(57)【要約】【課題】光源の数が少ない場合であっても効率的な光走査を実現する。【解決手段】光走査装置１０は、基板１１０、回転軸１２０、複数の反射領域１４０、及び光源３００を備えている。回転軸１２０は、基板１１０の回転軸である。複数の反射領域１４０は、基板１１０の第１面１３０に互いに離間して配置されている。そして複数の反射領域１４０は、光源３００からの光３０２を対象物２０に向けて反射する。これにより、対象物２０には、複数の反射領域１４０に対応して複数の走査点２００が生成される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の回転軸と、
前記基板の第１面に互いに離間して配置され、外部からの光を反射する複数の反射領域と、
を備える光走査装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光走査装置において、
前記基板である可動電極と、
枠体と、
前記可動電極を前記枠体に取り付け、前記回転軸となる保持部材と、
平面視で前記可動電極に対向している固定電極と、
を備える光走査装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の光走査装置において、
前記複数の反射領域は、反射率のピーク波長が同一である光走査装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の光走査装置において、
前記複数の反射領域は、反射率のピーク波長が互いに異なっている光走査装置。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の光走査装置において、
前記第１面は、互いに逆側に位置する第１内側面及び第２内側面を有する凹部を備え、
前記凹部は、前記凹部の下端から上端に向かうにつれて前記凹部の中心から離れる方向に傾く傾斜を前記第１内側面及び前記第２内側面に備え、
前記複数の反射領域のうちの少なくとも一つは、前記第１内側面に配置されており、
前記複数の反射領域のうちの少なくとも一つは、前記第２内側面に配置されている光走査装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光走査装置において、
前記基板の前記第１面は、前記複数の反射領域とは異なる領域に反射防止領域を備える光走査装置。
【請求項７】
請求項６に記載の光走査装置において、
前記反射防止領域は、
拡散反射が生じる凹凸を有し、又は
光吸収膜を有し、又は
反射防止膜を有する光走査装置。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の光走査装置において、
前記複数の反射領域は、前記回転軸に関して線対称なパターンを有する光走査装置。
【請求項９】
光源と、
基板と、
前記基板の回転軸と、
前記基板の第１面に互いに離間して配置され、前記光源からの光を対象物に反射する複数の反射領域と、
前記複数の反射領域からの光によって前記対象物に生成される複数の走査点を撮像する撮像部と、
前記基板の回転角度を制御する制御部と、
前記撮像部の前記複数の走査点及び前記制御部の前記回転角度に基づいて、前記複数の走査点の位置を測定する測定部と、
を備える検査装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光走査装置及び検査装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光走査装置は、特許文献１に記載されているように、例えば画像評価に用いられる。特許文献１では、光源からの光をポリゴンミラーによって画像に反射している。これにより、画像の表面に走査点を形成している。さらに、特許文献２では、光源からの光を複数の感光体に案内するために光走査装置が用いられている。具体的には、特許文献２では、ポリゴンミラーを用いて光源からの光を感光体に案内している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２５４３７３号公報
【特許文献２】特開２００５−９２１２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
例えば回転型アクチュエータを用いた光走査装置では、回転軸に関して回転可能な基板の第１面に形成された反射領域を用いて光走査をすることがある。本発明者らは、光源の数を少なくしても効率的な光走査が可能な構造を検討した。
