(57)【要約】【課題】不吐出ノズルがあるインクジェットヘッドでもインプリント剤の塗布を続行することができるインプリント方法を提供する。【解決手段】実施形態によれば、ドロップレシピにしたがってインクジェットヘッドの複数のノズルからインプリント剤を加工対象上に吐出し、加工対象上に吐出したインプリント剤にテンプレートを押印してパターンを形成するインプリント方法が提供される。インプリント方法では、まず、ドロップレシピを生成する。ついで、インクジェットヘッドの複数のノズルのうち不吐出ノズルを特定する。そして、ドロップレシピ中の不吐出ノズルに対応するドロップ位置を、ドロップ位置近傍の不吐出ノズルとは異なるノズルで滴下される位置に変更する。【選択図】図５
2016058476.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ドロップレシピにしたがってインクジェットヘッドの複数のノズルからインプリント剤を加工対象上に吐出し、前記加工対象上に吐出した前記インプリント剤にテンプレートを押印してパターンを形成するインプリント方法であって、
第１ドロップレシピを生成し、
前記インクジェットヘッドの複数のノズルのうち不吐出ノズルを特定し、
前記第１ドロップレシピ中の前記不吐出ノズルに対応するドロップ位置を、前記ドロップ位置近傍の前記不吐出ノズルとは異なる前記ノズルで滴下される位置に変更することを特徴とするインプリント方法。
【請求項２】
前記インクジェットヘッドは、前記インクジェットヘッドのスキャン方向に垂直な方向に所定の間隔で配列された前記ノズルを有し、
前記第１ドロップレシピは、グリッド上の仮想格子点での前記インプリント剤のドロップの有無を示し、前記グリッドは、前記ノズルのそれぞれの位置から前記スキャン方向に直交する方向に延在する複数の第１線と、前記ノズルの配列方向に延在し、前記スキャン方向に所定の間隔で配置した複数の第２線と、からなることを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項３】
前記第１ドロップレシピの生成では、テンプレートに形成されるパターンに関するテンプレート情報と、前記インクジェットヘッドのノズル解像度と、ＲＬＴと、に基づいて前記第１ドロップレシピが生成されることを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項４】
前記不吐出ノズルの特定では、前記インクジェットヘッドの前記ノズルのそれぞれから吐出させた前記インプリント剤を撮影した画像情報を用いて、前記不吐出ノズルを特定することを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項５】
前記ドロップ位置の変更の後、変更された前記第１ドロップレシピでインプリント処理された場合のＲＬＴのばらつきを取得し、
前記ＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内に収まっているかを判定し、
前記ＲＬＴのばらつきが前記目標値から所定の範囲内に収まっている場合に、変更された前記第１ドロップレシピにしたがって、前記インクジェットヘッドから前記インプリント剤を吐出することを特徴とする請求項１に記載のインプリント方法。
【請求項６】
加工対象を保持する加工対象保持部と、
テンプレートを保持し、前記加工対象保持部に対向して設けられ、前記加工対象に押し付け可能なテンプレート保持部と、
前記加工対象上にインプリント剤を吐出するノズルを複数有するインクジェットヘッドと、
前記加工対象保持部と前記テンプレート保持部と前記インクジェットヘッドの動作を制御する制御処理部と、
を備え、
前記制御処理部は、
ドロップレシピを生成するドロップレシピ生成部と、
前記インクジェットヘッドの複数のノズルのうち不吐出ノズルを特定する不吐出ノズル特定部と、
を有することを特徴とするインプリント装置。
【請求項７】
前記ドロップレシピ生成部は、前記不吐出ノズルを基に、吐出可能なノズルで塗布可能な前記ドロップレシピを生成することを特徴とする請求項６に記載のインプリント装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、インプリント方法およびインプリント装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
