(57)【要約】【課題】絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成でき、かつ熱プレスした後に、離型フィルムを保護層から容易に剥離できる電磁波シールドフィルム、およびこれが設けられたフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供する。【解決手段】条件（α）、（β）を満足する第１の離型フィルム１８と導電性接着剤層１６とこれらの間に存在する保護層１２とを備えた電磁波シールドフィルム１０を用いる。条件（α）：電磁波シールドフィルム１０を熱プレスする前の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍである。条件（β）：電磁波シールドフィルム１０を温度：１７０℃、圧力：１５ＭＰａで３０秒間熱プレスした後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面のＲａが０．３０〜０．８０μｍである。【選択図】図１
2016054259.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型フィルムと、
導電性接着剤層と、
前記離型フィルムと前記導電性接着剤層との間に存在する保護層と
を備えた電磁波シールドフィルムであり、
前記離型フィルムが、下記の条件（α）および条件（β）を満足するものである、電磁波シールドフィルム。
条件（α）：前記電磁波シールドフィルムを熱プレスする前の前記離型フィルムの前記保護層側の表面の算術平均粗さＲａが、０．０２〜０．２０μｍである。
条件（β）：前記電磁波シールドフィルムを温度：１７０℃、圧力：１５ＭＰａで３０秒間熱プレスした後の前記離型フィルムの前記保護層側の表面の算術平均粗さＲａが、０．３０〜０．８０μｍである。
【請求項２】
前記離型フィルムが、複数の気泡を有する、請求項１に記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項３】
前記導電性接着剤と前記保護層との間に存在する金属薄膜層をさらに備えた、請求項１または２に記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項４】
前記離型フィルムが、離型フィルム本体と、前記離型フィルム本体の前記保護層側の表面に形成された離型剤層とを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項５】
前記離型フィルム中の気泡の割合が、前記離型フィルムの１００体積％のうち、２〜３０体積％である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項６】
前記離型フィルム中の気泡の平均径が、０．１〜６０μｍである、請求項１〜５のいずれか一項に記載の電磁波シールドフィルム。
【請求項７】
下記の工程（ｄ）〜（ｆ）を有する、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法。
（ｄ）ベースフィルムの少なくとも片面にプリント回路を有するフレキシブルプリント配線板の前記プリント回路が設けられた側の表面に、絶縁フィルムを設け、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板を得る工程。
（ｅ）前記工程（ｄ）の後、前記絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、請求項１〜６のいずれか一項に記載の電磁波シールドフィルムとを、前記絶縁フィルムの表面に前記導電性接着剤層が接触するように重ね、これらを熱プレスすることによって、前記絶縁フィルムの表面に前記導電性接着剤層を接着する工程。
（ｆ）前記工程（ｅ）の後、前記離型フィルムを剥離し、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を得る工程。
【請求項８】
前記工程（ｅ）の後の前記離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａが、前記工程（ｅ）の前の前記離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａよりも大きい、請求項７に記載の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法。
【請求項９】
前記工程（ｆ）の後の前記保護層の表面の算術平均粗さＲａが、０．３０〜０．８０μｍである、請求項７または８に記載の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電磁波シールドフィルムおよび該電磁波シールドフィルムが設けられたフレキシブルプリント配線板の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フレキシブルプリント配線板から発生する電磁波ノイズや外部からの電磁波ノイズを遮蔽するために、電磁波シールドフィルムをフレキシブルプリント配線板の表面に設けることがある（例えば、特許文献１参照）。
【０００３】
図７は、従来の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造工程の一例を示す断面図である。
電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１０１は、フレキシブルプリント配線板１３０と、絶縁フィルム１４０と、離型フィルム１１８を剥離した電磁波シールドフィルム１１０とを備える。
フレキシブルプリント配線板１３０は、ベースフィルム１３２の片面にプリント回路１３４が設けられたものである。
絶縁フィルム１４０は、フレキシブルプリント配線板１３０のプリント回路１３４が設けられた側の表面に設けられる。
電磁波シールドフィルム１１０は、保護層１１２と、保護層１１２の第１の表面を覆う金属薄膜層１１４と、金属薄膜層１１４の表面を覆う導電性接着剤層１１６と、保護層１１２の第２の表面を覆う離型フィルム１１８（キャリアフィルム）とを備える。
電磁波シールドフィルム１１０の導電性接着剤層１１６は、絶縁フィルム１４０の表面に接着され、かつ硬化されている。また、導電性接着剤層１１６は、絶縁フィルム１４０に形成された貫通孔１４２を通ってプリント回路１３４に電気的に接続されている。
【０００４】
電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１０１は、例えば、図７に示すように、下記の工程を経て製造される。
（ｉ）フレキシブルプリント配線板１３０のプリント回路１３４が設けられた側の表面に、プリント回路１３４のグランドに対応する位置に貫通孔１４２が形成された絶縁フィルム１４０を設ける工程。
（ｉｉ）電磁波シールドフィルム１１０を、絶縁フィルム１４０の表面に、電磁波シールドフィルム１１０の導電性接着剤層１１６が接触するように重ね、これらを熱プレスすることによって、絶縁フィルム１４０の表面に導電性接着剤層１１６を接着し、かつ導電性接着剤層１１６を、貫通孔１４２を通ってプリント回路１３４のグランドに電気的に接続する工程。
（ｉｉｉ）熱プレス後、キャリアフィルムとしての役割を終えた離型フィルム１１８を、保護層１１２から剥離し、取り除くことによって、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１０１を得る工程。
【０００５】
電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１０１においては、下記の点から、保護層１１２の表面に凹凸が形成されて、保護層１１２の表面がマット状になっていることが求められることがある。
・電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１０１を電子機器に実装する際に、保護層１１２の表面に貼着される補強板との接着性を向上させる。
・光学センサ（カメラモジュールのＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の周辺において電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１０１からの正反射光を抑える。
・保護層１１２の表面に生じた傷等を目立たなくする。
【０００６】
ところで、離型フィルム１１８と保護層１１２とを適度な接着力で接着させることを目的に、表面をブラスト処理した離型フィルムを用い、離型フィルムの表面に保護層を形成する方法が提案されている（特許文献２）。この方法によれば、保護層を形成する際に離型フィルムの凹凸が保護層に転写されるため、保護層の表面に凹凸が形成されることになる。
