(57)【要約】      （修正有）【課題】露光開始のタイミングを判断することにのみ使用するセンサを用いることなく、露光開始のタイミングを判断する技術を提供する。【解決手段】光学素子１１８を介して基板１１３を露光する露光装置１００に関する。光学素子１１８の周囲空間の温度を調整する温度調整部１３０と、光学素子１１８の位置を計測する計測器１２０と、計測器１２０による計測値を用いて光学素子１１８を位置決め制御するための制御部１５２を有する。さらに、温度調整部１３０の稼働中かつ位置決め制御の開始前において得られた計測値を用いて、露光を開始するタイミングを判断する判断部１５３とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学素子を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学素子の周囲空間の温度を調整する温度調整部と、
前記光学素子の位置を計測する計測器と、
前記計測器による計測値を用いて前記光学素子を位置決め制御するための制御部と、
前記温度調整部の稼働中かつ前記位置決め制御の開始前において得られた前記計測値を用いて、前記露光を開始するタイミングを判断する判断部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
前記判断部は、前記計測値と前記計測値に関する所定範囲とに基づいて前記露光を開始するタイミングを判断することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
所定時間、前記計測値が前記所定範囲内であれば、前記判断部は前記露光を開始するタイミングであると判断することを特徴とする請求項２に記載の露光装置。
【請求項４】
前記制御部は、前記判断部が前記露光を開始するタイミングであると判断した後に、前記光学素子の位置決め制御を開始することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項５】
前記光学素子を備え、マスクのパターンを前記基板上に投影する投影光学系を有し、
前記判断部は、前記温度調整部の稼働中かつ前記位置決め制御の開始前に得られた、前記計測値と前記マスクのパターンの投影状態とにより、前記露光を開始するタイミングを判断することを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の露光装置。
【請求項６】
光学素子を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学素子の周囲空間の温度を調整する温度調整部と、
前記光学素子の位置を計測する計測器と、
前記温度調整部の稼働中において前記計測器が計測した計測値を用いて、前記露光を開始するタイミングを判断する判断部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項７】
光学素子を介して基板を露光する露光装置であって、
前記光学素子の周囲空間の温度を調整する温度調整部と、
前記光学素子の位置を計測する計測器と、
前記温度調整部が稼働していない間に、前記計測器が計測した計測値が閾値を超えた場合に、前記温度調整部の稼働が必要であると判断する判断部とを有することを特徴とする露光装置。
【請求項８】
光学素子を介して基板を露光する露光工程の開始のタイミングを判断する判断方法であって、
光学素子の周囲空間の温度調整を開始するステップと、
前記光学素子の位置決め制御に用いる計測器で前記光学素子の位置を計測するステップと、
前記温度調整を開始後かつ前記光学素子の位置決め制御の開始前に得られた、前記位置の計測値を用いて、前記露光を開始するタイミングを判断するステップとを有することを特徴とする判断方法。
【請求項９】
前記温度調整を開始後かつ前記光学素子の位置決め制御の開始前に得られた、前記位置計測値と前記パターンの投影状態に基づいて前記露光を開始するタイミングを判断するステップを有することを特徴とする請求項８に記載の判断方法。
【請求項１０】
光学素子を介して基板を露光し、基板上にパターンを転写する露光工程の開始のタイミングを判断する判断方法であって、
光学素子の周囲空間の温度調整を開始するステップと、
前記光学素子の位置を計測するステップと、
前記温度調整を開始後に得られた前記位置の計測値を用いて、前記露光を開始するタイミングを判断するステップとを有することを特徴とする判断方法。
【請求項１１】
露光装置において光学素子の周囲空間の温度調整を開始するタイミングを判断する判断方法において、
前記温度調整を行っていない間に、前記光学素子の位置決め制御に用いる計測器で前記光学素子の位置を計測するステップと、
