(57)【要約】      （修正有）【課題】太陽電池の封止膜に使用可能な組成物の提供【解決手段】（ｉ）連続相としての少なくとも１種のポリオレフィン共重合体（Ｉ）及び（ｉｉ）ポリオレフィン共重合体（Ｉ）中に分散された、化学構造式（ＩＩ）で示される少なくとも１種の化合物を含む分散体（Ｄ）。分散体Ｄと更なるポリオレフィン共重合体（Ｉ）の混合物を押出成形してフィルムを得る電子デバイスの封止膜の製造。2016117896.tif 000010［Ｒ1及びＲ2は、各々独立に、水素又はメチル基；ＡはＣ１〜２０の直鎖状又は分岐状の置換／非置換のアルキレン基］【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下：
（ｉ）連続相としての少なくとも１種のポリオレフィン共重合体（Ｉ）；及び
（ｉｉ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）中に分散された、化学構造式（ＩＩ）：
【化１】
2016117896.tif 000008
［式中、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基はハロゲン基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ4Ｒ5からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基は、ハロゲン基で、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ6、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ7Ｒ8からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキル基からなる群から選択され、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である］
で示される少なくとも１種の化合物；
を含む分散体（Ｄ）。
【請求項２】
請求項１に記載の分散体（Ｄ）であって、Ｒ1＝Ｒ2＝水素であり、かつＡ＝−ＣＨ2−である、前記分散体（Ｄ）。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の分散体（Ｄ）であって、前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合が、０．１〜２５質量％の範囲内である、前記分散体（Ｄ）。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１項に記載の分散体（Ｄ）であって、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）がエチレン・酢酸ビニル共重合体である、前記分散体（Ｄ）。
【請求項５】
請求項１から４までのいずれか１項に記載の分散体（Ｄ）であって、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）が固体の凝集状態で存在している、前記分散体（Ｄ）。
【請求項６】
請求項５に記載の分散体（Ｄ）であって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物が粒子状で存在しており、その際、前記分散体（Ｄ）に含まれる前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての粒子の少なくとも５０％が、１００μｍ以下の粒度を有する、前記分散体（Ｄ）。
【請求項７】
請求項６に記載の分散体（Ｄ）であって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物が粒子状で存在しており、その際、全ての粒子が１ｍｍ未満の粒度を有する、前記分散体（Ｄ）。
【請求項８】
電子デバイスの封止膜を製造するための、請求項１から７までのいずれか１項に記載の分散体（Ｄ）の使用。
【請求項９】
電子デバイスの封止膜の製造方法において、以下の工程：
（ａ）請求項１から７までのいずれか１項に記載の分散体（Ｄ）とさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）とを混合して、混合物を得る工程；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を押出成形して、フィルムを得る工程；
を含む、前記方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の方法において、前記工程（ａ）において、開始剤、さらなる架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択されるさらなる添加剤を添加する、前記方法。
【請求項１１】
分散体（Ｄ）の製造方法において、以下の工程：
（ａ）ポリオレフィン共重合体（Ｉ）を準備する工程；
（ｂ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）に、化学構造式（ＩＩ）：
【化２】
2016117896.tif 000009
［式中、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基はハロゲン基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ4Ｒ5からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基は、ハロゲン基で、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ6、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ7Ｒ8からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキル基からなる群から選択され、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である］
で示される少なくとも１種の粉末状化合物を添加する工程；；
（ｃ）前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物を、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）に組み込む工程；
を含む、前記方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の方法であって、Ｒ1＝Ｒ2＝水素であり、かつＡ＝−ＣＨ2−である、前記方法。
【請求項１３】
請求項１１又は１２に記載の方法であって、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）がエチレン・酢酸ビニル共重合体である、前記方法。
【請求項１４】
請求項１１から１３までのいずれか１項に記載の方法であって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物に含まれる全ての粒子の少なくとも５０％が、ＤＩＮ／ＩＳＯ  １３３２０により測定して５００μｍ以下の粒度を有する、前記方法。
【請求項１５】
請求項１１から１４までのいずれか１項に記載の方法により得られる、分散体（Ｄ）。
【請求項１６】
電子デバイスの封止膜を製造するための、請求項１５に記載の分散体（Ｄ）の使用。
【請求項１７】
電子デバイスの封止膜の製造方法において、以下の工程：
（ａ）請求項１５に記載の分散体（Ｄ）とさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）とを混合して、混合物を得る工程；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を押出成形して、フィルムを得る工程；
を含む、前記方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の方法において、前記工程（ａ）において、開始剤、さらなる架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択されるさらなる添加剤を添加する、前記方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、（ｉ）連続相としての少なくとも１種のポリオレフィン共重合体（Ｉ）；及び（ｉｉ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）中に分散された少なくとも１種の（メタ）アクリルアミド化合物を含む分散体（Ｄ）に関する。さらに本発明は、電子デバイス、特に太陽電池の封止膜を製造するための、前記分散体（Ｄ）の使用に関する。さらに本発明は、前記分散体（Ｄ）の製造方法に関する。最後に本発明は、前記方法を用いて得られる分散体にも関する。
【背景技術】
【０００２】
光起電モジュール（光起電性（photovoltaic）＝「ＰＶ」）は、通常は対称的に配置されたシリコンセルの層からなり、このシリコンセルは保護膜の２つの層内で溶着される。この保護膜自体も、その裏面で「バックシート」により、そしてその表面で「フロントシート」により安定化されている。「バックシート」及び「フロントシート」は、適したプラスチックフィルムであってもよいし、ガラスからなっていてもよい。封止材の機能は、主にＰＶモジュールを天候の影響や機械的負荷から保護することにあるため、それぞれの封止材の機械的安定性は重要な特性である。それに加えて、良好な封止材は、高い硬化速度、高いゲル含有率、高い透過率、温度や熱により誘起される変色のしにくさ、そして高い密着性（つまりＵＶにより誘起される剥離の生じにくさ）を示す。
【０００３】
従来技術において（例えば特許文献１（国際公開第２００８／０３６７０８号））この目的のために記載されている封止材は、典型的には、例えばシリコーン樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、イオノマー、ポリオレフィンフィルム又はエチレン・酢酸ビニル共重合体（「ＥＶＡ」）といった材料をベースとしている。
【０００４】
そのような封止膜の製造方法は、当業者に公知である。この方法では、架橋剤がポリオレフィン共重合体（及び場合によりさらなる添加剤）と共に例えば押出機中で均質に混合され、その後押出成形によりフィルムが生成される。ＥＶＡ封止膜は、例えば特許文献２（欧州特許出願公開第１１６４１６７号明細書）に記載されている。しかしながら、この特許文献２に記載されている方法は、他の、例えば上述の材料からのフィルムにも適用可能である。
【０００５】
