(57)【要約】【課題】水分が含まれているサンプルガス全部のガス組成を分析するガス分析システムを安価に提供する。【解決手段】ガス分析システムは、水分が含まれるサンプルガスから水分を分離するための水分分離装置と、前記水分分離装置で前記サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析するためのガス分析装置と、前記水分分離装置で分離された前記水分の濃度を分析するための水分分析装置と、前記ガス分析装置で分析された前記乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と前記水分分析装置で分析された前記水分の濃度とに基づいて前記サンプルガス全部のガス組成を求めるためのガス組成演算装置とを備える。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
水分が含まれるサンプルガスから水分を分離するための水分分離装置と、
前記水分分離装置で前記サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析するためのガス分析装置と、
前記水分分離装置で分離された前記水分の濃度を分析するための水分分析装置と、
前記ガス分析装置で分析された前記乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と前記水分分析装置で分析された前記水分の濃度とに基づいて前記サンプルガス全部のガス組成を求めるためのガス組成演算装置と
を備えることを特徴とするガス分析システム。
【請求項２】
前記水分分離装置は、
前記サンプルガスに含まれる水分を膜交換するための水分分離膜を含み、
パージガス供給源からパージガスが供給されること
を特徴とする請求項１に記載のガス分析システム。
【請求項３】
前記ガス分析装置の上流に設けられ、前記水分分離装置がそれぞれ設けられた少なくとも二系統の水分分離系統と、
前記少なくとも二系統の水分分離系統のうち前記サンプルガスを供給する一つの系統を選択するための切換弁と
を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載のガス分析システム。
【請求項４】
前記水分分離装置の下流に設けられた水分検出器と、
前記水分検出器で検出された水分に基づいて前記切換弁を制御するための制御装置と
を更に備えることを特徴とする請求項３に記載のガス分析システム。
【請求項５】
前記ガス分析装置の上流に設けられ、前記水分分離装置がそれぞれ設けられた少なくとも二系統の水分分離系統と、
前記少なくとも二系統の水分分離系統のうち前記サンプルガスを供給する一つの系統を選択するための切換弁と、
前記水分分離装置の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出するための差圧検出手段と、
前記差圧検出手段で検出された差圧に基づいて前記切換弁を制御するための制御装置と
を更に備えること特徴とする請求項２に記載のガス分析システム。
【請求項６】
前記水分分離系統は、
前記水分分離装置に前記サンプルガスを供給するとともに前記水分分離装置から前記乾燥ガスを排出するためのサンプルラインと、
前記サンプルラインの乾燥ガス排出側に合流するように設けられた逆洗ガス供給ラインと、
前記サンプルラインのサンプルガス供給側から分岐するように設けられた逆洗ガス排出ラインと
を含むことを特徴とする請求項３から５のいずれか一項に記載のガス分析システム。
【請求項７】
前記逆洗ガス供給ラインは、前記パージガス供給源に接続されること
を特徴とする請求項６に記載のガス分析システム。
【請求項８】
前記水分分離装置の上流に設けられた流量計と、
前記流量計で計測された流量の積算値に基づいて前記水分分離装置の交換までの期間を管理する制御装置と、
を備えることを特徴とする請求項３から７のいずれかに記載のガス分析システム。
【請求項９】
前記水分分離膜は、親水基を有する高分子チューブで構成されること
を特徴とする請求項２又は５に記載のガス分析システム。
【請求項１０】
前記親水基は、吸湿性硫酸系官能基であること
を特徴とする請求項９に記載のガス分析システム。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれか一項に記載のガス分析システムと、
前記サンプルガスに含まれるガスの成分ごとに発熱量が記憶された発熱量データベースと、
前記発熱量データベースを参照し、前記ガス組成演算装置で求められたサンプルガス全部のガス組成に基づいて前記サンプルガスのガス発熱量を求めるように構成されたガス発熱量演算装置と
を備えることを特徴とするガス発熱量モニタリングシステム。
【請求項１２】
生産された燃料ガスの一部を前記サンプルガスとして導入し、ガス発熱量をモニタリングする請求項１１に記載のガス発熱量モニタリングシステムを備えることを特徴とするガスプラント。
【請求項１３】
水分が含まれるサンプルガスから水分を分離する前処理工程と、
前記前処理工程で前記サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析するガス分析工程と、
前記前処理工程で分離された前記水分の濃度を計測する水分分析工程と、
前記ガス分析工程で分析された前記乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と前記水分分析装置で分析された前記水分の濃度とに基づいて前記サンプルガス全部のガス組成を求めるガス組成演算工程と、
を含むことを特徴とするガス分析方法。
【請求項１４】
前記前処理工程は、
前記サンプルガスに含まれる水分を膜交換する膜交換ステップと、
パージガスを供給し、前記膜交換された水分を前記パージガスとともに分離する水分分離ステップと
を有することを特徴とする請求項１３に記載のガス分析方法。
【請求項１５】
少なくとも二系統の水分分離系統のうち前記サンプルガスを供給する一つの系統を選択する工程を含むこと
を特徴とする請求項１３又は１４に記載のガス分析方法。
【請求項１６】
前記サンプルガスを供給するとともに前記乾燥ガスを排出するサンプルラインの乾燥ガス排出側から逆洗ガスを供給するとともに、前記サンプルラインのサンプルガス供給側から逆洗ガスを排出する逆洗工程を含むこと
を特徴とする請求項１３から１５のいずれか一項に記載のガス分析方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、ガス分析システム、ガス発熱量モニタリングシステム、及びガスプラント、並びにガス分析方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
ガス精錬設備やバイオマスガス化プラント等の燃料ガスを生産するガスプラントでは、生産された燃料ガスのガスカロリーの把握、ガス化炉のリークの有無の把握等のために、生産された燃料ガスのガス組成を分析することが求められている。
