(57)【要約】【課題】現像時の接着性が良好な感光性ポリシロキサン組成物、保護膜、およびこの保護膜を有する素子を提供する。【解決手段】感光性ポリシロキサン組成物は、ポリシロキサン（Ａ）と、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含む。ポリシロキサン（Ａ）はモノマー成分の重縮合物であり、モノマー成分はチタン含有化合物（ａ‐１）および式（２）で表わされるシランモノマー（ａ‐２）を含む。チタン含有化合物（ａ‐１）は、式（１‐１）で表わされる化合物および加水分解性チタンダイマーからなる群から選択される。  Ｔｉ（Ｒ１）ａ（Ｒ２）４−ａ  …  式（１‐１）  Ｓｉ（Ｒａ）ｗ（ＯＲｂ）４−ｗ  …  式（２）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリシロキサン（Ａ）と、
ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）と、
溶媒（Ｃ）とを含み、
ポリシロキサン（Ａ）はモノマー成分の重縮合物であり、前記モノマー成分はチタン含有化合物（ａ‐１）および式（２）で表わされるシランモノマー（ａ‐２）を含み、
チタン含有化合物（ａ‐１）は、式（１‐１）で表わされる化合物および加水分解性チタンダイマーからなる群から選択される、感光性ポリシロキサン組成物。
Ｔｉ（Ｒ１）ａ（Ｒ２）４−ａ  …  式（１‐１）
（式（１‐１）中、Ｒ１はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、またはシアノ基を有する有機基を示し、該有機基はＴｉ‐Ｃ結合によりチタン原子と結合し、Ｒ２はそれぞれ独立してアルコキシ基、アシルオキシ基、またはハロゲン原子を示し、ａは０〜２の整数を示す。）
Ｓｉ（Ｒａ）ｗ（ＯＲｂ）４−ｗ  …  式（２）
（式（２）中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基、無水物基を含むアルキル基、エポキシ基を含むアルキル基、またはエポキシ基を含むアルコキシ基を示し、Ｒｂはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、または炭素数６〜１５のアリール基を示し、ｗは１〜３の整数を示す。）
【請求項２】
式（２）中、少なくとも１つのＲａが、無水物基を含むアルキル基、エポキシ基を含むアルキル基、またはエポキシ基を含むアルコキシ基を示す、請求項１に記載の感光性ポリシロキサン組成物。
【請求項３】
ポリシロキサン（Ａ）の重縮合に用いられる溶媒はケトン溶媒を含む、請求項１に記載の感光性ポリシロキサン組成物。
【請求項４】
ポリシロキサン（Ａ）の重量平均分子量が６００〜４０００である、請求項１に記載の感光性ポリシロキサン組成物。
【請求項５】
ポリシロキサン（Ａ）１００重量部に対し、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）の使用量は１重量部〜３５重量部であり、溶媒（Ｃ）の使用量は１００重量部〜１２００重量部である、請求項１に記載の感光性ポリシロキサン組成物。
【請求項６】
請求項１に記載の感光性ポリシロキサン組成物を素子に塗布し、次いでプリベーク、露光、現像、およびポストベークを行うことにより形成された保護膜。
【請求項７】
素子と請求項６に記載の保護膜とを備え、前記保護膜は前記素子を被覆する、保護膜を有する素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性ポリシロキサン組成物、保護膜、およびこの保護膜を有する素子に関する。より詳細には、本発明は、現像時に良好な接着性を有する感光性ポリシロキサン組成物、それによって形成される保護膜、およびこの保護膜を有する素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、半導体産業や液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）ならびに有機ＥＬディスプレイ（ＯＬＥＤ）の発達、およびその結果としての小型化への要求に伴い、フォトリソグラフィプロセスは非常に重要なテーマとなっている。フォトリソグラフィプロセスでは、小型化という目標を達成するために所望のパターンを微細化する必要がある。一般に、微細パターンは、高解像度および高感光性を有するポジ型感光性ポリシロキサン組成物に露光および現像を施すことにより形成される。ポジ型感光性ポリシロキサン組成物の一般的な主成分はポリシロキサンであることに留意されたい。
【０００３】
ＬＣＤまたはＯＥＬＤでは、層状の配線間に層間絶縁膜が配置されるのが一般的である。層間絶縁膜を形成するための材料としては感光性材料が広く用いられている。感光性材料を用いると、感光性材料用のパターン形状を得るのに必要な工程が少なくてすむと同時に得られる絶縁膜の平坦度が良好なためである。
【０００４】
しかしながら、ポリシロキサンの屈折率はアクリル樹脂の屈折率よりも低いため、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）などの他の層の表面に塗布した場合、屈折率の大幅な差によりＩＴＯパターンが容易に目視できてしまう。したがってＬＣＤスクリーンの可視性が低下するという欠点が生じる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特開２００８‐２４８３２号公報には、シロキサン化合物を含む高屈折率材料であって、シロキサンは芳香族炭化水素基を有する、高屈折率材料が開示されている。しかしながら、近年は、高屈折率を有する硬化塗膜を形成可能な材料がより望まれている。高屈折率を有するシロキサン材料としては、例えば、金属化合物粒子の存在下におけるアルコキシシランの加水分解反応および縮合反応により得られるシロキサン樹脂組成物が挙げられる。しかしながら、露光時のシロキサン樹脂組成物の感光性は不十分であり、かつ現像時に形成される残渣により解像度も不良となる。すなわち、現像時のシロキサン樹脂組成物の接着性は不良である。
【０００６】
したがって、現在の産業界からの需要である現像時の接着性をどのように達成するかが当業者によって盛んに追及されている目的である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
したがって本発明によれば、現像時の接着性が良好な感光性ポリシロキサン組成物、保護膜、およびその保護膜を有する素子が提供される。
【０００８】
本発明によれば、ポリシロキサン（Ａ）と、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含む感光性ポリシロキサン組成物が提供される。ポリシロキサン（Ａ）はモノマー成分の重縮合物であり、モノマー成分はチタン含有化合物（ａ‐１）および式（２）で表わされるシランモノマー（ａ‐２）を含む。チタン含有化合物（ａ‐１）は、式（１‐１）で表わされる化合物および加水分解性チタンダイマーからなる群から選択される。
Ｔｉ（Ｒ１）ａ（Ｒ２）４−ａ  …  式（１‐１）
式（１‐１）中、Ｒ１はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、またはシアノ基を有する有機基を示し、この有機基はＴｉ‐Ｃ結合によりチタン原子と結合し、Ｒ２はそれぞれ独立してアルコキシ基、アシルオキシ基、またはハロゲン原子を示し、ａは０〜２の整数を示す。
Ｓｉ（Ｒａ）ｗ（ＯＲｂ）４−ｗ  …  式（２）
式（２）中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基、無水物基を含むアルキル基、エポキシ基を含むアルキル基、またはエポキシ基を含むアルコキシ基を示し、Ｒｂはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、または炭素数６〜１５のアリール基を示し、ｗは１〜３の整数を示す。
【０００９】
本発明の一実施形態では、式（２）中、少なくとも１つのＲａが、無水物基を含むアルキル基、エポキシ基を含むアルキル基、またはエポキシ基を含むアルコキシ基を示す。
【００１０】
本発明の一実施形態では、ポリシロキサン（Ａ）の重縮合に用いられる溶媒はケトン溶媒を含む。
【００１１】
本発明の一実施形態では、ポリシロキサン（Ａ）の重量平均分子量が６００〜４０００である。
【００１２】
本発明の一実施形態では、ポリシロキサン（Ａ）１００重量部に対し、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）の使用量は１重量部〜３５重量部であり、溶媒（Ｃ）の使用量は１００重量部〜１２００重量部である。
【００１３】
本発明によれば、上記感光性ポリシロキサン組成物を素子に塗布し、次いでプリベーク、露光、現像、およびポストベークを行うことにより形成された保護膜がさらに提供される。
【００１４】
本発明によれば、素子と上記保護膜とを備え、その保護膜はその素子を被覆する、保護膜を有する素子がさらに提供される。
【発明の効果】
【００１５】
上記に基づき、本発明の感光性ポリシロキサン組成物は、特定のチタン含有化合物の重縮合物であるポリシロキサンを含むため、現像時の接着性が良好であり、またこの感光性ポリシロキサン組成物は保護膜の形成に適している。
【００１６】
本発明の上記特徴および利点の理解をより深めるために、いくつかの実施形態を以下で詳細に説明する。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
＜感光性ポリシロキサン組成物＞
本発明によれば、ポリシロキサン（Ａ）と、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを含む感光性ポリシロキサン組成物が提供される。また感光性ポリシロキサン組成物は必要に応じて添加剤（Ｄ）さらに含むこともできる。
【００１８】
本発明の感光性ポリシロキサン組成物に用いられる個々の成分を以下で詳細に説明する。
【００１９】
以下では、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸および／またはメタクリル酸を意味し、（メタ）アクリレートとは、アクリレートおよび／またはメタクリレートを意味することに留意されたい。同様に、（メタ）アクリロイル基はアクリロイル基および／またはメタクリロイル基を意味する。
【００２０】
（ポリシロキサン（Ａ））
ポリシロキサン（Ａ）はモノマー成分の重縮合物であり、モノマー成分はチタン含有化合物（ａ‐１）およびシランモノマー（ａ‐２）を含む。またモノマー成分は、チタン含有化合物（ａ‐１）およびシランモノマー（ａ‐２）以外にシロキサンプレポリマー（ａ‐３）もしくはシリカ粒子（ａ‐４）、またはそれらの組み合わせをさらに含むこともできるが、限定はされない。ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分の各成分と、重縮合の反応工程および反応条件とを以下でさらに説明する。
【００２１】
（チタン含有化合物（ａ‐１））
チタン含有化合物（ａ‐１）は、式（１−１）で表される化合物および加水分解性チタンダイマーからなる群から選択される。
【００２２】
Ｔｉ（Ｒ１）ａ（Ｒ２）４−ａ  …  式（１‐１）
式（１‐１）中、Ｒ１はそれぞれ独立してアルキル基、アリール基、ハロゲン化アルキル基、ハロゲン化アリール基、アルケニル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メルカプト基、アミノ基、またはシアノ基を有する有機基を示し、この有機基はＴｉ‐Ｃ結合によりチタン原子と結合し、Ｒ２はそれぞれ独立してアルコキシ基、アシルオキシ基、またはハロゲン原子を示し、ａは０〜２の整数を示す。
【００２３】
式（１‐１）で表される化合物では、ａが０である場合の化合物が用いられると好ましい。
【００２４】
上記アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ‐ブチル基、ｔｅｒｔ‐ブチル基、ｎ‐ペンチル基、１‐メチル‐ｎ‐ブチル基、２‐メチル‐ｎ‐ブチル基、３‐メチル‐ｎ‐ブチル基、１，１‐ジメチル‐ｎ‐プロピル基、１，２‐ジメチル‐ｎ‐プロピル基、２，２‐ジメチル‐ｎ‐プロピル基、１‐エチル‐ｎ‐プロピル基、ｎ‐ヘキシル基、１‐メチル‐ｎ‐ペンチル基、２‐メチル‐ｎ‐ペンチル基、３‐メチル‐ｎ‐ペンチル基、４‐メチル‐ｎ‐ペンチル基、１，１‐ジメチル‐ｎ‐ブチル基、１，２‐ジメチル‐ｎ‐ブチル基、１，３‐ジメチル‐ｎ‐ブチル基、２，２‐ジメチル‐ｎ‐ブチル基、２，３‐ジメチル‐ｎ‐ブチル基、３，３‐ジメチル‐ｎ‐ブチル基、１‐エチル‐ｎ‐ブチル基、２‐エチル‐ｎ‐ブチル基、１，１，２‐トリメチル‐ｎ‐プロピル基、１，２，２‐トリメチル‐ｎ‐プロピル基、１‐エチル‐１‐メチル‐ｎ‐プロピル基、１‐エチル‐２‐メチル‐ｎ‐プロピル基などの直鎖または分枝を有する炭素数１〜１０のアルキル基が挙げられる。
【００２５】
