(57)【要約】【課題】曲げクラック耐性等が維持されながら、両層が必要十分に硬化されており顕著な耐溶剤性を発揮する、積層パターンの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明は、支持体の表面に、組成物Ａを塗布して塗布膜Ａを得る、第一の塗布工程と、塗布膜Ａの表面に、組成物Ｂを塗布して塗布膜Ｂを得る、第二の塗布工程と、塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂを一括して、塗布膜Ｂ側から露光して、露光膜Ａと露光膜Ｂとの積層露光膜を得る、第一の露光工程と、積層露光膜を現像して、パターンＡとパターンＢとの積層パターンを得る、現像工程と、積層パターンを一括して、パターンＡ側から露光する、第二の露光工程と、を備える、積層パターンの製造方法を提供する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体の表面に、組成物Ａを塗布して塗布膜Ａを得る、第一の塗布工程と、
前記塗布膜Ａの表面に、組成物Ｂを塗布して塗布膜Ｂを得る、第二の塗布工程と、
前記塗布膜Ａ及び前記塗布膜Ｂを一括して、前記塗布膜Ｂ側から露光して、露光膜Ａと露光膜Ｂとの積層露光膜を得る、第一の露光工程と、
前記積層露光膜を現像して、パターンＡとパターンＢとの積層パターンを得る、現像工程と、
前記積層パターンを一括して、前記パターンＡ側から露光する、第二の露光工程と、を備える、積層パターンの製造方法。
【請求項２】
さらに前記積層パターンを支持体から剥離する、剥離工程を備える、請求項１記載の積層パターンの製造方法。
【請求項３】
さらに前記積層パターンを加熱する、加熱工程を備える、請求項１又は２記載の積層パターンの製造方法。
【請求項４】
前記第一の塗布工程、前記第二の塗布工程、前記第一の露光工程、及び、前記現像工程における搬送が、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式である、請求項１〜３のいずれか一項記載の積層パターンの製造方法。
【請求項５】
前記積層パターンの厚さが、１０〜４０μｍである、請求項１〜４のいずれか一項記載の積層パターンの製造方法。
【請求項６】
前記組成物Ｂが、ウレタン構造を有する化合物を含有する、請求項１〜５のいずれか一項記載の積層パターンの製造方法。
【請求項７】
基板と、請求項１〜６のいずれか一項記載の積層パターンと、を備え、
前記基板の表面と、前記積層パターンのパターンＢ側の面とが結合している、積層パターン形成基板。
【請求項８】
光学濃度が３．００以上であり、かつ、明度が８０．００以上である、請求項７記載の積層パターン形成基板。
【請求項９】
請求項７又は８に記載の積層パターン形成基板を具備する、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層パターンの製造方法、積層パターン形成基板及びタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
スマートフォンやタブレットＰＣ等、静電容量式タッチパネルを用いたモバイル機器が近年、急速に普及している。静電容量式タッチパネルは、画像表示部領域にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）膜のパターンが形成され、その周辺部にさらにモリブデン等の金属配線が形成されていることが一般的である。このような金属配線がユーザーから視認されないようにするため、静電容量式タッチパネルの基板、すなわちカバーガラスの内表面の周辺部には、加飾パターンが形成されている。
【０００３】
静電容量式タッチパネルの方式としては、カバーガラスと液晶パネルとの間にタッチパネル層を形成するＯｕｔ−ｃｅｌｌタイプ、液晶パネル上にタッチパネル層を形成するＯｎ−ｃｅｌｌタイプ、又は、液晶パネルの内部にタッチパネル層を形成するＩｎ−ｃｅｌｌタイプ等、多様化が進んでいるが、加飾パターンについては黒色又は白色のパターンが主流となっている。また、モバイル機器の意匠性をさらに向上させるため、微細な文字やロゴマーク等を有する、高解像度の加飾パターンが求められているところ、特に加飾パターンが白色の場合には、十分な明度を得るためにパターンの厚膜化が必要となり、さらに遮光性を十分なものとするため、黒色等の光学濃度が高い加飾パターンを積層する構成が多く採用されている。このような積層構造の加飾パターンの歩留まりを高くする製造方法としては、例えば、フォトリソグラフィと転写法との組み合わせが知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−０２４４９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、フォトリソグラフィと転写法との組み合わせにより形成した積層パターンは耐溶剤性に乏しく、例えば、タッチセンサーとの貼り合せに用いる光学透明接着剤に溶解してしまうことや、その結果としてタッチセンサーと積層パターンが形成された基板との位置ずれが生じると、再加工は不可能となってその損失が生じること等が問題視されていた。その一方で、積層構造のパターンを十分に硬化させてその耐溶剤性を高めるために露光量を上げると、露光光が照射された側のパターンのみが過度に硬化して、その曲げクラック耐性が悪化する、という不具合が生じているのが現状であった。
【０００６】
そこで本発明は、曲げクラック耐性等が好適に維持されながら、両層が必要十分に硬化されており顕著な耐溶剤性を発揮する、積層パターンの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは鋭意検討をした結果、複数回の露光工程を備える積層パターンの製造方法が、上記課題の解決に極めて有効であることを見出し、本発明を完成した。
【０００８】
すなわち本発明は、支持体の表面に、組成物Ａを塗布して塗布膜Ａを得る、第一の塗布工程と、上記塗布膜Ａの表面に、組成物Ｂを塗布して塗布膜Ｂを得る、第二の塗布工程と、上記塗布膜Ａ及び上記塗布膜Ｂを一括して、塗布膜Ｂ側から露光して、露光膜Ａと露光膜Ｂとの積層露光膜を得る、第一の露光工程と、上記積層露光膜を現像して、パターンＡとパターンＢとの積層パターンを得る、現像工程と、上記積層パターンを一括して、パターンＡ側から露光する、第二の露光工程と、を備える、積層パターンの製造方法を提供する。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の製造方法によれば、曲げクラック耐性等が十分に確保されながら、両層が共に顕著な耐溶剤性を発揮することが可能な、積層パターンを得ることが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】支持体表面に形成された塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂの断面を示す、概略図である。
