(57)【要約】【課題】利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供する。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルの作製方法を提供する。または、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供する。【解決手段】第１の基材と、第１の基材に重なる領域を備える第２の基材と、第１の基材および第２の基材の間に表示領域と、を有する。そして、表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子が光を射出する側に第１の表示素子と重なる領域を備える第２の表示素子と、第１の表示素子および第２の表示素子の間に、第１の表示素子と重なる領域を備える着色層と、を含んで構成される。また、第２の表示素子は、液晶が分散される高分子を含む構成に想到した。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基材と、第２の基材と、表示領域と、を有し、
前記第２の基材は、前記第１の基材に重なる領域を備え、
前記表示領域は、前記第１の基材および前記第２の基材の間に配置され、
前記表示領域は、第１の表示素子と、第２の表示素子と、着色層と、を備え、
第１の表示素子は、光を射出する機能を備え、
第２の表示素子は、前記光の透過を制御する機能および前記第１の表示素子が光を射出する側に前記第１の表示素子と重なる領域を備え、
前記着色層は、前記第１の表示素子および前記第２の表示素子の間に、前記第１の表示素子と重なる領域を備え、
前記第１の表示素子は、下部電極と、上部電極と、ＥＬ層と、を備え、
前記上部電極は、前記下部電極と重なる領域を備え、
前記ＥＬ層は、前記下部電極および前記上部電極の間に設けられ、
前記ＥＬ層は、発光性の有機化合物を含み、
前記第２の表示素子は、ＬＣ層と、第１の電極と、第２の電極と、を有し、
前記ＬＣ層は、液晶を含み、
前記第１の電極および第２の電極は、前記液晶の配向を制御する機能を備える、表示パネル。
【請求項２】
前記表示領域は、
前記表示素子および前記着色層の間に第１の接合層と、
前記着色層と重なる領域を備える第１の仕切り層と、
前記ＬＣ層と重なる領域を備える第２の仕切り層と、
前記第１の仕切り層および前記第２の仕切り層の間に第２の接合層と、を備え、
前記仕切り層は、透光性を備える、請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記ＬＣ層は、前記液晶が分散される高分子を含む請求項１または請求項２に記載の表示パネル。
【請求項４】
第１の電極および前記第１の電極を支持する第２の基材を備える部材Ａと、
第２の仕切り層、前記第２の仕切り層から分離することができる機能および透光性を備える基板を備える部材Ｂと、
第１の基材、前記第１の基材と重なる領域を備える着色層および前記着色層に向けて光を射出する機能を備える第１の表示素子を前記第１の基材と前記着色層の間に備える部材Ｃと、を準備して、
第１のステップにおいて、前記第１の電極および前記第２の仕切り層の間に、液晶および光硬化性の組成物を含む、所定の厚さの層を形成し、
第２のステップにおいて、前記組成物を硬化して、前記液晶が分散された高分子を含むＬＣ層を形成し、
第３のステップにおいて、前記ＬＣ層の端部近傍に剥離の起点を形成し、
第４のステップにおいて、前記基板を分離して、前記第２の仕切り層および前記ＬＣ層を含む残部を得、
第５のステップにおいて、前記第２の仕切り層および前記着色層の間に第２の接合層を形成し、前記第２の仕切り層および前記着色層を貼り合わせる、表示パネルの作製方法。
【請求項５】
検知領域と、第３の仕切り層と、を有し、
前記検知領域は、前記第２の基材および前記表示領域の間に設けられ、
前記第３の仕切り層は、前記検知領域と前記表示領域の間に設けられ、
前記検知領域は、第１の電極と、第２の電極と、制御線と、信号線と、を備え、
前記第２の電極は、前記第１の電極と重ならない領域を備え、
前記制御線は、前記第１の電極と電気的に接続され、
前記信号線は、前記第２の電極と電気的に接続され、
前記第１の電極および前記第２の電極は、前記第１の表示素子または前記第２の表示素子と重なる領域に透光性を備える領域を備え、
前記制御線は、行方向に延在し、
前記信号線は、前記行方向と交差する列方向に延在し、
前記第３の仕切り層は、透光性を備える、請求項１乃至請求項３のいずれか一に記載の表示パネル。
【請求項６】
請求項１乃至請求項３または請求項５のいずれか一に記載の表示パネルと、
アンテナ、バッテリー、釦または筐体と、を有する情報処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の一態様は、表示パネル、表示パネルの作製方法または情報処理装置に関する。
【０００２】
なお、本発明の一態様は、上記の技術分野に限定されない。本明細書等で開示する発明の一態様の技術分野は、物、方法、または、製造方法に関するものである。または、本発明の一態様は、プロセス、マシン、マニュファクチャ、または、組成物（コンポジション・オブ・マター）に関するものである。そのため、より具体的に本明細書で開示する本発明の一態様の技術分野としては、半導体装置、表示装置、発光装置、蓄電装置、記憶装置、それらの駆動方法、または、それらの製造方法、を一例として挙げることができる。
【背景技術】
【０００３】
発光素子と、発光素子に重なる液晶素子と、を有する表示装置が知られている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００７−３０４５７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の一態様は、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することを課題の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルの作製方法を提供することを課題の一とする。または、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することを課題の一とする。または、新規な表示パネル、新規な表示パネルの作製方法、新規な情報処理装置または新規な半導体装置を提供することを課題の一とする。
【０００６】
なお、これらの課題の記載は、他の課題の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、これらの課題の全てを解決する必要はないものとする。なお、これら以外の課題は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の課題を抽出することが可能である。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様は、第１の基材と、第１の基材に重なる領域を備える第２の基材と、第１の基材および第２の基材の間に表示領域と、を有する表示パネルである。
【０００８】
そして、表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子が光を射出する側に第１の表示素子と重なる領域を備える第２の表示素子と、第１の表示素子および第２の表示素子の間に、第１の表示素子と重なる領域を備える着色層と、を備える。
【０００９】
また、第１の表示素子は、下部電極、下部電極と重なる領域を備える上部電極並びに下部電極および上部電極の間にＥＬ層を備え、ＥＬ層は、発光性の有機化合物を含む。
【００１０】
また、第２の表示素子は、液晶を含むＬＣ層並びに液晶の配向を制御する機能を備える第１の電極および第２の電極を備える。
【００１１】
また、本発明の一態様は、表示領域が、表示素子および着色層の間に第１の接合層と、着色層と重なる領域を備える第１の仕切り層と、ＬＣ層と重なる領域を備える第２の仕切り層と、第１の仕切り層および第２の仕切り層の間に第２の接合層と、を備え、仕切り層は、透光性を備える上記の表示パネルである。
【００１２】
また、本発明の一態様は、ＬＣ層は、液晶が分散される高分子を含む上記の表示パネルである。
【００１３】
上記本発明の一態様の表示パネルは、第１の基材と、第１の基材に重なる領域を備える第２の基材と、第１の基材および第２の基材の間に表示領域と、を有する。そして、表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子が光を射出する側に第１の表示素子と重なる領域を備える第２の表示素子と、第１の表示素子および第２の表示素子の間に、第１の表示素子と重なる領域を備える着色層と、を含んで構成される。
【００１４】
これにより、外光および第２の表示素子を用いて表示することができ且つ光を透過する状態にした第２の表示素子および第１の表示素子を用いて表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。また、外光下で使用する際に消費する電力が低減された新規な表示パネルを提供することができる。
【００１５】
また、本発明の一態様は、以下の５つのステップを備える表示パネルの作製方法である。
【００１６】
第１の電極および第１の電極を支持する第２の基材を備える部材Ａと、第２の仕切り層、第２の仕切り層から分離することができる機能および透光性を備える基板を備える部材Ｂと、第１の基材、第１の基材と重なる領域を備える着色層および着色層に向けて光を射出する機能を備える第１の表示素子を第１の基材と着色層の間に備える部材Ｃと、を準備する。
【００１７】
第１のステップにおいて、第１の電極および第２の仕切り層の間に、液晶および光硬化性の組成物を含む、所定の厚さの層を形成する。
【００１８】
第２のステップにおいて、組成物を硬化して、液晶が分散された高分子を含むＬＣ層を形成する。
【００１９】
第３のステップにおいて、ＬＣ層の端部近傍に剥離の起点を形成する。
【００２０】
第４のステップにおいて、基板を分離して、第２の仕切り層およびＬＣ層を含む残部を得る。
【００２１】
第５のステップにおいて、第２の仕切り層および着色層の間に第２の接合層を形成し、第２の仕切り層および着色層を貼り合わせる。
【００２２】
上記本発明の一態様の表示パネルの作製方法は、液晶および光硬化性の組成物を含む所定の厚さの層を第１の電極および第２の接合層の間に形成するステップと、液晶が分散された高分子を含むＬＣ層を形成するステップと、第２の仕切り層およびＬＣ層を含む残部を形成するステップと、第２の仕切り層および着色層を貼り合わせるステップと、を含んで構成される。
【００２３】
これにより、光を光硬化性の組成物に、着色層を介すことなく、第１の電極が配置されていない側から照射して、ＬＣ層を形成することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルの作製方法を提供することができる。また、外光下で使用する際に消費する電力が低減された新規な表示パネルの作製方法を提供することができる。
【００２４】
また、本発明の一態様は、第２の基材および表示領域の間に検知領域と、検知領域と表示領域の間に第３の仕切り層と、を有する上記の表示パネルである。
【００２５】
そして、検知領域は、第１の電極と、第１の電極と重ならない領域を備える第２の電極と、第１の電極と電気的に接続される制御線と、第２の電極と電気的に接続される信号線と、を備える。
【００２６】
また、第１の電極および第２の電極は、第１の表示素子または第２の表示素子と重なる領域に透光性を備える領域を備える。
【００２７】
また、制御線は、行方向に延在し、信号線は、行方向と交差する列方向に延在する。
【００２８】
また、第３の仕切り層は、透光性または／および導電性を備える。
【００２９】
