(57)【要約】【課題】流路内の流体の温度制御が容易な化学合成装置を提供する。【解決手段】本発明の化学合成装置の一つの態様は、複数の流体を化学合成するための第１の流路と、第１の流路内を流れる流体の温度を制御するための第２の流路と、を形成する基板を備えることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の流体を化学合成するための第１の流路と、
前記第１の流路とは異なる第２の流路と、
が形成される基板を備え、
前記第２の流路内には、前記第１の流路内を流れる流体の温度を制御するための媒体が流れることを特徴とする化学合成装置。
【請求項２】
前記第１の流路は、前記複数の流体がそれぞれ導入される複数の導入流路部と、前記複数の流体が合成される合成流路部と、を含み、
前記第２の流路は、前記合成流路部内を流れる流体の温度を制御するための第１の制御流路部を含む、請求項１に記載の化学合成装置。
【請求項３】
前記第１の制御流路部は、前記合成流路部内を流れる化学合成された流体の温度を所定温度に維持する温度維持部を有する、請求項２に記載の化学合成装置。
【請求項４】
前記第２の流路は、前記導入流路部内を流れる流体の温度を制御するための第２の制御流路部を含む、請求項２または３に記載の化学合成装置。
【請求項５】
前記第２の流路の幅は、前記第１の流路の幅よりも大きい、請求項１から４のいずれか一項に記載の化学合成装置。
【請求項６】
前記媒体は、前記第１の流路内を流れる流体に対して不活性である、請求項１から５のいずれか一項に記載の化学合成装置。
【請求項７】
前記第２の流路は、前記第１の流路の少なくとも一部に沿って設けられている、請求項１から６のいずれか一項に記載の化学合成装置。
【請求項８】
前記第２の流路は複数に分割され、分割されたそれぞれにおいて前記媒体を導入するための導入口を有することを特徴とする請求項１から７のいずれか一項に記載の化学合成装置。
【請求項９】
分割された前記第２の流路のそれぞれにおいて導入される前記媒体は、異なる物であることを特徴とする請求項８に記載の化学合成装置。
【請求項１０】
複数の流体を化学合成するための第１の流路を有する化学合成装置の製造方法であって、
第１の基板上に被パターニング層側壁層を形成する第１の工程と、
前記被パターニング層に、前記被パターニング層を貫通する第１の貫通孔及び第２の貫通孔を形成する第２の工程と、
前記第２の工程の後に残された前記被パターニング層の表面及び露出された前記基板表面に第１保護膜を形成する第３の工程と、
第２保護膜が形成された第２の基板の前記第２保護膜側の面と前記第１の基板の前記第１保護膜側の面とを貼り合わせる第４の工程と、を含み、
を有し、
前記側壁層には、第１の貫通孔と、第２の貫通孔と、が設けられ、
前記第１の貫通孔は、前記第１の流路の一部を形成し、
前記第２の貫通孔の少なくとも一部は、前記第１の流路に沿って形成されているとは異なる第２の流路の一部を形成し、
前記第２の流路内には、前記第１の流路内を流れる流体の温度を制御するための媒体が流れることを特徴とする化学合成装置の製造方法。
【請求項１１】
前記第２の流路は、前記第１の流路を挟んで一対となるように形成されていることを特徴とする請求項１０に記載の化学合成装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、化学合成装置、及び化学合成装置の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、例えば一辺１ｍｍ以下の空間で化学反応を行う装置としてマイクロリアクターというものがある。単純なものとしては、板に微小の溝をＴ字形に刻んで蓋をし、管を接続したようなものがある。このようなマイクロリアクターにおいては、化学反応を効率よく行うために、例えば、特許文献１に記載されているように、合流流路内を加熱するヒーターを備えたマイクロリアクターが提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００６−３４６６５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、上記のようなマイクロリアクターでは、ヒーターによって合流流路内の流体を均一に加熱しにくく、合流流路内の流体の温度を制御することが困難であった。そのため、合流流路内における化学反応の効率を十分に向上できない問題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明は、上記問題点に鑑みて成されたものであって、流路内の流体の温度制御が容易な化学合成装置、及びそのような化学合成装置の製造方法を提供することができる。
【０００６】
本発明に係る一つの化学合成装置は、複数の流体を化学合成するための第１の流路と、前記第１の流路とは異なる第２の流路と、が形成される基板を備え、前記第２の流路内には、前記第１の流路内を流れる流体の温度を制御するための媒体が流れることを特徴とする。
【０００７】
この構成によれば、基板に第１の流路と異なる第２の流路が形成され、第２の流路内には、第１の流路内を流れる流体の温度を制御するための媒体が流れている。そのため、例えば、第２の流路を第１の流路に沿って配置することで、第１の流路内の流体の温度を媒体によって制御することができる。したがって、この構成によれば、容易に流路内の流体の温度を制御することができる。
【０００８】
上記の一つの化学合成装置において、前記第１の流路は、前記複数の流体がそれぞれ導入される複数の導入流路部と、前記複数の流体が合成される合成流路部と、を含み、前記第２の流路は、前記合成流路部内を流れる流体の温度を制御するための第１の制御流路部を含むことが好ましい。
【０００９】
この構成によれば、第１の流路内における化学合成反応を促進できる構造とすることができる。
【００１０】
上記の一つの化学合成装置において、前記第１の制御流路部は、前記合成流路部内を流れる化学合成された流体の温度を所定温度に維持する温度維持部を有することが好ましい。
【００１１】
この構成によれば、第１の流路内で化学合成される流体が、例えば、温度低下によって分解するような流体であっても、所定温度に維持することによって、化学合成された流体が分解することを抑制できる構造とすることができる。
