(57)【要約】【課題】振り子センサの定位置への復帰動作がより確実に行われ、その振り子センサを用いた基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することができる。【解決手段】この発明の振り子センサ１を備えた基板処理装置においては、振り子センサ１の振り子体１０が傾いた状態であるオン位置と自重の作用によって復帰するオフ位置を有し、オン位置にある振り子体１０に対してオフ位置へ戻す方向の外力を作用し、前記外力がオフ位置においてはオン位置に比べて小さくなるオフ位置復帰補助機構６を備えたものである。【選択図】図１
2016058411.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向に搬送される基板の接触により傾動される振り子体の傾き状態を検知することによって前記基板の搬送状態を検出する振り子センサを備えた基板処理装置において、当該振り子センサは、前記振り子体が傾いた状態であるオン位置と、前記振り子体に基板が接触されない場合において当該振り子体が自重の作用によって復帰する定位置にある状態であるオフ位置を有し、前記オン位置にある振り子体に対して、前記自重の作用に併せて、前記オフ位置へ戻す方向の外力を作用し、前記外力が前記オフ位置においては前記オン位置に比べて小さくなるオフ位置復帰補助機構を備えたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記オフ位置復帰補助機構は、前記基板の搬送を妨げない程度の大きさの前記オフ位置へ戻す方向の外力を作用することを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記オフ位置復帰補助機構は、バネや磁石によって前記オフ位置へ戻す方向の外力を作用することを特徴とする請求項１或いは請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記オフ位置復帰補助機構による前記オフ位置へ戻す方向の外力は、前記振り子センサがオン位置にある時間が長くなると大きくなるように変動し、前記振り子センサがオフ位置にある場合においては小さくなるように変動することを特徴とする請求項１或いは請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記オフ位置復帰補助機構は、前記振り子センサがオン位置にある時間を測定する計時機能と、当該計時機能により計測された前記振り子センサがオン位置にある時間が所定時間を超えると前記オフ位置へ戻す方向の外力を増加させる機能とを備えていることを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記オフ位置復帰補助機構は、前記振り子体の先端部近傍に液体を貯める部分を備え、当該液体を貯める部分に貯まった液体の重さの変化によって前記オフ位置へ戻す方向の外力を変動させることを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記オフ位置復帰補助機構は、前記振り子体に向かって液体を噴射するシャワー機構を備えることを特徴とする請求項１〜請求項６の何れかに記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記振り子体に向かって液体を噴射するシャワー機構は、少なくとも前記振り子センサの可動部分に前記液体を噴射することを特徴とする請求項７に記載の基板処理装置。
【請求項９】
前記振り子体に向かって液体を噴射するシャワー機構は、前記オン位置にある振り子体の先端部近傍に前記液体を噴射することを特徴とする請求項７或いは請求項８に記載の基板処理装置。
【請求項１０】
前記オフ位置復帰補助機構は、前記振り子体に前記オフ位置へ戻す方向の外力が作用した際に、前記振り子体が前記オフ位置を越えて傾くことを防止するストッパピンを備えることを特徴とする請求項１〜請求項９の何れかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置用ガラス基板のようなフラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハなどの各種基板に対してウエット処理などの所定の処理を施すための基板処理装置と、その装置内において特に水平方向に基板搬送される際の所定位置における基板の有無などの検知を行う振り子センサに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置のようなフラットパネルディスプレイの製造工程においては、基板の表面に対して、エッチング液などの処理液を用いたウエット処理を施すための基板処理装置が用いられる。このような基板処理装置の中には、エッチング液による処理行うユニット、水洗処理を行うユニット、水洗後の乾燥処理を行うユニットがあり、これらユニット間を処理対象の基板を搬送ローラなどによって概ね水平な状態で搬送される際において、ガラス基板が装置内の搬送ローラ上の所定の位置における有無や所定の位置を通過したことの検知を行う手段として、センサとガラス基板を直接接触させてセンシングを行う接触式の振り子センサが用いられる。特に基板がこれら装置内を搬送される際にはエッチング液や洗浄水が基板表面にシャワー状に供給された状態や基板表面にこれら液体が載った状態で搬送される場合が多いことから、光電式等の非接触での検知では、これらの基板の周りに存在する液体が原因でセンシング動作の安定性を欠くため、この接触式の振り子センサを用いることが多い。
【０００３】
この振り子センサの一般的な基本構造は、振り子体と振り子体を保持するベース部とからなり、振り子体には、両側に突出する回転軸を備え、ベース部には、当該回転軸を回転可能に保持する軸受け部を備えている。また、振り子の傾き状態の変化を検知するセンサ部をベース部における振り子体の先端部近傍に備えている。また、振り子体の回転軸は、振り子体の重心位置よりも上方に設けられているので、振り子体は回転軸を中心に傾動可能になっており、特に外力が作用しなければ、定位置（オフ位置と呼ぶ）として、重力の作用に従って、鉛直方向に沿って傾きの無い状態、つまり、振り子体の先端部が回転軸に対して重力方向に垂れ下がる位置となる。また、振り子体の上端にはローラが設けられており、搬送ローラに沿って搬送される基板の端部によってローラが押されることで振り子体は傾動されるようになっている。
【０００４】
振り子センサの動作原理としては、基板が、振り子センサ部分を通過時において、振り子体が振り子軸を回転中心として傾動し、例えば、振り子体の先端部がセンサより離れたことを当該センサが検知することで振り子体の傾動状態（オン位置と呼ぶ）、即ち、基板が所定位置に有る状態、或いは、基板が振り子センサ部を通過中の状態であることが検知される。また、基板が振り子センサ部分の通過を完了した場合など、振り子センサと基板が接触しなくなった場合においては、再び、重力のみの作用によって、振り子体は先端部が回転軸に対して重力方向に垂れ下がる位置となるオフ位置に戻る。
【０００５】
しかしながら、従来の振り子センサでは、使用していくうちに、振り子センサの動きが悪くなり、基板が振り子センサを通過した後でも振り子体が傾動したままになってしまい、振り子センサがオフ位置に戻らない場合がある。そのような場合、振り子センサは基板の通過完了、或いは基板が所定位置に無い状態を示すセンシング動作が行われない動作不良の状態となり、基板処理装置は、いつまでも基板が振り子センサ上を通過中、或いは所定位置に有る状態と誤認識してしまう。その結果、振り子センサがオフ位置に戻った際に行われるべき所定の処理（実行の命令）が行われないことや、振り子センサ上を通過中、或いは所定位置に有る状態の時間について所定の制限時間を設定して、それ以上経過した場合には基板搬送異常とするモニタリングを行っている場合には、基板搬送異常のアラームを発生することなど、基板処理装置での動作異常を発生する場合があった。
【０００６】
この振り子センサの動きが悪くなる原因として、主要な原因は、基板処理装置で用いられるエッチング液が、振り子センサの振り子体の回転軸と軸受け部に付着した状態で結晶化し、その結晶の付着によって回転軸と軸受け部との間の摩擦力が大きくなることによるもの考えられている。また、エッチング残渣物などが異物として回転軸と軸受け部との間にかみ込むことでも、同様に摩擦力が大きくなって動きが悪くなるものと考えられる。
【０００７】
また、このように振り子体が傾動したまま振り子センサが動作不良となる場合、振り子センサは、振り子体の自重による作用によってオフ位置の近くまでは移動しているが、自重による作用のみではオフ位置に戻るまでに若干（１°〜２°程度）足らずに、結局、振り子センサの動作不良やそれに伴う基板処理装置での動作異常を発生してしまうことになるのが大半である。
【０００８】
この様な振り子センサが傾いたまま戻らなくなってしまうことにより、振り子センサが動作不良を発生するという問題に対して、特許文献１においては、可動部分に対して湿潤用の液体を供給することによって、このエッチング液の結晶化を要因とする振り子センサの動作不良を改善しようとする方法が開示されている。また、特許文献２においては、振り子センサの振り子体を保持するベース部の軸受け部を上部が開放した構成とし、振り子体を上部より落とし込んで振り子体の回転軸と軸受け部との間の接触部を点接触とすることで、回転軸を軸受け部により緩く保持させて、かみ込んだ異物を抜け易くすることや、洗浄の容易性を確保することや、接触抵抗(摩擦力)を低減することによって、振り子動作を円滑に、つまり、この振り子センサの動きが悪くなることを防止しようとする方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開平１１−３１４０７２号公報
【特許文献２】特開平１１−２８１７５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
しかしながら、特許文献１の方法においては、可動部分でのエッチング液の結晶化を起こり難くすることによって、この結晶化を要因として振り子センサの動きが悪くなることを防止する対処をしているのみであることから、先に説明を行った異物のかみ込みなどのエッチング液の結晶化以外の何らかの要因によって、一時的にでも、振り子センサの自重によるオフ位置に戻す作用を超える程度に振り子センサの動きが悪くなってしまった場合には、上記説明のとおり、オフ位置の近くまでは移動しているが、若干足らない程度の状態となることによる振り子センサの動作不良は充分に発生し得る。その結果、即座に、基板処理装置では動作異常を発生してしまうこととなる。
【００１１】
また、特許文献２の方法においても、ある程度、振り子センサの動きが悪くなることを改善する作用は得られると思われるものの、エッチング液の結晶化や異物のかみ込みなどによって、一時的にでも振り子センサの自重によるオフ位置に戻す作用を超える程度に振り子センサの動きが悪くなってしまった場合には、同様に振り子センサの動作不良とそれに伴う基板処理装置での動作異常を発生してしまうことになる。
【００１２】
以上説明のとおり、振り子センサの動作不良が発生することと、それに伴って基板処理装置において動作異常が発生することとを効果的に防止することのできる振り子センサや基板処理装置は、従来においては存在しなかった。
【００１３】
本発明は、上記説明の様な課題を解決するためになされたものであり、その目的は、振り子センサの定位置（オフ位置）への復帰動作がより確実に行われ、基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することのできる振り子センサを備えた基板処理装置を得るものである。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明の振り子センサを備えた基板処理装置においては、当該振り子センサの振り子体が傾いた状態であるオン位置と自重の作用によって復帰するオフ位置を有し、オン位置にある振り子体に対してオフ位置へ戻す方向の外力を作用し、前記外力がオフ位置においてはオン位置に比べて小さくなるオフ位置復帰補助機構を備えたものである。
【発明の効果】
【００１５】
振り子センサの定位置（オフ位置）への復帰動作がより確実に行われ、その振り子センサを用いた基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の実施の形態１のウエット処理装置の概略側面図である。
【図２】本発明の実施の形態１のウエット処理装置の要部側面図である。
【図３】本発明の実施の形態１のウエット処理装置の動作説明図である。
【図４】本発明の実施の形態１のウエット処理装置の動作説明図である。
【図５】本発明の実施の形態１のウエット処理装置の動作説明図である。
【図６】本発明の実施の形態２のウエット処理装置の概略側面図である。
【図７】本発明の実施の形態２のウエット処理装置の動作説明図である。
【図８】本発明の実施の形態２変形例のウエット処理装置の概略側面図である。
【図９】本発明の実施の形態２変形例のウエット処理装置の動作説明図である。
【図１０】本発明の実施の形態３のウエット処理装置の概略側面図である。
【図１１】本発明の実施の形態３のウエット処理装置の動作説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
実施の形態１.
