(57)【要約】      （修正有）【課題】レーザーアセンブリによりレーザーパルス列を生成するための方法を提供する。【解決手段】レーザーアセンブリは少なくとも２つの反射部材、レーザー媒質、及び電気光学変調器を備えている。該方法は、光増幅モードにおいて該レーザーアセンブリを操作することで、増幅されたレーザーパルス（４２）が提供される、及びパルス引出しシーケンスを実行せること、を包含している。該パルス引出しシーケンスは、増幅電圧を基準に規定の電圧変化（４０）を印加することにより実行される。【選択図】図４
2016092420.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザーアセンブリ（１０）、特にレーザー共振器又は再生増幅器、によりレーザーパルス列を生成するための方法であって、該レーザーアセンブリ（１０）は少なくとも、
・  ２つの反射部材（１６、２６）、特にその内の１つは規定された波長に対して部分的に透明である、
・  レーザー媒質（１７）及び
・  偏光、及び／又は、位相の電圧制御された変化を与えるための電気光学変調器（１５）、特にポッケルスセル（１５）、
を備え、
該方法は、
・  増幅電圧を該電気光学変調器（１５）へ印加することにより光増幅モードにおける該レーザーアセンブリ（１０）を操作すること、及びこれにより該レーザーアセンブリ（１０）内での導入された種レーザーパルス（２０）の、規定された循環時間及び各循環での該レーザー媒質（１５）との相互作用による該種レーザーパルス（２０）の増幅を伴う循環を与えること、ここで、増幅されたレーザーパルスが提供される、及び
・  該電気光学変調器（１５）へ印加された該増幅電圧を変えることにより、該レーザーアセンブリ（１０）から少なくとも１つのレーザーパルス（２１）を引き出すために、パルス引出しシーケンスを実行させること、
を包含し、
該増幅電圧を基準に規定の電圧変化（４０）を印加することにより、規定された時間間隔のための該パルス引出しシーケンスを実行されること、ここで、該電圧の変化は、
・  少なくとも１つの中間スイッチング状態が、該時間間隔内で中間電圧を印加することにより該電気光学変調器（１５）の側に生成され、該中間スイッチング状態は、該電気光学変調器（１５）による該増幅されたレーザー放射の偏光の特定の変化を与える、
・  最終スイッチング状態が、最終引出し電圧を該時間間隔の最後で印加することにより該電気光学変調器（１５）の側に生成される、
・  該少なくとも１つの中間スイッチング状態内での該増幅されたレーザーパルスの該電気光学変調器（１５）との少なくとも１つの中間相互作用は、該増幅されたレーザーパルスの少なくとも１つの個々の中間循環に関して与えられる、及び
・  該最終スイッチング状態での該増幅されたレーザーパルスの該電気光学変調器（１５）との最終相互作用は、該少なくとも１つの中間循環に続く該増幅されたレーザーパルスの循環に関して与えられる、
ように調整され、
少なくとも２つのレーザーパルス列が、各循環での該増幅されたレーザーパルスの個々のスイッチング状態にある該電気光学変調器（１５）との該相互作用に従い引出される、
ことを特徴とする、前記方法。
【請求項２】
該循環する増幅されたレーザーパルスの該増幅されたレーザー光の該偏光は、該結果として生じる偏光が規定の引出し基準に合うように、各循環での中間及び／又は最終スイッチング状態にある該電気光学変調器（１５）との相互作用により変えられる、
ことを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
該電気光学変調器（１５）は、‐該中間又は最終スイッチング状態の存在下で‐該増幅されたレーザーパルスが変えられた偏光状態を備えるように該増幅されたレーザーパルスと相互作用し、該変えられた偏光状態は、少なくとも２つの偏光部分の比により規定され、該比は該印加された中間電圧に依存する、
ことを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
該増幅されたレーザーパルスの一部分は、該増幅されたレーザーパルスの該増幅されたレーザー光の偏光感知スプリッティングに基づいて引出される、特にここで、該少なくとも２つの偏光部分の１つが引出される、
ことを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
該少なくとも１つの中間スイッチング状態の間に、該増幅されたレーザーパルスが該電気光学変調器（１５）と相互作用するように、該規定された電圧変化の印加を該レーザーアセンブリ内の該増幅されたレーザーパルスの伝播と同期させること、
を特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
・  該少なくとも２つのレーザーパルス列の第１パルスが、該増幅されたレーザーパルスの第１中間スイッチング状態における該電気光学変調器（１５）との相互作用により引出される、及び
・  該少なくとも２つのレーザーパルス列の第２パルスが、該増幅されたレーザーパルスの第２中間スイッチング状態における該電気光学変調器（１５）との相互作用により引出される、
特にここで、該電圧変化（４０）は、該レーザーアセンブリ内の該増幅されたレーザーパルスの該伝播に対して時間的に調整される、
ことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
該増幅電圧は、
・  該電気光学変調器（１５）のゲート電圧、特にλ／４電圧、又は
・  ゼロ電圧、
に対応し、
及び／又は
・  該電圧変化は、電圧降下又は電圧上昇、特に電圧ジャンプ、を含む形のものである、
特にここで、該増幅電圧、及び／又は、該電圧変化は、該レーザーアセンブリ（１０）に依存している、
ことを特徴とする、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
該電圧変化（４０）に関する電圧パラメータの１セットを規定すること、ここで、該電圧パラメータは、該電圧変化についての傾斜、及び／又は、該時間間隔の時間的な伸長を規定する、
を特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
該電圧パラメータは、以下のような仕方：
・  該時間間隔の該時間的伸長は、少なくとも２つの中間レーザーパルスを探知するために、該レーザーアセンブリ内の該増幅されたレーザーパルスの少なくとも該循環時間、特に該循環時間の倍数、に対応する、及び／又は
・  該電圧変化に関する傾斜は、比較的浅い、特に、循環当たり０Ｖ〜２５０Ｖの範囲内、である、
で規定されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
パルス引出しシーケンスは、少なくとも２つの電圧変化領域を備え、その各々は、特定のパルスパラメータ、特にパルスピークパワー、特にここで該電圧変化の該過程が少なくとも２つの電圧変化領域にわたる変動を規定する、を与える該電圧変化（４０）の規定された過程を規定する、
ことを特徴とする、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
レーザーパルス列を生成するためのレーザーアセンブリ（１０）、特にレーザー共振器又は再生レーザー増幅器、であって、該レーザーアセンブリ（１０）内の増幅されたレーザーパルスの規定の循環時間を与え、且つ少なくとも