【０００３】
特許文献１には、水分が含まれている燃料ガス（サンプルガス）にレーザー光を照射し、該燃料ガス（サンプルガス）からの散乱光をスペクトル分析することにより、該燃料ガス（サンプルガス）に含まれる可燃ガス（乾燥ガス）の成分及び該成分の濃度を計測すると同時に、燃料ガス（サンプルガス）中の水分濃度を計測するガス分析方法が開示されている。
【０００４】
特許文献２には、サンプルガスを濃縮するための濃縮器を備えるガス分析装置が開示されている。濃縮器は、分離フィルタが収納された収容管を備え、サンプルガスが濃縮器を通過させることで、サンプルガス中における各気体を選択的に透過・不透過して分離するものとされている。例えば、水素を主成分とするサンプルガス中におけるアルゴン、窒素等（検出対象ガス）を検出する場合、所定量の水素だけを分離フィルタに透過させて外側に排出することで、分離フィルタの内側で水素中におけるアルゴン、窒素等（検出対象ガス）の濃度を高めることができるとされている。また、例えば、アルゴン、窒素等を主成分とするサンプルガス中における水素（検出対象ガス）を検出する場合、分離フィルタに水素だけを外側に透過することで、外側の水素（検出対象ガス）の濃度を高めることができるとされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−３２５４５８号公報
【特許文献２】特開２０１１−６４５２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、特許文献１が開示するガス分析方法では高価なレーザーラマン分析装置で燃料ガス（サンプルガス）に含まれる可燃ガス（乾燥ガス）の濃度を計測すると同時に、水分の濃度を計測するので、燃料ガス（サンプルガス）のガス組成を分析するのに必要なコストが嵩む。
【０００７】
また、特許文献２が開示するガス分析装置は、サンプルガスに含まれる検出対象ガスの濃度を高めるものであり、サンプルガス全部のガス組成を分析するものではない。
【０００８】
上述の事情に鑑みて、本発明の少なくとも一実施形態は、水分が含まれているサンプルガス全部のガス組成を分析するガス分析システム、ガス発熱量モニタリングシステム、及びガスプラント、並びにガス分析方法を安価に提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明の少なくとも一実施形態に係るガス分析システムは、
水分が含まれるサンプルガスから水分を分離するための水分分離装置と、
前記水分分離装置で前記サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析するためのガス分析装置と、
前記水分分離装置で分離された前記水分の濃度を分析するための水分分析装置と、
前記ガス分析装置で分析された前記乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と前記水分分析装置で分析された前記水分の濃度とに基づいて前記サンプルガス全部のガス組成を求めるためのガス組成演算装置と
を備える。
【００１０】
上記（１）の構成によれば、水分が含まれるサンプルガスガスが乾燥ガスと水分とに分離され、それぞれ成分及び該成分の濃度が分析される。これにより、乾燥ガスの分析と水分の分析とが同時に行われ、乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分の濃度とに基づいてサンプルガス全部のガス組成を求めることができる。これにより、水分が含まれるサンプルガス全部のガス組成を分析するためのガス分析システムを安価に提供できる。
【００１１】
（２）幾つかの実施形態では、上記（１）の構成において、
前記水分分離装置は、
前記サンプルガスに含まれる水分を膜交換するための水分分離膜を含み、
パージガス供給源からパージガスが供給される。
【００１２】
上記（２）の構成によれば、サンプルガスに含まれる水分が膜交換され、パージガス供給源からパージガスが供給される。これにより、膜交換された水分はパージガスとともに水分分離膜から分離される。したがって、水分が含まれるサンプルガスから水分を簡単な構成で分離することができる。
【００１３】
（３）幾つかの実施形態では、上記（１）又は（２）の構成において、
前記ガス分析装置の上流に設けられ、前記水分分離装置がそれぞれ設けられた少なくとも二系統の水分分離系統と、
前記少なくとも二系統の水分分離系統のうち前記サンプルガスを供給する一つの系統を選択するための切換弁と
を備える。
【００１４】
上記（３）の構成によれば、少なくとも二系統の水分分離系統のうち一つの系統に設けられた水分分離装置が故障等しても異なる一つの系統を選択することでサンプルガスから水分を継続して分離することができる。これにより、一つの系統に設けられた水分分離装置が故障等しても、水分が含まれるサンプルガス全部のガス組成を継続して分析することができる。
【００１５】
（４）幾つかの実施形態では、上記（３）の構成において、
前記水分分離装置の下流に設けられた水分検出器と、
前記水分検出器で検出された水分に基づいて前記切換弁を制御するための制御装置と
を更に備える。
【００１６】
上記（４）の構成によれば、水分検出器は水分分離装置の下流の水分を検出する。そして、制御装置は水分検出器が検出した水分に基づいて切換弁を制御する。例えば、水分分離装置が故障し、又は性能が劣化した場合に水分検出器が通常よりも多くの水分を検出することになるが、この場合に制御装置は切変弁を制御して選択されている水分分離系統から選択されていない水分分離系統に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００１７】
（５）幾つかの実施形態では、上記（２）の構成において、
前記ガス分析装置の上流に設けられ、前記水分分離装置がそれぞれ設けられた少なくとも二系統の水分分離系統と、
前記少なくとも二系統の水分分離系統のうち前記サンプルガスを供給する一つの系統を選択するための切換弁と、
前記水分分離装置の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出するための差圧検出手段と、
前記差圧検出手段で検出された差圧に基づいて前記切換弁を制御するための制御装置と
を更に備える。
【００１８】
上記（５）の構成によれば、差圧検出手段は水分分離装置の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出する。そして、制御装置は差圧検出手段が検出した差圧に基づいて切換弁を制御する。例えば、水分分離装置の水分分離膜の性能が劣化した場合に差圧検出手段が通常よりも大きな差圧を検出することになるが、この場合に制御装置は切換弁を制御して選択されている水分分離系統から選択されていない水分分離系統に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００１９】
