(57)【要約】      （修正有）【課題】透明性に優れ、青色レーザ、青色ＬＥＤ等の短波長光線の導波に対しても良好な透明性を維持する光導波路を提供する。【解決手段】（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤及び（Ｅ）酸化防止剤を含有する光導波路形成用樹脂組成物であって、（Ｄ）成分がヒンダードアミン化合物であり、一般式（１）で表される構造を有する。2016114672.tif 000027【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤及び（Ｅ）酸化防止剤を含有する光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項２】
前記（Ｄ）成分がヒンダードアミン化合物であり、下記一般式（１）で表される構造を有するものである請求項１に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【化１】
2016114672.tif 000023
（ただし、Ｒ１は、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基である。）
【請求項３】
前記（Ｄ）成分がその分子中にエチレン性不飽和基を含む化合物である請求項１又は２に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項４】
前記（Ｄ）成分の光安定剤の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である請求項１〜３のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項５】
前記（Ｅ）成分がヒンダードフェノール系酸化防止剤である請求項１〜４のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項６】
前記（Ｅ）成分がメチル基とｔ−ブチル基を同一芳香環上に１つずつ有するフェノール基を１分子中に一つ以上有する化合物である請求項１〜５のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項７】
前記（Ｅ）成分が、下記式（２）
【化２】
2016114672.tif 000024
（Ｘは、化３及び化４のいずれかである。）
【化３】
2016114672.tif 000025
【化４】
2016114672.tif 000026
で示される請求項６に記載の感光性樹脂組成物。
【請求項８】
前記（Ｅ）成分の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である請求項１〜７のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項９】
（Ａ）ポリマーが、水酸基及びカルボキシル基を有するアルカリ可溶性ポリマーであり、（Ｂ）重合性化合物が、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である請求項１〜８のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１０】
（Ａ）成分の水酸基及びカルボキシル基を有するアルカリ可溶性ポリマーの重量平均分子量が、１，０００〜３，０００，０００である請求項９に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１１】
（Ａ）成分の水酸基及びカルボキシル基を有するアルカリ可溶性ポリマーが、側鎖に脂肪族環又は芳香族環を有するポリマーである請求項９又は１０に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１２】
（Ｂ）重合性化合物が、その分子中に脂肪族環又は芳香族環を含む化合物である請求項１〜１１のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１３】
（Ｂ）重合性化合物が、その分子中にビスフェノール骨格を有する化合物である請求項１２に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１４】
（Ａ）成分のポリマーの含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、（Ｂ）成分の重合性化合物の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１５〜９０質量％であり、（Ｃ）成分の重合開始剤の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して０．３〜１０質量部である請求項１〜１３のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【請求項１５】
請求項１〜１４のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて得られる樹脂層を含む光導波路形成用樹脂フィルム。
【請求項１６】
基材フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造である請求項１５に記載の光導波路形成用樹脂フィルム。
【請求項１７】
下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを、請求項１〜１４のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物又は請求項１５若しくは１６に記載の光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路。
【請求項１８】
前記光導波路形成用樹脂組成物又は前記光導波路形成用樹脂フィルムを前記コア部として用いた請求項１７に記載の光導波路。
【請求項１９】
波長４４５ｎｍにおける光伝搬損失が、２．０ｄＢ／ｃｍ以下である請求項１７又は１８のいずれかに記載の光導波路。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光導波路形成用樹脂組成物、光導波路形成用樹脂フィルム及びそれらを用いた光導波路に関し、可視領域での透明性（低光伝搬損失）に優れ、更に詳しくは、青色レーザ、青色ＬＥＤ等の短波長光線の導波に対しても良好な透明性を維持する光導波路形成用樹脂組成物、この樹脂組成物を用いて得られる光導波路形成用樹脂フィルム及びそれらを用いた光導波路に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電子機器、特に携帯用機器やウェアラブル端末などは、小型・軽量化と多機能化が求められている。例えば、内視鏡、ピコプロジェクタ、ヘッドマウントディスプレイ（めがね形状の画像投影装置）等の、小型で、高精細な画像を要求される機器では、レーザやＬＥＤなどの、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）及びＢ（青）の三原色光を、鏡やレンズを用いて一点に集光し、光源としている。しかしながら、これらの方法は、各発光素子に対して鏡やレンズを精度よく配置して固定する手段が必要になり、実装部品数が多くなるため、光源装置が大きく、重く、コスト高になる問題点がある。また、その製造には、各部品を精度よく実装するために、手間のかかるアライメント工程が必要になり、生産性が低く、大量生産には不向きで、この点からもコスト高になる問題点がある。
【０００３】
このような背景から、特許文献１、２のような、光導波路を用いて波長が異なる複数の光を合波又は分波する光合波分波器が提案されており、光源モジュールに光導波路を組み込むことが検討されている。さらに、その中でもポリマー光導波路を用いたデバイスは、加工性に優れ、かつ比較的自由に配線パターン及び構造形成が可能であることから、これらの用途に最適であると考えられる。
【０００４】
光源モジュールに用いられるポリマー光導波路に対しては、適用される機器の使用環境の観点から可視光波長領域において高い透明性を有することが求められ、中でも青色の短波長領域のレーザ、LED光を導波しても着色等の樹脂劣化が起こらず、低光伝搬損失であることが必要である。また、デバイスの高機能化、工程簡略化等の要求に従い、露光、現像により、要求されるパターンを自由に形成可能な材料であることが望まれている。現像方法としては溶剤現像型とアルカリ現像型が想定されるが、環境負荷、安全性の観点からアルカリ現像型が望まれている。このような要望に対応する光導波路材として、（メタ）アクリル重合体を使用したもの（例えば、特許文献２参照）が知られている。
【０００５】
この特許文献に記載の（メタ）アクリル重合体を使用した光導波路用樹脂組成物は、アルカリ現像可能であり、光重合開始剤の量を限定することで、波長４０５ｎｍにおいて１．０ｄＢ／ｃｍ以下の光伝搬損失を達成しているものの、樹脂材料に対して悪影響が考えられる、青色レーザ、ＬＥＤのような短波長光線の導波に対する挙動や影響については具体的な記述もなく、明らかではない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００６−３６７３号公報
【特許文献２】特開２０１３−２９７２１号公報
【特許文献３】特開２００６−６３２８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、前記のような現状を鑑みなされたもので、可視領域での透明性（低光伝搬損失）に優れ、青色レーザ、青色ＬＥＤ等の短波長光線導波に対しても良好な透明性を維持すると共に、アルカリ性水溶液に可溶で、アルカリ現像によって要求されるパターニングが可能である光導波路用樹脂組成物、光導波路用樹脂フィルム及びこれらを用いた光導波路を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは鋭意検討を重ねた結果、（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤、及び（Ｅ）酸化防止剤を含有してなる化合物を用いることにより、上記課題を解決することを見出し、本発明に至った。
【０００９】
即ち、本発明は、次の各項の発明に関するものである。
（１）（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤及び（Ｅ）酸化防止剤を含有する光導波路形成用樹脂組成物。
（２）前記（Ｄ）成分がヒンダードアミン化合物であり、下記一般式（１）で表される構造を有するものである前記（１）に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【００１０】
【化１】
2016114672.tif 000002
（ただし、Ｒ１は、水素原子、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜１０の直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基である。）
【００１１】
（３）前記（Ｄ）成分がその分子中にエチレン性不飽和基を含む化合物である前記（１）又は（２）に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
（４）前記（Ｄ）成分の光安定剤の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である前記（１）〜（３）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【００１２】
（５）前記（Ｅ）成分がヒンダードフェノール系酸化防止剤である前記（１）〜（４）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
（６）前記（Ｅ）成分がメチル基とｔ−ブチル基を同一芳香環上に１つずつ有するフェノール基を１分子中に一つ以上有する化合物である前記（１）〜（５）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【００１３】
（７）前記（Ｅ）成分が、下記式（２）
【００１４】
【化２】
2016114672.tif 000003
（Ｘは、化３及び化４のいずれかである。）
【００１５】
【化３】
2016114672.tif 000004
【００１６】
【化４】
2016114672.tif 000005
で示される前記（６）に記載の感光性樹脂組成物。
【００１７】
（８）  前記（Ｅ）成分の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部である前記（１）〜（７）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
（９）（Ａ）ポリマーが、水酸基及びカルボキシル基を有するアルカリ可溶性ポリマーであり、（Ｂ）重合性化合物が、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物である前記（１）〜（８）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【００１８】
（１０）（Ａ）成分の水酸基及びカルボキシル基を有するポリマーの重量平均分子量が、１，０００〜３，０００，０００である前記（９）に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
（１１）（Ａ）成分の水酸基及びカルボキシル基を有するポリマーが、側鎖に脂肪族環又は芳香族環を有するポリマーである前記（９）又は（１０）に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【００１９】
（１２）（Ｂ）重合性化合物が、その分子中に脂肪族環又は芳香族環を含む化合物である前記（１）〜（１１）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
（１３）（Ｂ）重合性化合物が、その分子中にビスフェノール骨格を有する化合物である前記（１２）に記載の光導波路形成用樹脂組成物。
【００２０】
