(57)【要約】【課題】表示品位を向上することが可能な液晶表示パネルを提供する。【解決手段】液晶表示パネルは、第１画素電極と、前記第１画素電極と隣り合う第２画素電極と、を備える第１基板と、前記第１基板に隙間を置いて対向した第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、前記第１画素電極と対向する第１カラーフィルタと、前記第２画素電極と対向し前記第１カラーフィルタとは異なる色の第２カラーフィルタと、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に位置し、前記第１基板と前記第２基板との間に介在する第１突出部と、前記第１突出部の側壁に形成された第１光反射膜と、を備える。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１画素電極と、前記第１画素電極と隣り合う第２画素電極と、を備える第１基板と、
前記第１基板に隙間を置いて対向した第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、
前記第１画素電極と対向する第１カラーフィルタと、
前記第２画素電極と対向し前記第１カラーフィルタとは異なる色の第２カラーフィルタと、
前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に位置し、前記第１基板と前記第２基板との間に介在する第１突出部と、
前記第１突出部の側壁に形成された第１光反射膜と、を備える液晶表示パネル。
【請求項２】
前記第１基板に備えられ、前記第２画素電極に対して前記第１画素電極の反対側に位置し、前記第２画素電極と隣り合う第３画素電極と、
前記第３画素電極と対向し、前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタとは異なる色の第３カラーフィルタと、
前記第２画素電極と前記第３画素電極との間に位置し、前記第１基板と前記第２基板との間に介在する第２突出部と、
前記第２突出部の側壁に形成された第２光反射膜と、をさらに備える請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項３】
前記第１突出部は、前記第１基板及び前記第２基板の少なくとも一方に備えられる請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項４】
前記第１突出部は、前記第１基板に備えられ、前記第２基板側に突出し、順テーパ状に形成され、前記第２基板と対向した天面と、前記天面の面積より大きい面積を有した底面と、を備える請求項３に記載の液晶表示パネル。
【請求項５】
前記第１突出部は、前記第１基板及び前記第２基板との間の前記隙間を保持する請求項１乃至４の何れか１項に記載の液晶表示パネル。
【請求項６】
前記第１カラーフィルタ及び前記第２カラーフィルタは、前記第２基板に備えられる請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項７】
前記第１基板に備えられ、前記第１画素電極と前記第２画素電極とが隣り合う第１方向に交差する第２方向に前記第１画素電極と隣り合う第４画素電極と、
前記第１基板に備えられ、前記第１方向に前記第４画素電極と隣り合い、前記第２方向に前記第２画素電極と隣り合う第５画素電極と、
をさらに備え、
前記第１カラーフィルタは、前記第２方向に延在し、前記第４画素電極とさらに対向し、
前記第２カラーフィルタは、前記第２方向に延在し、前記第５画素電極とさらに対向し、
前記第１突出部は、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に位置した第１分割部と、前記第１分割部に隙間を置き前記第４画素電極と前記第５画素電極との間に位置した第２分割部と、を有し、
前記第１光反射膜は、前記第１分割部の側壁に形成された第１光反射層と、前記第２分割部の側壁に形成された第２光反射層と、を有する請求項１に記載の液晶表示パネル。
【請求項８】
前記第１方向に延在した遮光層をさらに備え、
前記第１分割部と前記第２分割部との間の前記隙間は、前記遮光層と対向した領域内に形成されている請求項７に記載の液晶表示パネル。
【請求項９】
前記第１基板は、絶縁膜をさらに備え、
前記第１画素電極、前記第２画素電極及び前記第１突出部は、前記絶縁膜の上に形成され、
前記第１画素電極、前記第２画素電極及び前記第１光反射膜は、同一材料で形成されている請求項１に記載の液晶表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、液晶表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置などの表示装置は、各種分野で利用されている。例えば、液晶表示装置は、液晶表示パネルを備えている。液晶表示装置は、第１基板と、第１基板に対向するように設けられた第２基板と、第１基板と第２基板との間に保持された液晶層と、を備えている。  
ところで、液晶の配向を安定させる目的で、片側の基板上に配向制御のための突出部を設ける技術が知られている。第２基板上に遮光層が形成され、突出部は遮光層に対向している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−１５７２２４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本実施形態は、表示品位を向上することが可能な液晶表示パネルを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
一実施形態に係る液晶表示パネルは、
第１画素電極と、前記第１画素電極と隣り合う第２画素電極と、を備える第１基板と、前記第１基板に隙間を置いて対向した第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に保持された液晶層と、前記第１画素電極と対向する第１カラーフィルタと、前記第２画素電極と対向し前記第１カラーフィルタとは異なる色の第２カラーフィルタと、前記第１画素電極と前記第２画素電極との間に位置し、前記第１基板と前記第２基板との間に介在する第１突出部と、前記第１突出部の側壁に形成された第１光反射膜と、を備える。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、第１の実施形態に係る液晶表示装置の構成を概略的に示す斜視図である。
【図２】図２は、図１に示した液晶表示パネルを示す概略断面図である。
【図３】図３は、図１及び図２に示したアレイ基板の概略構成を示す平面図である。
【図４】図４は、上記液晶表示パネルの２個の単位画素を示す概略構成図であり、遮光層及びカラーフィルタを示す平面図である。
【図５】図５は、上記液晶表示パネルの２個の単位画素を示す概略構成図であり、突出部及び光反射膜を示す平面図である。
【図６】図６は、図５の線ＶＩ−ＶＩに沿って上記液晶表示パネルの一部の構造を概略的に示す断面図である。
【図７】図７は、第２の実施形態に係る液晶表示パネルを示す概略構成図であり、４個の単位画素を示す概略構成図である。
【図８】図８は、上記第２の実施形態に係る液晶表示パネルの１個の単位画素を示す概略構成図であり、遮光層及びカラーフィルタを示す平面図である。
