(57)【要約】【課題】エネルギ効率的であり、かつコスト的に有利な製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法を提供すること。【解決手段】上記課題は、第１製品ガス（Ｐ１）を生成する電解槽（Ｅ１）と、前記電解槽（Ｅ１）に下流側において接続された分離膜（Ｔ１）とを有する製品ガス処理装置（Ｇ１）であって、前記分離膜（Ｔ１）は、支持液膜（Ｓ１）及び／又はゼオライト膜（Ｚ１）を有し、前記第１製品ガス（Ｐ１）は、前記分離膜（Ｔ１）を少なくとも部分的に透過可能であり、前記第１製品ガス（Ｐ１）よりも高い純度を有する第２製品ガスを生成可能であることを特徴とする、製品ガス処理装置（Ｇ１）によって解決される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１製品ガス（Ｐ１）を生成する電解槽（Ｅ１）と、前記電解槽（Ｅ１）に下流側において接続された分離膜（Ｔ１）とを有する製品ガス処理装置（Ｇ１）であって、
前記分離膜（Ｔ１）は、支持液膜（Ｓ１）及び／又はゼオライト膜（Ｚ１）を有し、
前記第１製品ガス（Ｐ１）は、前記分離膜（Ｔ１）を少なくとも部分的に透過可能であり、前記第１製品ガス（Ｐ１）よりも高い純度を有する第２製品ガス（Ｐ２）を生成可能である
ことを特徴とする、製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項２】
前記第１製品ガス（Ｐ１）は、酸素及び／又は水によって交差汚染された、水素である
請求項１記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項３】
前記分離膜（Ｔ１）は、前記第１製品ガス（Ｐ１）の前記酸素及び／又は前記水を留めるように構成されている
請求項２記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項４】
前記支持液膜（Ｓ１）は、多孔質セラミック構造体（Ｋ１）を有し、
前記多孔質セラミック構造体（Ｋ１）は、毛管力によって分離液（ＴＦ１）を定着させるように構成されている
請求項１記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項５】
前記ゼオライト膜（Ｚ１）は、前記分離液（ＴＦ１）のための支持体として機能する
請求項４項記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項６】
前記分離液（ＴＦ１）は、ペルフルオロトリブチルアミン（ＰＴＦＢＡ）又はペルフルオロオクタナール（ＰＦＯ）を含む
請求項４又は５記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項７】
前記分離膜（Ｔ１）における圧力損失は、送風機（Ｂ１）によって解消可能である
請求項１から６のいずれか１項記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）。
【請求項８】
製品ガスを処理する方法であって、
第１製品ガス（Ｐ１）を生成する電解槽（Ｅ１）を用意し、
前記電解槽（Ｅ１）に下流側において接続される分離膜（Ｔ１）を用意し、
前記第１製品ガス（Ｐ１）が、該第１製品ガス（Ｐ１）よりも高い純度を有する第２製品ガス（Ｐ２）になるように、前記第１製品ガス（Ｐ１）を前記分離膜（Ｔ１）に通過させる
ことを特徴とする、方法。
【請求項９】
前記方法を、請求項１から７のいずれか１項記載の製品ガス処理装置（Ｇ１）によって実施する
請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記分離膜（Ｔ１）における圧力損失を解消するために、送風機（Ｂ１）を使用する
請求項８記載の方法。
【請求項１１】
前記電解槽（Ｅ１）による電気分解中に、水及び／又は酸素によって交差汚染された水素を、前記第１製品ガスとして用意する
請求項８から１０のいずれか１項記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法に関する。
【０００２】
