(57)【要約】【課題】  分析空間の温度改善をより短時間且つ確実に行うことが可能な分析方法および分析システムを提供すること。【解決手段】  本発明に係る分析方法は、分析空間に導入された検体に含まれる特定成分を対象とした分析工程を含む主工程と、前記主工程に先立ち、前記分析空間を前記主工程に適した状態に改善する副工程と、を備えており、前記副工程は、温度調整された改善媒体を前記分析空間に導入することにより、前記分析空間の温度を前記主工程に適した目標温度に近づける温度改善工程を含む。【選択図】  図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
分析空間に導入された検体に含まれる特定成分を対象とした分析工程を含む主工程と、
前記主工程に先立ち、前記分析空間を前記主工程に適した状態に改善する副工程と、を備えており、
前記副工程は、温度調整された改善媒体を前記分析空間に導入することにより、前記分析空間の温度を前記主工程に適した目標温度に近づける温度改善工程を含む、分析方法。
【請求項２】
前記副工程は、前記分析空間に導入される前の前記改善媒体の温度を、前記目標温度に近づける温度調整工程を含む、請求項１に記載の分析方法。
【請求項３】
前記副工程は、前記改善媒体を用いて前記分析空間の温度以外の特定因子を前記主工程に適した状態に改善する特定改善工程を含む、請求項１または２に記載の分析方法。
【請求項４】
前記主工程は、前記分析空間に導入された前記検体と反応物体とを反応させる反応工程を含む、請求項１ないし３のいずれかに記載の分析方法。
【請求項５】
前記主工程は、前記分析空間の温度を前記目標温度から乖離することを抑制する温度維持工程を含む、請求項１ないし４のいずれかに記載の分析方法。
【請求項６】
主工程に含まれる分析工程における分析対象である特定成分を含む検体が導入される分析空間と、
前記主工程に先立ち、前記分析空間を前記主工程に適した状態に改善する副工程において、温度調整された改善媒体を前記分析空間に導入することにより前記分析空間の温度を前記主工程に適した目標温度に近づける温度改善手段と、
を備える、分析システム。
【請求項７】
前記副工程において、前記分析空間に導入される前の前記改善媒体の温度を、前記目標温度に近づける温度調整手段を備える、請求項６に記載の分析システム。
【請求項８】
前記温度改善手段は、前記副工程において、前記改善媒体を用いて前記分析空間の温度以外の特定因子を前記主工程に適した状態に改善する特定改善手段を兼ねる、請求項６または７に記載の分析システム。
【請求項９】
前記分析空間には、前記検体と反応する反応物体が設けられている、請求項６ないし８のいずれかに記載の分析システム。
【請求項１０】
前記主工程において、前記分析空間の温度を前記目標温度から乖離することを抑制する温度維持手段を備える、請求項６ないし９のいずれかに記載の分析システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、分析方法および分析システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
検体に含まれる特定成分を対象とした分析方法および分析システムは、種々の構成が提案されている。図１６は、分析システムの一例を示している。同図に示された分析システムＸは、主要な構成要素として分析用具９１を備える。分析用具９１は、流入出口９２，９４、分析流路９３およびプリズム部９５を備えている。分析流路９３は、分析システムＸを用いた分析において、検体に含まれる特定成分を対象とした分析が行われる分析空間を構成している。分析流路９３には、反応部９３１が設けられている。反応部９３１は、特定成分と反応する反応物体が固定されている。流入出口９２，９４は、検体あるいは希釈された検体や反応部９３１を洗浄するための洗浄液などが導入されまたは排出される部位である。プリズム部９５は、特定成分と反応した反応部９３１に、図示しない発光手段から光を照射するための光路を構成する。特定成分と反応した反応部９３１は、発光手段からの光を受けることにより、たとえば所定の波長の光を発する。この光を図示しない受光手段によって受光し、輝度やスペクトルなどを解析することにより、特定成分の分析を行う。このような分析方法としては、たとえば、表面プラズモン励起増強蛍光分光法（ＳＰＦＳ）を測定原理とした分析方法が挙げられる。
