(57)【要約】【課題】適切な可使時間を有し、且つ良好な硬化物を得ることができるカチオン重合性組成物を提供する。【解決手段】（Ａ）密度汎関数法（汎関数：Ｂ３ＬＹＰ、基底関数：６−３１Ｇ＊）により最適化された構造において、非経験的分子軌道法（ハートリーフォック法、基底関数：ＳＴＯ−３Ｇ）により求められたMulliken chargesが−０．２３００以上０未満の窒素原子Ｎ1を有し、前記Mulliken chargesが−０．２３００未満の窒素原子Ｎ2を有さない化合物と、（Ｂ）カチオン重合性化合物と、（Ｃ）光カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）密度汎関数法（汎関数：Ｂ３ＬＹＰ、基底関数：６−３１Ｇ＊）により最適化された構造において、非経験的分子軌道法（ハートリーフォック法、基底関数：ＳＴＯ−３Ｇ）により求められたMulliken chargesが−０．２３００以上０未満の窒素原子Ｎ1を有し、前記Mulliken chargesが−０．２３００未満の窒素原子Ｎ2を有さない化合物と、
（Ｂ）カチオン重合性化合物と、
（Ｃ）光カチオン重合開始剤と
を含有するカチオン重合性組成物。
【請求項２】
化合物（Ａ）が、脂肪族含窒素化合物、脂環族含窒素化合物および芳香族含窒素化合物から選択される少なくとも１種である請求項１に記載のカチオン重合性組成物。
【請求項３】
化合物（Ａ）が、下記式１〜９で表される化合物から選択される少なくとも１種である請求項１または２に記載のカチオン重合性組成物。
【化１】
2016079360.tif 000011
［各式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基であり、２つまたは３つのＲ1が相互に結合して環を形成してもよく、隣接した環炭素原子に結合した２つのＲ2が相互に結合して環を形成してもよく、ただし、各式中に含まれる全ての窒素原子の、前記非経験的分子軌道法により求められたMulliken chargesが、−０．２３００以上０未満となるように、Ｘ、Ｒ1およびＲ2は選択される。］
【請求項４】
化合物（Ａ）が、下記式で表される化合物から選択される少なくとも１種である請求項１〜３のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物。
【化２】
2016079360.tif 000012
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物からなる、有機エレクトロルミネッセンス素子用封止材。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物からなる、有機太陽電池素子用封止材。
【請求項７】
基材フィルムと、請求項１〜４のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物からなる層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子または有機太陽電池素子封止用シート。
【請求項８】
請求項１〜４のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物から形成された硬化層を有する電子デバイス。
【請求項９】
（Ａ）密度汎関数法（汎関数：Ｂ３ＬＹＰ、基底関数：６−３１Ｇ＊）により最適化された構造において、非経験的分子軌道法（ハートリーフォック法、基底関数：ＳＴＯ−３Ｇ）により求められたMulliken chargesが−０．２３００以上０未満の窒素原子Ｎ1を有し、前記Mulliken chargesが−０．２３００未満の窒素原子Ｎ2を有さない化合物
を含有する、光カチオン重合用の硬化遅延剤。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カチオン重合性組成物及びその用途、並びに硬化遅延剤に関する。
【背景技術】
【０００２】
各種のインク組成物、コーティング組成物、封止用組成物、接着剤用組成物、ナノインプリント用組成物および光学材料用組成物として、種々の硬化性組成物が知られている。硬化性組成物の一つとして、従来、光ラジカル重合性組成物が良く知られている。しかしながら、光ラジカル硬化性組成物は、空気中で光硬化反応を行うと、酸素による停止反応が起こるため、硬化不良を起こすという問題がある。
【０００３】
これに対して、光カチオン重合性組成物は、酸素阻害反応の懸念が無いため、空気中で反応させることが可能である。このため、光カチオン重合性組成物について、多くの分野で提案されている（例えば、特許文献１〜４参照）。
【０００４】
光カチオン硬化性組成物は、光照射を受けて、含有成分であるカチオン重合性化合物が重合して、硬化する。しかしながら、ここでの重合速度が速すぎる場合、光照射直後に硬化してしまうため、例えば、前記組成物に予め光照射して、対象部材に塗布することが困難となる。したがって、カチオン硬化性組成物には、光照射後に作業が可能な時間、いわゆる可使時間を有することが求められる。
【０００５】
カチオン重合性組成物の硬化速度を調整するために、硬化遅延剤を添加することが知られている。硬化遅延剤として、例えば、特許文献１にはポリオール化合物が、特許文献２〜４にはポリエーテル化合物が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００４−１３７３２１号公報
【特許文献２】特開２００７−０５６１１９号公報
【特許文献３】特開２０１２−０８２２６６号公報
【特許文献４】特許第４４７８１１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明者らの検討によれば、硬化遅延剤の種類によっては、可使時間が短い、またはカチオン重合性化合物の重合性が低下して硬化物が得られないことが判明した。本発明は、適切な可使時間を有し、且つ良好な硬化物を得ることができるカチオン重合性組成物を提供することを課題とする。また、前記組成物から形成された硬化層を有する電子デバイス、およびカチオン重合用の硬化遅延剤を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意検討を行った。その結果、下記特定の含窒素化合物を用いることにより上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００９】
本発明は、例えば以下の［１］〜［９］に関する。
