(57)【要約】      （修正有）【課題】良好なフィルム形状と導線の十分な細線化とを両立可能な透視性電極、タッチパネル及びタッチ位置検出機能付き表示装置を提供する。【解決手段】透視性電極３１は、透明基材３３と、透明基材の表面に設けられたアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂと、を含む基材フィルム３２と、基材フィルム上に設けられた複数の導電パターンと、を備えている。導電パターンは、遮光性を有する導線５１であって、各導線の間に開口部が形成されるように網目状に配置された導線から構成されている。アクリル系樹脂層の表面の二乗平均平方根粗さＲｑは、５ｎｍ〜４５ｎｍである。【選択図】図５Ｅ
2016191965.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、前記透明基材の表面に設けられたアクリル系樹脂層と、を含む基材フィルムと、
前記基材フィルム上に設けられた複数の導電パターンと、
を備え、
前記導電パターンは、遮光性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるように網目状に配置された導線から構成されており、
前記アクリル系樹脂層の表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍ〜４５ｎｍである、透視性電極。
【請求項２】
前記アクリル系樹脂層の表面の５４３μｍ□の領域に含まれる隆起部の体積の総和は、６．０×１０１１ｎｍ３〜４．０×１０１２ｎｍ３である、請求項１に記載の透視性電極。
【請求項３】
前記アクリル系樹脂層の表面の最大高さ粗さＲｚが１００ｎｍ〜８００ｎｍである、請求項２に記載の透視性電極。
【請求項４】
前記基材フィルムのヘーズが１％以下である、請求項１〜３のいずれかに記載の透視性電極。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の透視性電極を備えたタッチパネル。
【請求項６】
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置された、請求項５に記載のタッチパネルと、
を備えたタッチ位置検出機能付き表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透視性電極に関する。また本発明は、透視性電極を備えたタッチパネルに関する。また本発明は、タッチパネルと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
今日、入力手段として、タッチパネル装置が広く用いられている。タッチパネル装置は、タッチパネル、タッチパネル上への接触位置を検出する制御回路、配線、およびＦＰＣ（フレキシブルプリント基板）を備えている。タッチパネル装置は、多くの場合、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイ等の表示装置が組み込まれた様々の装置等（例えば、券売機、ＡＴＭ装置、携帯電話、ゲーム機）に対する入力手段として、表示装置とともに用いられている。このような装置においては、タッチパネルが表示装置の表示面上に配置されており、これによって、表示装置に対する極めて直接的な入力、特に表示画像の位置座標及び該位置座標と対応付けられた情報の入力が可能になっている。タッチパネルのうち表示装置の表示領域に対面する領域は透明になっており、タッチパネルのこの領域が、接触位置（或いは接近位置）を検出し得るアクティブエリアを構成するようになる。
【０００３】
タッチパネルとして、投影型容量結合方式のタッチパネルが知られている。容量結合方式のタッチパネルにおいては、位置を検知されるべき外部導体（典型的には、指）が誘電体を介してタッチパネルに接触（或いは接近）する際、新たに寄生容量が発生する。この寄生容量に起因する静電容量の変化に基づいて、タッチパネル上における外部導体の位置が検出される。このような投影型容量結合方式のタッチパネルは例えば、ＰＥＴフィルムなどの透明基材と、透明基材上に設けられた複数の導電パターンと、を備えた透視性電極を含んでいる。導電パターンは、例えば、透光性および導電性を有するＩＴＯ（酸化インジウム錫）からなる透明導電材料から構成される。
【０００４】
また、導電パターンの電気抵抗値を低くし、これによってタッチ位置の検出精度を向上させるため、導電パターンを構成する材料として、透明導電材料よりも高い導電性を有する銀や銅などの金属材料を用いることが提案されている（例えば、特許文献１参照）。但し、これら金属材料は不透明の為、導電パターンが金属材料から構成される場合、導電パターンには、表示装置からの映像光を適切な比率で透過させるための開口部が形成されている。例えば導電パターンは、網目状に配置された導線によって構成されている。
【０００５】
ところで、銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が導線として用いられると、表示装置からの映像光の視認性が、導線の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置からの映像光の視認性がより妨げられることになる。このような銅特有の金属光沢を和らげるため、例えば上述の特許文献１においては、金属層の面上に、窒化銅からなる低反射層を設けることにより、導線の金属光沢を軽減することが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１３−１６９７１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
タッチパネルに用いる透視性電極などの可撓性を有する配線基板を製造する方法として、ロール・トゥー・ロール方式で供給され搬送されている長尺状の樹脂基材上に上述の低反射層や金属層を形成して長尺状の配線基板を作製し、そして配線基板をロール状に巻き取る、という方法が考えられる。尚、此処で、「ロール・トゥー・ロール（ｒｏｌｌ  ｔｏ  ｒｏｌｌ）方式」とは、長尺帯状の可撓性基板を巻取（ロール）から巻き出し搬送して供給し、所定の加工を施した後、巻取（ロール）形態に巻き取る加工方式を言う。
【０００８】
このようなロール・トゥー・ロール方式では、ガイドローラと基材との間の滑り性を向上させ、又配線基板の擦り傷を防止するために、表面にハードコート層としてアクリル系樹脂層が形成された基材フィルムが用いられる。該アクリル系樹脂としては、紫外線硬化型アクリル樹脂の硬化物が代表的なものである。該アクリル樹脂中にフィラー（充填剤）として微粒子を添加して、フィルム表面に微小な凹凸を形成することで、基材フィルムとガイドローラとの間の摩擦を低減させる。
【０００９】
