(57)【要約】【課題】２枚の板状体を当接させる転写装置において、下側に位置する板状体の装置への搬入出の作業性を損なうことなく、板状体の位置ずれの原因となる撓みを抑制する。【解決手段】第１板状体の下面に局所的に当接して第１板状体を水平姿勢に支持する複数の下側支持手段３３，３４と、第２板状体を上方から保持して、第２板状体を第１板状体と対向させる上側保持手段２１とを備え、下側支持手段の各々は、上端が第１板状体の下面に局所的に当接して第１板状体を支持する第１支持部３３１，３４１と、上端が第１支持部の上端と同一の高さに位置決めされて第１板状体の下面のうち第１支持部３３１，３４１が当接していない領域に当接する当接位置および上端が第２板状体下面から離間した離間位置の間を移動可能に構成された第２支持部３３２，３４２とを有する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
２枚の板状体を当接させて、被転写物を一方の板状体から他方の板状体に転写する転写装置において、
前記板状体のうちの第１板状体の下面に局所的に当接して前記第１板状体を水平姿勢に支持する複数の下側支持手段と、
前記板状体のうちの前記第１板状体と異なる第２板状体を上方から保持して、前記第２板状体を前記第１板状体と対向させる上側保持手段と
を備え、
前記下側支持手段の各々は、
上端が前記第１板状体の下面に局所的に当接して前記第１板状体を支持する第１支持部と、
上端が前記第１支持部の上端と同一の高さに位置決めされて前記第１板状体の下面のうち前記第１支持部が当接していない領域に当接する当接位置と、前記上端が前記第１板状体下面から離間した離間位置との間を移動可能に構成された第２支持部と
を有する転写装置。
【請求項２】
前記第１支持部の上面および前記当接位置にあるときの前記第２支持部の上面がいずれも平面であり、前記第１支持部の上面と前記当接位置にある前記第２支持部の上面とが同一平面をなす請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
前記下側支持手段が水平方向に列状に配置され、前記第１板状体の下面のうち、互いに隣接する前記第１支持部が当接する領域に挟まれた領域に、前記第２支持部が当接する請求項１または２に記載の転写装置。
【請求項４】
前記第２支持部は、前記第１板状体の下面に当接する支持面を有するとともに水平な回動軸周りに回動可能に構成され、
前記第２支持部を回動させて前記支持面を前記第１支持部の上端と同一水平面に位置させる駆動機構を備える請求項１ないし３のいずれかに記載の転写装置。
【請求項５】
前記第２支持部は、前記第１板状体の下面に当接する支持面を有するとともに前記第１支持部に対して昇降可能に構成され、
前記支持面が前記第１支持部の上端と同一水平面に位置する前記当接位置と、前記支持面が前記第１支持部の上端よりも下方に位置する前記離間位置との間で、前記第２支持部を昇降させる昇降機構を備える請求項１ないし３のいずれかに記載の転写装置。
【請求項６】
前記第１板状体の下面周縁部に当接して前記第１板状体の前記周縁部を支持する周縁支持手段を備え、
前記下側支持手段の各々は、前記周縁支持手段が当接する前記第１板状体の前記周縁部よりも内側の領域で前記第１板状体に当接する請求項１ないし５のいずれかに記載の転写装置。
【請求項７】
前記第１支持部および前記第２支持部が、前記周縁支持手段により支持される前記第１板状体の位置よりも高い位置で前記第１板状体を支持する第１位置と、前記周縁支持手段により支持される前記第１板状体の位置と同じ高さで前記第１板状体を支持する第２位置との間を移動可能である請求項６に記載の転写装置。
【請求項８】
前記第１支持部の上端に前記第１板状体の下面を吸着する吸着機構が設けられた請求項１ないし７のいずれかに記載の転写装置。
【請求項９】
前記下側支持手段に支持された前記第１板状体の下面を局所的に押し上げて、前記上側保持手段に保持された前記第２板状体に前記第１板状体を当接させる押圧部材と、
前記押圧部材を前記第１板状体の下面に沿って前記第１板状体に対し相対移動させる移動手段と
を備え、
前記複数の下側支持手段の各々は、前記押圧部材の移動に応じて前記第１支持部を前記第１板状体下面から離間させる請求項１ないし８のいずれかに記載の転写装置。
【請求項１０】
前記複数の下側支持手段の各々は、前記第２支持部を前記当接位置に位置させた状態から、前記第１支持部と前記第２支持部とを一体的に前記第１板状体下面から離間させる請求項９に記載の転写装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、２枚の板状体を当接させて、一方の板状体に担持された被転写物を他方の板状体に転写する転写装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板や半導体基板などの板状体の表面に薄膜やパターン等を形成する技術として、予め担持体に形成された薄膜やパターン等を基板に転写するものがある。例えば特許文献１に記載の技術は、有機ＥＬ表示装置を製造する技術であり、いずれも平板状の転写用基板と素子形成用基板とを密着させて転写用基板から所定のパターンを素子形成用基板に転写した後、これらを分離させる工程を含むものである。
【０００３】
このような転写工程を実行する転写装置においては、２枚の板状体を近接対向させた状態でそれぞれ保持する必要がある。この目的のためには、例えば板状体を平面ステージに載置して保持することが考えられるが、外部から搬入される板状体の受け入れや搬出のための受け渡しの便宜上、板状体の表面全体を支持するようなステージを構成することが困難である。特許文献１に記載の技術においても、水平対向される２枚の基板のうち上側の基板が基板上面に局所的に当接する吸着パッドにより吸着保持される一方、下側の基板は、基板の位置に対応して分散配置された複数の支持部材が基板に局所的に当接することにより水平姿勢に支持されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２８７９４９号公報（例えば、図６）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
取り扱われる板状体が従来より大きく、また薄くなるにつれて、板状体を平坦な状態に保持することが難しくなってきている。すなわち、板状体のうち支持されていない領域が下方へ撓み、板状体が波打った状態となってしまう。その結果、２枚の板状体間のギャップが位置によって異なり、それらを当接させる際の位置精度が低下してパターン等の被転写物を適正な位置に転写することができないという問題が生じてきている。