シリコンセルの封止は、典型的には真空積層炉内で行われる（特許文献３（欧州特許出願公開第２４５７７２８号明細書））。そのために、ＰＶモジュールの層構造体が準備され、かつ（膜により隔離された２つのチャンバからなる）積層炉内でまず初めにゆっくりと加熱される。それによりポリオレフィン共重合体（例えばＥＶＡ）が軟化する。それと同時に炉の真空引きが行われて、層間の空気が排出される。この工程は極めてクリティカルであり、４〜６分間を要する。それに続き、第二のチャンバを通じて真空が解除され、圧力印加によりモジュールの層が互いに溶接される。それと同時に、架橋温度に達するまでさらに加熱され、その際、この最後の工程でフィルムの架橋が生じる。
【０００６】
まさにＥＶＡは、ソーラーモジュール用封止膜の製造において標準的に用いられている。しかしながらＥＶＡは、これらよりも低い比抵抗ρをも有している。これによって、封止材としてのＥＶＡフィルムの使用はあまり魅力のないものとなっている。何故ならば、高い比抵抗ρを有する封止材が望まれているためである。
【０００７】
ＰＶモジュールにおいては、いわゆる「ＰＩＤ」現象（ＰＩＤ＝potential induced degradation）が、目下、品質上の大きな問題となっている。ＰＩＤという概念は電圧誘起出力低下と解釈され、いわゆるＰＶモジュール内部での「漏れ電流」により引き起こされる。
【０００８】
障害となる漏れ電流の原因は、太陽電池の構造の他に、大地電位に対する個々のＰＶモジュールの電圧レベルにあり、その際、多くの非接地ＰＶ系において、ＰＶモジュールは正電圧又は負電圧に曝されている。ＰＩＤは大抵、大地電位に対して負電圧で生じ、高い系電圧、高温及び高い空中湿度により助長される。その結果、ナトリウムイオンがＰＶモジュールのカバーガラスから太陽電池の界面へとマイグレーションし、そこで障害（「シャント」）を引き起こし、この障害によってＰＶモジュールの出力低下が生じ、そしてさらにはＰＶモジュールの全損が生じることもある。
【０００９】
封止膜の比抵抗ρを上昇させることで、ＰＩＤ現象発生のリスクを明らかに低減することができる。
【００１０】
比抵抗ρや体積抵抗率（「volume resistivity」、以下では省略して「ＶＲ」とも称される）は、温度に依存する材料定数である。これは、均一な導電体の電気抵抗を算出するために用いられる。比抵抗は、本発明によればＡＳＴＭ−Ｄ２５７により求められる。
【００１１】
材料の比抵抗ρが高いほど、光起電モジュールのＰＩＤ現象の生じ易さが低下する。従って、封止膜の比抵抗ρが上昇した場合の主な好影響とは、ＰＶモジュールの寿命及び効率の向上である。
【００１２】
従来技術においては、特許文献４（中国特許出願公開第１０３５２５３２１号明細書）において、ＰＩＤ現象の問題がＰＶモジュール用封止膜と関連づけて議論されている。この文献には太陽電池のＥＶＡ系封止膜が記載されており、この封止膜は、共架橋剤としてトリアリルイソシアヌレート（「ＴＡＩＣ」）及びトリメチロールプロパントリメタクリレート（「ＴＭＰＴＭＡ」）を、そして他の添加剤として好ましくはポリオレフィンイオノマー及びポリシロキサンを疎水化のために含有している。この封止膜はＰＩＤ現象の低減を示す。しかしながらこの封止膜は、ポリオレフィンイオノマーが比較的高価であることが欠点である。さらに、ポリシロキサンは付着特性に対して不利に作用する。さらに、実施例では、どのくらいの濃度でどのような改善が達成されうるのかに関して、具体的な記載が一切なされていない。
【００１３】
ＴＡＩＣとＴＭＰＴＭＡとからの架橋剤組合せ物は、特許文献５（特開２００７−２８１１３５号公報）にも記載されている。この場合、ＴＭＰＴＭＡによって架橋反応の促進が生じ、それに伴って生産性の向上がもたらされる。
【００１４】
特許文献６（特開２０１２−０６７１７４号公報）及び特許文献７（特開２０１２−０８７２６０号公報）には、太陽電池用のＥＶＡないしポリオレフィン系の封止膜が記載されており、この封止膜は、ＴＡＩＣの他に例えばエチレングリコールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメタクリレート、１，６−ヘキサンジオールジメタクリレートを架橋剤として有している。この共架橋剤は最初に架橋反応を若干遅延させ、それによってポットライフが延長される。
【００１５】
特許文献８（特開２００９−１３５２００号公報）にも同様に、ＴＡＩＣと多価アルコールの種々の（メタ）アクリレート誘導体とを含む架橋剤が記載されており、その際、この場合には、ＥＶＡ系封止材の剥離しにくさにつながる、改善された耐熱性が記載されている。
【００１６】
特許文献５及び特許文献９（特開２００７−３０５６３４号公報）には、太陽電池用の同時押出成形された多層ＥＶＡ封止膜の製造に使用するための、ＴＡＩＣとトリメチロールプロパントリアクリレート（「ＴＭＰＴＡ」）とからの架橋剤組合せ物が記載されている。
【００１７】
太陽電池用封止膜のための同様の架橋剤組合せ物は、例えば特許文献１０（特開２０１３−１３８０９４号公報）、特許文献１１（特開平１１−２００９４号公報）、特許文献１２（特開平１１−２００９５号公報）、特許文献１３（特開平１１−２００９６号公報）、特許文献１４（特開平１１−２００９７号公報）、特許文献１５（特開平１１−２００９８号公報）、特許文献１６（特開平１１−２１５４１号公報）、特許文献１７（中国特許出願公開第１０２３９１５６８号明細書）、特許文献１８（中国特許出願公開第１０２５０４７１５号明細書）、特許文献１９（中国特許出願公開第１０２８６３９１８号明細書）、特許文献２０（中国特許出願公開第１０２９１１６１２号明細書）、特許文献２１（中国特許出願公開第１０３０４５１０５号明細書）、特許文献２２（中国特許出願公開第１０３７５５８７６号明細書）、特許文献２３（中国特許出願公開第１０３８０４７７４号明細書）、特許文献２４（米国特許出願公開第２０１１／０１６０３８３号明細書）、特許文献２５（国際公開第２０１４／１２９５７３号）に記載されている。
【００１８】
架橋剤のもう一つの群は、他の関連（印刷版の処理）において従来技術において記載されている（特許文献２６（欧州特許出願公開第０２２８６３８号明細書）、特許文献２７（独国特許出願公開第３７０４０６７号明細書））。これは、以下に定義される化学構造式（ＩＩ）で示される架橋剤であり、特にメチレンビスアクリルアミドである。
【００１９】
しかしながら前記化合物群は、この化合物群を従来技術に記載されている太陽電池用封止膜の製造に使用しようとした場合にこの化合物群をこの目的にとって魅力のないものとするような欠点を必然的に伴う。
【００２０】
従来、ポリオレフィン共重合体フィルム（以下ではＥＶＡフィルムについて説明するが、他のポリオレフィン共重合体フィルムにも転用可能である）の製造は、ＥＶＡを装入し、かつ、架橋剤又は各架橋剤の混合物を、例えばペルオキシドや共架橋剤といった他の添加剤と共にＥＶＡに吹き付けることによって行われている。この吹き付けられた溶液を内部拡散させ、その後フィルムを押し出すことができる。しかしながらこの方法は、以下に定義される化学構造式（ＩＩ）で示される架橋剤、特にメチレンビスアクリルアミドの場合には最初から排除される。何故ならば、これは液体ではないためである。
【００２１】
確かに従来技術によれば、液体でない架橋剤の場合に、これを適した溶剤中に溶解させ、その後で場合によりさらなる添加剤と共にＥＶＡに吹き付けることも可能ではある。しかしながらこのやり方は、溶剤を押出成形の前又は間に除去する必要があるという欠点をも必然的に伴うものであり、このことは付加的なコストや投資を意味し、また大工業的応用に際しては高コストを招く。さらに、考慮される多くの溶剤、例えばメタノールは有毒でかつ可燃性であり、これにより労働災害防止や爆発防止といった観点での付加的な措置が必要となる。
【００２２】
粉末状の架橋剤を液体の添加剤と一緒にＥＶＡ造粒体に直接施与することは、架橋剤が造粒体にあまり付着しないことから排除される。確かに、粉末は最初に液体の添加剤によってポリマー造粒体の表面上に均一に分配され、最初のうちは湿った表面に付着する。しかしながら、この液体の添加剤はすぐにこのポリマーの内部へ完全に拡散し、固形物はもはや表面には付着せずに造粒体の運動によって擦り落とされてしまうため、偏析が生じ、均一な分配は不可能である。そのような混合物を用いて得られたフィルムは不均一性が過度に高く、これによって太陽電池用封止膜にとって認容不可能なＶＲ値の変動が生じる。
【００２３】
粉末状の架橋剤をポリマー配合物に導入するためのもう一つの方法は、フィルムを製造する際に粉末を押出機に直接別個に重量測定して配量するという方法である。しかしながらその場合には、ポリオレフィン共重合体に対して極めて低い架橋剤濃度が必要であるため、厳密な配量の実現が技術的に困難であるという問題が生じる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００２４】
【特許文献１】国際公開第２００８／０３６７０８号
【特許文献２】欧州特許出願公開第１１６４１６７号明細書
【特許文献３】欧州特許出願公開第２４５７７２８号明細書
【特許文献４】中国特許出願公開第１０３５２５３２１号明細書
【特許文献５】特開２００７−２８１１３５号公報
【特許文献６】特開２０１２−０６７１７４号公報
【特許文献７】特開２０１２−０８７２６０号公報
【特許文献８】特開２００９−１３５２００号公報
【特許文献９】特開２００７−３０５６３４号公報
【特許文献１０】特開２０１３−１３８０９４号公報
【特許文献１１】特開平１１−２００９４号公報
【特許文献１２】特開平１１−２００９５号公報
【特許文献１３】特開平１１−２００９６号公報
【特許文献１４】特開平１１−２００９７号公報
【特許文献１５】特開平１１−２００９８号公報
【特許文献１６】特開平１１−２１５４１号公報
【特許文献１７】中国特許出願公開第１０２３９１５６８号明細書
【特許文献１８】中国特許出願公開第１０２５０４７１５号明細書
【特許文献１９】中国特許出願公開第１０２８６３９１８号明細書
【特許文献２０】中国特許出願公開第１０２９１１６１２号明細書
【特許文献２１】中国特許出願公開第１０３０４５１０５号明細書
【特許文献２２】中国特許出願公開第１０３７５５８７６号明細書
【特許文献２３】中国特許出願公開第１０３８０４７７４号明細書
【特許文献２４】米国特許出願公開第２０１１／０１６０３８３号明細書
【特許文献２５】国際公開第２０１４／１２９５７３号
【特許文献２６】欧州特許出願公開第０２２８６３８号明細書
【特許文献２７】独国特許出願公開第３７０４０６７号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００２５】
従って本発明の課題は、以下に定義される化学構造式（ＩＩ）で示される架橋剤、特にメチレンビスアクリルアミドをポリオレフィン共重合体フィルム（特にＥＶＡフィルム）の製造時に使用できるようにする組成物を提供することであり、その際、そのようにして得られたフィルムは、このフィルムを太陽電池の封止膜に使用できるような高いＶＲ値を有することが望まれていた。さらに、そのようなフィルムの製造方法を提供することが望まれていた。
【課題を解決するための手段】
【００２６】
ここで驚くべきことに、本発明による課題は、以下に定義される分散体により解決されることが判明した。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
