(57)【要約】【課題】優れた反射防止性能を呈しながら、耐衝撃性も充分である光学製品等を提供する。【解決手段】光学製品において、基体の片面又は両面に対して反射防止膜が形成されており、反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されており、低屈折率層には、ＭｇＦ２層が含まれており、高屈折率層には、Ｔａ２Ｏ５層が含まれている。又、Ｔａ２Ｏ５層は、イオンアシスト法により蒸着することで形成される。更に、低屈折率層として、ＳｉＯ２層を含める。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体の片面又は両面に対して反射防止膜が形成されており、
前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されており、
前記低屈折率層には、ＭｇＦ２層が含まれており、
前記高屈折率層には、Ｔａ２Ｏ５層が含まれている
ことを特徴とする光学製品。
【請求項２】
前記Ｔａ２Ｏ５層は、イオンアシスト法により蒸着することで形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の光学製品。
【請求項３】
前記低屈折率層には、更にＳｉＯ２層が含まれている
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光学製品。
【請求項４】
前記ＳｉＯ２層は、イオンアシスト法により蒸着して形成されている
ことを特徴とする請求項３に記載の光学製品。
【請求項５】
前記反射防止膜の最も基板に近い層は、前記低屈折率層であって、前記ＳｉＯ２層であり、１５０ナノメートル以上の物理膜厚を有する
ことを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の光学製品。
【請求項６】
前記基体は、強化ガラスを含む
ことを特徴とする請求項１ないしは請求項５の何れかに記載の光学製品。
【請求項７】
請求項１ないしは請求項６の何れかに記載の光学製品を用いた
ことを特徴とするレンズ用フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、充分な耐衝撃性と優れた反射防止性を両立することが可能な光学製品、及び当該光学製品を用いたカメラレンズ用フィルタを始めとするレンズ用フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラレンズ用フィルタとして、下記特許文献１のものが知られている。
このフィルタは、円板状に成形されたガラス生地を、１〜２ｍｍ程度の厚さに研磨加工した後で、硝酸カリウムを主成分とする化学強化液に浸して、カリウムイオンによるイオン交換によって強化処理し、強化処理後のガラス材の両面に低反射膜を真空蒸着することで製造される。
ガラス材は、強化処理により、１〜２ｍｍ程度の厚さであってもレンズ保護に充分な強度を有するものとされている。
又、低反射膜は、ＳｉＯ，ＳｉＯ２，ＴｉＯ２等による数ミクロン以内の多層コートとされ、その形成により、可視域での反射ロスを１％以内においてフラットに低減して、着色の極めて少ない理想的な写真用フィルタを実現することとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３０１７４６８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１のものでは、強化ガラスの採用により耐衝撃性を充分に確保することができるが、ＳｉＯ，ＳｉＯ２，ＴｉＯ２の多層コートにより低反射膜を形成するため、コスト面等において現実的な層数において、フラットで極めて低い（例えば１％以下，好ましくは０．８％以下，より好ましくは０．５％以下）反射率分布を具備させることが困難である。