【図９】図９は、上記第２の実施形態に係る液晶表示パネルの１個の単位画素を示す概略構成図であり、突出部及び光反射膜を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明の各実施形態について、図面を参照しながら説明する。なお、開示はあくまで一例に過ぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は、説明をより明確にするため、実際の態様に比べて、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同一又は類似した機能を発揮する構成要素には同一の参照符号を付し、重複する詳細な説明を適宜省略することがある。
【０００８】
まず、第１の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰについて詳細に説明する。  
図１は、液晶表示装置ＤＳＰの構成を概略的に示す斜視図である。ここでは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙは、互いに直交しているが、９０°以外の角度で交差していてもよい。第３方向Ｚは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙのそれぞれと互いに直交している。
【０００９】
図１に示すように、液晶表示装置ＤＳＰは、アクティブマトリクス型の液晶表示パネルＰＮＬ、液晶表示パネルＰＮＬを駆動する駆動部ＩＣ、液晶表示パネルＰＮＬを照明するバックライトユニットＢＬ，制御モジュールＣＭ，フレキシブル配線基板ＦＰＣ１，ＦＰＣ２などを備えている。
【００１０】
液晶表示パネルＰＮＬは、平板状のアレイ基板ＡＲと、アレイ基板ＡＲに隙間を置いて対向した平板状の対向基板ＣＴとを備えている。本実施形態において、アレイ基板ＡＲは第１基板として機能し、対向基板ＣＴは第２基板として機能している。液晶表示パネルＰＮＬは、画像を表示する表示領域ＤＡ、及び表示領域ＤＡを囲む額縁状の非表示領域ＮＤＡを備えている。液晶表示パネルＰＮＬは、表示領域ＤＡの中で第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列された複数の画素ＰＸを備えている。
【００１１】
バックライトユニットＢＬは、アレイ基板ＡＲの背面に配置されている。このようなバックライトユニットＢＬとしては、種々の形態が適用可能であるが、詳細な構造については説明を省略する。  
駆動部ＩＣは、アレイ基板ＡＲ上に実装されている。フレキシブル配線基板ＦＰＣ１は、液晶表示パネルＰＮＬと制御モジュールＣＭとを接続している。フレキシブル配線基板ＦＰＣ２は、バックライトユニットＢＬと制御モジュールＣＭとを接続している。
【００１２】
図２は、図１に示した液晶表示パネルＰＮＬを示す概略断面図である。  
図２に示すように、液晶表示パネルＰＮＬは、さらに、シール材ＳＥ、液晶層ＬＱ，第１光学素子ＯＤ１、及び第２光学素子ＯＤ２を備えている。アレイ基板ＡＲは第１絶縁基板１０を有し、対向基板ＣＴは第２絶縁基板２０を有している。
【００１３】
シール材ＳＥは、非表示領域ＮＤＡに配置され、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとを接着している。液晶層ＬＱは、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に保持され、アレイ基板ＡＲ、対向基板ＣＴ及びシール材ＳＥで囲まれた空間に形成されている。
【００１４】
第１絶縁基板１０及び第２絶縁基板２０は、ガラスや有機材料などの、透明性を有する絶縁材料によって形成されている。第１光学素子ＯＤ１は、アレイ基板ＡＲの液晶層ＬＱに接する面の反対側に配置されている。第２光学素子ＯＤ２は、対向基板ＣＴの液晶層ＬＱに接する面の反対側に配置されている。第１光学素子ＯＤ１及び第２光学素子ＯＤ２は、それぞれ少なくとも偏光板を含んでおり、必要に応じて位相差板を含んでいてもよい。第１光学素子ＯＤ１に含まれる偏光板の吸収軸は、例えば、第２光学素子ＯＤ２に含まれる偏光板の吸収軸と直交している。
【００１５】
図３は、図１及び図２に示したアレイ基板ＡＲの概略構成を示す平面図である。  
図３に示すようにアレイ基板ＡＲは、ゲート線Ｇ、信号線Ｓ、画素電極ＰＥ、スイッチング素子ＳＷ、第１駆動回路ＤＲ１、第２駆動回路ＤＲ２、パッドＰ、及びリード線Ｌを備えている。
【００１６】
複数のゲート線Ｇは、表示領域ＤＡにおいて、第１方向Ｘに延在し第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。この実施形態において、ゲート線Ｇは、第１方向Ｘに直線的に延在している。複数の信号線Ｓは、表示領域ＤＡにおいて、第２方向Ｙに延在し、複数のゲート線Ｇと交差し、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。なお、信号線Ｓは、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、一部が屈曲していたり、第２方向Ｙから傾いていたりしてもよい。画素電極ＰＥは、画素ＰＸに対応して配置されている。すなわち、画素電極ＰＥは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配列されている。スイッチング素子ＳＷは、ゲート線Ｇと信号線Ｓとに電気的に接続されている。画素電極ＰＥは、スイッチング素子ＳＷに電気的に接続されている。スイッチング素子ＳＷは、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）を利用して形成されている。本実施形態において、スイッチング素子ＳＷは、ダブルゲート型の薄膜トランジスタで形成されている。但し、スイッチング素子ＳＷは、ダブルゲート型の薄膜トランジスタに限定されるものではなく、種々変形可能であり、例えばシングルゲート型の薄膜トランジスタで形成されていてもよい。
【００１７】
第１駆動回路ＤＲ１及び第２駆動回路ＤＲ２は、非表示領域ＮＤＡに配置されている。第１駆動回路ＤＲ１は、非表示領域ＮＤＡに引き出されたゲート線Ｇと電気的に接続されている。第２駆動回路ＤＲ２は、非表示領域ＮＤＡに引き出された信号線Ｓと電気的に接続されている。パッドＰはアレイ基板ＡＲの第２方向Ｙの端部に形成されている。リード線Ｌは、非表示領域ＮＤＡに位置している。リード線Ｌとしては、第１駆動回路ＤＲ１とパッドＰとを電気的に接続するリード線や、第２駆動回路ＤＲ２とパッドＰとを電気的に接続するリード線を挙げることができる。
【００１８】
第１駆動回路ＤＲ１は、ゲート線Ｇに制御信号を与える。第２駆動回路ＤＲ２は、信号線Ｓに画像信号（例えば、映像信号）を与える。パッドＰは、第１駆動回路ＤＲ１及び第２駆動回路ＤＲ２と、図示しない制御モジュールと電気的に接続されている。
【００１９】
本実施形態において、複数の単位画素ＵＰＸは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に配置されている。単位画素ＵＰＸは、第１方向Ｘに隣合う画素ＰＸＲ、画素ＰＸＧ、及び画素ＰＸＢの３個の画素ＰＸによって形成されている。画素ＰＸＲ、画素ＰＸＧ、及び画素ＰＸＢは、例えば、何れも同等のサイズに形成されている。画素ＰＸは、スイッチング素子ＳＷ及び画素電極ＰＥを有している。
【００２０】
図４は、液晶表示パネルＰＮＬの２個の単位画素ＵＰＸを示す概略構成図であり、遮光層ＢＭ及びカラーフィルタＣＦを示す平面図である。図４には、図３に示した複数の単位画素ＵＰＸのうち、第２方向Ｙに隣り合う２個の単位画素ＵＰＸを示している。図４では、２個の単位画素ＵＰＸのうち、一方を単位画素ＵＰＸ１とし、他方を単位画素ＵＰＸ２として説明する。
