(57)【要約】      （修正有）【課題】枚葉の透明基板を用いる場合に乾燥むらの発生を抑制することが可能な反射防止層用組成物、およびそれを用いた反射防止基板の製造方法を提供する。【解決手段】微粒子と、バインダー成分と、沸点が１２０℃以下である低沸点溶剤と、沸点が１４０℃以上である高沸点溶剤とを含有し、低沸点溶剤および高沸点溶剤の質量比が５０：５０〜０：１００の範囲内であり、更に界面活性剤を含有することを特徴とする反射防止層用組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粒子と、バインダー成分と、沸点が１２０℃以下である低沸点溶剤と、沸点が１４０℃以上である高沸点溶剤とを含有し、
前記低沸点溶剤および前記高沸点溶剤の質量比が５０：５０〜０：１００の範囲内であることを特徴とする反射防止層用組成物。
【請求項２】
さらに界面活性剤を含有することを特徴とする請求項１に記載の反射防止層用組成物。
【請求項３】
枚葉の透明基板上に請求項１または請求項２に記載の反射防止層用組成物を塗布し、乾燥し、硬化して、反射防止層を形成する反射防止層形成工程を有することを特徴とする反射防止基板の製造方法。
【請求項４】
前記反射防止層形成工程での乾燥が減圧乾燥であることを特徴とする請求項３に記載の反射防止基板の製造方法。
【請求項５】
前記反射防止層形成工程前に、前記透明基板上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程を有することを特徴とする請求項３または請求項４に記載の反射防止基板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止層用組成物および反射防止基板の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
一般に、液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等の表示装置の表面には、外光反射低減のために反射防止フィルムが設けられている。
反射防止フィルムとしては、例えばＴＡＣフィルムやＰＥＴフィルム等の透明基材上に反射防止層を形成したものを挙げることができる。
【０００３】
反射防止層の形成方法としては、例えば特許文献１〜２に記載されているように、微粒子、バインダー成分および溶剤を含有する反射防止層用組成物を透明基材上に塗布し乾燥し硬化する方法が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−１８９９８６号公報
【特許文献２】特開２０１２−２２５９９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
反射防止層用組成物に含有される溶剤としては、生産性、各成分の溶解性や分散性等の観点から、例えばメチルエチルケトン、メチルイソブルケトン等の沸点が比較的低い溶剤が用いられている。
しかしながら、枚葉の透明基板を用いる場合、上記のような溶剤は乾燥速度が比較的速いため、乾燥むらが生じ、反射防止層に厚みむらや突起が発生するという問題がある。この場合、反射防止性が損なわれる。これは、反射防止層用組成物の塗布工程および塗膜の乾燥工程が別々に行われ、部分的に乾燥条件が異なってしまうためである。特に、枚葉の透明基板が大面積である場合にはこの問題が顕著となる。一方、長尺の透明基材を用いる場合には、反射防止層用組成物の塗布工程および塗膜の乾燥工程が連続的に行なわれるため、このような問題は起こらない。
【０００６】
なお、反射防止層用組成物に沸点が比較的高い溶剤を用いることが考えられるが、各成分の溶解性や分散性が低下し、安定性を確保するのが困難になる場合がある。また、沸点が比較的高い溶剤に対して溶解性や分散性が良好な成分に変更することも考えられるが、材料開発にはコストおよび時間を要する。
【０００７】
本発明は上記問題点に鑑みてなされたものであり、枚葉の透明基板を用いる場合に乾燥むらの発生を抑制することが可能な反射防止層用組成物、およびそれを用いた反射防止基板の製造方法を提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために、本発明は、微粒子と、バインダー成分と、沸点が１２０℃以下である低沸点溶剤と、沸点が１４０℃以上である高沸点溶剤とを含有し、上記低沸点溶剤および上記高沸点溶剤の質量比が５０：５０〜０：１００の範囲内であることを特徴とする反射防止層用組成物を提供する。
【０００９】
本発明によれば、高沸点溶剤が所定量含有されていることにより、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を調整することができ、枚葉の透明基板上に反射防止層を形成する場合に、乾燥むらを生じにくくし、反射防止層に厚みむらや突起が発生するのを抑制することができる。また、枚葉の透明基板が大面積であっても均一な反射防止層を形成することができる。
【００１０】
本発明の反射防止層用組成物は、さらに界面活性剤を含有してもよい。塗工安定性、防汚性、滑り性、耐擦傷性等を付与することができる。
【００１１】
また本発明は、枚葉の透明基板上に上述の反射防止層用組成物を塗布し、乾燥し、硬化して、反射防止層を形成する反射防止層形成工程を有することを特徴とする反射防止基板の製造方法を提供する。
【００１２】
本発明によれば、高沸点溶剤を所定量含有する反射防止層用組成物を用いることにより、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を調整することができ、乾燥むらを生じにくくし、反射防止層に厚みむらや突起が発生するのを抑制することができる。また、枚葉の透明基板が大面積であっても均一な反射防止層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる反射防止基板を得ることが可能である。
【００１３】
また本発明においては、上記反射防止層形成工程での乾燥が減圧乾燥であることが好ましい。減圧乾燥は高沸点溶剤の乾燥に適しているとともに、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を調整し、乾燥むらをさらに抑制することができるからである。
【００１４】
さらに本発明においては、上記反射防止層形成工程前に、上記透明基板上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程を有していてもよい。透明基板と反射防止層との間にアンカー層を形成することにより、反射防止層の耐擦傷性を高めることができるからである。
【発明の効果】
【００１５】
