(57)【要約】      （修正有）【課題】ケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層欠陥の識別性能を強化する。【解決手段】複数のポリマーシートを光源と光検出器の間に、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送する。光源は衝突面１７に向けられ、光検出器は、ポリマーシートの透過光を検出する。透過光の強度は、光検出器により電気信号に変換され；光検出器からの電気信号は、ディジタル画像データ取得デバイスによりディジタル信号に変換される。ディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号は、画像データ処理ユニットにより処理され、この画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、ポリマーシートを許容し得るか否かに分類する。この複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団とそうでないシートの集団とに分割される。【選択図】図１
2016136136.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記を含むケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザー：
複数のポリマーシートを保持するためのマガジン部［ここで、各ポリマーシートは、（ｉ）ポリマー及び複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物を含み（ここで、この複数の微量元素はこのポリマー中に分散している）、そして（ii）透過面と衝突面の間の厚さＴＳを有する（ここで、この透過面及び衝突面は、実質的に平行である）］；
シーケンサー；
光源［ここで、この光源は、４６０〜４９０nmの発光ピーク波長及び≦５０nmの半値全幅ＦＷＨＭを示す発光スペクトルを有する光線を出す］；
光検出器；
光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイス；及び
ディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニット
［ここで、このシーケンサーは、複数のポリマーシートをマガジン部から引き出して、光源と光検出器の間に置かれた位置まで、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送するように構成されており； この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；この光検出器は、透過光の強度を電気信号に変換するように構成され；この光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイスは、光検出器からの電気信号をディジタル信号に変換するように構成され；このディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートをケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての使用に許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するために、ディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号を処理するように構成され；この複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される］。
【請求項２】
シーケンサーが更に、複数のポリマーシートをマガジン部に戻すように構成されている、請求項１記載のケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザー。
【請求項３】
マガジン部が、少なくとも１０枚のポリマーシートを保持するための設計容量を有する、請求項２記載のケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザー。
【請求項４】
更に、複数のポリマーシートの目視検査を容易化するための表示部を含む、請求項１記載のケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザー。
【請求項５】
ケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての適合性に関してポリマーシートを分析するための方法であって：
複数のポリマーシートであって、各ポリマーシートは、（ｉ）ポリマー及び複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物を含み（ここで、この複数の微量元素はこのポリマー中に分散している）、そして（ii）透過面と衝突面の間の厚さＴＳを有する（ここで、この透過面及び衝突面は、実質的に平行である）、複数のポリマーシートを提供すること；
自動検査システムであって、
４６０〜４９０nmの発光ピーク波長及び≦５０nmの半値全幅ＦＷＨＭを示す発光スペクトルを有する光線を出す光源；
光検出器；
ディジタル画像データ取得デバイス；及び
画像データ処理ユニット
を含むシステムを提供すること；
複数のポリマーシートを光源と光検出器の間に、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送することを含む方法［ここで、
この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；
この透過光は、少なくとも１つの検出可能な性質を有しており；
この少なくとも１つの検出可能な性質は、透過光の強度を含み；
この透過光の強度は、光検出器により電気信号に変換され；
この光検出器からの電気信号は、ディジタル画像データ取得デバイスによりディジタル信号に変換され；そして
ディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号は、画像データ処理ユニットにより処理され；この画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートを許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するように構成され；そして
この複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される］。
【請求項６】
更に、疑わしいシートの集団から選択シートを選ぶことを含む、請求項５記載の方法。
【請求項７】
自動検査システムが更に表示部を含み、選択シートの画像がこの表示部に表示される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
更に、
選択シートの目視検査を実行すること［ここで、この目視検査は、表示部上に表示される選択シートの画像により容易化されている］；及び
（ｉ）目視検査に基づいて許容し得るとして選択シートを再分類する［ここで、その選択シートはその後、許容し得るシートの集団に追加される］か；又は（ii）目視検査に基づいて欠陥として選択シートを分類する［ここで、その選択シートはその後、欠陥シートの集団に追加される］ことのいずれか
を含む、請求項７記載の方法。
【請求項９】
更に、
許容し得るシートに少なくとも１本の溝を切って溝パターンを形成することにより、研磨面を形成すること［ここで、この溝パターンは、基板を研磨するために適合されている］；及び
許容し得るシートを研磨層としてケミカルメカニカルポリッシングパッドに組み込むこと
を含む、請求項５記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は一般に、ケミカルメカニカルポリッシングパッドの製造の分野に関する。詳しくは、本発明は、ケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザー及び関連方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
集積回路及び他の電子デバイスの組立において、複数層の導電材料、半導体材料及び絶縁材料が、半導体ウェーハの表面に堆積されるか、又は表面から除去される。導電材料、半導体材料、及び絶縁材料の薄層は、幾つかの堆積技術により堆積することができる。現代の加工における一般的な堆積技術は、スパッタリングとしても知られている物理的気相成長法（ＰＶＤ）、化学気相成長法（ＣＶＤ）、プラズマ化学気相成長法（ＰＥＣＶＤ）、及び電気化学めっき法（ＥＣＰ）を含む。
