(57)【要約】【課題】導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電層表面の反射率を十分に小さくした導電性積層体を提供する。【解決手段】基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体であって、アンダーコート層の屈折率が１．４０以下、オーバーコート層の屈折率が１．４３以下であることを特徴とする、導電性積層体。【選択図】図１
2016081210.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を有する導電性積層体であって、アンダーコート層の屈折率が１．４０以下、オーバーコート層の屈折率が１．４３以下であることを特徴とする、導電性積層体。
【請求項２】
アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計の厚みが７５〜１２５ｎｍである、請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
基材の屈折率が１．６１〜１．７０である、請求項１または２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
基材がポリエチレンテレフタレートフィルムである、請求項３に記載の導電性積層体。
【請求項５】
基材とアンダーコート層との間に、屈折率が１．５５〜１．７０である樹脂層を有する、請求項４に記載の導電性積層体。
【請求項６】
樹脂層の屈折率が１．６１〜１．７０である、請求項５に記載の導電性積層体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の導電性積層体を用いたタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体、およびそれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯機器やタブレット端末等に搭載されたタッチパネルを駆動させるために、導電性積層体（導電性フィルム）が使用されている。
【０００３】
導電性積層体を構成する導電層に使用される導電性材料として、酸化錫をドープした酸化インジウム（ＩＴＯ）やアンチモン／スズ酸化物（ＡＴＯ）などの金属酸化物系、銀や銅などの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブなどが知られている。
【０００４】
導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体の開発が進んでいる。カーボンナノチューブからなる導電層は、ウェットコーティングが可能であり、簡易なプロセスで製造できるという利点、およびカーボンナノチューブは屈曲性に富むため柔軟な基材上にカーボンナノチューブからなる導電層を設けることにより屈曲性にすぐれた導電性積層体が得られるという利点がある。
【０００５】
カーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電性積層体の透過率を高くするために、導電性積層体表面の反射率を小さくすることが提案されている（特許文献１、２）。
【０００６】
また、基材とカーボンナノチューブ層との間にアンダーコート層を設けることが提案されている（特許文献３〜５）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１０−１９２１８６号公報
【特許文献２】特開２０１２−６６５８０号公報
【特許文献３】特開２０１１−１０３２３１号公報
【特許文献４】特開２０１４−２９８３１号公報
【特許文献５】特開２０１４−６０１５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
導電性積層体をタッチパネルに適用した場合、導電性積層体の導電層表面の反射率が高いと、タッチパネル内部の空間（空気層）の存在により、導電性積層体表面（導電層表面）と空気層との界面反射が大きくなり、それによって、液晶等の画像表示パネルから発せられた発光画像のタッチパネル透過性が低下するという不都合が生じる場合がある。
【０００９】
従って、本発明の目的は、導電性材料としてカーボンナノチューブを用いた導電性積層体において、導電層表面の反射率を十分に小さくした導電性積層体およびそれを用いてなるタッチパネルを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の上記目的は、以下の発明によって基本的に達成された。
［１］基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体であって、アンダーコート層の屈折率が１．４０以下、オーバーコート層の屈折率が１．４３以下であることを特徴とする、導電性積層体。
［２］アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計の厚みが７５〜１２５ｎｍである、［１］に記載の導電性積層体。
［３］基材の屈折率が１．６１〜１．７０である、［１］または［２］に記載の導電性積層体。
［４］基材がポリエチレンテレフタレートフィルムである、［３］に記載の導電性積層体。
［５］基材とアンダーコート層との間に、屈折率が１．５５〜１．７０である樹脂層を有する、［４］に記載の導電性積層体。
［６］樹脂層の屈折率が１．６１〜１．７０である、［５］に記載の導電性積層体。
［７］［１］〜［６］のいずれかに記載の導電性積層体を用いたタッチパネル。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、反射率が十分に小さい導電性積層体を提供することができる。また、本発明の導電性積層体を用いたタッチパネルは、画像表示パネルから発せられた発光画像のタッチパネル透過性の低下を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】図１は本発明の導電性積層体を用いたタッチパネルの一例を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明にかかる導電性積層体は、基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体であり、かかる導電性積層体の特徴的な構成は、アンダーコート層の屈折率が１．４０以下、およびオーバーコート層の屈折率が１．４３以下である。
【００１４】
本発明にかかる導電性積層体は、上記の特徴的な構成を組み合わせることによって、導電性積層体表面の反射率を小さくすることができる。
【００１５】
本発明にかかる導電性積層体において、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計の厚みは、７５〜１２５ｎｍであることが好ましく、８０〜１２０ｎｍであることがより好ましく、８５〜１１５ｎｍであることが特に好ましい。これにより、導電性積層体表面の反射率をさらに低下させることができる。
【００１６】
また、本発明にかかる導電性積層体において、屈折率が１．６１〜１．７０である基材を用いることが好ましい。これにより、導電性積層体表面の反射率をさらに低下させることができる。
【００１７】
本発明において、カーボンナノチューブ層とその上に積層されるオーバーコート層とを合わせて導電層ということがある。
【００１８】
本発明において、導電性積層体表面（導電層表面）の反射率（視感反射率）は、１．７％未満であることが好ましく、１．５％未満であることがより好ましく、さらに１．４％未満であることが好ましく、特に１．３％未満であることが好ましい。下限の反射率（視感反射率）は、特に限定されないが、現実的には０．１％程度である。
【００１９】
上記したような反射率を低下させた本発明の導電性積層体をタッチパネル（例えば、抵抗膜式タッチパネル）に用いることにより、タッチパネル内に存在する空間（空気層）と導電性積層体表面（導電層表面）との界面反射が低減し、その結果、液晶や有機ＥＬ（Electro-Luminescence）等の表示パネルから発光されてタッチパネルを透過する光量の低下が抑制される。つまり、タッチパネルを透過する光量を比較的多くすることができる。
【００２０】
以下、本発明の導電性積層体を構成する各構成要素について詳細に説明する。
【００２１】
［基材］
本発明に用いられる基材としては、樹脂基材やガラス板などを挙げることができる。樹脂基材としては、比較的厚みが小さく（例えば厚みが２５０μｍ以下）、ロール状に巻き取りが可能な樹脂フィルム、あるいは厚みが比較的大きい樹脂基板（例えば厚みが２５０μｍ超）を用いることができる。上記した基材の中でも、導電性積層体の生産性の観点から、樹脂フィルムが好ましく用いられる。
【００２２】
樹脂フィルムや樹脂基材を構成する樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル、ポリイミド、ポリフェニレンスルフィド、アラミド、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリ乳酸、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、脂環式アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、トリアセチルセルロースなどを挙げることができる。
【００２３】
ガラス板のガラスとしては、通常のソーダガラスを用いることができる。
【００２４】
本発明にかかる基材としては、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点から、屈折率が１．６１〜１．７０である基材が好ましく用いられる。かかる基材としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）が好ましく用いられる。
【００２５】
また、ポリエチレンテレフタレートフィルムの中でも、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム（二軸延伸ＰＥＴフィルム）は、屈折率が比較的高く、引っ張り強度、耐熱性、耐溶剤性、透明性などの特性に優れていることから、本発明にかかる導電性積層体の基材として有用である。
【００２６】
基材の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点から、１．６２以上が好ましく、１．６３以上がより好ましく、１．６４以上が特に好ましい。基材の屈折率の上限は、導電性積層体の色相や干渉縞等の観点から、１．６９以下が好ましく、１．６８以下が好ましい。
【００２７】
