(57)【要約】【課題】画質の低下を防止した光量調整が可能な光量調整装置及び撮像装置を提供する。【解決手段】  光通過経路内に進退する光量調整フィルタを備えた光量調整装置であって、前記光量調整フィルタは、前記光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端部からその反対側の端部に向けてフィルタ全体の厚みが漸小するように連続的に変化する鍔部を有し、前記鍔部の前記フィルタ先端部での透過光と、前記フィルタ先端部の進入前に前記光通過経路を通過する通過光との位相差を低減する構成を特徴としている。【選択図】図２
2016114632.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光通過経路内に進退する光量調整フィルタを備えた光量調整装置であって、
前記光量調整フィルタは、前記光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端部からその反対側の端部に向けてフィルタ全体の厚みが漸小するように連続的に変化する鍔部を有し、
前記鍔部の前記フィルタ先端部での透過光の位相が、前記フィルタ先端部の進入前に前記光通過経路を通過する通過光との位相と実質的に同等であることを特徴とする光量調整装置。
【請求項２】
前記フィルタ先端部での透過光と前記通過光との位相差がλ／５以下であることを特徴とする請求項１に記載の光量調整装置。
【請求項３】
前記光量調整フィルタは、透明基板と、前記透明基板上に設けられて前記透明基板の面方向に膜厚が連続的に変化する膜傾斜部を有する光吸収膜とで形成され、
前記鍔部は、前記透明基板の端部に設けられた基板傾斜部と、前記膜傾斜部とで形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の光量調整装置。
【請求項４】
前記光量調整フィルタは、前記光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端に前記鍔部を設けた透明基板と、前記透明基板上のうち前記鍔部を除いた面上に設けられて前記透明基板の面方向に膜厚が均一な光吸収膜とで形成されたことを特徴とする請求項１又は２に記載の光量調整装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光量調整装置を備えたことを特徴とする撮像装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カメラ等に搭載される光量調整装置及びこの光量調整装置を備えた撮像装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、撮像装置には、撮像素子に入射する光量を調整するための光量調整装置が搭載されている。このような光量調整装置は、撮像素子に入射する光通過経路に対して進退可能なＮＤフィルタ等の光量調整フィルタを有する（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−１２６２３４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
上述した従来の光量調整フィルタは、光通過経路に対して進退させる過程において、光通過経路の一部のみを遮った状態（例えば、半掛かり状態）が形成されるため、画質の低下につながるおそれがある。
【０００５】
本発明は、画質の低下を防止した光量調整が可能となる光量調整装置及び撮像装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の光量調整装置は、光通過経路内に進退する光量調整フィルタを備えた光量調整装置であって、前記光量調整フィルタは、前記光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端部からその反対側の端部に向けてフィルタ全体の厚みが漸小するように連続的に変化する鍔部を有し、前記鍔部の前記フィルタ先端部での透過光の位相が、前記フィルタ先端部の進入前に前記光通過経路を通過する通過光との位相と実質的に同等であることを特徴とする。
