(57)【要約】【課題】現像工程のレジストパターン形成時に発生する現像ローディング効果及び現像起因の欠陥を低減するための現像方法および現像装置を提供する。【解決手段】マスク基板１０１を載置、固定するレジスト現像処理用チャック５５と、現像液またはリンス液を前記レジスト現像処理用チャックに供給するための流出口５２と、現像液またはリンス液を前記レジスト現像処理用チャックから排出するための吸入口５３と、を備えてなり、前記マスク基板の表面に現像液またはリンス液の均一な層流を形成するための流路と、前記レジスト現像処理用チャックの前記流路の幅方向の大きさは、前記マスク基板の全面に於いて均一な層流を維持し得る大きさであり、前記レジスト現像処理用チャックに固定された前記マスク基板の表面と、前記流出口の底部と、前記吸入口の底部と、前記流路の底部とは面一であることを特徴とする現像装置。【選択図】図２
2016029684.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスク製造工程で使用される現像装置であって、マスク基板を載置、固定し、且つ現像液またはリンス液を前記マスク基板の表面に流すための流路を兼ねるレジスト現像処理用チャックと、そのレジスト現像処理用チャックに連接し、現像液またはリンス液を前記レジスト現像処理用チャックに供給するための流出口と、現像液またはリンス液を前記レジスト現像処理用チャックから排出するための吸入口と、を備えてなり、
前記流出口と前記吸入口は、前記レジスト現像処理用チャックに載置され固定された前記マスク基板の表面に現像液またはリンス液の均一な層流を形成するための流路とそれぞれ連接し、
前記レジスト現像処理用チャックの前記流路の幅方向の大きさは、前記マスク基板より大きく、且つ前記マスク基板の全面に於いて均一な層流を維持し得る大きさであり、
前記レジスト現像処理用チャックに固定された前記マスク基板の表面と、前記流出口の底部と、前記吸入口の底部と、前記流路の底部とは面一であることを特徴とする現像装置。
【請求項２】
前記吸入口と前記流出口における現像液またはリンス液の流量を等しくした条件において、前記吸入口の断面積が前記流出口の断面積以下であることを特徴とする請求項１に記載の現像装置。
【請求項３】
前記流路には、現像液またはリンス液の流量を制御可能なポンプが接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の現像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスク製造方法に関するものであり、特に、現像工程におけるレジストパターン形成時に発生する現像ローディング効果及び欠陥を低減するための現像装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
（フォトマスク製造における現像ローディング効果について）
半導体デバイスの製造プロセスなど微細加工が要求されるパターンの形成には、光学的にパターンを転写する方法（フォトリソグラフィ）が用いられていた。フォトリソグラフィでは、ステッパー等の露光装置を用い、原版となるフォトマスクに光を照射することにより、フォトマスクのパターンを対象物（ウェハなど）上に、レジストパターンとして転写している。フォトマスクはパターン転写の原版であるため、高い寸法精度が求められる。フォトマスクのパターニングでは、その精度の高さと解像性の高さから、電子線描画機によるパターニングが主となっている。フォトマスクでは、密なパターン領域と疎なパターン領域が混在する場合がある。そのため、フォトマスク作製のリソグラフィ工程におけるレジストパターンの現像工程においては、レジストパターンが密な領域で現像液が局所的に不足、または疲労することにより、パターン寸法にバラツキが生じる現象が起こることが知られている。これを現像ローディング効果と呼んでいる。特に電子線用レジストでは、フォトレジストに比べて現像による溶解速度が低く、現像ローディング効果の影響が大きいことが報告されている。
【０００３】
現像ローディング効果によるパターンの疎密による寸法差を最小限に抑えるためには、スプレー現像、パドル現像などの現像方法の最適化や、現像時間、現像レシピなどの現像条件の最適化が必要である。
【０００４】
