(57)【要約】【課題】アンチグレア性と反射防止性をともに有するガラスの製造方法を提供する。【解決手段】反射防止性を有するガラスの製造方法であって、（ａ）アンチグレア性を有する表面を有するガラス基板を準備するステップと、（ｂ）常圧、大気雰囲気下、２５０℃〜６５０℃の温度範囲において、前記ガラス基板の前記表面に、フッ素化合物を含む処理ガスを接触させるステップと、を有することを特徴とする製造方法。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射防止性を有するガラスの製造方法であって、
（ａ）アンチグレア性を有する表面を有するガラス基板を準備するステップと、
（ｂ）常圧、大気雰囲気下、２５０℃〜６５０℃の温度範囲において、前記ガラス基板の前記表面に、フッ素化合物を含む処理ガスを接触させるステップと、
を有することを特徴とする反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項２】
前記処理ガスの原料として、フッ化水素および／またはトリフロロ酢酸を含むことを特徴とする請求項１に記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項３】
前記処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度は、０．１ｖｏｌ％〜１０ｖｏｌ％の範囲であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項４】
前記処理ガスは、さらに、窒素および／またはアルゴンを含むことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項５】
前記（ｂ）のステップの後のガラス基板の前記表面の算術平均粗さＲａは、１０ｎｍ以上であり、最大高さ粗さＲｚは、０．３μｍ以上であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項６】
前記（ｂ）のステップにおいて、前記ガラス基板は、搬送された状態で前記処理ガスに接触することを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項７】
前記ガラス基板の上部または下部には、インジェクタが配置され、
前記処理ガスは、前記インジェクタから、前記ガラス基板に向かって放出されることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項８】
前記ガラス基板が、前記インジェクタの下を通過する時間は、１秒〜１２０秒の間であることを特徴とする請求項７に記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項９】
前記（ｂ）のステップ後の前記ガラス基板の全光線透過率と、前記（ａ）のステップ後前記（ｂ）のステップ前の前記ガラス基板の全光線透過率との差ΔＴｔは、１％以上であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項１０】
前記（ａ）のステップは、ガラス基板に対して、ブラスト処理、湿式処理、コーティング処理、および型押し処理からなる群から選定された少なくとも一つを実施するステップを有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項１１】
前記（ｂ）のステップ後の前記ガラス基板の前記表面における光沢度は、７０％以下であることを特徴とする請求項１乃至１０のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【請求項１２】
前記ガラスは、太陽電池用のパネルまたはディスプレイ用のパネルであることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか一つに記載の反射防止性を有するガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止性を有するガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、建材用ガラス、ディスプレイパネル用ガラス、光学素子、太陽電池パネル用ガラス、ショーウィンドウガラス、光学ガラス、およびメガネレンズなど、各種ガラス製品において、高い光透過性が要求される場合がある。このような場合、反射防止性を有するガラス基板が使用される。
【０００３】
そのような反射防止性を有するガラス基板は、例えば、浸漬法により、ガラス基板の表面に低屈折率材料をコーティングしたり、蒸着法またはスパッタ法等の乾式法により、ガラス基板の表面に多層膜を形成したりすることにより、構成することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００９−５２９７１５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前述のように、高い光透過性が要求されるガラス製品を製造する場合、各種方法で表面に反射防止膜を形成したガラス基板が使用される。
【０００６】
