(57)【要約】【課題】立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力を低減すると共に、ガラスリボンの上面に発生しうる欠点の数を低減したフロートガラス製造装置の提供。【解決手段】浴槽と、前記浴槽の上方に設けられるルーフケーシングと、前記ルーフケーシングの天井部から吊り下げられるルーフ層と、前記ルーフ層の側方に配設され、前記ルーフケーシングの天井部から下方に延びる側壁部の内壁面と接触するサイドウォールと、前記ルーフ層を上下に貫通する挿通孔に挿通され、前記ルーフ層から下方に突出するヒータと、前記ルーフ層と前記サイドウォールとの間に形成される隙間を塞ぐ閉塞部材とを備え、前記閉塞部材は、前記隙間を塞ぐと共に、前記ルーフ層と前記サイドウォールとの接近に応じて前記ルーフ層および前記サイドウォールの少なくとも一方に対する相対位置を変える、フロートガラス製造装置。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融金属を収容する浴槽と、
前記浴槽の上方に設けられるルーフケーシングと、
前記ルーフケーシングの天井部から吊り下げられるルーフ層と、
前記ルーフ層の側方に配設され、前記ルーフケーシングの天井部から下方に延びる側壁部の内壁面と接触するサイドウォールと、
前記ルーフ層を上下に貫通する挿通孔に挿通され、前記ルーフ層から下方に突出するヒータと、
前記ルーフ層と前記サイドウォールとの間に形成される隙間を塞ぐ閉塞部材とを備え、
前記閉塞部材は、前記隙間を塞ぐと共に、前記ルーフ層と前記サイドウォールとの接近に応じて前記ルーフ層および前記サイドウォールの少なくとも一方に対する相対位置を変える、フロートガラス製造装置。
【請求項２】
前記閉塞部材は、前記隙間に挿入され、前記ルーフ層および前記サイドウォールの一方の段差部に載置され、前記ルーフ層および前記サイドウォールの他方に立てかけられる、請求項１に記載のフロートガラス製造装置。
【請求項３】
前記閉塞部材は、板状であって、前記ルーフ層の上面および前記サイドウォールの上面に載置される、請求項１に記載のフロートガラス製造装置。
【請求項４】
前記閉塞部材は、前記ルーフ層の上縁部に載り、
前記閉塞部材における前記ルーフ層との接触部、および前記ルーフ層の前記上縁部の少なくとも一方が、上下方向に対して斜めの面を有する、請求項１に記載のフロートガラス製造装置。
【請求項５】
前記閉塞部材は、前記サイドウォールの上縁部に載り、
前記閉塞部材における前記サイドウォールとの接触部、および前記サイドウォールの前記上縁部の少なくとも一方が、上下方向に対して斜めの面を有する、請求項１または４に記載のフロートガラス製造装置。
【請求項６】
前記閉塞部材は、下に凸の曲面を有し、該曲面において前記ルーフ層の上縁部および前記サイドウォールの上縁部と接触する、請求項１、４、５のいずれか１項に記載のフロートガラス製造装置。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載のフロートガラス製造装置を用いる、フロートガラス製造方法。
【請求項８】
製造されるフロートガラスは、酸化物基準の質量％表示で、
ＳｉＯ２：５０％〜７３％
Ａｌ２Ｏ３：１０．５％〜２４％
Ｂ２Ｏ３：０％〜１２％
ＭｇＯ：０％〜１０％
ＣａＯ：０％〜１４．５％
ＳｒＯ：０％〜２４％
ＢａＯ：０％〜１３．５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：８％〜２９．５％
ＺｒＯ２：０％〜５％
を含有する無アルカリガラスである、請求項７に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項９】
製造されるフロートガラスは、酸化物基準の質量％表示で、
ＳｉＯ２：５８％〜６６％
Ａｌ２Ｏ３：１５％〜２２％
Ｂ２Ｏ３：５％〜１２％
ＭｇＯ：０％〜８％
ＣａＯ：０％〜９％
ＳｒＯ：３％〜１２．５％
ＢａＯ：０％〜２％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９％〜１８％
を含有する無アルカリガラスである、請求項８に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項１０】
製造されるフロートガラスは、酸化物基準の質量％表示で、