本発明による分散体は、驚くべきことに、例えば太陽電池のような電子デバイスの封止膜であって、例えばこの封止膜全体にわたって高い値を有する比抵抗を有するような封止膜の製造に使用されることができる。
【００２８】
従って本発明による分散体（Ｄ）は、以下：
（ｉ）連続相としての少なくとも１種のポリオレフィン共重合体（Ｉ）；及び
（ｉｉ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）中に分散された、化学構造式（ＩＩ）：
【化１】
2016117896.tif 000002
［式中、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基はハロゲン基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ4Ｒ5からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基は、ハロゲン基で、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ6、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ7Ｒ8からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキル基からなる群から選択され、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である］
で示される少なくとも１種の化合物；
を含む。
【００２９】
前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物は、本発明の意味においては「（メタ）アクリルアミド化合物」とも称される。
【００３０】
特に、前記化学構造式（ＩＩ）において、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキル基である。
【００３１】
前記分散体（Ｄ）の好ましい一実施形態においては、前記化学構造式（ＩＩ）において、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｏ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基である。
【００３２】
前記分散体（Ｄ）のさらに好ましい一実施形態においては、前記化学構造式（ＩＩ）において、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、特にこれら２つともそれぞれ水素であるか又はこれら２つともそれぞれメチルであり、
Ａは、以下：
１〜１２個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基；
フェニレン；
−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−；
−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−；
からなる群から選択される。
【００３３】
前記分散体（Ｄ）のさらに好ましい一実施形態においては、前記化学構造式（ＩＩ）において、
Ｒ1＝Ｒ2＝水素であるか、又は、Ｒ1＝Ｒ2＝メチルであり、
Ａは、以下：
１〜１２個、特に１〜１０個、好ましくは１〜８個、さらに好ましくは１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基；
−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−；
−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−；
からなる群から選択される。前記化学構造式（ＩＩ）で示されるそのような化合物は、例えばＮ，Ｎ’−メチレンジアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−メチレンジメタクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンジアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアクリルアミド、ビスアクリルアミドジメチルエーテルである。
【００３４】
前記分散体（Ｄ）のさらに特に好ましい一実施形態においては、前記化学構造式（ＩＩ）において、
Ｒ1＝Ｒ2＝水素であり、
Ａは、以下：
１〜１２個、特に１〜１０個、好ましくは１〜８個、さらに好ましくは１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基；
−（ＣＨ2）2−Ｏ−（ＣＨ2）2−；
−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−；
からなる群から選択される。
【００３５】
前記化学構造式（ＩＩ）で示されるそのような化合物は、例えばＮ，Ｎ’−メチレンジアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−エチレンジアクリルアミド、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアクリルアミド、ビスアクリルアミドジメチルエーテルである。
【００３６】
Ｎ，Ｎ’−メチレンジアクリルアミドは、前記構造式（ＩＩ）において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈであり、かつＡ＝−ＣＨ2−である化合物である。
【００３７】
Ｎ，Ｎ’−メチレンジメタクリルアミドは、前記構造式（ＩＩ）において、Ｒ1＝Ｒ2＝ＣＨ3であり、かつＡ＝−ＣＨ2−である化合物である。
【００３８】
Ｎ，Ｎ’−エチレンジアクリルアミドは、前記構造式（ＩＩ）において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈであり、かつＡ＝−ＣＨ2−ＣＨ2−である化合物である。
【００３９】
Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンジアクリルアミドは、前記構造式（ＩＩ）において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈであり、かつＡ＝−（ＣＨ2）6−である化合物である。
【００４０】
ビスアクリルアミドジメチルエーテルは、前記構造式（ＩＩ）において、Ｒ1＝Ｒ2＝Ｈであり、かつＡ＝−ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−である化合物である。
【００４１】
「アルキレン基」とは、本発明の意味においては、二価の飽和炭化水素基である。
【００４２】
「アリーレン基」とは、本発明の意味においては、二価の芳香族炭化水素基であり、例えばナフタレン、フェナントレン、フェニレンである。
【００４３】
「フェニレン」には、本発明の意味においては、１，２−フェニレン、１，３−フェニレン、１，４−フェニレンが含まれる。
【００４４】
１〜６個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基は、特に、メチレン、エチレン、ｎ−プロピレン、ｎ−ブチレン、ｎ−ペンチレン、ｎ−ヘキシレンから選択される。「ｎ−ヘキシレン」は「ヘキサメチレン」と同義である。
【００４５】
「分散体」とは、専門知識によれば、そして本発明の意味においては、固体であっても液体であってもよいが好ましくは固体である連続相中に、不溶性固体粒子（以下で「不溶性固体粒子」とも「粒子」とも称される）を含む組成物を意味する。
【００４６】
本発明による分散体（Ｄ）においては、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）は、固体であっても液体であってもよいが好ましくは固体である連続相であり、かつ前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物は分散相である。
【００４７】
前記分散体（Ｄ）は特に、一貫して高い比抵抗を有するＥＶＡフィルムを無溶剤で製造する際のマスターバッチとして適しており、従って特に大工業的応用に極めて適している。極めて驚くべきことに、本発明による分散体（Ｄ）を用いて、ＥＶＡフィルムの製造が特に付加的な溶剤を使用せずに可能となり、特に、溶剤の使用に頼った従来の方法により製造されたフィルムよりも高い最低ＶＲ値を有するフィルムを製造できることが判明した。
【００４８】
前記分散体（Ｄ）中の前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合に、特に制限はない。しかしながら好ましくは、前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合は、０．１〜２５．０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは１．０〜１１．１質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２．０〜１０．０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは３．０〜９．０質量％の範囲内であり、最も好ましくは５．３〜８．１質量％の範囲内である。
【００４９】
本発明により使用可能なポリオレフィン共重合体は当業者に公知であり、例えば特許文献１及び特許文献７に記載されている。
【００５０】
特に本発明によれば、ポリオレフィン共重合体（Ｉ）としてエチレン／α−オレフィン−インターポリマーが使用され、その際、「インターポリマー」という概念は、当該ポリオレフィン共重合体が少なくとも２種の異なるモノマーから製造されていることを意味する。従って、「インターポリマー」という概念には特に、ちょうど２種のモノマー単位からなるポリオレフィン共重合体や、ターポリマー（例えばエチレン／プロピレン／１−オクテン、エチレン／プロピレン／ブテン、エチレン／ブテン／１−オクテン、エチレン／ブテン／スチレン）やテトラポリマーも包含される。
【００５１】
ポリオレフィン共重合体として、本発明によれば特に、好ましくはエチレン及びα−オレフィンの他に他のモノマー単位を有しないエチレン／α−オレフィン共重合体が考慮され、その際、本発明の意味において、「α−オレフィン」は好ましくは、プロペン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、１−ドデセン、１−テトラデセン、１−ヘキサデセン、１−オクタデセン、３−シクロヘキシル−１−プロペン、ビニルシクロヘキサン、アクリル酸、メタクリル酸、ノルボルネン、スチレン、メチルスチレン、酢酸ビニルからなる群から選択される。
【００５２】
さらに好ましくは、前記分散体（Ｄ）中の本発明によるポリオレフィン共重合体は、エチレン・酢酸ビニル共重合体である。