かかる本発明の態様では、フィルタ先端部での透過光が通過光の位相と実質的に同等であるため、画質の低下を防止した光量調整が可能となる。
【０００７】
また、本発明の光量調整装置は、前記フィルタ先端部での透過光と前記通過光との位相差がλ／５以下であることを特徴とする。
かかる本発明の態様では、フィルタ先端部での透過光と、透過調整前の通過光との位相差をλ／５以下としたので、画質の低下を防止した光量調整が可能となる。
【０００８】
また、本発明の光量調整装置は、前記光量調整フィルタは、透明基板と、前記透明基板上に設けられて前記透明基板の面方向に膜厚が連続的に変化する膜傾斜部を有する光吸収膜とで形成され、前記鍔部は、前記透明基板の端部に設けられた基板傾斜部と、前記膜傾斜部とで形成されたことを特徴とする。
かかる本発明の態様によれば、透明基板の基板傾斜部と、光吸収膜の膜傾斜部とで、上記の鍔部を形成し、撮影時の光量調整を高精度に行うことが可能となる。
【０００９】
また、本発明の光量調整装置は、前記光量調整フィルタは、前記光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端に前記鍔部を設けた透明基板と、前記透明基板上のうち前記鍔部を除いた面上に設けられて前記透明基板の面方向に膜厚が均一な光吸収膜とで形成されたことを特徴とする。
かかる本発明の態様によれば、基板に設けられた鍔部によって、撮影時の光量調整を高精度に行うことが可能となる。
【００１０】
なお、本発明は、上述した光量調整装置を備えた撮像装置についても広く対象とする。
かかる本発明の態様では、画質の低下が防止され、且つ光量の調整が可能となるため、信頼性の高い撮影を実現できる。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、画質の低下を防止した光量調整を行える光量調整装置及び撮像装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】一実施形態に係る撮像装置の概略構成を示す図。
【図２】一実施形態に係る撮像装置に搭載される光量調整装置の概略図。
【図３】一実施形態に係る光量調整装置の光量調整フィルタの概略構成図。
【図４】図３の光量調整フィルタの製造方法を説明する図。
【図５】傾斜マスクの概略図。
【図６】一実施形態に係る光量調整フィルタの概略構成図。
【図７】フィルタ切削刃の概略図。
【図８】一実施形態に係る光量調整フィルタの製造方法を説明する図。
【図９】一実施形態に係る光量調整フィルタの概略構成図。
【図１０】一実施形態に係る光量調整フィルタの端部拡大図
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１４】
本発明は、デジタルスチルカメラ或いはビデオカメラ等の撮影系に搭載され、光量を調整する光量調整装置に関する。詳細には、撮像装置には、例えば、ＣＣＤ（Ｃｈａｒｇｅ Ｃｏｕｐｌｅｄ Ｄｅｖｉｃｅ）やＣＭＯＳ（Ｃｏｍｐｌｅｍｅｎｔａｒｙ Ｍｅｔａｌ Ｏｘｉｄｅ Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ）センサ等の撮像素子が搭載されている。そして、本発明は、この撮像素子に対して入射する光量を調整するための光量調整フィルタを備えた光量調整装置に関する。
【００１５】
ここで、このような光量調整装置としては、例えば、撮像素子に入射する光量を調節するための絞り装置が挙げられるが、この絞り装置は、被写体の輝度によって絞り羽根を駆動させ開口径を調整し、被写体の輝度が大きくなるにつれ撮像素子に入射する光量を低減させるため、開口径は小さくなる。そして、このように開口径が小さくなると、例えば、ハンチング現象や光の回折による画質の劣化を引き起こし易い。また、撮像素子の感度が向上すると、より光量を抑制することが好ましい。そのため、絞り羽根の近辺にＮＤ（Ｎｅｕｔｒａｌ Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタを配置し、開口径を大きく維持したまま光量を抑制する対策が有効である。