【０００５】
本発明は上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、光源の数が少ない場合であっても効率的な光走査を実現することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明において、光走査装置は、基板、回転軸、及び複数の反射領域を備えている。回転軸は基板の回転軸である。複数の反射領域は、基板の第１面に互いに離間して配置されている。そして複数の反射領域は、外部からの光を反射する。
【０００７】
本発明において、検査装置は、上記した光走査装置を備え、さらに、光源、撮像部、制御部、及び測定部を備えている。上記した複数の反射領域は、光源からの光を対象物に反射する。撮像部は、複数の反射領域からの光によって対象物に生成される複数の走査点を撮像する。制御部は、基板の回転角度を制御する。測定部は、撮像部の複数の走査点及び制御部の回転角度に基づいて、複数の走査点の位置を測定する。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、光源の数が少ない場合であっても効率的な光走査を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図２】第１の実施形態に係る回転型アクチュエータの構成の一例の詳細を示す平面図である。
【図３】基板（可動電極）の第１面の構成の第１例の詳細を示す断面図である。
【図４】基板（可動電極）の第１面の構成の第２例の詳細を示す断面図である。
【図５】基板（可動電極）の第１面の構成の第３例の詳細を示す断面図である。
【図６】複数の反射領域のパターンの第１例を示す平面図である。
【図７】複数の反射領域のパターンの第２例を示す平面図である。
【図８】複数の反射領域のパターンの第３例を示す平面図である。
【図９】複数の反射領域のパターンの第４例を示す平面図である。
【図１０】複数の反射領域のパターンの第５例を示す平面図である。
【図１１】第２の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図１２】第３の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図１３】第４の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図１４】図１３に示した基板の変形例を示す斜視図である。
【図１５】第１内側面及び第２内側面それぞれの傾斜を示す断面図である。
【図１６】第５の実施形態に係る光走査装置の構成を示す図である。
【図１７】（ａ）は、図１６に示した反射領域の表面の第１例を示す断面図であり、（ｂ）は、図１６に示した反射領域の表面の第２例を示す断面図である。
【図１８】第６の実施形態に係る投影装置の構成を示す図である。
【図１９】第７の実施形態に係る検査装置の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施の形態について、図面を用いて説明する。尚、すべての図面において、同様な構成要素には同様の符号を付し、適宜説明を省略する。
【００１１】
なお、以下に示す説明において、測定部３０、検出部１８０、制御部１９０、及び撮像部２１０は、ハードウエア単位の構成ではなく、機能単位のブロックを示している。測定部３０、検出部１８０、制御部１９０、及び撮像部２１０は、任意のコンピュータのＣＰＵ、メモリ、メモリにロードされた本図の構成要素を実現するプログラム、そのプログラムを格納するハードディスクなどの記憶メディア、ネットワーク接続用インタフェースを中心にハードウエアとソフトウエアの任意の組合せによって実現される。そして、その実現方法、装置には様々な変形例がある。
【００１２】
（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態に係る光走査装置１０の構成を示す図である。本図に示すように、光走査装置１０は、基板１１０、回転軸１２０、複数の反射領域１４０、及び光源３００を備えている。回転軸１２０は、基板１１０の回転軸である。複数の反射領域１４０は、基板１１０の第１面１３０に互いに離間して配置されている。そして複数の反射領域１４０は、光源３００からの光３０２を反射する。以下、詳細に説明する。
【００１３】