そこで、請求項１，７に記載の発明は、優れた反射防止性能を呈しながら、耐衝撃性も充分である光学製品，レンズ用フィルタを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、光学製品にあって、基体の片面又は両面に対して反射防止膜が形成されており、前記反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されており、前記低屈折率層には、ＭｇＦ２層が含まれており、前記高屈折率層には、Ｔａ２Ｏ５層が含まれていることを特徴とするものである。
請求項２に記載の発明は、上記発明にあって、前記Ｔａ２Ｏ５層は、イオンアシスト法により蒸着することで形成されていることを特徴とするものである。
請求項３に記載の発明は、上記発明において、前記低屈折率層には、更にＳｉＯ２層が含まれていることを特徴とするものである。
請求項４に記載の発明は、上記発明において、前記ＳｉＯ２層は、イオンアシスト法により蒸着して形成されていることを特徴とするものである。
請求項５に記載の発明は、上記発明において、前記反射防止膜の最も基板に近い層は、前記低屈折率層であって、前記ＳｉＯ２層であり、１５０ナノメートル以上の物理膜厚を有することを特徴とするものである。
請求項６に記載の発明は、上記発明において、前記基体は、強化ガラスを含んでいることを特徴とするものである。
請求項７に記載の発明は、レンズ用フィルタにあって、上記発明の光学製品を用いたことを特徴とするものである。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、優れた反射防止性能を呈しながら、耐衝撃性も充分である光学製品，レンズ用フィルタを提供することが可能となる、という効果を奏する。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明に係る実施の形態の例につき、適宜図面を用いて説明する。尚、本発明の形態は、以下のものに限定されない。
【０００８】
本発明に係る光学製品では、基体の片面あるいは両面に対し、光学多層膜が形成されている。
本発明において、基体は透明（半透明を適宜含む）であれば良いが、好ましくは強化ガラスであり、例えば化学強化ガラスである。
強化ガラス基体は、表面に圧縮応力層が形成されているので、表面にクラックが生じたとしても、圧縮応力によりクラックの成長が抑制され、通常の（強化処理されていない）ガラス基体よりも衝撃に強い。
化学強化ガラス基体は、例えば次のように形成される。ナトリウム（Ｎａ）入りの通常のガラス基体を、硝酸カリウム（ＫＮＯ３）あるいはこれを主成分とする化学強化液に浸すと、ガラス基体からナトリウムイオン（Ｎａ＋）が流出してカリウムイオン（Ｋ＋）が入り込む。Ｋ＋はＮａ＋より大きいので、ガラス基体表面においてより大きなイオンが入った状態となって、表面において元に戻ろうとする力、即ち圧縮応力が生じる。
【０００９】
又、本発明において、光学多層膜は、主に可視光の反射を防止する機能を具備する。可視光の反射防止を目的とした光学多層膜あるいはその部分を、反射防止膜と呼称する。
光学多層膜は、反射防止膜のみから構成されても良いし、反射防止膜の表面側（空気側）に防汚膜や保護膜が付加されたものであっても良いし、反射防止膜の基体側にハードコート膜が付加されたものであっても良いし、反射防止膜内あるいは反射防止膜外に導電性向上等の他の目的のための単数又は複数の膜が付加されたものであっても良いし、これらの組合せであっても良い。尚、ハードコート膜や導電性膜等を光学多層膜に含まないものとして扱うことも可能である。
本発明において、反射防止膜は、下記の条件を満たす。尚、光学多層膜あるいは反射防止膜は、両面に形成される場合、好ましくは何れの膜も下記の条件を満たし、更に好ましくは何れの膜も同一の積層構造となるようにする。
まず、反射防止膜にあっては、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されている。最も基体側の層（基体に最も近い層）を１層目とした場合、１層目を低屈折率層としても良いし高屈折率層としても良いが、好ましくは奇数層目が低屈折率層であり、偶数層目が高屈折率層である。