ところで、本件発明者らは、線幅が２μｍ以下となる細線化された導線を作製することを課題として鋭意研究を重ねたところ、以下の知見を得るに至った。すなわち、フィルム表面の表面粗さが大きいと、表面の凸部上に位置するレジストパターンがガイドローラとの摩擦により傷つきやすくなり、金属層のエッチング時にその傷からエッチング液が染み込むことで導線のパターンが浸食され、著しい場合には導線が断線してしまう可能性がある。一方、フィルム表面の表面粗さが小さいと、真空雰囲気中において基材フィルムがガイドローラに貼り付きやすくなり、基材フィルムとガイドローラとの間に十分な滑り性が得られないため、基材フィルムの形状に熱によるシワが発生する。
【００１０】
本発明は、このような点を考慮してなされたものである。本発明の目的は、良好なフィルム形状と導線の十分な細線化とを両立可能な透視性電極、タッチパネル、およびタッチ位置検出機能付き表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明による透視性電極は、
透明基材と、前記透明基材の表面に設けられたアクリル系樹脂層と、を含む基材フィルムと、
前記基材フィルム上に設けられた複数の導電パターンと、
を備え、
前記導電パターンは、遮光性を有する導線であって、各導線の間に開口部が形成されるように網目状に配置された導線から構成されており、
前記アクリル系樹脂層の表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍ〜４５ｎｍである。
【００１２】
本発明による透視性電極において、前記アクリル系樹脂層の表面の５４３μｍ□の領域に含まれる隆起部の体積の総和は、６．０×１０１１ｎｍ３〜４．０×１０１２ｎｍ３であってもよい。
【００１３】
本発明による透視性電極において、前記アクリル系樹脂層の表面の最大高さ粗さＲｚが１００ｎｍ〜８００ｎｍであってもよい。
【００１４】
本発明による透視性電極において、前記基材フィルムのヘーズが１％以下であってもよい。
【００１５】
本発明によるタッチパネルは、上述した本発明による透視性電極のいずれかを備える。
【００１６】
本発明による表示装置は、
表示装置と、
前記表示装置の表示面上に配置された、上述した本発明によるタッチパネルと、
を備える。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、良好なフィルム形状と導線の十分な細線化とを両立することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明の第１の実施の形態において、透視性電極を示す平面図である。
【図２Ａ】図２Ａは、図１において符号ＩＩが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターンを拡大して示す平面図である。
【図２Ｂ】図２Ｂは、導電パターンの一変形例を拡大して示す平面図である。
【図３】図３は、透視性電極を図２ＡのＩＩＩ線に沿って切断した場合を示す断面図である。
【図４】図４は、図３に示す透明基材および導線を拡大して示す断面図である。
【図５Ａ】図５Ａは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図５Ｂ】図５Ｂは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図５Ｃ】図５Ｃは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図５Ｄ】図５Ｄは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図５Ｅ】図５Ｅは、透視性電極の製造方法を説明するための図である。
【図６】図６は、本発明の第３の実施の形態において、タッチ位置検出機能付き表示装置を示す展開図である。
【図７】図７は、図６のタッチ位置検出機能付き表示装置におけるタッチパネルを示す平面図である。
【図８】図８は、図７において符号ＸＶＩが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターンを拡大して示す平面図である。
【図９】図９は、タッチパネルを図８のＸＶＩＩ線に沿って切断した場合を示す断面図である。
【図１０】図１０は、図１０に示すタッチパネルの一部を拡大して示す断面図である。
【図１１】図１１は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルの一変形例を示す断面図である。
【図１２】図１２は、本発明の第２の実施の形態におけるタッチパネルの一変形例を示す断面図である。
【図１３】図１３は、表示装置側に配置される導線の断面形状の一変形例を示す図である。
【図１４】図１４は、本発明の第３の実施の形態における透視性電極を示す断面図である。
【図１５】図１５は、図１４に示す透視性電極の一部を拡大して示す断面図である。
【図１６】図１６は、「アクリル系樹脂層の厚み」および「隆起部の体積」を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に、添付の図面を参照して、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本明細書に添付する図面においては、図示の理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００２０】
＜第１の実施の形態＞
以下、図１〜図５Ｅを参照して、本発明の第１の実施の形態について説明する。
【００２１】
まず、図１を参照して、本実施の形態における透視性電極３１について説明する。図１は、観察者側から見た場合の透視性電極３１を示す平面図である。
【００２２】
ここでは、透視性電極３１が、投影型の静電容量結合方式のタッチパネル用に構成される例について説明する。なお、「容量結合」方式は、タッチパネルの技術分野において「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等とも呼ばれており、本明細書では、これらの「静電容量」方式や「静電容量結合」方式等と同義の用語として取り扱う。典型的な静電容量結合方式のタッチパネルは、導電性のパターンを有しており、外部の導体（典型的には人間の指）がタッチパネルに接近することにより、外部の導体とタッチパネルの導電性のパターンとの間でコンデンサ（静電容量）が形成される。そして、このコンデンサの形成に伴った電気的な状態の変化に基づき、タッチパネル上において外部導体が接近している位置の位置座標が特定される。
【００２３】
図１に示すように、透視性電極３１は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２上に設けられた複数の導電パターン４１と、を備えている。図１に示すように、各導電パターン４１は長方形の輪郭線形状をなし、該長方形の長辺は図１の上下方向にそれぞれ帯状に延びている。また、複数の導電パターン４１は、各導電パターン４１が延びる方向に直交する方向において、一定の配列ピッチで並べられている。導電パターン４１の配列ピッチは、タッチ位置の検出に関して求められる分解能に応じて定められるが、例えば数ｍｍである。
【００２４】
