(57)【要約】      （修正有）【課題】液晶セルのガラス基板が薄くても、高温高湿下での液晶表示パネルの反りに起因する表示ムラが抑制された液晶表示装置を提供する。【解決手段】厚み１ｍｍ未満の一対のガラス基板と、それらの間に配置された液晶層３５とを含む液晶セルと、液晶セルの一方の面に設けられた第一の偏光板５０と、他方の面に設けられた第二の偏光板７０とを含み、第一の偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第一の偏光子５１と、第一の保護フィルム５３，５５と、第一の偏光子と第一の保護フィルムとの間に配置された第一の接着層５７とを含み、第二の偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第二の偏光子と、第二の保護フィルム７３，７５と、第二の偏光子７１と第二の保護フィルムとの間に配置された第二の接着層７７とを含み、第一の接着層と第二の接着層の少なくとも一方が、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物の硬化物である。【選択図】図１
2016090964.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚み１ｍｍ未満の一対のガラス基板と、前記一対のガラス基板の間に配置された液晶層とを含む液晶セルと、
前記液晶セルの一方の面に設けられた第一の偏光板と、他方の面に設けられた第二の偏光板とを含み、
前記第一の偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第一の偏光子と、その一方または両方の面に配置された第一の保護フィルムと、前記第一の偏光子と前記第一の保護フィルムとの間に配置された第一の接着層とを含み、
前記第二の偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第二の偏光子と、その一方または両方の面に配置された第二の保護フィルムと、前記第二の偏光子と前記第二の保護フィルムとの間に配置された第二の接着層とを含み、
前記第一の接着層と前記第二の接着層の少なくとも一方が、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物の硬化物である、液晶表示装置。
【請求項２】
前記第一の偏光子または前記第二の偏光子の厚みは、２〜２５μｍである、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第一の保護フィルムまたは前記第二の保護フィルムの厚みは、２０〜６０μｍである、請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記光硬化性接着組成物は、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤とをさらに含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記光塩基発生剤は、光照射により２級アミン、イミダゾール、およびグアニジンからなる群より選ばれる塩基を生成する化合物である、請求項１〜４のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記第一の偏光板は、前記液晶セルの視認側の面に配置され、かつ前記第一の保護フィルムは、前記第一の偏光子の視認側の面に配置されており、
前記第一の保護フィルムの、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠して測定される４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度が、１００ｇ／（ｍ２・２４ｈｒ）以下である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１に記載の液晶表示装置の製造方法であって、
ポリビニルアルコール系樹脂を含む第一の偏光子と第一の保護フィルムとを、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物層を介して積層するか、あるいは
ポリビニルアルコール系樹脂を含む第二の偏光子と第二の保護フィルムとを、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物層を介して積層して積層物を得る工程と、
前記積層物に活性エネルギー線を照射して前記光硬化性接着組成物層を硬化させて、第一または第二の偏光板を得る工程と、
厚み１ｍｍ未満の一対のガラス基板と前記一対のガラス基板の間に配置された液晶層とを含む液晶セルと、前記第一の偏光板または前記第二の偏光板とを粘着剤を介して貼り合わせる工程と、
を含む、液晶表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置とその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶表示装置は、携帯電話やテレビなどの各種電子機器に広く用いられている。液晶表示装置は、通常、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを有する。偏光板は、偏光子と、それを挟持する一対の保護フィルムとを有する。
【０００３】
偏光板は、通常、偏光子と保護フィルムとを接着剤を介して貼り合わせて製造される。用いられる接着剤としては、水糊や光硬化型接着剤などがあり、疎水性の高い保護フィルムなどに対しても良好な接着性が得られやすいことなどから、光硬化型接着剤が検討されている。
【０００４】
偏光板の製造に用いられる光硬化型接着剤として、ラジカル重合開始剤を含む接着剤、光酸発生剤を含む接着剤（特許文献１）、および光塩基発生剤を含む接着剤（特許文献２）などが知られている。ラジカル重合開始剤を含む接着剤組成物は、高い硬化速度を有するものの、酸素阻害の影響により十分な硬化を行うことができない傾向があった。これに対し、光酸発生剤を含む接着剤組成物は、酸素阻害の影響を受けないことから、十分な硬化を行うことができることが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−２４５９２５号
【特許文献２】特開２０１３−２３５２１６号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、光酸発生剤を含む接着剤組成物を用いて得られた偏光板は、高温高湿下において偏光子の収縮に起因する寸法変化が生じやすいことが見出された。それにより、液晶セルのガラス基板を厚み１ｍｍ未満に薄くしたときに、当該ガラス基板が偏光板の寸法変化する力に対抗できず、液晶表示パネルが反りやすいという問題があった。それにより、液晶表示装置の表示ムラが生じやすいという問題があった。
【０００７】
近年、液晶表示パネルの薄型化が強く求められており、液晶セルのガラス基板を薄型化しても、液晶表示パネルの反りを抑制できることが望まれる。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、液晶セルのガラス基板が薄くても、高温高湿下での液晶表示パネルの反りに起因する表示ムラが抑制された液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
［１］  厚み１ｍｍ未満の一対のガラス基板と、前記一対のガラス基板の間に配置された液晶層とを含む液晶セルと、前記液晶セルの一方の面に設けられた第一の偏光板と、他方の面に設けられた第二の偏光板とを含み、前記第一の偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第一の偏光子と、その一方または両方の面に配置された第一の保護フィルムと、前記第一の偏光子と前記第一の保護フィルムとの間に配置された第一の接着層とを含み、前記第二の偏光板は、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第二の偏光子と、その一方または両方の面に配置された第二の保護フィルムと、前記第二の偏光子と前記第二の保護フィルムとの間に配置された第二の接着層とを含み、前記第一の接着層と前記第二の接着層の少なくとも一方が、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物の硬化物である、液晶表示装置。
［２］  前記第一の偏光子または第二の偏光子の厚みは、２〜２５μｍである、［１］に記載の液晶表示装置。
［３］  前記第一の保護フィルムまたは第二の保護フィルムの厚みは、２０〜６０μｍである、［１］または［２］に記載の液晶表示装置。
［４］  前記光硬化性接着組成物は、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤とをさらに含む、［１］〜［３］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［５］  前記光塩基発生剤は、光照射により２級アミン、イミダゾール、およびグアニジンからなる群より選ばれる塩基を生成する化合物である、［１］〜［４］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［６］  前記第一の偏光板は、前記液晶セルの視認側の面に配置され、かつ前記第一の保護フィルムは、前記第一の偏光子の視認側の面に配置されており、前記第一の保護フィルムの、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠して測定される４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度が、１００ｇ／（ｍ２・２４ｈｒ）以下である、［１］〜［５］のいずれかに記載の液晶表示装置。