・  ２つの反射部材（１６、２６）、特にここで、その内の少なくとも１つは、ポンプ光の波長に関して部分的に透明である、
・  レーザー媒質（１７）、
・  偏光及び／又は位相の電圧制御された変化を与えるため、及び、該電気光学変調器（１５）へ印加された増幅電圧を変動させることにより該レーザーアセンブリ（１０）からレーザー光を引出すための、電気光学変調器（１５）、特にポッケルスセル（１５）、
・  規定の電圧を該電気光学変調器（１５）へ与え且つそれにより該電気光学変調器（１５）を駆動するための回路、
・  該規定の電圧が該電気光学変調器（１５）へ印加されるような仕方における、少なくとも該回路の制御用スイッチングのための制御用ユニット、
を備え、
該制御用ユニット及び該回路は、該電圧が該電気光学変調器（１５）へ規定のパルス引出しシーケンスに従い印加可能であるように協働的に実装され、該パルス引出しシーケンスは、規定の時間間隔の間、該増幅電圧に対する規定の電圧変化（４０）を備えている、ここで、該電圧の変化は、
・  少なくとも１つの中間スイッチング状態が、該時間間隔の間、中間電圧を印加することにより該電気光学変調器（１５）の側に生成され、該中間スイッチング状態は、該電気光学変調器（１５）により該増幅されたレーザー放射の偏光の特定の変化を与える、
・  最終スイッチング状態が、該時間間隔の端で、最終引出し電圧を印加することにより該電気光学変調器（１５）の側に生成される、
・  該少なくとも１つの中間中スイッチング状態における該増幅されたレーザーパルスの該電気光学変調器（１５）との少なくとも１つの中間相互作用が、該増幅されたレーザーパルスの少なくとも１つの個別の中間循環について与えられる、
・  最終スイッチング状態における該増幅されたレーザーパルスの該電気光学変調器（１５）との少なくとも１つの最終相互作用が、該少なくとも１つの中間循環に続く該増幅されたレーザーパルスの最終循環について与えられる、
ように調整され、
その結果、少なくとも２つのレーザーパルスの列は、夫々のスイッチング状態にある該電気光学変調器（１５）で、各循環での該増幅されたレーザーパルスの該与えられた相互作用に従い引出し可能である、
ことを特徴とする、上記レーザーアセンブリ。
【請求項１２】
該回路は、
・  ３つのスイッチ（３３、３４、３５）、
・  ２つの電力供給部（３１，３２）、及び
・  可変電流リミッタ（３６）、
を備え、
特にここで、該電圧変化（４０）が、規定の仕方で且つ該電圧変化の傾斜、及び／又は、該電圧変化の時間的伸長が規定の仕方で該電気光学変調器（１５）へ印加されるように、少なくとも該スイッチ（３３、３４、３５）及び該可変電流リミッタ（３６）は、該制御用ユニットにより制御可能である、
ことを特徴とする、請求項１１に記載のレーザーアセンブリ。
【請求項１３】
該レーザーアセンブリ（１０）は、該増幅されたレーザー放射からのレーザー光の偏光感知引出しのための偏光選択要素（１３）、特に偏光ビームスプリッタ、を備えている、特にここで、該偏光選択要素（１３）は、該２つの反射部材（１６、２６）の１つにより具象化されている、
ことを特徴とする、請求項１１又は１２に記載のレーザーアセンブリ。
【請求項１４】
該制御用ユニット及び該回路は、該パルス引出しシーケンスの実行により、
・  該増幅されたレーザーパルスの該増幅されたレーザー光の初期偏光状態が、該もたらされた偏光が規定の引出し基準に合致するように変えられる、特にここで、該引出し基準は、該偏光選択要素により少なくとも規定され、且つ該レーザーアセンブリから放出されるべき該増幅されたレーザーパルスの部分を規定する、
・  該初期偏光状態の引出し偏光状態への変化が、該少なくとも１つの中間、及び／又は、該最終スイッチング状態の間に、該増幅されたレーザーパルスの該電気光学変調器（１５）との相互作用により与えられる、
ように協働的に実装されている、
ことを特徴とする、請求項１１〜１３のいずれか１項に記載のレーザーアセンブリ。
【請求項１５】
プログラムコードを備える計算機プログラム製品であって、該プログラム製品は、機械読み取り可能な媒体上にストアされるか又は電磁波により具現化され、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法に従い、特に請求項１１〜１４のいずれか１項に記載のレーザーアセンブリの制御用ユニット上でランされるとき、該パルス引出しシーケンスを実行するために、実装された計算機実行可能命令を有するプログラムコードセグメントを備える、特にここで、該計算機プログラム製品は、プログラマブルロジック（プログラム可能論理）により提供され、又はハードワイヤードロジック（配線論理）として実装される、
上記計算機プログラム製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、一般に、一連のレーザーパルス、特にレーザーパルスのバーストを、レーザーアセンブリ内の電気光学システムを用いて生成するための方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
脆弱な物質の機械加工、例えば鋸切断及びスクライビング（溝掘）のための確立された機械的方法は、品質とスループットにおける必要を満たすための広範な後処理が、産業のニーズまたは要求を往々にして満足させることができない。今日、レーザーは、様々なタイプの物質の機械加工のために用いられることが増加している。レーザー切断工程、例えば溶融、蒸発、及び融合切断は、金属及び高分子化合物のような延性のある物質の切断のために用いられる。これらの方法は、要求された高品質かつ特別な切断速度標準に適合するためには、透明な又は半透明な物質を切断することは適切ではない。
【０００３】
例えば、D. Helie and R. Valleeの「Micromachining of Thin Glass Plates with a Femtosecond Laser（フェムト秒レーザーによる薄いガラス板の微細機械加工）」（Proc. of SPIE Vol. 7386, 738639, Photonics North 2009,）から公知のように、透明な物質のそのような切断のために、制御された破砕技術が、それらの物質の機械加工のためのよく適合した方法である。
【０００４】
曲線状の、及び／又は、閉じた形状の内部的特徴が切断される必要があるとき、レーザー直接アブレーション法が用いられうる。しかし、アブレーション速度、即ち直接アブレーション法の処理速度は、レーザーの平均出力で測られ、そして通常、数ｍｍ／秒までに制限されている。この事実が、レーザー直接アブレーション方法の処理速度を制限している。
【０００５】
ガラス基板の機械加工のためのフェムト秒レーザーの線条化の応用は、直接アブレーション法への興味深い代替である。表示部ガラス、ここで該サンプルはガラスの切断の前にフェムト秒レーザーパルスを用いて予備処理される、の高速切断のアイデアは、Ahmed 達によって提案された（F. Ahmed, M.S. Lee, H. Sekita, "Display Glass Cutting by Femtosecond Laser induced single shot periodic void array（フェムト秒レーザー誘起の一発の周期的ボイド列による表示部ガラスの切断）", Appl. Phys. A (2008) 93, 189-192）。この研究において達成された最大処理速度は、１５ｍｍ／秒であった。この速度は、ボイド（空隙）間の最小距離により制限されていた。なぜなら、ボイド周期が１０μｍを超えるときは、サンプルを切断することが不可能だったからである。
