(57)【要約】【課題】ニップ部を通過した後の基材に形成される凹凸模様を鮮明なものとすることができるエンボス加工装置、受けロールおよびエンボス加工方法を提供する。【解決手段】エンボス加工装置１は、その外周面にエンボス版１２が設けられたエンボスロール１０と、エンボスロール１０に対向するよう設けられ、発泡ゴムから形成される外周層２２を有する受けロール２０とを備えており、エンボスロール１０は受けロール２０に向かって押圧されるようになっており、エンボスロール１０と受けロール２０との間に形成されるニップ部Ｎを通過するシート状の基材Ｗに対してエンボス版１２により凹凸模様が形成されるようになっている。【選択図】図２
2016203525.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
その外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールと、
前記エンボスロールに対向するよう設けられ、発泡ゴムから形成される外周層を有する受けロールと、
を備え、
前記エンボスロールは前記受けロールに向かって押圧されるようになっており、
前記エンボスロールと前記受けロールとの間に形成されるニップ部を通過するシート状の基材に対して前記エンボス版により凹凸模様が形成される、エンボス加工装置。
【請求項２】
前記受けロールの前記外周層として用いられる前記発泡ゴムは、ウレタンゴムを含む、請求項１記載のエンボス加工装置。
【請求項３】
前記受けロールの前記外周層として用いられる前記発泡ゴムは、フッ素ゴムまたはスチレンゴムを含む、請求項１記載のエンボス加工装置。
【請求項４】
前記受けロールの前記外周層の周方向における一部分を加熱するための受けロール加熱部を更に備えた、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のエンボス加工装置。
【請求項５】
前記受けロール加熱部は、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部に対向する一部分を加熱するようになっている、請求項４記載のエンボス加工装置。
【請求項６】
前記受けロール加熱部は、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凹部に対向する一部分を加熱するようになっている、請求項４記載のエンボス加工装置。
【請求項７】
前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部に対向する一部分を冷却するための受けロール冷却部を更に備えた、請求項６記載のエンボス加工装置。
【請求項８】
前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部を加熱するためのエンボスロール加熱部を更に備えた、請求項５乃至７のいずれか一項に記載のエンボス加工装置。
【請求項９】
前記エンボスロールの前記エンボス版の凹部を冷却するためのエンボスロール冷却部を更に備えた、請求項５乃至８のいずれか一項に記載のエンボス加工装置。
【請求項１０】
前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部に対向する一部分を加熱する第１受けロール加熱部と、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凹部に対向する一部分を加熱する第２受けロール加熱部とを更に備え、
前記第１受けロール加熱部および前記第２受けロール加熱部のうちいずれか一方の受けロール加熱部が選択的に作動するようになっている、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のエンボス加工装置。
【請求項１１】
その外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールに対向するよう設けられた受けロールであって、
発泡ゴムから形成される外周層を備えた、受けロール。
【請求項１２】
その外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールと、前記エンボスロールに対向するよう設けられ、発泡ゴムから形成される外周層を有する受けロールとを備えたエンボス加工装置によるエンボス加工方法であって、
前記エンボスロールを前記受けロールに向かって押圧する工程と、
前記エンボスロールと前記受けロールとの間に形成されるニップ部にシート状の基材を通過させることによって当該基材に対して前記エンボス版により凹凸模様を形成する工程と、
を備えた、エンボス加工方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、壁紙や床材、皮革等のシート状の基材に凹凸模様を形成するためのエンボス加工装置、このようなエンボス加工装置に用いられる受けロール、およびこのようなエンボス加工装置によるエンボス加工方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールと、エンボスロールに対向するよう設けられ、当該エンボスロールにより押圧される受けロールとの間に形成されるニップ部に壁紙や床材、皮革等のシート状の基材（エンボス基材）を通過させることによって当該基材に凹凸模様を形成するようなエンボス加工装置が知られている（例えば、特許文献１、２等参照）。従来のエンボス加工装置では、エンボスロールにより押圧される受けロールの外周層として例えばシリコンゴム等の硬質ゴムが用いられるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平９−２２６２２６号公報