本図に示す例において、光走査装置１０は対象物２０を光走査している。具体的には、光走査装置１０は、光源３００からの光３０２を基板１１０の複数の反射領域１４０によって対象物２０に向けて反射している。この場合、対象物２０には、複数の反射領域１４０に対応して複数の走査点２００が生成される。このように、本図に示す例によれば、複数の反射領域１４０によって１つの光源３００から複数の走査点２００を生成することができる。そして本図に示す例において、基板１１０は、回転軸１２０に関して回転可能である。このため、基板１１０を回転させることで、複数の走査点２００を移動させることができる。
【００１４】
なお、本図に示す例において、光源３００からの光３０２は、基板１１０の第１面１３０において複数の反射領域１４０の全体を内側に含むスポット直径を有している。この場合、スポット直径は、例えば１００μｍ以上１０ｍｍ以下である。光源３００は、例えばレーザ光源である。そして光源３００からの光３０２は、例えば、可視光、赤外線、又は紫外線である。この場合、光３０２は、例えば、単一波長を有する光でもよいし、又は白色光でもよい。
【００１５】
図２は、本実施形態に係る回転型アクチュエータ１００の構成の一例の詳細を示す平面図である。本図に示すように、回転型アクチュエータ１００は、可動電極１１２（基板１１０）、保持部材１２２（回転軸１２０）、枠体１５０、固定電極１６０、及び複数の反射領域１４０を備えている。保持部材１２２は、可動電極１１２を枠体１５０に取り付けている。さらに保持部材１２２は、可動電極１１２の回転軸となる。固定電極１６０は、平面視で可動電極１１２に対向している。複数の反射領域１４０は、可動電極１１２の第１面１３０に互いに離間して配置されている。
【００１６】
本図に示す回転型アクチュエータ１００は、図１に示した光走査装置１０に用いられる。具体的には、本図に示す可動電極１１２は、図１に示した基板１１０になり、本図に示す回転軸１２０は、図１に示した回転軸１２０になる。ただし、図１に示した基板１１０及び回転軸１２０の構成は、本図に示す例に限定されるものではない。
【００１７】
可動電極１１２の平面形状は矩形である。そして固定電極１６０は、平面視で可動電極１１２を挟むように２つ設けられている。可動電極１１２のうち固定電極１６０と対向する辺（本図においてＸ方向に伸びている辺）は、櫛歯形状となっている。枠体１５０は、可動電極１１２の４辺のうち固定電極１６０と対向していない２つの辺（本図においてＹ方向に伸びている辺）それぞれに対向している。保持部材１２２は、可動電極１１２のうち枠体１５０と対向している２辺それぞれに対して設けられている。詳細には、保持部材１２２は、可動電極１１２のうち枠体１５０と対向している辺の中心に接続している。そして２つの保持部材１２２を結ぶ線が、可動電極１１２の回転軸となっている。本実施形態では、枠体１５０、可動電極１１２、及び保持部材１２２は一体的に形成されている。
【００１８】
固定電極１６０のうち可動電極１１２と対向する辺は、櫛歯形状となっており、可動電極１１２の櫛歯部分とかみ合っている。このため、固定電極１６０と可動電極１１２は、互いに対向する部分の面積が大きくなり、その結果、可動電極１１２の駆動力は大きくなる。
【００１９】
可動電極１１２は、例えばシリコン基板を用いて形成されている。そしてこの場合、可動電極１１２の第１面１３０の反射領域１４０には、例えば金属膜（例えば、Ａｕ膜又はＡｌ膜）が形成されている。この場合、反射領域１４０は、第１面１３０の他の領域に比して反射率が高いものとなる。このようにして、可動電極１１２は、複数の反射領域１４０で光を選択的に反射することができる。
【００２０】
なお、複数の反射領域１４０は、例えば、可動電極１１２、保持部材１２２、枠体１５０、及び固定電極１６０を本図に示すように形成した後に形成することができる。この場合、例えば、シャドウマスクを用いた蒸着により、複数の反射領域１４０に金属膜（例えば、Ａｕ膜又はＡｌ膜）を形成する。その他の例として、リソグラフィを用いたパターニングにより複数の反射領域１４０に金属膜を形成してもよい。
【００２１】
図３は、基板１１０（可動電極１１２）の第１面１３０の構成の第１例の詳細を示す断面図である。本図に示す例において、第１面１３０は、拡散反射が生じる凹凸を備えている。このような凹凸は、例えばドライエッチングにより形成することができる。そして反射領域１４０では、反射膜１４２（例えば、金属膜）が上記した凹凸を覆っている。この場合、反射膜１４２は、第１面１３０に上記した凹凸を形成した後に例えば蒸着により形成される。これにより、本図に示すように、第１面１３０は、反射領域１４０以外の領域において光３０２を拡散反射する。結果、反射領域１４０以外の領域すなわち反射防止領域で光３０２が反射することを効果的に抑制することができる。