ここで、フォトマスクの製造工程における現像工程で使用されているパドル現像について説明する。図１（ａ）〜（ｄ）は、従来の現像方法であるパドル現像方法を示している。図１（ａ）に示すように、現像ノズル５１はマスク基板１０１の上方の端部に位置しており、図１（ｂ）に示すようにその端部からマスク基板１０１を横切るように移動することで、マスク基板１０１上に現像液を盛って現像を行い、図１（ｃ）に示すような所望のレジストパターン３１´を得る方法である。図１（ｄ）は現像工程にて発生するレジスト溶解物および現像阻害成分に起因して発生する異物３２を模式的に示したものである。この異物３２がレジストパターン３１´に付着すると、現像起因の欠陥として形成される。
【０００５】
また、パドル現像では、現像液が被現像物であるマスク基板上の遮光膜の表面に形成されたレジストの表面に液盛りされた状態で現像が進められるため、レジストが溶解して疲労した現像液と新しい現像液の置換がされ難いため、形成するパターンが微細化するのに伴ってローディング効果が発生する問題がある。
【０００６】
（現像ローディング効果とフォギング現象について）
一方、電子線による電子線レジストの露光の場合、パターンが密な領域ではフォギング（Ｆｏｇｇｉｎｇ）の現象が起こることが知られている。Ｆｏｇｇｉｎｇとは、描画機の電子銃より基板に打ち込まれた電子が、基板表面などで散乱、反射を起こし、一部の電子がレジスト面から飛び出していき、描画機チャンバーの内壁で更に反射して、再度レジストへ入射するものである。パターン密度が高いほどＦｏｇｇｉｎｇの影響は大きくなり、このＦｏｇｇｉｎｇの影響する領域は数十ｍｍにも及ぶことが知られている。レジストはＦｏｇｇｉｎｇによる再入射電子のエネルギーによりうっすら感光し、Ｆｏｇｇｉｎｇの
影響を受けたパターン（現像で溶解する部分）寸法では太りが生じる。このようなＦｏｇｇｉｎｇと現像ローディング効果の両方がパターン寸法に影響を与えており、Ｆｏｇｇｉｎｇは描画機の補正機能により低減することができるが、現像ローディング効果を補正する機能については実用化がされていないため、プロセス等で低減する必要がある。
【０００７】
（現像起因の欠陥について）
また、そのＦｏｇｇｉｎｇの影響により若干感光したレジストや現像によって現像液中に溶けたレジストなどが、現像液の置換不足により、薄い膜状の異物やパーティクル状の異物として再析出しやすい状態となり、これらがリンス工程において、急激な現像液濃度の低下により異物として再析出し、欠陥となる。これら欠陥についても、マスク作製の品質保証上問題となるため、低減しなければならない。
【０００８】
このような問題を解決するために、現像ローディング効果の寄与分のみを抽出する方法として、電子線露光と光露光を組み合わせた方法、また抽出用に発明されたパターンが提案されている。（特許文献１、２）また、現像時の現像阻害成分を取り除く、または低減するため、様々な現像方法の発明が提案されている。（特許文献３、４、５参照）
【０００９】
しかしながら、現像ローディング効果の寄与分を抽出する方法でその抽出を行い、現像方法の最適化を行っても、レジスト種によって特性が異なることなどにより、現像ローディング効果の寄与分を無くすことは難しい。また、現像時の現像阻害成分を取り除く現像方法においては、現像液を現像対象物であるレジスト面に滞留させないようにするため、レジスト面上において現像液に浸されていない部分が発生してしまうため、欠陥面でのマスク品質の低下を招いてしまう可能性が高いと考えられる。（特許文献３参照）
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００８−７８５５３号公報
【特許文献２】特開２０１０−２３２３０２号公報
【特許文献３】特開２００６−３１９３５０号公報
【特許文献４】特開２００４−２２７６４号公報
【特許文献５】特開２０１２−２０８３７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
そこで、本発明は現像ローディング効果の寄与分の抽出および現像残渣物やレジスト溶解物などの現像阻害成分を取り除く現像方法などの複雑な工程を必要とせず、レジスト面上の全面に常に新しい現像液を流し続けることで、現像液の置換不足を解消し、現像ローディング効果により生じるパターンの密度依存による寸法差、且つ現像起因の欠陥を低減することが可能な現像装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
