(57)【要約】【課題】異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことを可能とする。【解決手段】光学特性の異なる２つの背景として、系統色が互いに異なる２つの背景を用いて検査を行った場合、一方の背景を用いた場合には背景材料を撮像した画素であると判定されてしまうような異物を撮像した画素に関しても、他方の背景を用いた場合には検査対象物として撮像した画素として判定されるため、検査対象物を撮像した画素に関して確実に良品か否かの検査を行うことができることから、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能となる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
背景材料上の検査対象物に対して測定光を照射することで、当該検査対象物からの拡散反射光を画素毎に受光し、当該受光した光の光強度情報を画素毎に取得する測定ステップと、
前記測定ステップで得られた前記光強度情報に基づいて、前記画素が検査対象物を撮像した画素であるか否かを判定する背景判定ステップと、
前記背景判定ステップにおいて前記検査対象物を撮像した画素であると判定された画素について、当該画素が撮像した前記検査対象物が良品であるか否かを判定する良品判定ステップと、を備え、
光学特性が互いに異なる複数の前記背景材料を用いて、前記測定ステップ、前記背景判定ステップ及び前記良品判定ステップを繰り返す異物検出方法。
【請求項２】
前記背景材料の変更に応じて、前記背景判定ステップにおいて前記画素が検査対象物を撮像した画素であるか否かを判定するために用いる背景判定条件を変更する請求項１記載の異物検出方法。
【請求項３】
複数の前記背景材料のうちの１つは、反射率が０．３未満である請求項１又は２記載の異物検出方法。
【請求項４】
複数の前記背景材料のうちの１つは、反射率が０．７以上である請求項１〜３のいずれか一項に記載の異物検出方法。
【請求項５】
前記検査対象物を撮像したすべての画素が、複数の前記背景材料のそれぞれに対応する背景判定条件のいずれか一つを用いて判定をした場合に、前記検査対象物を撮像した画素であると判定されるように、前記背景判定条件が決められている請求項２記載の異物検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、異物検出方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
検査対象物中に混入している異物又は不良品を検出する技術として、光を用いる検査、金属探知機を用いる検査、磁気センサーを用いる検査、Ｘ線を用いる検査等が知られている。例えば、特許文献１，２に開示された発明では、検査対象物を撮像して得られた画像を解析して、該検査対象物中に混在する異物又は不良品を検出し、さらに、この検出結果に基づいて異物又は不良品と良品とに分別する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−３９６４５号公報
【特許文献２】特開２００６−２６４６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
検査対象物を撮像して得られた画像には、検査対象物だけではなく例えばベルトコンベア等の背景も含まれている。したがって、撮像された画像の解析を行う際には、まず、撮像された画像の中から検査対象物を撮像した領域を抽出した後に、異物又は不良品を検出する処理が必要となる。しかしながら、検査対象物に含まれる異物又は不良品が背景と同じような特徴を有していると、異物又は不良品を撮像した領域が背景材料を撮像した領域と判断されてしまう可能性がある。この場合、異物又は不良品を撮像した領域については、検査対象物としての認識もなされず、異物検出の対象にもならないため、見落としが生じる可能性がある。
【０００５】
本発明は上記を鑑みてなされたものであり、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能な異物検出方法の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本願発明は、
（１）背景材料上の検査対象物に対して測定光を照射することで、当該検査対象物からの拡散反射光を画素毎に受光し、当該受光した光の光強度情報を画素毎に取得する測定ステップと、
前記測定ステップで得られた前記光強度情報に基づいて、前記画素が検査対象物を撮像した画素であるか否かを判定する背景判定ステップと、
前記背景判定ステップにおいて前記検査対象物を撮像した画素であると判定された画素について、当該画素が撮像した前記検査対象物が良品であるか否かを判定する良品判定ステップと、を備え、
