(57)【要約】【課題】ネイルポリッシュ除去用組成物、及びそれを含むネイルポリッシュ除去用キットを提供する。【解決手段】本発明は、ネイルポリッシュ除去用組成物、及びそれを含むネイルポリッシュ除去用キットに関するものである。ＵＶゲル塗布またはアクリルレジン延長術などを施術する前に、本発明の多様な具現例によるネイルポリッシュ除去用組成物層を形成することによって、特別な道具や施術なしに簡便にこれを剥離させ、また指爪の損傷も大きく減らすことができる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）ポリウレタン溶液、ポリビニルアルコール水溶液、ポリ（メタ）アクリレート溶液、及びこれら２種以上の混合物のうちから選択された溶液を含み、
前記ポリウレタン溶液は、ポリウレタン２５〜４０重量％及び水６０〜７５重量％で構成され、
前記ポリビニルアルコール水溶液は、ポリビニルアルコール１〜２５重量％及び水７５〜９９重量％で構成され、
前記ポリ（メタ）アクリレート溶液は、ポリ（メタ）アクリレート５〜５０重量％及び水５０〜９５重量％で構成されたことを特徴とするネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項２】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ｂ）シリコン系またはフッ素系スリップ剤をさらに含み、
前記（ａ）溶液は、９５〜９９．９重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれることを特徴とする請求項１に記載のネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項３】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ｂ）シリコン系またはフッ素系スリップ剤、及び（ｃ）アクリル粘着剤をさらに含み、
前記（ａ）溶液は、７６〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれることを特徴とする請求項１に記載のネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項４】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ｂ）シリコン系またはフッ素系スリップ剤、（ｃ）アクリル粘着剤、及び（ｄ）グリセリンをさらに含み、
前記（ａ）溶液は、６６〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｄ）グリセリンは、０．１〜１０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれることを特徴とする請求項１に記載のネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項５】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ｂ）シリコン系またはフッ素系スリップ剤、（ｃ）アクリル粘着剤、（ｄ）グリセリン、及び（ｅ）増粘剤をさらに含み、
前記（ａ）溶液は、６５〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｄ）グリセリンは、０．１〜１０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｅ）増粘剤は、０．１〜１重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれることを特徴とする請求項１に記載のネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項６】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ｂ）シリコン系またはフッ素系スリップ剤、（ｃ）アクリル粘着剤、（ｄ）グリセリン、（ｅ）増粘剤、及び（ｆ）ビタミンをさらに含み、
前記（ａ）溶液は、４５〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｄ）グリセリンは、０．１〜１０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｅ）増粘剤は、０．１〜１重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、
前記（ｆ）ビタミンは、０．１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれることを特徴とする請求項１に記載のネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項７】
前記粘着剤は、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、及びこれら２種以上の混合物のうちから選択され、
前記増粘剤は、セルロース系増粘剤、ウレタン系増粘剤、及びこれら２種以上の混合物のうちから選択されることを特徴とする請求項５または６に記載のネイルポリッシュ除去用組成物。
【請求項８】
（Ｉ）ネイルポリッシュ除去用組成物、及び（ＩＩ）前記ネイルポリッシュ除去用組成物の使用説明書を含むネイルポリッシュ除去用キット。
