(57)【要約】【課題】防眩性および反射防止性がともに優れる防眩性反射防止膜付き透明基材、およびこれを用いた物品の提供。【解決手段】透明基材１２と、防眩性反射防止膜１８とを備え、防眩性反射防止膜１８は、透明基材１２上に形成された低反射膜１４と、低反射膜１４上に形成された防眩膜１６とからなり、低反射膜１４の屈折率が１．２４〜１．３５で、低反射膜１４の膜厚が２０〜１４０ｎｍであり、防眩膜１６の屈折率が１．４０〜１．５０で、防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａが０．０４〜０．１４μｍである防眩性反射防止膜付き透明基材１０。【選択図】図１
2016041481.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、防眩性反射防止膜とを備え、
前記防眩性反射防止膜は、前記透明基材上に形成された低反射膜と、前記低反射膜上に形成された防眩膜とからなり、
前記低反射膜の屈折率が１．２４〜１．３５で、前記低反射膜の膜厚が２０〜１４０ｎｍであり、
前記防眩膜の屈折率が１．４０〜１．５０で、前記防眩膜の表面の算術平均粗さＲａが０．０４〜０．１４μｍである防眩性反射防止膜付き透明基材。
【請求項２】
前記低反射膜が、中実シリカ粒子および中空シリカ粒子のいずれか一方または両方を含む、請求項１に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
【請求項３】
前記防眩膜のマトリックスが、シリカを主成分とする、請求項１または２に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
【請求項４】
前記防眩膜が、シリカ前駆体と、液状媒体とを含む塗布液から形成されたものである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
【請求項５】
前記防眩膜が、中実シリカ粒子および鱗片状シリカ粒子のいずれか一方または両方を含む、請求項３または４に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
【請求項６】
前記透明基材が化学強化されたガラス板である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材を備える物品。
【請求項８】
太陽電池モジュールである、請求項７に記載の物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、防眩性反射防止膜付き透明基材およびこれを用いた物品に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種機器（テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話等）に備え付けられた画像表示装置（液晶ディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、プラズマディスプレイ等）においては、室内照明（蛍光灯等）、太陽光等の外光が表示面に映り込むと、反射像によって視認性が低下する。そこで、外光の映り込みを抑制するために、画像表示装置の表示面を構成する基材（ガラス板等）の表面に、防眩処理または低反射処理を施すことが行われている。
近年は、太陽電池モジュールのカバーガラスの光入射面に、太陽光の反射を低減して発電効率を高めるために反射防止処理を施すことや、カバーガラスの表面で反射した反射光による光害を防止するために防眩処理を施すことも行われている。
【０００３】
反射防止処理は、入射光の反射自体を抑える処理である。入射光の反射が抑えられることで、画像の解像度やコントラスト、光の透過率等が向上する。反射防止処理としては、従来、低反射膜を設ける方法が知られている。低反射膜としては、低屈折率材料からなる単層膜、低屈折率材料からなる層と高屈折率材料からなる層とを組み合わせた多層膜等が知られている。
防眩処理は、表面に凹凸を設け、該凹凸によって入射光を散乱させる処理である。入射光が拡散反射することで、反射像が不鮮明になり、外光の映り込みが抑制される。防眩処理としては、従来、基材の表面を侵食、サンドブラスト等により粗面化する方法や、表面に凹凸のある防眩膜を設ける方法が知られている。
【０００４】
防眩性と反射防止性を同時に備えるものとして、下記（１）の防眩性反射防止フィルムが提案されている（特許文献１）。
（１）透明基材フィルム上に直接、又は他の層を介して、表面が微細な凹凸状の防眩層が形成されており、前記防眩層上に、前記防眩層よりも低い屈折率を有する低屈折率層が形成されてなる反射防止フィルムにおいて、前記低屈折率層は異なる２種類の第１低屈折率層、第２低屈折率層がこの順に積層されて形成されており、かつ防眩層の屈折率が、前記防眩層の、前記低屈折率層が接している面とは反対側の面に接している層の屈折率よりも高いことを特徴とする防眩性反射防止フィルム。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平７−３２５２０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、（１）の防眩性反射防止フィルムでは、防眩性と反射防止性とを高いレベルで両立させることは困難である。低反射膜は通常、垂直入射角による光路長をもとに、任意に設定される波長範囲における光の平均透過率が最大になるように設計される。（１）の防眩性反射防止フィルムでは、低屈折率層（低反射膜）の表面に凹凸があることから、前記のような設計が困難であり、低屈折率層による透過率の向上効果は不充分である。
また、一般に、防眩膜の表面の凹凸が大きくなると、ヘイズが大きくなり、防眩性が高まる。しかし、ヘイズが大きくなることで、光の透過率が低くなり、場合によっては、透明基材単独の場合よりも透過率が低くなる。（１）の防眩性反射防止フィルムにおいても、防眩層の表面の凹凸が大きくなれば同様の問題が生じる。また、表面の凹凸が大きくなることで、防汚性、耐摩耗性等も低下する。
【０００７】
本発明は、防眩性および反射防止性がともに優れる防眩性反射防止膜付き透明基材、およびこれを用いた物品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の態様を有する。
［１］透明基材と、防眩性反射防止膜とを備え、
前記防眩性反射防止膜は、前記透明基材上に形成された低反射膜と、前記低反射膜上に形成された防眩膜とからなり、
前記低反射膜の屈折率が１．２４〜１．３５で、前記低反射膜の膜厚が２０〜１４０ｎｍであり、
前記防眩膜の屈折率が１．４０〜１．５０で、前記防眩膜の表面の算術平均粗さＲａが０．０４〜０．１４μｍである防眩性反射防止膜付き透明基材。
［２］前記低反射膜が、中実シリカ粒子および中空シリカ粒子のいずれか一方または両方を含む、［１］に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
［３］前記防眩膜のマトリックスが、シリカを主成分とする、［１］または［２］に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
［４］前記防眩膜が、シリカ前駆体と、液状媒体とを含む塗布液から形成されたものである、［１］〜［３］のいずれか一項に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
［５］前記防眩膜が、中実シリカ粒子および鱗片状シリカ粒子のいずれか一方または両方を含む、［３］または［４］に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
［６］前記透明基材が化学強化されたガラス板である、［１］〜［５］のいずれか一項に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材。
［７］［１］〜［６］のいずれか一項に記載の防眩性反射防止膜付き透明基材を備える物品。
［８］太陽電池モジュールである、［７］に記載の物品。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、防眩性および反射防止性がともに優れる防眩性反射防止膜付き透明基材、およびこれを用いた物品を提供できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「シリカを主成分とする」とは、ＳｉＯ２を９０質量％以上含むことを意味する。
「シリカ前駆体」とは、シリカを主成分とするマトリックスを形成し得る物質を意味する。
「ケイ素原子に結合した加水分解性基」とは、加水分解によって、ケイ素原子に結合したＯＨ基に変換し得る基を意味する。
「中実」は、内部に空洞を有しないことを示す。
「中空」は、内部に空洞を有することを示す。
「鱗片状」とは、扁平な形状を有することを意味する。
【００１２】
低反射膜の屈折率および膜厚は、以下の測定方法により求められる。
透明基材上に低反射膜のみを形成し、低反射膜の表面での波長３８０〜７８０ｎｍの範囲内における反射率を、分光光度計で測定する。光の入射角度は５°とする。
波長３８０〜７８０ｎｍの範囲内における最小反射率（いわゆるボトム反射率）Ｒｍｉｎと、透明基材１２の屈折率ｎｓとから、下式（１）によって、低反射膜の屈折率ｎを算出する。
Ｒｍｉｎ＝（ｎ−ｎｓ）２／（ｎ＋ｎｓ）２  ・・・（１）。
