(57)【要約】【課題】本発明は、中間仕上げ工程に要求される高い研削力と共に高い研磨精度を有するフェルールの端面研磨フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の端面研磨フィルムは、フィルム状の基材と、その表面側に積層される研磨層とを備えるフェルールの端面研磨フィルムであって、上記研磨層が複数の凝集粒子及びその第１バインダーを有し、上記凝集粒子が複数の研磨粒子及びその第２バインダーを有し、上記凝集粒子の平均粒径が１５μｍ以上８０μｍ以下であり、上記凝集粒子の最大粒径が１２０μｍ以下であることを特徴とする。上記基材の平均厚さとしては、５０μｍ以上１２５μｍ以下が好ましい。上記研磨粒子の平均粒径としては、１μｍ以上２．８μｍ以下が好ましい。上記凝集粒子における研磨粒子の含有率としては、５５体積％以上８５体積％以下が好ましい。【選択図】図１Ｂ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フィルム状の基材と、その表面側に積層される研磨層とを備えるフェルールの端面研磨フィルムであって、
上記研磨層が複数の凝集粒子及びその第１バインダーを有し、
上記凝集粒子が複数の研磨粒子及びその第２バインダーを有し、
上記凝集粒子の平均粒径が１５μｍ以上８０μｍ以下であり、
上記凝集粒子の最大粒径が１２０μｍ以下であることを特徴とする端面研磨フィルム。
【請求項２】
上記基材の平均厚さが５０μｍ以上１２５μｍ以下である請求項１に記載の端面研磨フィルム。
【請求項３】
上記研磨粒子の平均粒径が１μｍ以上２．８μｍ以下である請求項１又は請求項２に記載の端面研磨フィルム。
【請求項４】
上記凝集粒子における研磨粒子の含有率が５５体積％以上８５体積％以下である請求項１、請求項２又は請求項３に記載の端面研磨フィルム。
【請求項５】
上記第１バインダーの主成分と上記第２バインダーの主成分とが同一の樹脂である請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の端面研磨フィルム。
【請求項６】
上記研磨粒子がダイヤモンド砥粒である請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の端面研磨フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、端面研磨フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
光ファイバの接続コネクタに使用されるフェルールは、光ファイバを挿入するための挿入孔を有する。この挿入孔に光ファイバが挿入され、フェルールの両端から突き出した光ファイバは、根元に接着剤が塗布された後、切断される。そして、フェルールの両端の端面が研磨される。このようにして光ファイバの接続コネクタが形成される。
【０００３】
このフェルールの端面研磨は、接着剤除去工程、粗球面研磨工程、中間仕上げ工程及び仕上げ研磨工程の４工程を有する。まず、接着剤除去工程においてフェルールから接着剤を除去する。次に粗球面研磨工程においてフェルール端面を球面とする。そして、中間仕上げ工程においてフェルール端面の表面粗さを低減し、最後に仕上げ研磨工程においてフェルールの端面をさらに凹凸のない高精度な表面に仕上げる。
【０００４】
このうち、中間仕上げ工程に用いられる端面研磨フィルムは、生産性及び生産コストの観点から、高い研削力が要求される。また、次工程である仕上げ研磨工程の生産性及び生産コストを向上させるため、研磨後のフェルールの良好な表面性状が実現できる高い研磨精度が求められる。
【０００５】
このような研削力と研磨精度とを満たすため、樹脂バインダー及び研磨粒子を有する研磨層を備える端面研磨フィルムが提案されており、樹脂バインダーや研磨粒子の種類の選択、研磨粒子径の大径化等が工夫されている（特開平８−３３６７５８号公報、特開２００２−２３９９２４号公報、及び特開２００７−１９０６１３号公報参照）。
【０００６】
しかしながら、高い研削力を得るために端面研磨フィルムの研磨粒子として粒子径の大きい粒子を使用すると、研磨精度を維持することが難しく、研磨後のフェルールの表面性状が悪化し易い。このため、上記従来技術では中間仕上げ工程に要求される高い研削力と高い研磨精度との両立が十分ではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平８−３３６７５８号公報
