(57)【要約】      （修正有）【課題】印刷法により、簡易、簡便に形成ができ、耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有し、密着性、屈曲性及び低反り性に優れ、かつ、保存安定性が良好である印刷可能な硬化物の提供。【解決手段】一般式[Ｉ]で表される繰り返し単位を有するポリイミド。2016113498.tif 000011〔Ａｒ1は任意の４価の有機基；Ａｒ2は任意の２価の有機基；Ｒ1及びＲ2のいずれか一方が三重結合；ｍは２〜１００〕【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式[Ｉ] で表される繰り返し単位を有する、ポリイミド。
【化１】
2016113498.tif 000010
〔上記式中、
Ａｒ1は任意の４価の有機基であり、
Ａｒ2は任意の２価の有機基であり、
Ｒ1及びＲ2のいずれか一方が三重結合を有する官能基であり、
ｍは、２以上６０以下である。〕
【請求項２】
前記ポリイミドが、熱硬化温度３００℃以下であり、前記ポリイミドの硬化物のガラス転移温度が２２０℃以上である、請求項１に記載のポリイミド。
【請求項３】
前記三重結合を有する官能基が、４−エチニルフタル酸無水物、４−メチルエチニルフタル酸無水物、フェニルエチニルトリメリット酸無水物のいずれか一種である、請求項１又は２に記載のポリイミド。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載のポリイミドと、有機溶媒とを含んでなる、印刷用組成物。
【請求項５】
前記ポリイミドにおける残存アミン末端と反応する硬化剤をさらに含んでなる、請求項４に記載の印刷用組成物。
【請求項６】
前記硬化剤が、エポキシ、ビスマレイミド、ビスオキサゾリン化合物のいずれかである、請求項５に記載の印刷用組成物。
【請求項７】
２５℃における粘度が、１００〜５０，０００ｍＰａ・ｓである、請求項４〜６の何れか一項に記載の印刷用組成物。
【請求項８】
チキソトロピー係数が、１．５〜６．０である、請求項４〜７の何れか一項に記載の印刷用組成物。
【請求項９】
スクリーン印刷法、インクジェット法、又はディスペンス法に用いられる、請求項４〜８の何れか一項に記載の印刷用組成物。
【請求項１０】
請求項４〜９の何れか一項に記載の印刷用組成物を基材に印刷し、乾燥し、及び、
ポリイミドから成る膜を形成することを含んでなる、膜の形成方法。
【請求項１１】
前記印刷が、スクリーン印刷法、インクジェット法又はディスペンス法により行われてなる、請求項１０に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本願発明は、（熱硬化性）ポリイミド並びにそれを含む印刷用組成物及びそれを用いた膜の形成方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂は、耐熱性、電気特性及び耐湿性に優れた絶縁膜及び保護膜として利用されている。この中でも特に、ポリイミド樹脂が耐熱性、絶縁性の観点から多く用いられている。
【０００３】
ポリイミド（樹脂）を含む樹脂組成物としては、ポリイミドの前駆体であるポリアミック酸溶液を用いる方法、溶剤に可溶なポリイミドを用いる方法の２つに大別できる。前者は、低温保管が必要であり、長期保管が困難であるとされており、また、湿度などの環境による影響が大きいことが指摘されている。一方、後者は、粘度や固形分などの最適化が難しく、調製したポリイミド膜の耐溶剤性が低くことが知られている。
【０００４】
ポリイミド樹脂の上記特質を改善する目的で、熱硬化を付与する試みが多く提案されている。例えば、特許文献１（特開２０００−２５６５３６号公報）では、エポキシ樹脂を用いる方法が提案されており、特許文献２（特開２００７−３０８６７６号公報）では、マレイミドを用いる方法が提案されている。しかし、特許文献１及び２の提案においては、難燃性の低下など解決すべき課題がある。また、特許文献３（特開２０１１−１３２１６８号公報）では、イミドオリゴマーの末端に反応性の三重結合（エチニル基）を導入する方法が提案されており、特許文献４（特開２０１１−２３１３１８号公報）では、イミドオリゴマーに原料であるエチニルフタル酸誘導体を添加する方法が提案されている。しかし、特許文献３及び特許文献４であっても、架橋密度が大きく、熱硬化収縮が無視できないこと、及び固く脆くなりやすくなること等の解決すべき課題が存在する。また、特許文献５（特開２００３−２１３１３０号公報）では、特定の分子量を持ったポリイミドの末端にフェニルエチニル基を導入する方法が提案されている。しかし、特許文献５においても、樹脂組成物の硬化温度は、少なくとも３００℃以上が必要であり、他の材料と組み合わせが容易ではなく、基板等の製造設計に大きな制約があった。