しかし、離型フィルムの表面をブラスト処理した場合、ブラスト処理に用いた砂の衝突によって離型フィルムの表面が削り取られる際に、離型フィルムの表面にささくれが生じる。ささくれが生じた離型フィルムの表面は、保護層との接着性が高くなりすぎるため、離型フィルムを保護層から剥離することが困難となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特許第４２０１５４８号公報
【特許文献２】特開２０１４−１１２５７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成でき、かつ熱プレスした後に、離型フィルムを保護層から容易に剥離できる電磁波シールドフィルム、およびこの電磁波シールドフィルムを用いた電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、下記の態様を有する。
（１）離型フィルムと、導電性接着剤層と、前記離型フィルムと前記導電性接着剤層との間に存在する保護層とを備えた電磁波シールドフィルムであり、前記離型フィルムが、下記の条件（α）および条件（β）を満足するものである、電磁波シールドフィルム。
条件（α）：前記電磁波シールドフィルムを熱プレスする前の前記離型フィルムの前記保護層側の表面の算術平均粗さＲａが、０．０２〜０．２０μｍである。
条件（β）：前記電磁波シールドフィルムを温度：１７０℃、圧力：１５ＭＰａで３０秒間熱プレスした後の前記離型フィルムの前記保護層側の表面の算術平均粗さＲａが、０．３０〜０．８０μｍである。
（２）前記離型フィルムが、複数の気泡を有する、（１）の電磁波シールドフィルム。
（３）前記導電性接着剤と前記保護層との間に存在する金属薄膜層をさらに備えた、（１）または（２）の電磁波シールドフィルム。
（４）前記離型フィルムが、離型フィルム本体と、前記離型フィルム本体の前記保護層側の表面に形成された離型剤層とを有する、（１）〜（３）のいずれかの電磁波シールドフィルム。
（５）前記離型フィルム中の気泡の割合が、前記離型フィルムの１００体積％のうち、２〜３０体積％である、（１）〜（４）のいずれかの電磁波シールドフィルム。
（６）前記離型フィルム中の気泡の平均径が、０．１〜６０μｍである、（１）〜（５）のいずれかの電磁波シールドフィルム。
（７）下記の工程（ｄ）〜（ｆ）を有する、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法。
（ｄ）ベースフィルムの少なくとも片面にプリント回路を有するフレキシブルプリント配線板の前記プリント回路が設けられた側の表面に、絶縁フィルムを設け、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板を得る工程。
（ｅ）前記工程（ｄ）の後、前記絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、前記（１）〜（６）のいずれかの電磁波シールドフィルムとを、前記絶縁フィルムの表面に前記導電性接着剤層が接触するように重ね、これらを熱プレスすることによって、前記絶縁フィルムの表面に前記導電性接着剤層を接着する工程。
（ｆ）前記工程（ｅ）の後、前記離型フィルムを剥離し、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を得る工程。
（８）前記工程（ｅ）の後の前記離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａが、前記工程（ｅ）の前の前記離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａよりも大きい、（７）の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法。
（９）前記工程（ｆ）の後の前記保護層の表面の算術平均粗さＲａが、０．３０〜０．８０μｍである、（７）または（８）の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の電磁波シールドフィルムによれば、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成でき、かつ熱プレスした後に、離型フィルムを保護層から容易に剥離できる。
本発明の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法によれば、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成でき、かつ熱プレスした後に、離型フィルムを保護層から容易に剥離できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の電磁波シールドフィルムの一例を示す断面図である。
【図２】図１の電磁波シールドフィルムを熱プレスした後の電磁波シールドフィルムを示す断面図である。
【図３】図１の電磁波シールドフィルムの製造工程の一例を示す断面図である。
【図４】本発明の電磁波シールドフィルムの他の例を示す断面図である。
【図５】本発明における電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の一例を示す断面図である。
【図６】本発明における電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造工程の一例を示す断面図である。
【図７】従来の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造工程の一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
算術平均粗さＲａは、試験片についてレーザー顕微鏡を用いて粗さ曲線を測定し、この粗さ曲線から、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１：２００１（ＩＳＯ  ４２８７：１９９７）に基づいて求めた値である。
気泡の割合は、離型フィルムの断面を顕微鏡で観察し、画像の面積に対する画像中の気泡の断面積の割合を算出することによって求めた値である。
気泡の平均径は、離型フィルムの押し出し方向あるいはそれに垂直な断面を顕微鏡で観察し、無作為に選ばれた１００個の気泡について、それぞれ断面積を測定し、断面積が等しい円の相当直径を求め、これらを平均することによって求めた値である。
導電性粒子の平均粒子径は、導電性粒子の電子顕微鏡像から３０個の導電性粒子を無作為に選び、それぞれの導電性粒子について、最小径および最大径を測定し、最小径と最大径との中央値を一粒子の粒子径とし、測定した３０個の導電性粒子の粒子径を算術平均して得た値である。
導電性粒子の比表面積は、脱気した粒子等を液体窒素に浸漬させ、吸着した窒素量を測定し、この値から算出した値である。
フィルム（離型フィルム、絶縁フィルム等）、塗膜（保護層、導電性接着剤層等）、金属薄膜層等の厚さは、透過型電子顕微鏡を用いて測定対象の断面を観察し、５箇所の厚さを測定し、平均した値である。
貯蔵弾性率は、測定対象に与えた応力と検出した歪から算出され、温度または時間の関数として出力する動的粘弾性測定装置を用いて、粘弾性特性の一つとして測定される。
表面抵抗は、石英ガラス上に金を蒸着して形成した、２本の薄膜金属電極（長さ１０ｍｍ、幅５ｍｍ、電極間距離１０ｍｍ）を用い、この電極上に被測定物を置き、被測定物上から、被測定物の１０ｍｍ×２０ｍｍの領域を０．０４９Ｎの荷重で押し付け、１ｍＡ以下の測定電流で測定される電極間の抵抗である。
【００１３】
＜電磁波シールドフィルム＞
図１は、本発明の電磁波シールドフィルムの一例を示す断面図である。
電磁波シールドフィルム１０は、保護層１２と、保護層１２の第１の表面を覆う金属薄膜層１４と、金属薄膜層１４の表面を覆う導電性接着剤層１６と、保護層１２の第２の表面を覆う第１の離型フィルム１８と、導電性接着剤層１６の表面を覆う第２の離型フィルム２０とを備える。
【００１４】
（保護層）
保護層１２は、金属薄膜層１４を形成する際のベース（下地）となり、電磁波シールドフィルム１０を、フレキシブルプリント配線板の表面に設けられた絶縁フィルムの表面に貼着した後には、金属薄膜層１４を保護する。
保護層１２の表面抵抗は、電気的絶縁性の点から、１×１０６Ω以上が好ましい。保護層１２の表面抵抗は、実用上の点から、１×１０１９Ω以下が好ましい。
【００１５】
保護層１２としては、熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む塗料を塗布し、硬化させて形成された塗膜、熱可塑性樹脂を含む塗料を塗布して形成された塗膜、熱可塑性樹脂を溶融成形したフィルムからなる層等が挙げられる。ハンダ付け等の際の耐熱性の点から、熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む塗料を塗布し、硬化させて形成された塗膜が好ましい。
【００１６】
熱硬化性樹脂としては、アミド樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、ウレタン樹脂、合成ゴム、ＵＶ硬化アクリレート樹脂等が挙げられ、耐熱性に優れる点から、アミド樹脂、エポキシ樹脂が好ましい。
