(57)【要約】      （修正有）【課題】メタリック調の色を呈することが可能な加飾層を有する表示装置用前面板、およびそれを備えた表示装置を提供する。【解決手段】透明基板１と、透明基板１の一方の面の周縁部に形成された加飾層２と、透明基板１および加飾層２間に少なくとも配置された低屈折率層３とを有し、低屈折率層３は、透明基板１よりも屈折率が低いものであり、ＳＣＩ方式により透明基板１側から測定される、周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、低屈折率層３が配置されないときよりも大きいことを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板と、
前記透明基板の一方の面の周縁部に形成された加飾層と、
前記透明基板および前記加飾層間に少なくとも配置された低屈折率層と
を有し、
前記低屈折率層は、前記透明基板よりも屈折率が低いものであり、
ＳＣＩ方式により前記透明基板側から測定される、前記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、前記低屈折率層が配置されないときよりも大きいことを特徴とする表示装置用前面板。
【請求項２】
ＳＣＩ方式により前記透明基板側から測定される、前記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、３５以上であることを特徴とする請求項１に記載の表示装置用前面板。
【請求項３】
ＳＣＩ方式により前記透明基板側から測定される、前記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が、１０以上であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置用前面板。
【請求項４】
ＳＣＩ方式により前記透明基板側から測定される、前記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が、１０未満であることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の表示装置用前面板。
【請求項５】
前記透明基板および前記加飾層間に位置する前記低屈折率層が、パターン状に形成されていることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれかに記載の表示装置用前面板。
【請求項６】
前記透明基板と前記低屈折率層との間または前記低屈折率層と前記加飾層との間の少なくとも一方に、前記透明基板よりも屈折率が高い高屈折率層が配置されていることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれかに記載の表示装置用前面板。
【請求項７】
表示装置用前面板および表示パネルを有する表示装置であって、
前記表示装置用前面板が、透明基板と、前記透明基板の一方の面の周縁部に形成された加飾層と、前記透明基板および前記加飾層間に少なくとも配置された低屈折率層とを有し、
前記低屈折率層は、前記透明基板よりも屈折率が低いものであり、
ＳＣＩ方式により前記透明基板側から測定される、前記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、前記低屈折率層が配置されないときよりも大きいことを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の表示装置に用いられる表示装置用前面板、およびそれを備えた表示装置に関する。
【０００２】
近年、表示装置の発達に伴って、液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等のフラットパネルディスプレイの需要が増加している。最近では、テレビやパーソナルコンピューターの他にも、スマートフォン、タブレット端末等の多機能端末の普及が盛んになっており、益々フラットパネルディスプレイの市場は拡大する状況にある。
このような状況において、フラットディスプレイは、高い表示品質に加えてより高い意匠性が求められている。
【０００３】
フラットディスプレイにおいては、表示パネルの表示部の外側（観察者側）に、表示部を保護するための表示装置用前面板が設けられることが知られている。
表示装置用前面板は、通常、透明基板の非観察者側の表面に遮光性を有する加飾層が形成されており、その形成箇所は、フラットディスプレイにおける非表示領域に位置する。このため、フラットパネルディスプレイの非表示領域内に位置する表示パネルの配線やコネクタ等は、上記加飾層により不可視化されることとなり、フラットパネルディスプレイにおける非表示領域の外観を良好なものとすることができる。
【０００４】
ところで最近では、フラットディスプレイの外観に更なる高級感を与えるために、加飾層の色を金属表面が呈する金属光沢感等のメタリック調に表現させることが検討されている。しかし、カーボンブラック等の黒色顔料を用いた加飾層では、このようなメタリック調の色を表現することは難しい。
このため、加飾層の色をメタリック調に表現させる方法として、ラメや金属粒子を含有したメタリックインク、パールインクを用いて加飾層を製版で形成する、加飾層を着色樹脂層と、着色樹脂層上に形成された金属薄膜から成る不透明な金属反射層との積層構造とし、着色樹脂層の色を金属反射層による反射光でメタリック調に表現させる（特許文献１参照）等の各種方法が用いられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−１５２６３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、加飾層をメタリックインキ等のインキで形成する場合、メタリック調の色を明瞭に表現させるためには、加飾層の色の光学濃度（ＯＤ）を高くする必要がある。光学濃度を向上させるためには、加飾層中に含有されるインキの粒子の量を増加させる必要があり、これに伴い加飾層の厚さが大きくなってしまう。ここで、表示装置用前面板を表示装置に組み込む場合、特に、表示装置用前面板にタッチパネル等の機能を一体化させる場合、透明電極層が加飾層上に形成されることとなるが、加飾層の厚さが大きくなると、加飾層上に配置される透明電極層とガラス基板上に配置される透明電極層とで配置位置に高低差が生じるため、断線し易くなるという問題がある。
また、インキに含まれる粒子の種類や粒径によっては、メタリック調の色を表現することが可能な加飾層を製版により形成することが困難である場合や、高精細なパターン状に形成することが難しい場合がある。
さらに、着色層を着色樹脂層および金属反射層の多層構造とする場合、金属反射層を着色樹脂層上に蒸着させる蒸着工程が必要となり、真空下で製造を行わなければならない、製造コストが高くなる等の課題が生じる。
このため、薄膜化等の構造上および製造上の観点から、加飾層の色をメタリック調に表現させる方法については検討の余地がある。
【０００７】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、メタリック調の色を呈することが可能な加飾層を有する表示装置用前面板、および表示装置を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは上記課題を解決すべく鋭意検討を行った結果、透明基板および加飾層間に上記透明基板よりも屈折率の低い低屈折率層を配置することで、各層間界面で生じる反射光を利用して、加飾層の色をメタリック調に表現させることが可能であることを見出して、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち、本発明は、透明基板と、上記透明基板の一方の面の周縁部に形成された加飾層と、上記透明基板および上記加飾層間に少なくとも配置された低屈折率層とを有し、上記低屈折率層は、上記透明基板よりも屈折率が低いものであり、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、上記低屈折率層が配置されないときよりも大きいことを特徴とする表示装置用前面板を提供する。
【００１０】
本発明によれば、透明基板および加飾層間に、透明基板よりも低屈折率を示す低屈折率層が配置されることで、透明基板および低屈折率層間の界面での屈折率差、ならびに低屈折率層および加飾層間の界面で屈折率差が大きくなり、各界面において光の反射が生じる。この各界面にて生じる反射光により、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値（以下、単にＬ＊値とする場合がある。）が、上記低屈折率層を設けないときよりも大きくなることから、加飾層をメタリック調の色で表現することができる。
【００１１】
上記発明においては、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、３５以上であることが好ましい。周縁部でのＬ＊値が３５以上となることで、加飾層をメタリック調の強い色に表現することできるからである。
【００１２】
上記発明においては、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値（以下、単にｂ＊値とする場合がある。）が、１０以上であることが好ましい。加飾層を金色みを帯びたメタリック調に表現することできるからである。
