(57)【要約】      （修正有）【課題】弁体における弁座に向き合う面が圧縮されて取り付けられる場合であっても、弁体における弁座に向き合う面に流体漏れの原因となる歪の発生を抑制することができ、しかも、弁体の長寿命化を図ることができること。【解決手段】弁体４２の大径部における保持用リング部材４４に向き合う表面には、環状の隆起部４２Ｓが、環状の溝４２Ｇに隣接して外周縁に形成され、溝４２Ｇにおける環状の隆起部４２Ｓの先端からの最大深さＤｐは、弁体４２の潰し代ΔＳよりも大となるように設定されているもの。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の通路に接続される入口ポートと、第２の通路に接続される出口ポートとを有し、該入口ポートおよび該出口ポートに連通し、該出口ポートを開閉制御するピストンユニットを移動可能に収容する収容部を備える弁本体部と、
前記ピストンユニットに、前記出口ポートを開閉制御する動作を行わせるピストンユニット駆動機構と、を備え、
前記ピストンユニットが、前記出口ポートの周縁に形成される弁座に選択的に当接する当接部を有するシール部材と、該シール部材を保持するピストン部材とを含み、該シール部材が、前記弁座と該当接部との接触位置から離隔した位置に、共通円周上に少なくとも一つの隆起部を有し、該ピストン部材が、該シール部材の隆起部を圧縮し該シール部材を保持することを特徴とする制御弁。
【請求項２】
前記シール部材は、樹脂材料で環状に形成され、外周縁の隆起部が圧縮されることにより、前記ピストン部材に保持されることを特徴とする請求項１記載の制御弁。
【請求項３】
前記シール部材は、樹脂材料で環状に形成され、内周縁の隆起部が圧縮されることにより、前記ピストン部材に保持されることを特徴とする請求項１記載の制御弁。
【請求項４】
前記シール部材の隆起部に隣接して形成される溝の深さは、該シール部材の圧縮量よりも大に設定されることを特徴とする請求項２または請求項３記載の制御弁。
【請求項５】
前記シール部材は、保持用リング部材を介して圧縮され前記ピストン部材に保持されることを特徴とする請求項１記載の制御弁。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ピストン部材を有する制御弁に関する。
【背景技術】
【０００２】
空調装置等に用いられる制御弁としてのパイロット式電磁弁は、例えば、特許文献１に示されるように、プランジャーチューブ内に摺動可能に配されるプランジャーと、プランジャーの係止部に連結される弁本体に支持されるゴム製の環状の主弁体と、弁部の本体における流出ポートの開口端周縁に形成され上述の主弁体が選択的に当接される主弁座と、主弁体を主弁座に対し開閉させるべくプランジャーチューブの外周部の周りに配され上述のプランジャーおよびプランジャーに向かい合う固定子を励磁させるコイルとを主な要素として含んで構成されている。
【０００３】
環状の主弁体は、弁本体の下端部の環状の凹部内に配され座金を介して固定されている。弁本体の下端部の内周部が、座金を介してかしめ加工されることより、その座金は、主弁体の内周近傍における主弁座に向き合う面に押し付けられている。これにより、主弁体の内周近傍は、所定量、圧縮されることとなる。
【０００４】
斯かる構成において、コイルが励磁されない場合、プランジャーおよび弁本体が押し下げられることによって、主弁体が主弁座に当接し流出ポートが閉状態とされる。一方、コイルが励磁される場合、主弁体が、主弁座に対し離隔されるので流出ポートが開状態とされる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００１−２６３５２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述の特許文献１に示されるゴム製の主弁体のように、弁本体の下端部の内周部が、座金を介してかしめ加工されることより、主弁体が弁本体の下端部の環状の凹部内に配される場合、かしめ加工により、主弁体の内周近傍における主弁座に向き合う面に全周にわたり所定のかしめ代で均等にその座金を押し付けることが必要とされる。