【００１２】
上記の一つの化学合成装置において、前記第２の流路は、前記導入流路部内を流れる流体の温度を制御するための第２の制御流路部を含むことが好ましい。
【００１３】
この構成によれば、合成流路部に流入する流体の温度を化学合成反応に適した温度に調整できる構造とすることができる。
【００１４】
上記の一つの化学合成装置において、前記第２の流路の幅は、前記第１の流路の幅よりも大きいことが好ましい。
【００１５】
この構成によれば、第１の流路から流体が漏れた場合であっても、第２の流路によって、漏れた流体を回収しやすい構造とすることができる。
【００１６】
前記媒体は、前記第１の流路内を流れる流体に対して不活性であることが好ましい。
【００１７】
この構成によれば、例えば、第１の流路内から流体が漏れて、媒体と接触したような場合であっても、第１の流路内の流体と媒体とが反応することを抑制できる構造とすることができる。
【００１８】
前記第２の流路は、前記第１の流路の少なくとも一部に沿って設けられていることが好ましい。
【００１９】
この構成によれば、第２の流路によって、第１の流路内の流体の温度を制御しやすい構造とすることができる。
【００２０】
本発明に係る一つの化学合成装置の製造方法は、複数の流体を化学合成するための第１の流路を有する化学合成装置の製造方法であって、基板上に側壁層を形成する工程を有し、前記側壁層には、第１の貫通孔と、第２の貫通孔と、が設けられ、前記第１の貫通孔は、前記第１の流路の一部を形成し、前記第２の貫通孔は、前記第１の流路とは異なる第２の流路の一部を形成し、前記第２の流路内には、前記第１の流路内を流れる流体の温度を制御するための媒体が流れることを特徴とする。
【００２１】
この方法によれば、流路内の流体の温度制御が容易な化学合成装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】第１実施形態の化学合成装置を示す平面図である。
【図２】第１実施形態の化学合成装置を示す図であって、図１におけるII−II断面図である。
【図３】第１実施形態の化学合成装置を示す図であって、図１におけるIII−III断面図である。
【図４】第１実施形態の化学合成装置の製造方法の手順を示すフローチャートである。
【図５】第１実施形態の化学合成装置の製造方法の手順を示す断面図である。
【図６】第２実施形態の化学合成装置を示す平面図である。
【図７】変形例１の化学合成装置を示す平面図である。
【図８】図７におけるIV−IV断面図である。
【図９】変形例２の化学合成装置を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施形態に係る化学合成装置について説明する。なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
【００２４】
なお、本明細書において、「上流側」及び「下流側」とは、流路内の流れに対するものである。
【００２５】
また、本明細書において、「流れ方向」とは、流路内の流れの主となる方向を意味している。
【００２６】
＜第１実施形態＞
［化学合成装置］
図１から図３は、本実施形態の化学合成装置１０を示す図である。図１は平面図である。図２は、図１におけるII−II断面図である。図３は、図１におけるIII−III断面図である。
【００２７】
なお、以下の説明においてはＸＹＺ座標系を設定し、このＸＹＺ座標系を参照しつつ各構成の位置関係を説明する。この際、基板１１（図１参照）の法線方向をＺ軸方向、基板１１の幅方向、すなわち、図１における上下方向をＹ軸方向、基板１１の長さ方向、すなわち、図１における左右方向をＸ軸方向とする。
【００２８】
本実施形態の化学合成装置１０は、図１に示すように、基板１１と、試薬注入装置３０と、試薬注入装置３１と、生成物取出装置３２と、複数の媒体注入装置６０ａと、複数の媒体取出装置６０ｂと、を備える。
【００２９】
（基板）
基板１１の形状は、特に限定されず、例えば、本実施形態においては、平面視（ＸＹ面視）で矩形状である。基板１１の内部には、図１及び図２に示すように、合成用流路（第１の流路）２０と、温度制御用流路（第２の流路）４０ａと、温度制御用流路（第２の流路）４０ｂと、温度制御用流路（第２の流路）４１ａと、温度制御用流路（第２の流路）４１ｂと、温度制御用流路（第２の流路）４２ａと、温度制御用流路（第２の流路）４２ｂと、が形成されている。言い換えると、基板１１には、合成用流路２０と、合成用流路２０とは異なる温度制御用流路４０ａ〜４２ｂとが形成されている。合成用流路２０及び温度制御用流路４０ａ〜４２ｂについては、後段において詳述する。
【００３０】
基板１１は、図２に示すように、第１基板１２と、側壁層１３と、第１保護膜７０と、第２保護膜７１と、第２基板１４と、がこの順で積層されて構成されている。
【００３１】
第１基板１２は、例えば、ガラス基板である。第１基板１２の合成用流路２０側（＋Ｚ側）の上面１２ａには、側壁層１３が設けられている。
【００３２】
側壁層１３には、図３に示すように、合成用流路２０に対応する位置に側壁層１３を厚さ方向（Ｚ軸方向）に貫通する流路用貫通孔（第１の貫通孔）１５が形成されている。流路用貫通孔１５は、合成用流路２０の一部を形成する。
【００３３】
側壁層１３には、温度制御用流路４２ａ及び温度制御用流路４２ｂに対応する位置に厚さ方向に貫通する流路用貫通孔（第２の貫通孔）１６ａ及び流路用貫通孔（第２の貫通孔）１６ｂが形成されている。流路用貫通孔１６ａは、温度制御用流路４２ａの一部を形成する。流路用貫通孔１６ｂは、温度制御用流路４２ｂの一部を形成する。
【００３４】
図示は省略するが、側壁層１３には、同様にして温度制御用流路４０ａ〜４１ｂに対応する位置に厚さ方向に貫通する流路用貫通孔（第２の貫通孔）が形成されている。その流路用貫通孔は、それぞれ温度制御用流路４０ａ〜４１ｂの一部を形成する。
【００３５】
側壁層１３の形成材料としては、例えば、ＳｉＯ2、ＳｉＮ等の無機物や、感光性樹脂等を選択できる。側壁層１３の形成材料は、合成用流路２０を流れる流体に応じて決定できる。一例として、合成用流路２０を流れる流体がフッ化水素酸である場合には、側壁層１３の形成材料としてフッ化水素酸に対して耐腐食性が高い感光性樹脂を選択することが好ましい。
【００３６】