（１４）（Ａ）成分のポリマーの含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１０〜８５質量％であり、（Ｂ）成分の重合性化合物の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して１５〜９０質量％であり、（Ｃ）成分の重合開始剤の含有量が（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．３〜１０質量部である前記（１）〜（１３）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物。
（１５）前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物を用いて得られる樹脂層を含む光導波路形成用樹脂フィルム。
【００２１】
（１６）基材フィルム、樹脂層、及び保護フィルムからなる３層構造である前記（１５）に記載の光導波路形成用樹脂フィルム。
（１７）下部クラッド層、コア部、及び上部クラッド層の少なくとも１つを、前記（１）〜（１４）のいずれかに記載の光導波路形成用樹脂組成物又は前記（１５）若しくは（１６）に記載の光導波路形成用樹脂フィルムを用いて形成した光導波路。
【００２２】
（１８）前記光導波路形成用樹脂組成物又は前記光導波路形成用樹脂フィルムを前記コア部として用いた前記（１７）に記載の光導波路。
（１９）波長４４５ｎｍにおける光伝搬損失が、２．０ｄＢ／ｃｍ以下である前記（１７）又は（１８）のいずれかに記載の光導波路。
【発明の効果】
【００２３】
本発明の光導波路用樹脂組成物及びこれを用いて得られる光導波路用樹脂フィルム、光導波路は、可視領域での透明性に優れ、低光伝搬損失であり、青色レーザ、青色ＬＥＤ等の短波長光線導波に対しても優れた透明性、光伝搬損失を維持できる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の光導波路の構成例を示す断面図である。
【図２】本発明の光導波路形成用樹脂フィルムを、下部クラッド層、コア部及び上部クラッド層に用いて光導波路を形成する光導波路の製造法を示す工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤、及び（Ｅ）酸化防止剤を含むものである。
以下、本発明の光導波路形成用組成物の各成分について詳述する。
【００２６】
（Ａ）成分について
（Ａ）成分のポリマーとしては、アルカリ可溶性であることが好ましく、アルカリ可溶性ポリマーとは、アルカリ可溶性基（例えば、カルボキシル基、スルホン酸基、フェノール性水酸基、アルコール性水酸基、アミノ基等）を有するポリマーであり、アルカリ水溶液に対して溶解し得るものであればよい。このようなポリマーに特に制限は無いが、アルカリ可溶性の（メタ）アクリルポリマーが好ましい。また、アルカリ可溶性基としては、水酸基及びカルボキシル基が好ましい。
【００２７】
なお、（メタ）アクリルとは、アクリル及び／又はメタクリルを意味し、（メタ）アクリレートとはアクリレート又はメタクリレートを意味する。
（Ａ）アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーとしては、アルカリ性水溶液からなる現像液に溶解し、目的とする現像処理が遂行される程度に溶解性を有するものであれば特に制限はない。例えば、（メタ）アクリル酸、各種（メタ）アクリル酸エステル（（メタ）アクリルアルキルエステル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシアルキルエステル等）、（メタ）アクリルアミド等の（メタ）アクリル系モノマー、これらと他の重合性不飽和基含有モノマー（スチレン、αメチルスチレン、マレイン酸無水物）等の重合体が好ましいものとして挙げられる。
【００２８】
具体的には（Ａ−１）カルボキシル基を有する重合性化合物に由来する構造単位、（Ａ−２）水酸基を有する重合性化合物に由来する構造単位、（Ａ−３）脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物に由来する構造単位、並びに（Ａ−４）前記（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）以外の重合性化合物に由来する構造単位を有するポリマーであることが好ましい。
【００２９】
（Ａ）成分の（Ａ−１）成分について
前記（Ａ−１）カルボキシル基を有する重合性化合物としては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸等のモノカルボン酸；マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、メサコン酸、イタコン酸等のジカルボン酸；２−サクシノロイルエチル（メタ）アクリレート、２−マレイノロイルエチル（メタ）アクリレート、２−ヘキサヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレート等のカルボキシル基及びエステル結合を有する（メタ）アクリル酸誘導体などが使用できる。これらの化合物は単独、もしくは２種以上を組み合わせて使用できる。これらの中ではアクリル酸、メタクリル酸、２−ヘキサヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレートが好ましく、さらに好ましくはアクリル酸やメタクリル酸である。
【００３０】
（Ａ）成分の（Ａ−２）成分について
（Ａ−２）水酸基を有する重合性化合物としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００３１】
これらの中でも、透明性の観点から２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３２】
（Ａ）成分の（Ａ−３）成分について
前記（Ａ−３）脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物としては、例えば、シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）ヘキサヒドロフタレート等の脂環式（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイロキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、２−（メタ）アクリロイロキシエチル−Ｎ−カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート、これらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
【００３３】
これらの中でも透明性及び屈折率の観点から、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、シクロペンチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレートベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレートであることが好ましい。
これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３４】
（Ａ）成分の（Ａ−４）成分について
前記（Ａ−４）の重合性化合物は、主としてポリマー（Ａ）の機械的特性、透明性、屈折率をコントロールする目的で使用する。
このような重合性化合物（Ａ−４）としては、（メタ）アクリル酸エステル（特に好ましくは（メタ）アクリルアルキルエステル）が好ましく、具体的には、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、イソアミル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレートなどが挙げられる。これらの中でも透明性の観点から、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレートが好ましい。これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００３５】
（Ａ）成分の前記アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいてカルボキシル基を有する重合性化合物（Ａ−１）に由来する構造単位の含有率は、３〜６０質量％であることが好ましい。３質量％以上であるとアルカリ性水溶液等からなる現像液に溶解し易く、６０質量％以下であれば後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する現像工程において、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が良好である。以上の観点から、５〜５０質量％であることがさらに好ましく、１０〜４０質量％であることが特に好ましい。
【００３６】
（Ａ）成分の前記アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいて水酸基を有する重合性化合物由来の構造単位（Ａ−２）の含有率は、３〜５０質量％であることが好ましい。３質量％以上であるとアルカリ性水溶液等からなる現像液に溶解し易く、５０質量％以下であれば後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する現像工程において、耐現像液性（現像により除去されずにパターンとなる部分が、現像液によって侵されない性質）が良好である。以上の観点から、５〜３５質量％であることがさらに好ましく、１０〜３０質量％であることが特に好ましい。
【００３７】
（Ａ）前記アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいて脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物由来の構造単位（Ａ−３）の含有率は、５〜７０質量％であることが好ましい。５質量％以上であると屈折率を上昇させるのに充分であり、７０質量％以下であれば、より高屈折率となり、現像液への溶解性が低下せずに現像によるパターン形成が容易となる。以上の観点から、１０〜６０質量％であることがさらに好ましく、１５〜５０質量％であることが特に好ましい。
【００３８】
（Ａ）前記アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいて前記（Ａ−１）、（Ａ−２）、及び（Ａ−３）以外の重合性化合物に由来する構造単位（Ａ−４）の含有率は、（Ａ−１）、（Ａ−２）及び（Ａ−３）とともに全体が１００質量％となる量であるが、ポリマー（Ａ）の機械的特性、透明性、屈折率をコントロールすることを考慮すると、この含有率は、５〜８０質量％（同じ値にいたしました）であることが好ましい。５質量％以上であると透明性が充分であり、８０質量％以下であれば、より高透明となり、現像液への溶解性が低下せずに現像によるパターン形成が容易となる。以上の観点から、１０〜６０質量％であることがさらに好ましく、１５〜５０質量％であることが特に好ましい。
以上のように、（Ａ）成分の前記アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーにおいて前記構成単位（Ａ−１）、（Ａ−２）、（Ａ−３）及び（Ａ−４）の含有率は、上記の各構成単位の含有率から、全体で１００質量％となるように選択される。
【００３９】
（Ａ）成分のアルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、その合成方法に特に制限はないが、例えば、構造単位（Ａ−１）の原料となるカルボキシル基を有する重合性化合物、構造単位（Ａ−２）の原料となる水酸基を有する重合性化合物、及び構造単位（Ａ−３）の原料となる脂肪族環又は芳香族環を有する重合性化合物、（Ａ−４）の原料となる重合性化合物と適切な重合開始剤（好ましくはラジカル重合開始剤）とを用いて共重合させることにより得ることができる。このとき、必要に応じて有機溶剤を反応溶媒として用いることができる。
【００４０】
本発明において用いられる重合開始剤としては、特に制限はなく、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物などが挙げられる。
【００４１】
前記の反応溶媒として用いる有機溶剤としては、（Ａ）アルカリ可溶性ポリマーを溶解しえるものであれば、特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００４２】
さらに（Ａ）アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、必要に応じて側鎖にエチレン性不飽和基を含んでいてもよい。その組成や合成方法に特に制限はないが、例えば上記の（Ａ）（メタ）アクリルポリマーに、少なくとも１つのエチレン性不飽和基とエポキシ基、オキセタニル基、イソシアネート基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等の１つの官能基を有する化合物とを付加反応させて側鎖にエチレン性不飽和基を導入することができる。
【００４３】
