(57)【要約】【課題】耐熱性に優れた感光性組成物を提供すること。【解決手段】感光性組成物の必須成分として、潜在性酸化防止剤（Ａ）、酸化防止剤（但し、潜在性酸化防止剤（Ａ）を除く）、光安定剤、紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）及び光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）を含有させる。好ましくは、潜在性酸化防止剤（Ａ）として、一般式（Ｉ）で表される骨格を有する化合物、特に、一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物を用い、光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）として、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩を用いるか、ラジカル重合開始剤を用いる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
潜在性酸化防止剤（Ａ）、酸化防止剤（但し、潜在性酸化防止剤（Ａ）を除く）、光安定剤、紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）、及び光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性組成物。
【請求項２】
上記潜在性酸化防止剤（Ａ）が、下記一般式（Ｉ）で表される骨格を有することを特徴とする請求項１記載の感光性組成物。
【化１】
2016038569.tif 000046
（式中、環Ａ1は、五員環又は六員環の炭化水素環又は複素環を表し、
Ｒ1は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ2は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又はトリアルキルシリル基を表し、
Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ'−、−Ｓ−Ｓ−又は−ＳＯ2−から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換えていてもよく、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、
複数のＲ1同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよく、
複数のＲ1及びＲ2はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、
ｄは、１〜４の整数を表し、
ｋは、１〜４の整数を表すが、ｄとｋの合計は、環Ａ1が取り得る置換基の数より少ない。）
【請求項３】
上記潜在性酸化防止剤（Ａ）が、下記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物からなることを特徴とする請求項１又は２記載の感光性組成物。
【化２】
2016038569.tif 000047
（式中、環Ａ1は、五員環又は六員環の炭化水素環又は複素環を表し、
Ｒ1は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ2は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又はトリアルキルシリル基を表し、
Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ'−、−Ｓ−Ｓ−又は−ＳＯ2−から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換えていてもよく、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、
複数のＲ1同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよく、
複数のＲ1及びＲ2はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、
ｄは、１〜４の整数を表し、
ｋは、１〜４の整数を表すが、ｄとｋの合計は、環Ａ1が取り得る置換基の数より少ない。）
【請求項４】
上記の光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）が、芳香族スルホニウム塩又は芳香族ヨードニウム塩からなることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の感光性組成物。
【請求項５】
上記の光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）が、ラジカル重合開始剤からなることを特徴とする請求項１〜３の何れか１項に記載の感光性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、常温では不活性であり所定の温度に加熱することにより活性化されて機能を発現する潜在性酸化防止剤、該潜在性酸化防止剤以外の酸化防止剤・光安定剤・紫外線吸収剤及び光酸発生剤又は光重合開始剤を含有する感光性組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
感光性組成物は、塗料、コーティング剤、各種レジスト等に広く用いられている。
【０００３】
特許文献１には、ヒンダード系フェノール酸化防止剤を含有するポジ型感光性樹脂組成物が開示されており、特許文献２には、ヒンダード系フェノール酸化防止剤を含有するカラーフィルタ用着色感光性樹脂組成物が開示されており、特許文献３には、フェノール系酸化防止剤を含有する光カチオン硬化性組成物が開示されているが、これらの組成物は、耐熱性が十分でなかった。
また、特許文献４には、潜在性酸化防止剤に他の酸化防止剤等の各種添加剤を併用し得る旨の記載はあるが、これらを組み合わせることにより耐熱性において相乗効果が得られる旨の記載はない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００１−１００４１６号公報
【特許文献２】特開２００２−０２２９２５号公報
【特許文献３】特開２００７−１３１８４１号公報
【特許文献４】ＷＯ２０１４／０２１０２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
従って、本発明の目的は、耐熱性に優れた感光性組成物を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者等は、鋭意検討を重ねた結果、潜在性酸化防止剤（Ａ）と、特定の添加剤とを併用することにより、上記目的を達成し得ることを知見し、本発明に到達した。
即ち、本発明は、潜在性酸化防止剤（Ａ）、酸化防止剤（但し、潜在性酸化防止剤（Ａ）を除く）、光安定剤、紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）及び光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）を含有する感光性組成物を提供するものである。
【発明の効果】
【０００７】
特定の構造を有する潜在性酸化防止剤、該潜在性酸化防止剤以外の酸化防止剤・光安定剤・紫外線吸収剤及び光酸発生剤又は光重合開始剤を含用する本発明の感光性組成物は、耐熱性に優れるものである。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、本発明の感光性組成物について、好ましい実施形態に基づき説明する。
【０００９】
本発明の感光性組成物は、潜在性酸化防止剤（Ａ）に、酸化防止剤（但し、潜在性酸化防止剤（Ａ）を除く）、光安定剤、紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）と、光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）とを併用することにより、特に耐熱性を向上させたものである。以下、各成分について順に説明する。
【００１０】
＜潜在性酸化防止剤（Ａ）＞
本発明の感光性組成物に用いられる潜在性酸化防止剤（Ａ）は、常温或いはプリベーク工程では不活性であり、１００〜２５０℃で加熱するか、或いは酸／塩基触媒存在下で８０〜２００℃で加熱することにより保護基が脱離して活性となるものであり、下記一般式（Ｉ）で表される骨格を有するものが、合成が容易で耐熱性が高いので好ましい。
【００１１】
【化１】
2016038569.tif 000002
（式中、環Ａ1は、五員環又は六員環の炭化水素環又は複素環を表し、
Ｒ1は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ2は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数２〜２０のアルケニル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又はトリアルキルシリル基を表し、
Ｒ1及びＲ2で表されるアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、炭素−炭素二重結合、炭素−炭素三重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ'−、−Ｓ−Ｓ−又は−ＳＯ2−から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換えていてもよく、Ｒ’は、水素原子又は炭素原子数１〜８のアルキル基を表し、
複数のＲ1同士は結合してベンゼン環又はナフタレン環を形成していてもよく、
複数のＲ1及びＲ2はそれぞれ同じでも異なっていてもよく、
ｄは、１〜４の整数を表し、
ｋは、１〜４の整数を表すが、ｄとｋの合計は、環Ａ1が取り得る置換基の数より少ない。）
【００１２】
上記一般式（Ｉ）で表される骨格を有するものの中でも、下記一般式（Ｉ−Ａ）で表されるものが、特に耐熱性が高いので好ましい。
【００１３】
【化２】
2016038569.tif 000003
（式中、環Ａ1、Ｒ1、Ｒ2、ｄ、ｋは、上記一般式（Ｉ）と同じであり、ｎは、１〜１０の整数を表し、Ｘは、ｎ価の有機基を表す。）
【００１４】
上記一般式（Ｉ）におけるＡ1で表される五員環の炭化水素環としては、シクロペンタン、シクロペンテン、シクロペンタジエン等が挙げられ、五員環の複素環としては、フラン、チオフェン、ピロール、ピロリジン、ピラゾリジン、ピラゾール、イミダゾール、イミダゾリジン、オキサゾール、イソキサゾール、イソオキサゾリジン、チアゾール、イソチアゾール、イソチアゾリジン等が挙げられ、六員環の炭化水素環としては、シクロヘキサン、シクロヘキセン、シクロヘキサジエン等の脂環、ベンゼン等の芳香族環が挙げられ、六員環の複素環としては、ピペリジン、ピペラジン、モルフォリン、チオモルフォリン、ピリジン、ピラジン、ピリミジン、ピリダジン、トリアジン等が挙げられ、これらの環は、他の環と縮合されていたり置換されていたりしていてもよく、例えば、キノリン、イソキノリン、インドール、ユロリジン、ベンゾオキサゾール、ベンゾトリアゾール、アズレン、ナフタレン、アントラセン、フルオレン、ペリレン、ピレン等が挙げられる。
Ｒ1で表されるハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる（尚、以下の明細書中の記載において、ハロゲン原子は全て、上記と同様である）。
Ｒ1で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、ｉｓｏ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、ｉｓｏ−ヘプチル、ｔｅｒｔ−ヘプチル、１−オクチル、ｉｓｏ−オクチル、ｔｅｒｔ−オクチル、ノニル、イソノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、イソトリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、へプタデシル、オクタデシル、アダマンチル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、２−メチル−１−アダマンチル、２−メチル−２−アダマンチル、２−エチル−１−アダマンチル、２−エチル−２−アダマンチル、２−ノルボルニル、２−ノルボルニルメチル等が挙げられ、
Ｒ1で表される炭素原子数１〜４０のアルキル基を置換する置換基としては、ビニル、アリル、アクリル、メタクリル等のエチレン性不飽和基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、リン酸基又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基の塩等が挙げられる。尚、上記アルキル基の炭素原子数は、上記置換基が炭素原子を含む場合は、これら置換基中の炭素原子を含む。
Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数６〜２０のアリール基としては、フェニル、ナフチル、アントラセニル、フェナントリル、フルオレニル、インデニル、２−メチルフェニル、３−メチルフェニル、４−メチルフェニル、４−ビニルフェニル、３−ｉｓｏ−プロピルフェニル、４−ｉｓｏ−プロピルフェニル、４−ブチルフェニル、４−ｉｓｏ−ブチルフェニル、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、４−ヘキシルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、４−オクチルフェニル、４−（２−エチルヘキシル）フェニル、４−ステアリルフェニル、２，３−ジメチルフェニル、２，４−ジメチルフェニル、２，５−ジメチルフェニル、２，６−ジメチルフェニル、３，４−ジメチルフェニル、３，５−ジメチルフェニル、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−アミルフェニル、２，５−ジ−ｔｅｒｔ−オクチルフェニル、２，４−ジクミルフェニル、４−シクロヘキシルフェニル、（１，１’−ビフェニル）−４−イル、２，４，５−トリメチルフェニル、フェロセニル等が挙げられ、
Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、ベンジル、１−メチル−１−フェニルエチル、１−ナフチルメチル、９−アントラセニルメチル、９−フルオレニル、メチル２−フェニルプロパン−２−イル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、フェネチル、スチリル、シンナミル等が挙げられ、
Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、ピリジン環、ピリミジン環、ピリダジン環、ピペリジン環、ピラン環、ピラゾリン環、トリアジン環、ピロリン環、キノリン環、イソキノリン環、イミダゾリン環、ベンゾイミダゾリン環、トリアゾリン環、フラン環、ベンゾフラン環、チアジアゾリン環、チアゾリン環、ベンゾチアゾリン環、チオフェン環、オキサゾリン環、ベンゾオキサゾリン環、イソチアゾリン環、イソオキサゾリン環、インドール環、ピロリジン環、ピペリドン環、ジオキサン環等の複素環とメチレン鎖を組み合わせた基が挙げられ、
Ｒ2で表される炭素原子数１〜２０のアルキル基としては、Ｒ1で表される上記アルキル基のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられ、
Ｒ2で表される炭素原子数２〜２０のアルケニル基としては、ビニル、１−メチルエテン−１−イル、プロペン−１−イル、プロペン−２−イル、プロペン−３−イル、ブテン−１−イル、ブテン−２−イル、２−メチルプロペン−３−イル、１，１−ジメチルエテン−２−イル、１，１−ジメチルプロペン−３−イル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、イソブテニル、３−ペンテニル、４−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニ等が挙げられ、
Ｒ2で表されるトリアルキルシリル基としては、トリメチルシラン、トリエチルシラン、エチルジメチルシラン等の炭素原子数１〜６のアルキル基（３つのアルキル基は同一でも異なってよい）で置換されたシリル基が挙げられる。
Ｒ’で表される炭素原子数１〜８のアルキル基としては、Ｒ1で表される上記アルキル基のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられ、
Ｒ1の中でも、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜１２のアリール基が合成が容易なため好ましく、
Ｒ2の中でも、炭素原子数１〜８のアルキル基の酸素原子側の末端に−ＣＯ−Ｏ−が結合しているものが、潜在性添加剤として効率的に機能を発現するので好ましい。
【００１５】
上記一般式（Ｉ−Ａ）において、Ｘは、ｎ価の有機基を表し、具体的には、直接結合、水素原子、窒素原子、酸素原子、硫黄原子、リン原子、下記式（Ｉ−ａ）若しくは（Ｉ−ｂ）で表される基、＞Ｃ＝Ｏ、＞ＮＲ3、−ＯＲ3、−ＳＲ3、−ＮＲ3Ｒ4又はｎと同数の価数を有する置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１２０の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基を表し、Ｒ3及びＲ4は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基を表し、該脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基及び複素環含有基は、炭素一炭素二重結合、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−Ｓ−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＯ−ＮＨ−、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＮＨ−ＣＯ−Ｏ−、−ＮＲ'−、−Ｓ−Ｓ−、−ＳＯ2−又は窒素原子から選ばれた基を酸素原子が隣り合わない条件で組み合わせた基で置き換わっていてもよい。
但し、Ｘが窒素原子、リン原子又は下記式（Ｉ−ａ）又は（Ｉ−ｂ）で表される基の場合、ｎは３であり、Ｘが酸素原子又は硫黄原子の場合、ｎは２であり、Ｘが＞Ｃ＝Ｏ、−ＮＨ−ＣＯ−、−ＣＯ−ＮＨ−又は＞ＮＲ3の場合、ｎは２であり、Ｘが−ＯＲ3、−ＳＲ3又は−ＮＲ3Ｒ4の場合、ｎが１であり、Ｘは、Ａと一緒になって環を形成していてもよい。
【００１６】
【化３】
2016038569.tif 000004
【００１７】