本明細書にて開示される製品ガス処理装置は、任意の液体物質に適用可能であるが、本製品ガス処理装置の機能方法、及び本製品ガス処理装置の基礎となる課題は、この液体物質として水を基にして説明される。
【背景技術】
【０００３】
独国実用新案第２０２００７００５９６３号明細書は、水素及び酸素のための発生装置を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】独国実用新案第２０２００７００５９６３号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
電解槽は、水を水素と酸素に分解するために使用される装置である。電気分解中に発生する各製品ガス、とりわけ水素（Ｈ２）及び酸素（Ｏ２）は、工程上、それぞれ他方の製品ガスと、水／水蒸気とによって交差汚染されている。この交差汚染物質は、爆発性の限界値に到達した場合に安全性の問題を引き起こすおそれがある。この限界値は、酸素中における水素が約４％を超えるだけで達成されてしてしまう。この場合には、電気分解システムを強制的に遮断して初期化しなければならない。従って、アルカリ液回路を備えるアルカリ電解槽の場合、及び、差圧動作によるプロトン交換膜（Proton Exchange Membrane, PEM）に基づく電解槽の場合には、動作条件を制限しなければならない。この場合には例えば、電解槽の部分負荷運転に制限される可能性がある。
【０００６】
さらには、とりわけ製品ガスである水素の純度に対して非常に高い品質要求が課される。例えば安全規格を順守するために規定された９９．９９９％以上の純度レベルもその例外ではない。これに加えて多くの購入業者は、各自の技術的な意図を実現するために９９．９９９％以上の純度を有する水素を必要としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
この課題を解決するために、本発明は、第１の態様によれば、第１製品ガスを生成する電解槽と、前記電解槽に下流側において接続された分離膜とを有する製品ガス処理装置であって、前記分離膜は、支持液膜及び／又はゼオライト膜を有し、前記第１製品ガスは、前記分離膜を少なくとも部分的に透過可能であり、前記第１製品ガスよりも高い純度を有する第２製品ガスを生成可能である、ことを特徴とする製品ガス処理装置を提供する。
【０００８】
本発明はさらに、製品ガスを処理及び／又は精製する方法であって、第１製品ガスを生成する電解槽を用意し、前記電解槽に下流側において接続される分離膜を用意し、前記第１製品ガスが、該第１製品ガスよりも高い純度を有する第２製品ガスになるように、前記第１製品ガスを前記分離膜に通過させる、ことを特徴とする方法を提供する。
【０００９】
好ましい発展形態は、各従属請求項の対象である。
【発明の効果】
【００１０】
本明細書にて開示される製品ガス処理装置によれば、各製品ガス中におけるとりわけ易燃性又は爆発性の危険な交差汚染物質（Ｏ２中におけるＨ２及び／又はＨ２中におけるＯ２）を低減することにより、とりわけ動作安全性を改善することができる。
【００１１】
さらには、水素を酸素と反応させて水にすることでガス収率を減少させる再結合触媒による適用とは異なり、製品ガスからの交差汚染物質を再循環させることによって、製品ガス処理装置のガス収率を増加させることができる。
【００１２】
これに加えて、本明細書にて開示される製品ガス処理装置は、エネルギ消費量が多い精製工程（高温工程、圧力スイング工程）を回避することによって、及び／又は、例えば圧力スイング吸着の場合、又はパラジウム膜の場合、又は再結合触媒を使用した場合のような比較的大量の製品ガスを消費しないことによって、システム効率を改善することができる。とりわけ本発明が提案する解決方法は、パラジウム膜とは異なり、多くのエネルギを消費して２００℃を超える温度まで分離膜を加熱する必要性がなくなるという利点を有する。
【００１３】
本製品ガス処理装置はさらに、本製品ガス処理装置に使用される分離膜に関して、構成要素を削減し、水素及び／又は酸素を精製するために同一の構成要素を利用することによって、システム構造におけるコストの削減を実現する。
【００１４】