【特許文献２】特開平６−２６２７５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、エンボスロールにより押圧される受けロールの外周層として例えばシリコンゴム等の硬質ゴムが用いられるような従来技術のエンボス加工装置では、当該外周層に圧力が加えられた場合でもこの外周層は硬質ゴムから形成されているため圧縮されにくくなる。このため、受けロールの外周層におけるエンボスロールのエンボス版の凸部により押圧された箇所は当該受けロールの径方向に圧縮されることなくこの押圧された箇所の硬質ゴムが受けロールの周方向に逃げてしまい、よって受けロールの外周層におけるエンボスロールのエンボス版の凹部に対向する箇所が当該エンボス版側に向かって大きく膨らんでしまう。この場合には、受けロールの外周層におけるエンボスロールのエンボス版の凹部に対向する箇所がこの凹部に入り込んでしまうため、ニップ部を通過する基材におけるエンボスロールのエンボス版の凹部に接する箇所にも圧力が加えられるようになってしまう。このことにより、ニップ部を通過する基材におけるエンボスロールのエンボス版の凸部に接する箇所が大きく凹むとともにこのエンボス版の凹部に接する箇所も受けロールの外周層によって押圧されることにより凹んでしまうため、ニップ部を通過した後の基材に形成される凹凸模様が不鮮明となってしまうおそれがある。
【０００５】
本発明は、このような点を考慮してなされたものであり、ニップ部を通過した後の基材に形成される凹凸模様を鮮明なものとすることができるエンボス加工装置、受けロールおよびエンボス加工方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のエンボス加工装置は、その外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールと、前記エンボスロールに対向するよう設けられ、発泡ゴムから形成される外周層を有する受けロールと、を備え、前記エンボスロールは前記受けロールに向かって押圧されるようになっており、前記エンボスロールと前記受けロールとの間に形成されるニップ部を通過するシート状の基材に対して前記エンボス版により凹凸模様が形成されることを特徴とする。
【０００７】
このようなエンボス加工装置によれば、エンボスロールにより押圧される受けロールの外周層として発泡ゴムを用いることにより、この外周層に圧力が加えられた場合に当該外周層は圧縮されやすくなるため、シート状の基材を挟んだ状態で受けロールの外周層がエンボスロールのエンボス版の凸部により押圧された場合に、当該外周層におけるエンボス版の凸部により押圧された箇所が受けロールの径方向に圧縮されるようになる。このことにより、外周層における押圧された箇所の発泡ゴムが受けロールの周方向に逃げてしまうことが抑制され、よって受けロールの外周層におけるエンボスロールのエンボス版の凹部に対向する箇所が当該エンボスロール側に向かって大きく膨らむことはない。このため、受けロールの外周層におけるエンボスロールのエンボス版の凹部に対向する箇所がこの凹部に大きく入り込むことがないため、ニップ部を通過する基材におけるエンボス版の凹部に接する箇所には圧力がほとんどまたは全く加えられないようになる。このことにより、ニップ部を通過する基材におけるエンボスロールのエンボス版の凸部に接する箇所は大きく凹むがこのエンボス版の凹部に接する箇所は形状がそれほど変化しないため、ニップ部を通過した後の基材に形成される凹凸模様を鮮明なものとすることができる。
【０００８】
本発明のエンボス加工装置においては、前記受けロールの前記外周層として用いられる前記発泡ゴムは、ウレタンゴムを含んでいてもよい。あるいは、前記受けロールの前記外周層として用いられる前記発泡ゴムは、フッ素ゴムまたはスチレンゴムを含んでいてもよい。
【０００９】
本発明のエンボス加工装置は、前記受けロールの前記外周層の周方向における一部分を加熱するための受けロール加熱部を更に備えていてもよい。
【００１０】
この場合、前記受けロール加熱部は、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部に対向する一部分を加熱するようになっていてもよい。
【００１１】
あるいは、前記受けロール加熱部は、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凹部に対向する一部分を加熱するようになっていてもよい。
【００１２】
この際に、本発明のエンボス加工装置は、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部に対向する一部分を冷却するための受けロール冷却部を更に備えていてもよい。
【００１３】
また、本発明のエンボス加工装置は、前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部を加熱するためのエンボスロール加熱部を更に備えていてもよい。
【００１４】
また、本発明のエンボス加工装置は、前記エンボスロールの前記エンボス版の凹部を冷却するためのエンボスロール冷却部を更に備えていてもよい。
【００１５】