上記一般式（Ｉ−Ａ）で表される潜在性酸化防止剤は、Ｘで表されるｎ価の特定の原子又は基に、ｎ個の特定の基が結合した構造を有する。このｎ個の基は、互いに同じであっても異なっていてもよい。ｎの値は１〜１０であり、合成の容易さの点から、好ましくは２〜６である。
【００１８】
上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎと同数の価数を有する炭素原子数１〜１２０の脂肪族炭化水素基としては、ｎが１価のものとして、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、シクロプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、イソアミル、第三アミル、シクロペンチル、ヘキシル、２−ヘキシル、３−ヘキシル、シクロヘキシル、ビシクロヘキシル、１−メチルシクロヘキシル、ヘプチル、２−ヘプチル、３−ヘプチル、イソヘプチル、第三ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、イソノニル、デシル等のアルキル基；メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等のアルコキシ基；メチルチオ、エチルチオ、プロピルチオ、イソプロピルチオ、ブチルチオ、第二ブチルチオ、第三ブチルチオ、イソブチルチオ、アミルチオ、イソアミルチオ、第三アミルチオ、ヘキシルチオ、シクロヘキシルチオ、ヘプチルチオ、イソヘプチルチオ、第三ヘプチルチオ、ｎ−オクチルチオ、イソオクチルチオ、第三オクチルチオ、２−エチルヘキシルチオ等のアルキルチオ基；ビニル、１−メチルエテニル、２−メチルエテニル、２−プロペニル、１−メチル−３−プロペニル、３−ブテニル、１−メチル−３−ブテニル、イソブテニル、３−ペンテニル、４−ヘキセニル、シクロヘキセニル、ビシクロヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、デセニル、ぺンタデセニル、エイコセニル、トリコセニル等のアルケニル基等及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
ｎが２価のものとして、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ブチルジイル等のアルキレン；前記アルキレンのメチレン鎖が−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−で置き換えられたもの；エタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、ヘキサンジオール等のジオールの残基；エタンジチオール、プロパンジチオール、ブタンジチオール、ペンタンジチオール、ヘキサンジチオール等のジチオールの残基等及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
ｎが３価のものとして、例えば、プロピリジン、１，１，３−ブチリジン等のアルキリジン及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
ｎと同数の価数を有する置換基を有してもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基としては、ｎが１価のものとして、ベンジル、フェネチル、ジフェニルメチル、トリフェニルメチル、スチリル、シンナミル等のアリールアルキル基；フェニル、ナフチル等のアリール基；フェノキシ、ナフチルオキシ等のアリールオキシ基；フェニルチオ、ナフチルチオ等のアリールチオ基等及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
ｎが２価のものとして、フェニレン、ナフチレン等のアリーレン基；カテコール、ビスフェノール等の二官能フェノールの残基；２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン等及びこれらの基が後述する置換基が挙げられ、
が挙げられる。
ｎが３価のものとして、フェニル−１，３，５−トリメチレン及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
ｎと同数の価数を有する置換基を有してもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、ｎが１価のものとして、ピリジル、ピリミジル、ピリダジル、ピペリジル、ピラニル、ピラゾリル、トリアジル、ピロリル、キノリル、イソキノリル、イミダゾリル、ベンゾイミダゾリル、トリアゾリル、フリル、フラニル、ベンゾフラニル、チエニル、チオフェニル、ベンゾチオフェニル、チアジアゾリル、チアゾリル、ベンゾチアゾリル、オキサゾリル、ベンゾオキサゾリル、イソチアゾリル、イソオキサゾリル、インドリル、２−ピロリジノン−１−イル、２−ピペリドン−１−イル、２，４−ジオキシイミダゾリジン−３−イル、２，４−ジオキシオキサゾリジン−３−イル、ベンゾトリアゾイル等及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
ｎが２価のものとして、ピリジン環、ピリミジン環、ピペリジン環、ピペラジン環、トリアジン環、フラン環、チオフェン環、インドール環等を有する基及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられる。
ｎが３価のものとしては、イソシアヌル環を有する基、トリアジン環を有する基及びこれらの基が後述する置換基により置換された基が挙げられ、
Ｒ3及びＲ4で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基としては、上記Ｘで表される脂肪族炭化水素基又は脂肪族炭化水素基と上記置換基との組み合わせのうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられ、
Ｒ3及びＲ4で表される置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、上記Ｘで表される炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基又は炭素原子数２〜３５の複素環含有基又はこれらの基と上記置換基とを組み合わせた基が挙げられる。
置換基としては、ビニル、アリル、アクリル、メタクリル等のエチレン性不飽和基；フッ素、塩素、臭素、ヨウ素等のハロゲン原子；アセチル、２−クロロアセチル、プロピオニル、オクタノイル、アクリロイル、メタクリロイル、フェニルカルボニル（ベンゾイル）、フタロイル、４−トリフルオロメチルベンゾイル、ピバロイル、サリチロイル、オキザロイル、ステアロイル、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル、ｎ−オクタデシルオキシカルボニル、カルバモイル等のアシル基；アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等のアシルオキシ基；アミノ、エチルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、ブチルアミノ、シクロペンチルアミノ、２−エチルヘキシルアミノ、ドデシルアミノ、アニリノ、クロロフェニルアミノ、トルイジノ、アニシジノ、Ｎ−メチル−アニリノ、ジフェニルアミノ，ナフチルアミノ、２−ピリジルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、アセチルアミノ、ベンゾイルアミノ、ホルミルアミノ、ピバロイルアミノ、ラウロイルアミノ、カルバモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノカルボニルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノカルボニルアミノ、モルホリノカルボニルアミノ、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、ｔ−ブトキシカルボニルアミノ、ｎ−オクタデシルオキシカルボニルアミノ、Ｎ−メチル−メトキシカルボニルアミノ、フェノキシカルボニルアミノ、スルファモイルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノスルホニルアミノ、メチルスルホニルアミノ、ブチルスルホニルアミノ、フェニルスルホニルアミノ等の置換アミノ基；スルホンアミド基、スルホニル基、カルボキシル基、シアノ基、スルホ基、水酸基、ニトロ基、メルカプト基、イミド基、カルバモイル基、スルホンアミド基、ホスホン酸基、リン酸基又はカルボキシル基、スルホ基、ホスホン酸基、リン酸基の塩等が挙げられ、これらの基は更に上記の基で置換されていてもよい。また、カルボキシル基及びスルホ基は塩を形成していてもよい。
【００１９】
上記一般式（Ｉ−Ａ）において、ｎが２であるとき、Ｘは、下記一般式（１）で表すことができ、ｎが３であるとき、下記一般式（２）で表すことができ、ｎが４であるとき、下記一般式（３）で表すことができ、ｎが５であるとき、下記一般式（４）で表すことができ、ｎが６であるときは、下記一般式（５）で表すことができる。
【００２０】
【化４】
2016038569.tif 000005
（上記一般式（１）中、Ｘ1は、単結合、−ＣＲ30Ｒ31−、−ＮＲ32−、二価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基若しくは炭素原子数２〜３５の複素環基、又は、下記式（１−１）〜（１−３）で表される何れかの置換基を表し、
該脂肪族炭化水素基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−又は−ＮＨ−、或いは酸素原子が隣り合うことなしにこれらを組み合わせた結合基で中断されていてもよく、
Ｒ30及びＲ31は、水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基又は炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基を表し、
Ｚ1及びＺ2は、それぞれ独立に、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、＞ＣＯ、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＳＳ−、−ＳＯ−又は＞ＮＲ33を表し、
Ｒ32及びＲ33は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基を表す。）
【００２１】
【化５】
2016038569.tif 000006
（上記式中、Ｒ21は水素原子、置換基を有していてもよいフェニル基、又は炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基を表し、
Ｒ22は炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基、炭素原子数２〜１０のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、
上記アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基は置換基を有していてもよく、
ａは０〜５の整数である。）
【００２２】
【化６】
2016038569.tif 000007
【００２３】
【化７】
2016038569.tif 000008
（上記式中、Ｒ23及びＲ24は、それぞれ独立に、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールチオ基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の複素環基又はハロゲン原子を表し、
該アルキル基及びアリールアルキル基中のメチレン基は不飽和結合、−Ｏ−又は−Ｓ−で中断されていてもよく、
Ｒ23は、隣接するＲ23同士で環を形成していてもよく、
ｂは０〜４の数を表し、
ｃは０〜８の数を表し、
ｇは０〜４の数を表し、
ｈは０〜４の数を表し、
ｇとｈの数の合計は２〜４である。）
【００２４】
【化８】
2016038569.tif 000009
（上記一般式（２）中、Ｙ11は、単結合、三価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数３〜３５の脂環族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基若しくは炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、
Ｚ1、Ｚ2及びＺ3は、それぞれ独立に、直接結合、−Ｏ−、−Ｓ−、＞ＣＯ、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＳＯ2−、−ＳＳ−、−ＳＯ−、＞ＮＲ34、＞ＰＲ34又は置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、
Ｒ34は、水素原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、
該脂肪族炭化水素基は、炭素一炭素二重結合、−Ｏ−、−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｏ−又は−ＳＯ2−で中断されていてもよい。）
【００２５】
【化９】
2016038569.tif 000010
（上記一般式（３）中、Ｙ12は、単結合、炭素原子、又は、四価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基若しくは炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、
該脂肪族炭化水素基は、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−で中断されていてもよく、
Ｚ1〜Ｚ4は、それぞれ独立に、上記一般式（２）におけるＺ1〜Ｚ3で表される基と同じ範囲の基である。）
【００２６】
【化１０】
2016038569.tif 000011
（上記一般式（４）中、Ｙ13は、単結合、五価の炭素原子数２〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３０の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２〜３０の複素環基を表し、
該脂肪族炭化水素基は、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−で中断されていてもよく、
Ｚ1〜Ｚ5は、それぞれ独立に、上記一般式（２）におけるＺ1〜Ｚ3で表される基と同じ範囲の基である。）
【００２７】
【化１１】
2016038569.tif 000012
（上記一般式（５）中、Ｙ14は、単結合、六価の炭素原子数２〜３５の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基又は炭素原子数２〜３５の複素環基を表し、
該脂肪族炭化水素基は、−ＣＯＯ−、−Ｏ−、−ＯＣＯ−、−ＮＨＣＯ−、−ＮＨ−又は−ＣＯＮＨ−で中断されていてもよく、
Ｚ1〜Ｚ6は、それぞれ独立に、上記一般式（２）におけるＺ1〜Ｚ3で表される基と同じ範囲の基である。）
【００２８】
上記一般式（１）におけるＲ32及びＲ33で表される置換基を有してもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価の脂肪族炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基のうち所定の炭素原子数を満たすもの等挙げられ、これらの基又は上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した２価の脂肪族炭化水素基が、Ｚ1及びＺ2で置換された二価の基が、Ｘ1で表される二価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基として挙げられる。
Ｒ32及びＲ33で表される置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価の芳香環含有炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等挙げられ、これらの基又は上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した２価の芳香環含有炭化水素基が、Ｚ1及びＺ2で置換された二価の基が、Ｘ1で表される二価の炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基として挙げられる。
Ｒ32及びＲ33で表される置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価の複素環含有基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等挙げられ、これらの基又は上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した２価の芳香環含有炭化水素基が、Ｚ1及びＺ2で置換された二価の基が、Ｘ1で表される二価の炭素原子数２〜３５の複素環含有基として挙げられる。
Ｒ30及びＲ31で表される炭素原子数１〜８のアルキル基としては、Ｒ1で表される炭素原子数１〜４０のアルキル基として例示した基のうち、所定の炭素原子数を満たす基が挙げられ、
Ｒ30及びＲ31で表される炭素原子数６〜２０のアリール基としては、Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数６〜２０のアリール基として例示した基が挙げられ、
Ｒ30及びＲ31で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基として例示した基が挙げられる。
【００２９】
上記（１−１）で表される置換基において、Ｒ21で表される炭素原子数３〜１０のシクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロへブチル、シクロオクチル等が挙げられ、
Ｒ22で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、Ｒ1で表される炭素原子数１〜４０のアルキル基として例示した基のうち、所定の炭素原子数を満たす基等が挙げられ、
Ｒ22で表される炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ等が挙げられ、
Ｒ22で表される炭素原子数２〜１０のアルケニル基としては、Ｒ2で表される炭素原子数２〜２０のアルケニル基として例示した基のうち、所定の炭素原子数を満たす基等が挙げられ、