【特許文献２】特開２００２−２３９９２４号公報
【特許文献３】特開２００７−１９０６１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこれらの不都合に鑑みてなされたものであり、中間仕上げ工程に要求される高い研削力と共に高い研磨精度を有するフェルールの端面研磨フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らが鋭意検討した結果、研削力を高めるべく平均粒径の比較的大きい凝集粒子を用いた端面研磨フィルムにおいて、研磨後のフェルールの表面性状が凝集粒子の最大粒径に依存することを知得した。つまり、凝集粒子の平均粒径及び最大粒径を所定範囲に制御することで中間仕上げ工程で必要とされる高い研削力と、高い研磨精度とを両立できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１０】
すなわち、上記課題を解決するためになされた本発明の端面研磨フィルムは、フィルム状の基材と、その表面側に積層される研磨層とを備えるフェルールの端面研磨フィルムであって、上記研磨層が複数の凝集粒子及びその第１バインダーを有し、上記凝集粒子が複数の研磨粒子及びその第２バインダーを有し、上記凝集粒子の平均粒径が１５μｍ以上８０μｍ以下であり、上記凝集粒子の最大粒径が１２０μｍ以下であることを特徴とする。
【００１１】
当該端面研磨フィルムは、研磨層に複数の凝集粒子を有する。この凝集粒子は複数の研磨粒子を第２バインダーにより凝集した砥粒であり、その平均粒径が上記下限以上であるので、研磨粒子単体よりも研磨層の研削力が増す。また、当該端面研磨フィルムは、凝集粒子の最大粒径が上記上限以下である。このため、当該端面研磨フィルムは、第１バインダーの弾性と相まって、フェルールを当該端面研磨フィルムに押し当てた際に複数の上記凝集粒子がフェルールの球面部分を包むように滑らかに接触することができる。この滑らかな接触により、フェルールの端面が上記研磨粒子で研磨されるので、当該端面研磨フィルムは、研磨精度が高まる。従って、当該端面研磨フィルムは、中間仕上げ工程に要求される高い研削力と共に高い研磨精度を有する。
【００１２】
上記基材の平均厚さとしては、５０μｍ以上１２５μｍ以下が好ましい。このように上記基材の平均厚さを上記範囲内とすることで、基材が比較的高い弾性を有する。このため、基材がその弾性により曲面状に変形してフェルールの端面と接触するため、研磨精度がさらに高まる。
【００１３】
上記研磨粒子の平均粒径としては、１μｍ以上２．８μｍ以下が好ましい。このように上記研磨粒子の平均粒径を上記範囲内とすることで、フェルールの端面をさらに効率よく研磨できる。
【００１４】
上記凝集粒子における研磨粒子の含有率としては、５５体積％以上８５体積％以下が好ましい。このように上記凝集粒子における研磨粒子の含有率を上記範囲内とすることで、研磨精度を維持しつつ凝集粒子の研削力をさらに向上できる。
【００１５】
上記第１バインダーの主成分と上記第２バインダーの主成分とが同一の樹脂であるとよい。このように上記第１バインダーの主成分と上記第２バインダーの主成分とを同一の樹脂とすることで、第１バインダーと第２バインダーとの弾性が同等となるので、フェルールの端面との接触を滑らかにできる。このため、フェルールの端面をさらに効率よく研磨できる。
【００１６】
上記研磨粒子がダイヤモンド砥粒であるとよい。上記砥粒をダイヤモンド砥粒とすることで、凝集粒子の研削力をさらに向上できる。
【００１７】
ここで、「平均粒径」とは、レーザー回折法等により測定された体積基準の累積粒度分布曲線の５０％値（５０％粒径、Ｄ５０）をいう。
【発明の効果】
【００１８】
以上説明したように、本発明の端面研磨フィルムは、中間仕上げ工程に要求される高い研削力と共に高い研磨精度を有する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１Ａ】本発明の実施形態に係る端面研磨フィルムを示す模式的平面図である。
【図１Ｂ】図１ＡのＡ−Ａ線での模式的端面図である。
