(57)【要約】【課題】高い電圧保持率を維持することができるポリマー層を形成する液晶組成物を提供する。【解決手段】液晶材料と一種以上のラジカル重合性モノマーとを含有し、該ラジカル重合性モノマーの少なくとも１つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である液晶組成物である。【選択図】図１
2016006130.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶材料と一種以上のラジカル重合性モノマーとを含有し、
該ラジカル重合性モノマーの少なくとも１つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である
ことを特徴とする液晶組成物。
【請求項２】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶組成物。
【化１】
2016006130.tif 000041
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ１及びＳｐ２は、同一又は異なって、炭素数１〜６の、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２が有する水素原子は、フッ素原子又は塩素原子に置換されていてもよい。
Ｒ１及びＲ２が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子及び硫黄原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２は、同一又は異なって、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、及び、Ｚ３は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ１及びＬ２は、同一又は異なって、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基及び該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状の、アルキル基又はアルケニル基に置換されていてもよい。
Ｌ１及びＬ２のアルキル基、アルケニル基、及び、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ１は、０、１又は２であり、ｎ２は、０又は１であり、ｎ１とｎ２の和は、１〜３である。）
【請求項３】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶組成物。
【化２】
2016006130.tif 000042
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ａ３は、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ４は、フェニレン基を表す。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ４及びＺ５は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ３は、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基、該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状のアルキル基又はアルケニル基と置換されていてもよい。
Ｌ３のアルキル基、アルケニル基、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ３は、０又は１である。）
【請求項４】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物であることを特徴とする請求項１に記載の液晶組成物。
【化３】
2016006130.tif 000043
（式中、Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。）
【請求項５】
前記液晶組成物は、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを含有することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の液晶組成物。
【請求項６】
前記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、下記化学式（４）で表される、光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることを特徴とする請求項５に記載の液晶組成物。
【化４】
2016006130.tif 000044
（式中、
Ａ５は、芳香環を表す。
Ａ６は、Ａ５と同一若しくは異なる芳香環、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基を表す。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方は、−Ｓｐ３−Ｐ基を含む。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方が有する芳香環は、ベンゼン環又はビフェニル環である。
Ａ５及びＡ６が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基、ハロゲン原子、−ＣＮ基、−ＮＯ２基、−ＮＣＯ基、−ＮＣＳ基、−ＯＣＮ基、−ＳＣＮ基、−ＳＦ５基、又は、炭素数１〜１２の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。
Ａ５及びＡ６が有する隣接する２つの水素原子は、炭素数１〜１２の直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基で置換されて環状構造となっていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基で置換されていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ｐは、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ３は、炭素数１〜６の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
ｍ１は、１又は２である。
Ａ５とＹとをつなぐ点線部分、及び、Ａ６とＹとをつなぐ点線部分は、Ａ５とＡ６との間にＹを介した結合が存在していてもよいことを表す。
Ｙは、−ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、又は、直接結合を表す。）
【請求項７】
前記光照射によってラジカルを形成する構造を有するモノマーは、下記化学式（５）で表される、光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることを特徴とする請求項５に記載の液晶組成物。
【化５】
2016006130.tif 000045
（式中、
Ｒ３は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ６−Ｐを表す。
Ｒ４は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ７−Ｐを表す。
Ｐは、同一又は異なるラジカル重合性基を表し、総数が二以上である。
Ｓｐ４は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ２が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ５は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ３が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ６は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｓｐ７は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｌ４は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ４が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ４が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ４は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ５は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ５が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ５が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ５は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する１つ以上の水素原子は、−Ｆ基又は−ＯＨ基に置換されていてもよい。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｓｐ４−Ｐ基、又は、−Ｓｐ５−Ｐ基で置換されていてもよい。
ｍ２は、１〜３のいずれかの整数である。
ｍ３は、０〜３のいずれかの整数である。
ｎ４は、０〜４のいずれかの整数である。
ｎ５は、０〜４のいずれかの整数である。
ｍ２とｎ４の合計は、１〜５のいずれかの整数である。
ｍ３とｎ５の合計は、０〜５のいずれかの整数である。
ｍ２とｍ３の合計は、１〜６のいずれかの整数である。）
【請求項８】
前記Ｐは、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、又は、ビニルオキシ基であることを特徴とする請求項２〜４、６又は７のいずれかに記載の液晶組成物。
【請求項９】
一対の基板と、
該一対の基板に挟持され、液晶材料を含有する液晶層と、
該一対の基板の少なくとも一方の基板上に形成された、液晶分子を配向制御するポリマー層とを備え、
該ポリマー層は、液晶層中に添加された一種以上のラジカル重合性モノマーが重合することによって形成されたものであり、
該ラジカル重合性モノマーの少なくとも一つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である
ことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項１０】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【化６】
2016006130.tif 000046
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ１及びＳｐ２は、同一又は異なって、炭素数１〜６の、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２が有する水素原子は、フッ素原子又は塩素原子に置換されていてもよい。
Ｒ１及びＲ２が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子及び硫黄原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２は、同一又は異なって、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、及び、Ｚ３は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ１及びＬ２は、同一又は異なって、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基及び該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状の、アルキル基又はアルケニル基に置換されていてもよい。
Ｌ１及びＬ２のアルキル基、アルケニル基、及び、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ１は、０、１又は２であり、ｎ２は、０又は１であり、ｎ１とｎ２の和は、１〜３である。）
【請求項１１】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【化７】
2016006130.tif 000047
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ａ３は、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ４は、フェニレン基を表す。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ４及びＺ５は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ３は、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基、該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状のアルキル基又はアルケニル基と置換されていてもよい。
Ｌ３のアルキル基、アルケニル基、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ３は、０又は１である。）
【請求項１２】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物であることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【化８】
2016006130.tif 000048
（式中、Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。）
【請求項１３】
前記液晶組成物は、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを含有することを特徴とする請求項９〜１２のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、下記化学式（４）で表される光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【化９】
2016006130.tif 000049
（式中、
Ａ５は、芳香環を表す。
Ａ６は、Ａ５と同一若しくは異なる芳香環、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基を表す。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方は、−Ｓｐ３−Ｐ基を含む。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方が有する芳香環は、ベンゼン環又はビフェニル環である。
Ａ５及びＡ６が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基、ハロゲン原子、−ＣＮ基、−ＮＯ２基、−ＮＣＯ基、−ＮＣＳ基、−ＯＣＮ基、−ＳＣＮ基、−ＳＦ５基、又は、炭素数１〜１２の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。
Ａ５及びＡ６が有する隣接する２つの水素原子は、炭素数１〜１２の直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基で置換されて環状構造となっていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基で置換されていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ｐは、重合性基を表す。
