(57)【要約】【課題】従来よりも溶融温度を低下させても、良好に溶解するシリカ原料を創案することにより、難溶性の珪酸塩ガラス、特に無アルカリガラスの泡個数を低減する。【解決手段】本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、シリカ原料を含むガラスバッチを溶融、成形して、珪酸塩ガラスを得る珪酸塩ガラスの製造方法において、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料を用いることを特徴とする。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シリカ原料を含むガラスバッチを溶融、成形して、珪酸塩ガラスを得る珪酸塩ガラスの製造方法において、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料を用いることを特徴とする珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項２】
シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０が４０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項１に記載の珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項３】
珪酸塩ガラスの歪点が６８０℃以上になるように、ガラスバッチを調製することを特徴とする請求項１又は２に記載の珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項４】
珪酸塩ガラスのガラス組成中のＡｓ２Ｏ３の含有量が０．０５質量％未満、Ｓｂ２Ｏ３の含有量が０．０５質量％未満、ＳｎＯ２の含有量が０．０１〜１質量％になるように、ガラスバッチを調製することを特徴とする請求項１〜３の何れか一項に記載の珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項５】
珪酸塩ガラスのガラス組成中のアルカリ金属酸化物の含有量が０．５質量％未満になるように、ガラスバッチを調製することを特徴とする請求項１〜４の何れか一項に記載の珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項６】
珪酸塩ガラスのガラス組成が、質量％で、ＳｉＯ２  ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３  ５〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１５％、ＣａＯ  １〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１５％、ＢａＯ  ０〜１５％を含有するように、ガラスバッチを調製することを特徴とする請求項１〜５の何れか一項に記載の珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項７】
オーバーフローダウンドロー法又はフロート法で平板形状に成形することを特徴とする請求項１〜６の何れか一項に記載の珪酸塩ガラスの製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７の何れか一項に記載の珪酸塩ガラスの製造方法により作製されたことを特徴とする珪酸塩ガラス。
【請求項９】
真球度が０．８９０未満であることを特徴とする珪酸塩ガラス用シリカ原料。
【請求項１０】
平均粒子径Ｄ５０が４０〜１２０μｍであることを特徴とする請求項９に記載の珪酸塩ガラス用シリカ原料。
【請求項１１】
天然珪砂であることを特徴とする請求項９又は１０に記載の珪酸塩ガラス用シリカ原料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、珪酸塩ガラスの製造方法、珪酸塩ガラス及び珪酸塩ガラス用シリカ原料に関し、例えば、液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の基板に好適な珪酸塩ガラスの製造方法、珪酸塩ガラス及び珪酸塩ガラス用シリカ原料に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ等に用いる珪酸塩ガラスとして、無アルカリガラス（ガラス組成中のアルカリ金属酸化物の含有量が０．５質量％未満の珪酸塩ガラス）が使用されている。無アルカリガラスは、難溶性であるため、アルカリ含有ガラスに比べて溶融し難いという特徴を有している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２０１５２４号公報
【特許文献２】特開２００４−０６７４０８号公報
【特許文献３】特開２０１３−１０７８０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
