(57)【要約】【課題】本発明が解決しようとする課題は、高温度、高湿度環境下または直射日光があたる環境下に長期間おかれた場合であっても、反射低減層やハードコート層等の剥がれや割れを引き起こすことがないレベルの耐候性と、経時的な傷つき等を防止可能なレベルの硬度とを備えた光学フィルムを提供することである。【解決手段】本発明は、基材の少なくとも片面側に樹脂層（Ｘ）を有し、前記樹脂層（Ｘ）が、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（４）で表される構造で結合された複合樹脂（Ａ）と、無機微粒子（ｍ）とが、上記ポリシロキサンセグメント（ａ１）でシロキサン結合を介して結合している無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する層であることを特徴とする光学フィルムに関するものである。【選択図】図１
2016114919.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面側に樹脂層（Ｘ）を有し、前記樹脂層（Ｘ）の表面に反射低減層（Ｙ）を有する光学フィルムであって、前記樹脂層（Ｘ）が、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（４）で表される構造で結合された複合樹脂（Ａ）と、無機微粒子（ｍ）とが、上記ポリシロキサンセグメント（ａ１）でシロキサン結合を介して結合している無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する層であることを特徴とする光学フィルム。
【化１】
2016114919.tif 000018
【化２】
2016114919.tif 000019
（一般式（１）及び（２）中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して、−Ｒ4−ＣＨ＝ＣＨ2、−Ｒ4−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、−Ｒ4−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、及び−Ｒ4−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2、または下記式（３）で表される基からなる群から選ばれる重合性二重結合を有する基（但し、Ｒ4は単結合又は炭素原子数１〜６のアルキレン基を表す。）
【化３】
2016114919.tif 000020
（一般式（３）中、ｎは１から５で表される整数であり、構造Qは、−ＣＨ＝ＣＨ2または−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2いずれかを表す。）、
炭素原子数が１〜６のアルキル基、炭素原子数が３〜８のシクロアルキル基、アリール基、炭素原子数が７〜１２のアラルキル基、エポキシ基を表す。）
【化４】
2016114919.tif 000021
（一般式（４）中、炭素原子は前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）の一部分を構成し、酸素原子のみに結合したケイ素原子は、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）の一部分を構成するものとする。）
【請求項２】
前記樹脂層（Ｘ）が、０．１μｍ〜５０μｍの厚さであり、前記反射低減層（Ｙ）が８０ｎｍ〜４００ｎｍの厚さである請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記樹脂層（Ｘ）の屈折率が、１．４５〜１．５５である請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記反射低減層（Ｙ）が、低屈折率層（ｂ１）、または、高屈折率層（ｂ２）及び低屈折率層（ｂ１）の積層である請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記低屈折率層（ｂ１）が１．２〜１．４５の屈折率を有するものであり、前記高屈折率層（ｂ２）が１．５５〜２の屈折率層を有するものである請求項３に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記基材の屈折率が１．４５〜１．７の範囲である請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記無機微粒子（ｍ）がシリカである請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムが、情報表示部の表面に設けられたものであることを特徴とする情報表示装置。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルムが、情報表示部の表面に設けられたものであることを特徴とする車載用情報表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば反射防止フィルム等の光学フィルムに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ、プラズマディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、及び、それらにタッチパネル機能が付与されたディスプレイ等の情報表示装置としては、屋外であっても太陽光等の反射に起因した視認性の低下を防止するうえで、反射防止性を備えたものが知られている。
【０００３】
前記反射防止性を備えた情報表示装置としては、例えば情報表示部の表面に反射防止フィルムや防眩フィルム等が設置されたものが知られている。
【０００４】
前記反射防止フィルムとしては、例えば透明フィルムの表面に、蒸着法やスパッタリング法等のドライプロセス法によって低屈折率層を設けたもの（例えば特許文献１参照。）、透明フィルムの表面に、ウェットプロセス法によって低屈折率層を設けたもの（例えば特許文献２参照。）等が知られている。
【０００５】
また、前記防眩フィルムとしては、例えば透明フィルムの表面に、ウェットプロセス法によって微粒子を含有する防眩層を設けたものが知られている（例えば特許文献３参照。）
【０００６】
ところで、前記情報表示装置は、高画質化や高機能化に伴って、例えばスマートフォンやカーナビゲーションシステムをはじめとする幅広い用途で使用されるようになりつつある。なかでもカーナビゲーションシステムは、一般に、高温度、高湿度下に長期間さらされたり、直射日光に長期間さらされる場合が多い。そのため、自動車等に搭載される情報表示装置には、かかる環境下に晒された場合であっても、優れた反射防止性等の光学特性を長期間にわたり保持できることが求められている。
【０００７】
しかし、従来の反射防止フィルム等の光学フィルムは、直射日光の影響や、高温度及び高湿度の影響によって劣化し、前記反射低減層やハードコート層等の剥がれや割れを引き起こしたりする場合があった。また、タッチパネル装置の搭載された情報表示装置の表面に前記光学フィルムが設けられた場合、操作の際に指やタッチペンが繰り返し接触することとなる。そのため、前記光学フィルムには、前記した優れた耐候性等を有するとともに、経時的に傷等が発生しないレベルの硬度を備えたものが、求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００３−１４９４０７号公報
【特許文献２】特開２００３−１７７２０９号公報
【特許文献３】特開２００３−２４８１１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、高温度、高湿度環境下または直射日光があたる環境下に長期間おかれた場合であっても、反射低減層やハードコート層等の剥がれや割れを引き起こすことがないレベルの耐候性と、経時的な傷つき等を防止可能なレベルの硬度とを備えた光学フィルムを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者等は、前記課題を解決すべく検討したところ、例えばトリアセチルセルロースやポリエチレンテレフタレート等の基材と、反射低減層との間に、特定の複合樹脂を用いて得られる樹脂層を設けることによって、前記課題を解決できることを見出した。
【００１１】
すなわち、本発明は、基材の少なくとも片面側に樹脂層（Ｘ）を有し、前記樹脂層（Ｘ）の表面に反射低減層（Ｙ）を有する光学フィルムであって、前記樹脂層（Ｘ）が、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（４）で表される構造で結合された複合樹脂（Ａ）と、無機微粒子（ｍ）とが、上記ポリシロキサンセグメント（ａ１）でシロキサン結合を介して結合している無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する層であることを特徴とする光学フィルムに関するものである。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の光学フィルムは、耐候性に優れることから、例えば１００℃前後の高温度及び９５％前後の高湿度環境下または直射日光があたる環境下に晒された場合であっても、反射低減層やハードコート層等の剥がれや割れを引き起こすことがない。また、本発明は、タッチパネル装置の搭載された情報表示装置の表面に設けられた場合であっても、指やタッチペン等による操作に起因したキズ等を発生させにくい。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の光学フィルムの実施態様の一例を示す概念図である。
【図２】本発明の光学フィルムの実施態様の一例を示す概念図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明の光学フィルムは、基材の少なくとも片面側に樹脂層（Ｘ）を有し、前記樹脂層（Ｘ）の表面に反射低減層（Ｙ）を有する光学フィルムであって、前記樹脂層（Ｘ）が、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（４）で表される構造で結合された複合樹脂（Ａ）と、無機微粒子（ｍ）とが、上記ポリシロキサンセグメント（ａ１）でシロキサン結合を介して結合している無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する層であることを特徴とするものであって、とりわけ反射防止フィルムとして好適に使用可能なものである。
【００１５】
本発明の光学フィルムは、前記基材と前記反射低減層（Ｙ）との間に、特定の樹脂層（Ｘ）を有する。前記樹脂層（Ｘ）を設けることによって、高温度及び高湿度環境下または直射日光があたる環境下に晒された場合であっても、反射低減層等の剥がれや割れを引き起こすことがないレベルの耐候性と、経時的な傷つきを防止可能なレベルの硬度とを備えた光学フィルムを得ることができる。
【００１６】
前記樹脂層（Ｘ）は、前記基材の片面または両面に、直接または他の層を介して設けられるものであって、前記基材の片面に直接設けられることが好ましい。また、前記反射低減層（Ｙ）は、前記樹脂層（Ｘ）の表面に、直接または他の層を介して設けられるものであって、前記樹脂層（Ｘ）の表面に、直接設けられることが好ましい。
【００１７】
はじめに、前記樹脂層（Ｘ）について説明する。
【００１８】
前記樹脂層（Ｘ）は、経時的な反射低減層（Ｙ）の剥がれ等を防止することを目的として、前記基材と前記反射低減層（Ｙ）との間に設けられる層である。
【００１９】
前記樹脂層（Ｘ）は、前記基材及び前記反射低減層（Ｙ）のいずれに対しても好適な密着性を有する。
【００２０】
また、前記樹脂層（Ｘ）としては、例えば本発明の光学フィルムをタッチパネル機能を備えた情報表示装置の表面に設ける場合であれば、タッチペン等による繰り返し操作によって発生しうる情報表示部の表面の傷つき等を防止するうえで、ＪＩＳ５６００−５−４：１９９９で規定される鉛筆硬度試験で「Ｈ」以上の硬度を有するものであることが好ましい。つまり、前記樹脂層（Ｘ）は、いわゆるハードコート層の役割を担うものであることが好ましい。
【００２１】
また、前記樹脂層（Ｘ）としては、前記基材（Ａ）及び反射低減層（Ｙ）に対するより一層優れた密着性と高硬度とを両立するうえで、０．１μｍ〜５０μｍの厚さを有するものを使用することが好ましく、０．５μｍ〜５０μｍの厚さを有するものを使用することがより好ましく、１μｍ〜２０μｍの厚さを有するものを使用することが特に好ましい。
【００２２】
また、前記樹脂層（Ｘ）としては、より一層優れた反射防止性を備えた光学フィルムを得るうえで、１．４５〜１．５５の範囲の屈折率を有するものを使用することが好ましく、１．４７〜１．５３の範囲の屈折率を有するものを使用することがより好ましい。
【００２３】
前記樹脂層（Ｘ）は、その表面が平滑であってもよく、その表面に微細な凹凸形状を有するものであってもよい。
【００２４】
前記樹脂層（Ｘ）としては、単一の層からなるものであってもよく、同一または異なる材料を用いて得られる２層以上の多層構造を有するものであってもよい。例えば、前記樹脂層（Ｘ）を防眩層として使用する場合、前記樹脂層（Ｘ）としては、例えば凹凸形状を有する下層と、前記凹凸形状を所望の凹凸形状となるように微調整しうる上層とからなる多層構造を有するものを使用することができる。
【００２５】
前記樹脂層（Ｘ）は、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、一般式（４）で表される構造で結合された複合樹脂（Ａ）と、無機微粒子（ｍ）とが、上記ポリシロキサンセグメント（ａ１）でシロキサン結合を介して結合している無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する層である。
【００２６】
