(57)【要約】      （修正有）【課題】サブピクセルパターンの局所的な歪みによるインク液滴の着弾位置のずれを補正する。【解決手段】有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクの液滴を複数のノズル４２３からを吐出することによりインクが塗布される複数の塗布予定領域が行列状に形成されたＥＬ基板を準備し、狙った位置からの液滴の着弾位置の位置ずれを示す位置ずれ情報を参照して位置ずれを補正するように、塗布予定領域のそれぞれに対して液滴を吐出する有機ＥＬ表示パネルの製造方法である。位置ずれ情報は、複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セル３３が行列状に形成された測定用基板３０を準備し、測定用基板３０上に複数のノズル４２３から液滴を吐出し、複数の測定用セル３３それぞれの基準位置と、対応する液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得される。【選択図】図１１
2016110945.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクと、前記インクの液滴を複数のノズルから吐出することにより前記インクが塗布される予定の複数の塗布予定領域が画像を表示する予定の表示予定部に行列状に形成された隔壁層を有するＥＬ基板とを準備し、
吐出された前記液滴の着弾位置の狙った位置からの位置ずれを示す位置ずれ情報を参照し、前記複数のノズルのうち位置ずれを有するノズルについては当該位置ずれを補正するように、前記複数のノズルのうち前記塗布予定領域のそれぞれに対応するノズルから、前記塗布予定領域のそれぞれに対して前記液滴を吐出して、前記塗布予定領域内に前記インクを塗布し、
前記塗布された前記インクの前記溶媒を乾燥させることにより、前記塗布予定領域内に前記有機発光材料を含む発光層又は前記機能性材料を含む機能層を形成する有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、
前記位置ずれ情報は、
前記複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セルが行列状に形成された測定用基板を準備し、
前記測定用基板上に、前記複数のノズルから前記液滴を吐出し、
前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得される
有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項２】
前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれの測定は、前記測定用セルと前記測定用基板に着弾した前記液滴とを撮像装置で撮像し、当該撮像された画像において行う
請求項１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項３】
前記測定用セルの基準位置は、前記測定用セルそれぞれの列方向における両端部の行方向における中心同士を結ぶ線である
請求項１又は２に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項４】
前記塗布予定領域内への前記インクの塗布における前記複数の塗布予定領域それぞれについての前記インクの着弾位置の位置ずれの補正は、
前記ノズルからの前記液滴の吐出タイミングを調整することにより行う
請求項１から３の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項５】
前記位置ずれ情報の取得は、前記表示予定部に形成された前記塗布予定領域に対応する全ての前記測定用セルについて行う
請求項１から４の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項６】
前記有機ＥＬ表示パネルは、複数の画素電極を有し、
前記画素電極、前記測定用セル、および前記塗布予定領域は、共通のマスクを用いて形成され、
前記測定用セルは、前記画素電極の材料と同種の材料から成る
請求項１から５の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項７】
前記測定用基板は、前記複数の測定用セルの上方に配され、上面が平坦な撥液性の層を有し、
前記液滴は前記撥液性の層上に着弾するように吐出される
請求項１から６の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項８】
前記撥液性の層は、前記隔壁層を形成するための材料と同種の材料から成る
請求項７に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項９】
前記位置ずれ情報は記憶部に記憶されており、
前記塗布予定領域および前記測定用セルのパターニングは、共通のマスクを用いて行い、
前記マスクを交換する毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新する
請求項１から８の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１０】
前記マスクのメンテナンスを行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新する
請求項９に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１１】
前記ＥＬ基板への前記インクの塗布を所定枚数行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新する
請求項９又は１０に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１２】
前記表示予定部は、前記ＥＬ基板において画像を表示する側の主面の中央部に配され、前記表示予定部の列方向に隣接して、画像が表示されない非表示予定部が配され、
前記位置ずれ情報が示す位置ずれを補正する前記液滴の吐出を補正モードとすると、
前記ＥＬ基板の準備の後、前記塗布予定領域内への前記インクの塗布に先立って、
前記非表示予定部に最も近い前記複数の塗布予定領域の行である補正参照行に属する各塗布予定領域のうち少なくとも行方向における両端部に位置する複数の塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで、前記表示予定部には前記液滴を吐出せずに、前記非表示予定部に前記液滴を複数吐出し、
前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置と、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域の基準位置との行方向における位置ずれを測定し、
前記表示予定部に形成された前記複数の塗布予定領域内への前記インクの塗布において、前記測定用基板における位置ずれと、前記非表示予定部において測定された位置ずれの両方を補正するように前記液滴を吐出する追加補正モードで前記ノズルから前記液滴を吐出する
請求項１から１１に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１３】
前記非表示予定部で測定された位置ずれの補正は、前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置の位置ずれを、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域と同一の列に属する前記塗布予定領域に適用して行う
請求項１２に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１４】
前記非表示予定部における位置ずれの測定は、前記ＥＬ基板毎に行う
請求項１２又は１３に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【請求項１５】
前記非表示予定部への前記液滴の吐出は、前記補正参照行に属する全ての前記塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで行う
請求項１２から１４の何れか１項に記載の有機ＥＬ表示パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機ＥＬ表示パネルの製造方法に関し、特にインクジェット法を用いた製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）表示パネルの開発が盛んに行われている。有機ＥＬ表示パネルは、画素電極と共通電極との間に、発光層や発光層を発光させるための機能層が積層された構成を有する。これら発光層および機能層の形成方法として、発光層を形成するための有機発光材料や機能層を形成するための機能性材料を含むインクをインクジェット法等により下地基板上に塗布する方法（塗布法）がある（例えば、特許文献１）。
【０００３】
インクジェットを用いて基板にインクを塗布して有機ＥＬ表示パネルを形成する場合、バンクによりサブピクセルごとに区画された複数の塗布予定領域それぞれの内部にインク液滴を塗布するのであるが、所望の性能を有する機能層を得るためには、各塗布予定領域内に形成される機能層が所望の膜厚を有することが重要である。そして、そのためには、各塗布予定領域内に塗布されるインクの量を正確に制御する必要があり、インクジェットヘッドが備える複数のノズルから吐出されたインク液滴のそれぞれが狙った塗布予定領域内に正確に着弾するように制御する必要がある。ステージ上に基板がずれて載置された場合や、基板自体に全体的に伸びや縮み、歪みが生じている場合など、インクジェットヘッドと基板とが相対的にずれて配置されていると、吐出されるインク液滴の着弾位置もずれることになる。そこで従来から、画像表示予定部の外側であって基板の周縁部に設けられたアラインメントマークを読み取り、基板とインクジェットヘッドとの相対的な位置のずれを補正する方法が採用されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００９−５４６０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
画素電極やバンクの塗布予定領域は、マスクを用いてパターニングを行うことによりサブピクセルごとに形成されるのであるが、このとき、マスクのフレームを固定する装置の動作の癖や装置そのものの固体差などに由来して、形成されるサブピクセルのパターンに局所的な歪みや伸び、縮み等が生じる場合がある。
しかしながら、特許文献２の方法では、下地基板全体に亘って均一に生じた伸び、縮み、歪みに起因するずれや、下地基板が載置されるステージと下地基板とのずれ（縦方向、横方向、回転方向）には対しては、これらのずれを補正することができるが、下地基板に局所的に生じた歪みや伸び、縮みに対しては、ずれを補正することができない。
【０００６】
