(57)【要約】【課題】離型性、表面性に優れたドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムを提供すること。【解決手段】重量平均分子量が１．０×１０４以上３．０×１０６以下のシンジオタクチックポリスチレンを主たる樹脂成分とし、少なくとも一方向のヤング率が２．０〜７．０ＧＰａの範囲で、少なくとも一方の表面粗さ（Ｒａ）が１〜８０ｎｍの範囲にあることを特徴とするドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムを提供すること。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
重量平均分子量が１．０×１０４以上３．０×１０６以下のシンジオタクチックポリスチレンを主たる樹脂成分とし、少なくとも一方向のヤング率が２．０〜７．０ＧＰａの範囲で、少なくとも一方の表面は、表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下で、かつその表面粗さ（Ｒａ）が１〜１００ｎｍの範囲にあることを特徴とするドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【請求項２】
一方の表面（表面Ａ）の表面濡れ張力が３６ｍＮ／ｍ以上で、他方の表面（表面Ｂ）の表面エネルギーが表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下である請求項１記載のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【請求項３】
表面Ａがコロナ処理された表面である請求項２記載のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【請求項４】
表面Ａが塗膜層で形成された表面である請求項２記載のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【請求項５】
塗膜層がアクリルバインダーを含有する請求項４記載のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【請求項６】
フィッシュアイの個数が、５個／ｍ２以下である請求項１記載のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【請求項７】
厚みが５〜２５μｍの範囲にある請求項１記載のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ドライフィルムフォトレジストに用いる離型フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子産業分野での主要な部品の一つであるプリント配線板は、ドライフォトレジスト（ＤＦＲ）を用いて、写真法によって基板上に回路を形成する方法で製造されることが多い。このＤＦＲは、従来、厚み１５〜５０μｍのフォトレジスト層を、ベースフィルムとしての厚み１５〜２５μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムと保護フィルムとしての厚み１５〜４０μｍのポリエチレンフィルムでサンドイッチした三層構造からなり、通常幅１ｍ以上、長さ１２０〜１５０ｍのものをロール状に巻いて取り引きされている。
【０００３】
ＤＦＲは、プリント配線板の製造において、保護フィルムを剥がしながらフォトレジスト層側をラミネーター装置により銅箔基板に熱圧着させる。その後、ベースフィルム上にパターンマスクを置いて露光し、次いで該ベースフィルムを剥がして現像するのが一般的である。露光には通常紫外線（ＵＶ光）が用いられるので、ベースフィルムにはＵＶ透過性に優れ、高透明で表面の平坦な二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムが使用され、また保護フィルムにはインフレーション延伸方式により製膜された中密度ポリエチレンフィルムが使用されている。この保護フィルムは、フォトレジスト層（光硬化性樹脂層）の保護と同時に、ＤＦＲをロール状に巻いたときベースフィルムの裏面とフォトレジスト層とが粘着するのを防止する機能をも兼備する。
【０００４】
ところで、近年、電子機器の 小型化によりプリント配線板の高密度化が要求されており、絶縁基板表面に形成される導体パターンの更なる細線化が急務となっている。プリント配線板製造時に用いられるドライフィルムフォトレジスト用保護フィルムとして使用されるポリエチレンフィルムは、厚さ振れやフィッシュアイの多さがプリント配線板の高密度化の妨げの一因となっている。
【０００５】
すなわち、ドライフィルムフォトレジストは、キャリアフィルム上に塗布したフォトレジスト層を乾燥後、保護フィルムをフォトレジスト層にラミネートして製造されるが、保護フィルムのラミネート時にはフォトレジストは柔軟で、保護フィルム表面にフィッシュアイによる凹凸があると、これがフォトレジスト層に転写されてフォトレジスト層表面が凹凸となり、絶縁基板へのフォトレジスト層の密着不良を引き起こし、導体パターンの欠陥につながる。
【０００６】
しかしながら、保護フィルムであるポリエチレンフィルムは溶融押出しで成形するが、溶融粘度が高いために、押出し時に高性能フィルターでろ過することが極めて困難で、成形したフィルム中にフィッシュアイ等が存在する問題は不可避である。さらに、ポリエチレンフィルムの一般的な製膜法であるインフレーション法では、均一な厚みを得ることは困難であり、厚さ振れの問題も避けられない。
そこで、このような問題を解決するために、特許文献１では、保護フィルムとして、ポリエステルフィルムの少なくとも片面に、分子内にフッ素を含有する重合体成分および架橋剤由来の成分を含有する塗布層を有するフィルムを用いることが提案されている。
【０００７】
しかしながら、離型性を付与するための塗布層が必要なため、離形成分の転写によってフォトレジスト層の接着性が低下したりする問題があった。
また、ＤＦＲは、プリント配線板の製造で、銅箔基板の規格に対応して保護フィルムを備えたままスリットされる。このため、剥がされた保護フィルムやベースフィルムは繰り返し再使用することができず、保護フィルムは廃棄物として捨てられるという問題もあった。
【０００８】
かかる点から、ＤＦＲは透明ベースフィルムの厚みを極力薄くしてＵＶ露光効率を高め、かつ保護フィルムも薄膜化して、ロール状に巻き取った際にコンパクトにするのが理想的であるが、近年ロールの広幅化が進み、高品質のＤＦＲを１．６ｍ以上の広幅で安定生産するにはベースフィルムの厚みは２０〜２５μｍを必要とし、そして該ベースフィルムと保護フィルムの総厚みでは５０μｍ程度とする、構成がとられている。