前記樹脂層（Ｘ）は、例えば、前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物を用いることによって形成することができる。前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物としては、例えば前記無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する組成物を使用する。
【００２７】
前記組成物に含まれる無機微粒子複合体（Ｍ）は、前記複合樹脂（Ａ）を構成するポリシロキサンセグメント（ａ１）と、前記無機微粒子（ｍ）とがシロキサン結合したものである。
【００２８】
（複合樹脂（Ａ））
本発明で使用する複合樹脂（Ａ）は、前記一般式（１）および／または前記一般式（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するポリシロキサンセグメント（ａ１）（以下、単に「ポリシロキサンセグメント（ａ１）」と称す。）と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）とが、前記一般式（４）で表される構造を形成し結合した複合樹脂（Ａ）であることを特徴とする。
【００２９】
（ポリシロキサンセグメント（ａ１））
前記複合樹脂（Ａ）は、ポリシロキサンセグメント（ａ１）を有する。ポリシロキサンセグメント（ａ１）は、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を縮合して得られるセグメントであって、一般式（１）および／または一般式（２）で表される構造単位と、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有する。
【００３０】
前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）の含有率は、前記複合樹脂（Ａ）の全固形分量に対して１０質量％〜９０質量％であることが、後述する無機微粒子（ｍ）との結合が容易になり、その結果、より一層優れた耐候性と高硬度とを両立した光学フィルムを得ることができるため好ましい。
【００３１】
前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）は、下記一般式（１）及び（２）で表される構造単位とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを有する。
【００３２】
【化１】
2016114919.tif 000003
【００３３】
【化２】
2016114919.tif 000004
【００３４】
上記一般式（１）及び（２）におけるＲ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して、−Ｒ4−ＣＨ＝ＣＨ2、−Ｒ4−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、−Ｒ4−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2、及び−Ｒ4−Ｏ−ＣＯ−ＣＨ＝ＣＨ2、または下記式（３）で表される基からなる群から選ばれる重合性二重結合を有する基（但し、Ｒ4は単結合又は炭素原子数１〜６のアルキレン基を表す）、炭素原子数が１〜６のアルキル基、炭素原子数が３〜８のシクロアルキル基、アリール基、炭素原子数が７〜１２のアラルキル基、エポキシ基を表す。
【００３５】
【化３】
2016114919.tif 000005
【００３６】
（一般式（３）中、ｎは１から５で表される整数であり、構造Ｑは、−ＣＨ＝ＣＨ2または−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2いずれかを表す。）
【００３７】
前記一般式（１）および／または前記一般式（２）で表される構造単位は、ケイ素の結合手のうち２または３つが架橋に関与した、三次元網目状のポリシロキサン構造単位である。三次元網目構造を形成しながらも密な網目構造を形成しないので、ゲル化等を生じることもなく保存安定性も良好となる。
【００３８】
前記Ｒ4を構成する前記炭素原子数が１〜６のアルキレン基としては、例えば、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、イソプロピレン基、ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基、１−メチルブチレン基、２−メチルブチレン基、１，２−ジメチルプロピレン基、１−エチルプロピレン基、ヘキシレン基、イソヘシレン基、１−メチルペンチレン基、２−メチルペンチレン基、３−メチルペンチレン基、１，１−ジメチルブチレン基、１，２−ジメチルブチレン基、２，２−ジメチルブチレン基、１−エチルブチレン基、１，１，２−トリメチルプロピレン基、１，２，２−トリメチルプロピレン基、１−エチル−２−メチルプロピレン基、１−エチル−１−メチルプロピレン基等が挙げられる。中でもＲ4は、原料の入手の容易さから単結合または炭素原子数が２〜４のアルキレン基が好ましい。
【００３９】
また、前記炭素原子数が１〜６のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基等が挙げられる。
【００４０】
また、前記炭素原子数が３〜８のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
【００４１】
また、前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−ビニルフェニル基、３−イソプロピルフェニル基等が挙げられる。
【００４２】
また、前記炭素原子数が７〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ジフェニルメチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００４３】
また、前記Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１つが前記重合性二重結合を有する基であると、活性エネルギー線等により硬化させることができ、活性エネルギー線、並びに、シラノール基及び／又は加水分解性シリル基の縮合反応の２つの硬化機構により、得られる硬化物の架橋密度が高くなり、より一層優れた耐候性を有するハードコートフィルムを得ることができるため好ましい。
【００４４】
前記重合性二重結合を有する基は、ポリシロキサンセグメント（ａ１）中に２個以上存在することが好ましく、３〜２００個存在することがより好ましく、３〜５０個存在することが更に好ましい。
【００４５】
具体的には、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）中の重合性二重結合の含有率が、３質量％〜３５質量％であれば、より一層優れた耐候性と高硬度とを両立したハードコートフィルムを得ることができる。なお、ここでいう重合性二重結合とは、ビニル基、ビニリデン基もしくはビニレン基のうち、フリーラジカルによる生長反応を行うことができる基の総称である。また、重合性二重結合の含有率とは、当該ビニル基、ビニリデン基及びビニレン基の、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）に対する質量割合を示すものである。
【００４６】
重合性二重結合を有する基としては、ビニル基、ビニリデン基、ビニレン基を含有してなる公知の全ての官能基を使用することができるが、中でも−Ｒ4−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2や−Ｒ4−Ｏ−ＣＯ−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2で表される（メタ）アクリロイル基は、紫外線硬化の際の反応性に富むことや、後述のビニル系重合体セグメント（ａ２）との相溶性が良好となるため使用することが好ましい。
【００４７】
また、前記重合性二重結合を有する基が上記一般式（３）で表される基である場合、式中の構造Ｑは芳香環にビニル基が複数個結合してもよいことを示している。例えば、芳香環にＱが２個結合している場合は、下記に示すような構造も含まれることを意味している。
【００４８】
【化４】
2016114919.tif 000006
【００４９】
上記一般式（５）に示されるスチリル基に代表されるような構造には、酸素原子が含まれないため、酸素原子を基点とした酸化分解が起こりにくい。また、前記構造は、耐熱分解性に優れるため、耐熱性が要求される用途に好適である。これは、嵩高い構造により酸化される反応が阻害されるためであると考えられる。また、耐熱性の向上には、−Ｒ4−ＣＨ＝ＣＨ2、−Ｒ4−Ｃ（ＣＨ3）＝ＣＨ2からなる群から選ばれる重合性二重結合を有する基を有することも好ましい。
【００５０】
本発明においてシラノール基とは、珪素原子に直接結合した水酸基を有する珪素含有基である。該シラノール基は具体的には、前記一般式（１）および／または前記一般式（２）で表される構造単位の、結合手を有する酸素原子が水素原子と結合して生じたシラノール基であることが好ましい。
【００５１】
また、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）において、式中Ｒ1、Ｒ2及びＲ3の少なくとも１つがエポキシ基であると、熱硬化や活性エネルギー線硬化により硬化させることができ、エポキシ基、並びに、シラノール基及び／又は加水分解性シリル基の縮合反応の２つの硬化機構により、得られる硬化物の架橋密度が高くなり、より一層優れた耐候性と高硬度とを備えたハードコートをフィルムを得ることができる。
【００５２】
また本発明において加水分解性シリル基とは、珪素原子に直接結合した加水分解性基を有する珪素含有基であり、具体的には、例えば、一般式（６）で表される基が挙げられる。
【００５３】
【化５】
2016114919.tif 000007
【００５４】
（一般式（６）中、Ｒ5はアルキル基、アリール基又はアラルキル基等の１価の有機基を、Ｒ6はハロゲン原子、アルコキシ基、アシロキシ基、フェノキシ基、アリールオキシ基、メルカプト基、アミノ基、アミド基、アミノオキシ基、イミノオキシ基及びアルケニルオキシ基からなる群から選ばれる加水分解性基である。また、ｂは０〜２の整数である。）
【００５５】
前記Ｒ5において、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、１−メチルブチル基、２−メチルブチル基、１，２−ジメチルプロピル基、１−エチルプロピル基、ヘキシル基、イソヘシル基、１−メチルペンチル基、２−メチルペンチル基、３−メチルペンチル基、１，１−ジメチルブチル基、１，２−ジメチルブチル基、２，２−ジメチルブチル基、１−エチルブチル基、１，１，２−トリメチルプロピル基、１，２，２−トリメチルプロピル基、１−エチル−２−メチルプロピル基、１−エチル−１−メチルプロピル基等が挙げられる。
【００５６】
またアリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、２−メチルフェニル基、３−メチルフェニル基、４−メチルフェニル基、４−ビニルフェニル基、３−イソプロピルフェニル基等が挙げられる。
【００５７】
またアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、ジフェニルメチル基、ナフチルメチル基等が挙げられる。
【００５８】
前記Ｒ6において、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【００５９】
アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、第二ブトキシ基、第三ブトキシ基等が挙げられる。
またアシロキシ基としては、例えば、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロパノイルオキシ、ブタノイルオキシ、ピバロイルオキシ、ペンタノイルオキシ、フェニルアセトキシ、アセトアセトキシ、ベンゾイルオキシ、ナフトイルオキシ等が挙げられる。
またアリールオキシ基としては、例えば、フェニルオキシ、ナフチルオキシ等が挙げられる。
【００６０】
アルケニルオキシ基としては、例えば、ビニルオキシ基、アリルオキシ基、１−プロペニルオキシ基、イソプロペニルオキシ基、２−ブテニルオキシ基、３−ブテニルオキシ基、２−ペテニルオキシ基、３−メチル−３−ブテニルオキシ基、２−ヘキセニルオキシ基等が挙げられる。
【００６１】
前記Ｒ6で表される加水分解性基が加水分解されることにより、一般式（６）で表される加水分解性シリル基はシラノール基となる。加水分解性に優れることから、中でも、メトキシ基およびエトキシ基が好ましい。
【００６２】
また前記加水分解性シリル基は具体的には、前記一般式（１）および／または前記一般式（２）で表される構造単位の、結合手を有する酸素原子が前記加水分解性基と結合もしくは置換されている加水分解性シリル基であることが好ましい。
【００６３】
前記シラノール基や前記加水分解性シリル基は、シラノール基中の水酸基や加水分解性シリル基中の前記加水分解性基の間で加水分解縮合反応が進行するので、ポリシロキサン構造の架橋密度が高まり、耐候性に優れる硬化物を形成することができる。
【００６４】
また、前記シラノール基や前記加水分解性シリル基を含むポリシロキサンセグメント（ａ１）と後述のビニル系重合体セグメント（ａ２）とを、前記一般式（４）で表される構造を介して結合させる際に使用する。
【００６５】
前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）は、前記一般式（１）および／または前記一般式（２）で表される構造単位と、シラノール基および／または加水分解性シリル基とを有する以外は特に限定はなく、他の基を含んでいてもよい。例えば、
前記一般式（１）におけるＲ1が前記重合性二重結合を有する基である構造単位と、前記一般式（１）におけるＲ1がメチル等のアルキル基である構造単位とが共存したポリシロキサンセグメント（ａ１）であってもよいし、