本発明においては、枚葉の透明基板を用いる場合に反射防止層用組成物の塗膜の乾燥むらの発生を抑制することができるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の反射防止基板の製造方法の一例を示す工程図である。
【図２】本発明の反射防止基板の製造方法の他の例を示す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の反射防止層用組成物および反射防止基板の製造方法について詳細に説明する。
【００１８】
Ａ．反射防止層用組成物
本発明の反射防止層用組成物は、微粒子と、バインダー成分と、重合開始剤と、沸点が１２０℃以下である低沸点溶剤と、沸点が１４０℃以上である高沸点溶剤とを含有し、上記低沸点溶剤および上記高沸点溶剤の質量比が５０：５０〜０：１００の範囲内であることを特徴とするものである。
【００１９】
本発明においては、高沸点溶剤が所定量含有されていることにより、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を比較的遅くすることができる。そのため、枚葉の透明基板上に反射防止層を形成する場合に、部分的に乾燥条件が異なっていても、乾燥むらを生じにくくし、反射防止層に厚みむらや突起が発生するのを抑制することができる。また、枚葉の透明基板が大面積であっても均一な反射防止層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる反射防止基板を得ることができる。
【００２０】
また、高沸点溶剤の種類や含有量を適宜調整することにより、各成分を変更することなく、反射防止層用組成物を調製することができ、安価な反射防止層用組成物とすることができる。
【００２１】
以下、本発明の反射防止層用組成物における各成分について説明する。
【００２２】
１．溶剤
本発明の反射防止層用組成物には、低沸点溶剤と高沸点溶剤とが所定の質量比で含有されている。
低沸点溶剤および高沸点溶剤の質量比は、５０：５０〜０：１００の範囲内であればよいが、中でも高沸点溶剤の含有量が低沸点溶剤の含有量よりも多いことが好ましい。具体的には、低沸点溶剤および高沸点溶剤の質量比が５０：５０〜２：９８の範囲内であることが好ましく、さらに好ましくは４０：６０〜２：９８の範囲内である。高沸点溶剤が低沸点溶剤よりも多く含まれている場合には、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を適度に調整することができ、乾燥むらをさらに生じにくくし、厚みむらおよび突起の発生を効果的に抑制することができるからである。
【００２３】
ここで、後述の微粒子、バインダー成分、界面活性剤等は市販品で入手可能であり、溶剤に溶解または分散された状態となっている場合がある。この場合には、微粒子、バインダー成分、界面活性剤等を溶解または分散している溶剤も、高沸点溶剤および低沸点溶剤に含めるものとする。
【００２４】
反射防止層用組成物における低沸点溶剤および高沸点溶剤を含む溶剤の全含有量は、各成分を均一に溶解または分散することができ、また均一な塗膜を形成することができる固形分濃度となるように適宜調整される。具体的には、反射防止層用組成物中の溶剤の全含有量は、５０質量％〜９９．８質量％の範囲内であることが好ましく、中でも７０質量％〜９９．７質量％の範囲内であることが好ましい。
【００２５】
以下、高沸点溶剤および低沸点溶剤について説明する。
【００２６】
（１）高沸点溶剤
本発明に用いられる高沸点溶剤は、沸点が１４０℃以上のものである。
高沸点溶剤の沸点は１４０℃以上であればよいが、中でも１４０℃以上１９０℃以下の範囲内であることが好ましい。高沸点溶剤の沸点が高すぎると、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥が困難となる場合がある。
【００２７】
高沸点溶剤としては、上記の沸点を満たし、各成分を溶解または分散させることができるものであればよく、各成分の種類に応じて適宜選択される。例えば、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノエチルエーテル等のグリコールエーテル類；シクロヘキサノン等のケトン類；シクロヘキサノールアセテート、３−メトキシブチルアセテート、３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテート等の酢酸エステル類；シクロヘキサノール等のアルコール類等が挙げられる。これらの高沸点溶剤は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００２８】
中でも、シクロヘキサノールアセテートが好ましく用いられる。分散安定性に優れ、かつ長期保存に適した反射防止層用組成物が得られるからである。
【００２９】
（２）低沸点溶剤
本発明に用いられる低沸点溶剤は、沸点が１２０℃以下のものである。
低沸点溶剤の沸点は１２０℃以下であればよいが、中でも６０℃以上１２０℃以下の範囲内であることが好ましい。低沸点溶剤の沸点が低すぎると、取扱いが困難になる場合があるからである。
【００３０】
低沸点溶剤としては、上記の沸点を満たし、各成分を溶解または分散させることができるものであればよく、各成分の種類に応じて適宜選択される。例えば、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等のアルコール類；メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類；トルエン等の芳香族炭化水素類等が挙げられる。これらの低沸点溶剤は１種単独で用いてもよく２種以上を混合して用いてもよい。
【００３１】
中でも、汎用性が高いことから、イソプロピルアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンが好ましく用いられる。
【００３２】
（３）その他の溶剤
本発明においては、本発明の効果を損なわない範囲で、上記の高沸点溶剤および低沸点溶剤以外の溶剤が含有されていてもよい。
【００３３】
２．微粒子
本発明における微粒子は、反射防止層の屈折率を調整するために用いられるものである。
【００３４】
微粒子としては、所定の屈折率を示す反射防止層を得ることが可能なものであれば特に限定されるものではなく、無機系および有機系のいずれも用いることができ、目的の屈折率に応じて適宜選択される。後述するように、反射防止層用組成物は、低屈折率層用組成物、高屈折率層用組成物、中屈折率層用組成物のいずれであってもよい。
【００３５】
