(57)【要約】      （修正有）【課題】ガラス板の熱応力による変形の影響を受けてもシール構造が破損せず、製造が容易なシール構造を備える複層ガラスの提供。【解決手段】相互に対向する第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２と第２のガラス基板１２０の第２の表面１２２との間に間隙部１３０を備える複層ガラス１００で、間隙部はシール部材１５０によって密閉され、シール部材は、金属部材１５５と、第１の接合層１６０と、第２の接合層１６５とを有し、第２のガラス基板は、第２のガラス基板とシール部材とが重複する領域以外に機能膜が積層されている第１の領域１２６と、第２のガラス基板とシール部材とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域１２８とを有し、第２の接合層は、第２の領域に配置され、第１の接合層と第２の接合層とは重複せず、第２の接合層は第１の接合層より内側に配置されている複層ガラス。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互に対向する第１のガラス基板の第１の表面と第２のガラス基板の第２の表面との間に、間隙部を備える複層ガラスであって、
前記間隙部は、当該複層ガラスの周囲でシール部材によって密閉され、
前記第２のガラス基板は、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域以外に機能膜が積層されている第１の領域と、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域とを有し、
前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、当該複層ガラスの周囲に沿った環状をなす金属部材と、前記第１のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第１の接合層と、前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第２の接合層とを有し、
前記第２の接合層は、前記第２の領域に配置されており、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第１の接合層と前記第２の接合層とは重複せず、かつ前記第２の接合層は前記第１の接合層より内側に配置されていることを特徴とする複層ガラス。
【請求項２】
当該複層ガラスは、前記間隙部を大気圧未満の圧力状態にすることにより構成される請求項１に記載の複層ガラス。
【請求項３】
前記機能膜が、熱線反射膜である請求項１または２に記載の複層ガラス。
【請求項４】
前記第２の領域は、前記機能膜を物理エッチングすることによって形成されている請求項１から３のいずれか一項に記載の複層ガラス。
【請求項５】
前記金属部材は、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されている請求項１から４のいずれか一項に記載の複層ガラス。
【請求項６】
前記金属部材は、前記第１の接合層と接触する第１の接触領域と、前記第２の接合層と接触する第２の接触領域とを有し、前記第１の接触領域および前記第２の接触領域には、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されている請求項１から５のいずれか一項に記載の複層ガラス。
【請求項７】
前記第１の接合層および／または第２の接合層は、ガラス固化層を有する請求項１から６のいずれか一つに記載の複層ガラス。
【請求項８】
前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の端面よりも内側に配置される請求項１から７のいずれか一項に記載の複層ガラス。
【請求項９】
前記金属部材は、接合部を有さない一体品で構成されることを特徴とする請求項１から８のいずれか一つに記載の複層ガラス。
【請求項１０】
前記金属部材は、断面方向から見たとき、前記第３の表面の高さが一方の端部から他方の端部に向かって変化する形状を有する請求項１から９のいずれか一つに記載の複層ガラス。
【請求項１１】
前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、
前記第１の接触領域と前記第２の接触領域とは、いずれも前記第３の表面側に配置される請求項１から１０のいずれか一項に記載の複層ガラス。
【請求項１２】
前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、
前記第１の接触領域と第２の接触領域とは、それぞれ、前記第３の表面と前記第４の表面側とに配置される請求項１から１１のいずれか一項に記載の複層ガラス。
【請求項１３】
相互に対向する第１のガラス基板の第１の表面と第２のガラス基板の第２の表面との間に、間隙部を備える複層ガラスの製造方法であって、
当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域以外に機能膜が積層されている第１の領域を形成し、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域を形成するステップと、
前記第１のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第１の接合層を形成し、前記第２の領域であって、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第１の接合層とは重複せず、かつ前記第１の接合層より内側に配置されるように前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第２の接合層を形成するステップと、
前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状を有する環状の金属部材を準備するステップと、
前記第１の接合層および前記第２の接合層が、それぞれ、前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域と接するよう金属部材を組み合わせて、第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層し、組立体を構成するステップと、
前記組立体の少なくとも前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱して、前記第１の接合層および前記第２の接合層と前記金属部材とを結合させるステップとを有することを特徴とする複層ガラスの製造方法。
【請求項１４】
前記結合させるステップは、前記組立体を厚さ方向に圧力を加えながら前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱するステップを有する請求項１３に記載の複層ガラスの製造方法。
【請求項１５】
前記第１の接合層および／または前記第２の接合層は、ガラス固化層を有する請求項１３または１４に記載の複層ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、複層ガラスおよび複層ガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年窓ガラス等に、断熱性能に優れる複層ガラスが用いられるようになってきている。
複層ガラスは、一対のガラス基板を間隙部を介して積層するものであるため、複層ガラスの間隙部を保持するために該間隙部の周囲にシール部材を設置することが知られている。
【０００３】
