(57)【要約】【課題】加熱によって接着層を溶解又は軟化せしめることによって、シールを剥がして再利用するという不正行為を未然に防止し、仮にシールが剥がされて再利用されるという不正行為が行われてもその不正行為の発見を容易にする。【解決手段】本発明の貼り替え対策シールは、高分子樹脂材料を用いた支持体１上に、少なくとも、剥離層２、ＯＶＤ層３、接着層４を有し、該剥離層２と該ＯＶＤ層３との間に該接着層４よりも低温で軟化する中間層２３を全面又は部分的に有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子樹脂材料を用いた支持体上に、少なくとも、剥離層、ＯＶＤ層、接着層を有し、該剥離層と該ＯＶＤ層との間に該接着層の軟化よりも低温で軟化する中間層を全面又は部分的に有することを特徴とする貼り替え対策シール。
【請求項２】
前記中間層の軟化温度は温度４０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の貼り替え対策シール。
【請求項３】
前記接着層の材料は、感圧接着剤又は紫外線硬化樹脂からなることを特徴とする請求項１または２に記載の貼り替え対策シール。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項に記載の貼り替え対策シールを、前記接着層を介して物品に貼り付けてなり、前記貼り替え対策シールが全体的に又は部分的に破壊されることによって、該貼り替え対策シールが加熱により剥がされた痕跡が形成されることを特徴とする貼り替え対策シール付き物品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、封印シールや認証シールに代表されるシールの貼り替えという不正を未然に防止し、仮にその不正が為されたとしても、そのことを識別容易とする技術に関わる。本発明は、特には、ホログラムをはじめとする、光の照明方向や観察方向により色彩や画像が変化するＯＶＤ（Optical Variable Device）を、シールに装飾性と偽造防止効果を持たせる表示体として採用した貼り替え対策シールと、その貼り替え対策シールを貼り付けた物品とに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光の干渉を用いて立体画像や特殊な装飾画像を表現し得るＯＶＤ、例えば、ホログラムや回折格子、又は光学特性の異なる薄膜を多層に重ねることで見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じさせる多層薄膜は、その装飾性と偽造防止効果の高さとから、様々な分野において偽造防止アイテムとして利用されてきている。そして、ＯＶＤは、シールとしての用途は必ずしも限定されないが、スポーツ用品やコンピューター部品又は電気製品やソフトウェア製品等の商品に貼り付けられ、それら商品の真正さを証明する認証シールや、それらの商品のパッケージに貼り付けられる封印シールとしても広く使われるようになってきている。
【０００３】
これらＯＶＤを用いた認証シールや封印シールは、ＯＶＤの製造が難しいことから同じものを複製することは難しく、複製や模造を有効に防止可能である。しかしながら、本物からシールを剥がし、偽物に貼り替える偽造が行われる不安がある。この偽造手法に対し、以前からも様々な発明がなされている。特許文献１に記載されたシールは、構成の一部に脆質な材料を用いた層を設け、無理に剥がそうとするとその部分をきっかけとして破壊することを特徴としている。また、特許文献２では、剥がそうとすると、支持体だけが剥がれて、壊れるタイプのものが提案されている。さらに、特許文献３では、剥がすために加熱すると、接着層が発泡して壊れるタイプのものが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】登録実用新案第２０３２２５８号
【特許文献２】登録実用新案第２５９４３６７号
【特許文献３】特許第３９１５４７９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記のように、加熱によって接着層を溶解又は軟化せしめることによって、シールを剥がして再利用するという不正行為を未然に防止し、仮にシールが剥がされて再利用されるという不正行為が行われてもその不正行為の発見を容易にすることを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を達成するために、請求項１に記載の発明は、高分子樹脂材料を用いた支持体上に、少なくとも、剥離層、ＯＶＤ層、接着層を有し、該剥離層と該ＯＶＤ層との間に該接着層の軟化よりも低温で軟化する中間層を全面又は部分的に有することを特徴とする貼り替え対策シールとしたものである。