低屈折率層用組成物に含有される低屈折率微粒子としては、例えばシリカ微粒子、フッ化マグネシウム微粒子等が挙げられる。また、屈折率が低いことから、中空粒子や多孔質粒子が好ましく用いられる。中空粒子および多孔質粒子としては、例えばシリカ、フッ化マグネシウム、アルミナ、ポリマー等の微粒子が挙げられる。中でも、低屈折率、分散安定性、湿熱耐久性、コスト等の観点から、シリカ微粒子が好ましい。
【００３６】
また、低屈折率微粒子は、表面処理されたものであってもよい。低屈折率微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー成分や溶剤との親和性が向上し、低屈折率微粒子の分散が均一となり、低屈折率微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、低屈折率層の透明性の低下や、低屈折率層用組成物の塗布性、低屈折率層用組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理としては、物理的処理および化学的処理のいずれであってもよい。中でも、シランカップリング剤を用いた表面処理が好ましく、特に（メタ）アクリロイル基を有するシランカップリング剤を用いた表面処理が好ましい。耐擦傷性を向上させることができるからである。
【００３７】
また、低屈折率微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。
【００３８】
低屈折率微粒子の一次粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する低屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、低屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な低屈折率微粒子の分散状態が得られる。なお、低屈折率微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、低屈折率微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
【００３９】
ここで、微粒子の一次粒子の平均粒径は、反射防止層の断面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて任意の三視野分の観察を行い、断面に存在する任意の２０個の粒子（三視野分で合計６０個の粒子）の直径を写真上で実測し、平均粒径とする。
【００４０】
低屈折率微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【００４１】
また、低屈折率層用組成物は、耐擦傷性を向上させる目的で、中空粒子や多孔質粒子に加えて中実粒子を含有してもよい。中実粒子としては、一般的に反射防止層に用いられる中実粒子を使用することができる。
中実粒子は、中空粒子や多孔質粒子と同様に表面処理されたものであってもよい。
中実粒子の一次粒子の平均粒径は、１ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも１ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に５ｎｍ〜２０ｎｍの範囲内であることが好ましい。中実粒子の平均粒径が小さすぎると表面硬度向上の寄与が小さく、大きすぎると低屈折率層の透明性を損ない、良好な微粒子の分散状態が得られにくい。
【００４２】
また、高屈折率層用組成物に含有される高屈折率微粒子としては、例えば金属酸化物微粒子が挙げられる。金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化錫、酸化イットリウム、アンチモン錫酸化物、インジウム錫酸化物、燐錫化合物、ガリウム亜鉛酸化物、β−Ａｌ２Ｏ５、γ−Ａｌ２Ｏ５、アルミニウム亜鉛酸化物、ガリウム亜鉛酸化物、チタン酸バリウム、アンチモン酸亜鉛等の微粒子が挙げられる。
【００４３】
また、金属酸化物微粒子は、表面処理されたものであってもよい。金属酸化物微粒子に表面処理を施すことにより、バインダー成分や溶剤との親和性が向上し、金属酸化物微粒子の分散が均一となり、金属酸化物微粒子同士の凝集が生じにくくなるので、高屈折率層の透明性の低下や、高屈折率層用組成物の塗布性、高屈折率層用組成物の塗膜強度の低下を抑制することができる。
表面処理としては、物理的処理および化学的処理のいずれであってもよい。
【００４４】
また、金属酸化物微粒子は、その表面に光硬化性基を有する反応性微粒子であってもよい。
【００４５】
金属酸化物微粒子の一次粒子の平均粒径としては、均一な厚みを有する高屈折率層を形成可能な程度であればよく、例えば５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜１００ｎｍの範囲内、特に１０ｎｍ〜８０ｎｍの範囲内であることが好ましい。金属酸化物微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、高屈折率層の透明性を損なうことがなく、良好な金属酸化物微粒子の分散状態が得られる。なお、金属酸化物微粒子の平均粒径が上記範囲内にあれば、金属酸化物微粒子が鎖状に連なっていてもよい。
【００４６】
金属酸化物微粒子の形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【００４７】
また、中屈折率層用組成物に含有される中屈折率微粒子としては、例えば金属酸化物微粒子が挙げられる。なお、金属酸化物微粒子については、上記高屈折率層用組成物に用いられる金属酸化物微粒子と同様であるので、ここでの説明は省略する。
【００４８】
反射防止層用組成物中の微粒子の含有量は、反射防止層用組成物中の全固形分１００質量部に対して、１０質量部〜９５質量部の範囲内であることが好ましく、中でも２０質量部〜９０質量部の範囲内、特に３０質量部〜９０質量部の範囲内であることが好ましい。微粒子の含有量が少なすぎると、所望の屈折率が得られない場合があり、微粒子の含有量が多すぎると、強度が低下するおそれがある。
【００４９】
また、低屈折率層用組成物において中実粒子が含有されている場合、低屈折率層用組成物中の微粒子の含有量は、目的とする屈折率、耐擦傷性等に応じて適宜調整され、具体的には、低屈折率層用組成物中の全固形分１００質量部に対して、１質量部〜３０質量部の範囲内であることが好ましく、中でも１質量部〜２０質量部の範囲内であることが好ましい。
【００５０】
３．バインダー成分
本発明におけるバインダー成分は、成膜性や膜強度等の観点から含有されるものである。
【００５１】