［７］  ［１］に記載の液晶表示装置の製造方法であって、ポリビニルアルコール系樹脂を含む第一の偏光子と第一の保護フィルムとを、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物層を介して積層するか、あるいはポリビニルアルコール系樹脂を含む第二の偏光子と、第二の保護フィルムとを、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物層を介して積層して積層物を得る工程と；前記積層物に活性エネルギー線を照射して前記光硬化性接着組成物層を硬化させて、第一または第二の偏光板を得る工程と；厚み１ｍｍ未満の一対のガラス基板と、前記一対のガラス基板の間に配置された液晶層とを含む液晶セルと、前記第一の偏光板または前記第二の偏光板とを粘着剤を介して貼り合わせる工程とを含む、液晶表示装置の製造方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、液晶セルのガラス基板が薄くても、高温高湿下での液晶表示パネルの反りに起因する表示ムラが抑制された液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の液晶表示装置の基本的な構成を示す一例である。
【図２】実施例における表示特性１の評価方法を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
光酸発生剤を含む光硬化性接着組成物を用いて得られる偏光板が、高温高湿下において偏光子の収縮が生じやすい理由は必ずしも明らかではないが、以下のように考えられる。即ち、光酸発生剤を含む接着剤組成物の硬化物には、光酸発生剤から生成した酸が残存している。この酸が、偏光子のマトリクス樹脂（ポリビニルアルコール樹脂）を攻撃して当該樹脂を劣化させる結果、偏光子の機械的強度が低下し、高温高湿下で偏光子が収縮しやすくなると考えられる。そのような偏光板を、厚みが１ｍｍ未満の薄いガラス基板を含む液晶セルと組み合わせると、当該ガラス基板が偏光子の収縮力に対抗できず、液晶表示パネルが反りやすい。
【００１３】
これに対して本発明の液晶表示装置は、光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物を用いて得られる偏光板を含む。光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物の硬化物は、偏光子のマトリクス樹脂を劣化させる成分を実質的に含まない。また、当該硬化物は十分に硬化されているため、偏光子と保護フィルムとを良好に接着させうる。従って、当該偏光板では、偏光子のマトリクス樹脂の劣化が生じず、機械的強度が維持されるため、高温高湿下における偏光子の収縮が抑制できると考えられる。それにより、当該偏光板を、ガラス基板の厚みが１ｍｍ未満の薄い液晶セルと組み合わせても、当該ガラス基板が偏光子の収縮力に対抗できるので、液晶表示パネルの反りを抑制できると考えられる。本発明はこのような知見に基づいてなされたものである。
【００１４】
１．液晶表示装置
本発明の液晶表示装置は、液晶セルと、それを挟持する一対の偏光板とを含む。
【００１５】
図１は、本発明の液晶表示装置の基本的な構成を示す一例である。図１に示されるように、液晶表示装置１０は、液晶セル３０と、それを挟持する一対の偏光板５０および７０とを含む。
【００１６】
１−１．液晶セル３０について
液晶セル３０は、一対の透明基板３１および３３と、それらの間に挟持された液晶層３５とを有する。
【００１７】
透明基板３１および３３は、ガラス基板であることが好ましい。ガラス基板の厚みは、液晶表示装置を薄型化するためなどから、１ｍｍ未満であることが好ましく、０．３ｍｍ以上０．７ｍｍ未満であることがより好ましく、０．３〜０．５ｍｍであることがさらに好ましい。
【００１８】
液晶セル３０の表示モードは、例えばＳＴＮ、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）、ＩＰＳ等の種々の表示モードであってよい。例えば、高いコントラストを得る観点では、ＶＡ（ＭＶＡ、ＰＶＡ）モードが好ましい。
【００１９】
例えば、ＶＡ方式の液晶セルでは、一方の透明基板は、液晶分子に電圧を印加するための画素電極が配置される。対向電極は、（画素電極が配置された）前記一方の透明基板に配置されてもよいし、他方の透明基板に配置されてもよい。
【００２０】
液晶層は、負または正の誘電率異方性を有する液晶分子を含む。液晶分子は、透明基板の液晶層側の面に設けられた配向膜の配向規制力により、電圧無印加時（画素電極と対向電極との間に電界が生じていない時）には、液晶分子の長軸が、透明基板の表面に対して略垂直となるように配向している。
【００２１】
このように構成されたＶＡ方式の液晶セルでは、画素電極に画像信号（電圧）を印加することで、画素電極と対向電極との間に電界を生じさせる。これにより、透明基板の表面に対して垂直に初期配向している液晶分子を、その長軸が基板面に対して水平方向となるように配向させる。このように、液晶層を駆動し、各副画素の透過率および反射率を変化させて画像表示を行う。
【００２２】
１−２．一対の偏光板５０および７０について
偏光板５０（第一の偏光板）は、液晶セル３０の視認側の面（またはガラス基板３１）に、直接または粘着剤層（不図示）を介して配置される。偏光板５０は、偏光子５１（第一の偏光子）と、その上に配置される保護フィルム５３（Ｆ１）および５５（Ｆ２）（第一の保護フィルム）と、保護フィルム５３（Ｆ１）および５５（Ｆ２）と偏光子５１との間に配置される接着層５７および５７とを含む。
【００２３】
偏光板７０（第二の偏光板）は、液晶セル３０の視認側とは反対の面（またはガラス基板３３）に、直接または粘着剤層（不図示）を介して配置される。偏光板７０は、偏光子７１（第二の偏光子）と、その上に配置される保護フィルム７３（Ｆ３）および７５（Ｆ４）（第二の保護フィルム）と、保護フィルム７３（Ｆ３）および７５（Ｆ４）と偏光子７１との間に配置される接着層７７および７７とを含む。
【００２４】
図１では、保護フィルム５５（Ｆ２）と７３（Ｆ３）の両方が配置される例を示したが、これに限定されず、保護フィルム５５（Ｆ２）と保護フィルム７３（Ｆ３）の一方は、必要に応じて省略されうる。保護フィルム５５（Ｆ２）が省略される場合、それと偏光子５１との間の接着層５７も省略されうる。同様に、保護フィルム７３（Ｆ３）が省略される場合、それと偏光子７１との間の接着層７７も省略されうる。
【００２５】
１−２−１．偏光子５１および７１について
偏光子５１および７１は、ヨウ素または二色染料で染色された、ポリビニルアルコール系樹脂を主成分とする偏光膜でありうる。これらの偏光膜は、一般的には、ポリビニルアルコール系フィルムを一軸延伸した後、ヨウ素または二色性染料で染色して得られたフィルムであってもよいし；ポリビニルアルコール系フィルムをヨウ素または二色性染料で染色した後、一軸延伸したフィルム（好ましくは、さらにホウ素化合物で耐久性処理を施したフィルム）であってもよい。偏光子５１および７１の吸収軸は、フィルムの延伸方向と平行である。
【００２６】
ポリビニルアルコール系フィルムは、ポリビニルアルコール水溶液を製膜したものであってもよい。ポリビニルアルコール系フィルムは、偏光性能および耐久性能に優れ、色斑が少ない等ことから、エチレン変性ポリビニルアルコールフィルムであることが好ましい。
【００２７】
二色性染料の例には、アゾ系色素、スチルベン系色素、ピラゾロン系色素、トリフェニルメタン系色素、キノリン系色素、オキサジン系色素、チアジン系色素およびアントラキノン系色素等が含まれる。
【００２８】
偏光子の厚みは、偏光板を薄型化する観点などから、３０μｍ以下であることが好ましく、２〜２５μｍの範囲であることがより好ましい。偏光子の厚みが薄いほど、一定以上の偏光度を得るための延伸倍率を大きくする必要がある。そのような偏光子を含む偏光板であっても、光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物を用いることで、高温高湿下における偏光子の収縮を抑制しうる。
【００２９】
１−２−２．保護フィルム５３および７５（Ｆ１、Ｆ４）について
保護フィルム５３（Ｆ１）は、偏光子５１の視認側の面に配置され；保護フィルム７５（Ｆ４）は、偏光子７１のバックライト９０側の面に配置される。これらの保護フィルム５３（Ｆ１）および７５（Ｆ４）は、偏光子５１または７１を水分や熱から保護する機能を有しうる。
【００３０】
保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）の材質は、耐熱性や耐湿性に優れる熱可塑性樹脂であることが好ましく、セルロースエステル、（メタ）アクリル樹脂、シクロオレフィン樹脂、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリエステルなどでありうる。耐熱性が高い点では、セルロースエステルが好ましく、透湿性が低い点では（メタ）アクリル樹脂やシクロオレフィン樹脂が好ましい。
【００３１】
＜セルロースエステル＞
セルロースエステルは、セルロースと、炭素原子数２〜２２の脂肪族カルボン酸および芳香族カルボン酸の少なくとも一方とをエステル化反応させて得られる化合物である。
【００３２】
セルロースエステルの例には、セルローストリアセテート、セルロースジアセテート、セルロースプロピオート、セルロースブチレート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどが含まれる。なかでも、位相差発現性の低いものが好ましく、セルローストリアセテートが好ましい。
【００３３】
セルロースエステルのアシル基の総置換度は、２．０〜３．０程度であり、好ましくは２．５〜２．９８、より好ましくは２．６〜２．９８、さらに好ましくは２．８〜２．９５である。位相差発現性を低くするためには、アシル基の総置換度は高くすることが好ましい。
【００３４】