基材は、前述したようにフィルム状であることが好ましく、樹脂フィルムの厚みは２０〜２５０μｍの範囲が適当であるが、剛性、強度、加工性等の観点から、５０μｍ以上が好ましく、７５μｍ以上がより好ましい。樹脂フィルムの上限の厚みは、ある程度の柔軟性を確保するという観点および加工性の観点から、２５０μｍ以下が好ましく、２００μｍ以下がより好ましい。
【００２８】
基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合は、ポリエチレンテレフタレートフィルムとアンダーコート層との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムのアンダーコート層が設けられる面に、後述する樹脂層が設けられていることが好ましい。
【００２９】
［アンダーコート層］
本発明にかかるアンダーコート層は、その屈折率が１．４０以下である。アンダーコート層の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点から、１．３８以下が好ましく、１．３７以下がより好ましく、１．３６以下が特に好ましい。アンダーコート層の屈折率の下限は、特に限定されないが、現実的には１．２０程度である。
【００３０】
屈折率が１．４０以下であるアンダーコート層を形成するために、アンダーコート層はシリカ粒子を含有することが好ましい。かかるシリカ粒子の平均粒子径は、５〜７０ｎｍの範囲が好ましく、７〜６０ｎｍの範囲がより好ましく、１０〜５０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００３１】
このようなシリカ粒子として、コロイダルシリカ、内部に空洞を有するシリカ粒子（中空シリカ）が好ましく用いられる。
【００３２】
コロイダルシリカは、市販品を用いることができる。例えば、日産化学工業（株）の「スノーテックス」や「オルガノシリカゾル」、日揮触媒化成（株）の「ＣＡＴＡＲＯＩＤ」が挙げられる。
【００３３】
内部に空洞を有するシリカ粒子とは、外殻によって包囲された空洞部を有するシリカ粒子である。内部に空洞を有するシリカ粒子における空洞の占める体積、すなわち粒子の空隙率としては、５％以上が好ましく、１０％以上がより好ましく、３０％以上がさらに好ましい。上限の空隙率は７０％以下が好ましい。このような内部に空洞を有すシリカ粒子は、例えば特開２００１−２３３６１１号公報の［００３３］〜［００４６］段落に記載された方法や、特許第３２７２１１１号公報の［００４３］段落に記載された方法で製造することができる。また、一般に市販されているものも使用することができる。
【００３４】
アンダーコート層は、さらに、親水性である有機あるいは無機のバインダーを含有することが好ましい。
【００３５】
親水性有機バインダーとしては、例えば、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルソース、アルギン酸ナトリウム、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリアルキレンオキサイド、デンプン、デキストラン、ゼラチン、およびそれらの変性物を挙げることができる。
【００３６】
親水性無機バインダーとしては、例えば、加水分解性シラン誘導体、加水分解性シラン誘導体の加水分解物、加水分解性シラン誘導体の加水分解物の縮合物などが挙げられる。
【００３７】
加水分解性シラン誘導体としては、例えばアルコキシシランが挙げられる。かかるアルコキシシランとしては、例えば、テトラアルコキシシラン、トリアルコキシシラン、ジアルコキシシランが挙げられる。
【００３８】
以下、本発明に用いることができるアルコキシシランを例示する。
【００３９】
テトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン、トリエトキシメトキシシラン、ジエトキシジメトキシシラン、トリメトキシエトキシシランなどが挙げられる。
【００４０】
トリアルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ペンチルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、ヘプチルトリメトキシシラン、ヘプチルトリエトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、ドデシルトリエトキシシラン、ヘキサデシルトリメトキシシラン、ヘキサデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、３，４−エポキシシクロヘキシルエチルトリメトキシシランなどが挙げられる。
【００４１】
ジアルコキシシランとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシランなどが挙げられる。
【００４２】
上記したアルコキシシランの中でも、比較的良好な膜強度が得られるという観点から、テトラアルコキシシランが好ましく、さらにテトラメトキシシラン（メチルシリケート）、テトラエトキシシラン（エチルシリケート）が好ましく用いられる。
【００４３】
上述したアルコキシシランは、それぞれ単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。
【００４４】
加水分解性シラン誘導体（アルコキシシラン）の加水分解物は、上述した加水分解性シラン誘導体（アルコキシシラン）が、水の存在下に加水分解されて生成する化合物である。
【００４５】
加水分解性シラン化合物（アルコキシシラン）の加水分解物の縮合物は、上述した加水分解性シラン化合物（アルコキシシラン）が、水の存在下に加水分解された後、縮合して生成する化合物である。このような縮合物としては、ＧＰＣ法によるポリスチレン換算の重量平均分子量（Ｍｗ）が、例えば１，０００〜１０，０００程度の縮合物が好ましく用いられる。
【００４６】
加水分解の反応は、公知の方法により行うことができる。例えばアルコキシシランを大量のアルコール溶媒（例えばメチルアルコールやエチルアルコールなど）に入れ、水と酸触媒（塩酸、硝酸など）の存在下、所定温度で所定時間反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、続いて縮合反応が起こり、加水分解物および／またはその縮合物が得られる。
【００４７】
上記したアルコキシシラン、アルコキシランの加水分解物、およびアルコキシシランの加水分解物の縮合物は、例えば、市場から入手することもできる。市販例としては、例えばコルコート社製の「コルコート」シリーズが挙げられる。
【００４８】
アンダーコート層は、屈折率を小さくするという観点から、上述のシリカ粒子と親水性無機バインダーを含有することが好ましい。
【００４９】
また、アンダーコート層の屈折率をさらに小さくするという観点から、アンダーコート層内部に微細な空隙（ミクロボイド）を形成せしめることが好ましい。微細空隙は、シリカ粒子の内部および／またはシリカ粒子間（シリカ粒子とシリカ粒子の間）に存在させることができる。前者の空隙は、シリカ粒子として前述の内部に空洞を有するシリカ粒子（中空シリカ）を用いることによって微細空隙をシリカ粒子内部に存在させることができる。
【００５０】
後者の空隙は、シリカ微粒子および親水性無機バインダーを含有する組成物でアンダーコート層を形成し、アンダーコート層の形成に際し、シリカ微粒子と親水性無機バインダーとの含有比率を調整することによって粒子間に微細空隙を存在（形成）することができる。粒子間に有効な微細空隙を存在（形成）させるには、シリカ粒子の含有量（Ａ）と親水性無機バインダーの含有量（Ｂ）との質量比（Ａ／Ｂ）は、０．４以上が好ましく、０．６以上がより好ましく、さらに０．８以上が好ましく、特に１．０以上が好ましい。一方、上記質量比（Ａ／Ｂ）が小さくなりすぎると、アンダーコート層の膜強度が低下することがあるので、上限の質量比（Ａ／Ｂ）は、３０以下が適当であり、２０以下が好ましく、１０以下が特に好ましい。
【００５１】
アンダーコート層は親水性であることが好ましい。アンダーコート層の上に積層されるカーボンナノチューブ層の塗布組成物（分散液）は、後述するように水系であることが好ましく、カーボンナノチューブ層の塗布性や密着性を向上させるという観点から、アンダーコート層は親水性であることが好ましい。また、親水性であるアンダーコート層は、カーボンナノチューブ層中に含まれる分散剤（絶縁性物質）を優先的に吸着してカーボンナノチューブ層の導電性を向上させることができる。
【００５２】
親水性であるアンダーコート層は、上述したように、シリカ粒子と親水性である無機バインダーあるいは有機バインダーを含有する塗布組成物を塗布することによって形成することができる。
【００５３】
アンダーコート層の厚みは、前述したようにアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計厚みが７５〜１２５ｎｍの範囲となるように調整されることが好ましい。
【００５４】
アンダーコート層の厚みは、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点、およびカーボンナノチューブ層の塗布性向上やカーボンナノチューブ層に含まれる分散剤の吸着機能の発現という観点から、具体的には１５〜６５ｎｍの範囲が好ましく、２０〜６０ｎｍの範囲がより好ましく、さらに２５〜５５ｎｍの範囲が好ましく、特に３０〜５０ｎｍの範囲が好ましい。
【００５５】
アンダーコート層は、ウェットコーティング法により塗布することができる。ウェットコーティング法としては、キャストコート法、ディップコート法、スピンコート法、ナイフコート法、キスコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スロットダイコート法、バーコート法等が挙げられる。
【００５６】
[カーボンナノチューブ層]
本発明にかかるカーボンナノチューブ層は、少なくともカーボンナノチューブを含有する層である。
【００５７】
カーボンナノチューブは、実質的にグラファイトの１枚面を巻いて筒状にした形状を有するものであれば特に限定されず、グラファイトの１枚面を１層に巻いた単層カーボンナノチューブ、多層に巻いた多層カーボンナノチューブを適用できる。これらの中でも、グラファイトの１枚面を二層に巻いた二層カーボンナノチューブが、導電性ならびに分散液中でのカーボンナノチューブの分散性が高くなることから好ましい。
【００５８】
カーボンナノチューブは、直径が０．３〜２０ｎｍ、長さが０．１〜２０μｍ程度のものが好ましく用いられる。特に、導電層の透明性を高め、表面抵抗を低下させるという観点から、カーボンナノチューブの直径は１〜１０ｎｍでかつ長さは１〜１０μｍであることが好ましい。
【００５９】
