(57)【要約】      （修正有）【課題】静電チャックの表面がエッチングされることによる内部電極の露出を防止した静電チャックを提供する。【解決手段】加工対象のウエハ５を吸着する静電チャック１において、載置されるウエハ５の径よりも大きい径に構成された本体部１１と、本体部１１に内蔵され、ウエハ５の最小外形寸法よりも小さい径に構成され、電圧が印加されることで当該ウエハ５の吸着を行う電極１２とを備えた。また、本体部１１にはウエハ５の載置位置をガイドするためのカバーリング２が取り付けられている。【選択図】図１
2016039351.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
載置されるウエハの径よりも大きい径に構成された本体部と、
前記本体部に内蔵され、前記ウエハの最小外形寸法よりも小さい径に構成され、電圧が印加されることで当該ウエハの吸着を行う電極と
を備えた静電チャック。
【請求項２】
前記本体部の前記ウエハとの対向面に設けられ、当該ウエハの最小外形寸法よりも小さい径に構成され、当該ウエハを冷却するガスを充填させるためのガス充填溝を備えた
ことを特徴とする請求項１記載の静電チャック。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、ウエハを吸着して固定する静電チャックに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来から、ウエハに対してプラズマによりエッチングを行うドライエッチング装置等では、ウエハを吸着して固定する静電チャックが用いられている（例えば特許文献１参照）。図５に従来の静電チャック１０１ａの構成を示す。図５に示すように、静電チャック１０１ａの本体部１０１１ａ内には、電圧が印加されることでウエハ５を吸着する電極１０１２ａが埋め込まれている。また、本体部１０１１ａの表面（ウエハ５との対向面）には、ウエハ５を冷却するためのガス（例えばヘリウムガス）を充填するガス充填溝１０１３ａが設けられている。そして、静電チャック１０１ａ上にウエハ５を載置した後、電極１０１２ａに電圧を印加することでウエハ５の吸着を行う。また、ウエハ５と静電チャック１０１ａとの間のガス充填溝１０１３ａにおいて、外部から圧力制御を行いながらヘリウムガスを充填することで、ウエハ５の冷却を行っている。
【０００３】
しかしながら、図５に示す構成では、ウエハ５の径に対して静電チャック１０１ａの本体部１０１１ａの径が小さい。そのため、プラズマをウエハ５の表面（上面）に照射した際に、静電チャック１０１ａの本体部１０１１ａからはみ出たウエハ５の裏面の外周部（図５の矢印Ａ部分）にもプラズマが回り込んでエッチングされてしまう。その結果、ウエハ５の外周部が薄くなり割れてしまう恐れがあった。
【０００４】
そこで、図６に示すように、ウエハ５の径に対して本体部１０１１ｂの径を大きく構成した静電チャック１０１ｂが知られている。また、静電チャック１０１ｂ上には、ウエハ５の載置位置をガイドするためのカバーリング２が設けられている。これにより、エッチングの際に、ウエハ５の裏面へのプラズマの照射を防ぐことができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平２−２０３６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、図６に示す構成では、カバーリング２とウエハ５の隙間から静電チャック１０１ｂの表面が露出している（図６の矢印Ｂ部分）。そのため、この露出面にプラズマが照射されてエッチングされてしまう。そして、内部の電極１０１２ｂが露出してしまうと絶縁破壊が発生してしまうため、静電チャック１０１ｂを定期的に交換する必要があるという課題があった。
【０００７】
この発明は、上記のような課題を解決するためになされたもので、内部の電極が露出することを防ぐことができる静電チャックを提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
この発明に係る静電チャックは、載置されるウエハの径よりも大きい径に構成された本体部と、本体部に内蔵され、ウエハの最小外形寸法よりも小さい径に構成され、電圧が印加されることで当該ウエハの吸着を行う電極とを備えたものである。
【発明の効果】
【０００９】
この発明によれば、上記のように構成したので、内部の電極が露出することを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】この発明の実施の形態１に係る静電チャックの構成を示す断面図である。
【図２】この発明の実施の形態１における電極の構成を示す平面図である。
【図３】この発明の実施の形態１における電極とウエハとの径の関係を示す平面図である。
【図４】この発明の実施の形態１に係る静電チャックのガス充填溝の構成を示す平面図である。
【図５】従来の静電チャックの構成を示す断面図である。
【図６】従来の静電チャックの別の構成を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、この発明の実施の形態について図面を参照しながら詳細に説明する。
実施の形態１．
図１はこの発明の実施の形態１に係る静電チャック１の構成を示す断面図である。以下では、静電チャック１として、ウエハ５に対してプラズマによりエッチングを行うドライエッチング装置に用いられる場合を例にして説明を行う。また、静電チャック１の上には、ウエハ５の載置位置をガイドするためのカバーリング２が取り付けられている。
【００１２】
