(57)【要約】【課題】少ない光量でもレーザ光のＳ／Ｎを向上し、鮮明な画像情報を得る。【解決手段】レーザ光を発生する光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄと、光源３から発せられたレーザ光を透過させることにより調光可能なＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄと、光源３の出力をＯＮ／ＯＦＦにより切り替えるとともに、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄの移動によりレーザ光の減光率を切り替え可能な制御基板７と、調光されたレーザ光を標本上で走査させ、標本において発生する蛍光を検出する観察部１７とを備える顕微鏡装置１を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を発生する光源と、
該光源の出力をＯＮ／ＯＦＦにより切り替える出力制御部と、
前記光源から発せられたレーザ光を透過させることにより調光可能な光学部材を有し、該光学部材の移動により前記レーザ光の減光率を切り替え可能な調光部と、
該調光部により調光されたレーザ光を標本上で走査させ、該標本において発生する蛍光を検出する観察部とを備える顕微鏡装置。
【請求項２】
互いに異なる波長の前記レーザ光を発生する複数の前記光源と、
該光源ごとに前記レーザ光を調光可能に配された複数の前記調光部とを備える請求項１に記載の顕微鏡装置。
【請求項３】
前記光学部材が、前記減光率が異なる複数の透過領域を有するＮＤフィルタであり、
前記調光部が、前記レーザ光を透過させる前記ＮＤフィルタの前記透過領域を切り替える透過領域切替部を備える請求項１または請求項２に記載の顕微鏡装置。
【請求項４】
前記ＮＤフィルタは、前記減光率が異なる複数の前記透過領域が中心軸回りに周方向に沿って配され、
前記透過領域切替部が、前記レーザ光に対する前記ＮＤフィルタの前記透過領域を前記中心軸回りに変更可能である請求項３に記載の顕微鏡装置。
【請求項５】
前記ＮＤフィルタは、前記減光率が異なる複数の前記透過領域が一方向に沿って配され、
前記透過領域切替部が、前記レーザ光に対する前記ＮＤフィルタの前記透過領域を前記一方向に変更可能である請求項３に記載の顕微鏡装置。
【請求項６】
前記光学部材が、前記レーザ光の偏光方向を変更可能なλ／２板と、前記レーザ光の偏光方向に応じて透過特性が異なる偏光部材とであり、
前記調光部が、前記レーザ光の光軸を中心とした前記λ／２板の回転角度を変更する偏光方向切替部を備える請求項１または請求項２に記載の顕微鏡装置。
【請求項７】
前記出力制御部が、前記観察部による走査タイミングに同期して前記光源のＯＮ／ＯＦＦを切り替える請求項１から請求項５のいずれかに記載の顕微鏡装置。
【請求項８】
前記出力制御部が、前記調光部による前記減光率の切り替え後に前記光源の出力をＯＦＦからＯＮに切り替える請求項１から請求項５のいずれかに記載の顕微鏡装置。
【請求項９】
レーザ光が透過可能な光学部材を移動させることにより該光学部材における前記レーザ光の減光率を切り替える調光調整工程と、
該調光調整工程による前記光学部材の減光率の切り替え後に光源の出力をＯＦＦからＯＮに切り替える出力切替工程と、
前記調光調整工程により前記減光率が切り替えられた前記光学部材により、前記光源から発せられたレーザ光を調光する調光工程と、
該調光工程により調光された前記レーザ光を標本上で走査させる走査工程とを含む光照射方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、顕微鏡装置および光照射方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、標本に照射するレーザ光の量を可変にした顕微鏡装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載の顕微鏡装置は、レーザ光源によりレーザ光のＯＮ／ＯＦＦと調光を行うとともに、レーザ光源によって調光する領域をＮＤフィルタにより切り替えることで、標本に照射するレーザ光の量の連続的な可変を実現している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−２０８５８９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の顕微鏡装置のようにレーザ光源により調光しようとすると、レーザ光源の出力を低くした場合に、レーザ光源の立ち上がり特性やノイズの特性が悪くなる結果、レーザ光のＳ／Ｎが低下してしまい、鮮明な画像を得ることができないという不都合がある。