本発明の着想は、製品ガス処理装置において、電解槽からの少なくとも１つの製品ガスを処理、精製、及び／又は分離するための分離膜を使用することである。すなわち、本明細書にて開示される分離膜を用いることにより、第１製品ガス、好ましくは水素を、電気分解工程の操作上の交差汚染物質から処理、精製、及び／又は分離することが可能となる。この場合、分離膜は、電解槽の通常の動作条件（１００ｂａｒ未満、好ましくは１ｂａｒ〜３０ｂａｒの間）において動作可能であり、分離膜は、第１製品ガスの流れ方向において電解槽に下流側において接続することができ、分離膜及び電解槽は、製品ガス処理装置の構成要素である。換言すれば、分離膜の使用開始のためにシステム技術的に手間がかかる適合は必要ないので、分離膜を製品ガス処理装置に簡単に組み込むことが可能である。このような分離膜のためには、支持液膜（Supported Liquid Membrane, SLM）及び／又はゼオライト膜を使用することができる。この場合における分離作用は、とりわけ液体内、及び／又は孔内空間内、及び／又は支持体の小さい孔寸法内における、第１製品ガスの交差汚染された各成分の溶解度の違いと、拡散速度の違いとに基づいている。本明細書では、支持体（Support）なる用語は、支持構造体、例えば所定の孔寸法を有する合成セラミック支持構造体、又はゼオライト構造体であると理解される。この支持構造体の相応の孔内には、ガスを分離するための液体が固定されている。
【００１５】
好ましい発展形態によれば、前記第１製品ガスは、酸素及び／又は水によって交差汚染された水素である。本明細書における「交差汚染された」なる用語は、電解槽のカソードで生成された水素が、とりわけ反応物である水と、アノードで生成された酸素とによって汚染されうることを意味している。相応にして、電解槽のアノードで生成された酸素は、反応物である水と、カソードで生成された水素とによって汚染されうる。
【００１６】
さらなる好ましい発展形態によれば、前記分離膜は、前記第１製品ガスの前記酸素及び／又は前記水を留めるように構成されている。本明細書における「水」なる用語は、電解槽からの、反応物である水、残留水、及び／又は水蒸気であるとも理解することができる。第１製品ガスである水素から、交差汚染された成分、例えば酸素及び水を処理、精製、及び／又は分離することが好ましい。これら２つの汚染物質は、分離膜によって留めることができるからである。従って、本明細書にて開示される分離膜は、とりわけ例えば凝縮トラップ／水分離器のようなシステム構成要素や、例えば追加的な水分離器を必要とする再結合触媒を用いたガス分離ユニットに取って代わるものでる。
【００１７】
さらなる好ましい発展形態によれば、前記支持液膜（Support Liquid Membrane, SLM）は、多孔質セラミック構造体を有し、前記多孔質セラミック構造体は、毛管力によって分離液を定着させるように構成されている。とりわけ支持液膜によって、それぞれの交差汚染物質からの製品ガスの処理、分離、及び／又は精製が可能となる。支持液膜によればさらに、支持液膜を通過しない製品ガス又は交差汚染された成分を少なくとも部分的に回収することができる。この場合に有利には、とりわけ化学的及び／又は電気化学的反応は起こらず、例えば支持液膜の形態の分離膜の物理的特性（分子サイズ、溶解性、及び拡散性）に基づいて精製又は分離を実施することができる。
【００１８】
さらなる好ましい実施形態によれば、前記ゼオライト膜は、前記分離液のための支持体として機能する。支持液膜に代えて、又は支持液膜と組み合わせて、ゼオライト膜を使用することが可能であり、支持液膜と組み合わせる場合には、分離液のための支持体として使用することができる。ゼオライト膜は、数ナノメータ［ｎｍ］範囲又はそれ未満の孔寸法を有する構造体を有する。従ってこの構造体は、酸素及び水分子に対する障壁となり、これに対して水素分子は、本明細書にて開示されるゼオライト膜の構造体を通過することができる。この場合には、水素／窒素に関して１６００の分離係数が報告されている（参照："Hydrogen-permeable membranes composed of zeolite nano-blocks" by N. Nishiyama in Journal of Membrane Science 306 (2007) 349-354）。従って、水素／酸素の分離を簡単に実施することが可能である。換言すると、第１製品ガス、例えば交差汚染物質を有する水素を、例えばより高い純度を有する水素であって、従って電気分解工程の交差汚染物質が充分に除去されている第２製品ガスへと、簡単に精製することができる。