また、側壁層１３の形成材料としては、熱伝導率が高い材料であることが好ましい。後述する温度制御用流路４０ａ〜４１ｂ内を流れる温度制御媒体Ｃ１と、合成用流路２０内を流れる流体との間で熱交換しやすいためである。側壁層１３の第２基板１４側（＋Ｚ側）の上面１３ａには、第１保護膜７０が設けられている。
【００３７】
第１保護膜７０は、側壁層１３の上面１３ａと、側壁層１３の流路用貫通孔１５，１６ａ，１６ｂの内壁面と、流路用貫通孔１５，１６ａ，１６ｂが形成された位置における第１基板１２の上面１２ａと、を覆って設けられている。第１保護膜７０の形成材料としては、例えば、側壁層１３と同様に選択できる。
【００３８】
第２保護膜７１は、第１保護膜７０の第２基板１４側（＋Ｚ側）に設けられている。第２保護膜７１は、図２に示すように、第２基板１４の合成用流路２０側（−Ｚ側）の下面１４ｂと、後述する第２基板１４に形成された複数の貫通孔の内壁面と、を覆っている。第２保護膜７１の形成材料としては、例えば、第１保護膜７０と同様に選択できる。
【００３９】
第２基板１４は、側壁層１３の上面１３ａ側（＋Ｚ側）に、第１保護膜７０及び第２保護膜７１を介して設けられている。第２基板１４は、例えば、ガラス基板である。第２基板１４の合成用流路２０とは逆側（＋Ｚ側）の上面１４ａには、貫通孔１７ａと、貫通孔１７ｂと、が形成されている。貫通孔１７ａは、試薬注入装置３０が設けられる位置に対応して形成されている。貫通孔１７ｂは、生成物取出装置３２が設けられる位置に対応して形成されている。
【００４０】
第２基板１４の上面１４ａには、図示は省略するが、試薬注入装置３１が設けられる位置、複数の媒体注入装置６０ａが設けられる位置、及び複数の媒体取出装置６０ｂが設けられる位置に対応して貫通孔が形成されている。
【００４１】
（合成用流路）
合成用流路２０は、複数の試薬（流体）を化学合成するための流路である。合成用流路２０内には、流体、すなわち、化学合成される試薬あるいは、化学合成によって生成された生成物が流れる。合成用流路２０の断面形状は、特に限定されず、円形状であっても、矩形状であってもよい。本実施形態においては、合成用流路２０の断面形状は、例えば、図３に示すように、矩形状である。合成用流路２０は、図１に示すように、第１導入流路部（導入流路部）２１と、第２導入流路部（導入流路部）２２と、合成流路部２３と、を含む。
【００４２】
第１導入流路部２１は、合成用流路２０の試薬（流体）が導入される部分である。本実施形態においては、第１導入流路部２１には、試薬（流体）Ｄ１ａが導入される。
第１導入流路部２１の上流側の端部は、図２に示すように、第２基板１４の貫通孔１７ａを介して、試薬注入装置３０と接続されている。第１導入流路部２１の下流側の端部は、図１に示すように、合成流路部２３と接続されている。
【００４３】
第２導入流路部２２は、合成用流路２０の試薬（流体）が導入される部分である。本実施形態においては、第２導入流路部２２には、試薬（流体）Ｄ１ｂが導入される。第２導入流路部２２の上流側の端部は、図示は省略するが、第２基板１４に形成された貫通孔を介して試薬注入装置３１と接続されている。第２導入流路部２２の下流側の端部は、合成流路部２３と接続されている。
【００４４】
合成流路部２３は、合成用流路２０の複数の試薬（流体）が合成される部分である。合成流路部２３の上流側の端部は、第１導入流路部２１と第２導入流路部２２とに接続されている。合成流路部２３の下流側の端部は、図２に示すように、第２基板１４の貫通孔１７ｂを介して生成物取出装置３２と接続されている。合成流路部２３は、本実施形態においては、基板１１の長さ方向（Ｘ軸方向）に延びて形成されている。
【００４５】
合成流路部２３内には、第１導入流路部２１から試薬Ｄ１ａが流入され、第２導入流路部２２から試薬Ｄ１ｂが流入される。本実施形態においては、合成流路部２３においては、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとが化学合成されて、生成物（流体）Ｄ１ｃが生成される。
【００４６】
合成流路部２３の長さ（図１におけるＸ軸方向長さ）は、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学合成反応に応じて設定される。すなわち、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学合成反応に要する時間が長いほど、合成流路部２３の長さは大きく設定され、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学合成反応に要する時間が短いほど、合成流路部２３の長さは小さく設定される。
【００４７】
（温度制御用流路）
温度制御用流路４０ａ〜４２ｂは、図１に示すように、合成用流路２０内を流れる流体の温度を制御するための媒体が流れる流路である。すなわち、温度制御用流路４０ａ〜４２ｂによって、合成用流路２０内を流れる試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃの温度が制御される。
【００４８】
温度制御用流路４０ａ，４０ｂは、対となって第１導入流路部２１内の流体、すなわち、試薬Ｄ１ａの温度を制御するための流路である。温度制御用流路４１ａ，４１ｂは、対となって第２導入流路部２２内の流体、すなわち、試薬Ｄ１ｂの温度を制御するための流路である。温度制御用流路４２ａ，４２ｂは、対となって合成流路部２３内の流体、すなわち、試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃの温度を制御するための流路である。
【００４９】
なお、温度制御用流路４０ａ〜４２ｂは、温度制御を行う箇所が異なる点を除いて、ほぼ同様の構成であるため、以下の説明においては、代表して温度制御用流路４２ａについて説明する場合がある。
【００５０】
温度制御用流路４２ａは、制御流路部（第１の制御流路部）５２ａと、接続流路部５６ａと、接続流路部５６ｂと、を含む。
【００５１】