【００１７】
保護層１２の１６０℃における貯蔵弾性率は、５×１０６〜１×１０８Ｐａが好ましく、８×１０６〜２×１０７Ｐａがより好ましい。通常、熱硬化性樹脂の硬化物は硬いため、これからなる塗膜は、柔軟性に乏しく、特に、厚さを薄くした場合は、非常に脆く自立膜として存在できるほどの強度がない。保護層１２は、第１の離型フィルム１８を剥離する際の温度下（導電性接着剤を硬化させる温度で、通常１５０〜２００℃の温度）において、十分な強度を有することが好ましい。保護層１２の１６０℃における貯蔵弾性率が５×１０６Ｐa以上であれば、保護層１２が軟化することがない。保護層１２の１６０℃における貯蔵弾性率が１×１０８Ｐａ以下であれば、柔軟性や強度が十分となる。その結果、第１の離型フィルム１８を剥離する際に保護層１２はもとより電磁波シールドフィルム１０が破断しにくい。
【００１８】
保護層１２は、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板に意匠性を付与するために、着色されていてもよい。
保護層１２は、貯蔵弾性率等の特性、材料等が異なる２種以上の層から構成されていてもよい。
【００１９】
保護層１２の厚さは、１〜１０μｍが好ましく、１〜５μｍがより好ましい。保護層１２の厚さが１μｍ以上であれば、耐熱性が良好となる。保護層１２の厚さが１０μｍ以下であれば、電磁波シールドフィルム１０を薄くできる。
【００２０】
（金属薄膜層）
金属薄膜層１４は、金属の薄膜からなる層である。金属薄膜層１４は、面方向に広がるように形成されていることから、面方向に導電性を有し、電磁波シールド層等として機能する。
【００２１】
金属薄膜層１４としては、物理蒸着（真空蒸着、スパッタリング、イオンビーム蒸着、電子ビーム蒸着等）、ＣＶＤ、めっき等によって形成された金属薄膜、金属箔等が挙げられ、厚さを薄くでき、かつ厚さが薄くても面方向の導電性に優れ、ドライプロセスにて簡便に形成できる点から、物理蒸着による金属薄膜（蒸着膜）が好ましい。
【００２２】
金属薄膜層１４を構成する金属薄膜の材料としては、アルミニウム、銀、銅、金、導電性セラミックス等が挙げられる。電気伝導度の点からは、銅が好ましく、化学的安定性の点からは、導電性セラミックスが好ましい。
【００２３】
金属薄膜層１４の厚さは、０．０１〜１μｍが好ましく、０．０５〜１μｍがより好ましい。金属薄膜層１４の厚さが０．０１μｍ以上であれば、面方向の導電性がさらに良好になる。金属薄膜層１４の厚さが０．０５μｍ以上であれば、電磁波ノイズの遮蔽効果がさらに良好になる。金属薄膜層１４の厚さが１μｍ以下であれば、電磁波シールドフィルム１０を薄くできる。また、電磁波シールドフィルム１０の生産性、可とう性がよくなる。
【００２４】
金属薄膜層１４の表面抵抗は、０．００１〜１Ωが好ましく、０．００１〜０．１Ωがより好ましい。金属薄膜層１４の表面抵抗が０．００１Ω以上であれば、金属薄膜層１４を十分に薄くできる。金属薄膜層１４の表面抵抗が１Ω以下であれば、電磁波シールド層として十分に機能できる。
【００２５】
（導電性接着剤層）
導電性接着剤層１６は、少なくとも厚さ方向に導電性を有し、かつ接着性を有する。
導電性接着剤層１６としては、厚さ方向に導電性を有し、面方向には導電性を有さない異方導電性接着剤層と、厚さ方向および面方向に導電性を有する等方導電性接着剤層とが挙げられる。導電性接着剤層１６としては、導電性接着剤層１６を薄くでき、導電性粒子２２の量が少なくなり、その結果、電磁波シールドフィルム１０を薄くでき、電磁波シールドフィルム１０の可とう性がよくなる点からは、異方導電性接着剤層が好ましい。導電性接着剤層１６としては、電磁波シールド層として十分に機能できる点からは、等方導電性接着剤層が好ましい。
【００２６】
導電性接着剤層１６としては、硬化後に耐熱性を発揮できる点から、熱硬化性の導電性接着剤層が好ましい。
熱硬化性の導電性接着剤層１６は、例えば、熱硬化性接着剤と導電性粒子２２とを含む。導電性接着剤層１６は、未硬化の状態であってもよく、Ｂステージ化された状態であってもよい。
【００２７】
熱硬化性接着剤としては、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、アミノ樹脂、アルキッド樹脂、ウレタン樹脂、合成ゴム、ＵＶ硬化アクリレート樹脂等が挙げられる。耐熱性に優れる点から、エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は、可とう性付与のためのゴム成分（カルボキシル変性ニトリルゴム等）、粘着付与剤等を含んでいてもよい。
熱硬化性接着剤は、導電性接着剤層１６の強度を高め、打ち抜き特性を向上させるために、セルロース樹脂、ミクロフィブリル（ガラス繊維等）を含んでいてもよい。
【００２８】
導電性粒子２２としては、黒鉛粉、焼成カーボン粒子、金属（銀、白金、金、銅、ニッケル、パラジウム、アルミニウム、ハンダ等）の粒子、めっきされた焼成カーボン粒子等が挙げられる。導電性接着剤層１６の流動性の点からは、堅く球状である焼成カーボン粒子が好ましい。
【００２９】
導電性接着剤層１６が異方導電性接着剤層の場合、導電性粒子２２の平均粒子径は、２〜２６μｍが好ましく、４〜１６μｍがより好ましい。導電性粒子２２の平均粒子径が２μｍ以上であれば、導電性接着剤の厚みを２μｍより厚くすることで、導電接着剤層１６の厚みを確保することができ、十分な接着強度を得ることができる。導電性粒子２２の平均粒子径が２６μｍ以下であれば、導電性接着剤層１６の流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）を確保でき、絶縁フィルムの貫通孔内を導電性接着剤で十分に埋めることができる。
【００３０】
導電性接着剤層１６が等方導電性接着剤層の場合、導電性粒子２２の平均粒子径は、０．１〜１０μｍが好ましく、０．２〜１μｍがより好ましい。導電性粒子２２の平均粒子径が０．１μｍ以上であれば、導電性粒子２２の接触点数が増えることになり、３次元方向の導通性を安定的に高めることができる。導電性粒子２２の平均粒子径が１０μｍ以下であれば、導電性接着剤層１６の流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）を確保でき、絶縁フィルムの貫通孔内を導電性接着剤で十分に埋めることができる。
【００３１】
導電性粒子２２の比表面積は、２〜５０ｍ２／ｇが好ましく、２〜２０ｍ２／ｇがより好ましい。導電性粒子２２の比表面積が２ｍ２／ｇ以上であれば、導電性粒子２２を入手しやすい。導電性粒子２２の比表面積が５０ｍ２／ｇ以下であれば、導電性粒子２２の吸油量が大きくなりすぎず、その結果、導電性接着剤の粘度が高くなりすぎず、塗布性がさらに良好となる。また、導電性接着剤層１６の流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）をさらに確保できる。
【００３２】
導電性接着剤層１６が異方導電性接着剤層の場合、導電性粒子２２の割合は、導電性接着剤層１６の１００体積％のうち、１〜３０体積％が好ましく、２〜１０体積％がより好ましい。導電性粒子２２の割合が１体積％以上であれば、導電性接着剤層１６の導電性が良好になる。導電性粒子２２の割合が３０体積％以下であれば、導電性接着剤層１６の接着性、流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）が良好になる。また、電磁波シールドフィルム１０の可とう性がよくなる。
【００３３】
導電性接着剤層１６が等方導電性接着剤層の場合、導電性粒子２２の割合は、導電性接着剤層１６の１００体積％のうち、５０〜８０体積％が好ましく、６０〜７０体積％がより好ましい。導電性粒子２２の割合が５０体積％以上であれば、導電性接着剤層１６の導電性が良好になる。導電性粒子２２の割合が８０体積％以下であれば、導電性接着剤層１６の接着性、流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）が良好になる。また、電磁波シールドフィルム１０の可とう性がよくなる。
【００３４】
導電性接着剤層１６が異方導電性接着剤層の場合、導電性接着剤層１６の厚さは、３〜２５μｍが好ましく、５〜１５μｍがより好ましい。導電性接着剤層１６の厚さが３μｍ以上であれば、導電性接着剤層１６の流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）を確保でき、絶縁フィルムの貫通孔内を導電性接着剤で十分に埋めることができる。導電性接着剤層１６の厚さが２５μｍ以下であれば、電磁波シールドフィルム１０を薄くできる。また、電磁波シールドフィルム１０の可とう性がよくなる。
【００３５】