求めた屈折率ｎと、ボトム反射率Ｒｍｉｎにおける波長λ（ｎｍ）とから、下式（２）によって、低反射膜の膜厚ｄ（ｎｍ）を算出する。
ｎ×ｄ＝λ／４  ・・・（２）。
【００１３】
防眩膜の屈折率は、透明基材上に低反射膜の代わりに防眩膜のみを形成する以外は、低反射膜の屈折率と同様の測定方法により求められる。
防眩膜の表面の算術平均粗さＲａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１（ＩＳＯ４２８７：１９９７）に記載された方法によって測定される。
【００１４】
〔防眩性反射防止膜付き透明基材〕
図１は、本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材の一実施形態を模式的に示す断面図である。
本実施形態の防眩性反射防止膜付き透明基材１０は、透明基材１２と、防眩性反射防止膜１８とを備える。
防眩性反射防止膜１８は、透明基材１２上に形成された低反射膜１４と、低反射膜１４上に形成された防眩膜１６とからなる。
【００１５】
（透明基材）
透明基材１２における透明とは、４００〜１１００ｎｍの波長領域の光を平均して８０％以上透過することを意味する。
【００１６】
透明基材１２の材料としては、たとえばガラス、樹脂等が挙げられる。
ガラスとしては、たとえばソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、アルミノシリケートガラス、無アルカリガラス等が挙げられる。
樹脂としては、たとえばポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、トリアセチルセルロース、ポリメタクリル酸メチル等が挙げられる。
【００１７】
透明基材１２の形態としては、たとえば板、フィルム等が挙げられる。
透明基材１２の形状は、図示するような平坦な形状のみでなく、曲面を有する形状であってもよい。最近では、画像表示装置を備える各種機器（テレビ、パーソナルコンピュータ、スマートフォン、カーナビゲーション等）において、画像表示装置の表示面が曲面とされたものが登場している。透明基材１２が曲面を有する形状である防眩性反射防止膜付き透明基材１０は、このような画像表示装置用として有用である。
透明基材１２が曲面を有する場合、透明基材１２の表面は、全体が曲面で構成されてもよく、曲面である部分と平坦である部分とから構成されてもよい。表面全体が曲面で構成される場合の例として、たとえば、透明基材の断面が円弧状である場合が挙げられる。
【００１８】
透明基材１２としては、ガラス板が好ましい。
ガラス板は、フロート法、フュージョン法、ダウンドロー法等により成形された平滑なガラス板であってもよく、ロールアウト法等で形成された表面に凹凸を有する型板ガラスであってもよい。また、平坦な形状のガラス板のみでなく、曲面を有する形状のガラス板でもよい。
ガラス板の厚みは特に限定されない。たとえば厚み１０ｍｍ以下のガラス板を使用することができる。厚みが薄いほど光の吸収を低く抑えられるため、透過率向上を目的とする用途にとって好ましい。また、厚みが薄いほど防眩性反射防止膜付き透明基材１０の軽量化に寄与する。
【００１９】
ガラスがソーダライムガラスの場合、下記の組成を有するものが好ましい。
酸化物基準の質量百分率表示で、
ＳｉＯ２  ：６５〜７５％、
Ａｌ２Ｏ３：０〜１０％、
ＣａＯ    ：５〜１５％、
ＭｇＯ    ：０〜１５％、
Ｎａ２Ｏ  ：１０〜２０％、
Ｋ２Ｏ    ：０〜３％、
Ｌｉ２Ｏ  ：０〜５％、
Ｆｅ２Ｏ３：０〜３％、
ＴｉＯ２  ：０〜５％、
ＣｅＯ２  ：０〜３％、
ＢａＯ    ：０〜５％、
ＳｒＯ    ：０〜５％、
Ｂ２Ｏ３  ：０〜１５％、
ＺｎＯ    ：０〜５％、
ＺｒＯ２  ：０〜５％、
ＳｎＯ２  ：０〜３％、
ＳＯ３    ：０〜０．５％、を含む。
【００２０】
ガラスがアルミノシリケートガラスの場合、下記の組成を有するものが好ましい。
酸化物基準のモル百分率表示で、
ＳｉＯ２  ：６２〜６８％、
Ａｌ２Ｏ３  ：６〜２０％、
ＭｇＯ    ：７〜１３％、
Ｎａ２Ｏ  ：９〜１７％、
Ｋ２Ｏ    ：０〜７％、
ＺｒＯ２：０〜８％、を含む。
【００２１】
ガラス板は、強化ガラス板であることが好ましい。強化ガラス板は、強化処理が施されたガラス板である。強化処理により、ガラスの強度が向上し、たとえば強度を維持しながら板厚みを削減することが可能となる。
ただし本発明においては、強化ガラス板以外のガラス板も使用でき、防眩性反射防止膜付き透明基材１０の用途等に応じて適宜設定できる。
【００２２】
強化処理としては、ガラス板表面に圧縮応力層を形成させる処理が一般的に知られている。ガラス板表面の圧縮応力層が、傷や衝撃に対するガラス板の強度を向上させる。ガラス板表面に圧縮応力層を形成させる手法としては、風冷強化法（物理強化法）と、化学強化法とが代表的である。
風冷強化法では、ガラスの軟化点温度付近（例えば６００〜７００℃）まで加熱したガラス板表面を風冷等により急冷する。これにより、ガラス板の表面と内部との間に温度差が生じ、ガラス板表層に圧縮応力が生じる。
化学強化法では、ガラスの歪点温度以下の温度でガラス板を溶融塩に浸漬して、ガラス板表層のイオン（例えばナトリウムイオン）を、より大きなイオン半径のイオン（例えばカリウムイオン）へと交換する。これにより、ガラス板表層に圧縮応力が生じる。
以上のガラスの物理強化処理及び化学強化処理は、ガラス板表面に防眩性反射防止膜を形成する前に行ってもよく、形成した後に行ってもよい。
【００２３】
ガラス板の厚みが薄く（たとえば２．５ｍｍ以下、特に２ｍｍ未満）なると、風冷強化法では、ガラス板内部と表層との間に温度差が生じにくいことから、ガラス板を充分に強化することができないため、化学強化法が好ましく用いられる。
化学強化処理が施されるガラス板は、化学強化可能な組成を有するものである限り特に限定されず、種々の組成のものを使用することができ、例えばソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、ホウ珪酸ガラス、その他の各種ガラスが挙げられる。化学強化しやすい点では、ガラス組成として、酸化物基準のモル百分率表示で、ＳｉＯ２を５６〜７５％、Ａｌ２Ｏ３を１〜２０％、Ｎａ２Ｏを８〜２２％、Ｋ２Ｏを０〜１０％、ＭｇＯを０〜１４％、ＺｒＯ２を０〜５％、ＣａＯを０〜１０％含有することが好ましい。これらの中では、アルミノシリケートガラスが好ましい。
化学強化処理が施されるガラス板の板厚みは、０．１〜２．５ｍｍが好ましく、０．１〜２．０ｍｍが特に好ましい。板厚みが前記範囲の上限値以下であれば、防眩性反射防止膜付き透明基材１０が軽量で、前記範囲の下限値以上であれば、防眩性反射防止膜付き透明基材１０が強度に優れる。
尚、化学強化される前後で板厚みに変化は無い。すなわち、化学強化処理が施されるガラス板の板厚みは、化学強化ガラス板（化学強化処理が施された後のガラス板）の板厚みである。
【００２４】
（低反射膜）
低反射膜１４の屈折率は、１．２４〜１．３５であり、１．２４〜１．３０が好ましい。
低反射膜１４の膜厚は、２０〜１４０ｎｍであり、４０〜１２０ｎｍが好ましい。
低反射膜１４の屈折率および膜厚がそれぞれ前記の範囲内であれば、反射防止性が優れる。
【００２５】
低反射膜１４の屈折率は、低反射膜１４のマトリックスの材料、低反射膜１４の空隙率、マトリックス中への任意の屈折率を有する物質の添加等によって調整できる。たとえば、後述するシリカ粒子（Ｉ）の含有量が多いほど、低反射膜１４の空隙率が高くなり、屈折率が低くなる傾向がある。
【００２６】
低反射膜１４としては、前記の屈折率および膜厚を満たす限り特に制限はないが、屈折率を調整しやすいこと、化学的安定性に優れること等から、中実シリカ粒子および中空シリカ粒子のいずれか一方または両方（以下、シリカ粒子（Ｉ）ともいう。）を含むものが好ましい。
シリカ粒子（Ｉ）を含む膜は、典型的には、シリカ粒子（Ｉ）間の空隙を充填するマトリックスをさらに含む。マトリックスは、シリカ粒子（Ｉ）の上側（透明基材１２側とは反対側）を覆っていてもよい。
低反射膜１４は、シリカ粒子（Ｉ）以外の他の粒子をさらに含んでもよい。
低反射膜１４は、テルペン化合物をさらに含んでもよい。
低反射膜１４は、シリカ粒子（Ｉ）、マトリックス、他の粒子およびテルペン化合物以外の他の成分（以下、「他の任意成分」ともいう。）をさらに含んでもよい。
【００２７】
シリカ粒子（Ｉ）：
中実シリカ粒子の形状としては、球状、楕円状、針状、板状、棒状、円すい状、円柱状、立方体状、長方体状、ダイヤモンド状、星状、不定形状等が挙げられる。中実シリカ粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。
粒子の形状は、透過型電子顕微鏡を用いて確認できる。
中実シリカ粒子は１種を単独で用いても２種以上を併用してもよい。
【００２８】
中実シリカ粒子は、低屈折率化が容易な点では、鎖状中実シリカ粒子が好ましい。
鎖状中実シリカ粒子は、鎖状の形状を有する中実シリカ粒子である。例えば複数の球状楕円状、針状等の形状を有する中実シリカ粒子が鎖状に連結した形状のものが挙げられる。鎖状中実シリカ粒子の形状は、電子顕微鏡により確認できる。
鎖状中実シリカ粒子は、市販品として容易に入手することができる。また、公知の製造方法により製造したものを使用してもよい。市販品としては、例えば、日産化学工業（株）製のスノーテックスＳＴ−ＯＵＰ等が挙げられる。
【００２９】
