(57)【要約】      （修正有）【課題】ホログラムが真正品であると、目視にて判定可能な偽造防止性を高めた、ホログラムシート及びホログラム付きカードを提供する。【解決手段】ホログラム形成層上にシート状薄膜光源層を設け、そのシート状薄膜光源層に所定の発光処置をしたときのみ、空間に所定の可視光波長のホログラムが浮き上がり、このことによって、通常は視認できないが、電圧を印加する等の処置により、所定の波長の発光を生じさせ、室内等の照明光源とは異なる波長でホログラム再生像を再生する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
シート基材の一方の面に、シート状薄膜光源層、ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層、及び、前記ホログラムレリーフを覆うように設けられた透明層がこの順序で設けられているホログラムシートであって、
前記透明層の表面に対する法線に対して、所定の角度を成して、
前記透明層側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率の大きさが、
前記所定の角度を成して、
前記透明樹脂層側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率の大きさより、小さいことを特徴とするホログラムシート。
【請求項２】
請求項1に記載のホログラムシートにおける、前記反射回折効率において、
前記所定の角度が０度である前記入射光に対する反射回折効率の大きさが、０．０１〜１．０％であることを特徴とするホログラムシート。
【請求項３】
請求項１、または、請求項２に記載のホログラムシートにおいて、前記シート状薄膜光源層の厚さは、０．０１μｍ〜２．０μｍであることを特徴とするホログラムシート。
【請求項４】
カード基材に、請求項１〜３の何れかに記載のホログラムシートが埋め込まれ、前記ホログラムシートの露出面が、前記カード基材の表面と面一、または、前記カード基材の表面から凹んだ位置にあることを特徴とするホログラム付きカード。
【請求項５】
請求項４に記載のホログラム付きカードにおいて、前記カード基材が、ＩＣ駆動用電池を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材であり、且つ、前記ＩＣ駆動用電池が、前記ホログラムシートの発光用電源をも兼ねていることを特徴とするホログラム付きカード。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、新規なホログラムシート、特に、シート基材、シート状薄膜光源層、ホログラムレリーフを有する透明樹脂層、及び、そのホログラムレリーフを覆うように設けた透明層の少なくとも、４層構成のホログラムシート（ハンドリング可能であれば、『シート基材』を含まない３層構成であってもよい。）、及び、そのホログラムシートをカード基材に埋め込んだホログラム付きカードに関する。
【０００２】
尚、本発明のホログラムシートに用いられる「シート基材」は、本発明のホログラムシートの用途によって、「透明性」を有する「シート基材」、または、「不透明性」を有する「シート基材」を用いることができ、このうち、「『不透明性』を有する『シート基材』」としては、例えば、可視領域の波長を有する照明光に対して、その透過率が３０％以下、特には、シート状薄膜光源層の発光する光に対する透過率が３０％以下である、「樹脂フィルムシート（樹脂そのものが不透明性を有するか、もしくは、樹脂材料に、二酸化チタン等の無機顔料を添加したもの等。）」や「無機材料シート（ガラス等の透明性を有する無機材料を除く。）」を採用することができるが、以下の説明においては、「『透明性』を有する『シート基材』」を「透明基材」と定めて、以下、この「透明基材」を使用する場合につき、詳述する。もちろん、以下の説明は、本発明のホログラムシートに、「『不透明性』を有する『シート基材』」を用いる場合においても、同様に適用できることは言うまでもない。
【０００３】
本発明のホログラムシートは、「位相ホログラム」を呈するレリーフホログラムの「ホログラムレリーフ」を照明する透過照明光を発する光源層としての「シート状薄膜光源層」を含み、その「シート状薄膜光源層内」に多数点在する「発光点」からの「発光」（所定の条件において発する。所定の波長を有し、球面波状の波面を持つ。）が、その「レリーフホログラム」に入射して、その「ホログラムレリーフ」に基づく、「所定の波長の光」による「レリーフホログラム再生像」を出現させる、自発光型のホログラムシート、及び、そのホログラムシートを、ＩＤカード等のカード類（『ＩＤ』とは、『Ｉｄｅｎｔｉｆｉｃａｔｉｏｎ：身分証明』を意味する。）や、ＩＣカード（『ＩＣ』とは、『Ｉｎｔｅｇｒａｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ：集積回路』を意味し、この『ＩＣ』を埋め込んだカードを『ＩＣカード』という。この『ＩＣカード』には、ＩＣタグも含まれる。）の「カード基材」に埋め込んだ「ホログラム付きカード」に関するものである。
【０００４】
さらに、そのホログラムシートの「シート面（表面）に対する法線」に対して、「所定の角度」を成して、その透明層側からホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率（以下、『所定の角度の所定の入射光に対する反射回折効率』、さらには、『所定の反射回折効率』とも略す。）と、
そのホログラムシートの「シート面に対する法線」に対して、その「所定の角度（前記の『所定の角度』とは『対頂角』の関係にある。法線に対する角度が同一と言う意味において、同一の表現である『所定の角度』を用いて表した。但し、その『進行方向』までをも考慮すると、この二つの『所定の角度』は、互いに異なり、先に示した『所定の角度』に対して、後に示した『所定の角度』とは、『先に示した角度と、１８０度、異なる角度』を意味する。つまり、『角度が同一で方向が互いに逆』となっている。）」を成して、その透明樹脂層側からホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率（以下、『所定の角度の所定の入射光に対する透過回折効率』、さらには、『所定の透過回折効率』とも略す。）との関係において、
その「所定の反射回折効率の大きさ」が、その「所定の透過回折効率の大きさ」より、『小さい』という特性を有する「ホログラムレリーフ」（全ての『所定の角度』範囲、すなわち、０度〜９０度の範囲において、常に『小さい』ことを意味する。）を設けたホログラムシートである。好適には、その比が、１／２〜１／１０００であり、特には、１／１０〜１／１００とする。
【０００５】
そして、その「所定の角度」とは、もちろん、レリーフホログラムを再生する照明光（レリーフホログラム記録時の『参照光』と同じ役割を持つ入射光という意味で、『参考光』とも称される。電子線描画記録の場合には、『（理論上の）想定される照明光（参照光）』ということになる。）と「同一の角度」を意味するが、本発明のホログラムシートにおいては、その角度以外の角度を「所定の角度」と設定しても、上記の関係を維持している（その『角度』を変化させても、その『大小関係』は変わらないという意味。）。
【０００６】
さらには、そのような「所定の角度」で入射する「照明光（想定される照明光を含む。）」の「設定波長」（『測定波長』ともいう。）として、上記した「シート状薄膜光源層内」からの「発光」の「波長」（『所定の波長』）と「同一の波長」を用いることが当然であるが、その「照明光の設定波長」（『測定波長』。）として、他の「可視光領域内の任意の波長」を採用してもよく、その場合においても、上記の大小関係を維持するように、本発明のホログラムシートを構成しておくことがより好ましい。
【０００７】
このような「ホログラムレリーフ」の特性は、以下に詳述するように、
「透明層の屈折率」、「透明樹脂層の屈折率」、及び、「ホログラムレリーフの『深さ』（特には、『最適深さ』に対する比率。）」によって定まる。
【０００８】
ここで、「透明層の透明樹脂層と接する側」、もしくは、「透明樹脂層の透明層と接する側」に、ＭｇＦ2（屈折率：１．３７）等の屈折率の低い透明化合物薄膜層を、その上下の界面での「反射防止機能」及び、その上下の界面の「屈折率安定化機能や光学的鏡面化機能」を付加した場合には、この「透明化合物薄膜層の屈折率」も重要な因子となる。（以下の説明においては、煩雑さを避けるため、このような『透明化合物薄膜層』については言及しないが、同様に適用可能であることはいうまでもない。）
そして、「『所定の反射回折効率』におけるその『最適深さ』」と、「『所定の透過回折効率』における『最適深さ』」は、異なる『深さの値』を持つことから、「『所定の透過回折効率』における『最適深さ』」に、より近い『深さ』であって、且つ、「『所定の反射回折効率』における『最適深さ』」からは、遠い「深さ」とする（二つの『最適深さ』の中間点より、『所定の透過回折効率における最適深さ』に近い『値』とするという意味。）。
【０００９】
また、上記した、いずれの「回折効率」も、その回折効率を測定する際の「測定用光源の発光波長」（上記した『測定波長』を意味する。）によってその値が変わるため（『測定用光源の発光波長』に対する『波長依存性』があるという意味。）、
さらには、上記した「最適深さ」も、その「『測定波長』に対応した『値』」、もしくは、「『その測定波長の整数倍』に対応した、飛び飛びの『値』」を持つという特徴を有するため（周期性があるという意味。）、
これらの「回折効率」を測定する測定用光源の波長（『測定波長』）として、「シート状薄膜光源層」内の所定の発光点から、所定波長を有し球面波状の波面を持って発する発光の、その「所定の波長」に合致（『同一』、もしくは、『その差が、３０ｎｍ以下』であることを意味する。）させて設定する。
【００１０】
但し、それら二つの「最適深さ」は互いに『理論的に相関』していて、個々に独立して設定することはできないため（すなわち、『一方の回折効率』の『最も大きくなる、最適深さ』が、単純に、『他方の回折効率』が、『最も小さくなる、深さ』とはならないことを意味する。）、「所定の透過回折効率」が比較的大きくなると同時に、「所定の反射回折効率」が比較的小さくなる「深さ」に設定する。
【００１１】
そして、このような「深さ」の設定は、例えば、フォトレジストや、電子線レジストに、「ホログラムレリーフ」を光学的記録手法、もしくは、電子線描画記録手法などで記録する際の諸条件（レジスト形成条件や、露光強度など。）や、現像処理を施す際の諸条件（現像処理液の種類、その濃度、処理温度、処理時間、その他の処理環境など。）を調整することで、可能となる。
【００１２】
具体的には、上記した「最適深さ」を得るための「諸条件」に対して、一つ以上の「条件」を、「加減したり、過剰とする」ことで（例えば、『現像時間』を、所定時間より、短くしたり、長くしたりすることをいう。）、その調整ができる。
【００１３】
もちろん、その一例として挙げた「現像時間」においても、厳密にいえば、「現像時間―（レリーフ）深さ」相関曲線を描き、その相関曲線を読取って初めて、目的とする「（レリーフ）深さ」を得ることができるものである。
【００１４】
すなわち、「現像時間―（レリーフ）深さ」相関は、現像開始からある時間ｔまでは、直線的な相関、もしくは、指数関数的な相関を示し、その「深さ」が急激に変化するが、その時間ｔを超えると、「深さ」の変化率が急激に小さくなるという（その時間ｔが、いわゆる『現像処理時間』における『飽和時間』、もしくは、『標準処理時間』である。）、特徴ある相関曲線を描く。
【００１５】
従って、その他の諸条件を所定の値に設定（固定）した上で、その「現像時間―（レリーフ）深さ」相関曲線を予め描いておき、その「相関曲線」に基づいて、所望の「（ホログラムレリーフ）深さ」（所望の『所定の反射回折効率』及び『所定の透過回折効率』を得ることができる、所望の『ホログラムレリーフの深さ』を意味する。）を得るための「現像時間」を読取り、設定することとなる。
【００１６】
ここで、本発明の「ホログラムシート」における「ホログラムレリーフ」の「所定の反射回折効率」、及び、「所定の透過回折効率」につき、以下に詳述する。
【００１７】
まず、「透過層（屈折率ｎ１）／単純平面形状の界面／透明樹脂層（屈折率ｎ２）」の「単純２層積層体」を想定し、この「単純２層積層体」の積層面に垂直な「法線」に、平行で且つ「透明層」側から入射する測定光（１）を、「入射光（１）」（『所定の角度』＝法線に平行＝０度。）とし、同様に「法線」に、平行で且つ「透明樹脂層」側から入射する測定光（２）を「入射光（２）」（この『測定光（２）』は、法線に平行であっても、入射角度は『１８０度』と表すべきである。但し、『測定光（１）』及び『測定光（２）』のいずれも、『法線に平行』であるため、実質的に、『いずれの測定光も所定の角度で入射する』と表しても差し支えない。）とする。
【００１８】
もちろん、その「法線」に対して「所定の角度＝α度」で入射する測定光（α１）や、その測定個(α１)に平行で、且つ、「透明樹脂層」側から入射する測定光（α２）も同様に設定できる。
【００１９】
この「単純２層積層体」に対して、「入射光（１）」の「単純平面形状の界面」による「界面反射率Ｒ0」は、フレネルの公式より、Ｒ0＝（ｎ２−ｎ１）2／（ｎ１＋ｎ２）2である。（参考までに、このときの『入射光（１）』による『界面透過率は、（２×ｎ２）2／（ｎ１＋ｎ２）2』となっている。）
また、「単純２層積層体」に対しする「入射光（２）」の「単純平面形状の界面」による「界面透過率Ｔ0」は、やはり、フレネルの公式より、Ｔ0＝（２×ｎ１）2／（ｎ１＋ｎ２）2となる。
【００２０】
次に、本発明の「ホログラムシート」の一部構成である、「透過層（屈折率ｎ１）／界面が『ホログラムレリーフ』形状／透明樹脂層（屈折率ｎ２）」の「２層積層体」を想定する。
【００２１】
そして、この「２層積層体」に対しても、改めて、上記の「単純２層積層体」と同様に、「入射光（１）」、及び、「入射光（２）」を定め、さらに、この「２層積層体」に対する「入射光（１）」による「実質的な界面反射回折効率＝『所定の反射回折効率ＲDIF』」、及び、「入射光（２）」による「実質的な界面透過回折効率＝『所定の透過回折効率ＴDIF』」を定義する。
【００２２】
また、「ホログラムレリーフ」は、その「形状」によって定まる「反射回折効率Ｒ１００DIF」（界面反射率１００％と仮定。）、及び、「透過回折効率Ｔ１００DIF」（界面透過率１００％と仮定。）を有しているものとする。（このとき、『ホログラムレリーフ面』を『略平面』、もしくは、『微小平面を連続的に接続したもの』と見做し、その『略平面』や『微小平面』での界面反射率を１００％と仮定したり、界面透過率を１００％と仮定したもの。）
ここで、「ホログラムレリーフの深さ」を「ＤH1」とすると、このＲ１００DIFは、「ｎ１×ＤH1」をその変数（要素）とする関数となる。
【００２３】
すなわち、「ｎ１×ＤH1」の値のみで、Ｒ１００DIFが定まることから、Ｒ１００DIF＝Ｆ｛ｎ１×ＤH1｝と表される。
【００２４】
また、「ホログラムレリーフの深さ」を「ＤH2」とすると、このＴ１００DIFは、「（ｎ２−ｎ１）×ＤH2」をその変数（要素）とする関数となる。
【００２５】
すなわち、「（ｎ２−ｎ１）×ＤH2」の値のみで、Ｔ１００DIFが定まることから、Ｔ１００DIF＝Ｇ｛（ｎ２−ｎ１）×ＤH2｝と表される。
【００２６】
この際、当然に、「ＤH1」及び「ＤH2」のそれぞれの「最適値」は異なり、且つ、「ＤH1の最適値」＜＜「ＤH2の最適値」の関係が成り立つ。
【００２７】
しかしながら、本発明の「ホログラムシート」の「ホログラムレリーフ」の深さＤHは、上記した諸条件の設定によって、「一つの値」をとるため、「ＤH2の最適値」に設定すると、「ＤH1の最適値」からは「程遠い値」となり、「ＤH1の最適値」に設定すると、「ＤH2の最適値」からは「程遠い値」となってしまう。
【００２８】
そこで、本発明の「ホログラムシート」においては、「ホログラムレリーフ」の深さＤHを、「ＤH2の最適値」と「ＤH1の最適値」の中間より、やや「ＤH2の最適値」に近い値に設定することとなる。（ＤH＝ＤH1＋〈ＤH2−ＤH1〉×β：１／２＜β＜１）
いずれにしても、これらの「（変数）値」を用いれば、「２層積層体」の「ホログラムレリーフ」に基づく、この「２層積層体」に対する「入射光（１）」による「実質的な界面反射回折効率＝『所定の反射回折効率ＲDIF』」は、「界面反射率Ｒ0」と「反射回折効率Ｒ１００DIF」との「積」で表され、「ＲDIF＝Ｒ0×Ｒ１００DIF」となり、
同様に、この「２層積層体」に対する「入射光（２）」による「実質的な界面透過折効率＝『所定の透過回折効率ＴDIF』」は、「界面透過率Ｔ0」と「透過回折効率Ｔ１００DIF」との「積」で表され、「ＴDIF＝Ｔ0×Ｔ１００DIF」となる。
【００２９】
そして、本発明の「ホログラムシート」の「透明層の屈折率」、「透明樹脂層の屈折率」及び、「ホログラムレリーフ」の深さＤHをそれぞれ所望の「値」に設定することで、本発明の「ホログラムシート」において、「『所定の反射回折効率ＲDIF』＜『所定の透過回折効率ＴDIF』」を実現するものである（『透明基材』の屈折率はこの大小関係に対する影響が小さいため、説明から省いている。）。
【００３０】
以上の説明は、説明の簡略化のため、「『所定の角度』＝０度（もしくは、１８０度）」として説明したが、この「所定の角度＝α度」（０度＜α＜９０度）であっても、同様である。
【００３１】
そして、「ホログラムシート」を「カード基材」に埋め込む際の、その「ホログラムシート」の「カード基材」と接している面は、その「ホログラムシート」の「透明基材」の他方の面であってもよいし、または、その「ホログラムシート」の「透明層」の最表面であってもよい（後者の場合は、『カード基材』が透明性を有し、『カード基材』を通して、透過型位相ホログラムを観察することとなる。）。
【００３２】
さらには、「ホログラムシート」を「カード基材」に埋め込む際に、可能であれば、その「透明基材」を剥離して（除いて）、上記と同様に二つの態様で「カード基材」に埋め込んでもよいが、以下の説明においては、その代表的な構成となる、「『ホログラムシート』の『カード基材』と接している面が、『透明基材』の他方の面である場合」につき述べる。
【００３３】
本発明における「シート状薄膜光源層」とは、以下の「（１）〜（３）の光源層」の何れか、もしくは、その組み合わせをいう。
【００３４】
（１）「シート状薄膜光源層」に対する所定の光照射による、「光励起に起因する発光現象」（紫外線照射、可視光線照射、もしくは、赤外線照射等の『光照射』によって、蛍光発光、燐光発光、もしくは、蓄光発光する『発光現象』。以下、これらの『発光』を、総称して『蛍光発光』もしくは、『フォトルミネッセンス』ともいう。この『フォトルミネッセンス』には、いわゆる、『半導体』に、その『半導体の禁制帯よりも高いエネルギーを持つ光』を照射すると、その『半導体』が、その『光』を吸光し、熱平衡状態よりも過剰の『電子・正孔対』が形成されて、それらが平衡状態に戻ろうとするときの『再結合過程』において、その『半導体』から『所定波長の光』が放出される現象が含まれることはいうまでもない。）に基づいて、
その「光源層内」の「発光中心」（これが、『所定の発光点』となる。）を起点（原点）とする「球面波状の波面を持つ発光（以下、単に『球面波』とも略す。）」を、それぞれの発光中心に特有の波長（所定の波長。）を有して放出する、「シート状（比較的広い面積を有する状態を意味する。）」、且つ、「薄膜（数μｍ程度、もしくは、それ以下であって十ｎｍ以上の、『非常に薄く、且つ、均一な厚さ』を有する状態を意味する。）」の「光源層」である、「シート状薄膜蛍光層」。
【００３５】
特には、以下に詳述する「多重反射現象」、すなわち、その「シート状薄膜蛍光層」の上下の「面」が、「光学的な鏡面」を成しつつ、光の波長と同程度の距離を隔てて、平行に対峙することによる、「『励起光』や『発光した光』の、その上下の面の間で起こる『多重反射現象』」によって、やはり以下に詳述する「指向性を帯びた光の波」を発光することとなる、「シート状薄膜蛍光層」。
【００３６】
（２）「シート状薄膜光源層」に対する「所定の直流電圧印加、もしくは、交流電圧印加による、『電子／正孔（ホール）』再結合に起因する発光現象」（エレクトロルミネッセンス。以下、『ＥＬ』とも略す。）に基づいて、
その「光源層内」の「発光中心」（『電子』と『正孔（ホール）』の再結合点、すなわち、通常は『正孔』の位置であるが、この位置が『発光中心』であり、『所定の発光点』となる。）を起点（原点）とする「球面波状の波面を持つ発光（球面波）」を、それぞれの発光中心に特有の波長（所定の波長。）を有して放出する、「シート状（比較的広い面積を有する状態を意味する。）」、且つ、「薄膜（数μｍ程度、もしくは、それ以下であって数十ｎｍ以上の、『非常に薄く、且つ、均一な厚さ』を有する状態を意味する。）」の「光源層」である、「シート状薄膜ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）層」、「シート状薄膜無機ＥＬ層」、「シート状薄膜有機ＥＬ層」（この二つを総称して、『シート状薄膜ＥＬ層』ともいう。）、「シート状薄膜ディスクレーザー（薄膜面に垂直方向に発光するレーザー。）層」や、「シート状薄膜面発光レーザー（ＳＥＬ：Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ）層」。（ここで、『ディスクレーザー層』や『面発光レーザー層』は、それぞれ対向する２つの『反射層（少なくともその一つは、ハーフミラーである。）』の間を、『発光した光』が繰り返し通過することによる『誘導放出』現象により、既に、著しく高い指向性を有しているが、半導体ｐ型層と、半導体ｎ型層の間に挿入した『蛍光発光体を含有する層』や、（１）の『蛍光層』においては、上記の『レーザー層』ほどの繰返し通過を望めないまでも、類似の状態、すなわち、『それらの層が、２つの反射性を有する界面に挟まれる状態』が出現し、その『蛍光発光体を含有する層』内や、『蛍光層』内を、『励起光』、もしくは、『発した光そのもの』が、『光の速度』で繰り返し通過することによって生じる、いわゆる『誘導放出』現象が発生し、それらの『球面波』が変形して、所定の方向へ向かう『指向性を帯びた光の波』、もしくは、『楕円面波状の波面を持つ発光』（いずれも、球面波を、少しずつ方向が異なる微小面積の平面波の集合としたときに、所定の方向に向かう微小面積の平面波が最も大きな強度を有し、その方向とは異なる方向に向かう微小面積の平面波の強度が、その方向からの角度ずれの大きさに応じて小さくなっているもの。）』、さらには、『レーザー光のような比較的大きな面積を持つ平面波状の波面を持つ発光』となっている。
【００３７】
以下においては、その代表例である『指向性を帯びた光の波』を主体として説明する。その内容は、『楕円面波』や『平面波』に対しても、容易に適用可能である。）
（３）「シート状薄膜光源層」に対する「外力負荷」による「変形応力に起因する発光現象」（いわゆる『応力発光：機械発光の一種である、弾性変形発光』。）に基づいて、
その「光源層内」の「発光中心」（『電子』と『正孔（ホール）』の再結合点であり、通常は、『正孔』の位置となる。この再結合点が『発光中心』であり、『所定の発光点』となる。）を起点（原点）とする「球面波状の波面を持つ発光（球面波）」を、それぞれの発光中心に特有の波長（所定の波長。）を有して放出する、「シート状（比較的広い面積を有する状態を意味する。）」、且つ、「薄膜（数十μｍ程度、もしくは、それ以下であって数百ｎｍ以上の、『非常に薄く、且つ、均一な厚さ』を有する状態を意味する。）」の「光源層」である、「シート状薄膜応力発光層」。
【００３８】
特には、上記した「多重反射現象」、すなわち、その「シート状薄膜応力発光層」の上下の「面」が、「光学的な鏡面」を成しつつ、光の波長と同程度の距離を隔てて、平行に対峙することによる、「『発光した光』の、その上下の面の間で起こる『多重反射現象』」によって、やはり以下に詳述する「指向性を帯びた光の波」を発光することとなる、「シート状薄膜応力発光層」。
【００３９】
以上、説明したように、「蛍光層」においては、「蛍光発光体」分子そのものや、「蛍光発光体」を構成するために添加（ドーピング等。）された元素（原子）が、上記した「発光中心」となり、「薄膜ＬＥＤ層」、「薄膜無機ＥＬ層」、「ディスクレーザー層」や、「面発光レーザー層」においては、「ｐ型半導体とｎ型半導体の接合面」（いわゆる『ｐｎ接合面』。）における、「電子」と「正孔」が「再結合」を生じた「点」（位置）、または、『発光層を間に挟んだ、ダブルヘテロ構造』、もしくは、「有機薄膜ＥＬ層（例えば、『マイナス電極／電子輸送層／発光層／正孔輸送層／プラス電極』等で構成される。）」においては、その「発光層」内における、「元素(原子)」や「再結合点」、「応力発光層」においては、その「結晶構造」内における、「電子」と「正孔（格子欠陥ともいう。）」が「再結合」を生じた「点」（位置）が、上記した「発光中心」となる。
【００４０】
そして、その「シート状薄膜光源層」が発する光（放射される光。その『波長―強度曲線』において、最も高い強度を有する『中心波長λ0』を持ち、その波長から長波長側、及び短波長側に、ゆるやかに小さくなる強度を持つ。すなわち、数十ｎｍ〜数百ｎｍの波長幅を有する光）は、その『シート状薄膜光源層』内の『発光点。（一つの点。発光体や発光分子、さらには、その発光分子の中の発光位置。）』から、『指向性を帯びた光の波』として広がりつつ進み（所定の方向への偏りを持ち、その方向の微小領域内では、位相も比較的揃って進むという意味。）、その「透明樹脂層」と「透明層」の「界面」からなる「ホログラムレリーフ面」を、そのような「光」が通過することで、そのホログラムレリーフの位相差を取り込み、互いにホログラフィックな干渉現象を生じてレリーフホログラム再生像（透過型ホログラム再生像である。以下、単に、『レリーフホログラム再生像』、もしくは、『ホログラム再生像』とも略す。）を再生しつつ進むこととなる。
【００４１】
このときのレリーフホログラム再生像は、上記した「一つの点」の各々に対応して、それぞれ「一つのレリーフホログラム再生像」が再生されるため、さらには、それぞれの「波長幅」に対して、結像方向が所定の角度方向に「広がって（角度の『幅』を持つという意味。）」いる、「レリーフホログラム再生像群」が再生されるため（『波長幅』を持つということは、「単一波長」の光が連続して複数存在することと同義。個々の単一波長に対して、『個々の結像方向』が存在するという意味。）、発光した「光」が。単純な「球面波」であった場合には、いわば、無数のしかも、連続的にその再生方向が重なった「光の像」となってしまう。
【００４２】
しかも、このような「多数のホログラム再生像が、わずかな『ズレ』を持って重なった状態」では、観察者は「いわば『一つ』の鮮明なホログラム再生像」を視認することができない。
【００４３】
ここで、「いわば『一つ』」と表現した意味は、例えば、「多数の線」が数百μｍ程度の「ズレ」をもって連続的に重なっている場合には、「目視では『一本の線』としか識別できない」ことから、「観察者の目視において『一つ』と視認される」、もしくは、「観察者の目視において『一つ』と視認されない」という意味を定義し、表現する。
【００４４】
さらには、「シート状薄膜光源層」の発する光の波長と、結像するホログラム再生像を構成する光の波長が、「厳密に同一」であるため、例えば、「緑色の背景色」の中に、「緑色の絵」を描いたごとく、その「絵」を目視にて判読することは、容易ではない。
【００４５】
以上のことは、本発明の「シート状薄膜光源層」を用いない場合、すなわち、上記した「『（１）〜（３）の光源層』の何れか、もしくは、その組み合わせ」を、その「光源層」として採用しなかった場合には、上記したような、「指向性を帯びた光の波」ではなく、「不揃いの位相や、不揃いの強度を持つ、あらゆる方向に進む『光』」を発する光源である、「単なる平面状の拡がりをもって発光する光源（層）」による「位相、強度、方向とも、『ランダムな球面波の集まり』（散乱光）」によって「ホログラムレリーフ」を照明することとなり、「明るい背景の色」の中に、全く同一の「色」からなる「非常に不鮮明なホログラム再生像」を、いわば「埋没させた状態」で観察せざるを得ず、しかも、その「照明光」の発光波長域が広くなっていることによる「ホログラム再生像の不鮮明化」までもが加わり、もはや、「ホログラム再生像」の出現をもって、「真正性を判定する」ことの信頼性を確保できなくなる。
【００４６】
そのため、本発明の「シート状薄膜光源層」を用いることで、「ランダムな球面波の集まり」からなる「ホログラムレリーフ」の照明光を、「『指向性を帯びた光の波』からなる『透過照明光』」とし、そのような「指向性を帯びた光の波」によって「ホログラムレリーフ」を照明することによって、その再生方向が重なった「光の像」とし、しかも、このような「多数のホログラム再生像を、『ズレ』なく重なった状態」として、観察者が「いわば『一つ』の鮮明なホログラム再生像」を視認できるものとする。
【００４７】
そのことにより、「シート状薄膜光源層」の発する光の波長と、結像するホログラム再生像を構成する光の波長が、「厳密に同一」であっても、すなわち、「緑色の背景色」の中に、「緑色の絵」を描いたものであっても、その「絵」を目視にて判読することを、容易とし、そのような「真正性判定」の信頼性を確保するものである。
【００４８】
また、上記した「多重反射現象」、すなわち、「上下の面の間での繰り返し反射現象」によって、「誘導放出現象（レーザー発振動作において発生する現象。位相の揃った、指向性の強い発光が行われる。）」を導出し、「光の増幅」を起こして、「発光した光」の「指向性（レーザー光のような指向性を一部備えるという意味。）」を発現させて、上記した効果を十分に達成させるためには、その「繰り返し反射」を、その反射強度を維持したまま精密に揃った形で、さらに十分に生じさせるため、
その「シート状薄膜光源層」の「上の面、及び／または、下の面」を、「ハーフミラー面（所定の波長の光に対して、３０〜７０％の反射率を有する面）」としたり、追加の「反射面（反射率は５０％以上。）」、もしくは、追加の「反射層（同左。）」を、「シート状薄膜光源層」の背面（下の面の背後と言う意味。）に設けることも好適である。
【００４９】
この「誘導放出現象」は、「レーザー発振」においては、「数ｍｍに及ぶ長い活性層」中を、発光した光が精密に往復しなければならず（その高い精度により、位相と方向が揃う。）、光学システム系用光源として用いる場合には、その光学システム全体の構成精度（幾何学的、もしくは、光学的精度。）を非常に高いものとせざるを得ないが、本発明のホログラムシートの「シート状薄膜光源層」における「往復距離」は、僅か、十ｎｍ〜数十μｍと、その１／１００〜１／１０００００となる、「極めて短い距離」を設定してあり、しかも、その判定も「目視判定」であることから、「（光学システム系用）レーザー光源」程の構成精度を必要としない。
【００５０】
但し、「シート状薄膜光源層」の上下の面や、その他の層間の界面等は、上記した機能を高めるために、「光学的な鏡面」（その『面』の表面平滑性が、実質的に、平均表面粗さＲａで、０．０１μｍ〜０．１μｍであることを意味する。）となっていることが望ましい。
【００５１】
特に、本発明のホログラムシートにおいて、「『シート状薄膜光源層』の厚さを、０．０１μｍ〜２．０μｍとする」ことで、その「往復距離」をさらに短い距離とし、そのような「誘導放出現象」をさらに増すことが好ましい。
【００５２】
このことは、「２つの『界面』が、『非常に短い距離（間隔）』で、しかも、『均一な距離』を保ちつつ、いわば、『平行』に、並べて設けられた状態」を、ホログラムレリーフ面上に設けた構造である、いわゆる「透明型ホログラム」を理論的に解析した学術論文（社団法人日本印刷学会発行  檀上他著“透明型ホログラムの理論的解析”日本印刷学会誌  第２５巻第２号（１９８８）頁７５〜８８）に記載の、「２．１．３  ＭＯＤＥＬ  ３．２  界面タイプ位相形回折格子  これは多重界面ホログラムの最も単純なモデルと考えられる.・・・したがって、レリーフ面の間隔Ｈは、レリーフピッチ（２π／ｂ）と同程度、もしくは、それ以下が望ましく、さらに多重反射を効果的にするためには,  Ｈ<<２π／ｂ・・・(１３)とする必要がある（頁７７〜７８）」との理論に当てはめ、その「２つの界面の距離、すなわち、シート状薄膜光源層の厚さを、１〜２μｍ程度の（ホログラム）レリーフピッチより、小さくすることで、その２つの面の間に『多重反射』現象が効果的に発生させ」て、上記した「誘導放出現象」を助長するものとしたものということができる。
【００５３】
そして、本発明において、「カード基材に、ホログラムシートが埋め込まれ、そのホログラムシートの露出面が、そのカード基材の表面と面一、または、前記カード基材の表面から凹んだ位置にある」とは、本発明の「ホログラムシートそのもの」、すなわち、本発明のホログラムシートを構成する「全ての層」が、「カード基材に埋め込まれて」いて、偽造や変造を意図して、そのホログラムシート全体、もしくは、その一部の層を剥がそうとしても、その断面に爪を入れることができず、結局、それらの層を削り出す他に手段は無く、一旦、削り出してしまうと、もはや、その凹部に、それらの層を復元することが非常に困難であって、それらの貼り替えなどの変造や、偽造を物理的に不可能とするホログラム付きカードを示し、そこで、「本発明のホログラムシートを構成する『全ての層』が、『カード基材に埋め込まれて』いるとは、最終的に、「本発明のホログラムシートの最表面、すなわち、透明層の「最表面（露出面）」が、「カード基材表面と面一、または、カード基材の表面より凹んだ位置になっている」ことをいう。