図１に示すように、透視性電極３１の基材フィルム３２は、タッチ位置を検出され得る領域に対応する矩形状のアクティブエリアＡａ１と、アクティブエリアＡａ１の周辺に位置する矩形枠状の非アクティブエリアＡａ２と、を含んでいる。アクティブエリアＡａ１および非アクティブエリアＡａ２は、それぞれ、後述するタッチ位置検出機能付き表示装置１０の表示装置のアクティブエリアおよび非アクティブエリアに対応して区画されたものである。
【００２５】
上述の導電パターン４１は、アクティブエリアＡａ１内に配置されている。また非アクティブエリアＡａ２には、各導電パターン４１に電気的に接続された複数の額縁配線４３と、基材フィルム３２の外縁近傍に配置され、各額縁配線４３に電気的に接続された複数の端子部４４と、が設けられている。
【００２６】
導電パターン４１に接続されている額縁配線４３および端子部４４は、導電パターン４１からの信号を透視性電極３１の外部に取り出すために設けられたものである。信号を適切に伝達することができる限りにおいて、額縁配線４３および端子部４４の具体的な構成が特に限られることはない。例えば額縁配線４３および端子部４４は、後述する導線５１と同一の層構成で導線５１と同時に形成されるものであってもよい。
【００２７】
次に、図２Ａを参照して、導電パターン４１のパターン形状について説明する。図２Ａは、図１において符号ＩＩが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターン４１を示す平面図である。図２Ａに示すように、導電パターン４１は、遮光性および導電性を有する導線５１であって、各導線５１の間に開口部５１ａが形成されるように網目状に配置された導線５１から構成されている。
【００２８】
導電パターン４１全体の面積のうち開口部５１ａによって占められる面積の比率（以下、開口率と称する）が十分に高くなり、これによって、表示装置からの映像光が適切な透過率で透視性電極３１のアクティブエリアＡａ１を透過することができる限りにおいて、導線５１の寸法や形状が特に限られることはない。例えば図２Ａに示す例において、導電パターン４１は、矩形状に形成された導線５１を所定の方向に沿って並べることによって構成されている。開口率は、表示装置から放出される映像光の特性などに応じて適宜設定される。
【００２９】
導線５１の線幅は、求められる開口率、導電パターンの不可視性などに応じて設定されるが、例えば導線５１の線幅は１μｍ〜５μｍの範囲内、より好ましくは１μｍ〜３μｍの範囲内、さらに好ましくは２μｍ以下に設定されている。また、互いに平行に延びる各導線５１の配列ピッチＰ１も、求められる開口率などに応じて設定される。これによって、観察者が視認する映像に対して導線５１が及ぼす影響を、無視可能な程度まで低くすること、即ち十分な不可視性を得ることができる。
【００３０】
なお図２Ａにおいては、導電パターン４１が、開口部形状が矩形状に形成された導線５１を所定の方向に沿って並べることによって構成されている例を示したが、これに限られることはない。例えば図２Ｂに示すように、導電パターン４１は、開口部形状が菱形状に形成された導線５１を所定の方向に沿って並べることによって構成されていてもよい。又、本実施形態に於いては、図２Ａ及び図２Ｂに示す如く導電パターン４１の開口部５１ａは導電パターン４１の延びる方向と直交方向（同図の左右方向）の配列個数が２個となっているが、本発明に於ける該配列個数は２個にのみ限定されるわけでは無く、タッチパネルの位置検知の分解能、感度、導電パターン不可視性等に応じて適宜個数に設計される。
【００３１】
次に、図３および図４を参照して、透視性電極３１の層構成について説明する。図３は、透視性電極３１を図２ＡのＩＩＩ線に沿って切断した場合を示す断面図であり、図４は、図３に示す基材フィルム３２および導線５１を拡大して示す断面図である。
【００３２】
図３に示すように、透視性電極３１は、透明な基材フィルム３２と、基材フィルム３２の面上に設けられた導線５１から成る導電パターン４１と、を含んでいる。なお、本明細書において「透明」とは、光透過率が十分に高く、その向こう側が透けて見える性質を意味する。具体的には、例えば可視光透過率が５０％以上、より好ましくは８０％以上、更に好ましくは９０％以上である。また、基材フィルム３２は、ヘーズが小さいことが好ましい。具体的には、例えばヘーズが１％以下、より好ましくは０．５％以下である。なお、全光線透過率はＪＩＳ  Ｋ７３６１−１：１９９７に準拠して測定され、ヘーズはＪＩＳ  Ｋ７１３６：２０００に準拠して測定される。
【００３３】
基材フィルム３２は、上述の導電パターン４１や額縁配線４３などのパターンや配線を支持するためのものである。この基材フィルム３２は、図４の如く表示装置からの映像光を透過させることができる透明基材３３と、透明基材３３と導電パターン４１の導線５１との間に設けられたアクリル系樹脂層３４ａと、を含んでいる。また基材フィルム３２は、透明基材３３のうち導線５１に向かい合う側とは反対の側に設けられたアクリル系樹脂層３４ｂをさらに含んでいてもよい。
【００３４】
透明基材３３を構成する材料としては、透明性および可撓性を有する材料が用いられ、例えば合成樹脂（プラスチック）が用いられる。合成樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、ポリプロピレン（ＰＰ）、シクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）等のポリオレフィン樹脂、ポリカーボネート（ＰＣ）樹脂、またはトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）などのセルロース系樹脂等の可撓性及び透明性を有する樹脂が用いられる。基材フィルムの厚みは５０μｍ〜２００μｍ程度とする。
【００３５】
アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂは、ロール・トゥー・ロール方式で透視性電極３１を製造する際のガイドローラとの摩擦により生じ得る擦り傷などに対する耐擦傷性を高めるという機能や、透視性電極３１の透過率や反射率などの光学特性を調整するという機能を実現するために設けられる層である。
【００３６】
アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを構成する材料としては、アクリル樹脂が用いられる。該アクリル樹脂としては、十分な耐擦傷性と透明性を有する物が好ましく、これら条件を満たす代表的なものとして、電離放射線照射による架橋反応乃至は重合反応で硬化する電離放射線型アクリル樹脂が挙げられる。斯かる電離放射線硬化型アクリル樹脂としては、分子中に（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性官能基を有する（メタ）アクリレートプレポリマー又は（メタ）アクリレート単量体が用いられる。該（メタ）アクリレートプレポリマーとしては、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート等のプレポリマーが挙げられる。又、該（メタ）アクリレート単量体としてはエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）メタクリレート単量体等が挙げられる。（此処で、「（メタ）アクリロイル基」、「（メタ）アクリレート」等の表記は、各々「アクリロイル基又はメタクリロイル基」、「アクリレート又はメタクリレート」を意味する。）これらプレポリマー及び単量体は、耐擦傷性、可撓性、塗工適性等の要求性能に応じて、適宜、上記プレポリマーを１種類単独又は２種類以上混合して、上記単量体を１種類単独又は２種類以上混合して、或いは上記プレポリマー１種類以上と上記単量体１種類以上とを混合して用いられる。又、電離放射線として紫外線又は可視光線を使用する場合には、これらプレポリマー及び単量体１００質量部に対して、ベンゾトリアゾール系化合物、ベンゾフェノン系化合物等の光開始剤を０．１質量部〜５質量部程度添加する。
