(57)【要約】【課題】光電変換効率を向上させた、有機太陽電池モジュールおよびその製造方法、並びに電子機器を提供する。【解決手段】基板１０上に電気的に接続した２以上の有機太陽電池セル１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃを備えた有機太陽電池モジュール１であって、前記有機太陽電池セル１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃは、下部に位置する第一電極層１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ、有機層１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ、および上部に位置する第二電極層１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを含み、少なくとも１つの有機太陽電池セル１００Ｂの第一電極層１１Ｂと、該有機太陽電池セル１００Ｂと隣り合う有機太陽電池セル１００Ｃの第一電極層１１Ｃとの間に、屈折率が１．０以上１．５以下であるフッ素樹脂層１４Ｂを備える。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に電気的に接続した２以上の有機太陽電池セルを備えた有機太陽電池モジュールであって、
前記有機太陽電池セルは、下部に位置する第一電極層、有機層、および上部に位置する第二電極層を含み、
少なくとも１つの有機太陽電池セルの第一電極層と、該有機太陽電池セルと隣り合う有機太陽電池セルの第一電極層との間に、屈折率が１．０以上１．５以下であるフッ素樹脂層を備えた
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
前記フッ素樹脂層は、膜厚が５０ｎｍ以上１０μｍ以下である
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項３】
請求項１または請求項２に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
前記フッ素樹脂層の上に、前記フッ素樹脂層の屈折率よりも大きい反射層をさらに備えた
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項４】
請求項３に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
前記反射層は、高屈折率樹脂層、金属層または無機化合物層である
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項５】
請求項４に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
前記高屈折率樹脂層は、屈折率が１．３以上４．０以下である
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項６】
請求項４に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
前記無機化合物層は、屈折率が２．０以上４．０以下である
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項７】
請求項３から請求項６までのいずれか１項に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
前記反射層は、膜厚が１００ｎｍ以上１μｍ以下である
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の有機太陽電池モジュールにおいて、
該有機太陽電池モジュールは、室内用である
ことを特徴とする有機太陽電池モジュール。
【請求項９】
基板上に電気的に接続した２以上の有機太陽電池セルを備えた有機太陽電池モジュールの製造方法であって、
少なくとも１つの有機太陽電池セルの第一電極層と、該有機太陽電池セルと隣り合う有機太陽電池セルの第一電極層との間に、屈折率１．０以上１．５以下のフッ素樹脂層を形成するフッ素樹脂層形成工程
を備えたことを特徴とする有機太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項１０】
請求項９に記載の有機太陽電池モジュールの製造方法において、
前記フッ素樹脂層の上に、前記フッ素樹脂層の屈折率よりも大きい反射層を形成する反射膜形成工程を更に備えた
ことを特徴とする有機太陽電池モジュールの製造方法。
【請求項１１】
請求項１から請求項８までのいずれか１項に記載の有機太陽電池モジュールを備えることを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機太陽電池モジュールおよびその製造方法、並びに電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機太陽電池モジュールは、安価で毒性が低く、原材料不足の懸念もないことから、シリコン系太陽電池モジュールに次ぐ次世代の太陽電池モジュールとして大変注目を集めている。
