(57)【要約】【課題】機能性パターンを形成した支持体を重ねて配置した際に機能性パターンに圧力が集中することを抑制する透明導電膜、透明導電膜の製造方法およびタッチパネルを提供する。【解決手段】透明な支持体１と、支持体１の少なくとも一方の面上に形成され、導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターン２と、支持体１の少なくとも一方の面上において機能性パターン２が形成される機能性パターン形成領域Ｒ１以外の領域を機能性パターン非形成領域Ｒ２とした時に、機能性パターン非形成領域Ｒ２に形成される厚み調整用パターン３とを備え、機能性パターン非形成領域Ｒ２を、支持体１の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、厚み調整用パターン３が全く含まれない区画の割合が、全区画数の９０％未満である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明な支持体と、
前記支持体の少なくとも一方の面上に形成され、第１の導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターンと、
前記支持体の少なくとも一方の面上において前記機能性パターンが形成される機能性パターン形成領域以外の領域を機能性パターン非形成領域とした時に、前記機能性パターン非形成領域に形成される厚み調整用パターンと
を備え、
前記機能性パターン非形成領域を、前記支持体の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、前記厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が、全区画数の９０％未満であることを特徴とする透明導電膜。
【請求項２】
前記厚み調整用パターンは、第２の導電性材料からなり、少なくとも１つの前記機能性パターンと電気的に接続される請求項１に記載の透明導電膜。
【請求項３】
前記厚み調整用パターンは前記機能性パターンの複数の接続個所と電気的に接続するための複数の接続線を有すると共に、前記機能性パターン非形成領域は前記機能性パターンを切り取るために前記機能性パターン形成領域に沿って設定された切断領域を有し、
前記複数の接続線は、前記切断領域内を前記機能性パターンに向かって互いに独立して延びて前記複数の接続箇所と電気的に接続される請求項２に記載の透明導電膜。
【請求項４】
複数の前記機能性パターンが、前記支持体の面上に複数の前記機能性パターン形成領域を配列するように形成され、
前記厚み調整用パターンは、第２の導電性材料からなり、複数の前記機能性パターン形成領域の配列方向に沿って連続して延びるように形成される請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項５】
前記厚み調整用パターンが格子状パターンを含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項６】
前記機能性パターン非形成領域を前記正方形区画に分割した時に、前記厚み調整用パターンを含まない区画の割合が、全区画数の５０％未満である請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項７】
前記厚み調整用パターンは、線幅０．２μｍ以上で且つ１００μｍ以下の金属細線を含む請求項１〜６のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項８】
前記厚み調整用パターンは、前記機能性パターンと同じ厚みを有する請求項１〜７のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項９】
前記機能性パターンと前記厚み調整用パターンは、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む同一の導電性材料から構成される請求項１〜８のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項１０】
前記支持体は、長尺なフィルム形状を有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の透明導電膜。
【請求項１１】
透明な支持体の少なくとも一方の面上に第１の導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターンを形成すると共に、前記支持体の少なくとも一方の面上において前記機能性パターンが形成される機能性パターン形成領域以外の領域を機能性パターン非形成領域とした時に前記機能性パターン非形成領域に厚み調整用パターンを形成し、
前記機能性パターン非形成領域を、前記支持体の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、前記厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合を全区画数の９０％未満とすることを特徴とする透明導電膜の製造方法。
【請求項１２】
前記支持体は、長尺なフィルム形状を有し、前記支持体をロール搬送しつつ前記機能性パターンと前記厚み調整用パターンを前記支持体の面上に形成する請求項１１に記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項１３】
前記厚み調整用パターンは第２の導電性材料からなり、前記支持体はロール搬送するローラに前記厚み調整用パターンを接触しつつ搬送される請求項１２に記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項１４】
前記機能性パターンと前記厚み調整用パターンは、同時に形成される請求項１１〜１３のいずれか一項に記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項１５】
前記支持体の少なくとも一方の面上に銀塩乳剤層を形成する工程と、前記銀塩乳剤層を露光および現像して金属銀からなる前記機能性パターンおよび前記厚み調整用パターンを形成する工程とを含む請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の透明導電膜の製造方法。
【請求項１６】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の透明導電膜から得られる機能性パターンを有することを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透明導電膜、透明導電膜の製造方法およびタッチパネルに係り、特に、支持体上に機能性パターンが形成された透明導電膜、透明導電膜の製造方法およびタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
