(57)【要約】【課題】センシングパターンのみならず、非導電部に残存する透明導電層が視認され難い透明導電体を提供する。【解決手段】透明基材１０と、透明導電層１６と、透明基材１０及び透明導電層１６の間に光学調整層１１と、を備える透明導電体１００である。光学調整層１１は、透明基材１０側から、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４、及び第３の光学調整層１５を有し、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４及び第３の光学調整層１５の屈折率を、それぞれ、ｎ１、ｎ２及びｎ３としたときに、下記式（１）、（２）及び（３）を満たす。      １．７≦ｎ３≦２．２    （１）      ｎ３−ｎ２≧０．１      （２）      ｎ１−ｎ２≧０．１      （３）【選択図】図１
2016091455.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材と、透明導電層と、前記透明基材及び前記透明導電層の間に光学調整層と、を備える透明導電体であって、
前記光学調整層は、前記透明基材側から、第１の光学調整層、第２の光学調整層、及び第３の光学調整層を有し、
前記第１の光学調整層、前記第２の光学調整層及び前記第３の光学調整層の屈折率を、それぞれ、ｎ１、ｎ２及びｎ３としたときに、下記式（１）、式（２）及び式（３）を満たす、透明導電体。
１．７≦ｎ３≦２．２    （１）
ｎ３−ｎ２≧０．１      （２）
ｎ１−ｎ２≧０．１      （３）
【請求項２】
前記第３の光学調整層は、窒化珪素、又は窒化珪素及び酸化珪素を含有し、前記透明導電層が酸化インジウムを含有する、請求項１に記載の透明導電体。
【請求項３】
前記第３の光学調整層は２〜１５ｎｍの厚みを有する、請求項１又は２に記載の透明導電体。
【請求項４】
前記透明導電層は１０〜３０ｎｍの厚みを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載の透明導電体。
【請求項５】
前記透明導電層の屈折率をｎ４としたときに、下記式（４）を満たす、請求項１〜４のいずれか一項に記載の透明導電体。
−０．３≦ｎ４−ｎ３≦０．３      （４）
【請求項６】
パネル板の上にセンサフィルムを有するタッチパネルであって、
前記センサフィルムが請求項１〜５のいずれか一項に記載の透明導電体で構成されるタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、透明導電体及びこれを用いたタッチパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスパネル（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、タッチパネル、及びエレクトロクロミック素子等の表示装置には、透明電極が用いられている。このような透明電極は、通常、基材と基材上に作製された透明導電層とを有する透明導電体によって構成される。また、透明導電体は、透明な電磁波遮蔽膜として用いることもできる。
【０００３】
タッチパネル（タッチスイッチ又はフラットスイッチとも称される）は、液晶装置などのディスプレイ表面に配置された情報入力装置である。タッチパネルは、スマートフォン、カーナビゲーション、パーソナルコンピュータ、券売機、及び銀行のＡＴＭ端末などの電子機器に広く使用されている。
【０００４】
タッチパネルは、画像表示領域に表示された指示画像に、指又はタッチペン等が接触又は近接すると、その位置を検出できる。これによって、指示画像に対応する情報の入力が行えるように構成されている。タッチパネルの位置の検出方法にはいくつかの方式があり、それらの中でも、抵抗膜方式と静電容量方式が主流となっている。
【０００５】
静電容量方式の場合、センシングのために透明導電体の透明導電層を、エッチングによって所定のセンシングパターンに加工している。すなわち、エッチングによって、タッチパネルに用いられる透明導電体は、透明導電層を有する導電部と、透明導電層を有していない非導電部とが形成される。したがって、投影型静電容量方式のタッチパネルでは、導電部と非導電部の光学特性の差異によってセンシングパターンが認識され易いという固有の事情がある（例えば、特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１０−１５８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
センシングパターンに加工する際、エッチングができたか否かの判断はエッチング部分の導電性の有無によって判断することができる。ところが、導電性の有無による判断では、エッチング部分に透明導電層が微量に残存した場合でも透明導電層なしと判断される場合がある。このように判断される理由は、透明導電層が島状に残存している場合があるためである。透明導電層が島状に残存する場合、非導電部は導電性を有しない。しかしながら、透明導電層が残存している部分と残存していない部分では、反射率が異なるため、島状に残存する透明導電層は、容易に視認されるという問題が生じる。したがって、非導電部には島状の透明導電層が残存しないように、透明導電層をエッチングで完全に除去する必要がある。
【０００８】
しかしながら、ＩＴＯ等の通常の透明導電層は、結晶粒径などの違いによって生じる結晶性によってエッチング速度が大きく変動する。例えば、透明導電層の成膜条件の僅かな違いによって透明導電層の結晶性が変化するため、透明導電層を完全に除去するために必要なエッチング時間も変化する。非導電部に残存する微量の透明導電層を認識され難くするためには、成膜条件の変動を考慮して、透明導電層のエッチング時間を長くする必要がある。しかしながら、エッチング時間を長くすると、生産性が低下してしまう。なお、特許文献１では、非導電部に導電層が微量に残存する場合の問題点等は何ら示されておらず、また、その解決手段も示されていない。このため、エッチングの条件が多少変動して非導電部に微量の透明導電層が残存した場合でも、非導電部に残存する透明導電層自身及びセンシングパターンを視認し難くすることが可能な技術を確立することが求められている。
【０００９】
本開示は、上記事情に鑑みてなされたものであり、センシングパターンのみならず、非導電部に残存する透明導電層も視認され難い透明導電体を提供することを目的とする。また、本開示では、上述のような透明導電体を用いることによって、センシングパターンのみならず、非導電部に残存する透明導電層も視認され難いタッチパネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本開示では、透明基材と、透明導電層と、透明基材及び透明導電層の間に光学調整層と、を備える透明導電体であって、光学調整層は、透明基材側から、第１の光学調整層、第２の光学調整層、及び第３の光学調整層を有し、第１の光学調整層、第２の光学調整層及び第３の光学調整層の屈折率を、それぞれ、ｎ１、ｎ２及びｎ３としたときに、下記式（１）、式（２）及び式（３）を満たす、透明導電体を提供する。
１．７≦ｎ３≦２．２    （１）
ｎ３−ｎ２≧０．１      （２）
ｎ１−ｎ２≧０．１      （３）
【００１１】
本開示の透明導電体は、透明基材側から、第１の光学調整層、第２の光学調整層、及び第３の光学調整層を有する光学調整層を備える。第２の光学調整層と透明導電層との間に式（１）を満たす第３の光学調整層を有することによって、透明導電層と第３の光学調整層との屈折率の差異を十分に小さくすることができる。また、上記式（１）に加えて、式（２）及び式（３）を満たすことから、エッチング後に非導電部に残存する微量の透明導電層を視認し難くすることができる。
【００１２】
また、式（２）及び（３）を満足することによって、導電部と非導電部との反射率の差異が低減され、センシングパターンを視認し難くすることができる。