【００２１】
図４に示すように、単位画素ＵＰＸ１は、第１方向Ｘに隣り合う第１画素ＰＸＲ１、第２画素ＰＸＧ１、及び第３画素ＰＸＢ１の３個の画素ＰＸによって形成されている。単位画素ＵＰＸ２は、第２方向Ｙに単位画素ＵＰＸ１と隣り合っている。単位画素ＵＰＸ２は、第１方向Ｘに隣り合う第４画素ＰＸＲ２、第５画素ＰＸＧ２、及び第６画素ＰＸＢ２の３個の画素ＰＸによって形成されている。第４画素ＰＸＲ２は、第２方向Ｙに第１画素ＰＸＲ１と隣り合っている。第５画素ＰＸＧ２は、第２方向Ｙに第２画素ＰＸＧ１と隣り合っている。第６画素ＰＸＢ２は、第２方向Ｙに第３画素ＰＸＢ１と隣り合っている。
【００２２】
液晶表示パネルＰＮＬは、単位画素ＵＰＸ１に対応付けられた第１乃至第３画素領域Ａ１乃至Ａ３と、単位画素ＵＰＸ２に対応付けられた第４乃至第６画素領域Ａ４乃至Ａ６を有している。第１乃至第３画素領域Ａ１乃至Ａ３は第１方向Ｘに並び、第４乃至第６画素領域Ａ４乃至Ａ６は第１方向Ｘに並び、第１画素領域Ａ１及び第４画素領域Ａ４は第２方向Ｙに並び、第２画素領域Ａ２及び第５画素領域Ａ５は第２方向Ｙに並び、第３画素領域Ａ３及び第６画素領域Ａ６は第２方向Ｙに並んでいる。
【００２３】
第１画素ＰＸＲ１は、大まかに第１画素領域Ａ１に形成されている。第２画素ＰＸＧ１は、大まかに第２画素領域Ａ２に形成されている。第３画素ＰＸＢ１は、大まかに第３画素領域Ａ３に形成されている。第４画素ＰＸＲ２は、大まかに第４画素領域Ａ４に形成されている。第５画素ＰＸＧ２は、大まかに第５画素領域Ａ５に形成されている。第６画素ＰＸＢ２は、大まかに第６画素領域Ａ６に形成されている。第１画素ＰＸＲ１に注目すると、例えば、第１画素ＰＸＲ１のスイッチング素子の一部が第１画素領域Ａ１の外側にはみ出している場合があり得る。
【００２４】
カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭは、対向基板ＣＴに形成されている。本実施形態において、対向基板ＣＴは３色のカラーフィルタＣＦを有している。以下、３色のカラーフィルタＣＦをカラーフィルタ（第１カラーフィルタ）ＣＦＡ、カラーフィルタ（第２カラーフィルタ）ＣＦＢ、及びカラーフィルタ（第３カラーフィルタ）ＣＦＣとして説明する。カラーフィルタＣＦＡ、カラーフィルタＣＦＢ、及びカラーフィルタＣＦＣは、第１方向Ｘに順に並べられ、何れも第２方向Ｙに沿って延在し、帯状に形成されている。
【００２５】
図４及び図３に示すように、カラーフィルタＣＦＡは、第１画素ＰＸＲ１及び第４画素ＰＸＲ２など第２方向Ｙに並んだ複数の画素で共用され、これらの画素の画素電極ＰＥと対向している。上記の画素電極ＰＥとしては、第１画素ＰＸＲ１の画素電極（第１画素電極）ＰＥ、第４画素ＰＸＲ２の画素電極（第４画素電極）ＰＥなどを挙げることができる。カラーフィルタＣＦＢは、第２画素ＰＸＧ１及び第５画素ＰＸＧ２など第２方向Ｙに並んだ複数の画素で共用され、これらの画素の画素電極ＰＥと対向している。上記の画素電極ＰＥとしては、第２画素ＰＸＧ１の画素電極（第２画素電極）ＰＥ、第５画素ＰＸＧ２の画素電極（第５画素電極）ＰＥなどを挙げることができる。カラーフィルタＣＦＣは、第３画素ＰＸＢ１及び第６画素ＰＸＢ２など第２方向Ｙに並んだ複数の画素で共用され、これらの画素の画素電極ＰＥと対向している。上記の画素電極ＰＥとしては、第３画素ＰＸＢ１の画素電極（第３画素電極）ＰＥ、第６画素ＰＸＢ２の画素電極（第６画素電極）ＰＥなどを挙げることができる。
【００２６】
図４に示すように、カラーフィルタＣＦＡ、カラーフィルタＣＦＢ、カラーフィルタＣＦＣは、それぞれ異なる色のカラーフィルタであり、例えば、カラーフィルタＣＦＡは、赤色（Ｒ）のカラーフィルタである。カラーフィルタＣＦＢは、緑（Ｇ）のカラーフィルタである。カラーフィルタＣＦＣは、青色（Ｂ）のカラーフィルタである。
【００２７】
遮光層ＢＭは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙに格子状に形成されている。遮光層ＢＭは、第１乃至第６画素領域Ａ１乃至Ａ６を区画するように形成されている。つまり、遮光層ＢＭは、複数の画素領域Ａの境界と対向し、上記境界を跨いでいる。遮光層ＢＭは、複数の遮光部ＢＭ１及び複数の遮光部ＢＭ２を有している。複数の遮光部ＢＭ１は、第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。各遮光部ＢＭ１は、図３で示した１本のゲート線Ｇと対向している。その他、遮光部ＢＭ１は、例えば、図３に示したスイッチング素子ＳＷの少なくとも一部と対向している。この実施形態において、遮光部ＢＭ１の形状はゲート線の形状に対応付けられ、遮光部ＢＭ１は、帯状に形成され、第１方向Ｘに直線的に延出している。複数の遮光部ＢＭ２は、第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。各遮光部ＢＭ２は、図３で示した１本の信号線Ｓと対向している。なお、遮光部ＢＭ２は、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、一部が屈曲していたり、第２方向Ｙから傾いていたりしてもよい。この実施形態において、遮光部ＢＭ２の形状は信号線Ｓの形状に対応付けられている。遮光部ＢＭ１及び遮光部ＢＭ２は一体的に形成され、交差部を共有している。
【００２８】
図５は、液晶表示パネルＰＮＬの２個の単位画素ＵＰＸ１、ＵＰＸ２を示す概略構成図であり、突出部Ｔ及び光反射膜Ｍを示す平面図である。なお、突出部Ｔ、光反射膜Ｍ、及び遮光部ＢＭ１の位置関係を示すため、遮光部ＢＭ１は図中に破線で示されている。本実施形態において、突出部Ｔ及び光反射膜Ｍは、アレイ基板ＡＲに備えられている。本実施形態において、アレイ基板ＡＲは、３種類の突出部Ｔ及び３種類の光反射膜Ｍを有している。以下、３種類の突出部Ｔを、突出部（第１突出部）Ｔ１、突出部（第２突出部）Ｔ２、及び突出部（第３突出部）Ｔ３として説明する。また、３種類の光反射膜Ｍを、光反射膜（第１光反射膜）Ｍ１、光反射膜（第２光反射膜）Ｍ２、光反射膜（第３光反射膜）Ｍ３として説明する。
【００２９】
まず、突出部Ｔと画素電極ＰＥとの位置関係に注目する。  
図５及び図３に示すように、突出部Ｔ１は、第１方向Ｘに隣り合う、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸＲの画素電極ＰＥと、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸＧの画素電極ＰＥと、の間に位置している。突出部Ｔ１は、１本の信号線Ｓと対向し、上記信号線Ｓに沿って延在している。突出部Ｔ２は、第１方向Ｘに隣り合う、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸＧの画素電極ＰＥと、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸＢの画素電極ＰＥと、の間に位置している。突出部Ｔ２は、１本の信号線Ｓと対向し、上記信号線Ｓに沿って延在している。突出部Ｔ３は、第１方向Ｘに隣り合う、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸＢの画素電極ＰＥと、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸＲの画素電極ＰＥと、の間に位置している。突出部Ｔ３は、１本の信号線Ｓと対向し、上記信号線Ｓに沿って延在している。なお、突出部Ｔ３は、第１方向Ｘに隣り合う単位画素ＵＰＸの境界に位置している。
