(57)【要約】【課題】  本発明の目的は、無機粒子の分散性が良好な電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法を提供することである。【解決手段】  樹脂、無機粒子および有機溶剤を含有する電子写真感光体の下引き層用塗布液を製造する方法であって、樹脂と有機溶剤と混合して溶液を調製する工程、および該溶液に無機粒子のスラリーを添加して下引き層用塗布液を調製する工程、を有し、該溶液の粘度が、１００ｍＰａ・ｓ以下である。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂、無機粒子および有機溶剤を含有する電子写真感光体の下引き層用塗布液を製造する方法であって、
樹脂と有機溶剤と混合して溶液を調製する工程、および
該溶液に無機粒子のスラリーを添加して下引き層用塗布液を調製する工程、
を有し、
該溶液の粘度が、１００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法。
【請求項２】
前記溶液の固形分濃度が６０質量％以下である請求項１に記載の電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法。
【請求項３】
前記無機粒子のスラリーにおいて、前記無機粒子の固形分濃度が２０質量％以下である請求項１または２に記載の電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法。
【請求項４】
無機粒子が無機酸化物粒子である請求項１から３のいずれか１項に記載の電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法。
【請求項５】
前記無機酸化物粒子が、シリカ粒子、または酸化チタン粒子である請求項４に記載の下引き層用塗布液の製造方法。
【請求項６】
前記溶液が、重合性官能基を有する電子輸送物質、架橋剤をさらに含有する請求項１から５のいずれか１項に記載の下引き層用塗布液の製造方法。
【請求項７】
支持体、支持体上に形成された下引き層、および下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体の製造方法であって、
請求項１〜６のいずれか１項に記載の電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法により、下引き層用塗布液を調製する工程、および
該下引き層用塗布液の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて下引き層を形成する工程、
を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法、及び電子写真感光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真感光体の中でも、有機光導電性物質（電荷発生物質）を用いた電子写真感光体は、成膜性が良く、塗工によって生産できるため、生産性が高い電子写真感光体を提供できる利点を有している。
【０００３】
電子写真感光体は、一般的に、支持体および支持体上に形成された感光層を有する。また、支持体と感光層との接着性の向上、支持体から感光層への電荷注入の抑制などを目的として、支持体と感光層との間に下引き層が設けられていることが多い。
【０００４】
下引き層の特性としては、感光層から支持体へ電流が流れるようにある程度抵抗が低く、かつ、支持体から感光層に電荷が注入されないようなブロッキング性が求められる。
【０００５】
上記特性を成立させるために、下引き層中にアルミナ粒子、チタニア粒子、酸化亜鉛粒子および、シリカ粒子といった無機酸化物などの無機微粒子を分散させた下引き層が知られている。特許文献１では、下引き層に小粒径の金属酸化物粒子を含有させることによって、電荷注入抑制を抑制する技術が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−２６８０１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
無機粒子を含有する下引き層は、一般に、結着樹脂と有機溶剤を含有する溶液中に無機粒子を分散させて下引き層用塗布液を調製し、下引き層用塗布液の塗膜を形成して塗膜を乾燥させることで形成される。しかしながら、本発明者らの検討の結果、無機粒子の分散性が悪いと、均一に下引き層用塗布液が塗布されずに塗膜欠陥が生じたり、表面粗さが大きくなることによって、画像コントラストの低下や白地に黒点や地カブリが生じることがあった。
【０００８】
本発明の目的は、無機粒子の分散性が良好な電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法を提供することである。また、上記下引き層用塗布液を用いて、下引き層を有する電子写真感光体を製造する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、樹脂、無機粒子および有機溶剤を含有する電子写真感光体の下引き層用塗布液を製造する方法であって、
樹脂と有機溶剤と混合して溶液を調製する工程、および
該溶液に無機粒子のスラリーを添加して下引き層用塗布液を調製する工程、
を有し、
該溶液の粘度が、１００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法に関する。
【００１０】
また、本発明は、支持体、支持体上に形成された下引き層、および下引き層上に形成された感光層を有する電子写真感光体の製造方法であって、
上記電子写真感光体の下引き層用塗布液の製造方法により、下引き層用塗布液を調製する工程、および
該下引き層用塗布液の塗膜を形成し、該塗膜を乾燥させて下引き層を形成する工程、
を有することを特徴とする電子写真感光体の製造方法に関する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、無機粒子の分散性が良好な電子写真感光体の下引き層用塗布液を製造する方法が提供できる。また、上記下引き層用塗布液を用いて、下引き層を有する電子写真感光体を製造する方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】電子写真感光体の層構成の一例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の電子写真感光体は、支持体、支持体上に形成された下引き層、下引き層上に形成された感光層を有する。感光層は、電荷発生物質および電荷輸送物質を単一の層に含有させた単層型感光層と、電荷発生物質を含有する電荷発生層と電荷輸送物質を含有する電荷輸送層とを積層した積層型感光層とが挙げられる。好ましくは、積層型感光層である。