【０００７】
また、請求項２の発明は、前記中間層の軟化温度は４０℃以上１５０℃以下であることを特徴とする請求項１に記載の貼り替え対策シールとしたものである。
【０００８】
また、請求項３の発明は、前記接着層の材料は、感圧接着剤又は紫外線硬化樹脂からなることを特徴とする請求項１または２に記載の貼り替え対策シールとしたものである。
【０００９】
そして、請求項４の発明は、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の貼り替え対策シールを、前記接着層を介して物品に貼り付けてなり、前記貼り替え対策シールが全体的に又は部分的に破壊されることによって、該貼り替え対策シールが加熱により剥がされた痕跡が形成されることを特徴とする貼り替え対策シール付き物品としたものである。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の貼り替え対策シールは、熱を加え、接着層を軟化させ剥がそうと試みると、中間層も軟化し、ＯＶＤ層又はシール全体が破壊してしまう。それ故、熱による貼り替えを未然に防止することが可能であり、仮にシールが剥がされて再利用されるという不正行為が行われても、その不正行為は容易に発見できる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態に係るシールの基本構成例を表す断面図。
【図２】（Ａ）は、図１のシールを物品に貼り付けた状態であって、熱による不正な貼り替えが行われる前の状態を示す断面図、（Ｂ）は、（Ａ）のシールを熱により不正に貼り替えた後の状態を示す断面図。
【図３】（Ａ）は、ＯＶＤ層に他の構成を採用したシールを物品に貼り付けた状態であって、熱による不正な貼り替えが行われる前の状態を示す断面図、（Ｂ）は、（Ａ）のシールを熱により不正に貼り替えた後の状態を表す断面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施の形態を、図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
本発明の実施形態に係る貼り替え対策シールは、基本的には、図１に示すように、支持体１、剥離層２、中間層２３、ＯＶＤ層３、接着層４から構成される。ＯＶＤにレリーフ型のホログラムを用いる場合は、ＯＶＤ層３は、図に示すように、ＯＶＤ形成層３ａ、ＯＶＤ効果層３ｂから構成される。また、ＯＶＤに多層薄膜方式を用いる場合は、ＯＶＤ層３それ自体型層薄膜となる。
【００１４】
図２（Ａ）は、図１のシールを物品に貼り付けた状態であって、熱による不正な貼り替えが行われる前の状態を示す断面図である。図２（Ｂ）は、図２（Ａ）のシールを剥がすべく熱を与えたときに生じた中間層２３の破壊の状態を示す断面図である。
【００１５】
図３（Ａ）は、ＯＶＤ層に他の構成を採用したシールを物品に貼り付けた状態であって、熱による不正な貼り替えが行われる前の状態を示す断面図である。図３（Ｂ）は、図３（Ａ）のシールを剥がすべく熱を与えたときに生じた中間層２３の破壊の状態を示す断面図である。
【００１６】
なお、図１乃至３で、接着層４の図中での下側には、図示していないが物品が在り、貼り替え対策シールは接着層４を介してこの物品に接着してある。この物品と、これに貼り付けられた貼り替え対策シールとの組み合わせは、貼り替え対策シール付き物品を構成している。
【００１７】
図１の貼り替え対策シールは、剥離層２とＯＶＤ層３の間に熱によって軟化する中間層２３を有する。常温において不正に貼り替えを試みようとシールを剥がした場合は、剥離層２と支持体１との界面で支持体１が剥がれる。また、接着層４を軟化させて不正に貼り替えを試みようとして熱を与えると、中間層２３が接着層４よりも先に軟化し、その結果、シール全体の外観が変化する。このため、接着層４を介して物品に貼り付けた貼り替え対策シールを加熱して、これを貼り替えると、前記貼り替え対策シールが全体的に又は部分的に破壊されることに起因して、該貼り替え対策シールには加熱により剥がされたことを示す痕跡が形成される。この痕跡により不正に剥がされたことがわかるため、貼り替えされたものを検知することができる。従って、不正な貼り替えを防止できる。
【００１８】
図２及び図３の貼り替え対策シールは、全面又は部分的に、中間層２３を形成したものである。中間層２３は、熱を与えると接着層４よりも早く軟化するため、貼り替え対策シールの外観の変化、又はＯＶＤ層３そのものの分断を生じ、再び使用されることを未然に防止できる。