【図２】積層パターン形成基板の断面を示す、概略図である。
【図３】基板側から見た積層パターン形成基板を示す、概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の積層パターンの製造方法は、支持体の表面に、組成物Ａを塗布して塗布膜Ａを得る、第一の塗布工程と、上記塗布膜Ａの表面に、組成物Ｂを塗布して塗布膜Ｂを得る、第二の塗布工程と、上記塗布膜Ａ及び上記塗布膜Ｂを一括して、上記塗布膜Ｂ側から露光して、露光膜Ａと露光膜Ｂとの積層露光膜を得る、第一の露光工程と、上記積層露光膜を現像して、パターンＡとパターンＢとの積層パターンを得る、現像工程と、上記積層パターンを一括して、上記パターンＡ側から露光する、第二の露光工程と、を備えることを特徴とする。
【００１２】
本発明の積層パターンの製造方法が備える第一の塗布工程は、支持体の表面に組成物Ａを塗布して、塗布膜Ａを得る工程である。
【００１３】
また本発明の積層パターンの製造方法が備える第二の塗布工程は、塗布膜Ａの表面に組成物Ｂを塗布して、塗布膜Ｂを得る工程である。
【００１４】
支持体としては、例えば、離型フィルムが挙げられる。離型フィルムとは、ベースフィルムの表面に、密着性と離型性とを適度に制御するための離型層が形成されたフィルムをいう。
【００１５】
ベースフィルムとしては、例えば、耐熱性等に優れるポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート又はポリスチレン等のフィルムが挙げられるが、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが好ましい。また離型層としては、例えば、架橋度が高く耐溶剤性に優れるメラミン系、メラミン−アクリル系、アクリル系、エポキシ系又はシリコーン系等の樹脂からなる離型層が挙げられる。
【００１６】
支持体の表面に塗布される組成物Ａは、積層パターンを構成する、パターンＡの原料となるものである。その組成は、パターンＡに要求される特性によって適宜決定すればよいが、例えば、パターンＡが光学濃度の高い黒色の加飾パターンである場合には、組成物Ａとしてネガ型の感光性黒色樹脂組成物を用いることができる。ここで光学濃度とは、可視光全域の光に対する遮光性を示すＯＤ値（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）をいう。ネガ型の感光性黒色樹脂組成物としては、例えば、黒色顔料、アルカリ可溶性樹脂、多官能モノマー、光重合開始剤及び溶剤を含有する組成物が挙げられる。
【００１７】
塗布膜Ａの表面に塗布される組成物Ｂは、積層パターンを構成する、パターンＢの原料となるものである。その組成は、パターンＢに要求される特性によって適宜決定すればよいが、例えば、パターンＢが明度の高い白色の加飾パターンである場合には、組成物Ｂとしてネガ型の感光性白色樹脂組成物を用いることができる。ここで明度とは、標準光源Ｄ６５、視野角２°（ＣＩＥ１９７６）、大気圧下、２０℃の測定条件下における、基板側からの入射光に対する全反射色（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）のうち、明るさを示す座標であるＬ＊のことをいう。Ｌ＊の下限値は０、上限値は１００であり、その値が大きいほど高明度であることを示す。ネガ型の感光性白色樹脂組成物としては、例えば、白色顔料、アルカリ可溶性樹脂、多官能モノマー、光重合開始剤及び溶剤を含有する組成物が挙げられる。
【００１８】
黒色顔料としては、例えば、カーボンブラック、窒化チタン又は酸化コバルトが挙げられるが、工業的利用が容易で安価な、カーボンブラックが好ましく、分散性及び遮光性に優れる、酸性のカーボンブラックがより好ましい。
【００１９】
黒色顔料として用いるカーボンブラックの平均一次粒子径は、１０〜５０ｎｍが好ましい。ここで平均一次粒子径とは、画像解析式粒度分布測定装置を用いた粒度測定法により算出した、一次粒子径の数平均をいう。画像の撮影には、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いることができ、カーボンブラックの一次粒子が１００個以上撮影された画像から、平均一次粒子径を算出することができる。
【００２０】
組成物Ａに占める黒色顔料の割合は、１０〜５０質量％が好ましく、２０〜４０質量％がより好ましい。黒色顔料の割合が１０質量％未満であると、得られたパターンＡの遮光性が不十分となる場合がある。一方で、黒色顔料の割合が５０質量％を超えると、組成物Ａの保存安定性が悪化する場合がある。
【００２１】
白色顔料としては、例えば、二酸化チタン、酸化マグネシウム、硫酸バリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛又は鉛白が挙げられるが、可視光反射性に優れ、化学的安定性が高く、工業的利用が容易な、二酸化チタンが好ましい。二酸化チタンの結晶構造にはアナタース型、ルチル型及びブルッカイト型があるが、屈折率が高く、触媒活性の低い、ルチル型二酸化チタンが好ましい。中でも、製造工程由来の着色不純物が少なく白色度が高い、塩素法で製造された二酸化チタンがより好ましく、得られたパターンＢの白亜化や黄変を長期的に防ぐことができる、表面処理された二酸化チタンがさらに好ましい。
【００２２】
二酸化チタンを表面処理するための表面処理材としては、金属酸化物又は金属酸化物の水和物が好ましく、アルミナにシリカ又はジルコニアを加えたものがより好ましく、耐光性に優れる、アルミナにシリカを加えたものがさらに好ましい。表面処理された二酸化チタンに占める表面処理材の割合は、可視光反射性を保持するため、１０質量％以下が好ましい。
【００２３】
白色顔料として用いる二酸化チタンの平均一次粒子径は、０．２〜０．３μｍが好ましい。二酸化チタンの平均一次粒子径は、カーボンブラックの平均一次粒子径と同様に算出することができる。
【００２４】
組成物Ｂに占める白色顔料の割合は、２０〜８０質量％が好ましく、４０〜７０質量％がより好ましい。白色顔料の割合が２０質量％未満であると、得られたパターンＢの明度不十分となる場合がある。一方で、白色顔料の割合が７０質量％を超えると、パターンＢの形成における加工性が悪化する場合がある。
【００２５】
また、組成物Ａ及び組成物Ｂは、得られるパターンの反射色度の調整のため、可視光領域の特定の波長領域に吸収を有する化合物である、赤、青、紫又は緑等の着色材を含有しても構わない。
【００２６】
着色材としては、例えば、染料、有機顔料又は無機顔料が挙げられるが、耐光性に優れる、有機顔料又は無機顔料が好ましい。また着色材の平均一次粒子径は、１μｍ以下が好ましく、０．０１〜０．３μｍがより好ましい。着色材の平均一次粒子径は、カーボンブラックの平均一次粒子径と同様に算出することができる。