前記計測器による計測値が閾値に達した場合に、前記温度調整が必要であると判断するステップとを有することを特徴とする判断方法。
【請求項１２】
請求項１乃至７のいずれか１項に記載の露光装置を用いて、基板に光で露光する工程と、
前記露光された基板を現像する工程と、前記現像された基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、露光装置、判断方法、及び物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
マスクを介して光により基板を露光することにより、マスクに形成されているパターンを基板に転写する露光装置では、投影光学系のレンズを光軸方向に駆動することによりマスクに形成されているパターンに対する投影倍率を調整している。レンズは吸熱によって膨張、あるいは収縮しやすいことから、ステージの位置決め手段や制御基板等の発熱源による空間の温度変化に伴ってレンズの形状が不安定となる。更に、吸熱によるレンズの温度変化によりレンズの屈折率が変化してしまう。レンズの形状や屈折率が変化すると投影倍率も変化してしまうため、レンズの形状が不安定なまま露光をしてしまうとパターンの重ね合わせ精度が低下してしまう。
【０００３】
そこで、安定した投影倍率でマスクに形成されているパターンを投影できるようにするために、温度制御装置を用いて露光装置のレンズの周囲の気体の温度を安定させてから露光を開始している。露光開始のタイミングの判断方法例として、特許文献１に記載の方法が挙ある。特許文献１は、露光装置の複数箇所に配置した温度センサによる計測値が所定の温度範囲となったかどうかを判定し、その判定結果に基づいて露光を開始するタイミングを判断する技術が開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−３３０１６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献１の技術では、露光開始のタイミングを判断する目的のためだけに温度センサを配置しているため、当該温度センサの使用頻度は少ないにも関わらず露光装置への実装を増加させることとなる。よって、例えば、露光装置内のスペースの狭小化や、コスト増加の要因となる恐れがある。そこで、本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、露光開始のタイミングを判断することにのみ使用するセンサを用いることなく、露光開始のタイミングを判断することが可能な露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の露光装置は光学素子を介して基板を露光する露光装置であって、前記光学素子の周囲空間の温度を調整する温度調整部と、前記光学素子の位置を計測する計測器と、前記計測器による計測値を用いて前記光学素子を位置決め制御するための制御部と、前記温度調整部の稼働中かつ前記位置決め制御の開始前において得られた前記計測値を用いて、前記露光を開始するタイミングを判断する判断部とを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、露光開始のタイミングを判断することにのみ使用するセンサを用いることなく、露光開始のタイミングを判断することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】第１の実施形態に係る露光装置の構成図。
【図２】レンズの位置と時間の関係を示す図。
【図３】第１の実施形態に係る、温度安定判断に関するフローチャート。
【図４】第２の実施形態に係る、温度安定判断に関するフローチャート。
【図５】第２の実施形態に係る露光装置の構成図。
【図６】第３の実施形態に係る、温度安定判断に関するフローチャート。
【図７】レンズの位置と時間の関係を示す図。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［第１の実施形態］
第１の実施形態に係る露光装置１００の構成を、図１を用いて説明する。露光装置１００は大別して、露光部１１０と温度制御部（温度調整部）１３０と制御部１５０を有している。
【００１０】
露光部１１０は、レチクル（マスク）１１１を支持する支持台１１２と、ウエハ（基板）１１３を保持して露光範囲を駆動するステージ１１４と、レンズ（光学素子）１１８を介してレチクル１１１のパターンに露光のための光を照射するための光源１１５を有している。さらに、レチクル１１１のパターンをウエハ１１３上に縮小投影するための投影光学系１１６（以下、光学系１１６と称す）と、ステージ１１４を所定の位置に駆動させるリニアモータ１１７とを有している。