また上記アルキル基としては、シクロプロピル基、シクロブチル基、１‐メチルシクロプロピル基、２‐メチルシクロプロピル基、シクロペンチル基、１‐メチルシクロブチル基、２‐メチルシクロブチル基、３‐メチルシクロブチル基、１，２‐ジメチルシクロプロピル基、２，３‐ジメチルシクロプロピル基、１‐エチルシクロプロピル基、２‐エチルシクロプロピル基、シクロヘキシル基、１‐メチルシクロペンチル基、２‐メチルシクロペンチル基、３‐メチルシクロペンチル基、１‐エチルシクロブチル基、２‐エチルシクロブチル基、３‐エチルシクロブチル基、１，２‐ジメチルシクロブチル基、１，３‐ジメチルシクロブチル基、２，２‐ジメチルシクロブチル基、２，３‐ジメチルシクロブチル基、２，４‐ジメチルシクロブチル基、３，３‐ジメチルシクロブチル基、１‐ｎ‐プロピルシクロプロピル基、２‐ｎ‐プロピルシクロプロピル基、１‐イソプロピルシクロプロピル基、２‐イソプロピルシクロプロピル基、１，２，２‐トリメチルシクロプロピル基、１，２，３‐トリメチルシクロプロピル基、２，２，３‐トリメチルシクロプロピル基、１‐エチル‐２‐メチルシクロプロピル基、２‐エチル‐１‐メチルシクロプロピル基、２‐エチル‐２‐メチルシクロプロピル基、２‐エチル‐３‐メチルシクロプロピル基などの炭素数１〜１０の環状アルキル基も挙げられる。
【００２６】
また炭素数１〜１０のアルキレン基は、上記アルキル基から誘導されるアルキレン基とすることもできる。
【００２７】
上記アリール基としては、フェニル基、ｏ‐メチルフェニル基、ｍ‐メチルフェニル基、ｐ‐メチルフェニル基、ｏ‐クロロフェニル基、ｍ‐クロロフェニル基、ｐ‐クロロフェニル基、ｏ‐フルオロフェニル基、ｐ‐メルカプトフェニル基、ｏ‐メトキシフェニル基、ｐ‐メトキシフェニル基、ｐ‐アミノフェニル基、ｐ‐シアノフェニル基、α‐ナフチル基、β‐ナフチル基、ｏ‐ビフェニル基、ｍ‐ビフェニル基、ｐ‐ビフェニル基、１‐アントリル基、２‐アントリル基、９‐アントリル基、１‐フェナントリル基、２‐フェナントリル基、３‐フェナントリル基、４‐フェナントリル基、９‐フェナントリル基などの炭素数６〜２０のアリール基が挙げられる。
【００２８】
上記アルケニル基としては、ビニル基、１‐プロペニル基、２‐プロペニル基、１‐メチル‐１‐ビニル基、１‐ブテニル基、２‐ブテニル基、３‐ブテニル基、２‐メチル‐１‐プロペニル基、２‐メチル‐２‐プロペニル基、１‐エチルビニル基、１‐メチル‐１‐プロペニル基、１‐メチル‐２‐プロペニル基、１‐ペンテニル基、２‐ペンテニル基、３‐ペンテニル基、４‐ペンテニル基、１‐ｎ‐プロピルビニル基、１‐メチル‐１‐ブテニル基、１‐メチル‐２‐ブテニル基、１‐メチル‐３‐ブテニル基、２‐エチル‐２‐プロペニル基、２‐メチル‐１‐ブテニル基、２‐メチル‐２‐ブテニル基、２‐メチル‐３‐ブテニル基、３‐メチル‐１‐ブテニル基、３‐メチル‐２‐ブテニル基、３‐メチル‐３‐ブテニル基、１，１‐ジメチル‐２‐プロペニル基、１‐イソプロピルビニル基、１，２‐ジメチル‐１‐プロペニル基、１，２‐ジメチル‐２‐プロペニル基、１‐シクロペンテニル基、２‐シクロペンテニル基、３‐シクロペンテニル基、１‐ヘキセニル基、２‐ヘキセニル基、３‐ヘキセニル基、４‐ヘキセニル基、５‐ヘキセニル基、１‐メチル‐１‐ペンテニル基、１‐メチル‐２‐ペンテニル基、１‐メチル‐３‐ペンテニル基、１‐メチル‐４‐ペンテニル基、１‐ｎ‐ブチルビニル基、２‐メチル‐１‐ペンテニル基、２‐メチル‐２‐ペンテニル基、２‐メチル‐３‐ペンテニル基、２‐メチル‐４‐ペンテニル基、２‐ｎ‐プロピル‐２‐プロペニル基、３‐メチル‐１‐ペンテニル基、３‐メチル‐２‐ペンテニル基、３‐メチル‐３‐ペンテニル基、３‐メチル‐４‐ペンテニル基、３‐エチル‐３‐ブテニル基、４‐メチル‐１‐ペンテニル基、４‐メチル‐２‐ペンテニル基、４‐メチル‐３‐ペンテニル基、４‐メチル‐４‐ペンテニル基、１，１‐ジメチル‐２‐ブテニル基、１，１‐ジメチル‐３‐ブテニル基、１，２‐ジメチル‐１‐ブテニル基、１，２‐ジメチル‐２‐ブテニル基、１，２‐ジメチル‐３‐ブテニル基、１‐メチル‐２‐エチル‐２‐プロペニル基、１‐ｓｅｃ‐ブチルビニル基、１，３‐ジメチル‐１‐ブテニル基、１，３‐ジメチル‐２‐ブテニル基、１，３‐ジメチル‐３‐ブテニル基、１‐イソブチルビニル基、２，２‐ジメチル‐３‐ブテニル基、２，３‐ジメチル‐１‐ブテニル基、２，３‐ジメチル‐２‐ブテニル基、２，３‐ジメチル‐３‐ブテニル基、２‐イソプロピル‐２‐プロペニル基、３，３‐ジメチル‐１‐ブテニル基、１‐エチル‐１‐ブテニル基、１‐エチル‐２‐ブテニル基、１‐エチル‐３‐ブテニル基、１‐ｎ‐プロピル‐１‐プロペニル基、１‐ｎ‐プロピル‐２‐プロペニル基、２‐エチル‐１‐ブテニル基、２‐エチル‐２‐ブテニル基、２‐エチル‐３‐ブテニル基、１，１，２‐トリメチル‐２‐プロペニル基、１‐ｔｅｒｔ‐ブチルビニル基、１‐メチル‐１‐エチル‐２‐プロペニル基、１‐エチル‐２‐メチル‐１‐プロペニル基、１‐エチル‐２‐メチル‐２‐プロペニル基、１‐イソプロピル‐１‐プロペニル基、１‐イソプロピル‐２‐プロペニル基、１‐メチル‐２‐シクロペンテニル基、１‐メチル‐３‐シクロペンテニル基、２‐メチル‐１‐シクロペンテニル基、２‐メチル‐２‐シクロペンテニル基、２‐メチル‐３‐シクロペンテニル基、２‐メチル‐４‐シクロペンテニル基、２‐メチル‐５‐シクロペンテニル基、２‐メチルシクロペンチル基、３‐メチル‐１‐シクロペンテニル基、３‐メチル‐２‐シクロペンテニル基、３‐メチル‐３‐シクロペンテニル基、３‐メチル‐４‐シクロペンテニル基、３‐メチル‐５‐シクロペンテニル基、３‐メチルシクロペンチル基、１‐シクロヘキセニル基、２‐シクロヘキセニル基、３‐シクロヘキセニル基などの炭素数２〜１０のアルケニル基が挙げられる。
【００２９】
また上記ハロゲン化アルキル基および上記ハロゲン化アリール基としては、例えば、上記アルキル基またはアリール基において、１つまたは複数の水素原子をフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子で置換したアルキル基またはアリール基が挙げられる。
【００３０】
上記エポキシ基を有する有機基としては、グリシドキシメチル基、グリシドキシエチル基、グリシドキシプロピル基、グリシドキシブチル基、エポキシシクロヘキシル基などが挙げられる。
【００３１】
上記アクリロイル基を有する有機基としては、アクリロイルメチル基、アクリロイルエチル基、アクリロイルプロピル基などが挙げられる。
【００３２】
上記メタクリロイル基を有する有機基としては、メタクリロイルメチル基、メタクリロイルエチル基、メタクリロイルプロピル基などが挙げられる。
【００３３】
上記メルカプト基を有する有機基としては、エチルメルカプト基、ブチルメルカプト基、ヘキシルメルカプト基、オクチルメルカプト基などが挙げられる。
【００３４】
上記アミノ基を有する有機基としては、アミノメチル基、アミノエチル基、アミノプロピル基などが挙げられる。
【００３５】
上記シアノ基を有する有機基としては、シアノエチル基、シアノプロピル基などが挙げられる。
【００３６】
スルホニル基を有する有機基としては、メチルスルホニル基、アリルスルホニル基、フェニルスルホニル基などが挙げられる。
【００３７】
上記アルコキシ基としては炭素数１〜３０のアルコキシ基が挙げられ、なかでも炭素数１〜１０のアルコキシ基が好ましく、例えばメトキシ基、エトキシ基、ｎ‐プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ‐ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ‐ブトキシ基、ｔｅｒｔ‐ブトキシ基、ｎ‐ペントキシ基、１‐メチル‐ｎ‐ブトキシ基、２‐メチル‐ｎ‐ブトキシ基、３‐メチル‐ｎ‐ブトキシ基、１，１‐ジメチル‐ｎ‐プロポキシ基、１，２‐ジメチル‐ｎ‐プロポキシ基、２，２‐ジメチル‐ｎ‐プロポキシ基、１‐エチル‐ｎ‐プロポキシ基、ｎ‐ヘキシルオキシ基、１‐メチル‐ｎ‐ペンチルオキシ基、２‐メチル‐ｎ‐ペンチルオキシ基、３‐メチル‐ｎ‐ペンチルオキシ基、４‐メチル‐ｎ‐ペンチルオキシ基、１，１‐ジメチル‐ｎ‐ブトキシ基、１，２‐ジメチル‐ｎ‐ブトキシ基、１，３‐ジメチル‐ｎ‐ブトキシ基、２，２‐ジメチル‐ｎ‐ブトキシ基、２，３‐ジメチル‐ｎ‐ブトキシ基、３，３‐ジメチル‐ｎ‐ブトキシ基、１‐エチル‐ｎ‐ブトキシ基、２‐エチル‐ｎ‐ブトキシ基、１，１，２‐トリメチル‐ｎ‐プロポキシ基、１，２，２‐トリメチル‐ｎ‐プロポキシ基、１‐エチル‐１‐メチル‐ｎ‐プロポキシ基、１‐エチル‐２‐メチル‐ｎ‐プロポキシ基、フェノキシ基などが挙げられる。
【００３８】
上記アシルオキシ基としては、炭素数１〜３０のアシルオキシ基が挙げられ、なかでも炭素数１〜１０のアシルオキシ基が好ましく、例えばメチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、イソプロピルカルボニルオキシ基、シクロプロピルカルボニルオキシ基、ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、イソブチルカルボニルオキシ基、ｓｅｃ‐ブチルカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ‐ブチルカルボニルオキシ基、シクロブチルカルボニルオキシ基、１‐メチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２‐メチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、ｎ‐ペンチルカルボニルオキシ基、１‐メチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、２‐メチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、３‐メチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、１，１‐ジメチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、１，２‐ジメチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、２，２‐ジメチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、１‐エチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、シクロペンチルカルボニルオキシ基、１‐メチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、２‐メチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、３‐メチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、１，２‐ジメチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２，３‐ジメチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、１‐エチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２‐エチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、ｎ‐ヘキシルカルボニルオキシ基、１‐メチル‐ｎ‐ペンチルカルボニルオキシ基、２‐メチル‐ｎ‐ペンチルカルボニルオキシ基、３‐メチル‐ｎ‐ペンチルカルボニルオキシ基、４‐メチル‐ｎ‐ペンチルカルボニルオキシ基、１，１‐ジメチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、１，２‐ジメチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、１，３‐ジメチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、２，２‐ジメチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、２，３‐ジメチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、３，３‐ジメチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、１‐エチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、２‐エチル‐ｎ‐ブチルカルボニルオキシ基、１，１，２‐トリメチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、１，２，２‐トリメチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