静電チャック１は、加工対象のウエハ５を吸着するものである。図１に示すように、静電チャック１の本体部１１は、載置されるウエハ５の径よりも大きい径に構成されている。この本体部１１はセラミックから成る。このように、本体部１１の径をウエハ５の径よりも大きくすることで、エッチングの際に、ウエハ５の裏面にプラズマが照射されることを防ぐことができる。
【００１３】
また、静電チャック１の内部には、電圧が印加されることでウエハ５の吸着を行う電極１２が埋め込まれている。この電極１２は、例えば図２に示すように電極を配置して構成されている。また、電極１２は、載置されるウエハ５の最小外形寸法よりも小さい径に構成されている。すなわち、図３に示すように、ウエハ５には、結晶軸の方向を示すオリフラ５１が設けられている。そのため、電極１２の径は、このオリフラ５１を考慮して、ウエハ５の最小外径寸法からなる径６１よりも小さな径６２となるように構成する。このように、電極１２の径をウエハ５の最小外径寸法よりも小さくすることで、エッチングによってカバーリング２とウエハ５の隙間の静電チャック１の露出面（図１の矢印Ｂ部分）が削れた場合にも、電極１２が露出することを防ぐことができる。なお、電極１２の径は、上記のような効果が十分得られる径であれば適宜設計可能である。
【００１４】
また、静電チャック１の表面には、ウエハ５を冷却するためのガス（例えばヘリウムガス）を充填するガス充填溝１３が設けられている。このガス充填溝１３は、例えば図４に示すように、ウエハ５の温度を均一に保つことができる形状に構成されている。また、このガス充填溝１３には、ヘリウムガスを循環するためのガス導入口１４及びガス導出口１５が設けられている。なお、ガス導入口１４及びガス導出口１５は、ガス充填溝１３の圧力を均一にすることができるよう配置、本数が設計される。また、ガス充填溝１３は、載置されるウエハ５の最小外径寸法よりも小さい径に構成されている。このように、ガス充填溝１３の径をウエハ５の最小外径寸法よりも小さくすることで、エッチングによってカバーリング２とウエハ５の隙間の静電チャック１の露出面（図１の矢印Ｂ部分）が削れた場合にも、ガス充填溝１３が露出することを防ぐことができ、ヘリウムガスの漏れを防ぐことができる。なお、ガス充填溝１３の径は、上記のような効果が十分得られる径であれば適宜設計可能である。
【００１５】
次に、上記のように構成された静電チャック１を用いたエッチング工程について説明する。
加工対象のウエハ５に対してエッチングを行う場合、図１に示すように、まず、ウエハ５を静電チャック１上に載置する。この際、静電チャック１上にはカバーリング２が取り付けられているため、そのガイドに従ってウエハ５を載置する。
【００１６】
そして、電極１２に１［ｋｖ］程度の電圧を印加することで、ウエハ５の吸着を行う。また、ウエハ５と静電チャック１との間のガス充填溝１３において、外部から６００［ｐａ］程度の圧力でヘリウムガスを充填することで、ウエハ５の冷却を行う。この際、ガス充填溝１３は例えば図４に示す形状であるため、ウエハ５の温度を均一にすることができる。
【００１７】
そして、ウエハ５の表面にプラズマを照射することでエッチングを行う。この際、カバーリング２とウエハ５との隙間で静電チャック１の表面が露出（図１の矢印Ｂ部分）しているため、この露出面にプラズマが照射されエッチングされてしまう。しかしながら、本発明では、ウエハ５の最小外形寸法よりも電極１２の径を小さくするように構成しているため、エッチングにより静電チャック１が削れても電極１２まで達することはない。よって、電極１２の露出による静電チャック１の交換は不要である。
【００１８】
また、ウエハ５の径よりも静電チャック１の本体部１１の径を大きくするように構成したので、エッチングの際にウエハ５の裏面にプラズマが照射されることはなく、裏面のエッチングを回避することができる。
【００１９】
また、ウエハ５の最小外径寸法よりもガス充填溝１３の径を小さくするように構成したので、カバーリング２とウエハ５との隙間で静電チャック１がエッチングにより削れたとしても、ガス充填溝１３が露出することはない。よって、ガス充填溝１３の露出によるヘリウムガスの漏れを回避するできるため、静電チャック１の交換は不要である。
【００２０】
以上のように、この実施の形態１によれば、載置されるウエハ５の径よりも大きい径に構成された本体部１１と、本体部１１に内蔵され、ウエハ５の最小外径寸法よりも小さい径に構成された電極１２とを備えるように構成したので、内部の電極１２が露出することを防ぐことができる。その結果、静電チャック１を半永久的に使用することが可能となり、静電チャック１の交換は不要である。
【００２１】
なお上記では、ウエハ５に対してプラズマによりエッチングを行うドライエッチング装置に用いられる静電チャック１を前提にして説明を行ったが、これに限るものではなく、その他の各種ドライエッチング装置、アッシング装置、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）装置等、静電チャック１を使用する装置であれば同様に本発明を適用可能である。
【００２２】
なお、本願発明はその発明の範囲内において、実施の形態の任意の構成要素の変形、もしくは実施の形態の任意の構成要素の省略が可能である。
【符号の説明】
【００２３】
１  静電チャック
２  カバーリング
５  ウエハ
１１  本体部
１２  電極
１３  ガス充填溝
１４  ガス導入口
１５  ガス導出口
５１  オリフラ
６１，６２  径
【図１】
2016039351.tif 000003
【図２】
2016039351.tif 000004
【図３】
2016039351.tif 000005
【図４】
2016039351.tif 000006
【図５】
2016039351.tif 000007
【図６】
2016039351.tif 000008