携帯情報機器を始めとした各種の電子機器において、液晶表示装置等の表示装置と組み合わせて用いられ、画面に接触することにより電子機器への入力操作を行うタッチパネルの普及が進んでいる。近年、電子機器の薄型化が求められており、タッチパネルを薄く形成するための様々な開発が行われている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、ロールトゥロールで可撓性の透明な支持体を搬送しながら支持体の第１の面に透明電極を形成し、支持体の第１の面とは反対側の第２の面に加飾層を形成し、透明電極および加飾層が形成された支持体を個片化し、個片化された各支持体の第２の面側に光学透明粘着層を介して透明パネルを貼着するタッチパネルの製造方法が開示されている。このタッチパネルは、透明電極を１層構造とすることにより薄型化することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−２４７８１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、タッチパネルをさらに薄型化するために、タッチパネルの支持体を例えば１５０μｍ以下の厚さに薄くすると支持体の剛性が大きく低下する。このため、図１６に示すように、ロールトゥロールで支持体８１を搬送しつつ電極を含む機能性パターン８２を形成すると、支持体８１を巻き取る際に支持体８１のロール形態に変形が生じる。特に、支持体８１の厚みを６０μｍ以下とした場合にロール形態の変形が大きく、このロール形態の変形により機能性パターン８２に圧力が集中して、機能性パターン８２に断線および転写などが生じるといった問題があった。
さらに、支持体８１の表面側と裏面側の両面に機能性パターンが形成された場合には、例えば、図１７に示すように、表面側の機能性パターン８２ａと裏面側の機能性パターン８２ｂが互いに接触した状態で何層にも重なるようにロール形態が形成される。この時、支持体８１において機能性パターン８２ａおよび８２ｂが形成されていない機能性パターン非形成領域Ｒ２の下側には隙間が生じ、支持体８１の機能性パターン非形成領域Ｒ２が隙間に落ち込むように湾曲して、支持体８１同士の接着およびロール形態の変形などが生じる。これにより、機能性パターン８２ａと機能性パターン８２ｂが接触する箇所には圧力が集中するため、機能性パターン８２ａおよび８２ｂに断線および転写などが生じて機能性パターン８２ａおよび８２ｂの得率（収率）が大きく低下してしまう。
【０００６】
この発明は、このような従来の問題点を解消するためになされたもので、機能性パターンを形成した支持体を重ねて配置した際に機能性パターンに圧力が集中することを抑制する透明導電膜、透明導電膜の製造方法およびタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この発明に係る透明導電膜は、透明な支持体と、支持体の少なくとも一方の面上に形成され、第１の導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターンと、支持体の少なくとも一方の面上において機能性パターンが形成される機能性パターン形成領域以外の領域を機能性パターン非形成領域とした時に、機能性パターン非形成領域に形成される厚み調整用パターンとを備え、機能性パターン非形成領域を、支持体の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が、全区画数の９０％未満であるものである。
【０００８】
ここで、厚み調整用パターンは、第２の導電性材料からなり、少なくとも１つの機能性パターンと電気的に接続されることが好ましい。
また、厚み調整用パターンは機能性パターンの複数の接続個所と電気的に接続するための複数の接続線を有すると共に、機能性パターン非形成領域は機能性パターンを切り取るために機能性パターン形成領域に沿って設定された切断領域を有し、複数の接続線は、切断領域内を機能性パターンに向かって互いに独立して延びて複数の接続箇所と電気的に接続することができる。
【０００９】
また、複数の機能性パターンが、支持体の面上に複数の機能性パターン形成領域を配列するように形成され、厚み調整用パターンは、第２の導電性材料からなり、複数の機能性パターン形成領域の配列方向に沿って連続して延びるように形成することができる。
【００１０】
また、厚み調整用パターンが格子状パターンを含むことが好ましい。
【００１１】
また、機能性パターン非形成領域を正方形区画に分割した時に、厚み調整用パターンを含まない区画の割合が、全区画数の５０％未満であるのが好ましい。
また、厚み調整用パターンは、線幅０．２μｍ以上で且つ１００μｍ以下の金属細線を含むことができる。
【００１２】
また、厚み調整用パターンは、機能性パターンと同じ厚みを有することが好ましい。
また、機能性パターンと厚み調整用パターンは、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む同一の導電性材料から構成することができる。
【００１３】
また、支持体は、長尺なフィルム形状を有することが好ましい。
【００１４】
この発明に係る透明導電膜の製造方法は、透明な支持体の少なくとも一方の面上に第１の導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターンを形成すると共に、支持体の少なくとも一方の面上において機能性パターンが形成される機能性パターン形成領域以外の領域を機能性パターン非形成領域とした時に機能性パターン非形成領域に厚み調整用パターンを形成し、機能性パターン非形成領域を、支持体の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合を全区画数の９０％未満とするものである。
【００１５】
ここで、支持体は、長尺なフィルム形状を有し、支持体をロール搬送しつつ機能性パターンと厚み調整用パターンを支持体の面上に形成することが好ましい。
【００１６】
また、厚み調整用パターンは第２の導電性材料からなり、支持体はロール搬送するローラに厚み調整用パターンを接触しつつ搬送されることが好ましい。
【００１７】
また、機能性パターンと厚み調整用パターンは、同時に形成することが好ましい。
また、支持体の少なくとも一方の面上に銀塩乳剤層を形成する工程と、銀塩乳剤層を露光および現像して金属銀からなる機能性パターンおよび厚み調整用パターンを形成する工程とを含むことが好ましい。
【００１８】
この発明に係るタッチパネルは、上記のいずれかに記載の透明導電膜から得られる機能性パターンを有するものである。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、支持体の機能性パターン非形成領域に形成された導電性材料からなる少なくとも１つの厚み調整用パターンを有するので、機能性パターンを形成した支持体を重ねて配置した際に機能性パターンに圧力が集中するのを抑制することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】この発明の実施の形態１に係る透明導電膜の構成を示す斜視図である。
【図２】厚み調整用パターンの構成を示す平面図である。
【図３】透明導電膜をロール形態とした時の厚み調整用パターンの状態を示す断面図である。
【図４】厚み調整用パターンの分布を算出する方法を説明するための平面図である。
【図５】解析領域の設定範囲を示す平面図である。
【図６】機能性パターンの構成を示す平面図である。
【図７】検出電極のメッシュパターンの構成を示す図である。
【図８】この発明の実施の形態１に係る透明導電膜の製造方法を示す図である。
【図９】透明導電膜を製造する様子を示す平面図である。
【図１０】この発明の実施の形態２に係る透明導電膜の構成を示す平面図である。
【図１１】この発明の実施の形態３に係る透明導電膜の構成を示す平面図である。
【図１２】この発明の実施の形態４に係る透明導電膜の構成を示す平面図である。
【図１３】この発明の実施の形態５に係る透明導電膜の厚み調整用パターンの構成を示す平面図である。
