(57)【要約】      （修正有）【課題】アルコールをケトンに酸化するＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応において、反応後のスルフィド処理を不要とする、工業的に有用なケトン化合物製造方法の提供。【解決手段】三級アミンおよびハロゲン化剤存在下、下式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物を用い、下式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物を下式（ＩＩＩ）で表されるケトン化合物に導く反応において、下式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物の使用量が下式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物に対し０．３〜０．９５モル当量であるケトン化合物の製造方法。2016079134.tif 000010［Ｒ１はＣ１〜１８のアルキル基；Ｒ２はＣ２〜１８のアルキル基、又はアリール基］2016079134.tif 000011［Ｒ３はＨ、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基；Ｒ４はアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基；Ｒ３とＲ４が結合して環を形成しても良い］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
三級アミンおよびハロゲン化剤存在下、下記一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物を用い、下記一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物を下記一般式（ＩＩＩ）で表されるケトン化合物に導く反応において、下記一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物の使用量が下記一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物に対し０．３〜０．９５モル当量であるケトン化合物の製造方法。
【化１】
2016079134.tif 000008
式中、Ｒ１は炭素数１〜１８のアルキル基を表す。Ｒ２は炭素数２〜１８のアルキル基、又はアリール基を表す。
【化２】
2016079134.tif 000009
式中、Ｒ３は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ４はアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ３とＲ４が結合して環を形成しても良い。
【請求項２】
前記一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物、三級アミン、及び前記一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物を添加し混合した後、この混合物にハロゲン化剤を滴下する請求項１に記載のケトン化合物の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応を用いたケトン化合物の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
第二級アルコールをケトンに変換する酸化反応は、有機合成上最も重要な反応の一つとして挙げられている。従来、この反応ではクロムやマンガン等の重金属を用いる方法が広く用いられてきたが、重金属酸化剤はいずれも毒性が強く、また反応終了後の重金属残渣の処理が煩雑であること、反応条件が厳しく、基質によっては副反応を起こし易い等の問題があった。
近年、上記重金属酸化剤に代わり、１，１，１−トリアセトキシ−１，１−ジヒドロ−１，２−ベンゾヨードキソール−３（１Ｈ）−オン（Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬）が開発され、アルコールの選択的な酸化剤として用いられている（非特許文献１）。この反応は温和な条件で反応が進行し、非常に不安定な基質でも目的のケトン化合物に高収率で変換することができる。しかし、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬は高価であり、工業規模での生産に用いるには問題がある。また、Ｄｅｓｓ−Ｍａｒｔｉｎ試薬およびその加水分解物に強い爆発性があることが報告されており、使用には十分な注意が必要である。
【０００３】
爆発性酸化物を用いない方法として、塩化オキサリルまたは無水トリフルオロ酢酸とジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）とを活性化剤として使用するＳｗｅｒｎ酸化もまた広く利用されている（非特許文献２）。この反応は副反応が起こりにくく、大量スケールでの生産にも用いられている。しかし、強い悪臭をもつジメチルスルフィドや一酸化炭素が反応中に副生すること、反応温度が−６０℃と低く低温反応用の装置が必要なこと等の問題がある。