カーボンナノチューブは、例えば次のように製造される。マグネシアに鉄を担持した粉末状の触媒を、縦型反応器中、反応器の水平断面方向全面に存在させ、該反応器内にメタンを鉛直方向に供給し、メタンと前記触媒を５００〜１，２００℃で接触させ、カーボンナノチューブを製造した後、カーボンナノチューブを酸化処理することにより、単層〜５層のカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブを得ることができる。
【００６０】
カーボンナノチューブは製造した後、酸化処理を施すことにより、単層〜５層の割合（特に２層〜５層の割合）を増加させることができる。酸化処理は例えば、硝酸処理する方法により行われる。硝酸はカーボンナノチューブに対するドーパントとしても作用するため、好ましい。ドーパントとは、カーボンナノチューブに余剰の電子を与える、または電子を奪ってホールを形成する作用をなすものであり、自由に動くことのできるキャリアを生じさせることにより、カーボンナノチューブの導電性を向上させるものである。硝酸処理の条件は、特に限定されないが、通常、１４０℃のオイルバス中で行われる。硝酸処理の時間は特に限定されないが、５〜５０時間の範囲が好ましい。
【００６１】
カーボンナノチューブ層は、カーボンナノチューブ分散液を含む塗布組成物をウェットコーティング法により塗布することによって形成することができる。ウェットコーティング法としては、例えばキャストコート法、ディップコート法、スピンコート法、ナイフコート法、キスコート法、ロールコート法、グラビアコート法、スロットダイコート法、バーコート法等が挙げられる。これらの中でも、スロットダイコート法が好ましく用いられる。
【００６２】
カーボンナノチューブ分散液は、カーボンナノチューブの分散剤を含有することが好ましい。かかる分散剤としては、分散性が高いイオン性分散剤が好ましく用いられる。イオン性分散剤としては、アニオン性分散剤、カチオン性分散剤、両性分散剤が挙げられる。これらのイオン性分散剤の中でも、カーボンナノチューブの分散性および分散保持性に優れることから、アニオン性分散剤が好ましく用いられる。アニオン性分散剤の中でも、さらにカルボキシメチルセルロースおよびその塩（ナトリウム塩、アンモニウム塩等）、ポリスチレンスルホン酸の塩が、カーボンナノチューブを効率的に分散することができるので好ましい。
【００６３】
分散剤の含有量は、カーボンナノチューブの導電性を低下させずにかつ良好な分散性を確保するという観点から、カーボンナノチューブ１００質量部に対して５０〜１，０００質量部の範囲が好ましく、１００〜６００質量部の範囲がより好ましく、２００〜４００質量部の範囲が特に好ましい。
【００６４】
カーボンナノチューブ分散液の調製に用いる分散媒は、上記した分散剤を安全に溶解できること、廃液の処理が容易であること等の観点から、水が好ましい。
【００６５】
カーボンナノチューブ分散液は、例えば、カーボンナノチューブと分散剤とを分散媒中で混合分散機（例えばボールミル、ビーズミル、サンドミル、ロールミル、ホモジナイザー、超音波ホモジナイザー、高圧ホモジナイザー、超音波装置、アトライター、デゾルバー、ペイントシェーカー等）を用いて分散することによって調製することができる。これらの混合分散機は単独で用いてもよいし、複数の混合分散機を組み合わせて段階的に分散を行ってもよい。中でも、振動ボールミルで予備的に分散を行った後、超音波装置を用いて分散する方法が、カーボンナノチューブの分散性が良好であることから好ましい。
【００６６】
カーボンナノチューブを分散せしめるときのカーボンナノチューブの濃度は、分散時の処理時間が短縮できることから、０．００３〜０．１５質量％の範囲が好ましい。このようにして調製されたカーボンナノチューブ分散液は、さらに希釈して塗布に適した所定濃度に調整される。
【００６７】
カーボンナノチューブ分散液を塗布するに際し、塗布性を高めるために、カーボンナノチューブ分散液にアルコールや界面活性剤を含有させることができる。これらの中でもアルコールが好ましく、例えば、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール等の低級アルコールが好ましく用いられる。
【００６８】
カーボンナノチューブ層におけるカーボンナノチューブの含有量は、導電性積層体の用途によって適宜設定されるが、タッチパネルの用途の場合、０．５〜２０ｍｇ／ｍ２の範囲が適当であり、１〜１５ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましく、特に１〜１０ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましい。これによって、導電性積層体の高透過率を維持しながら表面抵抗値を１×１０４Ω／□以下とすることができる。
【００６９】
また、カーボンナノチューブ層の全固形分塗布量は、２〜５０ｍｇ／ｍ２の範囲が適当であり、３〜３０ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましく、４〜２５ｍｇ／ｍ２の範囲が好ましい。
【００７０】
上記のようにして得られたカーボンナノチューブ層の厚みは、通常、１〜２０ｎｍの範囲であるが、本発明においては、さらに２〜１５ｎｍの範囲が好ましく、特に３〜１０ｎｍの範囲が好ましい。
【００７１】
［オーバーコート層］
オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層上に塗布されて形成される。オーバーコート層は、カーボンナノチューブ層を保護する役目を有する。
【００７２】
オーバーコート層は、その屈折率が１．４３以下である。オーバーコート層の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を低下させるという観点から、さらに１．４２以下が好ましく、１．４０以下がより好ましく、さらに１．３８以下が好ましく、特に１．３７以下が好ましい。オーバーコート層の屈折率の下限は、特に限定されないが、現実的には１．２５程度である。
【００７３】
オーバーコート層は、その屈折率を１．４３以下にせしめるために、屈折率が比較的小さい材料で形成されることが好ましい。屈折率が比較的小さい材料としては、例えば、ケイ素化合物やフッ素化合物が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７４】
ケイ素化合物としては、例えば、アルコキシシラン、アルコキシシランの加水分解物、アルコキシシランの加水分解物の縮合物、重合性官能基を有するアルコキシシラン、ポリシロキサン化合物、シリカ粒子等が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７５】
アルコキシシランとしては、アンダーコート層に用いられるアルコキシシランと同様の化合物を用いることができる。
【００７６】
重合性官能基を有するアルコキシシランとして、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００７７】
ポリシロキサン化合物としては、重量平均分子量が５，０００以下の化合物が好ましく、また、分子中に重合性官能基（ビニル基やアクリル基等のエチレン性不飽和基）を有する化合物が好ましい。例えば、分子の片末端もしくは両末端にアクリル基を有するポリシロキサン化合物を挙げることができる。
【００７８】
シリカ粒子としては、平均粒子径が５〜１００ｎｍである粒子が好ましく、さらに平均粒子径が７〜７０ｎｍである粒子が好ましく、特に平均粒子径が１０〜６０ｎｍである粒子が好ましい。シリカ粒子としては、コロイダルシリカ、内部に空洞を有するシリカ粒子（中空シリカ）が好ましく用いられる。
【００７９】
フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化合物、含フッ素シラン化合物、フッ化マグネシウム粒子等が挙げられ、これらの化合物は単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。ここで、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーは、分子中にビニル基やアクリル基等のエチレン性不飽和基とフッ素原子とを有するモノマーやオリゴマーである。
【００８０】
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エステル類、  ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，４−ヘキサフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカフルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げられる。
【００８１】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオライド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００８２】
含フッ素シラン化合物としては、例えば、トリフルオロメチルメトキシシラン、トリフルオロメチルエトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン、トリフルオロプロピルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルトリエトキシシラン、トリデカフルオロオクチルトリエトキシシラン、ヘプタデカフルオロデシルメチルジメトキシシラン等が挙げられる。
【００８３】
フッ化マグネシウム粒子としては、平均粒子径が５〜１００ｎｍである粒子が好ましく、さらに平均粒子径が７〜７０ｎｍである粒子が好ましく、特に平均粒子径が１０〜６０ｎｍである粒子が好ましい。
【００８４】
また、オーバーコート層は、上述のケイ素化合物および／またはフッ素化合物に加えて、紫外線硬化型アクリルモノマーやオリゴマーを含有することができる。
【００８５】
かかる紫外線硬化型アクリルモノマーとしては、特に限定されないが、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシ（メタ）アクリレート等の単官能アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）トリアクリレート、トリメチロールプロパン（メタ）アクリル酸安息香酸エステル、トリメチロールプロパン安息香酸エステル等の多官能アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネート等のウレタンアクリレート等を挙げることができる。
【００８６】
紫外線硬化型オリゴマーとしては、ウレタンアクリレートオリゴマーが挙げられる。
【００８７】
屈折率が比較的小さいオーバーコート層を形成するという観点から、オーバーコート層は以下の熱硬化性組成物から形成されることが好ましい。