【００３０】
次に、突出部ＴとカラーフィルタＣＦとの位置関係に注目する。ここでは、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に位置ずれが生じることなく、正規の位置でアレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとが対向していることを前提に説明する。なお、上記の前提は、図５や図６の記載にも反映されている。
【００３１】
図５及び図４に示すように、突出部Ｔ１は、カラーフィルタＣＦＡとカラーフィルタＣＦＢとの境界に対向し、上記の境界に沿って延出している。突出部Ｔ２は、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＣとの境界に対向し、上記の境界に沿って延出している。突出部Ｔ３は、カラーフィルタＣＦＣとカラーフィルタＣＦＡとの境界に対向し、上記の境界に沿って延出している。
【００３２】
図５に示すように、突出部Ｔ１は、第１分割部Ｔ１１、第２分割部Ｔ１２などの複数の分割部を有している。これらの分割部は、隙間を置いて並んでいる。第１分割部Ｔ１１は、第１画素領域Ａ１及び第２画素領域Ａ２の境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。第１分割部Ｔ１１の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。第２分割部Ｔ１２は、第４画素領域Ａ４及び第５画素領域Ａ５の境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。第２分割部Ｔ１２の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。例えば、遮光部ＢＭ１と対向した領域内において、第１分割部Ｔ１１及び第２分割部Ｔ１２は、隙間ｃを置いて形成されている。
【００３３】
突出部Ｔ２は、第１分割部Ｔ２１、第２分割部Ｔ２２などの複数の分割部を有している。これらの分割部は、隙間を置いて並んでいる。第１分割部Ｔ２１は、第２画素領域Ａ２及び第３画素領域Ａ３の境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。第１分割部Ｔ２１の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。第２分割部Ｔ２２は、第５画素領域Ａ５及び第６画素領域Ａ６の境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。第２分割部Ｔ２２の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。例えば、遮光部ＢＭ１と対向した領域内において、第１分割部Ｔ２１及び第２分割部Ｔ２２は、隙間ｃを置いて形成されている。
【００３４】
突出部Ｔ３は、第１分割部Ｔ３１、第２分割部Ｔ３２などの複数の分割部を有している。これらの分割部は、隙間を置いて並んでいる。第１分割部Ｔ３１は、第３画素領域Ａ３及び第１画素領域Ａ１の境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。第１分割部Ｔ３１の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。第２分割部Ｔ３２は、第６画素領域Ａ６及び第４画素領域Ａ４の境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。第２分割部Ｔ３２の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。例えば、遮光部ＢＭ１と対向した領域内において、第１分割部Ｔ３１及び第２分割部Ｔ３２は、隙間ｃを置いて形成されている。
【００３５】
光反射膜Ｍ１は、突出部Ｔ１の両側に設けられ、突出部Ｔ１の側壁に形成されている。この実施形態において、光反射膜Ｍ１は、第１光反射層Ｍ１１、第２光反射層Ｍ１２などの複数の光反射層を有している。第１光反射層Ｍ１１は、第１分割部Ｔ１１の両側に設けられ、第１分割部Ｔ１１の側壁に形成されている。第２光反射層Ｍ１２は、第２分割部Ｔ１２の両側に設けられ、第２分割部Ｔ１２の側壁に形成されている。  
本実施形態において、光反射膜Ｍ１は、突出部Ｔ１の両方の側壁上に全体的に設けられている。ここでは、第１光反射層Ｍ１１は第１分割部Ｔ１１の両方の側壁上に全体的に設けられ、第２光反射層Ｍ１２は第２分割部Ｔ１２の両方の側壁上に全体的に設けられている。
【００３６】
光反射膜Ｍ２は、突出部Ｔ２の両側に設けられ、突出部Ｔ２の側壁に形成されている。この実施形態において、光反射膜Ｍ２は、第１光反射層Ｍ２１、第２光反射層Ｍ２２などの複数の光反射層を有している。第１光反射層Ｍ２１は、第１分割部Ｔ２１の両側に設けられ、第１分割部Ｔ２１の側壁に形成されている。第２光反射層Ｍ２２は、第２分割部Ｔ２２の両側に設けられ、第２分割部Ｔ２２の側壁に形成されている。  
本実施形態において、光反射膜Ｍ２は、突出部Ｔ２の両方の側壁上に全体的に設けられている。ここでは、第１光反射層Ｍ２１は第１分割部Ｔ２１の両方の側壁上に全体的に設けられ、第２光反射層Ｍ２２は第２分割部Ｔ２２の両方の側壁上に全体的に設けられている。
【００３７】
光反射膜Ｍ３は、突出部Ｔ３の両側に設けられ、突出部Ｔ３の側壁に形成されている。この実施形態において、光反射膜Ｍ３は、第１光反射層Ｍ３１、第２光反射層Ｍ３２などの複数の光反射層を有している。第１光反射層Ｍ３１は、第１分割部Ｔ３１の両側に設けられ、第１分割部Ｔ３１の側壁に形成されている。第２光反射層Ｍ３２は、第２分割部Ｔ３２の両側に設けられ、第２分割部Ｔ３２の側壁に形成されている。  
本実施形態において、光反射膜Ｍ３は、突出部Ｔ３の両方の側壁上に全体的に設けられている。ここでは、第１光反射層Ｍ３１は第１分割部Ｔ３１の両方の側壁上に全体的に設けられ、第２光反射層Ｍ３２は第２分割部Ｔ３２の両方の側壁上に全体的に設けられている。
【００３８】
図６は、図５の線ＶＩ−ＶＩに沿って液晶表示パネルＰＮＬの一部の構造を概略的に示す断面図である。  
図６に示すように、アレイ基板ＡＲは、第１絶縁基板１０の対向基板ＣＴに対向する側に、信号線Ｓ、共通電極ＣＥ、画素電極ＰＥ、突出部Ｔ、光反射膜Ｍ、第１絶縁膜１１、第２絶縁膜１２、第３絶縁膜１３（絶縁膜）、第１配向膜ＡＬ１などを備えている。
【００３９】
第１絶縁膜１１は、第１絶縁基板１０の上に形成されている。なお、詳述しないが、スイッチング素子は、トップゲート構造又はボトムゲート構造を有する薄膜トランジスタで形成されている。本実施形態では、スイッチング素子は、トップゲート構造を有する薄膜トランジスタで形成されている。このような実施形態では、第１絶縁膜１１は、第３方向Ｚに積層された複数の絶縁層を含んでいる。例えば、第１絶縁膜１１は、第１絶縁基板１０とスイッチング素子の半導体層との間に介在するアンダーコート絶縁層、半導体層とゲート線（ゲート電極）との間に介在するゲート絶縁層、ゲート線と信号線との間に介在する層間絶縁層などの各種の絶縁層を含んでいる。第２絶縁膜１２は、第１絶縁膜１１及び信号線Ｓの上に形成されている。
【００４０】