【０００５】
本発明は上述した事情に鑑みてなされたものであって、少ない光量でもレーザ光のＳ／Ｎを向上し、鮮明な画像情報を得ることができる顕微鏡装置および光照射方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するために、本発明は以下の手段を採用する。
本発明は、レーザ光を発生する光源と、該光源の出力をＯＮ／ＯＦＦにより切り替える出力制御部と、前記光源から発せられたレーザ光を透過させることにより調光可能な光学部材を有し、該光学部材の移動により前記レーザ光の減光率を切り替え可能な調光部と、該調光部により調光されたレーザ光を標本上で走査させ、該標本において発生する蛍光を検出する観察部とを備える顕微鏡装置を提供する。
【０００７】
本発明によれば、出力制御部によりＯＮ状態に切り替えられた光源から発せられたレーザ光が調光部により調光されて観察部により標本上で走査されるとともに、標本において発生した蛍光がその観察部により検出される。したがって、観察部による蛍光の検出結果に基づき、標本の画像情報を得ることができる。
【０００８】
この場合において、光源の出力をＯＮ／ＯＦＦにより、すなわち、０％か１００％かにより切り替えることで、光源において調光した場合に発生するようなノイズがレーザ光に含まれるのを防ぎ、高Ｓ／Ｎのレーザ光を発生させることができる。また、調光部が光学部材の移動により減光率を切り替えてレーザ光を調光することで、電気的な制御により調光する場合に発生するようなノイズがレーザ光に含まれるのを防ぐことができる。したがって、少ない光量でもレーザ光のＳ／Ｎを向上し、鮮明な画像情報を得ることができる。
【０００９】
上記構成においては、互いに異なる波長の前記レーザ光を発生する複数の前記光源と、該光源ごとに前記レーザ光を調光可能に配された複数の前記調光部とを備えることとしてもよい。
このように構成することで、各調光部により、各光源から発せられる波長が異なるレーザ光をそれぞれ高精度かつ迅速に調光して標本に照射することができる。
【００１０】
上記構成においては、前記光学部材が、前記減光率が異なる複数の透過領域を有するＮＤフィルタであり、前記調光部が、前記レーザ光を透過させる前記ＮＤフィルタの前記透過領域を切り替える透過領域切替部を備えることとしてもよい。
このように構成することで、透過領域切替部により、ＮＤフィルタにおけるレーザ光の透過領域を切り替えるだけの簡易な構成で、ノイズを発生させることなく減光率を切り替えてレーザ光を調光することができる。
【００１１】
上記構成においては、前記ＮＤフィルタは、前記減光率が異なる複数の前記透過領域が中心軸回りに周方向に沿って配され、前記透過領域切替部が、前記レーザ光に対する前記ＮＤフィルタの前記透過領域を前記中心軸回りに変更可能であることとしてもよい。
このように構成することで、透過領域切替部によりＮＤフィルタを中心軸回りに回転させるだけで、減光率を切り替えることができる。
【００１２】
上記構成においては、前記ＮＤフィルタは、前記減光率が異なる複数の前記透過領域が一方向に沿って配され、前記透過領域切替部が、前記レーザ光に対する前記ＮＤフィルタの前記透過領域を前記一方向に変更可能であることとしてもよい。
このように構成することで、透過領域切替部によりＮＤフィルタを一方向に移動させるだけで、減光率を切り替えることができる。
【００１３】
上記構成においては、前記光学部材が、前記レーザ光の偏光方向を変更可能なλ／２板と、前記レーザ光の偏光方向に応じて透過特性が異なる偏光部材とであり、前記調光部が、前記レーザ光の光軸を中心とした前記λ／２板の回転角度を変更する偏光方向切替部を備えることとしてもよい。
【００１４】
このように構成することで、光軸回りのλ／２板の回転角度に応じてレーザ光の偏光方向が変更され、その偏光方向に応じて偏光部材を透過するレーザ光の透過量が変更される。したがって、偏光方向切替部により、λ／２板を介して偏光部材に入射させるレーザ光の偏光方向を変更するだけの簡易な構成で、ノイズを発生させることなく減光率を切り替えてレーザ光を調光することができる。
【００１５】
上記構成においては、前記出力制御部が、前記観察部による走査タイミングに同期して前記光源のＯＮ／ＯＦＦを切り替えることとしてもよい。
このように構成することで、標本の画像取り込み期間または標本の光刺激期間においてのみ標本にレーザ光を照射することができる。これにより、標本に対してレーザ光を無駄に照射しなくて済み、レーザ光の照射により標本に与えるダメージを抑制することができる。
【００１６】
