(57)【要約】【課題】電極間の短絡による非発光領域の少ない、高品質な有機発光装置を提供する。【解決手段】下部電極２１と、上部電極２３と、下部電極２１と上部電極２３との間に配置される有機化合物層２２と、を有する有機発光素子を複数有する有機発光装置１であって、下部電極２１の端部の一部（端部２１ｂ）が、下部電極２１と上部電極２３とを離間する絶縁層１３に被覆され、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３に被覆されない部分（端部２１ａ）が、有機化合物層２２に被覆されていることを特徴とする、有機発光装置１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部電極と、上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、を有する有機発光素子を複数有する有機発光装置であって、
前記下部電極の端部の一部が、前記下部電極と前記上部電極とを離間する絶縁層に被覆され、
前記下部電極の端部のうち前記絶縁層に被覆されない部分が、前記有機化合物層に被覆されていることを特徴とする、有機発光装置。
【請求項２】
前記下部電極の平面形状が、各前記有機発光素子において共通しており、
前記下部電極の端部のうち前記絶縁層に被覆されない部分が、各前記有機発光素子において共通することを特徴とする、請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項３】
前記絶縁層が、前記有機発光素子の発光領域を規定する第一の開口と、
前記第一の開口に連通し、かつ前記下部電極の端部の一部と、前記下部電極の外側の一部と、を開放する第二の開口と、を有することを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機発光装置。
【請求項４】
前記第二の開口同士が連通することを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項５】
前記絶縁層が有する開口パターンが、画素ごとに共通していることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項６】
複数の前記有機発光素子が、ライン配列又は千鳥配列に配列されていることを特徴とする、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項７】
前記下部電極の膜厚が、前記有機化合物層の膜厚よりも薄いことを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項８】
前記下部電極の端部であって前記絶縁層に被覆されていない部分における仰角が３０度以下であることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項９】
前記下部電極が、平坦化絶縁層の上に配置されており、
前記平坦化絶縁層が、コンタクトホールを有し、
前記コンタクトホールによって前記下部電極と前記有機発光素子の駆動回路とが電気的に接続されており、
前記コンタクトホールが、前記絶縁層に被覆されていることを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項１０】
前記下部電極の端部の６０％以上９０％以下の部分が前記絶縁層に被覆されていることを特徴とする、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項１１】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の有機発光装置と、前記有機発光装置に接続されている能動素子と、を有することを特徴とする、表示装置。
【請求項１２】
画像情報を入力する入力部と、前記画像情報を処理する情報処理部と、画像を表示する表示を有し、
前記表示部は、請求項１１に記載の表示装置であることを特徴とする、画像情報処理装置。
【請求項１３】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の有機発光装置と、前記有機発光装置に駆動電圧を供給するＡＣ／ＤＣコンバーターと、を有することを特徴とする、照明装置。
【請求項１４】
請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の有機発光装置と、放熱板と、を有する照明装置であって、
前記放熱板が、前記照明装置内の熱を外部へ放出する放熱板であることを特徴とする、照明装置。
【請求項１５】
感光体と、前記感光体を帯電させる帯電部と、前記感光体を露光する露光部と、前記感光体に現像材を供給する現像部とを有する電子写真方式の画像形成装置であって、
前記露光部が、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の有機発光装置を有することを特徴とする、画像形成装置。
【請求項１６】
感光体を露光する露光装置であって、
前記露光装置が、複数の有機発光装置を有し、
前記複数の有機発光装置のうち少なくとも一つが、請求項１乃至１０のいずれか一項に記載の有機発光装置であり、
前記複数の有機発光装置が、前記感光体の長軸方向に沿って、一列に配置されていることを特徴とする、露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光装置は、基板の上に複数の有機発光素子をライン状あるいはマトリクス状に配列してなる発光装置である。この有機発光装置に設けられる有機発光素子は、下部電極と上部電極からなる一対の電極と、当該一対の電極間に配置された有機化合物層からなる電子素子である。この有機発光素子を構成する有機化合物層には、有機発光層及び有機機能層が含まれており、また有機化合物層の膜厚は、一般的に、数百ｎｍ程度である。有機発光素子の発光原理は、以下の通りである。即ち、陽極から注入されたホールと、陰極から注入された電子とが発光層の内部で再結合したときに生じたエネルギーによって、有機発光層を形成する有機分子が励起されることで励起子が生じ、この励起子が放射失活する過程で発光層から光が生じる。尚、発光層から生じた光は、陽極又は陰極を経由して外部へ放出される。
【０００３】
ところで、有機化合物層の膜厚は、通常、数百ｎｍと非常に薄く、この有機化合物層の膜厚に起因する電極間における短絡は、有機発光素子に関する技術おいて課題の一つになっている。例えば、基板側に配置されＴＦＴに電気的に接続される下部電極の端部は、有機化合物層の被覆性が悪い傾向にあるため形成される有機化合物層の膜厚が薄くなる。このため、電極間の短絡が起きやすい。そこで特許文献１では、全ての下部電極の端部を絶縁膜で覆う手段を提案している。また、下部電極の上に有機化合物層の厚みよりも大きい異物が存在すると、異物による電極間の短絡が起こりやすい。そこで有機発光素子を作製する際に用いられる基板には、有機化合物層を成膜する前に洗浄工程を導入するのが一般的である。例えば、特許文献２では、下部電極の端部を覆う絶縁膜の外周に、洗浄時に下部電極から除去すべき異物をトラップする領域を形成する手法が提案している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１７５２００号公報
