(57)【要約】【課題】タクトタイムの短縮化により処理効率或いは生産性の向上を図ることができ、且つ、基板移動方向の省スペース化を図る。【解決手段】偏光光を照射領域２Ｓに照射する光源ユニット２と、基板支持部３０を備えるステージ３Ａ，３Ｂと、２ステージ方式でステージ２Ａ，２Ｂを移動させるステージ移動機構４とを備え、ステージ３Ａ（３Ｂ）は、基板搬入・搬出位置Ｐ１（Ｐ２）にて、設定照射面高さＨに沿って基板Ｗが移動しているステージ３Ｂ（３Ａ）の移動に干渉せず、ステージ３Ｂ（３Ａ）の基板支持部１０と平面的に重なる位置に退避する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光光を設定された照射領域に照射する光源ユニットと、
基板を支持する基板支持部を備える第１及び第２のステージと、
第１のステージを、前記照射領域の一軸方向一方側に設けた第１の基板搬入・搬出位置から前記照射領域を通過してその他方側に移動させた後、前記第１の基板搬入・搬出位置に戻す動作を行い、第２のステージを、前記照射領域の一軸方向他方側に設けた第２の基板搬入・搬出位置から前記照射領域を通過してその一方側に移動させた後、前記第２の基板搬入・搬出位置に戻す動作を行うステージ移動機構とを備え、
前記第１のステージは、前記第１の基板搬入・搬出位置にて、設定照射面高さに沿って基板が移動している前記第２のステージの移動に干渉せず、前記第２のステージの基板支持部と平面的に重なる位置に退避し、
前記第２のステージは、前記第２の基板搬入・搬出位置にて、前記設定照射面高さに沿って基板が移動している前記第１のステージの移動に干渉せず、前記第１のステージの基板支持部と平面的に重なる位置に退避することを特徴とする偏光光照射装置。
【請求項２】
前記ステージは、それぞれの前記基板搬入・搬出位置で、前記設定照射面高さの上方又は下方に前記基板支持部を退避させることを特徴とする請求項１記載の偏光光照射装置。
【請求項３】
前記ステージは、前記基板支持部を前記ステージ移動機構に連結する連結部を備え、該連結部が前記基板支持部を上昇又は下降させる昇降手段を備えることを特徴とする請求項２記載の偏光光照射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光光照射装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶パネルなどの基板に配向膜を形成する処理技術として、基板に感光性樹脂の膜を形成し、その膜に偏光光を照射する光配向処理が知られている。この光配向処理は、基板上の膜に対して偏光光を均一に照射することが必要になるが、基板の大面積化に対応するために、基板の幅方向全体に偏光光を照射できる一方向に長い光源ユニットを用い、光源ユニット又は基板を光源ユニットの長手方向に交差する方向に移動させながら基板全体を走査露光する処理装置が使用されている。
【０００３】
この処理装置は、基板側を移動させる場合には、基板を載置するステージとステージを移動させるステージ移動機構を備えている。このような処理装置において、一つのステージで処理を行うと、光源ユニットのステージ移動方向両側で基板の搬入と搬出を交互に行う必要があり、また、ステージへの基板の搬入・搬出時間が偏光光の照射時間に対して追加されることになるので、効率的な処理を行うことができない問題がある。
【０００４】
これに対して、このような走査露光方式では、ステージを２つ設けて一方のステージへの基板の搬入・搬出時間中に、他方のステージを移動させて露光処理を行う２ステージ方式が一般に知られている（例えば、下記特許文献１参照）。
【０００５】
この従来技術は、図１に示すように、光源ユニットＥの長手方向（Ｙ軸方向）に直交する方向（Ｘ軸方向）をステージＡ，Ｂの移動方向とし、２つのステージＡ，Ｂにそれぞれ基板ａ，ｂを載置して処理を行うものであり、ステージＡは、光源ユニットＥの照射領域Ｅｓに対して、Ｘ軸方向に沿った一方側で照射領域Ｅｓから距離Ｘ１だけ離れた位置にステージＡの停止位置（基板の搬入・搬出位置）を設定し、Ｘ軸方向に沿った他方側で照射領域Ｅｓから距離Ｘ１だけ離れた位置にステージＢの停止位置（基板の搬入・搬出位置）を設定している。
