(57)【要約】      （修正有）【課題】パーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーを提供する。【解決手段】タレット荷電粒子銃クリーナー５０は、噴出口４と吸引口６とを有する第１の面２と、一端が噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管８と、一端が吸引口に接続され、気体を排気し第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管１０と、を備え、第１の供給管と第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、第１の排気管と第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きい。【選択図】図３
2016051851.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
噴出口と吸引口とを有する第１の面と、
一端が前記噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、
一端が前記吸引口に接続され、前記気体を排気し前記第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、
を備え、
前記第１の供給管と前記第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、前記第１の排気管と前記第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きい、
タレット荷電粒子銃クリーナー。
【請求項２】
前記第１の供給管と前記第１の排気管との間に配置される第２の面をさらに備え、前記第１の面と前記第２の面との距離は前記第１の供給管の内径より短い請求項１記載のタレット荷電粒子銃クリーナー。
【請求項３】
前記第１の供給管の他端に接続される第２の供給管と、
前記第１の排気管の他端に接続される第２の排気管と、
をさらに備え、
前記第２の供給管と前記第２の排気管とが互いに平行な部分を有する請求項１または請求項２記載のタレット荷電粒子銃クリーナー。
【請求項４】
前記タレット荷電粒子銃との距離を調整するための距離調整機構をさらに備える請求項１ないし請求項３いずれか一項記載のタレット荷電粒子銃クリーナー。
【請求項５】
噴出口と吸引口とを有する第１の面と、
一端が前記噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、
一端が前記吸引口に接続され、前記気体を排気し前記第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、
を備え、
前記第１の供給管と前記第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、前記第１の排気管と前記第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きいタレット荷電粒子銃クリーナーを用い、
前記タレット荷電粒子銃に前記噴出口から前記気体を噴出し、
前記吸引口から前記気体を吸引する、
タレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法に関する。たとえば、荷電粒子ビーム描画装置に用いられる複数のカソードを備えたタレット荷電粒子銃の表面に存在するパーティクルを除去するタレット荷電粒子銃クリーナー、およびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスの微細化の進展を担うリソグラフィ技術は、回路パターンなどのパターンを生成する重要なプロセスである。近年、ＬＳＩの高集積化に伴い、半導体デバイスに要求される回路線幅は年々微細化されてきている。これらの半導体デバイスへ所望の回路パターンを形成するためには、高精度の原画パターン（レチクル或いはマスクともいう）が必要となる。電子などの荷電粒子を用いた荷電粒子ビーム（荷電粒子線）による描画技術は本質的に優れた解像性を有しており、高精度の原画パターンの生産に用いられる。
【０００３】
荷電粒子ビームは、荷電粒子銃内のカソードから射出される。ここで、荷電粒子銃にカソードが１個しか搭載されていないと、このカソードに異常、寿命などの問題が発生した場合、荷電粒子銃による荷電粒子ビームの射出ができなくなくなり、必然的に荷電粒子ビーム描画装置の稼動を停止せざるを得なくなる。そうなると、荷電粒子ビーム描画装置の稼動を再開できるまでに、カソードの交換作業およびその交換に伴う装置の稼動立上げのために、メンテナンス作業が長時間必要になり、荷電粒子ビーム描画装置の操業効率は大幅に低下する。
【０００４】
そのため、複数のカソードを搭載したタレット荷電粒子銃が用いられる。このタレット荷電粒子銃では、カソードがタレット上に複数設けられている。異常、寿命等により現在使用しているカソードを交換する場合には、タレットを回転させることで、未使用のカソードをアノードに対向配置させることができる。これにより、個々のカソードの異常発生頻度や寿命が従来のものと変わらなくても、タレットに配置された複数のカソードの全てを使い切るまで、長期間にわたって電子銃およびこれを搭載した装置を稼動でき、１個のカソードを搭載する電子銃に比べて、異常、寿命などに起因する装置の操業効率の低下を改善することができる。すなわち、装置の操業効率を向上させることができる。