【００１３】
幾つかの実施形態では、第３の光学調整層は、窒化珪素、又は窒化珪素及び酸化珪素を含有し、透明導電層が酸化インジウムを含有することが好ましい。これによって、第３の光学調整層と透明導電体の屈折率の差異をさらに低減することができる。したがって、エッチング後に非導電部に残存する微量の透明導電層を、より視認し難くすることができる。
【００１４】
幾つかの実施形態では、第３の光学調整層は２〜１５ｎｍの厚みを有することが好ましい。これによって、センシングパターンのみならず、エッチング後に残存する微量の透明導電層をさらに視認し難くすることができる。
【００１５】
幾つかの実施形態では、透明導電層は１０〜３０ｎｍの厚みを有することが好ましい。これによって、抵抗値を安定させるとともに、全光線透過率を高くすることができる。また、別の幾つかの実施形態では、透明導電層の屈折率をｎ４としたときに、下記式（４）を満たすことが好ましい。これによって、エッチング後に非導電部に残存する微量の透明導電層を、さらに視認し難くすることができる。
−０．３≦ｎ４−ｎ３≦０．３      （４）
【００１６】
本開示では、パネル板の上にセンサフィルムを有するタッチパネルであって、センサフィルムが上述の透明導電体で構成されるタッチパネルを提供する。このようなタッチパネルは、センサフィルムとして上述の透明導電体を有することから、センシングパターンのみならず、エッチング後に残存する微量の透明導電層をも視認され難くすることができる。
【発明の効果】
【００１７】
本開示によれば、センシングパターンのみならず、非導電部に残存する透明導電層も視認され難い透明導電体を提供することができる。また、本開示では、上述のような透明導電体を用いることによって、センシングパターンのみならず、非導電部に残存する透明導電層も視認され難いタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、透明導電体の一実施形態を模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、エッチングを行った後の非導電部を拡大して示す走査型電子顕微鏡の画像（３０，０００倍）の写真である。
【図３】図３は、タッチパネルの断面の一部を拡大して示す模式断面図である。
【図４】図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、タッチパネルを構成するセンサフィルムの平面図である。
【図５】図５は、本発明の透明導電体の別の実施形態を模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
本発明の好適な実施形態を、図面を参照しながら以下に詳細に説明する。ただし、本発明は、以下の実施形態に何ら限定されるものではない。なお、図面において同一又は同等の要素には同一の符号を付し、場合により重複する説明は省略する。
【００２０】
図１は、透明導電体の一実施形態を示す模式断面図である。透明導電体１００は、フィルム状の透明基材１０と透明導電層１６と、透明基材１０と透明導電層１６との間に組成が異なる複数の層からなる光学調整層１１と、を備える。光学調整層１１は、透明基材１０から透明導電層１６に向かって、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４、及び第３の光学調整層１５が積層された構造を有する。
【００２１】
（透明基材１０）
透明基材１０は、例えば可撓性を有する有機樹脂フィルム又は有機樹脂シートである。本明細書における「透明」とは、可視光が透過することを意味しており、光をある程度散乱してもよい。光の散乱度合いについては、透明導電体１００の用途によって要求されるレベルが異なる。一般に半透明といわれるような光の散乱があるものも、本明細書における「透明」の概念に含まれる。光の散乱度合いは小さい方が好ましく、透明性は高い方が好ましい。透明導電体１００全体の全光線透過率は、例えば８６％以上であり、好ましくは８９％以上である。
【００２２】
透明基材１０としては、可撓性を有する有機樹脂フィルムが好適である。樹脂フィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルム、ポリエチレン及びポリプロピレン等のポリオレフィンフィルム、ポリカーボネートフィルム、アクリルフィルム、ノルボルネンフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ジアセチルセルロースフィルム、並びにトリアセチルセルロースフィルム等が挙げられる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等のポリエステルフィルムが好ましい。
【００２３】
透明基材１０は、剛性の観点からは厚い方が好ましい。一方、透明基材１０は、透明導電体１００を薄膜化する観点からは薄い方が好ましい。このような観点から、透明基材１０の厚みは、例えば１０〜１３０μｍである。透明基材の屈折率は、光学特性に優れる透明導電体とする観点から、例えば１．５０〜１．７０である。なお、本明細書における屈折率は、λ＝６３３ｎｍ、温度２０℃の条件下で測定される値である。
【００２４】
透明基材１０は、コロナ放電処理、グロー放電処理、火炎処理、紫外線照射処理、電子線照射処理、及びオゾン処理からなる群より選ばれる少なくとも一つの表面処理が施されたものであってもよい。
【００２５】
透明導電体１００を構成する各層の厚みは、以下の手順で測定することができる。集束イオンビーム装置（ＦＩＢ，Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ）によって透明導電体１００を切断して断面を得る。透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて当該断面を観察し、各層の厚みを測定する。測定は、任意に選択された１０箇所以上の位置で測定を行い、その平均値を求めることが好ましい。断面を得る方法として、集束イオンビーム装置以外の装置としてミクロトームを用いてもよい。厚みを測定する方法としては、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いてもよい。また蛍光Ｘ線装置を用いても膜厚を測定することが可能である。
【００２６】
透明基材１０の上には、組成が異なる複数の層で構成される光学調整層１１が積層されている。光学調整層１１には、透明基材１０側から、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４、及び第３の光学調整層１５がこの順で設けられている。光学調整層１１、すなわち、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４及び第３の光学調整層１５は、光学干渉により、透明導電層１６表面の反射率を低減し、全光線透過率を高める層を構成する。また、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４及び第３の光学調整層１５は、透明導電層１６の有無による光学差を抑制する。光学調整層１１は、非導電部に残存する透明導電層及びセンシングパターンを認識させ難くする機能を有するとともに、表示される画像等の視認性を向上させる機能をも有する。
【００２７】
第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４、及び第３の光学調整層１５は、下記の関係式（１）、（２）及び（３）を満たす。式（１）、（２）及び（３）において、ｎ１、ｎ２及びｎ３は、それぞれ、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４及び第３の光学調整層１５の屈折率を示す。
１．７≦ｎ３≦２．２    （１）
ｎ３−ｎ２≧０．１      （２）
ｎ１−ｎ２≧０．１      （３）
