(57)【要約】【課題】クズのような難防除雑草を防除することができる防草方法を提供する。【解決手段】本防草方法は、紫外線を利用して蔓性の難防除雑草の枯殺及び生長制御の少なくとも一方を実現する。例えば、難防除雑草に対して直接紫外線を照射することで、当該難防除雑草を枯殺したり、難防除雑草の侵入を回避すべき空間に対して紫外線を照射することで、当該難防除雑草の生長を制御したりする。このように、蔓性の難防除雑草を防草対象とし、当該難防除雑草の枯殺や生長制御を行う。【選択図】      図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外線を利用して蔓性の難防除雑草の枯殺及び生長制御の少なくとも一方を実現することを特徴とする防草方法。
【請求項２】
前記難防除雑草の侵入を回避すべき空間である雑草侵入回避空間に対して、前記難防除雑草の侵入防止現象が得られる前記紫外線を照射することを特徴とする請求項１に記載の防草方法。
【請求項３】
前記難防除雑草の侵入を回避すべき空間である雑草侵入回避空間の近傍の地表に前記難防除雑草が現出していない状態で、当該地表に対して、前記難防除雑草の侵入防止現象が得られる前記紫外線を照射することを特徴とする請求項１又は２に記載の防草方法。
【請求項４】
前記難防除雑草に対して、当該難防除雑草の枯殺効果が得られる前記紫外線を直接照射することを特徴とする請求項１に記載の防草方法。
【請求項５】
生育初期の前記難防除雑草に対して、当該難防除雑草の枯殺効果が得られる前記紫外線を直接照射することを特徴とする請求項４に記載の防草方法。
【請求項６】
前記難防除雑草は、通常生育時の草丈が少なくとも１ｍに達する雑草であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の防草方法。
【請求項７】
前記難防除雑草は、葛であることを特徴とする請求項６に記載の防草方法。
【請求項８】
前記紫外線は、２００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の波長を有することを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の防草方法。
【請求項９】
前記紫外線は、発光強度が最大となる波長が２３０ｎｍ近傍であることを特徴とする請求項８に記載の防草方法。
【請求項１０】
２００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の波長を有する紫外線を利用して、植物の枯殺及び生長制御の少なくとも一方を実現することを特徴とする防草方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防除が困難な草種である難防除雑草を枯殺又は生長制御する防草方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、雑草を枯殺したり雑草の生長を抑制したりする方法としては、作業者が機械的に雑草を刈り取ったり、除草剤を用いて雑草を枯殺したりする方法が利用されている。
ところが、雑草の処理が求められる場所（雑草の侵入を回避すべき場所）は膨大であるため、作業者による機械的な刈り取りを行う場合、多数の作業員が必要となると共に、作業員の雑草処理工数が膨大となる。また、除草剤を用いる方法は、高い防草効果を発揮するが、散布時の風による飛散や散布後の降雨による水系への流れ込みによって、防草対象外の有用作物に薬害を生じさせるおそれがあると共に、魚類を始めとした野生生物に悪影響を及ぼすおそれもある。
【０００３】
そこで、作業者による機械的な刈り取りや除草剤の散布を行うことなく雑草を枯殺したり成長を抑制したりする方法として、例えば特許文献１に記載の技術がある。この技術は、人工紫外線を雑草に照射して、当該雑草を枯殺又は成長抑制する方法である。具体的には、マメ科リョクトウの子葉や、葉の広い各種広葉種に対して、波長２８０ｎｍ〜３１５ｎｍの近紫外光（ＵＶ−Ｂ）を照射することで、高い防草効果が得られることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１１−２０５９６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、上記特許文献１に記載の技術にあっては、単にリョクトウの子葉や、スベリヒユ等の各種広葉種を供試雑草として防草効果の実効性を実証しているだけであり、蔓性の難防除雑草に対する防除については全く考慮されていない。