ここで、液晶表示パネルＰＮＬは、表示モードとしてＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードに対応した構成を有している。共通電極ＣＥは、第２絶縁膜１２の上に形成されている。このような共通電極ＣＥは、インジウム・ティン・オキサイド（ＩＴＯ）やインジウム・ジンク・オキサイド（ＩＺＯ）などの透明な導電材料によって形成されている。第３絶縁膜１３は、第２絶縁膜１２及び共通電極ＣＥの上に形成されている。
【００４１】
画素電極ＰＥは、第３絶縁膜１３の上に形成されている。図６には、第１画素電極である画素電極ＰＥ１、第２画素電極である画素電極ＰＥ２、及び第３画素電極である画素電極ＰＥ３を示している。各画素電極ＰＥは、第１方向Ｘに隣り合う信号線Ｓの間にそれぞれ位置し、共通電極ＣＥと対向している。また、画素電極ＰＥと共通電極ＣＥとの間に形成される電界を液晶層ＬＱに与えることができるように、画素電極ＰＥは所定の形状を有している。ここでは、各画素電極ＰＥは、共通電極ＣＥと対向する位置にスリットＳＬを有している。
【００４２】
画素電極ＰＥは、導電性を有する材料で形成されている。画素電極ＰＥは、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電材料やアルミニウム合金のような高い反射率を有する各種の金属材料を用いて形成されている。又は、画素電極ＰＥは、金属層と、透明導電層とを積層して形成されている。本実施形態において、画素電極ＰＥは、アルミニウム合金で形成されている。
【００４３】
突出部Ｔ１は、画素電極ＰＥ１と画素電極ＰＥ２との間に位置し、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に介在している。突出部Ｔ２は、画素電極ＰＥ２と画素電極ＰＥ３との間に位置し、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に介在している。突出部Ｔ３は、画素電極ＰＥ３と図示しない画素電極との間に位置し、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に介在している。
【００４４】
突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、例えば、アクリル系樹脂をベースとした樹脂材料によって形成されている。本実施形態において、突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、遮光性を有する樹脂材料として、例えば黒色の樹脂材料で形成されている。
【００４５】
また、本実施形態において、突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、第３絶縁膜１３の上に形成され、対応する信号線Ｓと対向し、アレイ基板ＡＲから対向基板ＣＴに向かって突出している。また、突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、それぞれ壁状に形成され、対応する信号線Ｓに沿って延在している。
【００４６】
またさらに、本実施形態において、突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、スペーサとして機能し、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間の隙間を保持している。このため、第３方向Ｚの突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３の高さと、第３方向Ｚの第１配向膜ＡＬ１の厚みの和は、第３方向Ｚの液晶層ＬＱの厚みと略同一である。  
なお、突出部Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、必ずしもスペーサとして機能する必要はない。この場合、突出部Ｔと第３方向Ｚに対向する領域において、第１配向膜ＡＬ１と第２配向膜ＡＬ２との間に液晶層ＬＱが介在していてもよい。
【００４７】
光反射膜Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３は、光反射性を有している。光反射膜Ｍ１は突出部Ｔ１の両側の側壁上に形成され、光反射膜Ｍ２は突出部Ｔ２の両側の側壁上に形成され、光反射膜Ｍ３は突出部Ｔ３の両側の側壁上に形成されている。
【００４８】
光反射膜Ｍは、高い反射率を有する材料を用いて形成されている。本実施形態において、画素電極ＰＥ１，ＰＥ２，ＰＥ３と光反射膜Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３とは、同一材料で形成され、例えばアルミニウム合金で形成されている。本実施形態のように、液晶表示パネルＰＮＬにＦＦＳモードが適用される場合、製造工程を減らすために、上記のように画素電極ＰＥと光反射膜Ｍとを同一材料で形成した方が望ましい。但し、本実施形態と異なり、画素電極ＰＥ１，ＰＥ２，ＰＥ３に利用する材料と、光反射膜Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３に利用する材料とは、異なっていてもよい。この場合、光反射膜Ｍに用いられる材料は、導電性を有していなくともよい。第１配向膜ＡＬ１は、第３絶縁膜１３、画素電極ＰＥ、突出部Ｔ、及び光反射膜Ｍを覆っている。
【００４９】
一方、対向基板ＣＴは、第２絶縁基板２０のアレイ基板ＡＲに対向する側に、遮光層ＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコート層ＯＣ、第２配向膜ＡＬ２などを備えている。  
遮光層ＢＭは、第２絶縁基板２０の内面に形成されている。カラーフィルタＣＦＡ，ＣＦＢ，ＣＦＣは、第２絶縁基板２０の内面に形成されている。カラーフィルタＣＦＡは、画素電極ＰＥ１と対向している。カラーフィルタＣＦＢは、画素電極ＰＥ２と対向している。カラーフィルタＣＦＣは、画素電極ＰＥ３と対向している。カラーフィルタＣＦＡ，ＣＦＢ，ＣＦＣは、それぞれの端部が遮光層ＢＭに重なっている。カラーフィルタＣＦＡは、赤色の樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦＢは、緑色の樹脂材料によって形成されている。カラーフィルタＣＦＣは、青色の樹脂材料によって形成されている。
【００５０】
なお、本実施形態では、カラー画像を構成する最小単位である単位画素ＵＰＸが赤色画素、緑色画素、及び青色画素の３個の色画素によって構成された場合を示している。但し、単位画素ＵＰＸは、上記の３個の色画素の組み合わせによるものに限らない。例えば、単位画素は、赤色画素、緑色画素、青色画素に加えて、白色画素の４個の色画素によって構成されてもよい。この場合、白色あるいは透明のカラーフィルタが白色画素に配置されてもよいし、白色画素のカラーフィルタそのものを省略してもよい。  
また、上記単位画素ＵＰＸを絵素又は主画素と言い換えることができる。又は、上記単位画素ＵＰＸを画素と言い換えることができ、この場合、上記画素ＰＸを副画素と言い換えることができる。
【００５１】
オーバーコート層ＯＣは、カラーフィルタＣＦを覆っている。オーバーコート層ＯＣは、透明な樹脂材料によって形成されている。第２配向膜ＡＬ２は、オーバーコート層ＯＣを覆っている。
【００５２】