本発明を適用した振り子センサを用いた基板処理装置の一例である実施の形態１の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の構成について、図１および図２の概略側面図を用いて説明する。ここで、図１は装置全体（主要部のみ）、図２は要部である振り子センサ詳細について、それぞれ説明するために示したものである。なお、図は、模式的なものであり、示された構成要素の正確な大きさなどを反映するものではない。また、図中、既出の図において説明したものと同一の構成には同一の符号を付し、その説明を省略する。以下、その他の図においても同様とする。また、図中におけるＺ軸方向が重力の作用方向と平行となる鉛直方向に一致するものとし、本明細書中では、基本的には、＋Ｚ方向を上側方向、−Ｚ方向を下側方向と呼ぶことにする。
【００１８】
本実施の形態１の液晶表示装置用基板のウエット処理装置は、図１に示される様に、先ず、本発明の特徴的な構成となる振り子センサに関する構成として、振り子センサ１と、処理されるガラス基板２を概ね水平な状態で搬送する搬送機構である搬送ローラ３と、振り子センサ１の傾き状態の変化を検出する検出機構である磁気センサユニット４と、振り子センサの傾き状態に応じてウエット処理装置の全体の動作を制御する制御ユニット５と、制御ユニット５からの制御に従って振り子センサ１の傾き状態を定位置（オフ位置と呼ぶ）に戻す方向の外力を作用する構成として電磁石６を備えている。なお、搬送ローラ３は、図１では、振り子センサ１より手前側（図中、向かって左側、−Ｘ方向側）に配置される搬送ローラ３のみを図示しているが、振り子センサ１よりも奥側（図中、向かって右側、＋Ｘ方向側）にも配置されている。
【００１９】
更に、本実施の形態１のウエット処理装置は、制御ユニット５からの制御に従って、純水などの液体を振り子センサ１に向かって噴射するシャワー機構としてシャワーユニット７を備えている。また、制御ユニット５と、磁気センサユニット４、電磁石６、およびシャワーユニット７間は、図１に示すとおり、センサからの信号や制御信号をやり取りするための信号ケーブルＣ１〜Ｃ３によって接続されている。なお、制御ユニット５は、振り子センサ１により得られるガラス基板２の搬送状況に関する情報を元にして、適宜、このウエット処理装置内の他のユニットなどの動作を制御したり、当該ガラス基板２の搬送状況に関する情報を他のユニットの制御ユニットなどに送信したりすることから、他のユニットに対しても信号ケーブルを介して接続されることになるが、図１では、他のユニットに接続するための信号ケーブルについては、図示省略している。
【００２０】
また、振り子センサ１のより詳細な構成について、図２の振り子センサ１についての詳細説明図を用いて説明する。ここで、図２（ａ）は、図１と同じ方向となる−Ｙ方向から見た側面図、図２（ｂ）は、−Ｘ方向から見た側面図となる。先ず、振り子センサ１は、より詳細には、振り子体１０と、振り子体１０を保持するベース部１１とからなり、更に、振り子体１０には左右側面より両側に突出する回転軸１２が備えられ、ベース部１１には、振り子センサ１が当該回転軸１２を軸として回転可能に保持する軸受け部１３を備えている。
【００２１】
また、振り子センサ１の振り子体１０の先端部の内部には永久磁石１４が設けられており、振り子体１０の先端部近傍の下方に配置された磁気センサユニット４により振り子センサ１の傾き状態の変化を検出することや、振り子体１０の先端部近傍の側方に配置された電磁石６により振り子センサ１をオフ位置に戻す方向の外力を作用させることが可能となる。更に、この永久磁石１４が設けられる振り子体１０の先端部に対して他方の端部となる上端部にはローラ１５がローラ軸１６により回転可能に取り付けられている。また、振り子センサ１においては、回転軸１２に対して、振り子体１０の永久磁石１４が設けられる先端部側が、ローラ１５の設けられる端部側に比べて重く設定されており、振り子センサ１の振り子体１０の回転軸１２は一般的な振り子センサと同様に振り子体１０の重心位置よりも上方に設けられていることになる。その結果、特に外力が作用しなければ重力の作用に従って鉛直方向に沿って傾きの無い状態、つまり、図１および図２に示されるとおり、ガラス基板２の接触も無く外力が作用しない場合においては、振り子体１０の自重の作用によって、振り子体１０の永久磁石１４が設けられる先端部が回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がる状態となり、この状態がセンサとしてオフ状態となる定位置（オフ位置）となる。
【００２２】
また、ベース部１１の詳細な構成としては、軸受け部１３が開口され、振り子体１０を両側より挟む位置において対向して配置される一対の板状部である側面部材１１Ｌおよび側面部材１１Ｒ（−Ｘ方向から見た図２（ｂ）において、向かって左側を側面部材１１Ｌ、向かって右側を側面部材１１Ｒとした）と、これら一対の側面部材１１Ｌおよび側面部材１１Ｒを対向して保持するための部材として、ここでは側面部材１１Ｌおよび側面部材１１Ｒと垂直方向に配置されて、これら一対の板状部を保持する板状部である背面部材１１Ｂ（−Ｘ方向から見た図２（ｂ）において、振り子体１０の背後に配置される）と、側面部材１１Ｌの内側の面に側面部材１１Ｒの方向に突出して設けられるストッパピン１７と、磁気センサユニット４を取り付けるために側面部材１１Ｒに開口された取り付け穴などを備えている。
【００２３】
また、ベース部１１に設けられるストッパピン１７は、振り子体１０が重力方向に垂れ下がる状態であるオフ位置に有る場合において振り子体１０の背面側より当接する位置に設けられており、搬送されるガラス基板１のローラ１５への当接によって生ずる振り子体１０の傾き方向とは逆方向への傾きを防止している。つまり、振り子体１０に作用する重力以外の外力、具体的には、本実施の形態１のウエット処理装置が備える電磁石６が振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力が作用した際において、振り子体１０はオフ位置を越えて、本来のガラス基板１の搬送によって生ずる傾き方向とは逆方向まで傾いてしまうことがなく、この電磁石６の作用する外力によってオフ位置に戻ることができる。
【００２４】
続いて、本実施の形態１の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の動作について、図１に加えて、図３〜図５を用いて説明を行う。図１においては、ウエット処理装置において、処理されるガラス基板２が振り子センサ１の少し手前まで、搬送ローラ３により搬送されて来ている状態に対応し、振り子センサ１の状態は、振り子体１０の先端部が回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がる状態であるオフ位置にある状態である。
【００２５】
図１の状態より、更に、ガラス基板２が搬送ローラ３により搬送されて、ガラス基板２の先頭側の端部が振り子センサ１の位置を超えた位置まで搬送された状態が図３（ａ）の状態に対応する。この図１の状態より、図３（ａ）の状態に至る際には、搬送ローラ３により搬送されて来たガラス基板２の先頭側の端部が振り子体１０の上端部に取り付けられたローラ１５に当接し、当該ローラ１５が押されることで振り子体１は回転軸１２を中心として図中矢印で示される方向に傾動され、その後、振り子体１０が傾いた状態でローラ１５上をガラス基板２はスムーズに水平移動されて、図３（ａ）の状態に至る。
【００２６】
図３（ａ）においては、振り子体１０が傾いた状態となり、永久磁石１４が設けられる振り子体１０の先端部が磁気センサユニット４より離れることになり、それにより磁気センサユニット４は振り子体１０が傾いた状態（センサとしてオン状態となる位置であることから、オン位置と呼ぶ）であることを検出する。そして、磁気センサユニット４は、この振り子体１０がオン位置にあること、つまり、振り子センサ１がオン状態であることの情報が信号ケーブルＣ１を介して制御ユニット５に伝達される。その結果、本実施の形態１のウエット処理装置の場合においては、振り子体１０が傾いた状態（オン位置）であることは、振り子センサ１よりも右側のエリアへのガラス基板２の侵入が開始したことに対応する。
【００２７】
従って、制御ユニット５は、当該エリアでガラス基板２に対して行うことになっている所定の処理を開始する命令などをこのウエット処理装置内の他のユニットなどに行うと良い。所定の処理としては、具体的には、例えば、ノズルからの薬液や純水の吐出、液切りエアナイフからの乾空の噴射などの処理が挙げられる。また。更に下流側のエリアで加熱や乾燥処理など事前準備に時間がかかる所定の処理を行うユニットが有る場合には、このタイミングで当該処理を開始する命令を行っても良い。なお、制御ユニット５からの制御方法としては、制御ユニット５が他のユニットなどの動作を直接制御しても良いし、他のユニットの制御ユニットなどに当該処理を開始する状況であるとの情報を送信するのみでも良い。また、振り子センサ１よりも左側のエリアで、所定の処理を行っていた場合には、当該エリアからの基板の退出開始を意味することから、当該エリアでの処理を終了する命令などを行うと良い。
【００２８】
また、この振り子体１０のオフ位置からオン位置への傾き状態の変化、具体的には、振り子センサ１がオン状態であるかオフ状態であるかを磁気センサユニット４が検出する機構について、図４を用いて説明を補足する。図４（ａ）および図４（ｂ）に示されるように、磁気センサユニット４の特にセンシング動作を行う先端部については、樹脂製のカバー４０で覆われた有接点スイッチであり、樹脂製のパイプ４０内部において上下動可能に保持された小型永久磁石４１と、この小型永久磁石４１の上下動に連動する接点スイッチ部４２を備えている。より詳細には、小型永久磁石４１が外力の作用によって上昇すると接点スイッチ部４２が非導通となり、外力の作用が無く重力の作用によって小型永久磁石４１が下降すると接点スイッチ部４２が導通されることになる。