例えば、マメ科クズ属に属し蔓性の多年草である葛（以下、単に「クズ」という）は、伸び始めたばかりの樹木の枝に巻き付くと、それによって樹木の枝が曲がってしまうこともあるため、人工林においては、若木の生長を妨げる有害植物として認識される場合が多い。また、クズは、刈り取りを行わない場合は短期間で低木林を覆い尽くすほど成長が早い上、根茎により増殖する多年草であるため、地上部のつるを刈り取っても地下に根茎が残り、すぐにつるが再生することから、一たび生育すると除去することが大変困難である。このような理由から、クズは難防除雑草として認識されている。
【０００６】
上記従来の方法で防草効果が得られるものとして開示されている雑草種は、紫外光を照射しなかった場合における生育後の草丈が数十ｃｍ程度の雑草である。そのため、クズのように地下根茎によって繁殖し、草丈が最大で数十ｍにも達する蔓性の難防除雑草に対しては、高い防草効果が得られないおそれがある。
そこで、本発明は、クズのような難防除雑草を適切に防除することができる防草方法を提供することを課題としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するために、本発明に係る防草方法の一態様は、紫外線を利用して蔓性の難防除雑草の枯殺及び生長制御の少なくとも一方を実現する。
このように、蔓性の難防除雑草を防草対象とし、当該難防除雑草の枯殺や生長制御を実現する。したがって、難防除雑草の蔓が有用植物に巻き付いたり、難防除雑草の繁茂により人間の安全性、快適性、利便性等が阻害されたりするのを防止することができる。
さらにまた、上記の防草方法において、前記難防除雑草の侵入を回避すべき空間である雑草侵入回避空間に対して、前記難防除雑草の侵入防止現象が得られる前記紫外線を照射するようにしてもよい。
【０００８】
これにより、雑草侵入回避空間外に生育する難防除雑草の生長を制御し、当該難防除雑草が雑草侵入回避空間に侵入するのを防止することができる。このように、難防除雑草に直接紫外線を照射することなく、難防除雑草の生長制御が可能である。したがって、例えば、施設構造物が存在する空間を雑草侵入回避空間に設定すれば、難防除雑草の侵入により施設構造物の機能が損なわれるのを防止することができる。また、施設構造物の近傍の空間を雑草侵入回避空間に設定すれば、雑草の侵入により施設構造物の操作に支障をきたすのを防止することができる。
【０００９】
また、上記の防草方法において、前記難防除雑草の侵入を回避すべき空間である雑草侵入回避空間の近傍の地表に前記難防除雑草が現出していない状態で、当該地表に対して、前記難防除雑草の侵入防止現象が得られる前記紫外線を照射するようにしてもよい。
これにより、雑草侵入回避空間近傍の地下に存在する難防除雑草（地表に現出する前の難防除雑草）が地表に現出しないようにすることができる。また、蔓性の難防除雑草が地表を這って生育する過程において、雑草侵入回避空間近傍の地表を回避して生育させることもできる。このように、難防除雑草に直接紫外線を照射することなく、難防除雑草の生長制御が可能である。したがって、難防除雑草が雑草侵入回避空間に侵入するのを効果的に抑制することができる。
【００１０】
さらに、雑草侵入回避空間に既に難防除雑草が繁茂している場合であっても、当該難防除雑草の枯殺効果が得られる前記紫外線を当該難防除雑草に直接照射することで、雑草侵入回避空間に元々繁茂していた雑草の枯殺と、難防除雑草が雑草侵入回避空間に侵入することを防止することの二重の効果を得ることができる。
また、上記の防草方法において、前記難防除雑草に対して、当該難防除雑草の枯殺効果が得られる前記紫外線を直接照射するようにしてもよい。これにより、防草対象である難防除雑草を効果的に枯殺することができる。
【００１１】
さらに、上記の防草方法において、生育初期の前記難防除雑草に対して、当該難防除雑草の枯殺効果が得られる前記紫外線を直接照射するようにしてもよい。このように、生育初期の難防除雑草に対して紫外線を直接照射することで、大掛かりな設備（多数の紫外線光源やそれらの電源）を必要とすることなく、防草対象である難防除雑草を効果的に枯殺することができる。