上記の課題を解決する手段として、請求項１に記載の発明は、フォトマスク製造工程で使用される現像装置であって、マスク基板を載置、固定し、且つ現像液またはリンス液を前記マスク基板の表面に流すための流路を兼ねるレジスト現像処理用チャックと、そのレジスト現像処理用チャックに連接し、現像液またはリンス液を前記レジスト現像処理用チャックに供給するための流出口と、現像液またはリンス液を前記レジスト現像処理用チャックから排出するための吸入口と、を備えてなり、
前記流出口と前記吸入口は、前記レジスト現像処理用チャックに載置され固定された前記マスク基板の表面に現像液またはリンス液の均一な層流を形成するための流路とそれぞれ連接し、
前記レジスト現像処理用チャックの前記流路の幅方向の大きさは、前記マスク基板より大きく、且つ前記マスク基板の全面に於いて均一な層流を維持し得る大きさであり、
前記レジスト現像処理用チャックに固定された前記マスク基板の表面と、前記流出口の底部と、前記吸入口の底部と、前記流路の底部とは面一であることを特徴とする現像装置である。
【００１３】
また、請求項２に記載の発明は、前記吸入口と前記流出口における現像液またはリンス液の流量を等しくした条件において、前記吸入口の断面積が前記流出口の断面積以下であることを特徴とする請求項１に記載の現像装置である。
【００１４】
また、請求項３に記載の発明は、前記流路には、現像液またはリンス液の流量を制御可能なポンプが接続されていることを特徴とする請求項１または２に記載の現像装置である。
【発明の効果】
【００１５】
本発明の現像装置は、前記の現像液流水方式の機構を搭載した現像液の流出口及び吸入口を有し、前記の現像装置により、レジスト面上の現像液の置換効率を最大限に高め、現像時の現像阻害成分により生じたレジストパターンの基板面内の寸法差（現像ローディング効果）を低減し、均一にすることができるという効果を有する。また、現像時に生じた現像残渣物及びレジスト溶解物などの現像阻害成分については、置換効率の向上による低減させ、また現像液の流れによりフォトマスク基板上での滞留を防止し、フォトマスク基板外への排出効果が得られる。以上の点から、欠陥の原因となり得るレジスト溶解物は現像工程時の段階で大幅に消費されていることから、フォトマスクの欠陥品質を低下させることなく、寸法が均一なフォトマスクを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】従来現像装置であるパドル現像装置の主要部の一例とレジストの現像工程を示す概略断面図であり、（ａ）は現像装置のレジスト現像処理用チャックに露光済のレジストが形成されたマスク基板が装着された状態、（ｂ）はマスク基板の上方にある現像ノズルが現像液を吐出しながらマスク基板をスキャンした状態、（ｃ）はレジストの現像後の状態であり、現像されたレジストがパターン化され、下地にある遮光膜の一部が露出した状態、（ｄ）は現像中にレジスト溶解物および現像阻害成分から異物が生じてその一部がレジストに付着した状態、をそれぞれ示している。
【図２】本発明の現像装置の主要部の一例とレジストの現像工程を示す概略断面図であり、（ａ）は本発明のレジスト現像処理用チャックに露光済のレジストが形成されたマスク基板が装着された状態、（ｂ）はそのレジスト現像処理用チャックに備えられた処理液流出口から、現像液がマスク基板上のレジスト表面を現像液流進行方向に沿って流れ、処理液吸入口から流出することによって現像を行っている状態、（ｃ）は現像されたレジストがパターン化され、下地にある遮光膜の一部が露出した状態、（ｄ）は現像中にレジスト溶解物および現像阻害成分から異物が生じるが、液流によって流れて行く状態、をそれぞれ示している。
【図３】本発明の現像装置における処理液の流れ方向を示す概略断面図であり、（ａ）は現像液の液流進行方向、（ｂ）はリンス液の液流進行方向、をそれぞれ示したものである。
【図４】本実施例において使用した現像ローディング評価用パターンおよび外観品質評価用パターンが形成された評価用パターン例の概略説明図
【図５】本実施例における現像ローディング評価用パターンの現像後の寸法測定結果を示したグラフ。
【図６】本実施例における外観品質評価用パターンＢ、Ｂ´を比較検査した結果を示したグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係る実施形態について、図面を参照しながら説明する。