【００２７】
アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、分子内にカルボキシル基と不飽和二重結合とを有する、アクリル系樹脂が挙げられる。アクリル系樹脂の共重合成分であるアクリル系モノマーとしては、例えば、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロへキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルへキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボルニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、チオフェノールアクリレート若しくはベンジルメルカプタンアクリレート又はこれらのアクリレート基をメタクリレート基に置換した化合物が挙げられる。アクリル系モノマー以外の共重合成分としては、例えば、不飽和二重結合を有する化合物であるスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン又はヒドロキシメチルスチレン等のスチレン類が挙げられる。
【００２８】
アクリル系樹脂にカルボキシル基を導入する方法としては、例えば、共重合成分として不飽和カルボン酸を用いる方法が挙げられる。不飽和カルボン酸としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸又はこれらの酸無水物が挙げられる。
【００２９】
アクリル系樹脂に不飽和二重結合を導入する方法としては、例えば、側鎖にカルボキシル基を有するアクリル系樹脂に、グリシジル基又はイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物を付加反応させる方法が挙げられる。
【００３０】
アクリル系樹脂が有するカルボキシル基の数と、不飽和二重結合の数とにより、組成物Ａ及び組成物Ｂの現像性及び感光性を制御することができる。現像性の指標となるアクリル系樹脂の酸価は、５０〜１５０ｍｇＫＯＨ／ｇが好ましく、８０〜１３０ｍｇＫＯＨ／ｇがより好ましい。酸価が５０ｍｇＫＯＨ／ｇ未満であると、現像工程において未露光部の溶解性が不足する場合がある。一方で、酸価が１５０ｍｇＫＯＨ／ｇを超えると、現像工程において露光部が支持体から剥がれやすくなる。感光性の指標となるアクリル系樹脂の二重結合当量は、３００〜３０００が好ましく、５００〜２０００がより好ましい。二重結合当量が３００以上であると、得られる積層パターンの曲げクラック耐性を十分なものにし易い。一方で、二重結合当量が３０００以内であると、得られる積層パターンの耐溶剤性を十分なものにし易い。なお、アクリル系樹脂の重量平均分子量（テトラヒドロフランをキャリヤーとするゲルパーミエーションクロマトグラフィーで分析し、標準ポリスチレンによる検量線を用いて換算したもの）は、５０００〜１０００００が好ましく、１００００〜５００００がより好ましい。
アクリル系樹脂のガラス転移温度Ｔｇは、８０〜１７０℃が好ましく、９０〜１３０℃がより好ましい。
【００３１】
多官能モノマーとしては、反応性、溶解性又は二重結合当量等を適宜選択することが可能な、多官能の（メタ）アクリレート化合物が好ましい。
【００３２】
多官能の（メタ）アクリレート化合物としては、例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、トリシクロドデカンジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘプタ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールオクタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートコハク酸付加物、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレートコハク酸付加物、２−（パーフルオロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸−エチレンオキサイド（以下、「ＥＯ」）変性トリ及びジアクリレート（平均ＥＯ数＝３）混合物、トリメチロールプロパン−プロピレンオキサイド（以下、「ＰＯ」）変性トリアクリレート（平均ＰＯ数＝３）、トリメチロールプロパン−ＥＯ変性トリアクリレート（平均ＥＯ数＝３）又は２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレートが挙げられる。
【００３３】
なお、後述する第一の露光工程は組成物Ｂを塗布して得られる塗布膜Ｂ側から露光がされるため、その反対側に位置する塗布膜Ａの感光性は、塗布膜Ｂのそれよりも高いことが好ましい。塗布膜Ａの感光性を高める方法としては、例えば、組成物Ａが含有する多官能モノマーとして、３以上の（メタ）アクリレート基を有する化合物を選択することが好ましい。
【００３４】
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン系化合物、アセトフェノン系化合物、オキサントン系化合物、イミダゾール系化合物、ベンゾチアゾール系化合物、ベンゾオキサゾール系化合物、オキシムエステル化合物、カルバゾール系化合物、トリアジン系化合物、リン系化合物又はチタネート等の無機系光重合開始剤が挙げられる。より具体的には、例えば、ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−１−プロパン、イルガキュア（登録商標）３６９である２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン（ＢＡＳＦ製）、イルガキュア（登録商標）３７９である２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン（ＢＡＳＦ製）、ＣＧＩ−１１３である２−［４−メチルベンジル］−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン（ＢＡＳＦ製）、ｔ−ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２，３−ジクロロアントラキノン、３−クロル−２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、１，２−ベンゾアントラキノン、１，４−ジメチルアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール２量体、２−メルカプトベンゾチアゾール、２−メルカプトベンゾオキサゾール、イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０１である１，２−オクタンジオン，１−［４−（フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］（ＢＡＳＦ製）、イルガキュア（登録商標）ＯＸＥ０２であるエタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、ＣＧＩ−２４２であるエタノン，１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−，１−（Ｏ−アセチルオキシム）、４−（ｐ−メトキシフェニル）−２，６−ジ−（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン（ＢＡＳＦ製）又はカルバゾール系化合物であるアデカオプトマー（登録商標）Ｎ−１８１８、Ｎ−１９１９若しくはアデカクルーズ（登録商標）ＮＣＩ−８３１（以上、いずれもＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。
【００３５】
溶剤としては、例えば、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ブチルカルビトールアセテート、テルピネオール、テトラヒドロフラン、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル又はイソプロピルアルコールが挙げられる。
【００３６】
組成物Ａ及び組成物Ｂは、得られたパターンの黄変の抑止のため、酸化防止剤を含有しても構わない。パターンＢが白色の加飾パターンである場合には、組成物Ｂへの酸化防止剤の添加は、特に有効である。酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系酸化防止剤又はヒンダードアミン系酸化防止剤が挙げられる。
【００３７】
ヒンダードフェノール系酸化防止剤としては、例えば、オクダデシル３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ヘキサメチレンビス［３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート、チオジエチレンビス［３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオネート、エチレンビス（オキシエチレン）ビス（３−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、ペンタエリスリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、２−ｔ−ブチル−６−（３−ｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、２−［１−（２−ヒドロキシ３，５−ジ−ｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔ−ペンチルフェニルアクリレート、２，２’−メチレンビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール又は４，４’−ブチリデンビス（６−ｔ−ブチル−３−メチルフェノール）が挙げられる。
【００３８】
ヒンダードアミン系酸化防止剤としては、例えば、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、メチル−１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート、デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−１−（オクチルオキシ）−４−ピペリジニル）エステルと１，１−ジメチルエチルヒドロペルオキシドとオクタンの反応生成物、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレート又はテトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピリジル）ブタン−１，２，３，４−テトラカルボキシレートが挙げられる。
【００３９】
その他、組成物Ａ及び組成物Ｂは、顔料分散剤又は界面活性剤等の添加剤を含有しても構わない。
【００４０】
組成物Ａ及び組成物Ｂを塗布して、塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂをそれぞれ得る方法としては、例えば、スクリーン印刷法、インクジェット法、スリットコート法、スピンコート法、グラビアコート法又はスプレーコート法等が挙げられるが、部分塗布が容易で膜厚精度が高い、スクリーン印刷法が好ましい。スクリーン印刷法で塗布をする場合には、組成物Ａ及び組成物Ｂが含有する溶剤として、大気圧下の沸点が１８０〜２６０℃の遅乾性溶剤を選ぶことが好ましい。塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂの厚さは、得られる積層パターンの厚さが１０〜４０μｍになることが好ましく、１５〜２５μｍであることがより好ましい。積層パターンの厚さが１０μｍ未満であると、これをタッチパネル等における加飾パターンとして用いる場合に、十分な明度が得られない場合がある。一方で、積層パターンの厚さが４０μｍを超えると、得られた積層パターンにクラックが生じたり、得られた積層パターンが剥がれたりする場合がある
また、スクリーンメッシュ詰まりに起因するピンホール等の欠陥を防ぐため、複数回の塗布により塗布膜Ｂを形成することが好ましい。この場合、塗布膜Ａの溶解を防ぐため、組成物Ｂを塗布する都度、塗布膜Ｂを加熱乾燥することが好ましい。熱風オーブン又はＩＲオーブン等の加熱装置を用いる加熱乾燥の条件としては、８０〜１２０℃で５〜３０分間程度が一般的である。
【００４１】
本発明の積層パターンの製造方法が備える第一の露光工程は、塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂを一括して、塗布膜Ｂ側から露光して、露光膜Ａと露光膜Ｂとの積層露光膜を得る工程である。
【００４２】
塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂを露光する方法としては、例えば、ステッパー、ミラープロジェクションマスクアライナー（ＭＰＡ）又はパラレルライトマスクアライナー（以下、「ＰＬＡ」）による、マスクを介した露光光の照射が挙げられる。露光膜Ａとは、塗布膜Ａが露光された膜をいい、露光膜Ｂとは、塗布膜Ｂが露光された膜をいう。また、塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂを一括して露光とは、塗布膜Ａ及び塗布膜Ｂの両方に対して同時に露光光を照射することをいう。