最近では、金属部材と接合層とで構成されたシール部材が開発されている。例えば、特許文献１には、第１のガラス基板と、第２のガラス基板と、両ガラス基板の間にスペーサを介して構成された間隙部と、間隙部の周囲に構成されたシール構造とを備える複層ガラスが示されている。そして、シール構造は、第１のガラス基板に形成される第１の接合層、金属部材、第２のガラス基板に形成される第２の接合層を備えている構造が開示されている。
【０００４】
一方で、断熱性能を高めるために、特許文献２には、Ｌｏｗ−Ｅ膜と呼ばれる熱線反射膜（遮熱膜）が設けられた複層ガラスについて開示されている。
Ｌｏｗ−Ｅ膜は一般的に耐湿性が低いことから、ガラス板に封止される空間（間隙部側）に配置することが好ましい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１４／０６１６３９号パンフレット
【特許文献２】国際公開第２０１４／０６１６１３号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来技術である特許文献１に開示されている複層ガラスの第２のガラス基板にＬｏｗ−Ｅ膜を設け、Ｌｏｗ−Ｅ膜上に第２の接合層を形成した場合、第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に温度差が生じて熱応力によるガラス基板の変形の影響を受けると、Ｌｏｗ−Ｅ膜上に形成された第２の接合層がＬｏｗ−Ｅ膜と一緒にはがれてしまい、シール構造が破損してしまうという問題があった。
【０００７】
そこで本発明は、ガラス板の熱応力による変形の影響を受けてもシール構造が破損することなく、かつ製造が比較的容易なシール構造を備える複層ガラスを提供することを目的とする。また、本発明では、ガラス板の熱応力による変形の影響を受けてもシール構造が破損することなく、かつ製造が比較的容易なシール構造を備える複層ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するため、本発明に係る複層ガラスは、
相互に対向する第１のガラス基板の第１の表面と第２のガラス基板の第２の表面との間に、間隙部を備える複層ガラスであって、
前記間隙部は、当該複層ガラスの周囲でシール部材によって密閉され、
前記第２のガラス基板は、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域以外に機能膜が積層されている第１の領域と、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域とを有し、
前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、当該複層ガラスの周囲に沿った環状をなす金属部材と、前記第１のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第１の接合層と、前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第２の接合層とを有し、
前記第２の接合層は、前記第２の領域に配置されており、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第１の接合層と前記第２の接合層とは重複せず、かつ前記第２の接合層は前記第１の接合層より内側に配置されている複層ガラスが提供される。
【０００９】
本発明による複層ガラスにおいて、前記間隙部を大気圧未満の圧力状態にすることにより構成されていても良い。
【００１０】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記機能膜が、熱線反射膜であっても良い。
【００１１】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記第２の領域は、物理エッチングによって形成されていても良い。
【００１２】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されていても良い。
【００１３】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、前記第１の接合層と接触する第１の接触領域と、前記第２の接合層と接触する第２の接触領域とを有し、前記金属部材の前記第１の接触領域および前記第２の接触領域には、凹状または凸状の複数の島部を含む島状パターンの凹凸表面が形成されていても良い。
【００１４】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記第１の接合層および／または第２の接合層は、ガラス固化層を有していても良い。
【００１５】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記シール部材は、当該複層ガラスを厚さ方向から見たとき、前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の端面よりも内側に配置されていても良い。
【００１６】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、接合部を有さない一体品で構成されていても良い。
【００１７】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、断面方向から見たとき、前記第３の表面の高さが一方の端部から他方の端部に向かって変化する形状を有していても良い。
【００１８】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、前記第１の接触領域と前記第２の接触領域とは、いずれも前記第３の表面側に配置されていても良い。
【００１９】
また、本発明による複層ガラスにおいて、前記金属部材は、表裏となる第３の表面と第４の表面とを有し、前記第１の接触領域と第２の接触領域とは、それぞれ、前記第３の表面と前記第４の表面側とに配置されていても良い。
【００２０】
さらに、本発明では、相互に対向する第１のガラス基板の第１の表面と第２のガラス基板の第２の表面との間に、間隙部を備える複層ガラスの製造方法であって、
当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域以外に機能膜が積層されている第１の領域を形成し、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域を形成するステップと、
前記第１のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第１の接合層を形成し、前記第２の領域であって、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第１の接合層とは重複せず、かつ前記第１の接合層より内側に配置されるように前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第２の接合層を形成するステップと、
前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状を有する環状の金属部材を準備するステップと、
前記第１の接合層および前記第２の接合層が、それぞれ、前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域と接するよう金属部材を組み合わせて、第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層し、組立体を構成するステップと、
前記組立体の少なくとも前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱して、前記第１の接合層および前記第２の接合層と前記金属部材とを結合させるステップとを有する複層ガラスの製造方法が提供される。