【００１６】
このＮＤフィルタは、例えば、絞り羽根に接着させたて同時に駆動させたり、絞り羽根には直接接着させずに別駆動で独立して駆動させたりすることで、光が通過する経路（光通過経路）上に挿入される。より具体的には、光が通過する開口部を形成する開口形成部材に対し、開口部内に進退可能に設けられる。このようなＮＤフィルタは、光を減衰させる機能（光量調整機能）を有しており、必要に応じて減衰機能に勾配を持たせることで、より光量の調節機能を向上することが可能である。
【００１７】
また、撮像素子の感度に対しては、より透過光量を低減できるようにＮＤフィルタの光学濃度を濃くし、絞りの開口が小さくなり過ぎないようにするのが好ましい。これにより、撮像素子として高感度のものを用いることが可能となる。
【００１８】
なお、ＮＤフィルタは、例えば、透明基板上に誘電体層と光吸収層とを真空蒸着法やスパッタリング法等によって成膜したり、光吸収を有する染料や顔料などの有機色素を基板に練り込んだり、基板上にコーティングすることで作製される。ＮＤフィルタの基材となる基板としては、例えば、小型化・軽量化や任意形状への加工性を考慮し、プラスチック基板を用いることも可能である。
【００１９】
また、ＮＤフィルタとしては、段階的又は連続的に光学濃度が変化するＮＤフィルタを用いることが有効であり、このようなＮＤフィルタを光路上に出し入れすることでより透過光量の調整が高精度で行える。
【００２０】
ＮＤフィルタを絞り装置に組み込む又はその周辺に配置する場合、絞り装置によってつくられる開口上を移動することで光量調整を行うことになるが、透過光量の調整量によってはＮＤフィルタが開口の一部のみを遮った状態、いわゆる半掛かり状態を形成する。この半掛かり状態のときは、開口（光通過経路）を透過する光の一部のみがＮＤフィルタを通過し、ＮＤフィルタを通過した光とＮＤフィルタを通過しなかった光との間で、画質の劣化を引き起こすおそれがある。なお、ＮＤフィルタ以外の光学フィルタの出し入れによっても、同様な画質の劣化を引き起こすおそれがある。
【００２１】
本発明では、例えば、この半掛かり状態等において、画質の劣化を引き起こす原因をつきとめ、開口を形成する絞り羽根とその開口上を進退するＮＤフィルタとを有する撮像光学系において、ＮＤフィルタの開口に最初に挿入する端部の体積が連続的に変化し、ＮＤフィルタが開口の一部に掛かる半掛かり状態のとき、ＮＤフィルタの端部において、隣り合う領域を通過した光の位相差が小さくなるようにしている。すなわち、ＮＤフィルタの開口進入側のフィルタ先端部での透過光の位相が、通過光の位相と実質的に同等となるようにしている。ここで、位相差とは透過波面位相差を意味する。
【００２２】
本発明は、上記ＮＤフィルタに限定されず、例えば、光量を調整する機能を持つ他の光学フィルタにも適用可能である。すなわち、本発明は、光通過経路内に進退する光量調整フィルタ、あるいは、この光量調整フィルタを備えた光量調整装置を対象としており、その光量調整フィルタは、光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端部からその反対側の端部に向けてフィルタ全体の厚みが漸小するように連続的に変化する鍔部を有しており、この鍔部のフィルタ先端部での透過光と、フィルタ先端部の進入前に光通過経路を通過する通過光との位相差によって引き起こされる画質劣化を低減する構成となっている。更に、本発明の光学フィルタは、フィルタ先端部での透過光と、透過調整前の通過光との位相差をλ／５以下であることが好ましい。更に、フィルタ端部の鍔部において、隣り合う領域を透過した光の位相差がλ／５以下とすることが好ましい。位相差をλ／５以下とすることで、位相差による画質の低下を実質的に防止して光量を調整することができる。
【００２３】
特に、本発明は、上記鍔部の透過率がフィルタ先端部からその反対側の端部に向けて連続的に変化する領域を有していることが好ましい。これにより、フィルタ内における透過調整を高精度に行うことが可能となる。
【００２４】
