(57)【要約】【課題】鍋状容器内において理想的な含水率分布の被加熱物を得ることができる加熱調理器を提供すること。【解決手段】加熱調理器であって、被加熱物が収容される鍋状容器５と、鍋状容器５を加熱する加熱コイル３と、加熱コイル３を制御する制御手段１０と、鍋状容器５内における被加熱物の含水率を２箇所以上検出する第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂと、を備える構成とした。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物が収容される鍋状容器と、
前記鍋状容器を加熱する加熱手段と、
前記加熱手段を制御する制御手段と、
前記鍋状容器内における前記被加熱物の含水率を２箇所以上検出する含水率検出手段と、
を備えることを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
前記制御手段は、前記被加熱物の前記２箇所以上の含水率に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１に記載の加熱調理器。
【請求項３】
前記制御手段は、沸騰工程において、前記被加熱物の前記２箇所以上の含水率に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項２に記載の加熱調理器。
【請求項４】
前記制御手段は、前記沸騰工程の開始後、予め定められた時間が経過した場合に、前記被加熱物の前記２箇所以上の含水率に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項３に記載の加熱調理器。
【請求項５】
前記制御手段は、前記沸騰工程の開始後、前記鍋状容器の温度が予め定められた温度以上となった場合に、前記被加熱物の前記２箇所以上の含水率に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項３に記載の加熱調理器。
【請求項６】
前記制御手段は、むらし工程において、前記被加熱物の前記２箇所以上の含水率に基づいて前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項２に記載の加熱調理器。
【請求項７】
前記被加熱物の２箇所以上の含水率を１つの前記含水率検出手段で検出することを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項８】
前記被加熱物の２箇所以上の含水率を２つ以上の前記含水率検出手段で検出することを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項９】
前記含水率検出手段は、前記被加熱物の２箇所以上の含水率として、前記鍋状容器の底部に位置する前記被加熱物の含水率を２箇所以上検出することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項１０】
前記含水率検出手段は、前記被加熱物の２箇所以上の含水率として、前記鍋状容器の側部に位置する前記被加熱物の含水率を２箇所以上検出することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項１１】
前記含水率検出手段は、前記被加熱物の２箇所以上の含水率として、前記鍋状容器の下部に位置する前記被加熱物の第１含水率と、前記鍋状容器の上部に位置する前記被加熱物の第２含水率と、を検出することを特徴とする請求項１〜８の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項１２】
前記制御手段は、前記第２含水率と前記第１含水率との差が、予め定められた閾値以上となるように、前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１１に記載の加熱調理器。
【請求項１３】
前記制御手段は、前記第１含水率と前記第２含水率とがそれぞれ予め定められた目標値となるように、前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１１に記載の加熱調理器。
【請求項１４】
前記制御手段は、前記第２含水率と前記第１含水率との差が、前記予め定められた閾値以上となるように前記加熱手段を制御する前に、前記第２含水率が前記第１含水率より低い場合、前記第２含水率が前記第１含水率以上となるように前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１２に記載の加熱調理器。
【請求項１５】
前記制御手段は、前記第２含水率と前記第１含水率との差が、前記予め定められた閾値以上となるように前記加熱手段を制御する前に、前記第１含水率が予め定められた上限値よりも高い場合に、前記第１含水率が予め定められた上限値以下となるように前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１２または１４に記載の加熱調理器。
【請求項１６】
前記制御手段は、前記第１含水率が予め定められた下限値よりも低い場合、むらし工程に移行することを特徴とする請求項１１〜１５の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項１７】
前記制御手段は、前記鍋状容器内における前記被加熱物の量を判定するものであり、
前記制御手段は、前記判定した前記被加熱物の量と、前記２箇所以上の含水率とに基づいて、前記加熱手段を制御することを特徴とする請求項１〜１６の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項１８】
前記含水率検出手段は、絶縁体で被覆され、前記被加熱物に直に接する２つの電極を備え、前記２つの電極間の抵抗を測定することにより前記被加熱物の含水率を検出するものであることを特徴とする請求項１〜１７の何れか一項に記載の加熱調理器。
【請求項１９】
前記含水率検出手段は、赤外線センサーを備え、
前記赤外線センサーから赤外線を照射することにより前記被加熱物の含水率を検出することを特徴とする請求項１〜１７の何れか一項に記載の加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、米などの食品が収容された鍋状容器を加熱する加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、浸漬温度履歴や加水量等に影響されることなく適切な含水率の米飯を得るために、米の水分含有量を検出し、検出した水分含有量に応じて炊飯工程を制御する炊飯器が提案されている。例えば、特許文献１に記載される炊飯器では、米が収容される鍋状容器の底部に備えた電極間に高周波交流電圧を印加して、米の水分含有量を静電容量として直接的に検出する。そして、検出した水分含有量に応じて、加熱発熱量の補正および蒸気コントローラーの開動作の制御が行われる構成となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１１−１９７０１１号公報（請求項１参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ここで、鍋状容器内における米の水分含有量は均一ではない。すなわち、鍋状容器内の位置によって米の水分含有量は異なる。これに対し、特許文献１の炊飯器では、静電容量検出部が配置される付近の米の静電容量（すなわち水分含有量）のみが検出され、検出された水分含有量が最適値になるよう、加熱発熱量の補正が行われる。その結果、静電容量検出部から離れた場所に位置する米については、水分含有量が最適化されず、全体として好ましくない含水率分布の米飯が炊きあがり、食味の低下を招いてしまう。
【０００５】
本発明は上記のような課題を解決するためになされたものであり、鍋状容器内において理想的な含水率分布の被加熱物を得ることができる加熱調理器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明に係る加熱調理器は、被加熱物が収容される鍋状容器と、鍋状容器を加熱する加熱手段と、加熱手段を制御する制御手段と、鍋状容器内における被加熱物の含水率を２箇所以上検出する含水率検出手段と、を備える。
【発明の効果】
【０００７】
本発明の加熱調理器によれば、被加熱物の含水率を２箇所以上検出することにより、鍋状容器内の被加熱物の含水率分布に基づいて加熱手段を制御し、理想的な含水率分布の米飯を得ることができる。これにより、底面の水分過多を抑制して食味の向上を図ることができるとともに、見た目の美味しさを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の実施の形態１における炊飯器の概略構成を示す断面模式図である。
【図２】本発明の実施の形態１の炊飯工程における被加熱物温度および鍋状容器温度を示す図である。
【図３】本発明の実施の形態１における炊飯量判定工程の流れを示すフローチャートである。
【図４】本発明の実施の形態１における沸騰工程の流れを示すフローチャートである。
【図５】本発明の実施の形態２における沸騰工程の流れを示すフローチャートである。
【図６】（ａ）は本発明の実施の形態２の沸騰工程およびむらし工程における鍋底温度の推移を示す図であり、（ｂ）は沸騰工程およびむらし工程における米の状態を示す図である。
【図７】本発明の実施の形態３におけるむらし工程の流れを示すフローチャートである。
【図８】本発明の実施の形態４における含水率差補正制御の流れを示すフローチャートである。
【図９】本発明の実施の形態５における含水率ばらつき補正制御の流れを示すフローチャートである。
【図１０】変形例における含水率検出手段を備える鍋状容器の断面模式図である。
【図１１】鍋状容器における含水率検知可能領域と炊飯量判定工程の有無を示した３つの場合の図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の加熱調理器を、家庭用ＩＨ式炊飯器に適用した場合の実施の形態について、図面を参照して説明する。なお、この図面の形態は一例であり本発明を限定するものではない。また、以下の図面では各構成部材の大きさの関係が実際のものとは異なる場合がある。
【００１０】
実施の形態１.
