(57)【要約】      （修正有）【課題】操作往行程における軸支側へのレバー部の付勢力を小さくすることができるペダル装置を提供する。【解決手段】レバー部３０は、鉛直部３１と、鉛直部３１から前方（操作者側）へ延設された延設部３２とからなり、延設部３２が足２２で押下操作される。レバー部３０は、軸支部Ｊの回動中心Ｃ０を中心として回動自在に支柱部１２に支持されている。延設部３２のうち、押下操作の際に足底２２ａが接触し得ると想定される主接触領域にだけは摩擦係数の低くなるようなコーティングを施している。これにより、主接触領域の滑り性を、主接触領域でない領域と比べて高くしている。【選択図】図１
2016181044.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台部と、
操作者側へ延設された延設部を有し、前記延設部が押下操作されるレバー部と、
前記レバー部を前記基台部に対して回動中心を中心として回動自在に支持する支持部と、を有し、
前記レバー部の前記延設部のうち、押下操作の際に足が接触し得ると想定される主な領域である主接触領域の滑り性を、前記延設部のうち前記主接触領域でない領域と比べて高くしたことを特徴とするペダル装置。
【請求項２】
基台部と、
操作者側へ延設された延設部を有し、前記延設部が押下操作されるレバー部と、
前記レバー部を前記基台部に対して回動中心を中心として回動自在に支持する支持部と、を有し、
前記レバー部の前記延設部のうち、押下操作の際に足が接触し得ると想定される主な領域である主接触領域の滑り性について、前記回動中心の軸線方向に平行な方向の滑り性よりも前記回動中心の軸線方向に垂直な方向の滑り性の方を高くしたことを特徴とするペダル装置。
【請求項３】
基台部と、
操作者側へ延設された延設部を有し、前記延設部が押下操作されるレバー部と、
前記レバー部を前記基台部に対して回動中心を中心として回動自在に支持する支持部と、
前記回動中心の軸線方向に略平行な方向を軸線方向とする回動中心を中心として回転するローラと、を有し、
前記レバー部の前記延設部のうち、押下操作の際に足が接触し得ると想定される主な領域である主接触領域に、前記ローラを少なくとも１つ設けたことを特徴とするペダル装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基台部を床面等に載置してレバー部を足で押下操作するペダル装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、鍵盤楽器等に用いられる一般的なペダル装置は、下記特許文献１に示されるように、基台部が床面等に設置され、回動自在なレバー部の先端が足で押下操作される構成である。奏者は演奏の際、足のかかとを床面に置き、その位置を支点として足を回動させる。
【０００３】
図４（ａ）は、従来のペダル装置の模式的側面図である。ペダル装置１１０は、基台部１１１に対して回動支点１１３を中心にレバー部１１２が回動自在にされている。図４（ａ）において、床面１１７に平行で且つ、回動支点１１３から見てレバー部１１２の先端の方向を前方とする。基台部１１１が床面１１７に載置される。奏者は、床面１１７におけるレバー部１１２の前方の操作支点１１６に足１１５のかかとを置いてつま先を上下操作する。操作の際には、レバー部１１２の先端と足底１１８の先端部であるつま先との当接点を力点１１４とすると、力点１１４を介して押下力がレバー部１１２に伝わってレバー部１１２が回動する。足１１５が上方に回動動作すると、不図示のバネによってレバー部１１２が初期位置に復帰し、非操作状態となる。初期位置においては、レバー部１１２の上面は水平である。
【０００４】
図４（ｂ）、（ｃ）は、踏み込み操作行程における回動支点１１３に対する力点１１４の変位、操作支点１１６に対する力点１１４の変位を示す模式図である。ここで、力点１１４は、足１１５とレバー部１１２との当接点であって、実際には操作行程において随時位置が変化する。しかし、ここで力点１１４の軌跡を解析するために、レバー部１１２と足１１５のそれぞれについて、非操作状態に１１４に示す位置にあった力点１１４が回動に伴ってどのように変位するかを考える。