上記フェニル基、アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基の置換基は、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものと同様である。
【００３０】
上記（１−３）で表される基において、Ｒ23及びＲ24で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、Ｒ1で表される炭素原子数１〜４０のアルキル基として例示した基のうち、所定の炭素原子数を満たす基等が挙げられ、
Ｒ23及びＲ24で表される置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリール基としては、Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数６〜２０のアリール基として例示した基等が挙げられ、
Ｒ23及びＲ24で表される置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基としては、フェニルオキシ、ナフチルオキシ、２−メチルフェニルオキシ、３−メチルフェニルオキシ、４−メチルフェニルオキシ、４−ビニルフェニル二オキシ、３−ｉｓｏ−プロピルフェニルオキシ、４−ｉｓｏ−プロピルフェニルオキシ、４−ブチルフェニルオキシ、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルオキシ、４−へキシルフェニルオキシ、４−シクロヘキシルフェニルオキシ、４−オクチルフェニルオキシ、４−（２−エチルヘキシル）フェニルオキシ、２，３−ジメチルフェニルオキシ、２，４−ジメチルフェニルオキシ、２，５−ジメチルフェニルオキシ、２．６−ジメチルフェニルオキシ、３．４−ジメチルフェニルオキシ、３．５−ジメチルフェニルオキシ、２，４−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニルオキシ、２，５−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニルオキシ、２，６−ジーｔｅｒｔ−ブチルフェニルオキシ、２．４−ジーｔｅｒｔ−ペンチルフェニルオキシ、２，５−ｔｅｒｔ−アミルフェニルオキシ、４−シクロへキシルフェニルオキシ、２，４，５−トリメチルフェニルオキシ、フェロセニルオキシ等の基が奉げられ、
Ｒ23及びＲ24で表される置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールチオ基としては、上記置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の酸素原子を硫黄原子に置換した基等が奉げられ、
Ｒ23及びＲ24で表される置換基を有していてもよい炭素原子数８〜２０のアリールアルケニル基としては、上記置換基を有していてもよい炭素原子数６〜２０のアリールオキシ基の酸素原子をビニル、アリル、１−プロペニル、イソプロペニル、２−ブテニル、１，３−ブタジエニル、２−ペンテニル、２−オクテニル等のアルケニル基で置換した基等が挙げられ、
Ｒ23及びＲ24で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基として例示した基等が挙げられる。
Ｒ23及びＲ24で表される置換基を有していてもよい炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、Ｒ1及びＲ2で表される炭素原子数２〜２０の複素環含有基として例示した基等が挙げられる。
【００３１】
上記一般式（２）におけるＹ11で表される三価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の脂肪族炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基のうち所定の炭素原子数を満たすもの等が、Ｚ1、Ｚ2及びＺ3で置換された三価の基等が挙げられ、
上記一般式（２）におけるＹ11で表される三価の炭素原子数３〜３５の脂環族炭化水素基としては、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデカニル、１−アダマンチル、２−アダマンチル、ノルアダマンチル、２−メチルアダマンチル、ノルボルニル、イソノルボルニル、パーヒドロナフチル、パーヒドロアントラセニル、ビシクロ［１．１．０］ブチル、ビシクロ［１．１．１］ペンチル、ビシクロ［２．１．０］ペンチル、ビシクロ［３．１．０］ヘキシル、ビシクロ［２．１．１］ヘキシル、ビシクロ［２．２．０］ヘキシル、ビシクロ［４．１．０］ヘプチル、ビシクロ［３．２．０］ヘプチル、ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［５．１．０］オクチル、ビシクロ［４．２．０］オクチル、ビシクロ［４．１．１］オクチル、ビシクロ［３．３．０］オクチル、ビシクロ［３．２．１］オクチル、ビシクロ［２．２．２］オクチル、スピロ〔４，４〕ノナニル、スピロ〔４，５〕デカニル、デカリン、トリシクロデカニル、テトラシクロドデカニル、セドロール、シクロドデカニル等の基が、Ｚ1、Ｚ2及びＺ3で置換された三価の基等が挙げられ、
Ｙ11で表される三価の炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の芳香環含有炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2及びＺ3で置換された三価の基等が挙げられ、
Ｙ11で表される三価の炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の複素環含有基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2及びＺ3で置換された三価の基等が挙げられ、
また、Ｒ34で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素原子数６〜３５の芳香族炭化水素基及び置換基を有していてもよい炭素原子数２〜３５の複素環基としては、それぞれ、上記一般式（１）におけるＲ32及びＲ33の説明で例示した脂肪族炭化水素基、芳香環含有炭化水素基、複素環含有基が挙げられる。
【００３２】
上記一般式（３）におけるＹ12で表される四価の炭素原子数１〜３５の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の脂肪族炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基のうち所定の炭素原子数を満たすもの等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4で置換された四価の基等が挙げられ、
Ｙ12で表される炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の芳香環含有炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4で置換された四価の基等が挙げられ、
Ｙ12で表される四価の炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の複素環含有基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4で置換された四価の基等が挙げられる。
【００３３】
上記一般式（４）におけるＹ13で表される五価の炭素原子数２〜３５の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の脂肪族炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基のうち所定の炭素原子数を満たすもの等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4及びＺ5で置換された五価の基等が挙げられ、
Ｙ14で表される五価の炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の芳香環含有炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4及びＺ5で置換された五価の基等が挙げられ、
Ｙ14で表される五価の炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の複素環含有基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4及びＺ5で置換された五価の基等が挙げられる。
【００３４】
上記一般式（５）におけるＹ14で表される六価の炭素原子数２〜３５の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の脂肪族炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基のうち所定の炭素原子数を満たすもの等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4、Ｚ5及びＺ6で置換された六価の基等が挙げられ、
Ｙ14で表される六価の炭素原子数６〜３５の芳香環含有炭化水素基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の芳香環含有炭化水素基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4、Ｚ5及びＺ6で置換された六価の基等が挙げられ、
Ｙ14で表される六価の炭素原子数２〜３５の複素環含有基としては、上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基として例示した１価〜３価の複素環含有基及びこれらの基が上記一般式（Ｉ−Ａ）におけるＸで表されるｎ価の有機基を表す基の置換基として例示したものにより置換された基等が、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4、Ｚ5及びＺ6で置換された六価の基等が挙げられる。
【００３５】
上記一般式（Ｉ−Ａ）において、ｄとｋの合計は、環Ａ1の取り得る置換基の数より少ない。例えば、環Ａ1が六員環の芳香環であるとき、環Ａ1の取り得る置換基は６であり、ｄ＋ｋ≦５である。また、環Ａ1が五員環の複素環であるとき、環Ａ1の取り得る置換基は４であり、ｄ＋ｋ≦３である。
【００３６】
上記一般式（Ｉ−Ａ）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＩＩ）〜（ＩＶ）で表されるものが、合成が容易で耐熱性が高くなるので好ましい。
【００３７】
【化１２】
2016038569.tif 000013
（式中、環Ａ2は、六員環の脂環、芳香環又は複素環であり、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基又は−Ｏ−Ｒ2を表し、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15のうち少なくとも１つは水素原子でなく、Ｒ2は、上記一般式（Ｉ）と同じである。）
【００３８】
【化１３】
2016038569.tif 000014
（式中、Ｘ11は、上記一般式（１）で表される基であり、
Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19のうち少なくとも１つは水素原子でなく、
Ｒ2は、上記一般式（Ｉ）と同じであり、
環Ａ2は、上記一般式（ＩＩ）と同じである。）
【００３９】
【化１４】
2016038569.tif 000015
（式中、ｍ＝２〜６であり、Ｘ3は、ｍ＝２のとき上記一般式（１）で表される基であり、ｍ＝３のとき上記一般式（２）で表される基であり、ｍ＝４のとき上記一般式（３）で表される基であり、ｍ＝５のとき上記一般式（４）であり、ｍ＝６のとき上記一般式（５）であり、
Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、
Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28のうち少なくとも１つは水素原子でなく、
Ｒ2は、上記一般式（Ｉ）と同じであり、
環Ａ2は、上記一般式（ＩＩ）と同じである。）
【００４０】
上記一般式（ＩＩ）における環Ａ2で表される六員環の脂環、芳香環又は複素環としては、上記一般式（１）におけるＡの説明で例示したものが挙げられ、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15で表されるハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられ、
上記一般式（ＩＩＩ）におけるＲ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19で表されるハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられ、
上記一般式（ＩＶ）におけるＲ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28で表されるハロゲン原子、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられる。
【００４１】
上記一般式（ＩＩ）で表される化合物の中では、
環Ａ2が、ベンゼン、ナフタレンであるものが好ましく、
Ｒ11、Ｒ12、Ｒ13、Ｒ14及びＲ15のうち、水素原子以外の基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜１２のアリールアルキル基、炭素原子数１〜１０の複素環基、特にＲ11〜Ｒ15の何れか１つが炭素原子数１〜４のアルキル基又は炭素原子数１〜１０の複素環基であるものが好ましく、
Ｒ2は、−ＣＯ−Ｏ−を介して、下記の置換基を有する者が好ましい。
・炭素原子数１〜８のアルキル基（特に、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル）
・炭素原子数１〜１０のアリールアルキル基（特にベンジル基）
・炭素原子数２〜６のアルケニル基（特にプロペン−１−イル基）
【００４２】
上記一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の中では、
環Ａ2が、ベンゼン、ナフタレンであるものが好ましく、
Ｒ16、Ｒ17、Ｒ18及びＲ19のうち、水素原子以外の基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜１２のアリールアルキル基、１〜１０の複素環基、特に炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数１〜１０の複素環基であるものが好ましく、
Ｒ2は、−ＣＯ−Ｏ−を介して、下記の置換基を有する者が好ましい。
・炭素原子数１〜８のアルキル基（特に、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル）
・炭素原子数１〜１０のアリールアルキル基（特にベンジル基）
・炭素原子数２〜６のアルケニル基（特にプロペン−１−イル基）
Ｘ11を表す上記一般式（１）において、Ｘ1は、硫黄原子、炭素原子数６〜２５の芳香環含有炭化水素基、炭素原子数２〜２１の複素環含有基であるものが好ましく、
Ｚ1及びＺ2が直接結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、又は置換基を有していても良い炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基、６〜１０の芳香族炭化水素基、特に置換基を有していても良い炭素原子数１〜８の脂肪族炭化水素基であるものが好ましい。
【００４３】
上記一般式（ＩＶ）で表される化合物の中では、
Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28のうち、水素原子以外の基としては、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜１２のアリールアルキル基、炭素原子数１〜１０の複素環基、特にＲ25〜Ｒ28の何れか１つが炭素原子数１〜６のアルキル基（特に、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル）又は炭素原子数１〜１０の複素環基であるものが好ましい。
Ｒ2は、−ＣＯ−Ｏ−を介して、下記の置換基を有する者が好ましい。
・炭素原子数１〜８のアルキル基（特に、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル）
・炭素原子数１〜１０のアリールアルキル基（特にベンジル基）
・炭素原子数２〜６のアルケニル基（特にプロペン−１−イル基）
【００４４】
Ｘ3が上記一般式（１）で表される場合、つまり、下記式（ＩＶ−１）
【化１４Ａ】
2016038569.tif 000016
（式中、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28は、上記一般式（ＩＶ）と同様であり、
Ｒ2は、上記一般式（Ｉ）と同じであり、
環Ａ2は、上記一般式（ＩＩ）と同じであり、
Ｚ1、Ｚ2及びＸ1は、上記一般式（１）と同様である）
で表される構造をとる場合、環Ａ2中のＲ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28のうち水素原子以外の基の置換位置の例を挙げると、下記一般式（ＩＶ−１'）又は（ＩＶ−１''）で表される構造が挙げられる。
【化１４Ａ１】
2016038569.tif 000017
（式中、Ｒ25、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ2、環Ａ2、Ｚ1、Ｚ2及びＸ1は、上記一般式（ＩＶ−１）と同様である）
また、Ｘ1は、硫黄原子、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜２５の芳香環含有炭化水素基、炭素原子数２〜２１の複素環含有基、２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン、特に炭素原子数１〜１５のアルキル基、炭素原子数６〜１５の芳香環含有炭化水素基、２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンであるものが好ましい。
また、Ｘ1についてＺ1及びＺ2を含めた形でより具体的な例を示すと、下記＜群１＞の＃１〜＃２０に示す通りとなる。
【化１４Ｂ】
2016038569.tif 000018
（式中、ｐは１〜１９の整数を表し、ｑは１〜３の整数を表し、ｒは０〜３の整数を表し、Ｚ1及びＺ2は、上記一般式（１）と同様である。）