【０００５】
他方、絶縁膜の形成方法として、印刷用組成物を用いた、スクリーン印刷法、インクジェット法、ディスペンス法がある。これらの方法は、必要な部分のみに直接かつ緻密に描写が可能であり、かつ、簡便で安価な膜形成方法である。しかし、従来の熱硬化性ポリイミド樹脂は、その物性故に、これら印刷方法に十分対応する印刷用組成物として調製することは困難であった。実際、従来の熱硬化性ポリイミド樹脂を、上記印刷方法を用いて印刷することを試みた場合、版詰まり、ノズル詰まりなどの現象が生じ、連続して印刷することが困難であった。
【０００６】
従って、今なお、スクリーン印刷法、インクジェット法、ディスペンス法等の簡易な印刷方法において、印刷可能な熱硬化性ポリイミドの開発が急務とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−２５６５３６号公報
【特許文献２】特開２００７−３０８６７６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１３２１６８号公報
【特許文献４】特開２０１１−２３１３１８号公報
【特許文献５】特開２００３−２１３１３０号公報
【発明の概要】
【０００８】
本発明者等は、本発明時において、特定の官能基を有するポリイミド化合物によれば、低温度（例えば、３００℃以下）での硬化処理が可能であり、その硬化物は耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有し、密着性、屈曲性及び低反り性に優れ、かつ、保存安定性が良好である絶縁膜を従来の印刷方法によって簡易簡便に形成することができるとの知見を得た。従って、本発明は、係る知見に基づいてなされたものである。
【０００９】
従って、本願発明によれば、下記一般式[Ｉ] で表される繰り返し単位を有するポリイミドを提案することができる。
【００１０】
【化１】
2016113498.tif 000002
〔上記式中、
Ａｒ1は任意の４価の有機基であり、
Ａｒ2は任意の２価の有機基であり、
Ｒ1及びＲ2のいずれか一方が三重結合を有する官能基であり、
ｍは、２以上１００以下である。〕
【００１１】
本発明の別の態様によれば、ポリイミドと、該ポリイミドを溶解する有機溶媒とを含む印刷用組成物を提案することができる。また、該印刷用組成物を基層上に塗布し、乾燥し、及びポリイミド膜から成る（絶縁）膜を形成することを含んでなる、形成方法をも提案することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、耐熱性、電気特性、機械的特性及び不燃性等の特性を有する（熱硬化性）ポリイミドを提案することができる。そして低温度（例えば、３００℃以下）での温度処理が可能となり、他の材料への熱的ストレスを減少させることが可能となる。また、（熱硬化性）ポリイミドの硬化物は、そのガラス転移温度が２２０℃以上、耐熱温度４００℃以上であることから、高耐熱性、高電気特性、高機械特性、不燃性を有する絶縁膜を達成することができる。また、本発明による熱硬化性ポリイミドは、印刷機器に装填することが可能となり、かつ、スクリーン印刷等の簡便な印刷方法により絶縁膜を容易に形成することが可能となる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
〔ポリイミド〕
本発明が提案するポリイミドは、下記一般式[Ｉ]で表されるものである。
【化２】
2016113498.tif 000003
〔上記式中、
Ａｒ1は任意の４価の有機基であり、
Ａｒ2は任意の２価の有機基であり、
Ｒ1及びＲ2のいずれか一方が三重結合を有する官能基であり、
ｍは、２以上１００以下である。〕
【００１４】
（Ｒ1及びＲ2）
Ｒ1及びＲ2のいずれか一方が三重結合を有する官能基である。三重結合を有する官能基は、エチニル基、メチルエチニル基、フェニルエチニルカルボニル基が好ましく、具体的には４−エチニルフタル酸無水物、４−メチルエチニルフタル酸無水物、フェニルエチニルトリメリット酸無水物を用いてポリイミドの末端に導入するのが好ましい。
【００１５】
また、三重結合を有する基の割合が全末端数に対して、２０％以上１００％未満であり、好ましくは３０％以上１００％以下である。この割合は、エチニル化合物の添加量を変えることにより制御することが可能である。エチニル化合物が反応していない末端部分の構造は、ポリイミド原料であるジアミン化合物由来のアミノ基となる。このアミノ基も硬化反応に利用することができ、熱特性、機械特性等の制御、架橋密度の制御等が可能となる。