【００１９】
さらなる有利な発展形態によれば、前記分離液は、ペルフルオロトリブチルアミン（ＰＴＦＢＡ）又はペルフルオロオクタナール（ＰＦＯ）を含む。分離液としてのＰＴＦＢＡ（ペルフルオロトリブチルアミン）又はＰＦＯ（ペルフルオロオクタナール）は、酸素よりも水素に対する透過率が格段に高いことに起因して、約１００倍の水素又は酸素に対する有利な分離係数を有する（参照："Perfluorooctanol-based liquid membranes for H2/O2 Separation" by P. Leelachaikul et al. in Separation and Purification Technology 122 (2014) 431-439 及び "Supported perfluorotrubutylamine liquid membrane for H2/O2 Separation" by B. Castro-Dominguez in Journal of Membrane Science 448 (2013) 262-269）。
【００２０】
さらなる好ましい発展形態によれば、前記分離膜における圧力損失は、送風機によって解消可能である。送風機により、第１製品ガスが所要の圧力によって分離膜を通過して第２製品ガスへの処理が実施されるように、分離膜中又は分離膜の表面上にて発生する圧力差を補償することができる。この圧力差は、第１製品ガスが分離膜を貫通中に発生しうる。
【００２１】
製品ガス処理装置に関して開示された特徴は、本明細書にて開示される方法に対しても同様に開示されており、その逆もまた該当する。
【００２２】
本発明に係る装置の好ましい態様では、前記方法を、請求項１から７のいずれか１項記載の製品ガス処理装置によって実施する。
【００２３】
本発明に係る装置の好ましい態様では、前記分離膜における圧力損失を解消するために、送風機を使用する。
【００２４】
本発明に係る装置の好ましい態様では、前記電解槽による電気分解中に水及び／又は酸素によって交差汚染された水素を、前記第１製品ガスとして用意する。
【００２５】
以下では、本発明のさらなる特徴及び利点を、実施形態に基づいて図面を参照しながら説明する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態に基づく製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法を説明するための概略図である。
【図２】図１の分離膜を説明するための概略図である。
【図３】図１の分離膜の多孔質セラミック構造体を説明するための概略図である。
【図４】本発明のさらなる別の実施形態に基づく製品ガス処理装置、及び少なくとも１つの製品ガスを処理する方法を説明するための概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
図面における同一の参照符号は、同一の要素又は同一の機能を有する要素を表している。
【００２８】
図１は、本発明の第１実施形態に基づく製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法を説明するための概略図を示す。
【００２９】
図１は、製品ガス処理装置Ｇ１の概略図を示す。製品ガス処理装置Ｇ１は、第１製品ガスＰ１を生成する電解槽Ｅ１を含む。本実施例ではこの第１製品ガスＰ１を、電解槽Ｅ１のカソードで生成され、酸素及び／又は水によって交差汚染された水素とすることができる。これに代えて第１製品ガスＰ１を、アノードで生成され、水素及び／又は水によって交差汚染された酸素とすることもできる。
【００３０】
製品ガス処理装置Ｇ１はさらに、電解槽Ｅ１に下流側において接続された分離膜Ｔ１を含む。分離膜Ｔ１は、支持液膜Ｓ１及び／又はゼオライト膜Ｚ１を有する（図２参照）。第１製品ガスＰ１は、分離膜Ｔ１を少なくとも部分的に透過可能であり、この場合に、第１製品ガスＰ１よりも高い純度を有する第２製品ガスＰ２を生成可能である。第２製品ガスＰ２のより高い純度は、製品ガス処理装置Ｇ１の分離膜Ｔ１に起因するものとみなすことができる。分離膜Ｔ１は、第１製品ガスＰ１の酸素及び／又は水を留めるように構成されている。