【図２】公知のフェルール端面研磨装置を示す模式的端面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の実施の形態を適宜図面を参照しつつ詳説する。
【００２１】
［端面研磨フィルム］
図１Ａ及び図１Ｂに示す当該端面研磨フィルム１は、フィルム状の基材１０と、その表面側に積層される研磨層２０とを備える。
【００２２】
（基材）
基材１０は、研磨層２０を支持するためのフィルム状の部材である。
【００２３】
基材１０の材質としては、フェルールの球面研磨のためには適度な弾性を有するものが好ましく、例えば樹脂とできる。このような樹脂としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、アラミド等が挙げられる。中でも適度な弾性を有し、研磨層２０との接着性が良好なＰＥＴ、ＰＩが好ましい。また、基材１０の表面に化学処理、コロナ処理、プライマー処理等の接着性を高める処理が行われてもよい。
【００２４】
上記基材１０の形状及び大きさとしては、特に制限されないが、例えば１２７ｍｍ×１２７ｍｍの方形状や直径１２７ｍｍの円形状とすることができる。
【００２５】
上記基材１０の平均厚さの下限としては、５０μｍが好ましく、７０μｍがより好ましい。一方、上記基材１０の平均厚さの上限としては、１２５μｍが好ましく、１００μｍがより好ましい。上記基材１０の平均厚さが上記下限未満である場合、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際の押圧に対する基材１０の耐久性が不足するおそれがある。逆に、上記基材１０の平均厚さが上記上限を超える場合、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際に弾性変形が十分に発生しないため、粗球面研磨工程で形成されたフェルール端面の球面形状が維持できず、研磨精度が不十分となるおそれがある。
【００２６】
（研磨層）
上記研磨層２０は、基材１０の表面側に積層され、複数の凝集粒子２１及びその第１バインダー２２を有する。
【００２７】
上記研磨層２０は、溝を有さないとよい。このように上記研磨層２０を溝を有さない構成とすることで、当該端面研磨フィルム１の単位面積当たりの凝集粒子２１の数を高めることができるので、当該端面研磨フィルム１の研削力を向上できる。
【００２８】
上記研磨層２０の平均厚さの下限としては、３０μｍが好ましく、５０μｍがより好ましい。一方、上記研磨層２０の平均厚さの上限としては、１２０μｍが好ましく、１００μｍがより好ましい。上記研磨層２０の平均厚さが上記下限未満である場合、研磨層２０の研磨力が不足するおそれがある。逆に、上記研磨層２０の平均厚さが上記上限を超える場合、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際に弾性変形が十分に発生しないため、粗球面研磨工程で形成されたフェルール端面の球面形状が維持できず、研磨精度が不十分となるおそれがある。
【００２９】
（第１バインダー）
上記第１バインダー２２の主成分としては、球面形成が可能な弾性を有するものであれば特に限定されないが、ポリウレタン、ポリフェノール、エポキシ、ポリエステル、セルロース、エチレン共重合体、ポリビニルアセタール、ポリアクリル、アクリルエステル、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド等の樹脂を挙げることができる。中でも基材１０への良好な密着性が確保しやすいポリアクリル、エポキシ、ポリエステル及びポリウレタンが好ましい。また、上記樹脂は、少なくとも一部が架橋していてもよい。
【００３０】
上記第１バインダー２２には、分散剤、カップリング剤、界面活性剤、潤滑剤、消泡剤、着色剤等の各種助剤及び添加剤等を目的に応じて適宜含有させてもよい。
【００３１】
（凝集粒子）
凝集粒子２１は、複数の研磨粒子２１ａ及びその第２バインダー２１ｂを有する。
【００３２】
上記凝集粒子２１の平均粒径の下限としては、１５μｍであり、２０μｍがより好ましい。一方、上記凝集粒子２１の平均粒径の上限としては、８０μｍであり、７０μｍがより好ましい。上記凝集粒子２１の平均粒径が上記下限未満である場合、研磨層２０の研磨力が不足するおそれがある。逆に、上記凝集粒子２１の平均粒径が上記上限を超える場合、研磨層２０が厚くなり過ぎるため、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際に弾性変形が十分に発生しないため、粗球面研磨工程で形成されたフェルール端面の球面形状が維持できず、研磨精度が不十分となるおそれがある。