【００１３】
上記発明においては、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のｂ＊値が、１０未満であることが好ましい。加飾層を、銀色みを帯びたメタリック調に表現することできるからである。
【００１４】
上記発明においては、上記透明基板および上記加飾層間に位置する上記低屈折率層が、パターン状に形成されていてもよい。パターン状の低屈折率層と透明基板および加飾層との界面で生じる反射光を利用して、加飾層が形成された領域内に、メタリック調または非メタリック調の色を呈するロゴ等の可視情報を付すことができるからである。
【００１５】
上記発明においては、上記透明基板と上記低屈折率層との間または上記低屈折率層と上記加飾層との間の少なくとも一方に、上記透明基板よりも屈折率が高い高屈折率層が配置されていることが好ましい。高屈折率層の配置位置に応じて、各層間の界面での屈折率差を大きくすることができ、周縁部にて屈折率差の異なる複数の界面が存在することで、各界面で生じる反射光により、周縁部でのＬ＊値を向上させ、また、周縁部でのｂ＊値を変化させて、所望のメタリック調の色に表現することができるからである。
【００１６】
また本発明は、表示装置用前面板および表示パネルを有する表示装置であって、上記表示装置用前面板が、透明基板と、上記透明基板の一方の面の周縁部に形成された加飾層と、上記透明基板および上記加飾層間に少なくとも配置された低屈折率層とを有し、上記低屈折率層は、上記透明基板よりも屈折率が低いものであり、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、上記低屈折率層が配置されないときよりも大きいことを特徴とする表示装置を提供する。
【００１７】
本発明によれば、表示装置用前面板において、透明基板および加飾層間に、透明基板よりも低屈折率を示す低屈折率層が配置されることで、加飾層の色がメタリック調に表現されることから、表示装置の外観に高級感を与え、意匠性を向上させることができる。
【発明の効果】
【００１８】
本発明の表示装置用前面板は、透明基板および加飾層間に所望の低屈折率層を配置することで、加飾層の色をメタリック調に表現させることが可能であるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略平面図および断面図である。
【図２】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。
【図３】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。
【図４】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略平面図および断面図である。
【図５】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略平面図および断面図である。
【図６】本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、本発明の表示装置用前面板、および表示装置について詳細に説明する。
【００２１】
Ａ．表示装置用前面板
本発明の表示装置用前面板は、透明基板と、上記透明基板の一方の面の周縁部に形成された加飾層と、上記透明基板および上記加飾層間に少なくとも配置された低屈折率層とを有し、上記低屈折率層は、上記透明基板よりも屈折率が低いものであり、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、上記周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、上記低屈折率層が配置されないときよりも大きいことを特徴とするものである。
【００２２】
本発明の表示装置用前面板について図面を参照しながら説明する。
図１（ａ）は本発明の表示装置用前面板の一例を示す概略平面図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。なお、図１（ａ）は図１（ｂ）を透明基板側から見た図に相当する。
図１（ａ）、（ｂ）に例示するように、本発明の表示装置用前面板１０は、透明基板１と、透明基板１の一方の面の周縁部Ｂに形成された加飾層２とを有し、少なくとも透明基板１および加飾層２間に、透明基板１よりも屈折率が低い低屈折率層３が配置されたものである。すなわち、周縁部Ｂには、透明基板１、低屈折率層３、および加飾層２が位置する。
周縁部Ｂは、上述の積層構造を有することから、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、透明基板１と加飾層２との間に低屈折率層３が配置されないときの周縁部のＬ＊値よりも大きくなる。
【００２３】
本発明の表示装置用前面板において、加飾層に囲まれた領域（図１中のＡで示す領域）は、本発明の表示装置用前面板を表示装置に用いたときに、画像表示に用いられる「表示領域」となる領域である。
また、本発明の表示装置用前面板において、加飾層が形成された領域、すなわち図１中の周縁部Ｂは、本発明の表示装置用前面板を表示装置に用いたときに、表示領域の外周に配置された「非表示領域」となる領域である。
【００２４】
加飾層の色をメタリック調に表現させるためには、メタリックインキ等を用いて加飾層を成膜する、着色樹脂層上に金属反射層を形成して加飾層とする等、加飾層の材料として光沢材料を用いることが一般的である。
これに対し、本発明は、加飾層に光沢材料を用いなくても、透明基板および加飾層間に低屈折率層を配置することで、加飾層の色を容易にメタリック調に表現させることが可能である点を特長とするものである。
すなわち、本発明によれば、透明基板および加飾層間に、透明基板よりも低屈折率を示す低屈折率層を配置することで、透明基板および低屈折率層間の界面での屈折率差、ならびに低屈折率層および加飾層間の界面での屈折率差が大きくなる。そして、各界面にて生じた反射光が干渉等することにより、ＳＣＩ方式により上記透明基板側から測定される、周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値が、上記低屈折率層を設けないときよりも大きくなり、その結果、加飾層の色をメタリック調に表現することが可能となるのである。
【００２５】
また、本発明によれば、低屈折率層の屈折率を調整することで加飾層の色をメタリック調に表現させることが可能であることから、加飾層および低屈折率層の厚さを小さくすることができる。このため、本発明の表示装置用前面板において、加飾層上に透明電極層を形成して他の機能と一体化させる場合、加飾層上に形成される透明電極層と透明基板上に形成される透明電極層との高低差を小さくすることができ、透明電極層の断線を防ぐことができるという利点も有する。
さらに、加飾層を、着色樹脂層上に金属薄膜等の金属反射層を設けた多層体とする必要がないことから、加飾層および低屈折率層の形成が容易であるという製造上の利点も有する。
【００２６】
本発明において、加飾層の色がメタリック調であることは、ＳＣＩ方式により測定される周縁部でのＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値により規定することが可能である。
具体的には、分光測色計を用いて周縁部の分光反射特性を測定し、分光反射特性からＬ＊ａ＊ｂ＊表色系のＬ＊値を求めることで規定することができる。
ここで、ＳＣＩ（Ｓｐｅｃｕｌａｒ Ｃｏｍｐｏｎｅｎｔｓ Ｉｎｃｌｕｄｅ）方式とは、正反射光および拡散反射光の合計を検出する、つまり正反射光も含めて測定する方法である。ＳＣＩ方式は、物体色を測定する場合に広く用いられている。正反射成分が多いほど、Ｌ＊値が高くなり、上記加飾層の色はメタリック調を帯びることができる。分光測色計としては、コニカミノルタ（株）製のＣＭ−２５００ｄ（Ｄ６５光源）を用いることができる。
また、後で説明するように、加飾層が呈するメタリック調の色は、周縁部のＬ＊値に加えて、ＳＣＩ方式により測定される周縁部でのｂ＊値にも因るものと推量される。
なお、周縁部のＬ＊値およびｂ＊値については、後述する。
【００２７】
以下、本発明の表示装置用前面板における各構成について説明する。
【００２８】
１．低屈折率層
本発明における低屈折率層は、上記透明基板および上記加飾層間に少なくとも配置されているものであり、透明基板よりも屈折率が低いものである。
したがって、上記低屈折率層は、少なくとも周縁部に存在する。
【００２９】
低屈折率層は、その屈折率が透明基板の屈折率よりも低く、加飾層の屈折率と異なればよいが、通常、低屈折率層の屈折率は、加飾層の屈折率よりも低い。具体的な低屈折率層の屈折率としては、１．５０以下が好ましく、中でも１．２５〜１．４５の範囲内、特に１．２５〜１．３５の範囲内であることが好ましい。低屈折率層が上記のような屈折率を有することにより、透明基板および低屈折率層間の界面、ならびに低屈折率層および加飾層間の界面で生じる光の反射により、周縁部のＬ＊値を向上させｂ＊値が調整されることで、加飾層の色を、所望の色みを帯びたメタリック調に表現させることが可能となるからである。
【００３０】
