(57)【要約】【課題】防湿性に優れ、偏光子との密着性に優れ、高いＴｇを有することにより寸法変化の絶対値が小さい光学フィルム、この光学フィルムと偏光子を有する偏光板を提供すること、ならびにこの光学フィルムの製造方法、および偏光板を用いた画像表示装置を提供すること。【解決手段】環状オレフィン系樹脂を含む層Ａと、環状オレフィン系樹脂を含み、層Ａより厚みが薄い層Ｂとを有してなる光学フィルムであって、層Ａのガラス転移温度Ｔｇ［Ａ］に対し、層Ｂのガラス転移温度Ｔｇ［Ｂ］が低い、光学フィルム、または、環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムであって、光学フィルムのガラス転移温度が１５０℃以上であり、光学フィルムの波長５９０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションが８０ｎｍ以上であり、光学フィルムの少なくとも一方の表面の面配向係数が１．０×１０−３以下であり、かつ上記表面の表面水酸基量が１．５％以上である、光学フィルム、これらの光学フィルムの製造方法、これらの光学フィルムを有する偏光板及び画像表示装置。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
環状オレフィン系樹脂を含む層Ａと、
環状オレフィン系樹脂を含み、前記層Ａより厚みが薄い層Ｂとを有してなる光学フィルムであって、
前記層Ａのガラス転移温度Ｔｇ［Ａ］に対し、前記層Ｂのガラス転移温度Ｔｇ［Ｂ］が低い、光学フィルム。
【請求項２】
Ｔｇ［Ａ］−Ｔｇ［Ｂ］≧５（℃）を満たす、請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
Ｔｇ［Ａ］≧１５０（℃）を満たす、請求項１又は２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記層Ａの環状オレフィン系樹脂の重量平均分子量が４万以上である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記層Ａ及び層Ｂの少なくとも一方の層に、更に、分子量が１万以下の化合物を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記層Ｂとして、第１の層Ｂ及び第２の層Ｂを有し、
前記第１の層Ｂ、前記層Ａ、前記第２の層Ｂをこの順に有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
１２０℃、相対湿度５％未満の環境に２４時間放置した前後の寸法変化の絶対値が０．２％未満である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
溶液製膜法により前記層Ａ及び層Ｂを同時又は逐次で製膜する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項９】
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムであって、
前記光学フィルムのガラス転移温度が１５０℃以上であり、
前記光学フィルムの波長５９０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションが８０ｎｍ以上であり、
前記光学フィルムの少なくとも一方の表面の面配向係数が１．０×１０−３以下であり、かつ前記表面の表面水酸基量が１．５％以上である、光学フィルム。
【請求項１０】
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを延伸する工程、及び、前記光学フィルムに溶剤を接触させることにより、前記表面の面配向係数を１．０×１０−３以下とする請求項９に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１１】
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを延伸する工程、及び、前記光学フィルムにプラズマ処理を行うことにより、前記表面の表面水酸基量を１．５％以上とする請求項９又は１０に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜７、９のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
【請求項１３】
請求項１２に記載の偏光板を含む画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、それを用いた偏光板、光学フィルムの製造方法、及び画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、テレビ、パソコン、携帯電話、デジタルカメラなどへの用途で広く用いられている。通常、液晶表示装置は、液晶セルの両側に偏光板を設けた液晶パネル部材を有し、バックライト部材からの光を液晶パネル部材で制御することにより表示が行われている。ここで、偏光板は偏光子と少なくとも１枚の光学フィルムを保護フィルム（偏光板保護フィルム）として含んでおり、一般的な偏光子は延伸されたポリビニルアルコール（ＰＶＡ）系フィルムをヨウ素又は二色性色素で染色することにより得られ、保護フィルムとしては種々の熱可塑性樹脂を用いたフィルムが用いられている。
【０００３】
偏光板保護フィルムに用いられる熱可塑性樹脂フィルムとして、環状オレフィン系樹脂フィルムを偏光板保護フィルムとして使用することが提案されている。
【０００４】
偏光板保護フィルムは、上述のように偏光子と一体となって偏光板として使用されることから、偏光子との密着性が重要であり、実際の液晶表示装置にて使用される場合には液晶セルに偏光板が貼合された形態となるが、この際に偏光板の剥がし試験などの実用試験において、容易に剥離しないことが重要となる。
【０００５】
環状オレフィン系樹脂は、主鎖構造の剛直性に起因してガラス転移温度（以下、Ｔｇとも言う）が高い特徴を有しており、例えば特許文献１〜６に記載のものなどが挙げられる。これら種々の環状オレフィン系樹脂を光学フィルムや偏光板保護フィルムとして使用することができる。
【０００６】
また、特許文献７〜９には環状オレフィン系樹脂フィルムの接着性について記載されている。
特許文献７には、接触によってシクロオレフィン系樹脂に変化を与える有機溶剤を含む混合有機溶剤をシクロオレフィン系樹脂に接触させて、ヘイズ値が０．５％を超えないように処理してから、偏光子と接着させることが記載されている。
特許文献８には、ノルボルネン系樹脂からなる基板の少なくとも一面をプラズマ処理し、プラズマ処理された面に偏光子を接着する偏光板の製造方法が記載されている。
特許文献９には、ノルボルネン系樹脂フィルムを延伸し、加熱して表面の面配向係数を選択的に小さくする技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平１−１３２６２５号公報
【特許文献２】特開平１−１３２６２６号公報
【特許文献３】特開昭６３−２１８７２６号公報
【特許文献４】特開平２−１３３４１３号公報
【特許文献５】特開昭６１−１２０８１６号公報
【特許文献６】特開昭６１−１１５９１２号公報
【特許文献７】特開２０１２−１７７８９０号公報
【特許文献８】特開２００６−１７８１９１号公報
【特許文献９】特開２０１２−１５９６６５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、環状オレフィン系樹脂を光学フィルムや偏光板保護フィルムに用いる際、用いる環状オレフィンの特性により得られる重合体の特性が一義的に決定されてしまい、フィルム特性として脆いものも多く、偏光子との密着性が不十分で偏光板保護フィルムとして要求特性に対応するのには限界があった。
【０００９】
一方、環状オレフィンを開環共重合によって、様々な共重合組成物を選択することで樹脂特性を制御し、上記のような脆さを改善することも可能となる。だたし、この場合、一般的にガラス転移温度（Ｔｇ）の低い樹脂となることが多く、耐熱性、とりわけフィルムとしての寸法変化の絶対値が大きくなる懸念がある。
【００１０】
また、特許文献７及び９に記載されているように、環状オレフィン系樹脂フィルムと偏光子とを接着させる際には、環状オレフィン系樹脂フィルムの表面をコロナ処理するのが一般的である。
しかしながら、より過酷な条件下での使用などを考慮し、偏光子との密着性の更なる向上が求められる場合がある。
さらに、液晶表示装置の光学補償フィルムとしての機能も環状オレフィン系樹脂フィルムが兼ねる場合は、フィルムのレターデーションの調整などの観点からフィルムを延伸することがあるが、延伸によりフィルムが裂けやすくなり、偏光子との密着性が低下することがある。
特許文献８にはプラズマ処理について記載されているが、フィルムのレターデーションについては記載されていない。また、本発明者らの検討により、特許文献８に記載された環状オレフィン系樹脂フィルムを単に延伸するとプラズマ処理を行ったとしても偏光子との密着性が低下することが分かった。
【００１１】
本発明は、防湿性に優れ、偏光子との密着性に優れ、高いＴｇを有することにより寸法変化の絶対値が小さい光学フィルム、この光学フィルムと偏光子を有する偏光板を提供すること、並びにこの光学フィルムを製造する方法、および偏光板を用いた画像表示装置を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、鋭意検討の結果、環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを偏光板保護フィルムとして用いる場合の偏光子と密着する側に、相対的にＴｇが低い環状オレフィン系樹脂を用いた層を設けることにより、偏光子との密着性に優れ、偏光板保護フィルム全体としてはＴｇが下がりすぎることなく、耐熱性、とりわけ寸法変化の絶対値が小さい、偏光板保護フィルムとすることができ、上記課題を解決できることを見出した。また、これとは別の態様として、環状オレフィン系樹脂を含むガラス転移温度が１５０℃以上の光学フィルムの少なくとも一方の表面の面配向係数と表面水酸基量を特定の範囲とすることによっても、上記課題を解決できることを見出した。
【００１３】
＜１＞
環状オレフィン系樹脂を含む層Ａと、
環状オレフィン系樹脂を含み、上記層Ａより厚みが薄い層Ｂとを有してなる光学フィルムであって、
上記層Ａのガラス転移温度Ｔｇ［Ａ］に対し、上記層Ｂのガラス転移温度Ｔｇ［Ｂ］が低い、光学フィルム。
＜２＞
Ｔｇ［Ａ］−Ｔｇ［Ｂ］≧５（℃）を満たす、＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞
Ｔｇ［Ａ］≧１５０（℃）を満たす、＜１＞又は＜２＞に記載の光学フィルム。
＜４＞
上記層Ａの環状オレフィン系樹脂の重量平均分子量が４万以上である、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜５＞
上記層Ａ及び層Ｂの少なくとも一方の層に、更に、分子量が１万以下の化合物を含む、＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜６＞
上記層Ｂとして、第１の層Ｂ及び第２の層Ｂを有し、
上記第１の層Ｂ、上記層Ａ、上記第２の層Ｂをこの順に有する、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜７＞
１２０℃相対湿度５％未満の環境に２４時間放置した前後の寸法変化の絶対値が０．２％未満である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜８＞
溶液製膜法により上記層Ａ及び層Ｂを同時又は逐次で製膜する、＜１＞〜＜７＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜９＞
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムであって、
上記光学フィルムのガラス転移温度が１５０℃以上であり、
上記光学フィルムの波長５９０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションが８０ｎｍ以上であり、
上記光学フィルムの少なくとも一方の表面の面配向係数が１．０×１０−３以下であり、かつ上記表面の表面水酸基量が１．５％以上である、光学フィルム。
＜１０＞
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを延伸し、更に、上記光学フィルムに溶剤を接触させることにより、上記表面の面配向係数を１．０×１０−３以下とする＜９＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１１＞
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを延伸し、更に、上記光学フィルムにプラズマ処理を行うことにより、上記表面の表面水酸基量を１．５％以上とする＜９＞又は＜１０＞に記載の光学フィルムの製造方法。
＜１２＞
＜１＞〜＜７＞、＜９＞のいずれか１項に記載の光学フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
＜１３＞
＜１２＞に記載の偏光板を含む画像表示装置。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、防湿性に優れ、偏光子との密着性に優れ、高いＴｇを有することにより寸法変化の絶対値が小さい光学フィルム、この光学フィルムと偏光子を有する偏光板を提供すること、ならびにこの光学フィルムを製造する方法、および偏光板を用いた画像表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】プラズマ処理に使用することができる、大気圧プラズマ処理装置の一例を示す断面図である。
【図２】真空プラズマ処理を連続的に行う装置の一例を示す断面図である。
【図３】フレーム（火炎）処理によるプラズマ処理装置の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
［第一の態様］
本発明の第一の態様の光学フィルムは、環状オレフィン系樹脂を含む層Ａと、環状オレフィン系樹脂を含み、上記層Ａより厚みが薄い層Ｂとを有してなる光学フィルムであって、上記層Ａのガラス転移温度Ｔｇ［Ａ］に対し、上記層Ｂのガラス転移温度Ｔｇ［Ｂ］が低い、光学フィルムである。