【請求項９】
前記（Ｉ）ネイルポリッシュ除去用組成物は、請求項１ないし請求項６のうち何れか一項に記載のネイルポリッシュ除去用組成物であることを特徴とする請求項８に記載のネイルポリッシュ除去用キット。
【請求項１０】
前記ネイルポリッシュ除去用キットは、（ＩＩＩ）ネイルポリッシュ組成物をさらに含むことを特徴とする請求項９に記載のネイルポリッシュ除去用キット。
【請求項１１】
前記ネイルポリッシュ組成物は、（１）ベースＵＶゲル組成物、（２）ＵＶゲル組成物、（３）トップＵＶゲル組成物で構成されたことを特徴とする請求項１０に記載のネイルポリッシュ除去用キット。
【請求項１２】
（Ａ）ネイル上にネイルポリッシュ除去用組成物層を形成する段階、（Ｂ）前記ネイルポリッシュ除去用組成物が塗布されたネイル上にネイルポリッシュ層を形成させる段階を含むネイルケア方法。
【請求項１３】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、請求項１ないし請求項６のうち何れか一項に記載のネイルポリッシュ除去用組成物であることを特徴とする請求項１２に記載のネイルケア方法。
【請求項１４】
前記（Ｂ）段階は、（Ｂ１）前記ネイルポリッシュ除去用組成物が塗布されたネイル上にベースゲル層を形成させる段階、（Ｂ２）前記ベースゲル層が形成された部分上にＵＶゲル層を形成させる段階、及び（Ｂ３）前記ＵＶゲルが塗布された部分上にタップゲル層を形成させる段階を含むことを特徴とする請求項１３に記載のネイルケア方法。
【請求項１５】
前記（Ｂ２）段階は、（Ｂ２’）前記ベースゲル層が形成された部分上にＵＶゲル組成物を塗布する段階、及び（Ｂ２”）前記塗布されたＵＶゲル組成物にＵＶを照射する段階で構成されたことを特徴とする請求項１４に記載のネイルケア方法。
【請求項１６】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物層は、厚さが１０〜２０μｍであることを特徴とする請求項１３に記載のネイルケア方法。
【請求項１７】
前記ネイルポリッシュ除去用組成物層は、強度が０．３〜３ｋｇｆであることを特徴とする請求項１３に記載のネイルケア方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ネイルポリッシュ除去用組成物、及びそれを含むネイルポリッシュ除去用キットに関する。
【背景技術】
【０００２】
人間が追求する身体的美しさの表現方式の１つとして、美容産業は、発達が加速化され、かつ細分化されている。特に、２０世紀以来、急激な市場拡大と共に一般人に美容産業は、大衆化され始めた。美容産業中でも、ネイルアート（ｎａｉｌ  ａｒｔ）は、年齢や性別に関係なく、身体に対する表現芸術の必須的な要素として最近急激に発展しつつある。
【０００３】
本来、ネイルアートは、美容芸術の一分野であって、人間のボディーを美しく飾るための方法の１つであって、ネイル長や形状または色は、時代の文化の変化と価値とを反映して表現された。このようなネイルアートは、多様な物質を活用して施術されているが、最近、ＵＶゲル（ｕｌｔｒａｖｉｏｌｅｔ  ｇｅｌ）が脚光を浴びている。ＵＶゲルは、紫外線を用いて硬化させることで多様な長所を有しているが、柔軟かつ柔らかくて容易に割れないだけではなく、日光に露出されても変色されず、光沢に優れるという長所があり、このようなＵＶゲルは、ＵＶゲル層形成用組成物を天然ネイルに塗布した後、ＵＶ硬化させて形成させるが、これを通じて天然ネイルがグロッシー（ｇｌｏｓｓｙ）でシャイニー（ｓｈｉｎｙ）な高級感あふれる効果を出すことができて、広く利用されている。
【０００４】
しかし、このような長所にも拘らず、従来の天然ネイルに直接ＵＶゲル層を形成する場合、それを除去するために、アセトンのような有害な溶媒に長期間指を浸漬しなければならない過程が必要であって、皮膚とネイルとに非常に有害であるだけではなく、これを除去した後、天然ネイルの損傷が深刻な問題となっている。
【０００５】
このように、ネイルアート用ＵＶゲルを施術した後、またはアクリルレジンなど指爪延長を施術した後で、それを除去するためには、アセトンなどの溶剤をガーゼにつけて当該指爪を包んだ後、５〜１０分経過後、除去するが、これにより、有機溶剤露出及び特に指爪に多くの損傷を与えるだけではなく、キューティクル反対側末端がチッピング（ｃｈｉｐｐｉｎｇ）されるか、キューティクル側末端部位が脱落（ｆａｌｌ  ｏｆｆ）される問題もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１２−０１１０８４４号
【特許文献２】韓国公開特許第１０−２０１０−０１２５８５９号
【特許文献３】韓国公開特許第１０−２０１４−００８６４３７号
【特許文献４】韓国公開特許第１０−２０１０−０１０８５５５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
これにより、本発明は、天然ネイルにネイルポリッシュ除去用組成物層を形成した後、その上にＵＶゲルを塗布するか、アクリルレジンなど指爪延長を施術することによって、前記のようなＵＶゲルの長所はそのまま保持しながら、ＵＶゲル層が有する高級な効果またはアクリルレジンなど指爪延長の効果をそのまま出すことができるだけではなく、ＵＶゲルを除去するときに、有害な有機溶剤を使わずとも、それを容易に除去することができる長所がある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の一側面は、（ａ）ポリウレタン溶液、ポリビニルアルコール水溶液、ポリ（メタ）アクリレート溶液、及びこれら２種以上の混合物のうちから選択された溶液を含むネイルポリッシュ除去用組成物に関するものである。