Ｓｐ３は、炭素数１〜６の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
ｍ１は、１又は２である。
Ａ５とＹとをつなぐ点線部分、及び、Ａ６とＹとをつなぐ点線部分は、Ａ５とＡ６との間にＹを介した結合が存在していてもよいことを表す。
Ｙは、−ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、又は、直接結合を表す。）
【請求項１５】
前記光照射によってラジカルを形成する構造を有するモノマーは、下記化学式（５）で表される光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることを特徴とする請求項１３に記載の液晶表示装置。
【化１０】
2016006130.tif 000050
（式中、
Ｒ３は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ６−Ｐを表す。
Ｒ４は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ７−Ｐを表す。
Ｐは、同一又は異なるラジカル重合性基を表し、総数が二以上である。
Ｓｐ４は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ２が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ５は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ３が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ６は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｓｐ７は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｌ４は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ４が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ４が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ４は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ５は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ５が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ５が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ５は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する１つ以上の水素原子は、−Ｆ基又は−ＯＨ基に置換されていてもよい。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｓｐ４−Ｐ基、又は、−Ｓｐ５−Ｐ基で置換されていてもよい。
ｍ２は、１〜３のいずれかの整数である。
ｍ３は、０〜３のいずれかの整数である。
ｎ４は、０〜４のいずれかの整数である。
ｎ５は、０〜４のいずれかの整数である。
ｍ２とｎ４の合計は、１〜５のいずれかの整数である。
ｍ３とｎ５の合計は、０〜５のいずれかの整数である。
ｍ２とｍ３の合計は、１〜６のいずれかの整数である。）
【請求項１６】
前記Ｐは、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、又は、ビニルオキシ基であることを特徴とする請求項１０〜１２、１４又は１５のいずれかに記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
一対の基板間に、液晶材料と、一種以上のラジカル重合性モノマーとを含有する液晶組成物を注入する工程と、
該液晶組成物に光を照射し、該ラジカル重合性モノマーを重合させて、基板上に液晶分子を配向制御するポリマー層を形成する工程とを有し、
該ラジカル重合性モノマーの少なくとも一つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である
ことを特徴とする液晶表示装置の製造方法。
【請求項１８】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（１）で表される化合物であることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【化１１】
2016006130.tif 000051
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ１及びＳｐ２は、同一又は異なって、炭素数１〜６の、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２が有する水素原子は、フッ素原子又は塩素原子に置換されていてもよい。
Ｒ１及びＲ２が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子及び硫黄原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２は、同一又は異なって、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、及び、Ｚ３は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ１及びＬ２は、同一又は異なって、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基及び該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状の、アルキル基又はアルケニル基と置換されていてもよい。
Ｌ１及びＬ２のアルキル基、アルケニル基、及び、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ１は、０、１又は２であり、ｎ２は、０又は１であり、ｎ１とｎ２の和は、１〜３である。）
【請求項１９】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（２）で表される化合物であることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【化１２】
2016006130.tif 000052
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ａ３は、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ４は、フェニレン基を表す。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ４及びＺ５は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ３は、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基、該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状のアルキル基又はアルケニル基と置換されていてもよい。
Ｌ３のアルキル基、アルケニル基、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ３は、０又は１である。）
【請求項２０】
前記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物であることを特徴とする請求項１７に記載の液晶表示装置の製造方法。
【化１３】
2016006130.tif 000053
（式中、Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。）
【請求項２１】
前記液晶組成物は、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを含有することを特徴とする請求項１７〜２０のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【請求項２２】
前記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、下記化学式（４）で表される光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【化１４】
2016006130.tif 000054
（式中、
Ａ５は、芳香環を表す。
Ａ６は、Ａ５と同一若しくは異なる芳香環、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基を表す。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方は、−Ｓｐ３−Ｐ基を含む。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方が有する芳香環は、ベンゼン環又はビフェニル環である。
Ａ５及びＡ６が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基、ハロゲン原子、−ＣＮ基、−ＮＯ２基、−ＮＣＯ基、−ＮＣＳ基、−ＯＣＮ基、−ＳＣＮ基、−ＳＦ５基、又は、炭素数１〜１２の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。
Ａ５及びＡ６が有する隣接する２つの水素原子は、炭素数１〜１２の直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基で置換されて環状構造となっていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基で置換されていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ｐは、重合性基を表す。
Ｓｐ３は、炭素数１〜６の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
ｍ１は、１又は２である。
Ａ５とＹとをつなぐ点線部分、及び、Ａ６とＹとをつなぐ点線部分は、Ａ５とＡ６との間にＹを介した結合が存在していてもよいことを表す。
Ｙは、−ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、又は、直接結合を表す。）
【請求項２３】
前記光照射によってラジカルを形成する構造を有するモノマーは、下記化学式（５）で表される光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることを特徴とする請求項２１に記載の液晶表示装置の製造方法。
【化１５】
2016006130.tif 000055
（式中、
Ｒ３は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ６−Ｐを表す。
Ｒ４は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ７−Ｐを表す。
Ｐは、同一又は異なるラジカル重合性基を表し、総数が二以上である。
Ｓｐ４は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ２が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ５は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ３が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ６は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｓｐ７は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｌ４は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ４が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ４が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ４は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ５は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ５が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ５が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ５は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する１つ以上の水素原子は、−Ｆ基又は−ＯＨ基に置換されていてもよい。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｓｐ４−Ｐ基、又は、−Ｓｐ５−Ｐ基で置換されていてもよい。
ｍ２は、１〜３のいずれかの整数である。
ｍ３は、０〜３のいずれかの整数である。
ｎ４は、０〜４のいずれかの整数である。
ｎ５は、０〜４のいずれかの整数である。
ｍ２とｎ４の合計は、１〜５のいずれかの整数である。
ｍ３とｎ５の合計は、０〜５のいずれかの整数である。
ｍ２とｍ３の合計は、１〜６のいずれかの整数である。）
【請求項２４】
前記Ｐは、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、又は、ビニルオキシ基であることを特徴とする請求項１８〜２０、２２又は２３のいずれかに記載の液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶組成物、液晶表示装置及び液晶表示装置の製造方法に関する。より詳しくは、液晶分子を配向制御することができるポリマー層を形成するための液晶組成物、液晶組成物中に含まれるモノマーを重合させて形成したポリマー層（以下、ＰＳＡ（Polymer Sustained Alignment）：配向維持層ともいう。）を用いて液晶分子の配向性を制御する液晶表示装置、及び、該液晶表示装置を作製するために好適な製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示（ＬＣＤ：Liquid Crystal Display）装置は、複屈折性を有する液晶分子の配向を制御することにより光の透過／遮断（表示のオン／オフ）を制御する機器である。ＬＣＤの液晶配向モードとしては、正の誘電率異方性を有する液晶分子を基板法線方向から見たときに９０°捩れた状態で配向させるＴＮ（Twisted Nematic）モード、負の誘電率異方性を有する液晶分子を基板面に対して垂直配向させる垂直配向（ＶＡ：Vertical Alignment）モード、正の誘電率異方性を有する液晶分子を基板面に対して水平配向させて液晶層に対し横電界を印加する面内スイッチング（ＩＰＳ：In-Plane Switching）モード及びフリンジ電界スイッチング（ＦＦＳ：Fringe Field Switching）モード等が挙げられる。
【０００３】
垂直配向モードでは、液晶分子の初期配向は、基板面に対して垂直である。液晶分子を基板面に対して垂直に配向させる方法としては、液晶表示装置の基板面に垂直配向膜を形成する方法が主流である。
【０００４】
また、近年、配向膜上又は配向膜を有さない基板上に、液晶分子の配向を制御するポリマー層（ＰＳＡ層）を形成する技術が注目を集めている。ＰＳＡ層は、液晶材料にモノマーやオリゴマー等の重合性成分（以下、モノマー等と略称する）を混合した液晶組成物を基板間に封入し、熱又は光（例えば、紫外線）照射によって、モノマー等を重合してポリマー層（ＰＳＡ層）を形成する。このようなポリマー層によっても、液晶分子の配向を維持することができる。
【０００５】