次に、低屈折率層の少なくとも一部は、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）を用いて形成される。ＭｇＦ２層は、好ましくは真空蒸着法で形成される。
【００１０】
ＭｇＦ２層を反射防止膜における低屈折率層として用いれば、上記特許文献１のようなＳｉＯ，ＳｉＯ２（二酸化ケイ素，シリカ）のみで低屈折率層を形成する場合に比べ、ＭｇＦ２がＳｉＯ，ＳｉＯ２よりも屈折率が低いため、より容易に又層数の少ない状態で反射防止性能を向上することが可能となる。但し、ＭｇＦ２は、その表面側（空気側）に更にイオンアシスト法（ＩＡＤ，Ｉｏｎ  Ａｓｓｉｓｔｅｄ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）を用いた真空蒸着によって膜を形成した場合に、Ｍｇ−Ｆの結合の一部が切れる事態を生じてしまい、Ｍｇ（金属）による吸収が発生してしまうので、低屈折率層の大部分あるいは全てをＭｇＦ２で形成することは現状現実的ではない。
そこで、低屈折率材料としてＭｇＦ２を用い、中屈折率材料としてＡｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）を用い、高屈折率材料としてＺｒＯ２（酸化ジルコニウム）を用いた反射防止膜を強化ガラス表面に付与したサンプルを種々作成したところ、優れた反射防止性能を確保できるものの、反射防止膜付与前に比べて耐衝撃性が低下することが分かった。
これは、次のような仕組みであると合理的に推論される。
即ち、硝酸カリウムの適用により、ガラス表面のナトリウムイオンが、より大きいカリウムイオンに交換され、ガラス表面に圧縮応力が生じる。この圧縮応力の存在により、強化ガラス表面に微細なクラック（裂け目，小傷）が生じたとしても、これを両側から押すような力がかかることとなり、クラックが成長し難くなって、衝撃により微細なクラックが生じても割れ難くなる。
一方、ＭｇＦ２は、真空蒸着等により薄膜として形成されると、比較的に大きな引張応力を保持する性質がある。
従って、強化ガラスの表面にＭｇＦ２を含む反射防止膜を形成すると、基材の最表面側（最も空気に近い側）に引張応力を有する状態となり、ＭｇＦ２を含む反射防止膜の引張応力によりクラックの成長が促進され、基材表面にクラックが生じると、強化ガラス表面の圧縮応力に勝って全体的な割れを生じ易くなる。
【００１１】
以上より、優れた反射防止性能を確保するためにＭｇＦ２を採用する前提で、耐衝撃性を強化ガラスのみの場合と同等以上とすることを念頭に、本発明の光学製品では、高屈折率層として、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５等）を用いて形成されたものを採用した。
即ち、Ｔａ２Ｏ５層は、成膜により圧縮応力を呈するので、ＭｇＦ２による引張応力の一部あるいは全部を相殺し、又は引張応力を上回り反射防止膜全体として圧縮応力を呈するようになって、クラックの成長を抑制し、優れた耐衝撃性能を具備するようになるものと考え、本発明の光学製品において高屈折率層としてＴａ２Ｏ５層を用いたものである。
かような本発明の光学製品について、数例を後述の実施例として説明するように、サンプルによって耐衝撃性能を試したところ、上述のＭｇＦ２／Ａｌ２Ｏ３／ＺｒＯ２系の反射防止膜を有する強化ガラス基板とは異なり、強化ガラスのみの場合と同等以上の耐衝撃性能の具備を確認することができた。
又、Ｔａ２Ｏ５層を真空蒸着法で形成すれば、他の形成手法に比べ、圧縮応力をより大きなものとして耐衝撃性能を一層向上することができる。更に、真空蒸着においてＩＡＤを用いれば、更にＴａ２Ｏ５層の圧縮応力を大きなものとすることができ、耐衝撃性能を更に向上することができる。
【００１２】
又、上述の通り低屈折率層の大部分あるいは全てをＭｇＦ２で形成することは現状現実的でない観点や、低屈折率層においても圧縮応力を有させることでＭｇＦ２による引張応力の影響をできるだけ低減して耐衝撃性能を更に向上させる観点から、反射防止膜の低屈折率層として、ＳｉＯ２層を併せて採用することができる。ＳｉＯ２層は、圧縮応力を有し、圧縮応力を大きくする観点から好ましくは真空蒸着法で形成され、より好ましくはＩＡＤを用いた真空蒸着法により形成される。尚、圧縮応力の大きさで比較すると、Ｔａ２Ｏ５層よりＳｉＯ２層の方が大きい傾向にある。