【００２２】
図４は、基板１１０（可動電極１１２）の第１面１３０の構成の第２例の詳細を示す断面図である。本図に示す例では、第１面１３０上に光吸収膜１３２（反射防止領域）が形成されている。光吸収膜１３２は、光３０２を吸収する材料により形成されており、例えば黒体（例えば、カーボン）の膜である。そして反射領域１４０では、反射膜１４２が光吸収膜１３２を覆っている。この場合、反射膜１４２は、第１面１３０上に光吸収膜１３２を形成した後に例えば蒸着により形成される。これにより、本図に示す例においては、反射領域１４０以外の領域で光３０２が反射することを効果的に抑制することができる。
【００２３】
図５は、基板１１０（可動電極１１２）の第１面１３０の構成の第３例の詳細を示す断面図である。本図に示す例では、第１面１３０上に誘電体膜１３４（反射防止領域）が形成されている。誘電体膜１３４は、反射防止膜であり、例えばＳｉＯ２膜又はＭｇＦ２膜はである。そして反射領域１４０では、反射膜１４２が誘電体膜１３４を覆っている。この場合、反射膜１４２は、第１面１３０上に誘電体膜１３４を形成した後に例えば蒸着により形成される。本図に示す例では、第１面１３０で反射した光と誘電体膜１３４の表面で反射した光は、誘電体膜１３４により生じる光路差によって、互いに打ち消し合うようになっている。これにより、本図に示す例においては、反射領域１４０以外の領域で光３０２が反射することを効果的に抑制することができる。
【００２４】
図６は、複数の反射領域１４０のパターンの第１例を示す平面図である。本図に示す例において、複数の反射領域１４０は、互いに隣り合う反射領域１４０の中心間距離を１辺の長さに有する正六角形の各頂点及び中心に位置している。これにより、複数の反射領域１４０を最密配置に近い配置に配置することができる。言い換えると、複数の反射領域１４０を高密度に配置することができる。なお、本図に示す例において上記した正六角形は、最も長い距離で互いに離れている２頂点を結ぶ対角線の１つが回転軸１２０と同じ方向に延伸している。さらに、本図に示す例では、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。これにより、回転軸１２０に関して基板１１０（図１）が回転しても、複数の反射領域１４０のパターンの変化は小さいものとなる。このため、複数の光源３００からの光３０２（図１）を複数の反射領域１４０のパターンに安定して照射することができる。なお、本図に示す例において、各反射領域１４０の平面形状は円である。ただし、反射領域１４０の平面形状はこれに限定されるものではない。
【００２５】
図７は、複数の反射領域１４０のパターンの第２例を示す平面図である。本図に示す例に係るパターンは、以下の点を除いて、図６に示した例に係るパターンと同様である。詳細には、本図に示す例においても、複数の反射領域１４０は、互いに隣り合う反射領域１４０の中心間距離を１辺の長さに有する正六角形の各頂点及び中心に位置している。これにより、複数の反射領域１４０を最密配置に近い配置に配置することができる。言い換えると、複数の反射領域１４０を高密度に配置することができる。ただし本図に示す例では、上記した正六角形は、最も長い距離で互いに離れている２頂点を結ぶ対角線の１つが回転軸１２０と直交している。なお、本図に示す例においても、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。
【００２６】
図８は、複数の反射領域１４０のパターンの第３例を示す平面図である。本図に示す例に係るパターンは、以下の点を除いて、図６に示した例に係るパターンと同様である。詳細には、本図に示す例において、複数の反射領域１４０は、回転軸１２０に沿って配置されている。図１を用いて説明したように、複数の走査点２００のパターンは、複数の反射領域１４０のパターンに対応した形状となる。このため、本図に示す例では、複数の反射領域１４０の並ぶ方向に対応する方向に複数の走査点２００のパターン（図１）を広げることができる。なお、本図に示す例においても、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。
【００２７】