近年、有機ＥＬ表示パネルの高精細化に伴い、サブピクセルのサイズがより小さくなっているため、このようなずれに対しても適切に補正する必要性が高まっている。
本発明は、サブピクセルパターンの局所的な歪み、伸び、縮みによるインク液滴の着弾位置のずれを補正することができる有機ＥＬ表示パネルの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクと、前記インクの液滴を複数のノズルから吐出することにより前記インクが塗布される予定の複数の塗布予定領域が画像を表示する予定の表示予定部に行列状に形成された隔壁層を有するＥＬ基板とを準備し、吐出された前記液滴の着弾位置の狙った位置からの位置ずれを示す位置ずれ情報を参照し、前記複数のノズルのうち位置ずれを有するノズルについては当該位置ずれを補正するように、前記複数のノズルのうち前記塗布予定領域のそれぞれに対応するノズルから、前記塗布予定領域のそれぞれに対して前記液滴を吐出して、前記塗布予定領域内に前記インクを塗布し、前記塗布された前記インクの前記溶媒を乾燥させることにより、前記塗布予定領域内に前記有機発光材料を含む発光層又は前記機能性材料を含む機能層を形成する有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、前記位置ずれ情報は、前記複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セルが行列状に形成された測定用基板を準備し、前記測定用基板上に、前記複数のノズルから前記液滴を吐出し、前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得されることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法によると、ＥＬ基板の塗布予定領域へのインク塗布の際には、記憶部に記憶されている位置ずれ情報を参照して、各塗布予定領域に対応する測定用セルに係る位置ずれを補正するようにインクジェットヘッドのノズルからインク液滴を吐出する。
これにより、ＥＬ基板の面内の塗布領域の配列パターンの局所的な歪みに対応したインク液滴の位置ずれ補正を行うことができる。
【０００９】
さらには、同じ画像内における測定用セルの基準位置と対応するインクの着弾位置との位置情報（座標データ）に基づいて位置ずれを算出することができるため、得られた位置ずれ情報が撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
従って、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルにおける、サブピクセルの配置形態を示す模式平面図である。
【図２】図２のＡ−Ａ断面を示す模式断面図である。
【図３】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図である。（ａ）は、基材上にＴＦＴ層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｂ）は、ＴＦＴ層上に層間絶縁層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｃ）は、層間絶縁層上に画素電極材料層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｄ）は、画素電極材料層上に正孔注入材料層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｅ）は、画素電極及び正孔注入層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｆ）は、正孔注入層および層間絶縁層上に第１バンク材料層が形成された状態を示す部分断面図である。
【図４】図３の続きの有機ＥＬ表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図である。（ａ）は、正孔注入層および層間絶縁層上に第１バンクが形成された状態を示す部分断面図である。（ｂ）は、正孔注入層，層間絶縁層，および第１バンク上に第２バンク材料層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｃ）は、正孔注入層，層間絶縁層，および第１バンク上に第２バンクが形成された状態を示す部分断面図である。（ｄ）は、バンクの塗布予定領域内に正孔輸送層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｅ）は、バンクの塗布予定領域内において正孔輸送層上に発光層が形成された状態を示す部分断面図である。
【図５】図４の続きの有機ＥＬ表示パネルの製造過程の一部を模式的に示す部分断面図である。（ａ）は、バンク上および発光層上に電子輸送層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｂ）は、電子輸送層上に電子注入層が形成された状態を示す部分断面図である。（ｃ）は、電子注入層上に共通電極が形成された状態を示す部分断面図である。（ｄ）は、共通電極上に封止層が形成された状態を示す部分断面図である。
【図６】本発明の実施形態１に係る有機表示パネルの製造過程を示す模式工程図である。
【図７】インクジェット装置の主要構成を示す模式斜視図である。
【図８】インクジェット装置の機能ブロック図である。
【図９】インクジェットヘッドの模式底面図である。
【図１０】サブヘッドの模式断面図である。
【図１１】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、ＥＬ基板に初期モードでインクを塗布した場合のインク液滴の着弾位置と塗布予定領域との位置関係を示す模式平面図である。
【図１２】本発明の実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法において、ＥＬ基板に補正モードでインクを塗布した場合のインク液滴の着弾位置と塗布予定領域との位置関係を示す模式平面図である。
【図１３】（ａ）は、図１１のＢ−Ｂ断面図である。（ｂ）は、初期モードにおいてノズルのピエゾ素子に印加するパルス信号を模式的に示す図である。（ｃ）は、補正モードにおいてノズルのピエゾ素子に印加するパルス信号を模式的に示す図である。（ｄ）は、図１２のＣ−Ｃ断面図である。
【図１４】本発明の実施形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法の一部を模式的に示す平面図である。（ａ）は、ＥＬ基板の非表示予定部に補正モードでインク液滴を吐出した状態を示す模式平面図である。（ｂ）は、表示予定部の塗布予定領域内に追加補正モードでインク液滴を吐出した状態を示す模式平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
≪本発明の一態様の概要≫
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、有機発光材料又は機能性材料が溶媒に溶解されたインクと、前記インクの液滴を複数のノズルから吐出することにより前記インクが塗布される予定の複数の塗布予定領域が画像を表示する予定の表示予定部に行列状に形成された隔壁層を有するＥＬ基板とを準備し、吐出された前記液滴の着弾位置の狙った位置からの位置ずれを示す位置ずれ情報を参照し、前記複数のノズルのうち位置ずれを有するノズルについては当該位置ずれを補正するように、前記複数のノズルのうち前記塗布予定領域のそれぞれに対応するノズルから、前記塗布予定領域のそれぞれに対して前記液滴を吐出して、前記塗布予定領域内に前記インクを塗布し、前記塗布された前記インクの前記溶媒を乾燥させることにより、前記塗布予定領域内に前記有機発光材料を含む発光層又は前記機能性材料を含む機能層を形成する有機ＥＬ表示パネルの製造方法であって、前記位置ずれ情報は、前記複数の塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで複数の測定用セルが行列状に形成された測定用基板を準備し、前記測定用基板上に、前記複数のノズルから前記液滴を吐出し、前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれを一度で測定することにより取得されることを特徴とする。
【００１２】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法によると、ＥＬ基板の面内の塗布領域の配列パターンの局所的な歪みに対応したインク液滴の位置ずれ補正を行うことができる。
さらには、測定用セルの基準位置と対応するインクの着弾位置との位置情報（座標データ）を別々にではなく一度で測定するため、得られた位置ずれ情報が撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
【００１３】
従って、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記複数の測定用セルそれぞれの基準位置と、対応する前記液滴の着弾位置との行方向の位置ずれの測定は、前記測定用セルと前記測定用基板に着弾した前記液滴とを撮像装置で撮像し、当該撮像された画像において行うことを特徴とする。
【００１４】
これにより、測定用セルの基準位置とインク液滴の着弾位置とを別々に測定した後に、双方の測定値から行方向の位置ずれを算出する場合と比較して、実測により得られた位置ずれは、撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
従って、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００１５】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記測定用セルの基準位置は、前記測定用セルそれぞれの列方向における両端部の行方向における中心同士を結ぶ線であることを特徴とする。
これにより、インク液滴の着弾位置が塗布予定領域の基準位置から多少ずれた場合であっても、塗布予定領域内に着弾する確率を高くすることができる。
【００１６】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記塗布予定領域内への前記インクの塗布における前記複数の塗布予定領域それぞれについての前記インクの着弾位置の位置ずれの補正は、前記ノズルからの前記液滴の吐出タイミングを調整することにより行うことを特徴とする。
これにより、ノズルに印加する吐出信号のパルスのタイミングを調整する簡単な方法で、位置ずれ補正を実行することができる。
【００１７】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記位置ずれ情報の取得は、前記表示予定部に形成された前記塗布予定領域に対応する全ての前記測定用セルについて行うことを特徴とする。
これにより、表示予定部の全面に亘って塗布予定領域の配列パターンの局所的な歪みを検出することができ、当該局所的な歪みに起因する位置ずれをより網羅的に補正することができる。
