(57)【要約】【課題】従来の光学異方性フィルムでは、基材の搬送方向（光学異方性フィルムをＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌにより製造する場合の基材の流れる方向）に対して平行な筋状のムラが発生する場合があった。また、液晶硬化膜を被転写体に転写した場合、転写後の液晶硬化膜の均一性も十分に満足できるものではない場合があった。【解決手段】基材、配向膜及び液晶硬化膜をこの順に積層してなる光学異方性フィルムであって、基材が、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする光学異方性フィルム。    ０  ＜  ＸＡ  ＜  ｄＸ／１０              （Ａ）［式中、ＸＡは基材における表面凹凸の最大高さであり、ｄＸは基材の平均厚みを表す。］【選択図】図１
2016091022.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材、配向膜及び液晶硬化膜をこの順に積層してなる光学異方性フィルムであって、基材が、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする光学異方性フィルム。
０  ＜  ＸＡ  ＜  ｄＸ／１０              （Ａ）
［式中、ＸＡは基材における表面凹凸の最大高さであり、ｄＸは基材の平均厚みを表す。
］
【請求項２】
基材の厚みが１０〜５００μｍである請求項１に記載の光学異方性フィルム。
【請求項３】
基材のガラス転位温度（Ｔｇ）が、９０℃以上である請求項１または２に記載の光学異方性フィルム。
【請求項４】
液晶硬化膜の厚みが、０．０５〜５μｍである請求項１〜３のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
【請求項５】
液晶硬化膜と配向膜層との間の密着力、または配向膜層と基材との間の密着力が、０．５Ｎ／２５ｍｍ以下である請求項１〜４のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
【請求項６】
液晶硬化膜が、式（１）及び式（２）を満たす請求項１〜５のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦  １．００      （１）
１．００  ≦  Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）    （２）
［式中、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光に対する面内の位相差値を表す。］
【請求項７】
基材、配向膜及び液晶硬化膜をこの順に積層し、基材が下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする光学異方性フィルムの製造方法であって、工程（１）〜（３）を含む光学異方性フィルムの製造方法。
０  ＜  ＸＡ  ＜  ｄＸ／１０              （Ａ）
［式中、ＸＡは基材幅方向における表面凹凸の最大高さであり、ｄＸは基材の平均厚みを表す。］
工程（１）  基材上に配向膜を形成し、該配向膜上に液晶塗布膜を形成する工程
工程（２）  液晶塗布膜を乾燥する工程
工程（３）  液晶塗布膜に光照射をおこない、液晶硬化膜を得る工程
【請求項８】
工程（２）における乾燥温度（Ｔa）が、下記式（Ｂ）を満たす請求項７に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
Ｔａ  ≦  Ｔｇ＋３０  ℃                           （Ｂ）
［式中、Ｔａは乾燥温度を表し、Ｔｇは基材のガラス転移温度を表す。］
【請求項９】
基材として長尺状フィルムのロールを使用し、前記ロールから基材を巻きだしながら、連続的に工程（１）〜（３）を含む工程を実施する光学異方性フィルムの製造方法であって、
工程（２）又は工程（３）において、フィルムの搬送方向に直交する方向に下記式（Ｃ）を満たす張力ＰＢをかけて形成される、請求項７または８に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
０  ＜  ＰＢ  ＜  ＰＡ／２                      （Ｃ）
［式中、ＰＡは基材搬送方向に対して平行方向の張力であり、ＰＢは基材搬送方向に対して垂直方向の張力を表す。］
【請求項１０】
液晶硬化膜、粘接着剤層、および被転写体を含む積層体の製造方法であって、
請求項１〜６のいずれかに記載の光学異方性フィルムにおける液晶硬化膜と被転写体とを、粘接着剤層を介して貼合する工程と、前記光学フィルム中の基材を含む層を取り除く工程とを含む積層体の製造方法。
【請求項１１】
請求項１〜６に記載の光学異方性フィルムを備えた表示装置。
【請求項１２】
請求項１０に記載の積層体の製造方法により得られた積層体を備えた表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学異方性フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
フラットパネル表示装置（ＦＰＤ）には、偏光板、位相差板等の、光学フィルムを含む部材が用いられている。このような光学フィルムとしては、重合性液晶化合物からなる液晶硬化膜を含む光学異方性フィルムが知られている。特許文献１には、逆波長分散性を示す液晶硬化膜を含む光学異方性フィルムが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特表２０１０−５３７９５５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
従来の光学異方性フィルムでは、基材の搬送方向（光学異方性フィルムをＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌにより製造する場合の基材の流れる方向）に対して平行な筋状のムラが発生する場合があった。また、液晶硬化膜を被転写体に転写した場合、転写後の液晶硬化膜の均一性も十分に満足できるものではない場合があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は以下の発明を含む。
［１］基材、配向膜及び液晶硬化膜をこの順に積層してなる光学異方性フィルムであって、基材が、下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする光学異方性フィルム。
０  ＜  ＸＡ  ＜  ｄＸ／１０              （Ａ）
［式中、ＸＡは基材における表面凹凸の最大高さであり、ｄＸは基材の平均厚みを表す。
］
［２］基材の厚みが１０〜５００μｍである［１］に記載の光学異方性フィルム。
［３］基材のガラス転位温度（Ｔｇ）が、９０℃以上である［１］または［２］に記載の光学異方性フィルム。
［４］液晶硬化膜の厚みが、０．０５〜５μｍである［１］〜［３］のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
［５］液晶硬化膜と配向膜層との間の密着力、または配向膜層と基材との間の密着力が、０．５Ｎ／２５ｍｍ以下である［１］〜［４］のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
［６］液晶硬化膜が、式（１）及び式（２）を満たす［１］〜［５］のいずれかに記載の光学異方性フィルム。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦  １．００      （１）
１．００  ≦  Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）    （２）
［式中、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍの光に対する面内の位相差値を表す。］
［７］基材、配向膜及び液晶硬化膜をこの順に積層し、基材が下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする光学異方性フィルムの製造方法であって、工程（１）〜（３）を含む光学異方性フィルムの製造方法。
０  ＜  ＸＡ  ＜  ｄＸ／１０              （Ａ）
［式中、ＸＡは基材幅方向における表面凹凸の最大高さであり、ｄＸは基材の平均厚みを表す。］
工程（１）  基材上に配向膜を形成し、該配向膜上に液晶塗布膜を形成する工程
工程（２）  液晶塗布膜を乾燥する工程
工程（３）  液晶塗布膜に光照射をおこない、液晶硬化膜を得る工程
［８］工程（２）における乾燥温度（Ｔa）が、下記式（Ｂ）を満たす［７］に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
Ｔａ  ≦  Ｔｇ＋５０  ℃                           （Ｂ）
［式中、Ｔａは乾燥温度を表し、Ｔｇは基材のガラス転移温度を表す。］
［９］基材として長尺状フィルムのロールを使用し、前記ロールから基材を巻きだしながら、連続的に工程（１）〜（３）を含む工程を実施する光学異方性フィルムの製造方法であって、
工程（２）又は工程（３）において、フィルムの搬送方向に直交する方向に下記式（Ｃ）を満たす張力ＰＢをかけて形成される、［７］または［８］に記載の光学異方性フィルムの製造方法。
０  ＜  ＰＢ  ＜  ＰＡ／２                      （Ｃ）
［式中、ＰＡは基材搬送方向に対して平行方向の張力であり、ＰＢは基材搬送方向に対して垂直方向の張力を表す。］
［１０］液晶硬化膜、粘接着剤層、および被転写体を含む積層体の製造方法であって、
［１］〜［６］のいずれかに記載の光学異方性フィルムにおける液晶硬化膜と被転写体とを、粘接着剤層を介して貼合する工程と、前記光学フィルム中の基材を含む層を取り除く工程とを含む積層体の製造方法。
［１１］［１］〜［６］に記載の光学異方性フィルムを備えた表示装置。
［１２］［１０］に記載の積層体の製造方法により得られた積層体を備えた表示装置。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、ムラのない光学異方性フィルムを形成することができ、転写後の液晶硬化膜において均一性が優れる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】液晶硬化膜を有する円偏光板の模式図である。
【図２】液晶硬化膜を有する円偏光板を含む液晶表示装置の模式図である。
【図３】液晶硬化膜を有する円偏光板を含む有機ＥＬ表示装置の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
本発明の光学異方性フィルムは、基材、配向膜及び液晶硬化膜をこの順に積層している。以下、光学異方性フィルムを構成する各部材について説明する。
【０００９】
＜基材＞
本発明において、基材は下記式（Ａ）を満たすことを特徴とする。
０  ＜  ＸＡ  ＜  ｄＸ／１０              （Ａ）
［式中、ＸＡは基材における表面凹凸の最大高さであり、ｄＸは基材全体の平均厚みを表す。］