また、本発明のエンボス加工装置は、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凸部に対向する一部分を加熱する第１受けロール加熱部と、前記受けロールの前記外周層における前記エンボスロールの前記エンボス版の凹部に対向する一部分を加熱する第２受けロール加熱部とを更に備え、前記第１受けロール加熱部および前記第２受けロール加熱部のうちいずれか一方の受けロール加熱部が選択的に作動するようになっていてもよい。
【００１６】
本発明の受けロールは、その外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールに対向するよう設けられた受けロールであって、発泡ゴムから形成される外周層を備えたことを特徴とする。
【００１７】
また、本発明のエンボス加工方法は、その外周面にエンボス版が設けられたエンボスロールと、前記エンボスロールに対向するよう設けられ、発泡ゴムから形成される外周層を有する受けロールとを備えたエンボス加工装置によるエンボス加工方法であって、前記エンボスロールを前記受けロールに向かって押圧する工程と、前記エンボスロールと前記受けロールとの間に形成されるニップ部にシート状の基材を通過させることによって当該基材に対して前記エンボス版により凹凸模様を形成する工程と、を備えたことを特徴とする。
【発明の効果】
【００１８】
本発明のエンボス加工装置、受けロールおよびエンボス加工方法によれば、ニップ部を通過した後の基材に形成される凹凸模様を鮮明なものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置を備えたエンボス加工機の構成を概略的に示す側面図である。
【図２】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の一例を示す側面図である。
【図３】図２に示すエンボス加工装置のニップ部を模式的に示す側断面図である。
【図４】従来技術のエンボス加工装置のニップ部を模式的に示す側断面図である。
【図５】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の別の例を示す側面図である。
【図６】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の更に別の例を示す側面図である。
【図７】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の更に別の例を示す側面図である。
【図８】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の更に別の例を示す側面図である。
【図９】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の更に別の例を示す側面図である。
【図１０】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の構成の更に別の例を示す側面図である。
【図１１】本発明の実施の形態によるエンボス加工装置の受けロールの外周層に用いられる様々なゴムの性質を示す表である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態について説明する。図１乃至図１１は、本実施の形態によるエンボス加工装置およびこのようなエンボス加工装置を備えたエンボス加工機を示す図である。このうち、図１は、本実施の形態によるエンボス加工装置を備えたエンボス加工機の構成を概略的に示す側面図であり、図２は、本実施の形態によるエンボス加工装置の構成の一例を示す側面図であり、図３は、図２に示すエンボス加工装置のニップ部を模式的に示す側断面図である。また、図４は、従来技術のエンボス加工装置のニップ部を模式的に示す側断面図である。また、図５乃至図１０は、それぞれ、本実施の形態によるエンボス加工装置の構成の別の様々な例を示す側面図である。また、図１１は、本実施の形態によるエンボス加工装置の受けロールの外周層に用いられる様々なゴムの性質を示す表である。
【００２１】
図１に示すように、本実施の形態によるエンボス加工機は、壁紙や床材、皮革等のシート状の基材（エンボス基材）に凹凸模様を形成するものである。このようなエンボス加工機は、帯状に延びるシート状の基材Ｗを巻き出す巻出ローラ９０と、巻出ローラ９０から巻き出された基材Ｗを加熱する加熱装置９４と、加熱装置９４により加熱された基材Ｗの表面に凹凸模様を形成するエンボス加工装置１と、エンボス加工装置１により凹凸模様が表面に形成された基材Ｗを冷却する冷却ローラ９６と、冷却ローラ９６により冷却された基材Ｗを巻き取る巻取ローラ９２とを備えており、巻取ローラ９２により巻き取られた基材Ｗがエンボス加工済の製品として出荷されるようになっている。
【００２２】
図２に示すように、本実施の形態によるエンボス加工装置１は、その外周面にエンボス版１２が形成されたエンボスロール１０と、エンボスロール１０に対向して設けられた受けロール２０と、受けロール２０の外周面に接触するよう設けられたバックアップロール３０とを有しており、エンボスロール１０は図示しない押圧機構によって受けロール２０に向かって押圧されるようになっている。また、加熱装置９４から送られた基材Ｗは、エンボスロール１０と受けロール２０との間に形成されるニップ部Ｎを通過するようになっている。
【００２３】
エンボスロール１０は軸１４を中心として図２における反時計回りの方向に回転するようになっている。また、エンボスロール１０の外周面に形成されるエンボス版１２は、凸部１２ａおよび凹部１２ｂを組み合わせたものからなる。