以上に加えて、１層目又は２層目に位置する（最も基板に近い低屈折率層としての）ＳｉＯ２層の膜厚を１５０ｎｍ（ナノメートル）以上にすると、ＭｇＦ２層を用いたとしても充分な圧縮応力を確保することができる。
本発明の光学製品において、上記以外の低屈折層材料、高屈折率材料を適宜合わせて用いても良い。又、ある１つの層は、複数の材料を合わせて形成されても良く、Ｔａ２Ｏ５層は、Ｔａ２Ｏ５を主成分とする層と捉えても良く、他の層も同様である。
【００１３】
上記の光学製品は、基体の片面又は両面に対して反射防止膜が形成されており、反射防止膜は、低屈折率層と高屈折率層が交互に積層されており、低屈折率層には、ＭｇＦ２層が含まれており、高屈折率層には、Ｔａ２Ｏ５層が含まれているので、比較的に低い屈折率を有して、極めて低い反射率となる反射防止膜を容易に形成可能なＭｇＦ２層を用いながら、ＭｇＦ２層の引張応力をＴａ２Ｏ５層により緩和しあるいは解消し、更には反射防止膜において圧縮応力が残存するようにして、反射防止膜や基体の耐衝撃性を極めて良好なものとすることができる。
又、上記の光学製品において、Ｔａ２Ｏ５層をイオンアシスト法により蒸着して形成することができ、この場合Ｔａ２Ｏ５層の圧縮応力を更に強めてＭｇＦ２層の引張応力の緩和ないし解消あるいは圧縮応力の付与を更に行い易くし、耐衝撃性を一層良好にすることができる。
更に、低屈折率層として、ＳｉＯ２層を含めることもでき、この場合、Ｔａ２Ｏ５層と同様圧縮応力によりＭｇＦ２層の引張応力の作用を相殺し圧縮応力を付与して耐衝撃性能を向上することができる。又、ＳｉＯ２層をイオンアシスト法により蒸着すれば、圧縮応力を更に強めて、ＭｇＦ２層の引張応力の作用をより一層減じ、あるいは圧縮応力が上回るようにして、耐衝撃性能を更に向上することができる。加えて、反射防止膜の最も基板に近い層に、低屈折率層としてのＳｉＯ２層を、１５０ｎｍ以上の物理膜厚を有する状態で配置すると、反射防止性能にさほど影響を与えずに、ＳｉＯ２層において充分な圧縮応力を確保することができ、非常に優れた反射防止性能と極めて高い耐衝撃性能を両立することが可能となる。
更に、基体の少なくとも一部が強化ガラスであれば、強化ガラス本来の耐衝撃性能を損なわず、あるいは更に耐衝撃性能を強化して、極めて低い反射率を呈する反射防止膜を付与することが可能となる。
【００１４】
上記の光学製品において、好適には基体はレンズ用フィルタ基体であり、光学製品はレンズ用フィルタである。代表的用途は、レンズの保護の目的でレンズの近傍（レンズの前や上等）に装着するものであり、レンズの代表例は、カメラレンズである。
レンズ用フィルタは、眼鏡レンズに比べ、プラスチックレンズ基体とされるニーズが小さく、フィルタによる色付きや光量減を防止するために可視域（例えば４００ｎｍ以上７６０ｎｍ以下の波長域）の分光反射率分布を極めて低い反射率でフラットにするニーズが大きいため、ＭｇＦ２層を有する衝撃に強いフィルタが望まれており、上記光学製品はかような需要に良く適合する。
【実施例】
【００１５】
次いで、本発明の好適な実施例、及び本発明に属さない比較例につき、数例説明する（実施例１〜４，比較例１〜７）。
【００１６】
≪実施例１〜４≫
実施例１〜４に係る光学製品として、直径７０ミリメートル（ｍｍ）で厚さ２ｍｍのイオン交換強化ガラス製のフラットな円板状の透明な基体（基板）の片面に対し、次に示す構成の光学多層膜（反射防止膜）を成膜したものを作成した。ガラスの強化にあっては、硝酸カリウムを主成分とする４５０℃の強化液に１６時間浸した。尚、防汚膜以外の部分が反射防止膜である。
（基板／）ＳｉＯ２層（ＩＡＤ）／Ｔａ２Ｏ５層（ＩＡＤ）／ＳｉＯ２層（ＩＡＤ）／Ｔａ２Ｏ５層（ＩＡＤ）／ＳｉＯ２層（ＩＡＤ）／ＩＴＯ層（ＩＡＤ）／Ｔａ２Ｏ５層（ＩＡＤ）／ＭｇＦ２層／ＳｉＯ２層／防汚膜
【００１７】