上記のように構成された第１の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰによれば、液晶表示パネルＰＮＬは、アレイ基板ＡＲと、対向基板ＣＴと、液晶層ＬＱと、カラーフィルタＣＦＡと、カラーフィルタＣＦＢと、突出部Ｔ１と、光反射膜Ｍ１と、を備えている。アレイ基板ＡＲは、画素電極ＰＥ１と、画素電極ＰＥ２と、を備えている。カラーフィルタＣＦＡは、画素電極ＰＥ１と対向している。カラーフィルタＣＦＢは、画素電極ＰＥ２と対向している。突出部Ｔ１は、画素電極ＰＥ１と画素電極ＰＥ２との間に位置し、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に介在している。光反射膜Ｍ１は、突出部Ｔ１の側壁に形成されている。
【００５３】
ところで、画素ＰＸの高精細化を図ると、画素ＰＸのピッチが小さくなる。本実施形態の単位画素ＵＰＸは、第１方向Ｘに並んだ３個の画素を有しているため、画素ＰＸの開口率が低くなり易い。そこで、開口率の低下を抑制するために、遮光層ＢＭを細線化することが望ましい。しかし、遮光層ＢＭを細線化することにより、混色の発生率が高まるという懸念がある。また、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に位置ずれが生じ、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとが不規則に対向していることにより、混色の発生率が高まるという懸念がある。上記の混色は、画面の斜め方向から表示画像をみたときに、発生し易い。
【００５４】
本実施形態によれば、液晶表示パネルＰＮＬは、突出部Ｔ１を備えている。突出部Ｔは、互いに異なる色のカラーフィルタの端部に対向し、第２方向Ｙに延出している。突出部Ｔ１は遮光性を有しているため、突出部Ｔ１を挟んで隣り合う第１画素ＰＸＲ１がオン状態であり、第２画素ＰＸＧ１がオフ状態であったとしても、突出部Ｔ１は、画素間の光抜けを抑制することができる。このため、液晶表示パネルＰＮＬの表示面の斜め方向から表示画像をみた場合であっても、混色による表示品位の劣化を抑制することができる。また、混色防止のために遮光層ＢＭの幅を拡大する必要がなくなるため、一画素あたりの表示に寄与する面積の縮小を抑制することが可能となる。これにより、表示画像の輝度レベルの低下を抑制することができる。
【００５５】
また、本実施形態によれば、突出部Ｔには、光反射膜Ｍが設けられている。このため、バックライトユニットＢＬから照射された一部の光は、光反射膜Ｍによって反射され、液晶層ＬＱを透過する。液晶表示パネルＰＮＬを斜め方向から観察した場合の、輝度低下を抑制することが可能となる。視野角特性（例えば、コントラスト比）の低下を抑制することができる。したがって、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示パネルを得ることができる。この際、光反射膜Ｍは光を透過させないため突出部Ｔに遮光性を与えることは必須ではないが、光反射膜Ｍの膜厚や実際の製造のばらつきを考慮すると突出部Ｔに遮光性を与える方がより望ましい。
【００５６】
さらに、本実施形態によれば、遮光部ＢＭ１と対向した領域において、突出部Ｔ１の第１分割部Ｔ１１及び第２分割部Ｔ１２は、隙間ｃを置いて形成されている。これにより、液晶層ＬＱを形成する際に、液晶材料の広がりが妨げられる事態を回避することができる。さらに、本実施形態において、隙間ｃは、遮光部ＢＭ１（遮光層ＢＭ）と対向した領域内に形成されている。このため、混色の発生を抑制しつつ、液晶材料の広がりが妨げられる事態を回避することができる。  
上記のことから、表示品位を向上することが可能な液晶表示パネルＰＮＬ及び液晶表示装置ＤＳＰを得ることができる。
【００５７】
次に、第２の実施形態に係る液晶表示装置について説明する。第２の実施形態に係る液晶表示装置は、上記実施形態に係る液晶表示装置と比較して、単位画素ＵＰＸの構成、単位画素ＵＰＸとゲート線Ｇとの接続関係、単位画素ＵＰＸと信号線Ｓとの接続関係において相違している。図７は、本実施形態に係る液晶表示パネルＰＮＬを示す概略構成図であり、４個の単位画素ＵＰＸを示す概略構成図である。
【００５８】
図７に示すように、複数の単位画素ＵＰＸは、第１方向Ｘ及び第２方向Ｙにマトリクス状に並べられている。単位画素ＵＰＸは、画素（第１画素）ＰＸ１、画素（第２画素）ＰＸ２、及び画素（第３画素）ＰＸ３の３個の画素ＰＸを有している。画素ＰＸ２は、第２方向Ｙに画素ＰＸ１と隣り合っている。画素ＰＸ３は、第１方向Ｘに画素ＰＸ１及び画素ＰＸ２と隣り合っている。Ｘ−Ｙ平面において、画素ＰＸ１乃至ＰＸ３のサイズは、特に限定されるものではない。例えば、画素ＰＸ３のサイズは、画素ＰＸ１のサイズと画素ＰＸ２のサイズの和と同等であってもよい。
【００５９】
本実施形態において、画素ＰＸ１は緑色（Ｇ）の画像を表示するように構成された画素であり、画素ＰＸ２は赤色（Ｒ）の画像を表示するように構成された画素であり、画素ＰＸ３は青色（Ｂ）又は白色（Ｗ）の画像を表示するように構成された画素である。カラーフィルタＣＦＡ乃至ＣＦＤは、画素ＰＸ１乃至ＰＸ３に対応付けて設けられている。なお、カラーフィルタＣＦＤに関する詳細は、後述する。青色に対応した画素ＰＸ３を有する単位画素ＵＰＸと、白色に対応した画素ＰＸ３を有する単位画素ＵＰＸとは、市松状に配置されている。  
第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ１は、１本の信号線Ｓを共用している。第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ２は、１本の信号線Ｓを共用している。第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ３は、１本の信号線Ｓを共用している。
【００６０】
図８は、上記第２の実施形態に係る液晶表示パネルの１個の単位画素を示す概略構成図であり、遮光層ＢＭ及びカラーフィルタＣＦを示す平面図である。ここでは、青色に対応した画素ＰＸ３を有する単位画素ＵＰＸを例に説明する。但し、次の説明は、白色に対応した画素ＰＸ３を有する単位画素ＵＰＸに対しても同様に適用可能である。なお、白色に対応した画素ＰＸ３を有する単位画素ＵＰＸにおいて、カラーフィルタＣＦＣの替わりに白色あるいは透明のカラーフィルタＣＦＤが配置されてもよいし、白色画素のカラーフィルタそのものを省略してもよい。
【００６１】
図７に示すように、液晶表示パネルＰＮＬは、単位画素ＵＰＸに対応付けられた画素領域Ａ７乃至Ａ９を有している。画素領域Ａ８は、第２方向Ｙに画素領域Ａ７と並び、画素領域Ａ９は、第１方向Ｘに画素領域Ａ７及び画素領域Ａ８の両方と並んでいる。画素ＰＸ１は、大まかに画素領域Ａ７に形成されている。画素ＰＸ２は、大まかに画素領域Ａ８に形成されている。画素ＰＸ３は、大まかに画素領域Ａ９に形成されている。
【００６２】
カラーフィルタＣＦ及び遮光層ＢＭは、対向基板ＣＴに形成されている。カラーフィルタＣＦＡは、画素領域Ａ８内に島状に形成されている。カラーフィルタＣＦＢは、画素領域Ａ７内に島状に形成されている。カラーフィルタＣＦＣは、画素領域Ａ９内に島状に形成されている。本実施形態において、カラーフィルタＣＦＡ，ＣＦＢ，ＣＦＣは、複数の画素で共用されていない。
【００６３】
図８及び図７に示すように、カラーフィルタＣＦＡは、画素ＰＸ２の画素電極ＰＥと対向している。カラーフィルタＣＦＢは、画素ＰＸ１の画素電極ＰＥと対向している。カラーフィルタＣＦＣは、画素ＰＸ３の画素電極ＰＥと対向している。
【００６４】
遮光層ＢＭは、画素領域Ａ７乃至Ａ９を区画するように形成されている。つまり、遮光層ＢＭは、複数の画素領域Ａの境界と対向し、上記境界を跨ぎ、上記境界に沿って延在している。遮光層ＢＭは、複数の遮光部ＢＭ１、複数の遮光部ＢＭ２、複数の遮光部ＢＭ３、及び複数の遮光部ＢＭ４を有している。
