(57)【要約】【課題】複数の単位トランジスタにより構成されるＨＢＴを含む化合物半導体装置において、熱抵抗を低減させる。【解決手段】複数の単位トランジスタを含むヘテロ接合バイポーラトランジスタと、複数の単位トランジスタのエミッタと電気的に接続されたバンプと、を備える化合物半導体装置であって、複数の単位トランジスタが、第１の方向に配列され、バンプが、複数の単位トランジスタのエミッタ上に、第１の方向に延伸して配置され、複数の単位トランジスタのうちの少なくとも１つの単位トランジスタのエミッタが、バンプの第１の方向における中心線から、第１の方向と垂直な第２の方向における一方の側に偏位して配置され、複数の単位トランジスタのうちの他の少なくとも１つの単位トランジスタのエミッタが、バンプの第１の方向における中心線から、第２の方向における他方の側に偏位して配置される。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の単位トランジスタを含むヘテロ接合バイポーラトランジスタと、
前記複数の単位トランジスタのエミッタと電気的に接続されたバンプと、
を備える化合物半導体装置であって、
前記複数の単位トランジスタが、第１の方向に配列され、
前記バンプが、前記複数の単位トランジスタのエミッタ上に、前記第１の方向に延伸して配置され、
前記複数の単位トランジスタのうちの少なくとも１つの単位トランジスタのエミッタが、前記バンプの前記第１の方向における中心線から、前記第１の方向と垂直な第２の方向における一方の側に偏位して配置され、
前記複数の単位トランジスタのうちの他の少なくとも１つの単位トランジスタのエミッタが、前記バンプの前記第１の方向における中心線から、前記第２の方向における他方の側に偏位して配置された、
化合物半導体装置。
【請求項２】
請求項１に記載の化合物半導体装置であって、
前記バンプの前記中心線から偏位して配置されたエミッタの一部が、前記バンプで覆われていない、
化合物半導体装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の化合物半導体装置であって、
前記複数の単位トランジスタのエミッタが、前記バンプの前記中心線から、前記一方の側と前記他方の側とに交互に偏位して配置された、
化合物半導体装置。
【請求項４】
請求項１又は２に記載の化合物半導体装置であって、
前記複数の単位トランジスタのエミッタが、前記バンプの前記中心線から、前記一方の側と前記他方の側とに、複数個ずつ交互に偏位して配置された、
化合物半導体装置。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の化合物半導体装置を備える電力増幅モジュールであって、
前記ヘテロ接合バイポーラトランジスタは、無線周波数信号を増幅する増幅素子である、
電力増幅モジュール。
【請求項６】
請求項５に記載の電力増幅モジュールであって、
前記電力増幅モジュールは、複数段の増幅器を備え、
前記ヘテロ接合バイポーラトランジスタは、前記複数段の増幅器のうちの最終段の増幅器における前記増幅素子である、
電力増幅モジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化合物半導体装置及び電力増幅モジュールに関する。
【背景技術】
【０００２】
携帯電話等の移動体通信機においては、基地局へ送信する無線周波数（ＲＦ：Radio Frequency）信号の電力を増幅するために電力増幅モジュールが用いられる。また、電力増幅モジュールでは、増幅素子としてヘテロ接合バイポーラトランジスタ（ＨＢＴ：Heterojunction Bipolar Transistor）を含む化合物半導体装置が用いられる。
【０００３】
近年、移動体通信機の小型化に伴い、化合物半導体装置の小型化も求められている。そのため、例えば、特許文献１に開示されるように、化合物半導体装置をモジュール基板に実装する手法として、ワイヤボンディングではなく、フリップチップ実装が用いられることがある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０００−１０６３８６号後方
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、特許文献１に開示される構成では、複数の単位トランジスタが直線的に配列され、各単位トランジスタのエミッタ上にバンプが設けられている。このような構成では、熱源であるエミッタが集中するため、熱抵抗の増加を招く可能性がある。