(57)【要約】【課題】ブロッキング防止性が良好で光透過率が高い透明積層フィルムを提供する。【解決手段】基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する透明積層フィルムであって、バックコート層は、１つの塗布層が上側層と下側層の２層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする、透明積層フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する透明積層フィルムであって、バックコート層は、１つの塗布層が上側層と下側層の２層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする、透明積層フィルム。
【請求項２】
前記の塗布層が、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する、請求項１に記載の透明積層フィルム。
【請求項３】
前記の塗布層が、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する、請求項１または２に記載の透明積層フィルム。
【請求項４】
前記シリカ粒子がフッ素化合物により処理されている、請求項１〜３のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項５】
前記シリカ粒子が中空シリカ粒子である、請求項１〜４のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項６】
前記上側層表面の最低反射率が２．０％以下である、請求項１〜５のいずれかに記載の透明積層フィルム。
【請求項７】
基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する透明積層フィルムの製造方法であって、
基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を積層する工程、および基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を積層する工程を有し、
バックコート層を積層する工程において、少なくとも、バインダー成分、フッ素化合物により処理されたシリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に１回塗布して１つの塗布層を形成し、この塗布層を層分離せしめて、基材フィルムの反対側にフッ素化合物により処理されたシリカ粒子を含有する上側層を形成せしめ、基材フィルム側にシリカ粒子以外の成分を主成分とする下側層を形成せしめることを特徴とする、透明積層フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記塗布液が更に金属酸化物粒子を含有する、請求項７に記載の透明積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム、ディスプレイの保護フィルムや光学フィルムなどに適用される透明積層フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム（例えばハードコートフィルムや屈折率調整フィルム）、ディスプレイの保護フィルム（例えばハードコートフィルム、帯電防止フィルム、防汚性フィルム）、あるいは光学フィルム（例えば反射防止フィルムや防眩フィルム）は、基材フィルム上に各種機能性層、例えば、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層、防汚層などが設けられている。
【０００３】
以下、これらの各種機能性層が設けられたフィルムを総称して、「機能性フィルム」ということがある。
【０００４】
上記した機能性フィルムは、基材フィルムの機能性層が設けられた面とは反対面に、バックコート層を設けることが知られている（例えば、特許文献１〜４）。これらのバックコート層は、機能性フィルムのカールバランスの調整やブロッキング防止等のために設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００５−１８５５１号公報
【特許文献２】特開２００５−２６６２３１号公報
【特許文献３】特開２００８−３１０３４３号公報
【特許文献４】特開２０１０−１０７５４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
機能性フィルムのブロッキングを防止するために、バックコート層に粒子を含有させて表面に凹凸を形成することが知られている。このようなバックコート層を設けることによって、ブロッキング防止性は向上するが、機能性フィルムの光透過率が低下する傾向にある。
【０００７】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の課題に鑑み、ブロッキング防止性が良好で光透過率が高い透明積層フィルム（機能性フィルム）を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の上記目的は、以下の発明により基本的に達成された。
［１］基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する透明積層フィルムであって、バックコート層は、１つの塗布層が上側層と下側層の２層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする、透明積層フィルム。
［２］前記の塗布層が、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する、［１］に記載の透明積層フィルム。
［３］前記の塗布層が、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する、［１］または［２］に記載の透明積層フィルム。
［４］前記シリカ粒子がフッ素化合物により処理されている、［１］〜［３］のいずれかに記載の透明積層フィルム。
［５］前記シリカ粒子が中空シリカ粒子である、［１］〜［４］のいずれかに記載の透明積層フィルム。
［６］前記上側層表面の最低反射率が２．０％以下である、［１］〜［５］のいずれかに記載の透明積層フィルム。
［７］基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する透明積層フィルムの製造方法であって、基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を積層する工程、および基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を積層する工程を有し、バックコート層を積層する工程において、少なくとも、バインダー成分、フッ素化合物により処理されたシリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に１回塗布して１つの塗布層を形成し、この塗布層を層分離せしめて、基材フィルムの反対側にフッ素化合物により処理されたシリカ粒子を含有する上側層を形成せしめ、基材フィルム側にシリカ粒子以外の成分を主成分とする下側層を形成せしめることを特徴とする、透明積層フィルムの製造方法。
［８］前記塗布液が更に金属酸化物粒子を含有する、［７］に記載の透明積層フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、ブロッキング防止性が良好で光透過率が高い透明積層フィルムを提供することができる。本発明によれば、さらに干渉縞の発生を抑制することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明にかかる透明積層フィルムは、各種機能性フィルム、例えば、タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム（例えばハードコートフィルムや屈折率調整フィルム）、ディスプレイの保護フィルム（例えばハードコートフィルム、帯電防止フィルム、防汚性フィルム）、および光学フィルム（例えば反射防止フィルムや防眩性フィルム）等に適用される。
【００１１】
本発明にかかる透明積層フィルムは、基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する。
【００１２】
機能性層は、上記したような各種機能性フィルムを構成する機能性層であれば、特に限定されない。機能性層としては、例えば、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層、防汚層などが挙げられる。機能性層は１層であっても、複数層の積層構成であってもよい。積層構成としては、例えば、ハードコート層と反射防止層との積層、ハードコート層と導電層との積層、ハードコート層と屈折率調整層の積層、屈折率調整層と導電層との積層、反射防止層と防汚層との積層などが挙げられる。
【００１３】
本発明にかかる透明積層フィルムは、バックコート層に主たる特徴を有する。すなわち、本発明のバックコート層は、１つの塗布層が上側層（基材フィルムから遠い側の層）と下側層（基材フィルムから近い側の層）の２層に層分離せしめられて形成されたものであり、基材フィルムの反対側（基材フィルムから遠い側）にシリカ粒子を含有する上側層が形成されていることを特徴とする。このようなバックコート層を設けることにより、透明積層フィルムのブロッキング防止性および透過率を向上させることができる。
【００１４】
本発明にかかる透明積層フィルムの全光線透過率は、高いほど好ましく、具体的には８５％以上が好ましく、８８％以上がより好ましく、９０％以上が特に好ましい。
【００１５】
本発明のバックコート層を設けることにより、透明積層フィルムの機能性層とは反対面（Ｂ面）の反射率が小さくなり、その結果、透明積層フィルムの透過率が高められる。バックコート層表面（上側層表面）の反射率は小さいほど好ましく、具体的には、最低反射率が、２．０％以下が好ましく、１．５％以下がより好ましく、１．０％以下が特に好ましい。バックコート層表面（上側層表面）の最低反射率を２．０％以下に小さくすることにより、透明積層フィルムの透過率が向上する。下限は特に限定されるものではないが、０％が実質的な下限となる。
【００１６】
［バックコート層］