【００５３】
ポリオレフィン共重合体としてエチレン／α−オレフィン−インターポリマーが使用される場合には、これは特に、エチレン／α−オレフィン−インターポリマーの総質量に対して１５〜５０質量％の範囲内のα−オレフィン含有率を有する。好ましくは、このα−オレフィン含有率は、それぞれエチレン／α−オレフィン−インターポリマーの総質量に対して２０〜４５質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２５〜４０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２６〜３４質量％の範囲内であり、最も好ましくは２８〜３３質量％の範囲内である。
【００５４】
ポリオレフィン共重合体がエチレン・酢酸ビニル共重合体である好ましい一実施態様においては、このエチレン・酢酸ビニル共重合体は特に、このエチレン・酢酸ビニル共重合体の総質量に対して１５〜５０質量％の範囲内の酢酸ビニル含有率を有する。好ましくは、酢酸ビニル含有率は、それぞれこのエチレン・酢酸ビニル共重合体の総質量に対して２０〜４５質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２５〜４０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２６〜３４質量％の範囲内であり、最も好ましくは２８〜３３質量％の範囲内である。
【００５５】
その際、α−オレフィン含有率、特にエチレン・酢酸ビニル共重合体の場合には酢酸ビニルの含有率は、ＡＳＴＭ  Ｄ  ５５９４：１９９８［フーリエ変換赤外分光法によるエチレン・酢酸ビニル（ＥＶＡ）共重合体の酢酸ビニル含有率の測定］に記載されている方法により測定される。
【００５６】
特に、前記分散体（Ｄ）において、前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物は、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）により形成される連続相内で粒子状で存在している。ポリマーフィルムの可能な限り高いＶＲ値を達成するためには、前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物が前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）内に出来る限り微粒状で存在することが好ましい。従って特に、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物は粒子状で存在しており、その際、前記分散体（Ｄ）に含まれる前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての粒子の少なくとも５０％が、１００μｍ以下、好ましくは７５μｍ以下、さらに好ましくは５０μｍ以下の粒度を有する。その際特に、前記分散体（Ｄ）に含まれる前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての粒子の少なくとも５０％が、１μｍ〜１００μｍの範囲内、好ましくは１μｍ〜７５μｍの範囲内、さらに好ましくは１μｍ〜５０μｍの範囲内の粒度を有する。最も好ましくは、前記粒子の少なくとも９５％が２５μｍ以下の粒度を有し、特に前記粒子の９５％が１μｍ〜２５μｍの範囲内の粒度を有する。
【００５７】
さらに、分散体（Ｄ）を用いて製造されるフィルムの生じうる不均一性を最小化するために、前記粒子が所定の最大サイズを上回らないことが好ましい。
【００５８】
前記分散体（Ｄ）のさらに好ましい一実施態様においては、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物は粒子状で存在しており、その際、全ての粒子が１ｍｍ以下の粒度を有する。
【００５９】
本発明によれば、その形態にかかわらず各粒子の周囲で描くことができかつそれと同時にその粒子を完全に包囲する出来る限り小さな球の直径が「粒度」と定義される。
【００６０】
粒度は、本発明によれば光学顕微鏡を用いて測定される。この場合、本発明による混合物のポリマー造粒体は、圧縮されて、最大０．５ｍｍの厚さを有するフィルムとなり、これが光学顕微鏡（Zeiss Axioscope M2m）を用いて試験される。
【００６１】
前記造粒体はまず、前記ポリオレフィン共重合体の融点を上回る温度（ＥＶＡの場合には例えば１２０℃）に加熱される。引き続き、この高温のポリマー溶融物の圧縮が、５００ｇ／ｃｍ2未満の低い接触圧力でポリマーが流動するように、またその際に粒子を損傷しないように、穏やかに行われる。その後、まず、ある観察倍率（１０倍レンズによる結像及び画像セクション１４２０μｍ）で８枚の画像が粒度分布に関して調べられる。小さな粒子は高倍率で（１００倍レンズによる結像及び画像セクション１４２μｍ）検出され、その際、この場合にも８枚の画像が検査される。解析は画像処理ソフトウェアImage Pro Plus（Media Cybernetics社製）を用いて行われ、これにより画像が自動的に解析され、すなわち粒子の数及びサイズが測定される。さらに、このソフトウェアにより１００μｍ未満の粒子のパーセンテージが表示されうる。粒度分布に関する代表的な判断を確実なものとするため、様々なフィルム片を解析し、これから平均値が算出される。個々の粒子を重複して検出することを避けるため、全ての画像は試験体の異なる範囲において撮影される。
【００６２】
前記分散体（Ｄ）は、本発明のもう一つの実施形態においては、電子デバイスの封止膜の製造に使用される。
【００６３】
従って本発明には、電子デバイスの封止膜を製造するための第一の方法において、以下の工程：
（ａ）前記分散体（Ｄ）とさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）とを混合して、混合物を得る工程；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を押出成形して、フィルムを得る工程；
を含む前記方法も含まれる。
【００６４】
電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による第一の方法の工程（ａ）において添加されるさらなるポリオレフィン共重合体は、本発明による方法の工程（ａ）において使用される分散体（Ｄ）に含まれるポリオレフィン共重合体と、同一であっても異なっていてもよいが、しかしながら好ましくは同一であり、さらに好ましくは双方ともにエチレン・酢酸ビニル共重合体であり、さらに好ましくは同一の酢酸ビニル含有率を有するエチレン・酢酸ビニル共重合体である。
【００６５】
電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による第一の方法の工程（ａ）において添加されるポリオレフィン共重合体の量に、特に制限はない。特に、前記工程（ｂ）において押出成形されるフィルムにおいて、ポリオレフィン共重合体（Ｉ）と前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物との所望の比率が調整されるような量で、ポリオレフィン共重合体が添加される。好ましくは、電子デバイスの封止膜の製造方法の工程（ａ）において使用される分散体（Ｄ）において、前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合が、０．１〜２５．０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは１．０〜１１．１質量％の範囲内であり、さらに好ましくは２．０〜１０．０質量％の範囲内であり、さらに好ましくは３．０〜９．０質量％の範囲内であり、最も好ましくは５．３〜８．１質量％の範囲内である場合に、本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する、本発明による方法の工程（ａ）において混合される前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の比率が、０．０１〜８．０質量％の範囲内となるような量で、このさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）が添加される。当然のことながら、同時に、本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する、本発明による方法の工程（ａ）において混合される前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の比率は、工程（ａ）ににおいて使用される分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する、工程（ａ）で使用される分散体（Ｄ）中の前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合よりも、低い。
【００６６】
電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による第一の方法の特別な一実施態様においては、工程（ａ）においてさらなる添加剤が添加される。前記添加剤は、本発明によれば、開始剤、さらなる架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択される。さらに好ましくは、前記添加剤は、開始剤（例えばｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート）、さらなる架橋剤（例えばトリアリルイソシアヌレート）、シランカップリング剤（例えばγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン）からなる群から選択される。
【００６７】
開始剤とは、本発明によれば、熱、光、水分又は電子線により活性化可能なラジカル発生剤である。
【００６８】
前記開始剤は、ペルオキシド系化合物、アゾ化合物、光開始剤からなる群から選択される。さらに好ましくは、前記開始剤は、ペルオキシド系化合物、アゾ化合物からなる群から選択される。その例は、“Encyclopedia of Chemical Technology 1992, 3rd Edition, Vol. 17, p.27-90”に記載されている。
【００６９】
ペルオキシド系化合物は特に、ジアルキルペルオキシド、ジペルオキシケタール、ペルオキシカルボン酸エステル、ペルオキシカーボナートからなる群から選択される有機ペルオキシドである。
【００７０】