【００２４】
受けロール２０は軸２４を中心として図２における時計回りの方向に回転するようになっている。また、受けロール２０は、発泡ゴムから形成される外周層２２を有している。上述したように、エンボスロール１０は図示しない押圧機構によって受けロール２０側に向かって押圧されるようになっているため、エンボスロール１０と受けロール２０との間に形成されるニップ部Ｎを通過するシート状の基材Ｗは当該エンボスロール１０のエンボス版１２における凸部１２ａにより押圧されることによって変形し、このことにより当該基材Ｗに凹凸模様が形成されるようになる。また、受けロール２０の外周層２２は発泡ゴムから形成されているため、基材Ｗを挟んだ状態でこの外周層２２がエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧されると、図３に示すように当該外周層２２におけるエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された箇所が受けロール２０の径方向（すなわち、図３における上下方向）に圧縮されて凹むようになる。
【００２５】
ここで、受けロール２０の外周層２２が発泡ゴムから形成されている場合には、通常のシリコンゴム等の硬質ゴムから形成される外周層２８（後述）と比較して、エンボスロール１０によって外周層２２に圧力が加えられた場合に当該外周層２２は受けロール２０の径方向に圧縮されやすくなる。このため、シート状の基材Ｗを挟んだ状態で受けロール２０の外周層２２がエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された場合に、当該外周層２２におけるエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された箇所が受けロール２０の径方向に圧縮されることによって、この押圧された箇所の発泡ゴムが受けロール２０の周方向（すなわち、図３における左右方向）に逃げてしまうことが抑制され、よって受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する箇所が当該エンボスロール１０側に向かって（すなわち、図３における上向きに）大きく膨らむことはない（図３参照）。このため、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する箇所がこの凹部１２ｂに大きく入り込むことがないため、ニップ部Ｎを通過する基材Ｗにおけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに接する箇所には圧力がほとんどまたは全く加えられないようになる。このことにより、ニップ部Ｎを通過する基材Ｗにおけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに接する箇所は大きく凹むが当該エンボス版１２の凹部１２ｂに接する箇所は形状がそれほど変化しないため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様を鮮明なものとすることができる。
【００２６】
これに対し、従来技術のエンボス加工装置では、図４に示すように、シリコンゴム等の硬質ゴムから形成される外周層２８を有する受けロール２１が用いられていた。このような受けロール２１が用いられるエンボス加工装置では、エンボスロール１０によって外周層２８に圧力が加えられた場合に当該外周層２８は硬質ゴムから形成されているため受けロール２１の径方向（すなわち、図４における上下方向）に圧縮されにくくなる。このため、従来技術のエンボス加工装置においてシート状の基材Ｗを挟んだ状態で受けロール２１の外周層２８がエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された場合に、当該外周層２８における凸部１２ａにより押圧された箇所は受けロール２１の径方向に圧縮されることなくこの押圧された箇所の硬質ゴムが受けロール２１の周方向（すなわち、図４における左右方向）に逃げてしまい、よって受けロール２１の外周層２８におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する箇所が当該エンボス版１２側に向かって（すなわち、図４における上向きに）大きく膨らんでしまう（図４参照）。この場合には、受けロール２１の外周層２８におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する箇所がこの凹部１２ｂに入り込んでしまうため、ニップ部Ｎを通過する基材Ｗにおけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに接する箇所にも圧力が加えられるようになってしまう。このことにより、ニップ部Ｎを通過する基材Ｗにおけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに接する箇所が大きく凹むとともにこのエンボス版１２の凹部１２ｂに接する箇所も受けロール２１の外周層２８によって押圧されることにより凹んでしまうため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様が不鮮明となってしまうおそれがある。
【００２７】