上記本発明の一態様の表示パネルは、第１の基材と、第１の基材に重なる領域を備える第２の基材と、第１の基材および第２の基材の間に表示領域と、第２の基材および表示領域の間に検知領域と、を有する。そして、検知領域は、第１の電極、第１の電極と重ならない領域を備える第２の電極、第１の電極と電気的に接続される制御線および第２の電極と電気的に接続される信号線を含んで構成される。
【００３０】
これにより、供給される画像信号を表示し、供給される制御信号および近接または接触した指などに基づいて変化する検知信号を供給することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供できる。
【００３１】
また、本発明の一態様は、上記のいずれか一に記載の表示パネルと、アンテナ、バッテリー、釦または筐体と、を有する情報処理装置である。
【００３２】
上記本発明の一態様の情報処理装置は、、外光および第２の表示素子を用いて表示することができ且つ光を透過する状態にした第２の表示素子および第１の表示素子を用いて表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な情報処理装置を提供することができる。また、外光下で使用する際に消費する電力が低減された新規な情報処理装置を提供することができる。
【００３３】
なお、本明細書において、エレクトロルミネッセンス素子の一対の電極間に設けられた層をＥＬ層という。また、有機エレクトロルミネッセンス素子は、発光性の有機化合物を含む発光層を備える。従って、一対の電極間に設けられた発光層はＥＬ層の一態様である。
【００３４】
なお、本明細書中において、画像表示装置または光源（照明装置含む）は、発光装置に含まれる。
【００３５】
また、ＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  ｐｒｉｎｔｅｄ  ｃｉｒｃｕｉｔ）またはＴＣＰ（Ｔａｐｅ  Ｃａｒｒｉｅｒ  Ｐａｃｋａｇｅ）等のコネクターが取り付けられたモジュール、当該モジュールのＴＣＰの先にプリント配線板が取り付けられたものもしくはＣＯＧ（Ｃｈｉｐ  Ｏｎ  Ｇｌａｓｓ）方式によりＩＣ（集積回路）が実装され且つ発光素子が形成された基板も、発光装置に含まれる。
【発明の効果】
【００３６】
本発明の一態様によれば、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供できる。または、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルの作製方法を提供できる。または、新規な表示パネル、新規な表示パネルの作製方法、新規な情報処理装置または新規な半導体装置を提供できる。
【００３７】
なお、これらの効果の記載は、他の効果の存在を妨げるものではない。なお、本発明の一態様は、必ずしも、これらの効果の全てを有する必要はない。なお、これら以外の効果は、明細書、図面、請求項などの記載から、自ずと明らかとなるものであり、明細書、図面、請求項などの記載から、これら以外の効果を抽出することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３８】
【図１】実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。
【図２】実施の形態に係る表示パネルの動作方法を説明する図。
【図３】実施の形態に係る表示パネルの作製に用いる加工部材の構成を説明する図。
【図４】実施の形態に係る表示パネルの作製方法を説明する図。
【図５】実施の形態に係る表示パネルの作製方法を説明する図。
【図６】実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。
【図７】実施の形態に係る表示パネルの構成を説明する図。
【図８】実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する投影図。
【図９】実施の形態に係る情報処理装置の構成を説明する投影図。
【発明を実施するための形態】
【００３９】
本発明の一態様の表示パネルは、第１の基材と、第１の基材に重なる領域を備える第２の基材と、第１の基材および第２の基材の間に表示領域と、を有する。そして、表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子が光を射出する側に第１の表示素子と重なる領域を備える第２の表示素子と、第１の表示素子および第２の表示素子の間に、第１の表示素子と重なる領域を備える着色層と、を含んで構成される。また、第２の表示素子は、液晶が分散される高分子を含む。
【００４０】
これにより、外光および第２の表示素子を用いて表示することができ且つ光を透過する状態にした第２の表示素子および第１の表示素子を用いて表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。また、外光下で使用する際に消費する電力が低減された新規な表示パネルを提供することができる。
【００４１】
実施の形態について、図面を用いて詳細に説明する。但し、本発明は以下の説明に限定されず、本発明の趣旨及びその範囲から逸脱することなくその形態及び詳細を様々に変更し得ることは当業者であれば容易に理解される。従って、本発明は以下に示す実施の形態の記載内容に限定して解釈されるものではない。なお、以下に説明する発明の構成において、同一部分又は同様な機能を有する部分には同一の符号を異なる図面間で共通して用い、その繰り返しの説明は省略する。
【００４２】
（実施の形態１）
本実施の形態では、本発明の一態様の表示パネル１００の構成および表示方法について、図１および図２を参照しながら説明する。
【００４３】
図１は本発明の一態様の表示パネル１００の構成を説明する図である。図１（Ａ）は本発明の一態様の表示パネルの上面図であり、図１（Ｂ）は図１（Ａ）の切断線Ｘ１−Ｘ２における表示パネル１００の断面図である。図１（Ｃ−１）は、表示パネル１００に用いることができる画素回路１０２Ｃの構成を説明する回路図であり、図１（Ｃ−２）は、表示パネル１００に用いることができる画素回路２０２Ｃの構成を説明する回路図である。
【００４４】
＜表示パネルの構成例＞
本実施の形態で説明する表示パネル１００は、第１の基材１１０と、第１の基材１１０に重なる領域を備える第２の基材２１０と、第１の基材１１０および第２の基材２１０の間に表示領域と、を有する。
【００４５】
表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子１５０と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子１５０が光を射出する側に第１の表示素子１５０と重なる領域を備える第２の表示素子２５０と、第１の表示素子１５０および第２の表示素子２５０の間に、第１の表示素子１５０と重なる領域を備える着色層ＣＦと、を備える。
【００４６】
第１の表示素子１５０は、下部電極１５１、下部電極１５１と重なる領域を備える上部電極１５２並びに下部電極１５１および上部電極１５２の間にＥＬ層１５３を備える。また、ＥＬ層１５３は、発光性の有機化合物を含む。
【００４７】
第２の表示素子２５０は、液晶を含むＬＣ層２５３並びに液晶の配向を制御する機能を備える第１の電極２５１および第２の電極２５２を備える。
【００４８】
また、表示領域は、表示素子１５０および着色層ＣＦの間に第１の接合層１６０と、着色層ＣＦと重なる領域を備える第１の仕切り層１７０と、ＬＣ層２５３と重なる領域を備える第２の仕切り層２７０と、第１の仕切り層１７０および第２の仕切り層２７０の間に第２の接合層２６０と、を備える。
【００４９】
また、ＬＣ層２５３は、液晶が分散される高分子を含む。
【００５０】
上記本発明の一態様の表示パネルは、第１の基材１１０と、第１の基材１１０に重なる領域を備える第２の基材２１０と、第１の基材１１０および第２の基材２１０の間に表示領域と、を有する。そして、表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子１５０と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子１５０が光を射出する側に第１の表示素子１５０と重なる領域を備える第２の表示素子２５０と、第１の表示素子１５０および第２の表示素子２５０の間に、第１の表示素子１５０と重なる領域を備える着色層ＣＦと、を含んで構成される。
【００５１】
これにより、外光および第２の表示素子を用いて表示することができ且つ光を透過する状態にした第２の表示素子および第１の表示素子を用いて表示することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供することができる。また、外光下で使用する際に消費する電力が低減された新規な表示パネルを提供することができる。
【００５２】
また、表示パネル１００は、第１の表示素子１５０を駆動する画素回路１０２Ｃを備え、画素回路１０２Ｃと電気的に接続される配線１１１を備える。また、表示パネル１００は、第２の表示素子２５０を駆動する画素回路２０２Ｃを備え、画素回路２０２Ｃと電気的に接続される配線２１１を備える。なお、画素回路１０２Ｃおよび画素回路２０２Ｃは、図１（Ｂ）中に模式的に図示されている。
【００５３】
また、表示パネル１００は、端子部１１９および端子部２１９を備える（図１（Ａ）参照）。端子部１１９は配線１１１と電気的に接続する端子を含み、端子部２１９は配線２１１と電気的に接続する端子を含む。端子部１１９はフレキシブルプリント基板ＦＰＣ１と電気的に接続され、端子部２１９はフレキシブルプリント基板ＦＰＣ２と電気的に接続される。
【００５４】
また、表示パネル１００は表示領域を有する。表示領域は第１の表示領域１０１と、第１の表示領域１０１と重なる領域を備える第２の表示領域２０１を有する。
【００５５】
また、表示領域１０１は画素１０２を備える。画素１０２は第１の表示素子１５０および画素回路１０２Ｃを備える。
【００５６】
また、表示領域２０１は画素２０２を備える。画素２０２は第２の表示素子２５０および画素回路２０２Ｃを備える。
【００５７】
表示領域２０１は、表示領域１０１が備える画素１０２の数と同じ数の画素２０２を備える。
【００５８】
また、表示パネル１００は遮光層ＢＭを備える。遮光層ＢＭは開口部を備え、開口部は第１の表示素子１５０と重なる領域を備える。
【００５９】
また、表示パネル１００は隔壁１２８を備える。隔壁１２８は開口部を備え、開口部は下部電極１５１と重なる領域を備える。なお、隔壁１２８は絶縁性を備え、下部電極１５１の端部を覆う。
【００６０】
また、表示パネル１００はスペーサＫＢを第１の表示素子１５０と重ならない領域に備える。
【００６１】
また、表示パネル１００はスペーサＧＳを備える。例えば、ＬＣ層２５３に分散されたスペーサＧＳを備える。
【００６２】
また、表示パネル１００は第１の基材１１０を備える。第１の基材１１０は、絶縁層１１０ａおよび支持体１１０ｂを備える。なお、樹脂層１１０ｃは、絶縁層１１０ａと支持体１１０ｂを貼り合わせる機能を有する。
【００６３】
また、表示パネル１００は第２の基材２１０を備える。第２の基材２１０は、絶縁層２１０ａおよび支持体２１０ｂを備える。なお、樹脂層２１０ｃは、絶縁層２１０ａと支持体２１０ｂを貼り合わせる機能を有する。
【００６４】
以下に、表示パネル１００を構成する個々の要素について説明する。なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成の一部を含む場合がある。
【００６５】
《表示パネルの構成》