ジアルキルペルオキシドは特に、ジクミルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ジ−ｔｅｒｔ−ヘキシルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ブチルクミルペルオキシド、イソ−プロピルクミル−ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシド、ｔｅｒｔ−ヘキシルクミルペルオキシド、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）−ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ヘキサ−３−イン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）−ヘキサ−３−イン、α，α−ジ［（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−イソ−プロピル］−ベンゼン、ジ−ｔｅｒｔ−アミルペルオキシド、１，３，５−トリ−［（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−イソプロピル］−ベンゼン、１，３−ジメチル−３−（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ブタノール、１，３−ジメチル−３−（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）−ブタノール、イソ−プロピルクミルヒドロペルオキシドからなる群から選択される。
【００７１】
ジペルオキシケタールは特に、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）シクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）バレラート、エチル−３，３−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブチラート、２，２−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）ブタン、３，６，６，９，９−ペンタメチル−３−エトキシカルボニルメチル−１，２，４，５−テトラオキサシクロノナン、２，２−ジ（ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ）プロパン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）バレラートからなる群から選択される。
【００７２】
ペルオキシカルボン酸エステルは特に、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシアセタート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノアート、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシベンゾアート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシアセタート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシベンゾアート、ＯＯ−ｔｅｒｔ−ブチルモノペルオキシスクシナート、ＯＯ−ｔｅｒｔ−アミルモノペルオキシスクシナートからなる群から選択される。
【００７３】
ペルオキシカーボナートは特に、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−イソ−プロピルカーボナート、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシベンゾアートからなる群から選択される。好ましいペルオキシカーボナートは、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート（「ＴＢＰＥＨＣ」）である。
【００７４】
前記アゾ化合物は、好ましくは、２，２’−アゾビス−（２−アセトキシプロパン）、１，１’−アゾジ（ヘキサヒドロベンゾニトリル）からなる群から選択される。
【００７５】
特に好ましくは、前記開始剤は、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート、ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−３，５，５−トリメチルヘキサノアート、１，１−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−アミルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナートからなる群から選択され、最も好ましくは、開始剤はｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート（「ＴＢＰＥＨＣ」）である。
【００７６】
前記ポリオレフィン共重合体の質量に対して使用される前記ペルオキシド系化合物又は前記アゾ化合物の、好ましくは前記ペルオキシド系化合物の質量に、特に制限はない。前記ペルオキシド系化合物又は前記アゾ化合物、好ましくは前記ペルオキシド系化合物は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．０５〜１０質量％の量で、好ましくは０．１〜５質量％の量で、さらに好ましくは０．５〜２質量％の量で使用される。
【００７７】
前記光開始剤は特に、ベンゾフェノン、ベンズアントロン、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、ｐ−フェノキシジクロロアセトフェノン、２−ヒドロキシシクロヘキシルフェノン、２−ヒドロキシイソプロピルフェノン、１−フェニルプロパンジオン−２−（エトキシカルボニル）−オキシムからなる群から選択される。
【００７８】
前記光開始剤は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．０５〜１０質量％の量で、好ましくは０．１〜５質量％の量で、さらに好ましくは０．２〜３質量％の量で、さらに好ましくは０．２５〜１質量％の量で使用される。
【００７９】
その際、「さらなる架橋剤」という概念は、本発明の意味においては、これが前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物ではないことを含意する。
【００８０】
その際、架橋剤は、トリアリルイソシアヌレート、トリアリルシアヌレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレート、ジビニルベンゼン、多価アルコールのアクリレート及びメタクリレートからなる群から選択される。多価アルコールのアクリレート及びメタクリレートは特に、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、１，１０−デカンジオールジ（メタ）アクリレートからなる群から選択される。特に好ましくは、前記さらなる架橋剤はトリアリルイソシアヌレートである。
【００８１】
本発明による方法の工程（ａ）において使用される架橋剤の割合に、特に制限はない。前記架橋剤は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．００５〜５質量％、好ましくは０．０１〜３質量％、さらに好ましくは０．０５〜３質量％、さらに好ましくは０．１〜１．５質量％の量で使用される。
【００８２】
本発明により使用可能なシランカップリング剤としては、不飽和炭化水素基と加水分解性基とを有する全てのシランが考慮される（例えば欧州特許第２４３６７０１号明細書、米国特許第５，２６６，６２７号明細書に記載）。
【００８３】
不飽和炭化水素基は特に、ビニル、アリル、イソプロペニル、ブテニル、シクロヘキセニル、γ−（メタ）アクリルオキシアリルからなる群から選択される。
【００８４】
加水分解性基は特に、ヒドロカルビルオキシ、ヒドロカルボニルオキシ、ヒドロカルビルアミノからなる群から選択される。好ましい加水分解性基は、メトキシ、エトキシ、ホルミルオキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、アルキルアミノ、アリールアミノからなる群から選択される。
【００８５】
好ましくは、前記シランカップリング剤は、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス−（β−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリアセトキシシラン、γ−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（β−アミノエチル）−γ−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリエトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、β−（３，４−エトキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシランからなる群から選択される。特に好ましくは、前記シランカップリング剤としてγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（省略して「ＫＢＭ」と称される）が使用される。
【００８６】
その際、本発明による方法の工程（ａ）において使用されるさらなる架橋剤の割合に、特に制限はない。シランカップリング剤は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量の質量に対して、特に０．０５〜５質量％、好ましくは０．１〜２質量％の量で使用される。
【００８７】
酸化防止剤は、本発明の意味においては、好ましくはフェノール系酸化防止剤、含リン酸化防止剤からなる群から選択される。
【００８８】
フェノール系酸化防止剤は特に、４−メトキシフェノール、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−メチルフェノール、ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキノン、ステアリル−β−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート、ペンタエリトリットテトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート］、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ヘキサデシルエステルからなる群から選択される。
【００８９】
含リン酸化防止剤は特に、トリフェニルホスフィット、トリス−（ノニルフェニル）ホスフィット、ジステアリルペンタエリトリトールジホスフィット、テトラ−（トリデシル）−１，１，３−トリス−（２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタンジホスファート、テトラキス−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−４，４−ビフェニルジホスホニットからなる群から選択される。