【特許文献２】特開２００７−１４１８３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
下部電極の端部に生じ得る電極間の短絡を防止する上で、特許文献１にて提案される手法、即ち、下部電極の端部の全てを絶縁膜で覆う手法は効果的な手法である。しかし、特許文献１及び２に示されるように下部電極の端部を絶縁層で被覆すると、例えば、以下に説明する問題が生じていた。即ち、図１２に示されるように、電極付基板１００を構成する下部電極１１１の上に異物１０４が生じたときに、当該基板を洗浄しても絶縁層１０３によって異物１０４の移動を妨げることとなり、結果として洗浄後においても下部電極１１１の上に異物１０４が残留し得る、という課題が生じていた。ここで、絶縁層１０３で囲まれた下部電極１１１上の領域は有機発光素子の発光領域に相当するため、この下部電極１１１上に異物１０４が残存すると、この異物１０４によって電極間の短絡による非発光領域が発生することになるため、問題となっていた。
【０００６】
本発明は、上述した課題を解決するためになされるものであり、その目的は、電極間の短絡による非発光領域の少ない、高品質な有機発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の有機発光装置は、下部電極と、上部電極と、前記下部電極と前記上部電極との間に配置される有機化合物層と、を有する有機発光素子を複数有する有機発光装置であって、
前記下部電極の端部の一部が、前記下部電極と前記上部電極とを離間する絶縁層に被覆され、
前記下部電極の端部のうち前記絶縁層に被覆されない部分が、前記有機化合物層に被覆されていることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、下部電極の端部の一部が絶縁層で被覆されていないため、下部電極の上に生じ得る異物が下部電極の上に堆積するのを抑制することができ、電極間の短絡による非発光領域の少ない、高品質な有機発光装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の有機発光装置における実施形態の例を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＡＡ’断面を示す断面図である。
【図２】本発明の有機発光装置が有する発光画素の配列態様の具体例を示す平面模式図である。
【図３】本発明の有機発光装置を製造する際に用いられる電極付基板の例を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＢＢ’断面を示す断面図である。
【図４】下部電極がマトリクス配列である場合における絶縁層のパターンの具体例を示す平面模式図である。
【図５】一個の下部電極に対して形成される絶縁層のパターンの例を示す平面模式図である。
【図６】図３の有機発光装置を作製する際に用いられる電極付基板の例を示す平面模式図である。
【図７】本発明に係る有機発光装置を有する画像形成装置の例を示す模式図である。
【図８】（ａ）及び（ｂ）は、図７の画像形成装置を構成する露光光源（露光器）の具体例を示す平面概略図であり、（ｃ）は、図７の画像形成装置を構成する感光体の具体例を示す概略図である。
【図９】本発明に係る有機発光装置を有する照明装置の例を示す模式図である。
【図１０】有機化合物層を作成する際に用いたマスクを示す平面模式図である。
【図１１】（ａ）は、実施例２の有機発光装置を製造する際に作製された電極付基板を示す平面模式図であり、（ｂ）は、実施例３の有機発光装置を製造する際に作製された電極付基板を示す平面模式図である。
【図１２】従来の有機発光装置を作製する際に用いられた電極付基板の例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明は、下部電極と、上部電極と、上記下部電極と上記上部電極との間に配置される有機化合物層と、を有する有機発光素子を複数有する有機発光装置に関する。本発明において、下部電極の端部の一部は、下部電極と上部電極とを離間する絶縁層に被覆されている。尚、本発明において、下部電極の端部の一部というのは、下部電極の端部の全部を含まない概念であるため、本発明の有機発光装置に含まれる有機発光素子を構成する下部電極は、絶縁層に被覆されない端部が少なからず存在する。また本発明において、下部電極の端部のうち絶縁層に被覆されない部分は、有機化合物層に被覆されている。
【００１１】
本発明の有機発光装置は、基板側に形成される下部電極の端部の一部が絶縁層で被覆するため、その部分において電極間の短絡を抑制することができる。一方で、本発明の有機発光装置は、下部電極の端部の一部が絶縁層で被覆されていないため、基板洗浄時等に下部電極の上に生じ得る異物が下部電極の上に堆積するのを抑制することができる。
【００１２】
［有機発光装置］
以下、図面を参照しながら、本発明の有機発光装置について説明する。尚、図面にて特に図示されない、あるいは以下の説明において特に記載されていない部分に関しては、当該技術分野の周知或いは公知の技術を適用することができる。また以下に説明する実施形態は一例であり、本発明は、以下に説明する実施形態に限定されるものではない。
【００１３】
（１）有機発光装置の構成
図１は、本発明の有機発光装置における実施形態の例を示す模式図であり、（ａ）は平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＡＡ’断面を示す断面図である。図１の有機発光装置１は、基板１０の上に、発光領域２０を複数有している。この発光領域２０は、発光画素と呼ばれるが、本発明において、発光画素の配列態様は、図１（ａ）に示されるように、千鳥配列に限定されるものではない。
【００１４】
図１（ａ）に示される発光領域２０には、図１（ｂ）で示されるように、下部電極２１と、有機化合物層２２と、上部電極２３と、をこの順で積層してなる有機発光素子が設けられている。
【００１５】
図１の有機発光装置１において、平坦化絶縁層１１は、図１（ａ）に示される基板１０の構成部材の１つである。また図１（ｂ）において、平坦化絶縁層１１の下方には、図示されていないが、基板１０の構成部材であって有機発光装置１の各構成部材を支持する基材が設けられている。尚、本発明において、この基材の上には、有機発光装置１を駆動させるために必要な駆動回路や配線を適宜設けてもよい。
【００１６】
図１の有機発光装置１において、平坦化絶縁層１１の所定の領域、具体的には、後述する下部電極２１を設ける領域の一部にコンタクトホール１２が設けられている。このコンタクトホール１２は、平坦化絶縁層１１の一部を加工することで形成される部材であり、下部電極２１と、基板（不図示）の上に設けられる配線（不図示）との電気接続を確保する目的で設けられる。このため、下部電極２１は、コンタクトホール１２及び配線（不図示）によって駆動回路（不図示）と電気接続される。
【００１７】
