(57)【要約】【課題】耐久性を向上できる光学制御フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも１つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、前記基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する、光学制御フィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも１つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、
前記基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する、光学制御フィルムの製造方法。
【請求項２】
前記親水性有機溶剤が、炭素数２〜４の１価アルコールまたはグリコールエーテルである、請求項１に記載の光学制御フィルムの製造方法。
【請求項３】
前記基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の炭素数２〜４の１価アルコールを含有する塗布液を用いて形成し、
前記高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）以外の高屈折率層および低屈折率層の少なくとも１層を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度のグリコールエーテルを含有する塗布液を用いて形成する、請求項１または２に記載の光学制御フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学制御フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、省エネルギー対策の一環として、冷房設備にかかる負荷を減らす観点から、建物や車両の窓ガラスに装着させて、太陽光の熱線の透過を遮蔽する近赤外遮蔽フィルムへの要望が高まってきている。
【０００３】
近赤外遮蔽フィルムの形成方法としては、主には、高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層させた構成からなる積層体ユニットを、蒸着法、スパッタ法などのドライ製膜法を用いて形成する方法が提案されている。しかし、ドライ製膜法は、形成に用いる真空装置等が大型になり、製造コストが高くなり、大面積化も困難であり、かつ適用可能な基材としては耐熱性素材に限定される等の課題を抱えている。
【０００４】
近年、上記のような課題を有しているドライ製膜法に代えて、湿式塗布法を用いて近赤外遮蔽フィルムを形成する方法の検討が盛んになされている。
【０００５】
当該湿式塗布法の技術として、例えば、特許文献１には、酸化チタン粒子が含ケイ素の水和酸化物で被覆された金属酸化物粒子、水溶性高分子および水または水と少量の有機溶媒との混合溶媒を混合して、高屈折率層塗布液及び低屈折率層塗布液を調製し、これらの塗布液を同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む近赤外遮蔽フィルムを形成する方法が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０５４９１２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献１に開示されている製造方法により得られる赤外遮蔽フィルムは、高い可視光透過性及び赤外反射性を示し、また、優れた耐久性に優れる。しかしながら、近年の温暖化による冷房設備にかかる負荷の増大や光熱費の高騰などを鑑みると、耐久性のさらなる向上が求められている。また、赤外遮蔽フィルムの高い可視光透過性や赤外反射性のさらなる向上も求められている。
【０００８】
したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、耐久性を向上できる光学制御フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【０００９】
本発明の他の目的は、可視光透過性および赤外反射性を向上できる光学制御フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、光学反射層を構成する高屈折率層及び低屈折率層のうち、基材に最も近い（最下層の）屈折率層を特定濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することによって、上記課題を解決できることを知得し、本発明を完成させた。
【００１１】
すなわち、上記諸目的は、基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも１つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、前記基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する、光学制御フィルムの製造方法によって達成できる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の方法によれば、耐久性を向上した光学制御フィルムを提供できる。また、本発明の光学制御フィルムは、高い可視光透過性および赤外反射性を示す光学制御フィルムを提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
本発明の光学制御フィルムの製造方法は、基材上に高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニットを少なくとも１つ含む光学制御フィルムの製造方法であって、前記基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを有する。なお、本明細書では、「基材に最も近い層」を「最下層」とも称する。このため、「基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）」を「最下層に位置する（最下層の）高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）」または単に「高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）」とも称する。また、「高屈折率層と低屈折率層とを交互に積層したユニット」を「光学反射層」とも称する。また、本明細書において、最下層に位置する高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）以外の高屈折率層および低屈折率層を、それぞれ、単に「高屈折率層（Ｂ）」および「低屈折率層（Ｂ’）」とも称する。
【００１４】
特許文献１によると、高屈折率層及び低屈折率層の少なくとも１つの層に、水溶性高分子と、金属酸化物粒子を含有した水系の塗布液を用いることで、より低コストに赤外線反射フィルムを得ることが可能である。しかしながら、近年、温暖化による冷房設備にかかる負荷が増大しているにも関わらず、光熱費が高騰しており、家計にかかる負担が増大の一途をたどっている。このため、より耐久性に優れる赤外線反射フィルムが求められている。また、さらなる省エネルギー化が希求され、透明性や反射率のさらなる向上も求められる。さらに、長期間の使用では含水や熱によるフィルムの膨張収縮の繰り返しにより反射層のひび割れや膜の剥離が生じる場合もあり、耐候性のさらなる向上も求められている。生産性向上のため連続塗布や高速塗布化で塗布故障の発生頻度が高まる傾向もあった。このため、塗布故障の発生頻度を低減したフィルムの安定的な生産もまた求められている。
【００１５】
本発明は、少なくとも最下層に位置する高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することを特徴とする。当該構成をとることによって、光学制御フィルムの耐久性を向上できる。また、光学制御フィルムの可視光透過性及び赤外反射性をも向上できる。本発明に係る光学制御フィルムが上記効果を奏する詳細なメカニズムは不明であるが、以下のように推測される。なお、本発明は下記メカニズムに何ら拘束されるものではない。
【００１６】
すなわち、本発明者らは、上記課題について鋭意検討を行った結果、塗布液中に含まれる樹脂と金属酸化物粒子との相互作用（それぞれの水酸基（ＯＨ）同士の水素結合）により、ネットワークを形成し、樹脂及び金属酸化物粒子の凝集や塗布液の増粘を引き起こし、これにより塗布液の不均一性が増大して、塗布ムラが発生し、結果、耐久性、可視光透過率や赤外（特に近赤外）反射率の低下が誘発されることに着目した。これに対して、本発明によるように、特定の濃度の親水性有機溶剤の存在下で最下層を形成すると、水系の塗布液の表面張力を下げると共に、親水性有機溶剤が金属酸化物粒子表面に配位して樹脂と金属酸化物粒子との相互作用（水素結合）を切断して、塗布液中の樹脂および金属酸化物粒子による凝集物の形成を抑制する。このため、基材への着液性が向上し、塗布液の粘度上昇を抑制し、塗布ムラを抑制できる（平滑な塗膜を安定的に形成できる）。ゆえに、本発明の方法で製造される光学制御フィルムは、可視光透過性、赤外（特に近赤外）反射性および耐久性を向上できる。なお、上記効果は、親水性溶剤として炭素数２〜４のアルコールを使用した場合に特に顕著である。
【００１７】
上述したように、本発明の方法によると、光学制御フィルムの耐候性を向上できる（当該品質を長期間維持できる）と共に、品質（透明性、近赤外反射率）を向上できる。加えて、本発明の方法によると、塗布性が向上して塗布故障を軽減できる。
【００１８】
したがって、本発明の方法によって製造される光学制御フィルムは、高い可視光透過性および赤外反射性を有し、耐候性に優れる。ゆえに、本発明に係る光学制御フィルムは、建築物の窓や車両用部材などに設置される熱線遮蔽フィルム（赤外遮蔽フィルムまたは近赤外遮蔽フィルム）として特に好適に使用できる。なお、本明細書において、「近赤外」とは、波長が約７５０ｎｍ〜２５００ｎｍの近赤外線のことである。このため、「近赤外遮蔽フィルム」とは、近赤外線を反射または吸収などをすることにより、近赤外線の全部または一部を遮ることができるフィルムである。
【００１９】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００２０】
本発明において、光学制御フィルムは、高屈折率層および低屈折率層を交互に積層したユニットを少なくとも１つ含む光学反射層を有する。ここで、高屈折率層および低屈折率層は、樹脂、金属酸化物粒子を含む。光学反射層は、熱線（赤外線）の侵入を防ぐことができる（すなわち、熱線反射層として機能する）限り、特に制限されない。光学反射層は、屈折率の異なる層の積層体である、即ち、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層された積層体である。本明細書において、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、隣接した２層の屈折率差を比較した場合に、屈折率が高い方の屈折率層を高屈折率層とし、低い方の屈折率層を低屈折率層とすることを意味する。したがって、「高屈折率層」および「低屈折率層」なる用語は、フィルムを構成する各屈折率層において、隣接する２つの屈折率層に着目した場合に、各屈折率層が同じ屈折率を有する形態以外のあらゆる形態を含むものである。
【００２１】
前記高屈折率層と前記低屈折率層とは、以下のように考える。例えば、高屈折率層を構成する成分（以下、高屈折率層成分）と低屈折率層を構成する成分（以下、低屈折率層成分）とが、ふたつの層の界面で混合され、高屈折率層成分と低屈折率層成分とを含む層（混合層）が形成される場合がある。この場合、混合層において、高屈折率層成分が５０質量％以上である部位の集合を高屈折率層とし、低屈折率層成分が５０質量％を超える部位の集合を低屈折率層とする。具体的には、低屈折率層が、例えば、低屈折率成分として第１の金属酸化物を、また、高屈折率層は高屈折率成分として第２の金属酸化物を含有している場合、これらの積層膜における膜厚方向での金属酸化物濃度プロファイルを測定し、その組成によって、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。積層膜の金属酸化物濃度プロファイルは、スパッタ法を用いて表面から深さ方向へエッチングを行い、ＸＰＳ表面分析装置を用いて、最表面を０ｎｍとして、０．５ｎｍ／ｍｉｎの速度でスパッタし、原子組成比を測定することで観測することが出来る。また、低屈折率成分または高屈折率成分に金属酸化物粒子が含有されておらず、高屈折率層または低屈折率層の一方が水溶性樹脂（有機バインダー）のみから形成されている積層体においても、同様にして、水溶性樹脂（有機バインダー）濃度プロファイルにて、例えば、膜厚方向での炭素濃度を測定することにより混合領域が存在していることを確認し、さらにその組成をＥＤＸにより測定することで、スパッタでエッチングされた各層が、高屈折率層または低屈折率層とみなすことができる。
【００２２】
本発明の方法では、光学反射層（積層体）を構成する層のうち、前記基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成する。上記濃度の親水性有機溶剤は、水系の塗布液の表面張力を下げると共に、塗布液中で金属酸化物粒子表面に配位して樹脂と金属酸化物粒子との相互作用（水素結合）を切断して、樹脂および金属酸化物粒子による凝集物の形成を抑制する。このため、上記濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液は基材への着液性に優れ、塗布液の粘度上昇を抑制して、塗布ムラの発生を有効に抑制できる。ゆえに、上記濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成される最下層、さらには高屈折率層（Ｂ）及び低屈折率層（Ｂ’）を有する光学制御フィルムは、可視光透過性、赤外（特に近赤外）反射性および耐久性を向上できる。
【００２３】