【００１８】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記有機ＥＬ表示パネルは、前記塗布予定領域と共通する配列パターンで形成された画素電極を有し、前記測定用セルは、前記画素電極の材料と同種の材料から成ることを特徴とする。
これにより、画素電極を形成する工程と同じ工程で測定用セルを形成することができ、測定用セルを形成するために別の材料や別の製造装置を用意しなくてもよいため、コスト抑制に資することができる。
【００１９】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記測定用基板は、前記複数の測定用セルの上方に配され、上面が平坦な撥液性の層を有し、前記液滴は前記撥液性の層上に着弾するように吐出されることを特徴とする。
これにより、測定用基板上に着弾したインク液滴が濡れ広がらないので、インク液滴の着弾位置を容易に特定することができる。
【００２０】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記撥液性の層は、前記隔壁層を形成するための材料と同種の材料から成ることを特徴とする。
これにより、隔壁層を形成する工程と同じ工程で撥液性の層を形成することができ、撥液性の層を形成するために別の材料や別の製造装置を用意しなくてもよいため、コスト抑制に資することができる。
【００２１】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記塗布予定領域および前記測定用セルのパターニングは、共通のマスクを用いて行い、前記マスクを交換する毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新することを特徴とする。
【００２２】
これにより、マスクの不具合に起因する塗布予定領域の配列パターンの歪みに対応することができる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記マスクのメンテナンスを行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新することを特徴とする。
【００２３】
これにより、マスクのメンテナンスの際にマスクに不具合が生じた場合に、その不具合に起因する塗布予定領域の配列パターンの歪みに対応することができる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記ＥＬ基板への前記インクの塗布を所定枚数行う毎に、前記測定用基板を新たに作成し、当該新たに作成された前記測定用基板を用いて位置ずれの測定を新たに行い、当該新たに測定された位置ずれ情報で前記記憶部に記憶されている位置ずれ情報を更新することを特徴とする。
【００２４】
これにより、有機ＥＬ表示パネルの製造枚数が多くなるにつれてマスクに生じる経時的な疲労やゴミ等の付着によりマスクに不具合が生じた場合に、その不具合に起因する塗布予定領域の配列パターンの歪みに対応することができる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記表示予定部は、前記ＥＬ基板において画像を表示する側の主面の中央部に配され、前記表示予定部の列方向に隣接して、画像が表示されない非表示予定部が配され、前記ＥＬ基板の準備の後、前記塗布予定領域内への前記インクの塗布に先立って、前記非表示予定部に最も近い前記複数の塗布予定領域の行である補正参照行に属する各塗布予定領域のうち少なくとも行方向における両端部に位置する複数の塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで、前記表示予定部には前記液滴を吐出せずに、前記非表示予定部に前記液滴を複数吐出し、前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置と、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域の基準位置との行方向における位置ずれを測定し、前記表示予定部に形成された前記複数の塗布予定領域内への前記インクの塗布において、前記測定用基板における位置ずれと、前記非表示予定部において測定された位置ずれの両方を補正するように前記液滴を吐出する追加補正モードで前記ノズルから前記液滴を吐出することを特徴とする。
【００２５】
このように、非表示予定部にインク液滴を吐出して着弾位置と補正参照行の基準位置との行方向の位置ずれを測定し、個々の有機ＥＬ表示パネルについての行方向の局所的な伸びや縮みを検出することができる。そして、検出された伸びや縮みを補正するようにインク液滴を吐出することにより、個々の有機ＥＬ表示パネルの行方向の局所的な伸びや縮みに対応して、より確実に狙った塗布予定領域内にインク液滴を着弾させることができ、サブピクセル間で発光層や機能層の膜厚をより均一に揃えることができるとともに、混色の発生を抑制して、より高品質な有機ＥＬ表示パネルを製造することができる。
【００２６】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記非表示予定部で測定された位置ずれの補正は、前記非表示予定部に吐出された前記液滴の着弾位置の位置ずれを、前記補正参照行における対応する前記塗布予定領域と同一の列に属する前記塗布予定領域に適用して行うことを特徴とする。
個々のＥＬ基板について位置ずれを測定して、追加補正モードで塗布予定領域内にインクを塗布することにより、個々のＥＬ基板で伸び、縮み、歪み等が異なる場合に、これらに起因する位置ずれを個々のＥＬ基板１０についてそれぞれ追加で補正することができるため、より確実にインク液滴を狙った塗布領域内に着弾させることができる。
【００２７】
これにより、各サブピクセルにおける発光層および機能層の膜厚がより均一化され、また混色の発生をより低下させることができるため、より高品質な有機ＥＬ表示パネルを生産することができる。
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記非表示予定部における位置ずれの測定は、前記ＥＬ基板毎に行うことを特徴とする。
【００２８】
これにより、ＥＬ基板の伸びや縮みが行方向にのみ発生し、列方向には伸びや縮みが無い場合や、列方向に長尺なラインバンクを有するＥＬ基板の場合には、補正参照行の位置ずれ補正を、補正参照行における対応する塗布予定領域と同一の列に属する前記塗布予定領域に適用して行うことにより、表示予定部内の全ての塗布予定領域に対して、追加の位置ずれ補正を行うことができる。
【００２９】
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法における特定の局面においては、前記非表示予定部への前記液滴の吐出は、前記補正参照行に属する全ての前記塗布予定領域に対して前記補正モードで前記液滴を吐出する場合と同じタイミングで行うことを特徴とする。
これにより、ＥＬ基板の行方向における全体的な伸びや縮みのみならず、行方向における局所的な伸びや縮みを検出することができ、より正確に追加の位置ずれ補正を行うことができる。
【００３０】
以下、本発明の実施形態および変形例について具体例を示し、構成および作用・効果を説明する。
なお、以下の説明で用いる実施形態および変形例は、本発明の一態様に係る構成および作用・効果を分かりやすく説明するために用いる例示であって、本発明は、その本質的部分以外に何ら以下の実施形態および変形例に限定を受けるものではない。
【００３１】
≪実施形態１≫
[１．有機ＥＬ表示パネルの概略構成]
本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法の一例として、実施形態１に係る製造方法および、当該製造方法により製造される実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの構成について、図１〜図１１を参照しながら説明する。
【００３２】
図１は、有機ＥＬ表示パネル１００の概略構成を示す模式平面図である。図２に示すように、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１００は、所謂ラインバンク構造を採用している。即ち、有機ＥＬ表示パネル１００は、各々がＸ軸方向に長尺で、Ｙ軸方向に互いに間隔をあけて配置された複数条の第１バンク(第１隔壁層)１５ａと、各々がＹ軸方向に長尺で、Ｘ軸方向に互いに間隔をあけて配置された複数条の第２バンク（第２隔壁層）１５ｂとを備える。
【００３３】
隣接する一対の第１バンク１５ａと、隣接する一対の第２バンク１５ｂとで規定される各領域に、発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂの何れかが形成され、各発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂがサブピクセルとなっている。各サブピクセルのＹ方向の長さは、例えば、３００μｍである。
発光素子１Ｒは赤色（Ｒ）の光を出射し、発光素子１Ｇは緑色（Ｇ）の光を出射し、発光素子１Ｂは青色（Ｂ）の光を出射する。Ｘ方向に隣接する３つの発光素子１Ｒ，１Ｇ，１Ｂで１つの画素（ピクセル）が構成されている。なお、発光色を特に限定する必要がない場合には、これらの発光素子を総称して発光素子１と呼ぶ。
【００３４】
また、第１バンク１５ａの高さは、例えば、第２バンク１５ｂの高さの４０％〜７０％の範囲内であって、より好ましくは、５０％〜５５％の範囲内である。また、第１バンク１５ａと第２バンク１５ｂとを特に区別する必要が無い場合には、総称してバンク（隔壁層）１５と呼ぶ。
図２は、図１におけるＡ−Ａ断面図である。有機ＥＬ表示パネル１００は、基板１１、層間絶縁層１２、画素電極１３、正孔注入層１４、バンク１５（図３では、第２バンク１５ｂのみが表示されている）、正孔輸送層１６、発光層１７（１７Ｒ，１７Ｇ，１７Ｂ）、電子輸送層１８、電子注入層１９、共通電極２０、および封止層２１を備え、これらが積層された積層構造を有する。基板１１、層間絶縁層１２、電子輸送層１８、電子注入層１９、共通電極２０、および封止層２１は、複数の画素に共通して形成されている。本実施形態においては、正孔輸送層１６、発光層１７、電子輸送層１８が、有機発光機能層であり、塗布法により形成される。
【００３５】
続いて、有機ＥＬ表示パネル１００の各部構成について説明する。
＜基板＞
基板１１は、絶縁材料である基材１１１と、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ）層１１２とを含む。ＴＦＴ層１１２には、サブピクセル毎に駆動回路（不図示）が形成されている。基材１１１が形成される材料としては、例えば、ガラスが用いられる。ガラス材料としては、具体的には例えば、無アルカリガラス、ソーダガラス、無蛍光ガラス、燐酸系ガラス、硼酸系ガラス、石英等のガラスなどが挙げられる。
【００３６】
＜層間絶縁層＞