このような有機太陽電池モジュールを構成する有機太陽電池セルでは、特に光電変換効率の向上が求められており、光電変換効率の高い化合物の検討などがされている（例えば、特許文献１、非特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−２３４９４５号公報
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｐｉｅｒｒｅ−Ｌｕｃ  Ｔ．  Ｂｏｕｄｒｅａｕｌｔ，  Ａｈｍｅｄ  Ｎａｊａｒｉ，  ａｎｄ  Ｍａｒｉｏ  Ｌｅｃｌｅｒｃ，  Ｃｈｅｍ．  Ｍａｔｅｒ．，  ２０１１，  ２３，  ｐｐ４５６−４６９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、有機太陽電池は、他の方式の太陽電池と比較して、光電変換効率が極端に低いことが課題となっている。
また、有機太陽電池セルにおいて、発電機能を有する有機層は非常に薄く形成されるため、有機層によって透明電極の端部を完全に被覆することができない場合があり、有機太陽電池セルを形成した際、リーク電流の要因となっていた。
【０００６】
本発明は、光電変換効率を向上させた、有機太陽電池モジュールおよびその製造方法、並びに電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明の一態様によれば、基板上に電気的に接続した２以上の有機太陽電池セルを備えた有機太陽電池モジュールであって、前記有機太陽電池セルは、下部に位置する第一電極層、有機層、および上部に位置する第二電極層を含み、少なくとも１つの有機太陽電池セルの第一電極層と、該有機太陽電池セルと隣り合う有機太陽電池セルの第一電極層との間に、屈折率が１．０以上１．５以下であるフッ素樹脂層を備えた有機太陽電池モジュールが提供される。
【０００８】
本発明の一態様によれば、基板上に電気的に接続した２以上の有機太陽電池セルを備えた有機太陽電池モジュールの製造方法であって、少なくとも１つの有機太陽電池セルの第一電極層と、該有機太陽電池セルと隣り合う有機太陽電池セルの第一電極層との間に、屈折率１．０以上１．５以下のフッ素樹脂層を形成するフッ素樹脂層形成工程を備えた有機太陽電池モジュールの製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の一態様によれば、前述の本発明の一態様に係る有機太陽電池モジュールを備える電子機器が提供される。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の一態様によれば、光電変換効率を向上させた、有機太陽電池モジュールおよびその製造方法、並びに電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本実施形態における有機太陽電池モジュールの概略図である。
【図２】本実施形態における有機太陽電池モジュールの製造方法を説明する概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明の実施形態を詳細に説明する。また、以下に述べる実施形態は、本発明の好適な具体例であるから、技術的に好ましい種々の限定が付されているものの、本発明の範囲は、以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの態様に限られるものではない。
【００１３】
本実施形態の有機太陽電池モジュールは、基板上に電気的に接続した２以上の有機太陽電池セルを備えた有機太陽電池モジュールであって、前記有機太陽電池セルは、下部に位置する第一電極層、有機層、および上部に位置する第二電極層を含み、少なくとも１つの有機太陽電池セルの第一電極層と、該有機太陽電池セルと隣り合う有機太陽電池セルの第一電極層との間に、屈折率が１．０以上１．５以下であるフッ素樹脂層を備えたことを特徴とする。
【００１４】
本実施形態によれば、少なくとも１つの有機太陽電池セルの第一電極層と、該有機太陽電池セルと隣り合う有機太陽電池セルの第一電極層との間に、フッ素樹脂層を設けたので、第一電極層の上に、有機層および第二電極層を積層したとき、第一電極層の端部が有機層で被覆しやすくなる。このため、起電力による端部への電界集中が避けられ、第二電極層と第一電極層との間のリーク電流を抑制することが可能となる。
結果として、光電変換効率を向上させた、有機太陽電池モジュールを提供できる。
このように、光電変換効率を向上させる効果が得られるため、本実施形態の有機太陽電池モジュールは、室内用の有機太陽電池モジュールとして、好適に用いられる。
また、有機層を塗布法により形成するときには、フッ素樹脂層が塗布液をはじくため、パターニング工程を省くことができ、簡易にモジュールの製造が可能となる。
【００１５】
以下、本実施形態の有機太陽電池モジュールを構成ごとに説明する。
（有機太陽電池モジュール）
図１は、第一実施形態における有機太陽電池モジュールの概略図である。
第一実施形態の有機太陽電池モジュール１は、基板１０上に並置された第一の有機太陽電池セル１００Ａ、第二の有機太陽電池セル１００Ｂおよび第三の有機太陽電池セル１００Ｃを備えている。