【０００６】
そして、基板ａを載せたステージＡは、照射領域Ｅｓの一方側にＸ軸方向の距離Ｘ１を確保したスペースＳａを介して照射領域Ｅｓを通過した後、照射領域Ｅｓの他方側にＸ軸方向の距離Ｘ１を確保したスペースＳｂに移行し、その後戻りながら再び照射領域Ｅｓを通過してスペースＳａを介して基の停止位置に戻る動作を行う。これに対して、基板ｂを載せたステージＢは、ステージＡがスペースＳｂから戻り始めるタイミングに合わせて移動を開始し、照射領域Ｅｓの他方側にＸ軸方向の距離Ｘ１を確保したスペースＳｂを介して照射領域Ｅｓを通過した後、前述したスペースＳａに移行し、その後戻りながら再び照射領域Ｅｓを通過して、スペースＳｂを介して基の停止位置に戻る動作を行う。
【０００７】
このような動作を行う従来技術は、ステージＡが停止位置で基板ａの搬出と搬入を行う時間に、ステージＢが照射領域Ｅｓを通過してスペースＳａまで移動し、ステージＢが戻り始めるタイミングで未処理の基板ａを載せたステージＡを移動させることができ、同様に、ステージＢが停止位置で基板ｂの搬出と搬入を行う時間に、ステージＡが照射領域Ｅｓを通過してスペースＳｂまで移動し、ステージＡが戻り始めるタイミングで未処理の基板ｂを載せたステージＢを移動させることができる。これにより、基板の搬入と搬出に要する時間を偏光光の照射処理時間内に収めることができるので、タクトタイムの短縮化が可能になる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第５３４４１０５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
このような従来技術は、前述したようにタクトタイムの短縮化が可能になるが、前述した動作を実行するためには、光源ユニットＥの照射領域ＥｓのＸ軸方向両側にスペースＳａ，Ｓｂを確保することが必要になる。このスペースＳａ，ＳｂのＸ軸方向に沿った距離Ｘ１は、各ステージに載った基板が照射領域を通過する分以上の距離に設定する必要があるので、装置全体のＸ軸方向に沿った長さが長くなる。また、一方のステージが停止位置にあり、他方のステージがそれに隣接する位置にある状態では、照射領域の逆側のスペースが全くの空きスペースになるので、スペース効率の悪い装置とならざるを得ない。
【００１０】
更には、スペースＳａ，Ｓｂの存在で、ステージＡ，Ｂの往復移動距離自体が長くなるので、ステージ移動機構において長尺のステージ移動軸が必要になり、精度の高いステージの移動が確保し難くなる問題がある。
【００１１】
本発明は、このような問題に対処することを課題の一例とするものである。すなわち、基板に偏光光を照射して、光配向処理などを行う偏光光照射装置において、タクトタイムの短縮化により処理効率或いは生産性の向上を図ること、基板移動方向の省スペース化を図ること、ステージ移動機構のステージ軸を短くすることで精度の高いステージの移動を確保し易くすること、などが本発明の目的である。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
このような目的を達成するために、本発明による偏光光照射装置は、以下の構成を具備するものである。
偏光光を設定された照射領域に照射する光源ユニットと、基板を支持する基板支持部を備える第１及び第２のステージと、第１のステージを、前記照射領域の一軸方向一方側に設けた第１の基板搬入・搬出位置から前記照射領域を通過してその他方側に移動させた後、前記第１の基板搬入・搬出位置に戻す動作を行い、第２のステージを、前記照射領域の一軸方向他方側に設けた第２の基板搬入・搬出位置から前記照射領域を通過してその一方側に移動させた後、前記第２の基板搬入・搬出位置に戻す動作を行うステージ移動機構とを備え、前記第１のステージは、前記第１の基板搬入・搬出位置にて、設定照射面高さに沿って基板が移動している前記第２のステージの移動に干渉せず、前記第２のステージの基板支持部と平面的に重なる位置に退避し、前記第２のステージは、前記第２の基板搬入・搬出位置にて、前記設定照射面高さに沿って基板が移動している前記第１のステージの移動に干渉せず、前記第１のステージの基板支持部と平面的に重なる位置に退避することを特徴とする偏光光照射装置。