上記構成においては、前記出力制御部が、前記調光部による前記減光率の切り替え後に前記光源の出力をＯＦＦからＯＮに切り替えることとしてもよい。
このように構成することで、切り替え後の所望の減光率で調光したレーザ光を標本に照射することができる。
【００１７】
本発明は、レーザ光が透過可能な光学部材を移動させることにより該光学部材における前記レーザ光の減光率を切り替える調光調整工程と、該調光調整工程による前記光学部材の減光率の切り替え後に光源の出力をＯＦＦからＯＮに切り替える出力切替工程と、前記調光調整工程により前記減光率が切り替えられた前記光学部材により、前記光源から発せられたレーザ光を調光する調光工程と、該調光工程により調光された前記レーザ光を標本上で走査させる走査工程とを含む光照射方法を提供する。
【００１８】
本発明によれば、出力切替工程前に調光調整工程を実行することで、切り替え後の所望の減光率でレーザ光を調光することができる。また、調光工程において、光源による調光を行わず、また、光学部材の移動により減光率を切り替えてレーザ光を調光することで、調光時において、光源において調光した場合や電気的な制御により調光した場合に発生するようなノイズがレーザ光に含まれるのを防ぐことができる。したがって、少ない光量でもＳ／Ｎを向上したレーザ光を標本に照射することができる。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、少ない光量でもレーザ光のＳ／Ｎを向上し、鮮明な画像情報を得ることができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】本発明の一実施形態に係る顕微鏡装置の概略構成図である。
【図２】図１のＮＤフィルタの一例を示す図である。
【図３】図１の顕微鏡装置による光源のＯＮ／ＯＦＦの切り替え、ＮＤフィルタの調光レベルの切り替えおよびレーザ光の出力変化の各タイミングを対応付けたタイミングチャートである。
【図４】本発明の一実施形態に係る光照明方法を説明するフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、本発明の一実施形態に係る顕微鏡装置および光照射方法について、図面を参照して説明する。
本実施形態に係る顕微鏡装置１は、図１に示すように、互いに異なる波長のレーザ光を発生する４つの光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ（以下、第１光源３Ａ、第２光源３Ｂ、第３光源３Ｃ、第４光源３Ｄとする。）と、各光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄから発せられたレーザ光をそれぞれ調光可能なグラデーションタイプのＮＤフィルタ（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ  Ｆｉｌｔｅｒ、光学部材）５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ（以下、第１ＮＤフィルタ５Ａ、第２ＮＤフィルタ５Ｂ、第３ＮＤフィルタ５Ｃ、第４ＮＤフィルタ５Ｄとする。）と、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３ＤおよびＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを制御する制御基板（出力制御部）７とを備えている。
【００２２】
また、顕微鏡装置１には、各ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを透過したレーザ光を１つの光路に合流させる反射ミラー９およびダイクロイックミラー１１，１３，１５と、これらにより合流したレーザ光を標本（図示略）上で走査させて、標本において発生する蛍光を検出する観察部１７とが備えられている。
【００２３】
観察部１７は、レーザ光を標本上で２次元的に走査させるガルバノミラーのようなスキャナ（図示略）と、レーザ光が照射されることにより標本において発生する蛍光を検出し、検出した蛍光の輝度に相当する輝度情報を出力するＰＭＴ（Ｐｈｏｔｏｍｕｌｔｉｐｌｉｅｒ  Ｔｕｂｅ）のような光検出器（図示略）とを備えている。
【００２４】
ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄは、例えば、図２に示すように、円板形状を有し、中心軸回りに周方向に沿って減光率が段階的に変化した複数の透過領域を有している。図２に示す例では、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄは、時計回りに減光率が徐々に低くなっているように、すなわち、時計回りに透過率が徐々に高くなっていくように透過領域が分けられている。
