(57)【要約】【課題】  爪化粧膜に傷が入った場合であっても、爪化粧膜を全て除去して化粧を再度やり直す必要が無く、より簡易でかつ手間のかからない爪化粧料を提供すること。【解決手段】  光硬化性組成物を積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させて得られる厚み１００μｍの硬化膜に対して、動的粘弾性測定装置（５℃/ｍｉｎ）で測定したときのｔａｎδピークが１０〜４０℃に存在するような光硬化性組成物を含有してなることを特徴とする爪化粧用光硬化性組成物を用いる。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
光硬化性組成物を積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させて得られる厚み１００μｍの硬化膜に対して、動的粘弾性測定装置（５℃/ｍｉｎ）で測定したときのｔａｎδピークが１０〜４０℃に存在するような光硬化性組成物を含有してなることを特徴とする爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項２】
積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させて得られる厚み１００μｍの硬化膜における鉛筆硬度が３Ｂ以上であることを特徴とする請求項１記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項３】
ε‐カプロラクトン由来の構造単位を含む水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）、および多価イソシアネート化合物（ｙ）を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）を含むことを特徴とする請求項１または２記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項４】
水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）が、エチレン性不飽和基を１つ含有する水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物であることを特徴とする請求項３記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項５】
多価イソシアネート系化合物（ｙ）が、非環式脂肪族系イソシアネートであることを特徴とする請求項３または４記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項６】
多価イソシアネート系化合物（ｙ）の数平均分子量が５００〜５，０００であることを特徴とする請求項３〜５いずれか記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項７】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）のエチレン性不飽和基含有量が、０．１〜１０ｍｍｏｌ／ｇであることを特徴とする請求項３〜６いずれか記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項８】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）の重量平均分子量が１，０００〜５０，０００であることを特徴とする請求項３〜７いずれか記載の爪化粧用光硬化性組成物。
【請求項９】
請求項１〜８いずれか記載の爪化粧用光硬化性組成物を含むことを特徴とする爪化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、爪化粧用光硬化性組成物に関し、更に詳しくは、光硬化性組成物により爪を化粧するに当たり、適度な高度を有しつつ室温において柔軟であり、かつ傷がついた場合であっても自然に表面が修復される爪化粧用光硬化性組成物、および爪化粧料に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
近年、光重合性モノマーを含む光硬化性組成物を含む爪化粧料が注目を集めている。かかる爪化粧料は、筆等を用いて該光硬化性組成物を爪に塗布した後、光を照射して硬化させることにより爪を装飾して化粧するものであり、艶が美しく、爪との密着性が高い爪化粧膜が得られるものである。
【０００３】
しかしながら、かかる爪化粧膜は、日常生活においても何かにこすれあったりして傷が入ってしまうものである。傷が入った場合、部分的に修復することは難しいため、爪化粧膜を全て除去し、上記化粧方法を再度やり直す必要があるが、光硬化性組成物からなる爪化粧膜は、その除去にも時間や手間がかかるため、化粧施術のやり直しにはより多くの時間と手間がかかるものであった。
【０００４】
これに対して、爪化粧膜に傷が入りにくくするために、膜の表面硬度を向上させることが考えられ、かかる目的で硬化性を改善するために、モノアシルフォスフィンオキサイド型重合開始剤とα-ヒドロキシルアルキルフェノン型開始剤を併用するという技術が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３５５９９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１に開示の技術をもってしても、やはり爪化粧膜に傷は入るものであり、逆に、かかる技術では、表面硬度が高いがゆえに、傷が入った場合には爪化粧膜を全て除去し、上記化粧方法を再度やり直すのもこれまで以上に労力を要するものであり、より簡易でかつ手間のかからない爪化粧料が求められている。
そこで、本発明ではこのような背景下において、光硬化性組成物により爪を化粧するに当たり、適度な高度を有しつつ室温において柔軟であり、かつ傷がついた場合であっても自然に表面が修復される爪化粧用光硬化性組成物、および爪化粧料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
しかるに本発明者は、かかる事情に鑑み鋭意研究を重ねた結果、爪化粧膜に必要な程度の硬度を有しつつ、あえて柔軟性を付与することで、爪化粧膜に傷がついた場合であっても爪化粧膜自身によって自然に表面が自己修復することを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
即ち、本発明の要旨は、光硬化性組成物を積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させて得られる厚み１００μｍの硬化膜に対して、動的粘弾性測定装置（５℃/ｍｉｎ）で測定したときのｔａｎδピークが１０〜４０℃に存在するような光硬化性組成物を含有してなることを特徴とする爪化粧用光硬化性組成物に関するものである。
また、本発明においては、前記爪化粧用光硬化性組成物を含有してなる爪化粧料も提供するものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物を用いることにより、爪化粧膜に傷が入った場合であっても爪化粧膜の復元性によって傷が自己修復するため、爪化粧膜を全て除去して爪化粧を再度やり直す必要もなく、長期使用にも優れた爪化粧膜を得ることができるものである。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下に本発明を詳細に説明する。
なお、本発明において、（メタ）アクリルとはアクリルあるいはメタクリルを、（メタ）アクリロイルとはアクリロイルあるいはメタクリロイルを、（メタ）アクリレートとはアクリレートあるいはメタクリレートをそれぞれ意味するものである。
また、本発明において爪化粧用光硬化性組成物を爪上に硬化して得られる、該爪化粧用光硬化性組成物の硬化膜を「爪化粧膜」と称する。
【００１１】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、該光硬化性組成物を積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させて得られる厚み１００μｍの硬化膜に対して、動的粘弾性測定装置（５℃/ｍｉｎ）で測定したときのｔａｎδピークが１０〜４０℃に存在するものである。好ましくはかかるｔａｎδピークが１０〜４０℃、特に好ましくは１５〜３５℃、更に好ましくは２０〜３０℃に存在する光硬化性組成物である。かかるｔａｎδピークが上記温度範囲にあることで、該光硬化性組成物を用いて得られる爪化粧膜が、常温すなわち日常的に晒される温度範囲において、適度な柔軟性を有することを意味する。
【００１２】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、該光硬化性組成物を積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2で硬化させて得られる厚み１００μｍの硬化膜における鉛筆硬度が通常３Ｂ以上である。より好ましくは３Ｂ〜２Ｈであり、特に好ましくは２Ｂ〜Ｈである。かかる範囲である場合、爪化粧膜に必要な程度の硬度を有するため好ましい。
【００１３】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、爪化粧膜に必要な程度の硬度を有しつつ、あえて柔軟性を付与することで、爪化粧膜に傷がついた場合であっても爪化粧膜自身によって自己修復が可能となるものである。
以下、爪化粧用光硬化性組成物の成分について説明する。
【００１４】
本発明においては、上記物性を有する光硬化性組成物であればよいが、中でも硬化性と柔軟性及び自己修復性のの点で、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）を含有してなるものであることが好ましい。
【００１５】
＜ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）＞
本発明において、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）は、ε−カプロラクトン由来の構造部位を含む水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）、および多価イソシアネート系化合物（ｙ）を反応させてなるものであることが好ましい。
【００１６】
上記ε−カプロラクトン由来の構造部位を含む水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）（以下、「水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）」と記すことがある。）としては、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物にε−カプロラクトンを開環重合させて得られる化合物であることが好ましく、例えば、下記一般式（１）で示す化合物が挙げられる。
【００１７】
［化１］
2016179966.tif 000002
（式中、Ｒは水素原子またはメチル基であり、ｎは１〜２５の整数である。）
【００１８】
上記一般式（１）中のｎの値は、１〜２５であり、好ましくは１〜１５、特に好ましくは１〜１０、更に好ましくは２〜５である。
かかるｎの値が大きすぎると爪化粧膜表面のタック（べたつき）が強くなる傾向がある。
【００１９】
上記一般式（１）で示される化合物として具体的には、例えば、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン付加物、２−ヒドロキシエチルメタクリレートのカプロラクトン付加物等があげられ、商品名としては、例えば、ダイセル社製「プラクセルＦＡ１」、「プラクセルＦＡ１ＤＤＭ」、「プラクセルＦＡ２Ｄ」、「プラクセルＦＡ５」、「プラクセルＦＡ１０Ｌ」、「プラクセルＦＭ１」、「プラクセルＦＭ１Ｄ」、「プラクセルＦＭ２Ｄ」、「プラクセルＦＭ３」、「プラクセルＦＭ４」、「プラクセルＦＭ５」等が挙げられる。
【００２０】
これらの中でも、自己修復性と爪化粧膜表面のタックのバランスに優れる点で、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン１モル付加物、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン２モル付加物、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン５モル付加物が好ましく、特に好ましくは２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン２モル付加物である。
【００２１】
ε−カプロラクトン由来の構造部位を含む水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）のエチレン性不飽和基数としては、１〜５個であることが好ましく、特に好ましくは１〜３個、更に好ましくは１個である。
かかるエチレン性不飽和基数が多すぎると自己修復性が得られにくい傾向がある。
【００２２】
ε−カプロラクトン由来の構造部位を含む水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）の重量平均分子量としては、１００〜２，５００であることが好ましく、特に好ましくは２００〜１，０００、更に好ましくは３００〜５００である。