【発明の効果】
【００１３】
このような特徴を有する本発明は、タクトタイムの短縮化により処理効率或いは生産性の向上を図ることができ、且つ、基板移動方向の省スペース化を図ることができる。また、ステージの移動距離を短くして、ステージ移動機構のステージ軸を短くすることで、精度の高いステージの移動を確保し易くなる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】従来技術の説明図である。
【図２】本発明の実施形態に係る偏光光照射装置を示す説明図（（ａ）が平面図、（ｂ）が側面図）である。
【図３】図２に示した実施形態の動作説明図である。
【図４】本発明の他の実施形態に係る偏光光照射装置を示す説明図（（ａ）が平面図、（ｂ）が側面図）である。
【図５】本発明の他の実施形態に係る偏光光照射装置を示す説明図（動作説明図）である。
【図６】本発明の実施形態に係る偏光光照射装置の光源ユニットの構成例を示した説明図（（ａ）全体構成図、（ｂ）内部構成図）である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。図２に示すように、本発明の実施形態に係る偏光光照射装置１は、光源ユニット２と、第１のステージ３Ａ及び第２のステージ３Ｂ（以下、ステージ３Ａ，ステージ３Ｂとする。）と、ステージ移動機構４を備えている。以下の図において、ステージ移動機構４によるステージ３Ａ，３Ｂの移動方向をＸ軸方向、水平面内でＸ軸と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸及びＹ軸と直交する高さ方向をＺ軸方向とする。
【００１６】
光源ユニット２は、後述するように偏光子を介して光源の光を出射するものであり、ステージ移動機構４のベース高さに対して設定された照射面高さ（設定照射面高さ）Ｈにおける平面的な照射領域２Ｓに、偏光軸が特定された偏光光を照射する。この光源ユニット２は、Ｙ軸方向に沿って延設されており、ステージ３Ａ，３Ｂに支持される基板ＷのＹ軸方向に照射領域２Ｓの照射幅で均一な偏光光を照射する。
【００１７】
ステージ３Ａ，３Ｂは、基板Ｗを支持する基板支持部３０と基板支持部３０をステージ移動機構４に連結する連結部３１を備える。基板支持部３０は、基板ＷをＸ−Ｙ平面内で支持できるものであればよく、図示のような台状のものには限らない。例えば、基板Ｗを複数箇所で吸着して支持する基板支持部３０などを採用することができる。基板Ｗは、配向膜が形成される液晶基板の場合には、透明基板であってその表面に配向膜となる感光性の配向材料（高分子材料）が成膜されている。
【００１８】
ステージ３Ａ，３Ｂの連結部３１は、基板支持部３０とステージ移動機構４とを連結するだけでなく、基板支持部３０を上昇又は下降させる昇降手段３１Ａと基板支持部３０をＺ軸周りに回転させる回転手段３１Ｂを備えている。これによって、ステージ３Ａ，３Ｂは、基板Ｗの支持高さを上下に調整することができると共に、図２（ａ）の破線で示すように、偏光軸（Ｘ軸）に対する基板の向きを適宜設定することができる。また、昇降手段３１Ａは、基板Ｗの支持高さの調整機能だけでなく、後述する基板支持部３０の退避動作を行う機能を有する。
【００１９】
ステージ移動機構４は、基本的には、ステージ３Ａ，３ＢをＸ軸方向に沿って移動し、基板支持部３０に支持された基板Ｗが照射領域２Ｓを通過することで、基板Ｗを走査露光するものである。このステージ移動機構４は、図示省略したステージ軸を回転駆動する機構などにより、ステージ３Ａ，３ＢをＸ軸方向に沿って個別に移動させる。
【００２０】
