(57)【要約】【課題】ダイアフラムの受圧面に異物が付着して、検出精度が低下することを抑制する圧力センサを提供する。【解決手段】圧力センサ１００は、異物３００を含む測定媒体の圧力を測定する。圧力センサ１００は、ダイアフラム１４と、圧力検出素子１６と、を備えている。ダイアフラム１４は、測定媒体と接触する受圧面１４ａを有し、測定媒体の圧力に応じて変形する。圧力検出素子１６は、ダイアフラム１４の変形に応じた検出信号を出力する。受圧面１４ａは、複数の突出部２０を有する凹凸形状をなしている。隣り合う突出部２０同士の距離は、異物３００の幅以下とされている。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
異物（３００）を含む測定媒体の圧力を測定する圧力センサであって、
前記測定媒体と接触する受圧面（１４ａ）を有し、前記測定媒体の圧力に応じて変形するダイアフラム（１４）と、
前記ダイアフラムの変形に応じた検出信号を出力する圧力検出素子（１６）と、を備え、
前記受圧面は、複数の突出部（２０）を有する凹凸形状をなし、
隣り合う前記突出部同士の距離は、前記異物の幅以下とされていることを特徴とする圧力センサ。
【請求項２】
複数の前記突出部は、前記受圧面において二次元状に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の圧力センサ。
【請求項３】
複数の前記突出部は、前記受圧面において互いに平行となるように延設されていることを特徴とする請求項１に記載の圧力センサ。
【請求項４】
隣り合う前記突出部同士の距離は、１００μｍ以下とされていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の圧力センサ。
【請求項５】
前記受圧面には、撥油膜（２２）が形成されていることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の圧力センサ。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載の圧力センサの製造方法であって、
前記ダイアフラムの前記受圧面に対して、レジスト（４００）を塗布する塗布工程と、
塗布工程実施後、前記凹凸形状に対応するパターンが形成されたフォトマスク（５４０）を介して前記レジストに光を入射し、前記レジストを前記凹凸形状とすることで、前記受圧面を前記凹凸形状とするリソグラフィ工程と、を備えることを特徴とする圧力センサの製造方法。
【請求項７】
前記フォトマスクは、各突出部に対応する光透過部（５４０ａ）を有し、
各光透過部は、前記レジストに光を透過するためのスリット（５４０ｂ）を複数有し、
前記スリットの幅は、前記光透過部の中心から離れるほど、広くされていることを特徴とする請求項６に記載の圧力センサの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定媒体の圧力に応じて変形するダイアフラムと、ダイアフラムの変形に応じた検出信号を出力する圧力検出素子と、を備える圧力センサ及びその製造方法に関する。
に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特許文献１に記載のように、ダイアフラム及び検出用素子を備えるセンサチップが知られている。検出用素子は、ダイアフラムの表面側に形成されている。ダイアフラムの裏面には、被測定圧力が印加される。これにより、ダイアフラムが歪み、この歪みに基づいてセンサチップからセンサ信号が出力される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２２０４５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、被測定圧力が印加されるダイアフラムの裏面は、平坦な面とされている。そのため、被測定圧力の異物が裏面に付着する虞がある。裏面に異物が付着すると、センサチップの検出精度が低下する虞がある。
【０００５】
そこで、本発明は、上記問題点に鑑み、ダイアフラムの受圧面に異物が付着して、検出精度が低下することを抑制する圧力センサを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
