(57)【要約】      （修正有）【課題】溶液の濃度を正確に測定することができる濃度測定装置及び内視鏡洗浄消毒装置を提供する。【解決手段】濃度測定装置は、溶液を貯留する貯留部２と、検知面３ａが前記貯留部２内に露出するように配置された濃度計３と、前記貯留部２内に配置され、磁性材料を含んで構成された少なくとも１個の研磨部材４と、前記研磨部材４が前記検知面３ａに衝突するように前記貯留部２内の前記溶液に流れを生じさせる水流制御部５と、磁界を発生させ、前記研磨部材４に対して前記検知面３ａから離間する方向への磁力を作用させる磁界発生部６と、前記濃度計３および前記磁界発生部６に電気的に接続され、前記濃度計３の稼働時のうちの少なくとも所定の期間は前記磁界発生部６を稼働させて前記検知面３ａから前記研磨部材４を離間させる制御部７と、を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶液を貯留する貯留部と、
検知面が前記貯留部内に露出するように配置された濃度計と、
前記貯留部内に配置され、磁性材料を含んで構成された少なくとも１個の研磨部材と、
前記研磨部材が前記検知面に衝突するように前記貯留部内の前記溶液に流れを生じさせる水流制御部と、
磁界を発生させ、前記研磨部材に対して前記検知面から離間する方向への磁力を作用させる磁界発生部と、
前記濃度計および前記磁界発生部に電気的に接続され、前記濃度計の稼働時のうちの少なくとも所定の期間は前記磁界発生部を稼働させて前記検知面から前記研磨部材を離間させる制御部と、
を含むことを特徴とする濃度測定装置。
【請求項２】
請求項１に記載の濃度測定装置を含むことを特徴とする内視鏡洗浄消毒装置。
【請求項３】
内視鏡を配置する洗浄槽と、
前記洗浄槽に接続され、薬液を貯留する薬液タンクと、
一方の端部が前記薬液タンクに接続され、請求項１に記載の濃度測定装置を含む濃度検知部と、
を含むことを特徴とする請求項２に記載の内視鏡洗浄消毒装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶液の濃度を測定する濃度測定装置及び内視鏡洗浄消毒装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
医療分野において使用される内視鏡は、使用後に洗浄処理及び消毒処理が施される。また、内視鏡の洗浄処理及び消毒処理を自動的に行う内視鏡洗浄消毒装置が知られている。内視鏡洗浄消毒装置に消毒液等の溶液の使用の可否を自動的に判定する機能を持たせる場合には、溶液の濃度を測定する濃度測定装置が必要となる。
【０００３】
濃度測定装置は、例えば特開２００９−１６８６９４号公報に開示されているように、溶液中に配置された一対の電極間に電圧を印加し、当該電圧値と一対の電極間に流れる電流値との関係から溶液の濃度を測定する、いわゆるポーラログラフ法を用いるものが知られている。
【０００４】
ポーラログラフ法を用いる濃度測定装置では、電極の溶液と触れる検知面に粒状の研磨部材を衝突させ、検知面に付着したスケールを除去する。研磨部材は、溶液中に存在しており、溶液の流動に乗って移動し検知面に衝突する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−１６８６９４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ポーラログラフ法を用いる濃度測定装置において、濃度測定時に検知面に研磨部材が接触すると、測定結果に変動が生じる可能性がある。濃度測定時に溶液の流動を止めれば、研磨部材の検知面への接触に起因する測定結果の変動を防止することができるが、溶液が流動しないことによって、検知面近傍に通電によって変質した溶液が留まり、これが測定結果に誤差を生じさせる原因となる。
【０００７】