また、ステージ移動機構４は、Ｘ軸方向に沿ったステージ３Ａ，３Ｂの動作制御を行う。この際、ステージ３Ａの動作始点として、照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に第１の基板搬入・搬出位置Ｐ１（以下、基板搬入・搬出位置Ｐ１）が設定され、ステージ３Ｂの動作始点として、照射領域２ＳのＸ軸方向他方側に第２の基板搬入・搬出位置Ｐ２（以下、基板搬入・搬出位置Ｐ２）が設定されている。基板搬入・搬出位置Ｐ１，Ｐ２では、基板搬入・搬出装置５によって、基板支持部３０上への基板Ｗの搬入と基板支持部３０上からの基板Ｗの搬出が行われる。
【００２１】
ステージ移動機構４の動作を具体的に示す。ステージ３Ａに対しては、照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に設けた基板搬入・搬出位置Ｐ１から照射領域２Ｓを通過してその他方側に移動した後、基板搬入・搬出位置Ｐ１に戻す動作を行う。また、ステージ３Ｂに対しては、照射領域２ＳのＸ軸方向他方側に設けた基板搬入・搬出位置Ｐ２から照射領域２Ｓを通過してその一方側に移動した後、基板搬入・搬出位置Ｐ２に戻す動作を行う。これによって、一つの基板Ｗに対しては、照射領域２Ｓを２回通過することで偏光光の照射処理が行われる。
【００２２】
ここで、本発明の実施形態に係る偏光光照射装置１は、基板搬入・搬出位置Ｐ１と基板搬入・搬出位置Ｐ２を、前述した従来技術と比較して照射領域２Ｓ側に近づけて設定している。これによって、前述した従来技術と比較して、装置全体のＸ軸方向に沿った長さを短くすると共に、基板搬入・搬出位置Ｐ１（Ｐ２）からスタートして照射領域２Ｓを通過して再び基板搬入・搬出位置Ｐ１（Ｐ２）に戻る往復動作の移動距離を短くしている。
【００２３】
このような基板搬入・搬出位置Ｐ１，Ｐ２の設定を可能にするために、本発明の実施形態に係る偏光光照射装置１は、ステージ３Ａが、基板搬入・搬出位置Ｐ１にて、設定照射面高さＨに沿って基板Ｗが移動しているステージ３Ｂの移動に干渉せず、ステージ３Ｂの基板支持部３０と平面的に重なる位置に退避する動作を行い、ステージ３Ｂが、基板搬入・搬出位置Ｐ２にて、設定照射面高さＨに沿って基板Ｗが移動しているステージ３Ａの移動に干渉せず、ステージ３Ａの基板支持部３０と平面的に重なる位置に退避する動作を行う。図２に示した偏光光照射装置１は、ステージ３Ａ，３Ｂが、それぞれ基板搬入・搬出位置Ｐ１，Ｐ２で、設定照射面高さＨの上方に基板支持部３０を退避させる動作を行っている。
【００２４】
図３は、図２に示した偏光光照射装置１の動作例を示している。同図（ａ）はスタート時の動作タイミングを示している。スタート時には、ステージ３Ａは、照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に設定された基板搬出・搬入位置Ｐ１（以下、「Ｐ１位置」という）にあり、ステージ３Ｂは、Ｘ軸方向他方側に設定された基板搬出・搬入位置Ｐ２（以下、「Ｐ２位置」という）にある。ステージ３Ａ，３Ｂは共に、設定照射面高さＨ（以下、「高さＨ」という）の上方に設定された退避位置に基板支持部３０を退避させており、一方のステージ３Ａの基板支持部３０に基板Ｗ１が搬入される。
【００２５】
その後、ステージ３Ａは、基板支持部３０を下降させ、基板Ｗ１の支持高さを高さＨに合わせ、基板Ｗが高さＨに沿って移動するように、照射領域２Ｓに向けて移動する（図示（ｂ）参照）。基板支持部３０の下降とステージ３Ａの移動は同時に行うことができるが、ステージ３Ａに支持された基板Ｗ１が照射領域２Ｓに入る前に、基板Ｗ１の支持高さを高さＨに合わせる必要がある。
【００２６】
ステージ３Ａは、基板Ｗ１が照射領域２Ｓを完全に通過するまで、照射領域２ＳのＸ軸方向他方側に向けて移動する。この際、Ｐ２位置にあるステージ３Ｂは基板支持部３０を高さＨの上方に退避させており、ステージ３Ａの移動にステージ３Ｂが干渉することはない。ステージ３Ａに支持された基板Ｗ１が照射領域２Ｓを完全に通過するまでの間に、退避位置にあるステージ３Ｂの基板支持部３０に別の基板Ｗ２が搬入される（図示（ｃ）参照）。この動作タイミングでは、ステージ３Ａの基板支持部３０とステージ３Ｂの基板支持部３０が平面的に重なる位置にある。