基板に最も近い層（最も初期に形成する層，１層目）に係るＳｉＯ２層（ＩＡＤ）は、膜厚（層厚）を１５０ｎｍとされ、他の層（膜）は、反射防止設計に従った通常の膜厚を有する。
実施例１〜４は、反射防止膜の各膜厚が互いに相違すること以外は、互いに同一である。
ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）層は、透明導電膜であり、反射防止膜の一部となっていると共に、帯電防止性能（防塵性能）を付与する目的を達成するために採用されている。
防汚膜は、反射防止膜を保護すると共に、水や埃等の汚れの付着を防止するために、反射防止膜の外側（空気側）に形成されている。実施例１〜４では、何れもＳｉＯ２層の上（空気側）にフッ素系樹脂層を成膜して防汚膜を形成している。フッ素系樹脂層は、次のように成膜されている。即ち、反射防止膜が既に付いている基板上に対し、真空蒸着法により撥水処理が施される。撥水剤として、有機ケイ素化合物（信越化学工業株式会社製ＫＹ−８）が使用され、薄膜層が形成される。フッ素系樹脂膜の物理膜厚は５ｎｍである。尚、防汚膜に隣接するＳｉＯ２層について、防汚膜の密着を補助するために形成されていることから防汚膜の一部とみることもできるし、反射防止膜の一部とみることもできる。
実施例１〜４における各種の膜は、全て真空蒸着法により成膜する。又、フッ素系樹脂層とＳｉＯ２層を除き、蒸着時、Ｏ２ガスを、真空度が設定値（５．０×１０−３パスカル（Ｐａ））となるような量だけ導入する。
特にＴａ２Ｏ５層及びＳｉＯ２層並びにＩＴＯ層は、ＩＡＤを用いた蒸着により成膜し、即ち真空蒸着時にイオンによるアシストを行うようにする。尚、ここではイオン化したＡｒガスを用い、加速電圧・電流は１００Ｖ（ボルト）・６００ｍＡ（ミリアンペア）であり、バイアス電流は１０００ｍＡである。尚上述の通り、適宜併せてＯ２ガスを導入する。
【００１８】
≪比較例１〜７≫
比較例１〜４に係る光学製品として、上記実施例１〜４と同じ基板（光学多層膜なし）の片面に、次に示す構成の多層膜を成膜したものを作成した。各膜は真空蒸着法により成膜した。比較例１，２は互いに同じものとし、比較例３，４も互いに同じものとした。比較例１，２と比較例３，４の相違点は、反射防止膜の各層の物理膜厚を反射防止設計内で相違させたものとし、この他は互いに同じものとした。
（基板／）Ａｌ２Ｏ３層／ＺｒＯ２層／Ａｌ２Ｏ３層／ＺｒＯ２層／ＭｇＦ２層／ＳｉＯ２層／防汚膜
比較例５〜７に係る光学製品として、上記実施例１〜４と同じ基板を用意した（基板の両面共に何も成膜していない，未コート）。比較例５〜７は、互いに同一である。
【００１９】
≪反射防止性≫
実施例１〜４及び比較例１〜４は、ＭｇＦ２層を含む反射防止膜を有するので、可視域における反射率を充分に低く（例えば１％以下，あるいは０．８％以下，又は０．５％以下）とすることができ、又可視域における分光反射率分布をフラットにすることができ、特にカメラレンズ用フィルタ（レンズ保護フィルタ）に適した反射防止性能を付与することができている。
一方、比較例４〜７では、強化ガラス基板のみであるため、反射防止性能が比較的に劣る。
【００２０】
≪耐衝撃性≫
実施例１〜４と比較例１〜７に対して、次に説明する耐衝撃性能試験を行った。
所定の重量の鋼球（有限会社舟辺精工製，直径は重量に応じており下記［表２］に記載，ＳＵＳ３０４）を、水平に置いた光学製品の表面からの高さが１２７センチメートルとなる位置において支持し、その後支持を解いて鋼球を光学製品へ落下させた。鋼球の落下を受けて光学製品が破損した際の鋼球の重量が大きいほど、光学製品の耐衝撃性が優れていることになる。尚、当該試験の内、１６．３ｇの鋼球（直径１５．８７５ｍｍ，５／８インチ）は、米国ＦＤＡ規格にほぼ合致し、厳密には、鋼球直径は合致するものの鋼球重量が０．５６オンス（１５．８７７ｇ）であるからやや厳しめとなっている。
下記［表１］に比較例１〜７の試験結果を示し、［表２］に実施例１〜４の結果を示す。
【００２１】
【表１】
2016061792.tif 000002
【表２】
2016061792.tif 000003
【００２２】
