(57)【要約】【課題】原子間力顕微鏡探針によって、黒欠陥の加工を行った際に生じる加工屑が、マスク面内に再付着することなく除去が可能な方法を提供する。【解決手段】フォトマスク１に発生した黒欠陥の修正方法であって、前記黒欠陥３を原子間力顕微鏡探針２により削り取る工程と、前記削り取る工程で発生した加工屑７を吸引ノズル４によって除去をする工程とを有し、吸引ノズル４を複数配置し、吸引ノズル４を各々独立して移動させ、吸引ノズル４によって除去する工程とを同時に実施する。【選択図】図１
2016029434.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクに発生した黒欠陥の修正方法であって、
前記黒欠陥を原子間力顕微鏡探針により削り取る工程と、前記削り取る工程で発生した加工屑を吸引ノズルによって除去をする工程とを有することを特徴としたフォトマスク欠陥修正方法。
【請求項２】
前記黒欠陥を前記原子間力顕微鏡探針により削り取る工程と、前記加工屑を前記吸引ノズルによって除去する工程とを、同時に実施することを特徴する請求項１に記載のフォトマスク欠陥修正方法。
【請求項３】
前記吸引ノズルを前記原子間力顕微鏡探針近傍に配置し、かつフォトマスクの修正面に対して前記吸引ノズルを垂直方向に可動させることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフォトマスク欠陥修正方法。
【請求項４】
前記吸引ノズルを複数配置し、前記吸引ノズルを各々独立して移動させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のフォトマスク欠陥修正方法。
【請求項５】
前記吸引ノズルの先端を、前記フォトマスクの修正面から、常に１ｍｍの間隔を保つように移動させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のフォトマスク欠陥修正方法。
【請求項６】
フォトマスクに発生した黒欠陥を修正するフォトマスク欠陥修正装置であって、
前記黒欠陥を削り取る原子間力顕微鏡探針と、
前記黒欠陥の加工にて発生した加工屑を吸引するための吸引ノズルとを、具備したことを特徴とするフォトマスク欠陥修正装置。
【請求項７】
前記吸引ノズルをフォトマスクの修正面に対して垂直方向に移動できるようにし、前記原子間力顕微鏡探針近傍に配置したことを特徴とする請求項６に記載のフォトマスク欠陥修正装置。
【請求項８】
前記吸引ノズルを複数配置し、各々独立して移動できるようにしたことを特徴とする請求項６または請求項７に記載のフォトマスク欠陥修正装置。
【請求項９】
前記吸引ノズルの先端が、前記フォトマスクの修正面から、常に１ｍｍの間隔を保つように移動できるようにしたことを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載のフォトマスク欠陥修正装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクの作製時に発生した、黒欠陥の修正を行う方法であって、異物の発生を低減、または防ぐことを目的としたフォトマスク欠陥修正方法および装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来マスク上に存在する異物に関しては、ウェット洗浄が用いられていたが、パターンの微細化に伴い、洗浄で除去しなければならない異物のサイズも小さくなっており、洗浄で落ちにくくなっている。
【０００３】
洗浄で除去できない異物は、欠陥同様、転写時に透過率を低下させるため、除去しなければならない。このような洗浄で除去できないような異物を原子間力顕微鏡探針により、除去する方法が提案されている（特許文献１)。
【０００４】
これは、マスク上の異物のうち、付着力の弱いものは原子間力顕微鏡探針で移動させ、付着力が強いものは硬い原子間力顕微鏡探針で削りとり、上記移動した異物若しくは異物の削り屑を、ウェット洗浄により除去している。
【０００５】
しかしながら、ウェット洗浄は乾燥等の後工程が必要となるため、ウェット洗浄を用いずに、原子間力顕微鏡探針にて、発生した加工屑を、ガスクラスターイオンビームを用いてスパッタ効果で除去を行う方法が提案されている（特許文献２）。