バインダー成分としては、熱あるいは紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化する硬化性樹脂であることが好ましい。硬化性樹脂としては、例えば熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線性硬化性樹脂が好ましい。反射防止層の表面硬度を高めることができるからである。
【００５２】
ここで、「電離放射線硬化性樹脂」とは、電離放射線の照射により硬化する樹脂をいう。「電離放射線」とは、電磁波または荷電粒子線のうち、分子を重合あるいは架橋し得るエネルギー量子を有するものをいい、例えば、紫外線や電子線の他、Ｘ線、γ線等の電磁波、α線、イオン線等の荷電粒子線が挙げられる。
【００５３】
電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化性樹脂が好ましい。反射防止層用組成物の塗膜を迅速に硬化することができるからである。
【００５４】
電離放射線硬化性樹脂としては、重合性官能基を有するモノマー、オリゴマー、ポリマーを用いることができる。
重合性官能基を有するモノマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート単量体が好適であり、中でも多官能性（メタ）アクリレートモノマーが好ましい。多官能性（メタ）アクリレートモノマーとしては、分子内にエチレン性不飽和結合を２個以上有する（メタ）アクリレートモノマーであればよく、特に限定されるものではない。例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレートモノステアレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート等の２官能の（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能の（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレート；上記の多官能性（メタ）アクリレートモノマーのエチレンオキシド変性品、カプロラクトン変性品、プロピオン酸変性品等が挙げられる。これらの多官能性（メタ）アクリレートモノマーは１種単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
中でも、優れた耐擦傷性が得られる観点から、３官能以上の（メタ）アクリレートが好ましい。具体的には、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等の３官能の（メタ）アクリレート；ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等の４官能以上の（メタ）アクリレートが好ましく、特に好ましいのはペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートである。
【００５５】
また、上記の多官能性（メタ）アクリレートモノマーとともに、粘度を低下させる等の目的で、単官能性（メタ）アクリレートモノマーを、本発明の目的を損なわない範囲で適宜併用することができる。また、粘度を増加させることによる塗布適正調整のために、重合性オリゴマーやポリマーを使用することができる。
【００５６】
重合性官能基を有するオリゴマーとしては、分子中にラジカル重合性不飽和基を持つ（メタ）アクリレート系オリゴマーが挙げられる。例えば、エポキシ（メタ）アクリレート系、ウレタン（メタ）アクリレート系、ポリエステル（メタ）アクリレート系、ポリエーテル（メタ）アクリレート系のオリゴマー等が挙げられる。
【００５７】
また、主鎖や側鎖に重合性官能基を有する反応性ポリマーを用いることもできる。反応性ポリマーは市販品として入手可能であり、例えば東亞合成株式会社製の「マクロモノマー」等が挙げられる。
【００５８】
また、反射防止層用組成物が低屈折率層用組成物である場合、屈折率を低下させるために、フッ素系樹脂を用いてもよい。フッ素系樹脂としては、フッ素含有モノマー、フッ素含有ポリマーを用いることができる。
なお、フッ素系樹脂は、電離放射線硬化性樹脂として含有されていてもよく、電離放射線硬化性樹脂または熱硬化性樹脂に加えて含有されていてもよい。
【００５９】
フッ素含有モノマーは、効率良く硬化して、優れた硬度が得られる観点から、１分子中に反応性官能基を２以上有することが好ましい。このようなフッ素含有モノマーとしては、ペンタエリスリトール骨格を有する含フッ素モノマー、ジペンタエリスリトール骨格を有するフッ素含有モノマー、トリメチロールプロパン骨格を有するフッ素含有モノマー、シクロヘキシル骨格を有するフッ素含有モノマー、直鎖状骨格を有するフッ素含有モノマー等が挙げられる。中でも、ペンタエリスリトール骨格を有するフッ素含有モノマーが好ましい。
【００６０】
フッ素含有ポリマーとしては、例えば（メタ）アクリル酸の部分および完全フッ素化アルキル、アルケニル、アリールエステル類、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類、完全または部分フッ素化ビニルエステル類、完全または部分フッ素化ビニルケトン類等が挙げられる。
【００６１】
また、フッ素含有ポリマーとしては、フッ素原子の他にケイ素原子を含むものが好ましく、例えば、共重合体にシリコーン成分を含有させたシリコーン含有フッ化ビニリデン共重合体が好ましく挙げられる。シリコーン成分としては、（ポリ）ジメチルシロキサン、（ポリ）ジエチルシロキサン、（ポリ）ジフェニルシロキサン、（ポリ）メチルフェニルシロキサン、アルキル変性（ポリ）ジメチルシロキサン、アゾ基含有（ポリ）ジメチルシロキサンや、ジメチルシリコーン、フェニルメチルシリコーン、アルキル・アラルキル変性シリコーン、フルオロシリコーン、ポリエーテル変性シリコーン、脂肪酸エステル変性シリコーン、メチル水素シリコーン、シラノール基含有シリコーン、アルコキシ基含有シリコーン、フェノール基含有シリコーン、メタクリル変性シリコーン、アクリル変性シリコーン、アミノ変性シリコーン、カルボン酸変性シリコーン、カルビノール変性シリコーン、エポキシ変性シリコーン、メルカプト変性シリコーン、フッ素変性シリコーン、ポリエーテル変性シリコーン等が挙げられる。中でも、ジメチルシロキサン構造を有するものが好ましい。
【００６２】
また、フッ素含有ポリマーとしては、分子中に少なくとも１個のイソシアナト基およびフッ素原子を有する化合物と、アミノ基、ヒドロキシル基、カルボキシル基等のイソシアナト基と反応する官能基を分子中に少なくとも１個有する化合物とを反応させて得られる化合物；フッ素含有ポリエーテルポリオール、フッ素含有アルキルポリオール、フッ素含有ポリエステルポリオール、フッ素含有ε−カプロラクトン変性ポリオール等のフッ素含有ポリオールと、イソシアナト基を有する化合物とを反応させて得られる化合物等も用いることができる。