特許文献１には、配向膜を有さず、その代わりとして、液晶の注入後に光照射によって形成された硬化樹脂層を有する液晶表示装置が開示されている。この樹脂層は、液晶表示パネルの中間製品に液晶を注入した後、単官能性モノマーと多官能性モノマーを組み合わせて含む硬化性樹脂の硬化によって形成されたものであり、樹脂層の表面から、硬化性樹脂を構成する分子の垂直配向発現性官能基が、基板の表面に対してほぼ一定の角度で傾斜して発生しており、液晶分子を垂直に配向させることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１８４８４６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らが検討を行ったところ、液晶材料、モノマー、重合開始剤等を含む液晶組成物を一対の基板間に注入し、所定の条件で重合反応を生じさせてポリマー層を形成したとしても、用いる材料や製造条件によっては良好な表示が得られない場合があることが明らかとなった。
【０００８】
特許文献１では、ポリマー層を形成するモノマーとして、低級アルキル基を有する多官能モノマーを用いることが検討されている。しかし、本発明者らが検討を行ったところ、特許文献１に開示されているモノマーは、アルキル基の炭素数が少ないため、液晶分子との分子間相互作用が弱く基板面に対して垂直に配向させることが困難であることが明らかとなった。
【０００９】
本発明者らは、ポリマー層を形成する他のモノマーについて更に検討を行ったところ、下記化学式（３５）で表されるラウリルアクリレートは、炭素数が１２のアルキル基を有し、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができるものの、輝点や輝線などの配向欠陥が観察され、また、電圧保持率（ＶＨＲ）の低下を引き起こすことを見いだした。
【００１０】
【化１】
2016006130.tif 000003
【００１１】
本発明は、上記現状に鑑みてなされたものであり、高い電圧保持率を維持することができるポリマー層を形成する液晶組成物、高い電圧保持率を維持することができる液晶表示装置、及び、高い電圧保持率を維持することができる液晶表示装置の製造方法を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、ＶＨＲが低下する原因について、種々の検討を行ったところ、ラジカル重合性モノマーは、紫外線照射によりラジカルを発生し、重合することでポリマー層を形成するが、上記ラウリルアクリレートは、重合性基を１つしか有さないため、重合速度が低下し、重合末端である重合性基に発生したラジカルが不純物として液晶層中に残存し、ＶＨＲを低下させる原因となることを見いだした。
【００１３】
本発明者らは、更に、液晶分子の配向を安定化させるとともに、高い電圧保持率を維持することができるモノマーについて検討を行ったところ、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成されたラジカル重合性モノマーを用いると、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができ、かつ、高いＶＨＲを維持することができることを見いだした。
【００１４】
こうして、本発明者らは、上記課題をみごとに解決することができることに想到し、本発明に到達したものである。
【００１５】
本発明の一形態は、液晶材料と一種以上のラジカル重合性モノマーとを含有し、該ラジカル重合性モノマーの少なくとも１つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物であることを特徴とする液晶組成物である。
【００１６】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物は、炭素原子が、１つ以上の酸素原子、窒素原子、又は、硫黄原子に置換されていてもよい。
【００１７】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物と、２つの重合性基とは、直接結合していても、原子団を介して結合していてもよい。該原子団は、例えば、後述のＳｐ１、Ｒ１、Ｓｐ２、Ｒ２が挙げられる。更に、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基を結合した化合物と、炭素数１２以上の炭化水素基とは、直接結合していても、原子団を介して結合してもよい。該原子団は、例えば、後述のＺ２、Ｚ３が挙げられる。
【００１８】
上記一種以上のラジカル重合性モノマーは、重合することで液晶分子の配向を制御することができるポリマー層を形成することができる。また、炭素数１２以上の炭化水素基を有するため、液晶分子との強い分子間相互作用により液晶分子を安定して配向制御することができる。更に、重合性基を２つ有するため、該ポリマー層を形成する際にポリマー層に取り込まれ易く、不純物として液晶層中に残存し難いため、ＶＨＲの低下を引き起こし難い。
【００１９】
本発明の液晶組成物の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではない。
【００２０】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（１）で表される化合物であることが好ましい。
【００２１】
【化２】
2016006130.tif 000004
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ１及びＳｐ２は、同一又は異なって、炭素数１〜６の、直鎖状、分岐状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｒ１及びＲ２が有する水素原子は、フッ素原子又は塩素原子に置換されていてもよい。
Ｒ１及びＲ２が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子及び硫黄原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２は、同一又は異なって、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ１及びＡ２が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ１、Ｚ２、及び、Ｚ３は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ１及びＬ２は、同一又は異なって、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基及び該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状の、アルキル基又はアルケニル基に置換されていてもよい。
Ｌ１及びＬ２のアルキル基、アルケニル基、及び、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ１は、０、１又は２であり、ｎ２は、０又は１であり、ｎ１とｎ２の和は、１〜３である。）
【００２２】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（２）で表される化合物であることが好ましい。
【００２３】
【化３】
2016006130.tif 000005
（式中、
Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。
Ａ３は、３価の、脂環式、芳香族単環式、又は、縮合多環式の炭化水素基を表す。
Ａ４は、フェニレン基を表す。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ２−基は、互いに隣接しない限り−Ｏ−基又は−Ｓ−基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する−ＣＨ＝基は、互いに隣接しない限り−Ｎ＝基で置換されていてもよい。
Ａ３及びＡ４が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子、−ＣＮ基、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基、アルコキシ基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基若しくはアルキルカルボニルオキシ基に置換されていてもよく、更にこれらの炭素原子の１つ以上がケイ素原子に置換されていてもよい。
Ｚ４及びＺ５は、同一又は異なって、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＮＨＣＯ−基、−Ｎ（ＣＨ３）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）ＣＯ−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）ＣＯ−基、−ＣＯＮＨ−基、−ＣＯＮ（ＣＨ３）−基、−ＣＯＮ（Ｃ２Ｈ５）−基、−ＣＯＮ（Ｃ３Ｈ７）−基、−ＣＯＮ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、又は、直接結合を表す。
Ｌ３は、炭素数１２以上の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基、又は、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基を表す。該アルキル基及び該アルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。該アラルキル基、該１価の単環式又は多環式の炭化水素基が有する１つ以上の水素原子は、それぞれ炭素数１〜８の直鎖状又は分枝状のアルキル基又はアルケニル基と置換されていてもよい。
Ｌ３のアルキル基、アルケニル基、１価の単環式若しくは多環式の炭化水素基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子が隣接しない限り−Ｏ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
ｎ３は、０又は１である。）
【００２４】
上記化学式（１）及び（２）で表される化合物のＡ１、Ａ２、及び、Ａ３が有する３価の、脂環式、芳香族単環式、及び、縮合多環式の炭化水素基は、ベンゼン−１，２，３−トリイル基、ベンゼン−１，２，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，５−トリイル基、ピリジン−２，３，４−トリイル基、ピリジン−２，３，５−トリイル基、ピリジン−２，４，６−トリイル基、ナフタレン−１，２，５−トリイル基、ナフタレン−１，２，６−トリイル基、ナフタレン−１，２，７−トリイル基、ナフタレン−１，２，８−トリイル基、ナフタレン−１，３，５−トリイル基、ナフタレン−１，３，６−トリイル基、ナフタレン−１，３，７−トリイル基、ナフタレン−１，３，８−トリイル基、ナフタレン−１，４，５−トリイル基、ナフタレン−１，４，６−トリイル基、ナフタレン−１，４，７−トリイル基、ナフタレン−１，６，７−トリイル基、ナフタレン−１，６，８−トリイル基、ナフタレン−２，３，６−トリイル基、シクロへキサン−１，２，３−トリイル基、シクロへキサン−１，２，４−トリイル基、シクロへキサン−１，３，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，６，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，６，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−２，３，６−トリイル基、インダン−１，１，５−トリイル基、インダン−１，１，６−トリイル基、インダン−１，３，５−トリイル基、インダン−１，３，６−トリイル基、フェナントレン−１，２，６−トリイル基、フェナントレン−１，２，７−トリイル基、フェナントレン−１，２，８−トリイル基、フェナントレン−１，２，９−トリイル基、フェナントレン−１，３，６−トリイル基、フェナントレン−１，３，７−トリイル基、フェナントレン−１，３，８−トリイル基、フェナントレン−１，３，９−トリイル基、フェナントレン−１，６，７−トリイル基、フェナントレン−１，６，９−トリイル基、フェナントレン−１，７，９−トリイル基、フェナントレン−１，８，９−トリイル基、フェナントレン−１，９，１０−トリイル基、フェナントレン−２，３，６−トリイル基、フェナントレン−２，３，７−トリイル基、フェナントレン−２，３，９−トリイル基、フェナントレン−２，７，９−トリイル基、フェナントレン−２，９，１０−トリイル基、フェナントレン−３，６，７−トリイル基、フェナントレン−３，６，９−トリイル基、フェナントレン−３，９，１０−トリイル基、アントラセン−１，２，５−トリイル基、アントラセン−１，２，６−トリイル基、アントラセン−１，２，７−トリイル基、アントラセン−１，２，８−トリイル基、アントラセン−１，２，９−トリイル基、アントラセン−１，２，１０−トリイル基、アントラセン−１，３，５−トリイル基、アントラセン−１，３，６−トリイル基、アントラセン−１，３，７−トリイル基、アントラセン−１，３，８−トリイル基、アントラセン−１，３，９−トリイル基、アントラセン−１，３，１０−トリイル基、アントラセン−１，４，５−トリイル基、アントラセン−１，４，６−トリイル基、アントラセン−１，４，８−トリイル基、アントラセン−１，４，９−トリイル基、アントラセン−１，５，９−トリイル基、アントラセン−１，６，７−トリイル基、アントラセン−１，６，９−トリイル基、アントラセン−１，７，９−トリイル基、アントラセン−１，８，９−トリイル基、アントラセン−１，９，１０−トリイル基、アントラセン−２，３，６−トリイル基、アントラセン−２，３，９−トリイル基、アントラセン−２，６，９−トリイル基、アントラセン−２，７，９−トリイル基、アントラセン−２，７，１０−トリイル基、又は、アントラセン−２，９，１０−トリイル基であることが好ましい。  
上記Ａ４に記載のフェニレン基は、ベンゼン−１，２−ジイル基、ベンゼン−１，３−ジイル基、又は、ベンゼン−１，４−ジイル基であることが好ましい。
【００２５】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、下記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
【００２６】
【化４】
2016006130.tif 000006
（式中、Ｐは、同一又は異なって、ラジカル重合性基を表す。）
【００２７】
上記液晶組成物は、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを含有することが好ましい。このようなモノマーを用いることで、新たに重合開始剤を追加する必要なく重合反応を進行させることができ、よりＶＨＲの低下を妨げることができる。
【００２８】
また、３００ｎｍ付近の波長成分を長時間照射することにより、液晶表示装置のパネル内の構造物が劣化し、表示装置としての性能を損なう例があるため、品質保持の観点からは、上記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを併せて用い、重合反応に要する光照射時間を短縮することが有効である。更に、上記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、３００ｎｍ以上、より好ましくは３５０ｎｍ以上の波長成分を有する光を照射することによって、効率よくラジカルを発生する構造を有することが好ましい。
【００２９】
上記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、下記化学式（４）で表される、光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることが好ましい。
【００３０】
【化５】
2016006130.tif 000007
（式中、
Ａ５は、芳香環を表す。
Ａ６は、Ａ５と同一若しくは異なる芳香環、又は、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基を表す。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方は、−Ｓｐ３−Ｐ基を含む。
