(57)【要約】【課題】純水中にオゾンを溶解させた場合に比べてオゾン濃度を高めた状態で、超音波洗浄を行う。【解決手段】洗浄方法は、低周波超音波洗浄工程Ｐ１と、低周波超音波洗浄工程Ｐ１の後に行われる高周波超音波洗浄工程Ｐ２と、高周波超音波洗浄工程Ｐ２の後に行われるすすぎ洗浄工程Ｐ３とを備えている。低周波超音波洗浄工程Ｐ１は、オゾンが溶解された酸性の洗浄水１３に低周波振動を加えて被洗浄物４０の低周波超音波洗浄を行い、高周波超音波洗浄工程Ｐ２は、オゾンが溶解された酸性の洗浄水２３に高周波波振動を加えて被洗浄物４０の高周波超音波洗浄を行い、すすぎ洗浄工程Ｐ３は、純水によるすすぎ洗浄を行う。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
オゾンが溶解された酸性の洗浄水に低周波振動を加えて被洗浄物の低周波超音波洗浄を行う低周波超音波洗浄工程と、
前記低周波超音波洗浄工程の後に、オゾンが溶解された酸性の洗浄水に高周波振動を加えて前記被洗浄物の高周波超音波洗浄を行う高周波超音波洗浄工程と、
前記高周波超音波洗浄工程の後に、純水によるすすぎ洗浄を行うすすぎ洗浄工程と
を備えたことを特徴とする洗浄方法。
【請求項２】
前記低周波振動は、７０ｋＨｚ以下であり、前記高周波振動は、８０ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚである請求項１に記載の洗浄方法。
【請求項３】
前記低周波超音波洗浄工程及び前記高周波超音波洗浄工程における洗浄処理時の洗浄水のオゾン濃度は、８〜２０％である請求項１又は請求項２に記載の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、洗浄方法に係り、詳しくは金属部品の洗浄に好適な洗浄方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
金属部品に限らず、被洗浄物を洗浄する洗浄方法として、超音波洗浄方法がある。特許文献１には、アルカリ性溶液（ｐＨ１２）中での超音波洗浄（４０ｋＨｚ、３分）と、アルカリ性溶液（ｐＨ１１）中での超音波洗浄（１２０ｋＨｚ、３分）と、アルカリ性溶液（ｐＨ１０）中での超音波洗浄（１ＭＨｚ、３分）と、純水中での超音波洗浄（１ＭＨｚ、３分）とを行う洗浄方法が記載されている。また、超音波洗浄の際に、純水にオゾンを溶解させた洗浄水を使用し、オゾンの酸化力により汚染物を有効に除去する方法もある（例えば、特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００５−２０９２７３号公報
【特許文献２】特開平９−２０６７１３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
特許文献１の洗浄方法は、ハードディスク等の磁気記録媒体の製造工程において、磁性材を含む被加工体をドライエッチングで加工した際に、被加工体の表面に残る多数の破片を除去する目的で行われる。そして、ドライエッチングの際に使用されて被加工体の表面に残るハロゲン系のガスや酸素ガス、オゾンガスなどの酸素系ガス等を除去するために、アルカリ性溶液中で超音波洗浄を行っている。
【０００５】
洗浄水としてオゾン水を使用する場合、オゾンの酸化性を有効にするためには、洗浄水中のオゾン濃度を高める必要がある。しかし、オゾンは水に溶け難いため、高濃度化が難しい。そのため、加圧してオゾンガスを水中に溶解させている。しかし、一般に洗浄処理は、大気中で行われるため、洗浄処理の際、洗浄水中に溶存していたオゾンがガス化し、オゾン水中のオゾン濃度が低下してしまう。
【０００６】