【００６３】
また、熱硬化性樹脂としては、例えば、メラミン系、ユリア系、エポキシ系、ケトン系、ジアリルフタレート系、不飽和ポリエステル系、フェノール系等が挙げられる。
【００６４】
バインダー成分の含有量は、反射防止層用組成物中の全固形分１００質量部に対して、０．５質量部〜４５質量部の範囲内であることが好ましく、より好ましくは５質量部〜３５質量部の範囲内である。バインダー成分の含有量が上記範囲内である場合には、優れた耐擦傷性を得ることができる。
【００６５】
４．重合開始剤
本発明においては、上記バインダー成分として紫外線硬化性樹脂を用いる場合、反射防止層用組成物は重合開始剤を含有していてもよい。重合開始剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。
【００６６】
重合開始剤の含有量としては、紫外線硬化性樹脂１００質量部に対して、０．５質量部〜１０質量部の範囲内であることが好ましく、１質量部〜５質量部の範囲内であることがより好ましい。
【００６７】
５．界面活性剤
本発明の反射防止層用組成物は、界面活性剤を含有していてもよい。界面活性剤は、塗工安定性、防汚性、滑り性、耐擦傷性等を付与する目的で用いられるものである。
【００６８】
界面活性剤としては、例えばフッ素系界面活性剤、シリコン系界面活性剤、フッ素シリコン系界面活性剤等を挙げることができる。これらの界面活性剤としては、一般的なものから適宜選択することができる。
【００６９】
界面活性剤の含有量は、反射防止層用組成物中の全固形分１００質量部に対して、２０質量部以下であることが好ましい。
【００７０】
６．添加剤
本発明の反射防止層用組成物は、所望の物性に応じて各種添加剤を含有していてもよい。添加剤としては、例えば耐候性改善剤、耐摩耗性向上剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、接着性向上剤、酸化防止剤、レベリング剤、チクソ性付与剤、カップリング剤、可塑剤、消泡剤、充填剤等が挙げられる。
【００７１】
７．反射防止層用組成物の調製
本発明において、反射防止層用組成物は、上記の微粒子、バインダー成分、重合開始剤および界面活性剤等を溶剤に溶解または分散させて調製する。上述したように、微粒子、バインダー成分、界面活性剤等が溶剤に溶解または分散された状態となっている場合には、それぞれの分散液等が用いられる。
【００７２】
８．反射防止層用組成物
本発明の反射防止層用組成物の固形分濃度は、透明基板上に均一に塗布することができる程度であればよく、例えば０．３質量％〜１５質量％の範囲内で設定することができ、中でも０．３質量％〜１０質量％の範囲内、特に０．３質量％〜５質量％の範囲内であることが好ましい。固形分濃度が高すぎると均一な薄膜を得ることが困難であり、固形分濃度が低すぎると反射防止層用組成物の塗膜の乾燥が困難になる場合がある。
【００７３】
本発明の反射防止層用組成物は、上述したように、例えば低屈折率層用組成物、高屈折率層用組成物、中屈折率層用組成物のいずれであってもよい。各組成物の屈折率は、微粒子の種類および含有量等によって適宜調整することができる。
なお、各層の屈折率については、後述の「Ｂ．反射防止基板の製造方法」に記載するので、ここでの説明は省略する。
中でも、本発明の反射防止層用組成物は、低屈折率層用組成物であることが好ましい。一般的に低屈折率層用組成物に用いられている溶剤は低沸点溶剤であるため、本発明の効果が顕著となるからである。
【００７４】
Ｂ．反射防止基板の製造方法
本発明の反射防止基板の製造方法は、枚葉の透明基板上に上述の反射防止層用組成物を塗布し、乾燥し、硬化して、反射防止層を形成する反射防止層形成工程を有することを特徴とする製造方法である。
【００７５】
本発明の反射防止基板の製造方法について図面を参照して説明する。
図１（ａ）〜（ｂ）は本発明の反射防止基板の製造方法の一例を示す工程図である。まず、図１（ａ）に示すように、枚葉の透明基板２上に反射防止層用組成物を塗布して塗膜３ａを形成し、乾燥させる。次いで、図１（ｂ）に示すように、反射防止層用組成物の塗膜３ａに紫外線を照射して硬化し、反射防止層３を形成する。
【００７６】
本発明においては、高沸点溶剤を所定量含有する反射防止層用組成物を用いることにより、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を調整することができ、乾燥むらを生じにくくし、反射防止層に厚みむらや突起が発生するのを抑制することができる。また、枚葉の透明基板が大面積であっても均一な反射防止層を容易に形成することができる。したがって、反射防止性に優れる反射防止基板を得ることができる。
【００７７】
図２（ａ）〜（ｃ）は本発明の反射防止基板の製造方法の他の例を示す工程図である。まず、図２（ａ）に示すように、枚葉の透明基板２上にアンカー層用組成物を塗布し、硬化してアンカー層４を形成するアンカー層形成工程を行う。次に、図２（ｂ）に示すように、アンカー層４上に反射防止層用組成物を塗布して塗膜３ａを形成し、乾燥させる。次いで、図２（ｃ）に示すように、反射防止層用組成物の塗膜３ａに紫外線を照射して硬化し、反射防止層３を形成する。
【００７８】
このように本発明においては、反射防止層形成工程前にアンカー層形成工程を行ってもよい。透明基板と反射防止層との間にアンカー層を形成することにより、反射防止層の耐擦傷性を高めることができるからである。
【００７９】
以下、本発明の反射防止基板の製造方法における各工程について説明する。
【００８０】
１．反射防止層形成工程
本発明における反射防止層形成工程は、枚葉の透明基板上に上述の反射防止層用組成物を塗布し、乾燥し、硬化して、反射防止層を形成する工程である。
【００８１】
なお、反射防止層用組成物については、上記「Ａ．反射防止層用組成物」に詳しく記載したので、ここでの説明は省略する。
【００８２】
透明基板としては、透明性を有し、枚葉状のものであれば特に限定されるものではなく、例えばガラス基板、樹脂基板を用いることができる。中でも、ガラス基板が好ましい。通常、ガラス基板は枚葉状であるため、本発明に好適である。
透明基板の厚みとしては、反射防止基板の用途等に応じて適宜選択されるものであり、例えば３０μｍ〜３ｍｍ程度とすることができる。
【００８３】
反射防止層用組成物の塗布方法としては、枚葉の透明基板上に均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えばグラビアコート、バーコート、ロールコート、リバースロールコート、コンマコート、ダイコート、スピンコート、ディップコート等の一般的な塗布方法を適用することができる。
【００８４】