【００８８】
かかる熱硬化性組成物としては、例えばシリカ粒子と結合してなるシロキサンポリマーを主成分とする組成物が挙げられる。このような組成物は、詳細には、シリカ粒子のシリカ成分とマトリックスのシロキサンポリマーが反応して均質化したものであり、シリカ粒子と結合してなるシロキサンポリマーは、該シリカ粒子の存在下、多官能性シラン化合物を溶剤中、酸触媒により、公知の加水分解反応によって、一旦シラノール化合物を形成し、公知の縮合反応を利用することによって得ることができる。
【００８９】
上記のシリカ粒子としては、コロイダルシリカ、内部に空洞を有するシリカ粒子（中空シリカ）が好ましく、その平均粒子径は５〜１００ｎｍの範囲が好ましく、さらに７〜７０ｎｍの範囲が好ましく、特に１０〜６０ｎｍの範囲が好ましい。
【００９０】
上記の多官能性シラン化合物としては、前述のアルコキシシラン化合物、含フッ素シラン化合物が挙げられる。
【００９１】
熱硬化性組成物は、さらに硬化剤を含有することが好ましい。かかる硬化剤としては、チタニウム系、ジルコニウム系、アルミニウム系、マグネシウム系が挙げられる。これらの中でも、屈折率を比較的小さくするという観点から、屈折率の低いアルミニウム系やマグネシウム系の硬化剤が好ましい。これらの硬化剤は、金属アルコキシドにキレート化剤を反応させることにより容易に得ることができる。キレート化剤の例としては、アセチルアセトン、ベンゾイルアセトン、ジベンゾイルメタンなどのβ−ジケトン；アセト酢酸エチル、ベンゾイル酢酸エチルなどのβ−ケト酸エステルなどを用いることができる。
【００９２】
金属キレート化合物の好ましい具体的例としては、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムモノアセチルアセテートビス（エチルアセトアセテート）、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）等のアルミニウムキレート化合物、エチルアセトアセテートマグネシウムモノイソプロピレート、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）、アルキルアセトアセテートマグネシウムモノソプロピレート、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）等のマグネシウムキレート化合物が挙げられる。これらのうち、好ましくは、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、マグネシウムビス（アセチルアセトネート）、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）であり、保存安定性、入手容易さを考慮すると、アルミニウムトリス（アセチルアセトネート）、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）が特に好ましい。
【００９３】
オーバーコート層は、前述した組成からなる塗布組成物（塗布液）をウェットコーティング法により塗布し、乾燥、硬化（熱硬化や紫外線照射による硬化）することによって形成されることが好ましい。ウェットコーティング法としては、前述のカーボンナノチューブ層の塗布に用いられるウェットコーティング法と同様の塗布方式を用いることができる。
【００９４】
オーバーコート層の厚みは、前述したようにアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコートの合計厚みが７５〜１２５ｎｍの範囲となるように調整されることが好ましい。
【００９５】
オーバーコート層の厚みは、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点、およびカーボンナノチューブを保護するという観点から、具体的には、２０〜１００ｎｍの範囲が好ましく、３０〜９０ｎｍの範囲がより好ましく、４０〜８０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００９６】
[樹脂層]
基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム（特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）を用いる場合は、アンダーコート層との密着性を向上させるために、ポリエチレンテレフタレートフィルムとアンダーコート層との間に樹脂層を介在させることが好ましい。つまり、基材として、予め樹脂層が積層されたポリエチレンテレフタレートフィルムを用いることが好ましい。
【００９７】
樹脂層は、樹脂としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂を含有することが好ましい。
【００９８】
樹脂層における樹脂の含有量は、樹脂層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。上限の含有量は９０質量％以下が好ましく、８０質量％以下がより好ましく、７０質量％以下が特に好ましい。
【００９９】
樹脂層は、さらに架橋剤を含有することが好ましい。樹脂層は、樹脂と架橋剤を含有する熱硬化層であることが好ましい。樹脂層をこのような熱硬化層とすることにより、基材（ポリエチレンテレフタレートフィルム）とアンダーコート層との密着性をさらに向上させることができる。樹脂層を熱硬化するときの条件（加熱温度、時間）は特に限定されないが、加熱温度は７０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましく、１５０℃以上が特に好ましく、２００℃以上が最も好ましい。上限は３００℃以下が好ましい。加熱時間は５〜３００秒の範囲が好ましく、１０〜２００秒の範囲がより好ましい。
【０１００】
樹脂層に含有させる架橋剤としては、例えばメラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤が挙げられる。これらの中でも、メラミン系架橋剤、オキサゾリン系架橋剤、カルボジイミド系架橋剤が好ましく用いられる。
【０１０１】
樹脂層における架橋剤の含有量は、樹脂層の固形分総量１００質量％に対して、１〜４０質量％の範囲が好ましく、３〜３０質量％の範囲がより好ましく、５〜２５質量％の範囲が特に好ましい。
【０１０２】
樹脂層は、さらに滑り性や耐ブロッキング性の向上のために、有機あるいは無機の粒子を含有することが好ましい。このような粒子としては、特に限定されないが、例えばシリカ、炭酸カルシウム、ゼオライト粒子などの無機粒子や、アクリル粒子、シリコーン粒子、ポリイミド粒子、テフロン（登録商標）粒子、架橋ポリエステル粒子、架橋ポリスチレン粒子、架橋重合体粒子、コアシェル粒子などの有機粒子が挙げられる。これらの粒子の中でも、シリカが好ましく、更にコロイダルシリカが好ましく用いられる。
【０１０３】
粒子の平均粒子径は、滑り性や耐ブロッキング性を向上させるという観点から３０ｎｍ以上が好ましく、５０ｎｍ以上がより好ましく、特に１００ｎｍ以上が好ましい。平均粒子径の上限は５００ｎｍ以下が好ましく、４００ｎｍ以下がより好ましく、特に３００ｎｍ以下が好ましい。
【０１０４】
樹脂層における粒子の含有量は、樹脂層の固形分総量１００質量％に対して０．０５〜８質量％の範囲が好ましく、０．１〜５質量％の範囲がより好ましい。
【０１０５】
樹脂層は、基材（ポリエチレンテレフタレートフィルム）上にウェットコーティング法により積層されることが好ましい。特に樹脂層を基材の製造工程内で積層する、いわゆる「インラインコーティング法」で積層されることが好ましい。基材上に樹脂層を塗布する際には、塗布性や密着性を向上させるための予備処理として、基材表面にコロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理等を施しておくことが好ましい。
【０１０６】
上記のウェットコーティング法としては、例えばリバースコート法、スプレーコート法、バーコート法、グラビアコート法、ロッドコート法、スロットダイコート法、スピンコート法、エクストルージョンコート、ディップコート法等の塗布方法を用いることができる。
【０１０７】
インラインコーティング法について、樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルムの製造例を挙げて説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
【０１０８】
ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの原料である極限粘度０．５〜０．８ｄｌ／ｇのＰＥＴペレットを真空乾燥した後、押し出し機に供給し２６０〜３００℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度１０〜６０℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて、冷却固化せしめて未延伸ＰＥＴフィルムを作製する。この未延伸ＰＥＴフィルムを７０〜１００℃に加熱されたロール間で縦方向（フィルムの進行方向を指し「長手方向」ともいう）に２．５〜５倍延伸する。この延伸で得られた一軸延伸ＰＥＴフィルムの少なくとも片面に空気中でコロナ放電処理を施し、該表面の濡れ張力を４７ｍＮ／ｍ以上とし、その処理面に樹脂層形成用塗布組成物を上述の方法により塗布する。
【０１０９】
次に、塗布組成物が塗布された一軸延伸ＰＥＴフィルムをクリップで把持して乾燥ゾーンに導き、一軸延伸ＰＥＴフィルムのＴｇ未満の温度で乾燥した後、Ｔｇ以上の温度に上げ、再度Ｔｇ近傍の温度で乾燥、引き続き連続的に７０〜１５０℃の加熱ゾーンで横方向（フィルムの進行方向とは直交する方向を指し「幅方向」ともいう）に２．５〜５倍延伸し、続いて１８０〜２４０℃の加熱ゾーンで５〜４０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了したＰＥＴフィルム（二軸延伸ＰＥＴフィルム）に樹脂層が積層された積層ポリエチレンテレフタレートフィルムが得られる。尚、上記熱処理中に必要に応じて３〜１２％の弛緩処理を施してもよい。二軸延伸は縦、横逐次延伸あるいは同時二軸延伸のいずれでもよく、また縦、横延伸後、縦、横いずれかの方向に再延伸してもよい。
【０１１０】
樹脂層の屈折率は、導電性積層体表面の反射率を小さくするという観点および導電層の色調をニュートラルに近づけるという観点から、１．５５〜１．７０の範囲が好ましく、１．５７〜１．６９の範囲がより好ましい。
【０１１１】
特に、導電性積層体表面の反射率をさらに小さくするという観点から、樹脂層の屈折率は、１．６１〜１．７０の範囲が好ましく、１．６２〜１．６９の範囲がより好ましく、１．６３〜１．６７の範囲が特に好ましい。
【０１１２】