導電性接着剤層１６が等方導電性接着剤層の場合、導電性接着剤層１６の厚さは、５〜２０μｍが好ましく、７〜１７μｍがより好ましい。導電性接着剤層１６の厚さが５μｍ以上であれば、導電性接着剤層１６の導電性が良好になり、電磁波シールド層として十分に機能できる。また、導電性接着剤層１６の流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）を確保でき、絶縁フィルムの貫通孔内を導電性接着剤で十分に埋めることができ、耐折性も確保でき繰り返し折り曲げても導電性接着剤層１６が断裂することはない。導電性接着剤層１６の厚さが２０μｍ以下であれば、電磁波シールドフィルム１０を薄くできる。また、電磁波シールドフィルム１０の可とう性がよくなる。
【００３６】
導電性接着剤層１６が異方導電性接着剤層の場合、導電性接着剤層１６の表面抵抗は、１×１０４〜１×１０１６Ωが好ましく、１×１０６〜１×１０１４Ωがより好ましい。導電性接着剤層１６の表面抵抗が１×１０４Ω以上であれば、導電性粒子２２の含有量が低く抑えられる。導電性接着剤層１６の表面抵抗が１×１０１６Ω以下であれば、実用上、異方性に問題がない。
【００３７】
導電性接着剤層１６が等方導電性接着剤層の場合、導電性接着剤層１６の表面抵抗は、０．０５〜２．０Ωが好ましく、０．１〜１．０Ωがより好ましい。導電性接着剤層１６の表面抵抗が０．０５Ω以上であれば、導電性粒子２２の含有量が低く抑えられ、導電性接着剤の粘度が高くなりすぎず、塗布性がさらに良好となる。また、導電性接着剤層１６の流動性（絶縁フィルムの貫通孔の形状への追随性）をさらに確保できる。導電性接着剤層１６の表面抵抗が２．０Ω以下であれば、導電性接着剤層１６の全面が均一な導電性を有するものとなる。
【００３８】
（第１の離型フィルム）
第１の離型フィルム１８は、保護層１２や金属薄膜層１４を形成する際のキャリアフィルムとなるものであり、電磁波シールドフィルム１０のハンドリング性を良好にする。第１の離型フィルム１８は、電磁波シールドフィルム１０をフレキシブルプリント配線板等に貼り付けた後には、保護層１２から剥離される。
【００３９】
第１の離型フィルム１８は、下記の条件（α）および条件（β）を満足するものである。
条件（α）：電磁波シールドフィルム１０を熱プレスする前の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが、０．０２〜０．２０μｍである。
条件（β）：電磁波シールドフィルム１０を温度：１７０℃、圧力：１５ＭＰａで３０秒間熱プレスした後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが、０．３０〜０．８０μｍである。
【００４０】
熱プレス前の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが０．０２〜０．２０μｍの範囲内であれば、熱プレス前における第１の離型フィルム１８と保護層１２との密着性が適度なものとなり、電磁波シールドフィルム１０のハンドリング性が良好となる。
【００４１】
熱プレス後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが０．３０μｍ以上であれば、下記の点を満足する凹凸が保護層１２の表面に形成される。
・後述する電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を電子機器に実装する際に、保護層１２の表面に貼着される補強板との接着性を向上させる。
・光学センサ（カメラモジュールのＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の周辺において電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板からの光の正反射を抑える。
・保護層１２の表面に生じた傷等を目立たなくする。
【００４２】
熱プレス後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが０．８μｍ以下であれば、第１の離型フィルム１８と保護層１２との接着性が高くなりすぎず、第１の離型フィルム１８を保護層１２から剥離しやすい。
【００４３】
第１の離型フィルム１８としては、離型フィルム本体１８ａの内部に複数の気泡２４を有する離型フィルムが好ましい。第１の離型フィルム１８が複数の気泡２４を有する場合、下記のメカニズムによって、熱プレスの際に第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面、および保護層１２側の表面に凹凸が形成される。また、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面、および保護層１２側の表面に形成される凹凸が滑らかになり、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが熱プレス前に比べ高いにもかかわらず、第１の離型フィルム１８を保護層１２から容易に剥離できる。
【００４４】
図２に示すように、電磁波シールドフィルム１０を熱プレスした際に、第１の離型フィルム１８の気泡２４の一部が潰れることによって、熱プレスの圧力を吸収する。一方、第１の離型フィルム１８において厚さ方向に渡って気泡２４がほとんど潰れなかった部分においては、熱プレスの圧力は第１の離型フィルム１８にほとんど吸収されない。気泡２４の一部が潰れることによって第１の離型フィルム１８において熱プレスの圧力が吸収された部分では、第１の離型フィルム１８の厚さが小さくなるとともに、保護層１２、金属薄膜層１４および導電性接着剤層１６に伝わる熱プレスの圧力が小さくなる。一方、気泡２４が潰れることなく第１の離型フィルム１８において熱プレスの圧力がほとんど吸収された部分では、保護層１２、金属薄膜層１４および導電性接着剤層１６に伝わる熱プレスの圧力が小さくならない。このため、気泡２４が潰れた部分では、第１の離型フィルム１８の厚さが小さくなった分、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面が凹み、相対的に気泡２４が潰れなかった部分では、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面が隆起する。その結果、熱プレスによって第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面に凹凸が形成される。また、この凹凸は、熱プレスによる第１の離型フィルム１８の厚さの変化によって形成されているため、ブラスト処理で形成された凹凸のようにささくれを有することがなく、滑らかである。そして、熱プレスによって第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面に凹凸が形成される際に、熱プレスの圧力によって保護層１２、金属薄膜層１４および導電性接着剤層１６も、第１の離型フィルム１８の凹凸に追随するように変形し、保護層１２の表面に滑らかな凹凸が形成される。
【００４５】
複数の気泡２４を有するフィルムとしては、発泡フィルム、多孔質フィルム等が挙げられ、熱プレス後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａを前記範囲に調整しやすく、後述する１６０℃における貯蔵弾性率を後述する範囲に調整しやすく、製造が容易である（入手しやすい）点から、発泡フィルムが好ましい。発泡フィルムは、複数の気泡を有する発泡層のみからなる単層構造のものであってもよく、発泡層と非発泡層とを有する積層構造のものであってもよい。
【００４６】
第１の離型フィルム１８中の気泡２４の割合は、第１の離型フィルム１８の１００体積％のうち、２〜３０体積％が好ましく、５〜２５体積％がより好ましく、１０〜２０体積％がさらに好ましい。第１の離型フィルム１８中の気泡２４の割合が前記範囲内であれば、熱プレス後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａを前記範囲に調整しやすい。
【００４７】
気泡２４の平均径は、０．１〜６０μｍが好ましく、０．１〜５０μｍがより好ましく、０．２〜５０μｍがさらに好ましい。気泡２４の平均径が前記範囲内であれば、熱プレス後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａを前記範囲にしやすくなる。
【００４８】
第１の離型フィルム１８の材料としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリオレフィン、ポリアセテート、ポリカーボネート、ポリフェニレンサルファイド、ポリアミド、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、合成ゴム、液晶ポリマー等が挙げられ、電磁波シールドフィルム１０を製造する際の耐熱性（寸法安定性）およびコストの点から、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。
【００４９】
