(57)【要約】【課題】ヘイズ値が低く、良好なＡＧ効果が得られるガラス等を製造することも可能なアンチアンチグレアガラスの製造方法を提供する。【解決手段】  ガラス表面に研磨材、液体及び圧縮エアを噴射してウエットブラスト処理を行った後、エッチング槽内においてエッチング液を循環させてエッチング処理を行い/アンチグレアガラスを製造する。【選択図】図２
2016040211.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス表面に研磨材、液体及び圧縮エアを噴射してブラスト処理を行った後、エッチン
グ槽内においてエッチング液を循環させてエッチング処理を行うことを特徴とするアンチ
グレアガラスの製造方法。
【請求項２】
前記ブラスト処理を行った後エッチング処理を行う前に、洗浄及び乾燥処理を行うこと
を特徴とする請求項１に記載のアンチグレアガラスの製造方法。
【請求項３】
前記エッチング液が少なくともフッ化水素溶液と硫酸と純水を含むことを特徴とする請
求1又は２に記載のアンチグレアガラスの製造方法。
【請求項４】
前記エッチング液が少なくとも塩化水素、硝酸、クエン酸のいずれか一つを含むことを
特徴とする請求項３の記載のアンチグレアガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、アンチグレア機能を有するガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（以下、ＬＣＤと記す。）や有機エレクトロルミネッセンス（以下、
ＯＬＥＤと記す。）等の表示デバイスは、室内照明光、太陽光等の外光の映り込みにより
視認性が悪くなる、という問題があった。
【０００３】
従来、前記問題点を解決するために、フィルムやガラス表面に微細な凹凸を設けたアン
チグレア処理（以下、ＡＧ処理と記す。）を施すことが行われている。なお、ＡＧ処理効
果を示す指標としてヘイズ値（曇り度）が用いられている。ヘイズ値が低い（０に近づく
）と曇りが少なくなり、透明性が高くなる。
【０００４】
従来、ＡＧ処理として、例えばフッ化水素酸水溶液に漬けて行うウエットエッチング法
でガラス表面を粗くする方法が提案されている（特開２０００−１１４７７２）。
【０００５】
しかし、ウエットエッチング法のみではガラス等を揺動やエッチング溶液の液流の関係
上、エッチングにバラツキが出てしまい、ガラス等の表面に緻密な凹凸を形成することが
困難である。その結果、良好なＡＧ効果が得られず、低いヘイズ値のガラス等を製造でき
ないという問題点があった。
【０００６】
また、ウエットエッチング法を行う前に、液体を加えないブラスト（例えば、サンドブ
ラスト法）でガラス表面に凹凸を形成することも考えられる。しかしサンブラスト法では
、研磨剤が直接ガラス等に当たるため、そのダメージによりガラス等に深い傷を生じさせ
てしまうおそれがある。また、研磨剤の粒径分布がそのまま表面凹凸のバラツキとなるこ
とから、品質面の低下が懸念される。この様な状態で次工程のウエットエッチングを行う
と、傷の深い場所だけエッチングが進んでしまい所望のＡＧ効果を得られず、低いヘイズ
値のガラス等を製造出来ないという問題があった。また、ブラストに基づきガラス等に生
じた傷によって、ガラス等が割れてしまう恐れもあった。
【０００７】
さらに、液体を加えないブラストを用いた場合、表面粗さの指標の算術平均粗さ（以下
、Ｒａと記す。）が大きくなってしまい、表示デバイスからの透過光が拡散することによ
りギラツキと称する表示低下を招く原因となっていた（Ｒａが０．１μｍ以上となってし
まうことが多く、凹凸間の差が大きくなってしまう）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０００−１１４７７２公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、ヘイズ値が低く、良好なＡＧ効果が得られガラスの製造方法に提供すること
を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明に係るアンチグレアガラスの製造方法は、ガラス表面に研磨材、液体及び圧縮エ
アを噴射してブラスト処理を行い、つぎに洗浄及び乾燥処理を行い、続いてエッチング槽
内においてエッチング液を循環させてエッチング処理を行うことを特徴する（請求項１）
。
【００１１】