上記した樹脂層の屈折率（１．５５〜１．７０）は、従来のポリエチレンテレフタレートフィルムに一般的に積層されている樹脂層の屈折率（１．４８〜１．５４）に比べて比較的高めであり、このように屈折率が比較的高い樹脂層は、例えば、高屈折率樹脂や金属酸化物粒子等の高屈折率材料を含有させることによって得ることができる。
【０１１３】
高屈折率樹脂としては、例えば、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂等の樹脂に、芳香族環、硫黄原子、臭素原子等を導入することにより高屈折率化した樹脂を挙げることができる。
【０１１４】
上記の高屈折率樹脂の中でも、分子中に縮合芳香族環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。上記縮合芳香族環としては、ナフタレン環やフルオレン環が好ましい。
【０１１５】
ポリエステル樹脂は、一般的にカルボン酸成分とグリコール成分から重縮合して得られる。上記の分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分として、１，４−ナフタレンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸等のナフタレン環を有するジカルボン酸を用いることによって合成することができる。分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂の屈折率は、全カルボン酸成分中のナフタレン環を有するジカルボン酸の比率を調整することによって制御することができる。
【０１１６】
分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、カルボン酸成分および／またはグリコール成分として、フルオレン環を有する化合物を用いることによって合成することができる。上記フルオレン環を有する化合物の含有量を調整することによって該ポリエステル樹脂の屈折率を制御することができる。分子中にフルオレン環を有するポリエステル樹脂は、例えば、国際公開第２００９／１４５０７５号に詳しく記載されており、それを参照して合成することができる。
【０１１７】
上記の高屈折率樹脂は、樹脂層を構成する全樹脂の一部もしくは全部を置き換えて用いることができる。
【０１１８】
金属酸化物粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチモン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素ドープ酸化錫等が挙げられ、これらの金属酸化物粒子は単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。上記金属酸化物粒子の中でも、特に酸化チタンおよび酸化ジルコニウムが、透明性を低下させずに樹脂層の屈折率を高めることができるので好ましい。
【０１１９】
樹脂層における金属酸化物粒子の含有量は、樹脂層の屈折率に応じて適宜調整されるが、樹脂層の固形分総量１００質量％に対して１０〜８０質量％の範囲で調整されることが好ましく、２０〜７０質量％の範囲で調整されることがより好ましい。
【０１２０】
樹脂層が、高屈折率材料として金属酸化物粒子を含有する場合は、樹脂としてポリエステル樹脂、アクリル樹脂およびウレタン樹脂からなる群の中から選ばれる少なくとも一種の樹脂を含有することが好ましい。また、これらの樹脂の一部もしくは全部を、前述の高屈折率ポリエステル樹脂に替えて用いることが好ましく、これによって金属酸化物粒子の含有量を少なくすることができる。
【０１２１】
樹脂層の厚みは特に限定されないが、樹脂層の積層工程における塗布性や厚み精度、樹脂層の滑り性や耐ブロッキング性、あるいは導電性積層体の外観（色むら等）の観点から、樹脂層の厚みは、２００ｎｍ未満が好ましく、１２０ｎｍ未満がより好ましく、５０ｎｍ未満が特に好ましい。
【０１２２】
樹脂層の下限の厚みは、基材とアンダーコート層との密着性を向上させるという観点から５ｎｍ以上が好ましく、１０ｎｍ以上がより好ましい。
【０１２３】
[導電性積層体]
本発明において、アンダーコート層および導電層（カーボンナノチューブ層とオーバーコート層とからなる導電層）は、基材の片面のみに設けられていてもよいし、基材の両面に設けられていてもよい。
【０１２４】
また、基材の片面のみにアンダーコート層および導電層が設けられる場合、基材の反対側の面に後述のハードコート層を設けることができる。
【０１２５】
本発明の導電積層体は、タッチパネルの透明導電性フィルム（電極基板）に好適である。タッチパネルに好適に用いるためには、導電性積層体の導電層表面の表面抵抗値は低い方が駆動安定性の点から好ましい。導電性積層体の導電層表面の表面抵抗値は、具体的には１０，０００Ω／□以下が好ましく、５，０００Ω／□以下がより好ましく、２，０００Ω／□以下が特に好ましい。下限は１Ω／□程度である。
【０１２６】
［ハードコート層］
本発明の導電性積層体は、基材を挟んでアンダーコート層および導電層とは反対側の面にハードコート層を設けることができる。ハードコート層は、耐擦傷性、防汚性あるいは耐指紋性などを付与するために設けられる。また、表面に微細な凹凸を形成し防眩性を付与することもできる。ハードコート層としては、硬化した際の透明性、硬度などの特性が優れる点から、熱硬化型アクリル樹脂あるいは紫外線硬化型アクリル系樹脂が好適に用いられる。
【０１２７】
ハードコート層の厚みは、導電性積層体に良好なカール性と耐擦傷性を付与するという観点から、０．５〜７μｍの範囲が好ましく、１〜５μｍの範囲がより好ましい。
【０１２８】
基材にハードコート層を積層する場合、基材とハードコート層との密着性を向上させるために、基材とハードコート層との間に樹脂層を介在させることが好ましい。以下、基材とハードコート層との間に設けられる樹脂層を樹脂層Ｂと言う。特に、基材としてポリエチレンテレフタレートフィルム（特に二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム）を用いる場合は、ポリエチレンテレフタレートフィルムとハードコート層との間に樹脂層Ｂを介在させることが好ましい。
【０１２９】
基材として、屈折率が１．６１〜１．７０であるポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、樹脂層Ｂの屈折率は、１．５５〜１．６０であることが好ましい。
【０１３０】
ハードコート層の屈折率は、通常、１．４８〜１．５４の範囲であり、上記したポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率（１．６１〜１．７０）とハードコート層との屈折率差が大きいことに起因して、ハードコート層の面側に干渉縞が発生することがある。
【０１３１】
この干渉縞の発生は、樹脂層Ｂの屈折率を１．５５〜１．６０とすることにより抑制することができる。さらに、干渉縞の発生を抑制するという観点から、樹脂層Ｂの屈折率は１．５６〜１．５９の範囲がより好ましく、１．５７〜１．５９の範囲が特に好ましい。
【０１３２】
樹脂層Ｂの厚みは、干渉縞の発生を抑制するという観点から、６０〜１３０ｎｍの範囲が好ましく、７０〜１２０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１３３】
このような樹脂層Ｂ（屈折率が１．５５〜１．６０である樹脂層）は、前述のアンダーコート層側に設けられる樹脂層と同様の構成とすることができる。前述のアンダーコート層側に設けられる樹脂層に含有させる高屈折率樹脂あるいは金属酸化物粒子の含有量を調整することによって、樹脂層Ｂの屈折率を１．５５〜１．６０の範囲とすることができる。
【０１３４】
［導電性積層体の製造方法］
本発明にかかる導電積層体は、例えば、以下の製造方法によって製造されることが好ましい。つまり、
基材の少なくとも一方の面に、基材側から順に、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層が積層された導電性積層体を製造するに際し、基材上に屈折率が１．４０以下であるアンダーコート層形成用塗布組成物を塗布してアンダーコート層を積層する工程、このアンダーコート層上にカーボンナノチューブ層形成用塗布組成物を塗布してカーボンナノチューブ層を積層する工程、このカーボンナノチューブ層上に屈折率が１．４３以下あるオーバーコート層形成用塗布組成物を塗布してオーバーコート層を積層する工程を含む、導電性積層体の製造方法である。
【０１３５】
［導電性積層体のタッチパネルへの適用］
本発明の導電性積層体は、タッチパネル（特に抵抗膜式タッチパネル）に適用されることが好ましい。以下、本発明の導電性積層体を抵抗膜式タッチパネルに適用したときの態様例を説明する。
【０１３６】
図１は、本発明の導電性積層体を用いた抵抗膜式タッチパネルの一例を示す模式断面図である。抵抗膜式タッチパネルは、通常、上部電極を構成する導電性積層体１と下部電極を構成する導電性積層体２とが、それぞれの導電層１０と導電層２２が向き合うように、スペーサー３で一定の空間５を介して配置されている。抵抗膜式タッチパネルは、タッチペン４あるいは指でタッチ操作される。
【０１３７】
本発明の導電性積層体は、上部電極を構成する導電性積層体１と下部電極を構成する導電性積層体２の両方に用いることができるが、少なくとも上部電極を構成する導電性積層体１に用いることが好ましい。図１は、上部電極を構成する導電性積層体１に本発明の導電性積層体を用いた態様例である。
【０１３８】
導電性積層体１（本発明の導電性積層体）は、基材１１の一方の面（下方面）にアンダーコート層１２、カーボンナノチューブ層１３およびオーバーコート層１４を有し、他方の面にハードコート層１５を有する。導電層１０は、カーボンナノチューブ層１３とオーバーコート層１４とからなる。
【０１３９】
下部電極を構成する導電性積層体２は、特に限定されないが、ここでは基材２１上に導電層２２が積層された導電性積層体を例示する。
【０１４０】
抵抗膜式タッチパネルは、画像表示装置（携帯機器やタブレット端末等）の画像表示パネル上に組み込まれる。図示しない画像表示パネル（液晶や有機ＥＬ）から発せられた画像（図中の「光」）はタッチパネルを介して（タッチパネルを透過して）観察者側に表示される。ここで、導電性積層体１の導電層１０の表面反射率が高いと、空間（空気層）５の存在により、導電層１０の表面と空気層５との界面反射が大きくなり、それによって、液晶等の画像表示パネルから発せられた光がタッチパネルを透過する際に乱反射し、タッチパネルを透過する光量が低下するという不都合が生じる場合がある。
【０１４１】
上記課題は、導電性積層体１として本発明の導電性積層体を用いることによって抑制される。
【実施例】