【００２１】
ここで、本発明による複層ガラスの製造方法において、前記結合させるステップは、前記組立体を厚さ方向に圧力を加えながら前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱するステップを有していても良い。
【００２２】
また、本発明による複層ガラスの製造方法において、前記第１の接合層および／または前記第２の接合層は、ガラス固化層を有していても良い。
【発明の効果】
【００２３】
本発明では、ガラス板の熱応力による変形の影響を受けてもシール構造が破損することなく、かつ製造が比較的容易なシール構造を備える複層ガラスを提供することができる。また、本発明では、ガラス板の熱応力による変形の影響を受けてもシール構造が破損することなく、かつ製造が比較的容易なシール構造を備える複層ガラスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の一実施形態による真空複層ガラスの断面図である。
【図２】従来技術の真空複層ガラスの、シール部の部分拡大断面図である。
【図３】従来技術の真空複層ガラスの、シール部の部分拡大断面図である。
【図４】本発明の一実施形態による真空複層ガラスの、シール部の部分拡大断面図である。
【図５】本発明の一実施形態による真空複層ガラスの、シール部の部分拡大断面図である。
【図６】本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法の一例を概略的に示したフロー図である。
【図７】意図的に不健全なシール構造を有する真空複層ガラスを用いた場合の熱風サイクル試験１における、第１のガラス基板の第１の外表面の中央付近の温度と、第２のガラス基板の第２の外表面の中央付近の温度の温度変化を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態について説明する。
【００２６】
（本発明の一実施形態による真空複層ガラス）
以下、図１を参照して、本発明の一実施形態による複層ガラスについて説明する。
なお、以下の説明では、複層ガラスの一例として、「真空複層ガラス」を例に、その構成および特徴について説明する。ただし、本発明は、「真空複層ガラス」に限られるものではなく、「非真空」の複層ガラスにも同様に提供することができることは当業者には明らかである。
【００２７】
図１に、真空複層ガラスの構成の一例を概略的に示す。
図１に示すように、本発明の一実施形態による真空複層ガラス１００は、第１のガラス基板１１０と、第２のガラス基板１２０と、両ガラス基板１１０、１２０の間に構成された間隙部１３０と、間隙部１３０を保持するための複数のスペーサ１９０と、間隙部１３０を密閉状態に保持するシール部材１５０とを有する。シール構造１５０は、第１の接続層１６０、金属部材１５５、および第２の接続層１６５を、この順に積層することにより構成される。
【００２８】
第１のガラス基板１１０は、第１の表面１１２を有する。真空複層ガラス１００において、第１のガラス基板１１０は、第１の表面１１２の側が内側となるようにして配置される。同様に、第２のガラス基板１２０は、第２の表面１２２を有する。真空複層ガラス１００において、第２のガラス基板１２０は、第２の表面１２２の側が内側となるようにして配置される。従って、間隙部１３０は、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２と、第２のガラス基板１２０の第２の表面１２２との間に形成される。
【００２９】
通常の場合、間隙部１３０内は、真空状態に維持される。ここで、間隙部１３０の真空度は、特に限られず、大気圧よりも低いいかなる圧力であっても良い。一般に、間隙部１３０の圧力は、０．２Ｐａ〜０．００１Ｐａ程度である。
【００３０】
なお、間隙部１３０内には、アルゴンなどの不活性ガスが、大気圧未満の圧力で充填されても良い。すなわち、本願において、「真空複層ガラス」は、間隙部内の圧力が必ずしも真空状態になっているものに限られず、「真空複層ガラス」という用語は、間隙部内の圧力が大気圧未満となっている全ての複層ガラスを意味するものとする。
【００３１】
必要な場合、真空複層ガラス１００は、間隙部１３０内に、１または２以上のスペーサ１９０を有しても良い。スペーサ１９０は、間隙部１３０を所望の形状に保持する役割を有する。ただし、スペーサ１９０がなくても、間隙部１３０を所望の形状に維持することができる場合、例えば、間隙部１３０の真空度が低い場合、または間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、スペーサ１９０は、省略しても良い。
【００３２】
第２のガラス基板１２０は、真空複層ガラス１００を厚さ方向から見たとき、第２のガラス基板１２０とシール部材１５０とが重複する領域以外に機能膜１８０が積層されている第１の領域１２６と、第２のガラス基板１２０とシール部材１５０とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域１２８とを有する。
【００３３】
シール部材１５０は、間隙部１３０を密閉状態に保持するための部材であり、シール部材１５０は、間隙部１３０の周囲全体にわたって構成されている。
【００３４】
シール部材１５０は、第１の接合層１６０と、金属部材１５５と、第２の接合層１６５とを備える。
【００３５】
第１の接合層１６０は、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２側に、第１のガラス基板１１０の周囲にわたって、「額縁状」に設置されている。同様に、第２の接合層１６５は、第２のガラス基板１２０の第１の表面１２２側に、第２のガラス基板１２０の周囲にわたって、「額縁状」に設置されている。
【００３６】
ここで、本願において、「額縁状」という用語は、平面視において、平板形状の内部が取り除かれ、外側輪郭および内側輪郭を有する「枠」で構成された形状の総称を意味する。ただし、「額縁状」の部材の外側輪郭および／または内側輪郭は、必ずしも額のような略直方体の形状に限られず、例えば、略台形、略円形、または略楕円形の形状であっても良い。また、「額縁状」の部材の外側輪郭と内側輪郭は、必ずしも相似形である必要はなく、両者は、例えば、全く異なる形状であっても良い。
【００３７】
シール部材１５０は、真空複層ガラス１００を厚さ方向から見たとき、第１のガラス基板または第２のガラス基板の端面よりも内側に配置されている。このようなシール部材は、真空複層ガラスの透光領域を狭小化させがちな構成であるので、本発明による効果が大きい構成である。
【００３８】
金属部材１５５は、第３の表面１７０および第４の表面１７２を有し、「額縁状」の形状を有する。金属部材１５５の第３の表面１７０は、一部が第１の接合層１６０と結合されており、金属部材１５５の第４の表面１７２は、一部が第２の接合層１６５と結合されている。つまり、第１の接合層１６０は、金属部材１５５の第３の表面１７０に結合されており、第２の接合層１６５は、金属部材１５５の第４の表面１７２に結合されている。以降、金属部材１５５の第１の接合層１６０と接触している領域を、第１の接触領域１７５と称し、金属部材１５５の第２の接合層１６５と接触している領域を、第２の接触領域１７７と称する。このようなシール部材１５０を間隙部１３０の周囲に配置することにより、間隙部１３０を密閉することができる。
【００３９】
図１に示すように、真空複層ガラス１００を上部（厚さ方向：図１のＺ方向）から見たとき、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５とは、重なり合っておらず、第２の接続層１６５が、記第１の接合層１６０より内側に形成されていることが好ましい。
