(57)【要約】【課題】基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、かつ導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電層の密着性が良好でかつ反射率が小さい導電性積層体を提供する。【解決手段】屈折率（ｎ１）が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に、易接着層を介して、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層を有し、易接着層の屈折率（ｎ２）が１．６１〜１．７０、オーバーコート層の屈折率（ｎ３）が１．４６以下であり、かつ導電層の厚みが８０〜１２０ｎｍであることを特徴とする、導電性積層体。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
屈折率（ｎ１）が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に、易接着層を介して、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層を有し、易接着層の屈折率（ｎ２）が１．６１〜１．７０、オーバーコート層の屈折率（ｎ３）が１．４６以下であり、かつ導電層の厚みが８０〜１２０ｎｍであることを特徴とする、導電性積層体。
【請求項２】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（ｎ１）と易接着層の屈折率（ｎ２）との差の絶対値が０．０３以下である、請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の導電性積層体を用いたタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カーボンナノチューブを含む導電層を有する導電性積層体、およびそれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯機器やタブレット端末等に搭載されたタッチパネルを駆動させるために、導電性積層体（導電性フィルム）が使用されている。
【０００３】
導電性積層体を構成する導電層に使用される導電性材料として、酸化錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）やアンチモン／スズ酸化物（ＡＴＯ）などの金属酸化物系、銀や銅などの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブなどの導電性材料が知られている。
【０００４】
導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体の開発が進んでいる。カーボンナノチューブからなる導電層は、ウェットコーティングが可能であり、簡易なプロセスで製造できるという利点、およびカーボンナノチューブは屈曲性に富むため柔軟な基材フィルム上にカーボンナノチューブからなる導電層を設けることにより屈曲性にすぐれた導電性積層体が得られるという利点がある。
【０００５】
導電性積層体を構成する基材フィルムとしては、各種プラスチックフィルムが知られている。例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリオレフィンフィルム、ポリアミドフィルム、アクリルフィルム等が知られている。
【０００６】
カーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電性積層体の透過率を高くするために、導電性積層体表面の反射率を小さくすることが提案されている（特許文献１、２）。そして、特許文献１および２には、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−１９２１８６号公報
【特許文献２】特開２０１２−６６５８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ポリエチレンテレフタレートフィルムは、寸法安定性、機械的性質、電気的性質、耐薬品性等に優れており、導電性積層体の基材フィルムとして有効である。その反面、ポリエチレンテレフタレートフィルム（特に、二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム）は、高度に結晶化しているため、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に積層される塗布層との密着性が得られにくいという問題がある。
【０００９】
そのため、ポリエチレンテレフタレートフィルムと塗布層との密着性を高めるための１つの方法として、ポリエチレンテレフタレートフィルムと塗布層との間に易接着層を設けることが知られている。従来から一般的に知られている易接着層は、樹脂としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂あるいはウレタン樹脂が主に用いられており、その屈折率は１．４８〜１．５４程度である。
【００１０】
また、ポリエチレンテレフタレートフィルムは、他のプラスチックフィルムに比べて屈折率が比較的高いため、ポリエチレンテレフタレートフィルム自体の反射率が比較的高い傾向にある。
【００１１】
一方、導電性積層体をタッチパネルの導電性フィルムに適用した場合、導電性積層体の導電層表面の反射率が高いと、タッチパネル内部に空隙層（空気層）が存在することにより、導電性積層体表面（導電層表面）と空気層との界面反射が大きくなり、それによって、液晶等の画像表示パネルからの発光のタッチパネル透過性が低下するという不都合が生じる場合がある。
【００１２】
従って、本発明の目的は、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用い、かつ導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電層の密着性が良好でかつ反射率が小さい導電性積層体およびそれを用いてなるタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
［１］屈折率（ｎ１）が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に、易接着層を介して、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層を有し、易接着層の屈折率（ｎ２）が１．６１〜１．７０、オーバーコート層の屈折率（ｎ３）が１．４６以下であり、かつ導電層の厚みが８０〜１２０ｎｍであることを特徴とする、導電性積層体。
［２］ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（ｎ１）と易接着層の屈折率（ｎ２）との差の絶対値が０．０３以下である、［１］に記載の導電性積層体。
［３］易接着層の厚みが５ｎｍ以上２００ｎｍ未満である、［１］または［２］に記載の導電性積層体。
［４］［１］〜［３］のいずれかに記載の導電性積層体を用いたタッチパネル。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、導電層の密着性が良好でかつ反射率が小さい導電性積層体およびそれを用いてなるタッチパネルを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明にかかる導電性積層体は、屈折率（ｎ１）が１．６１以上１．７０以下であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に易接着層を介して、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層を有する導電性積層体であり、かかる導電性積層体の特徴的な構成は、以下の通りである。
