(57)【要約】【課題】メラミン樹脂の含浸性を向上させるとともに、輝度を向上させることができる光輝性基材、光輝性化粧紙、光輝性基材の製造方法を提供する。【解決手段】光輝性基材１０は、表面及び裏面にメラミン樹脂の層が形成される基材であり、紙質の基材１１と、基材１１の一方の面上に、光輝性顔料及びバインダー樹脂から構成される光輝性インキにより形成されるインキ層１２とを備え、インキ層１２は、光輝性インキの乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２以下であり、光輝性顔料は、その粒径が４０μｍ以上３００μｍ以下であり、光輝性インキは、乾燥前の粘度が１００００ｃＰ以上であることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面及び裏面にメラミン樹脂の層が形成される光輝性基材であって、
紙質の基材と、
前記基材の一方の面上に、光輝性顔料及びバインダー樹脂から構成される光輝性インキにより形成されるインキ層とを備え、
前記インキ層は、前記光輝性インキの乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２以下であり、
前記光輝性顔料は、その粒径が４０μｍ以上３００μｍ以下であり、
前記光輝性インキは、乾燥前の粘度が１００００ｃＰ以上であること、
を特徴とする光輝性基材。
【請求項２】
請求項１に記載の光輝性基材において、
前記インキ層の表面、及び、前記基材の他方の面のいずれか、又は、その両方の面に、複数の微細穴が形成されていること、
を特徴とする光輝性基材。
【請求項３】
請求項２に記載の光輝性基材において、
前記微細穴は、穴径ｄが５０μｍ≦ｄ≦１００μｍの範囲で形成されていること、
を特徴とする光輝性基材。
【請求項４】
請求項２又は請求項３に記載の光輝性基材において、
前記微細穴は、互いに隣り合う前記微細穴の開口縁同士の最短距離ｗが５０μｍ≦ｗ≦５００μｍの範囲で形成されていること、
を特徴とする光輝性基材。
【請求項５】
請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の光輝性基材と、
前記光輝性基材の少なくともインキ層側の面に、メラミン樹脂により形成される表面層と、
を備える光輝性化粧紙。
【請求項６】
請求項２から請求項４までのいずれか１項に記載の光輝性基材の製造方法であって、
前記基材の一方の面に、粘度が１００００ｃＰ以上の前記光輝性インキを、乾燥後の塗布量が２ｇ／ｍ２以下となるように塗布して前記インキ層を形成するインキ層形成工程と、
前記インキ層形成工程によって形成されたインキ層を乾燥させるインキ層乾燥工程と、
前記インキ層の表面、及び、前記基材の他方の面のいずれか、又は、その両方の面に、複数の前記微細穴を形成する微細穴形成工程と、
を備える光輝性基材の製造方法。
【請求項７】
請求項６に記載の光輝性基材の製造方法において、
前記インキ層乾燥工程は、前記インキ層形成工程によって前記光輝性インキが前記基材上に塗布された後、１秒以内に開始されること、
を特徴とする光輝性基材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光輝性基材、光輝性化粧紙、光輝性基材の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
建築物の内装や、外装に用いられる壁材や床材、机等の家具の表面の化粧にさまざまな化粧紙が用いられている。このような化粧紙は、その外観を向上させるために、光輝性を持たせる場合がある。この場合、紙質基材に光輝性顔料を含有したインキ（例えば、パールインキ）を塗布し、更にメラミン樹脂を含浸させることによって、光輝性を持たせている。
しかし、光輝性インキを紙質基材上に塗布すると、メラミン樹脂の含浸性が低下してしまい、化粧紙の輝度感が低下してしまう場合があった。そのため、メラミン樹脂の含浸性の低下を抑制するために、さまさまな技術が提案、開示されている（例えば、特許文献１）。