無アルカリガラス等の難溶性ガラスは、一般的に高温で溶融されるが、この場合、ガラス溶融窯で使用される耐火物がガラス融液に侵食され易くなり、ガラス溶融窯の寿命が短くなる。またエネルギー効率が低下して、環境的、且つ経済的に不利になる。
【０００５】
一方、溶融温度を低下させると、ガラス融液の均質性が低下し易くなり、脈理（スジ）、異物（ブツ）、泡等のガラス欠陥が発生し易くなる。脈理（スジ）や異物（ブツ）の品位は、ガラス融液を攪拌すると良化するが、泡の浮上速度を十分に高めることができないため、泡個数を低減することは困難である。
【０００６】
また、珪酸塩ガラスは、ＳｉＯ２を主成分とするガラスである。よって、ガラスバッチ中に占めるシリカ原料の割合は、他のガラス原料に比べて多くなる。そして、シリカ原料は、他のガラス原料に比べて、溶融時に溶け残り易い。
【０００７】
このような事情から、シリカ原料の粒度を所定範囲に調整して、ガラスバッチの溶解性を高めることが検討されている。例えば、特許文献１には、難溶性不純物であるＣｒ２Ｏ３の含有量が少ないシリカ原料を用いて、珪酸塩ガラス中のクロマイト異物を低減することが開示されている。特許文献２には、平均粒子径Ｄ５０３０〜６０μｍのシリカ原料を用いることにより、珪酸塩ガラスの均質性を高めることが開示されている。特許文献３には、平均粒子径Ｄ５０７０〜２００μｍのシリカ原料を用いることにより、珪酸塩ガラスの泡不良を改善することが開示されている。
【０００８】
しかし、シリカ原料の粒度を所定範囲に規制しても、難溶性ガラスの泡個数を十分に低減することが困難であった。具体的には、液晶ディスプレイ等に用いられる無アルカリガラスでは、１００μｍ以上のサイズの泡が０．１個未満／ｋｇであることが要求されるが、シリカ原料の粒度を所定範囲に規制するだけでは、上記要求を満たすことが困難になる場合があった。特に、高歪点の無アルカリガラスの場合、その要求を満たすことが困難になる。
【０００９】
本発明は、上記事情に鑑みなされたものであり、その技術的課題は、従来よりも溶融温度を低下させても、良好に溶解するシリカ原料を創案することにより、難溶性の珪酸塩ガラス、特に無アルカリガラスの泡個数を低減することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、鋭意検討の結果、シリカ原料の粒子を歪な形状にすることにより、上記技術的課題を解決し得ることを見出し、本発明として提案するものである。すなわち、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、シリカ原料を含むガラスバッチを溶融、成形して、珪酸塩ガラスを得る珪酸塩ガラスの製造方法において、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料を用いることを特徴とする。ここで、「シリカ原料」とは、ＳｉＯ２の含有量が９５質量％以上の原料を指す。「真球度」は、少なくとも１０００万個の粒子に対して、画像解析装置（例えば、ヴァーダ−サイエンティフィック社製カムカイザーＸＴ）で測定した粒子の面積と円周の平均値を数式１に当て嵌めることにより算出することができる。補足すると、シリカ原料の真球度は、例えば、圧縮空気により空中を輸送される粒子をＣＣＤカメラで撮影した上で、撮影された粒子形状から計算することができる。上記測定は、撮影された粒子が二次元の平面の円になるため、実際には円形度を評価していることになるが、１０００万個以上の粒子の形状を測定しているため、あらゆる角度での粒子の円形度が測定されていることになり、これは統計学的には真球度に相当する。なお、撮影された粒子形状が真球であれば、真球度が１．０００になる。
【００１１】
【数１】
2016113363.tif 000002
【００１２】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、真球度が０．８９０未満のガラス原料を使用する。これにより、シリカ原料の溶解性が向上して、脈理（スジ）、異物（ブツ）、泡等のガラス欠陥を低減することができる。特に、難溶性の無アルカリガラスの泡個数を低減することができる。
【００１３】
シリカ原料の真球度が低いと、つまりシリカ原料の粒子が歪な形状であると、ガラスバッチの溶解性が向上する理由は不明であるが、本発明者は以下の現象によるものと推定している。すなわち、シリカ原料の真球度が低いと、シリカ原料の表面積が大きくなるため、他のガラス原料（例えば、炭酸カルシウム、酸化アルミニウム）と反応し得る面積が大きくなり、バッチ反応性が高まって、ガラスバッチの溶解性が向上し、結果として、シリカの未溶解層の形成が抑制されて、脱ガス性が促進されるものと推定している。更に、シリカ原料の真球度が低いと、溶融工程でガラスバッチに多くの空隙が生じるため、気泡の原因となるガスの浮上経路が十分に確保される。その結果、溶融初期のガラス融液の溶存ガス量が少なくなり、ガラス製品の泡不良が改善されるものと推定している。
