(57)【要約】【課題】品質の良いガラス板が得られるフロートガラスの成形装置の提供。【解決手段】フロートガラスの成形装置１０は、溶融スズ３１０を収容する溶融スズ槽３２０を備え、溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０上で溶融ガラス１２を流動させて帯板状のガラスリボン１４を形成する。フロートガラスの成形装置１０は、溶融スズ槽３２０のサイド煉瓦３２６の上部から突出し、溶融スズ槽３２６内の溶融スズ３１０のうちガラスリボン１４で覆われていない露出部分３１１との間に隙間３０６を形成する突出壁３４０と、突出壁３４０の貫通孔を介して、隙間３０６に還元性ガスを供給する給気管３５０とをさらに備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融スズを収容する溶融スズ槽を備え、該溶融スズ槽内の溶融スズ上で溶融ガラスを流動させて帯板状のガラスリボンを形成する、フロートガラスの成形装置において、
前記溶融スズ槽のサイド煉瓦の上部から突出し、前記溶融スズ槽内の溶融スズのうち前記ガラスリボンで覆われていない露出部分との間に隙間を形成する突出壁と、
該突出壁の貫通孔を介して、前記隙間に還元性ガスを供給する給気管とをさらに備える、フロートガラスの成形装置。
【請求項２】
前記溶融スズ槽の上方に配設されるルーフと、
該ルーフに形成され、該ルーフと前記溶融スズ槽との間の空間に還元性ガスを供給するガス供給路とをさらに備え、
前記給気管から前記隙間に供給される還元性ガス中の水素ガス濃度が、前記ガス供給路から前記空間に供給される還元性ガス中の水素ガス濃度よりも高い、請求項１に記載のフロートガラスの成形装置。
【請求項３】
前記突出壁の下面から突出する壁をさらに備え、
前記給気管の先端部が接続される前記突出壁の貫通孔は、該突出壁を支持するサイド煉瓦と、該突出壁の下面から突出する壁との間に位置する、請求項１又は２に記載のフロートガラスの成形装置。
【請求項４】
前記突出壁は、カーボンで形成され、前記給気管から前記隙間に供給される還元性ガスに曝される、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフロートガラスの成形装置。
【請求項５】
前記突出壁は、カーボンで形成される突出壁本体と、該突出壁本体を保護する酸化防止膜とを有する、請求項１〜３のいずれか一項に記載のフロートガラスの成形装置。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載のフロートガラスの成形装置を用いてガラス板を製造する、フロートガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フロートガラスの成形装置、及びフロートガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
フロートガラスの成形装置は、溶融スズを収容する溶融スズ槽を備え、溶融スズ槽内の溶融スズ上で溶融ガラスを流動させて、帯板状のガラスリボンを形成する。ガラスリボンは、溶融スズ槽の下流域で溶融スズから引き上げられ、徐冷された後、切断される。このようにして、ガラス板が得られる。
【０００３】
フロートガラスの成形装置は、溶融スズ槽の上方に配設されるルーフをさらに備える（例えば、特許文献１参照）。ルーフには、ルーフと溶融スズ槽との間の空間（成形装置の上部空間）に還元性ガスを供給するガス供給路が形成されている。還元性ガスは、成形装置の上部空間に外部から混入する酸素と反応し、溶融スズ槽内の溶融スズの酸化を抑制する。還元性ガスとしては、一般的に、窒素ガスと水素ガスとを含む混合ガスが用いられる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−１６２９１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
成形装置の上部空間に外部から混入した酸素は、溶融スズに溶け込む。そのため、溶融スズは不純物として酸素を含んでおり、溶融スズの露出部分から酸化スズ蒸気が揮散する。揮散した酸化スズ蒸気は冷却されると酸化スズ粒子となる。この酸化スズ粒子がガラスリボン上に落下し、欠陥が生じることがあった。