【０００６】
増加された応力及び線条化によって誘起された微小欠陥は、薄いホウケイ酸ガラス基板の切断のために、及び様々なタイプのガラスから単純な３次元部品を作るために用いられることは公知である。
【０００７】
材料を処理するための上のアプローチの主として不利な点は、利用可能なレーザー出力、パルス持続時間、繰り返し周期、及びパルス形状のせいで達成され得る処理速度が非常に低いことである。処理の効果、例えば夫々の材料内に生じた切れ目または割れ目は、主としてこれらの因子に依存している。
【０００８】
高繰り返しレートを有する短又は超短レーザーパルス列を準備することにより、同一の時間間隔に対してより多くの数のパルスが材料に施与されうるので、材料の処理は、これに対応する高い処理速度で実施されうる。そのようなパルスは、それらの強度に関して更に調整されうる。ポッケルスセルの規定されたスイッチングによるそのような短パルスの発生及びそれらの強度の継続的な調整は、例えば米国特許出願公開第7,649,667 B2号明細書に記載されている。
【０００９】
そのようなアプローチを用いることにより、規定数の短パルスが、規定時間間隔において適用できる（即ち、増幅器により与えられる）。しかし、ポッケルスセルのオンオフスイッチの可能な速度は限界があり、従って、パルスの発生も制限される。更に、望ましい放出されるべきレーザー出力を備えるためには、各夫々のパルスを放出する前に、規定レベルの光増幅が達成されなければならない。
【００１０】
材料処理についての別の局面は、１の単一レーザーパルスの材料との相互作用の個々の効果（例えば、生じた割れ目のサイズ）に関する。そのような効果は、パルス継続時間、及び／又は、エネルギーのみならず、連続するパルス間の時間遅延にも依存する。これら因子の全てを同時的に調整する可能性は、上記のような従来技術のシステムでは限界がある。ガラスのような個々の特定の材料については、最適化された（より効率的の意味で）設定は困難又は実現すらできない。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
従って本発明の目的は、上述された不利な点を克服するところの改良されたレーザーシステムを提供することである。
【００１２】
本発明の別の目的は、最適なレーザーパラメータにより、特に材料での処理効果のより効率的な生産により、材料のより速い処理を可能にするレーザーシステムを提供することである。
【００１３】
これらの目的は、独立請求項の特徴を実現することにより達成される。代替的又は有利的な仕方において本発明をさらに発展させる特徴は、従属請求項に記載される。
【課題を解決するための手段】
【００１４】
本発明は一般に、増幅されたレーザー放射から引出されたバーストパルス列を発生させるための方法に関する。該バーストパルスの引出しは、電気光学系、特にポッケルスセル系の使用により、及び更に該電気光学系の唯一つの単一スイッチングシーケンスにより、実現される。該電気光学系は、好ましくはレーザー共振器内に備えられ、そして、該レーザー共振器内部で循環及び励起されたレーザー媒質との相互作用によりレーザー光、例えばレーザーパルスの増幅を維持するために操作される。代わりに、レーザーパルスのバーストの生成は、従来技術で公知のポッケルスセルを備える適切なレーザー系の任意の他の種類の再生レーザー増幅器を用いてもなされうる。
【００１５】
一般的に、ポッケルスセルの形での電気光学系は、電圧制御波長板として考えられることができ、そこでは、複屈折の値が、所望の位相遅延、特にｓ及びｐ偏光光に関して、を生み出すように電気的に調整されうる。この複屈折は、印加電界に比例する。
【００１６】
ポッケルスセルの原理的機能は、例示的に次のように述べられる。ポッケルスセルは、該セルへ電圧が印加されるとき、例えば該ビームの直交する偏光構成分（成分）の間の位相遅延を引き起こすことにより、伝達光ビームの偏光を変えることを可能にする。
【００１７】
印加電界がないと、該光ビームの直交する偏光成分の間の位相遅延の差異は存在しない。なぜなら、屈折率が両方の偏光方向について同じであり、したがって伝達光の偏光の変化がないからである。しかし、印加電界は、相互に９０度の速い軸と遅い軸を作り出す。これら２つの方向に沿う偏光部分を有するビームの速度の違いは、印加電圧により、他方に相対的に一方の偏光成分の位相を遅らせ、それにより新たなビームの偏光状態を変える。
【００１８】
相対的な遅延Φは、次の表現により与えられる。
【数１】
2016092420.tif 000003
ここで、Δｎは、複屈折性（光の２つの偏光に対する屈折率の差）であり、Ｌは結晶の長さであり、λは波長である。
【００１９】
直交方向に沿う偏光方向を有する光の新たな強度は、Δｎの大きさに依存する。ポッケルスセルの高速及び低速軸に対して４５°で入射するところの直線偏光の光に対して、入射光と同じ偏光方向を有する伝達強度、それは平行な偏光子を通して伝達されるところの強度である、は、T||についての表現式により与えられ、直交する偏光子を通して伝達されるところの強度は、T⊥についての表現式により与えられる。
【数２】
2016092420.tif 000004
【００２０】
一般的に、伝達光は楕円的に偏光している。特別のケースとして、遅延Φがπ／２、又は四分の一波長値であるときは、伝達光は円偏光であり、遅延Φがπである、それは半波長遅延値である、ときは、伝達光の偏光は９０°回転される。ポッケルスセルの印加電界に対する惹起された屈折率変化Δｎに関する表現式は、次の形である。
【数３】
2016092420.tif 000005
ここで、ｒｉｊは電気光学係数であり、Ｅは印加電圧Ｖの印加に伴う結晶にかけられた電界であり、そしてｎ０は通常の屈折率である。例えばＢＢＯポッケルスセルで用いられた横方向構成に関しては、Ｅ＝Ｖ／ｄであり、Ｖは印加電圧であり、ｄは電極間距離である。半波長電圧Ｖλ／２で、位相遅延Φはπに等しく、したがって、
【数４】
2016092420.tif 000006
である。
【００２１】
横方向電界ポッケルスセルに関する半波長電圧は、ｄ／Ｌ、即ち結晶長さで割られた電極間隔に比例することに注目すべきである。縦方向ポッケルスセルについては、半波長電圧は結晶長に独立である。
【００２２】
本発明は、レーザーアセンブリ、特にレーザー共振器又は再生増幅器によりレーザーパルス列（レーザーパルスのバースト）を生成するための方法に関する。該レーザーアセンブリ（１０）は少なくとも２つの反射部材を備える。特に、該反射部材の１つは、規定された波長、例えばポンプ光に対して部分的に透明でありえ、且つ該レーザーアセンブリ（共振器）内部の増幅されたレーザー光の波長を反射することでありうる。代替的又は追加的に、該反射部材は、レーザー放射の少なくとも部分を該アセンブリから引出すために、偏光選択可能要素の形、特に偏光ビームスプリッタ立方体又は薄膜偏光子であり得る。
【００２３】