Ａ５及びＡ６の少なくとも一方が有する芳香環は、ベンゼン環又はビフェニル環である。
Ａ５及びＡ６が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基、ハロゲン原子、−ＣＮ基、−ＮＯ２基、−ＮＣＯ基、−ＮＣＳ基、−ＯＣＮ基、−ＳＣＮ基、−ＳＦ５基、又は、炭素数１〜１２の、アルキル基、アルケニル基若しくはアラルキル基で置換されていてもよく、該アルキル基及びアルケニル基は、直鎖状であっても分枝状であってもよい。
Ａ５及びＡ６が有する隣接する２つの水素原子は、炭素数１〜１２の直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基で置換されて環状構造となっていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する水素原子は、−Ｓｐ３−Ｐ基で置換されていてもよい。
Ａ５及びＡ６のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。
Ｐは、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ３は、炭素数１〜６の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
ｍ１は、１又は２である。
Ａ５とＹとをつなぐ点線部分、及び、Ａ６とＹとをつなぐ点線部分は、Ａ５とＡ６との間にＹを介した結合が存在していてもよいことを表す。
Ｙは、−ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、又は、直接結合を表す。）
【００３１】
上記化学式（４）で表される化合物は、下記化学式（６−１）〜（６−８）のいずれかで表される化合物であることが好ましい。
【００３２】
【化６】
2016006130.tif 000008
（式中、
Ｒ５及びＲ６は、同一若しくは異なって、−Ｓｐ８−Ｐ基、水素原子、ハロゲン原子、−ＣＮ基、−ＮＯ２基、−ＮＣＯ基、−ＮＣＳ基、−ＯＣＮ基、−ＳＣＮ基、−ＳＦ５基、炭素数１〜１２の直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアラルキル基、又は、フェニル基を表す。
Ｒ５及びＲ６の少なくとも一方は、−Ｓｐ８−Ｐ基を含む。
Ｐは、ラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ８は、炭素数１〜６の直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基若しくはアルキレンオキシ基、又は、直接結合を表す。
Ｒ５及びＲ６の少なくとも一方が、炭素数１〜１２の、アルキル基若しくはアラルキル基、又は、フェニル基であるとき、Ｒ５及びＲ６が有する水素原子は、フッ素原子、塩素原子又は−Ｓｐ８−Ｐ基に置換されていてもよい。
Ｒ５及びＲ６が有する−ＣＨ２−基は、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、又は、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基で置換されていてもよい。）
【００３３】
上記化学式（４）及び（６−１）〜（６−８）で表される化合物は、光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成するため、新たに重合開始剤を添加する必要がない。また、重合性基を有するため、ポリマー層を形成する際にポリマー層に取り込まれ易く、不純物として液晶層中に残存し難いため、ＶＨＲの低下を引き起こし難い。
【００３４】
上記化学式（６−１）〜（６−６）で表されるいずれかの構造を有する化合物は、吸収波長域を３８０ｎｍ付近まで有し、上記化学式（６−７）又は（６−８）で表される化合物は、吸収波長域を４３０ｎｍ付近まで有する。したがって、上記化学式（６−１）〜（６−８）で表されるいずれかの構造を有する化合物を併せて用いることで、短波長の光（例えば、３００ｎｍ未満の波長をもつ光）をカットしても、液晶表示装置の製造における、光照射による重合反応速度を速くすることができ、スループットを改善することができる。更に、上記化学式（６−７）又は（６−８）で表される化合物は、上記化学式（６−１）〜（６−６）で表されるいずれかの構造を有する化合物よりも光の吸収波長域が広く、光利用効率が高くなるため、液晶表示装置の一対の基板のそれぞれに偏光板を貼り付けた後であっても、光を照射し、ラジカル重合性モノマーを重合させることができる。
【００３５】
上記光照射によってラジカルを形成する構造を有するモノマーは、下記化学式（５）で表される、光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であることが好ましい。
【００３６】
【化７】
2016006130.tif 000009
（式中、
Ｒ３は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ６−Ｐを表す。
Ｒ４は、炭素数１〜４の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、−Ｓｐ７−Ｐを表す。
Ｐは、同一又は異なるラジカル重合性基を表し、総数が二以上である。
Ｓｐ４は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ２が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ５は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表し、ｍ３が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
Ｓｐ６は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｓｐ７は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状又は環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基又はアルキレンカルボニルオキシ基を表す。
Ｌ４は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ４が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ４が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ４は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ５は、−Ｆ基、−ＯＨ基、又は、炭素数１〜１２の、直鎖状若しくは分枝状のアルキル基若しくはアルケニル基、又は、アラルキル基を表し、ｎ５が２以上の場合は、同一であっても、異なっていてもよい。
２つのＬ５が、芳香環における２つの隣接する炭素原子にそれぞれ結合している場合、互いに結合して環状構造となっていてもよく、該２つのＬ５は、同一又は異なって、炭素数１〜１２の、直鎖状又は分枝状のアルキレン基又はアルケニレン基となる。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する１つ以上の水素原子は、−Ｆ基又は−ＯＨ基に置換されていてもよい。
Ｌ４及びＬ５のアルキル基、アルケニル基、アルキレン基、アルケニレン基又はアラルキル基が有する−ＣＨ２−基はそれぞれ、酸素原子、硫黄原子及び窒素原子が互いに隣接しない限り−Ｏ−基、−Ｓ−基、−ＮＨ−基、−ＣＯ−基、−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−基、−Ｏ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｏ−基、−ＳＣＨ２−基、−ＣＨ２Ｓ−基、−Ｎ（ＣＨ３）−基、−Ｎ（Ｃ２Ｈ５）−基、−Ｎ（Ｃ３Ｈ７）−基、−Ｎ（Ｃ４Ｈ９）−基、−ＣＦ２Ｏ−基、−ＯＣＦ２−基、−ＣＦ２Ｓ−基、−ＳＣＦ２−基、−Ｎ（ＣＦ３）−基、−ＣＨ２ＣＨ２−基、−ＣＦ２ＣＨ２−基、−ＣＨ２ＣＦ２−基、−ＣＦ２ＣＦ２−基、−ＣＨ＝ＣＨ−基、−ＣＦ＝ＣＦ−基、−Ｃ≡Ｃ−基、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＯＯ−基、−ＯＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ−基、−Ｓｐ４−Ｐ基、又は、−Ｓｐ５−Ｐ基で置換されていてもよい。
ｍ２は、１〜３のいずれかの整数である。
ｍ３は、０〜３のいずれかの整数である。
ｎ４は、０〜４のいずれかの整数である。
ｎ５は、０〜４のいずれかの整数である。
ｍ２とｎ４の合計は、１〜５のいずれかの整数である。
ｍ３とｎ５の合計は、０〜５のいずれかの整数である。
ｍ２とｍ３の合計は、１〜６のいずれかの整数である。）
【００３７】
上記化学式（５）で表される化合物は、下記化学式（７）で表される化合物であることが好ましい。
【００３８】
【化８】
2016006130.tif 000010
（式中、
Ｒ７は、炭素数１〜４の、直鎖状又は分枝状のアルキル基又はアルケニル基を表す。
Ｒ８は、炭素数１〜４の、直鎖状又は分枝状のアルキル基又はアルケニル基を表す。
Ｐは、同一又は異なってラジカル重合性基を表す。
Ｓｐ９は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表す。
Ｓｐ１０は、炭素数１〜６の、直鎖状、分枝状若しくは環状のアルキレン基、アルキレンオキシ基若しくはアルキレンカルボニルオキシ基、又は、直接結合を表す。）
【００３９】
上記化学式（５）及び（７）で表される化合物は、光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成するため、新たに重合開始剤を添加する必要がない。また、重合性基を有するため、ポリマー層を形成する際にポリマー層に取り込まれ易く、不純物として液晶層中に残存し難いため、ＶＨＲの低下を引き起こし難い。
【００４０】
上記化学式（１）〜（７）で表される化合物に含まれるＰは、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、又は、ビニルオキシ基であることが好ましい。
【００４１】
また、本発明は、上記液晶組成物を用いて好適に作製される液晶表示装置でもある。
【００４２】
本発明の他の一形態は、一対の基板と、該一対の基板に挟持され、液晶材料を含有する液晶層と、該一対の基板の少なくとも一方の基板上に形成された、液晶分子を配向制御するポリマー層とを備え、該ポリマー層は、液晶層中に添加された一種以上のラジカル重合性モノマーが重合することによって形成されたものであり、該ラジカル重合性モノマーの少なくとも一つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である液晶表示装置である。
【００４３】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物は、炭素原子が、１つ以上の酸素原子、窒素原子、又は、硫黄原子に置換されていてもよい。
【００４４】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物と、２つの重合性基とは、直接結合していても、原子団を介して結合していてもよい。該原子団は、例えば、後述のＳｐ１、Ｒ１、Ｓｐ２、Ｒ２が挙げられる。更に、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基を結合した化合物と、炭素数１２以上の炭化水素基とは、直接結合していても、原子団を介して結合してもよい。該原子団は、例えば、後述のＺ２、Ｚ３が挙げられる。
【００４５】
本発明の液晶表示装置が備える一対の基板は、例えば、一方をアレイ基板、他方をカラーフィルタ基板として用いられる。アレイ基板は、複数の画素電極を備え、これにより画素単位で液晶の配向が制御される。カラーフィルタ基板は、複数色のカラーフィルタが、アレイ基板の画素電極とそれぞれ重畳する位置に配置され、画素単位で表示色が制御される。
【００４６】
上記一対の基板の少なくとも一方の基板上には、液晶分子を配向制御するポリマー層が形成されており、上記ポリマー層は、液晶層中に添加された一種以上のラジカル重合性モノマーが重合することによって形成されたものである。上記ポリマー層を形成することにより、ポリマー層に近接する液晶分子の初期傾斜を一定の方向に傾かせることができる。例えば、液晶分子がプレチルト配向している状態でモノマーを重合させ、ポリマー層を形成した場合には、ポリマー層は液晶分子に対してプレチルト配向させる構造を有する形で形成されることになる。
【００４７】
上記ラジカル重合性モノマーの少なくとも一つは、炭素数１２以上の炭化水素基を有するため、液晶分子との強い分子間相互作用により、上記ポリマー層は、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができる。
【００４８】
本発明の液晶表示装置の構成としては、このような構成要素を必須として形成されるものである限り、その他の構成要素により特に限定されるものではない。
【００４９】
本発明の液晶表示装置の好ましい形態としては、本発明の液晶組成物の好ましい形態として説明した内容と同様の下記（ａ）〜（ｊ）の形態が挙げられる。すなわち、
（ａ）上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、上記化学式（１）で表される化合物である形態、
（ｂ）上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、上記化学式（２）で表される化合物である形態、
（ｃ）上記化学式（１）及び（２）で表される化合物のＡ１、Ａ２、及び、Ａ３が有する３価の、脂環式、芳香族単環式、及び、縮合多環式の炭化水素基は、ベンゼン−１，２，３−トリイル基、ベンゼン−１，２，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，５−トリイル基、ピリジン−２，３，４−トリイル基、ピリジン−２，３，５−トリイル基、ピリジン−２，４，６−トリイル基、ナフタレン−１，２，５−トリイル基、ナフタレン−１，２，６−トリイル基、ナフタレン−１，２，７−トリイル基、ナフタレン−１，２，８−トリイル基、ナフタレン−１，３，５−トリイル基、ナフタレン−１，３，６−トリイル基、ナフタレン−１，３，７−トリイル基、ナフタレン−１，３，８−トリイル基、ナフタレン−１，４，５−トリイル基、ナフタレン−１，４，６−トリイル基、ナフタレン−１，４，７−トリイル基、ナフタレン−１，６，７−トリイル基、ナフタレン−１，６，８−トリイル基、ナフタレン−２，３，６−トリイル基、シクロへキサン−１，２，３−トリイル基、シクロへキサン−１，２，４−トリイル基、シクロへキサン−１，３，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，６，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，６，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−２，３，６−トリイル基、インダン−１，１，５−トリイル基、インダン−１，１，６−トリイル基、インダン−１，３，５−トリイル基、インダン−１，３，６−トリイル基、フェナントレン−１，２，６−トリイル基、フェナントレン−１，２，７−トリイル基、フェナントレン−１，２，８−トリイル基、フェナントレン−１，２，９−トリイル基、フェナントレン−１，３，６−トリイル基、フェナントレン−１，３，７−トリイル基、フェナントレン−１，３，８−トリイル基、フェナントレン−１，３，９−トリイル基、フェナントレン−１，６，７−トリイル基、フェナントレン−１，６，９−トリイル基、フェナントレン−１，７，９−トリイル基、フェナントレン−１，８，９−トリイル基、フェナントレン−１，９，１０−トリイル基、フェナントレン−２，３，６−トリイル基、フェナントレン−２，３，７−トリイル基、フェナントレン−２，３，９−トリイル基、フェナントレン−２，７，９−トリイル基、フェナントレン−２，９，１０−トリイル基、フェナントレン−３，６，７−トリイル基、フェナントレン−３，６，９−トリイル基、フェナントレン−３，９，１０−トリイル基、アントラセン−１，２，５−トリイル基、アントラセン−１，２，６−トリイル基、アントラセン−１，２，７−トリイル基、アントラセン−１，２，８−トリイル基、アントラセン−１，２，９−トリイル基、アントラセン−１，２，１０−トリイル基、アントラセン−１，３，５−トリイル基、アントラセン−１，３，６−トリイル基、アントラセン−１，３，７−トリイル基、アントラセン−１，３，８−トリイル基、アントラセン−１，３，９−トリイル基、アントラセン−１，３，１０−トリイル基、アントラセン−１，４，５−トリイル基、アントラセン−１，４，６−トリイル基、アントラセン−１，４，８−トリイル基、アントラセン−１，４，９−トリイル基、アントラセン−１，５，９−トリイル基、アントラセン−１，６，７−トリイル基、アントラセン−１，６，９−トリイル基、アントラセン−１，７，９−トリイル基、アントラセン−１，８，９−トリイル基、アントラセン−１，９，１０−トリイル基、アントラセン−２，３，６−トリイル基、アントラセン−２，３，９−トリイル基、アントラセン−２，６，９−トリイル基、アントラセン−２，７，９−トリイル基、アントラセン−２，７，１０−トリイル基、又は、アントラセン−２，９，１０−トリイル基である。前記Ａ４に記載のフェニレン基は、ベンゼン−１，２−ジイル基、ベンゼン−１，３−ジイル基、又は、ベンゼン−１，４−ジイル基である形態、
