(57)【要約】【課題】光弾性体を用いた応力の測定では、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが難しい、という問題を解決すること。【解決手段】応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体と、光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部と、を有する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体と、
前記光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部と、を有する
応力測定システム。
【請求項２】
前記光弾性体は、前記測定対象物に貼付された第１の光弾性体層と、前記第１の光弾性体層に密着されたある波長の光を透過させる一方で別の波長の光を反射させる波長選択層と、前記波長選択層に密着された前記第１の光弾性体層とは異なる位相差を生じさせる第２の光弾性体層と、を含んで構成されている
請求項１に記載の応力測定システム。
【請求項３】
前記第２の光弾性体層は、前記第１の光弾性体層よりも小さな位相差を生じさせる光弾性体層である
請求項２に記載の応力測定システム。
【請求項４】
前記光弾性体は、前記測定対象物と前記第１の光弾性体層との間に、光を反射させる反射層を有している
請求項２又は３に記載の応力測定システム。
【請求項５】
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に生じている位相差の関係に応じて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
請求項１乃至４のいずれかに記載の応力測定システム。
【請求項６】
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に応じた光弾性画像をそれぞれ撮像し、当該撮像した光弾性画像に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
請求項１乃至５のいずれかに記載の応力測定システム。
【請求項７】
前記応力測定部は、位相差の生じにくい波長の光に応じて撮像した光弾性画像に基づいて、所定の閾値よりも大きな応力を測定する
請求項６に記載の応力測定システム。
【請求項８】
前記応力測定部は、位相差の生じやすい波長の光に応じて撮像した光弾性画像に基づいて、所定の閾値よりも小さな応力を測定する
請求項６又は７に記載の応力測定システム。
【請求項９】
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に生じている位相差を測定し、当該測定した位相差に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
請求項１乃至５のいずれかに記載の応力測定システム。
【請求項１０】
前記光弾性体は、異なる光弾性係数を有する複数の光弾性体層を含んで構成されている
請求項１乃至９のいずれかに記載の応力測定システム。
【請求項１１】
前記光弾性体は、異なる厚さを有する複数の光弾性体層を含んで構成されている
請求項１乃至１０のいずれかに記載の応力測定システム。
【請求項１２】
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付された光弾性体にて、当該光弾性体に入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させ、
応力測定装置が、前記光弾性体が反射した反射光を分光し、当該分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
応力測定方法。
【請求項１３】
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部を有する
応力測定装置。
【請求項１４】
コンピュータを、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定手段として機能させる
プログラム。
【請求項１５】
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる
光弾性体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、構造物に貼付した光弾性体からの反射光に基づいて応力を測定する、応力測定システム、応力測定方法、応力測定装置、プログラム、光弾性体に関する。
【背景技術】
【０００２】
構造物に印加された応力を解析する手法の一つとして、光弾性法が知られている。光弾性法は、光弾性体が外力に応じて一時的に起こす複屈折現象を利用して光弾性体に印加されている応力を解析する手法である。また、光弾性法を様々な解析対象物に適応する方法の一つとして、解析対象物の表面に光弾性体の被膜を接着し、当該光弾性体の被膜に入射した光の反射光を観測することで光弾性法を適用する光弾性被膜法が知られている。
【０００３】
このように、光弾性法は、光弾性体そのものに印加されている応力を測定する際に用いることも出来るし、構造物に貼付することで、構造物に印加されている応力を測定する際に用いることも出来る方法である。
【０００４】
このような光弾性法を用いた応力の測定では、位相差に応じて現れる明暗の縞（等色線）の次数に基づいて主応力差を求め、主応力差に応じた応力を測定することになる。そのため、応力を測定する際には、縞の次数を正確に決定することが必要となる。このような正確に縞次数を決定するための方法の一つとして、例えば、特許文献１がある。特許文献１には、偏光板などの光学部品を回転させて得られる数枚の画像を組み合わせる位相シフト光弾性法において、縞次数を決定するための技術が記載されている。特許文献１では、光源を３波長のＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）光源とし、ＲＧＢ干渉フィルタを用いることを特徴としており、このような構成により、安価な装置構成で高次の縞まで測定することを可能としている。
【０００５】
また、光弾性法の一つである光弾性被膜法を利用した技術としては、例えば、特許文献２がある。特許文献２には、光弾性ゲージからの反射光から取得したＲＧＢ信号の変化量を光弾性ゲージのひずみ量に換算し、当該換算したひずみ量から応力を求める方法が記載されている。具体的には、特許文献２には、予め作成した応力と色相座標との対応表に基づいて、色相座標に対応する応力を求める技術が記載されている。
【０００６】
また、特許文献３には、光弾性画像を構成する各画像の色成分データから、各画素の明るさのエネルギーを表す振幅ベクトルと各画素の色のエネルギーを表す周波数ベクトルとを求め、当該振幅ベクトルと周波数ベクトルとに基づいて応力を求める方法が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１３−２５３７８８号公報
【特許文献２】特開平５−７９９２７号公報
【特許文献３】特開２０１１−２５２８３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
ところで、上記のように、主応力差の分布は、位相差に応じて現れる明暗の縞（等色線）により現れることになる。そのため、弾性体に印加されている応力が大きい場合、位相差が大きくなり、ある所定の空間内に非常に多くの等色線が現れる場合がある。その結果、非常に大きな応力が印加された場合などにおいて、正確に応力を測定することが難しくなる場合がある、という問題が生じることがあった。
【０００９】
また、この問題に対処するために、応力を測定する際に位相差が生じにくい光弾性体を用いた場合、小さな応力を測定することが難しくなる、という問題が生じることになる。
【００１０】
このように、光弾性体を用いた応力の測定では、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが難しい、という問題が生じていた。
【００１１】
そこで、本発明の目的は、上述した課題である、光弾性体を用いた応力の測定では、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが難しい、という問題を解決することが出来る応力測定システムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
かかる目的を達成するため本発明の一形態である応力測定システムは、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体と、
前記光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部と、
を有する。
【００１３】
また、本発明の他の形態である応力測定方法は、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付された光弾性体にて、当該光弾性体に入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させ、
応力測定装置が、前記光弾性体が反射した反射光を分光し、当該分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する。
【００１４】
また、本発明の他の形態である応力測定装置は、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部を有する。
【００１５】