光学特性が互いに異なる複数の前記背景材料を用いて、前記測定ステップ、前記背景判定ステップ及び前記良品判定ステップを繰り返す異物検出方法、
である。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能な異物検出方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】異物検出装置の概略構成図である。
【図２】ハイパースペクトル画像について説明する図である。
【図３】異物検出方法を説明するフローチャートである。
【図４】背景材料を変更した測定方法について説明する図である。
【図５】背景材料を変更した測定方法について説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［本願発明の実施形態の説明］
最初に本願発明の実施態様を列記して説明する。
【００１０】
本願の異物検出方法は、（１）背景材料上の検査対象物に対して測定光を照射することで、当該検査対象物からの拡散反射光を画素毎に受光し、当該受光した光の光強度情報を画素毎に取得する測定ステップと、前記測定ステップで得られた前記光強度情報に基づいて、前記画素が検査対象物を撮像した画素であるか否かを判定する背景判定ステップと、前記背景判定ステップにおいて前記検査対象物を撮像した画素であると判定された画素について、当該画素が撮像した前記検査対象物が良品であるか否かを判定する良品判定ステップと、を備え、光学特性が互いに異なる複数の前記背景材料を用いて、前記測定ステップ、前記背景判定ステップ及び前記良品判定ステップを繰り返すことを特徴とする。
【００１１】
上記のように、光学特性が互いに異なる複数の背景材料を用いて測定ステップ、背景判定ステップ及び良品判定ステップを繰り返すことで、一の背景材料上で測定をした場合には背景であると誤って判定された検査対象物についても、光学特性が異なる背景材料上では検査対象物として判定されるため、誤判定を減らすことができ、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能となる。
【００１２】
（２）また、上述の（１）の異物検出方法において、前記背景材料の変更に応じて、前記背景判定ステップにおいて前記画素が検査対象物を撮像した画素であるか否かを判定するために用いる背景判定条件を変更する態様とすることができる。
【００１３】
背景判定条件を背景材料に応じて変更することにより、背景判定ステップにおける判定の精度を高めることができ、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能となる。
【００１４】
（３）また、上述の（１）又は（２）に記載の異物検出方法において、複数の前記背景材料のうちの１つは、反射率が０．３未満である態様とすることができる。
【００１５】
上記のような背景材料を用いることにより、高い反射率を有する検査対象物に関する背景判定及び良品判定を高い精度で行うことができる。
【００１６】
（４）また、上述の（１）〜（３）のいずれかに記載の異物検出方法において、複数の前記背景材料のうちの１つは、反射率が０．７以上である態様とすることができる。
【００１７】
上記のような背景材料を用いることにより、低い反射率を有する検査対象物に関する背景判定及び良品判定を高い精度で行うことができる。
【００１８】
（５）また、上述の（２）の異物検出方法において、前記検査対象物を撮像したすべての画素が、複数の前記背景材料のそれぞれに対応する背景判定条件のいずれか一つを用いて判定をした場合に、前記検査対象物を撮像した画素であると判定されるように、前記背景判定条件が決められている態様とすることができる。
【００１９】
上記のような背景判定条件を用いる場合、検査対象物を撮像した全ての画素が背景を撮像した画素と判定されることなく、検査対象物を撮像した画素として選定されるため、背景判定ステップにおける判定を高い精度で行うことができる。
【００２０】
［本願発明の実施形態の詳細］
本発明に係る異物検出方法の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。なお、本発明はこれらの例示に限定されるものではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味及び範囲内での全ての変更が含まれることが意図される。
【００２１】
本発明の一形態に係る異物検出方法を用いる異物検出装置１００について図１を用いて説明する。本実施形態に係る異物検出装置１００は、ベルトコンベア２上に分散載置された検査対象物３を、異物又は不良品と、良品と、に分類することを主な目的とした装置である。
【００２２】