さらに、上記の防草方法において、前記難防除雑草は、通常生育時の草丈が少なくとも１ｍに達する雑草であってもよい。このように、生育時の草丈が１ｍ以上となるような繁殖力の旺盛な雑草についても高い防草効果を得ることができる。
【００１２】
また、上記の防草方法において、前記難防除雑草は、葛であってもよい。このように、早期に草丈が数十ｍにも達するような繁殖力の旺盛な葛についても、高い防草効果を得ることができる。
さらにまた、上記の防草方法において、前記紫外線は、２００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の波長を有していてもよい。このように、波長が２００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である紫外線（ＵＶ−Ｃ）を用いることで、難防除雑草の枯殺や生長制御を効果的に行うことができる。
【００１３】
また、上記の防草方法において、前記紫外線は、発光強度が最大となる波長が２３０ｎｍ近傍であってもよい。例えば、キセノンガスを封入した希ガス蛍光ランプを用いれば、ピーク波長が２３０ｎｍで、波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍの範囲に連続したスペクトルを有する紫外光を得ることができる。このように、実用的な光源を用いて難防除雑草に対する高い防草効果が得られる。
さらに、本発明に係る防草方法の一態様は、２００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下の波長を有する紫外線を利用して、植物の枯殺及び生長制御の少なくとも一方を実現する。
このように、波長が２００ｎｍ以上２８０ｎｍ以下である紫外線（ＵＶ−Ｃ）を用いることで、植物の枯殺や生長制御を効果的に行うことができる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明の防草方法では、蔓性の難防除雑草を防草対象とし、紫外線を利用して当該難防除雑草の枯殺や生長制御を効果的に実現することができる。したがって、繁殖力の旺盛な難防除雑草による被害を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態における防草方法の一例を示す図である。
【図２】ランプから放射される光の波長分布を示す図である。
【図３】クズに対してＵＶ照射した場合の実験初日の状態を示す図である。
【図４】ＵＶ照射有りの場合の実験結果を示す図である。
【図５】クズが現出していない地表に対してＵＶ照射した場合の実験初日の状態を示す図である。
【図６】生育初期のクズに対してＵＶ照射した場合の実験初日の状態を示す図である。
【図７】ＵＶ照射無しの場合の実験初日の状態を示す図である。
【図８】ＵＶ照射無しの場合の実験結果を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態を図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態における防草方法の一例を示す図である。
本実施形態では、紫外線照射装置１０から放射する紫外線を利用し、当該紫外線を難防除雑草２１ａに照射して難防除雑草２１ａを枯殺したり、当該紫外線を照射する紫外線照射空間Ｓ外に生育する難防除雑草２１ｂを生長制御したりする。
ここで、難防除雑草２１ａ，２１ｂとは、農地、林地、公共交通機関及び公共施設等において防除が困難であるとして一般に認識される雑草であり、各種防草手段を実施せずに放置した通常生育時の草丈が１ｍ以上（最大で数十ｍ）にも達する蔓性の雑草のことをいう。難防除雑草２１ａ，２１ｂとしては、例えば、マメ科クズ属に属し蔓性の多年草である葛（以下、単に「クズ」という）がある。
なお、本明細書において、蔓性の難防除雑草の草丈とは、構造物等に撒き付いた状態における該構造物の鉛直方向全長を意味する。
【００１７】
紫外線照射装置１０は、紫外光光源（ランプ）１１と、コントローラ１２とを備える。