図９は、複数の反射領域１４０のパターンの第４例を示す平面図である。本図に示す例に係るパターンは、以下の点を除いて、図６に示した例に係るパターンと同様である。詳細には、本図に示す例において、複数の反射領域１４０は、回転軸１２０に交わる方向に沿って配置されている。図１を用いて説明したように、複数の走査点２００のパターンは、複数の反射領域１４０のパターンに対応した形状となる。このため、本図に示す例では、複数の反射領域１４０の並ぶ方向に対応する方向に複数の走査点２００のパターン（図１）を広げることができる。なお、本図に示す例においても、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。
【００２８】
図１０は、複数の反射領域１４０のパターンの第５例を示す平面図である。本図に示す例に係るパターンは、以下の点を除いて、図６に示した例に係るパターンと同様である。本図に示す例において、複数の反射領域１４０それぞれの平面形状は、正六角形である。そして複数の反射領域１４０は、互いに隣り合う反射領域１４０の中心間距離を１辺の長さに有する正六角形の各頂点及び中心に位置している。この場合、複数の反射領域１４０は、ハニカム構造を形成するように配置される。これにより、図６に示した例よりも高い密度で複数の反射領域１４０を配置することができる。なお、本図に示す例においても、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。
【００２９】
以上、本実施形態によれば、可動電極１１２の第１面１３０には、複数の反射領域１４０が設けられている。このため、複数の反射領域１４０によって１つの光源３００から複数の走査点２００を生成することができる。なお、図１に示した光走査装置１０に用いられる基板１１０及び回転軸１２０は、図２に示した回転型アクチュエータ１００に用いられる可動電極１１２及び保持部材１２２にそれぞれ限定されるものではない。言い換えると、図１に示した基板１１０は、回転型アクチュエータとは異なる構成により回転させてもよい。
【００３０】
（第２の実施形態）
図１１は、第２の実施形態に係る光走査装置１０の構成を示す図である。本実施形態に係る光走査装置１０は、以下の点を除いて、第１の実施形態に係る光走査装置１０と同様の構成である。詳細には、本図に示す例では、複数の反射領域１４０は、反射率のピーク波長が同一となっている。言い換えると、複数の反射領域１４０は、特定の波長の光を選択的に反射することができるようになっている。これにより、光源３００の光３０２に波長幅の広い光（例えば、白色光）を用いたとしても、特定の波長を有する複数の走査点２００（例えば、緑色の複数の走査点２００）を生成することができる。
【００３１】
なお、本図に示す例において、複数の反射領域１４０それぞれは、例えば複数の誘電体膜（例えば、ＳｉＯ２膜又はＭｇＦ２膜）を含む積層膜を有している。この場合、例えば、誘電体膜の材料又は誘電体膜の膜厚によって反射領域１４０の反射波長を調整することができる。
【００３２】
（第３の実施形態）
図１２は、第３の実施形態に係る光走査装置１０の構成を示す図である。本実施形態に係る光走査装置１０は、以下の点を除いて、第１の実施形態に係る光走査装置１０と同様の構成である。詳細には、本図に示す例では、複数の反射領域１４０は、反射率のピーク波長が互いに異なっている。言い換えると、複数の反射領域１４０それぞれは、互いに異なる波長の光を選択的に反射することができるようになっている。これにより、光源３００の光３０２に波長幅の広い光（例えば、白色光）を用いると、波長が互いに異なる複数の走査点２００（例えば、走査点２００が３つ生成される場合は、赤色の走査点２００、緑色の走査点２００、及び青色の走査点２００）を生成することができる。
【００３３】
なお、本図に示す例において、反射領域１４０は、例えば複数の誘電体膜（例えば、ＳｉＯ２膜又はＭｇＦ２膜）を含む積層膜を有している。この場合、例えば、誘電体膜の材料又は誘電体膜の膜厚が各反射領域１４０で異なっている。これにより、各反射領域１４０の反射波長を制御することができる。
【００３４】
（第４の実施形態）
図１３は、第４の実施形態に係る光走査装置１０の構成を示す図である。本実施形態に係る光走査装置１０は、以下の点を除いて、第１の実施形態に係る光走査装置１０と同様の構成である。詳細には、本図に示す例では、基板１１０の第１面１３０は、凹部１７０を備えている。凹部１７０は、第１面１３０に垂直な方向から見た場合、回転軸１２０に沿って延伸している。そして凹部１７０は、回転軸１２０を介して互いに逆側に位置する第１内側面１７２及び第２内側面１７４を備えている。本図に示すように、第１内側面１７２及び第２内側面１７４それぞれは、凹部１７０の下端から上端に向かうにつれて凹部１７０の中心から離れる方向に傾斜している。そして第１面１３０は、第１内側面１７２及び第２内側面１７４それぞれに複数の反射領域１４０を備えている。