【図１４】この発明の実施の形態６に係る透明導電膜の厚み調整用パターンの分布を示す平面図である。
【図１５】この発明に係るタッチパネルを示す断面図である。
【図１６】従来の透明導電膜の構成を示す斜視図である。
【図１７】従来の透明導電膜をロール形態とした時の様子を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
以下、この発明の実施の形態を添付図面に基づいて説明する。
この発明に係る透明導電膜は、透明な支持体と、支持体の少なくとも一方の面上に形成され、導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターンと、支持体の少なくとも一方の面上において機能性パターンが形成される機能性パターン形成領域以外の領域を機能性パターン非形成領域とした時に、機能性パターン非形成領域に形成される厚み調整用パターンとを備え、機能性パターン非形成領域を、支持体の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が、全区画数の９０％未満であるものである。
【００２２】
実施の形態１
図１に、この発明の実施の形態１に係る透明導電膜の構成を示す。この透明導電膜は、透明な支持体１と、支持体１の表面上および裏面上に形成された導電性材料からなる複数の機能性パターン２と、支持体１の表面上および裏面上に形成された厚み調整用パターン３とを有する。
ここで、支持体１の面上において機能性パターン２が形成される領域を機能性パターン形成領域Ｒ１とすると共に機能性パターン形成領域Ｒ１以外の領域を機能性パターン非形成領域Ｒ２とすると、機能性パターン２は、支持体１の長手方向Ｄ１に沿って複数の機能性パターン形成領域Ｒ１が配列するように形成されており、厚み調整用パターン３は、機能性パターン非形成領域Ｒ２に形成されている。
【００２３】
［支持体］
支持体１は、長尺なフィルム形状で且つ可撓性を有し、ロール搬送可能に構成されている。また、支持体１は、透明導電膜を薄型化するために、１５０μｍ以下の厚みで形成することが好ましく、１００μｍ以下の厚みで形成することがより好ましく、６０μｍ以下の厚みで形成することがさらに好ましい。
支持体１は、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル類、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリスチレン、エチレンビニルアセテート（ＥＶＡ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）、シクロオレフィンコポリマー（ＣＯＣ）等のポリオレフィン類、ビニル系樹脂、その他、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリアミド、ポリイミド、アクリル樹脂、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）から構成することができる。なお、支持体１は、光透過性、熱収縮性および加工性などの観点から、ポリエチレンテレフタレートから構成することが好ましい。
【００２４】
［厚み調整用パターン］
厚み調整用パターン３は、支持体１がロール状に巻かれた時に、機能性パターン２の厚みに対して支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２の厚みを調整して、ロール形態が変形しないように支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２を支持するものである。
【００２５】
図２に、厚み調整用パターン３の一例を示す。厚み調整用パターン３は、支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２に、導電性材料からなる金属細線４で格子状パターンを形成したものから構成される。このように、厚み調整用パターン３を格子状パターンから構成することにより、少ない材料で広い範囲に厚み調整用パターン３を形成することができる。なお、厚み調整用パターン３は、複数の開口部４ａを有することが好ましく、格子状のパターンとすることが好ましい。少ない材料で広い範囲に形成するために、開口部４ａの開口率（単位面積当たりの開口部の面積割合）が５０％以上であることが好ましく、開口率が７０％以上であることがより好ましく、開口率が９０％以上であることがさらに好ましい。開口率が場所によって異なる場合には、平均値で上記の値となることが好ましい。
【００２６】
ここで、支持体１を巻いてロール形態とした時に、支持体１の表面上に形成された機能性パターン２並びに厚み調整用パターン３と、支持体１の裏面上に形成された機能性パターン２並びに支持体１とが互いに接触した状態で何層にも重なるようにロール形態が形成される。例えば、図３に示すように、表面と裏面に形成された機能性パターン２同士が互いに接触すると共に、表面と裏面に形成された厚み調整用パターン３同士が互いに接触した状態でロール形態が形成される。この時、厚み調整用パターン３が機能性パターン非形成領域Ｒ２において支持体１を支持するため、支持体１が湾曲して機能性パターン２に圧力が集中することを抑制することができる。
【００２７】
厚み調整用パターン３は、機能性パターン２と同じ厚みを有することが好ましく、本件特許においては以下の場合には、機能性パターンの厚みに対して５０％〜１５０％となる厚みであれば同じ厚みであるとみなすものとする。厚み調整用パターン３の厚みは、機能性パターン２の厚みに対して、７０％〜１３０％であるのがより好ましく、８０％〜１２０％がさらに好ましく、９０％〜１１０％が最も好ましい。これにより機能性パターン２とほぼ同一面で支持体１を支持することができ、機能性パターン２に圧力が集中することをより確実に抑制することができる。
【００２８】
また、図２に示すように、厚み調整用パターン３は、それぞれの機能性パターン２の近傍において周囲を囲むように配置されており、機能性パターン２の周囲において支持体１を支持するため、機能性パターン２に圧力が集中することをより確実に抑制することができる。
さらに、厚み調整用パターン３は、機能性パターン２との間に隙間Ｐ１を空けて配置されており、機能性パターン形成領域Ｒ１の縁部で機能性パターン２を透明導電膜から切断した際に機能性パターン２に厚み調整用パターン３の端部が混入することを防ぐことができる。
【００２９】
なお、厚み調整用パターン３は、例えば０．１μｍより大きい線幅を有する金属細線４から構成することができ、好ましくは０．２μｍ以上１００μｍ以下の線幅を有する金属細線４から構成される。金属細線４の線幅を０．２μｍ以上とすることで、支持体１をロール形態とした時に支持体１を確実に支持することができ、金属細線４の線幅を１００μｍ以下とすることで、導電性材料の量を抑制することができる。
【００３０】
また、厚み調整用パターン３は、機能性パターン非形成領域Ｒ２を、支持体１の長手方向Ｄ１に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターン３が全く含まれない区画の割合が、全区画数の９０％未満となるように形成される。ここで、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の７０％未満であることがより好ましく、全区画数の５０％未満であることがさらに好ましく、全区画数の３０％未満０％以上であることが最も好ましい。