【００４０】
シール部材１５０をこのように構成した場合、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０との間に温度差が生じた場合でも、金属部材１５５が第１のガラス基板の第１の表面１１２や第２のガラス基板１２０の第２の表面１２２と平行な水平方向（図１のＸ方向）における変形機能を有するため、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０との間の熱膨張の差異の影響を緩和することが可能となる。
【００４１】
以下、図２、図３、図４、図５を参照して、詳しく説明する。
【００４２】
図２、図３は、従来技術である真空複層ガラス２００のシール部材２５０の部分拡大断面図を模式的に示す。
【００４３】
図２、図３に示す真空複層ガラス２００において、シール部材２５０の左側（−Ｘ方向側）が大気圧であり、間隙部２３０が真空である。
【００４４】
まず、真空複層ガラス２００において、第１のガラス基板２１０の側が、第２のガラス基板２２０の側よりも低温になった場合を仮定する。
【００４５】
この場合、第１のガラス基板２１０は、収縮する方向の応力を受け、第２のガラス基板２２０は、膨脹する方向の応力を受ける。より具体的には、図２に示すように、第１のガラス基板２１０は矢印Ｆ１０１の方向に変形しようとし、第２のガラス基板２２０は矢印Ｆ２０１の方向に変形しようとする。
【００４６】
このとき、金属部材２５５の第４の表面２７２は、大気圧に押される方向、つまり矢印Ｆ３０２の方向の応力を受け、第２の領域２２６に接触する。そして、第１のガラス基板２１０は矢印Ｆ１０１の方向に変形しようとし、第２のガラス基板２２０は矢印Ｆ２０１の方向に変形しようとするため、金属部材２５５の第２の領域２２６と接触する部位が摩擦を受ける。
【００４７】
次に、真空複層ガラス２００において、第１のガラス基板２１０の側が、第２のガラス基板２２０の側よりも高温になった場合を仮定する。
【００４８】
この場合、第１のガラス基板２１０は、膨張する方向の応力を受け、第２のガラス基板２２０は、収縮する方向の応力を受ける。より具体的には、図３に示すように、第１のガラス基板２１０は矢印Ｆ１０２の方向に変形しようとし、第２のガラス基板２２０は矢印Ｆ２０２の方向に変形しようとする。
【００４９】
このとき、金属部材２５５の第４の表面２７２は、図２と同様に、大気圧に押される方向、つまり矢印Ｆ３０２の方向の応力を受け、第２の領域２２６に接触する。そして、第１のガラス基板２１０は矢印Ｆ１０２の方向に変形しようとし、第２のガラス基板２２０は矢印Ｆ２０２の方向に変形しようとするため、金属部材２５５の第２の領域２２６と接触する部位が摩擦を受ける。
【００５０】
ここで、第２のガラス基板２２０の第２の領域２２６を形成する方法として、例えば第２のガラス基板２２０の第２の表面２２２全面に機能膜２８０を積層した後に、第２のガラス基板２２０の周囲にわたって、「額縁状」に物理エッチングする方法をとることができる。この場合、第２の領域２２６が形成される部位は窓ガラスの窓枠（サッシ）内に収められる部位であるため、第２の領域２２６の表面は、例えば第１のガラス基板２１０の第１の表面２１２と同等の表面粗さである必要はない。よって、第１のガラス基板２１０の第１の表面２１２よりも表面が荒れていてもよい。
【００５１】
したがって、金属部材２５５が薄いアルミ箔などで構成されている場合、表面が荒れている第２のガラス基板２２０の第２の領域２２６と、金属部材２５５の第２の領域２２６と接触する部位が摩擦を受けるため、金属部材２５５が座屈し、破断してしまう。
【００５２】
次に、本発明の一実施形態である真空複層ガラス１００のシール部材１５０について説明する。
【００５３】
図４、図５は、本発明の一実施形態である真空複層ガラス１００のシール部材１５０の部分拡大断面図を模式的に示す。
【００５４】
まず、真空複層ガラス１００において、第１のガラス基板１１０の側が、第２のガラス基板１２０の側よりも低温になった場合を仮定する。
【００５５】
この場合、第１のガラス基板１１０は、収縮する方向の応力を受け、第２のガラス基板１２０は、膨脹する方向の応力を受ける。より具体的には、図４に示すように、第１のガラス基板１１０は矢印Ｆ１０１の方向に変形しようとし、第２のガラス基板１２０は矢印Ｆ２０１の方向に変形しようとする。
【００５６】
このとき、金属部材１５５の第３の表面１７０は、大気圧に押される方向、つまり矢印Ｆ３０１の方向の応力を受け、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に接触する。そして、第１のガラス基板１１０は矢印Ｆ１０１の方向に変形しようとし、第２のガラス基板１２０は矢印Ｆ２０１の方向に変形しようとするため、金属部材１５５の第３の表面１７０と第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に接触する部位が摩擦を受ける。
【００５７】
次に、真空複層ガラス１００において、第１のガラス基板１１０の側が、第２のガラス基板１２０の側よりも高温になった場合を仮定する。
【００５８】
この場合、第１のガラス基板１１０は、膨張する方向の応力を受け、第２のガラス基板１２０は、収縮する方向の応力を受ける。より具体的には、図５に示すように、第１のガラス基板１１０は矢印Ｆ１０２の方向に変形しようとし、第２のガラス基板１２０は矢印Ｆ２０２の方向に変形しようとする。
【００５９】
このとき、金属部材１５５の第３の表面１７０は、大気圧に押される方向、つまり矢印Ｆ３０１の方向の応力を受け、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に接触する。そして、第１のガラス基板１１０は矢印Ｆ１０２の方向に変形しようとし、第２のガラス基板１２０は矢印Ｆ２０２の方向に変形しようとするため、金属部材１５５の第３の表面１７０と第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に接触する部位が摩擦を受ける。
【００６０】
ここで、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２は、第２のガラス基板１２０の第２の領域１２８よりも表面が滑らかであるため、金属部材１５５の第３の表面１７０と第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に接触する部位が摩擦を受けたとしても、金属部材１５５は座屈しにくく、かつ破断しにくい。
【００６１】
したがって、真空複層ガラス１００を上部（厚さ方向：図１のＺ方向）から見たとき、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５とは、重なり合っておらず、第２の接続層１６５が、記第１の接合層１６０より内側に形成されていると、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０との間に温度差が生じ、金属部材１５５の第３の表面１７０が大気圧に押され、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に接触したとしても、金属部材１５５は座屈しにくく、かつ破断しにくく、好適である。
【００６２】
このような構成を有する真空複層ガラス１００を製造する際には、例えば、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０の間に、シール部材１５０を構成する各部材を配置した組立体が構成される。次に、この組立体が加熱処理される。加熱処理によって、第１および第２の接合層１６０、１６５が溶融（軟化）、固化し、シール部材１５０が構成される。また、このシール部材１５０を介して、両ガラス基板１１０、１２０が接合され、真空複層ガラス１００が製造される。