【００１４】
図１に、本発明の電子写真感光体の層構成の例を示す。図１において、１０１は支持体であり、１０２は下引き層であり、１０３は電荷発生層であり、１０４は電荷輸送層である。
【００１５】
〔支持体〕
支持体としては、導電性を有するもの（導電性支持体）が好ましい。例えば、アルミニウム、ニッケル、銅、金、鉄などの金属又は合金製の支持体を用いることができる。ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリイミド樹脂、ガラスなどの絶縁性支持体上にアルミニウム、銀、金などの金属の薄膜を形成した支持体、又は酸化インジウム、酸化スズなどの導電性材料の薄膜を形成した支持体が挙げられる。
【００１６】
支持体の表面には、電気的特性の改善や干渉縞の抑制のため、陽極酸化などの電気化学的な処理や、湿式ホーニング処理、ブラスト処理、切削処理などを施してもよい。
【００１７】
〔導電層〕
支持体と、下引き層との間には、導電層を設けてもよい。導電層は、導電性粒子を樹脂に分散させた導電層用塗布液の塗膜を支持体上に形成し、塗膜を乾燥させることで得られる。導電性粒子としては、たとえば、カーボンブラック、アセチレンブラックや、アルミニウム、ニッケル、鉄、ニクロム、銅、亜鉛、銀のような金属粉や、導電性酸化スズ、ＩＴＯのような金属酸化物粉体が挙げられる。
【００１８】
また、樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、フェノール樹脂およびアルキッド樹脂が挙げられる。
【００１９】
導電層用塗布液の溶剤としては、例えば、エーテル系溶剤、アルコール系溶剤、ケトン系溶剤および芳香族炭化水素溶剤が挙げられる。導電層の膜厚は、０．２μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましく、１μｍ以上３５μｍ以下であることがより好ましく、さらには５μｍ以上３０μｍ以下であることがより好ましい。
【００２０】
〔下引き層〕
支持体または導電層と感光層との間には下引き層が形成される。
【００２１】
下引き層１０２には、樹脂及び、無機粒子を含有する。または、樹脂を含む組成物の重合物及び無機粒子を含有する。下引き層には、さらに電子輸送物質を含有していてもよい。本発明において好ましくは、下引き層が、樹脂、電子輸送物質、および架橋剤を含む組成物の重合物を含有することである。また、その他必要に応じて、レベリング剤や酸化防止剤、分散助剤などの添加剤や、導電剤等を加えてもよい。
【００２２】
支持体と上記下引き層との間や上記下引き層と感光体の間に、第二の下引き層などの別の層を設けてもよい。
【００２３】
下引き層用塗布液は、以下のように製造する。まず、最初の工程は、樹脂と有機溶剤と混合して溶液を調製し、溶液の粘度が、１００ｍＰａ・ｓ以下であることを特徴とする。そして、この溶液に無機粒子のスラリーを添加して下引き層用塗布液を調製する工程を有する。この溶液には、さらに、電子輸送物質、架橋剤、触媒を含有してもよい。
【００２４】
電子輸送物質としては、例えばキノン化合物、イミド化合物、ベンゾミダゾール化合物、シクロペンタジエニリデン化合物が挙げられる。電子輸送物質は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、メトキシ基などの重合性官能基を有することが好ましい。極性基は、電子輸送を担う骨格構造に直接結合しても、側鎖中に存在してもよい。
【００２５】
以下に、電子輸送物質の具体例として、下記式（Ａ−１）〜（Ａ−１１）のいずれかで示される化合物を示す。
【００２６】
【化１】
2016153854.tif 000002
【００２７】
式（Ａ１）〜（Ａ１１）中、Ｒ１１〜Ｒ１６、Ｒ２１〜Ｒ３０、Ｒ３１〜Ｒ３８、Ｒ４１〜Ｒ４８、Ｒ５１〜Ｒ６０、Ｒ６１〜Ｒ６６、Ｒ７１〜Ｒ７８、Ｒ８１〜Ｒ９０、Ｒ９１〜Ｒ９８は、Ｒ１０１〜Ｒ１１０は、Ｒ１１１〜Ｒ１２０は、それぞれ独立に、下記式（α）で示される１価の基、水素原子、シアノ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基、置換もしくは無置換のアルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、又は置換もしくは無置換の複素環を示す。アルキル基の主鎖中の炭素原子の１つがＯ、Ｓ、ＮＨ又はＮＲ１２１（Ｒ１２１はアルキル基）で置き換わっていても良い。Ｒ１１〜Ｒ１６の少なくとも１つ、Ｒ２１〜Ｒ３０の少なくとも１つ、Ｒ３１〜Ｒ３８の少なくとも１つ、Ｒ４１〜Ｒ４８の少なくとも１つ、Ｒ５１〜Ｒ６０の少なくとも１つ、Ｒ６１〜Ｒ６６の少なくとも１つ、Ｒ７１〜Ｒ７８の少なくとも１つ、Ｒ８１〜Ｒ９０の少なくとも１つ、Ｒ９１〜Ｒ９８の少なくとも１つ、Ｒ１０１〜Ｒ１１０の少なくとも１つ、Ｒ１１１〜Ｒ１２０の少なくとも１つは、式（α）で示される１価の基を有する。
【００２８】
置換のアルキル基の置換基は、アルキル基、アリール基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基である。置換のアリール基の置換基、置換の複素環基の置換基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、アルキル基、ハロゲン置換アルキル基、アルコキシ基である。Ｚ２１、Ｚ３１、Ｚ４１及びＺ５１は、それぞれ独立に、炭素原子、窒素原子、又は酸素原子を示す。Ｚ２１が酸素原子である場合はＲ２９及びＲ３０は存在せず、Ｚ２１が窒素原子である場合はＲ３０は存在しない。Ｚ３１が酸素原子である場合はＲ３７及びＲ３８は存在せず、Ｚ３１が窒素原子である場合はＲ３８は存在しない。Ｚ４１が酸素原子である場合はＲ４７及びＲ４８は存在せず、Ｚ４１が窒素原子である場合はＲ４８は存在しない。Ｚ５１が酸素原子である場合はＲ５９及びＲ６０は存在せず、Ｚ５１が窒素原子である場合はＲ６０は存在しない。
【００２９】
【化２】
2016153854.tif 000003
【００３０】
式（α）中、α、β、及びγの少なくとも１つは重合性官能基を有する基であり、重合性官能は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基からなる群より選択される少なくとも１種の基である。ｌ及びｍは、それぞれ独立に、０又は１であり、ｌとｍの和は、０以上２以下である。
【００３１】