表示パネル１００は、第１の基材１１０、第２の基材２１０、第１の表示領域１０１、第２の表示領域２０１、画素１０２、画素２０２、画素回路１０２Ｃ、画素回路２０２Ｃ、第１の表示素子１５０、第２の表示素子２５０、着色層ＣＦ、遮光層ＢＭ、隔壁１２８、スペーサＫＢ、スペーサＧＳ、第１の仕切り層１７０、第２の仕切り層２７０、第１の接合層１６０または第２の接合層２６０を有する。
【００６６】
《第１の基材１１０》
第１の基材１１０は、製造工程に耐えられる程度の耐熱性および製造装置に適用可能な厚さならびに大きさを備える。
【００６７】
例えば、有機材料、無機材料を第１の基材１１０に用いることができる。
【００６８】
例えば、樹脂、樹脂フィルムまたはプラスチック等の有機材料を第１の基材１１０に用いることができる。具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂等を含む薄膜または板を用いることができる。
【００６９】
例えば、ガラス、セラミックス、金属等の無機材料を第１の基材１１０に用いることができる。具体的には、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリガラスまたはクリスタルガラス等を含む板を用いることができる。具体的には、ＳＵＳ、アルミニウムまたはマグネシウム等を含む金属箔または金属板を用いることができる。
【００７０】
例えば、無機酸化物、無機窒化物または無機酸窒化物等を第１の基材１１０に用いることができる。具体的には、酸化珪素、窒化珪素、酸窒化珪素、アルミナ等を含む薄膜を用いることができる。
【００７１】
例えば、一の材料または複数の材料の複合材料を第１の基材１１０に用いることができる。具体的には、複数の材料が積層された複合材料または繊維状または粒子状の材料が他の材料に分散された複合材料を用いることができる。
【００７２】
例えば、基材と基材に含まれる不純物の意図しない拡散を防ぐ絶縁層が積層された材料を、第１の基材１１０に用いることができる。具体的には、ガラスとガラスに含まれる不純物の拡散を防ぐ酸化珪素、窒化珪素または酸化窒化珪素等から選ばれた一または複数の材料が積層された材料を用いることができる。または、樹脂と樹脂を透過する不純物の拡散を防ぐ酸化珪素、窒化珪素または酸化窒化珪素等から選ばれた一または複数の材料が積層された材料を用いることができる。
【００７３】
例えば、金属板、薄板状のガラスまたは無機材料等の膜と樹脂フィルム等を貼り合わせた複合材料を第１の基材１１０に用いることができる。
【００７４】
具体的には、数μｍ以下の厚さを備える無機材料の膜と十数μｍ以上数百μｍ以下の厚さを備える樹脂フィルムを貼り合せた複合材料を用いる。これにより、５ｍｍ以下、好ましくは４ｍｍ以下、より好ましくは３ｍｍ以下、特に好ましくは１ｍｍ以下の曲率半径で折り曲げることができる。
【００７５】
《第２の基材２１０》
第１の基材１１０に用いることができる材料を第２の基材２１０に用いることができる。なお、第２の基材２１０に第１の基材１１０と同一の材料を用いると、カール等を抑制することができる。
【００７６】
《第１の表示領域１０１》
第１の表示領域１０１は、複数の画素１０２を備える。例えば、マトリクス状に配置された複数の画素１０２を備える（図１（Ａ）参照）。
【００７７】
《第２の表示領域２０１》
第２の表示領域２０１は、画素２０２を備える。例えば、マトリクス状に配置された複数の画素２０２を備える。なお、表示領域１０１が備える画素１０２の数と異なる数の画素２０２を備える構成にしてもよい。また、一の画素２０２を、一の画素１０２に重なるように配置してもよい。
【００７８】
《画素回路１０２Ｃ》
画素回路１０２Ｃは、第１の表示素子１５０に電力を供給し、第１の表示素子１５０を駆動する機能を備える。
【００７９】
例えば、画素回路１０２Ｃは、駆動用トランジスタＭ１０、スイッチング素子Ｍ１１および容量Ｃ１１を備え、選択信号を供給することができる配線Ｇ１１、画像信号を供給することができる配線Ｓ１１、高電源電位を供給することができる配線ＶＰおよび低電源電位を供給することができる配線ＣＯＭと、電気的に接続される（図１（Ｃ−１）参照）。なお、配線Ｇ１１を走査線ということができ、配線Ｓ１１を信号線ということができる。
【００８０】
なお、配線ＣＯＭは上部電極１５２と電気的に接続され、例えば配線Ｇ１１は配線１１１と電気的に接続される。
【００８１】
《画素回路２０２Ｃ》
画素回路２０２Ｃは、第２の表示素子２５０に電力を供給し、第１の表示素子２５０を駆動する。
【００８２】
例えば、スイッチング素子Ｍ２１および容量Ｃを備え、選択信号を供給することができる配線Ｇ２１、画像信号を供給することができる配線Ｓ２１および低電源電位を供給することができる配線ＣＯＭと、電気的に接続される（図１（Ｃ−２）参照）。なお、配線Ｇ２１を走査線ということができ、配線Ｓ２１を信号線ということができる。
【００８３】
なお、配線ＣＯＭは上部電極１５２と電気的に接続され、例えば配線Ｇ２１は配線２１１と電気的に接続される。
【００８４】
《第１の表示素子１５０》
様々な表示素子を第１の表示素子に用いることができる。例えば、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）素子（有機物及び無機物を含むＥＬ素子、有機ＥＬ素子、無機ＥＬ素子）、ＬＥＤ（白色ＬＥＤ、赤色ＬＥＤ、緑色ＬＥＤ、青色ＬＥＤなど）、トランジスタ（電流に応じて発光するトランジスタ）、電子放出素子、液晶素子、電子インク、電気泳動素子、グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、ＭＥＭＳ（マイクロ・エレクトロ・メカニカル・システム）を用いた表示素子、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）、ＤＭＳ（デジタル・マイクロ・シャッター）、ＭＩＲＡＳＯＬ（登録商標）、ＩＭＯＤ（インターフェアレンス・モジュレーション）素子、シャッター方式のＭＥＭＳ表示素子、光干渉方式のＭＥＭＳ表示素子、エレクトロウェッティング素子、圧電セラミックディスプレイ、カーボンナノチューブ、などを用いることができる。
【００８５】
例えば、白色の光を射出する有機ＥＬ素子を第１の表示素子１５０に用いることができる。具体的には、第１の表示素子１５０は、下部電極１５１、上部電極１５２および発光性の有機化合物を含むＥＬ層１５３を備え、上部電極１５２から光を射出する（図１（Ｂ）参照）。
【００８６】
《下部電極１５１》
導電性を有する材料を下部電極１５１に用いることができる。特に、ＥＬ層１５３が発する光を効率よく反射する材料が好ましい。
【００８７】
例えば、無機導電性材料、有機導電性材料、金属または導電性セラミックスなどを用いることができる。なお、材料を単一の層でまたは積層された複数の層で用いることができる。
【００８８】
具体的には、アルミニウム、金、白金、銀、クロム、タンタル、チタン、モリブデン、タングステン、ニッケル、鉄、コバルト、パラジウムまたはマンガンから選ばれた金属元素、上述した金属元素を含む合金または上述した金属元素を組み合わせた合金などを用いることができる。
【００８９】
特に、銀、アルミニウムまたはいずれかを含む合金は、可視光について高い反射率を備えるため好ましい。
【００９０】
酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性を備える酸化物を用いることができる。
【００９１】
または、グラフェンまたはグラファイトを用いることができる。グラフェンを含む膜は、例えば膜状に形成された酸化グラフェンを含む膜を還元して形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方法や還元剤を用いる方法等を挙げることができる。
【００９２】
または、導電性高分子を用いることができる。
【００９３】
《上部電極１５２》
導電性および透光性を有する材料を上部電極１５２に用いることができる。
【００９４】
例えば、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を用いることができる。
【００９５】
例えば、下部電極１５１に用いることができる材料を、透光性を有する程度に薄くして上部電極１５２に用いることができる。具体的には、５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の厚さの金属薄膜を用いることができる。
【００９６】
なお、材料を単一の層でまたは積層された複数の層で用いることができる。具体的には、インジウムとスズを含む金属酸化物層と厚さ５ｎｍ以上３０ｎｍ以下の銀を含む合金を積層して用いることができる。
【００９７】
《ＥＬ層１５３》
ＥＬ層１５３は、蛍光または燐光を発する有機化合物を含む。
【００９８】
単一の層または複数の層が積層された構造を、ＥＬ層１５３に用いることができる。
【００９９】
例えば、電子に比べて正孔の移動度が優れる材料を含む層、正孔に比べて電子の移動度が優れる材料を含む層などを用いることができる。
【０１００】
隣り合う第１の表示素子１５０のＥＬ層１５３が異なる材料を含むように、領域ごとに異なる材料を含む層をＥＬ層に用いることができる。
【０１０１】
具体的には、赤色の光を発する材料を含む領域、緑色の光を発する材料を含む領域および青色の光を発する材料を含む領域を、縞状または島状になるように配置してもよい。このようなＥＬ層は、例えば、シャドーマスクを用いる蒸着法により作製することができる。
【０１０２】
《第２の表示素子２５０》
第２の表示素子２５０は、ＬＣ層２５３と、ＬＣ層２５３に加える電界を制御することができる第１の電極２５１および第２の電極２５２を備える。例えば、第１の電極に重なる領域を備える第２の電極２５２を用いることができる。
【０１０３】
《ＬＣ層２５３》
ＬＣ層２５３は、網目状の構造を備える高分子と網目状の構造を有する高分子から相分離した液晶を含む。例えば、５５０ｎｍ以上７５０ｎｍ以下の大きさを備える網目状の構造を用いると、入射する可視光を効率よく散乱できるため好ましい。
【０１０４】
例えば、屈折率の異方性Δｎが０．１０以上、好ましくは０．２以上の液晶材料をＬＣ層２５３に用いることができる。また、配向した状態の液晶材料とおよそ等しい屈折率を備える高分子をＬＣ層２５３に用いることができる。
【０１０５】
液晶材料の屈折率の異方性が大きいと、光を散乱する効果が高められ、ＬＣ層２５３を薄くすることができる。これにより、駆動電圧を低減することができる。
【０１０６】
また、比誘電率Δεが大きい材料をＬＣ層に用いると、駆動電圧を低減することができる。
【０１０７】
例えば、モノマーおよび液晶材料を含む組成物を硬化する方法を、ＬＣ層２５３の作製に用いることができる。具体的には、重量百分率でおよそ２０％以上３０％未満のモノマーおよび液晶材料を含む組成物に紫外線を照射して、組成物を硬化する。紫外線を照射されたモノマーは、液晶材料と相分離しながら重合し、ＬＣ層２５３を形成することができる。例えば、アクリル系の材料をモノマーに用いることができる。
【０１０８】
《着色層ＣＦ》
着色層ＣＦは、所定の色の光を透過する機能を有する。
【０１０９】
例えば、赤色の光を透過する層、緑色の光を透過する層もしくは青色の光を透過する層を着色層ＣＦに用いることができる。または、黄色の光を透過する層、シアンの光を透過する層もしくはマゼンタの光を透過する層を着色層ＣＦに用いることができる。
【０１１０】
例えば、顔料または染料を含む層を着色層ＣＦに用いることができる。具体的には、顔料または染料を含む高分子を、着色層ＣＦに用いることができる。
【０１１１】
また、透過する光の色が異なる複数の着色層ＣＦを用いることができる。
【０１１２】
例えば、透過する光の色が異なる着色層ＣＦを、縞状に配置して用いることができる。または、市松模様になるように配置して用いることができる。
【０１１３】