一方、例えば、前述のようなガラス製品に対して、反射によるぎらつきを抑制するため、アンチグレア性が要求される場合がある。この場合、ガラス基板の表面を意図的に粗くし、表面にμｍオーダの凹凸を形成する処理を行うことが必要となる。
【０００７】
しかしながら、表面にそのような凹凸を有するガラス基板に対して、適正に反射防止膜を形成することは、極めて難しいという問題がある。また、形成された反射防止膜の膜厚が所定の範囲からずれていたり、膜厚の均一性が悪かったりすると、ガラス基板に対して、所望の反射防止性を発現させることができなくなってしまう。
【０００８】
本発明は、このような問題に鑑みなされたものであり、本発明では、アンチグレア性と反射防止性をともに有するガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明では、反射防止性を有するガラスの製造方法であって、
（ａ）アンチグレア性を有する表面を有するガラス基板を準備するステップと、
（ｂ）常圧、大気雰囲気下、２５０℃〜６５０℃の温度範囲において、前記ガラス基板の前記表面に、フッ素化合物を含む処理ガスを接触させるステップと、
を有することを特徴とする反射防止性を有するガラスの製造方法が提供される。
【００１０】
ここで、本発明による製造方法において、前記フッ素化合物は、フッ化水素および／またはトリフロロ酢酸を含んでも良い。
【００１１】
また、本発明による製造方法において、前記処理ガス中のフッ化水素ガスの濃度は、０．１ｖｏｌ％〜１０ｖｏｌ％の範囲であっても良い。
【００１２】
また、本発明による製造方法において、前記処理ガスは、さらに、窒素および／またはアルゴンを含んでも良い。
【００１３】
また、本発明による製造方法において、前記（ｂ）のステップの後のガラス基板の前記表面の算術平均粗さＲａは、１０ｎｍ以上であり、最大高さ粗さＲｚは、０．３μｍ以上であっても良い。
【００１４】
また、本発明による製造方法では、前記（ｂ）のステップにおいて、前記ガラス基板は、搬送された状態で前記処理ガスに接触しても良い。
【００１５】
また、本発明による製造方法において、前記ガラス基板の上部には、インジェクタが配置され、
前記処理ガスは、前記インジェクタから、前記ガラス基板に向かって放出されても良い。
【００１６】
また、本発明による製造方法において、インジェクタの配置は、前記ガラス基板の上部に限定されず下部に配置されても良い。また、前記ガラス基板が前記インジェクタの下を通過する時間は、１秒〜１２０秒の間であっても良い。
【００１７】
また、本発明による製造方法において、前記（ｂ）のステップ後の前記ガラス基板の全光線透過率と、前記（ａ）のステップ後前記（ｂ）のステップ前の前記ガラス基板の全光線透過率との差ΔＴｔは、１％以上であっても良い。
【００１８】
また、本発明による製造方法において、前記（ａ）のステップは、ガラス基板に対して、ブラスト処理、湿式処理、および型押し処理からなる群から選定された少なくとも一つを実施するステップを有しても良い。複数の処理を組み合わせて良い。
【００１９】
また、本発明による製造方法において、前記（ｂ）のステップ後の前記ガラス基板の前記表面における光沢度は、７０％以下であっても良い。
【００２０】
また、本発明による製造方法において、前記ガラスは、太陽電池用のパネルまたはディスプレイ用のパネルであっても良い。
【発明の効果】
【００２１】
本発明では、アンチグレア性と反射防止性をともに有するガラスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】本発明の一実施例によるガラスの製造方法のフローを概略的に示した図である。
【図２】ガラス基板を搬送させた状態で、ガラス基板のエッチング処理を実施するための処理装置の一構成例を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照して、本発明について詳しく説明する。
【００２４】
本発明では、反射防止性を有するガラスの製造方法であって、
（ａ）アンチグレア性を有する表面を有するガラス基板を準備するステップと、
（ｂ）常圧、大気雰囲気下、２５０℃〜６５０℃の温度範囲において、前記ガラス基板の前記表面に、気体状フッ素化合物を含む処理ガスを接触させるステップと、
を有することを特徴とする製造方法が提供される。
【００２５】
前述のように、高い光透過性が要求されるガラス製品を製造する場合、各種方法で表面に反射防止膜を形成したガラス基板が使用される。
【００２６】
一方、例えば、前述のようなガラス製品に対して、反射によるぎらつきを抑制するため、アンチグレア性が要求される場合がある。この場合、ガラス基板の表面を意図的に粗くし、表面に凹凸を形成する処理を行うことが必要となる。
【００２７】
しかしながら、表面にそのような凹凸を有するガラス基板に対して、適正に反射防止膜を形成することは、極めて難しいという問題がある。また、形成された反射防止膜の膜厚が所定の範囲からずれていたり、膜厚の均一性が悪いと、ガラス基板に対して、所望の反射防止性を発現させることができなくなってしまう。
【００２８】
これに対して、本発明によるガラスの製造方法は、ガスを用いたエッチングにより、反射防止性を発現させる。そのため、従来の積層法のような反射防止性を発現させる手法において必須となる、ガラス基板の表面における精密な屈折率制御、膜厚制御が本発明では必要ではない。