基材面のうち、７０％以上の領域で式（Ａ）を満たすことが好ましく、９０％以上の領域で式（Ａ）を満たすことがより好ましく、９９％の領域で式（Ａ）を満たすことがさらに好ましい。
ＸＡの測定方法の一例を説明する。まず光学異方性フィルムから基材以外の層を剥離して基材を得る。そして該基材のうち配向膜が積層されていた面を、１０ｃｍ２の領域を１単位として区切る。例えば、基材が１０ｃｍ角の正方形であれば１０単位である。このときできるだけ端切れ（余白）が残らないように区切ることが好ましい。
各単位の表面凹凸の最大高さＸＡを測定し、式（Ａ）を満たす単位の割合を下記式により求め、式（Ａ’）を満たす領域の割合と定義する。
（式（Ａ）を満たした単位の数／全単位の数）×１００（％）    （Ａ’）
例えば、全４単位中３単位が式（Ａ）を満たす場合は、７５％の領域で式（Ａ）を満たすという。
かかる基材を使用することで、特に後述する液晶塗布膜を乾燥する工程（工程（２））において、基材の変形が抑制されるため、形成される液晶硬化膜の平滑性が向上し、ムラのない光学異方性フィルムを得ることができる。
基材表面凹凸の最大高さＸＡは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１  ’２００１に準拠して測定することができ、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡、触針式膜厚計又は、非接触表面・層断面形状計測システム（例えば、日立ハイテクサイエンス製  ＶｅｒｔＳｃａｎ）により測定することができる。なお、基材表面が波状である場合、ＸＡは、その最大高低差となる。
【００１０】
式（Ａ）において、ＸＡは、ｄＸ／１００未満であることが好ましく、ｄＸ／１０００未満であることがより好ましい。
【００１１】
基材としては、単一層であってもよいし、２層以上を積層した複数層からなるものであってもよい。後述の液晶塗布膜を乾燥する工程（工程（２））において、基材に凹凸が生じにくくなるという点で、基材の厚みは、通常１０〜５００μｍであり、好ましくは１５〜４００μｍであり、より好ましくは２０〜３００μｍである。基材の厚みは、さらに好ましくは４０μｍ以上であり、ことさら好ましくは６０μｍであり、またさらに好ましくは２００μｍ以下である。  
【００１２】
基材としては、ガラス基材及びプラスチック基材が挙げられ、好ましくはプラスチック基材である。プラスチック基材を構成するプラスチックとしては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ノルボルネン系ポリマー等のポリオレフィン；環状オレフィン系樹脂；ポリビニルアルコール；ポリエチレンテレフタレート；ポリメタクリル酸エステル；ポリアクリル酸エステル；トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース及びセルロースアセテートプロピオネート等のセルロースエステル；ポリエチレンナフタレート；ポリカーボネート；ポリスルホン；ポリエーテルスルホン；ポリエーテルケトン；ポリフェニレンスルフィド及びポリフェニレンオキシド等のプラスチックが挙げられる。好ましくは、セルロースエステル、環状オレフィン系樹脂、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート又はポリメタクリル酸エステル等のプラスチックである。
【００１３】
セルロースエステルは、セルロースに含まれる水酸基の少なくとも一部が、エステル化されたものであり、市場から容易に入手することができる。セルロースエステル基材も市場から容易に入手することができる。市販のセルロースエステル基材としては、“フジタックフィルム”（富士写真フイルム（株））；“ＫＣ８ＵＸ２Ｍ”、“ＫＣ８ＵＹ”、“ＫＣ４ＵＹ”（コニカミノルタオプト（株））等が挙げられる。
【００１４】
環状オレフィン系樹脂とはノルボルネンや多環ノルボルネン系モノマー等の環状オレフィンの重合体又は共重合体（環状オレフィン系樹脂）から構成されるものであり、当該環状オレフィン系樹脂は部分的に、開環部を含んでいてもよい。開環部を含む環状オレフィン系樹脂を水素添加したものでもよい。さらに、当該環状オレフィン系樹脂は、透明性を著しく損なわない点や、著しく吸湿性を増大させない点で、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル化芳香族化合物（スチレン等）との共重合体であってもよい。該環状オレフィン系樹脂は、その分子内に極性基が導入されていてもよい。
【００１５】
環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンやビニル基を有する芳香族化合物との共重合体である場合、環状オレフィンに由来する構造単位の含有率は、共重合体の全構造単位に対して、通常５０モル％以下、好ましくは１５〜５０モル％である。
鎖状オレフィンとしては、エチレン及びプロピレンが挙げられ、ビニル基を有する芳香族化合物としては、スチレン、α−メチルスチレン及びアルキル置換スチレンが挙げられる。環状オレフィン系樹脂が、環状オレフィンと、鎖状オレフィンと、ビニル基を有する芳香族化合物との三元共重合体である場合、鎖状オレフィンに由来する構造単位の含有率は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％であり、ビニル基を有する芳香族化合物に由来する構造単位の含有率は、共重合体の全構造単位に対して、通常５〜８０モル％である。このような三元共重合体は、その製造において、高価な環状オレフィンの使用量を比較的少なくすることができるという利点がある。
【００１６】
市販の環状オレフィン系樹脂としては、“Ｔｏｐａｓ”（登録商標）［Ｔｉｃｏｎａ社（独）］、“アートン”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］、“ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］、“ゼオネックス（ＺＥＯＮＥＸ）”（登録商標）［日本ゼオン（株）］及び“アペル”（登録商標）［三井化学（株）製］が挙げられる。このような環状オレフィン系樹脂を、溶剤キャスト法、溶融押出法等の公知の手段により製膜して、基材とすることができる。市販されている環状オレフィン系樹脂基材を用いることもできる。市販の環状オレフィン系樹脂基材としては、“エスシーナ”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ＳＣＡ４０”（登録商標）［積水化学工業（株）］、“ゼオノアフィルム”（登録商標）［オプテス（株）］及び“アートンフィルム”（登録商標）［ＪＳＲ（株）］が挙げられる。
【００１７】
基材は、ガラス転移温度（Ｔｇ）が９０℃以上であることがより好ましい。基材のガラス転移温度Ｔｇとは、基材を形成するポリマー分子の相対的な位置は変化しないが、分子主鎖が回転や振動を始める温度、又は停止する温度であり、二次転移点ということもある。ガラス転移温度Ｔｇは、ＪＩＳ  Ｋ７１２１に準拠した方法で測定することができる。
【００１８】
ガラス転移温度が９０℃以上である基材は、市販の材料を適用することができ、例えば、”テオネックス”［帝人デュポンフィルム（株）製］、”アペル”［三井化学（株）製］、”耐熱透明ＣＯＣフィルム・Ｆフィルム”［グンゼ（株）製］、”ルセラ”［ＪＳＲ（株）製］、ポリイミドフィルム、”ゼオノア（ＺＥＯＮＯＲ）”［日本ゼオン（株）製］などが挙げられる。
【００１９】
本発明で使用する基材は、式（Ａ）を満たすものであるが、式（Ａ）のＸＡは、基材の厚みのみ又はガラス転移温度のみに依存するものではない。基材は、基材の厚み及びガラス転移温度、並びに液晶塗布膜を乾燥する温度などを調整し、適宜のものを選択すればよい。
【００２０】
＜配向膜＞
配向膜は、後述する重合性液晶化合物を所望の方向に液晶配向させる、配向規制力を有するものである。
配向膜は、後述の重合性液晶化合物の液晶配向を容易にする。水平配向、垂直配向、ハイブリッド配向、傾斜配向等の液晶配向の状態は、配向膜及び重合性液晶化合物の性質によって変化し、その組み合わせは任意に選択することができる。配向膜が配向規制力として水平配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は水平配向又はハイブリッド配向を形成することができ、垂直配向を発現させる材料であれば、重合性液晶化合物は垂直配向又は傾斜配向を形成することができる。水平、垂直等の表現は、基材平面を基準とした場合、配向した重合性液晶化合物の長軸の方向を表す。水平配向とは平面に対して平行な方向に、配向した重合性液晶化合物の長軸を有することである。
配向規制力は、配向膜層が配向性ポリマーから形成されている場合は、表面状態やラビング条件によって任意に調整することができ、光配向性ポリマーから形成されている場合は、偏光照射条件等によって任意に調整することができる。重合性液晶化合物の、表面張力や液晶性等の物性を選択することにより、液晶配向を制御することもできる。
【００２１】
基材と液晶硬化膜との間に形成される配向膜としては、配向膜上に液晶硬化膜を形成する際に使用される溶剤に不溶であり、溶剤の除去や液晶の配向のための加熱処理における耐熱性を有するものが好ましい。配向膜としては、配向性ポリマーからなる配向膜、光配向膜等が挙げられる。
【００２２】
配向膜の厚みは、通常１０〜５００ｎｍであり、好ましくは１０〜３００ｎｍである。
【００２３】
＜配向性ポリマーからなる配向膜＞
配向性ポリマーとしては、分子内にアミド結合を有するポリアミドやゼラチン類、分子内にイミド結合を有するポリイミド及びその加水分解物であるポリアミック酸、ポリビニルアルコール、アルキル変性ポリビニルアルコール、ポリアクリルアミド、ポリオキサゾール、ポリエチレンイミン、ポリスチレン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、ポリアクリル酸エステル類等が挙げられ、ポリビニルアルコールが好ましい。これらの配向性ポリマーは、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
【００２４】
配向性ポリマーからなる配向膜は、通常、配向性ポリマーが溶剤に溶解した組成物（以下、配向性ポリマー組成物ということがある。）を基材に塗布し、溶剤を除去する方法、又は、配向性ポリマー組成物を基材に塗布し、溶剤を除去し、ラビングする（ラビング法）方法により得られる。
【００２５】
溶剤としては、水；メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールメチルエーテルアセテート、乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルアミルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン、ヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶媒；テトラヒドロフラン、ジメトキシエタン等のエーテル溶媒；クロロホルム、クロロベンゼン等の塩素置換炭化水素溶媒；等が挙げられる。これら溶剤は、単独でもよいし、組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
配向性ポリマー組成物中の配向性ポリマーの濃度は、配向性ポリマー材料が、溶剤に完溶できる範囲であればよいが、溶剤に対して固形分換算で０．１〜２０質量％が好ましく、０．１〜１０質量％がさらに好ましい。