本発明は、上述した点に鑑みてなされたものであって、溶液の濃度を正確に測定することができる濃度測定装置及び内視鏡洗浄消毒装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一態様による濃度測定装置は、溶液を貯留する貯留部と、検知面が前記貯留部内に露出するように配置された濃度計と、前記貯留部内に配置され、磁性材料を含んで構成された少なくとも１個の研磨部材と、前記研磨部材が前記検知面に衝突するように前記貯留部内の前記溶液に流れを生じさせる水流制御部と、磁界を発生させ、前記研磨部材に対して前記検知面から離間する方向への磁力を作用させる磁界発生部と、前記濃度計および前記磁界発生部に電気的に接続され、前記濃度計の稼働時のうちの少なくとも所定の期間は前記磁界発生部を稼働させて前記検知面から前記研磨部材を離間させる制御部と、を含む。また、本発明の一態様による内視鏡洗浄消毒装置は、前記濃度測定装置を含む。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、溶液の濃度を正確に測定することができる濃度測定装置及び内視鏡洗浄消毒装置を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】濃度測定装置の構成を説明する図である。
【図２】濃度測定装置において、ポンプを稼働させた状態を示す図である。
【図３】濃度測定装置において、ポンプ及び磁界発生部を稼働させた状態を示す図である。
【図４】濃度測定装置の第１の変形例を示す図である。
【図５】濃度測定装置の第２の変形例を示す図である。
【図６】濃度測定装置を備えた内視鏡洗浄消毒装置の構成を説明する図である。
【図７】濃度測定装置を備えた残留塩素濃度監視システムの構成を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の好ましい形態について図面を参照して説明する。なお、以下の説明に用いる各図においては、各構成要素を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、構成要素毎に縮尺を異ならせてあるものであり、本発明は、これらの図に記載された構成要素の数量、構成要素の形状、構成要素の大きさの比率、及び各構成要素の相対的な位置関係のみに限定されるものではない。
【００１２】
（第１の実施形態）  
以下に、本発明の実施形態の一例としての第１の実施形態を説明する。図１に示す濃度測定装置１は、溶液１０を貯留する貯留部２と、貯留部２内の溶液１０の濃度を測定する濃度計３とを備える。また濃度測定装置１は、研磨部材４、水流制御部５、磁界発生部６及び制御部７を備える。
【００１３】
また、図示しないが、濃度測定装置１は、電力を必要とする各部位に電力を供給するための電源供給部を備える。電源供給部は、商用電源等の外部から電力を得る形態であってもよいし、発電装置やバッテリーを備えこれらから電力を得る形態であってもよい。
【００１４】
制御部７は、演算装置（ＣＰＵ）、記憶装置（ＲＡＭ）、補助記憶装置、入出力装置及び電力制御装置等を具備して構成されており、濃度測定装置１を構成する各部位の動作を、所定のプログラムに基づいて制御する構成を有している。なお、濃度測定装置１が、溶液１０を扱う他の装置内に組み込まれる場合には、制御部７の構成の一部又は全部を、前記他の装置が備える形態であってもよい。
【００１５】
貯留部２は、図示する本実施形態では閉じた容器状の形態を有するが、貯留部２は、内部に溶液１０を存在させる空間を有する部材であればよい。例えば、貯留部２は内部が大気に開放された桶状の形態であってもよい。また例えば、貯留部２は、溶液１０を使用する装置に組み込まれた、内部を溶液１０が流れる管路の一部であってもよい。すなわち、貯留部２は、溶液１０の流入出が無い状態で内部に溶液１０を保持する形態であってもよいし、常に溶液１０の流入出があり内部の溶液１０が入れ替わり続ける形態であってもよい。貯留部２は、後述する各構成が配設された領域に溶液１０を存在させる構成であればよい。
【００１６】
濃度計３は、貯留部２内に露出する検知面３ａを有し、検知面３ａに接触している溶液１０の濃度を測定する構成を有する。貯留部２内において検知面３ａが配設される位置及び向きは、特に限定されるものではなく、検知面３ａが貯留部２内に存在する溶液１０に浸かる位置であればよい。また、検知面３ａの形状は、平面に限らず曲面であってもよい。