中実シリカ粒子の平均凝集粒子径は、５〜３００ｎｍが好ましく、５〜２００ｎｍがより好ましい。中実シリカ粒子の平均凝集粒子径が前記範囲の下限値以上であれば、低反射膜１４の反射率が充分に低くなる。中実シリカ粒子の平均凝集粒子径が前記範囲の上限値以下であれば、低反射膜１４の機械的強度が高くなる。また、低反射膜１４の表面粗さが小さくなり、防眩性反射防止膜付き透明基材１０の防汚性が向上する。
平均凝集粒子径は、動的光散乱法粒度分析計（たとえば日機装社製、マイクロトラックＵＰＡ）を用いて測定できる。
【００３０】
中空シリカ粒子は、内部に空洞を有するため、中実シリカ粒子に比べ屈折率が低い。そのため、中実シリカ粒子に比べて少量で、屈折率の低減効果が得られる利点がある。
中空シリカ粒子としては、シリカ（ＳｉＯ２）の外殻を有し、外殻内が空洞とされたものが挙げられる。中空シリカ粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。
【００３１】
中空シリカ粒子の平均一次粒子径は、４０〜１５０ｎｍが好ましく、５０〜１００ｎｍがより好ましい。中空シリカ粒子の平均一次粒子径が前記範囲の下限値以上であれば、低反射膜１４の反射率が充分に低くなる。中空シリカ粒子の平均一次粒子径が前記範囲の上限値以下であれば、中空シリカ粒子が密に充填されて屈折率が低くなる。また、低反射膜１４の表面粗さが小さくなり、防眩性反射防止膜付き透明基材１０の防汚性が向上する。
中空シリカ粒子の平均一次粒子径は、以下のようにして求められる。
中空シリカ粒子を走査型電子顕微鏡（以下、ＳＥＭと記す。）または透過型電子顕微鏡（以下、ＴＥＭと記す。）にて観察し、１００個の中空シリカ粒子を無作為に選び出し、各中空シリカ粒子の粒子径を測定し、１００個の中空シリカ粒子の粒子径を平均して求める。
【００３２】
マトリックス： 
低反射膜１４のマトリックスとしては、たとえば、シリカ系マトリックス、チタニア系マトリックス等が挙げられる。
「シリカ系マトリックス」とは、シリカを主成分とするマトリックスをいう。
「チタニア系マトリックス」とは、チタニアを主成分とするマトリックスをいう。
「チタニアを主成分とする」とは、ＴｉＯ２を９０質量％以上含むことを意味する。
【００３３】
低反射膜１４のマトリックスとしては、シリカ系マトリックスが好ましい。マトリックスがシリカ系マトリックスであれば、低反射膜１４の屈折率（反射率）が低くなりやすい。また、化学的安定性、耐摩耗性等も良好となる。透明基材１２がガラスの場合、特に密着性が良好である。
シリカ系マトリックスは、シリカ以外の成分を少量含んでもよい。該成分としては、Ｌｉ，Ｂ，Ｃ，Ｎ，Ｆ，Ｎａ，Ｍｇ，Ａｌ，Ｐ，Ｓ，Ｋ，Ｃａ，Ｔｉ，Ｖ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｃｏ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｚｎ，Ｇａ，Ｓｒ，Ｙ，Ｚｒ，Ｎｂ，Ｒｕ，Ｐｄ，Ａｇ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｈｆ，Ｔａ，Ｗ，Ｐｔ，Ａｕ，Ｂｉおよびランタノイド元素より選ばれる１つもしくは複数のイオンおよびまたは酸化物等の化合物が挙げられる。
シリカ系マトリックスとしては、実質的にシリカからなるものが好ましい。実質的にシリカからなるとは、不可避不純物を除いてシリカのみから構成されていることを意味する。
シリカ系マトリックスとしては、たとえば、シリカ前駆体と、液状媒体とを含む塗布液から形成されたものが挙げられる。シリカ前駆体については後で詳述する。
【００３４】
他の粒子：
他の粒子としては、金属酸化物粒子、金属粒子、顔料系粒子、樹脂粒子等が挙げられる。他の粒子は、中空構造でもよく中実構造であってもよい。
【００３５】
金属酸化物粒子の材料としては、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＳｎＯ２、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＺｎＯ、ＣｅＯ２、Ｓｂ含有ＳｎＯＸ（ＡＴＯ）、Ｓｎ含有Ｉｎ２Ｏ３（ＩＴＯ）、ＲｕＯ２等が挙げられる。
金属粒子の材料としては、金属（Ａｇ、Ｒｕ等）、合金（ＡｇＰｄ、ＲｕＡｕ等）等が挙げられる。
顔料系粒子としては、無機顔料（チタンブラック、カーボンブラック等）、有機顔料が挙げられる。
樹脂粒子の材料としては、ポリスチレン、メラニン樹脂等が挙げられる。
【００３６】
他の粒子の形状としては、鱗片状、球状、楕円状、針状、板状、棒状、円すい状、円柱状、立方体状、長方体状、ダイヤモンド状、星状、不定形状等が挙げられる。他の粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。
他の粒子は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３７】
他の粒子としては、低反射膜１４のクラックや膜剥がれが抑制できる点では、鱗片状シリカ粒子が好ましい。
鱗片状シリカ粒子は、薄片状のシリカ１次粒子、または複数枚の薄片状のシリカ１次粒子が、互いに面間が平行的に配向し重なって形成されるシリカ２次粒子である。シリカ２次粒子は、通常、積層構造の粒子形態を有する。鱗片状シリカ粒子は、シリカ１次粒子およびシリカ２次粒子のいずれか一方のみであってもよく、両方であってもよい。
鱗片状シリカ粒子は、市販のものを用いてもよく、製造したものを用いてもよい。鱗片状シリカ粒子の製造方法としては、たとえば、特許第４０６３４６４号公報に記載の製造方法、特開２０１４−９４８４５号公報に記載の製造方法等が挙げられる。
【００３８】
テルペン化合物：
テルペン化合物については後で詳述する。
【００３９】
他の任意成分：
低反射膜１４における他の任意成分については後で詳述する。
【００４０】
低反射膜１４中のシリカ粒子（Ｉ）の含有量は、低反射膜１４の屈折率、シリカ粒子（Ｉ）の種類等を考慮して適宜設定できる。
シリカ粒子（Ｉ）が中実シリカ粒子である場合、低反射膜１４中の中実シリカ粒子の含有量は、低反射膜１４の総質量に対し、６０〜８０質量％であることが好ましく、７０〜８０質量％が特に好ましい。中実シリカ粒子の含有量が前記範囲内であれば、低反射膜１４の屈折率が前記範囲内となりやすい。中実シリカ粒子の含有量が前記範囲内であれば、中実シリカ粒子の含有量が多いほど、低反射膜１４の屈折率が低くなる傾向がある。
シリカ粒子（Ｉ）が中空シリカ粒子である場合、低反射膜１４中の中空シリカ粒子の含有量は、低反射膜１４の総質量に対し、２１〜８０質量％であることが好ましく、３０〜７０質量％が特に好ましい。中空シリカ粒子の含有量が前記範囲内であれば、低反射膜１４の屈折率が前記範囲内となりやすい。中空シリカ粒子の含有量が前記範囲内であれば、中空シリカ粒子の含有量が多いほど、低反射膜１４の屈折率が低くなる傾向がある。
【００４１】
低反射膜１４中、シリカ粒子（Ｉ）とマトリックスとの合計の含有量は、低反射膜１４の総質量に対し、１０〜１００質量％が好ましく、２０〜１００質量％がより好ましく、３０〜１００質量％が特に好ましい。シリカ粒子（Ｉ）とマトリックスとの合計の含有量が前記範囲の下限値以上であれば、防眩性反射防止膜１８の耐摩耗性がより優れる。
【００４２】
（防眩膜）
防眩膜１６の屈折率は、１．４０〜１．５０であり、１．４０〜１．４８が好ましい。
防眩膜１６の屈折率が前記範囲の上限値以下であれば、防眩膜１６の表面での光の反射、防眩膜１６と低反射膜１４との界面における光の反射が充分に抑制され、反射防止性が優れる。また、防眩膜１６の表面での光の反射が抑制されることで、該表面の算術平均粗さＲａが０．１４μｍ以下でも、充分な防眩効果が得られる。
防眩膜１６の屈折率が前記範囲の下限値以上であれば、防眩膜１６の緻密性が充分高く、低反射膜１４との密着性に優れる。また、防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａが大きくなると、耐摩耗性等の機械的強度が低くなる傾向があるが、防眩膜１６の緻密性が高いことで、算術平均粗さＲａが大きくても、防眩膜１６の機械的強度が充分に優れたものとなる。
【００４３】
防眩膜１６の屈折率は、防眩膜１６のマトリックスの材料、防眩膜１６の空隙率、マトリックス中への任意の屈折率を有する物質の添加等によって調整できる。たとえば、防眩膜１６の空隙率を高くすることにより屈折率を低くすることができる。また、マトリックス中に屈折率の低い物質（中実シリカ粒子、中空シリカ粒子等）を添加することで、防眩膜１６の屈折率を低くすることができる。
【００４４】
防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａは、０．０４〜０．１４μｍであり、０．０５〜０．０９μｍが好ましい。
ここで、防眩膜１６の表面とは、透明基材１２側とは反対側の面、つまり防眩性反射防止膜付き透明基材１０の防眩膜１６側の表面を意味する。算術平均粗さＲａは、表面の凹凸の山谷の平均高さを示す指標である。
防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａが前記範囲の下限値以上であれば、該表面での光沢度（６０°鏡面光沢度）が小さく、防眩性が優れる。防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａが前記範囲の上限値以下であれば、防眩性反射防止膜付き透明基材１０のヘイズが充分に小さく、高い透過率が得られ、また、防眩膜１６の防汚性、耐摩耗性等が優れる。