具体的には、赤色の光を透過する着色層ＣＦと緑色の光を透過する着色層ＣＦと青色の光を透過する着色層ＣＦを縞状に配置して用いることができる。または、上記の３種類の着色層ＣＦと黄色の光を透過する着色層ＣＦを２行２列の行列状に配置して用いることができる。
【０１１４】
《遮光層ＢＭ》
遮光層ＢＭは、可視光の透過を抑制する機能を有する。例えば、帯状または格子状の形状を備える。
【０１１５】
例えば、遮光性を有する材料を遮光層ＢＭに用いることができる。顔料を分散した樹脂、染料を含む樹脂の他、黒色クロム膜等の無機膜を遮光層ＢＭに用いることができる。具体的には、カーボンブラック、無機酸化物、複数の無機酸化物の固溶体を含む複合酸化物等を用いることができる。
【０１１６】
《隔壁１２８》
隔壁１２８は、開口部および絶縁性を有する。例えば、縞状または行列状に配置された開口部を備える。また、さまざまな形状の開口部を用いることができる。
【０１１７】
例えば、絶縁性の有機材料または絶縁性の無機材料を隔壁１２８に用いることができる。
【０１１８】
例えば、一の材料または複数の材料の複合材料を隔壁１２８に用いることができる。具体的には、複数の材料が積層された複合材料または繊維状または粒子状の材料が他の材料に分散された複合材料を用いることができる。
【０１１９】
例えば、樹脂等の有機材料を隔壁１２８に用いることができる。具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネート、アクリル樹脂または感光性高分子から形成された材料等を含む薄膜を用いることができる。
【０１２０】
例えば、無機酸化物、無機窒化物または無機酸窒化物等を隔壁１２８に用いることができる。具体的には、酸化珪素、窒化珪素、酸窒化珪素、アルミナ等を含む薄膜を用いることができる。
【０１２１】
具体的には、０．８μｍの厚さを備えるポリイミドを隔壁１２８に用いることができる。
【０１２２】
《スペーサＫＢ》
スペーサＫＢは、着色層ＣＦおよび上部電極１５２の間に所定の長さの間隔を形成することができる大きさを備える。例えば、１０μｍ以下好ましくは６μｍ以下の間隔を形成する大きさをスペーサＫＢは備える。具体的には０．８μｍの厚さを備えるスペーサＫＢを用いることができる。
【０１２３】
《スペーサＧＳ》
スペーサＧＳは、第１の電極２５１および第２の電極２５２の間に所定の長さの間隙を形成することができる材料であれば、特に限定されない。例えば、直径の標準偏差変動係数が８％以下、好ましくは５％以下である球状の粒子を用いることができる。
【０１２４】
具体的には、３μｍ以上２０μｍ以下好ましくは３．５μｍ以上１０μｍ以下の間隔を形成する大きさをスペーサＧＳは備える。間隔が３μｍ以下であると、第２の表示領域２０１を用いて明暗のコントラストに優れた鮮明な表示をすることが困難になる。また、間隔が２０μｍ以上であると、第１の表示領域を用いて明るい表示をすることが困難になる。また、第２の表示素子２５０が消費する電力が大きくなる。
【０１２５】
《第１の仕切り層１７０》
例えば、無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料を第１の仕切り層１７０に用いることができる。
【０１２６】
例えば、ガラス、セラミックス、金属等の無機材料を第１の仕切り層１７０に用いることができる。具体的には、無アルカリガラス、ソーダ石灰ガラス、カリガラスまたはクリスタルガラス等を含む板を用いることができる。
【０１２７】
例えば、樹脂またはプラスチック等の有機材料を第１の仕切り層１７０に用いることができる。具体的には、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリイミド、ポリカーボネートまたはアクリル樹脂等を含む薄膜を用いることができる。
【０１２８】
例えば、上記の無機材料から選ばれた一の材料と、上記の有機材料から選ばれた一の材料を積層した複合材料を第１の仕切り層１７０に用いることができる。
【０１２９】
具体的には、６００ｎｍの厚さを備える酸化窒化珪素膜および２００ｎｍの厚さを備える窒化珪素膜が積層された積層材料を含む膜を第１の仕切り層１７０に用いることができる。なお、酸化窒化珪素膜は、酸素の組成が窒素の組成より多く、窒化酸化珪素膜は窒素の組成が酸素の組成より多い。
【０１３０】
具体的には、６００ｎｍの厚さを備える酸化窒化珪素膜、２００ｎｍの厚さを備える窒化珪素、２００ｎｍの厚さを備える化窒化珪素膜、１４０ｎｍの厚さを備える窒化酸化珪素膜および１００ｎｍの厚さを備える酸化窒化珪素膜が積層された積層材料を含む膜を第１の仕切り層１７０に用いることができる。
【０１３１】
また、ガスバリア性を有する材料を第１の仕切り層１７０に用いることができる。例えば、１０−５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、好ましくは１０−６ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下の水蒸気透過率を有する材料を第１の仕切り層１７０に用いることができる。
【０１３２】
《第２の仕切り層２７０》
第１の仕切り層１７０に用いることができる材料を、第２の仕切り層２７０に用いることができる。
【０１３３】
《第１の接合層１６０》
第１の接合層１６０は、第１の表示素子１５０および着色層ＣＦを接合する機能を備える材料であれば、特に限定されない。
【０１３４】
無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料等を第１の接合層１６０に用いることができる。
【０１３５】
例えば、光硬化型接着剤、反応硬化型接着剤、熱硬化型接着剤または／および嫌気型接着剤等の有機材料を第１の接合層１６０に用いることができる。
【０１３６】
具体的には、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フェノール樹脂、ポリイミド樹脂、イミド樹脂、ＰＶＣ（ポリビニルクロライド）樹脂、ＰＶＢ（ポリビニルブチラル）樹脂、ＥＶＡ（エチレンビニルアセテート）樹脂等を含む接着剤を用いることができる。
【０１３７】
例えば、粒子状または繊維状の無機材料を有機材料に分散して用いてもよい。
【０１３８】
《第２の接合層２６０》
第２の接合層２６０は、第２の仕切り層２７０および第１の仕切り層１７０を接合する機能を備える材料であれば、特に限定されない。
【０１３９】
第１の接合層１６０に用いることができる材料を、第２の接合層２６０に用いることができる。具体的には、エポキシ樹脂を用いることができる。
【０１４０】
《駆動方法》
表示パネル１００の表示方法について、図２を参照しながら説明する。
【０１４１】
図２（Ａ）は、本発明の一態様の表示パネル１００に、暗い階調を表示する方法を説明する断面図である。
【０１４２】
図２（Ｂ）は、本発明の一態様の表示パネル１００が備える画素２０２を用いて明るい階調を表示する方法を説明する断面図である。
【０１４３】
図２（Ｃ）は、本発明の一態様の表示パネル１００が備える画素１０２を用いて明るい階調を表示する方法を説明する断面図である。
【０１４４】
《暗い階調を表示する方法》
例えば、第２の表示素子２５０を、光を透過することができる状態にする。具体的には、第１の電極２５１と第２の電極２５２に加える電圧を制御して、ＬＣ層２５３の液晶を配向させる。
【０１４５】
これにより、表示パネル１００に入射する外光は、第２の表示素子２５０を透過して、着色層ＣＦに吸収される。その結果、暗い階調を表示できる。
【０１４６】
《外光を用いて明るい階調を表示する方法》
例えば、第２の表示素子２５０を、光を散乱することができる状態にする。具体的には、第１の電極２５１と第２の電極２５２に加える電圧を制御して、ＬＣ層２５３の液晶を配向していない状態にする。
【０１４７】
これにより、表示パネル１００に入射する外光は、第２の表示素子２５０に散乱される。その結果、白色の明るい階調を表示できる。
【０１４８】
《画素１０２を用いて明るい階調を表示する方法》
例えば、第１の表示素子１５０を、光を射出する状態にする。具体的には、下部電極１５１と上部電極１５２に加える電圧を制御して、ＥＬ層１５３に電流を供給し、光を着色層ＣＦに向けて射出させる。着色層ＣＦは所定の色、例えば赤色光Ｒを透過する。
【０１４９】
これにより、表示パネル１００は着色層ＣＦが透過することができる色の光を射出する。その結果、明るい階調を所定の色を用いて表示することができる。
【０１５０】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【０１５１】
（実施の形態２）
本実施の形態では、本発明の一態様の表示パネルの積性方法について、図３乃至図５を参照しながら説明する。なお、いずれの図も右側に上面図が配置され、左側に上面図に示す切断線における断面図が配置されている。
【０１５２】
図３は本発明の一態様の表示パネル１００の作製に用いる部材Ａ、部材Ｂおよび部材Ｃを説明する図である。
【０１５３】
図４は本発明の一態様の表示パネル１００のＬＣ層を作製する方法を説明する図である。
【０１５４】
図５は本発明の一態様の表示パネル１００を作製する方法を説明する図である。
【０１５５】
＜表示パネルの作製方法＞
本実施の形態で説明する表示パネル１００の作製方法は、以下の５つのステップを有し、３つの部材を用いる。
【０１５６】
準備する３つの部材（部材Ａ，部材Ｂおよび部材Ｃ）の構成を説明する（図３参照）。なお、煩雑な図が発明の理解を妨げないように、いくつかの構成をまとめて図示する。
【０１５７】
《部材Ａ》
部材Ａは、第１の電極２５１および第１の電極２５１を支持する第２の基材２１０を備える。
【０１５８】
例えば、基材２１０を含む構成Ｐ１と、第１の電極２５１および画素回路２０２Ｃを含む構成Ｐ２と、を備える部材Ａを用いることができる（図３（Ａ−１）および図３（Ａ−２）参照）。
【０１５９】
《部材Ｂ》
部材Ｂは、第２の仕切り層２７０、第２の仕切り層２７０から分離することができる機能および透光性を備える基板を備える。例えば、紫外線を透過する構成を部材Ｂに用いることができる。
【０１６０】
例えば、照射した紫外線の一部が透過する程度に薄いタングステンを含む構成Ｐ４と、構成Ｐ４のタングステンを含む層に接する酸化物を含む層を含む第２の仕切り層２７０を含む構成Ｐ３と、照射された紫外線の一部が透過する基板を含む構成Ｐ５と、を備える部材Ｂを用いることができる（図３（Ｂ−１）および図３（Ｂ−２）参照）。
【０１６１】
具体的には３０ｎｍの厚さを備えるタングステンを含む層を構成Ｐに用いることができる。
【０１６２】
具体的には、基板の側から順に、厚さ６００ｎｍの酸化窒化珪素膜および厚さ２００ｎｍの窒化珪素膜が積層された積層膜を、第２の仕切り層２７０に用いることができる。なお、酸化窒化珪素膜は、酸素の組成が窒素の組成より多く、窒化酸化珪素膜は窒素の組成が酸素の組成より多い。
【０１６３】
具体的には、基板の側から順に、厚さ６００ｎｍの酸化窒化珪素膜、厚さ２００ｎｍの窒化珪素膜、厚さ２００ｎｍの酸化窒化珪素膜、厚さ１４０ｎｍの窒化酸化珪素膜および厚さ第２の仕切り層２７０に用いることができる。１００ｎｍの酸化窒化珪素膜が積層された積層膜を、絶縁膜に用いることができる。
【０１６４】
《部材Ｃ》
部材Ｃは、光を射出する機能を備える第１の表示素子１５０、第１の表示素子１５０が光を射出する側に第１の表示素子１５０と重なる領域を備える着色層ＣＦ、第１の表示素子１５０と着色層ＣＦを貼り合わせる第１の接合層１６０および第１の表示素子１５０を支持する第１の基材１１０を備える。
【０１６５】
例えば、第１の基材１１０を含む構成Ｑ１と、第１の表示素子１５０を含む構成Ｑ２と、第１の接合層１６０を含む構成Ｑ３と、着色層ＣＦを含む構成Ｑ４と、を備える部材Ｃを用いることができる（図３（Ｃ−１）および図３（Ｃ−２）参照）。
【０１６６】
《第１のステップ》
第１のステップにおいて、第１の電極２５１および第２の仕切り層２７０の間に、液晶および光硬化性の組成物を含む、所定の厚さの層を形成する。