【００１４】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法では、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料を用いることを特徴とするが、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料に対して、他のシリカ原料、つまり真球度が０．８９０超となるシリカ原料を添加、混合する態様を排除するものではない。全シリカ原料の内、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料の割合は、好ましくは１０質量％以上、３０質量％以上、５０質量％以上、７０質量％以上、特に９０質量％以上である。
【００１５】
第二に、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０が４０〜１２０μｍであることが好ましい。なお、真球度が０．８９０未満となるシリカ原料に対して、他のシリカ原料、つまり真球度が０．８９０超となるシリカ原料を添加、混合する場合は、全シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０が４０〜１２０μｍであることが好ましい。
【００１６】
第三に、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、珪酸塩ガラスの歪点が６８０℃以上になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。「歪点」は、ＡＳＴＭ  Ｃ３３６の方法に基づいて測定した値を指す。
【００１７】
第四に、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、珪酸塩ガラスのガラス組成中のＡｓ２Ｏ３の含有量が０．０５質量％未満、Ｓｂ２Ｏ３の含有量が０．０５質量％未満、ＳｎＯ２の含有量が０．０１〜１質量％になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。
【００１８】
第五に、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、珪酸塩ガラスのガラス組成中のアルカリ金属酸化物の含有量が０．５質量％未満になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。このようにすれば、珪酸塩ガラスを液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ等の基板に適用することができる。
【００１９】
第六に、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、珪酸塩ガラスのガラス組成が、質量％で、ＳｉＯ２  ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３  ５〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１５％、ＣａＯ  １〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１５％、ＢａＯ  ０〜１５％を含有するように、ガラスバッチを調製することが好ましい。このようにすれば、耐失透性、高歪点、低密度、耐酸性等の特性を高めることができる。
【００２０】
第七に、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法は、オーバーフローダウンドロー法又はフロート法で平板形状に成形することが好ましい。このようにすれば、珪酸塩ガラスの大型化、薄型化を図り易くなる。
【００２１】
第八に、本発明の珪酸塩ガラスは、上記の珪酸塩ガラスの製造方法により作製されたことが好ましい。
【００２２】
第九に、本発明の珪酸塩ガラス用シリカ原料は、真球度が０．８９０未満であることを特徴とする。
【００２３】
第十に、本発明の珪酸塩ガラス用シリカ原料は、平均粒子径Ｄ５０が４０〜１２０μｍであることが好ましい。
【００２４】
第十一に、本発明の珪酸塩ガラス用シリカ原料は、天然珪砂であることが好ましい。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法を詳述する。
【００２６】
まず、所望のガラス組成になるように、各成分の導入源となるガラス原料を調合、混合してガラスバッチバッチを作製する。必要に応じて、ガラス原料として、ガラスカレットを用いてもよい。なお、ガラスカレットとは、ガラス製造工程等で排出されるガラス屑である。ガラス原料の混合方法は、特に限定されないが、一回当たりに混合する質量やガラス原料の種類に応じて、適宜、選択すればよい。例えば、パン型ミキサー、ロータリーミキサー等を用いて混合する方法が挙げられる。
【００２７】
次いで、得られたガラスバッチをガラス溶融窯に投入する。ガラス溶融窯へのガラスバッチの投入は、通常、スクリューチャージャー等の原料フィーダーにより連続的に行われるが、断続的に行ってもよい。
【００２８】
ガラス溶融窯内へ投入されたガラスバッチは、バーナー等の燃焼雰囲気やガラス溶融窯の内部に設置された電極等により加熱されて、ガラス融液になる。ガラスバッチの溶融温度は、無アルカリガラスの場合、１５００〜１６５０℃程度である。
【００２９】