異物検出装置１００の検査対象物３としては、例えば、食品、薬品、工業製品等が挙げられるが特に限定されない。
【００２３】
また、異物検出装置１００では、搬送される検査対象物をインラインで全数検査することに対して好適に用いられる。なお、以下の実施形態では、検査対象物３が四角形状の物質である場合について説明する。検査対象物３は、ベルトコンベア２上に、個体同士が重なり合わないように配置することが好ましく、個体同士を離間して配置することが更に好ましい。
【００２４】
異物検出装置１００は、測定光を検査対象物３に対して照射することにより得られる拡散反射光のスペクトルを測定し、そのスペクトルに基づいて検査対象物３を検査する。このため、異物検出装置１００は、光源１０、撮像部２０、及び分析部３０（判定部）を備える。
【００２５】
光源１０は、測定光をベルトコンベア２上における所定の照射領域Ａ１へ向けて照射する。光源１０が照射する測定光の波長範囲は、検査対象物３によって適宜選択される。測定光としては、例えば近赤外光を用いることができるが、可視光であってもよい。測定光が近赤外光である場合、具体的には、波長範囲が８００ｎｍ〜２５００ｎｍの近赤外光が好適に用いられ、特に波長範囲が１０００ｎｍ〜２３００ｎｍの光が好適に用いられる。測定光の波長範囲については、検査対象物３に応じて適宜選定することが好ましい。光源１０としては例えばハロゲンランプ等が好適に用いられる。
【００２６】
照射領域Ａ１とは、検査対象物３を載置するベルトコンベア２の表面（載置面２ｂ）の一部の領域である。この照射領域Ａ１は、載置面２ｂの進行方向２ａ（図１のｙ軸方向）と垂直な幅方向（ｘ軸方向）に広がり、載置面２ｂの一方の端から他方の端までを覆う領域である。
【００２７】
なお、本実施形態では、光源１０から出射される光が照射領域Ａ１に対して直接照射される構成について説明するが、光源１０からの光を例えばシリンドリカルレンズ等を介してライン上に整形して出射する構成としてもよい。
【００２８】
光源１０から出力された測定光Ｌ１は、照射領域Ａ１上に載置された検査対象物３により拡散反射される。そして、その一部が、拡散反射光Ｌ２として撮像部２０に入射する。
【００２９】
撮像部２０は、ハイパースペクトル画像を取得するハイパースペクトルセンサとしての機能を有する。ここで、本実施形態におけるハイパースペクトル画像について図２を用いて説明する。図２は、ハイパースペクトル画像についてその概略を説明する図である。図２に示すように、ハイパースペクトル画像とは、Ｎ個の画素Ｐ１〜ＰＮにより構成されている画像である。図２ではそのうちの一例として２個の画素Ｐｎ及びＰｍについて具体的に示している。画素Ｐｎ及びＰｍには、それぞれ複数の強度データからなるスペクトル情報Ｓｎ及びＳｍが含まれている。この強度データとは、特定の波長（又は波長帯域）におけるスペクトル強度を示すデータであり、図２では、１５個の強度データがスペクトル情報Ｓｎ及びＳｍとして保持されていて、これらを重ね合わせた状態で示している。このように、ハイパースペクトル画像Ｈは、画像を構成する画素毎に、それぞれ複数の強度データを持つという特徴から、画像としての二次元的要素と、スペクトルデータとしての要素をあわせ持った三次元的構成のデータである。なお、本実施形態では、ハイパースペクトル画像Ｈとは、１画素あたり少なくとも５つの波長帯域における強度データを保有している画素によって構成された画像のことをいう。
【００３０】
図２では検査対象物３もあわせて示している。すなわち、図２においてＰｎは検査対象物３を撮像した画素であり、Ｐｍは背景材料（例えば、ベルトコンベアや搬送容器）を撮像した画素である。このように、撮像部２０では、検査対象物３だけでなく背景材料を撮像した画像も取得される。したがって、検査対象物３の分類に係る処理においては、背景材料を撮像した画素を特定しその画素で取得されたスペクトルデータは、検査対象物３を撮像した画素で取得されたスペクトルデータとは区別して取り扱う必要がある。
【００３１】
図１に戻り、本実施形態に係る撮像部２０は、カメラレンズ２４と、スリット２１と、分光器２２と、受光部２３と、を備える。この撮像部２０は、その視野領域２０ｓ（撮像領域）がベルトコンベア２の進行方向２ａと垂直な方向（ｘ軸方向）に延びている。撮像部２０の視野領域２０ｓは、載置面２ｂの照射領域Ａ１に含まれるライン状の領域であって、スリット２１を通過した拡散反射光Ｌ２が受光部２３上に像を結ぶ領域である。
【００３２】
スリット２１は、照射領域Ａ１の延在方向（ｘ軸方向）と平行な方向に開口が設けられる。撮像部２０のスリット２１に入射した拡散反射光Ｌ２は、分光器２２へ入射する。
【００３３】
分光器２２は、スリット２１の長手方向、すなわち照射領域Ａ１の延在方向に垂直な方向（ｙ軸方向）に拡散反射光Ｌ２を分光する。分光器２２により分光された光は、受光部２３によって受光される。