【００２７】
市販の配向性ポリマー組成物としては、サンエバー（登録商標、日産化学工業（株）製）又はオプトマー（登録商標、ＪＳＲ（株）製）等が挙げられる。
【００２８】
配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法としては、スピンコーティング法、エクストルージョン法、グラビアコーティング法、ダイコーティング法、バーコーティング法及びアプリケータ法等の塗布法や、フレキソ法等の印刷法等の公知の方法が挙げられる
【００２９】
配向性ポリマー組成物に含まれる溶剤を除去することにより、配向性ポリマーの乾燥被膜が形成される。溶剤の除去方法としては、自然乾燥法、通風乾燥法、加熱乾燥法及び減圧乾燥法等が挙げられる。
【００３０】
ラビングする方法としては、ラビング布が巻きつけられ、回転しているラビングロールに、配向性ポリマー組成物を基材に塗布しアニールすることで基材表面に形成された配向性ポリマーの膜を、接触させる方法が挙げられる。
【００３１】
＜光配向膜＞
光配向膜は、通常、光反応性基を有するポリマー又はモノマーと溶剤とを含む組成物（以下、「光配向膜形成用組成物」ということがある。）を基材に塗布し、偏光（好ましくは、偏光ＵＶ）を照射することで得られる。光配向膜は、照射する偏光の偏光方向を選択することにより、配向規制力の方向を任意に制御できる点でより好ましい。
【００３２】
光反応性基とは、光を照射することにより液晶配向能を生じる基をいう。具体的には、光を照射することで生じる分子の配向誘起又は異性化反応、二量化反応、光架橋反応、或いは光分解反応のような、液晶配向能の起源となる光反応を生じるものである。光反応性基としては、不飽和結合、特に二重結合を有するものが好ましく、炭素−炭素二重結合（Ｃ＝Ｃ結合）、炭素−窒素二重結合（Ｃ＝Ｎ結合）、窒素−窒素二重結合（Ｎ＝Ｎ結合）、及び炭素−酸素二重結合（Ｃ＝Ｏ結合）からなる群より選ばれる少なくとも一つを有する基が特に好ましい。
【００３３】
Ｃ＝Ｃ結合を有する光反応性基としては、ビニル基、ポリエン基、スチルベン基、スチルバゾール基、スチルバゾリウム基、カルコン基、シンナモイル基等が挙げられる。Ｃ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、芳香族シッフ塩基、芳香族ヒドラゾン等の構造を有する基が挙げられる。Ｎ＝Ｎ結合を有する光反応性基としては、アゾベンゼン基、アゾナフタレン基、芳香族複素環アゾ基、ビスアゾ基、ホルマザン基等や、アゾキシベンゼンを基本構造とするものが挙げられる。Ｃ＝Ｏ結合を有する光反応性基としては、ベンゾフェノン基、クマリン基、アントラキノン基及びマレイミド基等が挙げられる。これらの基は、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、アリルオキシ基、シアノ基、アルコキシカルボニル基、ヒドロキシル基、スルホン酸基、ハロゲン化アルキル基等の置換基を有していてもよい。
【００３４】
光反応性基としては、二量化反応又は光架橋反応を起こすものが、配向性に優れる点で好ましい。中でも光反応性基は、光二量化反応に関与する光反応性基が好ましく、光配向に必要な偏光照射量が比較的少なく、かつ、熱安定性や経時安定性に優れる光配向層が得られやすいという点で、シンナモイル基、またはカルコン基が好ましい。光反応性基を有するポリマーは、当該ポリマー側鎖の末端部が桂皮酸構造となるようなシンナモイル基を有するものが好ましい。
【００３５】
光配向膜形成用組成物の溶剤は、光反応性基を有するポリマー及びモノマーを溶解するものが好ましく、該溶剤としては、配向性ポリマー組成物の溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。
【００３６】
光配向膜形成用組成物に対する、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの含有量は、０．２質量％以上が好ましく、０．３〜１０質量％が特に好ましい。光配向膜形成用組成物は、光配向膜の特性が著しく損なわれない範囲で、ポリビニルアルコールやポリイミド等の高分子材料や光増感剤を含んでいてもよい。
【００３７】
光配向膜形成用組成物を基材に塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法と同様の方法が挙げられる。塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。
【００３８】
偏光を照射するには、基板上に塗布された光配向膜形成用組成物から、溶剤を除去したものに直接、偏光を照射する形式であってもよいし、基材側から偏光を照射し、偏光を透過させて照射する形式であってもよい。当該偏光は、実質的に平行光であることが好ましい。照射する偏光の波長は、光反応性基を有するポリマー又はモノマーの光反応性基が、光エネルギーを吸収し得る波長領域のものがよい。具体的には、波長１９０〜４００ｎｍのＵＶ（紫外線）が好ましい。当該偏光照射に用いる光源としては、キセノンランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ＫｒＦ、ＡｒＦ等の紫外光レーザー等が挙げられ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプまたはメタルハライドランプがより好ましい。これらのランプは、波長３１３ｎｍの紫外線の発光強度が大きいため好ましい。光源からの光を、適当な偏光子を通過して照射することにより、偏光を照射することができる。かかる偏光子としては、偏光フィルターやグラントムソン、グランテーラー等の偏光プリズムやワイヤーグリッドタイプの偏光子を用いることができる。
【００３９】
なお、ラビング又は偏光照射を行う時に、マスキングを行えば、液晶配向の方向が異なる複数の領域（パターン）を形成することもできる。
【００４０】
＜液晶硬化膜＞
液晶硬化膜は、基材上に形成された配向膜上に、重合性液晶化合物を含む液晶硬化膜形成用組成物を塗布して液晶塗布膜を得て、該液晶塗布膜に含まれる重合性液晶化合物を重合させることで得られる。
【００４１】
重合性液晶化合物の重合は、重合性官能基を有する化合物を重合させる公知の方法により行うことができる。具体的には、熱重合および光重合が挙げられ、重合の容易さの観点から、光重合が好ましい。光重合により重合性液晶化合物を重合させる場合、光重合開始剤を含有した液晶硬化膜形成用組成物を塗布し、乾燥して得られる液晶塗布膜中の重合性液晶化合物を液晶相状態にした後、該液晶状態を保持したまま、光重合させることが好ましい。
【００４２】
光重合は、通常、乾燥させた液晶塗布膜に光を照射することにより実施される。照射する光としては、液晶塗布膜に含まれる光重合開始剤の種類、重合性液晶化合物の種類（特に、重合性液晶化合物が有する光重合基の種類）およびその量に応じて、適宜選択され、具体的には、可視光、紫外光、または活性電子線が挙げられる。中でも、重合反応の進行を制御し易い点、および光重合装置として当分野で広範に用いられているものが使用できるという点で、紫外光が好ましく、紫外光によって光重合可能なように、重合性液晶化合物と光重合開始剤との種類を選択することが好ましい。また、重合時に、適切な冷却手段により液晶塗布膜を冷却しながら、光照射することで、重合温度を制御することもできる。光重合の際、マスキングや現像を行うなどによって、パターニングされた位相差層を得ることもできる。
【００４３】
液晶硬化膜は、通常、重合性液晶化合物が配向した状態で硬化した膜であり、好ましくは重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向又は垂直方向に配向した状態で硬化した膜である。
【００４４】
液晶硬化膜の厚みは、０．０５〜５μｍが好ましく、０．５〜３μｍがより好ましく、１〜３μｍがさらに好ましい。液晶硬化膜の厚みは、干渉膜厚計、レーザー顕微鏡又は触針式膜厚計により測定することができる。
【００４５】
液晶硬化膜は、波長λｎｍの光に対する複屈折率Δｎ（λ）が、式（１）および式（２）を満たすことが好ましい。液晶硬化膜がかかる光学特性を満たすと、広帯域にわたって一様な偏光変換が可能となる。
Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）≦１．００      （１）
１．００≦Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）      （２）
［式中、Ｒｅ（４５０）、Ｒｅ（５５０）、Ｒｅ（６５０）はそれぞれ波長４５０ｎｍ、５５０ｎｍ、６５０ｎｍにおける正面位相差値を表す。］
【００４６】
液晶硬化膜の正面位相差値は、液晶硬化膜の厚みによって調整することができる。正面位相差値は式（５０）によって決定されることから、所望の正面位相差値（Ｒｅ（λ））を得るためには、Δｎ（λ）と膜厚ｄを調整すればよい。
Ｒｅ（λ）＝ｄ×Δｎ（λ）      （５０）
式中、Ｒｅ（λ）は、波長λｎｍにおける正面位相差値を表し、ｄは膜厚を表し、Δｎ（λ）は波長λｎｍにおける複屈折率を表わす。
【００４７】
複屈折率Δｎ（λ）は、正面位相差値を測定して、該正面位相差値を液晶硬化膜の厚みで除することで得られる。具体的な測定方法は実施例に示すが、この際、ガラス基板のように基材自体に面内位相差が無いような基材上に製膜したものを測定することで、実質的な液晶硬化膜の特性を測定することができる。
【００４８】
＜液晶硬化膜形成用組成物＞
＜重合性液晶化合物＞
液晶硬化膜形成用組成物は、少なくとも１種の重合性化合物を含み、２種以上の重合性液晶化合物を含んでいてもよい。重合性液晶化合物とは、重合性基を有し、かつ、液晶性を有する化合物である。重合性基は、重合反応に関与する基を意味し、光重合性基であることが好ましい。ここで、光重合性基とは、光重合開始剤から発生した活性ラジカルや酸等によって重合反応に関与し得る基のことをいう。
重合性基としては、ビニル基、ビニルオキシ基、１−クロロビニル基、イソプロペニル基、４−ビニルフェニル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、オキシラニル基、オキセタニル基等が挙げられ、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、ビニルオキシ基、オキシラニル基またはオキセタニル基が好ましく、アクリロイルオキシ基がより好ましい。液晶性はサーモトロピック性液晶でもリオトロピック液晶でも良く、サーモトロピック液晶における、ネマチック液晶でもスメクチック液晶でも良い。製造の容易さという観点からサーモトロピック性のネマチック液晶が好ましい。
重合性液晶化合物には、公知の重合性液晶化合物（後述の化合物（Ａ）とは異なる重合性液晶化合物）を使用できるが、特に前記式（１）および式（２）を満たす光学特性を付与する場合、重合性液晶化合物として、式（Ａ）で表される化合物（以下、化合物（Ａ）ということがある。）を含むことが好ましい。この場合、重合性液晶化合物は、１種類であってもよいし、２種類以上を組み合わせてもよいが、少なくとも１種が化合物（Ａ）であることが好ましい。
【００４９】
2016091022.tif 000003