【００３１】
このようにして、交差汚染された酸素の処理が可能である。しかしながら本実施例では、相応にして酸素、水、及び水素を含む第１製品ガスＰ１から水素を分離又は処理することのみが可能である。従って、酸素の精製又は利用が企図される場合には、できるだけ上流の追加工程において酸素を乾燥させる必要がある。この酸素の乾燥は、例えば凝縮によって実施することができ、分離膜を透過させる前に実施することが好ましい。
【００３２】
しかしながら第１製品ガスＰ１の処理は、交差汚染された水素の例に即して実施することが好ましい。本明細書にて開示される分離膜Ｔ１は、第２製品ガスＰ２、すなわちより高い純度を有する水素が得られると同時に、第１製品ガスＰ１の酸素及び水、すなわち交差汚染された水素の成分を留めることができるからである。すなわち酸素及び水は分離膜Ｔを透過せず、場合によってこの酸素及び水を再び電解槽Ｅ１に供給することが可能である。従って、本明細書にて開示される製品ガス処理装置Ｇ１は、とりわけ特に経済的である。酸素及び／又は水を電解槽Ｅ１に再循環させることができるからである。
【００３３】
図１の製品ガス処理装置Ｇ１はさらに、送風機Ｂ１を含む。送風機Ｂ１は、分離膜Ｔ１における圧力損失を解消するために使用することができ、製品ガス処理装置Ｇ１の任意の要素である。例えば電解槽Ｅ１が差圧によって動作する場合には、送風機Ｂ１を省略することができる。下流側において接続された圧縮段によって、ほんのわずかに多くの圧縮仕事を供給するだけでよいからである。
【００３４】
図２は、図１の分離膜を説明するための概略図を示す。
【００３５】
図２は、保持物空間Ｔ１１及び透過物空間Ｔ１３を用いた分離膜Ｔ１の機能方法を示す。保持物空間Ｔ１１と透過物空間Ｔ１３の間には、支持液膜Ｓ１及び／又はゼオライト膜Ｚ１が配置されている。支持液膜Ｓ１及び／又はゼオライト膜Ｚ１は、分離膜Ｔ１の組成に応じて分離液ＴＦ１を含む。分離膜Ｔ１が支持液膜Ｓ１を含む場合には、支持液膜Ｓ１は、多孔質セラミック構造体Ｋ１を有する。この多孔質セラミック構造体Ｋ１は、毛管力によって分離液ＴＦ１を定着させるように構成されている（図３参照）。分離膜Ｔ１がゼオライト膜Ｚ１を含む場合には、ゼオライト膜Ｚ１は、数ナノメータ範囲又はそれ未満の孔寸法を有する構造体を有することができ、従ってこの構造体は、酸素及び水に対する障壁となり、これに対して水素は、本明細書にて開示されるゼオライト膜の構造体を通過することができる。
【００３６】
図２に示された分離膜Ｔ１は、支持液膜Ｓ１及び／又はゼオライト膜Ｚ１が保持物空間Ｔ１１と透過物空間Ｔ１３とを離隔するように機能する。電解槽Ｅ１にて生成された第１製品ガスＰ１は、まず保持物空間Ｔ１１に入る。支持液膜Ｓ１及び／又はゼオライト膜Ｚ１は、分離係数比によって酸素及び水Ｐ１”を留保し、その一方で水素は、第２製品ガスＰ２として保持物空間Ｔ１１から透過物空間Ｔ１３に拡散する。その後、第２製品ガスＰ２は、透過物空間Ｔ１３から出る。
【００３７】
図３は、図１の分離膜の多孔質セラミック構造体を説明するための概略図を示す。
【００３８】
図３の分離膜Ｔ１は、多孔質セラミック構造体Ｋ１を含む支持液膜Ｓ１を有する。多孔質セラミック構造体Ｋ１は、例えば多数の毛管を有することができ、これらの毛管の直径は、分離液ＴＦ１が毛管力に基づいて毛管内又は多孔質セラミック構造体内に固定されるように小さく構成されている。例えば毛管の直径は、数ナノメータである。
【００３９】
支持液膜Ｓ１に代えて、又は支持液膜Ｓ１と組み合わせて、ゼオライト膜Ｚ１を使用することが可能である。支持液膜Ｓ１と組み合わせる場合には、ゼオライト膜Ｚ１は、分離液ＴＦ１のための支持体として使用することができる。ゼオライト膜Ｚ１は、数ナノメータ範囲又はそれ未満の孔寸法を有する構造体を含む。この構造体は、酸素及び水に対する障壁となり、これに対して水素又は水素分子は、ゼオライト膜Ｚ１を通過することができる。この場合には、分離のために分離膜Ｔ１の両側間において数ｂａｒの増加した差圧が必要となることを考慮すべきであり、従って、分離膜の安定性を保証するための構造的な手段が必要となる。