、１‐エチル‐１‐メチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、１‐エチル‐２‐メチル‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシ基、シクロヘキシルカルボニルオキシ基、１‐メチルシクロペンチルカルボニルオキシ基、２‐メチルシクロペンチルカルボニルオキシ基、３‐メチルシクロペンチルカルボニルオキシ基、１‐エチルシクロブチルカルボニルオキシ基、２‐エチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、３‐エチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、１，２‐ジメチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、１，３‐ジメチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、２，２‐ジメチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、２，３‐ジメチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、２，４‐ジメチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、３，３‐ジメチル‐シクロブチルカルボニルオキシ基、１‐ｎ‐プロピル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２‐ｎ‐プロピル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、１‐イソプロピル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２‐イソプロピル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、１，２，２‐トリメチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、１，２，３‐トリメチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２，２，３‐トリメチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、１‐エチル‐２‐メチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２‐エチル‐１‐メチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、２‐エチル‐２‐メチル‐シクロプロピルカルボニルオキシ基、［［２‐（ブトキシカルボニル）フェニル］カルボニル］オキシ基などが挙げられる。
【００３９】
上記ハロゲン原子としては、フッ素原子、クロロ基、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられる。
【００４０】
式（１‐１）で表わされる化合物（加水分解性チタン化合物）においては、Ｒ２がアルコキシ基の場合、Ｒ２は同じアルコキシ基であっても異なるアルコキシ基であってもよい。また、Ｒ２がアシルオキシ基またはハロゲン原子の場合、Ｒ２は同じアシルオキシ基またはハロゲン原子であってもよいし、異なるアシルオキシ基またはハロゲン原子であってもよい。
【００４１】
式（１‐１）で表される化合物（加水分解性チタン化合物）の具体例としては、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラ‐ｎ‐ブトキシチタン、テトライソブチルオキシチタン、チタニウム２‐エチルヘキソキシド、テトラ（メトキシプロポキシ）チタン、テトラフェノキシチタン、テトラベンジロキシチタン、テトラフェニルエトキシチタン、テトラフェノキシエトキシチタン、テトラナフチロキシチタン、テトラ‐２‐エチルヘキソキシチタン、モノエトキシトリイソプロポキシチタン、ジイソプロポキシジイソブトキシチタン、アリロキシ（ポリエチレンオキシ）トリイソプロポキシチタン、チタニウムクロライドトリイソプロポキサイド、チタニウムジクロライドエトキサイド、２‐エチルヘキサノールチタン、チタニウムヨードトリイソプロポキサイド、テトラメトキシドプロパノールチタン、テトラメチルフェノールチタン、ｎ‐ノナノールチタン、テトラステアリルアルコールチタン、トリイソステアロイルアシルモノイソプロパノールチタンなどのチタニウムアルコキシド；テトラメチルカルボニルオキシチタン、テトラエチルカルボニルオキシチタン、テトラ‐ｎ‐プロピルカルボニルオキシチタン、テトライソプロピルカルボニルオキシチタン、メチルカルボニルオキシトリエチルカルボニルオキシチタン、ジブトキシビス［［［２‐（ブトキシカルボニル）フェニル］カルボニル］オキシ］チタン（ＩＶ）などのアシルオキシチタン；四フッ化チタン、四塩化チタン、四臭化チタン、四ヨウ化チタンなどのハロゲン化チタン；トリイソプロポキシドメチルチタン、トリイソプロポキシドエチルチタン、トリイソブトキシドメチルチタンなどの加水分解性アルキルアルコキシチタン；それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００４２】
加水分解性チタンダイマーは、アルコキシチタン、ハロゲン化チタン、およびアシルオキシチタン基がＴｉ‐Ｏ‐Ｔｉ結合で二量化することにより形成される。具体的には、上記加水分解性チタンダイマーは式（１‐２）により表される化合物である。
（Ｒ３）３‐Ｔｉ‐Ｏ‐Ｔｉ‐（Ｒ３）３  …  式（１−２）
式（１−２）中、Ｒ３はそれぞれ独立してアルコキシ基、アシルオキシ基、またはハロゲン原子を示す。
【００４３】
加水分解性チタンダイマーの具体的としては、チタンブトキシドダイマー、チタンイソブトキシドダイマー、チタンプロポキシドダイマー、チタンイソプロポキシドダイマーなどが挙げられる。
【００４４】
チタン含有化合物（ａ‐１）の好ましい具体例としては、チタニウムイソブトキシド、チタニウム２‐エチルヘキシロキサイド、ジブトキシビス［［［２‐（ブトキシカルボニル）フェニル］カルボニル］オキシ］チタン、チタニウムプロポキシドダイマー、それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００４５】
ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分におけるモノマーの全量を１００モル％とした場合、チタン含有化合物（ａ‐１）の使用量は１０モル％〜６０モル％であり、好ましくは１５モル％〜５５モル％、より好ましくは２０モル％〜５５モル％である。ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分にチタン含有成分（ａ‐１）が含まれない場合、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性は不良となる。
【００４６】
（シランモノマー（ａ‐２））
シランモノマー（ａ‐２）は式（２）で表される化合物である。
Ｓｉ（Ｒａ）ｗ（ＯＲｂ）４−ｗ  …  式（２）
式（２）中、Ｒａはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜１０のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基、無水物基を含むアルキル基、エポシキ基を含むアルキル基、またはエポキシ基を含むアルコキシ基を示し、Ｒｂはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアシル基、または炭素数６〜１５のアリール基を示し、ｗは１〜３の整数を示す。
【００４７】
より詳細には、式（２）のＲａが炭素数１〜１０のアルキル基を示す場合、具体的には、Ｒａは、例えばメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル基、ｔｅｒｔ‐ブチル基、ｎ‐ヘキシル基、ｎ‐デシル基などである。また、Ｒａは他の置換基を有するアルキル基であってもよい。具体的には、Ｒａは、例えばトリフルオロメチル、３，３，３‐トリフルオロプロピル、３‐アミノプロピル、３‐メルカプトプロピル、３‐イソシアネートプロピルなどである。
【００４８】
式（２）のＲａが炭素数２〜１０のアルケニル基を示す場合、具体的には、Ｒａは、例えばビニル基である。またＲａは、他の置換基を有するアルケニル基であってもよい。具体的には、Ｒａは、例えば３‐アクリロイルオキシプロピルや３‐メチルアクリロイルオキシプロピルなどである。
【００４９】
式（２）のＲａが炭素数６〜１５のアリール基を示す場合、具体的には、Ｒａは、例えばフェニル基、トリル基、ナフチル基などである。また、Ｒａは他の置換基を有するアリール基であってもよい。具体的には、Ｒａは、例えばｏ‐ヒドロキシフェニル、１‐（ｏ‐ヒドロキシフェニル）エチル、２‐（ｏ‐ヒドロキシフェニル）エチル、４‐ヒドロキシ‐５‐（ｐ‐ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルなどである。
【００５０】
また式（２）のＲａは、無水物基を含むアルキル基を示し、このアルキル基は好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基である。具体的には無水物基を含むアルキル基は、例えば、式（２−１）に示すエチル無水コハク酸、式（２−２）に示すプロピル無水コハク酸、式（２−３）に示すプロピル無水グルタル酸などである。無水物基は、ジカルボン酸の分子内脱水により形成される基であり、ジカルボン酸は例えばコハク酸やグルタル酸であることに留意されたい。
【化１】
2016194686.tif 000002
…  式（２‐１）
【化２】
2016194686.tif 000003
…  式（２‐２）
【化３】
2016194686.tif 000004
…  式（２‐３）
【００５１】
また式（２）のＲａはエポキシ基を含むアルキル基を示し、このアルキル基は好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基である。具体的には、上記エポキシ基を含むアルキル基は、例えばオキセタニルペンチル、２‐（３，４‐エポキシシクロヘキシル）エチルなどである。エポキシ基はジオールの分子内脱水により形成される基であり、このジオールは、例えばプロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオールなどであることに留意されたい。
【００５２】
式（２）のＲａはエポキシ基を含むアルコキシ基を示し、このアルコキシ基は好ましくは炭素数１〜１０のアルコキシ基である。具体的には、上記エポキシ基を含むアルコキシ基は、例えばグリシドキシプロピルや２‐オキセタニルブトキシなどである。
【００５３】
また式（２）のＲｂは、炭素数１〜６のアルキル基を示し、具体的には、Ｒｂは、例えばメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル基などである。式（２）のＲｂが炭素数１〜６のアシル基を示す場合、具体的には、Ｒｂは例えばアセチル基などである。式（２）のＲｂが炭素数６〜１５のアリール基を示す場合、具体的には、Ｒｂは例えばフェニル基などである。
【００５４】
式（２）では、ｗは１〜３の整数を示す。ｗが２または３を示す場合、複数のＲａを同じものとすることもできるし、または別のものとすることもできる。ｗが１または２を示す場合、複数のＲｂを同じものとすることもできるし、または別のものとすることもできる。
【００５５】
シランモノマー（ａ‐２）の具体例としては、無水物基やエポキシ基を含まないシランモノマー、無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマー、それらの組み合わせなどが挙げられる。シランモノマー（ａ‐２）の好ましい具体例としては、無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマーが挙げられる。感光性ポリシロキサン組成物では、ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分が無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマーを含んでいると、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性が向上する。すなわち、式（２）には、無水物基を含むアルキル基、エポキシ基を含むアルキル基、またはエポキシ基を含むアルコキシ基を示す少なくとも１つのＲａが存在すると好ましい。
【００５６】