【００１７】
本実施形態では一例として、濃度計３は、いわゆるポーラログラフ法を用い、溶液１０中の電解質の濃度を測定する構成を有する。すなわち、濃度計３は、検知面３ａに配設された作用電極３ｂと、当該作用電極３ｂと離間し貯留部２内において溶液１０に浸かる位置に配設された対極３ｃと、溶液１０中の前記作用電極３ｂ及び前記対極３ｃ間に電圧を印加し、当該電圧と両電極間に流れる電流との関係を測定する測定部３ｄと、を備える。
【００１８】
測定部３ｄは、溶液１０中に配設された作用電極３ｂ及び対極３ｃ間の印加電圧と電流との関係に基づき、溶液１０中の電解質の濃度を測定する。ポーラログラフ法による電解質溶液の濃度測定は周知の技術であるため、詳細な説明は省略するものとする。濃度計３は制御部７に電気的に接続されており、濃度計３の動作は、制御部７によって制御される。
【００１９】
研磨部材４は、貯留部２内に配設された粒状の部材である。研磨部材４は、貯留部２内に少なくとも１つ配設されていればよく、研磨部材４の数は特に限定されるものではない。本実施形態では一例として、複数の研磨部材４が貯留部２内に配設されている。
【００２０】
個々の研磨部材４は、貯留部２内の空間において自由に移動可能な大きさである。研磨部材４は、溶液１０中において、濃度計３の検知面３ａに衝突することによって、検知面３ａを研磨する。後述する水流制御部５によって、研磨部材４を検知面３ａに接触させる溶液１０の流れが生成される。
【００２１】
例えば、ポーラログラフ法を用いる濃度計３では、作用電極３ｂである検知面３ａに溶液１０中で析出した物質が付着する。このような析出し検知面３ａに付着する物質は、一般にスケールと称される。研磨部材４は、検知面３ａに衝突することによって、検知面３ａに付着したスケールを除去する役割を有する。
【００２２】
個々の研磨部材４は、少なくとも一部が磁性材料によって構成されている。個々の研磨部材４は、全部が磁性材料によって構成されていてもよいし、一部のみが磁性材料で他の部位が非磁性材料によって構成されていてもよい。研磨部材４は、少なくとも一部に磁性材料を含んで構成されていることから、磁力の影響を受ける。
【００２３】
水流制御部５は、貯留部２内において、溶液１０中の研磨部材４が検知面３ａに衝突するように溶液１０に流れを生じさせる。
【００２４】
ここで、水流制御部５は、プロペラ及びプロペラを回転させる動力装置を備える構成や、ポンプを備える構成等のように、能動的に貯留部２内において溶液１０に流れを生じさせる形態に限られず、溶液１０の流れ方向を定めるフィンやノズルのような能動的な形態であってもよい。例えば、濃度測定装置１の外部に設けられたポンプ等の動力によって溶液１０が流れる流路の一部として貯留部２が設けられている場合、すなわち貯留部２内の溶液１０に外部装置によって流れが与えられる場合には、水流制御部５はノズルやフィン等のように、研磨部材４が検知面３ａに衝突する方向への溶液１０の流れを受動的に生じさせる構成を採る。
【００２５】
本実施形態では一例として、水流制御部５は、貯留部２に設けられた２つの開口部である導出口５ｂ及び導入口５ｃを連通する管路５ａと、管路５ａ内の流体を導出口５ｂから導入口５ｃに向かって移送するポンプ５ｄと、を備える。
【００２６】
導出口５ｂ及び導入口５ｃは、貯留部２内の、溶液１０中に浸かる位置に設けられている。ポンプ５ｄが稼働することにより、溶液１０が貯留部２及び管路５ａを通って循環する。ここで、貯留部２内では、溶液１０は、導入口５ｃから吐出され、導出口５ｂに吸い込まれるように流動する。
【００２７】
本実施形態では、ポンプ５ｄの稼働時において貯留部２内に生じる溶液１０の流れに乗って、研磨部材４が検知面３ａに衝突する。具体的には、導入口５ｃが、検知面３ａに対向して設けられており、図２に示すように、ポンプ５ｄの稼働時には、導入口５ｃから吐出された溶液１０は、検知面３ａに向かって流れる。貯留部２内の配設された研磨部材４は、導入口５ｃから検知面３ａに向かう溶液１０の流れに乗り、検知面３ａに衝突する。検知面３ａに研磨部材４が衝突することにより、検知面３ａに付着しているスケールが除去される。
【００２８】