【０１６７】
例えば、構成Ｐ２と構成Ｐ３の間に、液晶および光硬化性の組成物を含む所定の厚さの層を含む構成Ｐ８を形成する（図４（Ａ−１）および図４（Ａ−２））。
【０１６８】
具体的には、注入法や滴下法を用いて組成物を含む所定の厚さの層を形成することができる。
【０１６９】
ディスペンサまたは印刷装置等を用いて枠状の樹脂を含む構成Ｐ１０を形成し、構成Ｐ１０を用いて、構成Ｐ２および構成Ｐ３を貼り合せ、構成Ｐ２、構成Ｐ３および構成Ｐ１０で囲まれた領域に、液晶および光硬化性の組成物を含む材料を封入する。具体的には、減圧された状態から常圧に近づけながら、当該領域に材料を注入する
【０１７０】
ディスペンサまたは印刷装置等を用いて枠状の樹脂を含む構成Ｐ１０を形成し、液晶滴下法を用いることができる。
【０１７１】
例えば、モノマーおよび光重合開始剤等を光硬化性の組成物に用いることができる。具体的には、アクリルモノマーを用いることができる。
【０１７２】
《第２のステップ》
組成物を硬化して、第２のステップにおいて、液晶が分散された高分子を含むＬＣ層２５３が形成する。
【０１７３】
例えば、光硬化性の組成物を含む構成Ｐ８に紫外線を照射して、液晶が分散された高分子を含むＬＣ層２５３を含む構成Ｐ９を形成する（図４（Ｂ−１）および図４（Ｂ−２））。
【０１７４】
《第３のステップ》
第３のステップにおいて、ＬＣ層２５３の端部近傍に剥離の起点を形成する。
【０１７５】
なお、剥離の起点Ｐ１１は、一の層の一部が他の層から分離した構造を有する。例えば、鋭利な先端で構成Ｐ５から構成Ｐ４の端部近傍を刺突する方法またはレーザ等を用いる方法（例えばレーザアブレーション法）等により、構成Ｐ３の一部を構成Ｐ４の端部近傍から剥離する。これにより、剥離の起点Ｐ１１を形成することができる。
【０１７６】
例えば、構成Ｐ３に含まれる酸化物を含む層が、構成Ｐ４に含まれるタングステンを含む層から分離した構造を備える剥離の起点Ｐ１１を形成することができる（図５（Ｂ−１）および図５（Ｂ−２））。
【０１７７】
《第４のステップ》
第４のステップにおいて、基板を分離して、第２の仕切り層２７０およびＬＣ層を含む残部を得る。
【０１７８】
例えば、剥離の起点Ｐ１１に応力を集中し、基板を含む構成Ｐ５およびタングステンを含む構成Ｐ４を備える構成Ｐ６を、第２の仕切り層２７０を含む構成Ｐ３、構成Ｐ９、構成Ｐ２および構成Ｐ１を含む構成Ｐ７から分離する（図５（Ｃ）参照）。なお、構成Ｐ６を表層ということができ、構成Ｐ７を残部ということができる。
【０１７９】
また、構成Ｐ４と構成Ｐ３の界面近傍にイオンを照射して、静電気を取り除きながら剥離してもよい。具体的には、イオナイザーを用いて生成されたイオンを照射してもよい。
【０１８０】
また、構成Ｐ４から構成Ｐ３を剥離する際に、構成Ｐ４と構成Ｐ３の界面に液体を浸透させる。または液体をノズル９９から噴出させて吹き付けてもよい。例えば、浸透させる液体または吹き付ける液体に水、極性溶媒等を用いることができる。
【０１８１】
液体を浸透させることにより、剥離に伴い発生する静電気等の影響を抑制することができる。また、剥離層を溶かす液体を浸透しながら剥離してもよい。
【０１８２】
特に、酸化タングステンを含む構成Ｐ４を用いる場合、水を含む液体を浸透させながらまたは吹き付けながら、酸化物を含む第２の仕切り層２７０を含む構成Ｐ３を剥離すると、剥離に伴う応力を低減することができ好ましい。
【０１８３】
《第５のステップ》
第５のステップにおいて、第２の仕切り層２７０および着色層ＣＦの間に第２の接合層２６０を形成し、第２の仕切り層２７０および着色層ＣＦを貼り合わせる。
【０１８４】
例えば、部材Ｃの構成Ｑ４を覆うように構成Ｑ４と構成Ｐ３を接合する材料を含む層を形成する（図５（Ｄ−１）、図５（Ｄ−２）参照）。具体的には、ディスペンサやスクリーン印刷法等を用いて形成する。
【０１８５】
次いで、接合する材料を、第２の仕切り層２７０を含む構成Ｐ３と着色層を含む構成Ｑ４の間に挟み込み、好適な方法を用いて硬化する。これにより、接合層を含む構成Ｑ５を形成し、第２の仕切り層２７０および着色層ＣＦを貼り合わせる。
【０１８６】
以上のステップを順番に行うことにより、第１の基材１１０を含む構成Ｑ１と、第１の表示素子１５０を含む構成Ｑ２と、第１の接合層１６０を含む構成Ｑ３と、着色層ＣＦを含む構成Ｑ４と、第２の接合層２６０を含む構成Ｑ５と、第２の仕切り層２７０を含む構成Ｐ３と、ＬＣ層２５３を含む構成Ｐ９と、第１の電極２５１を含む構成Ｐ２と、第２の基材２１０を含む構成Ｐ１と、がこの順で配置される表示パネル１００を作製することができる。
【０１８７】
本実施の形態で説明する表示パネル１００の作製方法は、液晶および光硬化性の組成物を含む所定の厚さの層を第１の電極２５１および第２の接合層２６０の間に形成するステップと、液晶が分散された高分子を含むＬＣ層２５３を形成するステップと、第２の仕切り層２７０およびＬＣ層２５３を含む残部を形成するステップと、第２の仕切り層２７０および着色層ＣＦを貼り合わせるステップと、を含んで構成される。
【０１８８】
これにより、光を光硬化性の組成物に、着色層を介すことなく、第１の電極が配置されていない側から照射して、ＬＣ層を形成することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルの作製方法を提供することができる。また、外光下で使用する際に消費する電力が低減された新規な表示パネルの作製方法を提供することができる。
【０１８９】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【０１９０】
（実施の形態３）
本実施の形態では、本発明の一態様の検知領域を備える表示パネルの構成について、図６および図７を参照しながら説明する。
【０１９１】
図６は本発明の一態様の検知領域を備える表示パネルの構成を説明する図である。図６（Ａ）は本発明の一態様の表示パネル５００ＴＰの上面図であり、図６（Ｂ）は図６（Ａ）の切断線Ｚ１乃至Ｚ６における断面図である。
【０１９２】
図７は本発明の一態様の検知領域を備える表示パネルの構成を説明する図である。図７（Ａ）は本発明の一態様の表示パネル５００ＴＰの投影図であり、図７（Ｂ）は表示パネル５００ＴＰの一部の構成を説明する上面図であり、図７（Ｃ）は図７（Ｂ）に示す切断線Ｗ３−Ｗ４における断面図である。
【０１９３】
＜表示パネルの構成例１．＞
本実施の形態で説明する表示パネル５００ＴＰは、第１の基材５１０と、第１の基材５１０に重なる領域を備える第２の基材６１０と、第１の基材５１０および第２の基材６１０の間に表示領域と、を有する（図６（Ｂ）参照）。
【０１９４】
表示領域は、光を射出する機能を備える第１の表示素子５５０と、光の透過を制御する機能および第１の表示素子５５０が光を射出する側に第１の表示素子５５０と重なる領域を備える第２の表示素子６５０と、第１の表示素子５５０および第２の表示素子６５０の間に、第１の表示素子５５０と重なる領域を備える着色層ＣＦと、を備える。
【０１９５】
第１の表示素子５５０は、下部電極５５１、下部電極５５１と重なる領域を備える上部電極５５２並びに下部電極５５１および上部電極５５２の間にＥＬ層５５３を備える。また、ＥＬ層５５３は、発光性の有機化合物を含む。
【０１９６】
第２の表示素子６５０は、液晶を含むＬＣ層６５３並びに液晶の配向を制御する機能を備える第１の電極６５１および第２の電極６５２を備える。
【０１９７】
また、表示領域は、表示素子５５０および着色層ＣＦの間に第１の接合層５６０と、着色層ＣＦと重なる領域を備える第１の仕切り層５７０と、ＬＣ層と重なる領域を備える第２の仕切り層６７０と、第１の仕切り層５７０および第２の仕切り層６７０の間に第２の接合層６６０と、を備える。
【０１９８】
また、ＬＣ層６５３は、液晶が分散される高分子を含む。
【０１９９】
また、第２の基材６１０および表示領域の間に検知領域７０１と、検知領域７０１と表示領域の間に第３の仕切り層７７０と、を有する。
【０２００】
そして、検知領域７０１は、第１の電極Ｃ１（ｉ）と、第１の電極Ｃ１（ｉ）と重ならない領域を備える第２の電極Ｃ２（ｊ）と、第１の電極Ｃ１（ｉ）と電気的に接続される制御線ＣＬ（ｉ）と、第２の電極Ｃ２（ｊ）と電気的に接続される信号線ＭＬ（ｊ）と、を備える（図７（Ａ）および図７（Ｂ）参照）。
【０２０１】
第１の電極Ｃ１（ｉ）および第２の電極Ｃ２（ｊ）は、第１の表示素子５５０または第２の表示素子６５０と重なる領域に透光性を備える領域７６７を備える（図７（Ｂ）参照）。
【０２０２】
制御線ＣＬ（ｉ）は行方向（図中にＲで示す矢印の方向）に延在し、信号線ＭＬ（ｊ）は行方向と交差する列方向（図中にＣで示す矢印の方向）に延在する（図７（Ａ）参照）。
【０２０３】
第３の仕切り層７７０は、透光性または／および導電性を備える。
【０２０４】
本実施の形態で説明する本発明の一態様の表示パネルは、第１の基材５１０と、第１の基材５１０に重なる領域を備える第２の基材６１０と、第１の基材５１０および第２の基材６１０の間に表示領域と、第２の基材６１０および表示領域の間に検知領域７０１と、を有する。そして、検知領域７０１は、第１の電極Ｃ１（ｉ）、第１の電極Ｃ１（ｉ）と重ならない領域を備える第２の電極Ｃ２（ｊ）、第１の電極Ｃ１（ｉ）と電気的に接続される制御線ＣＬ（ｉ）および第２の電極Ｃ２（ｊ）と電気的に接続される信号線ＭＬ（ｊ）を含んで構成される。
【０２０５】
これにより、供給される画像信号を表示し、供給される制御信号および近接または接触した指などに基づいて変化する検知信号を供給することができる。その結果、利便性または信頼性に優れた新規な表示パネルを提供できる。
【０２０６】
また、表示パネル５００ＴＰは、第１の表示素子５５０を駆動する画素回路を備え、画素回路と電気的に接続される配線５１１を備える（図６（Ｂ）参照）。また、表示パネル５００ＴＰは、第２の表示素子６５０を駆動する画素回路を備え、画素回路と電気的に接続される配線６１１を備える。
【０２０７】
また、表示パネル５００ＴＰは、端子部５１９、端子部６１９および端子部７１９を備える（図６（Ａ）参照）。端子部５１９は配線５１１と電気的に接続する端子を含み、端子部６１９は配線６１１と電気的に接続する端子を含み、端子部７１９は制御線ＣＬ（ｉ）または信号線ＭＬ（ｊ）と電気的に接続する端子を含む。端子部５１９はフレキシブルプリント基板ＦＰＣ１と電気的に接続され、端子部６１９はフレキシブルプリント基板ＦＰＣ２と電気的に接続され、端子部７１９はフレキシブルプリント基板ＦＰＣ３電気的に接続される。
【０２０８】
また、表示パネル５００ＴＰは表示領域を有する。表示領域は第１の表示領域５０１と、第１の表示領域５０１と重なる領域を備える第２の表示領域６０１を有する（図６（Ａ）参照）。また、表示パネル５００ＴＰは検知領域７０１を有する。
【０２０９】
また、第１の表示領域５０１は画素５０２を備える。画素５０２は第１の表示素子５５０および画素回路を備える（図６（Ｂ）参照）。
【０２１０】
また、表示領域６０１は画素６０２を備える（図６（Ａ）参照）。画素６０２は第２の表示素子６５０および画素回路を備える（図６（Ｂ）参照）。
【０２１１】
例えば、表示領域５０１が備える画素５０２の数と同じ数の画素６０２を表示領域６０１に用いることができる。または、表示領域５０１が備える副画素の数と同じ数の画素６０２を表示領域６０１に用いることができる（図６（Ａ）参照）。
【０２１２】
また、表示パネル５００ＴＰは遮光層ＢＭを備える（図６（Ｂ）参照）。遮光層ＢＭは開口部を備え、開口部は第１の表示素子５５０と重なる領域を備える。
【０２１３】
また、表示パネル５００ＴＰは隔壁５２８を備える。隔壁５２８は開口部を備え、開口部は下部電極５５１と重なる領域を備える。なお、隔壁５２８は絶縁性を備え、下部電極５５１の端部を覆う。
【０２１４】
また、表示パネル５００ＴＰはスペーサＫＢを第１の表示素子５５０と重ならない領域に備える。