【００４３】
露光光の光源としては、例えば、ｉ線、ｇ線若しくはｈ線等を含む紫外線、ＫｒＦ（波長２４８ｎｍ）レーザー又はＡｒＦ（波長１９３ｎｍ）レーザーが挙げられるが、工業的に広く使用されている紫外線が好ましく、具体的には高圧水銀紫外線ランプが好ましい。ｉ線露光量換算（波長３６５ｎｍ）での積算露光量（以下、単に「露光量」）は、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、現像工程における露光部の剥がれ等の抑止のため、５０〜５００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。
【００４４】
本発明の積層パターンの製造方法が備える現像工程は、露光膜Ａと露光膜Ｂとの積層露光膜を現像して、パターンＡとパターンＢとの積層パターンを得る工程である。パターンＡとは、露光膜Ａを現像して得られたパターンをいい、パターンＢとは、露光膜Ｂを現像して得られたパターンをいう。現像の方法としては、例えば、現像液である有機アルカリ又は無機アルカリの水溶液に、シャワー、ディッピング又はパドル等の方法で、１０秒〜１０分間浸漬する方法が挙げられる。組成物Ａ及び組成物Ｂがネガ型の感光性樹脂組成物であった場合には、露光膜Ａ及び露光膜Ｂの露光部／未露光部の現像液に対する溶解性の差を利用して、未露光部のみを溶解させてパターンを形成することができる。
【００４５】
現像液としては、例えば、２．３８質量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド（以下、「ＴＭＡＨ」）水溶液若しくは４質量％コリン水溶液等の高濃度現像液、又は、０．４質量％ＴＭＡＨ水溶液、０．２質量％ＴＭＡＨ水溶液、０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液、１質量％炭酸水素ナトリウム水溶液、０．２質量％炭酸水素ナトリウム水溶液若しくは０．１質量％水酸化ナトリウム水溶液等の低濃度現像液が挙げられるが、現像残渣の発生を低減させるため、界面活性剤が添加されていても構わない。
【００４６】
本発明の積層パターンの製造方法が備える第一の塗布工程、第二の塗布工程、第一の露光工程、及び、現像工程における搬送方法は、生産性が大幅に向上する、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式であることが好ましい。Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式とは、枚葉式のように個別に切り離された支持体を用いるのではなく、ロール状に巻いた長尺の支持体を繰り出しながら、第一の塗布工程をはじめとする一連の工程を連続的に行い、現像工程を経て積層パターンが形成された支持体を、再びロールに巻き取る搬送方法をいう。しかしながらＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式では、一定の張力がかかった支持体がニップロールやタッチロールに接触して湾曲するので、得られた積層パターンにクラックが生じたり、得られた積層パターンが剥がれたりする場合がある。このような問題を抑止するためには、組成物Ｂが、ウレタン構造を有する化合物を含有することが好ましい。ウレタン構造を有する化合物としては、例えば、水酸基を有する（メタ）アクリレート化合物と、イソシアネート化合物との反応物であるウレタンアクリレートが挙げられる。ウレタンアクリレートとしては、例えば、ＡＨ−６００（フェニルグリシジルエーテルアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物）、ＡＴ−６００（フェニルグリシジルエーテルアクリレートとトルエンジイソシアネートとの反応物）、ＵＡ−３０６Ｈ（ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物）、ＵＡ−３０６Ｔ（ペンタエリスリトールトリアクリレートとトルエンジイソシアネートとの反応物）、ＵＡ−３０６Ｉ（ペンタエリスリトールトリアクリレートとイソホロンジイソシアネートとの反応物）又はＵＡ−５１０Ｈ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物）（以上、いずれも共栄社化学（株）製）が挙げられるが、耐光性を向上させるため、脂肪族のイソシアネート化合物を用いることが好ましい。
【００４７】
本発明の積層パターンの製造方法が備える第二の露光工程は、積層パターンを一括して、パターンＡ側から露光する工程である。積層パターンを露光する方法としては、第一の露光工程と同様の、露光光の照射が挙げられる。
【００４８】
第一の露光工程とは逆側の、パターンＡ側から再び露光光を照射することで、パターンＡを必要十分に硬化させて、その耐溶剤性を顕著に向上させることができる。また、パターンＢ側からのみの露光光の照射を避けることで、パターンＡを効率的に硬化させることができ、パターンＢを過度に硬化させて、その曲げクラック耐性を悪化させることもなくなる。この第二の露光工程を実行する効果は、塗布膜Ｂの露光波長における光吸収性又は光反射性が高く、第一の露光工程での露光光が遮蔽されて塗布膜Ａまで十分に到達しないので、露光膜Ａが必要十分に硬化されず、得られるパターンＡの耐溶剤性が不十分となるような場合において、特に顕著なものとなる。なお、積層パターンを一括して露光とは、積層パターンを構成するパターンＡ及びパターンＢの両方に対して同時に露光光を照射することをいう。
【００４９】
露光光の光源としては、第一の露光工程と同様のものが挙げられるが、第一の露光工程と第二の露光工程とで、異なる光源を用いても構わない。第二の露光工程は、現像工程の後に、支持体を介してパターンＡ側から露光をしても構わないし、又は、後述する剥離工程の後に、パターンＡ側から露光をしても構わない。現像工程の後に、支持体を介してパターンＡ側から露光をする場合には、Ｒｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌ方式での搬送中に支持体の全面に露光光を照射することで、より生産性を高めても構わない。なお、第二の露光工程が支持体を介して実施される場合には、支持体が光散乱性粒子又は紫外線吸収剤等を含有せず、露光波長における光透過率が高いことが好ましい。第二の露光工程における露光量は、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２が好ましく、２００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２がより好ましい。露光量が１００ｍＪ／ｃｍ２以上であると、必要十分にパターンＡを硬化させることができる。一方で、露光量が２０００ｍＪ／ｃｍ２以下であると、パターンＡの過度な光硬化収縮による引張応力の発生に起因する、曲げクラック耐性の悪化を抑制することができる。また、現像工程の後に支持体を介して露光光を照射する場合は、パターンＡと支持体との適度な密着性を保持することができ、剥離工程の後にパターンＡ側から露光光を照射する場合は、パターンＡのクラック発生を抑止することができる。