【０００３】
材料層が連続的に堆積及び除去されるにつれ、ウェーハの最上部表面は非平面になる。後続の半導体加工（例えば、メタライゼーション）はウェーハが平坦面を有することを要求するため、ウェーハを平坦化する必要がある。平坦化は、粗面、凝集した材料、結晶格子の損傷、スクラッチ及び汚染された層又は材料のような、望ましくない表面トポグラフィー及び表面欠陥を除去するのに有用である。
【０００４】
ケミカルメカニカルプラナリゼーション、即ち、ケミカルメカニカルポリッシング（ＣＭＰ）は、半導体ウェーハのような基板を平坦化するために使用される一般的な技術である。従来のＣＭＰでは、ウェーハはキャリアアセンブリに取り付けられ、ＣＭＰ装置内の研磨パッドと接触させて配置される。このキャリアアセンブリは、ウェーハに制御可能な圧力を提供して、ウェーハを研磨パッドに押しつける。このパッドは、外部駆動力によりウェーハに対して移動（例えば、回転）させる。それと同時に、化学組成物（「スラリー」）又は他の研磨溶液が、ウェーハと研磨パッドとの間に提供される。よって、ウェーハ表面は、パッド表面及びスラリーの化学的及び機械的作用によって研磨及び平坦化される。
【０００５】
米国特許第5,578,362号において、Reinhardtらは、当該分野において公知の典型的な研磨パッドを開示している。Reinhardtの研磨パッドは、全体にわたって分散しているミクロスフェアを有するポリマーマトリックスを含む。一般的に、ミクロスフェアは、液体ポリマー材料とブレンド及び混合して、硬化用の成形型に移される。次に成形品を薄切りにすることによって研磨層を形成する。残念ながら、このように形成された研磨層は、研磨パッドに組み込まれると、これで研磨された基板に欠陥を引き起こしかねない、不要な欠陥を示すことがある。
【０００６】
ケミカルメカニカルポリッシングパッドの研磨層の潜在的欠陥に関する懸念に対処するための１つの主張されるアプローチが、Parkらにより米国特許第7,027,640号に開示されている。Parkらは、ウェーハのケミカルメカニカルポリッシングを実行する際に使用するためのパッド上の欠陥を検出又は検査するための装置であって：パッドを装着してパッドを移動させるためのパッド駆動デバイス；パッドの画像を電気信号に変換してこの変換した電気信号を出力するための、パッドに向けて設置されたカメラ；カメラから送られた電気信号をディジタル信号に変換するためのディジタル画像データ取得デバイス；及び画像データを処理してパッド上の欠陥を検出するための画像データ処理ユニットを含む装置を開示しているが、ここで、この画像データ処理ユニットは、画像データ取得デバイスから取得された任意の１点上の画像データに基づく光の１個以上の定量的特性値を計算して、取得された１個以上の定量的特性値を合わせることにより得られるレベル値とパッドの正常表面から得られるレベル値との差が欠陥としての所定値より大きい、パッド上の場所を割り出す。
【０００７】
それにもかかわらず、Parkらにより記述された装置及び方法は、反射光を用いる直ぐに研磨可能な構成の完成したケミカルメカニカルポリッシングパッドの検査のために設計されている。ケミカルメカニカルポリッシングパッド及び当該パッドに組み込まれた研磨層を検査するための反射光の使用には、特に顕著な欠点がある。反射光の使用は、組み込まれた研磨層の表面下の欠陥（これらの欠陥は、研磨層の表面に最接近していない）を識別するには性能が限定されている。それでもなお、ケミカルメカニカルポリッシングパッドが使用されるにつれ、研磨層の表面は徐々に摩耗する。よって、最初は所与のケミカルメカニカルポリッシングパッドの研磨層の表面から遠かった欠陥が、パッドの耐用年数の間に次第に研磨面へと近づいてくる。更には、直ぐに研磨可能な構成のケミカルメカニカルポリッシングパッドは従来から、基板の研磨を容易にする研磨層の研磨面への改造（例えば、溝、穿孔）を含むが、この改造は、Parkらにより記述されたグレースケールを用いる自動欠陥検出を複雑にする。
【０００８】
したがって、研磨層欠陥の識別性能が強化された自動検査法を用いる、研磨層を有する低欠陥のケミカルメカニカルポリッシングパッドの改良された製造方法に対するニーズが依然として存在している。
【０００９】
本発明は、下記を含むケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザー：複数のポリマーシートを保持するためのマガジン部［ここで、各ポリマーシートは、（ｉ）ポリマー及び複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物を含み（ここで、この複数の微量元素はこのポリマー中に分散している）、そして（ii）透過面と衝突面の間の厚さＴＳを有する（ここで、この透過面及び衝突面は、実質的に平行である）］；シーケンサー；光源［ここで、この光源は、４６０〜４９０nmの発光ピーク波長及び≦５０nmの半値全幅ＦＷＨＭを示す発光スペクトルを有する光線を出す］；光検出器；光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイス；及びディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニット［ここで、このシーケンサーは、複数のポリマーシートをマガジン部から引き出して、光源と光検出器の間に置かれた位置まで、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送するように構成されており；この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；この光検出器は、透過光の強度を電気信号に変換するように構成され；この光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイスは、光検出器からの電気信号をディジタル信号に変換するように構成され；このディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートをケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての使用に許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するために、ディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号を処理するように構成され；この複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される］を提供する。
【００１０】
本発明は、ケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての使用の適合性に関してポリマーシートを分析するための方法であって：複数のポリマーシートであって、各ポリマーシートは、（ｉ）ポリマー及び複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物を含み（ここで、この複数の微量元素はこのポリマー中に分散している）、そして（ii）透過面と衝突面の間の厚さＴＳを有する（ここで、この透過面及び衝突面は、実質的に平行である）、複数のポリマーシートを提供すること；自動検査システムであって、４６０〜４９０nmの発光ピーク波長及び≦５０nmの半値全幅ＦＷＨＭを示す発光スペクトルを有する光線を出す光源；光検出器；ディジタル画像データ取得デバイス；及び画像データ処理ユニットを含むシステムを提供すること；複数のポリマーシートを光源と光検出器の間に、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送することを含む方法を提供する［ここで、この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；この透過光は、少なくとも１つの検出可能な性質を有しており；この少なくとも１つの検出可能な性質は、透過光の強度を含み；この透過光の強度は、光検出器により電気信号に変換され；この光検出器からの電気信号は、ディジタル画像データ取得デバイスによりディジタル信号に変換され；そしてディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号は、画像データ処理ユニットにより処理され；この画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートを許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するように構成され；そしてこの複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される］。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】ポリマーシートの斜視図である。