【００１７】
層Ａは、環状オレフィン系樹脂を含む層であるが、環状オレフィン系樹脂の好ましい含有量は、層Ａの全質量に対して、５０質量％以上であり、より好ましくは６５質量％以上、更に好ましくは８０質量％以上である。
層Ｂにおける環状オレフィン系樹脂の含有量の好ましい範囲も上記と同様である。
【００１８】
偏光子との密着性を良化させる観点から、層Ａのガラス転移温度Ｔｇ［Ａ］と層Ｂのガラス転移温度Ｔｇ［Ｂ］は、Ｔｇ［Ａ］−Ｔｇ［Ｂ］≧５（℃）を満たすことが好ましく、Ｔｇ［Ａ］−Ｔｇ［Ｂ］≧１０（℃）を満たすことがより好ましい。
また、高温での耐久性、とりわけ寸法変化の絶対値を小さくする観点から、Ｔｇ［Ａ］≧１５０（℃）を満たすことが好ましく、Ｔｇ［Ａ］≧１５５（℃）を満たすことがより好ましい。
【００１９】
本発明で用いられる層ＡのＴｇの範囲は、１５０〜３００℃であることが好ましく、１５５〜２７５℃であることがさらに好ましく、１６０〜２５０℃であることが特に好ましい。上記範囲内にあることで、高温下での寸法安定性が向上し、成形加工性も良好となる。層ＢのＴｇの範囲は５０〜１４５℃であることが好ましく、６０℃〜１４０℃であることがさらに好ましく、７０〜１３５℃であることが特に好ましい。上記範囲にあることで、外力による表面変形を抑制でき、偏光子との密着性を向上できる。
【００２０】
（ガラス転移温度（Ｔｇ）の測定方法）
各層のＴｇはフィルムを削り出した後、各層単独のフィルム片を取り出し示差走査熱量計を用いて計測することが出来る。具体的には、日立ハイテクサイエンス社製、示差走査熱量計ＤＳＣ７０００Ｘを用いて、窒素雰囲気、昇温速度：２０℃／分の条件で測定を行い、得られた結果の時間微分ＤＳＣ（Ｄｉｆｆｅｒｅｎｔｉａｌ  ｓｃａｎｎｉｎｇ  ｃａｌｏｒｉｍｅｔｒｙ）曲線（ＤＤＳＣ曲線）のピークトップ温度と、このピークトップ温度−２０℃の温度におけるそれぞれのＤＳＣ曲線の接線が交差する点における温度をＴｇとして求めた。
【００２１】
本発明の光学フィルムは、１２０℃相対湿度５％未満の環境に２４時間放置した前後の寸法変化の絶対値が０．２％未満であることが好ましい。
【００２２】
本発明で用いられる環状オレフィン系樹脂フィルム層Ａと層Ｂの膜厚は、層Ａの方が層Ｂよりも厚い関係にある。好ましい全層の膜厚の範囲は、５〜２００μｍの範囲が好ましく、１０〜１００μｍの範囲がより好ましく、特に画像表示装置用には１５〜８０μｍであることが好ましい。全層膜厚における層Ｂの膜厚の割り合いは、０．１〜４０％であることが好ましく、０．５〜２０％の厚さであることがさらに好ましく、１〜１０％であることが特に好ましい。このような範囲にすることにより、積層されたフィルムの高温時の寸法安定性と偏光子密着性を両立することが出来る。
【００２３】
層Ａと層Ｂは直接積層されていることが好ましいが、接着剤などを介して貼合されていても良い。層Ａと層Ｂを直接積層する方法としては、特開平１１−１９８２８５号に記載の方法のように同時に金属支持体上に流延する方法や、まず一方の層を流延した後に逐次で流延する方法がある。あるいは一方の層のみのフィルムを作製した後に、その層の上に塗布あるいは流延して層を設けても良い。層Ａと層Ｂは１層ずつが積層されていても良いし、層Ｂ−層Ａ−層Ｂのように３層以上にしても良い。３層以上にする場合、少なくとも１つの最表層が層Ｂとなるようにすることが好ましい。
本発明の光学フィルムは、層Ｂとして、第１の層Ｂ及び第２の層Ｂを有し、第１の層Ｂ、層Ａ、第２の層Ｂをこの順に有することが好ましい。第１の層Ｂ及び第２の層Ｂは同じであっても異なっていてもよい。
【００２４】
本発明で用いられる環状オレフィン系樹脂について、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定したポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）は好ましくは１２，０００〜１００，０００、さらに好ましくは１６，０００〜８０，０００、特に好ましくは２０，０００〜５０，０００である。環状オレフィン系樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は好ましくは４万以上であり、より好ましくは４０，０００〜３００，０００、さらに好ましくは６０，０００〜２５０，０００、特に好ましくは８０，０００〜２００，０００の範囲のものが好適である。
数平均分子量及び重量平均分子量が上記範囲にあることによって、環状オレフィン系樹脂の耐水性、耐薬品性、機械的特性と、光学フィルムとしての成形加工性が良好となる。
【００２５】
（分子量の測定）
ＧＰＣ：ゲルパーミエーションクロマトグラフ装置（東ソー（株）製ＨＬＣ−８２２０ＧＰＣ、カラム；東ソー（株）製ガードカラムＨＸＬ−Ｈ、ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ７０００ＨＸＬ、ＴＳＫ  ｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ２本、ＴＳＫ  ｇｅｌ  Ｇ２０００ＨＸＬを順次連結、溶離液；テトラヒドロフラン、流速；１ｍＬ／ｍｉｎ、サンプル濃度；０．７〜０．８ｗｔ％、サンプル注入量；７０μＬ、測定温度；４０℃、検出器；ＲＩ（４０℃）、標準物質；東ソー（株）製ＴＳＫスタンダードポリスチレン）を用い、標準ポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）および分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）を測定した。なお、Ｍｎは標準ポリスチレン換算の数平均分子量である。
【００２６】
（環状オレフィン系樹脂）
本発明の光学フィルムに用いられる環状オレフィン系樹脂としては、次のような（共）重合体が挙げられる。    
（１）下記一般式（Ｉ）で表される特定単量体の開環重合体または開環共重合体。  
（２）下記一般式（Ｉ）で表される特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体。
（３）上記（１）または（２）の開環（共）重合体の水素添加（共）重合体。    
（４）上記（１）または（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した（共）重合体。    
（５）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体。    
（６）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる１種以上の単量体の付加型（共）重合体およびその水素添加（共）重合体。    
（７）上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体とアクリレートとの交互共重合体。
【００２７】
【化１】
2016122176.tif 000002
【００２８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１〜Ｒ４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又は１価の有機基であり、それぞれ同一または異なっていても良い。また、Ｒ１〜Ｒ４のうち任意の２つが互いに結合して、単環又は多環構造を形成しても良い。ｍは０又は正の整数であり、ｐは０又は正の整数である。
【００２９】
Ｒ１〜Ｒ４が表す１価の有機基としては、炭素数１〜３０の炭化水素基、またはその他の１価の有機基が挙げられる。
【００３０】
＜特定単量体＞  
上記一般式（Ｉ）で表される特定単量体の具体例としては、次のような化合物が挙げられるが、本発明はこれらの具体例に限定されるものではない。
ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、
トリシクロ［４．３．０．１２，５］−３−デセン、
トリシクロ［４．４．０．１２，５］−３−ウンデセン、
テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］−４−ペンタデセン、５−メチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−エチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−メチル−５−メトキシカルボニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−シアノビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−エトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−ｎ−プロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−イソプロポキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−ｎ−ブトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、５−エチリデンビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
８−エチリデンテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、５−フェニルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
８−フェニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
５−フルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−フルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−ペンタフルオロエチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，６−ジフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−メチル−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６−トリス（フルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６，６−テトラフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６，６−テトラキス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５−ジフルオロ−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，６−ジフルオロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６−トリフルオロ−５−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−フルオロ−５−ペンタフルオロエチル−６，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，６−ジフルオロ−５−ヘプタフルオロ−ｉｓｏ−プロピル−６−トリフルオロメチルビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５−クロロ−５，６，６−トリフルオロビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，６−ジクロロ−５，６−ビス（トリフルオロメチル）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６−トリフルオロ−６−トリフルオロメトキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
５，５，６−トリフルオロ−６−ヘプタフルオロプロポキシビシクロ［２．２．１］ヘプト−２−エン、  
８−フルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−フルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８−ジフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８，９−ジフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロｉｓｏ−プロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン、  
８−メチル−８−（２，２，２−トリフルオロエトキシカルボニル）テトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン  
などを挙げることができる。  
これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。    
【００３１】
特定単量体のうち好ましいのは、上記一般式（Ｉ）中、Ｒ１およびＲ３が水素原子または炭素数１〜１０、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基であり、Ｒ２およびＲ４が水素原子または一価の有機基であって、Ｒ２およびＲ４の少なくとも一つは水素原子および炭化水素基以外の極性を有する極性基を示し、ｍは０〜３の整数、ｐは０〜３の整数であり、より好ましくはｍ＋ｐ＝０〜４、さらに好ましくは０〜２、特に好ましくはｍ＝１、ｐ＝０であるものである。ｍ＝１、ｐ＝０である特定単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くかつ機械的強度も優れたものとなる点で好ましい。  
