(57)【要約】【課題】実験室規模での使用を想定し、簡便な方法によりＶＯＣ含有ガス中のＶＯＣの濃度の調節が可能であり、かつ連続的にＶＯＣ含有ガスを供給することのできるＶＯＣ含有ガス発生方法及びＶＯＣ含有ガス発生装置を提供すること。【解決手段】一定濃度のＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生方法であって、所定量の第１の液状ＶＯＣを収容したガス発生部内に、一定流量でベースガスを供給して接触させることで、ＶＯＣ含有ガスを連続的に発生させるガス発生方法において、ガス発生部内の第１の液状ＶＯＣと連通する第２の液状ＶＯＣが貯留部内に存在し、第１の液状ＶＯＣの液面は、第２の液状ＶＯＣの液面より低い位置にあり、貯留部内の第２の液状ＶＯＣの液面高さを調整することで、第１の液状ＶＯＣの液面高さを一定に保つことを特徴とするガス発生方法である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一定濃度のＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生方法であって、
所定量の第１の液状ＶＯＣを収容したガス発生部内に、一定流量でベースガスを供給して接触させることで、前記ＶＯＣ含有ガスを連続的に発生させるガス発生方法において、
前記ガス発生部内の前記第１の液状ＶＯＣと連通する第２の液状ＶＯＣが貯留部内に存在し、
前記第１の液状ＶＯＣの液面は、前記第２の液状ＶＯＣの液面より低い位置にあり、
前記貯留部内の第２の液状ＶＯＣの液面高さを調整することで、前記第１の液状ＶＯＣの液面高さを一定に保つことを特徴とするガス発生方法。
【請求項２】
前記第１の液状ＶＯＣの温度を一定に維持する請求項１に記載のガス発生方法。
【請求項３】
前記第１の液状ＶＯＣの液面高さを調整することで、前記ＶＯＣ含有ガスの設定濃度を調整する請求項１又は２に記載のガス発生方法。
【請求項４】
前記第１の液状ＶＯＣの液面の面積は、前記第２の液状ＶＯＣの液面の面積の５倍以上である、請求項１から３のいずれかに記載のガス発生方法。
【請求項５】
一定濃度のＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生装置であって、
一定流量でベースガスを供給するベースガス供給部と、
第１の液状ＶＯＣを収容可能であり、前記ベースガス供給部から供給された前記ベースガスを、前記第１の液状ＶＯＣに接触させることで、前記ＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生部と、
前記第１の液状ＶＯＣの温度を一定に調整する温度制御部と、
前記ＶＯＣ含有ガスのＶＯＣ濃度を測定する濃度測定部と、
前記ガス発生部と管を介して連通し、第２の液状ＶＯＣを収容可能な貯留部と、を備え、
前記ガス発生部内の前記第１の液状ＶＯＣの液面高さを一定に保つために、前記貯留部内の前記第２の液状ＶＯＣの液面高さを調整可能な液面調整手段を有することを特徴とするガス発生装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ＶＯＣ含有ガス発生方法及びＶＯＣ含有ガス発生装置に関する。より詳しくは、ＶＯＣ含有ガス中のＶＯＣの濃度を一定に保ち、連続的に供給することのできるＶＯＣ含有ガス発生方法及びＶＯＣ含有ガス発生装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、印刷機等の装置の排ガスに含まれる揮発性有機化合物（以後、ＶＯＣと表記することがある。）の回収等を目的として回収装置等の開発が行われている。これらの回収装置等は、ＶＯＣ含有ガスを発生することができるＶＯＣ含有ガス発生方法又はＶＯＣ含有ガス発生装置を用いて評価が行われることがある。
【０００３】
ＶＯＣ含有ガス発生装置としては、例えば、液状ＶＯＣ中に空気等の不活性ガス（ベースガス）を吹き込み、ベースガスと液状ＶＯＣを接触させることにより発生したＶＯＣ含有ガスの濃度を測定する濃度測定装置と、その出力信号によりＶＯＣ含有ガスの濃度と基準濃度との差を検知するガス流量コントロールユニットと、ＶＯＣ含有ガス流用指示調整計とＶＯＣ含有ガス用流量指示調節計と、を含むＶＯＣ含有ガス発生装置等が提案されている（特許文献１）。
【０００４】
特許文献１のＶＯＣ含有ガス発生装置は、ベースガス中のＶＯＣの濃度の増減に応じて吹き込み側のベースガス流量と希釈側のベースガス流量を増減させることにより、ベースガス流量は一定のまま、設定した濃度のＶＯＣ含有ガスを安定的に供給することが可能である。