【００１６】
全末端数に対して１００％未満となることにより、硬化によるガラス転移温度の上昇度、耐熱性が最も高く、最も好適となり、硬化物が固く脆くなることを抑制することが可能となる。全末端数に対して２０％以上とすることにより、硬化後の耐薬品性等の性能を満足させることが可能となり、かつ、エポキシ等の硬化剤の増量を抑制し、難燃性等の諸問題の発生を抑制することができる。
【００１７】
（Ａｒ1）
Ａｒ1は任意の４価の有機基である。Ａｒ1としては、下記一般式[II]で表される構造体が好ましくは挙げられる。
【化３】
2016113498.tif 000004
〔上記式中、
Ｅは、単結合、−Ｃ≡Ｃ−（好ましい）、−Ｏ−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、又は−Ｃ（ＣＦ3）2−を表す。〕
【００１８】
一般式 [II]で表わされる構造体の中、テトラカルボン酸二無水物が好ましくは挙げられる。より好ましくは、下記式[III]で表される４，４−（１，２−エチニル）ビスフタル酸無水物を挙げることができる。
【００１９】
【化４】
2016113498.tif 000005
【００２０】
テトラカルボン酸二無水物のその他の好ましい例としては、ピロメリット酸二無水物、２，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エ−テル二無水物、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４’−（４，４’−イソプロピリデンジフェノキシ）ビスフタル酸二無水物、及び１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物等の一種又は二種以上の組み合わせが挙げられ、好ましくは、溶解性の問題からビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エ−テル二無水物、３，３’，４，４’−ビフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。
【００２１】
（Ａｒ2）
Ａｒ2は任意の２価の有機基である。Ａｒ1としては、下記一般式[IV]乃至[VI]で表される構造体を包含するジアミンが好ましくは挙げられる。
【化５】
2016113498.tif 000006
〔上記式中、
Ｗは、−Ｃ（ＣＨ3）2−又は−Ｃ（ＣＦ3）2−を表す。〕
【化６】
2016113498.tif 000007
〔上記式中、
Ｘは、−Ｃ≡Ｃ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−Ｏ−、−Ｓ−、−（ＣＨ2）a−（ａは１〜５の整数を表す）、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−及び単結合から成る群より選択されてなるものであり、
（Ｒ1）及び（Ｒ2）は、互いに独立して、水素原子、水酸基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、Ｆ、ＣＬ及びＢＲから選択されてなるものであり、
Ｐ１、Ｐ２は、互いに独立して、１〜４の整数を表す。〕
【化７】
2016113498.tif 000008
〔上記式中、
Ｙ及びＺは、互いに独立して、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ2−、−Ｏ−、−Ｓ−、−（ＣＨ2）a−（ａは１〜５の整数を表す）、−ＮＨＣＯ−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−Ｃ（ＣＦ3）2−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−及び単結合から成る群から選択されてなり、
Ｒ3、Ｒ4及びＲ5は、互いに独立して、水素原子、水酸基、カルボキシル基、炭素数１〜４のアルキル基、フェニル基、Ｆ、ＣＬ及びＢＲから選択されてなるものであり（但し、Ｒ3、Ｒ4及びＲ5の少なくとも１つは炭素数１〜４のアルキル基である）、
Ｐ３、Ｐ４及びＰ５は、互いに独立して、１〜４の整数を表す。〕
【００２２】
一般式[IV]で表わされる構造体を含むジアミンの好ましい例として、２，２−ビス[４−（４−アミノフェノキシ）フェニル]プロパン、２，２−ビス[４−（４−アミノフェノキシ）フェニル]ヘキサフルオロプロパン、α，α−ビス[４−（４−アミノフェノキシ）フェニル]−１，３−ジイソプロピルベンゼン、及びα，α−ビス[４−（４−アミノフェノキシ）フェニル]−１，４−ジイソプロピルベンゼンを挙げることができる。