【図２】ポリマーシートの斜視図である。
【図３】研磨層としてポリマーシートを組み込んだケミカルメカニカルポリッシングパッドの横断面図である。
【００１２】
詳細な説明
本発明の方法は、完成した（直ぐに使える）ケミカルメカニカルポリッシングパッドの品質の顕著な向上を提供する。本発明の方法は、複数のポリマーシートから許容し得るシートを識別するためのポリマーシートの最初の検査を実行して、疑わしいシートのマクロ不均一性含有部分の集中的目視検査を容易化するために疑わしいシートの透過面をマッピングすることにより、ポリマー及びこのポリマー中に分散している複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物から形成されたポリマーシートを用いるケミカルメカニカルポリッシングパッド生産の品質管理面を大きく向上させる。このようにして、作業者の疲労を大きく減少させる（即ち、作業者は、マクロ不均一性の位置を見つけるのに、許容し得るポリマーシートから開始して多大な時間をかける必要がない）。よって、最も大きな価値をもたらすところ（即ち、使用適合性を決定するためにポリマーシートの特定の不均一性を評価すること）への作業者の集中を可能にすることが増した。
【００１３】
「ポリ（ウレタン）」という用語は、本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、（ａ）（ｉ）イソシアナートと（ii）ポリオール（ジオールを含む）との反応により形成されるポリウレタン；並びに（ｂ）（ｉ）イソシアナートと、（ii）ポリオール（ジオールを含む）及び（iii）水、アミン又は水とアミンの組合せとの反応により形成されるポリ（ウレタン）を包含する。
【００１４】
「平均ポリマーシート厚さＴＳ−ａｖｇ」という用語は、透過面（１４）及び衝突面（１７）を有するポリマーシート（２０）に関連して本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、ポリマーシート（２０）の透過面（１４）から衝突面（１７）までの、透過面（１４）の平面（２８）に垂直方向で測定された、ポリマーシート（２０）の厚さＴＳの平均を意味する。（図３を参照のこと）。
【００１５】
「平均ベース層厚さＴＢ−ａｖｇ」という用語は、研磨面（１１４）を有する研磨層（１２０）として組み込まれたポリマーシートとインターフェースで結合したサブパッド（１２５）を有するケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）に関連して本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、サブパッド（１２５）の底面（１２７）からサブパッド（１２５）の上面（１２６）までの、研磨面（１１４）に垂直方向で測定された、サブパッド（１２５）の厚さＴＢの平均を意味する。（図３を参照のこと）。
【００１６】
「平均全厚さＴＴ−ａｖｇ」という用語は、研磨面（１１４）を有する研磨層（１２０）として組み込まれたポリマーシートを有するケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）に関連して本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、研磨面（１１４）からサブパッド（１２５）の底面（１２７）までの、研磨面（１１４）に垂直方向で測定された、ケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の厚さＴＴの平均を意味する。（図３を参照のこと）。
【００１７】
「実質的に円形の横断面」という用語は、ポリマーシート（２０）に関連して本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、中心軸Ａからポリマーシート（２０）の外周（１５）までの、ポリマーシート（２０）の透過面（１４）の平面（２８）に投射されたポリマーシート（２０）の最長半径ｒが、中心軸Ａからポリマーシート（２０）の外周（１５）までの、ポリマーシート（２０）の透過面（１４）の平面（２８）に投射されたポリマーシート（２０）の最短半径ｒよりも≦２０％長いことを意味する。（図１及び２を参照のこと）。
【００１８】
「実質的に平行」という用語は、ポリマーシート（２０）に関連して本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、ポリマーシート（２０）の衝突面（１７）の平面（３０）に垂直な中心軸Ａ（及びこれと平行な任意の線）が、角度γ（ここで、角度γは、８９と９１°の間である）で透過面（１４）の平面（２８）と交わることを意味する。（図１及び２を参照のこと）
【００１９】
「マクロ不均一性」という用語は、本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、ポリマーシートの透過面上の隣接領域に囲まれたポリマーシートの透過面上の局在領域［ここで、この局在領域を通して送られる光の検出された強度は、隣接領域を通して送られる光の検出された強度よりも、光検出器の検出可能な強度範囲の≧０．１％の量だけ高いか又は低く；そしてこの局在領域は、透過面の平面に１５．８７５mmの直径を有する円を塞ぐのに充分大きな透過面の部分を包含する］を意味する。
【００２０】
「密度欠陥」という用語は、本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、ポリマーシートの周辺領域に対して微量元素濃度が有意に減少したポリマーシートのマクロ不均一性のことをいう。密度欠陥は、ポリマーシートの周辺領域と比較して著しく高い透明度（即ち、透過光の高い検出強度）を示す。
【００２１】
「空気孔」という用語は、本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、ポリマーシートの周辺領域と比較して著しく高い透明度（即ち、透過光の高い検出強度）が生じる空気の含有によるポリマーシートのマクロ不均一性のことをいう。
【００２２】
「介在物欠陥」という用語は、本明細書及び添付の請求の範囲に使用されるとき、ポリマーシートの周辺領域と比較して著しく高い透明度（即ち、透過光の高い検出強度）が生じる外来汚染物質によるポリマーシートのマクロ不均一性のことをいう。
【００２３】
好ましくは、本発明のケミカルメカニカルポリッシングパッド、研磨層アナライザーは：複数のポリマーシートを保持するためのマガジン部［ここで、各ポリマーシートは、（ｉ）ポリマー及び複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物を含み（ここで、この複数の微量元素はこのポリマー中に分散している）、そして（ii）透過面と衝突面の間の厚さＴＳを有する（ここで、この透過面及び衝突面は、実質的に平行である）］；シーケンサー；光源［ここで、この光源は、４６０〜４９０nm（好ましくは、４６０〜４８０nm；更に好ましくは、４６０〜４７０nm；最も好ましくは、４６３〜４６７nm）の発光ピーク波長及び≦５０nm（好ましくは、≦４０nm；更に好ましくは、≦３５nm；最も好ましくは、≦３０nm）の半値全幅ＦＷＨＭを示す発光スペクトルを有する光線を出す］；光検出器；光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイス；及びディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニットを含む［ここで、このシーケンサーは、複数のポリマーシートをマガジン部から引き出して、光源と光検出器の間に置かれた位置まで、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送するように構成されており；この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；この光検出器は、透過光の強度を電気信号に変換するように構成され；この光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイスは、光検出器からの電気信号をディジタル信号に変換するように構成され；このディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートをケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての使用に許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するために、ディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号を処理するように構成され；この複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される］。