ここに開示される発明は、上記目的を達成するために以下の技術的手段を採用する。なお、特許請求の範囲及びこの項に記載した括弧内の符号は、ひとつの態様として下記の実施形態に記載の具体的手段との対応関係を示すものであって、発明の技術的範囲を限定するものではない。
【０００７】
開示された発明のひとつは、異物（３００）を含む測定媒体の圧力を測定する圧力センサであって、測定媒体と接触する受圧面（１４ａ）を有し、測定媒体の圧力に応じて変形するダイアフラム（１４）と、ダイアフラムの変形に応じた検出信号を出力する圧力検出素子（１６）と、を備え、受圧面は、複数の突出部（２０）を有する凹凸形状をなし、隣り合う突出部同士の距離は、異物の幅以下とされていることを特徴とする。
【０００８】
上記構成では、異物が突出部同士の間に入り込むことを抑制することができる。これによれば、受圧面が平面とされた構成に較べ、受圧面と異物との接触面積を小さくすることができる。したがって、受圧面に異物が付着して、圧力センサの検出精度が低下することを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１実施形態に係る圧力センサの概略構成を示す断面図である。
【図２】受圧面の詳細構造を示す断面図である。
【図３】図２のIII−III線に沿う断面図である。
【図４】塗布工程を説明するための断面図である。
【図５】露光工程を説明するための側面図である。
【図６】フォトマスクの詳細構造を示す平面図である。
【図７】フォトマスクにおけるスリットの詳細構造を示す平面図である。
【図８】現像工程を説明するための断面図である。
【図９】エッチング工程を説明するための断面図である。
【図１０】第２実施形態に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図である。
【図１１】第１変形例に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図である。
【図１２】第３実施形態に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図であって、図３に対応している。
【図１３】フォトマスクにおけるスリットの詳細構造を示す平面図であって、図７に対応している。
【図１４】第２変形例に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図であって、図３に対応している。
【図１５】第３変形例に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図であって、図２に対応している。
【図１６】第４変形例に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図であって、図２に対応している。
【図１７】第５変形例に係る圧力センサにおける受圧面の詳細構造を示す断面図であって、図２に対応している。
【図１８】図１７のＸＶII−ＸＶII線に沿う断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。なお、以下に示す各実施形態において、共通乃至関連する要素には同一の符号を付与するものとする。センサ基板の厚さ方向をＺ方向、Ｚ方向に直交する特定の方向をＸ方向、Ｚ方向及びＸ方向に直交する方向をＹ方向と示す。Ｘ方向及びＹ方向により規定される平面をＸＹ平面と示す。ＸＹ平面に沿う形状を平面形状と示す。
【００１１】
（第１実施形態）
先ず、図１に基づき、圧力センサ１００の概略構成について説明する。
【００１２】
圧力センサ１００は、測定媒体の圧力を検出するセンサである。本実施形態では、測定媒体が、エンジンオイルとされている。圧力センサ１００は、センサ基板１０とキャップ基板３０とを備えている。
【００１３】
センサ基板１０は、溝部１２と、ダイアフラム１４と、圧力検出素子１６と、配線１８と、を有している。センサ基板１０は、厚さ方向がＺ方向と平行な平板状とされている。センサ基板１０は、Ｚ方向に直交する一面１０ａと、一面１０ａと反対の裏面１０ｂと、を有している。センサ基板１０は、シリコンを用いて形成されている。