【０００９】
そこで、特許文献２では、透明ベースフィルムの一つの表面にフォトレジスト層を塗設し、かつベースフィルムの他の表面にフォトレジスト層に対して離型性を奏する離型層を積層した複合フィルムからなり、該複合フィルムをロール状に巻いてフォトレジスト層を離型層で保護するようにした、すなわちキャリアフィルムに保護フィルムの機能も持たせ、保護フィルムを不要にする提案もされている。
しかしながら、特許文献２の方法でも、やはり離型性を付与するための塗布層が必要なため、離形成分の転写によってフォトレジスト層の接着性が低下したりする問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００４−６６６９７号公報
【特許文献２】特開平６−１６１０９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明は上記実情に鑑みなされたものであって、離型性、表面性に優れたドライフィルムフォトレジスト用フィルムを提供することを解決課題とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは上記課題を解決しようと鋭意研究したところ、特定のシンジオタクチックポリスチレンを用い、かつ特定のフィルムにすることで達成できることを見出し、本発明に到達した。
【００１３】
かくして本発明によれば、重量平均分子量が１．０×１０４以上３．０×１０６以下のシンジオタクチックポリスチレンを主たる樹脂成分とし、少なくとも一方向のヤング率が２．０〜７．０ＧＰａの範囲で、少なくとも一方の表面は、表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下で、かつその表面粗さ（Ｒａ）が１〜８０ｎｍの範囲にあるドライフィルムフォトレジスト用フィルムが提供される。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、離型剤を含有するような塗膜層を設けなくても、従来フィッシュアイが多く問題であった保護フィルムのポリエチレンと同等な離型性を発現させることができ、しかも特定のヤング率と表面特性を具備することから、剥離後のフォトレジスト層の表面を平坦に維持することができる。
しかも、離型剤を含有するような塗膜層を設けなくても離型性を発現できることから、従来ベースフィルムとして使用している二軸延伸ポリエステルフィルムの代替としても使用することができ、その結果、ベースフィルムと保護フィルムの機能を一体化させた複合フィルムとしても使用することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムについて、以下で詳述する。
【００１６】
＜シンジオタクチックポリスチレン＞
本発明におけるシンジオタクチックポリスチレンとしては、同位体炭素による核磁気共鳴法（１３Ｃ−ＮＭＲ法）により定量されるラセミダイアッド（ｒ）で７５％以上、好ましくは８５％以上、あるいはラセミペンタッド（ｒｒｒｒ）で３０％以上、好ましくは５０％以上のシンジオタクティシティーを有するポリスチレン、ポリ（アルキルスチレン）、ポリ（ハロゲン化スチレン）、ポリ（アルコキシスチレン）、ポリ（ビニル安息香酸エステル）、あるいはこれらのベンゼン環の一部が水素化された重合体やこれらの混合物、またはこれらの構造単位を含む共重合体を指称する。なお、ここでポリ（アルキルスチレン）としては、ポリ（メチルスチレン）、ポリ（エチルスチレン）、ポリ（プロピルスチレン）、ポリ（ブチルスチレン）、ポリ（フェニルスチレン）、ポリ（ビニルナフタレン）、ポリ（ビニルスチレン）、ポリ（アセナフチレン）等がある。また、ポリ（ハロゲン化スチレン）としては、ポリ（クロロスチレン）、ポリ（ブロモスチレン）、ポリ（フロオロスチレン）等がある。また、ポリ（アルコキシスチレン）としては、ポリ（メトキシスチレン）、ポリ（エトキシスチレン）等がある。これらのうち、特に好ましいスチレン系重合体としては、ポリスチレン、ポリ（ｐ−メチルスチレン）、ポリ（ｍ−メチルスチレン）、ポリ（ｐ−ｔ−ブチルスチレン）、ポリ（ｐ−クロロスチレン）、ポリ（ｍ−クロロスチレン）、ポリ（ｐ−フルオロスチレン）、またスチレンとｐ−メチルスチレンとの共重合体が挙げられる。
【００１７】
ところで、本発明におけるシンジオタクチックポリスチレンの重量平均分子量は、１．０×１０４以上３．０×１０６以下であり、さらに好ましくは５．０×１０４以上１．５×１０６以下であり、特に好ましくは１．１×１０５以上８．０×１０５以下である。
重量平均分子量が下限未満では、製膜性が損なわれ、厚み斑が生じやすくなり、他方上限を超えると、溶融粘度が高くてゲル異物が発生やすく、フォトレジスト層の平坦性を損ないやすい。
【００１８】
＜第１のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム＞
本発明の第１のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムは、上記シンジオタクチックポリスチレンを主たる樹脂成分としたフィルムである。
本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムは、フィルムの面内方向において、少なくとも一方向のヤング率が、２．０〜７．０ＧＰａであり、好ましくは３．０〜６．０ＧＰａ、さらに好ましくは４．０〜５ＧＰａである。ヤング率が下限未満だとハンドリング時にフィルムの腰が弱く、取り扱いが困難になる。他方、ヤング率が上限を超えると、フィルムの腰が強すぎてフォトレジスト層から剥離したときに、フォトレジスト層を傷つけてしまうことがある。また、本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムは、フィルムの面内方向において、直交する２方向のヤング率がともに、好ましくは２．０〜７．０ＧＰａであり、さらに好ましくは３．０〜６．０ＧＰａであり、特に好ましくは４．０〜５ＧＰａである。直交する２方向のヤング率がともに上記範囲内にあることで、取扱いが極めて容易になり、またフォトレジスト層から剥離するときの応力が均一に付加されることからフォトレジスト層を傷つけにくくなる。
【００１９】