インプリント方法では、加工対象上にインプリント剤を滴下し、その後にテンプレートを加工対象上に押し付け、インプリント剤を硬化させ、マスクパターンを形成する。インプリント剤の滴下には、インクジェットヘッドが用いられる場合がある。インクジェットヘッドは、インプリント剤を吐出するノズルが１列に配置された構造を有する。そして、このインクジェットヘッドを、ノズルの配列方向に垂直な方向に所定の間隔でスキャンさせ、予め定められたノズルからインプリント剤を吐出する。
【０００３】
従来では、インクジェットヘッドは、印刷機器の構成部材として用いられている。印刷機器では、印刷するデータを変更することができない。そのため、インクジェットヘッドに不吐出ノズルがある場合には、印刷された画像の品質低下を防ぐように、スキャン回数を増やすなどして、不吐出ノズルを補間する方法が提案されている。
【０００４】
インプリント方法で用いられるインクジェットヘッドでも不吐出ノズルが生じる場合がある。この場合、スループット低下などの問題によって、従来の印刷機器におけるインクジェットヘッドでの不吐出ノズルの補間方法をそのまま適用することは望ましくない。そのため、インプリント方法でインクジェットヘッドに不吐出ノズルが生じた場合の対処方法が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２９１３３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の一つの実施形態は、不吐出ノズルがあるインクジェットヘッドでもインプリント剤の塗布を続行することができるインプリント方法およびインプリント装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一つの実施形態によれば、ドロップレシピにしたがってインクジェットヘッドの複数のノズルからインプリント剤を加工対象上に吐出し、前記加工対象上に吐出した前記インプリント剤にテンプレートを押印してパターンを形成するインプリント方法が提供される。このインプリント方法では、まず、第１ドロップレシピを生成する。ついで、前記インクジェットヘッドの複数のノズルのうち不吐出ノズルを特定する。そして、前記第１ドロップレシピ中の前記不吐出ノズルに対応するドロップ位置を、前記ドロップ位置近傍の前記不吐出ノズルとは異なる前記ノズルで滴下される位置に変更する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】図１は、第１の実施形態によるインプリント装置の構成の一例を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、インクジェットヘッドの下面図の一例を模式的に示す図である。
【図３】図３は、第１の実施形態による制御処理部の機能構成を示すブロック図である。
【図４】図４は、ドロップレシピの一例を示す図である。
【図５】図５は、第１の実施形態によるドロップレシピの生成処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図６】図６は、第１の実施形態による不吐出ノズルのドロップの再配置処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図７】図７は、ドロップレシピの変更処理の具体例を示す図である。
【図８】図８は、第２の実施形態による制御処理部の機能構成の一例を示すブロック図である。
【図９】図９は、第２の実施形態によるドロップレシピの生成処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【図１０】図１０は、第３の実施形態による制御処理部の機能構成の一例を示すブロック図である。
【図１１】図１１は、第３の実施形態によるドロップレシピの生成処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に添付図面を参照して、実施形態にかかるインプリント方法で用いられるインクジェットヘッドで不吐出ノズルが生じた場合を詳細に説明する。なお、これらの実施形態により本発明が限定されるものではない。また、以下の実施形態で用いられるインプリント装置の断面図は模式的なものであり、各部材の厚みと幅との関係および各部材の厚みの比率などは現実のものとは異なる場合がある。
