(57)【要約】      （修正有）【課題】静電気による埃付着が少なく、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすいフロアポリッシュ組成物の提供。【解決手段】式（１）又は（２）で表されるイオン結合性塩イオン結合性塩と、（メタ）アクリル系樹脂エマルジョンを含むフロアポリッシュ組成物。2016044299.tif 000022（Ｒ１、Ａ、及びＲ２は有機基；Ｑ１＋及びＱ２＋は第２級又は第３級アンモニウム）【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記化学式（１）または下記化学式（２）で表される少なくとも１種のイオン結合性塩：
【化１】
2016044299.tif 000020
前記化学式（１）中、Ｒ１は、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数６〜３０のアリール基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数７〜３１のアリールアルキル基であり、
Ａは炭素数２〜４の直鎖状または分枝状のアルキレン基であり、
ｎは０〜５０の整数であり、
Ｑ１＋は、第２級アンモニウムイオンまたは第３級アンモニウムイオンである、
【化２】
2016044299.tif 000021
前記化学式（２）中、Ｒ２は、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数６〜３０のアリール基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数７〜３１のアリールアルキル基であり、
Ｑ２＋は、第２級アンモニウムイオンまたは第３級アンモニウムイオンである、
と、（メタ）アクリル系樹脂エマルジョンを含むことを特徴とするフロアポリッシュ組成物。
【請求項２】
前記化学式（１）で表されるイオン結合性塩を含む、請求項１に記載のフロアポリッシュ組成物。
【請求項３】
Ｑ１＋およびＱ２＋が第２級アンモニウムイオンである、請求項１または２に記載のフロアポリッシュ組成物。
【請求項４】
Ｑ１＋およびＱ２＋がヒドロキシ基を有するものである、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフロアポリッシュ組成物。
【請求項５】
Ｑ１＋およびＱ２＋は、ヒドロキシエチル基が窒素原子に結合した構造を有する、請求項４に記載のフロアポリッシュ組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】  本発明は、フロアポリッシュ組成物に関する。更に詳しくは、静電気による埃の付着が少なく、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすいフロアポリッシュ組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】  一般住宅や、マンション、アパート等で使用される木質系床材、オフィスビルや、デパート、大型ショッピングセンター、ホテル、駅構内等で使用されるプラスチック系、石質系床材等の床材の保護や美観の向上のために、フロアポリッシュが用いられ、一般に床用ワックス、樹脂ワックスと呼ばれている。一方で、相対湿度が低下する季節、特に冬場等において、ハウスダストやダニ、カビ等の付着を避ける、日常清掃を軽減する、床上を通行する人体へ静電気を帯電することを防止するため、帯電防止効果を付与させたフロアポリッシュが要望されている。また、床面の清掃には、モップや雑巾等を使用した水拭きが多く採用されるため、上記帯電防止効果には、耐水性が求められている。【０００３】  かような問題点に対し、特許文献１では、コロイダルシリカを使用し、特に密着性、耐水性、及び耐水密着性に優れ、かつ、静電気による埃の付着の少ないフローリング床用フロアポリッシュ組成物が提案されている。しかしながら、コロイダルシリカを使用する方法では、その表面抵抗値は１×１０１２Ω程度であり、性能としては、十分満足できるものではなかった。【０００４】  特許文献２では、脂環式系イオン液体と脂肪族系イオン液体とを含み、低コストであっても十分な帯電防止性能が得られるエポキシ樹脂系塗り床剤が提案されている。しかしながら、脂環式系イオン液体と脂肪族系イオン液体の両者を含むことが必要であり、更に例示されている脂環式系および脂肪族系イオン液体は、４級アンモニウムカチオンと、ハロゲン系アニオンと、を組み合わせたものであり、ハロゲン系アニオン、特にＴＦＳＩ（ビストリフルオロメタンスルホニルイミド）等は一般的に高価である。そのため、コスト面について、十分満足できるものではない。また、床面を水拭きするなどした場合、帯電防止剤に耐水性がないと、その帯電防止効果は持続性を有さず、すぐに効果がなくなることが予想される。本願には、耐水性の記載がなく、その効果については不明である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【特許文献１】特開２００８−２０８２７２号公報