ここで、本発明に係る光学反射層（積層体）の形成方法は、特に制限されないが、基材上に、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液、または高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を塗布する。なお、上記方法において、基材に最も近い最下層形成用の塗布液は、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含む。塗布方法は、特に制限されず、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、スライド型カーテン塗布法、または米国特許第２，７６１，４１９号明細書、米国特許第２，７６１，７９１号明細書などに記載のスライドホッパー塗布法、エクストルージョンコート法などが挙げられる。また、複数の層を重層塗布する方式としては、逐次重層塗布でもよいし同時重層塗布でもよい。
【００２４】
以下では、本発明の好ましい製造方法（塗布方法）であるスライドホッパー塗布法による同時重層塗布について詳細に説明する。なお、本発明は、下記方法に限定されるものではない。また、以下では、特記しない限り、低屈折率層用塗布液および高屈折率層用塗布液は、一括して「塗布液」とも称する。
【００２５】
基材に最も近い最下層形成用の塗布液は、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含む。この塗布液を構成する親水性有機溶剤としては、上記効果を奏するものであれば特に制限されない。なお、本明細書において、「親水性」とは、水１００ｇに対して、５ｇ以上溶解することを意味する。このため、「親水性有機溶剤」は、水１００ｇに対して、５ｇ以上溶解する有機溶剤を意図する。好ましくは、親水性有機溶剤は、水１００ｇに対して、６ｇ以上溶解する。また、塗膜の形成性などを考慮すると、沸点が７０〜３００℃であることが好ましく、７０〜２５０℃であることがより好ましい。具体的には、親水性溶剤としては、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これらのうち、透明性（可視光透過率）、塗布性、層の柔軟性、耐候性のより向上効果を考慮すると、炭素数２〜４の１価アルコールおよびグリコールエーテルが好ましい。すなわち、親水性有機溶剤は、好ましくは、炭素数２〜４の１価アルコールまたはグリコールエーテルである。
【００２６】
上記好ましい例において、炭素数２〜４の１価アルコールとしては、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール（ｎ−ブチルアルコール、ノルマルブタノール）、２−メチル−１−プロパノール（イソブチルアルコール）、２−ブタノール（ｓｅｃ−ブチルアルコール）、２−メチル−２−プロパノール（ｔｅｒｔ−ブチルアルコール）がある。上記アルコールのうち、ヘイズの向上効果などを考慮すると、炭素数３または４の１価のアルコールが好ましく、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノールがより好ましい。炭素数は長いアルコールを使用することによって、少量の添加量でも塗布性をさらに改善できる。
【００２７】
また、グリコールエーテルの好ましい例としては、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテルアセテート、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールヘキシルエーテル、エチレングリコール２−エキルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート等のエチレン系グリコールエーテル；プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールエチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールメチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、ジプロピレングリコールｎーブチルエーテル等のプロピレン系グリコールエーテルなどが挙げられる。これらのうち、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルが好ましく、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールエチルエーテルアセテート、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、プロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールｎ−ブチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルがより好ましい。
【００２８】
上記親水性有機溶剤は、単独で使用されてもまたは２種以上の混合物の形態で使用されてよい。
【００２９】
本発明では、上記親水性有機溶剤は、塗布液中に０．１〜８質量％の濃度で存在する。ここで、上記濃度が０．１質量％未満であると、塗布液の表面張力が十分下がらず、また、親水性有機溶剤が十分金属酸化物粒子表面に配位しないため、樹脂と金属酸化物粒子との相互作用（水素結合）を十分切断できない。このため、樹脂および金属酸化物粒子による凝集物の形成を抑制できず、着液性が悪く、塗布ムラが発生してしまう。逆に、上記濃度が８質量％を超えると、着液性は改善されるものの、透明性（可視光透過率）が過度に低下してしまう。また、塗布後、乾燥・巻き取り後にブロッキングを引き起こしたり、吸湿により耐候性（特に膜割れ）が低下してしまう。加えて、また、生産性向上のため連続塗布や高速塗布化で塗布故障の発生頻度が高まる傾向がある。着液性、透明性、赤外反射性、耐候性のより向上効果、さらには塗布ムラのさらなる抑制効果を考慮すると、塗布液中の親水性有機溶剤の濃度は、好ましくは０．１〜４質量％であり、より好ましくは０．１〜２質量％である。
【００３０】
本発明の方法は、最下層の（基材に最も近い）高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、少なくとも、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成する。ここで、親水性有機溶剤としてアルコールを使用すると、特に塗布液の着液性を向上できる。このため、最下層を、アルコール、特に炭素数２〜４の１価アルコールを用いて形成することが好ましい。一方で、親水性有機溶剤としてグリコールエーテルを使用すると、アルコールに比して沸点が高いため、塗膜乾燥速度が遅くなり、レベリング性が向上できる（膜の平滑化を向上し、塗布ムラをより軽減できる）。また、塗膜（屈折率層）中に微量であるがグリコールエーテルが残る。このため、塗膜の柔軟性を向上し、湿度等によるフィルムの膨脹時や乾燥時の収縮時の応力を緩和するため、耐候性（耐久性）をより向上できる。また、塗膜のひび割れ（膜割れ）を有効に抑制できる。ゆえに、最下層以外の高屈折率層（Ｂ）および／または低屈折率層（Ｂ’）をグリコールエーテルを用いて形成することが好ましく、最下層以外の高屈折率層（Ｂ）および低屈折率層（Ｂ’）双方を、グリコールエーテルを用いて形成することがより好ましい。すなわち、基材に最も近い高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度の炭素数２〜４の１価アルコールを含有する塗布液を用いて形成し、高屈折率層（Ａ）または低屈折率層（Ａ’）以外の高屈折率層および低屈折率層の少なくとも１層を、樹脂、金属酸化物粒子および０．１〜８質量％濃度のグリコールエーテルを含有する塗布液を用いて形成することが好ましい。
【００３１】
なお、上述したように、基材に最も近い最下層形成用の塗布液は、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含むが、最下層以外の高屈折率層（Ｂ）および低屈折率層（Ｂ’）は本発明に係る形態から外れる塗布液を用いて形成してもよい。この場合の塗布液を構成する溶媒としては、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。
【００３２】
好ましくは、最下層以外の高屈折率層（Ｂ）および低屈折率層（Ｂ’）も、最下層同様、樹脂、金属酸化物粒子及び特定濃度の親水性有機溶剤を含む。
【００３３】
本発明において、少なくとも最下層は樹脂を含み、好ましくは光学反射層を構成する高屈折率層および低屈折率層が樹脂を含む。このように樹脂を用いることにより、金属酸化物材料のみで形成される無機膜の光学反射層に比して層の柔軟性が向上するため、膜割れを有効に防ぐことができる。また、各層間の密着性を向上させることができる。さらに、塗布等により光学反射層を製膜できるため、均一でかつ大面積な製膜が容易である。また、製膜速度を上げることができるため、製造コストや量産の点からも好ましい。加えて、高温で製膜する必要がないため、基材の選択範囲が広く、温度変化による光学反射層と他の層（例えば、基材）との間のまたは光学反射層（積層形態の場合）間の収縮率差に起因する層の剥離を有効に防止できる。さらに、樹脂を含む光学反射層は、上述したように、柔軟性に優れるため、柔軟な基板に対しても適用でき、曲げ部分などに割れやキズなどの発生を抑制できる。
【００３４】
低屈折率層及び高屈折率層で使用される樹脂は特に制限されない。各屈折率層は、塗布やスピンコートなどの成膜方法で樹脂を用いて形成できる。これらの方法は簡便であり、基材の耐熱性を問わないので選択肢が広く、特に樹脂基材に対して有効な成膜方法といえる。たとえば塗布型ならばロール・ツー・ロール法などの大量生産方式が採用でき、コスト面でもプロセス時間面でも有利になる。また、樹脂材料を含む膜はフレキシブル性が高いため、生産時や運搬時に巻き取りを行っても、これらの欠陥が発生しづらく、取扱性に優れているという長所がある。
【００３５】
高屈折率層および低屈折率層に含まれる樹脂は、バインダーとして機能する水溶性高分子であることが好ましい。高屈折率層および低屈折率層に、水溶性高分子を含ませることで、有機溶剤の使用を抑えた層形成方法を採用できるため、有機溶剤による環境上の問題を解決することができ、また塗膜の柔軟性も達成することができるから好ましい。なお、高屈折率層および低屈折率層に含有される樹脂は、同じ構成成分であってもよく、異なる構成成分であってもよいが、異なることが好ましい。水溶性高分子としては、例えば、ポリビニルアルコールまたはその誘導体（ポリビニルアルコール系樹脂）、ゼラチン、セルロースまたは増粘多糖類などが挙げられるが、塗布ムラや膜厚均一性（ヘイズ）などの向上効果の観点から、屈折率層は樹脂としてポリビニルアルコールまたはその誘導体を含むことが好ましい。樹脂は、単独で用いてもよいし、２種以上組み合わせて用いてもよい。また、樹脂は、合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００３６】
樹脂は特に制限されず、ＷＯ  ２０１２／１２８１０９、特開２０１３−１２１５６７号公報、特開２０１３−１４８８４９号公報等の、高屈折率層および前記低屈折率層に使用される公知の樹脂が同様にして使用できる。具体的には、ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他、各種の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【００３７】
酢酸ビニルを加水分解して得られるポリビニルアルコールは、平均重合度が２００以上であることが好ましく、平均重合度が３００〜５，０００であることが特に好ましい。また、ケン化度は、７０〜１００モル％であることが好ましく、８０〜９９．９モル％であることが特に好ましい。
【００３８】
変性ポリビニルアルコールとしては、カチオン変性ポリビニルアルコール、アニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン変性ポリビニルアルコール、エチレン変性ポリビニルアルコール、ビニルアルコール系樹脂が挙げられる。また、酢酸ビニル系樹脂（例えば、株式会社クラレ製「エクセバール」）、ポリビニルアルコールにアルデヒドを反応させて得られるポリビニルアセタール樹脂（例えば、積水化学工業株式会社製「エスレック」）、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール（例えば、株式会社クラレ製「Ｒ−１１３０」）、分子内にアセトアセチル基を有する変性ポリビニルアルコール系樹脂（例えば、日本合成化学工業株式会社製「ゴーセファイマー（登録商標）Ｚ／ＷＲシリーズ」）等もポリビニルアルコール系樹脂に含まれる。
【００３９】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているようなビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体、および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【００４０】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されているような疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【００４１】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第１級〜第３級アミノ基や第４級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体をケン化することにより得られる。
【００４２】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％であることが好ましく、０．２〜５モル％であることがより好ましい。
【００４３】
エチレン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開２００９−１０７３２４号公報、特開２００３−２４８１２３号公報、特開２００３−３４２３２２号公報、特願２０１３−２０６８１３などに記載されるものが使用できる。または、エクセバール（商品名：株式会社クラレ製）等の市販品を使用してもよい。
【００４４】
ビニルアルコール系樹脂としては、エクセバール（商品名：株式会社クラレ製）やニチゴーＧ樹脂（商品名：日本合成化学工業株式会社製）などが挙げられる。
【００４５】
なお、上述のポリビニルアルコールは、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。また、ポリビニルアルコールは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。
【００４６】