セルロースエステルに含まれるアシル基の炭素原子数は、２〜７であることが好ましく、２〜４であることがより好ましい。良好な耐熱性を得るためなどから、セルロースエステルに含まれるアシル基は、アセチル基を含むことが好ましい。炭素原子数３以上のアシル基の置換度は、０．９以下であることが好ましく、０であることがより好ましい。
【００３５】
セルロースエステルのアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法で測定することができる。
【００３６】
セルロースエステルの重量平均分子量は、一定以上の機械的強度を得るためには、５．０×１０４〜５．０×１０５であることが好ましく、１．０×１０５〜３．０×１０５であることがより好ましく、１．５×１０５〜２．８×１０５であることがさらに好ましい。セルロースエステルの分子量分布（重量平均分子量Ｍｗ／数平均分子量Ｍｎ）は、１．０〜４．５であることが好ましい。
【００３７】
セルロースエステルの重量平均分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定されうる。測定条件は、以下の通りである。
溶媒：メチレンクロライド
カラム：Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製）を３本接続して使用する。
カラム温度：２５℃
試料濃度：０．１質量％
検出器：ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１．０×１０６〜５．０×１０２までの１３サンプルによる校正曲線を使用する。１３サンプルは、ほぼ等間隔に選択することが好ましい。
【００３８】
セルロースエステルを含むフィルムは、必要に応じて可塑剤、紫外線吸収剤などの添加剤をさらに含んでもよい。
【００３９】
セルロースエステルを含むフィルムの透湿度を一定以下とする観点などから、当該フィルム上にバリア層をさらに積層してもよい。バリア層は、硬化性化合物の硬化物を主成分として含むことが好ましい。硬化性化合物は、活性線により硬化する化合物であり、好ましくはエチレン性不飽和二重結合を有する化合物である。エチレン性不飽和二重結合を有する化合物の例には、（メタ）アクリロリル基、ビニル基、スチリル基またはアリル基を有する化合物が含まれ、好ましくは（メタ）アクリロリル基を有する化合物である。
【００４０】
（メタ）アクリロリル基を有する化合物の例には、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレートなどが含まれる。
【００４１】
バリア層の厚みは、保護フィルムに充分な耐湿性を付与するためなどから、０．５μｍ〜２０μｍ程度が好ましく、１〜１０μｍ程度であることがより好ましい。
【００４２】
＜（メタ）アクリル樹脂＞
（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位を含む樹脂でありうる。（メタ）アクリル樹脂は、（メタ）アクリル酸エステルの単独重合体であっても、他の共重合モノマーとの共重合体であってもよい。
【００４３】
（メタ）アクリル酸エステルの例には、（メタ）アクリル酸のＣ１−Ｃ１８アルキルエステルが含まれ、好ましくは（メタ）アクリル酸のＣ１−Ｃ６アルキルエステルであり、より好ましくは（メタ）アクリル酸メチルである。（メタ）アクリル樹脂に含まれる（メタ）アクリル酸エステルは、一種類であっても、二種類以上であってもよい。（メタ）アクリル酸エステルの共重合体における、（メタ）アクリル酸エステルに由来する構成単位の割合は、５０〜９９質量％であることが好ましい。
【００４４】
（メタ）アクリル酸エステルの共重合体における共重合成分の例には、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルなどの水酸基含有アクリル酸アルキルエステル；アクリル酸、メタクリル酸等のα，β−不飽和酸；マレイン酸、フマル酸、イタコン酸等の不飽和基含有二価カルボン酸；スチレン、α−メチルスチレン、核置換スチレン等の芳香族ビニル化合物；アクリロニトリル、メタクリロニトリル等のα，β−不飽和ニトリル；無水マレイン酸、マレイミド、Ｎ−置換マレイミド、グルタル酸無水物、グルタルイミド等が挙げられる。これらは単独で、あるいは２種以上を併用して用いることができる。
【００４５】
（メタ）アクリル樹脂は、保護フィルムの耐熱性を高めたり、光弾性係数を調整したりする観点などから、ラクトン環構造を含むことが好ましい。（メタ）アクリル樹脂に含まれるラクトン環構造は、好ましくは下記式（１）で表される。
【化１】
2016090964.tif 000003
【００４６】
式（１）において、Ｒ１〜Ｒ３は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の有機残基を示す。有機残基は、酸素原子を含んでいてもよい。有機残基の例には、直鎖もしくは分岐状のアルキル基、直鎖もしくは分岐状のアルキレン基、アリール基、−ＯＡｃ基（Ａｃはアセチル基）、−ＣＮ基などが含まれる。式（１）で示されるラクトン環構造は、後述する式（３）で表されるモノマーに由来する構造である。
【００４７】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂は、アルキル部分の炭素数が１〜１８のアルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位をさらに含み、必要に応じて他のモノマーに由来する構成単位をさらに含んでいてもよい。他のモノマーの例には、不飽和カルボン酸や一般式（２）で表されるモノマーが含まれる。一般式（２）におけるＲ４は、水素原子またはメチル基を示す。
【化２】
2016090964.tif 000004
（式（２）中、Ｘは、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、アリール基、−ＯＡｃ基（Ａｃ：アセチル基）、−ＣＮ基、アシル基または−Ｃ−ＯＲ基（Ｒは水素原子または炭素数１〜２０の有機残基）を示す）
【００４８】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、式（１）で表されるラクトン環構造の含有割合は、好ましくは５〜５０質量％であり、より好ましくは１０〜４０質量％でありうる。ラクトン環構造の含有割合が９０質量％超であると、成形加工性が低く、得られるフィルムの可とう性も低くなりやすい。ラクトン環構造の含有割合が５質量％未満であると、必要な位相差を有するフィルムが得られにくく、耐熱性、耐溶剤性、表面硬度が十分でないことがある。
【００４９】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂における、アルキル（メタ）アクリレートに由来する構成単位の含有割合は、好ましくは５０〜９５質量％であり、より好ましくは６０〜９０質量％でありうる。他のモノマーに由来する構成単位の含有割合は、それぞれ独立に好ましくは０〜２０質量％、より好ましくは０〜１０質量％でありうる。
【００５０】
ラクトン環構造を含有する（メタ）アクリル樹脂は、下記式（３）で表されるモノマー（例えば２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル、２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸エチルなど）と、それ以外のアルキル（メタ）アクリレートとを含むモノマー成分を重合反応させて、分子鎖中に水酸基とエステル基とを有する重合体を得た後；該重合体を加熱処理してラクトン環構造を導入するステップを経て製造されうる。
【化３】
2016090964.tif 000005
（式（３）中、Ｒ６およびＲ７は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜２０の有機基を示す）
【００５１】
（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、フィルムの機械的強度を一定以上とし、フィルム製造時の流動性を一定以上とするためなどから、８００００〜１００００００であることが好ましい。（メタ）アクリル樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）は、前述と同様に、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより測定することができる。
【００５２】
（メタ）アクリル樹脂は、必要に応じて他の熱可塑性樹脂と組み合わされてもよい。他の熱可塑性樹脂の例には、ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系ポリマー；塩化ビニル、塩素化ビニル樹脂等の含ハロゲン系ポリマー；ポリスチレン、スチレン−メタクリル酸メチル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレンブロック共重合体等のスチレン系ポリマー；ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルなどが挙げられる。
【００５３】
（メタ）アクリル樹脂と他の熱可塑性樹脂の合計１００質量部に対する（メタ）アクリル樹脂の含有割合は、５０質量％以上であることが好ましく、６０質量％以上であることがより好ましい。
【００５４】
＜シクロオレフィン樹脂＞
シクロオレフィン樹脂は、シクロオレフィン由来の脂環構造を有する構成単位を含む重合体である。シクロオレフィン樹脂は、シクロオレフィンの付加（共）重合体またはビシクロオレフィンの開環付加（共）重合体などでありうる。
【００５５】
シクロオレフィンの例には、シクロヘキセンなどが含まれ；ビシクロオレフィンの例には、ノルボルネン、テトラシクロドデセンが含まれ、好ましくはノルボルネンである。シクロオレフィンの共重合体における、シクロオレフィンに由来する構成単位の割合は５０モル％以下（好ましくは１５〜５０モル％）であってもよい。