このような構成とすることで、例えば、ＮＤフィルタの端部において、ＮＤフィルタが半掛かりの状態が形成されても、ＮＤフィルタを通過した光とＮＤフィルタを通過しなかった光の位相差による画質の劣化を低減することが可能となる。なお、ＮＤフィルタの構成は、透明基板と、この透明基板上に設けられて透明基板の面方向に膜厚が連続的に変化する傾斜部を有する光吸収膜とで形成される。この場合、上記の鍔部は、透明基板に設けられた基板傾斜部と、透明基板上に設けられたＮＤ膜の膜傾斜部とで形成される。このような構成によっても、撮影時の光量調整を高精度に行える他、画像の劣化を効果的に低減できる。
【００２５】
なお、本発明の光量調整フィルタをＮＤフィルタに適用した場合、上記鍔部は、透明基板に設けられた基板傾斜部によって形成してもよいし、この基板傾斜部とＮＤ膜の膜傾斜部とで形成してもよい。すなわち、ＮＤフィルタを構成する透明基板及びＮＤ膜の全体で鍔部を形成してもよいし、透明基板だけに鍔部を形成してもよく、いずれにしても、この鍔部での透過光と、通過光との位相差によって引き起こされる画質劣化を低減する構成となっていればよい。
【００２６】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態に係る光量調整装置について詳細に説明する。
【００２７】
図１には光学撮像系を示し、レンズ１０、ＮＤフィルタ１と絞り羽根支持板１１と絞り羽根２ａ、２ｂとからなる光量調整装置３、レンズ１２〜１４、ローパスフィルタ１５、撮像素子１６が順次配置されている。
【００２８】
光量調整装置３は絞り羽根支持板１１に絞り羽根２ａ、２ｂが可動に取り付けられており、絞り羽根２ａ、２ｂによって形成される開口を通過する光を減衰させる為のＮＤフィルタ１が２ｂに取り付けられている。
【００２９】
図２は本発明に関する光量調整装置を示した図である。絞り羽根２ａ、２ｂは光軸と直行する方向に自由に進退可能となっており、光量に応じて絞り羽根２ａ、２ｂが駆動し、絞り羽根２ａ、２ｂによって形成される開口の大きさを調整する。
【００３０】
本実施形態ではＮＤフィルタ１は絞り羽根２ｂに貼り付けているが、必ずしも絞り羽根に貼り付ける必要は無く、絞り羽根とは独立して光軸と直行する方向に自由に進退可能としても良い。
【００３１】
ＮＤフィルタ１は、ＮＤフィルタ１の進退方向の端面のうち、光軸側の端面の厚みが連続的に変化するようになっている。端部の厚みは、進入方向に進むに従い徐々に薄くなり、ＮＤフィルタ１の端部の最も薄い領域を通過した光とＮＤフィルタを通過しなかった光との位相差が光波長λ＝５５０ｎｍの時、λ／５以下となるようになっている。
【００３２】
ここでＮＤフィルタ１について詳しく説明する。ＮＤフィルタ１は透明基板４である厚さ５０μｍのＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）上に誘電体層と光吸収層を複数層積層させ、更に反射防止層を成膜することで得た。ＮＤフィルタとしては光吸収を有する染料や顔料を基板に練り込んだり、あるいはコーティングしたりすることでも得られるが、透過率のフラット性が悪く、撮像光学系に設けられるＮＤフィルタは透明基板上に誘電体層と光吸収層とを複数層積層させたものとした。
【００３３】
本実施形態では、透明基板４としてコスト面を考慮しＰＥＴを用いているが、可視領域において透明性が高いものであれば良く、ＰＥＴ以外のポリエステル系、ノルボルネン系、ポリエーテル系、アクリル系、スチレン系、ＰＥＳ（ポリエーテルスルホン）、ポリスルホン、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ＰＣ（ポリカーボネート）、ポリイミド系樹脂等の種々の合成樹脂フィルム基板を使用することもできる。
【００３４】
誘電体層や光吸収層の成膜による膜応力や熱応力による変形や、水分による分光変化等を考慮すると、耐熱性つまりガラス転移温度Ｔｇが高く、曲げ弾性率が大きく、吸水性の小さいものが好ましい。
【００３５】