以下に、無水物基やエポキシ基を含まないシランモノマーと、無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマーについて記載する。式（２）では、ｗ＝０の場合、シランモノマーは四官能性シランモノマー（すなわち４つの加水分解基を有するシランモノマー）であり、ｗ＝１の場合、シランモノマーは三官能性シランモノマー（すなわち３つの加水分解基を有するシランモノマー）であり、ｗ＝２の場合、シランモノマーは二官能性シランモノマー（すなわち２つの加分解基を有するシランモノマー）であり、ｗ＝３の場合、シランモノマーは単官能性シランモノマー（すなわち１つの加水分解基を有するシランモノマー）である。加水分解基とは、加水分解反応における被反応基であり、かつケイ素に結合できる基を意味することに留意されたい。例えば、加水分解基はアルコキシ基、アシルオキシ基、フェノキシ基などである。
【００５７】
式（２）によって表されるシランモノマーの具体例としては、限定はしないが、
（１）四官能性シランモノマーとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラアセトキシシラン、テトラフェノキシシランなどが挙げられ、
（２）三官能性シランモノマーとしては、メチルトリメトキシシラン（ＭＴＭＳ）、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリ‐ｎ‐ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリ‐ｎ‐ブトキシシラン、ｎ‐プロピルトリメトキシシラン、ｎ‐プロピルトリエトキシシラン、ｎ‐ブチルトリメトキシシラン、ｎ‐ブチルトリエトキシシラン、ｎ‐ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ‐ヘキシルトリエトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン（ＰＴＭＳ）、フェニルトリエトキシシラン（ＰＴＥＳ）、ｐ‐ヒドロキシフェニルトリメトキシシラン、１‐（ｐ‐ヒドロキシフェニル）エチルトリメトキシシラン、２‐（ｐ‐ヒドロキシフェニル）エチルトリメトキシシラン、４‐ヒドロキシ‐５‐（ｐ‐ヒドロキシフェニルカルボニルオキシ）ペンチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリメトキシシラン、トリフルオロメチルトリエトキシシラン、３，３，３‐トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３‐メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３‐メチルアクリロイルオキシプロピルトリエトキシシランなどが挙げられ、
（３）二官能性シランモノマーとしては、ジメチルジメトキシシラン（ＤＭＤＭＳ）、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジアセチルオキシシラン、ジ‐ｎ‐ブチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシランなどが挙げられ、
（４）単官能性シランモノマーとしては、トリメチルメトキシシラン、トリ‐ｎ‐ブチルエトキシシランなどが挙げられる。上記種々のシランモノマーは、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００５８】
無水物基やエポキシ基を含まないシランモノマーの好ましい具体例としては、メチルトリメトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００５９】
無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマーの具体的としては、３‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（ＴＭＳ‐ＧＡＡ）、３‐グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２‐（３，４‐エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２‐オキセタニルブトキシプロピルトリフェノキシシラン、東亜合成社から市販されている２‐オキセタニルブトキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＴＭＳＯＸ‐Ｄ）および２‐オキセタニルブトキシプロピルトリエトキシシラン（商品名：ＴＥＳＯＸ‐Ｄ）、３‐（トリフェノキシシリル）プロピル無水コハク酸、信越化学社から市販されている３‐（トリメトキシシリル）プロピル無水コハク酸（商品名：Ｘ‐１２‐９６７）、ワッカー社から市販されている３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸（商品名：ＧＦ‐２０）、３‐（トリメトキシシリル）プロピル無水グルタル酸（ＴＭＳＧ）、３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水グルタル酸、３‐（トリフェノキシシリル）プロピル無水グルタル酸、ジイソプロポキシ‐ジ（２‐オキセタニルブトキシプロピル）シラン（ＤＩＤＯＳ）、ジ（３‐オキセタニルペンチル）ジメトキシシラン、（ジ‐ｎ‐ブトキシシリル）ジ（プロピル無水コハク酸）、（ジメトキシシリル）ジ（エチル無水コハク酸）、３‐グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、ジ（２‐オキセタニルブトキシペンチル）‐２‐オキセタニルペンチルエトキシシラン、トリ（２‐オキセタニルペンチル）メトキシシラン、（フェノキシシリル）トリ（プロピル無水コハク酸）、（メチルメトキシシリル）ジ（エチル無水コハク酸）、それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００６０】
無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマーの好ましい具体例としては、３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸、３‐（トリメトキシシリル）プロピル無水グルタル酸、（ジメトキシシリル）ジ（エチル無水コハク酸）、２‐オキセタニルブトキシプロピルトリメトキシシラン、２‐オキセタニルブトキシプロピルトリエトキシシラン、２‐（３，４‐エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００６１】
ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分におけるモノマーの全量を１００モル％とした場合、シランモノマー（ａ‐２）の使用量は、４０モル％〜９０モル％であり、好ましくは３５モル％〜８５モル％、より好ましくは３５モル％〜８０モル％である。ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分にシランモノマー（ａ‐２）が含まれない場合、感光性ポリシロキサン組成物は露光後に現像することができず、これは意に満たない。
【００６２】
（シロキサンプレポリマー（ａ‐３））
シロキサンプレポリマー（ａ‐３）は式（３）で表わされる化合物である。
【化４】
2016194686.tif 000005
…  式（３）
式（３）中、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数２〜６のアルケニル基、炭素数６〜１５のアリール基を示し、それらアルキル基、アルケニル基、およびアリール基のうちのいずれ１つは任意で置換基を含むことができ、ＲｉおよびＲｊはそれぞれ独立して水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜１０のアシル基、炭素数６〜１５のアリール基を示し、それらアルキル基、アシル基、およびアリール基のうちのいずれか１つは任意で置換基を含むことができ、ｓは１〜１０００の整数を示す。
【００６３】
式（３）では、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立して炭素数１〜１０のアルキル基を示す。例えば、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立してメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基などを示す。式（３）では、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立して炭素数２〜１０のアルケニル基を示す。例えば、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立してビニル基、アクリロイルオキシプロピル基、メタクリロイルオキシプロピル基などである。式（３）では、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立して炭素数６〜１５のアリール基を示す。例えば、Ｒｅ，Ｒｆ，Ｒｇ，およびＲｈはそれぞれ独立してフェニル基、トリル基、ナフチル基などである。上記アルキル基、アルケニル基、およびアリール基のうちのいずれか１つは任意で置換基を含みうることに留意されたい。
【００６４】
式（３）では、ＲｉおよびＲｊはそれぞれ独立して炭素数１〜６のアルキル基を示す。例えば、ＲｉおよびＲｊはそれぞれ独立してメチル基、エチル基、ｎ‐プロピル基、イソプロピル基、ｎ‐ブチル基などである。式（３）では、ＲｉおよびＲｊはそれぞれ独立してアセチル基などの炭素数１〜６のアシル基を示す。式（３）では、ＲｉおよびＲｊはそれぞれ独立してフェニル基などの炭素数６〜１５のアリール基を示す。上記アルキル基、アシル基、およびアリール基のうちのいずれか１つは任意で置換基を含みうることに留意されたい。
【００６５】
式（３）では、ｓは１〜１０００の整数とすることができ、好ましくは３〜３００の整数、より好ましくは５〜２００の整数である。ｓが２〜１０００の整数である場合、Ｒｅはそれぞれ同じ基であるか、または別の基であり、またＲｆもそれぞれ同じ基であるか、または別の基である。
【００６６】
シロキサンプレポリマー（ａ‐３）の具体例としては、限定はしないが、１，１，３，３‐テトラメチル‐１，３‐ジメトキシジシロキサン、１，１，３，３‐テトラメチル‐１，３‐ジエトキシジシロキサン、１，１，３，３‐テトラエチル‐１，３‐ジエトキシジシロキサン、Gelest社製のシラノール末端ポリジメチルシロキサンの市販品であるＤＭＳ‐Ｓ１２（分子量４００〜７００）、ＤＭＳ‐Ｓ１５（分子量：１５００〜２０００）、ＤＭＳ‐Ｓ２１（分子量：４２００）、ＤＭＳ‐Ｓ２７（分子量：１８０００）、ＤＭＳ‐Ｓ３１（分子量：２６０００）、ＤＭＳ‐Ｓ３２（分子量：３６０００）、ＤＭＳ‐Ｓ３３（分子量：４３５００）、ＤＭＳ‐Ｓ３５（分子量：４９０００）、ＤＭＳ‐Ｓ３８（分子量：５８０００）、ＤＭＳ‐Ｓ４２（分子量：７７０００）、ＰＤＳ−９９３１（分子量：１０００〜１４００）などが挙げられる。
【００６７】
シロキサンプレポリマー（ａ‐３）は、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００６８】
（シリカ粒子（ａ‐４））
シリカ粒子（ａ‐４）の平均粒径は特に限定されない。平均粒径の範囲は、２ｎｍ〜２５０ｎｍであり、好ましくは５ｎｍ〜２００ｎｍ、より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００６９】
シリカ粒子の具体例としては、限定はしないが、日揮触媒化成社製の市販品（例えば、ＯＳＣＡＲ１１３２（粒径：１２ｎｍ、分散剤：メタノール）、ＯＳＣＡＲ１３３２（粒径：１２ｎｍ、分散剤：ｎ‐プロパノール）、ＯＳＣＡＲ１０５（粒径：６０ｎｍ、分散剤：γ‐ブチロラクトン）、ＯＳＣＡＲ１０６（粒径：１２０ｎｍ、分散剤：ジアセトンアルコール）など）、扶桑化学工業社製の市販品（例えば、クォートロンＰＬ‐１‐ＩＰＡ（粒径：１３ｎｍ、分散剤：イソプロピルアルコール）、クォートロンＰＬ‐１‐ＴＯＬ（粒径：１３ｎｍ、分散剤：トルエン）、クォートロンＰＬ‐２Ｌ−ＰＧＭＥ（粒径：１８ｎｍ、分散剤：プロピレングリコールモノメチルエーテル）、クォートロンＰＬ‐２Ｌ−ＭＥＫ（粒径：１８ｎｍ、分散剤：メチルエチルケトン））、日産化学社製の市販品（例えばＩＰＡ‐ＳＴ（粒径：１２ｎｍ、分散剤：イソプロピルアルコール）、ＥＧ‐ＳＴ（粒径：１２ｎｍ、分散剤：エチレングリコール）、ＩＰＡ‐ＳＴ‐Ｌ（粒径：４５ｎｍ、分散剤：イソプロピルアルコール）、ＩＰＡ‐ＳＴ‐ＺＬ（粒径：１００ｎｍ、分散剤：イソプロピルアルコール））などが挙げられる。シリカ粒子は、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００７０】
（重縮合の反応工程および反応条件）