防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａは、たとえば、防眩膜１６の形成条件（たとえば後述する製造方法で使用する防眩膜用塗布液の組成、塗布条件等）によって調整できる。
【００４５】
防眩膜１６の表面における６０゜鏡面光沢度は、５２％以下であることが好ましく、５０％以下がより好ましい。６０゜鏡面光沢度が前記の上限値以下であれば、優れた防眩性が発揮される。
防眩膜１６の表面における６０゜鏡面光沢度は、防眩膜１６の屈折率、防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａ等によって調整できる。
【００４６】
防眩膜１６としては、前記の屈折率および算術平均粗さＲａを満たす限り特に制限はないが、屈折率を前記の範囲内にしやすいこと、化学的安定性に優れること等から、マトリックスがシリカを主成分とするものが好ましい。すなわち、マトリックスがシリカ系マトリックスであるものが好ましい。
防眩膜１６は、必要に応じて、粒子を含んでもよい。
防眩膜１６は、テルペン化合物をさらに含んでもよい。
防眩膜１６は、マトリックス、粒子およびテルペン化合物以外の他の成分（以下、「他の任意成分」ともいう。）をさらに含んでもよい。
【００４７】
シリカ系マトリックス： 
シリカ系マトリックスは、低反射膜１４で挙げたものと同様であり、好ましい態様も同様である。
【００４８】
粒子：
防眩膜１６が粒子を含有する場合、粒子の種類や含有量によって、防眩膜１６の屈折率を調整できる。たとえばシリカ粒子を含有すると、シリカ系マトリックスのみの場合に比べて、屈折率が低くなる。シリカよりも高屈折率の粒子（たとえばアルミナ粒子、ジルコニア粒子、チタニア粒子等）を含有すると、シリカ系マトリックスのみの場合に比べて、屈折率が高くなる。
【００４９】
粒子としては、金属酸化物粒子、金属粒子、顔料系粒子、樹脂粒子等が挙げられる。金属酸化物粒子、金属粒子、顔料系粒子、樹脂粒子それぞれの材料としては、低反射膜１４で挙げたものと同様のものが挙げられる。
粒子は、中空構造でもよく中実構造であってもよい。
【００５０】
粒子の形状としては、鱗片状、球状、楕円状、針状、板状、棒状、円すい状、円柱状、立方体状、長方体状、ダイヤモンド状、星状、不定形状等が挙げられる。防眩膜１６中において、粒子は、各粒子が独立した状態で存在していてもよく、各粒子が鎖状に連結していてもよく、各粒子が凝集していてもよい。
粒子は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００５１】
防眩膜１６は、粒子として、中実シリカ粒子および鱗片状シリカ粒子のいずれか一方または両方（以下、シリカ粒子（ＩＩ）ともいう。）を含むことが好ましい。シリカ粒子（ＩＩ）を含むことで、防眩膜１６の屈折率や算術平均粗さＲａを調整しやすい。また、防眩膜１６が耐摩耗性等の機械的強度に優れる。シリカ粒子（ＩＩ）は、化学的安定性にも優れる。
中実シリカ粒子、鱗片状シリカ粒子としてはそれぞれ、低反射膜１４で挙げたものと同様のものが挙げられる。
シリカ粒子（ＩＩ）は、防眩膜１６の低屈折率化がより容易な点では、中実シリカ粒子を含むことが好ましく、防眩膜１６のクラックや膜剥がれが抑制できる点では、鱗片状シリカ粒子を含むことが好ましい。
シリカ粒子（ＩＩ）とシリカ粒子（ＩＩ）以外の他の粒子とを併用してもよい。たとえば、鱗片状シリカ以外の他の鱗片状粒子を用いてもよい。他の鱗片状粒子としては、鱗片状アルミナ粒子、鱗片状チタニア、鱗片状ジルコニア等が挙げられる。
【００５２】
テルペン化合物：
テルペン化合物については後で詳述する。
【００５３】
他の任意成分：
防眩膜１６における他の任意成分については後で詳述する。
【００５４】
防眩膜１６中、シリカ系マトリックスの含有量は、防眩膜１６の総質量に対し、１５質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、３０質量％以上が特に好ましい。上限は特に限定されず、１００質量％であってもよい。シリカ系マトリックスの含有量が前記範囲の下限値以上であれば、防眩膜１６の耐摩耗性、化学的耐久性等がより優れる。
【００５５】
防眩膜１６中、粒子の含有量は、防眩膜１６の屈折率、算術平均粗さＲａ、粒子の種類等を考慮して適宜設定できる。
粒子として中実シリカ粒子を含む場合、防眩膜１６中の中実シリカ粒子の含有量は、防眩膜１６の総質量に対し、０質量％超８５質量％以下であることが好ましく、０質量％超８０質量％以下がより好ましく、０質量％超７０質量％以下が特に好ましい。中実シリカ粒子の含有量が前記範囲内であれば、中実シリカ粒子の含有量が多いほど、防眩膜１６の屈折率が低くなり、算術平均粗さＲａが大きくなる傾向がある。中実シリカ粒子の含有量が前記範囲の上限値以下であれば、防眩膜１６の屈折率が前記範囲の下限値以上、算術平均粗さＲａが前記範囲の上限値以下となりやすい。
【００５６】
（ヘイズ）
防眩性反射防止膜付き透明基材１０のヘイズは、１〜１０％が好ましく、２〜７％がより好ましい。ヘイズが前記範囲の上限値以下であれば、防眩性反射防止膜付き透明基材１０を画像表示装置に用いた場合の画像のコントラストや、防眩性反射防止膜付き透明基材１０を太陽電池モジュールに用いた場合の発電効率が良好である。ヘイズが前記範囲の下限値以上であれば、防眩効果が発揮されやすい。
ヘイズは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１３６：２０００（ＩＳＯ  １４７８２：１９９９）に記載された方法によって測定される。
【００５７】
＜防眩性反射防止膜付き透明基材の製造方法＞
防眩性反射防止膜付き透明基材１０の製造方法としては、たとえば、透明基材１２の上に、シリカ粒子（Ｉ）と、シリカ前駆体と、液状媒体とを含む塗布液（以下、低反射膜用塗布液ともいう。）、およびシリカ前駆体と、液状媒体とを含む塗布液（以下、防眩膜用塗布液ともいう。）を順次、ウェットコート法により塗布し、必要に応じて予熱し、焼成する方法が挙げられる。
低反射膜用塗布液は、必要に応じて、他の粒子、テルペン化合物、他の任意成分等を含んでもよい。低反射膜用塗布液については後で詳しく説明する。
防眩膜用塗布液は、必要に応じて、粒子、テルペン化合物、他の任意成分等を含んでもよい。防眩膜用塗布液については後で詳しく説明する。
【００５８】
前記方法においては、低反射膜用塗布液を塗布した後、形成された塗膜を焼成してから、その上に防眩膜用塗布液を塗布してもよく、低反射膜用塗布液を塗布した後、形成された塗膜を焼成せずウェットな状態のまま、その上に防眩膜用塗布液を塗布してもよい。
【００５９】
塗布：
低反射膜用塗布液の塗布方法としては、公知のウェットコート法を採用できる。
ウェットコート法としては、スピンコート法、スプレーコート法、ディップコート法、ダイコート法、カーテンコート法、スクリーンコート法、インクジェット法、フローコート法、グラビアコート法、バーコート法、フレキソコート法、スリットコート法、ロールコート法等が挙げられる。
中でも、幅の広い透明基材１２に対応でき、透明基材１２の搬送速度を比較的速くでき、必要とされる塗布液の量が比較的少ない点から、ロールコート法が好ましく、光学設計可能な任意の膜厚の塗膜を均一な膜厚で形成しやすい（膜厚制御性に優れる）点から、リバースロールコート法がより好ましい。
低反射膜用塗布液の塗布温度（雰囲気）は、室温〜８０℃が好ましく、室温〜６０℃がより好ましい。
低反射膜用塗布液の塗布量は、低反射膜１４の膜厚に応じた量とされる。
【００６０】
防眩膜用塗布液の塗布方法としては、低反射膜用塗布液の塗布方法と同様、公知のウェットコート法を採用できる。
中でも、充分な凹凸を形成しやすい点から、スプレー法が好ましい。
スプレー法に用いるノズルとしては、２流体ノズル、１流体ノズル等が挙げられる。
ノズルから吐出される塗布液の液滴の粒径は、通常、０．１〜１００μｍであり、１〜５０μｍが好ましい。液滴の粒径が１μｍ以上であれば、防眩効果が充分に発揮される凹凸を短時間で形成できる。液滴の粒径が５０μｍ以下であれば、防眩効果が充分に発揮される適度な凹凸を形成しやすい。
【００６１】
液滴の粒径は、ノズルの種類、スプレー圧力、液量等により適宜調整できる。たとえば、２流体ノズルでは、スプレー圧力が高くなるほど液滴は小さくなり、また、液量が多くなるほど液滴は大きくなる。
液滴の粒径は、レーザ測定器によって測定されるザウター平均粒子径である。
【００６２】
防眩膜用塗布液の塗布は、防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａが所定の範囲内となるように行われる。
防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａは、防眩膜用塗布液の組成（固形分濃度、シリカ粒子（Ｉ）や他の粒子の種類、大きさ、含有量等）、防眩膜用塗布液の塗布条件（塗布液を塗布する際のスプレー圧、液量、基材温度、塗布回数等）等によって調整できる。
【００６３】
たとえば、防眩膜用塗布液の固形分濃度以外の条件が同じである場合、固形分濃度が高いほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
防眩膜用塗布液が中実シリカ粒子等の粒子を含み、粒子の平均粒子径（平均一次粒子径、平均凝集粒子径等）以外の条件が同じである場合、粒子の平均粒子径が大きいほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
