(57)【要約】【課題】ミラーの反射面の変形とミラーの位置および姿勢の補正とを効率よく行うために有利な光学装置を提供する。【解決手段】ミラーの反射面を変形させる光学装置は、ベースプレートと、前記ベースプレートと前記ミラーとの間に配置され、前記ミラーの複数箇所にそれぞれ力を加える複数のアクチュエータと、前記ミラーの位置および姿勢の基準状態からのずれ量を検出する検出部と、前記複数のアクチュエータの各々を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記基準状態における前記反射面の形状と目標形状との形状差を求め、前記検出部によって検出された前記ずれ量と前記形状差とを合成して合成ずれ量を求め、前記ミラーの前記複数箇所にそれぞれ加えるべき力を前記複数のアクチュエータの各々に発生させるための指令値を、各アクチュエータを単位量だけ駆動させたときに前記反射面が変形する量を示す情報と前記合成ずれ量とに基づいて決定する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、
ベースプレートと、
前記ベースプレートと前記ミラーとの間に配置され、前記ミラーの複数箇所にそれぞれ力を加える複数のアクチュエータと、
前記ミラーの位置および姿勢の基準状態からのずれ量を検出する検出部と、
前記複数のアクチュエータの各々を制御する制御部と、
を含み、
前記制御部は、前記基準状態における前記反射面の形状と目標形状との形状差、および前記検出部によって検出された前記ずれ量を合成して合成ずれ量を求め、前記ミラーの前記複数箇所にそれぞれ加えるべき力を前記複数のアクチュエータの各々に発生させるための指令値を、各アクチュエータを単位量だけ駆動させたときに前記反射面が変形する量を示す情報と前記合成ずれ量とに基づいて決定する、ことを特徴とする光学装置。
【請求項２】
前記検出部は、前記反射面における複数箇所の各々の変位を計測することにより前記ずれ量を検出する、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項３】
前記複数箇所の各々は、前記反射面の周辺部に位置している、ことを特徴とする請求項２に記載の光学装置。
【請求項４】
前記検出部は、前記ベースプレートの位置および姿勢の計測結果を用いて前記ずれ量を求める、ことを特徴とする請求項１に記載の光学装置。
【請求項５】
前記制御部は、前記検出部によって検出された前記ずれ量と前記形状差との差を前記合成ずれ量として求める、ことを特徴とする請求項１乃至４のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項６】
前記制御部は、前記反射面で反射された光の波面収差が許容範囲に収まるように前記目標形状を決定する、ことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項７】
前記ミラーの中心を含む前記ミラーの一部を前記ベースプレートに固定する固定部材を更に含み、
各アクチュエータは、互いに接触しない固定子および可動子を含む、ことを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の光学装置。
【請求項８】
マスクのパターンを基板に投影する投影光学系であって、
請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の光学装置を含む、ことを特徴とする投影光学系。
【請求項９】
基板を露光する露光装置であって、
請求項８に記載の投影光学系を含む、ことを特徴とする露光装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の露光装置を用いて基板を露光するステップと、
前記ステップで露光された前記基板を現像するステップと、
を有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラーの反射面を変形させる光学装置、それを用いた投影光学系、露光装置、および物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体デバイスなどの製造に用いられる露光装置の解像度を向上させるため、露光装置における投影光学系の光学収差を補正することが求められている。特許文献１および２には、投影光学系に含まれるミラーの反射面を変形させることによって投影光学系の光学収差を補正する光学装置が提案されている。
【０００３】
光学装置では、経年劣化や熱変形などにより、ミラーの位置および姿勢が時間の経過とともに基準状態からずれてしまうことがある。そのため、光学装置では、投影光学系の光学収差が補正されるようにミラーの反射面を変形することに加えて、ミラーの位置および姿勢も補正することが好ましい。特許文献１に記載された光学装置では、ミラーの反射面を変形するためのアクチュエータの他に、ミラーを支持するベースプレートに力を加えてミラーの位置および姿勢を補正するためのアクチュエータが設けられている。また、特許文献２に記載された光学装置では、ミラーの反射面の変形およびミラーの位置および姿勢の補正の双方が、ミラーとベースプレートとの間に配置された複数のアクチュエータの制御によって行われる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特表２００７−５２３４８５号公報
【特許文献２】特許第４８１７７０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載の光学装置は、ミラーの反射面を変形するためのアクチュエータに加えて、ベースプレートを駆動するアクチュエータを有するため、装置が大型化するとともに装置コストの点で不利になりうる。
【０００６】
また、特許文献２に記載の光学装置は、ミラーの反射面を変形するために各アクチュエータに発生させる力と、ミラーの位置および姿勢を補正するために各アクチュエータに発生させる力とを別々に決定する。そして、決定した２つの力をアクチュエータごとに足し合わせて、各アクチュエータを駆動するための指令値を求め、求めた指令値に基づくシミュレーションを行い、シミュレーション結果に基づいて各アクチュエータに指令値を送る。例えば、シミュレーション結果におけるミラーの位置および姿勢の誤差および形状誤差がそれぞれ許容値に入るかどうかの判定が行われる。それらの誤差がそれぞれ許容値に入る場合には各アクチュエータに指令値が送られ、許容値に入らない場合には各アクチュエータへの分配割合を変更したシミュレーションが繰り返される。各アクチュエータへの分配割合の変更においては、遺伝的アルゴリズムを用いた最適化制御が行われる。しかしながら、各アクチュエータの指令値を求めるための演算負荷を低減させるためには、各アクチュエータに発生させる力を決定する工程を少なくすることが好ましい。
【０００７】
そこで、本発明は、ミラーの反射面の変形とミラーの位置および姿勢の補正とを効率よく行うために有利な光学装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての光学装置は、ミラーの反射面を変形させる光学装置であって、ベースプレートと、前記ベースプレートと前記ミラーとの間に配置され、前記ミラーの複数箇所にそれぞれ力を加える複数のアクチュエータと、前記ミラーの位置および姿勢の基準状態からのずれ量を検出する検出部と、前記複数のアクチュエータの各々を制御する制御部と、を含み、前記制御部は、前記基準状態における前記反射面の形状と目標形状との形状差を求め、前記検出部によって検出された前記ずれ量と前記形状差とを合成して合成ずれ量を求め、前記ミラーの前記複数箇所にそれぞれ加えるべき力を前記複数のアクチュエータの各々に発生させるための指令値を、各アクチュエータを単位量だけ駆動させたときに前記反射面が変形する量を示す情報と前記合成ずれ量とに基づいて決定する、ことを特徴とする。
【０００９】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、例えば、ミラーの反射面の変形とミラーの位置および姿勢の補正とを効率よく行うために有利な光学装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】第１実施形態の光学装置の構成を示す概略図である。