【００５４】
また、本発明において、「そのカード基材が、ＩＣ駆動用電池を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材であり、且つ、そのＩＣ駆動用電池が、ホログラムシートを発光する発光用電源をも兼ねている、ホログラム付きカード」（以下、「本発明のホログラム付きＩＣカード」、もしくは、単に「ホログラム付きＩＣカード」ともいう。）とは、少なくとも、いわゆる「ＩＣカード用セキュアマイクロコンピュータ（略して、セキュアマイコンと称す。）」（このセキュアマイコンを内蔵するカードが、「接触式ＩＣカード」と呼ばれる。）、もしくは、「非接触式ＩＣチップ（ＴｙｐｅＢ、もしくは、ＦｅｌｉＣａ〈フェリカ：ソニー(株)の登録商標〉タイプ素子）」（このＩＣチップを内蔵するカードが、『非接触式ＩＣカード』と呼ばれる。以下の説明においては、このＩＣチップを内蔵する『ＩＣタグ』もこの『非接触式ＩＣカード』に便宜的に含めることとする。）、及び、それら「セキュアマイコン」や「非接触式ＩＣチップ」を駆動するための電源（すなわち、ＩＣ駆動用電池。）として、且つ、ホログラムシートを発光させるための電源として、一次電池、または、二次電池を、そのカード基材の中に「内蔵」することをいう。
【００５５】
ここでは、当然に、本発明の「ホログラムシート」に用いられる「シート状薄膜光源層」とは、このような内蔵した電池により駆動し、そして、発光するタイプの「光源層」を用いることを想定している。但し、それ以外のタイプの「光源層」を併設することを排除するものでない。（以下、同様。）
これらの「電池」は、「セキュアマイコンまたは非接触式ＩＣチップ等を制御する『制御部』」や、「液晶ディスプレイなどの『表示部』」をさらに含む場合には、それらの「『制御部』」や『表示部』」を駆動するための電源として用いられることは言うまでもない。
【００５６】
さらに、これら「内蔵」する「電池」に加えて、「太陽電池と、その太陽電池で生成された電気エネルギーを蓄電するコンデンサにより構成される（補助）電源」を、そのカード基材に含めることも「ＩＣ駆動用電池を内臓する」ということの意味に含める。
【００５７】
このことにより、本発明のホログラム付きＩＣカードを使用する者が、このホログラム付きＩＣカードを「外部」に取り出すだけで（太陽の光に晒すという意味。）、太陽電池に光が照射して生成された電気エネルギーがコンデンサに蓄電され、これを安定した（補助）電源として用いることが可能になる。
【００５８】
また、本発明のホログラムシートを発光させたり、消光させるためのＯＮ／ＯＦＦ切り替えスイッチをも内蔵することができる。
【００５９】
本明細書において、配合を示す「部」は質量基準である。また、「ホログラム」はホログラムと、回折格子などの光回折性機能を有するものも含む。
【背景技術】
【００６０】
（主なる用途）
本発明のホログラムシート、もしくは、ホログラム付きカードの主なる用途としては、ホログラムそのものを装飾用として用いる美術・工芸品分野や商業用分野があるが、それにとどまらず、偽造防止分野に使用されるホログラムシート、もしくは、ホログラム付きカードであって、具体的には、クレジットカード等の偽造されて使用されると、カード保持者やカード会社等に損害を与え得るもの、運転免許証、社員証、会員証等の身分証明書、入学試験用の受験票、パスポート等、紙幣、商品券、ポイントカード、株券、証券、抽選券、馬券、預金通帳、乗車券、通行券、航空券、種々の催事の入場券、遊戯券、交通機関や公衆電話用のプリペイドカード等がある。
【００６１】
これらはいずれも、経済的、もしくは社会的な価値を有する情報を保持した情報記録体であり、偽造による損害を防止する目的で、記録体そのものの真正性を識別できる機能を有することが望まれる。
【００６２】
また、これら情報記録体以外であっても、高額商品、例えば、高級腕時計、高級皮革製品、貴金属製品、もしくは宝飾品等の、しばしば、高級ブランド品と言われるもの、または、それら高額商品の収納箱やケース等も偽造され得るものである。また、量産品でも有名ブランドのもの、例えば、オーディオ製品、電化製品等、または、それらに吊り下げられるタグも、偽造の対象となりやすい。
【００６３】
さらに、著作物である音楽ソフト、映像ソフト、コンピュータソフト、もしくはゲームソフト等が記録された記憶体、またはそれらのケース等も、やはり偽造の対象となり得る。また、プリンター用のトナー、用紙など、交換する備品を純正材料に限定している製品などにも、偽造による損害を防止する目的で、そのものの真正性を識別できる機能を有することが望まれる。
【００６４】
（背景技術）
従来、情報記録体や上記した種々の物品（総称して、真正性識別対象物と言う。）の偽造を防止する目的で、その構造の精密さから、製造上の困難性を有すると言われるホログラムを真正性の識別可能なものとして適用することが多く行なわれている。しかしながら、ホログラムの製造方法自体は知られており、その方法により精密な加工を施すことができることから、ホログラムが単に目視による判定だけのものであるときは、真正なホログラムと偽造されたホログラムとの区別は困難である。
【００６５】
これらの真正性識別対象物、特にラベル形態や転写形態にてホログラム画像を施された物品は、ホログラム画像の目視確認という真正性識別のみでなく、新たな真正性識別方法を用いてその対象物の真正性を識別する必要が生じている。
【００６６】
（先行技術）
これらの要求に応えるため、ホログラムに積層して、入射した光の内、左回り偏光もしくは、右回り偏光のいずれか一方の光のみを反射する光選択反射層を有するホログラムシートが提案された。（例えば、特許文献１参照。）
この光選択反射層として、コレステリック液晶を使用し、偏光版等を用いて確認する方法で偽造防止性を高めている。
【００６７】
しかしながら、特許文献１の記載にあるように、ホログラム形成層上の反射性薄膜層の反射率が高いため、コレステリック液晶層で反射されず透過した光（選択的反射光の補色光）が、この反射性薄膜層で反射し、再びコレステリック液晶層へ戻る（以下戻り光とする）ことにより、この戻り光が、コレステリック液晶を観察する際のノイズ成分となって、選択的反射光に付加・混在し、液晶本来の色調とならず、視認・識別することすら難しくなっていた。
【００６８】
また、コレステリック液晶材料そのものが高価であり、その液晶性能を引き出すためには液晶層に接して、配向膜の形成が不可欠であって煩雑であり、さらには、コレステリック液晶の光散乱性により、ホログラム画像を再生する光がその液晶層を通過するときに画像にボケ・歪みを生じる等の問題があった。
【００６９】
このため、コレステリック液晶層の光散乱性を抑えたり、コレステリック液晶層そのものを薄くする等の工夫が考えられたが、コレステリック液晶層の光散乱性を抑えるために屈折率差を小さくしたり、コレステリック液晶層を薄くしたりすると、上記した光選択反射層としての機能が低下してしまい、ホログラム画像の鮮明性と偽造防止性能を確保する最適な条件を得ることが難しいという欠点を有していた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００７０】
【特許文献１】特開２００７−９０５３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００７１】
そこで、本発明はこのような問題点を解消するためになされたものである。その目的は、シート基材の一方の面に、シート状薄膜光源層、ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層、及び、前記ホログラムレリーフを覆うように透明層をこの順序で設けて、シート状薄膜光源層が所定の波長で発光したとき、その所定の波長で光るホログラムを視認することができるホログラムシート及びこのホログラムシートをカード基材に埋め込んだホログラム付きカードを提供することである。
【００７２】
そして、シート状薄膜光源層で発光した光そのものが、「指向性を帯びた光」となって「ホログラムレリーフ」を通過し、再生する透過型のレリーフホログラム再生像がより鮮明となるホログラムシートを提供して、新規な装飾性及び、これを応用する偽造防止性を提供することである。
【００７３】
特には、カード基材として、電池内臓型ＩＣカード基材を用い、しかも、そのＩＣ駆動用電池が、前記ホログラムシートの発光用電源をも兼ねることで、その意匠性や偽造防止性を一層高めたホログラム付きカードを提供する。
【課題を解決するための手段】
【００７４】
上記の課題を解決するために、
本発明のホログラムシートの第１の態様は、
シート基材の一方の面に、シート状薄膜光源層、ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層、及び、前記ホログラムレリーフを覆うように設けられた透明層がこの順序で設けられているホログラムシートであって、前記ホログラムシートの表面に対する法線に対して、所定の角度を成して、前記透明層側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率の大きさが、前記所定の角度を成して、前記透明樹脂層側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率の大きさより、小さいことを特徴とするものである。
【００７５】
上記第１の態様のホログラムシートによれば、
シート基材の一方の面に、シート状薄膜光源層、ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層、及び、前記ホログラムレリーフを覆うように設けられた透明層がこの順序で設けられているホログラムシートであって、前記ホログラムシートの表面に対する法線に対して、所定の角度を成して、前記透明層側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率の大きさが、前記所定の角度を成して、前記透明樹脂層側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率の大きさより、小さいことを特徴とするホログラムシートを提供することができ、その意匠性と偽造防止性に優れるホログラムシートを提供することを可能とする。
【００７６】
本発明のホログラムシートの第２の態様は、
第１の態様のホログラムシートにおける、前記反射回折効率において、前記所定の角度が０度である前記入射光に対する反射回折効率の大きさが、０．０１〜１．０％であることを特徴とするものである。
【００７７】
上記第２の態様のホログラムシートによれば、
第１の態様のホログラムシートにおける、前記反射回折効率において、前記所定の角度が０度である前記入射光に対する反射回折効率の大きさが、０．０１〜１．０％であることを特徴とするホログラムシートを提供することができ、より鮮明なホログラム再生像を再生することを可能とするホログラムシートを提供することができる。
【００７８】
本発明のホログラムシートの第３の態様は、
第１の態様または第２の態様の何れかの態様のホログラムシートにおいて、
前記シート状薄膜光源層の厚さは、０．０１μｍ〜２．０μｍであることを特徴とするものである。
【００７９】
上記第３の態様のホログラムシートによれば、
第１の態様または第２の態様の何れかの態様のホログラムシートにおいて、
前記シート状薄膜光源層の厚さは、０．０１μｍ〜２．０μｍであることを特徴とするホログラムシートを提供することができ、さらに鮮明なホログラム再生像を再生することを可能とするホログラムシートを提供することができる。
【００８０】
本発明の第４の態様のホログラム付きカードは、
カード基材に、第１から第３の態様の何れかの態様のホログラムシートが埋め込まれ、前記ホログラムシートの露出面が、前記カード基材の表面と面一、または、前記カード基材の表面から凹んだ位置にあることを特徴とするものである。
【００８１】
上記第４の態様のホログラム付きカードによれば、
カード基材に、第１から第３の態様の何れかの態様のホログラムシートが埋め込まれ、前記ホログラムシートの露出面が、前記カード基材の表面と面一、または、前記カード基材の表面から凹んだ位置にあることを特徴とするホログラム付きカードを提供することができ、その意匠性と偽造防止性に優れるホログラム付きカードを提供することを可能とする。
【００８２】
本発明の第５の態様のホログラム付きカードは、
第４の態様のホログラム付きカードにおいて、前記カード基材が、ＩＣ駆動用電池を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材であり、且つ、前記ＩＣ駆動用電池が、前記ホログラムシートの発光用電源をも兼ねていることを特徴とするものである。
【００８３】
上記第５の態様のホログラム付きカードによれば、
第４の態様のホログラム付きカードにおいて、前記カード基材が、ＩＣ駆動用電池を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材であり、且つ、前記ＩＣ駆動用電池が、前記ホログラムシートの発光用電源をも兼ねていることを特徴とするホログラム付きカードを提供することができ、その意匠性と偽造防止性に著しく優れるホログラム付きカードを提供することを可能とする。
【００８４】
本発明のホログラムシートは、「シート基材」（以下、『透明基材』として、詳述する。）の一方の面に、シート状薄膜光源層が設けられて、シート状薄膜光源層が「平面形状（その『層』の上下の面が『二つの平行な平面』を成すという意味。）」を成し、その「平面形状」のシート状薄膜光源層の上に、ホログラム画像を再生する干渉縞や回折格子群が、ホログラムレリーフとして、透明樹脂層面上に略一平面として形成されており（これが、「ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層」である。）、このホログラムレリーフの上に、このホログラムレリーフを埋めるように、「透明層」が設けられている。
【００８５】
そして、この「透明層」によって、透明樹脂層のホログラムレリーフが埋められて、その「透明層」の透明樹脂層と接している面とは反対の面は、「平面形状の一つの平面」を成している（『透明樹脂層』と『透明層』を併せた『層』は『平面形状』となっているという意味。）。
【００８６】
そして、その「透明樹脂層」、その上に設けられている「ホログラムレリーフ」、及び、そのホログラムレリーフを埋めるように設けられている「透明層」の関係は、
「ホログラムシートの表面に対する法線に対して、所定の角度を成して、透明層側からホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率の大きさが、その所定の角度を成して、透明樹脂層側からホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率の大きさより、小さい」という関係を満足するように、それぞれ、「透明樹脂層の屈折率」、「ホログラムレリーフの深さ」、及び、「透明層の屈折率」を上述したごとく設定したものである。
【００８７】
また、シート状薄膜光源層は、そのホログラムレリーフ形成領域の全面に対応するように設けてもよいし、ホログラムレリーフ形成領域の一部のみに対応するように設けてもよい。ここで、シート状薄膜光源層が、そのホログラムレリーフ形成領域の一部のみに対応するように設けるとは、例えば、文字や図形を表現する「所望のパターン状」に、または、３０μｍ〜３００μｍの大きさの「市松模様状（電界発光タイプの場合には、その市松模様の各々の升目は全て導通するように配慮する。）」に設けることなどを意味する。
【００８８】
従って、そのシート状薄膜光源層を発光させたときには、その部分的に設けた領域のみが発光することとなり、この発光した領域に対応するホログラムレリーフ形成領域の一部領域のみが、この発光した光により参照（照明）され、そのホログラムレリーフ形成領域の一部領域のみに基づく、レリーフホログラム再生像が再生されることとなる。
【００８９】
さらには、その所望のパターン状に設けたシート状薄膜光源層に対応する位置（上記の市松模様パターンにおいては、その市松模様の各々の升目部分に相当するところ。）に設けた「ホログラムレリーフ（ホログラム画像Ｈ１に対応する。）」と、その所望のパターン状の領域以外の位置（上記の市松模様パターンにおいては、その市松模様の各々の升目部分の「隣」の空白部分に相当するところ。）に、上記「ホログラム画像Ｈ１に対応するホログラムレリーフ」とは異なる「ホログラムレリーフ（ホログラム画像Ｈ２に対応する。）」を配して、シート状薄膜光源層を発光させていないときのレリーフホログラム再生像（「ホログラム画像Ｈ１」と「ホログラム画像Ｈ２」の両方が再生している状態。）に、発光させたときの新たなレリーフホログラム再生像が浮き上がるようにすることも（「ホログラム画像Ｈ１」のみが明るさを増した状態。）、その意匠性や偽造防止性を高めることを可能とし、好適である。
【００９０】
ホログラムレリーフは、位相ホログラムとしての位相差を、「レリーフ形状」に現しているが、この「位相差を有するレリーフ形状」を覆うように「透明層」を設ける。
【００９１】
この「覆うように設ける」とは、「その『レリーフ形状』を『埋める』ように設ける」ことを意味し、そのため、この「透明層」の厚さは、少なくとも、そのホログラムレリーフの凹凸の深さを埋めることができる十分な厚さを有する。
【００９２】
そして、「透明樹脂層」の屈折率と、「透明層」の屈折率との間に「差」を設けることで、「透明樹脂層」と「透明層」の「界面」となっている「ホログラムレリーフ面」の「存在」を確保する。この屈折率差は、大きければ大きいほど、この「ホログラムレリーフ」に基づく透過型レリーフホログラム再生像の鮮明性が十分なものとなるが、偽造防止を目的とする場合には、この「ホログラムレリーフ面」の存在を秘匿する必要があり、その屈折率差を、可能な限り小さくすることが望まれる。
【００９３】
特に、本発明のホログラムシートにおいては、非常に近接した、その背面から、シート状薄膜光源層の発光による照明を受けることができることから、「一般的な照明」（数十ｃｍから数ｍ程度の距離を持って『ホログラムレリーフ』を照明するため、距離の二乗に反比例して減衰する、その『照明強度』が、『ホログラムレリーフ』面上では、著しく弱い照明となっている。）とは異なり、照明強度がほとんど減衰することなく、直接的に、「ホログラムレリーフ」を照明できるため、その屈折率差は、０．０１〜０．０５であれば十分であり（その照明時のレリーフホログラム再生像の鮮明性が十分となるという意味。）、また、この屈折率差が、０．０１〜０．１、特には、０．０１〜０．０５であれば、太陽光による照明や、室内蛍光灯による照明だけでは、そのホログラムレリーフに基づくレリーフホログラム再生像がほとんど視認できず、ホログラムの存在を秘匿可能となり好適である。（一般的には、その室内蛍光灯などの照明光を照射している側からの観察において、そのホログラムシートからの反射光の一部として観察するホログラム再生像が、いわゆる『反射型ホログラム再生像』であり、その照明している側とは反対の側からの観察において、ホログラムシートの透過光の一部として観察するホログラム再生像が、いわゆる『透過型ホログラム再生像』となるわけであるが、本発明の『ホログラムシート』における『透過型ホログラム』は、照明光がホログラムレリーフの背後からホログラムレリーフを通過して、観察側に現われる光であって、このような照明と観察の関係における、すなわち、このような照明光によって再生される『透過型ホログラム』及びその『透過型ホログラム再生像』に関するものである。）
さらに、この「透明層」は、その「透明層」のその一方の表面を「平坦化（いわゆる、『光学的な鏡面』にするという意味。）」して、その表面が、一般的な「室内照明光」である「蛍光灯」などの照明光（レリーフホログラムの再生を目的としない照明光と言う意味。）を「鏡面反射」して、その背後にある「レリーフホログラム」を秘匿することを助長するものとする（このような『鏡面反射光』をその『鏡面反射角度方向』にて観察すると、その照明光を直視したごとく『眩しい光』を観察することとなる。室内照明光が複数存在すると、このような鏡面反射光が多数存在することとなる。）。
【００９４】
もしくは、この秘匿効果をさらに高めるため、その「透明層」の最表面を、「平坦化」ではなく、「粗面（平均表面粗さＲａで、０．１〜３．０μｍ。）」とすることも好適である。レリーフホログラム再生像は、この「粗面」を設けた「表面」の「手前の空間領域（実際には、透明層内。）」における「干渉現象」によって出現しているものであるため（レリーフホログラム再生像を結像するための『干渉』が、既に『完結』しているという意味。）、このような「粗面」、すなわち、その「粗面による散乱現象」は、レリーフホログラム再生像の鮮明性に対して、あまり影響しない。
【００９５】
以上のことに加えて、本発明の「ホログラムシート」は、その「ホログラムシート」に所定の入射角度を持って入射する照明光に対して、その「ホログラムレリーフ」の「反射回折効率の大きさ」を、その「ホログラムレリーフ」の「透過回折効率の大きさ」より「小さく」設定しており、さらには、その「ホログラムレリーフ」の「反射回折効率の大きさ」を、所定の条件下において、「０．０１〜１．０％」と、著しく小さい値に抑制しているため、上記した効果を助長するものである。
【００９６】
また、本発明の「ホログラム付きカード」は、「カード基材」に、本発明の「ホログラムシート」が埋め込まれ、その「ホログラムシート」の露出面が、その「カード基材」の表面と面一、または、その「カード基材」の表面から凹んだ位置にある。
【００９７】
一例としては、「厚さ１２μｍの『透明基材』、厚さ５μｍの『シート状薄膜光源層』、厚さ１０μｍの『ホログラムレリーフを有する透明樹脂層』、及び、厚さ３μｍの『透明層』からなる、総厚さ３０μｍのホログラムシート（積層体）」（『透明基材』側を、カード基材の表面に接するように配置する。『透明樹脂層』と『透明層』との『界面』が、ホログラムレリーフとなっている。）であって、総厚さ３０μｍ、幅１０ｍｍ、長さ３０ｍｍの「ストリップ」（『小片』という意味。幅１０ｍｍ×長さ３０ｍｍ×高さ３０μｍの非常に薄い直方体形状をなす。）を、クレジットカードサイズで、厚さ７６０μｍの軟質塩化ビニルシート等からなる「カード基材」の表面の中央部に置き、この「カード基材」を、常温→１５０度→常温の加熱サイクル（１サイクル３０分〜９０分。）により、且つ、「表面鏡面仕上げステンレス板」に挟んだ平板加圧状態で、１．０ＭＰａ（メガパスカル。Ｎ／平方ミリメートル）の圧力を掛けつづけて、そのストリップの全厚さを、その７６０μｍの軟質塩化ビニルシート内に埋め込むことをいう。（この際、『シート状薄膜光源層』に対して、必要に応じ、『陽極』及び『陰極』のそれぞれに電圧を付加するための陽極端子〈リード部分をいう。以下同様。〉及び陰極端子〈リード部分をいう。以下同様。〉を、カード基材表面に露出するように配置しておくこと、及び、埋め込みによって、『シート状薄膜光源層』の『陽極』及び『陰極』と、外部電極、もしくは、内部電極からの陽極端子及び陰極端子が導通するように、その『陽極』及び『陰極』にもそれぞれリード部分を設けた上、それらが接合するように、適宜、処理する場合があるが、それらの詳細については、省略する。また、このホログラムシートの裏面、すなわち、「透明基材」の露出面に、厚さ１μｍの接着層を設けておいてもよい。さらには、『透明基材』のみを剥離した『ホログラムシート』を、『カード基材』に埋め込んでも良く、その際、適宜な接着層を付加してもよい。）
ここで、その「埋め込み」後のカード基材表面を、触針式表面粗さ計を用いて、埋め込んだ部分の境界領域を測定し、その境界における段差が、１．０μｍ以下である状態が「面一」となっている状態である。
【００９８】
また、上記のストリップに、さらに、一方の面を剥離性とした１０μｍ厚さのポリエチレンテレフタレートを積層した６層積層体とし、上記と同様にして、カード基材内に埋め込んだ後、そのポリエチレンテレフタレートを剥離することで、そのストリップの最表面が、カード基材表面より、１０μｍの深さだけ、「凹んだ」状態とすることができる。
【００９９】
すなわち、上記した触針式表面粗さ計を用いて、凹んだ部分の段差を測定し、その段差が、１０μｍである状態が、「カード基材表面から１０μｍ凹んだ」状態である。
【０１００】
この「凹み」は、クレジットカード形状の「カード基材」においては、１．０μｍ〜３０μｍとすることが望ましい。この凹みが１．０μｍ未満であると、凹ませた効果が無くなり、３０μｍを超えると、この段差の引っ掛かりが、ホログラム付きカードのハンドリングに支障をきたす。
【０１０１】
この凹みは、カード基材厚さに対して、１／１０以下とし、望ましくは、１／２０以下とする。また、凹みのサイズよりもストリップのサイズが小さい場合には、凹みとストリップの間に「隙間」が生じるが、この「隙間の幅」は、その偽造防止性を考慮して、「爪先」や「金属へら」を挿入し難い大きさ、すなわち、５．０ｍｍ幅以下、望ましくは、１．０ｍｍ以下とする。
【０１０２】
さらに、上記のストリップをそのカード基材内に埋め込むために、予め、カード基材表面に、深さ３３μｍ、幅１１ｍｍ、長さ３１ｍｍの凹みを設けておき（プラスチック等であれは、その成形加工時に「凹み」を設けても良いし、カード基材表面を切削加工などにより削り込んで、凹みを設けてもよい。）、その凹みに、上記したストリップを入れて固定することも、その製造安定性から好適である。この場合には、上記したような、高温加熱や、高圧プレスの必要がないため、上記のストリップ内の「透明基材」、「シート状薄膜光源層」、「ホログラムレリーフを有する透明樹脂層」、や「透明層」、さらには、「ホログラムレリーフ面」に対する変形や歪みが発生し難く、陽極端子や陰極端子としてのリード部分の破断（断線を意味する。）等の不具合を発生させることなく、確実に設けることができるという利点がある。
【０１０３】
但し、偽造や変造を防止する観点からは、加熱及び加圧により「カード基材」に埋め込む方式が望ましい。
【０１０４】
また、カード基材の形状も、あらゆる形状、すなわち、シート状、フィルム状、板状、立方体状、直方体状、カード状、タグ状（ラベル形状も含む。）、はがき状、伝票状、封筒状、円盤状、楕円体状、球体状、棒状、及びこれらの組み合わせや、これらに変形、切断、穴あけ、接着等の加工処理を施したものなどを採用することができる。
【０１０５】
その厚さも、ハンドリング可能であればよく、特に制限はないが、通常、３．０μｍ〜３．０ｍｍの厚さとする。もちろん、封筒状や、箱状のものであれば、その立体形状の寸法は、それぞれの用途に適したものとするため、この範囲内とする必要はない。
【０１０６】
これらカード基材の代表例としては、いわゆる「プリペイドカード」として用いられているカード基材及び形状や、「プラスチックカード」として用いられているカード基材及び形状、特に、ＪＩＳ規格やＩＳＯ規格で定められているものがある。すなわち、その「埋め込み適正」及び「汎用性」（加工汎用性を含む。）から、「ＪＩＳ規格やＩＳＯ規格で定められている『プラスチックカード』として用いられているカード基材及び形状」が最も望ましい。
【０１０７】
これらは、既に、全世界に大量に頒布され、普及しているため、そのハンドリングや、保持することに抵抗感がなく、また、それらを携帯したり、使用したりする場合の周辺機器や、関連グッズ等も既に普及しているため、これらのものへの適用もスムースであって好適である。
【０１０８】
そして、本発明のホログラム付きＩＣカードは、「ＩＣ駆動用電池を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材」を用い、且つ、その場合には、そのＩＣ駆動用電池が、本発明のホログラムシートを発光する発光用電源をも兼ねる。
【０１０９】
すなわち、その「カード基材」には、少なくとも「セキュアマイコン」を内蔵する「接触式ＩＣカード」、もしくは、少なくとも「非接触式ＩＣチップ」を内蔵する「非接触式ＩＣカード」を用いる。
【０１１０】
それらの「カード基材」には、接触式ＩＣカードについては、ＩＳＯ／ＩＥＣ  ７８１６や、ＪＩＳ  Ｘ  ６３００に準拠したものを用いることができ、また、非接触式ＩＣカードについては、ＩＳＯ／ＩＥＣ  １４４４３（通信距離に応じて「密着型」、「近接型」、「近傍型」、または、「遠隔型」の４種類に区別され、さらに近接型は「Ｔｙｐｅ  Ａ」、または、「Ｔｙｐｅ  Ｂ」に分類される。）やＪＩＳ  Ｘ  ６３２１〜６３２３に準拠したものを用いることができる。これらの「カード基材」は、上記したと同様の理由により好適である。
【０１１１】
そして、本発明のホログラム付きＩＣカードは、これらの「カード基材」を用いた上で、さらに、それらの「セキュアマイコン」や「非接触式ＩＣチップ」を駆動する、一次電池、または、二次電池からなる「ＩＣ駆動用電池」をも内蔵していて、さらに、その「ＩＣ駆動用電池」が、そのＩＣカード基材に埋め込まれた「ホログラムシート」（電源を要するタイプの『シート状薄膜発光層』を用いた場合。）を発光させる発光用電源を兼ねるものである。
【０１１２】
また、本発明のホログラム付きＩＣカードは、「セキュアマイコンまたは非接触式ＩＣチップ等を制御する『制御部』」や、「液晶ディスプレイなどの『表示部』」をさらに含むことができ、その場合には、これらの「電池」は、その「『制御部』」や『表示部』」を駆動するための電源として用いられることとなる。
【０１１３】
さらに、本発明のホログラム付きＩＣカードには、これら「内蔵」する「電池」に加えて、「太陽電池と、その太陽電池で生成された電気エネルギーを蓄電するコンデンサとにより構成される（補助）電源」を、その「カード基材」に含めることもできる。
【０１１４】
また、「ＯＮ／ＯＦＦ切り替えスイッチ」をも内蔵することができ、この場合には、この「スイッチ」により、本発明のホログラムシートを発光させたり、消光させたりすることが可能となる。
【０１１５】
以下の説明においては、「本発明の『ホログラムシート』に用いられる『シート状薄膜光源層』」として、「シート状薄膜ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）層」を例にとり説明する。
【０１１６】
以下の説明は、「シート状薄膜光源層」の他の例である、「シート状薄膜蛍光層」、「シート状薄膜ＬＥＤ層」、「シート状薄膜ディスクレーザー層」、「シート状薄膜面発光レーザー層」や、「シート状薄膜応力発光層」においても、同様に適用できることは言うまでもない（もちろん、『発光』させる原理や構造は、異なったものとなる。）。
【０１１７】
そもそも、「エレクトロルミネッセンス」とは、電場のエネルギーによって、蛍光物質等が発光する現象であって、面光源を得ることが可能であり、大別して、有機エレクトロルミネッセンスと、無機エレクトロルミネッセンスとがある。
【０１１８】
有機エレクトロルミネッセンスは、電流を流すと発光する性質を有する有機物質を用いた発光現象のことであり、ベースとなる層に有機物質を挟み込んだ構造をしている。
【０１１９】
その層間に電流を流すことで、その有機物質の分子が励起され発光する仕組みとなっている。
【０１２０】
代表的な層構成は、／陽極（透明導電層）／ホール輸送層／有機物質層／電子輸送層／陰極（導電性反射層）からなり、陽極側から発光した光が出る。
【０１２１】
すなわち、薄膜で形成された有機エレクトロルミネッセンス素子は、陰極（陰極層）から電子輸送層を経て有機物質層に到達した電子と、陽極からホール輸送層を経て有機物質層に到達した正孔とを再結合させることにより生じた励起子（エキシトン）によって発光する。
【０１２２】
つまり、その再結合の際に発生するエネルギーにより有機物質の分子等を励起し、励起状態から、再び、基底状態へ戻るときに、蛍光（燐光を含む。）発光等が起こる。
【０１２３】
蛍光発光の原理は、図１に示すジャブロンスキー図にあるように、その有機物質（複数の物質の複合系を含む。）の分子等の基底状態（Ｓ０：一重項状態）からエネルギー吸収によって第一（Ｓ１）、第二（Ｓ２）、第三励起状態（Ｓ３）・・・のどれかの振動状態に励起された有機物質の分子等が、無放射過程で非常に速やかに緩和してＳ１の電子励起状態に移るか、あるいは項間交差によって三重項状態（Ｔ１、Ｔ２）へ移る。
【０１２４】
Ｓ１の最低振動状態になった蛍光体は、無放射過程によるか蛍光を発して基底状態に戻り、三重項状態になった分子は、無放射過程によるか、燐光を発して基底状態に戻る。
【０１２５】
励起しても光に上手く利用できないエネルギーは無放射失活（熱失活）する。
【０１２６】
一重項同士の遷移は瞬間的に起こるため、蛍光の半減期は１０-4ｓｅｃ以下と短いものである。遷移に要する時間は、１０-15ｓｅｃで励起が起こり、その後１０-9〜１０-7ｓｅｃで蛍光発光が起こるとされている。
【０１２７】
一方、三重項から一重項への遷移はスピン変化禁止により禁制遷移となり自発的放出が起こりにくいので、燐光の半減期は大きく、秒単位のものもある。もちろん、蓄光タイプのものは、それ以上の時間、発光を維持している。
【０１２８】
基底状態に戻る際に光を発するか否か、光の強度が強いか弱いか、蛍光寿命が長いか短いかは、その有機物質の分子等の分子構造や分子等の置かれた環境に大きく依存する。
【０１２９】
有機物質の分子等の放出光の波長分布を発光スペクトルといい、発光スペクトルは発光の波長に対し相対的な発光強度をプロットして作成される。発光スペクトルに示される波長（エネルギー）は一次励起状態の最低振動エネルギー準位から基底状態の優先的な振動エネルギー準位までのエネルギー差と等しくなる。
【０１３０】