ＳｉＯ２：５４％〜７３％
Ａｌ２Ｏ３：１０．５％〜２２．５％
Ｂ２Ｏ３：０％〜５．５％
ＭｇＯ：０％〜１０％
ＣａＯ：０％〜９％
ＳｒＯ：０％〜１６％
ＢａＯ：０％〜２．５％
ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：８％〜２６％
を含有する無アルカリガラスである、請求項８に記載のフロートガラス製造方法。
【請求項１１】
製造されるフロートガラスは、酸化物基準の質量％表示で、
ＳｉＯ２：６５％〜７５％
Ａｌ２Ｏ３：０％〜３％
ＣａＯ：５％〜１５％
ＭｇＯ：０％〜１５％
Ｎａ２Ｏ：１０％〜２０％
Ｋ２Ｏ：０％〜３％
Ｌｉ２Ｏ：０％〜５％
Ｆｅ２Ｏ３：０％〜３％
ＴｉＯ２：０％〜５％
ＣｅＯ２：０％〜３％
ＢａＯ：０％〜５％
ＳｒＯ：０％〜５％
Ｂ２Ｏ３：０％〜５％
ＺｎＯ：０％〜５％
ＺｒＯ２：０％〜５％
ＳｎＯ２：０％〜３％
ＳＯ３：０％〜０．５％
を含有するソーダライムガラスである、請求項７に記載のフロートガラス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フロートガラス製造装置およびそれを用いたフロートガラス製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フロートガラス製造装置は、浴槽内の溶融金属（例えば溶融スズ）の液面の上においてガラスリボンを流動させて板状に成形する成形装置を有する（例えば、特許文献１参照）。成形装置は、浴槽、ルーフケーシング、ルーフ層、サイドウォール、およびヒータなどを含む。
【０００３】
ルーフケーシングは、溶融金属を収容する浴槽の上方に設けられ、天井部、および天井部から下方に延びる側壁部を有する。ルーフ層は、ルーフケーシングの天井部から吊り下げられる。サイドウォールは、ルーフ層の側方に配設され、ルーフケーシングの側壁部の内壁面と接触する。ヒータは、ルーフ層を上下に貫通する挿通孔に挿通され、ルーフ層から下方に突出し、浴槽内の溶融金属および溶融金属に浮かぶガラスリボンを加熱する。
【０００４】
ルーフケーシング内には、還元性ガスが供給される。供給された還元性ガスは、ルーフ層の挿通孔などを通り、ルーフ層の下方に供給される。よって、溶融金属の上方の雰囲気が還元雰囲気となり、溶融金属の酸化が抑制できる。
【０００５】
ルーフ層の挿通孔を通る還元性ガスは、ルーフ層から下方に突出するヒータに沿って流れるため、短時間で高温になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−１６２９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ルーフ層とサイドウォールとが接触する場合、成形装置の立ち上げ時、つまりヒータによる昇温時に問題が生じる。外気によって冷却されるルーフケーシングの温度よりもルーフ層の温度が高く、その結果、膨張したルーフ層がサイドウォールを押すと共に、サイドウォールがルーフケーシングによって押し返される。成形装置の上部構造に高い応力が発生し、成形装置の上部構造が破損しうる。
【０００８】
一方、ルーフ層とサイドウォールとの間に隙間がある場合、その隙間を介して還元性ガスがルーフ層の下方に供給される。ルーフ層とサイドウォールとの間の隙間を通る還元性ガスは、ルーフ層の挿通孔を通る還元性ガスよりも長時間冷たい。そのため、溶融金属から蒸発した金属含有ガスが冷えて液滴や粒子などの異物を形成し、その異物がガラスリボンの上面に落下し、多くの欠点が生じる。
【０００９】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力を低減すると共に、ガラスリボンの上面に発生しうる欠点の数を低減したフロートガラス製造装置の提供を主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記課題を解決するため、本発明の一態様によれば、
溶融金属を収容する浴槽と、
前記浴槽の上方に設けられるルーフケーシングと、
前記ルーフケーシングの天井部から吊り下げられるルーフ層と、
前記ルーフ層の側方に配設され、前記ルーフケーシングの天井部から下方に延びる側壁部の内壁面と接触するサイドウォールと、
前記ルーフ層を上下に貫通する挿通孔に挿通され、前記ルーフ層から下方に突出するヒータと、