これらの化合物としては特に制限はなく、グリシジル（メタ）アクリレート、α−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、α−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、α−ブチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−メチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−エチルグリシジル（メタ）アクリレート、２−プロピルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシブチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、α−エチル−６，７−エポキシヘプチル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ｏ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｍ−ビニルベンジルグリシジルエーテル、ｐ−ビニルベンジルグリシジルエーテル等のエチレン性不飽和基とエポキシ基を有する化合物；（２−エチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、（２−メチル−２−オキセタニル）メチル（メタ）アクリレート、２−（２−エチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、２−（２−メチル−２−オキセタニル）エチル（メタ）アクリレート、３−（２−エチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート、３−（２−メチル−２−オキセタニル）プロピル（メタ）アクリレート等のエチレン性不飽和基とオキセタニル基を有する化合物；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート等のエチレン性不飽和基とイソシアネート基を有する化合物；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のエチレン性不飽和基とヒドロキシル基を有する化合物；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、ケイ皮酸、コハク酸（２−（メタ）アクリロイロキシエチル）、２−フタロイルエチル（メタ）アクリレート、２−テトラヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレート、２−ヘキサヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレート、ω−カルボキシ−ポリカプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、３−ビニル安息香酸、４−ビニル安息香酸等のエチレン性不飽和基とカルボキシル基を有する化合物などが挙げられる。
【００４４】
これらの中でも透明性及び反応性の観点から、グリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、イソシアン酸エチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、２−ヘキサヒドロフタロイルエチル（メタ）アクリレートであることが好ましい。これらの化合物は、単独で又は２種類以上を組み合わせて用いることができる。
【００４５】
（Ａ）アルカリ可溶性ポリマーの重量平均分子量は、１，０００〜３，０００，０００であることが好ましい。１，０００以上であると分子量が大きいため樹脂組成物とした場合の硬化物の強度が十分で、３，０００，０００以下であれば、アルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性や（Ｂ）重合性化合物との相溶性が良好である。以上の観点から３，０００〜２，０００，０００とすることがさらに好ましく、５，０００〜１，０００，０００であることが特に好ましい。なお、本発明における重量平均分子量は、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）で測定し、標準ポリスチレン換算した値である。
【００４６】
（Ａ）アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーは、後述する現像により感光性樹脂組成物の層を選択的に除去してパターンを形成する工程において、公知の各種現像液により現像可能となるように酸価を規定することができる。例えば、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン等のアルカリ性水溶液を用い現像する場合には、酸価が２０〜３００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。２０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると現像が容易で、３００ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、３０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、４０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００４７】
水又はアルカリ性水溶液と１種以上の界面活性剤とからなるアルカリ性水溶液を用いて現像する場合には、酸価が１０〜２６０ｍｇＫＯＨ／ｇであることが好ましい。酸価が１０ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であると現像が容易で、２６０ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると耐現像液性が低下することがない。以上の観点から、２０〜２５０ｍｇＫＯＨ／ｇであることがさらに好ましく、３０〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることが特に好ましい。
【００４８】
（Ａ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１０〜８５質量％であることが好ましい。１０質量％以上であると、光導波路形成用樹脂組成物の硬化物の強度や可撓性が十分で、８５質量％以下であれば、露光時に（Ｂ）成分によって絡め込まれて容易に硬化し、耐現像液性が不足することがない。以上の観点から、１５質量％以上であることがより好ましく、２０質量％以上であることが特に好ましい。また、上限値としては、７５質量％以下であることがより好ましく、６５質量％以下であることが特に好ましい。また、１０〜６５質量％は特に低光損失の観点でも優れた範囲である。
【００４９】
以下、本発明に用いられる（Ｂ）成分について説明する。
（Ｂ）成分の重合性化合物としては、エチレン性不飽和基を有する化合物を含むことが好ましい。エチレン性不飽和基を有する化合物としては、特に制限はなく、例えば、各種（メタ）アクリレート、ビニルエーテル、ビニルエステル、ビニルアミド、アリール化ビニル、ビニルピリジン、ハロゲン化ビニル、ハロゲン化ビニリデン等のエチレン性不飽和基などの重合性置換基を有する化合物などが挙げられる。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、（メタ）アクリレートやアリール化ビニルが好ましい。（メタ）アクリレートとしては、単官能のもの、２官能のもの又は３官能以上のもののいずれも用いることができる。
【００５０】
単官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｓｅｃ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ペンチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ヘプチル（メタ）アクリレート、オクチルヘプチル（メタ）アクリレート、ノニル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、ウンデシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、テトラデシル（メタ）アクリレート、ペンタデシル（メタ）アクリレート、ヘキサデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート、ベヘニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）スクシネート等の脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロペンチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）テトラヒドロフタレート、モノ（２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）ヘキサヒドロフタレート等の脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ｏ−ビフェニル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、１−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ナフトキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（１−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（２−ナフトキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；２−テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体などが挙げられる。
【００５１】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（ｏ−フェニルフェノキシ）プロピル（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルテトラヒドロフタルイミド、Ｎ−（メタ）アクリロイルオキシエチルヘキサヒドロフタルイミド、イソシアヌル酸モノ（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルオキシエチル−Ｎ−カルバゾール等の複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体が好ましく、下記一般式（４）で表される芳香族モノ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
【００５２】
ここで、（メタ）アクリレートのエトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体とは、原料となるアルコール又はフェノール類［例えば、モノ（メタ）アクリレート；ＣＨ２＝ＣＨ（Ｒ２１）−ＣＯＯ−Ｒ２２（Ｒ２１は水素原子又はメチル基、Ｒ２２は１価の有機基）の場合は、ＨＯ−Ｒ２２で示されるもの］の代わりに、前記アルコール又はフェノール類に、それぞれ、１以上のエチレンオキシドを付加した構造のアルコール、１以上のプロピレンオキシドを付加した構造のアルコール、又は１以上のエチレンオキシド及びプロピレンオキシドを付加した構造のアルコールを、原料に用いて得られる（メタ）アクリレートを示す（例えば、エトキシ化体の場合はＣＨ２＝ＣＨ（Ｒ２１）−ＣＯＯ−（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｑ−Ｒ２２（ｑは１以上の整数、Ｒ２１、Ｒ２２は前記と同様）で示される）。例えば、フェノキシエチル（メタ）アクリレートのエトキシ化体とは、フェノキシエチルアルコールにエチレンオキシドを付加したアルコールと、アクリル酸又はメタクリル酸とを反応させて得られる（メタ）アクリレートを意味する。また、カプロラクトン変性体とは、（メタ）アクリレートの原料となるアルコールをカプロラクトンで変性した変性アルコールを原料とする（メタ）アクリレートを示す（例えば、モノ（メタ）アクリレートのε−カプロラクトン変性体の場合、ＣＨ２＝ＣＨ（Ｒ２１）−ＣＯＯ−（（ＣＨ２）５ＣＯＯ）ｑ−Ｒ２２（ｑ、Ｒ２１、Ｒ２２は前記と同様））で示される）。
【００５３】
【化５】
2016114672.tif 000006
【００５４】
式中、Ｒ６は水素原子又はメチル基を示し、Ｒ７は下記式で示されるいずれかの１価の基を示す。
【００５５】
【化６】
2016114672.tif 000007
【００５６】
Ｒ８は水素原子、フッ素原子、及び炭素数１〜２０の１価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、特に制限はなく、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基（−ＣＯ−Ｒを意味する。ただしＲは炭化水素基である。）、エステル基（−ＣＯ−Ｏ−Ｒ又は−Ｏ−ＣＯ−Ｒを意味する。ただしＲは炭化水素基である。）、カルバモイル基などの１価の有機基が挙げられ、それらは、さらに水酸基、ハロゲン原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基、カルボニル基、ホルミル基、エステル基、アミド基、アルコキシ基、アリーロキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、アミノ基、シリル基、シリロキシ基などで置換されていてもよい。
これらの中でも、透明性、及び耐熱性の点から、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、及びアラルキル基が好ましい。
【００５７】
Ｚ１は、単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＦ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、及び下記式で示されるいずれかの２価の基を示す。
【００５８】
【化７】
2016114672.tif 000008
【００５９】
Ｒ９は水素原子、フッ素原子、及び炭素数１〜２０の１価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。また、ａは２〜１０の整数を示す。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ８で炭素数１〜２０の１価の有機基として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００６０】