ｉ）易接着層の屈折率（ｎ２）が１．６１以上１．７０以下である、
ｉｉ）オーバーコート層の屈折率（ｎ３）が１．４６以下である、
ｉｉｉ）導電層の厚みが８０ｎｍ以上１２０ｎｍ以下である。
【００１６】
本発明の導電性積層体は、屈折率（ｎ１）が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に上記の特徴的な構成の易接着層および導電層（カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層）を備えることにより、導電層表面の反射率を効果的に小さくすることができる。
【００１７】
本発明の導電性積層体における導電層表面の反射率（視感反射率）は、１．５％未満であることが好ましく、１．４％未満であることがより好ましく、さらに１．３％未満であることが好ましく、特に１．１％未満であることが好ましい。下限の反射率（視感反射率）は、特に限定されないが、現実的には０．１％程度である。
【００１８】
上記したような反射率を低下させた導電性積層体をタッチパネル（例えば、抵抗膜式タッチパネル）に用いることにより、タッチパネル内に存在する空間（空気層）と導電性積層体表面（導電層表面）との界面反射が低減し、その結果、液晶等の表示パネルから発光されてタッチパネルを透過する光量の低下が抑制される。つまり、タッチパネルを透過する光量を比較的多くすることができる。
【００１９】
以下、本発明の導電性積層体を構成する各構成要素について詳細に説明する。
【００２０】
［ポリエチレンテレフタレートフィルム］
本発明の導電性積層体は、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムが用いられ、このポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（ｎ１）は、１．６１〜１．７０である。
【００２１】
ポリエチレンテレフタレートフィルムは、寸法安定性、機械的性質、電気的性質、耐薬品性等の観点から、二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム（二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム）が好ましく用いられる。二軸延伸されたポリエチレンテレフタレートフィルム（二軸配向ポリエチレンテレフタレートフィルム）の屈折率は、通常１．６１〜１．７０の範囲にある。
【００２２】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（ｎ１）は、導電性積層体の導電層表面の反射率を小さくするという観点から、高い方が好ましく、具体的には１．６２以上が好ましく、１．６３以上がより好ましく、１．６４以上が特に好ましい。
【００２３】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（ｎ１）の上限は、後述する易接着層の屈折率との関係から、１．６９以下が好ましく、１．６８以下がより好ましい。
【００２４】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であるが、剛性、強度、加工性等の観点から、５０μｍ以上が好ましく、７５μｍ以上がより好ましい。ポリエチレンテレフタレートフィルムの上限の厚みは、ある程度の柔軟性を確保するという観点および加工性の観点から、３００μｍ以下が好ましく、２５０μｍ以下がより好ましく、２００μｍ以下が特に好ましい。
【００２５】
[易接着層]
本発明において用いられる易接着層は、ポリエチレンテレフタレートフィルム上に直接に積層され、そして、易接着層上に積層される導電層とポリエチレンテレフタレートフィルムとの密着性を向上させる機能を有する。
【００２６】
本発明において用いられる易接着層は、その屈折率（ｎ２）が１．６１〜１．７０であることが重要である。
【００２７】
易接着層の屈折率（ｎ２）は、導電性積層体の導電層表面の反射率を小さくするという観点から、高い方が好ましく、具体的には１．６２以上が好ましく、１．６３以上がより好ましく、特に１．６４以上が好ましい。
【００２８】
一方、易接着層の屈折率を高めるために、後述する高屈折率材料を比較的多量に含有させると、密着性向上機能が十分に得られない場合がある。従って、易接着層の屈折率（ｎ２）の上限は、密着性向上という易接着層の機能を確保するという観点から、１．６９以下が好ましく、１．６８以下がより好ましい。
【００２９】
また、導電性積層体の導電層表面の反射率を小さくするという観点から、ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（ｎ１）と易接着層の屈折率（ｎ２）との差の絶対値は、０．０３以下が好ましく、０．０２以下がより好ましい。
【００３０】
易接着層の厚みは特に限定されないが、易接着層の積層工程における塗布性や厚み精度、易接着層の滑り性や耐ブロッキング性、あるいは導電性積層体の外観（色むら等）の観点から、易接着層の厚みは、２００ｎｍ未満が好ましく、１００ｎｍ未満がより好ましく、５０ｎｍ未満が特に好ましい。
【００３１】
易接着層の下限の厚みは、ポリエチレンテレフタレートフィルムと導電層との密着性を向上させるという観点から５ｎｍ以上が好ましく、７ｎｍ以上がより好ましく、１０ｎｍ以上が特に好ましい。
【００３２】
易接着層は、ポリエチレンテレフタレートフィルムと導電層との密着性を向上させるという観点から、少なくとも樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂を用いることが好ましい。易接着層における樹脂の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して２０〜９０質量％の範囲が好ましく、３０〜８０質量％の範囲がより好ましく、４０〜７０質量％の範囲が特に好ましい。
【００３３】
易接着層の屈折率（ｎ２）は１．６１〜１．７０であり、このように屈折率が比較的高い易接着層は、例えば、高屈折率樹脂や金属酸化物粒子等の高屈折率材料を含有させることによって得ることができる。
【００３４】
高屈折率樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を挙げることができる。
【００３５】
高屈折率樹脂としては、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。上記縮合芳香族環としては、ナフタレン環やフルオレン環が好ましい。
【００３６】
ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
【００３７】
分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
【００３８】
易接着層における高屈折率樹脂の含有量は、易接着層の屈折率に応じて適宜調整されるが、具体的には、易接着層の固形分総量１００質量％に対して１０〜８０質量％の範囲が好ましく、２０〜７０質量％の範囲がより好ましく、３０〜６０質量％の範囲が特に好ましい。
【００３９】
易接着層の屈折率を高めるために用いられる金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに易接着層の屈折率を高めることができるので好ましい。
【００４０】
易接着層における金属酸化物粒子の含有量は、易接着層の屈折率に応じて適宜調整されるが、具体的には、易接着層の固形分総量１００質量％に対して１０〜８０質量％の範囲が好ましく、２０〜７０質量％の範囲がより好ましく、３０〜６０質量％の範囲が特に好ましい。
【００４１】