図１の有機発光装置１において、下部電極２１は、平坦化絶縁層１１の上に設けられる電極部材である。ここで、下部電極２１の端部の一部、具体的には、図１（ｂ）のＡ側にある端部２１ｂは、絶縁層１３に被覆されている。ここで絶縁層１３は、下部電極２１と、有機化合物層２２又は上部電極２３とを離間させるために設けられる部材であり、下部電極２１の端部を被覆するように設けることで、下部電極２１と上部電極２３との間の短絡を抑制させる目的で設けられる部材である。
【００１８】
ただし本発明においては、下部電極２１の端部のうち、例えば、図１（ｂ）のＡ’側にある端部２１ａのように、絶縁層１３で被覆されていない部分が存在する。この端部２１ａは、絶縁層１３に被覆されずに有機化合物層２２に被覆されている。このように、本発明において、下部電極２１の一部の端部、例えば、符号２１ｂに示される端部を絶縁層１３で被覆する一方で、符号２１ａに示される端部を絶縁層１３で被覆していない。このように、下部電極２１の端部の一部を絶縁層１３で被覆していない理由については、後述する。
【００１９】
図１の有機発光装置１において、下部電極２１の上には、有機化合物層２２が設けられている。有機化合物層２２は、少なくとも発光層を含む有機化合物を有する層である。発光層以外の層であって有機化合物層２２に含まれるものとして、具体的には、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。尚、有機化合物層２２は、少なくとも発光層を有していればよく、その層構成は、一層でもよいし二層以上であってもよい。尚、正孔注入層又は電子注入層を有機化合物層２２に含める場合、正孔注入層、電子注入層には、無機系材料を有していてもよく、当該無機材料のみで形成されている層であってもよい。
【００２０】
図１の有機発光装置１において、有機化合物層２２の上には、上部電極２３が設けられている。この上部電極２３は、基板１０上に設けられた上部電極用の電極パッド（不図示）と電気的に接続させてもよい。当該電極パッドへ電気接続を行うことで、基材の上に設けられ得る駆動回路（不図示）によって有機発光素子の発光制御を行うことができる。
【００２１】
図１の有機発光装置１において、上部電極２３の上には、複数ある有機発光素子を封止するための封止層３０が設けられている。封止層３０としては、例えば、窒化珪素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の防湿性の高い無機材料を薄膜状に成膜したものを用いることができる。
【００２２】
尚、図１には図示されていないが、封止層３０が形成されている領域の外側に外部接続端子を設けてもよい。ここで外部接続端子は、外部からの信号や電源電圧を、基材の上に設けられ得る回路（不図示）に供給する端子である。
【００２３】
図１（ａ）に示されるように、本発明の有機発光装置は、基板の上に複数の有機発光素子を有しているが、各有機発光素子の発光色は、同じであっても異なっていてもよい。
【００２４】
図２は、本発明の有機発光装置が有する発光画素の配列態様の具体例を示す平面模式図である。本発明において、発光画素が設けられる領域である発光領域２０の配列態様として、例えば、図２（ａ）に示される千鳥配列、図２（ｂ）に示されるライン配列、図２（ｃ）に示されるマトリックス配列等があるが、これらの態様に限定されるものではない。
【００２５】
本発明において、光を取り出す電極は、上部電極であってもよいし下部電極であってもよい。ここで光を取り出す側の電極を半透明もしくは透明の電極とすることで、素子内部から光を取り出すことができる。
【００２６】
（２）絶縁層による下部電極の端部の被覆について
次に、本発明において、下部電極２１の端部の一部を絶縁層１３で被覆して、下部電極２１の端部の一部について絶縁層１３で被覆させないようにする理由を説明する。
【００２７】
有機発光装置を製造するプロセスにおいて、下部電極２１を有する電極付基板を作製した後であって有機化合物層２２を成膜する前には、当該電極付基板を洗浄するのが一般的である。下部電極２１と上部電極２３との間で生じ得る短絡の原因となる異物を基板１０から除去するためである。しかし、図１２に示される電極付基板１００のように、下部電極１１１の端部の全てを絶縁層１０３で被覆すると、下部電極１１１の上に存在する異物１０４を洗浄によって除去する際に、絶縁層１０３が障害となるため効果的な異物除去が難しい。
【００２８】
そこで、本発明では、下部電極２１の端部の全てを絶縁層１３で被覆しないで、下部電極２１の端部の一部を絶縁層１３で被覆する。このようにして、下部電極２１の端部の一部を絶縁層１３で被覆されない状態にすることで、下部電極２１の上に生じ得る異物を洗浄によって効果的に除去することができる。
【００２９】
ところで、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３で被覆されていない部分は、電極付基板の洗浄によって異物を洗い流す際に、障害になるものが存在しない状態になる。このため、電極付基板を洗浄する際に、異物は絶縁層１３で被覆されていない下部電極２１の端部は、異物の移動経路になる。ここで、絶縁層１３で被覆されていない下部電極２１の端部へ向けて異物を洗い流すように基板の洗浄を実施すると、異物の除去が効果的に行うことができる。
【００３０】
尚、有機発光装置を作製する際に、洗浄工程は、電極付基板の作製工程の後以外にも、有機化合物層２２の形成の途中や形成後の段階、あるいは上部電極２３の形成後の段階で実施されることがある。これらの段階で洗浄工程を実施するのは、有機化合物層２２や上部電極２３を形成する際に、基板１０等に付着した異物を除去することが目的であるが、上記洗浄工程を実施する場合でも本発明の構成、例えば、図１（ｂ）に示される構成は効果的である。なぜならば、有機化合物層２２や上部電極２３の膜厚は数百ｎｍと薄く、基本的に基板の表面の形状に沿って層や膜が形成されるため、絶縁層１３の存在は、異物を洗浄除去する際に障害となるためである。また、例えば、図１（ｂ）のように、下部電極２１の端部２１ａに絶縁層１３を設けないことで、有機化合物層２２や上部電極２３が、端部２１ａへ向かって下る傾斜を有する層になる。これにより、洗浄工程を行う際に、端部２１ａから発光領域２０の外側へ向かう方向へ異物が移動し発光領域２０の外側へ除去される。
【００３１】
図１の有機発光装置１において、装置が有する有機発光素子の発光領域２０は、下部電極２１を設ける領域のうち、絶縁層１３に被覆されていない領域に相当する。尚、絶縁層１３に被覆されていない下部電極２１の端部、例えば、端部２１ａにおいては、有機化合物層２２の被覆性が悪くなることで、端部２１ａにて形成される有機化合物層２２の膜厚は他の部分と比較して薄くなる。従って、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３で被覆されていない領域では電極間の短絡が起きやすい。ここで電極間の短絡を抑制する観点から、本発明においては、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３で被覆されていない領域では下部電極２１の仰角は小さい方が好ましい。下部電極２１の仰角は、３０度以下が好ましく、１５度以下がより好ましい。
【００３２】