【００１１】
露光部１１０は、レチクル１１１及びレンズ１１８を含む光学系１１６を介して光によりウエハ１１３を露光し、レチクル１１１に形成されているパターンをウエハ１１３上のレジストに転写する。
【００１２】
アライメントスコープ１２２Ｌ、１２２Ｒは、レチクル１１１上に形成されているマークやマーク台１２３上に形成されているマークをＣＣＤやＣＭＯＳ等の撮像素子で検出する。これにより、光学系１１６の投影倍率を計測したり、不図示のアライメント光学系（オフアクシスアライメントスコープ）の光軸と光学系１１６の光軸との距離を確認することができる。
【００１３】
光学系１１６は複数のレンズを有している。光学系１１６が有するレンズの例として、光軸であるＺ軸方向に駆動可能な、３つのレンズ１１８を図示している。アクチュエータ１１９は対応するレンズ１１８を各々駆動制御する。また、位置センサ１２０は対応するレンズ１１８のＺ軸方向の位置を各々計測する。位置センサ１２０による計測値を用いて、アクチュエータ１１９は対応するレンズ１１８の位置決め制御（以下、サーボ制御と称す）をする。
【００１４】
アクチュエータ１１９によってレンズ１１８をＺ軸方向に駆動させることで、パターンの投影倍率が所定の倍率になるように補正をしている。アクチュエータ１１９はレンズ１１８を所定量駆動できる機構を有していれば良い。例えば、制御が容易なパルスモータや、微小駆動が可能なピエゾ素子等が挙げられる。
【００１５】
位置センサ１２０はレンズ１１８の位置を精度良く位置計測が可能なセンサが好ましく、例えば、エンコーダ、静電容量センサ、干渉計等が挙げられる。例えばエンコーダを使用する場合は、エンコーダの計測部を光学系１１６の鏡筒（不図示）に計測部を配置し、当該計測部と対面してレンズ１１８あるいはレンズ１１８を保持している部材に配置したスケールとの相対位置を測定する。位置センサ１２０は、その計測値がレンズの周囲空間（光学素子の周囲空間）の温度に依存しにくい計測器であることが好ましい。
【００１６】
なお、位置センサ１２０は絶対位置を直接計測するものであっても変位量を計測するものであっても良い。また、レンズ１１８の位置を計測するとは、レンズ１１８の位置を直接計測する場合だけでなく、保持部材の位置を介してレンズ１１８の位置を間接的に計測する場合も含む。
【００１７】
温度制御部１３０は、露光装置１００の内部に一定温度に制御された空気を供給して、レンズの周囲空間の温度を調整するシステムである。ここで、レンズの周囲空間とは、少なくとも露光部１１０を含む空間、あるいは少なくとも光学系１１６と位置センサ１２０とを含む空間を示す。
【００１８】
ファン１３１は露光部１１０内部の熱を排出するために空気を循環させる。すなわち、露光部１１０で温度上昇し、排出された空気を吸入し、吸入した空気を冷却器１３２、加熱器１３４を介して露光部１１０に再び送りこむための気流の流れを生じさせている。
【００１９】
冷却器１３２は通過する空気を冷却し、加熱器１３４は、露光部１１０に送りこまれる空気が設定温度になるように加熱をする。加熱器１３４は、温度センサ１３３によって計測された排出空気の温度と温調器１３５によって設定された温度に基づいて加熱器１３４を通過する空気が設定温度となるように調整する。このようにして、温度制御部１３０が、温度調整された空気を露光部１１０内で循環させている。
【００２０】
制御部１５０は、主制御部１５１と制御部１５２と判断部１５３とを有している。制御部１５２はレンズ駆動用のアクチュエータ１１９に駆動指令を与える。サーボ制御時には、位置センサ１２０が計測したレンズ１１８の位置と目標位置との差が小さくなるように、制御部１５２は、アクチュエータ１１９を介してレンズ１１８を駆動させる。
【００２１】
判断部１５３は、ウエハ１１３上にレチクル１１１のパターンの投影を開始するタイミング（露光を開始するタイミング）を判断する。判断部１５３はＣＰＵ（不図示）とメモリ（不図示）を有している。判断部１５３のＣＰＵは、位置センサ１２０が計測するレンズ１１８の位置の経時変化を利用してレンズ１１８の形状の安定度合いを判断する。
【００２２】
判断部１５３のメモリは、レンズ１１８の形状の安定度合いを判断する際に必要となる値を記憶している。レンズ１１８の形状の安定度合いを判断する際に必要となる値は、計測値に関する所定範囲である。計測値に関する所定範囲とは、例えば、レンズ１１８の位置の許容値の範囲、あるいはレンズ１１８が振幅をもって位置変動を繰り返す場合の振幅の許容範囲である。
【００２３】