αは、主鎖の原子数が１〜６のアルキレン基、炭素数１〜６のアルキル基で置換された主鎖の原子数が１〜６のアルキレン基、ベンジル基で置換された主鎖の原子数１〜６のアルキレン基、アルコシキカルボニル基で置換された主鎖の原子数１〜６のアルキレン基、又はフェニル基で置換された主鎖の原子数が１〜６のアルキレン基を示す。これらの基は、重合性官能基を有しても良い。アルキレン基の主鎖中の炭素原子の１つは、Ｏ、Ｓ、ＮＲ１２２（式中、Ｒ１２２は、水素原子、又はアルキル基を示す。）で置き換わっても良い。
【００３２】
βは、フェニレン基、炭素数１〜６のアルキル置換フェニレン基、ニトロ置換フェニレン基、ハロゲン基置換フェニレン基、又はアルコキシ基置換フェニレン基を示す。これらの基は、重合性官能基を有しても良い。
【００３３】
γは、水素原子、主鎖の原子数が１〜６のアルキル基、又は炭素数１〜６のアルキル基で置換された主鎖の原子数が１〜６のアルキル基を示す。これらの基は、重合性官能基を有しても良い。アルキル基の主鎖中の炭素原子の１つは、Ｏ又はＳ又はＮＲ１２３（式中、Ｒ１２３は、水素原子又はアルキル基を示す。）で置き換わっていても良い。
【００３４】
（Ａ２）〜（Ａ６）、（Ａ９）のいずれか構造を有する誘導体（電子輸送物質の誘導体）は、東京化成工業（株）やシグマアルドリッチジャパン（株）やジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能である。（Ａ１）の構造を有する誘導体は、東京化成工業（株）、又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成可能である。（Ａ７）の構造を有する誘導体は、東京化成工業（株）又はシグマアルドリッチジャパン（株）から購入可能なフェノール誘導体を原料として合成可能である。（Ａ８）の構造を有する誘導体は、東京化成工業（株）やシグマアルドリッチジャパン（株）から購入可能なペリレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体との反応で合成することが可能である。（Ａ１０）の構造を有する誘導体は、例えば特許第３７１７３２０号公報記載の公知の合成方法を用いて、ヒドラゾン構造を有するフェノール誘導体を、有機溶媒中、過マンガン酸カリウム等の適当な酸化剤で酸化する事によって合成可能である。（Ａ１１）の構造を有する誘導体は、東京化成工業（株）、シグマアルドリッチジャパン（株）又はジョンソン・マッセイ・ジャパン・インコーポレイテッド社から購入可能なナフタレンテトラカルボン酸二無水物とモノアミン誘導体とヒドラジンとの反応で合成可能である。
【００３５】
（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかで示される化合物には、架橋剤と重合可能な重合性官能基（ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基及びメトキシ基）を有してもよい。（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかの構造を有する誘導体に重合性官能基を導入して、（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかで示される化合物を合成する方法として、以下のような方法が挙げられる。例えば、（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかの構造を有する誘導体を合成した後、直接重合性官能基を導入する方法がある。また、重合性官能基又は重合性官能基の前駆体と成り得る官能基を有する構造を導入する方法がある。後述の方法としては、（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかの構造を有する誘導体のハロゲン化物を元に、例えばパラジウム触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基を有するアリール基を導入する方法がある。また、（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかの構造を有する誘導体のハロゲン化物を元に、ＦｅＣｌ３触媒と塩基を使用したクロスカップリング反応を用い、官能基を有するアルキル基を導入する方法がある。また、（Ａ１）〜（Ａ１１）のいずれかの構造を有する誘導体のハロゲン化物を元に、リチオ化を経た後にエポキシ化合物やＣＯ２を作用させ、ヒドロキシアルキル基やカルボキシル基を導入する方法がある。
【００３６】
次に、架橋剤について説明する。
【００３７】
架橋剤としては、重合性官能基を有する電子輸送物質、及び樹脂（重合性官能基を有する樹脂）と重合又は架橋する化合物を用いることができる。具体的には、山下晋三，金子東助編「架橋剤ハンドブック」大成社刊（１９８１年）等に記載されている化合物等を用いることができる。
【００３８】
下引き層に用いる架橋剤は、好ましくは、イソシアネート化合物、アミン化合物である。イソシアネート基又はブロックイソシアネート基を２〜６個有しているイソシアネート化合物が好ましい。例えば、トリイソシアネートベンゼン、トリイソシアネートメチルベンゼン、トリフェニルメタントリイソシアネート、リジントリイソシアネートの他、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネートジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、メチル−２，６−ジイソシアネートヘキサノエート、ノルボルナンジイソシアネート等のジイソシアネートのイソシアヌレート変性体、ビウレット変性体、アロファネート変性体、トリメチロールプロパンやペンタエリスリトールとのアダクト変性体等が挙げられる。これらの中でもイソシアヌレート変性体とアダクト変性体がより好ましい。
【００３９】
ブロックイソシアネート基は、−ＮＨＣＯＸ１（Ｘ１は保護基）という構造を有する基である。Ｘ１は、イソシアネート基に導入可能な保護基であれば何れでも良いが、下記式（Ｈ１）〜（Ｈ６）で示される基がより好ましい。
【００４０】
【化３】
2016153854.tif 000004
【００４１】
以下に、イソシアネート化合物の具体例を示す。
【００４２】
【化４】
2016153854.tif 000005
【００４３】
【化５】
2016153854.tif 000006
【００４４】
アミン化合物としては、例えば、Ｎ−メチロール基またはアルキルエーテル化されたＮ−メチロール基を複数個（２個以上）有しているアミン化合物が好ましい。アミン化合物としては、例えば、メラミン化合物、グアナミン化合物、尿素化合物が挙げられる。具体的には、下記式（Ｃ１）〜（Ｃ５）のいずれかで示される化合物、又は、下記式（Ｃ１）〜（Ｃ５）のいずれかで示される化合物のオリゴマーが好ましい。