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、複数の単位トランジスタにより構成されるＨＢＴを含む化合物半導体装置において、熱抵抗を低減させることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一側面に係る化合物半導体装置は、複数の単位トランジスタを含むヘテロ接合バイポーラトランジスタと、複数の単位トランジスタのエミッタと電気的に接続されたバンプと、を備える化合物半導体装置であって、複数の単位トランジスタが、第１の方向に配列され、バンプが、複数の単位トランジスタのエミッタ上に、第１の方向に延伸して配置され、複数の単位トランジスタのうちの少なくとも１つの単位トランジスタのエミッタが、バンプの第１の方向における中心線から、第１の方向と垂直な第２の方向における一方の側に偏位して配置され、複数の単位トランジスタのうちの他の少なくとも１つの単位トランジスタのエミッタが、バンプの第１の方向における中心線から、第２の方向における他方の側に偏位して配置される。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、複数の単位トランジスタにより構成されるＨＢＴを含む化合物半導体装置において、熱抵抗を低減させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ａの平面図である。
【図２】化合物半導体装置１００Ａを構成するセルの回路図である。
【図３】図１に示すＡ−Ａ’線における断面図である。
【図４】化合物半導体装置１００Ａをフリップチップ実装した例を示す図である。
【図５Ａ】バンプ１４０の中心線１５０に沿ってエミッタ３３０が直線的に配列された例を示す図である（直線配置）。
【図５Ｂ】直線配置において、エミッタ３３０が、バンプ１４０の中心線１５０から一方の側（＋Ｙ側）に偏位して配列された例を示す図である。
【図５Ｃ】化合物半導体装置１００Ａと同様に、エミッタ３３０が、バンプ１４０の中心線１５０から、一方の側（＋Ｙ側）及び他方の側（−Ｙ側）に交互に偏位して配列された例を示す図である。
【図６】エミッタ３３０の偏位量と熱抵抗との関係を示すシミュレーションである。
【図７】本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ｂの平面図である。
【図８】本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ｃの平面図である。
【図９】本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ｄの平面図である。
【図１０】本発明の一実施形態である電力増幅モジュール１０００の構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
図１は、本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ａの平面図である。図２は、化合物半導体装置１００Ａを構成するセルの回路図である。図３は、図１に示すＡ−Ａ’線における断面図である。図４は、化合物半導体装置１００Ａをフリップチップ実装した例を示す図である。図１〜４を参照して、化合物半導体装置１００Ａの構成について説明する。
【００１１】
図１に示すように、化合物半導体装置１００Ａは、複数の単位トランジスタ１１０を含む。これら複数の単位トランジスタ１１０により、ヘテロ接合バイポーラトランジスタ（ＨＢＴ）が形成される。単位トランジスタ１１０は、「フィンガー」とも呼ばれる。図１に示す例では、１６個の単位トランジスタ１１０により、ＨＢＴが形成されている。即ち、ＨＢＴのフィンガー数は１６である。なお、ＨＢＴのフィンガー数は１６に限られない。
【００１２】
単位トランジスタ１１０は、キャパシタ１１１及び抵抗１１２とともに、セル１２０を構成する。図２には、セル１２０の回路図が示されている。各セル１２０は、入力されるＲＦ信号を増幅して単位トランジスタ１１０のコレクタから増幅信号を出力する。複数のセル１２０は、並列に接続され、ＲＦ信号を増幅する増幅器を構成する。
【００１３】
キャパシタ１１１は、ＲＦ信号が入力されるＲＦ入力配線１３０と、単位トランジスタ１１０のベースに接続されるベース配線１３１との間に形成される。キャパシタ１１１は、例えば、ＲＦ入力配線１３０とベース配線１３１との間に、ＭＩＭ（Metal-Insulator-Metal）容量として形成することができる。キャパシタ１１１は、ＲＦ信号のＤＣ成分をカットして出力する。
【００１４】
抵抗１１２は、一端がバイアス制御配線１３２に接続され、他端がベース配線１３１に接続される。この抵抗１１２を介して、単位トランジスタ１１０のベースにバイアスが供給される。
【００１５】
単位トランジスタ１１０のベースは、ベース配線１３１と接続される。単位トランジスタ１１０のコレクタは、コレクタ配線１３３と接続される。単位トランジスタ１１０のエミッタは、エミッタ配線１３４と接続される。図１に示すように、エミッタ配線１３４は、バンプ１４０と接続される。バンプ１４０が接地されることにより、単位トランジスタ１１０のエミッタが接地される。
【００１６】
図３を参照して、単位トランジスタ１１０の断面構造について説明する。単位トランジスタ１１０は、サブコレクタ３００、コレクタ３１０、コレクタ電極３１１、ベース３２０、ベース電極３２１、エミッタ３３０、及びエミッタ電極３３１を含む。
【００１７】