【００５０】
本発明の積層パターンの製造方法は、さらに積層パターンを支持体から剥離する、剥離工程を備えても構わない。本発明の積層パターンの製造方法が剥離工程を備えることで、支持体から剥離され、露出したパターンＡの表面に、第二の露光工程において直接に露光光を照射することが可能となる。剥離の方法としては、例えば、加圧と加熱とを同時に行なう、熱プレスが挙げられる。より具体的には、積層パターンを構成するパターンＢの表面を、別途用意した基板の表面に接触させ、加圧及び加熱をすることで基板に積層パターンを結合して、その後支持体を剥離する方法が挙げられる。熱プレスに用いる装置は、連続式又は枚葉式のいずれでも構わないが、気泡混入による歩留まり低下を回避するため、枚葉式の真空熱プレス機を用いることが好ましい。熱プレスの構成としては、例えば、上から順に上部熱板、凹凸追従性を有するシート、支持体／積層パターン（パターンＡ／パターンＢ）、基板、下部熱板を載置する構成が挙げられる。この構成においては、上部及び下部熱板を温度１２０〜１６０℃にして、面圧１０〜１０００Ｎ／ｃｍ２で、５〜３００秒間熱プレスをすることが好ましい。なお、凹凸追従性を有するシートとしては、例えば、シリコーン系耐熱樹脂シート又は内部空隙を有するスポンジ状耐熱ゴムシートが挙げられる。なお、剥離工程を実施する場合においては、支持体が適度な凹凸追従性を有することが好ましく、その厚さは、３０〜１５０μｍが好ましい。
【００５１】
積層パターンを結合する基板がタッチパネルのカバーガラスであり、パターンＡが光学濃度の高い黒色の加飾パターン、パターンＢが明度の高い白色の加飾パターンである場合には、基板の表面と、積層パターンのパターンＢ側の面とが結合していることから、ユーザー側からは意匠性の高い白色の加飾パターンが視認されながら、かつ、積層された黒色の加飾パターンによって十分な遮光性が担保されている、タッチパネルの構成要素として好適な積層パターン形成基板を得ることができる。
【００５２】
すなわち本発明の積層パターン形成基板は、基板と、本発明の積層パターンと、を備え、上記基板の表面と、上記積層基板のパターンＢ側の面とが結合していることを特徴とする。
【００５３】
本発明の積層パターン形成基板をタッチパネルの構成要素として用いる場合には、タッチパネルのカバーガラスとなる基板の材質としては、波長３８０〜８００ｎｍの可視光領域の光を透過する材質が好ましく、厚さ０．１ｍｍ当たりの全光線透過率（ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１準拠）が８０％以上である材質がより好ましく、屈折率が１．３０〜２．１０である材質がさらに好ましい。
【００５４】
そのような材質としては、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリイミド又はシクロオレフィン樹脂が挙げられるが、可視光領域の光の透過性の高いガラス、アクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート又はシクロオレフィンポリマーが好ましく、耐久性の高いガラスがより好ましい。ガラスとしては、例えば、アルカリガラス、無アルカリガラス、熱強化ガラス又は化学強化ガラスが挙げられるが、タッチパネルのカバーガラスとして広く用いられている、化学強化ガラスが好ましい。ここで化学強化ガラスとは、化学的な処理によってガラス表面のナトリウムイオンをカリウムイオンに置き換える等して、硬度等の機械的物性を向上させたガラスをいう。基板の厚さは、積層パターンの明度と、十分な強度とを両立できる点で、０．４〜１０．０ｍｍが好ましく、０．５〜０．７ｍｍがより好ましい。
【００５５】
本発明の積層パターンの製造方法は、さらに積層パターンを加熱する、加熱工程を備えることが好ましい。積層パターンを加熱することで、さらにパターンＡ及びパターンＢを硬化させて、耐溶剤性を至適なものとすることができる。加熱の方法としては、例えば、熱風オーブン又はＩＲオーブン等の加熱装置を用いて、１３０〜２００℃で１５〜９０分間加熱する方法が挙げられる。
【００５６】
本発明の積層パターン形成基板におけるパターンＢを、入射光に対する反射色度（Ｌ＊，ａ＊，ｂ＊）が、それぞれ７０．００≦Ｌ＊≦９９．００、−５．００≦ｂ＊≦５．００、−５．００≦ａ＊≦５．００である白色の加飾パターンとして、その積層パターン形成基板をタッチパネルの構成要素とする場合には、光学濃度が３．００以上であり、かつ、明度が８０．００以上であることが好ましく、光学濃度が４．００以上であり、かつ、明度が８５．００以上であることがより好ましい。光学濃度が３．００未満であると、画像表示部周辺の金属配線がユーザーから視認されてしまう場合がある。なお、パターンＢがパターンＡを十分に隠蔽し、透けを防止するため、パターンＢ単層の光学濃度は０．５以上であることが好ましく、０．７以上であることがより好ましい。
【実施例】
【００５７】
以下に本発明を、その実施例及び比較例を挙げて詳細に説明するが、本発明の態様はこれらに限定されるものではない。
【００５８】
（アクリル系樹脂溶液Ａの調製）
４０ｍｏｌ％メタクリル酸、３０ｍｏｌ％メチルメタクリレート、３０ｍｏｌ％スチレンを共重合成分とする共重合体のカルボキシル基に対して、０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加反応させたアクリル系樹脂Ａ（重量平均分子量４３０００、酸価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ、ガラス転移温度Ｔｇ１１０℃）を、固形分が４０質量％となるようにブチルカルビトールアセテートに溶解して、アクリル系樹脂溶液Ａを得た。
【００５９】
（感光性黒色樹脂組成物（Ａ−１）の調製）
３１．８０ｇの黒色顔料（カーボンブラック；平均一次粒子径２４ｎｍ；ＭＡ−１００；三菱化学（株）製）、５．００ｇの高分子分散剤（ＬＰＮ−２１１１６；ビックケミー製）、２１．２０ｇのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、５．３０ｇの光重合開始剤Ａ（Ｎ−１９１９；ＡＤＥＫＡ製）、３．１８ｇの光重合開始剤Ｂ（ＩＣ−３７９）、１１０．２５ｇのアクリル系樹脂溶液Ａ、及び、２４．５８ｇのブチルカルビトールアセテートを混合し、予備撹拌した後、ロールミルを用いて分散／混練処理をして、感光性黒色樹脂組成物（Ａ−１）を得た。