第一の有機太陽電池セル１００Ａは、第一電極層１１Ａ、有機層１２Ａおよび第二電極層１３Ａを、この順に積層した構造を有している。また、第二の有機太陽電池セル１００Ｂは、第一の有機太陽電池セル１００Ａの構造と同様に、第一電極層１１Ｂ、有機層１２Ｂおよび第二電極層１３Ｂを、この順に積層した構造を有している。第三の有機太陽電池セル１００Ｃも、第一の有機太陽電池セル１００Ａの構造と同様に、第一電極層１１Ｃ、有機層１２Ｃおよび第二電極層１３Ｃを、この順に積層した構造を有している。
本実施形態において、第一の有機太陽電池セル１００Ａの第二電極層１３Ａおよび第二の有機太陽電池セル１００Ｂの第一電極層１１Ｂは電気的に接続しており、第二の有機太陽電池セル１００Ｂの第二電極層１３Ｂおよび第三の有機太陽電池セル１００Ｃの第一電極層１１Ｃも電気的に接続されている。第一電極層と第二電極層は互いに極性が異なるので、第一の有機太陽電池セル１００Ａ、第二の有機太陽電池セル１００Ｂおよび第三の有機太陽電池セル１００Ｃは直列に接続されている。
なお、本実施形態では、直列接続した有機太陽電池セルが２以上あればよく、図１では第一の有機太陽電池セル１００Ａ、第二の有機太陽電池セル１００Ｂおよび第三の有機太陽電池セル１００Ｃの３つを示したが、有機太陽電池セルの数は３つに限定されない。
【００１６】
（基板）
本発明の有機薄膜太陽電池は、通常、基板上に形成される。該基板は、機械的、熱的強度を有し、透明性を有するものが好ましい。例えば、ガラス基板および透明性樹脂フィルムがある。透明性樹脂フィルムとしては、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリメチルメタアクリレート、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、ナイロン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリサルホン、ポリエーテルサルフォン、テトラフルオロエチレン−パーフルオロアルキルビニルエーテル共重合体、ポリビニルフルオライド、テトラフルオロエチレン−エチレン共重合体、テトラフルオロエチレン−ヘキサフルオロプロピレン共重合体、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリビニリデンフルオライド、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリウレタン、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリイミド、ポリプロピレン等が挙げられる。
不透明な基板の場合には、反対の電極（即ち、基板から遠い方の電極）が透明電極または半透明電極であることが好ましい。
【００１７】
（有機太陽電池セル）
本実施形態の有機太陽電池セル１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃは、第一電極層１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ、有機層１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃおよび第二電極層１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃを、この順に積層した構造を有している。また、本実施形態の有機太陽電池セル１００Ａ，１００Ｂ，１００Ｃは、フッ素樹脂層１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃと、反射層１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃとをさらに備えている。
なお、以下の説明では、第二の有機太陽電池セル１００Ｂの各部材について説明し、第一の有機太陽電池セル１００Ａおよび第三の有機太陽電池セル１００Ｃの各部材については、その説明を省略する。
【００１８】
（セル構成）および（有機層）
本発明の有機薄膜太陽電池は下記のいずれかの構成としてもよい。
すなわち上記有機層をバルクヘテロ接合有機活性層を中心として正孔輸送層、ｐ層、ｎ層、電子輸送層に層を分割して機能分離をしてもよい。ここで「ｐ層」とは、バルクヘテロ接合有機活性層に用いられるｐ型の発電材料を含む層であり、「ｎ層」とは同じく、ｎ型の発電材料を含む層である。これらを用いて、セル構成全体を電極層と共に以下に記載する。
（１）第一電極層／バルクヘテロ接合有機活性層／第二電極層
（２）第一電極層／ｐ層／バルクヘテロ接合有機活性層／ｎ層／第二電極層
（３）第一電極層／ｐ層／バルクヘテロ接合有機活性層／第二電極層
（４）第一電極層／バルクヘテロ接合有機活性層／ｎ層／第二電極層
上記（２）の層構成において、ｐ層とｎ層を置換してもよい。
また、上記（１）、（２）、（３）の層構成において、必要に応じて電極層と有機層の間に正孔輸送層や電子輸送層を設けてもよい。例えば具体例として、上記（１）の層構成に正孔輸送層や電子輸送層を設け、下記（５）〜（７）の層構成としてもよい。
（５）第一電極層／正孔輸送層／バルクヘテロ接合有機活性層／第二電極層
（６）第一電極層／バルクヘテロ接合有機活性層／電子輸送層／第二電極層