Ｚ1及びＺ2は、直接結合、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、又は置換基を有していても良い炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜１０の芳香族炭化水素基、特に置換基を有していても良い炭素原子数１〜８の脂肪族炭化水素基であるものが好ましい。
【００４５】
Ｘ3が上記一般式（２）で表される場合、つまり、下記式（ＩＶ−２）
【化１４Ｃ】
2016038569.tif 000019
（式中、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28は、上記一般式（ＩＶ）と同様であり、
Ｒ2は、上記一般式（Ｉ）と同様であり、
環Ａ2は、上記一般式（ＩＩ）と同様であり、
Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＹ11、上記一般式（２）と同様である。）
で表される構造をとる場合、環Ａ2中のＲ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28のうち水素原子以外の基の置換位置の例を挙げると、下記一般式（ＩＶ−２'）又は（ＩＶ−２''）で表される構造が挙げられる。
【化１４Ｃ１】
2016038569.tif 000020
（式中、Ｒ25、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ2、環Ａ2、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3びＹ11は、上記一般式（ＩＶ−２）と同様である）
Ｙ11は、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数７〜１２のアリールアルキル基、炭素原子数１〜１０の複素環基、特に炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜９のアリール基、炭素原子数１〜６の複素環基であるものが好ましい。
また、Ｙ11についてＺ1、Ｚ2及びＺ3を含めた形でより具体的な例を示すと、下記＜群２＞の＃２１〜＃３５で示す通りとなる。
【化１４Ｄ】
2016038569.tif 000021
（式中、Ｚ1、Ｚ2及びＺ3は、上記一般式（２）と同様であり、ｐは１〜１９の整数を表し、ｒは０〜３の整数を表し、ＲA、ＲB及びＲCは、水素原子、炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜２５の芳香環含有炭化水素基、炭素原子数２〜２１の複素環含有基（炭素原子数１〜８の脂肪族炭化水素基、特に、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい）を表し、ＲA、ＲB及びＲCは、同一でも異なっていてもよい）
Ｚ1、Ｚ2及びＺ3は、Ｚ1及びＺ2と同様のものが好ましい。
【００４６】
Ｘ3が上記一般式（３）となる場合、つまり、下記式（ＩＶ−３）
【化１４Ｅ】
2016038569.tif 000022
（式中、Ｒ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28は、上記一般式（ＩＶ）と同様であり、
Ｒ2は、上記一般式（Ｉ）と同様であり、
環Ａ2は、上記一般式（ＩＩ）と同様であり、
Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4及びＹ12は、上記一般式（３）と同様である。）
で表される構造をとる場合、環Ａ2中のＲ25、Ｒ26、Ｒ27及びＲ28のうち水素原子以外の基の置換位置の例を挙げると、下記一般式（ＩＶ−３'）又は（ＩＶ−３''）で表される構造が挙げられる。
【化１４Ｅ１】
2016038569.tif 000023
（式中、Ｒ25、Ｒ27及びＲ28は、Ｒ2、環Ａ2、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3、Ｚ4及びＹ12は、上記一般式（ＩＶ−３）と同様である）
Ｙ12は、Ｙ11と同様であるものが好ましい。
また、Ｙ12についてＺ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4を含めた形でより具体的な例を示すと、下記＜群３＞の＃３６〜＃４０で示す通りとなる。
【化１４Ｆ】
2016038569.tif 000024
（式中、Ｚ1、Ｚ2、Ｚ3及びＺ4は、上記一般式（３）と同様であり、ＲA及びＲBは、水素原子、炭素原子数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜２５の芳香環含有炭化水素基、炭素原子数２〜２１の複素環含有基（水素原子及び炭素原子数１〜８の脂肪族炭化水素基が好ましく、特に、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、アミル、１−メチルブチル、２−メチルブチル、３−メチルブチル、１−エチルプロピル、１，１−ジメチルプロピル、１，２−ジメチルプロピル、２，２−ジメチルプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシルが好ましい）を表し、ＲA、ＲB及びＲCは、同一でも異なっていてもよい）
Ｚ1〜Ｚ4は、Ｚ1及びＺ2と同様であるものが好ましく、
Ｘ3が上記一般式（４）となる場合、Ｙ13は、Ｙ11と同様であるものが好ましく、
Ｚ1〜Ｚ5はＺ1及びＺ2と同様であるものが好ましく、
Ｘ3が上記一般式（５）となる場合、Ｙ14は、Ｙ11と同様であるものが好ましく、
Ｚ1〜Ｚ6は、Ｚ1及びＺ2と同様であるものが好ましい。
【００４７】
本発明の感光性組成物において、上記潜在性添加剤（Ａ）の含有量は、０．００１〜２０質量％が好ましく、０．００５〜５質量％がより好ましい。
【００４８】
＜酸化防止剤（但し、潜在性酸化防止剤（Ａ）を除く）、光安定剤、紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）＞
本発明の感光性組成物に用いられる酸化防止剤（Ｂ）としては、フェノール系酸化防止剤、リン系酸化防止剤、チオエーテル系酸化防止剤を用いることができる。
上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−Ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−Ｍ−クレゾール）、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−Ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス（４，６―ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール）、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、テトラキス〔３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチルメタン、チオジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、ビス〔２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート等が挙げられ、これらの中でも、併用による耐熱性向上の点から、１，１，３−トリス（ ２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２， ４，６−トリメチルベンゼン、テトラキス〔３−（３，５− ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチルメタン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３ −第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカンが好ましく、テトラキス〔３−（��，５− ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸メチルメタン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３ −第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５，５〕ウンデカンがより好ましい。
【００４９】
上記リン系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジ（ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジクミルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−Ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール）ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、２，２’ーメチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−第三ブチルフェニル）−オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、トリス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔Ｄ，Ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコールと２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイト等が挙げられ、これらの中でも、併用による耐熱性向上の点から、トリスノニルフェニルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、トリデシルホスファイト、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、２，２'ーメチレンビス（４，６− 第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイトが好ましく、トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、、２，２'ーメチレンビス（４，６− 第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイトがより好ましい。
【００５０】
上記チオエーテル系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジトリデシル、チオジプロピオン酸ジラウリル、チオジプロピオン酸ジミリスチル、チオジプロピオン酸ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類、及びペンタエリスリトールテトラ（β−アルキルメルカプトプロピオン酸）エステル類が挙げられ、これらの中でも、併用による耐熱性向上の点から、チオジプロピオン酸ジトリデシル、ペンタエリスリトールテトラ（ β − アルキルメルカプトプロピオン酸）エステルが好ましい。
【００５１】
上記光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤が挙げられる。該ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルステアレート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルステアレート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１−オクトキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，４，４−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノ−ル／コハク酸ジエチル重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−モルホリノ−Ｓ−トリアジン重縮合物、１，６−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルアミノ）ヘキサン／２，４−ジクロロ−６−第三オクチルアミノ−Ｓ−トリアジン重縮合物、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−Ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−Ｓ−トリアジン−６−イル〕−１，５，８−１２−テトラアザドデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）アミノ）−Ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン、１，６，１１−トリス〔２，４−ビス（Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）アミノ）−Ｓ−トリアジン−６−イル〕アミノウンデカン等のヒンダードアミン化合物が挙げられ、これらの中でも、併用による耐光性向上の点から、ビス（２，２，６ ，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、テトラキス（ ２ ， ２ ， ６ ， ６ − テトラメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−１，２，３，４− ブタンテトラカルボキシレートが好ましい。
る。
【００５２】
上記紫外線吸収剤としては、例えば、２，４‐ジヒドロキシベンゾフェノン、２‐ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５’‐メチレンビス（２‐ヒドロキシ‐４‐メトキシベンゾフェノン）等の２‐ヒドロキシベンゾフェノン類；２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ第三ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２‐（２’‐ヒドロキシ−３’−第三ブチル−５’−メチルフェニル）‐５‐クロロベンゾトリアゾール、２‐（２’‐ヒドロキシ−５’−第三オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジクミルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２’−メチレンビス（４−第三オクチル−６−（ベンゾトリアゾリル）フェノール）、２‐（２’−ヒドロキシ−３’−第三ブチル−５’−カルボキシフェニル）ベンゾトリアゾール等の２−（２’−ヒドロキシフェニル）ベンゾトリアゾール類；フェニルサリシレート、レゾルシノールモノベンゾエート、２，４−ジ第三ブチルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２，４−ジ第三アミルフェニル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等のベンゾエート類；２−エチル−２’−エトキシオキザニリド、２−エトキシ−４’−ドデシルオキザニリド等の置換オキザニリド類；エチル−Α−シアノ−Β，Β−ジフェニルアクリレート、メチル−２−シアノ−３−メチル−３−（Ｐ−メトキシフェニル）アクリレート等のシアノアクリレート類；２−（２−ヒドロキシ−４−オクトキシフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−Ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−４，６−ジフェニル−Ｓ−トリアジン、２−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシ−５−メチルフェニル）−４，６−ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）−Ｓ−トリアジン、２−（４，６−ジフェニルー１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］フェノール、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等のトリアリールトリアジン類、が挙げられ、これらの中でも、併用による耐光性向上の点から、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、５，５'‐メチレンビス（２‐ヒドロキシ‐４‐メトキシベンゾフェノン）、２‐（２'‐ヒドロキシ−３'−第三ブチル−５' −メチルフェニル）‐５‐クロロベンゾトリアゾール、２，２'−メチレンビス（４−第三オクチル−６−（ ベンゾトリアゾリル）フェノール）、ヘキサデシル−３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート、２−（４，６−ジフェニルー１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［２−（２−エチルヘキサノイルオキシ）エトキシ］フェノール、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジが好ましく、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２'−メチレンビス（４−第三���クチル−６−（ ベンゾトリアゾリル）フェノール）、２，４，６−トリス（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシ−３−メチルフェニル）−１，３，５−トリアジンがより好ましい。
【００５３】
本発明の感光性組成物において、上記酸化防止剤（但し、潜在性酸化防止剤（Ａ）を除く）、光安定剤、紫外線吸収剤から選ばれる少なくとも一種（Ｂ）の含有量の合計は、０．００１〜２０質量％が好ましく、０．００５〜５質量％がより好ましい。
【００５４】
＜光酸発生剤又は光重合開始剤（Ｃ）＞
本発明の感光性組成物に用いられる光酸発生剤（Ｃ）としては、光照射により酸を発生させることが可能な化合物であればどのようなものでも差し支えなく、例えば、オニウム塩、ナフタルイミドスルホネート化合物、オキシムスルホネート化合物、スルホニルイミド化合物、スルホン酸エステル等が挙げられ、オニウム塩及びナフタルイミドスルホネート化合物が好ましい。
【００５５】
上記オニウム塩としては、例えば、［Ｍ］r+［Ｇ］r-で表される陽イオンと陰イオンの塩が挙げられる。
ここで陽イオン［Ｍ］r+はオニウムであることが好ましく、その構造は、例えば、［（Ｒ29）fＱ］r+で表すことができる。
【００５６】