易接着層が、高屈折率材料として金属酸化物粒子を含有する場合は、前述したように樹脂として、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂を含有することが好ましい。また、樹脂として前述の高屈折率ポリエステル樹脂を用いることがさらに好ましい。
【００４２】
易接着層が、金属酸化物粒子と高屈折率ポリエステル樹脂を含有することにより、金属酸化物粒子の含有量を抑えながら易接着層の屈折率を高めることができるので好ましい。
【００４３】
易接着層が金属酸化物粒子を含有する場合、易接着層の厚みが大きくなると、易接着層の透明性が低下したり、あるいは易接着層にクラックが発生することがあるので、易接着層の厚みは、５０ｎｍ未満であることが好ましく、４０ｎｍ未満であることがより好ましく、特に３０ｎｍ未満であることが好ましい。下限の厚みは、５ｎｍ以上が好ましい。
【００４４】
易接着層は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。易接着層は樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。易接着層をこのような熱硬化層とすることにより、ポリエチレンテレフタレートフィルムと導電層との密着性をさらに向上させることができる。易接着層を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５〜３００秒の範囲が好ましく、１０〜２００秒の範囲がより好ましい。
【００４５】
易接着層に含有させる架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【００４６】
易接着層における架橋剤の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、５〜３０質量％の範囲が特に好ましい。
【００４７】
易接着層は、更に滑り性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては特に限定されないが、例えばシリカ、炭酸カルシウム、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカが好ましく、更にコロイダルシリカが好ましく用いられる。
【００４８】
粒子の平均粒子径は、滑り性や耐ブロッキング性を向上させるという観点から３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましく、特に１００ｎｍ以上が好ましい。平均粒子径の上限は５００ｎｍ以下好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、特に３００ｎｍ以下が好ましい。
【００４９】
易接着層における粒子の含有量は、易接着層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。
【００５０】
易接着層は、ポリエチレンテレフタレートフィルム上にウェットコーティング法により積層することができる。特に、易接着層をポリエチレンテレフタレートフィルムの製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層することが好ましい。
【００５１】
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に易接着層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、ポリエチレンテレフタレートフィルム表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
【００５２】
上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、ダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法等の塗布方法を用いることができる。
【００５３】
上述のインラインコーティング法について以下に説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【００５４】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの原料である極限粘度０．５〜０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥した後、押し出し機に供給し２６０〜３００℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０〜６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化せしめて未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０〜１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５〜５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムに空気中でコロナ放電処理を施し、該表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上とし、その処理面に易接着層形成用塗布液を上述の方法により塗布する。
【００５５】
次に、塗布液が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥した後、Ｔｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度で乾燥、引き続き連続的に７０〜１５０℃の加熱ゾーンで横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５〜５倍延伸し、続いて１８０〜２４０℃の加熱ゾーンで５〜４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルムに易接着層が積層された積層ポリエチレンテレフタレートフィルムが得られる。尚、上記熱処理中に必要に応じて３〜１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。
【００５６】
[導電層]
本発明にかかる導電層は、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる。すなわち、本発明にかかる導電層は、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層を用いてなる層であることが好ましい。オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層上に塗布されて形成される。オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層を保護する役目を有する。
【００５７】
本発明にかかる導電層は、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなり、オーバーコート層の屈折率（ｎ３）が、１．４６以下であり、導電層の厚みが８０〜１２０ｎｍの範囲にあることが重要である。
【００５８】
オーバーコート層の屈折率（ｎ３）は、導電性積層体の導電層表面の反射率をさらに低下させるという観点から、１．４４以下が好ましく、１．４２以下がより好ましく、１．４０以下が特に好ましい。オーバーコート層の屈折率（ｎ３）の下限は、特に限定されないが、現実的には１．２０程度である。
【００５９】
カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層の厚みは、導電性積層体の導電層表面の反射率をさらに小さくするという観点から、８５〜１１５ｎｍの範囲が好ましく、特に９０〜１１０ｎｍの範囲が好ましい。
【００６０】