例えば、図４に示すように、支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体１の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形の仮想区画Ｃに分割する。ここで、仮想区画Ｃの数が１５個×１５個からなる２２５個の解析領域Ｎを設定すると、この解析領域Ｎにおいて厚み調整用パターン３が含まれる仮想区画Ｃ１の数は１２５個であり、厚み調整用パターン３が全く含まれない仮想区画Ｃ２の数は１００個である。このため、解析領域Ｎの全区画数２２５個に対して、厚み調整用パターン３が全く含まれない仮想区画Ｃ２の数１００個の割合は４４％となる。このように、厚み調整用パターン３が全く含まれない区画の割合を全区画数の７０％未満とすることにより、広い範囲わたって支持体１を支持することができる。
【００３１】
ここで、解析領域Ｎは、機能性パターン非形成領域Ｒ２のうち、支持体１の長手方向Ｄ１において機能性パターン２が存在する範囲の全体にわたって設定されるものである。具体的には、解析領域Ｎは、図５に示すように、機能性パターン非形成領域Ｒ２において、長手方向Ｄ１に、支持体１の始端Ｅ１に最も近い機能性パターン２ａの始端Ｅ１側の縁部から支持体１の終端Ｅ２に最も近い機能性パターン２ｂの終端Ｅ２側の縁部までの範囲にわたって設定される。すなわち、機能性パターン２が存在しない始端Ｅ１側の領域Ｇ１と終端Ｅ２側の領域Ｇ２は解析領域Ｎの設定から除かれることになる。
なお、後述するように、支持体１の長手方向Ｄ１に複数のショットを繰り返すことにより互いに同一の機能性パターン２および厚み調整用パターン３を形成する場合には、１ショット区間内に存在する機能性パターン非形成領域Ｒ２の全体を解析領域Ｎに設定して、上記のように厚み調整用パターン３が全く含まれない区画の割合を算出するものとする。
【００３２】
なお、厚み調整用パターン３は、機能性パターン非形成領域Ｒ２の全面にわたって形成する必要はなく、機能性パターン２に断線および転写などが生じないように、支持体１の剛性に応じて形成する範囲を設定することができる。
【００３３】
また、厚み調整用パターン３は、機能性パターン２と同一の導電性材料から構成することが好ましく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む材料から構成することができる。
【００３４】
［機能性パターン］
機能性パターン２は、機能性パターン形成領域Ｒ１の縁部で透明導電膜から切断されて表示装置に取り付けられるものである。なお、機能性パターン形成領域Ｒ１は、機能性パターン２が実際の製品に搭載される際に、支持体から切断される切断線で囲まれた領域を指すものとする。
【００３５】
図６に、機能性パターン２の一例を示す。機能性パターン２は、支持体１の表面上の機能性パターン形成領域Ｒ１内に、例えば支持体１の短手方向Ｄ２に沿って延び且つ支持体１の長手方向Ｄ１に並列配置された複数の第１の検出電極５が形成されている。この複数の第１の検出電極５の両端には、それぞれ第１のコネクタ部６が形成されている。また、機能性パターン形成領域Ｒ１の縁部には、第1の外部接続端子７が設けられ、第１のコネクタ部６の一方が第１の周辺配線８により第１の外部接続端子７と接続されている。
【００３６】
同様に、支持体１の裏面上には、機能性パターン形成領域Ｒ１内に、支持体１の横方向Ｄ１に沿って延び且つ短手方向Ｄ２に並列配置された複数の第２の検出電極９が形成されている。この複数の第２の検出電極９の両端には、それぞれ第２のコネクタ部１０が形成されている。また、機能性パターン形成領域Ｒ１の縁部には、第２の外部接続端子１１が設けられ、第２のコネクタ部１０の一方が第２の周辺配線１２により第２の外部接続端子１１と接続されている。
【００３７】
ここで、第１の検出電極５および第２の検出電極９の厚みは、低抵抗化の観点から、厚く形成することが求められるが、電極の厚みを厚く形成すると支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２が大きく湾曲して、機能性パターン２により大きな圧力がかかることになる。本発明においては、厚み調整用パターン３が、支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２を支持するため、第１の検出電極５および第２の検出電極９の厚みを厚く形成しても機能性パターン２に大きな圧力が集中することを抑制することができる。
【００３８】
なお、図７に示されるように、第１の検出電極５を金属細線１３ａからなるメッシュパターンにより形成すると共に第２の検出電極９を金属細線１３ｂからなるメッシュパターンにより形成することが好ましい。第１の検出電極５および第２の検出電極９は、メッシュパターンから形成されることにより高い光透過性を得ることができ、これにより本発明の透明導電部を構成する。金属細線１３ａおよび１３ｂの厚みは特に制限されないが、０．０１μｍ〜２００μｍが好ましく、３０μｍ以下であることがより好ましく、２０μｍ以下であることがさらに好ましく、０．０１〜９μｍであることが特に好ましく、０．０５〜５μｍであることが最も好ましい。上述の範囲であれば、低抵抗の電極で、耐久性に優れた電極を比較的容易に形成できる。
【００３９】
また、第１の検出電極５、第１のコネクタ部６、第１の外部接続端子７、第１の周辺配線８、第２の検出電極９、第２のコネクタ部１０、第２の外部接続端子１１および第２の周辺配線１２は、厚み調整用パターン３と同一の導電性材料から構成することが好ましく、例えば、金、銀、銅、ニッケル、パラジウム、白金、鉛、錫、クロムのうち、少なくとも１種の金属を含む材料から構成することができる。
【００４０】
［透明導電膜の製造方法］
次に、透明導電膜の製造方法について詳細に説明する。なお、ここではロール形態で製造する場合を説明するが、例えば、枚葉で製造した場合にも、透明導電膜を積層して保管した時に厚み調整用パターンがないと機能性パターンに圧力が集中して断線および転写などが起きるため同様に適用することができ、ロール形態での製造に限定されるものでは無い。
この発明に係る透明導電膜の製造方法は、透明な支持体の少なくとも一方の面上に導電性材料からなり且つ透明導電部を含む機能性パターンを形成すると共に、支持体の少なくとも一方の面上において機能性パターンが形成される機能性パターン形成領域以外の領域を機能性パターン非形成領域とした時に機能性パターン非形成領域に厚み調整用パターンを形成し、機能性パターン非形成領域を、支持体の長手方向に対して１辺が平行となる１平方ｃｍの複数の正方形区画に分割した時に、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合を全区画数の９０％未満とするものである。
【００４１】
図８に、透明導電膜の製造方法の一例を示す。
まず、長尺な透明の支持体１が、複数のパスローラ１４によりロール搬送されて、メッシュ形成部１５に到達する。メッシュ形成部１５は、例えば、支持体１に銀塩乳剤層を形成し、この銀塩乳剤層を露光および現像して金属銀からなる機能性パターンおよび厚み調整用パターンを形成することができる。
【００４２】
具体的には、メッシュ形成部１５は、支持体１の表面上および裏面上に感光性ハロゲン化銀塩を含有する銀塩乳剤層を塗布し、機能性パターン２と厚み調整用パターン３を形成するためのフォトマスクを介して、支持体１に塗布された銀塩乳剤層の露光を行う。
【００４３】