制御流路部５２ａは、合成流路部２３内を流れる流体の温度を制御するための流路部である。制御流路部５２ａは、合成流路部２３に近接した位置に、合成流路部２３に沿って設けられている。本実施形態においては、制御流路部５２ａは、合成流路部２３のほぼ全体に亘って沿って設けられている。制御流路部５２ａの一端には、接続流路部５６ａが接続されている。制御流路部５２ａの他端には、接続流路部５６ｂが接続されている。図３に示すように、制御流路部５２ａの幅Ｗ２、すなわち、流体の流れ方向と基板１１の主面の法線方向（Ｚ軸方向）とに直交する方向（Ｙ軸方向）の長さは、合成流路部２３の幅Ｗ１よりも大きい。
【００５２】
なお、本明細書において、制御流路部が合成流路部に近接して設けられているとは、制御流路部内の媒体と合成流路部内の流体とが十分温度交換できる範囲内に、制御流路部が設けられていることを含む。
【００５３】
接続流路部５６ａは、図１に示すように、一端において制御流路部５２ａと接続され、他端において第２基板１４の上面１４ａに設けられた貫通孔（図示せず）を介して媒体注入装置６０ａと接続されている。接続流路部５６ｂは、一端において制御流路部５０ａと接続され、他端において第２基板１４の上面１４ａに設けられた貫通孔（図示せず）を介して媒体取出装置６０ｂと接続されている。
【００５４】
本実施形態においては、温度制御用流路４２ａ内には、媒体として温度制御媒体（媒体）Ｃ１が流れている。温度制御媒体Ｃ１は、例えば、水（Ｈ2Ｏ）や、水に他の物質を加えた水溶液、シリコーンオイル等を選択できる。温度制御媒体Ｃ１は、試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃに対して、不活性であることが好ましい。試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂまたは生成物Ｄ１ｃが漏れた際に、試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂまたは生成物Ｄ１ｃと温度制御媒体Ｃ１とが反応することを抑制できるためである。温度制御用流路４２ａ内を流れる温度制御媒体Ｃ１の温度は、制御する合成流路部２３内を流れる流体の温度に応じて設定される。
【００５５】
温度制御用流路４２ｂは、制御流路部（第１の制御流路部）５２ｂを含む。制御流路部５２ｂは、制御流路部５２ａと同様に、合成流路部２３内を流れる流体の温度を制御するための流路部である。制御流路部５２ｂは、合成流路部２３に近接した位置に、合成流路部２３に沿って設けられている。制御流路部５２ｂと制御流路部５２ａとは、基板１１の幅方向（Ｙ軸方向）に対向して設けられている。図３に示すように、制御流路部５２ｂの幅Ｗ３は、合成流路部２３の幅Ｗ１よりも大きい。本実施形態においては、制御流路部５２ｂの幅Ｗ３は、例えば、温度制御用流路４２ａの制御流路部５２ａの幅Ｗ２と同じである。
【００５６】
温度制御用流路４０ａは、図１に示すように、制御流路部（第２の制御流路部）５０ａを含む。温度制御用流路４０ｂは、制御流路部（第２の制御流路部）５０ｂを含む。制御流路部５０ａ及び制御流路部５０ｂは、第１導入流路部２１内を流れる流体の温度を制御するための流路部である。温度制御用流路４０ａ，４０ｂの構成は、第１導入流路部２１に対して設けられている点を除いて、温度制御用流路４２ａ，４２ｂと同様である。
【００５７】
温度制御用流路４１ａは、制御流路部（第２の制御流路部）５１ａを含む。温度制御用流路４１ｂは、制御流路部（第２の制御流路部）５１ｂを含む。制御流路部５１ａ及び制御流路部５１ｂは、第２導入流路部２２内を流れる流体の温度を制御するための流路部である。温度制御用流路４１ａ，４１ｂの構成は、第２導入流路部２２に対して設けられている点を除いて、温度制御用流路４２ａ，４２ｂと同様である。
【００５８】
（試薬注入装置）
試薬注入装置３０は、第１導入流路部２１に試薬を注入するための装置である。試薬注入装置３０は、図２に示すように、第２基板１４の上面１４ａの貫通孔１７ａが形成された位置に設けられている。本実施形態においては、試薬注入装置３０を用いて、試薬Ｄ１ａが貫通孔１７ａを介して第１導入流路部２１に注入される。
【００５９】
試薬注入装置３１は、図１に示すように、第２導入流路部２２に試薬を注入するための装置である。試薬注入装置３１は、第２基板１４の上面１４ａの、第２導入流路部２２と連通する貫通孔（図示せず）が形成された位置に設けられている。本実施形態においては、試薬注入装置３１を用いて、試薬Ｄ１ｂが貫通孔を介して第２導入流路部２２に注入される。試薬注入装置３０，３１としては、特に限定されず、いかなる公知の注入装置を用いてもよい。
【００６０】
（生成物取出装置）
生成物取出装置３２は、合成流路部２３内で生成された生成物を基板１１の外部に取り出すための装置である。生成物取出装置３２は、図２に示すように、第２基板１４の上面１４ａの貫通孔１７ｂが形成された位置に設けられている。本実施形態においては、生成物取出装置３２を用いて、生成物Ｄ１ｃが、合成流路部２３内から貫通孔１７ｂを介して基板１１の外部へと取り出される。生成物取出装置３２としては、特に限定されず、いかなる公知の取出装置を用いてもよい。
【００６１】
（媒体注入装置及び媒体取出装置）
複数の媒体注入装置６０ａは、各温度制御用流路に、温度制御媒体Ｃ１を注入するための装置である。媒体注入装置６０ａは、特に限定されず、いかなる公知の注入装置を用いてもよい。媒体取出装置６０ｂは、温度制御媒体Ｃ１を取り出すための装置である。媒体取出装置６０ｂは、特に限定されず、いかなる公知の取出装置を用いてもよい。
【００６２】
温度制御媒体Ｃ１は、媒体注入装置６０ａから温度制御用流路４２ａの接続流路部５６ａに流入され、制御流路部５２ａ及び接続流路部５６ｂを介して、媒体取出装置６０ｂから取り出される。このようにして、温度制御用流路４２ａ内に温度制御媒体Ｃ１が流れる。他の温度制御用流路４０ａ〜４１ｂ，４２ｂについても同様である。
【００６３】
次に、化学合成装置１０における生成物Ｄ１ｃの生成過程について詳しく説明する。
【００６４】
各温度制御用流路４０ａ〜４２ｂに温度調整された温度制御媒体Ｃ１を流した状態で、試薬注入装置３０から第１導入流路部２１に試薬Ｄ１ａを注入し、試薬注入装置３１から第２導入流路部２２に試薬Ｄ１ｂを注入する。
【００６５】