【００２９】
本発明によるガラスの製造方法は、（ｂ）常圧、大気雰囲気下、２５０℃〜６５０℃の温度範囲において、前記ガラス基板の表面に、気体状フッ素化合物を含む処理ガスを接触させるステップを有するという特徴を有する。
【００３０】
このステップでは、凹凸を有するガラス基板の表面を、例えば、１ｎｍ〜２００ｎｍのオーダでエッチング処理することができる。なお、本願発明者らによれば、この程度の微細なエッチング処理によっても、ガラス基板に対して、反射防止性を発現させることができることが確認されている。
【００３１】
このように、本発明による製造方法では、微細なエッチング処理により、ガラス基板に反射防止性を発現させる。このため、本発明による製造方法では、ガラス基板の表面に予め形成されている凹凸形状に左右されることなく、ガラス基板の表面に均一な厚さで略直交する（深さ）方向に微細な凹凸をさらに形成し、ガラス基板に対して、反射防止性を付与する処理を適正に実施することができる。従って、本発明による製造方法では、アンチグレア性を有するガラス基板、例えば表面にμｍオーダの凹凸を有するガラス基板に対しても、反射防止性を付与する処理を適正に実施することができる。
【００３２】
このような効果により、本発明では、アンチグレア性と反射防止性をともに有するガラスの製造方法を提供することができる。
【００３３】
（本発明の一実施例による製造方法について）
次に、図面を参照して、本発明の一実施例による反射防止性ガラスの製造方法について、詳しく説明する。
【００３４】
図１には、本発明の一実施例によるガラスの製造方法のフローを概略的に示す。
【００３５】
図１に示すように、本発明の一実施例によるガラスの製造方法は、
（ａ）アンチグレア性を有する表面を有するガラス基板を準備するステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）常圧、大気雰囲気下、２５０℃〜６５０℃の温度範囲において、前記ガラス基板の前記表面に、フッ素化合物を含む処理ガスを接触させるステップ（ステップＳ１２０）と、
を有する。
【００３６】
以下、各ステップについて説明する。
【００３７】
（ステップＳ１１０）
まず、ガラス基板が準備される。
【００３８】
ガラス基板の種類は、特に限られない。ガラス基板には、例えば、ソーダライムガラス、ソーダライムシリケートガラス、アルミノシリケートガラス、ボレートガラス、リチウムアルミノシリケートガラス、石英ガラス、ホウ珪酸ガラス、無アルカリガラス、およびその他の各種ガラスからなる透明ガラス基板を用いることができる。
特に、ガラス基板は、ソーダライムシリケートガラスまたはアルミノシリケートガラスのような、アルカリ元素、アルカリ土類元索、および／またはアルミニウムが含まれることが好ましい。
【００３９】
ガラス基板に、アルカリ元素、アルカリ土類元素、および／またはアルミニウムが含まれる場合、以降のステップＳ１２０でのエッチング処理の際に、ガラス基板の表面にフッ素化合物が残留しやすくなる。
【００４０】
このような残留フッ素化合物は、ガラス基板の光透過率の向上に寄与する。すなわち、残留フッ素化合物の屈折率（ｎ１）は、通常、ガラス基板の屈折率（ｎ２）と、空気の屈折率（ｎ０）の間の屈折率を有する。このため、ガラス基板、フッ素化合物、および空気がこの順に配置されることにより、全体としての反射率が低下し、結果的に、ガラス基板の光透過率が向上する。
【００４１】
ガラス基板は、３５０ｎｍ〜８００ｎｍの波長領城に高い透過率、例えぱ８０％以上の透過率を有することが好ましい。また、ガラス基板は、十分な絶縁性を有し、化学的物理的耐久性が高いことが望ましい。
ガラス基板の製造方法は、特に限られない。ガラス基板は、例えばフロート法で製造しても良い。
【００４２】
ガラス基板の厚さは、特に限られないが、例えば、０．１ｍｍ〜１２ｍｍの範囲であっても良い。
【００４３】
なお、ガラス基板は、必ずしも平面状である必要はなく、ガラス基板は、曲面状であっても、異型状であっても良く、例えば、表面にガラス成形時の成形ローラー表面模様が形成された、「型板」と呼ばれるガラスであっても良い。
次に、ガラス基板に対して、アンチグレア性を付与する処理（以下、「アンチグレア処理」と称する）が実施される。
【００４４】
アンチグレア処理は、例えば、ガラス基板の表面を粗くし、表面に凹凸を形成することにより実施される。
【００４５】
このような表面に凹凸を形成する処理は、例えば、ブラスト処理、湿式処理、または型押し処理によって実施されても良い。
【００４６】
このうち、ブラスト処理は、ガラス基板の表面にアルミナ等のメディアを衝突させて表面を粗くする処理（例えば、サンドブラスト処理、ウオータブラスト処理、およびドライアイスブラスト処理等）の総称を意味する。また、湿式処理は、ガラス基板を各種溶液中に浸漬させて、表面を粗くする処理の総称を意味する。さらに、型押し処理は、型板ガラスのようにガラス基板の表面に凹凸パターンを有する型を押し付けて、ガラス基板にパターンを転写させる処理の総称を意味する。
【００４７】