［１］（Ａ）密度汎関数法（汎関数：Ｂ３ＬＹＰ、基底関数：６−３１Ｇ＊）により最適化された構造において、非経験的分子軌道法（ハートリーフォック法、基底関数：ＳＴＯ−３Ｇ）により求められたMulliken chargesが−０．２３００以上０未満の窒素原子Ｎ1を有し、前記Mulliken chargesが−０．２３００未満の窒素原子Ｎ2を有さない化合物と、（Ｂ）カチオン重合性化合物と、（Ｃ）光カチオン重合開始剤とを含有するカチオン重合性組成物。
【００１０】
［２］化合物（Ａ）が、脂肪族含窒素化合物、脂環族含窒素化合物および芳香族含窒素化合物から選択される少なくとも１種である前記［１］に記載のカチオン重合性組成物。
［３］化合物（Ａ）が、下記式１〜９で表される化合物から選択される少なくとも１種である前記［１］または［２］に記載のカチオン重合性組成物。
【００１１】
【化１】
2016079360.tif 000002
［各式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基であり、２つまたは３つのＲ1が相互に結合して環を形成してもよく、隣接した環炭素原子に結合した２つのＲ2が相互に結合して環を形成してもよく、ただし、各式中に含まれる全ての窒素原子の、前記非経験的分子軌道法により求められたMulliken chargesが、−０．２３００以上０未満となるように、Ｘ、Ｒ1およびＲ2は選択される。］
［４］化合物（Ａ）が、下記式で表される化合物から選択される少なくとも１種である前記［１］〜［３］のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物。
【００１２】
【化２】
2016079360.tif 000003
［５］前記［１］〜［４］のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物からなる、有機エレクトロルミネッセンス素子用封止材。
【００１３】
［６］前記［１］〜［４］のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物からなる、有機太陽電池素子用封止材。
［７］基材フィルムと、前記［１］〜［４］のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物からなる層とを有する有機エレクトロルミネッセンス素子または有機太陽電池素子封止用シート。
【００１４】
［８］前記［１］〜［４］のいずれか１項に記載のカチオン重合性組成物から形成された硬化層を有する電子デバイス。
［９］（Ａ）密度汎関数法（汎関数：Ｂ３ＬＹＰ、基底関数：６−３１Ｇ＊）により最適化された構造において、非経験的分子軌道法（ハートリーフォック法、基底関数：ＳＴＯ−３Ｇ）により求められたMulliken chargesが−０．２３００以上０未満の窒素原子Ｎ1を有し、前記Mulliken chargesが−０．２３００未満の窒素原子Ｎ2を有さない化合物を含有する、光カチオン重合用の硬化遅延剤。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、適切な可使時間を有し、且つ良好な硬化物を得ることができるカチオン重合性組成物を提供することができる。また、前記組成物から形成された硬化層を有する電子デバイス、およびカチオン重合用の硬化遅延剤を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１（ａ）は、有機ＥＬ素子の一例を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
〔カチオン重合性組成物〕
本発明のカチオン重合性組成物は、
（Ａ）以下に説明する窒素原子含有化合物と、
（Ｂ）カチオン重合性化合物と、
（Ｃ）光カチオン重合開始剤と
を含有する。
以下、上記化合物をそれぞれ「成分（Ａ）」〜「成分（Ｃ）」ともいう。
【００１８】
《窒素原子含有化合物（Ａ）》
窒素原子含有化合物（Ａ）は、密度汎関数法（汎関数：Ｂ３ＬＹＰ、基底関数：６−３１Ｇ＊）により最適化された構造において、非経験的分子軌道法（ハートリーフォック法（ＨＦ）、基底関数：ＳＴＯ−３Ｇ）により求められたMulliken chargesが−０．２３００以上０未満の窒素原子Ｎ1を有する。窒素原子Ｎ1のMulliken chargesは、好ましくは−０．１０００〜−０．２３００、より好ましくは−０．１５００〜−０．２３００である。
【００１９】
上記計算における「最適化」とは、量子化学計算における「構造最適化」を意味し、いわゆるminimize計算により行われる。例えば後述の量子化学計算ソフトウエアであるＧＡＭＥＳＳにおいて、インプットキーワードとして「RUNTYP=OPTIMIZE」を指定する。
【００２０】
閉殻構造を有する分子（例：中性分子）の場合、制限法である、Ｂ３ＬＹＰおよびＲＨＦで計算を行い、開殻構造を有する分子（例：ラジカル）の場合、非制限法である、ＵＢ３ＬＹＰおよびＵＨＦで計算を行う。
【００２１】
成分（Ａ）を用いることで、光照射によるカチオン重合性化合物（Ｂ）の重合が適切に抑制される。上記Mulliken chargesを有する窒素原子Ｎ1が、光照射により光カチオン重合開始剤（Ｃ）から発生した酸に作用し、重合硬化を遅延させるものと考えられる。したがって、本発明のカチオン重合性組成物は、適切な可使時間を有することができる。また、成分（Ａ）を用いても、カチオン重合性組成物から形成された硬化物の物性値の変化は、成分（Ａ）を用いない場合と比べて、小さい。
【００２２】
成分（Ａ）は、前記非経験的分子軌道法により求められたMulliken chargesが−０．２３００未満の窒素原子Ｎ2を有さない化合物である。この化合物は、上記作用が過度に働かないため、本発明のカチオン重合性組成物が適切に重合硬化する点で好ましい。
【００２３】
成分（Ａ）としては、例えば、脂肪族含窒素化合物、脂環族含窒素化合物、芳香族含窒素化合物が挙げられ、脂環族含窒素化合物、芳香族含窒素化合物が好ましい。より具体的には、下記式１〜９で表される化合物が挙げられる。
【００２４】
【化３】
2016079360.tif 000004