ポリビニルアルコールの重量平均分子量は、１，０００〜２００，０００であることが好ましく、３，０００〜６０，０００であることがより好ましい。なお、本明細書において、「重量平均分子量」の値は、静的光散乱法、ゲルパーミエーションクロマトグラフ法（ＧＰＣ）、ＴＯＦＭＡＳＳなどによって測定した値を採用するものとする。樹脂（水溶性高分子）の重量平均分子量が上記範囲にあると、湿式製膜法における塗布が可能となり、生産性を向上させることができることから好ましい。
【００４７】
本発明に適用可能なゼラチンとしては、従来、ハロゲン化銀写真感光材料分野で広く用いられてきた各種ゼラチンを適用することができ、例えば、酸処理ゼラチン、アルカリ処理ゼラチンの他に、ゼラチンの製造過程で酵素処理をする酵素処理ゼラチンおよびゼラチン誘導体、すなわち分子中に官能基としてのアミノ基、イミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有し、それと反応して得る基を持った試薬で処理し改質したものでもよい。ゼラチンの一般的製造法に関してはよく知られており、例えば、Ｔ．Ｈ．Ｊａｍｅｓ：Ｔｈｅ  Ｔｈｅｏｒｙ  ｏｆ  Ｐｈｏｔｏｇｒａｐｈｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  ４ｔｈ．  ｅｄ．  １９７７（Ｍａｃｍｉｌｌａｎ）５５項、科学写真便覧（上）７２〜７５項（丸善）、写真工学の基礎−銀塩写真編１１９〜１２４頁（コロナ社）等の記載を参考にすることができる。また、リサーチ・ディスクロージャー誌第１７６巻、Ｎｏ．１７６４３（１９７８年１２月）のＩＸ項に記載されているゼラチンを挙げることができる。
【００４８】
ゼラチンを用いる場合、必要に応じてゼラチンの硬膜剤を添加することもできる。使用できる硬膜剤としては、通常の写真乳剤層の硬膜剤として使用されている公知の化合物を使用でき、例えば、ビニルスルホン化合物、尿素−ホルマリン縮合物、メラニン−ホルマリン縮合物、エポキシ系化合物、アジリジン系化合物、活性オレフィン類、イソシアネート系化合物などの有機硬膜剤、クロム、アルミニウム、ジルコニウムなどの無機多価金属塩類などを挙げることができる。
【００４９】
本発明で用いることのできるセルロースとしては、水溶性のセルロース誘導体が好ましく用いることができ、例えば、カルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、メチルセルロース、ヒドロキシメチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース等の水溶性セルロース誘導体や、カルボン酸基含有セルロース類であるカルボキシメチルセルロース（セルロースカルボキシメチルエーテル）、カルボキシエチルセルロース等を挙げることができる。その他には、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース、セルロース硫酸エステル等のセルロース誘導体を挙げることができる。
【００５０】
本発明で用いることのできる増粘多糖類としては、特に制限はなく、例えば、一般に知られている天然単純多糖類、天然複合多糖類、合成単純多糖類及び合成複合多糖類に挙げることができ、これら多糖類の詳細については、「生化学事典（第２版），東京化学同人出版」、「食品工業」第３１巻（１９８８）２１頁等を参照することができる。
【００５１】
本発明でいう増粘多糖類とは、糖類の重合体であり分子内に水素結合基を多数有するもので、温度により分子間の水素結合力の違いにより、低温時の粘度と高温時の粘度差が大きな特性を備えた多糖類であり、さらに金属酸化物微粒子を添加すると、低温時にその金属酸化物微粒子との水素結合によると思われる粘度上昇を起こすものであり、その粘度上昇幅は、添加することにより１５℃における粘度が１．０ｍＰａ・ｓ以上の上昇を生じる多糖類であり、好ましくは５．０ｍＰａ・ｓ以上であり、更に好ましくは１０．０ｍＰａ・ｓ以上の粘度上昇能を備えた多糖類である。
【００５２】
本発明に適用可能な増粘多糖類としては、例えば、ガラクタン（例えば、アガロース、アガロペクチン等）、ガラクトマンノグリカン（例えば、ローカストビーンガム、グアラン等）、キシログルカン（例えば、タマリンドガム等）、グルコマンノグリカン（例えば、蒟蒻マンナン、木材由来グルコマンナン、キサンタンガム等）、ガラクトグルコマンノグリカン（例えば、針葉樹材由来グリカン）、アラビノガラクトグリカン（例えば、大豆由来グリカン、微生物由来グリカン等）、グルコラムノグリカン（例えば、ジェランガム等）、グリコサミノグリカン（例えば、ヒアルロン酸、ケラタン硫酸等）、アルギン酸及びアルギン酸塩、寒天、κ−カラギーナン、λ−カラギーナン、ι−カラギーナン、ファーセレランなどの紅藻類に由来する天然高分子多糖類などが挙げられる。塗布液中に共存する金属酸化物粒子の分散安定性を低下させない観点から、好ましくは、その構成単位がカルボン酸基やスルホン酸基を有しないものが好ましい。その様な増粘多糖類としては、例えば、Ｌ−アラビトース、Ｄ−リボース、２−デオキシリボース、Ｄ−キシロースなどのペントース、Ｄ−グルコース、Ｄ−フルクトース、Ｄ−マンノース、Ｄ−ガラクトースなどのヘキソースのみからなる多糖類であることが好ましい。具体的には、主鎖がグルコースであり、側鎖もグルコースであるキシログルカンとして知られるタマリンドシードガムや、主鎖がマンノースで側鎖がグルコースであるガラクトマンナンとして知られるグアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガム、ローカストビーンガム、タラガムや、主鎖がガラクトースで側鎖がアラビノースであるアラビノガラクタンを好ましく使用することができる。本発明においては、特には、タマリンド、グアーガム、カチオン化グアーガム、ヒドロキシプロピルグアーガムが好ましい。
【００５３】
屈折率層における樹脂の含有量は、屈折率層の全固形分に対して、５〜５０質量％であることが好ましく、１０〜４０質量％であることがより好ましい。樹脂の含有量が５質量％以上であると、湿式製膜法で屈折率層を形成する場合に、塗布して得られた塗膜の乾燥時に、膜面が乱れによる透明性の劣化を防止できることから好ましい。一方、樹脂の含有量が５０質量％以下であると、低屈折率層中に金属酸化物粒子を含有する場合に好適な含有量となり、低屈折率層と高屈折率層との屈折率差を大きくできることから好ましい。なお、本明細書において、樹脂の含有量は、蒸発乾固法の残固形分より求められる。具体的には、光学制御フィルムを９５℃の熱水に２時間浸し、残ったフィルムを除去した後、熱水を蒸発させ、得られた固形物の量を樹脂量とする。この際、ＩＲ（赤外分光）スペクトルにおいて１７００〜１８００ｃｍ−１、９００〜１０００ｃｍ−１、および８００〜９００ｃｍ−１の領域にそれぞれ１つずつピークが見られる場合、その樹脂（水溶性高分子）はポリビニルアルコールであると断定することができる。
【００５４】
本発明において、少なくとも最下層は金属酸化物粒子を含み、好ましくは光学反射層を構成する高屈折率層および低屈折率層が金属酸化物粒子を含む。金属酸化物粒子を含有することで各屈折率層間の屈折率差を大きくすることができ、反射特性が向上する。低屈折率層および高屈折率層の双方が金属酸化物粒子を含有することにより、屈折率差をより大きくすることができる。金属酸化物粒子を含むことにより、積層数を低減することができ、薄膜とすることができる。層数を減らすことで、生産性が向上し、積層界面での散乱による透明性の減少を抑制することができる。
【００５５】
金属酸化物粒子としては、金属酸化物を構成する金属が、Ｌｉ、Ｎａ、Ｍｇ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｋ、Ｃａ、Ｓｃ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｒｂ、Ｓｒ、Ｙ、Ｎｂ、Ｚｒ、Ｍｏ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｓ、Ｂａ、Ｌａ、Ｔａ、Ｈｆ、Ｗ、Ｉｒ、Ｔｌ、Ｐｂ、Ｂｉ及び希土類金属からなる群より選ばれる１種または２種以上の金属である金属酸化物を用いることができる。
【００５６】
高屈折率層に用いる金属酸化物粒子としては、例えば、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、アルミナ、コロイダルアルミナ、チタン酸鉛、鉛丹、黄鉛、亜鉛黄、酸化クロム、酸化第二鉄、鉄黒、酸化銅、酸化マグネシウム、水酸化マグネシウム、チタン酸ストロンチウム、酸化イットリウム、酸化ハフニウム、酸化ニオブ、酸化タンタル、酸化バリウム、酸化インジウム、酸化ユーロピウム、酸化ランタン、ジルコン、酸化スズ、酸化鉛、ならびにこれら酸化物より構成される複酸化物であるニオブ酸リチウム、ニオブ酸カリウム、タンタル酸リチウム、アルミニウム・マグネシウム酸化物（ＭｇＡｌ２Ｏ４）などが挙げられる。
【００５７】
また、金属酸化物粒子として、希土類酸化物を用いることもでき、具体的には、酸化スカンジウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化セリウム、酸化プラセオジム、酸化ネオジム、酸化サマリウム、酸化ユウロピウム、酸化ガドリニウム、酸化テルビウム、酸化ジスプロシウム、酸化ホルミウム、酸化エルビウム、酸化ツリウム、酸化イッテルビウム、酸化ルテチウム等も挙げられる。
【００５８】
高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、屈折率が１．９０以上の金属酸化物粒子が好ましく、例えば、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸化亜鉛等を挙げることができる。中でも、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成することのできることから、二酸化チタンが好ましく、特にルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子を用いることが好ましい。高屈折率層に用いられる金属酸化物粒子は、１種単独であってもよいし、２種以上併用してもよい。
【００５９】
また、本発明において、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタンが好ましいが、酸化チタンは含ケイ素の水和酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態であってもよい。当該コアシェル粒子は、酸化チタン粒子の表面を、コアとなる酸化チタンに含ケイ素の水和酸化物からなるシェルが被覆してなる構造を有する。かようなコアシェル粒子を高屈折率層に含有させることで、シェル層の含ケイ素の水和酸化物と水溶性樹脂との相互作用により、低屈折率層と高屈折率層との層間混合が抑制されうる。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の水和酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、金属酸化物粒子として用いられる酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されていてもよい。被覆された酸化チタン粒子の屈折率が含ケイ素の水和酸化物の被覆量により制御される観点から、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の水和酸化物で被覆されることが好ましい。以下ではこのような被覆された酸化チタン粒子を「シリカ付着二酸化チタンゾル」とも称する。酸化チタン粒子を含ケイ素の水和酸化物で被覆する方法としては、従来公知の方法により製造することができ、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照することができる。
【００６０】
高屈折率層で用いられる金属酸化物粒子の体積平均粒径は、１００ｎｍ以下であることが好ましく、８０ｎｍ以下であることがより好ましく、ヘイズ値が低く可視光透過率に優れる観点から１〜７０ｎｍであることがさらに好ましく、１０〜５０ｎｍであることがより好ましい。なお、ここで体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する粒子状の金属酸化物の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径である。
【００６１】
高屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、高屈折率層の固形分１００質量％に対して、熱線遮蔽の観点および曲面形状のガラスにフィルムを適用した場合の色ムラ低減の観点から、３０〜８５質量％であることが好ましく、４０〜８０質量％であることがより好ましい。
【００６２】
また、低屈折率層に用いられる金属酸化物粒子としては、二酸化ケイ素を用いることが好ましく、コロイダルシリカを用いることが特に好ましい。低屈折率層に含まれる金属酸化物粒子（好ましくは二酸化ケイ素）は、その平均粒径が３〜１００ｎｍであることが好ましい。一次粒子の状態で分散された二酸化ケイ素の一次粒子の平均粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、３〜５０ｎｍであるのがより好ましく、３〜４０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜２０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。低屈折率層中の金属酸化物の平均粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。
【００６３】
低屈折率層における金属酸化物粒子の含有量としては、低屈折率層の固形分に対して、屈折率の観点から、３０〜８５質量％であることが好ましく、４０〜８０質量％であることがさらに好ましい。
【００６４】
コロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであり、たとえば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号パンフレットなどに記載されているものである。この様なコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。コロイダルシリカは、その表面をカチオン変性されたものであってもよく、また、Ａｌ、Ｃａ、ＭｇまたはＢａ等で処理された物であってもよい。
【００６５】