また、本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムは、少なくとも一方の表面は、表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下、さらに３４．５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、さらに３４ｍＮ／ｍ以下であることが好ましい。表面の濡れ張力が上記上限を超えると、保護フィルムとして用いた場合に、フォトレジスト層との剥離が重くなる。なお、上記表面濡れ張力の下限は特に制限されないが、保護フィルムとして用いた場合に必要な密着性を確保する観点から、２２ｍＮ／ｍ以上であることが好ましく、さらに２５ｍＮ／ｍ以上であることが好ましい。なお、ホモのシンジオタクチックポリスチレンからなるフィルムの表面張力は通常３４ｍＮ／ｍ程度であり、必要に応じて添加剤や共重合によって調整しても良いが、フォトレジスト層への転写を抑える観点から、離型剤の添加は避けるべきである。
【００２０】
また、本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムは、少なくとも一方の表面は、その表面粗さ（Ｒａ）が１〜１００ｎｍであり、好ましくは１０〜８０ｎｍであり、さらに好ましくは２０〜７０ｎｍである。Ｒａが下限未満だと表面の滑り性が乏しく、フィルムの巻取りが難しい。また、Ｒａが上限よりも大きいと、検査での視認性が低下し、また基材フィルムとして用いた、フォトレジスト層を露光する時に光が散乱して、鮮明なパターン化が難しくなるなどの問題がある。
【００２１】
このような表面粗さを具備させるには、本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルム中に粒子を含有させる方法がある。含有させる粒子の種類は限定されず、有機粒子であってもよいし、無機粒子であってもよいし、有機無機複合粒子であってもよい。好ましくは透明性を溶離高度に維持できることから多孔質粒子が好ましく、特に多孔質シリカ粒子が好ましい。含有させる粒子の平均粒子径は、０．３μｍ以上、５．０μｍ以下が好ましい。この範囲の平均粒子径であると、樹脂中に粒子を適度に分散させることができ、添加した粒子が凝集して粗大粒子を形成することが生じ難くなる。これにより、フィルム表面に粗大突起のない、均一な凹凸を得ることができ、透明性に優れる。より好ましい粒子の平均粒子径は０．６μｍ以上、４．０μｍ以下、さらに１．１μｍ以上、３．５μｍ以下である。また、含有させる粒子の含有量は、フィルムの質量を基準として、０．００５質量％以上、０．２００質量％以下の範囲が好ましい。これにより、透明性および滑り性に優れる。添加量が少なすぎると滑り性が低下する。他方、添加量が多すぎると、フィルム表面が粗面化し、光拡散の影響が大きくなるため、透明性が低下する。より好ましい粒子の含有量は、０．００７質量％以上、０．１８０質量％以下の範囲、さらに０．０１１質量％以上、０．１４０質量％以下の範囲である。
【００２２】
また、本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムのフィッシュアイの個数は、５個／ｍ２以下であることが好ましく、より好ましくは３個／ｍ２以下であり、さらに好ましくは１個／ｍ２以下である。フィッシュアイの個数が上限よりも多いと、フォトレジスト層へ凹凸の転写が発生したり、フォトレジスト層を露光する際に光が散乱してしまい、鮮明なパターン化が難しくなる。なお、本発明におけるフィッシュアイとは、後述の光学顕微鏡観察で確認される最大長径が８０μｍ以上の欠点のうち、面積２０００μｍ２以上、表面からの最大高さ１μｍ以上の突起ことであり、主にゲルなどの異物によって形成される。そして、このようなフィッシュアイ特性を達成するには、前述の重量平均分子量のシンジオタクチックポリスチレンを用い、かつフィルターでの濾過の強化、さらにゲルの発生を助長するような耐熱性の低い剤などを含有させたりしないことなどが挙げられる。
【００２３】
また、本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムは、その厚みが５〜２５μｍの範囲にあることが好ましく、さらに７〜２２μｍの範囲にあることが好ましく、特に９〜２０μｍの範囲にあることが好ましい。厚みが下限よりも薄いと、フィルムが破れやすくハンドリングが難しくなり、他方上限よりも厚いと、ベースフィルム、フォトレジスト層、保護フィルムの３層構成品のロール径が大きくなったり、重量が重くなり、製品長さに制約が出て、生産性が劣ったり、フィルムを剥離する際、フィルム自身の強さから剥離がしづらくなったり、透明性が落ち、レジストパターンが不鮮明になったり、レジスト層の検査が難しくなる。
【００２４】
＜第２のドライフィルムフォトレジスト用フィルム＞
本発明の第２のドライフィルムフォトレジスト用フィルムは、前述の本発明の第１のドライフィルムフォトレジスト用フィルムの構成をすべて備えるが、前述の表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下である表面を表面Ｂとした場合、他方の表面（表面Ａ）の表面濡れ張力は３６ｍＮ／ｍ以上であることが好ましい。このような表面濡れ張力が３６ｍＮ／ｍ以上の表面Ａを有することで、保護フィルムとしてだけではなく、ベースフィルムとしても使用することができる。すなわち、表面Ａをベースフィルムのフォトレジスト層と接する表面として用いることができ、保護フィルムを剥がす時に、ベースフィルムからのフォトレジスト層の剥離を抑制できるのである。そのような観点から、表面Ａの表面濡れ張力は、さらに３７Ｎ／ｍ以上が好ましく、特に３８ｍＮ／ｍ以上が好ましい。
【００２５】
本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムに、この表面Ａのような表面濡れ張力を具備させる方法としては、特に制限されず、後述のコロナ処理などによる表面活性化処理、離型剤を含まない塗膜層を形成するコーティング処理、さらには表面Ａ側のシンジオタクチックポリスチレンに、表面濡れ張力を高めるような成分を共重合または配合し、それを共押出によってフィルム層として積層する積層フィルム化処理などが挙げられる。なお、積層フィルム化処理において配合する成分は、表面濡れ張力を高めるような成分であり、離型剤のような転写によってフォトレジスト層の接着性を損なう成分とは相違する。
【００２６】
以下、表面活性化処理、コーティング処理、積層フィルム化処理に分けて、説明するが、これらの中でも、簡便に行え、かつ製品とならなかった樹脂やドライフォトレジスト用フィルムとして用いたものを回収して再利用しやすいことから、表面活性化処理が好ましい。一方、表面Ａと表面Ｂの表面濡れ張力の差大きくしやすいことからコーティング処理が好ましい。
【００２７】
＜表面活性化処理＞
本発明における表面活性化処理としては、コロナ処理、プラズマ処理、オゾン処理が好ましく挙げられ、特にコロナ処理が好ましい。具体的なコロナ処理の条件は特に制限されないが、前述の表面粗さを維持できる程度の処理に抑えつつ、前述の表面濡れ張力になるように制御するのが重要である。例えば、コロナ処理の処理量としては、好ましくは６００〜１２０００Ｊ／ｍ２（１０〜２００Ｗ・分／ｍ２）程度、さらに好ましくは１２００〜９０００Ｊ／ｍ２（２０〜１８０Ｗ・分／ｍ２）程度である。また、コロナ処理による表面濡れ張力は時間とともに低下するので、フォトレジスト層と貼り合せるまでの時間を考慮して行うことが必要である。