無機エレクトロルミネッセンスとは、物質に電界を印加したときに発光する物理現象であり、その機構は、固体である無機化合物の蛍光体（発光層）に電圧を印加するとその固体内にあらかじめ存在する電子、あるいは電極から注入された電子が高電界によって加速され、発光中心に衝突してこれを励起し、そのとき生じた電子と正孔が再結合することによって発光するというものである。外部から電流によって注入された電子と正孔の再結合によって発光する有機ＥＬとは、励起の点で異なる。
【０１３１】
すなわち、薄膜で形成された無機エレクトロルミネッセンス素子は、二重絶縁構造を有しており、この構造に電界を印加することにより発光が起こる。
【０１３２】
発光層の構成形態から「分散型」と「薄膜型」の２種類に分けられ、分散型は、強誘電体粉末を有機バインダーに分散させた絶縁層と蛍光体粉末を有機バインダーに分散させた発光層とを積層させて、透明電極と背面電極で挟んだ構造であり、その代表的な構成は、／透明電極／絶縁層／発光層／背面電極／、若しくは、／透明電極／絶縁層／発光層／絶縁層／背面電極／である。
【０１３３】
薄膜型は、薄膜電極付き基板上に薄膜蛍光体からなる発光層と絶縁層を積層させ、電極を付けた構造であって、スパッタリング法や真空蒸着法等の薄膜形成方法を用いて層を形成する。その代表的な構成は、分散型と同様である。
【０１３４】
いずれも、透明電極側から、発光した光が出る。
【０１３５】
本発明は、従来のホログラムの再生方法、すなわち、ホログラムに対して、その上方、数十ｃｍ〜数ｍに離間して配置した照明光源からの照明光を当て（その離間距離が大きければ大きいほど、その照明光が、いわゆる『理想的な照明光である平行光』に近づく。）、ホログラムレリーフ面での反射光の干渉現象によって、その照明光の波長のホログラムを再生するもの、とは異なり、電圧を印加する等によって、エレクトロルミネッセンス素子等が発光し、その発光した光が、「指向性を帯びた光の波」となって、上記した「透明樹脂層」と「透明層」の「界面」である「ホログラムレリーフ面」を照明し、且つ、通過した結果、干渉現象を生じて、その発光した光の波長におけるホログラムを再生するものである。従って、回折角度も、その発光した光の波長に依存する。
【０１３６】
例えば、透明でほとんど何も見えない空間に（レーザー再生ホログラム等のようにその再生に単波長光を必要とするものは、蛍光灯などの白色光光源では視認できない。また、白色光再生に適するレインボーホログラムであっても、ホログラムレリーフ面の『界面反射強度』が小さい場合には、やはり視認しにくくなる。本発明においては、この『界面反射強度』を小さく設定してあることは言うまでもない。）、電圧印加等によって初めて、例えば「緑色（発光した所定波長が『緑色』に該当する場合。）」のホログラムを視認することができるため、観察者の目には、あたかも、通常のホログラム再生に用いられる「緑色の照明光源」の無いところに、ホログラムシート全体が弱く発光すると同時に、その中のホログラム再生像が強く光輝き、そのホログラム再生像は、空中に浮いているように見え、意外性のみならず、意匠性にも優れるものとなる。
【０１３７】
そして、本発明は、このような原理によって、ホログラム再生像を再生（結像）させるものであるから、本発明のホログラムシートにおける、「ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層」に記録するホログラム画像は、「透過参照光によって再生（結像）されるホログラム画像」、すなわち、「そのホログラム画像に対応したホログラムレリーフが、透過型ホログラム再生像を再生するもの」となるようにする（具体的には、ホログラムレリーフの深さ設定を、『透過型の最適深さ』に近いものとする。この『最適深さ』は、『透明樹脂層の屈折率』、『透明層の屈折率』、及び、『所定の波長』により一義的に定まり、具体的には、『反射型の最適深さ』より、かなり深いものとなり、『反射型の最適深さ』から、かなり外れた『深さ』となる。このことによっても、ホログラムレリーフによる反射型ホログラム再生像が出現し難く設計されている。）。
【０１３８】
すなわち、本発明のホログラムシート内に存在する「ホログラムレリーフ面、すなわち、「透明樹脂層」と「透明層」の「界面」が、自然光や蛍光灯などからの照明光を受けたとしても、その「界面」で発生する「反射光（上記した照明光により発生するそのホログラムレリーフの位相を含んだ反射光）」が、鮮明なホログラム再生像を出現することは無い。
【０１３９】
これは、このホログラムレリーフの照明光として「このホログラムレリーフを透過する光（その照明光をホログラムシートを通して観察するという意味。）」を受けると鮮明なホログラム再生像<透過型ホログラム再生像>を出現するが、照明光として「このホログラムレリーフから反射する光（その照明光側から観察し、照明光がホログラムシートで反射された、その『反射光』を観察するという意味。）」を受けても何らのホログラム再生像<反射型ホログラム再生像>を出現しないことを意味する。
【０１４０】
さらに、ホログラムを再生可能な電源端子（陽極端子と、陰極端子。複数設けてもよいし、ダミー端子を設けることで、その偽造防止性を高めることが出来る。）がどの部分に形成されているか判別しにくくして、その構造を知りうる者のみがホログラム再生を果たすことができるよう設けて、真正性判定用に有用なものとすることができる。もしくは、発光した光の波長を知りうる者のみがホログラム再生像の色調を予測でき、その再生波長に調整した、別に準備した「バンドパスフィルター」を通して覗いて、その「バンドパスフィルター」を通過できるホログラムのみ（そのホログラム再生像が、このフィルターを通過可能な波長を有しているという意味。）が、真正であると判定することもできる。
【０１４１】
また、この「バンドパスフィルター」を通過する角度（回折角度。このフィルターに向かう方向という意味。）も、その発光波長に依存し、やはり、その「値」を知りうる者のみが、その所定の角度で判定を行うことができる。
【０１４２】
さらに、薄膜で形成されたエレクトロルミネッセンス素子を複数含めることにより（発光波長の異なる素子を複数含めるという意味。）、この再生像は複数の角度に異なる色調で現れることになり、意匠性の面でも、真正性判定の面でもより優れたものとすることができる。
【０１４３】
もちろん、エレクトロルミネッセンス素子は、その印加する電圧によっても、発光スペクトルが大きく異なり（印加電圧依存性があるという意味。）、また個々の素子独特の発光特性を有するため、真正性判定に使用する印加電圧（電圧強度や、周波数等。）を知りえない偽造者が、真正品と全く同一のホログラムシートを作製しようとしても、物理的に不可能と言える。
【０１４４】
有機エレクトロルミネッセンス素子の構造は、具体的には、発光層となる有機薄膜を陰極と陽極で挟んだ単層構造のものや、陽極と発光層との間に正孔輸送層を有する構造のもの、陰極と発光層との間に電子輸送層を有するもの、発光層部分を電子輸送層、発光層、正孔輸送層の３層構造とするもの、さらには必要に応じて多層化した構造のもの等を用いることができる。
【０１４５】
これらの陽極と陰極で挟んだ層は、すべて有機薄膜（固体）で構成されており、各層の厚さは、１０〜１００ｎｍである。
【０１４６】
１０ｎｍ未満では、各層の機能を十分発揮できず、また、１００ｎｍあれば、各層の機能を達成するためには十分であり、それより厚くすることによる不要な表面の平面性劣化を避けるため、１００ｎｍ以下とする。
【０１４７】
発光層は、主材料（ホスト材料）と不純物材料（ドーパント材料：発光強度向上等の機能向上のために添加される。）との２成分系であり、発光する不純物材料は、０．１〜３０％添加で主材料中に均一に分散されている。
【０１４８】
０．１％以下では、発光性が不十分であり、３０％を超えると、その不純物性（特異点としての存在性）が薄れ、かえって発光性が低下し始める。
【０１４９】
陽極には、透明導電性薄膜と称される、透明性と導電性をあわせもつＩＴＯ薄膜（インジウム・スズ酸化物薄膜）、錫ドープ酸化錫、アンチモンドープ酸化錫、亜鉛ドープ酸化錫、フッ素ドープ酸化錫、酸化亜鉛などの金属酸化物、銀の薄膜を高屈折率層で挟んだ多層構造、ポリアニリン、ポリピロールなどの共役系高分子などが挙げられる。
【０１５０】
形成方法は、薄膜形成方法、すなわち、スパッタリング法や、真空蒸着法等を用いて、厚さ５０〜５００ｎｍで形成する。以上の配慮から、透明導電性薄膜の表面抵抗値は、０．００１Ω／□〜０．１Ω／□とする。
【０１５１】
形成方法として、印刷法等も用いることが可能であるが、レリーフホログラム再生像に不要なムラを生じないためには、この層の膜厚さが、薄く、且つ、高い精度で均一である必要があり（さらには、その表面を『光学的な鏡面』とするため。）、上記した薄膜形成方法が望ましい。
【０１５２】
以上を配慮して、その膜厚さは、５０ｎｍ〜５００ｎｍとする。
【０１５３】
陰極には、アルミニウム、金、銀、白金、銅、鉄、銀・マグネシウム合金等の金属薄膜や、グラファイトなどを厚さ、５０〜５００ｎｍで形成する。
５０ｎｍ未満では、その導電性が不十分であり、５００ｎｍを超えると、やはり、その表面（界面）に不要なムラを生じ易くなる。
【０１５４】
さらに、その薄膜形成時の加熱負荷により、透明基材の劣化を生じて、その結果として、レリーフホログラム再生像に不要なムラを生じ易くなる。
【０１５５】
金属薄膜はその反射性が高いことから、エレクトロルミネッセンス発光の効率を向上する効果を持つ。もちろん、この金属薄膜に網点状等の穴を設け、透明性を付加することもできるし、金属薄膜の代わりに、透明導電性薄膜を陽極と同様に形成してもよい。
【０１５６】
発光層である有機薄膜には、低分子系と高分子系とを用いることができる。
【０１５７】
低分子系には、正孔輸送材料として、ＴＰＡＣ（１，１−ビス[４-［Ｎ，Ｎ―ジ（ｐ−トリル）アミノ］フェニル]シクロヘキサン）、ＴＰＤ（Ｎ，Ｎ´―ジフェニル−Ｎ，Ｎ´―ジ（ｍ―トリル）ベンジジン）、ＣｕＰｃ（フタロシアニン銅）、α―ＮＰＤ（４，４´―ビス[フェニル（１−ナフチル）アミノ]−１，１´ビフェニール等、
電子輸送材料として、ＢＮＤ（２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−                                オキサジアゾール）、ＰＢＤ（２−（ターシャリー−ブチルフェニル）―５―                            （４−ビフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール）、Ｂｕｔｙｌ−ＰＢＤ（２−ビフェニル−５−（パラ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル)−１，３，４−オキサジアゾール）、ＴＡＺ（１−フェニル−２−ビフェニル−５−パラ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−１，３，４−トリアゾール）、Ａｌｑ3（トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム）、Ｂｅｑ2（ビス（８−ヒドロキシ−キノリノ）ベリリウム）、Ｚｎ（ＢＯＺ）２（亜鉛−ビス−ベンゾキサゾール）、Ｚｎ（ＢＴＺ）２（亜鉛−ビス−ベンゾチアゾール）、Ｅｕ（ＤＢＭ）３（Ｐｈｅｎ）（トリス（１，３−ジフェニル−１，３−プロパンジオノ）（モノフェナントロリン）ユーロピウム（III）等、発光層材料として、ＺｎＰＢＯ（ビス[２−（２−ベンゾキサゾリル）フェノラト]亜鉛）等、ドーピング色素材料として、Ｃｏｕｍａｒｉｎ６（３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−（ジエチルアミノ）コーマリン、ＱＮ−（Ｎ，Ｎ´−ジメチルキナクリドン）、ナイルレッド、ベリレンラブレン、ＴＢＰ（１，１，４，４−テトラフェニル−１，３−ブタジエン）キナクリドン等、その他、４−（ジシアノメチレン）−２−メチル−６−（４−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン、３−（４−ビフェニリル）−４−フェニル−５−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−１，２，４−トリアゾール、４，４'−ビス（９−カルバゾリル）ビフェニル等を用いることができる。
【０１５８】
これらの低分子系材料は、真空蒸着法、ＣＶＤ法（化学蒸着法）等の薄膜形成法により設けることができる。
【０１５９】
高分子系には、発光層材料として、ＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）系、ＰＡＴ（ポリチオフェン）系、ＰＦ（ポリフルオレン）系、ＰＰＰ系（ポリパラフェニレン）等、
正孔層材料として、ＰＥＤＯＴ（ポリ-3,4-エチレンジオキシチオフェン）＋ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸：ドーパント）共重合体、ＰＥＤＯＴ+ＰＶＳ（ポリビニルスルホン酸）共重合体、ポリアニリン＋ＰＳＳ共重合体、ポリピロール＋ＰＳＳ共重合体等、を用いることができる。
【０１６０】
これらの高分子系材料は、各種のコーティング法や、印刷法により設けることができる。印加直流電圧は、１〜１０Ｖである。
【０１６１】
無機エレクトロルミネッセンス素子の構造は、基本構造として、透明電極、絶縁層、発光層、背面電極を積層したものであり、発光は、発光層である蛍光体膜から出る。蛍光体は、薄膜型の場合、誘電性のある母体材料に、発光中心となる微量の添加不純物を混ぜたもので、エネルギーを受けることで、その発光中心物質の外殻軌道または高い順位に移動（励起）した、発光中心物質の持つ電子が、元の順位に戻る（遷移）ときに、発光を生じる。
【０１６２】
発光層である蛍光体の膜を、絶縁層である誘電体で挟み込み、その両端に電極を配した構造は、コンデンサを３個直列に接続した回路と考えることができ、ここに、交流電圧をかけると、誘電体と蛍光体の中で分極が生じ、印加電圧を上げ、蛍光体の膜にかかる電界が、１００ＭＶ／ｍ以上となると、発光中心が電界で加速された電子等の衝突のエネルギーを受け取り、励起されるようになる。
【０１６３】
発光層としては、母体にＺｎＳや、ＳｒＳなどのＩＩ族硫化物を用い、発光中心にＭｎや希土類を添加したもの、母体にＢａＡＬ2Ｓ4（バリウム・アルミニウム複合硫化物）を用い、発光中心にＥｕを添加したもの、等が用いられる。
【０１６４】
発光層には、周期表の第２族元素と第１６族元素とから成る群から選ばれる少なくとも１種の元素及び／又は周期表の第１３族元素と第１５族元素とから成る群から選ばれる少なくとも１種の元素とを含む半導体を好ましく用いることができる。
【０１６５】
そのキャリア密度は、１０17／ｃｍ3以下であることが好ましい。
【０１６６】
発光層を形成する物質の具体例をさらに挙げると、ＣｄＳ，ＣｄＳｅ，ＣｄＴｅ，ＺｎＳｅ，ＺｎＴｅ，ＣａＳ，ＭｇＳ，ＧａＰ，ＧａＡｓ，ＧａＮ，ＩｎＰ，ＩｎＡｓ及びそれらの混晶などが挙げられるが、ＺｎＳｅ，ＣａＳなどを好ましく用いることができる。
【０１６７】
さらに、ＢａＡｌ2Ｓ4、ＣａＧａ2Ｓ4、Ｇａ2Ｏ3、Ｚｎ2ＳｉＯ4、Ｚｎ2ＧａＯ4、ＺｎＧａ2Ｏ4，ＺｎＧｅＯ3，ＺｎＧｅＯ4，ＺｎＡｌ2Ｏ4，ＣａＧａ2Ｏ4，ＣａＧｅＯ3，Ｃａ2Ｇｅ2Ｏ7，ＣａＯ，Ｇａ2Ｏ3，ＧｅＯ2，ＳｒＡｌ2Ｏ4，ＳｒＧａ2Ｏ4，ＳｒＰ2Ｏ7，ＭｇＧａ2Ｏ4，Ｍｇ2ＧｅＯ4，ＭｇＧｅＯ3，ＢａＡｌ2Ｏ4，Ｇａ2Ｇｅ2Ｏ7，ＢｅＧａ2Ｏ4，Ｙ2ＳｉＯ5，Ｙ2ＧｅＯ5，Ｙ2Ｇｅ2Ｏ7，Ｙ4ＧｅＯ8，Ｙ2Ｏ3、Ｙ2Ｏ2Ｓ，ＳｎＯ2及びそれらの混晶などを好ましく用いることができる。
【０１６８】
キャリア密度等は、一般に用いられるホール効果測定法などで求めることができる。
【０１６９】
絶縁層である誘電体膜としては、金属酸化物、窒化物が用いられる。ＢａＴｉＯ3などのペロブスカイト系酸化物は高い誘電率を持ち好適である。
【０１７０】
酸化物に含むことができる元素としては、周期表の第２族、３族、９族、１２族（旧２Ｂ族（旧ＩＩｂ族））、１３族（旧３Ｂ族（旧ＩＩＩ族））、１４族（旧４Ｂ族（旧ＩＶ族））、第１５族、第１６族の元素が好ましく、第１２族、第１３族及び第１４族の元素からなる群より選ばれる少なくとも１種の元素を含むことがより好ましい。具体的にはＧａ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｒｈ、Ｉｒ等を挙げることができ、より好ましくは、Ｇａ，Ｉｎ，Ｓｎ，Ｚｎ，Ｓｉ，Ｇｅ等である。またこれらの元素以外に透明半導体が、Ｓ、Ｓｅ、Ｔｅ等のカルコゲナイドやＣｕ、Ａｇ等を好ましく含むことができる。
【０１７１】
絶縁層と発光層の層厚さは、０．１μｍ〜２μｍとする。もちろん、２μｍを超えて１０μｍ程度の厚さとすることで、発光の性能をより向上させることができるが、表面（界面）の不要なムラや、レリーフホログラム再生像に不要なムラを生じさせないためには、２μｍが限界である。
【０１７２】
透明電極、背面電極は、有機エレクトロルミネッセンス素子と同様に、ＩＴＯや、金属薄膜が好適に持ちいられる。
【０１７３】
異なる発光色の蛍光体膜を交互に並置して、多色とすることもできるが、輝度の高い１色の発光体膜の上に、色変換材料（クマリン系：クマリン６、ローダミン系：ローダミン６Ｇ、ローダミンＢ等の蛍光色素の混合物や、２種以上のベンゾ−α−ビロン骨格を持つ蛍光色素の混合物等、波長３５０ｎｍ〜６００ｎｍの光を吸収して、波長６００ｎｍ以上の可視領域に発光極大を有する光を放出する等。）を重ねて多色とすることも好適である。
【０１７４】
印加電圧としては、１００Ｖ・５０〜１０００Ｈｚの交流電源等を用いることができる。
【０１７５】
次に、ホログラフィの原理について説明する。
【０１７６】
物体がコヒーレント光で照明され，物体から回折された光が記録媒体(フォトレジスト等。）を照明しているとした場合、物体から回折されて記録面に到達した波面を物体波は、  
Ｆ（ｘ，ｙ）＝Ａ（ｘ，ｙ）ＥＸＰ[φ（ｘ，ｙ）]
であらわされる。ここで、
Ａ（ｘ，ｙ）  は物体波の振幅分布とし、
φ（ｘ，ｙ）  は位相分布とする。
【０１７７】
このとき、記録媒体には、記録媒体に到達する光波の強度分布が記録される。その強度分布は、
Ｉ（ｘ，ｙ）＝｜Ｆ（ｘ，ｙ）｜2＝Ａ2（ｘ，ｙ）                         （１）
となり、位相分布は記録されない。
【０１７８】
ここで，物体波にこれと干渉性のある光波（参照波という）を重ね合わせると，記録される光波の強度分布は、
Ｉ（ｘ，ｙ）＝｜Ｆ（ｘ，ｙ）＋Ｒ（ｘ，ｙ）｜2
＝｜Ｆ（ｘ，ｙ）｜2＋｜Ｒ（ｘ，ｙ）｜2
＋Ｆ（ｘ，ｙ）Ｒ*（ｘ，ｙ）＋Ｆ*（ｘ，ｙ）Ｒ（ｘ，ｙ）    （２）
となる．（＊は複素共役項を表す。）
ただし，参照光が記録面に角度θで入射する平面波であるとすれば、
Ｒ（ｘ，ｙ）＝ｒ（ｘ，ｙ）ＥＸＰ（２πｉαｘ）                      （３）
と書け、
α  ＝  ＳＩＮ（θ）／λ                                            （４）
である。（２）の第１項と第２項はそれぞれ、物体波の強度と参照波の強度でいずれも位相情報は欠落している。第３項と第４項は干渉の項でそれぞれ
Ｆ（ｘ，ｙ）Ｒ＊（ｘ，ｙ）＝
Ａ（ｘ，ｙ）ｒ（ｘ，ｙ）ＥＸＰ[ｉ [φ（ｘ，ｙ）−2παｘ]  ]    （５）
Ｆ＊（ｘ，ｙ）Ｒ（ｘ，ｙ）＝
Ａ（ｘ，ｙ）ｒ（ｘ，ｙ）ＥＸＰ[−ｉ [φ（ｘ，ｙ）−2παｘ]]    （６）
とあらわされ、物体の位相項  φ（ｘ，ｙ）  が残っている。
【０１７９】
（５）、（６）は互いに複素共役であり、(4.2)の第３項は物体の複素振幅分布を含んでいる。
【０１８０】
（５）、（６）を（２）に代入すると、
Ｉ（ｘ，ｙ）＝｜Ｆ（ｘ，ｙ）｜2＋｜Ｒ（ｘ，ｙ）｜2
＋２Ａ（ｘ，ｙ）ｒ（ｘ，ｙ）ＣＯＳ [２παｘ−φ（ｘ，ｙ）]   （７）
となる．物体波と参照波が干渉して干渉縞を形成していることがわかる。
【０１８１】
このように、物体波に参照波を重ね合わせて干渉記録し、  物体の位相情報を欠落させずに記録する方法がホログラフィである。（７）を記録したものが「ホログラム」と呼ばれる。ホログラムの振幅透過率もしくは振幅反射率が、記録した強度分布  Ｉ（ｘ，ｙ）
比例し、
Ｔ（ｘ，ｙ）＝τＩ（ｘ，ｙ）                                         （８）
とかけるとする。このホログラムに、記録したときに用いた参照波を所定の角度であてると、ホログラムを透過もしくは反射してきた波面は、
Ｔ（ｘ，ｙ）Ｒ（ｘ，ｙ）＝τ（｜Ｆ（ｘ，ｙ）｜2＋｜Ｒ（ｘ，ｙ）｜2  ）
＋τＦ（ｘ，ｙ）｜Ｒ（ｘ，ｙ）｜2
＋τＦ*（ｘ，ｙ）Ｒ2（ｘ，ｙ）             （９）
とあらわすことが出来る．この第２項は
τＦ（ｘ，ｙ）｜Ｒ（ｘ，ｙ）｜2＝
τＡ（ｘ，ｙ）ｒ2（ｘ，ｙ）ＥＸＰ[ｉφ（ｘ，ｙ）]] （１０）
第３項は、
τＦ＊（ｘ，ｙ）Ｒ2（ｘ，ｙ）＝
τＡ（ｘ，ｙ）ｒ2（ｘ，ｙ）ＥＸＰ[−ｉφ（ｘ，ｙ）＋２πｉα]  （１１）
とかける。
【０１８２】
このことから、（９）の第１項は、照明光と同じ方向にホログラムを突き抜ける光束もしくは正反射する光束であり、第２項は、(１０)より、物体光に比例した振幅を持つ光波であることがわかり、第３項は、(１１)より、物体波と共役な位相分布を持ち、２θの方向に伝播する光波であることがわかる。
【０１８３】
このようにして，ホログラフィの技術を使うと複素振幅分布を記録して再生することが出来る。
【０１８４】
本発明の場合は、ホログラムの振幅透過率もしくは振幅反射率が、記録した強度分布に比例し、（８）の式で表されてはいるものの、このホログラムに、記録したときに用いた参照波を所定の角度であてるのではなく、「シート状薄膜光源層」からの「光」が、その「参照波」の「役割」を果たすこととなる（参照波とは同一とならないが、その『位置づけ』は同じという意味。）。
【０１８５】
そして、この「光」に、（８）の  Ｔ（ｘ，ｙ）を掛けたものが、ホログラム再生像となる。すなわち、（９）のＲ（ｘ，ｙ）が、この「光」に置き換わり、それに従った（１０）や（１１）が出現する。
【０１８６】
従って、「参照光」にホログラムに記録された位相項を付与するという従来のホログラム再生の原理によらず、その「光」に、既にホログラムに記録されている位相項が付与されて進むものである。
【０１８７】
従来のホログラム再生原理を、透過タイプについて、単純化して説明すると、参照光としての平行光をホログラムにあてた際、遮蔽部分では、平行光が遮蔽され、透過部分からのみその平行光を透過し、透過部分と遮蔽部分との境界において回折が起こり、物体の持つ位相項を受け取り、ホログラムを透過した成分全体が重ね合わさり、それがホログラム再生光となって観察者の目に届くものである。
【０１８８】
本発明の場合は、上記した参照光としての平行光が存在せず、ホログラムレリーフの極めて近傍（数μｍ〜数十μｍ。）に設けられた、「シート状薄膜光源層」からの、いわば「平面発光面」での発光が、その極めて近傍にある「透明樹脂層」と「透明層」との「界面」が成しているホログラムレリーフを照明し、通過することで、その透過光が物体の位相項を保持して、その通過光同士の干渉現象により、ホログラム再生がなされるものである。
【０１８９】
時間的且つ空間的コヒーレンス性を完全には持たない放射光（もしくは、通過光）同士の干渉効果は、レーザー光のような十分な干渉を生じないが、少なくとも、離間した距離からの低コヒーレント光でホログラムを照明した際と同様のレベルでホログラム再生が行われる。
【０１９０】
以上のような原理による再生であるため、ホログラム撮影時の参照光は平行光であることが好ましく（複雑な参照光を再現できないため。）、もしくは、「回折格子により表現されたホログラム」（回折格子は、物体光、参照光とも平行光である。）であることが好ましく、回折格子は、計算機ホログラム（ＣＧＨ）等、電子線描画により形成したものが精密であり、好適である。
【０１９１】
さらに、上記の理由から、ホログラム再生像をより鮮明にするためには、放射光に対して、時間的若しくは空間的なコヒーレンス性に関する特性を付与（付加）することが好ましく、例えば、発光体の発光する部分の厚さ（放射方向の距離）を薄いものとして、発光点の厚さ方向における「ばらつき」を小さいものとしたり、発光層その他の層を均一（層厚さを均一にしたり、均一分散や、均一組成とするなど、層内のムラをなくすこと。）にして、発光スペクトルの「ばらつき」や、発光スペクトルの「幅」を小さいものとすることが望ましい。
【０１９２】
また、ホログラムを光学的に記録する際に使用する光の「主波長（参照光の波長。）」や、回折格子等を形成する際に想定する回折光の「主波長（照明光として想定した波長。）」と、エレクトロルミネッセンス素子からの発光波長を同一、乃至は、ほぼ同一（その差を数ｎｍ〜１０ｎｍとする。）とすることで、より鮮明なホログラム再生像を得ることができる。
【０１９３】
もちろん、偽造防止性を高めるために、敢えて、発光する波長をホログラム記録時の波長と異ならせることも好適である。その場合は、再生波長が異なることによる、ホログラム再生像の変形や、回折角度の変化を理論的に予想し、あらかじめ確認しておくことが必須となる。
【０１９４】
さらに、エレクトロルミネッセンス素子形成領域の部分的なばらつき、すなわち、形成場所による発光波長や、発光強度のばらつきは、ホログラム再生像の品質を劣化させるため、発光層の均一性は重要となる。
【０１９５】
少なくとも、発光波長のピーク値の部分的なばらつき（ある１ｍｍ径のスポット領域と、それに隣接する１ｍｍ径のスポット領域との差など。）や半値幅のばらつきは、３０ｎｍ以内、発光強度ばらつきは１０％以内であることが好適である。発光波長のピーク値や、半値幅のバラツキが３０ｎｍを超えると、ホログラム再生像の再生位置のばらつきが発生し、ホログラム再生像がボケて不鮮明となる。また、発光強度のばらつきが１０％を超えると、光の干渉にもばらつきが発生し、結果的に不鮮明な再生となる。
【０１９６】
また、エレクトロルミネッセンス素子を多数の微細なスポット（例えば、網点状等）として、離散させて設けた場合（発光層のみを網点状とする等、素子全体を離散的に設けても良いし、単層乃至は複数の層のみを離散的に設けても良い。）には、発光量が減少し、全体的な明るさは低下するものの、個々のスポットに隣接する領域から発光した光がでないため、ホログラム再生像のシャープさが増し、好適である。
【０１９７】
但し、このスポットの大きさや、発光層等の厚さが、ホログラムレリーフとは無関係にそのホログラム面上に離散的に形成されている場合には、その大きさ分布や、厚さ分布に起因する蛍光発光強度分布が、場合によっては、ホログラムを再生する光と不要な干渉を生じ、もしくは、あるべき干渉を撹乱し、ホログラム再生像を不鮮明にする要因となり得る。
【０１９８】
この要因を排除するため、発光層を、連続して形成する場合、及び、離散的に形成する場合においても、それぞれを、均一な厚さ、そして、均一な分布で形成して、シート状薄膜ＥＬ層のどの領域からも、同一の強度の発光が生じるようにし、ホログラム再生像の鮮明化を図ることが必要である。
【０１９９】
本発明のホログラムシートは、室内照明光や、自然光照明下では、ホログラム再生像があまり認識できず、電圧を印加した時のみ（『シート状薄膜光源層』を発光させた時のみ。）、突然、ホログラム再生像が出現し、まったく照明光のないところに、ホログラム再生像が浮き上がっているように観察される。
【０２００】
但し、陰極の金属層が高い反射性を有しているため（あくまで、『例示の一つとして』考慮した場合という意味。）、この層の反射により、鏡のような反射光が視認できることになる。そこで、陰極そのものも透明層として、室内照明光や、自然光照明下では、ホログラムの存在を全く認識できないようにすることも偽造防止性の向上や、意外性という意味での意匠性の向上に寄与する。
【０２０１】
本発明のホログラムシートのホログラム再生像は、空間的なホログラムの位相を含んでいるとはいえ、その発光した光同士の時間的及び空間的なコヒーレント性は小さく、このホログラム再生像は、「レーザー光」で再生したレリーフホログラムの再生像より光の強度が微弱（結像が弱いという意味。）であって、且つ、より不鮮明（同左。）となっている。
【０２０２】
もちろん、いわゆる「ビーム形状」の回折光を観察するのみ（適宜な受光素子で受光する等。）であれば、その色調と回折方向を確認することは容易であり、そのままでも真正性の判定に差し支えないものの、この微弱、且つ、不鮮明なホログラム再生像を観察者が認識しその存在を正確に判定可能とするために、発光体の発光性能を向上させ、且つ、回折角度を大きくとって波長―回折角依存性を強め、０次回折光の角度と発光の回折角度の差を大きくし、さらには、発光層を薄くして、発光層厚さ方向のばらつきを抑え且つ均一なものとすることも好適である。
【０２０３】
さらには、時間的なコヒーレント性をより強く発現するため、電圧の印加をパルス状とし、パルスとパルスの時間的間隔を蛍光等の発光時間である１０-7ｓｅｃ以上あけて照明することも好適である。これにより、一つの印加パルスによって生じた一つの蛍光の発光面が、次の印加パルスによって生じた蛍光の発光面とは、互いに撹乱現象を起こさず、一つのパルスによって発現した一つの蛍光発光面によって生じるホログラフィックな干渉現象により、鮮明なホログラム再生像を観察することができるようになる。もちろん、単純に秒単位でＯＮ−ＯＦＦする電圧印加手法（手動でも可能なレベル。）を使用した場合でも、観察者には、連続して発光しているようにも見えるため、このような簡易な手段であっても目視で確認する場合には、上記した効果を十分得ることができる。
【０２０４】
本発明のホログラムシートにおいては、「シート状薄膜発光層」の表面からホログラム形成層のホログラムレリーフ面までの距離を極力大きくすることで、「シート状薄膜発光層」の中の一つの発光点から発する「指向性を帯びた光の波」が、ホログラムレリーフの比較的大きな領域を照明する（多くの凹凸を同一の波面が照明するという意味。）ものとすることができ、これにより、より鮮明なホログラム再生像を得ることができる。
【０２０５】
以上のことから、シート状薄膜ＥＬ層の厚さは、すなわち、素子全体の厚さは、薄く形成することが好適であり、ホログラムレリーフの凹凸の深さや、ピッチの大きさに対して、同じレベルとすることが望ましく、０．０１μｍ〜２．０μｍであることが好ましい。
【０２０６】
この厚さが、０．０１μｍ、すなわち、１０ｎｍ未満であれば、素子としての性能が不十分であり、２．０μｍを超えると、鮮明なホログラム再生像を得難くなる。
【０２０７】
本発明のホログラムシートに用いられる「ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層（ホログラム形成層）」及び、「透明層」は、透明な樹脂材料を用いることができ、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。
【０２０８】
但し、その両層の屈折率差は、上記した条件を満足するものに設定するが、例えば、０．０１〜０．５、特には、０．０１〜０．１、さらには、０．０１〜０．０５とし（しかも、『透明樹脂層の屈折率』＞『透明層の屈折率』とすることで、『入射角＜屈折角』として、屈折光をより広がる光とすることも好適である。）、且つ、「ホログラム形成層」のホログラムレリーフを覆うように「透明層」を、グラビアコーティング方式、ロールコーティング方式、カーテンコート方式、ステンレススクリーン印刷方式、凹版印刷方式、インクジェット方式、転写方式等で形成する際、その「ホログラム形成層」のホログラムレリーフ面に、すなわち、「ホログラム形成層」と「透明層」との「界面」に、不要な変形やキズやムラを発生させないように配慮する。
【０２０９】
このため、「透明層」を形成するために用いられる「透明層」用インキ組成物において、用いられる樹脂材料が「ホログラム形成層」に用いられている樹脂とは相溶し難く、且つ、用いられる溶剤系が、「ホログラム形成層」に用いられている樹脂を溶解し難いものとする。
【０２１０】
そして、この両層の屈折率差を、０．０１〜０．１、特には、０．０１〜０．０５のような僅かな差とした際には、その「差」を安定させ、且つ、シート全体に渡って均一なものとするため、両層に用いる樹脂材料には、屈折率安定性が高いもの、すなわち、熱的安定性が高く（膨張や収縮によってその樹脂の屈折率が変化するため。）、溶剤や水分によって変性し難い材料を選定する。
【０２１１】
また、「透明層」の厚さは、ホログラム形成層と同様の目的において、ほぼ同様の厚さ、すなわち、１μｍ〜５０μｍ、特には、１μｍ〜１０μｍとする。
【発明の効果】
【０２１２】
本発明のホログラムシートによれば、
透明基材の一方の面に、シート状薄膜光源層、ホログラム画像に対応したホログラムレリーフを有する透明樹脂層、及び、前記ホログラムレリーフを覆うように透明層をこの順序で設けて、シート状薄膜光源層が所定の波長で発光したとき、その所定の波長で光るホログラムを視認することができるホログラムシート及びこのホログラムシートをカード基材に埋め込んだホログラム付きカードを提供することができる。
【０２１３】
そして、シート状薄膜光源層で発光した光そのものが、「指向性を帯びた光」となって「ホログラムレリーフ」を通過し、再生する透過型のレリーフホログラム再生像がより鮮明となるホログラムシートを提供して、新規な装飾性及び、これを応用する偽造防止性を提供することができる。
【０２１４】
特には、カード基材として、電池内臓型ＩＣカード基材を用い、しかも、そのＩＣ駆動用電池が、前記ホログラムシートの発光用電源をも兼ねることで、その意匠性や偽造防止性を一層高めたホログラム付きカードを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０２１５】
【図１】は、ジャブロンスキー図である。
【図２】は、本発明の一実施例を示すホログラムシートＡの断面図である。