一般式（４）において、Ｙ１は、酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｂ−、−Ｏ［ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ］ｃ−、−Ｏ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］ｄ−、−Ｏ［（ＣＨ２）５ＣＯ２］ｅ−、及び−ＯＣＨ２ＣＨ（ＯＨ）ＣＨ２Ｏ−のいずれかの２価の基を含み、ｂ〜ｅは各々独立に１〜１０の整数を示す。
【００６１】
（Ｂ）成分の重合性化合物としては、２つ以上のエチレン性不飽和基を有する化合物を用いることが好ましく、２官能又は３官能以上の（メタ）アクリレートを用いることがより好ましい。
【００６２】
２官能（メタ）アクリレートとしては、特に制限はなく、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；エチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、２−メチル−１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、２−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、３−メチル−１，５−ペンタンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオール型エポキシジ（メタ）アクリレート等の脂肪族エポキシ（メタ）アクリレート；シクロヘキサンジメタノールジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート等の脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；シクロヘキサンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート等の脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；ヒドロキノンジ（メタ）アクリレート、レゾルシノールジ（メタ）アクリレート、カテコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、ビフェノールジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノールジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ヒドロキノン型エポキシジ（メタ）アクリレート、レゾルシノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、カテコール型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸ジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；イソシアヌル酸モノアリル型エポキシジ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６３】
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、前記脂環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；前記脂環式エポキシ（メタ）アクリレート；ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦジ（メタ）アクリレート、ビフェノールジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノールジ（メタ）アクリレート等の芳香族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；ビスフェノールＡ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡＦ型エポキシジ（メタ）アクリレート、ビフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート、フルオレンビスフェノール型エポキシジ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；前記複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；下記一般式（５）で表される芳香族（メタ）アクリレート及び下記一般式（６）で表される芳香族エポキシ（メタ）アクリレートがさらに好ましい。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
【００６４】
【化８】
2016114672.tif 000009
【００６５】
式中、Ｒ１０は水素原子又はメチル基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ１１は水素原子、フッ素原子、及び炭素数１〜２０の１価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ８で炭素数１〜２０の１価の有機基として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００６６】
式中、Ｚ２は単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＦ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、及び下記式で示されるいずれかの２価の基を示す。
【００６７】
【化９】
2016114672.tif 000010
【００６８】
Ｒ１２は水素原子、フッ素原子、及び炭素数１〜２０の１価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。また、ｆは２〜１０の整数を示す。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ８で炭素数１〜２０の１価の有機基として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００６９】
一般式（５）において、Ｙ２は酸素原子、硫黄原子、−ＯＣＨ２−、−ＳＣＨ２−、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｇ−、−Ｏ［ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ］ｈ−、−Ｏ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］ｉ−、及び−Ｏ［（ＣＨ２）５ＣＯ２］ｊ−のいずれかの２価の基を含み、同一でも異なっていてもよい。また、ｇ〜ｊは各々独立に１〜１０の整数を示す。
【００７０】
【化１０】
2016114672.tif 000011
【００７１】
式中、ｋは、１〜１０の整数を示す。
【００７２】
式中、Ｒ１３は水素原子又はメチル基を示し、同一でも異なっていてもよい。また、Ｒ１４は水素原子、フッ素原子、及び炭素数１〜２０の１価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ１の具体例として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。  
【００７３】
式中、Ｚ3は単結合、酸素原子、硫黄原子、−ＣＨ２−、−Ｃ（ＣＨ３）２−、−ＣＦ２−、−Ｃ（ＣＦ３）２−、−ＳＯ２−、及び下記式で示されるいずれかの２価の基を示す。
【００７４】
【化１１】
2016114672.tif 000012
【００７５】
Ｒ１５は水素原子、フッ素原子、及び炭素数１〜２０の１価の有機基のいずれかを示し、同一でも異なっていてもよい。また、ｌは２〜１０の整数を示す。なお、炭素数１〜２０の１価の有機基としては、前述のＲ８で炭素数１〜２０の１価の有機基として記載されたものと同様のものを好適に挙げることができる。
【００７６】
一般式（７）において、Ｙ３は酸素原子、硫黄原子、−Ｏ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）ｍ−、−Ｏ［ＣＨ（ＣＨ３）ＣＨ２Ｏ］ｎ−、−Ｏ［ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ］ｏ−、及び−Ｏ［（ＣＨ２）５ＣＯ２］ｐ−のいずれかの２価の基を含み、同一でも異なっていてもよい。また、ｍ〜ｐは各々独立に１〜１０の整数を示す。
【００７７】
３官能以上の（メタ）アクリレートとして、例えばトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の脂肪族（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；フェノールノボラック型エポキシ（メタ）アクリレート、クレゾールノボラック型エポキシポリ（メタ）アクリレート等の芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；イソシアヌル酸トリ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）アクリレート、これらのエトキシ化体、これらのプロポキシ化体、これらのエトキシ化プロポキシ化体、及びこれらのカプロラクトン変性体；イソシアヌル酸型エポキシ（メタ）アクリレート等の複素環式（メタ）エポキシアクリレート等が挙げられる。なお、エトキシ化体、プロポキシ化体、エトキシ化プロポキシ化体、カプロラクトン変性体とは、前記と同様の意味である。
これらの中でも、透明性及び耐熱性の観点から、前記芳香族エポキシ（メタ）アクリレート；前記複素環式（メタ）アクリレート；前記イソシアヌル酸型エポキシ（メタ）アクリレートが好ましい。また、分子中にビスフェノール骨格を有する化合物であることが、より好ましい。
以上の（メタ）アクリレートは、単独又は２種類以上組み合わせて用いることができ、さらにその他の重合性化合物と組み合わせて用いることもできる。
【００７８】
前記（Ｂ）成分の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量に対して、１５〜９０質量％であることが好ましい。１５質量％以上であると、光硬化時に（Ａ）成分を十分に絡め込んで硬化するため、耐現像液性が良好であり、９０質量％以下であると、アルカリ現像液への溶解性が良好である。以上の観点から、（Ｂ）成分の配合量は、２５〜８５質量％であることがさらに好ましく、３５〜８０質量％であることが特に好ましい。
【００７９】
以下、本発明に用いられる（Ｃ）成分について説明する。
（Ｃ）成分の重合開始剤としては、加熱又は紫外線等の照射によって重合を開始させるものであれば特に制限はなく、例えば（Ｂ）成分の重合性化合物としてエチレン性不飽和基を有する化合物を用いる場合、熱ラジカル重合開始剤、光ラジカル重合開始剤等が挙げられるが、硬化速度が速く常温硬化が可能なことから、光ラジカル重合開始剤であることが好ましい。
【００８０】
光ラジカル重合開始剤としては、例えば２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン等のベンゾインケタール；１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン等のα−ヒドロキシケトン；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン、１，２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン等のα−アミノケトン；１−［（４−フェニルチオ）フェニル］−１，２−オクタジオン−２−（ベンゾイル）オキシム等のオキシムエステル；ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のホスフィンオキシド；２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジ（メトキシフェニル）イミダゾール二量体、２−（ｏ−フルオロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｏ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体、２−（ｐ−メトキシフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾール二量体等の２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体；ベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラメチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、Ｎ，Ｎ’−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４−メトキシ−４’−ジメチルアミノベンゾフェノン等のベンゾフェノン化合物；２−エチルアントラキノン、フェナントレンキノン、２−ｔｅｒｔ−ブチルアントラキノン、オクタメチルアントラキノン、１，２−ベンズアントラキノン、２，３−ベンズアントラキノン、２−フェニルアントラキノン、２，３−ジフェニルアントラキノン、１−クロロアントラキノン、２−メチルアントラキノン、１，４−ナフトキノン、９，１０−フェナントラキノン、２−メチル−１，４−ナフトキノン、２，３−ジメチルアントラキノン等のキノン化合物；ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインフェニルエーテル等のベンゾインエーテル；ベンゾイン、メチルベンゾイン、エチルベンゾイン等のベンゾイン化合物；ベンジルジメチルケタール等のベンジル化合物；９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９，９’−アクリジニルヘプタン）等のアクリジン化合物：Ｎ−フェニルグリシン、クマリンなどが挙げられる。