前記本発明によれば、エッチング処理に先立って、ガラス表面に研磨材、液体及び圧縮
エアによるブラスト処理が施される。この処理はガラス表面に鋭利で緻密な凹凸を形成さ
せる目的で行われる。
【００１２】
液体を加えたブラスト処理によれば液体が存在することにより、研磨剤がガラス等の表
面にダイレクトに当たらないため、深い傷を生じさせるおそれがない。
【００１３】
また、研磨剤の粒径分布が有っても、そのまま表面凹凸のバラツキとなることがなく、
その後のエッチング処理を効果的に行うことができる。また、ガラス表面をブラストで均
（なら）してからウエットエッチングを行うので、ウエットエッチングのみの場合に比べ
てエッチングのバラツキを抑えることが可能となる結果、良好なＡＧ効果が得られ、低い
ヘイズ値のガラス等を製造することができる。
【００１４】
また、算術平均粗さ（Ｒａと記す。）を小さくすることができ、表示デバイスからの透
過光が緻密に拡散することによりギラツキと称する表示低下を解消できる。
【００１５】
好適な実施の一形態として、前記ブラスト処理を行った後エッチング処理を行う前に、
洗浄及び乾燥処理を行う形態を例示する。この形態によれば、前記洗浄及び乾燥処理によ
りエッチング処理面をあらかじめクリーンにすることでエッチングの均一化をより一層図
ることができる。
【００１６】
好適な実施の一形態として、前記エッチング液が少なくともフッ化水素溶液と硫酸と純
水を含む形態を例示する。
【００１７】
好適な実施の一形態として、前記エッチング液が少なくとも塩化水素、硝酸、クエン酸
のいずれか一つを含む形態を例示する。
【００１８】
これらの形態によれば、良好なＡＧ効果が得られ、低いヘイズ値のガラス等を製造する
ことができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、ヘイズ値が低く、良好なＡＧ効果が得られるガラス等を製造すること
も可能となる。また、算術平均粗さ（Ｒａと記す。）を小さくすることができ、表示デバ
イスからの透過光が緻密に拡散することによりギラツキと称する表示低下を解消できる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１はブラスト処理後の顕微鏡写真（×２５００）である。
【図２】図２はエッチング処理後の顕微鏡写真（×２５００）である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の実施例を以下に記載する。
【実施例１】
【００２２】
＜工程１＞
ガラス板（旭硝子株式会社製、アルミノシリケートガラス「ドラゴントレイル（登録商
標）」３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ）にウエットブラスト装置（マコー株式
会社製、ＷＦＢ−４６０）を用いて下記の条件で表面加工を行った。
【００２３】
○ノズル幅：３７０ｍｍ
○液体：水
○研磨材：アルミナ研磨材（マコー株式会社製、マコランダムＡ＃２０００）
○研磨材濃度：１０ｗｔ％（媒体はＲＯ水）
○エア圧力：０．２ＭＰａ
○ノズル移動速度：５ｍｍ／ｓ
○噴射距離：７０ｍｍ
○加工回数：２回
表面加工は、水、研磨剤、圧縮エアを混合し、投射ガンからガラス板に高速で噴射する
ことにより行う。具体的にはスラリータンク内で水と研磨剤を撹拌混合させて一の導入口
から投射ガンに導入する。一方でコンプレッサーエアを用いて圧縮した圧縮エアを別の導
入口から投射ガンに導入する。
【００２４】
水と研磨材、圧縮エアは投射ガン中で混合され、幅広のノズルから処理対象物であるガ
ラス板に向かい噴射される。結果ガラス板の表面加工がなされる。
【００２５】
その顕微鏡写真は図１の通りである。
【００２６】
前記条件で表面加工を行ったガラスの状態は下記の通りであった。
【００２７】
○グロス値：９７（株式会社堀場製作所製グロス計）
○粗さ（サーフコム４８０Ａ粗さ測定機）
Ｒａ：０．０２４μｍ、Ｒｙ：０．２７４μｍ、Ｒｚ：０．２２４μｍ
Ｓｍ：５４．９９５μｍ
＜工程２＞
超音波洗浄機（ＵＳメック製）にて洗浄、洗浄液は５％ＮａＯＨ，市水、ＲＯ水にて浸
漬洗浄、温風乾燥により水切りを行った。
【００２８】
＜工程３＞
ウーターブラスト非加工面にラミネートフィルム（日東電工株式会社製、ＳＰＶ−３６
２Ｍ）をラミネーター（株式会社キモト製）により貼り付け、ガラス板の外形に沿ってカ