本発明にかかるバックコート層は、層分離構造を有する。つまり、本発明のバックコート層は、基材フィルム上に１つの塗布層が塗布され、この塗布層が上側層と下側層の２層に層分離せしめられて形成されたものである。そして、基材フィルムの反対側（基材フィルムから遠い側）に位置する上側層はシリカ粒子を含有する層である。
【００１７】
本発明のバックコート層の好ましい１つの態様（態様１）は、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する１つの塗布層が２つの層（上側層と下側層）に層分離せしめられて形成されることにある。
【００１８】
上記態様１のバックコート層は、例えば、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に１回塗布して１つの塗布層を形成し、この塗布層の乾燥過程で、シリカ粒子を基材フィルムとは反対側（空気側）に移動させることによって形成することができる。このようにして形成されたバックコート層は、シリカ粒子を含有する上側層とシリカ粒子以外の成分（例えばバインダー成分）を主成分とする下側層の層分離構造を有する。
【００１９】
本発明のバックコート層の好ましい他の態様（態様２）は、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する１つの塗布層が２つの層（上側層と下側層）に層分離せしめられて形成されることにある。
【００２０】
上記態様２のバックコート層は、例えば、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子、金属酸化物粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に１回塗布して１つの塗布層を形成し、この塗布層の乾燥過程で、シリカ粒子を基材フィルムとは反対側（空気側）に移動させることによって形成することできる。このようにして形成されたバックコート層は、シリカ粒子を含有する上側層とシリカ粒子以外の成分（例えばバインダー成分や金属酸化物粒子）を主成分とする下側層の層分離構造を有する。
【００２１】
本発明のバックコート層は、上側層と下側層が明確な界面を形成するように層分離されていることが重要である。これによって、バックコート層表面の反射率が低下し、透明積層フィルムの透過率の向上が図られる。上側層と下側層が明確な界面によって層分離されているかどうかは、バックコート層の断面を透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察することによって確認することができる。
【００２２】
上側層と下側層が１つの塗布層から層分離によって形成されたバックコート層は、更に干渉縞の発生を抑制する効果がある。これは、層分離によって形成された上側層と下側層の界面は、上側層と下側層を別々に塗り重ねた時の上側層と下側層の界面に比べて、界面に微小な凹凸構造が比較的多く存在することにより干渉縞が抑制されると推測される。
【００２３】
本発明のバックコート層は、バックコート層表面の反射率を低下させて透明積層フィルムの透過率を高めるという観点から、上記態様２が好ましい。
【００２４】
本発明の層分離によって形成された上側層は、シリカ粒子が比較的密に配列された構造となることから、ブロッキング防止性および透過率が向上すると考えられる。
【００２５】
上記観点から、本発明のバックコート層における上側層においては、シリカ粒子の体積比率が高いことが好ましい。上側層におけるシリカ粒子の体積比率は、例えば、上側層の任意の断面面積に対するシリカ粒子の断面面積の比率で表すことができる（以下、シリカ粒子の面積比率という）。上記シリカ粒子の面積比率は、５０％以上が好ましく、６０％以上がより好ましく、７０％以上が特に好ましい。
【００２６】
上側層のシリカ粒子の面積比率を高めることによって、透明積層フィルムのブロッキング防止性が向上し、かつバックコート層表面（上側層表面）の反射率が低下して透明積層フィルムの透過率が向上する。
【００２７】
シリカ粒子の面積比率が高くなり過ぎると、上側層の膜強度が低下することによりシリカ粒子が脱落したり、上側層の耐擦傷性が低下したりすることがあるので、シリカ粒子の面積比率の上限は９７％以下が好ましく、９５％以下がより好ましい。
【００２８】
ここで、シリカ粒子が中空シリカである場合、中空シリカの中空部はシリカ粒子の断面面積に含まれる。
【００２９】
本発明にかかるバックコート層は、前述の態様１および態様２で説明したように、少なくとも、バインダー成分とシリカ粒子を含有する（態様２は更に金属酸化物粒子を含有する）１つの塗布層が層分離せしめられて形成されたものであり、塗布層中のシリカ粒子の大部分は層分離が完成することにより表面側（空気側）に移動して上側層を形成し、下側層中にはシリカ粒子以外の成分、すなわち、バインダー成分や金属酸化物粒子等が主成分として残る。上側層には、バインダー成分も存在し、このバインダー成分はシリカ粒子とシリカ粒子の間や上側層と下側層の界面近傍に存在して結着材として機能する。
【００３０】
層分離が完成しても、下側層にはいくらかのシリカ粒子が残存することが想定されるが、下側層におけるシリカ粒子の含有比率は小さいことが好ましい。下側層にシリカ粒子が比較的多く存在すると、透明積層フィルムの透過率が十分に向上しないことがある。具体的には、下側層におけるシリカ粒子の面積比率（上側層におけるシリカ粒子の面積比率と同義）は、１５％以下が好ましく、１０％以下がより好ましく、５％以下が特に好ましい。下限は、特に限定されるものではないが、０％が実質的な下限となる。
【００３１】
下側層は、バインダー成分および／または金属酸化物粒子を主成分とする層であることが好ましい。つまり、下側層は、バインダー成分および金属酸化物粒子のどちらか一方が主成分である態様、およびバインダーと金属酸化物粒子との合計が主成分である態様を含む。
【００３２】
前述の態様１は、バインダー成分を主成分とする下側層が形成されていることが好ましく、態様２は、バインダー成分および金属酸化物粒子との合計を主成分とする下側層が形成されていることが好ましい。
【００３３】
上記態様１において、バインダー成分を主成分とする下側層を形成するには、上側層と下側層に層分離せしめる前の１つの塗布層の固形分総量（質量）からシリカ粒子を除いた質量（Ａ１）に対するバインダー成分の質量（Ｂ１）の比率（Ｂ１／Ａ１×１００）が５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。
【００３４】
上記態様２において、バインダー成分および金属酸化物粒子との合計を主成分とする下側層を形成するには、上側層と下側層に層分離せしめる前の１つの塗布層の固形分総量（質量）からシリカ粒子を除いた質量（Ａ２）に対するバインダー成分と金属酸化物粒子との合計質量（Ｂ２）の比率（Ｂ２／Ａ２×１００）が５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましく、７０質量％以上であることが好ましい。
【００３５】
上記態様１および態様２における上記比率の上限は、特に限定されないが、９９質量％以下が好ましく、９７質量％以下がより好ましく、９５質量％以下が特に好ましい。
【００３６】
本発明のバックコート層における上側層の厚みは、透明積層フィルムの透過率およびブロッキング防止性を向上させるという観点から、６０〜１５０ｎｍの範囲が好ましく、７０〜１３０ｎｍの範囲がより好ましく、８０〜１２０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００３７】
本発明のバックコート層における下側層の厚みは、透明積層フィルムの透過率および耐擦傷性の向上ならびに基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制するという観点から、８０ｎｍ以上が好ましく、１００ｎｍ以上がより好ましく、２００ｎｍ以上が更に好ましく、３００ｎｍ以上が特に好ましい。下側層の厚みが大きくなり過ぎると、層分離構造が形成されにくくなることがあるので、上限の厚みは２０００ｎｍ以下が好ましく、１５００ｎｍ以下がより好ましく、１０００ｎｍ以下が特に好ましい。
【００３８】
本発明のバックコート層は、従来のバックコート層に比べて、表面粗さＲａが比較的小さくとも、良好なブロッキング防止性が得られる。バックコート層の表面粗さを比較的小さくすることにより、透明積層フィルムの透過率を向上させることができる。
【００３９】
バックコート層表面の表面粗さＲａは、１５ｎｍ以下が好ましく、１２ｎｍ以下より好ましく、特に１０ｎｍ以下が好ましい。表面粗さＲａの下限は、良好なブロッキング性を確保するという観点から、３ｎｍ以上が好ましく、５ｎｍ以上が特に好ましい。
【００４０】
［バックコート層の成分］
本発明にかかるバックコート層は、前述したように、少なくともバインダー成分とシリカ粒子を含有する１つの塗布層が２つの層（上側層と下側層）に層分離せしめられて形成されることが好ましく（態様１）、更に、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子および金属酸化物粒子を含有する１つの塗布層が２つの層（上側層と下側層）に層分離せしめられて形成されることが好ましい（態様２）。
【００４１】
シリカ粒子としては、中空シリカ粒子、多孔質シリカ粒子、コロイダルシリカ（中空シリカに対して中実シリカ）が好ましく用いられる。ここで中空シリカ粒子とは、粒子の内部に空洞を有するシリカ粒子であり、多孔質シリカ粒子とは、粒子の表面および内部に細孔を有するシリカ粒子である。これらのシリカ粒子の中でも、透明積層フィルムの透過率を向上させるという観点から、特に中空シリカが好ましい。
【００４２】
シリカ粒子の平均粒子径は、１０〜１２０ｎｍの範囲が好ましく、２０〜１００ｎｍの範囲がより好ましく、３０〜８０ｎｍ範囲が特に好ましい。シリカ粒子の平均粒子径が１０ｎｍ未満では、ブロッキング防止性が十分に向上しないことがある。シリカ粒子の平均粒子径が１２０ｎｍより大きくなると、透明積層フィルムの透過率が十分に向上しないことがあり、また、層分離構造が形成されないことがある。
【００４３】
シリカ粒子は、フッ素化合物で処理されていることが好ましい。フッ素処理されたシリカ粒子は表面自由エネルギーが小さくなることから、空気側（基材フィルムとは反対側）へ移動しやすくなり、層分離構造が形成されやすくなる。
【００４４】