【００２５】
これらＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄは、レーザ光の光路に対して光路の幅方向にそれぞれの中心軸をずらして配されており、モータ等の回転駆動機構（透過領域切替部、図示略）によってそれぞれ中心軸回りに回転可能に支持されている。各回転駆動機構は、制御基板７から送られてくる制御信号に従い、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを中心軸回りに回転させるようになっている。
【００２６】
これにより、各ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄは、制御基板７の制御信号に応じて、それぞれ所望の減光率の透過領域がレーザ光の光軸上に配置されるようになっている。そして、第１ＮＤフィルタ５Ａは第１光源３Ａからのレーザ光を透過させて調光し、第２ＮＤフィルタ５Ｂは第２光源３Ｂからのレーザ光を透過させて調光し、第３ＮＤフィルタ５Ｃは第３光源３Ｃからのレーザ光を透過させて調光し、第４ＮＤフィルタ５Ｄは第４光源３Ｄからのレーザ光を透過させて調光するようになっている。このように、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ、回転駆動機構および制御基板７により調光部が構成されている。
【００２７】
反射ミラー９は、第１ＮＤフィルタ５Ａを透過したレーザ光をダイクロイックミラー１１に向けて反射するようになっている。
ダイクロイックミラー１１は、第２ＮＤフィルタ５Ｂを透過したレーザ光をダイクロイックミラー１３に向けて反射する一方、反射ミラー９からのレーザ光をダイクロイックミラー１３に向けて透過させるようになっている。
ダイクロイックミラー１３は、第３ＮＤフィルタ５Ｃを透過したレーザ光をダイクロイックミラー１５に向けて反射する一方、ダイクロイックミラー１１からのレーザ光をダイクロイックミラー１５に向けて透過させるようになっている。
ダイクロイックミラー１５は、第４ＮＤフィルタ５Ｄを透過したレーザ光を観察部１７に向けて反射する一方、ダイクロイックミラー１３からのレーザ光を観察部１７に向けて透過させるようになっている。
【００２８】
制御基板７は、図示しないＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌ  Ｃｏｍｐｕｔｅｒ）との間で制御信号を通信するようになっている。この制御基板７は、ＰＣからの制御信号に基づき、各光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄの出力をＯＮ（１００％）／ＯＦＦ（０％）により切り替えるようになっている。また、制御基板７は、ＰＣからの制御信号に基づいて回転駆動機構を制御し、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを回転軸回りに回転させて所望の透過領域をレーザ光の光路上に配置することにより、レーザ光の減光率を切り替えるようになっている。
【００２９】
例えば、図３のタイミングチャートに示すように、制御基板７は、観察部１７のスキャナによるレーザ光の走査タイミングに同期して光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄの出力のＯＮ／ＯＦＦを切り替えるようになっている。そして、制御基板７は、標本の画像取り込み範囲外では光源３をＯＦＦし、画像取り込み範囲中においてのみ光源３をＯＮするようになっている。
【００３０】
また、制御基板７は、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄによるレーザ光の減光率の切り替え後に光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄの出力をＯＦＦからＯＮに切り替えるようになっている。例えば、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄの調光レベルを６０％に設定して画像を取り込む場合は、制御基板７は、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３ＤをＯＮする前に、予めＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを回転させて減光率が４０％の透過領域をレーザ光の光路上に配置するようになっている。これにより、切り替え後の所望の減光率で調光したレーザ光を標本に照射することができる。