【０００５】
しかし、このように複数のカソードを搭載したとしても、タレット荷電粒子銃にパーティクルが存在すれば、パーティクルに起因する放電が発生してしまう。特にタレット荷電粒子銃は回転可能な可動部を有するため、パーティクルが発生しやすい。そのため、タレット荷電粒子銃をクリーンに保つことが望まれている。
【０００６】
特許文献１には、荷電粒子銃の複数のカソードを備えた回転体を回転自在に収容するチャンバー内のパーティクルを除去するパーティクル除去装置であって、チャンバーの内外部を連通する開口部に取り付けられ、吸気部および排気部を有するアダプタと、アダプタの排気部に接続され、チャンバー内に吸気部から排気部に流れる気流を形成する排気手段と、を備えることを特徴とするパーティクル除去装置が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−１５３５２２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明が解決しようとする課題は、パーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーは、噴出口と吸引口とを有する第１の面と、一端が噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、一端が吸引口に接続され、気体を排気し第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、を備え、第１の供給管と第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、第１の排気管と第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きい。
【００１０】
上記態様のタレット荷電粒子銃クリーナーにおいて、第１の供給管と第１の排気管との間に配置される第２の面をさらに備え、第１の面と第２の面との距離は第１の供給管の内径より短いことが好ましい。
【００１１】
上記態様のタレット荷電粒子銃クリーナーにおいて、第１の供給管の他端に接続される第２の供給管と、第１の排気管の他端に接続される第２の排気管と、をさらに備え、第２の供給管と第２の排気管とが互いに平行な部分を有することが好ましい。
【００１２】
上記態様のタレット荷電粒子銃クリーナーにおいて、タレット荷電粒子銃との距離を調整するための距離調整機構をさらに備えることが好ましい。
【００１３】
実施形態のタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法は、噴出口と吸引口とを有する第１の面と、一端が噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、一端が吸引口に接続され、気体を排気し第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、を備え、第１の供給管と第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、第１の排気管と第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きいタレット荷電粒子銃クリーナーを用い、タレット荷電粒子銃に噴出口から気体を噴出し、吸引口から気体を吸引する。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、パーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法の提供が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】第１の実施形態における可変成形型電子ビーム描画装置の動作を説明するための概念図。
【図２】第１の実施形態における可変成形型電子ビーム描画装置の構成を示す概念図。
【図３】第１の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図。
【図４】第１の実施形態における第１の鋭角と第２の鋭角の関係を示す模式図。
【図５】第１の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの使用態様を示す模式図。
【図６】第２の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図。
【図７】第３の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図。
【図８】第４の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しつつ説明する。
【００１７】
（第１の実施形態）