【００３５】
本図に示す例では、第１内側面１７２の反射領域１４０と第２内側面１７４の反射領域１４０は、互いに異なる方向を向いている。このため、本図に示すように、第１内側面１７２の反射領域１４０に対応する走査点２００と第２内側面１７４の反射領域１４０に対応する走査点２００の間隔を離すことができる。さらに、基板１１０の回転に応じて、第１内側面１７２に対応する走査点２００と第２内側面１７４に対応する走査点２００は、互いに連動して移動することができる。
【００３６】
なお、本図に示す例では、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。これにより、回転軸１２０に関して基板１１０が回転しても、複数の反射領域１４０のパターンの変化は小さいものとなる。このため、複数の光源３００からの光３０２を複数の反射領域１４０のパターンに安定して照射することができる。
【００３７】
図１４は、図１３に示した基板１１０の変形例を示す斜視図である。本図に示すように、凹部１７０は、第１面１３０に垂直な方向から見た場合、回転軸１２０に交わる方向（例えば、回転軸１２０に直交する方向）に延伸していてもよい。そして第１内側面１７２及び第２内側面１７４は、回転軸１２０に交わる方向で互いに逆側に位置している。本図に示す例においても、第１内側面１７２及び第２内側面１７４それぞれは、凹部１７０の下端から上端に向かうにつれて凹部１７０の中心から離れる方向に傾斜している。これにより、第１内側面１７２の反射領域１４０に対応する走査点２００（図１３）と第２内側面１７４の反射領域１４０に対応する走査点２００（図１３）の間隔を離すことができる。
【００３８】
なお、本図に示す例でも、複数の反射領域１４０のパターンは、回転軸１２０に関して線対称である。これにより、回転軸１２０に関して基板１１０（図１３）が回転しても、複数の反射領域１４０のパターンの変化は小さいものとなる。このため、複数の光源３００からの光３０２（図１３）を複数の反射領域１４０のパターンに安定して照射することができる。
【００３９】
図１５は、第１内側面１７２及び第２内側面１７４それぞれの傾斜を示す断面図である。本図に示すように、第１面１３０（基準面）に対する第１内側面１７２の傾斜角度はθ１である。一方、第１面１３０（基準面）に対する第２内側面１７４の傾斜角度はθ２である。θ１及びθ２は、同一でもよいし、又は互いに異なっていてもよい。θ１及びθ２それぞれは、例えば、１度以上５５度以下である。
【００４０】
（第５の実施形態）
図１６は、第５の実施形態に係る光走査装置１０の構成を示す図である。本実施形態に係る光走査装置１０は、以下の点を除いて、第１の実施形態に係る光走査装置１０と同様の構成である。詳細には、本図に示す例では、回転軸１２０から離れた領域に位置する反射領域１４０（反射領域１４０ｂ）は、図１７を用いて詳細を後述するように、曲面を表面に有している。これに対して、回転軸１２０上に位置する反射領域１４０（反射領域１４０ａ）は、表面が平坦である。これにより、本図に示すように、反射領域１４０ａに対応する走査点２００から離れた位置に、反射領域１４０ｂに対応する走査点２００を生成することができる。
【００４１】
図１７（ａ）は、図１６に示した反射領域１４０ｂの表面の第１例を示す断面図である。本図に示す例では、反射領域１４０ｂの表面は、内側に凸となる方向に湾曲している。この場合、反射領域１４０ｂは、凹面鏡として機能する。これにより、反射領域１４０ｂで反射する光が向かう方向を広いものにすることができる。
【００４２】
図１７（ｂ）は、図１６に示した反射領域１４０ｂの表面の第２例を示す断面図である。本図に示す例では、反射領域１４０ｂの表面は、外側に凸となる方向に湾曲している。この場合、反射領域１４０ｂは、凸面鏡として機能する。これにより、反射領域１４０ｂで反射する光が向かう方向を広いものにすることができる。
【００４３】
（第６の実施形態）