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業（株）から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００６６】
各屈折率層は、上記以外にも、例えば、特開昭５７−７４１９３号公報、同５７−８７９８８号公報および同６２−２６１４７６号公報に記載の紫外線吸収剤、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。これらの添加物の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【００６７】
または、各屈折率層が水溶性高分子を含む場合には、水溶性高分子を硬化させるために、硬化剤を使用することもできる。硬化剤としては、ホウ酸及びその塩、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬、ホウ砂等が挙げられる。屈折率層における硬化剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、１〜１０質量％であることが好ましい。
【００６８】
または、各屈折率層は、塗布時の表面張力調整のために、界面活性剤を含んでもよい。ここで、界面活性剤としてアニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、アニオン系界面活性剤がより好ましい。好ましい化合物としては、１分子中に炭素数８〜３０の疎水性基とスルホン酸基又はその塩を含有するものが挙げられる。各屈折率層における界面活性剤の含有量は、屈折率層の固形分に対して、０．０１〜５質量％であることが好ましい。
【００６９】
塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、樹脂、金属酸化物粒子、親水性有機溶剤、および必要に応じて添加されるその他の添加剤を添加し、攪拌混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。必要に応じて、さらに溶媒を用いて、適当な粘度に調製される。
【００７０】
また、塗布液を基材に塗布（例えば、同時重層塗布）する際の塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【００７１】
塗布（例えば、同時重層塗布）を行う際の塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１００ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、１０〜５０ｍＰａ・ｓの範囲であることがより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲であることが好ましく、２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲であることがより好ましい。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。また、塗布液の１５℃における粘度としては、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは３，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓであり、最も好ましいのは１０，０００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。
【００７２】
塗布および乾燥方法としては、塗布液を所望の温度に加温して、塗布を行った後、形成した塗膜の温度を１〜１５℃に一旦冷却し、１０℃以上で乾燥することが好ましく、より好ましくは、乾燥条件として、５０〜９０℃の温度で行うことが好ましい。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜均一性の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【００７３】
上述したようにして、光学反射層が基材上に形成される。ここで、光学反射層は、高屈折率層および低屈折率層が交互に積層されたユニット（積層体）を少なくとも１つ有する構成であればよいが、高屈折率層および低屈折率層の層数（屈折率層の総数）は、特に制限はないが、好ましくは６〜２０００（すなわち、３〜１０００ユニット）であり、より好ましくは１０〜１０００（すなわち、５〜５００ユニット）であり、さらに好ましくは１０〜５００（すなわち、５〜２５０ユニット）である。層数が２０００を超えるとヘイズが高くなり、６未満であると所望の反射率に達しないことがある。また、本発明の光学制御フィルムは、上記基材上にユニットを少なくとも１つ以上有する構成であればよい。例えば、積層膜の最下層および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の隣接層（例えば、基体、光学反射層）への密着性、最上層の耐久性に優れるという観点から、最下層および最表層が低屈折率層（即ち、屈折率層の総数が奇数）である層構成が好ましい。
【００７４】
光学反射層において、高屈折率層は、より高い屈折率が好ましいが、屈折率が、好ましくは１．７０〜２．５０であり、より好ましくは１．８０〜２．２０である。また、低屈折率層は、より低い屈折率が好ましいが、屈折率が、好ましくは１．１０〜１．６０であり、より好ましくは１．３０〜１．５５であり、さらに好ましくは１．３０〜１．５０である。
【００７５】
光学反射層においては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で熱線反射率を高くすることができる観点から好ましい。高屈折率層および低屈折率層から構成されるユニットの少なくとも１つにおいて、隣接する該高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が０．１以上であることが好ましく、より好ましくは０．２以上であり、さらに好ましくは０．２５以上である。光学反射層が低屈折率層および高屈折率層のユニットを複数有する場合には、全てのユニットにおける低屈折率層と高屈折率層との屈折率差が上記好適な範囲内にあることが好ましい。ただし、光学反射層の最表層や最下層に関しては、上記好適な範囲外の構成であってもよい。
【００７６】
特定波長領域の反射率は、隣接する２層（高屈折率層と低屈折率層）の屈折率差と積層数で決まり、屈折率差が大きいほど、少ない層数で同じ反射率を得られる。この屈折率差と必要な層数については、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、赤外反射率（赤外遮蔽率）９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと、１００層を超える積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下する。反射率の向上と層数を少なくする観点からは、屈折率差に上限はないが、実質的には１．４程度である。
【００７７】
上記屈折率は、高屈折率層、低屈折率層の屈折率を下記の方法に従って求め、両者の差分として求める。すなわち、（必要により基材を用いて）各屈折率層を単層で作製し、このサンプルを１０ｃｍ×１０ｃｍに断裁した後、下記の方法に従って屈折率を求める。分光光度計として、Ｕ−４０００型（日立製作所社製）を用いて、各サンプルの測定面とは反対側の面（裏面）を粗面化処理した後、黒色のスプレーで光吸収処理を行って裏面での光の反射を防止して、５度正反射の条件にて可視光領域（４００ｎｍ〜７００ｎｍ）の反射率を２５点測定して平均値を求め、その測定結果より平均屈折率を求める。
【００７８】
また、単層膜でみたとき層表面における反射光と、層底部における反射光の光路差を、ｎ・ｄ＝波長／４、で表される関係にすると位相差により反射光を強めあうよう制御出来、反射率を上げることができる。ここで、ｎは屈折率、またｄは層の物理膜厚、ｎ・ｄは光学膜厚である。この光路差を利用することで、反射を制御出来る。この関係を利用して、各層の屈折率と膜厚を制御して、可視光や、近赤外光の反射を制御する。即ち、各層の屈折率、各層の膜厚、各層の積層のさせ方で、特定波長領域の反射率をアップさせることができる。
【００７９】
低屈折率層及び高屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、２０〜１０００ｎｍであることが好ましく、５０〜５００ｎｍであることがより好ましく、１００〜３００ｎｍであることがさらにより好ましく、１００〜２００ｎｍであることが特に好ましい。低屈折率層および高屈折率層の厚みは、同じであってもまたは異なるものであってもよい。各屈折率層の１層あたりの厚みは、ダイスの押出口におけるフィルム厚さ方向の幅を変更すること、および／または延伸条件により、調節することができる。なお、積層体を延伸する場合は、上記膜厚は延伸後の厚さを示す。
【００８０】
本発明において、基材は、特に制限されず、フィルム支持体であることが好ましく、フィルム支持体は、透明であっても不透明であってもよく、種々の基材を用いることができる。
【００８１】
例えば、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。
【００８２】
本発明に用いられる基材の厚みは、１０〜３００μｍ、特に２０〜１５０μｍであることが好ましい。また、基材は、２枚以上重ねたものであっても良く、この場合、各基材は同じでも異なってもよい。さらに、基材が光学反射層の両面に配置される場合には、各基材は同じでも異なってもよい。
【００８３】
上記方法によって、高い可視光透過性および赤外反射性を有し、耐候性に優れる光学制御フィルムが製造できる。
【００８４】
本発明に係る光学制御フィルムは反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。即ち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。近赤外反射フィルムの場合、ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８で示される可視光領域の５５０ｎｍでの透過率が５０％以上であることが好ましく、７０％以上であることがより好ましく、７５％以上であることがさらに好ましい。また、１２００ｎｍでの透過率が３５％以下であることが好ましく、２５％以下であることがより好ましく、２０％以下であることがさらに好ましい。かような好適な範囲となるように光学膜厚とユニットを設計することが好ましい。また、波長９００ｎｍ〜１４００ｎｍの領域に反射率５０％を超える領域を有することが好ましい。
【００８５】
太陽光の入射スペクトルのうち赤外域が特に室内温度上昇に関係するため、近赤外光を遮蔽することが室内温度の上昇を抑えるのに特に有効である。日本工業規格ＪＩＳ  Ｒ３１０６：１９９８に記載された重価係数をもとに赤外の最短波長（７６０ｎｍ）から最長波長３２００ｎｍまでの累積エネルギー比率をみてみると、波長７６０ｎｍから最長波長３２００ｎｍまでの赤外全域の総エネルギーを１００としたときの、７６０ｎｍから各波長までの累積エネルギーをみると、７６０から１３００ｎｍのエネルギー合計が赤外域全体の約７５％を占めている。従って、１３００ｎｍまでの波長領域を遮蔽することが熱線遮蔽による省エネルギー効果の効率がよい。
【００８６】
本発明に係る光学制御フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２〜３１５μｍ、より好ましくは１５〜２００μｍ、さらに好ましくは２０〜１００μｍである。
【００８７】
本発明に係る光学制御フィルムは、基材および光学反射層を必須に備えるが、他の構成部材を有していてもよい。例えば、本発明に係る光学制御フィルムは、光学反射層上あるいは、基材を介して光学反射層と反対側にハードコート層を有していてもよい。ハードコート層は、光学制御フィルムの耐擦過性を高めるための表面保護層として機能する。なお、本明細書において「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層である。
【００８８】
ハードコート層は、１層のみでもまたは２層以上の積層体であってもよい。光学制御フィルムが２層以上のハードコート層を有する場合、各ハードコート層の構成は同じでもよいし異なっていてもよい。
【００８９】
光学制御フィルムにハードコート層を有する際に、当該ハードコート層を構成するハードコート材料としては、特に制限されないが、活性エネルギー線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂、ポリシロキサン系に代表される無機系材料（ポリシロキサン系ハードコート材料）などが好ましく使用される。上記ハードコート材料は、単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００９０】
活性エネルギー線硬化性樹脂としては、特に制限されないが、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含むものであることが好ましく、紫外線硬化性樹脂であることがより好ましい。当該紫外線硬化樹脂としては、特に制限されないが、紫外線硬化型ウレタン（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオール（メタ）アクリレート樹脂等が挙げられる。これらのうち、紫外線硬化型（メタ）アクリレート系樹脂を用いることが好ましい。
【００９１】
紫外線硬化型ウレタン（メタ）アクリレート樹脂は、ポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー又はプレポリマーを反応させて得られた生成物に、さらに２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート等のヒドロキシ基を有する（メタ）アクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載のユニディック１７−８０６（ＤＩＣ株式会社製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン工業株式会社製）１部との混合物等が好ましく用いられる。
【００９２】