かかる重量平均分子量が高すぎると爪化粧膜表面のタックが強くなる傾向があり、低すぎると自己修復性が得られにくい傾向がある。
【００２３】
本発明で用いられる多価イソシアネート系化合物（ｙ）としては、下記式（１）で計算される平均イソシアネート基数が通常３．２以上である。
【００２４】
［式１］
2016179966.tif 000003
【００２５】
式中のイソシアネート基濃度（％）は、ＪＩＳ Ｋ１６０３−１：２００７記載の方法により測定される値である。
【００２６】
式中の数平均分子量（Ｍｎ）は、標準ポリスチレン分子量換算による数平均分子量であり、高速液体クロマトグラフィー（日本ウォーターズ社製、「Ｗａｔｅｒｓ  ２６９５（本体）」と「Ｗａｔｅｒｓ  ２４１４（検出器）」）に、カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ  ＫＦ−８０６Ｌ（排除限界分子量：２×１０7、分離範囲：１００〜２×１０7、理論段数：１０，０００段／本、充填剤材質：スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、充填剤粒径：１０μｍ）の３本直列を用いることにより測定される値である。
【００２７】
上記多価イソシアネート系化合物（ｙ）の平均イソシアネート基数としては、通常３．２以上であり、好ましくは３．５以上、特に好ましくは３．８以上、更に好ましくは４以上、殊に好ましくは４．５以上である。なお、平均イソシアネート基数の上限としては、通常１０、好ましくは６である。
かかる多価イソシアネート系化合物（ｙ）の平均イソシアネート基数が少なすぎると自己修復性が低下する傾向がある。
【００２８】
上記多価イソシアネート系化合物（ｙ）の平均イソシアネート基数は、例えば、２つのイソシアネート基を有するジイソシアネート系化合物を多量体化し、イソシアネート基数の異なるイソシアネート系化合物の分布をもたせることで調整することができる。
【００２９】
上記多価イソシアネート系化合物（ｙ）としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンジイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族系ジイソシアネート；ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等の非環式脂肪族系ジイソシアネート；水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン等の脂環式系ジイソシアネート；等のジイソシアネートを用いて、アロファネート構造、ヌレート構造、ビウレット構造等を有する多量体化した多価イソシアネート系化合物が挙げられる。
【００３０】
これらの中でも、好ましくは非環式脂肪族系ジイソシアネートを用いて得られる多価イソシアネート系化合物であり、特に好ましくはヘキサメチレンジイソシアネートを用いて得られる多価イソシアネート系化合物であり、更に好ましくはヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型多量体またはヌレート型多量体、殊に好ましくはヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型多量体である。
【００３１】
上記多価イソシアネート系化合物（ｙ）の数平均分子量としては、５００〜５，０００であることが好ましく、特に好ましくは６００〜２，０００、更に好ましくは７００〜１，０００である。かかる数平均分子量が高すぎると自己修復性が得られにくい傾向があり、低すぎるとイソシアネート化合物が多量化しにくい傾向がある。
【００３２】
本発明で用いるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）は、上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）と多価イソシアネート系化合物（ｙ）を反応させてなるものであるが、その製造方法は、公知一般のウレタン（メタ）アクリレート系化合物の製造方法に準じて製造すればよい。例えば、上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）、多価イソシアネート系化合物（ｙ）を反応器に一括又は別々に仕込み反応させればよい。
【００３３】
上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）と多価イソシアネート系化合物（ｙ）との反応モル比は、例えば、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）の水酸基が１個で、多価イソシアネート系化合物（ｙ）の平均イソシアネート基が３．５個である場合は、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）：多価イソシアネート系化合物（ｙ）が３．５：１程度であり、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）の水酸基が１個で、多価イソシアネート系化合物（ｙ）の平均イソシアネート基が４．５個である場合は、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）：多価イソシアネート系化合物（ｙ）が４．５：１程度である。
【００３４】
上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）と多価イソシアネート系化合物（ｙ）との付加反応においては、反応系の残存イソシアネート基含有率が０．５重量％以下になる時点で反応を終了させることにより、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）が得られる。
【００３５】
上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）と多価イソシアネート系化合物（ｙ）との反応においては、反応を促進する目的で触媒を用いることも好ましく、かかる触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセテート、トリメチル錫ヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチル錫、ビス（アセチルアセトナート）亜鉛、ビス（テトラフルオロアセチルアセトナート）亜鉛、ジルコニウムモノアセチルアセトネート、ジルコニウムエチルアセトアセテート、ジルコニウムトリス（アセチルアセトネート）エチルアセトアセテート、ジルコニウムテトラアセチルアセトネート、テトラメトキシチタン、テトラエトキシチタン、テトライソプロポキシチタン、テトラブトキシチタン等の有機金属化合物、オクテン酸錫、ヘキサン酸亜鉛、オクテン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、２−エチルヘキサン酸ジルコニウム、ナフテン酸コバルト、塩化第１錫、塩化第２錫、酢酸カリウム等の金属塩、トリエチルアミン、トリエチレンジアミン、ベンジルジエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−ブタンジアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン等のアミン系触媒、硝酸ビスマス、臭化ビスマス、ヨウ化ビスマス、硫化ビスマス等の他、ジブチルビスマスジラウレート、ジオクチルビスマスジラウレート等の有機ビスマス化合物や、２−エチルヘキサン酸ビスマス塩、ナフテン酸ビスマス塩、イソデカン酸ビスマス塩、ネオデカン酸ビスマス塩、ラウリル酸ビスマス塩、マレイン酸ビスマス塩、ステアリン酸ビスマス塩、オレイン酸ビスマス塩、リノール酸ビスマス塩、酢酸ビスマス塩、ビスマスリビスネオデカノエート、ジサリチル酸ビスマス塩、ジ没食子酸ビスマス塩等の有機酸ビスマス塩等のビスマス系触媒等が挙げられ、中でも、ジブチル錫ジラウレート、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセンが好適である。これらは１種を単独で、または２種以上を併せて用いることができる。
【００３６】
上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｘ）と多価イソシアネート系化合物（ｙ）との反応においては、イソシアネート基に対して反応する官能基を有しない有機溶剤、例えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸２−エトキシエチル、酢酸２−メトキシ−１−メチルエチル等のエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族類等の有機溶剤を用いることができる。
【００３７】
反応温度は、通常３０〜１００℃、好ましくは４０〜９０℃であり、反応時間は、通常２〜１０時間、好ましくは３〜８時間である。
【００３８】
上記で得られるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）中に含まれるエチレン性不飽和基の個数としては、１〜１０個であることが好ましく、特に好ましくは３〜８個、更に好ましくは４〜６個である。エチレン性不飽和基の個数が少なすぎると爪化粧膜の硬度が低くなる傾向があり、多すぎると爪化粧膜の硬度が高すぎて自己修復性が得られにくい傾向がある。
【００３９】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）のエチレン性不飽和基含有量（ｍｍｏｌ／ｇ）としては、０．１〜１０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、特に好ましくは１〜５ｍｍｏｌ／ｇ、更に好ましくは１〜３ｍｍｏｌ／ｇである。かかるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）のエチレン性不飽和基含有量（ｍｍｏｌ／ｇ）が少なすぎると光照射後の造膜性が低下する傾向があり、多すぎると爪化粧膜の硬度が高すぎて自己修復性が低下する傾向がある。
【００４０】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）の重量平均分子量は、１，０００〜５０，０００であることが好ましく、特に好ましくは２，０００〜１０，０００、更に好ましくは３，０００〜５，０００である。かかる重量平均分子量が小さすぎると十分な自己修復性が得られにくい傾向があり、重量平均分子量が大きすぎると光硬化性組成物の粘度が高くなり塗布性が低下する傾向がある。
【００４１】
上記重量平均分子量（Ｍｗ）は、標準ポリスチレン分子量換算による重量平均分子量であり、高速液体クロマトグラフィー（日本ウォーターズ社製、「Ｗａｔｅｒｓ  ２６９５（本体）」と「Ｗａｔｅｒｓ  ２４１４（検出器）」）に、カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ  ＫＦ−８０６Ｌ（排除限界分子量：２×１０7、分離範囲：１００〜２×１０7、理論段数：１０，０００段／本、充填剤材質：スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、充填剤粒径：１０μｍ）の３本直列を用いることにより測定される値である。
【００４２】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）の６０℃における粘度は、１００〜１０，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、特には３００〜８，０００ｍＰａ・ｓ、更には５００〜５，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。かかる粘度が上記範囲内である場合、光硬化性組成物の塗布性が向上する傾向がある。
尚、粘度の測定法はＥ型粘度計による。
【００４３】
更に、本発明において、前記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）の他に、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）以外のウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）を含有させたり、爪化粧膜表面のタックを改善するためにポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）を含有させることも好ましい。
【００４４】
＜ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）＞
本発明において、更にウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）（但し、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）を除く。）を含有してなるものも表面硬度を向上させる点から好ましい。