特許文献１の光輝性化粧紙は、基材とパールインキ層との間に網点の印刷層を設け、メラミン樹脂の含浸性を改善している。しかし、このような網点の印刷をする場合、インキの粘度を高くすることができず、インキの樹脂成分が基材に浸透してしまい、メラミンの十分な含浸性を確保することができなくなったり、輝度を向上させるためにより粒子サイズの大きい光輝性顔料を用いた場合、顔料の密着性を確保することができず、メラミン含浸時において、光輝性顔料が剥離してしまったりする問題を生じてしまう可能性がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１３−１４１７６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明の課題は、メラミン樹脂の含浸性を向上させるとともに、輝度を向上させることができる光輝性基材、光輝性化粧紙、光輝性基材の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、以下のような解決手段により、前記課題を解決する。なお、理解を容易にするために、本発明の実施形態に対応する符号を付して説明するが、これに限定されるものではない。
請求項１の発明は、表面及び裏面にメラミン樹脂の層が形成される光輝性基材（１０）であって、紙質の基材（１１）と、前記基材の一方の面上に、光輝性顔料及びバインダー樹脂から構成される光輝性インキにより形成されるインキ層（１２）とを備え、前記インキ層は、前記光輝性インキの乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２以下であり、前記光輝性顔料は、その粒径が４０μｍ以上３００μｍ以下であり、前記光輝性インキは、乾燥前の粘度が１００００ｃＰ以上であること、を特徴とする光輝性基材である。
請求項２の発明は、請求項１に記載の光輝性基材（１０）において、前記インキ層（１２）の表面、及び、前記基材（１１）の他方の面のいずれか、又は、その両方の面に、複数の微細穴（１３）が形成されていること、を特徴とする光輝性基材である。
請求項３の発明は、請求項２に記載の光輝性基材（１０）において、前記微細穴（１３）は、穴径ｄが５０μｍ≦ｄ≦１００μｍの範囲で形成されていること、を特徴とする光輝性基材である。
請求項４の発明は、請求項２又は請求項３に記載の光輝性基材（１０）において、前記微細穴（１３）は、互いに隣り合う微細穴の開口縁同士の最短距離ｗが５０μｍ≦ｗ≦５００μｍの範囲で形成されていること、を特徴とする光輝性基材である。
請求項５の発明は、請求項１から請求項４までのいずれか１項に記載の光輝性基材（１０）と、前記光輝性基材の少なくともインキ層（１２）側の面に、メラミン樹脂により形成される表面層（２０）と、を備える光輝性化粧紙（１）である。
請求項６の発明は、請求項２から請求項４までのいずれか１項に記載の光輝性基材（１０）の製造方法であって、前記基材（１１）の一方の面に、粘度が１００００ｃＰ以上の前記光輝性インキを乾燥後の塗布量が２ｇ／ｍ２以下となるように塗布して前記インキ層（１２）を形成するインキ層形成工程と、前記インキ層形成工程によって形成されたインキ層を乾燥させるインキ層乾燥工程と、前記インキ層の表面、及び、前記基材の他方の面のいずれか、又は、その両方の面に、複数の前記微細穴（１３）を形成する微細穴形成工程と、を備える光輝性基材の製造方法である。
請求項７の発明は、請求項６に記載の光輝性基材（１０）の製造方法において、前記インキ層乾燥工程は、前記インキ層形成工程によって前記光輝性インキが前記基材（１１）上に塗布された後、１秒以内に開始されること、を特徴とする光輝性基材の製造方法である。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、メラミン樹脂の含浸性を向上させるとともに、輝度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】実施形態の光輝性化粧紙の層構成を説明する図である。
【図２】実施形態の光輝性基材の層構成の詳細を説明する図である。
【図３】実施形態の光輝性基材の製造方法を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、図面等を参照して、本発明の実施形態について説明する。なお、図１を含め、以下に示す各図は、模式的に示した図であり、各部の大きさ、形状は、理解を容易にするために、適宜誇張している。