【０１４２】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法、評価方法および使用材料を以下に示す。
【０１４３】
［測定方法および評価方法］
（１）屈折率の測定方法
各層（樹脂層、アンダーコート層、オーバーコート層、ハードコート層）を形成するためのそれぞれの塗布組成物をシリコンウエハー上に塗布して形成された塗膜について、高速分光メーターＭ−２０００（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌａｍ社製）を用い、塗膜の反射光の偏光状態の変化を入射角度６０度、６５度、７０度で測定、解析ソフトＷＶＡＳＥにて、波長５５０ｎｍの屈折率を計算で求めた。
【０１４４】
また、基材の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じてアッベ屈折率計で５５０ｎｍの屈折率を測定した。
【０１４５】
（２）樹脂層の厚みの測定方法
樹脂層が積層された基材（ポリエチレンテレフタレートフィルム）の断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ４ 染色、ＯｓＯ４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から樹脂層の厚みを測定する。厚みの測定は３箇所で行い、その平均値を厚みとした。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製  Ｈ−７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧  １００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。
【０１４６】
（３）導電性積層体を構成する各層の厚みの測定方法
ハードコート層、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の厚みは、導電性積層体の断面を超薄切片に切り出し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から厚みを測定する。厚みの測定はそれぞれ３箇所で行い、その平均値を厚みとした。
【０１４７】
（４）粒子の平均粒子径の測定方法
粒子を含有する層が積層されたサンプル（導電性積層体）の断面をＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から、無作為に選択した３０個の粒子のそれぞれの最大長さを計測し、それらを相加平均した値を粒子の平均粒子径とした。
【０１４８】
（５）視感反射率の測定方法
＜試料の作成＞
導電性積層体を１５０ｍｍ×１５０ｍｍに切り出し、導電層が設けられている側とは反対側の面をサンドペーパーで粗らし、さらに黒インクで塗りつぶして測定用試料を作製した。
【０１４９】
＜測定＞
分光光度計（島津製作所製の「ＵＶ３１５０ＰＣ」）を用いて、測定用試料の測定面（導電層の面）から５度の入射角で、波長３８０〜７８０ｎｍの反射率（片面反射）を測定し、Ｃ光源における視感反射率（ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９において規定されている反射の刺激値Ｙ）を求めた。分光光度計で分光立体角を測定し、ＪＩＳ Ｚ８７０１−１９９９に従って反射率（片面光線反射）を算出した。算出式は以下の通りである。
Ｔ＝Ｋ・ ∫Ｓ（λ）・ｙ（λ)・ Ｒ（λ) ・ｄλ  （ただし、積分区間は３８０〜７８０ｎｍ）
Ｔ：片面光線反射率
Ｓ（λ) ：色の表示に用いる標準の光の分布
ｙ（λ) ：ＸＹＺ表示系における等色関数
Ｒ（λ) ：分光立体角反射率。
【０１５０】
（６）全線透過率の測定方法
タッチパネルの全光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７３６１（１９９７年）に基づき、濁度計ＮＤＨ２０００（日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
【０１５１】
［使用材料］
［樹脂層を形成するための塗布組成物］
（塗布組成物ａ１）
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率（上記（１）「屈折率の測定方法」で測定された屈折率）は１．５８であった。尚、以下に示す塗布組成物の屈折率は、上記と同様の測定方法で求めたものである。
【０１５２】
＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸                  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール          ４９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【０１５３】
（塗布組成物ａ２）
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。
【０１５４】
（塗布組成物ａ３）
下記のフルオレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．６３であった。
【０１５５】
＜フルオレン環含有のポリエステル樹脂＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
コハク酸                      ４０モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    １０モル％
・グリコール成分
９，９−ビス[４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル]フルオレン  ４２モル％
エチレングリコール                                                 ８モル％。
【０１５６】
（塗布組成物ａ４）
下記のアクリル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。
【０１５７】
＜アクリル樹脂＞
下記の共重合組成からなるアクリル樹脂である。
・共重合成分
メチルメタクリレート        ６３重量％
エチルアクリレート          ３５重量％
アクリル酸                    １重量％
Ｎ−メチロールアクリルアミド  １重量％。
【０１５８】
［アンダーコート層を形成するための塗布組成物］
（塗布組成物ｕｃ１）
平均粒子径が２２ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業（株）の「スノーテックス」（登録商標）、ＳＴ−Ｏ−４０）と、テトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート（株）の「コルコート」（登録商標）メチルシリケート５１）とを、固形分質量比７０：３０で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．３３であった。
【０１５９】
（塗布組成物ｕｃ２）
平均粒子径が４０ｎｍの内部に空洞を有するシリカ粒子（日揮触媒化成（株）製、イソプロピルアルコール分散ゾル）と、親水性ポリシリケート（コルコート（株）の「コルコート」（登録商標）Ｎ１０３Ｘ）とを、固形分質量比５５：４５で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．３５であった。
【０１６０】
（塗布組成物ｕｃ３）
平均粒子径が４０ｎｍの内部に空洞を有するシリカ粒子（日揮触媒化成（株）製、イソプロピルアルコール分散ゾル）を固形分換算で２０質量部、テトラメトキシシランのオリゴマー（コルコート（株）の「コルコート」（登録商標）メチルシリケート５１）を固形分換算で２０質量部、アンモニア水（アンモニア２８質量％）３４質量部を混合し、さらにイソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．３６であった。
【０１６１】
（塗布組成物ｕｃ４）
平均粒子径が２２ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業（株）の「スノーテックス」（登録商標）、ＳＴ−Ｏ−４０）と、親水性ポリシリケート（コルコート（株）の「コルコート」（登録商標）Ｎ−１０３Ｘ）とを、固形分質量比５０：５０で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．３８であった。
【０１６２】
（塗布組成物ｕｃ５）
平均粒子径が１２ｎｍのコロイダルシリカ（日産化学工業（株）の「スノーテックス」（登録商標）、ＳＴ−Ｏ）と、親水性ポリシリケート（コルコート（株）の「コルコート」（登録商標）Ｎ−１０３Ｘ）とを、固形分質量比５５：４５で混合し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．３９であった。
【０１６３】
（塗布組成物ｕｃ６）
親水性ポリシリケート（コルコート（株）の「コルコート」（登録商標）Ｎ−１０３Ｘ）を、イソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．４４であった。
【０１６４】
［オーバーコート層を形成するための塗布組成物］
（塗布組成物ｏｃ１）
メチルトリメトキシシラン９５．２質量部とトリフルオロプロピルトリメトキシシラン ６５．４質量部とを、プロピレングリコールモノメチルエーテル３００質量部とイソプロピルアルコール１００質量部に溶解した。この溶液に、平均粒子径が４０ｎｍの内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（日揮触媒化成（株）製、イソプロピルアルコール分散ゾル）２９７．９質量部、水５４質量部およびギ酸１．８質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、溶液Ａを得た。
【０１６５】
得られた溶液Ａに、アルミニウム系硬化剤として、アルミニウムトリス（アセチルアセテート）（商品名 アルミキレートＡ（Ｗ）、川研ファインケミカル（株）社製）４．８質量部をメタノール１２５質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロピルアルコール１，５００質量部およびプロピレングリコールモノメチルエーテル２５０質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、イソプロピルアルコールで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は１．３６であった。
【０１６６】
（塗布組成物ｏｃ２）