【図２】検出部における複数のセンサの配置を示す図である。
【図３】位置および姿勢が基準状態からずれているミラーを示す図である。
【図４】第２実施形態の光学装置の構成を示す概略図である。
【図５】露光装置の構成例を示す概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材ないし要素については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１３】
＜第１実施形態＞
第１実施形態の光学装置１０について、図１を参照しながら説明する。図１は、第１実施形態の光学装置１０の構成を示す概略図である。第１実施形態の光学装置１０は、例えば、露光装置の投影光学系に含まれるミラー１の反射面１ａを変形させることによって投影光学系の光学収差や、投影像の倍率や歪みやフォーカスを補正する。光学装置１０は、ミラー１と、ベースプレート３と、検出部４と、複数のアクチュエータ５と、制御部８とを含みうる。制御部８は、ＣＰＵやメモリなどを有し、複数のアクチュエータ５の各々を制御する。
【００１４】
ミラー１は、光を反射する反射面１ａと、反射面１ａの反対側の面である裏面１ｂとを有し、ミラー１の中心を含むミラー１の一部（以下、中心部）が固定部材２を介してベースプレート３に固定されている。このようにミラー１の中心部をベースプレート３に固定するのは、露光装置の投影光学系に用いられるミラー１においては、ミラー１の中心部の光が照射されないことが多く、ミラー１の中心部を変形させる必要性が小さいからである。ここで、第１実施形態では、ミラー１の中心部を固定部材２によってベースプレート３に固定しているが、ミラー１の任意の箇所を固定部材２によってベースプレート３に固定してもよい。各アクチュエータ５として圧電素子などの変位アクチュエータが用いられ、各アクチュエータ５によってミラー１がベースプレート３に支持される場合では、固定部材２を用いなくてもよい。また、第１実施形態では、円形の平面ミラーをミラー１として用いる例について説明するが、それに限られるものではなく、例えば、凹面や凸面を有する球面ミラーや非球面ミラーをミラー１として用いてもよい。
【００１５】
複数のアクチュエータ５は、ミラー１とベースプレート３との間に配置され、ミラー１（裏面１ｂ）の複数箇所にそれぞれ力を加える。各アクチュエータ５としては、例えば、ボイスコイルメータ（ＶＣＭ）やリニアモータなど、互いに接触しない可動子５ａと固定子５ｂとを含む非接触型のアクチュエータが用いられるとよいが、例えば、圧電素子などの変位アクチュエータが用いられてもよい。各アクチュエータ５としてＶＣＭなどの非接触型のアクチュエータが用いられる場合、各アクチュエータ５における可動子５ａおよび固定子５ｂのうち一方がミラー１の裏面１ｂに固定され、他方がベースプレート３に固定される。図１に示す例では、可動子５ａ（磁石）がミラー１の裏面１ｂに固定され、固定子５ｂ（コイル）がベースプレート３に固定されている。これにより、各アクチュエータ５は、固定子５ｂのコイルに電流が供給されることにより、ミラー１の裏面１ｂに力を加えてミラー１とベースプレート３との間の距離を変更することができる。
【００１６】
光学装置では、一般に、投影光学系の光学収差が補正されるように、即ち、ミラーで反射された光の波面収差が許容範囲に収まるようにミラーの反射面の目標形状が決定される。そして、基準状態におけるミラーの形状と目標形状との差（以下、形状差と称する）だけミラーの反射面が変形するように各アクチュエータが制御される。しかしながら、光学装置では、経年劣化や熱変形などにより、ミラーの位置および姿勢が時間の経過とともに基準状態からずれてしまう場合がある。この場合、形状差だけミラーの反射面が変形するように各アクチュエータを制御したとしても、ミラーの反射面の形状を目標形状にすることが困難になりうる。即ち、この場合、変形後の反射面の形状が、ミラーの位置および姿勢の基準形状からのずれ量だけ目標形状からずれてしまう。