【００３３】
上記凝集粒子２１の最大粒径の上限としては、１２０μｍであり、１１０μｍがより好ましい。上記凝集粒子２１の最大粒径が上記上限を超える場合、複数の上記凝集粒子２１がフェルールの球面部分を包むように接触することができず、研磨精度が不十分となるおそれがある。なお、上記凝集粒子２１の最大粒径の下限は特に限定されないが、少なくとも凝集粒子２１の平均粒径以上である。
【００３４】
ここで、凝集粒子２１の最大粒径の上限を規定することで、端面研磨フィルムの研磨精度が高まることについて、本発明者らは以下のように推察している。端面に粗球面が形成されたフェルールが研磨層２０に押し付けられた際、研磨層２０は弾性変形により複数の凝集粒子２１がフェルールの粗球面を包み込むようにフェルールに接触し、この状態でフェルールの端面が研磨される。凝集粒子２１は後述するように硬質の研磨粒子２１ａを含む粒子であり、凝集粒子２１全体としても研磨層２０の第１バインダー２２より硬質であると考えられる。このため、上記弾性変形は、主に隣接する凝集粒子２１の隙間に存在する第１バインダー２２の変形によると考えられる。このため、変形し難い凝集粒子２１の粒径が大きくなるほど、研磨層２０はフェルールの端面に滑らかに接触し難くなる。このように研磨層２０にフェルールの端面に滑らかに接触し難い部分がある場合、研磨後にフェルールの良好な表面性状が得られない。これは、仮に凝集粒子２１の平均粒径を小さくしたとしても、最大粒径の大きい凝集粒子２１が含まれる限り発生し得る。従って、凝集粒子２１の最大粒径の上限を規定することで、研磨層２０にフェルールの端面に滑らかに接触し易くなり、端面研磨フィルムの研磨精度が高まると考えられる。
【００３５】
研磨層２０における上記凝集粒子２１の含有率の下限としては、３０体積％が好ましく、４０体積％がより好ましい。一方、上記凝集粒子２１の含有率の上限としては、９０体積％が好ましく、８０体積％がより好ましい。上記凝集粒子２１の含有率が上記下限未満である場合、研磨層２０の研磨力が不足するおそれがある。逆に、上記凝集粒子２１の含有率が上記上限を超える場合、フェルールを端面研磨シートに押し当てた際に弾性変形が十分に発生しないため、粗球面研磨工程で形成されたフェルール端面の球面形状が維持できず、研磨精度が不十分となるおそれがある。
【００３６】
上記研磨粒子２１ａとしては、ダイヤモンド、アルミナ、シリカ等の砥粒が挙げられる。中でも高い研削力を有するダイヤモンド砥粒が好ましい。
【００３７】
上記研磨粒子２１ａの平均粒径の下限としては、１μｍが好ましく、１．５μｍがより好ましい。一方、上記研磨粒子２１ａの平均粒径の上限としては、２．８μｍが好ましく、２．５μｍがより好ましく、２μｍがさらに好ましい。上記研磨粒子２１ａの平均粒径が上記下限未満である場合、中間仕上げに要する時間が増大するおそれがある。一方、上記研磨粒子２１ａの平均粒径が上記上限を超える場合、フェルール端面のガラス部分が破砕されるおそれがある。
【００３８】
上記凝集粒子２１における研磨粒子２１ａの含有率の下限としては、５５体積％が好ましく、６５体積％がより好ましい。一方、上記研磨粒子２１ａの含有率の上限としては、８５体積％が好ましく、７５体積％がより好ましい。上記研磨粒子２１ａの含有率が上記下限未満である場合、研磨粒子２１ａが第２バインダー２１ｂに被覆されてしまい研磨層２０の研磨力が不足するおそれがある。逆に、上記研磨粒子２１ａの含有率が上記上限を超える場合、研磨粒子２１ａを保持する第２バインダー２１ｂの割合が減少するため凝集砥粒２１の強度が低下し、当該端面研磨フィルム１の研削力が低下するおそれがある。
【００３９】
凝集粒子２１の平均粒径に対する研磨粒子２１ａの平均粒径の比の下限としては、１／８０が好ましく、１／４０がより好ましい。一方、上記比の上限としては、１／１０が好ましく、１／１５がより好ましい。上記比が上記下限未満である場合、凝集粒子２１の研削力が不十分となるおそれがある。逆に、上記比が上記上限を超える場合、凝集粒子とすることによる研削力の向上効果が十分に得られないおそれがある。
【００４０】