防眩膜用塗布液が粒子を含み、粒子の含有量以外の条件が同じである場合、粒子の含有量が多いほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
防眩膜用塗布液を塗布する際のスプレー圧以外の条件が同じである場合、スプレー圧が低いほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
防眩膜用塗布液を塗布する際の液量以外の条件が同じである場合、液量が多いほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
防眩膜用塗布液を塗布する際の透明基材の温度以外の条件が同じである場合、透明基材の温度が高いほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
防眩膜用塗布液を塗布する際の塗布回数以外の条件が同じである場合、塗布回数、すなわちスプレー法によるコート面数（重ね塗り回数）が多いほど、算術平均粗さＲａが大きい傾向がある。
そして、算術平均粗さＲａが大きくなると、６０゜鏡面光沢度が小さくなり、防眩効果が高くなる傾向、およびヘイズが大きくなる傾向がある。
【００６４】
スプレー法にて防眩膜用塗布液を塗布する際には、低反射膜用塗布液が塗布された後の透明基材１２を、あらかじめ３０〜９０℃に加熱することが好ましい。透明基材１２の温度が３０℃以上であれば、塗布液の液滴に含まれる液状媒体がすばやく蒸発するため、充分な凸凹を形成しやすい。透明基材１２の温度が９０℃以下であれば、低反射膜１４と防眩膜１６との密着性が良好となる。
透明基材１２が厚み５ｍｍ以下のガラス板の場合、あらかじめ透明基材１２の温度以上の温度に設定した保温板を透明基材１２の下に配置し、透明基材１２の温度低下を抑えてもよい。
【００６５】
焼成：
低反射膜用または防眩膜用塗布液の塗布により透明基材１２上に形成された塗膜を焼成すると、塗膜中の液状媒体が除去され、また、塗膜中のシリカ前駆体のシリカ系マトリックスへの転化が進行する（たとえばシリカ前駆体が、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物である場合に、加水分解性基がほぼ分解し、加水分解物の縮合が進行する）とともに膜が緻密化して、低反射膜１４や防眩膜１６が形成される。
焼成は、低反射膜用塗布液または防眩膜用塗布液を塗布した後に加熱することにより行ってもよく、透明基材１２をあらかじめ焼成温度に加熱しておき、該透明基材１２上（透明基材１２の表面または低反射膜用塗布液の塗膜の表面）に防眩膜用塗布液を塗布することにより行ってもよい。
【００６６】
焼成温度は、３０℃以上が好ましく、透明基材１２の材料、低反射膜用塗布液または防眩膜用塗布液の材料等に応じて適宜決定すればよい。
塗布液に含まれるシリカ前駆体が、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物（後述のシラン化合物（Ａ））である場合、乾燥温度は、８０℃以上が好ましく、１００℃以上がより好ましい。乾燥温度が８０℃以上であれば、膜が緻密化して機械的強度等の耐久性が向上する。
透明基材１２の材料が樹脂の場合、焼成温度は樹脂の耐熱温度以下になる。透明基材１２の材料がガラスの場合、焼成温度はガラスの軟化点温度以下が好ましい。
透明基材１２が化学強化ガラス板である場合、焼成温度は、８０〜４５０℃が好ましい。
透明基材１２が化学強化されていないガラス板である場合、焼成工程が、ガラス板の物理強化（風冷強化）工程を兼ねることもできる。物理強化工程では、ガラス板は、ガラスの軟化温度付近まで加熱される。この場合、乾燥温度は、典型的には約６００〜７００℃前後に設定される。
自然乾燥であっても重合はある程度進むため、時間に何らの制約もないのであれば、乾燥温度を室温付近の温度設定とすることも、理論上は可能である。
【００６７】
（低反射膜用塗布液）
防眩膜用塗布液は、シリカ粒子（Ｉ）と、シリカ前駆体と、液状媒体とを含む。
防眩膜用塗布液は、必要に応じて、他の粒子、テルペン化合物、他の任意成分等をさらに含んでもよい。
【００６８】
シリカ粒子（Ｉ）：
シリカ粒子（Ｉ）についての説明は前記と同じである。
【００６９】
シリカ前駆体：
シリカ前駆体としては、ケイ素原子に結合した加水分解性基を有するシラン化合物（以下、シラン化合物（Ａ）ともいう。）、シラン化合物（Ａ）の加水分解縮合物（ゾルゲルシリカ）、シラザン等が挙げられる。形成される膜の各特性の点から、シラン化合物（Ａ）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方が好ましく、シラン化合物（Ａ）の加水分解縮合物がより好ましい。
【００７０】
シラン化合物（Ａ）としては、ケイ素原子に結合した炭化水素基および加水分解性基を有するシラン化合物（Ａ１）、アルコキシシラン（ただしシラン化合物（Ａ１）を除く。）等が挙げられる。
【００７１】
シラン化合物（Ａ１）において、ケイ素原子に結合した炭化水素基は、１つケイ素原子に結合した１価の炭化水素基であってもよく、２つのケイ素原子に結合した２価の炭化水素基であってもよい。１価の炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。２価の炭化水素基としては、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基等が挙げられる。
炭化水素基は、炭素原子間に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−および−ＮＲ’−（ただしＲ’は水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる１つまたは２つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。
【００７２】
ケイ素原子に結合した加水分解性基としては、アルコキシ基、アシロキシ基、ケトオキシム基、アルケニルオキシ基、アミノ基、アミノキシ基、アミド基、イソシアネート基、ハロゲン原子等が挙げられる。これらの中では、シラン化合物（Ａ１）の安定性と加水分解のしやすさとのバランスの点から、アルコキシ基、イソシアネート基およびハロゲン原子（特に塩素原子）が好ましい。
アルコキシ基としては、炭素数１〜３のアルコキシ基が好ましく、メトキシ基またはエトキシ基がより好ましい。
シラン化合物（Ａ１）中に加水分解性基が複数存在する場合には、複数の加水分解性基はそれぞれ、同じ基であっても異なる基であってもよく、入手しやすさの点では、同じ基であることが好ましい。
【００７３】
シラン化合物（Ａ１）としては、後述する式（Ｉ）で表される化合物、アルキル基を有するアルコキシシラン（メチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等）、ビニル基を有するアルコキシシラン（ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等）、エポキシ基を有するアルコキシシラン（２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン等）、アクリロイルオキシ基を有するアルコキシシラン（３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン等）等が挙げられる。
【００７４】
シラン化合物（Ａ１）としては、膜の機械的強度の点から、下式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。
Ｒ３−ｐＬｐＳｉ−Ｑ−ＳｉＬｐＲ３−ｐ  ・・・（Ｉ）
【００７５】
式（Ｉ）中、Ｑは、２価の炭化水素基（炭素原子間に−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−および−ＮＲ’−（ただし、Ｒ’は水素原子または１価の炭化水素基である。）から選ばれる１つまたは２つ以上を組み合わせた基を有していてもよい。）である。２価の炭化水素としては、上述したものが挙げられる。
Ｑとしては、膜の機械的強度、入手の容易さ等の点から、炭素数２〜８のアルキレン基が好ましく、炭素数２〜６のアルキレン基がさらに好ましい。
【００７６】
式（Ｉ）中、Ｌは、加水分解性基である。加水分解性基としては、上述したものが挙げられ、好ましい態様も同様である。
Ｒは、水素原子または１価の炭化水素基である。１価の炭化水素としては、上述したものが挙げられる。
ｐは、１〜３の整数である。ｐは、反応速度が遅くなりすぎない点から、２または３が好ましく、３が特に好ましい。
【００７７】
アルコキシシラン（ただし、前記シラン化合物（Ａ１）を除く。）としては、テトラアルコキシシラン（テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシシラン等）、パーフルオロポリエーテル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロポリエーテルトリエトキシシラン等）、パーフルオロアルキル基を有するアルコキシシラン（パーフルオロエチルトリエトキシシラン等）等が挙げられる。
【００７８】
シラン化合物（Ａ）の加水分解および縮合は、公知の方法により行うことができる。
たとえばシラン化合物（Ａ）がテトラアルコキシシランの場合、テトラアルコキシシランの４倍モル以上の水、および触媒として酸またはアルカリを用いて行う。