【００１９】
以降、これらの図に従い、詳細に実施形態を説明する。
支持体１は、シール加工時における熱圧で軟化変形しない耐熱性及び強度があれば良い。支持体１の材料としては、例えば、ポリ塩化ビニル、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリエチレン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂、天然樹脂、紙、合成紙などを、単独で又は組み合わせて使用することが可能である。また、上記の強靭なフィルムに柔らかい熱可塑性樹脂をコーティングし、この熱可塑性樹脂層上に、剥離層２、中間層２３、ＯＶＤ層３、及び任意に接着層４を含む積層体を設け、その後、フィルムを取り除くことで、熱可塑性樹脂層を支持体１として使用することも可能である。支持体１の厚みは、操作性、加工性を考慮し、２５乃至５０μｍ程度であることが好ましい。なお、典型的には、支持体１は、中間層２３よりも耐熱性が高い。
【００２０】
剥離層２は、特に常温においてシールを剥がそうとすると、全面又は部分的に剥離し、シールが破壊するように設けられる層である。剥離層２は、図１の構成例に限ること無く、適宜、各層間に設けることが可能である。なお、典型的には、剥離層２が軟化する温度は、中間層２３や接着層４が軟化する温度よりも高い。
【００２１】
剥離層２の材料は、層と層との間で剥がれる材料であれば、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、紫外線又は電子線硬化性樹脂のいずれであっても良い。その例として、熱可塑性ポリアクリル酸エステル樹脂、塩化ゴム系樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合樹脂、セルロース系樹脂、塩素化ポリプロピレン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエステル系樹脂、ニトロセルロース系樹脂、スチレンアクリレート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂等の熱可塑性樹脂や、ウレタン系硬化樹脂、メラミン硬化樹脂、エポキシ硬化樹脂等の熱硬化樹脂や、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）クリレート等の紫外線又は電子線硬化樹脂が挙げられる。
【００２２】
また、剥離性を考慮し、石油系ワックス、植物系ワックス等の各種ワックス、ステアリン酸等の高級脂肪酸の金属塩、シリコーンオイル等の離型剤や、テフロン（登録商標）パウダー、ポリエチレンパウダー、シリコーン系微粒子、アクリルニトリル系微粒子等の有機フィラー、又は、シリカ微粒子等の無機フィラーを添加し、層自体の凝集力を下げ、破壊しやすいようにすることもできる。この剥離層２は、支持体１と中間層２３との間や、ＯＶＤ層３と接着層４との間などに、全面又は部分的に設け、剥離時に破壊しやすいように設計することも可能である。
【００２３】
中間層２３は、常温では固体であって、加熱によって接着層４よりも低温で軟化し、貼り替え対策シールの外観の変化又はＯＶＤ層３そのものの分断を促し、再び使用されることを防止するための層である。
【００２４】
中間層２３の材料としては、温度の変化に伴って急激に粘度の変化をもたらす粘着付与剤（タッキファイヤー）が好ましく用いられる。あるいは、紫外線又は電子線硬化性樹脂に、粘着付与剤を添加した混合材料が好ましく用いられる。
【００２５】
粘着付与剤からなる中間層２３は、その軟化点温度以上に加熱すると軟化する。また、上記混合材料からなる中間層２３は、粘着付与剤の軟化温度以上に加熱すると、粘着付与剤が軟化し、軟化した粘着付与剤によって紫外線硬化性樹脂及び電子線硬化性樹脂などの高分子材料が膨潤する。その結果、急激な粘度の変化を生じる。一旦軟化した中間層２３は、なかなか結晶化しないので、低粘度の状態が長く続き、シールの破壊を生じさせやすい。
【００２６】
粘着付与剤は、粘着性を付与するもので、主にゴム系粘着剤に使用される。粘着付与剤は、通常、分子量が数百から数千の無定形オリゴマー（２量体以上、分子量約１万までの中分子重合体）であり、常温で液状又は固形の熱可塑性樹脂である。
【００２７】