（７）第一電極層／正孔輸送層／バルクヘテロ接合有機活性層／電子輸送層／第二電極層
ここで、正孔輸送層や電子輸送層には、後述のように無機材料を用いてもよい。
【００１９】
（第一電極層）
本実施形態の第一電極層１１Ｂは、基板１０上に形成される。
本実施形態の第一電極層１１Ｂとしては、例えば、アノード電極層および透明電極層等が挙げられる。第一電極層１１Ｂを形成する材料は、導電性材料であれば特に限定されず、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン、タンタル、インジウム、パラジウム、テルル、レニウム、イリジウム、アルミニウム、ルテニウム、ゲルマニウム、モリブデン、タングステン、酸化スズ・アンチモン、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）、フッ素ドープ酸化亜鉛、亜鉛、炭素、グラファイト、グラッシーカーボン、銀ペーストおよびカーボンペースト、リチウム、ベリリウム、ナトリウム、マグネシウム、カリウム、カルシウム、スカンジウム、チタン、マンガン、ジルコニウム、ガリウム、ニオブ、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム／銅混合物、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化アルミニウム混合物、リチウム／アルミニウム混合物等が挙げられる。
【００２０】
第一電極層１１Ｂの膜厚は、電流の導通さえあれば特に制限はないが、好ましくは５ｎｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲である。上記好ましい範囲内であれば、導電性を付与しかつ、短時間に成膜することができる。また透明電極としても透明性を確保できる。
【００２１】
第一電極層１１Ｂは、上記の導電性材料を含む、溶液、ペースト、インク、および分散液等の流動性電極材料を用いて形成することができる。これらの中でも、導電性ポリマー、または白金、金、銀、もしくは銅を含有する金属微粒子を含む流動性電極材料が好ましい。金属微粒子を含有する分散物としては、例えば、公知の導電性ペースト等を用いてもよいが、通常粒子径が０．５ｎｍ以上５０ｎｍ以下、１ｎｍ以上１０ｎｍ以下の金属微粒子を含有する分散物であると好ましい。この金属微粒子の材料としては、例えば、白金、金、銀、ニッケル、クロム、銅、鉄、錫、アンチモン、鉛、タンタル、インジウム、パラジウム、テルル、レニウム、イリジウム、アルミニウム、ルテニウム、ゲルマニウム、モリブデン、タングステン、亜鉛等を用いることができる。これらの金属微粒子を、主に有機材料からなる分散安定剤を用いて、水や任意の有機溶媒である分散媒中に分散した分散物を用いて電極を形成するのが好ましい。このような金属微粒子の分散物の製造方法としては、ガス中蒸発法、スパッタリング法、金属蒸気合成法等の物理的生成法、並びに、コロイド法および共沈法等の、液相で金属イオンを還元して金属微粒子を生成する化学的生成法等が挙げられる。好ましくは、コロイド法またはガス中蒸発法により製造された金属微粒子の分散物である。
【００２２】
これらの金属微粒子分散物を用いて直接インクジェット法によりパターニングしてもよく、塗工膜からリソグラフやレーザーアブレーション等により形成してもよい。また凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等の印刷法でパターニングする方法も用いることができる。前記電極を成形し、溶媒を乾燥させた後、必要に応じて１００℃以上３００℃以下、好ましくは１５０℃以上２００℃以下の範囲で形状様に加熱することにより、金属微粒子を熱融着させ、目的の形状を有する電極パターンを形成できる。
【００２３】
また、第一電極層１１Ｂの形成材料として、金属ナノワイヤを使用してもよい。
金属ナノワイヤは、１つの金属ナノワイヤで長い導電パスを形成するために、また、適度な光散乱性を発現するために、平均長さが１μｍ以上であることが好ましく、１μｍ以上１００μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上５０μｍ以下であることがさらに好ましい。
また、金属ナノワイヤは、第一電極層１１Ｂを透明電極層として用いる場合、平均直径が、透明性の観点からは小さいことが好ましく、一方で、導電性の観点からは大きい方が好ましい。本実施形態においては、第一電極層１１Ｂを透明電極層として用いる場合は、金属ナノワイヤの平均直径として５ｎｍ以上１００ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることがより好ましい。第一電極層１１Ｂを透明電極層として用いない場合は、金属ナノワイヤの平均直径は１００ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましい。
金属ナノワイヤの金属組成は特に制限はなく、貴金属元素や卑金属元素の１種または複数の金属から構成することができる。貴金属（例えば、金、白金、銀、パラジウム、ロジウム、イリジウム、ルテニウム、オスミウム等）および鉄、コバルト、銅、錫からなる群に属する少なくとも１種の金属を含むことが好ましく、導電性の観点から少なくとも金あるいは銀を含むことがより好ましい。