層間絶縁層１２は、基板１１上に形成されている。層間絶縁層１２は、樹脂材料からなり、ＴＦＴ層１１２の上面の段差を平坦化するためのものである。層間絶縁層１２が形成される樹脂材料としては、例えば、ポジ型の感光性材料が用いられる。また、このような感光性材料としては、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。
【００３７】
＜画素電極＞
画素電極１３は、導電材料からなり、層間絶縁層１２上にサブピクセル毎に形成される。本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１００は、トップエミッション型であるので、画素電極１３は、光反射性を具備した導電材料により形成されるとよい。光反射性を具備する導電材料としては、金属が挙げられる。具体的には、Ａｇ（銀）、Ａｌ（アルミニウム）、アルミニウム合金、Ｍｏ（モリブデン）、ＡＰＣ（銀、パラジウム、銅の合金）、ＡＲＡ（銀、ルビジウム、金の合金）、ＭｏＣｒ（モリブデンとクロムの合金）、ＭｏＷ（モリブデンとタングステンの合金）、ＮｉＣｒ（ニッケルとクロムの合金）等を用いることができる。また、画素電極１３は、上記光反射性を具備する導電材料と透明導電材料との積層構造であってもよい。この場合、透明導電材料としては、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、ＺｎＯ（酸化亜鉛）等を用いることができる。
【００３８】
なお、この断面図には現れていないが、層間絶縁層１２には、コンタクトホールがサブピクセル毎に形成されている。当該コンタクトホールにはＴＦＴ接続配線が埋め込まれており、画素電極１３は、ＴＦＴ接続配線を介して、ＴＦＴ層１１２に形成された駆動回路と電気的に接続されている。
＜正孔注入層＞
正孔注入層１４は、画素電極１３から発光層１７への正孔の注入を促進させる機能を有する。正孔注入層１４は、例えば、金属酸化物から成り、画素電極１３上に配置される。正孔注入層１４の形成は、例えば、スパッタリング法により行われる。正孔注入層１４の形成材料である金属酸化物としては、例えば、酸化タングステン（ＷＯｘ）、酸化モリブデン（ＭｏＯｘ）や、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、バナジウム（Ｖ）、ニッケル（Ｎｉ）、イリジウム（Ｉｒ）等の酸化物を用いることができる。
【００３９】
＜バンク＞
バンク１５は、正孔注入層１４の上面の一部の領域を露出させ、その周辺の領域を被覆した状態で正孔注入層１４上に形成されている。正孔注入層１４の上面においてバンク１５で被覆されていない領域（以下、「開口部」という。）は、サブピクセルに対応している。即ち、バンク１５は、サブピクセル毎に設けられた塗布予定領域１５ｃを有する。
【００４０】
バンク１５は、例えば、絶縁性の有機材料（例えばアクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、ノボラック樹脂、フェノール樹脂等）からなる。バンク１５は、発光層１７を塗布法で形成する場合には、塗布されたインクがあふれ出ないようにするための構造物として機能し、発光層１７を蒸着法で形成する場合には、蒸着マスクを載置するための構造物として機能する。本実施形態では、バンク１５は、樹脂材料からなり、例えば、ポジ型の感光性材料を用いることができる。このような感光性材料として、具体的には、アクリル系樹脂、ポリイミド系樹脂、シロキサン系樹脂、フェノール系樹脂等が挙げられる。
【００４１】
＜正孔輸送層＞
正孔輸送層１６は、正孔注入層１４から注入された正孔を発光層１７へ輸送する機能を有し、有機材料から成る。正孔輸送層１６を形成する有機材料としては、ポリフルオレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体等の高分子化合物を用いることができる。
【００４２】
また、正孔輸送層１６はトリアゾール誘導体、オキサジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリールアルカン誘導体、ピラゾリン誘導体及びピラゾロン誘導体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、ポルフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物、ブタジエン化合物、ポリスチレン誘導体、ヒドラゾン誘導体、トリフェニルメタン誘導体、テトラフェニルベンジン誘導体を用いて形成されてもよい。特に好ましくは、ポリフィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物及びスチリルアミン化合物等を用いてもよい。この場合、正孔輸送層１６は、真空蒸着法により形成される。
【００４３】
＜発光層＞
発光層１７は、有機発光材料を含み、画素電極１３の上方に位置する塗布予定領域１５ｃ内に形成されている。発光層１７は、正孔と電子の再結合によりＲ、Ｇ、Ｂのうち何れか対応する発光色の光を出射する機能を有する。
発光層１７に含まれる有機発光材料としては、例えば、オキシノイド化合物、ペリレン化合物、クマリン化合物、アザクマリン化合物、オキサゾール化合物、オキサジアゾール化合物、ペリノン化合物、ピロロピロール化合物、ナフタレン化合物、アントラセン化合物、フルオレン化合物、フルオランテン化合物、テトラセン化合物、ピレン化合物、コロネン化合物、キノロン化合物およびアザキノロン化合物、ピラゾリン誘導体およびピラゾロン誘導体、ローダミン化合物、クリセン化合物、フェナントレン化合物、シクロペンタジエン化合物、スチルベン化合物、ジフェニルキノン化合物、スチリル化合物、ブタジエン化合物、ジシアノメチレンピラン化合物、ジシアノメチレンチオピラン化合物、フルオレセイン化合物、ピリリウム化合物、チアピリリウム化合物、セレナピリリウム化合物、テルロピリリウム化合物、芳香族アルダジエン化合物、オリゴフェニレン化合物、チオキサンテン化合物、シアニン化合物、アクリジン化合物、８−ヒドロキシキノリン化合物の金属鎖体、２−ビピリジン化合物の金属鎖体、シッフ塩とＩＩＩ族金属との鎖体、オキシン金属鎖体、希土類鎖体等の蛍光物質を用いることができる。また、トリス（２−フェニルピリジン）イリジウムなどの燐光を発光する金属錯体等の公知の燐光物質を用いることができる。また、発光層１７は、ポリフルオレンやその誘導体、ポリフェニレンやその誘導体、あるいはポリアリールアミンやその誘導体等の高分子化合物等、もしくは前記低分子化合物と前記高分子化合物の混合物を用いて形成されてもよい。
【００４４】
＜電子輸送層＞
電子輸送層１８は、複数の画素に共通して発光層１７およびバンク１５上に設けられており、共通電極２０から注入された電子を発光層１７へと輸送する機能を有する。電子輸送層１８は、例えば、オキサジアゾール誘導体（ＯＸＤ）、トリアゾール誘導体（ＴＡＺ）、フェナンスロリン誘導体（ＢＣＰ、Ｂｐｈｅｎ）などを用い形成されている。
【００４５】
＜電子注入層＞
電子注入層１９は、電子輸送層１８上に複数の画素に共通して設けられており、共通電極２０から発光層１７への電子の注入を促進させる機能を有する。電子注入層１９は、例えば、リチウム、バリウム、カルシウム、カリウム、セシウム、ナトリウム、ルビジウム等の低仕事関数金属や、フッ化リチウム等の低仕事関数金属塩、酸化バリウム等の低仕事関数金属酸化物などを用いて形成されている。
【００４６】
＜共通電極＞
共通電極２０は、電子注入層１９上に複数の画素に共通して設けられている。共通電極２０は、例えば、例えば、ＩＴＯ（酸化インジウムスズ）、ＩＺＯ（酸化インジウム亜鉛）等の導電性を有する光透過性材料で形成されている。共通電極２０が透明導電材料を用いて形成されることにより、発光層１７で発生した光を、共通電極２０側から取り出すことができる。共通電極２０に用いられる透明導電材料としては、上記以外にも、例えば、ＭｇＡｇ（マグネシウム銀）を用いることができる。この場合、共通電極２０の厚みを数１０ｎｍ程度とすることで、光を透過させることができる。
【００４７】
＜封止層＞
共通電極２０の上には、封止層２１が設けられている。封止層２１は、基板１１の反対側から不純物（水，酸素）が共通電極２０，電子注入層１９，電子輸送層１８，発光層１７等へと侵入するのを防ぎ、不純物によるこれらの層の劣化を抑制する機能を有する。本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１００はトップエミッション型の表示パネルであるため、封止層２１の材料としては、例えばＳｉＮ（窒化シリコン）、ＳｉＯＮ（酸窒化シリコン）等の光透過性材料が用いられる。
【００４８】
＜その他＞
なお、図３には図示されていないが、封止層２１の上にカラーフィルタや上部基板を載置し、接合してもよい。上部基板を載置および接合することにより、共通電極２０，電子注入層１９，電子輸送層１８，発光層１７等に対する不純物からのさらなる保護を図ることができる。
【００４９】
［２．有機ＥＬ表示パネルの製造方法］
次に、有機ＥＬ表示パネル１００の製造方法の一例を、図３〜図６を用いて説明する。なお、図３〜図５は、有機ＥＬ表示パネル１００の製造過程を模式的に示す部分断面図であり、図６は、有機ＥＬ表示パネル１００の製造過程を示す模式工程図である。
先ず、図３（ａ）に示すように、基材１１１上にＴＦＴ層１１２を形成して、基板１１を形成する（図６のステップＳ１）。
【００５０】
次に、図３（ｂ）に示すように、基板１１上に層間絶縁層１２を成膜する（図６のステップＳ２）。層間絶縁層１２の材料である層間絶縁層用樹脂には、本実施形態においては、ポジ型の感光性材料であるアクリル樹脂を用いる。層間絶縁層１２は、層間絶縁層用樹脂であるアクリル樹脂を層間絶縁層用溶媒（例えば、ＰＧＭＥＡ）に溶解させた層間絶縁層用溶液を基板１１上に塗布して成膜した後、焼成を行う。焼成は、例えば、１５０℃以上２１０℃以下の温度で１８０分間行う。
【００５１】
続いて、図３（ｃ）に示すように、層間絶縁層１２上に画素電極材料層１３０を形成する。画素電極材料層１３０は、例えば、真空蒸着法またはスパッタ法により、１５０〔ｎｍ〕程度の厚みに形成する（図６のステップＳ３）。
次に、図３（ｄ）に示すように、画素電極材料層１３０上に正孔注入材料層１４０を形成する（図６のステップＳ４）。正孔注入材料層１４０は、例えば、反応性スパッタ法により酸化タングステンの層として形成される。
【００５２】
そして、図３（ｅ）に示すように、画素電極材料層１３０及び正孔注入材料層１４０をエッチングによりパターニングして、サブピクセル毎に区画された複数の画素電極１３及び正孔注入層１４を形成する（図６のステップＳ５）。本実施形態においては、画素電極１３は陽極である。
続いて、図３（ｆ）に示すように、正孔注入層１４及び層間絶縁層１２上に、第１バンク１５ａの材料である第１バンク用樹脂を塗布し、第１バンク材料層１５０ａを形成する（図６のステップＳ６）。第１バンク用樹脂には、例えば、ポジ型の感光性材料であるフェノール樹脂が用いられる。第１バンク材料層１５０ａは、第１バンク用樹脂であるフェノール樹脂を溶媒（例えば、乳酸エチルとＧＢＬの混合溶媒）に溶解させた溶液を正孔注入層１４上および層間絶縁層１２上にスピンコート法などを用いて一様に塗布することにより形成される。そして、第１バンク材料層１５０ａにパターン露光と現像を行うことで第１バンク１５ａを形成し、焼成して第１バンク１５ａが完成する（図４（ａ），図６のステップＳ７）。