上記特定単量体の極性基としては、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、アミノ基、アミド基、シアノ基などが挙げられ、これら極性基はメチレン基などの連結基を介して結合していてもよい。また、カルボニル基、エーテル基、シリルエーテル基、チオエーテル基、イミノ基など極性を有する２価の有機基が連結基となって結合している炭化水素基なども極性基として挙げられる。これらの中では、カルボキシル基、水酸基、アルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましく、特にアルコキシカルボニル基またはアリロキシカルボニル基が好ましい。    
【００３２】
さらに、Ｒ２およびＲ４の少なくとも一つが式−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲで表される極性基である単量体は、得られる環状オレフィン系樹脂が高いガラス転移温度と低い吸湿性、を有するものとなる点で好ましい。上記の特定の極性基にかかる式において、Ｒは炭素原子数１〜１２、さらに好ましくは１〜４、特に好ましくは１〜２の炭化水素基、好ましくはアルキル基である。また、ｎは、通常、０〜５であるが、ｎの値が小さいものほど、得られる環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度が高くなるので好ましく、さらにｎが０である特定単量体はその合成が容易である点で好ましい。    
【００３３】
また、上記一般式（Ｉ）において、Ｒ１またはＲ３がアルキル基であることが好ましく、炭素数１〜４のアルキル基、さらに好ましくは１〜２のアルキル基、特にメチル基であることが好ましく、特に、このアルキル基が上記の式−（ＣＨ２）ｎＣＯＯＲで表される特定の極性基が結合した炭素原子と同一の炭素原子に結合されていることが、得られる環状オレフィン系樹脂の吸湿性を低くできる点で好ましい。    
【００３４】
（共重合性単量体）  
共重合性単量体の具体例としては、シクロブテン、シクロペンテン、シクロヘプテン、シクロオクテン、ジシクロペンタジエン、テトラシクロドデセン、メタノテトラヒドロフルオレンなどのシクロオレフィンを挙げることができる。  
シクロオレフィンの炭素数としては、４〜２０が好ましく、さらに好ましいのは５〜１２である。これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。    
【００３５】
＜開環重合触媒＞  
本発明において、（１）特定単量体の開環重合体、および（２）特定単量体と共重合性単量体との開環共重合体を得るための開環重合反応は、メタセシス触媒の存在下に行われる。  
このメタセシス触媒は、（ａ）Ｗ、ＭｏおよびＲｅの化合物から選ばれた少なくとも１種と、（ｂ）デミングの周期律表ＩＡ族元素（例えばＬｉ、Ｎａ、Ｋなど）、ＩＩＡ族元素（例えば、Ｍｇ、Ｃａなど）、ＩＩＢ族元素（例えば、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇなど）、ＩＩＩＡ族元素（例えば、Ｂ、Ａｌなど）、ＩＶＡ族元素（例えば、Ｓｉ、Ｓｎ、Ｐｂなど）、あるいはＩＶＢ族元素（例えば、Ｔｉ、Ｚｒなど）の化合物であって、少なくとも１つの元素−炭素結合あるいは元素−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも１種との組合せからなる触媒である。また、この場合に触媒の活性を高めるために、後述の（ｃ）添加剤が添加されたものであってもよい。    
【００３６】
（ａ）成分として適当なＷ、ＭｏあるいはＲｅの化合物の代表例としては、ＷＣｌ６、ＭｏＣｌ６、ＲｅＯＣｌ３などの特開平１−１３２６２６号公報第８頁左下欄第６行〜第８頁右上欄第１７行に記載の化合物を挙げることができる。  
（ｂ）成分の具体例としては、ｎ−Ｃ４Ｈ９Ｌｉ、（Ｃ２Ｈ５）３Ａｌ、（Ｃ２Ｈ５）２ＡｌＣｌ、（Ｃ２Ｈ５）１．５ＡｌＣｌ１．５、（Ｃ２Ｈ５）ＡｌＣｌ２、メチルアルモキサン、ＬｉＨなど特開平１−１３２６２６号公報第８頁右上欄第１８行〜第８頁右下欄第３行に記載の化合物を挙げることができる。  
添加剤である（ｃ）成分の代表例としては、アルコール類、アルデヒド類、ケトン類、アミン類などが好適に用いることができるが、さらに特開平１−１３２６２６号公報第８頁右下欄第１６行〜第９頁左上欄第１７行に示される化合物を使用することができる。
【００３７】
メタセシス触媒の使用量としては、上記（ａ）成分と特定単量体とのモル比で「（ａ）成分：特定単量体」が、通常、１：５００〜１：５０，０００となる範囲、好ましくは１：１，０００〜１：１０，０００となる範囲とされる。  
（ａ）成分と（ｂ）成分との割合は、金属原子比で（ａ）：（ｂ）が１：１〜１：５０、好ましくは１：２〜１：３０の範囲とされる。  
（ａ）成分と（ｃ）成分との割合は、モル比で（ｃ）：（ａ）が０．００５：１〜１５：１、好ましくは０．０５：１〜７：１の範囲とされる。    
【００３８】
＜重合反応用溶媒＞  
開環重合反応において用いられる溶媒（分子量調節剤溶液を構成する溶媒、特定単量体および／またはメタセシス触媒の溶媒）としては、例えばペンタン、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、ノナン、デカンなどのアルカン類、シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナンなどのシクロアルカン類、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメンなどの芳香族炭化水素、クロロブタン、ブロモヘキサン、塩化メチレン、ジクロロエタン、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン、クロロホルム、テトラクロロエチレンなどの、ハロゲン化アルカン、ハロゲン化アリールなどの化合物、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉｓｏ−ブチル、プロピオン酸メチル、ジメトキシエタンなどの飽和カルボン酸エステル類、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジメトキシエタンなどのエーテル類などを挙げることができ、これらは単独であるいは混合して用いることができる。これらのうち、芳香族炭化水素が好ましい。  
溶媒の使用量としては、「溶媒：特定単量体（質量比）」が、通常、１：１〜１０：１となる量とされ、好ましくは１：１〜５：１となる量とされる。    
【００３９】
＜分子量調節剤＞  
得られる開環（共）重合体の分子量の調節は、重合温度、触媒の種類、溶媒の種類によっても行うことができるが、本発明においては、分子量調節剤を反応系に共存させることにより調節する。  
ここに、好適な分子量調節剤としては、例えばエチレン、プロペン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−ヘプテン、１−オクテン、１−ノネン、１−デセンなどのα−オレフィン類およびスチレンを挙げることができ、これらのうち、１−ブテン、１−ヘキセンが特に好ましい。  
これらの分子量調節剤は、単独であるいは２種以上を混合して用いることができる。  
分子量調節剤の使用量としては、開環重合反応に供される特定単量体１モルに対して０．００５〜０．６モル、好ましくは０．０２〜０．５モルとされる。  
【００４０】
（２）開環共重合体を得るには、開環重合工程において、特定単量体と共重合性単量体とを開環共重合させてもよいが、さらに、ポリブタジエン、ポリイソプレンなどの共役ジエン化合物、スチレン−ブタジエン共重合体、エチレン−非共役ジエン共重合体、ポリノルボルネンなどの主鎖に炭素−炭素間二重結合を２つ以上含む不飽和炭化水素系ポリマーなどの存在下に特定単量体を開環重合させてもよい。    
【００４１】
以上のようにして得られる開環（共）重合体は、そのままでも用いられるが、これをさらに水素添加して得られた（３）水素添加（共）重合体は、耐衝撃性の大きい樹脂の原料として有用である。    
【００４２】
＜水素添加触媒＞  
水素添加反応は、通常の方法、すなわち開環重合体の溶液に水素添加触媒を添加し、これに常圧〜３００気圧、好ましくは３〜２００気圧の水素ガスを０〜２００℃、好ましくは２０〜１８０℃で作用させることによって行われる。  
水素添加触媒としては、通常のオレフィン性化合物の水素添加反応に用いられるものを使用することができる。この水素添加触媒としては、不均一系触媒および均一系触媒が挙げられる。    
【００４３】
不均一系触媒としては、パラジウム、白金、ニッケル、ロジウム、ルテニウムなどの貴金属触媒物質を、カーボン、シリカ、アルミナ、チタニアなどの担体に担持させた固体触媒を挙げることができる。また、均一系触媒としては、ナフテン酸ニッケル／トリエチルアルミニウム、ニッケルアセチルアセトナート／トリエチルアルミニウム、オクテン酸コバルト／ｎ−ブチルリチウム、チタノセンジクロリド／ジエチルアルミニウムモノクロリド、酢酸ロジウム、クロロトリス（トリフェニルホスフィン）ロジウム、ジクロロトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、クロロヒドロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウム、ジクロロカルボニルトリス（トリフェニルホスフィン）ルテニウムなどを挙げることができる。触媒の形態は、粉末でも粒状でもよい。    
【００４４】
これらの水素添加触媒は、開環（共）重合体：水素添加触媒（質量比）が、１：１×１０−６〜１：２となる割合で使用される。  
このように、水素添加することにより得られる水素添加（共）重合体は、優れた熱安定性を有するものとなり、成形加工時や製品としての使用時の加熱によっても、その特性が劣化することはない。ここに、水素添加率は、通常、５０％以上、好ましく７０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。    
【００４５】
また、水素添加（共）重合体の水素添加率は、５００ＭＨｚ、１Ｈ−ＮＭＲで測定した値が５０％以上、好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９８％以上、最も好ましくは９９％以上である。水素添加率が高いほど、熱や光に対する安定性が優れたものとなり、本発明の光学フィルムを波長板として使用した場合に長期にわたって安定した特性を得ることができる。  
なお、本発明の環状オレフィン系樹脂として使用される水素添加（共）重合体は、水素添加（共）重合体中に含まれるゲル含有量が５質量％以下であることが好ましく、さらに１質量％以下であることが特に好ましい。    
【００４６】
また、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（４）上記（１）または（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化したのち、水素添加した（共）重合体も使用できる。    
【００４７】
＜フリーデルクラフト反応による環化＞  
（１）または（２）の開環（共）重合体をフリーデルクラフト反応により環化する方法は特に限定されるものではないが、特開昭５０−１５４３９９号公報に記載の酸性化合物を用いた公知の方法が採用できる。酸性化合物としては、具体的には、ＡｌＣｌ３、ＢＦ３、ＦｅＣｌ３、Ａｌ２Ｏ３、ＨＣｌ、ＣＨ３ＣｌＣＯＯＨ、ゼオライト、活性白土などのルイス酸、ブレンステッド酸が用いられる。  
環化された開環（共）重合体は、（１）または（２）の開環（共）重合体と同様に水素添加できる。    
【００４８】
さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（５）上記特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体も使用できる。    
【００４９】
＜不飽和二重結合含有化合物＞  
不飽和二重結合含有化合物としては、例えばエチレン、プロピレン、ブテンなど、好ましくは炭素数２〜１２、さらに好ましくは炭素数２〜８のオレフィン系化合物を挙げることができる。  
特定単量体／不飽和二重結合含有化合物の好ましい使用範囲は、質量比で９０／１０〜４０／６０であり、さらに好ましくは８５／１５〜５０／５０である。    
【００５０】
本発明において、（５）特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体を得るには、通常の付加重合法を使用できる。    
【００５１】
＜付加重合触媒＞  
上記（５）飽和共重合体を合成するための触媒としては、チタン化合物、ジルコニウム化合物およびバナジウム化合物から選ばれた少なくとも一種と、助触媒としての有機アルミニウム化合物とが用いられる。  
ここで、チタン化合物としては、四塩化チタン、三塩化チタンなどを、またジルコニウム化合物としてはビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムクロリド、ビス（シクロペンタジエニル）ジルコニウムジクロリドなどを挙げることができる。    
【００５２】
さらに、バナジウム化合物としては、一般式    
ＶＯ（ＯＲ）ａＸｂ、またはＶ（ＯＲ）ｃＸｄ    
〔ただし、Ｒは炭化水素基、Ｘはハロゲン原子であって、０≦ａ≦３、０≦ｂ≦３、２≦（ａ＋ｂ）≦３、０≦ｃ≦４、０≦ｄ≦４、３≦（ｃ＋ｄ）≦４である。〕    で表されるバナジウム化合物、あるいはこれらの電子供与付加物が用いられる。  
上記電子供与体としては、アルコール、フェノール類、ケトン、アルデヒド、カルボン酸、有機酸または無機酸のエステル、エーテル、酸アミド、酸無水物、アルコキシシランなどの含酸素電子供与体、アンモニア、アミン、ニトリル、イソシアナートなどの含窒素電子供与体などが挙げられる。    
【００５３】
さらに、助触媒としての有機アルミニウム化合物としては、少なくとも１つのアルミニウム−炭素結合あるいはアルミニウム−水素結合を有するものから選ばれた少なくとも一種が用いられる。  
上記において、例えばバナジウム化合物を用いる場合におけるバナジウム化合物と有機アルミニウム化合物の比率は、バナジウム原子に対するアルミニウム原子の比（Ａｌ／Ｖ）が２以上であり、好ましくは２〜５０、特に好ましくは３〜２０の範囲である。  
【００５４】
付加重合に使用される重合反応用溶媒は、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。また、得られる（５）飽和共重合体の分子量の調節は、通常、水素を用いて行われる。    