【０００３】
たとえば生体由来の検体に含まれる特定成分の分析に際しては、分析工程を含む主工程において、特定成分を体温に近い温度に維持しておくことが必要となる場合がある。このため、主工程に先立つ副工程には、分析空間を構成する分析流路９２の温度を常温から体温程度まで加熱する処理が含まれることが好ましい。しかしながら、たとえば分析用具９１に近接させたヒータによる加熱は、分析流路９２の温度を体温程度に上昇させるのに、比較的長時間を要する。また、反応部９３１に光を照射させる構成においては、光路を遮らないようにヒータを配置する必要があるなど、ヒータを加熱に最適な位置に配置することを阻害する様々な要因が存在する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−２２２２５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、上記した事情のもとで考え出されたものであって、分析空間の温度改善をより短時間且つ確実に行うことが可能な分析方法および分析システムを提供することをその課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の側面によって提供される分析方法は、分析空間に導入された検体に含まれる特定成分を対象とした分析工程を含む主工程と、前記主工程に先立ち、前記分析空間を前記主工程に適した状態に改善する副工程と、を備えており、前記副工程は、温度調整された改善媒体を前記分析空間に導入することにより、前記分析空間の温度を前記主工程に適した目標温度に近づける温度改善工程を含む。
【０００７】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記副工程は、前記分析空間に導入される前の前記改善媒体の温度を、前記目標温度に近づける温度調整工程を含む。
【０００８】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記副工程は、前記改善媒体を用いて前記分析空間の温度以外の特定因子を前記主工程に適した状態に改善する特定改善工程を含む。
【０００９】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主工程は、前記分析空間に導入された前記検体と反応物体とを反応させる反応工程を含む。
【００１０】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主工程は、前記分析空間の温度を前記目標温度から乖離することを抑制する温度維持工程を含む。
【００１１】
本発明の第２の側面によって提供される分析システムは、主工程に含まれる分析工程における分析対象である特定成分を含む検体が導入される分析空間と、前記主工程に先立ち、前記分析空間を前記主工程に適した状態に改善する副工程において、温度調整された改善媒体を前記分析空間に導入することにより前記分析空間の温度を前記主工程に適した目標温度に近づける温度改善手段と、を備える。
【００１２】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記副工程において、前記分析空間に導入される前の前記改善媒体の温度を、前記目標温度に近づける温度調整手段を備える。
【００１３】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記温度改善手段は、前記副工程において、前記改善媒体を用いて前記分析空間の温度以外の特定因子を前記主工程に適した状態に改善する特定改善手段を兼ねる。
【００１４】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記分析空間には、前記検体と反応する反応物体が設けられている。
【００１５】