図１は、本発明の実施の形態１における炊飯器１００の概略構成を示す断面模式図である。炊飯器１００は、被加熱物（本実施の形態では米２００および水２０１）が収容された鍋状容器５を加熱コイル３で加熱することで被加熱物を炊き上げるものである。図１に示すように、炊飯器１００は、例えば外観が有底筒状の本体１と、本体１に取り付けられ本体１の上部開口部を開閉する蓋体１２と、本体１に着脱自在に収容される鍋状容器５と、を備えている。
【００１１】
（本体１）
本体１は、容器カバー２と、加熱コイル３と、鍋底温度センサー４と、蓋体１２を開閉自在に支持するヒンジ部８と、時間計測手段９と、各部および各装置を駆動制御して炊飯工程を実行する制御手段１０とを備えている。
【００１２】
容器カバー２は、有底筒状に形成されていて、その内部に鍋状容器５が着脱自在に収容される。容器カバー２の底部中央には、鍋底温度センサー４が挿入される孔部２ａが設けられている。
【００１３】
加熱コイル３は、本発明の加熱手段に相当し、制御手段１０により通電制御され、鍋状容器５を誘導加熱するものである。なお、加熱手段として、加熱コイル３に代えてシーズヒーター等の電気ヒーターを設けてもよい。また、本実施の形態における加熱コイル３は、鍋状容器５内の下部に位置する被加熱物の水分を上部へ移動させる役割を担うため、鍋状容器５の底面近傍に配置される。なお、別の実施の形態では、鍋状容器５の底面近傍に加えて鍋状容器５の側面に沿って加熱コイル３を設けてもよい。
【００１４】
鍋底温度センサー４は、例えばサーミスタで構成され、鍋状容器５の温度を検知する。鍋底温度センサー４は、バネ等の弾性手段（図示せず）によって上方に付勢されており、容器カバー２に収容された鍋状容器５の底面に接する。鍋底温度センサー４が検知した鍋状容器５の温度に関する情報は、制御手段１０に出力される。なお、鍋底温度センサー４の具体的構成はサーミスタに限定されず、鍋状容器５に接触して温度を検知する接触式温度センサーのほか、例えば赤外線センサー等の鍋状容器５の温度を非接触で検知する非接触式温度センサーを採用してもよい。
【００１５】
ヒンジ部８は、本体１の上部の一端側（図１の紙面左側）に設けられ、蓋体１２を開閉自在に支持する。
【００１６】
時間計測手段９は、制御手段１０からの指示信号に基づいて経過時間をカウントする。時間計測手段９がカウントした経過時間は、制御手段１０に出力される。
【００１７】
制御手段１０は、加熱コイル３を制御し、炊飯器１００の炊飯工程を実施する。また、本実施の形態の制御手段１０は、後述する第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂの出力に基づいて、加熱コイル３に供給する電力を制御する。さらに、制御手段１０は、炊飯器１００のその他の動作全般も制御する。制御手段１０は、その機能を実現する回路デバイスのようなハードウェアで構成することもできるし、マイコンやＣＰＵのような演算装置と、その上で実行されるソフトウェアとにより構成することもできる。
【００１８】
（蓋体１２）
蓋体１２は、外蓋１３と、内蓋１４とを有している。外蓋１３には、着脱自在のカートリッジ１６が設けられ、外蓋１３の上面には操作表示部１７が設けられている。外蓋１３は、蓋体１２の上部および側部を構成し、外蓋１３の下面（鍋状容器５に対向する面）には、係止材１５を介して、内蓋１４が着脱自在に取り付けられている。また、外蓋１３の下面には内部温度センサー１８が設けられ、内蓋１４には内部温度センサー１８を挿入させる孔部１４ａが設けられる。また、内蓋１４の周縁部には、鍋状容器５の上端部外周に形成されたフランジ部５ａとの密閉性を確保するシール材である蓋パッキン１１が取り付けられている。さらに、内蓋１４には、鍋状容器５内で発生した蒸気が出入する蒸気口１４ｂが設けられ、カートリッジ１６の蒸気取入口１６ａと通じている。
【００１９】
カートリッジ１６には、炊飯中に発生する蒸気圧に応じて上下動する弁（図示せず）を備えた蒸気取入口１６ａと、蒸気取入口１６ａの弁を通過した蒸気を外部へ排出する蒸気排出口１６ｂとが設けられている。蒸気取入口１６ａは、蒸気口１４ｂに通じており、発生した蒸気は蒸気口１４ｂを通過して蒸気取入口１６ａからカートリッジ１６内に入ってカートリッジ１６内を流れ、蒸気排出口１６ｂからカートリッジ１６の外へ流出する。カートリッジ１６内を流れる過程において蒸気は冷却されて復水するので、炊飯器１００の外へ流出する蒸気量を減らすことができる。
【００２０】
操作表示部１７は、使用者からの操作入力を受け付けるとともに、操作入力に関する情報および炊飯器１００の動作状態を表示する。操作表示部１７に対して設定可能な項目としては、例えば、炊飯の開始、取り消し、炊飯予約、炊飯メニューがある。炊飯メニューの具体例としては、白米炊飯または玄米炊飯等の米の種類に関するもの、標準炊飯または早炊き炊飯等の炊飯時間に関するもの、かためまたはやわらかめ等の炊き上がりの米飯のかたさに関するもの等が挙げられる。操作表示部１７が表示する項目としては、例えば、炊飯中または予約待機中等の炊飯器１００の状態、設定されている炊飯メニューの内容、炊き上がりの予定時刻、現在時刻、炊飯する米２００の量等が挙げられる。なお、ここで示した操作表示部１７の具体的構成は一例であり、本発明を限定するものではない。
【００２１】
操作表示部１７に対して使用者が操作入力を行うと、本体１に内蔵された制御手段１０は、入力された炊飯メニューおよび炊飯する米２００の量に合わせた炊飯プログラムに従って、加熱コイル３を動作させて炊飯工程を実行する。
【００２２】
内部温度センサー１８は、鍋状容器５内の温度を検知する温度検知手段である。内部温度センサー１８の一部は内蓋１４の孔部１４ａに挿入されており、内部温度センサー１８は孔部１４ａを介して鍋状容器５内の温度を検知する。内部温度センサー１８は、内蓋１４より上に位置する部分が、外蓋１３の下面に取り付けられた内部温度センサーパッキン１８ａによって囲まれており、内部温度センサーパッキン１８ａと内蓋１４が密着することにより、内部温度センサー１８は鍋状容器５内の温度を正確に検知することができる。内部温度センサー１８は、例えばサーミスタで構成することができる。内部温度センサー１８が検知した鍋状容器５内の温度に関する情報は、制御手段１０に出力される。
【００２３】
（鍋状容器５）
鍋状容器５は、誘導加熱により発熱する材料で構成され、鍋状容器５の上端部外周には、フランジ部５ａが形成されている。また、鍋状容器５は、鍋状容器５内の被加熱物の含水率を検出する第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂを備えている。図１に示すように、本実施の形態では、鍋状容器５の底面に１つの第１含水率検出手段Ａを備え、鍋状容器５の側面に６つの第２含水率検出手段Ｂを備えている。６つの第２含水率検出手段Ｂは、鍋状容器５の側面に表示される１合、２合、３合、４合、５合、５.５合の加水量目盛の直下にそれぞれ配置される。以降の説明において、６つの第２含水率検出手段Ｂをそれぞれ第２含水率検出手段Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3、Ｂ4、Ｂ5、Ｂ5.5と称する。また、第１含水率検出手段Ａにより検出された値（すなわち含水率）を検出値ａと称し、第２含水率検出手段Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3、Ｂ4、Ｂ5、Ｂ5.5により検出された値（すなわち含水率）をそれぞれ検出値ｂ1、ｂ2、ｂ3、ｂ4、ｂ5、ｂ5.5と称する。なお、検出値ａが本発明の第１含水率に相当し、検出値ｂが第２含水率に相当する。また、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂの配置は一例であり、これに限定されるものではない。