試薬注入装置３０から第１導入流路部２１に注入された試薬Ｄ１ａの温度は、温度制御用流路４０ａ，４０ｂの制御流路部５０ａ，５０ｂを流れる温度制御媒体Ｃ１によって制御される。具体的には、試薬Ｄ１ａを加熱する場合には、温度制御媒体Ｃ１の温度は、注入時の試薬Ｄ１ａよりも高温となるように設定され、試薬Ｄ１ａを冷却する場合には、温度制御媒体Ｃ１の温度は注入時の試薬Ｄ１ａよりも低温となるように設定される。温度制御媒体Ｃ１と試薬Ｄ１ａとの間で側壁層１３を介して熱交換が行われることにより、試薬Ｄ１ａの温度が制御される。
【００６６】
制御される試薬Ｄ１ａの温度は、試薬Ｄ１ｂとの化学合成反応に適した温度に設定される。試薬Ｄ１ａは、温度制御用流路４０ａ，４０ｂによって温度が制御された状態で、合成流路部２３に流入される。
【００６７】
同様にして、第２導入流路部２２に注入された試薬Ｄ１ｂの温度は、温度制御用流路４１ａ，４１ｂの制御流路部５１ａ，５１ｂを流れる温度制御媒体Ｃ１によって制御される。試薬Ｄ１ｂは、温度制御用流路４１ａ，４１ｂによって温度が制御された状態で、合成流路部２３に流入される。
【００６８】
上述したように合成流路部２３に流入された試薬Ｄ１ａ及び試薬Ｄ１ｂは化学合成され、生成物Ｄ１ｃが生成される。合成流路部２３中の試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃは、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの制御流路部５２ａ，５２ｂを流れる温度制御媒体Ｃ１によって温度が制御される。
【００６９】
合成流路部２３内において、試薬Ｄ１ａ、試薬Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃの温度は、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとが化学合成される化学反応に応じて制御される。具体的には、例えば、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学反応の速度を向上させる場合には、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとを加熱すればよい。また、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学反応が可逆反応で、合成流路部２３内で平衡状態となる場合には、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの合成反応が発熱反応ならば、冷却して温度を下げることにより生成物Ｄ１ｃが生成される方向に反応を進ませることができる。一方、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学反応が吸熱反応である場合には、加熱して温度を上げることにより生成物Ｄ１ｃが生成される方向に反応を進ませることができる。
【００７０】
以上のようにして生成された生成物Ｄ１ｃは、生成物取出装置３２を用いて化学合成装置１０の外部に取り出される。
【００７１】
［化学合成装置の製造方法］
次に、本実施形態の化学合成装置１０の製造方法について説明する。図４は、本実施形態の化学合成装置１０の製造方法の手順を示すフローチャートである。図５（Ａ）から図５（Ｄ）は、本実施形態の化学合成装置１０の製造方法の手順を示す部分拡大断面図である。
【００７２】
本実施形態の化学合成装置１０の製造方法は、図４に示すように、被パターニング層形成工程Ｓ１と、パターニング工程Ｓ２と、保護膜形成工程Ｓ３と、貼合工程Ｓ４と、を有する。
【００７３】
まず、被パターニング層形成工程Ｓ１は、図５（Ａ）に示すように、第１基板１２の上面１２ａに被パターニング層８０を形成する工程である。被パターニング層８０は、側壁層１３の形成材料で構成される層である。被パターニング層８０の形成方法は、特に限定されず、例えば、側壁層１３の形成材料を第１基板１２の上面１２ａに塗布する方法を採用できる。塗布する方法としては、特に限定されず、例えば、スクリーン印刷法、ダイコート法、インクジェット法、ディスペンサー法、スピンコート法、スリットコート法等を選択できる。この工程により、第１基板１２の上面１２ａに被パターニング層８０が形成される。
【００７４】
次に、パターニング工程Ｓ２は、図５（Ｂ）に示すように、被パターニング層８０をパターニングして側壁層１３を形成する工程である。被パターニング層８０をパターニングする方法は、特に限定されず、例えば、被パターニング層８０の形成材料として感光性材料を用いる場合には、マスクを用いて露光・現像する方法を採用できる。
【００７５】
また、被パターニング層８０をパターニングする方法としては、例えば、ウエットエッチングや、ドライエッチング等を採用してもよい。この工程により、被パターニング層８０に、流路用貫通孔１５，１６ａ，１６ｂが形成され、側壁層１３が形成される。流路用貫通孔１５，１６ａ，１６ｂが形成されている箇所においては、第１基板１２の上面１２ａが露出している。
【００７６】
なお、被パターニング層形成工程Ｓ１とパターニング工程Ｓ２とを合わせた工程が、特許請求の範囲における側壁層を形成する工程に相当する。
【００７７】
次に、保護膜形成工程Ｓ３は、図５（Ｃ）に示すように、第１保護膜７０を形成する工程である。側壁層１３の上面１３ａ、流路用貫通孔１５，１６ａ，１６ｂの内壁面、及び露出した第１基板１２の上面１２ａを覆うようにして第１保護膜７０を形成する。第１保護膜７０を形成する方法は、特に限定されず、例えば、化学気相成長（ＣＶＤ：Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法や、上述した塗布法を選択できる。この工程により、第１保護膜７０が形成される。
【００７８】
次に、貼合工程Ｓ４は、図５（Ｄ）に示すように、第２基板１４を貼合する工程である。第２基板１４を、第１保護膜７０を介して側壁層１３の上面１３ａ側（＋Ｚ側）に貼合する。本実施形態においては、貼合する第２基板１４の下面１４ｂには、予め第２保護膜７１を形成しておく。第２保護膜７１の形成方法は、特に限定されず、例えば、第１保護膜７０と同様の形成方法を選択できる。
【００７９】
第２基板１４を貼合する方法は、特に限定されず、例えば、接着剤を用いる方法を採用できる。この工程により、合成用流路２０、温度制御用流路４２ａ，４２ｂ及び温度制御用流路４０ａ，４０ｂ，４１ａ，４１ｂ（図５（Ｄ）においては図示せず）が形成される。