【０００６】
しかしながら、このスパッタ効果で加工屑除去を行う場合、フォトマスク面内に再付着してしまう恐れがあり、再付着を防ぐ方法が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−３９２６０号公報
【特許文献２】特開２００８−３０４７３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで本発明は、原子間力顕微鏡探針によって、黒欠陥の加工を行った際に生じる加工屑が、マスク面内に再付着することなく除去が可能な方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は、フォトマスクに発生した黒欠陥の修正方法であって、
前記黒欠陥を原子間力顕微鏡探針により削り取る工程と、前記削り取る工程で発生した加工屑を吸引ノズルによって除去をする工程とを有することを特徴としたフォトマスク欠陥修正方法である。
【００１０】
また、請求項２に記載の発明は、前記黒欠陥を前記原子間力顕微鏡探針により削り取る工程と、前記加工屑を前記吸引ノズルによって除去する工程とを、同時に実施することを特徴する請求項１に記載のフォトマスク欠陥修正方法である。
【００１１】
また、請求項３に記載の発明は、前記吸引ノズルを前記原子間力顕微鏡探針近傍に配置し、且つフォトマスクの修正面に対して前記吸引ノズルを垂直方向に可動させることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のフォトマスク欠陥修正方法である。
【００１２】
また、請求項４に記載の発明は、前記吸引ノズルを複数配置し、前記吸引ノズルを各々独立して移動させることを特徴とする請求項１〜３のいずれか一項に記載のフォトマスク欠陥修正方法である。
【００１３】
また、請求項５に記載の発明は、前記吸引ノズルの先端を、前記フォトマスクの修正面から、常に１ｍｍの間隔を保つように移動させることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のフォトマスク欠陥修正方法である。
【００１４】
また、請求項６に記載の発明は、フォトマスクに発生した黒欠陥を修正するフォトマスク欠陥修正装置であって、
前記黒欠陥を削り取る原子間力顕微鏡探針と、
前記黒欠陥の加工にて発生した加工屑を吸引するための吸引ノズルとを、具備したことを特徴とするフォトマスク欠陥修正装置である。
【００１５】
また、請求項７に記載の発明は、前記吸引ノズルをフォトマスクの修正面に対して垂直方向に移動できるようにし、前記原子間力顕微鏡探針近傍に配置したことを特徴とする請求項６に記載のフォトマスク欠陥修正装置である。
【００１６】
また、請求項８に記載の発明は、前記吸引ノズルを複数配置し、各々独立して移動できるようにしたことを特徴とする請求項６または請求項７に記載のフォトマスク欠陥修正装置である。
【００１７】
また、請求項９に記載の発明は、前記吸引ノズルの先端が、前記フォトマスクの修正面から、常に１ｍｍの間隔を保つように移動できるようにしたことを特徴とする請求項６〜８のいずれか一項に記載のフォトマスク欠陥修正装置である。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、フォトマスクの作製時に発生した黒欠陥を、原子間力顕微鏡探針を用い、黒欠陥を削ることで生じる加工屑を、発生と同時に、吸引除去されるため、再付着することがないため、欠陥の発生を大幅に減少させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の、吸引ノズルの配置状態の一例を示した側面概念図である。
【図２】本発明の、吸引ノズルの配置状態の一例を示した正面概念図である。
【図３】本発明の、複数の吸引ノズルを具備した場合の、吸引ノズルの配置状態の一例を示した概念図である。