［表１］に示すように、比較例１，３，４では、１６．３グラム（ｇ）の鋼球に係る落下の衝撃により、光学製品が破損した（表中「×」）。又、比較例２では、２３．６ｇの鋼球により光学製品が破損した。
比較例１〜４では、強化ガラス基板に対して、成膜後に引張応力を有するＭｇＦ２層を形成し、他に圧縮応力を充分に具備する層を配置しなかったので、比較的に耐衝撃性が低くなったものと考えられる。
比較例５，６では、５６ｇの鋼球の落下を受けても破損せず（表中「○」）、８０．２ｇの鋼球の落下にも耐えた。比較例７では、８０．２ｇの鋼球の落下に耐えた。
比較例５〜７では、ＭｇＦ２層を含む光学多層膜が付与されていないので、強化ガラス本来の耐衝撃性が発揮された。
尚、上述の強化ガラス基板に対し、ＳｉＯ２層及びＴｉＯ２層を交互に積層した反射防止膜を付与したものを作成したうえで耐衝撃性能試験を試みたが（別の比較例）、僅かな耐衝撃性の低下に留まった。ＳｉＯ２層及びＴｉＯ２層は何れも成膜後に圧縮応力を呈することから、ＭｇＦ２層が引張応力を呈するが故に光学製品の耐衝撃性を低下させるという考え方が合理的であることの裏付けの一つになる。
【００２３】
これに対し、［表２］に示すように、実施例１では、１１．２ｇから９５ｇまでの９段階の重さの鋼球に係る順次の落下にそれぞれ耐え、１１０ｇの鋼球の落下により破損した。実施例２では、同様に８０．２ｇまでの８段階の試験をクリアし、９５ｇの鋼球の落下により破損した。実施例３では、同様に１０段階１１０ｇまでの試験に耐え、１３０．５ｇの鋼球の落下により破損した。実施例４では、８０．２ｇの鋼球の落下に耐えた。
従って、実施例１〜４では、反射防止膜を含みながら、反射防止膜なし（強化ガラス基板のみ）の場合と同等以上の耐衝撃性を有することとなる。
【００２４】
≪まとめ等≫
以上、反射防止性能と耐衝撃性能の両立の観点から、次のことがいえる。
即ち、比較例５〜７のように、強化ガラス基板のみの光学製品では、耐衝撃性は充分であるものの、反射防止膜が付与されていないので反射防止性能が充分でない。
又、比較例１〜４のように、強化ガラス基板にＭｇＦ２層を含む反射防止膜を付与した場合、反射防止膜の機能により充分な反射防止性能が発揮でき、低屈折率材料としてＭｇＦ２を用いない反射防止膜（例えばＳｉＯ２層のみで低屈折率層を形成する）に比べ、ＭｇＦ２が低屈折率材料の中においてもかなり低い屈折率を有するために比較的に少ない総層数で反射防止性能をより一層向上することができる。しかし、ＭｇＦ２層が引張応力を呈し、これを緩和する構成が欠如しているが故に、耐衝撃性が劣ることとなる。
これに対し、実施例１〜４では、ＭｇＦ２層を有する反射防止膜を有するので、反射防止性能を充分なものとすることができる。しかも、優れた耐衝撃性も具備する。ＭｇＦ２層を有しながら耐衝撃性に優れる理由として、ＭｇＦ２層の引張応力を、Ｔａ２Ｏ５層（ＩＡＤ）及びＳｉＯ２層（ＩＡＤ）が呈する比較的に強い圧縮応力によって緩和し、打ち消し、あるいは上回ったことが考えられる。Ｔａ２Ｏ５層（ＩＡＤ）やＳｉＯ２層（ＩＡＤ）は、何れか一方のみ採用されても、ＭｇＦ２層の引張応力を弱め、打ち消し、あるいは上回って、優れた反射防止性能を確保しながら耐衝撃性を向上することができる。又、ＩＡＤを施さなくとも、ＭｇＦ２層の引張応力を緩和し解消しあるいは上回って耐衝撃性を向上することができることを別途確認したが、ＩＡＤを施した方がより一層良好な耐衝撃性能とすることができる。
【００２５】
尚、強化ガラス基板でなく、通常のガラス基板や他の基板においても、ＭｇＦ２層と、Ｔａ２Ｏ５層、ＳｉＯ２層、あるいはＴａ２Ｏ５層（ＩＡＤ）、ＳｉＯ２層（ＩＡＤ）の少なくともいずれかの組合せにより、ＭｇＦ２層の引張応力を緩和あるいは解消して強度を向上可能であることを、別途確認した。
又、実施例１〜４では、ＩＴＯ膜の配置により帯電防止性能も具備しているし、防汚膜の配置により撥水性能ないし防汚性能も具備しており、多機能な光学製品となっている。但し、ＩＴＯ膜を配置せず、防汚膜を配置しない、実施例１〜４と同じ反射防止膜のみを有する光学製品にあっても、反射防止性能と耐衝撃性能の両立を別途確認したものである。