【０２１５】
また、表示パネル５００ＴＰはスペーサＧＳを備える。例えば、ＬＣ層６５３に分散されたスペーサＧＳを備える。
【０２１６】
また、表示パネル５００ＴＰは第１の基材５１０を備える。第１の基材５１０は、絶縁層５１０ａおよび支持体５１０ｂを備える。なお、樹脂層５１０ｃは、絶縁層１１０ａと支持体１１０ｂを貼り合わせる機能を有する。
【０２１７】
また、表示パネル５００ＴＰは第２の基材６１０を備える。第２の基材６１０は、絶縁層６１０ａおよび支持体６１０ｂを備える。なお、樹脂層６１０ｃは、絶縁層６１０ａと支持体６１０ｂを貼り合わせる機能を有する。
【０２１８】
以下に、表示パネル５００ＴＰを構成する個々の要素について説明する。なお、これらの構成は明確に分離できず、一つの構成が他の構成を兼ねる場合や他の構成の一部を含む場合がある。
【０２１９】
《表示パネルの構成》
表示パネル５００ＴＰは、第１の基材５１０、第２の基材６１０、第１の表示領域５０１、第２の表示領域６０１、検知領域７０１、画素５０２、画素６０２、第１の表示素子５５０、第２の表示素子６５０、着色層ＣＦ、遮光層ＢＭ、隔壁５２８、スペーサＫＢ、スペーサＧＳ、第１の仕切り層５７０、第２の仕切り層６７０、第３の仕切り層７７０、第１の接合層５６０、第２の接合層６６０、第３の接合層７６０、第１の電極Ｃ１（ｉ）および第２の電極Ｃ２（ｊ）等を有する。
【０２２０】
《第１の基材５１０》
第１の基材５１０は、製造工程に耐えられる程度の耐熱性および製造装置に適用可能な厚さならびに大きさを備える。
【０２２１】
例えば、実施の形態１に記載する第１の基材１１０に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２２２】
具体的には、数μｍ以下の厚さを備える無機材料の膜と十数μｍ以上数百μｍ以下の厚さを備える樹脂フィルムを貼り合せた複合材料を用いる。これにより、５ｍｍ以下、好ましくは４ｍｍ以下、より好ましくは３ｍｍ以下、特に好ましくは１ｍｍ以下の曲率半径で折り曲げることができる。
【０２２３】
《第２の基材６１０》
第１の基材５１０に用いることができる材料を第２の基材６１０に用いることができる。なお、第２の基材６１０に第１の基材５１０と同一の材料を用いると、カール等を抑制することができる。
【０２２４】
《第１の表示領域５０１》
第１の表示領域５０１は、複数の画素５０２を備える。例えば、マトリクス状に配置された複数の画素５０２を備える（図６（Ａ）参照）。
【０２２５】
《第２の表示領域６０１》
第２の表示領域６０１は、複数の画素６０２を備える。例えば、マトリクス状に配置された複数の画素６０２を備える。なお、表示領域５０１が備える画素５０２の数と異なる数の画素６０２を備える構成にしてもよい。また、一の画素６０２を、一の画素５０２に重なるように配置してもよい。
【０２２６】
《画素５０２》
画素５０２は第１の表示素子５５０および第１の表示素子５５０に電力を供給し、第１の表示素子５５０を駆動する機能を有する画素回路を備える。なお、複数の副画素（例えば副画素５０２Ｒ）を画素５０２に用いることができる。
【０２２７】
例えば、トランジスタ５０２ｔを画素回路に用いることができる。
【０２２８】
例えば、実施の形態１に記載する画素回路１０２Ｃに用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２２９】
《画素６０２》
画素６０２は第２の表示素子６５０および第２の表示素子６５０に電力を供給し、第２の表示素子６５０を駆動する機能を有する画素回路を備える。
【０２３０】
例えば、トランジスタＭ１２を画素回路にもちいることができる。
【０２３１】
例えば、実施の形態１に記載する画素回路２０２Ｃに用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２３２】
《第１の表示素子５５０》
第１の表示素子５５０は、下部電極５５１、上部電極５５２および発光性の有機化合物を含むＥＬ層５５３を備え、上部電極５５２から光を射出する（図６（Ｂ）参照）。
【０２３３】
例えば、有機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子ともいう）などを第１の表示素子５５０に用いることができる。具体的には、白色の光を射出する有機ＥＬ素子を用いることができる。
【０２３４】
例えば、実施の形態１に記載する下部電極１５１、上部電極１５２またはＥＬ層１５３に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２３５】
《第２の表示素子６５０》
第２の表示素子６５０は、ＬＣ層６５３と、ＬＣ層６５３に加える電界を制御することができる第１の電極６５１および第２の電極６５２を備える。
【０２３６】
例えば、実施の形態１に記載するＬＣ層２５３、第１の電極２５１または第２の電極２５２に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２３７】
《着色層ＣＦ》
着色層ＣＦは、所定の色の光を透過する機能を有する。
【０２３８】
例えば、実施の形態１に記載する着色層ＣＦに用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２３９】
《遮光層ＢＭ》
遮光層ＢＭは、可視光の透過を抑制する機能を有する。例えば、帯状または格子状の形状を備える。
【０２４０】
例えば、実施の形態１に記載する遮光層ＢＭに用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２４１】
《隔壁５２８》
隔壁５２８は、開口部および絶縁性を有する。例えば、縞状または行列状に配置された開口部を備える。また、さまざまな形状の開口部を用いることができる。
【０２４２】
例えば、実施の形態１に記載する隔壁１２８に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２４３】
《スペーサＫＢ》
スペーサＫＢは、着色層ＣＦおよび上部電極５５２の間に所定の長さの間隔を形成することができる大きさを備える。
【０２４４】
例えば、実施の形態１に記載するスペーサＫＢに用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２４５】
《スペーサＧＳ》
スペーサＧＳは、第１の電極６５１および第２の電極６５２の間に所定の長さの間隙を形成することができる材料であれば、特に限定されない。
【０２４６】
例えば、実施の形態１に記載するスペーサＧＳに用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２４７】
《第１の仕切り層５７０、第２の仕切り層６７０、第３の仕切り層７７０、》
例えば、無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料を第１の仕切り層５７０、第２の仕切り層６７０、第３の仕切り層７７０に用いることができる。
【０２４８】
例えば、実施の形態１に記載する第１の仕切り層１７０、第２の仕切り層２７０または第３の仕切り層７７０に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２４９】
導電性を有する材料を第３の仕切り層７７０に用いることができる。例えば、金属、導電性セラミックスまたは導電性高分子などを用いることができる。具体的には、光を透過する程度の厚さを有する導電膜、メッシュ状の形状を有する導電膜などを用いることができる。導電性を有する材料が用いられた第３の仕切り層７７０は、第１の表示領域５０１または第２の表示領域６０１が検知領域７０１に与える影響（具体的には、電磁的なノイズ）を低減することができる。
【０２５０】
《第１の接合層５６０》
第１の接合層５６０は、第１の表示素子５５０および着色層ＣＦを接合する機能を備える材料であれば、特に限定されない。
【０２５１】
例えば、実施の形態１に記載する第１の接合層１６０に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２５２】
《第２の接合層６６０》
第２の接合層６６０は、第２の仕切り層６７０および第１の仕切り層５７０を接合する機能を備える材料であれば、特に限定されない。
【０２５３】
例えば、実施の形態１に記載する第１の接合層２６０に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２５４】
《検知領域７０１》
検知領域７０１は、検知回路に電気的に接続される検知素子を備える。例えば、検知素子は、静電容量、照度、磁力、電波または圧力等を検知して、検知した物理量に基づく信号を検知回路に供給する機能を備える。例えば、導電膜、光電変換素子、磁気検知素子、圧電素子または共振器等を検知素子に用いることができる。
【０２５５】
例えば、導電膜を検知素子に用い、導電膜に寄生する静電容量の大きさに基づいて変化する検知信号を供給する機能を備える検知回路を、用いることができる。これにより、大気中において、導電膜に近接する指などを検知できる。
【０２５６】
具体的には、制御信号を供給される第１の電極Ｃ１（ｉ）と、供給された制御信号および静電容量に基づいて、電位が変化する第２の電極Ｃ２（ｊ）と、を検知素子に用いることができる（図７（Ｂ）参照）。なお、制御信号を第１の電極Ｃ１（ｉ）に制御線ＣＬ（ｉ）を用いて供給し、信号線ＭＬ（ｊ）を介して第２の電極Ｃ２（ｊ）の電位を取得する。なお、第２の電極Ｃ２（ｊ）の電位は検知信号に用いることができる。これにより、表示パネル５００ＴＰは、近接または接触するものを検知して検知信号を供給することができる。
【０２５７】
制御線ＣＬ（ｉ）は配線ＢＲ（ｉ，ｊ）を備える。制御線ＣＬ（ｉ）は、配線ＢＲ（ｉ，ｊ）において信号線ＭＬ（ｊ）と交差する。
【０２５８】
なお、配線ＢＲ（ｉ，ｊ）と信号線ＭＬ（ｊ）の間に絶縁膜７１１を備える（図７（Ｃ）参照）。これにより、配線ＢＲ（ｉ，ｊ）と信号線ＭＬ（ｊ）の短絡を防ぐことができる。
【０２５９】
なお、検知素子を形成するための膜を第２の基材６１０に成膜し、当該膜を加工する方法を用いて、検知素子を作製してもよい。
【０２６０】
または、表示パネル５００ＴＰの一部を他の基材に作製し、当該一部を基材６１０に転置する方法を用いて、表示パネル５００ＴＰを作製してもよい。
【０２６１】
例えば、導電性を有する材料を第１の電極Ｃ１（ｉ）または第２の電極Ｃ２（ｊ）に用いることができる。
【０２６２】
例えば、配線に用いることができる構成と同様の構成を用いることができる。
【０２６３】
《配線》
表示パネル５００ＴＰは配線を備える。配線は制御線ＣＬ（ｉ）、信号線ＭＬ（ｊ）などを含む。
【０２６４】
導電性を有する材料を、配線などに用いることができる。
【０２６５】
例えば、無機導電性材料、有機導電性材料、金属または導電性セラミックスなどを、配線に用いることができる。
【０２６６】
具体的には、アルミニウム、金、白金、銀、クロム、タンタル、チタン、モリブデン、タングステン、ニッケル、鉄、コバルト、イットリウム、ジルコニウム、パラジウムまたはマンガンから選ばれた金属元素、上述した金属元素を含む合金または上述した金属元素を組み合わせた合金などを配線等に用いることができる。特に、アルミニウム、クロム、銅、タンタル、チタン、モリブデン、タングステンの中から選択される一以上の元素を含むと好ましい。特に、銅とマンガンの合金がウエットエッチング法を用いた微細加工に好適である。
【０２６７】
具体的には、アルミニウム膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にチタン膜を積層する二層構造、窒化チタン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、窒化タンタル膜または窒化タングステン膜上にタングステン膜を積層する二層構造、チタン膜と、そのチタン膜上にアルミニウム膜を積層し、さらにその上にチタン膜を形成する三層構造等を用いることができる。