レーザーアセンブリは更に、レーザー媒質及び偏光、及び／又は、位相の電圧制御された変化を与えるための電気光学変調器、特にポッケルスセルを備える。
【００２４】
電気光学変調器及びレーザー媒質は、２つの反射部材、これにより共振器を提供する、の間に特に配置される。換言すれば、反射端部材、例えば（半透明）鏡が、追加的にレーザー媒質を備えるレーザー共振器を作る。電気光学変調器は、共振器内を循環する光が各循環毎にポッケルスセルを通り走行するような仕方で共振器内に備えられうる。
【００２５】
レーザー媒質は、イッテルビウム添加ウォルフラメート（例えばＹｂ：ＫＹＷ又はＹｂ：ＫＧＷ）又はネオジム添加ヴァナデート（例えばＮｄ：ＹＶＯ４）のような、イッテルビウム添加又はネオジム添加レーザー媒質として、例えば実現されうる。
【００２６】
本方法は、増幅電圧を該電気光学変調器へ印加することにより光増幅モードにおける該レーザーアセンブリを操作すること、かつそれにより該レーザーアセンブリ内での、規定された循環時間及び各循環での該レーザー媒質との相互作用による種レーザーパルスの増幅を伴う、導入された種レーザーパルスの循環を与えること、ここで、増幅されたレーザーパルスが与えられることを包含する。さらに、該電気光学変調器へ印加された該増幅電圧を変えることにより、該レーザーアセンブリから少なくとも１つのレーザーパルスを引き出すために、パルス引出しシーケンスをラン（実行）させること、を包含する。
【００２７】
本発明によると、パルス引出しシーケンスは、増幅電圧に関する規定された電圧変化を印加することにより、規定された時間間隔の間、ランされる。ここで、該電圧の変化は、少なくとも１つの中間スイッチング状態が電気光学変調器の側で生成されるように、該時間間隔内で中間電圧を印加することにより調節される。該中間スイッチング状態は、電気光学変調器による増幅されたレーザー放射の偏光の特別な変化を与える。さらに、最終スイッチング状態が、該時間間隔の終わりでの最終引出し電圧の印加により電気光学変調器の側に生成される。特にここで、該中間スイッチング状態は、最終スイッチング状態とは異なる。換言すれば、該電気光学変調器をスイッチングする時間間隔内で、少なくとも１つの規定の中間及び１の最終スイッチング状態が備えられ、特にここで、中間スイッチング状態にされた該変調器により達成された偏光の変化は、最終スイッチング状態にある該変調器により達成された偏光変化とは異なる。
【００２８】
さらに、電圧の変化は、該増幅されたレーザーパルスの電気光学変調器との少なくとも１つの中間相互作用が、増幅されたレーザーパルスの少なくとも１つの個々の中間的循環に関して与えられるように調節される。ここで、該電気光学変調器は。少なくとも１つの中間的スイッチング状態にある（即ち、該中間的電圧が、該変調器へ印加される）。該電気光学変調器―最終スイッチング状態にある―での増幅されたレーザーパルスの最終相互作用が、該少なくとも１つの中間循環に続く該増幅されたレーザーパルスの循環に関して与えられる。
【００２９】
特に、最終スイッチング状態は、全体（残留部分の）（該増幅されたレーザーパルスの）増幅されたレーザー光が、偏光を変えられ、得られた偏光状態が規定の総合引出し基準に合致するように、電気光学変調器により効果を与えられように調節される。これにより、全ての残留の増幅されたレーザー光は、該最終スイッチング状態を適用されてレーザーアセンブリから引出し可能である。
【００３０】
換言すれば、該循環レーザー光の該電気光学変調器との少なくとも１つの相互作用が、該電気光学変調器が増幅状態でなくかつ最終スイッチング状態でもない（中間スイッチング状態）期間に生じ、そして該循環レーザー光の該電気光学変調器との別の相互作用が、該電気光学変調器が最終スイッチング状態であるときに生じる。最終スイッチング状態における相互作用は、中間スイッチング状態における少なくとも１つの相互作用に直接継続して、即ちアセンブリ内におけるレーザー光の次の（継続する）循環を伴い、与えられる。特にここで、循環するレーザー光は、該アセンブリから完全に引出される。
【００３１】
その結果、少なくとも２つのレーザーパルス列（バースト）が、各循環での増幅されたレーザーパルスの、夫々のスイッチング状態にある該電気光学変調器との相互作用に従って引出される。
【００３２】
パルス引出しシーケンスは、その間に電圧変化が、最終電圧（例えば０Ｖ）に到達する（最終電圧を含む）まで与えられるところの時間間隔により規定される。該電圧変化は、電圧の降下又は上昇の形であり得、特にそれぞれの傾斜及び／又はステップ（ジャンプ）を包含し得る。
【００３３】
本発明の好ましい実施態様によると、該レーザーアセンブリは、偏光選択要素を備える。偏光選択要素は、それにより偏光ビームスプリッタ立体又は薄膜偏光子から成りうる。該偏光選択要素は特に、２つの反射部材の間に（該レーザー媒質と共に）配置されることができ、又は反射部材の１つとして設計されてもよい。該偏光選択要素は、好ましくは、それが１つの偏光（例えばｐ偏光）を完全に通過させ、かつこれに対応する垂直な偏光（例えばｓ偏光）を完全に反射するように配置される。
【００３４】
したがって、増幅されたレーザーパルスの例えばポッケルスセル（電気光学変調器）及び偏光選択要素との相互作用により、増幅されたレーザー（パルスの）光の一部分だけが、規定の引出し要件に合致するように、該偏光選択要素によりスイッチアウトされる。スイッチアウトされない増幅されたレーザー光の残りの部分は、レーザーアセンブリ内で循環を続ける。
【００３５】
そのような引出し方法は、極く短いパルス間遅延を有するレーザーパルス列を与える。例えば、該遅延は、該共振器の内部での増幅されたレーザー光の循環の時間に対応し、ひいては２つ又はそれ以上の連続的なパルスを、これらパルスで処理されるべき物質の応力緩和時間に基本的に対応する小さな遅延で送出することを可能にする。その結果、パルスのバーストは、処理されるべき該物質で著しく大きな影響（例えば、ひび割れ）を引き起こす。
【００３６】
特に、循環増幅されたレーザーパルスの増幅されたレーザー光の偏光は、該増幅光の得られる偏光が規定の引出し基準、特に規定の偏光状態に合うように、（該増幅パルスの）各循環での中間（又は最終）スイッチング状態における電気光学変調器との相互作用により変えられる。例えば、該（楕円又は円偏光）レーザーパルスのｓ偏光部分は、偏光選択要素により影響を受け（反射され）、ひいてはレーザーアセンブリから引出される。該増幅されたレーザー光の一部分（例えば、ｐ偏光部分）は、偏光選択要素により影響を受けず（透過され）、該レーザーアセンブリ内で循環を続ける。電気光学変調器の中間又は最終スイッチング状態により変化された偏光を有する増幅されたレーザー光の透過される部分および反射される部分の間の比は、電気光学変調器に対する印加電圧により調整可能である。ここで、電気光学変調器の複屈折の効果は、それに応じて調整されうる。
【００３７】
本発明の方法は、特に、増幅されたレーザーパルスが変化された偏光状態を備えるように、電気光学変調器の増幅されたレーザーパルスとの相互作用を―中間又は最終スイッチング状態の存在の下で―提供する。ここで、変化された偏光状態は、少なくとも２つの偏光部分の比により定義され、該比は、印加された中間電圧に依存する。これらの部分の一つは、該レーザーアセンブリの引出し要素により与えられた引出し効果に対応しうる。
【００３８】