なお、上記例では、ガラス基板の表面を不均一に「除去」することにより、ガラス基板の表面を粗くし、アンチグレア性を付与する処理について説明した。しかしながら、「アンチグレア処理」は、このような態様に限られない。例えば、ガラス基板の表面に、部分的にガラス基板を構成する材料と同種の材料または別の材料を不均一に「付与」するコーティング処理により、（例えば、シリカコーティング）ガラス基板の表面に凹凸を形成しても良い。
【００４８】
以上のようなアンチグレア処理により、ガラス基板の表面には、例えば、μｍオーダ以上のオーダの凹凸が形成される。ガラス基板の「アンチグレア性」は、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１ ２００１に準拠する測定方法によって得られるガラス基板の最大高さ粗さＲｚで表され、例えば、０．３μｍ〜１０μｍの範囲であっても良い。
【００４９】
アンチグレア処理後のガラス基板の光沢度は、例えば、７０％以下であり、６５％以下であることが好ましく、６０％以下であることがさらに好ましい。
【００５０】
なお、本願において、ガラス基板の「光沢度」は、ＪＩＳ  Ｚ  ８７４１に準拠する測定方法によって得られた値を意味する。
【００５１】
光沢度は、反射率を反映する数値であるため、基板表面の形状は同等であっても反射防止性能が向上することによって、光沢度は低下する。
【００５２】
以上の処理により、アンチグレア性を有するガラス基板を得ることができる。
【００５３】
（ステップＳ１２０）
次に、前述のステップＳ１１０で準備されたガラス基板がフッ素化合物を含む処理ガスに晒され、ガラス基板のエッチング処理が実施される。この処理は、ガラス基板のステップＳ１１０においてアンチグレア処理された表面に対して実施される。また、エッチング処理は、常圧の大気雰囲気下で実施される。
【００５４】
この工程は、ガラス基板の表面に、例えば１ｎｍ〜２００ｎｍのオーダの微細な凹凸を形成するために実施される。これらの微細な凹凸の存在により、ガラス基板に対して、反射防止性が付与される。
【００５５】
前述のように、この処理によってエッチングされるガラス基板のエッチング量は、ｎｍオーダであり、極めて微細である。このため、エッチング処理は、ステップＳ１１０においてガラス基板に発現させたアンチグレア性に対しては、ほとんど影響を及ぼさないことに留意する必要がある。
【００５６】
エッチング処理は、２５０℃〜６５０℃の範囲で実施される。処理温度は、２７５℃〜６００℃の範囲であることが好ましく、３００℃〜６００℃の範囲であることがより好ましい。
【００５７】
エッチング処理に使用されるフッ素化合物の種類は、ガラス表面でのエッチングの際にフッ化水素を含むガスであれば、特に限られない。フッ素化合物を含む処理ガスの原料としては、例えば、フッ化水素、および／またはトリフロロ酢酸であっても良い。フッ化水素およびトリフルオロ酢酸は、非爆発性のため、安全性の観点から好ましい。トリフルオロ酢酸は、ガラス表面の温度により熱分解しフッ化水素を発生する。
【００５８】
処理ガスは、気体状フッ素化合物の他、キャリアガスを含んでも良い。キャリアガスとしては、これに限られるものではないが、例えば、窒素および／またはアルゴン等が使用される。
【００５９】
処理ガス中のフッ素化合物の濃度は、ガラス基板の表面が適正にエッチング処理される限り、特に限られない。処理ガス中のフッ素化合物の濃度は、例えば、０．１ｖｏｌ％〜１０ｖｏｌ％の範囲であり、０．３ｖｏｌ％〜８ｖｏｌ％の範囲であることが好ましく、０．５ｖｏｌ％〜５ｖｏｌ％の範囲であることがより好ましい。
【００６０】
ガラス基板のエッチング処理は、ガラス基板を搬送させた状態で実施しても良い。この場合、より迅速な処理が可能となる。
【００６１】
図２には、ガラス基板１８０を搬送させた状態で、ガラス基板のエッチング処理を実施するための処理装置の一構成例を示す。なお、以下の記載では、一例として、気体状フッ素化合物がフッ化水素ガスである場合を例に説明する。
【００６２】
図２に示すように、この処理装置１００は、インジェクタ１１０と、搬送手段１５０とを備える。
【００６３】
搬送手段１５０は、上部に置載されたガラス基板１８０を、矢印Ｆ２０１に示すように、水平方向（Ｘ方向）に搬送することができる。
【００６４】
インジェクタ１１０は、搬送手段１５０およびガラス基板１８０の上方に配置される。
【００６５】
インジェクタ１１０は、処理ガスの流通路となる複数のスリット１１５、１２０、および１２５を有する。すなわち、インジェクタ１１０は、中央部分に鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第１のスリット１１５と、該第１のスリットを取り囲むように、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第２のスリット１２０と、該第２のスリット１２０を取り囲むように、鉛直方向（Ｚ方向）に沿って設けられた第３のスリット１２５とを備える。
【００６６】
第１のスリット１１５の一端（上部）は、フッ化水素ガス源（図示されていない）に接続されており、第１のスリット１１５の他端（下部）は、ガラス基板１８０の方に配向される。同様に、第２のスリット１２０の一端（上部）は、キャリアガス源（図示されていない）に接続されており、第２のスリット１２０の他端（下部）は、ガラス基板１８０の方に配向される。第３のスリット１２５の一端（上部）は、排気系（図示されていない）に接続されており、第３のスリット１２５の他端（下部）は、ガラス基板１８０の方に配向される。