【０００５】
図４（ｂ）に示すように、初期位置にあるレバー部１１２の上面は水平であり、押下操作されると先端が下方に傾斜する。従って、レバー部１１２が回動ストロークの終了位置まで回動したときの力点１１４−ａは初期位置の力点１１４に対して、水平方向においてかかとから離れる方向に変位量Ａだけ後退した位置となる。一方、足底１１８は、押下操作により床面１１７に対する傾斜角度が小さくなり、レバー部１１２が回動ストロークの終了位置まで回動したときの力点１１４−ｂは初期位置の力点１１４に対して、変位量Ｂだけ後退した位置となる。
【０００６】
このように、レバー部１１２は水平状態から前方が下方に傾斜する姿勢に遷移するのに対し、足底１１８は、後方が上方に傾斜した状態は変わらず、傾斜角度が小さくなるだけであることから、変位量Ａよりも変位量Ｂの方が大きい。その一方、回動支点１１３の位置は固定であり、操作支点１１６の位置もほぼ不変であることから、変位量Ａと変位量Ｂとの差分だけ、力点１１４では足底１１８とレバー部１１２との間に摺動が生じることになる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００８−０９０１７０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、足底１１８とレバー部１１２との間には摩擦力が働くから、操作支点１１６が不変である限り、踏み込み操作の度に力点１１４を通じて回動支点１１３が後方へ付勢力を受けることになる。その付勢力によって、ペダル装置１１０の全体が後方へずれていく。押下操作は速いため、毎回、少しずつではあるが装置が後退を繰り返し、多数回の操作によって装置の位置ずれが徐々に大きくなっていくという問題がある。これの対策として、現場においては装置をガムテープ等で床面に固定することがなされるが、あまり好ましい対策ではない。また、基台部の下面に滑り止めを設ける構成もあるが、効果は限定的であり、コストもかかる。
【０００９】
本発明は上記従来技術の問題を解決するためになされたものであり、その目的は、操作往行程における軸支側へのレバー部の付勢力を小さくすることができるペダル装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
上記目的を達成するために本発明の請求項１のペダル装置は、基台部（１１）と、操作者側へ延設された延設部（３２）を有し、前記延設部が押下操作されるレバー部（３０）と、前記レバー部を前記基台部に対して回動中心（Ｃ０）を中心として回動自在に支持する支持部（１２）と、を有し、前記レバー部の前記延設部のうち、押下操作の際に足が接触し得ると想定される主な領域である主接触領域（Ｓ）の滑り性を、前記延設部のうち前記主接触領域でない領域と比べて高くしたことを特徴とする。
【００１１】
上記目的を達成するために本発明の請求項２のペダル装置は、基台部と、操作者側へ延設された延設部を有し、前記延設部が押下操作されるレバー部と、前記レバー部を前記基台部に対して回動中心（Ｃ０）を中心として回動自在に支持する支持部（１２）と、を有し、前記レバー部の前記延設部のうち、押下操作の際に足が接触し得ると想定される主な領域である主接触領域（Ｓ）の滑り性について、前記回動中心（Ｃ０）の軸線方向に平行な方向の滑り性よりも前記回動中心の軸線方向に垂直な方向の滑り性の方を高くしたことを特徴とする。
【００１２】
上記目的を達成するために本発明の請求項３のペダル装置は、基台部と、操作者側へ延設された延設部を有し、前記延設部が押下操作されるレバー部と、前記レバー部を前記基台部に対して回動中心（Ｃ０）を中心として回動自在に支持する支持部（１２）と、前記回動中心（Ｃ０）の軸線方向に略平行な方向を軸線方向とする回動中心（Ｃ１、Ｃ２）を中心として回転するローラ（３８、４０）と、を有し、前記レバー部の前記延設部のうち、押下操作の際に足が接触し得ると想定される主な領域である主接触領域（Ｓ）に、前記ローラを少なくとも１つ設けたことを特徴とする。