本発明に従うと、（規定の仕方での、即ち中間又は最終スイッチングのお陰で、該電気光学変調器により変化された偏光を有する）該増幅されたレーザーパルスの一部分は、該増幅されたレーザーパルスのレーザー光の偏光感知スプリッティング、例えば偏光ビームスプリッタに基づいて引出される。特にここで、該少なくとも２つの偏光部分の１つが引出される。
【００３９】
本発明に関して、特に、種レーザーパルスが、増幅（該レーザーアセンブリの設計に依存して、ゲート又はゼロ）電圧の印加によりレーザーアセンブリ内に導入される。ここで、レーザー媒質は、励起光で、例えばレーザーダイオードにより励起され、そして、該導入された種レーザーパルスは、該活性化されたレーザー媒質中を走行するとき、各循環で増幅される。該種レーザーパルスは、該偏光ビームスプリッタにより該入射パルスを反射することにより、該レーザーアセンブリ内へ導入されうる。該種レーザーパルスは、さらに特定の偏光方向を有しうる。
【００４０】
さらに本発明の別の実施態様によると、規定された電圧変化（降下又は上昇）の印加は、該少なくとも１つの中間スイッチング状態の間、該増幅されたレーザーパルスが電気光学変調器（例えば、ポッケルスセル）と相互作用するように、該レーザーアセンブリ内での増幅されたレーザーパルスの伝播と同期されている。該ポッケルスセルに対する該スイッチング工程のそのような適応は、制御ユニット又はドライバーによりそれぞれ供給される複数のトリガー信号により与えられうる。これらの部分の１つは、該レーザーアセンブリの引出し要素により与えられた引出し効果に対応しうる。
【００４１】
このようにして、電気光学変調器の複屈折のそれぞれの状態は、増幅されたレーザーパルスが電気光学変調器を通る瞬間に対応して一時的に誘起されうる。
【００４２】
本発明の特定の実施態様によると、少なくとも２つのレーザーパルスの列（バースト）の第１パルスは、増幅されたレーザーパルスと第１中間スイッチング状態における電気光学変調器との相互作用により引出され、そして少なくとも２つのレーザーパルスの列（バースト）の第２パルスは、増幅されたレーザーパルスと第２中間スイッチング状態における電気光学変調器との相互作用により引出され、特に該電圧変化は、レーザーアセンブリ内の増幅されたレーザーパルスの伝播に対して時間的に調整される。
【００４３】
本発明の方法の文脈において印加される電圧に関して、増幅電圧は、電気光学変調器のゲート電圧、特にλ／４電圧又はゼロ電圧に対応しうる。さらに、電圧変化は、電圧降下又は電圧上昇、特に電圧ジャンプ、及び／又は、規定の傾斜を含む形のものでありうる。特に増幅電圧、及び／又は、電圧変化はレーザーアセンブリの設計に依存する。
【００４４】
本発明に従い印加されるべき電圧変化の設定に関して、電圧パラメータの１組が、電圧変化に関して規定されうる。該電圧パラメータは、例えば電圧変化についての傾斜、及び／又は、時間間隔の時間的な伸長を規定する。
【００４５】
特に、電圧パラメータは、時間間隔の時間的な伸長が、少なくとも２つの中間レーザーパルスを探知するためのレーザーアセンブリ内の増幅されたレーザーパルスの少なくとも循環時間、特に循環時間の倍数に対応するような仕方で規定される。例示として、時間的伸長は、１０ｎｓ〜２００ｎｓの範囲内、特に１５ｎｓ〜１００ｎｓの範囲内であり、そのような値は、レーザー共振器およびそれに関連する循環時間に主に依存する。
【００４６】
追加的に若しくは代替的に、電圧パラメータは、電圧変化に関する傾斜は比較的浅く（僅かであり）、特にナノ秒当たり０．０Ｖ〜１５Ｖの範囲内又は循環当たり０．０Ｖ〜２５０Ｖの範囲内であるような仕方で規定されうる。
【００４７】
換言すれば、従来技術のポッケルスセルのスイッチングとは反対に、ここでスイッチング方法は、より長いスイッチング周期を与えるために（該セルの中間偏光／スイッチング状態を用意して）、時間的に伸長され且つ変更され、そしてポッケルスセルの状態の可能な限り速いスイッチングに焦点はない。
【００４８】
本発明の特定の実施態様によると、パルス引出しシーケンスは、少なくとも２つの電圧変化領域（帯域）を備え、その各々は、特定のパルスパラメータ、特にパルスピーク電力を与える規定された電圧変化の過程を定義する。特にここで、該電圧変化の過程は、該少なくとも２つの電圧変化領域にわたる、特に個々の傾斜及び継続時間に関する変動を規定する。
【００４９】
電気光学変調器での電圧変化のそのような調整は、例えば多数の個々のバーストパルスの生成（放出）を提供し、該バーストパルスの各々は、特にそのパルスエネルギーについて調整される。
【００５０】
本発明はまた、レーザーパルス列を生成するためのレーザーアセンブリ、特にレーザー共振器又は再生レーザー増幅器に関しており、該レーザーアセンブリ内の増幅されたレーザーパルスの規定の循環時間を与える。該レーザーアセンブリは、少なくとも２つの反射部材、特にここで、その内の少なくとも１つは、ポンプ光の波長に関して部分的に透明でありうる（且つ該共振器内の増幅されたレーザー光を反射する）、及び、該反射部材の１つと構造的に、特に一体構造として組み合されたレーザー媒質（１７）を備えている。更に、該アセンブリは、偏光、及び／又は、位相の電圧制御された変化（変調）を与えるため、及び、該電気光学変調器へ印加された増幅電圧を変動させることにより該レーザーアセンブリからレーザー光を引出すための（及び、それにより該増幅されたレーザーパルスの偏光に異なる仕方で影響を与える）電気光学変調器、特にポッケルスセルを備えている。更に、該レーザーアセンブリは、規定の電圧を該電気光学変調器へ与え且つそれにより該電気光学変調器を駆動するための回路、及び、該規定の電圧が該電気光学変調器へ印加されるような仕方における、少なくとも該回路の制御用スイッチングのための制御用ユニット、を備えている。
【００５１】
本発明によると、制御用ユニット及び回路は、規定のパルス引出しシーケンスに従い電圧が電気光学変調器へ印加可能であるように協働的に実装され、該パルス引出しシーケンスは、規定の時間間隔の間、該ゲート電圧に対する規定の電圧変化を与える。特に、電圧変化は、時間間隔内での電圧の降下又は上昇、及び／又は、それぞれの傾斜、及び／又は、電圧ジャンプを含んでいる。それにより、時間上の電圧の変化は、少なくとも１つの中間スイッチング状態が、時間間隔の間、中間電圧を印加することにより電気光学変調器の側に生成され、中間スイッチング状態は、電気光学変調器により増幅されたレーザー放射の偏光の特定の変化を与えるように調整される。更に、最終スイッチング状態が、時間間隔の端で、最終引出し電圧を印加することにより電気光学変調器（１５）の側に生成される。換言すれば、スイッチングの時間間隔内で、電気光学変調器は、少なくとも１つの規定された中間及び１つの最終スイッチング状態を与えられる。
【００５２】
更に、電圧の変化は、該少なくとも１つの中間中スイッチング状態における増幅されたレーザーパルスの電気光学変調器との少なくとも１つの中間相互作用が、増幅されたレーザーパルスの少なくとも１つの個別の中間循環について与えられるように調整される。ここで、電気光学変調器は、少なくとも１つの中間スイッチング状態にある。最終スイッチング状態における該増幅されたレーザーパルスの電気光学変調器との少なくとも１つの最終相互作用が、少なくとも１つの中間循環に続く増幅されたレーザーパルスの最終循環について与えられるように調整される。
【００５３】