【０００７】
しかしながら、このような場合、かしめ加工により、主弁体の内周近傍における主弁座に向き合う面に作用した圧力分布が均一とならず、その表面が一方向に引っ張られる状態となる虞がある。その結果、主弁座における流体漏れ等の原因となる。また、主弁体がゴムで作られた場合、主弁体と主弁座との接触と離隔が比較的長期間、繰り返される場合、あるいは、主弁体が、比較的長期間、主弁座に接触した状態である場合、亀裂が主弁体に生じる虞もある。
【０００８】
以上の問題点を考慮し、本発明は、ピストン部材を有する制御弁であって、弁体における弁座に向き合う面が圧縮されて取り付けられる場合であっても、弁体における弁座に向き合う面に流体漏れの原因となる歪の発生を抑制することができ、しかも、弁体の長寿命化を図ることができる制御弁を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上述の目的を達成するために、本発明に係る制御弁は、第１の通路に接続される入口ポートと、第２の通路に接続される出口ポートとを有し、入口ポートおよび出口ポートに連通し、出口ポートを開閉制御するピストンユニットを移動可能に収容する収容部を備える弁本体部と、ピストンユニットに、出口ポートを開閉制御する動作を行わせるピストンユニット駆動機構と、を備え、ピストンユニットが、出口ポートの周縁に形成される弁座に選択的に当接する当接部を有するシール部材と、シール部材を保持するピストン部材とを含み、シール部材が、弁座と当接部との接触位置から離隔した位置に、共通円周上に少なくとも一つの隆起部を有し、ピストン部材が、シール部材の隆起部を圧縮しシール部材を保持することを特徴とする。
【００１０】
シール部材は、樹脂材料で環状に形成され、外周縁の隆起部が圧縮されることにより、ピストン部材に保持されてもよく、また、シール部材は、樹脂材料で環状に形成され、内周縁の隆起部が圧縮されることにより、ピストン部材に保持されてもよい。さらに、シール部材の隆起部に隣接して形成される溝の深さは、シール部材の圧縮量よりも大に設定されてもよい。シール部材は、保持用リング部材を介して圧縮されピストン部材に保持されてもよい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明に係る制御弁によれば、ピストンユニットが、出口ポートの周縁に形成される弁座に選択的に当接する当接部を有するシール部材と、シール部材を保持するピストン部材とを含み、シール部材が、弁座と当接部との接触位置から離隔した位置に、共通円周上に少なくとも一つの隆起部を有し、ピストン部材が、シール部材の隆起部を圧縮し保持することにより、当接部の表面が引っ張られないので弁体における弁座に向き合う面が圧縮されて取り付けられる場合であっても、弁体における弁座に向き合う面に流体漏れの原因となる歪の発生を抑制することができ、しかも、弁体の長寿命化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】（Ａ）および（Ｂ）は、それぞれ、本発明に係る制御弁の一例に用いられるピストンユニットの一例を分解して示す分解斜視図である。
【図２】本発明に係る制御弁の一例の構成を、配管用パイプとともに示す断面図である。
【図３】図１（Ａ）および（Ｂ）に示されるピストンユニットの外観を示す斜視図である。