【００４５】
【化６】
2016153854.tif 000007
【００４６】
式（Ｃ１）〜（Ｃ５）中、Ｒ１１〜Ｒ１６、Ｒ２２〜Ｒ２５、Ｒ３１〜Ｒ３４、Ｒ４１〜Ｒ４４、及びＲ５１〜Ｒ５４は、それぞれ独立に、水素原子、ヒドロキシ基、アシル基又は−ＣＨ２−ＯＲ１で示される１価の基を示す。Ｒ１１〜Ｒ１６の少なくとも１つ、Ｒ２２〜Ｒ２５の少なくとも１つ、Ｒ３１〜Ｒ３４の少なくとも１つ、Ｒ４１〜Ｒ４４の少なくとも１つ、及びＲ５１〜Ｒ５４の少なくとも１つは、−ＣＨ２−ＯＲ１で示される１価の基である。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１以上１０以下のアルキル基を示す。アルキル基としてはメチル基、エチル基、プロピル基（ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基）、ブチル基（ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基）などが、重合性の観点から好ましい。Ｒ２１は、アリール基、アルキル基置換のアリール基、シクロアルキル基、又はアルキル基置換のシクロアルキル基を示す。
【００４７】
上記式（Ｃ１）で示される化合物の一般的に購入可能なものとしては、例えば、スーパーメラミＮｏ．９０（日本油脂社製）、スーパーベッカミン（Ｒ）ＴＤ−１３９−６０、Ｌ−１０５−６０、Ｌ１２７−６０、Ｌ１１０−６０、Ｊ−８２０−６０、Ｇ−８２１−６０（ＤＩＣ社製）、ユーバン２０２０（三井化学）、スミテックスレジンＭ−３（住友化学工業）、ニカラックＭＷ−３０、ＭＷ−３９０、ＭＸ−７５０ＬＭ（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。上記式（Ｃ２）で示される化合物の一般的に購入可能なものをしては、例えば、”スーパーベッカミン（Ｒ）Ｌ−１４８−５５、１３−５３５、Ｌ−１４５−６０、ＴＤ−１２６（ＤＩＣ社製）、ニカラックＢＬ−６０、ＢＸ−４０００（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。上記式（Ｃ３）で示される化合物の一般的に購入可能なものとしては、例えば、ニカラックＭＸ−２８０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。上記式（Ｃ４）で示される化合物の一般的に購入可能なものとしては、例えば、ニカラックＭＸ−２７０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。上記式（Ｃ５）で示される化合物の一般的に購入可能なものとしては、例えば、ニカラックＭＸ−２９０（日本カーバイド社製）、などが挙げられる。
【００４８】
次に樹脂について説明する。樹脂としては、アセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアリレート樹脂などが挙げられる。下引き層が上記重合物を形成する観点から、下記式（Ｄ）で示される構造単位を有する樹脂が好ましい。
【００４９】
【化７】
2016153854.tif 000008
【００５０】
式（Ｄ）中、Ｒ６１は、水素原子又はアルキル基を示す。Ｙ１は、単結合、アルキレン基又はフェニレン基を示す。Ｗ１は、ヒドロキシ基、チオール基、アミノ基、カルボキシル基、又はメトキシ基を示す。
【００５１】
式（Ｄ）で示される構造単位を有する樹脂としては、例えば、アセタール樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂が挙げられる。上記式（Ｄ）で示される構造単位は、以下に示す特徴的な構造の中に有してもよいし、特徴的な構造以外に有してもよい。特徴的な構造を以下の（Ｅ−１）〜（Ｅ−６）に示す。（Ｅ−１）は、アセタール樹脂の構造単位である。（Ｅ−２）は、ポリオレフィン樹脂の構造単位である。（Ｅ−３）は、ポリエステル樹脂の構造単位である。（Ｅ−４）は、ポリエーテル樹脂の構造単位である。（Ｅ−５）は、ポリアミド樹脂の構造単位である。
【００５２】
【化８】
2016153854.tif 000009
【００５３】
上記式中、Ｒ２０１〜Ｒ２０５は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基、又は置換もしくは無置換のアリール基を示す。Ｒ２０６〜Ｒ２１０は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキレン基、置換もしくは無置換のアリーレン基を示す。Ｒ２０１がＣ３Ｈ７である場合はブチラールと示す。
【００５４】
式（Ｄ）で示される構造単位を有する樹脂（以下樹脂Ｄとも称する）は、例えば、シグマアルドリッチジャパン（株）や東京化成工業（株）から購入可能な、重合性官能基を有するモノマーを重合させることで得られる。
【００５５】
【表１】
2016153854.tif 000010
【００５６】
上記式（Ｄ）で示される構造単位を有する樹脂の購入可能な樹脂としては、以下のものが挙げられる。日本ポリウレタン工業（株）製ＡＱＤ−４５７、ＡＱＤ−４７３、三洋化成工業（株）製サンニックスＧＰ−４００、ＧＰ−７００などのポリエーテルポリオール系樹脂、日立化成工業（株）製フタルキッドＷ２３４３、ＤＩＣ（株）製ウォーターゾールＳ−１１８、ＣＤ−５２０、ハリマ化成（株）製ハリディップＷＨ−１１８８などのポリエステルポリオール系樹脂、ＤＩＣ（株）製バーノックＷＥ−３００、ＷＥ−３０４などのポリアクリルポリオール系樹脂、（株）クラレ製クラレポバールＰＶＡ−２０３などのようなポリビニルアルコール系樹脂、積水化学工業（株）製ＫＷ−１およびＫＷ−３、ＢＸ−１、ＢＭ−１、ＫＳ−１、ＫＳ−３、ＫＳ−５Ｚなどのポリビニルアセタール系樹脂、ナガセケムテックス（株）製トレジンＦＳ−３５０などのポリアミド化合物系樹脂、日本触媒（株）製アクアリック、鉛市（株）製ファインレックスＳＧ２０００などのカルボキシル基含有樹脂、ＤＩＣ（株）製ラッカマイドなどのポリアミン、東レ（株）製ＱＥ−３４０Ｍなどのポリチオールが挙げられる。
【００５７】
樹脂Ｄの重量平均分子量（Ｍｗ）は５０００〜４０００００の範囲であることがより好ましい。
【００５８】
樹脂を架橋剤とともに使う場合、重合を促進する目的で触媒を含有してもよい。触媒として、例えば、ジブチルスズジラウレート、アミン触媒、金属石鹸などが挙げられる。
【００５９】
下引き層用塗布液に用いられる有機溶媒としては、メタノール、ブタノール等のアルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００６０】