各式中、Ｘは酸素原子または硫黄原子であり、Ｒ1はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基であり、Ｒ2はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基であり、２つまたは３つのＲ1が相互に結合して環を形成してもよく、隣接した環炭素原子に結合した２つのＲ2が相互に結合して環を形成してもよい。ただし、各式中に含まれる全ての窒素原子の、前記非経験的分子軌道法により求められたMulliken chargesが、−０．２３００以上０未満となるように、Ｘ、Ｒ1およびＲ2は選択される。各式中に含まれる全ての窒素原子のMulliken chargesは、好ましくは−０．１０００〜−０．２３００、より好ましくは−０．１５００〜−０．２３００である。
【００２５】
３つのＲ1が相互に結合して形成された環を有する化合物としては、例えば、下記式１０で表される化合物が挙げられる。隣接した環炭素原子に結合した２つのＲ1またはＲ2が相互に結合して形成された環としては、例えば、シクロヘキサン環等の脂肪族環、ベンゼン環等の芳香族環が挙げられる。このような化合物としては、例えば、下記式１１〜１５で表される化合物が挙げられる。
【００２６】
【化４】
2016079360.tif 000005
各式中、ＸおよびＲ2は上記式１〜９中の同一記号と同義であり、Ｒ3はそれぞれ独立に水素原子、ハロゲン原子、水酸基または炭化水素基である。式１０において、環構造を形成する各炭素原子は置換基を有してもよく、例えば前記Ｒ3として記載した基が挙げられる。
【００２７】
上記例示の成分（Ａ）は、ポリエチレングリコール等のポリエーテル化合物と比較して、酸分解によるアウトガスが発生しにくい。したがって、本発明のカチオン重合性組成物を硬化する際、または硬化後に硬化物が高熱環境下におかれた際、アウトガスの発生量は小さい。このため、前記組成物を、例えば有機ＥＬ素子用封止材として用いる場合、アウトガスにより素子の劣化を起こす恐れが小さい。
【００２８】
式１〜１５において、ハロゲン原子および炭化水素基としては、下記基が挙げられる。
ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜２０の鎖状炭化水素基、炭素数４〜３０の脂環式炭化水素基、炭素数６〜３０の芳香族炭化水素基が挙げられる。
【００２９】
鎖状炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、テトラデシル基、イコシル基等の炭素数１〜２０のアルキル基；エテニル基、プロペニル基、ブテニル基、ヘキセニル基、デセニル基、イコセニル基等の炭素数２〜２０のアルケニル基；エチニル基、プロピニル基、ブチニル基、ヘキシニル基、デシニル基、イコシニル基等の炭素数２〜２０のアルキニル基が挙げられる。
【００３０】
脂環式炭化水素基としては、例えば、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基、シクロデシル基等の炭素数４〜３０のシクロアルキル基；ノルボルニル基、アダマンチル基、トリシクロデシル基、テトラシクロドデシル基等の飽和多環式基；シクロプロペニル基、シクロブテニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基、シクロデセニル基等の炭素数４〜３０のシクロアルケニル基；ノルボネニル基等の不飽和多環式基が挙げられる。
【００３１】
芳香族炭化水素基としては、例えば、フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基、エチルフェニル基、ｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、メチルナフチル基、アントリル基等の炭素数６〜３０のアリール基；ベンジル基、フェネチル基、ナフチルメチル基、アントリルメチル基等の炭素数７〜３０のアラルキル基が挙げられる。
【００３２】
成分（Ａ）の具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。なお、各式中、Ｎ原子の隣に記載した値は、上記Mulliken chargesを示す。
【００３３】
【化５】
2016079360.tif 000006
成分（Ａ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
本発明のカチオン重合性組成物中、成分（Ａ）の含有量は、必要とされる可使時間の程度、光照射後の加熱の有無、硬化物の物性等により適宜選択される。成分（Ａ）の含有量は、カチオン重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して、通常０．０５〜５質量部、好ましくは通常０．０５〜２質量部、より好ましくは通常０．１〜１質量部である。成分（Ａ）の含有量が前記範囲にあると、遅延性と硬化性のバランスの点で好ましい。
【００３５】
また、成分（Ａ）の添加量は、遅延硬化剤として従来使用されてきたポリエーテル化合物と比較して、少量でもよい。例えば、成分（Ａ）の含有量は、カチオン重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して、０．０５〜１質量部という添加量であってもよい。
【００３６】
成分（Ａ）は、カチオン重合性組成物における光カチオン重合反応を遅延させることから、適当量を配合することにより光照射後の可使時間および硬化時間を制御する反応調節剤としての役割を果たし、作業性を大幅に向上させることができる。このため、成分（Ａ）は、光カチオン重合用の硬化遅延剤として用いることができる。
【００３７】
《カチオン重合性化合物（Ｂ）》
カチオン重合性化合物（Ｂ）は、光カチオン重合開始剤（Ｃ）の存在下で光照射することにより、重合反応や架橋反応を起こす化合物である。成分（Ｂ）としては、環状エーテル構造を有する化合物が挙げられる。
【００３８】
環状エーテル構造としては、例えば、オキシラン環、オキセタン環、オキソラン環等の脂肪族環が挙げられる。環状エーテル構造を有する化合物としては、例えば、オキシラン化合物、オキセタン化合物、オキソラン化合物が挙げられる。
【００３９】
カチオン重合性化合物（Ｂ）としては、１分子中に環状エーテル構造を２以上有する化合物が好ましく、より好ましくは２〜１０、さらに好ましくは２〜５である。
オキシラン化合物としては、例えば、
エチレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコールジグリシジルエーテル、ジプロピレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパンジグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテル、ジグリセロールテトラグリシジルエーテル、ジグリセロールトリグリシジルエーテル、ソルビトールヘキサグリシジルエーテル、ソルビトールペンタグリシジルエーテル、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ソルビトールトリグリシジルエーテル等の、脂肪族多価アルコールのポリグリシジルエーテル；
エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、ソルビトール等の脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキシドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールの、ポリグリシジルエーテル；
ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル等の、ビスフェノール類のジグリシジルエーテル；
ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳ等のビスフェノール類に１種または２種以上のアルキレンオキシドを付加することにより得られるポリエーテルジオールの、ジグリシジルエーテル；
３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−５，５−スピロ−３，４−エポキシ）シクロヘキサン−メタ−ジオキサン、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシルメチル）アジペート、３，４−エポキシ−６−メチルシクロヘキシル−３'，４'−エポキシ−６'−メチルシクロヘキサンカルボキシレート、ε−カプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、トリメチルカプロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、β−メチル−δ−バレロラクトン変性３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサン）、エチレングリコールのジ（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）エーテル、エチレンビス（３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート）、エポキシシクロへキサヒドロフタル酸ジオクチル、エポキシシクロヘキサヒドロフタル酸ジ−２−エチルヘキシル等のオキシラン環含有脂環式化合物；
エポキシノボラック樹脂；
が挙げられる。
【００４０】
オキセタン化合物としては、例えば、３−エチル−３−ヒドロキシメチルオキセタン、３−エチル−３−（フェノキシエチル）オキセタン、３−エチル−３−（２−エチルヘキシロキシメチル）オキセタン、ジ［１−エチル−（３−オキセタニル）］メチルエーテル、３−エチル−３−［［３−（トリエトキシシリル）プロポキシ］メチル］オキセタン、１，４−ビス［［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル］ベンゼン、１，２−ビス［［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル］ベンゼン、１，３−ビス［［（３−エチル−３−オキセタニル）メトキシ］メチル］ベンゼン、トリメチロールプロパントリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールトリス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、ペンタエリスリトールテトラキス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキシド変性ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、プロピレンオキシド変性水添ビスフェノールＡビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、エチレンオキシド変性ビスフェノールＦビス（３−エチル−３−オキセタニルメチル）エーテル、オキセタニルシルセスキオキサン、フェノールノボラックオキセタン、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが挙げられる。
【００４１】
オキソラン化合物としては、例えば、２，２−ジメチル−１，３−ジオキソラン、２，２−ジエチル−1，３−ジオキソラン、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラン、２−シクロヘキシル−１，３−ジオキソラン、２−メチル−２−イソブチル−１，３−ジオキソランが挙げられる。
【００４２】
成分（Ｂ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明のカチオン重合性組成物中、成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）および成分（Ｃ）を除く組成物１００質量％中、通常２０〜１００質量％、好ましくは４０〜１００質量％、より好ましくは６０〜１００質量％である。成分（Ｂ）の含有量が前記範囲にあると、硬化性の点で好ましい。
【００４３】
《光カチオン重合開始剤（Ｃ）》
光カチオン重合開始剤（Ｃ）は、紫外線照射等の光照射によりカチオン重合性化合物（Ｂ）の重合を開始させる化合物であり、例えば、光酸発生剤が挙げられる。光酸発生剤は、光照射を受けて酸を発生する化合物である。
【００４４】
光酸発生剤としては、例えば、オニウム塩化合物、ハロゲン含有化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物が挙げられる。