【００２４】
第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂは、非接触式の含水率検出手段であり、例えば赤外線センサーで構成される。第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂは、発光部と受光部とをそれぞれ備える。第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂの発光部から鍋状容器５内の米２００に向かって赤外線を照射すると、米２００によって透過あるいは反射されることにより、赤外線の強度または周波数が変化する。この透過または反射された赤外線を受光部によって受光する。米２００における赤外線に対する透過および反射特性は、米２００の含水率に応じて変化することが知られている。そのため、受光された赤外線の強度および周波数によって、米２００の含水率を検出することができる。
【００２５】
第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂは、鍋状容器５の内側に検出部が設けられ、鍋状容器５の外側に導通部が設けられている。そして、鍋状容器５が容器カバー２に収容されることで、鍋状容器５と容器カバー２とが接触し、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂが導通される。これにより、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂに本体１からの電力が供給されるとともに、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂによる検出結果が制御手段１０に出力される。
【００２６】
次に、本実施の形態における炊飯器１００の炊飯工程について図２を参照して説明する。本実施の形態の炊飯工程は、制御手段１０が各部を制御することによって実施される。図２は、本実施の形態の炊飯工程における被加熱物温度および鍋状容器温度を示す図である。なお、本実施の形態では、被加熱物温度（すなわち鍋状容器５の内部温度）は、内部温度センサー１８の検出値に基づいて検出される。また、鍋状容器温度（鍋状容器５の温度）は、鍋底温度センサー４の検出値に基づいて検出される。
【００２７】
図２に示すように、本実施の形態における炊飯工程は、炊飯量を判定する炊飯量判定工程、米２００に吸水を促す予熱工程、米２００と水２０１が沸騰温度に至るまでの昇温工程、沸騰状態を維持し米２００のデンプンの糊化を促進させる沸騰工程、およびドライアップしたのち米２００の米粒中心部まで糊化を進行させるむらし工程の順で実施される。
【００２８】
まず、炊飯量判定工程では、制御手段１０によって、鍋状容器５の第２含水率検出手段Ｂの検出値に基づいて炊飯量が判定される。また、本実施の形態では、炊飯量判定工程において、複数の第２含水率検出手段Ｂのうちの何れにおいて上部の米２００の含水率ｂＮが検出されるかの認識も行われる。
【００２９】
図３は、本実施の形態の炊飯量判定工程の流れを示すフローチャートである。本工程では、まず、第２含水率検出手段Ｂの中で最も高い位置（本実施の形態の場合５.５合の加水量目盛の直下）に配置される第２含水率検出手段Ｂ5.5の検出値ｂ5.5がエラー値であるか否かが判断される（Ｓ１１）。ここで、炊飯量が５.５合の場合、第２含水率検出手段Ｂ5.5は水に晒されているため、検出値ｂ5.5として水の含水率値（１００％）が検出される。一方、炊飯量が５.５合より少ない場合、第２含水率検出手段Ｂ5.5は空気に晒されているため、含水率を検出することができずエラー値となる。
【００３０】
そして、検出値ｂ5.5がエラー値でない場合（Ｓ１１：ＮＯ）、炊飯量Ｎは５．５合であると判定され、第２含水率検出手段Ｂ5.5の検出値ｂ5.5が、上部の米２００の含水率ｂＮを示すものと認識される（Ｓ１２）。一方、検出値ｂ5.5がエラー値の場合（Ｓ１１：ＹＥＳ）、炊飯量は５．５合より少ないと判断され、２番目に高い位置に配置される第２含水率検出手段Ｂ5の検出値ｂ5がエラー値であるか否かが判断される（Ｓ１３）。そして、検出値ｂ5がエラー値でない場合（Ｓ１３：ＮＯ）、炊飯量Ｎは５合であると判定され、第２含水率検出手段Ｂ5の検出値ｂ5が、上部の米２００の含水率ｂＮを示すものと認識される（Ｓ１４）。一方、検出値ｂ5がエラー値の場合（Ｓ１３：ＹＥＳ）、炊飯量は５合より少ないと判断され、次に高い位置に配置される第２含水率検出手段Ｂ4の検出値ｂ4がエラー値であるか否かが判断される（Ｓ１５）。
【００３１】
そして、第２含水率検出手段Ｂ4の検出値ｂ4がエラー値でない場合（Ｓ１５：ＮＯ）、炊飯量Ｎは４合であると判定され、第２含水率検出手段Ｂ4の検出値ｂ4が、上部の米２００の含水率ｂＮを示すものと認識される（Ｓ１６）。一方、検出値ｂ4がエラー値の場合（Ｓ１５：ＹＥＳ）、炊飯量は４合より少ないと判断され、次に高い位置に配置される第２含水率検出手段Ｂ3の検出値ｂ3がエラー値であるか否かが判断される（Ｓ１７）。
【００３２】
そして、第２含水率検出手段Ｂ3の検出値ｂ3がエラー値でない場合（Ｓ１７：ＮＯ）、炊飯量Ｎは３合であると判定され、第２含水率検出手段Ｂ3の検出値ｂ3が、上部の米２００の含水率ｂＮを示すものと認識される（Ｓ１８）。一方、検出値ｂ3がエラー値の場合（Ｓ１７：ＹＥＳ）、炊飯量は３合より少ないと判断され、次に高い位置に配置される第２含水率検出手段Ｂ2の検出値ｂ2がエラー値であるか否かが判断される（Ｓ１９）。
【００３３】
そして、第２含水率検出手段Ｂ2の検出値ｂ2がエラー値でない場合（Ｓ１９：ＮＯ）、炊飯量Ｎは２合であると判定され、第２含水率検出手段Ｂ2の検出値ｂ2が、上部の米２００の含水率ｂＮを示すものと認識される（Ｓ２０）。一方、検出値ｂ2がエラー値の場合（Ｓ１９：ＹＥＳ）、炊飯量は２合より少ないと判断され、最も低い位置に配置される第２含水率検出手段Ｂ1の検出値ｂ1がエラー値であるか否かが判断される（Ｓ２１）。
【００３４】
そして、第２含水率検出手段Ｂ1の検出値ｂ1がエラー値でない場合（Ｓ２１：ＮＯ）、炊飯量Ｎは１合であると判定され、第２含水率検出手段Ｂ1の検出値ｂ1が、上部の米２００の含水率ｂＮを示すものと認識される（Ｓ２２）。一方、検出値ｂ1がエラー値の場合（Ｓ２１：ＹＥＳ）、炊飯量は１合より少ないと判定され、上部の米２００の含水率ｂＮとして、予め定められた値ｂｘが設定される（Ｓ２３）。上記のように炊飯量Ｎが決定すると、炊飯量判定工程は終了し、予熱工程に移行する。
