(57)【要約】【課題】基板を反転させる際に基板を損傷させることを抑制することができる反転装置を提供する。【解決手段】反転装置１００は、第１支持部材１と、第２支持部材２と、ベース部材３と、を備える。第１支持部材１は、第１支持面１１と、吹き出し部１２とを有する。第１支持面１は下方を向く。吹き出し部１２は、下方に向けて流体を吹き出すように構成される。第２支持部材２は、第２支持面２１と、吸い込み部２２とを有する。第２支持面２１は、上方を向く。吸い込み部２２は、流体を吸い込むように構成される。第１支持面１１と第２支持面２１とは、互いに接近及び離反するように構成される。ベース部材３は、第１支持部材１と第２支持部材２との位置関係を反転させるように構成される。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を反転させるための反転装置であって、
第１方向を向く第１支持面、及び前記第１支持面に配置され前記第１方向に向けて流体を吹き出すように構成された吹き出し部、を有する第１支持部材と、
前記第１方向と反対方向である第２方向を向く第２支持面、及び前記第２支持面に配置され流体を吸い込むように構成された吸い込み部、を有する第２支持部材と、
前記第１支持面と前記第２支持面とが互いに接近及び離反するように前記第１支持部材と前記第２支持部材との少なくとも一方を移動可能に支持するとともに、前記第１支持部材と前記第２支持部材との位置関係を反転させるように構成されたベース部材と、
を備える、反転装置。
【請求項２】
前記第１支持面と前記第２支持面とは、上下方向を向いている、
請求項１に記載の反転装置。
【請求項３】
前記反転前において、前記第１支持面は、前記第２支持面の上方に位置する、
請求項１又は２に記載の反転装置。
【請求項４】
前記吹き出し部からの流体の吹き出し、及び前記吸い込み部からの流体の吸い込みを制御するように構成された制御部をさらに備え、
前記制御部は、前記ベース部材による反転中において、前記吹き出し部から流体を吹き出させるとともに、前記吸い込み部から流体を吸い込ませる、
請求項１から３のいずれかに記載の反転装置。
【請求項５】
前記第１支持面は、前記反転前において、下方を向くように配置され、
前記第２支持面は、前記反転前において、上方を向くように配置され、
前記反転の完了後において、前記制御部は、前記流体の吸い込みを停止した後に、前記流体の吹き出しを停止する、
請求項４に記載の反転装置。
【請求項６】
前記吹き出し部は、流体を吸い込み可能であり、
前記吸い込み部は、前記第２方向に向けて流体を吹き出し可能である、
請求項１から５のいずれかに記載の反転装置。
【請求項７】
前記第１支持面上に配置される第１多孔質シートと、
前記第２支持面上に配置される第２多孔質シートと、
をさらに備える、
請求項１から６のいずれかに記載の反転装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反転装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶装置は、液晶層を間に介在するように第１基板と第２基板とがシール材によって貼り合わされる貼り合わせ基板によって構成される（例えば特許文献１）。この貼り合わせ基板は、生産性の観点などから一旦大判サイズの状態で作製され、この大判サイズの基板を必要なサイズに分断して複数の貼り合わせ基板を作製することが一般的に行われている。この貼り合わせ基板を分断する際、一般的に貼り合わせ基板を表裏反転させる工程が必要となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２０３２３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述したように、基板を分断する際には、基板を反転させる処理が必要となる。なお、基板の分断以外であっても、基板を反転させる処理が必要となることがある。基板を反転する方法としては、２つの部材で基板を挟持して反転させることが考えられる。しかしながら、基板がずれ落ちないように基板を強い力で挟持すると、基板に損傷を与えてしまうおそれがある。
【０００５】
本発明の課題は、基板を反転させる際に基板を損傷させることを抑制することができる反転装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明のある側面に係る反転装置は、基板を反転させるための装置である。反転装置は、第１支持部材と、第２支持部材と、ベース部材と、を備える。第１支持部材は、第１支持面と、吹き出し部とを有する。第１支持面は、第１方向を向く。吹き出し部は、第１支持面上に配置される。吹き出し部は、第１方向に向けて流体を吹き出すように構成される。第２支持部材は、第２支持面と、吸い込み部とを有する。第２支持面は、第１方向と反対方向である第２方向を向く。吸い込み部は、第２支持面上に配置される。吸い込み部は、流体を吸い込むように構成される。ベース部材は、第１支持面と第２支持面とが互いに接近及び離反するように、第１支持部材と第２支持部材との少なくとも一方を移動可能に支持する。また、ベース部材は、第１支持部材と第２支持部材との位置関係を反転させるように構成される。