また、本発明の他の形態であるプログラムは、
コンピュータを、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定手段として機能させる。
【００１６】
また、本発明の他の形態である光弾性体は、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明は、以上のように構成されることにより、光弾性体を用いて応力の測定をする際に、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る応力測定システムの全体の構成を説明するための図である。
【図２】図１で示す光弾性樹脂シートの構成の一例を説明するための図である。
【図３】図１で示す光出射部の構成の一例を説明するための図である。
【図４】図１で示す応力測定装置の構成の一例を説明するためのブロック図である。
【図５】図４で示す撮像部の構成の一例を説明するための図である。
【図６】図４で示す画像情報の一例を示す図である。
【図７】図６で示す画像データ（λ１）、（λ２）の一例である。
【図８】図４で示す応力分布情報の一例を示す図である。
【図９】本発明の第１の実施形態に係る応力測定システムの全体の流れを説明するためのフローチャートである。
【図１０】本発明の第１の実施形態に係る応力測定装置の動作を説明するためのフローチャートである。
【図１１】本発明の第２の実施形態に係る光弾性樹脂シートの構成の一例を説明するための図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係る応力測定システムの全体の構成を説明するための図である。
【図１３】図１２で示す応力測定装置の構成の一例を説明するためのブロック図である。
【図１４】図１３で示す位相差測定部の構成の一例を示す図である。
【図１５】図１３で示す測定位相差情報の一例を示す図である。
【図１６】図１３で示す算出位相差情報の一例を示す図である。
【図１７】本発明の第４の実施形態に係る応力測定システムの構成の概略を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
＜実施形態１＞
本発明の第１の実施形態について、図面を参照して詳細に説明する。
［第１の実施形態］
図１を参照すると、本発明の第１の実施形態における応力測定システム１は、応力を測定する対象となる構造物２（測定対象物）に貼付された光弾性樹脂シート３（光弾性体）からの反射光に基づいて、構造物２に印加されている応力を測定するシステムである。本実施形態においては、まず、光出射部４が出射した複数の波長の光（偏光）を光弾性樹脂シート３にて入射後、反射する。そして、光弾性樹脂シート３にて反射した反射光に基づいて、応力測定装置５（応力測定部）が応力を測定する。後述するように、本実施形態における光弾性樹脂シート３は、異なる位相差を生じさせる複数の光弾性体層を含んでいる。また、光弾性樹脂シート３は、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過した後に反射するよう構成されている。そのため、後述するように、応力測定装置５は、反射光を構成するそれぞれの波長の光に基づいて応力を測定することで、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが可能となる。
【００２０】
図１を参照すると、応力測定システム１は、光弾性樹脂シート３と、光出射部４と、応力測定装置５と、を有している。また、光弾性樹脂シート３は、応力を測定する対象となる構造物２に貼付されている。
【００２１】
構造物２は、本実施形態における応力測定システム１において、応力を測定する対象となる測定対象物である。構造物２は、例えば、ビル、橋梁などのコンクリート建造物や鉄骨建造物などの鋼構造物、土木構造物など様々なものを含みうる。このように、本発明は、構造物２の種類には依存せず実施可能である。そのため、本実施形態においては、構造物２については特に限定しない。
【００２２】
光弾性樹脂シート３は、当該光弾性樹脂シート３に入射した複数の波長の光（偏光）を、波長ごとに異なる位相差を生じさせた上で反射する機能を有している。本実施形態における光弾性樹脂シート３は複数の光弾性体の層（光弾性体層）を含んでおり、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させた後に反射させる。これにより、本実施形態における光弾性樹脂シート３は、入射した光の波長ごとに異なる位相差を生じさせた上で当該入射した光を反射することになる。
【００２３】
具体的には、光弾性樹脂シート３は、例えば、図２で示すように構成されている。図２を参照すると、光弾性樹脂シート３は、例えば、反射層３１と、第１の光弾性体層３２と、波長選択層３３と、第２の光弾性体層３４と、を有している。
【００２４】
また、図２を参照すると、本実施形態における反射層３１は、一方の面で構造物２に貼付されており、他方の面（構造物２に貼付されている面とは反対側の面）で第１の光弾性体層３２に密着している。また、第１の光弾性体層３２は、構造物２側の面で反射層３１に密着している一方で、構造物２とは反対側の面で波長選択層３３と密着している。同様に、波長選択層３３は、構造物２側の面で第１の光弾性体層３２と密着している一方で、構造物２とは反対側の面で第２の光弾性体層３４と密着している。そして、第２の光弾性体層３４は、構造物２側の面で波長選択層３３と密着している。なお、本実施形態においては、後述するように、光出射部４が出射した光は、第２の光弾性体層３４に対して、構造物２側とは反対側の面から入射するように構成されている。つまり、本実施形態における光弾性樹脂シート３は、光出射部４から見ると、第２の光弾性体層３４、波長選択層３３、第１の光弾性体層３２、反射層３１、の順番で積層した構造を有しており、反射層３１で構造物２に貼付されていることになる。
【００２５】
第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４は、それぞれを透過する光に異なる位相差を生じさせる光弾性体である。具体的には、本実施形態における第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４は、互いに異なる光弾性係数を有する光弾性体である。本実施形態においては、第１の光弾性体層３２として、例えば、ポリカーボネート樹脂を用いる。また、第２の光弾性体層３４として、例えば、アクリル樹脂を用いる。ポリカーボネート樹脂の方がアクリル樹脂よりも光弾性係数が大きいため、本実施形態においては、第１の光弾性体層３２の方が、第２の光弾性体層３４よりも大きな光弾性係数を有する光弾性体を用いることになる。なお、第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４は、ポリカーボネート樹脂及びアクリル樹脂以外の光弾性体を用いても構わない。また、第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４は、第２の光弾性体層３４の方が、第１の光弾性体層３２よりも大きな光弾性係数を有する光弾性体を用いるように構成しても構わない。
【００２６】
ここで、偏光の位相差は下記式に基づいて生じることになる。下記式を参照すると、第１の光弾性体層３２を透過した光と、第２の光弾性体層３４を透過した光とでは、第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４の光弾性係数が異なるため、生じる位相差にずれが生じることが分かる。
δ＝２πＣ・ｄ／λ・σ  ［ｒａｄ］
なお、
δ：位相差
Ｃ：光弾性係数
ｄ：光弾性体層の厚さ
λ：光の波長
σ：応力
【００２７】
波長選択層３３は、ある波長の光を透過させる一方で別の波長の光を反射させる機能を有している。波長選択層３３は、例えば、誘電体多層膜などの光学薄膜により構成されている。本実施形態においては、波長選択層３３は、例えば、波長λ１の光を透過させる一方で、別の波長λ２の光を反射させる機能を有している。そのため、波長選択層３３を第１の光弾性体層３２と第２の光弾性体層３４との間に挟むことで、波長λ２の光を第２の光弾性体層３４を透過した後に波長選択層３３で反射させる一方で、波長λ１の光を第２の光弾性体層３４を透過した後に波長選択層３３を透過して第１の光弾性体層３２に入射させることが出来る。
【００２８】
反射層３１は、光を反射する機能を有している。反射層３１は、例えば、アルミなどの金属膜により構成されている。本実施形態においては、反射層３１は、少なくとも波長λ１の光を反射させることが出来るように構成されている。このような構成により、第２の光弾性体層３４、波長選択層３３、第１の光弾性体層３２、を透過した波長λ１の光を反射層３１で反射させることが出来る。なお、光弾性樹脂シート３を貼付する構造物自身が光を反射する性質を有している場合がある。このような場合には、光弾性樹脂シート３は、必ずしも反射層３１を有していなくても構わない。
【００２９】
光弾性樹脂シート３は、例えば、このように構成されている。光弾性樹脂シート３をこのように構成することで、当該光弾性樹脂シート３に入射した後、反射して光弾性樹脂シート３から出射するまでの間に、波長λ１の光に生じる位相差と波長λ２の光に生じる位相差とで大きなずれが生じることになる。具体的には、本実施形態においては、波長λ１の光に生じる位相差の方が波長λ２の光に生じる位相差よりも大きくなることになる。
【００３０】