【００３５】
図２に戻って、予熱工程では、制御手段１０によって、時間計測手段９に予熱工程の経過時間の計測を開始させるとともに、加熱コイル３に対して電力の供給と遮断とを繰り返し、鍋状容器５を予熱する。そして、時間計測手段９により計測された経過時間が所定の予熱時間に達すると、予熱工程を終了し、昇温工程へ移行する。
【００３６】
昇温工程は、予熱工程終了から被加熱物（米２００と水２０１）が沸騰温度に至るまでの工程である。昇温工程において、制御手段１０は、加熱コイル３に対して電力の供給と遮断とを繰り返し、鍋状容器５を加熱する。そして、内部温度センサー１８の検知温度が沸騰温度に到達すると、昇温工程を終了し、沸騰工程へ移行する。
【００３７】
沸騰工程は、被加熱物が沸騰温度を維持できるよう加熱し、沸騰により米２００のデンプンの糊化を促進させる工程である。図４は、本実施の形態の沸騰工程の流れを示すフローチャートである。沸騰工程では、まず、制御手段１０の制御の下、時間計測手段９によって沸騰工程開始からの経過時間ｔのカウントが開始される（Ｓ３１）。そして、加熱コイル３に対して電力Ｐ1が供給される（Ｓ３２）。なお、電力Ｐ1は被加熱物が沸騰状態を維持できる電力とし、かつ一定の電力・通電率であるとは限らない。すなわち、ステップＳ３２は、複数の異なる電力・通電率を有する工程で構成される場合もある。
【００３８】
そして、沸騰工程開始からの経過時間ｔが予め定められた時間ｔ1以上であるか否かが判断される（Ｓ３３）。時間ｔ1は、鍋状容器５内の炊飯液が消失し始める状態となる時間であり、炊飯量Ｎに応じて実験等により予め求められ設定される。経過時間ｔが時間ｔ1以上でない場合（Ｓ３３：ＮＯ）、ステップＳ３２が繰り返される。一方、経過時間ｔが時間ｔ1以上である場合（Ｓ３３：ＹＥＳ）、理想的な含水率分布を得るために加熱量を補正する制御（以下、「加熱量補正制御」という）が開始される。
【００３９】
加熱量補正制御では、まず、第１含水率検出手段Ａの検出値ａ、および複数の第２含水率検出手段Ｂのうち、炊飯量判定工程において上部の米２００の含水率ｂＮと認識された第２含水率検出手段ＢＮの検出値ｂＮが検出される（Ｓ３４）。ここで、検出値ａは、第１含水率検出手段Ａの近傍に位置する米２００（すなわち下部の米２００）の含水率であり、検出値ｂＮは上部の米２００の含水率である。次に、検出値ｂＮと検出値ａとの差が、閾値Ｄ1以上であるか否かが判定される（Ｓ３５）。閾値Ｄ1は、理想の含水率分布を得るために予め定められた正の値であり、例えば３％である。
【００４０】
そして、検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ1より小さい場合（Ｓ３５：ＮＯ）、加熱コイル３に電力Ｐ3が供給される（Ｓ３６）。電力Ｐ3は、鍋状容器５の下部の水分が上部へ移動するように、上昇対流が生じる火力を実現する電力とする。ここで、検出値ｂＮと検出値ａとの差は、上部の米２００と下部の米２００との含水率の差である。そして、上部の米２００の含水率ｂＮが、下部の米２００の含水率ａに対して所定の値（例えば３％）より低い場合は、水分を上昇させる上昇対流を発生することで、理想の含水率分布とすることができる。
【００４１】
一方、検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ1以上である場合（Ｓ３５：ＹＥＳ）、加熱コイル３に電力Ｐ2が供給される（Ｓ３７）。電力Ｐ2は電力Ｐ3よりも小さい値である。検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ1以上である場合、上部の米２００の含水率ｂＮが、下部の米２００の含水率ａよりも所定の値（例えば３％）以上高くなっているため、これ以上、下部の水分を上部へ移動させる必要がない。また、上昇対流を生じるような強火を継続することにより下部の飯が硬くなりすぎて食感を損ねることを防ぐ必要がある。そのため、電力Ｐ3よりも弱い火力の電力Ｐ2を供給することで、下部の米２００の蒸発を抑制しながら糊化が促進される。
【００４２】
次に、鍋底温度センサー４が検知する鍋底温度Ｔが、ドライアップ判定温度Ｔｄ以上であるか否かが判定される（Ｓ３８）。そして、鍋底温度Ｔがドライアップ判定温度Ｔｄより小さい場合（Ｓ３８：ＮＯ）、ステップＳ３４に戻り、以降のステップが繰り返される。一方、鍋底温度センサー４が検知する鍋底温度Ｔがドライアップ判定温度Ｔｄ以上の場合（Ｓ３８：ＹＥＳ）、沸騰工程を終了し、むらし工程へ移行する。
【００４３】
図２に戻って、むらし工程は、米２００を蒸らすことにより米２００のデンプンの糊化を促進し、且つ米２００内の水分分布を均一にする工程である。制御手段１０は、時間計測手段９にむらし工程の経過時間の計測を開始させ、加熱コイル３に対して電力の供給と遮断とを繰り返す。なお、むらし工程において供給される電力は、その他の工程における電力よりも単位時間当たりの電力量が小さくなるよう設定される。そして、時間計測手段９により計測された経過時間が所定のむらし時間に達した場合、制御手段１０は、炊飯工程を終了する。
【００４４】
上記のように、本実施の形態では、沸騰工程において２箇所（下部と上部）の米２００の含水率に基づいた加熱量補正制御を行うことで、鍋状容器５内で理想的な含水率分布を得ることができ、見た目の美味しさおよび食味の向上を図ることができる。ここで、理想的な含水率分布とは、鍋状容器５内の下部に位置する米２００の含水率分布が最も低く、上部にいくほど含水率が高くなる分布である。本実施の形態では、加熱量補正制御において、上部の米２００の含水率ｂＮが下部の米２００の含水率ａよりも所定の値以上高くなるまで、加熱コイル３を制御して上昇対流を発生させる。これにより、鍋状容器５の底面の水分が飛んで鍋底の水分過多が抑制され、鍋状容器５の底面の米２００が煮崩れすることがなくなり、食味の低下を防ぐことができる。また上部の米２００は表面に適度なおねばが存在するためにツヤが増し、炊飯終了後に使用者が蓋を開けた瞬間に感じる見た目の美味しさが向上する。
【００４５】
また、複数の含水率検出手段（第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂ）によって２箇所以上の含水率を検出することで、何れかが含水率を誤検知した場合にも、他の含水率検出手段によってその誤検知を発見することができる。また、複数の含水率検出手段の何れか１つが正常に機能しなくなった場合においても、他の含水率検出手段で代用することができる。そのため、含水率検出手段を一つしか備えない場合に比べ、信頼性も向上する。さらに、第１含水率検出手段Ａを鍋状容器５の底面に設け、第２含水率検出手段Ｂを鍋状容器５の側面に設けることにより、広範囲な領域で含水率分布を測定することができるため、検出値からより正確な含水率分布を把握することができる。
【００４６】
実施の形態２.