【００３７】
又、フィルム表面に微小な凹凸を形成して、基材フィルム３２とガイドローラとの間の摩擦を低減させるために、該アクリル樹脂中にフィラー（充填剤）として微粒子を添加する。該微粒子としては、シリカ（酸化珪素）、アルミナ（酸化アルミニウム）、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等からなる無機物粒子、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、珪素樹脂、弗素樹脂、メラミン樹脂等の有機物粒子からなるものが使用できる。スチレンアクリル系樹脂の有機物粒子からなるものを使用すれば、該微粒子とアクリル樹脂との屈折率を合わせてヘーズを低減させることができるため、より好ましい。電離放射線としては、紫外線、可視光線、Ｘ線等の電磁波、電子線、アルファ線等の荷電粒子線が用い得る。尚、本実施形態に於いては、アクリレートプレポリマー、アクリレート単量体、及びベンゾトリアゾール系光開始剤からなる紫外線硬化型アクリル樹脂組成物の硬化物を用いた。
【００３８】
アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑは５ｎｍ〜４５ｎｍであり、より好ましくは１３ｎｍ〜４０ｎｍ、更に好ましくは２４ｎｍ〜４０ｎｍである。尚、本発明の効果（良好なフィルム形状と導線の十分な細線化との両立）を奏する為には、Ｒｑの値が上記範囲に在ることが必要である。また、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の５４３μｍ□の領域に含まれる隆起部の体積の総和は、６．０×１０１１ｎｍ３〜４．０×１０１２ｎｍ３であることが好ましい。更に、最大高さ粗さＲｚは１００ｎｍ〜８００ｎｍであることがより好ましい。尚、此処で、「５４３μｍ□の領域」とは１辺の長さが５４３μｍの正方形領域を意味する。このようなアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面性状は、アクリル樹脂中にフィラーとして添加する微粒子の粒径および添加量を調整することにより実現され得る。例えば、該微粒子の粒径は０．５μｍ〜１．３μｍ程度とすることが出来る。この場合、図１６を参照して、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの厚みＴ（すなわち、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂのうち微粒子Ｐが含まれない領域の厚み）は、乾燥硬化状態で０．３μｍ〜１μｍ程度となる。尚、本明細書において「隆起部の体積」とは、図１６において斜線で強調して示された領域のように、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面のうち「アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの厚みＴ」により規定される高さより上に隆起している部分の体積を言う。又、該微粒子の添加量は、該アクリル系樹脂層組成物中に０．１質量％〜３０質量％程度とすることが出来る。
【００３９】
ところで、発明が解決しようとする課題の欄でも言及したように、基材フィルム３２の表面粗さが大きいと、表面の凸部上に位置するレジストパターンがガイドローラとの摩擦により傷つきやすくなり、エッチング時にその傷からエッチング液が染み込むことで導線５１のパターンが浸食され、著しい場合には導線５１が断線してしまう可能性がある。一方、基材フィルム３２の表面粗さが小さいと、真空雰囲気中において基材フィルム３２がガイドローラに貼り付きやすくなり、基材フィルム３２とガイドローラとの間に十分な滑り性が得られないため、基材フィルム３２の形状に熱によるシワが発生する。
【００４０】
本件発明者らは、このような課題を考慮して鋭意検討を重ねた結果、基材フィルム３２の表面の二乗平均平方根粗さＲｑを５ｎｍ〜４５ｎｍの範囲内とし、基材フィルム３２の表面の５４３μｍ□の領域に含まれる隆起部の体積の総和を６．０×１０１１ｎｍ３〜４．０×１０１２ｎｍ３の範囲内とすることで、基材フィルム３２に熱によるシワが発生することを抑制できるとともに、線幅が２μｍ以下となる細線化された導線を安定して作製できることを確認した。なお、二乗平均平方根粗さＲｑ及び最大高さ粗さＲｚは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２０１３の規定に準拠している。二乗平均平方根粗さＲｑ、最大高さ粗さＲｚおよび５４３μｍ□の領域に含まれる隆起部の体積の総和は、例えばザイゴ株式会社製の走査型白色干渉計を用いて測定することができる。
【００４１】
なお、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂのうち透明基材３３の観察者側に位置するアクリル系樹脂層のことを「観察者側アクリル系樹脂層」と称し、反対側に位置するアクリル系樹脂層のことを「表示装置側アクリル系樹脂層」と称することもある。なお後述するように、導線５１は、基材フィルム３２の観察者側に位置することもあれば、基材フィルム３２の表示装置側に位置することもある。従って、アクリル系樹脂層３４ａが「観察者側アクリル系樹脂層」になりアクリル系樹脂層３４ｂが「表示装置側アクリル系樹脂層」になることもあれば、アクリル系樹脂層３４ｂが「観察者側アクリル系樹脂層」になりアクリル系樹脂層３４ａが「表示装置側アクリル系樹脂層」になることもある。
【００４２】
次に、導線５１の層構成について説明する。図４に示すように、導線５１は、基材フィルム３２側から順に配置された低反射層５４、本体層５３および低反射層５５を有する導線形成層５２を含んでいる。
【００４３】
本体層５３は、導線５１における導電性を主に実現するための層である。本発明に於けるこの本体層５３は、その厚みが例えば０．２μｍ以下になるよう、より具体的には０．０２μｍ〜０．２μｍの範囲内になるよう構成されている。これによって、導線５１全体の厚みが大きくなることを抑制することができ、このことにより、導線５１の側面において外光や映像光が反射されてしまうことを抑制することができる。このため、透視性電極３１が取り付けられる表示装置における視認性を十分に確保することができる。