紫外線硬化型ポリエステル（メタ）アクリレート樹脂は、ポリエステル末端のヒドロキシ基やカルボキシ基に、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸等のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる（例えば、特開昭５９−１５１１１２号公報）。
【００９３】
紫外線硬化型エポキシ（メタ）アクリレート樹脂は、エポキシ樹脂の末端のヒドロキシ基に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸クロライド、グリシジル（メタ）アクリレート等のモノマーを反応させることによって得ることができる。例えばユニディックＶ−５５００（ＤＩＣ株式会社製）等が挙げられる。
【００９４】
紫外線硬化型ポリオール（メタ）アクリレート樹脂としては、特に制限されないが、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００９５】
また、ハードコート層の形成に適用可能なポリシロキサン系ハードコート材料としては、下記一般式（１）で表される化合物が好ましい。
【００９６】
【化１】
2016118632.tif 000002
【００９７】
上記一般式（１）において、ＲおよびＲ１は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０の直鎖状、分枝状、または環状のアルキル基を表し、ｍおよびｎは、ｍ＋ｎ＝４の関係を満たす整数である。
【００９８】
具体的な化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ポロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、テロラペンタエトキシシラン、テトラペンタ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−プロポキシシラン、テトラペンタ−ｎ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラペンタ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルエトキシシラン、ジメチルメトキシシラン、ジメチルプロポキシシラン、ジメチルブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン等が挙げられる。また、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−（２−アミノエチル）アミノプロピルメチルジメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、Ｎ−β−（Ｎ−アミノベンジルアミノエチル）−γ−アミノプロピルメトキシシラン・塩酸塩、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アミノシラン、メチルメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリリメトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）シラン、オクタデシルジメチル［３−（トリメトキシシリル）プロピル］アンモニウムクロライドを挙げることができる。これらのメトキシ基、エトキシ基などの加水分解性基がヒドロキシ基に置換した状態のものが、一般的にポリオルガノシロキサン系ハードコート材料といわれている。
【００９９】
前記ポリオルガノシロキサン系ハードコート材料は、具体的にはサーコートシリーズ、ＢＰ−１６Ｎ（以上、株式会社動研製）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング株式会社製）、Ｐｅｒｍａ−Ｎｅｗ  ６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ社製）などを利用することができる。
【０１００】
これらのうち、硬化後の硬さ及び収縮応力等を考慮すると、活性エネルギー線硬化性樹脂を使用することが好ましい。すなわち、ハードコート層は、活性エネルギー線硬化性樹脂を含むことが好ましい。
【０１０１】
ハードコート層中のハードコート材料の量は、特に制限されないが、ハードコート層の固形分に対して２０〜１００質量％であることが好ましく、３０〜９９．９質量％であることがより好ましい。
【０１０２】
また、太陽光曝露状況下においても、ハードコート層は収縮を促進しないような構成を有することが望ましい。このような収縮を抑制または防止することを目的として、該ハードコート層は、紫外線吸収剤および／または酸化防止剤を含有してもよい。ハードコート層が紫外線吸収剤または酸化防止剤を含む場合に使用できる紫外線吸収剤および／または酸化防止剤は、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤および酸化防止剤を使用できる。具体的には、酸化防止剤としては、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、テトラキス−〔メチレン−３−（３’、５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン等のフェノール系酸化防止剤；ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）等のチオール系酸化防止剤；トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト等のホスファイト系酸化防止剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート等のヒンダードアミン系酸化防止剤；などが挙げられる。なお、酸化防止剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、酸化防止剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ノクラック（登録商標）シリーズ（大内新興化学工業株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）シリーズ（以上、株式会社ＡＤＥＫＡ製）、ＩＲＧＡＮＯＸ（登録商標）シリーズ、ＩＲＧＡＦＯＳ（登録商標）シリーズ（以上いずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ製）、Ｓｕｍｉｌｉｚｅｒ（登録商標）シリーズ（以上、住友化学株式会社製）等が挙げられる。
【０１０３】
また、紫外線吸収剤としては、下記粘着層に記載されるのと同様のものが使用できる。
【０１０４】
ハードコート層が紫外線吸収剤または酸化防止剤を含む場合の、これらの含有量は、ハードコート層の全質量に対して、０．０５〜１０質量％であることが好ましく、０．１〜５質量％以下であることがより好ましい。これは、ハードコート層に紫外線が照射された場合、ハードコート層内の反応が促進し収縮応力が上昇する。また、ハードコート層内において、樹脂が分解することにより、ハードコート層自身が脆くなるという現象が起こりうる。そのため、ハードコート層内に紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有させることで、ハードコート層の収縮や分解を抑えることができるため、耐候密着性を向上させることができる。なお、上記含有量は、ハードコート層が紫外線吸収剤および酸化防止剤双方を含む場合には、これらの合計量を意図する。
【０１０５】
または、ハードコート層は、無機微粒子を含有してもよい。好ましい無機微粒子としては、チタン、シリカ、ジルコニウム、アルミニウム、マグネシウム、アンチモン、亜鉛またはスズなどの金属を含む無機化合物の微粒子が挙げられる。この無機微粒子の平均粒径は、可視光線の透過性を確保することから、１０００ｎｍ以下が好ましく、１０〜５００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。また、無機微粒子は、ハードコート層を形成する硬化性樹脂との結合力が高い方がハードコート層からの脱落を抑制できることから、単官能または多官能のアクリレートなどの光重合反応性を有する感光性基を表面に導入しているものが好ましい。
【０１０６】
または、ハードコート層に染料や顔料を添加して色相を調整することができる。例えば、カドミウムレッド、モリブデンレッド、クロムパーミリオン、酸化クロム、ビリジアン、チタンコバルトグリーン、コバルトグリーン、コバルトクロムグリーン、ビクトリアグリーン、群青、ウルトラマリンブルー、紺青、ベルリンブルー、ミロリブルー、コバルトブルー、セルリアンブルー、コバルトシリカブルー、コバルト亜鉛ブルー、マンガンバイオレット、ミネラルバイオレッド、コバルトバイオレット等の有色無機顔料や、フタロシアニン顔料等の有機顔料、アントラキノン系染料が好ましく使用される。
【０１０７】
ハードコート層の層厚は０．１〜５０μｍが好ましく、０．５〜２０μｍがより好ましく、１〜１０μｍがさらに好ましい。０．１μｍ以上であればハードコート性が向上する傾向にあり、逆に５０μｍ以下であれば光学制御フィルムの透明性が向上できる。
【０１０８】
反射層膜上へのハードコート層の形成方法としては、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等によりハードコート層用塗布液を、高屈折率層及び低屈折率層からなる光学反射層上に塗布し製膜する方法が挙げられ、蒸着などの乾式製膜法でも形成することができる。また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。例えば、ポリシロキサン系ハードコート材料の場合、塗布後、溶剤を乾燥させた後、該ハードコート材料の硬化、架橋を促進するため、５０〜１５０℃の温度範囲内で３０分〜数日間の熱処理を行うことが好ましい。塗布基材の耐熱性や積層ロール状にした時の基材の安定性を考慮して、４０〜８０℃の範囲内で２日間以上処理することが好ましい。活性エネルギー線硬化性樹脂を用いる場合、活性エネルギー線の照射波長、照度、光量によってその反応性が変わるため、使用する樹脂によって最適な条件を選択する必要があるため一概には言えない。しかしながら、例えば、活性エネルギー線として紫外線ランプを用いる場合、その照度は５０〜１５００ｍＷ／ｃｍ２が好ましく、照射エネルギー量は５０〜１５００ｍＪ／ｃｍ２が好ましい。
【０１０９】
ハードコート層を塗布法により形成する際に用いる溶媒は、特に制限されず、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン、テトラヒドロフラン、エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）、エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）、酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル等が挙げられる。これらの溶媒は、単独でまたは混合し利用できる。
【０１１０】
ハードコート層形成のための塗布液は、界面活性剤を含んでもよい。界面活性剤を含むハードコート層形成用塗布液により塗膜が形成されると、レベリング性の高い塗膜となるため、残存溶媒量が部分的に多い箇所や少ない箇所が形成されることを防止し、ハードコート層の密着性が向上することが期待できる。また、ハードコート層に、撥水性、滑り性等を付与することができる。界面活性剤の種類として、特に制限はなく、フッ素系界面活性剤、アクリル系界面活性剤、シリコーン系界面活性剤等を用いることができる。特に塗布液のレベリング性、撥水性、滑り性という観点で、フッ素系界面活性剤を用いることが好ましい。これらの界面活性剤の例としては光学反射層で上述したものを利用可能である。
【０１１１】
ハードコート層中の界面活性剤の量は、ハードコート塗布液中の界面活性剤の配合量を変更することで調節でき、ハードコート層の乾燥質量当たり界面活性剤の質量が０．０１〜５質量％であることが好ましい。
【０１１２】
また、本発明に係る光学制御フィルムは、基材若しくは光学反射層またはハードコート層上に粘着層をさらに有してもよい。
【０１１３】
粘着層は、基体（例えば、ガラス）との貼付け時点の即粘着力が２〜８Ｎ／２５ｍｍであり、前記即粘着力が４〜８Ｎ／２５ｍｍであることが好ましい。即粘着力とは、光学制御フィルムをガラスに貼付けて２４時間後に計測した粘着層の粘着力のことを示す。粘着層の粘着力は粘着層を構成する材料を適切に選択することで調整が可能である。
【０１１４】
また、貼付け時点の前記粘着層とガラスとの即粘着力が４〜８Ｎ／２５ｍｍであり、貼付け状態のまま、３０℃、湿度６０％の条件で１週間放置した時点の粘着層とガラスとの経時粘着力が７〜１５Ｎ／２５ｍｍであることが曲面密着性の観点から好ましい。更に、前記経時粘着力が１０〜１５Ｎ／２５ｍｍであることが耐久性向上と糊残りが減少するという観点からより好ましい。経時粘着力とは、光学制御フィルムをガラスに貼付け、一定期間経過した後に計測した粘着層の粘着力のことを示す。
【０１１５】
本発明に係る光学制御フィルムは、窓ガラスに貼り合わせる場合、窓に水を吹き付け、濡れた状態のガラス面に光学制御フィルムの粘着層を合わせる貼り方、いわゆる水貼り法が張り直し、位置直し等の観点で好適に用いられる。そのため、水が存在する湿潤下では粘着力が弱い粘着剤が好ましい。
【０１１６】
粘着層を構成する粘着剤は、特に限定されず、公知の粘着剤が同様にして使用できる。具体的には、アクリル系粘着剤、シリコン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤などを例示することができる。これらのうち、アクリル系粘着剤が、耐久性、透明性、粘着特性の調整の容易さなどの面から好ましい。アクリル系粘着剤は、アクリル酸アルキルエステルを主成分とし、これに極性単量体成分を共重合したアクリル系樹脂を用いたものである。上記アクリル酸アルキルエステルとはアクリル酸またはメタクリル酸のアルキルエステルであって、特に限定されるものではないが、例えば、アクリル酸エチル、アクリル酸イソプロピル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ラウリル等が挙げられる。また、粘着剤は、市販品を使用してもよく、具体的には、東洋インキ社製ＢＰＳ５９７８、日本合成化学製コーポニール（例えば、Ｎ−２１４７、５６９７、５６９８、５７０５Ｌ）などが使用できる。
【０１１７】