【００８０】
以上の工程により、本実施形態の化学合成装置１０が製造される。
【００８１】
本実施形態によれば、基板１１に温度制御用流路４０ａ〜４２ｂが形成されているため、各温度制御用流路４０ａ〜４２ｂ内を流れる温度制御媒体Ｃ１によって合成用流路２０を流れる試薬Ｄ１ａ，Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃを均一に加熱、あるいは冷却することが容易である。したがって、本実施形態によれば、合成用流路２０内の流体の温度制御が容易な化学合成装置が得られる。
【００８２】
また、本実施形態によれば、温度制御用流路４２ａ，４２ｂによって、合成流路部２３内を流れる流体の温度を制御できるため、試薬Ｄ１ａと試薬Ｄ１ｂとの化学反応を促進でき、生成物Ｄ１ｃの生成効率を向上できる。
【００８３】
また、本実施形態によれば、温度制御用流路４０ａ〜４１ｂによって、第１導入流路部２１内を流れる試薬Ｄ１ａの温度と、第２導入流路部２２内を流れる試薬Ｄ１ｂの温度とを制御できる。これにより、試薬Ｄ１ａの温度と試薬Ｄ１ｂの温度とを、化学合成反応に適した温度に調整できるため、化学反応を促進でき、生成物Ｄ１ｃの生成効率を向上できる。
【００８４】
また、本実施形態によれば、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの幅Ｗ２，Ｗ３が、合成流路部２３の幅Ｗ１よりも大きい。そのため、例えば、合成流路部２３から流体が漏れた場合に、漏れた流体を温度制御用流路４２ａ，４２ｂ中の温度制御媒体Ｃ１の流れによって回収しやすい。したがって、本実施形態によれば、合成流路部２３内を流れる流体が基板１１の外部に漏れることを抑制できる。
【００８５】
また、本実施形態によれば、温度制御用流路４０ａ〜４２ｂ内を流れる温度制御媒体Ｃ１を、試薬Ｄ１ａ，Ｄ１ｂ及び生成物Ｄ１ｃに対して不活性な物質とすることで、試薬Ｄ１ａ，Ｄ１ｂまたは生成物Ｄ１ｃが漏れて温度制御媒体Ｃ１と接触した場合に化学反応が生じることを抑制できる。これにより、本実施形態によれば、例えば、試薬Ｄ１ａ，Ｄ１ｂまたは生成物Ｄ１ｃと温度制御媒体Ｃ１とが反応して生成された物質によって基板１１が破損すること等を抑制できる。
【００８６】
また、本実施形態によれば、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの制御流路部５２ａ，５２ｂが合成流路部２３のほぼ全体に沿って設けられているため、生成物Ｄ１ｃの温度を維持したまま、生成物取出装置３２から取り出すことができる。すなわち、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの下流側の一部は、特許請求の範囲における温度維持部に相当する。
【００８７】
これにより、例えば、温度が低下すると分解するような生成物Ｄ１ｃであっても、生成物取出装置３２から取り出すまでの間に、生成物Ｄ１ｃが分解することを抑制できる。
【００８８】
また、本実施形態の化学合成装置の製造方法によれば、合成用流路２０と、温度制御用流路４０ａ〜４２ｂと、を同時に形成できるため、化学合成装置１０の製造が簡便である。
【００８９】
なお、本実施形態においては、以下の構成を採用してもよい。
【００９０】
上記説明においては、合成流路部２３には、一対の温度制御用流路４２ａ，４２ｂが設けられている構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、合成流路部２３には、温度制御用流路４２ａ，４２ｂのいずれか一方のみが設けられている構成としてもよい。第１導入流路部２１及び第２導入流路部２２についても同様である。
【００９１】
また、本実施形態においては、第１導入流路部２１内及び第２導入流路部２２内の流体の温度を制御する温度制御用流路４０ａ，４０ｂ，４１ａ，４１ｂを設けない構成としてもよい。
【００９２】
また、本実施形態においては、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの幅Ｗ２，Ｗ３は、合成流路部２３の幅Ｗ１以下としてもよい。
【００９３】
また、本実施形態においては、温度制御用流路４２ａの幅Ｗ２と、温度制御用流路４２ｂの幅Ｗ３とは、異なっていてもよい。
【００９４】
また、本実施形態においては、温度制御用流路４０ａ〜４２ｂ内を流れる温度制御媒体Ｃ１は、それぞれ異なる物質であってもよい。
【００９５】
また、上記説明においては、温度制御用流路４２ａの制御流路部５２ａは、合成流路部２３に沿って設けられる構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、制御流路部５２ａは、合成流路部２３内の流体の温度を制御できる範囲内において、どのように配置されていてもよい。
【００９６】
また、上記説明においては、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの制御流路部５２ａ，５２ｂは、合成流路部２３のほぼ全体に沿って設けられる構成としたが、これに限られない。本実施形態においては、合成流路部２３の一部に沿って、温度制御用流路４２ａ，４２ｂの制御流路部５２ａ，５２ｂが設けられてもよい。本実施形態においては、例えば、合成流路部２３の上流側の一部においてのみ、制御流路部５２ａ，５２ｂが設けられる構成としてもよい。
【００９７】
また、本実施形態においては、第１保護膜７０及び第２保護膜７１のいずれか、もしくは、両方は設けられていなくてもよい。また、第１保護膜７０の形成材料と第２保護膜７１の形成材料とは、異なっていてもよいし、同じであってもよい。
【００９８】
また、本実施形においては、被パターニング層形成工程Ｓ１とパターニング工程Ｓ２との代わりに、例えば、スクリーン印刷等によって、パターニングされた側壁層１３を直接第１基板１２の上面１２ａに形成してもよい。
【００９９】
＜第２実施形態＞
第２実施形態は、第１実施形態に対して、３種類の試薬を合成する点において異なる。なお、以下の説明においては、上記実施形態と同様の構成については、適宜同一の符号を付す等により説明を省略する場合がある。
【０１００】
図６は、本実施形態の化学合成装置１１０を示す平面図である。