主制御部１５１はＣＰＵ（不図示）とメモリ（不図示）を有している。メモリには後述の図３のフローチャートに示すプログラムが記憶されている。主制御部１５１のＣＰＵは、メモリ内のプログラムと判断部１５３の判断結果とに基づいて、制御部１５２に駆動開始や終了などの指示を与える。
【００２４】
なお、制御部１５０は、主制御部１５１と制御部１５２と判断部１５３の機能を備えているのであれば、１つの制御基板上に設けられた１つの装置であっても、図１のように別個の装置として設けられていても構わない。
【００２５】
次に、露光装置１００の電源を入れてから、レンズ１１８の位置計測値が安定し露光が開始となるタイミングを判断する方法について、図２及び図３を用いて説明する。図２は、時間とレンズ１１８の位置の関係を示す図である。レンズ１１８の所望の位置をＺｄとする。図３は、露光装置１００の温度制御部１３０の電源を入れる前の状態を開始点とするプログラムの内容を示すフローチャートである。主制御部１５１のＣＰＵが当該プログラムを実行することで、レンズ１１８の位置が安定し、露光を開始できるタイミングを求めることができる。
【００２６】
まず、ユーザが温度制御部１３０の電源を入れることで、温度制御部１３０は温調を開始する（Ｓ１０１）。温調開始後は、位置センサ１２０がレンズ１１８のＺ軸方向の位置を計測する（Ｓ１０２）。露光装置１１０の外気温度にほぼ等しかった露光部１１０の温度が、温調を開始することによって温度制御部１３０の設定温度に近づき始める。レンズ１１８周囲の温度変化に伴いレンズ１１８の膨張あるいは収縮が発生して、位置センサ１２０によるレンズ１１８の計測位置が微動し始める。
【００２７】
例えば図２に示すように、温調を開始すると非線形的に位置が変化する。レンズ１１８の位置は時間が経つにつれて所定の位置Ｚｄに収束し、位置の変動量も減少していく。
【００２８】
判断部１５３は、位置センサ１２０の計測結果から、予め設定された時間（所定時間）、レンズ１１８の位置計測値が所定の範囲内にあるかどうかを判断する（Ｓ１０３）。これにより、レンズ１１８の形状変化が少ない状態であるかどうか、すなわちレンズ１１８の状態が安定しているかどうかを判断部１５３は判断する。判断部１５３がレンズ１１８の位置が所定の範囲内である（ＹＥＳ）と判断した場合には、主制御部１５１は制御部１５２に対してレンズ１１８のサーボ制御を開始するように指示をする。サーボ制御を始めた後は、本プログラムを終了し、ウエハ１１３に対するレチクルパターンの露光を開始する。
【００２９】
一方、判断部１５３が、レンズ１１８の位置計測値が所定の範囲に無い（ＮＯ）と判断した場合は、引き続き位置センサ１２０により得られる計測値に基づいて、露光を開始できるタイミングとなったかどうかを判断する。
【００３０】
このように、本実施形態によれば温度制御部１３０の稼働中かつサーボ制御の開始前に計測された位置センサ１２０の計測値を用いて、露光開始のタイミングを判断することができる。レンズ１１８のサーボ制御に用いる位置センサ１２０の計測値とメモリに記憶している計測値に関する所定範囲とを用いて露光開始のタイミングを判断する。
【００３１】
露光開始のタイミングを判断するためだけに使用する温度センサのようなセンサを配置する必要はないため、実装の増大を伴わないという利点を有する。さらに応答の早い空間温度を介してではなく、温度変化に対する応答の遅いレンズの位置を介してレンズ１１８の状態を計測するため、より精度良くレンズ１１８の形状が安定したタイミングを判断することができる。
【００３２】
このような露光装置１００によれば、温度制御部１３０の稼働は必要な時に行えばよく、露光部１１０を使用しない間も常に温度制御部１３０を稼働させておく場合に比べて消費電力を低減することができる。さらに、温度制御部１３０の稼働を必要な時に行う場合の中でも設定した所定の待ち時間が経過した後に露光を開始するように制御する場合よりに比べて、早いタイミングで露光を開始することも可能となる効果も有する。
【００３３】
［第２の実施形態］
第２の実施形態に係る露光装置１００は、パターンの投影を開始するタイミングを判断するために、位置センサ１２０でレンズ１１８の状態の安定性を判断した後、さらに投影倍率の確認作業を行うことを特徴とする。主制御部１５１のメモリが、図４のフローチャートに示すプログラムを記憶している。また、判断部１５３はアライメントスコープ１２２Ｌ、１２２Ｒとも接続されている。
【００３４】
図４においてＳ２０１〜Ｓ２０３の工程は、第１の実施形態におけるＳ１０１〜Ｓ１０３と同様であるため説明を省略する。Ｓ２０３において判断部１５３がレンズの位置が所定の範囲内となり安定していると判断した場合、露光装置１００は投影倍率の確認をする（Ｓ２０４）。このとき、主制御部１５１がリニアモータ１１７に対して駆動指示を行い、図５に示すように、マーク台１２３が光学系１１６の下に位置するようにステージ１１４を駆動させる。