また、粘着剤層をアクリル系粘着剤で形成する場合には、アクリル系粘着剤の硬化剤を使用することができる。アクリル系粘着剤の硬化剤は、特に制限されないが、例えば、イソシアネート系、エポキシ系、アリジリン系硬化剤が利用できる。イソシアネート系硬化剤では、長期保存後も安定した粘着力を得ることと、より硬い粘着層とする目的で、トノレイレンジイソシアネート（ＴＤＩ）等の芳香族系のタイプを好ましく用いることができる。具体的には、東洋インキ社製ＢＸＸ５１３４を使用することができる。
【０１１８】
硬化剤の添加量（固形分換算）は、粘着剤に対して、２〜９質量％であることが好ましく、より好ましくは３〜７質量％である。このような範囲であれば、粘着剤が残りにくく、十分な接着力も確保できる。
【０１１９】
粘着層は、上記粘着剤に加えて、添加剤を含んでもよい。ここで、添加剤としては、特に制限されないが、例えば、安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、シランカップリング剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤（酸化防止剤）、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等が得られる。これらのうち、粘着層は、紫外線吸収剤を含有することが好ましい。紫外線吸収剤を含む粘着層を光学反射層に対して太陽光の入射側に設けることによって、光学反射層に侵入する太陽光（特に赤外光）量（光学反射層の太陽光吸収量）はより低減する。また、本発明に係る光学制御フィルムを窓貼用として使用する場合には、紫外線による光反射フィルムの劣化を抑制できる。
【０１２０】
ここで、紫外線吸収剤としては、特に制限されず、公知の紫外線吸収剤を使用できる。例えば、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン等のベンゾフェノン系紫外線吸収剤；２−（２’−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤；フェニルサリチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のサリチル酸フェニル系紫外線吸収剤；ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等のヒンダードアミン系紫外線吸収剤；２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアジン系紫外線吸収剤；等が挙げられる。
【０１２１】
紫外線吸収剤としては、上記以外に紫外線の保有するエネルギーを、分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを、熱エネルギー等として放出する機能を有する化合物が含まれる。
【０１２２】
なお、紫外線吸収剤は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。また、紫外線吸収剤は、合成品を用いてもよいし市販品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２０、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）３２８、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）２３４、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）１５７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ（登録商標）６２２（以上、ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、アデカスタブ（登録商標）ＬＡ−３１（以上、株式会社アデカ製）、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０２、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）１０３、ＳＥＥＳＯＲＢ（登録商標）５０１（以上、シプロ化成株式会社製）などが挙げられる。
【０１２３】
紫外線吸収剤の添加量（固形分換算）は、粘着剤に対して、０．１〜１０質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜５質量％である。このような範囲であれば、光学反射層の太陽光吸収量をより有効に低減できる。
【０１２４】
粘着層の厚さは、１〜１００μｍが好ましく、３〜５０μｍがより好ましい。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であれば光学制御フィルムの透明性が向上するだけでなく、光学制御フィルムを窓ガラスに貼り付けた後、剥がしたときに粘着層間で凝集破壊が起こらず、ガラス面への粘着剤残りが無くなる傾向にある。
【０１２５】
粘着層の形成方法としては、特に制限されないが、所望の構成部材（基材若しくは光学反射層またはハードコート層）とは別に、セパレーター上に粘着層用塗布液を塗布し乾燥させて粘着層を形成した後、当該部材と粘着層とを貼り合わせる方法が好ましい。
【０１２６】
この際用いられるセパレーターとしては、例えば、シリコーンコート離型ＰＥＴフィルム、シリコーンコートＰＥフィルム等が挙げられる。セパレーター上への粘着層用塗布液の塗布方法は、特に制限されず、ワイヤーバーによるコーティング、スピンコーティング、ディップコーティング等により塗布液を塗布し製膜する方法が挙げられ、また、ダイコーター、グラビアコーター、コンマコーターなどの連続塗布装置でも塗布、製膜することが可能である。
【０１２７】
なお、本明細書において、「粘着力」は、ＪＩＳ  Ａ  ５７５９：２００８  ６．８粘着力試験に準じて測定することによって求められ、より具体的には、下記実施例に記載される方法に従って測定される。
【０１２８】
また、本発明係る光学制御フィルムは、他の層（例えば、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易粘着層、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上）を単独もしくは適当に組み合わせて用いてもよい。
【０１２９】
（光学制御体）
本発明により提供される光学制御フィルムは、幅広い分野に応用することができる。例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備に貼り合せ、赤外遮蔽効果を付与する赤外遮蔽フィルム等の窓貼用フィルムとして用いることができる。
【０１３０】
すなわち、本発明のさらに他の形態によれば、本発明に係る光学制御フィルムを用いてなる光学制御体が提供される。具体的には、上述の光学制御フィルムを光透過性基体に貼り付けた光反射体も提供される。前記光反射体は、光学制御フィルムが粘着層を介して光透過性基体に接合されてなる構造を有する。
【０１３１】
前記光透過性基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂等が挙げられる。また、前記光透過性基体は、全光透過性を有していても、部分的な波長領域に対する光透過性を有していてもよい。
【０１３２】
本発明の作用効果は、前記光透過性基体が曲面であるときに、よりいっそう効果的に発現させられる。「曲面」とは、曲率半径が３ｍ以下の範囲である面を意味する。曲率半径を３ｍ以下とするのは、曲率半径が３ｍを超えると、平面状の基体との差異がなくなるからである。
【実施例】
【０１３３】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。
【０１３４】
＜低屈折率層用塗布液１の作製＞
下記構成材料を、それぞれ、４５℃でこの順に添加、混合した後、純水で１０００部に仕上げて、低屈折率層用塗布液１を調製した。
【０１３５】
【化２】
2016118632.tif 000003
【０１３６】
＜低屈折率層用塗布液２〜６の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、それぞれ、エタノールの濃度が０．５質量％（低屈折率層用塗布液２）、１質量％（低屈折率層用塗布液３）、２質量％（低屈折率層用塗布液４）、４質量％（低屈折率層用塗布液５）および８質量％（低屈折率層用塗布液６）となるように、エタノールを添加し、低屈折率層用塗布液２〜６を調製した。
【０１３７】
＜低屈折率層用塗布液７の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、１−プロパノールの濃度が２質量％となるように、１−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液７を調製した。
【０１３８】
＜低屈折率層用塗布液８の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、２−プロパノールの濃度が１．５質量％となるように、２−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液８を調製した。
【０１３９】
＜低屈折率層用塗布液９の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、１−ブタノールの濃度が１質量％となるように、１−ブタノールを添加し、低屈折率層用塗布液９を調製した。
【０１４０】
＜低屈折率層用塗布液１０の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、ネオエタノールＡＰ−１１（大伸化学（株）製）の濃度が３質量％となるように、ネオエタノールＡＰ−１１を添加し、低屈折率層用塗布液１０を調製した。なお、ネオエタノールＡＰ−１１は、エタノール  ８５．５±１．０体積％、メタノール  ４．７±０．５体積％および２−プロパノール  ９．８±０．５体積％からなる混合液である。
【０１４１】
＜低屈折率層用塗布液１１の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、エチレングリコールブチルエーテルの濃度が１質量％となるように、エチレングリコールブチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液１１を調製した。
【０１４２】
＜低屈折率層用塗布液１２の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、プロピレングリコールメチルエーテルの濃度が１質量％となるように、プロピレングリコールメチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液１２を調製した。
【０１４３】
＜低屈折率層用塗布液１３の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテルの濃度が１質量％となるように、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液１３を調製した。
【０１４４】
＜低屈折率層用塗布液１４〜１６の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、それぞれ、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が１質量％（低屈折率層用塗布液１４）、０．５質量％（低屈折率層用塗布液１５）および２質量％（低屈折率層用塗布液１６）となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液１４〜１６を調製した。
【０１４５】
＜低屈折率層用塗布液１７の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、エタノールの濃度が１０質量％となるように、１−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液１７を調製した。
【０１４６】
＜低屈折率層用塗布液１８の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、２−プロパノールの濃度が１０質量％となるように、２−プロパノールを添加し、低屈折率層用塗布液１８を調製した。
【０１４７】
＜低屈折率層用塗布液１９の作製＞
上記で調製した低屈折率層用塗布液１に対して、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が１０質量％となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、低屈折率層用塗布液１９を調製した。
【０１４８】
＜高屈折率層塗布液１の作製＞
（シリカ変性酸化チタン粒子の分散液の調製）
シリカ変性酸化チタン粒子の分散液は、以下のように調製した。
【０１４９】
すなわち、硫酸チタン水溶液を公知の方法により熱加水分解して、酸化チタン水和物を得た。得られた酸化チタン水和物を水に懸濁させて、酸化チタン水和物の水性懸濁液（ＴｉＯ２濃度：１００ｇ／Ｌ）１０Ｌを得た。これに、水酸化ナトリウム水溶液（濃度１０ｍｏｌ／Ｌ）３０Ｌを撹拌下で添加し、９０℃に昇温して、５時間熟成した。得られた溶液を塩酸で中和し、濾過、水洗することで、塩基処理チタン化合物を得た。
【０１５０】
次に、塩基処理チタン化合物をＴｉＯ２濃度２０ｇ／Ｌになるよう純水に懸濁させて撹拌した。撹拌下、ＴｉＯ２量に対し０．４ｍｏｌ％の量のクエン酸を添加した。９５℃まで昇温し、濃塩酸を塩酸濃度が３０ｇ／Ｌとなるように加え、液温を維持して３時間撹拌した。ここで、得られた混合液のｐＨ及びゼータ電位を測定したところ、２５℃におけるｐＨは１．４、ゼータ電位は＋４０ｍＶであった。また、ゼータサイザーナノ（マルバーン社製）により粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は２０ｎｍ、単分散度は１６％であった。
【０１５１】
上記したようにして調製されたルチル型酸化チタン粒子を含む２０質量％の酸化チタンゾル水系分散液１ｋｇに純水１ｋｇを添加して、１０質量％の酸化チタンゾル水系分散液を調製した。
【０１５２】
上記１０質量％の酸化チタンゾル水系分散液の０．５ｋｇに、純水２ｋｇを加えた後、９０℃に加熱した。その後、ＳｉＯ２濃度が２．０質量％のケイ酸水溶液１．３ｋｇを徐々に添加した。得られた分散液をオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、さらに濃縮することで、ＳｉＯ２で被覆されたルチル型構造を有する酸化チタンを含む、固形分濃度が２０質量％のＳｉＯ２を表面に付着させた二酸化チタンゾル（以下、シリカ変性酸化チタン粒子）（体積平均粒径：３５ｎｍ）の分散液（ゾル水分散液）を得た。