【０００７】
この構成によれば、吸い込み部が流体を吸い込むことによって、第２支持面上に配置された基板を吸着する。また、吹き出し部から吹き出された流体によって、基板を第２支持面へと押し付けることができる。このように第１支持面と第２支持面との間で基板を保持した状態で、ベース部材が第１支持部材と第２支持部材との位置関係を反転させることによって、基板は表裏反転する。このように、基板は、第１支持面と第２支持面とによって挟持されるのではなく、第２支持面上に吸着されるとともに流体によって押さえ付けられることによって保持される。この結果、基板を反転させる際の基板の損傷を抑制することができる。
【０００８】
好ましくは、第１支持面と第２支持面とは、上下方向を向いている。
【０００９】
好ましくは、反転前において、第１支持面は、第２支持面の上方に位置する。
【００１０】
好ましくは、反転装置は、制御部をさらに備える。制御部は、吹き出し部からの流体の吹き出し、及び吸い込み部からの流体の吸い込みを制御するように構成される。制御部は、ベース部材による反転中において、吹き出し部から流体を吹き出させるとともに、吸い込み部から流体を吸い込ませる。
【００１１】
好ましくは、第１支持面は、反転前において、下方を向くように配置される。第２支持面は、反転前において、上方を向くように配置される。反転の完了後において、制御部は、流体の吸い込みを停止した後に、流体の吹き出しを停止する。
【００１２】
この構成によれば、反転の完了後、第１支持面は上方を向いた状態となり、第２支持面は下方を向いた状態となる。そして、制御部は、吸い込みの停止後に吹き出しが停止されるため、基板は第１支持面上に落下することを防止することができる。
【００１３】
好ましくは、吹き出し部は、流体を吸い込み可能である。好ましくは、吸い込み部は、第２方向に向けて流体を吹き出し可能である。この構成によれば、反転完了後、次の反転を行うために第１支持部材と第２支持部材とを再度反転して元に戻す必要がない。すなわち、反転完了後、第１支持部材と第２支持部材との位置関係をそのままの状態で、次の反転を行うことができる。
【００１４】
好ましくは、反転装置は、第１多孔質シートと第２多孔質シートとをさらに備える。第１多孔質シートは、第１支持面上に配置される。第２多孔質シートは、第２支持面上に配置される。この構成によれば、より安定的に、基板を保持することができる。
【発明の効果】
【００１５】
本発明に係る反転装置は、基板を反転させる際に基板を損傷させることを抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】反転装置の側面図。
【図２】反転装置の拡大図。
【図３】反転完了後の反転装置の拡大図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明に係る反転装置の実施形態について図面を参照しつつ説明する。なお、図１は反転装置の側面図、図２は反転装置の拡大図である。反転装置１００は、基板Ｗを表裏反転させるための装置である。
【００１８】
図１に示すように、反転装置１００は、第１支持部材１と、第２支持部材２と、ベース部材３とを備えている。反転装置１００は、第１支持部材１と第２支持部材２とによって基板Ｗを保持する。図２に示すように、反転装置１００は、制御部４、第１ポンプ５、及び第２ポンプ６をさらに備えている。
【００１９】
第１支持部材１は、第１支持面１１と、吹き出し部１２とを有する。第１支持面１１は、第１方向を向いている。なお、本実施形態において、第１支持面１１は、上方向又は下方向を向いている。
【００２０】
詳細には、第１支持面１１が向く方向は、反転毎に、上方向と下方向とで入れ替わる。なお、図２の状態では、第１支持面１１は下方向を向いている。すなわち、第１支持面１１は、反転前において、下方を向くように配置されている。反転前において、第１支持面１１は、後述する第２支持面２１の上方に位置する。
【００２１】
第１支持面１１は、特に限定されるものではないが、例えば矩形状である。第１支持面１１は、反転前において、水平方向に延びるように配置されている。第１支持面１１の面積は、基板Ｗの面積よりも大きくなるように設計されている。
【００２２】