本実施の形態では、受けロール２０の外周層２２として用いられる発泡ゴムは、フッ素ゴム、スチレンゴムまたはウレタンゴム等となっている。図１１は、これらのゴムの材質を示す表である。図１１に示すように、ウレタンゴムの耐熱性に関連する最高使用温度は８０度と比較的低いのに対し、フッ素ゴムやスチレンゴムの耐熱性に関連する最高使用温度はそれぞれ２５０度、１２０度と比較的高くなっており、これらのフッ素ゴムやスチレンゴムの耐熱性はウレタンゴムの耐熱性よりも優れている。このため、受けロール２０の外周層２２としてフッ素ゴムやスチレンゴムからなる発泡ゴムを用いた場合には、受けロール２０の外周層２２としてウレタンゴムからなる発泡ゴムを用いた場合と比較して、受けロール２０の外周層２２の耐熱性を向上させることができ、よって例えば１００度以上の高温条件下でもエンボス加工装置１において基材Ｗに対してエンボス加工処理を行うことができるようになる。具体的には、基材Ｗとして壁紙や床材が用いられる場合には、例えば８０度以下の低温条件下でもエンボス加工装置１により当該基材Ｗに凹凸模様を形成することができるが、基材Ｗとしてダミー皮革やホログラム等が用いられる場合には、例えば１００度以上の高温条件下でなければエンボス加工装置１により当該基材Ｗに凹凸模様を形成することができない。よって、後者の場合には、受けロール２０の外周層２２としてフッ素ゴムやスチレンゴムからなる発泡ゴムを用いることが望ましいといえる。一方、受けロール２０の外周層２２として用いられる発泡ゴムとしてウレタンゴムを用いた場合には、当該外周層２２の耐熱性が劣るようになるものの、この外周層２２の引張強度や引裂強度、耐摩耗性が優れたものとなる。
【００２８】
なお、本発明によるエンボス加工装置は、上述したような構成のものに限定されることはなく、様々な変更を加えることができる。
【００２９】
変形例に係るエンボス加工装置として、図５に示すような構成のものが用いられてもよい。図５に示すエンボス加工装置１ａでは、エンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａを加熱するためのヒータ４０（エンボスロール加熱部）が設けられているとともに、このエンボス版１２の凹部１２ｂを冷却するための冷却水１６（エンボスロール冷却部）がエンボスロール１０の内部に貯留されている点が図２に示すエンボス加工装置１と異なるのみであり、他の技術的特徴は図２に示すエンボス加工装置１と実質的に同一となっている。図５に示すエンボス加工装置１ａを説明するにあたり、図２に示すエンボス加工装置１と同一の構成部材については同一の参照符号を付してその説明を省略する。
【００３０】
上述したように、図５に示すエンボス加工装置１ａでは、エンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａを加熱するためのヒータ４０が設けられているとともに、このエンボス版１２の凹部１２ｂを冷却するための冷却水１６がエンボスロール１０の内部に貯留されている。このように、エンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａが加熱されるとともにこのエンボス版１２の凹部１２ｂが冷却される場合には、エンボスロール１０と受けロール２０との間のニップ部Ｎをシート状の基材Ｗが通過する際に、加熱された凸部１２ａに基材Ｗを圧着させるとともに冷却された凹部１２ｂにより基材Ｗを冷却剥離させることができるため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様の質をより一層向上させることができる。
【００３１】
また、別の変形例に係るエンボス加工装置として、図６に示すような構成のものが用いられてもよい。図６に示すエンボス加工装置１ｂでは、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分を加熱するためのヒータ２６（エンボスロール加熱部）がこの外周層２２の内側に設けられている点が図２に示すエンボス加工装置１と異なるのみであり、他の技術的特徴は図２に示すエンボス加工装置１と実質的に同一となっている。図６に示すエンボス加工装置１ｂを説明するにあたり、図２に示すエンボス加工装置１と同一の構成部材については同一の参照符号を付してその説明を省略する。
【００３２】
上述したように、図６に示すエンボス加工装置１ｂでは、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分を加熱するためのヒータ２６がこの外周層２２の内側に設けられている。このように、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分がヒータ２６により加熱される場合には、この外周層２２を構成する発泡ゴムの気泡が熱によって膨張することにより当該発泡ゴムの内部圧力が大きくなる。このため、外周層２２としてシリコンゴム等の硬質ゴムを用いる場合と比較して、エンボスロール１０を受けロール２０に向かって押圧する力を低く設定することができ、この場合にはエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに受けロール２０の外周層２２がますます入り込まないようになる。このため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様をより鮮明なものとすることができるようになる。また、受けロール２０の外周層２２は発泡ゴムから形成されるため、当該外周層２２におけるヒータ２６により加熱される箇所がエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された場合にこの箇所は受けロール２０の径方向に圧縮されるようになり、このため外周層２２におけるエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された箇所の発泡ゴムが受けロール２０の周方向に逃げてしまうことが抑制され、よって外周層２２の発泡ゴムがエンボス版１２の凹部１２ｂに大きく入り込んでしまうことを防止することができるようになる。
