(57)【要約】【課題】めっき浴槽内における電解めっき金属層の析出速度のバラツキを小さくすることによって、良好な品質の被めっき物を供給できる電解めっき装置を提供することを課題とする。【解決手段】垂直に立てられた状態の平板状の被めっき物Ｐが、被めっき物Ｐの主面Ｐｓに沿った水平方向に搬送されるめっき浴槽１と、搬送される被めっき物Ｐの主面Ｐｓと対向する対向面２ｓを有し、対向面２ｓが搬送方向に沿って等間隔で並ぶようにめっき浴槽１内に配置された複数のアノード電極２とを具備して成る電解めっき装置Ａであって、対向面２ｓは上面視で凹状に湾曲している。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直に立てられた状態の平板状の被めっき物が該被めっき物の主面に沿った水平方向に搬送されるめっき浴槽と、搬送される前記被めっき物の主面と対向する対向面を有し、該対向面が前記搬送方向に沿って等間隔で並ぶように前記めっき浴槽内に配置された複数のアノード電極と、を具備して成る電解めっき装置であって、前記対向面は上面視で凹状に湾曲していることを特徴とする電解めっき装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電解めっき装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電解めっき技術は、例えば配線基板の配線形成用途として広く用いられており、配線基板の絶縁層表面や絶縁層に形成されたビアホール内に電解めっき金属層を析出させることで配線が形成される。
【０００３】
ここで、図３に従来の電解めっき装置Ｂを概略図で示す。電解めっき装置Ｂは、垂直に立てられた平板状の被めっき物Ｐが、その主面Ｐｓに沿った水平方向に搬送されるめっき浴槽２１と、被めっき物Ｐの主面Ｐｓに対向する対向面２２ｓを有し、この対向面２２ｓが搬送方向に沿って等間隔で並ぶようにめっき浴槽２１内に配置された複数のアノード電極２２と、電解めっき用の電流を供給する整流器（不図示）と、整流器の陰極側と電気的に接続されて通電を行いながら被めっき物Ｐを搬送させるハンガー２３とを備えている。
【０００４】
次に、図４に従来の電解めっき装置Ｂにおける被めっき物Ｐとアノード電極２２との配置関係を上面概略図で示す。ここで、図３と同一の箇所には、同じ符号を付して説明する。
従来、アノード電極２２は上面視で平坦状であり、めっき浴槽２１の対向する両内壁付近に等間隔で配置されている。そして、平板状の被めっき物Ｐが、対向するアノード電極２２同士の間を、主面Ｐｓと対向面２２ｓとが所定の間隔を保った状態で水平方向に搬送されることで、被めっき物Ｐの主面Ｐｓおよび被めっき物Ｐに形成されたビアホール内に電解めっき金属層が析出する。
【０００５】
ところで、従来の電解めっき装置Ｂにおいては、上面視におけるアノード電極２２の対向面２２ｓの中央部付近と被めっき物Ｐの主面Ｐｓとの間において電流密度が大きくなり、対向面２２ｓの両端部付近と主面Ｐｓとの間において電流密度が小さくなっている。このため、被めっき物Ｐが各アノード電極２２の中央部付近を通過するときには、電解めっき金属層の析出速度が速くなり、両端部付近を通過するときには、電解めっき金属層の析出速度が遅くなる。このように、めっき浴槽２１内において電解めっき金属層の析出速度にバラツキがあると、例えば被めっき物Ｐのビアホール内に電解めっき金属層が析出するときに、析出速度が速い個所ではビアホールの底部付近から徐々に電解めっき金属層が充填されず、ビアホールの開口部付近に蓋をするような状態で電解めっき金属層が析出してしまい、ビアホール中にめっき液を内包した空隙が生じてしまうことがある。また、このような空隙を生じさせないために、各対向面２２ｓの中央部付近と主面Ｐｓとの間の電流密度が小さくなるように整流器の出力を設定すると、対向面２２ｓの両端部付近と主面Ｐｓとの間の電流密度がさらに小さくなりビアホールを完全に充填できず、ビアホール内に析出した電解めっき金属層の上面に窪みが生じてしまうことがある。
これらの結果、空隙内に残留しためっき液によりビアホール内の電解めっき金属層が腐食して通電不良が生じたり、絶縁層上にさらに別の絶縁層を積層したときに、窪みの上に対応する別の絶縁層表面に凹みが生じてしまい、凹み部分に安定的に配線を形成することができずに配線が剥がれて通電不良が生じたりするという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１１−２９３４９３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明の課題は、めっき浴槽内における電解めっき金属層の析出速度のバラツキを小さくすることによって、良好な品質の被めっき物を供給できる電解めっき装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の電解めっき装置は、垂直に立てられた状態の平板状の被めっき物が、被めっき物の主面に沿った水平方向に搬送されるめっき浴槽と、搬送される被めっき物の主面と対向する対向面を有し、対向面が搬送方向に沿って等間隔で並ぶようにめっき浴槽内に配置された複数のアノード電極とを具備して成る電解めっき装置であって、対向面は上面視で凹状に湾曲していることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００９】