【図４】図２に示される例における要部を部分的に拡大して示す断面図である。
【図５】（Ａ）は、かしめ加工前における弁体および保持用リングの説明に供される部分断面図であり、（Ｂ）は、図２におけるＶＢ部を拡大して示す部分断面図である。
【図６】弁体の他の一例を、ピストン部材とともに部分的に拡大して示す部分断面図である。
【図７】弁体のさらなる他の一例を、ピストン部材とともに部分的に拡大して示す部分断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
図２は、本発明に係る制御弁の一例の構成を、配管用パイプとともに概略的に示す。
【００１４】
図２において、制御弁は、例えば、常閉型の電磁弁とされ、空調機器内の冷媒回路における配管に配置されている。電磁弁は、プランジャチューブ２６の一端を閉塞する吸引子２４と、ボール弁３４を有しプランジャチューブ２６内に移動可能に配されるプランジャ２８と、プランジャ２８のボール弁３４により開閉される排出通路３６ｂを内側に有するピストンユニットと、プランジャチューブ２６の一端に結合される弁本体部１０と、プランジャチューブ２６の外周部に配されプランジャ２８を選択的に励磁する電磁コイルユニットと、を主な要素として含んで構成されている。
【００１５】
電磁コイルユニットは、プランジャチューブ２６の外周部に配されるコイル部２０と、コイル部２０を覆い内側に収容するケーシング１６とを主な要素として構成されている。コイル部２０は、リード線２２を介して図示が省略される駆動制御部に電気的に接続されている。小ネジ１８がケーシング１６の取付孔を介して吸引子２４の雌ネジ孔に捻じ込まれることにより、ケーシング１６は、吸引子２４に固定されている。吸引子２４がコイル部２０により励磁される場合、磁力により後述するプランジャ２８が吸引子２４に引き寄せられる。
【００１６】
プランジャ２８は、図２に示されるように、プランジャチューブ２６内における吸引子２４の端部と後述するピストン部材３６との間で移動可能に配されている。プランジャ２８は、内部に連通路２８ａを有している。吸引子２４の端部に向かい合う連通路２８ａの一端の拡大部には、コイルスプリング３０の一端が受け止められ収容されている。コイルスプリング３０は、プランジャ２８を吸引子２４に対し離隔する方向に、即ち、ピストンユニット側に付勢するものとされる。連通路２８ａの他端の拡大部には、コイルスプリング３８の一端が受け止められ収容されている。コイルスプリング３８は、ボールキャップ２８Ａの開口端に向けてボール弁３４を付勢するものとされる。ボール弁３４を保持するボールキャップ２８Ａは、プランジャ２８の端部に接合されている。ボールキャップ２８Ａの開口端は、連通路２８ａの他端に向き合うように形成されている。ボールキャップ２８Ａの開口端の直径は、ボール弁３４の直径よりも小に設定されている。また、ボールキャップ２８Ａは、開口端の中心軸線に対し略直交するように複数個の細孔を有している。これにより、連通路２８ａの他端は、複数個の細孔を介してボールキャップ２８Ａの外周部と後述するピストン部材３６の孔３６Ａの内周部との間の隙間に連通することとなる。
【００１７】
弁本体部１０は、金属材料、例えば、真鍮、ステンレス鋼、アルミニウム合金等により作られ、ボールキャップ２８Ａとともにピストンユニットを収容するピストンユニット収容部１０Ａを内側に有している。ピストンユニット収容部１０Ａには、プランジャ２８の中心軸線に対し略直交する軸線上に第１の通路としての高圧側配管用パイプ１２の一端が接続される入口ポート１０ＰＩと、プランジャ２８の中心軸線と共通の軸線上に第２の通路としての低圧側配管用パイプ１４の一端が接続される出口ポート１０ＰＥと、が形成されている。
【００１８】