本発明で用いるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）は、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）とは異なるものであればよいが、好ましくは、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）及びポリオール系化合物（ｂ３）を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）及び／または水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ２）である。中でも良好な自己修復性を維持できる点から、特に好ましくは、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）及びポリオール系化合物（ｂ３）を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）である。
【００４５】
上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、脂肪酸変性−グリシジル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイル−オキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４６】
これらの中でも、エチレン性不飽和基を１〜３個有する水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物が良好な自己修復性を維持できる点から好ましく、エチレン性不飽和基を１個有する化合物として、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、エチレン性不飽和基を２個有する化合物として、グリセリンジ（メタ）アクリレート、エチレン性不飽和基を３個有する化合物として、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートが反応性および汎用性に優れる点で好ましい。更にこれらの中でも、硬化した時の硬化物の硬化収縮を小さくできる点で、エチレン性不飽和基を１個有する化合物が好ましく、特には２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレートが好ましい。また、表面硬度をさらに向上できる点で多官能の（メタ）アクリレートを用いることも好ましい。
これら水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）は１種または２種以上組み合わせて使用することができる。
【００４７】
上記多価イソシアネート系化合物（ｂ２）としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン等の脂環式系ポリイソシアネート、或いはこれらポリイソシアネートの３量体化合物又は多量体化合物、アロファネート型ポリイソシアネート、ビュレット型ポリイソシアネート、水分散型ポリイソシアネート等が挙げられる。
【００４８】
これらの中でも、良好な自己修復性を維持できる点から、ジイソシアネート系化合物が好ましく、特に、ペンタメチレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート等の脂肪族系ジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン等の脂環式系ジイソシアネートが好ましく用いられ、更に好ましくは硬化収縮が小さい点でイソホロンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ノルボルネンジイソシアネートが用いられ、殊に好ましくは反応性および汎用性に優れる点で水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、イソホロンジイソシアネートが用いられる。
また、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）は１種または２種以上組み合わせて使用することができる。
【００４９】
上記ポリオール系化合物（ｂ３）としては、例えば、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、ポリブタジエン系ポリオール、（メタ）アクリル系ポリオール、ポリシロキサン系ポリオール等が挙げられる。
【００５０】
ポリエーテル系ポリオールとしては、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ポリブチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール等のアルキレン構造含有ポリエーテル系ポリオールや、これらポリアルキレングリコールのランダム或いはブロック共重合体が挙げられる。
【００５１】
ポリエステル系ポリオールとしては、例えば、多価アルコールと多価カルボン酸との縮合重合物、環状エステル（ラクトン）の開環重合物、多価アルコール、多価カルボン酸及び環状エステルの３種類の成分による反応物などが挙げられる。
【００５２】
前記多価アルコールとしては、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−テトラメチレンジオール、１，３−テトラメチレンジオール、２−メチル−１，３−トリメチレンジオール、１，５−ペンタメチレンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサメチレンジオール、３−メチル−１，５−ペンタメチレンジオール、２，４−ジエチル−１，５−ペンタメチレンジオール、グリセリン、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、シクロヘキサンジオール類（１，４−シクロヘキサンジオールなど）、ビスフェノール類（ビスフェノールＡなど）、糖アルコール類（キシリトールやソルビトールなど）などが挙げられる。
【００５３】
前記多価カルボン酸としては、例えば、マロン酸、マレイン酸、フマル酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ドデカンジオン酸等の脂肪族ジカルボン酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環式ジカルボン酸、テレフタル酸、イソフタル酸、オルトフタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、パラフェニレンジカルボン酸、トリメリット酸等の芳香族ジカルボン酸などが挙げられる。
【００５４】
前記環状エステルとしては、例えば、プロピオラクトン、β−メチル−δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトンなどが挙げられる。
【００５５】
ポリカーボネート系ポリオールとしては、例えば、多価アルコールとホスゲンとの反応物、環状炭酸エステル（アルキレンカーボネートなど）の開環重合物などが挙げられる。
【００５６】
上記多価アルコールとしては、前記ポリエステル系ポリオールの説明中で例示の多価アルコール等が挙げられ、上記アルキレンカーボネートとしては、例えば、エチレンカーボネート、トリメチレンカーボネート、テトラメチレンカーボネート、ヘキサメチレンカーボネートなどが挙げられる。
【００５７】
なお、ポリカーボネートポリオールは、分子内にカーボネート結合を有し、末端がヒドロキシル基である化合物であればよく、カーボネート結合とともにエステル結合を有していてもよい。
【００５８】
ポリオレフィン系ポリオールとしては、飽和炭化水素骨格としてエチレン、プロピレン、ブテン等のホモポリマーまたはコポリマーを有し、その分子末端に水酸基を有するものが挙げられる。
【００５９】
ポリブタジエン系ポリオールとしては、炭化水素骨格としてブタジエンの共重合体を有し、その分子末端に水酸基を有するものが挙げられる。
ポリブタジエン系ポリオールは、その構造中に含まれるエチレン性不飽和基の全部または一部が水素化された水添化ポリブタジエンポリオールであってもよい。
【００６０】
（メタ）アクリル系ポリオールとしては、（メタ）アクリル酸エステルの重合体又は共重合体の分子内にヒドロキシル基を少なくとも２つ有しているものが挙げられ、かかる（メタ）アクリル酸エステルとしては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸オクタデシル等の（メタ）アクリル酸アルキルエステル等が挙げられる。
【００６１】
ポリシロキサン系ポリオールとしては、例えば、ジメチルポリシロキサンポリオールやメチルフェニルポリシロキサンポリオール等が挙げられる。
【００６２】
これらの中でも、ポリエステル系ポリオール、ポリエーテル系ポリオールが自己修復性と爪化粧膜の表面硬度のバランスを取りやすい点で好ましい。
【００６３】
本発明においては、ポリオール系化合物（ｂ３）の数平均分子量が５０〜８，０００であることが好ましく、特には１００〜５，０００、更には２００〜３，０００であることが好ましい。かかる数平均分子量が小さすぎると爪化粧膜の自己修復性が低くなる傾向があり、大きすぎると爪化粧膜の表面硬度が低下する傾向がある。
【００６４】
なお、上記の数平均分子量は、標準ポリスチレン分子量換算による数平均分子量であり、高速液体クロマトグラフィー（日本ウォーターズ社製、「Ｗａｔｅｒｓ  ２６９５（本体）」と「Ｗａｔｅｒｓ  ２４１４（検出器）」）に、カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  ＧＰＣ  ＫＦ−８０６Ｌ（排除限界分子量：２×１０7、分離範囲：１００〜２×１０7、理論段数：１０，０００段／本、充填剤材質：スチレン−ジビニルベンゼン共重合体、充填剤粒径：１０μｍ）の３本直列を用いることにより測定される。
【００６５】
本発明において、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）は、次のようにして製造することができる。
【００６６】
例えば、
（１）上記の水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）、ポリオール系化合物（ｂ３）を、反応器に一括又は別々に仕込み反応させる方法、
（２）ポリオール系化合物（ｂ３）と多価イソシアネート系化合物（ｂ２）とを予め反応させて得られる反応生成物に、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）を反応させる方法、
（３）多価イソシアネート系化合物（ｂ２）と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）とを予め反応させて得られる反応生成物に、ポリオール系化合物（ｂ３）を反応させる方法
などが挙げられるが、反応の安定性や副生成物の低減等の点から（２）の方法が好ましい。
【００６７】
ポリオール系化合物（ｂ３）と多価イソシアネート系化合物（ｂ２）との反応には、公知の反応手段を用いることができる。その際、例えば、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）中のイソシアネート基：ポリオール系化合物（ｂ３）中の水酸基とのモル比を通常２ｎ：（２ｎ−２）（ｎは２以上の整数）程度にすることにより、イソシアネート基を残存させた末端イソシアネート基含有化合物を得ることができ、該化合物を得た後、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）との付加反応を可能にする。
【００６８】
上記ポリオール系化合物（ｂ３）と多価イソシアネート系化合物（ｂ２）とを予め反応させて得られる反応生成物と、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）との付加反応にも、公知の反応手段を用いることができる。
【００６９】
反応生成物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）との反応モル比は、例えば、反応生成物のイソシアネート基が２個で、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）の水酸基が１個である場合は、反応生成物：水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）が１：２程度であり、反応生成物のイソシアネート基が３個で、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）の水酸基が１個である場合は、反応生成物：水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）が１：３程度である。
【００７０】
この反応生成物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｄ１）との付加反応においては、反応系の残存イソシアネート基含有率が０．５重量％以下になる時点で反応を終了させることにより、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）が得られる。