前記ルーフ層と前記サイドウォールとの間に形成される隙間を塞ぐ閉塞部材とを備え、
前記閉塞部材は、前記隙間を塞ぐと共に、前記ルーフ層と前記サイドウォールとの接近に応じて前記ルーフ層および前記サイドウォールの少なくとも一方に対する相対位置を変える、フロートガラス製造装置が提供される。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一態様によれば、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力を低減すると共に、ガラスリボンの上面に発生しうる欠点の数を低減したフロートガラス製造装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明の第１実施形態によるフロートガラス製造装置の成形装置の立ち上げ前の状態を示す断面図である。
【図２】図１の成形装置の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【図３】本発明の第２実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。
【図４】図３の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【図５】本発明の第３実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。
【図６】図５の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【図７】本発明の第４実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。
【図８】図７の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【図９】本発明の第５実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。
【図１０】図９の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【図１１】本発明の第６実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。
【図１２】図１１の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。尚、各図面において、同一のまたは対応する構成要素には同一の又は対応する符号を付して説明を省略する。
【００１４】
［第１実施形態］
図１は、本発明の第１実施形態によるフロートガラス製造装置の成形装置の立ち上げ前の状態を示す断面図である。図２は、図１の成形装置の立ち上げ後の状態を示す断面図である。各図面において、紙面垂直方向がガラスリボンの流動方向である。
【００１５】
フロートガラス製造装置は、成形装置を有する。成形装置は、立ち上げ後、図２に示すように、浴槽２０内の溶融金属１１の液面の上においてガラスリボン１４を流動させて板状に成形する。ガラスリボン１４は、下流に向けて流動しながら徐々に固くなる。ガラスリボン１４は、浴槽２０の下流域において溶融金属１１から引き上げられ、徐冷炉に送られる。徐冷炉内において徐冷されたガラスリボン１４を切断することによりフロートガラスが得られる。
【００１６】
成形装置は、例えば図１および図２に示すように、浴槽２０、ルーフケーシング２２、ルーフ層３０、サイドウォール３４、サイドシール３６、ヒータ３８、および閉塞部材４０などを有する。
【００１７】
浴槽２０は、図２に示すように溶融金属１１を収容する。溶融金属１１は、一般的なものでよく、例えば溶融スズまたは溶融スズ合金であってよい。
【００１８】
ルーフケーシング２２は、浴槽２０の上方に設けられ、天井部２３、および天井部２３から下方に延びる側壁部２４を有する。ルーフケーシング２２は、箱状であり、下方に開放される。ルーフケーシング２２は、金属で形成されてよい。
【００１９】
ルーフ層３０は、ルーフケーシング２２の天井部２３から吊り下げられ、天井部２３と間隔をおいて配設される。ルーフ層３０は、格子状の枠、および当該枠に載置される複数のブロックなどを含む。これらの枠やブロックは、レンガなどの耐熱材で形成される。
【００２０】