図２（ａ）〜（ｄ）は、本発明の現像方法である流水方式機構を搭載した現像装置の一例を示している。
図２（ａ）に示すように、本発明のレジスト現像処理用チャック５５に処理液である現像液やリンス液が流入するための流出口５２と、流出するための吸入口５３とが、露光済のレジスト３１がガラス基板１１上の遮光膜２１表面に形成されたマスク基板の表面の一方の側と対向するもう一方の側に、それぞれ備えられている。
また本発明のレジスト現像処理用チャック５５は、処理液を流す流路の役割も果たすものである。図２（ｂ）に示すように、現像を行う場合は、この流出口５２から現像液が層流を形成して流れ出て、レジスト３１面上を吸入口５３に向かって流れていく。現像液６１の層流を維持するため、マスク基板またはレジスト３１面と、流出口５２の底面と、吸入口５３の底面とが面一であるように流出口５２と吸入口５３を設けている。このようにすることで、現像液６１などの処理液が流出口５２からレジスト３１面上を流れ、吸入口５３から流れ出て行く際に、現像液の均一な層流が形成され、乱流や液の滞留が生じないようにすることが可能である。その結果、現像液６１などの処理液のレジスト３１面上の滞留時間を最短にすることが可能となる。また、それら流出口５２や吸入口５３に連接する流路については、層流が維持される範囲で、変形させることが可能である。
【００１８】
このように、マスク基板の表面に形成されたレジスト３１の表面に均一な層流を形成するためには、流出口５２から処理液がマスク基板に供給された時点で、均一な層流が形成されている必要がある。そのためには、流出口５２に連接された流路の中で既に層流が形成されていることが望ましい。流路およびレジスト現像処理用チャック５５の幅（水平面に平行な面内で、処理液が流路中を流れる方向に直交する方向の長さ）が被処理物であるマスク基板の幅より十分大きく、マスク基板の全面に亘って処理液の均一な流速が得られ、均一な層流となっていることが必要である。また、吸入口５３から処理液が排出される際に、乱流の発生や処理液の流れる方向が変化しないように均一な層流が維持されている必要がある。そのためには、吸入口５３に連接された流路の中においても均一な層流が維持されていることが望ましい。
【００１９】
このような現像方法にてマスク基板のレジスト３１面上に現像液６１を安定して流し続けることにより、レジスト現像されて溶け出すことで疲労した現像液を新しい現像液と置換する置換効率および置換速度が大幅に向上し、新鮮な現像液６１を十分にマスク基板のレジスト３１面上に供給することが可能となる。そして、パターンの形成密度の異なるパターン領域においても、図２（ｄ）に示すように、パターン密度に依存して発生する現像阻害成分などが現像液の流れにより吸入口へ排出されるため、現像阻害成分により発生する寸法誤差を低減することができ、図２（ｃ）に示すような所望のレジストパターン３１´を得ることができる。
【００２０】
また、レジスト現像処理用チャック５５の幅は、被処理物であるマスク基板より十分大きくすることにより、マスク基板の全面に亘って均一な層流を形成し、維持することが可能である。またレジスト現像処理用チャック５５の処理液の流れ方向の長さは、マスク基板より十分長いことが望ましいが、均一な層流が形成されていれば良く、流入口５２の幅と吸入口５３の幅とが同じである必要はない。
【００２１】
また、吸入口５３に於ける処理液の流速については、流出口５２に於ける流速以上であることが望ましい。これは、吸入口５３の断面積を流出口５２の断面積以下にして置くことによって実現可能である。断面積を小さくする事によって抵抗が大きくなり、処理液の流量が減少することが無いように、流量を増減可能なポンプを吸入口５３または流出口５
２に連接する流路に設ければ良い。ポンプを流出口５２に連接する流路に設けた場合は、ポンプから発生した異物を除去する手段をレジスト現像処理用チャック５５の前に設ければ良い。
【００２２】
さらには、現像時に発生した現像残渣や現像液中に溶け出したレジスト溶解物に起因する異物３２についても同様に、この現像液の流れによりマスク基板１０１面上から吸入口５３側へ流れ出て行くため、マスク基板１０１面上においては異物３２が非常に少ない状況にすることができる。よって、現像起因の欠陥についても低減することができる。
【００２３】