【００２８】
第３の光学調整層１５は式（１）を満足するため、透明導電層１６と第３の光学調整層１５との屈折率の差異を十分に小さくすることができる。したがって、非導電部に残存する微量の透明導電層を視認し難くすることができる。同様の観点から、ｎ３の下限は、好ましくは１．８である。同様の観点から、ｎ３の上限は、好ましくは２．１である。
【００２９】
ｎ３，ｎ２は、式（２）の関係を満たす。これによって、導電部と非導電部との反射率の差異が低減され、センシングパターンを視認し難くすることができる。センシングパターンをさらに視認し難くする観点から、ｎ３−ｎ２の下限は、好ましくは０．２であり、より好ましくは０．３である。ｎ３−ｎ２の上限に特に制限はないが、この屈折率差が大きくなると反射率が高くなるため透過率が低下する傾向にある。このような観点から、ｎ３−ｎ２の上限は、例えば０．７であってもよく、０．６であってもよい。
【００３０】
ｎ１，ｎ２は、式（３）の関係を満たす。これによって、導電部と非導電部との反射率の差異が低減され、センシングパターンを視認し難くすることができる。エッチング後に残存する微量の透明導電層１６をさらに視認し難くする観点から、ｎ１−ｎ２の下限は、好ましくは０．２である。ｎ１−ｎ２の上限に特に制限はないが、この屈折率差が大きくなると反射率が高くなるため透過率が低下する傾向にある。このような観点から、ｎ１−ｎ２の上限は、例えば０．８であってもよく、０．５であってもよい。
【００３１】
ｎ１，ｎ２，ｎ３は、下記式（５）を満たすことが好ましい。これによって、エッチング後に非導電部に残存する微量の透明導電層をさらに視認し難くすることができる。
ｎ３＞ｎ１＞ｎ２      （５）
【００３２】
（第１の光学調整層１３）
第１の光学調整層１３は、例えば、樹脂組成物をエネルギー線で硬化させて得られる樹脂硬化物を含有する。樹脂組成物は、熱硬化性樹脂組成物、紫外線硬化性樹脂組成物、及び電子線硬化性樹脂組成物から選ばれる少なくとも一種を含むことが好ましい。熱硬化性樹脂組成物は、エポキシ系樹脂、フェノキシ系樹脂、及びメラミン系樹脂から選ばれる少なくとも一種を含んでもよい。
【００３３】
樹脂組成物は、例えば、（メタ）アクリロイル基、ビニル基等のエネルギー線反応性基を有する硬化性化合物を含む組成物である。なお、（メタ）アクリロイル基なる表記は、アクリロイル基及びメタクリロイル基の少なくとも一方を含む意味である。硬化性化合物は、１つの分子内に２つ以上、好ましくは３つ以上のエネルギー線反応性基を含む多官能モノマー又はオリゴマーを含んでいることが好ましい。
【００３４】
硬化性化合物は、好ましくはアクリル系モノマーを含有する。アクリル系モノマーとしては、具体的には、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、及び３−（メタ）アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート等が挙げられる。ただし、必ずしもこれらに限定されるものではない。例えば、ウレタン変性アクリレート、及びエポキシ変性アクリレート等も挙げられる。
【００３５】
硬化性化合物として、ビニル基を有する化合物を用いてもよい。ビニル基を有する化合物としては、例えば、エチレングリコールジビニルエーテル、ペンタエリスリトールジビニルエーテル、１，６−ヘキサンジオールジビニルエーテル、トリメチロールプロパンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ヒドロキノンジビニルエーテル、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジビニルエーテル、ペンタエリスリトールトリビニルエーテル、ジペンタエリスリトールヘキサビニルエーテル、及び、ジトリメチロールプロパンポリビニルエーテル等が挙げられる。ただし、必ずしもこれらに限定されるものではない。
【００３６】
樹脂組成物は、硬化性化合物を紫外線によって硬化させる場合、光重合開始剤を含む。光重合開始剤としては、種々のものを用いることができる。例えば、アセトフェノン系、ベンゾイン系、ベンゾフェノン系、及びチオキサントン系等の公知の化合物から適宜選択すればよい。より具体的には、ダロキュア１１７３、イルガキュア６５１、イルガキュア１８４、イルガキュア９０７（以上商品名、チバスペシャルティケミカルズ社製）、及び、ＫＡＹＡＣＵＲＥ  ＤＥＴＸ−Ｓ（商品名、日本化薬（株）製）が挙げられる。
【００３７】
光重合開始剤は、硬化性化合物の重量に対して、０．０１〜２０重量％、又は０．５〜５重量％程度とすればよい。樹脂組成物は、アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えた公知のものであってもよい。アクリル系モノマーに光重合開始剤を加えたものとしては、例えば、紫外線硬化型樹脂であるＳＤ−３１８（商品名、大日本インキ化学工業（株）製）、及び、ＸＮＲ５５３５（商品名、長瀬産業（株）製）等が挙げられる。
【００３８】
エネルギー線で硬化する樹脂組成物を用いると、紫外線等のエネルギー線を照射することによって、樹脂組成物を硬化させることができる。したがって、このような樹脂組成物を用いることが製造工程上の観点からも好ましい。
【００３９】
樹脂組成物は、金属酸化物の微粒子を含んでいてもよい。金属酸化物の微粒子としては、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３５）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２、屈折率：２．０５）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．３０）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ３、屈折率：２．１５）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ３、屈折率：２．１０）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ５、屈折率：２．１０）、及びこれらを２つ以上組み合わせたものが挙げられる。
【００４０】
このような微粒子を硬化性化合物に分散させた樹脂組成物を、透明基材１０上に塗布して硬化させることによって、樹脂硬化物と金属酸化物の微粒子とを含む第１の光学調整層１３を作製することもできる。微粒子は、硬化性化合物１００重量部に対して、例えば５〜５００重量部であってもよく、２０〜２００重量部であってもよい。微粒子の含有量が少なくなるに伴って、第１の光学調整層１３の屈折率が低くなる傾向になる。
【００４１】
微粒子の平均粒径は、第１の光学調整層１３の厚みよりも小さく、十分な透明性を確保する観点から、１００ｎｍ以下であってもよく、２０ｎｍ以下であってもよい。一方、微粒子の平均粒径は、コロイド溶液の製造上の観点から、５ｎｍ以上であってもよく、１０ｎｍ以上であってもよい。有機微粒子及び／又は無機微粒子を用いる場合、有機微粒子及び無機微粒子の合計量は、硬化性化合物１００重量部に対して、例えば５〜５００重量部であってもよく、２０〜２００重量部であってもよい。
【００４２】
第１の光学調整層１３は、樹脂組成物の溶液又は樹脂組成物に微粒子を分散させた分散液を、透明基材１０の一方面上に塗布して乾燥し、樹脂組成物を硬化させて作製することができる。この際の塗布は、公知の方法により行うことができる。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、及びスクイズ法などが挙げられる。
【００４３】