【０００５】
しかし、特許文献１のＶＯＣ含有ガス発生装置は、液状ＶＯＣが全て揮発した際、追加の液を系外から連続的に加える操作をすることができない。そこで、液状ＶＯＣの流量を測定する液体用流量計を備えた貯留部を備えたＶＯＣ含有ガス発生装置等が提案されている（特許文献２）。特許文献２のＶＯＣ含有ガス発生装置は、多種類のＶＯＣを原料とするＶＯＣ含有ガスを連続的に得ることができるものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開１９８３−２１５５３１号公報
【特許文献２】特開２００１−１３３３６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
特許文献２のＶＯＣ含有ガス発生装置は、液状ＶＯＣの流量を測定する液体用流量計を備えていなければならず、流量制御に関わる制御系の装置が必要である。そのため、実験室規模でＶＯＣの回収装置の評価用のＶＯＣ含有ガス発生装置としては大掛かりなものとなる。そのため、実験室規模での使用を想定した、より廉価で簡便な方法で連続的に一定濃度のＶＯＣ含有ガスを連続的に発生することのできるＶＯＣ含有ガス発生方法又はＶＯＣ含有ガス発生装置が求められる。
【０００８】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたものであり、その目的は、実験室規模での使用を想定し、簡便な方法によりＶＯＣ含有ガス中のＶＯＣの濃度の調節が可能であり、かつ連続的にＶＯＣ含有ガスを供給することのできるＶＯＣ含有ガス発生方法及びＶＯＣ含有ガス発生装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意研究を重ねた。その結果、液状ＶＯＣが貯留されている貯留部を設け、貯留部の液状ＶＯＣの液面高さを調整することによって、ＶＯＣ含有ガスのＶＯＣの濃度の調整を行うことができることを発見した。そのため、当該供給部の液状ＶＯＣの液面高さを調整することを特徴とするガス発生方法であれば、上記課題を解決することができることを見出し、本発明を完成するに至った。
【００１０】
（１）一定濃度のＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生方法であって、所定量の第１の液状ＶＯＣを収容したガス発生部内に、一定流量でベースガスを供給して接触させることで、前記ＶＯＣ含有ガスを連続的に発生させるガス発生方法において、前記ガス発生部内の前記第１の液状ＶＯＣと連通する第２の液状ＶＯＣが貯留部内に存在し、前記第１の液状ＶＯＣの液面は、前記第２の液状ＶＯＣの液面より低い位置にあり、前記貯留部内の第２の液状ＶＯＣの液面高さを調整することで、前記第１の液状ＶＯＣの液面高さを一定に保つことを特徴とするガス発生方法。
【００１１】
（２）前記第１の液状ＶＯＣの温度を一定に維持する（１）に記載のガス発生方法。
【００１２】
（３）前記第１の液状ＶＯＣの液面高さを調整することで、前記ＶＯＣ含有ガスの設定濃度を調整する（１）又は（２）に記載のガス発生方法。
【００１３】
（４）前記第１の液状ＶＯＣの液面の面積は、前記第２の液状ＶＯＣの液面の面積の５倍以上である、（１）から（３）のいずれかに記載のガス発生方法。
【００１４】
（５）一定濃度のＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生装置であって、一定流量でベースガスを供給するベースガス供給部と、第１の液状ＶＯＣを収容可能であり、前記ベースガス供給部から供給された前記ベースガスを、前記第１の液状ＶＯＣに接触させることで、前記ＶＯＣ含有ガスを発生させるガス発生部と、前記第１の液状ＶＯＣの温度を一定に調整する温度制御部と、前記ＶＯＣ含有ガスのＶＯＣ濃度を測定する濃度測定部と、前記ガス発生部と管を介して連通し、第２の液状ＶＯＣを収容可能な貯留部と、を備え、前記ガス発生部内の前記第１の液状ＶＯＣの液面高さを一定に保つために、前記貯留部内の前記第２の液状ＶＯＣの液面高さを調整可能な液面調整手段を有することを特徴とするガス発生装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明のガス発生方法であれば、供給部の液状ＶＯＣの液面高さを調整するという極めて関便な方法で、一定濃度のＶＯＣ含有ガスを連続的に発生させることが可能となる。そのため、特に実験室規模でのＶＯＣ回収装置等での評価において特に有用に使用することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明のガス発生装置の一実施形態を表した模式図である。