【００６７】
処理装置１００を使用して、ガラス基板１８０のエッチング処理を実施する場合、まず、フッ化水素ガス源（図示されていない）から、第１のスリット１１５を介して、矢印Ｆ２０５の方向に、フッ化水素ガスが供給される。また、キャリアガス源（図示されていない）から、第２のスリット１２０を介して、矢印Ｆ２１０の方向に、窒素等のキャリアガスが供給される。これらのガスは、矢印Ｆ２１５に沿って水平方向（Ｘ方向）に移動した後、排気系により第３のスリット１２５を介して、処理装置１００の外部に排出される。
【００６８】
なお、第１のスリット１１５には、フッ化水素ガスに加えて、キャリアガスを同時に供給しても良い。
【００６９】
ガラス基板１８０は、搬送手段１５０により、矢印Ｆ２０１の方向に搬送される。
【００７０】
ガラス基板１８０は、インジェクタ１１０の下側を通過する際に、第１のスリット１１５および第２のスリット１２０から供給された処理ガス（フッ化水素ガス＋キャリアガス）に接触する。これにより、ガラス基板１８０の表面がエッチング処理される。
【００７１】
なお、ガラス基板１８０の表面に供給された処理ガスは、矢印Ｆ２１５のように移動してエッチング処理に使用された後、矢印Ｆ２２０のように移動して、排気系に接続された第３のスリット１２５を介して、処理装置１００の外部に排出される。
【００７２】
処理装置１００を使用することにより、ガラス基板を搬送しながら、処理ガスによる表面のエッチング処理を実施することができる。この場合、反応容器を使用して、エッチング処理を実施する方法に比べて、処理効率を向上させることができる。また、処理装置１００を使用した場合、大型のガラス基板に対してもエッチング処理を適用することができる。
【００７３】
ここで、ガラス基板１８０への処理ガスの供給速度は、特に限られない。処理ガスの供給速度は、例えば、５ＳＬＭ〜１０００ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））の範囲であっても良い。
【００７４】
また、ガラス基板１８０の搬送速度は、例えば、１ｍ／分〜２０ｍ／分である。
【００７５】
また、ガラス基板１８０のインジェクタ１１０の通過時間は、１秒〜１２０秒の範囲であり、５秒〜６０秒の範囲であることが好ましく、５秒〜３０秒の範囲であることがより好ましい。ガラス基板１８０のインジェクタ１１０の通過時間を１２０秒以下とすることにより、迅速なエッチング処理を実施することができる。
【００７６】
ここで、「インジェクタ１１０の通過時間」とは、ガラス基板１８０のある決められた領域が図２の距離Ｓを通過する時間を意味するものとする。なお、距離Ｓは、ガラス基板１８０の搬送方向に対して、インジェクタ１１０の最上流側のスリット（図２の例ではスリット１２５）の上流端から最下流側のスリット（図２の例ではスリット１２５）の下流端の間の距離で定められる。
【００７７】
このように、処理装置１００を使用することにより、搬送状態のガラス基板に対して、エッチング処理を実施することができる。
【００７８】
なお、図２に示した処理装置１００は、単なる一例に過ぎず、その他の装置を使用して、フッ化水素ガスを含む処理ガスによるガラス基板のエッチング処理を実施しても良い。例えば、図２の処理装置１００では、静止しているインジェクタ１１０に対して、ガラス基板１８０が相対的に移動する。しかしながら、これとは逆に、静止しているガラス基板に対して、インジェクタを水平方向に移動させても良い。あるいは、ガラス基板とインジェクタの両者を、相互に反対方向に移動させても良い。
【００７９】
また、図２の処理装置１００では、インジェクタ１１０は、合計３つのスリット１１５、１２０、１２５を有する。しかしながら、スリットの数は、特に限られない。例えば、スリットの数は、２つであっても良い。この場合、一つのスリットが処理ガス（キャリアガスとフッ化水素ガスの混合ガス）供給用に利用され、別のスリットが排気用に利用されても良い。
【００８０】
さらに、図２の処理装置１００では、インジェクタ１１０の第２のスリット１２０は、第１のスリット１１５を取り囲むように配置され、第３のスリット１２５は、第１のスリット１１５および第２のスリット１２０を取り囲むように設けられている。しかしながら、この代わりに、第１のスリット、第２のスリット、および第３のスリットを、水平方向（Ｘ方向）に沿って一列に配列しても良い。この場合、処理ガスは、ガラス基板の表面を、一方向に沿って移動し、その後、第３のスリットを介して排気される。
【００８１】
以上の（ステップＳ１１０）および（ステップＳ１２０）の工程により、アンチグレア性と反射防止性をともに有するガラスを製造することができる。
【実施例】
【００８２】
次に、本発明の実施例について説明する。
【００８３】
（実施例１）
以下の方法により、アンチグレア性を有する反射防止性ガラスを製造し、その特性を評価した。
【００８４】
（アンチグレア処理）
まず、厚さ３ｍｍのガラス基板（ソーダライムガラス）の一方の表面に対して、アンチグレア処理を実施した。
【００８５】