【００１０】
（第１の実施形態）
図１は、第１の実施形態によるインプリント装置の構成の一例を模式的に示す断面図であり、図２は、インクジェットヘッドの下面図の一例を模式的に示す図である。インプリント装置は、インプリントユニット１０と、インプリント装置全体の動作を制御する制御処理部７０と、を有する。
【００１１】
インプリントユニット１０は、加工対象保持部である基板ステージ１１を備える。基板ステージ１１の上には真空チャック機構１２が設けられる。真空チャック機構１２は、加工対象である基板１００を保持する。基板１００は、半導体基板等の基板と、この基板１００上に形成された下地パターンと、この下地パターン上に形成された被加工レイヤと、を含む。パターン転写時には、さらに、被加工レイヤ上に形成されたインプリント剤（レジスト）を含む。被加工レイヤとしては、絶縁膜、金属膜（導電膜）または半導体膜を挙げることができる。
【００１２】
基板ステージ１１は、ステージ定盤１３の上に移動可能に設けられる。基板ステージ１１は、ステージ定盤１３の上面１３ｕに沿った２軸に沿ってそれぞれ移動可能に設けられる。ここで、ステージ定盤１３の上面１３ｕに沿った２軸を、Ｘ軸およびＹ軸とする。また、基板ステージ１１は、Ｘ軸およびＹ軸と直交するＺ軸にも移動可能に設けられる。基板ステージ１１には、Ｘ軸、Ｙ軸およびＺ軸のそれぞれを中心として回転可能に設けられていることが望ましい。
【００１３】
基板ステージ１１には、基準マーク台１４が設けられる。基準マーク台１４の上には装置の基準位置となる図示しない基準マークが設置される。基準マークは、アライメントセンサ２６の校正およびテンプレート５０の位置決め（姿勢制御・調整）に利用される。基準マークは、基板ステージ１１上の原点である。基板ステージ１１の上に載置される基板のＸ，Ｙ座標は、基準マーク台１４を原点とした座標になる。
【００１４】
インプリントユニット１０は、テンプレート保持部であるテンプレートステージ２１を備える。テンプレートステージ２１は、テンプレート５０の周縁部分をたとえば真空吸着によって保持することによって、テンプレート５０を固定する。ここでは、テンプレート５０は、石英または蛍石など紫外線を透過する材料で形成される。テンプレート５０に形成された凹凸からなる転写パターンは、デバイスパターンに対応したパターンと、テンプレート５０と基板１００との位置合わせ時に使用されるアライメントマークに対応したパターンと、を含む。テンプレートステージ２１は、テンプレート５０を装置基準に位置決めするように動作する。テンプレートステージ２１は、ベース部２２に取り付けられる。
【００１５】
ベース部２２には、補正機構２３および加圧部２４が取り付けられる。補正機構２３は、たとえば制御処理部７０から指示を受けてテンプレート５０の位置（姿勢）を微調整する調整機構を有する。また、補正機構２３は、テンプレート５０の位置（姿勢）を微調整することにより、テンプレート５０と基板１００との相対的な位置を補正する。加圧部２４は、テンプレート５０のテンプレートパターンを基板１００上のレジストに押し当てた際にテンプレート５０の近傍を加圧する。
【００１６】
ベース部２２は、アライメントステージ２５に取り付けられる。アライメントステージ２５は、テンプレート５０と基板１００との位置合わせを行う際に、ベース部２２をＸ軸方向およびＹ軸方向に移動させることができる。また、アライメントステージ２５は、ベース部２２をＸＹ平面に沿って回転させる機能も備える。
【００１７】
アライメントステージ２５には、アライメントセンサ２６が設けられている。アライメントセンサ２６は、基準マーク台１４上の基準マークに対するテンプレート５０の位置ずれ、およびテンプレート５０に対する基板１００の位置ずれを検出する。検出結果は制御処理部７０に送られる。図１では、アライメントセンサ２６として左右に２つ配置される場合が図示されているが、４つ以上あることが好ましい。
【００１８】
基準マークに対するテンプレート５０の位置ずれの検出では、図示しない基準マークとテンプレート５０に設けられた図示しないアライメントマークとを用いる。基準マークとテンプレート５０のアライメントマークは、たとえば回折格子で構成される。これらの基準マークとテンプレート５０のアライメントマークに照射され、回折、反射した光を、アライメントセンサ２６が検出する。
【００１９】