【０２１６】
（『シート状薄膜光源層』の代表例である『シート状薄膜ＥＬ層３（1層で表わ            している。）』が、『透明基材１』上に『平板状』に設けられている例である            。）
【図３】は、本発明の一実施例を判定するプロセスである。
【０２１７】
（観察状態を示した図。照明光４は、室内照明光等の可視光線。照明光４の照明            による『ホログラム再生像５』は、視認できない。所定の電極から所定の『電            圧を印加した状態６』とすると、『緑色の透過型ホログラム再生像７（発光に            よる再生像）』が出現する。）
【図４】は、本発明のホログラムシートＡをカード基材Ｃ０に埋め込み、ホログラムシー          トＡの露出面が、カード基材Ｃ０の表面と面一とした、ホログラム付きカードＣ          １の図である。ここで、ホログラムシートＡ（『ホログラムシートＡ』そのもの          の表示はせず、『ホログラムシートＡ』を構成する層を個々に表示してある。）          を、カード基材Ｃ０の所定の位置に、カード基材Ｃ０の表面とホログラムシート          Ａの最表面（『透明層Ｌ１』の露出面）が「面一」となるように埋め込んでいる          。
【図５】は、本発明のホログラムシートＡをカード基材ＩＣ０（電池内臓型ＩＣカード基          材。）に埋め込んである、ホログラム付きカードＣ２の図である。ここで、カー          ド基材ＩＣ０は、接触式ＩＣカードであって、その構成を詳細に図示している。          また、ホログラムシートＡは、そのカード基材ＩＣ０に埋め込まれると同時に、          セキュアマイコンＩＣ１駆動用の内蔵電池ＩＣ２（ＩＣ駆動用電池。『ホログラ          ムシート発光用電源』をも兼ねている。）から、発光用の電力を供給されており          （リード線を表示。）、且つ、ホログラムシートＡの露出面が、カード基材ＩＣ          ０の表面と「面一」となっている（この『面一』の状態は図示せず。）。
【発明を実施するための形態】
【０２１８】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しながら、詳細に説明する。
【０２１９】
以下の説明においても、「シート状薄膜光源層」として、「シート状薄膜ＥＬ層３（『エレクトロルミネッセンス層』とも称す。）」を主として説明するが、他の「光源層」においても同様に適用できるものである。
【０２２０】
（透明基材）本発明で使用される透明基材１は、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や、ホログラムシートＡを製造する際の加工に耐える耐溶剤性および耐熱性を有するものが好ましい。使用目的にもよるので、限定されるものではないが、フィルム状もしくはシート状のプラスチックが好ましい。（図２参照。）
例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、ポリエチレン／ビニルアルコール等の各種のプラスチックフィルムを例示することができる。
【０２２１】
その中でも、紫外線等の励起光に対する耐性を有するもの、例えば、紫外線吸収剤を含むものであってもよい。紫外線吸収剤を含むものは、自然光等の中に含まれる紫外線により微かではあるが、予定外のホログラム再生を防ぐ効果も有する。
【０２２２】
透明基材１の厚さは、通常５〜１００μｍであるが、表面の「光学的鏡面性」を配慮する場合（『光学的鏡面性』を有する『透明基材１』とするという意味。）や、結果として、ホログラム再生像の視認性を向上させるために、５〜５０μｍ、特に５〜２５μｍとすることが望ましい。
【０２２３】
（ホログラムレリーフを有する透明樹脂層：ホログラム形成層ともいう。）
本発明のホログラムシートＡの透明基材１上に、薄膜で且つ平板状に設けたシート状薄膜ＥＬ層３を設け、その上に、「ホログラムレリーフを有する透明樹脂層２（ホログラム形成層２）」を設ける。（図２参照。）
ホログラム形成層２を構成するための透明な樹脂材料としては、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。
【０２２４】
熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、すなわち、ポリメチルメタクリレート（屈折率ｎ＝１．４９）、ポリメチルアクリレート（ｎ＝１．４７）、ポリベンジルメタクリレート（ｎ＝１．５７）、ポリブチルアクリレート（ｎ＝１．４４）、ポリイソブチルアクリレート（ｎ＝１．４８）等、セルロース系樹脂、すなわち、硝酸セルロース（ｎ＝１．５４）、メチルセルロース（ｎ＝１．５０）、セルロース・アセテートプロピオネート（ｎ＝１．４７）等、ビニル系樹脂、すなわち、ポリ酢酸ビニル（ｎ＝１．４７）、ポリ塩化ビニル・酢酸ビニル（ｎ＝１．５４）等、アクリルアミド樹脂（ｎ＝１．５０）、もしくはポリスチレン樹脂（ｎ＝１．６０）等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂（ｎ＝１．６４）、アクリルウレタン樹脂（ｎ＝１．６０）、エポキシ変性アクリル樹脂（ｎ＝１．５５）、メラミン樹脂（ｎ＝１．５６）、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂（ｎ＝１．６４）、アルキッド樹脂（ｎ＝１．５４）、フェノール樹脂（ｎ＝１．６０）、シリコン樹脂（ｎ＝１．４１〜１．６０）、もしくは、フッ素化樹脂（ｎ＝１．３５〜１．３８）等が挙げられる。
【０２２５】
これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、１種もしくは２種以上を使用することができる。これらの樹脂の１種もしくは２種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。
【０２２６】
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。
上記の樹脂材料を用いてホログラム形成層２を形成するには、感光性樹脂材料にホログラムの干渉露光を行なって現像することによって直接的に形成することもできるが、予め作成したレリーフホログラムもしくはその複製物、またはそれらのメッキ型等を複製用型として用い、その型面を、透明基材1上に、コーティング方式、グラビア印刷方式、カーテンコート方式、インクジェット方式等種々の形成方式を用いて、上記の樹脂を、１μｍ〜５０μｍ、特には、１μｍ〜１０μｍの厚さに形成したホログラム形成層２に押し付けることにより、賦型を行なうのがよい。（図２参照。）
ホログラム形成層２には、エレクトロルミネッセンス素子による発光波長（所定波長）に対する高い透明性を有することが要求される。
【０２２７】
熱硬化性樹脂や電離放射線硬化性樹脂を用いる場合には、型面に未硬化の樹脂を密着させたまま、加熱もしくは電離放射線照射により、硬化を行わせ、硬化後に剥離することによって、硬化した透明な樹脂材料からなる層の片面にレリーフホログラムの微細凹凸を形成することができる。なお、同様な方法によりパターン状に形成して模様状とした回折格子を有する回折格子形成層も光回折構造として使用できる。
【０２２８】
ホログラムは物体光と参照光との光の干渉による干渉縞を凹凸のレリーフ形状で記録されたもので、例えば、フレネルホログラムなどのレーザ再生ホログラム、及びレインボーホログラムなどの白色光再生ホログラム、さらに、それらの原理を利用したカラーホログラム、コンピュータジェネレーティッドホログラム（ＣＧＨ）、ホログラフィック回折格子、ホログラフィックステレオグラムなどがある。また、マシンリーダブルホログラムのように、その再生光を受光部でデータに変換し所定の情報として伝達したり、真偽判定を行うものであってもよい。
【０２２９】
いずれにしても、「透過型ホログラム」として記録することが必要である。
【０２３０】
微細な凹凸を精密に作成するため、光学的な方法だけでなく、電子線描画装置を用いて、精密に設計されたレリーフ構造を作り出し、より精密で複雑な再生光を作り出すものであってもよい。このレリーフ形状は、ホログラムを再現もしくは再生する光もしくは光源の波長（域）と、再現もしくは再生する方向、及び強度によってその凹凸のピッチや、深さ、もしくは特定の周期的形状が設計される。
【０２３１】
また、カラーホログラム画像を、回折格子線からなる回折格子画素（同一の回折格子線からなる単一回折格子エリアの最小単位。これら画素から回折光としてでてくる光の集合が一つのカラーホログラム画像を形成する。）に要素分解し、所定の画素のサイズ、格子線ピッチ、格子線角度をその各要素に割り当てて再現するという画像処理方法を用いて形成することも可能である。
【０２３２】
凹凸のピッチ（周期）は再現もしくは再生角度に依存するが、通常０．０１μｍ〜数μｍであり、凹凸の深さは、再現もしくは再生強度に大きな影響を与える要素であるが、通常０．０１μｍ〜数μｍである。
【０２３３】
単一回折格子のように、全く同一形状の凹凸の繰り返しであるものは、隣り合う凹凸が同じ形状であればある程、反射する光の干渉度合いが増しその強度が強くなり、最大値へと収束する。回折方向のぶれも最小となる。立体像のように、画像の個々の点が焦点に収束するものは、その焦点への収束精度が向上し、再現もしくは再生画像が鮮明となる。
【０２３４】
ホログラムレリーフ形状を賦形（複製ともいう）する方法は、回折格子や干渉縞が凹凸の形で記録された原版をプレス型（スタンパという）として用い、上記シート状薄膜ＥＬ層３上にコーティング方法等、適宜な印刷方法により形成したホログラム形成層２上に、前記原版を重ねて加熱ロールなどの適宜手段により、両者を加熱圧着することにより、原版の凹凸模様を複製することができる。形成するホログラムパターンは単独でも、複数でもよい。
【０２３５】
上記の極微細な形状を精密に再現するため、また、複製後の熱収縮などの歪みや変形を最小とするため、原版は金属を使用し、低温・高圧下で複製を行う。
【０２３６】
原版は、Ｎｉなどの硬度の高い金属を用いる。光学的撮影もしくは、電子線描画などにより形成したガラスマスターなどの表面にＣｒ、Ｎｉ薄膜層を真空蒸着法、スパッタリングなどにより５〜５０ｎｍ形成後、Ｎｉなどを電着法（電気めっき、無電解めっき、さらには複合めっきなど）により５０〜１０００μｍ形成した後、金属を剥離することで作ることができる。
【０２３７】
複製方式は、平板式もしくは、回転式を用い、線圧０．１トン／ｍ〜１０トン／ｍ、複製温度は、通常６０℃〜２００℃とする。
【０２３８】
ホログラム形成層２は、そのレリーフ形状を形成する際の、シート状薄膜ＥＬ層３へのダメージを抑制するため、電離放射線硬化型（特に、紫外線硬化型。）とすることが好ましく、レリーフ形成後にさらに硬化度を向上させるための、追加の加熱処理や、追加電離放射処理をするものが、さらに好ましい。
【０２３９】
また、電圧を印加した際の電気的絶縁性を確保するため、導電性がなく、絶縁性の高いものが望ましく、絶縁破壊強さ（ＡＳＴＭ−１４９）で、１５ＭＶ／ｍ以上、さらには、２０ＭＶ／ｍ以上のものが望ましい。絶縁破壊強さは、ガラス粉等の充填剤を混入することで、より高い値とすることができるが、本発明の目的から、光学的透明性が要求されるため、絶縁破壊強さは、高いものでも、５０ＭＶ／ｍ以下となる。
【０２４０】
絶縁破壊強さが、１５ＭＶ／ｍ未満では、エレクトロルミネッセンス素子への印加電圧が安定せず、発光がムラとなることで、ホログラム再生像が劣化する。また、電気が漏れることによる感電の不安が残る。
【０２４１】
このことを考慮して、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いること好適であって、熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、もしくはポリスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、メラミン樹脂、尿素樹脂、アニリン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、等が挙げられる。
【０２４２】
但し、ホログラム形成層そのものが、エレクトロルミネッセンス素子における陽極の役目をする場合には、これとは逆に、導電性を有する樹脂を用い、その樹脂層にホログラム形成レリーフを施すことも、好適である。この場合には、層構成が簡易となり、また、透明導電性薄膜を形成する際の種々の負荷を避けることが可能となる。
（透明層）
本発明のホログラムシートＡの透明基材１上に、薄膜で且つ平板状に設けたシート状薄膜ＥＬ層３を設け、その上に、「ホログラムレリーフを有する透明樹脂層２（ホログラム形成層２）」を設けて、さらに、そのホログラム形成層２のホログラムレリーフを覆うように（『レリーフ』を埋めるように。）、透明層Ｌ１を形成する。（図２参照。）
透明層Ｌ１に用いられる材料としては、透明性を有する、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いることができる。
【０２４３】
熱可塑性樹脂としてはアクリル酸エステル樹脂、すなわち、ポリメチルメタクリレート（屈折率ｎ＝１．４９）、ポリメチルアクリレート（ｎ＝１．４７）、ポリベンジルメタクリレート（ｎ＝１．５７）、ポリブチルアクリレート（ｎ＝１．４４）、ポリイソブチルアクリレート（ｎ＝１．４８）等、セルロース系樹脂、すなわち、硝酸セルロース（ｎ＝１．５４）、メチルセルロース（ｎ＝１．５０）、セルロース・アセテートプロピオネート（ｎ＝１．４７）等、ビニル系樹脂、すなわち、ポリ酢酸ビニル（ｎ＝１．４７）、ポリ塩化ビニル・酢酸ビニル（ｎ＝１．５４）等、アクリルアミド樹脂（ｎ＝１．５０）、もしくはポリスチレン樹脂（ｎ＝１．６０）等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂（ｎ＝１．６４）、アクリルウレタン樹脂（ｎ＝１．６０）、エポキシ変性アクリル樹脂（ｎ＝１．５５）、メラミン樹脂（ｎ＝１．５６）、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂（ｎ＝１．６４）、アルキッド樹脂（ｎ＝１．５４）、フェノール樹脂（ｎ＝１．６０）、シリコン樹脂（ｎ＝１．４１〜１．６０）、もしくは、フッ素化樹脂（ｎ＝１．３５〜１．３８）等が挙げられる。
【０２４４】
これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、１種もしくは２種以上を使用することができる。これらの樹脂の１種もしくは２種以上は、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。
【０２４５】
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。
【０２４６】
但し、ホログラム形成層２の屈折率と、透明層Ｌ１の屈折率との屈折率差を、上記した条件を満足するものとし、例えば、０．０１〜０．５、特には、０．０１〜０．１、さらには、０．０１〜０．０５となるように選定する。
【０２４７】
このとき、ホログラム形成層２の屈折率と、透明層Ｌ１の屈折率は、どちらが大きくてもよい。（この両層の「界面」での反射率は、フレネルの公式によって決まり、単にその「屈折率差」のみに依存する。但し、透過光効率を大きくするためには、『ホログラム形成層２の屈折率』＜『透明層Ｌ１の屈折率』とし、透過屈折光を広げるためには、『ホログラム形成層２の屈折率』＞『透明層Ｌ１の屈折率』とする。）
また、透明層Ｌ１に用いる樹脂は、ホログラム形成層２を構成する樹脂に対する相溶性が低いものを選定し、且つ、透明層Ｌ１用インキ組成物に用いる溶剤系は、ホログラム形成層２を溶解し難いものとする。
【０２４８】
透明層Ｌ１をホログラム形成層２の上に形成する方法は、ホログラム形成層２と同様の方法を用いることができるが、透明層Ｌ１形成後のその最表面がより「平坦」とすることができる方法がより好ましい。もちろん、この最表面をより「平坦」なものとするため、その表面を鏡面仕上げしたステンレス板を用いて、その最表面に対して熱プレス処理等を行う、いわゆる「鏡面処理」を施して、「光学的な鏡面」とすることも好適である（表面を上記した『粗面』形状に仕上げたステンレス板を用いると、その最表面を上記した『粗面』とすることができる。）。
【０２４９】
透明層Ｌ１の厚さは、上記したように、１μｍ〜５０μｍ、特には、１μｍ〜１０μｍの厚さとする。
（『シート状薄膜光源層』の代表例としての『シート状薄膜ＥＬ層』、及び、その他の『シート状薄膜光源層』）
シート状薄膜ＥＬ層３は、透明基材１の上に、構成する層を順次設けていくことで、形成される。（図２参照。図２において、シート状薄膜ＥＬ層３の詳細構成は表示していない。）
このシート状薄膜ＥＬ層３として、有機エレクトロルミネッセンス素子、または、無機エレクトロルミネッセンス素子のいずれを用いる場合にも、まず「電極」である、陽極若しくは陰極から形成する。以下では、陽極から形成する例について説明する。この方法と同様にして陰極から設けていくことは容易に推察できる。
【０２５０】
陽極の材料としては、例えば、ＩＴＯ薄膜（インジウム・スズ酸化物薄膜）、酸化インジウム、錫ドープ酸化錫、アンチモンドープ酸化錫、亜鉛ドープ酸化錫、フッ素ドープ酸化錫、酸化亜鉛等の透明導電性材料、ポリアニリン、ポリピロール、ポリアセチレン、ポリアルキルチオフェン誘導体、ポリシラン誘導体等の導電性高分子等、を使用して形成することができる。
【０２５１】
陽極の形成方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ法）、スピンコート法、キャスト法を用いたゾルゲル法、スプレイパイロリシス法、イオンプレーティング法等の方法、さらには、所望の組成の塗布液を塗布して形成する方法等を採用することができる。
【０２５２】
特に、電子ビーム加熱真空蒸着法や、高周波マグネトロンスパッタリング法を採ることが好ましい。具体的には、真空度１×１０-7〜１×１０-3Ｐａ、成膜速度０．１〜５０ｎｍ／秒、基材温度−１０〜１００℃の条件で成膜する。
【０２５３】
陽極の代表的なものは、透明導電性薄膜である、ＩＴＯ薄膜であり、透明基材１上に、電子線加熱真空蒸着法により、例えば３００ｎｍ程度形成する。
【０２５４】
透明導電性薄膜の導電性は、その表面抵抗値で管理しており、０．１Ω／□以下となるよう、インジウムと錫の加熱速度や、導入する酸素ガスの量を制御する。
【０２５５】
透明基材１の表面に対して、この薄膜形成による加熱や、金属粒子の衝突等の衝撃によって、その平面性に変化を生じないよう、透明基材１を十分冷却し、高速で処理する。従って、膜厚さを薄く形成する。
【０２５６】
透明導電性薄膜の膜厚さ制御を十分行い、膜厚さばらつきが、数％以内にとどめ（３００ｎｍの数％→１０ｎｍレベル）、透明導電性薄膜の表面（透明基材１と接着している面とは反対の面）が、透明基材１の表面とほぼ同一の形となるようにする。
【０２５７】
透明基材１へのダメージをさらに軽減するために、ＣＶＤ法（化学蒸着法)等を用いることもできる。ＣＶＤ法の場合は、透明基材１へのダメージはほとんど無いが、薄膜形成後の加熱処理等付加的な処理を要し、薄膜の表面性もやや粗いものとなる。
【０２５８】
次に、形成する層は、無機エレクトロルミネッセンス素子の場合には、最も単純な構成としては、この透明導電性薄膜上に、絶縁層を設ける。
【０２５９】
絶縁層として用いられる材料は、具体的には、Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｔａ2Ｏ5、ＳｉＯ2、Ｓｉ3Ｏ4等の非晶質酸化物、ＢａＴｉＯ3、ＰｂＴｉＯ3等の強誘電体、ＳｉＮｘ、ＳｉＯＦ、ＳｉＯＣ、Ｐｂ（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3、（Ｐｂ、Ｌａ）（Ｚｒ，Ｔｉ）Ｏ3、Ｂｉ4Ｔｉ3Ｏ１2、さらにはぺロブスカイト型強誘電体、タングステン・ブロンズ型強誘電体、ビスマス層状構造強誘電体等を挙げることができる。
【０２６０】
さらに、π電子系の酸−塩基二成分型有機物を利用した有機強誘電体、例えば、クロラニク酸、ブロマニル酸等のような強い酸性度（Ｈ+（プロトン）の供与能）の水酸基を有するジヒドロキシ−ｐ−ベンゾキノン類、あるいは、クロラニル酸を酸として、ベンゼン環にプロトン受容基の窒素原子を組み入れたフェナジン（Ｐｈｚ）を塩基として作用させ、１：１の分子化合物としたもの等、さらに、分子間で水素結合を形成して一次元のネットワークを形成したこれらの集合構造分子も使用することもできる。
【０２６１】
その形成方法は、スパッタリング法、真空蒸着法、化学蒸着法（ＣＶＤ法）、スピンコート法、キャスト法を用いたゾルゲル法、スプレイパイロリシス法、イオンプレーティング法等の方法、さらには、所望の組成の塗布液を塗布して形成する方法等を採用することができる。
【０２６２】
絶縁層である誘電体膜として、代表的には、ＢａＴｉＯ3薄膜を、スパッタリング（Ａｒガス使用）法を用いて、例えば５００ｎｍの厚さで形成する。この場合には、透明基材１上に、既に、金属酸化物薄膜が形成されているため、その透明基材１の表面の耐熱性は比較的高く、比較的容易に薄膜形成を行うことができる。
【０２６３】
この層は、絶縁性を確保するためには、厚い方が望ましい（〜２μｍ）が、透明基材１の表面へのダメージを考慮して、また、均一厚さ、及び、その表面性の滑らかさを確保する必要があるため、１００ｎｍ〜５００ｎｍとすることが好適である。
【０２６４】
ここで、絶縁層を透明導電性薄膜上の隅々まで形成すると、陽極端子を設けることができないため、マスキング法により、透明導電性薄膜上の一部を、その後に設けるホログラムの大きさとのバランスを考慮して、例えば、５０ｍｍ×４０ｍｍサイズのホログラムの場合には、２ｍｍ×４ｍｍサイズのマスキングを施して、絶縁層を形成する。
【０２６５】
さらにその上に、無機エレクトロルミネッセンス素子用の発光層を設ける。
【０２６６】
発光層は、所望の発光色の発光蛍光体を用いて形成されたものであり、例えば、赤色発光蛍光体として、ＺｎＳ、Ｍｎ／ＣｄＳＳｅ等、緑色発光蛍光体として、ＺｎＳ：ＴｂＯＦ、ＺｎＳ：Ｔｂ等、青色発光蛍光体としては、ＳｒＳ：Ｃｅ、（ＳｒＳ：Ｃｅ／ＺｎＳ）n、ＣａＧａ2Ｓ4：Ｃｅ、Ｓｒ2Ｇａ2Ｓ5：Ｃｅを挙げることができる。また、白色発光蛍光体として、ＳｒＳ：Ｃｅ／ＺｎＳ：Ｍｎ等が挙げられ、これらの蛍光体を適宜選択して、用いることができる。
【０２６７】
発光層としては、代表的には、母体にＺｎＳを用い、発光中心にＭｎを添加したものを、スパッタリング（Ａｒガス使用）法を用いて、例えば１μｍ厚さで形成する。
【０２６８】
この発光層も、上記した各層の厚さの均一性、界面の滑らかさを確保できる成膜方法を採用する。
【０２６９】
発光層形成時にも、上記した位置に同様のマスキング処理を施す。
【０２７０】
この上に設ける陰極は、アルミニウム、金、銀、白金、銅、鉄、銀・マグネシウム合金等の金属薄膜や、グラファイトなどを厚さ、５０〜５００ｎｍで形成する。代表的には、アルミニウム薄膜でよく、真空蒸着法で安定的に、例えば、３００ｎｍ厚さで形成することができる。
【０２７１】
陰極形成時にも、上記した位置に同様のマスキング処理を施す。
【０２７２】
以上の様にして、透明基材１上に、無機エレクトロルミネッセンス素子からなる、シート状薄膜ＥＬ層３を、その透明基材１の平面性を維持しつつ、設けることができる。そして、このシート状薄膜ＥＬ層３を陰極側から観察した場合、アルミニウム金属面の一部に、陽極である透明導電性薄膜層が露出して見える。
【０２７３】
この陽極と、陰極の間に、電圧１００Ｖ１００〜１０００Ｈｚの交流電圧を印加すると（『電圧を印加した状態６』となる。以下、単に電圧の『印加６』とも略す。）、エレクトロルミネッセンス層（シート状薄膜ＥＬ層３）において、陽極側より発光が生じ、エレクトロルミネッセンス層（シート状薄膜ＥＬ層３）の上に設けるホログラム形成層２を通して、所定波長の発光に応じた「色」の透過型ホログラム再生像、例えば、「緑色の透過型ホログラム再生像７」を視認することができる。（図３参照。）
次に、有機エレクトロルミネッセンス素子について説明すると、上記した、透明導電性薄膜層の上に、発光層となる有機薄膜を形成し、陰極で挟んだものが最も単純な有機エレクトロルミネッセンス素子からなるエレクトロルミネッセンス素子３となる。
【０２７４】
発光層は、主材料（ホスト材料）と不純物材料（ドーパント材料）との２成分系であり、発光する不純物材料は、０．１〜１％添加で主材料中に均一に分散されている。
【０２７５】
有機薄膜の電子移動度は、高速応答を目的とするものではないため、比較的小さいものでも用いることができ、１×１０-6ｃｍ2 ／Ｖ・ｓ以上の値とするのが好ましい。
【０２７６】
発光層である有機薄膜に、低分子系を用いる場合には、発光層材料として、ＺｎＰＢＯ（ビス[２−（２−ベンゾキサゾリル）フェノラト]亜鉛）と、ドーピング色素材料として、Ｃｏｕｍａｒｉｎ６（３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−（ジエチルアミノ）コーマリンを用いて、ＣＶＤ法を用いて、５０ｎｍ厚さに形成する。
【０２７７】
発光層である有機薄膜に、高分子系を用いる場合には、発光層材料として、ＰＰＶ（ポリパラフェニレンビニレン）系、正孔層材料として、ＰＥＤＯＴ（ポリ−３，４−エチレンジオキシチオフェン）＋ＰＳＳ（ポリスチレンスルホン酸：ドーパント）共重合体を、コーティング方式により、固形分を０．５％として、乾燥後の厚さ１００ｎｍとする。
【０２７８】
また、有機薄膜に、ベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤や、スチリルベンゼン系化合物、８−キノリノール誘導体を配位子とする金属錯体を併用することも好ましい。また、ジスチリルアリーレン骨格、例えば４，４’一ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフェニル等をホストとし、それに青色から赤色までの強い蛍光色素、例えばクマリン系あるいはホストと同様の蛍光色素をドープしたものを併用することも好適である。
【０２７９】
形成方法としては、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ（ラングミュア・ブロジェット）法、スパッタリング法等の方法を採用することができる。例えば、真空蒸着法により形成する場合は、真空度１×１０-7〜１×１０-3Ｐａ、成膜速度０．１〜５０ｎｍ／秒、基板温度−１０〜１００℃の条件を採ることが好ましい。
【０２８０】
また、結着剤として機能する適宜な樹脂と有機薄膜用の材料とを所定の溶剤に溶かして溶液状態とした後、これをスピンコート法等により薄膜化することによっても、有機薄膜を形成することができる。なお、有機薄膜は、形成方法や形成条件を適宜選択し、気相状態の材料化合物から沈着されて形成された薄膜や、溶液状態又は液相状態の材料化合物から固体化されて形成された膜である分子堆積膜とすることが好ましい。
【０２８１】
これらの上に、陰極層として、金属、合金、それらの酸化物、電気電導性化合物又はこれらの混合物を使用する。具体的には、マグネシウム、アルミニウム、インジウム、リチウム、ナトリウム、セシウム、銀、錫等の一種を単独で、又は二種以上を組み合わせて使用することができる。
【０２８２】
代表的には、陰極層として、アルミニウム薄膜層を上記同様に設け、有機エレクトロルミネッセンス素子からなるシート状薄膜ＥＬ層３を得る。
【０２８３】
有機エレクトロルミネッセンス素子においても、無機エレクトロルミネッセンス素子と同様に、陽極端子を露出させる方法を取る。
【０２８４】
この陽極と、陰極の間に、電圧１０Ｖの直流電圧を印加６すると（その『電圧を印加した状態６』となっている。）、エレクトロルミネッセンス層（シート状薄膜ＥＬ層３）において発光が生じ、陽極側よりその光が放出され、エレクトロルミネッセンス層（シート状薄膜ＥＬ層３）の上に設けるホログラム形成層２、及び、その上に設ける透明層Ｌ１を通して、所定波長の発光に応じた「色」の透過型ホログラム再生像、例えば、「緑色の透過型ホログラム再生像７」を視認することができる。（図３参照。）
また、「シート状薄膜ＥＬ層３」以外の「シート状薄膜光源層」（図示せず。）としては、以下のものを採用することができる。
【０２８５】
まず、「シート状薄膜蛍光層」には、蛍光体を透明な樹脂に均一に分散した樹脂分散型の蛍光インキや、水または溶剤に蛍光体を分散した溶媒分散型の蛍光インキを作製し、それらを用いて、印刷方式や、コーティング方式さらには、インクジェット方式等の種々の形成方法を用いて、透明基材１の上に、均一な厚さで、その全面に、または、部分的に形成することができる。
【０２８６】
樹脂分散型の蛍光インキは、上記した蛍光体を、透明樹脂、例えば、熱可塑性樹脂とし
てはアクリル酸エステル樹脂、アクリルアミド樹脂、ニトロセルロース樹脂、もしくはポ
リスチレン樹脂等が、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂、アクリル
ウレタン樹脂、エポキシ変性アクリル樹脂、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂、アル
キッド樹脂、もしくはフェノール樹脂等に２次凝集を少なくするように、ガラスビーズや
スチールビーズを用いたボールミル、ニーダー、ロールミル等による混練りを十分行い、
溶剤等で粘度調整をして、グラビア方式、オフセット方式、シルクスクリーン方式、カー
テンコート方式、ノズルコート方式、さらには、インクジェット方式を適宜用いて均一な
厚さ、０．０１μｍ〜１０．０μｍに形成することができる。
【０２８７】
特に、シート状薄膜蛍光層の厚さを、０．００３μｍ以上１．０μｍ以下、さらには、０．０１μｍ以上０．５μｍ以下とするためには、樹脂分散型インキの固形分を１〜１０％とし、溶剤若しくは水を溶媒とした塗布膜が、例えば、１０μｍであったときに、溶媒を蒸発させた後の厚さ（蛍光層の厚さ）がその１／１０乃至は１／１００となるようにし、１．０μｍ〜０．１μｍとする。
【０２８８】
溶媒分散型の蛍光インキは、樹脂成分を含まず、蛍光体と溶媒のみであるため、樹脂
分散型よりシート状薄膜蛍光層の厚さを薄くすることができる。
【０２８９】
溶媒としては、水やアルコール系溶剤、もしくは、セルソルブ系、パラフィン系溶剤を
用いて、粒子系の小さい蛍光体を分散保持させ、攪拌しながらカーテンコート、ノズルコ
ート等により透明基材１の上に設けることができる。
【０２９０】
さらには、遅い揮発性の溶剤を数μｍ塗布し（アクリル・塩化ビニル・酢酸ビニル樹脂や、ポリエステル樹脂等に対するケトン系溶剤、例えばシクロヘキサノン等。この溶剤を非溶解性の溶剤で希釈して使用し、残留する成分を０．１μｍ以下にすることも可能である。）、透明基材１の最表面のみを溶解して、その最表面に粘着性を付与し、その上に、蛍光体を粉体のまま吹きかけて、その粘着性の面に接する蛍光体粒子のみが透明基材１面上に残るようにするシート状薄膜蛍光層の形成方法も好適である。
【０２９１】
この方法によると、シート状薄膜蛍光層がほぼ１粒子膜となり、透明基材１面上に均一に形成され、透明基材１側から励起光を当てた場合の蛍光発光面が、透明基材１の平坦な面と同一となる。
【０２９２】
いずれにしても、「シート状薄膜蛍光層」を均一厚さで、且つその中の蛍光体が均一な密度となるように（部分形成の場合には形成してある部分同士が均一に）形成するためには、蛍光体の粒径は小さい方が好ましく、ナノ蛍光体は特に好適である。
【０２９３】
ナノ蛍光体とすることで、「シート状薄膜蛍光層」を励起する「励起光」が、その層内で多重反射現象を生じやすくなり、且つ、「シート状薄膜蛍光層」内で発生した「所定波長の光」が、やはり層内で多重反射現象、さらには、誘導放出現象を発生して、その発光強度や指向性を高めることとなる。
【０２９４】
特に、その「誘導放出現象」を増幅させるため、「シート状薄膜蛍光層」の上の界面、すなわち、「『シート状薄膜蛍光層』と『ホログラム形成層２』との界面」や、「空気と透明層Ｌ１との界面」の、その「所定波長の光」に対する「透過率／反射率」の比率を、９０／１０〜４０／６０とする。好適には、８０／２０〜６０／４０とする。（この比率は、上記した『界面』の一つの性能としてもよいし、上記した『界面』全体の性能としてもよい。）
そして、「シート状薄膜蛍光層」の上の界面、すなわち、「透明基材１とシート状薄膜蛍光層」や、「透明基材１と空気との界面」のその「所定波長の光」に対する「透過率／反射率」の比率を、０／１００〜５０／５０とすることが、好適である。そのために、透明基材１の上、または、下の面に、アルミニウムや銀等の「金属反射層」を適宜な厚さで設けてもよい。
【０２９５】
もちろん、この反射性を持つ「上下の界面」の間の距離は、上記した学術論文に記載のごとく、「所定波長の『長さ』」と同等の長さ、もしくは、それより著しく「短く」することで、その「上下の界面」間に生じる、多重反射現象、及び、誘導放出現象を増幅することができることは言うまでもない。
【０２９６】
以上の「多重反射現象」及び「誘導放出現象」は、本発明の「ホログラムシートＡ」に用いられる、他の「シート状薄膜光源層」にも同様に発生し、各々適宜な「界面」につき、上記の「透過率／反射率」の設定を施すこととなるが、その詳細な説明は省略する。
【０２９７】