［式中、Ｘ１は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＲ１−を表わす。Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｙ１は、置換基を有していてもよい炭素数６〜１２の１価の芳香族炭化水素基又は置換基を有していてもよい炭素数３〜１２の１価の芳香族複素環式基を表わす。
Ｑ３及びＱ４は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜２０の１価の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の１価の脂環式炭化水素基、置換基を有していてもよい炭素数６〜２０の１価の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ２Ｒ３又は−ＳＲ２を表わすか、或いは、Ｑ３とＱ４とが互いに結合して、これらが結合する炭素原子とともに芳香環又は芳香族複素環を形成する。Ｒ２及びＲ３は、それぞれ独立に、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｄ１及びＤ２は、それぞれ独立に、単結合、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）−Ｏ−、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＲ６Ｒ７−、−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ４Ｒ５−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＲ４Ｒ５−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＣＲ４Ｒ５−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ６Ｒ７−、−ＮＲ４−ＣＲ５Ｒ６−又は−ＣＯ−ＮＲ４−を表わす。
Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６及びＲ７は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。
Ｇ１及びＧ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
Ｌ１及びＬ２は、それぞれ独立に、１価の有機基を表わし、Ｌ１及びＬ２のうちの少なくとも一つは、重合性基を有する。］
【００５０】
化合物（Ａ）におけるＬ１は式（Ａ１）で表される基であると好ましく、Ｌ２は式（Ａ２）で表される基であると好ましい。
Ｐ１−Ｆ１−（Ｂ１−Ａ１）ｋ−Ｅ１−          （Ａ１）
Ｐ２−Ｆ２−（Ｂ２−Ａ２）ｌ−Ｅ２−          （Ａ２）
［式中、Ｂ１、Ｂ２、Ｅ１及びＥ２は、それぞれ独立に、−ＣＲ４Ｒ５−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＳ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＳ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ1−、−Ｏ−ＣＨ２−、−Ｓ−ＣＨ２−又は単結合を表わす。
Ａ１及びＡ２は、それぞれ独立に、炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基又は炭素数６〜１８の２価の芳香族炭化水素基を表わし、該脂環式炭化水素基を構成するメチレン基は、酸素原子、硫黄原子又は−ＮＨ−に置き換っていてもよく、該脂環式炭化水素基を構成するメチン基は、第三級窒素原子に置き換っていてもよい。
ｋ及びｌは、それぞれ独立に、０〜３の整数を表わす。
Ｆ１及びＦ２は、それぞれ独立に、炭素数１〜１２の２価の脂肪族炭化水素基を表わす。
Ｐ１は、重合性基を表わす。
Ｐ２は、水素原子又は重合性基を表わす。
Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、水素原子、フッ素原子又は炭素数１〜４のアルキル基を表わす。］
【００５１】
好ましい化合物（Ａ）としては、特表２０１１−２０７７６５号公報に記載の重合性液晶化合物が挙げられる。
【００５２】
化合物（Ａ）とは異なる重合性液晶化合物としては、式（Ｘ）で表される基を含む化合物（以下「化合物（Ｘ）」という場合がある）が挙げられる。
Ｐ１１−Ｂ１１−Ｅ１１−Ｂ１２−Ａ１１−Ｂ１３−      （Ｘ）
［式中、Ｐ１１は、重合性基を表わす。
Ａ１１は、２価の脂環式炭化水素基又は２価の芳香族炭化水素基を表わす。該２価の脂環式炭化水素基及び２価の芳香族炭化水素基の水素原子は、ハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜６アルコキシ基、シアノ基又はニトロ基で置換されていてもよく、該炭素数１〜６のアルキル基及び該炭素数１〜６アルコキシ基の水素原子は、フッ素原子で置換されていてもよい。
Ｂ１１は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−Ｏ−、−ＣＯ−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−ＣＯ−、−ＣＯ−、−ＣＳ−又は単結合を表わす。Ｒ１６は、水素原子又は炭素数１〜６のアルキル基を表わす。
Ｂ１２及びＢ１３は、それぞれ独立に、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２−ＣＨ２−、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−ＣＨ＝Ｎ−、−Ｎ＝ＣＨ−、−Ｎ＝Ｎ−、−Ｃ（＝Ｏ）−ＮＲ１６−、−ＮＲ１６−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ２−、−ＯＣＦ２−、−ＣＨ２Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＨ＝ＣＨ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−ＣＨ＝ＣＨ−又は単結合を表わす。
Ｅ１１は、炭素数１〜１２のアルカンジイル基を表わし、該アルカンジイル基の水素原子は、炭素数１〜５のアルコキシ基で置換されていてもよく、該アルコキシ基の水素原子は、ハロゲン原子で置換されていてもよい。該アルカンジイル基を構成する−ＣＨ２−は、−Ｏ−又は−ＣＯ−に置き換わっていてもよい。］
【００５３】
重合性液晶化合物の具体例としては、液晶便覧（液晶便覧編集委員会編、丸善（株）平成１２年１０月３０日発行）の「３．８．６  ネットワーク（完全架橋型）」、「６．５．１  液晶材料  ｂ．重合性ネマチック液晶材料」に記載された化合物の中で重合性基を有する化合物、特開２０１０−３１２２３号公報、特開２０１０−２７０１０８号公報、特開２０１１−６３６０号公報及び特開２０１１−２０７７６５号公報記載に記載された重合性液晶化合物が挙げられる。
【００５４】
重合性液晶化合物の含有量は、液晶硬化膜形成用組成物の固形分１００質量部に対して、通常７０〜９９．５質量部であり、好ましくは８０〜９９質量部であり、より好ましくは８０〜９４質量部であり、さらに好ましくは８０〜９０質量部である。上記範囲内であれば、配向性が高くなる傾向がある。ここで、固形分とは、液晶硬化膜形成用組成物から溶剤を除いた成分の合計量のことをいう。
【００５５】
＜溶剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は溶剤を含む。溶剤は、重合性液晶化合物を完全に溶解し得るものが好ましく、重合性液晶化合物の重合反応に不活性な溶剤であることが好ましい。
溶剤としては、メタノール、エタノール、エチレングリコール、イソプロピルアルコール、プロピレングリコール、エチレングリコールメチルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル及びプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール溶剤；酢酸エチル、酢酸ブチル、エチレングリコールメチルエーテルアセテート、γ−ブチロラクトン又はプロピレングリコールメチルエーテルアセテート及び乳酸エチル等のエステル溶剤；アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−ヘプタノン及びメチルイソブチルケトン等のケトン溶剤；ペンタン、ヘキサン及びヘプタン等の脂肪族炭化水素溶剤；トルエン及びキシレン等の芳香族炭化水素溶剤、アセトニトリル等のニトリル溶剤；テトラヒドロフラン及びジメトキシエタン等のエーテル溶剤；クロロホルム及びクロロベンゼン等の塩素含有溶剤；等が挙げられる。これら溶剤は、単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
【００５６】
溶剤の含有量は、液晶硬化膜形成用組成物１００質量部に対して５０〜９８質量部が好ましい。液晶硬化膜形成用組成物の固形分は、液晶硬化膜形成用組成物１００質量部に対して２〜５０質量部が好ましい。固形分が２質量部以下であると、液晶硬化膜形成用組成物の粘度が低くなることから、液晶硬化膜の厚みが略均一になることで、液晶硬化膜によりムラが生じにくくなる傾向がある。固形分は、製造しようとする液晶硬化膜の厚みを考慮して定めることができる。
【００５７】
＜重合開始剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は、重合開始剤を含むことが好ましい。重合開始剤は、重合性液晶化合物等の重合反応を開始させ得る化合物である。重合開始剤としては、光の作用により活性ラジカルを発生する光重合開始剤が好ましい。
【００５８】
重合開始剤としては、ベンゾイン化合物、ベンゾフェノン化合物、アルキルフェノン化合物、アシルホスフィンオキサイド化合物、トリアジン化合物、ヨードニウム塩及びスルホニウム塩等が挙げられる。
【００５９】
ベンゾイン化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル及びベンゾインイソブチルエーテル等が挙げられる。
【００６０】
ベンゾフェノン化合物としては、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４−フェニルベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４’−メチルジフェニルサルファイド、３，３’，４，４’−テトラ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシカルボニル）ベンゾフェノン及び２，４，６−トリメチルベンゾフェノン等が挙げられる。
【００６１】
アルキルフェノン化合物としては、ジエトキシアセトフェノン、２−メチル−２−モルホリノ−１−（４−メチルチオフェニル）プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１，２−ジフェニル−２，２−ジメトキシエタン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル〕プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン及び２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパン−１−オンのオリゴマー等が挙げられる。