サブコレクタ３００は、例えば、ヒ化ガリウム（ＧａＡｓ）基板３４０上に形成されている。コレクタ３１０及びコレクタ電極３１１は、サブコレクタ３００上に形成されている。ベース３２０は、コレクタ３１０上に形成されている。ベース電極３２１は、ベース３２０上に形成されている。
【００１８】
図３に示すように、コレクタ３１０は、サブコレクタ３００及びコレクタ電極３１１を介して、コレクタ配線１３３と電気的に接続される。また、ベース３２０は、ベース電極３２１を介して、ベース配線１３１と電気的に接続される。そして、エミッタ３３０は、エミッタ電極３３１及びエミッタ配線１３４，３３２を介して、バンプ１４０と電気的に接続される。図３に示すように、バンプ１４０は、エミッタ３３０上に積層されて形成されている。
【００１９】
図４に示すように、化合物半導体装置１００Ａは、表面実装部品（ＳＭＤ：Surface Mount Device）４００等とともに、モジュール基板４１０上に実装される。化合物半導体装置１００Ａは、バンプ１４０がモジュール基板４１０側に向けられ（即ち、フェイスダウンされ）、バンプ１４０が接地面４２０に接続される。
【００２０】
ここで、化合物半導体装置１００Ａにおける、単位トランジスタ１１０及びバンプ１４０の配置について説明する。図１に示すように、複数の単位トランジスタ１１０は、図１に示すＸ軸方向（第１の方向）に並べて配置されている。また、バンプ１４０は、複数の単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０上に形成され、Ｘ軸方向に延伸している。そして、バンプ１４０側から見て、各単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０は、少なくとも一部がバンプ１４０に覆われている。また、複数の単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０は、バンプ１４０の中心線１５０から、図１に示すＹ軸方向（第２の方向）における一方の側（例えば＋Ｙ側）及び他方の側（例えば−Ｙ側）に交互に偏位して配置されている。
【００２１】
このような配置により、全ての単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線１５０に沿って一直線上に配置する場合と比較して、熱源（エミッタ３３０）の位置を分散させることができる。これにより、化合物半導体装置１００Ａでは、全ての単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線１５０に沿って一直線上に配置する場合よりも、熱抵抗を低減させることが可能となる。
【００２２】
また、図１に示すように、化合物半導体装置１００Ａでは、各単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０の一部が、バンプ１４０で覆われていない。これにより、バンプ１４０によってエミッタ３３０の全部が覆われている場合と比較して、エミッタ３３０への応力が緩和され、単位トランジスタ１１０の通電寿命を延ばすことが可能となる。
【００２３】
図５Ａ〜図５Ｃ及び図６を参照して、バンプ１４０とエミッタ３３０との位置関係による熱抵抗の変化について説明する。
【００２４】
図５Ａは、バンプ１４０の中心線１５０に沿ってエミッタ３３０が直線的に配列された例を示す図である（直線配置）。図５Ｂは、直線配置において、エミッタ３３０が、バンプ１４０の中心線１５０から一方の側（＋Ｙ側）に偏位して配列された例を示す図である。図５Ｃは、化合物半導体装置１００Ａと同様に、エミッタ３３０が、バンプ１４０の中心線１５０から、一方の側（＋Ｙ側）及び他方の側（−Ｙ側）に交互に偏位して配列された例を示す図である。
【００２５】
図６は、エミッタ３３０の偏位量と熱抵抗との関係を示すシミュレーション結果である。図６において、横軸は、バンプ１４０の中心線からのエミッタ３３０の中心の偏位量（μｍ）、縦軸は、熱抵抗（℃／Ｗ）を示している。また、図６において、「直線配置」の線は、図５Ａ及び図５Ｂの配置に対応し、「千鳥配置」の線は、図５Ｃの配置に対応する。
【００２６】
なお、シミュレーションは、バンプ１４０のＹ軸方向の長さを７５μｍ、エミッタ３３０のＹ軸方向の長さを４０μｍとし、エミッタ３３０の偏位量を０μｍ、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍに変化させて行った。
【００２７】
また、エミッタ３３０の偏位が０μｍ、１０μｍ、２０μｍ、３０μｍ、４０μｍ、５０μｍの場合における、バンプ１４０の端部からのエミッタ３３０のはみ出し量ｄは、順に、０μｍ、０μｍ、２．５μｍ、１２．５μｍ、２２．５μｍ、３２．５μｍである。
【００２８】
図６に示すように、「直線配置」では、図５Ｂに示すようにエミッタ３３０の偏位を増やしていくと、エミッタ３３０を偏位させていない場合（Ａ点）と比較して、偏位量が１０μｍの場合に熱抵抗の微小な低減は見られるものの、偏位量の増加とともに熱抵抗が増加している。