（ｄ）上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、上記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物である形態、
（ｅ）上記液晶組成物は、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを含有する形態、
（ｆ）上記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、上記化学式（４）で表される光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物である形態、
（ｇ）上記化学式（４）で表される化合物は、上記化学式（６−１）〜（６−８）のいずれかで表される化合物である形態、
（ｈ）上記光照射によってラジカルを形成する構造を有するモノマーは、上記化学式（５）で表される光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物である形態、
（ｉ）上記化学式（５）で表される化合物は、上記化学式（７）で表される化合物である形態、及び、
（ｊ）上記化学式（１）〜（７）で表される化合物に含まれるＰは、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、又は、ビニルオキシ基を表す形態が挙げられる。
【００５０】
また、本発明は、上記液晶組成物が好適に用いられる液晶表示装置の製造方法でもある。
【００５１】
本発明の他の一形態は、一対の基板間に、液晶材料と、一種以上のラジカル重合性モノマーとを含有する液晶組成物を注入する工程と、該液晶組成物に光を照射し、該ラジカル重合性モノマーを重合させて、基板上に液晶分子を配向制御するポリマー層を形成する工程とを有し、該ラジカル重合性モノマーの少なくとも一つは、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である液晶表示装置の製造方法である。
【００５２】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物は、炭素原子が、１つ以上の酸素原子、窒素原子、又は、硫黄原子に置換されていてもよい。
【００５３】
上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物と、２つの重合性基とは、直接結合していても、原子団を介して結合していてもよい。該原子団は、例えば、後述のＳｐ１、Ｒ１、Ｓｐ２、Ｒ２が挙げられる。更に、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基を結合した化合物と、炭素数１２以上の炭化水素基とは、直接結合していても、原子団を介して結合してもよい。該原子団は、例えば、後述のＺ２、Ｚ３が挙げられる。
【００５４】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、一対の基板間に、液晶材料と、一種以上のラジカル重合性モノマーとを含有する液晶組成物を注入する工程を有する。ここでの液晶材料及びラジカル重合性モノマーは、上述の本発明の液晶表示装置で説明したものと同様のものを用いることができる。
【００５５】
本発明の液晶表示装置の製造方法は、上記液晶組成物に光を照射し、上記ラジカル重合性モノマーを重合させて、基板上に液晶分子を配向制御するポリマー層を形成する工程を有する。本発明の製造方法によれば、液晶分子の配向を制御することができ、かつ電圧保持率の低下を抑制することができる液晶表示装置が得られる。
【００５６】
上記ポリマー層を形成する工程としては、液晶層に対して閾値以上の電圧を印加しない状態で行われる工程が挙げられる。閾値以上の電圧を印加しない状態であっても、液晶分子の初期配向を強化するポリマー層を形成することができる。
【００５７】
上記ポリマー層を形成する工程としては、液晶層に対して閾値以上の電圧を印加した状態で行われる工程が挙げられる。ＰＳＡ重合工程を行う際に、液晶層に対し閾値以上の電圧を印加した状態で光照射を行うことで、閾値以上の電圧印加状態で配向した液晶分子にならった形で重合体が形成される。そのため、形成されるポリマー層は、後に電圧無印加状態となっても液晶分子に対しプレチルト角を規定する構造をもつことになる。
【００５８】
本発明の液晶表示装置の製造方法としては、このような工程を必須とするものである限り、その他の工程により特に限定されるものではない。
【００５９】
本発明の液晶表示装置の製造方法の好ましい形態としては、本発明の液晶組成物の好ましい形態として説明した内容と同様の下記（ｋ）〜（ｔ）の形態が挙げられる。すなわち、
（ｋ）上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、上記化学式（１）で表される化合物である形態、
（ｌ）上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、上記化学式（２）で表される化合物である形態、
（ｍ）上記化学式（１）及び（２）で表される化合物のＡ１、Ａ２、及び、Ａ３が有する３価の、脂環式、芳香族単環式、及び、縮合多環式の炭化水素基は、ベンゼン−１，２，３−トリイル基、ベンゼン−１，２，４−トリイル基、ベンゼン−１，３，５−トリイル基、ピリジン−２，３，４−トリイル基、ピリジン−２，３，５−トリイル基、ピリジン−２，４，６−トリイル基、ナフタレン−１，２，５−トリイル基、ナフタレン−１，２，６−トリイル基、ナフタレン−１，２，７−トリイル基、ナフタレン−１，２，８−トリイル基、ナフタレン−１，３，５−トリイル基、ナフタレン−１，３，６−トリイル基、ナフタレン−１，３，７−トリイル基、ナフタレン−１，３，８−トリイル基、ナフタレン−１，４，５−トリイル基、ナフタレン−１，４，６−トリイル基、ナフタレン−１，４，７−トリイル基、ナフタレン−１，６，７−トリイル基、ナフタレン−１，６，８−トリイル基、ナフタレン−２，３，６−トリイル基、シクロへキサン−１，２，３−トリイル基、シクロへキサン−１，２，４−トリイル基、シクロへキサン−１，３，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，２，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，３，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，５−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，６−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，４，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，６，７−トリイル基、デカヒドロナフタレン−１，６，８−トリイル基、デカヒドロナフタレン−２，３，６−トリイル基、インダン−１，１，５−トリイル基、インダン−１，１，６−トリイル基、インダン−１，３，５−トリイル基、インダン−１，３，６−トリイル基、フェナントレン−１，２，６−トリイル基、フェナントレン−１，２，７−トリイル基、フェナントレン−１，２，８−トリイル基、フェナントレン−１，２，９−トリイル基、フェナントレン−１，３，６−トリイル基、フェナントレン−１，３，７−トリイル基、フェナントレン−１，３，８−トリイル基、フェナントレン−１，３，９−トリイル基、フェナントレン−１，６，７−トリイル基、フェナントレン−１，６，９−トリイル基、フェナントレン−１，７，９−トリイル基、フェナントレン−１，８，９−トリイル基、フェナントレン−１，９，１０−トリイル基、フェナントレン−２，３，６−トリイル基、フェナントレン−２，３，７−トリイル基、フェナントレン−２，３，９−トリイル基、フェナントレン−２，７，９−トリイル基、フェナントレン−２，９，１０−トリイル基、フェナントレン−３，６，７−トリイル基、フェナントレン−３，６，９−トリイル基、フェナントレン−３，９，１０−トリイル基、アントラセン−１，２，５−トリイル基、アントラセン−１，２，６−トリイル基、アントラセン−１，２，７−トリイル基、アントラセン−１，２，８−トリイル基、アントラセン−１，２，９−トリイル基、アントラセン−１，２，１０−トリイル基、アントラセン−１，３，５−トリイル基、アントラセン−１，３，６−トリイル基、アントラセン−１，３，７−トリイル基、アントラセン−１，３，８−トリイル基、アントラセン−１，３，９−トリイル基、アントラセン−１，３，１０−トリイル基、アントラセン−１，４，５−トリイル基、アントラセン−１，４，６−トリイル基、アントラセン−１，４，８−トリイル基、アントラセン−１，４，９−トリイル基、アントラセン−１，５，９−トリイル基、アントラセン−１，６，７−トリイル基、アントラセン−１，６，９−トリイル基、アントラセン−１，７，９−トリイル基、アントラセン−１，８，９−トリイル基、アントラセン−１，９，１０−トリイル基、アントラセン−２，３，６−トリイル基、アントラセン−２，３，９−トリイル基、アントラセン−２，６，９−トリイル基、アントラセン−２，７，９−トリイル基、アントラセン−２，７，１０−トリイル基、又は、アントラセン−２，９，１０−トリイル基である。前記Ａ４に記載のフェニレン基は、ベンゼン−１，２−ジイル基、ベンゼン−１，３−ジイル基、又は、ベンゼン−１，４−ジイル基である形態、
（ｎ）上記炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物は、上記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物である形態、
（ｏ）上記液晶組成物は、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを含有する形態、
（ｐ）上記光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーは、上記化学式（４）で表される光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物である形態、
（ｑ）上記化学式（４）で表される化合物は、上記化学式（６−１）〜（６−８）のいずれかで表される化合物である形態、
（ｒ）上記光照射によってラジカルを形成する構造を有するモノマーは、上記化学式（５）で表される光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物である形態、
（ｓ）上記化学式（５）で表される化合物は、上記化学式（７）で表される化合物である形態、及び、
（ｔ）上記化学式（１）〜（７）で表される化合物に含まれるＰは、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリロイルアミノ基、ビニル基、又は、ビニルオキシ基を表す形態が挙げられる。
【発明の効果】
【００６０】
本発明によれば、高い電圧保持率を維持することができるポリマー層を形成する液晶組成物、高い電圧保持率を維持することができる液晶表示装置、及び、高い電圧保持率を維持することができる液晶表示装置の製造方法が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００６１】
【図１】実施形態１に係る液晶表示装置のＰＳＡ重合工程前の断面模式図。
【図２】実施形態１に係る液晶表示装置のＰＳＡ重合工程後の断面模式図。
【図３】実施形態２に係る液晶表示装置のＰＳＡ重合工程前の断面模式図。
【図４】実施形態２に係る液晶表示装置のＰＳＡ重合工程後の断面模式図。
【図５】実施形態３に係る液晶表示装置のＰＳＡ重合工程前の断面模式図。
【図６】実施形態３に係る液晶表示装置のＰＳＡ重合工程後の断面模式図。
【発明を実施するための形態】
【００６２】
以下に実施形態を掲げ、本発明について図面を参照して更に詳細に説明するが、本発明はこれらの実施形態のみに限定されるものではない。
【００６３】
（実施形態１）
本発明の液晶組成物を用いて作製された液晶表示装置、及び、本発明の製造方法によって作製された液晶表示装置は、例えば、テレビジョン、パーソナルコンピュータ、携帯電話、インフォメーションディスプレイ等の表示機器に用いることで、優れた表示特性を発揮することができる。
【００６４】
以下に、実施形態１に係る液晶表示装置の製造方法の一例を示す。図１及び図２は、実施形態１に係る液晶表示装置の断面模式図であり、図１はＰＳＡ重合工程前を示し、図２はＰＳＡ重合工程後を示す。図１及び図２に示すように、実施形態１に係る液晶表示装置は、アレイ基板１１０と、カラーフィルタ基板１２０と、アレイ基板１１０及びカラーフィルタ基板１２０からなる一対の基板間に狭持された液晶層１０５とを備える。アレイ基板１１０は、ガラス等を材料とする絶縁性の透明基板と、透明基板上に形成された各種配線、画素電極、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）等とを備える。カラーフィルタ基板１２０は、ガラス等を材料とする絶縁性の透明基板と、透明基板上に形成されたカラーフィルタ、ブラックマトリクス、共通電極等とを備える。アレイ基板１１０及びカラーフィルタ基板１２０は、液晶層１０５と接する表面上に配向膜１０８をそれぞれ備える。
【００６５】
図１に示すように、ＰＳＡ重合工程前において、液晶層１０５中には、液晶材料とラジカル重合性モノマー１０４とが含まれている。ラジカル重合性モノマー１０４は、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である。より具体的には、上記化学式（１）で表される化合物であり、更に具体的には、上記化学式（２）で表される化合物であり、更に具体的には、上記化学式（３−１）〜（３−５）のいずれかで表される化合物である。
【００６６】
液晶層１０５へ光を照射することにより、ラジカル重合性モノマー１０４はラジカルを生成し、そのラジカルを活性種として、ラジカル重合性モノマー１０４のもつラジカル重合性基が次々に連鎖重合を開始、進行させ、重合する。重合によって形成されたポリマーは、図２に示すように、基板１１０及び１２０上に形成された配向膜１０８上にポリマー層（ＰＳＡ層）１０７として析出される。
【００６７】
一般的な重合開始剤（例えば、Ｉｒｇａｃｕｒｅ６５１等）を用いた場合は、紫外線照射により開裂したものが、不純物として液晶中に漂うためＶＨＲを低下させる。実施形態１では、ラジカル重合性モノマー１０４は自らラジカルを生成するため、このような重合開始剤を必要とせず、重合開始剤に由来する不純物が発生しないため、高いＶＨＲを維持することができる。また、ラジカル重合性モノマー１０４は、重合性基を２つ有するため、ポリマー層１０７を形成する際にポリマー層１０７に取り込まれ易く、不純物として液晶層中に残存し難いため、ＶＨＲの低下を引き起こし難い。