一方、ジメチルスルフィドとＮ−クロロスクシンイミドを用いるＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化は、反応温度が−２５℃とＳｗｅｒｎ酸化よりも反応条件が温和であり、分子内にアミノ基の如き酸化し易い置換基を有していても選択的にアルコールからケトンに導く有用な方法である（非特許文献３）。この反応はジメチルスルフィドを試薬として用いるため、これまでは悪臭対策が問題であったが、臭気の弱いドデシルメチルスルフィドを用いる改良法が開発され（非特許文献４）、臭気対策を講じることなく反応を行うことが可能となった。その選択性の高さから、最近ではマクロライド系化合物の合成にも用いられており（非特許文献５）、有効な酸化反応ではあるが、既知の方法ではスルフィドはアルコールに対し２モル当量以上と過剰に使用しており、反応後のスルフィドの処理が煩雑であることやコスト高といった問題があった。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】“Ａｄｖａｎｃｅｄ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ”  第５版（２００１年、ＷＩＬＥＹ刊）、１５１４〜１５１７頁
【非特許文献２】実験化学講座  第４版（１９９１年、丸善刊）、第２３巻、３７〜７８頁
【非特許文献３】Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，９４巻，７５８６〜７５８７頁（１９７２年）
【非特許文献４】Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，４３巻，５１７７〜５１７９頁（２００２年）
【非特許文献５】Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ  Ｒｅｓｅａｒｃｈ  ＆  Ｄｅｖｅｌｏｐｍｅｎｔ、６巻，８６９〜８７５頁（２００２年）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、アルコールをケトンに酸化するＣｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化反応において、これまで過剰に用いられてきたスルフィド化合物を化学量論値以下に削減した、工業的に有用なケトン化合物の合成方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明者らは上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、用いるスルフィド化合物を化学量論値以下に減量しても遜色なく反応が進行する方法を見出し、本発明を完成した。すなわち、本発明は以下によって達成される。
【０００７】
＜１＞
三級アミンおよびハロゲン化剤存在下、下記一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物を用い、下記一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物を下記一般式（ＩＩＩ）で表されるケトン化合物に導く反応において、下記一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物の使用量が下記一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物に対し０．３〜０．９５モル当量であるケトン化合物の製造方法。
【０００８】
【化１】
2016079134.tif 000002
【０００９】
式中、Ｒ１は炭素数１〜１８のアルキル基を表す。Ｒ２は炭素数２〜１８のアルキル基、又はアリール基を表す。
【００１０】
【化２】
2016079134.tif 000003
【００１１】
式中、Ｒ３は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ４はアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ３とＲ４が結合して環を形成しても良い。
＜２＞
前記一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物、三級アミン、及び前記一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物を添加し混合した後、この混合物にハロゲン化剤を滴下する＜１＞に記載のケトン化合物の製造方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の技術を用いれば、これまで過剰に用いられてきたスルフィド化合物を化学量論値以下に削減でき、工業的に有用なケトン化合物の合成方法を提供できる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下に本発明について更に詳しく説明する。
一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物は、多種市販されており入手可能である。また、公知の方法（例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔ．，４３巻，５１７７〜５１７９頁（２００２年）等）で調製することもできる。
一般式（Ｉ）におけるＲ１が表すアルキル基としては、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等の炭素数１〜１８の直鎖、分岐または環状のアルキル基が挙げられる。Ｒ１が表すアルキル基としては、炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、炭素数１〜６のアルキル基がより好ましい。
【００１４】