【００３５】
アライメントスコープ１２２Ｌがマーク台１２３上の２つのマークのうちの１つを検出し、撮像結果からマークの位置を求める。同様にして、アライメントスコープ１２２Ｒももう一方のマークの位置を求める。両スコープで検出したマーク台１２３に形成されているマーク同士の距離と、マーク台１２３に形成されている実際（設計上）のマーク間距離を用いて光学系１１６の投影倍率を求める。
【００３６】
判断部１５３は、得られた投影倍率が所定の倍率範囲内かどうかを判断し（Ｓ２０５）、所定の倍率である（ＹＥＳ）ことを確認できたら、レンズ１１８に対するサーボ制御をＯＮをＯＮにして露光開始動作を始める（Ｓ２０６）。所定の倍率ではない（ＮＯ）場合には、Ｓ２０４に戻り、再び投影倍率を確認する。Ｓ２０５において倍率誤差が大きい場合には、Ｓ２０３に戻り、位置センサ１２０と判断部１５３による判断から再開しても構わない。
【００３７】
本実施形態は、位置センサ１２０を使ったレンズ１１８の位置変化を介してレンズ状態の安定性判断に加えて、光学系１１６を用いてレンズ１１８の投影倍率を計測して、安定した投影倍率で露光開始するためのタイミングを求める。このように、温度制御部１３０の稼働中かつ制御部１２２の開始前に得られた、計測値とレチクル１１１のパターンの投影状態とにより、露光を開始するタイミングを判断する。
【００３８】
そのため、空間の温度計測を介してレンズ１１８の形状の安定性を評価する場合よりもより精度良く潜像パターンの精度に及ぼす影響を少なくできるという効果もある。位置センサ１２０の計測精度が多少低い場合であっても、最終的には実際の投影倍率からレンズ１１８の形状安定性を判断できるという利点がある。また、ある程度のレンズ１１８の安定性を判断してから投影倍率を確認するため、十分にレンズ１１８の形状が安定しないうちに光を露光した場合に生じる恐れがある、レンズ１１８の特性や形状の不可逆変化等のリスクを伴うこともない。
【００３９】
［第３の実施形態］
第３の実施形態に係る露光装置１００について図６及び図７を用いて説明する。本実施形態は、露光部１１０を長期的に稼働停止する場合に、温度制御部１３０の稼働停止期間を露光部１１０の稼働停止期間よりも短くしている。
【００４０】
判断部１５３の有するメモリには、温調制御を行っていない間に必要となる、レンズ１１８の位置に対する閾値が記憶されている。図６は、露光を終了し、かつ温度制御を終了した後の工程を示すフローチャートである。図７は、図６のフローチャートに対応しており、各時刻におけるレンズ１１８の位置を示している。主制御部１５１のメモリが、図６のフローチャートに示すプログラムを記憶している。
【００４１】
主制御部１５１は、露光終了後に温度制御部１３０を含む露光装置１００の大部分の電源を切る（Ｓ３０１）。しかし、少なくとも位置センサ１２０と判断部１５３と主制御部１５１は機能するようにしておく。温度制御部１３０による温度制御をしていない間も、位置センサ１２０はレンズ１１８の位置を計測する。レンズ１１８の周囲の空間の温度が変化し始めるとレンズ１１８の位置も変化し始める。すなわち、温度制御中にはほぼ一定の位置Ｚｄにあったレンズ１１８の位置が変化し始める（図７の区間Ａ）。
【００４２】
判断部１５３は位置センサ１２０の値が閾値Ｚｄ’に達したかどうかを判断する（Ｓ３０２）。ここで、閾値Ｚｄ’はレンズ１１８の形状変化が所定量以上とならないようにするために設けられている。判断部１５３が、レンズ１１８が周囲の温度変化によって変形しすぎないように監視しておくことで、露光動作の再開時にレンズ１１８がすぐに温調された雰囲気になじみ、露光開始可能になるまでの待機時間を短くすることができる。
【００４３】
判断部１５３が、レンズ１１８の位置が閾値に達したと判断した（ＹＥＳ）場合は、判断部１５３が温度制御部１３０による温度調整が必要と判断する。そして主制御部１５１が温度制御部１３０の電源を入れるように指示をする（Ｓ３０３）。温度制御部１３０の電源が入ると、レンズ１１８の位置は位置Ｚｄに近づくようになる。一方、レンズ１１８の位置が閾値に達していない（ＮＯ）の場合は温度制御をしない状態をそのまま維持する（図７の区間Ｂ）。
【００４４】
温度制御を再開した後（図７の区間Ｃ）は、判断部１５３は、レンズ１１８の位置が安定位置Ｚｄになるかどうかを判断する（Ｓ３０４）。安定位置Ｚｄになったと判断した（ＹＥＳ）場合は、再び温度制御を終了して待機させる（図７の区間Ｄ）。安定位置Ｚｄにではない（ＮＯ）間は、温度制御を続ける。Ｓ３０４の工程を終了後は、Ｓ３０１〜Ｓ３０４の工程を、露光を開始するときまで繰り返す。