ピストンユニット収容部１０Ａの内周部における出口ポート１０ＰＥの開口端部には、図４に拡大されて示されるように、環状の弁座１０Ｖが形成されている。弁座１０Ｖの円弧状の先端には、後述するシール部材としての弁体４２が選択的に当接するものとされる。弁座１０Ｖに連なる周囲には、平坦なストッパー部１０Ｓが形成されている。
【００１９】
また、弁本体部１０におけるプランジャチューブ２６の一端が結合された結合端部の内側には、図２に示されるように、止め輪３２がプランジャチューブ２６の一端に隣接して設けられている。これにより、ピストン部材３６の一端が止め輪３２に当接することにより、弁座１０Ｖに対し離隔したピストン部材３６の位置が規制されることとなる。ピストン部材３６の外周部と弁本体部１０の内周部における段差部との間には、ピストン部材３６を弁座１０Ｖに対し離隔する方向に付勢するコイルスプリング４０が配されている。
【００２０】
従って、後述するピストンユニットの駆動機構は、電磁コイルユニットと、吸引子２４と、ボール弁３４を備えるプランジャ２８と、コイルスプリング４０とを含んで構成されている。
【００２１】
ピストンユニットは、図１（Ａ）に拡大されて示されるように、上述の弁本体部１０におけるピストンユニット収容部１０Ａ内に移動可能に配されるピストン部材３６と、ピストン部材３６の第１の凹部３６Ｃに保持されるシール部材としての弁体４２と、弁体４２に係止されピストン部材３６の第１の凹部３６Ｃに弁体４２を保持する保持用リング部材４４と、を含んで構成されている。
【００２２】
ピストン部材３６は、金属材料、例えば、真鍮、ステンレス鋼、アルミニウム合金で円筒状に作られ、図２に示されるように、ボールキャップ２８Ａおよびボール弁３４が挿入される孔３６Ａを内部に有している。孔３６Ａの底部には、排出通路３６ｂの一方の端部が開口している。排出通路３６ｂは、ボール弁３４が開状態のとき、孔３６Ａ内の高圧側の流体を出口ポート１０ＰＥに排出する。排出通路３６ｂの一方の開口端部の周縁には、ボール弁３４を受け止める弁座が形成されている。なお、図２は、ボール弁３４の閉状態を示す。
【００２３】
排出通路３６ｂの他方の端部は、出口ポート１０ＰＥに向けて開口している。排出通路３６ｂは、上述のプランジャ２８の中心軸線と共通の軸線上に配されるように形成されている。また、排出通路３６ｂの他方の端部の周縁には、図１（Ａ）に拡大されて示されるように、弁体４２を位置決めする環状の突起部３６Ｂが形成されている。また、突起部３６Ｂの周囲には、弁体４２が挿入される環状の第１の凹部３６Ｃが形成されている。その際、第１の凹部３６Ｃの内周部の最大径は、所定の隙間をもって弁体４２の最大直径よりも若干大に設定されている。
【００２４】
さらに、第１の凹部３６Ｃの周縁には、第１の凹部３６Ｃの内周部の最大径よりも大なる直径を有する環状の第２の凹部３６Ｄが形成されている。第２の凹部３６Ｄには、後述する保持用リング部材４４が挿入されている。第２の凹部３６Ｄにおけるピストン部材３６の中心軸線に沿った深さは、保持用リング部材４４の厚さ以上に設定されている。
【００２５】
保持用リング部材４４は、ピストン部材３６の先細部に形成されるかしめ部３６Ｅにより係止され第２の凹部３６Ｄに保持されている。かしめ部３６Ｅは、全周にわたり形成されている。なお、後述する弁体４２および保持用リング部材４４が順次、第１の凹部３６Ｃ、第２の凹部３６Ｄに装着された後、図５（Ｂ）に部分的に拡大されて示されるように、かしめ部３６Ｅは、プレス加工により所定のかしめ代をもって形成される。その際、かしめ部３６Ｅの一部は、後述する保持用リング部材４４の外周縁に押し付けられる。
【００２６】
これにより、保持用リング部材４４を介して弁体４２全体に圧力が均一に作用することとなる。
【００２７】