オニウム塩化合物としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩が挙げられる。好ましいオニウム塩の具体例としては、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロホスフェート、ジフェニルヨードニウムテトラフルオロボレート等のヨードニウム塩；トリフェニルスルホニウムトリフリオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムｐ−トルエンスルホネート、４，７−ジ−ｎ−ブトキシナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムトリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロホスフェート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート、４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート等のスルホニウム塩が挙げられる。
【００４５】
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有複素環式化合物、ハロアルキル基含有炭化水素化合物が挙げられる。好ましいハロゲン含有化合物の具体例としては、フェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、４−メトキシフェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、スチリル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ナフチル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、２−［２−（５−メチルフラン−２−イル）エテニル］−４，６−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等のｓ−トリアジン誘導体；１，１０−ジブロモ−ｎ−デカン、１，１−ビス（４−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタンが挙げられる。
【００４６】
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン化合物、β−スルホニルスルホン化合物およびこれらの化合物のα−ジアゾ化合物が挙げられる。好ましいスルホン化合物の具体例としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェナシルスルホニル）メタンが挙げられる。
【００４７】
スルホン酸化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル類、ハロアルキルスルホン酸エステル類、アリールスルホン酸エステル類、イミノスルホネート類が挙げられる。好ましいスルホン酸化合物の具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールトリストリフルオロメタンスルホネート、ｏ−ニトロベンジルトリフルオロメタンスルホネート、ｏ−ニトロベンジルｐ−トルエンスルホネートが挙げられる。
【００４８】
スルホンイミド化合物としては、例えば、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルイミドが挙げられる。
【００４９】
ジアゾメタン化合物としては、例えば、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタンが挙げられる。
【００５０】
成分（Ｃ）は１種単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
本発明のカチオン重合性組成物中、成分（Ｃ）の含有量は、カチオン重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して、通常０．１〜５質量部、好ましくは０．２〜３質量部、より好ましくは０．５〜２質量部である。成分（Ｃ）の含有量が前期範囲にあると、硬化性と遅延性のバランスの点で好ましい。
【００５１】
《その他の成分》
本発明のカチオン重合性組成物は、その用途に応じて、種々の成分をさらに含有することができる。例えば、乾燥剤、潜在性乾燥剤、粘着性樹脂、充填材、密着性向上剤、軟化剤、可塑剤、粘度調整剤、金属イオン捕捉剤、老化防止剤、着色剤、溶剤が挙げられる。
【００５２】
乾燥剤としては、例えば、シリカゲル、モレキュラーシーブ、酸化カルシウム、酸化バリウム、酸化ストロンチウム等のアルカリ土類金属の酸化物が挙げられる。
潜在性乾燥剤とは、光酸発生剤、光塩基発生剤、熱酸発生剤、熱塩基発生剤のいずれか一つ以上を共存させた場合に、光または熱により吸水機能を発現する乾燥剤をいう。例えば、テトラキス[(5-ブチル-5-エチル-1,3-ジオキサ-2-シクロヘキシルオキシ)メチル]メタン、1,3-ビス(5-ヒドロキシ-1,3-ジオキサ-2-シクロヘキシルオキシ)-2-プロパノールが挙げられる。
【００５３】
例えば、本発明のカチオン重合性組成物中、乾燥剤および潜在性乾燥剤は合計で、カチオン重合性化合物（Ｂ）１００質量部に対して、通常５〜７０質量部、好ましくは１５〜５０質量部の範囲で含まれてもよい。
【００５４】
《調製方法》
本発明のカチオン重合性組成物は、例えば、ホモディスパー、ホモミキサー、万能ミキサー、プラネタリウムミキサー、ニーダー、三本ロール等の混合機を用いて、常温または加温下、例えば５〜６０℃で、成分（Ａ）〜（Ｃ）、必要に応じてその他の成分を混合することで、調製することができる。
【００５５】
〔カチオン重合性組成物の用途〕
本発明のカチオン重合性組成物は、例えば、インク組成物、コーティング組成物、封止用組成物、接着剤用組成物、ナノインプリント用組成物、光学部材形成用組成物として用いることができる。
【００５６】
本発明のカチオン重合性組成物は、光照射により硬化反応が開始するが、光照射中および光照射直後に硬化が完了しないため、充分な可使時間を有する。例えば、前記組成物に光を照射した後にある部材に塗布し、前記部材と他の部材とを貼り合わせることで、または、前記組成物をある部材に塗布した後に光を照射して、前記部材と他の部材とを貼り合わせることで、部材同士を接着することが可能である。
【００５７】
本発明のカチオン重合性組成物は、光を照射した後、硬化反応が進行して作業が不可能になるまでの使用可能時間（可使時間）が１分以上であることが好ましく、より好ましくは５〜６０分、さらに好ましくは１５〜６０分である。この可使時間は、実施例記載の条件で決定することができる。
【００５８】