吹き出し部１２は、第１支持面１１上に配置されている。吹き出し部１２は、第１方向に向けて流体を吹き出すように構成されている。本実施形態では、吹き出し部１２は、上方又は下方に向けて流体を吹き出すように構成されている。なお、流体とは、例えば空気である。
【００２３】
詳細には、吹き出し部１２は、第１支持面１１に形成された複数の開口部によって構成されている。この各開口部から流体が吹き出されるように構成されている。なお、各開口部は、配管を介して、第１ポンプ５と接続されている。また、各開口部は、第１支持部材１を貫通している。
【００２４】
第１多孔質シート８は、第１支持面１１上に配置されている。詳細には、第１多孔質シート８は、第１支持面１１上に固定されている。例えば、第１多孔質シート８は、第１支持面１１上に接着されている。
【００２５】
吹き出し部１２は、第１多孔質シート８によって覆われている。この第１多孔質シート８によって、吹き出し部１２から基板Ｗへ流体を均等に吹き出すことができる。なお、第１多孔質シート８上に、基板Ｗを保護するための保護シート１０１などを配置していてもよい。
【００２６】
第２支持部材２は、第２支持面２１と、吸い込み部２２とを有する。第２支持面２１は、第２方向を向いている。第２方向は、第１方向と反対方向である。第２支持面２１は、第１支持面１１と対向するように配置される。
【００２７】
本実施形態において、第２支持面２１は、上方向又は下方向を向いている。詳細には、第２支持面２１が向く方向は、反転毎に、上方向と下方向とで入れ替わる。なお、図２の状態では、第２支持面２１は上方向を向いている。すなわち、反転前において、第２支持面２１は、上方を向くように配置されている。
【００２８】
第２支持面２１は、特に限定されるものではないが、例えば矩形状である。第２支持面２１は、反転前において、水平方向に延びるように配置されている。第２支持面２１の面積は、基板Ｗの面積よりも大きくなるように設計されている。
【００２９】
吸い込み部２２は、第２支持面２１上に配置されている。吸い込み部２２は、流体を吸い込むように構成されている。詳細には、吸い込み部２２は、第２支持面２１の近傍の流体を吸い込むように構成されている。なお、流体とは、例えば空気である。
【００３０】
吸い込み部２２は、第２支持面２１に形成された複数の開口部によって構成されている。この各開口部から流体が吸い込まれるように構成されている。なお、各開口部は、配管を介して、第２ポンプ６と接続されている。また、各開口部は、第２支持部材２を貫通している。
【００３１】
第２多孔質シート９は、第２支持面２１上に配置されている。詳細には、第２多孔質シート９は、第２支持面２１上に固定されている。例えば、第２多孔質シート９は、第２支持面２１上に接着されている。吸い込み部２２は、第２多孔質シート９によって覆われている。この第２多孔質シート９によって、吸い込み部２２は、第２支持面２１の近傍の流体を均等に吸い込むことができる。なお、第２多孔質シート９上に、基板Ｗを保護するための保護シート１０２などを配置していてもよい。
【００３２】
第１ポンプ５は、吹き出し部１２が流体を吹き出すように、吹き出し部１２へと流体を供給するように構成されている。吹き出し部１２は、第１ポンプ５から供給された流体を第１方向に向けて吹き出す。
【００３３】
第２ポンプ６は、吸い込み部２２が流体を吸い込むように、吸い込み部２２から流体を吸引するように構成されている。第２ポンプ６が吸い込み部２２から流体を吸引することによって、吸い込み部２２は、第２支持面２１の近傍の流体を吸い込むことができる。
【００３４】
制御部４は、吹き出し部１２からの流体の吹き出し、及び吸い込み部２２からの流体の吸い込みを制御するように構成されている。詳細には、制御部４は、流体の吹き出しの開始、流体の吹き出しの停止、流体の吹き出し量、流体の吸い込みの開始、流体の吸い込みの停止、及び流体の吸い込み量などを制御する。制御部４は、後述するベース部材３による反転中において、吹き出し部１２から流体を吹き出させるとともに、吸い込み部２２から流体を吸い込ませる。
【００３５】
詳細には、制御部４は、第１ポンプ５を制御する。制御部４によって制御された第１ポンプ５は、吹き出し部１２に流体を供給する。また、制御部４は、第２ポンプ６を制御する。制御部４によって制御された第２ポンプ６は、吸い込み部２２から流体を吸引する。
【００３６】
図１に示すように、ベース部材３は、第１支持部材１と第２支持部材２とを支持している。第１支持部材１及び第２支持部材の少なくとも一方は、第１支持面１１と第２支持面２１とが互いに接近及び離反するように移動可能である。
【００３７】
また、ベース部材３は、第１支持部材１と第２支持部材２との位置関係を反転させるように構成されている。具体的には、ベース部材３は、第１支持部材１と第２支持部材２との上下方向における位置関係を反転させるように構成されている。
【００３８】