凝集粒子２１は、研磨層２０の表面に突出しているとよい。研磨層２０の表面全体における凝集粒子２１の突出部分の面積割合の下限としては、１０％が好ましく、２０％がより好ましい。一方、上記凝集粒子２１の突出部分の面積割合の上限としては、６０％が好ましく、５０％がより好ましい。上記凝集粒子２１の突出部分の面積割合が上記下限未満である場合、研磨層２０の研削力が不足するおそれがある。逆に、上記凝集粒子２１の突出部分の面積割合が上記上限を超える場合、凝集粒子２１が研磨層２０から脱落するおそれがある。
【００４１】
第２バインダー２１ｂの主成分としては、第１バインダー２２と同様のものを挙げることができる。また、上記第１バインダー２２の主成分と上記第２バインダー２１ｂの主成分とは同一の樹脂であるとよい。このように上記第１バインダー２２の主成分と上記第２バインダー２１ｂの主成分とを同一の樹脂とすることで、第１バインダー２２と第２バインダー２１ｂとの弾性が同等となるので、当該端面研磨フィルム１をフェルールの端面に滑らかに接触し易くできる。このため、フェルールの端面をさらに効率よく研磨できる。
【００４２】
また、第２バインダー２１ｂに、第１バインダー２２と同様に各種助剤及び添加剤等を含有させてもよい。
【００４３】
当該端面研磨フィルム１の平均厚さの下限としては、１３０μｍが好ましく、１６０μｍがより好ましい。一方、当該端面研磨フィルム１の平均厚さの上限としては、２２０μｍが好ましく、２００μｍがより好ましい。当該端面研磨フィルム１の平均厚さが上記下限未満である場合、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際の押圧に対する当該端面研磨フィルム１の耐久性が不足するおそれがある。逆に、当該端面研磨フィルム１の平均厚さが上記上限を超える場合、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際に弾性変形が十分に発生しないため、粗球面研磨工程で形成されたフェルール端面の球面形状が維持できず、研磨精度が不十分となるおそれがある。
【００４４】
（端面研磨フィルムの製造方法）
当該端面研磨フィルム１は、例えば凝集粒子２１を準備する工程、及び上記凝集粒子２１を含む塗工液の塗工により研磨層２０を作成する工程により製造できる。
【００４５】
凝集粒子準備工程では、まず研磨粒子２１ａ及び第２バインダー２１ｂの形成材料を溶剤に分散させた溶液を準備する。上記溶剤としては、第２バインダー２１ｂの形成材料が可溶なものであれば特に限定されない。具体的には、上記溶剤としてメチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール、水、イソホロン、テルピネオール、Ｎメチルピロリドン、シクロヘキサノン、プロピレンカーボネート等を用いることができる。
【００４６】
次に、この溶液を乾燥及び反応硬化させ生成物を得る。そして、この得られた生成物を粉砕する。粉砕の方法としては、特に限定されないが、例えば上記生成物とジルコニアビーズとを容器に密封し、振動させることで粉砕する方法が挙げられる。
【００４７】
最後に、粉砕した粒子を所望の最大粒径と同じ大きさのメッシュ径を有する篩を用いて、所望の最大粒径を超える粒径を有する粒子を除去し、凝集粒子２１を得る。
【００４８】
次に、研磨層作成工程において、上記凝集粒子２１を含む塗工液の塗工により研磨層２０を作成する。まず、凝集粒子２１及び第１バインダー２２の形成材料を溶剤に分散させた溶液を塗工液として準備する。上記溶剤としては、第１バインダー２２の形成材料が可溶なものであれば特に限定されず、例えば凝集粒子準備工程で用いた溶剤と同じものを用いることができる。塗工液の粘度や流動性を制御するために、水、アルコール、ケトン、酢酸エステル、芳香族化合物等の希釈剤等を上記塗工液に添加してもよい。
【００４９】
次に、上記塗工液を基材１０表面に塗工する。この塗布方法としては、例えば公知のスクリーン印刷を用いることができる。
【００５０】
最後に、塗布した塗工液を乾燥及び反応硬化させることで研磨層２０を形成する。具体的には、例えば９０℃以上１１０℃以下の熱風を２０時間以上基材１０に当てることによって、塗工液の溶媒を蒸発させると共に溶剤を硬化させ、第１バインダー２２を形成する。このようにして当該端面研磨フィルム１を製造することができる。
【００５１】
（利点）