ットした。この時、貼り付けたラミネートフィルムの外周部に捲れ等があると次工程のエ
ッチングでダメージを受けることから捲れがあった場合にはゴムローラ等で修復する。
【００２９】
エッチング専用カセットにガラス板を収納した。収納したガラス板間のピッチは１５ｍ
ｍとし、エッチング槽の大きさからカセット幅が１７５ｍｍのものを用い、ガラス板８枚
/カセットとして処理を行った。エッチング処理は槽内のエッチング液をポンプにより循
環させて噴射ノズルにより吐出させて処理する浸漬法である。
【００３０】
エッチング条件を決定するに当たり、エッチングレートを把握しておく必要がある。す
なわち、所望のエッチング量を得るためのエッチング時間を決定するためである。
【００３１】
本実施例におけるエッチング液の組成は、ＨＦ：１．５重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１
重量％、クエン酸：２．２重量％、純水：５３．２重量％である。その他のエッチング条
件は、エッチング液温度：４０℃、エッチング液流量：３０Ｌ/分であり、単位時間当た
りのエッチング量は１．２５μｍ／分であった。そして、４０分間のエッチングを行い５
０μｍのエッチング量を得た。その顕微鏡写真は図２の通りである。
【００３２】
その後、非処理面のラミネートフィルムを除去し、ＲＯ水にて洗浄を行いアンチグレア
ガラスを製造した。前記エッチング後のヘイズ値は３．０と低い値が得られた。
【００３３】
また、Ｒａ：０．０６３μｍ、最大高さ（Ｒｙ）：０．４８４μｍ、十点平均粗さ（Ｒ
ｚ）：０．４１２μｍであった。因みに液体を用いないブラスト処理をした後にウエット
エッチングした後のRaは０．２μｍ程度である。ウエットブラストの場合には、表面粗さ
が少ないといえる。
【実施例２】
【００３４】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．５重量％、ＨＣＩ：２．０重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１重量％、クエン
酸：２．２重量％、純水：５１．２重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４
０分間のエッチングを行い５０μｍのエッチング量を得た。この場合にヘイズ値は４．１
と低い値が得られた。
【実施例３】
【００３５】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．５重量％、ＨＮＯ3：９．０重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１重量％、クエ
ン酸：２．２重量％、純水：４４．２重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で
４０分間のエッチングを行い５０μｍのエッチング量を得た。この場合のヘイズ値は５．
８と低い値が得られた。
【実施例４】
【００３６】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．５重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１重量％、純水：５５．４重量％とし、前
記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行い５０μｍのエッチング量
を得た。この場合のヘイズ値は２．９と低い値が得られた。
【実施例５】
【００３７】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．５重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１重量％、クエン酸：４．０重量％、純水
：５１．４重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行
い５０μｍのエッチング量を得た。この場合のヘイズ値は３．１と低い値が得られた。
【実施例６】
【００３８】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：３．０重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１重量％、クエン酸：２．２重量％、純水