本明細書中に記載する各部材の寸法等の数値及び材料名等は、実施形態としての一例であり、これに限定されるものではなく、適宜選択して使用してよい。
本明細書中において、形状や幾何学的条件を特定する用語、例えば、平行や直交等の用語については、厳密に意味するところに加え、同様の光学的機能を奏し、平行や直交と見なせる程度の誤差を有する状態も含むものとする。
【０００９】
（実施形態）
図１は、本実施形態の光輝性化粧紙１の層構成を説明する図である。
図２は、本実施形態の光輝性基材１０の層構成を説明する図である。図２（ａ）は、光輝性基材１０の全体の層構成を示す図であり、図２（ｂ）は、図２（ａ）のｂ部詳細を示す図である。
光輝性化粧紙１は、建築物の内装や、外装に用いられる壁材や床材、机等の家具の表面の化粧に用いられる光輝性化粧板に適用される紙材である。光輝性化粧紙１は、図１に示すように、光輝性基材１０の表面及び裏面に、それぞれ表面層２０、裏面層２１が形成されている。光輝性化粧紙１は、その表面及び裏面に樹脂を含浸した複数種類の紙材が重ねられ熱圧着されることによって光輝性化粧板となる。
光輝性基材１０は、図１及び図２（ａ）に示すように、基材１１上にインキ層１２が形成された基材である。
基材１１は、光輝性基材１０（光輝性化粧紙１）のベースとなる紙質の基材であり、本実施形態では、紙に酸化チタンの粒子が抄き込まれたチタン紙を用いており、その坪量は、例えば、１００ｇ／ｍ２である。基材１１は、上述のチタン紙の他、例えば、含浸紙や薄紙等を使用することも可能である。
【００１０】
インキ層１２は、基材１１の一方の面にバインダー樹脂に光輝性顔料が添加された光輝性インキを塗布することによって形成される。インキ層１２は、光輝性インキに光輝性顔料が添加されることによって、光輝性基材１０（光輝性化粧紙１）に輝度性を持たせている。
光輝性インキに使用するバインダー樹脂は、例えば、カゼイン、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、セルロース、又は、これらの混合物を使用することができる。
また、光輝性インキに含有される光輝性顔料には、アルミニウムや銀等の光反射性材料の粒子や、雲母に酸化チタンや酸化鉄等の金属酸化物を被覆したパール顔料等を使用することができる。光輝性顔料は、光輝性基材１０（光輝性化粧紙１）に十分な輝度感を持たせる観点から、その粒径が、４０μｍ以上３００μｍ以下であることが望ましく、上記バインダー樹脂に対して重量比（光輝性顔料／バインダー樹脂）で１２０％〜１７０％の範囲で含有されるのが望ましい。
【００１１】
ここで、インキ層１２は、光輝性インキの乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２以下になるように基材１１上に塗布されているのが望ましい。仮に、光輝性インキの乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２よりも大きい場合、インキ層１２の厚みが厚くなりすぎてしまい、インキ層上に塗布されるメラミン樹脂の基材１１への含浸性が低下し、光輝性化粧紙１の輝度感が低下してしまうので望ましくない。
また、インキ層１２を形成する光輝性インキは、その粘度が１００００ｃＰ以上であることが望ましい。仮に、光輝性インキの粘度が１００００ｃＰ未満である場合、光輝性インキのバインダー樹脂が基材１１に浸透し易くなるため、光輝性顔料が基材１１の表面に固定化され難くなったり、表面層２０のメラミン樹脂の含浸性を低下させてしまったりするので好ましくない。また、このような光輝性顔料の固定力の低下や、メラミン樹脂の含浸性の低下を回避するために、光輝性インキは、基材１１上に塗布された直後に乾燥させることが望ましい。
インキ層１２を形成する光輝性インキは、上述したようにその粘度が１００００ｃＰ以上と非常に高粘度であり、また、光輝性顔料の最大粒径が３００μｍと大きいため、インキ層の形成には、従来、主に用いられているグラビアコート方式を適用することができず、例えば、コンマコート方式や、ロールコート方式、ダイコート方式等を適用するのが好ましい。