【００４４】
一方、本体層５３の厚みを小さくすることは、導線５１の電気抵抗値が大きくなってしまうことを導き得る。ここで本実施の形態においては、本体層５３を構成する材料として、その比抵抗が所望の値以下である金属材料を用いており、例えばその比抵抗が４．０×１０−６（Ωｍ）以下である金属材料を用いている。これによって、導線５１の電気抵抗値を十分に低くすることができる。例えば、本体層５３のシート抵抗値を０．３Ω／□以下にすることができる。本体層５３を構成するための、その比抵抗が４．０×１０−６（Ωｍ）以下である金属材料としては、本発明に於いては、例えば、金、銀、銅、白金、アルミニウム、錫等の金属を９０重量％以上含む材料（金属単体、金属合金等）を用いることが出来る。本実施形態に於いては、９９．９重量％の銅を含む材料を用いることができる。
【００４５】
ところで、銅などの金属材料は、高い導電性を有する一方で、金属光沢を示す。このため、未処理の金属材料が導線５１として用いられると、表示装置からの映像光の視認性が、導線の金属光沢によって妨げられることになる。特に銅は、銅に特有の赤味を帯びた色を示すため、銀などのその他の金属材料に比べて目立ち易く、このため表示装置からの映像光の視認性がより妨げられることになる。
【００４６】
このような銅特有の金属光沢を和らげるため、本体層５３に比べて金属光沢が抑制された薄い低反射層５４、５５が、本体層５３の両面に設けられている。以下、低反射層５４、５５について説明する。
【００４７】
本実施の形態においては、低反射層５４、５５は、窒化銅からなる黒色の色彩を呈する層である。窒化銅は、酸素原子をさらに含んでいてもよい。窒化銅としては、例えば、５〜２５アトミック％の窒素と、５〜２５アトミック％の酸素と、５０〜９０アトミック％の銅を含む銅化合物が用いられ得る。このような窒化銅を用いて構成される低反射層５４においては、その金属光沢が、本体層５３における金属光沢に比べて軽減されており、特に、銅に特有の赤味を帯びた色が軽減されており、特に銅に特有の赤味を帯びた色が低減されている。このため、導線５１からの反射光によって映像の視認性が低下することを抑制することができる。
【００４８】
また、低反射層５４、５５は、本体層５３に比べて小さな厚みを有しており、具体的には、低反射層５４、５５の厚みは、１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内になっているため、導線５１全体の厚みが大きくなることを抑制することができ、このことにより、導線５１の側面において外光や映像光が反射されてしまうことを抑制することができる。
【００４９】
また、低反射層５４、５５の厚みを１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲内に設定することによっても、導線５１における光の反射率を低くすることができる。この理由としては、限定はされないが例えば、低反射層５４、５５において生じる薄膜干渉を挙げることができる。薄膜干渉とは、低反射層５４、５５の一方の面で反射された光と、低反射層５４、５５の他方の面で反射された光とが干渉するという現象である。低反射層５４、５５の厚みを上述の１０〜６０ｎｍの範囲内に設定することにより、反射光を弱めるように薄膜干渉が生じ、これによって、導線５１における光の反射率が低減されることが考えられ得る。
【００５０】
上述のような薄い低反射層５４、５５を形成するための方法が特に限られることはなく、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、電子ビーム法などの公知の薄膜形成法を用いることができる。例えばスパッタリング法が用いられる場合、真空雰囲気中に所定の流量に制御された窒素ガスまたは窒素ガスおよび酸素ガスの両方を供給しながら、銅からなるターゲットに放電電力を印加することによって、所望の組成を有する上述の窒化銅からなる層を得ることができる。
【００５１】
次に、以上のような構成からなる透視性電極３１を製造する方法について、図５Ａ〜図５Ｅを参照して説明する。
【００５２】
はじめに、図５Ａに示すように、基材フィルム３２を準備する。基材フィルム３２は、上述のように、透明基材３３と、透明基材３３の両側の面にそれぞれ設けられたアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂと、を含んでいる。
【００５３】
基材フィルム３２を作製する方法の一例について説明すると、まず、長尺状の透明基材３３を準備し、透明基材３３の両側の面にアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂを形成する。例えば、アクリル樹脂を含む塗工液を、コーターを用いて透明基材３３上にコーティングすることにより、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを形成することができる。この際、コーターとしては、好ましくは、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂの平坦性を十分に確保することができるものが用いられ、例えばグラビアロールコーターが用いられる。なお、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを形成するための塗工液には、アクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂの平坦性を高めるためのレベリング剤が含まれていてもよい。これによって、例えば、アクリル系樹脂層３４ａ上に導線５１の層を形成する際にピンホールなどの欠陥が生じてしまうことを抑制することができる。
【００５４】
基材フィルム３２を準備した後、図５Ｂに示すように、アクリル系樹脂層３４ａ上に、低反射層５４をする。低反射層５４は、たとえば、窒素ガスを含む雰囲気中で周波数３０ｋＨｚ〜２ＭＨｚの交流放電（以下、特定周波数の交流放電、或いは交流放電とも略稱する）を用いて銅のターゲットをスパッタリングすることで、形成することができる。周波数３０ｋＨｚ〜２ＭＨｚの交流放電と直流放電（以下、ＤＣ放電とも略稱する）とを併用して銅のターゲットをスパッタリングしてもよい。また、窒素ガスに加えて酸素ガスをさらに導入してもよい。
【００５５】
ここで、基材フィルム３２の表面粗さが小さいと、真空雰囲気中において基材フィルム３２がガイドローラに貼り付きやすくなり、基材フィルム３２とガイドローラとの間に十分な滑り性が得られないため、基材フィルム３２の形状に熱によるシワが発生する。一方、本実施の形態では、基材フィルム３２の表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍ以上であるため、基材フィルム３２とガイドローラとの間に十分な滑り性を実現することができ、基材フィルム３２の形状に熱によるシワが発生することを抑制することができる。
【００５６】