本発明は、前記の問題に鑑みてなされたものであって、その目的は、純水中にオゾンを溶解させた場合に比べてオゾン濃度を高めた状態で、超音波洗浄を行うことができる洗浄方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する洗浄方法は、オゾンが溶解された酸性の洗浄水に低周波振動を加えて被洗浄物の低周波超音波洗浄を行う低周波超音波洗浄工程と、前記低周波超音波洗浄工程の後に、オゾンが溶解された酸性の洗浄水に高周波振動を加えて前記被洗浄物の高周波超音波洗浄を行う高周波超音波洗浄工程と、前記高周波超音波洗浄工程の後に、純水によるすすぎ洗浄を行うすすぎ洗浄工程とを備えた。ここで、低周波振動とは、７０ｋＨｚ以下の振動を意味し、高周波振動とは、７０ｋＨｚより高い振動を意味する。
【０００８】
この構成によれば、オゾンが溶解された酸性の洗浄水を超音波洗浄に使用するため、純水中にオゾンを溶解させた場合に比べてオゾン濃度を高めた状態で、超音波洗浄を行うことができる。そして、オゾンの酸化力により、被洗浄物に付着していた金属異物の表面が酸化され、金属異物の被洗浄物との引っ掛かりが解消されて、金属異物が被洗浄物から脱落し易くなる。脱落した異物は被洗浄物に再付着する可能性もあるが、表面が酸化されることで、化学的にも付着し難くなるとともに、後工程のすすぎ洗浄時に脱落し易くなる。また、低周波数及び高周波数の異なる周波数で超音波洗浄が行われるため、広い範囲にわたって大きさの異なる異物の除去が可能となる。また、被洗浄物として、切削油等が付着したものを洗浄する場合、切削油等の有機物が、オゾンの酸化力により分解されて容易に除去される。すすぎ洗浄工程では、被洗浄物に付着した酸性の洗浄水が洗い流されるだけでなく、超音波洗浄工程で被洗浄物から取り除かれかけた異物が被洗浄物上から脱落する。
【０００９】
前記低周波振動は、７０ｋＨｚ以下であり、前記高周波振動は、８０ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚであることが好ましい。高周波振動は、例えば、１ＭＨｚ以上であっても油等の除去は可能であるが、ＭＨｚのオーダまで高くしなくても、８０〜１０００ｋＨｚ程度の周波数で良好に除去することができ、消費エネルギーが少なくなる。
【００１０】
前記低周波超音波洗浄工程及び前記高周波超音波洗浄工程における洗浄処理時の洗浄水のオゾン濃度は、８〜２０％であることが好ましい。ここで、「洗浄処理時の洗浄水のオゾン濃度」とは、加圧状態で高濃度（例えば、３０％）のオゾン水の濃度を意味するのではなく、大気圧下で超音波洗浄を行う際に、高濃度のオゾン水中に溶存していたオゾンの一部がガス化して濃度が低下した状態のオゾン濃度を意味する。
【００１１】
洗浄水中のオゾン濃度が高い方が酸化作用が強くなるが、オゾン濃度を３０％程度の高濃度に維持するには、加圧下で処理を行うか、高濃度（例えば、３０％）のオゾン水の供給口で行う必要がある。しかし、そこまでオゾン濃度を高くしなくても、３０％のオゾン水を大気下において、オゾン水中に溶存していたオゾンの一部がガス化して濃度が低下した濃度８〜２０％のオゾン水でも、必要とする超音波洗浄効果が得られる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、純水中にオゾンを溶解させた場合に比べてオゾン濃度を高めた状態で、超音波洗浄を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】洗浄装置の概略図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図１にしたがって説明する。