かしめ部３６Ｅの先端におけるピストン部材３６の中心軸線回りの直径は、図４に示されるように、ストッパー部１０Ｓの最大直径よりも大に設定されている。これにより、ピストンユニットが出口ポート１０ＰＥを閉状態とする場合、かしめ部３６Ｅの先端が、弁本体部１０のストッパー部１０Ｓの立下り部に干渉する虞がない。なお、かしめ部３６Ｅは、斯かる例に限られることなく、例えば、円周方向に沿って離隔した複数箇所に、個別に形成されてもよい。
【００２８】
保持用リング部材４４は、金属材料、例えば、真鍮、ステンレス鋼、アルミニウム合金、あるいは、セラミックで環状に作られている。なお、保持用リング部材４４の材質は、斯かる例に限られることなく、例えば、ピストン部材３６の先細部に形成されるかしめ部３６Ｅにより係止されるとき、破損しない強度を有するとともに作動流体に対し耐蝕性を有する材質であればよい。
【００２９】
保持用リング部材４４は、図３に拡大されて示されるように、中央部に、弁体４２の小径部４２Ｂが挿入される貫通孔４４ａを有している。また、保持用リング部材４４は、厚さ方向の両端面にそれぞれ、環状面を有している。
【００３０】
なお、保持用リング部材４４は、斯かる例に限られることなく、例えば、各環状面における円周方向に沿って９０°の間隔で、半径方向に沿って環状面を横切る溝が、４箇所に向かい合って形成されていてもよい。このような場合、弁体４２の外周部と第１の凹部３６Ｃの内周部との間の隙間にある作動流体、もしくはガスがその溝と第２の凹部３６Ｄの内周部との間を通じて放出されることとなる。その結果、所謂、液封が回避される。
【００３１】
シール部材としての弁体４２は、樹脂材料、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなエンジニアリングプラスチック、あるいは、比較的硬度が高く耐久性に優れたゴム材料等で図１（Ａ）に拡大されて示されるように、環状に成形されている。弁体４２は、上述のピストン部材３６の突起部３６Ｂが挿入される円形の貫通孔４２ａを中央に有している。弁体４２は、第１の凹部３６Ｃを形成する内周面に当接する大径部４２Ａと、大径部４２Ａと一体に形成され上述の弁座１０Ｖの先端部に当接する小径部４２Ｂとから構成されている。
【００３２】
大径部４２Ａにおける保持用リング部材４４に向き合う表面には、図５（Ａ），（Ｂ）に部分的に拡大されて示されるように、環状の隆起部４２Ｓが、環状の溝４２Ｇに隣接して外周縁に形成されている。かしめ部３６Ｅの加工前において、大径部４２Ａの一方の端面から隆起部４２Ｓの先端までの厚さＴ（図１（Ａ）参照）は、第１の凹部３６Ｃの最小深さより大となる所定の値に設定されている。かしめ部３６Ｅの加工前において、環状の隆起部４２Ｓが第２の凹部３６Ｄを形成する平坦面を超えて突出するので第２の凹部３６Ｄを形成する平坦面と弁体４２に重ねられた保持用リング部材４４との間には、所定の隙間ＣＬが形成されることとなる。その隙間ＣＬに対応する環状の隆起部４２Ｓの突出長さが、かしめ部３６Ｅの加工における隆起部４２Ｓの潰し代ΔＳとなる。
【００３３】
溝４２Ｇの位置は、図４に示されるように、小径部４２Ｂが弁座１０Ｖの先端部に当接されるとき、弁座１０Ｖの先端部における接触点から所定距離ΔＤａだけ離隔した位置に設定されている。
【００３４】
溝４２Ｇにおける環状の隆起部４２Ｓの先端からの最大深さＤｐは、上述の潰し代ΔＳよりも大となるように設定されている（Ｄｐ＞ΔＳ）。溝４２Ｇの底部の断面形状は、応力集中を緩和するように円弧を有している。溝４２Ｇの幅Ｗは、図５（Ｂ）に示されるように、環状の隆起部４２Ｓが保持用リング部材４４により矢印の示す方向に圧縮されるとき、保持用リング部材４４の内周部と小径部４２Ｂの外周部との間に所定の隙間が形成されるように設定されている。
【００３５】