ここで、各部材の「屈折率」とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は特に限定されないが、例えば、分光反射スペクトルから算出する方法、エリプソメーターを用いて測定する方法、アッベ法を挙げることができる。エリプソメーターとしてはジョバンーイーボン社製ＵＶＳＥＬが挙げられる。具体的には、テクノ・シナジー社製ＤＦ１０３０Ｒにて屈折率を測定することができる。
【００３１】
低屈折率層を構成する材料としては、上述の屈折率を満たすものであれば特に限定されるものではなく、低屈折率層の形成方法に応じて適宜選択することができる。例えば、低屈折率樹脂や、バインダー樹脂に低屈折率粒子を含有させものが挙げられる。
【００３２】
（１）低屈折率樹脂
低屈折率樹脂としては、低屈折率樹脂により成膜された低屈折率層が上述の屈折率を示すことが可能な樹脂であればよく、例えば含フッ素ポリマー等が挙げられる。
【００３３】
含フッ素ポリマーとしては、フッ素原子を含むポリマーであればよく、例えば特開２０１４−２０２９５０号公報等に記載のフッ素ポリマーが挙げられる。また、含フッ素ポリマーは、フッ素のほかにケイ素、フッ化マグネシウム等を含むものであってもよい。ケイ素を含む含フッ素ポリマーとしては、例えば、共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が好ましく挙げられる。この場合のシリコーン成分としては、例えば特開２０１４−２０２９５０号公報、特開２０１３−１４２８１７号公報等に記載されるシリコーン成分等が挙げられる。中でも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００３４】
また、分子中に少なくとも１個のイソシアネート基、及びフッ素を有する化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基などのイソシアネート基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；含フッ素ポリエーテルポリオール、含フッ素アルキルポリオール、含フッ素ポリエステルポリオール、含フッ素ε−カプロラクトン変性ポリオールなどの含フッ素ポリオールと、イソシアネート基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等も、含フッ素ポリマーとして用いることができる。
【００３５】
（２）低屈折率粒子およびバインダー樹脂
低屈折率粒子としては、所望の屈折率を示すことが可能であれば、無機系、有機系のいずれの材料からなる粒子であってもよい。中でも、低屈折率粒子は、空隙を有する粒子であることが好ましい。空隙を有する粒子は、微細な空隙を外部や内部に有しており、例えば屈折率１．０の空気などの気体が充填されているので、粒子自体の屈折率が低いという特徴を有しているからである。
【００３６】
空隙を有する粒子としては、無機系あるいは有機系の多孔質粒子、中空粒子などが挙げられ、例えば多孔質シリカ、中空シリカ粒子や、アクリル樹脂等が用いられた多孔質ポリマー粒子や中空ポリマー粒子が挙げられる。無機系の粒子としては、特開２００１−２３３６１１号公報で開示される技術を用いて調製した空隙を有するシリカ粒子等が挙げられる。また、有機系の粒子としては、特開２００２−８０５０３号公報で開示される技術を用いて調製した中空ポリマー粒子等が挙げられる。中でも、空隙を有するシリカ粒子、あるいは多孔質シリカ粒子が好ましい。
なお、中空粒子とは、外殻層を有し、外殻層に囲まれた内部が多孔質組織または空洞である粒子をいう。
【００３７】
また、低屈折率粒子としては、その形態、構造、凝集状態、膜内部での分散状態により、内部や表面の少なくとも一部にナノポーラス構造の形成が可能な粒子を用いてもよい。このような粒子としては、例えば、特開２０１３−１４２８１７号公報で開示されるナノポーラス構造の形成が可能な粒子が挙げられる。
【００３８】
低屈折率粒子の平均粒径としては、低屈折率層の厚さ以下であればよく、例えば３０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内、特に５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。
低屈折率粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の光透過性を損なうことがなく、良好な分散状態が得られる。なお、低屈折率粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また低屈折率粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、低屈折率粒子の平均粒径とは、低屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
【００３９】
なお、低屈折率粒子は、表面処理がされていてもよい。低屈折率粒子がバインダー樹脂に均一に分散されるため、低屈折率層の光透過性の低下を抑えることができる。
表面処理方法としては、例えばシランカップリング剤を用いた表面処理等が挙げられる。具体的なシランカップリング剤については、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報で開示されるシランカップリング剤と同様とすることができる。
【００４０】
バインダー樹脂としては、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択されるが、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂であることが好ましい。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。また、電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。低屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。
【００４１】
ここで、本明細書内において「電離放射線硬化樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化した樹脂をいう。また、「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。
【００４２】
電離放射線硬化樹脂としては、例えば、アクリレート系の官能基を有する化合物等の１又は２以上の不飽和結合を有する化合物を挙げることができる。１の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、エチル（メタ）アクリレート、エチルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルスチレン、Ｎ−ビニルピロリドン等を挙げることができる。２以上の不飽和結合を有する化合物としては、例えば、ポリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等の多官能化合物、及び、上記多官能化合物と（メタ）アクリレート等との反応生成物（例えば、多価アルコールのポリ（メタ）アクリレートエステル）、等を挙げることができる。なお「（メタ）アクリレート」は、メタクリレートおよびアクリレートを指すものである。
【００４３】
また、上記電離放射線硬化樹脂として、不飽和二重結合を有する比較的低分子量のポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロアセタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等も使用することができる。さらに、上述した低屈折率樹脂を用いてもよい。
【００４４】
（３）任意の材料
低屈折率層は、適宜必要に応じて、例えば重合開始剤、耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等の任意の添加剤を含有していてもよい。
【００４５】
（４）その他
本発明においては、低屈折率層の屈折率および厚さにより、メタリック調で表現される加飾層の色みを変化させることができる。この理由については、確かではないが、以下の理由が想定される。
本発明においては、低屈折率層の屈折率を透明基板の屈折率よりも低い値で調整することで、隣接する透明基板や加飾層との各界面で屈折率差が大きくなり、各界面に入射した光はそれぞれ異なる反射率で反射される。そして、各界面で生じた反射光同士、または反射光と入射光とが干渉し合うことで、周縁部でのＬ＊値が向上し、加飾層をメタリック調の色で表示させることができる。このとき、低屈折率層の厚さを変化させると、各界面で生じる反射光の光路差が変化し、それに伴って光の干渉傾向も変化する。そして、光路差に応じた干渉色のｂ＊値に応じて、周縁部でのｂ＊値、および加飾層の色みが変化すると予想される。
【００４６】
低屈折率層の厚さとしては、所望の反射率や、表現するメタリック調の色に応じて適宜設定されるが、例えば２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、特に３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内が好ましい。低屈折率層の厚さが上記範囲よりも大きいと、加飾層上に透明電極層を形成して他の機能と一体化させる場合に、低屈折率層の厚さにより、加飾層上に形成される透明電極層と透明基板上に形成される透明電極層との高低差が大きくなり、断線し易くなる場合があるからである。また、低屈折率層の厚さの均一性についてもブレが大きくなり、所望の光学特性を均一に発揮されにくい場合があるからである。一方、低屈折率層の厚さが上記範囲よりも小さいと、低屈折率層を形成する際に、現像、焼成等での膜減りの影響を受けやすく、所望の低屈折率層を形成しにくい場合があるからである。