【００１４】
溝部１２は、センサ基板１０において、一面１０ａから所定厚さ凹んでいる部分である。溝部１２が囲む空間に、測定媒体が導入される。センサ基板１０において、溝部１２により厚さが薄くされた部分がダイアフラム１４である。
【００１５】
ダイアフラム１４は、測定媒体に応じて変形する。ダイアフラム１４は、測定媒体と接触する受圧面１４ａを有している。ダイアフラム１４は、測定媒体の圧力に応じてＺ方向に変形する。受圧面１４ａは、ダイアフラム１４において、溝部１２を規定する面である。すなわち、受圧面１４ａは、センサ基板１０における溝部１２の底面である。受圧面１４ａの詳細構造については、下記で詳細に説明する。
【００１６】
圧力検出素子１６は、ダイアフラム１４の変形に応じた検出信号を出力する。圧力検出素子１６は、ダイアフラム１４に形成されている。圧力検出素子１６としては、例えば、応力により比抵抗が変化するゲージ抵抗を採用することができる。
【００１７】
配線１８は、圧力検出素子１６の検出信号をキャップ基板３０に伝達するための配線である。配線１８は、金属材料を用いて形成されている。配線１８は、裏面１０ｂ上に形成されている。センサ基板１０は、キャップ基板３０と接合されている。
【００１８】
キャップ基板３０は、溝部３２と貫通電極３４とを有している。キャップ基板３０は、厚さ方向がＺ方向に平行な平板状とされている。キャップ基板３０は、Ｚ方向に直交するとともに裏面１０ｂと対向する対向面３０ａと、対向面３０ａと反対の裏面３０ｂと、を有している。キャップ基板３０は、シリコンを用いて形成されている。
【００１９】
キャップ基板３０は、対向面３０ａと裏面１０ｂとが互いに接触するように、センサ基板１０と直接接合されている。キャップ基板３０の平面形状は、センサ基板１０の平面形状とほぼ同じ形状とされている。
【００２０】
溝部３２は、キャップ基板３０において、対向面３０ａから所定厚さ凹んでいる部分である。溝部３２の開口が裏面１０ｂにより閉塞されている。溝部３２は、ＸＹ平面において、ダイアフラム１４とほぼ同じ位置に形成されている。これにより、ダイアフラム１４がＺ方向に変形し易い。溝部３２及び裏面１０ｂが囲む空間は、圧力センサ１００の圧力基準室である。圧力基準室は、気密封止され、圧力がほぼ一定値とされている。
【００２１】
貫通電極３４は、キャップ基板３０をＺ方向に貫通している。貫通電極３４は、金属材料を用いて形成されている。貫通電極３４は、対向面３０ａにおいて配線１８と接続され、裏面３０ｂにおいて外部配線２００と接合されている。圧力検出素子１６の検出信号は、配線１８、貫通電極３４、及び外部配線２００を介して外部に出力される。
【００２２】
次に、図２及び図３に基づき、受圧面１４ａの詳細構造について説明する。
【００２３】
受圧面１４ａは、複数の突出部２０を有する凹凸形状をなしている。各突出部２０は、一面１０ａに向かって突出している。本実施形態において、各突出部２０の形状は円錐形状とされている。突出部２０の表面が、受圧面１４ａである。本実施形態において、各突出部２０の形状は、互いにほぼ等しくされている。また、各突出部２０の突出先端におけるＺ方向の位置は、互いに等しくされている。
【００２４】
測定媒体には、異物３００が含まれている。本実施形態において想定される異物３００は、固化した油である。隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１は、異物３００の幅Ｌ２よりも小さくされている。隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１とは、任意の突出部２０に対して、ＸＹ平面における距離が最も近い突出部２０との距離である。想定される異物３００のうち最も小さい異物３００において、その外郭形状の最小幅を幅Ｌ２とする。
【００２５】
本実施形態では、全ての突出部２０において、距離Ｌ１がほぼ一定とされている。すなわち、受圧面１４ａにおいて突出部２０は、周期的に配置されている。突出部２０が円錐形状をなす本実施形態において、距離Ｌ１は、突出部２０の突出先端同士を結ぶ線分の長さである。