反射防止層用組成物の塗布後は、溶剤の除去のために乾燥させる。乾燥方法としては、溶剤を除去することができる方法であれば特に限定されるものではなく、例えば加熱乾燥、減圧乾燥等を挙げることができる。中でも、減圧乾燥が好ましい。減圧乾燥は高沸点溶剤の乾燥に適しているとともに、反射防止層用組成物の塗膜の乾燥速度を調整し、乾燥むらをさらに生じにくくし、厚みむらおよび突起の発生を効果的に抑制することができるからである。
【００８５】
反射防止層用組成物の塗膜の硬化方法としては、バインダー成分の種類等に応じて適宜選択されるものであり、例えば加熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射が挙げられる。中でも、塗膜を迅速に硬化できるという点で、紫外線照射が好ましい。
【００８６】
バインダー成分が紫外線硬化性樹脂であり、塗膜を紫外線照射により硬化させる場合、照射量、紫外線源等の照射条件としては、紫外線硬化性樹脂の種類や塗膜の厚み等に応じて適宜選択される。例えば、照射量は波長３６５ｎｍでの積算露光量で３０ｍＪ／ｃｍ２〜５００ｍＪ／ｃｍ２程度とすることができる。また、塗膜を紫外線の照射により硬化させる際には、酸素による硬化阻害を抑制するために、不活性ガス雰囲気、例えば窒素ガス雰囲気とすることが好ましい。
【００８７】
バインダー成分が電子線硬化性樹脂であり、塗膜を電子線照射により硬化させる場合、加速電圧、照射量、電子線源等の照射条件としては、電子線硬化性樹脂の種類や塗膜の厚み等に応じて適宜選択される。例えば、加速電圧は７０ｋＶ〜３００ｋＶ程度、照射量は５ｋＧｙ〜３００ｋＧｙ（０．５Ｍｒａｄ〜３００Ｍｒａｄ）程度とすることができる。
【００８８】
バインダー成分が熱硬化性樹脂であり、塗膜を加熱により硬化させる場合、加熱条件としては、熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択される。例えば、加熱温度は６０℃〜２５０℃程度とすることができる。
【００８９】
また、塗膜の硬化前にプリベークを行ってもよく、塗膜の硬化後にポストベークを行ってもよい。
【００９０】
反射防止層の形成に際しては、例えば透明基板上に低屈折率層のみを形成してもよく、透明基板上に高屈折率層および低屈折率層を順に積層してもよく、透明基板上に高屈折率層、中屈折率層および低屈折率層を順に積層してもよい。
低屈折率層の屈折率は、透明基板の屈折率よりも低ければよく、低屈折率層の光学膜厚が１／４波長になるように調整されていることが好ましい。低屈折率層の屈折率は、例えば１．２５〜１．４５の範囲内であることが好ましい。
高屈折率層の屈折率は、低屈折率層および透明基板の屈折率よりも高ければよく、例えば１．５〜２．０の範囲内であることが好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率よりも高く、高屈折率層の屈折率よりも低ければよく、例えば１．５〜１．８の範囲内であることが好ましい。
各層の屈折率は、微粒子の種類および含有量等によって適宜調整することができる。
【００９１】
ここで、各部材の「屈折率」とは、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率をいう。屈折率の測定方法は特に限定されないが、例えば、分光反射スペクトルから算出する方法、エリプソメーターを用いて測定する方法、アッベ法を挙げることができる。エリプソメーターとしてはジョバンーイーボン社製ＵＶＳＥＬが挙げられる。具体的には、テクノ・シナジー社製ＤＦ１０３０Ｒにて屈折率を測定することができる。
【００９２】
低屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なり、低屈折率層の光学膜厚が１／４波長になるように調整されていることが好ましい。低屈折率層の厚みは、例えば５０ｎｍ〜２００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００９３】
高屈折率層および中屈折率層の厚みは、屈折率に応じて異なり、例えば１０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲内であることが好ましい。
【００９４】
２．アンカー層形成工程
本発明においては、上記反射防止層形成工程前に、枚葉の透明基板上にアンカー層を形成するアンカー層形成工程を行ってもよい。
【００９５】
アンカー層の形成方法としては、例えば透明基板上にアンカー層用組成物を塗布し、硬化する方法が挙げられる。
【００９６】
アンカー層用組成物は、例えば樹脂成分および溶剤等を含有するものである。
アンカー層用組成物に含有される樹脂成分としては、例えば熱または紫外線や電子線等の電離放射線の照射により硬化する硬化性樹脂を挙げることができる。硬化性樹脂としては、例えば熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂が挙げられる。中でも、電離放射線硬化性樹脂が好ましい。アンカー層の表面硬度を高めることができるからである。
電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂を挙げることができる。中でも、紫外線硬化性樹脂が好ましい。アンカー層用組成物の塗膜を迅速に硬化できるからである。
なお、硬化性樹脂については、上述の反射防止層用組成物に含有される硬化性樹脂と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【００９７】
また、アンカー層用組成物にはフィラーが含有されていてもよい。アンカー層の硬度を高めることができるからである。フィラーとしては、無機系および有機系のいずれも用いることができる。中でも、硬度の点から、無機系フィラーが好ましい。
無機系フィラーとしては、例えばシリカ、アルミナ、チタニア、ジルコニア、酸化亜鉛、酸化錫、酸化インジウム錫等の微粒子や、ガラスビーズ、ガラス繊維等が挙げられる。
有機系フィラーとしては、例えば樹脂ビーズを用いることができ、具体的にはアクリルビーズ、ウレタンビーズ、ナイロンビーズ、シリコーンビーズ、シリコーンゴムビーズ、ポリカーボネートビーズ等が挙げられる。
【００９８】
フィラーの一次粒子の平均粒径としては、透明性を有するアンカー層を得ることができる程度の粒径であればよく、例えば５ｎｍ〜５０ｎｍの範囲内であることが好ましく、中でも５ｎｍ〜４０ｎｍの範囲内、特に５ｎｍ〜３０ｎｍの範囲内であることが好ましい。フィラーの平均粒径が上記範囲内にあれば、アンカー層の透明性を損なうことがなく、良好なフィラーの分散状態が得られる。一方、フィラーの平均粒径が小さすぎると取り扱いが困難になり、大きすぎると硬度を高める効果が十分に得られない場合がある。なお、フィラーの平均粒径が上記範囲内にあれば、フィラーが鎖状に連なっていてもよい。