【００４７】
ここで、各部材の厚さとは、一般的な測定方法によって得られる厚さをいう。厚さの測定方法としては、例えば、触針で表面をなぞり凹凸を検出することによって厚さを算出する触針式の方法や、分光反射スペクトルに基づいて厚さを算出する光学式の方法等を挙げることができる。具体的には、ケーエルエー・テンコール株式会社製の触針式厚さ計Ｐ−１５を用いて厚さを測定することができる。なお、厚さとして、対象となる部材の複数箇所における厚さ）の測定結果の平均値が用いられてもよい。
【００４８】
低屈折率層は、通常、透明であるが、所望の光透過性を示すことが可能であれば着色されたものであってもよい。
上記低屈折率層が透明である場合の光透過性としては、全光線透過率が７０％以上であることが好ましく、中でも８０％以上、特に９０％以上であることが好ましい。低屈折率層の全光線透過率は、ＪＩＳ Ｋ７３６１−１（プラスチック−透明材料の全光透過率の試験方法）に準拠して測定することができる。
【００４９】
低屈折率層は単層であってもよいが、屈折率および厚さの異なる低屈折率層を複数積層させた多層体であってもよい。
【００５０】
低屈折率層は、透明基板の表面上に直接形成されていてもよいが、上記透明基板と上記低屈折率層との間または上記低屈折率層と上記加飾層との間の少なくとも一方に、上記透明基板よりも屈折率が高い高屈折率層が配置されていることが好ましい。例えば、上記透明基板と上記低屈折率層との間に高屈折率層を配置することで、透明基板および高屈折率層間の界面、ならびに高屈折率層および低屈折率層間の界面において屈折率差が大きくなる。また、周縁部では、屈折率差の異なる複数の界面が存在することとなる。このように高屈折率層の配置位置に応じて、各層間の界面での屈折率差を大きくすることができ、屈折率差の異なる複数の界面が存在することで、各界面で生じる反射光の干渉等により、周縁部でのＬ＊値を向上させ、また、周縁部でのｂ＊値を変化させて、所望のメタリック調の色に表現することができるからである。
なお、高屈折率層については、後述する「４．高屈折率層」の項で詳細に説明する。
【００５１】
低屈折率層は、既述の図１で示すように透明基板および加飾層間にのみ配置されていることが好ましいが、図２で示すように、透明基板１の加飾層２が配置される側の面の全域に低屈折率層３が配置されていてもよい。すなわち、本発明の表示装置用前面板を表示装置に用いた際に、表示装置の表示領域と対向する領域にも、低屈折率層が配置されていてもよい。
【００５２】
低屈折率層の形成方法としては、透明基板および加飾層間に形成可能な方法であればよく、低屈折率層の態様、材料等に応じて適宜選択される。例えば、低屈折率層用組成物を透明基板上の所望の位置に塗布し、硬化等する方法が挙げられる。
低屈折率層用組成物としては、低屈折率樹脂と各種添加剤と溶媒と含有するもの、バインダー樹脂成分と低屈折率粒子と各種添加剤と溶媒とを含むもの等が挙げられる。溶媒としては、各成分を溶解もしくは分散させることが可能であれば特に限定されるものではなく、一般に使用される溶媒を用いることができる。
【００５３】
塗布方法としては、低屈折率層の形成位置に応じて適宜選択され、ダイコート法、スピンコート法、ディップコート法、ロールコート法等により、透明基板の全面に低屈折率層用組成物を塗布する方法、インクジェット法等により透明基板上の加飾層が形成される位置に低屈折率層用組成物を吐出する方法、グラビア印刷法、オフセット印刷法、シルクスクリーン印刷法等により、加飾層の形成位置に合わせて印刷する方法等が挙げられる。また、フォトリソグラフィ法等を用いて透明基板上の加飾層が形成される位置に合わせてパターニングしてもよい。
低屈折率層用組成物の塗膜は、溶媒の除去のために乾燥させてもよい。
【００５４】
硬化方法としては、低屈折率層用組成物の組成に応じて異なるが、例えば熱あるいは紫外線や電子線等の電離放射線の照射が挙げられる。硬化条件等については、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報で記載される条件を適用することができる。
【００５５】
２．加飾層
本発明における加飾層は、透明基板の一方の面側の周縁部に形成され、かつ低屈折率層上に形成されるものである。
加飾層は、通常、樹脂中に着色剤を含む層から成るものであり、低屈折率層と異なる屈折率を示す。
【００５６】
（１）着色剤
着色剤としては、メタリック調に表現されないときの加飾層の色や、上記加飾層が後述するようにカラーフィルタにおける額縁遮光部として機能する場合は、額縁遮光部に求められる色等、所望の色を呈することが可能なものを用いればよく、特に限定されない。
ここで、加飾層や額縁遮光部が呈する所望の色とは、例えば、黒色の他、濃灰色、褐色、紺色、深緑色、臙脂色、濃紫色等の暗色、白色、赤色、緑色、黄色、青色等の有彩色等が挙げられる。中でも、高い遮光性を発揮できる観点から、黒色が好ましい。
このような色を有する着色剤としては、例えば、着色顔料、着色染料等が挙げられる。中でも耐候性の観点から着色顔料が好ましい。
【００５７】
着色顔料としては、上述の所望の色を呈するものであれば特に限定されない。
黒色を呈する黒色顔料としては、例えばチタンブラック（低次酸化チタン、酸窒化チタンなど）、カーボンブラックなどを用いることができる。
また、黒色以外の着色顔料としては、例えば赤色顔料、黄色顔料、青色顔料、緑色顔料、紫色顔料等を用いることができる。
具体的には、赤色顔料としてはジケトピロロピロール系、アントラキノン系、ペリレン系の赤色顔料等が挙げられる。黄色顔料としてはイソインドリン系、アントラキノン系の黄色顔料等が挙げられる。青色顔料としては銅フタロシアニン系、アントラキノン系の青色顔料等が挙げられる。緑色顔料としてはフタロシアニン系、イソインドリン系の緑色顔料等が挙げられる。紫色顔料としては、キナクリドン系の紫色顔料等が挙げられる。
また、これら以外の色を呈する、着色顔料を用いることもできる。
【００５８】
着色剤は１種単独で用いてもよく、同種類の色あるいは異なる色の着色剤を複数種類用いてもよい。また、有彩色の着色剤を複数種類混合することで、黒色や暗色を表現してもよい。例えば、赤色顔料、緑色顔料、青色顔料、黄色顔料等を少なくとも３色以上を混合することで、黒色としてもよい。
【００５９】
本発明においては、上記着色剤としてパール顔料等の光沢を有する着色剤を用いることも可能であるが、非光沢性の着色剤を用いることが好ましい。低屈折率層を設けることにより、加飾層に光沢性の着色剤を用いなくても、加飾層の色をメタリック調に表現させることが可能であり、パール顔料等を用いる場合よりも加飾層を薄膜なものとすることができるからである。
また、上記着色剤としては、金属を含む導電性の着色剤であってもよいが、金属を含まない非導電性の着色剤を選択することが好ましい。透明電極層が加飾層上に直に形成される場合であっても、透明電極層の電気特性への影響を防止することができるからである。
【００６０】
着色剤の平均粒径としては、着色層の色が所望の光学濃度となるように着色剤を含有させた際に、着色層の厚さを所望の範囲内に調整することが可能な大きさであることが好ましく、具体的な平均粒径については、一般に加飾層に用いられる着色剤の平均粒径と同様とすることができる。
【００６１】
本発明における加飾層中の着色剤の含有量としては、表現する色の濃さ等に応じて適宜設定することができる。
【００６２】
（２）樹脂
加飾層を形成する樹脂としては、着色剤を保持することが可能なものであればよく、例えば感光樹脂、熱硬化樹脂等が挙げられる。感光樹脂とは、光や電子線の照射により感光性樹脂が反応した後の樹脂をいう。また、熱硬化樹脂とは、熱により硬化した樹脂をいう。
【００６３】
感光性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリ桂皮酸ビニル系樹脂、環化ゴム、等の反応性ビニル基などの光反応性基を有する感光性樹脂が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いても良く、複数種類を用いてもよい。
なお、上記アクリル系樹脂では、例えば、アルカリ可溶性樹脂、多官能アクリレート系モノマー、光重合開始剤、およびその他添加剤等からなる組成物を感光性樹脂として用いることができる。アルカリ可溶性樹脂、多官能アクリレート系モノマー、および光重合開始剤の具体例については、特開２０１３−２５０８３４号公報で開示される硬化性樹脂と同様とすることができる。
【００６４】
熱硬化性樹脂としては、例えば、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。これらの樹脂は単独で用いても良く、複数種類を用いてもよい。
【００６５】
樹脂は、この他、光増感剤、分散剤、界面活性剤、安定剤、レベリング剤などの、公知の各種添加剤を含むことができる。
【００６６】
（３）その他
本発明における加飾層は、通常単層であるが、２層以上の多層構造としてもよい。