蛍光体は、紫外線、電子線、Ｘ線などのエネルギーを吸収して可視光線として放出する物質であり、例えば、母体となるセラミックス結晶にＥｕ やＣｅ などの発光を担う金属イオンが微量添加した材料等がある。この場合、発光に寄与するは金属イオンであり、外から加えられたエネルギー（紫外線、電子線、Ｘ線などや、もちろん可視光線、赤外線等のエネルギー。）を吸収して励起され、その後基底状態に戻る時に発光する。ホスト結晶の格子は金属イオンを取り囲むことによりイオンを化学的に安定化させたり、結晶場や配位環境を整えることにより発光色や発光強度を制御する働きをする。
【０２９８】
本発明は、これらの蛍光発光の内、ストークスシフト（Ｓｔｏｋｅｓ  ｓｈｉｆｔ）によって可視光領域の発光を起こす蛍光体材料を用いる。もちろん、赤外線の励起による可視光領域の発光を起こすものも用いることができる
蛍光体は、一般的に、蛍光体原料を焼成する固相反応法により、製造される。この固相反応法では原料混合物を高い温度で焼成するため、得られる焼成ケーキは、蛍光体粒子が硬く凝集したものとなることが多い。そのため、通常は、蛍光体の製造の際には例えばボールミル、乳鉢等による粉砕工程を行うが、このときの蛍光体粒子の表面の損傷を抑制する方法として、流動式反応器装置を用いて、実質的に単分散の蛍光体−前駆体粒子を、流動する気体中に浮遊させて焼成することにより、凝集していない実質的に単分散の蛍光性粒子を製造する。この方法によれば、１μｍ未満の大きさの蛍光性粒子を製造することができる。
【０２９９】
また、例えば、ＺｎＧａ2Ｏ4：Ｍｎ蛍光体を製造するに際し、焼成を行なう前の蛍光体原料を湿式沈殿法により調製することにより、低温での焼成が可能となり、蛍光体粒子の凝集を抑制することができる。
【０３００】
さらに、例えば、アルカリ土類アルミン酸塩系、またはアルカリ土類珪酸塩系の母体結晶を有する蛍光体の製造方法に関し、Ｓｒを含む蛍光体原料として硝酸ストロンチウムを用い、原料混合液又は懸濁液を所望の粒径となるよう液滴化し、これを焼成する方法がある。これにより、極めて脆い性質を有する蛍光体が得られ、容易に微小なサイズへ粉砕することができる。
【０３０１】
蛍光体原料としては、製造しようとする蛍光体を構成する元素（以下、「蛍光体構成元素」ともいう。）を含有する化合物を用いることができる。その例を挙げると、蛍光体構成元素を含有する、酸化物、水酸化物、炭酸塩、硝酸塩、硫酸塩、蓚酸塩、カルボン酸塩、ハロゲン化物、窒化物等が挙げられる。蛍光体原料の選択に際しては、得られる蛍光体への反応性等を考慮して選択することが好ましい。さらに、蛍光体を構成する各蛍光体構成元素に対応し、蛍光体原料は、それぞれ、１種を用いてもよく、２種以上を任意の組み合わせ及び比率で併用しても良い。
【０３０２】
また、蛍光体の各蛍光体原料中に含まれる不純物としては、蛍光体の特性に悪影響を与えない限りにおいて、特に限定されない。
【０３０３】
各蛍光体原料の重量メジアン径としては、通常０．０１μｍ以上、０．５μｍ以下である。このために、蛍光体原料の種類によっては予めジェットミル等の乾式粉砕機で粉砕を行っても良い。これにより、各蛍光体原料の原料混合物中での均一分散化を図り、かつ、蛍光体原料の表面積増大による原料混合物の固相反応性を高めることができ、不純物相の生成を抑えることが可能となる。
【０３０４】
例えば、Ｂａを含む蛍光体原料の具体例としては、ＢａＯ、Ｂａ（ＯＨ）2・８Ｈ2Ｏ、
ＢａＣＯ2、Ｂａ（ＮＯ3）2、ＢａＳＯ4、Ｂａ（Ｃ2Ｏ4）・２Ｈ2Ｏ、Ｂａ（ＯＣＯＣＨ３）2、ＢａＣｌ2等が挙げられる。
【０３０５】
その他、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｅｕ、Ｓｍ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｍｎ、Ｃｒ、Ｔｂ、Ｐｒ、Ｃｅ、Ｌｕ、Ｌａ、Ｇｄ、Ｇｅ、Ｇａ、Ｐ、Ｂを含む蛍光体原料等が挙げられる。
【０３０６】
蛍光体原料を混合して原料混合物を調製してから、原料混合物を所定温度、雰囲気下で焼成する。この際、混合は十分に行うことが好ましい。
【０３０７】
上記混合手法としては、特に限定はされないが、具体的には、下記（Ａ）及び（Ｂ）として挙げた手法を用いることができる。また、これらの各種条件については、例えば、ボールミルにおいて２種の粒径の異なるボールを混合して用いる等の条件を選択可能である。
【０３０８】
（Ａ）例えばハンマーミル、ロールミル、ボールミル、ジェットミル等の乾式粉砕機、又は、乳鉢と乳棒等を用いる粉砕と、例えばリボンブレンダー、Ｖ型ブレンダー、ヘンシェルミキサー等の混合機、又は、乳鉢と乳棒を用いる混合とを組み合わせ、前述の蛍光体原料を粉砕混合する乾式混合法。
【０３０９】
（Ｂ）前述の蛍光体原料に例えばメタノール、エタノール等のアルコール系溶媒又は水などの溶媒又は分散媒を加え、例えば粉砕機、乳鉢と乳棒、又は蒸発皿と撹拌棒等を用いて混合し、溶液又はスラリーの状態とした上で、噴霧乾燥、加熱乾燥、又は自然乾燥等により乾燥させる湿式混合法。
【０３１０】
蛍光体原料の混合は、蛍光体原料の物性に応じて、湿式又は乾式のいずれかを選択することができる。
【０３１１】
また、ハロゲン化物、窒化物等の酸化・吸湿し易い原料を用いる場合には、例えばアルゴンガス、窒素ガス等の不活性気体を充填し、水分管理されたグローブボックス内でミキサー混合する。
【０３１２】
また、混合・粉砕時に、粒径を揃える等の目的で、蛍光体原料を篩いにかけても良い。この場合、各種市販の篩いを用いることが可能であるが、金属メッシュのものよりもナイロンメッシュ等の樹脂製のものを用いる方が、不純物混入防止の点で好ましい。
【０３１３】
特に、ナノ蛍光体、すなわち、Ｓｉナノ蛍光体、ＺｎＳナノ蛍光体、ＹＡＧ：Ｃｅナノ蛍光体、ＬａＰＯ４：Ｌｎナノ蛍光体、色素ドープシリカナノ蛍光体、半導体ナノ粒子、ＣｄＳｅ−ＺｎＳ量子ドット等は、その粒径が著しく小さいため、平坦な面上へ均一に形成でき、かつ、形成厚さも制御しやすいことから特に好適である。半導体薄膜の極微細加工により形成する場合は、高精度且つ、極薄膜で形成可能であり、発光する「光」の波形や、強度を制御して、その干渉性を向上させることができる。
【０３１４】
蛍光性半導体量子ドットにおいては、中心核（コア）は、例えば、セレン化カドミウム（ＣｄＳｅ）でできており、その外側を硫化亜鉛（ＺｎＳ）の被覆層（シェル）が覆っている構造をしている。この金属化合物の直径を変えることで、発する蛍光波長が変わる特徴を持つ。この量子ドットの周囲に生体高分子を配置したものは、生体高分子特有の反応基を有するため、この反応基を利用して蛍光体を特異的に配置させることが可能である。
【０３１５】
紫外線発光蛍光体としては、紫外線により励起され、これよりも低いエネルギー準位に戻る時に発する蛍光スペクトルのピークが、青、緑、赤等の波長域にあるものである。そして、このような紫外線発光蛍光体としては、例えばＣａ2 Ｂ5 Ｏ9 Ｃｌ：Ｅｕ2+，ＣａＷＯ4 ，ＺｎＯ：Ｚｎ，Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、Ｙ2 Ｏ2 Ｓ：Ｅｕ，ＺｎＳ：Ａｇ，ＹＶＯ4 ：Ｅｕ、Ｙ2 Ｏ3 ：Ｅｕ，Ｇｄ2 Ｏ2 Ｓ：Ｔｂ，Ｌａ2 Ｏ2Ｓ：Ｔｂ，Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ１2：Ｃｅ等があり、これらを単体として使用するか、またはこれらを数種、適当な割合で混合して使用する。
【０３１６】
これらは、蛍光スペクトルのピークを、青、赤、緑の波長領域以外に有するものである。また、インキ中の紫外線蛍光発光体の重量率は、読み取りヘッドの受光素子による蛍光の検知が可能であればよい。
【０３１７】
一方、赤外線発光蛍光体としては、波長λ１の励起光を受けて、波長λ２の可視光を発光する特性を有し、λ１＝λ２かつλ１＞λ２なる性質を有するものがある。そして、このような赤外線発光蛍光体としては、例えば組成が ＹＦ3：Ｙｂ，Ｅｒ，ＺｎＳ：ＣｕＣＯ等がある。
【０３１８】
具体的例として、ＢＡＳＦ社製ルモゲンＦＶヴァイオレット５７０（ナフタルイミド：３７４ｎｍ→４１３ｎｍ）、ルモゲンＦイエロー０８３（ペリレン:励起波長４７６ｎｍ→発光波長４９０ｎｍ：以下同じ。)、ルモゲンＦオレンジ（ペリレン：５２５ｎｍ→５３９ｎｍ）、ルモゲンＦレッド３０５（ペリレン：５７８ｎｍ→６１３ｎｍ）等、
デイグロ社製蛍光顔料：グロプリルＴ／ＧＴシリーズ、ＡＣＴシリーズ、Ｚ／ＺＱシリーズ、ＧＰＬシリーズ、ＬＨＹシリーズ、蛍光染料：ダイブライトＤ−８１８ロアノークイエロー、Ｄ−７８４アルパータイエロー、Ｄ−２０８アパツチイエロー、Ｄ−２８８チェロキーレツド、Ｄ−６８８コロラドレツド、Ｄ−２９８コロンビアブルー等、
シンロイヒ社製蛍光顔料：シンロイヒカラーＦＺ−２０００シリーズ（ＦＺ−２００１ＲＥＤ等）、ＦＺ-２８００シリーズ（ＦＺ−２８０８Ｂｌｕｅ等）、ＳＸ−１００シリーズ（ＳＸ−１０４Ｏｒａｎｇｅ等）、ＳＸ−１０００シリーズ（ＳＸ−１００４Ｏｒａｎｇｅ、ＳＸ−１００５Ｌｅｍｏｎ  Ｙｅｌｌｏｗ、ＳＸ−１００７Ｐｉｎｋ、ＳＸ−１０３７Ｍａｇｅｎｔａ：平均粒径１．０μｍ以下）、ＳＷ−１０シリーズ（ＳＷ−１１Ｒｅｄ  Ｏｒａｎｇｅ、ＳＷ−１２ＮＧｒｅｅｎ、ＳＷ−１３Ｒｅｄ、ＳＷ−１４ＮＯｒａｎｇｅ、ＳＷ−１５Ｎ  Ｌｅｍｏｎ  Ｙｅｌｌｏｗ、ＳＷ−１６Ｎ  Ｏｒａｎｇｅ  Ｙｅｌｌｏｗ、ＳＷ−０７Ｃｅｒｉｓｅ、ＳＷ−１７Ｐｉｎｋ、ＳＷ−２７Ｒｏｓｅ、ＳＷ−３７Ｒｕｂｉｎｅ、ＳＷ−４７Ｖｉｏｌｅｔ、ＳＷ−２８Ｂｌｕｅ：平均粒径１．０μｍ以下）、ＳＰシリーズ、ＳＦ−３０００シリーズ（超微粒子タイプ）、ＳＦ−５０００シリーズ（超微粒子タイプ）、ＳＦ−８０００シリーズ（超微粒子タイプ）、ルミライトナノＲＹ２０２（粒径３０ｎｍ、３６５〜３７０ｎｍ→６１９ｎｍ）等。
【０３１９】
モリテックス社製：蛍光粒子（グリーン：４６８ｎｍ→５０８ｎｍ）Ｇ２５（粒径０．０３μｍ）、Ｇ４０（粒径０．０４μｍ）、Ｇ５０（粒径０．０５μｍ）、Ｇ７５（粒径０．０７μｍ）、Ｇ８５（粒径０．０９μｍ）、Ｇ１００（粒径０．１０μｍ）、Ｇ１４０（粒径０．１４μｍ）、Ｇ２００（粒径０．２０μｍ）、Ｇ２５０（粒径０．２５μｍ）、Ｇ３００（粒径０．３０μｍ）、Ｇ４００（粒径０．４０μｍ）、Ｇ４５０（粒径０．４５μｍ）、Ｇ５００（粒径０．５０μｍ）、蛍光粒子（グリーン：３６０ｎｍ→５３０ｎｍ）３４−１（平均粒径３．０μｍ）、蛍光粒子（ブルー：３６５ｎｍ→４４７ｎｍ）Ｂ５０（粒径０．０５μｍ）、Ｂ１００（粒径０．１０μｍ）、Ｂ１５０（粒径０．１４μｍ）、Ｂ２００（粒径０．２０μｍ）、Ｂ３００（粒径０．３０μｍ）、Ｂ４００（粒径０．４０μｍ）、Ｂ５００（粒径０．５０μｍ）、蛍光粒子（レッド：５４２ｎｍ→６１２ｎｍ）Ｂ５０（粒径０．０５μｍ）、Ｂ６０（粒径０．０５μｍ）、Ｂ１００（粒径０．１０μｍ）、Ｂ１６０（粒径０．１６μｍ）、Ｂ２００（粒径０．２０μｍ）、Ｂ３００（粒径０．３０μｍ）、Ｂ４００（粒径０．４０μｍ）、Ｂ５００（粒径０．５０μｍ）等、
テールナビ社製  紫外線励起蛍光顔料ＵＶＰ−１（発光波長４２１ｎｍ）、ＵＶＢ−１（発光波長４５３ｎｍ）、ＵＶＧ−２（発光波長５１７ｎｍ）、ＵＶＲ−２（発光波長６２６ｎｍ）、可視光励起蛍光顔料ＬＭＳ−５７０（４５０〜５２０ｎｍ→５７０ｎｍ）、ＬＭＳ−５６０（４５０〜４６７ｎｍ→５６０ｎｍ）、ＬＭＳ−５５０（４５０〜４６５ｎｍ→５５０ｎｍ）、ＬＭＳ−５４０（４５０〜４６５ｎｍ→５４０ｎｍ）等、イントロジェン社製Ｑｄｏｔ５２５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→５２５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ５６５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→５６５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ５８５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→５８５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ６０５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→６０５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ６２５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→６２５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ６５５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→６５５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ７０５ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→７０５ｎｍ）、Ｑｄｏｔ８００ナノクリスタル（３５０〜４８８ｎｍ→８００ｎｍ）等、  エヴィデントテクノロジーズ社製エヴィドット：ＣｄＳｅ／ＺｎＳコアシェルエヴィドット（平均粒径７．２〜９．６ｎｍで発光波長４９０ｎｍ〜６２０ｎｍ）等、  日本カンタムデザイン社製量子ドット：カルボキシル基タイプ、アミノ基タイプ：直径３．０ｎｍ〜直径８．３ｎｍで発光波長５３０ｎｍ〜６２０ｎｍ等を好適に用いることができる。
【０３２０】
また、「シート状薄膜応力発光層」は、以下に記載する「応力発光材料層」で構成される。
【０３２１】
その「応力発光材料層」は、「応力発光材料そのもの」で構成される、いわゆる「セラミック板、もしくは、セラミックの薄膜層（以下、『セラミック板等』と総称する。）」とすることができる。その場合、「応力発光材料層の組成」は、その１００％が「応力発光材料」となる。
【０３２２】
そして、その「応力発光材料層の表面に、所定の部位として、以下に詳述する「応力集中係数αが２以上となる、『所定の形状の切欠け部、及び／または、凹部』を設けてもよい。
【０３２３】
もしくは、「応力発光材料層」は、「応力発光材料を組成とする微粒子を、所定の透明な樹脂に分散してなる」ものとしてもよい。
【０３２４】
すなわち、「セラミック材料である応力発光材料」を、「粉砕手段、及び、分級手段」を用いて、「所定の形状を有する微粒子」とするか、または、「成形用、または、焼成用の『型』」に「応力発光材料」を入れて、成形(焼成)することにより「所定の形状を有する微粒子」とした、「応力発光材料を組成とする微粒子」を、「分散化手段」を用いて、「所定の透明な樹脂」に「分散」したものであり、その「微粒子の組成」は、その１００％が「応力発光材料」で構成されている。
【０３２５】
そして、その「応力発光材料」からなる「微粒子」の「形状」は、その表面に多数の「凹凸形状」を有し、その「凹凸形状」の特には、「凹みの底の部位」が、「所定の部位」となり、且つ、その「所定の部位」の「応力集中係数α」が２以上となっている。
【０３２６】
そして、その「『応力発光材料を構成する構造』に特有の波長の光」が、「所定波長の光」であって、通常は、「可視光」の波長範囲、すなわち、光の波長で、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲にあり、一つの種類の「応力発光材料」に対応して、一つの波長の光が発光する。従って、この発光した「所定波長の光」に基ずく、透過型レリーフホログラム再生像を観察者が目視にて視認できることとなる。但し、この「所定波長の光」の強度は、「目視にて視認可能である」とするためには、その「発光輝度」（「光の強度」の一つの指標。）として、少なくとも１．０ｍｃｄ／ｃｍ2（ミリカンデラ／平方センチメートル）の大きさが必要である。
【０３２７】
上記した「応力発光材料」とは、いわゆる「熱弾性マルテンサイト変態」近傍において、「物理的な変形」を伴って、その材料に「応力」を負荷すると「双晶擬弾性変形」を生じやすい材料である、「Ｅｕ添加ＳｒＡｌ2Ｏ4（「ＳＡＯＥ」とも称される。）」等に代表される、「『物理的な変形』を伴って、その材料に『応力』を負荷した際に、所定の波長の光を発光し、且つ、その負荷した『応力』に応じてその発光強度が増加する」材料を、焼成し、焼結させて、所定の形状（平板状。）としたものである。
【０３２８】
ここで、「物理的な変形」と表現した意味は、もちろん、「化学的な組成変化」ではないことを表すが、さらに、「材料内部の一部の結晶構造のみがその格子構造を変化させること」に留まらず、「材料全体の外形の変化」に至る「変形」であることを示している。（このように、「『外観上認識できる外形の変形』を伴う変形」を、「物理的な変形」と称した。すなわち、格子構造の変形が、微視的な領域のみで発生している状態ではなく、格子構造の変形が材料内で伝搬し、視認できるほどの大きな領域に渡って発生している状態を意味する。）
従って、「応力発光材料層」に用いる「応力発光材料」の「発光」を促進するために、「材料全体の外形」が「変化」し得る「領域」（動き得る領域として「可動域」とも表現される。）を確保することが求められる。
【０３２９】
次に、上記した「応力集中係数α」につき説明する。
【０３３０】
そもそも、「応力集中」とは、ある材料の「形状」の「不連続性」により、その材料に外力を負荷して、その材料内部に、その外力に応じた「応力」を発生させたとき、その「不連続箇所」の近傍に、他の領域に発生する「応力」に比較して、「大きな応力」が発生することをいう。
【０３３１】
そして、この「応力集中」の要因となるものとして、その「材料」に存在する「段差（断面の急激な変化）」、「凹み」、「凹凸」、「貫通孔」、「切欠き」、さらには、その材料内の「材料組成の急激な変化」（燒結境界面や、溶接などによる接合面）などがある。
【０３３２】
この「応力集中」の状態を数値で表したものが、「応力集中係数α」であって、α＝σｍａｘ／σ０（式中、σ０は、材料全体に発生する「『応力』の平均値」であり、σｍａｘは、その応力集中箇所に生じる「『応力』の最大値」である。）と表される。
【０３３３】
単純な例として、円柱形状の材料（上面と下面が同一の円となっている棒状のもの。）に対して、その上面と下面（各面の面積を、Ｓ平方ミリメートルとする。）を挟んで垂直方向に外力Ｆ（Ｎ：ニュートン）を負荷したとき、その円柱形状の中間位置に、断面積がその上面（下面）の１／２となる箇所（この箇所の断面積は、Ｓ／２平方ミリメートルとなる。）を設けてあるとすると、σ０は、[（比例定数ｋ）×Ｆ／Ｓ]（Ｎ／ｍｍ２）となり、σｍａｘは、[（比例定数ｋ）×２Ｆ／Ｓ]（Ｎ／ｍｍ２）となって、応力集中係数α＝σｍａｘ／σ０＝２．０となる。
【０３３４】
この例は、上記したような「物理的な変形」を伴わない応力発生例であるが、説明の単純化のために敢えて用いた。
【０３３５】
そして、「応力発光材料層」に用いる「応力発光材料」の「応力集中係数α」を、２以上とするためには、「層状」の外形をした「応力発光材料」の一部に、その「応力発光材料層」の厚さの１／１０〜１／５の深さの「凹み」や「切欠き」を設けることで得られる。
この「凹み」の形を、「底の浅い形。例えば、[（開口部幅／深さ）の比]が１／２０〜１／１０」としたもの、もしくは、「底の深い形。例えば、[（開口部幅／深さ）の比]が１／５〜１／１」としたものは、この「凹み」の「底部」周辺に「応力集中」が起こり、その「応力集中係数α」は、２以上となる。
【０３３６】
同様に、「段差」、「凹凸」や、「材料組成の急激な変化」を設けることで、「応力集中係数α」の値を調節することができる。
【０３３７】
この「応力発光材料層」に用いる「応力発光材料」は、発生した「応力の大きさ」に応じて、さらには、ほぼ比例して、その発光強度が大きくなるため、「応力集中係数α」が大きいほど、その発光強度が増大し、視認性を向上させることができる。
【０３３８】
その「応力集中係数α」は、大きいほど望ましく、２以上とする。さらには、１０以上、より好適には、１００以上とすることで、その部分の発光強度を「高輝度」として、より視認しやすくすることができる。
【０３３９】
但し、「応力集中係数α」が大きければ大きいほど、「応力発光材料」の「形状」の「不連続性」が、いわゆる「急激」なものとなり、「応力発光材料」を「発光」させるための「変形」を繰り返すと、容易に「破壊」され、もはや、「発光」しなくなるため、不適当である。（このことは、真正性判定の信頼性を確保するため、『少なくとも１００回以上の安定した発光』が必要であるが、その信頼性を確保できないことを意味する。）
また、「応力発光材料層」は、「応力発光材料」を組成とする微粒子を、所定の透明な樹脂に分散して形成することもできる。
【０３４０】
すなわち、「応力発光材料（複数の応力発光材料から成る、『応力発光材料の複合体』を含む。）」を、最大直径で、０．１μｍ〜５０μｍ、好適には、５．０μｍ〜２０μｍの「微粒子」とし、もしくは、平均粒径Ｄ５０で、０．０５μｍ〜２０μｍ、好適には、０．５μｍ〜１０μｍの「微粒子」として準備し、これを、熱可塑性樹脂、及び／または、熱硬化性樹脂の中から、下記する「透過率」を有する「樹脂」を選定して、「透明な樹脂」とした、その「透明な樹脂」中に、その「微粒子」の２次凝集化を抑制しつつ「分散」させ、「『応力発光材料』の『微粒子』を『透明な樹脂』に『含ませた』、すなわち、『混在』させた『応力発光材料層』」とすることを意味する。
【０３４１】
特に、「応力発光材料」の「微粒子」は、「応力発光材料の平板」や、「応力発光材料の塊」を、物理的に粉砕して「微粒子」とするが（これが、『微粒子化』である。）、その粉砕の際、例えば、衝撃式粉砕機を用いて、「微粒子」が比較的不規則な形状となるように制御し、且つ、粉砕した微粒子間の衝突を抑制しつつ、「分級装置」にて、所望の粒径の所望の形状を有する「微粒子」を作製する。
【０３４２】
さらには、「焼成前の『応力発光材料』用組成物」（所定の『焼成』手順によって、目的とする『応力発光材料』となる、所定の各元素を所定の割合で含む、水酸化物、水和物、酸化物、複合酸化物、硝酸塩、塩酸塩、炭酸塩、酢酸塩、硫酸塩等の原材料及びその混合物を意味する。『前駆体』ともいう。また、発光中心元素を、ドーピング手段等により別途添加することもできる。これらの混合物、さらには、粉末混合物、もしくは、粉体混合物を、直接、『焼成』する。）を、セルロース系樹脂やエチルセルロース系樹脂等の「焼成によって分解しやすい樹脂」（いわゆる、『セラミックス』製造用の樹脂。焼成によって、その樹脂の成分が、炭酸ガスや水となって、ほぼ完全に焼失するもの。焼成時の『煤』や『残渣』が比較的少ないという特徴を持つ。）に分散させ、個々の「焼成前の応力発光材料」が、いわば「個々の粒子として、独立して、分散している状態」（この樹脂によって、互いに離間させられている状態という意味。）とし、所定の焼成を行うことで、「応力発光材料」を、「個々の粒子として、独立して、分散している状態」のまま焼成し、燒結させることも、焼成後の個々の形状をより複雑なものとすることを可能とし、よって、応力集中係数αの大きい「形状」を実現し易くすることができ、好適である。
【０３４３】
さらには、噴霧熱分解法、ゾルーゲル法、及び、フラックスフィーダー法などを用いることもできる。
【０３４４】
もちろん、応力集中係数αの大きい「形状」を得るために、所望の「形」とするため、その所望の「形」をその内部形状として持つ「成形型（金属製、もしくは、セラミックス製）」に、上記した「焼成前の『応力発光材料』用組成物」を充填して（もしくは、その成形型で成形と同時に充填して。）、焼成後、その成形型から取り出す製法も採用することができる。
【０３４５】
この「微粒子」の「形状」が不規則であればある程、さらには、「微粒子」の表面が粗面であればある程、「応力集中係数α≧２」となる「部位」を広範囲に有するとともに、αが非常に大きい（α≧５００）形状を持つこととなる。
【０３４６】
ここで、「透明な樹脂」とは、「可視光透過率が高い樹脂」であって、具体的には、ナトリウム原子のＤ線（５９０ｎｍ）における透過率が、５０％以上、好ましくは、８０％以上のものをいう。
【０３４７】
このような「応力発光材料」は、「材料」そのもの、すなわち、「材料の組成」、もしくは、「材料の構造」に、「潜在的な発光構造」を持たせ、比較的小さい応力を負荷するのみで、その「材料」を発光させ得る、新規な「発光」メカニズムを持つ（独立行政法人）産業技術総合研究所の徐氏他が開発した新規な「発光材料」であって、「力学エネルギー」の比較的小さい「弾性変形領域」で「応力発光を示す材料」である。
【０３４８】
そもそも、「応力発光」とは、「発光」の励起源として「機械的な力」を用いるものであり、「外部から加えられた『機械的な力（力学エネルギー）』によって、材料が『発光』する現象」のことと定義されている。
【０３４９】
従来の「応力発光」現象は、「破壊発光」と「変形発光」とに分けることができ、このうち、「破壊発光」は、材料を破断させたり、粉砕したりすることによって「光」が放出される現象であって、「方解石」を割った時などに観察されていた現象である。一方、「変形発光」は、このような「破壊」を伴わないものであって、ある材料に外力負荷を徐々に掛けていったときに現われる、いわゆる「応力―ひずみ曲線」において、その「曲線」が「直線」として示される（「応力」が「ひずみ」に比例するという意味。）「弾性変形領域」での発光と、この「直線」が、「材料の降伏点」において途絶えて（その比例関係が終わるという意味。）、材料内部において少しずつではあるが「構造破壊」の段階に入っている「塑性変形領域」での発光に分けられる。「破壊発光」現象は、非常に多くの材料系で観察されており、無機物質の約半分は「破壊発光」の性質を持つと言われている。
【０３５０】
これに対して、「変形発光」については、放射線照射したアルカリハライドやある種の高分子で数例の報告例はあるものの、これは、「塑性変形領域」での微弱な発光であると判明している。
（独立行政法人）産業技術総合研究所の徐氏他が開発した「応力発光材料」は、これとは異なり、この「変形発光」の中で、しかも、「弾性変形領域」での「応力発光」を示す材料である。
【０３５１】
これらはいずれも、高度に構造を制御した無機結晶骨格の中に、発光中心となる元素を添加した材料（セラミクス）であり、無機材料や発光中心の種類を選択することにより、紫外〜可視〜赤外の様々な波長で発光する材料が得られている。
代表的なものとしては、発光中心として、ユウロピウムを添加したアルミン酸ストロンチウム（ＳｒＡｌ2Ｏ4：Ｅｕ：緑色発光）、マンガンを発光中心として添加した硫化亜鉛（ＺｎＳ：Ｍｎ、黄橙色発光）等がある。
【０３５２】
本発明の「ホログラムシートＡ」の「シート状薄膜光源層」に用いられる「応力発光材料」は、その「組成」を含めた「立体構造」、さらには、この「構造」の中に位置する「電子密度の高い格子位置の元素」や「電子密度の低い格子位置の元素（『格子欠陥：元素が無い状態』となっているものも含む。）」によって、その電子状態の「遷移幅」が決まり、この「遷移幅」に相当するエネルギーを持つ「光」を発する。
【０３５３】
すなわち、外力によって発生した内部応力（「機械的なエネルギー」）を受けて、「エネルギーＥ＝プランク定数×光の振動数」＆「光の波長＝光速度／光の振動数」の式に基づく、所定の波長の光を放出するが、この内部応力の大きさをいかに大きくしても、また、この内部応力を与える速度をいかに大きくしても（すなわち、ひずみ速度をいかに大きくしても。）、「所定の波長」そのものは変化せず、「一定」である（材料に「固有」という意味。）。
【０３５４】
この新規な「応力発光材料」の発光メカニズムは、（独立行政法人）産業技術総合研究所山田氏、及び、新日本製鐵株式会社松尾氏により、いずれも、代表的な「応力発光材料」である、ＳｒＡｌ2Ｏ4：Ｅｕ系につき、詳細に発表されているため、以下に、その概略のみを記す。（「（独）産業技術総合研究所  生産計測技術研究センター  応力発光技術チーム長  徐超男（編集代表）、上野直広、寺崎正、山田浩志（編集委員）他著、“応力発光による構造体診断技術 Ｍｅｃｈａｎｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ  ａｎｄ  Ｎｏｖｅｌ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒａｌ  Ｈｅａｌｔｈ  Ｄｉａｇｎｏｓｉｓ”、株式会社エヌ・ティー・エス、２０１２年８月発刊」参照。）
前者は、母体結晶が、スタッフド・トリジマイト構造であって、且つ、ＡｌＯ４四面体が「頂点共有」して形作られるハニカム構造となっており、その中の大きな空孔に、Ｓｒ2+イオンが配置している構造を持つ。
【０３５５】
そして、その母体結晶の中に、発光中心として、Ｅｕ2+イオンが添加されて、上記したＳｒ2+イオンの２つの種類のサイトに置換されているとし、このＥｕ2+イオンの「４ｆ−５ｄ電子軌道遷移」（このときの電子軌道エネルギーの差が上記のエネルギーＥとなる。）に伴う輻射遷移によって発光が起こるものとしている。
【０３５６】
後者は、燒結体作成時に、ＳｒＡｌ2Ｏ4のβ相からα相への熱弾性マルテンサイト変態が起こって、結晶内に「双晶界面」が形成され、その界面近傍の電子密度に勾配が生じ、紫外線照射などでＥｕから励起されたキャリアが、空孔などにトラップされた状態にある「応力発光材料」に、「応力」を負荷すると、「双晶擬弾性変形」が起こり、その変形に伴って「双晶界面」が移動することより、電子密度分布が変化して、トラップされたキャリアが解放され、発光中心のＥｕ2+と再結合して発光が起こるとしている。
そして、この応力を除荷した際、「双晶界面」が元の位置に戻り、その際に、Ｅｕ2+からキャリアが励起され、空孔などにトラップされて、元の状態に戻り、この現象が繰り返されるとしている。
【０３５７】
これらの発光メカニズムから、「応力発光材料」は、「機械的エネルギーによる『励起』」を必要とせず、「トリボルミネセンス」とは異なる現象と推察される。
【０３５８】
いずれにしても、母体構造そのものの「変形」、従って、「応力発光材料」としての「物理的な変形（具体的に巨視的なスケールで、曲がったり、ねじれたりして、その『形』を変えるという意味。）」が必須であって、「応力発光材料」に対して、このような「変形」を可能とするためには、「応力発光材料」の「動き易さ」、及び、実際に「動く領域（「動ける空間」という意味。）を併せ持つ、「ホログラムシートＡ」の構成設計が必要となる。
【０３５９】
そして、この「応力発光材料を構成する『構造』に固有の波長の光」が、上記した「所定波長の光」であって、通常は、「可視光」の波長範囲、すなわち、光の波長で、４００ｎｍ〜８００ｎｍの範囲にあり、一つの種類の「応力発光材料」に対応して、一つの波長の光が発光する。但し、この「所定波長の光」の強度を、出現するレリーフホログラム再生像が視認可能なレベルとするために、その「発光輝度」を、少なくとも１．０ｍｃｄ／ｃｍ2の大きさとする。
【０３６０】
特に、より鮮明化するために、１０ｍｃｄ／ｃｍ2以上、さらに、「高輝度」と認識させ、且つ、その「レリーフホログラム再生像」を真偽判定に利用する場合における、その判定の信頼性をより高くするため、１００ｍｃｄ／ｃｍ2以上の「発光輝度」を持たせることが好ましい。
【０３６１】
もちろん、一つの「応力発光材料」に、「複数の構造（結晶構造や、発光中心元素の異なるものなど。）」を含ませたり、「応力発光材料層」に、複数の種類の「応力発光材料」を含ませたりして、複数の波長領域を持つ光を発光するものとしてもよいし、さらには、可視光以外の波長領域において、「応力発光」させ（紫外光や赤外光の応力発光をする材料を用いる。）、その発光した光で、あらかじめ、本発明の「ホログラムシートＡ」に、適宜、含ませておいた「蛍光体層（適宜な蛍光材料を含む層。）」や「蛍光体パターン層（パターン状に形成した蛍光体層）」を「励起」して、可視光領域にて発光させて、結果として、可視光を視認するものとしてもよい。（図示せず。）
また、「応力発光材料」に、その応力発光材料の「耐水性」を向上するための、「所定の表面処理」を施してもよい。
【０３６２】
すなわち、「応力発光材料」の個々の表面に対して、もしくは、「応力発光材料層」の表面に対して、「シリル化処理」による「耐水性の向上」を目的とする「所定の表面処理」を施して、「水分」による「応力発光材料」の結晶構造の崩壊や、発光性の喪失を防ぐ。さらには、その「シリル化処理面」を覆うように、熱可塑性樹脂や、熱硬化性樹脂の「被膜」を形成する「所定の表面処理」を施すことも好ましい。
【０３６３】
「応力発光材料」には、上記したように、「熱弾性マルテンサイト変態」近傍において、「物理的な変形」を伴って、その材料に「応力」を負荷すると「双晶擬弾性変形」を生じやすい材料である、「Ｅｕ添加ＳｒＡｌ2Ｏ4（ＳＡＯＥ）」等に代表される、「『物理的な変形』を伴って、その材料に『応力』を負荷した際に、所定の波長の光を発光し、且つ、その負荷した『応力』に応じてその発光強度が増加する」材料を焼成し、焼結させて、所定の形状（層状。）としたものを用いる。
【０３６４】
ここで、「『物理的な変形』を伴って、その材料に『応力』を負荷する」とは、
「ホログラムシートＡに対する所定の外力負荷」によって、その「外力負荷」が、「『応力発光材料』に対する外力負荷」へと伝わったときに、「応力発光材料」内に「応力ひずみ」が発生し、「応力発光材料」そのものが、「物理的な『変形』」＝「応力ひずみ」を生じることを意味する。
【０３６５】
すなわち、「応力発光材料」は、外力負荷を与えると、いわゆる「応力―ひずみ線図」において、その「弾性域内（応力―ひずみ線図において、直線状に変化する領域。従って、外力負荷を除去すると元の状態に戻ろうとする。）」における挙動を指す。（この挙動が、いわゆる「弾性変形」である。）
「応力発光材料」の「応力発光」は、この「弾性変形」領域で発生する現象を利用するものであって、その発光現象を、数百回から数万回程度、安定して起こすことができ、この「発光」を視認することで、その真正性を判定する目的、すなわち、この「発光」と「判定」を繰り返し行う用途に適している。