その結果、少なくとも２つのレーザーパルス列は、夫々のスイッチング状態にある電気光学変調器（例えば、ポッケルスセル）で、各循環での増幅されたレーザーパルスの与えられた相互作用に従い引出し可能である。
【００５４】
本発明のレーザーアセンブリに用いられる回路に関して、該回路は３つのスイッチ、２つの電力供給部、及び可変電流リミッタを備えうる。
【００５５】
更に、電気光学変調器は、第１スイッチング段階で、電気光学変調器の帯電が誘起されるような、そして、第２スイッチング段階で、少なくとも可変電流リミッタを介して該変調器（セル）の制御された放電が与えられるような仕方で回路に接続されうる。
【００５６】
特に、電圧降下が規定の仕方でポッケルスセルへ印加され且つ該電圧降下の傾斜、及び／又は、該電圧降下の時間的伸長が、規定の仕方、即ち該制御用ユニットの夫々の設定により規定されうるように、少なくともスイッチ及び可変電流リミッタは、該制御用ユニットにより制御されうる。
【００５７】
好ましくは、用いられた電源は、従来技術、例えば、U.Tietze 及び Ch. Schenk 「Halbleiter-Schaltungstechnik」（Springer, 13th Edition, p. 774）から公知である。
【００５８】
本発明の１の特定の実施態様によると、該制御用ユニット及び該回路は、−該パルス引出しシーケンスの実行に際し−該増幅されたレーザーパルスの該増幅されたレーザー光の初期偏光状態が、該もたらされた偏光が規定の引出し基準に合致するように変えられる、特にここで、該引出し基準は、該偏光選択要素により少なくとも規定され、且つ該レーザーアセンブリから放出されるべき該増幅されたレーザーパルスの部分を規定するように、協働的に実装されている。さらに、該初期偏光状態の引出し偏光状態への変化は、中間、及び／又は、最終スイッチング状態の間に、該増幅されたレーザーパルスの該電気光学変調器との相互作用により与えられる。
【００５９】
本発明の１の好ましい実施態様によると、該レーザーアセンブリは、該増幅されたレーザー放射からのレーザー光の偏光感知引出しのための偏光選択要素、特に偏光ビームスプリッタを備えている。特にここで、該偏光選択要素は、該２つの反射部材の１つにより具現化される。例えば、該偏光ビームスプリッタは、ｓ偏光された光及びｐ偏光された光の反射を与える。
【００６０】
本発明はまた、プログラムコードを備える計算機プログラム製品に関しており、該プログラム製品は、機械読み取り可能な媒体上にストアされるか又は電磁波により具現化され、上記の方法の１実施態様に従い、特に上記のレーザーアセンブリの制御用ユニット上でランされるとき、該パルス引出しシーケンスを実行するために、実装された計算機実行可能命令を有するプログラムコードセグメントを備える。特にここで、該計算機プログラム製品は、プログラマブルロジック（プログラム可能論理）により提供され、又はハードワイヤードロジック（配線論理）として実装される。
【００６１】
本発明の方法及び装置は、図面に図式的に示された動作例を参照しつつ純粋に例として以下により詳細に記載又は説明される。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１ａ】本発明の電気光学変調器を備えるレーザーアセンブリの１の実施態様を示す図式的な図である。
【図１ｂ】本発明の電気光学変調器を備えるレーザーアセンブリの１の実施態様を示す図式的な図である。
【図２】本発明のポッケルスセルを駆動するための回路の１実施態様を示す図である。
【図３】本発明のポッケルスセルをスイッチングするためのスイッチングダイヤグラムであり、スイッチングポイント及び夫々に生じた電位変化を示す。
【図４】本発明の３つのレーザーパルスをポッケルスセルの１の単一スイッチングシーケンスによりレーザーアセンブリから引き出す手順を示す図である。
【図５】引出されたパルス及び循環パルスの増幅の文脈における、本発明のポッケルスセルの別の例示的な操作を示す図である。
【図６】ポッケルスセルに印加された上昇電圧を用いる、本発明のポッケルスセルの別の例示的な操作を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００６３】
図１ａは、本発明のレーザーアセンブリ（１０）の１実施態様を（図式的に）示している。ここで、該レーザーアセンブリ（１０）は、光再生増幅器として実現されている。該アセンブリ（１０）は、アイソレータ（１１）、例えばファラデーアイソレータ、第１偏光要素（１２）、例えば半波長（λ／２）板、偏光ビームスプリッタ（１３）、第２偏光要素（１４）、例えば四分の一波長（λ／４）板、電気光学変調器（１５）、例えばポッケルスセル、反射端部材（１６）、例えばハーフミラー（半透明鏡）、レーザー媒質（１７）、例えば半透明コーティングを有するＹｂ：ウォルフラメート結晶、及びポンプ光源（１８）、例えばレーザーダイオードを備えている。
【００６４】
分るように、電気光学変調器（１５）は、レーザー共振器内のビーム通路に配置される。該レーザー共振器は、第１反射端部材（１６）およびレーザー媒質（１７）でのコーティングにより規定され、それは、増幅されたレーザー放射、即ち結果として得られる増幅されたレーザー光の波長に関しての反射、およびポンプ光に関する伝達、を提供する。代わりに、レーザー媒質（１７）へ施与されたコーティングの替わりに、空間的に分離された反射部材が、ポンプ光源（１８）とレーザー結晶（１７）の間に備えられうる（図１ｂ参照）。共振器内のレーザー光の循環時間は、このように該反射端部材（１６）とレーザー媒質（１７）側のコーティング又は別の反射部材での反射点の間の距離により規定される。
【００６５】
以下は、図示されたレーザーアセンブリ（１０）の動作原理に関する例示的に与えられた記載である。
【００６６】
ｐ偏光（２０）を有するレーザービーム、例えば種レーザーパルスは、アイソレータ（１１）及び第１偏光ユニット（１２）を通して案内され、これにより、レーザービームの偏光は、レーザービームがｓ偏光を備えるように回転される。ビームスプリッタ（１３）は、ｓ偏光の光を反射し、ひいては該光を空洞（共振器）内に導く。次に、レーザー光は、該レーザー光に円偏光を与えるところの第２偏光要素（１４）を通り抜ける。
【００６７】
レーザー光は、その後、電気光学変調器（１５）を通り伝播する。電気光学変調器（１５）がスイッチオフされると（即ち、ゼロ電位が該セル（１５）に印加される）、該セルは偏光に影響を与えない受動要素と考えられる。該ビームは、鏡（１６）で反射され、再び電気光学変調器（１５）及び偏光要素（１４）を通り伝播し、レーザー光にｐ偏光をもたらし、ひいてはビームスプリッタ（１３）を通過する。レーザー媒質（１７）で反射された後、レーザービームは、三度目の偏光要素（１４）及び電気光学変調器（１５）を通り抜け、鏡（１６）で反射され、そして４度目の該セル（１５）及び偏光器（１４）を通り抜ける。この伝播は、ｓ偏光のレーザー光をもたらす。その結果、該レーザー光は該スプリッタ（１３）で反射され、そしてレーザー空洞に（増幅された）レーザーパルスとして放出される。この行程はまた、（注入種レーザーパルスの）「二重パス」と呼ばれている。
【００６８】