露光は、例えば、図９に示すように、６つの機能性パターン形成領域Ｒ１含む領域を１ショットとして、支持体１の長手方向Ｄ１に順次繰り返し行うことができる。続いて、露光された銀塩乳剤層に現像処理を施すことにより、機能性パターン形成領域Ｒ１および機能性パターン非形成領域Ｒ２の非露光部の銀塩乳剤が除去されると共に露光部では金属銀からなる機能性パターン２と厚み調整用パターン３が形成される。このようにして、支持体１の両面に機能性パターン２と厚み調整用パターン３を同時に形成することができる。なお、厚み調整用パターン３は、機能性パターン２との間に隙間Ｐ１が生じるように形成されると共にショットとショットの間にはフォトマスクの配置に応じた隙間Ｐ２が生じている。
ここで、機能性パターン２と厚み調整用パターン３は、別々に支持体１上に形成してもよく、また形成方法も特に限定されるものではない。例えば、機能性パターン２と厚み調整用パターン３は、特開２０１１−１２９５０１号公報、特開２０１３−１４９２３６号公報、特開２０１４−１１２５１２号公報等に開示されている方法を用いて形成することができる。
【００４４】
両面に機能性パターン２と厚み調整用パターン３が形成された支持体１は、複数のパスローラ１４によりメッシュ形成部１５から巻き取りローラ１６に向かってロール搬送される。この時、厚み調整用パターン３は導電性材料からなる金属細線４で構成されると共に支持体１はパスローラ１４に厚み調整用パターン３を接触しつつロール搬送されるため、複数のパスローラ１４と厚み調整用パターン３との間で静電気を生じさせて、複数のパスローラ１４と機能性パターン２との間に静電気が生じることを抑制することができる。また、金属細線４は連続的に接続されているため、複数のパスローラ１４と厚み調整用パターン３との間で生じた静電気を効率よく逃がすことができる。このように、機能性パターン２において生じる静電気を抑制することで機能性パターン２の破壊を防ぐことができ、機能性パターン２の得率（収率）を向上させることができる。
このようにして、支持体１の表面および裏面に機能性パターン２と厚み調整用パターン３が形成された透明導電膜を製造することができる。
【００４５】
巻き取りローラ１６によりロール状に巻き取られた透明導電膜は、図３に示すように、厚み調整用パターン３が機能性パターン２の周囲において支持体１を支持するため、機能性パターン２に圧力が集中することを抑制することができる。これにより、機能性パターン２の第１の検出電極５および第２の検出電極９などに断線および転写が生じることを防ぎ、機能性パターン２の得率を向上させることができる。
【００４６】
なお、本実施の形態では、機能性パターン形成領域Ｒ１と機能性パターン非形成領域Ｒ２を支持体１の表面上および裏面上に形成したが、支持体１の少なくとも一方の面上に形成すればよく、これに限られるものではない。支持体１の一方の面上にのみ機能性パターン２が形成される場合には、厚み調整用パターン３も機能性パターン２と同じ面上に形成するのが好ましい。
また、本実施の形態では、支持体１上に、複数の機能性パターン２と、ショット間において隙間Ｐ２により分断された複数の厚み調整用パターン３とが形成されたが、少なくとも１つの機能性パターンと少なくとも１つの厚み調整用パターンとを形成すればよく、これに限られるものではない。
【００４７】
実施の形態２
上記の実施の形態１では、図９に示すように、複数の機能性パターン２と複数の厚み調整用パターン３との間に隙間Ｐ１が生じるように形成されたが、少なくとも１つの機能性パターンと少なくとも１つの厚み調整用パターンとを電気的に接続することもできる。
例えば、図１０に示すように、各ショットにおいて生成される６つの機能性パターン２１と１つの厚み調整用パターン２２とを電気的に接続することができる。このように、機能性パターン２１と厚み調整用パターン２２とを電気的に接続することにより、ロール搬送において複数のパスローラ１４と機能性パターン２１との間で静電気が生じた場合でも、その静電気を厚み調整用パターン２１側に逃がすことができ、機能性パターン２１の破壊を防いで機能性パターン２１の得率を向上させることができる。
【００４８】
実施の形態３
上記の実施の形態１では、図９に示すように、隙間Ｐ２により分断された複数の厚み調整用パターン３が形成されていたが、少なくとも１つの厚み調整用パターンを複数の機能性パターン形成領域Ｒ１の配列方向（支持体１の長手方向Ｄ１）に沿って連続して延びるように形成することもできる。
例えば、図１１に示すように、ショット間における隙間Ｐ２が生じないように厚み調整用パターンを形成することにより、複数の機能性パターン形成領域Ｒ１の配列方向に沿って連続して延びる１つの厚み調整用パターン３１を形成することができる。これにより、ロール搬送において複数のパスローラ１４と厚み調整用パターン３１との間で生じた静電気を厚み調整用パターン３１に沿って効率よく逃がすことができる。また、巻き取りローラ１６で巻き取られてロール形態とされた際に、機能性パターン２に静電気が生じるおそれがあるが、機能性パターン２が厚み調整用パターン３１と当接する、例えば支持体１の表面上に形成された機能性パターン２と支持体１の裏面上に形成された厚み調整用パターン３１とがロール形態とされることにより互いに当接し、厚み調整用パターン３１を介して機能性パターン２に生じた静電気を効率よく逃がすことができる。さらに、厚み調整用パターン３１と接触する巻き取りローラ１６にアースをとることにより、静電気をより効率的に逃がすことができる。
【００４９】
実施の形態４
上記の実施の形態１では、図９に示すように、複数の機能性パターン２と複数の厚み調整用パターン３との間に隙間Ｐ１が生じるように形成されると共に隙間Ｐ２により分断された複数の厚み調整用パターン３が形成されていたが、少なくとも１つの機能性パターンと少なくとも１つの厚み調整用パターンとを電気的に接続すると共に少なくとも１つの厚み調整用パターンが複数の機能性パターン形成領域Ｒ１の配列方向（支持体１の長手方向Ｄ１）に沿って連続して延びるように形成することもできる。
【００５０】
例えば、図１２に示すように、ショット間における隙間Ｐ２が生じないように厚み調整用パターンを形成することにより複数の機能性パターン形成領域Ｒ１の配列方向に沿って連続して延びる１つの厚み調整用パターン４１を形成し、さらに、この１つの厚み調整用パターン４１が全ての機能性パターン４２と電気的に接続されるように形成することができる。これにより、ロール搬送において複数のパスローラ１４と複数の機能性パターン４２との間で静電気が生じた場合でも、その静電気を厚み調整用パターン４１に沿って効率よく逃がすことができ、複数の機能性パターン４２の得率を向上させることができる。さらに、厚み調整用パターン４１と接触する巻き取りローラ１６にアースをとることにより、静電気をより効率的に逃がして複数の機能性パターン４２の得率をさらに向上させることができる。
【００５１】
実施の形態５
上記の実施の形態２および４において、厚み調整用パターンは機能性パターンの複数の接続個所と電気的に接続するための複数の接続線を有すると共に、機能性パターン非形成領域は機能性パターンを切り取るために機能性パターン形成領域に沿って設定された切断領域を有し、複数の接続線は、切断領域内を機能性パターンに向かって互いに独立して延びて複数の接続箇所と電気的に接続されることが好ましい。
【００５２】