【００９０】
その際、本発明による方法の工程（ａ）において使用される酸化防止剤の割合に、特に制限はない。酸化防止剤は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．０１〜０．５質量％、好ましくは０．０５〜０．３質量％の量で使用される。
【００９１】
老化防止剤は、本発明の意味においては特に、ヒンダードアミン系光安定剤（hindered amine light stabilizers＝「ＨＡＬＳ」安定剤）及びＵＶ吸収剤の群から選択される。
【００９２】
ＨＡＬＳ安定剤は、本発明の意味においては特に、少なくとも１つの２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル基を有する化合物であって、その際、ピペリジル基の１位の窒素原子は、Ｈ、アルキル基又はアルコキシ基を有するものとする前記化合物である。
【００９３】
好ましくは、ＨＡＬＳ安定剤は、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバカート、１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルセバカート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバカート、ビス−（１−オクチルオキシ−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバカート、ＣＡＳ番号８２４５１−４８−７を有するポリ｛（６−モルホリノ−Ｓ−トリアジン−２，４−ジイル）［２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］ヘキサメチレン［（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ］｝、ＣＡＳ番号１９３０９８−４０−７の重合体、ジメチルスクシナートと１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノールからの共重合体、ＣＡＳ番号１０６９９０−４３−６を有するＮ，Ｎ'，Ｎ''，Ｎ'''−テトラキス−｛４，６−ビス［ブチル（Ｎ−メチル−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）アミノ］トリアジン−２−イル｝−４，７−ジアザデカン−１，１０−ジアミンからなる群から選択される。
【００９４】
その際、本発明による方法の工程（ａ）において使用されるＨＡＬＳ安定剤の割合に、特に制限はない。ＨＡＬＳ安定剤は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．０１〜０．５質量％、好ましくは０．０５〜０．３質量％の量で使用される。
【００９５】
ＵＶ吸収剤は特に、２−ヒドロキシ−４−Ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾアート、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−４−カルボキシベンゾフェノン、２−（２−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、ｐ−オクチルフェニルサリチラート、２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−［（ヘキシル）オキシ］フェノール、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレートからなる群から選択される。
【００９６】
その際、前記分散体（Ｄ）に含まれるＵＶ吸収剤の割合に、特に制限はない。前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのＵＶ吸収剤の割合は、それぞれ前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体の質量に対して、特に０．０１〜０．５質量％であり、好ましくは０．０５〜０．３質量％である。
【００９７】
金属酸化物は、本発明によれば特に、アルカリ金属酸化物、アルカリ土類金属酸化物、酸化亜鉛からなる群から選択され、好ましくは、酸化マグネシウム、酸化亜鉛からなる群から選択される。
【００９８】
その際、本発明による方法の工程（ａ）において使用される金属酸化物の割合に、特に制限はない。前記金属酸化物は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．０１〜１０質量％、好ましくは０．０５〜３質量％の量で使用される。
【００９９】
金属水酸化物は、本発明によれば特に、アルカリ金属水酸化物、アルカリ土類金属水酸化物からなる群から選択され、好ましくは、水酸化マグネシウム、水酸化カルシウムからなる群から選択される。
【０１００】
その際、本発明による方法の工程（ａ）において使用される金属水酸化物の割合に、特に制限はない。前記金属水酸化物は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に０．０１〜１０質量％、好ましくは０．０５〜３質量％の量で使用される。
【０１０１】
白色顔料は、本発明の意味においては特に、二酸化チタン、酸化亜鉛、硫化亜鉛、硫酸バリウム、リトポンからなる群から選択される。
【０１０２】
その際、本発明による方法の工程（ａ）において使用される白色顔料の割合に、特に制限はない。前記白色顔料の割合は、それぞれ本発明による方法の工程（ａ）において混合される全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の質量に対して、特に５〜２５質量％、好ましくは１０〜２０質量％、さらに好ましくは１５質量％の量で使用される。
【０１０３】
電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による第一の方法の２つの工程は、当業者に公知の方法により実施されることができる。
【０１０４】
例えば、一実施態様においては、前記工程（ａ）及び（ｂ）は別々に実施されてよい。これは特に、造粒体の形態である前記分散体（Ｄ）を、同様に造粒体の形態であるさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）と、そして場合によりさらなる添加剤と、ミキサー中で混合し［工程（ａ）］、次いで、前記工程（ａ）で得られた混合物を押出機に配量し、この押出機中でこの混合物を溶融させ、均一に混合し、かつ押出成形してフィルムを得ることにより行われる。
【０１０５】
それとは別に、そして好ましくは、工程（ａ）及び工程（ｂ）は１つの方法工程で行われ、その際、造粒体の形態である分散体（Ｄ）が、同様に造粒体の形態であるさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）及び場合によりすでに含まれている添加剤と、同時にかつ互いに無関係に押出機に配量され、そこで混合され、そしてそのようにして得られた混合物が溶融され、均質化され、かつ押出成形されてフィルムが得られる。
【０１０６】
本発明による分散体（Ｄ）は、特に、以下の工程：
（ａ）ポリオレフィン共重合体（Ｉ）を準備する工程；
（ｂ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）に、化学構造式（ＩＩ）：
【化２】
2016117896.tif 000003
［式中、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基はハロゲン基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ4Ｒ5からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基は、ハロゲン基で、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ6、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ7Ｒ8からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキル基からなる群から選択され、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である］
で示される少なくとも１種の粉末状化合物を添加する工程；；
（ｃ）前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物を、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）に組み込む工程；
を含む、分散体（Ｄ）の製造方法により得られる。
【０１０７】
前記工程（ｃ）における組み込みは、例えば連続混合ユニット中で、例えば単軸スクリュー押出機、二軸スクリュー押出機又はBussニーダー中で、又はバッチ式ニーダー又は密閉式ミキサー中で、当業者に公知の方法により行われることができる。これにより、前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物を確実に前記ポリオレフィン共重合体中に分散させることができる。
【０１０８】
前記分散体（Ｄ）の製造方法の工程（ｃ）における前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物の組み込みを改善するために、前記工程（ｂ）で使用される前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物は、特に以下のような粒度を有する：前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物に含まれる全ての粒子の少なくとも５０％が、５００μｍ以下、好ましくは４００μｍ以下、さらに好ましくは２５０μｍ以下、最も好ましくは２２０μｍ以下の粒度を有する（「ｄ50値」とも省略される。）。その際、前記粒度はＤＩＮ／ＩＳＯ  １３３２０により測定される。さらに好ましくは、前記工程（ｂ）において使用される前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物の全ての粒子が、２ｍｍ以下の粒度を有する。
【０１０９】
前記分散体（Ｄ）の製造方法の工程（ｃ）における組み込みの間のせん断力によって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物の粒度が低下されることに留意すべきである。その結果、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物の粒子の粒度は、前記化学構造式（ＩＩ）で示される使用された粉末状化合物の粒子の粒度よりも、平均して小さくなる。