酸としては、無機酸（ＨＮＯ３、Ｈ２ＳＯ４、ＨＣｌ等。）、有機酸（ギ酸、シュウ酸、モノクロル酢酸、ジクロル酢酸、トリクロル酢酸等。）が挙げられる。アルカリとしては、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等が挙げられる。触媒としては、シラン化合物（Ａ）の加水分解縮合物の長期保存性の点では、酸が好ましい。
シラン化合物（Ａ）の加水分解に用いる触媒としては、シリカ粒子（Ｉ）等の粒子の分散を妨げないものが好ましい。
【００７９】
シリカ前駆体としては、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
シリカ前駆体は、膜のクラックや剥がれを防止する観点から、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。
シリカ前駆体は、膜の耐摩耗強度の観点から、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方を含むことが好ましい。
シリカ前駆体は、シラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、テトラアルコキシシランおよびその加水分解縮合物のいずれか一方または両方と、を含むことが特に好ましい。
シリカ前駆体中のシラン化合物（Ａ１）およびその加水分解縮合物の割合は、シリカ前駆体のＳｉＯ２換算固形分（１００質量％）に対し、５〜３０質量％が好ましい。
【００８０】
液状媒体：
液状媒体は、シリカ前駆体を溶解または分散する液体である。液状媒体は、シリカ粒子（Ｉ）等の粒子を分散する分散媒としての機能を有してもよい。
液状媒体としては、たとえば、水、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。
【００８１】
アルコール類としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール等が挙げられる。
ケトン類としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
エーテル類としては、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等が挙げられる。
セロソルブ類としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等が挙げられる。
エステル類としては、酢酸メチル、酢酸エチル等が挙げられる。
グリコールエーテル類としては、エチレングリコールモノアルキルエーテル等が挙げられる。
含窒素化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン等が挙げられる。
含硫黄化合物としては、ジメチルスルホキシド等が挙げられる。
液状媒体は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００８２】
シリカ前駆体におけるアルコキシシラン等の加水分解に水が必要となるため、加水分解後に液状媒体の置換を行わない限り、液状媒体には少なくとも水が含まれる。
この場合、液状媒体は、水のみであってもよく、水と他の液体との混合液であってもよい。他の液体としては、たとえば、アルコール類、ケトン類、エーテル類、セロソルブ類、エステル類、グリコールエーテル類、含窒素化合物、含硫黄化合物等が挙げられる。他の液体のうち、シリカ前駆体の溶媒としては、アルコール類が好ましく、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ブタノールが特に好ましい。
【００８３】
液状媒体には、酸またはアルカリが含まれてもよい。酸またはアルカリは、シリカ前駆体の溶液の調製の際に、原料（アルコキシシラン等）の加水分解、縮合にために触媒として添加されたものでもよく、シリカ前駆体の溶液の調製後に添加されたものでもよい。
【００８４】
他の粒子：
他の粒子についての説明は前記と同じである。
【００８５】
テルペン化合物：
低反射膜用塗布液がシリカ粒子（Ｉ）等の粒子を含む場合にテルペン化合物をさらに含むと、粒子の周囲に空隙が形成され、テルペン化合物を含まない場合に比べて屈折率が低くなる傾向がある。
テルペンとは、イソプレン（Ｃ５Ｈ８）を構成単位とする（Ｃ５Ｈ８）ｎ（ただし、ｎは１以上の整数である。）の組成の炭化水素を意味する。テルペン化合物とは、テルペンから誘導される官能基を有するテルペン類を意味する。テルペン化合物は、不飽和度を異にするものも包含する。
なお、テルペン化合物には液状媒体として機能するものもあるが、「イソプレンを構成単位とする（Ｃ５Ｈ８）ｎの組成の炭化水素」であるものは、テルペン誘導体に該当し、液状媒体には該当しないものとする。
テルペン化合物としては、国際公開第２０１０／０１８８５２号に記載のテルペン誘導体等を用いることができる。
【００８６】
他の任意成分：
低反射膜用塗布液における他の任意成分は、シリカ粒子（Ｉ）、シリカ前駆体、他の粒子およびテルペン化合物以外の他の成分である。
他の任意成分としては、例えば、レベリング性向上のための界面活性剤、膜の耐久性向上のための金属化合物、紫外線吸収剤、赤外線反射／赤外線吸収剤、反射防止剤等が挙げられる。
界面活性剤としては、シリコーンオイル系、アクリル系等が挙げられる。
金属化合物としては、ジルコニウムキレート化合物、チタンキレート化合物、アルミニウムキレート化合物等が好ましい。ジルコニウムキレート化合物としては、ジルコニウムテトラアセチルアセトナート、ジルコニウムトリブトキシステアレート等が挙げられる。
【００８７】
組成：
低反射膜用塗布液中のシリカ粒子（Ｉ）の含有量、シリカ粒子（Ｉ）とシリカ前駆体との合計の含有量はそれぞれ、前述した、低反射膜１４中のシリカ粒子（Ｉ）の含有量、シリカ粒子（Ｉ）とマトリックスとの合計の含有量に応じて設定される。
低反射膜１４中のシリカ粒子（Ｉ）の含有量と、防眩膜用塗布液中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体はＳｉＯ２換算とする。）に対するシリカ粒子（Ｉ）の含有量とはほぼ同じである。
低反射膜１４中のシリカ粒子（Ｉ）とマトリックスとの合計の含有量と、低反射膜用塗布液中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体はＳｉＯ２換算とする。）に対するシリカ粒子（Ｉ）とシリカ前駆体との合計の含有量とはほぼ同じである。
【００８８】
低反射膜用塗布液中の液状媒体の含有量は、低反射膜用塗布液の固形分濃度に応じた量とされる。
低反射膜用塗布液の固形分濃度は、０．２〜４質量％が好ましく、０．８〜３質量％がより好ましい。固形分濃度が前記範囲の下限値以上であれば、低反射膜用塗布液の塗膜の膜厚を制御しやすい。固形分濃度が前記範囲の上限値以下であれば、低反射膜用塗布液の塗膜の膜厚を均一にしやすい。
低反射膜用塗布液の「固形分」は、低反射膜用塗布液中の、液状媒体以外の全成分の含有量の合計である。ただしシリカ前駆体の含有量はＳｉＯ２換算である。
【００８９】
低反射膜用塗布液がテルペン化合物を含有する場合、低反射膜用塗布液中のテルペン化合物の含有量は、低反射膜用塗布液中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体はＳｉＯ２換算とする。）に対し、０．０５〜０．２５質量％が好ましく、０．１〜０．１５質量％がより好ましい。テルペン化合物の含有量が前記範囲の下限値以上であると、テルペン化合物を含むことによる効果が得られやすい。テルペン化合物の含有量が前記範囲の上限値以下であると、機械的強度に優れる。
【００９０】
低反射膜用塗布液は、たとえば、シラン前駆体が液体媒体に溶解した溶液を調製し、該溶液と、シリカ粒子（Ｉ）の分散液と、必要に応じて追加の液状媒体、他の粒子の分散液、テルペン化合物、他の任意成分等を混合することによって調製できる。
【００９１】
（防眩膜用塗布液）
防眩膜用塗布液は、シリカ前駆体と、液状媒体とを含む。
防眩膜用塗布液は、必要に応じて、粒子、テルペン化合物、他の任意成分等をさらに含んでもよい。
【００９２】
シリカ前駆体：
シリカ前駆体としては、低反射膜用塗布液におけるシリカ前駆体と同様のものが挙げられる。好ましい態様も同様である。
【００９３】
液状媒体：
液状媒体としては、低反射膜用塗布液における液状媒体と同様のものが挙げられる。
【００９４】
粒子：
粒子は、防眩膜１６の説明で挙げた粒子と同様である。好ましい態様も同様である。
【００９５】
テルペン化合物：
テルペン化合物としては、低反射膜用塗布液におけるテルペン化合物と同様のものが挙げられる。
【００９６】
他の任意成分：
防眩膜用塗布液における他の任意成分は、シリカ前駆体、粒子およびテルペン化合物以外の他の成分である。
他の任意成分としては、低反射膜用塗布液における他の任意成分と同様のものが挙げられる。
【００９７】
組成：
防眩膜用塗布液中のシリカ前駆体の含有量（ＳｉＯ２換算）、粒子の含有量はそれぞれ、前述した、防眩膜１６中のシリカ系マトリックスの含有量、粒子の含有量に応じて設定される。
防眩膜１６中のシリカ系マトリックスの含有量と、防眩膜用塗布液中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体はＳｉＯ２換算とする。）に対するシリカ前駆体の含有量（ＳｉＯ２換算）とはほぼ同じである。