一般に、重縮合反応は以下の行程により行われる。溶媒または水をモノマー成分に加えてポリシロキサン（Ａ）を合成する。または触媒を任意で加えてもよい。そしてその混合物を５０℃〜１５０℃で０．５時間〜１２０時間加熱および攪拌する。さらに蒸留により副生成物（例えばアルコールや水）を除去してもよい。
【００７１】
重縮合反応に用いられる溶媒は特に限定されない。この溶媒は、本発明の感光性ポリシロキサン組成物に含まれる溶媒（Ｃ）と同じ溶媒とすることもできるし、別の溶媒とすることもできる。
【００７２】
ポリシロキサン（Ａ）の重縮合で用いられる溶媒は、好ましくはケトン溶媒を含む。ケトン溶媒の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル‐ｎ‐ヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキセン‐１‐オン、それらの組み合わせなどが挙げられ、なかでもメチルイソブチルケトン、ジイソプロピルケトン、シクロヘキサノン、またはそれらの組み合わせだと好ましい。ポリシロキサン（Ａ）の重縮合に用いられる溶媒がケトン溶媒を含んでいると、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性が向上する。
【００７３】
ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分の全量を１００ｇとした場合、溶媒の使用量は、好ましくは１５ｇ〜１２００ｇ、より好ましくは２０ｇ〜１１００ｇ、さらにより好ましくは３０ｇ〜１０００ｇである。
【００７４】
ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分の加水分解基を１モルとした場合、重縮合反応において用いられる水（すなわち加水分解に用いられる水）は０．５モル〜２モルである。
【００７５】
重縮合反応に用いられる触媒は特に限定されないが、酸性触媒または塩基性触媒から選択されると好ましい。酸性触媒の具体例としては、限定はしないが、例えば塩酸、硝酸、硫酸、フッ酸、シュウ酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、ギ酸、多塩基性カルボン酸またはその無水物、イオン交換樹脂などが挙げられる。塩基性触媒の具体例としては、限定はしないが、例えばジエチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、トリペンチルアミン、トリヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、トリオクチルアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アミノ基を含みアルコキシ基を有するシラン、イオン交換樹脂などが挙げられる。
【００７６】
ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分の全量を１００ｇとした場合、触媒の使用量は好ましくは０．００５ｇ〜１５ｇ、より好ましくは０．０１ｇ〜１２ｇ、さらにより好ましくは０．０５ｇ〜１０ｇである。
【００７７】
安定性の観点からは、ポリシロキサン（Ａ）は副生成物（例えばアルコールや水）や触媒を含まない方が好ましい。したがって、重縮合反応後、任意で反応混合物を精製してポリシロキサン（Ａ）を得てもよい。精製方法は特に限定されないが、疎水性溶媒を用いて反応混合物を希釈することができると好ましい。次いで疎水性溶媒と反応混合物を分離漏斗に送る。次に水で有機層を何度か洗浄し、回転蒸発装置を用いて有機層を凝縮してアルコールまたは水を除去する。またイオン交換樹脂を用いて触媒を除去することもできる。
【００７８】
ポリシロキサン（Ａ）の重量平均分子量は６００〜４０００であり、好ましくは８００〜４０００である。ポリシロキサン（Ａ）の重量平均分子量が上記範囲内にあると、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性が向上する。
【００７９】
（ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ））
ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）の種類は特に限定されない。本発明で請求する目的を達成できる限り、一般的なｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナートを用いることができる。ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）は、完全にエステル化されたか、部分的にエステル化されたエステル系化合物とすることもできる。
【００８０】
ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）は、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホン酸またはその塩をヒドロキシ化合物と反応させることにより調製されると好ましい。ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）は、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホン酸またはその塩をポリヒドロキシ化合物と反応させることにより調製されるとより好ましい。
【００８１】
ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホン酸の具体例としては、限定はしないが、例えばｏ‐ナフトキノンジアジド‐４‐スルホン酸、ｏ‐ナフトキノンジアジド‐５‐スルホン酸、ｏ‐ナフトキノンジアジド‐６‐スルホン酸などが挙げられる。またｏ‐ナフトキノンジアジドスルホン酸の塩は、例えばジアゾナフトキノンスルホニルハライドである。
【００８２】
ヒドロキシ化合物の具体例としては、限定はしないが、ヒドロキシベンゾフェノン系化合物、ヒドロキシアリール系化合物、（ヒドロキシフェニル）炭化水素化合物、他の芳香族ヒドロキシ化合物、それらの化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００８３】
（１）上記ヒドロキシベンゾフェノン系化合物の具体例としては、限定はしないが、例えば２，３，４‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，４，２’，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６，３’，４’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，５’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，４，５，３’，５’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’，４’，５’‐ヘキサヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【００８４】
（２）上記ヒドロキシアリール系化合物の具体例としては、限定はしないが、式（４‐１）で表わされるヒドロキシアリール系化合物が挙げられる。
【化５】
2016194686.tif 000006
…  式（４‐１）
式（４‐１）中、Ｂ１およびＢ２はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ７はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示し、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ８、Ｂ９、Ｂ１０、およびＢ１１はそれぞれ独立して水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数１〜６のアルケニル基、またはシクロアルキル基を示し、ｈ、ｉ、およびｊはそれぞれ独立して１〜３の整数を示し、ｋは０または１を示す。
【００８５】
式（４‐１）で表わされるヒドロキシアリール系化合物の具体例としては、限定はしないが、トリス（４‐ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐２，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐２，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシフェニル）‐３‐メトキシ‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐６‐メチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐６‐メチルフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐６‐メチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐６‐メチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐６‐ヒドロキシフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐６‐ヒドロキシフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐６‐ヒドロキシフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐６‐ヒドロキシ‐４‐メチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐６‐ヒドロキシ‐４‐メチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（３‐シクロヘキシル‐６‐ヒドロキシ‐４‐メチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、１‐［１‐（４‐ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、１‐［１‐（３‐エチル‐４‐ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（３‐メチル‐４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
【００８６】
（３）上記（ヒドロキシフェニル）炭化水素化合物の具体例としては、限定はしないが、式（４−２）で表わされる（ヒドロキシフェニル）炭化水素化合物が挙げられる。
【化６】
2016194686.tif 000007
…  式（４‐２）
式（４‐２）中、Ｂ１２およびＢ１３はそれぞれ独立して水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を示し、ｍおよびｎはそれぞれ独立して１〜３の整数を示す。
【００８７】
具体的には、式（４−２）で表わされる（ヒドロキシフェニル）炭化水素化合物の具体例としては、限定はしないが、例えば２‐（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）‐２‐（２’，３’，４’‐トリヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（２，４‐ジヒドロキシフェニル）‐２‐（２’，４’‐ジヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（４‐ヒドロキシフェニル）‐２‐（４’‐ヒドロキシフェニル）プロパン、ビス（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４‐ジヒドロキシフェニル）メタンなどが挙げられる。
【００８８】
（４）上記他の芳香族ヒドロキシ化合物の具体例としては、限定はしないが、例えばフェノール、ｐ‐メトキシフェノール、ジメチルフェノール、ヒドロキノン、ビスフェノールＡ、ナフトール、カテコール、１，２，３‐ピロガロールモノメチルエーテル、１，２，３‐ピロガロール‐１，３‐ジメチルエーテル、３，４，５‐トリヒドロキシ安息香酸、部分的にエステル化または部分的にエーテル化された３，４，５‐トリヒドロキシ安息香酸などが挙げられる。
【００８９】
上記ヒドロキシ化合物は、１‐［１‐（４‐ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、２，３，４‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、またはそれらの組み合わせだと好ましい。ヒドロキシ化合物は、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００９０】
ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホン酸またはその塩とヒドロキシ化合物との反応は、一般に、ジオキサン、Ｎ‐ピロリドン、アセトアミドなどの有機溶媒中で行われる。また上記反応は、トリエタノールアミン、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩などの塩基性縮合剤の存在下で行われると好ましい。
【００９１】
ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）のエステル化の度合いは、少なくとも５０％だと好ましい。すなわち、ヒドロキシ化合物中のヒドロキシ基の全量を１００モル％とした場合、ヒドロキシ化合物中のヒドロキシ基の少なくとも５０モル％が、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホン酸またはその塩とエステル化反応において反応するということである。ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）のエステル化の度合いは、少なくとも６０％だとより好ましい。
【００９２】
ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とした場合、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）の使用量は、１重量部〜３５重量部であり、好ましくは１重量部〜３０重量部、より好ましくは５重量部〜３０重量部である。
【００９３】
（溶媒（Ｃ））
溶媒（Ｃ）の種類は特に限定されない。溶媒（Ｃ）としては、例えばアルコール性ヒドロキシ基含有化合物、カルボニル基含有環式化合物などが挙げられる。
【００９４】
上記アルコール性ヒドロキシ基含有化合物の具体例としては、限定はしないが、アセトール、３‐ヒドロキシ‐３‐メチル‐２‐ブタノン、４‐ヒドロキシ‐３‐メチル‐２‐ブタノン、５‐ヒドロキシ‐２‐ペンタノン、４‐ヒドロキシ‐４‐メチル‐２‐ペンタノン（ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）とも称される）、エチルラクテート、ブチルラクテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＥＥ）、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）、プロピレングリコールモノ‐ｎ‐プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ‐ｎ‐ブチルエーテル、プロピレングリコールモノ‐ｔ‐ブチルエーテル、３‐メトキシ‐１‐ブタノール、３‐メチル‐３‐メトキシ‐１‐ブタノール、それらの組み合わせなどが挙げられる。上記アルコール性ヒドロキシ基含有化合物として好ましいのは、ＤＡＡ，エチルラクテート、ＰＧＥＥ、ＰＧＭＥＡ、またはそれらの組み合わせであることに留意されたい。アルコール性ヒドロキシ基含有化合物は、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００９５】
上記カルボニル基含有環式化合物の具体例としては、限定はしないが、例えばγ‐ブチロラクトン、γ‐バレロラクトン、δ‐バレロラクトン、プロピレンカーボネート、Ｎ‐メチルピロリドン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノンなどが挙げられる。上記カルボニル基を含む環式化合物として好ましいのは、γ‐ブチロラクトン、Ｎ‐メチルピロリドン、シクロヘキサノン、それらの組み合わせであることに留意されたい。カルボニル基含有環式化合物は、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００９６】
上記アルコール性ヒドロキシ基含有化合物と上記カルボニル基含有環式化合物は組み合わせて使用することもでき、その重量比は特に限定されない。アルコール性ヒドロキシ基含有化合物とカルボニル基含有環式の重量比は９９／１〜５０／５０だと好ましく、９５／５〜６０／４０だとより好ましい。溶媒（Ｃ）中、アルコール性ヒドロキシ基含有化合物とカルボニル基含有環式の重量比が９９／１〜５０／５０だと、ポリシロキサン（Ａ）中の未反応シラノール基（Ｓｉ‐ＯＨ）は、保存安定性を低下させる縮合反応を起こさないことに留意されたい。また、アルコール性ヒドロキシ基含有化合物およびカルボニル基含有環式のｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）との相溶性は良好であるため、アルコール性ヒドロキシ基含有化合物およびカルボニル基含有環式化合物を膜に塗布する際、白化現象が起こりにくい。結果として保護膜の透明性を保持することができる。
【００９７】
本発明の効果を損なわない限り、溶剤（Ｃ）は他の溶媒も含むことができる。他の溶媒としては、例えば（１）エチルアセテート、ｎ‐プロピルアセテート、イソプロピルアセテート、ｎ‐ブチルアセテート、イソブチルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３‐メトキシ‐１‐ブチルアセテート、３‐メチル‐３‐メトキシ‐１‐ブチルアセテートなどのエステル；（２）アセトン、メチルエチルケトン、メチルプロピルケトン、メチルイソプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチル‐ｎ‐ヘキシルケトン、ジエチルケトン、ジイソプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、シクロヘプタノン、メチルシクロヘキサノン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、シクロヘキセン‐１‐オンなどのケトン；（３）ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、ジ‐ｎ‐ブチルエーテル、ジフェニルエーテルなどのエーテルなどが挙げられる。
【００９８】
溶媒（Ｃ）は、単独で、または複数の組み合わせで使用することができる。
【００９９】
ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とした場合、溶媒（Ｃ）の使用量は、１００重量部〜１２００重量部であり、好ましくは１５０重量部〜１０００重量部、より好ましくは１５０重量部〜９００重量部である。
【０１００】
（添加剤（Ｄ））
添加剤（Ｄ）は、本発明の感光性ポリシロキサン組成物に任意でさらに添加することができる。具体例には添加剤（Ｄ）は、例えば増感剤、接着補助剤、界面活性剤、溶解促進剤、消泡剤、それらの組み合わせなどである。
【０１０１】
増感剤の種類は特に限定されない。増感剤は、フェノール系ヒドロキシ基含有化合物だと好ましく、フェノール系ヒドロキシ基含有化合物の具体例としては、限定はしないが、トリスフェノール型化合物、ビスフェノール型化合物、多環状分岐化合物（polynuclear-branched compound)、縮合型フェノール化合物、ポリヒドロキシベンゾフェノン、それら化合物の組み合わせなどが挙げられる。
（１）トリスフェノール型化合物の具体例としては、限定はしないが、トリス（４‐ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３‐メチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，３，５‐トリメチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐メチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐３，５‐ジメチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシ‐２，５‐ジメチルフェニル）‐２，４‐ジヒドロキシフェニルメタン、ビス（４‐ヒドロキシフェニル）‐３‐メトキシ‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐２‐メチルフェニル）‐４‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐２‐メチルフェニル）‐３‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐２‐メチルフェニル）‐２‐ヒドロキシフェニルメタン、ビス（５‐シクロヘキシル‐４‐ヒドロキシ‐２‐メチルフェニル）‐３，４‐ジヒドロキシフェニルメタンなどが挙げられる。
（２）ビスフェノール型化合物の具体例としては、限定はしないが、例えばビス（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）メタン、ビス（２，４‐ジヒドロキシフェニル）メタン、２，３，４‐トリヒドロキシフェニル‐４’‐ヒドロキシフェニルメタン、２‐（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）‐２‐（２’，３’，４’‐トリヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（２，４‐ジヒドロキシフェニル‐２‐（２’，４’‐ジヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（４‐ヒドロキシフェニル）‐２‐（４’‐ヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（３‐フルオロ‐４‐ヒドロキシフェニル）‐２‐（３’‐フルオロ‐４’‐ヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（２，４‐ジヒドロキシフェニル）‐２‐（４’‐ヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）‐２‐（４’‐ヒドロキシフェニル）プロパン、２‐（２，３，４‐トリヒドロキシフェニル）‐２‐（４’‐ヒドロキシ‐３’，５’‐ジメチルフェニル）プロパンなどが挙げられる。
（３）多環状分岐化合物の具体例としては、限定はしないが、例えば１‐［１‐（４‐ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼン、１‐［１‐（３‐メチル‐４‐ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（３‐メチル‐４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼンなどが挙げられる。
（４）縮合型フェノール化合物の具体例としては、限定はしないが、例えば１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンなどが挙げられる。
（５）ポリヒドロキシベンゾフェノンの具体例としては、限定はしないが、例えば２，３，４‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，４’‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６‐トリヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４‐トリヒドロキシ‐２’‐メチルベンゾフェノン、２，３，４，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，４，２’，４’‐テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６，３’，４’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，５’‐ペンタヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６，３’，４’，５’‐ヘキサヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，３’，４’，５’‐ヘキサヒドロキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
【０１０２】
ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とした場合、増感剤の使用量は５重量部〜５０重量部であり、好ましくは８重量部〜４０重量部、より好ましくは１０重量部〜３５重量部である。
【０１０３】
接着補助剤の具体例としては、例えばメラミン化合物やシラン化合物などが挙げられる。接着補助剤の機能は、感光性ポリシロキサン組成物により形成される保護膜と被保護素子の間の接着性を増強させることである。
【０１０４】
メラミンの市販品の具体例としては、例えば、三井化学社製のサイメル３００やサイメル３０３、三和ケミカル社製のＭＷ‐３０ＭＨ、ＭＷ‐３０、ＭＳ‐１１、ＭＳ‐００１、ＭＸ‐７５０、ＭＸ‐７０６などが挙げられる。