次に、本発明の実施の形態２について説明する。実施の形態２では、沸騰工程における加熱量補正制御を開始するタイミングが実施の形態１と相違する。炊飯器１００の構成およびその他の炊飯工程については実施の形態１と同様であり、実施の形態１と同様の構成要素および処理ステップについては、同じ符号を付す。
【００４７】
図５は、本実施の形態における沸騰工程の流れを示すフローチャートである。本実施の形態では、実施の形態１と同様に、加熱コイル３に電力Ｐ1が供給され、被加熱物の沸騰状態が維持される（Ｓ３２）。次に、鍋底温度センサー４によって検出される鍋底温度Ｔが、温度Ｔ1以上であるか否かが判断される（Ｓ４０）。温度Ｔ1は、１００℃以上、かつドライアップ判定温度Ｔｄ以下の任意の温度が予め定められ設定される。そして、鍋底温度Ｔが温度Ｔ1より低い場合（Ｓ４０：ＮＯ）、ステップＳ３２が繰り返される。一方、鍋底温度Ｔが、温度Ｔ1以上である場合（Ｓ４０：ＹＥＳ）、実施の形態１と同様の加熱量補正制御が実施される（Ｓ３４〜Ｓ３８）。
【００４８】
上記のように、本実施の形態では、加熱量補正制御の開始の判定基準を、沸騰工程開始からの経過時間ｔではなく鍋底温度Ｔとすることにより、実施の形態１よりも第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂの測定精度が向上する。この理由について、図６を用いて説明する。図６（ａ）は、沸騰工程およびむらし工程における鍋底温度Ｔの推移を示す図であり、図６（ｂ）は、沸騰工程およびむらし工程における米２００の状態を示す図である。
【００４９】
図６に示すように、鍋状容器５内に炊飯液（米２００から溶け出した成分と水２０１が混合した液体）が存在している間は、被加熱物および鍋状容器５の温度は１００℃に維持される。そして、炊飯液が消失し始めると、被加熱物および鍋状容器５の温度は１００℃以上になる。そして、被加熱物および鍋状容器５の温度が１００℃以上のドライアップ判定温度Ｔｄ以上となった場合に、炊飯液が消失したと判断され、むらし工程へ移行する。
【００５０】
実施の形態１の場合、加熱量補正制御を開始する判定基準は沸騰工程開始からの経過時間であるため、時間ｔ1の設定によって、沸騰工程の任意のタイミングで加熱量補正制御を開始することができる。一方、炊飯開始時の加水量の差異によって時間ｔ1経過時の米２００の状態にばらつきが生じる可能性がある。また、時間ｔ1が経過した時点で、鍋底温度Ｔが１００℃を維持している領域、つまり炊飯液が消失する前であった場合は、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂが炊飯液に接しているため、直接的に被加熱物の含水率を測定することができない。そこで、実施の形態１では、非接触式の含水率検知機能（赤外線センサー）を用いているが、この場合、被加熱物に接触しないため衛生的であるというメリットもあるが、接触式よりも精度が悪くなるというデメリットもある。
【００５１】
これに対し、本実施の形態の場合、１００℃以上かつドライアップ判定温度Ｔｄ以下の温度Ｔ1を検知した後に、加熱量補正制御を開始する。そのため、米２００の状態のばらつきが抑制される。また、沸騰工程において鍋底温度Ｔが１００℃を検出した場合、炊飯液は消失し始めて米２００が第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂに接触するため、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂに接触式の含水率検出手段を用いて直接的に米２００の含水率を測定することができる。接触式の含水率検出手段として、絶縁体に被覆され、かつ被加熱物に直に接する２つの電極で構成され、その電極間の抵抗値から被加熱物の含水率を算出する手法が考えられる。第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂをこのように構成することで、含水率検出の精度が向上する。
【００５２】
実施の形態３.
次に、本発明の実施の形態３について説明する。実施の形態３では、加熱量補正制御をむらし工程にて実施する点において、実施の形態１と相違する。炊飯器１００の構成およびその他の炊飯工程については実施の形態１と同様であり、実施の形態１と同様の構成要素および処理ステップについては、同じ符号を付す。
【００５３】
図７は、本実施の形態におけるむらし工程の流れを示すフローチャートである。本工程では、まず、制御手段１０の制御の下、時間計測手段９によって、むらし工程開始からの経過時間ｔのカウントが開始される（Ｓ５１）。そして、加熱量補正制御が開始される。
【００５４】
加熱量補正制御では、第１含水率検出手段Ａの検出値ａ、および複数の第２含水率検出手段Ｂのうち、炊飯量判定工程において上部の米２００の含水率ｂＮと認識された第２含水率検出手段ＢＮの検出値ｂＮが検出される（Ｓ５２）。ここで、検出値ａは、第１含水率検出手段Ａの近傍に位置する米２００（すなわち下部の米２００）の含水率であり、検出値ｂＮは上部の米２００の含水率である。次に、検出値ｂNと検出値ａとの差が、閾値Ｄ2以上であるか否かが判定される（Ｓ５３）。閾値Ｄ2は、理想の含水率分布を得るために予め定められた正の値であり、例えば３％である。
【００５５】
そして、検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ2より小さい場合（Ｓ５３：ＮＯ）、加熱コイル３に電力Ｐ5が供給される（Ｓ５４）。電力Ｐ5は、鍋状容器５の下部の水分が上部へ移動するように、上昇対流が生じる火力とする。ここで、検出値ｂＮと検出値ａとの差は、上部の米２００と下部の米２００との含水率の差である。そして、上部の米２００の含水率が、下部の米２００の含水率に対して所定の値（例えば３％）より低い場合は、水分を上昇させる上昇対流を発生することで、理想の含水率分布とすることができる。
【００５６】
一方、検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ2以上である場合（Ｓ５３：ＹＥＳ）、加熱コイル３に電力Ｐ4が供給される（Ｓ５５）。電力Ｐ4は電力Ｐ5よりも小さい値である。検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ2以上である場合、上部の米２００の含水率が、下部の米２００の含水率よりも所定の値（例えば３％）以上高くなっているため、これ以上、下部の水分を上部へ移動させる必要がない。また、上昇対流を生じるような強火を継続することにより下部の飯が硬くなりすぎて食感を損ねることを防ぐ必要がある。そのため、電力Ｐ5よりも弱い火力の電力Ｐ4を供給することで、下部の米２００の蒸発を抑制しながら糊化が促進される。
【００５７】