また、粘着付与剤は、タッキファイヤーとも称され、通常は、ゴム状弾性体であるエラストマーに配合して粘着機能（タック）を増強させるための物質である。エラストマーに比べると分子量ははるかに小さく、ガラス転移温度は室温以上で、ゴム弾性を示さない樹脂類である。タッキファイヤーとしては、例えば、エステル系樹脂；エポキシ樹脂；天然樹脂であるロジン、ロジンから誘導される変性ロジン、ロジンのエステル化合物などのロジン系樹脂；α−ピネン重合体、β−ピネン重合体、ジテルペン重合体、α−ピネン−フェノール共重合体などのテルペン系樹脂；脂肪族系（Ｃ５系）、芳香族系（Ｃ９）、脂環族系（水素添加物）などの石油樹脂；その他、スチレン系樹脂、フェノール系樹脂、キシレン樹脂などが挙げられる。また、一種の分岐α−オレフィンをカチオン重合して得られる重合体や変性石油樹脂エマルジョンなどもある。
タッキファイヤーとして挙げられる上述の材料のうち、軟化温度が４０℃以上１５０℃以下のものは、貼り替え対策シールの通常の使用状態では軟化せず十分な密着性を保ち、貼り替え偽造をしようとする際の加熱温度で容易に軟化するため好ましい。換言すれば、４０℃未満では、貼り替え対策シールの通常の使用状態でも中間層２３が軟化してしまうおそれがあり、１５０℃より高い場合には、貼り替え時の加熱で軟化せず貼り替え防止できないおそれがある。
タッキファイヤーのガラス転移温度は、例えば、２５℃以上又は３０℃以上である。タッキファイヤーの軟化温度とガラス転移温度との差は小さいことが好ましい。タッキファイヤーの軟化温度とガラス転移温度との差が小さい場合、例えば、タッキファイヤーの軟化温度とガラス転移温度との差が０℃より大きく８０℃以下である場合、貼り替え対策シールを貼り替えるべく加熱し、その後、加熱を停止すると、タッキファイヤーは一旦軟化し、その後、ガラス転移温度以下になる。タッキファイヤーは、ガラス転移温度以下になると粘着力が低下する。そのため、この冷却過程で、タッキファイヤーの密着性が低下し、中間層２３とこれに隣接した層との間で層間剥離を生じる。従って、貼り替えを防止できる。軟化温度とガラス転移温度との差が大きい場合には、加熱後においても密着性を維持してしまい、貼り替えを防止できないおそれがある。なお、ガラス転移温度と軟化温度とが等しい場合には、ポリマーとしての接着性を有せず好ましくない。
また、タッキファイヤーの平均分子量が１００００以下であれば、タック性を発現しやすく好ましい。
【００２８】
上述の樹脂のうちエステル系樹脂またはエポキシ樹脂は、上述の軟化温度、軟化温度とガラス転移温度との差、平均分子量を得られやすいため特に好ましく用いられる。
上記混合材料において、タッキファイヤーの固形分の量は、紫外線又は電子線硬化性樹脂１００質量部に対して、例えば１０乃至３０質量部の範囲内とする。
【００２９】
中間層２３の厚みは、２乃至５μｍの範囲内にあることが好ましい。中間層２３を十分に厚く形成した場合、加熱前後でのシールの外観の変化を目視で容易に判別できる。但し、中間層２３が過剰に厚い場合、シールを加熱したときに、中間層２３の軟化に比較的長い時間を要する。そのため、この場合、中間層２３が十分に軟化するよりも前に、接着層４が少なくとも部分的に軟化し、破壊を生じさせることなしに、シールを剥離可能となる可能性がある。
【００３０】
次にＯＶＤ層３に関して説明する。
ＯＶＤは、光の回折干渉を利用した素子であり、立体画像の表現や見る角度により色が変化するカラーシフトを生じさせる表示体とすることができる。その中でホログラムや回折格子のごときＯＶＤとしては、図３に示すように光の干渉縞を微細な凹凸パターンとして平面に記録するレリーフ型や、体積方向に干渉縞を記録する体積型が挙げられる。一方、ホログラムや回折格子と手法が異なり、図２に示すように、光学特性の異なるセラミックスや金属材料の薄膜を積層し、見る角度により色の変化（カラーシフト）を生じる多層薄膜方式もある。一般に、これらのＯＶＤが広く利用されている。以後、ＯＶＤ層３にレリーフ型ホログラムを用いる場合と多層薄膜方式を用いる場合とを順に説明する。
【００３１】
レリーフ型のホログラム(回折格子)は、光学的な撮影方式により微細な凹凸パターンからなるレリーフ型のマスター版を作製し、電気メッキ法によりパターンを複製したニッケル製のプレス版にて量産を行う。すなわち、このプレス版をＯＶＤ形成層３ａに押し当て、紫外線又は電子線を照射することで凹凸パターンを複製する。
【００３２】
ＯＶＤ形成層３ａは、プレス版にて成形可能であるという性能が要求され、その材質は紫外線又は電子線硬化樹脂のいずれであっても良い。例を挙げれば、エポキシ（メタ）アクリル、ウレタン（メタ）アクリレート等の紫外線又は電子線硬化樹脂を単独もしくはこれらを複合して使用できる。また上記以外のものであっても、ＯＶＤ画像を形成可能である公知の材料であれば、使用可能である。
【００３３】