【０００６】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであって、品質の良いガラス板が得られるフロートガラスの成形装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決するため、本発明の一態様は、
溶融スズを収容する溶融スズ槽を備え、該溶融スズ槽内の溶融スズ上で溶融ガラスを流動させて帯板状のガラスリボンを形成する、フロートガラスの成形装置において、
前記溶融スズ槽のサイド煉瓦の上部から突出し、前記溶融スズ槽内の溶融スズのうち前記ガラスリボンで覆われていない露出部分との間に隙間を形成する突出壁と、
該突出壁の貫通孔を介して、前記隙間に還元性ガスを供給する給気管とをさらに備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、品質の良いガラス板が得られるフロートガラスの成形装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一実施形態によるフロートガラスの製造装置を示す断面図
【図２】本発明の一実施形態によるフロートガラスの成形装置を示す断面図
【図３】本発明の一実施形態によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図
【図４】図３のIV−IV断面図
【図５】第１変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す断面図
【図６】第２変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図
【図７】第３変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す断面図
【図８】第４変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図
【図９】第５変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図
【図１０】第６変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明する。なお、以下の図面において、同一のまたは対応する構成には、同一のまたは対応する符号を付して、説明を省略する。各図面において、Ｘ方向はガラスリボンの流動方向、Ｙ方向はガラスリボンの幅方向を表す。Ｘ方向及びＹ方向は互いに直交する方向である。
【００１１】
図１は、本発明の一実施形態によるフロートガラスの製造装置を示す断面図である。図１に示すように、フロートガラスの製造装置１００は、ガラス原料１０を溶解し溶融ガラス１２とする溶解装置２００と、溶解装置２００から供給される溶融ガラス１２を帯板状に成形しガラスリボン１４とする成形装置３００と、成形装置３００で成形されたガラスリボン１４を徐冷する徐冷装置４００とを備える。
【００１２】
溶解装置２００は、溶融ガラス１２を収容する溶解槽２１０と、溶解槽２１０内に収容される溶融ガラス１２の上方に火炎を形成するバーナ２２０とを備える。溶解槽２１０内に投入されたガラス原料１０は、バーナ２２０が形成する火炎からの輻射熱によって溶融ガラス１２に徐々に溶け込む。溶融ガラス１２は、溶解槽２１０から成形装置３００に連続的に供給される。
【００１３】
成形装置３００は、溶融スズ３１０を収容する溶融スズ槽３２０を備える。溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０上に溶融ガラス１２が連続的に供給される。成形装置３００は、溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０上で溶融ガラス１２を流動させ、帯状のガラスリボン１４を形成する。ガラスリボン１４は、所定方向に流動しながら徐々に冷却され、徐々に固くなる。ガラスリボン１４は、溶融スズ槽３２０の下流域で溶融スズ３１０から引き上げられ、リフトアウトロール５１０によって徐冷装置４００に搬送される。