詳細には、ベース部材３は、レール部３１と、円筒部３２とを有している。レール部３１は、上下方向に延びている。第１支持部材１及び第２支持部材２は、レール部３１上を摺動するように構成されている。
【００３９】
円筒部３２は、柱部７に回転可能に支持されている。円筒部３２が、その中心軸Ｏの周りを１８０度回転することによって、第１支持部材１と第２支持部材２との位置関係を反転させる。例えば、モータなどのアクチュエータが、円筒部３２を回転させる。
【００４０】
次に上述したように構成された反転装置１００の動作について説明する。
【００４１】
まず、図２に示すように、第１支持面１１が下方を向いた状態、及び第２支持面２１が上方を向いた状態にセットする。そして、基板Ｗを第２支持面２１上に載置する。詳細には、基板Ｗを、第２支持面２１上に配置された第２多孔質シート９上に載置する。
【００４２】
次に、第１支持部材１及び第２支持部材２の少なくとも一方を上下方向に移動させて、第１支持面１１と第２支持面２１とを近付ける。なお、この状態において、第１支持面１１は、基板Ｗを押圧していない。すなわち、第１支持面１１と基板Ｗとの間には隙間が形成されている。詳細には、第１支持面１１上の配置された第１多孔質シート８と基板Ｗとの間に隙間が形成されている。
【００４３】
次に、吸い込み部２２から流体を吸い込む。詳細には、第２ポンプ６が吸い込み部２２から流体を吸い込むように、制御部４は第２ポンプ６を制御する。これによって、基板Ｗは、第２支持面２１に吸着される。
【００４４】
次に、吹き出し部１２から基板Ｗに対して、流体を吹き出す。詳細には、第１ポンプ５が吹き出し部１２へと流体を供給するように、制御部４は第１ポンプ５を制御する。この吹き出し部１２から吹き出された流体によって、基板Ｗは第２支持面２１上に押し付けられる。
【００４５】
なお、吸い込み部２２からの流体の吸い込みよりも先に、吹き出し部１２からの流体の吹き出しを開始してもよい。また、吸い込み部２２からの流体の吸い込みと、吹き出し部１２からの流体の吹き出しとを同時に開始してもよい。
【００４６】
以上のように基板Ｗが第２支持面２１上に保持されると、次に、ベース部材３が第１支持部材１と第２支持部材２との位置関係を反転させる。詳細には、第１支持面１１が上方を向き、第２支持面２１が下方を向くように、ベース部材３が回転する。具体的には、ベース部材３が、円筒部３２の中心軸周りに、１８０度回転する。この結果、基板Ｗの表裏反転が完了する。
【００４７】
図３に示すように、反転工程が完了すると、制御部４は、まず、吸い込み部２２からの流体の吸い込みを停止した後に、吹き出し部１２からの流体の吹き出しを停止する。詳細には、制御部４は、第２ポンプ６を停止させた後に、第１ポンプ５を停止する。
【００４８】
以上説明したように、本実施形態に係る反転装置１００によれば、吸い込み部２２が流体を吸い込むことによって、第２支持面２１上に配置された基板Ｗを吸着させることができる。また、吹き出し部１２から吹き出された流体によって、基板Ｗを第２支持面２１へと押し付けることができる。このように第２支持面２１上において基板Ｗを保持した状態で、ベース部材３が回転することによって、基板Ｗは表裏反転する。このように、基板Ｗは、第１支持面１１と第２支持面２１とによって挟持されるのではなく、第２支持面２１上に吸着されるとともに流体によって押さえ付けられることによって保持される。この結果、基板Ｗを反転させる際の基板Ｗの損傷を抑制することができる。
【００４９】
［変形例］
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明はこれらに限定されるものではなく、本発明の趣旨を逸脱しない限りにおいて種々の変更が可能である。
【００５０】
変形例１
例えば、吹き出し部１２は、流体を吸い込み可能であってもよい。また、吸い込み部２２は、第２方向に向けて流体を吹き出し可能であってもよい。
【００５１】
変形例２
上記実施形態では、第１支持面１１は反転前において下方を向いており、第２支持面２１は反転前において上方を向いていたが、特にこれに限定されない。例えば、第１支持面１１は反転前において上方を向いており、第２支持面２１は反転前において下方を向いていてもよい。
【符号の説明】
【００５２】
１    第１支持部材
１１    第１支持面
１２    吹き出し部
２    第２支持部材
２１    第２支持面
２２    吸い込み部
３    ベース部材
４    制御部
８    第１多孔質シート
９    第２多孔質シート
１００    反転装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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