本発明においては、塗工性の観点から、粘度が１００ｍＰａ・ｓ以下とすることで、無機粒子のスラリーを添加した後の分散性が良好となる。これは、液粘度が上記の範囲にすることで、異なる溶剤種、粘度のものであっても混和しやすくなるためであると考えている。また、上記の溶液の粘度が１００ｍＰａ・ｓよりも高すぎると、無機粒子のスラリーを添加して下引き層用塗布液と調製し、１μｍ以下の薄膜を形成する場合、塗工に時間を要してしまうため好ましくないことも理由のひとつである。
【００６１】
粘度の測定は、芝浦システム社製ビスメトロン粘度計（ＶＤＡ−Ｌ型）を用い、６０ｒｐｍで測定を行った。粘度が５０ｍＰａ・ｓ以下の液の場合は、東機産業（株）製のＴＶＢ−１０Ｍ型の低粘度用ロータを用いた。
【００６２】
本発明の溶液において、粘度変化が大きくなりすぎることを抑制する観点から、溶液の固形分濃度が６０質量％以下であることが好ましい。より好ましくは、２０質量％以下である。
【００６３】
次に、無機粒子のスラリーについて説明する。本発明の無機粒子のスラリーには、スラリーの分散性向上のために、さらに樹脂を含有してもよい。
【００６４】
無機粒子としては、無機酸化物粒子が好ましい。具体的には、酸化ケイ素粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化スズ粒子、酸化ジルコニウム粒子や、酸化アルミニウム粒子などが挙げられる。これらの無機酸化物粒子は、下引き層用塗布液の分散性、電子写真感光体の電気特性の面から、表面処理を施されていてもよい。また、無機粒子は、材料種の異なるもの、表面処理の異なるもの、または比表面積の異なるもの等の２種類以上を混合して用いることもできるし、シリカ粒子やアルミナ粒子などの種々の複合酸化物粒子を用いてもよい。
【００６５】
さらに、無機粒子のスラリーの分散性および安定性を高める目的で、スラリー中に分散剤を添加してもよい。分散剤としては、アルキルエステルや、ポリエーテルといった主鎖を持つ高分子系の分散剤などが挙げられる。
【００６６】
無機粒子のスラリーを得る方法については、市販の無機粒子スラリーを用いる他に、粉末の無機粒子を有機溶媒中に分散させる方法がある。分散方法としては、ホモジナイザー、超音波分散機、ボールミル、サンドミル、ロールミル、振動ミルを用いた方法が挙げられる。
【００６７】
無機粒子のスラリー中の無機粒子の平均一次粒径は、液安定性の観点から、３００ｎｍ以下が好ましい。より好ましくは、１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。粒子径が大きすぎると、分散安定性が悪化し、逆に小さすぎると、粒子同士で凝集し分散性が劣る場合がある。
【００６８】
無機粒子のスラリー中には、硫酸イオンや、アルカリ金属・アルカリ土類金属イオン等のイオン性不純物や、蟻酸、クエン酸等の有機酸が含まれていてもよい。
【００６９】
また、特に親水性の無機粒子、表面が修飾されていても水酸基がある程度残るような無機粒子を用いた場合は、下引き層用塗布液中に水分を含むことがある。後述の様に、樹脂などと混合させて下引き層用塗布液を調製する場合に、水分量として問題が無い範囲であれば、水は含んでいてもよい。
【００７０】
無機粒子のスラリーには、有機溶剤を含有する。有機溶媒としては、メタノール、ブタノール等のアルコール系溶剤や、ケトン系溶剤、スルホキシド系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤または芳香族炭化水素系溶剤などが挙げられる。
【００７１】
無機粒子のスラリーにおいて、無機粒子の固形分濃度は、５〜６０質量％程度が好ましい。より好ましくは、２０質量％以下である。６０％よりも固形分が高いと、凝集が起こりやすく、良い分散状態が得られない。
【００７２】
無機粒子のスラリーの粘度は、好ましくは２００ｍＰａ・ｓ以下、より好ましくは５０ｍＰａ・ｓ以下である。この範囲であれば、上記溶液との混合の際の分散性が良好である。
【００７３】
無機粒子のスラリーは保管中、溶媒の揮発によって保管容器の壁面や蓋付近に乾固した固形物が生じる場合がある。このように凝集した大きな粒子を取り除く目的で、上記溶液に添加する際は目的の粒子径にあわせて適切に選んだメッシュ（ポリエステル製やナイロン製といった合成繊維網など）や濾紙などを介して添加してもよい。
【００７４】
無機粒子のスラリーを添加した後は、混合液を１時間ほど撹拌するのが好ましい。また、無機粒子のスラリーを添加する時に、溶液を撹拌しながら添加するとより分散の効率が高くなる。
【００７５】
無機粒子のスラリーの保管環境によっては、下引き層用塗布液中に水分を含むことがある。下引き層用塗布液中の水分量は、水分気化式カールフィッシャー法に基づく質量基準含水率で０．１〜１０質量％程度含む場合がある。成膜上・電気特性の観点から、１０質量％よりも少ないことが好ましい。
【００７６】
上記溶液の固形分濃度や、無機粒子スラリー中の無機粒子の固形分濃度の測定は加熱乾燥重量法で行う。具体的には秤量されたアルミケーキカップに１〜２ｇの測定液（溶液、無機粒子スラリー）を滴下し秤量する。測定液（溶液、無機粒子スラリー）の質量をＲ１（ｇ）とする。固形分のみが残る温度で一定時間加熱乾燥し、アルミケーキカップに残った固形分を秤量し得られた、固形分の質量をＲ２（ｇ）とする。Ｒ１とＲ２の値から溶液の固形分濃度、無機粒子スラリーの固形分濃度を以下の式（１）で求める。
【００７７】
固形分（％）＝Ｒ２／Ｒ１×１００（１）
下引き層用塗布液中の水分量を測定する測定機器は、平沼産業株式会社製の水分測定装置（製品名：ＡＱ−２１００）を用いられる。この測定機器を用い、試薬として、林純薬社製ハイドラナール−クーロマットＡＧ（電界液）と、林純薬社製ハイドラナール−クーロマットＣＧ（対極液）を用い、Ｍｉｎｉｍｕｍ  Ｃｏｕｎｔ  ５μｇとし、キャリアガスとして窒素を約１５０ｍＬ／分流しながら１２０℃にて測定を行った。
【００７８】
溶媒の揮発によって、下引き層用塗布液を調製する容器の壁面などに乾固した固形物が生じる場合があるため、下引き層用塗布液を使用するに際しては、固形物を取り除く目的でろ過を行うことが好ましい。
【００７９】
固形物は、ろ過時間の短縮・目詰まり防止のためにプレフィルターを設けてもよいし、より清浄度を高める目的で循環ろ過を行ってもよい。濾過時のフィルターについては、耐溶剤性があるテフロン製のフィルターが特に好ましい。また、フィルターの目は、目的の粒子径が通る程度であればよい。
【００８０】
上述のようにして調製された下引き層用塗布液を塗布して塗膜を形成し、塗膜を乾燥させることによって下引き層を形成することができる。
【００８１】
下引き層用塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。