フォトポリマー法におけるＯＶＤ形成層３ａの材料としては、エチレン性不飽和結合、又はエチレン性不飽和基を持つモノマー、オリゴマー、ポリマー等を使用することができる。
【００３４】
モノマーとしては、例えば、１，６−ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等が挙げられる。オリゴマーとしては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート等が挙げられる。ポリマーとしては、ウレタン変性アクリル樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂が挙げられるがこの限りでない。
【００３５】
また、光カチオン重合を利用する場合には、エポキシ基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマー、オキセタン骨格含有化合物、ビニルエーテル類を使用することができる。また、上記の電離放射線硬化性樹脂は、紫外線等の光によって硬化させる場合には、光重合開始剤を添加することができる。樹脂に応じて、光ラジカル重合開始剤、光カチオン重合開始剤、その併用型（ハイブリッド型）を選定することができる。
【００３６】
また、エチレン性不飽和結合又はエチレン性不飽和基を持つモノマー、オリゴマー、ポリマー等を混合して使用することもできる。また、これらモノマー等に予め反応基を設けておき、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で互いに架橋することも可能である。されにこれらモノマー等に予め反応基を設けておき、イソシアネート化合物、シランカップリング剤、有機チタネート架橋材、有機ジルコニウム架橋剤、有機アルミネート等で、その他の樹脂骨格と架橋することも可能である。このような方法であれば、エチレン性不飽和結合又はエチレン製不飽和基をもつポリマーであって、常温で固形で存在し、タックが少ないために、成形性が良く原版汚れの少ないポリマーを得ることも可能である。
【００３７】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル等のベンゾイン系化合物、アントラキノン、メチルアントラキノン等のアントラキノン系化合物、アセトフェノン、ジエトキシアセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、α−アミノアセトフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノプロパン−１−オン等のフェニルケトン系化合物、ベンジルジメチルケタール、チオキサントン、アシルホスフィンオキサイド、ミヒラーズケトン等を挙げることができる。
【００３８】
光カチオン重合可能な化合物を使用する場合の光カチオン重合開始剤としては、芳香族ジアゾニウム塩、芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩、芳香族ホスホニウム塩、混合配位子金属塩等を使用することができる。光ラジカル重合と光カチオン重合を併用する、いわゆるハイブリッド型材料の場合、それぞれの重合開始剤を混合して使用することができ、また、一種の開始剤で双方の重合を開始させる機能をもつ芳香族ヨードニウム塩、芳香族スルホニウム塩等を使用することができる。
【００３９】
放射線硬化樹脂と光重合開始剤との配合は、材料によって適宜処方すればよいが、一般に、光重合開始剤は０．１乃至１５質量％配合する。樹脂組成物においては、さらに、光重合開始剤と組み合わせて増感色素を併用してもよい。また、この組成物は、必要に応じて、染料、顔料、各種添加剤（重合禁止剤、レベリング剤、消泡剤、タレ止め剤、付着向上剤、塗面改質剤、可塑剤、含窒素化合物など）、架橋剤（例えば、エポキシ樹脂など）、などを含んでいてもよく、また、成形性向上のために非反応性の樹脂（前述の熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を含む）を添加しても良い。
【００４０】
ＯＶＤ効果層３ｂは、ＯＶＤ画像の回折効率を高めるためレリーフ面を構成する高分子材料と屈折率の異なる材料からなる。用いる材料としては、屈折率の異なるＴｉＯ2、Ｓｉ2Ｏ3、ＳｉＯ、Ｆｅ2Ｏ3、ＺｎＳなどの高屈折率材料や、より反射効果の高いＡｌ、Ｓｎ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ａｕ等の金属材料が挙げられ、これら材料を単独又は積層して使用できる。これらの材料は真空蒸着法、スパッタリング等の公知の薄膜形成技術にて形成され、その膜厚は用途によって異なるが、５０乃至１００００Å程度で形成される。