そして、むらし工程開始からの経過時間ｔが時間ｔ2以上であるか否かが判断される（Ｓ５６）。時間ｔ2は、米２００のデンプンの糊化を促進され、且つ米２００内の水分分布を均一になる時間が予め定められ設定される。経過時間ｔが時間ｔ2以上でない場合（Ｓ５６：ＮＯ）、ステップＳ５２に戻り、以降のステップが繰り返される。一方、経過時間ｔが時間ｔ2以上である場合（Ｓ５６：ＹＥＳ）、むらし工程を終了し、炊飯工程が終了する。
【００５８】
本実施の形態によれば、所定のむらし時間ｔ2の経過後に炊飯が終了するため、検出値ｂＮとａとの差が閾値Ｄ2に到達するタイミングによらず、一定のむらし時間を確保することができる。これにより、十分に米２００の糊化を促進させることができる。また、加熱を継続しすぎることにより、底面の米２００が許容範囲外の硬さになってしまうことを防ぐこともできる。
【００５９】
また、本実施の形態のようにむらし工程にて加熱量補正制御を実施することにより、実施の形態１および２よりも、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂの測定精度が向上するという利点がある。詳しくは、沸騰工程において、鍋底温度Ｔがドライアップ判定温度Ｔｄに達した時点で、被加熱物全体の炊飯液はほぼ消失している。そのため、むらし工程の開始時には、第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂと、米２００とが完全に接触している（図６参照）。そのため、本実施の形態においても、実施の形態２と同様に接触式の含水率検出手段を用いることができる。さらに、むらし工程では、炊飯液は全て消失しているため、実施の形態２よりさらに正確に米２００の含水率を検出することができる。
【００６０】
実施の形態４．
次に、本発明の実施の形態４について説明する。実施の形態４では、加熱量補正制御を開始する前に、下部の米２００の含水率ａと上部の米２００の含水率ｂＮとの差を小さくする含水率差補正制御を行う点において、実施の形態１と相違する。炊飯器１００の構成およびその他の炊飯工程については実施の形態１と同様であり、実施の形態１と同様の構成要素および処理ステップについては、同じ符号を付す。
【００６１】
実施の形態１および２において、加熱量補正制御の開始時に、下部の米２００の含水率（第１含水率検出手段Ａの検出値ａ）が上部の米２００の含水率（第２含水率検出手段ＢＮの検出値ｂＮ）よりも著しく高い場合、すなわち底面が水分過多となっている場合、検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ１以上となる前に、鍋底温度Ｔがドライアップ判定温度Ｔｄに達し、沸騰工程が終了する場合が想定される。同様に、実施の形態３において、加熱量補正制御の開始時に、検出値ａが検出値ｂＮよりも著しく高い場合、検出値ｂＮと検出値ａとの差が閾値Ｄ2以上となる前に、むらし時間ｔ2が経過してしまう場合が想定される。この場合、底面が水分過多のまま炊きあがるため、食味が低下してしまう。
【００６２】
そこで、本実施の形態では、加熱量補正制御を開始する前に、含水率差補正制御を実施して、下部の米２００の含水率ａと上部の米２００の含水率ｂＮとの差を小さくする。図８は、本実施の形態における含水率差補正制御の流れを示すフローチャートである。図８では、含水率補正制御を実施の形態１に導入した場合を示す。図８に示すように、まず、沸騰工程において、実施の形態１と同様のステップＳ３１〜Ｓ３３が実施される。そして、ステップＳ３３において、経過時間ｔが時間ｔ1以上となった場合（Ｓ３３：ＹＥＳ）、含水率差補正制御が開始される。
【００６３】
含水率差補正制御では、まず、第１含水率検出手段Ａの検出値ａ、および複数の第２含水率検出手段Ｂのうち、炊飯量判定工程において上部の米２００の含水率ｂＮと認識された第２含水率検出手段ＢＮの検出値ｂＮが検出される（Ｓ６１）。ここで、検出値ａは、第１含水率検出手段Ａの近傍に位置する米２００（すなわち下部の米２００）の含水率であり、検出値ｂＮは上部の米２００の含水率である。次に、検出値ｂＮが検出値ａ以上であるか否かが判断される（Ｓ６２）。そして、検出値ｂＮが検出値ａよりも小さい場合（Ｓ６２：ＮＯ）、加熱コイル３に電力Ｐ6が供給される（Ｓ６３）。電力Ｐ6は加熱量補正制御における電力Ｐ2および電力Ｐ3よりも火力が強い電力である。加熱コイル３に電力Ｐ6が供給された後は、ステップＳ３８に進む。一方、検出値ｂＮが検出値ａ以上の場合（Ｓ６１：ＹＥＳ）、実施の形態１と同様の加熱量補正制御（Ｓ３５〜Ｓ３８）が実施される。
【００６４】
上記のように、本実施の形態では、加熱量補正制御の開始前に含水率差補正制御を実施することにより、下部の米２００が上部の米２００と比較して水分過多であった場合にも、底面の水分を飛ばすことができる。そのため、加熱量補正制御において、確実に下部の米２００の含水率ａと上部の米２００の含水率ｂＮとの差を確保し、理想の含水率分布を得ることができ、底面が水分過多のまま炊きあがることを抑制することができる。また、炊飯終了後のロバスト性も向上する。
【００６５】
実施の形態５．
次に、本発明の実施の形態５について説明する。実施の形態５では、実施の形態４における含水率差補正制御の前に、下部の米２００の含水率を補正する含水率ばらつき補正制御を実施する点において、実施の形態４と相違する。炊飯器１００の構成およびその他の炊飯工程については実施の形態１と同様であり、実施の形態１と同様の構成要素および処理ステップについては、同じ符号を付す。
【００６６】
米飯の硬さの好みは使用者によって異なるが、一般的に使用者が好む硬さまたは軟らかさには一定の範囲があると考えられている。つまり、炊きあがった米飯の硬さがその一定範囲を越えてしまうと、硬すぎるまたは軟らかすぎると評価される。また、硬さと含水率には相関があり含水率が低いほど米飯は硬くなる傾向がある。そこで、本実施の形態では、含水率ばらつき補正制御において、次の工程で食味上許容範囲外の硬さまたは軟らかさに炊きあがると予測される場合を、被加熱物の含水率に基づいて検出し、含水率に応じた加熱量を補正することで食味上許容範囲内の硬さまたは軟らかさに炊き上げる。
【００６７】
ここで、食味上許容範囲外の硬さまたは軟らかさになってしまう要因として、以下の場合が考えられる。
（１）加水量が規定値より少なすぎる。
（２）加水量が規定値より多すぎる。
（３）火力が強すぎる。
（４）火力が弱すぎる。
上記（１）および（２）は、使用者によって生じるばらつきであり、（３）および（４）は、選択モードによって生じるばらつきと考えられる。例えば、（３）はおこげモードが選択された場合、（４）は省電力で炊飯するモードが選択された場合などである。また、各場合において予測される炊きあがりは、以下の通りである。
（１）米２００の上部および下部ともに許容範囲外の軟らかさとなる。
（２）米２００の上部および下部ともに許容範囲外の硬さとなる。
（３）米２００の下部が許容範囲外の硬さとなる。