分離膜面積を比較的大きくしたい場合には、例えば比較的小さい複数の分離膜面を並列接続して積層体の形態で構成すること、及び／又は、処理、精製、並びに／若しくは分離のために設けられた１つの分離膜面のために適切な支持体を使用することが考えられる。この場合には用意すべき圧力差のために、分離膜面積を考量して選択すべきである。製品ガスを圧縮するためのエネルギ消費量を削減するためには、例えば処理のために設けられた活性の分離膜面積を拡大することができる。しかしながら、必要とされる圧力差を、例えば電解槽Ｅ１又は別個の圧縮機において直接電気化学的に用意することも可能である。
【００４０】
図４は、本発明のさらなる別の実施形態に基づく製品ガス処理装置、及び少なくとも１つの製品ガスを処理する方法を説明するための概略図を示す。
【００４１】
図４の製品ガス処理装置Ｇ１は、第１製品ガスＰ１を処理するための電解槽Ｅ１を含み、このために反応物として水が電解槽Ｅ１に供給される。カソード側では、処理上又は操作上の交差汚染物質を有する水素が発生する（ここではつまり第１製品ガスＰ１）。第１製品ガスＰ１は、分離膜Ｔ１へと導かれ、そこで酸素Ｐ２’と水素Ｐ２とに分離される。水を分離するための上流の装置Ｅ１’は、任意の要素として機能し、第２製品ガスＰ２，Ｐ２’を得るために必須のものではない。それと同時にアノード側では、対応する交差汚染物質を有する酸素Ｐ１’が発生する。電解槽Ｅ１からの、反応物である水の含有率は、水素Ｐ１の場合よりも多い。この水は、装置Ｅ１’と再循環経路とを介して電解槽Ｅ１へと再循環させることができる。分離膜Ｔ１では、相応にして水素と酸素の分離が実施される。任意選択的に、分離膜Ｔ１によって留保された第１製品ガスＰ１の対応する成分を、相応にして精製された第２製品ガスＰ２，Ｐ２’と混合させ、これによって第２製品ガスＰ２又はＰ２’の収率を増加させることが可能である。
【００４２】
以下では、２つの適用例に基づいて、水素又は酸素の処理又は精製についてより詳細に説明する。ここに挙げられたパラメータは、製品ガス処理装置、及び本明細書にて開示される方法を制限するものではない。
【００４３】
例えば、精製された水素を得るためのガス体積流量は、２．３Ｎｍ３／ｈとすることができる。この場合には、電解槽の後の水素の純度は９９．９４％であり、この水素（第１製品ガスＰ１）は、０．０５％の水と０．０１％の酸素とによって交差汚染されている。第１製品ガスＰ１を処理するために使用される分離膜Ｔ１は、以下のパラメータを有しており、すなわち分離係数が１６００であり、Ｈ２透過性が４×１０−８ｍｏｌ×ｍ−２×ｓ−１×Ｐａ−１であり、ステージカット／ガス保持率が９５％であるゼオライト膜ＺＩである。上記の条件では、単段式の配置の場合、約２０ｄｍ２の分離膜面積が必要である。分離膜Ｔ１の両側間で利用された圧力降下は、３０ｂａｒである。結果として、以下の値が得られる。すなわち、透過物：純度９９．９９９４８％の水素（２．１９Ｎｍ３／ｈ）であり、保持物：０．１２Ｎｍ３／ｈ、そのうち９８．８％がＨ２である（残りの成分には、酸素及び水が含まれる）。
【００４４】
電解槽Ｅ１が差圧によって動作する場合には、分離膜の両側間での推定圧力差は、操作上既に用意されている。任意選択的に、分離膜Ｔ１の上流に設けられる付加的な送風機Ｂ１によって、又は、分離膜Ｔ１の出口に設けられる真空ポンプによって、この圧力を用意してもよい。例えば分離膜面積を拡大することによって、必要とされる圧力差を低減することも可能であり、この場合には、複数の分離膜Ｔ１を上下に重ね合わせて配置し、並列接続して積層体の形態で配置することができる。
【００４５】
以上をまとめると、このようにして、エネルギ効率的であり、かつコスト的に有利な製品ガス処理装置、及び製品ガスを処理する方法が提供される。
【００４６】
本発明を、好ましい実施形態を参照しながら説明してきたが、本発明は、これらの実施形態には限定されていない。とりわけ、上述した材料及び構造は単なる例示であり、記載された実施例には限定されていない。
【図１】
2016150340.tif 000003
【図２】
2016150340.tif 000004
【図３】
2016150340.tif 000005
【図４】
2016150340.tif 000006