ルーフ層３０を天井部２３から吊り下げる部材は、ハンガーと呼ばれる。ハンガーの上端部は天井部２３に連結され、ハンガーの下端部はルーフ層３０の枠に連結される。ハンガーは、金属またはセラミックスで形成されてよい。
【００２１】
サイドウォール３４は、レンガなどの耐熱材で形成される。サイドウォール３４は、ルーフ層３０の側方に配設され、ルーフケーシング２２の側壁部２４の内壁面と接触する。その内壁面から内側に延びる載置部２５の上にサイドウォール３４が載置されてよい。
【００２２】
尚、天井部２３、側壁部２４、および載置部２５でルーフケーシング２２が構成される。
【００２３】
サイドシール３６は、浴槽２０の縁部に載置され、浴槽２０の縁部とサイドウォール３４との間に形成される隙間を塞ぐ。サイドシール３６とルーフケーシング２２の載置部２５との間の僅かな隙間にシール材が詰め込まれてよい。
【００２４】
サイドシール３６は、例えば金属製の箱であってよい。サイドシール３６の内部が空洞であるため、サイドシール３６が軽く、取り外し、取り付けが容易である。
【００２５】
ヒータ３８は、ルーフ層３０を上下に貫通する挿通孔３１に挿通され、ルーフ層３０から下方に突出し、溶融金属１１およびガラスリボン１４を加熱する。ヒータ３８は、一般的なものであってよく、例えばＳｉＣヒータであってよい。
【００２６】
ヒータ３８は、ガラスリボン１４の幅方向（図１および図２において左右方向）、およびガラスリボン１４の流動方向（図１および図２において紙面直交方向）に間隔をおいて複数配設される。
【００２７】
ルーフ層３０の挿通孔３１は、ルーフケーシング２２内に供給された還元性ガスをルーフ層３０の下方に供給する。よって、溶融金属１１の上方の雰囲気が還元雰囲気となり、溶融金属１１の酸化が抑制できる。
【００２８】
ルーフ層３０の挿通孔３１を通る還元性ガスは、ルーフ層３０から下方に突出するヒータ３８に沿って流れるため、短時間で高温になる。
【００２９】
ルーフケーシング２２内に供給される還元性ガスは、一般的なものであってよく、例えば、水素ガスを１体積％〜１５体積％、窒素ガスを８５体積％〜９９体積％含む混合ガスであってよい。
【００３０】
閉塞部材４０は、ルーフ層３０およびサイドウォール３４の両方に接触し、ルーフ層３０とサイドウォール３４との間に形成される隙間ＳＰを塞ぐ。例えば、閉塞部材４０は、隙間ＳＰに挿入され、ルーフ層３０の段差部３２に載置され、サイドウォール３４に立てかけられる。
【００３１】
閉塞部材４０は、ルーフケーシング２２内に供給された還元性ガスが隙間ＳＰを通り抜けるのを制限する。還元性ガスがヒータ３８の挿通孔３１を通り抜けやすく、ルーフ層３０の下方に供給された還元性ガスが短時間で高温になる。よって、溶融金属１１から蒸発した金属含有ガスの冷却が抑制でき、その冷却によって生じうる異物の数が低減できる。異物がガラスリボン１４の上面に落下することによって生じる欠点の数が低減できる。
【００３２】
隙間ＳＰを通る還元性ガスも僅かに存在しうる。そこで、隙間ＳＰを通る還元性ガスの流れの向きをヒータ３８に向けて方向転換するため、サイドウォール３４の段差部３７は、ルーフ層３０の下方に回り込んでよい。
【００３３】
ところで、図１に示す状態においてヒータ３８による昇温が始まると、外気によって冷却されるルーフケーシング２２の温度よりもルーフ層３０の温度が高くなる。その結果、ルーフ層３０がサイドウォール３４に近づき、隙間ＳＰが図２に示すように狭まる。
【００３４】
この場合、閉塞部材４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層３０に対する相対位置を変える。例えば、ルーフ層３０の段差部３２が閉塞部材４０と接触しながら相対的に動く。一方、閉塞部材４０とサイドウォール３４との位置関係は変わらない。
【００３５】
このように、閉塞部材４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層３０とサイドウォール３４との接近に応じてルーフ層３０に対する相対位置を変える。相対位置が変化することによって、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力が低減できる。
【００３６】