テンプレート５０に対する基板１００の位置ずれの検出では、テンプレート５０に設けられた図示しないアライメントマークと、基板１００に設けられた図示しないアライメントマークと、を用いる。これらのアライメントマークは、たとえば回折格子で構成される。これらのアライメントマークに照射され、回折、反射した光を、アライメントセンサ２６が検出する。
【００２０】
インプリントユニット１０は、基板ステージ１１に対向する位置に、インクジェットヘッド３１を備える。インクジェットヘッド３１は、基板１００上に樹脂からなるインプリント剤を滴下する。図２に示されるように、インクジェットヘッド３１は、下面に複数のノズル３１１を有し、このノズル３１１からインプリント剤を基板１００上に滴下する。複数のノズル３１１は、１列に配列される。配列方向は、インクジェットヘッド３１のスキャン方向に垂直な方向である。インプリント剤としては、たとえば紫外線硬化樹脂を用いることができる。
【００２１】
インプリントユニット１０は、インプリント剤を介してテンプレート５０を基板１００に押し付けた状態にあるときに、インプリント剤を硬化させる光（たとえば紫外線光）を放射する光源４１を備える。光源４１は、テンプレート５０の直上に設置してもよいし、ミラーなどの光学部材を用いてテンプレート５０の直上に向けて光が照射されるように、テンプレート５０の直上以外の位置に配置してもよい。
【００２２】
制御処理部７０は、インプリント装置におけるインプリント処理を制御する。たとえば、アライメントセンサ２６からの情報に基づいて、基準マーク台１４上の基準マークに対するテンプレート５０の位置ずれ、およびテンプレート５０に対する基板１００の位置ずれを算出する。そして、これらの位置ずれに基づいて、基準マーク台１４とテンプレート５０とのアライメントを行うための指示、およびテンプレート５０と基板１００とのアライメントを行うための指示を、各インプリントユニット１０のアライメントステージ２５と基板ステージ１１に対して送出する。
【００２３】
また、制御処理部７０は、ドロップレシピに基づいて、基板１００上にインクジェットヘッド３１からインプリント材を滴下させる処理を行う。さらに、制御処理部７０は、インプリント剤が滴下された基板１００にテンプレート５０を押し付ける処理を行う。
【００２４】
第１の実施形態では、制御処理部７０は、ドロップレシピの生成および変更を行う機能も有する。以下では、ドロップレシピの生成処理および変更処理を行う機能について説明を行う。図３は、第１の実施形態による制御処理部の機能構成を示すブロック図である。制御処理部７０は、インプリント処理情報記憶部７１と、ドロップレシピ生成部７２と、ノズル吐出情報取得部７３と、不吐出ノズル特定部７４と、ドロップレシピ変更部７５と、を備える。
【００２５】
インプリント処理情報記憶部７１は、ドロップレシピの生成に必要なインプリント処理情報を記憶する。インプリント処理情報として、テンプレート情報、ＲＬＴ（Residual  Layer  Thickness）およびノズル解像度を挙げることができる。テンプレート情報は、テンプレートに形成されたパターンに関する情報である。テンプレート情報は、たとえばパターンの粗密に関する情報である。ＲＬＴは、インプリント処理時の基板１００上面とテンプレート５０下面との間の距離である。ここでは、ＲＬＴは１つの基板１００に対して１つの値が設定されるものとする。ノズル解像度は、インクジェットヘッド３１のノズル３１１のピッチである。
【００２６】
ドロップレシピ生成部７２は、インプリント処理情報記憶部７１中のインプリント処理情報に基づいて、所定のアルゴリズムを用いて、ドロップレシピを生成する。アルゴリズムは、インプリント処理時にＲＬＴが目標値となるようにするために、インクジェットヘッド３１の各位置におけるノズル３１１からの吐出／不吐出を算出するものである。たとえば、単位面積当たりの掘り込まれたパターンの数が多い領域と、単位面積当たりの掘り込まれたパターンの数が少ない領域と、がある場合、後者に比して前者の方でのドロップ量が多くなるように計算が行われる。このとき、インクジェットヘッド３１のすべてのノズル３１１が吐出可能であることを前提にして、ドロップレシピを生成する。ドロップレシピは、基板１００上にインプリント剤によって形成される画像情報であり、ドロップ配置位置、使用ノズルとドロップの関係などを含む。
【００２７】