本発明の好ましい実施の形態においては、前記主工程において、前記分析空間の温度を前記目標温度から乖離することを抑制する温度維持手段を備える。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、前記温度調整工程において予め温度調整された前記改善媒体を、前記分析空間に直接導入することにより、前記分析空間の温度を前記目標温度に近づける。このため、たとえば前記分析空間を外部からヒータ等によって温める構成と比較して、前記分析空間の温度をより早く改善することができる。また、前記改善媒体が前記分析空間に直接接するため、前記分析空間の温度は前記改善媒体の温度に遅滞なく追従しやすい。ヒータ等によって前記分析空間を外部から温める場合、より急速に前記分析空間を温めようとすると、ヒータ等の温度を目標温度よりも顕著に高い温度に設定すること等が強いられる。しかし、このような場合、前記分析空間の温度が目標温度よりも高くなってしまう、いわゆるオーバーシュート現象が生じやすい。このため、このオーバーシュートを考慮した加熱制御が必要となる。本発明によれば、顕著なオーバーシュートを回避することが可能である。したがって、前記分析空間の温度改善をより短時間且つ確実に行うことができる。特に、前記主工程を開始可能な状態に到達するまでの、前記副工程を完了させる時間を短縮することが可能となることにより、本分析方法を終えるまでの時間を短縮するのに寄与する。
【００１７】
本発明のその他の特徴および利点は、添付図面を参照して以下に行う詳細な説明によって、より明らかとなろう。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明に係る分析システムの一例を示すシステム構成図である。
【図２】図１の分析システムの分析流路を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図３】本発明に係る分析方法の一例を示すフローチャートである。
【図４】本発明に係る分析方法の一例における副工程を示すシステム構成図である。
【図５】本発明に係る分析方法の一例における副工程を示すシステム構成図である。
【図６】本発明に係る分析方法の一例における副工程の温度改善工程（特定改善工程）を示すシステム構成図である。
【図７】本発明に係る分析方法の一例における副工程の温度改善工程（特定改善工程）を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図８】本発明に係る分析方法の一例における主工程の第１反応工程を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図９】本発明に係る分析方法の一例における主工程の第１反応工程を終えた状態を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図１０】本発明に係る分析方法の一例における主工程の洗浄工程を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図１１】本発明に係る分析方法の一例における主工程の第２反応工程を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図１２】本発明に係る分析方法の一例における主工程の第２反応工程および洗浄工程を終えた状態を模式的に示す要部拡大断面図である。
【図１３】本発明に係る分析方法の一例における分析工程を示すシステム構成図である。
【図１４】本発明に係る分析システムの他の例を示すシステム構成図である。
【図１５】本発明に係る分析システムのさらに他の例におけるノズルを示す要部断面図である。
【図１６】従来の分析システムの一例を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の好ましい実施の形態につき、図面を参照して具体的に説明する。
【００２０】
図１は、本発明に係る分析システムの一例を示している。本発明に係る分析システムの具体的構成は、何ら限定されず、複数の装置からなる構成、１つの装置のみからなる構成、およびこれらの装置とこれらの装置に装填される分析用具からなる構成など、様々な態様をとりうる。本実施形態の分析システムＡ１は、分析装置Ｂ１および分析用具Ｃ１からなる。分析装置Ｂ１は、分析用具Ｃ１が装填されることにより、検体に含まれる特定成分を対象とした分析を行う。分析用具Ｃ１は、ある一回の分析に供される検体を、その分析に適した状態に改善し、且つ分析の場を構成するものである。本実施形態においては、分析用具Ｃ１は、いわゆるディスポーザブルタイプの分析用具として構成された場合を例に説明する。
【００２１】