【００１３】
なお、上記括弧内の符号は例示である。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、操作往行程における軸支側へのレバー部の付勢力を小さくすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明の第１の実施の形態に係るペダル装置の側面図（図（ａ））、同ペダル装置の後部の平面図（図（ｂ））である。
【図２】延設部の模式的な平面図（図（ａ））、正面図（図（ｂ））、側面図（図（ｃ））、本発明の第２の実施の形態に係るペダル装置の延設部の模式的な平面図（図（ｄ））、図２（ｄ）のＡ−Ａ線に沿う断面図（図（ｅ））である。
【図３】本発明の第３の実施の形態に係るペダル装置の延設部の模式的な平面図（図（ａ））、側面図（図（ｂ））、変形例における延設部の模式的な平面図（図（ｃ））、側面図（図（ｄ））、変形例のレバー部を示す模式図（図（ｅ））である。
【図４】従来のペダル装置の模式的側面図（図（ａ））、踏み込み操作行程における回動支点に対する力点の変位、操作支点に対する力点の変位を示す模式図（図（ｂ）、（ｃ））である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
【００１７】
（第１の実施の形態）
図１（ａ）、（ｂ）は、それぞれ、本発明の第１の実施の形態に係るペダル装置の側面図、同ペダル装置の後部の平面図である。図１（ａ）、（ｂ）では、ペダル装置１０の一部を断面で示している。
【００１８】
このペダル装置１０は、電子機器を制御するための操作子として用いられる。ペダル装置１０の用途となる電子機器に限定はなく、電子楽器、音響機器、ミシン等に適用できる。電子楽器として例えば鍵盤楽器に適用された場合は、ペダル装置１０は電子鍵盤楽器の本体の下方に載置され、効果制御用の操作子として用いることができる。あるいは、ペダル装置１０は電子機器の一部として構成されてもよい。本実施の形態では、ペダル装置１０は鍵盤楽器に適用されるとする。
【００１９】
ペダル装置１０は主に基台部１１とレバー部３０とを有し、使用される際は通常、基台部１１が平坦な載置面（図１（ａ）では床面２０）に載置される。レバー部３０は、足２２で押下操作され、ペダルと呼称されることもある。以降、ペダル装置１０が床面２０に載置された状態において前後方向を呼称し、操作者（奏者）側（図１（ａ）の右方）を前方する。
【００２０】
レバー部３０は、鉛直部３１と、鉛直部３１から前方（操作者側）へ延設された延設部３２とからなり、側面視Ｌ字型に構成される。延設部３２の下面には、検出スイッチ１５に対応するアクチュエータ３３が設けられる。基台部１１と延設部３２との間にバネ１４が圧縮状態で介装されている。バネ１４により延設部３２が常に上方に付勢され、延設部３２がストッパ部１３ａに当接することで、非操作状態における延設部３２の回動動作の初期位置が規制される。非操作状態においては、延設部３２の上面３２ａは側面視でほぼ水平（床面２０と平行）となる。
【００２１】
基台部１１の後部からは幅方向に並列配置される一対の支柱部１２が突設される。支柱部１２には軸支部Ｊが構成される。レバー部３０は、軸支部Ｊにおける回動中心Ｃ０（図１（ｂ））を中心として回動自在に支柱部１２に支持されている。レバー部３０の鉛直部３１には、レバー部３０の幅方向に延設される軸部材１７が回動自在に設けられる。一対の支柱部１２の各々には穴１８が形成されている。各穴１８は、レバー部３０の幅方向が軸線方向となるよう同心に形成される。軸部材１７は穴１８に対して何らかの方法で固定されるか、あるいは、穴１８に対して回動自在としてもよい。穴１８に軸部材１７が挿通されて軸支部Ｊが構成される。