（６）幾つかの実施形態では、上記（３）から（５）のいずれか一つの構成において、
前記水分分離系統は、
前記水分分離装置に前記サンプルガスを供給するとともに前記水分分離装置から前記乾燥ガスを排出するためのサンプルラインと、
前記サンプルラインの乾燥ガス排出側に合流するように設けられた逆洗ガス供給ラインと、
前記サンプルラインのサンプルガス供給側から分岐するように設けられた逆洗ガス排出ラインと
を含む。
【００２０】
上記（６）の構成によれば、逆洗ガス供給ラインから逆洗ガスを供給するとともに、逆洗ガス排出ラインから逆洗ガスを排出することができる。したがって、ガス供給ラインから逆洗ガスを供給するとともに逆洗ガス排出ラインから逆洗ガスを排出すれば、水分分離装置が洗浄される。これにより、水分分離装置の性能が劣化した場合等に水分分離装置を洗浄することができる。
【００２１】
（７）幾つかの実施形態では、上記（６）の構成において、
前記逆洗ガス供給ラインは、前記パージガス供給源に接続される。
【００２２】
上記（７）の構成によれば、パージガス供給源から供給されるパージガスを逆洗ガスに用いることができる。これにより、逆洗ガス供給ラインに逆洗ガスを供給するための逆洗ガス供給源をパージガス供給源と別に設ける必要がなく、ガス分析システムを安価に提供できる。
【００２３】
（８）幾つかの実施形態では、上記（３）から（７）のいずれか一つの構成において、
前記水分分離装置の上流に設けられた流量計と、
前記流量計で計測された流量の積算値に基づいて前記水分分離装置の交換までの期間を管理する制御装置と、
を備える。
【００２４】
上記（８）の構成によれば、流量計で計測された流量の積算値に基づいて水分分離装置の交換までの期間を管理できる。
【００２５】
（９）幾つかの実施形態では、上記（２）又は（５）の構成において、
前記水分分離膜は、親水基を有する高分子チューブで構成される。
【００２６】
上記（９）の構成によれば、サンプルガスに含まれる水分が親水基を有する高分子チューブを通過する際に膜交換され、パージガス供給源から供給されたパージガスとともに分離される。
【００２７】
（１０）幾つかの実施形態では、上記（９）の構成において、
前記親水基は、吸湿性硫酸系官能基である。
【００２８】
上記（１０）の構成によれば、サンプルガスに含まれる水分が効率的に膜交換され、サンプルガスから水分が効率的に分離される。これにより、サンプルガスに含まれる水分の濃度が効率的に分析可能となる。
【００２９】
（１１）本発明の少なくとも一実施形態に係るガス発熱量モニタリングシステムは、
上記（１）から（１０）のいずれか一つのガス分析システムと、
前記サンプルガスに含まれるガスの成分ごとに発熱量が記憶された発熱量データベースと、
前記発熱量データベースを参照し、前記ガス組成演算装置で求められたサンプルガス全部のガス組成に基づいて前記サンプルガスのガス発熱量を求めるように構成されたガス発熱量演算装置と
を備える。
【００３０】
上記（１１）の構成によれば、発熱量データベースを参照し、ガス組成演算装置で求められたサンプルガス全部のガス組成に基づいてサンプルガスのガス発熱量を求めることができる。これにより、水分が含まれているサンプルガスのガス発熱量モニタリングが可能となる。これにより、水分が含まれているサンプルガスのガス発熱量モニタリングシステムを安価に提供できる。
【００３１】
（１２）本発明の少なくとも一実施形態に係るガスプラントは、
生産された燃料ガスの一部を前記サンプルガスとして導入し、ガス発熱量をモニタリングする上記（１１）のガス発熱量モニタリングシステムを備える。
【００３２】
上記（１２）の構成によれば、生産された燃料ガスのガス発熱量をモニタリングすることができる。
【００３３】
（１３）本発明の少なくとも一実施形態に係るガス分析方法は、
水分が含まれるサンプルガスから水分を分離する前処理工程と、
前記前処理工程で前記サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析するガス分析工程と、
前記前処理工程で分離された前記水分の濃度を計測する水分分析工程と、
前記ガス分析工程で分析された前記乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と前記水分分析装置で分析された前記水分の濃度とに基づいて前記サンプルガス全部のガス組成を求めるガス組成演算工程と、
を含む。
【００３４】
上記（１３）の方法によれば、水分が含まれるサンプルガスから水分が分離される。そして、サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度が分析され、サンプルガスから分離された水分の濃度が計測される。そして、乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分の濃度とに基づいてサンプルガス全部のガス組成が求められる。これにより、水分が含まれているサンプルガス全部のガス組成を分析するガス分析方法を安価に提供できる。
【００３５】
（１４）幾つかの実施形態では、上記（１３）の方法において、
前記前処理工程は、
前記サンプルガスに含まれる水分を膜交換する膜交換ステップと、
パージガスを供給し、前記膜交換された水分を前記パージガスとともに分離する水分分離ステップと
を有する。
【００３６】
上記（１４）の方法によれば、サンプルガスに含まれる水分が膜交換される。そして、パージガスが供給され、膜交換された水分がパージガスとともに分離される。これにより、サンプルガスに含まれる水分を効率的に分離することができる。
【００３７】
（１５）幾つかの実施形態では、上記（１３）又は（１４）の方法において、
少なくとも二系統の水分分離系統のうち前記サンプルガスを供給する一つの系統を選択する工程を含む。
【００３８】
上記（１５）の方法によれば、少なくとも二系統の水分分離系統のうちサンプルガスを供給する一つの系統が選択される。これにより、サンプルラインに設けられた水分分離装置を選択することができる。
【００３９】
（１６）幾つかの実施形態では、上記（１３）から（１５）のいずれか一つの方法において、
前記サンプルガスを供給するとともに前記乾燥ガスを排出するサンプルラインの乾燥ガス排出側から逆洗ガスを供給するとともに、前記サンプルラインのサンプルガス供給側から逆洗ガスを排出する逆洗工程を含む。
【００４０】
上記（１６）の方法によれば、サンプルラインの乾燥ガス排出側から逆洗ガスが供給され、サンプルラインのサンプルガス供給側から逆洗ガスが排出される。これにより、サンプルラインに設けられた水分分離装置を洗浄できる。
【発明の効果】
【００４１】
本発明の少なくとも一実施形態によれば、水分が含まれるサンプルガス全部のガス組成を分析するためのガス分析システム、ガス発熱量モニタリングシステム、及びガスプラント、並びにガス分析方法が安価に提供される。
【図面の簡単な説明】
【００４２】
【図１】一実施形態に係るガス分析システムの構成を概略的に示すブロック図である。