具体的には、ノルボルネン系やポリイミド系樹脂が最適な材料の１つである。また、本発明では光軸と最初に交わる端面の厚みが連続的に変化しており、この端部において最も薄い領域を通過した光とＮＤフィルタを通過しなかった光の位相差がλ／５以下となるようになっており、鍔部の隣り合う領域を透過した光の位相差もλ／５以下となっている。この条件を満たす為には、透明基板４の屈折率を１．５、λ＝５５０ｎｍとしたとき、端部の長さは基板の厚さをｔとすると、ｔ＝２００μｍのとき約１１００μｍ、ｔ＝１００μｍのとき約５５０μｍ、ｔ＝７５μｍのとき約４００μｍ、ｔ＝５０μｍのとき約２７５μｍ、ｔ＝２５μｍのとき約１３５μｍとなり、透明基板４の厚みが厚くなるほどＮＤフィルタ１は大型化してしまう。この為、透明基板４の厚みとしては、剛性を保てる範囲で可能な限り薄いほうが良く、ｔ≦１００μｍが好ましく、２５μｍ≦ｔ≦７５μｍであることが更に好ましい。
【００３６】
本実施形態では誘電体層としてＡｌ２Ｏ３、光吸収層としてＴｉＯｘ、反射防止層としてＭｇＦ２を真空蒸着法にて成膜し、光学濃度（ＯＤ）１．５のＮＤフィルタを作製した。ＮＤフィルタの透過率をＴとしたとき、光学濃度Ｄ＝Ｌｏｇ（１／Ｔ）で表され、光学濃度１．５は透過率に換算すると約３．１６％となる。
【００３７】
具体的には、図３の構成に示すように１２層のＮＤ膜５からなるＮＤフィルタを作製した。透明基板４、マスク２０、傾斜マスク２１をこの順にセットしたワークを、蒸着傘に取り付ける。蒸着傘はワークのセットした位置によって膜厚や基板温度が変化しないように成膜時には所定の速度で回転する。
【００３８】
蒸着機内の圧力・温度が所定のものとなった後、蒸着物質であるＡｌ２Ｏ３の入った坩堝を加熱し、シャッターを開き所定の膜厚となるまで成膜する。次にＴｉＯｘの入った坩堝を加熱し、ＴｉＯｘ膜を成膜する。
【００３９】
このようにＡｌ２Ｏ３膜とＴｉＯｘ膜を交互に１０層目まで成膜し、その後１１層目のＭｇＦ２を形成した。このように成膜することで、傾斜マスク２１の傾斜板２２によって遮蔽される蒸着膜の量により膜厚が決定し、濃度勾配をつけることが出来る。傾斜マスク２１の傾斜板２２の枚数や間隔、遮蔽距離を変えたり、透明基板４と遮蔽板２２の形成する角度を変えたりすることで任意の濃度勾配を得ることができる。
【００４０】
そして、１１層目まで成膜し終えたら、蒸着機を一度大気開放し、傾斜マスク２１を取り外し、今度は全面で均一の膜厚となるように１２層目のＭｇＦ２を光学膜厚ｎ×ｄ（ｎは屈折率、ｄは物理膜厚）でλ／４（λ＝５５０ｎｍ）に成膜した。ＭｇＦ２を２回に分けて成膜したのは、１２層目のＭｇＦ２成膜の為蒸着機を大気開放する際に、ＴｉＯｘが表層にあると、大気中の酸素の影響を受けて分光特性が変化してしまう虞れがあり、１１層目のＭｇＦ２を保護層とするためである。
【００４１】
また、本実施形態では１２層目のＭｇＦ２を各濃度部に均一の厚さで成膜しているが、濃度勾配の仕様や設計によっては、１１層目までの成膜に用いた傾斜マスクと真逆の傾斜を有する傾斜マスクを用いて１２層目のＭｇＦ２を成膜することで濃度勾配部の反射をより低減できることもある。
【００４２】
さらに、このように１２層目のＭｇＦ２を成膜することで１１層目までの成膜によって発生した膜厚の傾斜を低減することが可能で、ＮＤフィルタの蒸着膜の膜厚に起因する位相差を低減することができる。
【００４３】
傾斜マスク２１を用いない方法としては、光吸収層を成膜する際に成膜装置内の酸素分圧に傾斜を持たせ、光吸収層の酸化数に勾配を持たせる事で濃度勾配を持ったＮＤフィルタを作製することも出来る。この場合、光吸収層の膜厚は略同一となりＮＤ膜部分における膜厚差が小さくなるため、ＮＤ膜部の膜厚差による位相差を低減できる。
【００４４】
また、本実施形態では、透明基板４のＮＤ膜５を形成した面とは反対面にＳｉＯ２とＴｉＯ２とを交互に４層積層した反射防止膜６をＮＤ膜５と同じく真空蒸着法で成膜した。反射防止膜６を設けることで、透明基板４の両面においてゴーストやフレアの要因となる反射を極力低減している。
【００４５】
なお、本実施形態では、透明基板４の片面にＮＤ膜５を形成し、その反対面に反射防止膜６を設けることで両面において反射率を低減しているが、図６に示すように両面にＮＤ膜５、５´を形成することで両面の反射をより低減できることがある。
【００４６】