【００２８】
＜コーティング処理＞
本発明におけるコーティング処理は、高分子バインダーを含有させた塗布層をコーティングによって形成する処理である。本発明における高分子バインダーとしては、好ましくはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１種が挙げられ、この中でもアクリル樹脂とポリエステル樹脂が好ましく、特にアクリル樹脂が好ましい。
塗布層に高分子バインダーとして含有させる具体的なアクリル樹脂としては、それ自体公知のものを採用できる。具体的なアクリル樹脂のモノマー単位としては、アルキル（メタ）アクリレートと、（メタ）アクリル酸とを有し、界面活性剤の存在下で乳化重合して得られる共重合体をアルカリで中和したアルカリ中和物を含有する。
【００２９】
前記アルキル（メタ）アクリレートは、疎水性モノマーとして使用されるモノマーであり、（メタ）アクリル酸は、アニオン性モノマーとして使用されるモノマーである。また
、  前記アルキル（メタ）アクリレートとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ノルマルブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ターシャリーブチル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、及びデシル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３０】
その他のモノマーとしては、例えば、（メタ）アクリル酸を除くアニオン性モノマー、ノニオン性モノマー、カチオン性モノマー等を挙げることができる。前記（メタ）アクリル酸を除くアニオン性モノマーとしては、（メタ）アクリル酸を除くα，β−不飽和カルボン酸類、α，β−不飽和ジカルボン酸半エステル類、スルホン酸基含有モノマー、リン酸エステル基含有モノマー等、及びこれらのアルカリ化合物による塩を挙げることができる。さらに、前記α，β−不飽和カルボン酸類としては、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、及びシトラコン酸等を挙げることができ、前記α，β−不飽和ジカルボン酸半エステル類としては、マレイン酸モノメチル、マレイン酸モノエチル、マレイン酸モノプロピル、マレイン酸モノブチル、フマル酸モノメチル、フマル酸モノエチル、フマル酸モノプロピル、フマル酸モノブチル、イタコン酸モノメチル、イタコン酸モノエチル、イタコン酸モノプロピル、イタコン酸モノブチル等を挙げることができ、前記スルホン酸基含有モノマーとしては、ビニルスルホン酸、（メタ）アリルスルホン酸、２−アクリルアミド−２−メチルプロパンスルホン酸、スルホン化スチレン等を挙げることができ、前記リン酸エステル基含有モノマーとしては、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートのリン酸エステル等を挙げることができる。
【００３１】
前記ノニオン性モノマーとしては、疎水性モノマー、アルキルＮ−置換モノアルキル（メタ）アクリルアミド類、Ｎ−置換ジアルキル（メタ）アクリルアミド類、（メタ）アクリルアミド、ジアセトンアクリルアミド、ビニルピロリドン等を挙げることができる。さらに、前記疎水性モノマーとしては、ビニルベンゼン及びジビニルベンゼン等のスチレン類、マレイン酸及びフマル酸等の不飽和ジカルボン酸のジアルキルエステル類、酢酸ビニル及びプロピオン酸ビニル等のビニルエステル類等を挙げることができ、前記アルキルＮ−置換モノアルキル（メタ）アクリルアミド類としては、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−エチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ラウリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ターシャリーオクチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシル（メタ）アクリルアミド等を挙げることができ、前記Ｎ−置換ジアルキル（メタ）アクリルアミド類としては、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジターシャリーブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジラウリル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジターシャリーオクチル（メタ）アクリルアミド、及びＮ，Ｎ−ジシクロヘキシル（メタ）アクリルアミド等を挙げることができる。
【００３２】
前記カチオン性モノマーとしては、（モノ−又はジ−アルキル）アミノアルキル（メタ）アクリレート、（モノ−又はジ−アルキル）アミノヒドロキシルアルキル（メタ）アクリレート、（モノ−又はジ−アルキル）アミノアルキル（メタ）アクリルアミド、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ジアリルアミン等を挙げることができる。
また、ポリエステル樹脂としては、ポリエステルＡを構成するジオール成分としては、エチレングリコールが挙げられ、ポリエステルＡの全ジオール成分に対して２０モル％以上８０モル％以下の範囲で含有することが好ましい。
【００３３】
ポリエステルＡに用いられるジカルボン酸成分として、例えばイソフタル酸、テレフタル酸、ビフェニルジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸を挙げることができる。これらのなかでイソフタル酸が特に好ましい。
また、スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸に由来する成分をポリエステルＡの全ジカルボン酸成分に対して０．１〜５モル％、および他の芳香族ジカルボン酸を０〜６０モル％含有することが好ましい。スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸を共重合成分として含むことにより、ポリエステルＡを水分散化させやすくなる。
【００３４】
スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸の含有量の下限値は、より好ましくは１モル％、さらに好ましくは２モル％、特に好ましくは３モル％である。スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸の含有量が下限値に満たない場合、ポリエステルＡの親水性が低下し、水分散化が十分でないことがある。一方、スルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸の含有量が上限値を超えると、フィルムの親水性が大きくなる結果、耐ブロッキング性が低下することがある。
【００３５】
かかるスルホン酸塩の基を有する芳香族ジカルボン酸として、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、５−リチウムスルホイソフタル酸、５−ホスホニウムスルホイソフタル酸が好ましく例示される。水分散性を向上させるには、５−ナトリウムスルホイソフタル酸、５−カリウムスルホイソフタル酸、５−リチウムスルホイソフタル酸がより好ましく、なかでも５−ナトリウムスルホイソフタル酸が最も好ましい。
【００３６】
塗布層の好ましい形成方法としては、特に制限されずそれ自体公知の方法を採用できるが、本発明のドライフィルムフォトレジスト用フィルムが延伸処理によって分子鎖の配向が高められた配向フィルムである場合、延伸処理が完了するまでの段階で塗布する、いわゆるインラインという方法で形成されるのが、密着性や塗布層を極めて均一に薄く形成できることから好ましい。
【００３７】
＜積層フィルム化処理＞
本発明における積層フィルム化処理は、例えば表面Ａを形成する樹脂または樹脂組成物と、表面Ｂを形成する樹脂または樹脂組成物を用意し、それらを溶融状態で積層し、ダイからシート状に押出せばよく、それ自体は公知の方法を採用できる。 
【００３８】
＜ドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムの製造方法＞
本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムの製造方法は、特に限定されるものではなく、前述のシンジオタクチックポリスチレンもしくはその樹脂組成物を溶媒に溶かしてキャストし、乾燥する方法でも、溶融押出してダイから押出す方法でも製造することができる。また、前述の通り、未配向のフィルムであっても良いし、さらに延伸処理を施して、一軸配向フィルム、さらに二軸配向フィルムとしても良い。好ましくは前述のヤング率を具備させる観点から一軸配向フィルムが好ましく、さらに二軸配向フィルムが好ましい。
【００３９】
また、延伸処理はロールによる延伸でもテンターによる延伸でも構わないし、二軸配向フィルムの場合、一軸方向に延伸した後、さらに直交する方向に再度延伸処理する逐次二軸延伸でも、同時に直交する２方向に延伸処理する同時二軸延伸でも構わない。また、延伸温度も用いる結晶性熱可塑性樹脂に応じて適宜調整すればよいが、通常フィルムを形成する樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）よりも１０℃以上高い温度で、フィルムを形成する樹脂の融点（Ｔｍ）よりも５０℃低い温度を上限として延伸処理するのが好ましい。延伸倍率も特に制限されないが、分子鎖の配向を高める観点と延伸時の破断を抑える観点からそれぞれの方向に２〜５倍程度で延伸するのが好ましい。
また、得られるドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムに高度の寸法安定性を具備させる観点から、熱固定処理することも好ましい。熱固定処理温度はＴｇよりも１００℃以上高い温度からＴｍよりも１０℃低い温度の間が好ましい。また、熱固定処理の時間は、１〜６０秒の範囲で行うことが好ましい。
【００４０】
＜ドライフィルムフォトレジスト＞
本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムを用いたドライフィルムフォトレジストは、透明支持基材とその片面に塗接されたフォトレジスト層とフォトレジスト層の露出面に表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下の面が接するように配置された本発明の第１のドライフィルムフォトレジスト用離形フィルムとからなる。また、本発明の第２のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムと、その表面Ａに塗接されたフォトレジスト層とからなり、フォトレジスト層の露出面に前記ドライフィルムフォトレジスト用フィルムの表面Ｂが接するように配置されたドライフィルムフォトレジストも包含する。特に本発明の第２のドライフィルムフォトレジスト用フィルムを用いたドライフィルムフォトレジストでは、保護フィルムと透明支持基材の両方の機能を本発明の第２のドライフィルムフォトレジスト用フィルムが具備することからそれぞれ用意する必要がないことから、例えばロール状に巻き取った場合、同じフォトレジスト層の面積であれば、よりコンパクトにすることができる。
なお、上記透明支持基材やフォトレジスト層は、それ自体公知のものを採用でき、例えば特許文献１で記載されたものを好適に用いることができる。
【００４１】
本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムを用いたドライフィルムフォトレジストは、透明支持基材にフォトレジスト層を塗布・乾燥し、フォトレジスト層の露出面に、表面濡れ張力が３５ｍＮ／ｍ以下の面が接するように配置された本発明の第１のドライフィルムフォトレジスト用フィルムを貼り合せることで製造できる。
また、本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムを用いたドライフィルムフォトレジストは、本発明の第２のドライフィルムフォトレジスト用フィルムの表面Ａにフォトレジスト層を塗布・乾燥し、そのフォトレジスト層の露出面に前記ドライフィルムフォトレジスト用フィルムの表面Ｂが接するように配置する、例えばロール状に巻き取ることで製造できる。
【実施例】
【００４２】
以下に本発明を実施例及び比較例により更に具体的に説明する。
（１）重量平均分子量
原料ポリマーまたはフィルム１ｍｇにＨＦＩＰ（１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール）：クロロホルム（１：１）０．５ｍｌを加えて溶解（一晩）させ、測定直前にクロロホルムを９．５ｍｌを加えて、メンブレンフィルター０．１μｍでろ過しＧＰＣ分析を行った。測定機器、条件は以下の通りである。なお、上記溶媒で十分に溶解できない場合は、別途溶媒を選択して行う。