【特許文献２】特開２０１３−１９９７５８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】  そこで本発明は、静電気による埃付着が少なく、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすいフロアポリッシュ組成物の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】  上記課題を解決すべく、本発明者らは鋭意検討を積み重ねた。その結果、驚くべきことに、アクリル系樹脂エマルジョンに対し、イオン結合性塩を添加すると、静電気による埃の付着を抑制することができ、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすいフロアポリッシュ組成物を見出し、本発明を完成させるに至った。【０００７】  すなわち、本発明は、下記化学式（１）または下記化学式（２）で表される少なくとも１種のイオン結合性塩【０００８】
【化１】
2016044299.tif 000002
【０００９】  前記化学式（１）中、Ｒ１は、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数６〜３０のアリール基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数７〜３１のアリールアルキル基であり、
Ａは炭素数２〜４の直鎖状または分枝状のアルキレン基であり、
ｎは０〜５０の整数であり、
Ｑ１＋は、第２級アンモニウムイオンまたは第３級アンモニウムイオンである、【００１０】
【化２】
2016044299.tif 000003
【００１１】  前記化学式（２）中、Ｒ２は、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数６〜３０のアリール基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数７〜３１のアリールアルキル基であり、
Ｑ２＋は、第２級アンモニウムイオンまたは第３級アンモニウムイオンである、
と、（メタ）アクリル系樹脂エマルジョンを含むことを特徴とするフロアポリッシュ組成物である。
【発明の効果】
【００１２】  本発明によれば、静電気による埃の付着が少なく、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすいフロアポリッシュ組成物が提供されうる。
【発明を実施するための形態】
【００１３】  以下に本発明の実施形態を具体的に説明するが、本発明の技術的範囲は特許請求の範囲の記載に基づいて定められるべきであり、以下の実施形態に制限されるものではない。
【００１４】  本発明が、静電気による埃付着が少なく、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすくなるメカニズムは明確ではないが、イオン結合性塩がアクリル樹脂の表面だけに存在するのではなく、樹脂中にも均一に分散し、アクリル樹脂表面に帯電する静電気の導電パスとなるため、良好な帯電防止効果を示すものと考えられる。また、樹脂中で均一に分散することで、雑巾やウェスで表面を拭き取っても、その効果は失われず、結果として耐水性向上に起因しているものと考えられる。
【００１５】  本明細書において「イオン結合性塩」とは、陽イオンおよび陰イオンの自由な組み合わせで、融点や水または有機溶媒への溶解度などの各種物性の調整が可能であり、１００℃以下で液体となる安定な塩を示す。
【００１６】  本明細書において「（メタ）アクリル系樹脂エマルジョン」とは、（メタ）アクリル系モノマーをベースとし、必要に応じて、その他モノマーも使用し、乳化重合によって得られたポリマーであり、ラテックスとも称されるものである。