【００１４】
徐冷装置４００は、成形装置３００で成形されたガラスリボン１４を徐冷する。徐冷装置４００は、例えば、断熱構造の徐冷炉（レア）４１０と、徐冷炉４１０内に配設され、ガラスリボン１４を所定方向に搬送する複数の搬送ロール４２０とを含む。徐冷炉４１０内の雰囲気温度は、徐冷炉４１０の入口から出口に向かうほど低温となっている。徐冷炉４１０内の雰囲気温度は、徐冷炉４１０内に設けられるヒータ４４０等で調整される。徐冷炉４１０の出口から搬出されたガラスリボン１４は、切断機で所定のサイズに切断され、製品であるガラス板が得られる。
【００１５】
図２は、本発明の一実施形態によるフロートガラスの成形装置を示す断面図である。図３は、本発明の一実施形態によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図である。図４は、図３のIV−IV断面図である。
【００１６】
成形装置３００は、図２に示すように、溶融スズ３１０を収容する溶融スズ槽３２０、溶融スズ槽３２０の上方に配設されるルーフ３０２等で構成される。ルーフ３０２には、ルーフ３０２と溶融スズ槽３２０との間の空間（成形装置３００の上部空間）３０４に還元性ガスを供給するガス供給路３３０が設けられている。また、ガス供給路３３０には、加熱源としてのヒータ３３２が挿通されている。
【００１７】
ガス供給路３３０は、溶融スズ３１０の酸化を抑制するため、成形装置３００の上部空間３０４に還元性ガスを供給する。還元性ガスは、例えば、水素ガスを１〜１５体積％、窒素ガスを８５〜９９体積％含んでいる。成形装置３００の上部空間３０４は、外気の混入を制限するため、大気圧よりも高い気圧となっている。
【００１８】
ヒータ３３２は、ガラスリボン１４の温度分布を調節するため、例えば、ガラスリボン１４の流動方向（Ｘ方向）及び幅方向（Ｙ方向）に間隔をおいて複数設けられる。ヒータ３３２の出力は、上流側から下流に向かうほどガラスリボン１４の温度が低くなるように制御される。また、ヒータ３３２の出力は、ガラスリボン１４の厚さが幅方向に均一になるように制御される。
【００１９】
溶融スズ槽３２０は、上方に開口する金属製のケーシング３２２、並びにケーシング３２２内に設置されるボトム煉瓦３２４及びサイド煉瓦３２６を含む。ケーシング３２２は、外気の混入を防止するためのものである。ケーシング３２２の下面は、外気に曝され、自然冷却される。ボトム煉瓦３２４はケーシング３２２の内側底面を保護し、サイド煉瓦３２６はケーシング３２２の内側側面を保護する。複数のボトム煉瓦３２４が、Ｘ方向およびＹ方向に２次元的に配列される。複数のボトム煉瓦３２４を囲むように、複数のサイド煉瓦３２６が、ケーシング３２２の内側側面に沿って四角環状に配列される。
【００２０】
溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０の上面は、図３に示すように、幅の広いワイド域Ｚ１と、幅が徐々に狭くなる中間域Ｚ２と、幅の狭いナロー域Ｚ３とを上流側からこの順で備える。ワイド域Ｚ１の温度は、アルカリ含有ガラスの場合、７００℃以上に設定される。また、ワイド域Ｚ１の温度は、無アルカリガラスの場合、９００℃以上に設定される。
【００２１】
溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０の上面は、図４に示すように、ガラスリボン１４で覆われていない露出部分３１１と、ガラスリボン１４で覆われている被覆部分３１２とを含む。露出部分３１１は、図３に示すようにガラスリボン１４の幅方向両側にある。
【００２２】
成形装置３００は、図４に示すように、溶融スズ槽３２０のサイド煉瓦３２６の上部から突出し、溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０の露出部分３１１との間に隙間３０６を形成する突出壁３４０をさらに備える。突出壁３４０は、例えば板状であって、溶融スズ３１０の上方に水平に設けられる。突出壁３４０は、突出壁３４０よりも上方の空間に外部から混入した酸素ガスと溶融スズ３１０との接触を制限し、溶融スズ３１０中の酸素濃度の増加を抑制する。また、突出壁３４０は、上方から落下する酸化スズ粒子３１４を受け止め、酸化スズ粒子３１４の溶融スズ３１０への落下を防止する。