当該端面研磨フィルム１は、研磨層２０に複数の凝集粒子２１を有する。この凝集粒子２１は複数の研磨粒子２１ａを第２バインダー２１ｂにより凝集した砥粒であり、その平均粒径が上記下限以上であるので、研磨粒子単体よりも研磨層２０の研削力が増す。また、当該端面研磨フィルム１は、凝集粒子２１の最大粒径が上記上限以下である。このため、当該端面研磨フィルム１は、第１バインダー２２の弾性と相まって、フェルールを当該端面研磨フィルム１に押し当てた際に複数の上記凝集粒子２１がフェルールの球面部分を包むように滑らかに接触することができる。この滑らかな接触により、フェルールの端面が上記凝集粒子２１で研磨されるので、当該端面研磨フィルム１は、研磨精度が高まる。従って、当該端面研磨フィルム１は、中間仕上げ工程に要求される高い研削力と共に高い研磨精度を有する。
【００５２】
［研磨方法］
次に、当該端面研磨フィルム１を用いたフェルールの端面研磨方法について説明する。当該端面研磨フィルム１を用いたフェルールの端面研磨方法は、当該端面研磨フィルム１を装着する研磨準備工程、フェルール端面の表面粗さの低減を行う中間仕上げ工程、及びフェルールの端面をさらに凹凸のない高精度な表面に仕上げる仕上げ研磨工程を主に有する。
【００５３】
当該端面研磨フィルム１を用いたフェルールの端面研磨方法では、図２に示すような公知のフェルール端面研磨装置３０を用いることができる。上記フェルール端面研磨装置３０は、駆動装置（図示せず）により自転軸３１を中心に自転しながら公転軸Ｍを中心に公転する円盤状の研磨定盤３２と、上記研磨定盤３２の表面に配設された弾性パッド３３とを備える。さらに、上記フェルール端面研磨装置３０は、アーム３４に固定された支持棒３５と、上記支持棒３５の下端部に回転しないように固定され、フェルール保持部３６ａを有するフェルール押圧治具３６とを備える。当該端面研磨フィルム１及び上記研磨装置３０を用いたフェルールの端面研磨方法は、以下のように行われる。
【００５４】
まず、研磨準備工程において、当該端面フィルムを研磨層２０が露出するように上記弾性パッド３３上に配設する。また、上記フェルール押圧治具３６のフェルール保持部３６ａに、研磨する側のフェルール端面を下にしてフェルールＸを固定する。このフェルールＸとしては、フェルールから接着剤が除去され、フェルール端面を球面とする粗球面研磨されたフェルールを用いる。フェルールＸとして粗球面研磨を行う必要がないプリドーム型のフェルールを用いてもよい。
【００５５】
次に、上記アーム３４に下方向の荷重を加えることで、フェルール保持部３６ａに保持したフェルールＸの端面を当該端面研磨フィルム１の研磨層２０の表面に押し付けながら、当該端面研磨フィルム１を上記研磨定盤３２と共に回転運動させる。この時、当該端面研磨フィルム１の凝集粒子２１が有する研磨粒子２１ａにより、フェルールＸの端面の表面粗さが低減される。このようにして当該端面研磨フィルム１を用いたフェルールの端面研磨方法は、中間仕上げ工程を行うことができる。
【００５６】
最後に、仕上げ研磨工程において、フェルールＸの端面をさらに凹凸のない高精度な表面に仕上げる。この工程では、当該端面研磨フィルム１を最終仕上げ用の端面研磨フィルムに交換し、上記研磨工程と同様に、最終仕上げ用の端面研磨フィルムを用いてフェルールＸの端面の研磨を行う。最終仕上げ用の端面研磨フィルムとしては、細かい砥粒を有する公知のシリカ端面研磨フィルム等を使用することができる。
【００５７】
（利点）
上記フェルールの端面研磨方法は、当該端面研磨フィルム１を用いることで、フェルールＸの端面を効率よく研磨できる。また、上記フェルールの端面研磨方法は、従来の研磨装置を用いてフェルールＸの研磨が行えるので、製造設備コストの増大を抑制できる。
【００５８】
［その他の実施形態］
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、上記態様の他、種々の変更、改良を施した態様で実施することができる。
【００５９】
上記実施形態では、溝を有さない研磨層の場合を説明したが、研磨層が表面側に複数の溝を有してもよい。この溝は、研磨により発生する研磨粉を当該端面研磨フィルムから除去する効果がある。
【００６０】
上記溝の平面形状としては、特に限定されないが、例えば縞状、格子状、円形状とできる。
【００６１】