【００６３】
ここで、本発明の一実施形態の真空複層ガラス１００において、金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７には、凹状または凸状の複数の島部を有する島状パターンの凹凸表面が形成されていてもよい。このような凹凸表面は、第１および第２の接合層１６０、１６５が軟化したときに流動して広がることを抑制することができ、好適である。
【００６４】
第１および第２の接合層１６０、１６５を形成するにあたり、加熱処理の際にシール部材１５０を部分的に、または組立体全体を加熱する必要がある。確実な封止となるような接合層とするためには、加熱処理の際に真空複層ガラスの厚さ方向（図１のＺ方向）に圧力を加えることが望ましい。しかしながら、軟化時に加圧された第１および第２の接合層は、金属部材１５５の長手方向（真空複層ガラスの周囲に沿う方向。図１の紙面に向かう方向）ではなく幅方向（真空複層ガラスの周囲に沿う方向に直交する方向。図２のＸ方向）に広がりやすい。金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７に、このような島状パターンの凹凸表面を設けることにより、シール部材の加熱処理によって第１および第２の接合層１６０、１６５が溶融（軟化）した際に、第１および第２の接合層１６０、１６５が金属部材１５５の幅方向（図１のＸ方向）に所定の範囲を超えて広がることを、有意に抑制することができる。
【００６５】
これにより、第１の真空複層ガラス１００では、シール部材１５０のシール幅（図１の符号Ｗ）を有意に短くすることが可能となる。またこれにより、第１の真空複層ガラス１００では、シール部材１５０による、第１の真空複層ガラス１００の透光領域の狭小化を有意に抑制することが可能となる。
【００６６】
島状パターンの凹凸表面は、金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７に形成されていても良いが、なくても良い。島状パターンの凹凸表面が形成される場合、第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７から離れた領域には必ずしも島状パターンが形成されている必要はない。
【００６７】
島状パターンは、複数の島部が規則的に配置されて構成されても良いし、複数の島部が不規則に配置されて構成されても良い。
【００６８】
また、島状パターンは、略同一形状の複数の島部が２次元的に配置されて構成されても良いし、異なる形状の複数の島部が２次元的に配置されていても良い。
【００６９】
さらに、島状パターンは、真空複層ガラスの厚さ方向（図１のＺ方向）から見たとき、円形の形状を有していても良いし、楕円、三角形、四角形、または五角形以上の多角形等の形状を有しても良い。同様に、各島部の断面は、台形の他、三角形、正方形、または長方形等の形状を有しても良い。
【００７０】
（真空複層ガラスの構成部材について）
次に、以上説明した本発明の一実施形態による真空複層ガラスを構成する、各構成部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、前述の第１の真空複層ガラス１００を例に、その構成部材について説明する。従って、各部材の参照符号は、図１に使用した参照符号に対応する。
【００７１】
（ガラス基板１１０、１２０）
第１のガラス基板１１０、第２のガラス基板１２０を構成するガラスの組成は、特に限られない。ガラス基板１１０、１２０のガラスは、例えば、ソーダライムガラスおよび／または無アルカリガラス等であっても良い。また、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０の組成は、同一であっても異なっていても良い。
【００７２】
第２のガラス基板１２０は、第２の表面１２２上であって、真空複層ガラス１００の厚さ方向（図１のＺ方向）から見たとき、第２のガラス基板１２０とシール部材１５０とが重複する領域以外に機能膜１８０が積層されている第１の領域１２６と、第２のガラス基板１２０とシール部材１５０とが重複する領域に機能膜１８０が積層されていない第２の領域１２８とを有する。
【００７３】
機能膜１８０は、熱線反射膜（Ｌｏｗ−Ｅ膜、熱線遮蔽膜、低放射膜ともいう）であっても良い。機能膜１８０が熱線反射膜である場合、熱線反射膜の構成としては熱線を反射（遮蔽）する機能を有するものであればよく、特に限定されるものではないが、例えば、窒化チタン（ＴｉＮ）から成る吸収層、窒化珪素（Ｓｉ３Ｎ４）から成る透明誘電体膜、Ａｇ主成分膜等、金属亜鉛から成る透明誘電体膜を積層させたものを用いても良い。
【００７４】
機能膜１８０の厚さは特に限定されるものではなく、要求される断熱性能（熱線反射性能）や、膜の構成等により選択することができる。
【００７５】
第２のガラス基板１２０は、環状をなし、機能膜１８０が形成されていない第２の領域１２８が形成されていることが好ましい。第２の領域１２８の形成方法としては例えば第２のガラス基板１２０の第２の表面１２２全面に機能膜１８０を積層した後に、第２のガラス基板１２０の周囲に沿って、「額縁状」に機能膜１８０を除去する方法をとることができる。機能膜１８０を除去する方法については、例えば回転砥石で機能膜１８０を除去する等の物理エッチング（機械エッチング）や化学エッチング等があるが、第２のガラス基板１２０上の機能膜１８０が除去できる方法であれば、これらに限定されるものではない。
【００７６】
（スペーサ１９０）
スペーサ１９０は、従来の真空複層ガラスにおいて使用されるスペーサと同様の材料、形状、および／または寸法を有しても良い。
【００７７】
スペーサ１９０の高さ、すなわち間隙部１３０の厚さは、該間隙部１３０が大気圧未満の圧力状態である場合には、０．０１５ｍｍ〜１ｍｍの範囲であることが好ましく、０．０５ｍｍ〜０．５ｍｍの範囲であることがより好ましい。また、間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、間隙部１３０の厚さは、０．０１５ｍｍ〜１５．７ｍｍの範囲であることが好ましく、３ｍｍ〜１３ｍｍの範囲であることがより好ましい。
【００７８】
（シール部材１５０）
前述のように、シール部材１５０は、第１および第２の接合層１６０、１６５、および金属部材１５５により構成される。シール部材１５０のシール幅Ｗは、特に限られない。ただし、本発明の一実施例では、前述のように、シール部材１５０のシール幅Ｗを有意に短くすることができることに留意する必要がある。シール部材１５０のシール幅Ｗは、例えば、３ｍｍ以上５０ｍｍ以下の範囲である。
【００７９】
（接合層１６０、１６５）
シール部材１５０を構成する接合層１６０、１６５は、ガラス基板１１０、１２０および金属部材１５５に対して結合性を有する限り、いかなる材料で構成されても良い。また、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５は、同じものであっても、異なるもので構成されても良い。
【００８０】
例えば、接合層１６０、１６５は、ガラス固化層であっても良い。ガラス固化層は、ガラスフリットを含むペーストを焼成することにより形成される。ガラス固化層は、ガラス成分を含むが、さらにセラミック粒子を含んでも良い。
【００８１】
ガラス固化層に含まれるガラス成分の組成は、特に限られない。ガラス固化層に含まれるガラス成分は、例えば、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系またはＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラスであっても良い。