シリカ粒子のフッ素化合物による処理とは、シリカ粒子を化学的に修飾して、シリカ粒子にフッ素化合物を導入する処理を指す。シリカ粒子のフッ素化合物による処理は、一段階で行われてもよいし、多段階で行われてもよい。また、複数の処理段階でフッ素化合物が用いられてもよいし、一つの処理段階のみでフッ素化合物が用いられてもよい。ここで「導入」とは、フッ素化合物が、シリカ粒子に化学結合（共有結合、水素結合、イオン結合、ファンデルワールス結合、疎水結合等を含む）や吸着（物理吸着、化学吸着を含む）している状態を指す。
【００４５】
かかるフッ素化合物としては、次の一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましく用いられる。
【００４６】
Ｒ１−Ｒ２−Ｒｆ      ・・・    一般式（Ｉ）
ここで、Ｒｆはフルオロアルキル基、Ｒ１は反応性部位、Ｒ２は炭素数１から６のアルキレン基又はそれらから導出されるエステル構造を示す。それぞれ側鎖を構造中に持っても良い。
【００４７】
フルオロアルキル基とは、アルキル基が持つ水素の一部あるいは全てがフッ素に置き換わったものであり、主にフッ素原子と炭素原子から構成される基である。
【００４８】
反応性部位とは、熱または光などの外部エネルギーにより他の成分と反応する部位をさす。このような反応性部位として、反応性の観点から、アルコキシシリル基、アルコキシシリル基が加水分解されたシラノール基、シリルエーテル基、カルボキシル基、水酸基、エポキシ基、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基などが挙げられる。これらの中でも、アルコキシシリル基、シラノール基、シリルエーテル基、エポキシ基、アクリロイル基、メタクリロイル基が好ましい。
【００４９】
このフッ素化合物を導入する処理法の一つは、前記一般式（Ｉ）におけるＲ１がアルコキシシリル基、シラノール基、あるいはシリルエーテル基であるフルオロアルコキシシラン化合物の少なくとも１種類と、シリカ粒子もしくはシリカ粒子分散物と、溶媒、触媒等とを共に撹拌、場合によっては加熱または脱アルコール処理をし、シリカ粒子表面の水酸基と縮合させる方法である。シリカ粒子のフッ素化合物による処理は、シリカ粒子を微細に分散した状態で行うという観点から、シリカ粒子分散物の状態で行うことが好ましい。
【００５０】
ここでいうシリカ粒子分散物とは、シリカ粒子が溶媒中に分散された状態のものを指し、ゾル、サスペンジョン、スラリー、コロイド溶液ともよばれることもあり、シリカ粒子、溶媒のほかに、分散剤、界面活性剤、表面処理剤等、安定化剤等を含んでもよい。
【００５１】
前述したフッ素化合物の具体例としては、３，３，３−トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリイソプロポキシシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリクロロシラン、３，３，３−トリフルオロプロピルトリイソシアネートシラン、２−パーフルオロオクチルトリメトキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリエトキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリイソプロポキシシラン、２−パーフルオロオクチルエチルトリクロロシラン、２−パーフルオロオクチルイソシアネートシラン等が挙げられる。
【００５２】
フッ素化合物によるシリカ粒子の処理の別の方法として、シリカ粒子もしくはシリカ粒子分散物を、フッ素原子を有しないシラン化合物にて処理し、次いでフッ素化合物で処理してシラン化合物とフッ素化合物をつなぎ合わせる方法がある。
【００５３】
このシラン化合物は、次の一般式（ＩＩ）で表される化合物であることが好ましい。
【００５４】
Ｒ３−Ｒ４−ＳｉＲ５ｎ２（ＯＲ６）３−ｎ２      一般式（ＩＩ）
上記一般式（ＩＩ）中のＲ３は反応性部位を示し、Ｒ４は炭素数１から６のアルキレン基あるいはそれらから導出されるエステル構造を表し、Ｒ５およびＲ６はそれぞれ水素または炭素数が１から４のアルキル基を表し、ｎ２は０から２の整数を表す。
【００５５】
Ｒ３で表される反応性部位としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基が挙げられる。
【００５６】
一般式（ＩＩ）で表される化合物の具体例としては、アクリロキシエチルトリメトキシシラン、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、アクリロキシブチルトリメトキシシラン、アクリロキシペンチルトリメトキシシラン、アクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、アクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシエチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、メタクリロキシブチルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘキシルトリメトキシシラン、メタクリロキシヘプチルトリメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン及びこれら化合物中のメトキシ基が他のアルコキシル基及び水酸基に置換された化合物を含むものなどが挙げられる。
【００５７】
また、この処理（シラン化合物で処理し次いでフッ素化合物で処理する）に用いられるフッ素化合物としては、前述の一般式（Ｉ）で表される化合物の中で、Ｒ１で表される反応性部位がビニル基、アリル基、アクリロイル基、またはメタクリロイル基である化合物が好ましい。
【００５８】
かかるフッ素化合物の具体例としては、２，２，２−トリフルオロエチルアクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフロオロプロピルアクリレート、２−パーフルオロブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルアクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロデシルエチルアクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−３−メトキシブチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルアクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチル−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、テトラフルオロプロピルアクリレート、オクタフルオロペンチルアクリレート、ドデカフルオロヘプチルアクリレート、ヘキサデカフルオロノニルアクリレート、ヘキサフルオロブチルアクリレート、２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート、２−パーフルオロブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロオクチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロデシルエチルメタクリレート、２−パーフルオロ−３−メチルブチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−３−メチルブチル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−５−メチルヘキシルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−５−メチルヘキシル−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、２−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、３−パーフルオロ−７−メチルオクチルエチルメタクリレート、テトラフルオロプロピルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、オクタフルオロペンチルメタクリレート、ドデカフルオロヘプチルメタクリレート、ヘキサデカフルオロノニルメタクリレート、１−トリフルオロメチルトリフルオロエチルメタクリレート、ヘキサフルオロブチルメタクリレートなどが挙げられる。
【００５９】
バインダー成分としては、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。活性エネルギー線硬化性樹脂は、紫外線や電子線などの活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂であり、かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。
【００６０】
尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」の総称である。
【００６１】
分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物として、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−トルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−イソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。
【００６２】
活性エネルギー線硬化性樹脂として、分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物が好ましく用いられる。
【００６３】
金属酸化物粒子としては、屈折率が１．６５以上である金属酸化物粒子が好ましく、特に屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物粒子が好ましく用いられる。
【００６４】
屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに下側層の屈折率を高めることができるので好ましい。下側層の屈折率を高めることにより、上側層表面の反射率が低下し、透明積層フィルムの透過率が高められる。
【００６５】
［層分離構造の形成］
本発明にかかるバックコート層は、少なくとも、バインダー成分、シリカ粒子（フッ素化合物で処理されたシリカ粒子）および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に１回の塗布によって得られた塗布層が層分離せしめられることにより形成されることが好ましい。塗布液は、更に金属酸化物粒子を含有することが好ましい。
【００６６】
基材フィルム上に塗布されて得られた塗布層は、その乾燥過程で塗布層に含有される成分の表面エネルギー差によって、表面エネルギーの小さいシリカ粒子（フッ素化合物で処理されたシリカ粒子）が空気側（基材フィルムとは反対側）へ移動して、基材フィルムの反対側にシリカ粒子を含有する上側層が形成され、同時に塗布層中のシリカ粒子以外の成分（バインダー成分や金属酸化物粒子等）を主成分とする下側層が基材フィルム側に形成される。
【００６７】
バックコート層を形成するための塗布液は、少なくともバインダー成分およびシリカ粒子が溶媒中に溶解もしくは分散された液体であることが好ましい。塗布液は、更に、金属酸化物粒子を含有することが好ましい。溶媒としては特に限定されないが、有機溶媒が好ましく用いられる。有機溶媒としては、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール、エチレングリコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコール、ピロピレングリコールモノメチルエーテル、シクロヘキサン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、トルエン、キシレン、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルホルムアミドなどが挙げられる。
【００６８】
バックコート層を形成するための塗布液において、バインダー成分、シリカ粒子、および金属酸化物粒子の含有量は、シリカ粒子を主成分とする上側層の厚み、バインダーおよび／または金属酸化物粒子を主成分とする下側層の厚みおよび屈折率に応じて適宜調整される。
【００６９】
塗布液におけるシリカ粒子の含有量は、シリカ粒子を主成分とする上側層の厚み設計に応じて調整される。上側層の厚みは、前述したとおりである。
【００７０】
塗布液におけるバインダー成分および金属酸化物粒子の含有量は、バインダー成分および／または金属酸化物粒子を主成分とする下側層の厚みおよび屈折率の設計に応じて調整される。下側層の厚みは前述したとおりである。
【００７１】
下側層の屈折率は、上側層表面の反射率を小さくして透明積層フィルムの透過率を高めるという観点から、１．５０〜１．８０の範囲が好ましい。
【００７２】
シリカ粒子を主成分とする上側層の屈折率は、通常１．５０未満であり、下側層の屈折率と上側層の屈折率との屈折率差を大きくすることによって、上側層表面の反射率を小さくすることができる。上側層の屈折率は、１．５０未満が好ましく、１．４８以下がより好ましく、１．４０以下が特に好ましい。上側層の下限の屈折率は、特に限定されるものではないが、現実的には１．２０程度である。
【００７３】
この観点から、下側層の屈折率は、更に１．５３以上が好ましく、１．５５以上がより好ましく、１．６０以上が特に好ましい。下側層の屈折率が高くなり過ぎると干渉縞が発生しやすくなるので、上限の屈折率は１．８０以下が好ましく、１．７５以下がより好ましく、１．７０以下が特に好ましい。
【００７４】
下側層の屈折率は、前述したように屈折率が１．６５以上である金属酸化物粒子を含有することによって高められる。つまり、塗布液における金属酸化物粒子の含有比率を大きくすることによって下側層の屈折率を高めることができる。
【００７５】
バックコート層は、基材フィルム上にバックコート層を形成するための塗布液を塗布し、乾燥した後、活性エネルギー線（特に紫外線が好ましい）を照射し硬化させて形成されることが好ましい。
【００７６】
層分離を十分に完成させるには、塗布後の乾燥を緩やかに行うことが好ましい。つまり、低温乾燥と高温乾燥の２段階で行うことが好ましい。具体的には、６０℃未満の低温乾燥と６０℃以上の高温乾燥を組み合わせることが好ましい。
【００７７】
バインダー成分として、活性エネルギー線硬化性樹脂が用いられる場合は、乾燥後、活性エネルギー線（紫外線）が照射されて硬化される。紫外線の照射量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【００７８】
バックコート層の紫外線照射による硬化を促進させるために、塗布液は光重合開始剤を含有することが好ましい。
【００７９】
かかる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００８０】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば、チバ・スペシャリティー・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００８１】
バックコート層を形成するための塗布液は、前述のシリカ粒子をフッ素化合物で処理するためのフッ素化合物とは別に、添加剤としてフッ素化合物を添加し塗布液中に存在させることが好ましい。以下、添加剤として塗布液に添加されるフッ素化合物をフッ素化合物（Ｂ）ということがある。塗布液中にフッ素化合物（Ｂ）を含有させることにより、更に層分離構造の形成が促進される。
【００８２】
かかるフッ素化合物（Ｂ）としては、前述のシリカ粒子を処理するためのフッ素化合物と同様の化合物を用いることができる。
【００８３】
バックコート層を形成するための塗布液を基材フィルム上に塗布するための塗布方法としては、特に限定されず、公知の塗布方法を用いることができる。例えば、グラビアコート法、ダイコート法、ディップコート法、ロールコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。
【００８４】
［基材フィルム］
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、該材料として、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。ポリエステルの中でも特にポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００８５】
基材フィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であり、５０〜２５０μｍの範囲が好ましく、５０〜２００μｍの範囲がより好ましい。
【００８６】
［易接着層］
本発明の基材フィルムは、少なくともバックコート層を積層する側の面に易接着層が設けられていることが好ましい。基材フィルムとバックコート層との間に易接着層が介在することにより、基材フィルムとバックコート層との密着力が向上する。
【００８７】
易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが特に好ましく、８０質量％以上含むことが最も好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、特に９５質量％以下が好ましい。
【００８８】
このような樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。
【００８９】
易接着層の厚みは、１０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１５〜１５０ｎｍの範囲がより好ましく、２０〜１２０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００９０】
また、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、易接着層の屈折率は、バックコート層側の干渉縞を抑制するという観点から、１．５５〜１．７０の範囲が好ましく、１．５７〜１．６６の範囲がより好ましく、１．５８〜１．６５の範囲が特に好ましい。
【００９１】
易接着層の屈折率を上記範囲に調整するには、樹脂としてナフタレン環を有するポリエステル樹脂やフルオレン環を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。また、前述した屈折率が１．６５以上である金属酸化物粒子を含有させることによって、易接着層の屈折率を上記範囲に調整することができる。
【００９２】
［ハードコート層］
本発明にかかる透明積層フィルムは、基材フィルムとバックコート層との間にハードコート層を設けることができる。
【００９３】
バックコート層を構成する下側層の厚みが８０ｎｍ未満である場合は、良好な耐擦傷性を付与するという観点から、基材フィルムとバックコート層との間にハードコート層を設けることが好ましい。
【００９４】
この場合、ハードコート層の厚みは、０．３〜５μｍの範囲が好ましく、０．５〜４μｍの範囲がより好ましく、０．８〜３μｍの範囲が特に好ましい。ハードコート層は、鉛筆硬度がＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。上限は９Ｈ程度である。鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠して測定されるものである。ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることによって鉛筆硬度をＨ以上とすることができる。
【００９５】
［本発明の透明積層フィルムが適用される機能性フィルム］
本発明にかかる透明積層フィルムは、各種機能性フィルム、例えば、タッチパネル用透明導電性フィルム、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム（例えばハードコートフィルムや屈折率調整フィルム）、ディスプレイの保護フィルム（例えばハードコートフィルム、帯電防止フィルム、防汚性フィルム）、および光学フィルム（例えば反射防止フィルムや防眩性フィルム）等に適用される。