防眩膜１６中の粒子の含有量と、防眩膜用塗布液中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体はＳｉＯ２換算とする。）に対する粒子の含有量とはほぼ同じである。
【００９８】
防眩膜用塗布液中の液状媒体の含有量は、防眩膜用塗布液の固形分濃度に応じて設定される。
防眩膜用塗布液の固形分濃度は、１〜５質量％が好ましく、２〜４質量％がより好ましい。固形分濃度が前記の範囲内であれば、表面の算術平均粗さＲａが前記の範囲内である防眩膜１６が得られやすい。
防眩膜用塗布液の「固形分」は、防眩膜用塗布液中の、液状媒体以外の全成分の含有量の合計である。ただしシリカ前駆体の含有量はＳｉＯ２換算である。
【００９９】
防眩膜用塗布液がテルペン化合物を含有する場合、防眩膜用塗布液中のテルペン化合物の含有量は、防眩膜用塗布液中の固形分（１００質量％）（ただし、シリカ前駆体はＳｉＯ２換算とする。）に対し、０．０５〜０．２５質量％が好ましく、０．１〜０．１５質量％がより好ましい。テルペン化合物の含有量が前記範囲の下限値以上であると、テルペン化合物を含むことによる効果が得られやすい。テルペン化合物の含有量が前記範囲の上限値以下であると、機械的強度に優れる。
【０１００】
防眩膜用塗布液は、たとえば、シラン前駆体が液体媒体に溶解した溶液を調製し、必要に応じて追加の液状媒体、粒子の分散液、テルペン化合物、他の任意成分等を混合することによって調製できる。
【０１０１】
（作用効果）
防眩性反射防止膜付き透明基材１０にあっては、防眩性反射防止膜１８が、透明基材１２上に形成された低反射膜１４と、低反射膜１４上に形成された防眩膜１６とからなり、低反射膜１４の屈折率が１．２４〜１．３５で、低反射膜１４の膜厚が２０〜１４０ｎｍであり、防眩膜１６の屈折率が１．４０〜１．５０で、防眩膜１６の表面の算術平均粗さＲａが０．０４〜０．１４μｍであるため、防眩性および反射防止性がともに優れる。たとえば、太陽光等の光が入射したときに、強い反射光が生じることを抑制できる。また、透明基材１２単独の場合よりも、光の透過率が向上する。
また、防眩膜１６の表面、つまり防眩膜１６側の防眩性反射防止膜付き透明基材１０の表面の算術平均粗さＲａが０．１４μｍ以下であることから、耐摩耗性等の機械的強度、防汚性（汚れの付着しにくさ、付着した汚れの除去し易さ）等にも優れる。
【０１０２】
（用途）
防眩性反射防止膜付き透明基材１０の用途としては、特に限定されない。具体例としては、車両用透明部品（ヘッドライトカバー、サイドミラー、フロント透明基板、サイド透明基板、リア透明基板等。） 、車両用透明部品（インスツルメントパネル表面等。） 、メータ、建築窓、ショーウインドウ、ディスプレイ（ノート型パソコン、モニタ、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＥＬＤ、ＣＲＴ、ＰＤＡ等）、ＬＣＤカラーフィルタ、タッチパネル用基板、ピックアップレンズ、光学レンズ、眼鏡レンズ、カメラ部品、ビデオ部品、ＣＣＤ用カバー基板、光ファイバ端面、プロジェクタ部品、複写機部品、太陽電池用透明基板（カバーガラス等。）、携帯電話窓、バックライトユニット部品（導光板、冷陰極管等。）、バックライトユニット部品液晶輝度向上フィルム（プリズム、半透過フィルム等。）、液晶輝度向上フィルム、有機ＥＬ発光素子部品、無機ＥＬ発光素子部品、蛍光体発光素子部品、光学フィルタ、光学部品の端面、照明ランプ、照明器具のカバー、増幅レーザー光源、反射防止フィルム、偏光フィルム、農業用フィルム等が挙げられる。
【０１０３】
防眩性反射防止膜付き透明基材１０の好ましい用途として、太陽電池用透明基板が挙げられる。
太陽電池モジュールにおいては、太陽電池を保護するために太陽電池の前面等に透明基板（カバーガラス等）が配置される。設置場所によっては、透明基板の表面で反射した反射光により光害が生じる。防眩性反射防止膜付き透明基材１０は防眩性に優れることから、これを太陽電池用透明基板として用いることで、反射光による光害の発生を抑制できる。
また、太陽電池モジュールにおいて、太陽電池の前面に配置される透明基板の太陽光等の透過率は、太陽電池モジュールの発電効率に影響する。防眩性反射防止膜付き透明基材１０は、反射防止性が優れ、太陽光等の透過率が高い。そのため、これを太陽電池の前面に配置される透明基板として用いることで、太陽電池モジュールの発電効率を向上させ得る。
また、透明基板を用いた太陽電池モジュールの製造工程では、機械油、指紋等の汚れが透明基板に付着しやすい。また、作製したモジュールを設置する際にも透明基板に汚れが付着しやすい。透明基板の汚れは、防眩性や反射防止性、太陽光の透過率、外観等を損なうため、除去する必要がある。一般的な防眩膜は、一旦付着した汚れの除去に手間がかかり、完全な除去も難しく、除去後に汚れ跡が残ることもある。防眩性反射防止膜付き透明基材１０にあっては、表面の凹凸が小さいため、汚れが付着しにくく、付着しても除去し易く、この点においても太陽電池用透明基板として有用である。
【０１０４】
防眩性反射防止膜付き透明基材１０の他の好ましい用途として、輸送機の内装部品が挙げられる。
輸送機の内装部品としては、車載物品が好ましい。車載物品としては、画像表示装置を備える車載システム（カーナビゲーション、インストルメントパネル、ヘッドアップディスプレイ、ダッシュボード、センターコンソール、シフトノブ等）が好ましい。
【０１０５】
以上、本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材について、一実施形態を示して説明したが、本発明は上記実施形態に限定されない。上記実施形態における各構成及びそれらの組み合わせ等は一例であり、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内で、構成の付加、省略、置換、およびその他の変更が可能である。
たとえば、防眩性反射防止膜１８の上側（防眩膜１６の上側）にＡＦＰ（指紋除去層）等の機能層を有してもよい。透明基材１２と防眩性反射防止膜１８との間に、アルカリバリア層、反射率波形調整層、赤外線遮蔽層等の機能層を有してもよい。機能層は、コート法等の公知の方法により形成できる。
透明基材１２の形態は、板、フィルム等のシート状に限定されない。たとえば矩形あるいは曲面等の形態であってもよい。
防眩性反射防止膜付き透明基材の製造方法は、前記で説明した製造方法に限定されない。
【０１０６】
〔物品〕
本発明の物品は、前記本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材を備える。
本発明の物品は、本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材からなるものでもよく、本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材以外の他の部材をさらに備えるものでもよい。
本発明の物品の例としては、前記で防眩性反射防止膜付き透明基材１０の用途として挙げたもの、それらのいずれか１種以上を備える装置、等が挙げられる。
装置としては、例えば照明装置およびこれを備えるシステム、画像表示装置およびこれを備えるシステム、太陽電池モジュール等が挙げられる。
照明装置またはこれを備えるシステムの例としては、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）照明装置、ＬＥＤ（発光ダイオード）照明装置等が挙げられる。
画像表示装置またはこれを備えるシステムの例としては、携帯電話、スマートフォン、タブレット、カーナビゲーション等が挙げられる。
【０１０７】
本発明の物品は、太陽電池モジュール、または画像表示装置もしくはこれを備えるシステムであることが好ましい。
本発明の物品が太陽電池モジュールである場合、該太陽電池モジュールとしては、太陽電池と、太陽電池を保護するために太陽電池の前面および背面にそれぞれ配置された透明基板（カバーガラス等）とを備え、前記透明基板の少なくとも一方の透明基板（好ましくは少なくとも前面側の透明基板）が本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材であるものが好ましい。
【０１０８】
本発明の物品が画像表示装置である場合、該画像表示装置は、画像を表示する画像表示装置本体と、画像表示装置本体の視認側に設けられた本発明の防眩性反射防止膜付き透明基材とを具備するものが好ましい。
画像表示装置本体としては、液晶パネル、有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）パネル、プラズマディスプレイパネル等が挙げられる。
防眩性反射防止膜付き透明基材は、画像表示装置本体の保護板として、画像表示装置本体に一体に設けられてもよく、各種フィルタとして、画像表示装置本体の視認側に配置されてもよい。
【実施例】
【０１０９】
以下、実施例を示して本発明を詳細に説明する。ただし、本発明は以下の記載によっては限定されない。
後述する例１〜９のうち、例１〜６は実施例であり、例７〜９は比較例である。
各例で用いた測定・評価方法および材料（入手先または調製方法）を以下に示す。
【０１１０】
〔測定・評価方法〕
（低反射膜の屈折率および膜厚）
各例において、防眩膜を形成しない（塗布液（Ｂ）を塗布しない）以外は同じ条件で防眩性反射防止膜付き透明基材の作製を行った。これにより、透明基材上に低反射膜が形成された低反射膜付き透明基材を得た。該低反射膜付き透明基材の透明基材側の表面に黒のビニールテープを貼り付けてサンプルとした。