（４）米２００の下部が許容範囲外の軟らかさとなる。
本実施の形態の含水率ばらつき補正制御では、上記の各場合に応じて加熱量の補正を行う。
【００６８】
図９は、本実施の形態における含水率ばらつき補正制御の流れを示すフローチャートである。図９では、含水率ばらつき補正制御を実施の形態４に導入した場合を示している。図９に示すように、まず、沸騰工程において、実施の形態１と同様のステップＳ３１〜Ｓ３３が実施される。そして、Ｓ３３において、経過時間ｔが時間ｔ1以上となった場合（Ｓ３３：ＹＥＳ）、含水率ばらつき補正制御が開始される。含水率ばらつき補正制御では、まず第１含水率検出手段Ａによって含水率ａが検出される（Ｓ７１）。そして、検出値ａが含水率の下限値ａＬ以上であるか否かが判断される（Ｓ７２）。含水率の下限値ａＬは、このまま次工程へ移行すると、許容範囲外の硬さに炊きあがってしまう場合の含水率であり、実験等により予め定められ設定される。検出値ａが下限値ａＬより低い場合（Ｓ７２：ＮＯ）、想定される要因は上記（１）加水量が規定値より少なすぎる、または（３）火力が強すぎるである。この場合、これ以上加熱を続けると下部の米２００が許容範囲外の硬さになってしまうため、異常むらし工程へ移行する。
【００６９】
異常むらし工程では、まず、制御手段１０の制御の下、時間計測手段９によって異常むらし工程開始からの経過時間ｔのカウントが開始される（Ｓ８１）。そして、加熱コイル３に電力Ｐ8が供給される（Ｓ８２）。なお、電力Ｐ8は、下部の米２００の蒸発を抑制しながら糊化を促進させる弱い火力とする。
【００７０】
そして、異常むらし工程開始からの経過時間ｔが時間ｔ3以上であるか否かが判断される（Ｓ８３）。時間ｔ3は、米２００のデンプンの糊化を促進され、且つ米２００内の水分分布を均一になる時間が予め定められ設定される。経過時間ｔが時間ｔ3以上でない場合（Ｓ８３：ＮＯ）、ステップＳ８２が繰り返される。一方、経過時間ｔが時間ｔ3以上である場合（Ｓ８３：ＹＥＳ）、加熱量補正制御を行わないまま、炊飯工程を終了する。
【００７１】
一方、検出値ａが含水率の下限値ａＬ以上である場合（Ｓ７２：ＹＥＳ）、検出値ａが含水率の上限値ａＵ以下であるか否かが判断される（Ｓ７３）。含水率の上限値ａＵは、このまま次工程へ移行すると、許容範囲外の軟らかさに炊きあがってしまう場合の含水率であり、実験等により予め定められ設定される。そして、検出値ａが含水率の上限値ａＵより大きい場合（Ｓ７３：ＮＯ）、想定される要因は、上記（２）加水量が規定値より多すぎる、または（４）火力が弱すぎる、である。この場合、下部の米２００が水分過多になって煮崩れしてしまう可能性がある。そのため、下部の米２００の水分を急速に蒸発させるような電力Ｐ7を加熱コイル３に供給する（Ｓ７４）。電力Ｐ7は前述した電力Ｐ1〜Ｐ6およびＰ8よりも大きい値とする。検出値ａが上限値ａＵ以下である場合は（Ｓ７３：ＹＥＳ）、次の工程（例えば、実施の形態４における含水率差補正制御）へ移行する。
【００７２】
上記のように、本実施の形態では、含水率ばらつき補正制御によって、炊飯条件のばらつきによって食味上許容範囲外の硬さまたは軟らかさに炊きあがると予測される場合を検知し、加熱量を補正して含水率を調節することができる。これにより、米飯を食味上許容範囲内の硬さまたは軟らかさに炊き上げ、かつ上部の米２００の含水率が下部の米２００の含水率よりも高い理想的な含水率分布を得ることができる。また炊飯終了時の含水率分布のばらつきが小さくなり、ロバスト性が向上する。
【００７３】
以上が本発明の実施の形態の説明であるが、本発明は、上記の実施の形態の構成に限定されるものではなく、その技術的思想の範囲内で様々な変形または組み合わせが可能である。例えば、上記実施の形態では家庭用ＩＨ式炊飯器に本発明を適用したが、これに限定されるものではなく、業務用の炊飯器または煮込み料理などの調理が可能な加熱調理器に本発明を適用してもよい。また、上記実施の形態では、上部の米２００の含水率ｂＮと下部の米２００の含水率ａとの差が所定の閾値以上となるよう加熱コイル３を制御したが、これに限定されるものではない。例えば、第１含水率検出手段Ａの検出値ａおよび第２含水率検出手段Ｂ1、Ｂ2、Ｂ3、Ｂ4、Ｂ5、Ｂ5.5の検出値ｂ1、ｂ2、ｂ3、ｂ4、ｂ5、ｂ5.5が、それぞれ予め定められた目標値となるように、加熱コイル３を制御してもよい。また、好ましくない炊きムラが生じてしまう業務用炊飯器において、被加熱物の２箇所以上の含水率を検出し、その２箇所以上の含水率に基づいて、被加熱物全体の含水率が均一になるよう加熱コイル３を制御してもよい。
【００７４】
また、上記実施の形態における第１含水率検出手段Ａおよび第２含水率検出手段Ｂは一例であり、被加熱物の含水率が検出できるものであれば他の手段を用いてもよい。例えば、実施の形態１のような非接触式の含水率検出手段の別の例として、鍋状容器５の外側の温度を複数箇所で検出する温度測定手段を用いてもよい。炊飯液が消失する前の沸騰工程では、温度測定箇所が被加熱物に接していた場合、温度測定手段により検出される鍋温度は１００℃を維持するが、炊飯液が消失した後、鍋温度は１００℃を超えて上昇していく。この温度上昇領域の温度勾配は、鍋状容器５の鍋肌に接している米飯の含水率によって変化するため、温度測定手段の検出する勾配を複数箇所で比較することにより含水率分布を求めることができる。
【００７５】
また、上記温度測定手段を用いて炊飯量判定工程を実施することも可能である。具体的には、炊飯液が存在している沸騰工程において、温度測定箇所が被加熱物に接している場合、鍋状容器５の熱量は被加熱物へ移動するため、鍋温度は１００℃を維持する。一方、鍋状容器５の被加熱物に接していない箇所では、鍋状容器５の熱量を被加熱物へ移動させることが不可能なため、鍋温度は１００℃以上となる。ゆえに炊飯液が存在している沸騰工程において、１００℃を維持する領域と１００℃以上となる領域の境目を判定することにより、炊飯量が判定される。
【００７６】
また、上記実施の形態では、複数の含水率検出手段（第１含水率検出手段Ａおよび６つの第２含水率検出手段Ｂ）によって被加熱物の２箇所以上の含水率を検出していたが、１つの含水率検出手段によって２箇所以上の含水率を検出してもよい。図１０は、変形例における含水率検出手段Ｃを備える鍋状容器５の断面模式図である。図１０（ａ）は接触式の含水率検出手段Ｃ１を示し、図１０（ｂ）は非接触式の含水率検出手段Ｃ２を示す。
【００７７】
図１０（ａ）に示すように、接触式の含水率検出手段Ｃ１は、鍋状容器５の側面部にわたって広域に広がる検出部を備え、検出部の異なる２点（例えば上部と下部）で２箇所以上の含水率を検出する。このように、検出部が広域である場合は、炊飯量も正確に判定することができる。また、図１０（ｂ）に示すように、非接触式の含水率検出手段Ｃ２は、鍋状容器５の側面の中央部に検出部を備え、鍋状容器５内の２点（例えば上部と下部）に向かって赤外線などを照射することによって２箇所以上の含水率を検出する。この場合、検出部のサイズが小さくなるため、鍋状容器５の外観を損ねることがない。