【００８２】
表１には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系のガラスの組成の一例を示す。また、表２には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラスの組成の一例を示す。
【００８３】
【表１】
2016153364.tif 000003
【００８４】
【表２】
2016153364.tif 000004
【００８５】
あるいは、接合層１６０または１６５の少なくとも一方は、表面に金属溶射膜を含んでも良い。例えば、第１の接合層１６０が金属溶射膜を有する場合、第１のガラス基板の表面に金属溶射膜を形成させ、金属溶射膜上に、例えばろう付けまたははんだ付け等により、第１の接合層１６０を形成させても良い。
【００８６】
金属溶射膜は、例えば、アーク溶射方法またはプラズマ溶射方法等により、ガラス基板の一方の表面に、環状に形成されても良い。金属溶射膜の材料は、これに限られるものではないが、例えば、銅（および銅合金）、アルミニウム（およびアルミニウム合金）、ならびに亜鉛（および亜鉛合金）等であっても良い。
【００８７】
このように、接合層１６０、１６５は、金属部材１５５と結合することができる限り、セラミックス、ガラス、金属など、いかなる材料を含んでも良い。また、接合層１６０、１６５は、必ずしも単一の層で構成される必要はなく、複数の層で構成されても良い。
【００８８】
接合層の厚さは、これに限られるものではないが、例えば、間隙部１３０が大気圧未満の圧力状態である場合には、１０μｍ〜１０００μｍの範囲、間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、１０μｍ〜１５０００μｍの範囲であっても良い。
【００８９】
また、第１の接合層１６０および／または第２の接合層１６５の最大幅（Ｘ方向の長さ）は、これに限られるものではないが、例えば、０．１ｍｍ〜１５ｍｍの範囲である。この幅は、１ｍｍ〜７ｍｍの範囲であっても良い。
【００９０】
さらに、図１の例では、第１の接合層１６０および第２の接合層１６５の断面は、いずれも、略矩形状の形状で示されている。しかしながら、これは、単なる一例に過ぎず、第１の接合層１６０および第２の接合層１６５の断面は、例えば、コーナー部が丸みを帯びた略矩形状、略楕円形、略台形など、その他の形状を有しても良い。また、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５の形状は、異なっていても良い。
【００９１】
（金属部材１５５）
金属部材１５５を構成する金属材料の種類は、特に限られない。金属部材１５５は、例えば、アルミニウムおよびアルミニウム合金、銅および銅合金、チタンおよびチタン合金、ならびにステンレス鋼等から選定されても良い。
【００９２】
また、金属部材１５５の少なくとも第１および第２の接触領域１７５、１７７には、島状パターンの凹凸表面が形成されていてもよい。金属部材１５５が島状パターンの凹凸表面を有する場合、比較的軟性の材料で構成されることが好ましい。これにより、島状パターンを形成することが容易となる。
【００９３】
金属部材１５５と第１の接合層１６０が接触する領域および金属部材１５５と第２の接合層１６５が接触する領域の幅（図１のＸ方向の長さ）は、それぞれ、実質的に、第１および第２の接合層１６０、１６５の幅と等しい。すなわち、金属部材１５５と第１の接合層１６０が接触する領域および金属部材１５５と第２の接合層１６５が接触する領域の幅は、例えば、０．１ｍｍ以上１５ｍｍ以下の範囲であっても良い。
【００９４】
金属部材１５５は、箔または板状であり、間隙部１３０が大気圧未満の圧力状態である場合には、５μｍ以上５００μｍ以下の範囲の厚さ、好ましくは５０μｍ以上２００μｍ以下の範囲の厚さを有しても良く、間隙部１３０に不活性ガスなどがある程度の圧力で充填される場合には、５μｍ以上７００μｍ以下の範囲の厚さ、好ましくは５０μｍ以上５００μｍ以下の範囲の厚さを有しても良い。
【００９５】
また、金属部材１５５は、最終提供形状が真空複層ガラスの周囲に沿った環状になっていれば、途中の準備段階での形状は、特に限られない。従って、例えば、細長い板状の複数の部材を接合して、環状の金属部材１５５を構成しても良い。あるいは、板状の部材から環状に切断し、または板状の部材を環状に打ち抜いて、一体品（シームレス部材）として、環状の金属部材１５５を提供しても良い。さらに、金属部材１５５は、真空複層ガラスの厚さ方向に、複数の金属部材を積層、接合して構成しても良い。
【００９６】
（本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法）
次に、本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法の一例について説明する。
【００９７】
図６には、本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法の一例のフロー図を示す。図６に示すように、本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法は、
当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域以外に機能膜が積層されている第１の領域を形成し、前記第２のガラス基板と前記シール部材とが重複する領域に機能膜が積層されていない第２の領域を形成するステップ（Ｓ１１０）と、
前記第１のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第１の接合層を形成し、前記第２の領域であって、当該複層ガラスの厚さ方向から見たとき、前記第１の接合層とは重複せず、かつ前記第１の接合層より内側に配置されるように前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状をなす第２の接合層を形成するステップ（Ｓ１２０）と、
前記第１のガラス基板または前記第２のガラス基板の周囲に沿った環状を有する環状の金属部材を準備するステップ（Ｓ１３０）と、
前記第１の接合層および前記第２の接合層が、それぞれ、前記金属部材の第１の接触領域および第２の接触領域と接するよう金属部材を組み合わせて、第１のガラス基板と第２のガラス基板を積層し、組立体を構成するステップ（Ｓ１４０）と、
前記組立体の少なくとも前記第１の接合層および前記第２の接合層を加熱して、前記第１の接合層および前記第２の接合層と前記金属部材とを結合させるステップ（Ｓ１５０）とを有する。
【００９８】
以下、各ステップについて詳しく説明する。
なお、以下の記載では、一例として、図１に示したような構成の真空複層ガラス１００を例に、本発明による真空複層ガラスの製造方法について説明する。
【００９９】
（ステップＳ１１０）
まず、第２のガラス基板１２０が準備される。
【０１００】
第２のガラス基板１２０の第２の表面１２２に機能膜１８０を積層する。機能膜１８０の積層方法は特に限られない。機能膜１８０の積層方法としては、例えばドライコーティング法が用いられる。ドライコーティング法としては、ＰＶＤ法、ＣＶＤ法が挙げられる。ＰＶＤ法の中でも、真空蒸着法、スパッタ法、イオンプレーティング法が好ましく、これらの中でも、密着性と平坦性に優れた膜の作製が可能で、商業的に広く用いられている点でスパッタ法が特に好ましい。
【０１０１】