【０００６】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、２枚の板状体を当接させて一方の板状体に担持された被転写物を他方の板状体に転写する転写装置において、特に下側に位置する板状体について、装置への搬入出の作業性を損なうことなく、板状体の位置ずれの原因となる撓みを抑制することのできる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明の一の態様は、２枚の板状体を当接させて、被転写物を一方の板状体から他方の板状体に転写する転写装置において、上記目的を達成するため、前記板状体のうちの第１板状体の下面に局所的に当接して前記第１板状体を水平姿勢に支持する複数の下側支持手段と、前記板状体のうちの前記第１板状体と異なる第２板状体を上方から保持して、前記第２板状体を前記第１板状体と対向させる上側保持手段とを備え、前記下側支持手段の各々は、上端が前記第１板状体の下面に局所的に当接して前記第１板状体を支持する第１支持部と、上端が前記第１支持部の上端と同一の高さに位置決めされて前記第１板状体の下面のうち前記第１支持部が当接していない領域に当接する当接位置と、前記上端が前記第１板状体下面から離間した離間位置との間を移動可能に構成された第２支持部とを有している。
【０００８】
このように構成された発明では、下側支持手段が第１板状体を支持する態様として、第１支持部と当接位置にある第２支持部とが一体として第１板状体を下面から支持する態様（ここでは「第１の支持態様」と仮称する）と、第２支持部が第１板状体下面から離間した位置にあり第１支持部のみが第１板状体を下面から支持する態様（ここでは「第２の支持態様」と仮称する）との２種類が存在する。
【０００９】
第１の支持態様では、第１支持部と第２支持部とがいずれも第１板状体に当接し、第１板状体の下面領域のうち比較的広い領域が下方から支持されるので、第１板状体の撓みを抑制することができる。一方、第２の支持態様では、第２支持部が第１板状体から離間しており、第１板状体の下面のうち第１の支持態様よりも広い領域が下方を開放された状態となっている。そのため、第１板状体への外部からのアクセスがより容易となっており、外部からの第１板状体の搬入および外部への第１板状体の搬出が行いやすい。このように、２つの支持態様を使い分けることが可能な構成を有することにより、本発明では、装置への第１板状体の搬入出の作業性を損なうことなく、第１板状体の撓みを抑えて、該撓みに起因する位置ずれを抑制することができる。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、第１支持部と第２支持部とで第１板状体を比較的広い範囲で支持する支持態様と、第２支持部が離間した状態で第１支持部が第１板状体を支持する支持態様とを切り替えることが可能であり、装置への第１板状体の搬入出の作業性を損なうことなく、位置ずれの原因となる第１板状体の撓みを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】この発明にかかる転写装置の第１実施形態の概略構成を示す図である。
【図２】この転写装置における板状体の保持状態を模式的に示す図である。
【図３】支持ハンド機構の構造を示す図である。
【図４】転写ローラユニットの構造を示す図である。
【図５】転写動作を示すフローチャートである。
【図６】転写動作の各工程における装置主要部の位置関係を示す第１の図である。
【図７】転写動作の各工程における装置主要部の位置関係を示す第２の図である。
【図８】転写動作の各工程における装置主要部の位置関係を示す第３の図である。
【図９】転写動作の各工程における装置主要部の位置関係を示す第４の図である。
【図１０】本発明にかかる転写装置の第２実施形態を示す図である。
【図１１】本発明にかかる転写装置の第３実施形態を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１はこの発明にかかる転写装置の第１実施形態の概略構成を示す図である。また、図２はこの転写装置における板状体の保持状態を模式的に示す図である。以下の各図における方向を統一的に示すために、図１に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。
【００１３】
この転写装置１は、互いに分離した状態で搬入される２枚の板状体を密着させるための装置である。例えばガラス基板や半導体基板等の基板の表面に所定のパターンを形成するパターン形成プロセスの一部において用いられる。より具体的には、このパターン形成プロセスでは、被転写体である基板に転写すべきパターンを一時的に担持する担持体としてのブランケット表面にパターン形成材料を均一に塗布し（塗布工程）、パターン形状に応じて表面加工された版をブランケット上の塗布層に押し当てることによって塗布層をパターニングし（パターニング工程）、こうしてパターンが形成されたブランケットを基板に密着させることで（転写工程）、パターンをブランケットから基板に最終転写する。
【００１４】
以下では上記した転写工程、つまりブランケット上に形成されたパターンを基板に転写するプロセスにこの転写装置１が用いられることを前提に説明する。しかし、パターニング工程に適用された場合でも装置構成および動作は基本的に同じであり、以下の説明における「基板」を「版」に読み替えればよい。
【００１５】
この転写装置１は、図示しない装置筺体にそれぞれ取り付けられた上ステージユニット２および下ステージユニット３と、これらを制御して所定の動作を行わせる制御ユニット４とを備えている。上ステージユニット２は、下面が平坦な基板保持面となった上ステージ２１を備え、上ステージ２１が基板を保持する。上ステージ２１は、制御ユニット４に設けられた昇降制御部４１により制御される昇降機構２２に連結されており、昇降制御部４１からの制御指令に応じて、上ステージ２１は鉛直方向（Ｚ方向）に昇降移動する。
【００１６】
図２に示すように、上ステージ２１は保持すべき基板ＳＢの外形寸法よりも僅かに小さい外形を有しており、基板ＳＢの周縁部を基板保持面からはみ出させた状態で、かつパターンが転写される被転写面を下向きにして基板ＳＢを保持する。上ステージ２１の下面、つまり基板保持面２１ａには吸着パッドまたは吸着溝などの吸着機構が設けられている。制御ユニット４の吸着制御部４２からの制御指令に応じて吸着機構が基板ＳＢの上面を吸着することで、基板ＳＢがその上面を上ステージ２１の下面（基板保持面）２１ａに密着させた状態で上ステージ２１に保持される。
【００１７】