本発明において分析対象となる特定成分およびこれを含む検体は、何ら限定されず、後述する、分析工程を含む主工程と、この主工程に先立ってなされる温度改善工程を含む副工程と、を備える分析方法の分析対象となるものであれば様々な検体を採用できる。本実施形態においては、温度改善工程が有効である一例として、生体由来の検体を用いた場合について説明する。このような検体としては、たとえば希釈された血液が挙げられる。また、希釈された血液を対象とした分析方法は、様々な分析方法を採用でき、本実施形態においては、表面プラズモン励起増強蛍光分光法（以下、ＳＰＦＳ）を測定原理として、免疫測定を行う場合を例に説明する。なお、本発明における特定成分は、検体に含まれる一成分であってもよいし、検体のすべてを占める単一の成分であってもよい。
【００２２】
分析用具Ｃ１は、分析装置Ｂ１に装填されるディスポーザブルタイプの分析用具であり、本実施形態においては、洗浄液槽１、分析流路２０、導入流路２１、排出流路２２およびプリズム部２８を備えている。分析用具Ｃ１の具体的構造は、特に限定されないが、たとえばアクリル樹脂やエポキシ樹脂等を金型成形した１つまたは複数の部品からなる構造が挙げられる。本実施形態においては、ＳＰＦＳを測定原理とすることから、光を透過する透明な材質によって構成されている。
【００２３】
分析流路２０は、検体が導入される分析空間を構成している。図２は、分析流路２０を模式的に示す要部拡大断面図である。分析流路２０は、２つの流入出口２００および反応部２０１を有している。流入出口２００は、分析流路２０の両端に位置しており、分析流路２０内に物体を通過させる必須構成要素である。なお、分析流路２０は、３つ以上の流入出口２００を有することにより、たとえば分岐流路の形態として構成されていてもよい。
【００２４】
反応部２０１は、ＳＰＦＳにおける検体との反応がなされる反応場である。本実施形態においては、反応部２０１は、金属薄膜８０および抗体８１を含む。金属薄膜８０は、分析流路２０の内面に設けられたＡｕなどの薄膜である。抗体８１は、検体である希釈血液に含まれる抗原と反応し、抗原を捕捉する。本実施形態においては、抗体８１は、金属薄膜８０に乾燥状態で固層化されており、使用前の状態においては乾燥している。抗体８１は、試薬保護剤（図示略）によって保護されていてもよい。
【００２５】
導入流路２１は、分析流路２０に繋がっており、後述する洗浄液Ｃｓや希釈検体などを導入するための流路である。
【００２６】
排出流路２２は、分析流路２０に繋がっており、洗浄液Ｃｓや希釈検体などのうち不要となったものを排出するための流路である。なお、後述するように、分析流路２０における流動は、一方向のみに限定されず、双方向に流れる往復流動であってもよい。このため、導入流路２１および排出流路２２においては、双方向の流動が生じうる。
【００２７】
プリズム部２８は、ＳＰＦＳにおいて照射される光を反応部２０１へと到達させる光路を構成する。このような光路を構成する具体的構成は特に限定されず、プリズム部２８に相当する部位を備えない構成であってもよい。本実施形態においては、プリズム部２８が、図中下方に突出した態様である場合を例に説明する。
【００２８】
洗浄液槽１は、後述する温度改善工程、特定改善工程および洗浄工程に用いられる洗浄液Ｃｓを貯蔵する槽である。本実施形態においては、洗浄液槽１は、分析流路２０を構成する部材によって形成されている。
【００２９】
分析装置Ｂ１は、洗浄液槽用ヒータ３１、分析部用ヒータ３２、発光部４１、受光部４２、測温部５、ノズル６および制御部７を備えている。分析装置Ｂ１は、個々の分析ごとに装填される分析用具Ｃ１とともに、ＳＰＦＳを測定原理とした分析を行う装置である。
【００３０】
なお、分析システムＡ１は、図示された構成要素の他に、検体を貯蔵する検体槽、検体を希釈する希釈液を貯蔵する希釈液槽、標識抗体液を貯蔵する標識抗体液槽、不要となった各種液体を貯蔵する廃液槽等をはじめとする構成要素を適宜備える。これらの構成要素は、分析装置Ｂ１に備えられていてもよいし、分析用具Ｃ１に備えられていてもよいし、さらに別の装置または用具に具備されていてもよい。
【００３１】
洗浄液槽用ヒータ３１は、洗浄液槽１に貯蔵された洗浄液Ｃｓの温度を、分析に適した目標温度に近づけるためのものであり、本発明で言う温度調整手段の一例に相当する。本実施形態においては、常温または冷蔵された洗浄液Ｃｓを体温近傍の目標温度に近づけるため、洗浄液槽用ヒータ３１は、洗浄液槽１に貯蔵された洗浄液Ｃｓを加熱する機能を果たす。このような洗浄液槽用ヒータ３１の具体的構成は特に限定されないが、たとえば抵抗発熱、誘導加熱等の原理を利用したものを採用しうる。また、前記温度調整手段としては、たとえば洗浄液槽１に向けて温風を供給する手段であってもよい。本実施形態においては、分析装置Ｂ１に分析用具Ｃ１が装填されると、分析用具Ｃ１の洗浄液槽１が分析部用ヒータ３２に嵌り込む構成とされている。装填状態においては、分析部用ヒータ３２は、洗浄液槽１に接してもよいし、隙間を隔てていてもよい。