【００３４】
受光部２３は、複数の受光素子が２次元に配列された受光面を備え、各受光素子が光を受光する。これにより、受光部２３がベルトコンベア２上の幅方向（ｘ軸方向）に沿った各位置で反射した拡散反射光Ｌ２の各波長の光をそれぞれ受光することとなる。各受光素子は、受光した光の強度に応じた信号を位置と波長とからなる二次元平面状の一点に関する情報として出力する。この受光部２３の受光素子から出力される信号が、ハイパースペクトル画像に係る画素毎のスペクトルデータとして、撮像部２０から分析部３０に送られる。
【００３５】
なお、撮像部２０は、ハイパースペクトルセンサには限定されない。撮像部２０は、画素毎に単一波長又は複数波長の光強度情報を取得する機能を有していればよく、その構成は適宜変更することができる。
【００３６】
分析部３０は、入力された信号により拡散反射光Ｌ２の反射光スペクトルを得て、この得られたスペクトルに基づいて検査を行う。そして、この分析部３０による分析の結果は、例えば分析部３０に接続されるモニタや、プリンタ等に出力することによって、この異物検出装置１００のオペレータに通知される。
【００３７】
この分析部３０は、ＣＰＵ（Central  Processing  Unit）、主記憶装置であるＲＡＭ（Random  Access  Memory）及びＲＯＭ（Read  Only  Memory）、検出部等の他の機器との間の通信を行う通信モジュール、並びにハードディスク等の補助記憶装置等のハードウェアを備えるコンピュータとして構成される。そして、これらの構成要素が動作することにより、分析部３０としての機能が発揮される。
【００３８】
ここで、本実施形態に係る異物検出装置１００においては、異物検出に係る処理を行う際に、背景材料を変更して複数回分析を行うことを特徴とする。
【００３９】
上記の異物検出装置１００では、単一波長又は複数波長の光の光強度情報に基づいて検査対象物が良品であるか否かを判断する。しかしながら、検査に用いる波長の光に対して異物又は不良品と分類すべき検査対象物が、良品の検査対象物と同一程度の強度分布を有していた場合は、正確に分類することが困難となる。そのため、精度の高い分類を実現させるために、検査対象物間の光学的差異を解析するために多変量解析が用いられることがある。多変量解析では、多数の入力変数を用いて良品か否かのための判定用パラメータを算出するため、判定処理が複雑になると計算速度の低下が顕著になるため、解析に係る負荷を低減して処理速度を向上させるためにも、検査対象物が存在しない背景部分を撮像した画素を先に特定して、良品か否かの判定処理を省略するという構成が採用される。
【００４０】
背景部分の画素を先に取り除く方式を実現するためには、背景材料を撮像した画素と検査対象物を撮像した画素とを何らかの条件に基づいて切り分ける必要がある。しかし、この構成の場合は、検査対象物を撮像した画素について背景材料を撮像した画素と誤判定された場合に、異物又は不良品を良品と区別することができないという問題がある。実際には背景ではなく検査対象物を撮像した画素であるのに、背景材料を撮像した画素であると判定されてしまうと、良品か否かの判定が省略されるため、異物又は不良品と判定されなくなるためである。このような問題が生じるケースとしては、例えば、反射強度が高い白色背景を使用して任意の波長で一定の信号強度以上の画素を背景と判定する構成とした場合が考えられる。この場合、鏡面反射等によりその波長で背景よりも信号強度が高い、または同程度の強度を有する異物が存在したとすると、この異物を撮像した画素についても背景とみなして見逃す可能性が考えられる。
【００４１】
そこで、本実施形態に係る異物検出装置１００では、光学特性の異なる２つ以上の背景を使用して複数回検査を実施することにより、異物又は不良品を撮像した画素が背景を撮像した画素と判定されることが防止される。光学特性としては、「色調」、「反射率」等が挙げられる。
【００４２】
具体的には、図３に示すフローチャート及び図４に示す背景の変更例を参照しながら設営する。まず、第１の背景を用いて検査を開始（Ｓ０１）する。異物検出装置１００では、検査対象物３に対して背景となるのがベルトコンベア２になるので、図４（Ａ）に示すように、第１の背景色のコンベア２５を使用して測定を行う（測定ステップ）。その後、撮像された画素について、背景領域であるかの判定が行われ（Ｓ０２：背景判定ステップ）、背景領域ではないと判定された画素、すなわち、検査対象物を撮像したと判定された画素については、異物又は不良品であるか否かの判定が行われる（Ｓ０３：良品判定ステップ）。このとき、異物又は不良品であると判定された画素の検査対象物３は、ベルトコンベア上から除去される（Ｓ０４）。
【００４３】