閉塞部材４０は、ヒータ３８による昇温中に、ルーフ層３０に対する相対位置の変化を止めなくてよい。尚、閉塞部材４０は、ヒータ３８による昇温中に、ルーフ層３０に対する相対位置の変化を止めてもよい。隙間ＳＰの幅が閉塞部材４０の厚みと同じになると、ルーフ層３０に対する閉塞部材４０の相対位置の変化が止まる。いずれの場合でも、少なくとも昇温初期には、ルーフ層３０に対する閉塞部材４０の相対位置が変化するので、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力が低減できる。
【００３７】
尚、本実施形態の閉塞部材４０は、ルーフ層３０の段差部３２に載置され、サイドウォール３４に立てかけられるが、サイドウォール３４の段差部３７に載置され、ルーフ層３０に立てかけられてもよい。この場合、ルーフ層３０とサイドウォール３４との接近に伴って、閉塞部材４０がサイドウォール３４の段差部３７に接触しながら動く。サイドウォール３４に対する閉塞部材４０の相対位置が変わる。ルーフ層３０に対する閉塞部材４０の相対位置は変わらない。
【００３８】
次に、図１〜図２を再度参照して、上記構成のフロートガラス装置を用いたフロートガラス製造方法について説明する。
【００３９】
フロートガラス製造方法は、浴槽２０内の溶融金属１１の液面の上においてガラスリボン１４を流動させて板状に成形する成形工程を有する。ガラスリボン１４は下流に向けて流動しながら徐々に固くなる。ガラスリボン１４は、浴槽２０の下流域において引き上げられ、徐冷炉に送られる。徐冷炉内において徐冷されたガラスリボン１４を切断することによりフロートガラスが得られる。本実施形態によれば、ガラスリボン１４の上面における欠点の数が低減でき、高品質なフロートガラスが得られる。
【００４０】
製造されるフロートガラスは、例えば無アルカリガラスであってよい。無アルカリガラスは、Ｎａ２Ｏ、Ｋ２Ｏ、Ｌｉ２Ｏなどのアルカリ金属酸化物を実質的に含有しないガラスである。無アルカリガラスは、アルカリ金属酸化物の含有量の合量が０．１質量％以下でよい。
【００４１】
無アルカリガラスは、例えば、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２：５０％〜７３％、Ａｌ２Ｏ３：１０．５％〜２４％、Ｂ２Ｏ３：０％〜１２％、ＭｇＯ：０％〜１０％、ＣａＯ：０％〜１４．５％、ＳｒＯ：０％〜２４％、ＢａＯ：０％〜１３．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：８％〜２９．５％、ＺｒＯ２：０％〜５％を含有する。
【００４２】
無アルカリガラスは、高い歪点と高い溶解性とを両立する場合、好ましくは、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２：５８％〜６６％、Ａｌ２Ｏ３：１５％〜２２％、Ｂ２Ｏ３：５％〜１２％、ＭｇＯ：０％〜８％、ＣａＯ：０％〜９％、ＳｒＯ：３％〜１２．５％、ＢａＯ：０％〜２％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：９％〜１８％を含有する。
【００４３】
無アルカリガラスは、特に高い歪点を得たい場合、好ましくは、酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２：５４％〜７３％、Ａｌ２Ｏ３：１０．５％〜２２．５％、Ｂ２Ｏ３：０％〜５．５％、ＭｇＯ：０％〜１０％、ＣａＯ：０％〜９％、ＳｒＯ：０％〜１６％、ＢａＯ：０％〜２．５％、ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ：８％〜２６％を含有する。
【００４４】
これらの無アルカリガラスの成形温度は、一般的なソーダライムガラスの成形温度よりも１００℃以上高い。そのため、溶融金属１１から蒸発する金属含有ガスの量が多く、金属含有ガスの冷却を抑制する意義が大きい。
【００４５】
尚、製造されるフロートガラスは、ソーダライムガラスでもよい。ソーダライムガラスは、例えば酸化物基準の質量％表示で、ＳｉＯ２：６５％〜７５％、Ａｌ２Ｏ３：０％〜３％、ＣａＯ：５％〜１５％、ＭｇＯ：０％〜１５％、Ｎａ２Ｏ：１０％〜２０％、Ｋ２Ｏ：０％〜３％、Ｌｉ２Ｏ：０％〜５％、Ｆｅ２Ｏ３：０％〜３％、ＴｉＯ２：０％〜５％、ＣｅＯ２：０％〜３％、ＢａＯ：０％〜５％、ＳｒＯ：０％〜５％、Ｂ２Ｏ３：０％〜５％、ＺｎＯ：０％〜５％、ＺｒＯ２：０％〜５％、ＳｎＯ２：０％〜３％、ＳＯ３：０％〜０．５％を含有する。
【００４６】
［第２実施形態］