前記一般式（１）におけるＲ1が前記重合性二重結合を有する基である構造単位と、前記一般式（１）におけるＲ1がメチル基等のアルキル基である構造単位と、前記一般式（２）におけるＲ2及びＲ3がメチル基等のアルキル基である構造単位とが共存したポリシロキサンセグメント（ａ１）であってもよいし、
前記一般式（１）におけるＲ1が前記重合性二重結合を有する基である構造単位と、前記一般式（２）におけるＲ2及びＲ3がメチル基等のアルキル基である構造単位とが共存したポリシロキサンセグメント（ａ１）であってもよいし、特に限定はない。
【００６６】
前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）は、前記樹脂層（Ｘ）の形成に使用する組成物の全固形分量に対して１０〜６５質量％含まれることが、より一層優れた耐候性と、前記反射低減層（Ｙ）との層間密着性に優れたハードコートフィルムを得るうえで好ましい。  
【００６７】
（ビニル系重合体セグメント（ａ２））
前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）とは、ビニル基または（メタ）アクリル基含有モノマーを重合して得られる重合体セグメントであって、ビニル重合体セグメント、アクリル重合体セグメント、ビニル/アクリル共重合体セグメント等が挙げられ、これらは用途により適宜選択することが好ましい。前記無機微粒子複合体（Ｍ）は、前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）を有するため、無機微粒子（ｍ）を使用した場合であっても造膜性に優れる。
【００６８】
例えば、前記アクリル重合体セグメントは、汎用の（メタ）アクリルモノマーを重合または共重合させて得られる。（メタ）アクリルモノマーとしては特に限定はなく、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｎ−プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート等の炭素原子数が１〜２２のアルキル基を有するアルキル（メタ）アクリレート類；ベンジル（メタ）アクリレート、２−フェニルエチル（メタ）アクリレート等のアラルキル（メタ）アクリレート類；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート等のシクロアルキル（メタ）アクリレート類；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、４−メトキシブチル（メタ）アクリレート等のω−アルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、ピバリン酸ビニル、安息香酸ビニル等のカルボン酸ビニルエステル類；クロトン酸メチル、クロトン酸エチル等のクロトン酸のアルキルエステル類；ジメチルマレート、ジ−ｎ−ブチルマレート、ジメチルフマレート、ジメチルイタコネート等の不飽和二塩基酸のジアルキルエステル類等が挙げられる。
【００６９】
特に、前記（メタ）アクリルモノマーとして、シクロヘキシル（メタ）アクリレートを用いると、樹脂層（Ｘ）の、基材、特にプラスチック基材、好ましくはポリカーボネート基材に対する密着性をより一層向上するうえで好ましい。シクロヘキシル（メタ）アクリレートは、ビニル系重合体セグメント（ａ２）を構成するビニル基含有モノマーの全量に対して、２０〜７５質量％使用することが好ましく、より好ましくは５０〜７５質量％である。
【００７０】
ビニル重合体セグメント（ａ２）としては、具体的には芳香族ビニル重合体セグメント、ポリオレフィン重合体、フルオロオレフィン重合体等が挙げられ、それらの共重合体でも構わない。これらビニル重合体を得るためには、ビニル基含有モノマーを重合すればよく、具体的にはエチレン、プロピレン、１，３−ブタジエン、シクロペンチルエチレン、等のα−オレフィン類；スチレン、１−エチニル−４−メチルベンゼン、ジビニルベンゼン、１−エチニル−４−メチルエチルベンゼン、ベンゾニトリル、アクリロニトリル、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレン、４−ビニルビフェニル、４−エチニルベンジルアルコール、２−エチニルナフタレン、フェナントレン−９−エチニル、等の芳香環を有するビニル化合物；フッ化ビニリデン、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、クロロトリフルオロエチレン等のフルオロオレフィン類等、が好適に使用できる。更に好ましくは、芳香環を有するビニル化合物である、スチレン、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルスチレンである。
【００７１】
また、ビニル重合体セグメント（ａ２）は、（メタ）アクリルモノマーとビニル基含有モノマーを共重合させて得られるビニル／アクリル共重合体セグメントであってもかまわない。
【００７２】
前記モノマーを共重合させる際の重合方法、溶剤、あるいは重合開始剤にも特に限定はなく、公知の方法によりビニル系重合体セグメント（ａ２）を得ることができる。例えば、塊状ラジカル重合法、溶液ラジカル重合法、非水分散ラジカル重合法等の種々の重合法により、２，２’−アゾビス（イソブチロニトリル）、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシピバレート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ−２−エチルヘキサノエート、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート等の重合開始剤を使用してビニル系重合体セグメント（ａ２）を得ることができる。
【００７３】
前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）の数平均分子量としては、数平均分子量（以下Ｍｎと略す）に換算して５００〜２００，０００の範囲であることが好ましく、前記複合樹脂（Ａ）を製造する際の増粘やゲル化を防止でき、且つ耐久性に優れる。Ｍｎは７００〜１００，０００の範囲がより好ましく、１，０００〜５０，０００の範囲が後記する基材への塗装適性および密着性をより一層向上できるため好ましい。
【００７４】
また前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）の水酸基価（ＯＨｖ）が、６５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐水性および耐熱性に優れるため好ましく、より好ましくは４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の場合である。また、同様に水酸基価が６５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下であると、耐熱試験後のプラスチック基材、好ましくはポリカーボネートに対する密着性に優れるため好ましく、より好ましくは４５ｍｇＫＯＨ／ｇ以下の場合である。
【００７５】
また、前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）は、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）と一般式（４）で表される構造で結合した複合樹脂（Ａ）とするために、ビニル系重合体セグメント（ａ２）中に、炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を有する。これらのシラノール基および／または加水分解性シリル基は、複合樹脂（Ａ）中において一般式（４）で表される構造を形成するために消費されるため、複合樹脂（Ａ）中のビニル系重合体セグメント（ａ２）には殆ど存在しない。しかし、ビニル系重合体セグメント（ａ２）にシラノール基および／または加水分解性シリル基が残存していても何ら問題はなく、無機微粒子複合体（Ｍ）を硬化させる際、シラノール基中の水酸基や加水分解性シリル基中の前記加水分解性基の間で加水分解縮合反応が進行するので、得られる硬化物のポリシロキサン構造の架橋密度が高まり、より一層優れた耐候性と高硬度とを両立したハードコートフィルムを得ることができる。
【００７６】
炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基をビニル系重合体セグメント（ａ２）に導入するには、具体的には、ビニル系重合体セグメント（ａ２）を重合する際に、ビニル基重合モノマー及び（メタ）アクリルモノマーに対し、炭素結合に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を含有するビニル基含有モノマーを併用すればよい。
【００７７】
炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を含有するビニル基含有モノマーとしては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリ（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、２−トリメトキシシリルエチルビニルエーテル、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシラン等が挙げられる。中でも、加水分解反応を容易に進行でき、また反応後の副生成物を容易に除去することができることからビニルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【００７８】
ビニル系重合体セグメント（ａ２）は、各種官能基を有していてもよい。例えば重合性二重結合を有する基、エポキシ基、アルコール性水酸基等であり、導入するには該当する官能基を有するビニル基含有モノマーを重合時に配合すればよい。
【００７９】
エポキシ基を有するビニル基含有モノマーとしては、例えば、グリシジル（メタ）アクリレート、メチルグリシジル（メタ）アクリレート、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、ビニルシクロヘキセンオキシド、グリシジルビニルエーテル、メチルグリシジルビニルエーテルもしくはアリルグリシジルエーテル等が挙げられる。
【００８０】
アルコール水酸基を有するビニル基含有モノマーとしては、例えば、（２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ジ−２−ヒドロキシエチルフマレート、モノ−２−ヒドロキシエチルモノブチルフマレート、ポリエチレングルコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、「プラクセルＦＭもしくはプラクセルＦＡ」〔ダイセル化学（株）製のカプロラクトン付加モノマー〕等の各種α、β−エチレン性不飽和カルボン酸のヒドロキシアルキルエステル類、またはこれらとε−カプロラクトンとの付加物、等が挙げられる。
【００８１】
〔無機微粒子（ｍ）〕
前記無機微粒子（ｍ）は、本発明の効果を損なわなければとくに限定は無いが、ポリシロキサンセグメント（ａ１）とシロキサン結合を介して結合する為、シロキサン結合を形成しうる官能基を有する。
【００８２】
シロキサン結合を形成しうる官能基とは、水酸基、シラノール基、アルコキシシリル基等、シロキサン結合を形成しうる官能基であれば何でも良い。シロキサン結合を形成しうる無機微粒子（ｍ）自身が有しているか、無機微粒子（ｍ）を修飾することで官能基を導入してもよい。
【００８３】
無機微粒子（ｍ）の修飾方法としては、公知慣用の方法を用いればよく、シランカップリング剤処理や、シロキサン結合を形成しうる官能基を有する樹脂でコーティングを行う等の方法がある。
【００８４】
無機微粒子（ｍ）としては、例えば、耐熱性に優れるものとしては、アルミナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカ（石英、ヒュームドシリカ、沈降性シリカ、無水ケイ酸、溶融シリカ、結晶性シリカ、超微粉無定型シリカ等）等；熱伝導性に優れるものとしては、窒化ホウ素、窒化アルミ、アルミナ、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ケイ素等；導電性に優れるものとしては、金属単体又は合金（例えば、鉄、銅、マグネシウム、アルミニウム、金、銀、白金、亜鉛、マンガン、ステンレスなど）を用いた金属フィラー及び／又は金属被覆フィラー、；バリア性に優れるものとしては、マイカ、クレイ、カオリン、タルク、ゼオライト、ウォラストナイト、スメクタイト等の鉱物等やチタン酸カリウム、硫酸マグネシウム、セピオライト、ゾノライト、ホウ酸アルミニウム、炭酸カルシウム、酸化チタン、硫酸バリウム、酸化亜鉛、水酸化マグネシウム；屈折率が高いものとしては、チタン酸バリウム、ジルコニア、酸化チタン等；光触媒性を示すものとしては、チタン、セリウム、亜鉛、銅、アルミニウム、錫、インジウム、リン、炭素、イオウ、ニッケル、鉄、コバルト、銀、モリブデン、ストロンチウム、クロム、バリウム、鉛等の光触媒金属、前記金属の複合物、それらの酸化物等；耐摩耗性に優れるものとしては、シリカ、アルミナ、ジルコニア、マグネシウム等の金属、及びそれらの複合物及び酸化物等；導電性に優れるものとしては、銀、銅などの金属、酸化錫、酸化インジウム等；絶縁性に優れるものとしては、シリカ等；紫外線遮蔽に優れるものとしては、酸化チタン、酸化亜鉛等である。
これらの無機微粒子（ｍ）は、用途によって適時選択すればよく、単独で使用しても、複数種組み合わせて使用してもかまわない。また、上記無機微粒子（ｍ）は、例に挙げた特性以外にも様々な特性を有することから、適時用途に合わせて選択すればよい。
【００８５】
