(57)【要約】      （修正有）【課題】導電性が改善された導電性材料の製造方法を提供する。【解決手段】ハロゲン化銀感光材料ｈ５を透過原稿ｈ４と密着して露光した後、現像処理することにより銀画像パターンを得る導電性材料の製造方法において、前記露光がヘーズ値２０％以上の光学フィルターを介して露光する。【選択図】図１
2016001520.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハロゲン化銀感光材料を透過原稿と密着して露光した後、現像処理することにより銀画像パターンを得る導電性材料の製造方法において、前記露光がヘーズ値２０％以上の光学フィルターを介して露光することを特徴とする導電性材料の製造方法。
【請求項２】
前記請求項１記載の製造方法によって得られた導電性材料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電気回路、電磁波シールド材、タッチパネル等の電極パターンなどに用いられる導電性材料の製造方法及び導電性材料に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、電気回路、電磁波シールド材、タッチパネル等の用途で、導電性材料の需要が急速に伸びてきている。
【０００３】
中でもタッチパネルの需要は急速に拡大しており、例えばパーソナル・デジタル・アシスタント（ＰＤＡ）、ノートＰＣ、ＯＡ機器、医療機器、カーナビゲーションシステム、あるいはスマートテレビ等の電子機器においては、これらのディスプレイに入力手段としてタッチパネルが広く用いられている。
【０００４】
タッチパネルには、位置検出の方法により光学方式、超音波方式、静電容量方式、抵抗膜方式などがある。抵抗膜方式のタッチパネルは、光透過性導電材料と光透過性導電層付ガラスとがスペーサーを介して対向配置されており、光透過性導電材料に電流を流し光透過性導電層付ガラスに於ける電圧を計測するような構造となっている。一方、静電容量方式のタッチパネルは、光透過性支持体上に光透過性の導電膜を有するものを基本的構成とし、可動部分がないことが特徴であり、高耐久性、高透過率を有するため、例えば車載用途等において適用されている。
【０００５】
タッチパネル用途の透明電極（光透過性導電材料）としては、一般にＩＴＯからなる光透過性導電膜が光透過性支持体上に形成されたものが使用されてきた。しかしながらＩＴＯ導電膜は屈折率が大きく、光の表面反射が大きいため、全光線透過率が低下する問題や、可撓性が低いため屈曲した際にＩＴＯ導電膜に亀裂が生じて電気抵抗値が高くなる問題があった。
【０００６】
ＩＴＯに代わる光透過性導電膜を有する光透過性導電材料として、基板上に薄い触媒層（下地金属）を形成し、その上にレジストパターンを形成した後、めっき法によりレジスト開口部に金属層を積層し、最後にレジスト層およびレジスト層で保護された下地金属を除去することにより、導電性パターンを形成するセミアディティブ方法が、例えば特開２００７−２８７９９４号公報、特開２００７−２８７９５３号公報などに開示されている。
【０００７】
また近年、ハロゲン化銀感光材料を導電性材料前駆体として用いる方法も提案されている。例えば特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報および特開２００７−１８８６５５号公報等では、光透過性支持体上に物理現像核層とハロゲン化銀乳剤層を少なくともこの順に有する導電性材料前駆体に、可溶性銀塩形成剤および還元剤をアルカリ液中で作用させて、金属銀パターンを形成させる技術が開示されている。この方式によるパターニングは均一な線幅を再現することができることに加え、銀は金属の中で最も導電性が高いため、他方式に比べ、より細い線幅で高い導電性を得ることができるので、全光線透過率が高く、かつ低抵抗な光透過性導電材料を得ることができる。また、さらにこの方法で得られた光透過性導電材料はＩＴＯ導電膜よりも可撓性が高く折り曲げに強いという利点がある。
【０００８】
しかしながら、近年タッチパネルの採用が広がる大画面ディスプレイにおいては、タッチパネル電極に使用される導電性材料の導電性が低いと、タッチした位置の正確さや応答速度が不十分となる。そのため、タッチパネル電極に使用される導電性材料には高い導電性が必要となり、さらなる導電性の向上が求められていた。
【０００９】