また本発明において、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３で被覆されていない部分の割合が多いと電極間の短絡が起きやすい一方で、絶縁層１３で被覆される下部電極２１の端部の割合が多いと基板の洗浄の際に必要な異物除去効果が弱まる。つまり、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３で被覆されていない部分の割合によってトレードオフの関係が成立している。このトレードオフの関係を考慮すると、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３で被覆されている割合は、６０％以上９０％以下が好ましい。尚、下部電極２１の端部のうち、絶縁層１３で被覆されている部分の割合と被覆されていない部分の割合とを合計すると１００％になる。
【００３３】
尚、本発明において、下部電極２１の平面形状として、例えば、長方形、正方形等の四角形が挙げられるが、これに限らず、三角形状、円形状も採用することができる。本発明において、好ましくは、下部電極２１の平面形状が、各有機発光素子において共通している。尚、ここでいう共通とは、合同であることだけでなく、類似であることも含まれる。
【００３４】
また本発明において、絶縁層１３と下部電極２１の重畳領域、即ち、絶縁層１３による下部電極２１の端部の被覆領域は、有機発光素子ごとにそれぞれ異なっていてもよい。本発明において、好ましくは、下部電極２１の平面形状が、各有機発光素子において共通し、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３に被覆されない部分が各有機発光素子において共通している。このように、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３に被覆されない部分を各有機発光素子で共通にすることで、基板等を洗浄する際に洗浄方向、即ち、異物の除去方向をそろえることができるためである。
【００３５】
（３）絶縁層が有する開口
ところで、図１（ｂ）に示されるように、絶縁層１３に被覆されていない下部電極２１の端部２１ａと、絶縁層１３に被覆されている下部電極２１の端部２１ｂと、を有する構成は、絶縁層１３を加工して、所定の形状を有する開口を形成することで得られる。開口の形状としては、四角形、円形等が挙げられるが、四角形が好ましい。
【００３６】
以下、絶縁層が有する開口について説明する。図３は、本発明の有機発光装置を製造する際に用いられる電極付基板の例を示す模式図であり、（ａ）は、平面図であり、（ｂ）は、（ａ）中のＢＢ’断面を示す断面図である。尚、図３の電極付基板２は、図１の有機発光装置１を製造する際に使用することができる。
【００３７】
図３の電極付基板２に設けられる複数の下部電極２１は、いずれも平面形状が矩形状の電極であり、絶縁層１３に被覆されていない端部２１ａが、下部電極２１の配列方向に対して垂直の方向、より具体的には、図３中のＢ’側にそろうように設けられている。
【００３８】
図３の電極付基板２において、絶縁層１３は、下記（３−１）及び（３−２）の開口を有している。本発明においては、絶縁層１３は、下記（３−１）及び（３−２）の開口を有しているのが好ましい。
（３−１）有機発光素子の発光領域２０を規定する第一の開口４１
（３−２）第一の開口４１に連通し、かつ下部電極２１の端部の一部（端部２１ａ）と、下部電極２１の外側の一部と、を開放する第二の開口４２
【００３９】
尚、（３−２）でいう開放とは、絶縁層１３の一部を加工することで、加工した部分に設けられている平坦化絶縁層１１や下部電極２１が絶縁層１３に被覆されない状態になったことをいう。
【００４０】
図３の電極付基板２は、特に、第二の開口４２を有するため、この電極付基板２を洗浄すると、下部電極２１の上に生じ得る異物を端部２１ａから発光領域２０の外側へ除去することができる。尚、第二の開口４２は、少なくとも下部電極２１の端部及びその周辺に設けられていればよい。下部電極２１の周辺には下部電極２１よりも高さが低い平坦化絶縁層１１が設けられており、電極付基板２の洗浄の際に下部電極２１の上に生じ得る異物は下部電極２１よりも高さが低い平坦化絶縁層１１へ流れるからである。ここで第一の開口４１の形状が四角形である場合、第二の開口４２は、第一の開口４１である四角形状の開口のうちの一辺の部分に相当するということができる。
【００４１】
ところで、図３の電極付基板２は、基板１０の上に設けられる複数の下部電極２１が、二行一組の千鳥形式で配列されている。下部電極２１が千鳥形式で配列されている場合、図３（ａ）に示されるように、絶縁層１３に被覆されない下部電極２１の端部（端部２１ａ）が一定の方向にそろうように、絶縁層１３を加工して第二の開口４２を設けておく。これにより、図３の電極付基板２を洗浄する際に下部電極２１の上に生じ得る異物を効果的に除去することができる。
【００４２】
尚、図３の電極付基板２は、矩形状の下部電極２１の四辺にそれぞれ存在する端部のうち三辺の端部を絶縁層１３で被覆している。このため、図３の電極付基板２において、下部電極２１の端部のうち絶縁層１３によって被覆されている割合は７５％であるため、図３の電極付基板２は、下部電極２１と上部電極２３との短絡の防止という観点でも優れているといえる。
【００４３】
以上の説明は、下部電極２１の配列形式が一組の千鳥配列である場合に関する説明である。ここで、下部電極２１の配列形式が、図２（ｂ）に示される一列のライン配列である場合においても、千鳥配列と同様に、絶縁層１３に被覆されない下部電極２１の端部を一定の方向にそろえることができる。具体的には、図３の電極付基板２と同様に、下部電極２１の配列方向に対して垂直の方向側にそろうように設けることができる。本発明においては、下部電極２１、下部電極２１を有する有機発光素子の配列形式は、千鳥配列又はライン配列にするのが好ましい。
【００４４】
一方、図２（ｃ）に示されるマトリクス配列の場合、上述した千鳥配列及びライン配列と異なり、洗浄による異物の除去の際に、除去された異物の進行方向によってはこの異物が他の発光領域に設けられる下部電極２１へ侵入し、堆積するというリスクが生じる。
【００４５】
ただし、マトリクス配列の場合でも、上述した第一の開口４１及び第二の開口を設けることで、下部電極２１の上に生じ得る異物を効果的に除去することができる。
【００４６】
図４は、下部電極２１がマトリクス配列である場合における絶縁層１３のパターンの具体例を示す平面模式図である。図４（ａ）乃至（ｄ）において、絶縁層１３には、第一の開口４１及び第二の開口４２を有している。尚、図４（ａ）乃至（ｄ）に示される、第一の開口４１及び第二の開口４２の機能は、図３の電極付基板２が有する第一の開口４１及び第二の開口４２と同様である。
【００４７】
また図４（ａ）乃至（ｄ）では、第二の開口４２同士が連通している箇所がある。このように第二の開口４２同士を連通させると、下部電極２１の上に生じ得る異物を、下部電極２１以外の部材（例えば、平坦化絶縁層１１）へ退避させることができるため、上述した、除去した異物の下部電極２１への侵入というリスクを低減することができる。
【００４８】
（４）絶縁層のパターン