【０１１０】
本発明はさらに、分散体（Ｄ）を製造するための本発明による方法により得られる分散体（Ｄ）、及び電子デバイスの封止膜を製造するための前記分散体（Ｄ）の使用にも関する。
【０１１１】
当然のことながら、分散体（Ｄ）を製造するための本発明による方法により得られる分散体（Ｄ）を、電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による方法の工程（ａ）において使用することもできる。
【０１１２】
従って本発明はさらに、電子デバイスの封止膜を製造するためのもう一つの第二の方法において、以下の工程：
（ａ）分散体（Ｄ）を製造するための本発明による方法により得られる分散体（Ｄ）と、さらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）とを混合して、混合物を得る工程；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を押出成形して、フィルムを得る工程；
を含む前記方法に関する。
【０１１３】
その際、好ましくは、電子デバイスの封止膜を製造するための第二の方法の工程（ａ）において、開始剤、さらなる架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択されるさらなる添加剤が添加される。これらの添加剤は、電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による第一の方法に関して記載された意味及び好ましい実施形態を有する。
【０１１４】
電子デバイスの封止膜を製造するための本発明による第二の方法の２つの工程は、当業者に公知の方法により実施されることができる。
【０１１５】
例えば、電子デバイスの封止膜を製造するための第二の方法の一実施態様においては、前記工程（ａ）及び（ｂ）は別々に実施されてよい。これは特に、分散体（Ｄ）を製造するための本発明による方法により得られる、造粒体の形態である分散体（Ｄ）を、同様に造粒体の形態であるさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）と、そして場合によりさらなる添加剤と、ミキサー中で混合し［工程（ａ）］、次いで、前記工程（ａ）で得られた混合物を押出機に配量し、この押出機中でこの混合物を溶融させ、均一に混合し、かつ押出成形してフィルムを得ることにより行われる。
【０１１６】
それとは別に、そして好ましくは、工程（ａ）及び工程（ｂ）は１つの方法工程で行われ、その際より好ましくは、分散体（Ｄ）を製造するための本発明による方法により得られる、造粒体の形態である分散体（Ｄ）が、同様に造粒体の形態であるさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）及び場合によりすでに含まれている添加剤と、同時にかつ互いに無関係に押出機に配量され、そこで混合され、そしてそのようにして得られた混合物が溶融され、均質化され、かつ押出成形されてフィルムが得られる。
【０１１７】
以下の実施例により本発明を詳説するが、本発明はこの実施例に限定されるものではない。
【実施例】
【０１１８】
１．使用される化学薬品
Ｎ，Ｎ−メチレンジアクリルアミド＝（「ＭＤＡＡ」）は、Merck社製である。密度は１．２３５ｇ／ｃｍ3（３０℃）であり、この製品のかさ密度は２００ｋｇ／ｍ3であった。粒度分布：ｄ50＝２２０μｍであった（装置：Beckman Coulter LS粒度測定装置）。
【０１１９】
以下で使用されるトリアリルイソシアヌレートは、Evonik Industries AG社製「TAICROS（登録商標）」である。
【０１２０】
以下で使用されるγ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン（＝「ＫＢＭ」）は、Evonik Industries AG社製「Dynasylan Memo（登録商標）」である。
【０１２１】
以下で使用されるｔｅｒｔ−ブチルペルオキシ−２−エチルヘキシルカーボナート（＝「ＴＢＰＥＨＣ」）は、United Initiators社製である。
【０１２２】
以下で使用されるＥＶＡは、２８．３質量％の酢酸ビニル含有率を有するArkema社製「EVATANE 28-40（登録商標）」である。
【０１２３】
２．マスターバッチの製造
２．１  実施例１のためのマスターバッチの製造
１．０％のＭＤＡＡ濃度を有するマスターバッチを製造するため、ＥＶＡ造粒体５．０ｋｇをＭＤＡＡ  ５０ｇと共にThermoHaake PTW 16/25D中で押出成形した。このＥＶＡ造粒体は体積測定により配量ユニットBrabender DDS 20を用いて計量供給したものであり、このＭＤＡＡは質量測定により粉体供給ユニット（Brabender MiniTwin）を通じて供給したものである。このマスターバッチをダイ出口の後に水浴中で２０℃に冷却し、ストランドペレタイザ−により造粒した。
【０１２４】
２．２  実施例２及び実施例５のためのマスターバッチの製造
５．３％のＭＤＡＡ濃度を有するマスターバッチを製造するため、ＥＶＡ造粒体５．０ｋｇをＭＤＡＡ  ２６５ｇと共にThermoHaake PTW 16/25D中で押出成形した。このＥＶＡ造粒体は体積測定により配量ユニットBrabender DDS 20を用いて計量供給したものであり、このＭＤＡＡは質量測定により粉体供給ユニット（Brabender MiniTwin）を通じて供給したものである。このマスターバッチをダイ出口の後に水浴中で２０℃に冷却し、ストランドペレタイザ−により造粒した。
【０１２５】
２．３  実施例３及び実施例６のためのマスターバッチの製造
８．１％のＭＤＡＡ濃度を有するマスターバッチを製造するため、ＥＶＡ造粒体５．０ｋｇをＭＤＡＡ  ４０５ｇと共にThermoHaake PTW 16/25D中で押出成形した。このＥＶＡ造粒体は体積測定により配量ユニットBrabender DDS 20を用いて計量供給したものであり、このＭＤＡＡは質量測定により粉体供給ユニット（Brabender MiniTwin）を通じて供給したものである。このマスターバッチをダイ出口の後に水浴中で２０℃に冷却し、ストランドペレタイザ−により造粒した。
【０１２６】
２．４  実施例４のためのマスターバッチの製造
２５．０％のＭＤＡＡ濃度を有するマスターバッチを製造するため、ＥＶＡ造粒体５．０ｋｇをＭＤＡＡ  １．２５ｋｇと共にThermoHaake PTW 16/25D中で押出成形した。このＥＶＡ造粒体は体積測定により配量ユニットBrabender DDS 20を用いて計量供給したものであり、このＭＤＡＡは質量測定により粉体供給ユニット（Brabender MiniTwin）を通じて供給したものである。このマスターバッチをダイ出口の後に水浴中で２０℃に冷却し、ストランドペレタイザ−により造粒した。
【０１２７】
３．ＥＶＡフィルム製造のためのＥＶＡ造粒体の準備
比較例：
例Ｖ１
ＴＡＩＣ  ２．０２ｇ（８．１１ミリモル）、ＫＢＭ  ０．５０ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４．０ｇからの混合物をＥＶＡ  ４９３．５ｇに一様に分配させた。このＥＶＡ−添加剤混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１２８】
例Ｖ２
ＭＤＡＡ  １．２５ｇ（８．１１ミリモル）を、ＫＢＭ  ０．５０ｇ、ＴＢＰＥＨＣ  ４．０ｇ及びメタノール１５ｇからの混合物中に溶解させた。この混合物をＥＶＡ  ４９４．２５ｇに一様に分配させた。このＥＶＡ−添加剤混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合し、次いで真空乾燥棚中で３５℃で１時間乾燥させてメタノールを除去した。
【０１２９】
例Ｖ３
ＭＤＡＡ  ０．２５ｇ（１．６２ミリモル）を、ＴＡＩＣ  ２．２５ｇ（９．０３ミリモル）、ＫＢＭ  ０．５０ｇ、ＴＢＰＥＨＣ  ４．０ｇ及びメタノール１．７ｇからの混合物中に溶解させた。この混合物をＥＶＡ  ４９３ｇに一様に分配させた。このＥＶＡ−添加剤混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合し、次いで真空乾燥棚中で３５℃で１時間乾燥させてメタノールを除去した。
【０１３０】
例Ｖ４
ＭＤＡＡ  ０．５ｇ（３．２４ミリモル）を、ＴＡＩＣ  ２．０ｇ（８．０２ミリモル）、ＫＢＭ  ０．５０ｇ、ＴＢＰＥＨＣ  ４．１５ｇ及びメタノール１．７３ｇからの混合物中に溶解させた。この混合物をＥＶＡ  ４９３ｇに一様に分配させた。このＥＶＡ−添加剤混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合し、次いで真空乾燥棚中で３５℃で１時間乾燥させてメタノールを除去した。
【０１３１】
本発明による実施例１〜６
実施例１
ＴＡＩＣ  ２．２５ｇ、ＫＢＭ  ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４ｇを混合し、第２．１節に記載した通りに製造されたマスターバッチ（以下で省略して「ＭＢ」と称される）２５ｇとＥＶＡ  ４６８．２５ｇとからなる造粒体混合物に一様に分配させた。得られたこのＥＶＡ／ＭＢ−添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１３２】
実施例２
ＴＡＩＣ  ２．２５ｇ、ＫＢＭ  ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４ｇを混合し、第２．２節に記載した通りに製造されたマスターバッチ５．０ｇとＥＶＡ  ４８８．２５ｇとからなる造粒体混合物に一様に分配させた。得られたこのＥＶＡ／ＭＢ−添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１３３】
実施例３
ＴＡＩＣ  ２．２５ｇ、ＫＢＭ  ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４ｇを混合し、第２．３節に記載した通りに製造されたマスターバッチ２．５ｇとＥＶＡ  ４９０．７０ｇとからなる造粒体混合物に一様に分配させた。得られたこのＥＶＡ／ＭＢ−添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１３４】
実施例４
ＴＡＩＣ  ２．２５ｇ、ＫＢＭ  ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４ｇを混合し、第２．４節に記載した通りに製造されたマスターバッチ１．２５ｇとＥＶＡ  ４９２．０ｇとからなる造粒体混合物に一様に分配させた。得られたこのＥＶＡ／ＭＢ−添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１３５】
実施例５