例えば無機微粒子（ｍ）としてシリカを用いる場合、特に限定はなく粉末状のシリカやコロイダルシリカなど公知のシリカ微粒子を使用することができる。市販の粉末状のシリカ微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製アエロジル５０、２００、旭硝子（株）製シルデックスＨ３１、Ｈ３２、Ｈ５１、Ｈ５２、Ｈ１２１、Ｈ１２２、日本シリカ工業（株）製Ｅ２２０Ａ、Ｅ２２０、富士シリシア（株）製ＳＹＬＹＳＩＡ４７０、日本板硝子（株）製ＳＧフレ−ク等を挙げることができる。
また、市販のコロイダルシリカとしては、例えば、日産化学工業（株）製メタノ−ルシリカゾル、ＩＰＡ−ＳＴ、ＰＧＭ−ＳＴ、ＮＢＡ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＳＴ−ＵＰ、ＳＴ−ＯＵＰ、ＳＴ−２０、ＳＴ−４０、ＳＴ−Ｃ、ＳＴ−Ｎ、ＳＴ−Ｏ、ＳＴ−５０、ＳＴ−ＯＬ等を挙げることができる。
【００８６】
表面修飾をしたシリカ微粒子を用いてもよく、例えば、前記シリカ微粒子を、疎水性基を有する反応性シランカップリング剤で表面処理したものや、（メタ）アクリロイル基を有する化合物で修飾したものがあげられる。（メタ）アクリロイル基を有する化合物で修飾した市販の粉末状のシリカとしては、日本アエロジル（株）製アエロジルＲＭ５０、Ｒ７２００、Ｒ７１１等、（メタ）アクリロイル基を有する化合物で修飾した市販のコロイダルシリカとしては、日産化学工業（株）製ＭＩＢＫ−ＳＤ、ＭＥＫ−ＳＤ、等、疎水性基を有する反応性シランカップリング剤で表面処理したコロイダルシリカとしては、日産化学工業（株）製ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ等が挙げられる。
【００８７】
前記シリカ微粒子の形状は特に限定はなく、球状、中空状、多孔質状、棒状、板状、繊維状、または不定形状のものを用いることができる。例えば、市販の中空状シリカ微粒子としては、日鉄鉱業（株）製シリナックス（登録商標）等を用いることができる。
【００８８】
酸化チタン微粒子としては、体質顔料のみならず紫外光応答型光触媒が使用でき、例えばアナターゼ型酸化チタン、ルチル型酸化チタン、ブルッカイト型酸化チタンなどが使用できる。更に、酸化チタンの結晶構造中に異種元素をドーピングさせて可視光に応答させるように設計された粒子についても用いることができる。酸化チタンにドーピングさせる元素としては、窒素、硫黄、炭素、フッ素、リン等のアニオン元素や、クロム、鉄、コバルト、マンガン等のカチオン元素が好適に用いられる。また、形態としては、粉末、有機溶媒中もしくは水中に分散させたゾルもしくはスラリーを用いることができる。市販の粉末状の酸化チタン微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製アエロジルＰ−２５、テイカ（株）製ＡＴＭ−１００等を挙げることができる。また、市販のスラリー状の酸化チタン微粒子としては、例えば、テイカ（株）ＴＫＤ−７０１等が挙げられる。
【００８９】
無機微粒子（ｍ）の一次粒子径は、５〜２００ｎｍの範囲が好ましい。５ｎｍ以上であると、分散体中の無機微粒子（ｍ）が分散良好となり、２００ｎｍ以内の径であれば、硬化物の強度が良好となる。より好ましくは１０ｎｍ〜１００ｎｍである。尚ここでいう「粒子径」とは、走査型電子顕微鏡（ＴＥＭ）などを用いて測定される。
【００９０】
無機微粒子（ｍ）は、無機微粒子複合体（Ｍ）の固形分全量に対して５〜９０質量％の割合で配合でき、用途に応じて配合量を適時変更すればよい。
【００９１】
例えば、耐摩耗性と層間密着性を両立させるためには、前記無機微粒子（ｍ）を５〜９０質量％の範囲で使用することが好ましく、耐摩耗性をより向上させるためには５〜６０質量％の範囲で使用すること特に好ましい。
【００９２】
また、前記複合樹脂（Ａ）と結合してない無機微粒子として、アルミナ、マグネシア、チタニア、ジルコニア、シリカ等を別途配合してもかまわない。
【００９３】
〔無機微粒子複合体（Ｍ）の製造方法〕
前記無機微粒子複合体（Ｍ）は、炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）を合成する工程１と、アルコキシシランと無機微粒子（ｍ）とを混合する工程２と、アルコキシシランを縮合反応する工程３とを有することを特徴とする製造方法によって得ることができる。この時、各工程は別々に行ってもよく、同時に行ってもかまわない。例えば、次のような方法で製造することができる。
【００９４】
＜方法１＞  工程１で得られる炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）と、シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物と無機微粒子（ｍ）とを工程２で混合し、この混合物を工程３においてシラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物の縮合を行い、ポリシロキサンセグメント（ａ１）の形成と、ビニル系重合体セグメント（ａ２）及び無機微粒子（ｍ）との結合を形成する方法。
【００９５】
＜方法２＞  シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物と無機微粒子（ｍ）とを工程２で混合し、工程３においてシラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物の縮合を行い、ポリシロキサンセグメント（ａ１）の形成と無機微粒子結合を形成したうえで、工程１で得られるシラノール基および／または加水分解性シリル基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）とポリシロキサンセグメント（ａ１）無機微粒子（ｍ）とを再び工程３にて加水分解縮合させることで結合を形成する方法。
【００９６】
次に、工程１、工程２、工程３について具体的に説明する。
【００９７】
工程１とは、炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を有するビニル系重合体セグメント（ａ２）を合成する工程である。炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基をビニル系重合体セグメント（ａ２）に導入するには、具体的には、ビニル系重合体セグメント（ａ２）を重合する際に、ビニル基重合モノマー及び（メタ）アクリルモノマーに対し、炭素結合に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基を含有するビニル系モノマーを併用すればよい。
さらにこの後、上記ビニル系重合体セグメント（ａ２）にシラノール基および／または加水分解性シリル基を含有するシラン化合物を加水分解縮合することで、炭素原子に直接結合したシラノール基および／または加水分解性シリル基に対し、ポリシロキサンセグメント前駆体を結合させておいても良い。
【００９８】
工程２とは、シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物と無機微粒子（ｍ）とを混合する工程である。シラン化合物としては後述する汎用のシラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物を使用できる。このとき、ポリシロキサンセグメントに導入したい基がある場合は、導入したい基を有するシラン化合物を併用する。例えばアリール基を導入する場合は、アリール基とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを併有するシラン化合物を適宜併用すればよい。また重合性二重結合を有する基を導入する場合は、重合性二重結合を有する基とシラノール基および／または加水分解性シリル基とを併有するシラン化合物を併用すればよい。
混合には、公知の分散方法を使用することができる。機械的手段としては、例えば、ディスパー、タービン翼等攪拌翼を有する分散機、ペイントシェイカー、ロールミル、ボールミル、アトライター、サンドミル、ビーズミル等が挙げられ、均一に混合させるためにはガラスビーズ、ジルコニアビーズ等の分散メディアを使用するビーズミルによる分散が好ましい。
【００９９】
前記ビーズミルとしては、例えば、アシザワ・ファインテック（株）製のスターミル；三井鉱山（株）製のＭＳＣ−ＭＩＬＬ、ＳＣ−ＭＩＬＬ、アトライタ  ＭＡ０１ＳＣ；浅田鉄工（株）のナノグレンミル、ピコグレンミル、ピュアグレンミル、メガキャッパーグレンミル、セラパワーグレンミル、デュアルグレンミル、ＡＤミル、ツインＡＤミル、バスケットミル、ツインバスケットミル：寿工業（株）製のアペックスミル、ウルトラアペックスミル、スーパーアペックスミル等が挙げられる。
【０１００】
工程３とは、シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物を縮合反応する工程である。本工程３によって、シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物が縮合し、シロキサン結合が生成する。
【０１０１】
前述のポリシロキサンセグメント（ａ１）が有するシラノール基および／または加水分解性シリル基と、前述のビニル系重合体セグメント（ａ２）が有するシラノール基および／または加水分解性シリル基とを脱水縮合反応する場合、前記一般式（４）で表される結合が生じる。従って前記一般式（４）中、炭素原子は前記ビニル系重合体セグメント（ａ２）の一部分を構成し、酸素原子のみに結合したケイ素原子は、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）の一部分を構成するものとする。
【０１０２】
また、シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物と無機微粒子（ｍ）を混合した状態で縮合することで、シラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物と無機微粒子（ｍ）の間でシロキサン結合が形成され、ポリシロキサンセグメント（ａ１）と無機微粒子（ｍ）が化学的に結合する。
【０１０３】
複合樹脂（Ａ）において、ポリシロキサンセグメント（ａ１）とビニル重合体セグメント（ａ２）との結合位置は、任意であり、例えば、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）が前記重合体セグメント（ａ２）の側鎖として化学的に結合したグラフト構造を有する複合樹脂や、前記重合体セグメント（ａ２）と前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）とが化学的に結合したブロック構造を有する複合樹脂等が挙げられる。
【０１０４】
前記工程１〜工程３で使用する、シラノール基および／または加水分解性シリル基並びに重合性二重結合を併有するシラン化合物としては、具体的には、例えば、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルトリ（２−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、２−トリメトキシシリルエチルビニルエーテル、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリクロロシラン等が挙げられる。中でも、加水分解反応を容易に進行でき、また反応後の副生成物を容易に除去することができることからビニルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【０１０５】
また、前記工程１〜工程３で使用する、汎用のシラン化合物としては、例えば、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリ−ｎ−ブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ｎ−プロピルトリメトキシシラン、ｉｓｏ−ブチルトリメトキシシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等の各種のオルガノトリアルコキシシラン類；ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジ−ｎ−ブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、メチルシクロヘキシルジメトキシシランもしくはメチルフェニルジメトキシシラン等の、各種のジオルガノジアルコキシシラン類；メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、ビニルトリクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、ジエチルジクロロシランもしくはジフェニルジクロロシラン等のクロロシラン類が挙げられる。中でも、加水分解反応が容易に進行し、また反応後の副生成物を容易に除去することが可能なオルガノトリアルコキシシランやジオルガノジアルコキシシランが好ましい。
【０１０６】
また、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシランもしくはテトラｎ−プロポキシシランなどの４官能アルコキシシラン化合物や該４官能アルコキシシラン化合物の部分加水分解縮合物を、本発明の効果を損なわない範囲で併用することもできる。前記４官能アルコキシシラン化合物又はその部分加水分解縮合物を併用する場合には、前記ポリシロキサンセグメント（ａ１）を構成する全珪素原子に対して、該４官能アルコキシシラン化合物の有する珪素原子が、２０モル％を超えない範囲となるように併用することが好ましい。
【０１０７】
また、前記シラン化合物には、ホウ素、チタン、ジルコニウムあるいはアルミニウムなどの珪素原子以外の金属アルコキシド化合物を、本発明の効果を損なわない範囲で併用することもできる。例えば、ポリシロキサンセグメント（ａ１）を構成する全珪素原子に対して、上述の金属アルコキシド化合物の有する金属原子が、２５モル％を超えない範囲で、併用することが好ましい。
【０１０８】