【００２９】
また、図４（ａ）は、振り子体１０がオフ位置にある状態、つまり、振り子体１０の先端部および永久磁石１４が、この磁気センサユニット４のセンシング動作を行う先端部の直上に近接された状態を示すもので、図４（ｂ）は、振り子体１０がオン位置にある状態、つまり、振り子体１０の先端部および永久磁石１４が、この磁気センサユニット４のセンシング動作を行う先端部より離間した状態を示すものである。
【００３０】
まず、図４（ａ）の振り子体１０がオフ位置にある状態、つまり、振り子体１０の先端部および永久磁石１４が、この磁気センサユニット４のセンシング動作を行う先端部の直上に近接された状態においては、振り子体１０の永久磁石１４と小型永久磁石４１間の引力の作用によって、小型永久磁石４１が上昇し接点スイッチ部４２が非導通となる。逆に、図４（ｂ）の振り子体１０がオン位置にある状態、つまり、振り子体１０の先端部および永久磁石１４が、この磁気センサユニット４のセンシング動作を行う先端部の直上より離間された状態、より具体的には、永久磁石１４による磁力が小型永久磁石４１におよぶ範囲を超えた程度に離れた状態においては、振り子体１０の永久磁石１４による小型永久磁石４１への引力が作用せず、重力の作用によって小型永久磁石４１が下降することとなり、接点スイッチ部４２が導通されることになる。そして、この接点スイッチ部４２が導通状態であることと非導通状態であることの状態の違いが、電気信号として信号ケーブルＣ１を介して制御ユニット５に伝達される。このようにして、磁気センサユニット４によるセンシング動作が行われ、振り子体１０がオフ位置にある状態であるかオン位置にある状態であるかが検出されて、その情報が制御ユニット５に伝達されることになる。
【００３１】
なお、ここでは、磁気センサユニット４について、磁気センサユニット４に内蔵される小型永久磁石４１と振り子体１０の永久磁石１４の極性を引力が作用する配置で用いた例で説明を行ったが、逆に両者間に斥力が作用する配置の場合には、斥力が作用しない場合の小型永久磁石４１と接点スイッチ部４２を動かす作用を重力以外のバネ力などを利用するのと同様のセンシングシステムとして利用できる。また、磁気センサユニット４に内蔵される小型永久磁石４１を金属板などの磁石による磁力により引き合う部材に変更しても良く、或いは、より簡単な構成として、樹脂製のカバーに内蔵される板バネ式の有接点スイッチよりなるステムを用いても良い。これらにおいても、多少、感度が低下する恐れがあるものの、ここで説明した磁気センサユニット４と同様に振り子体１０の先端部の永久磁石１４の近接と離間によって振り子体１０の傾動状態を検知可能である。
【００３２】
図３（ａ）を用いて説明を行ったとおり、振り子センサ１よりも右側のエリアへのガラス基板２の侵入が開始し、以上の詳細説明を行った振り子センサ１によるセンシング動作が行われたあとも、引き続きガラス基板２は搬送ローラ３により水平搬送を継続される。その後、ガラス基板２全体が振り子センサ１上を通り過ぎると、図３（ｂ）の状態に至る。また、振り子センサ１の動作としては、ガラス基板２が振り子体１０のローラ１５に接触していることによって、振り子体１０は傾いたオン位置にある状態であったが、ガラス基板２全体が振り子センサ１上を通り過ぎて図３（ｂ）の状態となると、振り子体１０とローラ１５はガラス基板２による作用を受けなくなる。その結果、特に振り子体１０の傾動可能な状態に異常がなければ、振り子体１０自体の自重による作用に従って、図３（ｂ）中に矢印で示される回転方向に振り子体１０は移動し、振り子体１０の先端部が回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がるオフ位置に戻る（定位置に復帰する）。この振り子体１０がオフ位置に戻ったことは、先に説明した磁気センサユニット４の作用により検知され、その情報が制御ユニット５に伝達される。つまり、この振り子センサ１がオフ状態となったことを制御ユニット５が認識することになる。
【００３３】
この振り子センサ１がオフ状態となったことは、本実施の形態１のウエット処理装置の場合においては、振り子センサ１よりも左側のエリアからのガラス基板２の退出が完了したことに対応する。従って、制御ユニット５は、この振り子センサ１よりも左側のエリアへの後続するガラス基板２の受入れ可の信号などをこのウエット処理装置内の他のユニットなどに行うと良い。また、振り子センサ１よりも右側のエリアへのガラス基板２の受入れが完了したことにも対応するので、この振り子センサ１よりも右側のエリアに受け入れたガラス基板２に当該エリアでガラス基板２に対して行うことになっている所定の処理があれば、当該処理を開始する命令などをこのウエット処理装置内の他のユニットなどに行うと良い。
【００３４】
上記説明の図１、図３（ａ）および図３（ｂ）の状態を順に繰り返すことで、本実施の形態１のウエット処理装置は、搬送ローラ３により搬送され、振り子センサ１部分を通過していくガラス基板２について、振り子センサ１が順番に通過状況についてセンシングすることができ、所定の処理を行うことができる。しかしながら、振り子センサ１に何らかの異常が発生して、振り子体１０の傾動動作の動きが悪くなって、自重によるオフ位置に戻す作用を超える程度に振り子体１０の動きが悪くなってしまった場合には、本実施の形態１のウエット処理装置は、自動的にその異常状態を検知して、図１、図３（ａ）および図３（ｂ）を用いて説明した動作とは別の動作である本実施の形態１のウエット処理装置が備えるオフ位置復帰補助機構の動作が開始される。
【００３５】
具体的には、先ず、振り子センサ１の異常を検知する方法として、本実施の形態１のウエット処理装置においては、制御ユニット５に、振り子センサ１がオン状態となってからオフ状態となるまでの経過時間を測定する計時機能と、この測定された時間が所定時間を超えた場合には、異常として判断する判断機能を備えるものとする。ここで、異常と判断する基準とする所定時間としては、例えば、通常での搬送ローラ３により搬送されるガラス基板２の振り子センサ１上の通過時間、つまり、ガラス基板２の搬送方向における長さを搬送速度で除して得られる時間を基準にして、ガラス基板２が搬送ローラ３上で滑ることなどによるロス時間をマージンとして、数秒〜１０数秒程度加えた時間に設定すると良い。
【００３６】
続いて、制御ユニット５により振り子センサ１の異常が検知された場合、つまり、振り子センサ１がオン状態となってから所定時間内においてオフ状態とならなかった場合に行われる本実施の形態１のウエット処理装置のオフ位置復帰補助機構の動作について、図５を用いて説明を行う。制御ユニット５により振り子センサ１の異常が検知された状態においては、図５（ａ）に示すとおり、振り子センサ１はオン状態のまま、つまり、振り子センサ１の振り子体１０は傾斜した状態のままである。この状態で制御ユニット５は振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力を作用する構成として備えた電磁石６に対して、電磁石６を磁石として動作させるよう制御を行う。具体的には、信号ケーブルＣ２に電磁石６を磁石として動作させるための電流信号を導通する。更に、制御ユニット５は、純水などの液体を振り子センサ１に向かって噴射するシャワーユニット７に対して、液体の噴射を開始する制御を行う。
【００３７】
ここで、液体を振り子センサ１に向かって噴射するシャワーユニット７の詳細について説明を追加しておく。このシャワーユニット７は、振り子センサ１の可動部分である振り子体１０の回転軸１２とベース部１１の軸受け部１３に向かって液体を噴射するノズル７Ａと、振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力を作用するため、オン位置にある振り子体１０の先端部近傍に向かって液体を噴射するノズル７Ｂと、これらノズル７Ａとノズル７Ｂへの液体の供給を制御する電磁弁７Ｖを備えている。図５中では、ノズル７Ａより軸受け部１３に向かって噴射される液体の噴流ＪＡと、ノズル７Ｂより振り子体１０の先端部近傍に向かって噴射される液体の噴流ＪＢについて、それぞれ噴射される方向などを模式的に示している。なお、制御ユニット５がシャワーユニット７を制御するために設けられる信号ケーブルＣ３は、より詳細には、この電磁弁７Ｖに接続されて、制御ユニット５が電磁弁７Ｖの開閉を制御することで、シャワーユニット７の動作を制御している。
【００３８】
以上説明のとおりシャワーユニット７が構成されていることから、図５（ａ）に示すとおり、制御ユニット５が、シャワーユニット７に対して、液体の噴射を開始する制御を行うと、ノズル７Ａからは、振り子センサ１の可動部分である振り子体１０の回転軸１２とベース部１１の軸受け部１３に向かって液体が噴射され、ノズル７Ｂからは、オン位置にある振り子体１０の先端部近傍に向かって液体を噴射されることになる。その結果、ノズル７Ａからの液体の噴射（噴流ＪＡ）によって、振り子センサ１の異常である振り子体１０の傾動動作の動きが悪くなった原因が可動部分でのエッチング液の結晶化や異物のかみ込みによって摩擦力が大きくなったことによるものであった場合には、結晶や異物を洗い流して摩擦力を正常時に戻す作用が得られる。また、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）によって、振り子体１０の先端部を図５（ａ）に示す矢印の方向へ回転する方向、即ち、振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力が作用する。言い換えると、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）によって、振り子センサ１の振り子体１０がオフ位置に戻ることを補助する外力を作用することになる。また、先に説明したとおり、制御ユニット５の制御により、電磁石６が磁石として動作することで、振り子体１０の先端部に設けられた永久磁石１４との間に引力を作用し、この引力も振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力、言い換えると、振り子センサ１の振り子体１０がオフ位置に戻ることを補助する外力をとして作用する。