ＧＰＣ：ＨＬＣ−８０２０  東ソー製
検出器：ＵＶ−８０１０  東ソー製
カラム：ＴＳＫ−ｇｅｌＧＭＨＨＲ・Ｍ×２  東ソー製
移動相：ＨＰＬＣ用クロロホルム
流速：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
カラム温度：４０℃
検出器：ＵＶ（２５４ｎｍ）
注入量：２００μｌ
較正曲線用試料：ポリスチレン（Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｌａｂｏｒａｔｏｒｉｅｓ製ＥａｓｉＣａｌ“ＰＳ−１”）
【００４３】
（２）ヤング率
フィルムを試料幅１０ｍｍ、長さ１５ｃｍに切り、チャック間１００ｍｍにして、引張速度１０ｍ／ｍｉｎ、チャート速度５００ｍｍ／ｍｉｎの条件でインストロンタイプの万能引張試験装置にて引っ張る。得られる荷重−伸び曲線の立上り部の接線よりヤング率を計算する。
【００４４】
（３）濡れ張力
ＪＩＳ−Ｃ２１５１に従い、温度２３±２℃、湿度５０±５％に調節された室内において測定した。濡れ張力液として、ホルムアミドとエチレングリコールモノエチルエーテルが各々所定の割合で混合され、着色度の高い染料をごく少量加えられた和光純薬工業（株）製のものを使用した。綿棒に濡れ張力液をたれない程度にたっぷりしみこませ、試料に水平にあて、一方向に移動して濡れ張力液を塗布した。塗布は０．５秒で完了するようにした。この液膜が破れを生じないで、２秒間以上、塗布されたときの状態を保っている場合は、さらに次に表面張力の高い混合液に進み、また逆に、２秒未満で液膜が破れ、また全体に収縮を生じた場合は、次の表面張力の低い液に進む。この作業を繰り返し、表面を正確に２秒間濡らすのに最も近い濡れ張力液を選ぶことができるまで継続する。選ばれた濡れ張力液の表面張力の数値（単位：ｍＮ／ｍ）をその箇所の濡れ張力とした。測定は場所を変えて５回行い、平均値を濡れ張力とした。
【００４５】
（４）表面粗さ
非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏＰｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求め、これを表面粗さ（Ｒａ）とした。なお、測定は測定箇所を変えて１０回行い、それらの平均値を中心面平均粗さ（Ｒａ）とした。
【００４６】
（５）フィッシュアイ個数
フィルムを１００×１００ｃｍに切り出し、０．０２〜０．０５ｍ２の範囲について、光学顕微鏡を用いて１００倍で観察し、フィッシュアイを探し、発見した最大長さ８０μｍ以上のフィッシュアイに対して油性マーキングペンを用いてマーキングを行った。
次に、レーザ顕微鏡（ＶＫ−９５００、キーエンス（株）製）を用い、マーキングされたフィッシュアイの面積、フィルム表面からの最大高さ、最大長さを測定し、面積２０００μｍ２以上、表面からの最大高さ１μｍ以上のフィッシュアイの個数を数え、１ｍ２中に含まれる個数として換算した
【００４７】
（６）フィルム厚み
電子マイクロメータ（アンリツ（株）製の商品名「Ｋ−３１２Ａ型」）を用いて針圧３０ｇにてフィルム厚みを測定した。
【００４８】
（７）フォトレジスト層の積層
感光性樹脂組成物の溶液として、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸ブチル及びアクリル酸２−エチルヘキシルを重量比２５：５：２０の割合で共重合させた、重量平均分子量５０，０００、酸価１７０ｍｇＫＯＨ／ｇの共重合体をメチルセルソルブ／トルエン／（６／４、重量比）に不揮発成分４０重量％になるように溶解させた溶液を１５０重量部、新中村化学工業株式会社製エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレートＢＰＥ−５００を３０重量部、新中村化学工業株式会社製ポリエチレングリコール＃２００ジメタクリレート４Ｇを１０重量部、ベンゾフェノン５重量部、Ｎ，Ｎ−テトラエチル−４，４’−ジアミノベンゾフェノン０．３重量部、トリブロモメチルフェニルスルホン１重量部、ロイコクリスタルバイオレット１重量部を混合し、調製した。
次いでこの感光性樹脂組成物の溶液を帝人デュポンフィルム株式会社製ポリエステルフィルムテトロンＧ２−１６もしくは実施例で作成したドライフィルムフォトレジスト用フィルムの表面Ａ上に均一に塗布し、１００℃の熱風対流乾燥機で約５分間乾燥し、次いで保護フィルムもしくは実施例で作成したドライフィルムフォトレジスト用フィルムを表面Ｂが接するようにラミネートした。
【００４９】
（７−１）保護フィルム離型性
評価試料を２０ｍｍ巾にカットし、引張試験機で保護フィルムを剥離角度１８０度、剥離速度１００ｍ／分で剥離して、下記基準で評価した。
◎：剥離強度が０．５ｇ／ｃｍ以下
○：剥離強度が０．５ｇ／ｃｍより大きく、１．０ｇ／ｃｍ以下
△：剥離強度が１．０ｇ／ｃｍより大きく、２．０ｇ／ｃｍ以下
×：剥離強度が２．０ｇ／ｃｍより大きい
【００５０】
（７−２）ベースフィルム離型性  
評価試料を２０ｍｍ巾にカットし、引張試験機でベースフィルムを剥離角度１８０度、剥離速度１００ｍ／分で剥離して、下記基準で評価した。
◎：剥離強度が３．５ｇ／ｃｍより大きく、４．０ｇ／ｃｍ以下
○：剥離強度が３．０ｇ／ｃｍより大きく、３．５ｇ／ｃｍ以下。または４．０ｇ／ｃｍより大きく、５．０ｇ／ｃｍ以下
△：剥離強度が２．０ｇ／ｃｍより大きく、３．０ｇ／ｃｍ以下。または５．０ｇ／ｃｍより大きく、１０．０ｇ／ｃｍ以下
×：剥離強度が２．０ｇ／ｃｍ以下。または、１０．０ｇ／ｃｍより大きい。
【００５１】
（８）保護フィルム剥離後のレジスト層の平坦性
上記（７）で作成した保護フィルム付きフォトレジスト層の保護フィルムを剥離させた後、非接触式三次元表面粗さ計（ＺＹＧＯ社製：Ｎｅｗ  Ｖｉｅｗ５０２２）を用いて測定倍率２５倍、測定面積２８３μｍ×２１３μｍ（＝０．０６０３ｍｍ２）の条件にて測定し、該粗さ計に内蔵された表面解析ソフトＭｅｔｒｏＰｒｏにより中心面平均粗さ（Ｒａ）を求め、これを表面粗さ（Ｒａ）とした。なお、測定は測定箇所を変えて１０回行い、それらの平均値を中心面平均粗さ（Ｒａ）とした。
【００５２】
［実施例１］
重量平均分子量３．０×１０５であり、１３Ｃ−ＮＭＲ測定でほぼ完全なシンジオタクチック構造であることが観察されるポリスチレン９９．９質量部（Ｔｇ：９１℃、Ｔｍ２７０℃、）と、不活性微粒子として、多孔質シリカ粒子（平均粒径＝１．７μｍ、圧縮率＝６６％、細孔容積＝１．５ｍｌ／ｇ、細孔平均径＝１０ｎｍ）１００質量部に対してシリコーンオイル（信越シリコーン製、線状ジメチルポリシロキサン、ＫＦ−９６−１００ＣＳ）１質量部をスプレーで吹き付けた後、ミキサーに入れて攪拌したものを０．１質量部（得られる二軸延伸フィルム１００質量％中に０．１質量％となる）とを配合し、樹脂組成物を得た。