【００２４】
好ましくは、ポリマーシートは、ポリマー及び複数の微量元素を含むポリマー微量元素複合物を含み、この複数の微量元素はこのポリマー中に分散している。好ましくは、このポリマー微量元素複合物はポリマー及び複数の微量元素を含み、この複数の微量元素はこのポリマー中に或るパターンで分散している。更に好ましくは、このポリマー微量元素複合物はポリマー及び複数の微量元素を含み、この複数の微量元素はこのポリマー中に、均一パターン及び勾配パターンよりなる群から選択されるパターンで分散している。最も好ましくは、このポリマー微量元素複合物はポリマー及び複数の微量元素を含み、この複数の微量元素はこのポリマー中に均一に分散している。好ましくは、このポリマー微量元素複合物は液体プレポリマーを用いて調製されるが、この液体プレポリマー中には複数の微量元素が分散されており；そしてこの液体プレポリマーを硬化して、そのポリマーを形成するのである。
【００２５】
好ましくは、液体プレポリマーは、重合（即ち、硬化）することにより、ポリ（ウレタン）、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ナイロン、ポリエーテル、ポリエステル、ポリスチレン、アクリルポリマー、ポリ尿素、ポリアミド、ポリ塩化ビニル、ポリフッ化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリエチレンイミン、ポリアクリロニトリル、ポリエチレンオキシド、ポリオレフィン、ポリアクリル酸アルキル、ポリメタクリル酸アルキル、ポリアミド、ポリエーテルイミド、ポリケトン、エポキシ、シリコーン、エチレンプロピレンジエンモノマーから形成されるポリマー、タンパク質、多糖、ポリアセタート及び前記少なくとも２種の組合せから選択される材料を形成する。好ましくは、液体プレポリマーは、重合することによりポリ（ウレタン）を含む材料を形成する。更に好ましくは、液体プレポリマーは、重合することによりポリウレタンを含む材料を形成する。最も好ましくは、液体プレポリマーは、重合（硬化）することによりポリウレタンを形成する。
【００２６】
好ましくは、液体プレポリマーは、ポリイソシアナート含有材料を含む。更に好ましくは、液体プレポリマーは、ポリイソシアナート（例えば、ジイソシアナート）とヒドロキシル含有材料との反応生成物を含む。
【００２７】
好ましくは、ポリイソシアナートは、メチレンビス−４，４’−シクロヘキシル−イソシアナート；シクロヘキシルジイソシアナート；イソホロンジイソシアナート；ヘキサメチレンジイソシアナート；プロピレン−１，２−ジイソシアナート；テトラメチレン−１，４−ジイソシアナート；１，６−ヘキサメチレン−ジイソシアナート；ドデカン−１，１２−ジイソシアナート；シクロブタン−１，３−ジイソシアナート；シクロヘキサン−１，３−ジイソシアナート；シクロヘキサン−１，４−ジイソシアナート；１−イソシアナト−３，３，５−トリメチル−５−イソシアナトメチルシクロヘキサン；メチルシクロヘキシレンジイソシアナート；ヘキサメチレンジイソシアナートのトリイソシアナート；２，４，４−トリメチル−１，６−ヘキサンジイソシアナートのトリイソシアナート；ヘキサメチレンジイソシアナートのウレトジオン；エチレンジイソシアナート；２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアナート；２，４，４−トリ−メチルヘキサメチレンジイソシアナート；ジシクロヘキシルメタンジイソシアナート；及びこれらの組合せから選択される。最も好ましくは、ポリイソシアナートは、脂肪族であり、かつ１４パーセント未満の未反応イソシアナート基を有する。
【００２８】
好ましくは、本発明により使用されるヒドロキシル含有材料は、ポリオールである。典型的なポリオールは、例えば、ポリエーテルポリオール、ヒドロキシ末端ポリブタジエン（部分的及び完全水素化誘導体を含む）、ポリエステルポリオール、ポリカプロラクトンポリオール、ポリカーボネートポリオール、及びこれらの混合物を含む。
【００２９】
好ましいポリオールは、ポリエーテルポリオールを含む。ポリエーテルポリオールの例は、ポリテトラメチレンエーテルグリコール（「ＰＴＭＥＧ」）、ポリエチレンプロピレングリコール、ポリオキシプロピレングリコール、及びこれらの混合物を含む。炭化水素鎖は、飽和又は不飽和結合、及び置換又は非置換の芳香族であって環状の基を有することができる。好ましくは、本発明のポリオールは、ＰＴＭＥＧを含む。適切なポリエステルポリオールは、ポリアジピン酸エチレングリコール；ポリアジピン酸ブチレングリコール；ポリアジピン酸エチレンプロピレングリコール；ｏ−フタラート−１，６−ヘキサンジオール；ポリ（アジピン酸ヘキサメチレン）グリコール；及びこれらの混合物を含むが、これらに限定されない。炭化水素鎖は、飽和又は不飽和結合、あるいは置換又は非置換の芳香族であって環状の基を有することができる。適切なポリカプロラクトンポリオールは、１，６−ヘキサンジオール開始ポリカプロラクトン；ジエチレングリコール開始ポリカプロラクトン；トリメチロールプロパン開始ポリカプロラクトン；ネオペンチルグリコール開始ポリカプロラクトン；１，４−ブタンジオール開始ポリカプロラクトン；ＰＴＭＥＧ開始ポリカプロラクトン；及びこれらの混合物を含むが、これらに限定されない。炭化水素鎖は、飽和又は不飽和結合、あるいは置換又は非置換の芳香族であって環状の基を有することができる。適切なポリカーボネートは、ポリフタラートカーボネート及びポリ（炭酸ヘキサメチレン）グリコールを含むが、これらに限定されない。
【００３０】
好ましくは、複数の微量元素は、封入気泡、中空コアポリマー材料（即ち、ミクロスフェア）、液体入り中空コアポリマー材料、水溶性材料（例えば、シクロデキストリン）及び不溶相材料（例えば、鉱油）から選択される。好ましくは、複数の微量元素は、ポリビニルアルコール、ペクチン、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、メチルセルロース、ヒドロプロピルメチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ポリアクリル酸、ポリアクリルアミド、ポリエチレングリコール、ポリヒドロキシエーテルアクリラート、デンプン、マレイン酸コポリマー、ポリエチレンオキシド、ポリウレタン、シクロデキストリン及びこれらの組合せ（例えば、Sundsvall, SwedenのAkzo Novel製のExpancel（商標））のようなミクロスフェアである。ミクロスフェアは、例えば、分岐、ブロッキング、及び架橋により化学修飾して、溶解度、膨潤性及び他の性質を変化させることができる。好ましくは、ミクロスフェアは、１５０μm未満である平均径、そして更に好ましくは５０μm未満の平均径を有する。最も好ましくは、ミクロスフェア４８は、１５μm未満である平均径を有する。ミクロスフェアの平均径は変化させられること、及び様々なミクロスフェア４８の様々なサイズ又は混合物を使用できることに留意されたい。ミクロスフェアに最も好ましい材料は、アクリロニトリルと塩化ビニリデンのコポリマーである（例えば、Akzo Novelから入手可能なExpancel（登録商標））。
【００３１】