【００９６】
本発明の透明積層フィルムは、上記の機能性フィルムの中でも、高い透過率が要求されるタッチパネル用透明導電性フィルムおよびタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムに好適である。
【００９７】
［機能性層］
機能性層は、上記したような各種機能性フィルムに適した機能を有する層であれば良い。機能性層としては、例えば、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層、防汚層などが挙げられる。本発明では、機能性層は、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、帯電防止層および防汚層からなる群から選ばれる一以上の層を含むことが好ましい。より好ましくは、機能性層が、導電層、ハードコート層、屈折率調整層、反射防止層、および帯電防止層からなる群から選ばれる一以上の層を含むことである。さらに好ましくは、機能性層が、導電層、ハードコート層、および屈折率調整層からなる群から選ばれる一以上の層を含むことである。ここで、屈折率調整層としては、高屈折率層および／または低屈折率層が挙げられる。
【００９８】
また、機能性層は１層であっても、複数層の積層構成であってもよい。積層構成としては、例えば、ハードコート層と反射防止層との積層構成、ハードコート層と導電層との積層構成、ハードコート層と屈折率調整層の積層構成、屈折率調整層と導電層との積層構成、反射防止層と防汚層との積層構成などが挙げられる。
【００９９】
本発明の透明積層フィルムは、タッチパネル用透明導電性フィルムに好適である。また、本発明の透明積層フィルムは、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムにも好適である。以下、これらの機能性フィルムを構成する機能性層について説明するが、本発明はこれらに限定されない。
【０１００】
本発明の透明積層フィルムをタッチパネル用透明導電性フィルムとして用いる場合は、機能性層として少なくとも導電層を有する。導電層の材料としては、タッチパネルの電極に用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）等の金属酸化物、銀ナノワイヤー等の金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
【０１０１】
導電層の厚みは、例えば表面抵抗値を１０３Ω／□以下の良好な導電性を確保するという観点から、８ｎｍ以上であることが好ましく、１０ｎｍ以上であることがより好ましく、特に１５ｍ以上であることが好ましい。一方、導電層の厚みが大きくなりすぎると、透明性が低下するという不都合が生じることがあるので、導電層の厚みの上限は、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、特に４０ｎｍ以下が好ましい。表面導電層の表面抵抗値の下限値は特に限定されないが、０Ω／□が実質的な下限となる。
【０１０２】
導電層の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセス、およびウェットコーティング法を用いることができる。
【０１０３】
上記のようにして製膜された導電層はパターン化されていてもよい。静電容量式タッチパネル用透明導電性フィルムの導電層は、通常、所定パターンにパターン化される。
【０１０４】
一方、本発明の透明積層フィルムをタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムとして用いる場合は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムとは、上記した導電層が積層される前のフィルムを指す。このベースフィルムにおいては、タッチパネル用透明導電性フィルムに耐擦傷性を付与したり、導電層の色味を調整したり、あるいはパターン化された導電層のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」を抑制するなどの目的のために、機能性層としてハードコート層や屈折率調整層が設けられる。そして、このベースフィルムの機能性層の上に導電層が積層されてタッチパネル用透明導電性フィルムが製造される。
【０１０５】
ベースフィルムを構成する機能性薄膜としては、ハードコート層および屈折率調整層が単一層で構成されていてもよいし、複数層で構成されていてもよい。なお、前述のとおり、屈折率調整層としては、高屈折率層および／または低屈折率層が挙げられる。
【０１０６】
複数層の構成としては、ハードコート層と高屈折率層との積層構成、ハードコート層と低屈折率層との積層構成、ハードコート層と高屈折率層と低屈折率層との積層構成、高屈折率層と低屈折率層との積層構成が挙げられる。
【０１０７】
また、ハードコート層は、屈折率調整層の高屈折率層としての機能を併せ持つ、高屈折率ハードコート層であってもよい。この場合の積層構成としては、高屈折率ハードコート層と低屈折率層との積層が挙げられる。
【０１０８】
ハードコート層および高屈折率ハードコート層は、鉛筆硬度がＨ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがより好ましい。上限は９Ｈ程度である。鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４（１９９９年）に準拠して測定されるものである。ハードコート層および高屈折率ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることによって鉛筆硬度をＨ以上とすることができる。
【０１０９】
ハードコート層および高屈折率ハードコート層の厚みは、０．５〜５μｍの範囲が好ましく、０．８〜３μｍの範囲がより好ましい。
【０１１０】
ハードコート層の屈折率は、通常、１．４６〜１．５４程度であり、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂を用いることによって、この屈折率範囲とすることができる。
【０１１１】
高屈折率ハードコート層の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、１．６０〜１．８０の範囲が好ましく、１．６２〜１．７５の範囲がより好ましく、１．６３〜１．７３の範囲が特に好ましい。高屈折率ハードコート層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂と前述の屈折率が１．６５以上である金属酸化物粒子を含有させて形成することができる。金属酸化物粒子の含有比率を大きくすることによって屈折率を高めることができる。
【０１１２】
屈折率調整層を構成する高屈折率層の厚みは、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、厚みが２０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、３０〜１００ｎｍの範囲がより好ましく、３０〜６０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１１３】
高屈折率層の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、１．６０〜１．８０の範囲が好ましく、１．６２〜１．７５の範囲がより好ましく、１．６３〜１．７３の範囲が特に好ましい。高屈折率層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂と前述の屈折率が１．６５以上である金属酸化物粒子を含有させて形成することができる。金属酸化物粒子の含有比率を大きくすることによって屈折率を高めることができる。
【０１１４】
屈折率調整層を構成する低屈折率層の厚みは、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、厚みが１０〜７０ｎｍの範囲が好ましく、１５〜６０ｎｍの範囲がより好ましく、１５〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１１５】
低屈折率層の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、１．５３以下が好ましく、１．５１以下がより好ましく、１．５０以下が特に好ましい。低屈折率層の下限の屈折率は、導電層の色味調整や「骨見え」を抑制するという観点から、１．３５以上が好ましく、１．３８以上がより好ましく、１．４０以上が特に好ましい。
【０１１６】
低屈折率層は、前述の活性エネルギー線硬化性樹脂と低屈折率材料を用いることによって屈折率を１．５３以下に調整することができる。低屈折率材料としては、シリカ粒子やフッ化マグネシウム粒子等の低屈折率粒子、あるいはフッ素化合物を用いることができる。
【０１１７】
また、低屈折率層は、ＳｉＯ２膜（スパッタリングによる製膜）であってもよい。
【０１１８】
本発明にかかる機能性層としては、上記した導電層、ハードコート層、屈折率調整層の他に、前述したように反射防止層、帯電防止層および防汚層が挙げられる。
【０１１９】
反射防止層は、その表面の最低反射率が２．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがより好ましい。下限の最低反射率は特に限定されるものではないが、０％が実質的な下限となる。
【０１２０】
帯電防止層は、その表面抵抗値が１０１３Ω／□以下であることが好ましく、１０１２Ω／□以下であることがより好ましく、１０１１Ω／□以下であることが特に好ましい。下限は、導電層とは区別するという観点から、１０６Ω／□以上であることが好ましい。
【０１２１】
防汚層は、指の指紋が付着しないか、あるいは指紋が付着してもティッシュペーパー等で簡単に拭き取ることができることが好ましい。
【０１２２】
本発明にかかる透明積層フィルムの機能性層表面の表面粗さＲａは、透明積層フィルムの透過率を高めるという観点から、小さいほど好ましい。機能性層表面の表面粗さＲａは、具体的には、１２ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましく、８ｎｍ以下が特に好ましい。下限は特に限定されるものではないが、０ｎｍが実質的な下限となる。