本発明において、上述した第一の開口４１及び第二の開口４２を設ける目的で絶縁層１３の一部を加工してなるパターンは、特に限定されるものではない。例えば、図５（ａ）に示されるように、下部電極２１の角部を被覆するように絶縁層１３を形成してもよい。また図５（ｂ）に示すように、下部電極２１の角部を開放し角部以外の端部を被覆するように絶縁層１３を形成してもよい。また、本発明において、絶縁層１３が有する開口パターンは、画素ごとに共通しているのが好ましい。
【００４９】
［有機発光装置の製造方法］
次に、本発明の有機発光装置の製造方法について説明する。
【００５０】
（１）電極付基板の作製工程
本発明の有機発光装置を製造する際には、まず有機発光装置を構成する下部電極２１を有する電極付基板を作製する。この電極付基板を作製する工程としては、例えば、下記（１ａ）乃至（１ｅ）に示される工程が挙げられるが、本発明において、電極付基板の作製工程は、下記（１ａ）乃至（１ｅ）に示される工程に限定されない。
（１ａ）基板の上に平坦化絶縁層を形成する工程
（１ｂ）コンタクトホールを設ける工程
（１ｃ）下部電極を形成する工程
（１ｄ）絶縁層を形成する工程
（１ｅ）洗浄工程
【００５１】
工程（１ａ）を行う際に用いられる平坦化絶縁層１１の構成材料としては、特に限定されるものではないが、絶縁性に優れた材料、例えば、窒化珪素（ＳｉＮ）、酸化珪素（ＳｉＯ）等が好ましく用いられる。また工程（１ａ）を行う際に用いられる平坦化絶縁層１１となる膜の形成方法としては、平坦化絶縁層１１の構成材料を成膜する方法を用いることができるが、このとき公知の薄膜形成方法を用いてもよい。
【００５２】
工程（１ｂ）は、例えば、平坦化絶縁層１１にフォトリソグラフィ法でコンタクトホール２を形成する工程である。フォトリソグラフィ法で用いられる材料としては、公知のものを使用することができる。またフォトリソグラフィ法の具体的な手法としては、公知の手法を採用することができる。
【００５３】
工程（１ｃ）で形成される下部電極２１の構成材料は、有機発光装置の光の取り出し方向を考慮して適宜選択される。
【００５４】
基板（不図示）とは反対側から光を取り出す場合、下部電極２１の構成材料としては、反射性を有する電極材料が用いられる。例えば、アルミニウム、銀等の光の反射率が高い金属材料が電極材料として用いられる。一方、基板（不図示）側から光を取り出す場合、下部電極２１の構成材料としては、光透過性が高い電極材料が用いられる。例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物等の透明性が高い酸化物半導体が用いられる。尚、本発明において、下部電極２１を光反射電極として用いられる場合、下部電極２１の構成は、光の反射率が高い金属材料を成膜してなる層のみからなる構成に限定されるものではない。光の反射率が高い金属材料を成膜してなる層と、光透過性が高い電極材料を成膜してなる層と、をこの順で形成されてなる積層構成も含まれる。
【００５５】
下部電極２１と上部電極２３との間の短絡を抑制するためには、下部電極２１の膜厚は薄い方がよく、具体的には、下部電極２１の膜厚は１００ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００５６】
工程（１ｄ）で形成される絶縁層１３は、絶縁性のある材料で形成される層であるが、その構成材料としては特に限定されない。絶縁性のある材料として有機化合物を用いる場合、好ましくは、ポリイミドを主成分とする絶縁性材料である。一方、絶縁性のある材料として無機化合物を用いる場合、好ましくは、窒化珪素（ＳｉＮ）、酸化珪素（ＳｉＯ）等の絶縁性無機化合物である。工程（１ｄ）において形成される絶縁層１３は、例えば、フォトリソグラフィ法を用いて図２に示すようにパターン形状を有する態様で形成される。ところで、工程（１ｃ）で形成される下部電極２１のうち、コンタクトホール１２が設けられている部分においては、下部電極２１となる薄膜の凹凸が激しいため、絶縁層１３を形成する際には、当該凹凸を絶縁層１３で被覆するように形成するのが好ましい。
【００５７】
工程（１ｅ）にて下部電極２１を有する基板（電極付基板）を洗浄する場合、用いる液体として、例えば、水又は水を含有する液体があげられる。また基板の洗浄方法として、例えば、二流体、超音波、メガソニック、マイクロバブル等の方法を適宜選択することができる。
【００５８】
（基板の切断）
ところで本発明では、有機発光装置を作製する場合に、１枚の基板の上に複数組の有機発光装置を一括して作製してもよい。このように１枚の基板の上に複数組の有機発光装置を作製した場合、後の工程で有機発光装置を設けた基板を切断して、最終的には、１枚の基板の上に１つの有機発光装置が設けられている状態にするのが一般的である。
【００５９】
図６は、図３の有機発光装置を作製する際に用いられる電極付基板の例を示す平面模式図である。尚、図６に示される電極付基板を用いることにより、図３の電極付基板２を３個製造することができる。
【００６０】
ここで図６の電極付基板１０を洗浄する際には、洗浄によって所定の下部電極２１から除去された異物が、他の下部電極２１へ移動するのを防ぐ必要がある。ここで図６の電極付基板１０が有する絶縁層１３は、有機発光素子の発光領域を規定する開口４１（第一の開口）の他に、開口４１に連通し、下部電極２１の図６の下方向の端部２１ａ及び下部電極２１の外側の一部を開放する開口４２（第二の開口）を有している。つまり、図６の電極付基板１０には、下部電極２１の図面下方向の端部２１ａに絶縁層１３が設けられていない構成である。このため、下部電極２１の上に存在し得る異物は、図６の図面下方向に移動されやすい構成となっている。一方、図６において、基板１０の上に複数存在する下部電極２１には、いずれも図面下方向以外の方向（例えば、図面上方向）の端部を被覆する絶縁層１３が設けられている。
【００６１】
このため、例えば、基板１０ａから基板１０ｃへ進む方向に沿って洗浄液を流すと、以下に説明する現象が起こる。即ち、洗浄液による洗浄によって基板１０ａの上に設けられる下部電極２１から洗い出てきた異物は、基板１０ｂへ向かって進行するが、基板１０ｂの上に設けられる絶縁層１２によって、基板１０ｂの上に設けられる下部電極２１の手前で押しとどめられる。また基板１０ｂの上に設けられる下部電極２１から洗い出てきた異物は、基板１０ｃの上に設けられる絶縁層１２によって、基板１０ｃの上に設けられる下部電極２１の手前で押しとどめられる。
【００６２】
従って、図６に示される基板１０の上に設けられる所定の下部電極２１の上に存在していた異物は、洗浄によって除去され、他の下部電極２１の上に乗っかることはない。
【００６３】
また図６に示される基板１０を洗浄する際に、画素を構成する下部電極２１の配列方向と平行な方向での洗浄と、当該配列方向と垂直な方向での洗浄と、を組み合わせてもよい。複数の方向で洗浄を行うことで、所定の下部電極２１の上に存在し得る異物を、例えば、符号４３に示される方向へ移動させることができるので、他の下部電極２１に向かって異物が移動するのを防ぐことができる。
【００６４】
尚、図６に示される電極付基板１０は、この電極付基板１０に有機発光装置の構成部材を一通り形成した後、破断線１０ｄより切断することで、３個の有機発光装置を得ることができる。
【００６５】
（２）有機化合物層の成膜工程