【００５６】
シクロオレフィンの共重合体における共重合成分の例には、α-オレフィン、およびビニル基を有する芳香族化合物などが含まれる。α-オレフィンの例には、エチレンおよびプロピレンなどが含まれる。ビニル基を有する芳香族化合物の例には、スチレンおよびα-メチルスチレンなどが含まれる。シクロオレフィンの共重合体に含まれる共重合成分は、一種類だけであってもよいし、二種類以上であってもよい。
【００５７】
シクロオレフィン樹脂を含む保護フィルムの透湿度を下げるためには、シクロオレフィン樹脂に含まれるシクロオレフィン由来の構成単位の割合を高くすることが好ましい。
【００５８】
シクロオレフィン樹脂の例には、特開２０１０−７８７００号に記載のシクロオレフィン樹脂が含まれる。シクロオレフィン樹脂の市販品の例には、ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）（日本ゼオン（株）製）、ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）（日本ゼオン（株）製）、ＡＰＥＬ（三井化学（株）製）などが好ましく用いられる。また、シクロオレフィン樹脂フィルムの市販品の例には、エスシーナ（積水化学工業（株）製）、ＳＣＡ４０（積水化学工業（株）製）、ゼオノアフィルム（日本ゼオン（株）製）などが含まれる。
【００５９】
保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）は、前述の偏光子の吸湿による収縮を低減するために、透湿度が一定以下であることが好ましい。具体的には、保護フィルムＦ１およびＦ４の、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に準拠して測定される４０℃、９０％ＲＨにおける透湿度は、１５０ｇ／（ｍ２・２４ｈｒ）以下であることが好ましく、１００ｇ／（ｍ２・２４ｈｒ）以下であることがより好ましい。
【００６０】
保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）の透湿度を一定以下とするためには、前述の通り、バリア層を積層したセルロースエステルフィルムや、（メタ）アクリル樹脂やシクロオレフィン樹脂などを主成分とするフィルムを選択すればよい。
【００６１】
保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）は、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される面内方向のレターデーションＲ０は、０≦Ｒ０≦２０ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒ０≦１０ｎｍを満たすことがより好ましい。保護フィルムの、測定波長５９０ｎｍ、２３℃５５％ＲＨの条件下で測定される厚み方向のレターデーションＲｔｈは、０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦８０ｎｍを満たすことが好ましく、０ｎｍ≦Ｒｔｈ≦５０ｎｍを満たすことがより好ましい。このようなレターデーション値を有する保護フィルムは、後述するように、液晶表示装置の保護フィルム（Ｆ１またはＦ４）として好ましく用いられる。Ｒ０およびＲｔｈは、フィルムの組成や延伸条件などによって調整されうる。
【００６２】
レターデーションＲ０およびＲｔｈは、それぞれ以下の式で定義される。
式（Ｉ）：Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（II）：Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式（Ｉ）および（II）において、
ｎｘは、保護フィルムの面内方向において屈折率が最大になる遅相軸方向ｘにおける屈折率を表し；ｎｙは、保護フィルムの面内方向において前記遅相軸方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表し；ｎｚは、保護フィルムの厚み方向ｚにおける屈折率を表し；ｄ（ｎｍ）は、保護フィルムの厚みを表す）
【００６３】
保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜１００μｍ、より好ましくは２０〜８０μｍ、さらに好ましくは２０〜６０μｍ、さらに好ましくは２０〜４０μｍ、さらに好ましくは２０μｍ以上４０μｍ未満でありうる。
【００６４】
１−２−３．保護フィルム５５および７３（Ｆ２、Ｆ３）について
保護フィルム５５（Ｆ２）は、偏光子５１の液晶セル側の面に配置され；保護フィルム７３（Ｆ３）は、偏光子７１の液晶セル側の面に配置される。これらの保護フィルム５５（Ｆ２）および７３（Ｆ３）は、偏光子を保護する機能だけでなく、光学補償を行う機能もさらに有しうる。
【００６５】
保護フィルム（Ｆ２、Ｆ３）の材質は、透明性に優れ、位相差調整剤などの添加剤、延伸などの生産プロセス条件により、所望の位相差に調整しやすいものであればよい。そのような樹脂としては、前述の保護フィルム（Ｆ１、Ｆ４）と同様に、セルロースエステル、シクロオレフィン樹脂、（メタ）アクリル樹脂などでありうる。
【００６６】
保護フィルム（Ｆ２、Ｆ３）に用いられるセルロースエステルは、アシル基総置換度が主に異なる以外は前述と同様のものが用いられる。保護フィルムＦ２およびＦ３に用いられるセルロースエステルは、総アシル基置換度が１．５以上２．５未満であることが好ましく、下記式（ａ）と（ｂ）とを同時に満たすことがより好ましい。
式（ａ）    ２．０≦Ｘ＋Ｙ＜２．５
式（ｂ）          ０≦Ｙ≦１．５
（式中、Ｘはアセチル基の置換度を示し、Ｙはプロピオニル基またはブチリル基、もしくはそれらの混合物の置換度を示す）
【００６７】
保護フィルム（Ｆ２、Ｆ３）に用いられるセルロースエステルフィルムは、必要に応じて位相差上昇剤や、前述の可塑剤などの添加剤をさらに含んでもよい。位相差上昇剤の例には、特開２００１−１６６１４４号の段落００１４〜０１０７に記載のトリアジン化合物、特開２０００−１１１９１４号の段落００１０〜００８５に記載の二つの芳香族環を有する化合物、特開２００４−００４５５０号の段落００２７〜００５０に記載の棒状化合物などが含まれる。
【００６８】
保護フィルム（Ｆ２、Ｆ３）のレターデーションは、組み合わされる液晶セルの種類に応じて設定されうる。例えば、保護フィルム（Ｆ２、Ｆ３）の、２３℃ＲＨ５５％下、波長５９０ｎｍで測定される面内リターデーションＲｏ（５９０）は３０〜１５０ｎｍの範囲とし、厚さ方向のリターデーションＲｔｈ（５９０）は７０〜３００ｎｍの範囲としうる。レターデーションが上記範囲である保護フィルムは、例えばＶＡ型液晶セルなどの光学補償に適している。
【００６９】
保護フィルム（Ｆ２、Ｆ３）の厚みは、特に制限されないが、好ましくは１０〜１００μｍ、より好ましくは２０〜８０μｍ、さらに好ましくは２０〜６０μｍ、さらに好ましくは２０〜４０μｍ、さらに好ましくは２０μｍ以上４０μｍ未満でありうる。
【００７０】
１−３．接着層５７および７７について
接着層５７と７７の少なくとも一方（好ましくは両方）は、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物の硬化物でありうる。
【００７１】
＜光硬化性接着組成物＞
光硬化性接着組成物は、カチオン重合性化合物と、光塩基発生剤とを含む。
【００７２】
カチオン重合性化合物
カチオン重合性化合物は、好ましくはエポキシ化合物またはオキセタン化合物であり、より好ましくはエポキシ化合物でありうる。エポキシ化合物は、脂環式エポキシ化合物、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物、脂肪族エポキシ化合物などでありうる。
【００７３】
脂環式エポキシ化合物は、脂環式環に直接結合したエポキシ基を分子内に少なくとも１個有する化合物である。脂環式エポキシ化合物の例には、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル ３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、ジエチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチルエーテル）、エチレングリコールビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテルなどが挙げられる。
【００７４】
芳香族エポキシ化合物は、分子内に芳香族環とエポキシ基とを有する化合物である。芳香族エポキシ化合物の例には、ビスフェノールＡのジグリシジルエーテル、ビスフェールＦのジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳのジグリシジルエーテルのようなビスフェノール型エポキシ化合物又はそのオリゴマー；フェノールノボラックエポキシ樹脂、クレゾールノボラックエポキシ樹脂、ヒドロキシベンズアルデヒドフェノールノボラックエポキシ樹脂のようなノボラック型のエポキシ樹脂；２，２′，４，４′−テトラヒドロキシジフェニルメタンのグリシジルエーテル、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシベンゾフェノンのグリシジルエーテルのような多官能型のエポキシ化合物；エポキシ化ポリビニルフェノールのような多官能型のエポキシ樹脂などが挙げられる。
【００７５】
水素化エポキシ化合物は、上記芳香族エポキシ化合物の水添物でありうる。当該水添物は、対応する芳香族エポキシ化合物の原料である芳香族ポリヒドロキシ化合物（例えばビスフェノール類）に、触媒の存在下および加圧下で選択的に水素化反応を行って得られる多価アルコール（水添ビスフェノール類など）と、エピクロロヒドリンとを反応させてクロロヒドリンエーテルとし；それをアルカリで分子内閉環させて得ることができる。