[カーボンナノチューブ層]
本発明にかかるカーボンナノチューブ層は、少なくともカーボンナノチューブを含有する層である。
【００６１】
カーボンナノチューブは、実質的にグラファイトの１枚面を巻いて筒状にした形状を有するものであれば特に限定されず、グラファイトの１枚面を１層に巻いた単層カーボンナノチューブ、多層に巻いた多層カーボンナノチューブを適用できる。これらの中でも、グラファイトの１枚面を二層に巻いた二層カーボンナノチューブが、導電性ならびに分散液中でのカーボンナノチューブの分散性が高くなることから好ましい。
【００６２】
カーボンナノチューブは、直径が０．３〜１００ｎｍ、長さが０．１〜２０μｍ程度のものが好ましく用いられる。特に、導電層の透明性を高め、表面抵抗を低下させるという観点から、カーボンナノチューブの直径は１〜１０ｎｍでかつ長さは１〜１０μｍであることが好ましい。
【００６３】
カーボンナノチューブは、例えば次のように製造される。マグネシアに鉄を担持した粉末状の触媒を、縦型反応器中、反応器の水平断面方向全面に存在させ、該反応器内にメタンを鉛直方向に供給し、メタンと前記触媒を５００〜１，２００℃で接触させ、カーボンナノチューブを製造した後、カーボンナノチューブを酸化処理することにより、単層〜５層のカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブを得ることができる。
【００６４】
カーボンナノチューブは製造した後、酸化処理を施すことにより、単層〜５層の割合（特に２層〜５層の割合）を増加させることができる。酸化処理は例えば、硝酸処理する方法により行われる。硝酸はカーボンナノチューブに対するドーパントとしても作用するため、好ましい。ドーパントとは、カーボンナノチューブに余剰の電子を与える、または電子を奪ってホールを形成する作用をなすものであり、自由に動くことのできるキャリアを生じさせることにより、カーボンナノチューブの導電性を向上させるものである。硝酸処理の条件は、特に限定されないが、通常、１４０℃のオイルバス中で行われる。硝酸処理の時間は特に限定されないが、５〜５０時間の範囲が好ましい。
【００６５】
カーボンナノチューブ層は、カーボンナノチューブを含有する分散液をウェットコーティング法により塗布することによって形成することができる。ウェットコーティング法としては、例えばキャストコート法、ディップコート法、スピンコート法、ナイフコート法、キスコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スロットダイコート法、バーコート法等が挙げられる。これらの中でも、スロットダイコート法が好ましく用いられる。
【００６６】
カーボンナノチューブを含有する分散液（カーボンナノチューブ分散液）は、カーボンナノチューブの分散剤を含有することが好ましい。かかる分散剤としては、分散性が高いイオン性分散剤が好ましく用いられる。イオン性分散剤としては、アニオン性分散剤、カチオン性分散剤、両性分散剤が挙げられる。これらのイオン性分散剤の中でも、カーボンナノチューブの分散性および分散保持性に優れることから、アニオン性分散剤が好ましく用いられる。アニオン性分散剤の中でも、さらにカルボキシメチルセルロースおよびその塩（ナトリウム塩、アンモニウム塩等）、ポリスチレンスルホン酸の塩が、カーボンナノチューブを効率的に分散することができるので好ましい。
【００６７】
分散剤の含有量は、カーボンナノチューブの導電性を低下させずにかつ良好な分散性を確保するという観点から、カーボンナノチューブ１００質量部に対して５０〜１０００質量部の範囲が好ましく、１００〜６００質量部の範囲がより好ましく、２００〜４００質量部の範囲が特に好ましい。
【００６８】
カーボンナノチューブ分散液の調製に用いる分散媒は、上記した分散剤を安全に溶解できること、廃液の処理が容易であること等の観点から、水が好ましい。
【００６９】
カーボンナノチューブ分散液は、例えば、カーボンナノチューブと分散剤とを分散媒中で混合分散機（例えばボールミル、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、超音波装置、アトライター、デゾルバー、ペイントシェーカー等）を用いて分散することによって調製することができる。これらの混合分散機は単独で用いてもよいし、複数の混合分散機を組み合わせて段階的に分散を行ってもよい。中でも、振動ボールミルで予備的に分散を行った後、超音波装置を用いて分散する方法が、カーボンナノチューブの分散性が良好であることから好ましい。
【００７０】
カーボンナノチューブを分散するときのカーボンナノチューブの濃度は、分散時の処理時間が短縮できることから、０．００３〜０．１５質量％の範囲が好ましい。このようにして調製されたカーボンナノチューブ分散液は、さらに希釈して塗布に適した所定濃度に調整される。
【００７１】
カーボンナノチューブ分散液を塗布するに際し、塗布性を高めるために、カーボンナノチューブ分散液にアルコールや界面活性剤を含有させることができる。これらの中でもアルコールが好ましく、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコールが好ましく用いられる。
【００７２】
カーボンナノチューブ層におけるカーボンナノチューブの含有量は、導電性積層体の用途によって適宜設定されるが、タッチパネルの用途の場合、０．５〜２０ｍｇ／ｍ２の範囲が適当であり、１〜１０ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましい。これによって、導電性積層体の表面抵抗値を１０４Ω／□以下とすることができる。
【００７３】
また、カーボンナノチューブ層の全固形分塗布量は、２〜５０ｍｇ／ｍ２の範囲が適当であり、３〜３０ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましい。
【００７４】
カーボンナノチューブ層の厚みは、１〜２０ｎｍの範囲が好ましく、２〜１５ｎｍの範囲がより好ましく、３〜１０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００７５】
［オーバーコート層］
オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層上に塗布されて形成される。オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層を保護する役目を有する。
【００７６】
オーバーコート層の屈折率（ｎ３）は、１．４６以下であり、さらに１．４４以下が好ましく、１．４２以下がより好ましく、特に１．４０以下が好ましい。下限の屈折率は１．２０程度である。
【００７７】
オーバーコート層の屈折率を１．４６以下にするために、オーバーコート層は屈折率が比較的小さい材料で形成されることが好ましい。屈折率が比較的小さい材料としては、例えば、ケイ素化合物やフッ素化合物が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７８】
ケイ素化合物としては、例えば、アルコキシシラン化合物およびその加水分解物、ポリシロキサン化合物、シリカ粒子等が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７９】
アルコキシシラン化合物としては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ-n-プロポキシシラン、テトラ-i-プロポキシシラン、テトラ-n-ブトキシシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、n-プロピルトリメトキシシラン、n-プロピルトリエトキシシラン、n-プロピルトリプロポキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリプロポキシシラン等が挙げられる。