本発明の方法に使用される液体プレポリマーは、場合により更に硬化剤を含む。好ましい硬化剤は、ジアミンを含む。適切なポリジアミンは、第１級及び第２級アミンの両方を含む。好ましいポリジアミンは、ジエチルトルエンジアミン（「ＤＥＴＤＡ」）；３，５−ジメチルチオ−２，４−トルエンジアミン及びその異性体；３，５−ジエチルトルエン−２，４−ジアミン及びその異性体（例えば、３，５−ジエチルトルエン−２，６−ジアミン）；４，４’−ビス−（sec−ブチルアミノ）−ジフェニルメタン；１，４−ビス−（sec−ブチルアミノ）−ベンゼン；４，４’−メチレン−ビス−（２−クロロアニリン）；４，４’−メチレン−ビス−（３−クロロ−２，６−ジエチルアニリン）（「ＭＣＤＥＡ」）；ポリテトラメチレンオキシド−ジ−ｐ−アミノベンゾアート；Ｎ，Ｎ’−ジアルキルジアミノジフェニルメタン；ｐ，ｐ’−メチレンジアニリン（「ＭＤＡ」）；ｍ−フェニレンジアミン（「ＭＰＤＡ」）；メチレン−ビス−２−クロロアニリン（「ＭＢＯＣＡ」）；４，４’−メチレン−ビス−（２−クロロアニリン）（「ＭＯＣＡ」）；４，４’−メチレン−ビス−（２，６−ジエチルアニリン）（「ＭＤＥＡ」）；４，４’−メチレン−ビス−（２，３−ジクロロアニリン）（「ＭＤＣＡ」）；４，４’−ジアミノ−３，３’−ジエチル−５，５’−ジメチルジフェニルメタン；２，２’，３，３’−テトラクロロジアミノジフェニルメタン；トリメチレングリコール ジ−ｐ−アミノベンゾアート；並びにこれらの混合物を含むが、これらに限定されない。好ましくは、ジアミン硬化剤は、３，５−ジメチルチオ−２，４−トルエンジアミン及びその異性体から選択される。
【００３２】
硬化剤はまた、ジオール、トリオール、テトラオール及びヒドロキシ末端硬化剤を含むことができる。適切なジオール、トリオール、及びテトラオール群は、エチレングリコール；ジエチレングリコール；ポリエチレングリコール；プロピレングリコール；ポリプロピレングリコール；低分子量ポリテトラメチレンエーテルグリコール；１，３−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン；１，３−ビス−［２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ］ベンゼン；１，３−ビス−｛２−［２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ］エトキシ｝ベンゼン；１，４−ブタンジオール；１，５−ペンタンジオール；１，６−ヘキサンジオール；レゾルシノール−ジ−（β−ヒドロキシエチル）エーテル；ヒドロキノン−ジ−（β−ヒドロキシエチル）エーテル；及びこれらの混合物を含む。好ましいヒドロキシ末端硬化剤は、１，３−ビス（２−ヒドロキシエトキシ）ベンゼン；１，３−ビス−［２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ］ベンゼン；１，３−ビス−｛２−［２−（２−ヒドロキシエトキシ）エトキシ］エトキシ｝ベンゼン；１，４−ブタンジオール；及びこれらの混合物を含む。ヒドロキシ末端及びジアミン硬化剤は、１種以上の飽和、不飽和、芳香族、及び環状基を含むことができる。更には、ヒドロキシ末端及びジアミン硬化剤は、１個以上のハロゲン基を含むことができる。
【００３３】
好ましくは、本発明の方法において、ポリマーシートは、５００〜５，０００μm（好ましくは、７５０〜４，０００μm；更に好ましくは、１，０００〜３，０００μm；最も好ましくは、１，２００〜２，１００μm）の平均厚さＴＳ−ａｖｇを有する。
【００３４】
好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、ポリマーシートを保持、保存及び分配するように設計されたマガジン部を含む。好ましくは、マガジン部は、少なくとも１０枚のポリマーシート（更に好ましくは、少なくとも１５枚のポリマーシート；更になお好ましくは、少なくとも２０枚のポリマーシート；最も好ましくは、少なくとも３０枚のポリマーシート）を保持するための設計容量を有する。このマガジン部設計容量により、作業者は多数のポリマーシートを自動検査システムに装着することができる。一旦複数のポリマーシートがマガジン部に装着されると、自動検査システムが複数のポリマーシートを許容し得るか疑わしいかのいずれかとして処理及び分類する間に、作業者は他の任務を実行することができる。
【００３５】
好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、ポリマーシートを１回に１枚ずつマガジン部から引き出して、ポリマーシートを１回に１枚ずつ光源と光検出器の間に置かれた位置まで搬送し；そしてポリマーシートを１回に１枚ずつマガジン部に戻すように構成されているシーケンサーを含む。好ましくは、この機構は、少なくとも１個のリニアモーターを含む。更に好ましくは、この機構は、≦１μmのリニアスケール分解能を有する少なくとも１個のリニアモーターを含む。
【００３６】
好ましくは、光源は、光線を出す狭帯域青色光源である。更に好ましくは、光源は、それが出す光線が、４６０〜４９０nm（好ましくは、４６０〜４８０nm；更に好ましくは、４６０〜４７０nm；最も好ましくは、４６３〜４６７nm）のピーク波長及び≦５０nm（好ましくは、≦４０nm；更に好ましくは、≦３５nm；最も好ましくは、≦３０nm）の半値全幅ＦＷＨＭを有する発光スペクトルを示す狭帯域青色光源である。当業者ならば、所望の領域に発光スペクトルを持つ光線を提供するのに適した光源を選択することができよう。好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、発光ダイオードである光源を含む。
【００３７】
好ましくは、自動検査システムは、厚さＴＳを通してポリマーシートの透過面から送られる光線からの透過光の少なくとも１つの検出可能な性質を変換することができる光検出器を含む。更に好ましくは、光検出器は、厚さＴＳを通してポリマーシートの透過面から送られる光線からの透過光の強度を変換することができる。最も好ましくは、光検出器は、厚さＴＳを通してポリマーシートの透過面から送られる光線からの透過光の強度及び波長スペクトルを変換することができる。好ましくは、光検出器は、そこに入射する透過光の少なくとも１つの検出可能な性質を電気信号に変換する、光電気変換デバイスである。好ましくは、光検出器は、電荷結合素子（ＣＣＤ）のアレイである。好ましくは、使用される電荷結合素子（ＣＣＤ）は、モノクロ及びカラーＣＣＤから選択される。更に好ましくは、光検出器は、少なくとも５個（最も好ましくは、少なくとも８個）の光電気変換デバイスのアレイを含む。最も好ましくは、光検出器は、≦２０μm（好ましくは、≦１６μm）の分解能及び≧１００mm（好ましくは、≧１２０mm）の視野を有する、少なくとも８個の電荷結合素子（ＣＣＤ）画像センサーのアレイを含む。
【００３８】
ディジタル画像データ取得デバイスは、光検出器からの電気信号出力をディジタル信号に変換する。本発明による使用に適したディジタル画像データ取得デバイスは、当該分野において周知である。
【００３９】
ポリマー微量元素複合物を含むポリマーシートが異種組成性であることにより、仮説的標準シートへの参照は非実用的なものとなる。即ち、このようなポリマーシートの種々の無害な生産加工品が存在することにより、ケミカルメカニカルポリッシングパッドにおける研磨層として組み込むためにポリマーシートを検査するための自動システムにおいて使用するための標準値へのグレースケール比較がシンプルなものになる。
【００４０】
本発明による使用に適した一般目的及び特殊目的の画像データ処理ユニットは、当該分野において周知である。好ましくは、本発明に使用される自動検査システム中の画像データ処理ユニットは、不揮発性データ記憶装置に連結している中央処理装置を含む。
【００４１】
好ましくは、中央処理装置は更に、１種以上のユーザー入力インターフェース制御部（例えば、マウス、キーボード）及び少なくとも１種の出力表示部に連結している。
【００４２】
好ましくは、画像データ処理ユニットは、ポリマーシートのマクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートを許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するように構成されている。好ましくは、許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとしてのポリマーシートの分類は、品質管理基準のメニューに基づいて画像データ処理ユニットにより実行される。例えば、密度欠陥、空気孔欠陥及び介在物欠陥を含む、種々の欠陥は、ポリマーシートの製造中に発生しうる。これらの欠陥のいずれか１つ又は組合せは、透過面の影響を受けた部分のサイズに応じて、ポリマーシートにマクロ不均一性を構成しうることに留意されたい。種々の欠陥タイプは、光検出器に対して異なる形で現れることに留意されたい。密度欠陥及び空気孔では、欠陥領域は、ポリマーシートの周辺領域よりも透明度が高い。介在物欠陥では、欠陥領域は、ポリマーシートの周辺領域よりも透明度が低い。このような欠陥が許容し得るかどうかは、例えば、ポリマーシートを組み込むケミカルメカニカルポリッシングパッドが、研磨を課される基板を含む、幾つかの条件による。ある種の基板は、他のものよりも扱いにくく、そのためこれらの研磨用に製造されるケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層として使用すべきポリマーシートの均一性には、より厳しい制御を必要とする。