また、ポリシロキサンセグメント（ａ１）に式（３）で表される基を導入するには、式（３）で表される基を有するシラン化合物を用いればよい。式（３）で表される基を有するシラン化合物の具体例としては、ｐ−スチリルトリメトキシシラン、ｐ−スチリルトリエトキシシラン、が挙げられる。
【０１０９】
工程２において、無機微粒子（ｍ）と混合させるシラノール基および／または加水分解性シリル基含有シラン化合物の一部またはすべてが加水分解縮合されていても良い。
さらに、固形分量や粘度を調製する目的として、分散媒を使用してもよい。分散媒としては、本発明の効果を損ねることのない液状媒体であればよく、各種有機溶剤や水、液状有機ポリマーおよびモノマーが挙げられる。
【０１１０】
前記有機溶剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）等のケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキソラン等の環状エーテル類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル類、トルエン、キシレン等の芳香族類、カルビトール、セロソルブ、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ノルマルプロピルアルコールなどのアルコール類が挙げられ、これらを単独又は併用して使用可能である。
【０１１１】
前記工程２と工程３における加水分解縮合反応は、前記加水分解性基の一部が水などの影響で加水分解され水酸基を形成し、次いで該水酸基同士、あるいは該水酸基と加水分解性基との間で進行する進行する縮合反応をいう。該加水分解縮合反応は、公知の方法で反応を進行させることができるが、前記製造工程で水と触媒とを供給することで反応を進行させる方法が簡便で好ましい。
【０１１２】
使用する触媒としては、例えば、塩酸、硫酸、燐酸等の無機酸類；ｐ−トルエンスルホン酸、燐酸モノイソプロピル、酢酸等の有機酸類；水酸化ナトリウム又は水酸化カリウム等の無機塩基類；テトライソプロピルチタネート、テトラブチルチタネート等のチタン酸エステル類；１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］ウンデセン−７（ＤＢＵ）、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５（ＤＢＮ）、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン（ＤＡＢＣＯ）、トリ−ｎ−ブチルアミン、ジメチルベンジルアミン、モノエタノールアミン、イミダゾール、１−メチルイミダゾール等の各種の塩基性窒素原子を含有する化合物類；テトラメチルアンモニウム塩、テトラブチルアンモニウム塩、ジラウリルジメチルアンモニウム塩等の各種の４級アンモニウム塩類であって、対アニオンとして、クロライド、ブロマイド、カルボキシレートもしくはハイドロオキサイドなどを有する４級アンモニウム塩類；ジブチル錫ジアセテート、ジブチル錫ジオクトエート、ジブチル錫ジラウレート、ジブチル錫ジアセチルアセトナート、オクチル酸錫又はステアリン酸錫など錫カルボン酸塩等が挙げられる。触媒は単独で使用しても良いし、２種以上併用しても良い。
【０１１３】
前記触媒の添加量に特に限定はないが、一般的には前記シラノール基または加水分解性シリル基を有する各々の化合物全量に対して、０．０００１〜１０質量％の範囲で使用することが好ましく、０．０００５〜３質量％の範囲で使用することがより好ましく、０．００１〜１質量％の範囲で使用することが特に好ましい。
【０１１４】
また、供給する水の量は、前記シラノール基または加水分解性シリル基を有する各々の化合物が有するシラノール基または加水分解性シリル基１モルに対して０．０５モル以上が好ましく、０．１モル以上がより好ましく、特に好ましくは、０．５モル以上である。
これらの触媒及び水は、一括供給でも逐次供給であってもよく、触媒と水とを予め混合したものを供給しても良い。
【０１１５】
前記工程２と工程３における加水分解縮合反応を行う際の反応温度は、０℃〜１５０℃の範囲が適切であり、好ましくは、２０℃〜１００℃の範囲内である。また、反応の圧力としては、常圧、加圧下又は減圧下の、いずれの条件においても行うことができる。また、前記加水分解縮合反応において生成しうる副生成物であるアルコールや水は、必要に応じ蒸留などの方法により除去してもよい。
【０１１６】
前記無機微粒子複合体（Ｍ）を含有する樹脂層（Ｘ）形成用組成物としては、無機微粒子複合体（Ｍ）が活性エネルギー線を照射されることによって硬化するものである場合には、光重合開始剤を使用することが好ましい。光重合開始剤としては公知のものを使用すればよく、例えば、アセトフェノン類、ベンジルケタール類、ベンゾフェノン類からなる群から選ばれる一種以上を好ましく用いることができる。前記アセトフェノン類としては、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン等が挙げられる。前記ベンジルケタール類としては、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンジルジメチルケタール等が挙げられる。前記ベンゾフェノン類としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル等が挙げられる。前記ベンゾイン類等としては、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。光重合開始剤（Ｂ）は単独で使用しても良いし、２種以上を併用してもよい。
【０１１７】
前記光重合開始剤（Ｂ）の使用量は、前記無機微粒子複合体（Ｍ）１００質量部に対して、１〜１５質量％が好ましく、２〜１０質量％がより好ましい。
【０１１８】
前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物は、紫外線吸収剤を含むことが好ましい。これにより、基材としてプラスチック基材を使用した場合等に生じうる黄変色を抑制することができる。また、前記基材と樹脂層（Ｘ）との密着性をより一層向上させ、より一層優れた耐候性を備えたハードコートフィルムを得ることができる。
【０１１９】
紫外線吸収剤としては、たとえば、一般的に用いられる無機系、有機系の各種紫外線吸収剤を用いることができる。紫外線吸収剤としては、例えば主骨格がヒドロキシベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、トリアジン系である化合物誘導体、更に側鎖にこれら紫外線吸収剤を含有するビニルポリマーなどの重合体が挙げられる。具体的には、２，４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−５−スルホン酸、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ベンジロキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジエトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジプロポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４，４’−ジブトキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’−プロポキシベンゾフェノン、２，２’−ジヒドロキシ−４−メトキシ−４’−ブトキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−ｔ−オクチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−４，６−ジフェニルトリアジン、４−（２−アクリロキシエトキシ）−２−ヒドロキシベンゾフェノンの重合体、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メタクリロキシエチルフェニル）−２Ｈ−ベンゾトリアゾールの重合体等が例示される。これらの中で、揮散性の点から２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンが好適に使用される。また、これらの有機系紫外線吸収剤は２種以上併用してもよい。
【０１２０】
また、必要に応じて活性エネルギー線硬化性モノマー、特に多官能（メタ）アクリレートを含有するのが好ましい。多官能（メタ）アクリレートは、特に限定はなく、公知のものを使用することができる。例えば、１，２−エタンジオールジアクリレート、１，２−プロパンジオールジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，６−ヘキサンジオールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパンジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリス（２−アクリロイルオキシ）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジ（トリメチロールプロパン）テトラアクリレート、ジ（ペンタエリスリトール）ペンタアクリレート、ジ（ペンタエリスリトール）ヘキサアクリレート等の１分子中に２個以上の重合性２重結合を有する多官能（メタ）アクリレート等が挙げられる。また、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレート等も多官能アクリレートとして例示することができる。これらは単独で使用しても良いし、２種以上併用しても良い。  例えば、前述のポリイソシアネートを併用する場合には、ペンタエリスリトールトリアクリレートやジペンタエリスリトールペンタアクリレート等の水酸基を有するアクリレートが好ましい。また、架橋密度をより高めるために、ジ（ペンタエリスリトール）ペンタアクリレート、ジ（ペンタエリスリトール）ヘキサアクリレート等の特に官能基数の高い（メタ）アクリレートを使用することも有効である。
【０１２１】
また、前記多官能（メタ）アクリレートに併用して、単官能（メタ）アクリレートを併用することもできる。例えば、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ヒドロキシ（メタ）アクリレート（例えばダイセル化学工業（株）製商品名「プラクセル」）、フタル酸とプロピレングリコールとから得られるポリエステルジオールのモノ（メタ）アクリレート、コハク酸とプロピレングリコールとから得られるポリエステルジオールのモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイルオキシプロピル（メタ）アクリレート、各種エポキシエステルの（メタ）アクリル酸付加物、等の水酸基含有（メタ）アクリル酸エステル；（メタ）アクリル酸、クロトン酸、イタコン酸、マレイン酸、フマル酸、などのカルボキシル基含有ビニル単量体；ビニルスルホン酸、スチレンスルホン酸、スルホエチル（メタ）アクリレートなどのスルホン酸基含有ビニル単量体；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルアシッドホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシプロピルアシッドホスフェート、２−（メタ）アクリロイルオキシ−３−クロロ−プロピルアシッドホスフェート、２−メタクリロイルオキシエチルフェニルりん酸などの酸性りん酸エステル系ビニル単量体；Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミドなどのメチロール基を有するビニル単量体等を挙げることができる。これらは１種又は２種以上を用いることができる。
【０１２２】
前記多官能アクリレートを用いる場合の使用量としては、前記無機微粒子複合体（Ｍ）の全固形分量に対して１〜８５質量％が好ましく、５〜８０質量％がより好ましい。前記多官能アクリレートを前記範囲内で使用することによって、得られる層の硬度等の物性を改善することができる。
【０１２３】
また、複合樹脂（Ａ）がエポキシ基を含有する場合、エポキシ樹脂用の公知の硬化剤を用いることができ、例えばフェノールノボラック樹脂、クレゾールノボラック樹脂、芳香族炭化水素ホルムアルデヒド樹脂変性フェノール樹脂、ジシクロペンタジエンフェノール付加型樹脂、フェノールアラルキル樹脂（ザイロック樹脂）、ナフトールアラルキル樹脂、トリメチロールメタン樹脂、テトラフェニロールエタン樹脂、ナフトールノボラック樹脂、ナフトール−フェノール共縮ノボラック樹脂、ナフトール−クレゾール共縮ノボラック樹脂、ビフェニル変性フェノール樹脂（ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価フェノール化合物）、ビフェニル変性ナフトール樹脂（ビスメチレン基でフェノール核が連結された多価ナフトール化合物）、アミノトリアジン変性フェノール樹脂（メラミン、ベンゾグアナミンなどでフェノール核が連結された多価フェノール化合物）やアルコキシ基含有芳香環変性ノボラック樹脂（ホルムアルデヒドでフェノール核及びアルコキシ基含有芳香環が連結された多価フェノール化合物）等のフェノール系化合物；無水フタル酸、無水トリメリット酸、無水ピロメリット酸、無水マレイン酸、テトラヒドロ無水フタル酸、メチルテトラヒドロ無水フタル酸、無水メチルナジック酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、メチルヘキサヒドロ無水フタル酸等の酸無水物系化合物；ジシアンジアミド、リノレン酸の２量体とエチレンジアミンとより合成されるポリアミド樹脂等のアミド系化合物；ジアミノジフェニルメタン、ジエチレントリアミン、トリエチレンテトラミン、ジアミノジフェニルスルホン、イソホロンジアミン、イミダゾ−ル、ＢＦ３−アミン錯体、グアニジン誘導体等のアミン系化合物等が挙げられる。
【０１２４】