下ステージユニット３は、ベース部３０から上向きに立設された支柱に取り付けられた下ステージ３１を備えており、下ステージ３１がブランケットを保持する。より具体的には、下ステージ３１は、ベース部３０に取り付けられた複数のアライメント機構３２により支持された支柱に固定されている。アライメント機構３２は例えばクロスローラベアリングからなる可動機構である。制御ユニット４のアライメント制御部４５からの制御信号に応じて複数のアライメント機構３２が協働することにより、ベース部３０に対し下ステージ３１をＸＹ平面（水平面）内およびＺ軸（鉛直軸）周りに所定範囲で移動させることができる。
【００１８】
下ステージ３１は、外形が長方形で中央部が大きく開口した額縁形状を有しており、その上面は単一平面をなしてブランケット支持面３１ａとなっている。図２に示すように、下ステージ３１の外周縁に相当する矩形はブランケットＢＬよりも大きく、下ステージ３１の内周縁に相当する矩形はブランケットＢＬよりも小さい。そのため、下ステージ３１の上面３１ａにブランケットＢＬが載置された状態では、ブランケットＢＬの周縁部が下ステージ３１の上面に当接する。下ステージ３１の上面３１ａには吸着溝３１１が設けられており、制御ユニット４の吸着制御部４４からの制御指令により図示しない負圧供給部から吸着溝３１１に負圧が付与されることで、ブランケットＢＬの周縁部が吸着される。これによりブランケットＢＬが下ステージ３１の上面（ブランケット支持面）３１ａに下方から支持される。
【００１９】
ブランケットＢＬの中央部を支持するために、支持ハンド機構３３，３４が設けられる。より具体的には、図１に示すように、下ステージ３１中央の開口部に臨んでそれぞれ複数の支持ハンド機構３３および支持ハンド機構３４が配置されている。ここではそれぞれ４基ずつ設けられた例を示しているが、支持ハンド機構の設置数はこれに限定されず任意である。
【００２０】
４基の支持ハンド機構３３は、下ステージ３１の開口部内で（＋Ｘ）側に寄った位置にＹ方向に一列に並ぶようにベース部３０に取り付けられている。一方、４基の支持ハンド機構３４は、下ステージ３１の開口部内で（−Ｘ）側に寄った位置にＹ方向に一列に並ぶようにベース部３０に取り付けられている。支持ハンド機構３３と支持ハンド機構３４とはＹＺ平面に対して互いに対称な形状を有しているが、構造は同一である。以下では（＋Ｘ）側に配置された支持ハンド機構３３の構造について詳しく説明する。
【００２１】
図３は支持ハンド機構の構造を示す図である。より具体的には、図３（ａ）は支持ハンド機構３３の外観斜視図であり、図３（ｂ）は支持ハンド機構３３の開閉動作を示す図である。支持ハンド機構３３は、ブランケットＢＬの下面にそれぞれ当接する第１支持部３３１および第２支持部３３２を備えている。第１支持部３３１は、Ｘ方向に互いに離間して配置された１対の支持フレーム３３３に固定されている。第１支持部３３１の上面３３１ａは水平面をなし、かつ支持フレーム３３３の上面よりも上方に位置している。また第１支持部３３１の上面３３１ａには複数の吸着孔３３１ｂが設けられており、第１支持部３３１はブランケットＢＬを吸着保持することができる。吸着孔３３１ｂへの負圧の付与および解除は、制御ユニット４の吸着制御部４７により制御される。
【００２２】
第２支持部３３２は、Ｘ方向に平行で水平な回動軸Ａｒ周りに回動自在に支持フレーム３３３に支持された平板状部材である。一方の支持フレーム３３３に例えばロータリーアクチュエータによる回動機構３３４が取り付けられており、回動機構３３４が第２支持部３３２を回動軸Ａｒ周りに回動させる。回動機構３３４は制御ユニット４の開閉制御部４６からの制御指令に応じて作動する。図３（ｂ）に示すように、第２支持部３３２は、その主面３３２ａが第１支持部３３１の上面３３１ａと同一水平面となってブランケットＢＬ下面に当接する当接位置（図３（ｂ）左図に示す位置）と、主面３３２ａが第１支持部３３１の上面３３１ａよりも下方に位置しブランケットＢＬから離間した離間位置（図３（ｂ）右図に示す位置）との間で移動可能となっている。このような第２支持部３３２の動作を、本明細書では「開閉動作」と称する。
【００２３】
後述するように、この実施形態では、全ての支持ハンド機構３３，３４において開閉動作が同期して実行される。その意味においては、上記のように各支持ハンド機構３３，３４に回動機構が設けられた態様以外に、例えば各支持ハンド機構３３，３４にそれぞれ設けられた第２支持部を一括して回動させる機構が設けられた態様であってもよい。
【００２４】
支持フレーム３３３はＸ方向に延びるビーム３３５に取り付けられており、ビーム３３５は昇降機構３３６を介して支柱３３７に支持されている。支柱３３７は下ステージユニット３のベース部３０に固定されている。昇降機構３３６は、制御ユニット４の昇降制御部４８からの制御指令に応じてビーム３３５を昇降させる。これにより、ビーム３３５上の支持フレーム３３３に支持された第１支持部３３１および第２支持部３３２が一体的に昇降する。この実施形態において、第１支持部３３１は、その上面が下ステージ３１の上面よりも上方に大きく突出する「上位置」、上面が下ステージ３１の上面と同じ高さとなる「中間位置」および上面が下ステージ３１の上面よりも下方まで大きく下がった「下位置」の３つの位置を取り得る。
【００２５】
後述するように、この実施形態では、複数の支持ハンド機構３３はそれぞれ異なるタイミングで昇降動作を行う。複数の支持ハンド機構３４についても同様である。そのため、昇降機構３３６は各支持ハンド機構３３，３４に個別に設けられる。なお、Ｘ方向に隣接して配置された１対の支持ハンド機構３３，３４の間では同期した昇降動作が行われる。したがって、隣接する１対の支持ハンド機構３３，３４の間では、単一の昇降機構により昇降動作が実行されていてもよい。
【００２６】
このように、支持ハンド機構３３では、昇降機構３３６の作動により第１支持部３３１と第２支持部３３２とが一体的にＺ方向に移動する昇降動作と、回動機構３３４の作動により第２支持部３３２が水平な回動軸Ａｒ周りに回動し当接位置と離間位置との間を移動する開閉動作とが、制御ユニット４からの制御指令に応じて実行される。
【００２７】
支持ハンド機構３４は上記と同様の構造を有しており、支持ハンド機構３３に設けられた第１支持部３３１、第２支持部３３２、支持フレーム３３３、回動機構３３４、ビーム３３５、昇降機構３３６および支柱３３７にそれぞれ対応する構成として、第１支持部３４１、第２支持部３４２、支持フレーム３４３、回動機構３４４、ビーム３４５、昇降機構３４６および支柱３４７を有している（図４（ｂ）参照）。
【００２８】
図１に戻って、上ステージ２１にはギャップセンサ２１１が内蔵される一方、制御ユニット４にはギャップ計測部４３が設けられている。詳しくは後述するが、上ステージ２１に保持された基板ＳＢと、下ステージ３１に支持されたブランケットＢＬとの間のギャップ量がギャップセンサ２１１およびギャップ計測部４３により計測され、その結果に基づき昇降制御部４１が昇降機構２２を制御してＺ方向への上ステージ２１の位置決めを行う。これにより、基板ＳＢとブランケットＢＬとが所定の微小ギャップを隔てて対向配置される。