一方、特開平３−２５６３９３号公報（特許文献１）、特開２００５−２５７９８６号公報（特許文献２）には、異物混入による歩留まり低下を防止するために、感光性エッチングレジスト材を露光する際に拡散マスクフィルムを介して露光するプリント配線基板の製造方法が開示されている。また、特開平５−４５８８８号公報（特許文献３）には、圧着ガラス板と原画フィルムとの間に活性光線を透過するプラスチックフィルムを配置することで、焼きボケやヤレ率を減少させる露光方法が記載され、実施例では半透明のプラスチックフィルムを用いた具体例が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開平３−２５６３９３号公報
【特許文献２】特開２００５−２５７９８６号公報
【特許文献３】特開平５−４５８８８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の目的は、導電性が改善された導電性材料の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記課題は以下の発明によって達成される。
（１）ハロゲン化銀感光材料を透過原稿と密着して露光した後、現像処理することにより銀画像パターンを得る導電性材料の製造方法において、前記露光がヘーズ値２０％以上の光学フィルターを介して露光することを特徴とする導電性材料の製造方法。
（２）上記（１）記載の製造方法によって得られた導電性材料。
【発明の効果】
【００１３】
本発明により、導電性が改善された導電性材料の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】真空密着露光装置を横から見た概略図の一例
【図２】真空密着露光装置を横から見た概略図の別の一例
【図３】実施例で使用した電極パターン透過原稿
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明のハロゲン化銀感光材料から導電性材料を製造する方法としては、国際公開第２００４／００７８１０号パンフレット、特開２００３−７７３５０号公報、特開２００５−２５０１６９号公報や特開２００７−１８８６５５号公報等に開示されたような銀塩拡散転写方式を用いたもの、および国際公開第２００１／０５１２７６号パンフレットや特開２００４−２２１５６４号公報、特開２０１２−４０４２号公報等に開示された化学現像銀を利用するものを挙げることができる。
【００１６】
前記した化学現像銀を用いる方式は、露光された部位のハロゲン化銀が現像液中に存在する現像主薬によって還元されてできる化学現像銀を触媒核として、無電解めっきを施すことによって導電性材料を得るものである。
【００１７】
前記した銀塩拡散転写方式を用いる方式は、支持体上に物理現像核層と称する、銀錯体が現像主薬によって還元されて金属銀となるための触媒核層、およびその上層にハロゲン化銀乳剤層を有するハロゲン化銀感光材料を露光し（ハロゲン化銀写真乳剤層は別の支持体に塗設されていても良い）、現像処理時には現像主薬の他にハロゲン化銀を溶解する化合物（ハロゲン化銀溶剤）を作用させて、導電性材料を得るものである。またこの導電性材料に無電解めっきを施すことも可能である。
【００１８】
次に、本発明においてハロゲン化銀感光材料から導電性材料を得るための製造方法について説明する。
【００１９】
＜露光＞
本発明の導電性材料の製造方法では、所望のパターンを有する透過原稿とハロゲン化銀感光材料のハロゲン化銀乳剤層を有する側の面を密着して露光する。図１及び図２は、露光に使用する真空密着露光装置を横から見た概略図の一例、および別の一例である。図１において、ｈ１は露光光源、ｈ２は光学フィルター固定用ホルダー、ｈ３は板ガラス、ｈ４は透過原稿、ｈ５はハロゲン化銀感光材料、ｈ６は可塑性シートである。図２において、ｉ１は露光光源、ｉ２は光学フィルター固定用ホルダー、ｉ３は透過原稿、ｉ４は透過原稿固定用ホルダー、ｉ５はハロゲン化銀感光材料、ｉ６は可塑性シートである。
【００２０】
図１の真空密着露光装置では、露光光源側から見て、板ガラスｈ３上に透過原稿ｈ４を設置し、その上にハロゲン化銀感光材料ｈ５、さらにその上に可塑性シート（ゴムシート等）ｈ６の順に配置し、板ガラスｈ３と可塑性シートｈ６の間の空気を図示しない排気装置により排出し、真空状態にして透過原稿ｈ４とハロゲン化銀感光材料ｈ５を密着させる。本発明において、透過原稿ｈ４はクロムマスク、エマルジョンマスク、フィルムマスクなどフォトマスクを用いることができるが、１０μｍ以下の細線を比較的忠実に描画できることからクロムマスクが好ましい。密着露光は透過原稿の描画面側（図中上側）とハロゲン化銀感光材料のハロゲン化銀乳剤層面側を合わせて行うことが好ましい。透過原稿ｈ４がガラス基材を有するものであれば、図１のような板ガラスｈ３は必ずしも必要ではない。
【００２１】