【００７１】
かかるポリオール系化合物（ｂ３）と多価イソシアネート系化合物（ｂ２）との反応、更にその反応生成物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）との反応においては、反応を促進する目的で触媒を用いることも好ましく、かかる触媒としては、例えば、ジブチル錫ジラウレート、トリメチル錫ヒドロキシド、テトラ−ｎ−ブチル錫等の有機金属化合物、オクテン酸亜鉛、オクテン酸錫、ナフテン酸コバルト、塩化第１錫、塩化第２錫等の金属塩、トリエチルアミン、ベンジルジエチルアミン、１，４−ジアザビシクロ［２，２，２］オクタン、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセン、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル−１，３−ブタンジアミン、Ｎ−エチルモルホリン等のアミン系触媒、硝酸ビスマス、臭化ビスマス、ヨウ化ビスマス、硫化ビスマス等の他、ジブチルビスマスジラウレート、ジオクチルビスマスジラウレート等の有機ビスマス化合物や、２−エチルヘキサン酸ビスマス塩、ナフテン酸ビスマス塩、イソデカン酸ビスマス塩、ネオデカン酸ビスマス塩、ラウリル酸ビスマス塩、マレイン酸ビスマス塩、ステアリン酸ビスマス塩、オレイン酸ビスマス塩、リノール酸ビスマス塩、酢酸ビスマス塩、ビスマスリビスネオデカノエート、ジサリチル酸ビスマス塩、ジ没食子酸ビスマス塩等の有機酸ビスマス塩等のビスマス系触媒、無機ジルコニウム、有機ジルコニウム、ジルコニウム単体等のジルコニウム系触媒、２−エチルヘキサン酸亜鉛／ジルコニウムテトラアセチルアセトナート等の２種類以上の触媒を併用したものが挙げられ、中でも、ジブチル錫ジラウレート、１，８−ジアザビシクロ［５，４，０］ウンデセンが好適である。
【００７２】
また、ポリオール系化合物（ｂ３）と多価イソシアネート系化合物（ｂ２）との反応、更にその反応生成物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）との反応においては、イソシアネート基に対して反応する官能基を有しない有機溶剤、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族類等の有機溶剤を用いることができる。
【００７３】
また、反応温度は、通常３０〜９０℃、好ましくは４０〜８０℃であり、反応時間は、通常２〜１０時間、好ましくは３〜８時間である。
【００７４】
かくして上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）が得られる。
上記の説明は、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）、多価イソシアネート系化合物（ｂ２）及びポリオール系化合物（ｂ３）を反応させてなるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）についての説明であるが、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ２）についても、上記方法に準じて行うことにより、即ち、ポリオール系化合物（ｂ３）を用いず、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｂ１）と多価イソシアネート系化合物（ｂ２）を上記方法に準じて反応させることにより製造することができる。
【００７５】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）の重量平均分子量は、５００〜４０，０００であることが好ましく、特には１，０００〜３０，０００、更には１５００〜２００００であることが好ましい。かかる重量平均分子量が小さすぎると爪化粧膜の自己修復性が低くなる傾向にあり、大きすぎると爪化粧膜の表面硬度が低下する傾向がある。
【００７６】
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）の重量平均分子量は、１，０００〜４０，０００であることが好ましく、特には１，５００〜３０，０００、更には２，０００〜２０，０００であることが好ましく、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ２）の重量平均分子量は、５００〜２０，０００であることが好ましく、特には１，０００〜１５，０００、更には１，５００〜１０，０００であることが好ましい。
【００７７】
なお、上記の重量平均分子量は、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）の重量平均分子量の測定方法と同様にして測定される。
【００７８】
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）の粘度については、６０℃における粘度で、５，０００〜１０，００００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、特には６，０００〜９０，０００ｍＰａ・ｓ、更には７，０００〜８０，０００であることが好ましい。かかる粘度が高すぎると光硬化性組成物の取り扱いが困難となる傾向があり、低すぎる爪化粧膜の膜厚の制御が困難になる傾向がある。
なお、粘度の測定法はＥ型粘度計による。
【００７９】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）の含有量については、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）１００重量部に対して、１００重量部以下であることが好ましく、特には１〜９５重量部、更には５〜９０重量部であることが好ましい。かかる含有量が多すぎると自己修復性が低下する傾向がある。
【００８０】
＜ポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）＞
本発明において、ポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）を含有してなるものも爪化粧膜表面のタックを調整する点から好ましい。
本発明で用いるポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）は、公知一般のポリシロキサン構造を含有する化合物を用いればよく、例えば、ポリシロキサン構造含有（メタ）アクリレートモノマー、ポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）、ポリシロキサン構造含有ポリエーテル（メタ）アクリレート化合物、ポリシロキサン構造含有ポリエステル（メタ）アクリレート化合物、ポリシロキサン構造含有ポリカーボネート（メタ）アクリレート化合物等のポリシロキサン構造含有ポリ（メタ）アクリレート系化合物；ポリシロキサン構造含有ポリエステル化合物；ポリシロキサン構造含有ポリカーボネート化合物；ポリシロキサン構造含有（メタ）アクリルポリマー；不飽和基含有ポリシロキサン構造含有（メタ）アクリレート；および、上記化合物にフッ素原子を導入した化合物等があげられる。
【００８１】
これらの中でも、光を照射し爪化粧膜とした際に架橋構造を形成し優れた耐久性を示す点でポリシロキサン構造含有（メタ）アクリレート化合物が好ましく、更には、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物との相溶性に優れる点で、ポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）が好ましい。
【００８２】
上記ポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）（以下、「ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）」と記載することがある。）について説明する。
【００８３】
ポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）は、その構造中にポリシロキサン構造を含有するものであればよく、特には、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物の構成成分として、下記一般式（２）で示される片末端に水酸基を有するポリシロキサン系化合物を用いて得られるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）、下記一般式（３）で示される両末端に水酸基を有するポリシロキサン系化合物を用いて得られるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）であることが好ましい。
なお、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）は、一般式（２）および（３）両方由来の構造部位を有するものであってもよい。
【００８４】
［化２］
2016179966.tif 000004
〔式中、Ｒ1はアルキル基を示し、Ｒ2はそれぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、Ｒ3は炭化水素基又はヘテロ原子を含む有機基を示す。ａは１以上の整数であり、ｂは１〜３の整数である。〕
【００８５】
［化３］
2016179966.tif 000005
〔式中、Ｒ1、Ｒ3は炭化水素基又はヘテロ原子を含む有機基を示し、Ｒ2はそれぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基又はフェニル基を示し、ａは１以上の整数であり、ｂ、ｃは１〜３の整数である。〕
【００８６】
まず、上記一般式（２）で示される片末端に水酸基を有するポリシロキサン系化合物を用いて得られるポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）（以下、「ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）」と記すことがある。）について説明する。
【００８７】
かかるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）は、上記一般式（２）で示される片末端に水酸基を有するポリシロキサン系化合物（ｐ１）（以下、「ポリシロキサン系化合物（ｐ１）」と記すことがある。）と、ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）と、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）、必要に応じて更にポリオール系化合物（ｐ４）を反応させてなるものである。
【００８８】
かかるポリシロキサン系化合物（ｐ１）について、一般式（２）中のＲ1はアルキル基であり、アルキル基の炭素数は比較的短いものが好ましい。具体的には、通常炭素数１〜１５、好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜５であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
【００８９】
一般式（２）中のＲ2はそれぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又はフェニル基である。
アルキル基の炭素数は比較的短いものが好ましい。具体的には、通常炭素数１〜１５、好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜５であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
シクロアルキル基の炭素数としては、通常炭素数３〜１０、好ましくは５〜８であり、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基等が挙げられる。
【００９０】
また、上記アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は置換基を有するものであってもよい。置換基としては、通常、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、スルファニル基、ビニル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、アリール基、ヘテロアリール基等が挙げられる。なお、かかる置換基が炭素原子を有する場合には、該炭素原子は上記Ｒ2の説明中で規定している炭素数には含めないものとする。
【００９１】
一般式（２）中のＲ3は、炭化水素基又はヘテロ原子を含む有機基である。
炭化水素基としては、通常炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜２０であり、二価または三価の炭化水素基が挙げられる。
二価の炭化水素基としては、例えば、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は１〜１０が好ましく、特に好ましくは炭素数１〜４であり、例えば、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む有機基としては、例えば、オキシアルキレン基、ポリオキシアルキレン基、ポリカプロラクトン基、アミノ基等が挙げられる。