【図２】一実施形態に係るガス分析システムの構成を概略的に示すブロック図である。
【図３】一実施形態に係るガス分析システムの構成を概略的に示すブロック図である。
【図４】一実施形態に係る水分分離膜を概略的に示す模式図である。
【図５】一実施形態に係る水分分離膜を概略的に示す模式図である。
【図６】一実施形態に係るガス発熱量モニタリングシステムの概略を示すブロック図である。
【図７】一実施形態に係るガスプラントの概略を示すブロック図である。
【図８】一実施形態に係るガス分析方法の分析手順を概略的に示すフローチャートである。
【図９】一実施形態に係るガス分析方法の分析手順を概略的に示すフローチャートである。
【図１０】一実施形態に係るガス分析方法の分析手順を概略的に示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００４３】
以下、添付図面を参照して本発明の幾つかの実施形態について説明する。ただし、実施形態として記載されている又は図面に示されている構成部品の寸法、材質、形状、その相対的配置等は、本発明の範囲をこれに限定する趣旨ではなく、単なる説明例にすぎない。
【００４４】
例えば、「ある方向に」、「ある方向に沿って」、「平行」、「直交」、「中心」、「同心」或いは「同軸」等の相対的或いは絶対的な配置を表す表現は、厳密にそのような配置を表すのみならず、公差、若しくは、同じ機能が得られる程度の角度や距離をもって相対的に変位している状態も表すものとする。
【００４５】
また例えば、四角形状や円筒形状等の形状を表す表現は、幾何学的に厳密な意味での四角形状や円筒形状等の形状を表すのみならず、同じ効果が得られる範囲で、凹凸部や面取り部等を含む形状も表すものとする。
【００４６】
一方、一の構成要素を「備える」、「具える」、「具備する」、「含む」、又は、「有する」という表現は、他の構成要素の存在を除外する排他的な表現ではない。
【００４７】
図１から図３は、本発明の一実施形態に係るガス分析システム１の構成を概略的に示すブロック図である。
図１から図３に示すように、本発明の幾つかの実施形態に係るガス分析システム１は、水分分離装置２と、ガス分析装置３と、水分分析装置４と、ガス組成演算装置５とを備えている。
【００４８】
水分分離装置２は、水分が含まれるサンプルガスから水分を分離するためのものであり、水分分離装置２には分析対象となるサンプルガスが供給される。
【００４９】
図１から図３に例示する形態において、サンプルガスは、例えば、ガス精錬設備で精錬された燃料ガスやバイオマスガス化プラントで生産された燃料ガスの一部であり、分析対象となる燃料ガスの一部（サンプルガス）がセラミックフィルタ１１を通り水分分離装置２に供給される。
【００５０】
また、図１から図３に例示する形態において、セラミックフィルタ１１と水分分離装置２との間には流量計１２が設けられている。流量計１２は、セラミックフィルタ１１を通り水分分離装置２に供給されるサンプルガスの流量を検出するためのものであり、分析対象となるサンプルガスの流量が管理される。
【００５１】
また、図１から図３に例示する形態において、水分分離装置２にはパージガス供給源２２が接続されている。パージガス供給源２２は、サンプルガスから水分を分離するのに用いるパージガスを供給するためのものであり、水分分離装置２にサンプルガスが供給されるときにはパージガス供給源２２からも水分分離装置２にパージガスが供給される。尚、図１から図３に例示する形態において、パージガスは乾燥された窒素（Ｎ２）が用いられるが、乾燥された単一の不活性ガスであればよく、これに限られるものではなく、例えば、アルゴン（Ａｒ）やヘリウム（Ｈｅ）などの乾燥された単一の不活性ガスを用いることができる。
【００５２】
また、図１から図３に例示する形態において、パージガス供給源２２と水分分離装置２との間には流量計１３が設けられている。流量計１３は、パージガス供給源２２から水分分離装置２に供給されるパージガスの流量を検出するためのものであり、サンプルガスから水分を分離するのに用いるパージガスの流量が管理される。
【００５３】
ガス分析装置３は、水分分離装置２でサンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析するためのものである。ガス分析装置３は、水分分離装置２のサンプルガス流れ方向下流に設けられ、水分分離装置２でサンプルガスから水分が分離された乾燥ガスが供給される。
【００５４】
図１から図３に例示する形態において、ガス分析装置３は、ガスクロマトグラフで構成される。ガスクロマトグラフは、水蒸気（Ｈ２Ｏ）が凝縮系ガスであることにより、水蒸気（Ｈ２Ｏ）が炭化酸素（ＣＯ）、メタン（ＣＨ４）、酸素（Ｏ２）、二酸化炭素（ＣＯ２）、及び窒素（Ｎ２）に混合した状態でサンプルガスの成分及び該成分の濃度を分析することができないが、上述したレーザーラマン分析装置よりも安価である。
【００５５】
水分分析装置４は、水分分離装置２で分離された水分の濃度を分析するためのものである。水分分析装置４は、水分分析装置４のパージガス流れ方向下流に設けられ、水分分離装置２でサンプルガスから分離された水分がパージガスとともに供給される。
【００５６】
図１から図３に例示する形態において、水分分析装置４は、ガスクロマトグラフ（例えば、ＴＣＤ検出器）や露点計（例えば、静電式露点計）等の分析装置で構成される。尚、ガスクロマトグラフ（例えば、ＴＣＤ検出器）は、単一の不活性ガス（例えば、Ｎ２）と水蒸気（Ｈ２Ｏ）の二成分であれば不活性ガスと水分とが混合した状態で水分の濃度を分析することができる。
【００５７】
ガス組成演算装置５は、ガス分析装置３で分析された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分分析装置４で分析された水分の濃度とに基づいてサンプルガス全部のガス組成を求めるためのものである。
【００５８】
図１から図３に例示する形態において、ガス組成演算装置５は、ガス分析装置３で分析された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分分析装置４で分析された水分の濃度とを加算することにより、サンプルガス全部の濃度のガス組成を求めるものである。
【００５９】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析システム１によれば、水分が含まれるサンプルガスガスが乾燥ガスと水分とに分離され、それぞれ成分及び該成分の濃度が分析される。これにより、乾燥ガスの分析と水分の分析が同時に行われ、乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分の濃度とに基づいてサンプルガス全部のガス組成が求めることができる。これにより、水分が含まれるサンプルガス全部のガス組成を分析するためのガス分析システム１を安価に提供することができる。
【００６０】