かしめ部３６Ｅが、プレス加工により所定のかしめ代をもって形成される場合、プレス加工により環状の隆起部４２Ｓが保持用リング部材４４により押圧、または、圧縮されるとき、溝４２Ｇが弁体４２に形成されることにより、小径部４２Ｂの表面が、偏って引っ張られることが回避されるので小径部４２Ｂの表面における応力分布が均一となる。また、溝４２Ｇが弁体４２に形成されることにより、熱等による弁体４２の内部応力に起因した変形も、大径部４２Ａにより吸収されるので小径部４２Ｂの表面への悪影響が抑制される。
【００３６】
小径部４２Ｂは、上述の弁座１０Ｖの先端部に選択的に当接し出口ポート１０ＰＥの開口端を密封する当接部を有している。
【００３７】
なお、上述の一例においては、環状の隆起部４２Ｓが、全円周上に連続して形成されているが、斯かる例に限られることなく、例えば、図１（Ｂ）に拡大されて示されるように、複数の隆起部４２´Ｓｉ（ｉ＝１〜ｎ，ｎは正の整数）が、所定の間隔をもって共通の円周上に点在していてもよい。
【００３８】
図１（Ｂ）において、図１（Ａ）における構成要素と同一の構成要素については同一の符号を付して示し、その重複説明を省略する。
【００３９】
シール部材としての弁体４２´は、樹脂材料、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなエンジニアリングプラスチック、あるいは、比較的硬度が高く耐久性に優れたゴム材料等で環状に成形されている。弁体４２´は、上述のピストン部材３６の突起部３６Ｂが挿入される円形の貫通孔４２´ａを中央に有している。弁体４２´は、第１の凹部３６Ｃを形成する内周面に当接する大径部４２´Ａと、大径部４２´Ａと一体に形成され上述の弁座１０Ｖの先端部に当接する小径部４２´Ｂとから構成されている。
【００４０】
大径部４２´Ａにおける保持用リング部材４４に向き合う表面には、複数の隆起部４２´Ｓｉが、共通の円周上に所定の間隔をもって外周縁に形成されている。かしめ部３６Ｅの加工前において、大径部４２´Ａの一方の端面から隆起部４２´Ｓｉの先端までの厚さは、第１の凹部３６Ｃの最小深さより大となる所定の値に設定されている。かしめ部３６Ｅの加工前において、環状の隆起部４２´Ｓｉが第２の凹部３６Ｄを形成する平坦面を超えて突出するので第２の凹部３６Ｄを形成する平坦面と弁体４２´に重ねられた保持用リング部材４４との間には、所定の隙間が形成されることとなる。その隙間に対応する環状の隆起部４２´Ｓｉの突出長さが、かしめ部３６Ｅの加工における隆起部４２´Ｓｉの潰し代となる。
【００４１】
小径部４２´Ｂは、上述の弁座１０Ｖの先端部に選択的に当接し出口ポート１０ＰＥの開口端を密封する当接部を有している。
【００４２】
斯かる構成において、コイル部２０により吸引子２４、プランジャ２８が励磁されない場合、図２に示されるように、弁体４２が弁座１０Ｖに当接することにより、高圧側配管用パイプ１２からの流体が遮断される。一方、コイル部２０により吸引子２４、プランジャ２８が励磁される場合、プランジャ２８がピストン部材３６に対し離隔されることにより、ボール弁３４が排出通路３６ｂを開状態とし、ピストンユニット収容部１０Ａ内の高圧の流体が、出口ポート１０ＰＥに排出される。これにより、ピストンユニット収容部１０Ａ内の圧力が低下するのでピストン部材３６の弁体４２が、コイルスプリング４０の付勢力により弁座１０Ｖに対し離隔される。その際、ピストンユニット収容部１０Ａ内に作動流体が供給される。従って、高圧側配管用パイプ１２からの作動流体が図２の矢印Ｆの示す方向に沿って低圧側配管用パイプ１４に供給されることとなる。その後、吸引子２４、プランジャ２８が励磁されない場合、コイルスプリング３０の付勢力によりプランジャ２８におけるボール弁３４が排出通路３６ｂの開口端に当接することにより、弁体４２が弁座１０Ｖに当接し、高圧側配管用パイプ１２からの作動流体が遮断される。