【００６２】
アシルホスフィンオキサイド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキサイド等が挙げられる。
【００６３】
トリアジン化合物としては、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシナフチル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−（４−メトキシスチリル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（フラン−２−イル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン、２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（４−ジエチルアミノ−２−メチルフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン及び２，４−ビス（トリクロロメチル）−６−〔２−（３，４−ジメトキシフェニル）エテニル〕−１，３，５−トリアジン等が挙げられる。
【００６４】
市販の重合開始剤としては、”イルガキュア（Ｉｒｇａｃｕｒｅ）（登録商標）９０７”、”イルガキュア（登録商標）１８４”、”イルガキュア（登録商標）６５１”、”イルガキュア（登録商標）８１９”、”イルガキュア（登録商標）２５０”、”イルガキュア（登録商標）３６９”（チバ・ジャパン（株））；”セイクオール（登録商標）ＢＺ”、”セイクオール（登録商標）Ｚ”、”セイクオール（登録商標）ＢＥＥ”（精工化学（株））；”カヤキュアー（ｋａｙａｃｕｒｅ）（登録商標）ＢＰ１００”（日本化薬（株））；”カヤキュアー（登録商標）ＵＶＩ−６９９２”（ダウ社製）；”アデカオプトマーＳＰ−１５２”、”アデカオプトマーＳＰ−１７０”（（株）ＡＤＥＫＡ）；”ＴＡＺ−Ａ”、”ＴＡＺ−ＰＰ”（日本シイベルヘグナー社）；”ＴＡＺ−１０４”（三和ケミカル社）等が挙げられる。
【００６５】
液晶硬化膜形成用組成物が重合開始剤を含む場合、重合開始剤の含有量は、重合性液晶化合物の合計量１００質量部に対して、通常０．１〜３０質量部であり、好ましくは０．５〜１０質量部であり、より好ましくは０．５〜８質量部である。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことがないため好ましい。
【００６６】
液晶硬化膜形成用組成物は、増感剤、重合禁止剤、レベリング剤及び反応性添加剤を含んでいてもよい。
【００６７】
＜増感剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は、増感剤を含んでいてもよい。増感剤は、重合性液晶化合物の重合反応をより促進することができる。
増感剤は、光増感剤が好ましい。増感剤としては、キサントン、チオキサントン等のキサントン化合物（２，４−ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン等）；アントラセン、アルコキシ基含有アントラセン(ジブトキシアントラセン等)等のアントラセン化合物；フェノチアジン、ルブレン等が挙げられる。
液晶硬化膜形成用組成物が増感剤を含む場合、増感剤の含有量は、重合性液晶化合物の合計量１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。
【００６８】
＜重合禁止剤＞
液晶硬化膜形成用組成物は、重合禁止剤を含んでいてもよい。重合禁止剤は、重合性液晶化合物の重合反応の進行度合いをコントロールすることができる。
重合禁止剤としては、フェノール系化合物、硫黄系化合物、リン系化合物、アミン系化合物（ただし、第３級アミン化合物とは異なる。）などのラジカル捕捉剤が挙げられる。
【００６９】
フェノール系化合物としては、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−エチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、ハイドロキノン、アルコキシ基含有ハイドロキノン、アルコキシ基含有カテコール（例えば、ブチルカテコールなど）、ピロガロールなどが挙げられる。また、市販品を使用してもよく、例えば、スミライザー（登録商標）ＢＨＴ（２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、スミライザーＧＭ（２−ｔｅｒｔ−ブチル−６−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−２−ヒドロキシ−５−メチルベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート）、スミライザーＧＳ（Ｆ）（２−［１−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニル）エチル］−４，６−ジ−ｔｅｒｔ−ペンチルフェニルアクリレート）、スミライザーＧＡ−８０（３，９−ビス［２−〔３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ〕−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５・５］ウンデカン）（全て住友化学（株）製）等が挙げられる。
【００７０】
硫黄系化合物としては、ジラウリルチオジプロピオネート、ジミリスチルチオジプロピオネート、ジステアリルチオジプロピオネート等のジアルキルチオジプロピオネート；市販品として、スミライザーＴＰＬ−Ｒ（ジラウリル−３，３’−チオジプロピオナート）、スミライザーＴＰＭ（ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオナート）（全て住友化学（株）製）等が挙げられる。
【００７１】
リン系化合物としては、トリオクチルホスファイト、トリラウリルホスファイト、トリデシルホスファイト、（オクチル）ジフェニルホスファイト；市販品として、スミライザーＧＰ（６−［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロポキシ］−２，４，８，１０−テトラ−ｔｅｒｔ−ブチル−ジベンゾ［ｄ，ｆ］［１，３，２］ジオキサフォスフェピン）（住友化学（株）製）等が挙げられる。
液晶硬化膜の着色が少ないという点で、重合禁止剤は、フェノール系化合物が好ましい。
【００７２】
液晶硬化膜形成用組成物が重合禁止剤を含む場合、重合禁止剤の含有量は、重合性液晶化合物の合計量１００質量部に対して、０．１〜３０質量部が好ましく、０．５〜１０質量部がより好ましく、０．５〜８質量部がさらに好ましい。上記範囲内であれば、重合性液晶化合物の配向を乱すことなく重合させることができる。重合禁止剤は、単独で使用してもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００７３】
＜レベリング剤＞
液晶硬化膜形成用組成物はレベリング剤を含んでいてもよい。レベリング剤とは、液晶硬化膜形成用組成物の流動性を調整し、液晶硬化膜形成用組成物を塗布して得られる膜をより平坦にする機能を有するものであり、界面活性剤が挙げられる。レベリング剤は、ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤、フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤が好ましい。
【００７４】
ポリアクリレート化合物を主成分とするレベリング剤としては、”ＢＹＫ−３５０”、”ＢＹＫ−３５２”、”ＢＹＫ−３５３”、”ＢＹＫ−３５４”、”ＢＹＫ−３５５”、”ＢＹＫ−３５８Ｎ”、”ＢＹＫ−３６１Ｎ”、”ＢＹＫ−３８０”、”ＢＹＫ−３８１”、”ＢＹＫ−３９２”［ＢＹＫ  Ｃｈｅｍｉｅ社製］等が挙げられる。
【００７５】
フッ素原子含有化合物を主成分とするレベリング剤としては、”メガファック（登録商標）Ｒ−０８”、同”Ｒ−３０”、同”Ｒ−９０”、同”Ｆ−４１０”、同”Ｆ−４１１”、同”Ｆ−４４３”、同”Ｆ−４４５”、同”Ｆ−４７０”、同”Ｆ−４７１”、同”Ｆ−４７７”、同”Ｆ−４７９”、同”Ｆ−４８２”及び同”Ｆ−４８３”［ＤＩＣ（株）］；”サーフロン（登録商標）Ｓ−３８１”、同”Ｓ−３８２”、同”Ｓ−３８３”、同”Ｓ−３９３”、同”ＳＣ−１０１”、同”ＳＣ−１０５”、”ＫＨ−４０”及び”ＳＡ−１００”［ＡＧＣセイミケミカル（株）］；”Ｅ１８３０”、”Ｅ５８４４”［（株）ダイキンファインケミカル研究所］；”エフトップＥＦ３０１”、同”ＥＦ３０３”、同”ＥＦ３５１”、同”ＥＦ３５２”［三菱マテリアル電子化成（株）製］等が挙げられる。
【００７６】
液晶硬化膜形成用組成物がレベリング剤を含む場合、レベリング剤の含有量は、重合性液晶化合物の合計量１００質量部に対して、０．０１〜５質量部が好ましく、０．１〜３質量部がさらに好ましい。上記範囲内であると、重合性液晶化合物を水平配向させることが容易であり、かつ得られる液晶硬化膜がより平滑となる傾向があるため好ましい。液晶硬化膜形成用組成物は、レベリング剤を２種類以上含有していてもよい。
【００７７】
本発明の光学異方性フィルムは、以下の工程（１）〜（３）を含む工程により製造することができる。なお、工程（１）における基材には式（Ａ）を満たす基材を使用する。
工程（１）基材上に配向膜層及び液晶塗布層を形成する工程
工程（２）液晶塗布層を乾燥する工程
工程（３）液晶塗布層に光照射を行い、液晶硬化膜を形成する工程
かかる製造方法により得られる光学異方性フィルムにおいて、液晶硬化膜と配向膜層との間の密着力、または配向膜層と基材との間の密着力は０．５Ｎ／２５ｍｍ以下であることが好ましく、０．３Ｎ／２５ｍｍ以下であることがより好ましい。液晶硬化膜および配向膜の被転写体への転写、または液晶硬化膜の被転写体への転写が容易になり、後述の積層体の製造が容易になるという点で、層間の密着力がかかる値を有することが好ましい。
【００７８】
＜密着力の測定方法＞
液晶硬化膜と配向膜層との間の密着力、または、配向膜層と基材との間の密着力は以下のように測定することができる。
光学異方性フィルムから、幅２５mm×長さ約１５０mmの試験片を裁断し、該光学異方性フィルム上に粘接着剤層を設ける。該粘接着剤層の面をガラス板に貼合した後、引張り試験機を用いて、試験片の長さ方向一端（幅２５ｍｍの一辺）をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、ＪＩＳ  Ｋ  ６８５４−１:１９９９「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第１部：９０度はく離」に準拠した９０°剥離試験を行う。
【００７９】
また工程（２）における乾燥温度（Ｔa）が、下記式（Ｂ）を満たすことが好ましい。    Ｔａ  ≦  Ｔｇ＋５０  ℃                           （Ｂ）
乾燥温度は、より好ましくは下記式（Ｂ１）を満たし、さらに好ましくは下記式（Ｂ２）を満たし、ことさら好ましくは下記式（Ｂ３）を満たす。