例えば、図１３に示すように、機能性パターン非形成領域Ｒ２には、機能性パターン２を切り取るために機能性パターン形成領域Ｒ１に沿って設定された切断領域Ｒ３が設定されている。この切断領域Ｒ３は、切断目標線Ｌで切断する際の切断精度に起因するズレの変動幅が収まるように設定されている。ここで、厚み調整用パターン５２は、金属細線からなる２つの接続線５３ａおよび５３ｂがそれぞれ対応する機能性パターン２の２つの外部接続端子５４ａおよび５４ｂに電気的に接続される。
この時、接続線５３ａおよび５３ｂが、切断領域Ｒ３内において互いに接続するように形成されていると、機能性パターン２の切断位置が機能性パターン２から離れる方向にずれた場合、例えば切断位置Ｌａにずれた場合に、機能性パターン２の外部接続端子５４ａと外部接続端子５４ｂとが接続線５３ａおよび５３ｂを介して電気的に接続された状態で切断されるおそれがある。このため、接続線５３ａおよび５３ｂは、切断領域Ｒ３内において互いに独立して延びるように形成することが好ましい。
【００５３】
さらに、切断領域Ｒ３内における接続線５３ａと接続線５３ｂとの間の最も近接する距離Ｍ１は、機能性パターン２の外部接続端子５４ａと外部接続端子５４ｂとの間の最も近接する距離Ｍ２以上となるように設定することが好ましい。一般的に、機能性パターン２における外部接続端子５４ａと外部接続端子５４ｂの最も近接する距離Ｍ２は、電気的な絶縁が保たれる距離以上に設定されている。このため、切断領域Ｒ３内において接続線５３ａと接続線５３ｂが最も近接する距離Ｍ１を距離Ｍ２以上となるように設定することにより、切断領域Ｒ３内において接続線５３ａと接続線５３ｂの電気的な絶縁を確実に保つことができる。
【００５４】
なお、切断領域Ｒ３は、切断装置の切断精度に応じて設定することができ、例えば、切断目標線Ｌから両側に０．５ｍｍ以上の幅を有するように設定することが好ましく、切断目標線Ｌから両側に１ｍｍ以上の幅を有するように設定することがより好ましい。
【００５５】
実施の形態６
上記の実施の形態１〜５において、厚み調整用パターンは、図２に示すように、支持体１の長手方向Ｄ１に平行な金属細線４と短手方向Ｄ２（長手方向Ｄ１に直交する方向）に平行な金属細線４とから格子状パターンを形成したが、格子状パターンの形成方向は特に限定されるものではない。
例えば、図１４に示すように、厚み調整用パターン６１は、支持体１の長手方向Ｄ１に対して４５°傾斜する金属細線６２ａと短手方向Ｄ２に対して４５°傾斜する金属細線６２ｂとから格子状パターンを形成することができる。このような場合でも、厚み調整用パターン６１は、機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体１の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターン６１が全く含まれない区画の割合が、全区画数の９０％未満となるように形成される。
【００５６】
具体的には、支持体１の機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体１の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形の仮想区画Ｃに分割する。ここで、仮想区画Ｃの数が１５個×１５個からなる２２５個の解析領域Ｎを設定すると、この解析領域Ｎにおいて厚み調整用パターン６１が含まれる仮想区画Ｃ１の数は１６８個であり、厚み調整用パターン６１が全く含まれない仮想区画Ｃ２の数は５７個である。このため、解析領域Ｎの全区画数２２５個に対して、厚み調整用パターン６１が全く含まれない仮想区画Ｃ２の数５７個の割合は２５％となる。このように、厚み調整用パターン６１が全く含まれない区画の割合を全区画数の７０％未満とすることにより、広い範囲わたって支持体１を支持することができる。
【００５７】
なお、上記の実施の形態１〜６では、厚み調整用パターンは、格子状パターンから構成されたが、支持体を支持することができればよく、これに限られるものではない。例えば、厚み調整用パターンは、ベタ膜、メッシュパターン、ストライプパターン、ドットパターン、および企業名や製品名を描画したテキストパターンなど、任意のパターンおよびその組み合わせで形成することができる。ここで、少ない材料で広い範囲に厚み調整用パターン３を形成することができるため、メッシュパターン、ストライプパターンおよびドットパターンから形成するのが好ましい。
また、上記の実施の形態１〜６では、機能性パターンの検出電極は、メッシュパターンから構成されたが、これに限られるものではない。例えば、機能性パターンの検出電極は、酸化インジウムスズなどからなる平板状の透明電極から構成することもできる。
【００５８】
また、上記の実施の形態１〜６では、支持体は、長尺な形状でロール状に巻かれるものから構成されたが、機能性パターンと厚み調整用パターンを形成した支持体が何層にも重なるように配置されるものであればよく、ロール形態に限られるものではない。例えば、複数の支持体に機能性パターンと厚み調整用パターンを形成し、これを順次重ねて配置する、いわゆる枚葉で製造する場合にも同様の効果を得ることができる。
【００５９】
［タッチパネル］
次に、この発明に係るタッチパネルについて詳細に説明する。
このタッチパネルは、上述した透明導電膜から得られる機能性パターンを有するもので、例えば、図１５に示すように、透明導電膜から機能性パターン形成領域Ｒ１を切り取ることで得られる支持体７１の表面および裏面にそれぞれ機能性パターン７２ａおよび７２ｂが形成されたパネル本体７３と、機能性パターン７２ａおよび７２ｂをそれぞれ覆うように形成された保護層７４ａおよび７４ｂとから構成することができる。
このように、保護層７４ａおよび７４ｂを形成することにより、機能性パターン７２ａおよび７２ｂを確実に保護することができる。
【実施例】
【００６０】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す実施例により限定的に解釈されるべきものではない。
【００６１】
（実施例１）
図９に示すように、厚み１００μｍ、幅Ｗ５０ｃｍおよび長さ３０００ｍの支持体の表面および裏面に、下記に示すパターン形成方法により、幅Ａ１５ｃｍおよび長さＢ２０ｃｍの機能性パターンと、線幅１００μｍで９平方ｃｍ（1辺の長さが３ｃｍ）の正方格子からなる厚み調整用パターンとを同時に形成することで、ロール形態の透明導電膜を作製した。
この時、機能性パターンは、短手方向Ｄ２に２つ並べたものを１列として長手方向Ｄ１に３列並べた６つのピースを１ショットとし、長手方向Ｄ１にショットを繰り返して形成した。ここで、１ショット内において、短手方向Ｄ２に並ぶ機能性パターン間の間隔Ｓ１を５ｃｍとすると共に長手方向Ｄ１に並ぶ機能性パターン間の間隔Ｓ２を５ｃｍとした。また、ショット間における機能性パターン間の間隔Ｓ３は１０ｃｍとした。このようにして、機能性パターンを支持体の全長にわたって形成した。
また、厚み調整用パターンは、機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が、全区画数の４４％となるように形成された。また、厚み調整用パターンは、機能性パターンとの間に隙間Ｐ１を空けて形成されている。
【００６２】
＜パターン形成方法＞
（ハロゲン化銀乳剤の調製）
３８℃、ｐＨ４．５に保たれた下記１液に、下記の２液および３液の各々９０％に相当する量を攪拌しながら同時に２０分間にわたって加え、０．１６μｍの核粒子を形成した。続いて下記の４液および５液を８分間にわたって加え、さらに、下記の２液および３液の残りの１０％の量を２分間にわたって加え、０．２１μｍまで成長させた。さらに、ヨウ化カリウム０．１５ｇを加え、５分間熟成し粒子形成を終了した。
【００６３】