【図４】本発明の、複数の吸引ノズルを具備した場合の配置状態の一例を示した正面概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下本発明を実施するための形態を、図面を用いて詳細に説明する。図１は、本発明のフォトマスク欠陥修正方法を示しており、フォトマスク１に発生した黒欠陥を、原子間力顕微鏡探針により削り取る工程における吸引ノズルの配置状態の一例を示している。
【００２１】
黒欠陥３を原子間力顕微鏡探針２により削り取る工程と、黒欠陥３を削り取るときに発生した加工屑７を、吸引ノズル４によって吸引除去を行う工程とを有することで、フォトマスク１面内への加工屑７の再付着を防ぐことができ、且つ加工屑７の除去を目的とした
フォトマスク１の再洗浄を省くことができる。
【００２２】
再洗浄を行う場合、洗浄工程において新たな異物等の付着が発生する恐れがあり、洗浄工程を省くことでこれを未然に防ぐことができる。
【００２３】
また、原子間力顕微鏡探針２による削り取る工程と、吸引ノズル４による加工屑７の吸引工程とを同時に実施することで、前記加工屑７の加工箇所への再付着を、効果的に防ぐことが可能となる。
【００２４】
図２は、図１と共に吸引ノズルの配置状態の一例を示しており、吸引ノズル４が、原子間力顕微鏡探針２の近傍に配置され、かつフォトマスク１の修正面に対して図１に示すように垂直方向６に移動させることで、吸引ノズル４がフォトマスク１の表面に接触せずに、前記原子間力顕微鏡探針２の可動範囲が広がり、多様な黒欠陥３の加工が可能となる。
【００２５】
図３、４は、複数の吸引ノズルを具備した場合の、吸引ノズルの配置状態の一例を示しており、かつ原子間力顕微鏡探針２および吸引ノズル４が各々独立して可動することで、よりフレキシブルに、効率的に黒欠陥３を除去を行うことが可能となる。
【００２６】
また、吸引ノズル４の先端５が、フォトマスク１の修正面から常に１ｍｍの間隔を保つように可動することで、フォトマスク１の表面に接触することなく、かつ確実に加工屑７の除去が可能となる。
【実施例１】
【００２７】
＜フォトマスク、黒欠陥＞
縦６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×横６ｉｎｃｈ（１５２．４ｍｍ）×厚さ２．３ｍｍのフォトマスクブランク上に、Ｌｉｎｅ：Ｓｐａｃｅ＝３００ｎｍ：３００ｎｍが形成されたフォトマスクを用い、Ｌｉｎｅパターンエッジに接した５０ｎｍ×５０ｎｍの突起欠陥を修正した。
【００２８】
＜フォトマスク欠陥修正装置＞
黒欠陥の除去に、原子間力顕微鏡：Ｘ３Ｄ（ＶｅｅＣｏ社製）を用い、探針から２ｍｍの位置に、長辺３．５ｍｍ×短辺２．０ｍｍの吸引口を持つ吸引ノズル先端を１台設置した。
【００２９】
フォトマスクの黒欠陥を持つ修正面から１ｍｍの位置まで、吸引ノズル先端を近づけ、黒欠陥を探針で削り取りながら、吸引ノズルより吸引を行った。加工後に欠陥検査を行ったが、突起の加工を行った箇所および周辺において加工屑は確認されなかった。
【実施例２】
【００３０】
実施例１と同様の黒欠陥を持つ、実施例１と同じ寸法のフォトマスクを用い、実施例１にて用いた吸引ノズル先端と同じ、長辺３．５ｍｍ×短辺２．０ｍｍの吸引口を持つ吸引ノズル先端を、２台実施例１と同じく探針から２ｍｍの位置に、対向するように設置した。
【００３１】
実施例１と同様に、フォトマスクの黒欠陥を持つ修正面から１ｍｍの位置まで、吸引ノズル先端を近づけ、黒欠陥を探針で削り取りながら、吸引ノズルより吸引を行った。加工後に欠陥検査を行ったが、突起の加工を行った箇所および周辺において加工屑は確認されなかった。
【００３２】
以上のように、吸引ノズルによる吸引により、黒欠陥３を原子間力顕微鏡探針２により削り取ることにより発生する加工屑を完全に除去することが可能で、加工後のウェット洗浄は必要がなくなった。
【符号の説明】
【００３３】
１・・・フォトマスク
２・・・原子間力顕微鏡探針
３・・・黒欠陥
４・・・吸引ノズル
５・・・吸引ノズル先端
６・・・吸引ノズル可動方向
７・・・加工屑
【図１】
2016029434.tif 000003
【図２】
2016029434.tif 000004
【図３】
2016029434.tif 000005
【図４】
2016029434.tif 000006