【０１２３】
上記したように、透明積層フィルムの機能性層表面の表面粗さＲａを小さくすると、透明積層フィルムのブロッキング防止性が低下することがあるが、本発明のバックコート層を設けることにより、ブロッキング防止性を向上させることができる。
【０１２４】
［透明積層フィルムの製造方法］
本発明にかかる透明積層フィルムは、以下の製造方法で製造することが好ましい。即ち、本発明の透明積層フィルムの好ましい製造方法は、基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を有し、基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を有する透明積層フィルムの製造方法であって、基材フィルムの一方の面（Ａ面）に機能性層を積層する工程、および基材フィルムの他方の面（Ｂ面）にバックコート層を積層する工程を有し、バックコート層を積層する工程において、少なくとも、バインダー成分、フッ素化合物により処理されたシリカ粒子および溶媒を含有する塗布液を、基材フィルム上に１回塗布して１つの塗布層を形成し、この塗布層を層分離せしめて、基材フィルムの反対側にフッ素化合物により処理されたシリカ粒子を含有する上側層を形成せしめ、基材フィルム側にシリカ粒子以外の成分を主成分とする下側層を形成せしめることを特徴とする、透明積層フィルムの製造方法である。
【実施例】
【０１２５】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
【０１２６】
［測定方法および評価方法］
（１）バックコート層を構成する上側層と下側層との界面の有無
透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）を用いてバックコート層の断面を観察することにより、バックコート層を構成する上側層と下側層の界面の有無を判定した。界面の有無の判定は以下の方法に従って判断した。
【０１２７】
透過型電子顕微鏡により２０万倍の倍率で撮影した画像を、スキャナーを用いてプレゼンテーションソフトウェア（Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ  Ｐｏｗｅｒ  Ｐｏｉｎｔ２００３）に貼付した。次いで貼付した写真のイメージコントロール処理（コントラストを９０％とする）を行い、コントラストを強調した。この際に、１つの層と他の層との界面に明確な境界を引くことができる場合を、明確な界面があるとみなした（表１においては、明確な境界を引くことができる場合を界面有りとして「○」で示し、明確な境界を引くことができない場合を界面無しとして「×」で示した。）。
【０１２８】
（２）バックコート層を構成する上側層と下側層の厚み
透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）を用いてバックコート層の断面を観察することにより、バックコート層を構成する下側層と上側層の厚みを測定した。各層の厚みは、以下の方法に従い測定した。バックコート層の断面の超薄切片を透過型電子顕微鏡により２０万倍の倍率で撮影した画像から、ソフトウェア（画像処理ソフトＥａｓｙＡｃｃｅｓｓ）にて各層の厚みを読み取った。合計で３０点の層厚みを測定して平均値とした。
【０１２９】
（３）バックコート層を構成する上側層におけるシリカ粒子の面積比率
バックコート層の断面の超薄切片を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）により２０万倍の倍率で撮影した画像から、上側層の断面積に占めるシリカ粒子の断面積の割合を求めた。
【０１３０】
（４）バックコート層を構成する下側層におけるシリカ粒子の面積比率
バックコート層の断面の超薄切片を透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）により２０万倍の倍率で撮影した画像から、下側層の断面積に占めるシリカ粒子の断面積の割合を求めた。
【０１３１】
（５）易接着層、高屈折率層、低屈折率層およびハードコート層の厚み
透明積層フィルムの断面を超薄切片に切り出し、透過型電子顕微鏡（日立製Ｈ−７１００ＦＡ型）にて５万倍〜３０万倍の倍率でサンプルの断面を観察し、それぞれの層の厚みを測定した。尚、各層の境界が明確でない場合は必要に応じて染色処理を施した。
【０１３２】
（６）屈折率の測定１（易接着層、機能性層の屈折率）
易接着層および機能性層（ハードコート層、高屈折率層、低屈折率層）のそれぞれの塗布液をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１３３】
（７）屈折率の測定２
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じて、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１３４】
（８）透明積層フィルムの全光線透過率の測定
ＪＩＳ−Ｋ７３６１（１９９７年）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
【０１３５】
（９）バックコート層表面の最低反射率の測定
透明積層フィルムのＡ面（機能性層側の面）に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１  トクハバ  黒”）を貼り付けた測定サンプルを用意し、この測定サンプルを用いてＢ面（バックコート層側の面）の４００〜８００ｎｍの波長領域における反射スペクトルを島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１００にて測定し、最低反射率（ボトム反射率）を求めた。
【０１３６】
（１０）表面粗さＲａの測定
透明積層フィルムの機能性層表面およびバックコート層表面の表面粗さＲａを、表面粗さ計（ＳＵＲＦＣＯＲＤＥＲ ＥＴ４０００Ａ：（株）小坂研究所製）を用い、ＪＩＳ−Ｂ−０６０１（２００１）に基づき、下記測定条件にて測定を行った。表面粗さＲａとは、測定される断面曲線から、カットオフ値λｃの高域フィルタによって長波長成分を遮断して得られた輪郭曲線（粗さ曲線）を求め、その曲線の基準長さにおける高さ（平均線から測定曲線までの距離）の絶対値の平均値のことである。
＜測定条件＞
測定速度：０．１ｍｍ／Ｓ
評価長さ：１０ｍｍ
カットオフ値λｃ：０．１ｍｍ
フィルタ：ガウンシアンフィルタ低域カット。
【０１３７】
（１１）ブロッキング防止性の評価
透明積層フィルムを切断して２枚のシート片（２０ｃｍ×１５ｃｍ）を作製する。この２枚のシートのＡ面（機能性層側の面）とＢ面（バックコート層側の面）とが向き合うようにして重ね合わせる。次に、２枚のシート片を重ね合わせた試料をガラス板で挟み込み、約２ｋｇの重りを載せて、５０℃、８０％（ＲＨ）の雰囲気下に４８時間放置する。次に、重ね合わせ面を目視により観察しニュートンリングの発生状況を確認した後、両者を剥離し、以下の基準で評価した。
○（最良）：剥離前はニュートンリングが発生しておらず、剥離時には剥離音を立てずに軽く剥離される。
△（良好）：剥離前は一部ニュートンリングが発生しており、剥離時には小さな剥離音を立てながら剥離される。
×（不良）：剥離前は全面にニュートンリングが発生しており、剥離時には大きな剥離音を立てて剥離される。
【０１３８】
（１２）バックコート層面の干渉縞の評価
透明積層フィルムのＡ面（機能性層側の面）に黒粘着テープ（日東電工製“ビニルテープＮｏ．２１  トクハバ  黒”）を貼り付け、Ｂ面（バックコート層側の面）を暗室三波長蛍光灯下にて目視観察し、以下の基準で評価した。
○（良好）：干渉縞がほとんど観察されない。
×（不良）：干渉縞が観察される。
【０１３９】
［原料］
＜易接着層＞
易接着層形成用塗布液として下記の２種類の塗布液を用意した。
【０１４０】
＜易接着層形成用塗布液ａ１＞
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は１．５８であった。
【０１４１】
＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸                  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール          ４９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【０１４２】
＜易接着層形成用塗布液ａ２＞
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は１．６５であった。
【０１４３】
＜機能性層＞
機能性層として、下記のハードコート層形成用塗布液、高屈折率層形成用塗布液および低屈折率層形成用塗布液を用意した。
【０１４４】
＜ハードコート層形成用塗布液＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５８質量部、およびウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中に重合性官能基を９個含む）３７質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布液の屈折率は１．５２であった。
【０１４５】
＜高屈折率層形成用塗布液＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを４１質量部、金属酸化物微粒子として酸化ジルコニウムを５６質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）３質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解して調製した。この塗布液の屈折率は、１．６８であった。
【０１４６】
＜低屈折率層形成用塗布液＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６５質量部、含フッ素化合物（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、コロイダルシリカ（日産化学工業（株）のオルガノシリカゾル「ＭＩＢＫ−ＳＤ−Ｌ」、平均粒子径４５ｎｍ）を固形分換算で２質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）３質量部を有機溶媒（メチルイソブチルケトンとプロピレングリコールモノエチルエーテルとの質量比１：１の混合溶媒）に分散・溶解して調製した。この塗布液の屈折率は１．４７であった。