第１の光学調整層１３の屈折率（ｎ１）は、例えば１．５５〜１．９０であってもよく、１．６０〜１．８０であってもよい。第１の光学調整層１３の屈折率が低すぎるとセンシングパターンでの透明導電層がある部分（導電部）での全光線透過率が低下する傾向にある。一方、第１の光学調整層１３の屈折率が高すぎるとセンシングパターンを形成した場合に、透明導電層１６を除去した部分（非導電部）での透過光のｂ＊値がマイナス側に小さくなる傾向にある。すなわち、センシングパターンによって透過光に色差が発生しやすくなる傾向にある。
【００４４】
第１の光学調整層１３の厚みは、例えば１０〜２０００ｎｍである。第１の光学調整層１３が薄くなり過ぎると、塗布による第１の光学調整層１３の作製が困難になる傾向にある。また、導電部の反射率が高くなることで透過率が低下する傾向にある。一方、第１の光学調整層１３が厚くなり過ぎると、透明導電体１００の反りが大きくなる傾向になる。
【００４５】
第１の光学調整層１３を作製するための樹脂組成物として、例えば、酸化チタン（ＴｉＯ２）がアクリル系のエネルギー線硬化型の樹脂組成物中に分散されたＴＹＴ８０（商品名、屈折率：１．８０、東洋インキ（株）製）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）がアクリル系のエネルギー線硬化型の樹脂組成物中に分散されたＴＹＺ７０（商品名、屈折率：１．７０、東洋インキ（株）製）、及びＴＹＺ７４（商品名、屈折率：１．７４、東洋インキ（株）製）等が挙げられる。高屈折率のポリマーを含有する樹脂組成物を用いてもよい。高屈折率のポリマーとして、例えばＵＲ−１０１（商品名、屈折率：１．７０、日産化学工業製）が挙げられる。
【００４６】
第１の光学調整層１３は、透明基材１０上に、上述の樹脂組成物を塗布して乾燥し、その後、紫外線照射を行って硬化させて形成することができる。この際の塗布方法は、公知の方法により行うことができる。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、及びスクイズ法などが挙げられる。
【００４７】
第１の光学調整層１３は、透明導電体１００の反り（カール）の発生を抑制する機能を有していてもよい。各光学調整層の組成は、例えば、集束イオンビーム装置（ＦＩＢ：Focused Ion Beam）を用いて透明導電体１００を切断して得られた切断面を、透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）又は走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）に付属するエネルギー分散型Ｘ線分光器（ＥＤＳ：energy dispersive X-ray spectrometry）等を用いて分析することによって、求めることができる。
【００４８】
（第２の光学調整層１４）
第２の光学調整層１４は、無機酸化物からなる層、及び／又は、樹脂組成物をエネルギー線で硬化させて得られる樹脂硬化物からなる層で構成することができる。
【００４９】
第２の光学調整層１４の屈折率（ｎ２）は、ｎ１及びｎ３よりも小さく、例えば、１．４０〜１．６５であってもよく、１．４５〜１．５５であってもよい。光学特性的な観点からは、屈折率（ｎ２）は低い方が好ましい。しかしながら、低屈折率の材料は通常高価である。このため、屈折率（ｎ２）が低くなり過ぎると、材料コストが高くなる傾向にある。このような観点から、屈折率（ｎ２）は上述の範囲とすることが好ましい。
【００５０】
第２の光学調整層１４の厚みは、５〜８０ｎｍであってもよく、１０〜７０ｎｍであってもよく、１５〜６０ｎｍであってもよい。第２の光学調整層１４が薄くなり過ぎると反射率が高くなり、透過率が低下する傾向にある。一方、第２の光学調整層１４が厚くなり過ぎると、センシングパターンを形成したときの導電部と非導電部の反射率差が大きくなり、センシングパターンが認識され易くなる傾向にある。
【００５１】
第２の光学調整層１４が樹脂硬化物からなる層を有する場合、第１の光学調整層１３を形成する場合と同様の樹脂組成物を用いて同様の方法で形成することができる。樹脂組成物としては、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）がアクリル系のエネルギー線硬化型の樹脂組成物中に分散されたＴＹＺ６０（商品名、屈折率：１．６０、東洋インキ（株）製）、及び、ＳＤ−３１８（商品名、屈折率：１．４８、東洋インキ（株）製）等が挙げられる。
【００５２】
第２の光学調整層１４は、第１の光学調整層１３上に、上述の樹脂組成物を塗布して乾燥し、その後、紫外線照射を行って硬化させて形成することができる。この際の塗布方法は、公知の方法により行うことができる。塗布方法としては、例えば、エクストルージョンノズル法、ブレード法、ナイフ法、バーコート法、キスコート法、キスリバース法、グラビアロール法、ディップ法、リバースロール法、ダイレクトロール法、カーテン法、及びスクイズ法などが挙げられる。
【００５３】
第２の光学調整層１４が無機酸化物からなる層を有する場合、無機酸化物は酸化珪素（ＳｉＯ２、屈折率：１．４６）を含有することが好ましい。無機酸化物からなる層は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はＣＶＤ法などの真空成膜法によって作製することができる。これらのうち、成膜室を小型化できる点で、スパッタリング法が好ましい。
【００５４】
スパッタリング法では、酸化物ターゲットと反応性ガスとを用いた反応性スパッタリング法によって、第１の光学調整層１３の上に第２の光学調整層１４を作製することができる。
【００５５】
第２の光学調整層１４は、無機酸化物の他に、以下のような微量成分を含んでいてもよい。微量成分としては、例えば、フッ化リチウム（ＬｉＦ、屈折率：１．３６）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ、屈折率：１．３８）、フッ化カルシウム（ＣａＦ２、屈折率：１．４）、及びフッ化セリウム（ＣｅＦ、屈折率：１．６３）が挙げられる。無機酸化物からなる層における酸化珪素の含有量は、例えば９０ｍｏｌ％以上であり、９５ｍｏｌ％以上である。また、第２の光学調整層１４は、酸化窒素と酸化珪素の混合物でもよい。窒化珪素の含有量は、反応性スパッタリング法の反応ガスを変えることで調整することができる。
【００５６】
（第３の光学調整層１５）
第３の光学調整層１５は、無機化合物で構成される層であってもよい。無機化合物としては、窒化珪素（Ｓｉ３Ｎ４、屈折率：２．００）、酸化珪素（ＳｉＯ２、屈折率：１．４６）、酸化チタン（ＴｉＯ２、屈折率：２．３５）、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ、屈折率：２．０５）、酸化セリウム（ＣｅＯ２、屈折率：２．３０）、酸化ニオブ（Ｎｂ２Ｏ５、屈折率：２．３０）、酸化アンチモン（Ｓｂ２Ｏ５  屈折率２．１０）、酸化タンタル（Ｔａ２Ｏ３、屈折率：２．１０）、及び酸化亜鉛（ＺｎＯ２、屈折率：２．００）から選ばれる少なくとも一つを含有してもよい。無機酸化物の混合比率を変えることによって、第３の光学調整層１５の屈折率を調整することができる。例えば、窒化珪素及び酸化珪素を含有する場合の第３の光学調整層１５の屈折率は、窒化珪素及び酸化珪素の混合比率を変えることによって、例えば１．７〜２．０の範囲とすることができる。
【００５７】
上記無機酸化物のうち、窒化珪素、又は窒化珪素及び酸化珪素の組み合わせを含有することが好ましい。無機酸化物が、窒化珪素及び酸化珪素である場合、窒化珪素及び酸化珪素の合計に対する窒化珪素のモル比率は、３０ｍｏｌ％以上であってもよく、４０ｍｏｌ％以上であってもよく、５０ｍｏｌ％以上であってもよい。窒化珪素と酸化珪素の比率は、反応性スパッタリング法の反応ガスの組成を変えることで調整することができる。第３の光学調整層１５の屈折率（ｎ３）を高くする観点から、第３の光学調整層１５は酸化チタンを含んでいてもよい。
【００５８】