【００３２】
分析部用ヒータ３２は、分析用具Ｃ１の分析流路２０の温度が、分析に適した目標温度から乖離することを抑制するためのものであり、本発明で言う温度維持手段の一例に相当する。本実施形態においては、分析用具Ｃ１の分析流路２０の温度を体温近傍の目標温度から乖離することを抑制すべく、分析部用ヒータ３２は、分析流路２０もしくは分析用具Ｃ１のうち分析流路２０の周辺部位を加熱する機能を果たす。分析部用ヒータ３２は、分析流路２０により近い部位を加熱しうる構成が好ましい。ただし、常温環境に置かれた分析用具Ｃ１の分析流路２０の温度を、体温近くの目標温度に維持するためには、分析部用ヒータ３２によって分析流路２０の周辺部位の温度を目標温度近傍に維持することによって、分析流路２０からの放熱を抑制することも有効である。本実施形態においては、分析部用ヒータ３２は、たとえばリング状であり、分析装置Ｂ１に分析用具Ｃ１が装填されると、プリズム部２８が進入する構成とされている。
【００３３】
発光部４１は、ＳＰＦＳにおいて標識抗体を励起するための励起光を発する光源である。発光部４１の構成は特に限定されないが、所望の波長の光を選択的に発する構成として、たとえばレーザーダイオードを備える構成が挙げられる。
【００３４】
受光部４２は、ＳＰＦＳにおいて標識抗体に含まれる蛍光物質が励起されることによって生じる光を受光し、その光の輝度や波長に応じた電気信号を出力するデバイスである。
【００３５】
測温部５は、分析空間である分析流路２０の温度を計測するデバイスである。測温部５の測温原理は何ら限定されないが、たとえば遠赤外線検知式の温度センサが一例として挙げられる。なお、受光部４２と測温部５とは、それぞれが機能を果たす際に、分析流路２０に対面する位置に設けられることが好ましい。本実施形態においては、互いに離間して配置された受光部４２と測温部５とに分析流路２０が対面するように、分析用具Ｃ１が移動自在とさえていればよい。あるいは、分析用具Ｃ１に対して、受光部４２および測温部５が移動自在とされた構成であってもよい。
【００３６】
ノズル６は、洗浄液槽１に貯蔵された洗浄液Ｃｓを吸引し、導入流路２１から分析流路２０に向けて導入する機能を果たす。ノズル６の吸引および吐出機能を実現するために、たとえば図示しないポンプが、ノズル６に繋げられている。また、ノズル６は、上述した検体、希釈液、標識抗体液などを吸引し導入する機能を果たしてもよい。なお、洗浄液Ｃｓを洗浄液槽１から分析流路２０へと導入する機能を果たすノズル６は、本発明で言う温度改善手段の一例に相当する。
【００３７】
制御部７は、分析用具Ｃ１が装填されることにより分析装置Ｂ１において実現される分析システムＡ１の各部の動作を制御し、且つ関連する諸量の監視を行うものである。制御部７は、たとえばＣＰＵ、メモリおよび各種インターフェースを備える。
【００３８】
次に、分析システムＡ１を用いた分析方法の一例について、図３〜図１２を参照しつつ以下に説明する。
【００３９】
図３は、分析システムＡ１を用いた分析方法の一例を示すフローチャートである。本分析方法は、副工程と主工程とを備える。副工程は、主工程に先立って実行される工程であり、温度改善工程を備える。さらに本実施形態においては、副工程は、温度改善工程に先立つ温度調整工程と、温度改善工程と並行して実施しうる特定改善工程とを含む。主工程は、分析工程を備える工程であり、本実施形態においては、分析工程に先立つ反応工程を備える。反応工程は、第１反応工程、洗浄工程、第２反応工程および洗浄工程を備える。
【００４０】
＜副工程＞
副工程においては、まず温度調整工程を行う。本実施形態においては、温度調整工程の具体的構成として、洗浄液槽用ヒータ３１によって洗浄液槽１を介して洗浄液槽１に貯蔵された洗浄液Ｃｓを加熱する手法が採用されている。洗浄液Ｃｓの温度は、遠隔的な測定手段で測定されてもよいし、洗浄液槽１に挿入された直接的な測定手段によって測定されてもよい。分析空間である分析流路２０の目標温度が、たとえば体温近傍の３７℃程度である場合、洗浄液Ｃｓは、４０〜４３℃程度に加熱される。この加熱された洗浄液Ｃｓは、本発明で言う温度調整された改善媒体の一例に相当する。なお、本発明で言う改善媒体は、液体に限定されず、たとえば粉粒体であってもよい。