【００２２】
支柱部１２より前方において、基台部１１には、レバー部３０を幅方向から挟むように一対のストッパ支柱１３が突設され、一対のストッパ支柱１３の上部を結ぶようにストッパ部１３ａが設けられている。一対のストッパ支柱１３とストッパ部１３ａとでコ字状を呈する。ストッパ支柱１３より前方において基台部１１には、レバー部３０の操作を検出する検出スイッチ１５が配設されている。
【００２３】
基台部１１の前部には下限ストッパ１６が配設される。レバー部３０が図１（ａ）の時計方向に回動し、延設部３２の下面が下限ストッパ１６に当接することで、レバー部３０の回動の往行程における回動終了位置が規制される。従って、延設部３２がストッパ部１３ａに当接する初期位置から下限ストッパ１６に当接する回動終了位置までの回動範囲がレバー部３０としての操作のストロークとなる。
【００２４】
検出スイッチ１５が延設部３２のアクチュエータ３３により押圧されると電気的に導通し、レバー部３０のオン動作が検出される。検出スイッチ１５は、レバー部３０の少なくともオンオフ操作を検出できればよく、構成は問わない。また、検出スイッチ１５は、押下の程度に応じた信号を出力するボリュームスイッチでもよい。
【００２５】
延設部３２の先端部３２ｂの上側は側面視で凸曲面となっている。レバー部３０は、先端部３２ｂが被操作部として押下操作される。操作者の足２２の足底２２ａ（靴底）を便宜上、平坦であると仮定し、足底２２ａのつま先付近で延設部３２の先端部３２ｂが押下操作される。その際、足２２のかかとは床面２０上の操作支点Ｋに置かれる。操作支点Ｋは、床面２０上における先端部３２ｂを挟んで反対側の位置である。操作者による踏み込み操作によって、操作支点Ｋを中心として足底２２ａが図１（ａ）の反時計方向に回動する。操作時に足底２２ａと先端部３２ｂとが係合する力点となる側面視の位置を当接点Ｐとする。ただし、延設部３２と足底２２ａとの摺動により、延設部３２における当接点Ｐと足底２２ａにおける当接点Ｐとは、操作の行程において変化し得る。
【００２６】
図２（ａ）、（ｂ）、（ｃ）は、延設部３２の模式的な平面図、正面図、側面図である。延設部３２のうち、押下操作の際に足底２２ａが接触し得ると想定される主な領域を、主接触領域Ｓと呼称する。本実施の形態では、延設部３２のうち主接触領域Ｓの滑り性を主接触領域Ｓでない領域と比べて高くしている。
【００２７】
まず、レバー部３０は全体が金属で一体に形成され、延設部３２の上面３２ａをはじめとする延設部３２の表面は、従来と同様にメッキ加工されている。しかし、主接触領域Ｓにだけは摩擦係数の低くなるようなコーティングを施している。このコーティング材の例としては、例えば、高密度ポリエチレン、フッ素、ウレタン等のコーティングが採用可能である。ただし主接触領域Ｓの滑り性を高くする（動摩擦係数を低くする）手法はコーティングに限られず、面粗さを細かくする表面処理を行うことでもよい。また、円滑に摺動する２枚のフィルムを表面に重ねて配置してもよい。あるいは、潤滑剤を含んだゴムを表面に採用してもよい。なお、床面２０に接する基台部１１の底面の滑り性は極力低くするのが良く、主接触領域Ｓの摩擦係数は基台部１１の底面の摩擦係数よりも低いことはいうまでもない。
【００２８】
延設部３２が押下操作されると、延設部３２の主接触領域Ｓと足底２２ａとは良好に摺動する。従って、押下操作の往行程が進むにつれて、当接点Ｐは、延設部３２に関しては軸支部Ｊに近づいていき、足底２２ａに関しては操作支点Ｋに近づいていく。これにより、従来に比し、操作往行程において足底２２ａによって軸支部Ｊの側へ延設部３２が押される力が弱くなる。
【００２９】
よって、本実施の形態によれば、操作往行程における軸支側（軸支部Ｊの側）へのレバー部３０の付勢力を小さくして、ペダル装置１０の後退移動を抑制することができる。
【００３０】