【０００９】
本発明の他の側面は、（Ｉ）ネイルポリッシュ除去用組成物、及び（ＩＩ）前記ネイルポリッシュ除去用組成物の使用説明書を含むネイルポリッシュ除去用キットに関するものである。
【００１０】
本発明のさらに他の側面は、（Ａ）ネイル上にネイルポリッシュ除去用組成物層を形成する段階、（Ｂ）前記ネイルポリッシュ除去用組成物が塗布されたネイル上にネイルポリッシュ層を形成させる段階を含むネイルケア方法に関するものである。
【発明の効果】
【００１１】
ＵＶゲル塗布またはアクリルレジン延長術などを施術する前に、本発明の多様な具現例によるネイルポリッシュ除去用組成物層を形成することによって、特別な道具や施術なしに簡便にそれを剥離させ、また指爪の損傷も大きく減らすことができる。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の多様な側面及び多様な具現例についてさらに具体的に説明する。
【００１３】
本発明の一側面は、（ａ）ポリウレタン溶液、ポリビニルアルコール水溶液、ポリ（メタ）アクリレート溶液、及びこれら２種以上の混合物のうちから選択された溶液を含むネイルポリッシュ除去用組成物に関するものである。
【００１４】
この際、前記ポリウレタン溶液は、ポリウレタン２５〜４０重量％及び水６０〜７５重量％で構成される。また、前記ポリビニルアルコール水溶液は、ポリビニルアルコール１〜２５重量％及び水７５〜９９重量％で構成される。また、前記ポリ（メタ）アクリレート溶液は、ポリ（メタ）アクリレート５〜５０重量％及び水５０〜９５重量％で構成される。
【００１５】
一具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ｂ）シリコン系またはフッ素系スリップ剤をさらに含みうるが、この際、前記（ａ）溶液は、９５〜９９．９重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれる。
【００１６】
他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ａ）及び（ｂ）成分以外に（ｃ）アクリル粘着剤をさらに含みうるが、この際、前記（ａ）溶液は、７６〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれる。
【００１７】
さらに他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ａ）ないし（ｃ）成分以外に（ｄ）グリセリンをさらに含みうるが、この際、前記（ａ）溶液は、６６〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｄ）グリセリンは、０．１〜１０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれる。
【００１８】
ネイルポリッシュ除去用組成物は、塗布されて塗膜が形成されるまで必要な乾燥または揮発時間が５０〜２００秒になるように組成を構成することが望ましく、特に、前記（ａ）ないし（ｄ）の構成成分を含み、前記のような含量で構成する場合、前記のような乾燥または揮発時間を満たす。乾燥または揮発時間が５０秒未満である場合には、ネイルポリッシュ除去用組成物をブラシで塗布する時、蜘蛛の糸のように細い紐が形成されて、きれいなネイルポリッシュ除去用組成物層の形成が難しい。また、組成物の容器入口周辺及び内容物自体が容易に固まるなどの貯蔵性が悪くなるので望ましくない。また、２００秒を超過する場合には、ネイルケアに必要な時間とそれによる不便さとが増加するだけではなく、乾燥が遅れて、一定の接着力でネイルポリッシュ除去用組成物層が形成されず、その後ネイルポリッシュを除去するとき、均一な除去が難しくなって望ましくない。
【００１９】
さらに他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ａ）ないし（ｄ）成分以外に（ｅ）増粘剤をさらに含みうるが、この際、前記（ａ）溶液は、６５〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｄ）グリセリンは、０．１〜１０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｅ）増粘剤は、０．１〜１重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれる。
【００２０】
さらに他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、（ａ）ないし（ｅ）成分以外に（ｆ）ビタミンをさらに含みうるが、前記（ａ）溶液は、４５〜９５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｂ）スリップ剤は、０．０１〜５重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｃ）粘着剤は、０．０１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｄ）グリセリンは、０．１〜１０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｅ）増粘剤は、０．１〜１重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれ、前記（ｆ）ビタミンは、０．１〜２０重量％で前記ネイルポリッシュ除去用組成物に含まれる。