図１から図３に示すように、幾つかの実施形態に係る水分分離装置２は、水分分離膜２１を含んでいる。水分分離膜２１は、サンプルガスに含まれる水分を膜交換するためのものであり、パージガス供給源２２からパージガスが供給される。
【００６１】
図４及び図５は、一実施形態に係る水分分離膜２１の概略を示す模式図である。
図４及び図５に例示する形態において、水分分離膜２１は、管状に形成され、水分分離膜２１よりも太い管状の収納管２３に収納されている。水分分離膜２１の一端はサンプルガスの供給側に配置され、水分分離装置２に供給されたサンプルガスが供給される。水分分離膜２１の他端はサンプルガスの排出側に配置され、水分分離膜２１の他端から排出されたサンプルガスはガス分析装置に供給される。これにより、水分分離膜２１の一端から供給されたサンプルガスは、水分分離膜２１を通る際に水分が膜分離され、乾燥ガスとなって水分分離膜２１の他端からガス分析装置３に供給される。
【００６２】
また、収納管２３の下流側となる一端には第１管継手２４が設けられ、上流側となる他端には第２管継手２５が設けられている。第１管継手２４は、パージガスを収納管２３の内部に供給するためのものであり、収納管２３の外周において径外方向に突出するように設けられている。第２管継手２５は、収納管２３の内部から水分が分散されたパージガスを排出するためのものであり、収納管２３の外周において第１管継手２４と反対方向に突出するように設けられている。
【００６３】
第１管継手２４には、パージガス供給源２２が接続され、パージガス供給源２２からパージガスが供給されるように構成されている。第２管継手２５には、水分分析装置４が接続されている。したがって、パージガスは、水分分離膜２１の外周面を通り、水分分析装置４に供給される。そして、パージガスが水分分離膜２１の外周面を通る際に、サンプルガスから膜分離された水分がパージガスに分散され、パージガスに分散された水分はパージガスとともに水分分析装置４に供給される。
【００６４】
上述した幾つかの実施形態に係る水分分離装置２によれば、サンプルガスに含まれる水分が膜交換され、パージガス供給源２２からパージガスが供給される。これにより、膜交換された水分はパージガスとともに水分分離膜２１から分離される。したがって、水分が含まれるサンプルガスから水分を簡単な構成で分離することができる。
【００６５】
図２及び図３に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分析システム１（１Ｂ，１Ｃ）は、少なくとも二系統の水分分離系統６と、切換弁７１とを備える。
【００６６】
少なくとも二系統の水分分離系統６は、ガス分析装置３の上流に設けられ、上述した水分分離装置２がそれぞれ設けられている。
【００６７】
図２及び図３に例示する形態において、少なくとも二系統の水分分離系統６（６Ａ，６Ｂ）は、二系統であり、それぞれ水分分離装置２が設けられている。
【００６８】
切換弁７１は、上述した少なくとも二系統の水分分離系統６のうちサンプルガスを供給する一つの水分分離系統６を選択するためのものである。
【００６９】
図２及び図３に例示する形態において、切換弁７１は、三方弁で構成され、上述した二系統の水分分離系統のいずれか一方が選択される。
【００７０】
また、ガス分析システム１は、水分分析装置４を少なくとも二系統の水分分離系統６に共通するものとしてもよい。
【００７１】
図２及び図３に例示する形態において、水分分析装置４を二系統の水分分離系統６Ａ，６Ｂに共通するものとする。
【００７２】
また、図２及び図３に例示する形態では、さらに、ガス分析装置３の上流に合流弁７２を備える。合流弁７２は、切換弁７１で選択された水分分離系統６Ａ（６Ｂ）と同じ水分分離系統６Ａ（６Ｂ）を選択するためのものであり、三方弁で構成され、切換弁７１で選択された水分分離系統６Ａ（６Ｂ）が選択される。尚、合流弁７２は、切換弁７１で選択された水分分離系統６Ａ（６Ｂ）と同じ水分分離系統６Ａ（６Ｂ）を選択するものであるから、切換弁７１と連動するものとすることができる。
【００７３】
また、図２及び図３に例示する形態では、さらに、パージガス供給源２２の下流にパージガス切換弁２６を備える。パージガス切換弁２６は、切換弁７１で選択された水分分離系統６に設けられた水分分離装置２を選択するためのものであり、三方弁で構成され、切換弁７１で選択された水分分離系統６に設けられた水分分離装置２が選択される。尚、パージガス切換弁２６は、切換弁７１で選択された水分分離系統６に設けられた水分分離装置２を選択するものであるから、切換弁７１と連動するものとすることができる。
【００７４】
また、図２及び図３に例示する形態において、水分分析装置４は、二系統の水分分離系統６Ａ，６Ｂに共通する。これにより、水分分離系統６Ａ，６Ｂごとに水分分析装置４を設ける必要がなく、ガス分析システム１を安価なものにすることができる。
【００７５】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析システム１によれば、少なくとも二系統の水分分離系統６のうち一つの水分分離系統６に設けられた水分分離装置２が故障等しても異なる一つの水分分離系統６を選択することでサンプルガスから水分を継続して分離することができる。これにより、一つの系統に設けられた水分分離装置２が故障等しても、水分が含まれるサンプルガス全部のガス組成を継続して分析することができる。
【００７６】
図２及び図３に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分析システム１は、水分検出器７３と制御装置７４とを更に備える。
【００７７】
水分検出器７３は、水分分離装置２の下流に設けられている。
【００７８】
図２及び図３に例示する形態において、水分検出器７３は、合流弁７２の下流に設けられている。これにより、水分分離系統６ごとに水分検出器７３を設けなくても、サンプルガス（乾燥ガス）に含まれる水分を検出することができる。すなわち、サンプルガスは、切換弁７１で選択された水分分離系統６に供給され、選択されなかった水分分離系統６に供給されることはないので、切換弁７１で選択された水分分離系統６を流れたサンプルガスに含まれる水分のみを検出することができる。そして、切換弁７１で選択された水分分離系統６に設けられた水分分離装置２の機能が失われている場合には、水分検出器７３で通常よりも多い水分が検出される。
【００７９】
制御装置７４は、水分検出器７３で検出された水分に基づいて切換弁７１を制御するためのものである。
【００８０】
図２及び図３に例示する形態において、制御装置７４は、水分検出器７３で通常よりも多い水分が検出された場合に切換弁７１及び合流弁７２を制御して選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）から選択されていない水分分離系統６（例えば、６Ｂ）に切り換える。