次に、図５Ｂに示すように、低反射層５４上に、本体層５３を形成する。そして、本体層５３上に、低反射層５５を形成する。本体層５３および低反射層５４を形成するための方法としては、上述のように、スパッタリング法などの薄膜形成法を用いることができる。
【００５７】
このようにして、透視性電極３１を作製するための元材としての積層体６０（ブランクとも呼ばれる）が得られる。積層体６０は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２上に設けられた導線形成層５２と、を備えている。導線形成層５２は、基材フィルム３２側から順に配置された低反射層５４、本体層５３および低反射層５５を含んでいる。
【００５８】
積層体６０を準備した後、図５Ｃに示すように、導線形成層５２上に感光性レジスト層７１を所定のパターンで形成する。感光性レジスト層７１は、特定波長域の光、例えば紫外線に対する感光性を有している。感光性レジスト層７１のタイプが特に限られることはない。例えば光溶解型の感光性レジスト層が用いられてもよく、若しくは光硬化型の感光性レジスト層が用いられてもよい。ここでは、光溶解型の感光性レジスト層が用いられる例について説明する。
【００５９】
感光性レジスト層７１は、導線５１のパターンに対応したパターンで形成されている。感光性レジスト層７１は、例えば、はじめに、積層体６０の表面上にコーターを用いて感光性レジスト材料をコーティングし、次に、感光性レジスト材料を所定のパターンで露光して現像することによって、所定のパターン形状の感光性レジスト層７１が形成される。
【００６０】
次に、図５Ｄに示すように、感光性レジスト層７１をマスクとして低反射層５５、本体層５３および低反射層５４をエッチングする。なお上述のように、低反射層５５、本体層５３および低反射層５４のいずれも、銅を含むよう構成されている。このため、銅を溶解させることができるエッチング液を用いて、低反射層５５、本体層５３および低反射層５４を同時にエッチングすることができる。エッチング液としては、例えばリン硝酢酸が用いられる。
【００６１】
ここで、基材フィルム３２の表面粗さが大きいと、表面の凸部上に位置するレジストパターンがガイドローラとの摩擦により傷つきやすくなり、エッチング時にその傷からエッチング液が染み込むことで導線５１のパターンが浸食され、著しい場合には導線５１が断線してしまう可能性がある。一方、本実施の形態では、基材フィルム３２の表面の二乗平均平方根粗さＲｑが４５ｎｍ以下であるため、ガイドローラとの摩擦によりレジストパターンに傷が付くことが低減され、傷から染み込むエッチング液により導線５１のパターンが侵食されることが抑制され得る。その結果、線幅が２μｍ以下となる細線化された導線５１を安定して作製することが可能となる。
【００６２】
次に、本体層５５上に残っている感光性レジスト層７１に対して、これを溶解除去する薬液によって洗浄して脱膜処理する。これによって、図５Ｅに示すように、感光性レジスト層７１を除去することができる。このようにして、低反射層５５、本体層５３、および低反射層５４を有する導線形成層５２をパターン形成し、これから構成された導線５１を備える透視性電極３１を得ることができる。
【００６３】
ここで本実施の形態によれば、上述のように、導線５１は、９０重量％以上の銅を含む本体層５３と、本体層５３の面上に設けられた窒化銅からなる低反射層５４と、を含んでいる。このため、銅の金属光沢に起因して、赤味を帯びた光が観察者に到達してしまうことを、低反射層５４によって抑制することができる。また、本体層５３、および低反射層５４、５５のいずれもが銅を含むため、積層体６０から透視性電極３１を作製する際、銅を選択的に溶かすことができるエッチング液を用いることにより、積層体６０の本体層５３、低反射層５４、５５を同時にエッチングして導線５１を形成することができる。このため、透視性電極３１を作製するために必要になる工数を小さくすることができる。
【００６４】
＜第２の実施の形態＞
次に、図６〜図１０を参照して、本発明の第２の実施の形態について説明する。本実施の形態においては、上述の透視性電極３１を備えるタッチパネルと表示装置とを組み合わせることによって得られるタッチ位置検出機能付き表示装置について説明する。本実施の形態において、上述の各実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、各実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００６５】
図６は、タッチ位置検出機能付き表示装置１０を示す展開図である。図６に示すように、タッチ位置検出機能付き表示装置１０は、タッチパネル３０と、液晶ディスプレイや有機ＥＬディスプレイなどの表示装置１５とを組み合わせることによって構成されている。
【００６６】
図示された表示装置１５は、フラットパネルディスプレイとして構成されている。表示装置１５は、表示面１６ａを有した表示パネル１６と、表示パネル１６に接続された表示制御部（図示せず）と、を有している。表示パネル１６は、映像を表示することができるアクティブエリアＡ１と、アクティブエリアＡ１を取り囲むようにしてアクティブエリアＡ１の外側に配置された非アクティブエリア（額縁領域とも呼ばれる）Ａ２と、を含んでいる。表示制御部は、表示されるべき映像に関する情報を処理し、映像情報に基づいて表示パネル１６を駆動する。表示パネル１６は、表示制御部の制御信号に基づいて、所定の映像を表示面１６ａに表示する。すなわち、表示装置１５は、文字や図等の情報を映像として出力する出力装置としての役割を担っている。
【００６７】
なお、図６に示すように、タッチパネル３０の観察者側、すなわち表示装置１５とは反対の側に、透光性を有する保護板１２がさらに設けられていてもよい。保護板１２は例えば、タッチパネル３０の観察者側の面に接着層などによって接着されている。この保護板１２は、指などの外部導体との接触によってタッチパネル３０のパターンや表示装置１５が損傷することを防ぐためのものであり、いわゆる前面板とも称されるものである。
【００６８】
図６に示すように、タッチパネル３０は、表示装置１５の表示面１６ａに、例えば接着層（図示せず）を介して接着されている。このタッチパネル３０は、２枚の透視性電極３１を組み合わせることによって構成されている。図６においては、観察者側に配置された透視性電極が符号３１Ａで表されており、透視性電極３１Ａよりも表示装置側に配置された透視性電極が符号３１Ｂで表されている。以下の説明において、符号３１Ａが付された透視性電極を第１透視性電極３１Ａ、符号３１Ｂが付された透視性電極を第２透視性電極３１Ｂとも称する。
【００６９】
図７は、観察者側から見た場合のタッチパネル３０を示す平面図である。図７においては、第１透視性電極３１Ａの構成要素が実線で表され、第２透視性電極３１Ｂの構成要素が点線で表されている。
【００７０】
図７に示すように、第１透視性電極３１Ａおよび第２透視性電極３１Ｂはそれぞれ、所定の方向に延びる複数の導電パターン４１を備えている。ここで、第１透視性電極３１Ａおよび第２透視性電極３１Ｂは、各々の導電パターン４１が互いに交差する方向に延びるよう、配置されている。例えば、第１透視性電極３１Ａは、その導電パターン４１が第１方向Ｄ１に沿って延びるよう、配置されている。一方、第２透視性電極３１Ｂは、その導電パターン４１が、第１方向Ｄ１に直交する第２方向Ｄ２に沿って延びるよう、配置されている。