【００２９】
さらに、図１に示すように、下ステージ３１の開口部の内側には、転写ローラユニット３５が設置されている。以下、図４を参照しながら転写ローラユニット３５の構造について説明する。
【００３０】
図４は転写ローラユニットの構造を示す図である。より具体的には、図４（ａ）は転写ローラユニット３５の外観斜視図であり、図４（ｂ）は転写ローラユニット３５をＹ方向に見た正面図である。転写ローラユニット３５は、Ｘ方向を軸方向とする円柱状の転写ローラ３５１と、転写ローラ３５１をＸ軸周りに回転自在に支持する支持フレーム３５２とを有している。支持フレーム３５２の下面中央部には支持脚３５３が設けられ、支持脚３５３はベースブロック３５４により支持されている。
【００３１】
ベースブロック３５４は支持脚３５３を昇降自在に支持するとともに、制御ユニット４のローラ駆動制御部４９からの制御指令に応じて支持脚３５３を昇降させる昇降機構を内蔵している。また、ベースブロック３５４は、下ステージユニット３のベース部３０に取り付けられＹ方向を長手方向として延設されたガイドレール３５５に取り付けられている。そして、例えばボールねじ機構やリニアモータなどの図示しない適宜の駆動機構が連結されることにより、ベースブロック３５４はガイドレール３５５に沿ってＹ方向に移動可能となっている。ベースブロック３５４の移動はローラ駆動制御部４９により制御される。
【００３２】
このように、転写ローラユニット３５は、転写ローラ３５１の高さ（Ｚ方向位置）を変化させる昇降動作と、転写ローラ３５１をＹ方向に走行させる走行動作とを実行可能である。なお、転写ローラ３５１は駆動源と接続されておらず自由回転する。
【００３３】
転写ローラ３５１の走行に伴う支持ハンド機構３３，３４との干渉は以下のようにして回避される。図４（ｂ）に示すように、転写ローラユニット３５の支持脚３５３、ベースブロック３５４およびガイドレール３５５はＸ方向に並べて配置された１対の支持ハンド機構３３，３４の間に配置されている。そして、転写ローラ３５１がＹ方向に走行するとき、昇降機構３３６，３４６により支持ハンド機構３３，３４のビーム３３５，３４５が下方に位置決めされる。これにより第１支持部３３１，３４１の上面が支持フレーム３５２の下面よりも低い下位置まで下降し、こうして第１支持部３３１，３４１の上方に形成された空間を、転写ローラ３５１および支持フレーム３５２が走行する。
【００３４】
次に、上記のように構成された転写装置１における転写動作について説明する。転写動作の概略は次の通りである。被転写物であるパターンが転写される基板ＳＢが上ステージ２１に保持され、パターンを担持するブランケットＢＬが下ステージ３１に保持されて、両者が近接対向配置される。この状態で、転写ローラ３５１が下方からブランケットＢＬを部分的に押し上げることでブランケットＢＬを基板ＳＢに当接させパターンを転写する。ブランケットＢＬを押し上げながら転写ローラ３５１がＹ方向に走行することで、基板ＳＢとブランケットＢＬとの当接領域が拡大し、最終的に全てのパターンがブランケットＢＬから基板ＳＢに転写される。
【００３５】
一方、この転写装置１がパターニング動作に使用される場合には、基板ＳＢに代えて版が上ステージ２１に保持される。また、ブランケットＢＬの上面にはパターン形成材料の一様な薄膜が担持される。この状態で転写ローラ３５１がブランケットＢＬを版に当接させることで、ブランケットＢＬ上のパターン形成材料が版によりパターニングされる。基本的な処理内容は転写動作とパターニング動作とで共通であるため、ここでは転写動作についてその流れを説明する。
【００３６】
図５は転写動作を示すフローチャートである。また、図６ないし図９は転写動作の各工程における装置主要部の位置関係を示す図である。最初に、外部からの基板ＳＢおよびブランケットＢＬの搬入を容易にするために、上ステージ２１と下ステージ３１とを大きく離間させた状態とする（ステップＳ１０１）。具体的には、昇降機構２２が上ステージ２１を上方に退避させることで、上ステージ２１と下ステージ３１との間隔を大きく取っておく。
【００３７】
またこのとき、支持ハンド機構３３，３４の第２支持部３３２，３４２は離間位置に位置決めされている。第１支持部３３１，３４１の上端は下ステージ３１の上面３１ａよりも下方の下位置に位置している。また、転写ローラ３５１は、Ｙ方向にはその可動範囲において最も（−Ｙ）側の位置に、またＺ方向には下ステージ３１の上面３１ａよりも下方へ降下した位置に位置決めされる。
【００３８】
この状態で、外部から搬入される基板ＳＢを受け入れ、上ステージ２１にセットする（ステップＳ１０２）。具体的には、図６（ａ）に示すように、上下に離間された上ステージ２１と下ステージ３１との間に、外部の搬送ロボットまたはＭＧＶ（man guided vehicle）の基板保持ハンドＨｓにより周縁部を支持された基板ＳＢが搬入される。そして、図６（ｂ）に示すように、基板ＳＢが上ステージ２１の下面（基板保持面）２１ａに当接され、上ステージ２１により基板ＳＢが吸着保持される。
【００３９】
続いて、支持ハンド機構３３，３４の昇降機構３３６，３４６により、第１支持部３３１，３４１および第２支持部３３２，３４２が下ステージ３１よりも上方の上位置に位置決めされる（ステップＳ１０３）。なお、Ｘ方向に並んで配置される１対の支持ハンド機構３３，３４の動きは同一であるため、以下の説明および図においては支持ハンド機構３３の動きのみを代表的に記述する。
【００４０】
この状態で、図６（ｃ）に示すように、外部の搬送ロボットまたはＭＧＶのブランケット保持ハンドＨｂにより下面を支持されたブランケットＢＬが搬入される（ステップＳ１０４）。第１支持部３３１の上面が下ステージ３１の上面３１ａよりも上方に位置し、また第２支持部３３２が離間位置にある。このため、搬入されるブランケットＢＬの下方が広く空いており、ブランケット保持ハンドＨｂはブランケットＢＬの周縁部のみでなくその中央部下面にも当接してブランケットＢＬを保持することが可能である。これにより、ブランケットＢＬの撓みを抑制し水平姿勢を保ちながらブランケットＢＬを搬入することができる。
【００４１】
図７（ａ）に示すように、搬入されたブランケットＢＬはブランケット保持ハンドＨｂから支持ハンド機構３３に受け渡される。より具体的には、ブランケット保持ハンドＨｂが下降する、または支持ハンド機構３３が上昇することで、第１支持部３３１がブランケットＢＬ下面に当接し、ブランケット保持ハンドＨｂがブランケットＢＬから離間する。これにより、ブランケットＢＬの支持主体がブランケット保持ハンドＨｂから支持ハンド機構３３の第１支持部３３１に移行する。第１支持部３３１の上面３３１ａに設けられた吸着孔３３１ｂに負圧が付与されることにより、ブランケットＢＬは第１支持部３３１により吸着保持される。