【００６０】
（感光性黒色樹脂組成物（Ａ−２）の調製）
８０．００ｇの黒色顔料（窒化チタン；平均一次粒子径２２ｎｍ；ＴｉＮ  ＵＦＰ；日清エンジニアリング（株）製）、５．００ｇの高分子分散剤（ＬＰＮ−２１１１６；ビックケミー製）、２１．２０ｇのジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、５．３０ｇの光重合開始剤Ａ（Ｎ−１９１９）、３．１８ｇの光重合開始剤Ｂ（ＩＣ−３７９）、１１０．２５ｇのアクリル系樹脂溶液Ａ、及び、２４．５８ｇのブチルカルビトールアセテートを混合し、予備撹拌した後、ロールミルを用いて分散／混練処理をして、感光性黒色樹脂組成物（Ａ−２）を得た。
【００６１】
（感光性白色樹脂組成物（Ｂ−１）の調製）
４９．０２ｇの白色顔料（ルチル型酸化チタン；平均一次粒子径０．３μｍ；アルミナ／シリカ被覆；Ｒ９６０；デュポン製）、１２２．５５ｇのアクリル系樹脂溶液Ａ、１９．６１ｇのイソシアヌル酸−ＥＯ変性トリ及びジアクリレート混合物（Ｍ−３１５；東亞合成（株）製）、４．２０ｇのウレタンアクリレート（ペンタエリスリトールトリアクリレートとヘキサメチレンジイソシアネートとの反応物；ＵＡ−３０６Ｈ；共栄社化学（株）製）、２．８０ｇの光重合開始剤Ｂ（ＩＣ−３７９）、酸化防止剤である０．４２ｇのペンタエリスリトールテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート（イルガノックス１０１０；ＢＡＳＦ製）、及び、３．１３ｇのブチルカルビトールアセテートを混合し、予備撹拌した後、ロールミルを用いて分散／混練処理をして、感光性白色樹脂組成物（Ｂ−１）を得た。
【００６２】
（感光性白色樹脂組成物（Ｂ−２）の調製）
５０．７２ｇの白色顔料（Ｒ９６０）、１２６．８１ｇのアクリル系樹脂溶液Ａ、２０．２９ｇのイソシアヌル酸−ＥＯ変性トリ及びジアクリレート混合物（Ｍ−３１５）、２．９０ｇの光重合開始剤Ｂ（ＩＣ−３７９）、０．４３ｇの酸化防止剤（イルガノックス１０１０）、及び、０．５７ｇのブチルカルビトールアセテートを混合し、予備撹拌した後、ロールミルを用いて分散／混練処理をして、感光性白色樹脂組成物（Ｂ−２）を得た。
【００６３】
（実施例１）
支持体（メラミン系離型層付き二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム；セラピール；フィルム幅５０ｃｍ、巻きの長さ１００ｍ；東レ（株）製）の離型層が形成された面に、スクリーン印刷機とステンレス製のスクリーンメッシュとを用いて感光性黒色樹脂組成物（Ａ−１）を部分塗布して、塗布膜（Ａ−１）を得た。得られた塗布膜（Ａ−１）はオーブンを用いて、１００℃で１５分間加熱乾燥した（第一の塗布工程）。
【００６４】
塗布膜Ａの表面に、感光性白色樹脂組成物（Ｂ−１）を塗布し、１００℃で１５分間加熱乾燥する作業を二回繰り返して、塗布膜Ｂを得た（第二の塗布工程；図１に例示するような、支持体、塗布膜Ａ、塗布膜Ｂの積層物が得られる）。
【００６５】
ＰＬＡを用い、高圧水銀紫外線ランプを光源とし、マスクギャップ１５０μｍ、露光量２００ｍＪ／ｃｍ２で、塗布膜（Ａ−１）及び塗布膜（Ｂ−１）を一括して、塗布膜（Ｂ−１）側から露光して、露光膜（Ａ−１）と露光膜（Ｂ−１）との積層露光膜を得た（第一の露光工程）、
露光膜（Ａ−１）と露光膜（Ｂ−１）との積層露光膜を、自動現像装置を用いて０．０４５質量％水酸化カリウム水溶液で９０秒間シャワー現像し、次いで水で３０秒間シャワーリンスし、さらにエアーブローをして、パターン（Ａ−１）とパターン（Ｂ−１）との積層パターンを得た。得られた積層パターンはオーブンを用いて、６０℃で１０分間加熱乾燥した（現像工程）。
【００６６】
ＰＬＡを用い、高圧水銀紫外線ランプを光源とし、ギャップ３００μｍ、露光量５００ｍＪ／ｃｍ２で、積層パターンを一括して、支持体を介してパターンＡ側から全面露光した（第二の露光工程）。
【００６７】
支持体を個片状にカットし、積層パターンのパターン（Ｂ−１）側の面を、縦１５ｃｍ、横１５ｃｍ、厚さ０．５ｍｍのカバーガラス用化学強化ガラス基板（ＤＲＡＧＯＮ  ＴＲＡＩＬ  Ｘ；旭硝子（株）製）上に重ねて置き、真空貼り合わせ装置（バキュームスター；ミカドテクノス（株）製）を用いて、上部熱板（１３０℃）、凹凸追従性を有するシートである耐熱ゴムシート（バキュームスター用シート；ミカドテクノス（株）製）、支持体／積層パターン（パターン（Ａ−１）／パターン（Ｂ−１））、化学強化ガラス基板、下部熱板（１３０℃）を上から順に載置する構成において、面圧１００Ｎ／ｃｍ２で、真空下（５０Ｐａ）９０秒間熱プレスをして、化学強化ガラス基板の表面に積層パターンを結合して、支持体を剥離した（剥離工程）。
【００６８】
ガラス基板の表面に結合させた積層パターンはオーブンを用いて、１８０℃で２０分間加熱乾燥して、積層パターン１を備える、積層パターン形成基板１を得た（加熱工程；図２及び図３に例示するような、基板、パターンＡ、パターンＢの積層物が得られる）。
【００６９】
積層パターン形成基板１の表面に対して垂直方向に割断し、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）上でその断面を観察して、パターン（Ａ−１）及びパターン（Ｂ−１）の厚さをそれぞれ測定した。パターン（Ａ−１）の厚さは２μｍ、パターン（Ｂ−１）の厚さは２３μｍであった。
【００７０】
下記（１）〜（４）の方法に従い、積層パターンの耐溶剤性及び曲げクラック耐性、並びに、積層パターン形成基板の明度及び光学濃度を評価した。評価結果を、表１に示す。
【００７１】
（１）積層パターンの耐溶剤性
試験用溶剤（イソプロピルアルコール５０質量％とアセトン５０質量％との混合溶剤）を十分に染み込ませた綿製の白布（カナキン３号）を摩擦子として、積層パターン１のパターン（Ａ−１）側の表面に接触するよう重ねて、学振型ラビングテスターを用いて、一定荷重条件下（３００ｇ／ｃｍ２）でラビング試験（１０回往復）を行なった後、白布への黒色付着の有無を観察し、以下の判定基準に基づいて耐溶剤性を評価した。
○  ：  黒色付着が観られない
×  ：  黒色付着が観られる
（２）積層パターンの曲げクラック耐性
光学顕微鏡を用いて、基板側（パターン（Ｂ−１）側）から積層パターン１を倍率１０倍で観察し、その面内１ｃｍ２当たりのクラック発生箇所数を数え、以下の判定基準に基づいて曲げクラック耐性を評価した（Ａ及びＢが合格、Ｃが不合格）。
Ａ  ：  クラックが観られない
Ｂ  ：  １又は２箇所、クラックが観られる
Ｃ  ：  ３箇所以上、クラックが観られる
（３）積層パターン形成基板の明度