得られた樹脂組成物を１２０℃で３時間乾燥し、次いで押出機に供給し、３００℃で溶融し、ダイスリットから押出し後、５０℃に冷却されたキャスティングドラム上で冷却固化し、未延伸シートを作成した。
この未延伸シートを１００℃で縦方向（機械軸方向）に３．０倍延伸し、続いてテンターに導いた後、１２０℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に３．０倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性の評価は前述の（７−１）のみ実施した。
【００５３】
［実施例２］
実施例１において、シンジオタクチックポリスチレンを、重量平均分子量６．０×１０４のものに変更したほかは実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性の評価は前述の（７−１）のみ実施した。
【００５４】
［実施例３］
実施例１において、シンジオタクチックポリスチレンを、重量平均分子量１．４×１０６のものに変更したほかは実施例１と同様な操作を繰り返した。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性の評価は前述の（７−１）のみ実施した。
【００５５】
［実施例４］
実施例１で作成したフィルムの片面にコロナ処理を放電量６．７ｋＪ／ｍ２の条件で実施した。離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００５６】
［実施例５］
実施例１で作成した未延伸シートを１００℃で縦方向（機械軸方向）に２．０倍延伸し、続いてテンターに導いた後、１２０℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に２．０倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てフィルムの片面にコロナ処理を放電量６．７ｋＪ／ｍ２の条件で実施し、ロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００５７】
［実施例６］
実施例１で作成した未延伸シートを１００℃で縦方向（機械軸方向）に３．０倍延伸し、続いてテンターに導いた後、１２０℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に３．０倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てフィルムの片面にコロナ処理を放電量６．７ｋＪ／ｍ２の条件で実施し、ロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００５８】
［実施例７］
重量平均分子量３．０×１０５であり、１３Ｃ−ＮＭＲ測定でほぼ完全なシンジオタクチック構造であることが観察されるポリスチレン９９．９質量部（Ｔｇ：９１℃、Ｔｍ２７０℃、）と、不活性微粒子として、多孔質シリカ粒子（平均粒径＝１．７μｍ、圧縮率＝６６％、細孔容積＝１．５ｍｌ／ｇ、細孔平均径＝１０ｎｍ）１００質量部に対してシリコーンオイル（信越シリコーン製、線状ジメチルポリシロキサン、ＫＦ−９６−１００ＣＳ）１質量部をスプレーで吹き付けた後、ミキサーに入れて攪拌したものを０．０５質量部（得られる二軸延伸フィルム１００質量％中に０．０５質量％となる）とを配合し、樹脂組成物を得た。
得られた樹脂組成物を１２０℃で３時間乾燥し、次いで押出機に供給し、３００℃で溶融し、ダイスリットから押出し後、５０℃に冷却されたキャスティングドラム上で冷却固化し、未延伸シートを作成した。
この未延伸シートを１００℃で縦方向（機械軸方向）に３．０倍延伸し、続いてテンターに導いた後、１２０℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に３．０倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てフィルムの片面にコロナ処理を放電量６．７ｋＪ／ｍ２の条件で実施し、ロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００５９】
［実施例８］
重量平均分子量３．０×１０５であり、１３Ｃ−ＮＭＲ測定でほぼ完全なシンジオタクチック構造であることが観察されるポリスチレン９９．８質量部（ＴｇＡ：９１℃、ＴｍＡ２７０℃、）と、不活性微粒子として、多孔質シリカ粒子（平均粒径＝１．７μｍ、圧縮率＝６６％、細孔容積＝１．５ｍｌ／ｇ、細孔平均径＝１０ｎｍ）１００質量部に対してシリコーンオイル（信越シリコーン製、線状ジメチルポリシロキサン、ＫＦ−９６−１００ＣＳ）１質量部をスプレーで吹き付けた後、ミキサーに入れて攪拌したものを０．２質量部（得られる二軸延伸フィルム１００質量％中に０．２質量％となる）とを配合し、樹脂組成物を得た。
得られた樹脂組成物を１２０℃で３時間乾燥し、次いで押出機に供給し、３００℃で溶融し、ダイスリットから押出し後、５０℃に冷却されたキャスティングドラム上で冷却固化し、未延伸シートを作成した。
この未延伸シートを１００℃で縦方向（機械軸方向）に３．０倍延伸し、続いてテンターに導いた後、１２０℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に３．０倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てフィルムの片面にコロナ処理を放電量６．７ｋＪ／ｍ２の条件で実施し、ロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００６０】
［実施例９］
重量平均分子量３．０×１０５であり、１３Ｃ−ＮＭＲ測定でほぼ完全なシンジオタクチック構造であることが観察されるポリスチレン７５質量部（Ｔｇ：９１℃、Ｔｍ２７０℃）と、非晶性熱可塑性樹脂として、ポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル（クロロホルム中で測定された固有粘度が０．３２ｄｌ／ｇ、ＴｇＢが２１０℃）２５質量部と、酸化防止剤（Ｃ１）として、ペンタエリスリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製：商品名ＩＲＧＡＮＯＸ１０１０、融点１２０℃、熱分解温度３３５℃）２質量部と、不活性微粒子として、多孔質シリカ粒子（平均粒径＝１．７μｍ、圧縮率＝６６％、細孔容積＝１．５ｍｌ／ｇ、細孔平均径＝１０ｎｍ）１００質量部に対してシリコーンオイル（信越シリコーン製、線状ジメチルポリシロキサン、ＫＦ−９６−１００ＣＳ）１質量部をスプレーで吹き付けた後、ミキサーに入れて攪拌したものを０．１質量部（得られる二軸延伸フィルム１００質量％中に０．１質量％となる）とを配合し、樹脂組成物を得た。