なお、前述のように、管路５ａ及びポンプ５ｄは、濃度測定装置１に接続される他の装置が備えるものであってもよい。この場合には、水流制御部５は、導入口５ｃによって構成される。
【００２９】
磁界発生部６は、磁界を発生させ、磁性体を含んでいる研磨部材４に対して貯留部２内において検知面３ａから離間する方向への磁力を作用させる。なお、磁界発生部６の一部又は全部は、貯留部２内に配設されていてもよいし、貯留部２外に配設されていてもよい。
【００３０】
本実施形態では一例として、磁界発生部６は、コイル６ａと、前記コイル６ａへの通電の有無を切り替える通電制御部６ｂとを備えてなる電磁石の形態を有する。コイル６ａ内には、磁性材料からなる芯が配設されていてもよい。コイル６ａに通電することにより磁界発生部６は磁界を発生する。通電制御部６ｂの動作は、制御部７によって制御される。コイル６ａは、貯留部２外表面の近傍、又は貯留部２内の、検知面３ａから所定の距離離れた位置に配設されている。図３に示すように、コイル６ａは、通電により発生した磁界によって研磨部材４を貯留部２内の検知面３ａから離間した箇所に吸着する。なお、濃度測定装置１は、複数の磁界発生部６を備えていてもよい。
【００３１】
磁界発生部６の稼働によって研磨部材４を吸着する箇所は、吸着された全ての研磨部材
４が検知面３ａから離間する箇所であれば、特に限定されるものではない。例えば、貯留部２内において溶液１０の流れに乗って研磨部材４が通過する箇所の近傍であれば、磁界発生部６の稼働により素早く全ての研磨部材４を吸着することができる。
【００３２】
図４に示すように、磁界発生部６の稼働によって研磨部材４が吸着された状態では、ポンプ５ｄが稼働し溶液１０が貯留部２内で流動しても、研磨部材４が移動しないため、研磨部材４の検知面３ａへの接触は発生しなくなる。
【００３３】
以上に説明した構成を有する本実施形態の濃度測定装置１は、磁界発生部６を停止し、ポンプ５ｄを稼働させることによって、研磨部材４を検知面３ａに衝突させて検知面３ａに付着したスケールを除去することができる。
【００３４】
そして、本実施形態の濃度測定装置１は、磁界発生部６を稼働させ、かつポンプ５ｄを稼働させることによって、貯留部２内の溶液１０を流動させつつ、研磨部材４を検知面３ａから離間した状態に保つことができる。この状態で濃度計３によって溶液１０の濃度を測定すれば、検知面３ａ近傍に通電により変質した溶液１０が留まることがなく、かつ検知面３ａへの研磨部材４の接触も発生しないため、濃度計３によって溶液１０の濃度を正確に測定することができる。
【００３５】
濃度計３による測定動作によって検知面３ａにはスケールが付着するため、濃度計３による測定動作が開始してから完了するまでの期間中においては、磁界発生部６を所定の時間間隔で停止することによって、定期的に検知面３ａからスケールを除去することが望ましい。
【００３６】
以下に、本実施形態の変形例を示す。
【００３７】
図４に示す第１の変形例の濃度測定装置１は、検知面３ａの近傍に第２コイル６ｃをさらに備える。第２コイル６ｃへの通電の有無は、通電制御部６ｂによって切り替えられる。
【００３８】
第２コイル６ｃは、通電によって、研磨部材４を当該研磨部材４が検知面３ａに接触する箇所に吸着する磁界を発生する。本変形例では、第２コイル６ｃへの通電を断続的に繰り返すことによって、貯留部２内の溶液１０が流動していない状態であっても、研磨部材４を検知面３ａに繰り返し衝突させ、検知面３ａに付着したスケールを除去することができる。
【００３９】
また、図５に示す第２の変形例の濃度測定装置１は、検知面３ａの近傍に複数の第２コイル６ｃを備える。複数の第２コイル６ｃは、例えば検知面３ａの周囲を囲むように所定の間隔で配置されており、それぞれが通電によって研磨部材４を検知面３ａに接触する箇所に吸着する磁界を発生する。
【００４０】
本変形例では、複数の第２コイル６ｃのうちの通電する第２コイル６ｃを順次に変更して研磨部材４を吸着する箇所を移動させることによって、研磨部材４を検知面３ａに接触させながら移動させることができる。このため、本変形例では、貯留部２内の溶液１０が流動していない状態であっても、研磨部材４を検知面３ａ上で移動させることにより、検知面３ａに付着したスケールを除去することができる。