【００６８】
図２に示すように、実施形態１においては、アレイ基板１１０及びカラーフィルタ基板１２０上に形成された配向膜１０８の表面上に、ポリマー層１０７が形成されている。また、アレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０との間には、これらの基板１１０、１２０の外縁に沿って配向膜１０８上にシール材１０３が貼り付けられており、液晶層１０５は、シール材１０３によってアレイ基板１１０とカラーフィルタ基板１２０との間に封止される。また、液晶層１０５に対する光の照射は、シール材１０３による液晶層１０５の封止後になされるので、シール材１０３によって囲まれた領域内にポリマー層１０７が形成されることになる。
【００６９】
実施形態１においては、ＰＳＡ重合工程を行う際に、液晶層１０５に対し閾値以上の電圧を印加せずとも、実施形態１における一種以上のラジカル重合性モノマーを用いた場合には、垂直配向を誘起するポリマー層を作製することができ、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができる。また、例えば、ＰＳＡ重合工程を行う際に、液晶層１０５に対し閾値以上の電圧を印加した状態で光照射を行うことで、閾値以上の電圧印加状態で配向した液晶分子にならった形で重合体が形成される。この場合、形成されるポリマー層は、後に電圧無印加状態となっても液晶分子に対しプレチルト角を規定する構造をもつことになる。
【００７０】
実施形態１においては、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物を用いることで、高いＶＨＲを維持することができる。
【００７１】
実施形態１に係る液晶表示装置の他の構成要素について詳述する。
【００７２】
実施形態１に係る液晶表示装置においては、アレイ基板１１０、液晶層１０５及びカラーフィルタ基板１２０が、液晶表示装置の背面側から観察面側に向かってこの順に積層されている。アレイ基板１１０の背面側及びカラーフィルタ基板１２０の観察面側には、偏光板が備え付けられている。これらの偏光板に対しては、更に位相差板が配置されていてもよく、上記偏光板は、円偏光板であってもよい。
【００７３】
実施形態１に係る液晶表示装置は、透過型、反射型及び反射透過両用型のいずれであってもよい。透過型又は反射透過両用型であれば、実施形態１の液晶表示装置は、更に、バックライトを備えている。バックライトは、アレイ基板１１０の更に背面側に配置され、アレイ基板１１０、液晶層１０５及びカラーフィルタ基板１２０の順に光が透過するように配置される。反射型又は反射透過両用型であれば、アレイ基板１１０は、外光を反射するための反射板を備える。また、少なくとも反射光を表示として用いる領域においては、カラーフィルタ基板１２０の偏光板は、いわゆるλ／４位相差板を備える円偏光板である必要がある。
【００７４】
液晶層１０５には、一定電圧が印加されることで特定の方向に配向する特性をもつ液晶材料が充填されている。液晶層１０５内の液晶分子は、閾値以上の電圧の印加によってその配向性が制御される。
【００７５】
実施形態１に係る液晶表示装置は、液晶表示装置（例えば、携帯電話、モニター、液晶ＴＶ（テレビジョン）、インフォメーションディスプレイ）を分解し、核磁気共鳴分析法（ＮＭＲ：Ｎｕｃｌｅａｒ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｒｅｓｏｎａｎｃｅ）、フーリエ変換赤外分光法（ＦＴ−ＩＲ：Ｆｏｕｒｉｅｒ  Ｔｒａｎｓｆｏｒｍ  Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）、質量分析法（ＭＳ：Ｍａｓｓ  Ｓｐｅｃｔｒｏｍｅｔｒｙ）等を用いた化学分析を行うことにより、ポリマー層中に存在するモノマー成分の解析を行い、モノマー成分の種類を決定することができる。
【００７６】
（実施形態２）
実施形態２は、実施形態１で用いたラジカル重合性モノマーに加え、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを用いた点以外は、実施形態１と同様である。
【００７７】
以下に、実施形態２に係る液晶表示装置の製造方法の一例を示す。図３及び図４は、実施形態２に係る液晶表示装置の断面模式図である。図３はＰＳＡ重合工程前を示し、図４はＰＳＡ重合工程後を示す。図３及び図４に示すように、実施形態２に係る液晶表示装置は、アレイ基板２１０と、カラーフィルタ基板２２０と、アレイ基板２１０及びカラーフィルタ基板２２０からなる一対の基板間に狭持された液晶層２０５とを備える。アレイ基板２１０は、ガラス等を材料とする絶縁性の透明基板と、透明基板上に形成された各種配線、画素電極、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）等とを備える。カラーフィルタ基板２１０は、ガラス等を材料とする絶縁性の透明基板と、透明基板上に形成されたカラーフィルタ、ブラックマトリクス、共通電極等とを備える。アレイ基板２１０及びカラーフィルタ基板２２０は、液晶層２０５と接する表面上に配向膜２０８をそれぞれ備える。
【００７８】
図３に示すように、ＰＳＡ重合工程前において、液晶層２０５中には、液晶材料、第一のラジカル重合性モノマー２０４及び第二のラジカル重合性モノマー２０６が含まれている。第一のラジカル重合性モノマー２０４は、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である。第一のラジカル重合性モノマー２０４の具体例は、実施形態１のラジカル重合性モノマー１０４と同様である。
【００７９】
第二のラジカル重合性モノマー２０６は、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーであり、光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であっても、光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であってもよい。光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物は、具体的には、上記化学式（４）で表される化合物であり、より具体的には、上記化学式（６−１）〜（６−８）のいずれかで表される化合物である。光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物は、具体的には、上記化学式（５）で表される化合物であり、より具体的には、上記化学式（７）で表される化合物である。
【００８０】
液晶層２０５へ光を照射することにより、第一のラジカル重合性モノマー２０４及び第二のラジカル重合性モノマー２０６のいずれも単独でラジカルを生成し、そのラジカルを活性種として、第一のラジカル重合性モノマー２０４及び第二のラジカル重合性モノマー２０６のもつラジカル重合性基が次々に連鎖重合を開始、進行させ、重合する。重合によって形成されたポリマーは、図４に示すように、基板２１０及び２２０上に形成された配向膜２０８上にポリマー層（ＰＳＡ層）２０７として析出される。
【００８１】
図４に示すように、実施形態２においては、アレイ基板２１０及びカラーフィルタ基板２２０上に形成された配向膜２０８の表面上に、ポリマー層２０７が形成されている。また、アレイ基板２１０とカラーフィルタ基板２２０との間には、これらの基板２１０、２２０の外縁に沿って配向膜２０８上にシール材２０３が貼り付けられており、液晶層２０５は、シール材２０３によってアレイ基板２１０とカラーフィルタ基板２２０との間に封止される。また、液晶層２０５に対する光の照射は、シール材２０３による液晶層２０５の封止後になされるので、シール材２０３によって囲まれた領域内にポリマー層２０７が形成されることになる。
【００８２】
実施形態２では、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物と、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーとを併せて用いることで、実施形態１と同様に、高いＶＨＲを維持することができる。また、垂直配向を誘起するポリマー層を形成することができ、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができる。
【００８３】
（実施形態３）
実施形態３は、実施形態１で用いたラジカル重合性モノマーに加え、更に、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを用いた点、アレイ基板及びカラーフィルタ基板の最表面が実質的に配向膜で構成されていない点以外は、実施形態１と同様である。
【００８４】
以下に、実施形態３に係る液晶表示装置の製造方法の一例を示す。図５及び図６は、実施形態３に係る液晶表示装置の断面模式図であり、図５はＰＳＡ重合工程前を示し、図６はＰＳＡ重合工程後を示す。図５及び図６に示すように実施形態３に係る液晶表示装置は、アレイ基板３１０と、カラーフィルタ基板３２０と、アレイ基板３１０及びカラーフィルタ基板３２０からなる一対の基板間に狭持された液晶層３０５とを備える。アレイ基板３１０は、ガラス等を材料とする絶縁性の透明基板と、透明基板上に形成された各種配線、画素電極、ＴＦＴ（Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ：薄膜トランジスタ）等とを備える。カラーフィルタ基板３２０は、ガラス等を材料とする絶縁性の透明基板と、透明基板上に形成されたカラーフィルタ、ブラックマトリクス、共通電極等とを備える。アレイ基板３１０及びカラーフィルタ基板３２０の最表面は、実質的に配向膜で構成されていない。
【００８５】
本実施形態において、「配向膜」とは、ポリイミド、ポリアミック酸、ポリアミド、ポリマレイミド、ポリシロキサン、若しくは、これらの共重合体で構成される単層膜若しくは積層膜、又は、シリコン酸化物が斜方蒸着により形成された膜であって、液晶分子の配向を制御できる膜をいう。一般的な液晶表示装置においては、表示領域を構成する基板面上に配向膜材料が直接塗布（例えば、ポリイミド等の塗布）又は蒸着（例えば、シリコン酸化物（ＳｉＯ）の斜方蒸着）されることによって配向膜が形成される。表示領域とは、観察者が認識する画像を構成する領域であり、例えば、端子部等の周辺領域は含まれない。上記配向膜は、ポリイミド等の既存の配向膜材料が塗布されたものである限り、配向処理がなされたものに限定されない。
【００８６】
図５に示すように、ＰＳＡ重合工程前において、液晶層３０５中には、液晶材料、第一のラジカル重合性モノマー３０４及び第二のラジカル重合性モノマー３０６が含まれている。第一のラジカル重合性モノマー３０４は、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物である。第一のラジカル重合性モノマー３０４の具体例は、実施形態１のラジカル重合性モノマー１０４と同様である。第二のラジカル重合性モノマー３０６は、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーである。該光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマー３０６は、光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であっても、光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物であってもよい。第二のラジカル重合性モノマー３０６の具体例は、実施形態２の第二のラジカル重合性モノマー２０６と同様である。
【００８７】
液晶層３０５へ光を照射することにより、第一のラジカル重合性モノマー３０４及び第二のラジカル重合性モノマー３０６はラジカルを生成し、そのラジカルを活性種として、第一のラジカル重合性モノマー３０４及び第二のラジカル重合性モノマー３０６のもつラジカル重合性基が次々に連鎖重合を開始、進行させ、重合する。重合によって形成されたポリマーは、図６に示すように、基板３１０及び３２０上にポリマー層（ＰＳＡ層）３０７として析出される。
【００８８】
図６に示すように、実施形態３においては、配向膜を有さないアレイ基板３１０及びカラーフィルタ基板３２０の表面上にポリマー層（ＰＳＡ層）３０７が形成されている。また、アレイ基板３１０とカラーフィルタ基板３２０との間には、これらの基板３１０、３２０の外縁に沿って直接基板３１０、３２０上にシール材３０３が貼り付けられており、液晶層３０５は、シール材３０３によってアレイ基板３１０とカラーフィルタ基板３２０との間に封止される。また、液晶層３０５に対する光の照射は、シール材３０３による液晶層３０５の封止後になされるので、シール材３０３によって囲まれた領域内にポリマー層３０７が形成されることになる。
【００８９】
実施形態３においては、配向膜を形成しない場合であっても、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物と、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーとを併せて用いることで、高いＶＨＲを維持することができる。また、液晶分子の配向制御性の高いポリマー層を形成することができ、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができる。
【００９０】
以下に、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物を実際に合成した合成例を示す。
【００９１】
（合成例１）
合成例１では、上記（３−１）で表される化合物の具体例として、３−ヘキサデカニル−４，４’−ジメタクリルオキシビフェニルを合成した。
【００９２】
まず、下記化学反応式（８）に示すように、４，４’−ビフェノール（化合物Ａ）３．０ｇをアセトニトリル１８ｇに溶解し、炭酸カリウムを加えて１０分間攪拌した。その後、ジメチル硫酸０．５７ｇを添加し、液温が６０℃となるまで加熱した。その後、１５時間攪拌した後、ろ過し、ろ液に純水を滴下して結晶を析出させた。得られた結晶をろ過し、乾燥させることで、４，４’−ジメトキシビフェニル（化合物Ｂ）を収率９０％で得た。
【００９３】
【化９】
2016006130.tif 000011
【００９４】
次に、下記化学反応式（９）に示すように、化合物Ｂ３ｇを塩化メチレン９０ｇに溶解し、液温が０℃となるまで冷却した。これに塩化アルミニウム１．８７ｇを加え、３０分間攪拌した後、液温が２５℃となるまで加熱し、更に、２時間攪拌した。その後、液温が０℃となるまで冷却し、純水２４ｇを添加した。その後、有機層を回収して純水で３回洗浄し、更に、飽和食塩水で洗浄した後、溶媒を留去した。その後、酢酸エチル／ヘキサン（４／９６）溶液を展開溶媒として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで３−ヘキサデカ二ル−４，４’−ジメトキシビフェニル（化合物Ｃ）を収率６３％で得た。
【００９５】
【化１０】
2016006130.tif 000012
【００９６】
次に、下記化学反応式（１０）に示すように、化合物Ｃ３ｇを塩化メチレン６０ｇに溶解し、これにトリエチルシラン１．７ｇを加えた。そこにトリフルオロ酢酸７．５ｇを塩化メチレン１５ｇに溶解したものを、３０分間かけて滴下した。滴下後、１時間攪拌し、液温が１０℃となるまで冷却した。そこに５％水酸化ナトリウム水溶液５８ｇを添加し、分液した後、３回水洗を行い、更に、飽和食塩水で洗浄し、分液した。その後、溶媒を留去することで、３−ヘキサデカニル−４，４’−ジメトキシビフェニル（化合物Ｄ）を収率８６％で得た。
【００９７】
【化１１】
2016006130.tif 000013
【００９８】