【図２】ＶＯＣ含有ガスの濃度変化確認試験における時間［分］とＶＯＣ含有ガスの濃度［ｐｐｍ］との関係を表したグラフである。
【図３】液面高さとＶＯＣ含有ガスの濃度の相関確認試験における第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１とＶＯＣ含有ガスの濃度との関係を表したグラフ（相関図）である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明のＶＯＣ含有ガス発生方法及びＶＯＣ含有ガス発生装置の各実施形態について説明する。本発明は、以下の実施形態に何ら限定されず、本発明の目的の範囲内において、適宜変更を加えて実施することができる。
【００１８】
＜ガス発生装置＞
本発明のＶＯＣ含有ガス発生方法（以下、単にガス発生方法と表記することがある。）は、例えば、図１に示すような一定流量でベースガスを供給するベースガス供給部１１と、ガス発生部１２と、貯留部１３と、温度制御部（図示せず）と、濃度測定部１５と、を備えるＶＯＣ含有ガス発生装置１（以下、単にガス発生装置と表記することがある。）によって使用することができる。
【００１９】
ガス発生装置は、図１に示すように、ベースガス供給部１１とガス発生部１２が連結管によって接続され、ガス発生部１２に供給されるベースガスの流量を図るために流量計１４ａが備えられている。さらに、図１に示すように、連結管を分岐させ、ガス発生部から排出されたＶＯＣ含有ガスと混合するような構成にすることもできる。流量計１４ａ及び流量計１４ｂによりベースガスの流量を確認し、調整することにより、ＶＯＣ含有ガス中のＶＯＣの濃度（以下、単にＶＯＣ含有ガスの濃度と表記することがある。）を調整することができる。なお、後述するようにベースガスの流量は一定に供給されることが必要となる。
【００２０】
また、ガス発生部１２には、液状ＶＯＣ（以後、ガス発生部内の液状ＶＯＣを第１の液状ＶＯＣと表記することがある。）が収容される。そして第１の液状ＶＯＣと連結管を介して連通する第２の液状ＶＯＣを収納可能な貯留部１３を備える。以後、貯留部内の液状ＶＯＣを第２の液状ＶＯＣと表記することがある。なお、本明細書において、第１の液状ＶＯＣと第２の液状ＶＯＣとが連通するとは、内部が液状ＶＯＣによって満たされた連結管等によって第１の液状ＶＯＣと第２の液状ＶＯＣとが分離せずに連通することをいう。以下、本発明の一実施形態であるガス発生装置の各構成部について説明する。
【００２１】
［ベースガス供給部］
ベースガス供給部とは一定流量でベースガスを供給することのできるガス発生装置の一構成部である。ベースガスとは、ＶＯＣ等と反応を起こさない気体（ガス）であれば特に制限されない。例えば空気等の酸素を含有する気体や、窒素、アルゴンガス等の希ガス等の不活性ガスを用いることができる。例えば、大気下で用いられる印刷機等の装置のＶＯＣ回収装置を評価する場合には空気等の酸素を含有する気体を用いるのが好ましい。また、ベースガスとして酸素を含有する気体を用いる場合には、ＶＯＣガスの濃度を測定する濃度計として接触燃焼式センサを好ましく用いることができる。
【００２２】
ベースガス供給部１１は、ベースガスを一定量供給することができるものであれば特に制限されない。例えばガスボンベのようなものでも良いし、高圧ガスラインのようなものでもよい。
【００２３】
［ガス発生部］
ガス発生部とは、液状ＶＯＣを収容し、一定流量でベースガスを供給して液状ＶＯＣと接触させることでＶＯＣ含有ガスを発生させることができるガス発生装置の一構成部である。ガス発生部は、その内部を密閉することが可能であり、液状ＶＯＣを一定量収容可能であり、かつベースガスを供給することのできる容器であれば特に制限されない。例えば、３つ口フラスコ等の実験器具のようなものでよい。
【００２４】
（ＶＯＣ）
ＶＯＣとは、揮発性有機化合物をいう。ＶＯＣは、揮発性を有する有機化合物であれば特に制限されない。例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、ベンゼン、キシレン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジクロロエタン、酢酸エチル、テトラヒドロフラン、アセトン等を挙げることができるが、これに制限されるものではない。
【００２５】
［貯蔵部］