１液：
水                                        ７５０ｍｌ
ゼラチン                                        ９ｇ
塩化ナトリウム                                  ３ｇ
１，３−ジメチルイミダゾリジン−２−チオン  ２０ｍｇ
ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム            １０ｍｇ
クエン酸                                    ０．７ｇ
２液：
水                                        ３００ｍｌ
硝酸銀                                      １５０ｇ
３液：
水                                        ３００ｍｌ
塩化ナトリウム                                ３８ｇ
臭化カリウム                                  ３２ｇ
ヘキサクロロイリジウム（ＩＩＩ）酸カリウム
（０．００５％ＫＣｌ  ２０％水溶液）        ８ｍｌ
ヘキサクロロロジウム酸アンモニウム
（０．００１％ＮａＣｌ  ２０％水溶液）  １０ｍｌ
４液：
水                                        １００ｍｌ
硝酸銀                                        ５０ｇ
５液：
水                                        １００ｍｌ
塩化ナトリウム                                １３ｇ
臭化カリウム                                  １１ｇ
黄血塩                                        ５ｍｇ
【００６４】
その後、常法に従い、フロキュレーション法によって水洗した。具体的には、温度を３５℃に下げ、硫酸を用いてハロゲン化銀が沈降するまでｐＨを下げた（ｐＨ３．６±０．２の範囲であった）。次に、上澄み液を約３リットル除去した（第一水洗）。さらに３リットルの蒸留水を加えてから、ハロゲン化銀が沈降するまで硫酸を加えた。再度、上澄み液を３リットル除去した（第二水洗）。第二水洗と同じ操作をさらに１回繰り返して（第三水洗）、水洗・脱塩工程を終了した。水洗・脱塩後の乳剤をｐＨ６．４、ｐＡｇ７．５に調整し、ゼラチン３．９ｇ、ベンゼンチオスルホン酸ナトリウム１０ｍｇ、ベンゼンチオスルフィン酸ナトリウム３ｍｇ、チオ硫酸ナトリウム１５ｍｇと塩化金酸１０ｍｇを加え５５℃にて最適感度を得るように化学増感を施し、安定剤として１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１００ｍｇ、防腐剤としてプロキセル（商品名、ＩＣＩ  Ｃｏ．，Ｌｔｄ．製）１００ｍｇを加えた。最終的に得られた乳剤は、沃化銀を０．０８モル％含み、塩臭化銀の比率を塩化銀７０モル％、臭化銀３０モル％とする、平均粒子径０．２２μｍ、変動係数９％のヨウ塩臭化銀立方体粒子乳剤であった。
【００６５】
（感光性層形成用組成物の調製）
上記乳剤に１，３，３ａ，７−テトラアザインデン１．２×１０-4モル／モルＡｇ、ハイドロキノン１．２×１０-2モル／モルＡｇ、クエン酸３．０×１０-4モル／モルＡｇ、２，４−ジクロロ−６−ヒドロキシ−１，３，５−トリアジンナトリウム塩０．９０ｇ／モルＡｇ、微量の硬膜剤を添加し、クエン酸を用いて塗布液ｐＨを５．６に調整した。
上記塗布液に、含有するゼラチンに対して、下記（Ｐ−１）で表されるポリマーとジアルキルフェニルＰＥＯ硫酸エステルからなる分散剤を含有するポリマーラテックス（分散剤／ポリマーの質量比が２．０／１００＝０．０２）とをポリマー／ゼラチン（質量比）＝０．５／１になるように添加した。
2016051194.tif 000003
さらに、架橋剤としてＥＰＯＸＹ  ＲＥＳＩＮ  ＤＹ  ０２２（商品名：ナガセケムテックス社製）を添加した。なお、架橋剤の添加量は、後述する感光性層中における架橋剤の量が０．０９ｇ／ｍ2となるように調整した。
以上のようにして感光性層形成用組成物を調製した。
なお、上記（Ｐ−１）で表されるポリマーは、特許第３３０５４５９号および特許第３７５４７４５号を参照して合成した。
【００６６】
（感光性層形成工程）
支持体の両面に、上記ポリマーラテックスを塗布して、厚み０．０５μｍの下塗り層を設けた。
次に、下塗り層上に、上記ポリマーラテックスとゼラチン、および、光学濃度が約１．０で現像液のアルカリにより脱色する染料の混合物から成るアンチハレーション層を設けた。なお、ポリマーとゼラチンとの混合質量比（ポリマー／ゼラチン）は２／１であり、ポリマーの含有量は０．６５ｇ／ｍ2であった。
上記アンチハレーション層の上に、上記感光性層形成用組成物を塗布し、さらに厚み０．１５μｍのゼラチン層を設け、両面に感光性層が形成された支持体を得た。両面に感光性層が形成された支持体をフィルムＡとする。形成された感光性層は、銀量６．２ｇ／ｍ２、ゼラチン量１．０ｇ／ｍ２であった。
【００６７】
（露光現像工程）
上記フィルムＡの両面に、上述の図９の機能性パターンおよび厚み調整用パターンのフォトマスクを介し、高圧水銀ランプを光源とした平行光を用いて露光を行った。露光後、下記の現像液で現像し、さらに定着液（商品名：ＣＮ１６Ｘ用Ｎ３Ｘ−Ｒ、富士フィルム社製）を用いて現像処理を行った。さらに、純水でリンスし、乾燥することで、両面にＡｇ細線からなる機能性パターンとＡｇ細線からなる厚み調整用パターンと、ゼラチン層とが形成された支持体を得た。ゼラチン層はＡｇ細線間に形成されていた。得られたフィルムをフィルムＢとする。
【００６８】
（現像液の組成）
現像液１リットル（Ｌ）中に、以下の化合物が含まれる。
ハイドロキノン                    ０．０３７ｍｏｌ／Ｌ
Ｎ−メチルアミノフェノール        ０．０１６ｍｏｌ／Ｌ
メタホウ酸ナトリウム              ０．１４０ｍｏｌ／Ｌ
水酸化ナトリウム                  ０．３６０ｍｏｌ／Ｌ
臭化ナトリウム                    ０．０３１ｍｏｌ／Ｌ
メタ重亜硫酸カリウム              ０．１８７ｍｏｌ／Ｌ
【００６９】
（ゼラチン分解処理）
フィルムＢに対して、タンパク質分解酵素（ナガセケムテックス社製ビオプラーゼＡＬ−１５ＦＧ）の水溶液（タンパク質分解酵素の濃度：０．５質量％、液温：４０℃）への浸漬を１２０秒間行った。フィルムＢを水溶液から取り出し、温水（液温：５０℃）に１２０秒間浸漬し、洗浄した。ゼラチン分解処理後のフィルムをフィルムＣとする。
【００７０】
（低抵抗化処理）
上記フィルムＣに対して、金属ローラと樹脂製のローラの組み合わせによるカレンダ装置を使用して、３０ｋＮの圧力でカレンダ処理を行った後に、１５０℃の過熱蒸気槽を１２０秒間かけて通過させて、加熱処理を行った。加熱処理後のフィルムをフィルムＤとする。このフィルムＤが透明導電膜である。
フィルムＤの機能性パターンおよび厚み調整用パターンの銀部をミクロトームで切削し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ；日本電子株式会社製、ＪＳＭ−６５００Ｆ）を用いて切削面を観察した結果、機能性パターンおよび厚み調整用パターンの銀部の厚みは、いずれも１．１μｍであった。