【００７１】
図８は、図７において符号ＸＶＩが付された一点鎖線で囲まれた部分における導電パターン４１を拡大して示す平面図である。図８に示すように、第１透視性電極３１Ａの導電パターン４１および第２透視性電極３１Ｂの導電パターン４１はそれぞれ、網目状に配置された導線５１から構成されている。
【００７２】
図９は、タッチパネル３０を図８のＸＶＩＩ線に沿って切断した場合を示す断面図である。図９に示すように、タッチパネル３０は、第１透視性電極３１Ａの導線５１および第２透視性電極３１Ｂの導線５１のいずれもが基材フィルム３２の表示装置側に位置するよう、第１透視性電極３１Ａおよび第２透視性電極３１Ｂを組み合わせることによって構成されている。なお、第１透視性電極３１Ａと第２透視性電極３１Ｂとの間には接着層３８などが介在されていてもよい。
【００７３】
図１０は、図９に示すタッチパネル３０の一部を拡大して示す断面図である。図１０に示すように、第１透視性電極３１Ａの導線５１および第２透視性電極３１Ｂの導線５１はいずれも、上述の導線形成層５２を含んでいる。ここで図１０に示すように、導線形成層５２は、本体層５３と、本体層５３の観察者側に設けられた低反射層５４と、本体層５３の表示装置側に設けられた低反射層５５と、を含んでいる。
【００７４】
本体層５３の観察者側に低反射層５４が設けられているため、観察者側からタッチパネル３０に入射した外光が導線５１によって反射されて観察者側に戻ってしまうことを抑制することができる。これによって、導線５１が観察者から視認されてしまうことを抑制することができ、このことにより、表示装置１５からの映像の視認性が導線５１によって妨げられることを抑制することができる。また、本体層５３の表示装置側に低反射層５５が設けられているため、タッチパネル３０に入射した表示装置１５からの映像光が導線５１によって反射されて表示装置１５側に戻り、その後、表示装置１５の構成要素によって再び反射されてノイズ光として観察者に到達してしまうことを抑制することができる。
【００７５】
また、上述のように、導線形成層５２の本体層５３は、その厚みが０．２μｍ以下になるよう構成されている。本実施の形態においては０．１μｍとされている。このため、基材フィルム３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネル３０に入射した光が導線形成層５２の側面によって反射してしまうことを抑制することができる。このことにより、導線５１の側面が観察者から視認されてしまうことや、導線５１の側面によって表示装置からの映像光が妨げられてしまうことを抑制することができる。従って、映像の視認性を向上させることができる。
【００７６】
なお、上述した本実施の形態に対して様々な変更を加えることが可能である。以下、図面を参照しながら、変形例について説明する。以下の説明および以下の説明で用いる図面では、上述した本実施の形態と同様に構成され得る部分について、上述の実施の形態における対応する部分に対して用いた符号と同一の符号を用いることとし、重複する説明を省略する。また、上述した実施の形態において得られる作用効果が変形例においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００７７】
図９においては、第１透視性電極３１Ａの導線５１および第２透視性電極３１Ｂの導線５１のいずれもが基材フィルム３２の表示装置側に位置する例を示したが、これに限られることはない。例えば図１１に示すように、第１透視性電極３１Ａの導線５１は、基材フィルム３２の観察者側に位置し、一方、第２透視性電極３１Ｂの導線５１は、基材フィルム３２の表示装置側に位置していてもよい。
【００７８】
また図１２に示すように、第１透視性電極３１Ａの導線５１は、基材フィルム３２の表示装置側に位置し、一方、第２透視性電極３１Ｂの導線５１は、基材フィルム３２の観察者側に位置していてもよい。
【００７９】
次に、導線５１が基材フィルム３２の表示装置側に設けられている場合における、導線５１の断面形状の好ましい一例について、図１３を参照して説明する。
【００８０】
図１３に示すように、導線５１の導線形成層５２は、表示装置１５に向かうにつれて先細になるテーパ形状を有している。この場合、基材フィルム３２の法線方向から傾斜した方向に沿ってタッチパネル３０に入射した外光Ｌは、導線形成層５２のテーパ形状のため、導線５１の側面に入射することなく表示装置１５側へ抜けていくことができる。このため、外光が導線５１によって反射されて観察者側に戻ってしまうことをさらに抑制することができる。
【００８１】
導線形成層５２の具体的なテーパ形状は、想定される外光の傾斜の程度などに応じて適切に設定されるが、例えば、基材フィルム３２の法線方向と導線５１の側面とが成す角は１０°〜３０°の範囲内となっている。
【００８２】
なお、上述した本実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【００８３】
＜第３の実施の形態＞
次に図１４および図１５を参照して、本発明の第３の実施の形態について説明する。本実施の形態においては、基材フィルム３２の両側に導線５１が設けられる例について説明する。本実施の形態において、上述の各実施の形態と同一部分には同一符号を付して詳細な説明は省略する。また、各実施の形態において得られる作用効果が本実施の形態においても得られることが明らかである場合、その説明を省略することもある。
【００８４】
図１４に示すように、透視性電極３１は、基材フィルム３２と、基材フィルム３２の観察者側の面（第１面）３２ａ上に設けられた導線５１と、基材フィルム３２の表示装置側の面（第２面）３２ｂ上に設けられた導線５１と、を備えている。第１面３２ａ側の導線５１からなる導電パターン４１および第２面３２ｂ側の導線５１からなる導電パターン４１は、互いに交差するように設けられている。例えば、同図に於いては、第１面３２ａ上の導電パターン４１は紙面と直交方向に、又第２面３２ｂ上の導電パターン４１は紙面と平行方向に延びている。このため本実施の形態によれば、１枚の透視性電極３１によってタッチパネル３０を構成することができる。
【００８５】
図１５は、図１４に示す透視性電極３１の一部を拡大して示す断面図である。図１５に示すように、基材フィルム３２の第１面３２ａおよび第２面３２ｂ上に設けられた導線５１は、それぞれ、上述の導線形成層５２を含んでいる。このため、観察者側からタッチパネル３０に入射した外光が導線５１によって反射されて観察者側に戻ってしまうことを抑制することができる。これによって、導線５１が観察者から視認されてしまうことを抑制することができ、このことにより、表示装置１５からの映像の視認性が導線５１によって妨げられることを抑制することができる。
【００８６】
なお、上述した本実施の形態に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【実施例】