【００１２】
この光輝性基材１０には、図２（ｂ）に示すように、インキ層１２の表面に複数の微細穴１３が形成されている。本実施形態では、微細穴１３は、その開口部の形状が略円形に形成されており、深くなるにつれてその開口部が狭くなる形状、すなわち、円錐状の窪んだ未貫通の穴である。微細穴１３は、インキ層１２上に塗布される表面層２０を構成するメラミン樹脂が、その穴内に入り込むことによって、メラミン樹脂の基材１１への含浸性を向上させることができる。微細穴１３は、その穴の開口部の最大幅（穴径）ｄが５０μｍ≦ｄ≦１００μｍの範囲で形成され、また、隣り合う微細穴１３との間隔（互いに隣り合う微細穴１３の開口縁同士の最短距離）ｗが５０μｍ≦ｗ≦５００μｍの範囲で形成されるのが望ましい。
【００１３】
ここで、仮に、この微細穴１３の開口部の最大幅（穴径）ｄが５０μｍ未満である場合、穴の開口部が小さすぎてしまい、メラミン樹脂が十分に微細穴に入り込むことができず、メラミン樹脂の含浸性を十分に向上させることができないので好ましくない。また、最大幅（穴径）ｄが１００μｍよりも大きい場合、穴の開口部が大きすぎてしまい、光輝性基材１０の強度を低下させてしまうので好ましくない。
仮に、隣り合う微細穴１３との間隔ｗが５０μｍ未満である場合、光輝性基材１０に設けられる微細穴の数が多すぎてしまい、光輝性基材１０の強度を低下させてしまうので好ましくない。また、間隔ｗが５００μｍよりも大きい場合、光輝性基材１０に設けられる微細穴の数が少なくなりすぎてしまい、メラミン樹脂の含浸性を十分に向上させることができないので好ましくない。
微細穴１３は、その深さが、例えば、５０μｍであり、メラミン樹脂の含浸性を向上させる観点から、インキ層を貫通して、穴の底部が基材層に到達しているのが望ましい。
【００１４】
表面層２０は、光輝性基材１０のインキ層１２上に形成され、光輝性化粧紙１の最表面に位置する層であり、メラミン樹脂により形成されている。
裏面層２１は、基材１１の裏面（インキ層１２とは反対側の面）に形成され、光輝性化粧紙１の最裏面に位置する層であり、表面層２０と同様にメラミン樹脂により形成されている。
この表面層２０及び裏面層２１は、光輝性基材１０をメラミン樹脂に浸漬することによって、光輝性基材１０の両面に同時に形成される。
【００１５】
次に、光輝性基材１０の製造方法について説明する。
図３は、本実施形態の光輝性基材１０を製造する製造装置を示す図である。
製造装置５０は、図３に示すように、基材ローラ５１、塗工部５２、熱風乾燥機５３、ＩＲヒータ５４、乾燥機５５、微細穴加工部５６、巻取ローラ５７、送りローラ５８等から構成されている。
基材ローラ５１は、上述の基材１１が複数連接した長尺状の長尺状基材（以下、長尺状基材１１’という）を巻き取ったロール体である。
塗工部５２は、コンマローラ５２ａ、コーティングローラ５２ｂ等とから構成され、基材ローラ５１から巻き出された長尺状基材１１’の表面に光輝性インキを塗布してインキ層を形成する、いわゆるコンマコート方式の塗工装置である。
熱風乾燥機５３は、塗工部５２によって長尺状基材１１’に塗布された光輝性インキに、熱風を吹き付けて乾燥させる装置である。本実施形態では、熱風乾燥機５３は、約１１０℃、風速１５ｍ／ｓの温風をインキ層に対して吹き付ける。本実施形態の熱風乾燥機５３は、長尺状基材１１’のインキ層側の面に熱風を吹き付ける。
【００１６】
ＩＲヒータ５４は、塗工部５２によって長尺状基材１１’に塗布された光輝性インキに、赤外光を照射して乾燥させる装置である。本実施形態のＩＲヒータ５４は、長尺状基材１１’の裏面（インキ層が形成される側とは反対側の面）に赤外光を照射する例で説明するが、長尺状基材１１’の表面に赤外光を照射するようにしてもよい。
乾燥機５５は、所定の温度及び湿度に保たれたチャンバー状の乾燥機であり、そのチャンバー内を長尺状基材１１’が通過することによって光輝性インキを乾燥させている。本実施形態では、乾燥機５５のチャンバー内は、温度１１０℃〜１３０℃に保たれている。