【００２１】
前記の多様な具現例による組成物において、ポリウレタン溶液の含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、容易に脱落する恐れがあって望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ層が分離されず、全体としてきれいに除去される代わりに、ネイルポリッシュ層が分離されて、切片が剥げ落ちるように一部のみ除去されて、除去が難しくなる問題が発生する。
【００２２】
また、前記の多様な具現例による組成物において、シリコン系またはフッ素系スリップ剤に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去用組成物をブラシで塗布するとき、蜘蛛の糸のように細い紐が形成されて、きれいなネイルポリッシュ除去用組成物層の形成を難しくするので望ましくない。また、除去しようとするとき、容易には除去されず、切片が剥げ落ちるように一部のみ除去されて、除去が難しくなる。そして、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、乾燥時間が過度に遅くなり、容易にチッピングされるか、脱落されて望ましくない。
【００２３】
また、前記の多様な具現例による組成物において、粘着剤の含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、ウレタンがネイル面と接着力が過度に高くなって、剥離が難しくなるだけではなく、ネイルポリッシュ除去用組成物をブラシで塗布するとき、蜘蛛の糸のように細い紐が形成されて、きれいなネイルポリッシュ除去用組成物層の形成を難しくするので望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去用組成物層とネイル面との接着力が過度に低くなって、結果的に、ネイルポリッシュ層の安定した付着を難しくして望ましくない。
【００２４】
また、前記の多様な具現例による組成物において、グリセリンに関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去用組成物をブラシで塗布するとき、蜘蛛の糸のように細い紐が形成されて、きれいなネイルポリッシュ除去用組成物層の形成を難しくするので望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去用組成物層とネイル面との接着力が過度に低くなって、結果的に、ネイルポリッシュ層の安定した付着を難しくして望ましくない。
【００２５】
また、前記の多様な具現例による組成物において、増粘剤の含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、粘度が過度に低くて、１回塗布時に、ネイル上に塗布される厚さが小さくて、全体として一定の接着力で塗布されず、その後ネイルポリッシュを除去する時、均一な除去が難しくなって望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去用組成物層が過度に厚く塗布されて、乾燥が遅くなり、やはり一定の接着力でネイルポリマー除去用組成物層が形成されず、その後ネイルポリッシュを除去するとき、均一な除去が難しくなって望ましくない。
【００２６】
また、前記の多様な具現例による組成物において、ビタミンの含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルの主成分であるケラチンを強化させて、指爪健康を高め、毀損状態を好転させる効果がほとんど発現されず、望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去用組成物層とネイル面との接着力が過度に低くなって、結果的に、ネイルポリッシュ層の安定した付着を難しくして望ましくない。
【００２７】
一具現例において、前記ポリウレタン溶液は、ポリウレタン２５〜４０重量％及び水６０〜７０重量％で構成することが望ましく、溶液内のポリウレタン固形分含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュを容易に除去しにくい恐れがあって望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、チッピングや脱落が容易になって望ましくない。
【００２８】
また、前記ポリビニルアルコール水溶液は、ポリビニルアルコール５〜３０重量％及び水７０〜９５重量％で構成することが望ましく、水溶液内のポリビニルアルコール固形分含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュを容易に除去しにくい恐れがあって望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、チッピングや脱落が容易になって望ましくない。