【００３９】
特に振り子体１０の傾斜が大きい状態では、振り子体１０の先端部とノズル７Ｂの位置関係が近接することから、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）による振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力がより大きく作用し、振り子体１０の傾斜が小さい状態では、振り子体１０の先端部に設けられた永久磁石１４と電磁石６の位置関係が近接することから、この永久磁石１４と電磁石６間の引力による振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力がより大きく作用することとなり、両者の作用が補完しあう形で、より効果的に振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す作用が発揮される。また、振り子センサ１の異常である振り子体１０の傾動動作の動きが悪くなった原因が可動部分でのエッチング液の結晶化や異物のかみ込みによって摩擦力が大きくなったことによるものであった場合には、このノズル７Ａからの液体の噴射（噴流ＪＡ）による摩擦力を正常時に戻す作用と、上記の振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す力を印加する作用とが協働して、より効果的に振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す作用が得られる。その結果、図５（ｂ）に示すとおり、振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻すことが可能となる。
【００４０】
また、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）による振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向へ動かす作用と、永久磁石１４と電磁石６間の引力による振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向へ動かす作用の何れにおいても、振り子体１０がオフ位置を越えた位置、つまり、オン位置とは逆方向へ傾く方向まで動かすよう作用する。しかしながら、振り子センサ１のベース部１１には、振り子体１０がオフ位置に有る場合において振り子体１０の背面側より当接する位置にストッパピン１７が設けられていることから、オン位置の傾き方向とは逆方向への傾きが防止される。その結果、これら、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）によって作用する外力や、電磁石６により生ずる外力によって、正しくオフ位置に戻ることができる。
【００４１】
また、図５（ｂ）に示すとおり、振り子体１０がオフ位置に戻ると、振り子センサ１に特に異常が発生しない場合と同様に、先に説明した磁気センサユニット４の作用により、振り子センサ１がオフ状態となったことは検知され、その情報が制御ユニット５に伝達される。つまり、この振り子センサ１の異常が解消されオフ状態となったことを制御ユニット５が認識することになる。その後、制御ユニット５は、その他、特に異常が発生しない場合において、振り子体１０がオフ位置に戻ったことを認識した際に行うこととなっている所定の処置について、同様に実施する。また、異常が検出された後に振り子センサ１がオフ状態となった場合には、異常状態を解消すべく開始された動作、つまり、電磁石６を磁石として動作させることと、シャワーユニット７が液体の噴射を行うことについて、動作を停止するよう制御ユニット５は制御を行う。その結果、振り子センサ１の振り子体１０には、特別な外力が作用することはなくなり、通常時のオフ位置にある状態と同じく、振り子体１０の自重のみが作用する状態に戻ることとなる。従って、再び、図１に示されるように、続いて、次のガラス基板２の振り子センサ１の通過が開始されても、ガラス基板２の搬送を振り子体１０が妨げることもない。
【００４２】
以上説明のとおり、本実施の形態１の振り子センサを用いた液晶表示装置用基板のウエット処理装置においては、オン位置にある振り子体１０をオフ位置に戻す方向の外力として、振り子体１０の自重以外の力を作用させ、オフ位置においては、そのオフ位置に戻す方向の外力の印加が解除され、オン位置に比べ作用する力が小さくなるオフ位置復帰補助機構を備えていることから、振り子センサ１のオフ位置への復帰動作がより確実に行われ、その振り子センサ１を用いた基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することができる効果が得られる。また、先に説明のとおり、オフ位置においては、作用する力が小さくなっていることから、次のガラス基板２が振り子センサ１を通過する際のガラス基板２の搬送や、振り子センサ１によるセンシング動作を妨げることが無く、振り子センサ１のオフ位置への復帰動作をより確実とする効果と、連続して行われる振り子センサ１の動作が正常に行われる効果を両立することができる。
【００４３】
また、本実施の形態１においては、振り子センサ１に異常が有った場合のみに、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）と、電磁石６の磁石としての動作を行い、振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向へ動かす作用、つまり、オフ位置復帰補助機構を動作する方法を用いたことから、ガラス基板２の搬送を振り子体１０が妨げることなく、比較的大きな外力を振り子体１０に対して印加することができ、振り子体１０の可動部分が強固に固着してしまった場合などでも、振り子センサ１のオフ位置への復帰動作をより確実とすることが可能となる。なお、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）と、電磁石６による作用は、振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す方向へ動かすという同様の作用を行うことから、何れか一方のみが配置されるように、装置構成を簡略化しても構わない。
【００４４】
また、本実施の形態１においては、シャワーユニット７として、振り子センサ１の可動部分に向かって液体を噴射するノズル７Ａとオン位置にある振り子体１０の先端部近傍に向かって液体を噴射するノズル７Ｂの両者を備えていることから、このノズル７Ａからの液体の噴射（噴流ＪＡ）による摩擦力を正常時に戻す作用と、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）による振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す力を印加する作用とが協働して、より効果的に振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す作用が得られる。また、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）による振り子センサ１の振り子体１０に及ぼす外力は、振り子体１０の傾きが大きくなるにつれてノズル７Ｂに近接されることから、この噴流ＪＢによる振り子体１０に及ぼす外力は相対的にオン位置にあるときに大きくなり、オフ位置にあるときには小さくなる。特に、本実施の形態１のノズル７Ｂの配置では、オフ位置にあるときにはノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）が振り子体１０に殆ど当たらなくなる位置関係とされていることから、この噴流ＪＢによる外力はほぼゼロとなる。従って、オン位置にある振り子体１０をオフ位置に戻す方向の外力は有効に作用し、オフ位置においては、そのオフ位置に戻す方向の外力が小さくなることから、ガラス基板２の搬送を振り子体１０が妨げることもない。
【００４５】
なお、本実施の形態１においては、シャワーユニット７の動作は、振り子センサ１がオフ位置へ所定時間戻らなかった場合、つまり、振り子センサ１に異常が発生した場合のみ動作を開始することにした。しかしながら、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）によって生ずる振り子センサ１の振り子体１０がオフ位置に戻ることを補助する外力が、振り子体１０のローラ１５上をガラス基板２がスムーズに水平移動することを妨げない程度であれば、言い換えると、ノズル７Ｂからの液体の噴射（噴流ＪＢ）によって振り子体１０が戻る作用によりガラス基板２が持ち上げられない程度であれば、制御ユニット５によるシャワーユニット７の動作制御を省略して、絶えず液体が噴射される構成に変更しても良い。特に、本実施の形態１での図５のような噴射角度でノズル７Ｂを配置した場合には、先に説明したとおり、振り子体１０が大きく傾斜している間には戻す方向への力が大きくなり、傾きが小さくなるにつれて戻す方向への力か小さくなり、特にオフ位置にあるに間は噴流ＪＢが振り子体に当たらない位置関係とされていることから、絶えず液体が噴射される構成に変更しても良い。
【００４６】
また、ノズル７Ａによる振り子センサ１の可動部分への液体の噴射（噴流ＪＡ）については、ウエット処理装置で用いられるエッチング液などの処理液とノズル７Ａより噴射される液体とが装置内で混合されることが、ガラス基板２の装置内の位置によらずに特に悪影響を及ぼさないのであれば、絶えず噴射させておいても良い。その場合には、可動部分における結晶化や異物のかみ込みを起因として振り子センサ１の振り子体１０が動きにくくなることを防ぐ作用は大きくなる。
【００４７】
実施の形態２.