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーは、噴出口と吸引口とを有する第１の面と、一端が噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、一端が吸引口に接続され、気体を排気し第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、を備え、第１の供給管と第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、第１の排気管と第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きい。
【００１８】
以下の実施の形態では、荷電粒子ビームの一例として、電子ビーム（ＥＢ：Ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ）を用いた構成について説明する。但し、荷電粒子ビームは、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム等の他の荷電粒子を用いたビームでも構わない。また、描画装置の一例として、可変成形型の描画装置について説明する。
【００１９】
図１は、可変成形型電子ビーム描画装置の動作を説明するための概念図である。
【００２０】
第１のアパーチャ４１０には、電子ビーム３３０を成形するための矩形の開口４１１が配置されている。また、第２のアパーチャ４２０には、第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過した電子ビーム３３０を所望の矩形形状に成形するための可変成形開口４２１が配置されている。
【００２１】
電子ビーム３３０は電子ソース４３０から照射される。次に、電子ビーム３３０は第１のアパーチャ４１０の開口４１１を通過し、図示しない偏向器により偏向される。次に、電子ビーム３３０は、第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１の一部を通過して、所定の一方向（例えば、Ｘ方向とする）に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０に照射される。すなわち、第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過できる矩形形状が、Ｘ方向に連続的に移動するステージ上に搭載された試料３４０の描画領域に描画される。第１のアパーチャ４１０の開口４１１と第２のアパーチャ４２０の可変成形開口４２１との両方を通過させ、任意形状を作成する方式を可変成形方式（ＶＳＢ方式）という。なお、可変成形型電子ビーム描画装置は、可変成形型荷電粒子ビーム描画装置の一例である。また、電子ソース４３０は、タレット荷電粒子銃の一例である。
【００２２】
図２は、第１の実施形態における可変成形型電子ビーム描画装置の構成を示す概念図である。可変成形型電子ビーム描画装置１００は、描画部１５０と制御部１６０とを備えている。描画部１５０は、電子鏡筒１０２と描画室１０３とを備えている。電子鏡筒１０２内には、タレット電子銃２０１、照明レンズ２０２、ブランキング偏向器２１２、ブランキングアパーチャ２１４、第１のアパーチャ２０３、投影レンズ２０４、偏向器２０５、第２のアパーチャ２０６、対物レンズ２０７、主偏向器２０８及び副偏向器２０９が配置されている。タレット電子銃２０１は、タレット荷電粒子銃の一例である。描画室１０３内には、ＸＹステージ１０５が配置される。ＸＹステージ１０５上には、描画時には描画対象となるマスク等の試料１０１が配置される。試料１０１には、半導体装置を製造する際の露光用マスクが含まれる。また、試料１０１には、ガラス基板上にクロム（Ｃｒ）等の遮光膜が形成され、遮光膜上にレジストが塗布された、まだ何も描画されていないマスクブランクスが含まれる。電子鏡筒１０２は、たとえば描画室１０３から取り外しが可能である。
【００２３】
制御部１６０は、制御計算機１１０、メモリ１１２、偏向制御回路１２０、制御回路１２２、ＤＡＣ（デジタル・アナログコンバータ）アンプ１３０、及び磁気ディスク装置等の第１の記憶装置１４０および第２の記憶装置１４２を有している。制御計算機１１０、メモリ１１２、偏向制御回路１２０、制御回路１２２、第１の記憶装置１４０および第２の記憶装置１４２は、図示しないバスを介して接続されている。
【００２４】
制御計算機１１０内には、描画データ処理部１１４、及び描画制御部１１６が配置される。描画データ処理部１１４、及び描画制御部１１６といった機能は、電気回路等のハードウェアで構成されてもよいし、これらの機能を実行するプログラム等のソフトウェアで構成されてもよい。或いは、ハードウェアとソフトウェアの組み合わせにより構成されてもよい。描画データ処理部１１４、及び描画制御部１１６に入出力される情報および演算中の情報はメモリ１１２にその都度格納される。
【００２５】
ここで、図１および図２では、第１の実施形態を説明する上で必要な構成を記載している。可変成形型電子ビーム描画装置１００にとって、通常、必要なその他の構成を備えていても構わない。例えば、位置偏向用には、主偏向器２０８と副偏向器２０９の主副２段の多段偏向器を用いているが、１段の偏向器或いは３段以上の多段偏向器によって位置偏向を行なう場合であってもよい。また、描画装置１００には、マウスやキーボード等の入力装置、モニタ装置、及び外部インターフェース回路等が接続されていても構わない。
【００２６】
また、成形偏向用の偏向器２０５は、例えば、ｘ方向とｙ方向に偏向するように、例えば、４極以上の電極によって構成される。ＤＡＣアンプ１３０は、各電極用にそれぞれ設けられる。