【００８２】
浸漬塗布の際、被塗布物を浸漬する塗布槽の液面では溶剤の揮発による濃度変化が著しく、塗布槽の上下方向に濃度勾配が生じ感光体の塗布ムラとなる。このように静置した塗布液を用いる浸漬塗布法では、上に示すような不都合が生じ、さらに大量生産の際にはこの不都合がより顕著にあらわれる。このような液濃度の不均一性を改善する目的で、塗布槽とは別に設けられた回収タンクとの間で塗布液を連続的に循環させた状態で塗布する方法を用いてもよい。循環器に内蔵されたポンプとして、ダイヤフラムポンプ等が用いられるが、液の脈動による塗布槽の内の流速が不安定になるために、結果的に塗布体表面に形成される膜ムラなどの欠陥原因となる場合がある。この欠点を改善する方法として、貯留槽から塗布槽への送液にはポンプ等の動力源を用いず、サイホンの原理に基づいた塗布液の重力のみを利用した送液方法とすることで、塗布槽における塗布液の脈動を防止する方法が有効である。具体的には、塗布槽、回収タンク、塗布槽より高い位置に第三の槽である貯留槽を設け、液送手段による脈動が塗布槽まで伝播されないよう、塗布液が貯留槽内に送られる際に一度大気圧下に開放させ、加圧状態を解除する方法である。更に、貯留槽内の液面高さを一定に維持する目的で、特開２００６−３２０７９１号公報に記載されているように、貯留槽において塗布液をオーバーフローさせることにより、塗布液の脈動を貯留槽のオーバーフロー側に吸収させる機構を持たせるとなお良い。
【００８３】
更に、下引き層用塗布液中に混入したゴミ・ホコリ等を取り除く目的で、循環器の流路中にフィルターを設けてもよい。
【００８４】
また、本発明で得られる下引き層用塗布液は、分散性に優れるために、複数本の同時塗布時にも優れた塗工性を示す。
【００８５】
下引き層用塗布液の塗膜を加熱乾燥させるときの加熱温度は、５０〜２００℃の温度であることが好ましい。
【００８６】
下引き層の膜厚は、０．５μｍ以上１５μｍ以下が好ましく、０．５μｍ以上５μｍ以下がより好ましい。
【００８７】
下引き層の乾燥膜厚の測定には、フィルメトリクス社製の反射分光法による膜厚測定システム（製品名：Ｆ２０）を用い、ピークバレイ法による解析を経て膜厚を得ることができる。
【００８８】
〔電荷発生層〕
下引き層の直上には、電荷発生層が設けられる。
【００８９】
電荷発生物質としては、アゾ顔料、ペリレン顔料、アントラキノン誘導体、アントアントロン誘導体、ジベンズピレンキノン誘導体、ピラントロン誘導体、ビオラントロン誘導体、イソビオラントロン誘導体、インジゴ誘導体、チオインジゴ誘導体、金属フタロシアニン、無金属フタロシアニンなどのフタロシアニン顔料や、ビスベンズイミダゾール誘導体などが挙げられる。これらの中でも、アゾ顔料、及びフタロシアニン顔料の少なくとも一方が好ましい。フタロシアニン顔料の中でも、オキシチタニウムフタロシアニン、クロロガリウムフタロシアニン、ヒドロキシガリウムフタロシアニンが好ましい。
【００９０】
オキシチタニウムフタロシアニンとしては、以下のような結晶形を有するものが好ましい。ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の９．０°、１４．２°、２３．９°及び２７．１°にピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶。ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角度（２θ±０．２°）の９．５°、９．７°、１１．７°、１５．０°、２３．５°、２４．１°及び２７．３°に強いピークを有する結晶形のオキシチタニウムフタロシアニン結晶。
【００９１】
ヒドロキシガリウムフタロシアニンとしては、以下のような結晶形を有するものが好ましい。ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．３°、２４．９°及び２８．１°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶。ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°及び２８．３°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶。
【００９２】
電荷発生層に用いられる結着樹脂としては、例えば、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、フッ化ビニリデン、トリフルオロエチレンなどのビニル化合物の重合体及び共重合体や、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリフェニレンオキサイド樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリビニルアセタール樹脂が好ましく、ポリビニルアセタールがより好ましい。
【００９３】
電荷発生層において、電荷発生物質と結着樹脂との質量比率（電荷発生物質／結着樹脂）は、１０／１〜１／１０の範囲であることが好ましく、５／１〜１／５の範囲であることがより好ましい。電荷発生層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。電荷発生層の膜厚は、０．０５μｍ以上５μｍ以下であることが好ましい。
【００９４】
〔電荷輸送層〕
電荷発生層上には電荷輸送層が形成される。
【００９５】
電荷輸送物質としては、例えば、多環芳香族化合物、複素環化合物、ヒドラゾン化合物、スチリル化合物、ベンジジン化合物、トリアリールアミン化合物、トリフェニルアミン、又は、これらの化合物から誘導される基を主鎖又は側鎖に有するポリマーが挙げられる。これらの中でもトリアリールアミン化合物、ベンジジン化合物、又はスチリル化合物が好ましい。
【００９６】
正孔輸送層に用いられる結着樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリメタクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリスチレン樹脂などが挙げられる。これらの中でも、ポリカーボネート樹脂及びポリアリレート樹脂が好ましい。また、これらの分子量としては、重量平均分子量（Ｍｗ）＝１０，０００〜３００，０００の範囲が好ましい。
【００９７】
電荷輸送層において、電荷輸送物質と結着樹脂との質量比率（電荷輸送物質／結着樹脂）は、１０／５〜５／１０が好ましく、１０／８〜６／１０がより好ましい。
【００９８】