また、上記複数の溝２３の底面は、基材の表面で構成することもできるし、溝の深さが研磨層の平均厚さよりも小さく溝が基材の表面に達さない構成とすることもできる。溝が基材の表面に達さない構成の場合、溝の深さとしては、研磨層の平均厚さの５０％以上が好ましい。溝の深さが上記下限未満である場合、研磨により発生する研磨粉の除去効果が十分に得られないおそれがある。
【００６２】
上記複数の溝の平均幅の下限としては、０．０３ｍｍが好ましく、０．０５ｍｍがより好ましい。一方、上記複数の溝の平均幅の上限としては、０．３５ｍｍが好ましく、０．２ｍｍがより好ましい。上記複数の溝の平均幅が上記下限未満である場合、研磨により発生する研磨粉が溝に詰まるおそれがある。逆に、上記複数の溝の平均幅が上記上限を超える場合、研磨時にフェルールの光ファイバとの境目部分に欠け（フチかけ）が生じるおそれがある。
【００６３】
また、溝の間隔は、特に限定されないが、フェルールの研磨に異方性が生じるおそれがあるため等間隔が好ましい。上記複数の溝の平均間隔の下限としては、０．５ｍｍが好ましく、０．７ｍｍがより好ましい。また、上記複数の溝の平均間隔の上限としては、１０ｍｍが好ましく、５ｍｍがより好ましい。上記複数の溝の平均間隔が上記下限未満である場合、研磨層における凝集粒子が存在する部分の面積が不足し、研磨層の研磨力が不足するおそれがある。一方、上記複数の溝の平均間隔が上記上限を超える場合、研磨により発生する研磨粉の除去効果が十分に得られないおそれがある。
【００６４】
このような溝は、例えば当該端面研磨フィルムの製造の研磨層作成工程においてスクリーン印刷を行う際の印刷パターンとして、溝に対応する印刷パターンを用いることで、研磨層に形成することができる。また、上記溝は、研磨層形成後にエッチング加工やレーザー加工等により切削して形成されてもよい。
【実施例】
【００６５】
以下、実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、当該発明は以下の実施例に限定されるものではない。
【００６６】
［実施例１］
メチルエチルケトン１００質量部にエポキシ樹脂（三菱化学株式会社の「ｊＥＲ１００１」）１００質量部と酸無水物（新日本理化株式会社の「リカシッドＭＨ７００」）２７質量部とを加えた溶液を用意した。さらに、この溶液に研磨粒子としてダイヤモンド砥粒（ランズ社の「ＬＳシリーズ粒度１−３ミクロン」、平均粒径１．７μｍ）を固形分で７０体積％、つまり凝集粒子における研磨粒子の含有率が７０体積％となるように混合し、混合液を得た。次に、この混合液を反応容器内で乾燥及び反応硬化させた後、平均径１ｃｍのジルコニアビーズを加え、容器を密封し、振動させた。このようにして粉砕した生成物から、メッシュ径１００μｍの篩を用いて粒径１００μｍを超える生成物を取り除き、最大粒子径が１００μｍ以下の凝集粒子を得た。なお、この凝集粒子の平均粒径をレーザー回折法により測定したところ、表１に示すように５０μｍであった。
【００６７】
次に、上記凝集粒子をメチルエチルケトン１００質量部にエポキシ樹脂（三菱化学株式会社の「ｊＥＲ１００１」）１００質量部と酸無水物（新日本理化株式会社の「リカシッドＭＨ７００」）２７質量部と共に加え、混合及び攪拌することで塗工液を得た。なお、上記塗工液は、上記凝集粒子が固形分で６０体積％、つまり研磨層における凝集粒子の含有率が５５体積％となるように調製した。
【００６８】
さらに、基材として平均厚さ７５μｍのＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社の「メリネックスＳ」）を用い、この基材の表面にスクリーン印刷機を用いて上記塗工液を塗工、乾燥及び反応硬化させることで研磨層を形成した。なお、研磨層は溝を有さない構成とした。
【００６９】
以上のようにして実施例１の端面研磨フィルムを得た。
【００７０】
［実施例２］
ジルコニアビーズによる粉砕時間を長くしたこと及びメッシュ径５３μｍの篩を使用したこと以外は、実施例１と同様にして実施例２の端面研磨フィルムを得た。実施例２の凝集粒子の平均粒子径及び最大粒子径は表１に示す。
【００７１】
［実施例３］
ジルコニアビーズによる粉砕時間を短くしたこと及びメッシュ径１００μｍの篩を使用したこと以外は、実施例１と同様にして実施例３の端面研磨フィルムを得た。実施例３の凝集粒子の平均粒子径及び最大粒子径は表１に示す。
【００７２】