【００４１】
次いで、温度改善工程を行う。温度改善工程は、温度調整された改善媒体である洗浄液Ｃｓを分析空間である分析流路２０に導入することにより、分析空間である分析流路２０の温度を主工程に適した目標温度に近づける。本実施形態においては、温度改善工程においては、図４に示すように、洗浄液槽１に貯蔵された洗浄液Ｃｓの適量をノズル６によって吸引する。次いで、図５に示すように、ノズル６を導入流路２１に挿入する。そして、図６に示すように、たとえばノズル６による吐出と吸引とを繰り返すことにより、洗浄液Ｃｓを分析流路２０内において往復させる。
【００４２】
分析装置Ｂ１に装填される前の分析用具Ｃ１は、常温あるいは冷蔵の状態に置かれている。このため、分析空間である分析流路２０の温度は、目標温度である３７℃程度よりも明確に低い。この分析流路２０にたとえば４０〜４３℃程度とされた洗浄液Ｃｓを流動させることにより、洗浄液Ｃｓによって分析流路２０が直接温められる。この際の分析流路２０の温度は、たとえば遠赤外線検知の原理を用いた測温部５によって監視される。制御部７は、分析流路２０の温度が目標温度である３７℃に漸近し、あるいは一致するように、ノズル６による洗浄液Ｃｓの導入および往復流動を制御する。
【００４３】
また、ノズル６による洗浄液Ｃｓの往復動に前後してあるいは同時に、制御部７は、分析部用ヒータ３２によって分析流路２０の周辺部位を加熱する。この加熱によって、洗浄液Ｃｓの導入によって温められた分析流路２０の温度が、体温近傍の目標温度に維持され得る。制御部７は、測温部５による測温結果に基づいたフィードバック制御、あるいはあらかじめ試験データから得られた加熱パターンに沿って、分析部用ヒータ３２の発熱状態を制御する。これにより、分析流路２０の温度が目標温度に到達した後において、分析流路２０の温度が目標温度から乖離してしまうことが抑制される。
【００４４】
また、本実施形態においては、温度改善工程として実施するノズル６による分析流路２０への改善媒体としての洗浄液Ｃｓの導入が、特定改善工程を兼ねる構成となっている。具体的には、分析流路２０の反応部２０１においては、抗体８１が金属薄膜８０に乾燥状態で固層化されている。反応部２０１に洗浄液Ｃｓを導入することにより、図７に示すように、抗体８１を検体としての希釈血液中の抗原と反応可能な状態に活性化させる。この抗体８１の状態が、本発明で言う分析空間としての分析流路２０の温度以外の特定因子に相当する。また、抗体８１が上述した試薬保護剤によって保護されている場合に、洗浄液Ｃｓによって試薬保護剤を洗い流す工程が、本発明で特定改善工程の他の例に相当する。以上により、本実施形態における副工程が完了する。なお、副工程が完了し、主工程が開始した後も、主工程が完了するまでの間、あるいは少なくとも後述する反応工程が完了するまでの間において、分析部用ヒータ３２による温度維持を継続することが好ましい。
【００４５】
＜主工程＞
次いで、主工程を実施する。本実施形態の主工程においては、まず反応工程を行う。
【００４６】
反応工程は、第１反応工程、洗浄工程、第２反応工程および洗浄工程の順に行う。第１反応工程においては、図８に示すように、希釈検体Ｄｓを分析流路２０に導入する。希釈検体Ｄｓの導入は、たとえばノズル６によって図示しない希釈液槽から図示しない所定の希釈層へと希釈液を導入する。また、ノズル６によって図示しない検体槽から所定量の検体を吸引し、前記希釈層に導入する。これにより、希釈された検体である希釈検体Ｄｓが得られる。この希釈検体Ｄｓをノズル６によって吸引し、導入流路２１から分析流路２０へと導入する。これにより、希釈検体Ｄｓに含まれる抗原８２が、分析流路２０内において反応部２０１の抗体８１と反応し、結合する。なお、この第１反応をより確実に実施するために、ノズル６によって希釈検体Ｄｓを分析流路２０内において往復動させてもよい。
【００４７】
第１反応工程を終えた後には、図９に示すように、抗体８１と反応しなかった抗原８２が分析流路２０の内面に付着して残存する可能性がある。このため、図１０に示す洗浄工程を行う。この洗浄工程は、たとえばノズル６によって洗浄液Ｃｓを分析流路２０に導入することによって行う。これにより、抗体８１とは未反応でありながら分析流路２０の内面に付着した分析流路２０を除去する。