【００５５】
さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（６）上記特定単量体、およびビニル系環状炭化水素系単量体またはシクロペンタジエン系単量体から選ばれる１種以上の単量体の付加型共重合体およびその水素添加共重合体も使用できる。    
【００５６】
＜ビニル系環状炭化水素系単量体＞  
ビニル系環状炭化水素系単量体としては、例えば、４−ビニルシクロペンテン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロペンテンなどのビニルシクロペンテン系単量体、４−ビニルシクロペンタン、４−イソプロペニルシクロペンタンなどのビニルシクロペンタン系単量体などのビニル化５員環炭化水素系単量体、４−ビニルシクロヘキセン、４−イソプロペニルシクロヘキセン、１−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセン、２−メチル−４−ビニルシクロヘキセン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキセンなどのビニルシクロヘキセン系単量体、４−ビニルシクロヘキサン、２−メチル−４−イソプロペニルシクロヘキサンなどのビニルシクロヘキサン系単量体、スチレン、α―メチルスチレン、２−メチルスチレン、３−メチルスチレン、４−メチルスチレン、１−ビニルナフタレン、２−ビニルナフタレン、４−フェニルスチレン、ｐ−メトキシスチレンなどのスチレン系単量体、ｄ−テルペン、１−テルペン、ジテルペン、ｄ−リモネン、１−リモネン、ジペンテンなどのテルペン系単量体、４−ビニルシクロヘプテン、４−イソプロペニルシクロヘプテンなどのビニルシクロヘプテン系単量体、４−ビニルシクロヘプタン、４−イソプロペニルシクロヘプタンなどのビニルシクロヘプタン系単量体などが挙げられる。好ましくは、スチレン、α−メチルスチレンである。これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。    
【００５７】
＜シクロペンタジエン系単量体＞  
本発明の（６）付加型共重合体の単量体に使用されるシクロペンタジエン系単量体としては、例えばシクロペンタジエン、１−メチルシクロペンタジエン、２−メチルシクロペンタジエン、２−エチルシクロペンタジエン、５−メチルシクロペンタジエン、５，５−メチルシクロペンタジエンなどが挙げられる。好ましくはシクロペンタジエンである。これらは、１種単独で、または２種以上を併用することができる。
【００５８】
上記特定単量体、ビニル系環状炭化水素系単量体およびシクロペンタジエン系単量体から選ばれる１種以上の単量体の付加型（共）重合体は、上記（５）特定単量体と不飽和二重結合含有化合物との飽和共重合体と同様の付加重合法で得ることができる。  
また、上記付加型（共）重合体の水素添加（共）重合体は、上記（３）開環（共）重合体の水素添加（共）重合体と同様の水添法で得ることができる。    
【００５９】
さらに、本発明の環状オレフィン系樹脂として、（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体も使用できる。    
【００６０】
＜アクリレート＞  
本発明の（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体の製造に用いられるアクリレートとしては、例えば、メチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、シクロヘキシルアクリレートなどの炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状または環状アルキルアクリレート、グリシジルアクリレート、２−テトラヒドロフルフリルアクリレートなどの炭素原子数２〜２０の複素環基含有アクリレート、ベンジルアクリレートなどの炭素原子数６〜２０の芳香族環基含有アクリレート、イソボロニルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレートなどの炭素数７〜３０の多環構造を有するアクリレートが挙げられる。    
【００６１】
本発明において、（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るためには、ルイス酸存在下、上記特定単量体とアクリレートとの合計を１００モルとしたとき、通常、上記特定単量体が３０〜７０モル、アクリレートが７０〜３０モルの割合で、好ましくは上記特定単量体が４０〜６０モル、アクリレートが６０〜４０モル割合で、特に好ましくは上記特定単量体が４５〜５５モル、アクリレートが５５〜４５モルの割合でラジカル重合する。  
（７）上記特定単量体とアクリレートとの交互共重合体を得るために使用するルイス酸の量は、アクリレート１００モルに対して０．００１〜１モルとなる量とされる。また、公知のフリーラジカルを発生する有機過酸化物またはアゾビス系のラジカル重合開始剤を用いることができ、重合反応温度は、通常、−２０℃〜８０℃、好ましくは５℃〜６０℃である。また、重合反応用溶媒には、開環重合反応に用いられる溶媒と同じものを使用することができる。  
なお、本発明でいう「交互共重合体」とは、上記特定単量体に由来する構造単位が隣接しない、すなわち、上記特定単量体に由来する構造単位の隣は必ずアクリレートに由来する構造単位である構造を有する共重合体のことを意味しており、アクリレート由来の構造単位どうしが隣接して存在する構造を否定するものではない。
【００６２】
（添加剤）
本発明の光学フィルムには、各調製工程において用途に応じた種々の添加剤（例えば、可塑剤、レターデーション（光学異方性）調節剤、紫外線吸収剤、マット剤、酸化防止剤、剥離促進剤など）を添加できる。それらは固体でもよく油状物でもよい。すなわち、その融点や沸点において特に限定されるものではない。例えば２０℃以下と２０℃以上の紫外線吸収材料の混合や、同様に劣化防止剤の混合などである。またその添加する時期は環状オレフィン系樹脂溶液作製工程において何れで添加しても良いが、ドープ調製工程の最後の調製工程に添加剤を添加し調製する工程を加えて行ってもよい。更にまた、各素材の添加量は機能が発現する限りにおいて特に限定されない。また、本発明の環状オレフィン系樹脂フィルムを多層から形成される場合、すなわちＡ層およびＢ層を形成する場合、それぞれの層の添加物の種類や添加量が異なってもよい。
偏光子との密着性を良化させる観点から、層Ａ及び層Ｂの少なくとも一方の層に、分子量が１万以下の化合物を含むことが好ましい。
以下、それぞれについて説明する。
【００６３】
（可塑剤）
可塑剤は、本発明の光学フィルムの物理特性を制御したり、環状オレフィン樹脂を溶剤にとかしたドープ溶液とした場合、ドープ溶液の流動性や柔軟性を向上させる機能を有する。可塑剤としては、フタル酸エステル系、脂肪酸エステル系、トリメリット酸エステル系、リン酸エステル系、ポリエステル系、あるいはエポキシ系等が挙げられる。
【００６４】
（レターデーション調整剤）
本発明の光学フィルムには、レターデーション調整剤を添加してもよい。本発明においてレターデーション調整剤としては、レターデーションを発現するもの（以下、レターデーション発現剤とも言う）および、レターデーションを低減させるもの（以下、レターデーション低減剤とも言う）のどちらも、好ましく用いることができる。
【００６５】
（紫外線吸収剤）
紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、２−ヒドロキシベンゾフェノン系またはサリチル酸フェニルエステル系のもの等が挙げられる。例えば、２−（５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール等のトリアゾール類、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン類を例示することができる。
【００６６】
（マット剤）
本発明の光学フィルムは、マット剤を含有することが、フィルムすべり性、及び安定製造の観点から好ましい。上記マット剤は、無機化合物のマット剤であっても、有機化合物のマット剤であってもよい。
上記無機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、ケイ素を含む無機化合物（例えば、二酸化ケイ素、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウムなど）、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化ジルコニウム、酸化ストロングチウム、酸化アンチモン、酸化スズ、酸化スズ・アンチモン、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン及びリン酸カルシウム等が好ましく、更に好ましくはケイ素を含む無機化合物や酸化ジルコニウムであるが、セルロースアシレートフィルムの濁度を低減できるので、二酸化ケイ素が特に好ましく用いられる。上記二酸化ケイ素の微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。上記酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）等の商品名で市販されているものが使用できる。  
上記有機化合物のマット剤の好ましい具体例としては、例えば、シリコーン樹脂、アクリル樹脂などが好ましい。シリコーン樹脂の中では、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、トスパール１０５、トスパール１０８、トスパール１２０、トスパール１４５、トスパール３１２０及びトスパール２４０（以上東芝シリコーン（株）製）等の商品名を有する市販品が使用できる。
【００６７】
これらのマット剤を環状オレフィン系樹脂溶液へ添加する場合は、特にその方法に限定されずいずれの方法でも所望の環状オレフィン系樹脂溶液を得ることができれば問題ない。例えば、環状オレフィン系樹脂と溶媒を混合する段階で添加物を含有させてもよいし、環状オレフィン系樹脂と溶媒で混合溶液を作製した後に、添加物を添加してもよい。更にはドープを流延する直前に添加混合してもよく、所謂直前添加方法でありその混合はスクリュー式混練をオンラインで設置して用いられる。具体的には、インラインミキサーのような静的混合機が好ましく、また、インラインミキサーとしては、例えば、スタチックミキサーＳＷＪ（東レ静止型管内混合器Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ）（東レエンジニアリング製）のようなものが好ましい。なお、インライン添加に関しては、濃度ムラ、粒子の凝集等をなくすために、特開２００３−０５３７５２号公報には、環状オレフィン系樹脂フィルムの製造方法において、主原料ドープに異なる組成の添加液を混合する添加ノズル先端とインラインミキサーの始端部の距離Ｌが、主原料配管内径ｄの５倍以下とする事で、濃度ムラ、マット粒子等の凝集をなくす発明が記載されている。更に好ましい態様として、主原料ドープと異なる組成の添加液供給ノズルの先端開口部とインラインミキサーの始端部との間の距離（Ｌ）が、供給ノズル先端開口部の内径（ｄ）の１０倍以下とし、インラインミキサーが、静的無攪拌型管内混合器又は動的攪拌型管内混合器であることが記載されている。更に具体的には、セルロースアシレートフィルム主原料ドープ／インライン添加液の流量比は、１０／１〜５００／１、好ましくは５０／１〜２００／１であることが開示されている。更に、添加剤ブリードアウトが少なく、かつ層間の剥離現象もなく、しかも滑り性が良好で透明性に優れた位相差フィルムを目的とした発明の特開２００３−０１４９３３号にも、添加剤を添加する方法として、溶解釜中に添加してもよいし、溶解釜〜共流延ダイまでの間で添加剤や添加剤を溶解又は分散した溶液を、送液中のドープに添加してもよいが、後者の場合は混合性を高めるため、スタチックミキサー等の混合手段を設けることが好ましいことが記載されている。
【００６８】
（酸化防止剤）
酸化防止剤としては、本発明の環状オレフィン系樹脂をフィルムに成形したり使用したりする際に、酸化や劣化、熱分解や熱着色を防止する化合物であれば好適に添加することができる。樹脂の酸化で生成するアルキルラジカルや過酸化物ラジカルを捕捉もしくは分解する作用機構で、各々に適した酸化防止剤を添加することで効果が期待できる。例えば、ＢＡＳＦ社製ＩＲＧＡＮＯＸ−１０１０、ＩＲＧＡＮＯＸ−１０７６、住友化学社製ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＧＭ、ＳＵＭＩＬＩＺＥＲ  ＧＳ等を例示することができる。
【００６９】
以上の添加剤は、１種類を単独で使用してもよいし、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００７０】
（フィルムの製造方法）
本発明において環状オレフィン系樹脂を製膜する方法は溶液製膜法が好ましい。Ｔｇの高い樹脂を製膜するにあたり高温で加熱溶融する必要がなく、熱分解が抑制できる。また、溶液のレベリングにより表面平滑性を得やすい。
【００７１】
（溶剤）