ＴＡＩＣ  ２．０ｇ、ＫＢＭ  ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４ｇを混合し、第２．２節に記載した通りに製造されたマスターバッチ１０．０ｇとＥＶＡ  ４８３．５３ｇとからなる造粒体混合物に一様に分配させた。得られたこのＥＶＡ／ＭＢ−添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１３６】
実施例６
ＴＡＩＣ  ２．２５ｇ、ＫＢＭ  ０．５ｇ及びＴＢＰＥＨＣ  ４ｇを混合し、第２．３節に記載した通りに製造されたマスターバッチ６．６７ｇとＥＶＡ  ４８６．８７ｇとからなる造粒体混合物に一様に分配させた。得られたこのＥＶＡ／ＭＢ−添加物混合物を、引き続きタンブルミキサー中で２〜４時間混合した。
【０１３７】
４．フィルム押出成形
ＥＶＡフィルムを製造するために、それぞれの比較例Ｖ１〜Ｖ４ないし本発明による実施例１〜７において調製されたＥＶＡ造粒体を、Brabender単軸押出機（１９ｍｍ）に直接配量した。ＥＶＡ溶融物を調整可能なスリット幅を有するスロットダイ（１０ｃｍ）によって押出し、フィルムを連続的にローラー系上で５０℃に（第一のロール）、そして第二のロールで２０℃に後冷却し、次いで巻取った。押出機の設定を以下に示す：
【表１】
2016117896.tif 000004
【０１３８】
５．フィルム積層
ＥＶＡフィルムの積層を、１５０℃（機器設定）でテフロン剥離フィルム間で行い、その際、相応する温度を積層プロセス全体にわたって一定に保持した。一段の脱気工程の期間は１００ｓであった。次いで、試験体を０．７ｋｇ／ｃｍ2の接触圧力で圧縮した。積層装置内の滞留時間は２０分であった。
【０１３９】
６．比抵抗ρの測定
架橋された厚さ４００〜５００μｍのＥＶＡフィルムの抵抗を測定するために、まず約８×８ｃｍの寸法を有する試験体を、室温（２２．５℃）で相対空中湿度５０％で、７日間まで、但し少なくとも４日間貯蔵し、それによって、確実にこのＥＶＡフィルム内部での水分レベルが一定となるようにした。
【０１４０】
抵抗測定を、Keithley社製オーム計（6517B）及び同様にKeithley社製の相応する測定セル（「resistivity test fixture 8009」）を用いて実施した。ＡＳＴＭ  Ｄ−２５７に準拠して、この試験体に５００Ｖの電圧を６０秒間印加し、この時間の後に電流を測定した。抵抗（ＶＲ）は、既知のパラメータから算出することができ、これを以下の第１表に示す。
【０１４１】
【表２】
2016117896.tif 000005
【０１４２】
上記表の結果から、以下の結論が得られる：
−  ＥＶＡにより示されるポリオレフィン共重合体と、ＭＤＡＡにより示される前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物とからのマスターバッチを使用した場合、溶剤の使用に頼る必要なくフィルムを製造することができる。
−  ＥＶＡに対するＭＤＡＡの特定の組成によって、フィルム全体にわたって十分に高いＶＲが保証されるようなＶＲを有するＥＶＡフィルムを製造することができる。このことは、第１表中の「ＶＲmin」値が、１〜８．１の値について、溶剤が使用された場合よりも高いことから明らかである。
【０１４３】
どちらも極めて驚くべき結果であった。
【０１４４】
［本発明の態様］
１．  以下：
（ｉ）連続相としての少なくとも１種のポリオレフィン共重合体（Ｉ）；及び
（ｉｉ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）中に分散された、化学構造式（ＩＩ）：
【化３】
2016117896.tif 000006
［式中、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基はハロゲン基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ4Ｒ5からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基は、ハロゲン基で、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ6、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ7Ｒ8からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキル基からなる群から選択され、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である］
で示される少なくとも１種の化合物；
を含む分散体（Ｄ）。
【０１４５】
２．  １に記載の分散体（Ｄ）であって、Ｒ1＝Ｒ2＝水素であり、かつＡ＝−ＣＨ2−である、前記分散体（Ｄ）。
【０１４６】
３．  １又は２に記載の分散体（Ｄ）であって、前記分散体（Ｄ）に含まれる全てのポリオレフィン共重合体（Ｉ）の総質量に対する前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての化合物の割合が、０．１〜２５質量％の範囲内である、前記分散体（Ｄ）。
【０１４７】
４．  １から３までのいずれか１つに記載の分散体（Ｄ）であって、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）がエチレン・酢酸ビニル共重合体である、前記分散体（Ｄ）。
【０１４８】
５．  １から４までのいずれか１つに記載の分散体（Ｄ）であって、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）が固体の凝集状態で存在している、前記分散体（Ｄ）。
【０１４９】
６．  ５に記載の分散体（Ｄ）であって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物が粒子状で存在しており、その際、前記分散体（Ｄ）に含まれる前記化学構造式（ＩＩ）で示される全ての粒子の少なくとも５０％が、１００μｍ以下の粒度を有する、前記分散体（Ｄ）。
【０１５０】
７．  ６に記載の分散体（Ｄ）であって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される分散された化合物が粒子状で存在しており、その際、全ての粒子が１ｍｍ未満の粒度を有する、前記分散体（Ｄ）。
【０１５１】
８．  電子デバイスの封止膜を製造するための、１から７までのいずれか１つに記載の分散体（Ｄ）の使用。
【０１５２】
９．  電子デバイスの封止膜の製造方法において、以下の工程：
（ａ）１から７までのいずれか１つに記載の分散体（Ｄ）とさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）とを混合して、混合物を得る工程；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を押出成形して、フィルムを得る工程；
を含む、前記方法。
【０１５３】
１０．  ９に記載の方法において、前記工程（ａ）において、開始剤、さらなる架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択されるさらなる添加剤を添加する、前記方法。
【０１５４】
１１．  分散体（Ｄ）の製造方法において、以下の工程：
（ａ）ポリオレフィン共重合体（Ｉ）を準備する工程；
（ｂ）前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）に、化学構造式（ＩＩ）：
【化４】
2016117896.tif 000007
［式中、
Ｒ1、Ｒ2は、互いに無関係にそれぞれ、水素又はメチルであり、
Ａは、以下：
１〜２０個の炭素原子を有する非分岐状又は分岐状のアルキレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基はハロゲン基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ3、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ4Ｒ5からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アルキレン基；
６〜１４個の炭素原子を有するアリーレン基であって、その際、少なくとも１つの水素基は、ハロゲン基で、又は１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基で置換されていてよく、かつ、１つ又は２つの水素基はそれぞれ、−ＯＲ6、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ7Ｒ8からなる群から選択される基で置換されていてよいものとする、前記アリーレン基；
化学構造式−Ａ1−Ｘ−Ａ2−で示される架橋基；
からなる群から選択され、その際、
Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、互いに無関係にそれぞれ、水素、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキル基からなる群から選択され、
Ａ1、Ａ2は、互いに無関係にそれぞれ、１〜１０個の炭素原子を有する分岐状又は非分岐状のアルキレン基であり、
Ｘは、−Ｏ−、−Ｓ−Ｓ−、−Ｓ−、−ＮＲ9−からなる群から選択され、ここで、Ｒ9は、１〜１０個の炭素原子を有するアルキル基である］
で示される少なくとも１種の粉末状化合物を添加する工程；；
（ｃ）前記化学構造式（ＩＩ）で示される化合物を、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）に組み込む工程；
を含む、前記方法。
【０１５５】
１２．  １１に記載の方法であって、Ｒ1＝Ｒ2＝水素であり、かつＡ＝−ＣＨ2−である、前記方法。
【０１５６】
１３．  １１又は１２に記載の方法であって、前記ポリオレフィン共重合体（Ｉ）がエチレン・酢酸ビニル共重合体である、前記方法。
【０１５７】
１４．  １１から１３までのいずれか１つに記載の方法であって、前記化学構造式（ＩＩ）で示される粉末状化合物に含まれる全ての粒子の少なくとも５０％が、ＤＩＮ／ＩＳＯ  １３３２０により測定して５００μｍ以下の粒度を有する、前記方法。
【０１５８】
１５．  １１から１４までのいずれか１つに記載の方法により得られる、分散体（Ｄ）。
【０１５９】
１６．  電子デバイスの封止膜を製造するための、１５に記載の分散体（Ｄ）の使用。
【０１６０】
１７．  電子デバイスの封止膜の製造方法において、以下の工程：
（ａ）１５に記載の分散体（Ｄ）とさらなるポリオレフィン共重合体（Ｉ）とを混合して、混合物を得る工程；
（ｂ）前記工程（ａ）で得られた混合物を押出成形して、フィルムを得る工程；
を含む、前記方法。
【０１６１】
１８．  １７に記載の方法において、前記工程（ａ）において、開始剤、さらなる架橋剤、シランカップリング剤、酸化防止剤、老化防止剤、金属酸化物、金属水酸化物、白色顔料からなる群から選択されるさらなる添加剤を添加する、前記方法。