上記Ｒ29は、炭素原子数が１〜６０であり、炭素原子以外の原子をいくつ含んでいてもよい有機の基である。ｆは１〜５なる整数である。ｆ個のＲ29は各々独立で、同一でも異なっていてもよい。また、少なくとも１つは、芳香環を有する上記の如き有機の基であることが好ましい。ＱはＳ，Ｎ，Ｓｅ，Ｔｅ，Ｐ，Ａｓ，Ｓｂ，Ｂｉ，Ｏ，Ｉ，Ｂｒ，Ｃｌ，Ｆ，Ｎ＝Ｎからなる群から選ばれる原子或いは原子団である。また、陽イオン［Ｍ］r+中のＱの原子価をｑとしたとき、ｒ＝ｆ−ｑなる関係が成り立つことが必要である（但し、Ｎ＝Ｎは原子価０として扱う）。
【００５７】
また、陰イオン［Ｇ］r-の具体例としては、一価のものとして、塩化物イオン、臭化物イオン、ヨウ化物イオン、フッ化物イオン等のハロゲン化物イオン；過塩素酸イオン、塩素酸イオン、チオシアン酸イオン、ヘキサフルオロリン酸イオン、ヘキサフルオロアンチモン酸イオン、テトラフルオロホウ酸イオン等の無機系陰イオン；テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート、テトラ（３，５−ジフルオロ−４−メトキシフェニル）ボレート、テトラフルオロボレート、テトラアリールボレート、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ボレート等のボレート系陰イオン；メタンスルホン酸イオン、ドデシルスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸イオン、トルエンスルホン酸イオン、トリフルオロメタンスルホン酸イオン、ナフタレンスルホン酸イオン、ジフェニルアミン−４−スルホン酸イオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸イオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸イオン、フタロシアニンスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、トリニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、カンファースルホン酸イオン、ノナフロロブタンスルホン酸イオン、ヘキサデカフロロオクタンスルホン酸イオン、重合性置換基を有するスルホン酸イオン、特開平１０−２３５９９９、特開平１０−３３７９５９、特開平１１−１０２０８８、特開２０００−１０８５１０、特開２０００−１６８２２３、特開２００１−２０９９６９、特開２００１−３２２３５４、特開２００６−２４８１８０、特開２００６−２９７９０７、特開平８−２５３７０５号公報、特表２００４−５０３３７９号公報、特開２００５−３３６１５０号公報、国際公開２００６／２８００６号公報等に記載されたスルホン酸イオン等の有機スルホン酸系陰イオン；オクチルリン酸イオン、ドデシルリン酸イオン、オクタデシルリン酸イオン、フェニルリン酸イオン、ノニルフェニルリン酸イオン、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ホスホン酸イオン等の有機リン酸系陰イオン、ビストリフルオロメチルスルホニルイミドイオン、ビスパーフルオロブタンスルホニルイミドイオン、パーフルオロ−４−エチルシクロヘキサンスルホン酸イオン、テトラキス（ペンタフルオロフェニル）ホウ酸イオン、トリス（フルオロアルキルスルホニル）カルボアニオン等が挙げられ、二価のものとしては、例えば、ベンゼンジスルホン酸イオン、ナフタレンジスルホン酸イオン等が挙げられる。
【００５８】
本発明では、このようなオニウム塩の中でも、アリールジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族オニウム塩を使用することが特に有効である。これらの中から、その１種を単独で、又は２種以上を混合して使用することができる。
【００５９】
また、その他好ましいものとしては、（η5−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）〔（１，２，３，４，５，６−η）−（１−メチルエチル）ベンゼン〕−アイアン−ヘキサフルオロホスフェート等の鉄−アレーン錯体や、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム、トリス（エチルアセトナトアセタト）アルミニウム、トリス（サリチルアルデヒダト）アルミニウム等のアルミニウム錯体とトリフェニルシラノール等のシラノール類との混合物等も挙げることができる。
【００６０】
これらの中でも、経済性と光感度の観点から、芳香族スルホニウム塩を用いることが好ましく、中でも下記一般式（６）で表されるものが特に好ましい。
【化１４Ｇ】
2016038569.tif 000025
（式中、Ｒ101、Ｒ102、Ｒ103、Ｒ104、Ｒ105、Ｒ106、Ｒ107、Ｒ108、Ｒ109及びＲ110は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜１０のエステル基を表し、
Ｒ111、Ｒ112、Ｒ113及びＲ114は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表し、
Ｒ115は、下記一般式（６−Ａ）〜（６−Ｃ）より選択される何れかの置換基を表し、
Ａｎq-はｑ価の陰イオンを表し、
ｐは電荷を中性にする係数を表す。）
【化１４Ｈ】
2016038569.tif 000026
（式中、Ｒ116、Ｒ117、Ｒ118、Ｒ119、Ｒ120、Ｒ121、Ｒ122、Ｒ123、Ｒ124、Ｒ125、Ｒ126、Ｒ127、Ｒ128、Ｒ129、Ｒ139、Ｒ140、Ｒ141、Ｒ142及びＲ143は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素原子数１〜１０のアルキル基、炭素原子数１〜１０のアルコキシ基又は炭素原子数２〜１０のエステル基を表し、
Ｒ130、Ｒ131、Ｒ132、Ｒ133、Ｒ134、Ｒ135、Ｒ136、Ｒ137及びＲ138は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子又は炭素原子数１〜１０のアルキル基を表す。）
【００６１】
上記一般式（６）におけるＲ101〜Ｒ114、及び上記一般式（６−Ａ）〜（６−Ｃ）におけるＲ116〜Ｒ143で表される炭素原子数１〜１０のアルキル基としては、上記一般式（１）におけるＲ1で表される炭素原子数１〜４０のアルキル基として例示した基のうち、所定の炭素原子数を満たす基等が挙げられ、
上記一般式（６）におけるＲ101〜Ｒ110、並びに上記一般式（６−Ａ）〜（６−Ｃ）におけるＲ116〜Ｒ129及びＲ139〜Ｒ143で表される炭素原子数１〜１０のアルコキシ基としては、上記一般式（１−１）におけるＲ22と同様の基が挙げられ、
上記一般式（６）におけるＲ101〜Ｒ110、並びに上記一般式（６−Ａ）〜（６−Ｃ）におけるＲ116〜Ｒ129及びＲ139〜Ｒ143で表される炭素原子数２〜１０のエステル基としては、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル、イソプロピルオキシカルボニル、フェノキシカルボニル、アセトキシ、メトキシアセチルオキシ、プロピオニルオキシ、ブチリルオキシ、ｔ−ブチルカルボニルオキシ、ベンゾイルオキシ、２−ヒドロキシエトキシカルボニル、３−ヒドロキシプロピルオキシカルボニル、４−ヒドロキシフェノキシカルボニル、３−ヒドロキシプロピオニルオキシ、４−ヒドロキシブチリルオキシ、４−ヒドロキシベンゾイルオキシ等が挙げられる。
上記一般式（６）におけるＡｎq-で表される陰イオンとしては、例えば、塩素陰イオン、臭素陰イオン、ヨウ素陰イオン、フッ素陰イオン等のハロゲン陰イオン；過塩素酸陰イオン、塩素酸陰イオン、チオシアン酸陰イオン、六フッ化リン酸陰イオン、六フッ化アンチモン陰イオン、六フッ化ヒ素陰イオン、四フッ化ホウ素陰イオン等の無機系陰イオン；メタンスルホン酸イオン、フルオロスルホン酸イオン、ベンゼンスルホン酸陰イオン、トルエンスルホン酸陰イオン、１−ナフチルスルホン酸陰イオン、２−ナフチルスルホン酸陰イオン、トリフルオロメタンスルホン酸陰イオン、ペンタフルオロエタンスルホン酸陰イオン、ヘプタフルオロプロパンスルホン酸陰イオン、ノナフルオロブタンスルホン酸陰イオン、ウンデカフルオロペンタンスルホン酸陰イオン、トリデカフルオロヘキサンスルホン酸陰イオン、ペンタデカフルオロヘプタンスルホン酸陰イオン、ヘプタデカフルオロオクタンスルホン酸イオン、パーフルオロ−４−エチルシクロヘキサンスルホン酸イオン、Ｎ−アルキル（又はアリール）ジフェニルアミン−４−スルホン酸陰イオン、２−アミノ−４−メチル−５−クロロベンゼンスルホン酸陰イオン、２−アミノ−５−ニトロベンゼンスルホン酸陰イオン、特開２００４−５３７９９号公報に記載されたスルホン酸陰イオン、カンファースルホン酸陰イオン、フルオロベンゼンスルホン酸陰イオン、ジフルオロベンゼンスルホン酸陰イオン、トリフルオロベンゼンスルホン酸陰イオン、テトラフルオロベンゼンスルホン酸陰イオン、ペンタフルオロベンゼンスルホン酸陰イオン等の有機スルホン酸陰イオン等が挙げられ、これらの陰イオンの中でも、安全性及び反応性（脱保護反応及び架橋反応）の点から、有機スルホン酸陰イオンが好ましい。
【００６２】
上記芳香族スルホニウム塩としては、市販のものを用いることもでき、例えば、ＷＰＡＧ−３３６、ＷＰＡＧ−３６７、ＷＰＡＧ−３７０、ＷＰＡＧ−４６９、ＷＰＡＧ−６３８（和光純薬工業社製）、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ（サンアプロ社製）、アデカオプトマーＳＰ−０５６、アデカオプトマーＳＰ−０６６、アデカオプトマーＳＰ−１３０、アデカオプトマーＳＰ−１４０、アデカオプトマーＳＰ−０８２、アデカオプトマーＳＰ−１０３、アデカオプトマーＳＰ−６０１、アデカオプトマーＳＰ−６０６、アデカオプトマーＳＰ−７０１（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【００６３】
上記ナフタルイミドスルホネート化合物としては、下記一般式（Ｖ）で表されるものが、経済性と光感度の観点から好ましい。
【００６４】
【化１５】
2016038569.tif 000027
（式中、Ｒ41は、炭素原子数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で、置換された炭素原子数７〜２０のアリール基、炭素原子数３〜１２の脂環式炭化水素基又は１０−カンファーイル基を表し、
該脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基及び炭素原子数１〜１８のアルキルチオ基から選ばれる基で置換される。
Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46及びＲ47は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、水酸基、ニトロ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表す。）
【００６５】
上記一般式（Ｖ）におけるＲ41で表される炭素原子数１〜１８の脂肪族炭化水素基としては、上記一般式（１）におけるＸ1の説明で例示した脂肪族炭化水素基のうち、所定の炭素原子数を満たすものが挙げられ、
Ｒ41で表される炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられ、
Ｒ41で表されるアシル基で、置換された炭素原子数７〜２０のアリール基としては、上記炭素原子数６〜２０のアリール基がアシル基で置換されたものが挙げられ、
Ｒ41で表される炭素原子数３〜１２の脂環式炭化水素基としては、上記一般式（２）におけるＹ11で表される三価の炭素原子数３〜３５の脂環族炭化水素基の説明で例示したもののうち、所定の炭素数を満たすものが挙げられ、
Ｒ41で表される脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基を置換してもよい炭素原子数１〜１８のアルコキシ基としては、メチルオキシ、エチルオキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブチルオキシ、第二ブチルオキシ、第三ブチルオキシ、イソブチルオキシ、アミルオキシ、イソアミルオキシ、第三アミルオキシ、ヘキシルオキシ、シクロヘキシルオキシ、ヘプチルオキシ、イソヘプチルオキシ、第三ヘプチルオキシ、ｎ−オクチルオキシ、イソオクチルオキシ、第三オクチルオキシ、２−エチルヘキシルオキシ、ノニルオキシ、デシルオキシ、ウンデシルオキシ、ドデシルオキシ、トリデシルオキシ、イソトリデシルオキシ、テトラデシルオキシ、ペンタデシルオキシ、ヘキサデシルオキシ、へプタデシルオキシ、オクタデシルオキシ等が挙げられ、
炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基としては、炭素原子数１〜４のアルキル基（メタン、エタン、プロパン、ｉｓｏ−プロパン、ブタン、ｓｅｃ−ブタン、ｔｅｒｔ−ブタン、ｉｓｏ−ブタン）の少なくとも１つの水素原子が上述したハロゲン原子により置換されたもの、例えば、クロロメチル、ジクロロメチル、トリクロロメチル、フルオロメチル、フルオロメチル、トリフルオロメチル、ノナフルオロブチル等が挙げられ、
炭素原子数１〜１８のアルキルチオ基としては、上述の炭素原子数１〜１８のアルコキシ基における酸素原子を、硫黄原子に置き換えたものが挙げられる。
Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46及びＲ47で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられる。
【００６６】
上記一般式（Ｖ）で表される化合物の中では、
Ｒ41が、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基、６〜１０のアリール基、１０−カンファ―イル基であるもの、特にメチル基、トリフルオロメチル基、ノナフルオロブチル基、フェニル基、トリル基、１０−カンファ―イル基であるものが好ましく、
Ｒ42、Ｒ43、Ｒ44、Ｒ45、Ｒ46及びＲ47が、水素原子、ハロゲン原子、水酸基、１〜１０のアルキル基、６−１０のアリール基であるもの、特に水素原子、塩素原子、１〜８のアルキル基であるものが好ましい。
【００６７】
上記オキシムスルホネート化合物としては、下記一般式（ＶＩ）で表されるものが、実用面と光感度の観点から好ましい。
【００６８】
【化１６】
2016038569.tif 000028
（式中、Ｒ51は、炭素原子数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で置換された炭素原子数７〜２０のアリール基、炭素原子数３〜１２の脂環式炭化水素基又は１０−カンファーイル基を表し、
該脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基は、置換基を有しないか、ハロゲン原子、炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基、炭素原子数１〜１８のアルコキシ基及び炭素原子数１〜１８のアルキルチオ基から選ばれる基で置換される。
Ｒ52及びＲ53は、シアノ基、カルボキシル基、置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基を表し、Ｒ52及びＲ53は、互いに連結して五員環の複素環を形成していてもよい。）
【００６９】
上記一般式（ＶＩ）におけるＲ51で表される炭素原子数１〜１８の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基、アシル基で置換された炭素原子数７〜２０のアリール基、炭素原子数３〜１２の脂環式炭化水素基、前記脂肪族炭化水素基、アリール基、アリールアルキル基、脂環式炭化水素基を置換してもよい炭素原子数１〜１８のアルコキシ基及び炭素原子数１〜４のハロゲン化アルキル基としては、上記一般式（Ｖ）におけるＲ41の説明で例示したものが挙げられる。
Ｒ52及びＲ53で表される置換基を有していてもよい炭素原子数１〜４０のアルキル基、炭素原子数６〜２０のアリール基、炭素原子数７〜２０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環含有基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられる。
また、Ｒ52及びＲ53が互いに連結して形成される五員環の複素環としては、上記一般式（Ｉ）におけるＡ1で表される五員環の複素環として例示したものが挙げられる。
【００７０】
上記一般式（Ｖ）で表される化合物の中では、
Ｒ51が、炭素原子数１〜１０の脂肪族炭化水素基、炭素原子数６〜１０のアリール基、１０−カンファ―イル基であるもの、特に、メチル基、トリフルオロメチル基、ノナフルオロブチル基、フェニル基、トリル基、１０−カンファ―イル基であるものが好ましく、
Ｒ52及びＲ53が、水素原子、炭素原子数１〜１２のアルキル基、炭素原子数６−１５のアリール基、炭素原子数７〜１６のアリールアルキル基、炭素原子数２〜１０の複素環基であるもの、特に水素原子、炭素原子数１〜８のアルキル基、炭素原子数６〜１０のアリール基、炭素原子数２〜８の複素環基であるものが好ましい。
【００７１】
本発明の感光性組成物に用いられる光重合開始剤（Ｃ）には、光ラジカル開始剤と光カチオン重合開始剤がある。光ラジカル重合開始剤としては、光照射によりラジカルを発生するものであれば特に制限されず従来既知の化合物を用いることが可能であり、例えば、アセトフェノン系化合物、ベンジル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、チオキサントン系化合物等のケトン系化合物、オキシムエステル系化合物等を好ましいものとして例示することができる。
【００７２】
上記アセトフェノン系化合物としては例えば、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−ヒドロキシメチル−２−メチルプロピオフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、ｐ−ジメチルアミノアセトフェノン、ｐ−ターシャリブチルジクロロアセトフェノン、ｐ−ターシャリブチルトリクロロアセトフェノン、ｐ−アジドベンザルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等が挙げられ、これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパノン−１、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１が好ましい。
【００７３】
上記ベンジル系化合物としては、ベンジル等が挙げられる。
【００７４】
上記ベンゾフェノン系化合物としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、ミヒラーケトン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルスルフィド等が挙げられる。
【００７５】