【００８１】
また、前記２，４，５−トリアリールイミダゾール二量体において、２つのトリアリールイミダゾール部位のアリール基の置換基は、同一で対称な化合物を与えてもよく、相違して非対称な化合物を与えてもよい。また。ジエチルチオキサントンとジメチルアミノ安息香酸の組み合わせのように、チオキサントン化合物と３級アミンとを組み合わせてもよい。
【００８２】
これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記α−ヒドロキシケトン；上記ホスフィンオキシドであることが好ましい。これらの熱及び光ラジカル重合開始剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。さらに、適切な増感剤と組み合わせて用いることもできる。
【００８３】
熱ラジカル重合開始剤としては、例えば、メチルエチルケトンパーオキシド、シクロヘキサノンパーオキシド、メチルシクロヘキサノンパーオキシド等のケトンパーオキシド；１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−２−メチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）シクロヘキサン、１，１−ビス（ｔ−ヘキシルパーオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン等のパーオキシケタール；ｐ−メンタンヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシド；α，α’−ビス（ｔ−ブチルパーオキシ）ジイソプロピルベンゼン、ジクミルパーオキシド、ｔ−ブチルクミルパーオキシド、ジ−ｔ−ブチルパーオキシド等のジアルキルパーオキシド；オクタノイルパーオキシド、ラウロイルパーオキシド、ステアリルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシド等のジアシルパーオキシド；ビス（４−ｔ−ブチルシクロヘキシル）パーオキシジカーボネート、ジ−２−エトキシエチルパーオキシジカーボネート、ジ−２−エチルヘキシルパーオキシジカーボネート、ジ−３−メトキシブチルパーオキシカーボネート等のパーオキシカーボネート；ｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔ−ヘキシルパーオキシピバレート、１，１，３，３−テトラメチルブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（２−エチルヘキサノイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ヘキシルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシイソブチレート、ｔ−ヘキシルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノエート、ｔ−ブチルパーオキシラウレート、ｔ−ブチルパーオキシイソプロピルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキシルモノカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ヘキシルパーオキシベンゾエート、２，５−ジメチル−２，５−ビス（ベンゾイルパーオキシ）ヘキサン、ｔ−ブチルパーオキシアセテート等のパーオキシエステル；２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（４−メトキシ−２’−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物などが挙げられる。
これらの中で、硬化性、透明性、及び耐熱性の観点から、上記ジアシルパーオキシド；上記パーオキシエステル；上記アゾ化合物であることが好ましい。
なお、上記の光ラジカル重合開始剤と熱ラジカル重合開始剤とを組み合わせて用い、光硬化性と熱硬化性とを有する光導波路形成用樹脂組成物とすることもできる。
【００８４】
（Ｃ）成分の重合開始剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．３〜１０質量部であることが好ましい。０．３質量部以上であると、硬化が十分であり、硬化不足による未反応物の析出がなく、１０質量部以下であると十分な光透過性が得られる。以上の観点から、０．３５〜７質量部であることがより好ましく、０．４０〜５質量部であることがさらに好ましく、０．４５〜３質量部であることが特に好ましい。
【００８５】
以下、本発明に用いられる（Ｄ）成分について説明する。
（Ｄ）成分の光安定剤とは、光による、本樹脂組成物の劣化を防止又は低減できる添加剤であり、紫外線吸収剤、紫外線遮蔽剤、ヒンダートアミン系光安定剤等があげられるが、中でもヒンダートアミン系光安定剤が好ましい。ヒンダードアミン系光安定剤は、別名ＨＡＬＳとも称される。本発明において用いるヒンダードアミン系光安定剤は、青色レーザ、青色ＬＥＤ等の短波長光線導波の際の樹脂劣化を抑制し、良好な透明性を維持するものであり、分子中に下記一般式（２）で表される構造を有するものであることが好ましい。
【００８６】
【化１２】
2016114672.tif 000013
【００８７】
ただし、Ｒ１は、水素原子、ビドロキシ基、炭素数１〜１０までの直鎖状若しくは分岐
鎖状のアルキル基又は炭素数１〜１０までの直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基であ
る。
【００８８】
これらの中でもＲ１が水素原子である場合、塩基性が強いため、酸性物質との接触により、性能が低下してしまう懸念がある。よって本発明においてのＲ１は、ヒドロキシ基、炭素数１〜１０までの直鎖状若しくは分岐鎖状のアルキル基又は炭素数１〜１０までの直鎖状若しくは分岐鎖状のアルコキシ基水素原子以外のものがより好ましい。
【００８９】
前記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−５２」）、テトラキス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタン−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−５７」）、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル、及びトリデシル−１，２，３，４−ブタンテトラカルボキシレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−６２」）、２，２，６，６−テトラメチル−ピペリジノールとトリデシルアルコールと１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸との縮合物（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−６７」）、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸と２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールとβ，β，β，β−テトラメチル−３，９−（２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカン）−ジエタノールとの縮合物（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−６８ＬＤ」）、セバシン酸ビス(１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジル) （株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−７２」）、デカン二酸ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−７７Ｙ」）、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−８２」）、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−８７」）、高分子量ヒンダードアミン系光安定剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  １１９ＦＬ」、「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ２０２０ＦＤＬ」）、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）アミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「ＣＨＩＭＡＳＳＯＲＢ  ９４４ＦＤＬ」）、高分子立体障害型アミン誘導体（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名「ＴＩＮＵＶＩＮ  ６２２ＬＤ」）、（ビス(１，２，２，６，６-ペンタメチル−４−ピペリジル）［［３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル］メチル］ブチルマロネート（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＴＩＮＵＶＩＮ１４４）、メチル１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバケート（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製、商品名ＴＩＮＵＶＩＮ  ７６５）等が挙げられ、これらは単独で又は二種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００９０】
ヒンダードアミン系光安定剤の重量平均分子量は、３，０００以下であることが好ましい。３，０００以下であれば、樹脂組成物とした場合、（Ａ）ポリマーとの相溶性やアルカリ性水溶液からなる現像液に対する溶解性が良好である。以上の観点から２，０００以下とすることがさらに好ましく、１，０００以下であることが特に好ましい。なお、ヒンダードアミン系光安定剤が重合体である場合、分子量は、テトラヒドロフランを溶媒として用いたゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した数平均分子量を意味する。
【００９１】
これらの中でも、本発明では分子中に反応性基を有し、（Ｂ）成分と架橋可能であるものが好ましく、具体的には、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−８２」）、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製、商品名「アデカスタブＬＡ−８７」）が特に好ましい。このような化合物を選択することにより、光導波路形成工程や環境信頼性試験（高温高湿試験等）での析出や揮発を抑えることができ、光安定効果を長期的に維持することができる。
【００９２】
（Ｄ）成分の光安定剤の含有量は、（Ａ）成分及び（Ｂ）成分の総量１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部であることが好ましい。０．０１質量部以上であると、充分な光安定効果が得られ、１０質量部以下であると透明性が良好である。以上の観点から、０．０５〜７質量部であることがより好ましく、０．１〜５質量部であることがさらに好ましく、０．２〜３質量部であることが特に好ましい。
【００９３】
以下、本発明に用いられる（Ｅ）成分について説明する。
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、（Ｅ）酸化防止剤を配合することが特徴である。なかでもヒンダードフェノール系酸化防止剤を配合することが好ましく、具体的にはメチル基とｔ−ブチル基を同一芳香環上に１つずつ有するフェノール基を１分子中に一つ以上有することを必須とするヒンダードフェノール系酸化防止剤であって、下記式（１）で示されるものであることが特に好ましい。これらの化合物を用いると、樹脂の黄変を低減させ、透明性を向上することができ、かつ光硬化の際の重合阻害が小さいために、硬化性が良好である。また硬化に必要な紫外線等の照射量が少なくて済むために生産性が高い。
【００９４】
【化１３】
2016114672.tif 000014
【００９５】
ここで、Ｘは以下に示す２価の基のいずれかである。
【００９６】
【化１４】
2016114672.tif 000015
【００９７】
【化１５】
2016114672.tif 000016
【００９８】
本発明における（Ｅ）成分の含有量は、（Ａ）成分１００質量部に対して、０．０１〜１０質量部の範囲である。（Ｅ）成分の含有量が０．０１質量部以上であると耐黄変性が良好であり、１０質量部以下であると、光硬化の際の重合阻害が小さいため、硬化が十分となる。また、５００〜７００ｎｍの領域の可視光を吸収し、用いる可視光光源からの色味を変化させる場合がある。なお、硬化性を確保するために紫外線等の照射量を多くする
ことは、生産性の悪化につながり好ましくない。以上の観点から、０．０５〜７質量部であることがより好ましく、０．１〜５質量部であることがさらに好ましく、０．２〜３質量部であることが特に好ましい。
【００９９】
また、この他に必要に応じて、本発明の光導波路形成用樹脂組成物中には、黄変防止剤、着色剤、可塑剤、安定剤、充填剤等のいわゆる添加剤を本発明の効果に悪影響を与えない割合で添加してもよい。
【０１００】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂組成物について説明する。