そのため、第１実施形態の光学装置１０では、ミラー１の位置および姿勢の基準状態からのずれ量を検出する検出部４が設けられている。そして、制御部８は、検出部４によって検出されたずれ量を考慮して各アクチュエータ５を駆動するための指令値を決定する。ここで、基準状態におけるミラー１の形状とは、例えば、各アクチュエータ５をオフにした状態、即ち、各アクチュエータ５の固定子５ｂのコイルに電流を供給していない状態におけるミラー１の形状をいう。また、ミラーの位置とは、例えばミラー上における代表点の位置のことであり、ミラーの姿勢とは、例えばミラーのチルトのことである。そして、基準状態におけるミラーの位置および姿勢とは、ミラーの基準位置および基準姿勢をいう。
【００１７】
以下に、検出部４の構成、および制御部８が各アクチュエータ５の指令値を決定する方法について説明する。まず、検出部４の構成について説明する。検出部４は、ミラー１の反射面１ａの周辺部に位置している複数の箇所の各々の変位を計測することにより、ミラー１の位置および姿勢の基準状態からのずれ量を検出する。例えば、検出部４は、図１に示すように、複数のセンサ４ａと、処理部４ｂとを含みる。第１実施形態の検出部４では、３つのセンサ４ａが用いられ、例えば図２に示すように配置されうる。図２は、検出部４における複数のセンサ４ａの配置を示す図である。複数のセンサ４ａの各々は、ミラー１における１つの箇所の基準状態（基準位置）からの変位（例えばＸ方向、Ｙ方向、Ｚ方向の変位）を計測する。各センサとしては、例えば、静電容量センサや渦電流式変位センサ、レーザ変位計、ひずみゲージなどが用いられうる。また、処理部４ｂは、各センサ４ａによる計測結果を用いて、ミラー１の位置および姿勢の基準状態からのずれ量を求める。当該ずれ量は、例えば、ミラー１の基準状態からのシフト量やチルト量を含みうる。ここで、第１実施形態の検出部４は、各センサ４ａによってミラー１の反射面１ａにおける各箇所を計測し、その計測結果を用いて、ミラー１の位置および姿勢の基準状態からのずれ量を求めたが、それに限られるものではない。例えば、ベースプレート３の位置および姿勢を計測するセンサを含み、そのセンサによる計測結果を用いて当該ずれ量を求めてもよい。
【００１８】
次に、制御部８が各アクチュエータ５の指令値を決定する方法について説明する。制御部８は、例えば、第１演算部８ａと、第２演算部８ｂと、決定部８ｃと、保存部８ｄと、ドライバ８ｅとを含みうる。第１演算部８ａは、ミラー１の反射面１ａで反射された光の波面収差（投影光学系の光学収差）を表す情報を取得し、取得した情報に基づいて、反射面１ａで反射された光の波面収差が許容範囲に収まるようにミラー１の反射面１ａの目標形状を決定する。第２演算部８ｂは、基準状態におけるミラー１の反射面１ａの形状と目標形状との形状差を求め、検出部４によって検出されたずれ量と当該形状差とを合成して合成ずれ量を求める。例えば、第２演算部８ｂは、検出部４によって検出されたずれ量と当該形状差との差を合成ずれ量として求めうる。
【００１９】
決定部８ｃは、第２演算部８ｂによって求めた合成ずれ量に従って、合成ずれ量だけ反射面１ａが変形するように、各アクチュエータ５がミラー１の複数箇所にそれぞれ加えるべき力を求める。そして、決定部８ｃは、各アクチュエータ５がミラー１の複数箇所にそれぞれ加えるべき力に基づいて、各アクチュエータ５に発生させるための指令値を決定する。例えば、保存部８ｄには、各アクチュエータを単位量だけ駆動させたときにミラー１の反射面１ａが変形する量を示す情報（感度マトリクス）が保存されている。決定部８ｃは、保存部８ｄに保存されている当該情報と第２演算部８ｂによって求められた合成ずれ量とに基づいて、各アクチュエータ５の指令値を決定することができる。ドライバ８ｅは、例えば、各アクチュエータ５を駆動するための電流を各アクチュエータ５に供給する電流ドライバである。ドライバ８ｅは、決定部８ｃから供給された各アクチュエータ５の指令値に応じて、各アクチュエータ５の固定子５ｂのコイルに電流を供給する。
【００２０】