上記チオキサントン系化合物としては、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン等が挙げられる。
【００７６】
上記オキシム系化合物としては、特に、下記一般式（ＶＩＩ）で表される化合物が、感度及び耐熱性の点から好ましい。
【００７７】
【化１７】
2016038569.tif 000029
（式中、Ｒ61及びＲ62は、それぞれ独立に、水素原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｒ63及びＲ64は、それぞれ独立に、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基、Ｒ65、ＯＲ66、ＳＲ67、ＮＲ68Ｒ69、ＣＯＲ70、ＳＯＲ71、ＳＯ2Ｒ72又はＣＯＮＲ73Ｒ74を表し、Ｒ63及びＲ64は、互いに結合して環を形成していてもよく、
Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ71、Ｒ72、Ｒ73及びＲ74は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基、炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基又は炭素原子数２〜２０の複素環基を表し、
Ｘ4は、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、ＣＲ75Ｒ76、ＣＯ、ＮＲ77又はＰＲ78を表し、
Ｘ5は、単結合又はＣＯを表し、
Ｒ61、Ｒ62、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77及びＲ78中のアルキル基又はアリールアルキル基中のメチレン基は、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、水酸基、カルボキシル基又は複素環基で置換されていてもよく、−Ｏ−で中断されていてもよく、
Ｒ63及びＲ64は、それぞれ独立に、隣接するどちらかのベンゼン環と一緒になって環を形成していてもよく、
ａは、０〜４の整数を表し、
ｂは、０〜５の整数を表す。）
【００７８】
上記一般式（ＶＩＩ）中、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ65、Ｒ66、Ｒ67、Ｒ68、Ｒ69、Ｒ70、Ｒ75、Ｒ76、Ｒ77及びＲ78で表される炭素原子数１〜２０のアルキル基、炭素原子数６〜３０のアリール基及び炭素原子数７〜３０のアリールアルキル基及び炭素原子数２〜２０の複素環基としては上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられる。
上記アルキル基又はアリールアルキル基を置換してもよい複素環基としては、上記一般式（１）におけるＲ1又はＲ2の説明で例示したものが挙げられる。
Ｒ63及びＲ64が互いに結合して形成してもよい環としては、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロペンテン環、ベンゼン環、ピペリジン環、モルフォリン環、ラクトン環、ラクタム環等の５〜７員環及びナフタレン環、アントラセン環、フルオレン環、アセナフテン環、インダン環、テトラリン環等の縮合環が挙げられる。
【００７９】
上記一般式（５）で表される化合物の中でも、下記一般式（ＶＩＩ'）で表される化合物が好ましく、中でも、Ｒ64が、ニトロ基又はＣＯＲ70であるものが特に好ましい。
【化１７Ａ】
2016038569.tif 000030
（式中、Ｒ61、Ｒ62、Ｒ63、Ｒ64、Ｒ79、Ｘ5、ａ及びｂは、上記一般式（ＶＩＩ）と同じ）
【００８０】
その他の光ラジカル重合開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド等のホスフィンオキサイド系化合物、ビス（シクロペンタジエニル）−ビス［２，６−ジフルオロ−３−（ピル−１−イル）］チタニウム等のチタノセン系化合物等が挙げられる。
【００８１】
これらの光ラジカル重合開始剤は１種或いは２種以上のものを所望の性能に応じて配合して使用することができる。
【００８２】
光カチオン重合開始剤としては、光照射によりカチオン重合を開始させる物質を放出させることが可能な化合物であればどのようなものでも差し支えないが、好ましくは、上記オニウム塩であり、さらに好ましくは芳香族スルホニウム塩である。
上記芳香族スルホニウム塩としては、市販のものを用いることもでき、例えば、ＣＰＩ−１００Ｐ、ＣＰＩ−１０１Ａ、ＣＰＩ−２００Ｋ、ＣＰＩ−２１０Ｓ（サンアプロ社製）、アデカオプトマーＳＰ−１５０、アデカオプトマーＳＰ−１７０、アデカオプトマーＳＰ−１７１（ＡＤＥＫＡ社製）等が挙げられる。
【００８３】
本発明の感光性組成物において、上記光重合開始剤（Ｃ）の含有量は、本発明の感光性組成物の固形分中、０．１〜３０質量％、特に０．５〜１０質量％が好ましい。上記光重合開始剤の含有量が０．１質量％より小さいと、露光による硬化が不十分になる場合があり、３０質量％より大きいと、樹脂組成物中に開始剤が析出する場合がある。
【００８４】
本発明の感光性組成物に用いられる光酸発生剤又は光カチオン重合開始剤（Ｃ）は、ＥＵＶ（Ｅｘｔｒｅｍｅ  Ｕｌｔｒａ−Ｖｉｏｌｅｔ）、Ｘ線、Ｆ2、ＡｒＦ、ＫｒＦ、ｉ線、ｈ線、ｇ線等の遠紫外線、電子線、放射線、高周波等の活性エネルギー線の照射によりルイス酸を放出する特性を有し、酸反応性有機物質に作用して分解や重合をすることが可能であり、ポジ型又はネガ型フォトレジストの光酸発生剤として、又は平板、凸版用印刷板の作成、プリント基板や１Ｃ、ＬＳ  １作製のためのフォトレジスト、レリーフ像や画像複製等の画像形成、光硬化性のインキ、塗料、接着剤等、広範囲のカチオン重合開始剤として有用である。
【００８５】
また、本発明の感光性組成物に光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を用いた場合、該感光性組成物を硬化させる際に用いられる活性光の光源としては、波長３００〜４５０ｎｍの光を発光するものを用いることができ、例えば、超高圧水銀、水銀蒸気アーク、カーボンアーク、キセノンアーク等を用いることができる。
【００８６】
上記光酸発生剤又は光カチオン重合開始剤（Ｃ）を酸反応性有機物質に対して使用する場合、その使用量は、特に制限されるものではないが、酸反応性有機物質１００質量部に対して、好ましくは０．０５〜１００質量部、更に好ましくは０．０５〜２０質量部の割合で用いることが好ましい。但し、酸反応性有機物質の性質、光の照射強度、反応に要する時間、物性、コスト等の要因により、配合量を上述の範囲より増減させて用いることも可能である。尚、本発明の感光性組成物における酸反応性有機物質の含有量は、組成物中、好ましくは５〜９９質量％、より好ましくは１０〜９５質量％である。
【００８７】
本発明の感光性組成物において、光酸発生剤（Ｃ）を用いる場合、レジスト組成物として用いることができる。該レジスト組成物は、特に、化学増幅型レジストとして有用である。化学増幅型レジストには、露光により光酸発生剤から発生した酸の作用によって、エステル基或いはアセタール基等の化学結合の切断等、レジストベース樹脂側鎖の脱保護反応で誘起される極性変化で現像液に可溶化させるポジ型レジストと、重合又は架橋等化学的な連鎖反応を起こし、レジストベース樹脂の架橋反応や極性変化で現像液に不溶化させ、現像の際に未露光部分だけが選択的に除去されるネガ型レジストの２通りがある。
【００８８】
上記レジストベース樹脂としては、ポリヒドロキシスチレン及びその誘導体；ポリアクリル酸及びその誘導体；ポリメタクリル酸及びその誘導体；ヒドロキシスチレン、アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体から選ばれ形成される２以上の共重合体；ヒドロキシスチレン、スチレン及びそれらの誘導体から選ばれ形成される２以上の共重合体；ポリオレフィン及びその誘導体、シクロオレフィン及びその誘導体、無水マレイン酸、並びに、アクリル酸及びその誘導体から選ばれる３以上の共重合体；シクロオレフィン及びその誘導体、マレイミド、並びに、アクリル酸及びその誘導体から選ばれる３以上の共重合体；ポリノルボルネン；メタセシス開環重合体からなる一群から選択される１種以上の高分子重合体；シリコーン樹脂等が挙げられる。
【００８９】
上記レジストベース樹脂のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（Ｍｗ）は、通常１，０００〜５００，０００、好ましくは２，０００〜２００，０００、更に好ましくは３，０００〜１００，０００である。この場合、レジストベース樹脂のＭｗが１，５００未満では、レジストとしての耐熱性が低下する傾向があり、一方３００，０００を越えると、レジストとしての現像性や塗布性が低下する傾向がある。
【００９０】
ポジ型レジストにおいては、上記レジストベース樹脂に酸の作用により分解する保護基を導入した高分子重合体が用いられる。該保護基としては、三級アルキル基、トリアルキルシリル基、オキソアルキル基、アリール基置換アルキル基、テトラヒドロピラン−２−イル基等の複素脂環基、三級アルキルカルボニル基、三級アルキルカルボニルアルキル基、三級アルキルオキシカルボニル基、三級アルキルオキシカルボニルアルキル基、アルコキシアルキル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル、チオフラニル基等のアセタール基等が挙げられる。
【００９１】
ネガ型レジストにおいては、上記レジストベース樹脂と架橋剤を反応させた樹脂が用いられる。該架橋剤としては、架橋剤として慣用されているものの中から任意に選択して用いることができ、例えば、ヒドロキシル基又はアルコキシル基を有するアミノ樹脂、例えば、メラミン樹脂、尿素樹脂、グアナミン樹脂、グリコールウリル‐ホルムアルデヒド樹脂、スクシニルアミド‐ホルムアルデヒド樹脂、エチレン尿素‐ホルムアルデヒド樹脂等を挙げることができる。これらはメラミン、尿素、グアナミン、グリコールウリル、スクシニルアミド、エチレン尿素を沸騰水中でホルマリンと反応させてメチロール化、或いはこれにさらに低級アルコールを反応させてアルコキシル化したものを用いることができる。
【００９２】
上記架橋剤としては市販のものを用いることもでき、例えばニカラックＭＸ−７５０、ニカラックＭＷ−３０、ニカラックＭＸ−２９０（三和ケミカル社製）が挙げられる。
【００９３】
上記レジスト組成物中の光酸発生剤（Ｃ）の使用量は、レジストとしての感度及び現像性を確保する観点から、レジストベース樹脂１００質量部に対して、通常、０．０１〜２０質量部、好ましくは０．５〜１０質量部である。この場合、光酸発生剤（Ｃ）の使用量が０．０１質量部未満では、感度及び現像性が低下する場合があり、一方、２０質量部を越えると、放射線に対する透明性が低下して、矩形のレジストパターンを得られにくくなる場合がある。尚、本発明の感光性組成物におけるレジストベース樹脂の含有量は、組成物中、好ましくは５〜５０質量％、より好ましくは５〜３０質量％である。
【００９４】
上記レジスト組成物には、各種添加剤を配合してもよい。各種添加剤としては、塩基クエンチャー、酸増殖剤、酸拡散剤、増感剤、塩基発生剤、無機フィラー、有機フィラー、顔料、染料等の着色剤、消泡剤、増粘剤、難燃剤、レベリング剤等の各種樹脂添加物等が挙げられる。これらの各種添加剤の使用量は、上記レジスト組成物中、好ましくは合計で５０質量％以下とする。
【００９５】
上記レジスト組成物は、通常、その使用に際して、全固形分濃度が、通常５〜５０重量％、好ましくは１０〜２５重量％となるように溶剤に溶解した後、例えば、孔径０．２μｍ程度のフィルターで濾過することによって調整される。上記レジスト組成物は、本発明のスルホン酸誘導体化合物からなる光酸発生剤、これ以外の光酸発生剤、レジストベース樹脂及びその他の任意成分を混合、溶解或いは混練等の方法により調製することができる。
【００９６】
上記レジスト組成物の露光で使用される光源としては、使用する光酸発生剤の種類に応じて、ｇ線（４３６ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、ｉ線（３６５ｎｍ）、可視光線、紫外線、遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線等から適宜選定して使用されるが、本発明のスルホン酸誘導体化合物は、ＡｒＦエキシマーレーザー（波長１９３ｎｍ）ＫｒＦエキシマーレーザー（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線、ＥＵＶ等の荷電粒子線等、各種の放射線を使用するレジストにおいて好適に使用することが可能である。
【００９７】
上記レジスト組成物は、シリコンウエハやガラス等の基板上にスピナー、コーター等の適当な塗布方法により塗布後、所定のマスクを通して露光し、レジストのみかけの感度を向上させるためにポストベークを行い、現像することにより良好なレジストパターンを得ることができる。上記マスクとしては、ハーフトーンマスク又はグレースケールマスク等の多階調マスクを用いることもできる。
【００９８】
本発明の感光性組成物において光カチオン重合開始剤（Ｃ）を使用する場合、光照射により活性化したカチオン重合開始剤により高分子化又は架橋反応を起こすカチオン重合性化合物を１種類又は２種類以上混合して使用される。
【００９９】
カチオン重合性化合物として代表的なものは、エポキシ化合物、オキセタン化合物、環状ラクトン化合物、環状アセタール化合物、環状チオエーテル化合物、スピロオルトエステル化合物、ビニル化合物等であり、これらの１種又は２種以上使用することができる。中でも入手するのが容易であり、取り扱いに便利なエポキシ化合物及びオキセタン化合物が適している。
【０１００】
このうちエポキシ化合物としては、脂環族エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物等が適している。
【０１０１】
上記脂環族エポキシ化合物の具体例としては、少なくとも１個の脂環族環を有する多価アルコールのポリグリシジルエーテル又はシクロヘキセンやシクロペンテン環含有化合物を酸化剤でエポキシ化することによって得られるシクロヘキセンオキサイドやシクロペンテンオキサイド含有化合物が挙げられる。例えば、水素添加ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキシル−３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−６−メチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−３−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−５−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、ジシクロペンタジエンジエポキサイド、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等が挙げられる。
【０１０２】
上記脂環族エポキシ樹脂として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６１００、ＵＶＲ−６１０５、ＵＶＲ−６１１０、ＵＶＲ−６１２８、ＵＶＲ−６２００（以上、ユニオンカーバイド社製）、セロキサイド２０２１、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、セロキサイド２０８３、セロキサイド２０８５、セロキサイド２０００、セロキサイド３０００、サイクロマーＡ２００、サイクロマーＭ１００、サイクロマーＭ１０１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−３０２、エポリード４０１、エポリード４０３、ＥＴＨＢ、エポリードＨＤ３００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、ＫＲＭ−２１１０、ＫＲＭ−２１９９（以上、ＡＤＥＫＡ（株）製）等を挙げることができる。
【０１０３】
上記脂環族エポキシ樹脂の中でも、シクロヘキセンオキシド構造を有するエポキシ樹脂が、硬化性（硬化速度）の点で好ましい。
【０１０４】
また、上記芳香族エポキシ樹脂の具体例としては、少なくとも１個の芳香族環を有する多価フェノール又は、そのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、例えばビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、又はこれらに更にアルキレンオキサイドを付加した化合物のグリシジルエーテルやエポキシノボラック樹脂等が挙げられる。
【０１０５】
更に、上記脂肪族エポキシ樹脂の具体例としては、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖多塩基酸のポリグリシジルエステル、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートのビニル重合により合成したホモポリマー、グリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリレートとその他のビニルモノマーとのビニル重合により合成したコポリマー等が挙げられる。代表的な化合物として、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ソルビトールのテトラグリシジルエーテル、ジペンタエリスリトールのヘキサグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールのジグリシジルエーテル等の多価アルコールのグリシジルエーテル、またプロピレングリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン等の脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル、脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステルが挙げられる。さらに、脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテルやフェノール、クレゾール、ブチルフェノール、また、これらにアルキレンオキサイドを付加することによって得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル、高級脂肪酸のグリシジルエステル、エポキシ化大豆油、エポキシステアリン酸オクチル、エポキシステアリン酸ブチル、エポキシ化ポリブタジエン等が挙げられる。
【０１０６】