【００２６】
本実施形態において、複数の突出部２０は、受圧面１４ａにおいて、二次元状に配置されている。複数の突出部２０が、Ｘ方向及びＹ方向に並んで配置されている。さらに、本実施形態において、突出部２０は正方配置とされている。詳しくは、Ｘ方向における突出部２０同士の距離が、Ｙ方向における突出部２０同士の距離とほぼ等しい。さらに、Ｘ方向における突出部２０同士の距離、及び、Ｙ方向における突出部２０同士の距離が、任意の突出部２０における最も距離の近い突出部２０との距離Ｌ１とされている。また、距離Ｌ１は、１００μｍ以下とされている。
【００２７】
次に、図４〜図９に基づき、圧力センサ１００の製造方法について説明する。
【００２８】
先ず、互いに接合されたキャップ基板３０とセンサ基板１０とを準備する準備工程を実施する。準備工程において、溝部３２が形成されたキャップ基板３０を準備する。また、溝部１２が形成されておらず、厚さがほぼ一定のセンサ基板１０を準備する。
【００２９】
準備工程実施後、図４に示すように、センサ基板１０に対してレジスト４００を塗布する塗布工程を実施する。センサ基板１０の一面１０ａ全体に対して、レジスト４００の厚さが均一となるように塗布する。これにより、レジスト４００における一面１０ａとの対向面４００ａと反対の裏面４００ｂは、一面１０ａと平行な平面とされている。本実施形態では、下記の現像工程において、光が照射された部分が現像液により除去されるポジ型のレジスト４００を塗布する。
【００３０】
レジスト４００を塗布する方法としては、例えば、センサ基板１０及びキャップ基板３０を支持台に固定する。そして、センサ基板１０に対して感光性樹脂液を滴下し、レジスト４００の厚さが均一となるように支持台を回転させる。
【００３１】
塗布工程実施後、図５〜図７に示すように、レジスト４００に対して光を照射して変質させる露光工程を実施する。露光工程では、図５に示す周知の露光装置５００を用いる。露光装置５００は、光源５１０と、絞り５２０と、コンデンサレンズ５３０と、フォトマスク５４０と、投影レンズ５５０と、を有している。
【００３２】
光源５１０が出射する光は、絞り５２０に入射する。絞り５２０は、光の量を調整し、コンデンサレンズ５３０に光を出射する。コンデンサレンズ５３０は、光を集光し、フォトマスク５４０に光を出射する。
【００３３】
フォトマスク５４０には、受圧面１４ａの凹凸形状に対応する所定のパターンが形成されている。フォトマスク５４０のパターンにより、レジスト４００に光が照射される箇所、及び、光の強度が調整される。フォトマスク５４０のパターンは、例えば、クロムを用いて形成されている。
【００３４】
図６に示すように、フォトマスク５４０には、各突出部２０に対応する光透過部５４０ａが形成されている。図６は、フォトマスク５４０を投影レンズ５５０側から見た平面図であって、パターンを明確にするために、光透過部５４０ａにハッチングを施している。図７に示すように、光透過部５４０ａは、複数のスリット５４０ｂを有している。図７は、フォトマスク５４０を投影レンズ５５０側から見た平面図であって、スリット５４０ｂを明確にするために、スリット５４０ｂ以外の部分にハッチングを施している。
【００３５】
光透過部５４０ａは、突出部２０と同様に、正方配置とされている。各光透過部５４０ａにおける全てのスリット５４０ｂは、同心円状に形成された円環状とされている。各光透過部５４０ａにおいて、中心から離れたスリット５４０ｂほど、スリット５４０ｂの幅が大きくされている。そのため、各光透過部５４０ａが出射する光は、中心に遠ざかるほど光の強度が強くされる。これにより、下記の現像工程において、レジスト４００における各光透過部５４０ａに対応する部分を円錐形状とすることができる。フォトマスク５４０は、投影レンズ５５０に光を出射する。
【００３６】
投影レンズ５５０は、光を集光し、レジスト４００に出射する。レジスト４００には、ＸＹ平面においてセンサ基板１０の溝部１２が形成される部分と同様の箇所に対して光が照射される。レジスト４００は、光が照射された部分が変質する。
【００３７】