【００２７】
図３は、第１の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図である。図３（ａ）は、第１の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーを、一部を断面図にして示す模式図である。図３（ｂ）は、図３（ａ）で示した第１の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーを、Ａ−Ａ’断面で示した模式図である。図３（ｃ）は、第１の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーの第１の面の模式図である。第１の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃のクリーナーは、タレット荷電粒子銃のカソードのパーティクル除去に用いられる。
【００２８】
タレット荷電粒子銃９０は、電子鏡筒１０２の内部に配置されている。ここでタレット荷電粒子銃９０は、複数のカソード９１と、バレル９３と、ガイシ９５と、を備える。複数のカソード９１からは電子ビームが発射される。バレル９３は円柱状の形状をしている。バレル９３の底面はバレル底面９４である。バレル９３は、側面に複数の電子が照射される穴９２を有する。複数のカソード９１は、複数の穴９２の内部に配置される。２つのガイシ９５の形状はたとえば棒状で、一端がバレル底面９４のほぼ中心に接続されている。２つのガイシ９５のうちの一つの他端にはハンドル９７が接続されている。ハンドル９７を回すと、カソード９１のいずれかが使えなくなったときに他のカソード９１に交換して可変成形型電子ビーム描画装置１００の使用を続けることができる。
【００２９】
タレット荷電粒子銃クリーナー５０は、第１のクリーナー部２０と、第２のクリーナー部４０と、距離調整機構４２と、を備える。
【００３０】
第１のクリーナー部２０は、噴出口と吸引口とを有する第１の面と、一端が噴出口に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、一端が吸引口に接続され、気体を排気し第１の供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、を備える。
【００３１】
気体は第１の供給管８の内部を通じて供給され、噴出口４からタレット荷電粒子銃９０に噴出される。タレット荷電粒子銃９０に供給された気体は、タレット荷電粒子銃９０のパーティクルを運びながら、吸引口６から吸引され、排気管１０を通じて排気される。
【００３２】
なお図３においては、第１の供給管８および第１の排気管１０は第１のクリーナー部２０の内部に配置されているが、第１のクリーナー部２０の外部に配置されていてもよい。
【００３３】
第１の排気管１０の内径φ2は、第１の供給管８の内径φ1より大きいことが好ましい。これにより、タレット荷電粒子銃９０から吹き飛ばされたパーティクルが、効率よく第１の排気管１０に入り排出されるためである。一方、第１の排気管１０の内径が大きすぎると、気体の排気に必要なエネルギーが大きくなり、パーティクルを排出することが難しくなる。そのため、第１の排気管１０の内径は、第１の供給管８の内径の３倍より小さいことが好ましい。
【００３４】
第１の供給管８と第１の面２とがなす鋭角を第１の鋭角、第１の排気管１０と第１の面２とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きいことが好ましい。第２の鋭角が第１の鋭角より大きいと、第１の供給管８から供給された気体によりタレット荷電粒子銃９０から吹き飛ばされたパーティクルが、うまく第１の排気管１０に入らず、電子鏡筒１０２の内部を浮遊してしまうからである。また、第１の鋭角と第２の鋭角は、いずれも３０度以上６０度以下であることが好ましい。
【００３５】
第１の面２は、たとえば平面であると容易に作製できるため好ましい。また、第１の面２上における噴出口４と吸引口６との距離ｄ３は、タレット荷電粒子銃９０のバレルの直径より小さいことが、効率的にパーティクルを除去するため好ましい。
【００３６】
図４は、第１の実施形態における、第１の鋭角と第２の鋭角の関係を示す模式図である。図４（ａ）は、第１の鋭角と第２の鋭角の求め方を示す模式図である。第１の供給管の中心線１４から第１の面２に対して長さｈ１の垂線を引き、長さｈ１の垂線と第１の面２との交点をｃ１とする。また、第１の面２を噴出口４に延長した面内における第１の供給管の中心線１４と噴出口４との交点をａ１とし、ａ１とｃ１との距離をｔ１とする。このとき第１の鋭角θ１は、θ１＝ｔａｎ−１（ｈ１／ｔ１）より求められる。なお、第１の面２が小さく第１の面２上に垂線ｈ１を引くことができない場合は、第１の面２を延長し、その延長した平面内に垂線ｈ１を引くものとする。
【００３７】
同様に、第１の排気管の中心線１６から第１の面２に対して長さｈ２の垂線を引き、長さｈ２の垂線と第１の面２との交点をｃ２とする。また、第１の面２を吸引口６に延長した面内における第１の排気管の中心線１６と吸引口６との交点をａ２とし、ａ２とｃ２との距離をｔ２とする。このとき第２の鋭角θ２は、θ２＝ｔａｎ−１（ｈ２／ｔ２）より求められる。なお、第１の面２が小さく第１の面２上に垂線ｈ２を引くことができない場合は、第１の面２を延長し、その延長した平面内に垂線ｈ２を引くものとする。