【００４８】
次いで、第２反応工程を行う。第２反応工程においては、たとえばノズル６によって図示しない標識抗体液槽から標識抗体液Ｌａを吸引し、図１１に示すように標識抗体液Ｌａを分析流路２０に導入する。標識抗体液Ｌａに含まれる標識抗体８３は、たとえば蛍光物質を含んでおり、抗体８１と結合した抗原８２と反応することにより、抗原８２と結合する。この第２反応を促進するために、たとえば分析流路２０内において標識抗体液Ｌａを往復動させてもよい。
【００４９】
次いで、分析流路２０内に洗浄液Ｃｓを導入することにより、洗浄工程を行う。これにより、抗原８２と未反応でありながら分析流路２０の内表面に残存した標識抗体８３を除去する。以上の工程を経ることにより、主工程の反応工程が完了する。なお、上述した通り、反応工程を行う期間においては、制御部７によって分析部用ヒータ３２を制御することにより、分析流路２０の温度維持を継続することが好ましい。また、この温度維持には、測温部５による測温結果を参照することが好ましい。
【００５０】
次いで、分析工程を行う。分析工程においては、図１３に示すように、制御部７の指令により、発光部４１から所定の波長の光がプリズム部２８へと出射される。また、測温部５に代えて受光部４２が分析流路２０に対面する位置に配置される。発光部４１からの光は、光路としてのプリズム部２８を通過して、反応部２０１へと照射される。反応部２０１においては、抗体８１および抗原８２を介して金属薄膜８０（反応部２０１）に固定された標識抗体８３が前記所定波長の光を受ける。これにより、標識抗体８３に含まれる蛍光物質が励起され、発光部４１からの光とは異なる波長の光が発せられる。この標識抗体８３からの光を、受光部４２によって受光する。受光した受光部４２からは、受けた光の輝度や波長に応じた電気信号が出力される。この電気信号が制御部７に送られる。制御部７においては、たとえば上述したメモリに格納された分析プログラムが実行され、受光部４２からの電気信号に基づいた所定の処理が行われる。これにより、希釈検体Ｄｓに含まれる抗原８２を対象とした、ＳＰＦＳを測定原理とする分析が完了する。なお、上述した通り、分析工程を行う期間においては、制御部７によって分析部用ヒータ３２を制御することにより、分析流路２０の温度維持を継続することが好ましい。
【００５１】
次に、分析システムＡ１および分析システムＡ１を用いた分析方法の作用について説明する。
【００５２】
本実施形態によれば、温度調整工程において予め温度調整された改善媒体である洗浄液Ｃｓを、分析空間である分析流路２０に直接導入することにより、分析流路２０の温度を目標温度に近づける。このため、たとえば分析流路２０を備える分析用具Ｃ１の外部からヒータ等によって分析流路２０を温める構成と比較して、分析流路２０をより早く温めることができる。また、洗浄液Ｃｓが分析流路２０に直接接するため、分析流路２０の温度は洗浄液Ｃｓの温度に遅滞なく追従しやすい。ヒータ等によって分析流路２０を外部から温める場合、より急速に分析流路２０を温めようとすると、ヒータ等の温度を目標温度よりも顕著に高い温度に設定すること等が強いられる。しかし、このような場合、分析流路２０の温度が目標温度よりも高くなってしまう、いわゆるオーバーシュート現象が生じやすい。このため、このオーバーシュートを考慮した加熱制御が必要となる。本実施形態によれば、顕著なオーバーシュートを回避することが可能である。したがって、分析空間である分析流路２０の温度改善をより短時間且つ確実に行うことができる。特に、主工程を開始可能な状態に到達するまでの、副工程を完了させる時間を短縮することが可能であることにより、本分析方法を終えるまでの時間を短縮するのに寄与する。
【００５３】
分析流路２０とは別の部位である洗浄液槽１において、洗浄液Ｃｓを予め温度調整する温度調整工程を行うことにより、分析を開始する際に、洗浄液Ｃｓの温度調整を完了させておくことができる。
【００５４】
分析流路２０の温度を目標温度に近づける温度改善工程は、他の特定因子である反応部２０１の抗体８１の活性化を行う特定改善工程を兼ねている。この特定改善工程は、本分析方法を実施するためには、その分析原理から不可欠である工程である。したがって、分析流路２０の温度をより正確に目標温度に近づけつつ、分析方法全体に要する時間が延長されることを回避することができる。