【００６７】
加飾層は、本発明の表示装置用前面板を表示装置に用いる際に、非表示領域に位置するタッチパネルの配線やコネクタ等を不可視化させるのに十分な遮光性を有することが好ましい。加飾層の遮光性としては、要求仕様、表現色にもよるが、透過率で言えば大きくても３％以下（光学濃度ＯＤにて１．５以上）、より好ましくは透過率で１％以下（光学濃度ＯＤにて２．０以上）、さらに好ましくは透過率で０．０１％以下（光学濃度ＯＤにて４．０以上）が望ましい。なお、光学濃度の測定方法としては、例えば分光測色計を用いて分光反射率を測定し、分光反射率からＹ値を算出し、Ｙ値に基づいて光学濃度を算出する方法を用いることができる。分光測色計としては、例えばオリンパス（株）製のＣＭ−２５００ｄ等を用いることができる。
【００６８】
加飾層の厚さとしては、特に限定されず、加飾層の色に応じて適宜設定することができるが、例えば１μｍ〜１５μｍの範囲内が好ましく、中でも２μｍ〜５μｍの範囲内が好ましい。設定することができる。
【００６９】
加飾層の形成方法としては、低屈折率層上に加飾層形成用組成物を塗布し、硬化等を行うことで形成可能な方法であれば、特に限定されるものではなく、加飾層形成用組成物に応じて適宜選択することが好ましい。
加飾層形成用組成物に感光性樹脂が含まれる場合は、加飾層形成用組成物を塗布し、フォトリソグラフィ等で露光、現像、ベークなどの所定の工程を経て、パターニングすることが好ましい。塗布方法としては、例えば、スピンコート法、ロールコート法、ダイコート法、スプレーコート法、ビードコート法等の公知の方法を用いることができる。
一方、加飾層形成用組成物に熱硬化性樹脂が含まれる場合は、加飾層形成用組成物からなるインクを用いて、印刷法によってパターン状に形成すること好ましい。印刷法としては、例えば、オフセット印刷法、フレキソ印刷法、インクジェット印刷法の公知の方法を用いることができる。
【００７０】
加飾層形成用組成物を用いて塗布あるいは印刷する場合、塗布適性、印刷適性の調整等のために溶剤を用いてもよい。溶剤としては、例えば特開２０１３−１５２６３７号公報で開示される着色樹脂層を形成する際に用いられる溶剤が挙げられる。
また、加飾層形成用組成物として、カラーフィルタ用途として調整された着色レジストを用いてもよい。
【００７１】
３．透明基板
本発明における透明基板は、上記の低屈折率層および加飾層等を支持するものである。
透明基板としては、一般的に表示装置における前面板に用いられているものを用いることができ、例えば、石英ガラス、パイレックス（登録商標）ガラス、合成石英板等の可撓性のない無機基板、および、透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する樹脂基板等を挙げることができる。中でも無機基板を用いることが好ましく、無機基板の中でもガラス基板を用いることが好ましい。さらには、ガラス基板の中でも無アルカリタイプのガラス基板を用いることが好ましい。無アルカリタイプのガラス基板は寸度安定性および高温加熱処理における作業性に優れるからである。
樹脂基板としては、例えば特開２０１３−５２７７５公報等で挙げられる透明基板に使用される樹脂を用いたもの等が挙げられる。
【００７２】
４．高屈折率層
本発明においては、上記透明基板と上記低屈折率層との間または上記低屈折率層と上記加飾層との間の少なくとも一方に、上記透明基板よりも屈折率が高い高屈折率層が配置されていることが好ましい。この理由については、上述の「１．低屈折率層」の項で説明した通りである。図３は、本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略断面図であり、周縁部Ｂにおいて、透明基板１および低屈折率層３間に高屈折率層４が配置されている。
【００７３】
高屈折率層についても、屈折率および厚さを調整することにより、メタリック調で表現される加飾層の色みを変化させることができる。この理由については、「１．低屈折率層」の項で説明した理由と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００７４】
高屈折率層は、その屈折率が透明基板よりも高ければよく、中でも低屈折率層と加飾層との間に配置される場合は、加飾層の屈折率と異なる屈折率を示すことが好ましい。具体的には、上記屈折率が１．５５〜１．８５の範囲内であることが好ましく、中でも１．６０〜１．８０の範囲内であることが好ましい。
【００７５】
高屈折率層は、上述の屈折率を満たすことが可能な組成であればよく、高屈折率層の態様としては、バインダー樹脂とバインダー樹脂よりも屈折率が高い高屈折率微粒子とを含有する第１態様と、透明基板よりも高い屈折率を示す樹脂、または無機材料により形成された第２態様と、が挙げられる。
【００７６】
（１）第１態様
本態様の高屈折率層は、バインダー樹脂とバインダー樹脂よりも屈折率が高い高屈折率微粒子とを含有する層である。
高屈折率層に用いられるバインダー樹脂としては、光透過性を有し、上述の屈折率を満たす高屈折率層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、成膜性や膜強度等の観点から適宜選択される。中でも、バインダー樹脂は、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂であることが好ましい。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化樹脂が好ましい。高屈折率層の表面硬度を高めることができるからである。
【００７７】
電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化樹脂が好ましい。
具体的なバインダー樹脂としては、特開２０１３−１４２８１７号公報、特開２０１２−１５０２２６号公報、特開２０１１−１７０２０８号公報等に記載されている高屈折率層に用いられるものを挙げることができる。また、上述の「１．低屈折率層」の項で説明したバインダー樹脂を用いてもよい。
【００７８】
高屈折率層に用いられる高屈折微粒子としては、上記バインダー樹脂よりも屈折率が高く、上記の屈折率を満たす高屈折率層を得ることができるものであれば特に限定されるものではない。中でも、高屈折率微粒子の屈折率は１．５〜２．８の範囲内であることが好ましい。
このような高屈折率微粒子としては、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．００〜２．１０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５、屈折率：１．７９〜２．０４）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ、屈折率：１．７５〜２．０５）、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ、屈折率：１．９５〜２．００）、燐錫化合物（ＰＴＯ、屈折率：１．７５〜１．８５）、β−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、γ−Ａｌ２Ｏ５（屈折率：１．６３〜１．７６）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３、屈折率：２．４）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３〜２．７）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：１．９５〜２．２０）、酸化錫（ＳｎＯ２、屈折率：２．００、）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ、屈折率：１．９０〜２．００）、アンチモン酸亜鉛（ＺｎＳｂ２Ｏ６、屈折率：１．９〜２．０）、酸化亜鉛（ＺｎＯ、屈折率：１．９０）、酸化イットリウム（Ｙ２Ｏ３、屈折率：１．８７）等が挙げられる。これらの高屈率微粒子は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００７９】
また、高屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。高屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー樹脂や溶媒との親和性が向上し、高屈折率微粒子の分散が均一となり、高屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、高屈折率層の光透過性の低下や、高屈折率層用組成物の塗布性、高屈折率層用組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理された高屈折率微粒子としては、例えば特開２０１３−１４２８１７号公報に記載されているものを挙げることができる。
【００８０】
また、高屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。
【００８１】