続いて、先に説明を行った実施の形態１の振り子センサを用いた液晶表示装置用基板のウエット処理装置より、振り子センサとオフ位置復帰補助機構に関する構成や動作などに関して一部変更を行った本発明適用の実施の形態２の液晶表示装置用基板のウエット処理装置について、図６および図７を用い説明を行う。以下、実施の形態１との変更部を重点的に説明することとする。
【００４８】
先ず、本実施の形態２の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の構成について、図６を用いて説明する。ここで、図６は本実施の形態２のウエット処理装置の概略側面図、特に要部である振り子センサ１ａに関する構成の詳細について示したものである。なお、実施の形態１と同じ構成については同じ番号を付し適宜説明を省略する。
【００４９】
本実施の形態２のウエット処理装置は、振り子センサ１ａと、処理されるガラス基板２を概ね水平な状態で搬送する搬送機構である搬送ローラ３と、振り子センサ１ａの傾き状態の変化を検出する検出機構である磁気センサユニット４と、振り子センサ１ａの傾き状態をオフ位置に戻す方向の外力を作用する構成を含むオフ位置復帰補助機構と、純水などの液体を振り子センサ１ａに向かって噴射するシャワーユニット７を備えていることまでは、実施の形態１のウエット処理装置と共通している。なお、本実施の形態２のウエット処理装置では、このオフ位置復帰補助機構の具体的な構成が変更されていることが大きな特徴となっていることから、図６では、振り子センサ１ａ、磁気センサユニット４、オフ位置復帰補助機構、およびシャワーユニット７について図示し、ガラス基板２と搬送ローラ３については図示省略している。
【００５０】
本実施の形態２のウエット処理装置での特徴的な構成である振り子センサ１ａとオフ位置復帰補助機構に関する構成として、図６に示される様に、振り子センサ１ａは、より詳細には、振り子体１０ａと、振り子体１０ａを保持するベース部１１とからなり、更に、振り子体１０ａには左右側面より両側に突出する回転軸１２と、一方の先端部の内部に設けられる永久磁石１４と、他方の端部となる上端部にローラ軸１６により回転可能に取り付けられるローラ１５が備えられ、ベース部１１には、振り子センサ１ａが当該回転軸１２を軸として回転可能に保持する軸受け部１３と、振り子センサ１ａの傾き状態の変化を検出する磁気センサユニット４と、振り子体１０ａがオフ位置に有る場合において背面側より当接する位置に設けられるストッパピン１７が備えられ、更に、磁気センサユニット４からのセンシングに関する情報を伝達するために接続される信号ケーブルＣ１が備えられている点までは、実施の形態１のウエット処理装置と共通している。
【００５１】
本実施の形態２のウエット処理装置の振り子センサ１ａにおいて、実施の形態１と異なる構成としては、図６に示される様に、振り子体１０ａについて、先端近傍に、貯水部１８を備えている。また、シャワーユニット７については、本実施の形態２では、振り子センサ１ａの可動部分である振り子体１０ａの回転軸１２とベース部１１の軸受け部１３に向かって液体を噴射するノズル７Ａのみとしている。なお、ここでは、シャワーユニット７で扱う液体を純水として、貯水部１８と呼んでいるが、シャワーユニット７で扱う液体は薬液であっても良く、貯水部１８は純水に限られず液体を貯める機能を有していれば良い。
【００５２】
続いて、本実施の形態２の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の動作について、図７を用いて説明を行う。ここで、図７（ａ）は、振り子センサ１ａに異常が発生してオン位置にある振り子センサ１ａがガラス基板２の通過後において速やかにオフ位置に戻らなかった場合において、オン位置にある状態、図７（ｂ）は、図７（ａ）の状態より、オフ位置復帰補助機構の動作によってオフ位置に復帰した際におけるオフ位置にある状態を其々示したものである。つまり、実施の形態１の場合における図５（ａ）および図５（ｂ）の状態に相当する。なお、振り子体１０ａを保持するベース部１１などについては、煩雑となることから図示省略している。
【００５３】
本実施の形態２のウエット処理装置の動作においては、実施の形態１とは異なる点が幾つかある。先ず、本実施の形態２においては、実施の形態１のように自動的にその異常状態を検知する機能を省略しており、また、異常が検知された場合のみに行う動作である電磁石６を磁石として動作させる制御やシャワーユニット７に対して、液体の噴射を開始する制御を行う機能についても省略している。その代わりに本実施の形態２のオフ位置復帰補助機構は以下のとおり動作機能する。
【００５４】
本実施の形態２の振り子センサ１ａにおいては、振り子センサ１ａの可動部分に向かって液体を噴射するノズル７Ａのみからなるシャワーユニット７について、振り子センサ１ａの状態に関わらず絶えず液体を噴射する動作形態としている。その結果、図７（ａ）に示すとおり、振り子センサ１ａの振り子体１０ａがオン位置となったままで所定時間以上経過すると、ノズル７Ａより噴射される液体の噴流ＪＡが振り子体１０ａの可動部分に当たったのちに、傾斜される振り子体１０ａの上側表面を液体ＬＩＱとして流れたのち、本実施の形態２で設けられる特徴的構成である振り子体１０ａの先端近傍に設けられた貯水部１８に貯まり続ける。
【００５５】
特に、ガラス基板２の振り子センサ１ａ上を正常に通過するのに必要な時間を超える時間、つまり、振り子体１０ａがオフ位置に戻らない異常の発生に対応した所定時間の経過によって、貯水部１８には当該所定時間相応の量の液体ＬＩＱが貯まることとなる。その貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる下向きの力によって、振り子センサ１ａの振り子体１０ａがオフ位置に戻ることを補助する外力が作用することになる。
【００５６】
なお、ガラス基板２の振り子センサ１ａ上を正常に通過するのに必要な時間にマージンとして数秒〜１０数秒程度加えた時間、つまり通常動作による所定時間と、ノズル７Ａより噴射される液体の噴流ＪＡの流量、貯水部１８に貯まる速度、貯水部１８の容積と液体ＬＩＱの重さの関係により決まる貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さの増加速度との関係について、通常動作による所定時間内、つまり、ローラ１５上をガラス基板２が通過している間には、貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる外力が、振り子体１０ａのローラ１５上をガラス基板２がスムーズに水平移動することを妨げない程度、言い換えると、貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱにより生ずる外力によって振り子体１０ａが戻る作用により、ガラス基板２が持ち上げられない程度に設定しておく。具体的な調整手段としては、当該外力を生ずる液体ＬＩＱの重さの増加速度、つまり、液体ＬＩＱの貯水部１８への貯まる速度に直接影響する噴流ＪＡの流量と、噴流ＪＡのうち貯水部１８に貯まる比率などを加減して調整すると良い。
【００５７】
以上の結果、図７（ａ）のように振り子体１０ａの自重のみが作用した状態ではオフ位置に戻ることができなかった場合においても、この貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる下向きの力によって、図７（ｂ）に示すとおり、振り子センサ１ａの振り子体１０ａは回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がる位置に戻り、振り子センサ１ａの傾き状態をオフ位置に戻すことが可能となる。なお、この貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる下向きの力による振り子センサ１ａの傾き状態をオフ位置に戻す方向へ動かす作用は、貯水部１８の形状や貯水部１８に液体ＬＩＱが貯まった状態における重心のバランスなどの設定によっては、振り子体１０ａがオフ位置を越えた位置、つまり、オン位置とは逆方向へ傾く方向まで動かすよう作用する場合もある得る。しかしながら、振り子センサ１ａにおいては、振り子センサ１のベース部１１に振り子体１０ａがオフ位置に有る場合において振り子体１０ａの背面側より当接する位置にストッパピン１７が設けられていることから、オン位置の傾き方向とは逆方向への傾きが防止される。その結果、貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる外力によって、振り子体１０ａは正しくオフ位置に戻ることができる。
【００５８】
また、図７（ｂ）に示すとおり、振り子体１０ａがオフ位置に戻ると、本実施の形態２の貯水部１８は貯まった液体ＬＩＱが流れ出るように内壁面の角度が傾斜して設けられており、振り子体１０ａがオフ位置に留まると、この貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱは殆ど排出される。その結果、振り子センサ１ａの振り子体１０ａには、特別な外力が作用することはなくなり、通常時のオフ位置にある状態と同じく、振り子体１０の自重のみが作用する状態に戻ることとなる。従って、続いて、次のガラス基板２の振り子センサ１ａの通過が開始されても、ガラス基板２の搬送を振り子体１０ａが妨げることもない。
【００５９】
以上説明のとおり、本実施の形態２の振り子センサを用いた液晶表示装置用基板のウエット処理装置においても、オン位置にある振り子体１０ａをオフ位置に戻す方向の外力として、振り子体１０ａの自重以外の力を作用させ、オフ位置においては、そのオフ位置に戻す方向の外力の印加が解除され、オン位置に比べ作用する力が小さくなるオフ位置復帰補助機構を備えていることから、振り子センサ１ａのオフ位置への復帰動作がより確実に行われ、その振り子センサ１ａを用いた基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することができる効果が得られる。また、先に説明のとおり、オフ位置においては、作用する力が小さくなっていることから、次のガラス基板２が振り子センサ１ａを通過する際のガラス基板２の搬送や、振り子センサ１ａによるセンシング動作を妨げることが無く、振り子センサ１ａのオフ位置への復帰動作をより確実とする効果と、連続して行われる振り子センサ１ａの動作が正常に行われる効果を両立することができる。
【００６０】
また、本実施の形態２においても、ノズル７Ａより振り子体１０ａの可動部分に向かって液体が噴射されることで、実施の形態１において説明したとおり、振り子センサ１ａの異常である振り子体１０ａの傾動動作の動きが悪くなった原因が可動部分でのエッチング液の結晶化や異物のかみ込みによって摩擦力が大きくなったことによるものであった場合には、結晶や異物を洗い流して摩擦力を正常時に戻す作用が得られる。更に、この摩擦力を正常時に戻す作用と、上記の振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す力を印加する作用とが協働して、より効果的に振り子センサ１の傾き状態をオフ位置に戻す作用が得られる。また、本実施の形態２においては、ノズル７Ａより振り子体１０ａの可動部分に絶えず液体がかけられる方法が選択されることから、可動部分における結晶化や異物のかみ込みを起因として振り子センサ１ａの振り子体１０ａが動きにくくなることを防ぐ作用は大きくなる。
【００６１】