得られた樹脂組成物を１２０℃で３時間乾燥し、次いで押出機に供給し、３００℃で溶融し、ダイスリットから押出し後、５０℃に冷却されたキャスティングドラム上で冷却固化し、未延伸シートを作成した。
この未延伸シートを１４０℃で縦方向（機械軸方向）に３．０倍延伸し、続いてテンターに導いた後、１４５℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に２．９倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てフィルムの片面にコロナ処理を放電量６．７ｋＪ／ｍ２の条件で実施し、ロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００６１】
［実施例１０］
未延伸シートを作成する樹脂組成物として、出光興産株式会社製、商品名ザレックＳ１０７を用いたほかは、実施例４と同様な操作を繰り返した。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。を用いた以外は、実施例４と同じとした。
【００６２】
［実施例１１］
コロナ処理を放電量３．０ｋＪ／ｍ２で実施した以外は実施例４と同じとした。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００６３】
［実施例１２］
実施例１と同様にして、未延伸シートを作成した。
この未延伸シートを１００℃で縦方向（機械軸方向）に３．０倍延伸し、次いで一軸延伸フィルムの片面に下記組成のアクリル水分散体７２重量部と界面活性剤を２重量部混合し、固形分濃度が２％となるように水で希釈、調製した塗液をＷＥＴ量が４ｇ／ｍ２となるように塗布した。続いてテンターに導いた後、１２０℃で横方向（機械軸方向と厚み方向とに垂直な方向）に３．０倍延伸した。その後２５０℃で６０秒間熱固定をし、さらに１８０℃まで冷却する間に横方向に２％弛緩処理をして、厚み１０μｍの離形層となる二軸延伸フィルムを得てロール状に巻き取った。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
得られた離形層および離形フィルムの特性を表１に示す。
・アクリル水分散体：メチルメタクリレート６０モル％／ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリレート１０モル％／アクリルアミド３０モル％で構成されている。なお、アクリルは、特開昭６３−３７１６７号公報の製造例１〜３に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、四つ口フラスコに、イオン交換水３０２部を仕込んで窒素気流中で６０℃まで昇温させ、次いで重合開始剤として過硫酸アンモニウム０．５部、亜硝酸水素ナトリウム０．２部を添加し、更にモノマー類である、メタクリル酸メチル２３．３部、２−イソプロペニル−２−オキサゾリン２２．６部、ポリエチレンオキシド（ｎ＝１０）メタクリル酸４０．７部、アクリルアミド１３．３部の混合物を３時間にわたり、液温が６０〜７０℃になるよう調整しながら滴下した。滴下終了後も同温度範囲に２時間保持しつつ、撹拌下に反応を継続させ、次いで冷却して固形分が２５％のアクリルの水分散体を得たものを使用した。
・界面活性剤：三洋化成株式会社製サンノニックＳＳ−７０
【００６４】
［実施例１３］
実施例１２のアクリル水分散体の代わりに下記ポリエステル水分散体を使用した以外は、同様の操作を繰り返した。
得られたフィルムの特性を表１に示す。なお、離型性評価は、コロナ処理面（表面Ａ）を（７−２）で評価し、非コロナ処理面（表面Ｂ）の離型性を（７−１）で実施した。また、このフィルムは複合フィルムとして、本フィルムとフォトレジスト層のみで巻き取り、使用することが可能である。
【００６５】
＜ポリエステル水分散体＞
・酸成分がテレフタル酸９０モル％／イソフタル酸５モル％／５−ナトリウムスルホイソフタル酸５モル％、グリコール成分がエチレングリコール９０モル％／ジエチレングリコール１０モル％で構成されている（Ｔｇ＝７０℃、平均分子量１５０００）。ポリエステル樹脂１は、特開平０６−１１６４８７号公報の実施例１に記載の方法に準じて下記の通り製造した。すなわち、テレフタル酸ジメチル５３部、イソフタル酸ジメチル３部、５−ナトリウムスルホイソフタル酸ジメチル５部、エチレングリコール３６部、ジエチレングリコール３部を反応器に仕込み、これにテトラブトキシチタン０．０５部を添加して窒素雰囲気下で温度を２３０℃にコントロールして加熱し、生成するメタノールを留去させてエステル交換反応を行った。次いで反応系の温度を徐々に２５５℃まで上昇させ系内を１ｍｍＨｇの減圧にして重縮合反応を行い、ポリエステル樹脂１を得た。このポリエステル２５部をテトラヒドロフラン７５部に溶解させ、得られた溶液に１００００回転／分の高速攪拌下で水７５部を滴下して乳白色の分散体を得、次いでこの分散体を２０ｍｍＨｇの減圧下で蒸留し、テトラヒドロフランを留去して、固形分２５重量％のポリエステル水分散体を得た。
【００６６】
［比較例１］
タマポリ株式会社製ポリエチレンフィルムＮＦ−１３を用いた。離型性の評価は（７−１）のみ実施した。
【００６７】
［比較例２］
帝人デュポンフィルム株式会社製ポリチレンテレフタレートフィルム：テトロンＧ２−１６を用いた。離型性の評価は非塗布面を（７−１）で実施し、塗布面を（７−２）で評価した。
【００６８】
［比較例３］
帝人デュポンフィルム株式会社製ポリエチレンナフタレートフィルム：テオネックスＱ５１−１６を用いた。離型性の評価は非塗布面を（７−１）で実施し、塗布面を（７−２）で評価した。
【００６９】
【表１】
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【００７０】
表１中のＳＰＳはシンジオタクチックポリスチレン、ＰＰＥはポリ（２，６−ジメチル−１，４−フェニレン）エーテル、Ｓ１０７はザレックＳ１０７、ＰＥはポリエチレン、ＰＥＴはポリエチレンテレフタレート、ＰＥＮはポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレートを意味し、コロナ１と２はそれぞれコロナ処理、塗膜１と２はそれぞれ塗膜を表面Ａに設けたことを意味する。また、表１中のＭｗはフィルムに製膜後の重量平均分子量を意味する。
【産業上の利用可能性】
【００７１】
本発明のドライフィルムフォトレジスト用離型フィルムは、回路基板にドライフォトレジストを施すためのフィルム、特に高密度化されたプリント基板をフォトレジストするフィルムとして好適に利用することができる。