なお、本実施形態における応力測定システム１は、第２の光弾性体層３４を透過した後に波長選択層３３で反射する波長λ２の光と、第２の光弾性体層３４、波長選択層３３、第１の光弾性体層３２、を透過した後に反射層３１で反射する波長λ１の光と、に基づいて、応力を測定する。また、上記式で示したように、第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４では、応力に応じた位相差を生じさせることになる。そのため、より正確な、構造物２に印加されている応力を測定するためには、第１の光弾性体層３２と、第２の光弾性体層３４とには、同程度の応力が印加されていることが望ましい。従って、第１の光弾性体層３２と、第２の光弾性体層３４とは、異なる光弾性係数を有しつつ同程度の硬さ（ヤング率、縦弾性係数）を有する光弾性体を用いることが望ましいことになる。
【００３１】
また、本実施形態においては、上記のように、第２の光弾性体層３４のみを透過した後反射する波長λ２の光と、第２の光弾性体層３４及び第１の光弾性体層３２を透過した後に反射する波長λ１の光と、に基づいて応力を測定することになる。そのため、第１の光弾性体層３２として、第２の光弾性体層３４よりも大きな光弾性係数を有する光弾性体を用いることで、位相差のずれを大きくすることが出来る。その結果、より幅広い値を持つ応力を測定することが可能となる場合があると考えられる。以上より、第１の光弾性体層３２としては、第２の光弾性体層３４よりも大きな光弾性係数を有する光弾性体を用いることが望ましい。
【００３２】
また、本実施形態においては、光弾性樹脂シート３の構成の一例として、第１の光弾性体層３２と、第２の光弾性体層３４と、の２つの光弾性体を有する場合について説明した。しかしながら、本発明の実施は、上記説明した場合に限定されない。光弾性樹脂シート３は、３以上の光弾性体を含んで構成されていても構わない。
【００３３】
光出射部４は、偏光させた複数の波長の光を出射する機能を有している。具体的には、本実施形態における光出射部４は、光弾性樹脂シート３の第２の光弾性体層３４（構造物２側とは反対側の面）に向かって、当該第２の光弾性体層３４に対して直角方向から、偏光させた２つの波長（λ１、λ２）を含む光を出射することが出来るよう構成されている。なお、後述するように、本実施形態における光出射部４は、円偏光を出射するよう構成されている。しかしながら、光出射部４は、例えば、直線偏光を出射するよう構成されていても構わない。
【００３４】
図３を参照すると、光出射部４は、例えば、光源４１と、偏光板４２と、１／４波長板４３と、を有している。また、図３で示すように、本実施形態における光出射部４は、光源４１から出射した光が、偏光板４２を通過した後に１／４波長板４３を通過するように構成されている。
【００３５】
光源４１は、複数の波長の光（本実施形態においては、λ１とλ２の２つの波長を含む光）を出射する機能を有している。また、偏光板４２は、特定方向に偏光した光のみを通過させる機能を有している。そして、１／４波長板４３は、入射光の位相面にπ／２の位相差を与える機能を有している。このような構成により、光源４１を出射した光を偏光板４２に通過させることで、まず、光源４１が出射した光から直線偏光を取り出す。そして、当該取り出した直線偏光を１／４波長板４３に入射することで、直線偏光を円偏光に変える。つまり、本実施形態における光出射部４は、上記構成を有することで、複数の波長を有する円偏光を出射することが出来る。
【００３６】
なお、直線偏光を出射することが出来るように光出射部４を構成する際には、１／４波長板４３を取り外すことになる。また、位相シフト法などを行う際には、偏光板４２や１／４波長板４３を回転させることが可能なよう構成することになる。このように、光出射部４の構成は、上記で説明した場合に限定されない。光出射部４の構成は、光弾性法の種類などに応じて適宜変更することが出来る。
【００３７】
応力測定装置５は、光弾性樹脂シート３からの反射光に基づいて、構造物２に印加されている応力を測定する機能を有している。本実施形態における応力測定装置５は、後述するように、第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４の位相差の生じやすさの関係に応じて、構造物２に印加されている応力を測定することになる。図４を参照すると、応力測定装置５は、主な構成要素として、撮像部５１と、通信Ｉ／Ｆ部５２と、操作入力部５３と、画面表示部５４と、記憶部５５と、演算処理部５６と、を有している。
【００３８】
撮像部５１は、デジタルカメラやデジタルビデオカメラなどの画像撮影装置からなり、光弾性樹脂シート３からの反射光に応じて光弾性画像を撮像する（画像情報５５１を取得する）機能を有している。後述するように、本実施形態における撮像部５１は分光手段５１３２を有しており、分光して得るそれぞれの波長（本実施形態においてはλ１とλ２）の光の光弾性画像を撮像することになる。
【００３９】
具体的には、撮像部５１は、例えば、図５で示すように構成されている。図５を参照すると、撮像部５１は、例えば、１／４波長板５１１と、偏光板５１２と、撮像装置５１３と、を有している。また、図５で示すように、本実施形態における撮像部５１は、光弾性樹脂シート３からの反射光が、１／４波長板５１１を通過した後に偏光板５１２を通過して撮像装置５１３へと届くよう構成されている。
【００４０】
１／４波長板５１１及び偏光板５１２は、上述した光出射部４が有する偏光板４２及び１／４波長板４３と同様の機能を有している。つまり、１／４波長板５１１は、入射光の位相面にπ／２の位相差を与える機能を有している。また、偏光板５１２は、特定方向に偏光した光のみを通過させる機能を有している。上記機能を有する１／４波長板５１１及び偏光板５１２を、光出射部４の偏光板４２及び１／４波長板４３に応じて設置することで、応力測定システム１は、円偏光を用いて光弾性の検査を行うことが出来ることになる。
【００４１】
撮像装置５１３は、光弾性樹脂シート３からの反射光（複数の波長の偏光）を分光して、それぞれの波長の光弾性画像を撮像する機能を有している。図５を参照すると、本実施形態における撮像装置５１３は、例えば、レンズ５１３１と、分光手段５１３２と、撮像素子５１３３と、撮像素子５１３４と、を有している。図５で示すように、想像装置５１３においては、レンズ５１３１を通過した光が分光手段５１３２で波長に応じて分光される。そして、分光手段５２３２で分光されたそれぞれの波長の光に応じて、撮像素子５１３３及び撮像素子５１３４で光弾性画像を撮像する。本実施形態においては、分光手段５１３２は、波長λ１の光と波長λ２の光とを分光するよう構成されており、波長λ１の光に応じて撮像素子５１３３で光弾性画像を撮像する一方で、波長λ２の光に応じて撮像素子５１３４で光弾性画像を撮像することになる。このように、本実施形態における撮像装置５１３は、２つの波長（λ１、λ２）のそれぞれの光に応じた光弾性画像を撮像することが出来るよう構成されている。なお、撮像装置５１３は、３つ以上の波長のそれぞれの光に応じた光弾性画像を撮像することが出来るように構成されていても構わない。
【００４２】
レンズ５１３１は、光を屈折させて収束させるための光学素子であり、入射した光（光弾性樹脂シート３からの反射光）を集光する機能を有している。また、分光手段５１３２は、例えば、ダイクロイックプリズムなどの分光素子であり、レンズ５１３１を通過した光を波長ごとに分光する機能を有している。上記のように、本実施形態における分光手段５１３２は、波長λ１の光を撮像素子５１３３へ、波長λ２の光を撮像素子５１３４へ、と分光することになる。撮像素子５１３３、５１３４は、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ  Ｃｏｕｐｌｅｄ  Ｄｅｖｉｃｅ）イメージセンサやＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ  Ｍｅｔａｌ−Ｏｘｉｄｅ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）イメージセンサなどの光電変換素子であり、分光手段５１３２で波長ごとに分光された光を電気信号に変換する機能を有している。このような構成により、レンズ５１３１を通過した光は、分光手段５１３２で分光されることになる。これにより、波長λ１の光は撮像素子５１３３へと届く一方で、波長λ２の光は撮像素子５１３４へと届くことになる。その結果、撮像素子５１３３にて、波長λ１の光に応じた光弾性画像を撮像することが出来る一方で、撮像素子５１３４にて、波長λ２の光に応じた光弾性画像を撮像することが出来る。
【００４３】
撮像部５１は、上記のような構成をしている。また、本実施形態における撮像部５１は、予め定められた間隔で波長λ１の光に応じた光弾性画像と波長λ２の光に応じた光弾性画像とを撮像することで、時系列で光弾性画像を撮像することが出来るよう構成されている。
【００４４】
なお、撮像部５１の構成は、光出射部４の構成と同様に、光弾性法の種類などに応じて適宜変更することが出来る。つまり、撮像部５１は、必ずしも１／４波長板５１１や偏光板５１２を有していなくとも構わない。また、撮像部５１は、撮像素子５１３３及び撮像素子５１３４にて、１枚又は予め定められた数の光弾性画像を撮像するように構成しても構わない。
【００４５】
通信Ｉ／Ｆ部５２は、専用のデータ通信回路からなり、通信回線を介して接続された各種装置との間でデータ通信を行う機能を有している。
【００４６】
操作入力部５３は、キーボードやマウスなどの操作入力装置からなり、オペレータの操作を検出して演算処理部５６に出力する機能を有している。
【００４７】