第３の光学調整層１５は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はＣＶＤ法などの真空成膜法によって作製することができる。これらのうち、成膜室を小型化できる点で、スパッタリング法が好ましい。成膜する層が複数ある場合、スパッタリング法は特に好ましい。
【００５９】
スパッタリング法では、酸化物ターゲット、金属又は半金属ターゲットと反応性ガスとを用いた反応性スパッタリング法によって、第２の光学調整層１４の上に第３の光学調整層１５を作製することができる。反応性スパッタリング法は、アルゴンガスなどの不活性ガスに、酸素や窒素などの反応性ガスを添加することで、金属又は半金属の酸化物或いは窒化物などを成膜する方法である。金属又は半金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法は、酸化物ターゲット用いる場合よりも、成膜速度を速くすることができる。
【００６０】
第３の光学調整層１５の厚みは、好ましくは１〜２０ｎｍであり、より好ましくは２〜１５ｎｍであり、さらに好ましくは５〜１２ｎｍである。第３の光学調整層１５が厚くなり過ぎると、反射率が高くなり過ぎる傾向、及び、透明導電体１００の反りが発生する場合がある。
【００６１】
（透明導電層１６）
透明導電層１６は、金属（又は半金属）の酸化物からなる薄膜である。酸化物としては、例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化チタン、インジウム−錫複合酸化物、錫−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、及びインジウム−亜鉛複合酸化物などが挙げられる。透明導電層１６は、これらのうち、酸化インジウム、又は、インジウム−錫複合酸化物を含有することが好ましい。インジウム−錫複合酸化物における酸化錫の含有量は、例えば３〜１２重量％である。なお、インジウム−錫複合酸化物の屈折率は通常２．００前後であり、酸化インジウムの屈折率は通常１．９〜２．１である。
【００６２】
透明導電層１６は、第３の光学調整層１５の上に設けられる。透明導電層１６は、第３の光学調整層１５の一方面の全体を覆っていてもよく、一部のみを覆っていてもよい。すなわち、透明導電層１６は、パターニングされて、該一方面の一部を覆うように構成されていてもよい。透明導電層１６は、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、又はＣＶＤ法などの真空成膜法によって成膜した後、結晶化処理して作製することができる。上述の成膜方法のうち、成膜室を小型化できる点で、スパッタリング法は好ましい。透明導電体１００は真空成膜法によって作製される複数の層を有することから、スパッタリング法は特に好ましい。透明導電層１６は、成膜後に、加熱して結晶化処理を行って形成する。この際の加熱条件は、通常、加熱温度１４０℃及び加熱時間９０分間程度で行う。
【００６３】
透明導電層１６の厚みは、抵抗値と全光線透過率の観点から、例えば１０〜５０ｎｍであり、好ましくは１０〜３０ｎｍである。透明導電層１６が薄すぎると緻密にならず抵抗値が安定しない傾向にある。一方、透明導電層１６が厚すぎると、全光線透過率が低くなる傾向にある。
【００６４】
透明導電層１６の屈折率（ｎ４）は、例えば、１．４〜２．４であり、好ましくは１．７〜２．２である。このような屈折率を有する透明導電層１６は、第３の光学調整層１５と隣接するときに、ｎ４−ｎ３の差異が小さくなる。このため、エッチング後に、非導電部に微量の透明導電層１６が残存していても、残存部を視認し難くすることができる。同様の観点から、ｎ３，ｎ４は、下記式（４）を満足することが好ましく、下記式（６）を満足することがより好ましい。
−０．３≦ｎ４−ｎ３≦０．３      （４）
−０．２≦ｎ４−ｎ３≦０．２      （６）
【００６５】
透明導電層１６の表面抵抗値は、低い方が好ましく、例えば３００Ω／□（３００Ω／ｓｑ．）以下であってもよく、５０〜３００Ω／□であってもよい。
【００６６】
透明導電体１００の厚みは、例えば２００μｍ以下であってもよく、１３０μｍ以下であってもよく、１１５μｍ以下であってもよい。透明導電体１００は、厚みを小さくしても、センシングパターン及びエッチング後に非導電部に残存する微量の透明導電層１６を視認し難くすることが可能である。
【００６７】
透明導電体１００における透明導電層１６のエッチングは、導電部となるセンサ電極１６ａ，１６ｂ（図４参照）の部分をレジストで覆った後、塩酸等の通常の酸性エッチング液を用いて行うことができる。透明導電層１６は、塩酸等の酸性エッチング液に対して溶解するのに対し、第３の光学調整層１５は、塩酸等の酸性エッチング液に対して溶解しないもの、すなわち安定であるものが好ましい。
【００６８】
図２は、エッチングを行った後の非導電部の一例を拡大して示す走査型電子顕微鏡の画像（３０，０００倍）の写真である。図２では、エッチング後の非導電部に透明導電層１６が島状に残存している。このように、非導電部に透明導電層１６が島状に残存しても、透明導電体１００は、残存する透明導電層１６を視認し難くすることができる。
【００６９】
図３は、一対のセンサフィルムを備えるタッチパネル２００の断面の一部を拡大して示す模式断面図である。図４（Ａ）及び図４（Ｂ）は、上述の透明導電体１００を用いたセンサフィルム１００ａ及び１００ｂの平面図である。タッチパネル２００は、光学のり１８を介して対向配置される一対のセンサフィルム１００ａ，１００ｂを備える。タッチパネル２００は、接触体のタッチ位置を、画面となるパネル板７０に平行な二次元座標（Ｘ−Ｙ座標）平面における座標位置（横方向位置と縦方向位置）として算出することが可能なように構成されている。
【００７０】
具体的には、タッチパネル２００は、光学のり１８を介して貼り合わせられた、縦方向位置検出用のセンサフィルム１００ａ（以下、「Ｙ用センサフィルム」と言う）と、横方向位置検出用のセンサフィルム１００ｂ（以下、「Ｘ用センサフィルム」と言う）とを備える。Ｘ用センサフィルム１００ｂの下面側には、Ｘ用センサフィルム１００ｂと、表示装置のパネル板７０との間に、スペーサ９２が設けられている。
【００７１】
Ｙ用センサフィルム１００ａの上面側（パネル板７０側とは反対側）には、光学のり１７を介して、カバーグラス１９が設けられている。すなわち、タッチパネル２００は、パネル板７０の上に、パネル板７０側から、Ｘ用センサフィルム１００ｂ、Ｙ用センサフィルム１００ａ、及びカバーグラス１９がこの順に積層された積層構造を有する。
【００７２】
縦方向位置を検出するＹ用センサフィルム１００ａと、横方向位置を検出するＸ用センサフィルム１００ｂは、上述の透明導電体１００で構成される。Ｙ用センサフィルム１００ａ及びＸ用センサフィルム１００ｂは、カバーグラス１９と対向するように、導電部であるセンサ電極１６ａ及びセンサ電極１６ｂを有する。
【００７３】
センサ電極１６ａは、透明導電層１６で構成される。図４（Ａ）に示すように、センサ電極１６ａは、縦方向（ｙ方向）のタッチ位置を検出できるように、縦方向（ｙ方向）に複数本延在している。複数本のセンサ電極１６ａは、縦方向（ｙ方向）に沿って、互いに平行に並べて配置されている。センサ電極１６ａの一端は、銀ペーストで形成される導体線路５０を介して、駆動用ＩＣ側の電極８０と接続されている。
【００７４】
センサ電極１６ｂは、透明導電層１６で構成される。図４（Ｂ）に示すように、センサ電極１６ｂは、横方向（ｘ方向）のタッチ位置を検出できるように、横方向（ｘ方向）に複数本延在している。複数本のセンサ電極１６ｂは、横方向（ｘ方向）に沿って、互いに平行に並べて配置されている。センサ電極１６ｂの一端は、銀ペーストで形成される導体線路５０を介して、駆動用ＩＣ側の電極８０と接続されている。
【００７５】
Ｙ用センサフィルム１００ａとＸ用センサフィルム１００ｂは、Ｙ用センサフィルム１００ａとＸ用センサフィルム１００ｂの積層方向からみたときに、それぞれのセンサ電極１６ａ，１６ｂが互いに直交するように、光学のり１８を介して重ね合わせられている。Ｙ用センサフィルム１００ａのＸ用センサフィルム１００ｂ側とは反対側には、光学のり１７を介してカバーグラス１９が設けられている。光学のり１７，１８、カバーグラス１９、及びパネル板７０は、通常のものを用いることができる。