該サンプルの低反射膜側の表面での波長３８０〜７８０ｎｍの範囲内における反射率を、分光光度計（大塚電子社製、瞬間マルチ測光システムＭＣＰＤ−３０００）で測定した。光の入射角度は５°とした。
波長３８０〜７８０ｎｍの範囲内におけるボトム反射率Ｒｍｉｎと、透明基材の屈折率ｎｓとから、下式（１）によって、低反射膜の屈折率ｎを算出した。
Ｒｍｉｎ＝（ｎ−ｎｓ）２／（ｎ＋ｎｓ）２  ・・・（１）。
前記屈折率ｎと、ボトム反射率Ｒｍｉｎにおける波長λ（ｎｍ）とから、下式（２）によって、低反射膜の膜厚ｄ（ｎｍ）を算出した。
ｎ×ｄ＝λ／４  ・・・（２）。
【０１１１】
（防眩膜の屈折率）
各例において、低反射膜を形成しない（塗布液（Ａ）を塗布しない）以外は同じ条件で防眩性反射防止膜付き透明基材の作製を行った。これにより、透明基材上に防眩膜が形成された防眩膜付き透明基材を得た。該防眩膜付き透明基材の透明基材側の表面に黒のビニールテープを貼り付けてサンプルとした。
該サンプルの防眩膜側の波長３８０〜７８０ｎｍの範囲内における反射率を前記と同様にして測定し、前記式（１）によって防眩膜の屈折率ｎを算出した。
【０１１２】
（算術平均粗さＲａ）
防眩膜の表面の算術平均粗さＲａは、表面粗さ計（東京精密社製、サーフコム（登録商標）１５００ＤＸ）を用い、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に記載された方法によって測定した。粗さ曲線用の基準長さｌｒ（カットオフ値λｃ）は０．０８ｍｍとした。
【０１１３】
（光沢度）
防眩膜の表面の光沢度として、６０゜鏡面光沢度を測定した。６０゜鏡面光沢度は、光沢度計（日本電色工業社製、ＰＧ−３Ｄ型）を用いて、ＪＩＳ  Ｚ８７４１：１９９７に規定されている方法により、防眩膜のほぼ中央部で測定した。また、防眩膜の表面の光沢度は、ガラス板における裏面（防眩膜と反対側の面）に黒テープを貼り付けることにより、ガラス板の裏面反射の影響を無くした状態で測定した。光沢度が小さいほど、防眩性に優れることを示す。
【０１１４】
（透過率差Ｔｄ）
防眩性反射防止膜（低反射膜および防眩膜）を形成する前の透明基材、防眩性反射防止膜付き透明基材それぞれについて、分光光度計（日本分光社製、Ｖ６７０）を用いて、波長４００ｎｍ〜１１００ｎｍにおける光の透過率（％）を測定し、平均透過率（％）を求めた。その結果から、下式（３）により透過率差Ｔｄ（％）を算出した。透過率差Ｔｄが大きいほど、反射防止性能が高いことを示す。
透過率差Ｔｄ＝防眩性反射防止膜付き透明基材の平均透過率−透明基材のみの平均透過率  …（３）
【０１１５】
〔使用材料〕
（シリカ前駆体溶液（ａ））
以下の手順で調製したものを使用した。
変性エタノール（日本アルコール販売社製、ソルミックスＡＰ−１１、エタノールを主剤とした混合溶媒、以下同様）の７７．６ｇを撹拌しながら、これにイオン交換水の１１．９ｇと６１質量％硝酸の０．１ｇとの混合液を加え、５分間撹拌した。これに、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ２換算固形分濃度：２９質量％）の１０．４ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．０質量％のシリカ前駆体溶液（ａ）を調製した。なお、ここでのＳｉＯ２換算固形分濃度は、テトラエトキシシランのすべてのＳｉがＳｉＯ２に転化したときの固形分濃度である。
【０１１６】
（シリカ前駆体溶液（ｂ−１）の調製）
変性エタノールの７５．８ｇを撹拌しながら、イオン交換水の１１．９ｇと６１質量％硝酸の０．１ｇとの混合液を加え、５分間撹拌した。これに、テトラエトキシシラン（ＳｉＯ２換算固形分濃度：２９質量％）の１２．２ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．５質量％のシリカ前駆体溶液（ｂ−１）を調製した。なお、ここでのＳｉＯ２換算固形分濃度は、テトラエトキシシランのすべてのＳｉがＳｉＯ２に転化したときの固形分濃度である。
【０１１７】
（シリカ前駆体溶液（ｂ−２）の調製）
変性エタノールの８０．３ｇを撹拌しながら、イオン交換水の７．９ｇと６１質量％硝酸の０．２ｇとの混合液を加え、５分間撹拌した。次いで、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサン（信越シリコーン社製、商品名「ＫＢＭ３０６６」、ＳｉＯ２換算固形分濃度：３７質量％）の１１．６ｇを加え、ウォーターバス中６０℃で１５分間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が４．３質量％のシリカ前駆体溶液（ｂ−２）を調製した。なお、ここでのＳｉＯ２換算固形分濃度は、１，６−ビス（トリメトキシシリル）ヘキサンのすべてのＳｉがＳｉＯ２に転化したときの固形分濃度である。
【０１１８】
（塗布液（Ａ）の調製）
変性エタノールの５９．８ｇを撹拌しながらシリカ前駆体溶液（ａ）の３０．０ｇを加え、次いで、中空シリカゾル（日揮触媒化成社製  スルーリア（登録商標）４１１０）１０．２ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．０質量％の塗布液（Ａ）を得た。なお、ここでのＳｉＯ２換算固形分濃度は、シリカ前駆体溶液（ａ）のＳｉＯ２換算固形分と、中空シリカ粒子分散液のＳｉＯ２換算固形分（中空シリカ粒子）との合計である。
塗布液（Ａ）中の中空シリカ粒子の含有量は、塗布液（Ａ）のＳｉＯ２換算固形分に対して７０質量％であり、塗布液（Ａ）中の中空シリカ粒子の平均一次粒子径は６０ｎｍであった。
【０１１９】
（塗布液（Ｂ）の調製）
シリカ前駆体溶液（ｂ−１）の７７．１ｇを撹拌しながらシリカ前駆体溶液（ｂ−２）の７．０ｇを加え、３０分間撹拌した。次いで、変性エタノール１５．９ｇを加え、室温で３０分間撹拌し、ＳｉＯ２換算固形分濃度が３．０質量％の塗布液（Ｂ）を得た。
【０１２０】
〔例１〕
（透明基材の洗浄）
透明基材として、化学強化されたアルミノシリケートガラス板（旭硝子社製、商品名「Ｌｅｏｆｌｅｘ（登録商標）」。サイズ：３００ｍｍ×３００ｍｍ、厚さ０．８５ｍｍ。）を用意した。該透明基材の表面を炭酸水素ナトリウム水で洗浄後、イオン交換水でリンスし、乾燥させた。
【０１２１】
（防眩性反射防止膜の形成）
前記透明基材を予熱炉（ＩＳＵＺＵ社製、ＶＴＲ−１１５）にて予熱し、透明基材の表面温度が３０℃に保温された状態にて、透明基材上に、リバースロールコータ（三和精機社製）のコーティングロールによって、塗布液（Ａ）（低反射膜用塗布液）を塗布した。次いで、前記透明基材を予熱炉（ＩＳＵＺＵ社製、ＶＴＲ−１１５）にて予熱し、透明基材の表面温度が９０℃に保温された状態にて、前記透明基材の塗布液（Ａ）を塗布した面上に、スプレー法により塗布液（Ｂ）（防眩膜用塗布液）を塗布した。その後、大気中、２００℃で３分間加熱養生した。これにより、透明基材と低反射膜と防眩膜とがこの順で積層した防眩性反射防止膜付き透明基材を得た。
【０１２２】
塗布液（Ａ）の塗布量は、表１に示す膜厚になる量とした。
塗布条件は、型板ガラスの搬送速度：８．５ｍ／分、コーティングロールと搬送ベルトとのギャップ：２．９ｍｍ、コーティングロールとドクターロールとの押込み厚：０．６ｍｍとした。
コーティングロールとしては、表面の硬度（ＪＩＳ−Ａ）が３０のゴム（エチレンプロピレンジエンゴム）がライニングされたゴムライニングロールを用いた。
ドクターロールとしては、格子状の溝が表面に形成されたメタルロールを用いた。
【０１２３】
塗布液（Ｂ）のスプレー法による塗布は、下記の条件で、防眩膜の表面の算術平均粗さＲａが表１に示す値となるように行った。
スプレー圧力：０．２ＭＰａ、
ノズル移動速度：７５０ｍｍ／分、
スプレーピッチ：２２ｍｍ。
スプレー法による塗布には、６軸塗装用ロボット（川崎ロボティックス社製、ＪＦ−５）を用いた。また、ノズルとしては、ＶＡＵノズル（スプレーイングシステムジャパン社製）を用いた。
【０１２４】
〔例２〜９〕
塗布液（Ａ）を、表１に示す低反射膜の膜厚となるように塗布し、塗布液（Ｂ）を、表１に示す防眩膜の算術平均粗さＲａとなるように塗布した以外は例１と同様にして防眩性反射防止膜付き透明基材を得た。
【０１２５】
各例における低反射膜の屈折率および膜厚、防眩膜の屈折率、防眩膜の表面の算術平均粗さＲａおよび光沢度、ならびに透過率差Ｔｄを表１に示す。
【０１２６】
【表１】
2016041481.tif 000003
【０１２７】
上記結果に示すとおり、例１〜６の防眩性反射防止膜付き透明基材は、光沢度が５０％以下であり防眩性に優れていた。また、透過率差Ｔｄが０．５６％以上であり反射防止性にも優れていた。
これに対し、防眩膜の表面の算術平均粗さＲａが０．０４μｍ未満である例７の防眩性反射防止膜付き透明基材は、例１〜６に比べて防眩性が劣っていた。
低反射膜の膜厚が１４０ｎｍ超である例８の防眩性反射防止膜付き透明基材は、例１〜６に比べて、防眩性および反射防止性の両方が劣っていた。
防眩膜の表面の算術平均粗さＲａが０．１４μｍ超である例９の防眩性反射防止膜付き透明基材は、例１〜６に比べて、反射防止性に劣っていた。
【符号の説明】
【０１２８】
１０  防眩性反射防止膜付き透明基材
１２  透明基材
１４  低反射膜
１６  防眩膜
１８  防眩性反射防止膜
【図１】
2016041481.tif 000004