画面表示部５４は、ＬＣＤ（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ）やＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）などの画面表示装置からなる。画面表示部５４は、演算処理部５６からの指示に応じて、光弾性画像５１３３、５１３４にて撮像した光弾性画像などの各種情報を画面表示する機能を有している。
【００４８】
記憶部５５は、ハードディスクやメモリなどの記憶装置である。記憶部５５は、演算処理部５６における各種処理に必要な処理情報やプログラム５５３を記憶する機能を有している。プログラム５５３は、演算処理部５６に読み込まれて実行されることにより各種処理部を実現するプログラムである。プログラム５５３は、通信Ｉ／Ｆ部５２などのデータ入出力機能を介して外部装置（図示せず）や記憶媒体（図示せず）から予め読み込まれ、記憶部５５に保存されている。記憶部５５で記憶される主な情報としては、画像情報５５１と応力分布情報５５２とがある。
【００４９】
画像情報５５１は、撮像部５１が撮像することで取得した、光弾性画像の画像データを示す情報である。図６は、画像情報５５１の構成例である。図６を参照すると、画像情報５５１は、波長ごとの光弾性画像を示す画像データと、当該画像データを識別するための情報である画像ＩＤと、が対応付けられた情報である。上述したように、本実施形態における撮像部５１は、光弾性樹脂シート３からの反射光を分光して、波長λ１の光に応じた光弾性画像と、波長λ２の光に応じた光弾性画像と、を撮像する。そのため、本実施形態における画像情報５５１は、波長λ１の光に応じた光弾性画像を示す画像データ（λ１）と波長λ２の光に応じた光弾性画像を示す画像データ（λ２）とが、画像ＩＤと対応付けられた情報であるということになる。例えば、図６の１行目は、画像ＩＤ「１」と、画像データ（λ１）である「Ｉ１」と、画像データ（λ２）である「ｉ１」と、が対応付けられていることを示している。
【００５０】
なお、画像情報５５１は、例えば、後述する画像取得部５６１による画像データの取得時刻が古い順（撮像部５１による撮像時刻が古い順）で、光弾性画像を示す画像データ（λ１）及び画像データ（λ２）を対応付けている。例えば、図６を参照すると、画像ＩＤ「１」に対応する画像データ（λ１）「Ｉ１」、画像データ（λ２）「ｉ１」が取得された後に、画像ＩＤ「２」に対応する画像データ（λ１）「Ｉ２」、画像データ（λ２）「ｉ２」が取得されたことを示している。また、画像情報５５１には、撮像部５１が光弾性画像を撮像した時刻や画像取得部５６１が画像データを取得した時刻を示す情報が含まれていても構わない。
【００５１】
また、下記式で示すように、本実施形態のような構成の場合、光の強度は位相差が２πの倍数になるごとに０になる（暗くなる）ことが知られている。
Ｉ＝α２ｓｉｎ２２φｓｉｎ２δ／２
なお、
Ｉ＝光強度
α＝光弾性感度（光弾性係数に応じた値）
φ＝主応力の傾き（角度）
δ＝位相差
【００５２】
そして、上述したように、光弾性樹脂シート３を反射した波長λ１の光には、波長λ２の光に生じる位相差よりも大きな位相差が生じている。そのため、画像データ（λ１）が示す光弾性画像には、画像データ（λ２）が示す光弾性画像よりも多くの明暗模様（縞）が生じていることになる。図７は、本実施形態における画像情報５５１に記憶されている画像データ（λ１）及び画像データ（λ２）の一例である。図７で示すように、本実施形態においては、画像データ（λ１）の方が画像データ（λ２）よりも縞の数（縞次数）が大きい画像データを記憶していることになる。
【００５３】
応力分布情報５５２は、画像情報５５１を用いて算出される、光弾性画像（画像データ）が示す範囲内における応力の分布を示す情報である。図８は、応力分布情報５５２の構成例である。図８を参照すると、応力分布情報５５２は、応力分布データと、当該応力分布データを識別するための情報である応力ＩＤと、が対応付けられた情報である。例えば、図８の１行目は、応力ＩＤ「１」と応力分布データ「Σ１」とが対応付けられていることを示している。
【００５４】
なお、後述する応力分布算出部５６２は、画像情報５５１が示す、波長λ１の光に応じた光弾性画像を示す画像データ（λ１）と波長λ２の光に応じた光弾性画像を示す画像データ（λ２）とに基づいて、応力分布データを算出する。そのため、応力分布情報５５２には、画像情報５５１に対応する情報（応力分布データ）が含まれていることになる。例えば、応力分布情報５５２の応力ＩＤ「１」に対応する応力分布データ「Σ１」は、画像ＩＤ「１」に対応する画像データ（λ１）「Ｉ１」、画像データ（λ２）「ｉ１」に基づいて算出された応力分布データであることを示している。
【００５５】
また、応力分布情報５５２は、応力ＩＤの代わりに、応力分布データを算出する基となる画像データを取得した（撮像した）時刻と、応力分布データとが対応付けられた情報でも構わない。また、画像情報５５１と応力分布情報５５２とは、共通のＩＤを用いて画像データ及び応力分布データを管理するように構成しても構わない。
【００５６】
演算処理部５６は、ＭＰＵなどのマイクロプロセッサとその周辺回路を有し、記憶部５５からプログラム５５３を読み込んで実行することにより、上記ハードウェアとプログラム５５３とを協働させて各種処理部を実現する機能を有している。図４を参照すると、演算処理部５６で実現される主な処理部として、画像取得部５６１と応力分布算出部５６２と、がある。
【００５７】
画像取得部５６１は、撮像部５１から光弾性画像を示す画像データを取得して、記憶部５５に画像情報５５１として当該取得した画像データを保存する機能を有する。つまり、画像取得部５６１は、撮像部５１から画像データ（λ１）と画像データ（λ２）とを取得する。そして、画像取得部５６１は、当該取得した画像データ（λ１）及び画像データ（λ２）を記憶部５５に画像情報５５１として保存する。
【００５８】
応力分布算出部５６２は、記憶部５５から画像情報５５１を読み出し、画像情報５５１が示す画像データ（λ１）と画像データ（λ２）とに基づいて、応力分布データを算出する機能を有する。また、応力分布算出部５６２は、算出した応力分布データに基づいて、各場所の応力を算出（測定）する機能を有することが出来る。さらに、応力分布算出部５６２は、算出した応力分布データや各部の応力を、記憶部５５に応力分布情報５５２として保存したり、画面表示部５４に表示したりする機能を有することが出来る。
【００５９】
上述したように、本実施形態における画像情報５５１は、画像データ（λ１）と、画像データ（λ２）とが対応付けられた情報である。また、画像データ（λ１）は、画像データ（λ２）よりも大きな縞次数を有する画像データである。そこで、応力分布算出部５６２は、画像データ（λ２）を用いて大きなレンジの応力分布を算出した後に、画像データ（λ１）を用いて小さなレンジの応力分布を算出する。例えば、応力分布算出部５６２は、まず、画像データ（λ２）を用いて、予め定められた閾値（例えば、画像データ（λ２）で算出可能な応力を示す閾値）よりも大きな応力についての応力分布を算出する。その後、応力分布算出部５６２は、画像データ（λ１）を用いて、上記閾値以下の応力についての応力分布を算出する。このような構成により、応力分布算出部５６２は、より幅広い値を持つ応力を測定することが可能となる。つまり、応力分布算出部５６２は、同程度の応力でより小さな位相差が生じている（つまり縞次数の小さな）画像データ（λ２）を用いて大きな応力分布を算出した後に、同程度の応力でより大きな位相差が生じている（つまり縞次数の大きな）画像データ（λ１）を用いて小さな応力分布を算出する。その結果、応力分布算出部５６２は、大きな応力分布を正確に算出しつつ、小さな応力分布も正確に算出することが可能となる。
【００６０】
このように、応力分布算出部５６２は、画像データ（λ２）を用いて大レンジの応力分布を算出した後に、画像データ（λ１）を用いて小レンジの応力分布を算出する。これにより、応力分布算出部５６２は、応力分布データを算出する。ここで、画像データ（λ２）及び画像データ（λ１）の（縞次数の）違いは、波長λ１と波長λ２のそれぞれの波長の光に生じている位相差の違いに起因して起こるものである。つまり、応力分布算出部５６２は、波長λ１の光に生じている位相差と波長λ２の光に生じている位相差との関係に応じて、構造物２に印加されている応力分布を算出していることになる。そして、応力分布算出部５６２は、算出結果に基づいて各部の応力を算出し、算出結果を応力分布情報５５２として記憶部５５に記憶させる。また、応力分布算出部５６２は、例えば、算出結果を画面表示部５４に表示させたり、通信Ｉ／Ｆ部５２を介して接続されている外部装置へと応力分布データを送信したりする。
【００６１】
なお、応力分布算出部５６２による各部の応力の算出は、主応力差を用いたせん断応力差積分法などの一般的な方法を用いて行うことが出来る。そのため、詳細な説明は省略する。
【００６２】
また、上述したように、本実施形態においては、撮像部５１は、時系列で光弾性画像を撮像する。その結果、画像情報５５１には、時系列の画像データが記憶されていることになる。そのため、応力分布算出部５６２は、時系列の画像データに基づいて、順次応力を算出することが出来る。これにより、応力分布情報５５２には、時系列の応力分布データが含まれることになる。
【００６３】
以上が、応力測定システム１の構成についての説明である。
【００６４】
ここで、波長λ１の光と波長λ２の光とに生じる位相差のずれの一例について、実際の数値を用いて説明する。上述したように、本実施形態における第１の光弾性体層３２はポリカーボネート樹脂であり、第２の光弾性体層３４はアクリル樹脂である。また、以下においては、このような構成の光弾性樹脂シート３に、１％の歪を与えつつ、波長λ１＝５００ｎｍの光と波長λ２＝６００ｎｍの光とを入射した場合に生じる位相差のずれの一例について説明する。その他計算に必要な数値も含めた、具体的な数値の一例を下記に示す。