【００３８】
図４（ｂ）は、第１の面２に垂直な方向から見たときの、第１の供給管８と第１排気管１０の関係を示す模式図である。第１の面２に垂直な方向から見たときの、第１の供給管の中心線１４と第１の排気管の中心線１６とがなす鋭角α１は、効率よくパーティクルを除去するため３０度以下であることが好ましく、１０度以下であればより好ましい。
【００３９】
第２の面１２は、第１の供給管８と第１の排気管１０との間に配置される。ここで第１の面２と第２の面１２との距離ｄ１は第１の供給管８の内径より短いことが好ましい。第１の面２と第２の面１２との距離ｄ１が長すぎると、第１の供給管８から供給された気体が、タレット荷電粒子銃９０に向かって流れずに、第１の排気管１０に流れてしまうためである。
【００４０】
第１の面２と第２の面１２との距離ｄ１は、第２の面１２から第１の面２に対して垂線を引き、その垂線の長さとする。垂線を引くことが出来ない場合には、第１の面２を延長させて、その延長した面内に垂線を引く。垂線の長さが垂線の引き方によって変化する場合には、引くことが出来る垂線の中で最も短い垂線の長さをｄ１とする。
【００４１】
第１の面２とタレット荷電粒子銃の回転軸９６とは、できるだけタレット荷電粒子銃クリーナーをタレット荷電粒子銃に近づけてパーティクル除去ができるように、平行であることが好ましい。
【００４２】
第２のクリーナー部４０は、第２の供給管３２と、第２の排気管３４と、を備える。第２の供給管３２は、第１の供給管８の他端に接続される。また、第２の排気管３４は、第１の排気管１０の他端に接続される。上述の気体は、第２の供給管３２から第１の供給管８へ供給される。また、上述の気体は、第１の排気管１０から第２の排気管３４へ排気される。
【００４３】
第２の供給管３２と第２の排気管３４とは、互いに平行な部分を有することが好ましい。第２のクリーナー部４０に穴を形成することにより第２の供給管３２と第２の排気管３４を形成する場合、平行であれば同じ機械を用いて同じ作業により第２の供給管３２と第２の排気管３４の両方を形成することができる。したがって、タレット荷電粒子銃クリーナーの製造が容易となる。
【００４４】
なお、第２の供給管３２および第２の排気管３４の形態は、互いに平行な部分を有する形態に限定されない。
【００４５】
第１のクリーナー部２０は、第２のクリーナー部４０から取り外すことが可能になっている。このため、本実施形態の第１のクリーナー部２０は、パーティクルを除去したい部分にあわせて、適切な形状を有するものに交換することが可能である。したがって、タレット荷電粒子銃９０全体からパーティクルを効率よく除去することが可能である。
【００４６】
距離調整機構４２は、タレット荷電粒子銃９０と、タレット荷電粒子銃クリーナー５０との距離を調整するために設けられている。距離調整機構４２を用いて上述の距離を調整することにより、効率良くタレット荷電粒子銃９０のパーティクルを除去することができる。距離調節機構４２としては、たとえば油圧ジャッキや空気圧ジャッキなどのジャッキ、ラックアンドピニオンによる歯車で回転を上下動に変換する機構その他の公知の上下動機構が好ましく用いられる。
【００４７】
図５は、第１の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナー５０の使用態様を示す模式図である。タレット荷電粒子銃クリーナー５０を使用するときは、まず、描画部１５０（図２）からタレット荷電粒子銃９０を電子鏡筒１０２とまとめてとりはずし、机Ｄの上に設置する。次に、タレット荷電粒子銃クリーナー５０をタレット荷電粒子銃９０の上部に固定する。ここで、タレット荷電粒子銃クリーナー５０とタレット荷電粒子銃９０との距離ｄ２は、距離調節機構４２を使用して第１の面２と第２の面１２との距離ｄ１より小さくすると、うまくパーティクルを除去できるため好ましい。
【００４８】
次に、気体供給部６０を第２の供給管３２に接続し、気体排気部７０を第２の排気管３４に接続する。ここで気体供給部６０とはたとえばエアガンであり、気体排気部７０とはたとえば掃除機である。次に、気体供給部６０から気体を第２の供給管３２に供給する。気体は第２の供給管３２から第１の供給管８と噴出口４を通りタレット電子銃９０のカソード９１に噴出される。吹き付けられた気体は、カソード９１のパーティクルを巻き込んで吸引口６から吸引される。吸引口６から第１の排気管１０に入った気体は、第２の排気管３４から気体排気部７０を通って排気される。
【００４９】
以下、本実施形態の作用および効果について説明する。
【００５０】
タレット荷電粒子銃９０が収容される電子鏡筒１０２の内部全体に気体の流れを作ってパーティクルを除去する方法では、タレット荷電粒子銃９０に対して局所的に強い気体を吹き付けることができず、タレット荷電粒子銃９０のパーティクルを十分に除去することが困難である。
【００５１】
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナー５０においては、気体をカソード９１に対して局所的に吹き付けることができる。そのため、気体供給部６０の単位時間あたりの気体供給量が同じであっても、カソード９１に吹き付けられる気体の流速を高くできることから、パーティクルをカソード９１から吹き飛ばすことが容易になる。