【００１７】  本明細書において「フロアポリッシュ組成物」とは、床上にコーティング膜を形成するのに有用な液体組成物である。この液体組成物の必須成分として、イオン結合性塩、（メタ）アクリル系樹脂エマルジョンがあり、任意成分として、（メタ）アクリル系樹脂以外のエマルジョン、各種添加剤が使用されうる。
【００１８】［イオン結合性塩］
本発明の一形態は、下記化学式（１）または下記化学式（２）で表されるイオン結合性塩を含む、フロアポリッシュ組成物である。本形態において、当該イオン結合性塩は、化学式（１）のものを１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよいし、化学式（２）のものを１種単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよいし、化学式（１）のものの１種または２種以上と、化学式（２）のものの１種または２種以上とを組み合わせて用いてもよい。ただし、化学式（２）で表されるイオン結合性塩を少なくとも１種用いることが好ましい。
【００１９】
【化３】
2016044299.tif 000004
【００２０】  前記化学式（１）および（２）中、Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立して、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基、置換されているかもしくは非置換の炭素数６〜３０のアリール基、または置換されているかもしくは非置換の炭素数７〜３１のアリールアルキル基である。
【００２１】  前記化学式（１）および（２）中のＲ１およびＲ２として用いられる、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基の例としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソアミル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、ネオペンチル基、ｎ−ヘキシル基、３−メチルペンタン−２−イル基、３−メチルペンタン−３−イル基、４−メチルペンチル基、４−メチルペンタン−２−イル基、１，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブチル基、３，３−ジメチルブタン−２−イル基、ｎ−ヘプチル基、１−メチルヘキシル基、３−メチルヘキシル基、４−メチルヘキシル基、５−メチルヘキシル基、１−エチルペンチル基、１−（ｎ−フロピル）ブチル基、１，１−ジメチルペンチル基、１，４−ジメチルペンチル基、１，１−ジエチルプロピル基、１，３，３−トリメチルブチル基、１−エチル−２，２−ジメチルプロピル基、ｎ−オクチル基、２−メチルヘキサン−２−イル基、２，４−ジメチルペンタン−３−イル基、１，１−ジメチルペンタン−１−イル基、２，２−ジメチルヘキサン−３−イル基、２，３−ジメチルヘキサン−２−イル基、２，５−ジメチルヘキサン−２−イル基、２，５−ジメチルヘキサン−３−イル基、３，４−ジメチルヘキサン−３−イル基、３，５−ジメチルヘキサン−３−イル基、１−メチルヘプチル基、２−メチルヘプチル基、５−メチルヘプチル基、２−メチルヘプタン−２−イル基、３−メチルヘプタン−３−イル基、４−メチルヘプタン−３−イル基、４−メチルヘプタン−４−イル基、１−エチルヘキシル基、２−エチルヘキシル基、１−プロピルペンチル基、２−プロピルペンチル基、１，１−ジメチルヘキシル基、１，４−ジメチルヘキシル基、１，５−ジメチルヘキシル基、１−エチル−１−メチルペンチル基、１−エチル−４−メチルペンチル基、１，１，４−トリメチルペンチル基、２，４，４−トリメチルペンチル基、１−イソプロピル−１，２−ジメチルプロピル基、１，１，３，３−テトラメチルブチル基、ｎ−ノニル基、１−メチルオクチル基、６−メチルオクチル基、１−エチルヘプチル基、１−（ｎ−ブチル）ペンチル基、４−メチル−１−（ｎ−プロピル）ペンチル基、１，５，５−トリメチルヘキシル基、１，１，５−トリメチルヘキシル基、２−メチルオクタン−３−イル基、ｎ−デシル基、１−メチルノニル基、１−エチルオクチル基、１−（ｎ−ブチル）ヘキシル基、１，１−ジメチルオクチル基、３，７−ジメチルオクチル基、ｎ−ウンデシル基、１−メチルデシル基、１−エチルノニル基、ｎ−ドデシル基、ｎ−トリデシル基、ｎ−テトラデシル基、１−メチルトリデシル基、ｎ−ペンタデシル基、ｎ−ヘキサデシル基、ｎ−ヘプタデシル基、ｎ−オクタデシル基、ｎ−ノナデシル基、ｎ−エイコシル基、１，２−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。帯電防止性能の観点から、置換されているかもしくは非置換の炭素数１〜８���直鎖状または分岐状のアルキル基が好ましく、２−エチルヘキシル基、ドデシル基、トリデシル基、１，２−ビス（２−エチルヘキシルオキシカルボニル）エチル基がより好ましく、２−エチルヘキシル基が特に好ましい。