第１の離型フィルム１８の１６０℃における貯蔵弾性率は、０．８×１０８〜４×１０８Ｐａが好ましく、０．８×１０８〜３×１０８Ｐａがより好ましい。第１の離型フィルム１８の１６０℃における貯蔵弾性率が０．８×１０８Ｐａ以上であれば、電磁波シールドフィルム１０のハンドリング性が良好となる。第１の離型フィルム１８の１６０℃における貯蔵弾性率が４×１０８Ｐａ以下であれば、第１の離型フィルム１８の柔軟性が良好となる。
【００５０】
第１の離型フィルム１８の厚さは、５〜５００μｍが好ましく、１０〜１５０μｍがより好ましく、２５〜１００μｍがさらに好ましい。第１の離型フィルム１８の厚さが５μｍ以上であれば、電磁波シールドフィルム１０のハンドリング性が良好となる。また、第１の離型フィルム１８がクッション材として十分に働き、フレキシブルプリント配線板の表面に設けられた絶縁フィルムの表面に電磁波シールドフィルム１０の導電性接着剤層１６を熱プレスにて貼着する際に、導電性接着剤層１６が絶縁フィルムの表面の凹凸形状に追随しやすくなる。第１の離型フィルム１８の厚さが５００μｍ以下であれば、絶縁フィルムの表面に電磁波シールドフィルム１０の導電性接着剤層１６を熱プレスする際に導電性接着剤層１６に熱が伝わりやすい。
【００５１】
（離型剤層）
離型フィルム本体１８ａの保護層１２側の表面に、離型剤による離型処理が施されて、離型剤層１８ｂが形成される。第１の離型フィルム１８が離型剤層１８ｂを有することによって、後述する工程（ｆ）において第１の離型フィルム１８を保護層１２から剥離する際に、第１の離型フィルム１８が剥離しやすく、保護層１２や硬化後の導電性接着剤層１６が破断しにくくなる。
離型剤としては、公知の離型剤を用いればよい。
【００５２】
離型剤層１８ｂの厚さは、０．０５〜２．０μｍが好ましく、０．１〜１．５μｍがより好ましい。離型剤層１８ｂの厚さが前記範囲内であれば、後述する工程（ｆ）において第１の離型フィルム１８がさらに剥離しやすくなる。
【００５３】
（第２の離型フィルム）
第２の離型フィルム２０は、導電性接着剤層１６を保護するものであり、電磁波シールドフィルム１０のハンドリング性を良好にする。第２の離型フィルム２０は、電磁波シールドフィルム１０をフレキシブルプリント配線板等に貼り付ける前に、導電性接着剤層１６から剥離される。
【００５４】
第２の離型フィルム２０の材料としては、第１の離型フィルム１８の材料と同様なものが挙げられる。
第２の離型フィルム２０の厚さは、５〜５００μｍが好ましく、１０〜１５０μｍがより好ましく、２５〜１００μｍがさらに好ましい。
【００５５】
（電磁波シールドフィルムの厚さ）
電磁波シールドフィルム１０の厚さ（離型フィルムを除く）は、１０〜４５μｍが好ましく、１０〜３０μｍがより好ましい。電磁波シールドフィルム１０の厚さ（離型フィルムを除く）が１０μｍ以上であれば、第１の離型フィルム１８を剥離する際に破断しにくい。電磁波シールドフィルム１０の厚さ（離型フィルムを除く）が４５μｍ以下であれば、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を薄くできる。
【００５６】
（電磁波シールドフィルムの製造方法）
本発明の電磁波シールドフィルムは、例えば、下記の工程（ａ）〜（ｃ）を有する方法によって製造できる。
（ａ）離型フィルムの片面に保護層を形成する工程。
（ｂ）保護層の表面に金属薄膜層を形成する工程。
（ｃ）金属薄膜層の表面に導電性接着剤層を形成する工程。
【００５７】
以下、図１に示す電磁波シールドフィルム１０を製造する方法について、図３を参照しながら説明する。
【００５８】
（工程（ａ））
図３に示すように、第１の離型フィルム１８の離型剤層１８ｂの表面に保護層１２を形成する。
【００５９】
保護層１２の形成方法としては、熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む塗料を塗布し、硬化させる方法、熱可塑性樹脂を含む塗料を塗布する方法、熱可塑性樹脂を溶融成形したフィルムを貼着する方法等が挙げられる。ハンダ付け等の際の耐熱性の点から、熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む塗料を塗布し、硬化させる方法が好ましい。
熱硬化性樹脂と硬化剤とを含む塗料は、必要に応じて溶剤、他の成分を含んでいてもよい。
【００６０】
保護層１２を、塗料の塗布によって形成した場合、保護層１２を比較的薄くできる。なお、熱硬化性樹脂の硬化物は硬いため、保護層１２を薄くした場合は、強度が不十分となる。上述したように、保護層１２の１６０℃における貯蔵弾性率を、５×１０6〜１×１０８Ｐａの範囲とすることによって、柔軟性や強度と、耐熱性とのバランスが良好となる。
【００６１】
保護層１２の貯蔵弾性率の制御は、架橋密度および架橋構造からもたらされる強靭性の観点から熱硬化性樹脂、硬化剤等の種類や組成を選択し、熱硬化性樹脂の硬化物の貯蔵弾性率を調整することによって行われる。
このほか、貯蔵弾性率は、熱硬化性樹脂を硬化させる際の温度、時間等の硬化条件を調整する、または熱硬化性を有さない成分として熱可塑性エラストマー等の熱可塑性樹脂を添加することによって調整できる。
【００６２】
（工程（ｂ））
図３に示すように、保護層１２の表面に金属薄膜層１４を形成する。
【００６３】
金属薄膜層１４の形成方法としては、物理蒸着、ＣＶＤ、めっき等によって金属薄膜を形成する方法、金属箔を貼り付ける方法等が挙げられる。面方向の導電性に優れる金属薄膜層１４を形成できる点から、物理蒸着、ＣＶＤ、めっき等によって金属薄膜を形成する方法が好ましく、金属薄膜層１４の厚さを薄くでき、かつ厚さが薄くても面方向の導電性に優れる金属薄膜層１４を形成でき、ドライプロセスにて簡便に金属薄膜層１４を形成できる点から、物理蒸着による方法がより好ましい。
【００６４】
（工程（ｃ））
図３に示すように、金属薄膜層１４の表面に導電性接着剤層１６を形成し、導電性接着剤層１６の表面を第２の離型フィルム２０で覆う。
【００６５】
導電性接着剤層１６の形成方法としては、金属薄膜層１４の表面に導電性接着剤組成物を塗布する方法；第２の離型フィルム２０の表面に導電性接着剤層１６を形成した後、金属薄膜層１４、保護層１２および第１の離型フィルム１８からなる第１の積層体と、導電性接着剤層１６および第２の離型フィルム２０からなる第２の積層体とを、金属薄膜層１４と導電性接着剤層１６とが接触するように貼り合わせる方法が挙げられる。
導電性接着剤組成物としては、上述した熱硬化性接着剤と導電性粒子２２とを含むものを用いる。
【００６６】
（作用効果）
以上説明した電磁波シールドフィルム１０にあっては、第１の離型フィルム１８が上述した条件（α）および条件（β）を満足するものであるため、後述する絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルム１０とを、熱プレスする際に、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面に凹凸が形成される。そして、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の凹凸に追随するようにして、保護層１２の表面に凹凸を形成できる。また、この凹凸は、熱プレスによる第１の離型フィルム１８の変形によって形成されているため、滑らかである。そのため、第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａが熱プレス前に比べ高いにもかかわらず、第１の離型フィルム１８を保護層１２から容易に剥離できる。
【００６７】
（他の実施形態）
本発明の電磁波シールドフィルムは、離型フィルムと、導電性接着剤層と、離型フィルムと導電性接着剤層との間に存在する保護層とを備え、離型フィルムが、上述した条件（α）および条件（β）を満足するものであればよく、図１の実施形態に限定はされない。
例えば、導電性接着剤層１６の表面のタック性が少ない場合は、第２の離型フィルム２０を省略しても構わない。
第１の離型フィルム１８は、離型フィルム本体１８ａのみで十分な離型性を有する場合は、離型剤層１８ｂを有しなくてもよい。
導電性接着剤層１６が面方向に十分な導電性を有する場合（例えば、等方導電性接着剤層である場合）、図４に示すように、金属薄膜層を省略しても構わない。
【００６８】
＜電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板＞
図５は、本発明における電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の一例を示す断面図である。
電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１は、フレキシブルプリント配線板３０と、絶縁フィルム４０と、離型フィルムを剥離した電磁波シールドフィルム１０とを備える。
フレキシブルプリント配線板３０は、ベースフィルム３２の少なくとも片面にプリント回路３４が設けられたものである。
絶縁フィルム４０は、フレキシブルプリント配線板３０のプリント回路３４が設けられた側の表面に設けられる。