Ｔａ  ≦  Ｔｇ＋４５  ℃                           （Ｂ１）
Ｔａ  ≦  Ｔｇ＋４０  ℃                           （Ｂ２）
Ｔａ  ≦  Ｔｇ＋３０  ℃                           （Ｂ３）
［式中、Ｔａは乾燥温度を表し、Ｔｇは基材のガラス転移温度を表す。］
かかる式（Ｂ）を満たすことにより、工程（２）において基材の変形がより生じにくく、前記式（Ａ）を満たすことがより容易になる。
【００８０】
また基材として長尺状フィルムのロールを使用し、前記ロールから基材を巻きだし、連続的に工程（１）〜（３）を含む工程を実施する、いわゆるＲｏｌｌ  ｔｏ  Ｒｏｌｌにより光学異方性フィルムを製造する場合、工程（２）又は工程（３）において、フィルムの搬送方向に直交する方向に下記式（Ｃ）を満たす張力ＰＢを基材に対してかけることが好ましい。
０  ＜  ＰＢ  ＜  ＰＡ／２                      （Ｃ）
［式中、ＰＡは基材搬送方向に対して平行方向の張力であり、ＰＢは基材搬送方向に対して垂直方向の張力を表す。］
ＰＢは、より好ましくはＰＡ／１０未満であり、さらに好ましくはＰＡ／５０未満である。
【００８１】
フィルムの搬送方向に直交する方向に張力をかけるには、搬送時のフィルム両端にテンターを用いて引っ張る方式や、ウェブガイダーを用いる方法等が挙げられる。
基材に搬送方向に平行な方向の筋が発生することをより一層抑制することができ、形成される液晶硬化膜の均一性をより一層向上させることができという点で、式（Ｃ）を満たすことが好ましい。
【００８２】
＜積層体の製造方法＞
液晶硬化膜、粘接着剤層、被転写体をこの順に含む積層体は、光学異方性フィルムにおける液晶硬化膜と被転写体とを、粘接着剤層を介して貼合する工程と、前記光学フィルム中の基材を含む層を取り除く工程とにより製造することができる。
【００８３】
粘接着剤層は、液晶硬化膜上に形成されても、被転写体上に形成されてもよい。基材と液晶硬化膜との間に配向膜がある場合は、基材と共に配向膜も取り除いてもよい。
【００８４】
配向膜と化学結合を形成する官能基を表面に有する基材は、配向膜と化学結合を形成し、取り除き難くなる傾向がある。よって基材のみを剥離して取り除く場合は、表面の官能基が少ない基材が好ましく、表面に官能基を形成する表面処理を施していない基材が好ましい。
基材と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、基材と配向膜との密着力が大きくなる傾向があるため、基材のみを剥離して取り除く場合は、基材と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。配向性ポリマー組成物及び光配向膜形成用組成物等の溶液は、基材と配向膜とを架橋する試薬を含まないことが好ましく、さらに、基材を溶解する溶剤等の成分を含まないことが好ましい。
液晶硬化膜と化学結合を形成する官能基を有する配向膜は、液晶硬化膜と配向膜との密着力が大きくなる傾向がある。よって基材と共に配向膜を取り除く場合は、液晶硬化膜と化学結合を形成する官能基が少ない配向膜が好ましい。配向性ポリマー組成物及び光配向膜形成用組成物等の溶液は、液晶硬化膜と配向膜とを架橋する試薬を含まないことが好ましい。
【００８５】
＜粘接着剤層＞
粘接着剤層は粘接着剤から形成される。粘接着剤としては、粘着剤、乾燥固化型接着剤及び化学反応型接着剤が挙げられる。化学反応型接着剤としては、活性エネルギー線硬化型接着剤が挙げられる。
【００８６】
＜粘着剤＞
粘着剤は、通常、ポリマーを含み、溶剤を含んでもよい。
ポリマーとしては、アクリル系ポリマー、シリコーン系ポリマー、ポリエステル、ポリウレタン、又はポリエーテル等が挙げられる。中でも、アクリル系ポリマーを含むアクリル系の粘着剤は、光学的な透明性に優れ、適度の濡れ性や凝集力を有し、接着性に優れ、さらには耐候性や耐熱性等が高く、加熱や加湿の条件下で浮きや剥がれ等が生じにくいため好ましい。
【００８７】
アクリル系ポリマーとしては、エステル部分のアルキル基がメチル基、エチル基又はブチル基等の炭素数１〜２０のアルキル基である（メタ）アクリレート（以下、アクリレート、メタクリレートを総称して（メタ）アクリレート、アクリル酸とメタクリル酸とを総称して（メタ）アクリル酸ということがある。）と、（メタ）アクリル酸やヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の官能基を有する（メタ）アクリル系モノマーとの共重合体が好ましい。
このような共重合体を含む粘着剤は、粘着性に優れており、取り除く際も、表示装置等に糊残り等を生じさせることなく、比較的容易に取り除くことができるため好ましい。アクリル系ポリマーのガラス転移温度は、２５℃以下が好ましく、０℃以下がより好ましい。このようなアクリル系ポリマーの重量平均分子量は、１０万以上であることが好ましい。 
溶剤としては、配向性ポリマー組成物の溶剤として挙げられた溶剤等が挙げられる。
【００８８】
粘着剤から形成される粘接着剤層の厚みは、その密着力等に応じて決定されるものであり特に制限されないが、通常１〜４０μｍである。加工性や耐久性等の点から当該厚みは３〜２５μｍが好ましい。粘着剤から形成される粘接着剤層の厚みを３〜２５μｍとすることにより、光学異方性フィルムを表示装置に組み込んだときに、表示装置を正面から見た場合や斜めから見た場合の明るさを保ち、表示像のにじみやボケが生じにくくすることができる。
【００８９】
＜乾燥固化型接着剤＞
乾燥固化型接着剤は、溶剤を含んでもよい。
乾燥固化型接着剤としては、水酸基、カルボキシ基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体、又は、ウレタン樹脂を主成分として含有し、さらに、多価アルデヒド、エポキシ化合物、エポキシ樹脂、メラミン化合物、ジルコニア化合物、及び亜鉛化合物等の架橋剤又は硬化性化合物を含有する組成物等が挙げられる。
【００９０】
水酸基、カルボキシ基又はアミノ基等のプロトン性官能基とエチレン性不飽和基を有するモノマーの重合体としては、エチレン−マレイン酸共重合体、イタコン酸共重合体、アクリル酸共重合体、アクリルアミド共重合体、ポリ酢酸ビニルのケン化物、ポリビニルアルコール系樹脂等が挙げられる。
【００９１】
ポリビニルアルコール系樹脂としては、ポリビニルアルコール、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、アミノ基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。水系接着剤におけるポリビニルアルコール系樹脂の含有量は、水１００質量部に対して、通常１〜１０重量部であり、好ましくは１〜５重量部である。
【００９２】
ウレタン樹脂としては、ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂等が挙げられる。
ここでいうポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂とは、ポリエステル骨格を有するウレタン樹脂であって、その中に少量のイオン性成分（親水成分）が導入されたものである。かかるアイオノマー型ウレタン樹脂は、乳化剤を使用せずに、水中で乳化してエマルジョンとなるため、水系の接着剤とすることができる。ポリエステル系アイオノマー型ウレタン樹脂を用いる場合は、架橋剤として水溶性のエポキシ化合物を配合することが有効である。
【００９３】
エポキシ樹脂としては、ポリアミドエポキシ樹脂等が挙げられる。かかるポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、住化ケムテックス（株）製“スミレーズレジン６５０”及び“スミレーズレジン６７５”、日本ＰＭＣ（株）製“ＷＳ−５２５”等が挙げられる。
エポキシ樹脂を配合する場合、その添加量は、ポリビニルアルコール系樹脂１００質量部に対して、通常１〜１００質量部であり、好ましくは１〜５０質量部である。
【００９４】
乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚みは、通常０.００１〜５μｍであり、好ましくは０.０１〜２μｍであり、さらに好ましくは１μｍ以下である。乾燥固化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、液晶硬化膜の外観不良となりやすい。
【００９５】
＜活性エネルギー線硬化型接着剤＞
活性エネルギー線硬化型接着剤は、溶剤を含んでもよい。
活性エネルギー線硬化型接着剤とは、活性エネルギー線の照射を受けて硬化する接着剤である。
活性エネルギー線硬化型接着剤としては、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性のもの、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性のもの、エポキシ化合物等のカチオン重合性の硬化成分及びアクリル系化合物等のラジカル重合性の硬化成分の両者を含有し、さらにカチオン重合開始剤及びラジカル重合開始剤を含有するもの、重合開始剤を含まずに電子ビームを照射することで硬化されるもの等が挙げられる。好ましくは、アクリル系硬化成分とラジカル重合開始剤とを含有するラジカル重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤である。実質的に無溶剤で使用できるという点で、エポキシ化合物とカチオン重合開始剤を含有するカチオン重合性の活性エネルギー線硬化型接着剤が好ましい。
【００９６】
エポキシ化合物としては、水酸基を有する芳香族化合物又は鎖状化合物のグリシジルエーテル化物、アミノ基を有する化合物のグリシジルアミノ化物、Ｃ−Ｃ二重結合を有する鎖状化合物のエポキシ化物、飽和炭素環に直接若しくはアルキレンを介してグリシジルオキシ基若しくはエポキシエチル基が結合しているか又は、飽和炭素環に直接エポキシ基が結合している脂環式エポキシ化合物等が挙げられる。これらのエポキシ化合物は、それぞれ単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。なかでも脂環式エポキシ化合物は、カチオン重合性に優れるため、好ましい。
【００９７】
エポキシ化合物の市販品としては、三菱化学（株）製“ｊＥＲ”シリーズ、ＤＩＣ（株）製“エピクロン”、東都化成（株）製“エポトート（登録商標）”、（株）ＡＤＥＫＡ製“アデカレジン（登録商標）”、ナガセケムテックス（株）製“デナコール（登録商標）”、ダウケミカル社製“ダウエポキシ”、日産化学工業（株）製“テピック（登録商標）”等が挙げられる。脂環式エポキシ化合物としては、（株）ダイセル製“セロキサイド”シリーズ、“サイクロマー”、ダウケミカル社製“サイラキュア UVR”シリーズ等が挙げられる。
【００９８】
エポキシ化合物を含有する活性エネルギー線硬化型接着剤は、さらにエポキシ化合物以外の化合物を含有してもよい。エポキシ化合物以外の化合物としては、オキセタン化合物やアクリル化合物等が挙げられる。なかでも、カチオン重合において硬化速度を促進できる可能性があることから、オキセタン化合物を併用することが好ましい。
【００９９】
オキセタン化合物としては、東亞合成（株）製“アロンオキセタン（登録商標）”シリーズ、宇部興産（株）製“ETERNACOLL（登録商標）”シリーズ等が挙げられる。