【００２２】  前記化学式（１）および（２）中のＲ１およびＲ２として用いられる、置換されているかもしくは非置換の炭素数６〜３０のアリール基の例としては、例えば、フェニル基、ジメチルフェニル基（２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基等）、イソプロピルフェニル基（２−イソプロピルフェニル基、３−イソプロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基）、ドデシルフェニル基（２−ドデシルフェニル基、３−ドデシルフェニル基、４−ドデシルフェニル基）、ビフェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、９−アンスリル基、９−フェナントリル基、１−ピレニル基、５−ナフタセニル基、１−インデニル基、２−アズレニル基、９−フルオレニル基、ターフェニル基、クオーターフェニル基、メシチル基、ペンタレニル基、ビナフタレニル基、ターナフタレニル基、クオーターナフタレニル基、ヘプタレニル基、ビフェニレニル基、インダセニル基、フルオランテニル基、アセナフチレニル基、アセアントリレニル基、フェナレニル基、フルオレニル基、アントリル基、ビアントラセニル基、ターアントラセニル基、クオーターアントラセニル基、アントラキノリル基、フェナントリル基、トリフェニレニル基、ピレニル基、クリセニル基、ナフタセニル基、プレイアデニル基、ピセニル基、ペリレニル基、ペンタフェニル基、ペンタセニル基、テトラフェニレニル基、ヘキサフェニル基、ヘキサセニル基、ルビセニル基、コロネニル基、トリナフチレニル基、ヘプタフェニル基、ヘプタセニル基、ピラントレニル基、オバレニル基などが挙げられる。帯電防止性能の観点から、置換されているかもしくは非置換の炭素数８〜１８のアリール基が好ましく、ジメチルフェニル基（２，３−ジメチルフェニル基、２，４−ジメチルフェニル基、３，４−ジメチルフェニル基等）、イソプロピルフェニル基（２−イソプロピルフェニル基、３−イソプロピルフェニル基、４−イソプロピルフェニル基）、ドデシルフェニル基（２−ドデシルフェニル基、３−ドデシルフェニル基、４−ドデシルフェニル基）がより好ましく、イソプロピルフェニル基が特に好ましい。
【００２３】  前記化学式（１）および（２）中のＲ１およびＲ２として用いられる、置換されているかもしくは非置換の炭素数７〜３１のアリールアルキル基の例としては、例えば、ベンジル基、フェニルエチル基、３−フェニルプロピル基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、２−（１−ナフチル）エチル基、２−（２−ナフチル）エチル基、３−（１−ナフチル）プロピル基、または３−（２−ナフチル）プロピル基などが挙げられる。
【００２４】  前記化学式（１）中のＲ１として用いられる基の好ましい例としては、下記化学式（３）〜（６）で表される化学構造を有するものが挙げられる。
【００２５】
【化４】
2016044299.tif 000005
【００２６】  また、前記化学式（２）中のＲ２として用いられる基の好ましい例としては、下記化学式（７）〜（１０）の化学構造を有するものが挙げられ、なかでも下記化学式（９）（１０）の化学構造を有するものが好ましい。
【００２７】
【化５】
2016044299.tif 000006
2016044299.tif 000007
【００２８】  前記化学式（１）中、Ａは、炭素数２〜４の直鎖状または分枝状のアルキレン基である。前記化学式（１）中のＡとして用いられる、炭素数２〜４の直鎖状または分枝状のアルキレン基の例としては、例えば、エチレン基、プロピレン基、ブチレン基などが挙げられる。入手容易性の観点から、エチレン基、プロピレン基が特に好ましい。
【００２９】  前述した炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜３０のアリール基、または炭素数７〜３１のアリールアルキル基、および炭素数２〜４の直鎖状または分枝状のアルキレン基中の水素原子は、他の置換基で置換されていてもよい。