【００４３】
さらに、シール部材としての弁体４２は、上述の一例に限られることなく、例えば、図６に部分的に拡大されて示されるように、弁体５２における隆起部５２Ｓが貫通孔５２ａの周縁に形成されるとともに、弁体５２が、保持用リング部材５４により保持されてもよい。
【００４４】
図６において、ピストン部材４６の排出通路４６ｂの他方の端部の周縁には、弁体５２を位置決めする環状の突起部４６Ｂが形成されている。また、突起部４６Ｂの周囲には、弁体５２が挿入される環状の凹部４６Ｃが形成されている。その際、凹部４６Ｃの内周部の最大径は、所定の隙間をもって弁体５２の最大直径よりも若干大に設定されている。
【００４５】
突起部４６Ｂの先端部には、保持用リング部材５４が係止されている。保持用リング部材５４は、突起部４６Ｂの先端の縁がフレア加工により拡張されることにより、係止されている。
【００４６】
弁本体部６０は、ピストンユニット収容部を内側に有している。ピストンユニット収容部には、プランジャ２８の中心軸線と共通の軸線上に、上述の低圧側配管用パイプ１４の一端が接続される出口ポート６０ＰＥが形成されている。ピストンユニット収容部の内周部における出口ポート６０ＰＥの開口端部には、環状の弁座６０Ｖが形成されている。
【００４７】
弁体５２は、樹脂材料、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）のようなエンジニアリングプラスチック、あるいは、比較的硬度が高く耐久性に優れたゴム材料等で環状に成形されている。弁体５２は、上述のピストン部材４６の突起部４６Ｂが挿入される円形の貫通孔５２ａを中央に有している。弁体５２の内周部および外周部の一部は、凹部４６Ｃを形成する内周面に当接している。
【００４８】
弁体５２における保持用リング部材５４に向き合う表面には、環状の隆起部５２Ｓが、環状の溝５２Ｇに隣接して内周縁に形成されている。上述のフレア加工前において、弁体５２の一方の端面から隆起部５２Ｓの先端までの厚さは、凹部４６Ｃの最小深さより大となる所定の値に設定されている。フレア加工前において、環状の隆起部５２Ｓが突出するので弁体５２に重ねられた保持用リング部材５４と弁体５２の他の部分との間には、所定の隙間が形成されることとなる。その隙間に対応する環状の隆起部５２Ｓの突出長さが、フレア加工における隆起部５２Ｓの潰し代となる。
【００４９】
溝５２Ｇの位置は、弁体５２の当接部５２Ｂが弁座６０Ｖの先端部に当接されるとき、弁座６０Ｖの先端部における接触点から所定距離ΔＤｂだけ離隔した位置に設定されている。
【００５０】
溝５２Ｇにおける環状の隆起部５２Ｓの先端からの最大深さは、上述の潰し代よりも大となるように設定されている。溝５２Ｇの底部の断面形状は、応力集中を緩和するように円弧を有している。
【００５１】
フレア加工により突起部４６Ｂが保持用リング部材５４を介して拡張される場合、環状の隆起部５２Ｓが保持用リング部材５４により圧縮されるとき、溝５２Ｇが弁体５２に形成されることにより、当接部５２Ｂの表面が、偏って引っ張られることが回避されるので当接部５２Ｂの表面における応力分布が均一となる。
【００５２】
さらにまた、シール部材としての弁体６２は、例えば、図７に部分的に拡大されて示されるように、弁体６２における隆起部６２Ｓが外周縁に形成されるとともに、弁体６２が、保持用リング部材を用いることなくピストン部材５６に保持されてもよい。
【００５３】
図７において、ピストン部材５６の排出通路５６ｂの他方の端部の周縁には、弁体６２を位置決めする環状の突起部５６Ｂが形成されている。また、突起部５６Ｂの周囲には、弁体６２が挿入される環状の凹部５６Ｃが形成されている。その際、凹部５６Ｃの内周部の最大径は、所定の隙間をもって弁体６２の最大直径よりも若干大に設定されている。