白色校正板（ＣＭ−Ａ１４５；コニカミノルタ（株）製）で校正した分光測色計（ＣＭ−２６００ｄ；コニカミノルタ（株）製）を用いて、標準光源Ｄ６５（色温度６５０４Ｋ）、視野角２°（ＣＩＥ１９７６）、大気圧下、２０℃の測定条件下で基板側からの入射光に対する全反射色度（ＳＣＩ、Ｌ＊ａ＊ｂ＊）を測定し、積層パターン形成基板の明度（Ｌ＊）を評価した。
【００７２】
なお測定は、分光測色計を逆さにして上向きに光を照射する状態にして、基板の、積層パターンが形成されたのとは反対側の面を、分光測色計の光照射部に押し当てて行なった。
【００７３】
（４）積層パターン形成基板の光学濃度
透過濃度計（Ｘ−Ｒｉｔｅ３６１Ｔ（Ｖ）；サカタインクスエンジニアリング（株）製）を用いて、積層パターン形成基板の光学濃度を評価した。なお測定は、積層パターン形成基板のパターンＡの表面を、透過濃度計の光照射部に押し当てて行なった。
【００７４】
（実施例２）
第二の露光工程を剥離工程後に、パターンＡ側から行なった以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン２及び積層パターン形成基板２を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００７５】
（実施例３）
パターンＢの形成に感光性白色樹脂組成物（Ｂ−２）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン３及び積層パターン形成基板３を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００７６】
（実施例４）
パターンＢの厚さを３８μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン４及び積層パターン形成基板４を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００７７】
（実施例５）
パターンＢの厚さを３９μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン５及び積層パターン形成基板５を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００７８】
（実施例６）
パターンＢの厚さを８μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン６及び積層パターン形成基板６を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００７９】
（実施例７）
パターンＢの厚さを７μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン７及び積層パターン形成基板７を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８０】
（実施例８）
パターンＡの形成に感光性黒色樹脂組成物（Ａ−２）を用いた以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン８及び積層パターン形成基板８を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８１】
（比較例１）
第二の露光工程を行なわなかった以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン９及び積層パターン形成基板９を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８２】
（比較例２）
第二の露光工程を剥離工程後に、パターンＢ側から行なった以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１０及び積層パターン形成基板１０を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８３】
（比較例３）
第二の露光工程を現像工程後に、パターンＢ側から行なった以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１１及び積層パターン形成基板１１を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８４】
（比較例４）
第二の露光工程を剥離工程後に、パターンＢ側から行ない、その露光量を２０００ｍＪ／ｃｍ２とした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１２及び積層パターン形成基板１２を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８５】
（比較例５）
第二の露光工程を現像工程後に、パターンＢ側から行ない、露光量を２０００ｍＪ／ｃｍ２とした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１３及び積層パターン形成基板１３を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８６】
（比較例６）
第二の露光工程を行なわず、パターンＢの厚さを８μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１４及び積層パターン形成基板１４を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８７】
（比較例７）
第二の露光工程を現像工程後に、パターンＢ側から行ない、露光量を２０００ｍＪ／ｃｍ２とし、パターンＢの厚さを８μｍとした以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１５及び積層パターン形成基板１５を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８８】
（比較例８）
第一の露光工程における露光量を２０００ｍＪ／ｃｍ２とし、第二の露光工程を行なわなかった以外は、実施例１と同じ方法で積層パターン１６及び積層パターン形成基板１６を得て、それを評価した。評価結果を、表１に示す。
【００８９】
【表１】
2016200615.tif 000002
【符号の説明】
【００９０】
１・・・支持体
２・・・塗布膜Ａ
３・・・塗布膜Ｂ
４・・・基板
５・・・パターンＡ
６・・・パターンＢ
【産業上の利用可能性】
【００９１】
本発明の積層パターンの製造方法は、加飾パターンが必要とされるタッチパネルや表示装置等に、好適に用いられる。
【図１】
2016200615.tif 000003
【図２】
2016200615.tif 000004
【図３】
2016200615.tif 000005