高屈折率微粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する高屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の光透過性を損なうことがなく、良好な高屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、高屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、平均粒径は１次粒径および２次粒径のいずれであってもよく、また高屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
ここで、高屈折率微粒子の平均粒径は、高屈折率層の断面の透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）写真により観察される粒子２０個の平均値をいう。
【００８２】
高屈折率微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【００８３】
高屈折率層におけるバインダー樹脂および高屈折率微粒子の含有量としては、高屈折率層全体としての屈折率が上記の屈折率を満たすように適宜設定される。例えば、高屈折率微粒子の含有量を調整することにより、高屈折率層全体の屈折率を調整することができる。
【００８４】
バインダー樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、高屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。
また、高屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、低屈折率層に含有可能な添加剤と同様とすることができる。
【００８５】
（２）第２態様
本態様の高屈折率層は、透明基板よりも高い屈折率を示す樹脂、または無機材料により形成された層である。すなわち、高屈折率層は、透明基板よりも高い屈折率を示す樹脂で形成された樹脂層、または、無機材料で形成され、透明基板よりも高い屈折率を示す無機層である。
【００８６】
本態様においては、高屈折率層を形成する樹脂自体が、透明基板よりも高い屈折率を示すことから、上記高屈折率層は特定の屈折率を示すことが可能である。したがって、本態様の高屈折率層は、上記の樹脂と屈折率が異なる微粒子を別途含有させる必要がない。また、輝度向上層が無機材料により形成される場合も同様に、上記無機材料と屈折率が異なる微粒子を別途含有させる必要がない。ここで、高屈折率層が樹脂または無機材料と屈折率が異なる微粒子を含有しないとは、高屈折率層中の上記微粒子の含有量が０．１質量％以下であることをいう。中でも、高屈折率層中の上記微粒子の含有量はゼロであることが好ましい。
【００８７】
樹脂または無機材料としては、所望の光透過性を有し、透明基板よりも高屈折率を有する高屈折率層を形成することが可能な材料であればよい。
以下、本態様の高屈折率層に用いられる各材料について説明する。
【００８８】
（ａ）樹脂
本態様の高屈折率層が樹脂層である場合、上記樹脂としては、所望の光透過性および特定の屈折率を有する高屈折率層を得ることができるものであればよく、中でも、熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化した硬化樹脂であることが好ましい。硬化樹脂としては、例えば熱硬化樹脂、電離放射線硬化樹脂が挙げられる。また、電離放射線硬化樹脂としては、紫外線硬化樹脂、電子線硬化樹脂を挙げることができる。具体的に、樹脂としては、トリアジン系樹脂、アクリル系樹脂、エピスルフィド系樹脂、チオウレタン系樹脂、ポリカーボネート、（ウレタン）メタクリレート、（エポキシ）メタクリレート、ジアリルカーボネート、ジアリルフタレート系樹脂、ゾルゲル樹脂等が挙げられる。
また、市販品としては、日産化学工業社の高屈折率コーティング材料であるハイパーテックＵＲ−シリーズ、ＨＲ−シリーズ、ＨＸ−シリーズおよびＨＴ−シリーズ、ならびに、シグマアルドリッチ社の高屈折率コーティング用材料であるジルコニウムアクリレート、ハフニウムアクリレート、および芳香族または臭素化芳香族モノマーベースの高屈折率ポリマー等を用いることができる。
【００８９】
樹脂として紫外線硬化樹脂を用いる場合、高屈折率層は光重合開始剤を含有していてもよい。光重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。
また、高屈折率層が上記樹脂により形成される場合、高屈折率層は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、「（１）第１態様」の項で説明した添加剤と同様とすることができるため、ここでの説明は省略する。
【００９０】
本態様の高屈折率層が樹脂層である場合、上記の樹脂と屈折率が異なる微粒子は含有されない。ここで上記の樹脂と屈折率が異なる微粒子としては、特に限定されるものではなく、例えば、酸化チタンや酸化ジルコニウム等の金属酸化物微粒子を挙げることができる。
【００９１】
（ｂ）無機材料
本態様の高屈折率層が無機層である場合、上記無機材料としては、成膜可能であり、所望の光透過性および特定の屈折率を有する高屈折率層を得ることができるものであればよく、例えば金属酸化物、金属窒化物、金属酸化窒化物等の金属化合物や、金属が挙げられる。中でも、光透過性の観点から金属酸化物が好ましい。金属酸化物としては、例えばインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）、酸化ニオブ、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化アルミニウム合金、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アンチモン錫酸化物（ＡＴＯ）、燐錫化合物（ＰＴＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、ガリウム亜鉛酸化物（ＧＺＯ）、アンチモン酸亜鉛、チタン酸バリウム等が挙げられる。また、金属窒化物、金属酸化窒化物としては、例えば窒化ケイ素、酸化窒化ケイ素等が挙げられる。中でも、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）が好ましい。ＩＴＯは汎用材料であることから、既存の設備を利用することができ、製造コストを低減することができるからである。
なお、上述の金属酸化物のうち、金属酸化物自体の屈折率が高屈折率層の屈折率の範囲内にないものであっても、例えば組成等を調整することにより高屈折率層の屈折率を制御することができる。また、上述の金属酸化物の中には、屈折率は成膜条件により、適宜変動させることが可能な物質もある。例を挙げると酸素分圧を変動させる方法や、透明基板の温度などを変動させる方法がある。
【００９２】
（３）その他
高屈折率層の厚さとしては、所望の反射率や、表現するメタリック調の色に応じて適宜設定されるが、例えば、２０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲内が好ましく、特に３０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内が好ましい。高屈折率層の厚さを上記範囲内とすることの理由については、低屈折率層の厚さを規定範囲内とすることの理由と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００９３】
高屈折率層は、通常、透明であるが、所望の光透過性を示すことが可能であれば着色されたものであってもよい。上記高屈折率層が透明である場合の光透過性については、低屈折率層の光透過性と同様とすることができる。
【００９４】
高屈折率層は単層であってもよく、屈折率および厚さの異なる高屈折率層を複数積層させた多層体であってもよい。
【００９５】
高屈折率層は、上記透明基板と上記低屈折率層との間または上記低屈折率層と上記加飾層との間の少なくとも一方に配置されていればよい。上記透明基板と上記低屈折率層との間に高屈折率層が配置される場合は、上記透明基板の表面上に直接形成されることが好ましい。また、上記の場合、上記高屈折率層は、上記透明基板および上記低屈折率層間にのみに配置されていてもよく、透明基板の加飾層が配置される側の面の全域に配置されていてもよい。
【００９６】
高屈折率層の形成方法としては、所望の層間位置に形成可能な方法であればよく、高屈折率層の態様、材料等に応じて適宜選択される。例えば、高屈折率層用組成物を透明基板や低屈折率層上の所望の位置に塗布し配置し、硬化等する方法が挙げられる。
高屈折率層の形成方法の詳細については、低屈折率層の形成方法の詳細と同様とすることができる。また、高屈折率層が無機層である場合、例えばスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法等のＰＶＤ法、ＣＶＤ法等により、高屈折率層の形成が可能である。
【００９７】
５．任意の構成
本発明の表示装置用前面板は、加飾層上にオーバーコート層が形成されていてもよい。オーバーコート層により、加飾層表面を平坦化することができる。また、加飾層上に透明電極層が形成される場合に、加飾層の導電性により透明電極層の電気特性が影響を受けることを防止することができる。
オーバーコート層の材料としては、加飾層の表面を平坦化することができるものであれば特に限定されるものではなく、一般に表示装置に用いられるオーバーコート層と同様とすることができ、有機材料および無機材料のいずれも用いることができる。オーバーコート層が無機材料から構成される場合には、バリア性を付与することができる。