ここで、第２演算部８ｂによって合成ずれ量を求める方法について、図３を参照しながら説明する。図３は、位置および姿勢が基準状態からずれているミラー１を示す図であり、図３（ａ）はミラー１をＸ方向から見た図、図３（ｂ）はミラー１をＺ方向から見た図、図３（ｃ）はミラー１をＹ方向から見た図である。図３において実線は、基準状態におけるミラー１を示し、破線は、位置および姿勢が基準状態からずれているミラー１を示している。また、目標形状を有するミラー１における複数箇所の座標をｘｉ、ｙｉ、ｚｉ（ｉ＝１，２・・・ｎ）とし、基準状態のミラー１における複数箇所の座標をＸｉ、Ｙｉ、Ｚｉとする。ミラー１の位置および姿勢の基準状態からのずれ量のうち並進シフト量をＳｘ、Ｓｙ、Ｓｚ、チルト量をθｘ、θｙとする。当該ずれ量は、検出部４によって検出されうる。このとき、第２演算部８ｂは、基準状態におけるミラー１の形状と目標形状との形状差（Ｘｃｉ、Ｙｃｉ、Ｚｃｉ）を、Ｘｃｉ＝ｘｉ−Ｘｉ、Ｙｃｉ＝ｙｉ−Ｙｉ、Ｚｃｉ＝ｚｉ−Ｚｉによって求めることができる。そして、第２演算部は、合成ずれ量（ｄｘｉ、ｄｙｉ、ｄｚｉ）を、ｄｘｉ＝Ｘｃｉ−Ｓｘ、ｄｙｉ＝Ｙｃｉ−Ｓｙ、ｄｚｉ＝Ｚｃｉ−（Ｓｚ＋ｘｉ×θｙ＋ｙｉ×θｘ）によって求めることができる。
【００２１】
このように第１実施形態の光学装置１０は、形状差とずれ量とを合成して合成ずれ量を求めた後、合成ずれ量だけ反射面１ａが変形するように各アクチュエータ５の指令値を決定する。上述したように、各アクチュエータ５の指令値を求めるための演算負荷を低減させるためには、各アクチュエータ５に発生させる力を決定する工程を少なくすることが好ましい。第１実施形態の光学装置１０では、１回の分配処理を行うだけでよいため、ミラー１の反射面１ａの変形とミラー１の位置および姿勢の補正とを効率よく行うことができる。ここで、第１実施形態の光学装置１０では、各センサ４ａによる計測結果を用いてずれ量を求める処理部４ｂを検出部４が含む例について説明したが、それに限られるものではなく、例えば制御部８が処理部４ｂを含んでいてもよい。
【００２２】
＜第２実施形態＞
第２実施形態の光学装置２０について、図４を参照しながら説明する。図４は、第２実施形態の光学装置２０の構成を示す概略図である。第２実施形態の光学装置は、第１実施形態の光学装置と比べて、検出部４の構成が異なる。
【００２３】
第２実施形態の検出部４は、レーザ干渉計やシャック・ハルトマンセンサなど、ミラー１の反射面１ａ全体の形状を計測する計測器４ｃと、計測器４ｃによる計測結果を用いてずれ量を求める処理部４ｂとを含みうる。処理部４ｂは、計測器４ｃによって計測された反射面１ａ全体の形状データをＺｅｒｎｉｋｅ多項式でフィッティングして、各項のＺｅｒｎｉｋｅ係数を取得する。Ｚｅｒｎｉｋｅ係数のうちＺ１項、Ｚ２項およびＺ３項は、ミラー１の位置および姿勢の基準状態からのずれ量（シフト量、チルト量）を表し、Ｚ４項以降は、ミラー１の反射面１ａの形状を表す。
【００２４】
このとき、制御部８では、基準状態におけるミラー１の反射面１ａの形状、および反射面１ａの目標形状が、それぞれＺｅｒｎｉｋｅ係数（Ｚｊ，ｊ＝１〜ｍ）で表される。例えば、第１演算部ａは、反射面１ａの目標形状を決定する際、当該目標形状をＺｅｒｎｉｋｅ係数（Ｚｊ，ｊ＝１〜ｍ）の形式で表す。第２演算部８ａは、Ｚｅｒｎｉｋｅ係数の形式でそれぞれ表された基準状態における反射面１ａの形状と目標形状との形状差を求める。そして、第２演算部８ａは、処理部４ｂによって得られたずれ量（Ｚｅｒｎｉｋｅ係数のうちＺ１項、Ｚ２項、Ｚ３項）と当該形状差とを合成して合成ずれ量を求める。決定部８ｃおよびドライバ８ｅの工程は、第１実施形態の光学装置１０と同様である。また、本実施形態ではミラー１の形状を計測することができるため、基準状態におけるミラー１の形状の代わりに、計測器４ｃによる計測によって得られたミラー１の形状を用いて目標形状との形状差を求めてもよい。ここで、第２実施形態では、Ｚｅｒｎｉｋｅ係数を用いる方法について説明したが、それに限られるものではなく、例えばフーリエ級数による面形状のフィッティングを行う方法など、別の方法を用いてもよい。