また、本実施の形態２のウエット処理装置においては、オフ位置復帰補助機構に関する構成として、振り子センサ１ａの振り子体１０ａが備えた貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの量の増加によって振り子体１０ａをオフ位置に戻す方向の外力を作用させることで、オフ位置に戻らない時間の長さに応じて自動的にオフ位置復帰補助機構が作用を開始することができる。つまり、オン位置にある時間が長くなると自動的に振り子体１０ａをオフ位置に戻す方向の外力が大きくなるように変動することから、実施の形態１のウエット処理装置において備えていたような計時機構や、計時結果に応じてオフ位置復帰補助機構の動作の開始と停止などを制御する制御機構、また、当該制御に伴って動作の開始と停止の状態を切り替え可能なオフ位置復帰補助機構などが必要でなくなる。従って、装置構成が非常に単純になり低コスト化が可能となる。
【００６２】
以上説明を行った実施の形態２のウエット処理装置においては、振り子センサ１ａとオフ位置復帰補助機構に関する構成として、先端近傍に貯水部１８を備えた振り子体１０ａと振り子センサ１ａの可動部分に向かって液体を噴射するシャワーユニット７を用いた構成について説明を行ったが、貯水部を備えた振り子体の具体的な構成としては、他の形態であっても良い。続いて、実施の形態２の変形例として、他の形態の貯水部１９を備えた振り子体１０ｂよりなる振り子センサ１ｂを備えたウエット処理装置について、図８および図９を用いて説明する。
【００６３】
図８は、この実施の形態２の変形例の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の概略側面図、特に要部である振り子センサ１ｂに関する構成の詳細について示したものであり、実施の形態２の説明に用いた図６に相当する。また、図９（ａ）および図９（ｂ）は、この実施の形態２の変形例のウエット処理装置の動作について説明するための側面図であり、図９（ａ）は、振り子センサ１ｂに異常が発生してオン位置にある振り子センサ１ｂがガラス基板２の通過後において速やかにオフ位置に戻らなかった場合において、オン位置にある状態、図９（ｂ）は、図９（ａ）の状態より、オフ位置復帰補助機構の動作によってオフ位置に復帰した際におけるオフ位置にある状態を其々示したものである。つまり、実施の形態２の説明に用いた図７（ａ）および図７（ｂ）に其々相当する。
【００６４】
図８に示すとおり、この実施の形態２の変形例のウエット処理装置の振り子センサ１ｂにおいては、実施の形態２のウエット処理装置の振り子センサ１ａより、特に振り子体１０ａが備える貯水部１８の構成を変更している。より具体的には、実施の形態２の変形例のウエット処理装置の振り子センサ１ｂの振り子体１０ｂが備える貯水部１９については、振り子体１０ｂの内部において液体を貯めることのできる貯水部１９とされている。なお、貯水部１９と呼んでいるが、純水に限られず液体を貯める機能を有していれば良い。また、傾斜される振り子体１０ｂの上側表面に当該表面を流れる液体ＬＩＱを貯水部１９に取り込むための開口部である集液口１９ａと、貯水部１９内に取り込まれた液体ＬＩＱをある程度の速度で排出する開口部である排液口１９ｂと、更に、当該表面における集液口１９ａの下側より庇状に突出して配置される板状部材であって、集液口１９ａへの液体ＬＩＱの取り込みを補助する集液補助板１９ｃを備えている。
【００６５】
続いて、本実施の形態２の変形例の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の動作について、図９を用いて説明を行う。本実施の形態２の変形例の振り子センサ１ｂにおいても、実施の形態２と同様に、振り子センサ１ｂの可動部分に向かって液体を噴射するノズル７Ａのみからなるシャワーユニット７について、振り子センサ１ａの状態に関わらず絶えず液体を噴射する動作形態としている。図９（ａ）に示すとおり、振り子センサ１ｂの振り子体１０ｂがオン位置となったままで所定時間以上が経過すると、ノズル７Ａより噴射される液体の噴流ＪＡが振り子体１０ｂの可動部分に当たったのちに、傾斜される振り子体１０ｂの上側表面を液体ＬＩＱとして流れ、本実施の形態２の変形例で設けられる特徴的構成である集液口１９ａへの液体ＬＩＱの取り込みを補助する集液補助板１９ｃにより集液されて、集液口１９ａより振り子体１０ｂの内部に設けられた貯水部１９内に貯まり続ける。また、貯水部１９内に入った液体ＬＩＱの一部は貯水部１９内の下部に設けられた開口部である排液口１９ｂより排出される。
【００６６】
実施の形態２の場合と同様に、この変形例においても、特に、ガラス基板２の振り子センサ１ａ上を正常に通過するのに必要な時間を超える時間、つまり、振り子体１０ｂがオフ位置に戻らない異常の発生に対応した所定時間の経過によって、貯水部１９には当該所定時間相応の量の液体ＬＩＱが貯まることとなる。その貯水部１９に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる下向きの力によって、振り子センサ１ｂの振り子体１０ｂがオフ位置に戻ることを補助する外力が作用することになる。
【００６７】
その結果、実施の形態２の場合と同様に、図９（ａ）のように振り子体１０ｂの自重のみが作用した状態ではオフ位置に戻ることができなかった場合においても、この貯水部１９に貯まった液体ＬＩＱの重さにより生ずる下向きの力によって、図９（ｂ）に示すとおり、振り子センサ１ｂの振り子体１０ｂは回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がる位置に戻り、振り子センサ１ｂの傾き状態をオフ位置に戻すことが可能となる。
【００６８】
また、図９（ｂ）に示すとおり、振り子体１０ｂがオフ位置に戻ると、実施の形態２の貯水部１８と同様に、本実施の形態２の変形例の貯水部１９においても、貯まった液体ＬＩＱが流れ出るように構成されている。具体的には、液体ＬＩＱは貯水部１９内の下部において側方に開口した状態となるよう配置された排液口１９ｂより排出される。また、振り子体１０ｂがオフ位置にある状態では、鉛直方向に立った振り子体１０ｂの表面において、側方に開口した状態となるよう集液口１９ａが配置され、更に、集液補助板１９ｃについても、集液口１９ａより下側に傾斜した庇状となるよう設けられていることから、新たな液体ＬＩＱが貯水部１９内に入り難い配置となっている。従って、振り子体１０ｂがオフ位置に留まると、集液口１９ａより貯水部１９に入る液体ＬＩＱに比べて排液口１９ｂより排出される液体ＬＩＱが多くなり、この貯水部１９に貯まった液体ＬＩＱは殆ど排出される。その結果、振り子センサ１ｂの振り子体１０ｂには、特別な外力が作用することはなくなり、通常時のオフ位置にある状態と同じく、振り子体１０の自重のみが作用する状態に戻ることとなる。従って、続いて、次のガラス基板２の振り子センサ１ｂの通過が開始されても、ガラス基板２の搬送を振り子体１０ｂが妨げることもない。
【００６９】
以上説明のとおり、本実施の形態２の変形例のウエット処理装置においても、実施の形態２のウエット処理装置と同様に、振り子センサ１ｂのオフ位置への復帰動作がより確実に行われ、その振り子センサ１ｂ用いた基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することができる効果が得られる。また、先に説明のとおり、オフ位置においては、作用する力が小さくなっていることから、次のガラス基板２が振り子センサ１ｂを通過する際のガラス基板２の搬送や、振り子センサ１ｂによるセンシング動作を妨げることが無く、振り子センサ１ｂのオフ位置への復帰動作をより確実とする効果と、連続して行われる振り子センサ１ｂの動作が正常に行われる効果を両立することができる。更に、実施の形態２のウエット処理装置と同様に、実施の形態１のウエット処理装置において備えていたような計時機構や、計時結果に応じてオフ位置復帰補助機構の動作の開始と停止などを制御する制御機構、また、当該制御に伴って動作の開始と停止の状態を切り替え可能なオフ位置復帰補助機構などが必要でなくなる。従って、装置構成が非常に単純になり低コスト化が可能となる。
【００７０】
また、実施の形態２においては、貯水部１８に貯まった液体ＬＩＱの重さの増加速度を適当な範囲に調整することが必要であり、その調整手段として液体ＬＩＱの貯水部１８への貯まる速度に直接影響する噴流ＪＡの流量と、噴流ＪＡのうち貯水部１８に貯まる比率などを加減して調整すると良いことについて説明したが、本実施の形態２の変形例においても同様に、貯水部１９に貯まった液体ＬＩＱの重さの増加速度を適当な範囲に調整することが必要である。その具体的な調整手段としては、本実施の形態２の変形例においても、噴流ＪＡの流量と、噴流ＪＡのうち貯水部１９に貯まる比率による調整が有効である。
【００７１】
特に、本実施の形態２の変形例の場合には、噴流ＪＡのうち貯水部１９に貯まる比率について、貯水部１９に設けた集液口１９ａと排液口１９ｂの開口部の大きさを適宜変更することにより、ノズル７Ａより噴射される液体の噴流ＪＡの流量によらず、液体ＬＩＱが貯水部１９に貯まる速度について、ある程度、細かく広範囲に調整制御できるという利点がある。
【００７２】
また、上記説明を行ってきた実施の形態２と、その変形例においては、貯水部１８或いは貯水部１９に貯まった液体ＬＩＱにより生ずる外力について、最大でもガラス基板２が持ち上げられない程度に設定しておくことによっても、振り子体１０ａ或いは振り子体１０ｂの自重のみによるオフ位置に戻る力に比べると、格段にオフ位置に戻ることを補助する作用が得られる。従って、貯水部１８或いは貯水部１９の容積と、その容積を全て満たした液体ＬＩＱの重さについて、上記のガラス基板２が持ち上げられない程度として、例えば、ガラス基板２の重さの１/３から半分以下程度に設定しておくだけでも、比較的容易に、本実施の形態２或いはその変形例のオフ位置復帰補助機構として機能させることができる。
【００７３】
なお、ガラス基板２が持ち上げられない程度の目安として、ガラス基板２の重さの１/３から半分程度を選択したのは、搬送ローラ３により搬送されるガラス基板２を部分的に保持して持ち上げるためには、より持ち上げ易い状況となる端部の一部を持ち上げる場合を想定すると、ガラス基板２が他の箇所でも保持された状態で一部を分担して保持することとなるので、少なくともガラス基板２の重さの半分程度の力を作用する必要があり、更に、マージンを取って、３点で保持されるその１点で保持するとすれば、ガラス基板２の重さの１/３程度の力を作用する必要があることなどを目安として設定したものである。
【００７４】
また、実施の形態２と、その変形例においては、ノズル７Ａより振り子体１０ａの可動部分に絶えず液体がかけられる方法を選択しているが、実施の形態１のように、振り子センサ１ａがオン状態となってからオフ状態となるまでの経過時間を測定する計時機能を有した制御ユニット５や、ノズル７Ａへの液体の供給を制御する電磁弁７Ｖなどの構成を備えて、振り子センサ１の異常時のみにノズル７Ａからの振り子体１０ａの可動部分に向かっての液体の噴射を開始する構成としても良い。その場合には、装置構成が少し複雑化するものの、ガラス基板２の通過後に貯水部１８或いは貯水部１９に液体ＬＩＱが貯まり始めることから、貯まった液体ＬＩＱにより生ずる外力によって振り子体１０或いは振り子体１０ａが戻る作用により、通過するガラス基板２が持ち上げられる心配は無くなる。つまり、上記説明を行った液体ＬＩＱが貯水部１８或いは貯水部１９に貯まる速度についての調整、具体的には、早く貯まり過ぎないよう調整することや、ガラス基板２の通過完了のタイミングに併せることは必要ではなくなる。逆に、できるだけ早く液体ＬＩＱを貯水部１８或いは貯水部１９に貯めて、オフ位置に戻す方向の外力の印加を最大限とするようノズル７Ａからの噴流ＪＡの流量をある程度大きく設定することといった比較的簡単な調整を行うのみで良くなる。
【００７５】
実施の形態３.