一般式（Ｉ）におけるＲ２が表すアルキル基としては、例えばエチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル、シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル等の炭素数２〜１８の直鎖、分岐または環状のアルキル基が挙げられる。Ｒ２が表すアルキル基としては、炭素数４〜１６のアルキル基が好ましく、炭素数６〜１６のアルキル基がより好ましい。
一般式（Ｉ）におけるＲ２が表すアリール基としては、炭素数６〜１０のアリール基が好ましく、フェニル、ナフチル等の単環式または二環式のアリール基が挙げられる。
【００１５】
一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物は、具体的にはエチルメチルスルフィド、ジエチルスルフィド、メチルプロピルスルフィド、エチルプロピルスルフィド、イソプロピルメチルスルフィド、エチルイソプロピルスルフィド、ジプロピルスルフィド、イソプロピルプロピルスルフィド、ジイソプロピルスルフィド、ブチルエチルスルフィド、ｔｅｒｔ−ブチルメチルスルフィド、ジブチルスルフィド、ジ（ｔｅｒｔ−ブチル）スルフィド、ジイソブチルスルフィド、ペンチルメチルスルフィド、ジペンチルスルフィド、ジヘキシルスルフィド、ヘプチルメチルスルフィド、ジヘプチルスルフィド、ジオクチルスルフィド、メチルオクチルスルフィド、ジノニルスルフィド、デシルメチルスルフィド、ドデシルメチルスルフィド、ジドデシルスルフィド、メチルテトラデシルスルフィド、ジテトラデシルスルフィド、ジヘキサデシルスルフィド、ヘキサデシルメチルスルフィド、ジオクタデシルスルフィド、エチルフェニルスルフィド、シクロプロピルフェニルスルフィド等が挙げられる。この中でも好ましくは、デシルメチルスルフィド、ドデシルメチルスルフィド、テトラデシルメチルスルフィド、ヘキサデシルメチルスルフィドであり、より好ましくはドデシルメチルスルフィドである。
【００１６】
一般式（Ｉ）で表されるスルフィド化合物の使用量は、基質の一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物に対し、０．３〜０．９５モル当量、好ましくは０．４〜０．９モル当量、より好ましくは０．６〜０．８モル当量である。  
【００１７】
次に、本発明で用いる一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物、および目的物の一般式（ＩＩＩ）で表されるケトン化合物について述べる。アルコール化合物およびケトン化合物の構造を以下に示す。
【００１８】
【化３】
2016079134.tif 000004
【００１９】
式中、Ｒ３は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ４はアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はヘテロ環残基を表す。Ｒ３とＲ４が結合して環を形成しても良い。
【００２０】
Ｒ３およびＲ４が表すアルキル基は、直鎖、分岐または環状の何れでもよく、例えばメチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、ドデシル、トリデシル、テトラデシル、ペンタデシル、ヘキサデシル、ヘプタデシル、オクタデシル等の炭素数１〜１８の直鎖または分岐アルキル基；シクロプロピル、シクロブチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシル、シクロトリデシル、シクロテトラデシル、シクロペンタデシル、シクロヘキサデシル、シクロヘプタデシル、シクロオクタデシル等の炭素数１〜１８の環状アルキル基が挙げられる。Ｒ３およびＲ４が表すアルキル基としては、炭素数１〜１２のアルキル基が好ましい。
【００２１】
Ｒ３およびＲ４が表すアルケニル基は、例えばビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニル、トリデセニル、テトラデセニル、ペンタデセニル、ヘキサデセニル、ヘプタデセニル、オクタデセニル、ヘキサジエニル、ドデカジエニル、オクタトリエニル、テトラデカトリエニル等の炭素数２〜１８の直鎖、分岐または環状のアルケニル基が挙げられる。Ｒ３およびＲ４が表すアルケニル基としては、炭素数２〜１２のアルケニル基が好ましい。
【００２２】
Ｒ３およびＲ４が表すアリール基は、炭素数６〜１４のアリール基が好ましく、炭素数６〜１０のアリール基がより好ましく、例えばフェニル、トリル、キシリル、ナフチル、フェナントリル等の単環式、二環式または三環式のアリール基が挙げられる。
【００２３】
Ｒ３およびＲ４が表すヘテロ環残基は、例えばイミダゾリル、オキサゾリル、トリアゾリル、チアゾリル、１，３，４−チアジアゾリル、ピリジル、ピリミジル、ピラジル、フリル、ピラニル、クロマニル、テトラヒドロピラニル、チエニル、ベンゾチアゾリル、ベンゾオキサゾリル、キノリル、アクリジニル等の窒素原子、酸素原子又は硫黄原子を少なくとも１個以上含む５〜１８員環の単環式、二環式または三環式ヘテロ環残基；２−オキソオキセタニル、２−オキソオキソラニル、２−オキソクロメニル、２−オキソイソクロメニル、２−オキソオキセパニル、２−オキソオキサシクロデカニル、２−オキソオキサシクロウンデカニル、２−オキソオキサシクロドデカニル、２−オキソオキサシクロトリデカニル、２−オキソオキサシクロテトラデカニル、２−オキソオキサシクロペンタデカニル、２−オキソオキサシクロヘキサデカニル等の５〜１６員のラクトン環が挙げられる。
【００２４】