代替の動作原理によると、電気光学変調器（１５）は、規定された電圧（Ｕ）で、例えば四分の一波長電圧（λ／４‐電圧）をセル（１５）に印加することにより能動的に駆動される。印加電圧（スイッチング、増幅、又はゲート電圧）の大きさは、複屈折性がセルにより与えられるように特に選択される。そうすることにより、電気光学変調器（１５）は、伝播光の偏光に能動的に影響を与え、それにより、導入されたレーザーパルス（２０）は、増幅された光の偏光が、それがビームスプリッタ（１３）を通過するようにレーザー光の各循環で調整されるので、レーザー共振器内にトラップされ得る。
【００６９】
さらに、そのようなトラップされたレーザーパルスは、各循環で増幅され、そして電気光学変調器の状態を変化させることによりレーザー共振器から放出されうる。このことは典型的には、セルでの電圧をゼロ電圧へ低減することにより実現され、それは電気光学変調器を−再度−受動素子にすることである。増幅されたレーザーパルスは、そのようなオンデマンドスイッチングにより共振器から放出され得る。
【００７０】
今や、本発明の電気光学変調器（１５）をスイッチングすることに関し、規定された電圧カーブに従う電圧変化（ここでは、電圧降下）が、増幅（ゲート）電圧に関して電気光学変調器（１５）へ印加される。
【００７１】
その電圧カーブに従うと、該セル（１５）を「スイッチオン」するためのゲート電圧に特に対応するところの、該変調器（１５）へ印加された初期増幅電圧から始めて、電圧降下が適用される。
【００７２】
電圧降下は、時間上の電圧の特定の降下、即ち電圧に関する特定の傾斜、及び／又は、ジャンプを規定する。時間上の電圧降下及び傾斜は夫々、傾斜の大きさが比較的に低い（従来技術による電圧降下に比較して。ここで、該降下は、１つのレーザーパルスを抜き出すための高速スイッチングを提供するために可能な限り急激になるように実装される）ように、規定されている。
【００７３】
電気光学変調器（１５）での、そのような時間上の比較的小さな電圧降下の印加の結果として、該電気光学変調器（１５）は、降下の持続に関して中間的なスイッチング状態（少なくとも１回の）を与える。このように、レーザー光は与えられ、（共振器内の）循環レーザー光の一部分のみが、ビームスプリッタ（１３）を通過し反射されるとき、ｓ偏光を備える、レーザー光の残りは共振器内で走行し続ける。
【００７４】
電圧降下のための時間間隔、即ち引き出し系列の継続時間（電圧降下若しくは上昇、及び／又は僅かに降下する電圧傾斜）は、共振器内でのレーザー光の循環時間について調整される。この工程は、１の単一スイッチング系列により増幅されたレーザー放射から少なくとも２つの副レーザーパルス（バーストパルス）の抜き出しを与える。このことは、セル（１５）のスイッチングによる唯一つの単一レーザーパルスが、スイッチング工程により（即ち、電圧降下の印加により）引き出されるのではなく、より多くの数のパルスが空洞から引き出され得ること意味する。
【００７５】
少なくとも第１副パルス（バーストパルス）は、増幅されたレーザー光の中間スイッチング状態における変調器との相互作用により誘起された偏光の変化により引き出される。第２（最終）副パルスは、最終スイッチング状態にある変調器との相互作用により引き出される。これらスイッチング状態は、相互に異なり、そして特に偏光の有効な変化に関する相互作用するレーザー光へ異なる衝撃を与える。
【００７６】
その傾斜についての電圧降下を調節することにより、２つの副パルスが、空洞から連続的に引き出されうるよりも多くさえ、それぞれの電圧はジャンプしかつ持続する。さらに、傾斜をそれぞれ調節することにより、例えばパルスからパルスへのパルスエネルギーの変化が、定義されうる。そうするために、引出しシーケンスは、代替の傾斜及び／又は電圧を有する少なくとも２つの異なる電圧変化（降下）領域を備えて実装されうる。
【００７７】
図１ｂは、２つの反射部材（１６、２６）を有するレーザー共振器、レーザー媒質（１７）、及びポッケルスセル（１５）の形態である本発明の別の実施態様を示している。増幅されたレーザー放射（レーザーパルス）は共振器の内部で循環する、ここで、規定されたゲート（増幅）電圧が、該ポッケルスセル（１５）へ印加される。
【００７８】
レーザーパルスのバーストの引出し、即ち、バーストモードの生成のため、ポッケルスセル（１５）が、規定の僅かの電圧降下をポッケルスセル（１５）に印加することにより駆動され、ひいては循環するレーザー光の偏光のそのような変化を与え、光の第１部分は、共振器内に循環して残り、放射の残り部分は、例えば偏光ビームスプリッタとの相互干渉により、アセンブリを放出される。
【００７９】
図２は、本発明のポッケルスセルを駆動するための回路の１実施態様を示している。該回路は、２つの高電圧源（３１、３２）、３つのスイッチ（３３、３４、３５）、及び可変電流リミッタ（３６）を備えている。更に、ポッケルスセル（又はいずれか別の適切な電気光学変調器）との接続部（３７）、これは共振器内部の電圧制御波長板として働く、が備えられる。制御ユニット（図示されていない）は、少なくともスイッチングをトリガーし、及び／又は、該可変電流リミッタ（３６）に関する設定ｓを規定するために、該回路に機能的に接続されている。
【００８０】
増幅モードにおいて共振器を駆動することに関して、λ／４電圧に対応している複数の高電圧源（３１、３２）による複数の印加電圧に係る電位の差異が、共振器内で循環するレーザー光の各循環でのそれぞれの偏光の変化を与えるために施与されるべきである。
【００８１】
該回路及び該制御ユニットは、２つの高電圧出力パルスが２つの高電圧源（３１、３２）の助けで同時に発生可能であるように、相互接続されている。示されているように、該ポッケルスセルは、両電圧パルスの差分を受けるために、両高電圧源（３１、３２）へ接続されている。
【００８２】
本発明の方法の１実施態様が、次のように図２及び３の文脈において記載される。ポッケルスセルの１回のスイッチング工程のみにより、少なくとも２つのレーザーパルスの生成を引き起こすために、２つのスイッチ（３３）及び（３４）は、時刻Ｔ０で閉じられる。ここで、スイッチ（３５）は開いた位置（完了していない）にある。そのようにするために、増幅電圧（ここで、ゲート電圧はλ／４電圧）が、ポッケルスセルへ印加され、そしてポッケルスセルは、最終チャージ状態が得られるまでチャージする（Ｔ１）。
【００８３】
その後、スイッチ（３３）及び（３４）は開かれ、そしてスイッチ（３５）は時刻（Ｔ２）で完了させられる。その結果、ポッケルスセルの第１電極は、（電気的接続を示されたスイッチ（３５）による接地まで完了させることにより）直接に接地される。他方、ポッケルスセルの第２電極は、可変電流リミッタ（３６）を介して放電される。ここで、第２電極の電荷は、ゆっくりと且つ制御された仕方で放電する。ポッケルスセルでの得られた（全体としての）電圧カーブの過程及び特にその傾斜（Ｔ２とＴ３の間での）は、可変電流リミッタ（３６）の調節に依存している。
【００８４】
したがって、本発明によると、可変電流リミッタ（３６）の存在及び調節は、ポッケルスセルでの電圧の僅かな低下を与え、ひいては、共振器から出てくる循環レーザーパルスから少なくとも２つのレーザーパルスを引出すことを準備する。
【００８５】