【０１００】
エポキシ化合物やオキセタン化合物を含む活性エネルギー線硬化型接着剤は、無溶剤で用いることが好ましい。
【０１０１】
カチオン重合開始剤とは、紫外線等の活性エネルギー線の照射を受けてカチオン種を発生する化合物であり、芳香族ジアゾニウム塩；芳香族ヨードニウム塩及び、芳香族スルホニウム塩等のオニウム塩並びに；鉄−アレーン錯体が挙げられる。これらのカチオン重合開始剤は、それぞれ単独で用いてもよいし、組み合わせてもよい。
【０１０２】
カチオン重合開始剤の市販品としては、日本化薬（株）製“カヤラッド（登録商標）”シリーズ、ダウケミカル社製“サイラキュア UVI”シリーズ、サンアプロ（株）製“ＣＰＩ”シリーズ、みどり化学（株）製“ＴＡＺ”、“ＢＢＩ”及び“ＤＴＳ”、（株）ＡＤＥＫＡ製“アデカオプトマー”シリーズ、ローディア社製“RHODORSIL（登録商標）”等が挙げられる。
【０１０３】
カチオン重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対して、通常０.５〜２０質量部であり、好ましくは１〜１５質量部である。
【０１０４】
アクリル系硬化成分としては、メチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート及び（メタ）アクリル酸等が挙げられる。
【０１０５】
ラジカル重合開始剤としては、水素引き抜き型光ラジカル発生剤、開裂型光ラジカル発生剤等が挙げられる。
【０１０６】
水素引き抜き型光ラジカル発生剤としては、１−メチルナフタレン等のナフタレン誘導体、アントラセン誘導体、ピレン誘導体、カルバゾール誘導体、ベンゾフェノン誘導体、チオキサントン誘導体、クマリン誘導体等が挙げられる。
【０１０７】
開裂型光ラジカル発生剤としては、ベンゾインエーテル誘導体、アセトフェノン誘導体等のアリールアルキルケトン類、オキシムケトン類、アシルホスフィンオキシド類、チオ安息香酸Ｓ−フェニル類、チタノセン類、それらを高分子量化した誘導体等が挙げられる。
【０１０８】
開裂型光ラジカル発生剤の中でもアシルホスフィンオキシド類が好ましく、具体的には、トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド（商品名「ＤＡＲＯＣＵＲＥ  ＴＰＯ」；チバ・ジャパン（株））、ビス（２，６−ジメトキシ−ベンゾイル）−（２，４，４−トリメチル−ペンチル）−ホスフィンオキシド（商品名「ＣＧＩ  ４０３」；チバ・ジャパン（株））、又はビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−２，４−ジペントキシフェニルホスフィンオキシド（商品名「Ｉｒｇａｃｕｒｅ８１９」；チバ・ジャパン（株））が好ましい。
【０１０９】
活性エネルギー線硬化型接着剤は、増感剤を含有してもよい。
増感剤の含有量は、活性エネルギー線硬化型接着剤１００質量部に対し、好ましくは０.１〜２０質量部である。
【０１１０】
活性エネルギー線硬化型接着剤には、さらに、イオントラップ剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、粘着付与剤、熱可塑性樹脂、充填剤、流動調整剤、可塑剤及び消泡剤等が含有されてもよい。
【０１１１】
本明細書における活性エネルギー線とは、活性種を発生する化合物を分解して活性種を発生させることのできるエネルギー線と定義される。このような活性エネルギー線としては、可視光、紫外線、赤外線、Ｘ線、α線、β線、γ線、電子線等が挙げられ、紫外線、または電子線が好ましい。
【０１１２】
電子線照射の加速電圧は、通常５〜３００ｋＶであり、好ましくは１０〜２５０ｋＶである。照射線量は、通常５〜１００ｋＧｙであり、好ましくは１０〜７５ｋＧｙである。
【０１１３】
電子線照射は、通常、不活性ガス中で行うが、大気中や酸素を少し導入した条件で行ってもよい。紫外線照射強度は、通常１０〜５０００ｍＷ／ｃｍ２である。紫外線照射強度は、好ましくはカチオン重合開始剤又はラジカル重合開始剤の活性化に有効な波長領域における強度である。このような光照射強度で１回又は複数回照射して、その積算光量が１０ｍＪ／ｃｍ２以上、好ましくは１０〜５，０００ｍＪ／ｃｍ２となるようにすることが好ましい。
【０１１４】
紫外線の光源としては、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、キセノンランプ、ハロゲンランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ、ガリウムランプ、エキシマレーザー、波長範囲３８０〜４４０ｎｍを発光するＬＥＤ光源、ケミカルランプ、ブラックライトランプ、マイクロウェーブ励起水銀灯、メタルハライドランプが挙げられる。
【０１１５】
活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される粘接着剤層の厚みは、通常０.００１〜５μｍであり、好ましくは０.０１μｍ以上であり、好ましくは４μｍ以下であり、さらに好ましくは３μｍ以下である。活性エネルギー線硬化型接着剤から形成される粘接着剤層が厚すぎると、液晶硬化膜の外観不良となりやすい。
【０１１６】
＜プライマー層＞
液晶硬化膜と、粘接着剤層との間にプライマー層を設けてもよい。
プライマー層は、通常、透明樹脂を含むものであり、透明樹脂溶液から形成される。プライマー層は、粘接着剤層を形成する際に液晶硬化膜の欠陥を抑制することができる。透明樹脂としては、塗工性に優れ、プライマー層形成後の透明性及び密着性に優れるものが好ましい。
【０１１７】
透明樹脂溶液の溶剤は、透明樹脂の溶解性に応じて選択される。溶剤としては、水、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素溶媒；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン溶媒；酢酸エチル、酢酸イソブチル等のエステル溶媒；塩化メチレン、トリクロロエチレン、クロロホルム等の塩素化炭化水素溶媒；エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール等のアルコール溶媒等が挙げられる。有機溶媒を含む透明樹脂溶液を用いてプライマー層を形成すると、液晶硬化膜の光学特性に影響を及ぼすことがあるため、水が好ましい。
【０１１８】
透明樹脂としては、エポキシ樹脂が好ましい。エポキシ樹脂は、一液硬化型のものでもよいし、二液硬化型のものでもよい。水溶性のエポキシ樹脂が特に好ましい。水溶性のエポキシ樹脂としては、ポリアミドエポキシ樹脂が挙げられる。かかるポリアミドエポキシ樹脂の市販品としては、住化ケムテックス（株）から販売されているスミレーズレジン（登録商標）650(30)や、スミレーズレジン（登録商標）６７５等が挙げられる。
【０１１９】
透明樹脂が水溶性のエポキシ樹脂である場合は、さらに塗布性を向上させるために、ポリビニルアルコール系樹脂等の他の水溶性樹脂を併用することが好ましい。ポリビニルアルコール系樹脂は、部分ケン化ポリビニルアルコール、完全ケン化ポリビニルアルコール、カルボキシル基変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基変性ポリビニルアルコール、メチロール基変性ポリビニルアルコール、アミノ基変性ポリビニルアルコールのような、変性されたポリビニルアルコール系樹脂であってもよい。適当なポリビニルアルコール系樹脂の市販品としては、（株）クラレから販売されているアニオン性基含有ポリビニルアルコールであるKL-318（商品名）等が挙げられる。
【０１２０】
水溶性のエポキシ樹脂を含む溶液からプライマー層を形成する場合、エポキシ樹脂の含有量は、水１００重量部に対して、０．２〜１．５重量部が好ましい。溶液にポリビニルアルコール系樹脂を配合する場合、その量は、水１００重量部に対して、１〜６重量部が好ましい。プライマー層の厚みは、０.１〜１０μｍが好ましい。
【０１２１】
プライマー層の形成方法は制限されず、ダイレクト・グラビア法、リバース・グラビア法、ダイコート法、カンマコート法、バーコート法等の公知の各種コーティング法を用いることができる。
【０１２２】
粘接着剤層は、粘接着剤を液晶硬化膜またはプライマー層の表面に塗布することで形成される。粘接着剤が溶剤を含む場合は、粘接着剤を液晶硬化膜又はプライマー層の表面に塗布し、溶剤を除去することで形成される。コロナ処理により、液晶硬化膜又はプライマー層と粘接着剤層との密着性をさらに向上させてもよい。
【０１２３】
粘接着剤を塗布する方法としては、配向性ポリマー組成物を基材に塗布する方法として例示したものと同じ方法が挙げられる。塗布された粘接着剤から、溶剤を除去する方法としては、配向性ポリマー組成物から溶剤を除去する方法と同じ方法が挙げられる。
【０１２４】
＜被転写体＞
被転写体としては、上記基材と同じもの、偏光子、偏光板等が挙げられる。
＜偏光子及び偏光板＞
偏光子は、偏光機能を有する。偏光子としては、吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルム、吸収異方性を有する色素を塗布したフィルム等が挙げられる。吸収異方性を有する色素としては、二色性色素が挙げられる。
【０１２５】
吸収異方性を有する色素を吸着させた延伸フィルムは通常、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを一軸延伸する工程、ポリビニルアルコール系樹脂フィルムを二色性色素で染色することにより、その二色性色素を吸着させる工程、二色性色素が吸着されたポリビニルアルコール系樹脂フィルムをホウ酸水溶液で処理する工程、及びホウ酸水溶液による処理後に水洗する工程を経て製造される。
【０１２６】
こうしてポリビニルアルコール系樹脂フィルムに、一軸延伸、二色性色素による染色、ホウ酸処理、水洗及び乾燥をして得られる偏光子の厚みは好ましくは５〜４０μｍである。
【０１２７】
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、液晶性を有する二色性色素を含む組成物又は、二色性色素と重合性液晶化合物とを含む組成物を塗布して得られるフィルム等が挙げられる。
【０１２８】
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムは薄い方が好ましいが、薄すぎると強度が低下し、加工性に劣る傾向がある。当該フィルムの厚みは、通常２０μｍ以下であり、好ましくは５μｍ以下であり、より好ましくは０．５〜３μｍである。
【０１２９】
吸収異方性を有する色素を塗布したフィルムとしては、具体的には、特開２０１２−３３２４９号公報等に記載のフィルムが挙げられる。
【０１３０】
偏光子の少なくとも一方の面に、接着剤を介して透明保護フィルムを積層することにより偏光板が得られる。透明保護フィルムとしては、前述した基材と同様の透明フィルムが好ましい。
【０１３１】
＜円偏光板＞
被転写体が偏光子又は偏光板であり、液晶硬化膜が、重合性液晶化合物が基材面内に対して水平方向に配向した状態で硬化した液晶硬化膜である場合、前記積層体は円偏光板に相当する。また基材を含む層を剥離した後の、液晶硬化膜または配向膜上に新たに粘接着剤層を設けることで、粘接着剤層つき円偏光板を製造することもできる。
【０１３２】