【００６５】
複数の遮光部ＢＭ１は、第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。各遮光部ＢＭ１は、１本のゲート線Ｇと対向している。その他、遮光部ＢＭ１は、例えば、スイッチング素子ＳＷの少なくとも一部と対向している。本実施形態において、遮光部ＢＭ１の形状はゲート線Ｇの形状に対応付けられ、遮光部ＢＭ１は、帯状に形成され、第１方向Ｘに直線的に延出している。
【００６６】
複数の遮光部ＢＭ２は、第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。各遮光部ＢＭ２は、１本の信号線Ｓと対向している。なお、遮光部ＢＭ２は、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、一部が屈曲していたり、第２方向Ｙから傾いていたりしてもよい。本実施形態において、遮光部ＢＭ２の形状は信号線Ｓの形状に対応付けられている。
【００６７】
複数の遮光部ＢＭ３は、第１方向Ｘに延出し、第２方向Ｙに間隔を置いて並んでいる。遮光部ＢＭ３は、画素ＰＸ１の画素電極ＰＥと画素ＰＸ２の画素電極ＰＥとの間に位置している。遮光部ＢＭ３は、画素領域Ａ７と画素領域Ａ８との境界と対向している。又は、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＡとの境界と対向している。遮光部ＢＭ３は、ゲート線Ｇや信号線Ｓなど、遮光に寄与し得る配線の存在しない領域となる場合がある。
【００６８】
複数の遮光部ＢＭ４は、第２方向Ｙに延出し、第１方向Ｘに間隔を置いて並んでいる。遮光部ＢＭ４は、２本の信号線Ｓと対向している。なお、遮光部ＢＭ４は、必ずしも直線的に延出していなくてもよく、一部が屈曲していたり、第２方向Ｙから傾いていたりしてもよい。本実施形態において、遮光部ＢＭ４の形状は信号線Ｓの形状に対応付けられている。  
遮光部ＢＭ１、遮光部ＢＭ２、遮光部ＢＭ３、及び遮光部ＢＭ４は、一体的に形成され、交差部を共有している。
【００６９】
ここで、遮光部ＢＭ１の第２方向Ｙの幅をＷ１とする。遮光部ＢＭ２の第１方向Ｘの幅をＷ２とする。遮光部ＢＭ３の第２方向Ｙの幅をＷ３とする。遮光部ＢＭ４の第１方向Ｘの幅をＷ４とする。  
本実施形態において、幅Ｗ３は幅Ｗ１より狭い（Ｗ３＜Ｗ１）。幅Ｗ２は幅Ｗ４より狭い（Ｗ２＜Ｗ４）。さらに、幅Ｗ２及び幅４の各々は、幅Ｗ１よりも狭い（Ｗ２＜Ｗ１，Ｗ４＜Ｗ１）。
【００７０】
図９は、上記第２の実施形態に係る液晶表示パネルＰＮＬの１個の単位画素ＵＰＸを示す概略構成図であり、突出部Ｔ及び光反射膜Ｍを示す平面図である。なお、突出部Ｔ、光反射膜Ｍ、及び遮光部ＢＭ１の位置関係を示すため、遮光部ＢＭ１は図中に破線で示されている。本実施形態において、突出部Ｔ及び光反射膜Ｍは、アレイ基板ＡＲに備えられている。本実施形態において、アレイ基板ＡＲは、３種類の突出部Ｔ及び３種類の光反射膜Ｍを有している。以下、３種類の突出部Ｔを、突出部（第１突出部）Ｔ４、突出部（第２突出部）Ｔ５、及び突出部（第３突出部）Ｔ６として説明する。また、３種類の光反射膜Ｍを、光反射膜（第１光反射膜）Ｍ４、光反射膜（第２光反射膜）Ｍ５、光反射膜（第３光反射膜）Ｍ６として説明する。
【００７１】
まず、突出部Ｔと画素電極ＰＥとの位置関係に注目する。  
図９及び図７に示すように、突出部Ｔ４は、第１方向Ｘに隣り合う、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ１、ＰＸ２の画素電極ＰＥと、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ３の画素電極ＰＥと、の間に位置している。突出部Ｔ４は、２本の信号線Ｓと対向し、上記信号線Ｓに沿って延在している。突出部Ｔ５は、第１方向Ｘに隣り合う、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ３の画素電極ＰＥと、第２方向Ｙに並んだ複数の画素ＰＸ１，ＰＸ２の画素電極ＰＥと、の間に位置している。突出部Ｔ５は、１本の信号線Ｓと対向し、上記信号線Ｓに沿って延在している。なお、突出部Ｔ５は、第１方向Ｘに隣り合う単位画素ＵＰＸの境界に位置している。突出部Ｔ６は、第２方向Ｙに隣り合う、第１方向Ｘに並んだ複数の画素ＰＸ１の画素電極ＰＥと、第１方向Ｘに並んだ複数の画素ＰＸ２の画素電極ＰＥと、の間に位置している。なお、突出部Ｔ６は、隣り合うゲート線Ｇの間に位置している。
【００７２】
次に、突出部ＴとカラーフィルタＣＦとの位置関係に注目する。ここでは、アレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとの間に位置ずれが生じることなく、正規の位置でアレイ基板ＡＲと対向基板ＣＴとが対向していることを前提に説明する。なお、上記の前提は、図９の記載にも反映されている。
【００７３】
図９及び図８に示すように、突出部Ｔ４は、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＣとの境界と、カラーフィルタＣＦＡとカラーフィルタＣＦＣとの境界との両方に対向し、両方の境界に沿って延出している。なお、図示しないが、突出部Ｔ４は、さらに、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＤとの境界と、カラーフィルタＣＦＡとカラーフィルタＣＦＤとの境界との両方に対向し、両方の境界に沿って延出している。突出部Ｔ５とカラーフィルタＣＦとの位置関係は、突出部Ｔ４とカラーフィルタＣＦとの位置関係と同様である。突出部Ｔ５は、カラーフィルタＣＦＣ，ＣＦＤと、カラーフィルタＣＦＡ，ＣＦＢとの境界と対向し、上記の境界に沿って延出している。突出部Ｔ６は、カラーフィルタＣＦＢとカラーフィルタＣＦＡとの境界に対向し、上記の境界に沿って延出している。
【００７４】
図９に示すように、突出部Ｔ４は、第１分割部Ｔ４１、第２分割部Ｔ４２などの複数の分割部を有している。これらの分割部は、隙間を置いて並んでいる。例えば、第１分割部Ｔ４１は、画素領域Ａ７及び画素領域Ａ９の境界と、画素領域Ａ８及び画素領域Ａ９の境界と、の両方を跨ぎ、両方の境界に沿って延在している。第１分割部Ｔ４１の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。遮光部ＢＭ１と対向した領域内において、第１分割部Ｔ４１及び第２分割部Ｔ４２は、隙間ｄを置いて形成されている。
【００７５】
突出部Ｔ５は、第１分割部Ｔ５１、第２分割部Ｔ５２などの複数の分割部を有している。これらの分割部は、隙間を置いて並んでいる。例えば、第１分割部Ｔ５１は、画素領域Ａ９及び画素領域Ａ７の境界と、画素領域Ａ９及び画素領域Ａ８の境界と、の両方を跨ぎ、両方の境界に沿って延在している。第１分割部Ｔ５１の両端部は、それぞれ遮光部ＢＭ１と対向している。遮光部ＢＭ１と対向した領域内において、第１分割部Ｔ５１及び第２分割部Ｔ５２は、隙間ｄを置いて形成されている。
【００７６】
突出部Ｔ６は、複数の分割部Ｔ６１を有している。これらの分割部Ｔ６１は、間隔を置いて並んでいる。分割部Ｔ５１は、画素領域Ａ７及び画素領域Ａ８の境界を跨ぎ、上記の境界に沿って延在している。本実施形態では、突出部Ｔ６は、画素領域Ａ９を横断することも、画素領域Ａ９に形成されることも、無しに形成されている。
【００７７】