電磁波シールドフィルム１０の導電性接着剤層１６は、絶縁フィルム４０の表面に接着され、かつ硬化されている。また、導電性接着剤層１６は、絶縁フィルム４０に形成された貫通孔（図示略）を通ってプリント回路３４に電気的に接続されている。
【００６９】
貫通孔のある部分を除くプリント回路３４（信号回路、グランド回路、グランド層等）の近傍には、電磁波シールドフィルム１０の金属薄膜層１４が、絶縁フィルム４０および導電性接着剤層１６を介して離間して対向配置される。
貫通孔のある部分を除くプリント回路３４と金属薄膜層１４との離間距離は、絶縁フィルム４０の厚さと導電性接着剤層１６の厚さの総和である。離間距離は、３０〜２００μｍが好ましく、６０〜２００μｍがより好ましい。離間距離が３０μｍより小さいと、信号回路のインピーダンスが低くなるため、１００Ω等の特性インピーダンスを有するためには、信号回路の線幅を小さくしなければならず、線幅のバラツキが特性インピーダンスのバラツキとなって、インピーダンスのミスマッチによる反射共鳴ノイズが電気信号に乗りやすくなる。離間距離が２００μｍより大きいと、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１が厚くなり、可とう性が不足する。
【００７０】
（フレキシブルプリント配線板）
フレキシブルプリント配線板３０は、銅張積層板の銅箔を公知のエッチング法により所望のパターンに加工してプリント回路３４（電源回路、グランド回路、グランド層等）としたものである。
銅張積層板としては、ベースフィルム３２の片面または両面に接着剤層（図示略）を介して銅箔を貼り付けたもの；銅箔の表面にベースフィルム３２を形成する樹脂溶液等をキャストしたもの等が挙げられる。
接着剤層の材料としては、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、フェノール樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。
接着剤層の厚さは、０．５〜３０μｍが好ましい。
【００７１】
（ベースフィルム）
ベースフィルム３２としては、耐熱性を有するフィルムが好ましく、ポリイミドフィルム、液晶ポリマーフィルムがより好ましく、ポリイミドフィルムがさらに好ましい。
ベースフィルム３２の表面抵抗は、電気的絶縁性の点から、１×１０６Ω以上が好ましい。ベースフィルム３２の表面抵抗は、実用上の点から、１×１０１９Ω以下が好ましい。
ベースフィルム３２の厚さは、５〜２００μｍが好ましく、屈曲性の点から、６〜２５μｍがより好ましく、１０〜２５μｍがより好ましい。
【００７２】
（プリント回路）
プリント回路３４（信号回路、グランド回路、グランド層等）を構成する銅箔としては、圧延銅箔、電解銅箔等が挙げられ、屈曲性の点から、圧延銅箔が好ましい。
銅箔の厚さは、１〜５０μｍが好ましく、１８〜３５μｍがより好ましい。
プリント回路３４の長さ方向の端部（端子）は、ハンダ接続、コネクター接続、部品搭載等のため、絶縁フィルム４０や電磁波シールドフィルム１０に覆われていない。
【００７３】
（絶縁フィルム）
絶縁フィルム４０は、基材フィルム（図示略）の片面に、接着剤の塗布、接着剤シートの貼り付け等によって接着剤層（図示略）を形成したものである。
基材フィルムの表面抵抗は、電気的絶縁性の点から、１×１０６Ω以上が好ましい。基材フィルムの表面抵抗は、実用上の点から、１×１０１９Ω以下が好ましい。
基材フィルムとしては、耐熱性を有するフィルムが好ましく、ポリイミドフィルム、液晶ポリマーフィルムがより好ましく、ポリイミドフィルムがさらに好ましい。
基材フィルムの厚さは、１〜１００μｍが好ましく、可とう性の点から、３〜２５μｍがより好ましい。
接着剤層の材料としては、エポキシ樹脂、ポリエステル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリアミド、フェノール樹脂、ポリウレタン、アクリル樹脂、メラミン樹脂、ポリスチレン、ポリオレフィン等が挙げられる。エポキシ樹脂は、可とう性付与のためのゴム成分（カルボキシル変性ニトリルゴム等）を含んでいてもよい。
接着剤層の厚さは、１〜１００μｍが好ましく、１．５〜６０μｍがより好ましい。
【００７４】
貫通孔の開口部の形状は、特に限定されない。貫通孔の開口部の形状としては、例えば、円形、楕円形、四角形等が挙げられる。
【００７５】
＜電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法＞
本発明の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法は、下記の工程（ｄ）〜（ｆ）を有する。
（ｄ）ベースフィルムの少なくとも片面にプリント回路を有するフレキシブルプリント配線板のプリント回路が設けられた側の表面に、絶縁フィルムを設け、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板を得る工程。
（ｅ）工程（ｄ）の後、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、本発明の電磁波シールドフィルムとを、絶縁フィルムの表面に導電性接着剤層が接触するように重ね、これらを熱プレスすることによって、絶縁フィルムの表面に導電性接着剤層を接着する工程。
（ｆ）工程（ｅ）の後、離型フィルムを剥離し、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を得る工程。
【００７６】
以下、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を製造する方法について、図６を参照しながら説明する。
【００７７】
（工程（ｄ））
図６に示すように、フレキシブルプリント配線板３０に、プリント回路３４に対応する位置に貫通孔４２が形成された絶縁フィルム４０を重ね、フレキシブルプリント配線板３０の表面に絶縁フィルム４０の接着剤層（図示略）を接着し、接着剤層を硬化させることによって、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板２を得る。フレキシブルプリント配線板３０の表面に絶縁フィルム４０の接着剤層を仮接着し、工程（ｅ）にて接着剤層を本硬化させてもよい。
接着剤層の接着および硬化は、例えば、プレス機（図示略）等による熱プレスによって行う。
【００７８】
（工程（ｅ））
図６に示すように、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板２に、第２の離型フィルム２０を剥離した電磁波シールドフィルム１０を重ね、熱プレスすることによって、絶縁フィルム４０の表面に導電性接着剤層１６が接着され、かつ導電性接着剤層１６が、貫通孔４２を通ってプリント回路３４に電気的に接続された電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の前駆体３を得る。
【００７９】
導電性接着剤層１６の接着および硬化は、例えば、プレス機（図示略）等による熱プレスによって行う。
熱プレスの時間は、２０秒〜６０分間であり、３０秒〜３０分間がさらに好ましい。熱プレスの時間が２０秒以上であれば、絶縁フィルム４０の表面に導電性接着剤層１６が接着される。熱プレスの時間が６０分以下であれば、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１の製造時間を短縮できる。
【００８０】
熱プレスの温度（プレス機のプレス板の温度）は、１４０〜１９０℃が好ましく、１５０〜１７５℃がより好ましい。熱プレスの温度が１４０℃以上であれば、絶縁フィルム４０の表面に導電性接着剤層１６が接着される。また、熱プレスの時間を短縮できる。熱プレスの温度が１９０℃以下であれば、電磁波シールドフィルム１０、フレキシブルプリント配線板３０等の劣化等を抑えることができる。
【００８１】
熱プレスの圧力は、１０ＭＰａ〜２０ＭＰａが好ましく、１０ＭＰａ〜１６ＭＰａがより好ましい。熱プレスの圧力が１０ＭＰａ以上であれば、絶縁フィルム４０の表面に導電性接着剤層１６が接着される。また、熱プレスの時間を短縮できる。熱プレスの圧力が２０ＭＰａ以下であれば、電磁波シールドフィルム１０、フレキシブルプリント配線板３０等の破損等を抑えることができる。
【００８２】
上述した条件（α）および条件（β）を満足する第１の離型フィルム１８を備えた電磁波シールドフィルム１０を用いているため、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａは、工程（ｅ）の前の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａよりも大きくなる。
【００８３】
（工程（ｆ））
図６に示すように、保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離し、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１を得る。