ランプ１１は、難防除雑草を枯殺又は生長制御可能な紫外線を放射する。ここで、ランプ１１が放射する紫外線は、例えば、２００ｎｍ〜２８０ｎｍの波長を有する紫外線（ＵＶ−Ｃ）である。
例えば、ランプ１１としては、図２に示すように、発光強度が最大となる波長（ピーク波長）が２３０ｎｍであり、波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍの範囲に連続したスペクトルを有する希ガス蛍光ランプを用いることができる。図２において、横軸は波長λ［ｎｍ］、縦軸は発光強度Ｉ（任意単位）である。ここで、上記希ガス蛍光ランプは、石英ガラスからなり、内部にキセノンを含む放電ガスが封入された発光管と、該発光管の外部に配置された一対の電極と、発光管の内面に形成された蛍光体層とを備える蛍光ランプである。
【００１８】
コントローラ１２は、ランプ１１から難防除雑草２１ａに対して照射する紫外線の照射タイミング、照射時間、照射強度［μＷ／ｃｍ2］、照射量［Ｊ／ｃｍ2］等の照射条件を制御する。
なお、紫外線の照射条件は、防草対象の難防除雑草の種類等に応じて適宜設定する。特に、ＵＶ−Ｃ照射は人体に対して悪影響を及ぼすおそれがあるため、コントローラ１２は、紫外線照射空間Ｓ内に作業者等が立ち入らない時間帯にＵＶ−Ｃ照射するようにランプ１１を制御するものとする。
【００１９】
例えば、クズは、刈り取りを行わない場合、短期間で低木林を覆い尽くすまでに生長する。また、クズは、根茎により増殖する多年草であるため、地上部のつるを刈り取っても地下に根茎が残り、すぐにつるが再生することから、一たび生育すると除去することが大変困難である。
クズは、伸び始めたばかりの樹木の枝に巻き付くと、それによって樹木の枝が曲がってしまうこともあるため、人工林においては、若木の生長を妨げる有害植物として認識される場合が多い。
【００２０】
また、上記した人工林のみならず、公共交通機関等の各種機器にクズが撒き付くことにより被害が生じることも問題視されている。クズは、蔓性であり、しかも生育時の草丈が数十ｍ以上に達するため、例えば電車や幹線道路等の各種交通機関の信号機等に撒き付くことにより、信号機等の視認性が損なわれ、安全性が阻害される。
また、工場内パイプラインや送電線鉄塔等のインフラにクズが撒き付くことにより、これらの本来の機能が損なわれたり、点検・管理に支障をきたしたりすることが懸念される。その他、公園、緑地等の公共施設においては、クズが繁茂することにより憩いの場としての快適性が阻害されるとともに、街灯等にクズが撒きつくことで照明機能が損なわれ、特に夜間の治安が悪化する等の問題がある。
【００２１】
クズに対しては、除草剤、防草シート及び草刈による対策が講じられているものの、現状では十分な対策が講じられているとは言い難い。まず、クズは除草剤の効き目が低い難防除雑草である上に、除草剤を散布する除草方法を選択した場合は生態系への悪影響を無視することができない。
また、防草シートは、強風により飛散して送電線等に付着することが懸念される上、使用済みカバーの処理に手間とコストを要することが問題である。草刈は、草刈機や乗用モアーによる機械的手段を用いるが、高速回転する鋭利な刃を扱うことから、作業員の怪我等のリスクがある上、継続的に人的コストが発生するといった問題があるし、化石燃料を使用するため環境負荷が大きいという負の環境側面もある。
【００２２】
そこで、本実施形態では、クズのような難防除雑草に対してＵＶ−Ｃを照射する。これにより、除草剤、防草シート及び草刈による対策を講じることなく、難防除雑草を枯殺又は生長制御し、当該難防除雑草を効果的に防除する。
難防除雑草に対して直接紫外線（ＵＶ−Ｃ）を照射したときの枯殺効果を確認するために、紫外線照射有無によるクズの生長状況を観察した。
【００２３】
図３は、紫外線照射有りの場合の実験初日の状態である。図３に示すように、クズ２１ａ，２１ｂが繁茂した状態において、予め設定した照射条件で紫外線照射空間Ｓに紫外線（ＵＶ−Ｃ）を照射した。すなわち、紫外線照射空間Ｓ内に存在するクズ２１ａにはＵＶ−Ｃを照射し、クズ２１ａに隣接するクズ２１ｂに対してはＵＶ−Ｃ照射を行わなかった。
ここで、照射条件は、照射強度を２００μＷ／ｃｍ2（照射範囲Ａの中心から６００ｍｍの位置における放射照度）、照射量を１日あたり０．７Ｊ／ｃｍ2とした。また、図１の地面における照射範囲Ａは１ｍ×１ｍ以上、ランプ１１から地面までの照射距離Ｄは４５０ｍｍとした。