次に、下記化学反応式（１１）に示すように、化合物Ｄ２．８ｇを酢酸５６ｇに溶解し、４８％ＨＢｒ水溶液を１０．８ｇ添加した後、液温が１１０℃となるまで加熱した。１５時間攪拌した後、冷却し、純水１１２ｇを加え、結晶を析出させた。結晶をろ過して純水で十分に洗浄した後、酢酸エチル５６ｇに再溶解し、純水で４回分液洗浄した。その後溶媒を留去することで３−ヘキサデカニル−４，４’−ジヒドロキシビフェニル（化合物Ｅ）を収率８６％で得た。
【００９９】
【化１２】
2016006130.tif 000014
【０１００】
次に、下記化学反応式（１２）に示すように、化合物Ｅ２．２ｇをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２２ｇに溶解し、これにトリエチルアミン（ＴＥＡ）１．２７ｇ、４−ジメチルアミノピリジン（ＤＭＡＰ）０．０３３ｇを添加して攪拌した。そこにメタクリル酸無水物１．９０ｇを１０分間かけて滴下し、２時間攪拌した後、１％のＨＣｌ水溶液３０ｇを添加し、更に１０分間攪拌した。その後トルエン５５ｇを用いて抽出し、純水で４回洗浄した。溶媒を留去して得られた油状成分を、酢酸エチル／ヘキサン（２／９８）溶液を展開溶媒として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、化合物Ｆを収率６３％で得た。
【０１０１】
【化１３】
2016006130.tif 000015
【０１０２】
得られた化合物Ｆの１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）による分析結果は、以下に示すとおりである。１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ＝０．８８（ｔ，３Ｈ，メチル基）、１．２８（ｍ，２６Ｈ，メチレン基）、１．５８（ｑ，２Ｈ，メチレン基）、２．０６（ｓ，３Ｈ，メチル基）、２．１０（ｓ，３Ｈ，メチル基）、２．５６（ｔ，２Ｈ，メチレン基）、５．７８（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、６．３８（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、７．１３（ｄ，１Ｈ，ベンゼン環）、７．１８（ｄ，２Ｈ，ベンゼン環）、７．４１（ｍ，２Ｈ，ベンゼン環）、７．５７（ｄ，２Ｈ，ベンゼン環）
【０１０３】
上記分析結果より、化合物Ｆは、目的物である３−ヘキサデカニル−４，４’−ジメタクリルオキシビフェニルであることが確認された。
【０１０４】
（合成例２）
合成例２では、上記（３−２）で表される化合物の具体例として、３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸−ｎ−ドデカンエステルを合成した。
【０１０５】
まず、下記化学反応式（１３）に示すように、３，５−ジヒドロキシ安息香酸（化合物Ｇ）３．０ｇをアニソール２４ｇに分散した。これにｎ−ドデカノール８．８ｇと硫酸０．５７ｇをディーン・スターク管を装着した反応装置に入れ、７５℃、４Ｔｏｒｒの圧力下で、８時間還流した。その後、冷却して、トリエチルアミン１．２ｇを添加し、１０分間攪拌した。析出物をろ過し、残渣をトルエン２１ｇで洗浄し、ろ液と合わせて溶媒を留去した。その後、ヘキサン１００ｇを添加して油状成分を分離させた後、ヘキサンをデカンテーションし、残った油状成分に、ヘキサン１００ｇを添加して、更に２回デカンテーションした。残った下層の油状成分を真空乾燥することで、３，５−ジヒドロキシ安息香酸−ｎ−ドデカンエステルとドデカノール（化合物Ｈ）の混合物を５．４ｇ得た。
【０１０６】
【化１４】
2016006130.tif 000016
【０１０７】
次に、下記化学反応式（１４）に示すように、化合物Ｈとドデカノールの混合物を、
上記化学反応式（１２）と同様の反応工程により、メタクリルエステル化した。その後、酢酸エチル／ヘキサン（４／９６）溶液を展開溶媒として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、化合物Ｉを収率５７％で得た。
【０１０８】
【化１５】
2016006130.tif 000017
【０１０９】
得られた化合物Ｉの１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）による分析結果は、以下に示すとおりである。１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ＝０．８９（ｔ，３Ｈ，メチル基）、１．３９（ｍ，１８Ｈ，メチレン基）、１．７５（ｑ，２Ｈ，メチレン基）、２．０６（ｓ，６Ｈ，メチル基）、４．３１（ｔ，２Ｈ，メチレン基）、５．７９（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、６．３６（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、７．２３（ｓ，１Ｈ，ベンゼン環）、７．７０（ｓ，２Ｈ，ベンゼン環）
【０１１０】
上記分析結果より、化合物Ｉは、目的物である３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸−ｎ−ドデカンエステルであることが確認された。
【０１１１】
（合成例３）
合成例３では、上記（３−３）で表される化合物の具体例として、３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸−ｎ−ヘキサデカンエステルを合成した。
【０１１２】
合成例３では、ｎ−ドデカノールをｎ−ヘキサデカノールとする点以外は、上記化学反応式（１３）及び（１４）と同様である。合成例３では、下記化学反応式（１５）に示すように、化合物Ｇ３．０ｇから、上記化学反応式（１３）及び（１４）と同様の反応工程を経ることにより、化合物Ｊを収率４３％で得た。
【０１１３】
【化１６】
2016006130.tif 000018
【０１１４】
得られた化合物Ｊの１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）による分析結果は、以下に示すとおりである。１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ＝０．８８（ｔ，３Ｈ，メチル基）、１．３４（ｍ，２６Ｈ，メチレン基）、１．７５（ｑ，２Ｈ，メチレン基）、２．０６（ｓ，６Ｈ，メチル基）、４．３１（ｔ，２Ｈ，メチレン基）、５．７９（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、６．３６（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、７．２３（ｓ，１Ｈ，ベンゼン環）、７．６９（ｓ，２Ｈ，ベンゼン環）
【０１１５】
上記分析結果より、化合物Ｊは、目的物である３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸−ｎ−ヘキサデカンエステルであることが確認された。
【０１１６】
（合成例４）
合成例４では、上記（３−４）で表される化合物の具体例として、３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸コレステロールを合成した。
【０１１７】
まず、下記化学反応式（１６）に示すように、３，５−ジヒドロキシ安息香酸メチル（化合物Ｋ）８．００ｇをＴＨＦ５６．０ｇに溶解した。そこにピリジニウム−ｐ−トルエンスルホン酸（ＰＰＴＳ）０．６５０ｇを添加した後、液温が６０℃となるまで加熱した。これに３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン１７．５ｇを１０分間かけて滴下し、１５時間攪拌した後、液温が２５℃となるまで冷却し、ＴＥＡ０．５２ｇを添加した。その後、ＮａＯＨ１．０４ｇを純水８．０ｇに溶解したものを加えて攪拌し、シクロヘキサン１６０ｇを加えて抽出し、分液して有機層を回収した後、再度、水層にシクロヘキサン８０ｇを加えて抽出した。これらの有機層を合わせて、純水で３回洗浄後に溶媒を留去することで３，５−ジ（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）安息香酸メチル（化合物Ｌ）を収率６４％で得た。
【０１１８】
【化１７】
2016006130.tif 000019
【０１１９】
次に、下記化学反応式（１７）に示すように、化合物Ｌ１１．０ｇをＴＨＦ５５．０ｇに溶解し、液温が６０℃となるまで加熱した。これに１０％ＮａＯＨ水溶液２２．３ｇを３０分間かけて滴下し、１５時間攪拌した後、冷却した。エバポレーターを用いてＴＨＦを留去し、純水５５ｇを加えた。その後、シクロヘキサン２０ｇを加えて攪拌し、デカンテーションを２回繰り返した。その後、３５％ＨＣｌ水溶液４．６ｇを純水６９ｇに溶解したものを、水層に滴下し、酢酸エチル１１０ｇで抽出し、分液後に有機層を純水８８ｇで２回洗浄した。その後、溶媒を留去することで３，５−ジ（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）安息香酸（化合物Ｍ）を収率５３％で得た。
【０１２０】
【化１８】
2016006130.tif 000020
【０１２１】
次に、下記化学反応式（１８）に示すように、化合物Ｍ１．３ｇを塩化メチレン１００ｇに溶解した。これにＤＭＡＰ０．３０ｇ、ＴＥＡ１．１３ｇ、及び、コレステロール３．０７ｇを加えて溶解した。これにジシクロヘキシルカルボジイミド（ＤＣＣ）２．５６ｇを塩化メチレン１２．８ｇに溶解したものを、３０分間かけて滴下した。３時間攪拌した後、３％ＮａＨＣＯ３水溶液１３９ｇを添加し、更に、１０分間攪拌した。析出した固体をろ過し、分液した後、回収した塩化メチレン層を留去し、得られた残渣をシクロヘキサン６０ｇで再溶解した。析出した固体をろ過し、純水で３回洗浄した後、溶媒を留去した。その後、酢酸エチル／ヘキサン（３／１００）溶液を展開溶媒として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、３，５−ジ（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）安息香酸コレステロール（化合物Ｎ）を収率３１％で得た。
【０１２２】
【化１９】
2016006130.tif 000021
【０１２３】
次に、下記化学反応式（１９）に示すように、化合物Ｎ２．５ｇをエタノール２５ｇに溶解し、ＰＰＴＳ０．０４５ｇを加え、液温が６０℃となるまで加熱した。２４時間攪拌した後、液温が２５℃となるまで冷却し、ＴＥＡ０．４０ｇを添加した。溶媒を留去した後、アセトニトリルを添加し、得られた結晶をろ過した。これを真空乾燥することで、３，５−ジヒドロキシ安息香酸コレステロール（化合物Ｏ）を収率７４％で得た。
【０１２４】
【化２０】
2016006130.tif 000022
【０１２５】
次に、下記化学反応式（２０）に示すように、化合物Ｏを、上記化学反応式（１２）と同様の反応工程により、メタクリルエステル化した。その後、酢酸エチル／シクロヘキサン（５／９５）溶液を展開溶媒として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、化合物Ｐを収率４１％で得た。
【０１２６】
【化２１】
2016006130.tif 000023
【０１２７】
得られた化合物Ｐの１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）による分析結果は、以下に示すとおりである。１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ＝０．７４（ｓ，３Ｈ，メチル基）、０．８８（ｄ，６Ｈ，メチレン基）、０．９７（ｄ，３Ｈ，メチレン基）、１．０３−２．０９（ｍ，３５Ｈ，メチル基）、２．４６（ｄ，２Ｈ，メチレン基）、４．８１（ｍ，１Ｈ，メチン）、５．４４（ｍ，１Ｈ，メチン）、５．８９（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、６．３６（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、７．３７（ｓ，１Ｈ，ベンゼン環）、７．７３（ｓ，２Ｈ，ベンゼン環）
【０１２８】
上記分析結果より、化合物Ｐは、目的物である３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸コレステロールであることが確認された。
【０１２９】
（合成例５）
合成例５では、上記（３−５）で表される化合物の具体例として、３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸−（１２−ビフェニルオキシ）−ドデシルエステルを合成した。
【０１３０】
まず、上記化学反応式（８）と同様の反応工程により、１−ブロモドデカノールを原料として、１２−ヒドロキシドデシルビフェニルエーテルを得た。次に、下記化学反応式（２１）に示すように、得られた１２−ヒドロキシドデシルビフェニルエーテルと４−フェニルフェノール（化合物Ｑ）とをｐ−トルエンスルホン酸クロライドを用いて、上記化学反応式（１２）と同様の反応工程により、トシル化することで、１２−ｐ−トルエンスルホニルオキシ−ドデシルビフェニルエーテル（化合物Ｒ）を収率５１％で得た。下記化合物Ｒ中のＴｓは、トルエンスルニル基を表す。
【０１３１】
【化２２】
2016006130.tif 000024
【０１３２】
次に、下記化学反応式（２２）に示すように、上記化学反応式（１７）で得た化合物Ｍ２．０ｇをＤＭＦ２０ｇに溶解し、これにＴＥＡ０．７５ｇを添加した。１０分間攪拌した後、上記化学反応式（２１）で得た化合物Ｒを添加し、液温が７０℃となるまで加熱した。１５時間攪拌した後、液温が２５℃となるまで冷却し、純水８０ｇを添加した。その後、トルエン３０ｇを用いて抽出し、純水１５ｇで３回洗浄した。その後、トルエンを留去することで、３，５−ジ（テトラヒドロ−２Ｈ−ピラン−２−イルオキシ）安息香酸−（１２−ビフェニルオキシ）−ドデシルエステル（化合物Ｓ）を収率６０％で得た。
【０１３３】
【化２３】
2016006130.tif 000025
【０１３４】
次に、下記化学反応式（２３）に示すように、化合物Ｓ２．４５ｇを、上記化学反応式（１９）と同様の反応工程により、脱保護反応を行い、３，５−ジヒドロキシ安息香酸−（１２−ビフェニルオキシ）−ドデシルエステル（化合物Ｔ）を定量的に得た。
【０１３５】
【化２４】
2016006130.tif 000026
【０１３６】
次に、下記化学反応式（２４）に示すように、化合物Ｔを、上記化学反応式（１２）と同様の反応工程により、メタクリルエステル化した。その後、酢酸エチル／シクロヘキサン（３／９７）溶液を展開溶媒として、シリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、化合物Ｕを収率５８％で得た。
【０１３７】
【化２５】
2016006130.tif 000027
【０１３８】
得られた化合物Ｕの１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ）による分析結果は、以下に示すとおりである。１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３，ｐｐｍ）：δ＝１．４０（ｍ，１６Ｈ，メチレン基）、１．７８（ｍ，４Ｈ，メチレン基）、２．０６（ｓ，６Ｈ，メチル基）、３．９９（ｔ，２Ｈ，メチレン基）、４．３１（ｔ，２Ｈ，メチレン基）、５．７９（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、６．３６（ｓ，２Ｈ，ビニル基）、６．９８（ｄ，２Ｈ，ベンゼン環）、７．２２（ｓ，１Ｈ，ベンゼン環）、７．２９（ｔ，１Ｈ，ベンゼン環）、７．４１（ｔ，２Ｈ，ベンゼン環）、７．５１（ｄ，２Ｈ，ベンゼン環）、７．５５（ｄ，２Ｈ，ベンゼン環）、７．６９（ｓ，２Ｈ，ベンゼン環）
【０１３９】
上記分析結果より、化合物Ｕは、目的物である３，５−ジメタクリルオキシ安息香酸−(１２−ビフェニルオキシ)−ドデシルエステルであることが確認された。
【０１４０】
（実施例１）
以下に、実施形態１に準じた形で、実際に液晶セルを作製した実施例１を示す。
【０１４１】