露光工程実施後、図８に示すように、レジスト４００の一部を除去する現像工程を実施する。現像工程により、レジスト４００の一部が裏面４００ｂから凹むように除去される。レジスト４００の凹みは、溝部１２と同様の形状とされている。よって、レジスト４００の凹みにおける底面が凹凸形状とされている。現像工程としては、例えば、レジスト４００に応じた現像液に対して、レジスト４００を浸すディップ現像を採用することができる。本実施形態では、レジスト４００において、光が照射された部分が除去される。
【００３８】
現像工程実施後、図９に示すように、レジスト４００及びセンサ基板１０の一部を除去するエッチング工程を実施する。エッチング工程では、レジスト４００及びセンサ基板１０のＸＹ平面における全ての部分において、除去する部分の厚さをほぼ一定とする。本実施形態では、レジスト４００を全て除去し、センサ基板１０の一部を除去する。エッチング工程としては、例えば、レジスト４００及びセンサ基板１０に対してガスを導入するドライエッチングを採用することができる。露光工程、現像工程、及びエッチング工程は、特許請求の範囲に記載のリソグラフィ工程に相当する。
【００３９】
エッチング工程実施後、キャップ基板３０と外部配線２００とを電気的に接続する接続工程を実施する。接続工程では、外部配線２００とキャップ基板３０の貫通電極３４とを接合する。以上により、図１に示す圧力センサ１００を製造することができる。
【００４０】
次に、上記した圧力センサ１００の効果について説明する。
【００４１】
本実施形態では、受圧面１４ａが凹凸形状をなし、隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１が異物３００の幅Ｌ２よりも小さくされている。そのため、異物３００が突出部２０同士の間に入り込むことを抑制することができる。これによれば、受圧面１４ａが平面とされた構成に較べ、受圧面１４ａと異物３００との接触面積を小さくすることができる。したがって、受圧面１４ａに異物３００が付着して、圧力センサ１００の検出精度が低下することを抑制することができる。
【００４２】
また、本実施形態では、複数の突出部２０が、受圧面１４ａにおいて二次元状に配置されている。これによれば、複数の突出部２０が受圧面１４ａにおいて互いに平行となるように延設された構成に較べ、受圧面１４ａと異物３００との接触面積を小さくすることができる。したがって、受圧面１４ａに異物が付着することを効果的に抑制することができる。
【００４３】
また、本実施形態では、隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１が１００μｍ以下とされている。これによれば、ロータス効果により、受圧面１４ａが撥油機能を有する。したがって、異物３００が受圧面１４ａに付着することを効果的に抑制することができる。
【００４４】
また、本実施形態では、受圧面１４ａの凹凸形状に対応するパターンが形成されたフォトマスク５４０を用いて露光工程（リソグラフィ工程）を実施する。そのため、受圧面１４ａの形状を制御し易く、受圧面１４ａを容易に所望の凹凸形状とすることができる。
【００４５】
また、本実施形態では、フォトマスク５４０の各光透過部５４０ａにおいて、スリット５４０ｂの幅が、光透過部５４０ａの中心から離れるほど広くされている。これによれば、光透過部５４０ａにおいて、各スリット５４０ｂの幅が同じとされた構成に較べ、突出部２０の突出先端を尖った形状とし易い。したがって、受圧面１４ａと異物３００との接触面積を小さくして、受圧面１４ａに異物が付着することを効果的に抑制することができる。
【００４６】
（第２実施形態）
本実施形態において、第１実施形態に示した圧力センサ１００と共通する部分についての説明は割愛する。
【００４７】
図１０に示すように、受圧面１４ａには、撥油膜２２が形成されている。本実施形態において、センサ基板１０における溝部１２の底面が凹凸形状をなしている。溝部１２の底面上に、厚さがほぼ均一とされた撥油膜２２が形成されている。
【００４８】
撥油膜２２において、Ｚ方向のうちセンサ基板１０と反対側の面が、受圧面１４ａである。撥油膜２２は、ゲル状とされている。撥油膜２２は、フッ化アルキルシラン等のコーティング材を用いて形成されている。本実施形態では、受圧面１４ａに撥油膜２２が形成されているため、異物３００が受圧面１４ａに付着することを効果的に抑制することができる。