【００８１】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析システム１（１Ｂ，１Ｃ）によれば、水分検出器は水分分離装置２の下流の水分を検出する。そして、制御装置は水分検出器が検出した水分に基づいて切換弁を制御する。例えば、水分分離装置２が故障し、又は性能が劣化した場合に水分検出器が通常よりも多くの水分を検出することになるが、この場合に制御装置は切変弁を制御して選択されている水分分離系統から選択されていない水分分離系統に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００８２】
図２及び図３に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分析システム１（１Ｂ，１Ｃ）は、少なくとも二系統の水分分離系統６と、切換弁７１と、差圧検出手段７５と、制御装置７４とを備える。
【００８３】
差圧検出手段７５は、水分分離装置２の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出するためのものである。
【００８４】
図２及び図３に例示する形態において、差圧検出手段７５は、上流側圧力センサ７５１と、下流側圧力センサ７５２とを含んでいる。上流側圧力センサ７５１は、水分分離装置２の上流の圧力を検出するためのものであり、下流側圧力センサ７５２は、水分分離装置２の下流の圧力を検出するためのものである。これにより、差圧検出手段７５（差圧検出部７５３））は、水分分離装置２の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出することができる。
【００８５】
また、図２及び図３に例示する形態において、上流側圧力センサ７５１は、切換弁７１の上流に設けられ、下流側圧力センサ７５２は、合流弁７２の下流に設けられている。これにより、水分分離系統６（６Ａ，６Ｂ）ごとに上流側圧力センサ及び下流側圧力センサを設けなくても、水分分離装置２の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出することができる。すなわち、サンプルガスは、切換弁７１及び合流弁７２で選択された水分分離系統６（例えば、６Ａ）に供給され、選択されなかった水分分離系統６（例えば６Ｂ）に供給されることはないので、切換弁７１及び合流弁７２で選択された水分分離系統６（例えば、６Ａ）を流れたサンプルガスの差圧のみを検出することができる。そして、切換弁７１及び合流弁７２で選択された水分分離系統６に設けられた水分分離装置２の機能が失われている場合には、差圧検出手段７５（差圧検出部７５３）で通常よりも大きな差圧が検出される。
【００８６】
制御装置７４は、差圧検出手段７５で検出された差圧に基づいて切換弁７１を制御するためのものである。
【００８７】
図２及び図３に例示する形態において、制御装置７４は、差圧検出手段７５（差圧検出部７５３）で通常よりも大きな差圧が検出された場合に切換弁７１及び合流弁７２を制御して選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）から選択されていない水分分離系統６（例えば、６Ｂ）に切り換えるものである。
【００８８】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析システム１（１Ｂ，１Ｃ）によれば、差圧検出手段７５は水分分離装置２の上流の圧力と下流の圧力との差圧を検出する。そして、制御装置７４は差圧検出手段７５（差圧検出部７５３）が検出した差圧に基づいて切換弁７１を制御する。例えば、水分分離装置２の水分分離膜２１の性能が劣化した場合に差圧検出手段７５が通常よりも大きな差圧を検出することになるが、この場合に制御装置７４は切換弁７１を制御して選択されている水分分離系統６から選択されていない水分分離系統６に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００８９】
図２及び図３に例示する形態では、例えば、差圧検出手段７５（差圧検出部７５３）で０．０５ＭＰａ以上の差圧が検出された場合に切換弁７１及び合流弁７２を制御して選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）から選択されていない水分分離系統６（例えば、６Ｂ）に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００９０】
図２及び図３に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分析システム１（１Ｂ，１Ｃ）は、少なくとも二系統の水分分離系統６と、切換弁７１と、露点計測手段と、制御装置７４とを備える。
【００９１】
露点計測手段は、水分分離系統６における露点温度を計測するためのものであり、水分分離装置２のサンプルガス流れ方向下流に設けられている。
【００９２】
制御装置７４は、露点検出手段で検出された露点温度に基づいて切換弁７１を制御するためのものである。
【００９３】
図２及び図３に例示する形態において、制御装置７４は、露点計測手段でガス分析システム１の運用開始時よりも高い露点温度が計測された場合に切換弁７１及び７２を制御して選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）から選択されていない水分分離系統６（例えば、６Ｂ）に切り換えるものである。
【００９４】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析システム１（１Ｂ，１Ｃ）によれば、露点計測手段は水分分離系統６における露点温度を計測する。そして、制御装置７４は露点計測手段が計測した露点温度に基づいて切換弁７１を制御する。例えば、水分分離装置２の水分分離膜２１の性能が劣化した場合に露点計測手段が通常よりも高い露点温度を検出することになるが、この場合に制御装置７４は切換弁７１を制御して選択されている水分分離系統６から選択されていない水分分離系統６に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００９５】
図２及び図３に例示する形態では、例えば、露点計測手段でガス分析システム１の運用開始時よりも高い露点温度が計測された場合に切換弁７１及び合流弁７２を制御して選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）から選択されていない水分分離系統６（例えば、６Ｂ）に切り換える。これにより、水分が含まれるサンプルガスから水分を継続して分離することができる。
【００９６】
図３に示すように、幾つかの実施形態に係る水分分離系統６は、サンプルライン６１と、逆洗ガス供給ライン６２と、逆洗ガス排出ライン６３と、を含む。
【００９７】
サンプルライン６１は、水分分離装置２にサンプルガスを供給するとともに水分分離装置２からサンプルガス（乾燥ガス）を排出するためのものである。
【００９８】