このような構成としたとき、ＮＤフィルタに濃度勾配を持たせる場合、両面のＮＤ膜５、５´の両方に濃度勾配を持たせても良いし、一方に濃度勾配を持たせ、もう一方を単一濃度としても良い。このように形成したＮＤフィルタ１は光量に応じて開口にかかるＮＤフィルタ１の面積を調整する光量調整装置に設けられ、ＮＤフィルタ１の有する濃度勾配のため、高精度な光量調整が可能となる。
【００４７】
また、反射防止膜６の代わりに、可視光波長よりも小さいピッチで突起物を配置した凹凸微細構造を設けても良い。凹凸微細構造体は突起物の体積がＮＤフィルタの厚み方向に徐々に変化することでなだらかな屈折率分布を有し、この為突起物の界面における反射が抑制される。
【００４８】
凹凸微細構造体は紫外線硬化樹脂、熱硬化樹脂、金属酸化物などから形成することが出来る。また、突起物の形状は、円錐形、四角錐、逆円錐、逆四角錐等任意の形状を選択することが可能である。
【００４９】
なお、本実施形態では、誘電体層としてＡｌ２Ｏ３、光吸収層としてＴｉＯｘ、反射防止層としてＭｇＦ２を用いているが、これらに限定されるものでは無く、例えば誘電体層としてはＳｉＯ２、ＳｉＯ、ＭｇＦ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５等を、光吸収層としてはＴｉ、Ｎｉ、Ｃｒ、ＮｉＣｒ、ＮｉＦｅ、Ｎｂ等の金属や合金、酸化物、窒化物等を、反射防止層は屈折率が１．５以下程度のものであれば良く、ＳｉＯ２等が使用できる。
【００５０】
また、反射防止膜６としてはＭｇＦ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５等を任意の層数で形成可能である。本実施例においてはＮＤ膜５、５´、反射防止膜６はともに真空蒸着法で成膜されているが、スパッタリング法やイオンプレーティング法、ＩＡＤ法、スプレー法などによっても成膜することができる。
【００５１】
本実施形態では金型を用いてＮＤフィルタ１の端部を形成した。具体的には図７のような切断刃を用いて、ＮＤフィルタ１をフィルムシートから切断することで、図９（ａ）のような端部の形状を得た。例えば、本実施形態では、このＮＤフィルタ１のフィルタ端部、すなわち、光通過経路に対する進退方向にて進入側のフィルタ先端部からその反対側の端部に向けてフィルタ全体の厚みが漸小するように連続的に変化する鍔部１００が設けられており、この鍔部１００は、少なくとも透明基板に設けられ、この透明基板上に設けられるＮＤ膜に傾斜部分を設けてもよいし、設けなくてもよい。いずれにしても、フィルタ端部における傾斜部分が鍔部１００を構成する（図２参照）。なお、例えば、ＮＤフィルタ１の端部を図９（ａ）、図９（ｂ）のような形状としてもよいが、急激な膜厚差が発生しなければ、図９（ａ）、図９（ｂ）のように端部形状がリニアな直線でなくとも、例えば、図９（ｃ）、図９（ｄ）のような形状としてもよい。また、ＮＤフィルタ１の最も厚みの薄くなっている最端部は必ずしも鋭角となっている必要は無いが、最短部を通過した光とＮＤフィルタを通過しなかった光の位相差がλ／５以下となっていることが好ましい。
【００５２】
本実施形態の切断刃は、切断したＮＤフィルタ１の端部が、隣合う領域を通過した光の位相差がλ／５以下となるような十分な角度とするため、ＮＤフィルタ１の端部の角度よりも切断刃の角度θを鋭角とした。具体的にはＮＤフィルタ１の連続的に厚みが変化している端部における最も薄い領域を通過した光とＮＤフィルタを通過しなかった光との位相差がλ／５以下を満たす角度である約１３°以下とした。
【００５３】
なお、ＮＤフィルタ１の端部の形状は、図９（ａ）のような形状としたが、図９（ｂ）に示すような形状とすることで、入射光による端面の反射と開口を通過した光が撮像素子等によって反射されＮＤフィルタ１に再び入射した光による端面の反射がともに散乱する為、ゴーストやフレアの発生をより低減することができる。
【００５４】