【００４９】
なお、本実施形態において、センサ基板１０が凹凸形状をなし、撥油膜２２の厚さがほぼ均一とされた例を示したが、これに限定するものではない。受圧面１４ａが凹凸形状をなす構成であれば採用することができる。図１１の第１変形例に示すように、センサ基板１０における溝部１２の底面が、ＸＹ平面に沿う平坦な面とされた例を採用することもできる。溝部１２の底面に、凹凸形状をなす撥油膜２２が形成されている。これにより、受圧面１４ａが凹凸形状をなしている。
【００５０】
（第３実施形態）
本実施形態において、第１実施形態に示した圧力センサ１００と共通する部分についての説明は割愛する。
【００５１】
図１２に示すように、複数の突出部２０が、受圧面１４ａにおいて互いに平行となるように延設されている。本実施形態では、ＸＹ平面において、各突出部２０がＹ方向に延設された直線状をなしている。各突出部２０のＸＺ平面に沿う断面形状は、突出先端が尖った三角形状とされている。
【００５２】
本実施形態では、第１実施形態と同様に、フォトマスク５４０を用いて露光工程を実施する。図１３に示すように、フォトマスク５４０の光透過部５４０ａにおける各スリット５４０ｂの平面形状は、長手方向がＹ方向と平行な矩形状とされている。スリット５４０ｂの平面形状における短手方向の長さが、スリット５４０ｂの幅である。
【００５３】
図１３では、光透過部５４０ａにおいて、突出部２０の突出先端に対応する部分を破線で示している。本実施形態において、この突出部２０の突出先端に対応する部分が、特許請求の範囲に記載の光透過部５４０ａの中心に相当する。ＸＹ平面において、各光透過部５４０ａの中心からＸ方向に離れたスリット５４０ｂほど、その幅が大きくされている。
【００５４】
なお、本実施形態では、各突出部２０がＹ方向に延設された直線状をなしている例を示したが、これに限定するものではない。各突出部２０の延設方向は、ＸＹ平面に沿う方向であれば採用することができる。例えば、各突出部２０の平面形状が、同心円状に形成された環状とされている例を採用することもできる。
【００５５】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明は上記実施形態になんら制限されることなく、本発明の主旨を逸脱しない範囲において、種々変形して実施することが可能である。
【００５６】
上記実施形態では、受圧面１４ａにおける突出部２０の配置を正方配置とする例を示したが、これに限定されるものではない。隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１が、異物３００の幅Ｌ２よりも小さくされた構成であれば採用することができる。図１４の第２変形例に示すように、受圧面１４ａにおいて突出部２０の配置を細密配置とする例を採用することができる。
【００５７】
第２変形例では、上記実施形態と同様に、複数の突出部２０がＸ方向及びＹ方向に並んで配置されている。Ｘ方向に隣り合う突出部２０同士の距離は、所定の距離Ｌ３とされている。Ｙ方向に隣り合う突出部２０同士の距離は、距離Ｌ３よりも長い所定の距離Ｌ４とされている。以下、Ｘ方向に並ぶ複数の突出部２０を突出行、Ｙ方向に並ぶ複数の突出部２０を突出列と示す。
【００５８】
Ｙ方向において隣り合う突出行同士の距離は、距離Ｌ４の２分の１の距離とされている。任意の突出行に対して、Ｙ方向に隣り合う突出行は、Ｘ方向に距離Ｌ３の２分の１の距離ずれて配置されている。Ｘ方向において隣り合う突出列同士の距離は、距離Ｌ３の２分の１の距離とされている。任意の突出列に対して、Ｘ方向に隣り合う突出行は、Ｙ方向に距離Ｌ４の２分の１の距離ずれて配置されている。突出部２０の配置を細密配置とすることにより、正方配置とされた構成に較べて、受圧面１４ａに対してより多くの突出部２０を形成することができる。
【００５９】
また、上記実施形態では、突出部２０の形状を円錐形状とする例を示したが、これに限定するものではない。図１５の第３変形例に示すように、突出部２０の突出先端が曲面とされる例を採用することもできる。第３変形例において、隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１は、ＸＹ平面における突出部２０の中心同士を結ぶ線分の長さである。