ここで、フィラーの一次粒子の平均粒径は、アンカー層の断面を、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて任意の三視野分の観察を行い、断面に存在する任意の２０個の粒子（三視野分で合計６０個の粒子）の直径を写真上で実測し、平均粒径とする。
【００９９】
フィラーの形状は特に限定されるものではなく、例えば、球状、鎖状、針状等を挙げることができる。
【０１００】
フィラーの含有量は、アンカー層用組成物中の全固形分１００質量部に対して、８０質量部以下であることが好ましい。
【０１０１】
アンカー層用組成物には、必要に応じて、例えば重合開始剤等の添加剤が含有されていてもよい。なお、添加剤については、上述の反射防止層用組成物に含有される添加剤と同様とすることができるので、ここでの説明は省略する。
【０１０２】
アンカー層用組成物に含有される溶剤としては、各成分を溶解または分散させることができるものであれば特に限定されるものではなく、適宜選択される。
【０１０３】
アンカー層用組成物の塗布方法としては、枚葉の透明基板上に均一に塗布することができる方法であれば特に限定されるものではなく、上記反射防止層用組成物の塗布方法と同様とすることができる。
アンカー層用組成物の塗布後は、溶剤の除去のために乾燥させてもよい。乾燥方法としては、上記反射防止層用組成物の塗膜の乾燥方法と同様とすることができる。
アンカー層用組成物の塗膜の硬化方法としては、樹脂成分の種類に応じて適宜選択されるものであり、上記反射防止層用組成物の塗膜の硬化方法と同様とすることができる。
【０１０４】
また、塗膜の硬化前にプリベークを行ってもよく、塗膜の硬化後にポストベークを行ってもよい。ポストベークを行う場合には、アンカー層の強度を高めることができる。
【０１０５】
また、アンカー層は、反射防止層側の面に凹凸を有していてもよい。これにより、アンカー層および反射防止層の密着性を高めることができる。凹凸の高低差やピッチとしては、反射防止層との密着性を高めることが可能な程度であればよく、適宜調整される。凹凸は、規則的に配置されていてもよく、不規則に配置されていてもよい。
【０１０６】
表面に凹凸を有するアンカー層を形成する方法としては、例えば透明基板上にアンカー層用組成物を塗布し乾燥させた後、塗膜に凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを圧着させた状態で硬化し、凹凸形成用基板または凹凸形成用ロールを剥離する方法や、アンカー層表面を研磨する方法が挙げられる。
【０１０７】
アンカー層の屈折率は、透明基板の屈折率以上であり、透明基板の屈折率との差が小さいことが好ましく、例えば透明基板の屈折率との差が０．０３以内、中でも０．０１５以内であることが好ましい。この場合、アンカー層と透明基板との界面での光の反射を抑制することができる。
【０１０８】
アンカー層の厚みとしては、反射防止層に耐擦傷性を付与することができる厚みであれば特に限定されるものではなく、例えば０．１μｍ〜１００μｍの範囲内であることが好ましく、中でも１μｍ〜２０μｍ、特に２μｍ〜１５μｍの範囲内であることが好ましい。アンカー層の厚みが上記範囲内であれば、十分な耐擦傷性が得られるからである。
【０１０９】
本発明においては、透明基板上にアンカー層を直に形成し、アンカー層上に反射防止層を直に形成することが好ましい。
ここで、「透明基板上にアンカー層を直に形成する」とは、透明基板とアンカー層とが直に接しており、透明基板とアンカー層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を配置しないことをいう。
また、「アンカー層上に反射防止層を直に形成する」とは、アンカー層と反射防止層とが直に接しており、アンカー層と反射防止層との間に例えば接着層や粘着層、透明基材等を配置しないことをいう。
【０１１０】
３．用途
本発明により製造される反射防止基板は、例えば液晶表示装置、プラズマディスプレイパネル、有機ＥＬ表示装置、無機ＥＬ表示装置、電子ペーパー等の表示装置に用いることができる。また、反射防止基板の用途としては、例えば携帯電話、タブレット端末、パーソナルコンピューター、テレビ、デジタルサイネージ、ウェアラブル端末等を挙げることができる。中でも、本発明においては大面積であっても安価かつ容易に均一な反射防止層を形成することができるので、大面積の表示装置に好適である。
【０１１１】
本発明は、上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。
【実施例】
【０１１２】
以下、実施例および比較例を挙げて本発明を具体的に説明する。
【０１１３】
［実施例１〜５および比較例１〜３］
（硬化性樹脂組成物Ａの調製）
重合槽中にメタクリル酸メチル（ＭＭＡ）を６３質量部、アクリル酸（ＡＡ）を１２質量部、メタクリル酸−２−ヒドロキシエチル（ＨＥＭＡ）を６質量部、ジエチレングリコールジメチルエーテル（ＤＭＤＧ）を８８質量部仕込み、攪拌し溶解させた後、２，２′−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）を７質量部添加し、均一に溶解させた。その後、窒素気流下、８５℃で２時間攪拌し、更に１００℃で１時間反応させた。得られた溶液に、更にメタクリル酸グリシジル（ＧＭＡ）を７質量部、トリエチルアミンを０．４質量部、及びハイドロキノンを０．２質量部添加し、１００℃で５時間攪拌し、共重合樹脂溶液（固形分５０％）を得た。
次に、下記の材料を室温で攪拌、混合して硬化性樹脂組成物Ａとした。
＜硬化性樹脂組成物Ａの組成＞
・上記共重合樹脂溶液（固形分５０％）：１６質量部
・ジペンタエリスリトールペンタアクリレート（サートマー社  ＳＲ３９９）：２４質量部
・オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂（油化シェルエポキシ社  エピコート１８０Ｓ７０）：４質量部
・２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン：４質量部
・ジエチレングリコールジメチルエーテル：５２質量部
【０１１４】
（アンカー層の形成）
厚み０．７ｍｍの強化ガラス基板（旭硝子（株）  Ｄｒａｇｏｎｔｒａｉｌ）上に、上記硬化性樹脂組成物Ａを塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像し、その後、２３０℃の雰囲気下に３０分間放置することにより加熱処理して、厚さ３μｍのアンカー層を形成した。
【０１１５】
（高屈折率層の形成）