Ｔ２からＴ３（又はＴ４、夫々に）までの時間間隔は、それが、増幅されたレーザー光のポッケルスセルとの相互作用の時間よりも長く―引出されるべき中間パルスの数に依存して―１つの中間パルスを引き出すために共振器内のレーザー光の循環時間よりも短く、又は更に中間パルスを引き出すためにその倍数より短いように規定される。ここで、循環レーザーパルスのポッケルスセルとの少なくとも２重の相互作用、中間偏光状態（スイッチング状態）における少なくとも１つの相互作用、及び最終状態における１つの相互作用（ここで、ゼロ電圧）が与えられる。
【００８６】
Ｔ３からＴ４までの時間間隔において、電流リミッタ（３６）の設定は、ポッケルスセルでの電圧が急激にゼロまで降下するように調整される。
【００８７】
図３は、スイッチ（３３、３４及び３５）のスイッチングの瞬間（Ｔ０及びＴ２）、時間上の可変電流リミッタでの電流（Ｉ）、電力供給部（３１及び３２）（高電圧源）の出力電圧、及び結果的に得られるポッケルスセルでの電圧、例えば３１および３２の出力信号の差分を示している。
【００８８】
（パルス引出しシーケンス、例えばスイッチングシーケンスの）時間間隔の継続時間に関し、規定された継続時間は、生成されるべきバーストパルスの数に依存する。
【００８９】
２つのパルスを生成するために、レーザー光の第１回目の循環のためには１の単一中間スイッチング状態のみが必要であり、そして引き続く第２回目の循環のためには最終スイッチング状態のみが必要であるので、時間間隔は、循環時間よりも短い。こうして、中間スイッチング状態は、レーザー光のポッケルスセルとの第１相互作用の間、用意され、そのような相互作用の直後に、ゼロ電圧（最終スイッチング状態）が、第２の相互作用のために印加されうる。
【００９０】
３つのバーストパルスを生成するために、時間間隔の時間的伸長は、循環時間よりも大きくなければならないが、循環時間の２倍より小さい。そうすることにより、レーザー光と２つの中間状態との２つの相互作用が、共振器内の光のそれぞれの引き続く循環に対応して与えられる。
【００９１】
一般的に、時間間隔の継続時間（ｔ）、中間スイッチング状態を備えるべき相互作用の数（ｎｉｓ）、及び循環時間（ｔｃ）の相互関係は、次式によって与えられる。
【数５】
2016092420.tif 000007
【００９２】
図４は、ポッケルスセルの１つの単一スイッチングシーケンスによる３つのレーザーパルスの引出しについての本発明のレーザーアセンブリの振る舞いを示す。
【００９３】
最上部に、ポッケルスセルでの時間上の電圧（４１）が示され、電圧は本発明に従い規定された電圧降下（４０）を備えている。そのような全体としての電圧は、特定の回路（個々のドライバー又は制御用ユニットをそれぞれ備える）及び個々の回路のスイッチング段階のトリガリングにより作られる。
【００９４】
全体としての電圧（４１）の下に、共振器、ポッケルスセル、および偏光選択要素内の循環レーザーパルスの相互作用により作られるところの３つのレーザーパルス（４２）の生成が示されている。電圧降下（４０）の開始と第１パルスの引出しの間の規定の遅延は、スイッチングとポッケルスセルの偏光状態を変えることの継続時間により与えられる。
【００９５】
最下部に、レーザー共振器内を循環するレーザーパルス（４３）の生成と増幅が描かれている。循環するレーザーパルスの振幅に関して、各循環による増幅が見られうる。ここで振幅は、第１レーザーパルスが循環レーザー光から引き抜かれるや否や、減少し、ひいては循環パルスの電力の一部分は引き抜かれる。
【００９６】
曲線（４２）に従い引出されたレーザーパルスは、基本的に同じピークパワーである。これは、初期の電圧降下および該電圧降下の傾斜の個々の設定によりそれぞれ与えられる。
【００９７】
共振器内のレーザーパルスの循環時間は、曲線（４３）により代表されたパルス信号の最大点の間隔に対応している。バーストパルスの繰り返し周波数は、増幅されたレーザー光の循環時間に依存している。
【００９８】
本発明の特定の実施態様によると、（曲線（４１）に従う）電圧変化の傾斜は、０Ｖ／ＲＴ〜２５０Ｖ／ＲＴ（ＲＴ＝往復又は循環）の範囲内にあるように設定されている。
【００９９】
図５は、引出されたパルス及び循環パルスの増幅という文脈において、レーザーアセンブリの、例えば再生増幅器のポッケルスセルの別の例示的な操作を示している。
【０１００】
結果としての引出されたパルスにおいて、図４の実施態様と比較された２つの主要な違いが存在する。第１は、ここで、３つではなく４つのパルスのバーストが、増幅パルスから引出されている（曲線（４２’）を見よ）。第２に、引出されたパルスのピーク電力は、変わる（また曲線（４２’）を見よ）。再び、測定された循環中のパルスの振幅の減少（曲線（４３’））は、バーストパルスの引出しを開始したことによると見られうる。
【０１０１】
図４及び５の電圧降下（曲線（４１と４１’））を比較することにより、（曲線（４３’）の記録されたパルス信号の間の時間ギャップにより表された循環時間に関連して）曲線（４１’）に従う電圧降下の大きな時間的伸長、及び該降下の傾斜に関する違いが判りうる。そのようなより長い降下時間及び個別に調整された傾斜の結果として、４つのバーストパルスが、１のスイッチングシーケンスにより引出され得る。ここで、引出された個々のパルスのピーク電力は、それに応じて調整されうる。電圧降下のそのような調整は、例えば図２に従う回路により与えられうる。ここで、可変電流リミッタによる個々の設定及びスイッチングの瞬間は、選択される。
【０１０２】
パルス引出しシーケンスの時間的伸長を大きくすることは、循環中のレーザー光とポッケルスセルとの、より多数回の相互作用を導き、それは、各相互作用工程で、レーザー光の偏光の規定された変化を与えるところのスイッチング状態を有している。
【０１０３】
特に、図５にも見られるように、パルス引出しシーケンスは、少なくとも２つの降下領域を有し、該降下領域の各々は、特定の電圧ジャンプ、及び／又は、傾斜、及びこれらの領域内での電圧変化に関する規定された継続時間で規定されている。
【０１０４】
図６は、引出されたパルス及び循環パルスの増幅という文脈において、レーザーアセンブリの、例えば再生増幅器の、ポッケルスセルの別の例示的な操作を示している。図４及び５と対照的に、ここでは、電圧降下ではなく電圧上昇が、レーザーアセンブリ自体のそれに応じた異なる設計によって多数のバーストパルスの生成を用意するところのポッケルスセルへ印加される。循環レーザー光の偏光の特定の変化は、印加された電圧の増加により影響され、ここで、増加電圧の傾斜は、セルの個々の中間スイッチング状態によって２つのレーザーパルスが引出されるように調整され、そして第３のパルスが、最終（充電された）状態におけるセルとの相互作用によって、引出され、３つのパルスの全ては基本的に同じ性質（例えば電力）をもって生成される。
【０１０５】
本発明は、いくつかの特定の実施態様を部分的に参照して上で説明されたけれども、多くの別の実施態様及び実施態様の様々な特徴の組合せが為され得ること及び様々な特徴が、従来技術から公知のレーザーアセンブリ、及び／又はパルスレーザーシステムと組み合され得ることが理解されなければならない。
【図１ａ】
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【図１ｂ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【外国語明細書】
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