上記芳香族及び脂肪族エポキシ樹脂として好適に使用できる市販品としては、エピコート８０１、エピコート８２８（以上、油化シェルエポキシ社製）、ＰＹ−３０６、０１６３、ＤＹ−０２２（以上、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製）、ＫＲＭ−２７２０、ＥＰ−４１００、ＥＰ−４０００、ＥＰ−４０８０、ＥＰ−４９００、ＥＤ−５０５、ＥＤ−５０６（以上、（株）ＡＤＥＫＡ製）、エポライトＭ−１２３０、エポライトＥＨＤＧ−Ｌ、エポライト４０Ｅ、エポライト１００Ｅ、エポライト２００Ｅ、エポライト４００Ｅ、エポライト７０Ｐ、エポライト２００Ｐ、エポライト４００Ｐ、エポライト１５００ＮＰ、エポライト１６００、エポライト８０ＭＦ、エポライト１００ＭＦ、エポライト４０００、エポライト３００２、エポライトＦＲ−１５００（以上、共栄社化学（株）製）、サントートＳＴ００００、ＹＤ−７１６、ＹＨ−３００、ＰＧ−２０２、ＰＧ−２０７、ＹＤ−１７２、ＹＤＰＮ６３８（以上、東都化成（株）製）等を挙げることができる。
【０１０７】
また、上記オキセタン化合物の具体例としては、例えば、以下の化合物を挙げることができる。３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−（メタ）アリルオキシメチル−３−エチルオキセタン、（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチルベンゼン、４−フルオロ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、４−メトキシ−［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、［１−（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）エチル］フェニルエーテル、イソブトキシメチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、イソボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−エチルヘキシル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチルジエチレングリコール（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンタジエン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルオキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラヒドロフルフリル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−テトラブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−トリブロモフェノキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、２−ヒドロキシプロピル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ブトキシエチル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタクロロフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタブロモフェニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ボルニル（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、３，７−ビス（３−オキセタニル）−５−オキサ−ノナン、３，３’−（１，３−（２−メチレニル）プロパンジイルビス（オキシメチレン））ビス−（３−エチルオキセタン）、１，４−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］ベンゼン、１，２−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］エタン、１，３−ビス［（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）メチル］プロパン、エチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジシクロペンテニルビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、テトラエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリシクロデカンジイルジメチレン（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、１，４−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ブタン、１，６−ビス（３−エチル−３−オキセタニルメトキシ）ヘキサン、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ポリエチレングリコールビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ジトリメチロールプロパンテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＰＯ変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ＥＯ変性ビスフェノールＦ（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル等を例示することができる。
【０１０８】
これらオキセタン化合物は、特に可撓性を必要とする場合に使用すると効果的であり、好ましい。
【０１０９】
上記カチオン重合性化合物のその他の化合物の具体例としては、β−プロピオラクトン、ε−カプロラクトン等の環状ラクトン化合物；トリオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，６−トリオキサンシクロオクタン等の環状アセタール化合物；テトラヒドロチオフェン誘導体等の環状チオエーテル化合物；上述のエポキシ化合物とラクトンの反応によって得られるスピロオルトエステル化合物；エチレングリコールジビニルエーテル、アルキルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル、ヒドロキシブチルビニルエーテル、プロピレングリコールのプロペニルエーテル等のビニルエーテル化合物、スチレン、ビニルシクロヘキセン、イソブチレン、ポリブタジエン等のエチレン性不飽和化合物等のビニル化合物；テトラヒドロフラン、２，３−ジメチルテトラヒドロフラン等のオキソラン化合物；エチレンスルフィド、チオエピクロルヒドリン等のチイラン化合物；１，３−プロピンスルフィド、３，３−ジメチルチエタン等のチエタン化合物；シリコーン類等周知の化合物が挙げられる。
【０１１０】
本発明の感光性組成物において、光カチオン重合開始剤（Ｃ）の使用量は、上記のカチオン重合性化合物１００質量部に対して、好ましくは０．０１〜１０質量部、更に好ましくは０．１〜５質量部である。この使用量が０．０１質量部より少ないと、硬化が不充分となる場合があり、一方、１０質量部を超えても使用効果の増加が得られないばかりでなく、硬化物の物性に悪影響を与える場合がある。尚、本発明の感光性組成物におけるカチオン重合性化合物の含有量は、組成物中、好ましくは５〜９９質量％、より好ましくは１０〜９５質量％である。
【０１１１】
本発明の感光性組成物には、各種添加剤を併用することができる。各種添加剤としては、架橋剤；有機溶剤；熱カチオン開始剤；カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤等からなる帯電防止剤；ハロゲン系化合物、リン酸エステル系化合物、リン酸アミド系化合物、メラミン系化合物、フッ素樹脂又は金属酸化物、（ポリ）リン酸メラミン、（ポリ）リン酸ピペラジン等の難燃剤；炭化水素系、脂肪酸系、脂肪族アルコール系、脂肪族エステル系、脂肪族アマイド系又は金属石けん系の滑剤；染料、顔料、カーボンブラック等の着色剤；フュームドシリカ、微粒子シリカ、けい石、珪藻土類、クレー、カオリン、珪藻土、シリカゲル、珪酸カルシウム、セリサイト、カオリナイト、フリント、長石粉、蛭石、アタパルジャイト、タルク、マイカ、ミネソタイト、パイロフィライト、シリカ等の珪酸系無機添加剤；ガラス繊維、炭酸カルシウム等の充填剤；造核剤、結晶促進剤等の結晶化剤、シランカップリング剤、可撓性ポリマー等のゴム弾性付与剤、相溶化剤、塩基性化合物、酸増殖剤、酸拡散剤、増感剤等が挙げられる。これらの各種添加剤の使用量は、本発明の感光性組成物中、合計で、５０質量％以下とする。
【０１１２】
また、上記カチオン重合性化合物への光カチオン重合開始剤（Ｃ）の溶解を容易にするため、予め適当な溶媒（例えば、プロピレンカーボネート、カルビトール、カルビトールアセテート、ブチロラクトン、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート、３−メトキシブチルアセテート、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等）に溶解して使用することができる。
【０１１３】
本発明の感光性組成物は、紫外線等のエネルギー線を照射することにより通常は０．１秒〜数分後に指触乾燥状態或いは溶媒不溶性の状態に硬化することができる。適当なエネルギー線としては、カチオン重合開始剤の分解を誘発する限りいかなるものでもよいが、好ましくは、超高、高、中、低圧水銀ランプ、キセノンランプ、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、蛍光灯、タングステンランプ、エキシマーランプ、殺菌灯、エキシマーレーザー、窒素レーザー、アルゴンイオンレーザー、ヘリウムカドミウムレーザー、ヘリウムネオンレーザー、クリプトンイオンレーザー、各種半導体レーザー、ＹＡＧレーザー、発光ダイオード、ＣＲＴ光源等から得られる２０００オングストロームから７０００オングストロームの波長を有する電磁波エネルギーや電子線、Ｘ線、放射線等の高エネルギー線を利用する。
【０１１４】
エネルギー線への暴露時間は、エネルギー線の強度、塗膜厚やカチオン重合性有機化合物によるが、通常は０．１秒〜１０秒程度で十分である。しかし、比較的厚い塗装物についてはそれ以上の照射時間をかけたほうが好ましい。エネルギー線照射後０．１秒〜数分後には、ほとんどの組成物はカチオン重合により指触乾燥するが、カチオン重合を促進するため加熱やサーマルヘッド等による熱エネルギーを併用することも場合によっては好ましい。
【０１１５】
本発明の感光性組成物において光ラジカル重合開始剤（Ｃ）を使用する場合、樹脂、光重合性不飽和単量体及び必要に応じて溶媒を混合して使用される。
【０１１６】
上記樹脂としては、上記光ラジカル重合開始剤、光重合性不飽和単量体と相溶するものであれば特に制限されず用いることができ、例えば、光重合性不飽和単量体由来の繰り返し単位を含む単重合体又は共重合体が挙げられる。
中でも、メタクリル酸エステル共重合体、ポリビニルアルコール／ポリビニルエーテル／ポリビニルエステル共重合体、不飽和ポリエステル等が、上記光重合性不飽和単量体との相溶性がよいので好ましく、酸価を有するものが、フォトグラフィー性の点から好ましい。
【０１１７】
上記酸価を有する樹脂（又はその単量体）としては、（メタ）アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等の不飽和多塩基酸；ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；４−ヒドロキシスチレン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、４−ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基含有多官能アクリレートと無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸等の二塩基酸無水物の反応物；下記一般式（７）で表されるエポキシ化合物等のエポキシ基に不飽和一塩基酸を作用させ、更に多塩基酸無水物を作用させて得られた樹脂を用いることができる。これらのモノマーは、１種を単独で、又は２種以上を混合して用いることができる。また、上記の酸価を有する樹脂は、不飽和基を０．２〜１．０当量含有していることが好ましい。
【０１１８】
【化１８】
2016038569.tif 000031
（式中、Ｘ6は直接結合、メチレン基、炭素原子数１〜４のアルキリデン基、炭素原子数３〜２０の脂環式炭化水素基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ2−、−ＳＳ−、−ＳＯ−、−ＣＯ−、−ＯＣＯ−又は上記式（１−１）〜（１−３）で表される置換基を表し、該アルキリデン基はハロゲン原子で置換されていてもよく、Ｒ80、Ｒ81、Ｒ82及びＲ83は、それぞれ独立に、水素原子、炭素原子数１〜５のアルキル基、炭素原子数１〜８のアルコキシ基、炭素原子数２〜５のアルケニル基又はハロゲン原子を表し、上記アルキル基、アルコキシ基及びアルケニル基はハロゲン原子で置換されていてもよく、ｐは０〜１０の整数である。）
【０１１９】
上記エポキシ化合物のエポキシ基に作用させる上記不飽和一塩基酸としては、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、桂皮酸、ソルビン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート・マレート、ヒドロキシエチルアクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルメタクリレート・マレート、ヒドロキシプロピルアクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート等が挙げられる。
また、上記不飽和一塩基酸を作用させた後に作用させる上記多塩基酸無水物としては、ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、テトラヒドロ無水フタル酸、無水コハク酸、無水マレイン酸、トリメリット酸無水物、ピロメリット酸無水物、２，２’−３，３’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物
、エチレングリコールビスアンヒドロトリメリテート、グリセロールトリスアンヒドロトリメリテート、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、ナジック酸無水物、メチルナジック酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等が挙げられる。
【０１２０】
上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応モル比は、以下の通りとすることが好ましい。即ち、上記エポキシ化合物のエポキシ基１個に対し、上記不飽和一塩基酸のカルボキシル基が０．１〜１．０個で付加させた構造を有するエポキシ付加物において、該エポキシ付加物の水酸基１個に対し、上記多塩基酸無水物の酸無水物構造が０．１〜１．０個となる比率となるようにするのが好ましい。
上記エポキシ化合物、上記不飽和一塩基酸及び上記多塩基酸無水物の反応は、常法に従って行なうことができる。
【０１２１】
上記酸価を有する樹脂（Ａ）の酸価を調整して本発明の感光性組成物の現像性を改良するため、更に単官能又は多官能エポキシ化合物を用いることができる。上記酸価を有する樹脂は、固形分の酸価が５〜１２０ｍｇＫＯＨ／ｇの範囲であることが好ましく、単官能又は多官能エポキシ化合物の使用量は、上記酸価を満たすように選択するのが好ましい。
【０１２２】
上記単官能エポキシ化合物としては、グリシジルメタクリレート、メチルグリシジルエーテル、エチルグリシジルエーテル、プロピルグリシジルエーテル、イソプロピルグリシジルエーテル、ブチルグリシジルエーテル、イソブチルグリシジルエーテル、ｔ−ブチルグリシジルエーテル、ペンチルグリシジルエーテル、ヘキシルグリシジルエーテル、ヘプチルグリシジルエーテル、オクチルグリシジルエーテル、ノニルグリシジルエーテル、デシルグリシジルエーテル、ウンデシルグリシジルエーテル、ドデシルグリシジルエーテル、トリデシルグリシジルエーテル、テトラデシルグリシジルエーテル、ペンタデシルグリシジルエーテル、ヘキサデシルグリシジルエーテル、２−エチルヘキシルグリシジルエーテル、アリルグリシジルエーテル、プロパルギルグリシジルエーテル、ｐ−メトキシエチルグリシジルエーテル、フェニルグリシジルエーテル、ｐ−メトキシグリシジルエーテル、ｐ−ブチルフェノールグリシジルエーテル、クレジルグリシジルエーテル、２−メチルクレジルグリシジルエーテル、４−ノニルフェニルグリシジルエーテル、ベンジルグリシジルエーテル、ｐ−クミルフェニルグリシジルエーテル、トリチルグリシジルエーテル、２，３−エポキシプロピルメタクリレート、エポキシ化大豆油、エポキシ化アマニ油、グリシジルブチレート、ビニルシクロヘキサンモノオキシド、１，２−エポキシ−４−ビニルシクロヘキサン、スチレンオキシド、ピネンオキシド、メチルスチレンオキシド、シクロヘキセンオキシド、プロピレンオキシド、下記化合物Ｎｏ．Ａ２、Ｎｏ．Ａ３等が挙げられる。
【０１２３】
上記多官能エポキシ化合物としては、ビスフェノール型エポキシ化合物及びグリシジルエーテル類からなる群から選択される一種以上を用いると、特性の一層良好なアルカリ現像性感光性組成物を得ることができるので好ましい。該ビスフェノール型エポキシ化合物としては、上記一般式（１）で表されるエポキシ化合物を用いることができる他、例えば、水添ビスフェノール型エポキシ化合物等のビスフェノール型エポキシ化合物も用いることができる。該グリシジルエーテル類としては、エチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、１，８−オクタンジオールジグリシジルエーテル、１，１０−デカンジオールジグリシジルエーテル、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、トリエチレングリコールジグリシジルエーテル、テトラエチレングリコールジグリシジルエーテル、ヘキサエチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、１，１，１−トリ（グリシジルオキシメチル）プロパン、１，１，１−トリ（グリシジルオキシメチル）エタン、１，１，１−トリ（グリシジルオキシメチル）メタン、１，１，１，１−テトラ（グリシジルオキシメチル）メタンが挙げられる。