【００２５】
＜露光装置の実施形態＞
本実施形態の露光装置について、図５を参照しながら説明する。本実施形態の露光装置５０は、照明光学系ＩＬと、投影光学系ＰＯと、マスク５５を保持して移動可能なマスクステージＭＳと、基板５６を保持して移動可能な基板ステージＷＳとを含みうる。また、露光装置５０は、基板５６を露光する処理を制御する制御部５１を含みうる。
【００２６】
照明光学系ＩＬに含まれる光源（不図示）から射出された光は、照明光学系ＩＬに含まれるスリット（不図示）によって、例えば、Ｙ方向に長い円弧状の照明領域をマスク５５上に形成することができる。マスク５５および基板５６は、マスクステージＭＳおよび基板ステージＷＳによってそれぞれ保持されており、投影光学系ＰＯを介して光学的にほぼ共役な位置（投影光学系ＰＯの物体面および像面の位置）に配置される。投影光学系ＰＯは、所定の投影倍率（例えば１／２倍）を有し、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に投影する。そして、マスクステージＭＳおよび基板ステージＷＳを、投影光学系ＰＯの物体面と平行な方向（例えば図５のＸ方向）に、投影光学系ＰＯの投影倍率に応じた速度比で走査させる。これにより、マスク５５に形成されたパターンを基板５６に転写することができる。
【００２７】
投影光学系ＰＯは、例えば、図５に示すように、平面鏡５２と、凹面鏡５３と、凸面鏡５４とを含むように構成されうる。照明光学系ＩＬから出射し、マスク５５を透過した露光光は、平面鏡５２の第１面５２ａにより光路を折り曲げられ、凹面鏡５３の第１面５３ａに入射する。凹面鏡５３の第１面５３ａにおいて反射した露光光は、凸面鏡５４において反射し、凹面鏡５３の第２面５３ｂに入射する。凹面鏡５３の第２面５３ｂにおいて反射した露光光は、平面鏡５２の第２面５２ｂにより光路を折り曲げられ、基板上に結像する。このように構成された投影光学系ＰＯでは、凸面鏡５４の表面が光学的な瞳となる。
【００２８】
上述した露光装置５０の構成において、上述の実施形態に係る光学装置は、例えば、ミラー１としての凹面鏡５３の反射面を変形する装置として用いられうる。上述の実施形態に係る光学装置を露光装置５０に用いることにより、凹面鏡５３の反射面（第１面５３ａおよび第２面５３ｂ）を高速かつ高精度に変形させることができ、投影光学系ＰＯにおける光学収差をリアルタイムかつ高精度に補正することができる。ここで、露光装置５０における制御部５１は、上述の実施形態に係る光学装置におけるアクチュエータ５を制御するための制御部８を含むように構成されてもよい。なお、上述の実施形態に係る光学装置が凹面鏡５３の反射面を変形する装置として用いられる場合、図５におけるＸ方向、Ｙ方向およびＺ方向は、図１および図４における−Ｚ方向、Ｙ方向およびＸ方向にそれぞれ対応する。
【００２９】
＜物品の製造方法の実施形態＞
本発明の実施形態に係る物品の製造方法は、例えば、半導体デバイス等のマイクロデバイスや微細構造を有する素子等の物品を製造するのに好適である。本実施形態の物品の製造方法は、基板に塗布された感光剤に上記の露光装置を用いて潜像パターンを形成する工程（基板を露光する工程）と、かかる工程で潜像パターンが形成された基板を現像する工程とを含む。更に、かかる製造方法は、他の周知の工程（酸化、成膜、蒸着、ドーピング、平坦化、エッチング、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含む。本実施形態の物品の製造方法は、従来の方法に比べて、物品の性能・品質・生産性・生産コストの少なくとも１つにおいて有利である。
【００３０】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００３１】
１：ミラー、３：ベースプレート、４：検出部、５：アクチュエータ、８：制御部、１０：光学装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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