【００５４】
弁本体部７０は、ピストンユニット収容部を内側に有している。ピストンユニット収容部には、プランジャ５６の中心軸線と共通の軸線上に、上述の低圧側配管用パイプ１４の一端が接続される出口ポート７０ＰＥが形成されている。ピストンユニット収容部の内周部における出口ポート７０ＰＥの開口端部には、環状の弁座７０Ｖが形成されている。
【００５５】
弁体６２は、樹脂材料、例えば、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）のようなエンジニアリングプラスチック、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、あるいは、比較的硬度が高く耐久性に優れたゴム材料等で環状に成形されている。弁体６２は、上述のピストン部材５６の突起部５６Ｂが挿入される円形の貫通孔６２ａを中央に有している。弁体６２の内周部および外周部の一部は、凹部５６Ｃを形成する内周面に当接している。
【００５６】
弁体６２における弁座７０Ｖに向き合う表面よりも外周縁に近い表面には、環状の隆起部６２Ｓが、環状の溝６２Ｇに隣接して外周縁に形成されている。ピストン部材５６におけるかしめ部５６Ｅのかしめ加工前において、弁体６２の一方の端面から隆起部６２Ｓの先端までの厚さは、弁体６２が凹部５６Ｃ内に配された状態でかしめ加工できる所定の値に設定されている。環状の隆起部６２Ｓの突出長さが、かしめ加工における隆起部６２Ｓの潰し代となる。
【００５７】
溝６２Ｇの位置は、弁体６２の当接部６２Ｂが弁座７０Ｖの先端部に当接されるとき、弁座７０Ｖの先端部における接触点から所定距離ΔＤｃだけ離隔した位置に設定されている。
【００５８】
溝６２Ｇにおける環状の隆起部６２Ｓの先端からの最大深さは、上述の潰し代よりも大となるように設定されている。溝６２Ｇの底部の断面形状は、応力集中を緩和するように円弧を有している。
【００５９】
かしめ部５６Ｅのかしめ加工により、環状の隆起部６２Ｓがかしめ部５６Ｅにより圧縮されるとき、溝６２Ｇが弁体６２に形成されることにより、当接部６２Ｂの表面が、偏って引っ張られることが回避されるので当接部６２Ｂの表面における応力分布が均一となる。
【００６０】
なお、上述の本発明に係る制御弁の一例においては、保持用リング部材が、フレア加工またはかしめ加工により、ピストン部材に固定されているが、斯かる例に限られることなく、例えば、雌ねじ部を有する保持用リング部材が、ピストン部材の外周部に形成される雄ねじ部に嵌め合わされることにより、ピストン部材に固定されてもよい。
【００６１】
また、上述の本発明に係る制御弁の一例においては、プランジャおよびピストン部材を備える電磁弁における弁体が円筒状のピストン部材の端部に固定されているが、斯かる例に限られることなく、例えば、本出願人による先の出願（特願２０１３−１８９４２１号）の明細書および図面（図８）において示されるような、プランジャであるピストン部材と、弁体、および、保持用リング部材４４を備える電磁弁において、弁体が保持用リングによりピストン部材の端部における凹部内に固定されるように構成されてもよい。
【符号の説明】
【００６２】
１０    弁本体部
２８    プランジャ
３６、４６、５６    ピストン部材
４２、５２、６２    弁体
４２Ｓ，４２´Ｓｉ    隆起部
４２Ｇ、５２Ｇ、６２Ｇ    溝
４４、５４    保持用リング部材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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