【００３１】
次に、本実施形態に係る光照射方法は、図４のフローチャートに示されるように、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを回転させてレーザ光の減光率を切り替える調光調整工程Ｓ１と、調光調整工程Ｓ１によるＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄの減光率の切り替え後に光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄの出力をＯＦＦからＯＮに切り替える出力切替工程Ｓ２と、調光調整工程Ｓ１により減光率が切り替えられたＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄにより、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄから発せられたレーザ光を調光する調光工程Ｓ３と、調光工程Ｓ３により調光されたレーザ光を観察部１７のスキャナにより標本上で走査させる走査工程Ｓ４とを含んでいる。
【００３２】
このように構成された顕微鏡装置１および光照射方法の作用について、図３のタイミングチャートおよび図４のフローチャートを参照して説明する。
本実施形態に係る顕微鏡装置１により標本を観察する場合は、まず、ＰＣからいずれかの光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３ＤおよびいずれかのＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを選択する制御信号が制御基板７に送られる。例えば、光源３ＢとＮＤフィルタ５Ｂを使用する場合を例示して説明する。
【００３３】
制御基板７は、ＰＣからの制御信号に従い、回転駆動機構を作動させてＮＤフィルタ５Ｂを中心軸回りに回転させ、減光率が４０％の透過領域をレーザ光の光路上に配置する。これにより、画像取り込み開始前に、ＮＤフィルタ５Ｂの調光レベルが６０％に設定される（調光調整工程Ｓ１）。
【００３４】
続いて、画像取り込みを開始し、制御基板７は、スキャナの走査タイミングに同期して光源３Ｂの出力をＯＦＦからＯＮに切り替え、光源３Ｂからレーザ光を発生させる（出力切替工程Ｓ２）。光源３Ｂから発せられたレーザ光は、ＮＤフィルタ５Ｂにおける減光率が４０％の透過領域を透過することにより減光され、６０％の光量で出力される（調光工程Ｓ３）。そして、レーザ光は、ダイクロイックミラー１１により反射されてダイクロイックミラー１３，１５を透過した後、観察部１７においてスキャナにより走査されて標本に照射される（走査工程Ｓ４）。
【００３５】
レーザ光が照射されることにより標本において発生した蛍光は、観察部１７のＰＭＴにより検出される。例えば、ＰＣにおいて、ＰＭＴから出力される蛍光の輝度情報とスキャナの走査位置情報とに基づいて標本の画像情報が生成され、図示しないモニタに表示される。
【００３６】
続いて、制御基板７は、画像取り込み範囲中にＮＤフィルタ５Ｂを中心軸回りに回転させて、減光率が０％の透過領域をレーザ光の光路上に配置する。これにより、ＮＤフィルタ５Ｂの調光レベルが１００％に変更される。光源３Ｂから発せられたレーザ光は、減光されることなくＮＤフィルタ５Ｂを透過し、１００％の出力で観察部１７により標本に照射される。これにより、標本からより強い蛍光を発生させてより明るい画像情報を生成することができる。
【００３７】
画像取り込みが終了すると、制御基板７はスキャナの走査タイミングに同期して光源３Ｂの出力をＯＮからＯＦＦに切り替える。これにより、レーザ光の出力が０％になり、観察が終了する。
【００３８】
以上説明したように、本実施形態に係る顕微鏡装置１および光照射方法によれば、光源３Ｂの出力をＯＮ／ＯＦＦにより、すなわち、０％か１００％かにより切り替えることで、光源３Ｂにおいて調光した場合に発生するようなノイズがレーザ光に含まれるのを防ぎ、高Ｓ／Ｎのレーザ光を発生させることができる。また、ＮＤフィルタ５Ｂの移動により減光率を切り替えてレーザ光を調光することで、圧電素子に電気信号を加えて振動させた結晶を通過させて回折させることによりレーザ光を調光するＡＯＴＦ（Ａｃｏｕｓｔｏ−Ｏｐｔｉｃ  Ｔｕｎａｂｌｅ  Ｆｉｌｔｅｒ）のように、電気的な制御により調光する場合に発生するようなノイズがレーザ光に含まれるのを防ぐことができる。したがって、少ない光量でもレーザ光のＳ／Ｎを向上して標本に照射し、鮮明な画像情報を得ることができる。