貯蔵部１３とは、液状ＶＯＣを収容可能なガス発生装置の一構成部であり、ガス発生部に液状ＶＯＣを供給することができる構成部である。上述したように、液状ＶＯＣによって満たされた連結管等によってガス発生部１２内にある第１の液状ＶＯＣと貯蔵部１３内にある第２の液状ＶＯＣとが分離せずに連通する構成である。また、貯蔵部１３内にある第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２は、ガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣの液面ａ２よりも高い位置となるように貯蔵部１３は配置される。なお、貯蔵部１３内にある第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２は、所定の液面調整手段によって調整できるような構成とすることが好ましい。
【００２６】
貯留部１３内の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を調整する液面調整手段は特に制限されず、例えば、貯留部１３の上部から滴下漏斗のようなものを用いて、液状ＶＯＣを手動で供給し、貯留部１３内に液面高さｂ１を容易に上げるように調整することができる。また、貯留部１３の下部にコックを付けることにより貯留部１３内の第２の液状ＶＯＣを排出するような機構を設けることで、第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を容易に下げるように調整することも可能である。
【００２７】
［温度調整部］
温度調整部とは、第１の液状ＶＯＣの温度を一定に調整することができるものをいう。温度調整部は、図１には図示されていないが、液状ＶＯＣの温度を一定に調整することができるものであれば特に制限されない。また、温度調整部は必ずしもガス発生装置に接続する必要はなく、例えば、空気調節器等による温度を調整することのできる装置等も含まれる。第１の液状ＶＯＣの温度を一定に調整することで、ガス発生部内の気圧を一定に調整することができる。そのため、より高精度でＶＯＣ含有ガスの濃度を調整することが可能となる。なお、第１の液状ＶＯＣの温度が一定に維持されていることを確認するために図１に示すようにガス発生部１２に温度計１６を用いるのがさらに好ましい。
【００２８】
［濃度測定部］
濃度測定部１５とは、ＶＯＣ含有ガスの濃度を測定することのできるガス発生装置の一部である。濃度測定部１５は図１に示すように、ガス発生部１２から排出されたＶＯＣ含有ガスの濃度を測定する機能を有する。濃度測定部は、例えばガスクロマトグラフィー等の一般的な濃度計（測定器）等を用いることができる。なお、ベースガスとして空気等の酸素を含有する気体を用いる場合には、接触燃焼式センサーを好ましく使用することができる。
【００２９】
［流量計］
本発明のガス発生装置は、必要に応じて流量計が備わっていてもよい。流量計は、例えば図１に示すように、ベースガス供給部から供給されたベースガスの流量を測定するために用いられる（図１中、流量計１４ａ）。また、流量計１４ａとは別に、図１のようにガス発生部前で連結管を分岐させ、流量計１４ｂのように他の流量計を備えていてもよい。流量計１４ａに流れるベースガスの流量と流量計１４ｂに流れるベースガスの流量は、ＶＯＣ含有ガスの濃度に影響を与える。そのため、流量計を用いることにより、ベースガスの流量が一定に維持されることを確認して本発明のガス発生方法を使用するのが特に好ましい。
【００３０】
＜ＶＯＣ含有ガス発生方法＞
本発明のＶＯＣ含有ガス発生方法（以下、単にガス発生方法と表記することがある。）の一実施形態について説明する。本発明のガス発生方法は、例えば、上記のガス発生装置１を用いることにより使用することができる。
【００３１】
ガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣには、一定流量でベースガスが供給される（第１の液状ＶＯＣ内にベースガスが吹き込まれる）。第１の液状ＶＯＣとベースガスが接触することで、液状ＶＯＣが気化し、ベースガスと共に、液状ＶＯＣはＶＯＣ含有ガスとして排出される。液状ＶＯＣがＶＯＣ含有ガスとして排出されることで、ガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣの液面ａ２は下がる。
【００３２】