：５１．７重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行
い５０μｍのエッチング量を得た。この場合のヘイズ値は１．５と低い値が得られた。
【実施例７】
【００３９】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．５重量％、Ｈ２ＳＯ４：１５．０重量％、クエン酸：２．２重量％、純水
：８１．３重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行
い５０μｍのエッチング量を得た。この場合のヘイズ値は５．５と低い値が得られた。
【実施例８】
【００４０】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．０重量％、Ｈ２ＳＯ４：４３．１重量％、クエン酸：２．２重量％、純水
：５３．７重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行
い５０μｍのエッチング量を得た。この場合のヘイズ値は９.０と低い値が得られた。
【実施例９】
【００４１】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：１．５重量％、Ｈ２ＳＯ４：５５．０重量％、クエン酸：２．２重量％、純水
：４１．３重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行
い５０μｍのエッチング量を得た。
【００４２】
この場合のヘイズ値は１．８と低い値が得られた。
【実施例１０】
【００４３】
前記実施例１と同じブラスト処理、洗浄及び乾燥処理を行った後、エッチング液の組成
を、ＨＦ：８．８重量％、ＨＣＩ：８．８６重量％、ＨＮＯ３：９．２８重量％、純水：
７３．０６重量％とし、前記実施例１と同じエッチング条件で４０分間のエッチングを行
い５０μｍのエッチング量を得た。この場合にヘイズ値は１４．８となった。
【００４４】
なお、ガラスエッチング液は、フッ酸０．５〜６．０重量％と、硫酸１５．０〜５０．
０重量％とを含有する。また、場合によりフッ酸及び硫酸以外の無機酸を１種単独で使用
しても、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
フッ酸及び硫酸以外の無機酸としては、ガラス基板中に含まれるケイ素以外の金属成分
の種類に応じて、適宜選択されるが、例えば、塩酸、硫酸、リン酸等が挙げられ、塩酸が
好ましい。なお、ガラスエッチング液における溶剤は、通常、水であるが、水溶性有機溶
剤と水との混合溶剤であってもよい。水溶性有機溶剤としては、例えば、グリセリン、ポ
リエチレングリコール等が挙げられる。
【００４６】
・フッ酸
フッ酸は、ガラスエッチング液がガラス基板中のＳｉＯ２を溶解するのに寄与する。ガ
ラスエッチング液において、フッ酸の含有量は、０．５〜０．８重量％であり、好ましく
は０．５〜０．６重量％、より好ましくは１．０〜５．５重量％である。ガラスエッチン
グ液におけるフッ酸の含有量が０．５〜０．８重量％であると、ガラスエッチング液によ
るＳｉＯ２の溶解性を十分に確保しつつ、ガラスエッチング液におけるフッ酸の含有量を
少なくすることができ、安全性や省資源性を向上させやすい。
【００４７】
・硫酸
硫酸は、ガラスエッチング工程でガラス基板の面方向への高さがより低く抑えられた頂
部周辺のエッチングを特に進行させることに寄与する。ガラスエッチング液において、硫
酸の含有量は、１５．０〜５０．０重量％であり、好ましくは１５．０〜４９．０重量％
である。より、好ましくは１７．０〜４９．０重量％である。
【００４８】
・キレート剤
ガラスエッチング液は、キレート剤を含有してもよい。ガラスエッチング液にキレート
剤を含有すると、ガラス基板のエッチングによりガラスエッチング液中に溶解したガラス
成分は、キレート剤によりキレート化されるため、ガラス基板上で再結晶しにくくなる。
キレート剤は、１種単独で使用しても、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
キレート剤としては、例えば、２個以上のカルボキシル基、水酸基を有する化合物が挙
げられ、具体的には、クエン酸、グルコン酸、コハク酸、シュウ酸、酒石酸、エチレンジ
アミン４酢酸（ＥＤＴＡ）、ヒドロキシエチリデンジホスフィン酸（ＨＥＤＰ）等が挙げ