環状オレフィン系樹脂を溶解する溶剤について記述する。上記溶剤としては、有機溶剤が好ましく用いられる。本発明においては、環状オレフィン系樹脂が溶解し流延，製膜できる範囲において、その目的が達成できる限りは、使用できる有機溶剤は特に限定されない。本発明で用いられる有機溶剤は、例えばジクロロメタン、クロロホルムなどの塩素系溶剤、鎖状炭化水素、環状炭化水素、芳香族炭化水素、エステル、ケトン、エーテル、アルコールから選ばれる溶剤が好ましい。エステル、ケトン、エーテル、アルコールは、環状構造を有していてもよい。鎖状炭化水素類の例としては、ヘキサン、オクタン、イソオクタン、デカンなどが挙げられる。環状炭化水素類としてはシクロペンタン、シクロヘキサン、デカリン及びその誘導体が挙げられる。芳香族炭化水素としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどが挙げられる。エステル類の例には、エチルホルメート、プロピルホルメート、ペンチルホルメート、メチルアセテート、エチルアセテートおよびペンチルアセテートが挙げられる。ケトン類の例には、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンおよびメチルシクロヘキサノンが挙げられる。エーテル類の例には、ジイソプロピルエーテル、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、テトラヒドロフラン、アニソールおよびフェネトールが挙げられる。二種類以上の官能基を有する有機溶剤の例には、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエタノールおよび２−ブトキシエタノールが挙げられる。アルコール類の例には、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉｓｏ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどがあげられる。有機溶剤の好ましい沸点は３５℃以上且つ２００℃以下である。上記溶剤は、１種類の溶剤を単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤を任意の割合で混合して用いてもよい。
また、溶解性を維持できる範囲において、エステル、ケトン、エーテル、アルコールなどに代表される、カルボニル基、水酸基などの極性基を有する溶剤を併用することも好ましい。これら極性を有する溶剤を併用することにより、流延に使用する金属支持体から剥離荷重を低下させることができ、生産性を向上させることができる。
【００７２】
（ドープ濃度）
上記溶剤を使用して調製したドープの固形分濃度は１０〜４０質量％とすることが好ましく、更に１５〜３５質量％とすることが好ましい。上記範囲より高濃度であると、ドープろ過時の負荷が上昇し生産性が低下する。また、ダイからドープが吐出する際に、ドープがダイリップに付着しやすくなりスジの原因となりやすい。
【００７３】
（溶解方法）
上記環状オレフィン系樹脂の溶解方法については、室温攪拌溶解による方法、室温で攪拌してポリマーを膨潤させた後−２０から−１００℃まで冷却し再度２０から１００℃に加熱して溶解する冷却溶解法、密閉容器中で主溶剤の沸点以上の温度にして溶解する高温溶解方法、さらには溶剤の臨界点まで高温高圧にして溶解する方法などがある。溶解性のよいポリマーは室温溶解が好ましいが、溶解性の悪いポリマーは密閉容器中で加熱溶解する。溶解性があまり悪くないものはできるだけ低い温度を選ぶほうが、樹脂の熱分解の抑制や工程負荷の軽減のために好ましい。
【００７４】
（ろ過）
ドープは流延に先だって金網やネルなどの適当な濾材を用いて、未溶解物やゴミ、不純物などの異物を濾過除去しておくのが好ましい。ドープの濾過には絶対濾過精度が０．１〜１００μｍのフィルタが用いられ、さらには絶対濾過精度が０．５〜２５μｍであるフィルタを用いることが好ましく用いられる。濾材としては、ガラス繊維、セルロース繊維、濾紙、四フッ化エチレン樹脂などのフッ素樹脂等の従来公知である材料を好ましく用いることができ、またセラミックス、金属等も好ましく用いられる。    
【００７５】
（粘度）
ドープの製膜直前の粘度は、製膜の際に流延可能な範囲であればよく、通常１Ｐａ・ｓ〜２００Ｐａ・ｓの範囲に調製されることが好ましく、３Ｐａ・ｓ〜１００Ｐａ・ｓがより好ましく、５Ｐａ・ｓ〜７０Ｐａ・ｓが更に好ましい。なお、この時の温度はその流延時の温度であれば特に限定されないが、好ましくは−５〜７０℃であり、より好ましくは−５〜４０℃である。
【００７６】
（製膜）
環状オレフィン系樹脂溶液を用いたフィルムの製造方法について述べる。本発明の環状オレフィン系樹脂フィルムを製造する方法及び設備は、従来セルローストリアセテートフィルム製造に供するのと同様の溶液流延製膜方法及び溶液流延製膜装置が用いられる。溶解機（釜）から調製されたドープ（環状オレフィン系樹脂溶液）を貯蔵釜で一旦貯蔵し、ドープに含まれている泡を脱泡して最終調製をする。ドープをドープ排出口から、例えば回転数によって高精度に定量送液できる加圧型定量ギヤポンプを通して加圧型ダイに送り、ドープを加圧型ダイの口金（スリット）からエンドレスに走行している流延部の金属支持体の上に均一に流延され、金属支持体がほぼ一周した剥離点で、生乾きのドープ膜（ウェブとも呼ぶ）を金属支持体から剥離する。得られるウェブの両端をクリップで挟み、テンターで搬送して乾燥し、続いて乾燥装置のロール群で搬送し乾燥を終了して巻き取り機で所定の長さに巻き取る。テンターとロール群の乾燥装置との組み合わせはその目的により変わる。ディスプレイ用機能性保護膜に用いる溶液流延製膜方法においては、溶液流延製膜装置の他に、下引層、帯電防止層、ハレーション防止層、保護層等のフィルムへの表面加工のために、塗布装置が付加されることもある。以下に各製造工程について簡単に述べるが、これらに限定されるものではない。  
まず、調製した環状オレフィン系樹脂溶液（ドープ）は、ソルベントキャスト法により環状オレフィン系樹脂フィルムを作製される際に、ドープは無端金属支持体上、例えば金属ドラムまたは金属支持体（バンドあるいはベルト）上に流延し、溶剤を蒸発させてフィルムを形成することが好ましい。流延前のドープは、環状オレフィン系樹脂量が１０〜４０質量％となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。ドープは、表面温度が３０℃以下のドラムまたはバンド上に流延することが好ましく用いられ、特には−１０〜２０℃の金属支持体温度であることが好ましい。  
さらに特開２０００−３０１５５５号、特開２０００−３０１５５８号、特開平７−０３２３９１号、特開平３−１９３３１６号、特開平５−０８６２１２号、特開昭６２−０３７１１３号、特開平２−２７６６０７号、特開昭５５−０１４２０１号、特開平２−１１１５１１号、および特開平２−２０８６５０号の各公報に記載のセルロースアシレート製膜技術を本発明では応用できる
【００７７】
（流延）  
溶液の流延方法としては、調製されたドープを加圧ダイから金属支持体上に均一に押し出す方法、一旦金属支持体上に流延されたドープをブレードで膜厚を調節するドクターブレードによる方法、或いは逆回転するロールで調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、加圧ダイによる方法が好ましい。加圧ダイにはコートハンガータイプやＴダイタイプ等があるがいずれも好ましく用いることができる。また、ここで挙げた方法以外にも従来知られているセルローストリアセテート溶液を流延製膜する種々の方法で実施でき、用いる溶剤の沸点等の違いを考慮して各条件を設定することによりそれぞれの公報に記載の内容と同様の効果が得られる。本発明の環状オレフィン系樹脂フィルムを製造するのに使用されるエンドレスに走行する金属支持体としては、表面がクロムメッキによって鏡面仕上げされたドラムや表面研磨によって鏡面仕上げされたステンレスベルト（バンドといってもよい）が用いられる。本発明の環状オレフィン系樹脂フィルムの製造に用いられる加圧ダイは、金属支持体の上方に１基或いは２基以上の設置でもよい。好ましくは１基または２基である。２基以上設置する場合には流延するドープ量をそれぞれのダイに種々な割合にわけてもよく、複数の精密定量ギヤアポンプからそれぞれの割合でダイにドープを送液してもよい。流延に用いられる環状オレフィン系樹脂溶液の温度は、−１０〜５５℃が好ましくより好ましくは２５〜５０℃である。その場合、工程のすべてが同一でもよく、あるいは工程の各所で異なっていてもよい。異なる場合は、流延直前で所望の温度であればよい。
【００７８】
（支持体上での乾燥）  
環状オレフィン系樹脂フィルムの製造に係わる金属支持体上におけるドープの乾燥は、一般的には金属支持体（例えばドラム或いはバンド）の表面側、つまり金属支持体上にあるウェブの表面から熱風を当てる方法、ドラム或いはバンドの裏面から熱風を当てる方法、温度コントロールした液体をバンドやドラムのドープ流延面の反対側である裏面から接触させて、伝熱によりドラム或いはバンドを加熱し表面温度をコントロールする液体伝熱方法などがあるが、裏面液体伝熱方式が好ましい。流延される前の金属支持体の表面温度はドープに用いられている溶剤の沸点以下であれば何度でもよい。しかし乾燥を促進するためには、また金属支持体上での流動性を失わせるためには、使用される溶剤の内の最も沸点の低い溶剤の沸点より１〜１０度低い温度に設定することが好ましい。
【００７９】
（金属支持体からの剥離）
生乾きのフィルムを金属支持体から剥離するとき、剥離抵抗（剥離荷重）が大きいと、製膜方向にフィルムが不規則に伸ばされて光学的な異方性むらを生じる。特に剥離荷重が大きいときは、製膜方向に段状に伸ばされたところと伸ばされていないところが交互に生じて、レターデーションに分布を生じる。液晶表示装置に装填すると線状あるいは帯状にむらが見えるようになる。このような問題を発生させないためには、フィルムの剥離荷重をフィルム剥離幅１ｃｍあたり０．２５Ｎ以下にすることが好ましい。剥離荷重はより好ましくは０．２Ｎ／ｃｍ以下、さらに好ましくは０．１５Ｎ以下である。剥離荷重０．２Ｎ／ｃｍ以下のときはむらが現れやすい液晶表示装置においても剥離起因のむらは全く認められず、特に好ましい。剥離荷重を小さくする方法としては、前述のように剥離剤を添加する方法と、使用する溶剤組成の選択による方法がある。  
剥離荷重の測定は次のようにして行う。製膜装置の金属支持体と同じ材質・表面粗さの金属板上にドープを滴下し、ドクターブレードを用いて均等な厚さに展延し乾燥する。カッターナイフでフィルムに均等幅の切れ込みを入れ、フィルムの先端を手で剥がしてストレンゲージにつながったクリップで挟み、ストレンゲージを斜め４５度方向に引き上げながら、荷重変化を測定する。剥離されたフィルム中の揮発分も測定する。乾燥時間を変えて何回か同じ測定を行い、実際の製膜工程における剥離時残留揮発分と同じ時の剥離荷重を定める。剥離速度が速くなると剥離荷重は大きくなる傾向があり、実際に近い剥離速度で測定することが好ましい。
剥離時の好ましい残留揮発分濃度は５〜１００質量％であり、１０〜６０質量％がさらに好ましく、１５〜４０質量％が特に好ましい。高揮発分で剥離すると乾燥速度が稼げて、生産性が向上して好ましい。一方、高揮発分ではフィルムの強度や弾性が小さく、剥離力に負けて切断や伸びを生じてしまう。また剥離後の自己保持力が乏しく、変形、しわ、クニックを生じやすくなる。またレターデーションに分布を生じる原因になる。
【００８０】
（乾燥）
ドラムやベルト上で乾燥され、剥離されたウェブの乾燥方法について述べる。ドラムやベルトが１周する直前の剥離位置で剥離されたウェブは、千鳥状に配置されたロ−ル群に交互に通して搬送する方法や剥離されたウェブの両端をクリップ等で把持させて非接触的に搬送する方法などにより搬送されることが好ましい。  
本発明の製造方法は、上記剥ぎ取り工程から上記延伸工程までの渡り部分において、上記フィルムが少なくともラップ角６０°以上のパスロールを３本以上通過することが好ましく、５本以上のパスロールを通過することがより好ましく、７本〜５１本のパスロールを通過することが特に好ましい。また、本発明の製造方法は、上述のとおり、上記ラップ角６０°以上のパスロールとして少なくとも１本のダンサを含むことが好ましく、上記ダンサは１本であることが好ましい。なお、本明細書におけるラップ角とは、フィルムがロールをラップしている円弧領域とロール中心とを結ぶ中心角の大きさを意味し、例えば完全な千鳥状に配置されたロールをフィルムが通過する場合のラップ角は１８０度となる。
乾燥は、搬送中のウェブ（フィルム）両面に所定の温度の風を当てる方法やマイクロウエ−ブなどの加熱手段などを用いる方法によって行われる。急速な乾燥は、形成されるフィルムの平面性を損なう恐れがあるので、乾燥の初期段階では、溶媒が発泡しない程度の温度で乾燥し、乾燥が進んでから高温で乾燥を行うのが好ましい。支持体から剥離した後の乾燥工程では、溶媒の蒸発によってフィルムは長手方向あるいは幅方向に収縮しようとする。収縮は、高温度で乾燥するほど大きくなる。この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥することが、でき上がったフィルムの平面性を良好にする上で好ましい。この点から、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているように、乾燥の全工程あるいは一部の工程を幅方向にクリップあるいはピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ行う方法（テンタ−方式）が好ましい。上記乾燥工程における乾燥温度は、１００〜１６０℃であることが好ましい。使用する溶媒によって乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なるが、使用溶媒の種類、組合せに応じて適宜選べばよい。
【００８１】
（延伸）
本発明のフィルムの製造では、支持体から剥離したウェブ（フィルム）を延伸する工程を含むことができる。本発明のフィルムが位相差フィルムとして使用される場合、延伸工程を含むことにより、位相差を調整することが出来る。
ウェブを延伸する方法には特に限定はなく、一軸延伸法、二軸延伸法のいずれを採用しても良い。例えば、複数のロールに周速差をつけ、その間でロール周速差を利用して搬送方向に延伸する方法、ウェブの両端をクリップやピンで固定し、クリップやピンの間隔を進行方向に広げて搬送方向に延伸する方法、クリップやピンの間隔を搬送方向と直交方向に広げて幅方向に延伸する方法、あるいは縦横同時に広げて搬送方向と幅方向の両方向に同時に延伸する方法、ウェブを把持し斜め方向に搬送する斜め延伸法などが挙げられる。もちろんこれ等の方法は、組み合わせて用いてもよい。また、いわゆるテンター法の場合、リニアドライブ方式でクリップ部分を駆動すると滑らかな延伸が行うことができ、破断等の危険性が減少できるので好ましい。このような延伸を行うことによって、レターデーションの発現性を調整することができる。
【００８２】
延伸時の温度は、環状オレフィン系樹脂フィルムのガラス転移温度Ｔｇを基準として、好ましくは（Ｔｇ−３０℃）以上、より好ましくは（Ｔｇ−１０℃）以上であり、好ましくは（Ｔｇ＋６０℃）以下、より好ましくは（Ｔｇ＋４０℃）以下である。なお、環状オレフィン系樹脂フィルムが複層のフィルムである場合、層によって環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度Ｔｇが異なることがありえる。その場合には、好ましくはガラス転移温度Ｔｇが最も低い層を形成する環状オレフィン系樹脂のガラス転移温度Ｔｇを基準として、延伸時の温度を設定する。