本発明の電解めっき装置によれば、各アノード電極は、搬送される被めっき物の主面と対向する対向面を有しており、その対向面が上面視で凹状に湾曲している。そのため、アノード電極の対向面の中央部付近と被めっき物の主面との間隔は広く、アノード電極の対向面の両端部付近と被めっき物の主面との間隔は狭くなる。
このようにすることで、従来電流密度の過大傾向があったアノード電極の対向面の中央部付近と被めっき物の主面との間の電流密度を抑制するとともに、電流密度の過小傾向があったアノード電極の対向面の両端部付近と被めっき物の主面との間の電流密度を増長することができる。
その結果、アノード電極の対向面の中央部付近と被めっき物の主面との間の電流密度、およびアノード電極の対向面の両端部付近と被めっき物の主面との間の電流密度の差を縮小することが可能となり、めっき浴槽内における電解めっき金属層の析出速度のバラツキを小さくして、良好な品質の被めっき物を供給することが可能な電解めっき装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】図１は、本発明の電解めっき装置の実施形態の一例を示す概略斜視図である。
【図２】図２は、図１に示す電解めっき装置の要部拡大上面図である。
【図３】図３は、従来の電解めっき装置の実施形態の一例を示す概略斜視図である。
【図４】図４は、図３に示す電解めっき装置の要部拡大上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
次に、本発明の電解めっき装置の実施形態の一例を図１および図２を基にして詳細に説明する。なお、図１と図２において同一の箇所には、同じ符号を付して説明する。
本例の電解めっき装置Ａは、垂直に立てられた平板状の被めっき物Ｐが、その主面Ｐｓに沿った水平方向に搬送されるめっき浴槽１と、被めっき物Ｐの主面Ｐｓに対向する対向面２ｓを有し、この対向面２ｓが搬送方向に沿って等間隔で並ぶようにめっき浴槽１内に配置された複数のアノード電極２と、電解めっき用の電流を供給する整流器（不図示）と、整流器との通電を行いながら被めっき物Ｐを搬送させるハンガー３とを備えている。
【００１２】
めっき浴槽１は、例えば塩化ビニルから成る複数の平板同士を接合することで容器状に形成される。めっき浴槽１内にはめっき液が入れられるとともに、ハンガー３に装着された状態の被めっき物Ｐが浸漬される。さらに、整流器の陽極と接続された複数のアノード電極２が配置される。
【００１３】
アノード電極２は、例えばチタン板に酸化イリジウム等をコーティングした良導電性の金属から成り、対向面２ｓが搬送方向に沿って等間隔で並ぶようにめっき浴槽１に配置される。そして、図２に示すように、この対向面２ｓは上面視で凹状に湾曲しており、上面視における対向面２ｓの中央部付近と被めっき物Ｐの主面Ｐｓとの間隔が広くなり、対向面２ｓの両端部付近と被めっき物Ｐの主面Ｐｓとの間隔が狭くなっている。
なお、アノード電極２の湾曲は、図２に示すように、アノード電極２の中央からＸ（ｍｍ）離れた位置における対向面２ｓと主面Ｐｓとの距離をＬｘ（ｍｍ）とした場合に、次の式１に示す距離になる程度にすればよい。
式１    Ｌｘ＝Ｌ×（１−Ｂ×Ｘ２）
Ｌ      アノード中央における対向面と主面との距離（ｍｍ）
Ｂ      ０．０００００６＜Ｂ＜０．００００１２の範囲の係数
【００１４】
ハンガー３は、例えばめっき液による腐食に強いステンレスから成り、被めっき物Ｐをめっき浴槽１内に浸漬するとともに、めっき浴槽１内に浸漬された被めっき物Ｐを搬送しながら移動するための移動装置（不図示）に接続されている。
【００１５】
このように、本発明の電解めっき装置Ａによれば、各アノード電極２は、搬送される被めっき物Ｐの主面Ｐｓと対向する対向面２ｓを有しており、その対向面２ｓが上面視で凹状に湾曲している。そのため、対向面２ｓの中央部付近と主面Ｐｓとの間隔は広く、対向面２ｓの両端部付近と主面Ｐｓとの間隔は狭くなる。
このようにすることで、従来電流密度の過大傾向があった対向面２ｓの中央部付近と主面Ｐｓとの間の電流密度を抑制するとともに、電流密度の過小傾向があった対向面２ｓの両端部付近と主面Ｐｓとの間の電流密度を増長することができる。
その結果、対向面２ｓの中央部付近と主面Ｐｓとの間の電流密度、および対向面２ｓの両端部付近と主面Ｐｓとの間の電流密度の差を縮小することが可能となり、めっき浴槽１内における電解めっき金属層の析出速度のバラツキを小さくして、良好な品質の被めっき物Ｐを供給することが可能な電解めっき装置Ａを提供することができる。
【符号の説明】
【００１６】
１    めっき浴槽
２    アノード電極
２ｓ  対向面
Ａ    電解めっき装置
Ｐ    被めっき物
Ｐｓ  主面
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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