円偏光板の具体例としては、図１（ａ）又は図１（ｂ）で示される円偏光板が挙げられる。図１（ａ）又は図１（ｂ）で示される円偏光板は、光学異方性フィルムと、偏光フィルムまたは偏光板とを粘接着剤を介して貼合することにより製造することができる。図１（ａ）で示される円偏光板１００ａは、偏光フィルム２、粘接着剤層３、液晶硬化膜１、配向膜層４及び基材５がこの順に積層した円偏光板であり、図１（ｂ）で示される円偏光板１００ｂは、偏光フィルム２、粘接着剤層３、基材５、配向膜層４及び液晶硬化膜１がこの順に積層した円偏光板である。”粘接着剤”とは、接着剤および／または粘着剤の総称を意味する。
また、被転写体として偏光フィルムを採用して形成される積層体も円偏光板を形成できる。例として、図１（ｃ）又は図１（ｄ）で示される円偏光板が挙げられる。図１（ｃ）で示される円偏光板１００ｃは、偏光フィルム２、粘接着剤層３、液晶硬化膜１及び配向膜層４がこの順に積層した円偏光板であり、図１（ｄ）で示される円偏光板１００ｄは、偏光フィルム２、粘接着剤層３及び液晶硬化膜１がこの順に積層した円偏光板である。
円偏光板は、後述する用途に応じて、液晶硬化膜１の遅相軸と偏光フィルム２の透過軸の軸角度を調整する。例えば、液晶表示装置に用いる場合には、液晶硬化膜１の遅相軸と偏光フィルム２の透過軸の軸角度を直交又は平行に配置し、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に用いる場合には、液晶硬化膜１の遅相軸と偏光フィルム２の透過軸の軸角度略４５°に配置することが好ましい。
【０１３３】
＜用途＞
液晶硬化膜及び円偏光板は、さまざまな表示装置に好適に使用することができる。
表示装置とは、表示素子を有する装置であり、発光源として発光素子又は発光装置を含む。表示装置としては、液晶表示装置、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置、タッチパネル表示装置、電子放出表示装置（電場放出表示装置（ＦＥＤ等）、表面電界放出表示装置（ＳＥＤ））、電子ペーパー（電子インクや電気泳動素子を用いた表示装置、プラズマ表示装置、投射型表示装置（グレーティングライトバルブ（ＧＬＶ）表示装置、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）を有する表示装置等）及び圧電セラミックディスプレイ等が挙げられる。液晶表示装置は、透過型液晶表示装置、半透過型液晶表示装置、反射型液晶表示装置、直視型液晶表示装置及び投写型液晶表示装置等のいずれをも含む。これらの表示装置は、２次元画像を表示する表示装置であってもよいし、３次元画像を表示する立体表示装置であってもよい。特に円偏光板は有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置及び無機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置に有効に用いることができ、光学補償偏光板は液晶表示装置及びタッチパネル表示装置に有効に用いることができる。
【０１３４】
液晶表示装置としては、図２（ａ）および図２（ｂ）に示す液晶表示装置２００ａおよび２００ｂが挙げられる。図２（ａ）に示す液晶表示装置２００ａでは、円偏光板１００と液晶パネル６とが、粘接着層３を介して貼り合わされている。図２（ｂ）に示す液晶表示装置２００ｂでは、円偏光板１００、粘接着剤層３、位相差フィルム７、粘接着剤層３’及び液晶パネル６がこの順に積層されている。位相差フィルム７を用いる場合は、位相差フィルム７の特性に応じて、円偏光板１００に含まれる液晶硬化膜１の遅相軸と偏光フィルム２の透過軸の角度を調整すればよい。
【０１３５】
有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）表示装置としては、図３（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置３００ａが挙げられる。図３（ａ）に示す有機ＥＬ表示装置３００ａでは、円偏光板１００と有機ＥＬパネル８とが、粘接着層３を介して貼り合わされている。
表示装置には、図２および図３には図示していないバックライト等の公知の部材を適宜組み込むことができる。
【０１３６】
［実施例］
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明する。例中の「％」および「部」は、特記ない限り、質量％および質量部である。
【０１３７】
実施例１
［光配向膜形成用組成物の調製］
下記成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、光配向膜形成用組成物（１）を得た。下記光配向性材料は、特開２０１３−３３２４８号公報記載の方法で合成した。
光配向性材料（１部）：
2016091022.tif 000004
溶剤（９９部）：プロピレングリコールモノメチルエーテル
【０１３８】
［液晶硬化膜形成用組成物（１）の調製］
下記の成分を混合し、得られた混合物を８０℃で１時間攪拌することにより、液晶硬化膜形成用組成物（１）を得た。
【０１３９】
重合性液晶化合物Ａ１（８０部）：
2016091022.tif 000005
【０１４０】
重合性液晶化合物Ａ２（２０部）：
2016091022.tif 000006
【０１４１】
溶剤：Ｎ−メチル−２−ピロリジノン（１６０部）、シクロペンタノン（２４０部）
重合開始剤（６部）：２−ジメチルアミノ−２−ベンジル−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン（イルガキュア３６９；チバ スペシャルティケミカルズ社製）
レベリング剤（０．１部）：ポリアクリレート化合物（ＢＹＫ−３６１Ｎ；ＢＹＫ−Ｃｈｅｍｉｅ社製）
重合性液晶化合物Ａ１および重合性液晶化合物Ａ２は、特開２０１０−３１２２３号公報記載の方法で合成した。
【０１４２】
［液晶硬化膜（１）の製造］
厚さ１５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ）上に、光配向膜形成用組成物を塗布し、８０℃で１分間乾燥し、偏光ＵＶ照射装置（ＳＰＯＴ  ＣＵＲＥ  ＳＰ−７；ウシオ電機株式会社製）により、１００ｍＪ／ｃｍ２の積算光量で偏光ＵＶ露光を実施した。得られた光配向膜の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）で測定したところ、２００ｎｍであった。
続いて、光配向膜上に液晶硬化膜形成用組成物（１）を、バーコーターを用いて塗布して液晶塗布膜を得た。該液晶塗布膜を１２０℃で１分間乾燥した後、高圧水銀ランプ（ユニキュアＶＢ―１５２０１ＢＹ−Ａ、ウシオ電機株式会社製）により、紫外線を照射（窒素雰囲気下、波長３６５ｎｍにおける積算光量：１０００ｍＪ／ｃｍ２）して、液晶硬化膜を形成し、基材、配向膜、液晶硬化膜をこの順に積層した光学異方性フィルム（１）を得た。
光学異方性フィルム（１）の液晶硬化膜上に粘着剤を貼合し、表面をコロナ処理したシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）（ＺＦ−１４、日本ゼオン株式会社製）を粘着剤に圧着した後、ＰＥＴを取り除くことで、ＣＯＰ、粘接着剤層及び液晶硬化膜をこの順に有する積層体（１）を得た。
【０１４３】
［位相差値測定］
積層体（１）における液晶硬化膜（１）の膜厚をレーザー顕微鏡（ＬＥＸＴ、オリンパス株式会社製）により測定した。また、積層体（１）における液晶硬化膜の位相差値を王子計測機器社製のＫＯＢＲＡ−ＷＲにより測定した。なお、ＣＯＰの波長５５０ｎｍにおける位相差値は略０であるため、液晶硬化膜の位相差値には影響しない。結果を表１に示す。
【０１４４】
［基材の表面形状測定］
光学異方性フィルム（１）から、液晶硬化膜及び配向膜層を除去し、基材であるＰＥＴを得た。得られたＰＥＴについて１０ｃｍ２毎の最大高さＸＡを、非接触表面・層断面形状計測システム（日立ハイテクサイエンス製  ＶｅｒｔＳｃａｎ）により測定した。結果を表２に示す。
【０１４５】
［ガラス転移温度測定］
ガラス転移温度Ｔｇは、ＪＩＳ  Ｋ７１２１に準拠し、示差走査熱量測定により測定した。結果を表２に示す。
【０１４６】
［密着力の測定］
光学異方性フィルム（１）に粘接着剤層を積層して、幅２５ｍｍ×長さ約１５０ｍｍの試験片に裁断し、その粘接着剤層の面をガラス板に貼合した後、引張り試験機を用いて、試験片の長さ方向一端（幅２５ｍｍの一辺）をつかみ、温度２３℃、相対湿度６０％の雰囲気下、クロスヘッドスピード（つかみ移動速度）２００ｍｍ／分で、ＪＩＳ  Ｋ  ６８５４−１:１９９９「接着剤−はく離接着強さ試験方法−第１部：９０度はく離」に準拠した９０°剥離試験を行った。結果を表２に示す。
【０１４７】
［ムラの確認］
積層体（１）の液晶硬化膜面に、ヨウ素−ＰＶＡ偏光板（スミカラン  住友化学株式会社製  厚さ６５μｍ）を厚さ５μｍの粘着剤を介して貼合し、円偏光板（１）を作成した。円偏光板（１）のＣＯＰ側を鏡面に配し、偏光板側を視認側としてムラの有無を確認した。結果を表２に示す。
【０１４８】
実施例２
基材を厚み６０μｍのシクロオレフィンポリマーフィルム（ＣＯＰ）に変えた以外は、実施例１と同様に、液晶硬化膜（２）及び積層体（２）を得て評価した。結果を表１及び表２に示す。
【０１４９】
実施例３
基材を、２枚の厚さ１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムを厚み３８μｍの粘着剤で積層したものに変えた以外は、実施例１と同様に、液晶硬化膜（３）及び積層体（３）を得て評価した。結果を表１及び表２に示す。
なお、粘着剤の厚みは、基材の平均厚みｄｘには含まれない。すなわち粘着剤で積層した上記基材のｄｘは２００μｍである。
【０１５０】
参考例
基材を厚み１００μｍのポリエチレンナフタレートフィルム（ＰＥＮ）に変えた以外は、実施例１と同様に、液晶硬化膜及び積層体を得て評価する。ＰＥＮのガラス転移温度は１２０℃であり、ムラのない液晶硬化膜及び積層体を製造することができる。
【０１５１】
比較例
基材を厚み３８μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムに変えた以外は、実施例１と同様に、液晶硬化膜（４）及び積層体（４）を得て評価した。結果を表１及び表２に示す。
【０１５２】
【表１】
2016091022.tif 000007
【０１５３】
【表２】
2016091022.tif 000008
【０１５４】
実施例の液晶硬化膜は、ムラがなく、転写後の均一性に優れた。
【産業上の利用可能性】
【０１５５】
本発明によれば、ムラのない光学異方性フィルムを形成することができ、転写後の液晶硬化膜の均一性にも優れる光学異方性フィルムを得ることができる。
【符号の説明】
【０１５６】
１    液晶硬化膜
２    偏光フィルム
３、３’  粘接着剤層
４    配向膜層
５    基材
６    液晶パネル
７    位相差フィルム
８    有機ＥＬパネル
１００ａ、１００ｂ、１００ｃ、１００ｄ    円偏光板
２００ａ、２００ｂ    液晶表示装置
３００ａ    有機ＥＬ表示装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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