【００２４】
そして、所定期間、クズ２１ａのみにＵＶ−Ｃを照射し続け、その後のクズ２１ａ，２１ｂの生長状況を確認した。その結果を図４に示す。
図４に示すように、ＵＶ−Ｃを照射したクズ２１ａは枯殺され、紫外線照射空間Ｓ外のクズ２１ｂのみが生長を続けた。また、紫外線照射空間Ｓ外のクズ２１ｂは、ＵＶ−Ｃを照射した空間を回避して生長し、ＵＶ−Ｃを照射した紫外線照射空間Ｓ内には侵入してこなかった。
このように、難防除雑草であるクズに対してＵＶ−Ｃを直接照射することで、高い枯殺効果が得られることが確認できた。また、紫外線照射空間Ｓ外のクズに対しては、生長制御が可能であることが確認できた。
【００２５】
さらに、ＵＶ−Ｃ照射による難防除雑草の枯殺効果を確認するために、各種雑草に対して同一条件でＵＶ−Ｃを照射し阻害率を調査した。ここで、照射条件は、上述した図３の実験と同一条件とした。
なお、阻害率とは、紫外線照射を行った後の供試雑草と無処理の供試雑草との質量比である。すなわち、阻害率が０％であるとは、処理したものと無処理のものとが全く同じであることを意味し、阻害率が大きいほど紫外線照射による防草効果が大きいことを意味している。
【００２６】
供試雑草としては、実施例であるクズの他に、比較例としてメヒシバ、エゾノギシギシ、ヌカキビ、カラスノエンドウ、コハコベを用いた。これら各種雑草の阻害率を調査した結果、波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍのＵＶ−Ｃを照射した場合、クズでは高い阻害率が得られるが、クズ以外の各種雑草における阻害率は、クズにおける阻害率と比べて低いことがわかった。このように、波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍの紫外光は、クズのような難防除雑草に対して高い枯殺効果のある紫外光であることがわかった。
【００２７】
以上により、難防除雑草に対して特定波長（波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍ）の紫外光を照射することは、当該難防除雑草に対する有効な防草方法であるといえる。したがって、上記波長を有する紫外光を難防除雑草に直接照射することで、繁茂した難防除雑草に対して事後的に紫外光を照射しても、当該難防除雑草を効果的に枯殺することができる。
このように、難防除雑草を防草対象とし、当該難防除雑草を適切に枯殺することができる。そのため、難防除雑草の蔓が有用植物に巻き付いたり、難防除雑草の繁茂により人間の安全性、快適性、利便性等が阻害されたりするのを防止することができる。
【００２８】
しかしながら、早期に草丈が数十ｍにも達するような繁殖力の旺盛な難防除雑草に対しては、未然に繁茂することを防止することが好ましい。クズのように繁殖力が旺盛な雑草が生育して数十ｍの草丈に達してしまうと、枯殺するためには大掛かりな設備（多数の紫外線光源やそれらの電源）が必要になり除草コストが増大するためである。
したがって、難防除雑草の繁茂を未然に防止するためには、難防除雑草が地表に現出しないか、或いは現出していても草丈が低い生育初期の時点（例えば、草丈１ｍｍ未満）において、上記波長を有する紫外光を難防除雑草に対して照射することが好ましい。
【００２９】
図５は、地下にクズの根茎２１ｃが存在するが、地表にはクズが現出していない状態で、ランプ１１から特定の紫外線照射空間（地表を含む）Ｓに対してＵＶ−Ｃを照射した場合の実験初日の状態である。
この状態から紫外線照射空間Ｓに対してＵＶ−Ｃを照射し続け、クズの生長状況を確認した。すると、図４に示すように、紫外線を照射した地表からはクズが現出せず、紫外線照射空間Ｓ外のみでクズ２１ｂが生長した。また、紫外線照射空間Ｓ外で生長したクズ２１ｂは、紫外線照射空間Ｓ内には侵入してこなかった。
このように、難防除雑草が地表に現出しない時点でＵＶ−Ｃを当該地表に対して照射することで、難防除雑草を地表に現出させないようにすることができる。すなわち、ＵＶ−Ｃを照射した地表の下（地下）に存在する難防除雑草に対して生長制御が可能である。
【００３０】