【０１０１】
本実施形態の化学合成装置１１０は、図６に示すように、基板１１１と、試薬注入装置３０と、試薬注入装置３１と、試薬注入装置１３２と、生成物取出装置１３３と、複数の媒体注入装置６０ａと、複数の媒体取出装置６０ｂと、を備える。
【０１０２】
基板１１１の内部には、合成用流路（第１の流路）１２０と、温度制御用流路４０ａ〜４１ｂと、温度制御用流路（第２の流路）１４２ａと、温度制御用流路（第２の流路）１４２ｂと、温度制御用流路（第２の流路）１４３ａと、温度制御用流路（第２の流路）１４３ｂと、温度制御用流路（第２の流路）１４４ａと、温度制御用流路（第２の流路）１４４ｂと、温度制御用流路（第２の流路）１４５ａと、温度制御用流路（第２の流路）１４５ｂと、が形成されている。基板１１１は、内部に形成されている流路が異なる点を除いて、第１実施形態の基板１１と同様である。
【０１０３】
合成用流路１２０は、第１導入流路部２１と、第２導入流路部２２と、第１合成流路部（合成流路部）１２３と、第３導入流路部（導入流路部）１２４と、第２合成流路部（合成流路部）１２５と、を含む。本実施形態においては、第１導入流路部２１には、試薬（流体）Ｄ２ａが流入され、第２導入流路部２２には、試薬（流体）Ｄ２ｂが流入される。
【０１０４】
第１合成流路部１２３は、第１実施形態の合成流路部２３と同様に、第１導入流路部２１から流入される試薬Ｄ２ａと第２導入流路部２２から流入される試薬Ｄ２ｂとが化学合成される部分である。試薬Ｄ２ａと試薬Ｄ２ｂとが、化学合成されることにより、中間生成物（流体）Ｄ２ｃが生成される。
【０１０５】
第１合成流路部１２３の上流側の端部は、第１導入流路部２１及び第２導入流路部２２と接続されている。第１合成流路部１２３の下流側の端部は、第３導入流路部１２４及び第２合成流路部１２５と接続されている。第１合成流路部１２３は、上流側に設けられた反応部１２３ａと、下流側に設けられた導入部１２３ｂと、を含む。
【０１０６】
反応部１２３ａは、試薬Ｄ２ａと試薬Ｄ２ｂとの化学合成反応が、主として生じる部分である。すなわち、ほぼ全ての試薬Ｄ２ａと試薬Ｄ２ｂとが、反応部１２３ａにおいて、化学合成反応を生じて中間生成物Ｄ２ｃとなるように、反応部１２３ａの長さが設定されている。導入部１２３ｂは、生成された中間生成物Ｄ２ｃを第２合成流路部１２５に導入する部分である。
【０１０７】
第３導入流路部１２４は、試薬（流体）が流れる部分である。本実施形態においては、第３導入流路部１２４には、試薬注入装置１３２によって試薬Ｄ２ｄが注入される。第３導入流路部１２４の下流側の端部は、第２合成流路部１２５と接続されている。試薬注入装置１３２は、試薬注入装置３０と同様である。
【０１０８】
第２合成流路部１２５は、第１合成流路部１２３から流入される中間生成物Ｄ２ｃと、第３導入流路部１２４から流入される試薬Ｄ２ｄとが化学合成される部分である。第２合成流路部１２５の下流側の端部は、生成物取出装置１３３と接続されている。中間生成物Ｄ２ｃと試薬Ｄ２ｄとは化学合成され、生成物（流体）Ｄ２ｅが生成される。生成された生成物Ｄ２ｅは、生成物取出装置１３３から取り出される。生成物取出装置１３３は、第１実施形態の生成物取出装置３２と同様である。
【０１０９】
温度制御用流路１４２ａ，１４２ｂは、対となって第１合成流路部１２３の反応部１２３ａ内の流体、すなわち、試薬Ｄ２ａ、試薬Ｄ２ｂ及び中間生成物Ｄ２ｃの温度を制御するための流路である。温度制御用流路１４２ａは、制御流路部（第１の制御流路部）１５２ａを含む。温度制御用流路１４２ｂは、制御流路部（第１の制御流路部）１５２ｂを含む。温度制御用流路１４２ａ，１４２ｂの構成は、反応部１２３ａに対して設けられている点を除いて、第１実施形態の温度制御用流路４２ａ，４２ｂと同様である。
【０１１０】
温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂは、対となって第１合成流路部１２３の導入部１２３ｂ内の流体、すなわち、主として中間生成物Ｄ２ｃの温度を制御するための流路である。温度制御用流路１４３ａは、制御流路部（第１の制御流路部）１５３ａを含む。温度制御用流路１４３ｂは、制御流路部（第１の制御流路部）１５３ｂを含む。温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂの構成は、導入部１２３ｂに対して設けられている点を除いて、第１実施形態の温度制御用流路４２ａ，４２ｂと同様である。
【０１１１】
温度制御用流路１４４ａ，１４４ｂは、対となって第３導入流路部１２４内の流体、すなわち、試薬Ｄ２ｄの温度を制御するための流路である。温度制御用流路１４４ａは、制御流路部（第２の制御流路部）１５４ａを含む。温度制御用流路１４４ｂは、制御流路部（第２の制御流路部）１５４ｂを含む。温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂの構成は、第３導入流路部１２４に対して設けられている点を除いて、第１実施形態の温度制御用流路４２ａ，４２ｂと同様である。
【０１１２】
温度制御用流路１４５ａ，１４５ｂは、対となって第２合成流路部１２５内の流体、すなわち、中間生成物Ｄ２ｃ、試薬Ｄ２ｄ及び生成物Ｄ２ｅの温度を制御するための流路である。温度制御用流路１４５ａは、制御流路部（第１の制御流路部）１５５ａを含む。温度制御用流路１４５ｂは、制御流路部（第１の制御流路部）１５５ｂを含む。温度制御用流路１４５ａ，１４５ｂの構成は、第２合成流路部１２５に対して設けられている点を除いて、第１実施形態の温度制御用流路４２ａ，４２ｂと同様である。
【０１１３】
第１合成流路部１２３においては、例えば、反応部１２３ａと導入部１２３ｂとで、内部を流れる流体の温度が異なる。すなわち、温度制御用流路１４２ａ，１４２ｂによって制御される温度と、温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂによって制御される温度とが、異なる。
【０１１４】