【００９２】
一般式（２）中のａは１以上の整数であり、好ましくは５〜２００、特に好ましくは５〜１２０の整数である。ｂは１〜３の整数であり、好ましくは１〜２の整数である。
【００９３】
本発明で用いられるポリシロキサン系化合物（ｐ１）の重量平均分子量としては、通常１００〜５０，０００であることが好ましく、特には５００〜１０，０００、更には１，０００〜１０，０００であることが好ましい。かかる重量平均分子量が低すぎると爪化粧膜表面のタックが強くなる傾向があり、高すぎると透明性が低下する傾向がある。
【００９４】
一般式（２）で示されるポリシロキサン系化合物（ｐ１）の具体例としては、例えば、信越化学工業社製の「Ｘ−２２−１７０ＢＸ」、「Ｘ−２２−１７０ＤＸ」、「Ｘ−２２−１７６ＤＸ」、「Ｘ−２２−１７６Ｆ」、チッソ社製の「サイラプレーンＦＭ−０４１１」、「サイラプレーンＦＭ−０４２１」、「サイラプレーンＦＭ−０４２５」、「サイラプレーンＦＭ−ＤＡ１１」、「サイラプレーンＦＭ−ＤＡ２１」、「サイラプレーンＦＭ−ＤＡ２６」等の商品が挙げられる。
【００９５】
本発明で用いられるポリイソシアネート系化合物（ｐ２）としては、例えば、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ポリフェニルメタンポリイソシアネート、変性ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、フェニレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート等の芳香族系ポリイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等の脂肪族系ポリイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン等の脂環式系ポリイソシアネート、或いはこれらポリイソシアネートの３量体化合物又は多量体化合物、アロファネート型ポリイソシアネート、ビュレット型ポリイソシアネート、水分散型ポリイソシアネート（例えば、東ソー（株）製の「アクアネート１００」、「アクアネート１０５」、「アクアネート１２０」、「アクアネート２１０」等）、等が挙げられる。
これらは１種または２種以上組み合わせて使用することができる。
これらの中でも、１分子中にイソシアネート基を３個以上有するイソシアネート系化合物、特にはポリイソシアネートの３量体又は多量体化合物であることが、爪化粧膜の硬度、及びブリードの原因となる未反応の低分子量成分を少なくできる点でより好ましい。
【００９６】
本発明で用いられる水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−２−ヒドロキシプロピルフタレート、カプロラクトン変性２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール（メタ）アクリレート、脂肪酸変性−グリシジル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−アクリロイル−オキシプロピルメタクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等が挙げられる。これらは１種または２種以上組み合わせて使用することができる。
これらの中でも、比較的高硬度の爪化粧膜が得られる点でペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００９７】
更に、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリオール系化合物（ｐ４）を用いてもよい。かかるポリオール系化合物（ｐ４）としては、例えば、ポリエーテル系ポリオール、ポリエステル系ポリオール、ポリカーボネート系ポリオール、ポリオレフィン系ポリオール、ポリブタジエン系ポリオール、（メタ）アクリル系ポリオール、等が挙げられる。かかるポリオール系化合物（ｐ４）については、上述のポリオール系化合物（ｂ３）と同様のものが挙げられる。
【００９８】
ポリオール系化合物（ｐ４）の重量平均分子量としては、５０〜８０００が好ましく、特に好ましくは１００〜５０００、更に好ましくは２００〜３０００である。ポリオール（ｐ４）の重量平均分子量が大きすぎると、硬化時に爪化粧膜の硬度等の機械的物性が低下する傾向があり、小さすぎると硬化収縮が大きく安定性が低下する傾向がある。
【００９９】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）は、１個以上のエチレン性不飽和基を有するものであることが好ましく、爪化粧膜の硬度の点で３個以上のエチレン性不飽和基を有するものであることが特に好ましく、更には６個以上のエチレン性不飽和基を有するものであることが好ましい。
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）が含有するエチレン性不飽和基の上限は通常３０個であり、好ましくは２５個以下である。
【０１００】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）の製造方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、
（イ）：ポリシロキサン系化合物（ｐ１）、ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｐ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｐ２））、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）を一括に仕込み反応させる方法、
（ロ）：ポリシロキサン系化合物（ｐ１）とポリイソシアネート系化合物（ｐ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｐ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｐ２））を反応させた後、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）を反応させる方法、
（ハ）：ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｐ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｐ２））と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）を反応させた後、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）を反応させる方法、
（ニ）：ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｐ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｐ２））と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）の一部を反応させた後、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）を反応させ、さらに残りの水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）を反応させる方法、等が挙げられるが、これらの中でも、（ロ）または（二）の方法が好ましく、反応制御の安定性の点で、特に好ましくは（ロ）の方法である。
【０１０１】
なお、予めポリオール系化合物（ｐ４）とポリイソシアネート系化合物（ｐ２）を反応させる場合には、例えば、公知一般のウレタン系ポリオールの製造例に従えばよい。
【０１０２】
かかる（ロ）の方法にあたっては、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）の水酸基とポリイソシアネート系化合物（ｐ２）のイソシアネート基を、イソシアネート基を残存させる条件下で反応させた後、次いでポリイソシアネート系化合物（ｐ２）の該残存イソシアネート基と上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）の水酸基を反応させるのである。
【０１０３】
ポリシロキサン系化合物（ｐ１）とポリイソシアネート系化合物（ｐ２）との反応モル比は、例えば、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）の水酸基が１個で、ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）のイソシアネート基が２個である場合は、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）：ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）１：０．８〜１０程度であり、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）の水酸基が１個で、ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）のイソシアネート基が３個である場合は、ポリシロキサン系化合物（ｐ１）：ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）１：０．２〜５程度であればよい。
【０１０４】
この反応生成物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）との付加反応においては、反応系の残存イソシアネート基が０．５重量％以下になる時点で反応を終了させることにより、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）が得られる。
【０１０５】
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）１００重量部中に含まれるポリシロキサン系化合物（ｐ１）に由来する構造部分の重量としては、上記モル比の範囲内で０．１〜８０重量部であることが好ましい。
【０１０６】
上記反応においては、反応を促進する目的で触媒を用いることも好ましく、かかる触媒としては、上述のウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）の製造において列記したものと同様のものが挙げられる。
【０１０７】
上記反応においては、イソシアネート基に対して反応する官能基を有しない有機溶剤、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族類等の有機溶剤を用いることができる。
【０１０８】
上記反応の反応温度は、通常３０〜１００℃、好ましくは４０〜９０℃であり、反応時間は、通常２〜１０時間、好ましくは３〜８時間である。
【０１０９】
かくして得られるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）の重量平均分子量としては５００〜５０，０００であることが好ましく、更には５００〜３０，０００であることが好ましい。かかる重量平均分子量が小さすぎると爪化粧膜表面のタックが強くなる傾向があり、大きすぎると爪化粧膜の透明性が低下する傾向がある。
【０１１０】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）の４０％メチルイソブチルケトン溶液２０℃における粘度は、５〜５，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、特には５〜２，５００ｍＰａ・ｓ、更には５〜１，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。かかる粘度が上記範囲内であることにより、塗布性が向上する傾向がある。
尚、粘度の測定法はＢ型粘度計による。
【０１１１】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）は、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１１２】
次に、上記一般式（３）で示される両末端に水酸基を有するポリシロキサン系化合物を用いて得られるポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）（以下、「ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）」と記すことがある。）について説明する。
【０１１３】
かかるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）は、上記一般式（３）で示される両末端に水酸基を有するポリシロキサン系化合物（ｑ１）（以下、「ポリシロキサン系化合物（ｑ１）」と記すことがある。）と、多価イソシアネート系化合物（ｑ２）と、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）、更に必要に応じてポリオール系化合物（ｑ４）を反応させてなるものである。