【００３９】
本実施形態では、光源３ＢおよびＮＤフィルタ５Ｂを例示して説明したが、光源３Ａ，３Ｃ，３ＤおよびＮＤフィルタ５Ａ，５Ｃ，５Ｄを使用する場合も同様である。
また、本実施形態においては、光源および光学部材として、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３ＤおよびＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを例示して説明したが、光源ごとにレーザ光を調光可能に光学部材を配置することとすればよく、光源および光学部材の数はこれに限定されるものではない。
【００４０】
また、本実施形態においては、いずれかの光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３ＤおよびいずれかのＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄを選択する制御信号がＰＣから制御基板７に送られることとしたが、複数の光源と複数のＮＤフィルタを同時に選択する制御信号がＰＣから制御基板７に送られることとしてもよい。このようにすることで、制御基板７により、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄの内の複数とＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄの内の複数が同時に選択されて制御される。
【００４１】
また、本実施形態においては、光学部材として、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄに代えて、減光率が異なる複数の透過領域が一方向に沿って配されたＮＤフィルタを採用することとしてもよい。この場合、図示しないスライド機構（透過領域切替部）等により、ＮＤフィルタを一方向に移動可能に支持することとすればよい。また、制御基板７が、スライド機構の制御によりＮＤフィルタを一方向に移動させて、レーザ光に対するＮＤフィルタの透過領域を一方向に変更することとすればよい。
このようにすることで、制御基板７およびスライド機構によりＮＤフィルタを一方向に移動させるだけで、減光率を切り替えることができる。
【００４２】
また、本実施形態においては、光学部材として、ＮＤフィルタ５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄに代えて、例えば、レーザ光の偏光方向を変更可能なλ／２板と、λ／２板によるレーザ光の偏光方向に応じて透過特性が異なる変更ビームスプリッタまたは偏光板のような偏光部材とを採用することとしてもよい。
【００４３】
この場合、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ側から順にレーザ光の光路上にλ／２板と偏光部材を配置し、モータ等の回転駆動機構（偏光方向切替部、図示略）によってλ／２板を中心軸回りに回転可能に支持することとすればよい。また、制御基板７が、回転駆動機構を制御し、レーザ光の光軸を中心としたλ／２板の回転角度を変更することとすればよい。
【００４４】
このようにすることで、光軸回りのλ／２板の回転角度に応じてレーザ光の偏光方向が変更され、その偏光方向に応じて偏光部材を透過するレーザ光の透過量が変更される。したがって、制御基板７により、λ／２板を回転させて偏光部材に入射させるレーザ光の偏光方向を変更するだけの簡易な構成で、ノイズを発生させることなく減光率を切り替えてレーザ光を調光することができる。
【００４５】
また、本実施形態においては、光源３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄを観察用の励起光源として使用する態様を示したが、標本を刺激する刺激光源としてこれらを使用してもよい。この場合、観察用の励起光源を別途用意してもよい。
【符号の説明】
【００４６】
１    顕微鏡装置
３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ    光源
５Ａ，５Ｂ，５Ｃ，５Ｄ    ＮＤフィルタ（光学部材、調光部）
７    制御基板（出力制御部、調光部）
１７    観察部
Ｓ１    調光調整工程
Ｓ２    出力切替工程
Ｓ３    調光工程
Ｓ４    走査工程
【図１】
2016118615.tif 000003
【図３】
2016118615.tif 000004
【図４】
2016118615.tif 000005
【図２】
2016118615.tif 000006