続いて、得られたガラス融液は、清澄工程、攪拌工程を経て、徐々に冷却されながら、成形装置に供給されて、所定の肉厚、表面品位を有するように平板形状に成形された後、所定サイズに切断されて、ガラス製品（ガラス板）になる。成形方法として、オーバーフローダウンドロー法、フロート法等を採用することができる。
【００３０】
このようにして作製された平板形状の珪酸塩ガラスは、例えば、液晶ディスプレイ等の基板として使用される。
【００３１】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法では、真球度が低いシリカ原料を用いる。そのシリカ原料の真球度は０．８９０未満であり、好ましくは０．８８５未満、０．８８０未満、０．８７５未満、０．８７０未満、０．７５０〜０．８６５未満、特に０．８００〜０．８６０未満である。シリカ原料の真球度が低いと、ガラスバッチの溶解性、脱ガス性が低下し易くなり、ガラス製品の泡個数を低減し難くなる。
【００３２】
真球度が低いシリカ原料を得る方法として、種々の方法を採択することができる。例えば、化学合成法で作製したシリカ原料をボールミル等の粉砕機で解砕する方法、歪な粒子形状の天然珪砂を選択的に採取する方法を挙げることができる。原料コストの観点から、後者の方法が好ましく、特にドロマイト鉱床の浸食作用により形成された高純度珪砂層を採取し、これをシリカ原料とすることが好ましい。
【００３３】
シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０は、好ましくは４０〜１２０μｍ、特に５０〜１００μｍである。シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０が大き過ぎると、溶融時にシリカ原料が溶け残り、ガラス融液の表面に未溶解層を形成して、泡の浮上を阻害し易くなると共に、未溶解層が下流工程に流出し、ガラス製品に混入する虞がある。一方、シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０が細か過ぎると、ガラス溶融窯内でシリカ原料が飛散し、煙道が詰まり易くなる。その結果、ガラス溶融窯が損傷したり、ガラス製品のガラス組成が経時的に変動する虞がある。
【００３４】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法において、珪酸塩ガラスのガラス組成中のＡｓ２Ｏ３の含有量が０．０５質量％未満、Ｓｂ２Ｏ３の含有量が０．０５質量％未満、ＳｎＯ２の含有量が０．０１〜１質量％になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。
【００３５】
一般的に、珪酸塩ガラスの泡個数を低減するために、清澄ガスを発生させる清澄剤が用いられる。難溶性の珪酸塩ガラス、例えば無アルカリガラスでは、例えば、１２００〜１３００℃の温度でガラス化反応が起こり、１４００℃以上の高温で脱泡、均質化が行われる。このため、難溶性の珪酸塩ガラスの清澄剤として、１２００〜１６００℃付近で清澄ガスを発生させるＡｓ２Ｏ３が使用されると共に、１２００〜１３００℃付近で清澄ガスを発生させるＳｂ２Ｏ３が使用されていた。しかし、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３は、環境負荷物質であるため、その使用が制限されつつある。
【００３６】
Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３の代替清澄剤として、ＳｎＯ２が有望である。ＳｎＯ２は、１４００℃以上の温度で２価に変化する際に、清澄ガスを放出する性質を有している。ＳｎＯ２は、歪点を高めると共に、高温粘性を低下させる成分である。ＳｎＯ２の含有量は、好ましくは０．０１〜１質量％、０．０５〜０．５質量％、特に０．１〜０．３質量％である。ＳｎＯ２の含有量が多過ぎると、ＳｎＯ２の失透結晶が析出し易くなり、またＺｒＯ２の失透結晶の析出を促進し易くなる。なお、ＳｎＯ２の含有量が０．０１質量％より少ないと、上記効果を享受し難くなる。
【００３７】
なお、他の清澄剤として、Ｆ、Ｃｌ等のハロゲン化物、ＣｅＯ２を導入してもよい。なお、清澄剤としてＦ、Ｃｌ等のハロゲン化物を導入する場合、シリカ原料から発生したＨ２Ｏは、ＨＦガス、ＨＣｌガスとして放出される。
【００３８】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法において、珪酸塩ガラスのガラス組成中のＳ成分の含有量がＳＯ３換算で０．０１質量％未満（望ましくは０．００５質量％未満）になるように、珪酸塩ガラスを作製することが好ましく、珪酸塩ガラスのガラス組成中のＳ成分の含有量がＳＯ３換算で０．０１質量％未満（望ましくは０．００５質量％未満）になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。ＳＯ３は、清澄剤として作用するが、その含有量が多過ぎると、ＳＯ２リボイルが発生し易くなる。