第２実施形態の成形装置は、上記第１実施形態の成形装置とは異なる上部構造を有する。下部構造は同じである。以下、相違点について主に説明する。
【００４７】
図３は、本発明の第２実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。図４は、図３の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【００４８】
成形装置の上部構造は、ルーフケーシング２２、ルーフ層３０、サイドウォール３４、ヒータ３８、および閉塞部材１４０を有する。閉塞部材１４０は、上記第１実施形態の閉塞部材４０に代えて用いられる。
【００４９】
閉塞部材１４０は、板状であって、ルーフ層３０の上面、およびサイドウォール３４の上面に載置され、ルーフ層３０とサイドウォール３４との間に形成される隙間ＳＰを塞ぐ。閉塞部材１４０は、サイドウォール３４に固定されてよく、ルーフ層３０に対して移動自在とされてよい。
【００５０】
閉塞部材１４０は、ルーフケーシング２２内に供給された還元性ガスが隙間ＳＰを通り抜けるのを制限する。よって、上記第１実施形態と同様に、溶融金属１１から蒸発した金属含有ガスの冷却が抑制でき、その冷却によって生じうる異物の数が低減できる。異物がガラスリボン１４の上面に落下することによって生じる欠点の数が低減できる。
【００５１】
図３に示す状態においてヒータ３８による昇温が始まると、外気によって冷却されるルーフケーシング２２の温度よりもルーフ層３０の温度が高くなる。その結果、ルーフ層３０がサイドウォール３４に近づき、隙間ＳＰが図４に示すように狭まる。
【００５２】
この場合、閉塞部材１４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層３０に対する相対位置を変える。例えば、ルーフ層３０の上面が閉塞部材１４０と接触しながら相対的に動く。一方、閉塞部材１４０とサイドウォール３４との位置関係は変わらない。
【００５３】
このように、閉塞部材１４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層３０とサイドウォール３４との接近に応じてルーフ層３０に対する相対位置を変える。相対位置が変化することによって、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力が低減できる。
【００５４】
一方、何らかの原因で、ルーフ層３０とサイドウォール３４とが離間し、隙間ＳＰが広がる場合、閉塞部材１４０は、ルーフ層３０に対する相対位置を変え、隙間ＳＰを塞ぐ。ルーフ層３０とサイドウォール３４とが離間する原因としては、例えば地震が挙げられる。
【００５５】
サイドウォール３４はルーフ層３０の両側に配設されるため、一方のサイドウォール３４とルーフ層３０とが地震によって離間すると、他方のサイドウォール３４とルーフ層３０とが接近する。
【００５６】
尚、本実施形態の閉塞部材１４０は、サイドウォール３４に固定され、ルーフ層３０に対して移動自在とされるが、ルーフ層３０およびサイドウォール３４の少なくとも一方に対する相対位置を変えることができればよい。
【００５７】
［第３実施形態］
第３実施形態の成形装置は、上記第１実施形態の成形装置とは異なる上部構造を有する。下部構造は同じである。以下、相違点について主に説明する。
【００５８】
図５は、本発明の第３実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。図６は、図５の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【００５９】
成形装置の上部構造は、ルーフケーシング２２、ルーフ層３０、サイドウォール３４、ヒータ３８、および閉塞部材２４０を有する。閉塞部材２４０は、上記第１実施形態の閉塞部材４０に代えて用いられる。
【００６０】
閉塞部材２４０は、ルーフ層３０の上縁部３３、およびサイドウォール３４の上縁部３５に載り、ルーフ層３０とサイドウォール３４との間に形成される隙間ＳＰを塞ぐ。閉塞部材２４０は、ルーフ層３０と接触する斜め下向きの面２４１、およびサイドウォール３４と接触する斜め下向きの面２４２を有する。閉塞部材２４０は、ルーフ層３０およびサイドウォール３４の両方に対して独立に移動自在とされる。
【００６１】