【０１１４】
かかるポリシロキサン系化合物（ｑ１）について、一般式（３）中のＲ1、Ｒ3は、炭化水素基又はヘテロ原子を含む有機基である。
炭化水素基としては、通常炭素数１〜３０、好ましくは炭素数１〜２０であり、二価または三価の炭化水素基が挙げられる。
二価の炭化水素基としては、アルキレン基が挙げられる。アルキレン基の炭素数は１〜１０が好ましく、特に好ましくは炭素数１〜４であり、例えば、エチレン基、プロピレン基、テトラメチレン基等が挙げられる。
ヘテロ原子を含む有機基としては、例えば、オキシアルキレン基、ポリオキシアルキレン基、ポリカプロラクトン基、アミノ基等が挙げられる。
【０１１５】
一般式（３）中のＲ2はそれぞれ独立に、アルキル基、シクロアルキル基、又はフェニル基である。
アルキル基の炭素数は比較的短いものが好ましい。具体的には、通常炭素数１〜１５、好ましくは１〜１０、特に好ましくは１〜５であり、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等が挙げられる。
シクロアルキル基の炭素数としては、通常炭素数３〜１０、好ましくは５〜８であり、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボニル基等が挙げられる。
【０１１６】
また、上記アルキル基、シクロアルキル基、フェニル基は置換基を有するものであってもよい。置換基としては、通常、ハロゲン原子、水酸基、アルコキシ基、アミノ基、メルカプト基、スルファニル基、ビニル基、アクリロキシ基、メタクリロキシ基、アリール基、ヘテロアリール基等が挙げられる。なお、かかる置換基が炭素原子を有する場合には、該炭素原子は上記Ｒ2の説明中で規定している炭素数には含めないものとする。
【０１１７】
一般式（３）中のａは１以上の整数であり、好ましくは５〜２００、特に好ましくは５〜１２０の整数である。ｂは１〜３の整数であり、好ましくは１〜２の整数である。
【０１１８】
ポリシロキサン系化合物（ｑ１）の重量平均分子量としては、通常１００〜５０，０００であることが好ましく、特には５００〜１０，０００、更には１，０００〜１０，０００であることが好ましい。かかる重量平均分子量が低すぎると爪化粧膜表面のタックが強くなる傾向があり、高すぎると透明性が低下する傾向がある。
【０１１９】
ポリシロキサン系化合物（ｑ１）の具体例としては、信越化学工業社製の「Ｘ−２２−１６０ＡＳ」、「ＫＦ−６００１」、「ＫＦ−６００２」、「ＫＦ−６００３」、ＪＮＣ社製の「サイラプレーンＦＭ−４４１１」、「サイラプレーンＦＭ−４４２１」、「サイラプレーンＦＭ−４４２５」、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン社製の「ＸＦ４２−Ｂ０９７０」、東レ・ダウコーニング社製の「ＢＹ  １６−００４」、「ＳＦ  ８４２７」、東亞合成社製の「マクロモノマーＨＫ−２０」、ＧＥＬＥＳＴ社製の「ＤＭＳ−Ｃ２１」、「ＤＭＳ−Ｃ２３」、「ＤＢＬ−Ｃ３１」、「ＤＭＳ−ＣＡ２１」等の商品が挙げられる。
【０１２０】
ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）としては、例えば、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ１−１）に関する説明の中で、ポリイソシアネート系化合物（ｐ２）として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１２１】
水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）としては、例えば、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ１−１）に関する説明の中で、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｐ３）として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１２２】
更に、本発明の効果を損なわない範囲で、ポリオール系化合物（ｑ４）を用いてもよく、例えば、上記ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ１−１）に関する説明の中でポリオール系化合物（ｐ４）として例示したものと同様のものが挙げられる。
【０１２３】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）は、２個以上のエチレン性不飽和基を有するものであることが好ましく、爪化粧膜の硬度の点で４個以上のエチレン性不飽和基を有するものであることが特に好ましく、更には６個以上のエチレン性不飽和基を有するものであることが好ましい。
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）が含有するエチレン性不飽和基の上限は通常３０個であり、好ましくは２５個以下である。
【０１２４】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）の製造方法としては、特に限定されるものではなく、例えば、
（イ）：ポリシロキサン系化合物（ｑ１）、ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｑ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｑ２））、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）を一括に仕込み反応させる方法、
（ロ）：ポリシロキサン系化合物（ｑ１）とポリイソシアネート系化合物（ｑ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｑ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｑ２））を反応させた後、水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）を反応させる方法、
（ハ）：ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｑ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｑ２））と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）を反応させた後、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）を反応させる方法、
（ニ）：ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）（必要に応じて、予め、ポリオール系化合物（ｑ４）と反応させたポリイソシアネート系化合物（ｑ２））と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）の一部を反応させた後、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）を反応させ、さらに残りの水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）を反応させる方法、
等が挙げられるが、これらのなかでも（ロ）又は（ニ）の方法が好ましく、反応制御の安定性や相溶性の点で、特に好ましくは（二）の方法である。
【０１２５】
なお、予めポリオール系化合物（ｑ４）とポリイソシアネート系化合物（ｑ２）を反応させる場合には、例えば、公知一般のウレタン系ポリオールの製造例に従えばよい。
【０１２６】
かかる（ロ）の方法にあたっては、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）の水酸基と多価イソシアネート系化合物（ｑ２）のイソシアネート基を、イソシアネート基を残存させる条件下で反応させた後、次いでポリイソシアネート系化合物（ｑ２）の該残存イソシアネート基と上記水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）の水酸基を反応させるのである。
【０１２７】
ポリシロキサン系化合物（ｑ１）とポリイソシアネート系化合物（ｑ２）との反応モル比は、例えば、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）の水酸基が２個で、ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）のイソシアネート基が２個である場合は、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）：ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）１：１．１〜２．２程度であり、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）の水酸基が２個で、ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）のイソシアネート基が３個である場合は、ポリシロキサン系化合物（ｑ１）：ポリイソシアネート系化合物（ｑ２）１：０．５〜２．２程度であればよい。
【０１２８】
この反応性生物と水酸基含有（メタ）アクリレート系化合物（ｑ３）との付加反応においては、反応系の残存イソシアネート基が０．５重量％以下になる時点で反応を終了させることにより、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）が得られる。
【０１２９】
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）１００重量部中に含まれるポリシロキサン系化合物（ｑ１）に由来する構造部分の重量は、上記モル比の範囲内で０．１〜８０重量部であることが好ましい。
【０１３０】
上記反応においては、反応を促進する目的で触媒を用いることも好ましく、かかる触媒としては、上記と同様のものが挙げられる。
【０１３１】
上記反応においては、イソシアネート基に対して反応する官能基を有しない有機溶剤、例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、トルエン、キシレン等の芳香族類等の有機溶剤を用いることができる。
【０１３２】
上記反応の反応温度は、通常３０〜１００℃、好ましくは４０〜９０℃であり、反応時間は、通常２〜１０時間、好ましくは３〜８時間である。
【０１３３】
かくして得られるウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）の重量平均分子量としては、通常５００〜５０，０００であることが好ましく、更には５００〜３０，０００であることが好ましい。かかる重量平均分子量が小さすぎると爪化粧膜表面のタックが強くなる傾向があり、大きすぎると透明性が低下する傾向がある。
【０１３４】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）の４０％メチルイソブチルケトン溶液の２０℃における粘度は、５〜５，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましく、特には１０〜２，５００ｍＰａ・ｓ、更には１５〜１，０００ｍＰａ・ｓであることが好ましい。かかる粘度が上記範囲内であることにより、塗布性が向上する傾向がある。
尚、粘度の測定法はＢ型粘度計による。
【０１３５】
上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）は、１種のみを単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１３６】
ポリシロキサン構造含有ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１）としては、上記ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）及び／又はウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）を用いることが好ましいが、未反応のポリシロキサン系化合物が残存しにくい点で、ウレタン（メタ）アクリレート（Ｃ１−２）を用いることが特に好ましい。
【０１３７】
また、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）および（Ｃ１−２）を併用する場合には、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−１）とウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｃ１−２）の配合割合（重量比）は、好ましくは（Ｃ１−１）／（Ｃ１−２）＝５／９５〜９５／５、特に好ましくは（Ｃ１−１）／（Ｃ１−２）＝２０／８０〜８０／２０である。
【０１３８】
ポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）は、（Ｃ）全体に対するケイ素原子含有量が０．１〜８０重量％であることが好ましく、特に好ましくは０．３〜６０重量％、更に好ましくは０．５〜３０重量％である。