【００３３】
また、図７に示すような別の変形例に係るエンボス加工装置１ｃでは、図６に示すエンボス加工装置１ｂに対して、エンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａを加熱するためのヒータ４０（エンボスロール加熱部）が設けられるとともにこのエンボス版１２の凹部１２ｂを冷却するための冷却水１６（エンボスロール冷却部）がエンボスロール１０の内部に貯留されている。このことにより、図５に示すエンボス加工装置１ａの説明でも述べたように、エンボスロール１０と受けロール２０との間のニップ部Ｎをシート状の基材Ｗが通過する際に、加熱された凸部１２ａに基材Ｗを圧着させるとともに冷却された凹部１２ｂにより基材Ｗを冷却剥離させることができるため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様の質をより一層向上させることができる。
【００３４】
また、図６に示すエンボス加工装置１ｂや図７に示すエンボス加工装置１ｃでは、受けロール２０の外周層２２の内側に設けられる各ヒータ２６はこの外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分を加熱するようになっているが、エンボス加工装置の他の構成例として、図８に示すエンボス加工装置１ｄのように、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する一部分が、この受けロール２０の外周層２２の内側に設けられた各ヒータ２６によって加熱されるようになっていてもよい。図８に示すようなエンボス加工装置１ｄでは、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する一部分がヒータ２６により加熱されることによってこの外周層２２を構成する発泡ゴムの気泡が膨張することにより、この発泡ゴムがエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに入り込むようになるため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸をより深くすることができるようになる。また、図８に示すようなエンボス加工装置１ｄでも、受けロール２０の外周層２２の内側に複数のヒータ２６を設けることに加えて、エンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａを加熱するためのヒータ４０（エンボスロール加熱部）が設けられるとともにこのエンボス版１２の凹部１２ｂを冷却するための冷却水１６（エンボスロール冷却部）がエンボスロール１０の内部に貯留されている。このことにより、図５に示すエンボス加工装置１ａの説明でも述べたように、エンボスロール１０と受けロール２０との間のニップ部Ｎをシート状の基材Ｗが通過する際に、加熱された凸部１２ａに基材Ｗを圧着させるとともに冷却された凹部１２ｂにより基材Ｗを冷却剥離させることができるため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様の質をより一層向上させることができる。
【００３５】
また、更に別の変形例に係るエンボス加工装置として、図９に示すような構成のものが用いられてもよい。図９に示すエンボス加工装置１ｅでは、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分を加熱するためのヒータ２６（エンボスロール加熱部）がこの外周層２２の内側に設けられているとともに、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する一部分を冷却するための冷却水２９（エンボスロール冷却部）がこの外周層２２の内側に貯留されている点が図２に示すエンボス加工装置１と異なるのみであり、他の技術的特徴は図２に示すエンボス加工装置１と実質的に同一となっている。図９に示すエンボス加工装置１ｅを説明するにあたり、図２に示すエンボス加工装置１と同一の構成部材については同一の参照符号を付してその説明を省略する。
【００３６】
図９に示すようなエンボス加工装置１ｅでは、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分がヒータ２６により加熱されるため、この外周層２２を構成する発泡ゴムの気泡が熱によって膨張することにより当該発泡ゴムの内部圧力が大きくなる。このため、外周層２２としてシリコンゴム等の硬質ゴムを用いる場合と比較して、エンボスロール１０を受けロール２０に向かって押圧する力を低く設定することができ、この場合にはエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに受けロール２０の外周層２２がますます入り込まないようになる。このため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様をより鮮明なものとすることができるようになる。また、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する一部分が冷却されているため、この受けロール２０から基材Ｗを冷却剥離させることができ、よってニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様の質をより一層向上させることができる。