図４は、ドロップレシピの一例を示す図である。図のＸ方向は、インクジェットヘッド３１のノズル３１１の配列方向であり、Ｙ方向は、インクジェットヘッド３１のスキャン方向である。Ｘ方向とＹ方向とは互いに直交している。ドロップレシピは、１つのショット領域内でのインプリント剤のドロップ位置を示すものである。
【００２８】
図中、Ｘ軸に垂直な方向の線は、ノズル３１１がスキャン時に描く軌跡に対応している。また、Ｙ軸に垂直な方向の線は、スキャン時の各時刻における基板１００上でのインクジェットヘッド３１の位置を示している。これらのＸ方向の線とＹ方向の線とで、ドロップ配置仮想グリッドが形成される。Ｘ方向の線とＹ方向の線との交点を、以下では仮想格子点という。この仮想格子点が、ドロップを配置可能な位置となる。図４のドロップレシピでは、仮想格子点のうちのドロップ配置位置が黒丸で示されている。ドロップ配置位置は、ドロップレシピ生成部７２で算出されたものである。
【００２９】
ノズル吐出情報取得部７３は、インクジェットヘッド３１にノズル３１１の状態を見るためのテストを実行させ、その結果得られるノズル吐出情報を取得する。たとえばインプリントユニット１０上でノズル３１１の吐出状態を確認するために、各ノズル３１１からインプリント剤（硬化樹脂）を吐出させて着弾状態の画像を取得する。この着弾状態の画像がノズル吐出情報に対応する。
【００３０】
不吐出ノズル特定部７４は、ノズル吐出情報から不吐出ノズルを特定する。たとえば、ノズル吐出情報取得部７３で取得したインプリント剤の着弾状態の画像から、着弾していない箇所を取得し、不吐出ノズルの位置を特定する。
【００３１】
ドロップレシピ変更部７５は、不吐出ノズル特定部７４によって不吐出ノズルが存在する場合に、ドロップレシピを生成し直すのではなく、不吐出ノズルから吐出されるはずのドロップ（インプリント剤）を補間するようにドロップを再配置したドロップレシピに変更する。具体的には、不吐出ノズルによるドロップ位置に近い仮想格子点であり、その仮想格子点の周囲に他のノズル３１１によるインプリント剤のドロップ位置がない仮想格子点を補間位置とする。
【００３２】
つぎに、このような構成のインプリント装置におけるドロップレシピの生成処理について説明する。図５は、第１の実施形態によるドロップレシピの生成処理の手順の一例を示すフローチャートである。
【００３３】
まず、ドロップレシピ生成部７２は、インプリント処理情報記憶部７１中のテンプレート情報、ＲＬＴおよびノズル解像度から、ショット領域内におけるインプリント剤の滴下位置であるドロップレシピを生成する（ステップＳ１１）。このドロップレシピは、インクジェットヘッド３１のすべてのノズル３１１からインプリント剤を吐出可能として生成される。また、このドロップレシピは、ショット領域全体にわたってＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内に収まるように全体最適化がなされたものである。
【００３４】
ついで、ノズル吐出情報取得部７３は、インプリント装置に装着されたインクジェットヘッド３１に対してインプリント剤の吐出テストを行い、ノズル吐出情報を取得する（ステップＳ１２）。その後、不吐出ノズル特定部７４は、ノズル吐出情報から不吐出ノズルを特定する（ステップＳ１３）。
【００３５】
そして、ドロップレシピ変更部７５は、不吐出ノズルから吐出されるはずのドロップを再配置する再配置処理を行い（ステップＳ１４）、処理が終了する。なお、不吐出ノズルが存在しない場合には、ステップＳ１４の再配置処理は行われない。
【００３６】
なお、図５に示される処理は、インプリント装置の起動時、インクジェットヘッド３１の装着時、またはインプリント処理によって不吐出ノズルが存在するのではないかと判定された時に行われる。
【００３７】
ここで、ステップＳ１４のドロップの再配置処理の詳細について説明する。図６は、第１の実施形態による不吐出ノズルのドロップの再配置処理の手順の一例を示すフローチャートである。また、図７は、ドロップレシピの変更処理の具体例を示す図である。
【００３８】
まず、ドロップレシピ変更部７５は、ドロップレシピ中の不吐出ノズルに対応するドロップ位置を取得し、削除する（ステップＳ３１）。図７の例では、不吐出ノズルは、「Ｎｏ．Ｘ７」のノズルである。そのため、この不吐出ノズル「Ｎｏ．Ｘ７」の位置上でインプリント剤が滴下されるようになっているドロップが再配置の対象となる。この例では、ドロップＤ１，Ｄ２が再配置の対象である。