【００５２】
また、本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナー５０においては、気体はカソード９１から局所的に吸引される。そのため、カソード９１から吹き飛ばされたパーティクルは、電子鏡筒１０２内を浮遊せずに吸引口６から排出されやすくなる。
【００５３】
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法によれば、カソードからパーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法の提供が可能となる。
【００５４】
（第２の実施形態）
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーは、タレット荷電粒子銃のバレルのパーティクル除去に用いられる点で、第１の実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーと異なっている。ここで、第１の実施形態と重複する点については、記載を省略する。
【００５５】
図６は、第２の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図である。図６（ａ）は、第２の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーを、一部を断面図にして示す模式図である。図６（ｂ）は、図６（ａ）で示した第２の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーを、Ａ−Ａ’断面で示す模式図である。図６（ｃ）は、第２の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーの第１の面の模式図である。図６（ｄ）は、図６（ａ）で示した第２の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーを、Ｂ−Ｂ’断面で示す模式図である。
【００５６】
噴出口４、吸引口６、第１の供給管８および第１の排気管１０はそれぞれ２個ずつ設けられており、カソード９１の両脇に配置されたバレルのパーティクル除去に用いられる。
【００５７】
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法によれば、バレルからパーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法の提供が可能となる。
【００５８】
（第３の実施形態）
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーは、タレット荷電粒子銃のガイシのパーティクル除去に用いられる点で、第１の実施形態および第２の実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーと異なっている。ここで、第１の実施形態および第２の実施形態と重複する点については、記載を省略する。
【００５９】
図７は、第３の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図である。図７（ａ）は、第３の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーを、一部を断面図にして示す模式図である。図７（ｂ）は、図７（ａ）で示した第３の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーを、Ａ−Ａ’断面で示した模式図である。図７（ｃ）は、第３の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーの第１の面の模式図である。図７（ｄ）は、図７（ａ）で示した第３の実施形態にかかるタレット荷電粒子銃クリーナーを、Ｂ−Ｂ’断面で示した模式図である。
【００６０】
噴出口４、吸引口６、第１の供給管８および第１の排気管１０はそれぞれ２個ずつ設けられており、カソード９１およびバレル９３の両脇に配置されたガイシ９５のパーティクル除去に用いられる。ここで、第１の供給管８と第１の排気管１０は、接続管４４により、それぞれ第２の供給管３２と第２の排気管３４に接続されている。また、クリーニングのときには、カソード９１およびバレル９３を、２個の噴出口４および吸引口６の間に設けられた溝４８に配置すると、噴出口４および吸引口６をガイシ９５に近づけることができるので、より効率的にパーティクルを除去できる。
【００６１】
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法によれば、ガイシからパーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法の提供が可能となる。
【００６２】
（第４の実施形態）
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーは、第１の面と、第１の面上に配置された凹部と、一端が凹部に接続され、タレット荷電粒子銃に気体を供給する第１の供給管と、一端が凹部に接続され、気体を排気し供給管の内径より大きい内径を有する第１の排気管と、を備え、第１の供給管と第１の面とがなす鋭角を第１の鋭角、第１の排気管と第１の面とがなす鋭角を第２の鋭角としたときに、第１の鋭角は第２の鋭角と等しいかまたは第２の鋭角より大きい、タレット荷電粒子銃クリーナーである。ここで、第１の実施形態、第２の実施形態および第３の実施形態と重複する点については、記載を省略する。