【００２７】
その後、ステージ３Ａは、Ｐ１位置に戻るように移動することで、ステージ３Ａに支持された基板Ｗ１は再び照射領域２Ｓを通過する。この際、ステージ３Ａの戻り動作に合わせて、ステージ３Ｂが照射領域２Ｓに向けて移動する。ステージ３Ｂは、ステージ３Ａに支持された基板Ｗ１が全て照射領域２Ｓに入り、ステージ３Ｂに支持された基板Ｗ２が照射領域２Ｓに到達する前に、基板支持部３０を下降させて基板Ｗ２の支持高さを高さＨに合わせる。
【００２８】
その後、ステージ３Ａとステージ３Ｂは、共に照射領域２Ｓを通って、照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に向けて移動する（図示（ｄ）参照）。ステージ３Ａは、Ｐ１位置に達するかその前段階で、基板支持部３０を上昇させて、基板支持部３０を高さＨの上方の待避位置に退避させる。その間、ステージ３Ｂは、照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に向けて移動しながら、基板Ｗ２を高さＨに沿って移動させて基板Ｗ２に偏光光を照射させる。Ｐ１位置にステージ３Ａが到達した後、待避位置にある基板支持部３０からは処理済みの基板Ｗ１が搬出される（図示（ｅ）参照）。
【００２９】
Ｐ１位置にあるステージ３Ａの基板支持部３０には、新たな基板Ｗ３が搬入される。Ｐ１位置にてステージ３Ａの基板支持部３０に対する搬出・搬入が行われている間に、ステージ３Ｂは、支持する基板Ｗ２を完全に照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に移動させる。その間、ステージ３Ａの基板支持部３０は高さＨの上方の待避位置にあるので、ステージ３Ｂの移動に対してステージ３Ａが干渉することはない。また、ステージ３Ｂに支持された基板Ｗ２が完全に照射領域２ＳのＸ軸方向一方側に移動した状態では、ステージ３Ａの基板支持部３０とステージ３Ｂの基板支持部３０は平面的に重なる位置にある。
【００３０】
その後、ステージ３Ｂは、Ｐ２位置に戻るように移動することで、ステージ３Ｂに支持された基板Ｗ２は再び照射領域２Ｓを通過する。この際、ステージ３Ｂの戻り動作に合わせて、ステージ３Ａが照射領域２Ｓに向けて移動する。ステージ３Ａは、ステージ３Ｂに支持された基板Ｗ２が全て照射領域２Ｓに入り、ステージ３Ａに支持された基板Ｗ３が照射領域２Ｓに到達する前に、基板支持部３０を下降させて基板Ｗ３の支持高さを高さＨに合わせる（図示（ｆ），（ｇ）参照）。その後は、図示（ｃ）〜（ｇ）の動作が繰り返される。
【００３１】
図４は、本発明の他の実施形態を示している。前述した説明と共通する部分は同一符号を付して重複説明を省略する。この実施形態に係る偏光光照射装置１Ａは、Ｐ１位置，Ｐ２位置にあるステージ３Ａ，３Ｂが、高さＨの下方に基板支持部３０を退避させる。また、この偏光光照射装置１Ａは、ステージ３Ａ，３Ｂの基板支持部３０がＸ軸方向に沿って凹んだ逃げ部３０ａを備えており、一方のステージ３Ａ（３Ｂ）の基板支持部３０における逃げ部３０ａに他方のステージ３Ｂ（３Ａ）の連結部３１が入り込むことができるようになっている。
【００３２】
このような偏光光照射装置１Ａによっても、基板支持部３０のＰ１位置，Ｐ２位置における待避位置を高さＨの下方側に変えて、図３（ａ）〜（ｇ）に示す動作と同様の動作を行うことができる。この際、Ｐ１位置（Ｐ２位置）にあるステージ３Ａ（３Ｂ）の基板支持部３０における逃げ部３０ａに、移動中のステージ３Ｂ（３Ａ）の連結部３１が入り込むことで、Ｐ１位置とＰ２位置を更に照射領域２Ｓに近づけることができる。
【００３３】
この際、ステージ３Ａ（３Ｂ）は、照射領域２Ｓに対する往復の移動で、支持する基板Ｗへの偏光光の照射処理が完了すると、直ちに基板支持部３０を下降させ、移動中のステージ３Ｂ（３Ａ）の連結部３１が逃げ部３０ａに入る前に、基板支持部３０上の処理済み基板を搬出することが必要になる。なお、このような逃げ部３０ａを設けることなく、図２及び図３に示した偏光光照射装置１と同様のＰ１位置とＰ２位置に設定して、ステージ３Ａ，３Ｂの基板支持部３０を高さＨの下側に退避させることもできる。