【００８０】
また、重合性官能基を有するアルコキシシラン化合物として、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００８１】
ポリシロキサン化合物としては、分子量が５０００以下の化合物が好ましく、また、分子中に重合性官能基（ビニル基やアクリル基等のエチレン性不飽和基）を有する化合物が好ましい。例えば、分子の片末端もしくは両末端にアクリル基を有するポリシロキサン化合物を挙げることができる。
【００８２】
シリカ粒子としては、平均粒子径が５〜１５０ｎｍである粒子が好ましく、さらに平均粒子径が８〜１００ｎｍである粒子が好ましく、特に平均粒子径が１０〜７０ｎｍである粒子が好ましい。また、オーバーコート層の屈折率を低下させるという観点から、内部に空洞を有するシリカ粒子（中空シリカ）が好ましく用いられる。
【００８３】
フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物、含フッ素シラン化合物、フッ化マグネシウム粒子等が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８４】
ここで、含フッ素モノマーおよび含フッ素オリゴマーは、分子中にビニル基やアクリル基等のエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。
【００８５】
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、  ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
【００８６】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００８７】
含フッ素シラン化合物としては、例えば、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【００８８】
フッ化マグネシウム粒子としては、平均粒子径が５〜１５０ｎｍである粒子が好ましく、さらに平均粒子径が８〜１００ｎｍである粒子が好ましく、特に平均粒子径が１０〜７０ｎｍである粒子が好ましい。
【００８９】
また、オーバーコート層は、上述のケイ素化合物および／またはフッ素化合物に加えて、紫外線硬化型アクリルモノマーを含有することができる。かかる紫外線硬化型アクリルモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００９０】
本発明において、屈折率が比較的小さいオーバーコート層を得るという観点から、オーバーコート層は、以下の熱硬化性組成物から形成されることが好ましい。
【００９１】
かかる熱硬化性組成物としては、例えばシリカ粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする組成物が挙げられる。このような組成物は、詳細には、シリカ粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化したものであり、シリカ粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【００９２】
上記のシリカ粒子としては、コロイダルシリカや内部に空洞を有するシリカ粒子（中空シリカ）が好ましく、その平均粒子径は５〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、さらに８〜１００ｎｍの範囲が好ましく、特に１０〜７０ｎｍの範囲が好ましい。
【００９３】
コロイダルシリカは、市販品を用いることができる。例えば、日産化学工業（株）の「スノーテックス」や「オルガノシリカゾル」、日揮触媒化成（株）の「ＣＡＴＡＲＯＩＤ」が挙げられる。
【００９４】
内部に空洞を有するシリカ粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ粒子である。内部に空洞を有するシリカ粒子における空洞の占める体積、すなわち粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、１０％以上がより好ましく、３０％以上がさらに好ましい。上限の空隙率は７０％以下が好ましい。このような内部に空洞を有すシリカ粒子は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報の［００３３］〜［００４６］段落に記載された方法や、特許第３２７２１１１号公報の［００４３］段落に記載された方法で製造することができる。また、一般に市販されているものも使用することができる。
【００９５】
上記の多官能性シラン化合物としては、前述のアルコキシシラン化合物、含フッ素シラン化合物が挙げられる。
【００９６】
熱硬化性組成物は、さらに硬化剤を含有することが好ましい。かかる硬化剤としては、チタニウム系、ジルコニウム系、アルミニウム系および、マグネシウム系が挙げられる。これらの中でも、屈折率を比較的小さくするという観点から、屈折率の低いアルミニウム系やマグネシウム系の硬化剤が好ましい。これらの硬化剤は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン；アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。
【００９７】
金属基キレート化合物の好ましい具体的な例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）であり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が特に好ましい。
【００９８】
オーバーコート層は、上記の組成物からなる塗布液を、前述のカーボンナノチューブ層を塗布するのに用いられるウェットコーティング法と同様の塗布方法により塗布し、乾燥、硬化（熱硬化や紫外線照射による硬化）することによって形成されることが好ましい。
【００９９】
オーバーコート層の厚みは、カーボンナノチューブ層の厚みを考慮し、導電層の厚みが８０〜１２０ｎｍの範囲となるように調整される。
【０１００】
[導電性積層体]
本発明の導電性積層体は、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面のみに易接着層および導電層が設けられていてもよいし、ポリエチレンテレフタレートフィルムの両面に易接着層および導電層が設けられていてもよい。
【０１０１】
また、本発明の導電積層体は、ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面のみに易接着層および導電層が設けられている場合、ポリエチレンテレフタレートフィルムを挟んで導電層とは反対側の面に、後述のハードコート層を設けることができる。
【０１０２】
本発明の導電性積層体は、タッチパネルの電極基板に好適である。タッチパネル等に好適に用いるためには、導電性積層体の表面抵抗値は低い方が駆動安定性の点から好ましい。導電性積層体の表面抵抗値は、具体的には１０，０００Ω／□以下が好ましく、５，０００Ω／□以下がより好ましく、２，０００Ω／□以下が特に好ましい。下限は１Ω／□程度である。
【０１０３】
導電性積層体がタッチパネル用途に用いられる場合、高い密着力が必要とされることがあるが、本発明の導電性積層体は高い密着力を有していることから好ましい。
【０１０４】
［ハードコート層］
本発明の導電性積層体は、ポリエチレンテレフタレートフィルムを挟んで導電層とは反対側の面にハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、耐擦傷性、防汚性、耐指紋性などを付与するために設けられる。また、表面に微細な凹凸を形成し防眩性を付与することもできる。ハードコート層としては、硬化した際の透明性、硬度などの特性が優れる点から、熱硬化型アクリル樹脂あるいは紫外線硬化型のアクリル系樹脂が好適に用いられる。