【００４３】
好ましくは、本発明のアナライザーにおいて、画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されている［ここで、この疑わしいシートの集団は、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートは、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有し；この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされている］。
【００４４】
好ましくは、本発明のアナライザーにおいて、画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されている［ここで、この疑わしいシートの集団は、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートは、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有し；この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされており；そしてこのアナライザーは更に、表示部を含み、選択シートの画像がこの表示部に表示される］。表示部上の選択シートの表示される画像は、選択シートの透過面の全体の画像であってよい。好ましくは、選択シートの画像は、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の拡大図を示す部分的画像である。好ましくは、表示部に表示される選択シートの部分的画像は、選択シートの透過面のマクロ不均一性及び周辺領域の全体を含む。好ましくは、表示部に表示される選択シートの部分的画像は、選択シートの目視検査を容易化するよう表示される画像の細部を強化するために拡大することができる。
【００４５】
好ましくは、本発明のケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての使用の適合性に関してポリマーシートを分析するための方法は：複数のポリマーシートであって、各ポリマーシートは、（ｉ）透過面と衝突面の間の厚さＴＳを有しており（ここで、この透過面及び衝突面は、実質的に平行である）、そして（ii）ポリマー及びこのポリマー中に分散している複数の微量元素を含む、ポリマー微量元素複合物を含む、複数のポリマーシートを提供すること；自動検査システムであって、４６０〜４９０nm（好ましくは、４６０〜４８０nm；更に好ましくは、４６０〜４７０nm；最も好ましくは、４６３〜４６７nm）の発光ピーク波長及び≦５０nm（好ましくは、≦４０nm；更に好ましくは、≦３５nm；最も好ましくは、≦３０nm）の半値全幅ＦＷＨＭを示す発光スペクトルを有する光線を出す光源；光検出器；ディジタル画像データ取得デバイス；及び画像データ処理ユニットを含むシステムを提供すること；複数のポリマーシートを光源と光検出器の間に、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送することを含む［ここで、この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；この透過光は、少なくとも１つの検出可能な性質を有しており；この少なくとも１つの検出可能な性質は、透過光の強度を含み；この透過光の強度は、光検出器により電気信号に変換され；この光検出器からの電気信号は、ディジタル画像データ取得デバイスによりディジタル信号に変換され；そしてディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号は、画像データ処理ユニットにより処理され；この画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートを許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するように構成され；そしてこの複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される］。
【００４６】
好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは更に、ポリマーシートを保持、保存及び分配するように設計されたマガジン部を含む。好ましくは、マガジン部は、少なくとも１０枚のポリマーシート（更に好ましくは、少なくとも１５枚のポリマーシート；更になお好ましくは、少なくとも２０枚のポリマーシート；最も好ましくは、少なくとも３０枚のポリマーシート）を保持するための設計容量を有する。このマガジン部設計容量により、作業者は多数のポリマーシートを自動検査システムに装着することができる。一旦複数のポリマーシートがマガジン部に装着されると、自動検査システムが複数のポリマーシートを許容し得るか疑わしいかのいずれかとして処理及び分類する間に、作業者は他の職務を実行することができる。
【００４７】
好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、ポリマーシートを１回に１枚ずつマガジン部から引き出して、ポリマーシートを１回に１枚ずつ光源と光検出器の間に置かれた位置まで搬送し；そしてポリマーシートを１回に１枚ずつマガジン部に戻すように構成されているシーケンサーを含む。好ましくは、この機構は、少なくとも１個のリニアモーターを含む。更に好ましくは、この機構は、≦１μmのリニアスケール分解能を有する少なくとも１個のリニアモーターを含む。
【００４８】
好ましくは、本発明の方法において、シーケンサーは、複数のポリマーシートをマガジン部から引き出して、光源と光検出器の間に置かれた位置まで、１回にポリマーシート１枚ずつ、搬送するように構成されており；そしてここで、この光源から出される光線は、衝突面に衝突するように向けられており；そしてこの光検出器は、厚さＴＳを通過して透過面を出る光線からの透過光を検出するように向けられており；この光検出器は、透過光の強度を電気信号に変換するように構成され；この光検出器に連結したディジタル画像データ取得デバイスは、光検出器からの電気信号をディジタル信号に変換するように構成され；このディジタル画像データ取得デバイスに連結した画像データ処理ユニットは、マクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートをケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層としての使用に許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するために、ディジタル画像データ取得デバイスからのディジタル信号を処理するように構成され；この複数のポリマーシートは、許容し得るシートの集団と疑わしいシートの集団とに分割される。
【００４９】
好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、光線を出す光源が、狭帯域青色光源である光源を含む。更に好ましくは、光源は、それが出す光線が、４６０〜４９０nm（好ましくは、４６０〜４８０nm；更に好ましくは、４６０〜４７０nm；最も好ましくは、４６３〜４６７nm）のピーク波長及び≦５０nm（好ましくは、≦４０nm；更に好ましくは、≦３５nm；最も好ましくは、≦３０nm）の半値全幅ＦＷＨＭを有する発光スペクトルを示す狭帯域青色光源である。当業者ならば、所望の領域に発光スペクトルを持つ光線を提供するのに適した光源を選択することができよう。好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、発光ダイオードである光源を含む。
【００５０】