【００３４】
図５は、本発明の他の実施形態を示している。前述した説明と共通する部分は同一符号を付して重複説明を省略する。この実施形態に係る偏光光照射装置１Ｂは、Ｐ１位置，Ｐ２位置にあるステージ３Ａ，３Ｂが、高さＨの上方又は下方に基板支持部３０を退避させるように、昇降自在な連結部３１を備えている。そして、一方のステージ３Ａが門形状の連結部３１を備え、他方のステージ３Ｂがステージ３Ａにおける基板支持部３０の下側に入り込むことができるようになっている。
【００３５】
図５（ａ）〜（ｇ）は、このような偏光光照射装置１Ｂの動作例を示している。ここでの動作も図３（ａ）〜（ｇ）と基本的には同じになるが、Ｐ１位置，Ｐ２位置における基板支持部３０の待避位置が、ステージ３Ａは高さＨの上方側になり、ステージ３Ｂは高さＨの下方側になる。このような偏光光照射装置１Ｂによると、Ｐ１位置（Ｐ２位置）におけるステージ３Ａ（３Ｂ）の基板支持部３０とステージ３Ｂ（３Ａ）の基板支持部３０の平面的な重なり度合いをより大きくすることができ、Ｐ１位置とＰ２位置をより照射領域２Ｓに近づけることができる。
【００３６】
図６は、本発明の実施形態に係る偏光光照射装置１（１Ａ，１Ｂ）における光源ユニット２の構成例を示している。光源ユニット２は、Ｙ軸方向に沿って延設されるが、Ｙ軸方向に沿って長尺な光源を用いることができると共に、図示のように、Ｘ軸方向に長さを有する短尺の光源２０を用いて、この光源２０を備えるユニットを複数個Ｙ軸方向に並べて構成することもできる。この場合、各ユニットには、偏光子２１（必要に応じて、フィルタ２２）が配備され、偏光子２１の偏光軸が同方向になるように適宜の調整がなされる。偏光子２１としては、例えば、透明基板上に直線状の電気導体からなる微細な格子を設けたワイヤーグリッド偏光子などを用いることができる。ここでの電気導体としては、例えば、クロム、アルミニウム、酸化チタンなどを採用することができる。
【００３７】
以上説明したように、本発明の実施形態に係る偏光光照射装置１（１Ａ，１Ｂ）は、２ステージ方式の走査露光を行うことで高効率化（タクトタイムの短縮化）を図り、処理効率の改善や生産性の向上を図ることができ、更に、基板搬入・搬出位置Ｐ１，Ｐ２を偏光光の照射領域２Ｓ側に近づけることができるので、基板移動方向（Ｘ軸方向）の省スペース化を図ることができる。また、これによって、ステージ３Ａ，３Ｂの移動距離を短くすることができるので、ステージ移動機構４のステージ軸が短くなり、精度の高いステージ３Ａ，３Ｂの移動を確保し易くなる。
【００３８】
以上、本発明の実施の形態について図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこれらの実施の形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計の変更等があっても本発明に含まれる。また、上述の各実施の形態は、その目的及び構成等に特に矛盾や問題がない限り、互いの技術を流用して組み合わせることが可能である。
【符号の説明】
【００３９】
１，１Ａ，１Ｂ：偏光光照射装置，
２：光源ユニット，２Ｓ：照射領域，
２０：光源，２１：偏光子，２２：フィルター，
３Ａ：（第１の）ステージ，３Ｂ：（第２の）ステージ，
３０：基板支持部，３０ａ：逃げ部，
３１：連結部，３１Ａ：昇降手段，３１Ｂ：回転手段，
４：ステージ移動機構，５：基板搬入・搬出装置，
Ｐ１：第１の基板搬入・搬出位置，Ｐ２：第２の基板搬入・搬出位置，
Ｈ：設定照射面高さ，
Ｗ，Ｗ１，Ｗ２，Ｗ３：基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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