【００５５】
分析部用ヒータ３２を用いた分析流路２０の温度維持工程を行うことにより、温度改善工程において目標温度に近づけた分析流路２０の温度を維持しつつ、分析工程を行うことができる。また、分析工程に先立つ反応工程においても、分析流路２０の温度を目標温度近傍に維持しておくことができる。
【００５６】
ＳＰＦＳに代表される、分析流路２０に光を照射する処理を含む分析方法においては、発光部４１等の光源から分析流路２０に至る光路を確保する必要がある。この光路を確保しようとすると、たとえば分析部用ヒータ３２は、光路を避けた配置とせざるを得ず、分析部用ヒータ３２を分析流路２０のごく近傍に配置することは困難である。本実施形態においては、温度維持手段である分析部用ヒータ３２は、補助的な手段であり、分析流路２０の温度改善を行う温度改善工程は、洗浄液Ｃｓを分析流路２０に直接導入することによって行う。このため、温度改善工程を実行する温度改善手段と分析のための光路との干渉を回避しつつ、分析流路２０の温度を目標温度に近づけることができる。
【００５７】
図１４および図１５は、本発明の他の実施形態を示している。なお、これらの図において、上記実施形態と同一または類似の要素には、上記実施形態と同一の符号を付している。
【００５８】
図１４は、本発明に係る分析システムの他の例を示している。本例の分析システムＡ２においては、分析用具Ｃ２とは別体とされた洗浄液ユニット１’を用いる。洗浄液ユニット１’には、洗浄液Ｃｓが貯蔵されている。洗浄液ユニット１’が貯蔵する洗浄液Ｃｓの量は特に限定されないが、ディスポーザブルタイプとされた分析用具Ｃ２を複数回取り替えて行われる複数回の分析を実施可能な量の洗浄液Ｃｓを、洗浄液ユニット１’に貯蔵しておいてもよい。また、分析用具Ｃ２と別体とされていることにより、洗浄液ユニット１’の材質は、分析用具Ｃ２の材質とは全く異なる材質を採用しやすいという利点がある。たとえば、洗浄液槽用ヒータ３１による加熱効率を高める観点からは、洗浄液ユニット１’をたとえばステンレスなどの金属によって形成してもよい。このような実施形態によっても、分析空間である分析流路２０の温度改善をより短時間且つ確実に行うことができる。
【００５９】
図１５は、本発明に係る分析システムのさらに他の例を示している。本例の分析システムＡ３においては、分析装置Ｂ３のノズル６にノズル用ヒータ３３が設けられている。ノズル用ヒータ３３は、ノズル６が吸引した洗浄液Ｃｓの温度を制御するためのものである。たとえば、洗浄液槽１あるいは洗浄液ユニット１'において洗浄液槽用ヒータ３１によって温度調整された洗浄液Ｃｓの温度が意図せず変化してしまうことをノズル用ヒータ３３によって回避できる。あるいは、洗浄液槽１あるいは洗浄液ユニット１'においては積極的な温度調整を行わず、ノズル６によって吸引した洗浄液Ｃｓをノズル用ヒータ３３によって加熱することにより温度調整してもよい。この場合、ノズル用ヒータ３３は、本発明で言う温度調整手段の一例に相当する。このような実施形態によっても、分析空間である分析流路２０の温度改善をより短時間且つ確実に行うことができる。
【００６０】
本発明に係る分析方法および分析システムは、上述した実施形態に限定されるものではない。本発明に係る分析方法および分析システムの各部の具体的な構成は、種々に設計変更自在である。
【符号の説明】
【００６１】
Ａ１〜Ａ３      分析システム
Ｂ１，Ｂ３      分析装置
Ｃｓ      洗浄液
Ｄｓ      希釈検体
Ｌａ      標識抗体液
１      洗浄液槽
１'      洗浄液ユニット
２０      分析流路
２１      導入流路
２２      排出流路
２０１      反応部
２００      流入出口
２８      プリズム部
３１      洗浄液槽用ヒータ
３２      分析部用ヒータ
３３      ノズル用ヒータ
７      制御部
４１      発光部
４２      受光部
５      測温部
６      ノズル
８０      金属薄膜
８１      抗体
８２      抗原
８３      標識抗体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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