本実施形態において、第１分割部Ｔ４１、第１分割部Ｔ５１、及び分割部Ｔ６１は、一体に形成されている。単位画素ＵＰＸの画素領域Ａ７が上側、画素領域Ａ８が下側となるＸ−Ｙ平面視において、第１分割部Ｔ４１、第１分割部Ｔ５１、及び分割部Ｔ６１の一体部分は、Ｈ字の形状に形成されている。
【００７８】
光反射膜Ｍ４は、突出部Ｔ４の両側に設けられ、突出部Ｔ４の側壁に形成されている。本実施形態において、光反射膜Ｍ４は、第１光反射層Ｍ４１、第２光反射層Ｍ４２などの複数の光反射層を有している。例えば、第１光反射層Ｍ４１は、第１分割部Ｔ４１の両側に設けられ、第１分割部Ｔ４１の側壁に形成されている。画素領域Ａ７に面する第１光反射層Ｍ４１と、画素領域Ａ８に面する第１光反射層Ｍ４１とは、分割部Ｔ６１によって分断され、第２方向Ｙに間隔を置いて位置している。  
本実施形態において、光反射膜Ｍ４は、突出部Ｔ４の両方の側壁上に全体的に設けられている。ここでは、第１光反射層Ｍ４１は第１分割部Ｔ４１の両方の側壁上に全体的に設けられている。
【００７９】
光反射膜Ｍ５は、突出部Ｔ５の両側に設けられ、突出部Ｔ５の側壁に形成されている。本実施形態において、光反射膜Ｍ５は、第１光反射層Ｍ５１、第２光反射層Ｍ５２などの複数の光反射層を有している。例えば、第１光反射層Ｍ５１は、第１分割部Ｔ５１の両側に設けられ、第１分割部Ｔ５１の側壁に形成されている。画素領域Ａ７に面する第１光反射層Ｍ５１と、画素領域Ａ８に面する第１光反射層Ｍ５１とは、分割部Ｔ６１によって分断され、第２方向Ｙに間隔を置いて位置している。  
本実施形態において、光反射膜Ｍ５は、突出部Ｔ５の両方の側壁上に全体的に設けられている。ここでは、第１光反射層Ｍ５１は第１分割部Ｔ５１の両方の側壁上に全体的に設けられている。
【００８０】
光反射膜Ｍ６は、突出部Ｔ６の両側に設けられ、突出部Ｔ６の側壁に形成されている。本実施形態において、光反射膜Ｍ６は複数の光反射層Ｍ６１を有している。光反射層Ｍ６１は、分割部Ｔ６１の両側に設けられ、分割部Ｔ６１の側壁に形成されている。  
本実施形態において、光反射膜Ｍ６は、突出部Ｔ６の両方の側壁上に全体的に設けられている。ここでは、光反射層Ｍ６１は分割部Ｔ６１の両方の側壁上に全体的に設けられている。
【００８１】
上記のように構成された第２の実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰによれば、液晶表示パネルＰＮＬは、突出部Ｔ４，Ｔ５，Ｔ６、光反射膜Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６などを備えている。本実施形態に係る液晶表示装置ＤＳＰは、４００ｐｐｉ以上、さらには６００ｐｐｉクラスの高解像度の液晶表示装置である。ここで、上記ｐｐｉは、pixels per inch であるが、本実施形態においては１インチあたりの単位画素ＵＰＸの数を表している。つまり、上記pixelsは、複数の単位画素ＵＰＸに相当している。
【００８２】
突出部Ｔ４，Ｔ５，Ｔ６は遮光性を有しているため、画素間の光抜けは抑制される。そして、混色による表示品位の劣化を抑制することができる。また、混色防止のために遮光層ＢＭの幅を拡大する必要がなくなる。幅Ｗ３、幅Ｗ２及び幅４の各々は、幅Ｗ１よりも狭い（Ｗ３＜Ｗ１，Ｗ２＜Ｗ１，Ｗ４＜Ｗ１）。一画素あたりの表示に寄与する面積の縮小を抑制することができるため、表示画像の輝度レベルの低下を抑制することができる。
【００８３】
また、本実施形態においても、突出部Ｔには、光反射膜Ｍが設けられている。視野角特性の低下を抑制することができるため、表示品位の低下を抑制することが可能な液晶表示パネルを得ることができる。また、本実施形態においても光反射膜Ｍは光を透過させないため突出部Ｔに遮光性を与えることは必須ではないが、光反射膜Ｍの膜厚や実際の製造のばらつきを考慮すると突出部Ｔに遮光性を与える方がより望ましい。
【００８４】
さらに、本実施形態においても、遮光部ＢＭ１と対向した領域において、例えば、第１分割部Ｔ４１及び第２分割部Ｔ４２は、隙間ｄを置いて形成されている。このため、混色の発生を抑制しつつ、液晶材料の広がりが妨げられる事態を回避することができる。  
上記のことから、表示品位を向上することが可能な液晶表示パネルＰＮＬ及び液晶表示装置ＤＳＰを得ることができる。
【００８５】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これらの新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これらの実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【００８６】
例えば、突出部Ｔは、アレイ基板ＡＲ及び対向基板ＣＴの少なくとも一方に備えられていればよい。このため、突出部Ｔは、対向基板ＣＴ側にのみ形成される場合や、アレイ基板ＡＲ及び対向基板ＣＴの両方に形成される場合があり得る。
【００８７】
アレイ基板ＡＲが突出部Ｔを備える場合、突出部Ｔは、対向基板ＣＴ側に突出し、順テーパ状に形成されていてもよい。突出部Ｔは、対向基板ＣＴに対向した天面と、天面の面積より大きい面積を有した底面と、を備えている。光反射膜Ｍは、突出部Ｔのテーパ面上に形成される。
【００８８】
上述した液晶表示パネルＰＮＬは、表示モードとしてＦＦＳモードに対応した構成を有しているが、他の表示モードに対応した構成を有していても良い。例えば、液晶表示パネルＰＮＬは、ＦＦＳモード等の主として基板主面に略平行な横電界を利用するＩＰＳ（In-Plane Switching）モードに対応した構成を有していてもよい。横電界を利用する表示モードでは、例えばアレイ基板ＡＲに画素電極ＰＥ及び共通電極ＣＥの双方が備えられた構成が適用可能である。又は、液晶表示パネルＰＮＬは、ＴＮ（Twisted Nematic）モード、ＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード、ＶＡ（Vertical Aligned）モード等の主として基板主面に交差する向きに生じる縦電界を利用するモードに対応した構成を有していてもよい。縦電界を利用する表示モードでは、例えばアレイ基板ＡＲに画素電極ＰＥが備えられ、対向基板ＣＴに共通電極ＣＥが備えられた構成や、これらの電極を入れ替えた構成が適用可能である。なお、ここでの基板主面とは、第１方向Ｘと第２方向Ｙとで規定されるＸ−Ｙ平面と平行な面である。
【符号の説明】
【００８９】
ＤＳＰ…液晶表示装置、ＰＮＬ…液晶表示パネル、ＡＲ…アレイ基板、ＣＥ…共通電極、１３…第３絶縁膜、ＰＥ，ＰＥ１，ＰＥ２，ＰＥ３…画素電極、ＣＴ…対向基板、ＬＱ…液晶層、Ｔ，Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３，Ｔ４，Ｔ５，Ｔ６…突出部、Ｔ１１，Ｔ１２，Ｔ２１，Ｔ２２，Ｔ３１，Ｔ３２，Ｔ４１，Ｔ４２，Ｔ５１，Ｔ５２，６１…分割部、Ｍ，Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６…光反射膜、Ｍ１１，Ｍ１２，Ｍ２１，Ｍ２２，Ｍ３１，Ｍ３２，Ｍ４１，Ｍ４２，Ｍ５１，Ｍ５２，Ｍ６１…光反射層、ＢＭ…遮光層、ＢＭ１，ＢＭ２，ＢＭ３，ＢＭ４…遮光部ＢＭ、ＣＦ，ＣＦＡ，ＣＦＢ，ＣＦＣ，ＣＦＤ…カラーフィルタ、Ｘ…第１方向、Ｙ…第２方向、ｃ，ｄ…隙間。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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