かかるケイ素原子含有量が多すぎると他の成分との相溶性が低下する傾向があり、少なすぎると爪化粧膜表面のタック改善のために必要とする配合量が多くなり、爪化粧膜の物性バランスを取り難くなる傾向がある。
【０１３９】
ポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）の含有量が、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）（ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）を配合する場合は（Ａ）と（Ｂ）の合計）１００重量部に対して、０．０１〜１００重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．１〜７５重量部、更に好ましくは１〜５０重量部である。かかる含有量が多すぎると相溶性が低下する傾向があり、少なすぎると爪化粧膜表面のタックが改善されにくい傾向がある。
【０１４０】
かくして本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）を含有することが好ましく、更には、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）及びウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）を含有してなるものが好ましく、特には、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）、ポリシロキサン構造含有化合物（Ｃ）を含有してなるものが好ましい。
【０１４１】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物には、必要に応じて、公知の光重合開始剤、上記（Ａ）〜（Ｃ）以外のエチレン性不飽和モノマー及びエチレン性不飽和オリゴマー、アクリル樹脂、表面調整剤、レベリング剤、重合禁止剤等を配合することができ、更には油、酸化防止剤、難燃剤、帯電防止剤、充填剤、安定剤、補強剤、艶消し剤、研削剤、有機微粒子、無機粒子、無機系着色顔料、有機系着色顔料、有機色素、パール顔料、ラメ色剤などの着色剤、変色防止剤、蛍光剤、増白剤、紫外線吸収剤、抗菌剤、有機溶媒等を配合することも可能である。
【０１４２】
上記光重合開始剤としては、例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］−フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−２−モルホリノ（４−チオメチルフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノンオリゴマー等のアセトフェノン類；ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル等のベンゾイン類；ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４′−メチル−ジフェニルサルファイド、３，３′，４，４′−テトラ（ｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシ）エチル］ベンゼンメタナミニウムブロミド、（４−ベンゾイルベンジル）トリメチルアンモニウムクロリド等のベンゾフェノン類；２−イソプロピルチオキサントン、４−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−（３−ジメチルアミノ−２−ヒドロキシ）−３，４−ジメチル−９Ｈ−チオキサントン−９−オンメソクロリド等のチオキサントン類；２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチル−ペンチルフォスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルフォスフィンオキサイド等のアシルフォスフォンオキサイド類；等があげられる。なお、これら光重合開始剤は、１種のみが用いられてもよいし、２種以上が併用されてもよい。
【０１４３】
また、これらの助剤として、例えば、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン、４，４′−ジメチルアミノベンゾフェノン（ミヒラーケトン）、４，４′−ジエチルアミノベンゾフェノン、２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸（ｎ−ブトキシ）エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、４−ジメチルアミノ安息香酸２−エチルヘキシル、２，４−ジエチルチオキサンソン、２，４−ジイソプロピルチオキサンソン等を併用することも可能である。
【０１４４】
これらの中でも、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ベンゾインイソプロピルエーテル、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オンを用いることが好ましい。
【０１４５】
光重合開始剤の含有量としては、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）（更にウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）を配合する場合は、（Ａ）と（Ｂ）の合計）１００重量部に対して、０．１〜２０重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．５〜１０重量部、さらに好ましくは１〜１０重量部である。光重合開始剤の含有量が少なすぎると、硬化不良となり膜形成がなされにくい傾向があり、多すぎると爪化粧膜の黄変の原因となり、着色の問題が起こりやすい傾向がある。
【０１４６】
上記（Ａ）〜（Ｃ）以外のエチレン性不飽和モノマー及びエチレン性不飽和オリゴマーとしては、単官能モノマー、２官能モノマー、３官能以上のモノマー、エポキシ（メタ）アクリレート系化合物、ポリエステル（メタ）アクリレート系化合物等のオリゴマーが挙げられる。
【０１４７】
かかる単官能モノマーとしては、例えば、スチレン、ビニルトルエン、クロロスチレン、α−メチルスチレン等のスチレン系モノマー、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、アクリロニトリル、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、２−フェノキシ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリルレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン−４−イル）−メチル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンスピロ−２−（１，３−ジオキソラン−４−イル）−メチル（メタ）アクリレート、環状トリメチロールプロパンホルマールアクリレート、３−エチル−３−オキセタニルメチル（メタ）アクリレート、γ−ブチロラクトン（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、イソデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、ｎ−ステアリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノールエチレンオキサイド変性（ｎ＝２）（メタ）アクリレート、ノニルフェノールプロピレンオキサイド変性（ｎ＝２．５）（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−２−ヒドロキシプロピルフタレート等のフタル酸誘導体のハーフ（メタ）アクリレート、フルフリル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、カルビトール（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルフォリン、ポリオキシエチレン第２級アルキルエーテルアクリレート等の（メタ）アクリレート系モノマー、２−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ビニルピリジン、酢酸ビニル等が挙げられる。
【０１４８】
かかる２官能モノマーとしては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性ビスフェノールＡ型ジ（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、エトキシ化シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、ジメチロールジシクロペンタンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジグリシジルエーテルジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジグリシジルエステルジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸変性ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性ジアクリレート等が挙げられる。
【０１４９】
かかる３官能以上のモノマーとしては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリ（メタ）アクリロイルオキシエトキシトリメチロールプロパン、グリセリンポリグリシジルエーテルポリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸エチレンオキサイド変性トリアクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、エトキシ化グリセリントリアクリレート等が挙げられる。
【０１５０】
また、アクリル酸のマイケル付加物あるいは２−アクリロイルオキシエチルジカルボン酸モノエステルも併用可能であり、かかるアクリル酸のミカエル付加物としては、アクリル酸ダイマー、メタクリル酸ダイマー、アクリル酸トリマー、メタクリル酸トリマー、アクリル酸テトラマー、メタクリル酸テトラマー等が挙げられる。
【０１５１】
上記２−アクリロイルオキシエチルジカルボン酸モノエステルとしては、特定の置換基をもつカルボン酸であり、例えば２−アクリロイルオキシエチルコハク酸モノエステル、２−メタクリロイルオキシエチルコハク酸モノエステル、２−アクリロイルオキシエチルフタル酸モノエステル、２−メタクリロイルオキシエチルフタル酸モノエステル、２−アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸モノエステル、２−メタクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタル酸モノエステル等が挙げられる。更に、その他オリゴエステルアクリレートも挙げられる。
【０１５２】
上記表面調整剤としては、例えば、セルロース樹脂やアルキッド樹脂等を挙げることができる。かかる、セルロース樹脂は、塗膜の表面平滑性を向上させる作用があり、アルキッド樹脂は、塗布時の造膜性を付与する作用を有する。
【０１５３】
上記レベリング剤としては、塗液の基材への濡れ性付与作用、表面張力の低下作用を有するものであれば、公知一般のレベリング剤を用いることができ、例えば、シリコーン変性樹脂、フッ素変性樹脂、アルキル変性樹脂等を用いることができる。
【０１５４】
上記重合禁止剤としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、ナフトキノン、トルキノン、２，５−ジフェニル−ｐ−ベンゾキノン、ハイドロキノン、２，５−ジ−ｔ−ブチルハイドロキノン、メチルハイドロキノン、ハイドロキノンモノメチルエーテル、モノ−ｔ−ブチルハイドロキノン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール等を挙げることができる。
【０１５５】
また、本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、必要に応じて、塗布時の粘度を適正なものにするために、希釈のための有機溶剤を使用することも好ましい。かかる有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール等のアルコール類、アセトン、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類、エチルセロソルブ等のセロソルブ類、トルエン、キシレン等の芳香族類、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のグリコールエーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の酢酸エステル類、ジアセトンアルコール等が挙げられる。これら上記の有機溶剤は、単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【０１５６】