【００２９】
また、前記ポリ（メタ）アクリレート溶液は、ポリ（メタ）アクリレート２５〜４０重量％及び水６０〜７０重量％で構成することが望ましく、溶液内のポリ（メタ）アクリレート固形分含量に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュが容易に脱落するか、チッピングが発生する恐れがあって望ましくない。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ除去時に、均一な除去が難しくなって望ましくない。
【００３０】
本発明において、前記シリコン系、フッ素系スリップ剤の例としては、ポリシロキサン系、パーフルオロアルキル系、カルボン酸塩、スルホン酸塩、アンモニウム塩、ポリサッカライド、アセチレン系、及びこれら２種以上の混合物が含まれる。また、前記粘着剤の例には、アクリル系粘着剤、ゴム系粘着剤、ウレタン系粘着剤、及びこれら２種以上の混合物が含まれる。また、前記増粘剤の例には、セルロース系増粘剤、ウレタン系増粘剤、及びこれら２種以上の混合物が含まれる。また、前記ビタミンの例には、ビタミンＢ１、Ｂ２、Ｂ５、Ｃ、Ｅ、Ｈとカルシウム、及びこれら２種以上の混合物が含まれる。
【００３１】
前記のような構成要素及び含量でネイルポリッシュ除去用組成物を構成して使うことによって、そのネイルポリッシュ除去用組成物層上に形成されるＵＶゲル層が度々示すキューティクル反対側末端のチッピング問題とキューティクル層末端部位のピーリング問題とを解決することができることを確認した。
【００３２】
本発明の他の側面は、（Ｉ）ネイルポリッシュ除去用組成物、及び（ＩＩ）前記ネイルポリッシュ除去用組成物の使用説明書を含むネイルポリッシュ除去用キットに関するものである。
【００３３】
一具現例によれば、前記（Ｉ）ネイルポリッシュ除去用組成物は、本発明の多様な具現例によるネイルポリッシュ除去用組成物であり得る。
【００３４】
他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用キットは、（ＩＩＩ）ネイルポリッシュ組成物をさらに含みうる。
【００３５】
この際、前記ネイルポリッシュ組成物は、（１）ベースＵＶゲル組成物、（２）ＵＶゲル組成物、（３）トップＵＶゲル組成物で構成することができる。また、前記（１）と（２）の組成物の機能を一回でできるように、１つの組成物で構成することもでき、さらには、前記（１）と（２）及び（３）の組成物の機能を一回でできるように、いずれも１つの組成物で構成することもできる。前記（２）ＵＶゲル組成物には、色相を付与することができる染料または顔料などの物質がさらに含まれうる。
【００３６】
本発明のさらに他の側面は、（Ａ）ネイル上にネイルポリッシュ除去用組成物層を形成する段階、（Ｂ）前記ネイルポリッシュ除去用組成物が塗布されたネイル上にネイルポリッシュ層を形成させる段階を含むネイルケア方法に関するものである。
【００３７】
一具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物は、本発明の多様な具現例によるネイルポリッシュ除去用組成物であり得る。
【００３８】
他の具現例によれば、前記（Ｂ）段階は、（Ｂ１）前記ネイルポリッシュ除去用組成物が塗布されたネイル上にベースＵＶゲル層を形成させる段階、（Ｂ２）前記ベースＵＶゲル層が形成された部分上にＵＶゲル層を形成させる段階、及び（Ｂ３）前記ＵＶゲル層が塗布された部分上にトップＵＶゲル層を形成させる段階を含む工程で行われる。
【００３９】
さらに他の具現例によれば、前記（Ｂ２）段階は、（Ｂ２’）前記ベースＵＶゲル層が形成された部分上にＵＶゲル組成物を塗布する段階、及び（Ｂ２”）前記塗布されたＵＶゲル組成物にＵＶを照射する段階で構成された工程で行われる。
【００４０】
さらに他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物層は、厚さが１０〜８０μｍである。前記ネイルポリッシュ除去用組成物層の厚さに関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ層が分離されず、全体としてきれいに除去される代わりに、ネイルポリッシュ層が分離されて、切片が剥げ落ちるように一部のみ除去されて、除去が難しくなるだけではなく、ネイルポリッシュ除去用組成物層上に塗布されるポリッシュの色相が、指爪を汚染させる恐れもある。また、前記数値範囲の上限値を超過する場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、チッピングや脱落の恐れがあって望ましくない。
【００４１】
さらに他の具現例によれば、前記ネイルポリッシュ除去用組成物層は、ＡＳＴＭ  Ｄ６８３の方式で測定したとき、強度が０．３ｋｇｆ以上であり、例えば、０．３〜３ｋｇｆである。前記ネイルポリッシュ除去用組成物層の強度に関する前記数値範囲の下限値未満である場合には、前記数値範囲内の場合とは異なって、ネイルポリッシュ層が分離されず、全体としてきれいに除去される代わりに、ネイルポリッシュ層が分離されて、切片が剥げ落ちるように一部のみ除去されて、除去が難しくなる問題が発生する。
【産業上の利用可能性】
【００４２】
本発明は、ネイルポリッシュ除去用組成物、及びそれを含むネイルポリッシュ除去用キットに関連する分野に適用可能である。