なお、ペダル装置１０が、例えば、ドラムラック等の固定部に固定されていて移動しない状態で使用される場合であっても、軸支側へのレバー部３０の付勢力を小さくできることで、ペダル装置１０の固定部への固定構造を簡素・安価にできる利点がある。
【００３１】
（第２の実施の形態）
図２（ｄ）は、本発明の第２の実施の形態に係るペダル装置の延設部の模式的な平面図である。図２（ｅ）は、図２（ｄ）のＡ−Ａ線に沿う断面図である。本実施の形態では、主接触領域Ｓの滑り性については、回動中心Ｃ０の軸線方向に平行な方向の滑り性よりも回動中心Ｃ０の軸線方向に垂直な方向の滑り性の方を高くしている。回動中心Ｃ０の軸線方向は、レバー部３０の幅方向（左右方向）である。
【００３２】
具体的には、主接触領域Ｓにおいて、平面視で前後方向に略平行な溝３６が、左右方向に並列に複数形成される。なお、主接触領域Ｓについて、第１の実施の形態で採用した主接触領域Ｓの滑り性を高くする処理を併用される。これにより、主接触領域Ｓに接触する足底２２ａは、左右方向に比し前後方向に滑り易くなる。回動中心Ｃ０の軸線方向に垂直な方向の滑り性が良くなることで、操作往行程における軸支側（軸支部Ｊの側）へのレバー部３０の付勢力が小さくなる。
【００３３】
よって、本実施の形態によれば、第１の実施の形態と同様の効果を奏することができる。また、前後方向の良好な滑りを確保しつつも、左右方向には滑りにくいので、操作の際に足が側方に脱落することもなく、操作がしやすい。なお、溝３６に代えて突条を形成してもよい。
【００３４】
（第３の実施の形態）
第１、第２の実施の形態では滑り摩擦に着目したが、本発明の第３の実施の形態では転がり摩擦に着目し、主接触領域Ｓの転がり摩擦係数を低くする。
【００３５】
図３（ａ）、（ｂ）は、本発明の第３の実施の形態に係るペダル装置の延設部の模式的な平面図、側面図である。本実施の形態では、主接触領域Ｓに１つのローラ３８を配設し、足底２２ａがローラ３８の表面に接触するようにする。ローラ３８は、軸部３７によって延設部３２に軸支され、回動中心Ｃ１を中心として回動自在である。軸部３７（回動中心Ｃ１）の軸線方向は、回動中心Ｃ０の軸線方向に略平行である。
【００３６】
本実施の形態によれば、操作往行程においてローラ３８が回転するので、延設部３２の延設方向において、足底２２ａが主接触領域Ｓから受ける抵抗が小さくなる。また、ローラ３８の回転方向は決まっているので、左右方向に比し前後方向への抵抗が小さい。よって、第２の実施の形態と同様の効果を奏することができる。
【００３７】
なお、図３（ｃ）、（ｄ）に示すように、ローラは２個以上配設してもよい。図３（ｃ）、（ｄ）は、第３の実施の形態の変形例における延設部の模式的な平面図、側面図である。主接触領域Ｓに複数のローラ４０を前後方向に並列に配列し、足底２２ａがローラ４０の表面に接触するようにする。ローラ４０は、軸部３９によって延設部３２に軸支され、各々、回動中心Ｃ２を中心として回動自在である。軸部３９（回動中心Ｃ２）の軸線方向は、回動中心Ｃ０の軸線方向に略平行である。
【００３８】
ところで、上記各実施の形態において、レバー部３０は側面視Ｌ字型としたが、これに限られない。例えば、図３（ｅ）に変形例を示すように、レバー部３０を、鉛直部を有することなく直線的な形状としてもよい。
【００３９】
以上、本発明をその好適な実施形態に基づいて詳述してきたが、本発明はこれら特定の実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の様々な形態も本発明に含まれる。上述の実施形態の一部を適宜組み合わせてもよい。
【符号の説明】
【００４０】
１１  基台部、  １２  支柱部（支持部）、  ３０  レバー部、  ３２  延設部、  ３８、４０  ローラ、  Ｓ  主接触領域、  Ｃ０、Ｃ１、Ｃ２  回動中心
【図１】
2016181044.tif 000003
【図２】
2016181044.tif 000004
【図３】
2016181044.tif 000005
【図４】
2016181044.tif 000006