図３に例示する形態において、サンプルライン６１は、切換弁７１と水分分離装置２との間、及び水分分離装置２と合流弁７２との間に設けられる。
【００９９】
逆洗ガス供給ライン６２は、サンプルライン６１の乾燥ガス排出側に合流するように設けられている。
【０１００】
図３に例示する形態において、逆洗ガス供給ライン６２は、水分分離装置２と合流弁７２との間でサンプルライン６１に合流するように設けられている。また、逆洗ガス供給ライン６２には供給弁６２１が設けられ、供給弁６２１を開放することで任意のタイミングで逆洗ガス供給ライン６２からサンプルライン６１に逆洗ガスが供給される。
【０１０１】
逆洗ガス排出ライン６３は、サンプルライン６１のサンプルガス供給側から分岐するように設けられている。
【０１０２】
図３に例示する形態において、逆洗ガス排出ライン６３は、切換弁７１と水分分離装置２との間でサンプルライン６１から分岐するように設けられている。また、逆洗ガス排出ライン６３には排出弁６３１が設けられ、排出弁６３１を開放することで任意のタイミングで逆洗ガス排出ライン６３から外部に逆洗ガスが排出される。
【０１０３】
上述した幾つかの実施形態に係る水分分離系統６によれば、逆洗ガス供給ライン６２から逆洗ガスを供給するとともに、逆洗ガス排出ライン６３から逆洗ガスを排出することができる。したがって、逆洗ガス供給ライン６２から逆洗ガスを供給するとともに逆洗ガス排出ライン６３から逆洗ガスを排出すれば、水分分離装置２が洗浄される。これにより、水分分離装置２の性能が劣化した場合等に水分分離装置２を洗浄することができる。
【０１０４】
図３に示すように、幾つかの実施形態に係る逆洗ガス供給ライン６２は、パージガス供給源２２に接続される。
【０１０５】
上述した逆洗ガス供給ライン６２によれば、パージガス供給源２２から供給されるパージガスを逆洗ガスに用いることができる。これにより、逆洗ガス供給ライン６２に逆洗ガスを供給するための逆洗ガス供給源をパージガス供給源２２と別に設ける必要がなく、ガス分析システム１（１Ｃ）を安価に提供できる。
【０１０６】
図３に例示する形態において、例えば、一方の水分分離系統６Ａにサンプルガスを供給している状態で水分分離装置２の性能の劣化が検出されると、制御装置７４は切換弁７１及び合流弁７２、並びにパージガス切換弁２６を制御して一方の水分分離系統６Ａから選択されていない他方の水分分離系統６Ｂに切り換える。
【０１０７】
そして、逆洗ガス供給ライン６２に設けられた供給弁６２１を開放するとともに、逆洗ガス排出ライン６３に設けられた排出弁６３１を開放する。これにより、逆洗ガスがパージガス供給源２２から逆洗ガス供給ライン６２を通り水分分離装置２（水分分離膜２１）に供給される。そして、水分分離装置２を逆洗した逆洗ガスは、水分分離装置２（水分分離膜２１）から逆洗ガス排出ライン６３を通り外部に排出される。
【０１０８】
パージガス供給源２２から逆洗ガス供給ライン６２に供給する逆洗ガスの圧力は、水分分離膜の耐圧性能に依存するが、例えば、０．５ＭＰａに設定される。また、水分分離装置２の逆洗は間欠的に行うことが好ましく、例えば、１０秒逆洗、５秒停止、１０秒逆洗とする。
【０１０９】
そして、逆洗が終了した場合に制御装置７４は切換弁７１及び合流弁７２、並びにパージガス切換弁２６を制御して他方の水分分離系統６Ｂから一方の水分分離系統６Ａに切り換える。
【０１１０】
図３に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分析システム１では、流量計１２と、制御装置７４とを備えている。
【０１１１】
流量計１２は、水分分離装置２の上流に設けられている。
【０１１２】
図３に例示する形態では、流量計１２は、切換弁７１の上流に設けられている。これにより、水分分離系統６ごとに流量計を設けなくても、水分分離系統６ごとに供給されたサンプルガスの積算流量を管理することができる。すなわち、サンプルガスは、切換弁７１で選択された水分分離系統６（例えば、６Ａ）に供給され、選択されなかった水分分離系統６（例えば、６Ｂ）に供給されることはないので、切換弁７１で選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）とサンプルガスの積算流量を管理すれば、選択されている水分分離系統６（例えば、６Ａ）に供給されたサンプルガスの積算流量を管理することができる。
【０１１３】
制御装置７４は、流量計で計測された流量の積算値に基づいて水分分離装置２の交換までの期間を管理するものである。
【０１１４】
図３に例示する形態では、切換弁７１及び合流弁７２で選択されている水分分離系統６とサンプルガスの積算流量を管理することにより、切換弁７１及び合流弁７２で選択されている水分分離系統６に供給されたサンプルガスの積算流量を管理する。そして、サンプルガスの積算流量が水分分離装置２の交換に好ましい流量に到達するまでの期間（寿命）を管理する。尚、交換までの寿命は、分析対象とする燃料ガスの性状に依存するため、ガス分析システム１を適用する設備やプラントの実ガスデータに基づいて設定される。
【０１１５】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析システム１によれば、流量計１２で計測された流量の積算値と切換弁７１及び合流弁７２で選択された水分分離系統６の選択時期とに基づいて水分分離装置２の交換までの期間を管理できる。
【０１１６】
図４及び図５に示すように、幾つかの実施形態に係る水分分離膜２１は、親水基を有する高分子チューブ２１１，２１２で構成される。
【０１１７】
上述した幾つかの実施形態に係る水分分離膜２１によれば、サンプルガスに含まれる水分が親水基を有する高分子チューブ２１１，２１２を通過する際に膜交換され、パージガス供給源２２から供給されたパージガスとともに分離される。
【０１１８】
幾つかの実施形態に係る親水基は、吸湿性硫酸系官能基である。
【０１１９】
吸湿性硫酸系官能基は、例えば、スルホン酸基であり、高分子チューブ２１１，２１２は、炭素−フッ素から名なる疎水性テフロン骨格と、スルホン酸基を持つバーフルオロ側鎖から構成されるバーフルオロカーボン材料の共重合体で構成される。
【０１２０】
図４に例示する形態では、高分子チューブ２１１は、一本の太いチューブで構成され、図５に例示する形態では、高分子チューブ２１２は、複数本の細いチューブを束ねることにより構成されている。
【０１２１】
上述した親水基によれば、サンプルガスに含まれる水分が効率的に膜交換され、サンプルガスから水分が効率的に分離される。これにより、サンプルガスに含まれる水分の濃度が効率的に分析可能となる。
【０１２２】
図６は、本発明の一実施形態に係るガス発熱量モニタリングシステム８の概略を示すブロック図である。
図６に示すように、本発明の少なくとも一実施形態に係るガス発熱量モニタリングシステム８は、上述した幾つかのガス分析システム１（１Ａ，１Ｂ，１Ｃ）と、発熱量データベース８１と、ガス発熱量演算装置８２とを備えている。