【００３０】  そのような置換基としては、例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などのハロゲン、メチル基、エチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ドデシル基などのアルキル基、フェニル基、ｐ−トリル基、キシリル基、クメニル基、ナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基などのアリール基、メトキシ基、エトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基などのアルコキシ基、フェノキシ基、ｐ−トリルオキシ基などのアリールオキシ基、メトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基、２−エチルヘキシルオキシカルボニル基、フェノキシカルボニル基等のアルコキシカルボニル基、アセトキシ基、プロピオニルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などのアシルオキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、イソブチリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、メトキサリル基などのアシル基、メチルスルファニル基、ｔｅｒｔ−ブチルスルファニル基などのアルキルスルファニル基、フェニルスルファニル基、ｐ−トリルスルファニル基などのアリールスルファニル基、メチルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基などのアルキルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、モルホリノ基、ピペリジノ基などのジアルキルアミノ基、フェニルアミノ基、ｐ−トリルアミノ基等のアリールアミノ基などの他、ヒドロキシ基、カルボキシ基、ホルミル基、メルカプト基、スルホ基、メシル基、ｐ−トルエンスルホニル基、アミノ基、ニトロ基、シアノ基、トリフルオロメチル基、トリクロロメチル基、トリメチルシリル基、ホスフィニコ基、ホスホノ基などが挙げられる。
【００３１】  前記化学式（１）中のｎは０〜５０の整数である。粘度の低下などによる取扱い易さ、あるいは界面特性の観点から、ｎは１〜５０の整数が好ましく、１〜５０の整数がより好ましく、１〜１０の整数が特に好ましい。
【００３２】  前記化学式（１）および（２）中、Ｑ１＋およびＱ２＋は、それぞれ独立して、第２級アンモニウムイオンまたは第３級アンモニウムイオンである。ここで、Ｑ１＋およびＱ２＋を表す第２級アンモニウムイオンおよび第３級アンモニウムイオンは、まとめて以下の化学式で表すことができる。
【００３３】
【化６】
2016044299.tif 000008
【００３４】  式中、Ｒ３は、水素原子、または炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基である。また、Ｒ４およびＲ５は、それぞれ独立して、ヒドロキシ基で置換されていてもよい炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基である。ここで、Ｒ３が水素原子である場合、上記化学式で表されるアンモニウムイオンは第２級であり、Ｒ３が上記所定のアルキル基である場合、上記化学式で表されるアンモニウムイオンは第３級である。なかでも、Ｒ３は水素原子である（すなわち、Ｑ１＋およびＱ２＋は第２級アンモニウムイオンである）ことが好ましい。また、Ｒ４およびＲ５のいずれか一方のみがヒドロキシ基で置換された炭素数１〜３０の直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基であることが好ましく、この際、ヒドロキシ基で置換されたアルキル基は、ヒドロキシエチル基であることが特に好ましい。なお、「炭素数１〜３０直鎖状、分枝状、もしくは環状のアルキル基」の具体例については、上記で列挙したものが同様に用いられうるため、ここでは詳細な説明を省略する。