【００７６】
図４（Ａ），（Ｂ）における導体線路５０及び電極８０は、金属（例えばＡｇ）等の導電性材料によって構成される。導体線路５０及び電極８０は、例えば、スクリーン印刷によってパターン形成される。透明基材１０は、タッチパネル２００の表面を覆う保護フィルムとしての機能をも有する。
【００７７】
各センサフィルム１００ａ，１００ｂにおけるセンサ電極１６ａ，１６ｂの形状及び数は、図３及び図４に示す形態に限定されるものではない。例えば、センサ電極１６ａ，１６ｂの数を増やしてタッチ位置の検出精度を高めてもよい。
【００７８】
Ｘ用センサフィルム１００ｂのＹ用センサフィルム１００ａ側とは反対側には、スペーサ９２を介してパネル板７０が設けられる。スペーサ９２は、センサ電極１６ａ，１６ｂの形状に対応する位置と、センサ電極１６ａ，１６ｂの全体を取り囲む位置とに設けることができる。スペーサ９２は、透光性を有する材料、例えばＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂で形成されていてもよい。スペーサ９２の一端は、光学のり或いはアクリル系又はエポキシ系等の透光性を有する接着剤９０によって、Ｘ用センサフィルム１００ｂの下面に接着される。スペーサ９２の他端は、接着剤９０によって表示装置のパネル板７０に接着される。このように、スペーサ９２を介してＸ用センサフィルム１００ｂとパネル板７０とを対向配置することによって、Ｘ用センサフィルム１００ｂと表示装置のパネル板７０との間に隙間Ｓを形成することができる。
【００７９】
電極８０には、制御部（ＩＣ）が電気的に接続される。指先とタッチパネル２００のＹ用センサフィルム１００ａの間における静電容量の変化によって生じる各センサ電極１６ａ，１６ｂの容量変化がそれぞれ測定される。制御部は、測定結果に基づいて接触体のタッチ位置を座標位置（Ｘ軸方向の位置とＹ軸方向の位置の交点）として算出することができる。なお、センサ電極の駆動方法、及び、座標位置の算出方法は、上述の他に、公知の各種の方法を採用することが可能である。
【００８０】
タッチパネル２００は以下の手順で製造することができる。透明導電体１００を準備した後、透明導電層１６のエッチングを行って、パターニングを行う。具体的には、フォトリソグラフィーの技術を用いて透明導電層１６の表面にスピンコーティングによりレジスト材料を塗布する。その後、密着性を向上させるためにプリベークを行ってもよい。続いて、マスクパターンを配置して露光し、現像液で現像することによって、レジストパターンを形成する。レジストパターンの形成は、フォトリソグラフィーに限定されず、スクリーン印刷等によって形成することも可能である。エッチング液としては、無機酸系のエッチング液を用いることができる。例えば、塩酸系のエッチング液が好適である。
【００８１】
次に、酸性のエッチング液に、レジストパターンを形成した透明導電体１００を浸漬し、レジストパターンが形成されて無い部分における透明導電層１６を溶解除去する。その後、レジストを除去して、センサ電極１６ａが形成されたＹ用センサフィルム１００ａと、センサ電極１６ｂが形成されたＸ用センサフィルム１００ｂが得られる。
【００８２】
続いて、例えば銀合金ペーストなどの金属ペーストを塗布して、導体線路５０及び電極８０を形成する。このようにして、制御部とセンサ電極１６ａ，１６ｂとが電気的に接続される。次に、Ｙ用センサフィルム１００ａとＸ用センサフィルム１００ｂを、光学のり１８を用いて、それぞれのセンサ電極１６ａ，１６ｂが同一方向に向くようにして貼り合わせる。この場合、Ｙ用センサフィルム１００ａとＸ用センサフィルム１００ｂの積層方向からみたときに、センサ電極１６ａ，１６ｂが互いに直交するように貼り合わせる。そして、光学のり１７を用いてカバーグラス１９とＹ用センサフィルム１００ａとを貼り合わせる。このようにして、タッチパネル２００を製造することができる。
【００８３】
タッチパネル２００は、Ｙ用センサフィルム１００ａ及びＸ用センサフィルム１００ｂとして、透明導電体１００を用いていることから、十分に薄型化することができる。このように薄型化しても、Ｙ用センサフィルム１００ａ及びＸ用センサフィルム１００ｂのセンシングパターン、及びエッチング後に残存する微量の透明導電層を、十分に視認し難くすることができる。なお、Ｙ用センサフィルム１００ａ及びＸ用センサフィルム１００ｂの双方に、透明導電体１００を用いる必要はなく、どちらか一方は、別の透明導電体を用いてもよい。このようなタッチパネルであっても、センシングパターンのみならず、エッチング後に残存する微量の透明導電層を視認し難くすることができる。
【００８４】
図５は、本発明の透明導電体の別の実施形態を示す模式断面図である。透明導電体１０１は、光学調整層１１ａが、第２の光学調整層１４と、第３の光学調整層１５との間に、第４の光学調整層４０を備える点で、透明導電体１００と異なっている。その他の構成は、透明導電体１００と同様である。
【００８５】
第４の光学調整層４０の屈折率（ｎ５）の範囲は、ｎ２と同様であり、例えば、１．４０〜１．６５であってもよく、１．４５〜１．５５であってもよい。ｎ５は、下記式（７）、式（８）及び式（９）を満たすことが好ましい。
ｎ１−ｎ５≧０．１      （７）
−０．１＜ｎ２−ｎ５＜０．１      （８）
ｎ３−ｎ５≧０．１      （９）
【００８６】
第４の光学調整層４０は、第２の光学調整層１４と同様の材料で構成してもよい。例えば、第４の光学調整層４０は、無機酸化物からなる層、及び／又は、樹脂組成物をエネルギー線で硬化させて得られる樹脂硬化物からなる層で構成してもよい。これらのうち、第２の光学調整層１４及び第４の光学調整層４０の一方を樹脂硬化物で構成し、他方を無機酸化物で構成することが好ましい。このように、層厚を大きくすることが容易な樹脂硬化物と、層厚み精度が容易な無機酸化物を組み合わせることで、光学調整層１１ａ及び透明導電体１０１全体の厚みを精度よく制御して、センシングパターンをさらに視認し難くすることができる。
【００８７】
第２の光学調整層１４を樹脂硬化物からなる層とし、第４の光学調整層４０を無機酸化物からなる層とすることがより好ましい。これによって、光学調整層１１ａ及び透明導電体１０１全体の厚みを精度よく制御してセンシングパターンを視認し難くすることと、生産性の向上とを、さらに高い水準で両立することができる。第４の光学調整層４０の厚みは、第２の光学調整層１４の厚みとの合計として、５〜８０ｎｍであってもよく、１０〜７０ｎｍであってもよく、１５〜６０ｎｍであってもよい。
【００８８】
上述の透明導電体１００，１０１を用いることによって、センシングパターン及び非導電部に残存する微量の透明導電層１６が視認され難いデバイスを作製することができる。このため、上記各実施形態の透明導電体１００，１０１は、タッチパネル用に好適に用いることができる。ただし、その用途はタッチパネルに限定されるものではなく、例えば、透明導電層を所定形状に加工して、透明導電層を有する部分（導電部）と、透明導電層を有していない部分（非導電部）とを形成し、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスパネル（有機ＥＬ、無機ＥＬ）、エレクトロクロミック素子、及び電子ペーパーなどの各種表示装置において、透明電極用、帯電防止用、電磁波シールド用として用いることができる。また、アンテナとして用いることもできる。
【００８９】
以上、好適な実施形態を説明したが、透明導電体及びタッチパネルは上述の実施形態に限定されるものではない。例えば、透明導電体は、透明基材１０に隣接するハードコート層を備えてもよく、透明基材１０を挟むように一対のハードコート層を備えてもよい。ハードコート層は、透明導電体の傷を防止するために設けてもよい。ハードコート層は、樹脂組成物を硬化させて得られる樹脂硬化物を含有する。また、透明導電体の機械的な強度を向上させるため、保護フィルムを設けてもよい。