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、好適な有機溶剤を用いて希釈し、光導波路形成用樹脂ワニスとして使用してもよい。ここで用いる有機溶剤としては、該樹脂組成物を溶解しえるものであれば特に制限はなく、例えば、トルエン、キシレン、メシチレン、クメン、ｐ−シメン等の芳香族炭化水素；テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン等の環状エーテル；メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン等のエステル；エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート等の炭酸エステル；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテル；エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート等の多価アルコールアルキルエーテルアセテート；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミドなどが挙げられる。
【０１０１】
これらの中で、溶解性及び沸点の観点から、トルエン、メタノール、エタノール、イソプロパノール、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸メチル、乳酸エチル、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミドであることが好ましい。
これらの有機溶剤は、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。
また、樹脂ワニス中の固形分濃度は、通常２０〜８０質量％であることが好ましい。
【０１０２】
光導波路形成用樹脂ワニスを調合する際は、撹拌により混合することが好ましい。撹拌方法には特に制限はないが、撹拌効率の観点からプロペラを用いた撹拌が好ましい。撹拌する際のプロペラの回転速度には特に制限はないが、１０〜１，０００ｒｐｍであることが好ましい。１０ｒｐｍ以上であると、（Ａ）〜（Ｅ）成分、及び有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合され、１，０００ｒｐｍ以下であるとプロペラの回転による気泡の巻き込みが少なくなる。以上の観点から５０〜８００ｒｐｍであることがより好ましく、１００〜５００ｒｐｍであることが特に好ましい。撹拌時間には特に制限はないが、１〜２４時間であることが好ましい。１時間以上であると、（Ａ）〜（Ｅ）成分、及び有機溶剤のそれぞれの成分が十分に混合され、２４時間以下であると、ワニス調合時間を短縮することができる。
【０１０３】
調合した光導波路形成用樹脂ワニスは、孔径５０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが好ましい。孔径５０μｍ以下であると、大きな異物等が除去されて、ワニス塗布時にはじき等を生じることがなく、またコア部を伝搬する光の散乱が抑制される。以上の観点から、孔径３０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのがより好ましく、孔径１０μｍ以下のフィルタを用いて濾過するのが特に好ましい。
【０１０４】
調合した光導波路形成用樹脂ワニスは、減圧下で脱泡することが好ましい。脱泡方法には、特に制限はなく、具体例としては真空ポンプとベルジャー、真空装置付き脱泡装置を用いることができる。減圧時の圧力には特に制限はないが、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が沸騰しない圧力が好ましい。減圧脱泡時間には特に制限はないが、３〜６０分であることが好ましい。３分以上であると、樹脂ワニス内に溶解した気泡を取り除くことができる。６０分以下であると、樹脂ワニスに含まれる有機溶剤が揮発することがない。
【０１０５】
本発明の（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤、及び（Ｅ）酸化防止剤を含有する光導波路形成用樹脂組成物を重合、硬化してなる硬化フィルムの、温度２５℃における波長３８０〜８５０ｎｍの範囲での屈折率は１．４００〜１．７００であることが好ましい。１．４００〜１．７００であれば、通常の光学樹脂との屈折率が大きく異ならないため、光学材料としての汎用性が損なわれることがない。以上の観点から、１．４２５〜１．６７５以下であることがさらに好ましく、１．４５０〜１．６５０であることが特に好ましい。
【０１０６】
（Ａ）ポリマー、（Ｂ）重合性化合物、（Ｃ）重合開始剤、（Ｄ）光安定剤、及び（Ｅ）酸化防止剤を含有する光導波路形成用樹脂組成物を重合、硬化してなる厚み５０μｍの硬化フィルムの全光線透過率は８０％以上であることが好ましい。８０％以上であると、光の透過量が十分である。以上の観点から８５％以上であることがさらに好ましい。なお、透過率の上限については特に制限されない。
【０１０７】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムについて説明する。
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムは、前記光導波路形成用樹脂組成物からなり、前記（Ａ）〜（Ｅ）成分を含有する光導波路形成用樹脂ワニスを好適な基材フィルムに塗布し、溶媒を除去することにより容易に製造することができる。また、光導波路形成用樹脂組成物を直接基材フィルムに塗布して製造してもよい。
【０１０８】
基材フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルケトン、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホン、液晶ポリマーなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンスルフィド、ポリアリレート、ポリスルホンであることが好ましい。
【０１０９】
基材フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、３〜２５０μｍであることが好ましい。３μｍ以上であるとフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、５〜２００μｍであることがさらに好ましく、７〜１５０μｍであることが特に好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【０１１０】
基材フィルム上に光導波路形成用樹脂ワニス又は光導波路形成用樹脂組成物を塗布して製造した光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、基材フィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【０１１１】
保護フィルムとしては、特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンなどが挙げられる。これらの中で、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィンであることが好ましい。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。保護フィルムの厚みは、目的とする柔軟性により適宜変えてよいが、１０〜２５０μｍであることが好ましい。１０μｍ以上であるとフィルム強度が十分であり、２５０μｍ以下であると十分な柔軟性が得られる。以上の観点から、１５〜２００μｍであることがさらに好ましく、２０〜１５０μｍであることが特に好ましい。
【０１１２】
本発明の光導波路形成用樹脂フィルムの樹脂層の厚みについては特に限定されないが、乾燥後の厚みで、通常は５〜５００μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、厚みが十分であるため樹脂フィルム又は該フィルムの硬化物の強度が十分であり、５００μｍ以下であると、乾燥が十分に行えるため樹脂フィルム中の残留溶媒量が増えることなく、該フィルムの硬化物を加熱したときに発泡することがない。
【０１１３】
このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。または、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【０１１４】
以下、本発明の光導波路について説明する。図１は、本発明の光導波路の構成例を示す断面図である。
図１の（ａ）に示すように、光導波路１は基材５上に形成され、高屈折率であるコア部形成用樹脂組成物から形成されるコア部２、並びに、低屈折率であるクラッド層形成用樹脂組成物から形成される下部クラッド層４及び上部クラッド層３で構成されている。
【０１１５】
本発明の光導波路形成用樹脂組成物及び光導波路形成用樹脂フィルムは、光導波路１の下部クラッド層４、コア部２及び上部クラッド層３のうち、少なくとも１つに用いることが好ましい。その中で、アルカリ性水溶液からなる現像液によりパターン形成可能の観点かはコア部２に用いることが好ましく、また、耐熱性及び環境信頼性に優れるため、コア周囲を被覆して保護するクラッド層用としても特に好適である。
【０１１６】
光導波路形成用樹脂フィルムを用いることによって、クラッドとコアの層間密着性や光導波路コアパターン形成時のパターン形成性（細線又は狭線間対応性）をより向上させることができ、線幅や線間の小さい微細パターン形成が可能となる。また、大面積の光導波路を一度に製造できるという生産性に優れたプロセスを提供することが可能となる。
【０１１７】
光導波路１において、基材５としてはシリコン基板、ガラス基板又はＦＲ−４等のガラスエポキシ樹脂基板のような硬い基板を用いることができる。光導波路１は、上記基板の代わりに、柔軟性及び強靭性のある前記基材フィルムを用いて、フレキシブル光導波路
としてもよい。
【０１１８】
また、柔軟性及び強靭性のある基材フィルムを光導波路１のカバーフィルム５として機能させてもよい。カバーフィルム５を配置することにより、カバーフィルム５の柔軟性や強靭性を光導波路１に付与することが可能となる。また、光導波路１が汚れや傷を受けなくなるため、取り扱いやすさが向上する。
以上の観点から、図１の（ｂ）のように上部クラッド層３の外側にカバーフィルム５が配置されていたり、図１の（ｃ）のように下部クラッド層４及び上部クラッド層３の両方の外側にカバーフィルム５が配置されていたりしてもよい。
光導波路１に柔軟性や強靭性が十分に備わっているならば、図１の（ｄ）のように、カバーフィルム５が配置されていなくてもよい。
【０１１９】
下部クラッド層４の厚みは、特に制限はないが、２〜２００μｍであることが好ましい。２μｍ以上であると伝搬光をコア内部に閉じ込めるのが容易となり、２００μｍ以下であると、光導波路１全体の厚みが大きすぎることがない。なお、下部クラッド層４の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から下部クラッド層４の下面までの値である。
下部クラッド層形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はなく、硬化後の下部クラッド層４の厚みが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【０１２０】
コア部２の高さは、特に制限はないが、１０〜１００μｍであることが好ましい。コア部の高さが１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが小さくなることがなく、１００μｍ以下であれば、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が小さくなることがない。以上の観点から、コア部の高さは、１５〜８０μｍであることがさらに好ましく、２０〜７０μｍであることが特に好ましい。なお、コア部形成用樹脂フィルムの厚みについては特に制限はなく、硬化後のコア部の高さが上記の範囲となるように厚みが調整される。
【０１２１】
上部クラッド層３の厚みは、コア部２を埋め込むことができる範囲であれば、特に制限はないが、乾燥後の厚みで、１２〜５００μｍであることが好ましい。上部クラッド層４の厚みとしては、最初に形成される下部クラッド層４の厚みと同一であっても異なってもよいが、コア部２を埋め込むという観点から、下部クラッド層４の厚みよりも厚くすることが好ましい。なお、上部クラッド層３の厚みとは、コア部２と下部クラッド層４との境界から上部クラッド層３の上面までの値である。
【０１２２】
以下、本発明の光導波路形成用樹脂フィルムを用いた最も好適な光導波路製造例について説明する。
コア部形成用樹脂フィルムの製造過程で用いる基材としては、後述のコアパターン形成に用いる露光用活性光線が透過するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル；ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン；ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリアリレートなどが挙げられる。
【０１２３】
これらの中で、露光用活性光線の透過率、柔軟性及び強靭性の観点から、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル；ポリプロピレン等のポリオレフィンであることが好ましい。さらに、露光用活性光線の透過率向上及びコアパターンの側壁荒れ低減の観点から、高透明タイプな基材フィルムを用いることがさらに好ましい。このような高透明タイプな基材フィルムとしては、東洋紡績株式会社製コスモシャインＡ１５１７、コスモシャインＡ４１００が挙げられる。なお、樹脂層との剥離性向上の観点から、シリコーン系化合物、含フッ素化合物等により離型処理が施されたフィルムを必要に応じて用いてもよい。
【０１２４】
コア部形成用樹脂フィルムの基材フィルムの厚みは、５〜５０μｍであることが好ましい。５μｍ以上であると、支持体としての強度が十分であり、５０μｍ以下であると、コアパターン形成時にフォトマスクとコア部形成用樹脂組成物層のギャップが大きくならず、パターン形成性が良好である。以上の観点から、基材フィルムの厚みは１０〜４０μｍであることがさらに好ましく、１５〜３０μｍであることが特に好ましい。