延伸倍率は、位相差フィルムに発現させようとする位相差等の光学特性に応じて適宜選択すればよく、通常５％以上、好ましくは１０％以上であり、通常３００％以下、好ましくは１５０％以下である。
【００８３】
（巻き取り）
環状オレフィン系樹脂フィルムは乾燥し、残留揮発分を１％以下にして巻き取るのが好ましい。巻き取る前にフィルムの両端にナーリングを施すことが好ましい。ナーリングの幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍｍ〜３０ｍｍ、高さは１〜５０μｍであり、好ましくは２〜２０μｍ、より好ましくは３〜１０μｍである。これは片押しであっても両押しであっても良い。  
以上のようにして得られた環状オレフィン系樹脂フィルムの幅は０．５〜３ｍが好ましく、より好ましくは０．６〜２．５ｍ、さらに好ましくは０．８〜２．２ｍである。長さは１ロールあたり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、幅は３ｍｍ〜５０ｍｍ、より好ましくは５ｍ〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍであり、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであっても良い。得られたフィルムを巻き取る巻き取り機には、一般的に使用されている巻き取り機が使用でき、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロ−ル法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【００８４】
本発明の光学フィルムは、偏光子の保護フィルムとして用いられる。この際、本発明の光学フィルムを、偏光子に対して液晶表示装置の液晶セル側の保護フィルムとして用いて、液晶セルの斜め視野角を補償する、いわゆる光学補償フィルム（または位相差フィルム）としての機能を持たせてもよい。一方、偏光子に対して液晶セルよりも外側の保護フィルムとして用いてもよい。光学補償フィルムとは、一般に液晶表示装置に用いられ、位相差を補償する光学材料のことを指し、位相差板、光学補償シートなどと同義である。光学補償フィルムは複屈折性を有し、液晶表示装置の表示画面の着色を取り除いたり、視野角特性を改善したりする目的で用いられる。
【００８５】
（光学特性のバラつき）
本発明の光学フィルムを位相差フィルムとして用いる場合、光学特性のバラつきを低減させることで、偏光板加工後の偏光性能のバラつきを低減させることが出来る。位相差フィルムの面内レターデーションをＲｅ、厚さ方向のレターデーションをＲｔｈとしたときに、全幅のＲｅ値のバラつきが±５ｎｍであることが好ましく、±３ｎｍであることが更に好ましい。また、Ｒｔｈ値のバラつきは±１０ｎｍが好ましく、±５ｎｍであることが更に好ましく、±３ｎｍであることが特に好ましい。また、長さ方向のＲｅ値、及びＲｔｈ値のバラつきも幅方向のバラつきの範囲内であることが好ましい。透明感を保つためヘイズは０．０１〜２％が好ましい。以上の様にして得られた環状オレフィン系樹脂フィルムロールは、フィルムの遅相軸方向が、巻き取り方向（フィルムの長手方向）に対して、±２度であることが好ましく、更に±１度の範囲であることが好ましい。または、巻き取り方向に対して直角方向（フィルムの幅方向）に対して、±２度であることが好ましく、更に±１度の範囲にあることが好ましい。特にフィルムの遅相軸方向が、巻き取り方向（フィルムの長手方向）に対して、±０．３度以内であることが好ましい。あるいはフィルムの幅手方向に対して±０．３度以内であることが好ましい。
【００８６】
（機能層）
本発明の光学フィルムは、フィルムの少なくとも一方の表面に、膜厚０．１〜２０μｍの機能層をさらに積層してもよい。この機能層の種類は特に限定されないが、ハードコート層、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層、透湿度低減層などが挙げられる。機能層は、１層であっても良いし、複数層設けても良い。機能層の積層方法は特に限定されないが、本発明の光学フィルムを形成するための環状オレフィン系樹脂組成物との共流涎により設けることが好ましく、本発明の光学フィルム上に塗設して設けることも好ましい。
【００８７】
また、機能層として、反射防止層（低屈折率層、中屈折率層、高屈折率層など屈折率を調整した層）、防眩層、帯電防止層、紫外線吸収層、透湿度低減層、等を作製するために、機能層材料には各種添加物を添加しても良い。
【００８８】
機能層の厚みは、０．０１〜１００μｍであることがより好ましく、０．０２〜５０μｍであることが特に好ましい。さらに、透湿度を低減する機能層としては、厚み０．１〜２０μｍであることがより特に好ましい。
【００８９】
（表面処理）
本発明の光学フィルムは、場合により表面処理を行うことによって、フィルムと他の層（例えば、偏光子、下塗層及びバック層）との接着の向上を達成することができる。例えばグロー放電処理、紫外線照射処理、コロナ処理、火炎処理、酸又はアルカリ処理を用いることができる。ここでいうグロー放電処理とは、１０−３〜２０Ｔｏｒｒの低圧ガス下でおこる低温プラズマでもよく、更にまた大気圧下でのプラズマ処理も好ましい。プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。これらについては、詳細が発明協会公開技報（公技番号  ２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）にて３０頁〜３２頁に詳細に記載されており、本発明において好ましく用いることができる。
【００９０】
［第二の態様］
本発明の第二の態様の光学フィルムは、
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムであって、
上記光学フィルムのガラス転移温度が１５０℃以上であり、
上記光学フィルムの波長５９０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションが８０ｎｍ以上であり、
上記光学フィルムの少なくとも一方の表面の面配向係数が１．０×１０−３以下であり、かつ上記表面の表面水酸基量が１．５％以上である、光学フィルムである。
【００９１】
第二の態様における環状オレフィン系樹脂としては、前述の第一の態様で記載したものと同様の環状オレフィン系樹脂を用いることができる。また、第一の態様で記載した添加剤やフィルムの製造方法についても同様に第二の態様で用いることができる。
第二の態様における光学フィルムは、第一の態様のように複数層からなるものであってもよいが、単層のフィルムであることが好ましい。
【００９２】
（レターデーション）
【００９３】
液晶パネルの表示性能の観点から、光学フィルムの波長５９０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーションは８０ｎｍ以上であり、８０ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以上１５０ｎｍ以下であることがより好ましい。光学フィルムの波長５９０ｎｍにおける面内のレターデーションは３０ｎｍ以上であり、３０ｎｍ以上１００ｎｍ以下であることが好ましく、４０ｎｍ以上８０ｎｍ以下であることがより好ましい。
面内のレターデーションと厚さ方向のレターデーションは、フィルムの延伸などにより調整することができる。
【００９４】
レターデーションの測定方法について以下に記載する。
Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。
本願明細書においては、特に記載がないときは、波長λは、５９０ｎｍとする。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。Ｒｔｈ（λ）は上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨが算出する。尚、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値及び入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）及び式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。ここで平均屈折率の仮定値はポリマーハンドブック（ＪＯＨＮＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。
主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ２１ＡＤＨはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚよりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００９５】
【数１】
2016122176.tif 000003
【００９６】
ここで、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｄはフィルム厚を表す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ  式（Ｂ）
なおこの際、パラメータとして平均屈折率ｎが必要になるが、これはアッベ屈折計（（株）アタゴ社製の「アッベ屈折計２−Ｔ」）により測定した値を用いることができる。
【００９７】
（表面の面配向係数）
偏光子との密着性の観点から、光学フィルムの少なくとも一方の表面の面配向係数は１．０×１０−３以下であり、０．５×１０−３以下が好ましく、０．３×１０−３以下が好ましく以下がより好ましい。
光学フィルムの表面の面配向係数（表面配向係数）は、プリズムカップラー（ＭＯＤＥＬ２０１０  Ｐｒｉｓｍ  Ｃｏｕｐｌｅｒ  ：Ｍｅｔｒｉｃｏｎ製）を用いて、波長５３２ｎｍにおける屈折率を測定して、面内最大屈折率ｎｘ、ｎｘに直行する方向の屈折率ｎｙ、及び厚み方向の屈折率ｎｚから、以下の式に従って表面の面配向係数（Ｐ）を算出した。
Ｐ＝（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ
【００９８】
表面の面配向係数の制御方法について説明する。
本発明では、光学フィルムに溶剤を接触させることにより、表面の面配向係数を１．０×１０−３以下とすることが好ましい。溶剤としては有機溶剤が好ましい。
本発明の光学フィルムの製造方法は、環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを延伸する工程、及び、光学フィルムに溶剤を接触させることにより、表面の面配向係数を１．０×１０−３以下とする光学フィルムの製造方法であることが好ましく、溶剤を接触させる前に光学フィルムを延伸することが好ましい。
【００９９】
〔有機溶剤に接触させる工程（有機溶剤接触工程）〕
環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムの表面に有機溶剤を接触させた後、有機溶剤を乾燥させることにより、密着層を形成させることができ、このような密着性改良は、特に配向の進んだ環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムにおいて効果的に適用することができる。したがって、光学フィルムの片面だけに有機溶剤を接触させた場合、その光学フィルムを偏光子と直接貼合する場合には、有機溶剤に接触させた面を偏光子との貼合面とすることが好ましい。なお、有機溶剤接触工程は製膜工程またはウェット延伸工程の後、もしくはドライ延伸または熱処理工程の前および／または後に実施することができ、延伸の後に実施されることがより好ましい。また、有機溶剤接触工程の前や後に、適宜、表面処理を併用することが好ましい。
【０１００】
（有機溶剤）
有機溶剤接触工程に用いる有機溶剤としては、環状オレフィン系樹脂の良溶剤を主溶剤として含有することが好ましく、環状オレフィン系樹脂の溶液流延製膜工程における環状オレフィン系樹脂溶液に用いることのできる主溶剤を好ましく用いることができる。
いかなる理論にも拘泥するものではないが、有機溶剤接触工程前の光学フィルムに有機溶剤を接触させることで偏光子への密着性が向上することは、環状オレフィン系樹脂の厚み方向の配向が乱れ、厚み方向の脆性が向上する（層間剥離が抑制される）ことに起因すると考えられる。一方で、環状オレフィン系樹脂の配向が乱れると、レターデーションが変化してしまうため、光学フィルムのバルクとしての配向は乱れないことが好ましい。したがって、レターデーション発現性と偏光子との密着性を両立させるためには、光学フィルムの少なくとも一方の面において、表面から０〜３μｍの深さまでの面内配向を、３〜１０μｍの深さの面内配向よりも低くすることが重要であり、このような光学フィルムは、例えば、有機溶剤接触工程で用いられる主溶剤として、環状オレフィン系樹脂の溶解性、揮発性（乾燥性）、環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムへの浸透性が適切に調整された溶剤を用いたり、有機溶剤接触後の乾燥工程において、適切な乾燥速度に調整したりすることで作製することができる。
有機溶剤として、好ましくは、酢酸メチル、酢酸エチル、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アノン、トルエンである。
【０１０１】
（接触工程）
有機溶剤接触工程における光学フィルムと有機溶剤との接触方法としては、一般的に知られた接触方法、例えばディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、スライドコート法、スプレー法、ダイコート法、或いは、米国特許第２６８１２９４号明細書に記載のホッパーを使用するエクストルージョンコート法、マイクログラビアコート法を用いることができる。また、水蒸気接触工程における主溶剤である水の代わりに有機溶剤を用いることにより、接触させることもできる。この際、密着層を効果的に形成させるために、光学フィルムに接触させる有機溶剤の濃度は、有機溶剤接触前の光学フィルム中の溶剤濃度よりも高濃度であることが好ましい。