【０１２３】
発熱量データベース８１は、サンプルガスに含まれるガスの成分ごとに発熱量が記憶されている。
ガス発熱量演算装置８２は、発熱量データベース８１を参照し、ガス組成演算装置５で求められたサンプルガス全部のガス組成に基づいてサンプルガスのガス発熱量を求めるように構成されている。
【０１２４】
上述した一実施形態に係るガス発熱量モニタリングシステム８によれば、発熱量データベース８１を参照し、ガス組成演算装置５で求められたサンプルガス全部のガス組成に基づいてサンプルガスのガス発熱量を求めることができる。これにより、水分が含まれているサンプルガスのガス発熱量モニタリングが可能となる。これにより、水分が含まれているサンプルガスのガス発熱量モニタリングシステム８を安価に提供できる。
【０１２５】
図７は、本発明の一実施形態に係るガスプラント９の概略を示すブロック図である。
図７に示すように、本発明の少なくとも一実施形態に係るガスプラント９は、上述したガス発熱量モニタリングシステム８を備えている。
【０１２６】
ガス発熱量モニタリングシステム８は、ガスプラント９で生産された燃料ガスの一部をサンプルガスとして導入し、ガス発熱量をモニタリングするものである。
【０１２７】
上述した一実施形態に係るガスプラント９によれば、生産された燃料ガスのガス発熱量をモニタリングすることができる。
【０１２８】
図８から図１０は、本発明の一実施形態に係るガス分析方法の概略を示すフローチャートである。
図８から図１０に示すように、本発明の少なくとも一実施形態に係るガス分析方法は、前処理工程（ステップＳ２）と、ガス分析工程（ステップＳ３）と、水分分析工程（ステップＳ４）と、ガス組成演算工程（ステップＳ５）とを含んでいる。
【０１２９】
前処理工程（ステップＳ２）は、水分が含まれるサンプルガスから水分を分離する工程である。
ガス分析工程（ステップＳ３）は、前処理工程（ステップＳ２）でサンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度を分析する工程である。
水分分析工程（ステップＳ４）は、前処理工程（ステップＳ２）で分離された水分の濃度を計測する工程である。
ガス組成演算工程（ステップＳ５）は、ガス分析工程（ステップＳ３）で分析された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分分析工程（ステップＳ４）で分析された水分の濃度とに基づいてサンプルガス全部のガス組成を求める工程である。
【０１３０】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分析方法によれば、水分が含まれるサンプルガスから水分が分離される。そして、サンプルガスから水分が分離された乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度が分析され、サンプルガスから分離された水分の濃度が計測される。そして、乾燥ガスに含まれるガスの成分及び該成分の濃度と水分の濃度とに基づいてサンプルガス全部のガス組成が求められる。これにより、水分が含まれているサンプルガス全部のガス組成を分析するガス分析方法を安価に提供できる。
【０１３１】
図９及び図１０に示すように、幾つかの実施形態に係る前処理工程（ステップＳ２）は、膜交換ステップ（ステップＳ２１）と、水分分離ステップ（ステップＳ２２）とを有する。
【０１３２】
膜交換ステップ（ステップＳ２１）は、サンプルガスに含まれる水分を膜交換するステップである。
水分分離ステップ（ステップＳ２２）は、パージガスを供給し、膜交換された水分をパージガスとともに分離する水分分離ステップである。
【０１３３】
上述した幾つかの前処理工程（ステップＳ２）によれば、サンプルガスに含まれる水分が膜交換される。そして、パージガスが供給され、膜交換された水分がパージガスとともに分離される。これにより、サンプルガスに含まれる水分を効率的に分離することができる。
【０１３４】
図９及び図１０に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分離方法は、少なくとも二系統の水分分離系統６のうちサンプルガスを供給する一つの水分分離系統６を選択する水分分離系統選択工程（ステップＳ１）を含む。
【０１３５】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分離方法によれば、少なくとも二系統の水分分離系統６のうちサンプルガスを供給する一つの水分分離系統６が選択される。これにより、サンプルライン６１に設けられた水分分離装置２を選択することができる。
【０１３６】
図１０に示すように、幾つかの実施形態に係るガス分離方法は、逆洗工程（ステップＳ８）を含んでいる。
【０１３７】
逆洗工程（ステップＳ８）は、サンプルガスを供給するとともに乾燥ガスを排出するサンプルライン６１の乾燥ガス排出側から逆洗ガスを供給するとともに、サンプルライン６１のサンプルガス供給側から逆洗ガスを排出する工程である。
【０１３８】
上述した幾つかの実施形態に係るガス分離方法によれば、サンプルライン６１の乾燥ガス排出側から逆洗ガスが供給され、サンプルライン６１のサンプルガス供給側から逆洗ガスが排出される。これにより、サンプルラインに設けられた水分分離装置２を洗浄できる。
【０１３９】
本発明は上述した実施形態に限定されることはなく、上述した実施形態に変形を加えた形態や、これらの形態を適宜組み合わせた形態も含む。
【符号の説明】
【０１４０】
１（１Ａ，１Ｂ，１Ｃ）    ガス分析システム
１１    セラミックフィルタ
１２    流量計
１３    流量計
２    水分分離装置
２１    水分分離膜
２１１    高分子チューブ
２１２    高分子チューブ
２２    パージガス供給源
２３    収納管
２４    第１管継手
２５    第２管継手
２６    パージガス切換弁
３    ガス分析装置
４    水分分析装置
５    ガス組成演算装置
６（６Ａ，６Ｂ）    二系統の水分分離系統
６１    サンプルライン
６２    逆洗ガス供給ライン
６２１    供給弁
６３    逆洗ガス排出ライン
６３１    排出弁
７１    切換弁
７２    合流弁
７３    水分検出器
７４    制御装置
７５    差圧検出手段
７５１    上流側圧力センサ
７５２    下側圧力センサ
７５３    差圧検出部
８    ガス発熱量モニタリングシステム
８１    発熱量データベース
８２    ガス発熱量演算装置
９    ガスプラント
【図１】
2016156689.tif 000003
【図２】
2016156689.tif 000004
【図３】
2016156689.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
2016156689.tif 000011
【図１０】
2016156689.tif 000012