【００７１】
（実施例２）
支持体の厚みを４０μｍとした以外は、実施例１と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作製した。
【００７２】
（実施例３）
厚み調整用パターンを線幅１０μｍの１００平方ｃｍ正方格子とした以外は、実施例２と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の８１％であった。
【００７３】
（実施例４）
厚み調整用パターンを線幅１０μｍの０．０９平方ｃｍ正方格子（1辺の長さが０．３ｃｍ）とした以外は、実施例２と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の１％であった。
【００７４】
（実施例５）
図１０に示すように、機能性パターンと厚み調整用パターンを電気的に接続した以外は、実施例４と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。
【００７５】
（実施例６）
図１１に示すように、厚み調整用パターンを全てのショット間で電気的に接続した以外は、実施例４と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の０％であった。
【００７６】
（実施例７）
図１２に示すように、機能性パターンと厚み調整用パターンを電気的に接続し且つ厚み調整用パターンを全てのショット間で電気的に接続した以外は、実施例４と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の０％であった。
【００７７】
（比較例１）
厚み調整用パターンを形成しなかったこと以外は、実施例１と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。すなわち、機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の１００％となる。
【００７８】
（比較例２）
厚み調整用パターンを形成しなかったこと以外は、実施例２と同様の方法により、ロール形態の透明導電膜を作成した。すなわち、機能性パターン非形成領域Ｒ２を１辺が支持体の長手方向Ｄ１と平行となる１平方ｃｍの正方形区画に分割したときに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合は、全区画数の１００％となる。
【００７９】
【表１】
2016051194.tif 000004
【００８０】
＜評価方法＞
（機能性パターンの得率）
支持体上に形成された全ての機能性パターンについて検出電極の導通を検査し、タッチパネルに用いる際の機能を保ち且つ接着およびパターン写りがなくて視認性が良好な機能性パターンの数をカウントして、機能性パターンの総数に対する視認性が良好な機能性パターン数の割合を算出した。
この結果を下記第２表に示す。
【００８１】
（機能性パターンの転写）
機能性パターンに目視でパターン写りが視認できない場合をＡと評価し、目視で弱いパターン写りが視認される場合をＢと評価し、目視で明確にパターン写りが視認される場合をＣと評価した。
この結果を下記第２表に示す。
【００８２】
（ロール形態の外観）
透明導電膜をロール形態とした時に、ロールの最外周が平坦であり、且つ機能性パターンを切り取った際に凹凸に起因するカール、シワおよび折れ跡がない場合をＡと評価し、ロールの最外周に凹凸が確認されるものの機能性パターンを切り取った際に凹凸に起因するカール、シワおよび折れ跡がない場合をＢと評価し、ロールの最外周に凹凸が確認され且つ機能性パターンを切り取った際に凹凸に起因するカール、シワまたは折れ跡がある場合をＣと評価した。
この結果を下記第２表に示す。
【００８３】
（支持体の接着）
透明導電膜をロール形態とした時に、支持体上に機能性パターンおよび厚み調整用パターンが存在しない（導電性材料が存在しない）非パターン部における接着が、最内周から３周目より外側に位置する部分で生じていない場合をＡと評価し、最内周から３周目より外側に位置する部分で生じている場合をＢと評価した。
この結果を下記第２表に示す。
【００８４】
【表２】
2016051194.tif 000005
【００８５】
第２表に示す結果から、厚み調整用パターンが形成された実施例１〜７は、厚み調整用パターンが形成されていない比較例１および２と比較して、機能性パターンの得率が７０％以上と高い値を示すと共に機能性パターンの転写および支持体の接着も大きく抑制されることがわかった。
【００８６】
また、機能性パターンと厚み調整用パターンを電気的に接続またはショット間の厚み調整用パターンを電気的に接続した実施例５〜７は、機能性パターンと厚み調整用パターンを電気的に接続せず且つショット間において厚み調整用パターンを電気的に接続していない実施例１〜４と比較して、機能性パターンの得率が９０％以上の高い値を示すことがわかった。
また、機能性パターンと厚み調整用パターンを電気的に接続し且つショット間の厚み調整用パターンを電気的に接続した実施例７は、機能性パターンと厚み調整用パターンの間のみを電気的に接続した実施例５およびショット間の厚み調整用パターンのみを電気的に接続した実施例６と比較して、機能性パターンの得率が９５％以上の高い値を示すことがわかった。
【００８７】
さらに、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が５０％未満の実施例２および４は、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が５０％以上の実施例３と比較して、機能性パターンの得率が８１％以上と高い値を示すと共に機能性パターンの転写も大きく抑制されることがわかった。
また、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が３０％未満の実施例４は、厚み調整用パターンが全く含まれない区画の割合が３０％以上の実施例２と比較して、機能性パターンの得率が８６％以上と高い値を示すと共にロール形態の外観も大きく向上することがわかった。
【符号の説明】
【００８８】
１，７１  支持体、２，２ａ，２ｂ，２１，４２，６１，７２ａ，７２ｂ  機能性パターン、３，２２，３１，４１，５２  厚み調整用パターン、４，６２ａ，６２ｂ  金属細線、５  第１の検出電極、６  第１のコネクタ部、７  第１の外部接続端子、８  第１の周辺配線、９  第２の検出電極、１０  第２のコネクタ部、１１  第２の外部接続端子、１２  第２の周辺配線、１３ａ，１３ｂ  金属細線、１４  複数のパスローラ、１５  メッシュ形成部、１６  巻き取りローラ、５３ａ，５３ｂ  接続線、５４ａ，５４ｂ  外部接続端子、７３  パネル本体、７４ａ，７４ｂ  保護層、Ｒ１  機能性パターン形成領域、Ｒ２  機能性パターン非形成領域、Ｒ３  切断領域、Ｄ１  支持体の長手方向、Ｄ２  支持体の短手方向、Ｐ１，Ｐ２  隙間、Ｃ，Ｃ１，Ｃ２  仮想区画、Ｎ  解析領域、Ｅ１  支持体の始端、Ｅ２  支持体の終端、Ｇ１  始端側の領域、Ｇ２  終端側の領域、Ｌ  切断目標線、Ｌａ  切断位置、Ｍ１，Ｍ２  距離。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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