【００４１】
（第２の実施形態）  
次に、本発明の第２の実施形態について説明する。以下では第１の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略するものとする。
【００４２】
図６に示す本実施形態の内視鏡洗浄消毒装置２０は、第１の実施形態で説明した濃度測定装置１を備える。
【００４３】
内視鏡洗浄消毒装置２０は、内視鏡及び内視鏡付属物の少なくとも一方（どちらも図示せず）に対して、水、洗浄液及び消毒液等を用い、すすぎ処理、洗浄処理及び消毒処理を施す装置である。
【００４４】
図６に示すように、内視鏡洗浄消毒装置２０は、処理槽２２、及び消毒液槽２３を含んで構成されている。本実施形態では一例として、内視鏡洗浄消毒装置２０は、濃度測定装置１の制御部７によってその動作が制御される。なお、内視鏡洗浄消毒装置２０は、濃度測定装置１の制御部７とは異なる制御部を有していてもよい。
【００４５】
処理槽２２は、上方に向かって開口する開口部を有した凹形状であり、内部に内視鏡及び内視鏡付属物の少なくとも一方を収容可能である。処理槽２２は、内部に液体を貯留可能に構成されている。
【００４６】
消毒液槽２３は、消毒液である過酢酸溶液等の溶液１０を貯留する部位である。消毒液槽２３は、消毒液投入管路２３ａを介して、処理槽２２内に配設されている消毒液ノズル２４に接続されている。消毒液導入管路２３ａには、消毒液投入ポンプ２３ｂが配設されている。消毒液投入ポンプ２３ｂの稼働により、消毒液槽２３に貯留されている消毒液である溶液１０は、処理槽２２内に投入される。
【００４７】
また、処理槽２２内には、循環ノズル２５が配設されている。処理槽２２の下部には、循環口２２ｂ及び排液口２２ｃが設けられている。循環ノズル２５は、循環管路２６を介して、循環口２２ｂと連通している。
【００４８】
循環管路２６には、循環ポンプ２７が設けられている。循環ポンプ２７の稼働により、処理槽２２内の液体は、循環口２２ｂから吸い出された後に、循環管路２６及び循環ノズル２５を経由して処理槽４内に戻る。内視鏡洗浄消毒装置２０は、処理槽２２内に内視鏡及び内視鏡付属物の少なくとも一方を収容し、水や消毒液を循環させることによって、内視鏡及び内視鏡付属物の少なくとも一方に対してすすぎ処理及び消毒処理等を実施する。
【００４９】
排液口２２ｃは、処理槽２２内に貯留されている液体を重力により処理槽２２外に排出する部位である。排液口２２ｃは、切り替えバルブ３０を介して回収管路２８及び排液管路２９に接続されている。切り替えバルブ３０は、排液口２２ｃを開き、かつ回収管路２８及び排液管路２９のいずれかに接続した状態、又は排液口２２ｃを閉じた状態を切り替えることができる。
【００５０】
回収管路２８は、切り替えバルブ３０と消毒液槽２３とを接続している。処理槽２２内に消毒液である溶液１０が貯留されている状態において、排液口２２ｃを開き、排液口２２ｃと排液管路２９とを接続すれば、処理槽２２内の溶液１０は消毒液槽２０内に回収される。
【００５１】
排液管路２９は、内視鏡洗浄消毒装置２０外に延出している。排液口２２ｃを開き、排液口２２ｃと排液管路２９とを接続すれば、処理槽２２内に貯留されている液体が内視鏡洗浄消毒装置２０外に排出される。
【００５２】
濃度測定装置１は、消毒液槽２３内に貯留されている溶液１０の濃度を測定する。濃度測定装置１の貯留部２に設けられた２つの開口部である導出口５ｂ及び導入口５ｃは、それぞれ管路２３ｃ及び２３ｄを介して消毒液槽２３に接続されている。また、管路２３ｄには、ポンプ５ｄが配設されている。ポンプ５ｄが稼働することにより、消毒液槽２３内の溶液１０は、管路２３ｄ、貯留部２及び管路２３ｃを通って循環する。
【００５３】
したがって、本実施形態の内視鏡洗浄消毒装置２０は、消毒液である溶液１０の濃度を、第１の実施形態で説明したように濃度測定装置１によって正確に測定することができる。
【００５４】