【００７６】
脂肪族エポキシ化合物は、脂肪族多価アルコール又はそのアルキレンオキサイド付加物のポリグリシジルエーテルでありうる。脂肪族エポキシ化合物の例には、ネオペンチルグリコールのジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールのジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールのジグリシジルエーテル、グリセリンのトリグリシジルエーテル、トリメロールプロパンのトリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールのジグリシジルエーテル（ジエチレングリコールジグリシジルエーテルなどを含む）、プロピレングリコールのジグリシジルエーテル、エチレングリコールやプロピレングリコール、グリセリンのような脂肪族多価アルコールに１種又は２種以上のアルキレンオキサイド（エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド）を付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテルなどが挙げられる。
【００７７】
これらの中でも、光塩基発生剤から生成する塩基（アミン等）との反応性が良好である点から、分子内に少なくとも２個のエポキシ基を有するエポキシ化合物が好ましく、さらに当該エポキシ基がグリシジルオキシ基として存在するエポキシ化合物が好ましい。そのようなエポキシ化合物は、芳香族エポキシ化合物、水素化エポキシ化合物および脂肪族エポキシ化合物でありうる。さらに、耐候性や屈折率などの観点から、分子内に芳香環を有しないエポキシ化合物がより好ましい。よって、水素化エポキシ化合物および脂肪族エポキシ化合物がより好ましい。
【００７８】
エポキシ化合物のエポキシ当量は、３０〜３０００ｇ／ｅｑであることが好ましく、５０〜１５００ｇ／ｅｑであることがより好ましい。エポキシ当量が３０ｑ／ｅｑ以上であると、硬化物の可撓性を大幅に損なうことなく、偏光子と保護フィルムとの良好な接着性が得られやすい。エポキシ当量が３０００ｇ／ｅｑ以下であると、他の成分との相溶性を大幅に損なうことがない。エポキシ当量は、エポキシ基１個あたりのエポキシ化合物の分子量により定義される。
【００７９】
光塩基発生剤
光塩基発生剤は、エポキシ化合物などのカチオン重合性化合物の硬化剤として機能しうる。光塩基発生剤は、可視光線や紫外線等の光の照射を受けてアミン等の塩基を生成する化合物でありうる。即ち、カチオン重合性化合物と光塩基発生剤とを含む光硬化性接着組成物は、光の照射を受けて光塩基発生剤からアミン等の塩基を生成し、当該塩基がカチオン重合性化合物と反応し、カチオン重合性化合物の重合反応を進行させる。
【００８０】
光塩基発生剤から生成する塩基は、１級アミン、２級アミン、イミダゾール、３級アミン、アミジンまたはグアニジンなどであり；好ましくは２級アミン、イミダゾール、またはグアニジンである。
【００８１】
そのような光塩基発生剤の例には、分子中にカルバメート構造を有するカルバメート化合物、グアニジンを生成するイオン型化合物、α−アミノケトン化合物、４級アンモニウム化合物、Ｏ−アシルオキシム化合物、アミノシクロプロペノン化合物などが含まれる。
【００８２】
カルバメート化合物は、カルバミン酸ＮＨ２ＣＯＯＨ由来の下記式の構造を有する化合物である。
【化４】
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カルバメート化合物の例には、１−（２−アントラキノニル）エチル １−ピペリジンカルボキシレート、１−（２−アントラキノニル）エチル １Ｈ−２−エチルイミダゾール−１−カルボキシレート（和光純薬社製、ＷＰＢＧ−１４０）、９−アントリルメチル １−ピペリジンカルボキシレート、９−アントリルメチル Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバメート（和光純薬社製、ＷＰＢＧ−０１８）、９−アントリルメチル Ｎ−プロピルカルバメート、９−アントリルメチル Ｎ−シクロヘキシルカルバメート、９−アントリルメチル １Ｈ−イミダゾール−１−カルボキシレート、２−ニトロフェニルメチル 4-メタクリロイルオキシピペリジン-1-カルボキシラート（和光純薬社製、ＷＰＢＧ−１６５）、９−アントリルメチル Ｎ，Ｎ−ジオクチルカルバメート、９−アントリルメチル １−（４−ヒドロキシピペリジン）カルボキシレート、１−ピレニルメチル １−ピペリジンカルボキシレート、ビス〔１−（２−アントラキノニル）エチル〕 １，６−ヘキサンジイルビスカルバメート、ビス（９−アントリルメチル） １，６−ヘキサンジイルビスカルバメートなどが含まれる。なかでも、良好な光硬化性が得られやすいことから、１−（２−アントラキノニル）エチル １Ｈ−２−エチルイミダゾール−１−カルボキシレート（和光純薬社製、ＷＰＢＧ−１４０）、９−アントリルメチル Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバメート（和光純薬社製、ＷＰＢＧ−０１８）、２−ニトロフェニルメチル 4-メタクリロイルオキシピペリジン-1-カルボキシラート（和光純薬社製、ＷＰＢＧ−１６５）が好ましい。
【００８３】
ピリジン化合物の例には、(Ｅ)-１-[３-(２-ヒドロキシフェニル)-２-プロペノイル]ピペリジン（和光純薬社製ＷＰＢＧ−０２７）、1,4-ジヒドロ-2,6-ジメチル-4-(2-ニトロフェニル)-3,5-ピリジンジカルボン酸ジメチルエステル（東京化成社製Ｎ０５２８、ニフェジン）などが含まれる。
【００８４】
グアニジンを生成するイオン型化合物の例には、1,2-ジイソプロピル-3-〔ビス（ジメチルアミノ）メチレン〕グアニジウム 2-(3-ベンゾイルフェニル)プロピオナート（ＷＰＢＧ−２６６）、1,2-ジシクロヘキシル-4,4,5,5-テトラメチルビグアニジウム ｎ-ブチルトリフェニルボラート（ＷＰＢＧ−３００）、2-(9-オキソキサンテン-2-イル)プロピオン酸1,5,7-トリアザビシクロ[4.4.0]デカ-5-エン（1）などが含まれる。
【００８５】
α−アミノケトン化合物の例には、１−フェニル−２−（４−モルホリノベンゾイル）−２−ジメチルアミノブタン、２−（４−メチルチオベンゾイル）−２−モルホリノプロパンなどが含まれる。
【００８６】
４級アンモニウム化合物の例には、１−（４−フェニルチオフェナシル）−１−アゾニア−４−アザビシクロ［２,２,２］オクタン テトラフェニルボレート、５−（４−フェニルチオフェナシル）−１−アザ−５−アゾニアビシクロ［４,３,０］−５−ノネン テトラフェニルボレート、８−（４−フェニルチオフェナシル）−１−アザ−８−アゾニアビシクロ［５,４,０］−７−ウンデセン テトラフェニルボレートなどが含まれる。
【００８７】
アミノシクロプロペノン化合物の例には、２−ジエチルアミノ−３−フェニルシクロプロペノン、２−ジエチルアミノ−３−（１−ナフチル）シクロプロペノン、２−ピロリジニル−３−フェニルシクロプロペノン、２−イミダゾリル−３−フェニルシクロプロペノン、２−イソプロピルアミノ−３−フェニルシクロプロペノンなどが含まれる。
【００８８】
これらの中でも、優れた硬化速度と耐熱性を与えることから、カルバメート化合物、ピリジン化合物およびグアニジンを生成するイオン型化合物などが好ましい。
【００８９】
光塩基発生剤の含有量は、カチオン重合性化合物１００重量部に対して、通常 ０.０１〜４００重量部であり、好ましくは０.５〜２００重量部、より好ましくは１〜１５０重量部である。光塩基発生剤の含有量が０．０１質量部以上であると、光硬化性接着組成物の硬化が十分に行いやすく、偏光子と保護フィルムとの良好な接着強度が得られやすい。光塩基発生剤の含有量が４００質量部以下であると、耐光性の低下や着色などを生じるおそれがない。
【００９０】
光硬化性接着組成物は、ラジカル重合性化合物と、ラジカル重合開始剤とをさらに含んでもよい。カチオン重合性化合物の反応は、十分な硬化が可能であるものの、硬化速度が比較的小さい。これに対し、ラジカル重合性化合物とラジカル重合開始剤とをさらに添加することで、重合速度を大きくすることができる。
【００９１】
ラジカル重合性化合物は、好ましくは（メタ）アクリレート化合物でありうる。（メタ）アクリレート化合物の例には、ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、トリプロピレングリコールジアクリレート、１，９−ノナンジオールジアクリレート、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート、アクリロイルモルホリン、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−エトキシメチルアクリルアミドなどが挙げられる。
【００９２】
ラジカル重合開始剤の例には、2,2-ジメトキシ-1,2-ジフェニルエタン-1-オンなどのベンジルジメチルケタール類；1-ヒドロキシ-シクロヘキシル-フェニル-ケトン、2-ヒドロキシ-2-メチル-1-フェニル-プロパン-1-オンなどのα-ヒドロキシアルキルフェノン類；2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン、2-ベンジル-2-ジメチルアミノ-1-（4-モルフォリノフェニル）-ブタノン-1などのα-アミノアルキルフェノン類；2,4,6-トリメチルベンゾイル-ジフェニル-フォスフィンオキサイドなどのアシルフォスフィンオキサイド類などが含まれる。
【００９３】