電荷輸送層の膜厚は、３μｍ以上４０μｍ以下であることが好ましい。下引き層との膜厚との観点から、より好ましくは５μｍ以上１６μｍ以下である。電荷輸送層用塗布液に用いられる溶剤は、アルコール系溶剤、スルホキシド系溶剤、ケトン系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤又は芳香族炭化水素溶剤などが挙げられる。
【００９９】
また、電荷輸送層上に保護層を形成してもよい。保護層は、導電性粒子又は電荷輸送物質と結着樹脂とを含有する。また、表面保護層は、潤滑剤などの添加剤をさらに含有してもよい。また、保護層の結着樹脂自体に導電性や電荷輸送性を有させてもよく、その場合、保護層には、当該樹脂以外の導電性粒子や電荷輸送物質を含有させなくてもよい。また、保護層の結着樹脂は、熱可塑性樹脂でもよいし、熱、光、放射線（電子線など）などにより重合させてなる硬化性樹脂であってもよい。
【０１００】
導電層、電荷発生層、電荷輸送層などの電子写真感光体を構成する各層を形成する方法としては、各層を構成する材料を溶剤に溶解及び／又は分散させて得られた塗布液を塗布し、得られた塗膜を乾燥及び／又は硬化させることによって形成する方法が好ましい。塗布液を塗布する方法としては、例えば、浸漬塗布法（浸漬コーティング法）、スプレーコーティング法、カーテンコーティング法、スピンコーティング法などが挙げられる。これらの中でも、効率性及び生産性の観点から、浸漬塗布法が好ましい。
【実施例】
【０１０１】
以下、実施例により、本発明をより詳細に説明するが、本発明は以下に限定されるものではない。なお、実施例中の「部」は「質量部」を意味する。
【０１０２】
以下の実施例で用いる電子輸送物質の構造については、以下に示す。
【０１０３】
（実施例１）
長さ２６０．５ｍｍおよび直径３０ｍｍのアルミニウムシリンダー（ＪＩＳ−Ａ３００３、アルミニウム合金）を支持体（導電性支持体）とした。
【０１０４】
〔導電層〕
次に、導電性粒子としての、酸素欠損型酸化スズ（ＳｎＯ２）が被覆されている酸化チタン（ＴｉＯ２）粒子２１４部、
結着材料としてのフェノール樹脂（フェノール樹脂のモノマー／オリゴマー）（商品名：プライオーフェンＪ−３２５、大日本インキ化学工業（株）製、樹脂固形分：６０質量％）１３２部、および、
溶剤としての１−メトキシ−２−プロパノール９８部を、
直径０．８ｍｍのガラスビーズ４５０部を用いたサンドミルに入れ、回転数：２０００ｒｐｍ、分散処理時間：４．５時間、冷却水の設定温度：１８℃の条件で分散処理を行い、分散液を得た。
【０１０５】
この分散液からメッシュ（目開き：１５０μｍ）でガラスビーズを取り除いた。ガラスビーズを取り除いた後の分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して１０質量％になるように、表面粗し付与材としてのシリコーン樹脂粒子（商品名：トスパール１２０、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ（株）製、平均粒径２μｍ）を分散液に添加した。また、分散液中の金属酸化物粒子と結着材料の合計質量に対して０．０１質量％になるように、レベリング剤としてのシリコーンオイル（商品名：ＳＨ２８ＰＡ、東レ・ダウコーニング（株）製）を分散液に添加して撹拌することによって、導電層用塗布液を調製した。この導電層用塗布液を支持体上に浸漬塗布し、得られた塗膜を３０分間１５０℃で乾燥・熱硬化させることによって、膜厚が３０μｍの導電層１を形成した。
【０１０６】
〔下引き層〕
（下引き層塗布液の作成）
下記式（Ａ１）で示される電子輸送物質４．６部、
【０１０７】
【化９】
2016153854.tif 000011
【０１０８】
ブロックされたイソシアネート化合物（商品名：ＳＢＮ−７０Ｄ、旭化成ケミカルズ（株）製）８．６部、および
ポリビニルアセタール樹脂（商品名：ＫＳ−５Ｚ、積水化学工業（株）製）０．６部、を
１−メトキシ−２−プロパノール５０部とテトラヒドロフラン５０部の混合溶媒に溶解し、触媒としてヘキサン酸亜鉛（ＩＩ）（商品名：ヘキサン酸亜鉛（ＩＩ）、三津和化学薬品（株）製）０．１５部を加え、固形分濃度１２質量％の溶液を調製した。上記の材料の溶解を確認した後に粘度を測定すると、３．５ｍＰａ・ｓで、溶液中の水分量は０．１６％であった。ブロックされたイソシアネート化合物は、（Ｂ１）で示される骨格を持ち、ブロック基として（Ｈ１）を有する。
【０１０９】
この溶液にイソプロピルアルコールに分散された平均一次粒子径が９−１５ｎｍのシリカスラリー（製品名：ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、日産化学工業（株）製、固形分濃度：１５質量％、粘度：９ｍＰａ・ｓ）を、東京スクリーン（株）製のナイロンスクリーンメッシュシート（製品名：Ｎ−Ｎｏ．１５０Ｔ）を通し１．８部加え、１時間撹拌した。その後、ＡＤＶＡＮＴＥＣ（株）製のテフロン製フィルター（製品名：ＰＦ０２０）を用いて加圧ろ過し、下引き層用塗布液を調製した。
【０１１０】
無機粒子のスラリーの粒子径は、スペクトリス社製の動的光散乱法による粒子径測定装置（製品名：ゼ―タサイザーナノＮａｎｏ−ＺＳ）を用いて測定した。測定の際は、無機粒子のスラリー（原液）をＴＨＦ／メトキシプロパノールで７０倍に希釈しサンプルを調製し個数平均粒子径を測定した。
【０１１１】
〔無機粒子の分散性〕
無機粒子の分散性の評価は、無機粒子のスラリー中の無機粒子の個数平均粒子径と、下引き層用塗布液中の無機粒子の個数平均粒子径とを上述のように測定し、両者の無機粒子の個数平均粒子径を比較して分散性の指標とした。
【０１１２】
その結果、無機粒子のスラリー中の無機粒子の個数平均粒子径は３７ｎｍであり、下引き層用塗布液中の無機粒子の個数平均粒子径は、３９ｎｍであった。したがって、無機粒子の個数平均粒子径の差は、２ｎｍとなる。
【０１１３】
この下引き層用塗布液を用いて、導電層上に塗工速３００ｍｍ／ｓｅｃで、特開２００６−３２０７９１号公報の図４に記載の構成の循環器で浸漬塗布して塗膜を形成した。この塗膜を２０分間１７０℃で加熱し、硬化（重合）させることによって、０．７μｍの下引き層を形成した。なお、下引き層の乾燥膜厚の測定には、塗料をアルミシリンダー上に直接塗布し、フィルメトリクス社製の反射分光法による膜厚測定システム（製品名：Ｆ２０）を用いた。
【０１１４】
〔電荷発生層〕
次に、ＣｕＫα特性Ｘ線回折におけるブラッグ角（２θ±０．２°）の７．５°、９．９°、１２．５°、１６．３°、１８．６°、２５．１°および２８．３°にピークを有する結晶形のヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶（電荷発生物質）を用意した。このヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１０部、ポリビニルブチラール（商品名：エスレックＢＸ−１、積水化学工業（株）製）５部およびシクロヘキサノン２５０部を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いたサンドミルに入れ、２時間分散処理した。次に、これに酢酸エチル２５０部を加えることによって、電荷発生層用塗布液を調製した。