有機化合物層２２は、一層又は二層以上の層から構成される積層体であるが、少なくとも発光層を含んでいる。本発明において、有機化合物層２２に含まれる層としては、発光層の他に、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられる。
【００６６】
ここで有機化合物層２２に含まれ得る層について説明する。正孔注入層は、正孔輸送層と正孔注入用の電極（アノード）との間に設けられる層である。正孔注入層は、正孔の注入性を向上させる機能を有するため、素子の低電圧化や長寿命化に寄与する層である。
【００６７】
正孔輸送層は、主に正孔を輸送する機能を有し、正孔輸送材料を成膜してなる層である。
【００６８】
電子ブロック層は、発光層と正孔輸送層との間に設けられる層であり、発光層から漏れ得る電子をブロックして発光層に閉じ込める機能を有する層である。この機能を有する電子ブロック層は、有機発光素子の高効率化に寄与する層である。
【００６９】
発光層は、主に、正孔と電子との再結合によって発光を得るために必要な層であり、一般的には、ホスト、ゲストといったように少なくとも２種類の材料が含まれている。ここで発光層に含まれる材料のうち、ゲストは、いわゆる発光材料であるが、発光層全体に対するゲストの含有量は１０％以下程度である。尚、本発明においては、素子特性の観点から、発光層にホストやゲストとは別の機能を有する材料をさらに加えてもよい。
【００７０】
正孔ブロック層は、電子輸送層と発光層との間に設けられる層であり、発光層から漏れ得る正孔をブロックして発光層に閉じ込める機能を有する層である。この機能を有する正孔ブロック層は、電子ブロック層と同様に有機発光素子の高効率化に寄与する層である。
【００７１】
電子輸送層は、主に、電子を輸送する機能を有する層である。
【００７２】
電子注入層は、電子輸送層と電子注入用の電極（カソード）との間に設けられる層である。電子注入層は、主に、電子の注入性を向上させる機能を有するため、素子の低電圧化や長寿命化に寄与する層である。
【００７３】
本発明において、上述した複数種類の層から適宜選択して有機化合物層２２を形成する場合、当該複数種類の層のうちのいずれかが欠けたとしても、あるいは重複したとしても、形成される有機化合物層２２となる膜の端部の構成には影響しない。従って、本発明において、有機化合物層２２の積層構成は、発光層あるいは発光機能を有する層が含まれていれば特に限定されない。また、下部電極２１の性質、即ち、アノードかカソードかによって、有機化合物層２２に含まれる層の積層順は逆順になるが、本発明において、有機化合物層２２に含まれる層の積層順は特に限定されない。
【００７４】
本発明において、有機化合物層２２の形成方法としては、従来一般的に用いられる薄膜形成方法を利用することができる。尚、本発明において、有機化合物層２２の総膜厚は、両電極間の短絡を抑制するために、下部電極２１よりも厚いことが好ましく、下部電極２１の倍以上の厚みであることがより好ましい。
【００７５】
（３）上部電極の形成工程
上部電極２３は、有機化合物層２２の上に設けられる電極であって、正電荷のキャリア（正孔）又は負電荷のキャリア（電子）を有機化合物層２２へ向けて注入する機能を有する電極である。
【００７６】
上部電極２３になる膜を成膜する際には、蒸着やスパッタといった従来から一般的に用いられている手法を用いることができる。また上部電極２３の構成材料としては、下部電極２１と同様に有機発光装置の光の取り出し方向を考慮して適宜選択される。
【００７７】
基板（不図示）とは反対側から光を取り出す場合、上部電極２３の構成材料として、光透過性が高い電極材料、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物等の透明性が高い酸化物半導体が用いられる。一方、基板（不図示）側から光を取り出す場合、上部電極２３の構成材料として、反射性を有する電極材料、例えば、アルミニウム、銀等の光の反射率が高い金属材料が用いられる。のあ、本発明において、上部電極２３は、一層で構成されていてもよいし、複数の層で構成されていてもよい。
【００７８】
また、本工程において形成される上部電極２３は、基板、具体的には、平坦化絶縁層１１の上に設けられる上部電極用電極パッド部（不図示）を設ける領域にも形成されることで、駆動回路（不図示）と電気的接続を得ることができる。
【００７９】
（４）有機発光素子の封止
本発明において、例えば、上部電極２３の上に封止層３０を設けることで、有機発光素子を封止し、外部から侵入し得る水分から有機発光素子を保護することができる。封止層３０の構成材料として、例えば、窒化珪素（ＳｉＮ）、酸化珪素（ＳｉＯ）、酸化アルミニウム（ＡｌＯ）等の無機材料が挙げられるが、本発明においては特に限定されない。また、封止層３０は、水分や酸素等を遮断することができるのであるならば、無機材料と有機材料とを順次積層されてなる積層体であってもよい。
【００８０】
［能動素子］
本発明の有機発光装置は、装置を構成する有機発光素子の発光の制御のための能動素子をさらに有していてもよい。能動素子はトランジスタ、ＭＩＭ素子等のスイッチング素子が挙げられる。
【００８１】
有機発光素子に接続される能動素子は、その活性領域に酸化物半導体を有してもよい。また能動素子の構成材料である酸化物半導体は、アモルファス状のものであってもよいし、結晶状のものであってもよいし、両者の混在しているものであってもよい。尚、ここでいう結晶とは、単結晶、微結晶、あるいはＣ軸等の特定軸が配向している結晶のいずれかであるが、これに限定されず、これら複数種類の結晶のうちの少なくとも２種類が混合されたものであってもよい。
【００８２】
［有機発光装置の用途］
次に、本発明の有機発光装置の用途について説明する。本発明の有機発光装置は、表示装置や照明装置の構成部材として用いることができる。他にも、電子写真方式の画像形成装置の露光光源や液晶表示装置のバックライト、白色光源にカラーフィルターを有する発光装置等の用途がある。カラーフィルターは、例えば、赤、緑、青の３つの色が透過するフィルターが挙げられる。
【００８３】
本発明の表示装置は、本発明の有機発光装置を表示部に有する。尚、この表示部は複数の画素を有する。
【００８４】
そしてこの画素は、本発明の有機発光装置と、発光輝度を制御するための能動素子（スイッチング素子）又は増幅素子の一例であるトランジスタとを有し、この有機発光装置が有する陽極又は陰極とトランジスタのドレイン電極又はソース電極とが電気接続されている。ここで本発明の表示装置は、ＰＣ等の画像表示装置として用いることができる。上記トランジスタとして、例えば、ＴＦＴ素子が挙げられ、このＴＦＴ素子は、例えば、基板の絶縁性表面に設けられている。
【００８５】
本発明の表示装置は、例えば、エリアＣＣＤ、リニアＣＣＤ、メモリーカード等からの画像情報を入力する画像入力部と、この画像情報を処理する情報処理部と、を有し、入力された画像を表示部に表示する画像情報処理装置でもよい。
【００８６】
また、撮像装置やインクジェットプリンタが有する表示部は、タッチパネル機能を有していてもよい。このタッチパネル機能の駆動方式は特に限定されない。
【００８７】
また表示装置はマルチファンクションプリンタの表示部に用いられてもよい。
【００８８】