続いて、先に説明を行った実施の形態１或いは実施の形態２の振り子センサを用いた液晶表示装置用基板のウエット処理装置より、振り子センサとオフ位置復帰補助機構に関する構成や動作などに関して一部変更を行った本発明適用の実施の形態３の液晶表示装置用基板のウエット処理装置について、図１０を用い説明を行う。以下、実施の形態１或いは実施の形態２との変更部を重点的に説明することとする。
【００７６】
先ず、本実施の形態３の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の構成について、図１０を用いて説明する。ここで、図１０は本実施の形態２のウエット処理装置の概略側面図、特に要部である振り子センサ１ｃに関する構成の詳細について示したものであり、振り子センサ１ｃがオフ位置にある状態を示している。なお、実施の形態１と同じ構成については同じ番号を付し適宜説明を省略する。
【００７７】
本実施の形態３のウエット処理装置での特徴的な構成である振り子センサ１ｃとオフ位置復帰補助機構に関する構成としては、図１０に示される様に、振り子センサ１ｃは、より詳細には、振り子体１０ｃと、振り子体１０ｃを保持するベース部１１とからなり、更に、振り子体１０ｃには左右側面より両側に突出する回転軸１２と、一方の先端部の内部に設けられる永久磁石１４と、他方の端部となる上端部にローラ軸１６により回転可能に取り付けられるローラ１５が備えられ、ベース部１１には、振り子センサ１ｃが当該回転軸１２を軸として回転可能に保持する軸受け部１３と、振り子センサ１ｃの傾き状態の変化を検出する磁気センサユニット４と、振り子体１０ｃがオフ位置に有る場合において背面側より当接する位置に設けられるストッパピン１７が備えられ、更に、磁気センサユニット４からのセンシングに関する情報を伝達するために接続される信号ケーブルＣ１が備えられている点までは、実施の形態１や実施の形態２のウエット処理装置と共通している。なお、シャワーユニットについては、本実施の形態３では省略されている。
【００７８】
本実施の形態３のウエット処理装置の振り子センサ１ｃにおいて、実施の形態１や実施の形態２と異なる構成としては、図１０に示される様に、振り子体１０ｃにおけるオフ位置復帰補助機構の具体的な構成として、振り子体１０ｃの回転軸１２に対して下側のストッパピン１７の配置される背面側より一方の端部が取り付けられたバネ８を備えている。このバネ８は振り子体１０ｃに取り付けられる端部とは反対側の端部において、バネ固定部材８ａに取り付けられている。なお、バネ固定部材８ａについては、振り子体１０ｃとは離れた位置に独立して設けられて、図１０に示される様に、振り子センサ１ｃがオフ位置、つまり、振り子体１０ｃが傾斜されない状態において、バネ８が概ね水平方向となるようバネ８の一端を固定保持できれば良い。従って、振り子センサ１ｃのベース部１１に取り付けられていても、ウエット処理装置内の適当な壁面などを利用しても良く、図示されるような壁面状の部材でなくとも良い。
【００７９】
続いて、本実施の形態３の液晶表示装置用基板のウエット処理装置の動作について、図１０に加えて、図１１を用いて説明を行う。ここで、図１１（ａ）は、図１０の状態より、更に、ガラス基板２が搬送ローラ３により搬送されて、ガラス基板２の先頭側の端部が振り子センサ１ｃの位置を超えた位置まで搬送された状態、図１１（ｂ）は、振り子センサ１ｃによるセンシング動作が行われたあとも、引き続きガラス基板２が水平搬送され、ガラス基板２全体が振り子センサ１ｃ上を通り過ぎた状態を其々示している。
【００８０】
本実施の形態３のウエット処理装置の動作においては、実施の形態１とは異なる点が幾つかある。先ず、本実施の形態３においては、実施の形態２と同様に、自動的にその異常状態を検知する機能を省略しており、また、異常が検知された場合のみに行う動作である電磁石６を磁石として動作させる制御やシャワーユニット７に対して、液体の噴射を開始する制御を行う機能についても省略している。その代わりに本実施の形態２のオフ位置復帰補助機構は以下のとおり動作機能する。
【００８１】
先ず、図１０においては、本実施の形態３のウエット処理装置において、処理されるガラス基板２が振り子センサ１ｃの少し手前まで、搬送ローラ３により搬送されて来ている状態に対応し、振り子センサ１ｃの状態は、振り子体１０ｃの先端部が回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がる状態であるオフ位置にある状態である。また、この振り子センサ１ｃの振り子体１０ｃがオフ位置にある状態では、振り子体１０ｃに取り付けられオフ位置復帰補助機構を発揮するバネ８については、伸びがゼロか、若干、伸びた状態となるよう設定すると良い。
【００８２】
また、上記のとおり、若干、伸びた状態に設定された場合においては、このオフ位置にある状態においても、振り子体１０ｃには、バネ８による図中右向きへの引力が作用することになり、振り子体１０ｃの背面側に配置されるストッパピン１７に対して押し付けられることで、振り子体１０ｃはオフ位置に保持されることになる。また、このオフ位置において振り子体１０ｃに作用するバネ８による図中右向きへの引力によって、搬送ローラ３により搬送されて来たガラス基板２の搬送を振り子体１０ｃが妨げてはいけないことから、搬送ローラ３によるガラス基板２を搬送する力に相当する搬送ローラ３とガラス基板２間の摩擦力よりも弱く、このオフ位置においてバネ８によって生ずる引力を設定しておくと良い。
【００８３】
続いて説明を行う図１１（ａ）の状態は、図１０の状態より、ガラス基板２が搬送ローラ３により搬送されて、ガラス基板２の先頭側の端部が振り子センサ１ｃの位置を超えた位置まで搬送された状態に対応する。この図１０の状態より、図１１（ａ）の状態に至る際には、搬送ローラ３により搬送されて来たガラス基板２の先頭側の端部が振り子体１０ｃの上端部に取り付けられたローラ１５に当接し、当該ローラ１５が押されることで振り子体１０ｃは回転軸１２を中心として図中矢印で示される方向に傾動されることとなる。振り子体１０ｃが傾動されると、先に説明のとおり、振り子体１０ｃの傾きに応じて、図１１（ａ）に示される振り子体１０ｃに取り付けられたバネ８は引き伸ばされて、振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力が振り子体１０ｃに対して作用する。
【００８４】
従って、図１１（ａ）に示されるように、ガラス基板２の端部がローラ１５を押すことにより振り子体１０ｃが傾いた状態、つまり、振り子体１０ｃがオン位置となる。その結果、振り子センサ１ｃよりも右側のエリアへのガラス基板２の侵入が開始し、振り子センサ１ｃによるセンシング動作が行われることとなるが、センシング動作そのものは、実施の形態１と同様であることから説明を省略する。
【００８５】
また、図１１（ａ）に示されるように、この振り子体１０ｃがオン位置となり、更に、その後、振り子体１０ｃが傾いた状態でローラ１５上をガラス基板２がスムーズに水平移動されるためには、このオン位置まで振り子体１０ｃが傾いた状態で振り子体１０ｃにバネ８によって作用する振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力がガラス基板２の搬送を妨げない程度に設定される必要がある。より具体的には、振り子センサ１ｃの振り子体１０ｃがオン位置にある状態でバネ８によって作用する振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力について、実施の形態２においてもガラス基板２の搬送を妨げない程度の目安として用いたガラス基板２の重さの１/３から半分以下程度に設定しておくと良い。
【００８６】
以上説明のとおり、本実施の形態３のオフ位置復帰補助機構を発揮するバネ８が、ガラス基板２の搬送を妨げないように設定されることで、図１１（ａ）に示されるとおり、振り子センサ１ｃよりも右側のエリアへのガラス基板２の侵入が開始し、振り子センサ１ｃによるセンシング動作が行われたあとも、引き続きガラス基板２は搬送ローラ３により水平搬送される。その後、ガラス基板２全体が振り子センサ１上を通り過ぎると、図１１（ｂ）の状態に至る。図１１（ｂ）の状態となると、振り子体１０ｃとローラ１５はガラス基板２による作用を受けなくなる。その結果、特に振り子体１０ｃの傾動可能な状態に異常がなければ、振り子体１０ｃ自体の自重による作用に従って、図１１（ｂ）中に矢印で示される回転方向に振り子体１０ｃは移動し、振り子体１０ｃの先端部が回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がるオフ位置に戻る。この振り子体１０ｃがオフ位置に戻ったことは、磁気センサユニット４の作用により検知される。
【００８７】