また、有機溶剤接触前の光学フィルムの残留溶剤量は特に限定されないが、レターデーション発現性の観点から、０〜１０質量％であることが好ましく、０〜５質量％であることがより好ましく、０〜２質量％であることがさらに好ましい。
さらに、有機溶剤接触工程における有機溶剤接触量（塗布量）は、特に限定されないが、１ｍ２あたり０．５〜３０ｍＬであることが好ましく、１〜１５ｍＬであることがより好ましく、２〜１０ｍＬであることがさらに好ましい。１ｍ２あたり０．５ｍＬ以上であると、密着性を十分に出すことできたり、ムラなく均一に接触させることができたりする観点から好ましく、３０ｍＬ以下であると、乾燥負荷を低減できたり、有機溶剤接触後のレターデーション変化を抑制したり、フィルムのカールを低減できたりする観点から好ましい。
【０１０２】
（乾燥工程）
このようにして有機溶剤と接触した光学フィルムは、続いて乾燥ゾーンへ搬送し、ロール群で搬送したり、テンターで両端をクリップされたりしながら乾燥を終了することが好ましい。なお、有機溶剤接触工程がドライ延伸工程や熱処理工程の前に実施される場合には、それらの工程を乾燥工程とすることもできる。乾燥方法としては、搬送されている光学フィルムに熱風もしくは温風や、ガス濃度の低い風をあてる方法、熱線を照射する方法、昇温されたロールに接触させる方法等があるが、熱風もしくは温風や、ガス濃度の低い風をあてる方法が好ましく、乾燥風の温度は特に限定されないが、−１０〜１４０℃であることが好ましく、２５〜１２０℃であることがより好ましく、３０〜１００℃であることがさらに好ましく、４０〜８０℃であることが最も好ましい。乾燥温度が−１０℃以上であると十分な乾燥速度で乾燥させることができ、１４０℃以下であると効果的に密着性を向上させることができる。
このようにして乾燥の終了した光学フィルムの残留溶剤量は、有機溶剤接触前の光学フィルムの残留溶剤量と比較して同等以下であることが好ましく、有機溶剤接触工程がドライ延伸工程や熱処理工程の後に実施される場合には、０〜５質量％であることが好ましく、０〜３質量％であることがより好ましく、０〜２質量％であることがさらに好ましく、０〜１質量％であることが最も好ましい。このとき、有機溶剤接触前の光学フィルムの重量（Ｗ０）と、乾燥工程後の光学フィルムの重量（Ｗ１）との比（Ｗ１／Ｗ０）は特に限定されないが、乾燥後のフィルムのカール低減の観点から、０．９７〜１．０３であることが好ましく、０．９８〜１．０２であることがより好ましく、０．９９〜１．０１であることがさらに好ましい。
また、有機溶剤接触前の光学フィルムのレターデーション（Ｒｅ０）と、乾燥終了後の光学フィルムのレターデーション（Ｒｅ１）との比（Ｒｅ１／Ｒｅ０）は特に限定されないが、０．８〜１．２であることが好ましく、０．９〜１．１であることがより好ましく、０．９５〜１．０５であることがさらに好ましい。このような範囲であると面状が良好であることが多い。
さらに、有機溶剤接触前のーフィルムのヘイズ（ＨＺ０）と、乾燥終了後の光学フィルムのヘイズ（ＨＺ１）との比（ＨＺ１／ＨＺ０）は特に限定されないが、０．１〜１．５であることが好ましく、０．３〜１．４であることがより好ましく、０．５〜１．３であることがさらに好ましい。また、乾燥終了後の光学フィルムのヘイズ（ＨＺ１）は１．０％以下であることが好ましく、０．７％以下であることがより好ましく、０．５％以下であることがさらに好ましい。このような範囲であると、光学フィルムを液晶表示装置に組み込んだ際に、黒表示時の光漏れを低減させることができることに加えて、フィルム中の添加剤のブリードアウトを抑制したり、経時での添加剤のブリードアウトを抑制したりすることができ、偏光子との密着性を適切に調整することができる。
【０１０３】
（表面水酸基量）
偏光子との密着性の観点から、光学フィルムの面配向係数が１．０×１０−３以下である表面は、更に表面水酸基量が１．５％以上であり、３.０％以上であることが好ましい。
表面水酸基量（表面水酸基数）は以下の方法で測定する。
ＪＳＲ  ＴＥＣＨＮＩＣＡＬ  ＲＥＶＩＥＷ  ＮＯ．１９／２０１２（化学修飾による高分子フィルム表面分析）の記載に従い、無水トリフルオロ酢酸を用いて、光学フィルムのサンプルと無水トリフルオロ酢酸を反応させ、その後、ＸＰＳ（Ｘ線光電子分光分析法）分析を行った。下式に従い、表面水酸数基数（ＲＯＨ）を算出した。
ＲＯＨ＝測定サンプルのフッ素量［ａｔｏｍｉｃ％］
／（３×測定サンプルの炭素量［ａｔｏｍｉｃ％］）×反応率×１００
【０１０４】
光学フィルムの表面水酸基量の制御方法について記載する。
光学フィルムの表面水酸基量は、プラズマ処理を行うことにより１．５％以上とすることが好ましい。
本発明の光学フィルムの製造方法は、環状オレフィン系樹脂を含む光学フィルムを延伸する工程、及び、光学フィルムにプラズマ処理を行うことにより、表面の表面水酸基量を１．５％以上とする光学フィルムの製造方法であることが好ましく、プラズマ処理の前に光学フィルムを延伸することが好ましい。
【０１０５】
［プラズマ処理］
プラズマ処理としては、真空グロー放電、大気圧グロー放電等によるものがあり、その他の方法としてフレームプラズマ処理等の方法があげられる。これらは、例えば特開平６−１２３０６２号公報、特開平１１−２９３０１１号公報、同１１−５８５７号公報等に記載された方法を用いることが出来る。
【０１０６】
プラズマ処理によれば、プラズマ中においたプラスチックフィルムの表面を処理することで、これに強い親水性を与える事が出来る。例えば、上記のグロー放電によるプラズマ発生装置中においては相対する電極の間にこれらの親水性を付与しようとするフィルムを置き、この装置中にプラズマ励起性気体を導入し、電極間に高周波電圧を印加する事により、上記気体をプラズマ励起させ電極間にグロー放電を行わせることにより表面処理が行える。中でも大気圧グロー放電によるものが好ましく用いられる。
【０１０７】
プラズマ励起性気体とは上記のような条件においてプラズマ励起される気体をいい、アルゴン、ヘリウム、ネオン、クリプトン、キセノン、窒素、二酸化炭素、テトラフルオロメタンの様なフロン類及びそれらの混合物などがあげられる。
【０１０８】
これらのガスとしては、アルゴン、ネオン等の不活性ガスに、カルボキシル基や水酸基、カルボニル基等の極性官能基をプラスチックフィルムの表面に付与できる反応性ガスを加えたものが励起性気体として用いられる。反応性ガスとしては水素、酸素、窒素の他、水蒸気やアンモニア等のガスの他、低級炭化水素、ケトン等の低沸点の有機化合物等も必要に応じ用いることが出来るが、取り扱い上は、水素、酸素、二酸化炭素、窒素、水蒸気等のガスが好ましい。水蒸気を用いる場合は、他のガスを水に通しバブリングしたガスを用いることができる。或いは水蒸気を混合してもよい。
【０１０９】
印加する高周波電圧の周波数としては、１ｋＨｚ以上１００ｋＨｚ以下が好ましく用いられ、より好ましくは１ｋＨｚ以上１０ｋＨｚ以下である。
【０１１０】
これらのグロー放電によるプラズマ処理には真空下でこれを行う方法と、大気圧下でこれを行う方法がある。
【０１１１】
グロー放電による真空プラズマ放電処理においては、有効に放電を起こさせるために、その雰囲気を０．００５〜２０ｔｏｒｒの範囲に保つ様に上記反応性ガスを導入する必要がある。処理速度を上げるにはなるべく高圧側で高出力条件を採用することが好ましいが、電界強度を上げすぎると基材にダメージを与える場合がある。
１ｔｏｒｒは、１３３．３２２Ｐａである。
【０１１２】
大気圧近傍でプラズマ放電を行う大気圧グロー放電による場合には、安定に放電を起こさせるためにヘリウムやアルゴン等の不活性ガスが必要であり、上記プラズマ励起性ガスのうち６０％以上が不活性ガスである様にしないと安定な放電が発生しない。しかしながら余り不活性ガスが多く、反応性ガスの割合が少ないと処理速度が低下する。電界強度を上げすぎてもやはり基材にダメージを与えることがある。
【０１１３】
また、大気圧近傍でプラズマ処理を行う場合でも、パルス化された電解でプラズマを発生させる場合には、上記不活性ガスは必ずしも必要でなく、反応ガス濃度を上げることが出来、反応速度を大きくする事が出来る。
【０１１４】
もう一つのフレームプラズマ処理とは表面処理をしようとするフィルムの表面にバーナーにより火炎（フレーム）処理を行うことでプラズマを発生させ表面処理を行うもので、例えばパラフィン系ガス（都市ガス、天然ガス、メタンガス、プロパンガス、ブタンガス等）のような燃焼ガスとこれに混合された酸化性ガス例えば空気や酸素（又、助燃剤や酸化剤等を用いる場合もある）からなる混合ガスを燃焼させ、この火炎で表面を処理することである。
【０１１５】
一般的に、バーナーから出る火炎には外炎と内炎とがあり、外炎部は内炎部の未反応（燃焼しきれない）ガスが加熱された、通常薄い青色をした部分でいわゆるブルーのガス炎と言われており、温度が高い部分であり、ブルーでない火炎部が内炎で酸素供給が少ない温度の比較的低い部分である。
【０１１６】
この内炎の先端から３０ｍｍ以内の火炎にはプラズマが多く発生しており、特開平１１−１８４０４２号公報に詳しく記載されているように遮蔽板により炎を制限する事で内炎の先端から３０ｍｍ以内のところの制限した火炎で基材表面を処理することができ、これによるプラズマ処理が可能である。
【０１１７】
火炎をあてる時間は、処理しようとする基材と火炎が接触する時間で０．００１秒〜２秒以内である。好ましくは、０．０１秒〜１秒以内である。長すぎる場合には、表面が犯されすぎ、短いと酸化反応が起こりにくく接着性が向上しない。
【０１１８】
この目的で使用されるバーナーは、プラズマ処理を行おうとする基材の表面に均一に炎をあてることが出来ればよい。又バーナーを複数配置したものでもよい。
【０１１９】
上記火炎処理の燃焼ガスと酸化性ガスの混合比率は、ガスの種類によって異なるが、例えばプロパンガスと空気の場合にはプロパンガス／空気の好ましい混合比は、容量比で１／１５〜１／２２、好ましくは１／１６〜１／１９の範囲がよく、天然ガスと空気の場合には、１／６〜１／１０、好ましくは１／７〜１／９である。内炎と外炎の大きさの比率は燃焼ガスの種類や酸化性ガスの種類、混合比、供給速度等により異なってくる。
【０１２０】
これらのプラズマ処理装置の例として、大気圧プラズマ処理装置を図１に、又これを真空プラズマ処理を連続的に行う装置を図２に挙げる。
【０１２１】
図１は大気圧プラズマ処理装置の一例を示す断面図である。即ち、図１の大気圧プラズマ発生装置においては、相対する２つの電極（上下電極とも１で表す）の間にプラズマ処理しようとする試料２を位置させる。プラズマ励起時に火花放電が起こるのを防ぐためガラス、セラミック、ポリイミドフィルムのような誘電体３を上部及び／又は下部電極の表面に設けた方が好ましい。アルゴンとヘリウムの混合気体等のプラズマ励起性気体は流入口４から大気圧プラズマ発生装置に導入され、内部の空気を置換して流出口５から排出される。次いで電極間に、例えば３０００Ｈｚ、４２００Ｖの、高周波電圧を印加し、上記導入基体をプラズマ励起してグロー放電を所定時間発生させ、試料表面の改質を行う。
【０１２２】
図２は真空プラズマ処理を連続的に行う装置の一例を示す断面図で、連続搬送される長尺状のフィルムを真空下、連続的にプラズマ処理するための処理部が、試料フィルムＦの入り口１２Ａと出口１２Ｂを有する間仕切りをした処理室１２によって構成されている。
【０１２３】
処理室１２には、対向する平板電極１３、１４が設けられている。この一対の電極１３、１４のうち一方の電極１３に高周波電源１５が接続され、他方の電極はアース１６により接地されており、一対の電極１３、１４間に電界を印加できる様に構成されている。
【０１２４】
また、流入口６より処理ガスを導入し、流出口７より排気ポンプで処理室内を真空に排気する。
【０１２５】
図２の例では、処理室１２に隣接して、フィルムの入り口側に予備減圧室１０及び１１が設けられている。フィルムの出口側にも処理室１２に隣接して予備減圧室１７が設けられている。又これらの間仕切りはニップロール８、９により行われるが、これに限定されるものではない。ここで１５は高周波電源を表す。
【０１２６】
予備減圧室を設ける場合、図示のように、フィルムＦの入り口側に２つ、出口側に一つを設ける仕様であってもよいが、これに限定されず、フィルムＦの出入り口側に一つずつつける態様、或いは両方に２つずつつける等の態様も考えられる。
【０１２７】
また、フレーム（火炎）プラズマ処理を行う装置についても、特開平９−３５５０９７号公報に記載されたものが好ましく用いられる。
【０１２８】
図３にフレーム（火炎）処理によるプラズマ処理装置の一例を示す。一般的に、バーナーから出る火炎には外炎と内炎とがあり、外炎部は内炎部の未反応（燃焼しきれない）ガスが加熱された、通常薄い青色をした部分でいわゆるブルーのガス炎と言われており、温度が高い部分であり、ブルーでない火炎部が内炎で酸素供給が少ない温度の比較的低い部分である。
【０１２９】
この外炎はプラズマ処理をするには不要な炎が多く、外炎が拡がると処理がコントロールできなくなるので、図３に示すような遮蔽板（外炎規制装置）Ｃを設置することにより、不要な外炎Ｅ′を遮蔽板（外炎規制装置）Ｃの外側に出して支持体から避け、有効炎（規制された炎）Ｇを試料フィルムＦの表面に当てることによって火炎処理をコントロールし、目的を達成する。図はバーナーＢ、外炎Ｅ、内炎Ｉ、遮蔽板の外側に遮蔽され広がった外炎Ｅ′、有効炎Ｇや有効処理孔（スリット）Ｓ等を、また有効処理孔（スリット）Ｓを通して有効炎Ｇを試料フィルムＦの表面に当てる様子を示した。
【０１３０】
（偏光板）
本発明の光学フィルムを用いた偏光板は、本発明の光学フィルムを少なくとも１層を保護フィルムとし、偏光子を少なくとも１層有するものであり、本発明の光学フィルムは、液晶セルとの貼り合わせにおいて、偏光子よりもセル側に配置されて光学補償フィルムの機能を持っても良いし、偏光子がセル側となっていても良い。また、本発明の光学フィルムの表面に上述の機能層や表面処理が設けられた多層構成であってもよい。
【０１３１】
本発明の光学フィルムを少なくとも１層有する偏光板に、もう１層の偏光板保護フィルムを用いる場合、フィルムとして適当な透明フィルムを用いることができる。特にセルロースアセテート系フィルム、アクリル系フィルム、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルム等を好ましく用いることができる。
【０１３２】