【実施例】
【００９０】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００９１】
［実施例１］
図１に示すような、透明導電体１００を作製した。透明導電体は、透明基材１０、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４、第３の光学調整層１５、及び透明導電層１６がこの順で積層された積層構造を有している。このような構造を有する透明導電体１００を以下のとおりにして作製した。
【００９２】
厚さが５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（帝人デュポンフィルム製、品番：ＫＥＬ−８６ｗ）を準備した。このＰＥＴフィルムを透明基材１０として用いた。透明基材１０の屈折率は１．６０であった。
【００９３】
＜第１の光学調整層１３の作製＞
酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を含有するＴＹＺ７０（商品名、東洋インキ（株）製）を、溶剤であるプロピレングリコールモノメチルエーテル（ＰＧＭＡ）で希釈して塗料を調整した。得られた塗料を、第１の光学調整層１３作製用の塗料として用いた。
【００９４】
透明基材１０の上に、第１の光学調整層１３作製用の塗料をロールトゥロール方式で塗布して塗布膜を作製した。８０℃に設定した乾燥炉において塗布膜中の溶剤を除去した後、ＵＶ処理装置を用いて積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布膜を硬化させた。このようにして、透明基材１０の上に第１の光学調整層１３を作製した。第１の光学調整層１３の屈折率（ｎ１）及び厚みは表１に示すとおりであった。
【００９５】
＜第２の光学調整層１４の作製＞
第１の光学調整層１３の上に、第２の光学調整層１４を作製した。具体的には、ＳＤ−３１８（商品名、ＤＩＣ株式会社株製、アクリル樹脂）を、溶剤で希釈して塗料を調整した。第１の光学調整層１３の上に、この塗料をロールトゥロール方式で塗布して塗布膜を作製した。８０℃に設定した乾燥炉において塗布膜中の溶剤を除去した後、ＵＶ処理装置を用いて積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布膜を硬化させて、第２の光学調整層１４を形成した。第２の光学調整層１４の屈折率（ｎ２）及び厚みは表１に示すとおりであった。
【００９６】
＜第３の光学調整層１５の作製＞
第２の光学調整層１４の上に、スパッタリング法を用いて第３の光学調整層１５を作製した。具体的には、ホウ素をドープした珪素ターゲットを用いて、アルゴンガス８０体積％、酸素ガス５体積％、及び窒素ガス１５体積％からなる混合雰囲気中で成膜して、窒化珪素及び酸化珪素からなる第３の光学調整層１５を作製した。第３の光学調整層１５の屈折率（ｎ３）は表１に示すとおりであった。屈折率の値から、第３の光学調整層１５における、窒化珪素（ＳｉＮ）と酸化珪素（ＳｉＯ２）のモル比率は６０：４０であった。
【００９７】
＜透明導電層１６の作製＞
第３の光学調整層１５の上に、スパッタリング法を用いて透明導電層１６を作製した。具体的には、酸化インジウムに酸化錫を５重量％添加したターゲットを用いて、アルゴンガス９８体積％と酸素ガス２体積％とからなる混合雰囲気中で成膜して、酸化インジウムと酸化スズとの複合酸化物からなる透明導電層１６を作製した。その後、積層体をオーブンにて１４０℃、９０分の条件で加熱して、透明導電体１００を作製した。透明導電層１６の厚みは２１ｎｍ、屈折率（ｎ４）は２．００であった。
【００９８】
＜各層の評価＞
表１〜表５に示す各層の厚みは、以下の手順で測定した。作製した透明導電体１００を集束イオンビーム装置（ＦＩＢ，Ｆｏｃｕｓｅｄ  Ｉｏｎ  Ｂｅａｍ）によって切断した。透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いて切断面を観察し、各層の厚みを測定した。
【００９９】
ＰＥＴフィルム（透明基材１０）の屈折率は、光学式膜厚測定装置（商品名：ＥＴＡ−ＲＴ、ＳＴＥＡＧ  ＥＴＡ−Ｏｐｔｉｋ社製）を用いて測定を行った。一方、第１の光学調整層１３、第２の光学調整層１４、第３の光学調整層１５、及び透明導電層１６の屈折率は、屈折率測定用の膜を別途作製して測定した。具体的には、シリコンウエハー上に塗布して成膜し、エリプソメーター（商品名：ＤＨＡ−ＯＬＸ、溝尻光学工業所社製）を用いて、膜（層）のλ＝６３３ｎｍにおける２０℃での屈折率を測定した。
【０１００】
＜反射率の評価＞
透明導電体１００における透明導電層１６の一部をマスクで覆い、透明導電層１６の他部を、エッチング液（クロマット  ＩＴ（商品名）、富士技研工業株式会社製）を用いて除去した。透明導電層１６の残存量の影響を評価するため、透明導電層１６をエッチングで完全に除去したサンプル（１）と、透明導電層１６をエッチングして、微量の透明導電層１６が残存したサンプル（２）と、透明導電層１６をエッチングする前のサンプル（３）とを準備した。サンプル（１）、（２）及び（３）の反射率を、分光色素計（ＣＭ−５（商品名）、コニカミノルタ製）で測定した。サンプル（１）、（２）及び（３）の波長４５０〜６５０ｎｍにおける反射率の平均値を、それぞれ反射率（１）、（２）及び（３）として表１に示す。
【０１０１】
サンプル（２）は以下のとおりにして作製した。透明導電体１００のエッチングを、４０秒間から１２０秒間まで２０秒間刻みで行った。２０秒間経過毎に、透明導電体１００の電気抵抗を、カードハイテスタ（商品名、日置電機社製）を用いて測定した。エッチング時間を横軸として、縦軸に電気抵抗をプロットしたときに、電気抵抗が測定レンジを超えてオーバーロードした時点のもの（電気抵抗がオーバーロードする、最もエッチング時間が短いもの）を、サンプル（２）とした。
【０１０２】
［実施例２］
第３の光学調整層１５の作製において、ホウ素をドープした珪素ターゲットを用いて、アルゴンガス８０体積％、酸素ガス２体積％、及び窒素ガス１８体積％からなる混合雰囲気中で成膜して、窒化珪素及び酸化珪素からなる第３の光学調整層１５を作製したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電体１００を作製した。そして、実施例１と同様にして、各評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０３】
［実施例３］
第３の光学調整層１５の作製において、ホウ素をドープした珪素ターゲットを用いて、アルゴンガス８０体積％、及び窒素ガス２０体積％からなる混合雰囲気中で成膜して、窒化珪素からなる第３の光学調整層１５を作製したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電体１００を作製した。そして、実施例１と同様にして、各評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０４】
［実施例４］
第３の光学調整層１５の作製において、ＴｉＯ２（５０質量％）とＺｎＯ２（５０質量％）とからなるターゲットを用いて、アルゴンガス雰囲気中で成膜して、酸化チタンと酸化亜鉛からなる第３の光学調整層１５を作製したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電体１００を作製した。そして、実施例１と同様にして、各評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０５】
［比較例１］