Ｒ３とＲ４が結合して形成する環としては、具体的には、シクロプロパン環、シクロブタン環、シクロペンタン環、シクロヘキサン環、シクロヘプタン環、シクロオクタン環、シクロノナン環、シクロデカン環、シクロウンデカン環、シクロドデカン環、シクロトリデカン環、シクロテトラデカン環、シクロペンタデカン環、シクロヘキサデカン、シクロヘプタデカン環、シクロオクタデカン環等の３〜１８員の飽和環；シクロプロペン環、シクロブテン環、シクロペンテン環、シクロヘキセン環、シクロヘプテン環、シクロオクタジエン環、シクロノネン環、シクロデセン環、シクロウンデセン環、シクロドデカトリエン環、シクロトリデセン環、シクロテトラデカジエン環、シクロペンタデセン環、シクロヘキサデセン環、シクロヘプタデセン環、シクロオクタデセン環等の５〜１８員の部分飽和環；オキソラン環、チオピラン環等の酸素原子、硫黄原子、窒素原子を介して互いに結合する５〜１８員のヘテロ環；１２−クラウン４−エーテル環、１５−クラウン５−エーテル環等のクラウンエーテル環；１，２，３，４−テトラヒドロナフタレン環、９，１０−ジヒドロアントラセン環、テトラヒドロアントラセン環等の多員環；β−プロピオラクトン環、γ−ブチロラクトン環、δ−バレロラクトン環等の４〜１８員のラクトン環が挙げられる。
【００２５】
Ｒ３、Ｒ４、およびＲ３とＲ４が結合して形成する環は更なる置換基を有していても良い。更なる置換基は酸化反応を阻害するもの、および副反応を起こすものでなければ特に制限はない。例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルキニル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、ヘテロ環残基、オキソ基、ジ置換アミノ基、アシル基、及びこれらを組み合わせてなる基等が挙げられる。また、更なる置換基同士で結合して環を形成していてもよく、該環は酸素原子、窒素原子、硫黄原子等のヘテロ原子を含んでいても良い。
【００２６】
Ｒ３およびＲ４は好ましくは、炭素数１〜１２のアルキル基、炭素数２〜１２のアルケニル基、フェニル基、ナフチル基、５〜１８員環のヘテロ環残基、Ｒ３とＲ４が結合した６〜１４員の飽和環、Ｒ３とＲ４が結合した５〜１４員のヘテロ環、Ｒ３とＲ４が結合した１４〜１６員のラクトン環である。
なお、一般式（ＩＩ）で表される化合物および一般式（ＩＩＩ）で表される化合物は置換基の種類に応じて１個乃至２個以上の不斉炭素を有する場合があるが、該不斉炭素に基づく任意の光学異性体またはジアステレオ異性体はいずれも本発明の範囲に含まれる。更に、上記化合物において、Ｒ３またはＲ４に１個乃至２個以上の二重結合を含む場合は、該二重結合に基づく任意の幾何異性体も本発明の範囲に含まれる。
【００２７】
本発明で用いる三級アミンは、多種市販されており容易に入手可能である。具体的には、トリメチルアミン、ジメチルエチルアミン、ジエチルメチルアミン、トリエチルアミン、ジエチルメチルアミン、ジメチルイソプロピルアミン、ジプロピルエチルアミン、ジイソプロピルエチルアミン、ブチルジメチルアミン、ジイソプロピル−２−クロロエチルアミン、ブチルジイソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリイソブチルアミン、トリアミルアミン、トリイソアミルアミン、シクロヘキシルジメチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、シクロヘキシルジエチルアミン、ジシクロヘキシルエチルアミン、ブチルジシクロヘキシルアミン、トリヘプチルアミン、ジメチルオクチルアミン、メチルジオクチルアミン、トリオクチルアミン、トリス（２−エチルヘキシル）アミン、トリノニルアミン、ジメチルデシルアミン、トリデシルアミン、トリウンデシルアミン、ジメチルドデシルアミン、ジドデシルメチルアミン、トリドデシルアミン、ジメチルテトラデシルアミン、ジメチルヘキサデシルアミン、ジメチルオクタデシルアミン、ジオクタデシルメチルアミン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、ピリジン等が挙げられる。  
これらの中でも、ジイソプロピルエチルアミン、ジシクロヘキシルメチルアミン、シクロヘキシルジエチルアミンが好ましい。
三級アミンの使用量は、基質の一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物に対し、通常１．２〜５．０モル当量、好ましくは１．３〜３．０モル当量、より好ましくは１．４〜２．０モル当量である。
【００２８】
本発明で用いるハロゲン化剤は、塩素化、臭素化、またはヨウ素化剤を使用し、副反応を起こすものでなければ、任意に選択することができる。これらは多種市販されており、容易に入手できる。
具体的には、塩素、Ｎ−クロロスクシンイミド、Ｎ−クロロフタルイミド、ジクロロジメチルヒダントイン等の塩素化剤；Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ブロモフタルイミド、ジブロモジメチルヒダントイン、臭素等の臭素化剤；Ｎ−ヨードスクシンイミド、Ｎ−ヨードブロモフタルイミド、ヨウ素等のヨウ素化剤が挙げられる。
これらの中でも、好ましくはＮ−クロロスクシンイミド、ジクロロジメチルヒダントイン、塩素、Ｎ−ブロモスクシンイミド、ジブロモジメチルヒダントインであり、より好ましくはＮ−クロロスクシンイミド、ジクロロジメチルヒダントインである。
ハロゲン化剤の使用量は、基質の一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物に対し、1．８〜４．０モル当量、好ましくは２．０〜３．０モル当量、最も好ましくは２．２〜２．８モル当量である。
【００２９】