図９（ｂ）のような端面の形成の仕方としては、透明基板４であるＰＥＴが可溶な溶媒を用い、ＰＥＴを溶解させる方法が挙げられる。具体的には、ＮＤフィルタ１を金型によってフィルムシートから打ち抜き、ＮＤフィルタ１の傾斜をつける端面を、図８で示すように溶解速度を速める為に６０℃に加熱したトルエン溶媒にディップコート法の要領で浸し、引上げスピードを徐々に遅くすることで図９（ａ）のような形状の端部を形成し、その後ＮＤフィルタ１を旋回させて最端部に液溜まりが出来るのを防止する。
【００５５】
更に、乾燥炉にてトルエンを完全に揮発させる。ＰＥＴを溶解させる溶媒としてはトルエン以外にも、塩酸や硝酸、ベンゼン、キシレン、塩化メチレン、アセトンなども使用できる。また、溶媒は透明基板４の種類によって任意の溶媒を選択できる。本実施例では金型、溶媒を用いた端部の形成について説明したが、これらに限られたものではなく、他の方法としては、熱した金属のロールでＮＤフィルタ１の端部を徐々に圧力を加えながら押しつぶす方法や、レーザーを用いた切断、端部をヤスリなどによって削る方法などが挙げられる。
【００５６】
本発明において、透明基板４上にＮＤ膜５を形成する場合、図１０（ａ）のように、透明基板４の端部に基板傾斜部４ａを設け、その基板傾斜部４ａによって形成される鍔部１００と隣接してＮＤ膜５を形成してもよいし、図１０（ｂ）のように、上記基板傾斜部４ａと距離を置いて、基板傾斜部４ａによって形成される鍔部１００とＮＤ膜５の間に透明基板４のみから形成される透明領域を設けてもよい。また、膜厚が連続的に変化する領域（以下膜傾斜部５ａ）を有するＮＤ膜５とすることもでき、図１０（ｃ）のように、上記基板傾斜部４ａと膜傾斜部５ａとで鍔部１００を形成、すなわち、鍔部１００の一部をＮＤ膜５で形成してもよい。
【００５７】
また、図１０（ｂ）に示すように、鍔部１００とＮＤ膜５との間に透明領域を設ける際は、その透明領域にＡＲ膜２００を形成することが好ましい。このようにすることで、透明基材４の表面反射を低減し、画質の劣化を抑制することができる。また、透明領域に形成するＡＲ膜２００は膜傾斜部２００ａを有していてもよく、図１０（ｄ）のように鍔部１００の一部を形成していてもよい。また、図１０（ｅ）に示すようにＡＲ膜２００とＮＤ膜５とがそれぞれ膜傾斜部２００ａ，５ａを有しており、ともに鍔部１００の一部を形成する構成とすることもできる。
【００５８】
なお、ＮＤ膜５やＡＲ膜２００の各膜傾斜部５ａ，２００ａで鍔部１００の一部を形成する場合は、透明基板４の形成する傾斜角度とＮＤ膜やＡＲ膜によって形成される傾斜角度はそれぞれ異なっていてもよい。ＮＤ膜５やＡＲ膜２００は透明基板４よりも平均屈折率が大きくなるため、隣り合う領域において実質的に位相差を同等とするのに必要とされる傾斜は緩くなる。尚、ＡＲ膜をＳｉＯ２やＭｇＦ２などの低屈折材料の単膜で形成する場合は、基材よりも屈折率が小さくなることもあり、隣り合う領域において実質的に位相差を同等とするのに必要とされる傾斜の傾きは大きくなる。
【００５９】
なお、ＮＤ膜５やＡＲ膜２００の各膜傾斜部５ａ，２００ａによって鍔部１００の一部を形成することで、ＮＤ膜５またはＡＲ膜２００の形成されていない領域との位相差の変化がより緩やかとなり好適な構成となる。
【００６０】
＜他の実施形態＞
以上本発明を一実施形態に基づいて詳細に説明したが、本発明は上述した一実施形態に限定されるものではない。
【００６１】
例えば、ＮＤフィルタを開口上に自由に進退可能とする機能を有する光量調整装置に配置することで、装置の大型化を極力低減し、ＮＤフィルタの端部が開口上に存在する半掛かり状態においてもＮＤフィルタ１の厚みに起因する位相差による画質の劣化を著しく低減した光量調整装置を提供することができる。
【図１】
2016114632.tif 000003
【図２】
2016114632.tif 000004
【図３】
2016114632.tif 000005
【図４】
2016114632.tif 000006
【図５】
2016114632.tif 000007
【図６】
2016114632.tif 000008
【図７】
2016114632.tif 000009
【図８】
2016114632.tif 000010
【図９】
2016114632.tif 000011
【図１０】
2016114632.tif 000012