【００２３】
一般式[V]で表わされる構造体を含むジアミンの好ましい例として、３，７−ジアミノ−ジメチルジベンゾチオフェン ５，５−ジオキシド、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−アミノフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−メチルフェニル）ヘキサフルオロプロパン、３，４'−ジアミノジフェニルエーテル、４，４'−ジアミノジフェニルエーテル、３，３'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４'−ジアミノジフェニルスルホン、４，４'−ジアミノジフェニルスルフィド、５,５'-メチレンビス(2-アミノ安息香酸)、３，３'−ジアミノ−４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルフォンを挙げることができる。
【００２４】
一般式[VI]で表わされる構造体を含むジアミンの好ましい例として、１，３−ビス（３−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、α，α−ビス（４−アミノフェニル）−１，３−ジイソプロピルベンゼン、α，α−ビス（４−アミノフェニル）−１，３−ジヘキサフルオロイソプロピリデンベンゼン、α，α−ビス（４−アミノフェニル）−１，４−ジイソプロピルベンゼン、α，α−ビス（４−アミノフェニル）−１，４−ジヘキサフルオロイソプロピリデンベンゼンを挙げることができる。
【００２５】
ジアミンのその他の好ましい例としては、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，４（６）−ジアミノ−３，５−ジエチルトルエン、５（６）−アミノ−１，３，３−トリメチル−１−（４−アミノフェニル）−インダン、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、４，４’−ジアミノ−２，２’−ジトリフルオロメチル−１，１’−ビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジメチル−１，１’−ビフェニル、４，４’−（９−フルオレニリデン）ジアニリン、９，９’−ビス（３−メチル−４−アミノフェニル）フルオレン等からなる群から選択されてなる一種又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００２６】
本発明による好ましい態様によれば、ヒドロキシル基、カルボキシル基を有するジアミンを用いることで可能であり、これにより、ポリイミドにＯＨ基、ＣＯＯＨ基を導入することも可能である。エポキシやビスオキサゾリン化合物は、ヒドロキシル基とも反応するので、三次元の架橋反応が可能である。
【００２７】
ヒドロキシル基を有するジアミンの具体例としては、３，３’−ジアミノ−４，４’−ジヒドロキシ−１，１’−ビフェニル、４，４’−ジアミノ−３，３’−ジヒドロキシ−１，１’−ビフェニル、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−アミノ−４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、１、３−ビス（３−ヒドロキシ−４−アミノフェノキシ）ベンゼン、２，２−ビス（３−ヒドロキシ−４−アミノフェニル）ベンゼン、３，３'−ジアミノ−４，４'−ジヒドロキシジフェニルスルフォンが挙げられる。
カルボキシル基を有するジアミンの具体例としては、３，５−ジアミノ安息香酸、５,５'-メチレンビス(２−アミノ安息香酸) 、３，５−ビス（４−アミノフェノキシ）安息香酸、１，３−ビス（４−アミノ−２−カルボキシフェノキシ）ベンゼンが挙げられる。
【００２８】
〔ポリイミドの製造方法〕
本発明によるポリイミドは、公知の方法により合成することができる。
テトラカルボン酸二無水物とジアミンを有機溶媒に溶解させて、触媒の存在下、直接イミド化により製造することができる。触媒としては、無水酢酸／トリエチルアミン系、バレロラクトン／ピリジン系などが例示できる。本発明の好ましい態様によれば、トルエンなどの脱水剤を用いて、イミド化により生成した水を共沸させながらイミド化することが例示される。
【００２９】
テトラカルボン酸二無水物と、ジアミンとの混合比は、１：１．０２以上１．５以下とされてなり、好ましくは、１：１．０５以上１．３５以下であるのが好ましい。すなわち、ジアミンを過剰量とすることにより反応中間物であるジアミン末端のポリイミドを合成し、なおかつ、ジアミンの過剰量を変えることにより、その分子量を制御することができる。例えば、混合比を１：１．２（＝５：６）とすると一般式[Ｉ]の理論的なｍ数は、５となる。また、ジアミンの数値が小さくなるほど理論的なｍ数は大きくなり、ポリイミドの分子量が大きくなる。