【００３９】
ついで、不吐出ノズルに対応するドロップの位置に最も近い仮想格子点であるドロップ可能位置を１つ選択する（ステップＳ３２）。たとえば、ドロップＤ１の場合には、ドロップＤ１に最も近いドロップ可能位置は、位置Ｒ１１，Ｒ１２となり、このうちたとえば位置Ｒ１１を選択する。
【００４０】
その後、選択したドロップ可能位置の周囲にＲＬＴに影響を与えるドロップがあるか判定する（ステップＳ３３）。たとえば、選択した位置Ｒ１１の周囲には８個の仮想格子点が存在し、そのうち、不吐出ノズルの位置に対応する仮想格子点を除いた５個の仮想格子点が選択される。この５個の仮想格子点のいずれかにドロップが配置されている場合に、ＲＬＴに影響を与えるドロップがあるものと判定する。上記の例では、位置Ｒ１１の周囲にＲＬＴに影響を与えるドロップが存在することになる。
【００４１】
ドロップ可能位置の周囲にＲＬＴに影響を与えるドロップが存在する場合（ステップＳ３３でＹｅｓの場合）には、ドロップレシピ変更部７５は、ステップＳ３２で選択したドロップ可能位置は、再配置位置としては不適当であると判定する（ステップＳ３４）。そして、不吐出ノズルに対応するドロップの位置につぎに近いドロップ可能位置を１つ選択する（ステップＳ３５）。その後、ステップＳ３３に戻る。そして、つぎに選択したドロップ可能位置に対しても同様の処理を行う。
【００４２】
上記した例では、位置Ｒ１１はドロップの再配置位置としては不適当とされる。つぎに、ドロップ可能位置として位置Ｒ１２が選択され、ステップＳ３３〜Ｓ３４で説明したものと同様の処理が行われる。位置Ｒ１２もドロップの再配置位置としては不適当とされる。その後、ドロップ可能位置として位置Ｒ１３が選択されるが、位置Ｒ１３もドロップの再配置位置としては不適当とされる。さらに、ドロップ可能位置として位置Ｒ１４が選択される。
【００４３】
一方、ステップＳ３３でドロップ可能位置の周囲にＲＬＴに影響を与えるドロップがない場合（ステップＳ３３でＮｏの場合）には、ドロップレシピ変更部７５は、ステップＳ３２で選択したドロップ可能位置をドロップ再配置位置として決定する（ステップＳ３６）。上記した例では、位置Ｒ１４は、周囲にＲＬＴに影響を与えるドロップがないので、ドロップの再配置位置として決定される。そして、ドロップＤ１の代わりに、位置Ｒ１４にドロップＤ１ｓが配置される。
【００４４】
その後、ドロップレシピ変更部７５は、すべての不吐出ノズルのドロップに対して処理を行ったかを判定する（ステップＳ３７）。すべての不吐出ノズルのドロップに対して処理を行っていない場合（ステップＳ３７でＮｏの場合）には、ステップＳ３１へと戻る。また、すべての不吐出ノズルのドロップに対して処理を行った場合（ステップＳ３７でＹｓの場合）には、処理が終了する。
【００４５】
上記した例では、ドロップＤ１については再配置処理が終了したが、ドロップＤ２についての処理が終わっていない。そのため、ドロップＤ２について上記した処理を行う。位置Ｒ２１はドロップの再配置位置としては不適当であり、位置Ｒ２２がドロップの再配置位置として選択される。そして、ドロップＤ２の代わりに、位置Ｒ２２にドロップＤ２ｓが配置される。そして、他には不吐出ノズルのドロップがないので、ドロップの再配置処理が終了する。以上のようにして、不吐出ノズルで滴下すべきドロップがないようにドロップレシピが修正される。なお、上記した例では、不吐出ノズルのドロップ位置については削除した後、吐出するドロップの位置を追加しているが、これに限らず、不吐出ノズルのドロップ位置を吐出ノズルで吐出するドロップの位置に上書きしてもよい。
【００４６】
第１の実施形態では、すべてのノズル３１１から吐出可能であるとの前提でドロップレシピを生成した後、不吐出ノズルの情報を取得すると、不吐出ノズルに対応するドロップの再配置処理を行った。これによって、不吐出ノズルがある場合でも、インクジェットヘッド３１の交換を行うことなく、インクジェット塗布を続行することができる。その結果、インクジェットヘッド３１の交換を行う回数を減らすことができ、インプリント装置が稼働できない時間を短縮することができるという効果を有する。
【００４７】