【００４２】
このとき、ブランケットＢＬは、下面に第１支持部３３１が局所的に当接することによりその姿勢が維持されている。そのため、図７（ａ）に点線で示すように、第１支持部３３１による支持を受けない部分でブランケットＢＬが下方へ撓むおそれがある。特に、基板ＳＢの大型化に伴ってブランケットＢＬが大きくなると、このような撓みが生じやすくなる。ブランケットＢＬは最終的に下ステージ３１によりその周縁部を保持されるが、ブランケットＢＬが支持ハンド機構３３から下ステージ３１に受け渡される際に撓んでいると、下ステージ３１への載置位置が適正位置からずれてしまう可能性がある。
【００４３】
この問題を解消するため、ブランケット保持ハンドＨｂからブランケットＢＬを受け取った後、支持ハンド機構３３は第２支持部３３２を当接位置に位置決めし（ステップＳ１０５）、図７（ｂ）に示すように、以後は第１支持部３３１と第２支持部３３２とによりブランケットＢＬが支持される。これにより、ブランケットＢＬの下面への支持ハンド機構３３の接触面積が増大し、ブランケットＢＬの撓みが軽減される。
【００４４】
各支持ハンド機構３３の第２支持部３３２は、第１支持部３３１に対して（＋Ｙ）側に配置されており、その当接位置では、ブランケットＢＬの下面のうち第１支持部３３１に支持される領域よりも（＋Ｙ）側の領域に当接する。したがって、Ｙ方向に並べて複数配置された支持ハンド機構３３の第１支持部３３１間の隙間が第２支持部３３２により塞がれる。こうして擬似的に形成される広い平面でブランケットＢＬを支持することで、ブランケットＢＬが撓みなく水平姿勢に保持される。
【００４５】
昇降機構３３６により、第１支持部３３１と第２支持部３３２とが一体的に下降し、それらの上面が下ステージ３１の上面と同一高さとなる中間位置に到達した時点で昇降機構３３６の動作が停止される。これにより、図７（ｃ）に示すように、ブランケットＢＬの周縁部ではその下面が下ステージ３１の上面、すなわちブランケット支持面３１ａに当接し、支持ハンド機構３３と下ステージ３１とによりブランケットＢＬが水平姿勢に維持される（ステップＳ１０６）。
【００４６】
下ステージ３１の上面３１ａに設けられた吸着溝３１１に負圧が付与されることにより、ブランケットＢＬの周縁部が下ステージ３１により吸着保持される。第２支持部３３２をブランケットＢＬに当接させることでブランケットＢＬが水平姿勢に維持されているため、下ステージ３１によるブランケットＢＬの吸着を確実に行うことができる。
【００４７】
こうして基板ＳＢおよびブランケットＢＬの搬入が完了すると、基板ＳＢとブランケットＢＬとの間のギャップ調整が行われる（ステップＳ１０７）。図８（ａ）に示すように、上ステージ２１下面の周縁部近傍には小孔が設けられてギャップセンサ２１１が埋め込まれている。ギャップセンサ２１１としては例えば光干渉式の距離センサを用いることができる。この場合、ギャップセンサ２１１は下向きに光を出射し、反射光を受光する。基板ＳＢの下面で反射される光とブランケットＢＬの上面で反射される光との光路長の差から基板ＳＢとブランケットＢＬとの間のギャップ量Ｇを検出することができる。具体的には、制御ユニット４のギャップ計測部４３がギャップセンサ２１１の出力信号からギャップ量Ｇを求める。
【００４８】
そして、こうして求められるギャップ量Ｇが予め設定された規定値となるように、昇降制御部４１が昇降機構２２を制御して上ステージ２１のＺ方向位置を設定する。ギャップ量Ｇの規定値としては、例えば３００μｍとすることができる。基板ＳＢが上ステージ２１の平坦な基板保持面２１ａに吸着保持される一方、ブランケットＢＬが下ステージ３１および支持ハンド機構３３，３４により水平姿勢に支持されることにより、基板ＳＢとブランケットＢＬとの対向領域においてギャップ量Ｇが略一定に維持される。またギャップ量Ｇを正確に検出するためには、ギャップセンサ２１１は、基板ＳＢおよびブランケットＢＬを挟んでいずれかの支持ハンド機構３３（３４）の第１支持部３３１（３４１）または第２支持部３３２（３４２）の上面と対向する位置に設けられることが好ましい。すなわち、ブランケットＢＬのうち第１支持部３３１（３４１）または第２支持部３３２（３４２）により支持される部位の上方に、ギャップセンサ２１１が設けられることが好ましい。これにより、支持されていない部位におけるブランケットＢＬの微小な撓みによる計測誤差を回避することができる。
【００４９】
続いて基板ＳＢとブランケットＢＬとの間のアライメント調整が行われる（ステップＳ１０８）。アライメント調整の方法は任意である。例えば基板ＳＢおよびブランケットＢＬにそれぞれ予め設けられたアライメントマークの水平方向位置が揃うように、アライメント制御部４５がアライメント機構３２を制御して下ステージ３１を水平移動させることにより、アライメント調整が実現可能である。
【００５０】
続いて、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターンの転写処理が行われる（ステップＳ１０９）。具体的には、基板ＳＢとブランケットＢＬとの間のギャップおよびアライメント調整が終了した状態で、図８（ａ）に示すように、転写ローラ３５１を基板ＳＢの（−Ｙ）側端部の直下位置に配置する。そして、図８（ｂ）に示すように、転写ローラ３５１が上昇してブランケットＢＬを上方へ押し上げ、ブランケットＢＬ上面と基板ＳＢ下面とを当接させる。転写ローラ３５１は、Ｚ方向位置を維持したままＹ方向に走行する。このとき、図８（ｃ）および図８（ｄ）に示すように、転写ローラ３５１の走行に伴って支持ハンド機構３３が順番に下方へ退避し、転写ローラ３５１との干渉が回避される。
【００５１】
転写ローラ３５１が到達する直前まで支持ハンド機構３３をブランケットＢＬ下面に当接させておくことで、ブランケットＢＬの水平姿勢を維持することができる。このとき第２支持部３３２を当接位置に位置決めしておくことで、より広い接触面積でブランケットＢＬを支持し、その撓みを防止することができる。
【００５２】
第１支持部３３１によるブランケットＢＬの吸着保持については、遅くとも第１支持部３３１が下降を始める前には解除される。下ステージ３１によるブランケットＢＬの吸着保持が開始されてからは、第１支持部３３１による吸着は任意のタイミングで解除されてよい。アライメント調整における下ステージ３１の移動に支持ハンド機構３３が追随しない構成では、アライメント調整の実行前に第１支持部３３１による吸着は解除されることが好ましい。また吸着孔３３１ｂから気体を吐出させることで第１支持部３３１の上面とブランケットＢＬの下面との間に気体の層を形成し、アライメント調整における下ステージ３１とブランケットＢＬとの水平移動を容易にすることも可能である。