【００８４】
工程（ｅ）における熱プレスの時間が２０秒〜１０分間の短時間である場合、第１の離型フィルム１８を剥離する前または剥離した後に導電性接着剤層１６の本硬化を行うことが好ましい。
導電性接着剤層１６の本硬化は、例えば、オーブン等の加熱装置を用いて行う。
加熱時間は、１５〜１２０分間であり、３０〜６０分間が好ましい。加熱時間が１５分以上であれば、導電性接着剤層１６を十分に硬化できる。加熱時間が１２０分以下であれば、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１の製造時間を短縮できる。
加熱温度（オーブン中の雰囲気温度）は、１２０〜１８０℃が好ましく、１２０〜１５０℃が好ましい。加熱温度が１２０℃以上であれば、加熱時間を短縮できる。加熱温度が１８０℃以下であれば、電磁波シールドフィルム１０、フレキシブルプリント配線板３０等の劣化等を抑えることができる。
加熱は、特殊な装置を使用しなくてもよい点から、無加圧で行うことが好ましい。
【００８５】
工程（ｆ）の後の保護層１２の表面の算術平均粗さＲａは、０．３０〜０．８０μｍが好ましく、０．３５〜０．６０μｍがより好ましい。
保護層１２の表面の算術平均粗さＲａが０．８μｍ以下であれば、第１の離型フィルム１８と保護層１２との接着性が高くなりすぎず、第１の離型フィルム１８を保護層１２から剥離しやすい。
【００８６】
保護層１２の表面の算術平均粗さＲａが０．３μｍ以上であれば、保護層１２が下記の点を満足する。
・後述する電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を電子機器に実装する際に、保護層１２の表面に貼着される補強板との接着性を向上させる。
・光学センサ（カメラモジュールのＣＣＤイメージセンサ、ＣＭＯＳイメージセンサ等）の周辺において電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板からの光の正反射を抑える。
・保護層１２の表面に生じた傷等を目立たなくする。
【００８７】
（作用効果）
以上説明した電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１の製造方法にあっては、電磁波シールドフィルム１０を用いているため、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成できる。また、熱プレスした後に、離型フィルムを保護層から容易に剥離できる。
【００８８】
（他の実施形態）
本発明の電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の製造方法は、上述した工程（ｄ）〜（ｆ）を有する方法であればよく、図示例の実施形態に限定はされない。
例えば、フレキシブルプリント配線板は、裏面側にグランド層を有するものであってもよい。また、フレキシブルプリント配線板は、両面にプリント回路を有し、両面に絶縁フィルムおよび電磁波シールドフィルムが貼り付けられたものであってもよい。
【実施例】
【００８９】
以下、実施例を示す。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００９０】
（貯蔵弾性率）
貯蔵弾性率は、動的粘弾性測定装置（Ｒｈｅｏｍｅｔｒｉｃ  Ｓｃｉｅｎｔｉｆｉｃ，Ｉｎｃ．製、ＲＳＡII）を用いて測定した。
【００９１】
（気泡の割合）
発泡フィルム中の気泡の割合は、発泡フィルムの断面を３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＵＳ社製、ＬＥＸＴ  ＯＬＳ４０００）で対物レンズ１００倍に拡大して観察し、画像の面積に対する画像中の気泡の断面積の割合を算出することによって求めた。
【００９２】
（気泡の平均径）
気泡の平均径は、発泡フィルムの断面を上記と同様に拡大して観察し、無作為に選ばれた１００個の気泡について、それぞれ断面積を測定し、断面積が等しい円の相当直径を求め、これらを平均することによって求めた。
【００９３】
（算術平均粗さＲａ）
熱プレスする前の第１の離型フィルムの離型剤層の表面の算術平均粗さＲａ、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａ、および工程（ｆ）後の保護層１２の表面の算術平均粗さＲａは、３Ｄ測定レーザー顕微鏡（ＯＬＹＭＰＵＳ社製、ＬＥＸＴ  ＯＬＳ４０００）を用いて測定した。
電磁波シールドフィルムの熱プレスは、熱プレス装置（ＶＩＧＯＲ社製、５０トンプレス、ＶＦＰＣ−０５Ｒ）を用い、プレス板の温度：１７０℃、圧力：１５ＭＰａ、時間：３０秒間の条件で実施した。
【００９４】
（剥離強度）
保護層から第１の離型フィルムを剥離する際の剥離強度は、２０ｍｍ幅の試験片について剥離角度１８０°、剥離速度３００ｍｍ／分で測定した。
【００９５】
（実施例１）
第１の離型フィルム１８として、非シリコーン系離型剤にて片面が離型処理された発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、クリスパー、厚さ：５０μｍ、１６０℃における貯蔵弾性率：３．５×１０８Ｐａ、気泡の割合：２０体積％、気泡の平均径：５２μｍ、離型剤層１８ｂの表面の算術平均粗さＲａ：０．１１８μｍ、離型剤層１８ｂの厚さ：０．１２μｍ）を用意した。熱プレスする前の第１の離型フィルム１８の離型剤層１８ｂの表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【００９６】
工程（ａ）：
第１の離型フィルム１８の離型剤層１８ｂの表面に、溶剤溶解性アミド樹脂（ティーアンドケイ東華社製、ＴＰＡＥ−６１７Ｃ）および硬化剤（トルエンジイソシアネート）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミドに溶解した塗料を塗布し、１５０℃で０．４時間加熱し、アミド樹脂を硬化させて、保護層１２（厚さ：５μｍ、１６０℃における貯蔵弾性率：８×１０６Ｐａ、表面抵抗：８×１０１２Ω）を形成した。
【００９７】
工程（ｂ）：
保護層１２の表面に、電子ビーム蒸着法にて銅を物理的に蒸着させ、厚さ０．０７μｍ、表面抵抗０．３Ωの蒸着膜（金属薄膜層１４）を形成した。
【００９８】
工程（ｃ）：
金属薄膜層１４の表面に、潜在硬化性エポキシ樹脂としてエポキシ樹脂（ＤＩＣ社製、ＥＸＡ−４８１６）と硬化剤（味の素ファインテクノ社製、ＰＮ−２３）との混合物、導電性粒子２２として焼成カーボン粒子（エアウォーターベルパール社製、ＣＲ１−２０００、平均粒子径：９μｍ、比表面積：５ｍ２／ｇ、真密度：１．５ｇ／ｃｍ３）に銀メッキを１μｍ厚で施したものを、溶剤（メチルエチルケトン）に溶解または分散させた導電性接着剤組成物を、ダイコーターを用いて塗布し、溶剤を揮発させてＢステージ化することによって、異方導電性である導電性接着剤層１６（厚さ：１０μｍ、銀メッキ焼成カーボン粒子：５体積％、表面抵抗：５×１０８Ω）を形成した。第２の離型フィルム２０として、非シリコーン系離型剤にて片面が離型処理された非発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製、Ｔ１５７、厚さ：５０μｍ）を導電性接着剤層１６の表面に設け、電磁波シールドフィルム１０を得た。
【００９９】
工程（ｄ）：
厚さ２５μｍのポリイミドフィルム（表面抵抗：１×１０１７Ω）（基材フィルム）の表面に、ニトリルゴム変性エポキシ樹脂からなる絶縁性接着剤組成物を、乾燥膜厚が２５μｍになるように塗布し、接着剤層を形成し、絶縁フィルム４０（厚さ：５０μｍ）を得た。
【０１００】
厚さ１２μｍのポリイミドフィルム（表面抵抗：１×１０１７Ω）（ベースフィルム３２）の表面に、プリント回路３４が形成されたフレキシブルプリント配線板３０を用意した。
フレキシブルプリント配線板３０に絶縁フィルム４０を熱プレスにより貼り付けて、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板２を得た。
【０１０１】
工程（ｅ）：
フレキシブルプリント配線板３０に、第２の離型フィルム２０を剥離した電磁波シールドフィルム１０を重ね、ホットプレス装置（ＶＩＧＯＲ社製、ＶＦＰＣ−０５Ｒ）を用い、温度：１７０℃、圧力：１５ＭＰａで３０秒間熱プレスし、絶縁フィルム４０の表面に導電性接着剤層１６を接着して、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の前駆体３を得た。
【０１０２】
工程（ｆ）：
電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の前駆体３から試験片を切り出し、試験片について保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離し、保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離する際の剥離強度を測定した。