【０１５３】
（塗布液の調製）
上記調製したシリカ変性酸化チタン粒子のゾル水分散液に、下記構成材料を４５℃で順次添加し、最後に純水で１０００部に仕上げ、高屈折率層用塗布液１を調製した。
【０１５４】
【化３】
2016118632.tif 000004
【０１５５】
＜高屈折率層用塗布液２の作製＞
上記で調製した高屈折率層用塗布液１に対して、エタノールの濃度が２質量％となるように、エタノールを添加し、高屈折率層用塗布液２を調製した。
【０１５６】
＜高屈折率層用塗布液３の作製＞
上記で調製した高屈折率層用塗布液１に対して、エチレングリコールブチルエーテルの濃度が１質量％となるように、エチレングリコールブチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液３を調製した。
【０１５７】
＜高屈折率層用塗布液４の作製＞
上記で調製した高屈折率層用塗布液１に対して、プロピレングリコールメチルエーテルの濃度が１質量％となるように、プロピレングリコールメチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液４を調製した。
【０１５８】
＜高屈折率層用塗布液５の作製＞
上記で調製した高屈折率層用塗布液１に対して、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテルの濃度が１質量％となるように、ジプロピレングリコールｎ−プロピルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液５を調製した。
【０１５９】
＜高屈折率層用塗布液６、７の作製＞
上記で調製した高屈折率層用塗布液１に対して、それぞれ、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が１質量％（高屈折率層用塗布液６）および２質量％（高屈折率層用塗布液７）となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液６、７を調製した。
【０１６０】
＜高屈折率層用塗布液８の作製＞
上記で調製した高屈折率層用塗布液１に対して、プロピレングリコールブチルエーテルの濃度が１０質量％となるように、プロピレングリコールブチルエーテルを添加し、高屈折率層用塗布液８を調製した。
【０１６１】
（実施例１）
＜透明基材の準備＞
透明基材として、ポリエチレンテレフタレートフィルム（Ａ４３００、両面易接着層、厚さ：５０μｍ、長さ２００ｍ×幅２１０ｍｍ、東洋紡績株式会社製、以下、「ＰＥＴフィルム」とも略記する）を準備した。
【０１６２】
＜基材への光学反射層の形成＞
１５層重層塗布可能なスライドホッパー型湿式塗布装置を用い、上記で調製した低屈折率層用塗布液２、低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１を４０℃に保温しながら、前記透明基材上に、塗布速度（支持体搬送方向）１００ｍ／ｍｉｎで、１５層の重層塗布を行った。各屈折率層用塗布液を塗布した直後、５℃の冷風を吹き付けてセットした。このとき、表面を指で触れても指に何もつかなくなるまでの時間（セット時間）は１分であった。セット完了後、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、１５層からなる光学反射層を基材上に形成した（積層体１）。この際、最下層および最上層は低屈折率層とし、それ以外は低屈折率層および高屈折率層がそれぞれ交互に積層されるように設定した。また、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液２を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液１を使用した。塗布量については、乾燥時の膜厚が低屈折率層は各層１５０ｎｍ、高屈折率層は各層１３０ｎｍになるように調節した。なお、前記膜厚は、製造した積層体（基材および光学反射層）を切断し、その切断面を電子顕微鏡により観察することで確認した。この際、２つの層間の界面を明確に観測することができない場合には、ＸＰＳ表面分析装置により得た層中に含まれるＴｉＯ２の厚さ方向のＸＰＳプロファイルにより界面を決定した。
【０１６３】
上記低屈折率層用塗布液１及び高屈折率層用塗布液１の塗布時の、塗布先頭（最下層）の着液性及び塗布・乾燥後の塗膜全体としてのムラ（塗布ムラ）について、以下の評価基準に従って評価した結果を下記表２に示す。なお、下記表２において、「着液性」および「塗布ムラ」は、下記のように評価した。
【０１６４】
【化４】
2016118632.tif 000005
【０１６５】
【化５】
2016118632.tif 000006
【０１６６】
＜光学反射層を形成した基材への粘着層形成＞
（粘着層形成用塗布液１の調製）
ヒドロキシ基を有するアクリル樹脂１００質量部、ＭＫＣメチルシリケートＭＳ−５６（三菱化学社製テトラメチルシリケート部分加水分解物縮合物、ｎの平均値＝１０）５０質量部、ジブチルスズラウレート１質量部、キシレン７００質量部、イソプロピルアルコール１５０質量部を混合、攪拌して、固形分１０質量％の樹脂混合物を調製した。
【０１６７】
得られた樹脂混合物に、チヌビン４７７（ＢＡＳＦジャパン社製の紫外線吸収剤）２．０質量部を混合して、粘着層形成用塗布液１を調製した。
【０１６８】
上記調製した粘着層形成用塗布液１を、ワイヤーバーにて、上記にて形成された光学反射層上に乾燥膜厚が８μｍになるように塗工し、８０℃で２分間、乾燥して、粘着層を形成した。この粘着層表面にセパレーターフィルムとして２５μｍ厚のポリエステルフィルム（セラピール、東洋メタライジング社製）を貼合機により貼合した。このようにして光学制御フィルム１を作製した。
【０１６９】
＜光学制御体の作製＞
上記で作製した光学制御フィルム１を、幅１０ｃｍ、長さ１０ｃｍに断裁した後、粘着層側を厚さ３ｍｍの市販の青板ガラスに、ガラス板面に水を付与し、水貼り法により貼り合わせて、サンプルを作製した。このサンプルを、直径が１５．２ｃｍ（６インチ）、幅が１００ｍｍのロール上に、厚さ６ｍｍのゴムで被覆した鋼ローラーの自重のみが窓貼り用フィルム面にかかるように、ローラーでフィルムとガラスを圧着して、光学制御体１を作製した。
【０１７０】
上記のようにして作製された光学制御フィルム１または光学制御体１について、以下方法によって、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０１７１】
＜可視光透過率および近赤外反射率の測定＞
光学制御体１について、分光光度計（積分球使用、日立製作所社製、Ｕ−４０００型）を用い、可視光透過率として、３８０ｎｍ〜７５０ｎｍの領域における平均透過率を、近赤外反射率として、８００〜１３００ｎｍにおける反射率を、それぞれ測定した。
【０１７２】
〈ヘイズ〉
光学制御フィルム１  １０枚について、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００型、日本電色工業社製）を用いてヘイズを測定し、その平均値を算出した。なお、ヘイズメーターの光源は、５Ｖ９Ｗのハロゲン球とし、受光部は、シリコンフォトセル（比視感度フィルター付き）を使用した。また、ヘイズの測定は、２３℃で５５％ＲＨの条件下にて行った。
【０１７３】
＜耐候性（可視光透過率および近赤外反射率）の評価＞
光学制御フィルム１に、スーパーキセノンウェザーメーター（スガ試験機  ＳＸ７５）を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２、降雨１８分／４０分のサイクル条件で、３００時間照射を行い、耐候試験を行った。上記耐候試験後、上記＜可視光透過率および近赤外反射率の測定＞と同様にして、可視光透過率および近赤外反射率を測定した。なお、下記表２において、上記結果を、耐候試験後の可視光透過率および近赤外反射率として示す。
【０１７４】
＜耐候性（ひび割れ）の評価＞
光学制御体１に、スーパーキセノンウェザーメーター（スガ試験機  ＳＸ７５）を用いて、放射強度１８０Ｗ／ｍ２、降雨１８分／４０分のサイクル条件で、３００時間照射を行い、耐候試験を行った。上記耐候試験後の光学制御体の光学反射層について膜割れの状態を５倍ルーぺで目視観察し、以下の評価基準に従って評価した。なお、「Ａ」、「Ｂ」および「Ｃ」が実用可能である。なお、下記表２において、上記結果を、耐候試験後のひび割れとして示す。
【０１７５】
【化６】
2016118632.tif 000007
【０１７６】
（実施例２〜１４）
実施例１において、低屈折率層用塗布液２の代わりに、低屈折率層用塗布液３〜１５をそれぞれ最下層の低屈折率層の形成に使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２〜１４）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０１７７】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２〜１４をそれぞれ使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２〜１４を作製した。
【０１７８】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２〜１４をそれぞれ使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２〜１４を作製した。
【０１７９】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２〜１４または光学制御体２〜１４について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０１８０】
（実施例１５）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液４を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液４を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液２を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体１５）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０１８１】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体１５を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム１５を作製した。
【０１８２】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム１５を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体１５を作製した。
【０１８３】
上記したようにして作製された光学制御フィルム１５または光学制御体１５について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０１８４】
（実施例１６）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１４を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液４を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液２を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体１６）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０１８５】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体１６を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム１６を作製した。
【０１８６】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム１６を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体１６を作製した。
【０１８７】
上記したようにして作製された光学制御フィルム１６または光学制御体１６について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０１８８】
（実施例１７）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１１を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液３を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体１７）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０１８９】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体１７を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム１７を作製した。
【０１９０】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム１７を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体１７を作製した。
【０１９１】
上記したようにして作製された光学制御フィルム１７または光学制御体１７について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０１９２】
（実施例１８）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１２を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液４を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体１８）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０１９３】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体１８を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム１８を作製した。