その他、フェノールノボラック型エポキシ化合物、ビフェニルノボラック型エポキシ化合物、クレゾールノボラック型エポキシ化合物、ビスフェノールＡノボラック型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエンノボラック型エポキシ化合物等のノボラック型エポキシ化合物；３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、１−エポキシエチル−３，４−エポキシシクロヘキサン等の脂環式エポキシ化合物；フタル酸ジグリシジルエステル、テトラヒドロフタル酸ジグリシジルエステル、ダイマー酸グリシジルエステル等のグリシジルエステル類；テトラグリシジルジアミノジフェニルメタン、トリグリシジル−ｐ−アミノフェノール、Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアニリン等のグリシジルアミン類；１，３−ジグリシジル−５，５−ジメチルヒダントイン、トリグリシジルイソシアヌレート等の複素環式エポキシ化合物；ジシクロペンタジエンジオキシド等のジオキシド化合物；ナフタレン型エポキシ化合物、トリフェニルメタン型エポキシ化合物、ジシクロペンタジエン型エポキシ化合物等を用いることもできる。
【０１２４】
上記酸価を有する樹脂の中でも、相溶性、アルカリ現像性及び耐熱性の点から、不飽和多塩基酸、酸価を有する多官能アクリレートが好ましく、酸価を有する多官能アクリレートが特に好ましい。
【０１２５】
上記酸価を有する樹脂としては市販のものを用いることもでき、例えば、ＳＰＣ−１０００、ＳＰＣ−３０００（昭和電工社製）、ＡＸ３−ＢＸ、ＡＸ３−ＲＤ１、ＡＸ３−ＲＤ２（日本触媒社製）、ＪＥＴ２０００（大阪有機化学社製）等が挙げられる。
【０１２６】
上記光重合性不飽和単量体としては、特に限定されず、従来、感光性組成物に用いられているものを用いることができるが、例えば、エチレン、プロピレン、ブチレン、イソブチレン、塩化ビニル、塩化ビニリデン、フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン等の不飽和脂肪族炭化水素；（メタ）アクリル酸、α―クロルアクリル酸、イタコン酸、マレイン酸、シトラコン酸、フマル酸、ハイミック酸、クロトン酸、イソクロトン酸、ビニル酢酸、アリル酢酸、桂皮酸、ソルビン酸、メサコン酸、コハク酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、フタル酸モノ［２−（メタ）アクリロイロキシエチル］、ω−カルボキシポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート等の両末端にカルボキシ基と水酸基とを有するポリマーのモノ（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート・マレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート・マレート、ジシクロペンタジエン・マレート或いは１個のカルボキシル基と２個以上の（メタ）アクリロイル基とを有する多官能（メタ）アクリレート等の不飽和一塩基酸；（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸−２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、下記化合物Ｎｏ．Ａ１〜Ｎｏ．Ａ４、（メタ）アクリル酸メチル、  （メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸−ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ｎ−オクチル、（メタ）アクリル酸イソオクチル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸メトキシエチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノメチル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸アミノプロピル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノプロピル、（メタ）アクリル酸エトキシエチル、（メタ）アクリル酸ポリ（エトキシ）エチル、（メタ）アクリル酸ブトキシエトキシエチル、（メタ）アクリル酸エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフリル、（メタ）アクリル酸ビニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸ベンジル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールジ（メタ）アクリレート、トリ［（メタ）アクリロイルエチル］イソシアヌレート、ポリエステル（メタ）アクリレートオリゴマー等の不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステル；（メタ）アクリル酸亜鉛、（メタ）アクリル酸マグネシウム等の不飽和多塩基酸の金属塩；マレイン酸無水物、イタコン酸無水物、シトラコン酸無水物、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸、５−（２，５−ジオキソテトラヒドロフリル）−３−メチル−３−シクロヘキセン−１，２−ジカルボン酸無水物、トリアルキルテトラヒドロ無水フタル酸−無水マレイン酸付加物、ドデセニル無水コハク酸、無水メチルハイミック酸等の不飽和多塩基酸の酸無水物；（メタ）アクリルアミド、メチレンビス−（メタ）アクリルアミド、ジエチレントリアミントリス（メタ）アクリルアミド、キシリレンビス（メタ）アクリルアミド、α−クロロアクリルアミド、Ｎ−２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド等の不飽和一塩基酸及び多価アミンのアミド；アクロレイン等の不飽和アルデヒド；（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、シアン化ビニリデン、シアン化アリル等の不飽和ニトリル；スチレン、４−メチルスチレン、４−エチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−ヒドロキシスチレン、４−クロロスチレン、ジビニルベンゼン、ビニルトルエン、ビニル安息香酸、ビニルフェノール、ビニルスルホン酸、４−ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルベンジルメチルエーテル、ビニルベンジルグリシジルエーテル等の不飽和芳香族化合物；メチルビニルケトン等の不飽和ケトン；ビニルアミン、アリルアミン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピペリジン等の不飽和アミン化合物；アリルアルコール、クロチルアルコール等のビニルアルコール；ビニルメチルエーテル、ビニルエチルエーテル、ｎ−ブチルビニルエーテル、イソブチルビニルエーテル、アリルグリシジルエーテル等のビニルエーテル；マレイミド、Ｎ−フェニルマレイミド、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド等の不飽和イミド類；インデン、１−メチルインデン等のインデン類；１，３−ブタジエン、イソプレン、クロロプレン等の脂肪族共役ジエン類；ポリスチレン、ポリメチル（メタ）アクリレート、ポリ−ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ポリシロキサン等の重合体分子鎖の末端にモノ（メタ）アクリロイル基を有するマクロモノマー類；ビニルクロリド、ビニリデンクロリド、ジビニルスクシナート、ジアリルフタラート、トリアリルホスファート、トリアリルイソシアヌラート、ビニルチオエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルオキサゾリン、ビニルカルバゾール、ビニルピロリドン、ビニルピリジン、水酸基含有ビニルモノマー及びポリイソシアネート化合物のビニルウレタン化合物、水酸基含有ビニルモノマー及びポリエポキシ化合物のビニルエポキシ化合物が挙げられる。
【０１２７】
【化１９】
2016038569.tif 000032
【０１２８】
【化２０】
2016038569.tif 000033
【０１２９】
【化２１】
2016038569.tif 000034
【０１３０】
【化２２】
2016038569.tif 000035
【０１３１】
上記光重合性不飽和単量体として挙げた前記の各種の化合物のうち、特に、不飽和一塩基酸及び多価アルコール又は多価フェノールのエステルを用いることが、光硬化性、色度特性の観点から好ましい。
【０１３２】
本発明の感光性組成物において、上記光重合性不飽和単量体の含有量は、上記樹脂：上記光重合性不飽和単量体＝３５〜９５：５〜６５質量部、好ましくは４０〜９０：１０〜６０質量部であるのが好ましい。
【０１３３】
また、本発明の感光性組成物中、上記樹脂及び上記光重合性不飽和単量体の合計量は、本発明の感光性組成物の固形分中、好ましくは２０〜８０質量％、より好ましくは３０〜７０質量％である。両者の合計の含有量が２０質量％より小さいと、硬化膜が十分に固まらない場合があり、８０質量％より大きいと、着色剤が少なく色特性が不十分になる場合がある。
【０１３４】
上記溶媒としては、通常、必要に応じて上記の各成分（光ラジカル重合開始剤、樹脂、光重合性不飽和単量体等）を溶解又は分散しえる溶媒、例えば、メチルエチルケトン、メチルアミルケトン、ジエチルケトン、アセトン、メチルイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン等のケトン類；エチルエーテル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン、ジプロピレングリコールジメチルエーテル等のエーテル系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸−ｎ−プロピル、酢酸イソプロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸シクロヘキシル、乳酸エチル、コハク酸ジメチル、テキサノール等のエステル系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル等のセロソルブ系溶媒；メタノール、エタノール、イソ−又はｎ−プロパノール、イソ−又はｎ−ブタノール、アミルアルコール等のアルコール系溶媒；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（ＰＧＭＥＡ）、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシブチルエーテルアセテート、エトキシエチルエーテルプロピオネート等のエーテルエステル系溶媒；ベンゼン、トルエン、キシレン等のＢＴＸ系溶媒；ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン等の脂肪族炭化水素系溶媒；テレピン油、Ｄ−リモネン、ピネン等のテルペン系炭化水素油；ミネラルスピリット、スワゾール＃３１０（コスモ松山石油（株））、ソルベッソ＃１００（エクソン化学（株））等のパラフィン系溶媒；四塩化炭素、クロロホルム、トリクロロエチレン、塩化メチレン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素系溶媒；クロロベンゼン等のハロゲン化芳香族炭化水素系溶媒；カルビトール系溶媒、アニリン、トリエチルアミン、ピリジン、酢酸、アセトニトリル、二硫化炭素、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、水等が挙げられ、これらの溶媒は１種又は２種以上の混合溶媒として使用することができる。これらの中でもケトン類、エーテルエステル系溶媒等、特にプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート（ＰＧＭＥＡ）、シクロヘキサノン等が、着色組成物においてレジストと光重合開始剤の相溶性がよいので好ましい。
【０１３５】
本発明の感光性組成物において、上記溶媒の使用量は、溶媒以外の組成物の濃度が５〜３０質量％になることが好ましく、５質量％より小さい場合、膜厚を厚くする事が困難であり所望の波長光を十分に吸収できないため好ましくなく、３０質量％を超える場合、組成物の析出による組成物の保存性が低下したり、粘度が向上したりするためハンドリングが低下するため好ましくない。
【０１３６】
本発明の感光性組成物の具体的な用途としては、光学フィルタ、塗料、コーティング剤、ライニング剤、接着剤、印刷版、絶縁ワニス、絶縁シート、積層板、プリント基盤、半導体装置用・ＬＥＤパッケージ用・液晶注入口用・有機ＥＬ用・光素子用・電気絶縁用・電子部品用・分離膜用等の封止剤、成形材料、パテ、ガラス繊維含浸剤、目止め剤、半導体用・太陽電池用等のパッシベーション膜、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）・液晶表示装置・有機ＥＬ表示装置・プリント基板等に用いられる層間絶縁膜、表面保護膜、プリント基板、或いはカラーテレビ、ＰＣモニタ、携帯情報端末、ＣＣＤイメージセンサのカラーフィルタ、プラズマ表示パネル用の電極材料、印刷インク、歯科用組成物、光造形用樹脂、液状及び乾燥膜の双方、微小機械部品、ガラス繊維ケーブルコーティング、ホログラフィ記録用材料、磁気記録材料、光スイッチ、めっき用マスク、エッチングマスク、スクリーン印刷用ステンシル、透明導電膜等のタッチパネル、ＭＥＭＳ素子、ナノインプリント材料、半導体パッケージの二次元及び三次元高密度実装等のフォトファブリケーション、加飾シート、人口爪、ガラス代替光学フィルム、電子ペーパー、光ディスク、プロジェクター・光通信用レーザー等に用いられるマイクロレンズアレイ、液晶表示装置のバックライトに使用されるプリズムレンズシート、プロジェクションテレビ等のスクリーンに使用されるフレネルレンズシート、レンチキュラーレンズシート等のレンズシートのレンズ部、又はこのようなシートを用いたバックライト等、マイクロレンズ・撮像用レンズ等の光学レンズ、光学素子、光コネクター、光導波路、絶縁用パッキング、熱収縮ゴムチューブ、Ｏ−リング、表示デバイス用シール剤、保護材、光ファイバー保護材、粘着剤、ダイボンディング剤、高放熱性材料、高耐熱シール材、太陽電池・燃料電池・二次電池用部材、電池用固体電解質、絶縁被覆材、複写機用感光ドラム、ガス分離膜、コンクリート保護材・ライニング・土壌注入剤・シーリング剤・蓄冷熱材・ガラスコーティング・発泡体等の土木・建築材料、チューブ・シール材・コーティング材料・滅菌処理装置用シール材・コンタクトレンズ・酸素富化膜、バイオチップ等の医療用材料、自動車部品、各種機械部品等の各種の用途に使用することができ、その用途に特に制限はない。
【実施例】
【０１３７】
以下、実施例等を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１３８】
［実施例１〜１１及び比較例１〜９］感光性組成物の製造及び評価
［表１］〜［表３］の配合に従い感光性組成物を調製した。これをガラス基板上に＃３のバーコーターで塗布した。これに、ベルトコンベア付き光照射装置を使用して８０Ｗ／ｃｍの高圧水銀灯の光を照射し、実施例１〜１１及び比較例１〜９の感光性組成物とし、以下に説明する評価を実施した。尚、ランプからベルトコンベアまでの距離は１０ｃｍ、ベルトコンベアのラインスピードは８ｍ／分とした。
【０１３９】
［実施例１２〜２３及び比較例１０〜１９］感光性組成物の製造及び評価
［表１］〜［表３］の配合に従い感光性組成物を調製した。これをガラス基板上にスピンコート（９００ｒｐｍ、１０秒間）し、ホットプレートを用いて、７０℃で、２０分間プリベークを行い、光源として高圧水銀ランプを用いて露光した。現像液として２．５質量％炭酸ナトリウム水溶液を用い、スピン現像機で４０秒間現像後、よく水洗し、オーブンを用いて、２３０℃で、６０分ポストベークを行いパターンを定着させて、実施例１２〜２３及び比較例１０〜１９の感光性組成物とし、以下に説明する評価を実施した。
【０１４０】
【表１】
2016038569.tif 000036
【０１４１】
【表２】
2016038569.tif 000037
【０１４２】
【表２Ａ】
2016038569.tif 000038
【０１４３】
【表３】
2016038569.tif 000039
【０１４４】
【表４】
2016038569.tif 000040
【０１４５】
Ａ−１    下記化合物Ｎｏ．１
Ａ−２    下記化合物Ｎｏ．２
Ａ−３    下記化合物Ｎｏ．３
Ａ−４    下記化合物Ｎｏ．４
Ａ−５    下記化合物Ｎｏ．５
Ｂ−１    テトラキス［メチレン−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン；フェノール系酸化防止剤
Ｂ−２    トリス（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ホスファイト：リン系酸化防止剤
Ｂ−３    ３，３’−チオビス−１，１’−ジトリデシルプロパン酸エステル：チオエーテル系酸化防止剤
Ｂ−４    ２−メチル−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジニル−２−プロペン酸エステル：光安定剤
Ｂ−５    ２，２’−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール：紫外線吸収剤
Ｃ−１    アデカオプトマーＳＰ−１５０
（光カチオン重合開始剤；ＡＤＥＫＡ社製）
Ｃ−２    ＮＣＩ−９３０（光ラジカル重合開始剤；ＡＤＥＫＡ社製）
Ｄ−１    ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキシル
Ｄ−２    １，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル
Ｄ−３    ＥＰ−４１００Ｅ（ＡＤＥＫＡ社製）
Ｄ−４    ＤＹ０２２（ナガセケムテックス社製）
Ｄ−５    ＳＰＣ−１０００（昭和電工社製、固形分２９％のＰＧＭＥＡ溶液）
Ｄ−６    カヤラッドＤＰＨＡ（多官能アクリレート；日本化薬社製）
Ｄ−７    プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセテート
【０１４６】
【化２３】
2016038569.tif 000041
【０１４７】
【化２４】
2016038569.tif 000042
【０１４８】
【化２５】
2016038569.tif 000043
【０１４９】
【化２６】
2016038569.tif 000044
【０１５０】
【化２６Ａ】
2016038569.tif 000045
【０１５１】
＜焼成による耐熱性評価＞
上記で得られた組成物を用い、別途、マスクを介さずに全面硬化させた塗膜を、２３０℃×２５０ｍｉｎの条件で焼成し、焼成後の塗膜の４００ｎｍにおける透過率を測定した。結果を［表１］〜［表３］に示す。
【０１５２】
上記結果より、本発明の感光性組成物は、潜在性酸化防止剤及び他の酸化剤を併用するため、焼成後も塗膜の透過率が高い、すなわち塗膜の熱劣化による黄変を防止しており、耐熱性が高いことは明らかである。