【０３６６】
このように、「『物理的な変形』を伴って、その材料に『応力』を負荷する」と、材料外形に対して、目視できるほど大きな「物理的な変形」を生じさせることができ、その材料内部の結晶構造そのもの（格子形状など。）や、晶壁（結晶と結晶の壁。）に対しての変形や移動を促進し、その「変形や移動」に基づく「発光」を増大させることができる。
【０３６７】
この「応力発光材料層」に用いる「応力発光材料」には、多面体構造の複数の分子によって形成される母体構造の空間に、アルカリ金属イオンや、アルカリ土類金属イオンが、挿入された基本構造を有し、その一部が、希土類金属イオン、や遷移金属イオンの中の、少なくとも１種の金属イオンによって置換されている応力発光材料、ＡｌＯ様構造、及び、ＳｉＯ様構造の四面体構造を有する複数の分子によって形成された３次元構造と、非対称性のフレキシブルなフレーム構造とを有する基本構造に、発光中心が挿入された構成である応力発光材料、歪エネルギーの形成によって、圧電効果、格子欠陥、および変形による発熱等の機構により発光する応力発光材料や、複数の結晶構造を混在してなる混和とした応力発光材料など、さらには、これらの応力発光材料の発光輝度を、数百倍以上高めた、高発光輝度応力発光材料、可視光領域以外の発光を生じる紫外光（赤外光）発光応力発光材料、もしくは、超微粒子化して透明な樹脂に分散せて「透明な材料」とした応力発光材料などを用いることができる。
【０３６８】
また、「応力集中係数α」の大きい「応力発光材料」を用いることで、「応力発光材料」に負荷する「応力」の「大きさ」は、例えば、ＪＩＳ  Ｘ  ６３０５（２０１０：ＩＳＯ／ＩＥＣ  １０３７３−１）の「識別カードの試験方法―第１部：一般特性」に提示されている、「カードの右側 ３ｍｍ 以内の領域全体に０．７Ｎの荷重（Ｆ）を１分間かける。」というような「大きな応力負荷。（１０ＭＰａ程度と試算される。）」でなく、観察者の「手」で軽く曲げる程度の「大きさ」で、十分な発光を得ることができるものとなり、そのような応力負荷を、５ｋＰａ〜１ＭＰａ、好ましくは、５ｋＰａ〜１００ｋＰａに設定することができる。
【０３６９】
但し、「応力集中係数α」が大きければ大きいほど、「応力発光材料」の「形状」の「不連続性」が、いわゆる「急激」なものとなり、「応力発光材料」を「発光」させるための「変形」を繰り返すと、容易に「破壊」され、もはや、「発光」しなくなるため、「応力集中係数α」が１０００を超えるものとすることは、不適当である。
【０３７０】
「応力集中係数α」の計算は、上述した「円柱形」のような、単純な形状においては容易であるが、より複雑な形状を持つ「応力発光材料」に対する、しかも、「応力発光材料」の中で、「所定の部位」に「応力が集中」し、その「『応力発光材料』の中で『応力集中係数αが２以上』となる所定の部位」の、その『応力集中係数α』の値を求めるためには、「有限要素法」を用いた「構造解析ソフト（応力分布解析ソフト）」を適用して求める必要がある。
【０３７１】
そのような「応力発光材料」としては、以下のものを用いることができる。
（１）多面体構造の複数の分子によって形成される母体結晶の空間に、アルカリ金属イオン、及び／または、アルカリ土類金属イオンが、挿入された基本構造を有し、その空間に挿入された、アルカリ金属イオン、及び／または、アルカリ土類金属イオンの、一部が、希土類金属イオン、遷移金属イオン、ＩＩＩ族の金属イオン、および、ＩＶ族の金属イオンからなる群より選択される、少なくとも１種の金属イオンによって置換されている応力発光材料。
この応力発光材料は、その基本構造である母体結晶として、
Ｐ−１空間群に属する三斜晶構造、特には、アノーサイト様構造、及び、３次元構造の空間にアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンを挿入できる範囲で、アノーサイト構造に類似する構造（類似の組成物）も包含するもの、
Ｐ−４２ｍ空間群に属する正方晶構造、特には、オケルマナイト（ａｋｅｒｍａｎｉｔｅ、オケルマン石）様構造、及び、母体結晶の空間に、アルカリ金属イオンお主びアルカリ土類金属イオンを挿入できる範囲で、オケルマナイト構造に類似する構造（類似の組成物）も包含するもの、
Ｒ−３空間群に属する三方晶構造、特には、アルミノケイ酸塩の組成を持つ長石（フェルドスパー）構造、及び、四面体構造のＳｉＯ分子およびＡｌＯ分子が最小単位であり、これらの分子が全ての頂点を共有して複数結合した、３次元構造体、さらに、その３次元構造体に形成された空間（隙間）に、アルカリ金属、または。アルカリ土類金属が挿入されているもの、
準長石（ｆｅｌｄｓｐａｔｈｏｉｄ、フェルドスパソイド）構造、例えば、白榴石（ｌｅｕｃｉｔｅ、リューサイト）ＫＡｌＳｉＯ、かすみ石（ｎｅｐｈｅｌｉｎｅ、ネフェリン）ＮａＡｌＳｉＯ、およびこれらの組成物に結晶構造が類似する組成物等、
そして、この基本構造が、下記一般式（１）〜一般式（６）のいずれか１つで示されるものを用いる。
【０３７２】
すなわち、ＭｘＮ１−ｘＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８・・・（１）  ／  ＸｘＹ１−ｘＡｌＳｉ３Ｏ８・・・（２）    ／（ＸｘＭ１−ｘ）（ＳｉｘＡｌ１−ｘ）ＡｌＳｉ２Ｏ８・・・（３）    ／ＸｘＭｙＣａ１−ｘ−ｙＡｌ２−ｘＳｉ２＋ｘＯ８・・・（４）    ／ＭｘＮ２−ｘＭｇＳｉ２Ｏ７・・・（５）    ／ＭｘＮ３−ｘ（ＰＯ４）２・・・（６）（ただし、式中、ＭおよびＮは、２価の金属イオンであって、少なくとも１つは、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、ＭｇまたはＭｎであり、ＸおよびＹは、１価の金属イオンであって、少なくとも１つは、Ｌｉ，Ｎａ，またはＫであり、０≦ｘ，ｙ≦０．８である。）。
【０３７３】
中でも、紫外線発光を示す（１）の応力発光材料の母体結晶は、一般式  Ｍ１−ｘ−ｙＮｘＱｙＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８    ・・・（７）（ただし、式中のＭおよびＮはそれぞれ、アノーサイト構造ではＣａ、Ｓｒ、Ｍｇ、またはＢａであり、長石構造では、Ｌｉ、ＮａまたはＫであり、Ｑは、希土類金属イオン、遷移金属イオン、ＩＩＩ族の金属イオン、もしくは、ＩＶ族の金属イオンであり、０≦Ｘ≦０．８、及び、０．００１≦ｙ≦０．１を満たす数である。）の化合物であるもの、
さらに、その応力発光材料の母体結晶において、アルカリ土類金属イオンとしてＣａを選択し、かつ、そのＣａサイトの一部を、希土類金属イオンとしてＣｅで置換したもの、すなわち、一般式（８）、Ｃａ１−ｙＱｙＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８・・・（８）（式中、Ｑは、Ｅｕまたは他の発光中心イオンであり、ｙは０．００１≦ｙ≦０．１を満たす数である。）また、この一般式（８）は、Ｃａ１−ｍＣｅｍＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８（式中、ｍは、０．００１≦ｍ≦０．１を満たす数である。）と表すことができるものを用いることができる。
【０３７４】
そして、この応力発光材料の発光中心として、
希土類金属のイオンとして、ユウロピウム（Ｅｕ）、ジプシロシウム（Ｄｙ）、ランタン（Ｌａ）、ガドリニウム（Ｇｄ）  、セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）、イットリウム（Ｙ）、ネオジウム（Ｎｄ）、テルビウム（Ｔｂ）、プラセオジム（Ｐｒ）、エルビウム（Ｅｒ）、ツリウム（Ｔｍ）、イッテルビウム（Ｙｂ）、スカンジウム（Ｓｃ）、プロメチウム（Ｐｍ）、ホルミウム（Ｈｏ）、ルテチウム（Ｌｕ）等のイオン、
また、遷移金属のイオンとして、クロム（Ｃｒ）、マンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、アンチモン（Ｓｂ）、チタン（Ｔｉ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、バナジウム（Ｖ）、コバルト（Ｃｏ）、ニッケル（Ｎｉ）、銅（Ｃｕ）、亜鉛（Ｚｎ）、ニオビウム（Ｎｂ）、モリブデン（Ｍｏ）、タンタル（Ｔａ）、タングステン（Ｗ）等のイオンが例示される。さらに、ＩＩＩ族の金属イオンとして、アルミニウム（Ａｌ）、ガリウム（Ｇａ）、インジウム（Ｉｎ）、タリウム（Ｔｌ）等のイオンを用いることができる。
加えて、ＩＶ族の金属イオンとして、ゲルマニウム（Ｇｅ）、スズ（Ｓｎ）、鉛（Ｐｂ）等のイオン、さらには、これら希土類金属のイオン、遷移金属のイオン、ＩＩＩ族の金属イオン、およびＩＶ族の金属イオンの中から、少なくとも１つのイオンを選択したもの、そして、その希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの含有量、言い換えれば、発光中心の含有量を、０．１ｍｏｌ％以上２０ｍｏｌ％以下の範囲内としたもの、好ましくは、０．２ｍｏｌ％以上１０ｍｏｌ％以下の範囲内としたもの、特に好ましくは、０．５ｍｏｌ％以上５ｍｏｌ％以下の範囲内としたものを用いることができる。
ここで、その含有量が、０．ｌｍｏｌ％未満の場合、効率的な発光が得られず、２０ｍｏｌ％を越えると母体結晶が乱れ、発光効率が低下する。
（２）少なくともＡｌＯ様構造、および、ＳｉＯ様構造の四面体構造を有する複数の分子が、その四面体構造の頂点の原子を共有して結合することにより形成された母体結晶の空間に、アルカリ金属イオン、および、アルカリ土類金属イオンの少なくとも一方が挿入された基本構造を有し、その母体結晶は、さらに、非対称性のフレームワーク構造を有していて、その空間に挿入されたアルカリ金属イオン、および、アルカリ土類金属イオンの少なくとも一方の一部が、希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの少なくとも１種の金属イオンに置換されている応力発光材料であって、特に、少なくともＡｌＯ様構造およびＳｉＯ様構造の四面体構造を有する複数の分子によって形成された３次元構造（３次元フレーム構造）と、非対称性のフレキシブルなフレーム構造とを有する基本構造に、発光中心が挿入された構成を持つことで、この応力発光材料を含む、本発明の「ホログラムシートＡ」が、手で軽く変形させるだけで発光することができるものとなるもの。
この応力発光材料は、フレキシブルな３次元フレーム構造と、非対称性のフレキシブルなフレームワーク構造とを、同時に備えることで、３次元フレーム構造に加えて、「自発ひずみ」、または、「弾性異方性」を示す構造を有しており、このような母体結晶は、歪やすく、しかも、その歪エネルギーを、効率よく、フレームの中心にある発光中心の電子構造の変化へと変換しやすいものとなっている。
【０３７５】
また、この母体結晶を、さらに、歪みやすくするために、母体結晶の空間に挿入されたアルカリ金属、または、アルカリ土類金属の一部が、他のイオン（例えば、希土類金属イオン、または、遷移金属イオン）で置換されていてもよい。
【０３７６】
このときの置換するイオンは、母体結晶の結晶構造（非対称性のフレキシブルな３次元フレーム構造）を維持できれば、特に限定されるものではない。この置換するイオンには、例えば、その母体結晶に形成された空間に挿入されているアルカリ金属イオン、および、アルカリ土類金属イオンとはイオン半径の異なる、希土類金属イオン、または、遷移金属イオンが好適である。これにより、母体結晶を歪みやすくすることが可能となり、より強い発光を示す応力発光材料を提供できる。なお、ここでの希土類金属イオンまたは遷移金属イオンは、母体結晶を歪みやすくするためのものであって、後述する発光中心として機能しないものであってもよい。
【０３７７】
この母体結晶として、アルミノケイ酸塩の組成を持つ長石（フェルドスパー）構造、とりわけ、アノーサイト様構造とする。このような基本構造は、例えば上記した一般式（１）〜（４）のいずれかで示されるアルミノケイ酸塩であることがより好ましい。
【０３７８】
その発光中心としては、発光中心の希土類金属イオンとして、Ｅｕを用いることによって、好適に青色発光を示す発光体とすることができる。また、発光中心は、一種類に限定されるものではなく、複数種類の混合物を用いてもよい。例えば、ＥｕとＤｙの混合物を用いることもできる。
【０３７９】
より詳細には、特に強い青色発光を示す応力発光材料は、次の  Ｍ１−ｘ−ｙＮｘＱｙＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８  ・・・（９）、及び、Ｘ１−ｘ−ｙＹｘＱｙＡｌ２−ｘＳｉ２＋ｘＯ８  ・・・（１０）（ただし、式中のＭおよびＮはそれぞれ、２価の金属イオンであり、少なくとも１種類は、Ｃａ，Ｓｒ，ＭｇまたはＭｎであり、ＸおよびＹは、１価の金属イオンであり、少なくとも１種類は、Ｌｉ，Ｎａ，またはＫであり、Ｑは希土類金属イオンもしくは遷移金属イオンであり、０≦Ｘ≦０．８、０．００１≦ｙ≦０．１を満たす数である。）で示される発光体であることが好ましい。
【０３８０】
ただし、（９）式のように、アルカリ土類金属の場合、ＡｌおよびＳｉは、それぞれ２のままで、式のＸにより変化はしない。一方、（１０）式のように、アルカリ金属の場合、電荷バランスをとるために、１価のアルカリ金属の数Ｘが増えた分、４価のＳｉの数が増え（２＋Ｘ）に、また３価のＡｌが減り（２−Ｘ）となっている。
さらに、応力発光材料において、アルカリ土類金属として、Ｃａを選択し、かつ、そのＣａサイトの一部を、少なくとも一種類の発光中心で置換した応力発光材料がより好ましい。すなわち、Ｃａ１−ｙＱｙＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８・・・（１１）（ただし、式中のＱはＥｕ、および、他の発光中心の少なくとも一種類、ｙは０．００１≦ｙ≦０．１を満たす数である。）とする。
【０３８１】
なお、式（１１）は、発光中心が、Ｅｕのみの場合、Ｃａ１−ｍ−ｎＥｕｍＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８と表すこともできる。（ただし、式中のｍおよびｎは、０．００１≦ｍ≦０．１を満たす数である。）この場合、ｍは、０より大きく０．１以下の範囲であり、発光中心が、ＥＵとその他の発光中心イオンの混合物である場合、混合物の発光中心としての含有量（ｍ）は、０より大きく０．２以下の範囲であればよい。
【０３８２】
このような応力発光材料は、青色の発光を、特に強く示すことができ、式（１１）では、発光中心（Ｑ）が、少なくともＥｕを含んでいることが好ましい。さらには、式（１１）において、発光中心の希土類金属イオンとして、少なくともＥｕを含んでいることが好ましく、例えば、発光中心が、Ｅｕのみ、または、ＥｕとＤｙの混合物であることがより好ましい。このように、発光中心として、Ｅｕを含んでいれば、青色発光を特に強く示す応力発光材料とすることができる。
（３）歪エネルギーにより発光する条件を満たしている応力発光材料、すなわち、歪エネルギーの形成によって、圧電効果、格子欠陥、および変形による発熱等の機構により発光する応力発光材料。
【０３８３】
この応力発光材料を用いることで、この応力発光材料を含む、本発明の「ホログラムシートＡ」を、手で軽く変形させるだけで、発光させ得る。
この圧電効果による発光は、歪形成力が加えられることで、「材料」に歪エネルギーが生じ、その歪エネルギーに伴う圧電効果により電気が発生し、これにより、「電場発光」が起こるものである。
【０３８４】
このために、結晶構造に対称中心が存在せず、自発分極が発生する構造とする。このような、圧電効果により強く発光する「材料」の一例として、α−ＳｒＡｌ２Ｏ４相の結晶材料を好適に用いることができる。
【０３８５】
格子欠陥による発光は、材料に格子欠陥が存在すると、歪エネルギーにより格子欠陥にトラップされている電子と正孔（ホール）とが再結合することが可能となるため、これにより「発光」が生じるものである。
【０３８６】
応力発光材料において、格子欠陥に由来する発光機構を実現するためには、その応力発光材料に含有される母体材料に、少なくとも１種、好ましくは、２種以上の金属イオンを、欠陥中心の中心イオンとして添加すればよいことになる。
【０３８７】
このような応力発光材料では、後述するように、α−ＳｒＡｌ２Ｏ４相の結晶材料において、ＳｒサイトやＡｌサイトを金属イオンが置換するように、各種「金属元素」を添加する。
発熱による発光は、歪形成により材料が変形すると、この変形に伴い熱が発生し、発熱（温度上昇）に伴い、サーモルミネセンス（熱発光）が生じ、「発光」するものである。ここでも、この母体材料として、α−ＳｒＡｌ２Ｏ４を挙げることができる。
（４）複数の結晶構造が混在（混和）してなる「混相」を含んでいる応力発光材料。すなわち、複数の結晶構造が混在してなる「混相」とすることにより、単独の結晶構造では実現出来なかった、目視できる高効率な（高輝度な）赤色応力発光が可能な発光材料とするもの。
【０３８８】
その混相は、ウルツ鉱型構造の酸化亜鉛と、立方晶、または、ウルツ鉱型構造の硫化亜鉛と、立方晶の酸化マンガンとの結晶構造の中から、少なくとも、２種類以上の結晶構造を有する複合結晶体であることが好ましい。この構成により、酸化亜鉛、硫化亜鉛、および、酸化マンガンのうち、単独、あるいは、これらの２つからなるものでは実現出来なかった、赤色発光体とすることが可能になる。
【０３８９】
すなわち、一般式、（ｘＺｎＯ＋ｙＺｎＳ＋ｚＭｎＯ）で表される混相とすることにより、赤色発光材料を実現することができる。
【０３９０】
その混晶を構成する金属イオンの一部は、他の金属イオンに置換されたものであってもよい。この場合、混晶を構成している金属イオンとは別の他の金属イオンは、Ｔｅイオンであることが好ましい。これにより、の応力発光材料の赤色発光の強度を大きく向上させることが可能となる。（「高輝度赤色応力発光材料」となる。）
このＴｅイオンは、混晶を構成する金属イオン１００ｍｏｌに対し、０．１ｍｏｌ以上５ｍｏｌ以下の範囲内となるようにすることが好ましい。
【０３９１】
さらに、この応力発光材料は、その混晶が、正方晶構造のチタン酸バリウム、斜方晶構造のチタン酸カルシウム、菱面体晶構造のチタン酸マグネシウム、および、立方晶構造のチタン酸ストロンチウムの中から、少なくとも、２種類以上を含むものであってもよく、この場合、混晶を構成する金属イオンの一部が、他の金属イオンに置換されているものであってもよい。
【０３９２】
また、この応力発光材料は、一般式（Ｃａ１−ｘＡ′ｘ）ｙＢａ１−ｙＴｉＯ３、（Ｍｇ１−ｘＡ′ｘ）ｙＢａ１−ｙＴｉＯ３、及び、（Ｓｒ１−ｘＡ′ｘ）ｙＢａ１−ｙＴｉＯ３（ここで、０．０００１≦ｘ≦０．０５、０．００５≦ｙ≦０．９９５、Ａ′は、Ｄｙ，Ｌａ，Ｇｄ，Ｃｅ，Ｓｍ，Ｙ，Ｎｄ，Ｔｂ，Ｐｒ，Ｅｒからなる群より選ばれる希土類元素。）からなるものであってもよい。
【０３９３】
この構成により、応力や電場を加えることにより光を発する発光性と、圧電性とを兼ね備えた発光材料とすることができる。
【０３９４】
また、Ａ′として示している希土類元素としては、プラセオジム（Ｐｒ）が最も好ましく用いられる。さらに、強誘電性正方晶のＢａ１−ｘＣａｘＴｉO３：Ｐｒ固溶体（０＜ｘ＜０．２３）と、常誘電性の斜方晶のＢａｙＣａ１−ｙＴｉＯ３：Ｐｒ固溶体（０．９＜ｙ＜１）とからなる、「混相」であってもよい。
そのＣａの比率が、４０％以上８０％以下の範囲内、あるいは、１％以上３５％以下の範囲内であることが好ましい。また、そのＣａの比率が、５５％以上６５％以下の範囲内、あるいは、２５％以上３５％以下の範囲内であることがより好ましい。
以上の応力発光材料は、機械的な外力、例えば、応力、せん断力、衝撃力、圧力等を加えることによって発光し、発光強度は、一般的に加える外力が大きいほど高くなる。
【０３９５】
さらに、本発明の「ホログラムシートＡ」に用い得る「応力発光材料」として、
（５）母体結晶として、周期表２Ａ、３Ａ、４Ａ、および、３Ｂ族に属する、少なくとも１種の金属の酸化物、または、複合酸化物、特には、ＭｇＯ、ＳｒＯ、ＣａＯ、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、ＨｆＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ａｌ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、および、Ｔｉ2Ｏ3の中から選ばれた金属酸化物、または、その複合酸化物、中でも、スピネル構造、ホタル石構造、イットリア構造、コランダム構造、または、β‐アルミナ構造を有するもの、特には、ＺｒＯ2、ＣｅＯ2、ＨｆＯ2、Ｙ2Ｏ3、Ｃｒ2Ｏ3、および、Ｔｉ2Ｏ3の中から選ばれた金属酸化物からなり、ホタル石構造、イットリア構造、および、コランダム構造の中から選ばれた結晶構造を有するものであって、
その発光中心を、不安定な３ｄ、４ｄ、５ｄ、または、４ｆ電子殻を有し、この電子殻内で輻射転移を生起しうる希土類金属イオン、および、遷移金属イオン、特には、第一イオン化エネルギーが、８ｅＶ以下の希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの中から選ばれた、少なくとも１種の金属イオン、特には、Ｓc、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、および、Ｌｕ、特には、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、および、Ｄｙの中から選ばれた希土類金属イオン、または、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、特には、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、および、Ｗの中から選ばれた遷移金属イオンとするもの。
（６）母体結晶に、ＦｅＳ2構造の酸化物、硫化物、炭化物、および、窒化物の１種類以上、特には、ＦｅＳ2構造のＳｒ3Ａｌ2Ｏ6、または、Ｃａ3Ａｌ2Ｏ6を用いるものであって、その発光中心を、上記（５）と同様とするもの。
（７）母体結晶に、スピネル構造のＭｇＡｌ2Ｏ4、および、ＣａＡｌ2Ｏ4、コランダム構造のＡｌ2Ｏ3、および、β‐アルミナ構造のＳｒＭｇＡｌ1０Ｏ17の中から選ばれた、少なくとも、１種の金属酸化物、または、複合酸化物を用いるものであって、その発光中心を、上記（５）と同様とするもの。
（８）母体結晶に、Ｙ、Ｂａ、および、Ｍｇの中から選ばれた、少なくとも１種の金属の酸化物と、Ｓｉの酸化物の複合体を、少なくとも主成分とする母体材料、特には、Ｙ2ＳｉＯ5、ＢａＳｉ2Ｏ5、および、Ｂａ3ＭｇＳｉ2Ｏ8の中から選ばれた、少なくとも１種の複合酸化物を用いるものであって、その発光中心を、上記（５）と同様とするもの。
特には、機械的エネルギーによって励起された電子が基底状態に戻る場合に発光する希土類、または、遷移金属の１種類以上からなる発光中心を添加したもの。
（９）母体結晶に、メリライト型構造のＣａＹＡｌ3 Ｏ7 、Ｃａ2 Ａｌ2 ＳｉＯ7 、Ｃａ2（Ｍｇ，Ｆｅ）Ｓｉ2 Ｏ7 、Ｃａ2 Ｂ2 ＳｉＯ7 、ＣａＮａＡｌＳｉ2 Ｏ7 、Ｃａ2 ＭｇＳｉ2 Ｏ7 、（Ｃａ，Ｎａ）2 （Ａｌ，Ｍｇ）（Ｓｉ，Ａｌ）2 Ｏ7 、および、Ｃａ2 （Ｍｇ，Ａｌ）（Ａｌ，Ｓｉ）ＳｉＯ7 の酸化物のうちの１種類以上からなる母体材料を用いるものであって、その発光中心を、上記（５）と同様とするもの。
（１０）母体結晶に、ＭＮ2Ｏ4で表される化合物（Ｍ、および、Ｎは、Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎの群、および、Ｇａ，Ａｌの群からそれぞれ選ばれた、少なくとも１つ以上の金属元素）で構成される酸化物、且つ、Ｍで表わされ金属元素に対する発光中心元素のモル％を０．００１〜2０％としたものを用いるもの、特には、ＭｇＧａ2Ｏ4、ＺｎＧａ2Ｏ4、ＺｎＡｌ2Ｏ4、ＳｎＺｎ2Ｏ4、ＢａＡｌ2Ｏ4、ＭｇＡｌ2Ｏ4で表される酸化物、さらには、母体材料が、スピネル構造を有する化合物で構成されるものにおいて、擬スピネルまたは逆スピネル構造を含む酸化物であって、その発光中心を、上記（５）と同様とするもの。
（１１）ＭＮ２Ｏ4で表される化合物（ＭおよびＮは、Ｍｇ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｚｎの群、および、Ｇａ，Ａｌの群からそれぞれ選ばれた、少なくとも１つ以上の金属元素）で構成される酸化物を母体材料とし、Ｍ、または、Ｎに対して、０．０００１〜２０モル％の格子欠陥を有するもの。
（１２）母体結晶に、（Ａ）一般式ｘＭ１Ｏ・ｙＡｌ2Ｏ3・ｚＳｉＯ2（式中のＭ１はＣａ、Ｂａ、または、Ｓｒであって、その一部がＮａ、Ｋ、および、Ｍｇの中の少なくと一種で置き換えられていてもよく、ｘ、ｙ、および、ｚは１以上の数である）で示されるアルミノケイ酸塩、（Ｂ）一般式ｘＭ２Ｏ・ｙＡｌ2Ｏ3（式中のＭ２は、Ｃａ、または、Ｂａであって、その一部が、Ｍｇ、および、Ｌａの少なくとも一方に置き換えられていてもよい。ｘ、および、ｙは、前記同様。）で示されるアルミン酸塩、（Ｃ）一般式ｘＭ３Ｏ・ｙＳｉＯ２（式中のＭ３は、Ｃａ、または、Ｓｒであって、その一部が、Ｎａ、Ｍｇ、Ｚｎ、Ｂｅ、Ｍｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、および、Ｎｂの中から選ばれた少なくとも一種で置き換えられていてもよい。ｘ、および、ｙは前記同様。）、または、Ｂａ2ＭｇＳｉＯ7で示されるケイ酸塩、（Ｄ）一般式ｘＭ４Ｏ・ｙＭ５Ｏ11（式中のＭ４は、Ｃａ、Ｂａ、または、Ｓｒ、Ｍ５は、Ｔａ、および、Ｎｂの中の少なくとも１種であり、ｘ、および、ｙは前記と同じ意味をもつ）で示されるタンタル酸、または、ニオブ酸塩、（Ｅ）一般式ｘＭ５Ｏ・ｙＧａ2Ｏ3（式中のＭ５は、Ｃａ、Ｂａ、または、Ｓｒであって、その一部は、Ｌａにより置き換えられていてもよい。ｘ、および、ｙは前記同様。）で示されるガリウム酸塩、および、ＺｒＯ2の中から選ばれた、少なくとも一種の酸化物、特には、一般式ｘＳｒＯ ・ｙ Ａ ｌ 2 Ｏ 3 ・ｚ Ｓ ｉ Ｏ 2（ 式中のＳｒの一部が、Ｎ ａ 、Ｋ 、および、Ｍ ｇ の中の少なくとも一種で置き換えられていてもよい。ｘ 、ｙ 、および、ｚ は１ 以上の数である。）、一般式ｘＳｒＯ・ｙＳｉＯ 2（ 式中のＳｒの一部が、Ｎ ａ 、Ｍ ｇ 、Ｚ ｎ 、Ｂ ｅ 、Ｍ ｎ 、Ｚ ｒ 、Ｃ ｅ 、および、Ｎ ｂ の中から選ばれた、少なくとも一種で置き換えられていてもよい。ｘ 、および、ｙ は上記同様。）、または、一般式    ｘＳｒＯ・ｙＭ４ Ｏ11（ 式中のＭは、Ｔａ 、および、Ｎｂ の中の少なくとも一種であり、ｘ、および、ｙは上記同様。）で表される組成をもつストロンチウム複合酸化物からなる母体材料、さらには、ｘＳｒＯ・ｙＡｌ2Ｏ3・ｚＳｉＯ2として、（Ｓｒ，Ｋ2，Ｎ ａ2 ） Ａｌ4 Ｓｉ14 Ｏ36、（ Ｓｒ，Ｎａ ） （ Ｍｇ，Ｆｅ，Ａｌ，Ｔｉ） （Ｓｉ，Ａｌ）2Ｏ6、（Ｓｒ，Ｎａ）2（Ａｌ，Ｍｇ，Ｆｅ）（Ｓｉ，Ａｌ）2Ｏ7、Ｓｒ2 （Ｍｇ，Ａｌ）（Ａｌ，Ｓｉ）ＳｉＯ7、Ｓｒ2Ａｌ2ＳｉＯ7、ＳｒＮａ2Ａｌ4Ｓｉ4Ｏ16などを挙げることができ、かっこ内の元素は互いに置き換えることができるもの。
【０３９６】
また、ｘＳｒＯ・ｙＳｉＯ2として、Ｓｒ（Ｚｎ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｍｇ）Ｓｉ2Ｏ6、Ｓｒ 2（Ｍｇ，Ｆｅ）Ｓｉ2Ｏ7、Ｓｒ2Ｂ2ＳｉＯ7、Ｓｒ2ＢｅＳｉ2Ｏ7、Ｓｒ2ＭｇＳｉ2Ｏ7、Ｓｒ2Ｎａ4ＣｅＦｅＮｂ2Ｓｉ8Ｏ28、Ｓｒ3Ｓｉ2Ｏ7、ＳｒＦｅＳｉ2Ｏ6、ＳｒＭｇＳｉ2Ｏ6など、もしくは、ｘＳｒＯ・ｙＭ4Ｏ11として、Ｓｒ（Ｔａ，Ｎｂ）4Ｏ 11であるもの、
特に発光強度の大きいものは、Ｓｒ（Ｔａ，Ｎｂ）4Ｏ11、Ｓｒ（Ｚｎ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｍｇ）Ｓｉ2Ｏ6、Ｓｒ2（Ｍｇ，Ａｌ）（Ａｌ，Ｓｉ）ＳｉＯ7、Ｓｒ2Ａｌ2ＳｉＯ7、Ｓｒ2ＭｇＳｉ2Ｏ7、Ｓｒ2Ｎａ4ＣｅＦｅＮｂ2Ｓ8Ｏ28、および、ＳｒＭｇＳｉ2Ｏ6としたもの、さらには、ＳｒＧａ12Ｏ19、ＳｒＬａＧａ3Ｏ7であるもの。
そして、これらの酸化物が、結晶構造的には点群（簡約化表現の指標において、）１、-１、２、２／ｍ、６／ｍ、ｍ３ｍ、（−４）２ｍ、６２２で表される結晶分類に属しているもので構成されるものにおいて、その発光中心を、不安定な３ｄ、４ｄ、５ｄ、または、４ｆ電子殻を有し、この電子殻内で輻射転移を生起しうる希土類金属イオン、および、遷移金属イオン、特には、第一イオン化エネルギーが、８ｅＶ以下の希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの中から選ばれた、少なくとも一種の金属イオン、特には、Ｓc、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、および、Ｌｕ、特には、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、および、Ｄｙの中から選ばれた希土類金属イオン、または、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、特には、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、および、Ｗの中から選ばれた遷移金属イオンとするもの。
【０３９７】
さらに、組成式、ＳｒＭｇＡｌ6Ｏ１１、ＳｒＬａＡｌ3Ｏ7、または、ＳｒＹＡｌ3Ｏ7で示されるストロンチウム、および、アルミニウム含有複合金属酸化物を母体材料とし、ユーロピウムを発光中心としたもの。
（１３）発光中心に、少なくとも、ユーロピウム（Ｅｕ）を含み、組成式（ １ ）（Ｅｕ1−ｘＡ’ｘ）ｙＢ’1−ｙＡｌ2Ｏ4、または、組成式（２）（Ｅｕ1−ｘＡ’ｘ）Ｂ’1−ｙＭｇＡｌ10Ｏ17｛式中、Ａ’は、希土類金属、Ｂ’は、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、または、カルシウム（Ｃａ）のいずれかのアルカリ土類金属を示し、０ ≦ ｘ ≦０．９９ 、０．００１≦ｙ≦０．５５０である｝で表される発光体であるもの。
（１４）母体結晶に、一般式ｘＢａＯ・ｙＡｌ2Ｏ3・ｚＳｉＯ2（式中のＢａは、その一部が、Ｎａ、Ｋ、および、Ｍｇの中の少なくとも一種で置き換えられていてもよく、ｘ、ｙ、および、ｚは１以上の数である）、ｘＢａＯ・ｙＡｌ2Ｏ3（式中のＢａはその一部が、Ｍｇで置き換えられていてもよく、ｘ、および、ｙは前記同様。）、または、ｘＢａＯ・ｙＳｉＯ2（式中のＢａはその一部が、Ｍｇ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｚｎ、および、Ｂｅの中の少なくとも一種で置き換えられていてもよく、ｘ、および、ｙは前記同様。）で表わされる組成をもつバリウムの複合酸化物の中から選ばれた、少なくとも一種の酸化物であって、ここで、ｘＢａＯ・ｙＡｌ2Ｏ3・ｚＳｉＯ2で表わされるものとしては、例えば、Ｂａ2（Ｍｇ，Ａｌ）（Ａｌ，Ｓｉ）ＳｉＯ7、Ｂａ2Ａｌ2ＳｉＯ7、ＢａＡｌ2Ｓｉ2Ｏ8、ＢａＮａＡｌＳｉ2Ｏ7、
ｘＢａＯ・ｙＡｌ2Ｏ3で表わされるものとしては、例えば、ＢａＡｌ8Ｏ１3、ＢａＭｇＡｌ6Ｏ１１、
ｘＢａＯ・ｙＳｉＯ2で表わされるものとしては、例えば、Ｂａ（Ｚｎ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｍｇ）Ｓｉ2Ｏ6、Ｂａ2（Ｍｇ，Ｆｅ）Ｓｉ2Ｏ7、Ｂａ2ＢｅＳｉ2Ｏ7、Ｂａ2ＭｇＳｉ2Ｏ7、Ｂａ2ＭｇＳｉＯ7、などがあり、
特に発光強度の大きいものは、Ｂａ2Ａｌ2ＳｉＯ7、Ｂａ2ＭｇＳｉ2Ｏ7、ＢａＡｌ2Ｓｉ2Ｏ8、ＢａＡｌ8Ｏ１3であるもの。
【０３９８】
そして、これらの酸化物は、結晶構造的には点群（簡約化表現の指標において、）  １、-１、２、２／ｍ、６／ｍ、ｍ３ｍ、（−４）２ｍ、６２２で表される結晶分類に属しているものを用い、その発光中心を、不安定な３ｄ、４ｄ、５ｄ、または、４ｆ電子殻を有し、この電子殻内で輻射転移を生起しうる希土類金属イオン、および、遷移金属イオン、特には、第一イオン化エネルギーが８ｅＶ以下の希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの中から選ばれた少なくとも一種の金属イオン、特には、Ｓc、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、および、Ｌｕ、特には、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、および、Ｄｙの中から選ばれた希土類金属イオン、または、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔｃ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｄ、Ｌｕ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ｏｓ、Ｉｒ、Ｐｔ、Ａｕ、特には、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、および、Ｗの中から選ばれた遷移金属イオンとするもの。