また、導電性と安定性（金属ナノワイヤの硫化や酸化耐性、およびマイグレーション耐性）を両立するために、銀と、銀を除く貴金属に属する少なくとも１種の金属を含むことも好ましい。金属ナノワイヤが二種類以上の金属元素を含む場合には、例えば、金属ナノワイヤの表面と内部で金属組成が異なっていてもよいし、金属ナノワイヤ全体が同一の金属組成を有していてもよい。
【００２４】
金属ナノワイヤが互いに接触し合うことにより３次元的な導電ネットワークを形成する。これにより、高い導電性を発現する。また、金属ナノワイヤが存在しない導電ネットワークの窓部を光が透過することが可能となる。さらに、金属ナノワイヤの散乱効果によって、有機層からの光を効率的に取り出すことが可能となる。
【００２５】
さらに、第一電極層１１Ｂの別の材料として、ドーピング等で導電率を向上させた公知の導電性ポリマーを用いることも好ましく、例えば、導電性ポリアニリン、導電性ポリピロール、導電性ポリチオフェン（ポリエチレンジオキシチオフェンとポリスチレンスルホン酸の錯体等）、ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）とポリスチレンスルホン酸の錯体等も好適に用いられる。これらの形成方法もインクジェット法によりパターニングしてもよく、塗工膜からリソグラフやレーザーアブレーション等により形成してもよい。また凸版、凹版、平版、スクリーン印刷等の印刷法でパターニングする方法も用いることができる。
【００２６】
（フッ素樹脂層）
本実施形態のフッ素樹脂層１４Ｂは、第一電極層１１Ｂと、この有機太陽電池セル１００Ｂと隣り合う有機太陽電池セル１００Ｃの第一電極層１１Ｃとの間に設けられている。フッ素樹脂は高絶縁性であるため、フッ素樹脂層１４Ｂを第一電極層１１Ｂと、第一電極層１１Ｃとの間に設けることにより、有機太陽電池セル１００Ｂと、隣接する有機太陽電池セル１００Ｃとで、導通が必要な部位以外の絶縁性を確保できる。
より具体的には、本実施形態のフッ素樹脂層１４Ｂは、第一電極層１１Ｂの、この有機太陽電池セル１００Ｂと隣り合う有機太陽電池セル１００Ａの第二電極層１３Ａと導通する側の端部１１１Ｂとは反対側に位置する端部１１２Ｂに隣接して設けられている。フッ素樹脂層１４Ｂを第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂに隣接して設けたので、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂは絶縁性のフッ素樹脂層１４Ｂで覆われる。このため、第一電極層１１Ｂの上に、有機層１２Ｂおよび第二電極層１３Ｂを積層したとき、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂはフッ素樹脂層１４Ｂで覆われているために、有機層１２Ｂで完全に被覆できる。このため、起電力による端部１１２Ｂへの電界集中が避けられ、第二電極層１３Ｂと第一電極層１１Ｂとの間のリーク電流を抑制することが可能となる。
【００２７】
フッ素樹脂層１４Ｂの膜厚は、少なくとも第一電極層１１Ｂの膜厚と同じか、それ以上の厚さに形成することが好ましい。フッ素樹脂層１４Ｂの膜厚が、第一電極層１１Ｂの膜厚よりも低いと、第一電極層１１Ｂの上に、有機層１２Ｂおよび第二電極層１３Ｂを積層したとき、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂを有機層１２Ｂで完全に被覆することができないおそれがある。フッ素樹脂層１４Ｂの膜厚は、第一電極層１１Ｂの上に形成された有機層１２Ｂの表面高さと略同一高さに形成されることがより好ましい。
【００２８】
フッ素樹脂層１４Ｂの屈折率は、１．０以上１．５以下である。また、フッ素樹脂層１４Ｂは、後述する反射層１５Ｂの屈折率よりも小さくなるように設定されている。低屈折率のフッ素樹脂層１４Ｂを備えることによって、光閉じ込め効果が期待できる。
なお、このような観点からは、フッ素樹脂層１４Ｂの屈折率は、１．０以上１．４以下がより好ましく、１．０以上１．３以下がさらに好ましい。
また、フッ素樹脂の入手し易さの観点からは、フッ素樹脂層１４Ｂの屈折率は、１．２以上１．５以下がより好ましく、１．３以上１．５以下がさらに好ましい。
【００２９】
フッ素樹脂層１４Ｂを構成するフッ素樹脂は、アモルファスフッ素樹脂（ＣＹＴＯＰ、旭硝子社製）（屈折率１．３４）、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）（屈折率１．３５）、四フッ化エチレン・パーフルオロアルコキシエチレン共重合（ＰＦＡ）（屈折率１．３５）、ポリ（アクリル酸1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル）（屈折率１．３７５）、ポリ（アクリル酸2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル）（屈折率１．３７７）、ポリ（メタクリル酸2,2,3,3,4,4,4-ヘプタフルオロブチル）（屈折率１．３８３）、ポリ（アクリル酸2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル）（屈折率１．