【００５３】
次に、図４（ｂ）に示すように、正孔注入層１４，層間絶縁層１２，および第１バンク１５ａ上に、第２バンク１５ｂの材料である第２バンク用樹脂を塗布し、第２バンク材料層１５０ｂを形成する（図６のステップＳ８）。第２バンク用樹脂には、第１バンク用樹脂とは異なる種類の感光性材料（例えば、第１バンク用樹脂とは異なる波長の光により硬化する感光性材料）が用いられる。
【００５４】
第２バンク材料層１５０ｂは、第１バンク材料層１５０ａよりも大きな膜厚で形成される。そして、第１バンク材料層１５０ａと同様にパターン露光と現像を行って第２バンク１５ｂを形成し、焼成して第２バンク１５ｂが完成する（図４（ｃ），図６のステップＳ９）。
これにより、正孔輸送層１６及び発光層１７を形成するためのインクが塗布される領域であって、正孔輸送層１６及び発光層１７の形成領域となる塗布予定領域１５ｃが規定される。第１バンク１５ａおよび第２バンク１５ｂの焼成は、例えば、１５０℃以上２１０℃以下の温度で６０分間行う。
【００５５】
なお、第１バンク１５ａと第２バンク１５ｂとを同一の材料を用いて同時に形成してもよい。その場合、第１バンク１５ａが形成される予定の領域と第２バンク１５ｂが形成される予定の領域とで、露光強度や露光深度を変えるなどして、第２バンク１５ｂよりも第１バンク１５ａの方が低くなるようにするとよい。
また、バンク１５の形成工程においては、さらに、バンク１５の表面を所定のアルカリ性溶液や水、有機溶媒等によって表面処理するか、プラズマ処理を施すこととしてもよい。これは、塗布予定領域１５ｃに塗布するインクに対するバンク１５の接触角を調節する目的で、もしくは、表面に撥水性を付与する目的で行われる。なお、このような表面処理を、第１バンク１５ａに対しては行わず、第２バンク１５ｂに対してのみ行ってもよい。
【００５６】
次に、塗布予定領域１５ｃに対し、正孔輸送層１６の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド４２０のノズル４２３から吐出して塗布予定領域１５ｃ内の正孔注入層１４上に塗布した後、焼成（乾燥）を行って、正孔輸送層１６を形成する（図４（ｄ），図６のステップＳ１０）。
そして、発光層１７の構成材料を含むインクを、インクジェットヘッド４２０のノズル４２３から吐出して塗布予定領域１５ｃ内の正孔輸送層１６上に塗布した後、焼成（乾燥）を行って、発光層１７を形成する（図４（ｅ），図６のステップＳ１１）。なお、このとき、本実施形態においては、発光層１７の上面は、第１バンク１５ａの上面よりもＺ軸方向において高い位置にあり、第１バンク１５ａは発光層１７に覆われている。
【００５７】
続いて、図５（ａ）に示すように、発光層１７上および第２バンク１５ｂ上に、電子輸送層１８を構成する材料を真空蒸着法またはスパッタリング法により各サブピクセルに共通して成膜し、電子輸送層１８を形成する（図６のステップＳ１２）。
次に、図５（ｂ）に示すように、電子注入層１９を構成する材料を、蒸着法、スピンコート法、キャスト法などの方法により電子輸送層１８上に成膜し、各サブピクセルに共通して電子注入層１９を形成する（図６のステップＳ１３）。
【００５８】
そして、図５（ｃ）に示すように、電子注入層１９上に、ＩＴＯ，ＩＺＯ等の材料を用い、真空蒸着法，スパッタリング法等により成膜して、共通電極２０を形成する（図６のステップＳ１４）。本実施形態においては、共通電極２０は、陰極である。
続いて、図５（ｄ）に示すように、共通電極２０上に、ＳｉＮを材料にスパッタリング法，ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法等により成膜し、封止層２１を形成する（図６のステップＳ１５）。
【００５９】
以上の工程を経ることにより有機ＥＬ表示パネル１００が完成する。
なお、封止層２１の上にカラーフィルタや上部基板を載置し、接合してもよい。
［３．インクジェット法によるインク塗布］
次に、正孔輸送層１６及び発光層１７の形成におけるインクジェット法によるインク塗布について説明する。
【００６０】
＜インクジェット装置１０００の構成＞
まず、インクジェット法によるインク塗布に用いるインクジェット装置１０００の構成について説明する。図７は、インクジェット装置１０００の主要部分の概略構成を示す模式斜視図である。図８は、インクジェット装置１０００の機能ブロック図である。
インクジェット装置１０００は、主要な構成要素として、作業テーブル３００、ヘッド部４００、制御装置５００等を備える。
【００６１】
図８に示すように、制御装置５００は、ＣＰＵ５０１、記憶部５０２（ＨＤＤ等の大容量記憶手段を含む）、ディスプレイ５０３、入力部５０４を備える。当該制御装置５００として、具体的にはパーソナルコンピューター（ＰＣ）を用いることができる。記憶部５０２には、制御装置５００に接続されたガントリー部３２０、ヘッド部４００を駆動するための制御プログラム等が格納されている。インクジェット装置１０００の駆動時には、ＣＰＵ５０１が入力部５０４を通じてオペレータにより入力された指示と、記憶部５０２に格納された各制御プログラムに基づいて所定の制御を行う。
【００６２】
（作業テーブル）
図７に示すように、作業テーブル３００は、いわゆるガントリー式の作業テーブルであって、インク塗布の対象物であるＥＬ基板１０が載置される基台３１０と、基台３１０の上方に配置された長尺状の移動架台３２２とを備える。なお、ＥＬ基板１０は、例えば、有機ＥＬ表示パネル１００の製造途中の基板であって、塗布予定領域１５ｃが形成された後、正孔輸送層１６又は発光層１７を形成するためのインクが塗布される前の状態（図４（ｃ）および図４（ｄ）に示す状態）の基板や、後述するインク液滴着弾位置ずれ測定に用いる測定用基板である。また、例えば、ＥＬ基板１０は、全ての層が形成された後に分割されて複数の有機ＥＬ表示パネル１００となるような言わば有機ＥＬ表示パネル１００の集合体の製造途中の基板であってもよい。この場合においても、ＥＬ基板１０の上面１０ａに形成された各塗布予定領域１５ｃは、上面１０ａの短辺方向であるＹ方向に沿って長尺な形状となっている。
【００６３】
移動架台３２２は、基台３１０の長手方向に沿って平行に配置された一対のガイドシャフト３１２ａ、３１２ｂ間に架け渡され、移動架台３２２の長手方向が基台３１０の短手方向に沿うように配置されている。一対のガイドシャフト３１２ａ、３１２ｂは、基台３１０上面の四隅に配置された柱状のスタンド３１１ａ、３１１ｂ、３１１ｃ、３１１ｄによって支持されている。
【００６４】
基台３１０の上面の四隅には、柱状のスタンド３１１ａ、３１１ｂ、３１１ｃ、３１１ｄがそれぞれ配設されている。これらのスタンド３１１ａ、３１１ｂ、３１１ｃ、３１１ｄにより、基台３１０の長手方向に沿って、一対のガイドシャフト３１２ａ、３１２ｂが互いに平行に支持されている。ガイドシャフト３１２ａと３１２ｂとの間には、移動架台３２２がその長手方向が基台３１０の短手方向に沿うように架け渡されている。移動架台３２２の長手方向端部には、リニアモータ３２１ａ，３２１ｂがそれぞれ取り付けられており、リニアモータ３２１ａ，３２１ｂは、それぞれガイドシャフト３１２ａと３１２ｂに取り付けられている。リニアモータ３２１ａ，３２１ｂが駆動されることにより、移動架台３２２がガイドシャフト３１２ａ、３１２ｂの長手方向（Ｘ軸方向）に沿って往復自在に移動する。
【００６５】
移動架台３２２には、その長手方向（Ｙ軸方向）に沿ってガイド溝３２２ａが形成されており、ガイド溝３２２ａの内部には長手方向に沿って微細なラックが形成されている。また、移動架台３２２には、Ｌ字型の台座３２３が取り付けられており、台座３２３には、サーボモータ３２４が配設されている。サーボモータ３２４には不図示のギヤが取り付けられており、当該ギヤが、ガイド溝３２２ａのラックと噛合している。これにより、サーボモータ３２４が駆動されると、台座３２３は、いわゆるピニオンラック機構によって、移動架台３２２の長手方向に沿って往復自在に精密に移動する。
【００６６】
なお、リニアモータ３２１ａ、３２１ｂ、サーボモータ３２４は、それぞれ通信ケーブル６０１、６０２を介して接続された制御装置５００によって制御駆動される。
（ヘッド部４００）
ヘッド部４００は、本体部４１０及びインクジェットヘッド４２０を備える。本体部４１０は、ガントリー部３２０の台座３２３に固定され、インクジェットヘッド４２０は、本体部４１０に取り付けられている。これにより、移動架台３２２のガイドシャフト３１２ａ及び３１２ｂに沿った長手方向（Ｘ軸方向）の移動及び、台座３２３の移動架台３２２に沿った短手方向（Ｙ方向）の移動に連動して、ヘッド部４００は、基台３１０の長手方向及び短手方向に移動可能である。また、本体部４１０には、制御装置５００からの制御信号を受けてインクジェットヘッド４２０の動作を制御するマイコン等から成る吐出制御部４３０が内蔵されており、吐出制御部４３０は、通信ケーブル６０３を介して制御装置５００に接続されている。
【００６７】
インクジェットヘッド４２０は、基台３１０の短手方向に延伸する長尺状の部材であるベース部４２１と、ベース部４２１の下面側に複数列設されたサブヘッド４２２とを有する。図９は、インクジェットヘッド４２０の模式底面図である。インクジェットヘッド４２０の下面側には、複数の長尺状のサブヘッド４２２が、ベース部４２１の長手方向（すなわち基台３１０の短手方向であって図７におけるＹ軸方向）に沿って列設されている。各サブヘッド４２２には、サブヘッド４２２の長手方向に沿って、複数のノズル４２３が等間隔で列設されている。各サブヘッド４２２は、自身の長手方向中央部でベース部４２１に固定され、かつベース部４２１に対して当該中央部を中心に、基台３１０の上面に平行な平面において、相対回転可能である。インクジェット装置１０００では、サブヘッド４２２がベース部４２１に対して相対回転させることによって、インク塗布時のインクジェットヘッド４２０の長手方向（Ｙ軸方向）に沿ったノズル４２３の間隔（ピッチ）を調整することができる。このサブヘッド４２２の回転は、制御装置５００が吐出制御部４３０を介して本体部４１０内に設けられたサーボモータ４１１（図８参照）を制御駆動することにより行われる。
【００６８】
図１０は、サブヘッド４２２の模式断面図である。サブヘッド４２２には、その下面側の吐出口４２３ａからインクを吐出するノズル４２３が複数列設されている。また、サブヘッド４２２の上面側には、各吐出口４２３ａに対応する位置にピエゾ素子４２３ｂが配置され、各ピエゾ素子４２３ｂの下方には振動板４２３ｃを介して液室４２３ｄが配置されている。
【００６９】