【０１０５】
ハードコート層の厚みは、導電性積層体に良好な耐擦傷性を付与するという観点およびカール性の観点から、０．５〜７μｍの範囲が好ましく、１〜５μｍの範囲がより好ましい。
【０１０６】
ハードコート層が積層されるポリエチレンテレフタレートフィルムの面には、易接着層を有していることが好ましい。この易接着層の屈折率は、１．５５以上１．６０未満であることが好ましい。
【０１０７】
ハードコート層の屈折率は、通常、１．４８〜１．５４の範囲であり、本発明においては、ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（１．６１〜１．７０）とハードコート層との屈折率差が大きいことに起因して、ハードコート層面側に干渉縞が発生することがある。
【０１０８】
この干渉縞の発生は、易接着層の屈折率を１．５５以上１．６０未満とすることにより抑制することができる。さらに、干渉縞を抑制するという観点から、易接着層の屈折率は１．５６〜１．５９の範囲がより好ましく、１．５７〜１．５９の範囲が特に好ましい。
【０１０９】
このような屈折率範囲の易接着層は、前述の導電層側に設けられる易接着層に用いられる高屈折率樹脂（特に高屈折率ポリエステル樹脂）や金属酸化物粒子の含有量を調整することによって得られる。
【０１１０】
この易接着層の厚みは、干渉縞を抑制するという観点から、６０〜１３０ｎｍの範囲が好ましく、７０〜１２０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１１１】
［導電性積層体の製造方法］
本発明にかかる導電積層体は、例えば、以下の製造方法によって製造されることが好ましい。つまり、
ポリエチレンテレフタレートフィルム上に易接着層を介して、カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層を８０〜１２０ｎｍの厚みで有する導電性積層体を製造するに際し、屈折率（ｎ１）が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に、屈折率（ｎ２）が１．６１〜１．７０である塗布組成物を塗布して易接着層を積層する工程、この易接着層上にカーボンナノチューブを含有する分散液を塗布してカーボンナノチューブ層を積層する工程、このカーボンナノチューブ層上に屈折率（ｎ３）が１．４６以下である塗布組成物を塗布してオーバーコート層を積層する工程を含む、導電性積層体の製造方法である。
【実施例】
【０１１２】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
【０１１３】
［評価方法］
（１）屈折率の測定
各層（易接着層、オーバーコート層、ハードコート層）を形成するためのそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上に塗布して形成された塗膜について、高速分光メーターＭ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌａｍ社製）を用い、塗膜の反射光の偏光状態の変化を入射角度６０度、６５度、７０度で測定、解析ソフトＷＶＡＳＥにて、波長５５０ｎｍの屈折率を計算で求めた。
【０１１４】
また、ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で５５０ｎｍの屈折率を測定した。
【０１１５】
（２）易接着層の厚みの測定
易接着層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ４ 染色、ＯｓＯ４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製  Ｈ−７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧  １００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。
【０１１６】
（３）導電層の厚みの測定
カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層が積層されたサンプル（導電性積層体）の断面を超薄切片に切り出し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から厚みを測定する。厚みの測定は５箇所で行い、その平均値を厚みとした。
【０１１７】
（４）粒子を含有する層における粒子の平均粒子径の測定
粒子を含有する層が積層されたサンプル（導電性積層体）の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを相加平均した値を粒子の平均粒子径とした。
【０１１８】
（５）視感反射率の測定
＜試料の作成＞
導電性積層体の導電層が設けられている側とは反対側の面をサンドペーパーで粗らし、さらに黒インクで塗りつぶして測定用試料を作製した。
【０１１９】
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製の「ＵＶ３１５０ＰＣ」）を用いて、測定用試料の測定面（導電層の面）から５度の入射角で、波長３８０〜７８０ｎｍの反射率（片面反射）を測定し、Ｃ光源における視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９）において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出する。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ  （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
【０１２０】
（６）導電層の密着性
導電性積層体の導電層の面に、１ｍｍ２のクロスカットを１００個入れ、ニチバン（株）製セロハンテープをその上に貼り付け、指で強く押し付けた後、９０度方向に急速に剥離し、残存した個数により、以下の基準で密着性を評価した。
○：９０／１００（残存個数／測定個数）以上
×：９０／１００（残存個数／測定個数）未満。
【０１２１】
［易接着層形成用塗布組成物］
（塗布組成物ａ１）
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。
【０１２２】
＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸                  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール          ４９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【０１２３】
（塗布組成物ａ２）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを４５質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６３であった。
【０１２４】
（塗布組成物ａ３）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを９０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６７であった。
【０１２５】
（塗布組成物ａ４）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５８であった。
【０１２６】
（塗布組成物ａ５）
下記のアクリル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。