【００２３】
尚、本実施形態の突出壁３４０は、溶融スズ３１０の液面に対して水平に設けられるが、例えば、溶融スズ３１０の液面に対して斜めに設けられてもよい。
【００２４】
また、成形装置３００は、突出壁３４０の貫通孔を介して、突出壁３４０と、溶融スズ３１０の露出部分３１１との間の隙間３０６に還元性ガスを供給する給気管３５０をさらに備える。給気管３５０の還元性ガスは、例えば水素ガス（Ｈ２）を含む。給気管３５０の還元性ガスは、窒素ガス（Ｎ２）等の不活性ガスを含む混合ガスでもよく、コスト削減のため、ガス供給路３３０の還元性ガスと同じ種類のガスでもよい。給気管３５０の還元性ガスは、溶融スズ３１０やガラスリボン１４を冷却しないように高温のガスであってよく、給気管３５０にはバンドヒータが巻かれていてもよい。
【００２５】
給気管３５０は、突出壁３４０と溶融スズ３１０の露出部分３１１との間の隙間３０６に還元性ガスを供給することで、溶融スズ３１０の露出部分３１１と接触する雰囲気の組成を所望の組成に調整できる。よって、詳しくは後述するが、溶融スズ３１０の露出部分３１１から蒸発する酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）の揮散を制限することができ、また、溶融スズ３１０中の酸素濃度を低減することができる。
【００２６】
給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガス（例えばＨ２）は、溶融スズ３１０の露出部分３１１から蒸発した酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）と反応し、スズ蒸気（Ｓｎ）と水蒸気（Ｈ２Ｏ）とを生成する。隙間３０６におけるスズの蒸気量が飽和蒸気量を超えると、新たに生成したスズ蒸気はスズ液滴となり、溶融スズ３１０上に落下する。一方、水蒸気は、未反応の還元性ガスと共に、成形装置３００の上部空間３０４を通り、成形装置３００の外部に排気される。
【００２７】
このように、給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガス（例えばＨ２）は、溶融スズ３１０の露出部分３１１から蒸発した酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）を分解し、酸化スズ蒸気の揮散を抑制する。よって、酸化スズ蒸気から生じうる酸化スズ粒子のガラスリボン１４上への落下を抑制することができる。溶融スズ３１０からの酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）の揮発は、７００℃以上で生じやすく、８００℃以上で顕著であり、１０００℃以上で特に顕著である。
【００２８】
また、給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガス（例えばＨ２）は、溶融スズ３１０の露出部分３１１と接触し、溶融スズ３１０中の酸素と反応し、水蒸気を生成する。この水蒸気は、未反応の還元性ガスと共に、成形装置３００の上部空間３０４を通り、成形装置３００の外部に排気される。
【００２９】
このように、給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガス（例えばＨ２）は、溶融スズ３１０中の酸素濃度を低減する。よって、溶融スズ３１０の露出部分３１１から蒸発する酸化スズ蒸気の量を低減することができる。
【００３０】
給気管３５０から隙間３０６に供給される還元性ガス中の水素ガス濃度（体積％）は、ガス供給路３３０から成形装置３００の上部空間３０４に供給される還元性ガス中の水素ガス濃度（体積％）よりも高いことが好ましい。給気管３５０が設けられない場合に比べて、溶融スズ３１０の露出部分３１１と接触する雰囲気の還元力が高くなる。給気管３５０から隙間３０６に供給される還元性ガスは、実質的に水素ガスのみで構成されてもよく、９９体積％以上の水素ガス濃度を有してよい。
【００３１】