以上の特性を有することから、本発明のカチオン重合性組成物は、例えば、有機エレクトロルミネッセンス（ＥＬ）素子用封止材、偏光板を液晶パネルに固定する接着剤、有機太陽電池素子用封止材として好適に用いることができる。例えば、前記組成物に光を照射して活性化させ、完全に硬化するまでに封止材として用いることで、カチオン重合を開始するための光照射に有機ＥＬ素子がさらされることなく、有機ＥＬ素子を封止することができる。
【００５９】
カチオン重合性組成物は、例えば、スピンコーター、ロールコーター、スプレーコーター、バーコーター、ディスペンサー、インクジェット装置を用いて、基板等の部材上に塗布することができる。塗布の態様としては、基板全面でもよく、一部でもよく、前記組成物からなる層の形成箇所に応じて適宜変更すればよい。
【００６０】
放射線としては、カチオン重合を開始できれば特に限定されないが、紫外光が好ましい。放射線照射は、公知の方法および条件を採用することができるが、例えば、高圧水銀ランプを用い、紫外線照射によって行うことができる。照射量は、例えば５００〜１５０００ｍＪ／ｃｍ2である。
【００６１】
放射線照射後に硬化を促進するために加熱を行う場合は、加熱温度としては、５０〜１５０℃が好ましく、６０〜１００℃がより好ましく；加熱時間としては、１分間〜２４時間が好ましく、１０分間〜５時間がより好ましい。
【００６２】
本発明のカチオン重合性組成物を用いて封止層を形成する場合、封止層の膜厚は、用途に応じて特に限定されないが、例えば１〜５００μｍ、好ましくは５〜２００μｍ、より好ましくは５〜１００μｍである。封止層の膜厚は、例えば、デプスゲージ５４７−２５１（（株）ミツトヨ製）で測定することができる。
【００６３】
本発明のカチオン重合性組成物は、上述のようにそのまま封止材として用いてもよいが、シート状に加工して用いてもよい。例えば、基材フィルムと、前記フィルム上に形成された、本発明のカチオン重合性組成物からなる層とを有するシート、例えば有機ＥＬ素子または有機太陽電池素子封止用シートが挙げられる。カチオン重合性組成物からなる層は、封止する有機ＥＬ素子または有機太陽電池素子全体を覆えるように、基材フィルムの全面または部分的に形成されていてもよい。
【００６４】
〔電子デバイス〕
本発明の電子デバイスは、上記カチオン重合性組成物から形成された硬化層、例えば封止層、を備える。電子デバイスとしては、例えば、有機ＥＬ装置、有機太陽電池および液晶表示装置が挙げられる。有機ＥＬ装置としては、例えば、有機ＥＬ照明装置、有機ＥＬ表示装置が挙げられる。
【００６５】
有機ＥＬ装置の一例は、上述した封止層を備える。例えば有機ＥＬ装置は、基板と、基板上に設けられ、上記カチオン重合性組成物から形成された封止層により封止された有機ＥＬ素子と、基板において有機ＥＬ素子の少なくとも周辺部に形成された接着剤層と、接着剤層により基板に固定され、基板および接着剤層とともに有機ＥＬ素子を収納して外気から遮断するための封止用基板とを備える有機ＥＬ装置である。
【００６６】
図１（ａ）は、有機ＥＬ装置の一例を模式的に示す断面図である。図１（ａ）に示す有機ＥＬ装置１は、有機ＥＬ素子１０と、有機ＥＬ素子１０を収納して外気から遮断するための構造体２０と、有機ＥＬ素子１０を封止する封止層３０とを備えている。
【００６７】
有機ＥＬ素子１０は、構造の詳細を省略するが、有機材料からなる有機発光層が互いに対向する一対の電極の間に挟持されてなる構造であればよく、すなわち有機発光層が互いに対向する陽極と陰極との間に挟持されてなる構造であればよく、例えば、陽極／電荷（正孔）輸送層／有機発光層／陰極等からなる公知の構造をとることができる。
【００６８】
有機発光層は、有機材料である発光材料、すなわち、有機発光材料を含有する。有機発光層に含まれる有機発光材料は低分子有機発光材料であっても、高分子有機発光材料であってもよい。例えば、Ａｌｑ3（トリス（８−キノリノラト）アルミニウム）、ＢｅＢｑ3（ビス（１０−ヒドロキシベンゾ［ｈ］キノリネート）ベリリウム）等の基材母体にキナクリドンやクマリンをドープした材料を用いることができる。また、インクジェット法による有機発光材料の塗布法を用いる場合には、それに好適な高分子有機発光材料であることが好ましい。高分子有機発光材料としては、例えば、ポリフェニレンビニレンおよびその誘導体、ポリアセチレン（Ｐｏｌｙ  ａｃｅｔｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリフェニレン（Ｐｏｌｙ  ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリパラフェニレンエチレン（Ｐｏｌｙ  ｐａｒａ  ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ  ｅｔｈｙｌｅｎｅ）およびその誘導体、ポリ３−ヘキシルチオフェン（Ｐｏｌｙ  ３−ｈｅｘｙｌ  ｔｈｉｏｐｈｅｎｅ（Ｐ３ＨＴ））およびその誘導体、ポリフルオレン（Ｐｏｌｙ  ｆｌｕｏｒｅｎｅ（ＰＦ））およびその誘導体等を選択して用いることができる。
【００６９】
有機ＥＬ素子１０の陽極および陰極は、それぞれ導電性の材料からなる。
有機ＥＬ素子１０が有する陽極の材料としては、例えば、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）やＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ）、酸化スズ等が選択される。
【００７０】
なお、有機ＥＬ素子１０においては、陽極と有機発光層との間に、正孔注入層および／または中間層が配置されていてもよい。陽極と有機発光層との間に、正孔注入層および中間層が配置される場合、陽極上に正孔注入層が配置され、正孔注入層上に中間層が配置され、そして中間層上に有機発光層が配置される。また、陽極から有機発光層へ効率的に正孔を輸送できる限り、正孔注入層および中間層は省略されてもよい。
【００７１】
有機ＥＬ素子１０が有する陰極の材料としては、例えば、ＩＴＯ、ＩＺＯおよび酸化スズ等を選択することができる。また、例えば、バリウム（Ｂａ）、酸化バリウム（ＢａＯ）、アルミニウム（Ａｌ）およびＡｌを含む合金等を選択することも可能である。
【００７２】
なお、有機ＥＬ素子１０においては、陰極と有機発光層との間に、例えば、バリウム（Ｂａ）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）等からなる電子注入層が配置されていてもよい。