さらに、図６は、生育初期のクズ２１ａ，２１ｂのうち、クズ２１ａに対してのみランプ１１からＵＶ−Ｃを照射した場合の実験初日の状態である。この状態からクズ２１ａのみにＵＶ−Ｃを照射し続け、クズ２１ａ，２１ｂの生長状況を確認した。すると、ＵＶ−Ｃを照射したクズ２１ａは容易に枯殺され、図４に示すように、ＵＶ−Ｃを照射していないクズ２１ｂのみが生長した。また、当該クズ２１ｂは、紫外線照射空間Ｓ内には侵入してこなかった。
このように、生育初期の時点でＵＶ−Ｃを難防除雑草に対して直接照射することで、繁茂した難防除雑草に対して事後的に紫外光を照射する場合と比較して、比較的容易に当該難防除雑草を枯殺することができる。すなわち、大掛かりな設備を必要とすることなく、難防除雑草を効果的に枯殺することができ、除草コストを削減することができる。
【００３１】
比較例として、図６と同じ環境でＵＶ−Ｃ照射を行わなかった場合のクズの生育状況を確認した。図７は、図６と同じ環境で、ＵＶ−Ｃ照射しない場合の実験初日の状態である。この状態から、約２ヶ月半後のクズ２１ａ，２１ｂの生長状況を確認した。その結果を図８に示す。
図８に示すように、図６の実験において紫外線を照射していた紫外線照射空間Ｓ内のクズ２１ａ、及び当該紫外線照射空間Ｓ外の２１ｂは共に生長し、クズ２１ｂは紫外線照射空間Ｓ内に侵入してきた。このように、ＵＶ−Ｃを照射しない場合、紫外線照射空間Ｓ内の地下に根茎が存在しないクズ２１ｂが、紫外線照射空間Ｓ内に侵入してくるといった現象が生じる。
【００３２】
以上により、難防除雑草はＵＶ−Ｃ照射空間を回避しながら生長することが確認できた。すなわち、波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍの紫外光は、クズのような難防除雑草に対して侵入防止現象が得られる紫外光であるといえる。したがって、難防除雑草の侵入を回避すべき空間（雑草侵入回避空間）を紫外線照射空間Ｓとして設定しＵＶ−Ｃを照射すれば、雑草侵入回避空間外に生育する難防除雑草の生長を制御し、当該難防除雑草の雑草侵入回避空間への侵入を回避することができる。
【００３３】
雑草侵入回避空間は、例えば、「難防除雑草の侵入により施設構造物（工業施設、交通施設、公共施設等の構造物）の機能が損なわれたり、当該施設構造物の操作に支障をきたしたりする空間」とすることができる。
工業施設としては、例えば、太陽光パネル等の発電施設や石油パイプライン、風速計等の気象用測定施設等がある。太陽光パネルについては、繁茂した雑草により太陽光が遮光されると、発電効率が低下する。また、石油パイプラインについては、雑草の繁茂により点検・管理に支障をきたすおそれがある。さらに、風速計については、繁茂した雑草により風杯の回転が妨げられると、風速の検出に支障をきたす。したがって、工業施設に対しては、太陽光パネルへの太陽光の照射空間や、石油パイプラインの点検作業空間、風速計の回転動作に必要な空間などを雑草侵入回避空間とする。
【００３４】
また、交通施設としては、例えば、道路の交差点や信号機、交通標識等がある。道路の交差点において、ドライバーや歩行者の視界を妨げるほどの雑草の繁茂は、交通安全性を阻害する。また、道路のフェンスを越えて雑草が繁茂し、道路の標識や信号機の視認性が雑草により低下した場合にも、同様に交通安全性を阻害する。したがって、交通施設に対しては、信号機や交通標識が視認可能となるように、ドライバーや歩行者の視界を確保すべき空間を雑草侵入回避空間とする。
【００３５】
さらに、公共施設としては、公園や緑地等の街灯等がある。街灯については、繁茂した雑草が撒きつくと照明機能が損なわれ、特に夜間の治安悪化が懸念される。したがって、公共施設に対しては、街灯の照明部が存在する空間を雑草侵入回避空間とする。
このように、雑草侵入回避空間としては、施設構造物が存在する空間や、施設構造物の近傍の空間がある。
上記のように雑草侵入回避空間を設定することで、例えば、信号機の視認困難、自動車のドライバーや歩行者の視界不良による安全性の阻害、太陽パネルへの日光照射量の低下による発電効率の低下といった問題を解消したり、石油パイプラインの点検・管理作業への支障といった問題を解消したりすることができる。
したがって、難防除雑草の繁茂により人間の安全性、快適性、利便性等が阻害されたりするのを防止することができる。