【００３０】
混合比が１．０２以上であることにより、架橋反応点が十分となり、熱硬化によるガラス転移の上昇、耐溶剤性の向上をうることが可能となる。また、混合比が１．５以下であることにより、架橋後の塗膜の機械物性が好ましいものとなり、固く脆くなることを有効に抑制することが可能となる。このようにしてできたアミン末端のポリイミドに、上記エチニル化合物を末端数に対して２０％以上１００％未満の量で反応させることにより、一般式[Ｉ]に示したポリイミド樹脂を容易に得ることができる。反応温度は、８０℃以上２５０℃以下であり、好ましくは、１２０℃以上２００℃以下とすることが好ましく、反応時間は、バッチの規模、採用される反応条件などにより適宜選択することができる。
【００３１】
本発明の別の好ましい態様によれば、エチニルフタル酸無水物の代わりに、３−又は４−エチニルアニリンを用いることができる。この場合は、テトラカルボン酸二無水物の添加量を過剰にすることで、カルボン酸無水物末端のポリイミドを合成し、次いで３−又は４−エチニルアニリンを反応させることになる。この時、エチニルアニリンの量を少なくすると、導入されていない末端はカルボキシル基となる。従って、エチニルアニリンを用いる場合は、１００％エチニル末端になるように合成するのが最も好ましい。
【００３２】
〔ポリイミドの物性〕
本発明によるポリイミドは、好ましくは、数平均分子量として、２、０００以上６０、０００以下であり、好ましくは４、０００以上４０、０００以下であることがより好ましい。数平均分子量が２、０００以上であると、硬化後に良好な機械物性を得ることが可能となり、固く脆くなることを減少させることが可能となる。また、６０、０００以下であると粘度が適正な範囲となり、固形分を低くする必要性が少なくなる。上記数値範囲とすることにより、１回の塗布で所望の膜厚を十分に得ることが可能となる。また、インクジェット印刷方法に使用する場合には、粘度が適正な数値となることが可能となるので好ましい。
数平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）装置により標準ポリスチレンを用いて作成した検量線を基礎としたポリスチレン換算値として測定することが可能である。
【００３３】
〔印刷用組成物〕
本発明の好ましい態様によれば、本発明によるポリイミドを包含する印刷用組成物（好ましくは、インク組成物）を提案することができる。本発明による印刷用組成物は、本発明によるポリイミドと、有機溶媒と、必要に応じてフィラーと、任意成分とを少なくとも含んでなる。
【００３４】
（有機溶媒）
ポリイミドは先の述べた通りであり、有機溶媒は、いずれのものであってよいが、フィラーを添加する場合には、該フィラーを溶解するものが好ましくは用いられる。
有機溶媒の好ましいものとしては、スクリーン印刷に適し、低温で乾燥させることを望む場合には、有機溶剤の大気圧下での沸点が８０℃以上３００℃未満であり、より好ましくは１２０℃以上２５０℃未満であるものが好ましい。
有機溶媒の沸点が８０℃以上であることにより、スクリーン印刷において乾燥が適切に行われて好ましい印刷が可能となり、有機溶媒の沸点が３００℃以下であることにより、低温での乾燥が適正な時間で行われ印刷後の乾燥が迅速に行われるので好ましい。
【００３５】
有機溶媒の具体的としては、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、ジプロピレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル、ジベンジルエーテル等のエ−テル類、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピルアセテート、プロピレングリコールジアセテート、ブチルアセテート、イソブチルアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、ンジルアセテート、ブチルカルビトールアセテート等のアセテート類、乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ブチル、安息香酸メチル、安息香酸エチル等のエステル類、トリグライム、テトラグライム等のグライム類、アセチルアセトン、メチルプロピルケトン、メチルブチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、２−ヘプタノン等のケトン類、ブチルアルコール、イソブチルアルコール、ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、３−メチル−２−ブタノール、３−メチル−３−メトキシブタノール、ジアセトンアルコール等のアルコール類、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、その他、γ−ブチロラクトン、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ジメチルスルホキシドなどが挙げられる。