【００６５】
ポリカーボネート樹脂（第１の光弾性体層）
光弾性係数  Ｃ：７７×１０−１２／Ｐａ
ヤング率  Ｅ：２．４ＧＰａ
歪  ε＝１％
応力  σ＝Ｅ・ε＝２４ＭＰａ
厚さ  ：０．５ｍｍ（往復でｄ＝１ｍｍ）
アクリル樹脂（第２の光弾性体層）
光弾性係数  Ｃ：６×１０−１２／Ｐａ
ヤング率  Ｅ：２．４ＧＰａ
歪  ε＝１％
応力  σ＝Ｅ・ε＝２４ＭＰａ
厚さ  ：０．５ｍｍ（往復でｄ＝１ｍｍ）
【００６６】
上記値を、上述した位相差を算出する式に当てはめると、以下のようになる。
波長λ１＝５００ｎｍの場合：
上述したように、本実施形態における波長λ１の光は、波長選択層３３を透過する。そのため、第１の光弾性体層であるポリカーボネート層及び第２の光弾性体層であるアクリル層の双方で位相差が生じることになる。その結果、
アクリル層で生じる位相差：δ＝２πＣ・σ・ｄ／λ≒０．５８π
ポリカーボネート層で生じる位相差：δ＝２πＣ・σ・ｄ／λ≒７．３９π
となり、合計で７．９７πの位相差が生じることになる。
【００６７】
一方で、波長λ２＝６００ｎｍの場合：
上述したように、本実施形態における波長λ２の光は、第２の光弾性体層３４を透過した後に、波長選択層３３で反射する。そのため、波長λ２の光は、第２の光弾性体層であるアクリル層のみで位相差が生じることになる。その結果、
アクリル層で生じる位相差：δ＝２πＣ・σ・ｄ／λ＝０．４８π
となる。つまり、０．４８πの位相差が生じることになる。
【００６８】
このように、同じ範囲内に出射した光であっても、波長が異なることで、１０倍以上の位相差のずれを生じさせることが可能となる。その結果、同一の応力分布でも波長により位相密度（縞の密度）が何倍も異なることになる。これにより、縞の密度が何倍にも異なる画像データを用いて応力分布を算出することが可能となり、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に算出することが可能となる。
【００６９】
次に、応力測定システム１の流れについて説明する。図９は、本実施形態に係る応力測定システム１の全体の流れを示すフローチャートである。以下、図９を参照して、応力測定システム１の全体の流れについて説明する。
【００７０】
図９を参照すると、まず、光出射部４が、偏光した（円偏光の）波長λ１の光と波長λ２の光とを光弾性樹脂シート３に向かって出射する（ステップＳ００１）。具体的には、まず、光源４１が波長λ１の光と波長λ２の光とを出射する。次に、光源４１が出射した光を偏光板４２に通すことで、光源４１が出射した光から直線偏光を取り出す。そして、取り出した直線偏光を１／４波長板４３に通すことで、円偏光にする。このような流れで、光出射部４は、円偏光（波長λ１、λ２）を光弾性樹脂シート３に向かって出射する。
【００７１】
次に、光出射部４が出射した光を、構造物２に貼付された光弾性樹脂シート３により、波長ごとに異なる位相差を生じさせた上で反射する（ステップＳ００２）。具体的には、光弾性樹脂シート３は、波長λ１の光を、第２の光弾性体層３４、波長選択層３３、第１の光弾性体層３２、を透過させた上で、反射層３１で反射する。一方で、光弾性樹脂シート３２は、波長λ２の光を、第２の光弾性体層３４を透過させた上で、波長選択層３３で反射する。これにより、光弾性樹脂シート３は、波長λ１の光と波長λ２の光とに異なる位相差を生じさせた上で、当該波長λ１の光と波長λ２の光とを反射することになる。
【００７２】
そして、応力測定装置５は、光弾性樹脂シート３からの反射光に基づいて、構造物２に印加されている応力分布を算出する（ステップＳ００３）。このような動作により、応力測定システム１は、構造物２に貼付された光弾性樹脂シート３からの反射光に基づいて、構造物２に印加されている応力を測定することが出来る。
【００７３】
ここで、応力測定装置５の動作（反射光に基づく応力の測定の動作の流れ）の一例について、より詳細に説明する。図１０は、本実施形態に係る応力測定装置５の動作の一例を示すフローチャートである。以下、図１０を参照して、応力測定装置５の動作の一例について説明する。
【００７４】
図１０を参照すると、まず、応力測定装置５の撮像部５１が、光弾性樹脂シート３からの反射光を波長λ１の光と波長λ２の光とに分光した上でそれぞれの波長の光に応じた光弾性画像を撮像する（ステップＳ１０１）。具体的には、撮像部５１は、１／４波長板５１１、偏光板５１２を通過した光を撮像装置５１３に入射させる。そして、撮像装置５１３では、レンズ５１３１を通過した光を分光手段５１３２により波長λ１の光と波長λ２の光とに分光させた上で、撮像素子５１３３、５１３４により、それぞれの波長の光に応じた光弾性画像を撮像する。
【００７５】
次に、撮像部５１が撮像した波長λ１の光に応じた光弾性画像を示す画像データ（λ１）と、波長λ２の光に応じた光弾性画像を示す画像データ（λ２）と、を画像取得部５６１が記憶部５５に画像情報５５１として記憶させる。
【００７６】
続いて、応力分布算出部５６２は、記憶部５５に画像情報５５１として記憶されている画像データ（λ１）及び画像データ（λ２）を用いて、応力分布を算出する。つまり、応力分布算出部５６２は、まず、画像データ（λ２）を用いて大きなレンジの応力分布を算出する（ステップＳ１０２）。次に、応力分布算出部５６２は、画像データ（λ１）を用いて小さなレンジの応力分布を算出する（ステップＳ１０３）。具体的には、応力分布算出部５６２は、例えば最初に、画像データ（λ２）を用いて、予め定められた閾値（例えば、画像データ（λ２）で算出可能な応力を示す閾値）よりも大きな応力についての応力分布を算出する。続いて、応力分布算出部５６２は、画像データ（λ１）を用いて、上記閾値以下の応力についての応力分布を算出する。そして、応力分布算出部５６２は、画像データ（λ２）を用いて算出した応力分布データと画像データ（λ１）を用いて算出した応力分布データとを合算する。その後、応力分布算出部５６２は、算出した応力分布を示す応力分布データを応力分布情報５５２として記憶部５５に記憶させる。また、応力分布算出部５６２は、算出した応力分布を示す応力分布データに基づいて、各部の応力を算出することが出来る。
【００７７】
本実施形態における撮像部５１は、上述したように、時系列で画像データを撮像するよう構成されている。そのため、応力測定装置５は、上記動作を繰り返すことになる。その結果、時系列の応力分布データが算出され、当該算出された時系列の応力分布データが記憶部５５に応力分布情報５５２として記憶されたり、外部へと出力されたりすることになる（ステップＳ１０４）。
【００７８】
以上が、応力測定装置５の動作の一例である。
【００７９】
このように、本実施形態における応力測定システム１は、光弾性樹脂シート３と、応力測定装置５と、を有している。また、光弾性樹脂シート３は、第１の光弾性体層３２と第２の光弾性体層３４とを有しており、波長λ１の光を第２の光弾性体層３４を透過させた後に反射させる一方で、波長λ２の光を第２の光弾性体層３４及び第１の光弾性体層３２を透過させた後に反射させるよう構成されている。そして、応力測定装置５は、光弾性樹脂シート３からの反射光を、波長λ１の光と波長λ２の光とに分光させた上で、それぞれの波長の光に応じた光弾性画像に基づいて応力分布データを算出するよう構成されている。このような構成により、応力測定システム１は、同じ応力で小さな位相差を生じている波長λ２の光に応じた光弾性画像に基づいて、大きなレンジの応力分布を算出することが出来る。また、応力測定システム１は、同じ応力で大きな位相差を生じている波長λ１の光に応じた光弾性画像に基づいて、小さなレンジの応力分布を算出することが出来る。一般に、光弾性法を用いて応力を測定する際には縞次数を測定する必要があるが、位相差の生じやすい光弾性体を用いた場合、縞が潰れてしまう虞がある。一方で、位相差の生じにくい光弾性体を用いた場合、小さな応力を正確に測定することが難しくなる。そこで、本発明のように構成することで、より幅広い値を持つ応力分布データを算出することが可能となる。また、その結果、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが可能となる。
【００８０】
また、本実施形態における応力測定システム１は、第２の光弾性体層３４として、第１の光弾性体層３２よりも小さな位相差を生じさせる光弾性体を用いている。このような構成により、第２の光弾性体層３４を透過した後に反射する波長λ２に生じる位相差と、第２の光弾性体層３４及び第１の光弾性体層３２を透過した後に反射するλ１に生じる位相差と、のずれがより大きくなることになる。その結果、より幅広い範囲の応力を正確に測定することが可能となる。
【００８１】
なお、本実施形態においては、光弾性樹脂シート３を構成する、反射層３１、第１の光弾性体層３２、波長選択層３３、第２の光弾性体層３４、のそれぞれを密着させるとした。上記各構成は、例えば、光学接着剤などで接着することで、相互に密着させることが考えられる。ここで、光学接着材で接着することにより、第１の光弾性体層３２に印加される応力と第２の光弾性体層３４に印加される応力とに差が出ることが懸念される。このような問題を防ぐため、光弾性樹脂シート３を構成する各構成を密着させる際には、第１の光弾性体層３２及び第２の光弾性体層３４と同等のヤング率を有する光学接着剤を用いて密着させることが望ましい。
【００８２】
また、本実施形態においては、応力測定システム１は、光出射部４と応力測定装置５とを別々に備えるとした。しかしながら、本発明の実施は上記場合に限定されない。応力測定システム１は、光出射部４としての機能を有する応力測定装置５を備えていても構わない。