【００３７】
また、図９に示すようなエンボス加工装置１ｅにおいて、エンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａを加熱するためのヒータ（エンボスロール加熱部）を設けたり、このエンボス版１２の凹部１２ｂを冷却するための冷却水（エンボスロール冷却部）をエンボスロール１０の内部に貯留したりするようになっていてもよい。
【００３８】
また、更に別の変形例に係るエンボス加工装置として、図１０に示すような構成のものが用いられてもよい。図１０に示すエンボス加工装置１ｆでは、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分を加熱するための第１ヒータ２６ａ（第１エンボスロール加熱部）、およびこの外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する一部分を加熱するための第２ヒータ２６ｂ（第２エンボスロール加熱部）が外周層２２の内側にそれぞれ設けられている点が図２に示すエンボス加工装置１と異なるのみであり、他の技術的特徴は図２に示すエンボス加工装置１と実質的に同一となっている。図１０に示すエンボス加工装置１ｆを説明するにあたり、図２に示すエンボス加工装置１と同一の構成部材については同一の参照符号を付してその説明を省略する。
【００３９】
図１０に示すエンボス加工装置１ｆでは、第１ヒータ２６ａおよび第２ヒータ２６ｂのうちいずれか一方のヒータの電源を選択的にオンとすることにより当該ヒータを作動させることができるようになっている。ここで、第１ヒータ２６ａの電源がオンとなり、この第１ヒータ２６ａが作動した場合には、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凸部１２ａに対向する一部分が加熱されるようになる。この場合には、外周層２２におけるエンボス版１２の凸部１２ａに対向する箇所の発泡ゴムの気泡が熱によって膨張することにより当該発泡ゴムの内部圧力が大きくなる。このため、外周層２２としてシリコンゴム等の硬質ゴムを用いる場合と比較して、エンボスロール１０を受けロール２０に向かって押圧する力を低く設定することができ、この場合にはエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに受けロール２０の外周層２２がますます入り込まないようになる。このため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸模様をより鮮明なものとすることができるようになる。また、受けロール２０の外周層２２は発泡ゴムから形成されるため、当該外周層２２における第１ヒータ２６ａにより加熱される箇所がエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された場合にこの箇所は受けロール２０の径方向に圧縮されるようになり、このため外周層２２におけるエンボス版１２の凸部１２ａにより押圧された箇所の発泡ゴムが受けロール２０の周方向に逃げてしまうことが抑制され、よって外周層２２の発泡ゴムがエンボス版１２の凹部１２ｂに大きく入り込んでしまうことを防止することができるようになる。
【００４０】
また、図１０に示すエンボス加工装置１ｆにおいて、第２ヒータ２６ｂの電源がオンとなり、この第２ヒータ２６ｂが作動した場合には、受けロール２０の外周層２２におけるエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに対向する一部分が第２ヒータ２６ｂにより加熱されることによってこの外周層２２を構成する発泡ゴムの気泡が膨張することにより、この発泡ゴムがエンボスロール１０のエンボス版１２の凹部１２ｂに入り込むようになるため、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸をより深くすることができるようになる。
【００４１】
このように、図１０に示すエンボス加工装置１ｆでは、第１ヒータ２６ａおよび第２ヒータ２６ｂのうちいずれか一方のヒータが選択的に作動することによって、ニップ部Ｎを通過した後の基材Ｗに形成される凹凸の深さを調整することができるようになる。
【符号の説明】
【００４２】
１、１ａ〜１ｆ  エンボス加工装置
１０    エンボスロール
１２    エンボス版
１２ａ  凸部
１２ｂ  凹部
１４    軸
１６    冷却水
２０、２１  受けロール
２２    外周層
２４    軸
２６    ヒータ
２６ａ  第１ヒータ
２６ｂ  第２ヒータ
２８    外周層
２９    冷却水
３０    バックアップロール
４０    ヒータ
９０    巻出ローラ
９２    巻取ローラ
９４    加熱装置
９６    冷却ローラ
Ｎ      ニップ部
Ｗ      基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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