【００３６】
（添加量）
印刷用組成物中のポリイミドの割合は、樹脂固形分として、印刷方法によって適宜定めることが可能であるが、スクリーン印刷の場合１５重量％以上５０重量％以下であり、好ましくは２５重量％以上であり４０重量％以下である。１５重量％以上であることにより、１回の印刷塗布で形成できる膜の膜厚が十分な厚さを有するものとなり、複数回の印刷が必要となるので経済的、効率的にみて好ましい。また、５０重量％以下であることにより、印刷用組成物の粘度が上昇することを抑制することができ、版離れ、レベリング性の面で好ましい印刷を実現することが可能となる。また、インクジェット印刷の場合は、印刷用組成物の低粘度性が重要となることから、印刷用組成物中のポリイミドの割合は、樹脂固形分として、５重量％以上２０重量％以下であることがより好ましい。
【００３７】
（硬化剤）
本発明の好ましい態様によれば、（熱）硬化剤をさらに含んでなるものが好ましいまた、印刷用組成物の調製の際に、本発明によるポリイミドの末端基において、架橋密度を制御し、或いは、エチニル化合物で修飾していないことにより、ポリイミドの残存アミノ基と反応するような硬化剤を包含することができるので好ましい。
上記のアミノ基と反応する硬化剤としては、アミン（アミノ基）と反応すれば特に制限はないが、エポキシ、ビスマレイミド、ビスオキサゾリン化合物等が好適である。
【００３８】
（粘度）
印刷用組成物の粘度は、２５℃において、１００ｍＰａ・ｓ以上５０、０００ｍＰａ・ｓ以下が好ましく、５００ｍＰａ・ｓ以上４０、０００ｍＰａ・ｓ以下がより好ましい。５００ｍＰａ・ｓ以上であることにより、印刷用組成物の液ダレ等を防止し、充分な膜厚と解像度を得ることができるので好ましく、４０、０００ｍＰａ・ｓ以下であることにより、転写性、印刷作業性等が向上するからである。
【００３９】
（チキソトロピー性／フィラー添加）
スクリーン印刷では、パターンダレを防止する目的で、印刷用組成物のチキソトロピー性が重要な事項となる。チキソトロピー性は、ポリイミド自身が有している場合もあるが、ポリイミド自身がチキソトロピー性を有していない場合には、フィラーを添加することにより付与することができる。
【００４０】
チキソトロピー性を付与するためのフィラーとしては、有機又は無機のフィラーであってよく、好ましくは、無機フィラー、より好ましくは、シリカ、アルミナ、チタニア、銀、銅のうち少なくとも一種類からなる無機フィラーを挙げることができる。
具体的には、無定形シリカ、取り分け、平均直径が０．０１μｍ以上０．０３μｍ以下の無定シリカが好ましく、及び/又は、球状シリカ、アルミナ、又はチタニアが好ましく、取り分け、平均粒径が０．１μｍ以上０．３μｍ以下の球状シリカを挙げることができる。また、保存安定性などを高める目的でトリメチルシリル化剤などにより表面処理された無機フィラーを使用することがより好ましい。
印刷用組成物中の無機フィラーの含有量は、０重量％以上５０重量％以下であり、好ましくは２重量％以上３０重量％以下である。
【００４１】
印刷用組成物は、２５℃におけるチキソトロピー係数が１．５以上６．０以下であり、好ましくは１．８以上５以下がより好ましい。チキソトロピー係数が１．５以上であることにより、スクリーン印刷により充分な解像性が得られることができ、また、６．０以下であることにより、印刷時の作業性を向上させることが可能となる。
【００４２】
（任意成分）
印刷用組成物には、必要に応じて、着色剤、消泡剤、レベリング剤、密着性付与剤等の任意成分（添加剤）を添加することができる。
着色剤としては、顔料（好ましい）又は染料であってよく、ＲＧＢのいずれの色であってもよく、例えば、フタロシアニン・ブルー、フタロシアニン・グリーン、アイオジン・グリーン、ジスアゾイエロー、クリスタルバイオレット、酸化チタン、カーボンブラック、ナフタレンブラック等が挙げられる。また、増色剤、発色剤等を添加してもよい。