【０１２５】
上記基材フィルム上に光導波路形成用樹脂ワニス又は光導波路形成用樹脂組成物を塗布して製造した光導波路形成用樹脂フィルムは、必要に応じて前記保護フィルムを樹脂層上に貼り付け、基材フィルム、樹脂層及び保護フィルムからなる３層構造としてもよい。
【０１２６】
このようにして得られた光導波路形成用樹脂フィルムは、例えばロール状に巻き取ることによって容易に保存することができる。または、ロール状のフィルムを好適なサイズに切り出して、シート状にして保存することもできる。
【０１２７】
以下、光導波路形成用樹脂組成物及び／又は光導波路形成用樹脂フィルムを用いて光導波路１を形成するための製造方法について説明する。
本発明の光導波路１を製造する方法としては、特に制限はないが、コア部形成用樹脂ワニス及びクラッド層形成用樹脂組成物を用いてスピンコート法等により製造する方法、又はコア部形成用樹脂フィルム及びクラッド層形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法などが挙げられる。また、これらの方法を組み合わせて製造することもできる。これらの中では、生産性に優れた光導波路製造プロセスが提供可能という観点から、光導波路形成用樹脂フィルムを用いて積層法により製造する方法が好ましい。
【０１２８】
以下、光導波路形成用樹脂フィルムを下部クラッド層、コア部及び上部クラッド層に用いて光導波路１を形成するための製造方法について図２を用いて説明する。
まず、図２の（ａ）に示すように、第１の工程として下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に積層して下部クラッド層４を形成する。
【０１２９】
第１の工程における積層方式としては、ロールラミネータ、平板型ラミネータ等を用いて加熱しながら圧着することにより積層する方法が挙げられるが、密着性及び追従性の観点から、平板型ラミネータを用いて減圧下で下部クラッド層形成用樹脂フィルムを積層することが好ましい。なお、本発明において平板型ラミネータとは、積層材料を一対の平板の間に挟み、平板を加圧することにより圧着させるラミネータのことを指し、例えば、真空加圧式平板型ラミネータを好適に用いることができる。ここでの加熱温度は、４０〜１３０℃であることが好ましく、圧着圧力は、０．１〜１．０ＭＰａであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。下部クラッド層形成用樹脂フィルムに保護フィルムが存在する場合には、保護フィルムを除去した後に積層する。
【０１３０】
なお、真空加圧式平板型ラミネータによる積層の前に、ロールラミネータを用いて、あらかじめ下部クラッド層形成用樹脂フィルムを基材５上に仮貼りしておいてもよい。ここで、密着性及び追従性向上の観点から、圧着しながら仮貼りすることが好ましく、圧着する際、ヒートロールを有するラミネータを用いて加熱しながら行っても良い。ラミネート温度は、２０〜１３０℃であることが好ましい。２０℃以上であると下部クラッド層４の形成用樹脂フィルムと基材５との密着性が向上し、１３０℃以下であると樹脂層がロールラミネート時に流動しすぎることがなく、必要とする膜厚が得られる。以上の観点から、４０〜１００℃であることがより好ましい。圧力は０．２〜０．９ＭＰａであることが好ましく、ラミネート速度は０．１〜３ｍ／ｍｉｎであることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１３１】
続いて、基材５上に積層された下部クラッド層形成用樹脂フィルムを光及び／又は加熱により硬化し、下部クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムを除去し、下部クラッド層４を形成する。
下部クラッド層４を形成する際の活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ２とすることが好ましく、加熱温度は５０〜２００℃とすることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
【０１３２】
次いで、図２の（ｂ）に示すように、第２の工程としてコア部形成用樹脂フィルム７を第１の工程と同様な方法で積層する。ここで、コア部形成用樹脂フィルム７は下部クラッド層形成用樹脂フィルムより高屈折率であるように設計され、活性光線によりコアパターンを形成し得る感光性樹脂組成物からなることが好ましい。
【０１３３】
次に、図２の（ｃ）に示すように、第３の工程としてコア部を露光し、光導波路のコアパターン（コア部２）を形成する。具体的には、アートワークと呼ばれるネガ又はポジマスクパターンを有するフォトマスク６を通して活性光線が画像状に照射される。また、レーザ直接描画を用いてフォトマスク６を通さずに直接活性光線を画像上に照射してもよい。活性光線の光源としては、例えば、カーボンアーク灯、水銀蒸気アーク灯、超高圧水銀灯、高圧水銀灯、キセノンランプ等の紫外線を有効に放射する公知の光源が挙げられる。また、他にも写真用フラッド電球、太陽ランプ等の可視光を有効に放射するものが挙げられる。
【０１３４】
ここでの活性光線の照射量は、０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましい。０．０１Ｊ／ｃｍ２以上であると、硬化反応が十分に進行し、後述する現像工程によりコア部２が流失することがなく、１０Ｊ／ｃｍ２以下であると露光量過多によりコア部２が太ることがなく、微細なパターンが形成でき好適である。以上の観点から、０．０５〜５Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、０．１〜３Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。
【０１３５】
なお、露光後に、コア部２の解像度及び密着性向上の観点から、露光後加熱を行ってもよい。紫外線照射から露光後加熱までの時間は、１０分以内であることが好ましい。１０分以内であると紫外線照射により発生した活性種が失活することがない。露光後加熱の温度は４０〜１６０℃であることが好ましく、時間は３０秒〜１０分であることが好ましい。
【０１３６】
露光後、図２の（ｄ）に示すように、コア部形成用樹脂フィルム７の基材フィルムを除去し、アルカリ性水溶液、水系現像液等の前記コア部形成用樹脂フィルムの組成に対応した現像液を用いて、例えば、スプレー、揺動浸漬、ブラッシング、スクラッピング、ディップ及びパドル等の公知の方法により現像する。また、必要に応じて２種類以上の現像方法を併用してもよい。
【０１３７】
上記アルカリ性水溶液の塩基としては、特に制限はないが、例えば、リチウム、ナトリウム又はカリウムの水酸化物等の水酸化アルカリ；リチウム、ナトリウム、カリウム若しくはアンモニウムの炭酸塩又は重炭酸塩等の炭酸アルカリ；リン酸カリウム、リン酸ナトリウム等のアルカリ金属リン酸塩；ピロリン酸ナトリウム、ピロリン酸カリウム等のアルカリ金属ピロリン酸塩；ホウ砂、メタケイ酸ナトリウム等のナトリウム塩；水酸化テトラメチルアンモニウム、トリエタノールアミン、エチレンジアミン、ジエチレントリアミン、２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１，３−プロパンジオール、１，３−ジアミノプロパノール−２−モルホリン等の有機塩基などが挙げられる。現像に用いるアルカリ性水溶液のｐＨは９〜１１であることが好ましく、その温度はコア部形成用樹脂組成物層の現像性に合わせて調節される。また、アルカリ性水溶液中には、表面活性剤、消泡剤、現像を促進させるための少量の有機溶剤等を混入させてもよい。
【０１３８】
前記水系現像液としては、水又はアルカリ性水溶液と１種類以上の有機溶剤からなるものであれば特に制限はない。水系現像液のｐＨは、前記コア部形成用樹脂フィルムの現像が充分にできる範囲でできるだけ小さくすることが好ましく、ｐＨ８〜１２であることが好ましく、ｐＨ９〜１０であることが特に好ましい。
【０１３９】
上記有機溶剤としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、エチレングリコール、プロピレングリコール等のアルコール；アセトン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ペンタノン等のケトン；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等の多価アルコールアルキルエーテルなどが挙げられる。
【０１４０】
これらは、単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。有機溶剤の濃度は、通常、２〜９０質量％であることが好ましく、その温度はコア部形成用樹脂組成物の現像性に合わせて調節される。また、水系現像液中には、界面活性剤、消泡剤等を少量混入させてもよい。
【０１４１】
現像後の処理として、必要に応じて水と上記有機溶剤からなる洗浄液を用いて光導波路のコア部２を洗浄してもよい。有機溶剤は単独で又は２種類以上を組み合わせて使用することができる。有機溶剤の濃度は通常、２〜９０質量％とすることが好ましく、その温度はコア部形成用樹脂組成物の現像性に合わせて調節される。
現像又は洗浄後の処理として、必要に応じて、６０〜２５０℃程度の加熱又は０．１〜１０００ｍＪ／ｃｍ２程度の露光を行うことによりコア部２をさらに硬化して用いてもよい。
【０１４２】
続いて、図３の（ｅ）に示すように、第４の工程として上部クラッド層形成用樹脂フィルムを第１及び第２の工程と同様の方法で積層して上部クラッド層３を形成する。ここで、上部クラッド層形成用樹脂フィルムは、コア部形成用樹脂フィルムよりも低屈折率になるように設計されている。また、上部クラッド層３の厚みは、コア部２の高さより大きくすることが好ましい。
【０１４３】
次いで、第１の工程と同様な方法で上部クラッド層形成用樹脂フィルムを光及び／又は熱によって硬化し、上部クラッド層３を形成する。
上記クラッド層形成用樹脂フィルムの基材フィルムがＰＥＴの場合、活性光線の照射量は、０．１〜５Ｊ／ｃｍ２であることが好ましい。一方、基材フィルムがポリエチレンナフタレート、ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルスルフィド、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン等の場合、ＰＥＴに比べて紫外線等の短波長の活性光線を通しにくいことから、活性光線の照射量は、０．５〜３０Ｊ／ｃｍ２であることが好ましい。０．５Ｊ／ｃｍ２以上であると硬化反応が十分に進行し、３０Ｊ／ｃｍ２以下であると光照射の時間が長くかかりすぎることがない。以上の観点から、３〜２７Ｊ／ｃｍ２であることがより好ましく、５〜２５Ｊ／ｃｍ２であることが特に好ましい。
【０１４４】
なお、より硬化させるために、両面から同時に活性光線を照射することが可能な両面露光機を使用することができる。また、加熱をしながら活性光線を照射してもよい。活性光線照射中及び／又は照射後の加熱温度は５０〜２００℃であることが好ましいが、これらの条件には特に制限はない。
上部クラッド層３を形成後、必要であれば基材フィルムを除去して、光導波路１を作製することができる。
こうして得られる光導波路は、波長４４５ｎｍにおける光伝搬損失が、２．０ｄＢ／ｃｍ以下であることが好ましく、１．０ｄＢ／ｃｍ以下であることがより好ましい。
【０１４５】
本発明の光導波路は、透明性及び光伝搬性に優れているために光モジュールの光伝送
路として用いてもよい。光モジュールの形態としては、例えば光導波路の両端に光ファイバを接続した光ファイバ付き光導波路、光導波路の両端にコネクタを接続したコネクタ付き光導波路、光導波路とプリント配線板と複合化した光電気複合基板、光導波路と光信号と電気信号を相互に変換する光／電気変換素子を組み合わせた光電気変換モジュール、光導波路と波長分割フィルタを組み合わせた波長合分波器等が挙げられる。なお、光電気複合基板において、複合化するプリント配線板としては、特に制限はなくガラスエポキシ基板等のリジッド基板、ポリイミド基板などのフレキシブル基板のどちらを用いてもよい。
【実施例】
【０１４６】
以下、本発明の実施例をさらに具体的に説明する。
【０１４７】
合成例１
［クラッド層形成用ベースポリマー；（メタ）アクリルポリマー（Ｐ−１）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、メチルエチルケトン１００質量部を投入し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、共重合モノマーとして、メタクリル酸３０質量部、メタクリル酸メチル３５質量部、メタクリル酸ｎ−ブチル３５質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）３質量部及びメチルエチルケトン８５質量部の混合物を、３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ−１）溶液（固形分３５質量％）を得た。
【０１４８】
［酸価の測定］
Ｐ−１の酸価を測定した結果、１９６ｍｇＫＯＨ／ｇであった。なお、酸価はＰ−１溶液を中和するのに要した０．１ｍｏｌ／Ｌ水酸化カリウム水溶液量から算出した。このとき、指示薬として添加したフェノールフタレインが無色からピンク色に変色した点を中和点とした。
【０１４９】
［重量平均分子量の測定］
Ｐ−１の重量平均分子量（標準ポリスチレン換算）をＧＰＣ（東ソー株式会社製「ＳＤ−８０２２」、「ＤＰ−８０２０」、及び「ＲＩ−８０２０」）を用いて測定した結果、８．０×１０４であった。なお、カラムは日立化成株式会社製「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１５０−Ｓ」及び「Ｇｅｌｐａｃｋ  ＧＬ−Ａ１６０−Ｓ」を使用した。溶離液としてはテトラヒドロフランを用い、サンプル濃度０．５ｍｇ／ｍｌとし、溶出速度を１ｍｌ／分として測定した。
【０１５０】
合成例２