ここで、ガス発生部には一定流量でベースガスが常に供給され、温度制御部により第１液状ＶＯＣの液面温度及びガス発生装置内は一定の温度であるため、ガス発生部内の気圧は常に一定である。また、ガス発生部にはベースガスが供給されているため、第１の液状ＶＯＣの液面ａ２が受ける気圧の方が第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２が受ける気圧（大気圧）よりも高い。そのため、第１の液状ＶＯＣの液面ａ２を、第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２より低い位置とすることで、第１の液状ＶＯＣの液面ａ２が下がることに連動して貯留部から液状ＶＯＣを供給することができる。第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を一定になるように調整すれば、第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１に連動し、第１の液状ＶＯＣの液面高さａ１も一定に調整することができる。
【００３３】
第１の液状ＶＯＣの液面高さａ１（ガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣの量）とＶＯＣ含有ガスの濃度は相関関係があるため、第１の液状ＶＯＣの液面高さａ１を調整することで、ＶＯＣ含有ガスの濃度を調整することができる。以上から、第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を調整することで、ガス発生部１２から排出されるＶＯＣ含有ガスの濃度を調整することができる。
【００３４】
本発明のガス発生方法は、貯留部１３内の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を調整するという極めて簡便な方法によりＶＯＣ含有ガスの濃度を調整することができる点に技術的意義を有する。そのため、特に実験室規模でのＶＯＣ回収装置の評価用のガス発生方法としては特に有用である。
【００３５】
第１の液状ＶＯＣの液面ａ２の面積は、第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２の面積よりも大きいことが好ましく、第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２の面積に対して３倍以上がより好ましく、５倍以上であることがさらに好ましい。第１の液状ＶＯＣの液面ａ２の面積が、第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２の面積よりも大きい場合には、第１の液状ＶＯＣの液面高さａ１の変化よりも第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１の変化の方が大きくなる。そのため、第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を調整する液面調整手段によって、ＶＯＣ含有ガスの濃度の微調整がより容易となる。
【００３６】
本発明のガス発生方法は、第１の液状ＶＯＣの温度が一定に維持されていることが好ましい。第１の液状ＶＯＣの温度が一定に維持されていることで、ガス発生部１２内の気圧も一定にすることが可能となる。そのため、より高精度でＶＯＣ含有ガスの濃度を調整することが可能となる。第１の液状ＶＯＣの温度が一定に維持する方法は特に制限されず、例えば、空気調節器等による温度調節機能を有する室内で本発明を使用する方法でもよい。なお、第１の液状ＶＯＣの温度が一定に維持されていることを確認するために図１に示すようにガス発生部１２に温度計１６を用いるのがさらに好ましい。
【実施例】
【００３７】
以下、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、以下の実施例等に限定されるものではない。
【００３８】
＜ガス発生装置の作成＞
図１に示すように、ベースガス供給部１１（高圧空気ライン）、貯留部１３（コック付円筒ガラス管）、ガス発生部１２（５００ｍｌ三つ口フラスコ）、流量計１４ａ（コフロック製ＲＫ１７１０）、流量計１４ｂ（コフロック製ＲＫ１７１０）、濃度測定部１５（新コスモス電機製可燃性ガス検知器ＸＰ３１１０）、を装着し、それをガス発生装置とした。各部の連結は、連結管としてガラス管を用いることにより行った。貯留部１３はガス発生部１２よりも高い位置に設置し、それぞれの高さが変動しないようにクランプで固定した。
【００３９】
＜ＶＯＣ含有ガスの濃度変化確認試験＞