尚、本実施形態の給気管３５０の還元性ガスは、還元力を有するガスとして水素ガスを含むが、還元力を有するガスは水素ガスに限定されない。例えば、給気管３５０の還元性ガスは、還元力を有するガスとしてアセチレンガス（Ｃ２Ｈ２）を含んでもよい。アセチレンガスは、水素ガスよりも高い還元力を有する。この場合、給気管３５０から隙間３０６に供給される還元性ガス中のアセチレンガス濃度（体積％）は、ガス供給路３３０から成形装置３００の上部空間３０４に供給される還元性ガス中の水素ガス濃度（体積％）よりも低くてもよい。給気管３５０が設けられない場合に比べて、溶融スズ３１０の露出部分３１１と接触する雰囲気の還元力が高くなればよい。
【００３２】
突出壁３４０は、カーボン（Ｃ）で形成され、給気管３５０から隙間３０６に供給される還元性ガスに曝されてよい。カーボンは、還元力を有し、酸素濃度の低い環境下で一酸化炭素ガス（ＣＯ）を生じさせる。カーボンは、溶融スズ３１０の露出部分３１１から蒸発する酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）と反応し、スズ蒸気（Ｓｎ）と、一酸化炭素ガス（ＣＯ）とを生成する。隙間３０６におけるスズの蒸気量が飽和蒸気量を超えると、新たに生成したスズ蒸気はスズ液滴となり、溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０上に落下する。一方、一酸化炭素ガスは、未反応の還元性ガスと共に、成形装置３００の上部空間３０４を通り、成形装置３００の外部に排気される。
【００３３】
このように、カーボンで形成される突出壁３４０は、溶融スズ３１０の露出部分３１１から蒸発した酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）を分解し、酸化スズ蒸気の揮散を抑制する。よって、酸化スズ蒸気から生じうる酸化スズ粒子のガラスリボン１４上への落下を抑制することができる。カーボンによる還元反応は、４５０℃以上で進みやすい。
【００３４】
また、カーボンで形成される突出壁３４０は、溶融ガラスとの濡れ性がよいので、ガラスリボン１４の流れが乱れ、ガラスリボン１４が突出壁３４０と接触した場合に、ガラスリボン１４の流動性を妨げにくい。
【００３５】
突出壁３４０は、図３に示すようにガラスリボン１４の流動方向（Ｘ方向）に沿って連続的に配置される複数のブロック３４１〜３４６に分割されてよい。ブロック３４１〜３４６毎の設置が可能であるので、設置作業が容易である。
【００３６】
突出壁３４０は、高温のワイド域Ｚ１に設けられてよい。ワイド域Ｚ１の温度は一般的に酸化スズ蒸気（ＳｎＯ）の揮発が始まる７００℃以上であるので、酸化スズ蒸気から、酸素を含むガス（例えば水蒸気又は一酸化炭素ガス）とスズ液滴とを生成する反応が進む。
【００３７】
突出壁３４０のＸ方向寸法Ｌ１は、溶融スズ槽３２０内の溶融スズ３１０のＸ方向寸法Ｌ２の１０％以上であってよく、３０％以上であることが好ましく、Ｌ２の５０％以上であることがより好ましく、Ｌ２の７０％以上であることがさらに好ましく、Ｌ２の９０％以上であることが特に好ましい。
【００３８】
突出壁３４０は、上方から見た場合にガラスリボン１４と重ならない位置に設けられてよい。ガラスリボン１４の側端の位置を作業者が確認できる。突出壁３４０の先端と、ガラスリボン１４の側端との間のガラスリボン幅方向（Ｙ方向）における間隔Ｗ（図４参照）は、隙間３０６に供給される還元性ガスの効果を十分に得るため、例えば１５０ｍｍ以下、好ましくは１００ｍｍ以下、より好ましくは５０ｍｍ以下、特に好ましくは２５ｍｍ以下である。また、間隔Ｗは、ガラスリボン１４の側端の位置の確認のため、例えば０ｍｍよりも大きく、好ましくは１０ｍｍ以上、より好ましくは１５ｍｍ以上である。
【００３９】
なお、図８に示すように、ガラスリボン１４の側端の位置の確認が不要な部分は、上方から見た場合に、突出壁３４０Ａと重なっていてよい。つまり、突出壁３４０Ａの先端部は、上方から見た場合に、ガラスリボン１４と重なる部分と、ガラスリボン１４と重ならない部分とを両方有してよく、凹凸形状であってよい。この場合、上方から見た場合に突出壁３４０Ａとガラスリボン１４とが重なる領域のＹ方向寸法Ｖは、ガラスリボン１４が給気管３５０から供給される還元力の強い還元性ガスに曝されるのを抑えるため、１５０ｍｍ以下、好ましくは１００ｍｍ以下、より好ましくは５０ｍｍ以下、特に好ましくは２５ｍｍ以下である（図８）。