【００５３】
図９（ａ）に示すように、転写ローラ３５１が基板ＳＢの（＋Ｙ）側端部まで到達すると、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン転写が完了する。転写ローラ３５１を下降させてブランケットＢＬから離間させ、初期位置へ移動させる。これによりステップＳ１０９の転写処理が終了する。ブランケットＢＬはパターンを介して基板ＳＢと密着した状態が維持されている。
【００５４】
続いて、図９（ｂ）に示すように、下位置に退避した支持ハンド機構３３の第１支持部３３１および第２支持部３３２を下ステージ３１上面と同一高さの中間位置に戻し、上ステージ２１による基板ＳＢの吸着を解除する。これにより、基板ＳＢとブランケットＢＬとがパターンを介して密着した密着体Ｂは、上ステージ２１による保持が解除されて、下ステージ３１および支持ハンド機構３３，３４による支持に切り替わる。上ステージ２１が上方に退避し下ステージ３１から離間することで、密着体Ｂの上方に広い空間が生じる（ステップＳ１１０）。
【００５５】
そして、図９（ｃ）に示すように、支持ハンド機構３３を上位置に移動させることで密着体Ｂを下ステージ３１から離間させ、さらに各支持ハンド機構３３の第２支持部３３２を離間位置へ移動位置決めする（ステップＳ１１１）。こうしてできた下ステージ３１と密着体Ｂ下面との間に、図９（ｄ）に示すように外部の搬送ロボットまたはＭＧＶのブランケット支持ハンドＨｂを進入させ、密着体Ｂを支持ハンド機構３３からブランケット支持ハンドＨｂに受け渡す。ブランケット支持ハンドＨｂが外部へ退避することで、密着体Ｂが転写装置１から外部に搬出される（ステップＳ１１２）。以上で転写処理が完了し、以後、外部の剥離装置により基板ＳＢとブランケットＢＬとが剥離されて、パターンが転写された基板ＳＢが得られる。
【００５６】
以上のように、この実施形態では、額縁状の下ステージ３１と、支持ハンド機構３３，３４とにより平板状のブランケットＢＬを下方から支持する。各支持ハンド機構３３，３４は、ブランケットＢＬの下面に局所的に当接する第１支持部３３１，３４１と、ブランケットＢＬの下面に当接する当接位置およびブランケットＢＬの下面から離間した離間位置の間で開閉動作する第２支持部３３２，３４２とを有している。第２支持部３３２，３４２が当接位置にあるとき、第１支持部３３１，３４１とともにブランケットＢＬ下面を支持するので、ブランケットＢＬの撓みを防止して、ブランケットＢＬを水平姿勢に保持することができる。
【００５７】
ブランケットＢＬの下面が広く支持されることで水平姿勢の保持が容易となる一方、外部からのブランケットＢＬの搬入時および外部へのブランケットＢＬの搬出時にブランケットＢＬを保持するためのスペースが少なくなる。特に大型で薄いブランケットでは、周縁部のみで保持することは困難であり、その中央部においても下方から支持するためのスペースが必要となる。そこで、この実施形態は、開閉動作により第２支持部３３２，３４２をブランケットＢＬから離間させた支持態様が実現可能に構成されている。こうして空いたブランケットＢＬ下面スペースに支持部材（上記実施形態ではブランケット保持ハンドＨｂ）を進入させて支持することができるので、搬入出時の外部からのアクセス性も損なわれない。このように、本実施形態では、装置への搬入出の作業性を損なうことなく、位置ずれの原因となる撓みを抑制しつつブランケットを支持することが可能である。
【００５８】
支持ハンド機構３３の第１支持部３３１の上面３３１ａおよび第２支持部３３２の主面３３２ａはいずれも平面に仕上げられている。そして、第２支持部３３２が当接位置にあるとき、その主面３３２ａが上向きとなり第１支持部３３１の上面３３１ａと同一の水平面をなす。これにより、ブランケットＢＬの下面に広い平面を当接させて支持することができ、ブランケットＢＬを平坦かつ水平に支持することが可能である。支持ハンド機構３４においても同様である。
【００５９】
第２支持部３３２，３４２は、ブランケットＢＬ下面のうち第１支持部３３１，３４１によって支持される領域に挟まれた領域に当接する。これにより、第１支持部３３１，３４１および第２支持部３３２，３４２がなす擬似的な広い単一平面によりブランケットＢＬが支持されるので、ブランケットＢＬの姿勢維持がより確実になる。
【００６０】
支持ハンド機構３３の第２支持部３３２は水平な回動軸Ａｒ周りに回動可能に構成されており、回動機構３３４により回動駆動される。回動機構３３４の作動により当接位置に位置決めされた第２支持部３３２では、その主面３３２ａが第１支持部３３１の上面と同一水平面となってブランケットＢＬ下面に当接する。このような開閉動作により、第２支持部３３２の当接位置と離間位置との切り替えを比較的簡単な構成で行うことができる。支持ハンド機構３４においても同様である。
【００６１】
また、この実施形態は、ブランケットＢＬの周縁部を支持する額縁状の下ステージ３１を備えている。すなわち、支持ハンド機構３３，３４により支持されるブランケットＢＬの中央部を取り巻く周縁部が、下ステージ３１によって支持される。これにより、ブランケットＢＬの周縁部が下方へ垂れ下がることが防止される。特に、転写ローラ３５１の走行に伴って支持ハンド機構３３，３４が順次下降する局面においてもブランケットＢＬの周縁部が下ステージ３１に支持されていることで、基板ＳＢとブランケットＢＬとのギャップ量の変動を抑えながら、ブランケットＢＬを順次基板ＳＢに当接させることができる。これにより、ブランケットＢＬから基板ＳＢへのパターン転写位置のずれを防止することができる。
【００６２】
また、支持ハンド機構３３の第１支持部３３１と第２支持部３３２とは昇降機構３３６により一体的に昇降可能となっており、これらが下ステージ３１の上面３１ａよりも上方に突出した上位置と、下ステージ３１の上面３１ａと同一高さとなる中間位置とを含む複数位置に位置決め可能となっている。上位置では外部からのアクセスが容易となる一方、中間位置では第１支持部３３１および第２支持部３３２が下ステージ３１とともにブランケットＢＬを平坦な姿勢に支持することが可能となる。支持ハンド機構３４においても同様である。
【００６３】
また、支持ハンド機構３３の第１支持部３３１の上面３３１ａには吸着孔３３１ｂが設けられている。吸着制御部４７から吸着孔３３１ｂに負圧が付与されることにより、ブランケットＢＬが第１支持部３３１に吸着保持される。これにより、支持ハンド機構３３がブランケットＢＬをより確実に保持することが可能となる。