【０１２７】
＜アクリル樹脂＞
下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート        ６３重量％
エチルアクリレート          ３５重量％
アクリル酸                    １重量％
Ｎ−メチロールアクリルアミド  １重量％。
【０１２８】
［オーバーコート層形成用塗布組成物］
（塗布組成物ｏｃ１）
メチルトリメトキシシラン１０９．０質量部、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン５６．８質量部、ジメチルジメトキシシラン１２質量部をジアセトンアルコール３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。この溶液に、メチルイソブチルケトンに分散された平均粒子径が１２ｎｍのコロイダルシリカ（商品名 ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、固形分３０質量％）５６質量部、水６０質量部および酢酸２質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、溶液Ａを得た。
【０１２９】
得られた溶液Ａに、マグネシウム系硬化剤として、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）３．８質量部をメタノール２５０質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール１７００質量部およびジアセトンアルコール５００質量部を添加して、室温にて２時間撹拌して塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、１．４０であった。
【０１３０】
（塗布組成物ｏｃ２）
コロイダルシリカの添加量を５６質量部から２５０質量部に変更した以外は、塗布組成物ｏｃ１と同様にして、塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、１．３８であった。
【０１３１】
（塗布組成物ｏｃ３）
メチルトリメトキシシラン９５．２質量部とトリフルオロプロピルトリメトキシシラン ６５．４質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部とイソプロピルアルコール１００質量部に溶解した。この溶液に、平均粒子径が５０ｎｍの内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（イソプロパノール分散型、固形分濃度２０．５質量％、触媒化成工業社製）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温度４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温度８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、溶液Ｂを得た。
【０１３２】
得られた溶液Ｂに、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名 アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール１５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌して、塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は１．３６であった。
【０１３３】
（塗布組成物ｏｃ４）
容器に、エタノール２０質量部を入れ、n-ブチルシリケート４０質量部を添加し３０分間撹拌した。その後、０．１Ｎ塩酸水溶液を１０質量部添加した後２時間撹拌を行い（加水分解反応）、４℃で保管した。２４時間後、この溶液をイソプロピルアルコール、トルエンとｎ−ブタノール混合液（混合質量比２対１対１）で固形分濃度が、１．０質量％となるように希釈して調製した。この塗布組成物の屈折率は、１．４４であった。
【０１３４】
（塗布組成物ｏｃ５）
トリエチレングリコールジアクリレート（共栄社化学（株）製の「ライトアクリレート３ＥＧ−Ａ」）１００質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に溶解して、固形分濃度が１．０質量％の塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４８であった。
【０１３５】
（塗布組成物ｏｃ６）
中国塗料（株）製のフォルシード４２０Ｃ（固形分濃度５０質量％、アクリル樹脂）をトルエンで固形分濃度が１．０質量％まで希釈して塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、１．５０であった。
【０１３６】
［ハードコート層形成用塗布組成物］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５８質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中にエチレン性不飽和基を９個含む）３７質量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この組成物の屈折率は１．５２であった。
【０１３７】
［カーボンナノチューブ層形成用塗布組成物］
（触媒調製例：マグネシアへの触媒金属塩の担持）
クエン酸アンモニウム鉄（和光純薬工業（株）製）２．４６質量部をメタノール（関東化学（株）製）４００質量部に溶解した。この溶液に、酸化マグネシウム（岩谷化学工業（株）製ＭＪ−３０）を１００質量部加え、撹拌機で６０分間激しく撹拌処理し、懸濁液とした後、該懸濁液を減圧下、４０℃で濃縮乾固した。得られた粉末を１２０℃で加熱乾燥してメタノールを除去し、酸化マグネシウム粉末に金属塩が担持された触媒体を得た。得られた固形分を乳鉢で細粒化し、篩いを用いて２０〜３２メッシュ（０．５〜０．８５ｍｍ）の範囲の粒径を持つ触媒体を回収した。得られた触媒体に含まれる鉄含有量は０．３８質量％であった。
【０１３８】
（カーボンナノチューブ集合体製造例：カーボンナノチューブ集合体の合成）
触媒調製例で調製した固体触媒体１３２質量部をとり、鉛直方向に設置した反応器の中央部の石英焼結板上に導入することで触媒層を形成した。反応管内温度が約８６０℃になるまで、触媒体層を加熱しながら、反応器底部から反応器上部方向へ向けてマスフローコントローラーを用いて窒素ガスを供給し、触媒体層を通過するように流通させた。その後、窒素ガスを供給しながら、さらにマスフローコントローラーを用いてメタンガスを導入して触媒体層を通過するように通気し、反応させた。次に、メタンガスの導入を止め、窒素ガスを１６．５Ｌ／分通気させながら、石英反応管を室温まで冷却した。
【０１３９】
加熱を停止させ室温まで放置し、室温になってから反応器から触媒体とカーボンナノチューブ（アスペクト比１００以上）を含有するカーボンナノチューブ含有組成物を取り出した。
【０１４０】
（カーボンナノチューブ集合体の精製および酸化処理）
カーボンナノチューブ集合体製造例で得られた触媒体とカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を１３０質量部用いて４．８Ｎの塩酸水溶液２１６０質量部中で１時間撹拌することで触媒金属である鉄とその担体であるＭｇＯを溶解した。得られた黒色懸濁液を濾過した後、濾取物を再度４．８Ｎの塩酸水溶液４３２質量部に投入し脱ＭｇＯ処理をし、濾取した。この操作を３回繰り返した（脱ＭｇＯ処理）。その後、イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のままカーボンナノチューブ含有組成物を保存した。このとき水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物全体の質量は１０２．７質量部であった（カーボンナノチューブ含有組成物濃度：３．１２質量％）。