【０１９４】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム１８を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体１８を作製した。
【０１９５】
上記したようにして作製された光学制御フィルム１８または光学制御体１８について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０１９６】
（実施例１９）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１３を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液５を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体１９）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０１９７】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体１９を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム１９を作製した。
【０１９８】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム１９を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体１９を作製した。
【０１９９】
上記したようにして作製された光学制御フィルム１９または光学制御体１９について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２００】
（実施例２０）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１４を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液６を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２０）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２０１】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２０を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２０を作製した。
【０２０２】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２０を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２０を作製した。
【０２０３】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２０または光学制御体２０について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２０４】
（実施例２１）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液７を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２１）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２０５】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２１を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２１を作製した。
【０２０６】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２１を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２１を作製した。
【０２０７】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２１または光学制御体２１について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２０８】
（実施例２２）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１６を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液１を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２２）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２０９】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２２を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２２を作製した。
【０２１０】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２２を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２２を作製した。
【０２１１】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２２または光学制御体２２について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２１２】
（比較例１）
実施例１において、低屈折率層用塗布液２の代わりに、低屈折率層用塗布液１を最下層の低屈折率層の形成に使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２３）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２１３】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２３を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２３を作製した。
【０２１４】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２３を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２３を作製した。
【０２１５】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２３または光学制御体２３について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２１６】
（比較例２）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液２を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２４）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２１７】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２４を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２４を作製した。
【０２１８】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２４を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２４を作製した。
【０２１９】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２４または光学制御体２４について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２２０】
（比較例３）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１を、およびそれ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液４を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２５）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２２１】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２５を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２５を作製した。
【０２２２】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２５を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２５を作製した。
【０２２３】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２５または光学制御体２５について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２２４】
（比較例４）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１４を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液６を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２６）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２２５】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２６を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２６を作製した。
【０２２６】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２６を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２６を作製した。
【０２２７】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２６または光学制御体２６について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２２８】
（比較例５）
実施例１において、低屈折率層用塗布液２の代わりに、低屈折率層用塗布液１７を最下層の低屈折率層の形成に使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２７）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。
【０２２９】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２７を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２７を作製した。
【０２３０】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２７を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２７を作製した。
【０２３１】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２７または光学制御体２７について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２３２】
（比較例６）
実施例１において、最下層の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１８を、それ以外の低屈折率層の形成に低屈折率層用塗布液１９を、および高屈折率層の形成に高屈折率層用塗布液８を、それぞれ代わりに使用した以外は、実施例１と同様にして、光学反射層を基材上に形成した（積層体２８）。また、この際の着液性および塗布ムラを、実施例１と同様にして評価し、その結果を表２に示す。なお、本例では、塗膜を乾燥・巻き取り後にブロッキングが多く認められた。
【０２３３】
次に、実施例１において、積層体１の代わりに、上記で作製した積層体２８を使用する以外は、同様にして、光学制御フィルム２８を作製した。
【０２３４】
さらに、実施例１において、光学制御フィルム１の代わりに、上記で作製した光学制御フィルム２８を使用する以外は、実施例１と同様にして、光学制御体２８を作製した。
【０２３５】
上記したようにして作製された光学制御フィルム２８または光学制御体２８について、実施例１と同様にして、可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、耐候試験後の可視光透過率（％）および近赤外反射率（％）、ならびに耐候試験後のひび割れを評価した。結果を下記表２に示す。
【０２３６】
上記実施例１〜２２および比較例１〜６で低屈折率層及び高屈折率層の形成に使用した親水性有機溶剤の種類および量を下記表１に要約する。
【０２３７】
【表１】
2016118632.tif 000008
【０２３８】
【表２】
2016118632.tif 000009
【０２３９】
上記表１から、本発明の光学制御フィルムは、最下層を特定濃度の親水性有機溶剤を含む塗布液を用いて形成することによって、塗布液の着液性を向上し、塗布ムラの発生を抑制できることが分かる。また、このようにして得られる光学制御フィルム及び当該光学制御フィルムを備えた光学制御体は、高い熱線遮蔽性は維持しつつ、耐候性に優れることが分かる。