また、最初にすべてのノズル３１１から吐出可能であることを前提にしてドロップレシピを生成しておくことで、不吐出ノズルが分かった場合に、不吐出ノズルのドロップの修正のみで済む。不吐出ノズルのドロップの修正に要する時間は、ドロップレシピを不吐出ノズルの情報を用いて最初から再生成する時間に比して短い。そのため、装置が稼働できない時間を短縮することができるという効果を有する。
【００４８】
（第２の実施形態）
第１の実施形態では、最初にドロップレシピを生成し、不吐出ノズルが存在する場合に不吐出ノズルのドロップの位置を変更する場合を説明した。第２の実施形態では、不吐出ノズルが存在する場合に、不吐出ノズルを考慮してドロップレシピの全体を再生成する場合について説明する。
【００４９】
図８は、第２の実施形態による制御処理部の機能構成の一例を示すブロック図である。制御処理部７０は、インプリント処理情報記憶部７１と、ドロップレシピ生成部７２と、ノズル吐出情報取得部７３と、不吐出ノズル特定部７４と、を備える。インプリント処理情報記憶部７１、ノズル吐出情報取得部７３および不吐出ノズル特定部７４は、第１の実施形態で説明したものと同様の処理を行うので、その説明を省略する。
【００５０】
ドロップレシピ生成部７２は、インプリント処理情報と不吐出ノズルとに基づいて、所定のアルゴリズムにしたがってドロップレシピを生成する。すなわち、第２の実施形態では、最初から不吐出ノズルを使用しないドロップレシピを生成する。このようにして生成されるドロップレシピは、ショット領域上のどの位置でもＲＬＴが目標値に対して所定の範囲に収まるように作成されたもの、すなわち全体最適化がなされたものである。そのため、ＲＬＴの目標値からのばらつきが所定の範囲を超えることが許されないようなＲＬＴの管理が厳しい場合に有効である。
【００５１】
図９は、第２の実施形態によるドロップレシピの生成処理の手順の一例を示すフローチャートである。まず、ノズル吐出情報取得部７３は、インプリント装置に装着されたインクジェットヘッド３１に対してインプリント剤の吐出テストを行い、ノズル吐出情報を取得する（ステップＳ５１）。その後、不吐出ノズル特定部７４は、ノズル吐出情報から不吐出ノズルを特定する（ステップＳ５２）。
【００５２】
ついで、ドロップレシピ生成部７２は、不吐出ノズルと、インプリント処理情報記憶部７１中のテンプレート情報、ＲＬＴおよびノズル解像度から、ショット領域内におけるインプリント剤の滴下位置であるドロップレシピを生成する（ステップＳ５３）。以上によって処理が終了する。
【００５３】
第２の実施形態では、ドロップレシピ生成前に不吐出ノズルを特定し、不吐出ノズルとインプリント処理情報とからドロップレシピを生成した。これによって、ショット領域内におけるドロップの全体最適化が可能になり、ＲＬＴ管理が厳しい場合に有効である。その結果、不吐出ノズルがある場合でも、ＲＬＴを目標値から所定の範囲内に収められるドロップレシピを生成することができるという効果を有する。
【００５４】
（第３の実施形態）
図１０は、第３の実施形態による制御処理部の機能構成の一例を示すブロック図である。制御処理部７０は、インプリント処理情報記憶部７１と、ドロップレシピ生成部７２と、ノズル吐出情報取得部７３と、不吐出ノズル特定部７４と、ドロップレシピ変更部７５と、ＲＬＴばらつき取得部７６と、を備える。インプリント処理情報記憶部７１、ノズル吐出情報取得部７３、不吐出ノズル特定部７４およびドロップレシピ変更部７５は、第１の実施形態で説明したものと同様の処理を行うので、その説明を省略する。
【００５５】
ドロップレシピ生成部７２は、第１の実施形態のように、最初にインクジェットヘッド３１のすべてのノズル３１１からインプリント剤を吐出可能として、インプリント処理情報を用いて第１ドロップレシピを生成する。また、ＲＬＴばらつき取得部７６によって、ドロップレシピ変更部７５で変更された第１ドロップレシピのＲＬＴのばらつきが目標値の範囲内に収まっていない場合には、不吐出ノズルとインプリント処理情報とを用いて第２ドロップレシピを生成する。
【００５６】
ＲＬＴばらつき取得部７６は、不吐出ノズルに基づいて変更した第１ドロップレシピにしたがってインプリント処理された場合のＲＬＴのばらつきを取得する。これは、たとえば変更された第１ドロップレシピを用いて計算によってショット領域におけるＲＬＴのばらつきを求めてもよいし、第１ドロップレシピを用いて実際にインプリント処理を実行し、その結果得られる硬化したインプリント剤からＲＬＴのばらつきを測定してもよい。
【００５７】