各ピエゾ素子４２３ｂは、吐出制御部４３０を介して制御装置５００に接続され、制御装置５００からの信号に応じ、振動板４２３ｃを変形させる。振動板４２３ｃは、各ノズル４２３に共通する板状の部材であり、ピエゾ素子４２３ｂによって変形され、液室４２３ｄに圧力を加える。液室４２３ｄは、輸液チューブ６０４（図７参照）を介してインクタンク（不図示）から供給されたインクで満たされており、振動板４２３ｃによって圧力が加えられることで、吐出口４２３ａからインクが吐出される。すなわち、インクジェット装置１０００では、制御装置５００によって、各ノズル４２３のインクの吐出量及び吐出タイミングを独立して制御することができる。
【００７０】
なお、インク液滴は、厳密には、ノズル４２３の吐出口４２３ａから吐出されるのではあるが、以下、特に断りが無い限り、ノズル４２３からインク液滴が吐出されると表現する。
（撮像装置）
撮像装置７００は、例えばＣＣＤカメラであって、通信ケーブル６０５を介して制御装置５００と接続されている。撮像装置７００は、ＥＬ基板１０および測定用基板３０の上面を撮像し、その撮像データを制御装置５００へ送信する。撮像装置７００は、本体部４１０に取着されており、制御装置５００のＣＰＵ５０１がリニアモータ３２１ａ，３２１ｂ、サーボモータ３２４を制御駆動することにより、本体部４１０を介して台座３２３に固定された撮像装置７００を行方向および列方向に移動させることができる。
【００７１】
なお、本実施形態においては、撮像装置７００は本体部４１０に取着され、本体部４１０と共に行方向および列方向に移動可能な構成であるが、これに限られず、撮像装置がインクジェット装置とは独立した別の装置であってもよい。その場合、撮像装置がＥＬ基板１０および測定用基板３０の上面を撮像できるように、撮像装置を行方向および列方向に移動させる駆動手段を別個備えていてもよい。
【００７２】
［４．インク液滴着弾位置ずれ補正］
インクジェットヘッドのノズルには、製造誤差等の要因により、インク液滴が吐出される際に偏向して吐出されるといった個々のノズルに特有の癖のようなものが一般に存在する。そのため、インクジェットヘッドに備えられた複数のノズルからインク液滴を吐出する際に、一般にインク吐出方向にばらつきが生じ、その結果、インク液滴の着弾位置にばらつきが生じる。吐出されたインク液滴が、狙った塗布予定領域から外れて着弾すると、その分、塗布予定領域内に塗布されるインクの量が少なくなり、形成される層の膜厚が小さくなるため、サブピクセル間で品質にばらつきが生じる原因となる。さらには、インク液滴が狙った塗布予定領域から大きく外れて隣の列の塗布予定領域内に着弾してしまうと、混色を引き起こす原因にもなるため、このようなインク液滴着弾位置のばらつきを補正する必要がある。
【００７３】
以下、実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法におけるインク液滴着弾位置ずれ補正について説明する。
（概要）
本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法においては、ＥＬ基板１０にインクを塗布する際に、予め取得されて記憶部５０２に記憶されている位置ずれ補正情報を参照し、当該位置ずれ情報が示す位置ずれを補正するようにノズル４２３から塗布予定領域１５ｃ内にインク液滴を吐出する。上記位置ずれ情報は、以下のようにして取得する。
【００７４】
まず、ＥＬ基板１０における塗布予定領域１５ｃの配列パターンと共通したパターンで測定用セルが形成された測定用基板に対してインクジェット装置１０００を用いてインク液滴を吐出する。
次に、インク液滴が吐出された測定用基板を撮像装置７００で撮像する。
そして、撮像された画像内において、測定用セルの基準位置と対応するインク液滴の着弾位置との行方向（印刷方向）におけるずれの方向（位置ずれ方向）および距離（位置ずれ量）を測定する。当該測定を全ての測定用セルについて行い、全ての測定用セルについて測定した位置ずれ量および位置ずれ方向のデータを位置ずれ情報として記憶部５０２に記憶する。以下、位置ずれ量および位置ずれ方向を合わせて単に「位置ずれ」という。
【００７５】
以下、本実施形態におけるインク液滴着弾位置ずれ補正についてより詳細に説明する。
（測定用基板）
図１１は、ノズル４２３から測定用基板３０に対して吐出されたインク液滴が測定用基板３０上に着弾した状態を撮像装置７００で撮像した様子を示す模式平面図である。図１３（ａ）は、図１１のＢ−Ｂ線における測定用基板３０の模式断面図である。
【００７６】
図１３（ａ）に示すように、測定用基板３０は、基材３１と、基材３１上に形成された複数の測定用セル３３と、基材３１および測定用セル３３上を覆う撥液性の層３５とで構成されている。なお、ここでの「撥液性」とはインクに対する親和性が低いことを意味する。測定用基板３０が撥液性の層３５を有することにより、インク液滴が測定用基板３０上に着弾した際にインクが濡れ広がらず、インク液滴の着弾位置を撮像装置で観察しやすいという利点がある。
【００７７】
本実施形態においては、基材３１には、基材１１１と同じ（同種の）材料が用いられており、測定用セル３３には、画素電極１３（画素電極材料層１３０）と同じ（同種の）材料が用いられており、撥液性の層３５には、第１バンク１５ａ（第１バンク材料層１５０ａ）又は第２バンク１５ｂ（第２バンク材料層１５０ｂ）と同じ（同種の）材料が用いられている。測定用セル３３は、画素電極１３と同種の材料により、同じマスクを用い、同じ形成方法で形成される。
【００７８】
図１１に示すように、測定用基板３０は、行列状に形成された複数の測定用セル３３を有する。図１１においては、Ｒａ，Ｒｂ，Ｒｃ，Ｒｄの４つの列に属する複数の測定用セル３３の一部がそれぞれ示されており、列Ｒｂおよび列Ｒｃに属する測定用セル３３は、行方向の位置が揃っておらず、配列がずれて形成されている。即ち、列Ｒｂおよび列Ｒｃには、測定用セル３３の配列パターンに歪みが存在する。なお、図１３（ａ）に示すように、測定用セル３３の上には、撥液性の層３５が一様に形成されているが、撥液性の層３５は十分に薄いため、図１１では、下の測定用セル３３が透けて見えている。同図においては、測定用セル３３は実線で示している。
【００７９】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネル１００の製造方法においては、画素電極１３のパターニングと塗布予定領域１５ｃの形成には、同一のマスクが用いられる。また、測定用セル３３と画素電極１３とは同一のマスクを用いてパターニングされる。即ち、測定用セル３３のパターニングと塗布予定領域１５ｃの形成には、同一のマスクが用いられる。ここで、図１１に示す測定用セル３３の配列パターンの歪みは、マスクの不具合に起因するものである。従って、バンク１５が形成されて、塗布予定領域１５ｃが形成されると、図１２に示すように、塗布予定領域１５ｃの配列にも、測定用セル３３の配列パターン（画素電極１３の配列パターン）と共通する配列パターンの歪みが生じることとなる。図１１においては、マスクに不具合が存在せず、列Ｒｂおよび列Ｒｃにおいて配列パターンに歪みが存在しないと仮定した場合に想定される設計上の測定用セル３３Ｄを破線で示している。なお、列Ｒａおよび列Ｒｄでは、配列パターンに歪みが無く、設計上の測定用セルと実際の測定用セルの配置が一致しているので、設計上の測定用セルについては図示を省略している。
【００８０】
なお、図１１における測定用セル３３の配列パターンの歪みおよび、図１２における画素電極１３と塗布予定領域１５ｃの配列パターンの歪みについては、わかりやすくするために強調して描いている。
なお、基材３１、画素電極１３、撥液性の層３５が、有機ＥＬ表示パネル１００の製造に用いられるのと同じ材料で形成されていることに特に限定されるものではないが、このように、有機ＥＬ表示パネル１００の製造に用いられるのと同じ材料を用いて測定用基板３０が形成されていることにより、測定用基板３０を形成するために別の材料を用意しなくてもよいため、材料コストおよび材料管理の煩わしさを低減することができるという利点がある。また、測定用基板は、最上面に撥液性を有する平坦な層を有していれば、当該撥液性の層の下に、ＴＦＴ層、層間絶縁層、正孔注入層等を備えていてもよい。即ち、有機ＥＬ表示パネル１００を製造する途中の状態、例えば、図３（ｆ）や図４（ｂ）に示す状態の途中成果物を、測定用基板として用いてもよい。このようにすると、有機ＥＬ表示パネル１００の製造ラインにおいて、途中成果物を１つ抜き取って測定用基板として利用することができる。これにより、わざわざ測定用基板を形成するために、有機ＥＬ表示パネル１００の製造ラインを停止したり、測定用基板形成用に別の製造ラインを用意したりしなくてよいため、コスト抑制および生産性低下抑制に資することができる。
【００８１】
（位置ずれ情報の取得）
続いて、位置ずれ情報の取得方法について説明する。
先ず、測定用基板３０をインクジェット装置１０００にセットする。このとき、予め測定用基板の四隅にアラインメントマークＭ（図１４参照）を形成しておき、アラインメントマークを用いてアラインメントの調整を行ってもよい。
【００８２】
次に、測定用基板３０に対して、インクジェットヘッド４２０を行方向（Ｘ軸方向）に走査しながらインクジェットヘッド４２０のノズル４２３から測定用基板３０上にインク液滴を吐出する。
続いて、インク液滴が吐出された測定用基板３０を、撮像装置７００で撮像する。このとき、インク液滴を塗布する場合と同様に、制御装置５００のＣＰＵ５０１がリニアモータ３２１ａ，３２１ｂ、サーボモータ３２４を制御駆動することにより、台座３２３に固定された撮像装置７００を測定用基板３０に対して行方向および列方向に移動させて、測定用基板３０における表示予定部１０ｂ（図１４（ａ），図１４（ｂ）参照）に対応する領域に形成された測定用セル３３全てについて撮像を行う。そして、撮像された画像内において、各測定用セル３３について、測定用セル３３の基準位置と対応するインク液滴の着弾位置との行方向のずれ（距離およびずれの方向）を測定する。ここで、対応するインク液滴とは、本来ならば測定対象の測定用セル３３のエリア内に着弾するようにノズル４２３から吐出されたインク液滴のことを意味する。測定用セル３３の基準位置とは、測定用セル３３の列方向における両端部それぞれの行方向における中心同士を結ぶ中心線である。インク液滴の着弾位置とは、例えば、測定用セル３３の撥液性の層３５の上面に着弾したインク液滴（以下、「着弾インク」という。）を平面視した場合の面積中心であってもよいし、行方向における両端を結ぶ線と列方向における両端を結ぶ線との交点としてもよい。図１３（ａ）に示す断面図においては、測定用セル３３ａの基準位置ＸＤａと対応する着弾インクＩａの着弾位置Ｐａとの間の位置ずれ量は、Ｌａであって、位置ずれ方向は、印刷方向上流側（−Ｘ方向）である。測定用セル３３ｂの基準位置ＸＤｂと対応する着弾インクＩｂの着弾位置Ｐｂとの間の位置ずれ量は、Ｌｂであって、位置ずれ方向は、−Ｘ方向である。測定用セル３３ｃの基準位置ＸＤｃと対応する着弾インクＩｃの着弾位置Ｐｃとの間の位置ずれ量は、Ｌｃであって、位置ずれ方向は、−Ｘ方向である。測定用セル３３ｄの基準位置ＸＤｄと対応する着弾インクＩｄの着弾位置Ｐｄとの間の位置ずれ量は、Ｌｄであって、位置ずれ方向は、−Ｘ方向である。なお、図１１および図１３（ａ）においては、着弾インクＩａ，Ｉｂ，Ｉｃ，Ｉｄは何れもノズル４２３ｓから吐出されたものである。