洗浄方法は、低周波超音波洗浄工程と、低周波超音波洗浄工程の後に行われる高周波超音波洗浄工程と、高周波超音波洗浄工程の後に行われるすすぎ洗浄工程とを備えている。低周波超音波洗浄工程は、オゾンが溶解された酸性の洗浄水に低周波振動を加えて被洗浄物の低周波超音波洗浄を行う。高周波超音波洗浄工程は、オゾンが溶解された酸性の洗浄水に高周波振動を加えて被洗浄物の高周波超音波洗浄を行う。すすぎ洗浄工程は、純水によるすすぎ洗浄を行う。
【００１５】
洗浄方法を実施する洗浄装置は、図１に示すように、低周波超音波洗浄工程Ｐ１を実施するための低周波超音波洗浄装置１１と、高周波超音波洗浄工程Ｐ２を実施するための高周波超音波洗浄装置２１と、すすぎ洗浄工程Ｐ３を実施するためのすすぎ洗浄装置３１とを備えている。なお、すすぎ洗浄装置３１で洗浄された被洗浄物は、図示しない乾燥工程で乾燥装置により乾燥される。
【００１６】
低周波超音波洗浄装置１１は、洗浄槽１２を備え、洗浄槽１２の底面には洗浄槽１２中の洗浄水１３に低周波振動を加える超音波発振器（超音波振動子）１４が設けられている。洗浄槽１２に隣接して回収槽１５が設けられている。回収槽１５は洗浄槽１２からオーバーフローした洗浄水１３を回収する。回収槽１５には配管１６を介して循環ポンプ１７が接続されており、回収槽１５内の洗浄水１３が循環ポンプ１７を介して洗浄槽１２に戻る。循環ポンプ１７の入口側にはフィルタ１８が接続されている。
【００１７】
低周波超音波洗浄装置１１は、洗浄槽１２及び回収槽１５の開放部を閉鎖可能な一組の蓋１９ａ，１９ｂを備えている。蓋１９ａ，１９ｂは、図１に実線で示す開放位置と、二点鎖線で示す閉鎖位置とに回動可能に構成されている。一方の蓋１９ａは、他方の蓋１９ｂより大きく形成され、閉鎖状態においては、一方の蓋１９ａの先端部が他方の蓋１９ｂの先端部に重なる状態となる。一方の蓋１９ａには、後記する索４２が通過可能な溝（図示せず）が形成されている。
【００１８】
高周波超音波洗浄装置２１は、洗浄槽２２を備え、洗浄槽２２の底面には洗浄槽２２中の洗浄水２３に高周波振動を加える超音波発振器（超音波振動子）２４が設けられている。洗浄槽２２に隣接して回収槽２５が設けられている。回収槽２５は洗浄槽２２からオーバーフローした洗浄水２３を回収する。回収槽２５には配管２６を介して循環ポンプ２７が接続されており、回収槽２５内の洗浄水２３が循環ポンプ２７を介して洗浄槽２２に戻る。循環ポンプ２７の入口側にはフィルタ２８が接続されている。
【００１９】
高周波超音波洗浄装置２１は、洗浄槽２２及び回収槽２５の開放部を閉鎖可能な一組の蓋２９ａ，２９ｂを備えている。蓋２９ａ，２９ｂは、図１に二点鎖線で示す開放位置と、実線で示す閉鎖位置とに回動可能に構成されている。一方の蓋２９ａは、他方の蓋２９ｂより大きく形成され、閉鎖状態においては、一方の蓋２９ａの先端部が他方の蓋２９ｂの先端部に重なる状態となる。一方の蓋２９ａには、後記する索４２が過可能な溝（図示せず）が形成されている。
【００２０】
すすぎ洗浄装置３１は、シャワー洗浄槽３２を備え、シャワー洗浄槽３２の一つの側壁内面には、シャワーノズル３３が設けられている。シャワーノズル３３は、ポンプ３４により配管３５を介して洗浄水タンク３６内から供給される洗浄水３７を、水平方向にシャワー状に噴射するようになっている。ポンプ３４の入口側にはフィルタ３８が設けられている。シャワーノズル３３から噴射された洗浄水３７は、洗浄水タンク３６に回収されるようになっている。洗浄水３７は、予め設定された回数すすぎ洗浄が行われると、新しい洗浄水３７と交換される。
【００２１】
低周波超音波洗浄装置１１、高周波超音波洗浄装置２１、すすぎ洗浄装置３１及び図示しない乾燥装置の間の被洗浄物４０の移送は、粗い目の金網で形成された有底箱状の移送用容器４１を、索４２を介して吊り下げ、索４２を図示しない移動装置で移動させることで行う。
【００２２】
次に前記のように構成された洗浄装置の作用を説明する。