有機ＥＬ装置１が有する構造体２０は、基板（素子用基板）２２と、基板２２において有機ＥＬ素子１０の周辺部上に形成された接着剤層２６と、接着剤層２６により基板２２に固定された封止用基板２４とを備えている。有機ＥＬ素子１０は、基板２２、封止用基板２４および接着剤層２６によって密封されており、さらに封止層３０により封止されている。有機ＥＬ装置１内部は封止用基板２４と封止層３０との間に中空構造を有してもよく、当該中空は有機ＥＬ素子１０を劣化させないために不活性ガスで満たされていてもよい。
【００７３】
接着剤層２６は、従来公知のシール材を用いて形成することができる。
封止層３０は、上述した本発明のカチオン重合性組成物から形成される。
有機ＥＬ装置１の基板２２としてはガラス基板および樹脂基板等が挙げられ、基板の構成材料としては、例えば、無アルカリガラス等のガラス；ポリエステル（例：ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート）、フルオレン環変性ポリエステル、ポリオレフィン（例：ポリエチレン、ポリプロピレン）、脂環式ポリオレフィン、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリイミド、フッ素化ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリアリレート、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、フルオレン環変性ポリカーボネート、脂環変性ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリウレタン、（メタ）アクリロイル化合物等の樹脂が挙げられる。
【００７４】
封止用基板２４としてはガラスや樹脂等からなる構造体が挙げられる。封止用基板２４の構成材料としては、基板２２と同様に、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリイミド等の樹脂が挙げられ、その他基板２２の構成材料として例示した樹脂が挙げられる。また、封止用基板２４には、無機材料からなるもの、例えば、無アルカリガラス基板等のガラス基板のように無機材料から形成された基板、無機材料と樹脂とを混練して得られた材料から形成された基板、ガラス基板または樹脂基板上に無機材料が蒸着または塗布された基板を用いることも可能である。
【００７５】
接着剤層２６は、封止用基板２４を基板２２に固定するとともに、封止用基板２４と基板２２との間で、有機ＥＬ素子１０を密封する。なお、構造体２０の構造は、有機ＥＬ素子１０を収納するとともに接着剤層２６を用いてそれを密封できればよく、特に限定されない。
【００７６】
以上の構造の有機ＥＬ装置１は、封止層３０により有機ＥＬ素子１０が封止されており、また接着剤層２６を備えることで、素子内に水分が侵入することを低減することができる。このため、有機ＥＬ装置１は、水分に起因する、輝度や発光効率等の発光特性の低下を抑制することができる。
【００７７】
本発明のカチオン重合性組成物を用いて有機ＥＬ素子を封止する方法としては、例えば、（１）本発明の組成物に光を照射した後、前記組成物が硬化するまでの間に、基板と封止用基板との間に前記組成物を満たして有機ＥＬ素子を封止する方法、（２）本発明の組成物を封止用基板上の有機ＥＬ素子に対応する部分に塗布し、光を照射して前記組成物を活性化した後に、必要に応じて封止用基板周辺部にシール材を塗布し、基板上の有機ＥＬ素子が前記組成物により覆われるように基板と封止用基板とを貼り合わせる方法が挙げられる。
【実施例】
【００７８】
以下、本発明を実施例に基づいて更に具体的に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されない。以下の実施例等の記載において、特に言及しない限り、「部」は「質量部」を示す。
【００７９】
［Mulliken chargesの計算］
窒素原子含有化合物について、Mulliken chargesの計算は次のように行った。Chem Bio3D Ultra13.0（PerkinElmer）にて目的化合物の構造式を描き、このソフトに付属しているＧＡＭＥＳＳのキーワードを（Ｕ）Ｂ３ＬＹＰ／６−３１Ｇ＊に指定して、Minimize計算を行った。前記化合物がラジカルや電荷を含むときは、Wave Function、spin、charge等の設定を行った。また、シクロヘキサン環における椅子型および舟型構造、置換基がアキシアル、エクアトリアル等をとる可能性がある場合は、それぞれに対して、Minimize計算を行った。次に、得られた構造のうち最小エネルギーを有する構造に対して、Ｒ（Ｕ）ＨＦ／ＳＴＯ−３Ｇにて計算を行い、Mulliken chargesを求めた。この場合も、前記化合物がラジカルや電荷を含むときは、Wave Function、spin、charge等の設定を行った。
【００８０】
一例として、下記化合物Ａ−１の計算時に用いたキーワードを以下に示す。
$CONTRL MULT=2 SCFTYP=UHF RUNTYP=OPTIMIZE
COORD=ZMTMPC MAXIT=200 NZVAR=0 DFTTYP=B3LYP $END
$SYSTEM TIMLIM=600000 MWORDS=10 $END
$STATPT NSTEP=100 OPTTOL=0.0001 $END
$SCF DIRSCF=.T. DAMP=.T. $END
$BASIS GBASIS=N31 NGAUSS=6 NDFUNC=1 $END
$GUESS GUESS=HUCKEL $END
【００８１】
［カチオン重合性組成物の調製］
カチオン重合性組成物の調製に用いた、窒素原子含有化合物（Ａ）その他の化合物、カチオン重合性化合物（Ｂ）、光カチオン重合開始剤（Ｃ）を以下に示す。
【００８２】
《成分（Ａ）その他の化合物》
Ａ−１：2,2,6,6-テトラメチルピペリジン 1-オキシル フリーラジカル（-0.208）
Ａ−２：4-ヒドロキシ-2,2,6,6-テトラメチルピペリジン 1-オキシル フリーラジカル
（-0.207）
Ａ−３：１−メチル−２−アザアダマンタン−Ｎ−オキシル（-0.223）
Ａ−４：キノキサリン（-0.222）
Ａ−５：５−メチルキノキサリン（NA:-0.225、NB:-0.223）
Ａ−６：２，３−ジクロロキノキサリン（-0.211）
Ａ−７：フタラジン（-0.151）