【００８３】
また、本実施形態においては、応力測定システム１の応力測定装置５が光弾性画像に基づいて応力を測定する場合について説明した。しかしながら、応力測定装置５の構成は、光弾性画像を用いる場合に限定されない。応力測定システム１は、例えば、光弾性樹脂シート３からの反射光に生じている位相差を直接測定して、当該測定した位相差に基づいて応力を測定するように構成しても構わない。
【００８４】
次に本発明の第２の実施形態について図面を参照して詳細に説明する。
[第２の実施形態]
第２の実施形態では、光弾性樹脂シートの別の構成の一例について説明する。なお、本実施形態においては、光弾性樹脂シート以外の構成は第１の実施形態と同様の構成を有している。そのため、以下においては、本実施形態の特徴となる光弾性樹脂シート６について説明する。
【００８５】
図１１を参照すると、本実施形態における光弾性樹脂シート６は、反射層３１と、第１の光弾性体層６２と、波長選択層３３と、第２の光弾性体層６４と、を有している。反射層３１と、第１の光弾性体層６２と、波長選択層３３と、第２の光弾性体層６４と、は、第１の実施形態と同様の順番で積層する（互いに密着する）構造をしている。なお、反射層３１及び波長選択層３３は、第１の実施形態と同様の構成であるため、第１の実施形態と同じ符号を付すこととする。以下、第１の実施形態と異なる構成である、第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４の構成について説明する。
【００８６】
第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４は、入射した光に異なる位相差を生じさせる光弾性体である。具体的には、本実施形態における第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４は、互いに異なる厚さを有する光弾性体である。そのため、本実施形態における第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４は、同じ種類の（同じ光弾性係数を有する）光弾性体を用いても構わない。
【００８７】
ここで、第１の実施形態で説明した位相差を求める式を参照すると、第１の光弾性体層６２を透過した光と、第２の光弾性体層６４を透過した光とでは、第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４の厚さが異なるため、生じる位相差にずれが生じることが分かる。つまり、第１の光弾性体層６２と第２の光弾性体層６４とは、必ずしも異なる光弾性係数を有する（異なる種類の）光弾性体を用いなくても、生じる位相差にずれを生じさせることが出来ることが分かる。
【００８８】
このように、本実施形態における光弾性樹脂シート６は、互いに異なる厚さを有する光弾性体層を有している。このような構成でも、光弾性樹脂シート６は、波長に応じて異なる位相差を生じさせた上で入射した光を反射させることが出来る。そのため、第１の実施形態と同様に、幅広い範囲の応力を正確に測定することが出来る。
【００８９】
なお、第１の実施形態と同様に、第２の光弾性体層６４のみを透過した後反射する波長の光に生じる位相差と、第２の光弾性体層６４及び第１の光弾性体層６２を透過した後に反射する波長の光に生じる位相差と、の差が大きいほど、より幅広い応力を測定することが可能となる可能性があることになる。そのため、第２の光弾性体層６４は、第１の光弾性体層６２よりも薄くすることが望ましい。このように構成することで、波長λ１の光に生じる位相差と、波長λ２の光に生じる位相差と、のずれをより大きくすることが出来る。
【００９０】
また、本実施形態においては、光弾性樹脂シート６の構成の一例として、第１の光弾性体層６２と、第２の光弾性体層６４と、の２つの光弾性体を有する場合について説明した。しかしながら、本発明の実施は、上記説明した場合に限定されない。光弾性樹脂シート６は、厚さの異なる３以上の光弾性体を含んで構成されていても構わない。
【００９１】
また、第１の光弾性体層６２と第２の光弾性体層６４とは、異なる光弾性係数を有しつつ異なる厚さの光弾性体を使うことで、より大きな位相差を生じさせることが出来るようになる。第１の光弾性体層６２と第２の光弾性体層６４とは、異なる光弾性係数を有し（異なる種類であり）、かつ、厚さも異なる光弾性体を用いても構わない。
【００９２】
また、仮に第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４が同じ厚さで同じ光弾性係数を有していたとしても、第２の光弾性体層６４のみを透過した後反射する波長の光に生じる位相差と、第２の光弾性体層６４及び第１の光弾性体層６２を透過した後に反射する波長の光に生じる位相差と、では、ずれが生じることになる。そのため、本実施形態においては、第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４は異なる厚さを有するとしたが、本発明の実施は、必ずしもそのような場合に限定されない。第１の光弾性体層６２及び第２の光弾性体層６４は、同じ厚さと同じ光弾性係数を有する光弾性体を用いても構わない。
【００９３】
また、第１の実施形態で説明した位相差を求める式を参照すると、光の波長が異なるだけでも、異なる位相差が生じることが分かる。そのため、光弾性樹脂シートは、１つの種類の光弾性体のみから構成されていても構わない。単一材料で構成された光弾性樹脂シートを用いた場合でも、波長を分光して大きなレンジによる応力分布を算出した後に小さなレンジによる応力分布を算出することが出来る。
【００９４】
次に本発明の第３の実施形態について図面を参照して説明する。
[第３の実施形態]
第１の実施形態及び第２の実施形態では、撮像した光弾性画像に基づいて構造物２に印加されている応力を測定するシステムについて説明した。しかしながら、上述した偏光に生じる位相差の式で示したように、偏光に生じている位相差を直接測定可能であれば、必ずしも光弾性画像を用いなくても応力を測定することは可能である。そこで、本実施形態においては、第１の実施形態及び第２の実施形態の変形例として、後述する応力測定装置８を用いて位相差を直接測定する場合について説明する。
【００９５】
図１２で示すように、本実施形態における応力測定システム７は、光弾性樹脂シート３と、光出射部４と、応力測定装置８と、を有している。また、光弾性樹脂シート３は、応力を測定する対象となる構造物２に貼付されている。
【００９６】
第１の実施形態及び第２の実施形態と同様に、光出射部４が出射した光は、光弾性樹脂シート３に入射した後に当該光弾性樹脂シート３にて反射する。そして、光弾性樹脂シート３を反射した光に基づいて、応力測定装置８が応力を測定する。後述するように、本実施形態における応力測定装置８は、反射光に生じている位相差をそれぞれの波長ごとに測定可能なよう構成されている。そのため、本実施形態における応力測定装置８は、測定したそれぞれの波長の光に生じている位相差に基づいて、応力を測定することになる。なお、光弾性樹脂シート３と、光出射部４と、は、既に説明した構成と同様であるため、同じ符号を付すこととする。つまり、光出射部４は、波長λ１の光と波長λ２の光とを出射するものとする。以下、本実施形態の特徴となる応力測定装置８の構成について説明する。
【００９７】
応力測定装置８は、光弾性樹脂シート３からの反射光に基づいて、構造物２に印加されている応力を測定する機能を有している。具体的には、本実施形態における応力測定装置８は、反射光に生じている位相差を測定し、当該測定した位相差に基づいて応力を測定することになる。図１３を参照すると、応力測定装置８は、主な構成要素として、位相差測定部８１と、通信Ｉ／Ｆ部５２と、操作入力部５３と、画面表示部５４と、記憶部８５と、演算処理部８６と、を有している。なお、既に説明した構成と同様の構成については、同じ符号を付すこととする。そのため、以下においては、位相差測定部８１と、記憶部８５と、演算処理部８６と、について説明する。
【００９８】
位相差測定部８１は、光弾性樹脂シート３からの反射光に生じている位相差を測定する機能を有している。具体的には、本実施形態における位相差測定部８１は、複数の波長の光を分光した上で、それぞれの波長の光に生じている、光出射部４が出射した光と位相差測定部８１にて測定した光との間に生じている位相差を測定する。例えば、図１４（Ａ）を参照すると、位相差測定部８１は、偏光板８１１と撮像素子８１２とを有している。位相差測定部８１は、このような構成により、偏光板８１１を回転させて透過光量の変化を撮像素子８１２で測定することで、偏光を計測し当該偏光に生じている位相差を測定する。つまり、本実施形態における位相差測定部８１は、光弾性樹脂シート３からの反射光を分光して、当該分光した偏光を計測することで、波長λ１の光に生じている位相差と、波長λ２の光に生じている位相差と、を測定することになる。なお、光を分光する手段は、第１の実施形態及び第２の実施形態と同様のため省略する。また、位相差測定部８１は、例えば図１４（Ｂ）で示すように、偏光板８１１と撮像素子８１２とに加えて、所定の波長板８１３を有していても構わない。また、この場合には、位相差測定部８１は、偏光板８１１の代わりに波長板８１３を回転させて位相差を測定するように構成することが出来る。また、位相差測定部８１は、偏光板８１１を回転させる代わりに、光学軸方向の異なる偏光板８１１と撮像素子８１２とを複数並べて配置するよう構成しても構わない。
【００９９】