低周波超音波洗浄装置１１の洗浄水１３及び高周波超音波洗浄装置２１の洗浄水２３としてはオゾンが溶解された酸性のオゾン水（以下、酸性オゾン水と記す場合もある。）が使用される。
【００２３】
酸性オゾン水の製造は、酸性の水（以下、酸性水と記す場合もある。）にオゾンガスを加圧溶解させて作る。酸性水の調製は、純水に、例えば、塩酸、硝酸、硫酸の何れかを加えて、ｐＨが１〜５、好ましくは３〜５程度の酸性水を調製する。この理由は、酸性水が弱酸性の場合（例えば、ｐＨが５より大きい場合）、金属異物の表面が不動態化する場合があるためと、酸性が強すぎると装置の耐久性が低下するためである。調製された酸性水に、周知のオゾン水製造装置を利用してオゾンガスを加圧溶解させて酸性オゾン水を作る。
【００２４】
オゾンガスを酸性水に高濃度で溶解させる方法としては、例えば、オゾンガス透過膜で形成されたチューブ内に酸性水を流し、そのチューブを加圧状態のオゾンガス中に置き、オゾンガスを、強制的にオゾンガス透過膜を透過させて、チューブ内の酸性水に溶解させる方法がある。また、オゾンガスの高圧タンク内に酸性水を切り状の水滴として供給し、その水滴にオゾンガスを加圧溶解させる方法もある。
【００２５】
低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２における洗浄処理時の洗浄水のオゾン濃度は、８〜２０％であることが好ましい。洗浄処理時の洗浄水のオゾン濃度とは、加圧状態で高濃度（例えば、３０％）のオゾン水の濃度を意味するのではなく、大気圧下で超音波洗浄を行う際に、高濃度のオゾン水中に溶存していたオゾンの一部がガス化して濃度が低下した状態のオゾン濃度を意味する。
【００２６】
次に洗浄方法を説明する。
切削加工された被洗浄物４０としての金属部品としてアルミ製部品が入れられた移送用容器４１は、図１に実線で示すように、蓋１９ａ，１９ｂが開いた状態で、先ず、低周波超音波洗浄装置１１の洗浄槽１２の洗浄水１３中に沈められる。そして、図１に二点鎖線で示すように、蓋１９ａ，１９ｂが閉じた状態で、超音波発振器１４は、７０ｋＨｚ以下（例えば、３０ｋＨｚ〜５０ｋＨｚ）の低周波振動を洗浄水１３に加える。
【００２７】
被洗浄物４０には、金属異物や油が付着しているが、超音波発振器１４によって加えられる低周波振動により被洗浄物４０や金属異物に付着している油が除去される。洗浄水１３としてオゾン水が使用されているため、超音波振動による除去効果に加えて、オゾンの作用で油の一部が分解されるため、油の除去機能が高まる。低周波超音波洗浄は、高周波超音波洗浄に比べて除去力が強く、金属異物が効率良く除去される。
【００２８】
被洗浄物４０や金属異物から除去された油は、洗浄水１３の上側へ浮上し、オーバーフローする洗浄水１３と共に回収槽１５へ回収される。回収槽１５に回収された洗浄水１３は、循環ポンプ１７の作用により、配管１６を介して洗浄槽１２へ供給される。回収槽１５から循環ポンプ１７に向かって移動する洗浄水１３がフィルタ１８を通過する際に、洗浄水１３中の油は、フィルタ１８によって除去され、油が除去された洗浄水１３が洗浄槽１２に供給される。
【００２９】
予め設定された所定時間（例えば、１〜５分）が経過すると、被洗浄物４０は、移送用容器４１とともに低周波超音波洗浄装置１１の洗浄槽１２内から引き上げられ、高周波超音波洗浄装置２１の洗浄槽２２の洗浄水２３中に沈められる。なお、設定時間は、例えば、試験により設定される。また、酸性オゾン水中のオゾン濃度が予め設定された濃度以下に低下すると、洗浄水１３の一部を除去するとともに、高濃度の酸性オゾン水を回収槽１５に加えてオゾン濃度の調整を行う。オゾン濃度の低下は、オゾン濃度を測定しても、処理経過時間で推定してもよい。
【００３０】