次に、本発明の現像装置の構成について説明する。図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の現像装置の構成の断面イメージを示している。図３（ａ）に示すように、従来の現像方法とは異なり、現像液の流出口５２から現像液６１が、マスク基板のレジスト３１面上を、層流を形成して均一に流れていき、現像液６１の吸入口５３から吸い込まれていく構成となり、常にマスク基板のレジスト３１面上の全面に新しい現像液６１を流し続けることができる。また、図３（ｂ）に示すようにリンス工程においても同様に流出口５２からリンス液６２を流出させ、マスク基板のレジスト３１面上全面に、層流を形成して均一にリンス液６２を流すことができ、吸入口５３から排出されていく構成となっている。この均一な層流を作り出すために、この流出口５２及び吸入口５３の底面の配置位置（リンス液６２などの処理液が流れる底部の高さ）は、マスク基板またはマスク基板のレジスト３１面と同等の高さであり、面一になっていることが必要である。このことから、現像の時と同じく、乱流を発生させないことにより均一な層流を形成し、処理液であるリンス液がマスク基板のレジスト３１面上に滞留する滞在時間を最短にし、その事によって置換効率を最大にすることが可能となる。さらには現像液６１やリンス液６２などの処理液を、乱流を発生させずに層流を形成し得る範囲で最大の流量を流し、均一な層流を形成するための制御をすることが可能である。具体的には、吸入口５３に連接する流路に設けた吸引ポンプで吸引することにより、吸入口５３に於ける圧力が低くなる。流出口５２から流入してくる処理液の流量が一定である時、レジスト現像処理用チャック５５の吸入口５３から流出する処理液の量は、吸入口５３の断面積と吸入口５３から処理液を吸引する力の有無に依存する。
【００２４】
吸入口５３から処理液を吸引する力が無い場合、吸入口５３の断面積が流出口５２の断面積より大きい場合は、レジスト現像処理用チャック５５に処理液が滞留しない。逆に吸入口５３の断面積が流出口５２の断面積より小さい場合は、積極的に吸入口５３から吸引する力が無い場合は、処理液が滞留することになる。レジスト現像処理用チャック５５が周囲の空間に開放されている場合は、処理液が滞留し、レジスト現像処理用チャック５５に於ける液面が上昇するが、開放されておらず閉鎖空間である場合は滞留しないが、処理液の流量を維持するためには、開放されている場合より強い圧力で、流出口５２側から圧送する必要がある。
【００２５】
一方、吸入口５３から処理液を吸引する力が有る場合は、吸入口５３の断面積が流出口５２の断面積より小さい場合に於いても、処理液を滞留させること無く、処理液の流量を維持することが可能である。
【００２６】
以上より、周辺パターン密度の密部と疎部の寸法変化量を低減することができる。且つ、現像液に溶けたレジスト溶解物によって引き起こされる欠陥の増加についても本方法により抑制することができる。
【実施例】
【００２７】
以下、本発明の現像装置および現像方法の実施例を説明する。はじめにＣｒ遮光膜付き６インチＱｚ基板を準備し、この基板に化学増幅型ポジレジストを１５０ｎｍ膜厚にて塗
布することにより、レジスト塗布済み基板を作製した。
【００２８】
次に、電子線描画機にて図４に示した現像ローディング評価用パターンＡおよび外観品質評価用パターンＢ、Ｂ´を、準備したレジスト塗布済み基板に描画した。この現像ローディング評価用パターンＡとして、１０００ｎｍのラインアンドスペースパターンが形成された、外形が細長い矩形のパターンを用いた。現像ローディング評価用パターンＡの周辺パターン密度は、それぞれ０％と５０％になるように、周辺パターン密度０％部は周辺パターンを無しに、そして周辺パターン密度５０％部は、周辺パターンとして１０００ｎｍのラインアンドスペースパターンを用いた。さらに、外観品質評価用パターンＢ、Ｂ´にも同様に１０００ｎｍのラインアンドスペースパターンを用いた。外観品質評価用パターンＢ、Ｂ´は全く同じパターンであり、外観品質検査装置においてＤｉｅ  ｔｏ  Ｄｉｅ検査（多面付けされたパターン間での同じ部位のパターンの比較検査）ができるように形成した。
【００２９】
次に、描画後の基板に対しＰＥＢ（Ｐｏｓｔ  Ｅｘｐｏｓｕｒｅ  Ｂａｋｅ）処理（露光後加熱処理）を行い、本発明の現像装置を用いて、現像液流水方式の現像処理を行い、レジストパターンを形成した。このときの現像処理条件として、２条件で現像したものを用意した。また、本実施例では、現像装置のレジスト現像処理用チャックの吸入口の断面積を流出口の断面積の０．５倍とした。吸入口と流出口の幅は同じとしたので、吸入口の高さは、流出口の１／２とした。また、化学増幅型ポジレジスト用の現像液の流量は、現像条件によらず１Ｌ／分とし、温度は室温２３℃とした。