光硬化性接着組成物における、カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物の含有比率は、カチオン重合性化合物／ラジカル重合性化合物＝１００／０〜１／９９（質量比）であることが好ましく、１００／０〜５０／５０（質量比）であることがより好ましい。カチオン重合性化合物とラジカル重合性化合物の含有比率が上記範囲内であると、高い硬化速度と、十分な硬化とを両立しうる。
【００９４】
光硬化性接着組成物は、接着剤の性能を損なわない程度に、必要に応じて他の添加剤、例えば、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、光増感剤などをさらに含んでいてもよい。
【００９５】
接着層５７と７７の厚みは、偏光子と保護フィルムとを良好に接着できる程度であればよく、それぞれ独立に０．０１〜５０μｍ程度、好ましくは０．１〜２０μｍ程度、より好ましくは０．５〜５μｍ程度としうる。
【００９６】
接着層５７および７７が、光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物の硬化物であるかどうかは、硬化物が光塩基発生剤から生成した塩基由来の構造を含むかどうかによって確認できる。塩基由来の構造は、例えばＴＯＦ-ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量分析法）により確認することができる。具体的には、光硬化性接着組成物の硬化物を、ＴＯＦ-ＳＩＭＳ分析し、イオンスペクトルを得る。得られたスペクトルのうち、カチオンが一部欠落した質量を示すイオン性物質のピークが、光塩基発生剤由来の塩基由来のピークに相当する。当該ピークの全ピークに対する面積比等から、塩基の含有割合を定量することもできる。
【００９７】
液晶セル３０と偏光板５０または７０とは、例えば粘着剤層を介して積層されうる。粘着剤層を構成する粘着剤は、透明性に優れ、良好な接着性が得られやすいことなどから、アクリル系粘着剤であることが好ましい。
【００９８】
アクリル系粘着剤は、アルキル部分の炭素数が２０以下の（メタ）アクリル酸のアルキルエステルと、（メタ）アクリル酸や（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル等の官能基含有アクリル系モノマーのアクリル系共重合体を、ベースポリマーとして含みうる。アクリル系共重合体のガラス転移温度は、例えば０℃以下であり；重量平均分子量は、例えば１０万以上でありうる。
【００９９】
粘着剤層の厚みは、その接着力などに応じて決定されるが、１〜５０μｍ程度、好ましくは１〜１５μｍ程度としうる。
【０１００】
光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物を用いた偏光板は、高温高湿下での偏光子の収縮が高度に低減されている。それにより、液晶セルのガラス基板を薄くしても、当該ガラス基板が偏光板の寸法変化する力に対抗できるので、液晶表示パネルの反りを抑制できる。また、偏光子自体の収縮が低減されるので、保護フィルムの厚みを薄くしても、当該保護フィルムは偏光子の収縮する力に対抗できるので、液晶表示パネルの反りを抑制できる。また、偏光子の厚みを薄くしても、高温・高湿度下での収縮を良好に抑制できる。
【０１０１】
さらに、本発明では、液晶セルのガラス基板を薄くできるので、液晶セルと偏光板の間に設けられる粘着剤層を薄くすることができる。それにより、高温高湿下での粘着剤層の劣化による、液晶セルと偏光板の接着不良を抑制でき、それによる表示性能の低下を抑制できる。
【０１０２】
２．液晶表示装置の製造方法
本発明の液晶表示装置は、１）偏光板を準備する工程と、２）液晶セルと偏光板とを粘着剤を介して貼り合わせる工程とを経て製造されうる。
【０１０３】
２−１．１）の工程について
第１の工程は、１−１）ポリビニルアルコール系樹脂を含む偏光子と保護フィルムとを、前述の光硬化性接着組成物層を介して積層して積層物を得る工程と、１−２）当該積層物に活性エネルギー線を照射して光硬化性接着組成物層を硬化させる工程とを含む。
【０１０４】
１−１）の工程
偏光子と保護フィルムの貼合面の少なくとも一方に、光硬化性接着組成物を塗布して光硬化性接着組成物層を形成した後；偏光子と保護フィルムとを該光硬化性接着組成物層を介して積層する。光硬化性接着組成物を塗布する前の、偏光子と保護フィルムの貼合面には、接着性を高める観点から、コロナ処理やプラズマ処理などの易接着処理を施してもよい。
【０１０５】
光硬化性接着組成物の塗布厚みは、硬化後の接着層の厚みが前述の範囲となるように設定されうる。光硬化性接着組成物の塗布方法は、特別な限定はなく、例えば、ドクターブレード、ワイヤーバー、ダイコーター、カンマコーター、グラビアコーターなど種々の塗工方式が利用できる。
【０１０６】
１−２）の工程
当該積層物に活性エネルギー線を照射して光硬化性接着組成物層を硬化させる。光照射に用いる光源は、特に限定されないが、波長４００ｎｍ以下に発光分布を有する、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプなどを好適に用いることができる。
【０１０７】
光照射強度は、組成物の組成にもよるが、光塩基発生剤の活性化に有効な波長領域の照射強度が ０.１〜１０００ｍＷ／ｃｍ２となるようにすることが好ましい。光硬化性組成物への光照射強度があまり小さいと、反応時間が長くなりすぎ、一方でその強度があまり大きくなると、ランプから輻射される熱及び光硬化性組成物の重合時の発熱により、接着剤層の黄変や偏光子の劣化を生じる可能性がある。
【０１０８】
光照射時間は、照射強度と照射時間の積として表される積算光量が１０〜５０００ｍＪ／ｃｍ２となるように設定されることが好ましい。その積算光量が一定以上であると、光塩基発生剤由来のアミンが十分に発生し、光硬化性接着組成物の硬化が十分に行いやすい。一方、積算光量が一定以下であると、照射時間が長くなりすぎないため、生産性を損ないにくい。
【０１０９】
２−２．２）の工程について
前述で得られた偏光板と液晶セルとを、例えば粘着剤層を介して貼り合わせて、液晶表示パネルを得る。
【０１１０】
粘着剤層は、前述のアクリル系粘着剤層であり、偏光板と液晶セルの少なくとも一方に塗布形成されうる。具体的には、前述の粘着剤組成物を、例えばトルエンや酢酸エチルなどの有機溶媒に溶解または分散させて１０〜４０重量％の溶液を調製し；当該溶液を偏光板または液晶セル上に塗布して粘着剤層を形成する方法や；予めプロテクトフィルム上にシート状に形成された粘着剤層を、偏光板上に転写して粘着剤層を形成する方法などにより行うことができる。
【実施例】
【０１１１】
以下において、実施例を参照して本発明を説明する。実施例によって、本発明の範囲は限定して解釈されない。
【０１１２】
１．接着剤組成物の調製
１−１．カチオン重合性化合物
エポキシ化合物Ａ：エポライト１５００ＮＰ  共栄社化学社製（ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量１４０〜１６０ｇ／ｅｑ）
エポキシ化合物Ｂ：エポライト１００Ｅ   共栄社化学社製 （ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量１５０〜１６３ｇ／ｅｑ）
エポキシ化合物Ｃ：セロキサイド２０２１Ｐ   株式会社ダイセル製  （3',4'-エポキシシクロヘキシルメチル3,4-エポキシシクロヘキサンカルボキシレート エポキシ当量１２８〜１４５ｇ／ｅｑ）
エポキシ化合物Ｄ：デナコールＥＸ−２１４Ｌ  （１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、エポキシ当量１２０ｇ／ｅｑ））
オキセタン化合物Ａ：アロンオキセタンＯＸＴ−２１１
１−２．ラジカル重合性化合物
アクリレート化合物Ａ：４−アクリロイルモルホリン（ＡＣＭＯ）
アクリルアミド化合物Ａ：N-(2-ヒドロキシエチル)アクリルアミド（ＨＥＡＡ）
【０１１３】
１−２．光塩基発生剤
光塩基発生剤Ａ：ＷＰＢＧ−０２７（和光純薬社製、(Ｅ)-１-[３-(２-ヒドロキシフェニル)-２-プロペノイル]ピペリジン（下記式参照））
【化５】
2016090964.tif 000007
光塩基発生剤Ｂ：ＷＰＢＧ−１６５（和光純薬社製、２−ニトロフェニルメチル 4-メタクリロイルオキシピペリジン-1-カルボキシラート（下記式参照））
【化６】
2016090964.tif 000008
光塩基発生剤Ｃ：Ｎ０５２８（東京化成社製、ニフェジン（下記式参照））
【化７】
2016090964.tif 000009
光塩基発生剤Ｄ：ＷＰＢＧ−３００（和光純薬社製、1,2-ジシクロヘキシル-4,4,5,5-テトラメチルビグアニジウム ｎ-ブチルトリフェニルボラート（下記式参照））
【化８】
2016090964.tif 000010
１−３．光酸発生剤
光酸発生剤Ａ：ＣＰＩ−１００Ｐ（サンアプロ社製）
１−４．ラジカル重合開始剤
ラジカル重合開始剤Ａ：ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７（ＢＡＳＦ社製、2-メチル-1-(4-メチルチオフェニル)-2-モルフォリノプロパン-1-オン）
【０１１４】
１−５．光硬化性接着組成物
下記表１の組成となるように、各成分を混合し、光硬化性接着組成物Ａ〜Ｋを得た。
【表１】
2016090964.tif 000011
【０１１５】
２．保護フィルムの作製
下記表２の物性を有する保護フィルムを準備した。
【表２】
2016090964.tif 000012
【０１１６】
（製造例１）
下記式（１）中、Ｒ１は水素原子、Ｒ２およびＲ３はメチル基であるラクトン環を含有する（メタ）アクリル樹脂（共重合モノマーの重量比：メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２；ラクトン環化率約１００％）９０重量部と、アクリロニトリル−スチレン（ＡＳ）樹脂｛トーヨーＡＳ ＡＳ２０，東洋スチレン(株)製｝１０重量部との混合物を押出成形し、縦２．０倍、横２．４倍に延伸して厚み４０μｍの（メタ）アクリレル樹脂フィルムＡ１を得た。