【００２９】
他方、図６に示すように、「千鳥配置」では、偏位量が１０μｍ、２０μｍ、３０μｍの点において、エミッタ３３０を偏位させていない場合（Ａ点）よりも、熱抵抗が低減されている。
【００３０】
このように、シミュレーション結果からも、バンプ１４０の中心線からエミッタ３３０が一方の側（＋Ｙ側）と他方の側（−Ｙ側）とに偏位して配置されることにより、エミッタ３３０を偏位させていない場合（Ａ点）と比較して、熱抵抗を低減させることが可能であることがわかる。
【００３１】
また、シミュレーション結果によれば、「千鳥配置」では、エミッタ３３０のはみ出し量ｄが２．５μｍ（偏位量２０μｍ）及び１２．５μｍ（偏位量３０μｍ）の場合においても、エミッタ３３０を偏位させていない場合（Ａ点）と比較して、熱抵抗を低減させることが可能である。即ち、「千鳥配置」では、各単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０の一部が、バンプ１４０で覆われていない状態においても、熱抵抗を低減させることが可能である。そして、このような構成の場合、バンプ１４０によってエミッタ３３０の全部が覆われている場合と比較して、エミッタ３３０への応力が緩和され、単位トランジスタ１１０の通電寿命を延ばすことが可能となる。
【００３２】
次に、化合物半導体装置１００Ａの変形例について説明する。なお、化合物半導体装置１００Ａと同一の要素には同一の符号を付して説明を省略する。
【００３３】
図７は、本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ｂの平面図である。化合物半導体装置１００Ｂにおいては、複数の単位トランジスタ１１０が複数のブロックに分割されており、ブロックごとに、バンプ１４０が設けられている。具体的には、８つの単位トランジスタ１１０ごとに、ブロック７００，７１０が設けられている。
【００３４】
図８は、本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ｃの平面図である。化合物半導体装置１００Ｃにおいても、複数の単位トランジスタ１１０が複数のブロックに分割されており、ブロックごとに、バンプ１４０が設けられている。具体的には、４つの単位トランジスタ１１０ごとに、ブロック８００，８１０，８２０，８３０が設けられている。
【００３５】
図９は、本発明の一実施形態である化合物半導体装置１００Ｄの平面図である。化合物半導体装置１００Ｄにおいては、単位トランジスタ１１０が２個ずつ交互に偏位して配置されている。このように、単位トランジスタ１１０は、１個ずつに限らず、複数個ずつ交互に偏位して配置されてもよい。なお、図９に示す例では、単位トランジスタ１１０を２個ずつまとめているが、単位トランジスタ１１０をまとめる個数は３個以上であってもよい。
【００３６】
図７〜図９に示した構成においても、単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線から偏位して配置することにより、化合物半導体装置１００Ａと同様に、熱抵抗を低減させることが可能である。
【００３７】
図１０は、本発明の一実施形態である電力増幅モジュール１０００の構成を示す図である。電力増幅モジュール１０００は、３段の増幅器１０１０，１０２０，１０３０を備える。増幅器１０１０，１０２０，１０３０のそれぞれは、入力されるＲＦ信号を増幅して出力する。電力増幅モジュール１０００では、例えば、最終段の増幅器１０３０が、化合物半導体装置１００Ａを用いて構成されている。このように、増幅器１０３０に化合物半導体装置１００Ａを用いることにより、増幅器１０３０における熱抵抗を低減させることが可能となる。なお、化合物半導体装置１００Ａを増幅器１０１０，１０２０に用いることも可能であるが、特に、最終段の増幅器１０３０は電流量が大きいため、化合物半導体装置１００Ａを増幅器１０３０に用いることによる熱抵抗の低減効果が大きい。また、化合物半導体装置１００Ａに限らず、他の化合物半導体装置１００Ｂ〜１００Ｄを電力増幅モジュール１０００に適用することも可能である。
【００３８】
以上、本発明の実施形態について説明した。本実施形態によれば、複数の単位トランジスタ１１０のうちの少なくとも１つの単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０が、バンプ１４０の中心線１５０から一方の側（例えば＋Ｙ側）に偏位して配置され、複数の単位トランジスタ１１０のうちの他の少なくとも１つの単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０が、バンプ１４０の中心線１５０から他方の側（例えば−Ｙ側）に偏位して配置される。
【００３９】
このような構成により、全ての単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線１５０に沿って一直線上に配置する場合と比較して、熱源の位置を分散させることができる。これにより、化合物半導体装置１００Ａ〜１００Ｄでは、全ての単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線１５０に沿って一直線上に配置する場合よりも、熱抵抗を低減させることが可能となる。