（１４）（Ｃａ１−ｐＰｒｐ）ｑＢａ１−ｑＴｉＯ3（０．０００１≦ｐ≦０．０５，０．００５≦ｑ≦０．９９５）からなる発光材料、さらに、正方晶構造のチタン酸バリウムの結晶相および斜方晶構造のチタン酸カルシウムの結晶相が混在してなる混相を含み、その混相を構成する金属イオンの一部が、Ｐｒイオンに置換されている発光材料、特に、サイズの異なる複数の結晶相を有し、チタン酸バリウムの結晶相は大きい粒子サイズであり、チタン酸カルシウムの結晶相は小さい粒子サイズで構成されているとともに、小さい粒子サイズの結晶相は大きい粒子サイズの結晶相の粒子間に均一に分散している発光材料、また、強誘電性正方晶のＢａ１−ｘＣａｘＴｉＯ3：Ｐｒ固溶体（０＜ｘ＜０．２５）と、常誘電性の斜方晶のＢａ１−ｙＣａｙＴｉＯ3：Ｐｒ固溶体（０．９＜ｙ＜１）とからなる混相である発光材料、及び、［（１−ｘ）ＢａＴｉＯ3−ｘＣａＴｉＯ3］：Ｐｒ  （ｘが、０．０１≦ｘ≦０．９）、特には、（ｘが、０．４≦ｘ≦０．８）、もしくは、（ｘが、０．０１≦ｘ≦０．３５）の発光材料を用いることができる。
【０３９９】
もしくは、以上の発光材料が、赤色発光を示す発光材料であるもの、及び、発光強度がその発光材料に負荷する機械的な外力の大きさに比例するものである、発光材料を用いることができる。
（１５）少なくともＡｌＯ４様構造、および、ＳｉＯ４様構造の四面体構造を有する複数の分子が、その四面体構造の頂点の原子を共有して結合することにより形成された母体構造の空間に、アルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの少なくとも一方が挿入された基本構造を有し、母体構造は、さらに、非対称性のフレームワーク構造を有しており、その空間に挿入されたアルカリ金属イオンおよびアルカリ土類金属イオンの少なくとも、一方の一部が、希土類金属イオンおよび遷移金属イオンの少なくとも一種の金属イオンに置換されていて、且つ、その基本構造は、ＭｘＮ１−ｘＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８（ただし、式中ＭおよびＮは、２価の金属イオンであり、少なくとも一種類は、Ｃａ，Ｓｒ，Ｂａ，Ｍｇ，またはＭｎであり、０≦ｘ≦０．８である。）で示され、Ｃａ０．９８５Ｅｕ０．０１Ｄｙ０．００５Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｃａ０．９９５Ｄｙ０．００５Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｃａ０．９７Ｅｕ０．０１Ｎｄ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｃａ０．９３Ｅｕ０．０２Ｄｙ０．０５Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｓｒ０．９７Ｅｕ０．０１Ｄｙ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｂａ０．９７Ｅｕ０．０１Ｄｙ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｃａ０．８Ｓｒ０．１７Ｅｕ０．０１Ｈｏ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｓｒ０．１７Ｂａ０．８０Ｅｕ０．０１Ｈｏ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｓｒ０．１７Ｂａ０．８０Ｅｕ０．０１Ｄｙ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、Ｍｇ０．２Ｓｒ０．７７Ｅｕ０．０１Ｄｙ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８、または、Ｂａ０．２Ｓｒ０．７７Ｅｕ０．０１Ｄｙ０．０２Ａｌ２Ｓｉ２Ｏ８で示される組成を有する応力発光材料。
（１６）一般式ＣａＭ１Ａｌ3Ｏ7で表される正方相構造の酸化物（Ｍ１は、Ｙ、Ｌａ、または、Ｇｄを表す。）と、Ｅｕ2+とを含み、その酸化物の原料から形成される不純物相をさらに含んでいる応力発光材料、特には、そのＭ１で表される原子が欠損している格子欠陥構造である酸化物の結晶をさらに含む応力発光材料。
【０４００】
そして、Ｅｕ2+を、その酸化物１００モルに対し、０．０１モル〜２０モル含む、さらには、不純物相を形成する物質が、その酸化物１００モルに対し０．１モル〜８０モルである応力発光材料。特には、その酸化物がＣａＹＡｌ3Ｏ7であり、その不純物相は、Ｙ2Ｏ3、Ｙ3Ａｌ5Ｏ１2、もしくは、Ｙ４Ａｌ2Ｏ9の少なくとも１つを含む、応力発光材料。
（１７）母体結晶に、金属酸化物、金属窒化物、および、金属硫化物からなる群より選択される、少なくとも1つの化合物を含み、特には、その金属酸化物が、アルミン酸、および、アルミノケイ酸からなる群より選択される、少なくとも１つの化合物を用い、その発光中心を、遷移金属（ただし希土類金属を除く）、Ｓｉ、および、Ｓｎのうち、少なくとも一つの元素をさらに含み、その元素の少なくとも一部が、母体材料に非固溶状態で含有されてなり、さらには、その元素が、粒子状で、且つ、母体材料（母体結晶）の表面に存在して、その元素の含有量が、０．１〜９０モル％、特には、１０〜９０モル％、もしくは、０．１〜１０モル％であって、その元素が、Ｚｒ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａ、および、Ｗからなる群より選択される少なくとも１つの金属としたもの。
（１８）（ＺｎＯ）０．６（ＭｎＳ）０．４−ｘ（ＭｎＴｅ）ｘ（０．００１≦ｘ≦０．０５）、特には、ウルツ鉱型構造の酸化亜鉛の結晶相、立方晶、または、ウルツ鉱型構造の硫化亜鉛の結晶相、および、立方晶の酸化マンガンの結晶相の中から選択される少なくとも２種類以上の結晶相が混在してなる混相を含み、その混相を構成する金属イオンの一部が、Ｔｅイオンに置換されている応力発光材料。さらには、サイズの異なる複数の結晶相を有し、酸化マンガンの結晶相は大きい粒子サイズであり、硫化亜鉛の結晶相、および、酸化亜鉛の結晶相は、小さい粒子サイズで構成されているとともに、小さい粒子サイズの結晶相は、大きい粒子サイズの結晶相の粒子間に均一に分散していて、中でも、赤色発光を示し、且つ、発光強度が負荷さ有れる機械的な外力の大きさに比例する、応力発光材料。
（１９）単斜晶のＬｉＳｒＰＯ４：Ｅｕ2+を含有する応力発光材料。特には、六方晶のＬｉＳｒＰＯ４：Ｅｕ2+を更に含有する発光体、単斜晶のＬｉＳｒＰＯ４：Ｅｕ2+からなる発光体、または、斜方晶のＬｉＢａＰＯ４からなる母体構造に形成された空間に、発光中心としてユウロピウム（Ｅｕ）のイオンが挿入されたＬｉＢａＰＯ４：Ｅｕ2+であって、その発光中心の含有量が２．０〜３．５モル％であるＬｉＢａＰＯ４：Ｅｕ2+からなる発光体。
【０４０１】
さらに、高輝度な発光を可能とする「応力発光材料」（以下、「高輝度応力発光材料」とも称す。）として、以下のものを用いることが好適である。
（２０）アルカリ土類金属酸化物とアルミニウム酸化物とから構成され、かつこの中のアルカリ土類金属イオンの組成比を欠損させたアルカリ土類金属欠損型であって、式ＭxＡｌ2Ｏ3+x、ＭxＱＡｌ10Ｏ16+x、Ｍx１Ｑx2Ａｌ2Ｏ3+x１+x２、または、Ｍx１Ｑx２ＬＡｌ10Ｏ16+x１+x２［式中のＭ、Ｑ、および、Ｌは、それぞれＭｇ、Ｃａ、Ｓｒ、または、Ｂａであり、ｘは０．８≦ｘ≦０．９９、ｘ１、および、ｘ２は０．８≦（ｘ１＋ｘ２）≦０．９９を満たす数である］で表わされる化合物を主成分とする非化学量論的組成を有するアルミン酸塩の少なくとも一種からなり、かつ機械的エネルギーによって励起されたキャリアーが基底状態に戻る際に発光する格子欠陥をもつ物質、または、この母体物質中に希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの中から選ばれた少なくとも一種の金属イオンを発光中心の中心イオンとして含む物質からなる高輝度応力発光材料。特には、格子欠陥をもつアルミン酸塩からなる物質が、化学量論的組成比から、アルカリ土類金属イオンが１〜２０モル％少なく、かつこの物質中に、希土類金属イオン、および、遷移金属イオンの中から選ばれた少なくとも一種の金属イオン０．０１〜１０モル％を、発光中心の中心イオンとして含む高輝度応力発光材料。
（２１）一般式ｘＭ１Ａｌ・（１−ｘ）Ｍ２Ａ２（式中のＭ１、および、Ｍ２は、Ｚｎ、Ｍｎ、Ｃｄ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｍｇ、および、Ｃａの中から選ばれる少なくとも一種の原子であり、Ａ１、および、Ａ２は、カルコーゲンの中から選ばれる少なくとも一種の原子であって、Ｍ１Ａ１とＭ２Ａ２とは異なったものであり、ｘは、０よりも大きく１よりも小さい数である。）で表わされる複合半導体結晶、特には、その複合半導体結晶が、ウルツ鉱型構造とせん亜鉛鉱型構造との共存構造を有する高輝度応力発光材料。
さらには、そのＭ１がＭｎ、または、Ｅｕであり、Ａ１とＡ２が同一のカルコーゲンであって、または、そのＭ２がＺｎとＣｄ、もしくは、ＺｎとＣｕで構成されている高輝度応力発光材料、中でも、一般式ｘＭＡ・（１−ｘ）ＭｎＡ（式中のＭは、Ｚｎ、または、Ｃｕにより部分的に置き換えられたＺｎ、Ａはカルコーゲン、ｘは、０よりも大きく１よりも小さい数である。）で表わされ、結晶粒子径が２０ｎｍ以下の複合半導体結晶からなる高輝度応力発光材料。特には、ＡがＳ、または、Ｔｅである高輝度応力発光材料。
（２２）結晶構造が単斜晶である第１のアルミン酸塩を含有している応力発光材料であって、第１のアルミン酸塩の母体材料が、α−ＳｒＡｌ2 Ｏ4 であり、３種類以上の金属イオンが欠陥中心の中心イオンとしてその母体材料に添加されており、添加された中心イオンが、少なくともα−ＳｒＡｌ２Ｏ４のＳｒサイトを置換しており、中心イオンとしては、Ｓｒよりもイオン径が小さいものおよび大きいものの両方が添加されており、Ｓｒよりもイオン径が小さい金属イオンが、Ｅｕである高輝度応力発光材料、特には、結晶構造が単結晶ではない第２のアルミン酸塩を含有せず、中心イオンの添加により、母体材料の自発分極性を有する結晶構造中に、格子欠陥が形成され、さらには、結晶構造中にトンネル構造を有していて、そのトンネル中に配置する元素がイオン結合で配置されている高輝度応力発光材料、さらに、Ｓｒよりもイオン径が小さい金属イオンとして、Ｍｇ、Ｎａ、Ｚｎ、Ｃｕ、Ｅｕ、Ｔｍ、Ｈｏ、Ｄｙ、Ｓｎ、Ｍｎ、Ｎｄ、Ｐｒ、Ｃａからなる群より選択される少なくとも一種が用いられ、Ｓｒよりもイオン径が大きい金属イオンとして、Ｂａ、および／または、Ｋが用いられる高輝度応力発光材料、および、α−ＳｒＡｌ2 Ｏ4のＳｒサイトを置換している金属イオンは、Ｓｒを基準として、０．１〜４０モル％で添加されていること、全金属イオンの添加量が化学量論よりも少ないこと、中心イオンが、α−ＳｒＡｌ2 Ｏ4のＡｌサイトを置換していること、中心イオンとして添加される金属イオンが、Ａｌよりもイオン径が小さいものであって、Ｓｉ、Ｂが用いられること、中心イオンとして添加される金属イオンが、Ａｌよりもイオン径が大きいものであって、Ｇａ、Ｉｎが用いられること、  中心イオンとして添加され、α−ＳｒＡｌ2 Ｏ4のＡｌサイトを置換している金属イオンは、Ａｌを基準として０．１〜２０モル％で添加されること、中心イオンとして添加される金属イオンとして、価数の異なる金属イオンを少なくとも２種以上添加すること、材料の歪エネルギー密度に比例して発光することなどをその特徴として持つ、高輝度応力発光材料。
【０４０２】
また、紫外線領域（光の波長として２００ｎｍ〜４００ｎｍ）の発光を可能とする「応力発光材料」として、以下のものを用いることもできる。
（２３）ＭＮ（ＰＯ３）４（式中、Ｍは１価の金属イオンであり、Ｎは３価の金属イオンである。）で表される構造を母体構造とし、上記のＭまたはＮの一部が、希土類イオンまたはＩＩＩ族金属イオンの少なくとも一方によって置換されている応力発光材料。
【０４０３】
特には、Ｎａ１−ｘＱｘＬａ（ＰＯ）４（式中、ＱはＣｅイオン、またはＴｌイオンであり、０．０１≦ｘ≦０．２）である応力発光材料。
（２４）多面体構造の複数の分子によって形成される母体構造の空間に、アルカリ土類金属イオンが挿入された基本構造を有し、その空間に挿入された、アルカリ土類金属イオンの一部が、Ｃｅイオンによって置換されている応力発光材料であって、その基本構造が、自発歪を有し、その多面体構造の分子が、四面体構造の、ＡｌＯ４、およびＳｉＯ４のうちの少なくとも１つを含んでおり、その基本構造が、一般式  ＭｘＮ１−ｘＡｌ2Ｓｉ2Ｏ8  で示され（ただし、式中、ＭおよびＮは、２価の金属イオンであって、少なくとも１つは、ＣａまたはＳｒであり、０≦ｘである。）、その応力発光材料は、Ｃａ2.2Ｓｒ2.77Ｃｅ2.225Ｄｙ2.22Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8、Ｃａ2.2Ｓｒ2.79Ｃｅ2.225Ｔｂ2.225Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8、Ｃａ2.995Ｃｅ2.225Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8Ｃａ2.97Ｃｅ2.23Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8、Ｃａ2.2Ｓｒ2.77Ｃｅ2.23Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8、または、Ｃａ2.8Ｓｒ2.１7Ｃｅ2.23Ａｌ2Ｓｉ2Ｏ8で示される組成を有する応力発光材料。
（２５）一般式ＭＮ（ＰＯ3）4（式中、Ｍは、Ｎａイオンであり、Ｎは、Ｌａイオンである。）で表される構造を母体構造とし、そのＭの一部が、希土類イオン、または、ＩＩＩ族金属イオンの少なくとも一方によって置換されており、そのＭの一部と置換される希土類イオンは、Ｅｕ、Ｄｙ、Ｃｅ、およびＴｂからなる群より選択される希土類のイオンであり、そのＭの一部と置換されるＩＩＩ族金属イオンは、Ｔｌイオンである応力発光材料。
【０４０４】
「応力発光材料」は、上記した組成に対応した材料を準備し、すなわち、各々の母体結晶用材料に対して、対応する発光中心となる元素を含む酸化物等を、その金属原子換算における所定の割合で、混合し、（一般的には、母体結晶用材料１００ｍｏｌに対して、０．１〜１００ｍｏｌの範囲の所定の値とする。）、窒素ガス等の不活性雰囲気中で、９００〜１１００℃の範囲の温度まで徐々に昇温させたのち、水素含有アルゴンガス等の還元雰囲気中、１２００〜１５００℃の範囲の温度で焼成することで、得ることができる。
【０４０５】
ここで、「応力発光材料」を、所定の形状とするためには、あらかじめ、所望の形を有する「成形型（上記の高温において、比較的変形の少ないセラミクス材料からなるものを選定する。）」に、上記材料を入れ、所定の焼成をした後、その「成形型」から取り出す手法を用いることができる。
【０４０６】
但し、「応力発光材料」の表面を滑らか、且つ、「平坦な面」にするために、敢えて、溶融温度の高い金属材料（セラミクス材料よりも、金属材料の方が、表面平滑性が高く、「焼成」後には、それらの表面が、「応力発光材料」の表面、さらには、「応力発光材料層」の表面になるという意味。）をその成形型として用いてもよい。
【０４０７】
また、上記した高温においては、完全に焼失して、焼成物への付着も少ない、セルロース系樹脂材料や、アセチルセルロース系樹脂材料等の樹脂材料を用いて、十分な耐熱性を持つ平坦な「セラミクス板」上に、適宜な厚さで樹脂塗膜を形成し、且つ、その際、その樹脂塗膜の表面に、所望の形状（「応力発光材料」とする形状）に対応する凹部（微細な凹部となる。）を設けて、その凹部に、上記のごとく準備した材料を入れて、上記と同様に焼成し、樹脂塗膜を焼失させると同時に、その「セラミクス板」上に、所望の形状を持つ「応力発光材料」さらには、「応力発光材料層」を残す方法を採用することも好適である。このような「応力発光材料層」は、「透明基材１」の上に設けずとも、「応力発光材料層」単層で、「（透明基材１を伴わない）シート状薄膜光源層」として機能させることもできる。
【０４０８】
また、「応力発光材料」は、上記した組成に対応した材料を準備し、すなわち、各々の母体結晶用材料となる元素、及び、その母体結晶用材料に対して、対応する発光中心となる元素を含む、酸化物、硝酸塩、塩酸塩等を、その金属原子換算における所定の割合で、混合して（母体結晶用材料１００ｍｏｌに対して、発光中心材料を、０．１〜１００ｍｏｌの範囲の所定の値に設定する。）、「焼成前の『応力発光材料』用組成物」とし、あらかじめ準備した「応力集中係数αが２以上となる部位を有する形状」を持つ「空洞」を設けてある「焼成用型」の「空洞」内に、充填し、真空状態で、もしくは、窒素ガス、アルゴンガスや、二酸化炭素等の不活性ガス雰囲気中で、９００〜１１００℃の範囲の温度まで徐々に昇温させたのち（このときの、いわゆる『昇温曲線』は、個々の『応力発光材料』用組成物に対応してそれぞれ設定する。）、水素含有アルゴンガス等の「還元雰囲気」中にて、１２００〜１５００℃の範囲の温度まで上昇させて「焼成（酸素供給を制限した還元焼成である。）」、及び／または、燒結（『焼成』後の引き締めとも呼ばれる。）後、自然冷却させ、及び／または、所定の強制冷却を施し（このときの、いわゆる『冷却曲線』は、個々の『応力発光材料』用組成物、もしくは、『応力発光材料』に対応してそれぞれ設定する。）、常温付近まで近づいたところで、その「焼成用型」から、その「焼成した目的物（所望の『形状』をした『応力発光材料』。）」を取り出し、（これが、『焼成』手順である。）、さらには、得られた「応力発光材料」の「平板状、または、塊状」のものを、所定の粉砕手段等により「微粒子化」して、得ることができる。
【０４０９】
その「空洞」の形状が、「応力集中係数αが２以上となる部位を有する形状」そのものとなっているか、もしくは、「焼成」や「燒結」による「形状変化（主に、収縮。）」を想定して設けた形状となっている。
【０４１０】
より具体的には、この「空洞」の中に、上記した「所定の焼成」によって、「応力発光材料層」に含まれる『応力発光材料』となる、「『所定の酸化物等』を所定の溶剤（水系溶媒を含む。）で希釈し流動性を持たせた、焼成前の『応力発光材料』用組成物」として、所定の圧力で流し込み、その「酸化物等」が、「所定の焼成環境」の中で、「焼成温度」まで昇温されて、その溶剤成分（水成分）や、有機材料成分を放出したり、低融点成分が軟化したりすることによる、それらの組成変化や、構造変化を経て、「応力発光材料層」に含まれる「応力発光材料」となる。
【０４１１】
そして、この「所定の酸化物等」には、目的とする「応力発光材料」の結晶母体、発光中心、その他の添加物に現われる「主元素の単体や複合体」の水酸化物、水和物、無水化合物、酸化物、複合酸化物、硝酸塩、塩酸塩、炭酸塩、酢酸塩、硫酸塩等、さらには、その「主元素に有機材料をキレート化結合したもの（有機金属化合物など。）」、既に「応力発光材料」としたものの微粉末や、紛体、それらに、各種の粘結助剤（オレフィン系樹脂、特には、プロピレン系共重合体や、スチレン系エラストマーを混合した焼成用粘結助剤、メタクリル酸エステル系焼成用粘結助剤、セルロース系樹脂、特には、メチルセルロースにケイ酸ナトリウム、ポリビニルアルコール、ポリエチレングリコールなどを加えた焼成用粘結助剤）を加えたもの、さらには、低融点セラミックス（軟化点が、２００〜７００度のセラミックス。ガラスフリットとも呼ばれる。）などを加えたもの、及び、プロピレン系の焼成用成形助剤などを加えたものが用いられる。
【０４１２】
また、上記した「焼成」や「燒結」には、電気炉（マッフル炉）やガス炉を用いることができる。この電気炉には、その構造や原理から、抵抗加熱炉、誘導加熱炉、アーク加熱炉など、発熱体として、金属発熱体、炭化ケイ素、モリブデン、ランタンクロマイト、カーボングラファイトを用いるものなど、大気炉（酸化雰囲気炉）、ガス雰囲気炉、真空ガス置換炉、低真空炉、高真空炉など、さらには、箱型炉、管状炉、連続炉、目的物を回転させながら焼成するロータリーキルンなどがある。
【０４１３】
ここで、「応力発光材料」を、所定の形状とするためには、上述した種々の手段を用いて、あらかじめ、所望の形を有する「成形型（上記の高温において、比較的変形の少ないセラミックス材料からなるものを選定する。）」に、上記材料を入れ、所定の焼成をした後、その「成形型」から取り出す手法を用いることができる。
【０４１４】
但し、「応力発光材料」の形状を鋭利に、且つ、その表面を滑らかにするために、敢えて、溶融温度の高い金属材料（セラミックス材料よりも、金属材料の方が、表面平滑性が高く、「焼成」後には、それらの表面が、「応力発光材料」の表面になるという意味。）をその成形型として用いてもよい。
【０４１５】
また、上記した高温においては、完全に焼失して、焼成物への煤などの付着も少ない、セルロース系樹脂材料や、アセチルセルロース系樹脂材料等の樹脂材料を用いて、十分な耐熱性を持つ平坦な「セラミックス板」上に、適宜な厚さで樹脂塗膜を形成し、且つ、その際、その樹脂塗膜の表面に、所望の形状（「応力発光材料」とする形状）に対応する凹部（微細な凹部となる。）を設けて、その凹部に、上記のごとく準備した材料を入れて、上記と同様に焼成し、樹脂塗膜を焼失させると同時に、その「セラミックス板」上に、所望の形状を持つ「応力発光材料」を残す方法を採用することも好適である。
【０４１６】
また、「応力発光材料層」に含まれる「応力発光材料」である、「微粒子」は、そもそも、「応力発光材料」用組成物を、所定の条件にて焼成して、厚さ１０μｍ〜３．０ｍｍの「平板状（シート状の板という意味。）」や、粉砕を目的として立体状とした、例えば、最大長０．５ｍｍ〜１００ｍｍのタブレット状、ペレット状、円柱状、直方体、立方体などの「塊状」などとした「応力発光材料」を、所定の粉砕手段を用いて、粉砕して微粒子化し、その微粒子を所定の分級手段等を用いて、選別して、「微粒子」としたもの、もしくは、その「単に微粒子化した段階の微粒子」を、下記する「『所定の透明な樹脂』に用いられる樹脂から選定した『透明樹脂』」に分散してペレット状などとしたものを、再び、粉砕し、そして、分級して「微粒子化」し、「微粒子」としたものの何れかであって、さらに、それらの処理中、微粒子間の衝突を抑制して処理すると、それらの「微粒子」の形状そのものが、複雑な形状を成し、さらに、その「微粒子」の表面も非常にランダムな凹凸形状を維持したものとすることができる。
【０４１７】
ここで、「『所定の透明な樹脂』に用いられる樹脂から選定した『透明樹脂』」とは、『所定の透明な樹脂』と同様の透明性を有する『樹脂』をいい、特には、その『透明樹脂』の体積弾性率を、その微粒子の体積弾性率より大きいものとして、その樹脂に負荷された『変形』がそのまま『微粒子』に伝わるように配慮したものが、好適。その「透明樹脂」と「応力発光材料」の組成比は、１０／１〜１／１０とする。
【０４１８】
そして、粉砕手段としての粉砕機には、ボールミル、ロッドミル、自生粉砕ミル、ＳＡＧ（準自生粉砕）ミル、高圧粉砕ロール、縦軸インパクタ（ＶＳＩ）ミルなどを用いる。
また、一旦、「応力発光材料」を、「微粒子化」、さらには、「超微粒子化（平均粒径が、０．０１〜１．０μｍ、特には、０．０１〜０．１μｍである『微粒子』を『超微粒子』と称する。これより大きいものが『微粒子』である。）したものを、造粒機等の「造粒」手段を用いて、「『超微粒子』間結合を強固にした２次凝集物」としたものを、「微粒子」としてもよい。
【０４１９】
そのような粉砕手段で「微粒子化」した「応力発光材料」（『応力発光材料』で１００％組成されているもの、複数の応力発光材料から成る『応力発光材料の複合体』、及び、『応力発光材料と透明な樹脂』で組成されたものを含む。）を、分級手段を用いて、選別し、または、さらに、造粒手段を用いて造粒した後、分級手段を用いて選別し、最大直径で、０．１μｍ〜５０μｍ、好適には、５．０μｍ〜２０μｍの「微粒子」とし、もしくは、平均粒径Ｄ５０で、０．０５μｍ〜２０μｍ、好適には、０．５μｍ〜１０μｍの「微粒子」とする。
【０４２０】
この「応力発光材料」からなる「微粒子」を、  上記した「透明な樹脂」に分散して、「応力発光材料層」として、透明基材１の上に形成する。その「透明な樹脂」には、各種の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、もしくは電離放射線硬化性樹脂を用いる。
【０４２１】
その熱可塑性樹脂としては、アクリル酸エステル樹脂、すなわち、ポリメチルメタクリレート（屈折率ｎ＝１．４９）、ポリメチルアクリレート（ｎ＝１．４７）、ポリベンジルメタクリレート（ｎ＝１．５７）、ポリブチルアクリレート（ｎ＝１．４４）、ポリイソブチルアクリレート（ｎ＝１．４８）等、セルロース系樹脂、すなわち、硝酸セルロース（ｎ＝１．５４）、メチルセルロース（ｎ＝１．５０）、セルロース・アセテートプロピオネート（ｎ＝１．４７）等、ビニル系樹脂、すなわち、ポリ酢酸ビニル（ｎ＝１．４７）、ポリ塩化ビニル・酢酸ビニル（ｎ＝１．５４）等、アクリルアミド樹脂（ｎ＝１．５０）、もしくはポリスチレン樹脂（ｎ＝１．６０）等を、また、熱硬化性樹脂としては、不飽和ポリエステル樹脂（ｎ＝１．６４）、アクリルウレタン樹脂（ｎ＝１．６０）、エポキシ変性アクリル樹脂（ｎ＝１．５５）、メラミン樹脂（ｎ＝１．５６）、エポキシ変性不飽和ポリエステル樹脂（ｎ＝１．６４）、アルキッド樹脂（ｎ＝１．５４）、フェノール樹脂（ｎ＝１．６０）、シリコン樹脂（ｎ＝１．４１〜１．６０）、もしくは、フッ素化樹脂（ｎ＝１．３５〜１．３８）等を用いる。
【０４２２】
これらの熱可塑性樹脂および熱硬化性樹脂は、１種もしくは２種以上を使用でき、さらに、各種イソシアネート樹脂を用いて架橋させてもよいし、あるいは、各種の硬化触媒、例えば、ナフテン酸コバルト、もしくはナフテン酸亜鉛等の金属石鹸を配合するか、または、熱もしくは紫外線で重合を開始させるためのベンゾイルパーオキサイド、メチルエチルケトンパーオキサイド等の過酸化物、ベンゾフェノン、アセトフェノン、アントラキノン、ナフトキノン、アゾビスイソブチロニトリル、もしくはジフェニルスルフィド等を配合しても良い。
【０４２３】
また、電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、アクリル変性ポリエステル等を挙げることができ、このような電離放射線硬化性樹脂に架橋構造を導入するか、もしくは粘度を調整する目的で、単官能モノマーもしくは多官能モノマー、またはオリゴマー等を配合して用いてもよい。
【０４２４】
また、上記の熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂に、シリコン樹脂やフッ素含有樹脂、さらには、シリコンオイルを混合したもの、または、熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂とシリコン樹脂やフッ素含有樹脂を共重合させたものや、熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂の分子内にシロキサン結合〔―Ｓｉ（Ｒ１）（Ｒ２）−Ｏ―〕やフッ素原子〔−Ｆ〕を導入したものを用いることができる。
さらには、上記の熱可塑性樹脂、もしくは熱硬化性樹脂に、シリコンパウダー微粒子やフッ素パウダー微粒子を分散させたものを用いることもできる。
【０４２５】
フッ素化樹脂には、完全フッ素化樹脂として、四フッ素化樹脂、部分フッ素化樹脂として、三フッ素化樹脂、ポリフッ化ビニリデン、ポリフッ化ビニル、フッ素化樹脂共重合体として、ペルフルオロアルコキシフッ素樹脂。四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体、エチレン・四フッ化エチレン共重合体、エチレン・クロロトリフルオロエチレン共重合体などを用いることができる。
【０４２６】
さらに、「透明な樹脂」の屈折率と、「微粒子」の屈折率（『微粒子』の屈折率ｎは、１．７〜２．５である。）の「屈折率差」を、０．３以下、さらには、０．１以下とする。
【０４２７】
こうすることで、その「透明な樹脂」と「微粒子」の「界面」における反射率が小さくなり、「多重反射現象」を増すことができると共に、「微粒子」の「発光」した「光」を効率よく観察者へ伝えることができる。
【０４２８】
特には、「透明な樹脂」の屈折率と、「微粒子」の中に含まれる「透明樹脂」の屈折率の「屈折率差」を、０．１以下、さらには、０．０３以下とする。
【０４２９】
このことによって、それらの「樹脂」の界面での界面反射率をほぼ「０」とすることができ、「微粒子」の「発光」した「光」をさらに、効率よく観察者へ伝えることができる。
【０４３０】
そして、「透明な樹脂」と「微粒子」との含有比率は、５／９５〜１００／５、特には、５／３０〜１００／３０とする。
【０４３１】
この混合比率が、５／９５より小さいものとすると、「応力発光材料層」の強靭性が低下し、偽造防止目的の用途においては、信頼性に欠けるものとなり、１００／５を超えるものとすると、発光強度が不十分となる。
【０４３２】
さらに、この「『透明な樹脂』と『微粒子』の混合物」に対する溶剤の割合は、上記したコーティング等の各種方式によって個々適性範囲があるが、総じて、１００／５〜１／２０とする。
【０４３３】
そして、「微粒子」を「透明な樹脂」中に「分散」するため、その「透明な樹脂」を、溶剤類、例えば、環状炭化水素類（シクロヘキサン等）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、イソブチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール等、さらにはその水溶液。）、エーテル類（テトラヒドロフラン、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、ブチルセルソルブ、ｔ−ブチルセルソルブ等。）、エチレングリコールモノブチルエーテルなどのグリコール誘導体、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、イソホロン、ジイソブチルケトン、等。）、芳香族類（ベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベッソＮｏ．１００、ソルベッソＮｏ．１５０、カクタスＰ−１８０等。）、エステル類（酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、酢酸セルソルブ、エチルー３−エトキシプロピオネート等。）等に溶解した溶液中、または、その「透明な樹脂」に「水溶性樹脂（水系樹脂）」を用いた場合には、「水」、及び／または、メタノール、エタノール、プロパノール、ブチルアルコール等の「低級アルコール」、グリコール類、セルソルブ類などに溶解した溶液中に、「微粒子」を混入させ、デゾルバ、ミキサーなどの攪拌機や、ニーダー、ロールミル等の混練機などを用いて、「透明な樹脂」中に「微粒子」を均一に含ませた後、その混合溶液を、グラビアコーティング方式、カーテンコーティング方式、ブレードコーティング方式、ロールコーティング方式、スピンコーティング方式、オフセット印刷方式、活版印刷方式、スクリーン印刷方式、凹版印刷方式、インクジェット印刷方式、キャスティング方式、ダイコーティング方式などを用いて、樹脂フィルム等の「適宜な基材」上に、所定の厚さで設け、所定の条件にて、乾燥（自然乾燥、４０度〜８０度の接触加熱乾燥、４０度〜２００度の熱風乾燥、真空乾燥など。紫外線照射や、電子線照射による硬化反応を利用する乾燥等を単独で用いても、併用してもよい。）して、その「適宜な基材」から剥離して、所定の厚さの「応力発光材料層」を得る。
【０４３４】
さらに、「シート状薄膜ＬＥＤ層」には、ガリウムリン（ＧａＰ）や、ガリウムひ素リン（ＧａＡｓＰ）などの金属間化合物半導体からなる、Ｐ形半導体と、Ｎ形半導体を接合して「ダイオード」を構成し、各々に「＋電極」及び、「−電極」を配して、順方向に電流を流すと、「Ｐ形半導体とＮ形半導体の接合面」から、所定波長の光を発するものを用いる。
【０４３５】
具体的には、「ｐ−電極層、ｐ−窒化ガリウム層等、発光層（ＧａＩｎＮなど）、ｎ−窒化ガリウム層等、ｎ−電極層」等の構成となるが、いずれにしても、透明基材１の上に、所定の厚さ０．０１〜１０．０μｍ、特には、０．０１〜０．５μｍで形成できるものを使用する。
【０４３６】
また、「シート状薄膜ディスクレーザー層」には、赤外ＬＤ（レーザーダイオード）励起固体レーザーの一種であり、透明基材１の上に、「全反射性金属薄膜層（冷却層を兼ねる。）／薄膜ディスク状の固体レーザー媒質層（レーザー結晶。）／反射防止性薄膜層」からなる「シート状薄膜ディスクレーザー層」を設け、その前面側、すなわち、「透明樹脂層２」を設けている側から、励起用ＬＤ光を照射して、「所定波長の光」を発振させるものを用いる。
【０４３７】
その厚さは、通常１００μｍ程度の厚さとして「レーザー構造」とするが、本発明の「ホログラムシートＡ」においては、いわゆる「レーザー発振」までの、「高いコヒーレンス性を有し、非常に高出力となる『発光』」を必要としていないため、その厚さを１．０〜３０μｍとしたものを用いる。
【０４３８】
さらに、「シート状薄膜面発光レーザー層」には、ＶＩＳＥＬ（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ｃａｖｉｔｙ  Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｌａｓｅｒ：垂直共振器面発光レーザー）とも呼ばれる半導体レーザー の一種であり、「ＩｎＧａＡｓ／ＧａＡｓ面発光レーザー構造」や、「ｐ側多層薄膜ミラー＆ｐ側電極／ｎ−ＩｎＰ／ｐ−ＧａＩｎＡｓＰ（活性層）／ｎ−ＩｎＰ／ｎ側多層薄膜ミラー＆ｎ側電極構造」のものなどを用いることができるが、本発明の「ホログラムシートＡ」においては、いわゆる「レーザー発振」までの、「高いコヒーレンス性を有し、非常に高出力となる『発光』」を必要としていないため、その厚さを１．０〜３０μｍとしたものを用いる。