【００４０】
突出壁３４０の下面と、溶融スズ３１０の露出部分３１１との間の間隔Ｈ（図４参照）は、後述する換気回数の増加を抑えるため、例えば１００ｍｍ以下、好ましくは５０ｍｍ以下、より好ましくは２５ｍｍ以下、さらに好ましくは１０ｍｍ以下である。また、間隔Ｈは、外力のない自然状態での溶融ガラスの平衡板厚が約７ｍｍであることから突出壁３４０とガラスリボン１４との接触防止のため、例えば７ｍｍよりも大きい。
【００４１】
突出壁３４０と溶融スズ３１０との間の隙間３０６の１時間当たりの換気回数は、少なすぎると浄化処理が十分に行われず、多すぎるとコストがかさむので、好ましくは３〜２０回、より好ましくは８〜１０回である。ここで、換気回数は、１時間の間に隙間３０６に供給される還元性ガスの標準状態（１気圧、２５℃）での体積（Ｎｍ３）と、隙間３０６の体積との比で算出される。
【００４２】
図５は、第１変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す断面図であって、図４に対応する図である。図５に示す成形装置１３００は、突出壁３４０の下面から突出する鉛直壁３６０をさらに備える点で、図４に示す成形装置３００と相違する。以下、相違点について主に説明する。
【００４３】
鉛直壁３６０は、突出壁３４０の下面から突出する。鉛直壁３６０は、突出壁３４０と一体に形成されてよい。鉛直壁３６０は、図５に示すように突出壁３４０の先端から下方に延びていてもよいし、突出壁３４０における先端と基端との途中から下方に延びていてもよい。鉛直壁３６０は、ガラスリボン１４の側縁に沿って、突出壁３４０の上流端から下流端まで形成されてよい。
【００４４】
尚、本実施形態では、突出壁３４０の下面から突出する壁として、溶融スズ３１０の液面に対して鉛直な鉛直壁３６０が設けられるが、例えば、溶融スズ３１０の液面に対して斜めの壁が設けられてもよい。
【００４５】
給気管３５０の先端部が接続される突出壁３４０の貫通孔は、突出壁３４０を支持するサイド煉瓦３２６と、鉛直壁３６０との間に位置する。よって、給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガスが、鉛直壁３６０に沿って隙間３０６全体に行き渡りやすい。
【００４６】
鉛直壁３６０は、上方から見た場合にガラスリボン１４と重ならない位置に設けられてよい。鉛直壁３６０と、ガラスリボン１４の側端との間のガラスリボン幅方向（Ｙ方向）における間隔Ｇは、隙間３０６に供給される還元性ガスの効果を十分に得るため、例えば１５０ｍｍ以下、好ましくは１００ｍｍ以下、より好ましくは５０ｍｍ以下、特に好ましくは２５ｍｍ以下である。また、間隔Ｇは、ガラスリボン１４の側端の位置の確認のため、例えば０ｍｍよりも大きく、好ましくは１０ｍｍ以上、より好ましくは１５ｍｍ以上である。
【００４７】
鉛直壁３６０は、溶融スズ３１０及びガラスリボン１４の流動を妨げないように、溶融スズ３１０及びガラスリボン１４よりも上方に設けられる。鉛直壁３６０の下端と、溶融スズ３１０の露出部分３１１との間の間隔ｈは、給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガスが、隙間３０６全体に行き渡りやすいように、好ましくは５０ｍｍ以下、より好ましくは２５ｍｍ以下、さらに好ましくは１０ｍｍ以下である。また、間隔ｈは、外力のない自然状態での溶融ガラスの平衡板厚が約７ｍｍであることから鉛直壁３６０とガラスリボン１４との接触防止のため、例えば７ｍｍよりも大きい。
【００４８】
尚、鉛直壁３６０は、図９に示すように、上方から見たときに一部がガラスリボン１４と重なる突出壁３４０Ａの下面から突出してもよい。鉛直壁３６０は、突出壁３４０Ａよりもガラスリボン１４と接触しやすいため、突出壁３４０Ａと異なり、上方から見た場合にガラスリボン１４と重ならない位置に設けられてよい。ガラスリボン１４が給気管３５０から供給される還元力の強い還元性ガスに曝されるのを抑えることもできる。鉛直壁３６０と、ガラスリボン１４の側端との間のガラスリボン幅方向（Ｙ方向）における間隔Ｇは、上記範囲であってよい。