高屈折率層には下記の材料を用いた。
高屈折率層材  ：ＫＺ６６６１（ＪＳＲ社製、ｎ＝１．６０）
アンカー層が形成された強化ガラス基板上にＪＳＲ社製のＫＺ６６６１をコーティングし、窒素雰囲気下で露光照度３０ｍＷの高圧水銀ランプを用いて３０秒間露光し、２３０℃で２０分間熱処理して、厚さ１５０ｎｍの高屈折率層を形成した。
【０１１６】
（低屈折率層の形成）
低屈折率層用組成物として、下記表１に示す反射防止層用組成物１〜８を調製した。
表１において、ＰＥＴＡはペンタエリスリトールトリアクリレート、ＭＩＢＫはメチルイソブチルケトン、ＰＧＭＥＡはプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ＣＨＸＡはシクロヘキサノールアセテート、ＭＥＫはメチルエチルケトン、ＩＰＡはイソプロピルアルコールを示し、ソルフィットＡＣ（クラレ社製）は３−メトキシ−３−メチル−１−ブチルアセテートである。
含フッ素化合物は、信越化学社製のＸ−７１−１２０３Ｍ（光硬化性反応基として（メタ）アクリロイル基を有し、反応性を有するシラン単位およびパーフルオロポリエーテル基を有するシラン単位を有する含フッ素化合物、２０質量％のメチルイソブチルケトン溶液）を用いた。
中空シリカ粒子分散液中の中空シリカ粒子の含有量は２０質量％、溶剤であるメチルイソブチルケトンの含有量は８０質量％であり、中空シリカ粒子は平均粒径が６０ｎｍであり、表面処理により光硬化性反応基を有する。
中実シリカ粒子分散液は、日産化学工業社製のＭＩＢＫ−ＳＤ（平均一次粒径：１２ｎｍ、固形分：３０質量％、溶剤：メチルイソブチルケトン）を用いた。中実シリカ粒子は、表面処理により光硬化性反応基としてメタクリロイル基を有する。
含フッ素ポリマーは、ＪＳＲ社製のオプスターＪＮ３５（２０質量％のメチルイソブチルケトン溶液）を用いた。
含フッ素モノマーは、共栄社化学社製のＬＩＮＣ３Ａ（ペンタエリスリトール骨格を有する含フッ素モノマー、２０質量％のメチルイソブチルケトン溶液）を用いた。
光重合開始剤は、チバスペシャルティケミカルズ社製のイルガキュア１２７を用いた。
【０１１７】
次に、高屈折率層上に上記低屈折率層用組成物をコーティングし、窒素雰囲気下で露光照度３０ｍＷの高圧水銀ランプを用いて３０秒間露光し、２３０℃で２０分間熱処理して、厚さ１５０ｎｍの低屈折率層を形成した。
このようにして反射防止基板を作製した。
【０１１８】
【表１】
2016164622.tif 000002
【０１１９】
［評価］
（１）最低反射率（反射防止特性の評価）
実施例および比較例で得られた反射防止基板について、反射防止基板の裏面反射を防止するための黒色テープを強化ガラス基板の低屈折率層の形成面とは反対側の面に貼り、低屈折率層の面から、５度の正反射測定装置を備えた分光度計（島津製作所（株）製のＵＶ−２５５０）を用いて反射率を測定し、波長域３８０ｎｍ〜７８０ｎｍにおける最小値を最低反射率とした。最低反射率が小さいほど、反射防止基板は優れた反射防止特性を有することを示す。
【０１２０】
（２）白化の有無
実施例および比較例で得られた反射防止基板について、蛍光灯下で素ガラスと目視で比較し、基板が白化しているか確認した。白化が少ないほど、組成物の安定性が優れていることを示す。なお、白化の確認は、Ｈｆメロウライン蛍光ランプ  ＦＨＦ３２ＥＸ−Ｎ−Ｈの灯下にて行った。
○：まったく白化が見られなかった。
△：わずかな白化が見られる。
×：全体に明らかな白化が見られる。
【０１２１】
（３）塗布ムラおよび乾燥ムラの有無
ガラス基板に、上記反射防止層用組成物を、ダイコーターを用いて塗布した後、真空度が０．２ｔｏｒｒに到達するまで真空ベイクを行って、膜厚１１０ｎｍの塗膜を形成した。その後、得られた基板を、干渉縞検査灯（Ｎａランプ）用いて観察し、塗膜に発生する塗布ムラおよび乾燥ムラの有無を目視評価した。
○：塗布ムラおよび乾燥ムラが全く認められない。
△：塗布ムラおよび乾燥ムラが僅かに認められる。
×：塗布ムラおよび乾燥ムラが多く認められる。
【０１２２】
（４）突起等異物検査
ガラス基板に、上記反射防止層用組成物を、ダイコーターを用いて塗布した後、真空度が０．２ｔｏｒｒに到達するまで真空ベイクを行って、膜厚１１０ｎｍの塗膜を形成した。その後、得られた基板を、画像検査機を用いてガラス基板との比較で異物を検出した。
○：５０μｍ以上の異物および突起物の検出が２０個以下である。
△：５０μｍ以上の異物および突起物の検出が２１個以上８０個以下である。
×：５０μｍ以上の異物および突起物の検出が８１個以上である。
【０１２３】
（５）表面の耐擦傷性および密着性の評価
実施例および比較例で得られた反射防止基板について、スチールウール（日本スチールウール株式会社製 ボンスター＃００００）に８００ｇ／ｃｍ2の荷重をかけて１０往復摩擦して、目視した結果を下記の基準で評価した。傷が少なければ少ないほど、耐擦傷性および密着性に優れることを示す。
○：全く傷がつかなかった。
△：傷の本数が１〜５本であった。
×：傷の本数が６本以上であった。
【０１２４】
（６）防汚性の評価
（ａ）指紋に対する防汚性
実施例および比較例で得られた反射防止基板の表面に指紋を付着させて後、ベンコットＭ−３（旭化成株式会社製）で拭取り、拭取りやすさを目視で確認し、下記の基準で評価した。
○：指紋が容易に拭取れた。
△：指紋が拭取れた。
×：指紋が拭取れなかった。
（ｂ）マジックに対する防汚性
実施例および比較例で得られた反射防止基板の表面に油性マジックで描いた際の状態と、布で拭取った後の状態を目視で確認し、下記の基準で評価した。
◎：インクが球状にはじかれ、拭取りが容易であった。
○：インクがはじかれ、線が細くなっており、拭取りが容易であった。
×：拭取り後にインクの跡が残った。
【０１２５】
（７）経過安定性
経過安定性については、初期評価から１００日間、冷蔵庫（７℃）に保管した上記反射防止層用組成物を用いて、反射防止基板を同様に作製し、初期評価と同様に評価した。
【０１２６】
【表２】
2016164622.tif 000003
【０１２７】
実施例および比較例ともに、基本特性である反射率や、耐擦傷性および密着性は同程度であった。一方、実施例および比較例では、溶剤の組成が異なるため、実施例のほうが、白化や、塗布ムラおよび乾燥ムラ、突起等異物が抑制されており、安定性が良好であった。特に、シクロヘキサノールアセテート（ＣＨＸＡ）を含有する組成物２、４を用いた実施例２、４は、時間経過による安定性に優れていた。
【符号の説明】
【０１２８】
１  …  反射防止基板
２  …  透明基板
３  …  反射防止層
３ａ  …  反射防止層用組成物の塗膜
４  …  アンカー層
【図１】
2016164622.tif 000004
【図２】
2016164622.tif 000005