好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、厚さＴＳを通してポリマーシートの透過面から送られる光線からの透過光の少なくとも１つの検出可能な性質を変換することができる光検出器を含む。更に好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、厚さＴＳを通してポリマーシートの透過面から送られる光線からの透過光の強度を変換することができる光検出器を含む。最も好ましくは、本発明の方法において、自動検査システムは、厚さＴＳを通してポリマーシートの透過面から送られる光線からの透過光の強度及び波長スペクトルを変換することができる光検出器を含む。好ましくは、光検出器は、そこに入射する透過光の少なくとも１つの検出可能な性質を電気信号に変換する、光電気変換デバイスである。好ましくは、光検出器は、電荷結合素子（ＣＣＤ）のアレイである。好ましくは、使用される電荷結合素子（ＣＣＤ）は、モノクロ及びカラーＣＣＤから選択される。更に好ましくは、光検出器は、少なくとも５個（最も好ましくは、少なくとも８個）の光電気変換デバイスのアレイを含む。最も好ましくは、光検出器は、≦２０μm（好ましくは、≦１６μm）の分解能及び≧１００mm（好ましくは、≧１２０mm）の視野を有する、少なくとも８個の電荷結合素子（ＣＣＤ）画像センサーのアレイを含む。
【００５１】
ディジタル画像データ取得デバイスは、光検出器からの電気信号出力をディジタル信号に変換する。本発明による使用に適したディジタル画像データ取得デバイスは、当該分野において周知である。
【００５２】
ポリマー微量元素複合物を含むポリマーシートが異種組成性であることにより、仮説的標準シートへの参照は非実用的なものとなる。即ち、このようなポリマーシートの種々の無害な生産加工品が存在することにより、ケミカルメカニカルポリッシングパッドにおける研磨層として組み込むためにポリマーシートを検査するための自動システムにおいて使用するための標準値へのグレースケール比較がシンプルなものになる。
【００５３】
本発明による使用に適した一般目的及び特殊目的の画像データ処理ユニットは、当該分野において周知である。好ましくは、本発明の方法に使用される自動検査システム中の画像データ処理ユニットは、不揮発性データ記憶装置に連結している中央処理装置を含む。
【００５４】
好ましくは、中央処理装置は更に、１種以上のユーザー入力インターフェース制御部（例えば、マウス、キーボード）及び少なくとも１種の出力表示部に連結している。
【００５５】
好ましくは、画像データ処理ユニットは、ポリマーシートのマクロ不均一性を検出し、そしてポリマーシートを許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとして分類するように構成されている。好ましくは、許容し得るか又は疑わしいかのいずれかとしてのポリマーシートの分類は、品質管理基準のメニューに基づいて画像データ処理ユニットにより実行される。例えば、密度欠陥、空気孔欠陥及び介在物欠陥を含む、種々の欠陥は、ポリマーシートの製造中に発生しうる。これらの欠陥のいずれか１つ又は組合せは、透過面の影響を受けた部分のサイズに応じて、ポリマーシートにマクロ不均一性を構成しうることに留意されたい。種々の欠陥タイプは、光検出器に対して異なる形で現れることに留意されたい。密度欠陥及び空気孔では、欠陥領域は、ポリマーシートの周辺領域よりも透明度が高い。介在物欠陥では、欠陥領域は、ポリマーシートの周辺領域よりも透明度が低い。このような欠陥が許容し得るかどうかは、例えば、ポリマーシートを組み込むケミカルメカニカルポリッシングパッドが、研磨を課される基板を含む、幾つかの条件に依存する。ある種の基板は、他のものよりも扱いにくく、そのためこれらの研磨用に製造されるケミカルメカニカルポリッシングパッド中の研磨層として使用すべきポリマーシートの均一性には、より厳しい制御を必要とする。
【００５６】
好ましくは、疑わしいシートの集団が、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そして少なくとも１枚の疑わしいシートが、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有する、本発明の方法において、画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されている［ここで、この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされている］。
【００５７】
好ましくは、本発明の方法は更に：疑わしいシートの集団から選択シートを選ぶことを含む［ここで、この疑わしいシートの集団は、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートは、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有し；画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されており、この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされている］。
【００５８】
好ましくは、本発明の方法は更に：疑わしいシートの集団から選択シートを選ぶことを含む［ここで、この疑わしいシートの集団は、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートは、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有し；画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されており、この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされており；そして自動検査システムは更に：表示部を含み、選択シートの画像がこの表示部に表示される］。表示部上の選択シートの表示される画像は、選択シートの透過面の全体の画像であってよい。好ましくは、選択シートの画像は、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の拡大図を示す部分的画像である。好ましくは、表示部に表示される選択シートの部分的画像は、選択シートの透過面のマクロ不均一性及び周辺領域の全体を含む。好ましくは、表示部に表示される選択シートの部分的画像は、選択シートの目視検査を容易化するよう表示される画像の細部を強化するために拡大することができる。好ましくは、本発明の方法は更に：選択シートの目視検査を実行すること［ここで、この目視検査は、表示部上に表示される選択シートの画像により容易化されている］；及び（ｉ）目視検査に基づいて許容し得るとして選択シートを再分類する［ここで、その選択シートはその後、許容し得るシートの集団に追加される］か；又は（ii）目視検査に基づいて欠陥として選択シートを分類する［ここで、その選択シートはその後、欠陥シートの集団に追加される］ことのいずれかを含む。
【００５９】
好ましくは、本発明の方法は更に：少なくとも１枚の許容し得るシートを加工してケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の研磨層（１２０）を形成すること［ここで、この研磨層（１２０）は、基板を研磨するために適合されている］を含み；（ａ）許容し得るシートに少なくとも１本の溝を切って溝パターンを形成すること、及び（ｂ）許容し得るシートの厚さＴＳを通して少なくとも途中まで延びる孔を形成することの少なくとも一方によって、研磨面（１１４）を形成することを含む。更に好ましくは、本発明の方法において、少なくとも１枚の許容し得るシートを加工してケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の研磨層（１２０）を形成すること［ここで、この研磨層（１２０）は、基板を研磨するために適合されている］は、許容し得るシートに少なくとも１本の溝を切って溝パターンを形成することによって、研磨面（１１４）を形成することを含む。最も好ましくは、本発明の方法において、少なくとも１枚の許容し得るシートを加工してケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の研磨層（１２０）を形成すること［ここで、この研磨層（１２０）は、基板を研磨するために適合されている］は、許容し得るシートに少なくとも１本の溝を切って溝パターンを形成すること［ここで、この溝パターンは、基板を研磨するために適合されている］によって、研磨面（１１４）を形成することを含む。（図３を参照のこと）。
【００６０】