【００８３】
以上説明した方法により、全ての測定用セル３３についてそれぞれ測定した位置ずれ量および位置ずれ方向のデータを、位置ずれ情報として記憶部５０２に記憶する。
上記測定用セル３３の基準位置と対応するインク液滴の着弾位置との行方向のずれの測定において、インクジェットヘッド４２０のノズル４２３から測定用基板３０上にインク液滴を吐出する際には、特に限定されるわけではないが、本実施形態においては、設計上の測定用セル３３Ｄの基準位置に狙ってインク液滴を吐出する。ここで、設計上の測定用セル３３Ｄの基準位置に狙ってインク液滴を吐出するとは、インクジェットヘッド４２０が有する全てのノズル４２３に癖が無い（吐出方向のばらつきが無い）と仮定した場合に、設計上の測定用セル３３Ｄの基準位置にインク液滴が着弾するタイミングで各ノズル４２３からインク液滴を吐出するという意味である。このように設計上の測定用セル３３Ｄの基準位置に狙ってインク液滴を吐出する方式を、以下、「初期モード」という。
【００８４】
例えば、ノズル４２３ｓはインク液滴を印刷方向上流側に偏向して吐出する癖を有しているため、着弾インクＩａ，Ｉｂ，Ｉｃ，Ｉｄは、何れも設計上の測定用セル３３Ｄの基準位置（ＸＤａ，ＸＤｂ，ＸＤｃ，ＸＤｄ）よりも印刷方向上流側にずれた着弾位置（Ｐａ，Ｐｂ，Ｐｃ，Ｐｄ）に着弾している。
また、測定用セル３３ａと３３ｄは、それぞれ設計上の測定用セルの配置と一致しているため、ここでは、ずれ量は略等しくなり、ＬａとＬｄは略等しい。
【００８５】
（位置ずれ補正）
図１３（ｂ）は、初期モードでインク液滴を吐出する場合に、ノズル４２３ｓのピエゾ素子４２３ｂに印加するパルス信号を模式的に表す図である。図１３（ｃ）は、取得された位置ずれ情報に含まれる位置ずれを補正する補正モードでインク液滴を吐出する場合に、ノズル４２３ｓのピエゾ素子４２３ｂに印加するパルス信号を模式的に表す図である。図１２は、補正モードで吐出されたインク液滴がＥＬ基板１０上に着弾した状態を示す模式平面図である。図１３（ｄ）は、図１２のＣ−Ｃ線におけるＥＬ基板１０の模式断面図である。なお、図１２および図１３（ｄ）においては、着弾したインクが濡れ広がる前の状態を示している。
【００８６】
なお、図１３（ｂ）においては、わかりやすくするために、パルスのタイミングと設計上の測定用セルの基準位置（ＸＤａ，ＸＤｂ，ＸＤｃ，ＸＤｄ）とを揃えて図示しているが、実際には、ノズル４２３の吐出口４２３ａから測定用基板３０の上面までインク液滴が飛行（落下）するのに要する時間分だけ測定用セルの基準位置よりも印刷方向上流側でパルスは印加されている。
【００８７】
補正モードでは、位置ずれ量に相当する距離をインクジェットヘッドが移動するのに要する時間の分だけ、ピエゾ素子４２３ｂにパルス信号を印加するタイミングを初期モードからずらすことにより、位置ずれ補正を行う。具体的には、例えば、測定用セル３３ｂに狙って吐出されたインク液滴が、基準位置ＸＡｂよりも印刷方向上流側の着弾位置Ｐｂに着弾する場合、これを基準位置ＸＡｂに着弾させるために、補正モードでは、インクジェットヘッドの移動速度をｖとした場合、図１３（ｃ）に示すように、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからｔｂ＝Ｌｂ／ｖとなるような時間ｔｂだけ後ろにずらしたタイミングでノズル４２３ｓのピエゾ素子４２３ｂにパルス信号を印加する。より具体的な一例をあげると、ｖ＝５０ｍｍ／ｓｅｃで、Ｌｂ＝５μｍの場合、ｔｂ＝０．１μｓｅｃである。
【００８８】
このようにしてＥＬ基板１０に対して補正モードでインク液滴を吐出することにより、位置ずれが補正され、吐出されたインク液滴は基準位置ＸＡｂに、より近接した位置に着弾する。具体的には、例えば、図１３（ｄ）に示すように、着弾インクＩＫｂの着弾位置は、着弾インクＩｂの着弾位置Ｐｂよりも基準位置ＸＡｂに近接している。即ち、初期モードでは基準位置ＸＡｂから大きく外れて塗布予定領域１５ｃｂに相当する領域の外側に着弾していたのが、補正モードでは、吐出されたインク液滴を基準位置ＸＡｂに近接した塗布予定領域１５ｃｂ内に着弾させることができる。なお、補正モードでインク液滴を吐出する場合、吐出されたインク液滴の着弾位置が基準位置と一致しているのが最も好ましいが、一致していなくても、開口部内に収まる範囲内で基準位置に近接した位置であればよい。以下、インク液滴の着弾位置が基準位置と一致している場合も含めて、インク液滴の着弾位置が基準位置に近接していると表現する。
【００８９】
同様に、塗布予定領域１５ｃａ内の基準位置ＸＡａを狙ってインク液滴を吐出する場合、補正モードでは、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからｔａ＝Ｌａ／ｖとなるような時間ｔａだけ後ろにずらしたタイミングでノズル４２３ｓのピエゾ素子４２３ｂにパルス信号を印加することにより、着弾インクＩＫａの着弾位置は、基準位置ＸＡａにより近接した位置となり、インク液滴を塗布予定領域１５ｃａ内に着弾させることができる。塗布予定領域１５ｃｃ内の基準位置ＸＡｃを狙ってインク液滴を吐出する場合、補正モードでは、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからｔｃ＝Ｌｃ／ｖとなるような時間ｔｃだけ後ろにずらしたタイミングでノズル４２３ｓのピエゾ素子４２３ｂにパルス信号を印加することにより、着弾インクＩＫｃの着弾位置は、基準位置ＸＡｃに近接した位置となり、インク液滴を塗布予定領域１５ｃｃ内に着弾させることができる。塗布予定領域１５ｃｄ内の基準位置ＸＡｄを狙ってインク液滴を吐出する場合、補正モードでは、初期モードにおけるパルス信号印加のタイミングからｔｄ＝Ｌｄ／ｖとなるような時間ｔｄだけ後ろにずらしたタイミングでノズル４２３ｓのピエゾ素子４２３ｂにパルス信号を印加することにより、着弾インクＩＫｄの着弾位置は、基準位置ＸＡｄに近接した位置となり、インク液滴を塗布予定領域１５ｃｄ内に着弾させることができる。
【００９０】
ＥＬ基板１０に補正モードでインクを塗布する場合、制御装置５００のＣＰＵ５０１は、記憶部５０２に記憶された位置ずれ情報を参照し、位置ずれ情報に含まれる各測定用セル３３についての位置ずれを補正するタイミングで、各測定用セル３３に対応する塗布予定領域１５ｃに向けて、対応するノズル４２３のピエゾ素子４２３ｂにパルス信号を印加してインク液滴を吐出させる。
【００９１】
上記吐出タイミングの補正は、必ずしも全てのインク液滴の吐出に対して行う必要はなく、取得された位置ずれ情報において、着弾位置が測定用セル３３から外れている（即ち、着弾位置が測定用セル３３の外側に位置している）インク液滴について、少なくとも行えばよい。このとき、撮像画像において、着弾したインクの一部が測定用セル３３の輪郭に重なっているものについては、着弾位置が測定用セル３３の内側であっても測定用セル３３から外れていると判断して吐出タイミング補正の対象に含めてもよい。また、測定用セル３３の輪郭と塗布予定領域１５ｃの輪郭（即ちバンク１５の開口部の内周縁）とが一致していない場合、例えば、平面視した際に測定用セル３３（画素電極１３）の輪郭の内側に塗布予定領域１５ｃの輪郭が入っている場合には、その分を考慮に入れて、着弾位置が測定用セル３３から外れているかどうかの判断の境界を、測定用セル３３のより内側に定めてもよい。
【００９２】
また、着弾したインク液滴が対応する測定用セル３３の内側に入っている（即ち、測定用セル３３からはみ出していない）場合であっても、着弾位置が対応する測定用セル３３の基準位置からずれているインク液滴の全部に対して吐出タイミングの補正を行ってもよい。着弾位置が対応する測定用セル３３の基準位置と一致しているものについては、もちろん吐出タイミングの補正を行う必要はない。補正モードでのインク液滴の吐出には、一部のインク液滴の吐出については、このような吐出タイミングの補正を行わないインク液滴の吐出も含まれる。
【００９３】
[５．実施形態１のまとめ]
本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法においては、発光層や正孔輸送層といった層を形成する際に、これらの層を形成するための材料を含むインクをインクジェットヘッドのノズルからＥＬ基板の塗布予定領域に吐出して塗布する。
ここで、塗布予定領域へのインク塗布に先立って、塗布予定領域の配列パターンと共通する配列パターンで測定用セルが形成された測定用基板に対してインクジェットヘッドのノズルからインク液滴を吐出し、インクが着弾した測定用基板を撮像装置で撮像して、撮像画像内においてインク液滴の着弾位置と対応する測定用セルの基準位置との位置ずれを測定し、測定された各測定用セルについての位置ずれのデータを位置ずれ情報として記憶部に記憶させておく。
【００９４】
そして、ＥＬ基板の塗布予定領域へのインク塗布の際には、記憶部に記憶されている位置ずれ情報を参照して、各塗布予定領域に対応する測定用セルに係る位置ずれを補正するようにインクジェットヘッドのノズルからインク液滴を吐出する。
これにより、ＥＬ基板の面内の塗布領域の配列パターンの局所的な歪みに対応したインク液滴の位置ずれ補正を行うことができる。
【００９５】
さらには、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法においては、同一撮像画像内において測定用セルの基準位置と対応するインクの着弾位置との位置情報（座標データ）を取得して比較し、位置ずれ量を算出するため、得られた位置ずれ量が撮像装置の動作の再現性の影響を受けない。
一方、インク液滴の位置ずれ情報を複数回の撮像を行って取得する場合には、得られた位置ずれ量に、撮像装置の動作の再現性の影響による誤差が含まれることになる。
【００９６】
それは次のような理由からである。例えば、次のような場合を想定する。先ず、インクが塗布されていないＥＬ基板を用いて塗布予定領域を撮像装置により撮像して、各塗布予定領域のＥＬ基板上の位置（座標データ）を記憶部に記憶させる。次にＥＬ基板又は検査用基板（必ずしも塗布予定領域やそれに相当する測定用セルが形成されていなくてもよい）にインク液滴を吐出した後の状態を撮像装置で撮像して、インク液滴の着弾位置（座標データ）を記憶部に記憶させる。そして、双方の座標データを比較して位置ずれ量を算出する。このような方法の場合には、塗布予定領域の座標データを取得するとき（１回目の撮像）と、インク液滴の着弾位置の座標データを取得するとき（２回目の撮像）とで、撮像装置を厳密に同じ動作で動かすことは非常に困難である。それは、リニアモータやサーボモータが１回目の撮像と２回目の撮像とで厳密に同じ位置において同じスピードで駆動されているとは限らず、スピードの微小な揺らぎも存在するからである。従って、このような撮像装置の動作の微小な差異による誤差が得られた位置ずれ量に含まれることとなる。加えて、１回目の撮像と２回目の撮像とで、装置が設置されている場所の温度が変化すると、ガイドシャフトや移動架台に微小な伸縮が生じ、双方の座標データに微小なずれが生じることが考えられるからである。