次に、第２のガラス基板１２０と前記シール部材１５０とが重複する領域の機能膜１８０を除去して第２の領域１２８を形成する。機能膜１８０の除去方法は特に限られない。機能膜１８０の除去方法としては、例えば回転砥石で機能膜１８０を除去する等の物理エッチング（機械エッチング）や化学エッチング等があるが、第２のガラス基板１２０上の機能膜１８０が除去できる方法であれば、これらに限定されるものではない。
【０１０２】
第２のガラス基板１２０に積層された機能膜１８０を除去した第２の領域１２８以外の領域が第１の領域１２６になるため、第１の領域１２６と第２の領域１２８は同時に形成される。
【０１０３】
（ステップＳ１２０）
次に、第１のガラス基板１１０を準備し、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２に、第１のガラス基板１１０の周囲に沿った環状をなす第１の接合層１６０が形成される。
【０１０４】
以下、第１の接合層１６０がガラス固化層である場合を例に、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２の周囲に、第１のガラス固化層を形成する場合について説明する。
【０１０５】
第１のガラス基板１１０上の周囲に、第１のガラス固化層を形成する場合、まず、第１のガラス固化層用のペーストが調製される。通常、ペーストは、ガラスフリット、セラミック粒子、ポリマー、および有機バインダ等を含む。ただし、セラミック粒子は、省略しても良い。ガラスフリットは、最終的に、第１のガラス固化層を構成するガラス成分となる。
【０１０６】
調製されたペーストは、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２の周囲に塗布される。
【０１０７】
次に、ペーストを含む第１のガラス基板１１０が乾燥処理される。乾燥処理の条件は、ペースト中の溶剤が除去される条件である限り、特に限られない。乾燥処理は、例えば、第１のガラス基板１１０を、１００℃〜２００℃の温度に、３０分〜１時間程度保持することにより実施されても良い。
【０１０８】
次に、ペーストを仮焼成するため、第１のガラス基板１１０が高温で熱処理される。熱処理の条件は、ペースト中に含まれる有機バインダ等が除去される条件である限り、特に限られない。熱処理は、例えば大気中で３００℃〜４７０℃の温度範囲に、第１のガラス基板１１０を３０分〜１時間程度保持することにより実施しても良い。これにより、ペーストが焼成され、第１のガラス固化層が形成される。このときの固化層の厚さは１０μｍ〜１０００μｍとなる。
【０１０９】
同様に、第２のガラス基板１２０の第２の領域１２８に、第２の接合層１６５が形成される。
【０１１０】
このとき、真空複層ガラス１００を上部（厚さ方向：図１のＺ方向）から見たとき、第１の接合層１６０と第２の接合層１６５とは、重なり合っておらず、かつ、第２の接続層１６５は、第１の接合層１６０より内側に形成される。
【０１１１】
（ステップＳ１３０）
次に、真空複層ガラスの周囲に沿った環状の金属部材１５５が準備される。
【０１１２】
前述のように、環状の金属部材１５５は、接合部のない一体品（シームレス部材）であっても、複数の部材を組み合わせて構成しても良い。
【０１１３】
一体品（シームレス部材）の環状の金属部材１５５は、例えば、板状金属部材を準備し、この板状金属部材の内側を切り取るようにプレス裁断すれば、容易に製造することができる。
【０１１４】
（ステップＳ１４０）
次に、第１および第２のガラス基板１１０、１２０と、環状の金属部材１５５とを組み合わせることにより、組立体が構成される。
【０１１５】
この際には、金属部材１５５は、第３の表面１７０が第１のガラス基板１１０の側となり、第４の表面１７２が第２のガラス基板１２０の側となるように配置される。また、金属部材１５５は、第１の接触領域１７５が第１の接合層１６０と接触し、第２の接触領域１７７が第２の接合層１６５と接触するようにして配置される。
【０１１６】
また、この際には、必要に応じて、第１のガラス基板１１０と第２のガラス基板１２０の間に、１または２以上のスペーサ１９０を配置しても良い。
【０１１７】
組立体には、必要に応じて、第１のガラス基板１１０および／または第２のガラス基板１２０の側から、押し圧を加えても良い。
【０１１８】
（ステップＳ１５０）
次に、組立体が加熱される。加熱温度および加熱時間は、ガラス固化層の軟化点等によっても変化する。例えば、約３５０℃〜約６００℃、好ましくは４７０℃〜５６０℃（例えば４９０℃）の温度のチャンバー内に、組立体を５秒〜１８０分間ほど、好ましくは１５秒〜３０分間ほど（例えば２０分）保持した後、チャンバーより取り出して室温まで冷却を実施しても良い。なお、加熱処理は、組立体全体に対してではなく、例えば、第１および第２のガラス固化層１６０、１６５を局部的に加熱することにより、実施しても良い。その場合、レーザー等が利用できる。
【０１１９】
また、組立体の熱処理中に、金属部材１５５の第３の表面１７０および第４の表面１７２を加圧することで、第１および第２のガラス固化層１６０、１６５を加圧しても良い。このようにガラス固化層１６０、１６５を加圧した場合、金属部材１５５との接合強度が高くなる。なお、金属部材１５５に島状パターンの凹凸表面を構成されている場合、加圧により溶融（軟化）したガラス固化層１６０、１６５が広がることを抑制することができる。
【０１２０】
組立体の加熱によって、第１および第２のガラス固化層１６０、１６５が溶融（軟化）する。このため、金属部材１５５は、第１の接触領域１７５において、第１のガラス固化層１６０と結合され、第２の接触領域１７７において、第２のガラス固化層１６５と結合される。従って、組立体の加熱処理後には、第１および第２のガラス基板１１０、１２０の間に、シール部材１５０で囲まれた間隙部１３０が形成される。
【０１２１】
その後、第１および／または第２のガラス基板１１０、１２０に予め設けられていた開口を利用して、間隙部１３０内が減圧処理される。また、例えば、間隙部１３０内のガスが不活性ガスで置換されても良い。さらに、減圧処理に利用された開口が封止される。これにより、真空複層ガラス１００が製造される。
【０１２２】
なお、組立体の焼成処理は、減圧環境下で実施されても良い。すなわち、組立体を大気圧未満の圧力状態にあるチャンバー内に配置した状態で焼成処理を実施する。組立体の焼成処理を減圧環境下で実施した場合、焼成中に、間隙部１３０内が真空保持されることになるため、シール部材の処理と同時に、減圧処理が完了する。さらに、ガラス基板に孔を空ける必要がなく、また焼成後の減圧処理工程も必要なくなる。
【０１２３】
ここで、前述のように、金属部材１５５の第１の接触領域１７５および第２の接触領域１７７には、島状パターンが形成されている場合、加熱によって溶融（軟化）した第１および第２のガラス固化層１６０、１６５は、水平方向（図１のＸ方向）に広がり難くなり、第１および第２の接触領域１７５、１７７に留まるようになる。
【０１２４】
このため、最終的に製造されるシール部材１５０は、有意に短いシール幅Ｗを有する。また、これにより、シール部材１５０を設けることによる透光領域の狭小化が抑制され、有意に広い透光領域を有する真空複層ガラス１００を製造することが可能となる。
【実施例】
【０１２５】
図４に示すような構造を有する真空複層ガラス１００（実施例サンプル）を作成し、真空複層ガラス１００の第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２とは反対側の面（第１の外表面１１４）と、第２のガラス基板１２０の第２の表面１２２とは反対側の面（第２の外表面１２４）とに強制的に温度差を繰り返し与え、シール部材１５０の耐久性を評価した。
【０１２６】
また、図２に示すような構造を有する真空複層ガラス２００（比較例サンプル）を作成し、実施例サンプルと同様の方法でシール部材２５０の耐久性を評価した。
【０１２７】