【化９】
2016090964.tif 000013
【０１１７】
（製造例２）
厚みを２０μｍに変更した以外は（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ１と同様にして（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ２を作製した。
【０１１８】
（製造例３）
特許第５４３３３２８号の実施例１の方法で、メタクリル酸メチル（ＭＭＡ）４０質量部と２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル（ＭＨＭＡ）１０質量部とを重合させて得られるラクトン環を含有する（メタ）アクリル樹脂（共重合モノマーの重量比：メタクリル酸メチル／２−（ヒドロキシメチル）アクリル酸メチル＝８／２；ラクトン環化率約１００％）と、スチレン−アクリロニトリル共重合体（スチレン／アクリロニトリルの含有比率：７３質量％／２７質量％、重量平均分子量２２万）とを含み、かつスチレン−アクリロニトリル共重合体の含有割合が２５重量％である熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。熱可塑性樹脂組成物のガラス転移温度は１２２℃、重量平均分子量は１５．１万であった。
得られた熱可塑性樹脂組成物を、単軸押出機（φ＝２０ｍｍ、Ｌ／Ｄ＝２５）を用いて、２８０℃でコートハンガータイプＴダイ（幅１５０ｍｍ）から溶融押出を行い、温度１１０℃の冷却ロール上に吐出して、厚み１００μｍのフィルムを得た。得られたフィルムを、二軸延伸機（東洋精機製作所製ＴＹＰＥ ＥＸ４）を用いて、ＭＤ方向の延伸倍率が２．０倍となるように、延伸温度１３０℃（即ち熱可塑性樹脂組成物のＴｇ＋７℃）で自由端一軸延伸して、厚み４０ｕｍの（メタ）アクリル樹脂フィルムＢ１を得た。
【０１１９】
（製造例４）
厚みが３０μｍとなるように延伸条件を変更した以外は（メタ）アクリル樹脂フィルムＢ１と同様にして（メタ）アクリル樹脂フィルムＢ２を得た。
【０１２０】
（製造例５）
熱可塑性樹脂組成物中のスチレン−アクリロニトリル共重合体の含有割合を１０重量％とした以外は、製造例３と同様にして熱可塑性樹脂組成物のペレットを得た。当該ペレットを用いて製造例３と同様にしてアクリル樹脂フィルムＣ（厚み３０μｍ）を得た。
【０１２１】
（製造例６）
厚み５０μｍのノルボルネン系樹脂フィルム（ＪＳＲ（株）製、アートンＦＬＺＲ５０）を１４６℃で横方向に１．２５倍に延伸して、厚み４０μｍのノルボルネン系樹脂フィルムＢを得た。
【０１２２】
（製造例７）
ポリエチレンテレフタレートのチップ材料を、ヘンシェルミキサー及びパドルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、下記式の紫外線吸収剤をポリエチレンテレフタレートに練り込んでチップを得た。当該チップとポリエステルテレフタレートのチップとをさらにブレンドした。前記紫外線吸収剤の量は、全ポリエステルに対して０．４質量％とした。これらのチップを、ヘンシェルミキサー及びパドルドライヤー乾燥機内で含水率５０ｐｐｍ以下に乾燥させた後、ヒーター温度を２８０〜３００℃に設定した押出機内で溶融させ、ダイから静電印加されたチラーロール上に吐出させてフィルムを得た。このフィルムをＴＤ方向に３．０〜５．０倍の範囲で倍率を調整して二軸延伸し、８０μｍのポリエステル樹脂フィルムＡを得た。
【化１０】
2016090964.tif 000014
【０１２３】
（製造例８）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、ドープを調製した。
（ドープの組成）
セルロースアセテート（アセチル基置換度２．８６、総アシル基置換度２．８６、粘度平均重合度３１０）：１００質量部
トリフェニルホスフェート：８．０質量部
ビフェニルジフェニルホスフェート：４．０質量部
チヌビン３２８ チバ・ジャパン製：１．０質量部
チヌビン３２６ チバ・ジャパン製：０．２質量部
メチレンクロライド：３６９質量部
メタノール：８０質量部
１−ブタノール：４質量部
【０１２４】
得られたドープを３０℃に加温し、流延ギーサーを通して鏡面ステンレス支持体上に流延した。流延部の空間温度は１５℃とした。そして、流延したドープ液をドラムから剥ぎ取り、膜状物を得た。剥ぎ取り直後の膜状物の残留溶媒量は７０％であった。得られた膜状物の両端をピンテンターでクリップし、乾燥ゾーンに搬送した、４５℃の乾燥風を送風して乾燥させた。次に１１０℃で５分、さらに１４０℃で１０分乾燥して、厚み４０μｍのセルロースエステルフィルムＡを得た。
【０１２５】
（製造例９）
ゾル液ａの調製
温度計、窒素導入管、滴下ロートを備えた１，０００ｍｌの反応容器に、アクリロキシプロピルトリメトキシシラン１８７ｇ（０．８０ｍｏｌ）、メチルトリメトキシシラン２７．２ｇ（０．２０ｍｏｌ）、メタノール３２０ｇ（１０ｍｏｌ）とＫＦ０．０６ｇ（０．００１ｍｏｌ）を仕込み、攪拌下室温で水１５．１ｇ（０．８６ｍｏｌ）をゆっくり滴下した。滴下終了後、室温で３時間攪拌した後、メタノール還溜下２時間加熱攪拌した。その後、低沸分を減圧留去し、さらにろ過してゾル液ａを１２０ｇ得た。得られたゾルは、下記式で表されるものであり；ＧＰＣ測定した結果、質量平均分子量は１５００であった。
【化１１】
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【０１２６】
バリア層用組成物の調製
下記成分を混合して得られる溶液を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して、バリア層用塗布液を得た。
（バリア層用塗布液の組成）
ＰＥＴ−３０（ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］）：４０．０ｇ
ＤＰＨＡ（ジペンタエリスリトールペンタアクリレートとジペンタエリスリトールヘキサアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］）：１０．０ｇ
イルガキュア１８４：２．０ｇ
ＳＸ−３５０（架橋ポリスチレン粒子、平均粒径３．５μｍ、屈折率１．６０、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液）：２．０ｇ
架橋アクリルースチレン粒子（平均粒径３．５μｍ、屈折率１．５５、綜研化学（株）製、３０％トルエン分散液）：１３．０ｇ
ＦＰ−１３（下記式のフッ素系表面改質剤）：０．０６ｇ
ゾル液ａ：１１．０ｇ
トルエン：３８．５ｇ
【化１２】
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【０１２７】
上記調製したバリア層用塗布液を、セルロースエステルフィルムＣ上に、スロットルダイを有するコーターにて塗布した。その後、塗膜を、３０℃で１５秒間、９０℃で２０秒間乾燥させた後、さらに窒素パージ下で１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）にて、射量９０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗膜を硬化させた。それにより、厚み５．０μｍのバリア層が設けられたセルロースエステルフィルムＤを得た。
【０１２８】
各フィルムの透湿度は、以下の方法で測定した。
（透湿度）
各フィルムの４０℃９０％ＲＨにおける透湿度を、ＪＩＳ Ｚ ０２０８に記載の方法により測定した。そして、面積１ｍ２当たり２４時間で蒸発する水分量（ｇ）を求めた。
【０１２９】
３．偏光板および液晶表示装置の作製
＜実施例１―１＞
（偏光子の作製）
厚み８０μｍ、幅３１００ｍｍのポリビニルアルコールフィルム（（株）クラレ製、平均重合度２４００、鹸化度９９．９モル％、長さ８００ｍ）を、３０℃の純水中に６０秒間浸漬して膨潤させ、長さ方向（流れ方向）に延伸倍率２．５倍まで一軸延伸した。
得られたフィルムを３０℃のヨウ素／ヨウ化カリウム（質量比＝１／１０）の濃度０．０５％の水溶液に６０秒間浸漬し、総延伸倍率が２．８倍となるように延伸した後、４０℃のホウ酸濃度３質量％、ヨウ化カリウム濃度２質量％の水溶液中で総延伸倍率が３倍となるまで延伸した。
得られたフィルムを、さらに６０℃のホウ酸濃度４質量％、ヨウ化カリウム濃度３質量％の水溶液中で総延伸倍率が６倍となるまで延伸した後、２５℃のヨウ化カリウム濃度５質量％の水溶液中に３０秒間無延伸で浸漬した。得られたフィルムを、張力を保持したまま４０℃で１分間乾燥させて、厚さ２０μｍ、幅１５５０ｍｍの偏光子を得た。
【０１３０】
（偏光板の作製）
表２の（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ１とＢ２の片面にそれぞれコロナ放電処理を施した後、当該コロナ処理面に、上記調製した光硬化性接着組成物Ａを硬化後の膜厚が５μｍとなるようにバーコーターを用いてそれぞれ塗布した。
次いで、上記作製した偏光子の一方の面に、（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ１の光硬化性接着組成物Ａの塗膜が接するように積層し；他方の面に（メタ）アクリル樹脂フィルムＢ２の光硬化性接着組成物Ａの塗膜が接するように積層した。
得られた積層物をベルトコンベア付き紫外線照射装置のベルトコンベアに乗せ、紫外線照射装置に設置されたフュージョンＵＶシステムズ社製の紫外線ランプ“Ｄバルブ”から、積算光量が５００ｍJ／ｃｍ２となるように紫外線を照射し、偏光子両面の塗膜を硬化させた。それにより、（メタ）アクリル樹脂フィルムＡ１／接着層／偏光子／接着層／（メタ）アクリル樹脂フィルムＢ２の積層構造を有する偏光板を得た。（メタ）アクリル樹脂フィルムＢ２の遅相軸（ＭＤ方向）と偏光子の吸収軸（ＭＤ方向）とは平行とした。
【０１３１】
（液晶表示パネルの作製）
１）液晶セルの作製