しかしながら、振り子センサ１ｃに何らかの異常が発生して、振り子体１０ｃの傾動動作の動きが悪くなって、自重によるオフ位置に戻す作用を超える程度に振り子体１０ｃの動きが悪くなってしまった場合には、一般的な振り子センサの場合には、振り子センサの動作不良を引き起こしてしまうことになる。その様な場合においても、本実施の形態３のウエット処理装置においては、オフ位置復帰補助機構を発揮するバネ８が設けられており、振り子センサ１ｃの振り子体１０ｃがオン位置にある状態では、振り子体１０ｃ自体の自重による作用に加えて、バネ８によって振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力が作用している。この外力はガラス基板２が振り子センサ１ｃ上を通過中においては、ガラス基板２が振り子体１０ｃのローラ１５を上部から押さえつける力を作用していたことで釣り合っており、振り子体１０ｃを動かす作用として働いていなかったが、図１１（ｂ）の状態となると、振り子体１０ｃとローラ１５はガラス基板２による作用を受けなくなり、このバネ８による振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力が振り子体１０ｃを動かす作用として発揮されることになる。
【００８８】
その結果、以上説明のような振り子センサ１ｃに何らかの異常が発生して、振り子体１０ｃの傾動動作の動きが悪くなってしまい振り子体１０ｃの自重のみが作用した状態ではオフ位置に戻ることができなかった場合においても、このバネ８により生ずる振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力によって、図１１（ｂ）において、矢印で移動方向を、点線で振り子体１０ｃの移動後の位置が示されるように、振り子センサ１ｃの振り子体１０ｃは回転軸１２に対して重力方向に垂れ下がる位置に戻り、振り子センサ１ｃの傾き状態をオフ位置に戻すことが可能となる。
【００８９】
また、図１１（ｂ）に点線で示すとおり、振り子体１０ｃがオフ位置に戻ると、図１０で示したオフ状態の場合に示される状態まで、バネ８は縮むこととなり、振り子センサ１ｃの振り子体１０ｃには、殆ど、振り子体１０の自重のみが作用する状態に戻ることとなる。従って、続いて、次のガラス基板２の振り子センサ１ｃの通過が開始されても、ガラス基板２の搬送を振り子体１０ｃが妨げることもない。
【００９０】
以上説明のとおり、本実施の形態３の振り子センサを用いた液晶表示装置用基板のウエット処理装置においても、オン位置にある振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力として、振り子体１０ｃの自重以外の力を作用させ、オフ位置においては、そのオフ位置に戻す方向の外力の印加が解除され、オン位置に比べ作用する力が小さくなるオフ位置復帰補助機構を備えていることから、振り子センサ１ｃのオフ位置への復帰動作がより確実に行われ、その振り子センサ１ｃを用いた基板処理装置における動作異常の発生を効果的に改善することができる効果が得られる。また、先に説明のとおり、オフ位置においては、作用する力が小さくなっていることから、次のガラス基板２が振り子センサ１ｃを通過する際のガラス基板２の搬送や、振り子センサ１ｃによるセンシング動作を妨げることが無く、振り子センサ１ｃのオフ位置への復帰動作をより確実とする効果と、連続して行われる振り子センサ１ｃの動作が正常に行われる効果を両立することができる。
【００９１】
また、本実施の形態３のウエット処理装置においては、オフ位置復帰補助機構に関する構成として、振り子センサ１ｃの振り子体１０ｃに取りけられたバネ８の引力によって、振り子体１０ｃがオン位置にある場合に特に大きく作用することとなる振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力を作用させることで、ガラス基板３が通り抜けたあともオフ位置に戻らない場合にのみオフ位置復帰補助機構が有効に作用させることができることから、実施の形態１のウエット処理装置において備えていたような計時機構や、計時結果に応じてオフ位置復帰補助機構の動作の開始と停止などを制御する制御機構、また、当該制御に伴って動作の開始と停止の状態を切り替え可能なオフ位置復帰補助機構などが必要でなくなる。従って、装置構成が非常に単純になり低コスト化が可能となる。
【００９２】
なお、本実施の形態３においては、振り子体１０ｃに取り付けたバネ８によって、振り子体１０ｃがオン位置にある場合に特に大きく作用することとなる振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力を作用させる構成とした。しかしながら、振り子体１０ｃに作用するオフ位置に戻す方向の外力が、振り子体１０ｃがオン位置にある場合に最大となり、更に、その最大となる当該外力がガラス基板２の搬送を妨げない程度、具体的には、ガラス基板２が持ち上げられない程度に設定させることがポイントであることから、バネ８によって当該外力を作用させる構成に限られない。例えば、振り子体１０ｃがオン位置にある場合に振り子体１０ｃの先端部の内部に設けられる永久磁石１４に近接する位置に、この永久磁石１４とは同極の磁石などを配置し、永久磁石１４と当該同極の磁石との間の斥力について振り子体１０ｃをオフ位置に戻す方向の外力として用いることによって、振り子体１０ｃがオン位置にある場合に最も強くなるように作用させる構成とすることができる。従って、この斥力について、最大でもガラス基板２の搬送を妨げない程度に適宜調整して、このような構成を用いても良い。
【００９３】
上記説明の実施の形態１、実施の形態２、実施の形態２の変形例、および実施の形態３においては、振り子センサの傾き状態を検出する検出機構として、振り子体の先端部の内部に設けられる永久磁石１４と、永久磁石１４の近接状態を検出する磁気センサユニット４を用いた場合について説明を行ったが、振り子センサの傾き状態を検出する検出機構、つまり、振り子センサのオン位置とオフ位置についての検出手段は、他の形態でも構わない。例えば、振り子体がオフ位置において、振り子体の先端部を光学センサ(一対のセンサで、一方が発光素子で他方が光検出素子よりなる)で挟む形で配置し、当該光学センサ間における振り子体先端部の有無によって、振り子センサのオン位置とオフ位置を検出しても良い。つまり、オフ位置では振り子体の先端部によって当該光学センサ間が遮光される状態となり光検出素子では光が検出されなくなり、オン位置では当該光学センサ間に振り子体の先端部が無くなることで透光される状態となり光検出素子で光が検出されるようになる。これら光検出素子での光の検出の有無の変化によって、振り子センサのオン位置とオフ位置を検出することができる。
【００９４】
上記説明の実施の形態１、実施の形態２、実施の形態２の変形例、および実施の形態３においては、振り子センサを用いた基板処理装置の一例として、特に液晶表示装置用基板のウエット処理装置への本発明の適用例により説明を行った。しかしながら、本発明は、水平方向に搬送される基板に対して、当該基板の接触により傾動される振り子体の傾き状態を検知することによって基板の搬送状態を検出する振り子センサを用いた基板処理装置であれば、同様に適用することができ、上記説明を行った実施の形態１、実施の形態２、実施の形態２の変形例、および実施の形態３の液晶表示装置用基板のウエット処理装置で得られる効果と同様の効果を得ることができる。つまり、当該基板処理装置が処理する対象となる基板についても、ガラス基板に限られず、フラットパネルディスプレイ用基板、半導体ウエハなどの各種基板が用いることができ、当該基板処理装置が行う所定の処理についても、ウエット処理に限られるものでは無い。
【符号の説明】
【００９５】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ  振り子センサ、
１０，１０ａ，１０ｂ，１０ｃ  振り子体、１１  ベース部、
１１Ｌ，１１Ｒ  側面部材、１１Ｂ  背面部材、１２  回転軸、１３  軸受け部、
１４  永久磁石、１５  ローラ、１６  ローラ軸、１７  ストッパピン、
１８，１９  貯水部、１９ａ  集液口、１９ｂ  排液口、１９ｃ  集液補助板、
２  ガラス基板、３  搬送ローラ、４  磁気センサユニット、
４０  パイプ、４１  小型永久磁石、４２  接点スイッチ部、
５  制御ユニット、６  電磁石、
７  シャワーユニット、７Ａ，７Ｂ  ノズル、
８  バネ、８ａ  バネ固定部材、Ｃ１，Ｃ２，Ｃ３  ケーブル、
ＪＡ，ＪＢ，ＪＣ  噴流、ＬＩＱ  液体。
【図１】
2016058411.tif 000003
【図２】
2016058411.tif 000004
【図３】
2016058411.tif 000005
【図４】
2016058411.tif 000006
【図５】
2016058411.tif 000007
【図６】
2016058411.tif 000008
【図７】
2016058411.tif 000009
【図８】
2016058411.tif 000010
【図９】
2016058411.tif 000011
【図１０】
2016058411.tif 000012
【図１１】
2016058411.tif 000013