【０１０５】
メラミン化合物を接着補助剤として用いる場合、ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とすると、メラミン化合物の使用量は０重量部〜２０重量部であり、好ましくは０．５重量部〜１８重量部、より好ましくは１重量部〜１５重量部である。
【０１０６】
シラン化合物の具体例としては、例えばビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３‐アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリス（２‐メトキシエトキシ）シラン、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ‐（２‐アミノエチル）‐３‐アミノプロピルトリメトキシシラン、３‐アミノプロピルトリエトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３‐グリシドキシプロピルジメチルメトキシシラン、２‐（３，４‐エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３‐クロロプロピルメチルジメトキシシラン、３‐クロロプロピルトリメトキシシラン、３‐メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３‐メルカプトプロピルトリメトキシシラン、信越化学工業社製の市販品（例えばＫＢＭ４０３）などが挙げられる。
【０１０７】
シラン系化合物を接着補助剤として用いる場合、ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とすると、シラン系化合物の使用量は０重量部〜２重量部であり、好ましくは０．０５重量部〜１重量部、より好ましくは０．１重量部〜０．８重量部である。
【０１０８】
界面活性剤の具体例としては、アニオン系界面活性剤、カチオン系界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤、ポリシロキサン界面活性剤、フッ素界面活性剤、それらの組み合わせなどが挙げられる。
【０１０９】
界面活性剤の具体例としては、限定はしないが、例えば（１）ポリオキシエチレンラウリルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルエーテル、（２）ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテルやポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルなどのポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル、（３）ポリエチレングリコールジラウレートやポリエチレングリコールジステアラートなどのポリエチレングリコールジエステル、（４）ソルビタン脂肪酸エステル、（５）脂肪酸修飾ポリエステル、（６）第３アミン修飾ポリウレタンなどが挙げられる。界面活性剤の市販品の具体例としては、ＫＰ（信越化学工業社製）、ＳＦ‐８４２７（東レ・ダウコーニング・シリコーン社製）、ポリフロー（共栄社化学社製）、Ｆ‐Ｔｏｐ（Tochem Products社製）、メガファック（ＤＩＣ社製）、Fluorade（住友スリーエム社製）、サーフロン（旭硝子社製）、SINOPOL E8008（Sino-Japan Chemical社製）、Ｆ‐４７５（ＤＩＣ社製）、それらの組み合わせなどが挙げられる。
【０１１０】
ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とした場合、界面活性剤の使用量は、０．５重量部〜５０重量部であり、好ましくは１重量部〜４０重量部、より好ましくは３重量部〜３０重量部である。
【０１１１】
消泡剤の具体例としては、例えばサーフィノールＭＤ‐２０、サーフィノールＭＤ‐３０、エンバイロジェムＡＤ０１、エンバイロジェムＡＥ０１、エンバイロジェムＡＥ０２、サーフィノールＤＦ１１０Ｄ、サーフィノール１０４Ｅ、サーフィノール４２０、サーフィノールＤＦ３７、サーフィノールＤＦ５８、サーフィノールＤＦ６６、サーフィノールＤＦ７０、サーフィノールＤＦ２１０（Air products社製）などが挙げられる。ポリシロキサン（Ａ）の全量を１００重量部とした場合、消泡剤の使用量は１重量部〜１０重量部であり、好ましくは２重量部〜９重量部、より好ましくは３重量部〜８重量部である。
【０１１２】
溶解促進剤の具体例としては、Ｎ‐ヒドロキシジカルボン酸イミドやフェノール系ヒドロキシ基含有化合物などが挙げられる。溶解促進剤は、例えば、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）に用いられるフェノール系ヒドロキシ基含有化合物である。ポリシロキサン（Ａ）の使用量を１００重量部とした場合、溶解促進剤の使用量は１重量部〜２０重量部であり、好ましくは２重量部〜１５重量部、より好ましくは３重量部〜１０重量部である。
【０１１３】
＜感光性ポリシロキサン組成物の調製方法＞
本発明の感光性ポリシロキサン組成物は、ポジ型感光性組成物である。感光性ポリシロキサン組成物の調製に用いられる方法は、例えば、ポリシロキサン（Ａ）と、ｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ）と、溶媒（Ｃ）とを攪拌器に入れて攪拌し、これら成分が均一に混ざった状態の溶液を得ることを含む。必要に応じて添加剤（Ｄ）も加えることができる。混合物が均一に混ざった後、溶液の状態の感光性ポリシロキサン組成物が得られる。
【０１１４】
＜保護膜および保護膜を有する素子の形成方法＞
本発明は、上記感光性ポリシロキサン組成物を素子に塗布し、次いでプリベーク、露光、現像、ポストベークを行うことにより形成される保護膜をさらに提供する。
【０１１５】
本発明は、素子と上記保護膜とを含み、この保護膜はこの素子を被覆する、保護膜を有する素子をさらに提供する。具体的には、保護膜を有する素子は、例えば、液晶ディスプレイ素子および有機ＥＬディスプレイに用いられる平坦化膜、層間絶縁膜、または光導波路のコア材料または被覆材料である。
【０１１６】
以下に保護膜の形成方法を詳細に説明する。この方法は、順に、感光性ポリシロキサン組成物を用いてプリベーク塗膜を形成することと、このプリベーク塗膜にパターン露光を行うことと、アルカリ現像により未露光領域を除去してパターンを形成することと、ポストベーク処理を行って保護膜を形成することとを含む。
【０１１７】
（プリベーク塗膜の形成）
スピンコーティング、キャストコーティング、ロールコーティングなどの塗布方法により、溶液の状態にある感光性ポリシロキサン組成物を被保護素子（これより「基板」と称す）に塗布して塗膜を生成する。
【０１１８】
基板としては、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、硬質ガラス（パイレックス・ガラス）、シリカガラス、透明導電膜が貼り付けられたこれらのガラスといった液晶ディスプレイ装置に用いられるガラス、または光電変換装置（例えば固体画像装置）に用いられる基板（例えばシリコン基板）などを用いることができる。
【０１１９】
塗膜形成後、感光性ポリシロキサン組成物の有機溶媒を減圧乾燥法によりほぼ除去する。次に、残った有機溶媒をプリベーク法により完全に除去し、プリベーク塗膜を形成する。
【０１２０】
減圧乾燥およびプリベークの操作条件は、各成分の種類および混合比により異なる場合もある。一般に、減圧下での乾燥は０トール〜２００トールの圧力で１秒〜６０秒間行われ、プリベークは７０℃〜１１０℃の温度で１分〜１５分間行われる。
【０１２１】
（パターン露光）
特定のパターンを有するフォトマスクを用いて上記プリベーク塗膜に露光を行う。露光プロセスで用いられる光は、ｇ線、ｈ線、ｉ線などの紫外線光だと好ましい。加えて、紫外線光を供給するのに用いられる器機としては、（超）高圧水銀灯やメタルハライドランプなどを用いることができる。
【０１２２】
（現像）
露光済みのプリベーク塗膜を２３±２℃の範囲の温度の現像液に浸し、約１５秒〜約５分間現像を行って、露光済みプリベーク塗膜の不要部分を除去する。結果として、特定のパターンを有する保護膜の半完成品が基板上に形成される。現像液の具体例としては、限定はしないが、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸ナトリウムメチル、アンモニア溶液、エチルアミン、ジエチルアミン、ジメチルエチルアノルアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）、水酸化テトラエチルアンモニウム、コリン、ピロール、ピぺリジン、１，８‐ジアザビシクロ‐［５．４．０］‐７‐ウンデンセンなどのアルカリ化合物が挙げられる。
【０１２３】
現像液の濃度が濃すぎると、特定のパターンが損なわれるか、または特定のパターンの解像度が不良となる一方、薄すぎると現像が不良となり、特定のパターンが形成されないか、または組成物の残渣の一部が露出することに留意されたい。したがって、現像液の濃度は、感光性ポリシロキサン組成物の露光済み特定パターンの次の形成工程に影響を与える。現像液濃度の範囲は、０．００１重量％〜１０重量％だと好ましく、０．００５重量％〜５重量％だとより好ましく、０．０１重量％〜１重量％だとさらにより好ましい。本発明の実施形態では、２．３８重量％のＴＭＡＨを現像液として用いた。低濃度の現像液が使用された場合でも、本発明の感光性ポリシロキサン組成物であれば、なおも良好に微細パターンを形成可能なことに留意されたい。
【０１２４】
（ポストベーク処理）
上記基板を水で洗浄して（この基板は所定のパターンを有する保護膜の半完成品をその表面に有する）、露光済みプリベーク塗膜の不要部分を除去する。次いで、所定のパターンを有する保護膜の半完成品を圧縮空気または圧縮窒素で乾燥させる。最後に、ホットプレートやオーブンなどの加熱装置を用いて、所定のパターンを有する保護膜の半完成品にポストベーク処理を施す。加熱温度は１００℃〜２５０℃に設定する。ホットプレートを使用する場合は、加熱時間は１分〜６０分であり、オーブンを使用する場合は、加熱時間は５分〜９０分である。このようにして所定のパターンを有する保護膜の半完成品のパターンが固定され保護膜が形成される。
【０１２５】
以下の実施例を参照しつつ本発明をさらに説明する。しかしながら、実施例は単なる例示にすぎず、本発明の実施を制限することを意図するものではないことに留意されたい。
【０１２６】
（ポリシロキサン（Ａ）の合成例および比較合成例）
ポリシロキサン組成物（Ａ）の合成例Ａ‐１〜Ａ‐１２を以下に記載する。
【０１２７】
（合成例Ａ‐１）
チタニウムイソブトキシド（以下「ＴＢＴ」と称する）０．４０モル、フェニルトリメトキシシラン（以下「ＰＴＭＳ」と称する）０．３５モル、３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸（以下「ＧＦ‐２０」と称する）０．２５モル、メチルイソブチルケトン（以下「ＭＩＢＫ」と称する）２８０ｇを容量５００ｍｌの３つ口フラスコに投入して室温で攪拌しつつ、シュウ酸水溶液（水５０ｇにシュウ酸０．３０ｇを溶解させたもの）を３０分以内に添加した。次いで、３つ口フラスコを３０℃の油浴に浸し３０分間攪拌した。次に、油浴の温度を３０分以内に６０℃まで上昇させた。溶液の温度が１０５℃まで低下したら（すなわち反応温度）、溶液を連続的に加熱および攪拌して３時間重合（すなわち重縮合時間）を行った。次いで、蒸留法により溶媒および副生成物を除去してポリシロキサンＡ‐１を得た。ポリシロキサンＡ‐１の各成分の種類および使用量を表１に示す。
【０１２８】
（合成例Ａ‐２〜Ａ‐９、Ａ‐１１）
合成例Ａ‐１と同じ工程を用いて、合成例Ａ‐２〜Ａ‐９、Ａ‐１１のポリシロキサン（Ａ）（すなわちポリシロキサンＡ‐２〜Ａ‐９および合成例Ａ‐１１）を調製した。それらの相違点は、ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー組成、溶媒、触媒、使用量、反応温度、重縮合時間を変更したことである（表１参照）。
【０１２９】
（合成例Ａ‐１０）
メチルトリメトキシシラン（以下「ＭＴＭＳ」と称する）０．５０モル、フェニルトリメトキシシラン（以下「ＰＴＭＳ」と称する）０．４５モル、３‐（トリメトキシシリル）プロピル無水グルタン酸（以下「ＴＭＳＧ」と称する）０．０５モル、プロピレングリコールモノエチルエーテル（以下「ＰＧＥＥ」と称する）２５０ｇを容量５００ｍｌの３つ口フラスコに投入して室温で攪拌しつつ、シュウ酸水溶液（水７５ｇにシュウ酸０．４０ｇを溶解させたもの）を３０分以内に添加した。次いで、３つ口フラスコを３０℃の油浴に浸し３０分間攪拌した。次に、油浴の温度を３０分以内に１２０℃まで上昇させた。溶液の温度が１０５℃まで低下したら（すなわち反応温度）、溶液を連続的に加熱および攪拌して５時間重合（すなわち重縮合時間）を行った。次いで、蒸留法により溶媒および副生成物を除去してポリシロキサンＡ‐１０を得た。ポリシロキサンＡ‐１０の各成分の種類および使用量を表１に示す。