【０１４７】
＜バックコート層形成用塗布液＞
バックコート層形成用塗布液として下記の６種類の塗布液を用意した。
【０１４８】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ１＞
下記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物（ａ）を３８質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを１１質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）を０．６質量部、メチルイソブチルケトンを３１質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを１０質量部、およびフッ素化合物Ｂ（ダイキン（株）製の「Ｒ１８２０」）を３質量部含有する。
【０１４９】
［フッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物（ａ）］
中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％、平均粒子径５０ｎｍ）１５質量部に、（ＣＨ２＝Ｃ（ＣＨ３）ＣＯＯＣ３Ｈ６Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）１．３７質量部と１０質量％蟻酸水溶液０．１７質量部、水０．３０６質量部とを混合し、７０℃にて１時間撹拌した。次いでフッ素化合物としてＨ２Ｃ＝ＣＨＣＯＯＣＨ２（ＣＦ２）８Ｆを１．３８質量部及び２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。次いで、イソプロピルアルコールを加えて希釈し、固形分濃度が３．５質量％のシリカ粒子分散物（ａ）を調製した。
【０１５０】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ２＞
上記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物（ａ）を４３質量部、酸化ジルコニウムのイソプロピルアルコール分散物（ＣＩＫナノテック（株）製；固形分濃度３０質量％；平均粒子径１９ｎｍ）を３６質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）を０．３質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを１０質量部、２−プロパノールを６質量部、フッ素化合物Ｂ（ダイキン（株）製の「Ｒ１８２０」）を３質量部含有する。
【０１５１】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ３＞
下記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物（ｂ）を３８質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを１１質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）を０．６質量部、メチルイソブチルケトンを３１質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを１０質量部、およびフッ素化合物Ｂ（ダイキン（株）製の「Ｒ１８２０」）を３質量部含有する。
【０１５２】
［フッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物（ｂ）］
イソプロピルアルール分散のコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）製：固形分濃度３０質量％、平均粒子径１８ｎｍ）１５質量部に、メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン１．３７質量部と１０質量％蟻酸水溶液０．１７質量部を混合し、７０℃にて１時間撹拌した。ついで、フッ素化合物として、Ｈ２Ｃ＝ＣＨ−ＣＯＯ−ＣＨ２−（ＣＦ２）８Ｆを１．３８質量部及び２，２−アゾビスイソブチロニトリル０．０５７質量部を加えた後、６０分間９０℃にて加熱撹拌した。その後、イソプロピルアルコールを加え希釈し、固形分濃度が３．５質量％のシリカ粒子分散物（ｂ）を調製した。
【０１５３】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ４＞
上記のフッ素化合物で処理されたシリカ粒子分散物（ｂ）を４３質量部、酸化ジルコニウムのイソプロピルアルコール分散物（ＣＩＫナノテック（株）製；固形分濃度３０質量％；平均粒子径１９ｎｍ）を３６質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを５質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）を０．３質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを１０質量部、２−プロパノールを６質量部、フッ素化合物Ｂ（ダイキン（株）製の「Ｒ１８２０」）を３質量部含有する。
【０１５４】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ５＞
イソプロピルアルール分散のコロイダルシリカ（扶桑化学工業（株）製：固形分濃度３０質量％、平均粒子径１８ｎｍ）を５質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを１１質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）を０．６質量部、メチルイソブチルケトンを３１質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを１０質量部含有する。
【０１５５】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ６＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを９２質量部、スチレン−アクリル系共重合樹脂粒子（ガンツ化成（株）製の商品名「スタフィロイド ＥＡ−１１３５」；平均粒子径１３０ｎｍ）を固形分換算で８質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶媒（酢酸エチル：トルエン＝１：１（質量比）の混合溶媒）に溶解あるいは分散した塗布液（固形分濃度３０質量％）を調製した。
【０１５６】
＜バックコート層形成用塗布液ｂｃ７＞
中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物（日揮触媒化成（株）製：固形分濃度２０質量％、平均粒子径５０ｎｍ）７．５質量部、活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを１１質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製の「イルガキュア１８４」）を０．６質量部、メチルイソブチルケトンを３１質量部、エチレングリコールモノブチルエーテルを１０質量部、およびフッ素化合物Ｂ（ダイキン（株）製の「Ｒ１８２０」）を３質量部含有する。
【０１５７】
［実施例１］
下記の要領で透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１５８】
＜易接着層積層ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの両面にそれぞれ易接着層形成用塗布液ａ１を塗布した。
【０１５９】
次に、両面にそれぞれの易接着層形成用塗布液が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。
【０１６０】
このようにして得られた易接着層積層ＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、両面に積層された易接着層の厚みは、それぞれ９０ｎｍであった。また、ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、両面に積層された易接着層の屈折率はそれぞれ１．５８であった。
【０１６１】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０１６２】
＜バックコート層の積層＞
上記で得られた易接着層積層ＰＥＴフィルムの一方の面（Ｂ面）の易接着層上に前述のバックコート層形成用塗布液ｂｃ１を、乾燥厚みが９００ｎｍとなるようにグラビアコート法で塗布し、４５℃と８５℃の２段階で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてバックコート層を形成した。
【０１６３】
このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは１００ｎｍ、下側層の厚みは８００ｎｍであった。
【０１６４】
上側層はシリカ粒子（中空シリカ粒子）を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は７５％であった。下側層はバインダー成分（活性エネルギー線硬化性樹脂）を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は５％以下であった。また、上側層表面の最低反射率は０．８％であった。
【０１６５】
＜機能性層の積層＞
上記でバックコート層が積層された易接着層積層ＰＥＴフィルムの他方の面（Ａ面）の易接着層上に、機能性層として下記のハードコート層、屈折率調整層（高屈折率層および低屈折率層）をこの順に積層した。
【０１６６】
＜ハードコート層の積層＞
前述のハードコート層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚みが１．０μｍｍ、屈折率が１．５２であった。
【０１６７】