具体的には、反応部１２３ａ内の流体の温度は、試薬Ｄ２ａと試薬Ｄ２ｂとの化学反応が促進されるように設定され、導入部１２３ｂ内の流体の温度は、中間生成物Ｄ２ｃが分解しないように、かつ、試薬Ｄ２ｄとの化学反応が生じやすい温度に維持される。言い換えると、温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂの制御流路部１５３ａ，１５３ｂは、化学合成された中間生成物Ｄ２ｃの温度を所定温度に維持する。すなわち、温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂの制御流路部１５３ａ，１５３ｂは、特許請求の範囲における温度維持部に相当する。
【０１１５】
本実施形態によれば、第１合成流路部１２３において、上流側の反応部１２３ａと、下流側の導入部１２３ｂとに、それぞれ温度制御用流路１４２ａ，１４２ｂと、温度制御用流路１４３ａ，１４３ｂとが設けられている。そのため、化学合成反応が主として生じる反応部１２３ａと、化学合成反応により生成された中間生成物Ｄ２ｃが流れる導入部１２３ｂと、で別々に温度制御を行うことができる。これにより、第１合成流路部１２３における化学反応を促進できると共に、第２合成流路部１２５における化学反応を促進することができる。したがって、本実施形態によれば、生成物Ｄ２ｅの生成効率を向上できる。
【０１１６】
なお、上述した第１実施形態及び第２実施形態においては、合成用流路及び温度制御用流路の配置は、特に限定されず、どのように配置されていてもよい。
【０１１７】
また、上述した第１実施形態及び第２実施形態においては、合成される試薬の種類は、２種類及び３種類としたが、これに限られない。本発明は、４種類以上の試薬が合成される化学合成装置に適用してもよい。
【０１１８】
ここで、上記実施形態の変形例に係る化学合成装置について説明する。上記実施形態にかかる化学合成装置の温度制御用流路の配置は特に限定されないため、以下に第１実施形態で示した合成流路部２３における温度制御用流路の変形例を示す。
なお、以下においては、第１実施形態と同じ構成部材には同一符号を付し、それらの説明を省略又は簡略化する。
【０１１９】
（変形例１）
図７に本変形例に係る化学合成装置の温度制御用流路の配置を示す。図７に示すように、本変形例に係る化学合成装置２１０は、基板２１１と、試薬注入装置３０と、試薬注入装置３１と、生成物取出装置３２と、複数の媒体注入装置６０ａ，１６０ａと、複数の媒体取出装置６０ｂ，１６０ｂと、を備える。基板２１１の内部には、第１実施形態の基板１１の構成に変えて、温度制御流路１０５２ａ及び１０５２ｂが形成されている。
化学合成装置２１０において、温度制御媒体Ｃ１は、媒体注入装置６０ａ及び１０６０ａから注入され、媒体取出装置６０ｂ及び１０６０ｂから取り出される。媒体注入装置１０６０ａ及び媒体取出装置１０６０ｂ並びに温度制御流路１０５２ａ及び１０５２ｂは共に、合成流路部２３に沿った位置に配置されており、基板１１が温度制御媒体Ｃ１に与える影響をより少なくすることができる。従って、より正確な温度制御媒体Ｃ１の温度管理が可能となる。
【０１２０】
図８に図７中IV−IVおける断面図を示す。図８（ａ）に示すように、化学合成装置２１０の媒体取出装置１０６０ｂは、温度制御流路１０５２ａ，１０５２ｂのそれぞれに対して媒体取出装置１１０１ａ，１１０１ｂが設けられている。しかし、図８（ｂ）に示すように、温度制御流路１０５２ａ，１０５２ｂに共通した媒体取出装置１１０２が設けられてもよい。
【０１２１】
（変形例２）
図９に本変形例に係る化学合成装置の温度制御用流路の配置を示す。図９に示すように、本変形例に係る化学合成装置３１０は、基板３１１と、試薬注入装置３０と、試薬注入装置３１と、生成物取出装置３２と、複数の媒体注入装置６０ａ，１６０ａと、複数の媒体取出装置６０ｂ，１６０ｂと、を備える。基板２１１の内部には、第１実施形態の基板１１の構成に変えて、温度制御流路１０５２ａ、１０５２ｂ、１０５３ａ、及び１０５３ｂが形成されている。
化学合成装置３１０において、温度制御媒体Ｃ１は、媒体注入装置６０ａ及び１０６０ａから注入され、媒体取出装置６０ｂ及び１０６０ｂから取り出される。本変形例では、合成流路部２３に沿った温度制御用流路は２対の流路（温度制御用流路１０５２ａ及び１０５２ｂ並びに温度制御用流路１０５３ａ及び１０５３ｂ）により構成されている。これにより合成流路部２３は流れの前半と後半とで異なった温度制御が可能となる。尚、媒体取出装置１０６０ｂに関しては上記の変形例１と同様に図８に示す構成とすることができる。
このような、変形例の構成および配置を用いても、上記実施形態と同様な効果を得ることができる。
【０１２２】
上記の変形例は、化学合成装置１０の合成流路部２３に対するものとして示したが、同様の構成は他の流路部において適用することが可能である。本発明は上記の実施形態並びに変形例に限定されるものではない。本発明の主旨を逸脱しない範囲において広く適用が可能である。
【符号の説明】
【０１２３】
１０，１１０…化学合成装置、１１，１１１…基板、１３…側壁層、２３…合成流路部、５０ａ，５１ａ，５２ａ，５２ｂ，１５３ａ…制御流路部、１５…流路用貫通孔（第１の貫通孔）、１６ａ，１６ｂ…流路用貫通孔（第２の貫通孔）、２０，１２０…合成用流路（第１の流路）、２１…第１導入流路部（導入流路部）、２２…第２導入流路部（導入流路部）、４０ａ，４０ｂ，４１ａ，４１ｂ，４２ａ，４２ｂ，１４２ａ，１４２ｂ，１４３ａ，１４３ｂ，１４４ａ，１４４ｂ，１４５ａ，１４５ｂ…温度制御用流路（第２の流路）、５０ａ，５０ｂ，５１ａ，５１ｂ，１５４ａ，１５４ｂ…制御流路部（第２の制御流路部）、５２ａ，５２ｂ，１５２ａ，１５２ｂ，１５５ａ，１５５ｂ…制御流路部（第１の制御流路部）、１５３ａ，１５３ｂ…制御流路部（第１の制御流路部，温度維持部）、１２３…第１合成流路部（合成流路部）、１２４…第３導入流路部（導入流路部）、１２５…第２合成流路部（合成流路部）、Ｃ１…温度制御媒体（媒体）、Ｄ１ａ，Ｄ１ｂ，Ｄ２ａ，Ｄ２ｂ，Ｄ２ｄ…試薬（流体）、Ｄ１ｃ，Ｄ２ｅ…生成物（流体）、Ｄ２ｃ…中間生成物（流体）、Ｗ１…幅（第１の流路の幅）、Ｗ２，Ｗ３…幅（第２の流路の幅）、１０５２ａ，１０５２ｂ，１０５３ａ，１０５３ｂ…温度制御流路部、１０６０ａ…媒体注入装置、１０６０ｂ，１１０１ａ，１１０１ｂ，１１０２…媒体取出装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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