本発明では、溶媒は用いても用いなくてもよい。用いる場合、その溶媒は基質を溶解し、且つ副反応が起こらないものであれば特に制限されない。また、溶媒は単独でも、複数の溶媒をを混合して用いても良い。具体的には、アセトン、エチルメチルケトン、メチルイソプロピルケトン、ジイソプロピルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソブチルケトン等のケトン系溶媒；ジエチルエーテル、ジイソプロピルエーテル、メチル−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、ジオキサン等のエーテル系溶媒；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、テトラメチルウレア、１，３−ジメチルイミダゾリノン等のアミド系溶媒；ジメチルスルホキシド、スルホラン等の含硫黄系溶媒；アセトニトリル等のニトリル系溶媒；エチレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールエチルメチルエーテル、エチレングリコールジアセテート、エチレングリコールジステアレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアセテート等のグリコール系溶媒；メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン等のハロゲン系溶媒；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸イソプロピル、酢酸ブチル等のエステル系溶媒；トルエン、キシレン、メシチレン、テトラヒドロナフタレン等の芳香族溶媒；テルピネン、テルピノレン、シメン、フェランドレン等のテルペン系溶媒が挙げられる。
これらの中でも好ましくは、アセトン、ＴＨＦ、アセトニトリル、メチレンクロライド、酢酸エチル、トルエンである。
溶媒の使用量は基質や反応条件によって異なるが、基質の一般式（ＩＩ）で表されるアルコール化合物１ｇに対し、通常２〜５０ｍｌ、好ましくは３〜２５ｍｌ、より好ましくは５〜１０ｍｌである。
【００３０】
本発明では、基質および各反応剤を仕込む際、アルコール化合物、スルフィド化合物、三級アミン、および反応溶媒を予め混合し、その混合液を冷却しながら、ハロゲン化剤またはハロゲン化剤を溶媒に溶解した液を滴下することが好ましい。Ｃｏｒｅｙ−Ｋｉｍ酸化では、ハロゲン化剤とスルフィド化合物とが反応活性種を形成するが、この活性種は不安定で劣化し易い。この順序で仕込むことにより、活性種が反応系内に少量ずつ生成し、生成と同時に基質と反応するので、不安定な反応活性種を速やかに消費することが可能となる。反応活性種は反応後にスルフィド化合物となり、再びハロゲン化剤と反応して反応活性種が生成する。このように、添加方法を工夫することによって触媒的な反応サイクルを構築することができると考えられる。
【００３１】
本発明の反応温度は、通常−８０〜−５℃、好ましくは−４０〜−８℃、より好ましくは−３０〜−１０℃である。反応は通常１〜３時間で終了する。
本発明では、反応終了後に水を添加して反応を停止し、分液処理を行い、得られた有機層を乾燥、濃縮を行う。次いで濃縮液を、目的物の物性に応じて通常用いられる方法、例えばカラムクロマトグラフィー、晶析、蒸留等の精製処理を行うことにより、目的物を得ることができる。
【実施例】
【００３２】
次に本発明を実施例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。
目的物の反応追跡は高速液体クロマトグラフィー（ＨＰＬＣ）を用い、ピーク面積の比率で含量を分析した。
ＨＰＬＣ測定条件は、カラム：ＯＤＳ−８０ＴＳ、溶離液：メタノール／水（Ｖ／Ｖ＝７／３）、緩衝剤：酢酸０．１％、検出器：ＲＩ、流量：１．０ｍｌ／ｍｉｎ、カラム温度：４０℃で実施した。
【００３３】
実施例１  １−フェニルエタノンの合成
１００ｍｌ四つ口フラスコに窒素導入管、温度計、滴下ロートを設置し窒素置換した。室温下、（±）−１−フェニルエチルアルコール１０．０ｇ（８１．９ｍｍｏｌ）をメチレンクロライド５０ｍｌに溶解し、攪拌しながらドデシルメチルスルフィド１３．３ｇ（６１．４ｍｍｏｌ）、Ｎ，Ｎ−ジイソプロピルエチルアミン１５．９ｇ（１２３ｍｍｏｌ）をフラスコに添加した。その後、混合物の内温を−１３〜−１７℃に冷却し、Ｎ−クロロスクシンイミド２７．３ｇ（２０４ｍｍｏｌ）をアセトニトリル２０ｍｌに溶解した液を３０分かけて滴下し、その後１時間反応した。反応液に水４０ｍｌを滴下して分液し、有機層を水４０ｍｌで洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥した後濃縮し、得られた粗製物はカラムクロマトグラフィー（ヘキサン／酢酸エチル＝７／３）で精製し、目的物９．０ｇ（収率９２％）を得た。
【００３４】
実施例２〜８、比較例１〜３
ドデシルメチルスルフィドの使用量を表１に示す値に変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。
実施例２〜８、比較例１〜３の結果を表１に示す。
【００３５】
【表１】
2016079134.tif 000005
【００３６】
表１の結果から、スルフィド化合物の使用量が化学量論値以下であっても反応が進行していることがわかる。
【００３７】
実施例９〜１１
用いるスルフィド化合物を表２に示すものに変更した以外は、実施例１と同じ条件で行った。実施例９〜１１の結果を表２に示す。
【００３８】
【表２】
2016079134.tif 000006
【００３９】
実施例１２〜１６
出発物質を表３に示す化合物に変更した以外は、実施例１と同じ条件で反応を行った。実施例１２〜１６の結果を表３に示す。Ａｃはアセチル基を表す。
【００４０】
【表３】
2016079134.tif 000007