３８９）、ポリ（メタクリル酸1,1,1,3,3,3-ヘキサフルオロイソプロピル）（屈折率１．３９０）、ポリ（アクリル酸2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチル）（屈折率１．３９４）、ポリ（メタクリル酸2,2,3,4,4,4-ヘキサフルオロブチル）（屈折率１．３６１）、ポリ（メタクリル酸2,2,3,3,3-ペンタフルオロプロピル）（屈折率１．３９５）、ポリ（アクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル）（屈折率１．４１１）、ポリ（アクリル酸2,2,3,3-テトラフルオロプロピル）（屈折率１．４１５）、ポリ（メタクリル酸2,2,3,3-テトラフルオロプロピル）（屈折率１．４１７）、ポリ（メタクリル酸2,2,2-トリフルオロエチル）（屈折率１．４１８）、ポリフッ化ビニリデン（ＰＶＤＦ）（屈折率１．４２）、ポリクロロトリフルオロエチレン（ＰＣＴＦＥ）（屈折率１．４２）、四フッ化エチレン・六フッ化プロピレン共重合体（ＦＥＰ）（屈折率１．３４）、ポリフッ化ビニル（ＰＶＦ）（屈折率１．３３）、エチレン・四フッ化エチレン共重合体（ＥＴＦＥ）（屈折率１．４２）、四フッ化エチレン−ビニル（ゼッフルＧＫ、ダイキン工業社製）（屈折率１．４０）、アモルファスフロロポリマー（テフロン（登録商標）ＡＦ、デュポン社製、ＡＦ１６００（屈折率１．３１）、ＡＦ２４００（屈折率１．２９））等が挙げられる。
上記の組成物であって、かつ屈折率が１．０以上１．５以下であれば本実施形態のフッ素樹脂として使用可能である。
【００３０】
フッ素樹脂層１４Ｂの膜厚は、５０ｎｍ以上１０μｍ以下が好ましく、２００ｎｍ以上５μｍ以下がより好ましい。
フッ素樹脂層１４Ｂの形成方法としては、キャスト法、スピンコート法、ディップコート法、スリットコート法、マイクログラビアコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、圧延法、圧着法などが挙げられる。
【００３１】
本実施形態の有機層１２Ｂは、第一電極層１１Ｂ上に形成される。本実施形態では、有機層１２Ｂとして正孔輸送層およびバルクヘテロ接合有機活性層を形成する。
【００３２】
〔正孔輸送層〕
正孔輸送層を形成する材料としては、高分子化合物であればポリ（３，４−エチレンジオキシ）チオフェン：ポリスチレンスルホネート（ＰＥＤＯＴ：ＰＳＳ）、ポリアニリン：カンファースルホン酸（ＰＡＮＩ：ＣＳＡ）等に代表される公知の導電性高分子等が挙げられる。また、無機半導体化合物を用いてもよく、ｐ−Ｓｉ、ｎ−Ｓｉ、ＧａＡｓ、ＣｄＳ、ＰｂＳ、ＣｄＴｅ、ＳｉＣ、ＣｄＳｅ、ＩｎＰ、Ｎｂ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３等のドーピング半導体および化合物半導体、また、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、酸化モリブデン（ＭｏＯ３）等の導電性酸化物が挙げられる。
正孔輸送層の膜厚は、通常の膜厚は１ｎｍから１０μｍの範囲が適しているが、５ｎｍから０．２μｍの範囲がさらに好ましい。
本実施形態において、正孔輸送層は、大気圧プラズマ法等のドライプロセスや、スプレーコート法、スピンコート法、ブレードコート法、ディップコート法、キャスト法、ロールコート法、バーコート法、およびダイコート法等の塗布による方法、印刷およびインクジェット、スクリーン印刷法、メニスカス塗布法、グラビア、グラビアオフセット法、フレキソ印刷法、反転印刷法等のパターニングによる方法等のウェットプロセスが挙げられ、材料に応じて使用できる。これらの中でも、ダイコート法やスクリーン印刷法、インクジェット法、メニスカス塗布法、フレキソ印刷法が好ましく用いられる。
【００３３】
〔バルクヘテロ接合有機活性層〕
バルクへテロ接合有機活性層は、正孔輸送層上に形成される。
バルクへテロ接合有機活性層は、ｐ型有機活性層領域とｎ型有機活性層領域が混在し、複雑なバルクへテロｐｎ接合を形成している。ここで、ｐ型有機活性層領域は、例えば、Ｐ３ＨＴ（ｐｏｌｙ（３−ｈｅｘｙｌｔｈｉｏｐｈｅｎｅ−２，５ｄｉｙｌ））で形成され、ｎ型有機活性層領域は、例えば、ＰＣＢＭ（６，６−ｐｈｅｎｙｌ−Ｃ６１−ｂｕｔｙｒｉｃ  ａｃｉｄ  ｍｅｔｈｙｌ  ｅｓｔｅｒ）で形成されている。
【００３４】
バルクヘテロ接合有機活性層の膜厚は、通常１ｎｍ〜１００μｍであり、好ましくは２ｎｍ〜１０００ｎｍであり、より好ましくは５ｎｍ〜５００ｎｍであり、さらに好ましくは２０ｎｍ〜２００ｎｍである。この範囲内であれば、効率よく発電することができる。
有機層としてのバルクヘテロ接合有機活性層の形成方法については、前記した正孔輸送層の形成方法と同様の方法等を、材料に応じて使用できる。
本実施形態において、有機層としてのバルクヘテロ接合有機活性層の形成も、上記と同様の理由により、ダイコート法やスクリーン印刷法、インクジェット法、メニスカス塗布法、フレキソ印刷法、スピンコート法が好ましく用いられる。
【００３５】
〔電子輸送層〕