【００３５】  上述したようなＱ１＋およびＱ２＋の具体例を挙げると、第２級アンモニウムイオン（Ｒ３＝水素原子）としては、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−１−プロピルアミン、ジ−２−プロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−２−ブチルアミン、ジ−１−ペンチルアミン、ジ−２−ペンチルアミン、ジ−３−ペンチルアミン、ジネオペンチルアミン、ジシクロペンチルアミン、ジ−１−ヘキシルアミン、ジ−２−ヘキシルアミン、ジ−３−ヘキシルアミン、ジシクロヘキシルアミン、メチルエタノールアミン、エチルエタノールアミンがプロトン化されたイオンなどが挙げられる。第３級アンモニウムイオン（Ｒ３＝アルキル基）としては、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリ−１−プロピルアミン、トリ−２−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−２−ブチルアミン、トリ−１−ペンチルアミン、トリ−２−ペンチルアミン、トリ−３−ペンチルアミン、トリネオペンチルアミン、トリシクロペンチルアミン、トリ−１−ヘキシルアミン、トリ−２−ヘキシルアミン、トリ−３−ヘキシルアミン、トリシクロヘキシルアミン、ジメチルエタノールアミン、エチルメチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、ラウリルジエタノールアミン、ビス（２−メトキシエチル）メチルアミンがプロトン化されたイオンなどが挙げられる。なかでも、メチルエタノールアミン、エチルエタノールアミン、ジエチルエタノールアミン、またはラウリルジエタノールアミンがプロトン化されたイオンであることがさらに好ましく、メチルエタノールアミン、エチルエタノールアミン、またはラウリルジエタノールアミンがプロトン化されたイオンであることがいっそう好ましく、メチルエタノールアミンまたはエチルエタノールアミンがプロトン化されたイオンであることが特に好ましく、エチルエタノールアミンがプロトン化されたイオンであることが最も好ましい。
【００３６】  前記化学式（１）で表されるイオン結合性塩のより好ましい化合物としては、下記化学式（１１）〜（１８）で表されるイオン結合性塩が挙げられる。なかでも、下記化学式（１１）〜（１３）、（１７）で表されるイオン結合性塩が特に帯電防止性能が高い点で好ましく、下記化学式（１１）、（１３）、（１７）で表されるイオン結合性塩がより好ましく、下記化学式（１１）または（１７）で表されるイオン結合性塩が最も好ましい。
【００３７】
【化７】
2016044299.tif 000009
2016044299.tif 000010
【００３８】
【化８】
2016044299.tif 000011
【００３９】  また、前記化学式（２）で表されるイオン結合性塩のより好ましい化合物としては、下記化学式（１９）〜（２６）で表されるイオン結合性塩が挙げられる。なかでも、下記化学式（２２）〜（２６）で表されるイオン結合性塩が特に帯電防止性能が高い点で好ましく、下記化学式（２２）、（２３）または（２５）で表されるイオン結合性塩が最も好ましい。
【００４０】
【化９】
2016044299.tif 000012
2016044299.tif 000013
【００４１】  前記イオン結合性塩の製造方法は、特に制限されず、例えば、アニオン交換法、中和法、酸エステル法などが挙げられる。また、硫酸エステルのアンモニウム塩またはスルホン酸エステルのアンモニウム塩と、窒素含有化合物とを反応させアンモニアを留去してイオン結合性塩を得る脱アンモニア法なども好適に用いられる。なお、前記化学式（４）、（６）、（７）および（１０）、並びに前記化学式（１５）、（１６）、（１８）、（１９）、（２５）および（２６）に記載のＣ８Ｈ１７−、Ｃ１２Ｈ２５−およびＣ１３Ｈ２７−は、それぞれ、直鎖状であっても分枝状であってもよい。例えば、Ｃ８Ｈ１７−は、２−エチルヘキシルでありうる。
【００４２】［（メタ）アクリル系モノマー］
（メタ）アクリル系モノマーとしては、例えば、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ｎ−ノニル（メタ）アクリレートなどのアルキル基を有する（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、８−ヒドロキシオクチルメタ）アクリレート、１０−ヒドロキシデシル（メタ）アクリレートなどの水酸基含有（メタ）アクリレート；アクリルアミド、ビニルアルコール、酢酸ビニル、２−ヒドロキシエチルビニルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート、（メタ）アクリル酸等が挙げられる。