液晶分子の初期配向を基板面に対して垂直とする場合、垂直配向膜が好適に用いられる。垂直配向膜に用いられる配向膜材料としては、例えば、ポリアミック酸に垂直配向性を示す側鎖を導入し、イミド化したものが用いられる。しかし、このような配向膜材料は、ぬれ性が悪いため、基板に塗布する際にムラになり易く、液晶分子の配向が不均一となる原因となる。配向膜材料のぬれ性を改善する方法として、実施例１では、水平配向性の配向膜材料を用いて配向膜を形成した。
【０１４２】
まず、透明電極を表面に有する一対の基板を用意し、基板を洗浄した後、両基板に垂直配向基を有さない配向膜材料を塗布し配向膜を形成した。上記配向膜材料としては、例えば、水平配向性を示すポリイミド系配向膜材料が用いられる。このような配向膜材料を用いることで、塗りムラのない均一な配向膜を形成することができた。配向膜を形成した後、８０℃で５分間プリべークを行い、引き続き２００℃で６０分間ポストべークを行った。
【０１４３】
その後、片側基板にシール材を塗布し、負の誘電率異方性を有する液晶材料とラジカル重合性モノマーとを含有する液晶組成物を滴下後、対向基板上にスペーサーとしてビーズを散布し、貼り合わせを行った。
【０１４４】
実施例１において作製した液晶セルは、以下のサンプルＡである。サンプルＡには、ラジカル重合性モノマーとして、下記化学式（２５）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して０．３重量％となるように添加した。下記化学式（２５）で表される化合物は、上記合成例１で得た化合物Ｆである。
【０１４５】
【化２６】
2016006130.tif 000028
【０１４６】
比較例１として作製した液晶セルは、以下のサンプルＢである。サンプルＢには、ラジカル重合性モノマーとして、下記化学式（２６）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して０．３重量％となるように添加した。
【０１４７】
【化２７】
2016006130.tif 000029
【０１４８】
サンプルＡ及びＢに、電圧無印加状態で、無偏光紫外光（２．５７ｍＷ／ｃｍ２）を基板に対して法線方向から３０分間照射し、ラジカル重合性モノマーの重合を行い、液晶セルを完成させた。無偏光紫外光光源は、東芝ライテック社製ブラックライトＦＨＦ−３２ＢＬＢ（波長領域：３００〜３７０ｎｍ）を用いた。
【０１４９】
完成した各液晶セルについて、液晶分子の配向性を観察し、各液晶セルの初期の電圧保持率（ＶＨＲ）、及び、エージング試験後の電圧保持率（ＶＨＲ）を測定した。エージング試験は、冷陰極蛍光ランプのバックライトを基板に対して法線方向から１０００時間照射することで行った。
【０１５０】
電圧保持率（ＶＨＲ）は、東陽テクニカ社製の６２５４型液晶物性測定システムを用いて測定した。液晶セルを７０℃のオーブンに入れ、パルス電圧印加後、１６．６ｍ秒間の開放期間（電圧を印加しない期間）の電極間の電位を測定した。
【０１５１】
下記表１に、サンプルＡ及びＢの、液晶分子の配向性、初期ＶＨＲ及びエージング試験後のＶＨＲの結果を示した。
【０１５２】
【表１】
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【０１５３】
本発明の実施例であるサンプルＡでは、液晶分子は基板面に対して垂直に配向した。また、初期ＶＨＲは９９％以上と高く、エージング試験後もほとんどＶＨＲは低下しなかった。一方、比較例であるサンプルＢでは、初期ＶＨＲ、エージング試験後のＶＨＲともに高い値を示したが、液晶分子は基板面に対して垂直配向しなかった。
【０１５４】
以上の結果について検討すると、サンプルＡの化学式（２５）で表される化合物は、炭素数１２以上の炭化水素基を有するため、該炭化水素基との強い分子間相互作用により液晶分子は配向し、基板面に対して垂直に配向したと考えられる。
【０１５５】
一方で、サンプルＢに用いた化学式（２６）で表される化合物は、化学式（２５）で表される化合物が有するような炭化水素基を有さないため、液晶分子との分子間相互作用は弱く、基板面に対して垂直に配向させることはできない。
【０１５６】
以上により、水平配向膜を用いた場合であっても、上記化学式（２５）で表されるような、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物を用いることで、液晶分子との強い分子間相互作用により、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができた。また、重合開始剤を用いなくとも単独で液晶分子の配向を制御するポリマー層を形成できた。更に、高い電圧保持率を維持することができ、長期信頼性の高い液晶表示装置が得られた。
【０１５７】
（実施例２）
以下に、実施形態２に準じた形で、実際に液晶セルを作製した実施例２を示す。実施例２で用いた液晶セルの作製方法は、イミド化率が低い配向膜材料を用いて垂直配向膜を形成した点、ラジカル重合性モノマーを重合させるための光照射時間を２０分とした点以外は、実施例１と同様である。
【０１５８】
配向膜材料のぬれ性を改善する方法として、実施例２では、垂直配向膜に用いられる配向膜材料として、ポリアミック酸のイミド化率が５０％以下のポリイミド系の配向膜材料を用いた。このような配向膜材料を用いることで、塗りムラのない均一な配向膜を形成することができた。
【０１５９】
実施例２において作製した液晶セルは、以下のサンプルＣ〜Ｆである。液晶組成物全体に対して、サンプルＣには、ラジカル重合性モノマーとして、下記化学式（２７）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加し、サンプルＤには、下記化学式（２８）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加し、サンプルＥには、下記化学式（２９）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加し、サンプルＦには、下記化学式（３０）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加した。下記化学式（２７）で表される化合物は、上記合成例２で得た化合物Ｉであり、下記化学式（２８）で表される化合物は、上記合成例３で得た化合物Ｊであり、下記化学式（２９）で表される化合物は、上記合成例４で得た化合物Ｐであり、下記化学式（３０）で表される化合物は、上記合成例５で得た化合物Ｕである。
【０１６０】
【化２８】
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【化２９】
2016006130.tif 000032
【化３０】
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【化３１】
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【０１６１】
更に、サンプルＣ〜Ｆには、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーとして、下記化学式（３３）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して０．０５重量％となるように添加した。下記化学式（３３）で表される化合物は、光照射による水素引き抜き反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物である。
【０１６２】
【化３２】
2016006130.tif 000035
【０１６３】
比較例２として作製した液晶セルは、以下のサンプルＧ〜Ｉである。サンプルＧでは、液晶組成物にラジカル重合性モノマーを添加しなかった。液晶組成物全体に対して、サンプルＨには、下記化学式（３１）で表される化合物（ドデシルメタクリレート）を、１．０重量％となるように添加し、サンプルＩには、下記化学式（３２）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加した。更に、サンプルＨ及びＩには、上記化学式（３３）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して０．０５重量％となるように添加した。
【０１６４】
【化３３】
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【化３４】
2016006130.tif 000037
【０１６５】
完成した各液晶セルについて、液晶分子の配向性を観察し、各液晶セルの初期の電圧保持率（ＶＨＲ）、及び、エージング試験後のＶＨＲを測定した。ＶＨＲの測定方法及びエージング試験の方法は、実施例１と同様である。
【０１６６】
下記表２に、サンプルＣ〜Ｉの、液晶分子の配向性、初期ＶＨＲ及びエージング試験後のＶＨＲの結果を示した。
【０１６７】
【表２】
2016006130.tif 000038
【０１６８】
本発明の実施例であるサンプルＣ〜Ｆでは、全てのサンプルにおいて液晶分子は基板面に対して垂直に配向した。また、初期ＶＨＲはサンプルＣ〜Ｆの全てにおいて、９９％以上と高い値を示し、エージング試験後のＶＨＲはほとんど低下しなかった。
【０１６９】
比較例であるサンプルＧ〜Ｉでは、サンプルＧ及びＨでは、初期ＶＨＲは９８％程度とやや低く、エージング試験後のＶＨＲは大きく低下した。サンプルＩは、初期ＶＨＲは９９％と高い値を示し、エージング試験後のＶＨＲはほとんど低下しなかったが、液晶分子は基板面に対して垂直に配向しなかった。
【０１７０】
以上の結果について検討すると、以下にまとめられる。サンプルＧは、ラジカル重合性モノマーを添加していないため、配向膜上にポリマー層（ＰＳＡ層）を有さない。そのため、配向膜のポリアミック酸中のカルボン酸が、バックライトからの光を吸収し、その結果劣化も進行し、エージング試験後のＶＨＲが低下したと考えられる。
【０１７１】
サンプルＨに用いた上記化学式（３１）で表される化合物は、重合性基が１つであるため、重合速度が遅く、重合体がポリマー層に取り込まれ難くなり、重合末端である重合性基に発生したラジカルが液晶層中に残存し、初期ＶＨＲは、やや低くなったと考えられる。
【０１７２】
サンプルＩに用いた上記化学式（３２）で表される化合物は、重合性基を２つ有するため、反応速度が速く、配向膜上にポリマー層を短時間で形成することができたため、初期ＶＨＲは高くなったと考えられる。また、該ポリマー層の形成により、エージング試験後もＶＨＲが低下しなかったと考えられる。しかし、上記化学式（３２）で表される化合物が有する炭化水素基は、炭素数が８と少ないため、液晶分子との分子間相互作用が弱く、基板面に対して充分に垂直配向させることができなかったと考えられる。
【０１７３】
以上により、イミド化率が５０％以下の配向膜材料から形成した垂直配向膜を用いた場合でも、上記化学式（２７）〜（３０）で表されるような、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物を用いることで、液晶分子の配向を制御するポリマー層を形成できた。更に、上記化学式（３３）で表されるような、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーを併せて用いることで、より液晶分子の配向制御性の高いポリマー層を形成することができ、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができた。また、高い電圧保持率を維持することができ、長期信頼性の高い液晶表示装置が得られた。  
【０１７４】
（実施例３）
以下に、実施形態３に準じた形で、実際に液晶セルを作製した実施例３を示す。実施例３で用いた液晶セルの作製方法は、液晶セルの基板の表面に配向膜を形成する工程を有さない点、ラジカル重合性モノマーを重合させるための光照射時間を２０分とした点以外は、実施例１と同様である。
【０１７５】
実施例３において作製した液晶セルは、以下のサンプルＪ〜Ｍである。サンプルＪ〜Ｍには、ラジカル重合性モノマーとして、実施例２と同様に、それぞれ上記化学式（２７）〜（３０）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して１．０重量％となるように添加した。更に、サンプルＪ〜Ｍには、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーとして、下記化学式（３４）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して０．０５重量％となるように添加した。下記化学式（３４）で表される化合物は、光照射による自己開裂反応によってラジカルを生成する構造を有する化合物である。
【０１７６】
【化３５】
2016006130.tif 000039
【０１７７】
比較例３として作製した液晶セルは、以下のサンプルＮ〜Ｐである。サンプルＮでは、液晶組成物にラジカル重合性モノマーを添加しなかった。液晶組成物全体に対して、サンプルＯには、上記化学式（３１）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加し、サンプルＰには、上記化学式（３２）で表される化合物を、１．０重量％となるように添加した。更に、サンプルＯ及びＰには、上記化学式（３４）で表される化合物を、液晶組成物全体に対して０．０５重量％となるように添加した。
【０１７８】
完成した各液晶セルについて、液晶分子の配向性を観察し、各液晶セルの初期の電圧保持率（ＶＨＲ）、及び、エージング試験後のＶＨＲを測定した。ＶＨＲの測定方法及びエージング試験の方法は、実施例１と同様である。
【０１７９】
下記表３に、サンプルＪ〜Ｐの、液晶分子の配向性、初期ＶＨＲ及びエージング試験後のＶＨＲの結果を示した。
【０１８０】
【表３】
2016006130.tif 000040
【０１８１】
本発明の実施例であるサンプルＪ〜Ｍでは、全てのサンプルにおいて、液晶分子は基板面に対して垂直に配向した。また、初期ＶＨＲはサンプルＪ〜Ｍの全てにおいて、９９％以上と高い値を示し、エージング試験後のＶＨＲはほとんど低下しなかった。
【０１８２】
比較例であるサンプルＮ〜Ｐでは、サンプルＮは、液晶分子は基板面に対して垂直に配向せず、初期ＶＨＲは高いが、エージング試験後のＶＨＲは９７％台まで低下した。サンプルＯは、液晶分子は基板面に対して垂直に配向したものの、初期ＶＨＲはやや低く、エージング後のＶＨＲは９２％台まで低下した。サンプルＰは、初期ＶＨＲ及びエージング試験後のＶＨＲはともに高い値を示したが、液晶分子は基板面に対して垂直に配向しなかった。
【０１８３】
以上の結果について検討すると、以下にまとめられる。サンプルＮは、ポリマー層を形成していないため、液晶分子は基板面に対して垂直に配向しなかった。サンプルＯに用いた上記化学式（３１）で表される化合物は、重合性基が１つであるため、液晶層中に残存し、エージング試験後のＶＨＲが大きく低下したと考えられる。サンプルＰに用いた上記化学式（３２）で表される化合物は、炭化水素基の炭素数が少なく、液晶分子との分子間相互作用が弱く、基板面に対して充分に垂直配向させることができなかったと考えられる。
【０１８４】
以上により、配向膜を形成しない場合であっても、上記化学式（２７）〜（３０）で表されるような、炭素数６以上の環状の脂肪族化合物又は芳香族化合物に対して、２つの重合性基が結合されて形成された化合物に、更に、炭素数１２以上の炭化水素基が結合されて形成された化合物と、上記化学式（３４）で表されるような、光照射によってラジカルを生成する構造を有するモノマーとを併せて用いることで、液晶分子の配向制御性の高いポリマー層を形成することができ、液晶分子を基板面に対して垂直に配向させることができた。また、実施例２と同様に、高い電圧保持率を維持することができ、長期信頼性の高い液晶表示装置が得られた。
【符号の説明】
【０１８５】
１０３、２０３、３０３：シール材
１０４、２０４、３０４：（第一の）ラジカル重合性モノマー
１０５、２０５、３０５：液晶層
２０６、３０６：（第二の）ラジカル重合性モノマー
１０７、２０７、３０７：ポリマー層（ＰＳＡ層）
１０８、２０８：配向膜
１１０、２１０、３１０：アレイ基板
１２０、２２０、３２０：カラーフィルタ基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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