【０１３０】
（合成例Ａ−１２）
メチルトリメトキシシラン（以下「ＭＴＭＳ」と称する）０．３０モル、フェニルトリメトキシシラン（以下「ＰＴＭＳ」と称する）０．６５モル、３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸（以下「ＧＦ−２０」と称する）０．０５モル、二酸化ケイ素と二酸化チタン複合粒子の分散液（オプトレイクＴＲ‐５１３、日揮触媒化成工業社製）６０ｇ、プロピレングリコールモノエチルエーテル（「ＰＧＥＥ」）２２０ｇを容量５００ｍｌの３つ口フラスコに投入して室温で攪拌しつつ、シュウ酸水溶液（水７５ｇにシュウ酸０．４０ｇを溶解させたもの）を３０分以内に添加した。次いで、３つ口フラスコを３０℃の油浴に浸し３０分間攪拌した。次に、油浴の温度を３０分以内に１２０℃まで上昇させた。溶液の温度が１０５℃まで低下したら（すなわち反応温度）、溶液を連続的に加熱および攪拌して６時間重合（すなわち重縮合時間）を行った。次いで、蒸留法により溶媒を除去してポリシロキサンＡ‐１２を得た。
【０１３１】
（合成例Ａ−１３）
メチルトリメトキシシラン（以下「ＭＴＭＳ」と称する）０．３０モル、フェニルトリメトキシシラン（以下「ＰＴＭＳ」と称する）０．６５モル、３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸（以下「ＧＦ‐２０」と称する）０．０５モル、ジ‐ｉ‐プロピキシビス（エチルアセトアセテート）チタン２ｇ、プロピレングリコールモノエチルエーテル（以下「ＰＧＥＥ」と称する）２２０ｇを容量５００ｍｌの３つ口フラスコに投入して室温で攪拌しつつ、シュウ酸水溶液（水７５ｇにシュウ酸０．４０ｇを溶解させたもの）を３０分以内に添加した。次いで、３つ口フラスコを３０℃の油浴に浸し３０分間攪拌した。次に、油浴の温度を３０分以内に１２０℃まで上昇させた。溶液の温度が１０５℃まで低下したら（すなわち反応温度）、溶液を連続的に加熱および攪拌して６時間重合（すなわち重縮合時間）を行った。次いで、蒸留法により溶媒を除去してポリシロキサンＡ‐１３を得た。
【０１３２】
表１の略語に対応する化合物を以下に示す。
略語：化合物
ＴＢＴ：チタニウムイソブトキシド
（ａ‐１‐１）：チタニウム２‐エチルヘキシロキサイド
（ａ‐１‐２）：ジブトキシビス［［［２‐（ブトキシカルボニル）フェニル］カルボニル］オキシ］チタン
ＴＰＴダイマー：チタニウムプロポキシドダイマー
ＭＴＭＳ：メチルトリメトキシシラン
ＤＭＤＭＳ：ジメチルジメトキシシラン
ＰＴＭＳ：フェニルトリメトキシシラン
ＰＴＥＳ：フェニルトリエトキシシラン
ＧＦ‐２０：３‐（トリエトキシシリル）プロピル無水コハク酸
ＴＭＳＧ：３‐（トリメトキシシリル）プロピル無水グルタル酸
ＴＭＳＯＸ‐Ｄ：２‐オキセタニルブトキシプロピルトリメトキシシラン
ＴＥＳＯＸ‐Ｄ：２‐オキセタニルブトキシプロピルトリエトキシシラン
ＤＭＳ‐Ｓ２７：シラノール末端ポリシロキサン（Gelest社製）
ＰＧＥＥ：プロピレングリコールモノエチルエーテル
ＤＡＡ：ジアセトンアルコール（すなわち４‐ヒドロキシ‐４‐メチル‐２‐ペンタノン）
ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
ＤＩＰＫ：ジ‐イソプロピルケトン
ＣＨＫ：シクロヘキサノン
水：脱イオン水
シュウ酸：シュウ酸
【０１３３】
【表１】
2016194686.tif 000008
【０１３４】
（感光性ポリシロキサン組成物および保護膜の実施例および比較例）
感光性ポリシロキサン組成物および保護膜の実施例１〜８および比較例１〜６を以下に記載する。
【０１３５】
（実施例１）
ａ．感光性ポリシロキサン組成物の調製
ポリシロキサン（Ａ‐１）１００重量部、１‐［１‐（４‐ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼンとｏ‐ナフトキノンジアジド‐５‐スルホン酸から調製したｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート（Ｂ‐１）１重量部、ＳＦ‐８４２７（Ｄ‐１）０．１重量部をプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）（Ｃ‐１）１００重量部に加え、振動式攪拌器によって混合物を均一に攪拌した後、実施例１の感光性ポリシロキサン組成物を得た。後述する評価方法により実施例１の感光性ポリシロキサン組成物を評価した。その結果を表２に示す。
【０１３６】
ｂ．保護膜の形成
上記感光性ポリシロキサン組成物をスピンコーティング法により１００×１００×０．７ｍｍ３のサイズのガラス基板上に塗布して塗膜を形成した。次に、その塗膜を１００℃で２分間プリベークして、厚さ約２μｍのプリベーク塗膜を形成した。次いで、ポジ型フォトレジスト用のフォトマスクを露光機械とプリベーク塗膜の間に配置し、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線光（露光機械のモデル：ＡＧ５００‐４Ｎ、M&R Nano Technology社製）を用いてプリベーク塗膜にパターン露光を行った。次いで、露光済みプリベーク塗膜をその表面に有する基板を、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の２．３８％水溶液により２３℃で６０秒間現像して、ガラス基板上の塗膜の未露光部分を除去した。次に、ガラス基板を水で洗浄した。次いで、露光および現像したプリベーク塗膜に露光機械を用いて２００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーを照射した。次いで、上記プリベーク塗膜に、オーブンを用いて２３０℃で６０分間ポストベークを行ってガラス基板上に保護膜を形成した。
【０１３７】
（実施例２〜８）
実施例１と同じ工程により実施例２〜８の感光性ポリシロキサン組成物および保護膜をそれぞれ調製した。それらの相違点は、各成分の種類およびそれらの使用量を表２に示すように変更したことである。後述する評価方法により実施例２〜１２の各感光性ポリシロキサン組成物を評価した。その結果を表２に示す。
【０１３８】
（比較例１〜６）
実施例１と同じ工程により比較例１〜６の感光性ポリシロキサン組成物をそれぞれ調製した。それらの相違点は、各成分の種類およびそれらの使用量を表３に示すように変更したことである。後述する各評価方法を用いて比較例１〜６の感光性ポリシロキサン組成物を評価した。その結果を表３に示す。
【０１３９】
表２、３における略語に対応する化合物を以下に示す。
略語：化合物
Ａ‐１：ポリシロキサンＡ‐１
Ａ‐２：ポリシロキサンＡ‐２
Ａ‐３：ポリシロキサンＡ‐３
Ａ‐４：ポリシロキサンＡ‐４
Ａ‐５：ポリシロキサンＡ‐５
Ａ‐６：ポリシロキサンＡ‐６
Ａ‐７：ポリシロキサンＡ‐７
Ａ‐８：ポリシロキサンＡ‐８
Ａ‐９：ポリシロキサンＡ‐９
Ａ‐１０：ポリシロキサンＡ‐１０
Ａ‐１１：ポリシロキサンＡ‐１１
Ａ‐１２：ポリシロキサンＡ‐１２
Ａ‐１３：ポリシロキサンＡ‐１３
Ｂ‐１：１‐［１‐（４−ヒドロキシフェニル）イソプロピル］‐４‐［１，１‐ビス（４‐ヒドロキシフェニル）エチル］ベンゼンとｏ‐ナフトキノンジアジド‐５‐スルホン酸により調製されたｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート
Ｂ‐２：２，３，４‐トリヒドロキシベンゾフェノンとｏ‐ナフトキノンジアジド‐５‐スルホン酸により調製されたｏ‐ナフトキノンジアジドスルホナート
Ｃ‐１：プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート（ＰＧＭＥＡ）
Ｃ‐２：ジアセトンアルコール（ＤＡＡ）（すなわち４‐ヒドロキシ‐４‐メチル‐２‐ペンタノン）
Ｃ‐３：シクロヘキサノン
Ｄ‐１：ＳＦ‐８４２７（東レ・ダウコーニング社製、界面活性剤）
Ｄ−２：酸化ケイ素と酸化チタンの複合粒子の分散液（オプトレイクＴＲ‐５１３、日揮触媒化成工業社製）
Ｄ‐３：３‐グリシドキシプロピルトリメトキシシラン（商品名：ＫＢＭ４０３、信越化学工業社製、接着補助剤）
【０１４０】
［評価方法］
ａ．重量平均分子量
ポリシロキサン（Ａ）の重量平均分子量（Ｍｗ）は、既知の市販の標準的スチレンから得られる検量線により求め、示差屈折率検出と光散乱検出の２つの機能を有するゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）分析器（Waters社製）により測定した。
【０１４１】
ｂ．現像時の接着性
スピンコーティング法により感光性ポリシロキサン組成物をガラス基板に塗布して塗膜を形成した。次に、塗膜を１００℃で２分間プリベークして、厚さ約２μｍのプリベーク塗膜を形成した。次いで、ライン＆スペースのフォトマスク（日本フイルコン社製）を露光機械とプリベーク塗膜の間に配置し、３００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線光（露光機械のモデル：ＡＧ５００‐４Ｎ、M&R Nano Technology社製）により露光を行った。次いで、露光済みプリベーク塗膜をその表面に有する基板を、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の２．３８％水溶液により２３℃で６０秒間現像して、ガラス基板上の塗膜の未露光部分を除去した。次いで、純水で洗浄後、ガラス基板上の現像パターンの現像可能な線幅を記録した。現像可能な線幅の評価基準を以下に示す。現像可能な線幅が小さいほど現像時の接着性が高いことが示される。
◎：現像可能な線幅≦１２μｍ
○：１２μｍ＜現像可能な線幅≦２０μｍ
△：２０μｍ＜現像可能な線幅≦４０μｍ
×：現像可能な線幅＞４０μｍ
【０１４２】
【表２】
2016194686.tif 000009
【０１４３】
【表３】
2016194686.tif 000010
【０１４４】
＜評価結果＞
表２、３より、チタン含有化合物（ａ‐１）と式（２）で表されるシランモノマー（ａ‐２）の両方を有するポリシロキサン（Ａ）の感光性ポリシロキサン組成物（実施例１〜１１）と比較して、チタン含有化合物（ａ‐１）と式（２）で表わされるシランモノマー（ａ‐２）の両方を含むわけではないポリシロキサン（Ａ）の感光性ポリシロキサン組成物（比較例１、３〜５）の現像時の接着性は不良であることがわかる。したがって、ポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分にチタン含有化合物（ａ‐１）が含まれない場合、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性は不良であることがわかる。
【０１４５】
またポリシロキサン（Ａ）を合成するモノマー成分にシランモノマー（ａ‐２）が含まれない場合（比較例２）、露光後、感光性ポリシロキサン組成物を現像することができず、これは意に満たない。
【０１４６】
またポリシロキサン組成物（Ａ）を合成するモノマー成分に、無水物基またはエポキシ基を含むシランモノマーが含まれる場合（実施例１，２、４〜８、１０、１１）、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性は向上する。したがって、シランモノマー（ａ‐２）中に、無水物基を含むアルキル基、エポキシ基を含むアルキル基、およびエポキシ基を含むアルコキシ基のうちの少なくとも１つが存在する場合、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性は向上することがわかる。
【０１４７】
ポリシロキサン（Ａ）の重縮合に用いられる溶媒にケトン溶媒が含まれる場合（実施例１、４−７、９、１０）、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性は向上する。
【０１４８】
ポリシロキサン（Ａ）の重量平均分子量が６００〜４０００の場合（実施例１、２、４〜５、７〜１１）、感光性ポリシロキサン組成物の現像時の接着性は向上する。
【産業上の利用可能性】
【０１４９】
上記から、本発明の感光性ポリシロキサン組成物には特定のチタン含有化合物の重縮合物であるポリシロキサンが含まれるため、現像時の接着性は良好である。よってこの感光性ポリシロキサン組成物は、液晶ディスプレイ素子および有機ＥＬディスプレイに用いられる平坦化膜、層間絶縁膜、または光導波路のコア材料または被覆材料といった保護膜の形成に適している。
【０１５０】
上記実施形態を参照しつつ本発明を説明したが、当業者であれば、本発明の精神から逸脱しない範囲において、説明した実施形態への改変を行えることは明らかであろう。したがって、本発明の範囲は上記詳細な説明ではなく添付の特許請求の範囲により規定される。
【外国語明細書】
2016194686000001.pdf