閉塞部材２４０は、ルーフケーシング２２内に供給された還元性ガスが隙間ＳＰを通り抜けるのを制限する。よって、上記第１実施形態と同様に、溶融金属１１から蒸発した金属含有ガスの冷却が抑制でき、その冷却によって生じうる異物の数が低減できる。異物がガラスリボン１４の上面に落下することによって生じる欠点の数が低減できる。
【００６２】
図５に示す状態においてヒータ３８による昇温が始まると、外気によって冷却されるルーフケーシング２２の温度よりもルーフ層３０の温度が高くなる。その結果、ルーフ層３０がサイドウォール３４に近づき、隙間ＳＰが図６に示すように狭まり、ルーフ層３０およびサイドウォール３４が閉塞部材２４０を両側から押し上げる。
【００６３】
このように、閉塞部材２４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層３０とサイドウォール３４との接近に応じてルーフ層３０およびサイドウォール３４の両方に対する相対位置を変える。相対位置が変化することによって、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力が低減できる。
【００６４】
一方、何らかの原因で、ルーフ層３０とサイドウォール３４とが離間し、隙間ＳＰが広がる場合、閉塞部材２４０が重力によって下方にずれる。このように、閉塞部材２４０は、ルーフ層３０およびサイドウォール３４の両方に対する相対位置を変え、隙間ＳＰを塞ぐ。
【００６５】
尚、本実施形態では、閉塞部材２４０におけるルーフ層３０との接触部が上下方向に対して斜めの面２４１を有するが、ルーフ層３０の上縁部３３が上下方向に対して斜めの面を有してもよい。少なくとも一方が上下方向に対して斜めの面を有すれば、閉塞部材２４０はルーフ層３０に対する相対位置を変えることができる。
【００６６】
同様に、本実施形態では、閉塞部材２４０におけるサイドウォール３４との接触部が上下方向に対して斜めの面２４２を有するが、サイドウォール３４の上縁部３５が上下方向に対して斜めの面を有してもよい。少なくとも一方が上下方向に対して斜めの面を有すれば、閉塞部材２４０はサイドウォール３４に対する相対位置を変えることができる。
【００６７】
［第４実施形態］
図７は、本発明の第４実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。図８は、図７の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【００６８】
成形装置の上部構造は、ルーフケーシング２２、ルーフ層３３０、サイドウォール３３４、ヒータ３８、および閉塞部材３４０を有する。
【００６９】
閉塞部材３４０は、上記第３実施形態の閉塞部材２４０と同様に構成される。従って、上記第３実施形態と同様の効果が得られる。
【００７０】
ルーフ層３３０の上縁部３３３は、上下方向に対して斜めの面（詳細には斜め上向きの面）を有する。ルーフ層３３０と閉塞部材３４０とが面接触するので、ルーフ層３３０に対する閉塞部材３４０の姿勢が安定化する。
【００７１】
同様に、サイドウォール３３４の上縁部３３５は、上下方向に対して斜めの面（詳細には斜め上向きの面）を有する。サイドウォール３３４と閉塞部材３４０とが面接触するので、サイドウォール３３４に対する閉塞部材３４０の姿勢が安定化する。
【００７２】
［第５実施形態］
第５実施形態の成形装置は、上記第１実施形態の成形装置とは異なる上部構造を有する。下部構造は同じである。以下、相違点について主に説明する。
【００７３】
図９は、本発明の第５実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。図１０は、図９の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【００７４】
成形装置の上部構造は、ルーフケーシング２２、ルーフ層３０、サイドウォール３４、ヒータ３８、および閉塞部材４４０を有する。閉塞部材４４０は、上記第１実施形態の閉塞部材４０に代えて用いられる。
【００７５】
閉塞部材４４０は、ルーフ層３０の上縁部３３およびサイドウォール３４の上縁部３５に載り、ルーフ層３０とサイドウォール３４との間に形成される隙間ＳＰを塞ぐ。閉塞部材４４０は、円柱状であり、下に凸の曲面４４１を有し、該曲面４４１においてルーフ層３０の上縁部３３およびサイドウォール３４の上縁部と接触する。閉塞部材４４０は、ルーフ層３０およびサイドウォール３４の両方に対して独立に移動自在とされる。
