、耐薬品性、表面平滑性等に優れる絶縁層が形成され得、絶縁層が最表面となる用途に好適な透明導電性フィルムを得ることができる。硬化型樹脂としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂およびこれらの混合物等が挙げられる。なかでも、高硬度な絶縁層を形成しやすい点から、アクリル系樹脂が好ましく用いられ得る。
【００２７】
上記絶縁層の厚みは、好ましくは１μｍ〜１００μｍであり、より好ましくは１μｍ〜２０μｍである。このような範囲であれば、耐擦傷性に優れ、かつ、十分な触覚フィードバックを操作者に与え得る透明導電性フィルムを得ることができる。なお、絶縁層の厚みが２０μｍより厚い場合、硬化に時間を要したり、得られた透明導電性フィルムにカールが発生するおそれもある。なお、絶縁層の厚みとは、絶縁層が存在する領域の最大厚み（図１における厚みＡ）を意味する。
【００２８】
上記絶縁層は、任意の適切な方法により、形成され得る。例えば、上記樹脂を含む絶縁層形成用組成物を、導電層が形成された基材上に、塗工することにより形成することができる。また、絶縁層を構成する材料として硬化型樹脂を用いる場合、上記樹脂または該樹脂の前駆体（モノマー、オリゴマー）を含む絶縁層形成用組成物を塗布し、熱または活性エネルギー線により硬化させて、絶縁層を形成することができる。
【００２９】
上記絶縁層形成用組成物は、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。添加剤としては、例えば、重合開始剤、防汚剤、レベリング剤、ブロッキング防止剤、分散安定剤、揺変剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、消泡剤、増粘剤、分散剤、界面活性剤、触媒、フィラー、滑剤、帯電防止剤等が挙げられる。
【００３０】
Ｄ．基材
上記基材を構成する材料は、任意の適切な材料が用いられ得る。具体的には、例えば、フィルムやプラスチックス基材などの高分子基材が好ましく用いられる。基材の平滑性および導電性組成物に対する濡れ性に優れ、また、ロールによる連続生産により生産性を大幅に向上させ得るからである。
【００３１】
上記基材を構成する材料は、代表的には熱可塑性樹脂を主成分とする高分子フィルムである。熱可塑性樹脂としては、例えば、ポリエステル系樹脂；ポリノルボルネン等のシクロオレフィン系樹脂；アクリル系樹脂；ポリカーボネート樹脂；セルロース系樹脂等が挙げられる。なかでも好ましくは、ポリエステル系樹脂、シクロオレフィン系樹脂またはアクリル系樹脂である。これらの樹脂は、透明性、機械的強度、熱安定性、水分遮蔽性などに優れる。上記熱可塑性樹脂は、単独で、または２種以上組み合わせて用いてもよい。また、偏光板に用いられるような光学フィルム、例えば、低位相差基材、高位相差基材、位相差板、輝度向上フィルム等を基材として用いることも可能である。
【００３２】
上記基材の厚みは、好ましくは１０μｍ〜２００μｍであり、より好ましくは２０μｍ〜１５０μｍである。
【００３３】
上記基材の全光線透過率は、好ましくは３０％以上であり、より好ましくは３５％以上であり、さらに好ましくは４０％以上である。
【００３４】
Ｅ．粘着剤層、接着剤層
上記粘着剤層は、任意の適切な粘着剤または接着剤により形成される。１つの実施形態においては、該粘着剤は、粘着性の樹脂を含み、該樹脂としては、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等が挙げられる。好ましくは、透明性、接着信頼性、耐久性、光学特性等の観点から、アクリル系粘着剤またはウレタン系粘着剤が用いられる。また、接着剤としては、例えば、アクリル系樹脂、アクリルウレタン系樹脂、ウレタン系樹脂、シリコーン系樹脂等を含む接着剤が挙げられる。好ましくは、透明性、接着信頼性、耐久性、光学特性等の観点から、アクリル系接着剤、ウレタン系接着剤またはシリコーン系接着剤が用いられる。
【００３５】
上記粘着剤および接着剤は、必要に応じて、任意の適切な添加剤をさらに含み得る。該添加剤としては、例えば、架橋剤、粘着付与剤、可塑剤、顔料、染料、充填剤、老化防止剤、導電材、紫外線吸収剤、光安定剤、剥離調整剤、軟化剤、界面活性剤、難燃剤、酸化防止剤等が挙げられる。架橋剤としては、イソシアネート系架橋剤、エポキシ系架橋剤、過酸化物系架橋剤、メラミン系架橋剤、尿素系架橋剤、金属アルコキシド系架橋剤、金属キレート系架橋剤、金属塩系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、アジリジン系架橋剤、アミン系架橋剤等が挙げられる。