消泡剤としては、印刷、塗工時及び硬化時に生じる泡を消すために用いられ、アクリル系、シリコーン系等の界面活性剤が適宜用いられる。具体的には、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉ社のＢＹＫ−Ａ５０１、ダウコーニング社のＤＣ−１４００、シリコーン系泡消剤として、日本ユニカー社のＳＡＧ−３０、ＦＺ−３２８、ＦＺ−２１９１、ＦＺ−５６０９等が挙げられる。
レベリング剤としては、印刷、塗工時に生じる皮膜表面の凹凸を失くすために用いられる。具体的には、約１００ｐｐｍ〜約２重量％の界面活性剤成分を含有させることが好ましく、アクリル系、シリコーン系等のレベリング剤により、発泡を抑えるとともに、塗膜を平滑にすることができる。好ましくは、イオン性不純物を含まない非イオン性のものである。
界面活性剤としては、例えば、３Ｍ社のＦＣ−４３０、ＢＹＫ Ｃｈｅｍｉ社のＢＹＫ−０５１、日本ユニカー社のＹ-５１８７、Ａ−１３１０、ＳＳ−２８０１〜２８０５が挙げられる。
密着性付与剤としては、イミダゾール系化合物、チアゾール系化合物、トリアゾール系化合物、有機アルミニウム化合物、有機チタン化合物、シランカップリング剤等が挙げられる。
任意成分（添加剤）は、ポリイミド（樹脂成分として）１００重量部に対して、１０重量部以下の配合量にすることが好ましい。配合量が１０重量部以下となることにより、形成された膜の物性が適切な範囲となり、また、揮発成分による環境汚染及び作業汚染といった問題を低減させることが可能となる。
【００４３】
（印刷方法）
本発明の別の態様によれは、本発明による印刷用組成物を用いた印刷方法を提案することができる。印刷方法は、本発明にあっては、スクリーン印刷法、ディスペンス法、インクジェット法等が好適には挙げられ、これらの中でも、大面積を短時間で塗布できるという点で、スクリーン印刷法が最も好適である。
【００４４】
（基材）
本発明による印刷方法によれば、好ましくは、印刷用組成物を基材に印刷することができる。基材としては、有機又は無機物質からなる基板、例えば、シリコンウェハ、セラミック基板、ガラス基板、ガラスエポキシ基板、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｌ基板を代表とする金属基板、ＰＩコーティング基板が挙げられる。
【００４５】
（膜形成）
本発明による印刷方法では、好ましくは、膜、特に、絶縁膜、保護膜を形成することが可能である。１回の塗布で、乾燥後の厚みが１μｍ以上、好ましくは２μｍ以上の膜を安定して形成することが可能である。絶縁信頼性を考慮すると１回の塗布で少なくとも５μｍ厚を得ることが望ましいため、スクリーン印刷法においては、線径５０μｍ以下かつ４２０メッシュ以上のメッシュ版及びゴム硬度７０度以上９０度以下の樹脂製スキージを用いてスクリーン印刷することが望ましい。メッシュ径、メッシュ数などのスクリーン版の仕様は、所望の膜厚、パターンサイズにより適宜選択することができる。
また、ディスペンス法にて細線描写が可能であり、塗布直後の線幅と比較してウェット塗膜の線幅が１日室温放置しても＋２０％以内であることを達成することが可能である。
さらに、インクジェット法にて細線描写が可能であり、塗布直後の線幅と比較してウェット塗膜の線幅が１日室温放置しても＋１００％以内であることを達成することが可能である。
【００４６】
印刷用組成物は、印刷後にレベリング、真空乾燥、最終のキュアプロセスを行なうことで、電気的特性、耐熱性、耐薬品性の優れた絶縁膜、保護膜を得ることができる。従って、これらの膜は、例えば、電気化学素子（電池、キャパシタ、ＥＬ素子、太陽電池）に使用することが可能である。好ましい態様によれば、レベリングは、１０分以上行なうことが好ましい。真空乾燥は、塗膜の仕上がりが良くなるため行なうことが好ましいが、レベリング剤や消泡剤を添加している場合には必ずしも必要とはしない場合がある。最終のキュア温度や時間は、ポリイミド樹脂組成物の溶剤や塗布した膜厚により適宜選択することができる。
【実施例】
【００４７】
本発明の内容を、以下の実施例及び比較例を用いて詳細に説明するが、本発明の内容はこれらの実施例の内容に制限して解釈されるものではなく、また、これらの実施例は当業者が実施できる好ましい態様を開示するものであり、これら実施例に基づいて、当業者が本発明の範囲に属する発明の全てを実施できることは言うまでもない。
【００４８】
〔ポリイミドの合成〕
（合成例１：１００％エチニル末端ポリイミド）