＜高屈折率層の積層＞
上記で形成したハードコート層の上に、前述の高屈折率層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、７０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて高屈折率層を形成した。この高屈折率層の屈折率は１．６８、厚みは３５ｎｍであった。
【０１６８】
＜低屈折率層の積層＞
上記で形成した高屈折率層の上に、低屈折率層形成用塗布液グラビアコート法で塗布し、７０℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成した。この低屈折率層の屈折率は１．４７、厚みは４０ｎｍであった。
【０１６９】
［実施例２］
下記の要領で透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１７０】
＜易接着層積層ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの両面にそれぞれ易接着層形成用塗布液ａ２を塗布した。
【０１７１】
次に、両面にそれぞれの易接着層形成用塗布液が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。
【０１７２】
このようにして得られた易接着層積層ＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、両面に積層された易接着層の厚みは、それぞれ２０ｎｍであった。また、ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、両面に積層された易接着層の屈折率はそれぞれ１．６５であった。
【０１７３】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０１７４】
＜バックコート層の積層＞
上記で得られた易接着層積層ＰＥＴフィルムの一方の面（Ｂ面）の易接着層上に前述のバックコート層形成用塗布液ｂｃ２を、乾燥厚みが８００ｎｍとなるようにグラビアコート法で塗布し、４５℃と８５℃の２段階で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてバックコート層を形成した。
【０１７５】
このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは１００ｎｍ、下側層の厚みは７００ｎｍであった。
【０１７６】
上側層はシリカ粒子（中空シリカ粒子）を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は７５％であった。下側層はバインダー成分（活性エネルギー線硬化性樹脂）と金属酸化物粒子（酸化ジルコニウム）を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は５％以下であった。また、上側層表面の最低反射率は０．３％であった。
【０１７７】
＜機能性層の積層＞
上記でバックコート層が積層された易接着層積層ＰＥＴフィルムの他方の面（Ａ面）の易接着層上に、機能性層として下記の屈折率調整層（高屈折率ハードコート層および低屈折率層）を積層した。
【０１７８】
＜高屈折率ハードコート層の積層＞
前述の高屈折率層形成用塗布液を乾燥厚みが１．０μｍとなるようにグラビアコート法で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させて高屈折率ハードコート層を形成した。この高屈折率ハードコート層の屈折率は１．６８、厚みは１．０μｍであった。
【０１７９】
＜低屈折率層の積層＞
上記で形成した高屈折率ハードコート層の上に、前述の低屈折率層形成用塗布液グラビアコート法で塗布し、７０℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させて低屈折率層を形成した。この低屈折率層の屈折率は１．４７、厚みは３５ｎｍであった。
【０１８０】
［実施例３］
実施例１において、バックコート層形成用塗布液をｂｃ３に変更する以外は、実施例１と同様にして透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１８１】
このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは１００ｎｍ、下側層の厚みは８００ｎｍであった。
【０１８２】
上側層はシリカ粒子（コロイダルシリカ）を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は６０％であった。下側層はバインダー成分（活性エネルギー線硬化性樹脂）を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は５％以下であった。また、上側層表面の最低反射率は２．７％であった。
【０１８３】
［実施例４］
実施例２において、バックコート層形成用塗布液をｂｃ４に変更する以外は、実施例２と同様にして透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１８４】
このバックコート層は、上側層と下側層とに明確な界面をもって層分離していることが確認された。上側層の厚みは１００ｎｍ、下側層の厚みは７００ｎｍであった。
【０１８５】
上側層はシリカ粒子（コロイダルシリカ）を含有し、上側層におけるシリカ粒子の面積比率は６０％であった。下側層はバインダー成分（活性エネルギー線硬化性樹脂）と金属酸化物粒子（酸化ジルコニウム）を主体とする層であり、下側層におけるシリカ粒子の面積比率は５％以下であった。また、上側層表面の最低反射率は１．８％であった。
【０１８６】
［比較例１］
実施例１において、バックコート層形成用塗布液をｂｃ５に変更し、バックコート層の乾燥厚みを９００ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にして透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１８７】
このバックコート層は、上側層と下側層とに層分離していないことが確認された。バックコート層の厚みは９００ｎｍ、バックコート層表面の最低反射率は３．５％であった。
【０１８８】
［比較例２］
実施例１において、バックコート層形成用塗布液をｂｃ６に変更し、バックコート層の乾燥厚みを９００ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にして透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１８９】
このバックコート層は、上側層と下側層とに層分離していないことが確認された。バックコート層の厚みは９００ｎｍ、バックコート層表面の最低反射率は３．６％であった。
【０１９０】
［比較例３］
実施例１において、バックコート層形成用塗布液をｂｃ７に変更し、バックコート層の乾燥厚みを９００ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にして透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。
【０１９１】
このバックコート層は、上側層と下側層とに層分離していないことが確認された。バックコート層の厚みは９００ｎｍ、バックコート層表面の最低反射率は３．１％であった。
【０１９２】
［比較例４］
実施例１と同様にして易接着層積層ＰＥＴフィルムを作製し、Ｂ面の易接着層上にバックコート層として下記のバックコート用ハードコート層とバックコート用低屈折率層を順次積層する以外は、実施例１と同様にして透明積層フィルム（タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム）を作製した。このバックコート層表面の最低反射率は０．８％であった。
【０１９３】
このバックコート層は、実施例１のバックコート層の上側層と下側層に概略相当する２つの層を、それぞれ別々に塗布して積層（塗り重ね）したものである。このバックコート層のバックコート用低屈折率層が実施例１の上側層に概略相当し、バックコート用ハードコート層が実施例１の下側層に概略相当する。
【０１９４】
＜バックコート用ハードコート層の積層＞
下記のバックコート用ハードコート層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線を照射し硬化させてバックコート用ハードコート層を形成した。このバックコート用ハードコート層の屈折率は１．５１、厚みは８００ｎｍであった。
【０１９５】
＜バックコート用ハードコート層形成用塗布液＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート９４質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）６質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。
【０１９６】
＜バックコート用低屈折率層の積層＞
上記で形成したバックコート用ハードコート層の上に、下記のバックコート用低屈折率層形成用塗布液をグラビアコート法で塗布し、８０℃で乾燥し、紫外線を照射し硬化させてバックコート用低屈折率層を形成した。このバックコート用低屈折率層の屈折率は１．３５、厚みは１００ｎｍであった。また、バックコート用低屈折率層におけるシリカ粒子の面積比率は７５％であった。
【０１９７】
＜バックコート用低屈折率層形成用塗布液＞
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４７質量部、中空シリカ粒子のイソプロピルアルコール分散物（日揮触媒化成（株）製の中空シリカ：固形分濃度２０質量％、平均粒子径５０ｎｍ）を固形分換算で５０質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。
【０１９８】
＜評価＞
上記で作製したそれぞれの透明積層フィルムについて、全光線透過率、ブロッキング防止性、上側層と下側層の界面の有無、最低反射率、干渉縞および表面粗さＲａを評価した。その結果を表１に示す。
【０１９９】
【表１】
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