本発明において採用する露光方式は、大型ディスプレイ装置への採用で大型化が進み、また、金属細線の視認性を減少させるため金属細線幅をさらに細くすることが望まれるタッチパネル透明電極用導電性材料において、再現性良く効率的に生産ができるため適している。
【００２２】
本発明の露光はヘーズ値２０％以上の光学フィルターを介して実施される。光学フィルターの好ましいヘーズ値は４１％以上であり、より好ましくは６７％以上である。なお上限は９０％以下であることが好ましい。ヘーズとは、ＪＩＳ  Ｋ７１３６において以下で定義されている値であり、値が低い方が透視性に優れる。
Ｈ＝（Ｔｄ／Ｔｔ）×１００（％）
Ｈ：ヘーズ
Ｔｄ：拡散光線透過率
Ｔｔ：平行光線透過率
【００２３】
本発明で使用されるヘーズ値が２０％以上の光学フィルターの材質は樹脂フィルムやガラスなど露光光源の発光波長域やハロゲン化銀感光材料の感光波長域に７０％以上の透過率を有するものが好ましい。樹脂フィルムの具体例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）やポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステル樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、シリコーン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ジアセテート樹脂、トリアセテート樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリスルフォン樹脂、ポリエーテルスルフォン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミド樹脂、ポリオレフィン樹脂、環状ポリオレフィン樹脂等が例示される。ガラスの材質としてはソーダライムガラス、石英ガラスが例示される。本発明の光学フィルターとしては、特開２００８−１２９３１９号公報、特開平１１−１０９１１３号公報、特開２００２−２１４４０８号公報に開示されている光散乱フィルムを用いることができる。また、特開２０１２−２１２０９２号公報に記載される支持体上に多孔質層を有する透過型スクリーンも好適に用いることができる。さらには、市販されている光散乱フィルムを使用することもできる。
【００２４】
本発明において露光は前記した光学フィルターを介して行われる。ここで光学フィルターを介してとは、光学フィルターの設置場所が露光光源と透過原稿の間であることを意味する。図１を用いて説明すると、本発明において、ヘーズ値２０％以上の光学フィルターを設置する場所は、１）露光光源ｈ１と板ガラスｈ３の間に位置する光学フィルター固定用ホルダーｈ２、２）板ガラスｈ３の露光光源側の面、３）板ガラスｈ３の光源と反対側の面（透過原稿ｈ４との間）、である。露光光源ｈ１から発光される光は、光学フィルターを介して一様に透過原稿を通過しなければならないが、その条件を満たしていれば、前記１）の光学フィルター固定用ホルダーｈ２の位置は任意である。
【００２５】
図２において、ヘーズ値２０％以上の光学フィルターを設置する場所は、１）露光光源ｉ１と透過原稿ｉ３の間に位置する光学フィルター固定用ホルダーｉ２、２）透過原稿ｉ３の露光光源側の面（パターン面と反対の面）、である。図２は透過原稿を固定する板ガラスがないタイプの露光装置であるため、透過原稿はガラス基材など厚みがありたわまないものを使用することが好ましい。
【００２６】
好ましい光学フィルターの設置場所は、図１における１）および、図２における１）の位置である。光学フィルターが透過原稿に接していると、導電性の向上効果があまり得られない場合がある。
【００２７】
本発明において、ヘーズ値２０％以上の光学フィルターを介して露光することでハロゲン化銀から得られる導電性材料の導電性が向上する理由は明白ではないが、露光光源の光量分布の均一性が向上することで、均一な細線幅の金属銀が得られることになり、例えば部分的に周囲の細線幅より細い個所がなくなるため、また、ハロゲン化銀乳剤層のハロゲン化銀粒子による光散乱に何らかの影響を与えるためではないかと推測される。
【００２８】
本発明の導電性材料の製造方法において使用する露光光源は、本発明で使用されるハロゲン化銀感光材料の感光波長域に発光スペクトルを有するものであれば良い。例えば、紫外灯、蛍光灯、水銀灯、発光ダイオード、半導体レーザーなどが挙げられる。
【００２９】
＜現像処理＞