ステンレス製の碇型攪拌器を取り付けた１リットルのセパラブル３つ口フラスコに、ディーンズ・スターク・トラップを取り付けた。オキシジフタル酸無水物（ＯＤＰＡ）６２．０４ｇ（２００ミリモル）、２,２-ビス[４-(４-アミノフェノキシ)フェニル]プロパン（ＢＡＰＰ）９０．３１ｇ（２２０ミリモル）、ピリジン０．５ｇ、ガンマ−ブチロラクトン（ＧＢＬ）３００ｇ、トルエン３０ｇを仕込んだ。室温、窒素雰囲気下、２０ｒｐｍで３０分攪拌した後、１８０℃に昇温して１８０ｒｐｍにて４時間攪拌した。反応中、トルエン−水の共沸分を除いた。次いで、４−エチニルフタル酸無水物（ＥＰＡ）６．８９ｇ（４０ミリモル）、ＧＢＬ５３ｇを添加し、更に２時間攪拌を続けた。還流物を系外に除くことにより３０％濃度のポリイミド溶液を得た。一般式[Ｉ]中のｍの理論数は１０である。
【００４９】
（合成例２：６０％エチニル末端ポリイミド）
ＥＰＡ４．１３ｇ（２４ミリモル）、合計ＧＢＬ３４７ｇだった以外は、合成例１と同じ装置、原料、同じ重量、同じ反応条件にて反応を行なった。
【００５０】
（合成例３：０％エチニル末端ポリイミド、両末端アミンポリイミド）
ＥＰＡを添加せず、合計ＧＢＬ３３９ｇだった以外は、合成例１と同じ装置、原料、同じ重量、同じ反応条件にて反応を行なった。
【００５１】
（合成例４：両末端フェニルポリイミド）
ＥＰＡの代わりに無水フタル酸５．９２ｇ（４０ミリモル）を添加し、合計ＧＢＬ３５１ｇだった以外は、合成例１と同じ装置、原料、同じ重量、同じ反応条件にて反応を行なった。これにより、無反応性のポリイミドを得た。
【００５２】
〔印刷用組成物の調製〕
（実施例１）
合成例１で合成したワニスをそのまま用いた。
（実施例２）
合成例２で合成したワニスをそのまま用いた。
（実施例３）
合成例２で合成したワニスのポリイミド樹脂１００重量部に対し２０重量部の４，４'−ジフェニルメタンビスマレイミド（ＢＭＩ）を添加した。
（実施例４）
合成例２で合成したワニスのポリイミド樹脂１００重量部に対し２０重量部の１，３−ジオキサゾリンベンゼン（ＰＢＯ）を添加した。
【００５３】
（比較例１）
合成例３で合成したワニスをそのまま用いた。
（比較例２）
合成例３で合成したワニスのポリイミド樹脂１００重量部に対し２０重量部の１，３−ジオキサゾリンベンゼン（ＰＢＯ）を添加した。
（比較例３）
合成例４で合成したワニスをそのまま用いた。
【００５４】
〔成膜〕
実施例及び比較例の印刷用組成物を用いて基材上に成膜した。基材を銅箔（１８μｍ）とし、スクリーン印刷法により各組成物を塗布した。
具体的な塗布条件は、ポリエステルメッシュ＃４２０を用い、スキージ硬度８０度、アタック角７０度、クリアランス２．５ｍｍ、実印圧０．１５ＭＰａ、印刷速度８０ｍｍ／ｓｅｃとした。次に、１０分レベリング後、窒素雰囲気下で１００℃にて１０分、さらに２５０℃で１２０分乾燥、硬化反応させた。乾燥後、銅箔をエッチングすることによりポリイミドの独立膜とした。その膜厚は、約１５μｍであった。
【００５５】
〔評価方法〕
形成した塗膜の評価を以下の基準で判断し、その結果を表１に記載した。
【００５６】
（熱特性評価試験）
ガラス転移温度（Ｔｇ）を、島津社製ＤＳＣ−６０Ｐｌｕｓ及びＴＭＡ−６０にて測定した。熱分解温度を、島津社製ＴＧＡ−５０にて測定した。
【００５７】
（耐薬品性評価試験）
[評価方法]
評価用薬品をしみ込ませたウエスを２５℃、３０分間塗膜上に載せ放置した。
評価用薬品は、アセトン、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジメチルホルムアミド（Ｄ  ＭＦ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）とした。
[評価基準]
評価○：形成膜に何ら変化は生じず、形成された状態とほぼ同じ状態であった。
評価△：形成膜に一部変化（溶解、剥離等）が見られたが、形成膜としての機能はほぼ発揮されていた。
評価×：形成膜の表面に異常（波状、輪状模様等がの形成）又は溶解が見られ、形成膜として全く機能するものではなかった。
【００５８】
【表１】
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表１の略記は以下の通りである。
ＢＭＩ：４，４'−ジフェニルメタンビスマレイミド
ＰＢＯ：１，３−ジオキサゾリンベンゼン
Ｔｇ：ガラス転移温度
Ｔｄ５％：熱分解温度（５％重量減少温度）
【００５９】
[評価結果]
評価試験結果から明らかなように、実施例は、２５０℃の熱処理により硬化反応が起こっており、ガラス転移温度が上昇し耐溶剤性が向上していた。このため、実施例にあっては、少なくとも片末端をエチニル基にすることにより、新たに耐溶剤性などを付与することができる等の可能性が認められた。他方、比較例のものは、全く硬化反応が起こらず、例示したポリイミド本来の特性が現れており、形成膜としての体を成していなかった。比較例２のように、ポリイミドのアミン末端に、アミン用硬化剤を添加してもガラス転移温度の上昇、耐溶剤性の向上への寄与は小さかった。