【０１４１】
得られたウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物の乾燥質量分に対して、約３００倍の質量の濃硝酸（和光純薬工業（株）製  １級、Ａｓｓａｙ６０〜６１質量％）を添加した。その後、約１４０℃のオイルバスで２５時間攪拌しながら加熱還流した。加熱還流後、カーボンナノチューブ含有組成物を含む硝酸溶液をイオン交換水で３倍に希釈して吸引ろ過した。イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ集合体を得た。このとき水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ組成物全体の質量は３．３５１質量部あった（カーボンナノチューブ含有組成物濃度：５．２９質量％）。
【０１４２】
（カーボンナノチューブ分散液の調製）
得られたウェット状態のカーボンナノチューブ集合体（乾燥質量換算で２５質量部）、６質量％カルボキシメチルセルロースナトリウム（第一工業製薬（株）製  セロゲン７Ａ（重量平均分子量：１９０，０００））水溶液１０４０質量部、ジルコニアビーズ（東レ（株）社製  “トレセラム”、ビーズサイズ：０．８ｍｍ）６７００質量部を容器に加えた分散液に、２８質量％アンモニア水溶液（キシダ化学（株）製）を加えてｐＨを１０に調整した。この容器を振動ボールミルを用いて２時間振盪させ、カーボンナノチューブペーストを調製した。
【０１４３】
次にこのカーボンナノチューブペーストをカーボンナノチューブの濃度が０．１５質量％となるようにイオン交換水で希釈し、その希釈液１０質量部に対して再度２８質量％アンモニア水溶液を加えてｐＨを１０に調整した。その水溶液を超音波ホモジナイザーにて氷冷下分散処理した。分散中液温が１０℃以下となるようにした。得られた液を高速遠心分離機で１５分遠心処理し、カーボンナノチューブ分散液９質量部を得た。
【０１４４】
（カーボンナノチューブ含有塗布組成物の調製）
前記カーボンナノチューブ分散液にイオン交換水を添加して、固形分濃度が０．０４質量％に調整された塗布組成物を得た。
【０１４５】
［実施例１］
下記の要領で導電性積層体を作製した。
【０１４６】
＜易接着層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルム（一軸配向フィルム）とした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層の塗布組成物ａ１、他方の面（第２面）に易接着層の塗布組成物ａ４をそれぞれ塗布した。
【０１４７】
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布組成物が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルム（二軸配向ＰＥＴフィルム）を作製した。このＰＥＴフィルムは両面に易接着層を有するＰＥＴフィルムである。
【０１４８】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面および第２面に設けられた易接着層の厚みは、それぞれ８０ｎｍであった。
【０１４９】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層の屈折率は１．６５、第２面の易接着層の屈折率は１．５８であった。
【０１５０】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０１５１】
＜ハードコート層の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層上に、上記のハードコート層形成用塗布組成物をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚み２．５μｍであった。
【０１５２】
＜カーボンナノチューブ層の形成＞
上記でハードコート層が積層されＰＥＴフィルムの第１面の易接着層上に、上記のカーボンナノチューブ層形成用組成物を、スロットダイコート法にて固形分塗布量が２０ｍｇ／ｍ２となるように塗布後、８０℃で１分間乾燥してカーボンナノチューブ層を形成した。
【０１５３】
＜オーバーコート層の塗布＞
上記で塗布形成されたカーボンナノチューブ層の上に、オーバーコート層形成用塗布組成物ｏｃ１をスロットダイコート法にて塗布し、１２５℃で３０秒乾燥した。オーバーコート層の塗布量（固形分塗布量）は、導電層（カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とかなら導電層）の厚みが１００ｎｍとなるように調整した。
【０１５４】
［実施例２〜３および比較例１〜２］
実施例１において、ＰＥＴフィルムの第1面の易接着層を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を作製した。
【０１５５】
［比較例３〜５］
比較例２において、オーバーコート層を表１に示すように変更する以外は、比較例２と同様にして導電性積層体を作製した。
【０１５６】
［実施例４〜６］
実施例１〜３において、易接着層の厚みを２０ｎｍに変更する以外は、実施例１〜３と同様にして導電性積層体を作製した。
【０１５７】
［評価］
上記で作製した実施例１〜６および比較例１〜５について、導電層表面の視感反射率と導電層の密着性を評価した。その結果を表１に示す
【０１５８】
【表１】
2016055583.tif 000002
【０１５９】
表１の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が低く、導電層の密着性も良好であることが分かる。
【０１６０】
一方、比較例１〜５は、易接着層の屈折率が１．６１未満であるために、視感反射率が高くなっている。
【０１６１】
［実施例７〜９および比較例６〜７］
実施例４において、オーバーコート層を表２に示すように変更する以外は、実施例４と同様にして導電性積層体を作製した。但し、比較例６および７のオーバーコート層は、紫外線硬化型であり、塗布・乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させた。
【０１６２】
［評価］
上記で作製した実施例７〜９および比較例６〜７について、導電層表面の視感反射率と導電層の密着性を評価した。その結果を表２に示す
【０１６３】
【表２】
2016055583.tif 000003
【０１６４】
表２の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が低く、導電層の密着性も良好であることが分かる。
【０１６５】
一方、比較例６〜７は、オーバーコート層の屈折率が１．４６より大きいために、視感反射率が高くなっている。
【０１６６】
［実施例１０〜１３および比較例８〜９］
実施例４において、導電層の厚みを表３に示すように変更する以外は、実施例４と同様にして導電性積層体を作製した。
【０１６７】
［評価］
上記で作製した実施例１０〜１３および比較例８〜９について、導電層表面の視感反射率と導電層の密着性を評価した。その結果を表３に示す
【０１６８】
【表３】
2016055583.tif 000004
【０１６９】
表３の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が低く、導電層の密着性も良好であることが分かる。
【０１７０】
一方、比較例８は、導電層の厚みが８０ｎｍより小さいために、視感反射率が高くなっている。比較例９は、導電層の厚みが１２０ｎｍより大きいために、視感反射率が高くなっている。