記憶部８５は、ハードディスクやメモリなどの記憶装置である。記憶部８５は、演算処理部８６における各種処理に必要な処理情報やプログラム８５３を記憶する機能を有している。プログラム８５３は、演算処理部８６に読み込まれて実行されることにより各種処理部を実現するプログラムである。プログラム８５３は、通信Ｉ／Ｆ部５２などのデータ入出力機能を介して外部装置（図示せず）や記憶媒体（図示せず）から予め読み込まれ、記憶部８５に保存されている。記憶部８５で記憶される主な情報としては、測定位相差情報８５１と算出位相差情報８５２とがある。
【０１００】
測定位相差情報８５１は、位相差測定部８１が測定した（測定位相差情報取得部８６１が取得した）位相差を示す情報である。図１５は、測定位相差情報８５１の構成例である。図１５を参照すると、測定位相差情報８５１には、波長ごとに測定された位相差を示す測定位相差データと、当該測定位相差データを識別するための情報である位相差ＩＤと、が含まれている。上述したように、本実施形態における位相差測定部８１は、光弾性樹脂シート３からの反射光を分光して、波長λ１の光に生じている位相差と、波長λ２の光に生じている位相差と、を測定する。そのため、本実施形態における測定位相差情報８５１は、波長λ１の光に生じている位相差を示す測定位相差データ（λ１）と波長λ２の光に生じている位相差を示す測定位相差データ（λ２）とを、位相差ＩＤと対応付けた情報であるということになる。例えば、図１５の１行目は、位相差ＩＤ「１」と対応づけて、測定位相差データ（λ１）である「Ｐ１」と、測定位相差データ（λ２）である「ｐ１」と、が対応付けられていることを示している。なお、測定位相差情報８５１は、第１の実施形態及び第２の実施形態と同様に、測定位相差データの取得時刻（測定時刻）と、位相差データ（λ１）と位相データ（λ２）とが対応付けられた情報であってもよい。
【０１０１】
算出位相差情報８５２は、測定位相差情報８５１を用いて後述する位相差算出部８６２にて算出される、算出後の位相差を示す情報である。位相差は２πごとに一周するため、単一波長では波長以上の位相差を判別することは出来ない。そこで、後述する位相差算出部８６２が測定位相差データ（λ１）と測定位相差データ（λ２）とを比較することで、波長λ１（若しくは波長λ２）に生じている位相差を算出することになる。この位相差算出部８６２により算出される位相差が算出位相差になる。図１６は、算出位相差情報８５２の構成例である。図６を参照すると、算出位相差情報８５２は、算出位相差データと、当該算出位相差データを識別するための情報である位相差ＩＤと、が対応付けられた情報である。例えば、図１６の１行目は、位相差ＩＤ「１」と算出位相差データ「Ａ−Ｐ１」とが対応付けられていることを示す。なお、算出位相差情報８５２の位相差ＩＤは、測定位相差情報８５１の位相差ＩＤと対応するものになる。算出位相差情報８５２は、測定位相差情報８５１とは異なるＩＤを用いて算出位相差データを識別するように構成しても構わない。
【０１０２】
演算処理部８６は、ＭＰＵなどのマイクロプロセッサとその周辺回路を有し、記憶部８５からプログラム８５３を読み込んで実行することにより、上記ハードウェアとプログラム８５３とを協働させて各種処理部を実現する機能を有している。図１３を参照すると、演算処理部８６で実現される主な処理部として、測定位相差情報取得部８６１と位相差算出部８６２と、応力算出部８６３と、がある。
【０１０３】
測定位相差情報取得部８６１は、位相差測定部８１から測定位相差データを取得して、記憶部８５に当該取得した測定位相差データを測定位相差情報８５１として保存する機能を有する。つまり、測定位相差情報取得部８６１は、位相差測定部８１から測定位相差データ（λ１）と測定位相差データ（λ２）とを取得する。そして、測定位相差情報取得部８６１は、当該取得した測定位相差データ（λ１）及び測定位相差データ（λ２）を記憶部８５に測定位相差情報８５１として保存する。
【０１０４】
位相差算出部８６２は、記憶部８５から測定位相差情報８５１を読み出し、測定位相差情報８５１が示す測定位相差データ（λ１）と測定位相差データ（λ２）とに基づいて、算出位相差データを算出する機能を有する。位相差測定部８１が測定する位相差は２πごとに一周するため、単一波長では波長以上の位相差を判別することは出来ない。そこで、位相差算出部８６２が測定位相差データ（λ１）と測定位相差データ（λ２）とを比較する。これにより、位相差算出部８６２は、波長λ１（若しくは波長λ２）に生じている位相差を当該波長λ１（若しくは波長λ２）の波長を超えるレンジで判別することが出来る。具体的には、例えば、位相差算出部８６２は、単位応力ごとの波長λ１の光に生じる位相差と波長λ２の光に生じる位相差との対応を示す対応表（図示しない）を記憶部８５に予め記憶している。そして、位相差算出部８６２は、上記対応表と、測定位相差データ（λ１）と測定位相差データ（λ２）とを比較することで、波長λ１（又は、波長λ２、若しくは、その両方）の光が２πの周期を何回繰り返しているかを判別する。これにより、位相差算出部８６２は、波長λ１の光に生じている位相差（又は、波長λ２の光に生じている位相差、若しくは、その両方）を算出することが出来る。その後、位相差算出部８６２は、算出した位相差を示す算出位相差データを記憶部８５に算出位相差情報８５２として保存する。なお、位相差算出部８６２は、算出した位相差を画面表示部５４に表示するように構成しても構わない。
【０１０５】
応力算出部８６３は、記憶部８５から算出位相差情報８５２を読み出し、算出位相差情報８５２が示す算出位相差データに基づいて、応力を算出する機能を有する。また、応力算出部８６３は、算出した応力を記憶部８５に保存したり、画面表示部５４に表示したりするように構成しても構わない。
【０１０６】
以上が、本実施形態における応力測定システム７の構成である。このように、本実施形態における応力測定システム７は、応力測定装置８を備えている。また、応力測定装置８は、位相差測定部８１と、位相差算出部８６２と、応力算出部８６３と、を有している。このような構成により、応力算出部８６３は、位相差測定部８１が測定した複数の波長の測定位相差データに基づいて、反射光に生じている位相差を正確に判別することが出来る。そして、当該算出した位相差（算出位相差データ）に基づいて、応力算出部８６３は応力を算出することが出来る。その結果、応力測定システム７は、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが出来る。
【０１０７】
次に本発明の第４の実施形態について図面を参照して説明する。
[第４の実施形態]
第４の実施形態では、応力を測定する対象となる測定対象物９１に貼付された光弾性体９２からの反射光に基づいて、応力測定部９３にて測定対象物９１に印加されている応力を測定する応力測定システム９について説明する。なお、本実施形態においては、応力測定システム９の構成の概要について説明する。
【０１０８】
図１７を参照すると、本実施形態における応力測定システム９は、光弾性体９２と、応力測定部９３と、を有している。また、光弾性体９２は、測定対象物９１に貼付されている。
【０１０９】
光弾性体９２は、応力を測定する対象となる測定対象物９１に貼付することで用いられる。また、光弾性体９２は、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させることで、波長ごとに異なる位相差を生じさせる機能を有する。
【０１１０】
応力測定部９３は、光弾性体９２からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、測定対象物９１に印加されている応力を測定する機能を有する。
【０１１１】
このような構成により、光弾性体９２が反射した複数の波長の光（波長ごとに異なる位相差を生じている光、反射光）が応力測定部９３に入射されることになる。そして、応力測定部９３は、光弾性体９２からの反射光に基づいて応力を測定することになる。
【０１１２】
このように、本実施形態における応力測定システム９は、測定対象物９１に貼付する光弾性体９２と、応力測定部９３と、を有している。このような構成により、応力測定システム９は、波長ごとに異なる位相差が生じている光弾性体９２からの反射光に基づいて、応力測定部９３にて応力を測定することが出来るようになる。その結果、応力測定システム９は、幅広い範囲の値を持つ応力を正確に測定することが可能となる。
【０１１３】
なお、上記応力測定システム９が作動することにより実行される応力測定方法は、応力を測定する対象となる測定対象物に貼付された光弾性体にて、当該光弾性体に入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させ、応力測定装置が、光弾性体が反射した反射光を分光し、当該分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、測定対象物に印加されている応力を測定する、というものである。
【０１１４】
また、上記応力測定システム９と同様の作用は、応力測定装置が、応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部を有することでも実現できる。
【０１１５】
また、上記応力測定装置は、コンピュータに所定のプログラムが組み込まれることで実現できる。具体的に、本発明の他の形態であるプログラムは、コンピュータを、応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部として機能させるプログラムである。
【０１１６】
上述した構成を有する、応力測定方法、又は、応力測定装置、又は、プログラム、の発明であっても、上記応力測定システム９と同様の作用を有するために、上述した本発明の目的を達成することが出来る。