本発明の光学フィルムを２層以上有する構成である場合、各フィルムは同じ光学フィルムであってもよいし、異なる光学フィルムであってもよい。
【０１３３】
偏光板の作製方法は、一般的な方法で作製することができる。本発明の偏光板保護フィルムの表面をコロナ処理し、ポリビニルアルコールフィルムを沃素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の両面に完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。コロナ処理の代わりに特開平６−９４９１５号、特開平６−１１８２３２号に記載されているような易接着加工を施してもよい。また前述したアルカリ処理などの表面処理を行ってもよい。
【０１３４】
偏光板保護フィルム処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス、ＵＶ硬化接着剤、熱硬化接着剤等が挙げられる。
【０１３５】
本発明の光学フィルムと偏光子は、その他の接着剤や粘着剤で貼り合わされていてもよいし、剥がれ等の実用上の問題とならない範囲において接着剤や粘着剤を介さずに直接積層されていてもよい。
【０１３６】
本発明の光学フィルムを用いた偏光板の特性は、必要ならば本発明の光学フィルムや同時に使用されている他の偏光板保護フィルムの特性によって調整することができる。例えば、偏光板の反りが生じた場合、反りを防止するため、本発明の光学フィルムや他の偏光板保護フィルムの膜厚をそれぞれ調整することも好ましい。
【０１３７】
（画像表示装置）
本発明の画像表示装置は、本発明の光学フィルムおよびこれを用いた偏光板を有することを特徴とする。本発明の画像表示装置としては、液晶表示装置や、有機ＥＬディスプレイなどに好ましく用いることができる。液晶表示装置は、ＶＡ方式やＩＰＳ方式が知られており、また用途としては大型テレビ、パソコン用モニター、ノートパソコン、中小型のタブレットＰＣ、携帯電話など多岐にわたり、本発明の光学フィルムおよびこれを用いた偏光板を好ましく用いることができる。
【実施例】
【０１３８】
＜合成例１＞
８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン１００質量部、分子量調節剤の１−へキセン４．６質量部およびトルエン２００質量部を、窒素置換した反応容器に仕込み、８０℃に加熱した。これにトリエチルアルミニウム（０．６モル／Ｌ）のトルエン溶液０．１８ｍｌ、メタノール変性ＷＣｌ６のトルエン溶液（０．０２５モル／Ｌ）０．５８ｍｌを加え、８０℃で３時間反応させることにより重合体を得た。次いで、得られた開環共重合体溶液をオートクレーブに入れ、さらにトルエンを２００質量部加えた。水添触媒であるＲｕＨＣｌ（ＣＯ）［Ｐ（Ｃ６Ｈ５）］３をモノマー仕込み量に対して２５００ｐｐｍ添加し、水素ガス圧を９−１０ＭＰａとし、１６０−１６５℃にて３時間の反応を行った。反応終了後、多量のメタノール溶液に沈殿させることにより水素添加物（樹脂１）を得た。得られた開環重合体の水素添加物は、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１３５×１０３、分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）＝３．１であった。
【０１３９】
＜合成例２〜１４＞
合成例１において、単量体８−メチル−８−メトキシカルボニルテトラシクロ［４．４．０．１２，５．１７，１０］−３−ドデセン１００質量部、１−ヘキセン４．６質量部を表１に記載の量に変更した以外は同様にして、樹脂２〜１４を得た。
【０１４０】
【表１】
2016122176.tif 000004
【０１４１】
＜実施例１＞
層Ａ用ドープとして、合成例１で得られた樹脂１を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度２５質量％の溶液を調製した。また、層Ｂ用ドープとして、合成例２で得られた樹脂２を塩化メチレンに溶解させ、固形分濃度２５質量％の溶液を調製した。
次に、３層共流延が可能な流延ギーサーを通して、金属支持体上に流延した。このとき、金属支持体面側から順に層Ｂ、層Ａ、層Ｂとなるように流延した。このとき、層Ａの膜厚が３８μｍ、層Ｂの膜厚がそれぞれ１μｍとなるように設定した。金属支持体上にある間、ドープを４０℃の乾燥風により乾燥してフィルムを形成した後に剥ぎ取り、フィルム両端をクリップで固定し、その間を同一の間隔で保ちつつ１２０℃の乾燥風で５分間乾燥した。クリップを外した後、さらに１５０℃で２０分間乾燥して、本発明の光学フィルム（環状オレフィン系樹脂フィルム）であるフィルム１を得た。得られたフィルムの層Ａ、層ＢのＴｇについても、それぞれ表２に記載した。
【０１４２】
＜実施例２〜１８、比較例１〜１２＞
層Ａ、層Ｂに用いる樹脂、および膜厚を、表２に記載のものに変更した以外は実施例１と同様にして、フィルム２〜３０を得た。なお、フィルム１９〜２９については３層共流延が可能な流延ギーサーの中央部のみを用いて単層フィルムを製膜した。
【０１４３】
＜層Ａ及び層Ｂのガラス転移温度（Ｔｇ）の測定方法＞
各層のＴｇはフィルムを削り出した後、各層単独のフィルム片を取り出し示差走査熱量計を用いて計測した。具体的には、日立ハイテクサイエンス社製、示差走査熱量計ＤＳＣ７０００Ｘを用いて、窒素雰囲気、昇温速度：２０℃／分の条件で測定を行い、得られた結果の時間微分ＤＳＣ曲線（ＤＤＳＣ曲線）のピークトップ温度と、このピークトップ温度−２０℃の温度におけるそれぞれのＤＳＣ曲線の接線が交差する点における温度をＴｇとして求めた。
【０１４４】
＜フィルム寸法変化率の評価＞
得られたフィルムについて、１２０℃（相対湿度５％未満）、２４時間経時前後の寸法変化率、すなわち（Ｌ’−Ｌ０）／Ｌ０｝×１００％の値を、フィルムの幅方向について求めた。ここで、前述のＬ０は１２０℃で２４時間経過させる前のフィルム長さ（単位：ｍｍ）を表し、前述のＬ’は１２０℃で２４時間経過させた後、２５℃、相対湿度６０％環境下にてさらに２時間経過した後のフィルム長さ（単位：ｍｍ）を表す。また、用いたサンプルフィルムは３０ｍｍ×１２０ｍｍのものを用い、その他の条件は以下のとおりとした。
２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下で２時間以上調湿後、自動ピンゲージ（新束科学（株）製）にて、フィルムの１２０ｍｍ辺に平行になるように直径６ｍｍの穴を１００ｍｍ間隔に開け、間隔の原寸（Ｌ０）を最小目盛り１／１０００ｍｍまで測定する。そして、１２０℃で２４時間経過した後に、２５℃、相対湿度６０％の雰囲気下で２時間調湿後、パンチの間隔の寸法Ｌ’を測定した。各フィルムの寸法変化率は表２に記載した。
【０１４５】
＜剥離力の評価＞
（偏光子の作製）
平均重合度約２４００、ケン化度９９．９モル％以上のポリビニルアルコールからなる厚み７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３０℃の純水に浸漬した後、ヨウ素／ヨウ化カリウム／水の質量比が０．０２／２／１００の水溶液に３０℃で浸漬した。その後、ヨウ化カリウム／ホウ酸／水の質量比が１２／５／１００の水溶液に５６．５℃で浸漬した。
引き続き、８℃の純水で洗浄した後、６５℃で乾燥して、ポリビニルアルコールフィルムにヨウ素が吸着配向された偏光子を得た。延伸は、主に、ヨウ素染色およびホウ酸処理の工程で行ない、トータル延伸倍率は５．３倍であった。
【０１４６】
（水系接着剤の調製）    
アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール（日本合成化学工業（株）製ゴーセファイマー  Ｚ−２００、４質量％水溶液の粘度＝１２．４ｍＰａ・ｓｅｃ、ケン化度＝９９．１モル％）を純水に溶解し、１０質量％濃度の水溶液を調製した。このアセトアセチル基変性ポリビニルアルコール水溶液と、架橋剤となるグリオキシル酸ナトリウムとを、前者：後者の固形分質量比が１：０．１となるように混合し、さらに水１００質量部に対してアセトアセチル基変性ポリビニルアルコールが２．５質量部となるように純水で希釈して、接着剤組成物を調製した。
【０１４７】
（貼り合わせ）
環状オレフィン系樹脂フィルム１〜３０の一方の面に、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製ＶＥ１Ａ−Ａを用いて４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ放電照射を施し、上記で作製した水系接着剤を使用し、上記の偏光子の片面に貼り合わせた。偏光子のもう一方の面には、鹸化処理されたトリアセチルセルロースフィルムを貼り合せた。
鹸化処理されたトリアセチルセルロースフィルムは、以下のようにして作製した。フジタックＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム（株）製）を３７℃に調温した４．５ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液（けん化液）に１分間浸漬した後、フィルムを水洗し、その後、０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸水溶液に３０秒浸漬し、更に水洗浴を通した。そして、エアナイフによる水切りを３回繰り返し、水を落とした後に７０℃の乾燥ゾーンに１５秒間滞留させて乾燥し、鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムを作製した。
【０１４８】
（剥離力の計測）
作製した偏光板の環状オレフィン系樹脂フィルム表面にコロナ処理を施した後、そのコロナ処理面にアクリル系粘着剤シートを貼合した。得られた粘着剤付き偏光板を幅２５ｍｍ、長さ約２００ｍｍの試験片に裁断し、その粘着剤面をソーダガラスに貼合した後、オートクレーブ中、圧力５ｋｇｆ／ｃｍ２、温度５０℃で２０分間の加圧処理を行い、さらに、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下で１日放置した。この状態で、引張り試験機（（株）エー・アンド・デイ製ＲＴＦ−１２１０）を用いて、試験片の長さ方向一端（幅２５ｍｍの一辺）のトリアセチルセルロースフィルムと偏光子をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、９０°剥離試験（ＪＩＳ  Ｋ  ６８５４−１：１９９９  「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第１部：９０度はく離」に準拠する）を行い、環状オレフィン系樹脂フィルムと偏光子との間の接着力を評価した結果を表２に記載した。環状オレフィン系樹脂フィルムと偏光子が剥がれないものについては、測定上限を超えているため、＞１０Ｎと表記した。
【０１４９】
【表２】
2016122176.tif 000005
【０１５０】
＜比較例Ｂ１＞
（延伸フィルムの作製）
比較例１のフィルム１９の膜厚を９０μｍになるように変更した以外は、比較例１と同様にして、フィルムＢ１を得た。その後、フィルムＢ１を、縦一軸延伸機において、フィルム膜面温度１７５℃で、延伸倍率４０％で縦延伸した。その後、テンター延伸機において、フィルム膜面温度１８０℃で、延伸倍率１１５％で横延伸し、フィルムＢ２を得た。
なお、延伸倍率は、下記式で定義される。
延伸倍率＝（延伸後のフィルム長／延伸前のフィルム長−１）×１００（％）
【０１５１】
（真空プラズマ処理）
フィルムＢ２に対して、真空プラズマ処理による表面処理を行った。真空プラズマ装置は、ＹＯＵＴＥＣ社デスクトップシリーズを使用した。真空プラズマに用いる雰囲気ガスとして、酸素を用いた。また、ガスの流量を１００ｓｃｃｍ、電力を４２０Ｗに設定し、真空プラズマ処理を４秒間行い、フィルムＢ３を得た。
【０１５２】
＜比較例Ｂ２＞
（有機溶媒接触）
フィルムＢ２の表面に、酢酸メチルを塗布量８．６ｍｌ／ｍ２になるように、特開２００３−２１１０５２号公報の図１に記載されたスロットダイコーターを用いて塗布した後、乾燥温度８０℃で２分間、乾燥させ、フィルムＢ４を得た。
【０１５３】
（コロナ処理）
フィルムＢ４の有機溶媒接触をさせた面に、ＶＥＴＡＰＨＯＮＥ社製ＶＥ１Ａ−Ａを用いて４００Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件でコロナ照射を行い、フィルムＢ５を得た。
【０１５４】
＜実施例Ｂ１＞
フィルムＢ４の有機溶媒接触をさせた面に、比較例Ｂ１と同様にして、真空プラズマ処理を行い、フィルムＢ６を得た。
【０１５５】
＜実施例Ｂ２＞
（大気プラズマ処理）
フィルムＢ４の有機溶媒接触をさせた面に、積水化学工業製常圧プラズマ表面装置（ＡＰ／Ｔ０４）を用いた。雰囲気ガスとして窒素を用いて、電力８５Ｗ、照射量５０Ｗ・ｍｉｎ／ｍ２の条件で大気圧プラズマを行い、フィルムＢ７を得た。
【０１５６】
得られたフィルムＢ３、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７のガラス転移温度（Ｔｇ）、フィルム寸法変化率、Ｒｔｈ（波長５９０ｎｍにおける厚さ方向のレターデーション）、表面配向係数、表面水酸基数を前述の方法で測定した。結果を表３に示す。
【０１５７】
＜偏光板の作製＞
コロナ放電処理を施したフィルム１をフィルムＢ３、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７に変更した以外は、実施例１と同様にして偏光板を作製した。
【０１５８】
（剥離力の計測）
実施例１と同様にして剥離力を求めた。結果を表３に示す。
【０１５９】
【表３】
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【符号の説明】
【０１６０】
１    電極
２    試料
４    流入口
５    流出口
Ｆ    試料フィルム
１２    処理室
１３、１４    電極
１５    高周波電源
６    流入口
７    流出口
Ｂ    バーナー
Ｃ    遮蔽板（外炎規制装置）
Ｅ、Ｅ′    外炎
Ｇ    有効炎
Ｉ    内炎
Ｓ    有効処理孔（スリット）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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