［比較例１］
ジルコニアビーズによる粉砕時間を長くしたこと及びメッシュ径２５μｍの篩を使用したこと以外は、実施例１と同様にして比較例１の端面研磨フィルムを得た。比較例１の凝集粒子の平均粒子径及び最大粒子径は表１に示す。
【００７３】
［比較例２］
ジルコニアビーズによる粉砕時間を短くしたこと及びメッシュ径１５０μｍの篩を使用したこと以外は、実施例１と同様にして比較例２の端面研磨フィルムを得た。比較例２の凝集粒子の平均粒子径及び最大粒子径は表１に示す。
【００７４】
［比較例３］
ジルコニアビーズによる粉砕時間を短くしたこと及びメッシュ径２００μｍの篩を使用したこと以外は、実施例１と同様にして比較例３の端面研磨フィルムを得た。比較例３の凝集粒子の平均粒子径及び最大粒子径は表１に示す。
【００７５】
［研磨条件］
上記実施例１〜３及び比較例１〜３で得られた端面研磨フィルムを用いて、光ファイバが接着された接着剤除去後のフェルールの研磨を行った。上記研磨には、市販の光コネクタ端面研磨機（セイコーインスルメンツ株式会社の「ＯＦＬ１５」）を用い、端面研磨フィルムをその研磨定盤に弾性パッドを介して取り付け、上記光コネクタ端面研磨機の固定治具に取り付けたフェルールの研磨を行った。なお、研磨は上記実施例１〜３及び比較例１〜３で得られた端面研磨フィルムについて以下の条件で２分間行った。
【００７６】
（研磨条件）
荷重１５００ｇ、パッド硬度４５Ｈｓ、研磨速度１８０ｒｐｍとした。
【００７７】
［評価方法］
研磨したフェルールについて、以下の評価を行った。
【００７８】
＜研削量＞
研磨前後のフェルールの長さを測定し、その差を研磨時間（２分間）で除することで、１分間当たりの研削量を算出した。中間仕上げ工程用の研磨フィルムの研削量としては、２．０μｍ／分以上である場合、研削力が高いと判断できる。
【００７９】
＜表面性状＞
研磨後のフェルールの端面の表面性状を光学写真装置（ＷＥＳＴＯＶＥＲ社の「ＶｉｄｅｏＦｉｂｅｒＭｉｃｒｏｓｃｏｐｅ」）の画面上で観察し、フェルールの端面の傷や欠けの有無を下記の判断基準にて３段階で評価した。この結果を表１に示す。
【００８０】
（表面性状の基準）
Ａ：良好な表面性状が得られる。
Ｂ：研削力が不足し、良好な表面性状が得られない。
Ｃ：良好な表面性状が得られず、かつ欠けが発生する。
【００８１】
【表１】
2016168658.tif 000003
【００８２】
表１において、凝集粒子の平均粒径が１５μｍ以上８０μｍ以下であり、上記凝集粒子の最大粒径が１２０μｍ以下である実施例１〜３は、高い研削力を有しつつ、研磨後のフェルールの表面性状が良好である。これに対し、比較例１は、凝集粒子の平均粒子径が１５μｍ未満であり、研削力が劣る。また、比較例２及び比較例３は、凝集粒子の最大粒径が１２０μｍを超えるため、良好な表面性状が得られない。このことから、凝集粒子の平均粒径を１５μｍ以上８０μｍ以下とし、上記凝集粒子の最大粒径を１２０μｍ以下とすることで、中間仕上げ工程に要求される高い研削力を有しつつ、研磨後のフェルールの表面性状に優れる端面研磨フィルムが得られることが分かる。
【００８３】
さらに詳細に見ると、実施例３及び比較例２は、研削力がほぼ同等であるが、フェルールの表面性状が異なる。実施例３と比較例２とは、凝集粒子の平均粒径はほぼ同等であるが、凝集粒子の最大粒径が異なり、実施例３の方が小さい。このことから、凝集粒子の最大粒径の上限を規定することで、研磨層がフェルールの端面に滑らかに接触し易くなり、端面研磨フィルムの研磨精度が高まったと考えられる。
【産業上の利用可能性】
【００８４】
本発明の端面研磨フィルム、中間仕上げ工程に要求される高い研削力と共に高い研磨精度を有する。
【符号の説明】
【００８５】
１  端面研磨フィルム
１０  基材
２０  研磨層
２１  凝集粒子
２１ａ  研磨粒子
２１ｂ  第２バインダー
２２  第１バインダー
３０  フェルール端面研磨装置
３１  自転軸
３２  研磨定盤
３３  弾性パッド
３４  アーム
３５  支持棒
３６  フェルール押圧治具
３６ａ  フェルール保持部
Ｘ  フェルール
Ｍ  公転軸
【図１Ａ】
2016168658.tif 000004
【図１Ｂ】
2016168658.tif 000005
【図２】
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