高周波超音波洗浄装置２１では、８０ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚの高周波数（例えば、８０〜２００ｋＨｚ）で洗浄水２３に振動が加えられる。高周波超音波洗浄では、金属異物は低周波超音波洗浄に比べて、除去され難い。しかし、高周波振動では超音波振動による除去力が被洗浄物４０の表面全体に均一に作用して、油を効率良く除去する。
【００３１】
洗浄水１３，２３として酸性オゾン水を使用すると、金属異物の表面酸化により脱落した金属異物の再付着を化学的に起き難くしたり、あるいは後のすすぎ洗浄工程Ｐ３で金属異物が被洗浄物４０から脱落し易くしたりすることができる。また、酸性オゾン水の場合、被洗浄物４０の金属がアルミニウムの場合、酸のエッチング効果により、金属異物と被洗浄物４０表面の引っかかりを無くし、脱落させることもできる。
【００３２】
回収槽２５内の洗浄水２３は循環ポンプ２７の作用により、配管２６を介して洗浄槽２２へ供給され、洗浄槽２２からオーバーフローした洗浄水２３は回収槽２５に回収される。回収槽２５から循環ポンプ２７に向かって移動する洗浄水２３がフィルタ２８を通過する際に、洗浄水２３中の油は、フィルタ２８によって除去され、油が除去された洗浄水２３が洗浄槽２２に供給される。なお、低周波超音波洗浄装置１１と同様に、酸性オゾン水中のオゾン濃度が予め設定された濃度以下に低下すると、洗浄水２３の一部を除去するとともに、高濃度の酸性オゾン水を回収槽２５に加えてオゾン濃度の調整を行う。
【００３３】
予め設定された所定時間（例えば、１〜５分）が経過すると、被洗浄物４０は、移送用容器４１とともに高周波超音波洗浄装置２１の洗浄槽２２内から引き上げられ、図１に鎖線で示すように、すすぎ洗浄装置３１のシャワー洗浄槽３２内に吊り下げられた状態で配置される。そして、シャワーノズル３３から噴射される洗浄水３７により、被洗浄物４０のすすぎ洗浄（シャワー洗浄）が行われる。
【００３４】
すすぎ洗浄は、被洗浄物４０に付着しているオゾン水を洗い流す。また、すすぎ洗浄は、低周波超音波洗浄装置１１及び高周波超音波洗浄装置２１における超音波洗浄で被洗浄物４０から剥離させた金属異物を被洗浄物４０上から脱落させたり、超音波洗浄で被洗浄物４０から剥がれかけた金属異物を被洗浄物４０から剥離脱落させたりする。シャワー洗浄は、高周波超音波洗浄工程Ｐ２後の被洗浄物４０の洗浄を、洗浄水が収容された洗浄槽内に被洗浄物４０を浸漬して引き上げる洗浄方法に比べて、超音波洗浄で被洗浄物４０から剥離させた金属異物を被洗浄物４０上から効率良く脱落させることができる。
【００３５】
シャワー洗浄が所定時間行われた後、被洗浄物４０は、移送用容器４１と共に図示しない乾燥工程の乾燥装置まで移送され、乾燥装置で乾燥される。乾燥装置としては、例えば、温風乾燥機やエアー乾燥機が使用される。
【実施例】
【００３６】
低周波超音波洗浄工程Ｐ１において、洗浄水１３として酸性（ｐＨ３〜４）のオゾン水（オゾン濃度１０〜２０％）を使用し、超音波発振器１４による低周波振動数を４０ｋＨｚとして、３分間、被洗浄物４０の低周波超音波洗浄を行った。次に、高周波超音波洗浄工程Ｐ２において、洗浄水２３として酸性（ｐＨ３〜４）のオゾン水（オゾン濃度１０〜２０％）を使用し、超音波発振器２４による高周波振動数を８０ｋＨｚとして、３分間、被洗浄物４０の高周波超音波洗浄を行った。次に、すすぎ洗浄工程Ｐ３において、洗浄水３７として純水を使用して５分間、被洗浄物４０のシャワー洗浄を行った。シャワー洗浄終了後、被洗浄物４０を乾燥装置で乾燥した。被洗浄物４０からは、金属異物及び油の両者が良好に除去されていた。
【００３７】
この実施形態によれば、以下に示す効果を得ることができる。