【００４９】
但し、図１０に示すように、鉛直壁３６０Ａは、突出壁３４０Ａと同様に、上方から見た場合にガラスリボン１４と重なる部分を有してもよい。この部分は、ガラスリボン１４の側端からガラスリボン１４の幅方向内側に、距離Ｆだけ突出している。距離Ｆは、ガラスリボン１４が給気管３５０から供給される還元力の強い還元性ガスに曝されるのを抑えるため、１５０ｍｍ以下、好ましくは１００ｍｍ以下、より好ましくは５０ｍｍ以下、特に好ましくは２５ｍｍ以下である。
【００５０】
図６は、第２変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す平面図であって、図３に対応する図である。図６に示す成形装置２３００は、突出壁３４０の貫通孔を介して、突出壁３４０と溶融スズ３１０の露出部分３１１との間の隙間３０６のガスを排気する排気管３５２をさらに備える点で、図３に示す成形装置３００と相違する。以下、相違点について主に説明する。
【００５１】
排気管３５２は、給気管３５０から隙間３０６に供給された還元性ガスを排気管３５２に導く。そのため、還元性ガスが隙間３０６全体に行き渡りやすい。排気管３５２の基端部には吸気源が設けられてよい。また、排気管３５２は、給気管３５０から供給される還元力の強い還元性ガスにガラスリボン１４が曝されるのを抑制する。尚、給気管３５０と排気管３５２の位置は図６に限られず、例えば図６において給気管３５０と排気管３５２の位置が逆であってもよい。また給気管３５０と排気管３５２をそれぞれ複数設けてもよい。
【００５２】
尚、排気管３５２が接続される突出壁３４０の下面に、第１変形例と同様に鉛直壁３６０が設けられてもよい。この場合、排気管３５２の先端部が接続される突出壁３４０の貫通孔は、突出壁３４０を支持するサイド煉瓦３２６と、鉛直壁３６０との間に位置する。
【００５３】
図７は、第３変形例によるフロートガラスの成形装置の下部構造を示す断面図であって、図４に対応する図である。図７に示す成形装置３３００は、カーボンで形成される突出壁本体３４８と、突出壁本体３４８を保護する酸化防止膜３４９とを含む突出壁３４７を含む点で、図４に示す成形装置３００と相違する。以下、相違点について主に説明する。
【００５４】
突出壁本体３４８は、カーボンで形成される。突出壁本体３４８には、カーボンの焼失を抑制するため、酸化防止膜３４９が設けられる。
【００５５】
酸化防止膜３４９は、炭化ケイ素（ＳｉＣ）等のセラミックスで形成される。酸化防止膜３４９の形成方法としては、例えば溶射法等がある。酸化防止膜３４９は、突出壁３４０の表面全体を覆っていてよい。
【００５６】
尚、突出壁３４０の下面に鉛直壁３６０が突設される場合、鉛直壁３６０は、カーボンで形成される鉛直壁本体と、鉛直壁本体を保護する酸化防止膜とで構成されてよい。この場合、突出壁本体と鉛直壁本体とは一体に形成されてよい。
【００５７】
以上、フロートガラスの成形装置の実施形態等を説明したが、本発明は上記実施形態等に限定されず、特許請求の範囲に記載された範囲で、種々の変形及び改良が可能である。
【００５８】
例えば、上記実施形態の突出壁３４０は、カーボンで形成されるが、セラミックスで形成されてもよく、突出壁３４０の材料は耐熱性を有する材料であればよい。
【符号の説明】
【００５９】
１２    溶融ガラス
１４    ガラスリボン
１００  フロートガラスの製造装置
３００  フロートガラスの成形装置
３０２  ルーフ
３０４  ルーフと溶融スズ槽との間の空間（成形装置の上部空間）
３０６  突出壁と溶融スズとの間の隙間
３１０  溶融スズ
３１１  露出部分
３１２  被覆部分
３２０  溶融スズ槽
３２２  ケーシング
３２４  ボトム煉瓦
３２６  サイド煉瓦
３４０  突出壁
３４８  突出壁本体
３４９  酸化防止膜
３５０  給気管
３５２  排気管
３６０  突出壁の下面から突出する壁（鉛直壁）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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