露光したハロゲン化銀感光材料の現像処理について説明する。上記のようにして露光されたハロゲン化銀感光材料は、現像処理を施すことにより金属銀が析出する。その後、銀塩拡散転写方式においては、ハロゲン化銀乳剤層（黒化銀もこれに含まれる）及び中間層、保護層等は除去されて、パターン状の銀薄膜が支持体上に露出する。一方、国際公開第２００１／０５１２７６号パンフレットや特開２００４−２２１５６４号公報に開示される化学現像銀を用いる方法では、ハロゲン化銀溶剤を含有する定着液で処理され、支持体上のゼラチン層中にパターン状の金属銀が析出する。また何れの方法においても、その後、水洗・乾燥される。
【００３０】
本発明の導電性材料の製造方法により得られた導電性材料には、各単位画像における導電性のフレを解消する目的で、例えば特開２０１３−１９６７７９号公報に記載されているような分子内に２つ以上のメルカプト基を有するトリアジンもしくはその誘導体にて処理を施しても良い。また経時による導電性の低下を改善する目的で、例えば特開２００８−３４３６６号公報に記載されているような、銀パターンのＸ線回折法での２θ＝３８．２°のピークの半値幅が０．４１以下とする後処理（以下、後処理と称する）を施しても良い。
【００３１】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、無論この記述により本発明が制限されるものではない。
【実施例】
【００３２】
（実施例１）
＜光学フィルターの作製＞
支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルム（塩化ビニリデンを含有する層により易接着加工が施された、厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、全光線透過率は９０％）を用いた。支持体上に、下記組成の多孔質層塗布液を塗布、乾燥し、光学フィルターを得た。多孔質層塗布液の塗布量は、シリカ固形分換算で２０ｇ／ｍ２であった。なお、作製した光学フィルターのヘーズ値をスガ試験機（株）製ヘーズコンピューターＨＺ−２によってＪＩＳ  Ｋ７１３６に従い測定したところ３０％であった。
【００３３】
＜シリカ分散液の作製＞
水にジメチルジアリルアンモニウムクロライドホモポリマー（分子量９，０００）４部と気相法シリカ（平均一次粒子径７ｎｍ、比表面積３００ｍ２／ｇ）１００部を添加し予備分散液を作製した後、高圧ホモジナイザーで処理し、固形分濃度２０％のシリカ分散液を製造した。気相法シリカの平均二次粒子径は、（株）堀場製作所製ＬＡ９１０を用いて測定すると４５０ｎｍであった。
【００３４】
＜多孔質層塗布液＞
シリカ分散液１  （シリカ固形分として）１００部
ポリビニルアルコール  ２３部
（ケン化度８８％、平均重合度３５００）
ホウ酸  ４部
ノニオン性界面活性剤  ０．３部
（ポリオキシエチレンアルキルエーテル）
全体の固形分濃度が１２．８５％になるように水で調整した。
【００３５】
＜ハロゲン化銀感光材料の製造＞
支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルム（塩化ビニリデンを含有する層により易接着加工が施された、厚みが１００μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム、全光線透過率は９０％）を用いた。物理現像核層を塗布する前に、この支持体上にゼラチンを５００ｍｇ／ｍ２含有する下引き層を塗布、乾燥した。
【００３６】
次に、硫化パラジウムゾル液を下記のようにして作製し、得られたゾルを用いて物理現像核液を作製した。
【００３７】
＜硫化パラジウムゾルの調製＞
Ａ液    塩化パラジウム                                  ５ｇ
塩酸                                          ４０ｍＬ
蒸留水                                    １０００ｍＬ
Ｂ液    硫化ソーダ                                  ８．６ｇ
蒸留水                                    １０００ｍＬ
Ａ液とＢ液を撹拌しながら混合し、３０分後にイオン交換樹脂の充填されたカラムに通し硫化パラジウムゾルを得た。
【００３８】
＜物理現像核液組成／１ｍ２あたり＞    
前記硫化パラジウムゾル                                ０．４ｍｇ
２質量％のグルタルアルデヒド溶液                    ０．０８ｍＬ
１０質量％ＳＰ−２００水溶液                          ０．５ｍｇ
（日本触媒（株）製ポリエチレンイミン；平均分子量１０，０００）
【００３９】
この物理現像核液を硫化パラジウムが固形分で０．４ｍｇ／ｍ２になるように、下引き層の上に塗布、乾燥した。