【００４０】
なお、化合物半導体装置１００Ａ〜１００Ｄでは、全ての単位トランジスタをバンプ１４０の中心線１５０から偏位して配置したが、一部の単位トランジスタ１１０は、中心線１５０上に配置されていてもよい。
【００４１】
また、本実施形態によれば、バンプ１４０の中心線１５０から偏位して配置されたエミッタ３３０の一部が、バンプ１４０で覆われていない構成とすることができる。これにより、バンプ１４０によってエミッタ３３０の全部が覆われている場合と比較して、エミッタ３３０への応力が緩和され、単位トランジスタ１１０の通電寿命を延ばすことが可能となる。
【００４２】
また、本実施形態によれば、化合物半導体装置１００Ａ，１００Ｂのように、複数の単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０を、バンプ１４０の中心線１５０から、一方の側（例えば＋Ｙ側）と他方の側（例えば−Ｙ側）とに交互に偏位して配置することができる。このような構成により、全ての単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線１５０に沿って一直線上に配置する場合よりも、熱抵抗を低減させることが可能となる。
【００４３】
また、本実施形態によれば、化合物半導体装置１００Ｃ，１００Ｄのように、前記複数の単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０を、バンプ１４０の中心線１５０から、一方の側（例えば＋Ｙ側）と他方の側（例えば−Ｙ側）とに、複数個ずつ交互に偏位して配置することができる。このような構成においても、全ての単位トランジスタ１１０のエミッタ３３０をバンプ１４０の中心線１５０に沿って一直線上に配置する場合よりも、熱抵抗を低減させることが可能となる。
【００４４】
また、本実施形態によれば、化合物半導体装置１００Ａ〜１００ＤにおけるＨＢＴを、ＲＦ信号を増幅する増幅素子として、電力増幅モジュールを構成することができる。これにより、熱抵抗が低減された電力増幅モジュールを構成することが可能となる。なお、本実施形態では、化合物半導体装置１００Ａ〜１００Ｄを電力増幅モジュール１０００に適用する例を示したが、本発明の化合物半導体装置の適用範囲は、電力増幅モジュールに限られない。
【００４５】
また、本実施形態によれば、電力増幅モジュールが複数段の増幅器を備える場合において、化合物半導体装置１００Ａ〜１００ＤにおけるＨＢＴを、最終段の増幅器における増幅素子とすることができる。電流量が大きい最終段の増幅器１０３０に化合物半導体装置１００Ａ〜１００Ｄを適用することにより、熱抵抗の低減効果を大きくすることができる。
【００４６】
なお、以上説明した各実施形態は、本発明の理解を容易にするためのものであり、本発明を限定して解釈するためのものではない。本発明は、その趣旨を逸脱することなく、変更／改良され得るととともに、本発明にはその等価物も含まれる。即ち、各実施形態に当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。例えば、各実施形態が備える各要素およびその配置、材料、条件、形状、サイズなどは、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。また、各実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００４７】
１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃ，１００Ｄ  化合物半導体装置
１１０  単位トランジスタ
１１１  キャパシタ
１１２  抵抗
１２０  セル
１３０  ＲＦ入力配線
１３１  ベース配線
１３２  バイアス制御配線
１３３  コレクタ配線
３００  サブコレクタ
３１０  コレクタ
３１１  コレクタ電極
３２０  ベース
３２１  ベース電極
３３０  エミッタ
３３１  エミッタ電極
３４０  ＧａＡｓ基板
４００  表面実装部品
４１０  モジュール基板
４２０  接地面
【図１】
2016103540.tif 000003
【図２】
2016103540.tif 000004
【図３】
2016103540.tif 000005
【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2016103540.tif 000008
【図５Ｃ】
2016103540.tif 000009
【図６】
2016103540.tif 000010
【図７】
2016103540.tif 000011
【図８】
2016103540.tif 000012
【図９】
2016103540.tif 000013
【図１０】
2016103540.tif 000014