厚みが０．５ｍｍのガラス基板を用いてＶＡ方式の液晶セルを作製した。具体的には、表面に電極が設けられた厚み０．５ｍｍのガラス基板を２枚準備し、それぞれの電極形成面にポリイミド膜を付与した後、ラビング処理して配向膜を形成した。二枚のガラス基板を、配向膜同士を対向させて、基板の間隔（ギャップｄ）が４μｍ、屈折率異方性（Δｎ）が０．１、誘電率異方性（Δε）が１０．０のネマチック液晶材料を封入し、液晶層のｄ・Δｎの値が４００ｎｍである液晶セルを得た。
【０１３２】
２）液晶表示パネルの作製
得られた上記液晶セルの両面にアクリル系粘着剤を介してそれぞれ上記作製した偏光板を貼り付けて、液晶表示パネルを得た。偏光板の貼り付けは、保護フィルムＦ２またはＦ３の遅相軸と予め貼られていた偏光板の吸収軸とが平行となり；かつ保護フィルムＦ２またはＦ３が液晶セル側となるように行った。アクリル系粘着剤の厚みは１０μｍとした。
【０１３３】
（液晶表示装置の作製）
ＳＯＮＹ社製４０型ディスプレイＢＲＡＶＩＡ  ＫＬＶ−４０Ｊ３０００から液晶表示パネルを剥がし取った後、上記作製した液晶表示パネルを取り付けて、液晶表示装置を作製した。
【０１３４】
＜実施例１−２〜１−８、比較例１−１〜１−３＞
偏光板の作製に用いる光硬化性接着組成物の種類を表３に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様にして偏光板およびそれを用いた液晶表示装置を作製した。
【０１３５】
＜実施例２−１＞
液晶表示パネルの作製において、ＶＡ方式の液晶セルをＩＰＳ方式の液晶セルに変更した以外は実施例１−１と同様にして液晶表示パネルを得た。具体的には、厚みが０．５ｍｍのガラス基板を用いて、基板の間隔（ギャップｄ）を２．９μｍ、プレチルト角を３°とし；誘電率異方性Δεが＋７、波長５５０ｎｍでの複屈折Δｎが０．１の液晶材料を用いて、液晶層のｄ・Δｎの値が２９０ｎｍであるＩＰＳ方式の液晶セルを得た。
【０１３６】
そして、ＬＧ社製ディスプレイ４２ＬＢ６７００から液晶表示パネルを剥がし取った後、上記作製した液晶表示パネルを取り付けて、液晶表示装置を得た。
【０１３７】
＜実施例２−２、比較例２−１〜２−２＞
液晶表示パネルの作製において、液晶セルのガラス基板の厚みを表４に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様にして液晶表示装置を得た。アクリル系粘着剤の厚みは、実施例２−２で１２μｍとし；比較例２−１および２−２で１５μｍとした。
【０１３８】
＜実施例３−１〜３−２＞
偏光板の作製に用いる光硬化性接着組成物の種類を、表５に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様にして偏光板およびそれを用いた液晶表示装置を作製した。
【０１３９】
＜実施例４−１〜４−７＞
実施例４−１、４−３および４−５〜４−７については、保護フィルムＦ１〜Ｆ４の種類を、表６に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様にして偏光板およびそれを用いた液晶表示装置を作製した。実施例４−２および４−４については、保護フィルムＦ１〜Ｆ４の種類を、表６に示されるように変更した以外は実施例２−１と同様に液晶表示装置を作製した。
【０１４０】
＜実施例５−１〜５−２、比較例５−１〜５−２＞
液晶表示装置の保護フィルムＦ１〜Ｆ４の厚みまたは偏光子の厚みを、表７に示されるように変更した以外は実施例１−１と同様にして偏光板およびそれを用いた液晶表示装置を作製した。なお、実施例５−２及び比較例５−２の偏光子は、原反フィルムの厚みや延伸倍率を調整して厚みが１０μｍとなるようにした以外は実施例５−１の偏光子と同様にして得た。
【０１４１】
得られた液晶表示装置の、表示特性１（液晶表示パネルの反りに起因する表示ムラの有無）、表示特性２（液晶セルと偏光板との密着性に起因する表示性能低下の有無）、および生産性について、以下の方法で評価した。
【０１４２】
（表示特性１）
作製した液晶表示装置を、恒温恒湿槽にて４０℃９５％ＲＨ下で１００ｈｒ静置した。その後、恒温恒湿槽から液晶表示装置を取り出し、２３℃５５％ＲＨ下で１時間バックライトを点灯させた。そのときの、表示画面を目視観察した。表示画面を図２に示される領域に区切ったときの白抜け箇所の数をカウントした。そして、４０℃９５％ＲＨ下で静置前の白抜け箇所の数を初期値とし；静置前後で白抜け箇所が増加した領域をカウントして以下の基準で評価した。
○：白抜け箇所が増加した領域が０〜１つ
〇△：白抜け箇所が増加した領域が２〜３つ
△：白抜け箇所が増加した領域が４〜５つ
×：白抜け箇所が増加した領域が６つ以上
表示特性１の低下は、液晶表示パネルの反りに起因する表示ムラが生じたことを示す。〇△以上が良好と判断した。
【０１４３】
（表示特性２）
上記表示特性１の評価において、バックライトを点灯させたときの、中央部５の色味変化を目視観察し、以下の基準で評価した。
○：ほとんど変化なし
×：白抜けしている
表示特性２の低下は、液晶セルと偏光板との（粘着剤による）密着性不良に伴う表示性能の低下が生じたことを示す。
【０１４４】
（生産性）
光硬化性接着組成物の硬化に要する時間を、以下の基準で評価した。
○：光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物単独の硬化時間よりも短い
△：光塩基発生剤を含む光硬化性接着組成物単独の硬化時間と同等レベル
【０１４５】
実施例１−１〜１−８および比較例１−１〜１−３の評価結果を表３に示し；実施例２−１〜２−２および比較例２−１〜２−２の評価結果を表４に示し；実施例３−１〜３−２の評価結果を表５に示し；実施例４−１〜４−７の評価結果を表６に示し；実施例５−１〜５−２および比較例５−１〜５−２の評価結果を表７に示す。
【表３】
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【表４】
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【表５】
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【表６】
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【表７】
2016090964.tif 000021
【０１４６】
表３に示されるように、実施例１−１〜１−８の液晶表示装置は、偏光子の収縮に伴う液晶表示パネルの反りを抑制でき、表示ムラを低減できることがわかる。実施例１−１〜１−８において偏光子の収縮が抑制されたのは、偏光子と保護フィルムの接着に用いられる光硬化性接着組成物中の光塩基発生剤が、偏光子のPVA樹脂を劣化させにくいからであると考えらえる。
【０１４７】
一方、比較例１−１〜１−３の液晶表示装置は、偏光子の収縮に伴う液晶表示パネルの反りが生じ、表示ムラが生じることがわかる。比較例１−１では、偏光子と保護フィルムの接着に用いられる光硬化性接着組成物が光酸発生剤を含むことから、当該光酸発生剤から生成した酸が偏光子のPVA樹脂を劣化させ、収縮させやすくしたためと考えらえる。比較例１−２では、ラジカル重合開始剤を含む光硬化性接着組成物を用いたため、残存する未反応モノマーにより高温高湿下での保護フィルムとの接着性が不足し、偏光子の収縮力を保護フィルムによって抑えきれなかったためと考えられる。比較例１−３では、水糊系接着組成物を用いたため、高温高湿下での保護フィルムとの接着性が不足し、偏光子の収縮力を保護フィルムによって抑えきれなかったためと考えられる。
【０１４８】
表４に示されるように、IPS方式の液晶セルを用いた実施例２−１の液晶表示装置や、ガラス基板厚みが０．２５ｍｍである液晶セルを用いた実施例２−２の液晶表示装置においても、偏光子の収縮に伴う液晶表示パネルの反りを抑制でき、表示ムラを低減できることがわかる。一方、ガラス基板が１ｍｍ以上である比較例２−１および２−２の液晶表示装置では、偏光子の収縮に伴う表示ムラは生じないが、偏光板と液晶セルとの密着性の低下に伴う表示ムラが生じることがわかる。これは、ガラス基板が厚くなると、それに応じてアクリル系粘着剤の厚みを厚くする必要があり、高温高湿下でのダメージを受けたためと考えられる。
【０１４９】
表５に示されるように、実施例１−１と実施例３−１および３−２との対比から、光塩基発生剤とラジカル重合開始剤とを組みあわせた光硬化性接着組成物を用いることで、光塩基発生剤のみを含む光硬化性接着組成物を用いるよりも短時間で硬化できることがわかる。
【０１５０】
表６に示されるように、実施例４−１、４−５および４−６との対比などから、保護フィルムF1の透湿度が低いほど、偏光子の収縮に伴う表示ムラが抑制されることがわかる。これは、保護フィルムF1の透湿度を一定以下とすることで、外部から侵入する水分による偏光子の収縮を少なくできるためと考えられる。
【０１５１】
表７に示されるように、比較例１−１、５−１および５−２の対比から、偏光子や保護フィルムの厚みが薄いほど、偏光子の収縮に起因する表示ムラが生じやすいことがわかる。これに対して、本発明の光塩基発生剤を含む接着組成物を用いた実施例５−１及び５−２は、いずれも偏光子や保護フィルムの厚みが薄くても、偏光子の収縮を低減でき、それによる表示ムラを抑制できることがわかる。
【産業上の利用可能性】
【０１５２】
本発明によれば、高温高湿下に置かれた際の、偏光子の収縮に起因する表示ムラが抑制された液晶表示装置を提供できる。
【符号の説明】
【０１５３】
１０  液晶表示装置
３０  液晶セル
５０  第一の偏光板
５１  第一の偏光子
５３  保護フィルム（Ｆ１）
５５  保護フィルム（Ｆ２）
７０  第二の偏光板
７１  第二の偏光子
７３  保護フィルム（Ｆ３）
７５  保護フィルム（Ｆ４）
９０  バックライト
【図１】
2016090964.tif 000022
【図２】
2016090964.tif 000023