照明装置は例えば室内を照明する装置である。照明装置は白色（色温度が４２００Ｋ）、昼白色（色温度が５０００Ｋ）、その他青から赤のいずれの色を発光するものであってもよい。
【００８９】
本発明の照明装置は、本発明の有機発光装置と、この有機発光装置と接続し駆動電圧を供給するＡＣ／ＤＣコンバーター回路（交流電圧を直流電圧に変換する回路）とを有している。尚、この照明装置は、カラーフィルターをさらに有してもよい。また本発明の照明装置は、照明装置内の熱を外部へ放出する放熱板を有していてもよい。
【００９０】
本発明の画像形成装置は、感光体と、この感光体の表面を帯電させる帯電部と、感光体を露光して靜電潜像を形成するための露光部と、感光体に現像材を供給し感光体の表面に形成された静電潜像を現像するための現像部とを有する画像形成装置である。ここで画像形成装置に備える露光手段は、本発明の有機発光装置を含んでいる。
【００９１】
また本発明の有機発光装置は、感光体を露光するための露光装置の構成部材として使用することができる。本発明の有機発光装置を有する露光装置は、例えば、本発明の有機発光装置を構成する有機発光素子を所定の方向に沿って列を形成して配置されている露光装置がある。
【００９２】
図７は、本発明に係る有機発光素子を有する画像形成装置の例を示す模式図である。図６の画像形成装置６は、感光体６１と、露光光源６２と、現像器６４と、帯電部６５と、転写器６６と、搬送ローラー６７と、定着器６９と、を有している。
【００９３】
図７の画像形成装置６は、露光光源６２から感光体６１へ向けて光６３が照射され、感光体６１の表面に静電潜像が形成される。露光光源６２は、本発明に係る有機発光素子である。現像器６４は、トナー等を有している。帯電部６５は、感光体６１を帯電させるために設けられている。転写器６６は、現像された画像を紙等の記録媒体６８に転写するために設けられている。尚、記録媒体６８は、搬送ローラー６７によって転写機６６へ搬送される。定着器６９は、記録媒体６８に形成された画像を定着させるために設けられている。
【００９４】
図８（ａ）及び図８（ｂ）は、図７の画像形成装置６を構成する露光光源（露光器）の具体例を示す平面概略図であり、図８（ｃ）は、図７の画像形成装置６を構成する感光体の具体例を示す概略図である。尚、図８（ａ）及び図８（ｂ）は、露光光源６２に有機発光素子を含む発光部６２ａが長尺状の基板６２ｃの長軸方向に沿って、一列に複数配置されている点で共通している。また符合６２ｂの矢印は、発光部６２ａが配列されている列方向を表わす。この列方向は、感光体６１が回転する軸の方向と同じである。
【００９５】
ところで図８（ａ）では、発光部６２ａは、感光体６１の軸方向に沿って配置した形態である。一方、図８（ｂ）では、第一の列αと第二の列βとのそれぞれにおいて発光部６２ａが列方向に交互に配置されている形態である。図６（ｂ）において、第一の列α及び第二の列βは、それぞれ行方向に異なる位置に配置されている。
【００９６】
また図８（ｂ）において、第一の列αは、複数の発光部６２αが一定の間隔を空けて配置される一方で、第二の列βは、第一の列αに含まれる発光部６２α同士の間隔に対応する位置に発光部６２βを有する。即ち、図６（ｂ）の露光光源は、行方向にも、複数の発光部が一定の間隔を空けつつ配置されている。
【００９７】
尚、図８（ｂ）の露光光源は、露光光源を構成する発光部（６２α、６２β）を、例えば、格子状、千鳥格子、あるいは市松模様に配置されている状態と言い換えることもできる。
【００９８】
図９は、本発明に係る有機発光素子を有する照明装置の例を示す模式図である。図９の照明装置は、基板（不図示）の上に設けられる有機発光素子７１と、ＡＣ／ＤＣコンバーター回路７２と、を有している。図９の照明装置において、装置を構成する有機発光素子７１は、本発明の有機発光装置あるいは本発明の有機発光装置の構成部材である。また装置内の熱を外部へ放出する放熱部に相当する放熱板（不図示）を、例えば、有機発光素子７１が載置されている側とは反対側の基板面に有していてもよい。
【００９９】
以上説明の通り、本発明の有機発光装置を駆動することにより、非発光領域の少ない良好な状態で、長時間安定な表示や露光が可能である。
【実施例】
【０１００】
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。尚、後述する実施例において、基板形成工程ではガラス基板が用いられているが、ガラス基板に代えてシリコン等の基板を用いてもよい。また後述する実施例では、発光層は、青色を出力する青色発光層としているが、本発明はこれに限定されない。また本発明においては、発光画素の配置についても、後述する実施例で示された配置形式に限定されるものではない。
【０１０１】
［実施例１］
図１に示される有機発光装置を作製した。尚、本実施例で作製される有機発光装置は、図１（ａ）に示されるように、画素配列（発光領域２０の配列）が千鳥配列となっている。
【０１０２】
（１）電極付基板の作製工程
まず電極付基板を作製するに当たり、ガラス基板の上に有機発光装置の駆動に必要な回路や配線が形成されている基板（不図示）を用意した。次に、この基板の上に、ＳｉＮを成膜して平坦化絶縁層１１を形成した。このとき平坦化絶縁層１１の膜厚を２００ｎｍとした。次に、フォトリソグラフィ法により、平坦化絶縁層１１の一部を加工して、駆動回路（不図示）と下部電極２１とを電気的に接続するためのコンタクトホール１２を形成した。
【０１０３】
次に、平坦化絶縁層１１の上の全面にわたってインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）からなる透明導電膜を成膜した。このとき透明導電膜の膜厚を６０ｎｍとした。次に、フォトリソグラフィ法を用いて成膜した透明導電膜を加工することにより、下部電極２１を、発光画素を設ける領域に対応する領域に形成した。これにより、コンタクトホール１２を介して、駆動回路と下部電極２１とが電気的に接続された。
【０１０４】
次に、ＣＶＤ成膜により、窒化珪素を基板の全面にわたって成膜して窒化珪素膜を形成した。このとき窒化珪素膜の膜厚を１００ｎｍとした。次に、フォトリソグラフィ法により、成膜した窒化珪素膜を加工することにより、図２（ａ）に示される平面形状を有する絶縁層１３を形成した。以下に、具体的な加工工程を説明する。まず窒化珪素膜の上にフォトレジストを成膜してレジスト層を形成した。次に、フォトリソグラフィにより、レジスト層のパターニングを行った。次に、パターニングしたレジスト層をマスクにして、ＣＦ4ガスを用いたドライエッチングにより窒化珪素膜を加工した。尚、加工した窒化珪素膜（絶縁層１３）は、コンタクトホール１２を設けた領域、及び４辺ある矩形状の下部電極２１の端部のうち、符号２１ａで示された端部以外の３辺を被覆している。次に、絶縁層１３の上に残ったレジスト残渣を、酸素ガスによるドライエッチングにより除去した。
【０１０５】
次に、市販の枚様式洗浄機を用いて、二流体あるいはメガソニックを使った純水洗浄を用いた洗浄を行い、基板表面を洗浄した。これにより、図２（ａ）に示されるように、下部電極２１が千鳥ラインに配置されている電極付基板を作製した。
【０１０６】
（２）有機化合物層の形成工程