電子輸送層に好ましい化合物としては、膜厚を厚くしても電流が低下しないようにキャリア移動度が充分に高い化合物が好ましい。例えば、低分子化合物であれば下記に示すＮＴＣＤＡに代表される芳香族環状酸無水物等が挙げられ、また、有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）用途で公知な正孔障壁層用材料、イオン化ポテンシャルが充分に大きい化合物が挙げられる。具体的には、有機ＥＬ素子用途で公知な材料であるバソクプロイン（ＢＣＰ）、バソフェナントロリン（ＢＰｈｅｎ）等が陰極側の正孔障壁層材料として挙げられる。また、無機半導体化合物を用いてもよく、ｎ−Ｓｉ、ｎ−ＧａＡｓ、ｎ−ＣｄＳ、ＰｂＳ、ＣｄＴｅ、ＳｉＣ、ＣｄＳｅ、ＩｎＰ、ＷＯ３、Ｆｅ２Ｏ３等のドーピング半導体および化合物半導体、また、二酸化チタン（ＴｉＯ２）、一酸化チタン（ＴｉＯ）、三酸化二チタン（Ｔｉ２Ｏ３）等の酸化チタン、酸化亜鉛（ＺｎＯ）、Ａｌドープ酸化亜鉛ＡＺＯ等の導電性酸化物が挙げられる。
【００３６】
（反射層）
本実施形態の反射層１５Ｂは、上記フッ素樹脂層１４Ｂの上に配置されている。この反射層１５Ｂは、上記フッ素樹脂層１４Ｂの屈折率よりも大きくなるように設定されている。
屈折率の低いフッ素樹脂層１４Ｂの上に、屈折率の高い反射層１５Ｂを設けたので、有機太陽電池セル間のギャップに形成されたフッ素樹脂層１４Ｂを通過してきた光が反射層で反射され、有機層１２Ｂに効率よく入射させることができる。そのため、光電変換効率が向上する。
反射層１５Ｂの膜厚は、５０ｎｍ以上３μｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以上１μｍ以下がより好ましい。
反射層１５Ｂとしては、高屈折率樹脂層、金属層、無機化合物層が挙げられる。
【００３７】
〔高屈折率樹脂層〕
高屈折率樹脂層の屈折率は、１．３以上４．０以下であり、１．５以上４．０以下が好ましく、１．５以上３．５以下がより好ましく、１．６以上３．０以下がさらに好ましい。反射層１５Ｂとして上記高屈折率を有する高屈折率樹脂層を備えることによって、低屈折率のフッ素樹脂層１４Ｂとの屈折率差による光閉じ込め効果が期待できる。
【００３８】
高屈折率樹脂層を構成する高屈折率樹脂について、以下に例示する。
具体的には、ジルコニウムアクリレート（屈折率１．５３）、ジルコニウムカルボキシエチルアクリレートのｎ−プロパノール溶液（屈折率１．５４）、ハフニウムカルボキシエチルアクリレートの１−ブタノール溶液（屈折率１．５５）、ジルコニウムブロモノルボルナンラクトンカルボキシレートトリアクリレート（屈折率１．５７）が挙げられる。
【００３９】
また、ポリ（メタクリル酸ペンタブロモフェニル）（屈折率１．７１０）、ポリ（アクリル酸ペンタブロモフェニル）（屈折率１．６１）、ポリ（メタクリル酸ペンタブロモベンジル）（屈折率１．７１０）、ポリ（アクリル酸ペンタブロモベンジル）（屈折率１．６７０）、ポリ（メタクリル酸2,4,6-トリブロモフェニル）（屈折率１．６６０）、ポリ（フェニルビニルスルフィド）（屈折率１．６５７）、ポリ（メタクリル酸1-ナフチル）（屈折率１．６４１）、ポリ（2-ビニルチオフェン）（屈折率１．６３８）、ポリ（2,6-ジクロロスチレン）（屈折率１．６２５）、ポリ（N-ビニルフタルイミド）（屈折率１．６２０）、ポリ（2-クロロスチレン）（屈折率１．６１０）等が挙げられる。
【００４０】
また、エビスルフイド系樹脂（屈折率１．７４、１．７０）、チオオウレタン系樹脂（屈折率１．６７、１．６０）、（ポリエステル）メタクリレート（屈折率１．６０）、ポリカーボネート（屈折率１．５９）、（ウレタン）メタクリレート（屈折率１．５６）、（エポキシ）メタクリレート（屈折率１．５６）、ジアリルカーボネート（屈折率１．５６）、ジアリルフタレート（ＤＡＰ）系樹脂（屈折率１．５５）が挙げられる。
【００４１】
以下の表１に示すポリメタクリレートのうち、屈折率１．５以上のもの。
【００４２】
【表１】
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【００４３】
ポリカーボネート（ＰＣ）（屈折率１．５９）、ポリスチレン（ＰＳ）（屈折率１．５９）、ジエチレングリコールビスアリルカーボネート樹脂（ＣＲ−３９）（屈折率１．５０）、アクリロニトリルスチレン樹脂（ＡＳ樹脂）（屈折率１．５７）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）（屈折率１．５５）、ポリメタクリル酸シクロヘキシル（ＰＣＨＭＡ）（屈折率１．５０７）、ポリメタクリルスチレン（ＭＳ樹脂）（屈折率１．５６２）、ポリ−４−メチルペンテン−１（屈折率１．４６６）が挙げられる。
【００４４】
また、脂環式アクリル樹脂（日立化成社製、オプトレッツＯＺ−１０００、ＯＺ−１１００、ＯＺ−１３１０、ＯＺ−１３３０）（屈折率１．５００、１．５０２、１．５０６、１．５０９）、脂環式オレフィン（三井化学社製；ＡＰＥＬ、日本ゼオン社製；ＺＥＯＮＥＸ、ＪＳＲ社製；ＡＲＴＯＮ）（屈折率１．５４、１．５３、１．５１）が挙げられる。
また、硫黄含有置換基（チオエーテル、スルホン、チオフェン、チアジアゾール、チアントレン等）を有する高分子。具体的には、下記式（１）に示す高屈折率な含硫黄ポリイミド（屈折率１．７２）、下記式（２）に示すハロゲン含有ポリメタクリレート（屈折率１．６７〜１．７７）、下記式（３）に示すポリフォスフォネート（屈折率１．６７〜１．７７）、下記式（４）に示すリン含有スペーサーとフェニル側鎖を有するポリフェロセン（屈折率１．７４、１．７２）など。