【００３９】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法において、珪酸塩ガラスのガラス組成中のアルカリ金属酸化物の含有量が０．５質量％未満になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。このようにすれば、ディスプレイの製造工程において、半導体物質中にアルカリイオンが拡散する事態を防止し易くなる。具体的に言えば、アルカリ金属酸化物の含有量は、好ましくは０．５質量％未満、０．３質量％未満、特に０．０１〜０．２質量％である。Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２Ｏの含有量は、各成分とも好ましくは０．３質量％未満、特に０．２質量％未満である。Ｋ２Ｏの含有量は、好ましくは０．５質量％未満、０．３質量％未満、特に０．０１〜０．２質量％である。
【００４０】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法では、珪酸塩ガラスのガラス組成が、質量％で、ＳｉＯ２  ５０〜８０％、Ａｌ２Ｏ３  ５〜２５％、Ｂ２Ｏ３  ０〜２０％、ＭｇＯ  ０〜１５％、ＣａＯ  １〜１５％、ＳｒＯ  ０〜１５％、ＢａＯ  ０〜１５％を含有するように、ガラスバッチを調製することが好ましい。上記のように珪酸塩ガラスのガラス組成を限定した理由を以下に示す。なお、各成分の含有範囲の説明において、％表示は、質量％を指す。
【００４１】
ＳｉＯ２は、ガラスの骨格を形成する成分である。ＳｉＯ２の含有量は、好ましくは５０〜８０％、５４〜７０％、５６〜６６％、特に５８〜６４％である。ＳｉＯ２の含有量が少な過ぎると、密度が高くなり過ぎると共に、耐酸性が低下し易くなる。一方、ＳｉＯ２の含有量が多過ぎると、高温粘度が高くなり、溶融性が低下し易くなることに加えて、クリストバライト等の失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。
【００４２】
Ａｌ２Ｏ３は、ガラスの骨格を形成する成分であり、また歪点やヤング率を高める成分であり、更に分相を抑制する成分である。Ａｌ２Ｏ３の含有量は、好ましくは５〜２５％、１２〜２４％、１５〜２２％、特に１６〜２１％である。Ａｌ２Ｏ３の含有量が少な過ぎると、歪点、ヤング率が低下し易くなり、またガラスが分相し易くなる。一方、Ａｌ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、ムライトやアノーサイト等の失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。
【００４３】
Ｂ２Ｏ３は、溶融性を高めると共に、耐失透性を高める成分である。Ｂ２Ｏ３の含有量は、好ましくは０〜２０％、０〜１２％、０〜１０％、０．５〜８％、特に１〜７％である。Ｂ２Ｏ３の含有量が少な過ぎると、溶融性や耐失透性が低下し易くなり、またフッ酸系の薬液に対する耐性が低下し易くなる。一方、Ｂ２Ｏ３の含有量が多過ぎると、ヤング率や歪点が低下し易くなる。
【００４４】
ＭｇＯは、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であり、アルカリ土類金属酸化物の中では、ヤング率を顕著に高める成分である。ＭｇＯの含有量は、好ましくは０〜１５％、０〜８％、０〜７％、０〜６％、０〜３％、特に０〜２％である。ＭｇＯの含有量が少な過ぎると、溶融性やヤング率が低下し易くなる。一方、ＭｇＯの含有量が多過ぎると、耐失透性が低下し易くなると共に、歪点が低下し易くなる。
【００４５】
ＣａＯは、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を顕著に高める成分である。また、アルカリ土類金属酸化物の中では、導入原料が比較的安価であるため、原料コストを低廉化する成分である。ＣａＯの含有量は、好ましくは１〜１５％、３〜１１％、４〜１０％、特に５〜９％である。ＣａＯの含有量が少な過ぎると、上記効果を享受し難くなる。一方、ＣａＯの含有量が多過ぎると、ガラスが失透し易くなると共に、熱膨張係数が高くなり易い。
【００４６】
ＳｒＯは、分相を抑制し、また耐失透性を高める成分である。更に、歪点を低下させずに、高温粘性を下げて、溶融性を高める成分であると共に、液相温度の上昇を抑制する成分である。ＳｒＯの含有量は、好ましくは０〜１５％、０．１〜９％、特に０．５〜６％である。ＳｒＯの含有量が少な過ぎると、上記効果を享受し難くなる。一方、ＳｒＯの含有量が多過ぎると、ストロンチウムシリケート系の失透結晶が析出し易くなって、耐失透性が低下し易くなる。
【００４７】
ＢａＯは、耐失透性を顕著に高める成分である。ＢａＯの含有量は、好ましくは０〜１５％、０〜１２％、０．１〜９％、特に１〜７％である。ＢａＯの含有量が少な過ぎると、上記効果を享受し難くなる。一方、ＢａＯの含有量が多過ぎると、密度が高くなり過ぎると共に、溶融性が低下し易くなる。またＢａＯを含む失透結晶が析出し易くなって、液相温度が上昇し易くなる。
【００４８】
ＺｒＯ２は、歪点、ヤング率を高める働きがある。しかし、ＺｒＯ２の含有量が多過ぎると、耐失透性が顕著に低下する。特に、ＳｎＯ２を含有させる場合は、ＺｒＯ２の含有量を厳密に規制することが好ましい。ＺｒＯ２の含有量は０．４％以下、０．３％以下、特に０．０１〜０．２％が好ましい。