【００３６】
上記粘着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜２５０μｍあり、より好ましくは５μｍ〜１５０μｍである。上記接着剤層の厚みは、好ましくは１μｍ〜２５０μｍあり、より好ましくは５μｍ〜１５０μｍである。
【００３７】
Ｆ．ハードコート層
上記ハードコート層は、上記積層体に耐薬品性、耐擦傷性および表面平滑性等を付与する機能を有する。なお、上記のとおり、絶縁層に硬化型樹脂を用いるなどして、絶縁層にハードコート機能を付与してもよい。
【００３８】
上記ハードコート層を構成する材料としては、任意の適切な材料を採用し得る。上記ハードコート層を構成する材料としては、例えば、エポキシ系樹脂、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタンアクリレート系樹脂およびこれらの混合物等が挙げられる。なかでも、高硬度なハードコート層を形成しやすい点から、アクリル系樹脂が好ましく用いられ得る。上記ハードコート層は、例えば、これらの樹脂または該樹脂の前駆体（モノマー、オリゴマー）を含むハードコート層形成用組成物を塗布し、熱または活性エネルギー線により硬化させて得ることができる。
【００３９】
ハードコート層の厚みは、用途に応じて、任意の適切な厚みに設定され得る。ハードコート層の厚みは、例えば、１μｍ〜２０μｍである。
【００４０】
Ｇ．タッチパネル
本発明のタッチパネルは、上記透明導電性フィルムを備える。より詳細には、上記タッチパネルは、タッチセンサーと、透明導電性フィルムを含む触覚フィードバックセンサーとを備える。
【００４１】
上記タッチセンサーとしては、任意の適切なタッチセンサーが用いられ得、例えば、抵抗膜型タッチセンサー、静電容量型タッチセンサー等が挙げられる。好ましくは、静電容量型タッチセンサーが用いられる。静電容量型タッチセンサーは、代表的には、一対の任意の適切な電極（例えば、ＩＴＯ電極）と、該電極の間に配置された任意の適切な絶縁膜とを備える。上記タッチセンサーは、任意の適切な部材をさらに備え得る。例えば、上記タッチセンサーの外側、すなわち、タッチセンサーと触覚フィードバックセンサーとの間には、タッチセンサー保護のためのカバーシートが設けられてもよい。また、タッチセンサーは、任意の適切な光学フィルムをさらに備えていてもよい。
【００４２】
触覚フィードバックセンサーは、代表的には、上記透明導電性フィルムと、接触を感知して電荷を制御する制御部とを備える。好ましくは、上記触覚フィードバックセンサーは、タッチセンサーを備えるタッチパネルの視認側（操作面側）に設けられ、より好ましくは、上記透明導電性フィルムの絶縁層側を視認側にして該タッチパネルの視認側に設けられる。なお、触覚フィードバックセンサーの詳細は、特開２００９−０８７３５９号公報に記載されており、その記載は本明細書に参考として援用される。
【００４３】
Ｈ．触覚刺激装置
１つの実施形態においては、上記透明導電性フィルムを備える触覚刺激装置が提供される。触覚刺激装置としては、例えば、上記タッチパネルを備える画像表示装置等が挙げられる。上記タッチパネルを備える画像表示装置の具体例としては、例えば、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。
【実施例】
【００４４】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。なお、厚みは尾崎製作所製ピーコック精密測定機器  デジタルゲージコードレスタイプ「ＤＧ−２０５」を使用して測定した。
【００４５】
［実施例１］
（導電性組成物の調製）
純水９５重量部に、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ分散液（ヘレウス社製、商品名「Ｃｌｅｖｉｏｓ  ＦＥ−Ｔ」；ポリエチレンジオキシチオフェンおよびポリスチレンスルホン酸から構成される導電性ポリマーの分散液；分散液中の導電性ポリマー分散濃度４重量％）５重量部を加え、導電性組成物を調製した。
（絶縁層形成用組成物の調製）
紫外線硬化型ウレタンアクリレート（日本合成化学工業（株）製、商品名「ＵＶ１７００Ｂ」、重量平均分子量約２０００）２５重量部、ペンタエリスリトールトリアクリレートを主成分とする多官能アクリレート（大阪有機化学工業（株）製、商品名「ビスコート＃３００」）２５重量部、反応性フッ素化合物（ダイキン工業（株）製、商品名「オプツールＤＡＣ」０．２重量部、光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製、商品名「イルガキュア９０７」）１重量部、メチルイソブチルケトン２５重量部、イソプロピルアルコール２５重量部で希釈することにより、絶縁層形成用組成物を調製した。