その後、第１の背景に代えて第２の背景に変更して（Ｓ０５）、同様の検査を行う。すなわち、図４（Ｂ）に示すように、第２の背景色のコンベア２６を使用して測定を行う（測定ステップ）。この際には、背景材料を撮像した画素であるか否かの判定に用いる条件は、変更後の背景色のコンベアに対応したものとされる。すなわち、背景材料を撮像したか画素であるか否かの背景判定条件は、背景に応じて変更される。背景材料に応じて背景判定条件を変更することで、背景材料を撮像した画素であるか否かの判定をより高い精度で行うことができる。
【００４４】
第２の背景色のコンベア２６を用いて撮像された画素について、背景領域であるかの判定が行われ（Ｓ０６：背景判定ステップ）、背景領域ではないと判定された画素、すなわち、検査対象物を撮像したと判定された画素については、異物又は不良品であるか否かの判定が行われる（Ｓ０７：良品判定ステップ）。このとき、異物又は不良品であると判定された画素の検査対象物３は、ベルトコンベア上から除去される（Ｓ０４）。なお、３つ以上の背景を用いて検査を行う場合は、背景変更（Ｓ０５）以降の処理を繰り返すことで、異物又は不良品の検出を繰り返す。
【００４５】
ここで、図４（Ａ）に示す検査対象物３１が良品であって、検査対象物３２，３３が異物又は不良品であるとすると、図４（Ａ）に示すような第１の背景色のコンベア２５を用いて検査を行った場合、検査対象物３２は第１の背景色のコンベア２５とは異なる系統の色であるため、スペクトル形状の差異等から背景領域とは認識されず（Ｓ０２−ＮＯ）、異物と判定される（Ｓ０３−ＹＥＳ）ため、コンベア２５からの除去が可能である。一方、検査対象物３２は第１の背景色のコンベア２５と同系統の色であるため、スペクトル形状が背景と類似する可能性があり、この場合背景領域であると判定される（Ｓ０２−ＹＥＳ）。背景領域であると判定されると、当該画素については異物又は不良品であるか否かの判定（Ｓ０３）が行われない。したがって、第１の背景色のコンベア２５を用いた検査だけでは、検査対象物３３は異物として除去されない。
【００４６】
これに対して、図４（Ｂ）に示すように、第２の背景色のコンベア２６を用いて画像の撮像を再度行うことで、検査対象物３３は第２の背景色のコンベア２６とは系統が異なるために、背景領域とは認識されず（Ｓ０６−ＮＯ）、異物と判定される（Ｓ０７−ＹＥＳ）。これにより、検査対象物３３についても異物として判定されてコンベア２６から除去することが可能となる。
【００４７】
このように、光学特性の異なる２つの背景として、系統色が互いに異なる２つの背景を用いて検査を行った場合、一方の背景を用いた場合には背景材料を撮像した画素であると判定されてしまうような異物を撮像した画素に関しても、他方の背景を用いた場合には検査対象物として撮像した画素として判定されるため、検査対象物を撮像した画素に関して確実に良品か否かの検査を行うことができることから、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能となる。さらに、良品か否かの判定を行う前に背景部分の画素を先に取り除く方式を採用しているため、従来と同様に高速に分析を行うことができる。
【００４８】
なお、上記の方法を用いた分析の際に、良品か否かの判定を行う背景の順序と分析の結果との相関はない。すなわち、どの色の背景から分析を行ったとしても、互いに異なる系統色の背景を用いて分析を行うことで、背景材料を撮像した画素と判断されるために良品か否かの判定が省略される画素をなくすことができる。
【００４９】
次に、光学特性の異なる２つの背景として、反射率が互いに異なる２つの背景を用いる場合について説明する。
【００５０】
図４に示す例では、色の系統が異なる２つの背景を用いた場合について説明したが、色の系統の違いは、単一波長のように少ない種類の波長の光で判断することは困難な場合がある。このような場合には、互いに異なる反射率を有する２つの背景を利用して分析を行う構成が有用となることが考えられる。
【００５１】
具体的には、図５（Ａ）に示すように、検査に用いる波長帯において反射率が低い黒色背景のコンベア２７と、図５（Ｂ）に示すように、同じ波長帯において反射率が高い白色背景のコンベア２８と、を採用し、一又は複数波長の光強度情報から任意の演算式により算出したスコアレベルにより、背景部分を撮像した画像であるか否かの判定を行う方式があげられる。この場合、図５（Ａ）に示す黒色背景の場合は一定のスコアレベル以下が背景と判定され、図５（Ｂ）に示す逆に白色背景の場合は一定のスコアレベル以上が背景と判定される。すなわち、反射率の異なる複数の背景を用いて撮像をする場合も、背景材料を撮像したか画素であるか否かの判定条件は、背景に応じて変更される。
【００５２】