【００３０】
本実施例の現像条件１は、処理液の流出口側に連接した流路に処理液を圧送するポンプを設置した構成、本実施例の現像条件２は、処理液の吸入口側に連接した流路に処理液を吸引するポンプを設置した構成である。
それら現像処理後の現像ローディング評価用パターンＡの寸法測定を走査型電子顕微鏡にて５００００倍の倍率で、現像ローディング評価用パターンＡの長手方向に沿って、１ｍｍ間隔で測定した。その寸法測定結果を図５に示す。従来の現像処理を行った場合の測定の結果においては、周辺パターン密度５０％部と周辺パターン密度０％部との寸法差が大きく出ているのに対し、本実施例の現像条件２での処理後では、ほぼ寸法差が無くなっていた。また本実施例の現像条件１では、従来の現像処理と本実施例の現像条件２の中間的な寸法差となった。このことから、現像液の滞留時間をより短くすることにより、レジストの現像により現像液が疲労しない状況を維持するため、恒に十分な量の新しい現像液を供給することにより、現像ローディング効果が低減できていることが確認できた。
【００３１】
このような結果が得られた原因については、本発明の現像装置のレジスト現像処理用チャックの構造が関係していると考えられる。本実施例の現像装置のレジスト現像処理用チャックは、密封された構造ではなく、その上方が周囲空間に開放されているため、現像条件１で流入口側の流路に圧送ポンプが設置され、処理液をレジスト現像処理用チャックに流入させると、レジスト現像処理用チャックにおける処理液の液面が上がるため、現像中にレジスト現像処理用チャック内にある処理液の量が増加する。そのため、レジスト現像処理用チャック内に於ける処理液の平均滞在時間が長くなるため、疲労した現像液である処理液と新しい現像液である処理液の置換効率が低下する。一方、現像条件２で吸入口側の流路に吸引ポンプを設置した場合は、処理液の流量が一定の条件ではレジスト現像処理用チャック内の処理液の液面は現像条件１に比べ低くなる。これは吸入口の断面積を流出口の断面積の０．５倍としているためであり、現像条件１においてレジスト現像処理用チャックからオーバーフローしない上限の液面になるようにしてある。一方、現像条件２では吸入口の断面積が流出口の断面積の１／２であるが、流出口から供給される処理液と同じ量の処理液を排出するように吸引ポンプで強く吸引するため、液面の高さは吸入口の断面積が流出口の断面積と同じ時の低い液面に維持されるためである。レジスト現像処理用チャックが密封された構造である場合は、その中に溜まる処理液の量はポンプの設置位置によらず一定になるためこの限りではない。
【００３２】
次いで、本実施例の現像条件２で処理したフォトマスクについては、レジストパターンをマスクとしてエッチング装置にて塩素系ガスを用いたプラズマエッチング処理を行い、Ｃｒ遮光膜パターンを形成した。その後、レジストパターンを洗浄装置にて剥離して、パターン付Ｃｒフォトマスクを作製した。
【００３３】
次に、外観品質検査装置を用いて、パターン付Ｃｒフォトマスクに形成された外観品質評価用パターンＢ、Ｂ´の比較検査を実施した。その結果、図６に示すように検出された欠陥は５個あったが、うち現像起因と考えられる欠陥は０個であり、現像起因の欠陥個数が低減できていることを確認した。
【符号の説明】
【００３４】
１１・・・ガラス基板
２１・・・遮光膜
３１・・・レジスト
３１´・・・レジストパターン
３２・・・異物
５１・・・従来現像ノズル
５２・・・流出口
５３・・・吸入口
５４・・・レジスト現像処理用チャック
５５・・・レジスト現像処理用チャック
６１・・・現像液
６２・・・リンス液
１０１・・・マスク基板
１２０・・・実施例における現像ローディング効果の改善
１３０・・・実施例においる外観品質検査にて検出された欠陥
Ａ・・・現像ローディング評価用パターン
【図１】
2016029684.tif 000003
【図２】
2016029684.tif 000004
【図３】
2016029684.tif 000005
【図４】
2016029684.tif 000006
【図５】
2016029684.tif 000007
【図６】
2016029684.tif 000008