【０２６８】
具体的には、チタン、タンタル、タングステン、モリブデン、クロム、ネオジム、スカンジウムから選ばれた元素の膜がアルミニウム膜上に積層された積層膜を用いることができる。またはチタン、タンタル、タングステン、モリブデン、クロム、ネオジム、スカンジウムから選ばれた複数の元素を含む合金膜がアルミニウム膜上に積層された積層膜を用いることができる。または、チタン、タンタル、タングステン、モリブデン、クロム、ネオジム、スカンジウムから選ばれた元素の窒化膜がアルミニウム膜上に積層された積層膜を用いることができる。
【０２６９】
または、酸化インジウム、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物、酸化亜鉛、ガリウムを添加した酸化亜鉛などの導電性酸化物を用いることができる。
【０２７０】
または、グラフェンまたはグラファイトを用いることができる。グラフェンを含む膜は、例えば膜状に形成された酸化グラフェンを含む膜を還元して形成することができる。還元する方法としては、熱を加える方法や還元剤を用いる方法等を挙げることができる。
【０２７１】
または、導電性高分子を用いることができる。
【０２７２】
《その他》
表示パネル５００ＴＰは機能膜５６７ｐを有する。
【０２７３】
例えば、無機材料、有機材料または無機材料と有機材料の複合材料などを含む膜を機能膜２６７ｐに用いることができる。具体的には、アルミナまたは酸化珪素などを含むセラミックコート層、ＵＶ硬化樹脂等のハードコート層、反射防止膜、円偏光板などを機能膜２６７ｐに用いることができる。
【０２７４】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【０２７５】
（実施の形態４）
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図８を参照しながら説明する。
【０２７６】
図８は本発明の一態様の情報処理装置を説明する図である。
【０２７７】
図８（Ａ）は本発明の一態様の情報処理装置Ｋ１００の入出力装置Ｋ２０が展開された状態を説明する投影図であり、図８（Ｂ）は図８（Ａ）の切断線Ｘ１−Ｘ２における情報処理装置Ｋ１００の断面図である。図８（Ｃ）は入出力装置Ｋ２０が折り畳まれた状態を説明する投影図である。
【０２７８】
＜情報処理装置の構成例＞
本実施の形態で説明する情報処理装置Ｋ１００は、入出力装置Ｋ２０、演算装置Ｋ１０または筐体Ｋ０１（１）乃至筐体Ｋ０１（３）を有する（図８参照）。
【０２７９】
《入出力装置》
入出力装置Ｋ２０は、表示装置Ｋ３０および入力装置Ｋ４０を備える。入出力装置Ｋ２０は、画像情報Ｖを供給され且つ検知情報Ｓを供給する（図８（Ｂ）参照）。
【０２８０】
表示装置Ｋ３０は画像情報Ｖを供給され、入力装置Ｋ４０は検知情報Ｓを供給する。
【０２８１】
入力装置Ｋ４０と表示装置Ｋ３０が一体に重ねられた入出力装置Ｋ２０は、表示装置Ｋ３０であるとともに、入力装置Ｋ４０でもある。
【０２８２】
なお、入力装置Ｋ４０にタッチセンサを用い、表示装置Ｋ３０に表示パネルを用いた入出力装置Ｋ２０は、タッチパネルである。
【０２８３】
《表示装置》
表示装置Ｋ３０は、第１の領域Ｋ３１（１１）、第１の屈曲できる領域Ｋ３１（２１）、第２の領域Ｋ３１（１２）、第２の屈曲できる領域Ｋ３１（２２）および第３の領域Ｋ３１（１３）がこの順で縞状に配置された領域Ｋ３１を有する（図８（Ａ）参照）。
【０２８４】
表示装置Ｋ３０は、第１の屈曲できる領域Ｋ３１（２１）に形成される第１の畳み目および第２の屈曲できる領域Ｋ３１（２２）に形成される第２の畳み目で折り畳まれた状態および展開された状態にすることができる（図８（Ａ）および図８（Ｃ）参照）。
【０２８５】
例えば、実施の形態１または実施の形態３記載の表示パネルを用いることができる。
【０２８６】
《演算装置》
演算装置Ｋ１０は、演算部および演算部に実行させるプログラムを記憶する記憶部を備える。また、画像情報Ｖを供給し且つ検知情報Ｓを供給される。
【０２８７】
《筐体》
筐体は、筐体Ｋ０１（１）、ヒンジＫ０２（１）、筐体Ｋ０１（２）、ヒンジＫ０２（２）または筐体Ｋ０１（３）を含み、この記載の順に配置される。
【０２８８】
筐体Ｋ０１（３）は、演算装置Ｋ１０を収納する。また、筐体Ｋ０１（１）乃至筐体Ｋ０１（３）は、入出力装置Ｋ２０を保持し、入出力装置Ｋ２０を折り畳まれた状態または展開された状態にすることができる（図８（Ｂ）参照）。
【０２８９】
本実施の形態では、２つのヒンジを用いて接続される３つの筐体を備える情報処理装置を例示する。この情報処理装置の入出力装置Ｋ２０は、２つのヒンジがある場所で折り畳むことができる。
【０２９０】
なお、ｎ（ｎは２以上の自然数）個の筐体を（ｎ−１）個のヒンジを用いて接続してもよい。この構成を備える情報処理装置は、入出力装置Ｋ２０を（ｎ−１）箇所で折って折り畳むことができる。
【０２９１】
筐体Ｋ０１（１）は、第１の領域Ｋ３１（１１）と重なり、釦Ｋ４５（１）を備える。
【０２９２】
筐体Ｋ０１（２）は、第２の領域Ｋ３１（１２）と重なる。
【０２９３】
筐体Ｋ０１（３）は、第３の領域Ｋ３１（１３）と重なり、演算装置Ｋ１０、アンテナＫ１０ＡおよびバッテリーＫ１０Ｂを収納する。
【０２９４】
ヒンジＫ０２（１）は、第１の屈曲できる領域Ｋ３１（２１）と重なり、筐体Ｋ０１（１）を筐体Ｋ０１（２）に対して回動可能に接続する。
【０２９５】
ヒンジＫ０２（２）は、第２の屈曲できる領域Ｋ３１（２２）と重なり、筐体Ｋ０１（２）を筐体Ｋ０１（３）に対して回動可能に接続する。
【０２９６】
アンテナＫ１０Ａは、演算装置Ｋ１０と電気的に接続され、信号を供給または供給される。
【０２９７】
また、アンテナＫ１０Ａは、外部装置から無線で電力を供給され、電力をバッテリーＫ１０Ｂに供給する。
【０２９８】
バッテリーＫ１０Ｂは、演算装置Ｋ１０と電気的に接続され、電力を供給または供給する。
【０２９９】
《折り畳みセンサ》
折り畳みセンサＫ４１は、筐体が折り畳まれた状態かまたは展開された状態かを検知し、筐体の状態を示す情報を供給する。
【０３００】
演算装置Ｋ１０は、筐体の状態を示す情報を供給される。
【０３０１】
筐体Ｋ０１の状態を示す情報が折り畳まれた状態を示す情報である場合、演算装置Ｋ１０は第１の領域Ｋ３１（１１）に第１の画像を含む画像情報Ｖを供給する（図８（Ｃ）参照）。
【０３０２】
また、筐体Ｋ０１の状態を示す情報が展開された状態を示す情報である場合、演算装置Ｋ１０は表示装置Ｋ３０の領域Ｋ３１に画像情報Ｖを供給する（図８（Ａ））。
【０３０３】
《検知部》
検知部Ｋ５０は、表示装置Ｋ３０が使用される環境の照度を検知して、照度の情報を含む検知情報を供給することができる。
【０３０４】
例えば、光電変換素子と光電変換素子が供給する信号に基づいて、環境の照度の情報を供給する検知回路を検知部Ｋ５０に用いることができる。
【０３０５】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【０３０６】
（実施の形態５）
本実施の形態では、本発明の一態様の情報処理装置の構成について、図９を参照しながら説明する。
【０３０７】
図９は本発明の一態様の情報処理装置を説明する図である。
【０３０８】
図９（Ａ−１）乃至図９（Ａ−３）は、本発明の一態様の情報処理装置の投影図である。
【０３０９】
図９（Ｂ−１）および図９（Ｂ−２）は、本発明の一態様の情報処理装置の投影図である。
【０３１０】
図９（Ｃ−１）および図９（Ｃ−２）は、本発明の一態様の情報処理装置の上面図および底面図ある。
【０３１１】
《情報処理装置Ａ》
情報処理装置３０００Ａは、入出力部３１２０および入出力部３１２０を支持する筐体３１０１を有する（図９（Ａ−１）乃至図９（Ａ−３）参照）。
【０３１２】
また、情報処理装置３０００Ａは、演算部および演算部に実行させるプログラムを記憶する記憶部、演算部を駆動する電力を供給するバッテリーなどの電源を備える。
【０３１３】
なお、筐体３１０１は、演算部、記憶部またはバッテリーなどを収納する。
【０３１４】
情報処理装置３０００Ａは、側面または／および上面に表示情報を表示することができる。
【０３１５】
情報処理装置３０００Ａの使用者は、側面または／および上面に接する指を用いて操作命令を供給することができる。
【０３１６】
《情報処理装置Ｂ》
情報処理装置３０００Ｂは、入出力部３１２０および入出力部３１２０ｂを有する（図９（Ｂ−１）および図９（Ｂ−２）参照）。
【０３１７】
また、情報処理装置３０００Ｂは入出力部３１２０を支持する筐体３１０１および可撓性を有するベルト状の筐体３１０１ｂを有する。
【０３１８】
また、情報処理装置３０００Ｂは入出力部３１２０ｂを支持する筐体３１０１を有する。
【０３１９】
また、情報処理装置３０００Ｂは、演算部および演算部に実行させるプログラムを記憶する記憶部、演算部を駆動する電力を供給するバッテリーなどの電源を備える。
【０３２０】
なお、筐体３１０１は、演算部、記憶部またはバッテリーなどを収納する。
【０３２１】
情報処理装置３０００Ｂは、可撓性を有するベルト状の筐体３１０１ｂに支持される入出力部３１２０に表示情報を表示することができる。
【０３２２】
情報処理装置３０００Ｂの使用者は、入出力部３１２０に接する指を用いて操作命令を供給することができる。
【０３２３】
《情報処理装置Ｃ》
情報処理装置３０００Ｃは、入出力部３１２０ならびに入出力部３１２０を支持する筐体３１０１および筐体３１０１ｂを有する（図９（Ｃ−１）および図９（Ｃ−２）参照）。
【０３２４】
入出力部３１２０および筐体３１０１ｂは可撓性を有する。
【０３２５】
また、情報処理装置３０００Ｃは、演算部および演算部に実行させるプログラムを記憶する記憶部、演算部を駆動する電力を供給するバッテリーなどの電源を備える。
【０３２６】
なお、筐体３１０１は、演算部、記憶部またはバッテリーなどを収納する。
【０３２７】
情報処理装置３０００Ｃは、筐体３１０１ｂの部分で二つに折り畳むことができる。
【０３２８】
なお、本実施の形態は、本明細書で示す他の実施の形態と適宜組み合わせることができる。
【０３２９】
例えば、本明細書等において、ＸとＹとが接続されている、と明示的に記載されている場合は、ＸとＹとが電気的に接続されている場合と、ＸとＹとが機能的に接続されている場合と、ＸとＹとが直接接続されている場合とが、本明細書等に開示されているものとする。したがって、所定の接続関係、例えば、図または文章に示された接続関係に限定されず、図または文章に示された接続関係以外のものも、図または文章に記載されているものとする。
【０３３０】
ここで、Ｘ、Ｙは、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など）であるとする。
【０３３１】
ＸとＹとが直接的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの電気的な接続を可能とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に接続されていない場合であり、ＸとＹとの電気的な接続を可能とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など）を介さずに、ＸとＹとが、接続されている場合である。
【０３３２】