内部に空洞を有するシリカ粒子を含有するアクリル系紫外線硬化型材料（ＪＳＲ（株）製のＴＵ―２１８０）を、固形分濃度が１質量％になるようにメチルエチルケトンで希釈して塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、１．３７であった。
【０１６７】
（塗布組成物ｏｃ３）
メチルトリメトキシシラン１０９．０質量部、ヘプタデカフルオロデシルトリメトキシシラン５６．８質量部、ジメチルジメトキシシラン１２質量部をジアセトンアルコール３００質量部、イソプロパノール１００質量部に溶解した。この溶液に、メチルイソブチルケトンに分散された平均粒子径が１２ｎｍのシリカ粒子のゾル（商品名 ＭＩＢＫ−ＳＴ、日産化学工業（株）製、固形分３０質量％）２５０質量部、水６０質量部および酢酸２質量部を、撹拌しながら、反応温度が３０℃を越えないように滴下した。滴下後、得られた溶液をバス温４０℃で２時間加熱し、その後、溶液をバス温８５℃で２時間加熱し、内温を８０℃まで上げて、１．５時間加熱した後、室温まで冷却し、溶液Ｂを得た。
【０１６８】
得られた溶液Ｂに、マグネシウム系硬化剤として、マグネシウムビス（エチルアセトアセテート）３．８質量部をメタノール２５０質量部に溶解したものを添加し、さらにイソプロパノール１，７００質量部およびジアセトンアルコール５００質量部を添加して、室温にて２時間撹拌し、固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．３８であった。
【０１６９】
（塗布組成物ｏｃ４）
シリカ粒子のゾルの添加量を、２５０質量部から５６質量部に変更した以外は、塗布組成物ｏｃ３と同様にして、塗布組成物を調製した。この塗布組成物の屈折率は、１．４０であった。
【０１７０】
（塗布組成物ｏｃ５）
紫外線硬化型樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートとウレタンアクリレートとを質量比１：３で含有）７７質量部、平均粒子径が４０ｎｍの内部に空洞を有するシリカ微粒子分散液（日揮触媒化成（株）製、イソプロピルアルコール分散ゾル）を固形分で２０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を、有機溶剤（メチルエチルケトン）に分散あるいは溶解し、メチルエチルケトンで固形分濃度が１質量％になるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は１．４２であった。
【０１７１】
（塗布組成物ｏｃ６）
容器に、エタノール２０質量部を入れ、n-ブチルシリケート４０質量部を添加し３０分間撹拌した。その後、０．１Ｎ塩酸水溶液を１０質量部添加した後２時間撹拌を行い（加水分解反応）、４℃で保管した。２４時間後、この溶液をイソプロピルアルコールとトルエンとｎ−ブタノールとの混合液（混合質量比２：１：１）で固形分濃度が１質量％となるように調整して塗布組成物を得た。この塗布組成物の屈折率は、１．４４であった。
【０１７２】
［ハードコート層を形成するための塗布組成物（ｈｃ１）］
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート５８質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」；分子中にエチレン性不飽和基を９個含む）３７質量部、重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。
【０１７３】
［カーボンナノチューブ層を形成するための塗布組成物（ｃｎｔ１）］
（触媒調製例：マグネシアへの触媒金属塩の担持）
クエン酸アンモニウム鉄（和光純薬工業（株）製）２．４６ｇをメタノール（関東化学（株）製）５００ｍＬに溶解した。この溶液に、酸化マグネシウム（岩谷化学工業（株）製ＭＪ−３０）を１００．０ｇ加え、撹拌機で６０分間激しく撹拌処理し、懸濁液とした後、該懸濁液を減圧下、４０℃で濃縮乾固した。得られた粉末を１２０℃で加熱乾燥してメタノールを除去し、酸化マグネシウム粉末に金属塩が担持された触媒体を得た。得られた固形分を乳鉢で細粒化し、篩いを用いて２０〜３２メッシュ（０．５〜０．８５ｍｍ）の範囲の粒径を回収した。得られた触媒体に含まれる鉄含有量は０．３８質量％であった。また、かさ密度は、０．６１ｇ／ｍＬであった。
【０１７４】
（カーボンナノチューブ集合体製造例：カーボンナノチューブ集合体の合成）
触媒調製例で調製した固体触媒体１３２ｇをとり、鉛直方向に設置した反応器の中央部の石英焼結板上に導入することで触媒層を形成した。反応管内温度が約８６０℃になるまで、触媒体層を加熱しながら、反応器底部から反応器上部方向へ向けてマスフローコントローラーを用いて窒素ガスを１６．５Ｌ／分で供給し、触媒体層を通過するように流通させた。その後、窒素ガスを供給しながら、さらにマスフローコントローラーを用いてメタンガスを０．７８Ｌ／分で６０分間導入して触媒体層を通過するように通気し、反応させた。この際の固体触媒体の質量をメタンの流量で割った接触時間（Ｗ／Ｆ）は、１６９分・ｇ／Ｌ、メタンを含むガスの線速は６．５５ｃｍ／ｓｅｃであった。メタンガスの導入を止め、窒素ガスを１６．５Ｌ／分通気させながら、石英反応管を室温まで冷却した。
【０１７５】
加熱を停止させ室温まで放置し、室温になってから反応器から触媒体とカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を取り出した。
【０１７６】
（カーボンナノチューブ集合体の精製および酸化処理）
カーボンナノチューブ集合体製造例で得られた触媒体とカーボンナノチューブを含有するカーボンナノチューブ含有組成物を１３０ｇ用いて４．８Ｎの塩酸水溶液２，０００ｍＬ中で１ｈｒ撹拌することで触媒金属である鉄とその担体であるＭｇＯを溶解した。得られた黒色懸濁液は濾過した後、濾取物を再度４．８Ｎの塩酸水溶液４００ｍＬに投入し脱ＭｇＯ処理をし、濾取した。この操作を３回繰り返した（脱ＭｇＯ処理）。その後、イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のままカーボンナノチューブ含有組成物を保存した。このとき水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物全体の質量は１０２．７ｇであった（カーボンナノチューブの濃度：３．１２質量％）。
【０１７７】
得られたウェット状態のカーボンナノチューブ含有組成物の乾燥質量分に対して、約３００倍の質量の濃硝酸（和光純薬工業（株）製、１級、Ａｓｓａｙ６０〜６１質量％）を添加した。その後、約１４０℃のオイルバスで２５ｈｒ攪拌しながら加熱還流した。加熱還流後、カーボンナノチューブ含有組成物を含む硝酸溶液をイオン交換水で３倍に希釈して吸引ろ過した。イオン交換水で濾取物の懸濁液が中性となるまで水洗後、水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ集合体を得た。このとき水を含んだウェット状態のカーボンナノチューブ組成物全体の質量は３．３５１ｇあった（カーボンナノチューブの濃度：５．２９質量％）。
【０１７８】
（カーボンナノチューブ分散液の調製）
得られたウェット状態のカーボンナノチューブ集合体（乾燥質量換算で２５ｍｇ）、６質量％カルボキシメチルセルロースナトリウム（第一工業製薬（株）製、セロゲン７Ａ（重量平均分子量：１９，００００））水溶液１．０４ｇ、ジルコニアビーズ（東レ（株）社製、トレセラム、ビーズサイズ：０．８ｍｍ）６．７ｇを容器に加えた分散液に、２８質量％アンモニア水溶液（キシダ化学（株）製）を加えてｐＨを１０に調整した。この容器を振動ボールミル（（株）入江商会製、ＶＳ−１、振動数：１，８００ｃｐｍ（６０Ｈｚ））を用いて２ｈｒ振盪させ、カーボンナノチューブペーストを調製した。
【０１７９】
次に、このカーボンナノチューブペーストをカーボンナノチューブの濃度が０．１５質量％となるようにイオン交換水で希釈し、その希釈液１０ｇに対して再度２８質量％アンモニア水溶液を加えてｐＨを１０に調整した。その水溶液を超音波ホモジナイザー（家田貿易（株）製、ＶＣＸ−１３０）の出力を２０Ｗとし、１．５分間（１ｋＷ・分／ｇ）、氷冷下分散処理した。分散中液温が１０℃以下となるようにした。得られた液を高速遠心分離機（（株）トミー精工、ＭＸ−３００）を用いて１０，０００Ｇで１５分遠心処理し、カーボンナノチューブ分散液９ｇを得た。
【０１８０】
（カーボンナノチューブ含有塗布組成物の調製）
前記カーボンナノチューブ分散液にイオン交換水を添加して、固形分濃度を０．０４質量％として、塗布組成物（ｃｎｔ１）を得た。
【０１８１】
［実施例１］
下記の要領で導電性積層体を作成した。
【０１８２】
＜樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に樹脂層を形成するための塗布組成物ａ１、他方の面（第２面）にも樹脂層Ｂを形成するための塗布組成物ａ１をそれぞれ塗布した。
【０１８３】
次に、両面にそれぞれの樹脂層形成用塗布組成物が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルムは両面に樹脂層を有するＰＥＴフィルムである。
【０１８４】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた樹脂層の厚みは８０ｎｍ、第２面に設けられた樹脂層Ｂの厚みは８０ｎｍであった。
【０１８５】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の樹脂層の屈折率は１．５８、第２面の樹脂層Ｂの屈折率は１．５８であった。
【０１８６】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に樹脂層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０１８７】
＜ハードコート層の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の樹脂層Ｂ上に、ハードコート層を形成するための塗布組成物（ｈｃ１）をグラビアコート法により塗布して、９０℃で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてハードコート層を形成した。このハードコート層は、厚み２．５μｍであった。
【０１８８】
＜アンダーコート層の積層＞
上記でハードコート層が積層されＰＥＴフィルムの第１面の樹脂層上に、アンダーコート層を形成するための塗布組成物ｕｃ１を、スロットダイコート法にて乾燥厚みが４０ｎｍとなるように塗布した後、９０℃で１分間乾燥してアンダーコート層を形成した。
【０１８９】
＜カーボンナノチューブ層の形成＞