図１８は、第６の実施形態に係る投影装置１２の構成を示す図である。本実施形態では、第１の実施形態に係る光走査装置１０を投影装置１２として利用している。具体的には、本図に示すように、投影装置１２を用いて、投影面２２に複数の投影点２０２を生成している。この場合、複数の投影点２０２のパターンは、基板１１０の複数の反射領域１４０のパターンに対応する。このため、複数の反射領域１４０によって１つの光源３００から複数の投影点２０２を生成することができる。なお、投影装置１２は、例えばホログラムに利用することができる。
【００４４】
（第７の実施形態）
図１９は、第７の実施形態に係る検査装置の構成を示す図である。本実施形態に係る検査装置は、光走査装置１０及び測定部３０を備えている。そして本図に示すように、光走査装置１０は、光源３００、基板１１０、検出部１８０、制御部１９０、及び撮像部２１０を備えている。
【００４５】
光源３００は、光３０２を基板１１０に照射する。基板１１０は、回転軸１２０に関して回転しており、第１の実施形態と同様にして、複数の反射領域１４０を備えている。光源３００からの光３０２は、複数の反射領域１４０によって光３０２を対象物２０に反射する。このようにして、第１の実施形態と同様にして、対象物２０に複数の走査点２００が生成される。
【００４６】
基板１１０の回転角度は、制御部１９０によって制御される。制御部１９０には、基板１１０の回転角度を示す信号（制御信号）が入力される。制御部１９０は、制御信号に従って基板１１０の回転角度を制御する。また、基板１１０の回転角度は、検出部１８０によって検出される。制御部１９０は、検出部１８０が検出した回転角度を用いて、基板１１０の回転角度が所望の角度（具体的には制御信号が示す値）になるように、基板１１０の回転角度を制御する。制御部１９０は、基板１１０の回転角度を示す信号を測定部３０に出力する。
【００４７】
走査点２００は、撮像部２１０によって撮像される。撮像部２１０は、例えば、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ−Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）を含んでいる。これにより、撮像部２１０は、走査点２００から撮像部２１０に入射する光の入射角度を検出することができる。撮像部２１０は、上記した入射角度を示す信号を測定部３０に出力する。
【００４８】
本図に示す例では、反射領域１４０で光３０２が反射する位置と撮像部２１０で光が入射する位置の間の距離（本図における線分５００の長さ）が予め決定されている。そして反射領域１４０から発せられる光線と線分５００のなす角の角度θ１を、制御部１９０が検出した上記回転角度から測定することができる。さらに走査点２００から発せられる光線と線分５００のなす角の角度θ２を、撮像部２１０が検出した上記入射角度から測定することができる。この場合、測定部３０は、三角測量に基づいて、線分５００の長さ及び角度θ１，θ２から走査点２００の位置を測定することができる。
【００４９】
本実施形態によれば、線分５００の長さ及び角度θ１，θ２から走査点２００の位置を測定することができる。さらに、本実施形態では、複数の反射領域１４０によって１つの光源３００から複数の走査点２００を生成することができる。このため、複数の走査点２００を効率的に測定することができる。なお、本実施形態において、対象物２０は、例えば、コンクリートの壁面であり、又は工場のラインを流れるフイルムである。本実施形態においては、例えば、これらの対象物２０の表面の凹凸を測定することができる。
【００５０】
以上、図面を参照して本発明の実施形態について述べたが、これらは本発明の例示であり、上記以外の様々な構成を採用することもできる。
【符号の説明】
【００５１】
１０  光走査装置
１２  投影装置
２０  対象物
２２  投影面
３０  測定部
１１０  基板
１２０  回転軸
１３０  第１面
１４０  反射領域
１４０ａ 反射領域
１４０ｂ 反射領域
１５０  枠体
１６０  固定電極
１７０  凹部
１７２  第１内側面
１７４  第２内側面
１８０  検出部
１９０  制御部
２００  走査点
２０２  投影点
２１０  撮像部
３００  光源
３０２  光
５００  線分
【図１】
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【図２】
2016194642.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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