【００８７】
次に、本発明を実施例により更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例の記載に限定されるものではない。
【００８８】
図４に示すように、基材フィルム３２と、基材フィルム３２上に設けられた導線形成層５２と、を含む積層体のサンプルを準備した。導線形成層５２は、基材フィルム３２側から順に配置された低反射層５４、本体層５３および低反射層５５を含んでいる。導線形成層５２は、平均線幅が２μｍとなるようにエッチングされて導線５１のパターンが作製された。基材フィルム３２の透明基材３３を構成する材料としては、厚さ１００μｍの２軸延伸ＰＥＴフィルムを用いた。基材フィルム３２のアクリル系樹脂層３４ａ，３４ｂを構成する材料としては、アクリロイル基を分子中に有する単量体、アクリロイル基を分子中に有するプレポリマー、及びベンゾトリアゾール系光反応開始剤から紫外線硬化型アクリル樹脂を紫外線照射によって架橋硬化せしめたものを用いた。本体層５３を構成する材料としては、純度（同含有量）９９．９質量％の銅を用いた。低反射層５４、５５を構成する材料としては、窒化銅からなる銅化合物を用いた。具体的なサンプルとしては、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍ〜４５ｎｍの範囲内で異なる４種類のものをサンプル１〜４として用意した。
【００８９】
また、比較のため、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍより小さい積層体を比較サンプル１として用意した。また、比較のため、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑが４５ｎｍより大きい積層体を比較サンプル２として用意した。尚、各サンプルは、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂのアクリル樹脂中にフィラーとして添加する微粒子およびその添加量、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの厚みを変えた他は同一条件で作成された。
【００９０】
次に、各サンプルにおけるアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面特性として、Ｒｑ、Ｒｚ、及び前記「隆起部の体積」の総和Ｖｏｌ  Ｕｐ（略称）を、走査型白色干渉計ＮｅｗＶｉｅｗ（商標）７３００（ザイゴ株式会社製）を用いて測定した。具体的な測定条件は、次の通りである。
・×１０倍レンズ
・５４３μｍ□エリア視野指定
・「Ｒｅｍｏｖｅｄ」設定：Ｃｙｌｉｎｄｅｒ
・「Ｔｒｉｍｍｅｄ」設定：ゼロ
【００９１】
各サンプルにおけるアクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの作製条件および表面特性を下表１にまとめて示す。尚、サンプル３は、サンプル２に比べてフィラーの添加量が１０％大きいサンプルである。また、サンプル４は、サンプル３に比べてアクリル系樹脂層の厚みが０．０３μｍ〜０．０５μｍ厚いサンプルである。
【表１】
2016191965.tif 000003
【００９２】
次に、各サンプルのフィルム形状が良好か否かを目視で判断した。ここで、各サンプルにシワが存在しない場合を良好（○）であるとし、シワが存在している場合を不良（×）であるとした。また、各サンプルを細線化できたか否かを、導電パターン４１に断線が発生した不良品を除いた製品の割合（歩留まり）に基づいて判断した。ここで、歩留まりが５０％以上の場合を良好（○）であるとし、歩留まりが５０％未満の場合を不良（×）であるとした。
【００９３】
各サンプルにおける測定結果を下表２にまとめて示す。
【表２】
2016191965.tif 000004
【００９４】
次に、サンプル１、２および比較サンプル１、２の光学特性を測定した。測定光Ｌは、導線形成層５２側から各サンプルに入射させた。測定器としては、ヘーズ・透過率計ＨＭ−１５（株式会社村上色彩技術研究所製）を用いた。
【００９５】
各サンプルにおける光学特性の測定結果を下表３にまとめて示す。
【表３】
2016191965.tif 000005
【００９６】
表２に示すように、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍより小さい比較サンプル１においては、フィルム形状にシワが発生した。また、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑが４５ｎｍより大きい比較サンプル２においては、歩留まりが５０％以下、より詳しくは１５％であった。
【００９７】
一方、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑが５ｎｍ〜４５ｎｍの範囲内であるサンプル１、２においては、フィルム形状にシワが発生せず、かつ、歩留まりが５０％以上であった。したがって、良好なフィルム形状と導線５１の十分な細線化とを両立する上で、アクリル系樹脂層３４ａ、３４ｂの表面の二乗平均平方根粗さＲｑを５ｎｍ〜４５ｎｍに設定することは、極めて有効であると言える。
【符号の説明】
【００９８】
１０  タッチ位置検出機能付き表示装置
１２  保護板
１５  表示装置
１６  表示パネル
３０  タッチパネル
３１  透視性電極
３２  基材フィルム
３３  透明基材
３４ａ，３４ｂ  アクリル系樹脂層
３８  接着層
４１  導電パターン
４３  額縁配線
４４  端子部
５１  導線
５２  導線形成層
５３  本体層
５４  低反射層
５５  低反射層
６０  積層体
７１  感光性レジスト層
【図１】
2016191965.tif 000006
【図２Ａ】
2016191965.tif 000007
【図２Ｂ】
2016191965.tif 000008
【図３】
2016191965.tif 000009
【図４】
2016191965.tif 000010
【図５Ａ】
2016191965.tif 000011
【図５Ｂ】
2016191965.tif 000012
【図５Ｃ】
2016191965.tif 000013
【図５Ｄ】
2016191965.tif 000014
【図５Ｅ】
2016191965.tif 000015
【図６】
2016191965.tif 000016
【図７】
2016191965.tif 000017
【図８】
2016191965.tif 000018
【図９】
2016191965.tif 000019
【図１０】
2016191965.tif 000020
【図１１】
2016191965.tif 000021
【図１２】
2016191965.tif 000022
【図１３】
2016191965.tif 000023
【図１４】
2016191965.tif 000024
【図１５】
2016191965.tif 000025
【図１６】
2016191965.tif 000026