（１）洗浄方法は、オゾンが溶解された酸性の洗浄水１３に低周波振動を加えて被洗浄物４０の低周波超音波洗浄を行う低周波超音波洗浄工程Ｐ１と、低周波超音波洗浄工程Ｐ１の後に、オゾンが溶解された酸性の洗浄水２３に高周波振動を加えて被洗浄物４０の高周波超音波洗浄を行う高周波超音波洗浄工程Ｐ２とを備えている。したがって、純水中にオゾンを溶解させた場合に比べてオゾン濃度を高めた状態で、超音波洗浄を行うことができる。また、被洗浄物４０として、機械加工された金属部品のように、加工時における切削屑等の金属異物や加工の際に使用された切削油等が付着したものを洗浄する場合、低周波超音波洗浄工程Ｐ１では金属異物の除去が良好に行われ、高周波超音波洗浄工程Ｐ２においては、金属部品や金属異物に付着した油が良好に除去される。
【００３８】
（２）低周波振動は、７０ｋＨｚ以下であり、高周波振動は、８０ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚである。高周波振動は、例えば、１ＭＨｚ以上であっても油等の除去は可能であるが、ＭＨｚのオーダまで高くしなくても、８０〜１０００ｋＨｚ程度の周波数で良好に除去することができ、消費エネルギーが少なくなる。
【００３９】
（３）低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２における洗浄処理時の洗浄水のオゾン濃度は、８〜２０％である。洗浄水中のオゾン濃度が高い方が酸化作用が強くなるが、オゾン濃度を３０％程度に維持するには、加圧下で処理を行うか、高濃度（例えば、３０％）のオゾン水の供給口で行う必要がある。しかし、そこまでオゾン濃度を高くしなくても、３０％のオゾン水を大気下において、オゾン水中に溶存していたオゾンの一部がガス化して濃度が低下した濃度８〜２０％のオゾン水でも、必要とする超音波洗浄効果が得られる。
【００４０】
（４）超音波洗浄工程の後に、すすぎ洗浄工程Ｐ３を備えている。この構成によれば、低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２により、油及び金属異物が除去された被洗浄物４０（金属部品）に付着している酸性水を確実に除去することができる。また、低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２で金属部品上から取り除かれかけた金属異物がすすぎ洗浄工程Ｐ３において金属部品上から脱落する。
【００４１】
実施形態は前記に限定されるものではなく、例えば、次のように具体化してもよい。
○  すすぎ洗浄工程Ｐ３で使用するすすぎ洗浄装置３１は、シャワー洗浄槽３２を複数備えた構成、即ち多段でシャワー洗浄を行う構成であってもよい。
【００４２】
○  すすぎ洗浄装置３１は、被洗浄物４０に対して両側からシャワーノズル３３によって洗浄水３７を噴射する構成であってもよい。
○  シャワーノズル３３は、水平方向に洗浄水３７を噴射する構成に限らず、被洗浄物４０に対して斜め方向や上下方向から洗浄水３７を噴射する構成であってもよい。
【００４３】
○  シャワーノズル３３から噴射されて被洗浄物４０を洗浄した後の洗浄水３７を、洗浄水タンク３６に回収して所定回数再使用せずに、シャワーノズル３３から常に新しい洗浄水３７を噴射する構成としてもよい。
【００４４】
○  洗浄水１３，２３は、低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２でそれぞれ独立して循環させて使用する構成に限らない。例えば、洗浄水を、低周波超音波洗浄工程Ｐ１と高周波超音波洗浄工程Ｐ２の間で循環させてもよい。例えば、回収槽１５を設けずに、洗浄槽１２のオーバーフロー水を洗浄槽２２に洗浄水２３として供給する構成とし、回収槽２５に回収された洗浄水２３をフィルタでろ過してポンプで洗浄槽１２に供給する。
【００４５】
○  洗浄槽１２及び洗浄槽２２中で、移送用容器４１を揺動させると良い。この場合、超音波のムラが緩和される。また、移送用容器４１を動かすことで流れが生じ、異物が脱落しやすい。