【００４１】
なお、図３では、ＯＶＤ効果層３ｂは、ＯＶＤ形成層３ａのレリーフ構造を形成した面の裏面に設けている。ＯＶＤ効果層３ｂは、ＯＶＤ形成層３ａのレリーフ構造を形成した面に設けてもよい。
【００４２】
これらＯＶＤ効果層３ｂは、任意の部分を抜いて形成することや、任意の部分を除去することも可能である。以下に、ＯＶＤ効果層３ｂを部分的に設ける手法の例を挙げる。
【００４３】
まず、ＯＶＤ形成層３ａに水溶性樹脂を用いたインキでパターンを印刷しておき、ＯＶＤ効果層３ｂを設けた後、水溶性インキ部分を洗浄する手法が挙げられる。また、ＯＶＤ効果層３ｂを設けた後にマスキング印刷を施し、その後、アルカリ又は酸性の薬品にてＯＶＤ効果層３ｂを部分的に溶解し除去する手法も使用可能である。これら以外の手法でも、レーザー除去法等の公知の手法であれば適宜使用可能である。このように、ＯＶＤ効果層３ｂを部分的に設けることにより、意匠性の向上を図ることができる。
【００４４】
また、紫外線や電子線で硬化を促す接着剤等を接着層４に使用した際、ＯＶＤ効果層３ｂがある部分では光が通らず、硬化が望めないが、ＯＶＤ効果層３ｂが無い部分では光が通り硬化することが可能である。この構成は、剥がすとき、一部は剥がれやすく、一部は剥がれにくい部分が生じ、部分的に破壊される効果も期待できる。
【００４５】
一方、多層薄膜方式を用いる場合、前述したように、ＯＶＤ層３は、異なる光学適性を有する多層薄膜層からなり、金属薄膜、セラミックス薄膜又はそれらを併設してなる複合薄膜として積層形成される。例えば、屈折率の異なる薄膜を積層する場合、高屈折率の薄膜と低屈折率の薄膜とを組み合わせても良く、また、特定の組み合わせを交互に積層するようにしても良い。それらの組み合わせにより、所望の多層薄膜を得ることができる。
【００４６】
この多層薄膜層は、セラミックスや金属などの材料を用いられ、おおよそ２つ以上の高屈折材料と屈折率が１．５程度の低屈折率材料とを所定の膜厚で積層したものである。表１に、用いられる材料の一例を挙げる。
【００４７】
【表１】
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【００４８】
表１に示した材料の他に、単体金属又は合金、例えばＡｌ、Ｆｅ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｓｉ等が挙げられる。また、低屈折率の有機ポリマーとしては、例えばポリエチレン（１．５１）、ポリプロピレン（１．４９）、ポリテトラフロロエチレン（１．３５）、ポリメチルメタアクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．６０）等がある。なお、括弧書きした数値は、その直前に記載した材料の屈折率である。
【００４９】
これらの高屈折率材料からなる層及び透過率が３０乃至６０％の金属薄膜の少なくとも一種と、低屈折率材料からなる層の少なくとも一種とを選択し、所定の厚さで交互に積層させる事により、特定の波長の可視光に対する吸収又は反射を示すようになる。
【００５０】
上記した各材料から、屈折率、反射率、透過率等の光学特性や耐候性、層間密着性などに基づき適宜選択し、薄膜として積層して、多層薄膜を形成する。この形成には、公知の手法を用いることができ、例えば、膜厚、成膜速度、積層数、又は光学膜厚(＝ｎ・ｄ；ｎは屈折率、ｄは膜厚)などの制御が可能な、通常の真空蒸着法やスパッタリング法を用いることができる。
【００５１】
なお、典型的には、ＯＶＤ層３又はその一部が軟化する温度は、中間層２３や接着層４が軟化する温度よりも高い。
【００５２】
接着層４は、貼り替え対策シールを被着体である物品に貼り付け、固定するための層である。接着層４の材料としては、圧力により接着する感圧タイプの接着剤やＵＶ活性化型の樹脂が挙げられる。
【００５３】
接着層４が軟化する温度は、中間層２３が軟化する温度よりも高く、典型的には、剥離層２やＯＶＤ層３が軟化する温度よりも低い。接着層４は、１１０乃至２００℃の温度に加熱した場合に軟化するものであることが好ましい。
【００５４】
なお、上述した構成は基本的な構成であり、各層を着色したり、層間に印刷層を設けて、意匠性を向上させることや、紫外線・赤外線発光インキや赤外線吸収インキ等の公知の偽造防止インキを用いて接着層を形成し、偽造防止効果を高めることも適宜目的に応じて適用可能である。さらには、剥がそうとした場合に千切れやすくし、これにより剥離を試みられにくくするために、シールに切り込みを付加することも可能である。