なお、内視鏡洗浄消毒装置２０は、前述した構成の他に、洗剤を貯留し、当該洗剤を処理槽２２内に投入する構成、及び処理槽２２内に水や空気を送り込む構成等を備えるが、これらの構成は既知の内視鏡洗浄消毒装置と同様であるため、説明を省略するものとする。
【００５５】
（第３の実施形態）  
次に、本発明の第３の実施形態について説明する。以下では第１の実施形態との相違点のみを説明するものとし、第１の実施形態と同様の構成要素については同一の符号を付し、その説明を適宜に省略するものとする。
【００５６】
前述した第２の実施形態では、濃度測定装置１は、内視鏡洗浄消毒装置２０に備えられ、消毒液である溶液１０の濃度を測定するが、濃度測定装置１は他の溶液１０の濃度測定にも使用可能であることは言うまでもない。本実施形態では、濃度測定装置１は、水道水等の塩素を含む溶液１０の濃度を測定する。
【００５７】
図７に示す本実施形態の残留塩素濃度監視システム４０は、貯水槽４１及び濃度測定装置１を備える。貯水槽４１は、給水管４２を介して供給される水道水である溶液１０を貯留する。貯水槽４１内の溶液１０は、吐出管４３を経由して住居等に供給される。
【００５８】
濃度測定装置１は、貯水槽４１内に貯留されている水道水である溶液１０の残留塩素濃度を測定する。濃度測定装置１の貯留部２に設けられた２つの開口部である導出口５ｂ及び導入口５ｃは、それぞれ管路４１ａ及び４１ｂを介して貯水槽４１に接続されている。また、管路４１ｂには、ポンプ５ｄが配設されている。ポンプ５ｄが稼働することにより、貯水槽４１内の溶液１０は、管路４１ｂ、貯留部２及び管路４１ａを通って循環する。
【００５９】
したがって、本実施形態の残留塩素濃度監視システム４０は、水道水である溶液１０の残留塩素濃度を、第１の実施形態で説明したように濃度測定装置１によって正確に測定することができる。残留塩素濃度監視システム４０は、濃度測定装置１によって測定された残留塩素濃度が所定の値を下回った場合には、塩素を貯水槽４１内に投入する構成を具備していてもよい。
【００６０】
なお、本発明は、上述した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲及び明細書全体から読み取れる発明の要旨或いは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う濃度測定装置及び内視鏡洗浄消毒装置もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【産業上の利用可能性】
【００６１】
前述のように、本発明は、内視鏡を消毒する消毒液等の溶液の濃度を測定する濃度測定装置に適用可能である。
【符号の説明】
【００６２】
１    濃度測定装置、
２    貯留部、
３    濃度計、
３ａ    検知面、
３ｂ    作用電極、
３ｃ    対極、
３ｄ    測定部、
４    研磨部材、
５    水流制御部、
５ａ    管路、
５ｂ    導出口、
５ｃ    導入口、
５ｄ    ポンプ、
６    磁界発生部、
６ａ    コイル、
６ｂ    通電制御部、
６ｃ    第２コイル、
７    制御部
１０    溶液、
２０    内視鏡洗浄消毒装置、
２２    処理槽、
２２ｂ    循環口、
２２ｃ    排液口、
２３    消毒液槽、
２３ａ    消毒液投入管路、
２３ｂ    消毒液投入ポンプ、
２３ｃ    管路、
２３ｄ    管路、
２４    消毒液ノズル、
２５    循環ノズル、
２６    循環管路、
２７    循環ポンプ、
２８    回収管路、
２９    排液管路、
３０    切り替えバルブ、
４０    残留塩素濃度監視システム、
４１    貯水槽、
４１ａ    管路、
４１ｂ    管路、
４２    給水管、
４３    吐出管。
【図１】
2016023958.tif 000003
【図２】
2016023958.tif 000004
【図３】
2016023958.tif 000005
【図４】
2016023958.tif 000006
【図５】
2016023958.tif 000007
【図６】
2016023958.tif 000008
【図７】
2016023958.tif 000009