上記で積層されたアンダーコート層の上に、カーボンナノチューブ層を形成するための塗布組成物（ｃｎｔ１）を、スロットダイコート法により固形分塗布量が１５ｍｇ／ｍ２となるように塗布した後、８０℃で１分間乾燥してカーボンナノチューブ層を形成した。
【０１９０】
＜オーバーコート層の塗布＞
上記で積層されたカーボンナノチューブ層の上に、オーバーコート層を形成するための塗布組成物ｏｃ１をスロットダイコート法にて乾燥厚みが６０ｎｍとなるように塗布した後、１２５℃で１分間乾燥して、オーバーコート層を積層した。
【０１９１】
［実施例２〜１７および比較例１〜６］
実施例１において、アンダーコート層を形成するための塗布組成物および／またはオーバーコート層を形成するための塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を作製した。
【０１９２】
なお、オーバーコート層形成塗布組成物ｏｃ２およびｏｃ５は紫外線硬化型であり、これらの塗布組成物を用いる際は、塗布・乾燥後に、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させた。
【０１９３】
［評価］
上記で作製した実施例および比較例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表１に示す。
【０１９４】
【表１】
2016081210.tif 000003
【０１９５】
表１の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が小さいことが分かる。
【０１９６】
一方、比較例１〜６は、アンダーコート層およびオーバーコート層のいずれか一方の屈折率が本発明の範囲を外れており、視感反射率が相対的に高くなっている。
【０１９７】
［実施例２１〜３５］
実施例１において、アンダーコート層およびオーバーコート層の厚みを表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にして導電性積層体を作製した。
【０１９８】
［評価］
上記で作製した実施例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表２に示す。
【０１９９】
【表２】
2016081210.tif 000004
【０２００】
表２の結果から、アンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層の合計厚みを７５〜１２５ｎｍの範囲にすることによって視感反射率が相対的に小さくなり、さらに８０〜１２０ｎｍにすることによって視感反射率が相対的に小さくなることが分かる。
【０２０１】
［実施例４１］
実施例１の樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製において、第１面に積層される樹脂層形成用塗布組成物ａ１を塗布組成物ａ２に変更し、かつ厚みを２０ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にして樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を作製し、このＰＥＴフィルムの第２面の樹脂層上に実施例１と同様にしてハードコート層を積層し、さらにＰＥＴフィルムの第１面の樹脂層上に、実施例１と同様にしてアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
【０２０２】
［実施例４２〜６０］
実施例４１において、アンダーコート層を形成するための塗布組成物および／またはオーバーコート層を形成するための塗布組成物を表３に示すように変更する以外は、実施例４１と同様にして導電性積層体を作製した。
【０２０３】
なお、オーバーコート層形成塗布組成物ｏｃ２およびｏｃ５は紫外線硬化型であり、これらの塗布組成物を用いる際は、塗布・乾燥後に、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させた。
【０２０４】
［評価］
上記で作製した実施例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表３に示す。
【０２０５】
【表３】
2016081210.tif 000005
【０２０６】
表３の結果から、基材とアンダーコート層との間に設けられる樹脂層の屈折率を１．６１〜１．７０の範囲とすることで、視感反射率が一段と小さくなることが分かる。
【０２０７】
［実施例６１］
実施例１の樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製において、第１面に積層される樹脂層形成用塗布組成物ａ１を塗布組成物ａ３に変更し、かつ厚みを４０ｎｍに変更する以外は、実施例１と同様にして樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を作製し、このＰＥＴフィルムの第２面の樹脂層上に実施例１と同様にしてハードコート層を積層し、さらにＰＥＴフィルムの第１面の樹脂層上に、実施例１と同様にしてアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
【０２０８】
［実施例６２］
実施例１の樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製において、第１面に積層される樹脂層形成用塗布組成物ａ１を塗布組成物ａ４に変更する以外は、実施例１と同様にして樹脂層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）を作製し、このＰＥＴフィルムの第２面の樹脂層上に実施例１と同様にしてハードコート層を積層し、さらにＰＥＴフィルムの第１面の樹脂層上に、実施例１と同様にしてアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
【０２０９】
［評価］
上記で作製した実施例６１および６２について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表４に示す。
【０２１０】
【表４】
2016081210.tif 000006
【０２１１】
実施例６１は、基材とアンダーコート層との間に設けられる樹脂層の屈折率が１．６１〜１．７０の範囲であり、視感反射率が一段と小さくなっている。
【０２１２】
実施例６２は、基材とアンダーコート層との間に設けられる樹脂層の屈折率が１．５５未満であり、実施例１（樹脂層の屈折率１．５８）や実施例６１（樹脂層の屈折率１．６３）に比べて視感反射率が相対的に高くなっている。
【０２１３】
つまり、樹脂層の屈折率が１．５５〜１．７０であることにより視感反射率が小さくなり、さらに樹脂層の屈折率が１．６１〜１．７０であることにより視感反射率が一段と小さくなる。
【０２１４】
［実施例７１］
基材として、厚みが８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム（コニカミノルタオプト（株）の商品名「ＫＣ８ＵＹ」、屈折率１．４９）を用いた。この基材は、樹脂層は積層されていない。この基材の一方の面に実施例１と同様にしてハードコート層を積層し、他方の面に、実施例１と同様にアンダーコート層、カーボンナノチューブ層およびオーバーコート層を積層して導電性積層体を作製した。
【０２１５】
［実施例７２〜７３および比較例７〜８］
実施例７１において、アンダーコート層を形成するための塗布組成物および／またはオーバーコート層を形成するための塗布組成物を表５に示すように変更する以外は、実施例７１と同様にして導電性積層体を作製した。
【０２１６】
なお、オーバーコート層形成塗布組成物ｏｃ２は紫外線硬化型であり、これらの塗布組成物を用いる際は、塗布・乾燥後に、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させた。
【０２１７】
［評価］
上記で作製した実施例および比較例について、導電層表面の視感反射率を評価した。その結果を表５に示す。
【０２１８】
【表５】
2016081210.tif 000007
【０２１９】
表５の結果から、本発明の実施例は、いずれも視感反射率が小さいことが分かる。
【０２２０】
一方、比較例７、８は、アンダーコート層およびオーバーコート層のいずれか一方の屈折率が本発明の範囲を外れており、視感反射率が相対的に高くなっている。
【０２２１】
また、屈折率が１．４９のＴＡＣフィルムを用いた実施例７１〜７３と、屈折率が１．６５のＰＥＴフィルムを用いた実施例１、７、１１を対比すると、基材として屈折率が１．６５のＰＥＴフィルムを用いた方が、視感反射率が相対的に小さくなっていることが分かる。つまり、屈折率が１．６１〜１．７０である基材を用いることにより、導電層表面の視感反射率をさらに小さくすることができる。
【０２２２】
［実施例８１］
実施例１で作製した導電性積層体を抵抗膜式タッチパネルの上部電極および下部電極の両方に適用した例を以下に示す。
【０２２３】
実施例１の導電性積層体の導電層に銀ペーストで配線を施して上部電極とした。同様に、実施例１の導電性積層体の導電層側にＵＶ硬化樹脂でスペーサーを設け、さらに銀ペーストで配線を施して下部電極とした。この上部電極と下部電極を両面テープで貼合わせ、フレキシブルプリント回路を接続し、抵抗膜式タッチパネルを作製した。
【０２２４】
この抵抗膜式タッチパネルをタッチペンでタッチ操作したところ、上部電極と下部電極が接触しタッチ操作した箇所の座標情報が出力できた。このタッチパネルの全光線透過率は７９％であり、タッチパネルとして十分な透過率であった。
【０２２５】
［実施例８２］
導電性積層体を実施例４１の導電性積層体に変更する以外は、実施例８１と同様にして抵抗膜式タッチパネルを作製した。
【０２２６】
この抵抗膜式タッチパネルをタッチペンでタッチ操作したところ、上部電極と下部電極が接触しタッチ操作した箇所の座標情報が出力できた。このタッチパネルの全光線透過率は８０％であり、タッチパネルとして十分な透過率であった。
【０２２７】
［比較例９］
導電性積層体を比較例１の導電性積層体に変更する以外は、実施例８１と同様にして抵抗膜式タッチパネルを作製した。
【０２２８】
この抵抗膜式タッチパネルをタッチペンでタッチ操作したところ、上部電極と下部電極が接触しタッチ操作した箇所の座標情報が出力できた。このタッチパネルの全光線透過率は７６％であり、実施例８１および８２に比べて透過率が低くなっている。
【符号の説明】
【０２２９】
１  上部電極を構成する導電性積層体
２  下部電極を構成する導電性積層体
３  スペーサー
４  タッチペン
５  空間（空気層）
１０  導電層
１１  基材
１２  アンダーコート層
１３  カーボンナノチューブ層
１４  オーバーコート層
１５  ハードコート層
２１  基材
２２  導電層
【図１】
2016081210.tif 000008