次に、下部電極２１の上に、有機化合物層２２を形成した。以下、その具体的な工程を説明する。まず作製した電極付基板に対して、前処理としてＵＶオゾン処理を行った。次に、マスクを用いた真空蒸着法により、電極付基板の上に有機化合物層を形成した。図１０は、本実施例で使用したマスクを示す平面模式図である。図１０に示されるように、本実施例で使用したマスク５には、マスク本体５０に開口５１が設けられており、マスク５を電極付基板の上の所定の位置に設置したときに、開口５１は、有機発光素子を構成する有機化合物層２２の成膜領域を示している。
【０１０７】
以下に、本工程で用いられた化合物を示す。
【０１０８】
【化１】
2016201292.tif 000003
【０１０９】
以下、本実施例における有機化合物層２２の形成方法を具体的に説明する。まず下部電極２１（ＩＴＯ電極）の上に、化合物１を成膜して、正孔注入層を形成した。このとき正孔注入層の膜厚を３ｎｍとした。次に、正孔注入層の上に、化合物２を成膜して正孔輸送層を形成した。このとき正孔輸送層の膜厚を５０ｎｍとした。次に、正孔輸送層の上に、化合物３を成膜して電子ブロック層を形成した。このとき電子ブロック層の膜厚を１０ｎｍとした。次に、電子ブロック層の上に、化合物４（ホスト）と化合物５（発光材料）とを、体積比で９９：１となるように共蒸着して発光層を形成した。このとき発光層の膜厚を２０ｎｍとした。次に、発光層の上に、化合物６を成膜して正孔ブロック層を形成したこのとき正孔ブロック層の膜厚を１０ｎｍとした。次に、正孔ブロック層の上に、化合物７を成膜して電子輸送層を形成した。このとき電子輸送層の膜厚を４０ｎｍとした。次に、電子輸送層の上に、化合物７と化合物８とを、体積比で７０：３０となるように共蒸着して電子注入層を形成した。このとき電子注入層の膜厚を１５ｎｍとした。
【０１１０】
以上より、有機化合物層２２を形成した。尚、本実施例で形成した有機化合物層２２の総膜厚は１４８ｎｍであり、下部電極２１の膜厚（６０ｎｍ）よりも厚くした。
【０１１１】
（３）上部電極及び保護層の形成工程
次に、真空蒸着により、アルミニウム（Ａｌ）を、少なくとも有機化合物層２２を設ける領域に成膜して上部電極２３を形成した。このとき上部電極２３の膜厚を１００ｎｍとした。次に、窒化珪素（ＳｉＮ）を成膜することで形成された保護層３０によって有機発光素子の封止を行った。具体的には、まずＳｉＨ4及びＮ2を反応ガスとするＣＶＤ成膜により、有機発光素子を形成した基板の上に、窒化珪素膜を膜厚２μｍで成膜した。次に、フォトリソグラフィ及びＣＦ4ガスを用いたドライエッチングによって、窒化珪素膜のパターニングを行い、外部接続用のパッド電極（不図示）を露出させることで、保護層３０を形成した。
【０１１２】
以上により、有機発光装置を作製した。
【０１１３】
［実施例２］
図１（ａ）に示される有機発光装置を、以下に説明する方法により作製した。
【０１１４】
（１）電極付基板の作製工程
まず実施例１（１）と同様の方法により、駆動回路及び配線を有する基板の上に設けられ、コンタクトホール１２を有する平坦化絶縁層１１、及び所望の平面形状を有する下部電極２１を、それぞれ形成した。
【０１１５】
次に、ＣＶＤ成膜により、窒化珪素を基板の全面にわたって成膜して窒化珪素膜を形成した。このとき窒化珪素膜の膜厚を１００ｎｍとした。次に、フォトリソグラフィ法により、成膜した窒化珪素膜を加工することにより、図１１（ａ）に示される平面形状を有する絶縁層１３を形成した。以下に、具体的な加工工程を説明する。まず窒化珪素膜の上にフォトレジストを成膜してレジスト層を形成した。次に、フォトリソグラフィにより、レジスト層のパターニングを行った。次に、パターニングしたレジスト層をマスクにして、ＣＦ4ガスを用いたドライエッチングにより窒化珪素膜を加工した。尚、加工した窒化珪素膜（絶縁層１３）は、コンタクトホール１２を設けた領域、及び矩形状の下部電極２１の端部のうち、符号２１ｂで示された端部、即ち、下部電極２１の角部及びその周辺以外の部分の端部を被覆している。次に、絶縁層１３の上に残ったレジスト残渣を、酸素ガスによるドライエッチングにより除去した。
【０１１６】
次に、市販の枚様式洗浄機を用いて、二流体あるいはメガソニックを使った純水洗浄を用いた洗浄を行い、基板表面を洗浄した。これにより、図１１（ａ）に示されるように、下部電極２１が千鳥配列に配置されている電極付基板を作製した。
【０１１７】
（２）有機化合物層の形成工程
実施例１（２）と同様の方法により、マスクを用いた真空蒸着により、有機化合物層２２を形成した。
【０１１８】
（３）上部電極及び保護層の形成する工程
実施例１（３）と同様の方法により、上部電極２３及び保護層３０を順次形成した。以上により、有機発光装置を得た。
【０１１９】
［実施例３］
図１に示される有機発光装置を、以下に説明する方法により作製した。
【０１２０】
（１）電極付基板の形成工程
まず実施例１（１）と同様の方法により、駆動回路及び配線を有する基板の上に設けられ、コンタクトホール１２を有する平坦化絶縁層１１、及び所望の平面形状を有する下部電極２１を、それぞれ形成した。
【０１２１】
次に、ＣＶＤ成膜により、窒化珪素を基板の全面にわたって成膜して窒化珪素膜を形成した。このとき窒化珪素膜の膜厚を１００ｎｍとした。次に、フォトリソグラフィ法により、成膜した窒化珪素膜を加工することにより、図  （ｂ）に示される平面形状を有する絶縁層１３を形成した。以下に、具体的な加工工程を説明する。まず窒化珪素膜の上にフォトレジストを成膜してレジスト層を形成した。次に、フォトリソグラフィにより、レジスト層のパターニングを行った。次に、パターニングしたレジスト層をマスクにして、ＣＦ4ガスを用いたドライエッチングにより窒化珪素膜を加工した。尚、加工した窒化珪素膜（絶縁層１３）は、コンタクトホール１２を設けた領域、及び矩形状の下部電極２１の端部のうち、符号２１ｃで示された端部、即ち、下部電極２１の辺部の一部以外の部分の端部を被覆している。次に、絶縁層１３の上に残ったレジスト残渣を、酸素ガスによるドライエッチングにより除去した。
【０１２２】
次に、市販の枚様式洗浄機を用いて、二流体あるいはメガソニックを使った純水洗浄を用いた洗浄を行い、基板表面を洗浄した。これにより、図１１（ｂ）に示されるように、下部電極２１が千鳥配列に配置されている電極付基板を作製した。
【０１２３】
（２）有機化合物層の形成工程
実施例１（２）と同様の方法により、マスクを用いた真空蒸着により、有機化合物層２２を形成した。
【０１２４】
（３）上部電極及び保護層の形成する工程
実施例１（３）と同様の方法により、上部電極２３及び保護層３０を順次形成した。以上により、有機発光装置を得た。
【０１２５】
［評価結果］
各実施例（実施例１乃至３）でそれぞれ作製した有機発光装置を駆動させたところ、非発光領域が少なく、一定の強度を有する光（青色光）が出力されることが確認できた。
【符号の説明】
【０１２６】
１：有機発光装置、１０：基板、１１：平坦化絶縁層、１２：コンタクトホール、１３：絶縁層、２０：発光領域、２１：下部電極、２２：有機化合物層、２３：上部電極、３０：保護層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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