また必要に応じて上記反応性化合物に加え、硬化促進剤を適宜併用することもできる。硬化促進剤としては種々のものが使用できるが、例えば、リン系化合物、第３級アミン、イミダゾール、有機酸金属塩、ルイス酸、アミン錯塩等が挙げられる。特に硬化性、耐熱性、電気特性、耐湿信頼性等に優れる点から、イミダゾール化合物では２−エチル−４−メチルイミダゾール、リン系化合物ではトリフェニルフォスフィン、第３級アミンでは１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−ウンデセン（ＤＢＵ）が好ましい。
【０１２５】
一方、活性エネルギー線硬化と熱硬化を併用させる場合には、組成物中の重合性二重結合反応と、熱硬化性反応基の反応温度、反応時間等を考慮して、各々の触媒を選択することが好ましい。また、熱硬化性樹脂を併用することも可能である。熱硬化性樹脂としては、ビニル系樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、エポキシエステル樹脂、アクリル樹脂、フェノール樹脂、石油樹脂、ケトン樹脂、シリコン樹脂あるいはこれらの変性樹脂等が挙げられる。
【０１２６】
前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物は、上記無機微粒子複合体（Ｍ）のほかに、粘度を調整する目的として有機溶剤を含有するものであってもよい。
【０１２７】
有機溶剤としては、例えば、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、シクロヘキサン、シクロペンタン等の脂肪族系又は脂環族系の炭化水素類；トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素類；メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール、エチレングルコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングルコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、メチルｎ−アミルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジブチルエーテル等のポリアルキレングリコールジアルキルエーテル類；１，２−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド又はエチレンカーボネートを単独で使用又は２種以上を併用して使用することができる。
【０１２８】
前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物は、必要に応じて無機顔料、有機顔料、体質顔料、粘土鉱物、ワックス、界面活性剤、安定剤、流動調整剤、染料、レベリング剤、レオロジーコントロール剤、消泡剤、酸化防止剤、又は可塑剤等の種々の添加剤等を使用することもできる。
【０１２９】
前記レベリング剤とは、硬化反応に直接寄与しない液状有機ポリマーであり、例えば、カルボキシル基含有ポリマー変性物（フローレンＧ−９００、ＮＣ−５００：共栄社）、アクリルポリマー（フローレンＷＫ−２０：共栄社）、特殊変性燐酸エステルのアミン塩（ＨＩＰＬＡＡＤ  ＥＤ−２５１：楠本化成）、変性アクリル系ブロック共重合物（ＤＩＳＰＥＲＢＹＫ２０００；ビックケミー）などが挙げられる。
【０１３０】
次に、本発明の光学フィルムを構成する反射低減層（Ｙ）について説明する。
【０１３１】
本発明の光学フィルムは、情報表示装置の情報表示部の表面で太陽光等が反射することによる映像等の視認性の低下を防止するうえで、反射低減層（Ｙ）を有する。
【０１３２】
前記反射低減層（Ｙ）は、いわゆる低屈折率層（ｂ１）単独によって構成されていてもよく、高屈折率層（ｂ２）と低屈折率層（ｂ１）とが積層されたものであってもよく、中屈折率層と高屈折率層（ｂ２）と低屈折率層（ｂ１）とが積層されたものによって構成されていてもよい。
【０１３３】
前記低屈折率層（ｂ１）は、１．２０〜１．４５の範囲の屈折率を有するものであることが好ましく、１．２３〜１．４２の屈折率を有するものであることがより好ましい。
【０１３４】
前記高屈折率層（ｂ２）は、１．５５〜２．００の屈折率を有するものであることが好ましく、１．６０〜１．８０の屈折率を有するものであることがより好ましい。
【０１３５】
前記中屈折率層は、前記低屈折率層（ｂ１）が有する屈折率と、前記高屈折率層（ｂ２）が有する屈折率との中間の屈折率を有するものを使用することが好ましい。
【０１３６】
前記反射低減層（Ｙ）は、反射低減層（Ｙ）形成用組成物を塗布し、乾燥等することによって形成することができる。
【０１３７】
前記反射低減層（Ｙ）形成用組成物としは、例えば前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物、前記高屈折率層（ｂ２）形成用組成物等を使用することができる。
【０１３８】
前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物としては、例えばフィラー及びバインダーを含有するものを使用することができる。
【０１３９】
前記フィラーとしては、例えば空隙を有する粒子、金属フッ化物からなる粒子等を含有するものを使用することができる。
【０１４０】
前記空隙を有する粒子としては、気体を内部に含む多孔質構造のもの等を使用することができる。具体的には、前記空隙を有する粒子としては、中空シリカ粒子、ナノポーラス構造を有するシリカ粒子等が挙げられる。
【０１４１】
また、前記金属フッ化物からなる粒子としては、フッ化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウム等からなる粒子を使用することができる。
【０１４２】
また、前記フィラーとしては、有機化合物等によって修飾されたものを使用することもできる。具体的には、前記修飾されたフィラーとしては、前記修飾されていない粒子の存在下で、架橋性モノマーまたはそのオリゴマー等を重合して得られるもの等を使用することができる。前記フィラーは、１種または２種以上を組み合わせ使用することができる。また、前記フィラーは、結晶性のもの、ゾル状のもの、ゲル状のもののいずれのものも用いることができる。
【０１４３】
前記フィラーとしては、中空シリカ粒子を使用することが好ましい。
【０１４４】
前記中空シリカ粒子の形状は、球状、鎖状、針状、板状、鱗片状、棒状、繊維状、不定形状のいずれであってもよい。なかでも、前記中空シリカ粒子としては、球状または針状のものを使用することが好ましい。
【０１４５】
前記中空シリカ粒子の平均粒子径は、その形状が球状の場合、５ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましく、２０ｎｍ〜８０ｎｍであることがより好ましく、４０ｎｍ〜７０ｎｍであることが、低屈折率と優れた透明性とを両立できるためさらに好ましい。
【０１４６】
前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物に使用可能な前記バインダーとしては、例えば重合性不飽和二重結合を有する化合物等の活性エネルギー線硬化型化合物を使用することができる。
【０１４７】
前記重合性不飽和二重結合としては、具体的にはアクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基が挙げられ、アクリロイル基、メタクリロイル基であることが好ましい。
【０１４８】
前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、例えばエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキサイド変性（ＰＯ変性）トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、１，３，５−シクロヘキサントリオールトリ（メタ）アクリレート、等のポリオールポリ（メタ）アクリレート、アクリル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、及び、それらの一部が重合し形成したオリゴマーを使用することができる。
【０１４９】
なかでも、前記活性エネルギー線硬化型化合物としては、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタンアクリレートを使用することが、透光性や、外観品質に優れた反射防止フィルム等の光学フィルムを得るうえで好ましい。
【０１５０】
前記活性エネルギー線硬化型化合物は、前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物の固形分の全量に対して、５質量％〜９５質量％の範囲で含まれることが好ましい。
【０１５１】
また、前記バインダーとしては、フッ素系重合体、ケイ素系重合体等を使用することもできる。
【０１５２】
前記フッ素系重合体としては、例えばフッ化ビニリデンやヘキサフルオロプロピレン等の単量体を重合して得られるものを使用することができる。
【０１５３】
前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物としては、前記した成分の他に、必要に応じて、公知のシリコーン系防汚剤、フッ素系防汚剤、滑り剤等を含有するものを使用することができる。
【０１５４】
前記低屈折率層（ｂ１）の厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、５０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲にあることがより好ましく、８０ｎｍ〜１２０ｎｍの範囲にあることが、外観品質に優れ、反射防止性に優れた反射防止フィルム等の光学フィルムを得るうえで好ましい。
【０１５５】
また、前記高屈折率層（ｂ２）は、高屈折率層（ｂ２）形成用組成物を用いることによって形成することができる。
【０１５６】
前記高屈折率層（ｂ２）形成用組成物としては、重合性不飽和二重結合を有する化合物と、必要に応じて高屈折率の無機粒子とを含有するものを使用することができる。
【０１５７】
前記重合性不飽和二重結合を有する化合物としては、前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物で使用可能なものとして例示した活性エネルギー線硬化型化合物と同様のものを使用することができる。
【０１５８】
前記高屈折率の無機粒子としては、１．６５〜２．００の屈折率を有するものを使用することが好ましく、例えば、屈折率１．９０である酸化亜鉛、屈折率２．３〜２．７であるチタニア、屈折率が１．９５であるセリア、屈折率１．９５〜２．００である錫ドープ酸化インジウム、屈折率１．７５〜１．８５であるアンチモンドープ酸化錫、屈折率１．８７であるイットリア、屈折率２．１０であるジルコニア等を、単独または２種以上を組み合わせ使用することができる。
【０１５９】
前記高屈折率層（ｂ２）の厚さは、１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることが好ましく、３０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。
【０１６０】
前記低屈折率層（ｂ１）や前記高屈折率層（ｂ２）等を含む反射低減層（Ｙ）の厚さは、８０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲にあることが好ましく、８０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にあることがより好ましい。
【０１６１】
次に、本発明の光学フィルムを構成する基材について説明する。
【０１６２】
前記基材としては、光学用途で使用可能なレベルの透明性を備えたものを使用することができる。
【０１６３】
前記基材としては、例えばポリエチレンテレフタレート基材、ポリエチレンナフタレート基材等のポリエステル基材、トリアセチルセルロース等のセルロース系基材、ポリエチレン基材、ポリプロピレン基材、ポリスチレン基材、エチレン−酢酸ビニル樹脂（ＥＶＡ）基材、ポリ塩化ビニル基材、ポリ塩化ビニリデン基材等のビニル系樹脂基材、ポリサルホン基材、ポリエーテルサルホン基材、ポリカーボネート基材、ポリアミド基材、ポリイミド基材、アクリル樹脂基材等のプラスチック基材、ガラス板、セラミック板等を用いることができる。
【０１６４】
なかでも、前記基材としては、ポリエチレンテレフタレート基材、トリアセチルセルロース基材等を使用することが好ましい。
【０１６５】
前記基材としては、前記したとおり、高透明性のものを使用することが好ましく、具体的には、その全可視光線透過率が７０％以上であるものを使用することが好ましい。なお、前記基材としては、良好な透明性を維持可能な範囲で着色されたものを使用することもできる。
【０１６６】
前記基材としては、優れた透明性と、良好な取扱性とを両立するうえで５μｍ〜３００μｍの厚さのものを使用することが好ましく、１０μｍ〜２５０μｍの厚さのものを使用することがより好ましく、２５μｍ〜２００μｍの厚さのものを使用することがさらに好ましい。
【０１６７】
また、前記基材としては、単一の層からなる基材を使用することもできるが、同一または異なる材料からなる２層以上からなる多層基材を使用することもできる。前記基材の表面は、平滑面であることが好ましい。
【０１６８】
また、前記基材としては、前記樹脂層（Ｘ）との密着性をより一層向上させるうえで、その片面または両面に易接着処理の施されたものを使用することができる。前記易接着処理方法としては、例えば前記基材の片面または両面にプライマー層を設ける方法が挙げられる。
【０１６９】
次に、本発明の光学フィルムの製造方法について説明する。
【０１７０】