【００６３】
図８は、第４の実施形態におけるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式図である。図８（ａ）は、タレット荷電粒子銃のカソードのパーティクル除去に用いられるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式断面図である。図８（ｂ）は、タレット荷電粒子銃のバレルのパーティクル除去に用いられるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式断面図である。図８（ｃ）はタレット荷電粒子銃のガイシのパーティクル除去に用いられるタレット荷電粒子銃クリーナーの模式断面図である。
【００６４】
本実施形態においては、第１の面２上に、タレット荷電粒子銃９０のカソード９１、バレル９３またはガイシ９５の少なくともいずれか一つが入る凹部が配置されている。これにより、第１の供給管８から供給された気体は、図８の紙面下の方に拡散しづらくなり、第１の排気管１０に入って排気されやすくなる。そのため、パーティクルがより排出されやすくなる。
【００６５】
本実施形態のタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法によれば、カソード、バレルまたはガイシからパーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法の提供が可能となる。
【００６６】
以上のように、本発明によれば、パーティクルを効率良く除去できるタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法の提供が可能となる。
【００６７】
実施形態では、構成等、本発明の説明に直接必要としない部分等については記載を省略したが、必要とされる構成等を適宜選択して用いることができる。また、本発明の要素を具備し、当業者が適宜設計変更しうる全てのタレット荷電粒子銃クリーナーおよびタレット荷電粒子銃クリーナーを用いたタレット荷電粒子銃のパーティクル除去方法は、本発明の範囲に包含される。本発明の範囲は、特許請求の範囲およびその均等物の範囲によって定義されるものである。
【符号の説明】
【００６８】
２            第１の面
４            噴出口
６            吸引口
８            第１の供給管
１０          第１の排気管
１２          第２の面
１４          第１の供給管の中心線
１６          第１の排気管の中心線
２０          第１のクリーナー部
３２          第２の供給管
３４          第２の排気管
４０          第２のクリーナー部
４２          距離調整機構
４４          接続管
４６          凹部
４８          溝
５０          タレット荷電粒子銃クリーナー
６０          気体供給部
７０          気体排気部
９０          タレット荷電粒子銃
９１          カソード
９２          穴
９３          バレル
９４          バレル底面
９５          ガイシ
９６          回転軸
９７          ハンドル
１００        可変成形型電子ビーム描画装置
１０１        試料
１０２        電子鏡筒
１０３        描画室
１０５        ＸＹステージ
１１０        制御計算機
１１２        メモリ
１１４        描画データ処理部
１１６        描画制御部
１２０        偏向制御回路
１２２        制御回路
１３０        ＤＡＣアンプ
１４０        第１の記憶装置
１４２        第２の記憶装置
１５０        描画部
１６０        制御部
２００        電子ビーム
２０１        電子銃
２０２        照明レンズ
２０３        第１のアパーチャ
２０４        投影レンズ
２０５        偏向器
２０６        第２のアパーチャ
２０７        対物レンズ
２０８        主偏向器
２０９        副偏向器
２１２        ブランキング偏向器
２１４        ブランキングアパーチャ
３３０        電子ビーム
３４０        試料
４１０        第１のアパーチャ
４１１        開口
４２０        第２のアパーチャ
４２１        可変成形開口
４３０        電子ソース
Ａ            気体
Ｄ            机
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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