なお、実施例サンプルおよび比較例サンプルの寸法は、縦６００ｍｍ×横６００ｍｍである。
【０１２８】
（実施例１）
真空複層ガラスの第１のガラス基板の第１の外表面と、第２のガラス基板の第２の外表面とに強制的に温度差を繰り返し与える方法は、以下に説明する方法を用いた。
【０１２９】
真空複層ガラスの第１のガラス基板の第１の外表面には、熱風発生機を用いて高温空気（約８０℃）を、送風機および冷却風発生機を用いて低温空気（約３０℃）を交互に供給した。高温空気は真空複層ガラスの第１のガラス基板の外表面の中央付近の表面温度（Ｔ１）が所定温度（Ｔａ）になるまで供給し、所定温度に到達後、高温空気を停止し、真空複層ガラスの第１のガラス基板の外表面の中央付近の表面温度が所定温度（Ｔｂ）に低下するまで低温空気を供給し、これらを約３０分毎に繰り返すように制御した。
【０１３０】
一方、真空複層ガラスの第２のガラス基板の第２の外表面には、ファン付きペルチェ冷却機を設置し冷却した。冷却機は温度制御機により制御され、約１０℃の冷媒を連続供給した。
【０１３１】
このとき、第２のガラス基板の第２の外表面温度（Ｔ２）とＴ１との温度差は、Ｔ１がＴａとなる場合、ＴａとＴ２との差（ΔＴ１）が約７０℃になるように制御し、Ｔ１がＴｂとなる場合、ＴｂとＴ２との差（ΔＴ２）が約２０℃になるように制御した。
【０１３２】
シール部材の耐久性の評価については、熱風サイクル試験中の真空複層ガラスの第１のガラス基板の第１の外表面の中央付近の温度（Ｔ１）と、第２のガラス基板の第２の外表面の中央付近の温度（Ｔ２）を計測し、Ｔ１とＴ２の差が小さくなると、シール部材が破断して真空複層ガラスの真空度が低下していると判定し、Ｔ１とＴ２の差が小さくなり始めのサイクル回数を記録した。
【０１３３】
一例として、図７に意図的に不健全なシール構造を有する真空複層ガラスを用いた場合の熱風サイクル試験１における、第１のガラス基板の第１の外表面の中央付近の温度（Ｔ１）と、第２のガラス基板の第２の外表面の中央付近の温度（Ｔ２）の温度変化を示す。
【０１３４】
図７に示すように、１２サイクル目以降、Ｔ１は所定の温度（Ｔａ）に到達せず、かつＴ２が高くなっており、シール部材が破断した結果、真空度が低下して真空複層ガラスの真空度が低下していることが分かる。
【０１３５】
次に、上記の方法で図４に示すような構造を有する真空複層ガラス１００（実施例サンプル１）のシール部材１５０の耐久性を評価した。また、比較例として図２に示すような構造を有する真空複層ガラス２００（比較例サンプル１〜３）を作成し、実施例サンプル１と同様の方法でシール部材２５０の耐久性を評価した。
【０１３６】
評価結果を表３に示す。
【０１３７】
【表３】
2016153364.tif 000005
【０１３８】
表３に示すように、実施例サンプル１は熱風サイクル試験１において、８５０サイクル以上経過しても、第１のガラス基板１１０の第１の外表面１１４の中央付近の温度（Ｔ１）は所定の温度（Ｔａ）に到達し、かつ第２のガラス基板１２０の第２の外表面１２４の中央付近の温度（Ｔ２）は高くならず、シール部材１５０は破断せず、実施例サンプル１の真空度は低下していないことが分かった。
【０１３９】
一方、比較例サンプル１は７サイクル目以降、比較例サンプル２は２２サイクル目以降、比較例サンプル３は８８サイクル目以降で第１のガラス基板２１０の第１の外表面２１４の中央付近の温度（Ｔ１）が所定の温度（Ｔａ）に到達せず、かつ第２のガラス基板２２０の第２の外表面２２４の中央付近の温度（Ｔ２）が高くなり、シール部材２５０が破断した結果、比較例サンプル１〜３の真空度が低下していることが分かった。
【０１４０】
（実施例２）
真空複層ガラスの第１のガラス基板の第１の外表面と、第２のガラス基板の第２の外表面とに強制的に温度差を繰り返し与える方法は、以下に説明する方法を用いた。
【０１４１】
真空複層ガラスの第２のガラス基板の第２の外表面には、熱風発生機を用いて高温空気（約８０℃）を、送風機および冷却風発生機を用いて低温空気（約３０℃）を交互に供給した。高温空気は真空複層ガラスの第２のガラス基板の外表面の中央付近の表面温度（Ｔ４）が所定温度（Ｔａ）になるまで供給し、所定温度に到達後、高温空気を停止し、真空複層ガラスの第２のガラス基板の外表面の中央付近の表面温度が所定温度（Ｔｂ）に低下するまで低温空気供給し、これらを約３０分毎に繰り返すように制御した。
【０１４２】
一方、真空複層ガラスの第１のガラス基板の第１の外表面には、ファン付きペルチェ冷却機を設置し冷却した。冷却機は温度制御機により制御され、約１０℃の冷媒を連続供給した。
【０１４３】
このとき、第１のガラス基板の第１の外表面温度（Ｔ３）とＴ４との温度差は、Ｔ４がＴａとなる場合、ＴａとＴ３との差（ΔＴ３）が約７０℃になるように制御し、Ｔ４がＴｂとなる場合、ＴｂとＴ３との差（ΔＴ４）が約２０℃になるように制御した。
【０１４４】
シール部材の耐久性の評価については、熱風サイクル試験中の真空複層ガラスの第２のガラス基板の第２の外表面の中央付近の温度（Ｔ４）と、第１のガラス基板の第１の外表面の中央付近の温度（Ｔ３）を計測し、Ｔ３とＴ４の差が小さくなると、シール部材が破断して真空複層ガラスの真空度が低下していると判定し、Ｔ３とＴ４の差が小さくなり始めのサイクル回数を記録した。
【０１４５】
次に、上記の方法で図４に示すような構造を有する真空複層ガラス１００（実施例サンプル２）のシール部材１５０の耐久性を評価した。また、比較例として図２に示すような構造を有する真空複層ガラス２００（比較例サンプル４〜８）を作成し、実施例サンプル２と同様の方法でシール部材２５０の耐久性を評価した。
【０１４６】
評価結果を表４に示す。
【０１４７】
【表４】
2016153364.tif 000006
【０１４８】
表４に示すように、実施例サンプル２は熱風サイクル試験１において、２７００サイクル以上経過しても、第２のガラス基板１２０の第２の外表面１２４の中央付近の温度（Ｔ４）は所定の温度（Ｔａ）に到達し、かつ第１のガラス基板１１０の第１の外表面１１４の中央付近の温度（Ｔ３）は高くならず、シール部材１５０は破断せず、実施例サンプル２の真空度は低下していないことが分かった。
【０１４９】
一方、比較例サンプル４は５サイクル目以降、比較例サンプル５は７５サイクル目以降、比較例サンプル６は１６９サイクル目以降、比較例サンプル７は４３４サイクル目以降、較例サンプル８は４４９サイクル目以降で第２のガラス基板２２０の第２の外表面２２４の中央付近の温度（Ｔ４）が所定の温度（Ｔａ）に到達せず、かつ第１のガラス基板２１０の第１の外表面２１４の中央付近の温度（Ｔ３）が高くなり、シール部材２５０が破断した結果、比較例サンプル４〜８の真空度が低下していることが分かった。
【産業上の利用可能性】
【０１５０】
本発明は、建築物の窓ガラス等に使用される真空複層ガラス等に利用することができる。
【符号の説明】
【０１５１】
１００、２００  複層ガラス
１１０、２１０  第１のガラス基板
１１２、２１２  第１の表面
１１４、２１４  第１の外表面
１２０、２２０  第２のガラス基板
１２２、２２２  第２の表面
１２４、２２４  第２の外表面
１２６、２２６  第１の領域
１２８、２２８  第２の領域
１３０、２３０  間隙部
１５０、２５０  シール部材
１５５、２５５  金属部材
１６０、２６０  第１の接合層
１６５、２６５  第２の接合層
１７０、２７０  第３の表面
１７２、２７２  第４の表面
１７５、２７５  第１の接触領域
１７７、２７７  第２の接触領域
１８０、２８０  機能膜
１９０  スペーサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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