【００４０】
続いて、上記物理現像核層を塗布した側と反対側の面に下記組成の裏塗り層を塗布した。
＜裏塗り層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                                ２ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径５μｍ）                ２０ｍｇ
染料１                                              ２００ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                ４００ｍｇ
【００４１】
【化１】
2016001520.tif 000003
【００４２】
【化２】
2016001520.tif 000004
【００４３】
続いて、支持体に近い方から順に下記組成の中間層、ハロゲン化銀乳剤層、及び最外層を上記物理現像核層の上に塗布し、ロール状に巻き取った。ハロゲン化銀乳剤は、写真用ハロゲン化銀乳剤の一般的なダブルジェット混合法で製造した。このハロゲン化銀乳剤は、塩化銀９５モル％と臭化銀５モル％で、平均粒径が０．１５μｍになるように調製した。このようにして得られたハロゲン化銀乳剤を定法に従いチオ硫酸ナトリウムと塩化金酸を用い、金イオウ増感を施した。こうして得られたハロゲン化銀乳剤は銀１ｇあたり０．５ｇのゼラチンを含む。
【００４４】
＜中間層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                            ０．５ｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                    ５ｍｇ
【００４５】
＜ハロゲン化銀乳剤層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                            １．０ｇ
ハロゲン化銀乳剤                                    ６．０ｇ銀相当
１−フェニル−５−メルカプトテトラゾール            ３．０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  ２０ｍｇ
【００４６】
＜最外層組成／１ｍ２あたり＞
ゼラチン                                                １ｇ
不定形シリカマット剤（平均粒径３．５μｍ）            １０ｍｇ
界面活性剤（Ｓ−１）                                  １０ｍｇ
【００４７】
＜導電性材料の製造＞
このようにして得たハロゲン化銀感光材料を、図１に示したような水銀灯を露光光源とする真空密着露光装置で透過原稿と真空密着して像様に露光した。透過原稿として図３に示した電極パターンを用いた。図３において、ａは導通パターンであり、隣接する導通パターン間には導通はない。導通パターンａは細線幅が１０μｍ、ピッチが３００μｍのメッシュパターンで構成されている。ｂは周辺配線部であり、個々の導通パターンａに接続されている。隣接する周辺配線部間には導通はない。周辺配線部ｂは線幅４０μｍの細線である。
【００４８】
光学フィルター固定用ホルダーに得られた光学フィルターを設置した。露光量は現像処理後得られる銀画像パターンの導通パターン細線幅及び周辺配線部細線幅が、透過原稿の細線幅と同じになる露光量で行った。
【００４９】
その後、露光したハロゲン化銀感光材料を以下の組成の拡散転写現像液に６０秒間浸し、その後、４０℃の温水シャワーを用いてハロゲン化銀乳剤層、中間層、最外層および裏塗り層を非接触で水洗除去し、乾燥装置で乾燥処理して銀画像パターンを得た。得られた銀画像パターンの導通パターン細線幅及び周辺配線部細線幅を光学顕微鏡で確認したところ、透過原稿の細線幅、ピッチを再現していた。
【００５０】
＜拡散転写現像液組成＞
水酸化カリウム                                        ４０ｇ
ハイドロキノン                                        ２８ｇ
１−フェニル−３−ピラゾリドン                          ３ｇ
亜硫酸カリウム                                      １２５ｇ
Ｎ−メチルエタノールアミン                            ２４ｇ