第３の光学調整層１５の作製において、ホウ素をドープした珪素ターゲットを用いて、アルゴンガス８５体積％、及び酸素ガス１５体積％からなる混合雰囲気中で成膜して、酸化珪素からなる第３の光学調整層１５を作製したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電体を作製した。そして、実施例１と同様にして、各評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０６】
［比較例２］
第３の光学調整層１５の作製において、ＴｉＯ２からなるターゲットを用いて、アルゴンガス雰囲気中で成膜して、酸化チタンからなる第３の光学調整層を作製したこと以外は、実施例１と同様にして透明導電体１００を作製した。そして、実施例１と同様にして、各評価を行った。結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
2016091455.tif 000003
【０１０８】
表１に、「反射率（３）−反射率（１）」の値、及び、「反射率（２）−反射率（１）」の値を示す（以下、これらの値を総称して「反射率の差」という。）。反射率の差の絶対値が小さいほど、エッチング後に残存する透明導電層及びセンシングパターンが視認され難い透明導電体とすることができる。
【０１０９】
表１に示すとおり、各実施例の透明導電体は、反射率の差の絶対値が１．０未満であり、十分に小さくなっていることが確認された。一方、各比較例の透明導電体は、反射率（３）−反射率（１）の差の絶対値が１．０以上であり、センシングパターンが視認され易いことが確認された。また、比較例１の透明導電体は、反射率（２）−反射率（１）の絶対値が０．７以上であり、エッチング後に残存する微量の透明導電層が、各実施例よりも視認され易いことが確認された。
【０１１０】
［実施例５］
実施例３と同様にして第１の光学調整層１３を作製した。この上に、スパッタリング法を用いて、第２の光学調整層１４を形成した。具体的には、ホウ素をドープした珪素ターゲットを用いて、アルゴンガス８０体積％、酸素ガス１０体積％、及び窒素ガス１０体積％からなる混合雰囲気中で、窒化珪素及び酸化珪素からなる第２の光学調整層１４（屈折率：１．６０）を作製した。
【０１１１】
実施例３と同様にして、第３の光学調整層１５及び透明導電層１６を作製して透明導電体１００を作製した。そして、実施例３と同様にして各評価を行った。結果を表２に示す。比較のため、実施例３の結果も併せて表２に示す。
【０１１２】
［比較例３］
ホウ素をドープした珪素ターゲットを用いて、アルゴンガス８０体積％、及び窒素ガス２０体積％からなる混合雰囲気中で成膜して、窒化珪素からなる第２の光学調整層１４を作製したこと以外は、実施例５と同様にして透明導電体を作製した。そして、実施例５と同様にして各評価を行った。結果を表２に示す。
【０１１３】
【表２】
2016091455.tif 000004
【０１１４】
表２に示すとおり、ｎ３−ｎ２及びｎ１−ｎ２の値が所定値よりも小さい比較例３は、反射率の差の絶対値が１．０以上となる場合があり、センシングパターンが視認され易いことが確認された。
【０１１５】
［実施例６〜１１］
スパッタリングの時間を調整して、第３の光学調整層１５の厚みを表３に示すとおりに変更したこと以外は、実施例３と同様にして、実施例６〜１１の透明導電体１００を作製した。そして、実施例３と同様にして、各層及び透明導電体の評価を行った。評価結果を表３に示す。比較のため、実施例３の結果も併せて表３に示す。
【０１１６】
［比較例４］
第３の光学調整層１５を作製しなかったこと以外は、実施例３と同様にして、比較例４の透明導電体を作製した。そして、実施例１と同様にして、各層及び透明導電体の評価を行った。評価結果を表３に示す。
【０１１７】
【表３】
2016091455.tif 000005
【０１１８】
表３に示すとおり、第３の光学調整層１５を設けることによって、反射率の差の絶対値を１．０未満とすることができた。一方、第３の光学調整層１５を設けていない比較例４では、反射率（３）−反射率（１）の絶対値が１．０以上となり、センシングパターンが視認され易いことが確認された。また、比較例４の透明導電体は、反射率（２）−反射率（１）の絶対値が０．８であり、エッチング後に残存する微量の透明導電層が、各実施例よりも視認され易いことが確認された。
【０１１９】
［実施例１２］
塗料の塗布量を調整して、第２の光学調整層１４の厚みを５５ｎｍとしたこと以外は、実施例３と同様にして透明導電体１００を作製した。そして、実施例３と同様にして、各層及び透明導電体の評価を行った。評価結果を表４に示す。比較のため、実施例３の結果も併せて表４に示す。
【０１２０】
［比較例５］
第２の光学調整層１４を作製しなかったこと以外は、実施例３と同様にして透明導電体を作製した。そして、実施例３と同様にして、各層及び透明導電体の評価を行った。評価結果を表４に示す。
【０１２１】
【表４】
2016091455.tif 000006
【０１２２】
表４に示すとおり、第２の光学調整層１４の厚みを変更しても、反射率の差の絶対値を１．０未満にすることができた（実施例１２）。一方、第２の光学調整層１４を設けていない比較例５では、反射率（３）−反射率（１）の絶対値が１．０以上となり、センシングパターンが視認され易いことが確認された。
【０１２３】
［実施例１３］
塗料の塗布量を調整して、第２の光学調整層１４の厚みを表５に示すとおりとしたこと、及び、第１の光学調整層１３を以下のとおりにして作製したこと以外は、実施例３と同様にして透明導電体１００を作製した。そして、実施例３と同様にして、各層及び透明導電体の評価を行った。評価結果を表５に示す。
【０１２４】
第１の光学調整層１３は以下のとおりにして作製した。具体的には、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）を含有するＴＹＺ７４（商品名、東洋インキ（株）製、アクリル樹脂）を、溶剤で希釈して塗料を調整した。透明基材１０の上に、この塗料をロールトゥロール方式で塗布して塗布膜を作製した。８０℃に設定した乾燥炉において塗布膜中の溶剤を除去した後、ＵＶ処理装置を用いて積算光量４００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布膜を硬化させて、第１の光学調整層１３を形成した。
【０１２５】
［比較例６］
第３の光学調整層１５を作製しなかったこと以外は、実施例１３と同様にして透明導電体を作製した。そして、実施例３と同様にして、各層及び透明導電体の評価を行った。評価結果を表５に示す。
【０１２６】
【表５】
2016091455.tif 000007
【０１２７】
表５に示すとおり、第１の光学調整層１３の厚みを大きくしても、反射率の差の絶対値を１．０未満にすることができることが確認された（実施例１３）。なお、第３の光学調整層１５を設けていない比較例６では、反射率の差の絶対値が１．０以上となり、エッチング後に残存する透明導電層及びセンシングパターンが視認され易いことが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１２８】
非導電部に残存する透明導電層が視認され難い透明導電体が提供される。また、非導電部に残存する透明導電層が視認され難いタッチパネルが提供される。
【符号の説明】
【０１２９】
１０…透明基材、１１…光学調整層、１３…第１の光学調整層、１４…第２の光学調整層、１５…第３の光学調整層、１６…透明導電層、１６ａ，１６ｂ…センサ電極、１７，１８…光学のり、１９…カバーグラス、５０…導体線路、７０…パネル板、８０…電極、９０…接着剤、９２…スペーサ、１００，１０１…透明導電体、１００ａ…Ｙ用センサフィルム、１００ｂ…Ｘ用センサフィルム、２００…タッチパネル。
【図１】
2016091455.tif 000008
【図３】
2016091455.tif 000009
【図４】
2016091455.tif 000010
【図５】
2016091455.tif 000011
【図２】
2016091455.tif 000012