【００４９】
上記成分以外にも、他の成分、例えばＺｎＯ、Ｐ２Ｏ５、Ｍｏ等の成分を添加してもよい。なお、上記成分以外の他の成分の含有量は、本発明の効果を的確に享受する観点から、合量で１０％以下、特に５％以下が好ましい。
【００５０】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法では、珪酸塩ガラスの歪点が、好ましくは６８０℃以上、６９０℃以上、特に７００℃以上になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。歪点が高い程、ディスプレイの製造工程における熱処理でガラス板が熱収縮し難くなるが、珪酸塩ガラスが難溶性になり易い。そして、珪酸塩ガラスが難溶性である程、シリカ原料の溶解性を高める必要性が高くなり、本発明の効果が相対的に大きくなる。
【００５１】
本発明の珪酸塩ガラスの製造方法では、珪酸塩ガラスの１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度が、好ましくは１５００℃以上、１５３０℃以上、１５４０℃以上、特に１５５０℃以上になるように、ガラスバッチを調製することが好ましい。１０２．５ｄＰａ・ｓにおける温度は、溶融温度に相当し、この温度が高い程、難溶性になる。珪酸塩ガラスが難溶性である程、シリカ原料の溶解性を高める必要性が高くなり、本発明の効果が相対的に大きくなる。
【００５２】
本発明の珪酸塩ガラスは、上記の珪酸塩ガラスの製造方法により作製されたことを特徴とする。本発明の珪酸塩ガラスの技術的特徴は、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法の説明欄に記載済みである。よって、本発明の珪酸塩ガラスについて、詳細な説明を省略する。
【００５３】
本発明の珪酸塩ガラス用シリカ原料は、真球度が０．８９０未満であることを特徴とする。本発明の珪酸塩ガラス用シリカ原料の技術的特徴は、本発明の珪酸塩ガラスの製造方法の説明欄に記載済みである。よって、本発明の珪酸塩ガラス用シリカ原料について、詳細な説明を省略する。
【実施例】
【００５４】
以下、実施例に基づいて本発明を説明する。なお、以下の実施例は単なる例示である。本発明は以下の実施例に何ら限定されない。
【００５５】
（試験１）
シリカ供給源として、表１に示す試料Ｎｏ．１〜６に係るシリカ原料を用いて、表２に記載のガラス組成（ガラスＡ、ガラスＢ、ガラスＣ）になるようにガラスバッチを調製した。なお、ＳｉＯ２の導入原料として、表中のシリカ原料以外のシリカ原料を使用しないようにした。得られたガラスバッチをガラス溶融窯に投入すると共に、１５００〜１６００℃で溶解して、ガラス融液を得た。次に、得られたガラス融液を清澄工程で清澄すると共に、攪拌工程で攪拌した。続いて、供給管を用いて、オーバーフローダウンドロー成形装置にガラス融液を供給した後、オーバーフローダウンドロー法により０．７ｍｍ厚の平板形状に成形し、更に１８００ｍｍ×１５００ｍｍサイズに切断して、ガラス板を得た。最後に、１０日間の製造で得られたガラス板について、１ｋｇ当たりの５０μｍ以上のサイズの平均泡個数を評価した。その結果を表１に示す。
【００５６】
【表１】
2016113363.tif 000003
【００５７】
【表２】
2016113363.tif 000004
【００５８】
ここで、シリカ原料の真球度は、少なくとも１０００万個の粒子に対して、画像解析装置ヴァーダ−サイエンティフィック社製カムカイザーＸＴで測定した粒子の面積と円周の平均値を数式１に当て嵌めることにより算出したものである。
【００５９】
シリカ原料の平均粒子径Ｄ５０は、画像解析装置ヴァーダ−サイエンティフィック社製カムカイザーＸＴで測定した値であり、少なくとも１０００万個の粒子を測定した時の平均値である。
【００６０】
表１から明らかなように、試料Ｎｏ．１〜４に係るシリカ原料を用いる場合、得られるガラス板中の泡個数は、試料Ｎｏ．５、６に係るシリカ原料を用いた場合よりも少なかった。
【００６１】
（試験２）
２種類のシリカ原料を用いて、（試験１）と同様の実験を行った。表３に示すように、真球度が異なるシリカ原料を同量の割合で混合して、表２に記載のガラスＣのガラス組成になるようガラスバッチを調製した。なお、ＳｉＯ２の導入原料として、表中のシリカ原料以外のシリカ原料を使用しないようにした。次に、（試験１）と同様の方法で１０日間の製造で得られたガラス板について、１ｋｇ当たりの５０μｍ以上のサイズの平均泡個数を評価した。その結果を表３に示す。
【００６２】
【表３】
2016113363.tif 000005
【００６３】
表３から明らかなように、試料Ｎｏ．７〜９に係るシリカ原料を用いる場合、得られるガラス板中の泡個数は、試料Ｎｏ．５に係るシリカ原料を用いた場合よりも少なかった。
【００６４】
上記実験で得られた効果は、表４に示す材質（試料Ｎｏ．Ｄ〜Ｊ）でも同様に生じるものと考えられる。
【００６５】
【表４】
2016113363.tif 000006