られ、クエン酸が特に好ましい。
【００５０】
ガラスエッチング液において、キレート剤の含有量は、好ましくは０．０５〜３．５重
量％であり、より好ましくは０．１〜３．０重量％である。
【００５１】
・その他の成分
ガラスエッチング液は、必要に応じて、１個のカルボキシル基を有する化合物（例えば
、酢酸等のモノカルボン酸）、界面活性剤、ジアミン化合物（例えば、エチレンジアミン
）、等のその他の成分を含有してもよい。その他の成分の含有量は、特に限定されず、適
宜、調整すればよいが、ガラスエッチング液において、１個のカルボキシル基を有する化
合物の含有量は、好ましくは０．０１〜１０重量％であり、より好ましくは０．１５〜２
．５重量％であり、さらに好ましくは０．２〜２．０重量％である。
【参考例】
【００５２】
実施例ではヘイズ値が２０以下となるケースを説明したが、本発明に係る製造方法では
、ヘイズ値の高いガラス等を製造することも可能である。よってガラス等の用途に応じて
要求されるヘイズ値のガラスを製造することができる。
【参考例１】
【００５３】
＜工程１＞
ガラス板（旭硝子株式会社製、アルミノシリケートガラス「ドラゴントレイル（登録商
標）」３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ）にウエットブラスト装置（マコー株式
会社製、ＷＦＢ−４６０）を用いて下記の条件で表面加工を行った。
【００５４】
○ノズル幅：３７０ｍｍ
○研磨材：アルミナ研磨材（マコー株式会社製、マコランダムＡ＃２０００）
○研磨材濃度：１０ｗｔ％（媒体はＲＯ水）
○エア圧力：０．２３ＭＰａ
○ノズル移動速度：５ｍｍ／ｓ
○噴射距離：７０ｍｍ
○加工回数：２回
表面加工は、水、研磨剤、圧縮エアを混合し、投射ガンからガラス板に高速で噴射する
ことに行う。具体的にはスラリータンク内で水と研磨剤を撹拌混合させて一の導入口から
投射ガンに導入する。一方でコンプレッサーエアを用いて圧縮した圧縮エアを別の導入口
から投射ガンに導入する。
【００５５】
水と研磨材、圧縮エアは投射ガン中で混合され、幅広のノズルから処理対象物であるガ
ラス板に向かい噴射される。結果ガラス板の表面加工がなされる。
【００５６】
前記条件で表面加工を行ったガラスの状態は下記の通りであった。
【００５７】
○グロス値：１１２（株式会社堀場製作所製グロス計）
○粗さ（サーフコム４８０Ａ粗さ測定機）
Ｒａ：０．０３８μｍ、Ｒｙ：０．３１２μｍ、Ｒｚ：０．２３０μｍ
Ｓｍ：４６．０２６μｍ
＜工程２＞
超音波洗浄機（ＵＳメック製）にて洗浄、洗浄液は５％ＮａＯＨ，市水、ＲＯ水にて浸
漬洗浄、温風乾燥により水切りを行った。
【００５８】
＜工程３＞
ウーターブラスト非加工面にラミネートフィルム（日東電工株式会社製、ＳＰＶ−３６
２Ｍ）をラミネーター（株式会社キモト製）により貼り付け、ガラス板の外形に沿ってカ
ットした。この時、貼り付けたラミネートフィルムの外周部に捲れ等があると次工程のエ
ッチングでダメージを受けることから捲れがあった場合にはゴムローラ等で修復する。
【００５９】
エッチング専用カセットにガラス板を収納した。収納したガラス板間のピッチは１５ｍ
ｍとし、エッチング槽の大きさからカセット幅が１７５ｍｍのものを用い、ガラス板８枚
/カセットとして処理を行った。エッチング処理は槽内のエッチング液をポンプにより循
環させて噴射ノズルにより吐出させて処理する浸漬法である。
【００６０】
本実施例におけるエッチング液の組成は、ＨＦ：８．８重量％、ＨＣｌ：８．８６重量
％、ＨＮＯ３：９．２８重量％、純水：７３．０６重量％である。その他のエッチング条
件は、エッチング液温度：３０℃、エッチング液流量：３０Ｌ/分である。単位時間当た
りのエッチング量は４．２９μｍ／分であった。
【００６１】
そこで、エッチング量を１６μｍとするために、エッチング時間を３分４０秒とし処理
を行った。その後、非処理面のラミネートフィルムを除去し、ＲＯ水にて洗浄を行いアン
チグレアガラスを製造した。完成したガラス板のヘイズ値は３９．６であった。
【００６２】
以上、前記、実施例、比較例ともにガラス板は（旭硝子株式会社製、アルミノシリケー
トガラス「ドラゴントレイル（登録商標）」３７０ｍｍ×４７０ｍｍ、厚さ１．１ｍｍ）
を用いた場合の例を示したが、特に限定されるものではない。
【図１】
2016040211.tif 000003
【図２】
2016040211.tif 000004