微細穴加工部５６は、周側面に微細穴１３に対応する突起が複数設けられたニードルローラ５６ａ、受けローラ５６ｂ等から構成され、インキ層が形成された長尺状基材１１’をニードルローラ５６ａ及び受けローラ５６ｂ間に挟み込むことによって、長尺状基材１１’のインキ層側の面に複数の微細穴１３を形成する。微細穴加工部５６を通過することによって、インキ層及び微細穴が形成された長尺状基材１１’、すなわち、長尺状の光輝性基材（以下、長尺状光輝性基材１０’という）が完成する。
巻取ローラ５７は、インキ層及び微細穴が形成された長尺状基材１１’（長尺状光輝性基材１０’）を巻き取るローラである。
送りローラ５８は、基材ローラ５１及び塗工部５２間や、乾燥機５５及び微細穴加工部５６間や、微細穴加工部５６及び巻取ローラ５７間等に設けられた長尺状基材１１’（長尺状光輝性基材１０’）を送るローラである。
【００１７】
まず、基材ローラ５１から巻き出された長尺状基材１１’は、送りローラ５８により塗工部５２へ送られて、塗工部５２においてインキ層が形成される（インキ層形成工程）。ここで、長尺状基材１１’の送り速度は、例えば、２０ｍ／ｍｉｎである。
続いて、インキ層が形成された長尺状基材１１’は、長尺状基材１１’の表面側（インキ層が形成された面側）から熱風乾燥機５３により熱風を吹き付けるとともに、長尺状基材１１’の裏面（インキ層が形成された側とは反対側）からＩＲヒータ５４により赤外光を照射して、インキ層を乾燥させる（インキ層乾燥工程）。更に、長尺状基材１１’は、乾燥機５５へと送られて、インキ層が十分に乾燥させられる。
【００１８】
ここで、熱風乾燥機５３及びＩＲヒータ５４は、塗工部５２に隣接して設けられており、塗工部５２によって塗布された光輝性インキを塗布直後から乾燥させている。具体的には、光輝性インキが塗布されてから、熱風乾燥機５３及びＩＲヒータ５４に到達し乾燥工程を開始するまでの時間は、１秒以内である。このように、塗布直後に乾燥工程を開始することによって、長尺状基材１１’に塗布された光輝性インキのバインダー樹脂が基材の内部に浸透してしまうのを極力減らすことができる。すなわち、バインダー樹脂の多くは、基材内部に浸透する前に、基材上において乾燥することとなる。これにより、製造された光輝性基材１０は、メラミン樹脂の基材に対する含浸性を向上させるとともに、光輝性顔料の基材１１に対する密着性を良好に確保することができる。
続いて、長尺状基材１１’は、微細穴加工部５６へ送られて、表面（インキ層が形成された側の面）に、微細穴が形成され（微細穴形成工程）、巻取ローラ５７によって巻き取られる。
以上により、インキ層及び微細穴が長尺状基材１１’上に形成された長尺状光輝性基材１０’が完成し、この長尺状光輝性基材１０’を、不図示の裁断機等により所定の外形寸法に裁断することによって光輝性基材１０が完成する。
【００１９】
次に、実施例及び比較例の光輝性基材を準備して、メラミン樹脂の含浸性と、光輝性顔料の密着性について評価した。
実施例１の光輝性基材は、上述の製造方法によって製造された光輝性基材である。実施例１の光輝性基材は、坪量１００ｇ／ｍ２のチタン紙から構成される基材上に、粘度が１００００ｃＰであり、１５０μｍの光輝性顔料（パール顔料）がバインダー樹脂に含有された光輝性インキを、乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２となるように塗布してインキ層が形成され、インキの塗布直後（塗布後１秒以内）に乾燥工程が開始されたものである。また、実施例１の光輝性基材の微細穴は、穴径ｄがｄ＝５０μｍであり、隣り合う微細穴の開口縁同士の最短距離ｗがｗ＝８０μｍであり、穴の深さが５０μｍに形成されている。
【００２０】
実施例２の光輝性基材は、上述の製造方法の微細穴形成工程を除いた全ての工程によって製造されたものである。すなわち、実施例２の光輝性基材は、微細穴が設けられていない点で実施例１の光輝性基材と相違している。実施例２の光輝性基材は、実施例１の光輝性基材と同様の基材上に、粘度が１００００ｃＰであり、１５０μｍの光輝性顔料（パール顔料）がバインダー樹脂に含有された光輝性インキを、乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２となるように塗布してインキ層が形成され、インキの塗布直後（塗布後１秒以内）に乾燥工程が開始されたものである。