オーバーコート層の厚さおよび形成方法としては、一般に表示装置に用いられるオーバーコート層と同様とすることができる。
【００９８】
また、オーバーコート層上には、透明電極層が形成されていてもよい。透明電極層については、一般に液晶表示装置に用いられるものと同様とすることができる。
【００９９】
６．その他
本発明の表示装置用前面板においては、上記透明基板側から測定される上記周縁部でのＬ＊値が、上記低屈折率層が配置されないときの上記周縁部でのＬ＊値よりも大きく、中でも、周縁部でのＬ＊値が所望の値以上であることにより、周縁部における加飾層の色がメタリック調となる。
加飾層の色がメタリック調となるためのＬ＊値としては、３５以上が好ましく、特に３８以上であることが好ましい。周縁部でのＬ＊値が３５以上となることで、加飾層をメタリック調の強い色に表現することできるからである。
【０１００】
また、加飾層により表現されるメタリック調の色は、加飾層に含有される着色剤の色等にもよるが、周縁部でのＳＣＩ方式により測定されるＬ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるｂ＊値に起因する。
本発明によれば、透明基板および加飾層間に、上記透明基板よりも低屈折率を示す低屈折率層が配置されることで、上記周縁部でのｂ＊値を、上記低屈折率層が配置されないときの上記周縁部でのｂ＊値よりも大きくすることができる。
周縁部でのｂ＊値が高い程、加飾層の色を、金色みを帯びたメタリック調とすることができ、一方、ｂ＊値が低い程、加飾層の色を、銀色みを帯びたメタリック調とすることができる。具体的には、周縁部でのｂ＊値が１０以上、中でも１３以上であれば、加飾層を、金色みを帯びたメタリック調の色で表現することができる。なお、ｂ＊値の上限としては、６０以下であることが好ましい。
一方、周縁部でのｂ＊値が１０未満、中でもｂ＊値が８以上１０未満、特に８以上９以下であれば、加飾層を、銀色みを帯びたメタリック調の色で表現することができる。
周縁部でのＬ＊値およびｂ＊値は、コニカミノルタ（株）製の分光測色計ＣＭ−２５００ｄを用いて、Ｄ６５光源、３２０ｎｍ〜７４０ｎｍの波長範囲で、透明基板面側から、ＳＣＩ方式により測定された値である。
【０１０１】
本発明においては、透明基板および加飾層間に位置する低屈折率層が、パターン状に形成されていてもよい。パターン状の低屈折率層と透明基板および加飾層との界面で生じる反射光を利用して、加飾層が形成された領域内にメタリック調または非メタリック調の色を呈するロゴ等の可視情報を付すことができるからである。
具体的には、図４、図５で例示するように、透明基板１および加飾層２間に位置する低屈折率層３をパターン状とすることで、低屈折率層３のパターンでロゴ等の可視情報５を表示させることができる。このとき、図４で例示するように、加飾層２において表示させたい情報のパターンに合わせて低屈折率層３が形成されるようにパターニングすることで、メタリック調の色を呈する可視情報５を表示させることができる。また、図５で例示するように、加飾層２において表示させたい情報のパターンに合わせて低屈折率層３が形成されないようにパターニングすることで、加飾層２の色で可視情報５を表示させ、可視情報５の周囲をメタリック調の色で表現させることができる。
なお、透明基板および低屈折率層間に高屈折率層を有する場合は、透明基板および加飾層間に位置する低屈折率層および高屈折率層が、パターン状に形成されるものとする。
【０１０２】
加飾層において表示される上記可視情報とは、例えば、文字、図形、記号等の標章、ロゴ等が挙げられる。
なお、図４（ａ）および図５（ａ）はそれぞれ、本発明の表示装置用前面板の他の例を示す概略平面図であり、透明基板側から見たものである。また、図４（ｂ）および図５（ｂ）は、図４（ａ）および図５（ａ）のＸ−Ｘ線断面図である。
【０１０３】
本発明の表示装置用前面板は、図６で例示するように、表示領域Ａ内の透明基板１上に、複数色の着色層１１Ｒ、１１Ｇ、１１Ｂおよび隣接する着色層１１間に形成された画素区分用遮光部１２を有するカラーフィルタ５を形成することで、カラーフィルタ一体型の表示装置用前面板１０’とすることができる。このとき、加飾層をカラーフィルタにおける表示領域と非表示領域とを区画するための額縁遮光部として機能させることが可能である。
なお、加飾層をカラーフィルタにおける額縁遮光部としても機能させる場合、加飾層は高い遮光性が求められることから、加飾層は黒色であることが好ましい。
【０１０４】
また、図示しないが、本発明の表示装置用前面板は、表示領域内の透明基板上にタッチパネル用電極を設けることで、タッチパネル一体型の表示装置用前面板とすることができる。
【０１０５】
７．用途
本発明の表示装置用前面板は、例えば液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等の各種表示装置の前面板として好適に用いることができる。
【０１０６】
Ｂ．表示装置
本発明の表示装置は、表示装置用前面板および表示パネルを有する表示装置であって、上記表示装置用前面板が、「Ａ．表示装置用前面板」で説明したものであることを特徴とするものである。
【０１０７】
本発明によれば、表示装置用前面板において、透明基板および加飾層間に透明基板よりも低屈折率を示す低屈折率層が配置されることで、加飾層の色がメタリック調に表現されることから、表示装置の外観に高級感を与え、意匠性を向上させることができる。
【０１０８】
なお、本発明における表示装置用前面板については、上述の「Ａ．表示装置用前面板」で説明した内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【０１０９】
本発明における表示パネルとしては、一般的な情報表示体を用いることができ、特に限定されないが、例えば、有機ＥＬパネル、液晶パネル、電子ペーパー等のフラットパネルディスプレイが挙げられる。中でも、薄型化が可能であることから、有機ＥＬパネル、液晶パネル、電子ペーパーが好ましい。
各種表示パネルについては、一般的な表示装置に使用される表示パネルと同様とすることができる。
また、上記表示パネルは、カラーフィルタ等の任意の部材を有していてもよい。
【０１１０】
本発明の表示装置としては、例えば液晶表示装置、有機ＥＬ表示装置等が挙げられる。
【０１１１】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１１２】
以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに詳細に説明する。
【０１１３】
［実施例１］
以下の手順で、表示装置用前面板を得た。
【０１１４】
１．硬化性樹脂組成物の調製
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３重量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２重量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６重量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８重量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７重量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、さらに１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、さらにメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７重量部、トリエチルアミンを０．４重量部、およびハイドロキノンを０．２重量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
【０１１５】
次に下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物とした。
＜硬化性樹脂組成物の組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）：１６重量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社 ＳＲ３９９）：２４重量部
・ オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社 エピコート１８０Ｓ７０）：４重量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン：４重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：５２重量部
【０１１６】
２．低屈折率層Ａの形成
平均粒径６０μｍの低屈折率粒子（中空フィラー）の固形分濃度（重量比）が４５％となるように、上記硬化性樹脂組成物と混合し、屈折率１．３５の低屈折率層用組成物を調製した。