【００４３】［その他モノマー］
（メタ）アクリルモノマーと乳化重合で共重合することが可能であれば、特に制限はないが、例えばウレタン系樹脂が挙げられ、分子中に１つ以上のウレタン結合を含む、エラストマー、ポリマー、オリゴマーであり、より具体的には，２−プロパンジオール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、ネオペンチルグリコールなどのジオール類、コハク酸、アジピン酸、セバシン酸、アゼライン酸、テレフタル酸、イソフタル酸等などのジカルボン酸またはこれらの酸エステル、酸無水物とジオール類との脱水縮合で得られるポリエステルポリオールなどの分子内に２個以上の活性水素を有する化合物等と、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、２，２’−ジフェニルメタンジイソシアネート、４，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４’−ジフェニルメタンジイソシアネート、テトラメチレンジイソシアネート，ヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水添化トリレンジイソシアネートなどの分子内にイソシアネート基を２個以上有するポリイソシアネート化合物等とをジブチルスズジラウレート等の触媒存在下で重付加させて製造されたもの、等が挙げられる。
【００４４】［（メタ）アクリル系樹脂以外のエマルジョン］
フロアポリッシュ組成物に使用されるアクリル系樹脂以外のエマルジョンに、特に制限はないが、例えば、高融点ポリエチレンワックスエマルジョン、等が挙げられる。
【００４５】［エマルジョンの製造方法］
本発明のエマルジョンの製造方法は、特に制限はないが、例えば、乳化重合法、懸濁重合法、塊状重合法、等が挙げられ、乳化重合法が特に好ましい。乳化重合の方法としては、特に制限はないが、例えば、単層重合法、多段重合法、等が挙げられ、原料モノマーの添加方法としては、例えば、一括添加法、モノマー滴下法、プレエマルジョン法、等が挙げられる。
【００４６】［各種添加剤］
フロアポリッシュ組成物に使用される添加剤に、特に制限はないが、例えば乳化剤、帯電防止剤、可塑剤、レベリング剤、防腐剤、消泡剤、抗菌剤、ｐＨ調整剤、香料、蛍光増白剤、紫外線吸収剤、造膜助剤、アルカリ可溶性樹脂、等が挙げられる。
【００４７】  本発明のフロアポリッシュ組成物において、上記成分を含めた不揮発分は、１０〜７０質量％程度に設定されることが好ましい。
【００４８】［フロアポリッシュ組成物の製造方法］
本発明のフロアポリッシュ組成物は、例えば、水に可塑剤、造膜助剤、アルカリ可溶性樹脂、乳化剤を添加した後、（メタ）アクリル系樹脂エマルジョンを混合することにより、製造することができる。ただし、混合の順序は適宜変更できるものであり、上記順序に限定されるものではない。
【実施例】
【００４９】  以下、実施例を挙げて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明は下記の実施例により何ら制限されるものではない。なお、以下において「部」あるいは「％」の表示を用いる場合があるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。また、実施例等における評価項目は下記のようにして測定を行った。
【実施例１】
【００５０】  下記化学式（明細書中の化学式（１１））で表されるイオン結合性塩（［ＭＥＭ］［ＥＨＤＧ−Ｓ］）を準備した。【００５１】
【化１０】
2016044299.tif 000014
【実施例２】
【００５２】  下記化学式（明細書中の化学式（２２））で表されるイオン結合性塩（［ＭＥＭ］［Ｃｕｍ−ＳＯ３］）を準備した。【００５３】
【化１１】
2016044299.tif 000015
【実施例３】
【００５４】  下記化学式（明細書中の化学式（２５））で表されるイオン結合性塩（［ＭＥＭ］［ＤＯＳＳ］）を準備した。【００５５】
【化１２】
2016044299.tif 000016
【００５６】（比較例１）
帯電防止剤として機能する添加剤を使用せずに行った。【００５７】（比較例２）