【００２１】
比較例の光輝性基材は、上述の製造方法の微細穴形成工程とインキ層乾燥工程における熱風乾燥機５３及びＩＲヒータ５４による乾燥工程とを除いた工程により製造されたものである。すなわち、比較例の光輝性基材は、微細穴が形成されてなく、また、インキ層の塗布後、約１０秒後に乾燥機５５によって乾燥開始しているため、上述の各実施例の光輝性基材のインキ層のようにインキの塗布直後（塗布後１秒以内）から乾燥させたものでない。比較例の光輝性基材は、上述の各実施例の光輝性基材と同様の基材上に、粘度が１５０ｃＰであり、１５０μｍの光輝性顔料がバインダー樹脂に含有された光輝性インキを、乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２となるように塗布してインキ層が形成されたものである。
【００２２】
各実施例、比較例の光輝性基材をそれぞれ１辺が１０ｍｍの正方形に切断し、メラミン（日本カーバイド工業社製、ニカレジン）と水とを６：５の比率で混合させたメラミン樹脂の液面上に、塗工面（インキ層側の面）を接するようにして配置し、メラミン樹脂が光輝性基材の全体に浸透するまでの時間（浸透時間）を測定した。
比較例の光輝性基材の浸透時間が、３６．４秒であったのに対して、実施例１の光輝性基材の浸透時間は、１５．２秒、実施例２の光輝性基材は、２７．８秒であったため、各実施例の光輝性基材は、比較例に比して含浸性が向上していることが確認された。
これは、実施例１及び実施例２の光輝性基材は、比較例に比して粘度の高い光輝性インキを塗布しており、また、インキを塗布して乾燥工程が開始されるまでの時間が短いため、インキのバインダー樹脂が基材に浸透してしまうのを極力抑制することができ、これらにより、メラミン樹脂の含浸性が向上したものと考えられる。
また、実施例１の光輝性基材は、インキ層側の面に微細穴が形成され、メラミン樹脂がその微細穴内に入り込んだため、実施例２の光輝性基材よりも浸透時間が早くなり、メラミン樹脂の含浸性が更に向上したものと考えられる。
【００２３】
また、各実施例、比較例の光輝性基材の光輝性顔料の密着性を作業者の手作業により確認した。
比較例の光輝性基材は、インキ層を手で触れると、光輝性顔料が剥離してしまう場合があり、光輝性顔料の基材１１への密着性が低かった。これに対して、各実施例の光輝性基材は、手で触れても光輝性顔料が基材１１から剥離することは無く、光輝性顔料の基材１１への密着性が良好であることが確認された。
これは、比較例のインキ層は、光輝性インキの粘度が１５０ｃＰであるのに対して、各実施例のインキ層は、光輝性インキの粘度が１００００ｃＰであるため、インキに含まれるバインダー樹脂が基材１１内に浸透し難くなり、バインダー樹脂を介して光輝性顔料が基材１１に密着したためと考えられる。
また、比較例のインキ層は、光輝性インキを塗布した後、約１０秒後に乾燥工程が開始されているのに対して、各実施例のインキ層は、光輝性インキの塗布直後（塗布後１秒以内）に乾燥工程が開始されているため、インキに含まれるバインダー樹脂の多くが、基材内に浸透してしまう前に、基材上において光輝性顔料と密着した状態で乾燥したためと考えられる。
【００２４】
以上より、本実施形態の光輝性基材１０は、以下のような効果を奏する。
（１）本実施形態の光輝性基材１０は、インキ層１２を構成する光輝性インキの乾燥後の単位面積当たりの重量が２ｇ／ｍ２以下であるので、インキ層１２の厚みが厚くなりすぎてしまうのを抑制することができ、インキ層１２上に塗布されるメラミン樹脂の含浸性を向上することができる。また、本実施形態の光輝性基材１０は、光輝性インキに含有される光輝性顔料の粒径が４０μｍ以上３００μｍ以下であるので、光輝性基材１０の輝度感を向上させることができる。
更に、本実施形態の光輝性基材１０は、インキ層を形成する光輝性インキの乾燥前の粘度が１００００ｃＰ以上であるので、インキに含まれるバインダー樹脂が基材１１内に浸透し難くなり、基材上において光輝性顔料を密着させることができる。これにより、基材１１と光輝性顔料との密着性を良好にすることができる。
【００２５】