アンチグレア処理は、湿式処理により実施した。具体的には、アンチグレア処理は、ガラス基板の一方の表面を、室温のフッ酸溶液中に３０分間浸漬することにより実施した。これにより、「実施例１に係るアンチグレア基板」が得られた。
【００８６】
実施例１に係るアンチグレア基板の表面の光沢度を測定した。光沢度の測定には、グロスチェッカーＩＧ−３３１、堀場製作所製）を使用し、ＪＩＳ  Ｚ８７４１に基づいて、６０゜光沢度を測定した。測定の結果、実施例１に係るアンチグレア基板の６０゜光沢度は、５６％であり、有意なアンチグレア性が得られていることが確認された。
【００８７】
（エッチング処理）
次に、前述のように処理された実施例１に係るアンチグレア基板を用いて、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。エッチング処理には、前述の図２に示した処理装置１００を使用した。
【００８８】
処理装置１００において、第１のスリット１１５には、フッ化水素ガスと窒素ガスの混合ガスを、３４ｃｍ／秒の流速で供給した。フッ化水素ガスの供給量は、１．０ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））とし、窒素ガスの供給量は、３１．０ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））とした。なお、混合ガスは、１５０℃に加熱した状態で供給した。
【００８９】
また、第２のスリット１２０には、３４ｃｍ／秒の流速で窒素ガスを供給した。窒素ガスの温度は、１５０℃とし、窒素ガスの供給量は、１０ＳＬＭとした。
【００９０】
全供給ガスに対するフッ化水素ガスの濃度は、２．４ｖｏｌ％である。
【００９１】
第３のスリット１２５からの排気量は、供給ガスの供給量の２倍とした。
【００９２】
実施例１に係るアンチグレア基板の搬送速度は、２ｍ／分とし、実施例１に係るアンチグレア基板は、５８０℃に加熱した状態で搬送した。なお、実施例１に係るアンチグレア基板の温度は、処理ガスを供給する直前に、放射温度計を用いて測定した値である。
【００９３】
エッチング処理時間（図２において、ガラス基板が距離Ｓを通過する時間）は、約１０秒とした。
【００９４】
この処理後に、実施例１に係るアンチグレア基板のエッチング処理表面には、多数のｎｍオーダの凹凸が形成された。以下、得られた実施例１に係るアンチグレア基板を「実施例１に係るガラス」と称する。
【００９５】
（評価）
実施例１に係るガラスを用いて、反射防止性の評価を行った。
【００９６】
ガラスの反射防止性は、全光線透過率を測定することにより評価した。全光線透過率は、ヘーズメータＨＺ−２（スガ試験機）を使用して、ＪＩＳ  Ｋ７３６１−１に基づいて実施した。光源は、Ｃ光源とした。
【００９７】
測定の結果、実施例１に係るガラスの全光線透過率Ｔｔは、９４．９％であった。
【００９８】
なお、アンチグレア処理およびエッチング処理のいずれも実施する前のガラス基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９１．７％であった。また、実施例１に係るアンチグレア基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９２．４％であった。この結果から、未処理ガラス基板に対する実施例１に係るガラスの透過率上昇値は、３．２％である。また、実施例１に係るアンチグレア基板に対する実施例１に係るガラスの透過率上昇値ΔＴｔは、２．５％である。
【００９９】
このように、実施例１に係るガラスでは、未処理ガラス基板および実施例１に係るアンチグレア基板に比べて、有意に高い反射防止性が得られることがわかった。
【０１００】
次に、前述の方法で、実施例１に係るガラスの６０゜光沢度を測定した。測定の結果、実施例１に係るガラスの６０゜光沢度は、３０％であった。
【０１０１】
次に、実施例１に係るガラスの処理表面の粗さを、ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に基づいて測定した。走査型プローブ顕微鏡（ＳＰＩ３８００Ｎ：エスアイアイ・ナノテクノロジー社製）を用いた測定の結果、実施例１に係るガラスの表面の算術平均粗さＲａは、７０ｎｍであった。また、実施例１に係るガラスの表面の最大高さ粗さＲｚは、０．４８６μｍであった。なお、これらの測定は、サンプルの２μｍ×２μｍの領域で、取得データ数１０２４×１０２４として、実施した。
【０１０２】
このように、実施例１に係るガラスでは、アンチグレア性を有するとともに、有意な低反射性を有することが確認された。
【０１０３】
（実施例２）
以下の方法により、アンチグレア性を有する反射防止性ガラスを製造し、その特性を評価した。
【０１０４】
（アンチグレア処理）
まず、厚さ３ｍｍのガラス基板（ソーダライムガラス）の一方の表面に対して、アンチグレア処理を実施した。
【０１０５】
アンチグレア処理は、ガラス基板の一方の表面をサンドブラスト処理することにより実施した。これにより、「実施例２に係るアンチグレア基板」が得られた。
【０１０６】
前述の方法により、実施例２に係るアンチグレア基板の表面の光沢度を測定した。測定の結果、６０゜光沢度は、３２％であり、有意なアンチグレア性が得られていることが確認された。
【０１０７】