【００７６】
閉塞部材４４０は、ルーフケーシング２２内に供給された還元性ガスが隙間ＳＰを通り抜けるのを制限する。よって、上記第１実施形態と同様に、溶融金属１１から蒸発した金属含有ガスの冷却が抑制でき、その冷却によって生じうる異物の数が低減できる。異物がガラスリボン１４の上面に落下することによって生じる欠点の数が低減できる。
【００７７】
図９に示す状態においてヒータ３８による昇温が始まると、外気によって冷却されるルーフケーシング２２の温度よりもルーフ層３０の温度が高くなる。その結果、ルーフ層３０がサイドウォール３４に近づき、隙間ＳＰが図１０に示すように狭まり、ルーフ層３０およびサイドウォール３４が閉塞部材４４０を両側から押し上げる。
【００７８】
このように、閉塞部材４４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層３０とサイドウォール３４との接近に応じてルーフ層３０およびサイドウォール３４の両方に対する相対位置を変える。相対位置が変化することによって、立ち上げ時に成形装置の上部構造に発生しうる応力が低減できる。
【００７９】
一方、何らかの原因で、ルーフ層３０とサイドウォール３４とが離間し、隙間ＳＰが広がる場合、閉塞部材４４０が重力によって下方にずれる。このように、閉塞部材４４０は、ルーフ層３０およびサイドウォール３４に対する相対位置を変え、隙間ＳＰを塞ぐ。
【００８０】
尚、ルーフ層３０の上縁部３３が斜め上向きの面を有してもよい。ルーフ層３０に対する閉塞部材４４０の相対位置の変化が滑らかになる。同様に、サイドウォール３４の上縁部３５が斜め上向きの面を有してもよい。サイドウォール３４に対する閉塞部材４４０の相対位置の変化が滑らかになる。
【００８１】
［第６実施形態］
第６実施形態の成形装置は、上記第１実施形態の成形装置とは異なる上部構造を有する。下部構造は同じである。以下、相違点について主に説明する。
【００８２】
図１１は、本発明の第６実施形態による成形装置の上部構造の立ち上げ前の状態を示す断面図である。図１２は、図１１の成形装置の上部構造の立ち上げ後の状態を示す断面図である。
【００８３】
成形装置の上部構造は、ルーフケーシング２２、ルーフ層５３０、サイドウォール５３４、ヒータ３８、および閉塞部材５４０を有する。
【００８４】
閉塞部材５４０は、ルーフ層５３０の上縁部５３３およびサイドウォール５３４の上縁部５３５に載り、ルーフ層５３０とサイドウォール５３４との間に形成される隙間ＳＰを塞ぐ。
【００８５】
閉塞部材５４０は、楕円柱状であり、上記第５実施形態の閉塞部材４４０と同様に下に凸の曲面５４１を有し、該曲面５４１においてルーフ層５３０の上縁部５３３およびサイドウォール５３４の上縁部５３５と接触する。よって、上記第５実施形態と同様に、閉塞部材５４０は、隙間ＳＰを塞ぐと共に、ルーフ層５３０とサイドウォール５３４との接離に応じてルーフ層５３０およびサイドウォール５３４の両方に対する相対位置を変える。成形装置の上部構造に発生しうる応力が低減できる。
【００８６】
ルーフ層５３０の上縁部５３３は斜め上向きの面を有する。ルーフ層５３０に対する閉塞部材５４０の相対位置の変化が滑らかになる。また、サイドウォール５３４の上縁部５３５が斜め上向きの面を有する。サイドウォール５３４に対する閉塞部材５４０の相対位置の変化が滑らかになる。
【００８７】
尚、閉塞部材は、下に凸の曲面を有する限り、円柱状、楕円柱状に限定されない。例えば、閉塞部材は、半円柱状、円弧筒状などでもよい。
【００８８】
以上、フロートガラス製造装置の実施形態を説明したが、本発明は上記実施形態等に限定されることはなく、特許請求の範囲に記載された本発明の要旨の範囲内において、種々の変形、改良が可能である。
【符号の説明】
【００８９】
１１  溶融金属
１４  ガラスリボン
２０  浴槽
２２  ルーフケーシング
２３  天井部
２４  側壁部
３０  ルーフ層
３３  上縁部
３４  サイドウォール
３５  上縁部
３８  ヒータ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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