脂環式アミン系イオン液体として、１−メチル−１−プロピルピロリジニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（東京化成工業株式会社製  試薬）、脂肪族アミン系イオン液体として、トリメチルプロピルアンモニウムビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミド（東京化成工業株式会社製  試薬）を重量比５：２で混合したイオン液体混合物を準備した。【００５８】［フロアポリッシュ剤］
フロアポリッシュ剤（フロアポリッシュ組成物よりイオン結合性塩を除いたもの）として、オール床用樹脂ワックス（リンレイ株式会社製、略称：ＦＰ１）、店舗用フロアーワックス（リンレイ株式会社製、略称：ＦＰ２）、ネオルーチェ（山崎産業株式会社製：ＦＰ３）を準備した。それぞれの組成は以下の通り。なお、表中の数値は、それぞれのＳＤＳ（製品安全データシート）より拔粋したものであり、「○」は含有しているが量が不明、「−」はＳＤＳに記載がないことを示す。【００５９】
【表１】
2016044299.tif 000017
【００６０】［試験片の作成］
フロアポリッシュ剤（ＦＰ１〜ＦＰ３）に、実施例１〜３および比較例２〜３を、それぞれの添加量（フロアポリッシュ剤に対して重量比で２％あるいは５％）を添加した液をガラス板上に膜厚７５μｍで塗布し１１０℃の乾燥機にて１０分間乾燥し、試験片を得た。【００６１】［帯電防止性試験（表面固有抵抗率）］
試験片作製後の表面固有抵抗率（Ｒ１）
作製後の試験片の表面固有抵抗率（Ω／ｓｑ）を（株）三菱化学アナリテック製高抵抗率計ハイレスターＵＰおよびＵＲＳプローブを用い、印加電圧２５０Ｖにて測定した。【００６２】  水洗後の試験片の表面固有抵抗率（Ｒ２）
水で湿らせたキムタオル（４つ折り、日本製紙クレシア株式会社製）で４回擦り、水滴を拭き取った後に室温（２５℃）で１時間自然乾燥させた。この工程を５回繰り返した後の試験片の表面固有抵抗率（Ω／ｓｑ）を測定したことを除いては、試験片作製後の表面固有抵抗率の測定と同様にして測定した。【００６３】  上記で作成した試験片について、帯電防止性を評価した測定結果を表２および３に示す。なお、表中の「−」は、当該評価項目について評価を行っていないことを示す。【００６４】
【表２】
2016044299.tif 000018
【００６５】
【表３】
2016044299.tif 000019
【００６６】  まず、上記表２の比較例１では、５０％ＲＨの条件下では、水洗前（Ｒ１）で１×１０１２を示しているものの、５回水洗後（Ｒ２）および２０％ＲＨの条件下では、帯電防止性は全く発現していない。比較例２では、帯電防止剤として脂環式系イオン液体および脂肪族系イオン液体を添加しているが、帯電防止性は全く発現していない。一方で実施例１〜３では、イオン結合性塩を添加することにより、帯電防止性が極めて向上し、５回水洗後（Ｒ２）においても、帯電防止性を発現するという結果が得られた。更に、２０％ＲＨと５０％ＲＨの対比により、低湿度下においても帯電防止性が向上していることから、イオン結合性塩を用いることにより、耐水性に優れ、かつ湿度に依存しないフロアポリッシュ組成物が得られることが示された。【００６７】  また、上記表３では、フロアポリッシュ剤の種類を変更（ＦＰ１〜３）し、同様の試験を行なっているが、実施例１〜３では、良好な帯電防止性を発現していることが確認できた。更に、イオン結合性塩の添加量を２％、５％と変化させたが、いずれの帯電防止性も比較例１、２より良好な帯電防止性を発現していることが確認できた。従って、イオン結合性塩を用いることにより、フロアポリッシュ剤の種類を問わず、帯電防止性に優れたフロアポリッシュ組成物が得られることが示された。【００６８】  以上より、イオン結合性塩を用いることにより、高価な脂環式系イオン液体および脂肪族系イオン液体を用いることなく、フロアポリッシュ組成物の帯電防止性を向上させることができ、さらにその帯電防止性は、耐水性に優れ、かつ湿度にも依存しないことが示された。即ち、静電気による埃の付着が少なく、かつ濡れた床を雑巾やウェスで拭き取っても帯電防止効果が持続しやすいフロアポリッシュ組成物が得られることが示された。
【産業上の利用可能性】
【００６９】  本発明のフロアポリッシュ組成物は、一般住宅や、マンション、アパート等で使用される木質系床材、オフィスビルや、デパート、大型ショッピングセンター、ホテル、駅構内等で使用されるプラスチック系、石質系床材等の床材の保護や美観の向上のために、使用することができる。