（エッチング処理）
次に、実施例２に係るアンチグレア基板を用いて、前述の実施例１と同様の方法で、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。ただし、この実施例２では、実施例２に係るアンチグレア基板の温度は、５３０℃とした。その他の条件は、実施例１の場合と同様である。
【０１０８】
このエッチング処理後に、実施例２に係るアンチグレア基板の処理表面には、多数のｎｍオーダの凹凸が形成された。以下、得られたガラス基板を「実施例２に係るガラス」と称する。
【０１０９】
（評価）
実施例２に係るガラスを用いて、前述の方法により、全光線透過率Ｔｔの測定を行った。測定の結果、実施例２に係るガラスの全光線透過率Ｔｔは、９２．７％であった。
【０１１０】
なお、アンチグレア処理およびエッチング処理のいずれも実施する前のガラス基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９１．７％であった。また、実施例２に係るアンチグレア基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９１．５％であった。この結果から、未処理ガラス基板に対する実施例２に係るガラスの透過率上昇値ΔＴｔは、１．０％である。また、実施例２に係るアンチグレア基板に対する実施例２に係るガラスの透過率上昇値ΔＴｔは、１．２％である。
【０１１１】
このように、実施例２に係るガラスでは、未処理ガラス基板および実施例２に係るアンチグレア基板に比べて、有意に高い反射防止性が得られることがわかった。
【０１１２】
次に、前述の方法で、実施例２に係るガラスの６０゜光沢度を測定した。測定の結果、実施例２に係るガラスの６０゜光沢度は、２１％であった。
【０１１３】
次に、前述の方法により、実施例２に係るガラスの処理表面の粗さを測定した。測定の結果、実施例２に係るガラスの表面の算術平均粗さＲａは、９９ｎｍであった。また、実施例２に係るガラスの表面の最大高さ粗さＲｚは、０．６７９μｍであった。
【０１１４】
このように、実施例２に係るガラスでは、アンチグレア性を有するとともに、有意な低反射性を有することが確認された。
【０１１５】
（実施例３）
実施例１と同様の方法により、アンチグレア性を有する反射防止性ガラスを製造し、その特性を評価した。
【０１１６】
ただし、この実施例３では、以下の条件で、エッチング処理を実施した。
【０１１７】
（エッチング処理）
実施例１と同様の方法でアンチグレア処理されたガラス基板（以下、「実施例３に係るアンチグレア基板」と称する）を用いて、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。エッチング処理には、前述の図２に示した処理装置１００を使用した。
【０１１８】
処理装置１００において、第１のスリット１１５には、フッ化水素ガスと窒素ガスの混合ガスを、３４ｃｍ／秒の流速で供給した。フッ化水素ガスの供給量は、１．５ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））とし、窒素ガスの供給量は、３０．５ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））とした。なお、混合ガスは、１５０℃に加熱した状態で供給した。
【０１１９】
また、第２のスリット１２０には、３４ｃｍ／秒の流速で窒素ガスを供給した。窒素ガスの温度は、１５０℃とし、窒素ガスの供給量は、１０ＳＬＭとした。
【０１２０】
全供給ガスに対するフッ化水素ガスの濃度は、３．６ｖｏｌ％である。
【０１２１】
第３のスリット１２５からの排気量は、供給ガスの供給量の２倍とした。
【０１２２】
実施例３に係るアンチグレア基板の搬送速度は、２ｍ／分とし、実施例３に係るアンチグレア基板は、３５０℃に加熱した状態で搬送した。
【０１２３】
エッチング処理時間（図２において、ガラス基板が距離Ｓを通過する時間）は、約１０秒とした。
【０１２４】
この処理後に、実施例３に係るアンチグレア基板の処理表面には、多数のｎｍオーダの凹凸が形成された。以下、得られた実施例３に係るアンチグレア基板を「実施例３に係るガラス」と称する。
【０１２５】
（評価）
実施例３に係るガラスを用いて、前述の方法により、全光線透過率Ｔｔの測定を行った。測定の結果、実施例３に係るガラスの全光線透過率Ｔｔは、９４．２％であった。
【０１２６】
なお、アンチグレア処理およびエッチング処理のいずれも実施する前のガラス基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９１．７％であった。また、実施例３に係るアンチグレア基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９２．４％であった。この結果から、未処理ガラス基板に対する実施例３に係るガラスの透過率上昇値は、２．５％である。また、実施例３に係るアンチグレア基板に対する実施例３に係るガラスの透過率上昇値ΔＴｔは、１．８％である。
【０１２７】
このように、実施例３に係るガラスでは、未処理ガラス基板および実施例３に係るアンチグレア基板に比べて、有意に高い反射防止性が得られることがわかった。
【０１２８】