【００７８】
また、上記実施の形態では、２箇所以上の含水率として底面に接する被加熱物の含水率ａと側面に接する被加熱物の含水率ｂとをそれぞれ１箇所ずつ検出する構成としたが、底面に接する被加熱物の含水率ａのみを２箇所以上検出する、または側面に接する被加熱物の含水率ｂのみを２箇所以上検出してもよい。底面に接する被加熱物の含水率ａを２箇所以上検出する場合、例えば、底面の中央付近の含水率と、底面の側面付近の含水率とを検出することにより、底面の径方向の含水率の分布を測定できる。これにより、径方向の含水率分布が理想的な米飯を得ることができる。また、例えば、含水率検出手段へ電力を供給する必要がある場合、底面の加熱コイル３へ供給される電力を流用することができる。
【００７９】
また、側面に接する被加熱物の含水率ｂを２箇所以上検出する場合、例えば、側面の底面付近の含水率と側面の中央付近の含水率とを検出することにより、鍋状容器５の側面の上下方向の含水率の分布を測定できる。これにより、側面の上下方向の含水率分布が理想的な米飯を得ることができる。また、例えば含水率検出手段の検出値が磁界によって変動してしまう場合において、含水率検出手段が底面の加熱コイル３からの距離を確保できるため、加熱コイル３の磁界の影響による検出値の誤差を防ぐことができる。
【００８０】
また、含水率を検出する箇所は、鍋状容器５の内面側に限定されるものではなく、鍋状容器５の外部に配置してもよい。赤外線センサーからなる含水率検出手段を鍋状容器５の外部に配置する場合は、鍋状容器５に赤外線を透過する部分を設ければよい。さらに、例えば、含水率検出手段を複数配列した部材（プローブまたは撹拌手段を兼ねたもの）を鍋状容器５の上方から底面付近まで届くように配置して、複数の含水率検出手段で含水率を検出してもよい。この場合、鍋状容器５の内面から離れた場所の含水率を検出することができる。特に鍋状容器５の中心部において、米２００の上方は、炊き上がり時には含水率が最も高くなる。そのため、この部分の含水率を含む含水率を複数検出することにより、理想的な含水率分布を得ることができる。これにより、底面の水分過多を抑制し、かつ見た目の美味しさを向上させることができる。また、含水率検出手段を複数配列した部材は、鍋状容器５の底から上方に向かう形状としても同様の効果を有する。
【００８１】
さらに、上記実施の形態においては、炊飯工程の始めに炊飯量判定工程を行う構成としたが、これに限定されるものではなく、炊飯量判定工程を省略してもよい。ただし、上記実施の形態のように、炊飯量判定工程を備えることにより、上部の米２００の位置を判定することができるため、含水率分布をより精度よく制御できる。
【００８２】
図１１は、鍋状容器５における含水率検知可能領域と炊飯量判定工程の有無を示した３つの場合の図である。図１１（ａ）は含水率検知可能領域が広範囲で炊飯量判定工程がある場合であり、図１１（ｂ）は含水率検知可能領域が一部に限定され、炊飯量判定がある場合であり、図１１（ｃ）は含水率検知可能領域が一部に限定され、炊飯量判定がない場合である。なお、含水率検知可能領域が広範囲とは、例えば図１１（ａ）に示すように第２含水率検出手段Ｂを複数備える場合をいい、含水率検知可能領域が一部に限定されているとは、例えば図１１（ｂ）および図１１（ｃ）に示すように、第２含水率検出手段Ｂが１つしか設けられていない場合をいう。
【００８３】
図１１（ａ）の場合は、炊飯量判定工程により、被加熱物の上部位置を認識することができる。さらに、含水率検知可能領域が広範囲のため、複数の第２含水率検出手段Ｂの何れかによって上部の被加熱物の含水率を直接的に検出することができる。そのため、被加熱物の含水率分布をより精度よく制御できる。
【００８４】
また、図１１（ｂ）の場合においても、炊飯量判定工程により、被加熱物の上部位置を認識することができる。ただし、含水率検知可能領域が一部に限定されているため、被加熱物の上部位置によっては、第２含水率検出手段Ｂによって上部の被加熱物の含水率を直接的に検出することができない。しかしながら、この場合は、第２含水率検出手段Ｂと、被加熱物の上部位置との相対位置に基づいて、上部の被加熱物の含水率ｂＮを推定することができる。例えば、第２含水率検出手段Ｂの検出値ｂに、被加熱物の上部位置と第２含水率検出手段Ｂとの距離に応じた所定の値を加算または減算した値を、上部の被加熱物の含水率ｂＮとして設定することができる。また、上記のように含水率の目標値を用いて制御する場合、上部の被加熱物の含水率の目標値がｂＮであった場合、含水率検出手段は被加熱物の上部位置との相対位置を考慮し、含水率検出手段により検出される含水率の目標値をｂｔ（＜ｂＮ）と設定することができる。
【００８５】
一方、図１１（ｃ）の場合は、炊飯量判定工程が無いため、被加熱物の上部位置を認識することができない。そのため、第２含水率検出手段Ｂと、被加熱物の上部位置との相対位置も不明である。従って、第２含水率検出手段Ｂの検出値ｂから、上部の被加熱物の含水率ｂＮを推定することができない。この場合、第２含水率検出手段Ｂの検出値ｂを上部の被加熱物の含水率ｂＮとして加熱量補正制御を行うことも可能であるが、実際の上部の被加熱物の含水率ｂＮとは異なるため、理想の含水率分布を得ることができない可能性がある。このように、炊飯量判定工程を有することで、含水率検知可能領域の広さにかかわらず、含水率分布を精度よく制御することができる。
【００８６】
さらに、上記実施の形態においては、加熱量補正制御において、鍋状容器５の底面に配置される加熱コイル３へ供給する電力を制御する構成としたが、これに限定されるものではない。例えば、鍋状容器５の底面に複数の加熱コイル３を備える場合、または底面と側面に複数の加熱コイル３を備える場合などにおいて、各加熱コイル３へ供給する電力、または駆動順序、組み合わせなどを理想の含水率分布となるよう制御してもよい。
【符号の説明】
【００８７】
１  本体、２  容器カバー、２ａ  孔部、３  加熱コイル、４  鍋底温度センサー、５  鍋状容器、５ａ  フランジ部、８  ヒンジ部、９  時間計測手段、１０  制御手段、１１  蓋パッキン、１２  蓋体、１３  外蓋、１４  内蓋、１４ａ  孔部、１４ｂ  蒸気口、１５  係止材、１６  カートリッジ、１６ａ  蒸気取入口、１６ｂ  蒸気排出口、１７  操作表示部、１８  内部温度センサー、１８ａ  内部温度センサーパッキン、１００  炊飯器、２００  米、２０１  水、Ａ  第１含水率検出手段、Ｂ  第２含水率検出手段。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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