残りの電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の前駆体３について保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離した。保護層１２および硬化後の導電性接着剤層１６の破断および剥離の有無、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
第１の離型フィルム１８を剥離した電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の前駆体３を、高温恒温器（楠本化成社製、ＨＴ２１０）を用い、温度：１７０℃で３０分間加熱することによって、導電性接着剤層１６を本硬化させ、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１を作製した。工程（ｆ）後の保護層１２の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【０１０３】
（実施例２）
保護層１２の厚さを１０μｍとし、金属薄膜層を省略し、導電性接着層１６を等方導電性接着層（厚さ：１２μｍ、表面抵抗：０．３Ω）に変更した以外は、実施例１と同様に、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１を作製した。保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離する際の剥離強度、保護層１２および硬化後の導電性接着剤層１６の破断および剥離の有無、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａ、保護層１２の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【０１０４】
（実施例３）
第１の離型フィルム１８として、非シリコーン系離型剤にて片面が離型処理された発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡社製、クリスバー、厚さ：３８μｍ、１６０℃における貯蔵弾性率：３．７×１０８Ｐａ、気泡の割合：１８体積％、気泡の平均径：５０μｍ、離型剤層１８ｂの表面の算術平均粗さＲａ：０．１２３μｍ、離型剤層１８ｂの厚さ：０．１１μｍ）を用い、金属薄膜層１４、異方導電性の導電性接着層１６および第２の離型フィルム２０を表１に示すように変更した以外は、実施例１と同様にして電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１を得た。
熱プレスする前の第１の離型フィルム１８の離型剤層１８ｂの表面の算術平均粗さＲａ、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａ、保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離する際の剥離強度、保護層１２および硬化後の導電性接着剤層１６の破断および剥離の有無、保護層１２の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【０１０５】
（実施例４）
保護層１２の厚さを１０μｍとし、金属薄膜層を省略し、導電性接着層１６を等方導電性接着層（厚さ：１７μｍ、表面抵抗：０．２Ω）に変更した以外は、実施例３と同様に、電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板１を作製した。保護層１２から第１の離型フィルム１８を剥離する際の剥離強度、保護層１２および硬化後の導電性接着剤層１６の破断および剥離の有無、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルム１８の保護層１２側の表面の算術平均粗さＲａ、保護層１２の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【０１０６】
（比較例１）
第１の離型フィルムとして、非シリコーン系離型剤にて片面が離型処理された非発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製、Ｔ１５７、厚さ：５０μｍ、１６０℃における貯蔵弾性率：６×１０８Ｐａ、離型剤層の表面の算術平均粗さＲａ：０．０７４μｍ）を用いた以外は、実施例１と同様にして電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を得た。
熱プレスする前の第１の離型フィルムの離型剤層の表面の算術平均粗さＲａ、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａ、保護層から第１の離型フィルムを剥離する際の剥離強度、保護層および硬化後の導電性接着剤層の破断および剥離の有無、保護層の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【０１０７】
（比較例２）
第１の離型フィルムとして、非シリコーン系離型剤にて片面が離型処理された非発泡ポリエチレンテレフタレートフィルム（リンテック社製、Ｔ１５７、厚さ：５０μｍ、１６０℃における貯蔵弾性率：６×１０８Ｐａ）の離型処理された側の表面をブラスト処理したフィルム（離型剤層の表面の算術平均粗さＲａ：０．５２９μｍ）を用い、等方導電性の導電性接着層１６を表１に示すように変更した以外は、実施例４と同様にして電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板を得た。
熱プレスする前の第１の離型フィルムの離型剤層の表面の算術平均粗さＲａ、工程（ｅ）の後の第１の離型フィルムの保護層側の表面の算術平均粗さＲａ、保護層から第１の離型フィルムを剥離する際の剥離強度、保護層および硬化後の導電性接着剤層の破断および剥離の有無、保護層の表面の算術平均粗さＲａを表１に示す。
【０１０８】
【表１】
2016054259.tif 000003
【０１０９】
実施例１〜４においては、電磁波シールドフィルムを熱プレスする前および熱プレスした後の第１の離型フィルムの離型剤層の表面の算術平均粗さＲａが、上述した条件（α）および条件（β）を満足するため、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成でき、かつ熱プレスした後に、第１の離型フィルムを保護層から容易に剥離できた。
一方、比較例１においては、電磁波シールドフィルムを熱プレスした後の第１の離型フィルムの離型剤層の表面の算術平均粗さＲａが、上述した条件（β）を満足しないため、絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板と、電磁波シールドフィルムとを、熱プレスする際に、電磁波シールドフィルムの保護層の表面に凹凸を形成できなかった。
比較例２においては、第１の離型フィルムの表面ががあらかじめブラスト処理され、かつ電磁波シールドフィルムを熱プレスする前の第１の離型フィルムの離型剤層の表面の算術平均粗さＲａが、上述した条件（α）を満足しないため、熱プレスした後に、第１の離型フィルムを保護層から容易に剥離できなかった。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明の電磁波シールドフィルムは、スマートフォン、携帯電話、光モジュール、デジタルカメラ、ゲーム機、ノートパソコン、医療器具等の電子機器用のフレキシブルプリント配線板における、電磁波シールド用部材として有用である。
【符号の説明】
【０１１１】
１  電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板
２  絶縁フィルム付きフレキシブルプリント配線板
３  電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板の前駆体
１０  電磁波シールドフィルム
１２  保護層
１４  金属薄膜層
１６  導電性接着剤層
１８  第１の離型フィルム
１８ａ  離型フィルム本体
１８ｂ  離型剤層
２０  第２の離型フィルム
２２  導電性粒子
２４  気泡
３０  フレキシブルプリント配線板
３２  ベースフィルム
３４  プリント回路
４０  絶縁フィルム
４２  貫通孔
１０１  電磁波シールドフィルム付きフレキシブルプリント配線板
１１０  電磁波シールドフィルム
１１２  保護層
１１４  金属薄膜層
１１６  導電性接着剤層
１１８  離型フィルム
１３０  フレキシブルプリント配線板
１３２  ベースフィルム
１３４  プリント回路
１４０  絶縁フィルム
１４２  貫通孔
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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