【００３６】
また、上記のように、雑草侵入回避空間が地表から離間した位置に設定されている場合には、雑草侵入回避空間近傍の地表に難防除雑草が現出していない状態で、当該地表に対してＵＶ−Ｃを照射することで、当該雑草侵入回避空間への難防除雑草の侵入を防止することができる。
上述したように、難防除雑草が現出する前の地表に対してＵＶ−Ｃを照射すると、当該難防除雑草は地表から現出されない。また、蔓性の難防除雑草は、樹木や施設構造物等が存在しない空間では地面を這って生長する。例えば、クズは、蔓が地面を這い、地面に触れている節から根を出して根付く。このように地面を這って生長した蔓性の難防除雑草は、樹木や施設構造物等に撒きつくと上方に向かって生長する。そのため、雑草侵入回避空間近傍の地表に対してＵＶ−Ｃを照射すれば、難防除雑草はＵＶ−Ｃ照射された地表を回避して生長し、雑草侵入回避空間へは侵入できない。
このように、雑草侵入回避空間や雑草侵入回避空間近傍の地表に対してＵＶ−Ｃを照射し、当該空間への難防除雑草の侵入を防止することは、難防除雑草に対する有効な防草方法である。
【００３７】
以上のように、本実施形態では、蔓性の難防除雑草に対して、当該難防除雑草の枯殺効果が得られる紫外線を照射したり、蔓性の難防除雑草の侵入を回避すべき空間やその近傍の地表に対して、当該難防除雑草の侵入防止現象が得られる紫外線を照射したりすることで、蔓性の難防除雑草を枯殺又は生長制御する。
ここで、上記紫外線は、難防除雑草の枯殺と侵入防止とを実現可能な波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍの紫外線（ＵＶ−Ｃ）とする。これにより、難防除雑草に対して高い防草効果を得ることができる。すなわち、難防除雑草の侵入を回避すべき空間に難防除雑草が存在している状態で、当該空間にＵＶ−Ｃを照射した場合、当該空間内に生育する難防除雑草の枯殺と、当該空間外に生育する難防除雑草の侵入防止とを同時に実現することができる。
【００３８】
また、上記紫外線は、ピーク波長が２３０ｎｍであるＵＶ−Ｃとする。したがって、例えば、キセノンガスを封入した希ガス蛍光ランプなどの実用的な光源を用いて、難防除雑草に対する高い防草効果を得ることができる。
このように、本実施形態における防草方法は、各種防草手段を実施せずに放置した場合に、草丈が最大で１ｍ以上に達すると共に、公共交通機関や公共施設等における構造物に撒き付くことで該構造物の機能を損なう懸念のある繁殖力が旺盛な蔓性の難防除雑草に対する防草方法として有用である。
【００３９】
（変形例）
なお、上記実施形態においては、紫外光照射装置１０の紫外光光源からピーク波長が２３０ｎｍであるＵＶ−Ｃを放射する場合について説明したが、波長２００ｎｍ〜２８０ｎｍであれば高い防草効果が得られるため、ピーク波長は２３０ｎｍに限定されるものではない。
さらに、紫外光光源から放射する紫外線は、難防除雑草の枯殺効果又は侵入防止現象が得られる紫外線であればよい。例えば、難防除雑草の侵入防止現象が得られる紫外線としては、波長２８０ｎｍ〜３１５ｎｍのＵＶ−Ｂを用いることができる。但し、近紫外光のうち、ＵＶ−Ｃ領域の紫外線を照射する方法は、最も効果的に難防除雑草の侵入防止現象を発生させることができると共に、難防除雑草に対する高い枯殺効果もあるため、紫外光光源から放射する紫外線は、当該ＵＶ−Ｃ領域の紫外線であることが好ましい。
【００４０】
また、上記実施形態においては、紫外光光源として希ガス蛍光ランプを適用する場合について説明したが、難防除雑草の枯殺効果又は侵入防止効果が得られる波長の紫外線を放射する光源であれば適宜適用可能である。例えば、紫外光光源としては、エキシマランプ、水銀ランプ、レーザダイオード、ＬＥＤ等の各種紫外光光源を使用することができる。
【符号の説明】
【００４１】
１０…紫外線照射装置、１１…ランプ、１２…コントローラ、２１ａ，２１ｂ…難防除雑草（クズ）、Ａ…照射範囲、Ｄ…照射距離、Ｓ…紫外線照射空間（雑草侵入回避空間）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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