【０１１５】
この電荷発生層用塗布液を、下引き層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を１０分間９５℃で乾燥させることによって、膜厚が０．１７μｍの電荷発生層を形成した。
【０１１６】
〔電荷輸送層〕
次に、下記式（１）で示されるアミン化合物（正孔輸送物質）を７部、下記式（２）で示されるアミン化合物を１部、
【０１１７】
【化１０】
2016153854.tif 000012
【０１１８】
【化１１】
2016153854.tif 000013
【０１１９】
ならびに、下記式（Ｃ−１）および（Ｃ−２）で示される繰り返し構造単位を５／５のモル比で有している、重量平均分子量（Ｍｗ）が１００，０００であるポリエステル樹脂（Ｐ１）１０部を、
【０１２０】
【化１２】
2016153854.tif 000014
【０１２１】
ジメトキシメタン４０部およびｏ−キシレン６０部の混合溶剤に溶解させることによって、電荷輸送層用塗布液を調製した。
【０１２２】
この電荷輸送層用塗布液を、電荷発生層上に浸漬塗布し、得られた塗膜を４０分間１２０℃で乾燥させることによって、膜厚が１５μｍの電荷輸送層を形成した。
【０１２３】
（黒ポチ評価）
製造した評価用の電子写真感光体を、キヤノン（株）製のレーザービームプリンター（商品名：ＬＢＰ−２５１０）の改造機）に装着して評価を行った。具体的には以下のとおりである。
【０１２４】
電子写真感光体の表面電位が、初期暗部電位−５５０Ｖ、露光部電位−１５０Ｖになるように、帯電条件とレーザー露光量を設定した。表面電位測定は、カートリッジを改造し、現像位置に電位プローブ（商品名：ｍｏｄｅｌ６０００Ｂ−８、トレック・ジャパン（株）製。）を装着した。そして、電子写真感光体中央部の電位を表面電位計（商品名：ｍｏｄｅｌ３４４、トレック・ジャパン（株）製）を用いて測定した。
【０１２５】
黒ポチの評価としては、Ａ４サイズのグロス紙を用い、全面ベタ白の画像を出力した。その出力画像の電子写真感光体１周分の面積（縦をＡ４用紙の長辺長である２９７ｍｍ、横を電子写真感光体の１周分である９４．２ｍｍとした長方形の領域）に含まれる黒ポチの数を目視にて見て評価した。評価結果を表３に示す。ランクＡ、Ｂ（黒ポチ数３個以下）までを本発明の効果が得られているレベルとした。
ランクＡ：黒ポチは見当たらない
ランクＢ：直径が０．３ｍｍより大きい黒ポチが１〜３個見られる
ランクＣ：直径が０．３ｍｍより大きい黒ポチが４〜５個見られる
ランクＤ：直径が０．３ｍｍより大きい黒ポチが６〜７個見られる
ランクＥ：直径が０．３ｍｍより大きい黒ポチが８個以上見られる
【０１２６】
（実施例２〜１９）
表２に記載の材料構成で実施例１と同様に下引き層用塗布液、電子写真感光体を作製し、同様に無機粒子の分散性・黒点評価を行った。結果を表３に示す。
【０１２７】
（実施例２０）
下記のように下引き層用塗布液を調製した以外は、実施例１と同様に下引き層を形成し、電子写真感光体を作製した。
【０１２８】
メトキシメチル化ナイロン樹脂（商品名：トレジンＥＦ３０Ｔ、ナガセケムテックス（株）製）５．０部を、メタノール３３部およびブタノール６７部の混合液に溶解し、固形分４．８質量％の溶液を調製した。この溶液の粘度を測定すると、８．０ｍＰａ・ｓだった。
【０１２９】
この溶液にイソプロピルアルコールに分散された平均一次粒子径が９〜１５ｎｍのシリカスラリー（製品名：ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、日産化学工業製、固形分濃度：１５質量％、粘度：９ｍＰａ・ｓ）を０．７部加え、１時間撹拌した。このようにして、下引き層用塗布液を調製した。結果を表３に示す。
【０１３０】
（実施例２１、２２）
表２に記載の材料構成で実施例１６と同様に下引き層用塗布液、電子写真感光体を作製し、同様に無機粒子の分散性・黒点評価を行った。結果を表３に示す。
【０１３１】
（実施例２３、２４）
表２に記載の材料構成で実施例１と同様に下引き層用塗布液、電子写真感光体を作製し、同様に無機粒子の分散性・黒点評価を行った。結果を表３に示す。
【０１３２】
（比較例１〜４）
表１３に記載の材料構成で実施例１と同様に下引き層用塗布液、電子写真感光体を作製し、同様に無機粒子の分散性・黒点評価を行った。結果を表３に示す。
【０１３３】
【表２】
2016153854.tif 000015
【０１３４】
表２中、電子輸送物質Ａ２〜Ａ５は、下記式に示す化合物である。
【０１３５】
【化１３】
2016153854.tif 000016
【０１３６】
表２中、架橋剤（Ｂ１：Ｈ１）はＢＬ−３１７５（住化バイエル（株）製）である。ＢＬ−３１７５は、（Ｂ１）で示される骨格を持ち、ブロック基として（Ｈ１）を有すブロックイソシアネート化合物である。
【０１３７】
表２中、樹脂ＫＳ−５は（Ｅ−１）で示される構造を有するポリビニルブチラール樹脂で、ＫＳ−５Ｚ（積水化学工業（株）製）である。ＢＭ−１は（Ｅ−１）で示される構造を有するポリビニルブチラール樹脂で、ＢＭ−１（積水化学工業（株）製）である。ＥＦ３０Ｔは（Ｅ−５）で示される構造を有するポリアミド樹脂で、トレジンＥＦ３０Ｔ（ナガセケムテックス（株）製）を示している。
【０１３８】
表２中、溶剤ＴＨＦは、テトラヒドロフランを示す。ＭＰは１−メトキシ−２−プロパノールである。ＭｅＯＨは、メタノールである。ＭＥＫはメチルエチルケトンである。１−ＢｕＯＨは１−ブタノールを示す。
【０１３９】
表２中、無機粒子Ｐ１はシリカスラリー（商品名：ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、日産化学工業（株）製、固形分濃度１５質量％、平均一次粒子径：９〜１５ｎｍ）である。無機粒子Ｐ２は酸化チタンスラリー（商品名：ＴＤＫ−７０１、テイカ（株）製、固形分濃度１７質量％、平均一次粒子径：６ｎｍ）である。無機粒子Ｐ３はシリカスラリー（商品名：ＰＬ−１−ＴＯＬ、扶桑化学工業（株）製、固形分濃度：３８質量％、平均一次粒子径：１０〜１５ｎｍ）である。無機粒子Ｐ４はシリカスラリー（商品名：ＰＬ−１０Ｌ−ＭＥＫ、扶桑化学工業（株）製、固形分濃度：２０質量％、平均一次粒子径：１００ｎｍ）である。
【０１４０】
【表３】
2016153854.tif 000017
【図１】
2016153854.tif 000018