好ましくは、本発明の方法は、中心軸（１１２）まわりの回転に好ましくは適合させられたケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）を提供する。（図３を参照のこと）。好ましくは、研磨中の中心軸（１１２）まわりのパッド（１１０）の回転により、少なくとも１本の溝が基板上をさっと通るように、少なくとも１本の溝を配置して研磨面（１１４）を形成する。好ましくは、少なくとも１本の溝は、曲がり溝、線形溝及びこれらの組合せから選択される。好ましくは、少なくとも１本の溝は、≧１０mil（好ましくは、１０〜１５０mil）の深さを示す。好ましくは、少なくとも１本の溝は、≧１０mil、≧１５mil及び１５〜１５０milから選択される深さ；≧１０mil及び１０〜１００milから選択される幅；並びに≧３０mil、≧５０mil、５０〜２００mil、７０〜２００mil、及び９０〜２００milから選択されるピッチの組合せを有する、少なくとも２本の溝を含む溝パターンを形成する。
【００６１】
好ましくは、ケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）に研磨層（１２０）として組み込まれたポリマーシートは、ここに組み込まれた＜１ppmの砥粒を含有する。
【００６２】
好ましくは、本発明の方法において、少なくとも１枚の許容し得るシートを加工することは更に：上面（１２６）及び底面（１２７）を有するサブパッド（１２５）を提供すること；接着剤（１２３）（好ましくは、ここでこの接着剤は、感圧接着剤、ホットメルト接着剤及びコンタクト接着剤の少なくとも１つから選択され；更に好ましくは、この接着剤は、感圧接着剤及びホットメルト接着剤から選択され；最も好ましくは、この接着剤は、ホットメルト接着剤である）を提供すること；及びサブパッド（１２５）の上面（１２６）を研磨層（１２０）のベース面（１１７）に接着剤（１２３）を用いて積層することを含む。（図３を参照のこと）。
【００６３】
好ましくは、本発明の方法において、少なくとも１枚の許容し得るシートを加工してケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の研磨層（１２０）を形成すること［ここで、研磨層（１２０）は、基板を研磨するために適合されている］は更に：サブパッド（１２５）の底面（１２７）に適用された感圧プラテン接着層（１７０）を提供することを含む。
【００６４】
好ましくは、本発明の方法において、少なくとも１枚の許容し得るシートを加工してケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の研磨層（１２０）を形成すること［ここで、研磨層（１２０）は、基板を研磨するために適合されている］は更に：サブパッド（１２５）の底面（１２７）に適用された感圧プラテン接着層（１７０）を提供すること；及び感圧プラテン接着層（１７０）上に適用された剥離ライナー（１７５）を提供することを含む［ここで、感圧プラテン接着層（１７０）は、サブパッド（１２５）の底面（１２７）と剥離ライナー（１７５）の間に置かれる］。（図３を参照のこと）。
【００６５】
本発明のケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）へのサブパッド（１２５）の組み込みは、ある種の研磨応用には望ましい。当業者ならば、所期の研磨プロセスに使用するためのサブパッド（１２５）に適切な構成材料及びサブパッドの厚さＴＢを選択することを知っていよう。好ましくは、サブパッド（１５０）は、≧１５mil（更に好ましくは、３０〜１００mil；最も好ましくは３０〜７５mil）の平均サブパッド厚さＴＢ−ａｖｇを有する。
【００６６】
好ましくは、接着剤（１２３）は、感圧接着剤、ホットメルト接着剤、コンタクト接着剤及びこれらの組合せよりなる群から選択される。更に好ましくは、接着剤（１２３）は、感圧接着剤及びホットメルト接着剤よりなる群から選択される。最も好ましくは、接着剤（１２３）は、反応性ホットメルト接着剤である。
【００６７】
好ましくは、本発明の方法において、少なくとも１枚の許容し得るシートを加工してケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）の研磨層（１２０）を形成すること［ここで、研磨層（１２０）は、基板を研磨するために適合されている］は更に：研磨層（１２０）と感圧プラテン接着層（１７０）とに結合してその間に置かれた少なくとも１つの追加層（図示せず）を提供することを含む。この少なくとも１つの追加層（図示せず）は、追加層接着剤（図示せず）を用いてケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）に組み込むことができる。この追加層接着剤は、感圧接着剤、ホットメルト接着剤、コンタクト接着剤及びこれらの組合せから選択することができる。好ましくは、この追加層接着剤は、ホットメルト接着剤又は感圧接着剤である。更に好ましくは、この追加層接着剤は、ホットメルト接着剤である。
【００６８】
好ましくは、本発明の方法は、磁性基板、光学基板及び半導体基板の少なくとも１つから選択される基板の研磨を容易化するように特別に設計されたケミカルメカニカルポリッシングパッド（１１０）を提供する。好ましくは、ポリマーシートが、磁性基板、光学基板及び半導体基板の少なくとも１つから選択される基板（更に好ましくは、半導体基板；最も好ましくは、半導体ウェーハ）を研磨するために適合されている。
【００６９】
疑わしいシートの集団が、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートが、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有する、本発明の方法において、画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されている［ここで、この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされている］。
【００７０】
好ましくは、本発明の方法は更に：疑わしいシートの集団から選択シートを選ぶことを含む［ここで、この疑わしいシートの集団は、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートは、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有し；画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されており、この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされている］。
【００７１】
好ましくは、本発明の方法は更に：疑わしいシートの集団から選択シートを選ぶことを含む［ここで、この疑わしいシートの集団は、少なくとも１枚の疑わしいシートを含み、そしてこの少なくとも１枚の疑わしいシートは、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性を含有し；画像データ処理ユニットは、好ましくは更に、少なくとも１枚の疑わしいシートのマップを作成して不揮発性メモリに記憶するように構成されており、この少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の場所は、位置決めされており；そして自動検査システムは更に：表示部を含み、選択シートの画像がこの表示部に表示される］。表示部上の選択シートの表示される画像は、選択シートの透過面の全体の画像であってよい。好ましくは、選択シートの画像は、少なくとも１個の検出されたマクロ不均一性の拡大図を示す部分的画像である。好ましくは、表示部に表示される選択シートの部分的画像は、選択シートの透過面のマクロ不均一性及び周辺領域の全体を含む。好ましくは、表示部に表示される選択シートの部分的画像は、選択シートの目視検査を容易化するよう表示される画像の細部を強化するために拡大することができる。好ましくは、本発明の方法は更に：選択シートの目視検査を実行すること［ここで、この目視検査は、表示部上に表示される選択シートの画像により容易化されている］；及び（ｉ）目視検査に基づいて許容し得るとして選択シートを再分類する［ここで、その選択シートはその後、許容し得るシートの集団に追加される］か；又は（ii）目視検査に基づいて欠陥として選択シートを分類する［ここで、その選択シートはその後、欠陥シートの集団に追加される］ことのいずれかを含む。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【外国語明細書】
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