【００６４】
上記のようにして水平姿勢に保持されたブランケットＢＬの下方に転写ローラ３５１が配置される。転写ローラ３５１はブランケットＢＬ下面に局所的に当接してブランケットＢＬを押し上げながら、水平方向に移動する。このような構成によれば、転写ローラ３５１が所定の押圧力でブランケットＢＬを基板ＳＢに当接させて、ブランケットＢＬに担持されたパターンを基板ＳＢに確実に転写することができる。この場合において、支持ハンド機構３３，３４は、転写ローラ３５１の移動に伴って順次下降し、これにより転写ローラ３５１と支持ハンド機構３３，３４との干渉が回避される。また転写ローラ３５１の接近直前までブランケットＢＬ下面を支持ハンド機構３３，３４が支持しておくことで、当接の直前における基板ＳＢとブランケットＢＬとのギャップを適正に維持して、パターン転写位置を適切に制御することができる。
【００６５】
特に、転写ローラ３５１が接近するまで第１支持部３３１，３４１と第２支持部３３２，３４２とでブランケットＢＬを支持しておき、これらが一体的にブランケットＢＬ下面から離間する構成とすれば、転写ローラ３５１による押圧を受ける直前までブランケットＢＬを水平姿勢に維持しておくことができ、パターン転写位置をより適正に維持することが可能となる。
【００６６】
以上説明したように、この実施形態においては、基板ＳＢおよびブランケットＢＬが本発明の「２枚の板状体」に相当し、このうちブランケットＢＬが「第１板状体」、基板ＳＢが「第２板状体」に相当している。そして、ブランケットＢＬから基板ＳＢに転写されるパターンが本発明の「被転写物」に相当する。
【００６７】
また、上ステージ２１が本発明の「上側保持手段」として機能する一方、支持ハンド機構３３，３４が一体として本発明の「下側支持手段」として機能している。また、第２支持部３３２の主面３３２ａが本発明の「支持面」として機能し、回動機構３３４，３４４が本発明の「駆動機構」として機能している。そして、下ステージ３１が本発明の「周縁支持手段」として機能している。また、第１支持部３３１，３４１および第２支持部３３２，３４２の「上位置」が本発明の「第１位置」に相当し、「中間位置」が本発明の「第２位置」に相当している。
【００６８】
また、上記実施形態では、吸着孔３３１ｂおよび吸着制御部４７が一体として本発明の「吸着機構」として機能している。また、転写ローラ３５１が本発明の「押圧部材」として機能する一方、ベースブロック３５４が本発明の「移動手段」として機能している。
【００６９】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態では、Ｘ方向に対をなして配置された支持ハンド機構３３，３４の間を通るように転写ローラユニット３５の支持脚３５３、ベースブロック３５４が配置されている。しかしながら、例えば次のように構成されてもよい。
【００７０】
図１０は本発明にかかる転写装置の第２実施形態を示す図である。より具体的には、図１０（ａ）は本発明にかかる転写装置の第２実施形態の主要部の外観斜視図であり、図１０（ｂ）はこれをＹ方向に見た正面図である。この実施形態では、第１実施形態の転写ローラユニット３５に代えて転写ローラユニット５５が、また支持ハンド機構３３，３４に代えて支持ハンド機構５３が設けられる。これらを除く各構成は前記した第１実施形態のものと同一であり、ここでは第１実施形態と同一の構成には同一符号を付して詳しい説明を省略する。
【００７１】
転写ローラユニット５５は、Ｘ方向を軸方向とする円柱状の転写ローラ５５１と、転写ローラ５５１をＸ軸周りに回転自在に支持する支持フレーム５５２とを有している。支持フレーム５５２のＸ方向両端部には１対の支持脚５５３，５５３が取り付けられている。支持脚５５３は１対のガイドレール５５５，５５５に取り付けられたベースブロック５５４，５５４により支持されている。転写ローラ５５１はベースブロック５５４，５５４に内蔵された昇降機構により昇降自在となる一方、ベースブロック５５４，５５４はガイドレール５５５，５５５に沿ってＹ方向に移動自在となっている。これにより、転写ローラ５５１は第１実施形態における転写ローラ３５１と同様の機能を有する。
【００７２】
一方、第１実施形態では１対の支持ハンド機構３３，３４がＸ方向に並べられているのに対し、この実施形態における支持ハンド機構５３は、Ｘ方向には１組だけ設けられる。図１０（ａ）においては１組のみを図示しているが、支持ハンド機構５３はＹ方向に沿って複数組（例えば４組）並べて配置される。各支持ハンド機構５３は、第１実施形態における支持ハンド機構３３をＸ方向に延長した構造を有している。すなわち、支持ハンド機構５３は、ブランケットＢＬの下面にそれぞれ当接する第１支持部５３１および第２支持部５３２を備えている。第１支持部５３１は、Ｘ方向に互いに離間して配置された１対の支持フレーム５３３に固定されている。第１支持部５３１の上面５３１ａは水平面をなし、かつ支持フレーム５３３の上面よりも上方に位置している。また第１支持部５３１の上面には図示しない吸着孔が設けられており、第１支持部５３１はブランケットＢＬを吸着保持することができる。
【００７３】
第２支持部５３２は、Ｘ方向に平行で水平な回動軸Ａｒ周りに回動自在に支持フレーム５３３に支持された平板状部材である。一方の支持フレーム５３３に例えばロータリーアクチュエータによる回動機構５３４が取り付けられており、回動機構５３４が第２支持部５３２を回動軸Ａｒ周りに回動させる。第２支持部５３２は、その主面５３２ａが第１支持部５３１の上面５３１ａと同一水平面となってブランケットＢＬ下面に当接する当接位置と、主面５３２ａが第１支持部５３１の上面５３１ａよりも下方に位置しブランケットＢＬから離間した離間位置との間で移動可能となっている。
【００７４】
支持フレーム５３３はＸ方向に延びるビーム５３５に取り付けられており、ビーム５３５は昇降機構５３６を介して支柱５３７に支持されている。支柱５３７は下ステージユニット３のベース部３０に固定されている。昇降機構５３６は、制御ユニット４の昇降制御部４８からの制御指令に応じてビーム５３５を昇降させる。これにより、ビーム５３５上の支持フレーム５３３に支持された第１支持部５３１および第２支持部５３２が一体的に昇降する。この実施形態において、第１支持部５３１は、その上面が下ステージ３１の上面よりも上方に大きく突出する「上位置」、上面が下ステージ３１の上面と同じ高さとなる「中間位置」および上面が下ステージ３１の上面よりも下方まで大きく下がった「下位置」の３つの位置を取り得る。
【００７５】