次に、前述の方法で、実施例３に係るガラスの６０゜光沢度を測定した。測定の結果、実施例３に係るガラスの６０゜光沢度は、４９％であった。
【０１２９】
次に、前述の方法により、実施例３に係るガラスの処理表面の粗さを測定した。測定の結果、実施例３に係るガラスの表面の算術平均粗さＲａは、７８ｎｍであった。また、実施例３に係るガラスの表面の最大高さ粗さＲｚは、０．４７５μｍであった。
【０１３０】
このように、実施例３に係るガラスでは、アンチグレア性を有するとともに、有意な低反射性を有することが確認された。
【０１３１】
（比較例１）
実施例１と同様の方法により、アンチグレア性を有する反射防止性ガラスを製造し、その特性を評価した。
【０１３２】
ただし、この比較例１では、以下の条件で、エッチング処理を実施した。
【０１３３】
（エッチング処理）
実施例１と同様の方法でアンチグレア処理されたガラス基板（以下、「比較例１に係るアンチグレア基板」と称する）を用いて、ＨＦガスによるエッチング処理を実施した。エッチング処理には、前述の図２に示した処理装置１００を使用した。
【０１３４】
処理装置１００において、第１のスリット１１５には、フッ化水素ガスと窒素ガスの混合ガスを、３４ｃｍ／秒の流速で供給した。フッ化水素ガスの供給量は、１．５ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））とし、窒素ガスの供給量は、３０．５ＳＬＭ（標準状態の気体における毎分当たりの体積（リットル））とした。なお、混合ガスは、１５０℃に加熱した状態で供給した。
【０１３５】
また、第２のスリット１２０には、３４ｃｍ／秒の流速で窒素ガスを供給した。窒素ガスの温度は、１５０℃とし、窒素ガスの供給量は、１０ＳＬＭとした。
【０１３６】
全供給ガスに対するフッ化水素ガスの濃度は、３．６ｖｏｌ％である。
【０１３７】
第３のスリット１２５からの排気量は、供給ガスの供給量の２倍とした。
【０１３８】
比較例１に係るアンチグレア基板の搬送速度は、２ｍ／分とし、比較例１に係るアンチグレア基板は、２００℃に加熱した状態で搬送した。
【０１３９】
エッチング処理時間（図２において、ガラス基板が距離Ｓを通過する時間）は、約１０秒とした。
【０１４０】
以下、得られた比較例１に係るアンチグレア基板を「比較例１に係るガラス」と称する。
【０１４１】
（評価）
比較例１に係るガラスを用いて、前述の方法により、全光線透過率Ｔｔの測定を行った。測定の結果、実施例３に係るガラスの全光線透過率Ｔｔは、９２．４％であった。
【０１４２】
なお、アンチグレア処理およびエッチング処理のいずれも実施する前のガラス基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９１．７％であった。また、比較例1に係るアンチグレア基板に対して、同様の測定を行ったところ、全光線透過率Ｔｔは、９２．４％であった。この結果から、未処理ガラス基板に対する比較例１に係るガラスの透過率上昇値は、０．７％である。また、比較例１に係るアンチグレア基板に対する比較例１に係るガラスの透過率上昇値ΔＴｔは、０．０％である。
【０１４３】
このように、比較例１に係るガラスでは、未処理ガラス基板および比較例１に係るアンチグレア基板に比べて透過率上昇幅は１％未満と不十分であった。
【０１４４】
次に、前述の方法で、比較例１に係るガラスの６０゜光沢度を測定した。測定の結果、比較例１に係るガラスの６０゜光沢度は、５４％であった。
【０１４５】
次に、前述の方法により、比較例１に係るガラスの処理表面の粗さを測定した。測定の結果、比較例１に係るガラスの表面の算術平均粗さＲａは、６６ｎｍであった。また、比較例１に係るガラスの表面の最大高さ粗さＲｚは０．４４９μｍであった。
【０１４６】
このように、比較例１に係るガラスでは、アンチグレア性は有するが、低反射性は不十分であることが確認された。
【０１４７】
なお、反射防止性を有しない、通常のソーダライムガラスを用いて実施例３と同様の条件でエッチング処理を行い、その前後で同様の測定を行ったところ、エッチング処理前の全光線透過率Ｔｔは、９１．７％であり、エッチング処理後の全光線透過率Ｔｔは、９４．２％であり、透過率上昇値は、２．５％であった。よって、本願の実施例におけるガラスは、アンチグレア性を有するとともに、有意な低反射性を有することが確認された。
【０１４８】
以下の表１には、実施例１〜実施例３および比較例１におけるガラスの製造条件、および評価結果をまとめて示した。
【０１４９】
【表１】
2016001201.tif 000003
【産業上の利用可能性】
【０１５０】
本発明は、例えば、高い光透過性を有するガラス製品、例えば、建材用ガラス、自動車用ガラス、ディスプレイ用ガラス、光学素子、太陽電池用ガラス、ショーウィンドウガラス、光学ガラス、およびメガネレンズ等に利用することができる。
【符号の説明】
【０１５１】
１００      処理装置
１１０      インジェクタ
１１５      第１のスリット
１２０      第２のスリット
１２５      第３のスリット
１５０      搬送手段
１８０      ガラス基板
【図１】
2016001201.tif 000004
【図２】
2016001201.tif 000005