本発明の光学フィルムは、例えば前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物を塗布及び乾燥した後、活性エネルギー線を照射し反応させることによって樹脂層（Ｘ）または半硬化の樹脂層（Ａ’）を形成する工程［１］、前記樹脂層（Ｘ）または前記樹脂層（Ａ’）の表面に、反射低減層（Ｙ）形成用組成物を塗布及び乾燥した後、活性エネルギー線を照射し反応させることによって反射低減層（Ｙ）を形成する工程［２］を経ることによって製造することができる。
【０１７１】
前記工程［１］は、前記基材の少なくとも片面に、前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物を塗布し、前記重合性不飽和二重結合の実質的にすべてを重合させることによって樹脂層（Ｘ）を形成、または、その一部を重合させることによって半硬化の樹脂層（Ａ’）を形成する工程である。
【０１７２】
前記基材の片面または両面に、前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物を塗布する方法としては、例えばダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。
【０１７３】
前記方法で塗布することによって形成された層に含まれる重合性不飽和二重結合の一部または全部を重合させる方法としては、例えば、紫外線、電子線、α線、β線、γ線のような活性エネルギー線を照射する方法が挙げられる。
【０１７４】
前記活性エネルギー線を照射する装置としては、例えば紫外線であれば、その発生源として低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、無電極ランプ（フュージョンランプ）、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、水銀−キセノンランプ、ショートアーク灯、ヘリウム・カドミニウムレーザー、アルゴンレーザー、太陽光、ＬＥＤ等が挙げられる。
【０１７５】
前記活性エネルギー線の照射強度は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２〜７００ｍＪ／ｃｍ２であることがより好ましい。
【０１７６】
前記工程［１］を経ることによって形成された半硬化状態の樹脂層（Ａ’）は、前記重合性不飽和二重結合の一部が残存した層である。かかる重合性不飽和二重結合の大部分は、後述する工程［２］でラジカル重合し消費される。
【０１７７】
また、前記樹脂層（Ｘ）形成用組成物として、前記硬化剤を含有するものを使用した場合、活性エネルギー線の照射前、照射と同時、または、照射後に、必要に応じて加熱等することによって、前記硬化剤と、複合樹脂（Ａ１）との反応を進行させることができる。前記加熱は、例えば活性エネルギー線の照射後、８０℃程度で２０分〜４時間程度行ってもよい。前記硬化剤と複合樹脂（Ａ１）との反応が、前記硬化剤が有していてもよいイソシアネート基と、複合樹脂（Ａ１）が有していてもよいアルコール性水酸基との反応である場合、必要に応じてウレタン化触媒を使用してもよい。また、前記反応は、必ずしも加熱を必要とするものではなく、例えば室温環境下に一定期間放置することによって徐々に進行させてもよい。
【０１７８】
前記工程［２］は、前記工程［１］で形成された、基材の少なくとも片面に設けられた前記樹脂層（Ａ’）または樹脂層（Ｘ）の表面に、前記反射低減層（Ｙ）形成用組成物を塗布し乾燥した後、活性エネルギー線を照射し反応させることによって反射低減層（Ｙ）を形成する工程である。
【０１７９】
また、前記反射低減層（Ｙ）形成用組成物を塗布する方法としては、例えばダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられ、ダイコーターを用いる方法が好ましい。
【０１８０】
前記樹脂層（Ａ’）と前記反射低減層（Ｙ）との密着性をより一層向上させる方法としては、前記樹脂層（Ａ’）の表面を、予めサンドブラスト法や溶剤処理法等で、その表面を凹凸化処理、コロナ放電処理、クロム酸処理、火炎処理、熱風処理、オゾン処理、紫外線照射処理、酸化処理する方法が挙げられる。
【０１８１】
前記工程［２］において、活性エネルギー線を照射する方法等としては、前記樹脂層（Ｘ）を形成する際に使用可能なものとして例示した線種及び装置と同様のものを用い、同様の方法で行うことができる。
【０１８２】
ここで、前記工程［１］において樹脂層（Ｘ）が形成された場合、工程［２］での活性エネルギー線照射によって反射低減層（Ｙ）形成用組成物の塗布層が硬化し反射低減層（Ｙ）が形成される。また、前記工程［１］において半硬化状態の樹脂層（Ａ’）が形成された場合、工程［２］での活性エネルギー線照射によって反射低減層（Ｙ）形成用組成物の塗布層が硬化し反射低減層（Ｙ）が形成されるとともに、前記樹脂層（Ａ’）中に残存する重合性不飽和二重結合もまた重合し樹脂層（Ｘ）を形成する。かかる方法を採用することによって、前記樹脂層（Ｘ）及び反射低減層（Ｙ）の層間の密着性を格段に向上させることができる。
【０１８３】
前記活性エネルギー線の照射強度は、１００ｍＪ／ｃｍ２〜８００ｍＪ／ｃｍ２であることが好ましく、３００ｍＪ／ｃｍ２〜７００ｍＪ／ｃｍ２であることが樹脂層（Ａ’）に残存する重合性不飽和二重結合の大部分または全部がラジカル重合する点でより好ましい。
【０１８４】
また、前記反射低減層（Ｙ）として高屈折率層（ｂ２）と低屈折率層（ｂ１）とが積層された構成を有する光学フィルムを製造する場合には、前記工程［２］として、前記樹脂層（Ｘ）または前記樹脂層（Ａ’）の表面に、高屈折率層（ｂ２）形成用組成物を塗布及び乾燥し、必要に応じて活性エネルギー線を照射した後、前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物を塗布及び乾燥し、活性エネルギー線を照射することによって、前記樹脂層（Ｘ）の表面に高屈折率層（ｂ２）及び低屈折率層（ｂ１）が順に積層された反射低減層（Ｙ）を形成する工程を経ることが好ましい。
【０１８５】
前記高屈折率層（ｂ２）の表面に、前記低屈折率層（ｂ１）形成用組成物を塗布等する方法としては、例えばダイコーター、カーテンフローコーター、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、スピンコーター等を用いる方法が挙げられる。
【０１８６】
前記製造方法により製造された光学フィルムの視感度反射率は、２．０％以下であることが好ましく、１．５％以下であることがより好ましく、１．０％以下であることがさらに好ましい。
【０１８７】
前記方法で得られた本発明の光学フィルムの具体的な実施態様としては、例えば図１に示すように、基材１２と樹脂層（Ｘ）１１と低屈折率層１０からなる反射低減層が積層された光学フィルム１３が挙げられる。また、本発明の光学フィルムの具体的な実施態様としては、例えば図２に示すように基材１２と樹脂層（Ｘ）１１と、高屈折率層１４と低屈折率層１０からなる反射低減層とが積層された光学フィルム１５が挙げられる。
【０１８８】
前記製造方法により製造された光学フィルムは、必要に応じて、その片面または両面に、加飾層、粘着剤、電磁波シールド層、赤外線吸収層、紫外線吸収層、色補正層等の各種機能層を有していてもよい。
【０１８９】
前記機能層は、単層であっても複数の層であってもよい。例えば、機能層は、単層で複数の性能を有するものであってもよい。例えば、防汚性能と赤外線吸収性能とを備えた単層であってもよい。
【０１９０】
前記光学フィルムは、前記したとおり、その片面または両面の一部または全部に、加飾層や粘着剤層を有していてもよい。前記加飾層が一部または全部に設けられた反射防止フィルムは、加飾フィルムとして使用することができる。また、前記粘着剤層が一部または全部に設けられた反射防止フィルムは、保護フィルムとして使用することができる。
【０１９１】
前記加飾層としては、例えば文字、図形、記号をはじめ、隠ぺい用の額縁状の縁取りなどによって構成されるものが挙げられる。
【実施例】
【０１９２】
実施例により本発明をより具体的に説明する。
【０１９３】
実施例において、数平均分子量は、ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）法により、以下の条件で測定した値を用いるものとする。
(ａ)装置 ： ゲル浸透クロマトグラフ ＧＣＰ−２４４（ＷＡＴＥＲＳ社製）
(ｂ)カラム ： Ｓｈｏｄｅｘ ＨＦＩＰ ８０Ｍ ２本（昭和電工（株）製）
(ｃ)溶媒 ： ジメチルホルムアミド
(ｄ)流速 ： ０．５ｍｌ／ｍｉｎ
(ｅ)温度 ： ２３℃
(ｆ)試料濃度：０．１質量％ 溶解度：完全溶解 ろ過：マイショリディスク Ｗ−１３−５
(ｇ)注入量 ： ０．３００ｍｌ
(ｈ)検出器 ： Ｒ−４０１型示差屈折率器（ＷＡＴＥＲＳ）
(ｉ)分子量校正： ポリスチレン（標準品）
【０１９４】
また、実施例において、ビニル系重合体セグメントの水酸基価（ＯＨｖ）の測定は、ＪＩＳ−Ｋ００７０に準拠し測定した。得られた値は樹脂溶液のビニル重合体濃度を考慮し固形分における値を見積もった。
【０１９５】
また、実施例において、用いる配合物の略称は、以下の表１〜３の通りである。
【０１９６】
【表１】
2016114919.tif 000008
【０１９７】
【表２】
2016114919.tif 000009
【０１９８】
【表３】
2016114919.tif 000010
【０１９９】
ポリシロキサンセグメント前駆体の合成
＜合成例１＞  ポリシロキサンセグメント前駆体（ａ１−１）の合成
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた反応容器に、ＭＴＭ
Ｓ  ４１５質量部、ＭＰＴＳ  ７５６質量部を仕込んで、窒素ガスの通気下、攪拌しながら、６０℃まで昇温した。次いで、ＰｈｏｓｌｅｘＡ−４  ０．１質量部と脱イオン水  １２１質量部からなる混合物を５分間で滴下した。滴下終了後、反応容器中を８０℃まで昇温し、４時間攪拌することにより加水分解縮合反応を行い、反応生成物を得た。
【０２００】
得られた反応生成物中に含まれるメタノールおよび水を、１〜３０キロパスカル（ｋＰａ）の減圧下、４０〜６０℃の条件で除去することにより、数平均分子量が１０００であるポリシロキサンセグメント前駆体（ａ１−１）１０００質量部を得た。
【０２０１】
＜合成例２＞  〔ビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−１）の調製例〕
攪拌機、温度計、滴下ロート、冷却管及び窒素ガス導入口を備えた反応容器に、シラン化合物としてＰＴＭＳ  ２０．１質量部、ＤＭＤＭＳ  ２４．４質量部、溶剤としてＭＩＢＫ  １０７．７質量部を仕込み、窒素ガスの通気下、攪拌しながら、９５℃まで昇温した。
【０２０２】
次に、ＡＡ  １．５質量部、ＢＡ  １．５質量部、ＭＭＡ  ３０．６質量部、ＣＨＭＡ  ７５質量部、ＨＥＭＡ  ７．５質量部、ＭＰＴＳ  ４．５質量部、ＴＢＰＥＨ  ６．８質量部、ＭＩＢＫ  １５質量部を含有する混合物を、同温度で、窒素ガスの通気下、攪拌しながら、前記反応容器中へ４時間で滴下した後、さらに同温度で２時間撹拌し、数平均分子量が６８００、水酸基価（ＯＨｖ）が２１．６ｍｇＫＯＨ／ｇであるビニル系重合体を含有する反応液を得た。前記反応容器中に、ＰｈｏｓｌｅｘＡ−４  ０．０６質量部と脱イオン水  １２．８質量部の混合物を、５分間をかけて滴下し、同温度で５時間攪拌することにより、シラン化合物の加水分解縮合反応を進行させた。反応生成物を、1Ｈ−ＮＭＲで分析したところ、前記反応容器中のシランモノマーが有するトリメトキシシリル基のほぼ１００％が加水分解していた。次いで、同温度にて１０時間攪拌することにより、ＴＢＰＥＨの残存量が０．１質量％以下である、ビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−１）を得た。尚、ＴＢＰＥＨの残存量は、ヨウ素滴定法により測定した。
【０２０３】
＜合成例３、４、５、６＞ビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−２）、（ａ２−３）、（ａ２−４）、（ａ２−５）の合成
ビニル基含有モノマー等の配合を下記表４に記載の配合に変更すること以外は、合成例２と同様の方法でビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−２）、（ａ２−３）、（ａ２−４）、（ａ２−５）を得た。
【０２０４】
【表４】
2016114919.tif 000011
【０２０５】
＜調製例１＞  〔無機微粒子分散体（ａ３−１）の調製例〕
ＭＴＭＳ  ４１２．３質量部、ＭＰＴＳ  ７５１．９質量部、アエロジルＲ−７２００  １８３６質量部、ＰｈｏｓｌｅｘＡ−４  ０．９質量部、脱イオン水  １６３．７質量部、ＭＩＢＫ  １８３６質量部を配合し、寿工業（株）製のウルトラアペックスミル  ＵＡＭ０１５を用いて分散をおこなった。分散体を調製するにあたり、ミル内にメディアとして１００μｍ系のジルコニアビーズをミルの容積に対して７０％充填し、周速１０ｍ／ｓ、毎分１．５リットルの流量で配合物の循環粉砕を行った。前記循環粉砕を３０分間行うことによって、前記アエロジルＲ−７２００に含まれるシリカ微粒子が混合物中に分散した無機微粒子分散液（ａ３−１）を得た。
【０２０６】
＜調製例２＞  無機微粒子分散体（ａ３−２）の調製
組成を下記表５に記載の組成に変更したこと、及び、ウルトラアペックスミル  ＵＡＭ０１５をの代わりにプライミクス社製のロボミックスを使用したこと以外は、調製例１と同様の方法で無機微粒子分散体（ａ３−２）を得た。
【０２０７】
＜調製例３、４＞  無機微粒子分散体（ａ３−３）、（ａ３−４）の調製
組成を下記表５に記載の組成に変更したこと以外は、調製例１と同様の方法で無機微粒子分散体（ａ３−３）及び（ａ３−４）を得た。
【０２０８】
【表５】
2016114919.tif 000012
【０２０９】
無機微粒子複合体（Ｍ）の合成
＜合成例７＞  無機微粒子複合体（Ｍ−１）
ビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−１）３３６．８質量部に対し、無機微粒子分散体（ａ３−１）を８１７．２質量部添加して、５分間撹拌したのち、脱イオン水  ３１．６質量部を加え、８０℃で４時間撹拌を行うことによって、ビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−１）と前記シラン化合物との加水分解縮合反応を行った。得られた反応生成物を、１〜３０ｋＰａの減圧下で、４０〜６０℃の条件で２時間蒸留することにより、生成したメタノール及び水を除去した後、次いで、ＭＩＢＫ  １３４．４質量部、ＤＡＡ  ５５７．１質量部を添加することによって、無機微粒子であるシリカの含有量が５０質量％である無機微粒子複合体（Ｍ−１）溶液（固形分３４．２質量％）を得た。
【０２１０】
無機微粒子複合体（Ｍ）の合成
＜合成例８、９、１０＞  無機微粒子複合体（Ｍ−２）、（Ｍ−３）、（Ｍ−４）
組成を下記表６に記載の組成に変更したこと以外は、合成例１と同様の方法で無機微粒子複合体（Ｍ−１）、（Ｍ−２）及び（Ｍ−３）を得た。
【０２１１】
【表６】
2016114919.tif 000013
【０２１２】
（調製例５  樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）の調製）
合成例１で得られた無機微粒子複合体（Ｍ−１）１０２．３質量部、Ａ９３００  ３５質量部、Ｉｒｇ１８４  ２．８質量部、Ｔｉ４００  ２．８質量部、Ｔｉ１２３  ０．７質量部を混合することによって樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）を得た。
【０２１３】
（調製例６、７、８  樹脂層形成用組成物（Ｐ−２）、（Ｐ−３）、（Ｐ−４）の調製）
組成を下記表７に記載の組成に変更したこと以外は、合成例１と同様の方法で無機微粒子複合体（Ｍ−１）、（Ｍ−２）及び（Ｍ−３）を得た。
【０２１４】
【表７】
2016114919.tif 000014
【０２１５】
＜比較合成例１＞  比較例用複合樹脂（Ａ−１）の合成
合成例１と同様の装置に、ポリシロキサンセグメント前駆体（ａ１−１）１７８．８質量部、ビニル系重合体セグメント前駆体（ａ２−５）を３７１．２質量部を添加し、５分間攪拌したのち、脱イオン水  ４１．０質量部を加え、８０℃で４時間攪拌を行い、前記反応生成物とポリシロキサンの加水分解縮合反応を行った。得られた反応生成物を、１０〜３００ｋＰａの減圧下で、４０〜６０℃の条件で２時間蒸留することにより、生成したメタノール及び水を除去し、次いで、ＭＩＢＫ  １９５．０質量部を添加することによって、不揮発分が４５．１質量％である複合樹脂（Ａ−１）６００質量部を得た。
【０２１６】
（調製例９  硬化性樹脂組成物（比Ｐ−１）の調製）
比較合成例１で得られた複合樹脂（Ａ−１）１００質量部、Ａ９３００  ３５質量部、Ｉｒｇ１８４  ２．８質量部、Ｔｉ４００  ２．８質量部、Ｔｉ１２３  ０．７質量部を混合することによって樹脂層形成用組成物（比Ｐ−１）を得た。
【０２１７】
（調製例１０  比較用樹脂層形成用組成物（比Ｐ−２）の調製）
ユニディック  １７−８１３（ＤＩＣ株式会社製、多官能ウレタンアクリレート、不揮発分８０質量％）３９質量部、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（東亞合成株式会社製、アロニックス  Ｍ４０２）３１質量部、光重合開始剤としてイルガキュア１８４（ＢＡＳＦ社製、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン）４質量部、及び、有機溶媒として酢酸エチル２６質量部を混合することによって組成物（比Ｐ−２）を得た。
【０２１８】
（実施例１）
樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）をＭＩＢＫと混合しその固形分を４５質量％に調整した後、  Ｕ４８−１００（東レ株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）からなる基材の片面に、乾燥後の厚さが５μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で４分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０２１９】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、空気中でＵＶ強度が５５０ｍＷ／ｃｍ２、ＵＶ積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の一部が重合した樹脂層（Ｘ’−１）を形成した。
【０２２０】
次に、前記樹脂層（Ｘ’−１）上に、「Ｐ−５０６２」（日揮触媒化成株式会社製、中空シリカ微粒子分散液、不揮発分３質量％）を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、バーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜（低屈折率層（Ｙ−１））を形成した。
【０２２１】
次に、前記塗膜（低屈折率層（Ｙ−１））の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、窒素雰囲気下で照射量４００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の全部または大部分が重合した前記樹脂層（Ｘ−１）と、その表面に低屈折率層（Ｙ−１）とが積層した反射防止フィルムを得た。
【０２２２】
（実施例２）
樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）をＭＩＢＫと混合しその固形分を４５質量％に調整した後、  Ｕ４８−１００（東レ株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）からなる基材の片面に、乾燥後の厚さが５μｍになるようにバーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で４分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０２２３】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、酸素雰囲気下でＵＶ強度が５５０ｍＷ／ｃｍ２、ＵＶ積算光量が１０００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の一部が重合した樹脂層（Ｘ’−１）を形成した。
【０２２４】
次に、前記樹脂層（Ｘ’−１）上に、高屈折率層形成用組成物として「ＤＸ−１０５７ＺＲＣ」（日揮触媒化成株式会社製、ジルコニア微粒子分散液、不揮発分３質量％）を乾燥後の厚さが０．１５μｍになるように、バーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜を形成した。
【０２２５】
次に、前記塗膜の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、空気中で照射量６００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記塗膜に含まれる（メタ）アクリロイル基の全部または大部分が重合した前記樹脂層（Ｘ−１）と、その表面に高屈折率層（Ｚ−１）を形成した。
【０２２６】
次に、前記高屈折率層（Ｚ−１）上に、「Ｐ−５０６２」（日揮触媒化成株式会社製、中空シリカ微粒子分散液、不揮発分３質量％）を乾燥後の厚さが０．１μｍになるように、バーコーターを用いて塗布し、温度８０℃の環境下で２分間乾燥することによって塗膜（低屈折率層（Ｙ−１））を形成した。
【０２２７】
次に、前記塗膜（低屈折率層（Ｙ−１））の表面に、ヒュージョン社製のＨバルブを使用し、窒素雰囲気下で照射量４００ｍＪ／ｃｍ２になるように、紫外線照射を行うことによって、前記高屈折率層（Ｚ−１）上に低屈折率層（Ｙ−１）が積層した反射防止フィルムを得た。
【０２２８】
（実施例３）
Ｕ４８−１００（東レ株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）の代わりに、ＵＶＴＡＣ８０（富士フィルム社製、厚さ８０μｍ、高透明トリアセチルセルロース）を使用したこと以外は、実施例１と同様の方法で反射防止フィルムを得た。
【０２２９】
（実施例４）
Ｕ４８−１００（東レ株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）の代わりに、ＵＶＴＡＣ８０（富士フィルム社製、厚さ８０μｍ、高透明トリアセチルセルロース）を使用したこと以外は、実施例２と同様の方法で反射防止フィルムを得た。
【０２３０】
（実施例５〜８）
樹脂層（Ｘ）形成用組成物として、樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）の代わりに、樹脂層形成用組成物（Ｐ−２）を使用したこと以外は、実施例１〜４と同様の方法で反射防止フィルムをそれぞれ形成した。
【０２３１】
（実施例９〜１２）
樹脂層（Ｘ）形成用組成物として、樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）の代わりに、樹脂層形成用組成物（Ｐ−３）を使用したこと以外は、実施例１〜４と同様の方法で反射防止フィルムをそれぞれ形成した。
【０２３２】
（実施例１３〜１６）
樹脂層（Ｘ）形成用組成物として、樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）の代わりに、樹脂層形成用組成物（Ｐ−４）を使用したこと以外は、実施例１〜４と同様の方法で反射防止フィルムをそれぞれ形成した。
【０２３３】
（比較例１〜４）
樹脂層（Ｘ）形成用組成物として、樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）の代わりに、組成物（比Ｐ−１）を使用したこと以外は、実施例１〜４と同様の方法で反射防止フィルムをそれぞれ形成した。
【０２３４】
（比較例５〜８）
樹脂層（Ｘ）形成用組成物として、樹脂層形成用組成物（Ｐ−１）の代わりに、組成物（Ｐ−２）を使用したこと以外は、実施例１〜４と同様の方法で反射防止フィルムをそれぞれ形成した。
【０２３５】
〔鉛筆硬度の測定方法〕
前記反射防止フィルムを構成する反射低減層からなる面の鉛筆硬度を、ＪＩＳ  Ｋ−５４００に記載の方法に従い、７５０ｇ荷重下で測定した。前記鉛筆硬度の値から、下記の基準により、反射防止フィルムの表面硬度を評価した。
○：２Ｈ以上
△：Ｈ
×：Ｆ以下
【０２３６】
[耐候性試験]
反射防止フィルムの耐候性は、岩崎電気株式会社製の超促進耐候試験機スーパーＵＶテスター（ＳＵＶ）を使用して、４時間照射（照射硬度９０ｍＷ、ブラックパネル温度６３℃湿度７０％）と４時間暗黒（ブラックパネル温度６３℃湿度９０％）と４時間結露（ブラックパネル温度３０℃湿度９５％）の１２時間を１サイクルとし、１００サイクル行った後の、外観（目視評価、ヘイズ値変化）および密着性に基づいて評価した。目視での外観評価は、未暴露の試験体と、１００サイクル試験後の試験体の反射低減層側の外観を目視観察にて比較評価した。
【０２３７】
（クラック）
表面状態等に変化がないものを（○）
一部にクラックが発生しているが実用上問題ないものを（△）
全面にクラックが発生しているものを（×）
（黄変）
表面状態等に変化がないものを（○）
一部に黄変が発生しているが実用上問題ないものを（△）
全面に黄変が発生しているものを（×）
【０２３８】
〔耐候密着性試験〕
前記試験後の反射防止フィルムを構成する基材と樹脂層及び反射低減層との密着性を、以下の方法で評価した。
【０２３９】
前記試験後の反射防止フィルムの、反射低減層の表面に対し、１ｍｍ×１ｍｍの１００格子のクロスカット試験（ＪＩＳ Ｋ５６００）を行った。前記クロスカットした面にセロハン粘着テープを貼付し、それを剥離した際に、前記表面に残存する格子の数を算出し、下記の基準により密着性を評価した。
○：９５〜１００個
△：６０〜９４個
×：５９個以下
【０２４０】
［耐熱密着性試験］
反射防止フィルムを１１０℃の電気オーブン中で２４０時間加熱したのち、前記試験後の反射防止フィルムを構成する基材と樹脂層及び反射低減層との密着性を、前記耐候密着性試験と同様の方法で評価した。
【０２４１】
［耐水密着性試験]
得られた反射防止フィルムを、基材ごと６０℃の温水に２４０時間浸漬後、前記試験後の反射防止フィルムを構成する基材と樹脂層及び反射低減層との密着性を、前記耐候密着性試験と同様の方法で評価した。
【０２４２】
〔反射防止性の評価方法（視感度反射率に基づく評価方法）〕
分光光度計（日本分光株式会社製Ｖ−６５０）を用いて、波長３８０ｎｍ〜７８０ｎｍの範囲の光を分光し、それを反射防止フィルムに照射することによって、反射防止フィルムの分光反射率を測定した。波長５５０ｎｍの分光反射率を視感度反射率として表８〜１０に示した。視感度反射率が２％以下であれば、反射防止性能が十分得られていると判定した。
【０２４３】
【表８】
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【０２４４】
【表９】
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【０２４５】
【表１０】
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【０２４６】
表中の「ＰＥＴ」はＵ４８−１００（東レ株式会社製、厚さ１００μｍ、高透明ポリエチレンテレフタレートフィルム）を表し、表中の「ＴＡＣ」は、ＵＶＴＡＣ８０（富士フィルム社製、厚さ８０μｍ、高透明トリアセチルセルロース）を表す。
【符号の説明】
【０２４７】
１０ 低屈折率層
１１ 樹脂層
１２ 基材
１３ 光学フィルム
１４ 高屈折率層
１５ 光学フィルム
【図１】
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【図２】
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