図５（Ａ）に示す検査対象物３１が良品であって、検査対象物３５，３６が異物又は不良品であるとすると、図５（Ａ）に示すような第１の背景色のコンベア２５を用いて検査を行った場合、検査対象物３５は黒色背景のコンベア２７において、背景及び検査対象物３１とは異なるスコアレベルを示すため、当該スコアレベルに基づいて背景領域とは認識されず（Ｓ０２−ＮＯ）、異物と判定される（Ｓ０３−ＹＥＳ）。したがって、検査対象物３５は、コンベア２７からの除去が可能である。一方、検査対象物３６は反射率が黒色背景と類似しているため、スコアレベルが黒色背景のコンベア２５と類似する可能性があり、この場合背景領域であると判定される（Ｓ０２−ＹＥＳ）。背景領域であると判定されると、当該画素については異物又は不良品であるか否かの判定（Ｓ０３）が行われない。したがって、黒色背景のコンベア２７を用いた検査だけでは、検査対象物３６は異物として除去されない。
【００５３】
これに対して、図５（Ｂ）に示すように、白色背景のコンベア２８を用いて画像の撮像を再度行うことで、検査対象物３６は白色背景のコンベア２８とは異なるスコアレベルとなるため、背景領域とは認識されず（Ｓ０６−ＮＯ）、異物と判定される（Ｓ０７−ＹＥＳ）。これにより、検査対象物３６についても異物として判定されてコンベア２８から除去することが可能となる。
【００５４】
このように、反射率が異なる背景を用いて検査対象物の撮像及び異物又は不良品と良品との分類を行う構成とした場合でも、一方の背景を用いた場合には背景材料を撮像した画素であると判定されてしまうような異物を撮像した画素に関して、他方の背景を用いた場合には検査対象物として撮像した画素として判定されるため、検査対象物を撮像した画素に関して確実に良品か否かの検査を行うことができることから、異物又は不良品の検出をより高い精度で行うことが可能となる。さらに、良品か否かの判定を行う前に背景部分の画素を先に取り除く方式を採用しているため、従来と同様に高速に分析を行うことができる。
【００５５】
なお、反射率の異なる材料を背景として用いて分析を行う場合、複数の背景のうちの１つは反射率が０．３未満であることが好ましい。この場合、反射率が低い異物又は不良品を撮像した画素は、背景材料を撮像した画素と判定されて異物又は不良品として検出されない可能性があるが、その他の異物又は不良品を好適に検出することができる。
【００５６】
また、反射率の異なる材料を背景として用いて分析を行う場合、複数の背景のうちの１つは反射率が０．７以上であることが好ましい。この場合、反射率が高い異物又は不良品を撮像した画素は、背景材料を撮像した画素と判定されて異物又は不良品として検出されない可能性があるが、その他の異物又は不良品を好適に検出することができる。
【００５７】
すなわち、反射率の異なる材料を背景として用いて分析を行う場合、複数の背景のうちの１つは反射率が０．３未満であり、その他の背景のうちの１つは反射率が０．７以上である場合、異物又は不良品の反射率に拘らず異物又は不良品を好適に検出することができる。
【００５８】
また、図４では、色の系統が異なる背景を複数用いた場合について説明し、図５では、反射率が異なる背景を複数用いた場合について説明したが、これらを組み合わせて複数種類の背景を準備して、分析を行う構成としてもよい。この場合、より高い精度で異物又は不良品の検出が可能となる。
【００５９】
また、背景材料を撮像した画素であるかを判断するための背景判定条件は、検査対象物を撮像したすべての画素が、複数の背景材料各々に対応する背景判定条件のいずれか一つを用いて判定をした場合に、検査対象物を撮像した画素であると判定されるように決められているとすることが好ましい。このような背景判定条件を用いる場合、検査対象物を撮像した画素が背景材料を撮像した画素と判定されることを防ぐことができるため、背景判定ステップにおける判定を高い精度で行うことができる。
【００６０】
以上、本発明の実施形態について説明してきたが、本発明は上述した実施形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
【００６１】
例えば、異なる背景を有する複数台の異物検出装置を使用して異物検出を行ってもよいし、一台の異物検出装置を使い背景を変えて複数回の測定を行ってもよい。上記実施形態では、ハイパースペクトル画像を撮像した場合について説明をしているが、少なくとも一波長の光の強度情報を取得すればよくその構成は適宜変更することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１００…異物検出装置、３…検査対象物、１０…光源、２０…撮像部、２１…スリット、２２…分光器、２３…受光部、３０…分析部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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