図１１は、第３の実施形態によるドロップレシピの生成処理の手順の一例を示すフローチャートである。まず、ドロップレシピ生成部７２は、インプリント処理情報記憶部７１中のテンプレート情報、ＲＬＴおよびノズル解像度から、ショット領域内におけるインプリント剤の滴下位置である第１ドロップレシピを生成する（ステップＳ７１）。
【００５８】
ついで、ノズル吐出情報取得部７３は、インプリント装置に装着されたインクジェットヘッド３１に対してインプリント剤の吐出テストを行い、ノズル吐出情報を取得する（ステップＳ７２）。その後、不吐出ノズル特定部７４は、ノズル吐出情報から不吐出ノズルを特定する（ステップＳ７３）。
【００５９】
そして、ドロップレシピ変更部７５は、不吐出ノズルから吐出されるはずのドロップを再配置する再配置処理を行う（ステップＳ７４）。この再配置処理は、たとえば第１の実施形態の図６で説明した処理である。
【００６０】
その後、ＲＬＴばらつき取得部７６は、再配置処理後のＲＬＴのばらつきを取得する（ステップＳ７５）。ついで、ＲＬＴばらつき取得部７６は、再配置処理後のＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内に収まっているかを判定する（ステップＳ７６）。
【００６１】
ＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内に収まっている場合（ステップＳ７６でＹｅｓの場合）には、以後のインプリント処理で変更された第１ドロップレシピが用いられ、処理が終了する。
【００６２】
ＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内に収まっていない場合（ステップＳ７６でＮｏの場合）には、ドロップレシピ生成部７２は、不吐出ノズルとインプリント処理情報とを用いて、第２ドロップレシピを生成する（ステップＳ７７）。そして、第２ドロップレシピがインプリント処理で用いられることになる。以上で、処理が終了する。
【００６３】
第３の実施形態では、第１ドロップレシピに対する不吐出ノズルのドロップの再配置処理によってはＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内に収まらない場合に、不吐出ノズルとインプリント処理情報とを用いて第２ドロップレシピを新たに生成するようにした。また、第１ドロップレシピに対する再配置処理でＲＬＴのばらつきが目標値から所定の範囲内にある場合には、第２ドロップレシピを生成することなく、第１ドロップレシピをインプリント処理に用いるようにした。その結果、要求されるＲＬＴのばらつきに応じたドロップレシピを使用することができるという効果を有する。また、再配置処理された第１ドロップレシピで、ＲＬＴのばらつきの要求が満たされる場合には、第２ドロップレシピを生成しなくてよい。そのため、第２ドロップレシピを生成する時間を削減することができるという効果も有する。
【００６４】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６５】
１０  インプリントユニット、１１  基板ステージ、１２  真空チャック機構、１３  ステージ定盤、１４  基準マーク台、２１  テンプレートステージ、２２  ベース部、２３  補正機構、２４  加圧部、２５  アライメントステージ、２６  アライメントセンサ、３１  インクジェットヘッド、４１  光源、５０  テンプレート、７０  制御処理部、７１  インプリント処理情報記憶部、７２  ドロップレシピ生成部、７３  ノズル吐出情報取得部、７４  不吐出ノズル特定部、７５  ドロップレシピ変更部、７６  ＲＬＴばらつき取得部、１００  基板、３１１  ノズル。
【図１】
2016058476.tif 000003
【図２】
2016058476.tif 000004
【図３】
2016058476.tif 000005
【図４】
2016058476.tif 000006
【図５】
2016058476.tif 000007
【図６】
2016058476.tif 000008
【図７】
2016058476.tif 000009
【図８】
2016058476.tif 000010
【図９】
2016058476.tif 000011
【図１０】
2016058476.tif 000012
【図１１】
2016058476.tif 000013