次いで、ガラス基板（屈折率約１．５）の一方の面上に、上記低屈折率層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。塗膜を、超高圧水銀ランプで所望のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、ガラス基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、ガラス基板上の周縁部に、厚さ１５０ｎｍ、屈折率が１．３５の低屈折率層Ａを形成した。
【０１１７】
３．加飾層の形成
下記分量の成分を混合し、サンドミルにて十分に分散し、黒色顔料分散液を調製した。
＜黒色顔料分散液の組成＞
・黒色顔料(三菱化学社製＃２６００）：２０重量部
・高分子分散材（ビックケミー・ジャパン株式会社 Ｄｉｓｐｅｒｂｙｋ１１１）：１６重量部
・溶剤（ジエチレングリコールジメチルエーテル）：６４重量部
【０１１８】
次に、下記分量の成分を十分混合して、加飾層用組成物を得た。
＜加飾層用組成物の組成＞
・上記黒色顔料分散液：５０重量部
・硬化性樹脂組成物：２０重量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：３０重量部
【０１１９】
低屈折率層Ａが形成されたガラス基板上に、上記加飾層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥した。加飾層用組成物の塗膜を、超高圧水銀ランプで所定のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、ガラス基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、光学濃度４．０、厚さ３μｍの加飾層（屈折率１．９）を低屈折率層Ａ上に形成した。
これにより、ガラス基板の周縁部に低屈折率層および加飾層の積層体を有する表示装置用前面板を得た。
【０１２０】
［実施例２］
以下の手順で、高屈折率層Ａおよび低屈折率層Ｂを形成したこと以外は、実施例１と同様にして表示装置用前面板を得た。
【０１２１】
１．高屈折率層Ａの形成
上記硬化性樹脂組成物と、酸化チタン微粒子分散液と、ジルコニア微粒子分散液とを屈折率が１．７４になるように混合して、屈折率１．７４の高屈折率層用組成物を調製した。
次いで、屈折率が約１．５のガラス基板の一方の面上に、上記高屈折率層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。塗膜を、超高圧水銀ランプで所望のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、ガラス基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、ガラス基板上の周縁部に、厚さ５５ｎｍ、屈折率１．７４の高屈折率層Ａをガラス基板の一方の面側の周縁部に形成した。
【０１２２】
２．低屈折率層Ｂの形成
高屈折率層Ａが形成されたガラス基板の面上に、上記低屈折率層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。塗膜を、超高圧水銀ランプで所望のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、ガラス基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、高屈折率層Ａ上に、厚さ８５ｎｍ、屈折率が１．３５の低屈折率層Ｂを形成した。
【０１２３】
［実施例３］
以下の手順で、高屈折率層Ｂおよび低屈折率層Ｃを形成したこと以外は、実施例１と同様にして表示装置用前面板を得た。
【０１２４】
１．高屈折率層Ｂの形成
屈折率が約１．５のガラス基板の一方の面上に、上記高屈折率層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。塗膜を、超高圧水銀ランプで所望のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、ガラス基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、ガラス基板上の周縁部に、厚さ８２ｎｍ、屈折率１．７４の高屈折率層Ｂをガラス基板の一方の面側の周縁部に形成した。
【０１２５】
２．低屈折率層Ｃの形成
高屈折率層Ｂが形成されたガラス基板の面上に、上記低屈折率層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させた。塗膜を、超高圧水銀ランプで所望のパターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、ガラス基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、高屈折率層Ｂ上に、厚さ１３０ｎｍ、屈折率が１．３５の低屈折率層Ｃを形成した。
【０１２６】
［比較例１］
ガラス基板上に低屈折率層Ａを設けなかったこと以外は、実施例１と同様にして表示装置用前面板を得た。
【０１２７】
［比較例２］
ガラス基板上に低屈折率層Ａを設けずに、以下の方法で加飾層を形成したこと以外は、実施例１と同様にして表示装置用前面板を得た。
まず、アクリル系樹脂を含むカラーフィルタ着色層用レジストと、赤色顔料としてジケトピロロピロール系のピグメントレッド２５４と、黄色顔料としてイソインドリン系のピグメントイエロー１３９と、青色顔料として銅フタロシアニン系のピグメントブルー１５：６とを混合して、第１加飾層用組成物を調製した。この際、赤色顔料：黄色顔料：青色顔料＝３５：３５：３０（質量比）とした。次いで、ガラス基板上に、上記第１加飾層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥した。第１加飾層用組成物の塗膜を、超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、ガラス基板の一方の面側の周縁部に第１加飾層を形成した。第１加飾層の屈折率は１．６０であった。
【０１２８】
次に、第１加飾層を形成した基板上に、実施例１で用いた加飾層用組成物をスピンコーターで塗布し、１００℃で３分間乾燥させ、塗膜を超高圧水銀ランプで遮光パターンに露光した後、０．０５ｗｔ％水酸化カリウム水溶液で現像し、その後、基板を２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理を施して、第１加飾層上に第２加飾層を形成した。
以上により、ガラス基板の周縁部に第１加飾層および第２加飾層の積層体からなる加飾層を形成した。
【０１２９】
［評価］
実施例および比較例の各表示装置用前面板について、周縁部での反射色度の測定を行った。なお、実施例１では、周縁部として、ガラス基板上に低屈折率層および加飾層が上記ガラス基板側からこの順で設けられた状態で、実施例２〜３では、周縁部として、ガラス基板上に高屈折率層、低屈折率層、および加飾層が上記ガラス基板側からこの順で設けられた状態で測定を行った。また、比較例１〜２では、周縁部として、ガラス基板上に加飾層が設けられた状態で測定を行った。
測定は、コニカミノルタ（株）製の分光測色計ＣＭ−２５００ｄを用いて、３２０ｎｍ〜７４０ｎｍの波長範囲で、ガラス基板面側から、ＳＣＩ方式により測定を行い、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系におけるａ＊値、ｂ＊値、および、Ｌ＊値を測定した。また、視認評価により、加飾層の色がメタリック調に視認されたものを○、メタリック調として視認できなかったものを×とした。
結果を表１に示す。
＜測定条件：分光測色計＞
・測定器：コニカミノルタ（株）製、分光測色計ＣＭ−２５００ｄ
・光源：Ｄ６５光源
・照明の受光条件：ｄ／８°(ＪＩＳ Ｚ８７２２条件ｃ)
・第１照射領域：測定径＝直径１１ｍｍの円形
・第２照射領域：第１照射領域と同じ測定径＝直径１１ｍｍの円形
・測定領域：照射領域中の８ｍｍの円形（重心位置は照射領域、直径１１ｍｍの円形と同じ）
【０１３０】
【表１】
2016153845.tif 000003
【０１３１】
実施例１〜３では、加飾層が、メタリック調で高輝度の色を呈していたが、比較例１〜２では、加飾層の色はメタリック調とならず、輝度の向上も見られなかった。これは、透明基板と加飾層との間に配置された低屈折率層により、低屈折率層を設けていない比較例と比較して、Ｌ＊値が３５以上に向上したことに因る。
また、実施例１〜３では、低屈折率層を設けたことで、ｂ＊値の向上が確認された。実施例３においては、ｂ＊値が１０以上であり、加飾層が金色みを帯びたメタリック調の色を呈しており、実施例１〜２においては、ｂ＊値が８以上１０未満であり、加飾層が銀色みを帯びたメタリック調の色を呈していた。このように、メタリック調に表示される加飾層の色みを変化させることが可能であることが示唆された。
【符号の説明】
【０１３２】
１  …  透明基板
２  …  加飾層
３  …  低屈折率層
４  …  高屈折率層
５  …  可視情報
１０  …  表示装置用前面板
Ａ  …  表示領域
Ｂ  …  周縁部（非表示領域）
【図１】
2016153845.tif 000004
【図２】
2016153845.tif 000005
【図３】
2016153845.tif 000006
【図４】
2016153845.tif 000007
【図５】
2016153845.tif 000008
【図６】
2016153845.tif 000009