Ａ−８：６−メチルフタラジン（NA:-0.153、NB:-0.152）
Ａ−９：ベンゾチアジアゾール（-0.226）
Ａ−１０：ピラゾール（NA:-0.152、NB:-0.234）
Ａ−１１：キノリン（-0.241）
Ａ−１、Ａ−２、Ａ４〜Ａ１１は東京化成工業（株）製である。Ａ−３は和光純薬工業（株）製である。括弧内の数値は窒素原子のMulliken chargesである。
【００８３】
【化６】
2016079360.tif 000007
【００８４】
《成分（Ｂ）》
Ｂ−１：ｊＥＲ８２８（三菱化学（株）製）  ビスフェノールＡジグリシジルエーテル
Ｂ−２：セロキサイド２０２１Ｐ（（株）ダイセル製）  ３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３'，４'−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート
Ｂ−３：ＥＸ−３１３（ナガセケムテックス（株）製）
グリセリンポリグリシジルエーテル
《成分（Ｃ）》
Ｃ−１：ＣＰＩ−１１０Ｐ（サンアプロ（株）製）  ４−（フェニルチオ）フェニルジフェニルスルホニウムヘキサフルオロホスファート
《潜在性乾燥剤（Ｄ）》
Ｄ−１：テトラキス[(5-ブチル-5-エチル-1,3-ジオキサ-2-シクロヘキシルオキシ)メチル]メタン
【００８５】
【化７】
2016079360.tif 000008
Ｄ−２：
1,3-ビス(5-ヒドロキシ-1,3-ジオキサ-2-シクロヘキシルオキシ)-2-プロパノール
【００８６】
【化８】
2016079360.tif 000009
【００８７】
［実施例１］
フラスコに、Ａ−１を０．２部、Ｂ−１を１００部、Ｃ−１を１部入れ、５０℃に加温しながら、これら成分の混合物を均一となるまで撹拌し、カチオン重合性組成物を調製した。
【００８８】
［実施例２〜１３および比較例１〜３］
表１に示す種類および配合量の各成分を用いたこと以外は実施例１と同様にして、カチオン重合性組成物を調製した。
【００８９】
［評価方法］
《可使時間》
可使時間は次のように評価した。
調製したカチオン重合性組成物を、厚さ１．１ｍｍ、５０ｍｍ角のガラス基板上に、１０μＬずつ５か所、計５０μＬを滴下した。この基板に高圧水銀ランプ（ＨＬＲ４００Ｆ−２１、セン特殊光源）および波長カットフィルター（ZUL0350 Longpass Filter、アサヒスペクトラ）を組み合わせ、２０ｍＷ、１．５Ｊ／ｃｍ2の条件で滴下面より光照射した。照度は、３６５ｎｍの波長で、積算光量計ＵＶＲ−Ｔ１、トプコンテクノハウスにて確認した。ＵＶ照射後、前記ガラス基板上に、前記カチオン重合性組成物を介して、厚さ１．１ｍｍ、５０ｍｍ角のガラス基板を貼り合せた。
【００９０】
２枚のガラス基板を貼り合せた積層体に指で水平方向に力を加えた。ガラス基板がずれなくなった時間が光照射後１５分以上の場合をＡＡ、ガラス基板がずれなくなった時間が光照射後１５分未満の場合、または貼り合わせ時にカチオン重合性組成物がすでに硬化しており、ガラス基板を貼り合せられなかった場合をＢＢと評価した。
【００９１】
《硬化性》
硬化性は次のように評価した。《可使時間》の評価で作製した上記積層体を１００℃で３０分間ホットプレート上で焼成し、冷却した。積層体に指で水平方向に力を加えてもガラス基板がずれない場合をＡＡ、ガラス基板がずれた場合をＢＢと評価した。
【００９２】
《アウトガス》
調製したカチオン重合性組成物を、内径３０ｍｍのシャーレに１０００〜１，５００ｍｇ秤量し、高圧水銀ランプ（ＨＬＲ４００Ｆ−２１、セン特殊光源）および波長カットフィルター（ZUL0350 Longpass Filter、アサヒスペクトラ）を組み合わせ、２０ｍＷ、１．５Ｊ／ｃｍ2の条件で滴下面より光照射した。照度は、３６５ｎｍの波長で、積算光量計ＵＶＲ−Ｔ１、トプコンテクノハウスにて確認した。シャーレ上の光照射後のカチオン重合性組成物の重量を測定し、１００℃で３０分間ホットプレート上で焼成し、冷却後の重量を測定した。重量減少が０．５％以上の場合をＢＢ、０．５％未満の場合をＡＡと評価した。
【００９３】
《有機ＥＬ素子評価》
縦横３０ｍｍ角、厚さ０．７ｍｍのガラス基板に膜厚１５ｎｍのＩＴＯ膜が２ｍｍのパターンで形成された洗浄ガラス基板に、２−ＴＮＡＴＡ（４,４’,４”-トリス[２-ナフチル(フェニル)アミノ]トリフェニルアミン、３０ｎｍ）、ＮＰＤ（Ｎ,Ｎ-ジ-[(１-ナフチル)-Ｎ,Ｎ'-ジフェニル]-１,１'-ビフェニル)-４,４'-ジアミン、５０ｎｍ）、Ａｌｑ3（５０ｎｍ）、ＬｉＦ（０．８ｎｍ）、Ａｌ（１５０ｎｍ）を真空度１×１０-4〜２×１０-4Ｐａ、蒸着速度１〜２Å／ｓ（ＬｉＦのみ０．１Å／ｓ）で蒸着し、その上にアルミナターゲットを用いて、ＲＦ電力１００Ｗ、全圧０．３Ｐａ、高周波マグネトロンスパッタリング装置でＡｌ2Ｏ3（１００ｎｍ）を製膜し、発光面積２ｍｍ角となる有機ＥＬ素子を作成した。括弧内の数値は、各層の膜厚を示す。
【００９４】
次に２１ｍｍ×２８ｍｍ、厚さ１．１ｍｍであり、周囲より２ｍｍの部分に幅１ｍｍ、深さ０．３ｍｍの溝を有する封止ガラス基板の中央部に、調製したカチオン重合性組成物６．５μＬを滴下し、高圧水銀ランプ（ＨＬＲ４００Ｆ−２１、セン特殊光源）および波長カットフィルター（ZUL0350 Longpass Filter、アサヒスペクトラ）を組み合わせ、２０ｍＷ、１．５Ｊ／ｃｍ2の条件で滴下面より光照射後、ディスペンサー（SHOT mini200、武蔵エンジニアリング）にて、封止ガラス基板周辺部にシール材（ＴＢ３１２４Ｍ、スリーボンド）を描画し、先に作製した有機ＥＬ素子の発光部分をカチオン重合性組成物が覆うように貼り合せた。
【００９５】
次に素子部をマスクし、周辺シール材部分に高圧水銀ランプ（ＨＬＲ４００Ｆ−２１、セン特殊光源）をフィルター無しで１．５Ｊ／ｃｍ2の条件で光照射し、１００℃で３０分間ホットプレート上で焼成した。
【００９６】
ここまでの作業は不活性雰囲気下で行った。
封止した有機ＥＬ素子を６０℃、９０％ＲＨの恒温恒湿器に入れ、２５０時間までに直径１００μｍ以上のダークスポットが発生しなかった場合をＡＡ、前記ダークスポットが発生した場合をＢＢと評価した。
【００９７】
【表１】
2016079360.tif 000010
【符号の説明】
【００９８】
１  有機ＥＬ装置
１０    有機ＥＬ素子
２０    構造体
２２    基板
２４    封止用基板
２６    接着剤層
３０    封止層
【図１】
2016079360.tif 000013