臭化カリウム                                            ２ｇ
全量を水で１０００ｍＬとする。
ｐＨ＝１２．２に調整する。
【００５１】
上記のようにして得られた銀画像パターンにおいて、各々の周辺配線両端の電気抵抗を測定し相加平均を算出した。図３の導通パターンにおいて、上から１、５、１０番目の導通パターン中央部の全光線透過率をスガ試験機（株）製ヘーズコンピューターＨＺ−２によってＪＩＳ  Ｋ７１３６に従い測定し、相加平均を算出した。これらの結果を表１に示す。
【００５２】
（実施例２）
実施例１のシリカ分散液の作製において、高圧ホモジナイザーの分散条件のみを変更し、平均二次粒子径が７５０ｎｍのシリカ分散液を作製した。その後、実施例１と同様に多孔質層塗布液、さらには光学フィルターを作製した。なお、作製した光学フィルターのヘーズは５２％であった。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５３】
（実施例３）
光学フィルターとして、三菱ガス化学株式会社製ユーピロン・フィルムＦＥ−２０００Ｍ０１（ポリカーボネート樹脂フィルム）を用いた。なお、光学フィルターのヘーズは８１％であった。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５４】
（実施例４）
光学フィルターを図１の透過原稿ｈ４と板ガラスｈ３の間（板ガラスｈ３の光源と反対側の面）に設置した。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５５】
（実施例５）
光学フィルターを図１の板ガラスｈ３の光源側の面に設置した。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５６】
（比較例１）
露光時に光学フィルターを設置しなかった。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５７】
（比較例２）
実施例１のシリカ分散液の作製において、高圧ホモジナイザーの分散条件のみを変更し、平均二次粒子径が１３０ｎｍのシリカ分散液を作製した。その後、実施例１と同様に多孔質層塗布液、さらには光学フィルターを作製した。なお、作製した光学フィルターのヘーズは１０％であった。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５８】
（実施例６）
透過原稿として、図３の導通パターンを構成する細線幅が５μｍ、ピッチが３００μｍのメッシュパターンのものを用いた。その他は実施例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００５９】
（実施例７）
透過原稿として、図３の導通パターンを構成する細線幅が５μｍ、ピッチが３００μｍのメッシュパターンのものを用いた。その他は実施例２と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００６０】
（実施例８）
透過原稿として、図３の導通パターンを構成する細線幅が５μｍ、ピッチが３００μｍのメッシュパターンのものを用いた。その他は実施例３と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００６１】
（比較例３）
透過原稿として、図３の導通パターンを構成する細線幅が５μｍ、ピッチが３００μｍのメッシュパターンのものを用いた。その他は比較例１と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００６２】
（比較例４）
透過原稿として、図３の導通パターンを構成する細線幅が５μｍ、ピッチが３００μｍのメッシュパターンのものを用いた。その他は比較例２と同様にして導電性材料を作製し、実施例１と同様に評価を実施した。この結果を表１に示す。
【００６３】
【表１】
2016001520.tif 000005
【００６４】
表１の結果から、本発明の有効性が理解できる。
【符号の説明】
【００６５】
ｈ１．露光光源
ｈ２．光学フィルター固定用ホルダー
ｈ３．板ガラス
ｈ４．透過原稿
ｈ５．ハロゲン化銀感光材料
ｈ６．可塑性シート
ｉ１．露光光源
ｉ２．光学フィルター固定用ホルダー
ｉ３．透過原稿
ｉ４．透過原稿固定用ホルダー
ｉ５．ハロゲン化銀感光材料
ｉ６．可塑性シート
ａ．導通パターン
ｂ．周辺配線部
【図３】
2016001520.tif 000006
【図１】
2016001520.tif 000007
【図２】
2016001520.tif 000008