【００６０】
また、図１６の第４変形例に示すように、突出部２０の形状を柱状とする例を採用することもできる。第４変形例において、隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１は、突出部２０における側面同士の最短距離である。
【００６１】
また、上記実施形態では、受圧面１４ａにおいて、突出部２０が周期的に配置される例を示したが、これに限定するものではない。図１７及び図１８の第５変形例に示すように、受圧面１４ａにおいて、突出部２０がランダムに配置されている例を採用することもできる。隣り合う突出部２０同士の距離Ｌ１は、幅Ｌ２以下の範囲で不定とされている。
【００６２】
変形例５では、突出部２０の形状もランダムとされている。突出部２０をランダムに配置する方法としては、例えば、エッチング工程において、エッチングの条件を調整する。一般的に、ドライエッチングによりエッチング工程を実施する際、レジスト４００及びセンサ基板１０を除去するためのガスと、除去しない部分を保護するためのガスと、を用いる。変形例５では、保護するガスの割合を多くすることにより、このガスに含まれる反応生成物を、レジスト４００及びセンサ基板１０に対して不均一に付着させる。
【００６３】
レジスト４００及びセンサ基板１０において、上記反応生成物が付着した部分はエッチングにより除去され難い。そのため、受圧面１４ａを突出部２０がランダムに配置された凹凸形状とすることができる。上記方法では、露光工程及び現像工程において、レジスト４００を凹凸形状とする必要がない。
【００６４】
また、上記実施形態では、圧力センサ１００が、センサ基板１０とキャップ基板３０とを備える例を示したが、これに限定するものではない。圧力センサ１００は、ダイアフラム１４と圧力検出素子１６とを備え、測定媒体の圧力を測定可能な構成であれば採用することができる。
【００６５】
また、上記実施形態では、圧力センサ１００の測定媒体がエンジンオイルである例を示したが、これに限定するものではない。圧力センサ１００の測定媒体としては、例えば、ガソリン、排気凝縮水、冷媒を採用することもできる。
【００６６】
また、上記実施形態では、エッチング工程において、レジスト４００を全て除去する例を示したが、これに限定するものではない。レジスト４００の一部を残し、レジスト４００の表面を受圧面１４ａとする例を採用することもできる。
【００６７】
また、上記実施形態では、圧力センサ１００の製造方法において、ポジ型のレジスト４００を用いる例を示したが、これに限定するものではない。光が照射されない部分が現像液により除去されるネガ型のレジスト４００を採用することもできる。また、光源５１０、絞り５２０、コンデンサレンズ５３０、フォトマスク５４０、投影レンズ５５０を有する露光装置５００を用いて露光工程を実施したが、これに限定するものではない。
【００６８】
また、上記実施形態では、塗布工程において、センサ基板１０の一面１０ａ全体にレジスト４００を塗布する例を示したが、これに限定するものではない。塗布工程では、少なくともセンサ基板１０における受圧面１４ａを形成する部分に対してレジスト４００を塗布する構成であれば採用することができる。
【符号の説明】
【００６９】
１０…センサ基板、１０ａ…一面、１０ｂ…裏面、１２…溝部、１４…ダイアフラム、１４ａ…受圧面、１６…圧力検出素子、１８…配線、２０…突出部、２２…撥油膜、３０…キャップ基板、３０ａ…対向面、３０ｂ…裏面、３２…溝部、３４…貫通電極、１００…圧力センサ、２００…外部配線、３００…異物、４００…レジスト、５００…露光装置、５１０…光源、５２０…絞り、５３０…コンデンサレンズ、５４０…フォトマスク、５４０ａ…光透過部、５４０ｂ…スリット、５５０…投影レンズ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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