【００４６】
○  すすぎ洗浄工程Ｐ３で使用するすすぎ洗浄装置３１は、シャワー洗浄を行う装置ではなくてもよい。例えば、シャワー洗浄槽３２に代えて、被洗浄物４０を浸漬可能な浸漬槽（洗浄槽）を設け、浸漬槽中の洗浄水に被洗浄物４０を浸漬させた状態で、被洗浄物４０を洗浄水に対して揺動させて洗浄を行う構成であってもよい。
【００４７】
○  移送用容器４１は、バレル形式（バレル容器）でも良い。バレル容器は金網や多孔板で筒状に形成されるとともに、洗浄槽の中で軸回りに回転駆動される。バレル容器が回転されることで、被洗浄物４０が有底形状の部品の場合、洗浄水の入れ替わりがあり、洗浄効果が高くなる。バレル容器をその軸回りに回転駆動する構成としては、例えば、筒部の両端を封止する側壁に回転軸が突設され、バレル容器は、回転軸を介してバレル容器支持手段に回転可能に支持されている。そして、回転軸が回転駆動手段により回転される構成になっている。バレル容器には、被洗浄物４０をバレル容器内に出し入れする出入り口が設けられ、出入り口は開閉可能又は取り外し可能な蓋により閉鎖される。
【００４８】
○  超音波発振器１４，２４は、洗浄槽１２，２２の底壁ではなく側壁に設けてもよい。
○  超音波発振器１４，２４は、洗浄槽１２，２２の外側に限らず、洗浄槽１２，２２の壁を介さずに、洗浄水１３，２３に接触する位置に設けてもよい。
【００４９】
○  低周波超音波洗浄装置１１において、回収槽１５の洗浄水１３を、フィルタ１８を介して循環ポンプ１７で洗浄槽１２へ供給する代わりに、回収槽１５内の洗浄水１３から油水分離装置で油を分離した後、その洗浄水１３を、フィルタ１８を介して循環ポンプ１７で洗浄槽１２へ供給する構成としてもよい。高周波超音波洗浄装置２１においても同様な構成を採用してもよい。この場合、フィルタ１８，２８の交換周期が長くなる。
【００５０】
○  低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２における酸性オゾン水のオゾン濃度は同じでなくてもよい。
○  低周波超音波洗浄工程Ｐ１及び高周波超音波洗浄工程Ｐ２において、オゾン濃度を高めるために、加圧状態で超音波洗浄処理を行ってもよい。
【００５１】
○  洗浄槽１２の蓋１９ａ，１９ｂ及び洗浄槽２２の蓋２９ａ，２９ｂはなくてもよい。しかし、蓋１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂを設けて、開放不要時には蓋１９ａ，１９ｂ，２９ａ，２９ｂを閉じることにより、洗浄水１３，２３中に溶解しているオゾンガスのガス化が抑制される。そのため、高濃度のオゾン水の使用量を抑制することができる。
【００５２】
○  被洗浄物４０は、アルミ製（アルミニウム製又はアルミニウム合金製）の金属部品に限らず、他の金属部品、例えば、ステンレス製であってもよい。
○  一度に洗浄される被洗浄物４０の数は１個に限らず、被洗浄物４０の大きさ及び洗浄槽１２，２２の大きさにより、複数であってもよい。
【００５３】
○  被洗浄物４０の各工程間における移送は、索４２に吊り下げられた移送用容器４１を使用する方法に限らず、例えば、ベルトコンベアを使用してもよい。
○  被洗浄物４０が大きな場合は、ロボットアームが被洗浄物４０を直接把持して、次工程に移送してもよい。
【００５４】
○  乾燥工程を特に設けず、すすぎ洗浄後の被洗浄物４０が使用されるまでの保管中に自然乾燥させてもよい。
【符号の説明】
【００５５】
Ｐ１…低周波超音波洗浄工程、Ｐ２…高周波超音波洗浄工程、Ｐ３…すすぎ洗浄工程、１３，２３…洗浄水、４０…被洗浄物。
【図１】
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