上記２種以上を併用する場合は、グリコールエーテル類、ケトン類、アルコール類の中から２種以上を選択して組み合わせることが爪化粧膜の外観の点で好ましい。
【０１５７】
なお、本発明の爪化粧用光硬化性組成物を製造するにあたり、上記各成分（Ａ）〜（Ｃ）およびその他成分の混合方法については、特に限定されるものではなく、種々の方法により混合することができる。
【０１５８】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、手や足の爪を装飾し化粧する爪化粧膜形成用の光硬化性組成物として有効に用いられるものであり、光硬化性組成物を爪に塗布し、場合によって任意の意匠を施し、光を照射することにより硬化される。かかる光硬化性組成物は、爪化粧用下地剤、爪化粧用カラーリング剤、爪化粧用トップコート剤のいずれにも用いることが可能である。
特に本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、爪化粧膜に傷が入った場合であっても爪化粧膜の復元性によって傷が自己修復するため、爪化粧用トップコート剤として用いることが好ましい。
【０１５９】
爪化粧用光硬化性組成物の塗布方法としては公知の方法を用いることができ、例えば、スプレー、はけ、ブラシ、ヘラ、ローラー、スポイト等を用いるコーティング法が挙げられ、通常は常温の条件下で、爪に塗布すればよい。
【０１６０】
また、本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、上記有機溶剤を用いて、固形分濃度が、通常３〜９５重量％、好ましくは５〜９０重量％になるように希釈して、塗布することも可能である。
【０１６１】
また、本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、上記（Ａ）〜（Ｃ）以外のエチレン性不飽和モノマーを用いて、固形分濃度が、通常３〜９５重量％、好ましくは５〜９０重量％になるように希釈して、塗布することも可能である。
【０１６２】
爪に塗布された爪化粧用光硬化性組成物を硬化させる際に使用する光としては、遠紫外線、紫外線、近紫外線、赤外線等の光線、Ｘ線、γ線等の電磁波の他、電子線、プロトン線、中性子線等が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線照射による硬化が有利である。尚、電子線照射を行う場合は、光重合開始剤を用いなくても硬化し得る。
【０１６３】
紫外線照射により硬化させる際には、通常１５０〜４５０ｎｍ、好ましくは３４０〜４２０ｎｍの波長域の光を発する光源を用いる。かかる光源は公知の光源が使用可能であり、例えば高圧水銀ランプ、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ケミカルランプ、無電極放電ランプ、ＬＥＤ等が挙げられる。
また、照射条件としては通常２０〜３０００ｍＪ／ｃｍ2であり、好ましくは２００〜６００ｍＪ／ｃｍ2、さらに好ましくは２５０〜５００ｍＪ／ｃｍ2、特に好ましくは３００〜４５０ｍｍＪ／ｃｍ2である。
紫外線照射後は、必要に応じて加熱を行って硬化の完全を図ることもできる。
【０１６４】
爪化粧膜の厚み（硬化後の膜厚）としては、傷に対する自己修復性として想定する傷の深さに関連するため、傷の深さが爪化粧膜の膜厚を超えないような任意の膜厚にすればよく、通常、紫外線硬化型の爪化粧膜として光重合開始剤が均一に反応するべく光線透過を鑑みると通常３〜１０００μｍであり、好ましくは５〜５００μｍであり、特に好ましくは１０〜２００μｍである。
【０１６５】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、爪化粧膜に傷が入った場合であっても爪化粧膜の復元性によって傷が自己修復するため、爪化粧膜を全て除去して再度やり直す必要もなく、長期使用にも優れた爪化粧膜を得ることが可能となる。とりわけ爪化粧用トップコート剤として特に有用である。
【実施例】
【０１６６】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。なお、例中、「部」、「％」とあるのは、重量基準を意味する。
【０１６７】
[評価方法]
＜柔軟性評価＞
爪化粧用光硬化性組成物を、アプリケーターにて硬化膜が１００μｍ厚となるように未処理ＰＥＴフィルムに塗布し、９０℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀灯ランプ８０Ｗ、１灯を用いて、１８ｃｍの高さから３．４ｍ／ｍｉｎのコンベア速度で２パスの紫外線照射（積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、硬化膜を得、動的粘弾性測定装置を用いて下記の条件にてｔａｎδピークの測定を行った。
＜測定条件＞
装置名  DVA200
昇温速度５℃/min、周波数１Hz、動的歪0.1％、温度範囲-100〜150℃
【０１６８】
＜表面硬度評価＞
爪化粧用光硬化性組成物を、アプリケーターにて硬化膜が４０μｍ厚となるように１２５μｍ易接着ＰＥＴフィルム（東洋紡Ａ４３００）に塗布し、９０℃で５分間乾燥させた後、高圧水銀灯ランプ８０Ｗ、１灯を用いて、１８ｃｍの高さから３．４ｍ／ｍｉｎのコンベア速度で２パスの紫外線照射（積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、硬化膜を得た。上記で得られた硬化膜に対して、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４に準じて鉛筆硬度を測定した。
【０１６９】
＜自己修復性評価＞
爪化粧用光硬化性組成物を、アプリケーターにて硬化膜が４０μｍ厚となるように黒色ポリカーボネート基材（日本テストパネル株式会社製、２×７０×１５０ｍｍ）に塗布し、９０℃で５分間乾燥した後、高圧水銀灯ランプ８０Ｗ、１灯を用いて、１８ｃｍの高さから３．４ｍ／ｍｉｎのコンベア速度で２パスの紫外線照射（積算照射量８００ｍＪ／ｃｍ2）を行い、硬化膜を得た。
上記で得られた硬化膜を用い、２３℃、５０％Ｒｈの条件下で、真鍮製２桁ブラシを用い、５往復して塗膜に傷を付け、傷が目視にて確認できなくなる時間を測定し、下記評価基準で評価した。その結果を下記表１に示した。
【０１７０】
（評価基準）
Ａ：１分以内で傷が確認できなくなった
Ｂ：１分を超え１０分以内で傷が確認できなくなった
Ｃ：１０分を超えても傷が確認できた
【０１７１】
＜実施例＞
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）として、以下のものを調製した。
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）；
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、平均イソシアネート基数が４．１のヘキサメチレンジイソシアネートのビウレット型多量体（ｙ）３４２ｇ（０．４６モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレートのカプロラクトン２モル付加物（ｘ）６５８ｇ（１．９１モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル０．０２ｇ、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇを仕込み、６０℃で６時間反応させ、残存イソシアネート基が０．３％となった時点で反応を終了し、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）（重量平均分子量（Ｍｗ）３，６０
０；エチレン性不飽和基含有量１．９１ｍｍｏｌ／ｇ）を得た。
【０１７２】
上記のウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ）以外のウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ）として、以下のものを調整した。
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）；
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート３７．５ｇ（０．１７モル）、ポリテトラメチレングリコールジオール２５．５ｇ（水酸基価１６７ｍｇＫＯＨ／ｇ；水酸基価から計算される分子量６７２；０．０４モル）、ポリエステルトリオール１３．４ｇ（水酸基価２６２ｍｇＫＯＨ／ｇ；水酸基価から計算される分子量６４２；０．０２モル）、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇを仕込み、８０℃で反応させた。残存イソシアネート基が１１％以下となった時点で、２−ヒドロキシエチルアクリレート２３．６ｇ（０．２モル）、重合禁止剤としてメトキシフェノール０．０４ｇをさらに仕込み、６０℃で反応させ、残存イソシアネート基が０．３％以下となった時点で反応を終了し、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）（官能基数：２〜３、重量平均分子量：約３，５００）を得た。
【０１７３】
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ２）；
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、水添ジフェニルメタンジイソシアネート３７ｇ（０．１４モル）、ポリテトラメチレンエーテルグリコール４６．４ｇ（水酸基価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇ；水酸基価から計算される分子量６６０；０．０７モル）、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇを仕込み、６０℃で反応させた。残存イソシアネート基が１１．２％以下となった時点で、２−ヒドロキシエチルアクリレート１６．６ｇ（０．１４モル）、重合禁止剤としてメトキシフェノール０．０４ｇをさらに仕込み、６０℃で反応させ、残存イソシアネート基が０．３％以下となった時点で反応を終了し、ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ−１）（平均官能基数２、重量平均分子量は５，０００）を得た。
【０１７４】
＜実施例１＞
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）１００部、光重合開始剤（「イルガキュア１８４」、ビー・エー・エス・エフ社製）４部、酢酸エチルを固形分濃度８０％となるように配合し、爪化粧用光硬化性組成物を得た。
【０１７５】
＜実施例２＞
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）７０部、及びウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）を３０部配合し、光重合開始剤（「イルガキュア１８４」、ビー・エー・エス・エフ社製）４部、酢酸エチルを固形分濃度８０％となるように配合し、爪化粧用光硬化性組成物を得た。
【０１７６】
＜比較例１＞
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ１）を１００部用い、光重合開始剤（「イルガキュア１８４」、ビー・エー・エス・エフ社製）４部、酢酸エチルを固形分濃度８０％となるように配合し、爪化粧用光硬化性組成物を得た。
【０１７７】
＜比較例２＞
ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ｂ２）を１００部用い、光重合開始剤（「イルガキュア１８４」、ビー・エー・エス・エフ社製）４部、酢酸エチルを固形分濃度８０％となるように配合し、爪化粧用光硬化性組成物を得た。
【０１７８】
実施例および比較例について上記評価を行った。結果を表１に示す。
【０１７９】
【表１】
2016179966.tif 000006
【０１８０】
上記評価結果より、本発明の爪化粧用光硬化性組成物から得られる硬化膜は、柔軟性、表面硬度、復元性に優れることがわかる。これらの評価は全て合成樹脂フィルムを基材としているが、これらの評価は全て硬化膜の表面特性を評価するものであり、爪を基材とした場合であっても同様の評価が得られるものである。従って、本発明の爪化粧用光硬化性組成物を爪に適用した場合、爪化粧料として有用であることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１８１】
本発明の爪化粧用光硬化性組成物は、爪に塗布して硬化し硬化膜とすることにより、爪化粧膜に傷が入った場合であっても爪化粧膜の復元性によって傷が自己修復する爪化粧膜が得られるため、爪化粧膜を全て除去して爪化粧を再度やり直す必要もなく、長期使用にも優れた爪化粧膜を得ることが可能となる。したがって、爪化粧料として有用であり、とりわけ爪化粧用トップコート剤として有用である。