［コア層形成用ベースポリマー；（メタ）アクリルポリマー（Ｐ−２）の作製］
撹拌機、冷却管、ガス導入管、滴下ろうと、及び温度計を備えたフラスコに、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４７質量部及び乳酸メチル２４質量部を秤量し、窒素ガスを導入しながら撹拌を行った。液温を６５℃に上昇させ、メチルメタクリレート３４質量部、ベンジルメタクリレート３４質量部、２−ヒドロキシエチルメタクリレート１４質量部、メタクリル酸１８質量部、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）２．５質量部、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート４３質量部、及び乳酸メチル２４質量部の混合物を３時間かけて滴下後、６５℃で３時間撹拌し、さらに９５℃で１時間撹拌を続けて、（メタ）アクリルポリマー（Ｐ−２）溶液（固形分４３質量％）を得た。
合成例１と同様な方法で、Ｐ−２の酸価及び重量平均分子量を測定した結果、それぞれ
１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ、３４，０００であった。
【０１５１】
［クラッド層形成用樹脂ワニスＣＬＶ−１の調合］
（Ａ）ベースポリマーとして、前記Ｐ−１溶液（固形分３５質量％）１４３質量部（固形分換算で５０質量部）、（Ｂ）重合性化合物として、プロピレンオキシド変性ジアクリレート（日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ−Ｐ２４０Ａ」）４５質量部及び３官能アクリレート（共栄社化学株式会社製「ＰＥ−３Ａ」）５質量部、（Ｃ）光重合開始剤として、リン酸エステル系光開始剤（ＢＡＳＦ社製「イルガキュア８１９」）１質量部を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、クラッド層形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製「ＰＦ０２０」）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製「Ｊ０５０Ａ」）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、クラッド層形成用樹脂ワニスを得た。
【０１５２】
［クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１の作製］
上記で得られたクラッド層形成用樹脂組成物を、ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製「コスモシャインＡ４１００」、厚み５０μｍ）の非処理面上に、前記塗工機を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥後、保護フィルムとして表面離型処理ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、クラッド層形成用樹脂フィルムを得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であり、本実施例では使用した下部クラッド層の厚みに付いては、実施例中に記載する。また、下部クラッド層の硬化後の膜厚と塗工後の膜厚は同一であった。本実施例で用いた上部クラッド層形成用樹脂フィルムの膜厚についても実施例中に記載する。実施例中に記載する上部クラッド層形成用樹脂フィルムの膜厚は塗工後の膜厚とする。
【０１５３】
実施例１
［コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１の調合］
（Ａ）アルカリ可溶性（メタ）アクリルポリマーとして、前記Ｐ−２溶液（固形分４２質量％）６０質量部、（Ｂ）重合性化合物として、エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ−３２４Ａ」）４０質量部
【０１５４】
【化１６】
2016114672.tif 000017
（Ｃ）重合開始剤として、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア８１９」）１質量部、
（Ｄ）ヒンダードアミン系光安定剤として、１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブＬＡ−８２」）１質量部
【０１５５】
【化１７】
2016114672.tif 000018
（Ｅ）酸化防止剤として、３，９−ビス[２−[３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ]−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブＡＯ−８０」）１質量部
【０１５６】
【化１８】
2016114672.tif 000019
を広口のポリ瓶に秤量し、撹拌機を用いて、温度２５℃、回転数４００ｒｐｍの条件で、６時間撹拌して、コア部形成用樹脂ワニスを調合した。その後、孔径２μｍのポリフロンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製「ＰＦ０２０」）及び孔径０．５μｍのメンブレンフィルタ（アドバンテック東洋株式会社製「Ｊ０５０Ａ」）を用いて、温度２５℃、圧力０．４ＭＰａの条件で加圧濾過した。続いて、真空ポンプ及びベルジャーを用いて減圧度５０ｍｍＨｇの条件で１５分間減圧脱泡し、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を得た。
【０１５７】
［コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１の作製］
上記コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−１を、ＰＥＴフィルム（東洋紡株式会社製「コスモシャインＡ１５１７」、厚み１６μｍ）の非処理面上に塗工機（株式会社ヒラノテクシード製「マルチコーターＴＭ−ＭＣ」）を用いて塗布し、１００℃で２０分乾燥し、次いで保護フィルムとして離型ＰＥＴフィルム（帝人デュポンフィルム株式会社製「ピューレックスＡ３１」、厚み２５μｍ）を貼付け、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を得た。このとき樹脂層の厚みは、塗工機のギャップを調節することで任意に調整可能であるが、本実施例では硬化後の膜厚が、５０μｍとなるように調節した。
【０１５８】
実施例２〜４、及び比較例１〜３
表１に示す配合比に従って、コア部形成用樹脂ワニスＣＯＶ−２〜８を調合し、実施例１と同様な方法で、コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−２〜８を作製した。
【０１５９】
［全光線透過率、ＹＩ、ヘイズの測定］
保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した前記コア部形成用樹脂フィルムを、スライドガラス（サイズ：７６ｍｍ×２６ｍｍ、厚さ：１ｍｍ）上に前記真空ラミネータを用いて、圧力０．４ＭＰａ、温度５０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。次いで、前記紫外線露光機にて紫外線（波長３６５ｎｍ）を１０００ｍＪ／ｃｍ２照射し、ＹＩ（Ｙｅｌｌｏｗｎｅｓｓ  Ｉｎｄｅｘ）、ヘイズを測定した。測定には色度計（日本電飾工業株式会社製「ＣＯＨ−３００Ａ」）を使用した。
【０１６０】
［光導波路の作製法］
真空加圧式ラミネータ（株式会社名機製作所製「ＭＶＬＰ−５００／６００」）を用い、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した前記下部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、ガラスエポキシ樹脂基板（日立化成株式会社製「ＭＣＬ−Ｅ−６７９ＦＢ」、板厚０．６ｍｍ、銅箔はエッチングにより除去）上に積層した。次に、紫外線露光機（大日本スクリーン株式会社製「ＭＡＰ−１２００−Ｌ」）を用い、紫外線（波長３６５ｎｍ）を４０００ｍＪ／ｃｍ２照射後、支持フィルム（コスモシャインＡ４１００）を除去し、１２０℃で１時間加熱処理することによって、下部クラッド層４を形成した。
【０１６１】
続いて、ロールラミネータ（日立化成テクノプラント株式会社製「ＨＬＭ−１５００」）を用い、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した前記コア部形成用樹脂フィルムＣＯＦ−１を、下部クラッド層４上に、圧力０．５ＭＰａ、温度５０℃、速度０．２ｍ／ｍｉｎの条件で積層した。次いで、幅５０μｍの光導波路形成用パターンを有するネガ型フォトマスクを介し、前記紫外線露光機で紫外線（波長３６５ｎｍ）を２５００ｍＪ／ｃｍ２照射して、コア部２（コアパターン）を露光した。支持フィルム（コスモシャインＡ１５１７）を除去した後、スプレー式現像装置（株式会社山縣機械製「ＲＸ−４０Ｄ」）を用い、１質量％炭酸ナトリウム水溶液にて温度３０℃、スプレー圧０．１５ＭＰａ、現像時間１０５秒の条件で現像した。続いて、純水にて洗浄し、１６０℃で１時間加熱乾燥及び熱硬化した。
【０１６２】
次に、前記真空加圧式ラミネータを用い、保護フィルム（ピューレックスＡ３１）を除去した前記上部クラッド層形成用樹脂フィルムＣＬＦ−１を、コア部２及び下部クラッド層４上に、圧力０．４ＭＰａ、温度８０℃及び加圧時間３０秒の条件で積層した。紫外線（波長３６５ｎｍ）を４０００ｍＪ／ｃｍ２照射し、支持フィルム（コスモシャインＡ４１００）を除去した後、１６０℃で１時間加熱硬化することによって、上部クラッド層３を形成し、図１（ａ）に示す光導波路１を得た。その後、ダイシングソー（株式会社ディスコ製「ＤＡＤ−３４１」）を用いて長さ１０ｃｍのリジッド光導波路を切り出した。
【０１６３】
［初期光伝搬損失の測定（４４５ｎｍ、５３２ｎｍ、６３５ｎｍ）］
得られた光導波路の可視光領域の光伝搬損失を、光源に３種類の波長のレーザ（波長４４５ｎｍの青色、５３２ｎｍの緑色、６３５ｎｍの赤色）、受光センサ（株式会社アドバンテスト製「Ｑ８２２１４」）、入射ファイバ（ＧＩ−５０／１２５マルチモードファイバ、ＮＡ＝０．２０）、及び出射ファイバ（ＳＩ−１１４／１２５、ＮＡ＝０．２２）を用いて測定し、光伝搬損失をそれぞれ評価した。光伝搬損失は、光損失測定値（ｄＢ）を光導波路長（１０ｃｍ）で割ることにより算出し、以下の基準で評価した。
○…０．５ｄＢ／ｃｍ以下  
△…０．５ｄＢ／ｃｍより大きく、０．７５ｄＢ／ｃｍ以下
×…０．７５ｄＢ／ｃｍ以上
【０１６４】
［短波長耐光性の評価］
短波長光に対する耐性を評価するため、得られた光導波路に波長４４５ｎｍの青色レーザ光を１時間伝搬させた。伝搬後、前記と同様の光源、受光素子、入射ファイバ及び出射ファイバを用いて測定し、このときの値を光伝搬損失（Ｂ）とし、前記初期伝搬損失（Ａ）用い、短波長光による伝搬損失増加量（Ｃ）を以下の式に従って算出した。
（式）（Ｃ）＝（Ｂ）−（Ａ）
○…（Ｃ）が０．０５ｄＢ／ｃｍ以下
△…（Ｃ）が０．０５ｄＢ／ｃｍより大きく０．２ｄＢ／ｃｍ以下
×…（Ｃ）が０．２ｄＢ／ｃｍ以上
【０１６５】
実施例１〜４及び比較例１〜３の評価結果を表１及び表２に示す。
【０１６６】
【表１】
2016114672.tif 000020
【０１６７】
【表２】
2016114672.tif 000021
【０１６８】
１）合成例２で作製した（メタ）アクリルポリマー溶液、重量平均分子量：３．４×１０４、酸価：１２０ｍｇＫＯＨ／ｇ）
２）エトキシ化ビスフェノールＡジアクリレート（日立化成株式会社製「ファンクリルＦＡ−３２４Ａ」）
３）ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド（ＢＡＳＦジャパン株式会社製「イルガキュア８１９」）
【０１６９】
４）１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブＬＡ−８２」）
５）３，９−ビス[２−[３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ]−１，１−ジメチルエチル]−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５．５］ウンデカン１,２,２,６,６−ペンタメチル−４−ピペリジルメタクリレート（株式会社ＡＤＥＫＡ製「アデカスタブＡＯ−８０」）
【０１７０】
６）エチレンビス（オキシエチレン）ビス［３−（３−（５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ｍ−トリル）プロピオネート］（製品名：ＩＲＧＡＮＯＸ２４５、ＢＡＳＦジャパン社製）
【０１７１】
【化１９】
2016114672.tif 000022
【０１７２】
表１から、本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性に優れており、これらを用いて製造した光導波路は透明性、短波長耐光性に優れていることがわかる。一方、比較例１に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物は短波長耐光性も初期の透明性も充分ではない。また、比較例２、３に示した本発明に属さない光導波路形成用樹脂組成物は透明性に優れているものの、短波長耐光性及に劣っていることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１７３】
本発明の光導波路形成用樹脂組成物は、透明性に優れ、青色レーザ、青色ＬＥＤ等の短波長光線の導波に対しても良好な透明性を維持することを特徴とし、これらを用いて製造した光導波路は光伝搬特性に非常に優れたものである。
【符号の説明】
【０１７４】
１  光導波路
２  コア部
３  上部クラッド層
４  下部クラッド層
５  基材  
６  フォトマスク
７  コア部形成用樹脂フィルム
【図１】
2016114672.tif 000028
【図２】
2016114672.tif 000029