【００９７】
本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、上記のような座標データの微小なずれが位置ずれ量に含まれないため、より正確な位置ずれ補正を行うことができる。これは、高精細化により塗布予定領域がより小さくなり、隣り合う塗布予定領域間の間隔がより狭くなっている場合に、なおさら好適である。
≪実施形態２≫
実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法においては、マスクの歪みに起因する塗布予定領域の配列パターンの面内における歪みに対して、より正確に位置ずれ補正を行うことができるという効果があった。
【００９８】
しかし、ＥＬ基板は、塗布予定領域を規定するバンクおよびバンクよりも下層の各層を形成する際に、エッチングや焼成等の様々な工程を経ており、ＥＬ基板には、それぞれ伸びや縮み、歪み(ＳＫＥＷ)等が生じる場合があり、その程度は個々のＥＬ基板によって異なる。このような言わば歪みの固体差に対しては、実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法では、対応することができない。
【００９９】
そこで、実施形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法においては、実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法に加えて、以下に説明する追加の位置ずれ補正を行う。
実施形態２においては、個々のＥＬ基板の伸びに対応して位置ずれ補正を行う場合を例に、図１４（ａ）および１４（ｂ）を参照しながら説明する。
なお、実施形態１に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法と共通する部分については実施形態１で既に説明しているため、実施形態２では、上記追加の位置ずれ補正に係る部分にフォーカスして説明する。また、実施形態１と同じ構成要素については、同符号を付し、その説明については実施形態１で既に説明している。以下、各変形例においても、同様である。
【０１００】
図１４（ａ）に示すように、ＥＬ基板１０は、画像が表示される予定の領域である表示予定部１０ｂを中央に有し、その外側に、画像を表示しない予定の領域である非表示予定部１０ｃを有する。表示予定部１０ｂには、複数の塗布予定領域１５ｃが形成されている。
先ず、インクジェットヘッド４２０（図９参照）のノズル４２３（図９参照）からＥＬ基板１０の非表示予定部１０ｃ上に補正モードで複数のインク液滴を吐出する。本実施形態においては、表示予定部１０ｂの列方向における両側の非表示予定部１０ｃに対して、それぞれ１行分ずつインク液滴の吐出を行う。
【０１０１】
次に、撮像装置７００（図７参照）により吐出されたインク液滴が非表示予定部１０ｃに着弾した様子を撮像する。このとき、表示予定部１０ｂに形成された塗布予定領域１５ｃの行のうち、非表示予定部１０ｃに最も近い行（即ち、列方向において最も端に位置する行）である補正参照行Ｒｆに属する塗布予定領域１５ｃと着弾インクとが同じ画像内に収まるように撮像する。補正参照行Ｒｆに属する塗布予定領域１５ｃは、撮像対象の着弾インクに対応する塗布予定領域１５ｃのみが同じ画像内に収まっていればよい。ここで、着弾インクに対応する塗布予定領域１５ｃとは、補正参照行Ｒｆに属する複数の塗布予定領域１５ｃのうち、非表示予定部１０ｃに塗布予定領域１５ｃが形成されていると仮定した場合に、撮像対象の着弾インクが着弾予定であった非表示予定部１０ｃの仮定の塗布予定領域１５ｃと同じ列に属する塗布予定領域１５ｃのことである。
【０１０２】
続いて、撮像画像内において、着弾インクの基準位置の座標データと補正参照行Ｒｆの対応する塗布予定領域１５ｃの基準位置の座標データを取得して、位置ずれ量と位置ずれ方向を算出する。これを、非表示予定部１０ｃの各着弾インクについて行う。
図１４（ａ）に示すように、ＥＬ基板１０には、印刷方向下流側（Ｘ方向側）の端部に伸びが生じており、補正参照行Ｒｆに属する複数の塗布予定領域１５ｃのうち、印刷方向下流側の端部に位置する３つの塗布予定領域１５ｃ（１５ｃ１，１５ｃ２，１５ｃ３）については、下流側ほど間隔が広くなっている。そのため、着弾インクＩＮ１の基準位置Ｐ１と塗布予定領域１５ｃ１の基準位置との間には、位置ずれ量Ｇ１が存在し、位置ずれ方向は印刷方向上流側（−Ｘ方向）である。着弾インクＩＮ２の基準位置Ｐ２と塗布予定領域１５ｃ２の基準位置との間には、位置ずれ量Ｇ２が存在し、位置ずれ方向は印刷方向上流側（−Ｘ方向）である。着弾インクＩＮ３の基準位置Ｐ３と塗布予定領域１５ｃ３の基準位置との間には、位置ずれ量Ｇ３が存在し、位置ずれ方向は印刷方向上流側（−Ｘ方向）である。なお、その他の着弾インクと対応する塗布予定領域１５ｃとの間には、位置ずれは生じていない。
【０１０３】
上記の方法により得られた非表示予定部１０ｃの各着弾インクについての追加位置ずれ情報を記憶部５０２（図８参照）に記憶する。
このように、実施形態１では、測定用基板３０を用いて位置ずれ情報を取得したが、実施形態２では、実際に有機ＥＬ表示パネル１００の製造に供するＥＬ基板１０を用いて追加位置ずれ情報を取得する。
【０１０４】
そして、図４（ｄ）および図４（ｅ）に示す、正孔輸送層１６および発光層１７の形成の際には、記憶部５０２に記憶されている実施形態１の方法で得られた位置ずれ情報と実施形態２の方法で得られた追加位置ずれ情報とを参照し、実施形態１の方法で得られた位置ずれ情報に基づく位置ずれ補正に加えて、上記実施形態２の方法で得られた追加位置ずれ情報に基づく位置ずれ補正を行う追加補正モードでインクジェットヘッド４２０のノズル４２３からインク液滴を吐出し、ＥＬ基板１０の塗布予定領域１５ｃ内にインクを塗布する。その結果、図１４（ｂ）に示すように、塗布予定領域１５ｃ１を狙って吐出されたインク液滴は、塗布予定領域１５ｃ１内に着弾し（着弾インクＩＫ１）、塗布予定領域１５ｃ２を狙って吐出されたインク液滴は、塗布予定領域１５ｃ２内に着弾し（着弾インクＩＫ２）、塗布予定領域１５ｃ３を狙って吐出されたインク液滴は、塗布予定領域１５ｃ３内に着弾する（着弾インクＩＫ３）。
【０１０５】
そして、補正参照行以外の行に属する塗布予定領域１５ｃについても、補正参照行におけるそれぞれの塗布予定領域と同一の列に属する塗布予定領域に対して対応する補正参照行の塗布予定領域に対して行う位置ずれ補正を適用する。
ＥＬ基板の伸びや縮みが行方向にのみ発生し、列方向には伸びや縮みが無い場合や、列方向に長尺なラインバンクを有するＥＬ基板の場合には、同一列に属する全ての塗布予定領域１５ｃに対して同一の位置ずれ補正を適用しても問題ないため、補正参照行Ｒｆ以外の表示予定部１０ｂの塗布予定領域１５ｃ全体に対して位置ずれ補正を有効に実施することができる。
【０１０６】
実施形態２に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法によると、個々のＥＬ基板１０について追加位置ずれ情報を取得して、追加補正モードで塗布予定領域１５ｃ内にインクを塗布することにより、個々のＥＬ基板１０で異なる伸び、縮み、歪み等に起因する位置ずれを個々のＥＬ基板１０についてそれぞれ補正することができるため、より確実にインク液滴を狙った塗布領域内に着弾させることができる。
【０１０７】
これにより、各サブピクセルにおける発光層および機能層の膜厚がより均一化され、また混色の発生をより低下させることができるため、より高品質な有機ＥＬ表示パネルを生産することができる。また、高精細化により塗布予定領域がより小さくなり、隣り合う塗布予定領域間の間隔がより狭くなっている有機ＥＬ表示パネルを製造する場合に、本実施形態に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法はさらに好適である。
【０１０８】
≪変形例≫
以上、本発明を実施形態１および実施形態２に基づいて説明してきたが、本発明が上述の実施形態に限定されないのは勿論であり、以下のような変形例を実施することが出来る。なお、説明の重複を避けるため、実施形態と同じ構成要素については、同符号を付して、その説明を省略する。
【０１０９】
（変形例１）
実施形態２においては、非表示予定部１０ｃに、１行分のインク液滴を吐出したが、これに限られない。例えば、行方向における両端部に１滴ずつ、または数滴ずつインク液滴を吐出し、行方向の中央部にインク液滴を吐出しなくてもよい。行方向における両端部それぞれに少なくとも１滴ずつインク液滴を吐出すれば、ＥＬ基板１０全体の行方向の伸びや縮み、歪みを検出することができ、検出された伸び、縮み、歪みに起因する位置ずれを補正することができる。
【０１１０】
（変形例２）
実施形態２においては、非表示予定部１０ｃに、１行分全部のインク液滴を吐出したが、これに限られず、間引いてもよい。
なお、吐出する液滴の数が多いほど、ＥＬ基板１０の行方向における局所的な伸びや縮みを検出することができるという利点がある。
【０１１１】
（変形例３）
実施形態２においては、表示予定部１０ｂの列方向における両側の非表示予定部１０ｃにそれぞれインク液滴を吐出したが、これに限られず、列方向における一方の非表示予定部１０ｃにのみインク液滴を吐出してもよい。一方の非表示予定部１０ｃにのみインク液滴を吐出する場合であっても、ＥＬ基板１０の列方向における伸びや縮みを検出することはできる。ただし、この場合、ＥＬ基板１０の歪みは検出することができない。
【０１１２】
（変形例４）
実施形態１および２においては、ＥＬ基板１０および測定用基板３０がラインバンクを有する場合を例に説明したが、これに限られない。本発明の一態様に係る有機ＥＬ表示パネルの製造方法は、ＥＬ基板および測定用基板がピクセルバンクを有する場合にも適用可能である。
【０１１３】
以上、本発明に係る有機発光デバイスおよび表示装置について、実施形態および変形例に基づいて説明したが、本発明は、上記の実施形態および変形例に限定されるものではない。上記実施形態および変形例に対して当業者が思いつく各種変形を施して得られる形態や、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で各実施形態および各変形例における構成要素及び機能を任意に組み合わせることで実現される形態も本発明に含まれる。
【産業上の利用可能性】
【０１１４】
本発明は、高品質の有機ＥＬ表示パネルを製造するのに有用である。
【符号の説明】
【０１１５】
１０  ＥＬ基板
１０ｂ  表示予定部
１０ｃ  非表示予定部
１３  画素電極
１５  バンク（隔壁層）
１５ａ  第１バンク
１５ｂ  第２バンク
１５ｃ  塗布予定領域
１６  正孔輸送層（機能層）
１７  発光層
３０  測定用基板
３３  測定用セル
３５  撥液性の層
５０２  記憶部
４２３  ノズル
Ｒｆ  補正参照行
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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