（２）本実施形態の光輝性基材１０は、インキ層１２の表面に複数の微細穴１３が設けられているので、インキ層１２上に塗布されるメラミン樹脂が微細穴１３に入り込み、基材１１に対する含浸性を更に向上させることができる。
（３）本実施形態の光輝性基材１０は、微細穴１３の穴径ｄが５０μｍ≦ｄ≦１００μｍの範囲で形成されているので、光輝性基材１０の強度の低下を極力抑制しつつ、メラミン樹脂の含浸性を良好にすることができる。
（４）本実施形態の光輝性基材１０は、互いに隣り合う微細穴１３の開口縁同士の間隔ｗが５０μｍ≦ｗ≦５００μｍの範囲で形成されているので、光輝性基材１０の強度の低下を極力抑制しつつ、メラミン樹脂の含浸性を更に良好にすることができる。
【００２６】
以上、本発明の実施形態について説明したが、本発明は前述した実施形態に限定されるものではなく、後述する変形形態のように種々の変形や変更が可能であって、それらも本発明の技術的範囲内である。また、実施形態に記載した効果は、本発明から生じる最も好適な効果を列挙したに過ぎず、本発明による効果は、実施形態に記載したものに限定されない。なお、前述した実施形態及び後述する変形形態は、適宜組み合わせて用いることもできるが、詳細な説明は省略する。
【００２７】
（変形形態）
（１）上述の実施形態において、光輝性基材１０は、インキ層１２が形成される側の面に微細穴１３が設けられる例を示したが、これに限定されるものでない。微細穴１３は、光輝性基材１０（基材１１）の裏面（インキ層１２が形成される側とは反対側の面）に形成されるようにしてもよく、また、光輝性基材１０の両面に設けるようにしてもよい。
更に、光輝性基材１０は、微細穴を設けない形態にしてもよい。上述の実施例２のように微細穴を設けない場合であっても、光輝性基材は、メラミン樹脂の含浸性を比較例に比して向上させることができる。
【００２８】
（２）上述の実施形態において、インキ層１２は、塗工部５２にコンマローラ５２ａ等を用いたコンマコータ方式によって形成される例を示したが、これに限定されるものでない。インキ層１２は、光輝性インキの粘度や光輝性顔料の粒径に応じて、グラビアダイレクト方式、グラビアリバース方式、ロールコート方式、グラビアキスリバース方式、スロットダイ方式、リップコート方式、カーテンコート方式等を適用することができる。なお、光輝性顔料の粒径が大きい場合、上述の方式のうち、版を用いない方式を選択するのが望ましい。
【００２９】
（３）上述の実施形態において、インキ層１２の乾燥に、熱風乾燥機５３、ＩＲヒータ５４、乾燥機５５を用いる例を示したが、これに限定されるものでなく、これらのいずれか１つ、又は２つを組み合わせて用いるようにしてもよい。
【００３０】
（４）上述の実施形態において、微細穴１３は、インキ層１２を貫通して、穴の底部が基材１１に到達している例を説明したが、これに限定されるものでなく、インキ層１２を貫通せずに、穴の底部がインキ層１２内に存在するようにしてもよい。このようにしても、光輝性基材１０は、塗布されるメラミン樹脂が、基材１１側に浸透しやすくなり、メラミン樹脂の含浸性を向上させることができる。
【００３１】
（５）上述の実施形態において、微細穴１３は、その開口部の形状が略円形に形成されており、深くなるにつれてその開口部が狭くなる形状、すなわち、円錐状の窪んだ穴に形成される例を示したが、これに限定されるものでない。例えば、微細穴は、その開口部の形状が三角形や四角形等の多角形に形成された多角錐状や、多角柱状に形成されるようにしてもよく、また、その開口部の形状が楕円に形成された楕円錐状や、楕円柱状に形成されるようにしてもよい。
【符号の説明】
【００３２】
１    光輝性化粧紙
１０  光輝性基材
１１  基材
１２  インキ層
１３  微細穴
２０  表面層
２１  裏面層
５０  製造装置
５１  基材ローラ
５２  塗工部
５３  熱風乾燥機
５４  ＩＲヒータ
５５  乾燥機
５６  微細穴加工部
５７  巻取ローラ
５８  送りローラ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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