不活性ガス供給部１１からベースガスを供給し、流量計１４ａ及び１４ｂが下記表１になるように流量を一定に調整した。ガス発生部１２に液状ＶＯＣを所定量導入し、貯留部１３にも液状ＶＯＣを下記表１で示す液面高さ（ガス発生部１２の第１の液状ＶＯＣの液面ａ２よりも高い位置にある。）になるまで導入し、ガス発生部１２と貯留部１３とを連結するガラス管内も液状ＶＯＣで満たすようにした。なお、ガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣの液面ａ２の面積は液面高さ５０ｍｍの場合で７８．５４ｃｍ２、４０ｍｍの場合で７５．３４ｃｍ２であり、貯留部内１３の第２の液状ＶＯＣの液面ｂ２の面積は１２．５７ｃｍ２であった。
【００４０】
流量計１４ａ、流量計１４ｂで示された流量（表１中、「流量計１４ａ」及び「流量計１４ｂ」と表記）、ガス発生部の温度（表１中、「温度」と表記）、貯蓄部１３の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１（表１中、「液面高さ」と表記）を表１になるように一定に調整し、時間経過によるＶＯＣ含有ガスの濃度（表１中、ガス濃度）を濃度測定部１５を用いて測定した。ガス発生部１２においてベースガスに接触させることでＶＯＣ含有ガスを発生させた。なお、揮発性有機化合物（ＶＯＣ）としてメチルエチルケトン（表１中、ＭＥＫと表記）及びトルエン（表１中、トルエンと表記）を用いた。測定結果を表１に示す。また、時間［分］とＶＯＣ含有ガスの濃度［ｐｐｍ］との関係を図２に示す。なお、貯留部内の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を調整可能な液面調整手段は、滴下漏斗により液状ＶＯＣを供給し、目視により一定になることを確認する手段により行った。
【００４１】
【表１】
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【００４２】
表１より、メチルエチルケトン及びトルエンのいずれのＶＯＣにおいても、ＶＯＣ含有ガスの濃度はほぼ一定であった。本試験結果から、本発明は、貯留部１３の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を一定に調整することで、ＶＯＣ含有ガスの濃度を一定に保つことができるガス発生方法及びガス発生装置であることが分かる。
【００４３】
＜液面高さとＶＯＣ含有ガスの濃度の相関確認試験＞
貯留部１３の液面高さと、ＶＯＣ含有ガスの濃度の相関を確認した。具体的には、貯留部１３の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を表２になるようにし、室温（第１の液状ＶＯＣの温度）の温度一定（１９℃）にし、上記濃度変化確認試験同様にメチルエチルケトン（ＭＥＫ）をＶＯＣとしてＶＯＣ含有ガスを発生させた。初期（時間０分）のＶＯＣ含有ガスの濃度との関係を確認した。ＶＯＣ含有ガスの濃度は図１中の濃度測定部１５により確認した。結果を表２に示す。また、第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１とＶＯＣ含有ガスの濃度との関係を図３に示す。
【００４４】
【表２】
2016193398.tif 000004
【００４５】
図３より、液面高さとＶＯＣ含有ガスの濃度との相関は、一次式の相関係数の二乗Ｒ２が０．９８３２となっており、貯留部１３の液面高さと発生したＶＯＣ含有ガスの濃度は高い相関関係があるのが分かる。また、本試験結果から、貯留部１３内の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を一定に調整しなかった場合には、ＶＯＣ含有ガスの濃度が変動し、一定濃度のＶＯＣ含有ガスを連続的に供給することができないことが推認される。
【００４６】
以上から、本発明のガス発生方法は、貯留部１３内の第２の液状ＶＯＣの液面高さｂ１を調整することでガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣの液面高さａ１を調整することが可能となり、ガス発生部１２内の第１の液状ＶＯＣの液面高さａ１を調整することで、ＶＯＣ含有ガスの濃度を調整することのできるガス発生方法であることが分かる。
【符号の説明】
【００４７】
１      ガス発生装置
１１    ベースガス供給部
１２    ガス発生部
１３    貯留部
１４ａ  ガス発生部供給側のベースガス流量計
１４ｂ  ＶＯＣ含有ガス希釈用のベースガス流量計
１５  濃度測定部
１６  温度計
ａ１  第１の液状ＶＯＣの液面高さ
ａ２  第１の液状ＶＯＣの液面
ｂ１  第２の液状ＶＯＣの液面高さ
ｂ２  第２の液状ＶＯＣの液面
【図１】
2016193398.tif 000005
【図２】
2016193398.tif 000006
【図３】
2016193398.tif 000007