ＸとＹとが電気的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの電気的な接続を可能とする素子（例えば、スイッチ、トランジスタ、容量素子、インダクタ、抵抗素子、ダイオード、表示素子、発光素子、負荷など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが可能である。なお、スイッチは、オンオフが制御される機能を有している。つまり、スイッチは、導通状態（オン状態）、または、非導通状態（オフ状態）になり、電流を流すか流さないかを制御する機能を有している。または、スイッチは、電流を流す経路を選択して切り替える機能を有している。なお、ＸとＹとが電気的に接続されている場合は、ＸとＹとが直接的に接続されている場合を含むものとする。
【０３３３】
ＸとＹとが機能的に接続されている場合の一例としては、ＸとＹとの機能的な接続を可能とする回路（例えば、論理回路（インバータ、ＮＡＮＤ回路、ＮＯＲ回路など）、信号変換回路（ＤＡ変換回路、ＡＤ変換回路、ガンマ補正回路など）、電位レベル変換回路（電源回路（昇圧回路、降圧回路など）、信号の電位レベルを変えるレベルシフタ回路など）、電圧源、電流源、切り替え回路、増幅回路（信号振幅または電流量などを大きく出来る回路、オペアンプ、差動増幅回路、ソースフォロワ回路、バッファ回路など）、信号生成回路、記憶回路、制御回路など）が、ＸとＹとの間に１個以上接続されることが可能である。なお、一例として、ＸとＹとの間に別の回路を挟んでいても、Ｘから出力された信号がＹへ伝達される場合は、ＸとＹとは機能的に接続されているものとする。なお、ＸとＹとが機能的に接続されている場合は、ＸとＹとが直接的に接続されている場合と、ＸとＹとが電気的に接続されている場合とを含むものとする。
【０３３４】
なお、ＸとＹとが電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、ＸとＹとが電気的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟んで接続されている場合）と、ＸとＹとが機能的に接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の回路を挟んで機能的に接続されている場合）と、ＸとＹとが直接接続されている場合（つまり、ＸとＹとの間に別の素子又は別の回路を挟まずに接続されている場合）とが、本明細書等に開示されているものとする。つまり、電気的に接続されている、と明示的に記載されている場合は、単に、接続されている、とのみ明示的に記載されている場合と同様な内容が、本明細書等に開示されているものとする。
【０３３５】
なお、例えば、トランジスタのソース（又は第１の端子など）が、Ｚ１を介して（又は介さず）、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ２を介して（又は介さず）、Ｙと電気的に接続されている場合や、トランジスタのソース（又は第１の端子など）が、Ｚ１の一部と直接的に接続され、Ｚ１の別の一部がＸと直接的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）が、Ｚ２の一部と直接的に接続され、Ｚ２の別の一部がＹと直接的に接続されている場合では、以下のように表現することが出来る。
【０３３６】
例えば、「ＸとＹとトランジスタのソース（又は第１の端子など）とドレイン（又は第２の端子など）とは、互いに電気的に接続されており、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙの順序で電気的に接続されている。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、Ｘと電気的に接続され、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）はＹと電気的に接続され、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙは、この順序で電気的に接続されている」と表現することができる。または、「Ｘは、トランジスタのソース（又は第１の端子など）とドレイン（又は第２の端子など）とを介して、Ｙと電気的に接続され、Ｘ、トランジスタのソース（又は第１の端子など）、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）、Ｙは、この接続順序で設けられている」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続の順序について規定することにより、トランジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又は第２の端子など）とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。
【０３３７】
または、別の表現方法として、例えば、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、少なくとも第１の接続経路を介して、Ｘと電気的に接続され、前記第１の接続経路は、第２の接続経路を有しておらず、前記第２の接続経路は、トランジスタを介した、トランジスタのソース（又は第１の端子など）とトランジスタのドレイン（又は第２の端子など）との間の経路であり、前記第１の接続経路は、Ｚ１を介した経路であり、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）は、少なくとも第３の接続経路を介して、Ｙと電気的に接続され、前記第３の接続経路は、前記第２の接続経路を有しておらず、前記第３の接続経路は、Ｚ２を介した経路である。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、少なくとも第１の接続経路によって、Ｚ１を介して、Ｘと電気的に接続され、前記第１の接続経路は、第２の接続経路を有しておらず、前記第２の接続経路は、トランジスタを介した接続経路を有し、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）は、少なくとも第３の接続経路によって、Ｚ２を介して、Ｙと電気的に接続され、前記第３の接続経路は、前記第２の接続経路を有していない。」と表現することができる。または、「トランジスタのソース（又は第１の端子など）は、少なくとも第１の電気的パスによって、Ｚ１を介して、Ｘと電気的に接続され、前記第１の電気的パスは、第２の電気的パスを有しておらず、前記第２の電気的パスは、トランジスタのソース（又は第１の端子など）からトランジスタのドレイン（又は第２の端子など）への電気的パスであり、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）は、少なくとも第３の電気的パスによって、Ｚ２を介して、Ｙと電気的に接続され、前記第３の電気的パスは、第４の電気的パスを有しておらず、前記第４の電気的パスは、トランジスタのドレイン（又は第２の端子など）からトランジスタのソース（又は第１の端子など）への電気的パスである。」と表現することができる。これらの例と同様な表現方法を用いて、回路構成における接続経路について規定することにより、トランジスタのソース（又は第１の端子など）と、ドレイン（又は第２の端子など）とを、区別して、技術的範囲を決定することができる。
【０３３８】
なお、これらの表現方法は、一例であり、これらの表現方法に限定されない。ここで、Ｘ、Ｙ、Ｚ１、Ｚ２は、対象物（例えば、装置、素子、回路、配線、電極、端子、導電膜、層、など）であるとする。
【０３３９】
なお、回路図上は独立している構成要素同士が電気的に接続しているように図示されている場合であっても、１つの構成要素が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合もある。例えば配線の一部が電極としても機能する場合は、一の導電膜が、配線の機能、及び電極の機能の両方の構成要素の機能を併せ持っている。したがって、本明細書における電気的に接続とは、このような、一の導電膜が、複数の構成要素の機能を併せ持っている場合も、その範疇に含める。
【符号の説明】
【０３４０】
Ｃ１（ｉ）    第１の電極
Ｃ２（ｊ）    第２の電極
ＣＬ（ｉ）    制御線
ＭＬ（ｊ）    信号線
ＢＲ    配線
ＣＯＭ    配線
ＶＰ    配線
Ｃ１１    容量
Ｇ１１    配線
Ｇ２１    配線
Ｋ０１    筐体
Ｋ０２    ヒンジ
Ｋ１０    演算装置
Ｋ１０Ａ    アンテナ
Ｋ１０Ｂ    バッテリー
Ｋ２０    入出力装置
Ｋ３０    表示装置
Ｋ３１    領域
Ｋ４０    入力装置
Ｋ４１    センサ
Ｋ４５    釦
Ｋ５０    検知部
Ｋ１００    情報処理装置
Ｍ１０    駆動用トランジスタ
Ｍ１１    スイッチング素子
Ｍ１２    トランジスタ
Ｍ２１    スイッチング素子
Ｐ１    構成
Ｐ２    構成
Ｐ３    構成
Ｐ４    構成
Ｐ５    構成
Ｐ６    構成
Ｐ７    構成
Ｐ８    構成
Ｐ９    構成
Ｐ１０    構成
Ｐ１１    起点
Ｑ１    構成
Ｑ２    構成
Ｑ３    構成
Ｑ４    構成
Ｑ５    構成
Ｓ１１    配線
Ｓ２１    配線
ＦＰＣ１    フレキシブルプリント基板
ＦＰＣ２    フレキシブルプリント基板
ＦＰＣ３    フレキシブルプリント基板
９９    ノズル
１００    表示パネル
１０１    表示領域
１０２    画素
１０２Ｃ    画素回路
１１０    基材
１１０ａ    絶縁層
１１０ｂ    支持体
１１０ｃ    樹脂層
１１１    配線
１１９    端子部
１２８    隔壁
１５０    表示素子
１５１    下部電極
１５２    上部電極
１５３    ＥＬ層
１６０    接合層
１７０    仕切り層
２０１    表示領域
２０２    画素
２０２Ｃ    画素回路
２１０    基材
２１０ａ    絶縁層
２１０ｂ    支持体
２１０ｃ    樹脂層
２１１    配線
２１９    端子部
２５０    表示素子
２５１    第１の電極
２５２    第２の電極
２５３    ＬＣ層
２６０    接合層
２６７ｐ    機能膜
２７０    仕切り層
５００ＴＰ    表示パネル
５０１    表示領域
５０２    画素
５０２Ｒ    副画素
５０２ｔ    トランジスタ
５１０    基材
５１０ａ    絶縁層
５１０ｂ    支持体
５１０ｃ    樹脂層
５１１    配線
５１９    端子部
５２８    隔壁
５５０    表示素子
５５１    下部電極
５５２    上部電極
５５３    ＥＬ層
５６０    接合層
５６７ｐ    機能膜
５７０    仕切り層
６０１    表示領域
６０２    画素
６１０    基材
６１０ａ    絶縁層
６１０ｂ    支持体
６１０ｃ    樹脂層
６１１    配線
６１９    端子部
６５０    表示素子
６５１    第１の電極
６５２    第２の電極
６５３    ＬＣ層
６６０    接合層
６７０    仕切り層
７０１    検知領域
７１１    絶縁膜
７１９    端子部
７６０    接合層
７６７    領域
７７０    仕切り層
３０００Ａ    情報処理装置
３０００Ｂ    情報処理装置
３０００Ｃ    情報処理装置
３１０１    筐体
３１０１ｂ    筐体
３１２０    入出力部
３１２０ｂ    入出力部
【図１】
2016090783.tif 000003
【図２】
2016090783.tif 000004
【図３】
2016090783.tif 000005
【図４】
2016090783.tif 000006
【図５】
2016090783.tif 000007
【図６】
2016090783.tif 000008
【図７】
2016090783.tif 000009
【図８】
2016090783.tif 000010
【図９】
2016090783.tif 000011