【実施例】
【００５５】
以下に、本発明の実施例を具体的かつ詳細に説明する。
＜実施例＞
まず、厚み２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムから成る支持体１に、下記組成の塗料をグラビア法により塗布して、厚み１μｍの剥離層２と、厚み２μｍの中間層２３と、厚み５μｍのＯＶＤ形成層３ａとを形成した。次いで、ロールエンボス法によりＯＶＤレリーフパターンをＯＶＤ形成層３ａ上に形成し、真空蒸着法を用いてＯＶＤ効果層３ｂとして膜厚０．０５μｍのＡｌ蒸着薄膜を設けた。その後、ＯＶＤ効果層３ｂ上に下記配合の塗料をコンマコート法にてコートし、続いて、ベルトコンベア式の紫外線照射装置を使用し、接着剤塗料をコートした支持体１を５ｍ／ｍｉｎの速度で搬送しながら、塗膜に１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。これにより、厚み２０μｍの接着層４を形成した。その後、接着層４に離型紙（図示せず）をラミネートして、図３（Ａ）に示す貼り替え対策シールを作製した。
【００５６】
［剥離層塗料］
アクリル樹脂・・・・・・・・・・・・・１５部
メチルエチルケトン・・・・・・・・・・５５部
トルエン・・・・・・・・・・・・・・・３０部
［中間層塗料］
熱可塑性飽和共重合ポリエステル樹脂・・５０部
（軟化温度６３℃、ガラス転移温度４０℃）
メチルエチルケトン・・・・・・・・・・５０部
［ＯＶＤ形成層塗料］
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体・・・・１５部
ウレタン樹脂・・・・・・・・・・・・・１０部
メチルエチルケトン・・・・・・・・・・５０部
トルエン・・・・・・・・・・・・・・・２５部
［接着層塗料］
紫外線活性化型ウレタンアクリレート系樹脂（軟化温度１１０℃）・・６０部
酢酸エチル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０部
【００５７】
＜比較例＞
厚み２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムから成る支持体１に、下記組成の塗料をグラビア法により塗布して、厚み１μｍの剥離層２と、厚み５μｍのＯＶＤ形成層３ａとを形成した。次いで、ロールエンボス法によりＯＶＤレリーフパターンをＯＶＤ形成層３ａ上に形成し、真空蒸着法を用いてＯＶＤ効果層３ｂとして膜厚０．０５μｍのＡｌ蒸着薄膜を設けた。その後、ＯＶＤ効果層３ｂ上に下記配合の塗料をコンマコート法にてコートし、続いて、ベルトコンベア式の紫外線照射装置を使用し、接着剤塗料をコートした支持体１を５ｍ／ｍｉｎの速度で搬送しながら、塗膜に１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射した。これにより、厚み２０μｍの接着層４を形成した。その後、接着層４に離型紙（図示せず）をラミネートして、貼り替え対策シールを作製した。
【００５８】
［剥離層塗料］
アクリル樹脂・・・・・・・・・・・・・１５部
メチルエチルケトン・・・・・・・・・・５５部
トルエン・・・・・・・・・・・・・・・３０部
［ＯＶＤ形成層塗料］
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体・・・・１５部
ウレタン樹脂・・・・・・・・・・・・・１０部
メチルエチルケトン・・・・・・・・・・５０部
トルエン・・・・・・・・・・・・・・・２５部
［接着層塗料］
紫外線活性化型ウレタンアクリレート系樹脂（軟化温度１１０℃）・・６０部
酢酸エチル・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・・４０部
【００５９】
以上のようにして得られた実施例及び比較例の貼り替え対策シールを、被着体であるダンボール紙に貼りつけた。次いで、これらを熱版上に置き、加熱しながらシール剥がしを試みた。  
表２にそれらの結果を示す。
【００６０】
【表２】
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【符号の説明】
【００６１】
１…支持体、２…剥離層、３…ＯＶＤ層、３ａ…ＯＶＤ形成層、３ｂ…ＯＶＤ効果層、２３…中間層、４…接着層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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