【００４５】
このように位置センサ１２０を利用しながら、判断部１５３はレンズの周囲空間の温度調整を開始するタイミングを判断する。これにより、露光装置１００は適切なタイミングで温度制御部１３０の電源の入切を切り替える。これにより、露光を長期間行わない間はなるべく温度制御部１３０が稼働する時間を減らして消費電力を低減させ、かつ本制御に関する部品以外の電源を投入後にレンズ１１８の状態が安定するまでの時間を短くできるという効果を有する。
【００４６】
［その他の実施形態］
保持部材の位置を介してレンズ１１８の位置を間接的に計測する場合、当該保持部材よりも位置センサ１２０を支持する部材（不図示）のほうが温度変化の影響を受けて位置変動しやすい場合がある。このような場合であっても、温度制御部１３０の稼働中かつ制御部１５２による位置決め制御の開始前において得られた位置センサ１２０の計測値を用いて、判断部１５３は露光を開始するタイミングを判断することが可能である。レンズ１１８の絶対位置に計測誤差が生じる可能性はあるが、レンズ１１８の周囲の温度が所定の温度に近づくにつれて位置センサ１２０による計測値の変動が収束していくことに変わりはない。そのため、計測値が、計測値に関する所定範囲内に収束した場合に、判断部１５３が露光を開始するタイミングを判断することができる。
【００４７】
保持部材と位置センサ１２０を支持する部材との相対位置が変化しにくい場合は、レーザ干渉計のように、計測値が熱に対して敏感に応答するセンサを位置センサ１２０として使用しても良い。位置センサ１２０による計測値の変動が、計測値に関する所定範囲内に収束した場合に、判断部１５３が露光を開始するタイミングを判断することができる。
【００４８】
図１に示すようにレンズ１１８が複数あり、各々のレンズ１１８に対応する位置センサ１２０が複数ある場合について説明する。例えば、判断部１５３は、周囲の温度に最も敏感なレンズ１１８の位置計測値を用いて、露光を開始できるタイミングとなったかどうかを判断する。
【００４９】
複数の計測値を用いる場合は、所定の数のレンズ１１８の位置計測値が所定の範囲内になった場合に、露光を開始できるタイミングとなったと判断することができる。複数の計測値を用いる場合に、複数のレンズ１１８の位置の、複数のレンズ１１８に各々対応する所望の位置Ｚｄからのずれ量を求めても良い。これらの平均値が所定範囲内になった場合に、判断部１５３が露光を開始できるタイミングとなったと判断しても良い。
【００５０】
位置センサ１２０は必ずしもＺ軸方向の位置を計測する必要はない。パターンの露光中に倍率補正以外に用いるレンズであって、ＸＹ平面内でサーボ制御するレンズが有る場合には、その位置センサによって得られる計測値を介してレンズの形状変化をモニタリングして、露光開始のタイミングを判断しても良い。
【００５１】
温度制御部は、前述の実施形態のように常圧の気体の温度を調整してもよいし、比較的真空度が高い空間内の温度を調整してもよい。本発明に係る光学素子は、位置決め制御の対象であるミラーも含むものとする。  本発明に係る露光装置が基板に対して投影する光は、ＫｒＦ光（波長２４８ｎｍ）、ＡｒＦ光（波長１９３ｎｍ）といった紫外線領域の光に限られるわけではなく、ｉ線（波長３６５ｎｍ）や可視光領域の光であるｇ線（波長４３６ｎｍ）でも構わない。
【００５２】
また、本発明に係る露光装置における投影光学系は、複数のレンズやプレート等を有する形態や、球面または非球面の凹面鏡と複数のレンズとを組み合わせてなる形態などがある。
【００５３】
［物品の製造方法］
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、ＣＤ−ＲＷ、光学素子、フォトマスク等）の製造方法は、前述の実施形態の露光装置を用いて基板（ウエハやガラス板等）上にパターンを露光する工程と、露光された基板を現像する工程と、現像後の基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを含む。さらに、他の周知の処理工程（酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００５４】
１１１  レチクル
１１３  ウエハ
１１８  レンズ
１１９  アクチュエータ
１２０  位置センサ
１３０  温度制御部
１５１  主制御部
１５２  制御部（レンズ用）
１５３  判断部
２００  露光装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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