（透明導電性フィルムの作製）
ＰＥＴ基材（厚み１２５μｍ）にライン幅１０ｍｍ、スペース幅１０ｍｍのマスク上から、バーコーター（第一理科株式会社製、製品名「バーコーター  Ｎｏ．０６」）を用いて、導電性組成物を塗布し１３０℃で乾燥して、導電層を形成した。さらに、バーコーター（第一理科株式会社製、製品名「バーコーター  Ｎｏ．１４」）を用いて、基材と導電層とを覆うようにして、絶縁層形成用組成物を塗布し８０℃で乾燥後、高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射し、透明導電性フィルム（導電層厚み：１２０ｎｍ、絶縁層厚み：６μｍ）を得た。得られた透明導電性フィルムを用いて触覚フィードバックセンサーを作製したところ、導電層を形成した箇所においてのみ、触覚フィードバックが得られた。
【００４６】
［実施例２］  
マスクを代えて、ライン幅５ｍｍ、スペース幅５ｍｍの導電層を形成した以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムを用いて触覚フィードバックセンサーを作製したところ、導電層を形成した箇所においてのみ、触覚フィードバックが得られた。
【００４７】
［実施例３］
マスクを代えて、ライン幅３０ｍｍ、スペース幅３０ｍｍの導電層を形成した以外は、実施例１と同様にして透明導電性フィルムを得た。得られた透明導電性フィルムを用いて触覚フィードバックセンサーを作製したところ、導電層を形成した箇所においてのみ、触覚フィードバックが得られた。
【００４８】
［実施例４］
バーコーター（第一理科株式会社製、製品名「バーコーター  Ｎｏ．０６」）に代えて、バーコーター（第一理科株式会社製、製品名「バーコーター  Ｎｏ．０４」）を用いて導電性組成物を塗布し、該組成物の塗布量を変えたこと以外は実施例１と同様にして透明導電性フィルム（導電層厚み：３０ｎｍ、絶縁層厚み：６μｍ）を得た。得られた透明導電性フィルムを用いて触覚フィードバックセンサーを作製したところ、導電層を形成した箇所においてのみ、触覚フィードバックが得られた。
【００４９】
［比較例１］
実施例１と同様にして、基材上に導電層を形成した。次いで、実施例１で調製した絶縁層形成用組成物を、該導電層上にのみ、塗布し、８０℃で乾燥後、高圧水銀ランプにて積算光量３００ｍＪ/ｃｍ２の紫外線を照射し、透明導電性フィルム（導電層厚み：１２０ｎｍ、絶縁層厚み：６μｍ）を得た。
【００５０】
＜評価＞
実施例および比較例で得られた透明導電性フィルムを以下の評価に供した。結果を表１に示す。
（１）表面抵抗値
透明導電性フィルムの作製に用いた導電性組成物を、ＰＥＴ基材上に塗布し、乾燥して、透明導電性フィルムが備える導電層と同じ厚みの評価用導電層（５０ｍｍ×５０ｍｍ）を形成させた。該評価用導電層について、三菱化学製ハイレスタ‐ＵＰ（ＭＣＰ−ＨＴ４５０型）を用いて、１０Ｖ１０秒後の表面抵抗値を測定した。
【００５１】
（２）全光線透過率
導電層をパターニングしなかったこと以外は、各実施例で作製した透明導電性フィルムの製造方法と同様にして、評価用積層体（５０ｍｍ×５０ｍｍ）を得た。該評価用積層体の全光線透過率を、村上色彩技術研究所製ヘイズメーター（ＨＭ−１５０型）を用いてＤ６５光源で測定した。
【００５２】
（３）触覚感度
得られた透明導電性フィルムの比誘電率を、アジレントテクノロジー社製の商品名「Ｅ４９８０ＡプレシジョンＬＣＲメータ」を用い、ＪＩＳ  Ｋ  ６９１１に準拠して測定した。同様に、透明導電性フィルムの製造に用いた基材の比誘電率を測定した。透明導電性フィルムの比誘電率が、基材の比誘電率の１．２倍以上の場合、当該透明導電性フィルムは触覚感度が良好なフィルムとして合格（表１中、〇）とした。
【００５３】
（４）タッチパネル動作確認
タッチパネル上に粘着剤（２３μｍ）を介し透明導電性フィルムを配置し、指で接触したときに反応があり、かつ、段差による物理的触覚刺激を感じない場合を合格（表１中、○）とした。
【００５４】
（５）透明導電性フィルム表面の段差
導電層が形成された部分の透明導電性フィルム厚みと、導電層が形成されていない部分の透明導電性フィルム厚みとの差を段差として評価した。
【００５５】
【表１】
2016224848.tif 000003
【符号の説明】
【００５６】
１０        基材
２０        絶縁層
３０        導電層
１００      透明導電性フィルム
【図１】
2016224848.tif 000004