（カード基材）
本発明のホログラム付きカードＣ１に用いられるカード基材Ｃ０としては、もしくは、カード基材ＩＣ０に採用可能な材料としては、少なくとも本発明のホログラムシートＡを、そのカード基材Ｃ０や、ＩＣ０（カード基材ＩＣ０については、さらに、以下に詳述するセキュアマイコン等の電子部品を内蔵可能であることが要求される。）内に埋め込むことができるものであれば、あらゆる材料、すなわち、プラスチック材料、金属材料、セラミック材料、生体材料、それらの複合材料、さらには、それらを多層構造としたり、さらに複雑に組み合わせたりしたものなどを用いることができる。且つ、その表面や裏面に、本発明のホログラム付きカードＣ１の用途に応じた印刷等の手段による適宜な表示を設けたものであってもよい。（図４参照。図４には、カード基材Ｃ０の表面と、ホログラムシートＡの最表面が「面一」となっている場合を例示している。その他の場合は図示していない。）
その形状も、あらゆる形状、すなわち、シート状、フィルム状、板状、立方体状、直方体状、カード形状（磁気カード、ＩＣカード、非接触ＩＣカード、ポストカード、グリーティングカード、名刺、ポイントカード、ライセンスカード、遊戯用カード等の形状）、はがき形状、リーフ形状、帳票形状、伝票形状、Ｓメール形状、ラベル形状、シール形状、証券類形状、通帳形状、パスポート形状、郵便物形状、配送物形状、封筒状、袋状、箱状、ケース状、円盤状、ディスク状、楕円体状、球体状、曲面形状、棒状、及びこれらの組み合わせや、これらに変形、切断、穴あけ、接着等の加工処理を施したものなどを採用することができる。さらには、電子端末や、携帯用端末等、あらゆる工業製品やあらゆる商品をもカード基材Ｃ０や、ＩＣ０として採用することができる。
【０４３９】
その厚さも、ハンドリング可能であればよく、特に制限はないが、通常、３０μｍ〜３．０ｍｍの厚さとする。もちろん、封筒状や、箱状のものであれば、その立体形状の寸法は、それぞれの用途に適したものとするため、この範囲内とする必要はない。
【０４４０】
また、これらカード基材Ｃ０や、ＩＣ０の代表例として、いわゆる「プラスチックカード」として用いられている材料及び形状や、「プリペイドカード」として用いられている材料及び形状、特に、ＩＳＯ規格（ＩＳＯ／ＩＥＣ７８１０シリーズ、ＩＳＯ／ＩＥＣ７８１６シリーズ、ＩＳＯ／ＩＥＣ１４４４３シリーズ、ＩＳＯ／ＩＥＣ１５４５７シリーズ等。）やＪＩＳ規格（「プリペイドカード  ＪＩＳ  Ｘ  ６３１０シリーズ」や、ＪＩＳ  Ｘ  ６３０１、ＪＩＳ  Ｘ  ６３００シリーズ、ＪＩＳ  Ｘ  ６３２０シリーズ、ＪＩＳ  Ｘ  ６３３０シリーズ等。）で定められているものがある。（図示せず。）
その中でも、その「埋め込み適正」（ホログラムシートＡをそのカード基材Ｃ０や、ＩＣ０内に安定して埋め込むことができると共に、そのホログラムシートＡの最表面とカード基材Ｃ０、または、ＩＣ０の表面とを再現性良く「面一」とすることができる性質をいう。）及び「汎用性」（加工汎用性を含む。この「加工汎用性」とは、「保護層／磁気層／接着層」からなる磁気ストライプをカード基材に埋め込んだり、必要な電子部品等を内蔵させたりする、製造ラインや製造条件が確立していることを意味する。）から、「ＪＩＳ規格やＩＳＯ規格で定められている『プラスチックカード』や、『ＩＣカード』として用いられているカード基材及び形状」が望ましい。
【０４４１】
これらは、既に、全世界に大量に頒布され、普及しているため、それらをハンドリングしたり、保持することに抵抗感がなく、また、それらを携帯したり、使用したりする場合の周辺機器（入退室用ゲート端末、駅務ゲート端末、クレジットカード端末、ＩＣカード端末、その他のカード利用機器を意味する。）や、関連グッズ（カードを携帯するためのカード入れや、カード用装飾品等を意味する。）等も既に普及しているため、これらのものに対する適用もスムースであって好適である。
【０４４２】
特に、不透明性を有するフィルム状もしくはシート状のプラスチックがその加工適正やコスト面で好ましく、厚みを薄くすることが可能であって、機械的強度や耐溶剤性および耐熱性をも有するものが用いられる。例えば、その材料として、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリスルホン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリアリレート、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース、ポリエチレン／ビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の各種のプラスチックフィルム材料があげられる。そして、これらのプラスチックそのものが透明性を有する場合には、不透明化処理のために、二酸化チタンや炭酸カルシウム等の不透明性付与のための顔料等を適宜練り込むなど、不透明性付与材料を混在させた、フィルム状もしくはシート状のプラスチックを例示することができる。
【０４４３】
さらに、これらの材料に、フッ素系樹脂パウダーや、シリコン系樹脂パウダー等を混入したプラスチックフィルムは、耐擦傷性が著しく高く好適である。
【０４４４】
以下、ホログラムシートＡとカード基材Ｃ０をその代表例として説明する。（カード基材ＩＣ０を用いる場合も、以下の説明とほぼ同様の説明となる。）
ホログラムシートＡをそのカード基材Ｃ０内に、加熱温度６０℃〜２００℃、好適には、８０℃〜１５０℃、且つ、プレス圧力１０4Ｐａ〜１０10Ｐａ（Ｎ／平方メートル）、好適には、１０6Ｐａ〜１０8Ｐａの条件下で、「面一」に埋め込むことが可能なものが用いられる。
【０４４５】
これらのフィルム状もしくはシート状のプラスチック材料からなるカード基材Ｃ０の厚さは、通常、３０μｍ〜１．０ｍｍであるが、「種々の目的のカード」としての加工適正や取り扱い適正から２００〜８４０μｍとすることが望ましい。
【０４４６】
この厚さが、３０μｍ未満であると、このカード基材Ｃ０上にホログラムシートＡを設けたり、埋め込んだりする際の加工適正に劣るものとなり、この厚さが１．０ｍｍを超えると、シート処理や巻き取り処理における取扱いに困難を生じるため好ましくない。（図５及び図６参照。）
具体的には、５０μｍ〜１０００μｍの厚さの軟質塩化ビニルシートや硬質塩化ビニルシート、もしくは、その組み合わせ（積層体という意味。）が好適である。
【０４４７】
カード基材Ｃ０として、１００μｍの軟質塩化ビニルシートを用いて、総厚さ３２μｍのホログラムシートＡ（積層体）（幅１０ｍｍの帯状。カード基材Ｃ０の厚さの約１／３の厚さを有する。）を、１５０℃の加温、及び１０６Ｐａの加圧にて、１ｍｍ厚さの表面鏡面仕上げのステンレス板で挟み込み、「常温→加温→１５０℃→冷却→常温」の加熱＆冷却サイクル（１サイクル３０分〜９０分。）を通した場合には、その積層体が全て、カード基材Ｃ０内に埋め込まれ、ホログラムシートＡの最表面とカード基材Ｃ０の表面が面一となった。
【０４４８】
同様の条件下においては、カード基材Ｃ０の厚さ１００μｍに対して、５μｍ〜５０μｍまでの積層体を「面一」とすることができるが、５０μｍを超える厚さの積層体に対しては、その境界における段差が、１．０μｍを超えるものとなり、「面一」とするためには、より高温、且つ、高圧の条件とする必要が生じる。
【０４４９】
しかしながら、上記の条件をより過酷な条件に設定することは、カード基材Ｃ０の大きな変形や、変質を招き、本発明のホログラム付きカードＣ１としての用途には不向きであり、カード基材Ｃ０の厚さに対する埋め込み深さは、「カード基材Ｃ０の厚さの１／２０〜１／２」とする。
【０４５０】
また、「面一」の状態とは、上記したように、その境界における段差が、１．０μｍ以下となった状態を意味するが、「埋め込む小片（上記したストライプ等を意味する。）」のサイズによって、「小片」全体が均一に埋め込まれる場合（「小片」を含むカード基材Ｃ０の厚さが、「小片」のある個所や、その他の箇所で同一となっている状態。）や、「小片」の埋め込み量に偏りがある場合（「小片」の端部（境界に近い部分）に対して「小片」の中央部の埋め込み量が少なくなっている状態。）、さらには、カード基材Ｃ０の材料が「小片」の断面を覆い隠すように流動した場合等を含むものとし、結果として「小片」が面一に埋め込まれた状態となることを指す。
【０４５１】
さらには、「面一」の状態から「凹んだ状態」とするためには、上記した総厚さ３２μｍ積層体の代わりに「耐熱性を有する剥離性フィルム（１０μｍ）を加え、他の層の合計を１０μｍだけ薄くした、結果として、同一の総厚さを有する「積層体」を、同一条件下でカード基材Ｃ０に埋め込み、その剥離性フィルムを剥離することで、ホログラムシートＡの最表面が、カード基材Ｃ０の表面より、１０μｍ凹んだ状態とすることができる。
【０４５２】
すなわち、この積層体における「剥離性フィルム」の厚さだけ、カード基材Ｃ０の表面より凹ませることができることとなる。
【０４５３】
この「凹み」は、カード基材Ｃ０の厚さに対して、１／１０以下とし、望ましくは、１／２０以下とする。
【０４５４】
また、このような「剥離性フィルム」は、ホログラムシートＡの保護層の代用となるため、製造工程中や、流通過程においては残しておき、ホログラム付きカードＣ１の正規購入者がホログラム付きカードＣ１を使用する直前に剥離するものとすることで、ホログラムシートＡの最表面（露出面）の汚れや傷の発生を防止できる。さらに、「剥離性フィルム」は、一旦、剥離すると、もはや、元に戻すことが困難であるため、不正者が接着剤等を塗布して元の状態に戻そうとすると、「剥離性フィルム」の剥離性が損なわれるだけでなく、「段差」が１．０μｍを超えてしまい、不正が行われたことを示唆する機能を持つため、「剥離性フィルム」を付加したホログラム付きカードＣ１とすることも好適である。（凹んだ状態や、「剥離性フィルム」を付加した状態は、図示せず。）
ここで、本発明のホログラム付きカードＣ２について説明を加える。
【０４５５】
本発明のホログラム付きカードＣ２は、いわゆる「ホログラム付きＩＣカード」であって、そのカード基材ＩＣ０として、「ＩＣ駆動用電池を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材」を用いており、「接触式ＩＣカード（セキュアマイコンＩＣ１を搭載している。）」を、その基本構成とし、ＩＣ駆動用電池ＩＣ２（薄型３Ｖ系フィルム電池等。）、            ＯＮ／ＯＦＦスイッチＩＣ３（表示切替用スイッチ等。）、表示パネル制御部ＩＣ４（液晶ディスプレー用ドライバ等。）、表示パネルＩＣ５（フィルム液晶等。）、            補助電池ＩＣ６（３Ｖ出力太陽電池フィルム等。）などを搭載、もしくは、内蔵したものである。（図５参照。図５のホログラム付きカードＣ２は、カード基材ＩＣ０に、もしくは、カード基材ＩＣ０として、これらの電子部品を全て搭載した例を示している。）
また、本発明のホログラム付きカードＣ２は、「非接触式ＩＣカード（非接触式ＩＣチップを内蔵している。）」を、その基本構成とし、「インターフェイス用ＩＣ（電波→デジタル変換機能を持つ。）」駆動用電池（これも、一種のＩＣ駆動用電池であって、薄型３Ｖ系フィルム電池等。）を内蔵しており、さらに、ＯＮ／ＯＦＦスイッチＩＣ３（表示切替用スイッチ等。）、表示パネル制御部ＩＣ４（液晶ディスプレー用ドライバ等。）、表示パネルＩＣ５（フィルム液晶等。）、補助電池ＩＣ６（３Ｖ出力太陽電池フィルム等。）などを搭載、もしくは、内蔵したものを用いることができる。（図示していない。）
そして、これらのＩＣ用駆動電池ＩＣ２が、ホログラムシートＡの発光用電源を兼ねている。
【０４５６】
このセキュアマイコンＩＣ１や、「非接触式ＩＣチップ」を駆動するための「電源」（ＩＣ駆動用電池ＩＣ２）として、且つ、本発明のホログラムシートＡ、もしくはを発光させるための「電源」として、一次電池、または、二次電池を、そのカード基材ＩＣ０の中に「内蔵」している。
これらの「電池」は、「セキュアマイコンＩＣ１または非接触式ＩＣチップ等を制御する『制御部』（表示パネル制御部ＩＣ４等。）」や、「液晶ディスプレイなどの『表示部』（表示パネルＩＣ５等。」をさらに含む場合には、それらの「『制御部』」や『表示部』」を駆動するための電源として用いられる。
【０４５７】
さらに、これら「内蔵」する「電池」に加えて、「太陽電池と、その太陽電池で生成された電気エネルギーを蓄電するコンデンサとにより構成される補助電源（補助電池ＩＣ６等）」を、そのカード基材ＩＣ０に含めることも「ＩＣ駆動用電池を内臓する」ということの意味に含める。
【０４５８】
このことにより、本発明のホログラム付きＩＣカードＣ２を使用する者が、このホログラム付きＩＣカードＣ２を、「外部」に取り出すだけで（屋外で自然光にかざしたり、室内において、室内蛍光灯の照明下にさらすことを意味する。）、太陽電池に光が照射して生成された電気エネルギーがコンデンサに蓄電され、これを安定した補助電源として用いることが可能になる。
【０４５９】
また、本発明のホログラムシートＡを発光させたり、消光させるためのＯＮ／ＯＦＦ切り替えスイッチ（図示していない。）をも、搭載すると、その利便性を大幅に向上させたり、真偽判定性を著しく容易なものとすることができる。
【実施例】
【０４６０】
（実施例１）
透明基材１として、１２μｍのＰＥＴフィルムの表面に、陰極として、アルミニウム薄膜を真空蒸着法により５００ｎｍ厚さで形成した。
【０４６１】
その上に、発光層として、母体にＺｎＳを用い、発光中心にＭｎを添加したものを、スパッタリング（Ａｒガス使用）法を用いて、１μｍ厚さで形成した。ターゲットには、硫化マンガン（ＭｎＳ）を０．５ｍｏｌ％添加した硫化亜鉛（ＺｎＳ）を用い、ターゲットガスには、高純度のアルゴンガスを用いた。この時、陰極端子を残すため、右端下に３ｍｍ×３ｍｍの領域で、マスキング処理を行った。
【０４６２】
この発光層上に、絶縁層である誘電体膜として、ＢａＴｉＯ３を、同様の位置のマスキング処理を施して、スパッタリング（Ａｒガス使用）法を用いて、１μｍの厚さで形成した。
【０４６３】
さらに、その絶縁層上に、ＩＴＯ薄膜を、同様の位置のマスキング処理を施して、電子線加熱真空蒸着法により、厚さ３００ｎｍで形成した。ＩＴＯ薄膜の表面抵抗値は、０．１Ω／□であった。
【０４６４】
以上により、透明基材１上に、陰極層、発光層、絶縁層及びＩＴＯ薄膜の４層構成からなる、無機エレクトロルミネッセンス素子からなるシート状薄膜ＥＬ層３（発光波長＝所定波長：λ0＝５５０ｎｍ）を形成した。（図２参照。但し、図２において、このシート状薄膜ＥＬ層３を「一つの層」として表示している。）
このシート状薄膜ＥＬ層３の上に、右端下の３ｍｍ×３ｍｍの領域が露出するように（陰極端子となる。図示していない。）、且つ、ＩＴＯ薄膜の一部が露出するよう（左端下に３ｍｍ×３ｍｍの領域を確保した。これが、陽極端子となる。図示していない。）にして、アクリルアミド樹脂組成物（屈折率ｎ１＝１．５０）を塗布し、ホログラム画像位置検知パターン付きの透過型レリーフホログラム（そのホログラム画像に対応したホログラムレリーフが、透過型ホログラム再生像を再生するもの。３０ｍｍ×４０ｍｍサイズ：「発光」の文字画像：図３参照）の複製用型の型面を、接触させたまま加熱硬化させることにより、レリーフホログラムの形成を行ない、厚さ３０．０μｍのホログラム形成層２を得た。（図２参照。陰極端子や陽極端子領域は図示していない。)
ＰＥＴフィルム及びアクリルアミド樹脂の絶縁破壊強さは、それぞれ５０ＭＶ／ｍ、２０ＭＶ／ｍであった。
【０４６５】
この際、透過型レリーフホログラムの「ホログラムレリーフ」の深さＤHを、その「『透過型レリーフホログラム』における『反射回折効率』の『最適深さ』ＤH1」と、その「『透過型レリーフホログラム』における『透過回折効率』の『最適深さ』ＤH2」との中間の「深さ」より、「『透過回折効率』の『最適深さ』」に近いものに設定した。より具体的には、「ＤH＝ＤH1＋〈ＤH2−ＤH1〉×０．８」とした。（図示せず。）
このために、所定のフォトレジストに、所定の光学系を用いて、上記の「ホログラム」を撮影した後の、そのフォトレジストの現像時間ｔ0を、ＤH1用の現像時間ｔH1と、ＤH2用の現像時間ｔH2で表して、「ｔ0＝ｔH1＋〈ｔH2−ｔH1〉×０．８」とした。（図示せず。）
このホログラム形成層２上に、やはり、ＩＴＯ薄膜の一部が露出するようにして、且つ、そのホログラムレリーフ形成領域のホログラムレリーフを覆うように、透明層Ｌ１として、ホログラム形成層２形成時と同様に、ＩＴＯ薄膜の一部が露出するようにして、ポリメチルアクリレート（屈折率ｎ２＝１．４７）を塗布し、厚さ５．０μｍの透明層Ｌ１を設け、本発明の実施例１のホログラムシートＡを得た。（図２参照。）
また、本発明の実施例１のホログラムシートＡの表面に対する法線に対して、所定の角度（０度、３０度、６０度）を成して、透明層Ｌ１側からホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率の大きさは、その各々の角度を成して、透明樹脂層２側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率の大きさより、いずれも小さくなっていることを確認した（このことより、所定の角度が０度〜９０度であっても、同様であると推定された。）。
【０４６６】
この実施例１のホログラムシートＡを、室内の照明光４の下で観察したところ、透明基材１側からは、単なる「鏡面」が観察されるのみであり、また、透明層Ｌ１側からも、「発光」の文字のホログラム再生像（照明光４の照明による『ホログラム再生像５』を意味する。）があまり鮮明には視認できなかった。
【０４６７】
そして、このホログラムシートＡの陰極端子部分と、陽極端子部分との間に、１００Ｖで１００Ｈｚの交流電圧を印加して、「電圧を印加した状態６」としたところ、「所定波長『緑色』の発光」が生じた。この際も、透明基材１側からは、単なる「鏡面」が観察されるのみであったが、透明層Ｌ１側から観察すると、ホログラムシートＡの全体に渡る「発光」に加えて、所定の方向に発光した光としての緑色の「発光」の文字が「緑色の透過型ホログラム再生像７」として視認できた。（図３参照。）
このホログラムシートＡへの電圧印加を止めると、印加前の状態に戻った。
【０４６８】
以上のことから、このホログラムシートＡは、真正品であることが判明した。
（実施例２）
陰極として、ＩＴＯ薄膜を電子線加熱真空蒸着法による、厚さ３００ｎｍの層とした以外は、実施例１と同様にして本発明の実施例２のホログラムシートＡを作製した。（図２参照。)
実施例１と同様に評価したところ、電圧印加前における観察では、ホログラムシートＡは、「透明なシート」として観察され、その両面からやや不明瞭なホログラム再生像（照明光４の照明による『ホログラム再生像５』を意味する。）の存在を見て取れたが、鮮明なホログラム再生像を視認することは出来なかった。
【０４６９】
しかし、所定の電圧を印加して「電圧を印加した状態６」としたところ、鮮明な「緑色の透過型ホログラム再生像７（『発光』の文字）」が、空間に浮き上がり、意匠性にも優れていた。そして、電圧印加を止めると、元の状態に戻ることを確認した。（図３参照。）
また、電圧印加を、１秒単位でＯＮ／ＯＦＦの繰り返しパターンとしたところ、その「緑色の透過型ホログラム再生像７」がより鮮明に視認できた。（図示せず。）
（実施例３）
透明基材１の上の陰極を、１００ｎｍ厚さで形成し、その上の発光層を、５００ｎｍ厚さで形成し、その上の絶縁層を、３００ｎｍの厚さで形成し、さらに、その上のＩＴＯ薄膜を、厚さ１００ｎｍで形成した以外は、実施例１と同様にして、本発明の実施例３のホログラムシートＡを得た。（図２参照。)
実施例１と同様に評価したところ、発光時の「緑色の透過型ホログラム再生像７」の鮮明度が向上し、文字がより明確に判断でき、真性正の判定がより確実にできると思われた。（図３参照。）
（実施例４）
透明基材１の上に、陽極として、ＩＴＯ薄膜を、電子線加熱真空蒸着法により、１００ｎｍ厚さで形成した。
【０４７０】
その上に、正孔輸送材料として、ＴＰＡＣ（１，１−ビス[４-［Ｎ，Ｎ―ジ（ｐ−トリル）アミノ］フェニル]シクロヘキサン）を厚さ６０ｎｍで、発光層材料として、ＺｎＰＢＯ（ビス[２−（２−ベンゾキサゾリル）フェノラト]亜鉛）及びドーピング色素材料として、Ｃｏｕｍａｒｉｎ６（３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−（ジエチルアミノ）コーマリン）を３％混入させ、厚さ１００ｎｍで、そして、電子輸送材料として、ＢＮＤ（２，５−ビス（１−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール）を厚さ５０ｎｍで、真空蒸着法により、実施例１と同様のマスキング処理を施して、形成した。
【０４７１】
さらに、その上に、ＩＴＯ薄膜を、同様の位置のマスキング処理を施して、電子線加熱真空蒸着法により、厚さ１００ｎｍで形成した。
【０４７２】
そのシート状薄膜ＥＬ層３の上に、メラミン樹脂組成物を塗布し、ホログラム画像位置検知パターン付きのレリーフホログラム（３０ｍｍ×４０ｍｍサイズ：「発光」の文字画像：図３参照）の複製用型の型面を、接触させたまま加熱硬化させることにより、レリーフホログラムの形成を行ない、厚さ３μｍのホログラム形成層２を得た。
【０４７３】
以上により、透明基材１上に、陽極層、正孔輸送層、発光層、電子輸送層、及び陰極層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子からなるシート状薄膜ＥＬ層３を形成したこと以外は実施例１と同様にして、本発明の実施例４のホログラムシートＡを作製した。（図２参照。）
このホログラムシートＡを室内の照明光４の下で観察したところ、透明基材１側から、及び、透明層Ｌ１側からも、照明光４によるホログラム再生像５を明確には視認できなかった。
【０４７４】
このホログラムシートＡの陽極端子部分と、陰極端子部分との間に、６Ｖの直流電圧を印加して「電圧を印加した状態６」としたところ、発光が生じ、透明な空間上に、さらに鮮明な「緑色の透過型ホログラム再生像７」を視認することができた。（図３参照。）
このホログラムシートＡへの電圧印加を止めると、印加前の状態に戻った。
【０４７５】
以上のことから、このホログラムシートＡは、真正品であることを容易に且つ確実に判断することができた。
（実施例５）
透明基材１の上に、シート状薄膜ＥＬ層３として、酸化インジウムと酸化セリウムとの粉末を、焼結した陽極用のターゲット（セリウムモル比０．０５）を用いて、真空度を３×１０-1Ｐａまで減圧した状態で、アルゴンガスに酸素ガスを混入したガスを封入し、その雰囲気中において、到達真空度５×１０-4Ｐａでの高周波スパッタリングにて、厚さ１００ｎｍの透明電極膜を形成し、その上に、真空度７×１０-4Ｐａで、正孔輸送層として厚みが５０ｎｍのＮＰＤ（Ｎ，Ｎ´−ジ（ナフタレン−１−イル）−Ｎ，Ｎ´−ジフェニルベンジジン）薄膜を、蒸着速度が６ｎｍ／分の条件にて真空蒸着法により形成し、さらに、その上に、有機発光材料層兼電子輸送層として厚みが５０ｎｍのＡｌｑ3（トリス（８−ヒドロキシキノリナト）アルミニウム）の薄膜を、蒸着速度が６ｎｍ／分の条件にて真空蒸着法により形成し、その表面に、陰極として厚みが２００ｎｍマグネシウム−銀薄膜（ 組成比１０／１ ）を共蒸着法により形成して、４層からなる有機エレクトロルミネッセンス素子を作製し、シート状薄膜ＥＬ層３とした。各薄膜形成時に、マスキング処理による陽極端子の作製を行ったこと以外は、実施例４と同様にし、本発明の実施例５のホログラムシートＡを得た。（図２参照。）
このホログラムシートＡの陽極端子部分と、陰極端子部分との間に、６Ｖの直流電圧を印加して「電圧を印加した状態６」としたところ、発光が生じ、シート状の発光を背景として、その中に、輝度１０ｃｄ／ｍ2の、比較的明るく、鮮明な「緑色の透過型ホログラム再生像７」を視認することができた。（図３参照。）
このホログラムシートＡへの電圧印加を止めると、印加前の状態に戻った。
【０４７６】
以上のことから、このホログラムシートＡは、真正品であることを容易に且つ確実に判断することができた。
（実施例６）
実施例１において、透明樹脂層２の屈折率ｎ１を、１．５０とし、透明層Ｌ１の屈折率ｎ２を、１．４９に調整したこと以外は、実施例１と同様にして、本発明の実施例６のホログラムシートＡを得た。（図２参照。）
このときの、実施例６のホログラムシートＡにおける、所定の角度を０度として入射光に対する反射回折効率の大きさが、０．１％であった。
【０４７７】
この実施例６の「ホログラムシートＡ」を、実施例１と同様に評価したところ、室内の照明光４の下での透明層Ｌ１側からの観察において、「発光」の文字のホログラム再生像（照明光４の照明による『ホログラム再生像５』を意味する。）が全く視認できなかった（図３参照。）こと以外は、実施例１と同様の良好な結果を得た。
（実施例７）
実施例１の「ホログラムシートＡ」の「透明樹脂層２」と、「シート状薄膜ＥＬ層３」の間に、「所定波長：λ0＝５５０ｎｍ」の「光」を、「６０％透過」し、且つ、「４０％反射」する、「誘電体多層蒸着膜（『ハーフミラー構造』を成す。熱吸収は無視した。）」を追加して、実施例７の「ホログラムシートＡ」としたこと以外は、実施例１と同様にして、本発明の実施例７の「ホログラムシートＡ」を得た（図示せず。）。
【０４７８】
この実施例７の「ホログラムシートＡ」を、実施例１と同様に評価したところ、「緑色の透過型ホログラム再生像７」がより鮮明に観察された（図３参照。）こと以外は、実施例１と同様の良好な結果を得た。
（実施例８）
本発明のホログラム付きカードＣ１用のカード基材Ｃ０として、厚さ５６０μｍの硬質塩化ビニルシートを、厚さ１００μｍの軟質塩化ビニルシート２枚で挟み込み、総厚さ７６０μｍの３層積層塩化ビニルシート（クレジットカードサイズ）を用いる。
【０４７９】
所定のデザイン印刷は、その硬質塩化ビニルシート上にオフセット印刷にて施した後、所定のラミネート条件にて、３層積層体とした。（図４参照。カード基材Ｃ０の積層状況は図示せず。図４は、既に本発明のホログラムシートＡを埋め込んだ図となっている。）
このカード基材Ｃ０の表面の中央部分に、実施例１のホログラムシートＡ（但し、陽極端子及び陰極端子を、その位置をずらせてホログラムシートＡの透明基材１側に露出するように配置し、幅１０ｍｍ×長さ３０ｍｍのストリップ状に切り取ったもの）をそのカード基材Ｃ０の表面と、ホログラムシートＡのシート状薄膜ＥＬ層３の陰極層が接するようにして配置したものを、表面を鏡面仕上げしたステンレス板に挟みこみ、１２０℃、１０６Ｐａ、及び６０分の加熱、加圧、及び冷却処理を施して、ホログラムシートＡの透明基材１の最表面とカード基材Ｃ０の表面を「面一」として、本発明の実施例８のホログラム付きカードＣ１を得た。（図４参照。）
この実施例８のホログラム付きカードＣ１を、通常の室内蛍光灯（照明光４）の下で観察したところ、ホログラム付きカードＣ１上にて、「埋め込まれたストリップ」を観察できるのみであり、そのストリップから再生される「照明光４の照明による『ホログラム再生像５』」の存在を、明確には窺い知ることはできなかった。（ホログラム付きカードＣ１上に埋め込まれている「ストリップ」の見え方は、図３参照。本実施例８の「ストリップ」は、「長方形」であるが、図３では、楕円形の例示となっている。）
次いで、この実施例８のホログラム付きカードＣ１に埋め込まれたホログラムシートＡの、陽極端子及び陰極端子に、実施例１と同様に電圧を印加して、「電圧を印加した状態６」としたところ、実施例１と同様の「緑色の透過型ホログラム再生像７」を視認することができた。
【０４８０】
また、このホログラム付きカードＣ１から、ホログラムシートＡのみを剥がして取り出そうとしたが、ホログラムシートＡの断面を捉えることができず、このホログラム付きカードＣ１の偽造や変造は不可能と思われた。（図示せず。）
それ以外については、実施例１と同様の良好な結果を得た。
（実施例９）
本発明のホログラム付きカードＣ２用のカード基材ＩＣ０として、厚さ６００μｍの硬質塩化ビニルシートを、厚さ１００μｍの軟質塩化ビニルシート２枚で挟み込み、総厚さ８００μｍの３層積層塩化ビニルシート（クレジットカードサイズ）のＩＣカード基材であり、且つ、「ＩＣ駆動用電池ＩＣ２を内臓している電池内臓型ＩＣカード基材ＩＣ０」である、図５の構成の「接触式ＩＣカード（セキュアマイコンＩＣ１を搭載している。）」を用いた。
【０４８１】
このカード基材ＩＣ０は、図５のごとく、「接触式ＩＣカード」を、その基本構成とし、薄型３Ｖ系フィルム電池（ＩＣ駆動用電池ＩＣ２）、表示切替用スイッチ（ＯＮ／ＯＦＦスイッチＩＣ３）、液晶ディスプレー用ドライバ（表示パネル制御部ＩＣ４）、フィルム液晶（表示パネルＩＣ５）、３Ｖ出力太陽電池フィルム（補助電池ＩＣ６）を搭載、もしくは、内蔵している。（図５は、既に、本発明のホログラムシートＡを埋め込んだ図となっている。）
このカード基材ＩＣ０の表面の中央部分（各電子部品と重ならない位置。）に、実施例１のホログラムシートＡ（但し、幅１０ｍｍ×長さ３０ｍｍのストリップ状に切り取り、さらに、陽極端子及び陰極端子にリード端子を接続し、内蔵する薄型３Ｖ系フィルム電池（ＩＣ駆動用電池ＩＣ２）の陽極及び陰極端子に繋げた。）を、そのリード端子を断線させないように配慮して配置し、表面を鏡面仕上げしたステンレス板に挟みこみ、１２０℃、１０６Ｐａ、及び６０分の加熱、加圧、及び冷却処理を施して、ホログラムシートＡの透明基材１の最表面とカード基材ＩＣ０の表面を「面一」として、本発明の実施例９のホログラム付きカードＣ２を得た。（図５参照。）
この実施例９のホログラム付きカードＣ２を、通常の室内蛍光灯（照明光４）の下で観察したところ、ホログラム付きカードＣ２上にて、「埋め込まれたストリップ」を観察できるのみであり、そのストリップから再生されるホログラム再生像（照明光４の照明による『ホログラム再生像５』を意味する。）の存在を、明確には窺い知ることはできなかった。
【０４８２】
次いで、この実施例９のホログラム付きカードＣ２に埋め込まれたホログラムシートＡの陽極端子及び陰極端子に、薄型３Ｖ系フィルム電池（ＩＣ駆動用電池ＩＣ２）からの電圧を供給して、「電圧を印加した状態６」としたところ、（図５の中には表示していない「スイッチ」〈表示切替用スイッチ：ＯＮ／ＯＦＦスイッチＩＣ３〉と同様のもの。〉による操作である。この「スイッチ」は、その存在が秘匿されていることが望ましい。）、実施例１と同様の「緑色の透過型ホログラム再生像７」を視認することができた。（ホログラム付きカードＣ２上に埋め込まれている「ストリップ」の観察状態は、図４参照。ここで、実施例９の「ストリップ」は、「長方形」であるが、図３では、楕円形の例示となっている。）
また、このホログラム付きカードＣ２から、ホログラムシートＡのみを剥がして取り出そうとしたが、ホログラムシートＡの断面を捉えることができず、また、そのような行為が上記したリード端子の断線を引き起こすものと想定され、このホログラム付きカードＣ２の偽造や変造は非常に困難と思われたこと以外については、実施例１と同様の良好な結果を得た。（図示せず。）
(比較例１)
実施例１において、「ホログラムレリーフ」の深さＤHを、その「『レリーフホログラム』における『反射回折効率』の『最適深さ』ＤH1」としたこと、及び、陰極層２．０μｍ、発光層５．０μｍ、絶縁層５．０μｍ及びＩＴＯ薄膜３．０μｍの４層構成（全ての層の厚さを、２．０μｍ以上とした。）からなる、無機エレクトロルミネッセンス素子からなるシート状薄膜ＥＬ層としたこと以外は、実施例１と同様に比較例１のホログラムシートを形成し、比較例とした。
【０４８３】
このとき、この比較例１のホログラムシートの表面に対する法線に対して、所定の角度（０度、３０度、６０度）を成して、透明層Ｌ１側からホログラムレリーフに向かう入射光に対する、反射回折効率の大きさは、その各々の角度を成して、透明樹脂層２側から前記ホログラムレリーフに向かう入射光に対する、透過回折効率の大きさより、いずれも大きくなっていた。
【０４８４】
実施例１と同様に観察したところ、通常の室内蛍光灯（照明光４）で、目視にて、照明光４の照明によるホログラム再生像５が明確に視認できてしまい、且つ、電圧印加後（電圧を印加した状態６）も、シート全体が緑色に発色して、その「緑色」の背景の中に、少しぼんやりした「光の像」が浮かんだのみであって、それを「発光」の文字状の、緑色の透過型ホログラム再生像７として明確には判定するには至らなかった。
【０４８５】
このことより、この比較例１のホログラムシートが真正なものでないと判断できた。
【符号の説明】
【０４８６】
Ａ            ホログラムシート
１            透明基材
２            ホログラムレリーフを有する透明樹脂層（ホログラム形成層）
３            シート状薄膜ＥＬ層
Ｌ１          透明層
４            照明光
５            照明光４によるホログラム再生像
６            電圧を印加した状態
７            緑色の透過型ホログラム再生像
Ｃ０、ＩＣ０  カード基材
Ｃ１、Ｃ２    ホログラム付きカード
ＩＣ１        セキュアマイコン
ＩＣ２        ＩＣ駆動用電池
ＩＣ３        ＯＮ／ＯＦＦスイッチ
ＩＣ４        表示パネル制御部
ＩＣ５        表示パネル
ＩＣ６        補助電池
【図１】
2016173469.tif 000002
【図２】
2016173469.tif 000003
【図３】
2016173469.tif 000004
【図４】
2016173469.tif 000005
【図５】
2016173469.tif 000006