転写ローラ５５１がＹ方向に走行する際、昇降機構５３６は第１支持部５３１および第２支持部５３２を下位置に位置決めする。これにより、図１０（ｂ）に示すように、第１支持部５３１および第２支持部５３２の上面が支持フレーム５３３の下面よりも下方に退避して、支持フレーム５３３との干渉が回避される。
【００７６】
このように、転写ローラ５５１をＹ方向に走行させるための機構を（＋Ｘ）側および／または（−Ｘ）側に寄せて配置することで、支持ハンド機構をＸ方向に一体となった構造とすることができ、第１実施形態と同様の効果を得つつ、ブランケットＢＬを支持する部材の面積を大きくしてブランケットＢＬの撓みをより効果的に抑制することが可能である。
【００７７】
また、上記実施形態では第１支持部に対し第２支持部が開閉動作をすることで当接位置と離間位置との切り替えが行われるが、これに限定されない。例えば次に示すように、第２部材が昇降することで当接位置と離間位置との切り替えを行うことも可能である。
【００７８】
図１１はこの発明にかかる転写装置の第３実施形態を示す図である。より具体的には、図１１（ａ）は第３実施形態における支持ハンド機構６３を示す外観斜視図であり、図１１（ｂ）はその動作を示す図である。また図１１（ｃ）は第３実施形態の変形例を示す図である。
【００７９】
第３実施形態の転写装置においては、第１実施形態の支持ハンド機構３３に代えて図１０（ａ）に示す支持ハンド機構６３が設けられる一方、第１実施形態の支持ハンド機構３４に代えて、図１０（ａ）に示す支持ハンド機構６３とＹＺ平面に対し対称な構造を有する支持ハンド機構が設けられる。この点を除く各構成は第１実施形態のものと同一であるので、ここでは詳しい説明を省略する。
【００８０】
第３実施形態における支持ハンド機構６３は、第１実施形態の支持ハンド機構３３における支柱３３７および昇降機構３３６とそれぞれ同じ機能を有する支柱６３７および昇降機構６３６を備え、昇降機構６３６には（−Ｘ）方向に延びるビーム６３５が取り付けられている。ビーム６３５の上面には１本の支持フレーム６３３が立設され、支持フレーム６３３側面に設けられたガイドレールにチャネル６３８が昇降自在に取り付けられている。チャネル６３８は昇降機構６３４の作動により、支持フレーム６３３に沿って上下方向に移動する。昇降機構６３４，６３６は制御ユニット４の昇降制御部（図示省略）からの制御指令に応じて作動する。
【００８１】
支持フレーム６３３の上端に第１支持部６３１が設けられるとともに、チャネル６３８の上部に第２支持部６３２が設けられる。第１支持部６３１はＸ方向に延設された棒状部材であり、その上面６３１ａは平坦に仕上げられ、吸着孔６３１ｂが設けられている。第１支持部６３１の機能は第１実施形態における第１支持部３３１と同じである。
【００８２】
第２支持部６３２はチャネル６３８上に水平姿勢に取り付けられた平板状部材であり、昇降機構６３４が作動することで水平姿勢のまま上下方向に移動する。図１１（ｂ）左図に示すように、チャネル６３８が上方に移動した状態では第２支持部６３２の上面６３２ａが第１支持部６３１の上面６３１ａと同一高さとなる。このとき、第２支持部６３２は第１支持部６３１とともにブランケット下面に当接してブランケットを支持する当接位置にある。一方、図１１（ｂ）右図に示すようにチャネル６３８が下方に移動した状態では、第２支持部６３２は第１支持部６３１よりも下方に退避し、ブランケット下面から離間した離間位置にある。
【００８３】
このように、この実施形態では、第２支持部６３２の昇降動作によって、第２支持部６３２の当接位置と離間位置との切り替えが行われる。このような構成によっても、第１実施形態と同様に、ブランケット搬入出時の外部からのアクセス性を損なうことなく、しかもブランケットの撓みを抑制しながらブランケットを水平姿勢に保持することが可能である。
【００８４】
図１１（ｃ）に示すように、第２支持部が第１支持部を挟んで両側に設けられてもよい。すなわち、チャネル６３８１を支持フレーム６３３から（＋Ｙ）方向および（−Ｙ）方向の両方向に延設し、第１支持部６３１をＹ方向から挟むように第２支持部６３２１，６３２２が設けられてもよい。なお、Ｙ方向に並べて配置される複数の支持ハンド機構が全て同一構造である必要はない。例えば、最も（−Ｙ）側に位置する１つについては、転写ローラユニットとの干渉を避けるために図１１（ａ）に示す構造とし、他を図１１（ｃ）に示す構造としてもよい。
【００８５】
また第３実施形態においても、第２実施形態と同様に、転写ローラユニットの支持脚が転写ローラのＸ方向両端部近傍に設けられ、支持ハンド機構がＸ方向に１組だけ設けられる構成であってもよい。また、第２支持部の開閉動作により当接位置と離間位置との切り替えが行われる第１実施形態においても、第２支持部が第１支持部の両側に設けられてもよい。
【００８６】
また、上記実施形態は、ブランケットＢＬの周縁部を支持する下ステージ３１を備える転写装置である。しかしながら、下ステージを備えず、支持ハンド機構のみでブランケットを支持する構成の装置に対しても、本発明を適用することが可能である。この場合、ブランケットを水平保持するために、第１および第２支持部を長手方向に延長し、ブランケットの周縁部まで第１および第２支持部により支持される態様とすることが好ましい。また、支持ハンド機構の設置数を増やしてもよい。また、ブランケット下面のうち支持ハンド機構により支持されない箇所や周縁部に局所的に当接して支持する部材が、下ステージの代わりに別途設けられてもよい。
【００８７】
また、上記実施形態の下ステージ３１および第１支持部３３１等はブランケットを吸着するための機構を備えているが、吸着機構を備えない装置に対しても、本発明を適用することが可能である。
【産業上の利用可能性】
【００８８】
本発明は、２枚の板状体を互いに当接させることで被転写物を一方から他方に転写する転写装置全般に適用することができる。板状体および被転写物の種類や形状は特に限定されない。
【符号の説明】
【００８９】
１  転写装置
２１  上ステージ（上側保持手段）
３１  下ステージ（周縁支持手段）
３３，３４，５３，６３  支持ハンド機構（下側支持手段）
４７  吸着制御部（吸着機構）
３３１，５３１，６３１  第１支持部
３３１ｂ  吸着孔（吸着機構）
３３２，５３２，６３２，６３２１，６３２２  第２支持部
３３２ａ，５３２ａ  （第２支持部３３２，５３２の）主面（支持面）
３３４，３４４  回動機構（駆動機構）
３５１  転写ローラ（押圧部材）
３５４  ベースブロック（移動手段）
ＢＬ  ブランケット（第１板状体）
ＳＢ  基板（第２板状体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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