【０１１７】
また、上記応力測定システム９は、所定の光弾性体に複数の波長を入射することで実現することが出来る。具体的に、本発明の他の形態である光弾性体は、応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体である。このような光弾性体を用いることで、本発明の目的を達成することが可能となる。
【０１１８】
＜付記＞
上記実施形態の一部又は全部は、以下の付記のようにも記載されうる。以下、本発明における応力測定システムなどの概略を説明する。但し、本発明は、以下の構成に限定されない。
（付記１）
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体と、
前記光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部と、を有する
応力測定システム。
（付記２）
前記光弾性体は、前記測定対象物に貼付された第１の光弾性体層と、前記第１の光弾性体層に密着されたある波長の光を透過させる一方で別の波長の光を反射させる波長選択層と、前記波長選択層に密着された前記第１の光弾性体層とは異なる位相差を生じさせる第２の光弾性体層と、を含んで構成されている
付記１に記載の応力測定システム。
（付記３）
前記第２の光弾性体層は、前記第１の光弾性体層よりも小さな位相差を生じさせる光弾性体層である
付記２に記載の応力測定システム。
（付記４）
前記光弾性体は、前記測定対象物と前記第１の光弾性体層との間に、光を反射させる反射層を有している
付記２又は３に記載の応力測定システム。
（付記５）
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に生じている位相差の関係に応じて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１乃至４のいずれかに記載の応力測定システム。
（付記６）
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に応じた光弾性画像をそれぞれ撮像し、当該撮像した光弾性画像に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記５に記載の応力測定システム。
（付記７）
前記応力測定部は、位相差の生じにくい波長の光に応じて撮像した光弾性画像に基づいて、所定の閾値よりも大きな応力を測定する
付記６に記載の応力測定システム。
（付記８）
前記応力測定部は、位相差の生じやすい波長の光に応じて撮像した光弾性画像に基づいて、所定の閾値よりも小さな応力を測定する
付記６又は７に記載の応力測定システム。
（付記９）
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に生じている位相差を測定し、当該測定した位相差に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
請求項１乃至５のいずれかに記載の応力測定システム。
（付記１０）
前記光弾性体は、異なる光弾性係数を有する複数の光弾性体層を含んで構成されている
付記１乃至９のいずれかに記載の応力測定システム。
（付記１１）
前記光弾性体は、異なる厚さを有する複数の光弾性体層を含んで構成されている
付記１乃至１０のいずれかに記載の応力測定システム。
（付記１２）
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付された光弾性体にて、当該光弾性体に入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させ、
応力測定装置が、前記光弾性体が反射した反射光を分光し、当該分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
応力測定方法。
（付記１２−１）
前記応力測定装置は、前記それぞれの波長の光に応じた光弾性画像をそれぞれ撮像し、当該撮像した光弾性画像に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１２に記載の応力測定方法。
（付記１２−２）
前記応力測定装置は、前記複数の光弾性体層の位相差の生じやすさの関係に応じて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１２−１に記載の応力測定方法。
（付記１３）
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定部を有する
応力測定装置。
（付記１３−１）
前記応力測定部は、前記それぞれの波長の光に応じた光弾性画像をそれぞれ撮像し、当該撮像した光弾性画像に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１３に記載の応力測定装置。
（付記１３−２）
前記応力測定部は、前記複数の光弾性体層の位相差の生じやすさの関係に応じて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１３−１に記載の応力測定装置。
（付記１４）
コンピュータを、
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる光弾性体からの反射光を分光することで取得されるそれぞれの波長の光に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する応力測定手段として機能させる
プログラム。
（付記１４−１）
前記応力測定手段は、前記それぞれの波長の光に応じた光弾性画像をそれぞれ撮像し、当該撮像した光弾性画像に基づいて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１４に記載のプログラム。
（付記１４−２）
前記応力測定手段は、前記複数の光弾性体層の位相差の生じやすさの関係に応じて、前記測定対象物に印加されている応力を測定する
付記１４−１に記載のプログラム。
（付記１５）
応力を測定する対象となる測定対象物に貼付され、複数の光弾性体層を含み、入射した複数の波長の光を当該光の波長に応じて異なる数の光弾性体層を通過させて反射させる
光弾性体。
（付記１５−１）
前記測定対象物に貼付された第１の光弾性体層と、前記第１の光弾性体層に密着されたある波長の光を透過させる一方で別の波長の光を反射させる波長選択層と、前記波長選択層に密着された前記第１の光弾性体層とは異なる位相差を生じさせる第２の光弾性体層と、を含んで構成されている
付記１５に記載の光弾性体。
（付記１５−２）
前記第２の光弾性体層は、前記第１の光弾性体層よりも小さな位相差を生じさせる光弾性体層である
付記１５−１に記載の光弾性体。
【０１１９】
なお、上記各実施形態及び付記において記載したプログラムは、記憶装置に記憶されていたり、コンピュータが読み取り可能な記録媒体に記録されていたりする。例えば、記録媒体は、フレキシブルディスク、光ディスク、光磁気ディスク、及び、半導体メモリ等の可搬性を有する媒体である。
【０１２０】
以上、上記各実施形態を参照して本願発明を説明したが、本願発明は、上述した実施形態に限定されるものではない。本願発明の構成や詳細には、本願発明の範囲内で当業者が理解しうる様々な変更をすることが出来る。
【符号の説明】
【０１２１】
１  応力測定システム
２  構造物
３  光弾性樹脂シート
３１  反射層
３２  第１の光弾性体層
３３  波長選択層
３４  第２の光弾性体層
４  光出射部
４１  光源
４２  偏光板
４３  １／４波長板
５  応力測定装置
５１  撮像部
５１１  １／４波長板
５１２  偏光板
５１３  撮像装置
５１３１  レンズ
５１３２  分光手段
５１３３  撮像素子
５１３４  撮像素子
５２  通信Ｉ／Ｆ部
５３  操作入力部
５４  画面表示部
５５  記憶部
５５１  画像情報
５５２  応力分布情報
５５３  プログラム
５６  演算処理部
５６１  画像取得部
５６２  応力分布算出部
６  光弾性樹脂シート
６２  第１の光弾性体層
６４  第２の光弾性体層
７  応力測定システム
８  応力測定装置
８１  位相差測定部
８１１  偏光板
８１２  撮像素子
８５  記憶部
８５１  測定位相差情報
８５２  算出位相差情報
８５３  プログラム
８６  演算処理部
８６１  測定位相差情報取得部
８６２  位相差算出部
８６３  応力算出部
９  応力測定システム
９１  測定対象物
９２  光弾性体
９３  応力測定部
【図１】
2016035421.tif 000003
【図２】
2016035421.tif 000004
【図３】
2016035421.tif 000005
【図４】
2016035421.tif 000006
【図５】
2016035421.tif 000007
【図６】
2016035421.tif 000008
【図７】
2016035421.tif 000009
【図８】
2016035421.tif 000010
【図９】
2016035421.tif 000011
【図１０】
2016035421.tif 000012
【図１１】
2016035421.tif 000013
【図１２】
2016035421.tif 000014
【図１３】
2016035421.tif 000015
【図１４】
2016035421.tif 000016
【図１５】
2016035421.tif 000017
【図１６】
2016035421.tif 000018
【図１７】
2016035421.tif 000019