【００４５】
【化１】
2016157789.tif 000004
【００４６】
【化２】
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【００４７】
【化３】
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【００４８】
【化４】
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【００４９】
エポキシ樹脂系接着剤（屈折率１．５５〜１．６１）、フェノール樹脂（屈折率１．５８〜１．６６）、メラミン樹脂（屈折率１．６０）、ポリイミド樹脂（屈折率１．６〜１．６７）、ＬＵＣＥＲＡ（ＪＳＲ社製）（屈折率１．６７）、フェニルシリコーン樹脂（信越シリコーン社製；ＫＥＲ６０００，ＫＥＲ６１００）（屈折率１．５３）、（信越シリコーン社製；ＡＳＰ１０１０、ＡＳＰ１０２０）（屈折率１．５８、１．５７）
【００５０】
高屈折率樹脂層の形成方法としては、キャスト法、スピンコート法、ディップコート法、スリットコート法、マイクログラビアコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法などが挙げられる。
【００５１】
また、高屈折率樹脂層は、層中に高屈折無機微粒子を含有させ、層全体として高屈折率化することで形成してもよい。
層中に含有させる高屈折無機微粒子としては、酸化チタン（屈折率２．５）、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム（屈折率２．０）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）（屈折率２．２）、酸化クロム（屈折率２．５）、酸化アルミニウム（屈折率２．２）、ＳｉＣ（屈折率２．６）、酸化バリウム（屈折率１．９）、酸化ベリリウム（屈折率１．７２５）、酸化カドミウム（屈折率２．４９）、酸化カルシウム（屈折率１．８）、硫化マグネシウム（屈折率２．２）、硫化Ｍｎ（屈折率２．７）、ＺｎＳ（屈折率２．３５）などが挙げられる。
このうち、屈折率２．０以上の高屈折無機微粒子を樹脂層に混合することがさらに好ましい。
【００５２】
〔金属層〕
本実施形態における金属層としては、(i)金属膜、(ii)金属微粒子膜、(iii)金属ナノワイヤ含有膜が挙げられる。
【００５３】
〔(i)金属膜〕
金属膜を形成する金属材料としては、銀、銅、金、鉄、ニッケル、マグネシウム、アルミニウム、チタンなど反射性の金属およびその合金、混合物、金属間化合物はすべて使用可能である。
金属膜の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの気相成膜が挙げられる。
【００５４】
〔(ii)金属微粒子膜〕
金属微粒子膜を備えることで、金属微粒子膜に光が入射したときに、プラズモン反射による光閉じ込め効果が得られるので、更なる効率の向上が期待できる。
【００５５】
金属微粒子膜を構成する金属微粒子の材料としては、銀、銅、金、ＩＴＯ、ＺｎＯ、およびＰｄの少なくともいずれか一種が好ましい。
金属微粒子の粒径は、好ましくは２ｎｍ以上１０００ｎｍ以下、より好ましくは５ｎｍ以上２００ｎｍ以下、さらに好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
金属微粒子膜は、上記金属微粒子を含有させた樹脂を塗布し、熱硬化、或いは光硬化によって形成することが好ましい。上記樹脂は、屈折率１．５〜４．０であればよく、上記高屈折率樹脂層で説明した樹脂を使用することができる。
【００５６】
〔(iii)金属ナノワイヤ含有膜〕
金属ナノワイヤは、前述の第一電極層で示したとおりであるが、本発明の金属膜としては光の反射を特徴とするため透明でない方が望ましい。このため、金属ナノワイヤ含有膜を形成するために使用する金属ナノワイヤの平均直径は１００ｎｍ以上１００μｍ以下が好ましい。
【００５７】
（無機化合物層）
本実施形態における無機化合物層としては、無機膜、無機微粒子膜が挙げられる。
【００５８】
〔無機膜〕
無機膜の屈折率は、１．７以上４．０以下であり、２．０以上４．０以下が好ましく、２．０以上３．５以下がより好ましく、２．０以上３．０以下がさらに好ましい。
フッ素樹脂より屈折率の大きな無機膜は屈折率差によりフッ素樹脂を透過した光を反射させ、その一部が活性層に吸収され発電することができる。
無機膜を形成するための無機化合物材料としては、酸化チタン（屈折率２．５）、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム（屈折率２．０）、酸化亜鉛インジウム（ＩＺＯ）（屈折率２．２）、酸化クロム（屈折率２．５）、酸化アルミニウム（屈折率２．２）、ＳｉＣ（屈折率２．６）、酸化バリウム（屈折率１．９）、酸化ベリリウム（屈折率１．７２５）、酸化カドミウム（屈折率２．４９）、酸化カルシウム（屈折率１．８）、硫化マグネシウム（屈折率２．２）、硫化Ｍｎ（屈折率２．７）、ＺｎＳ（屈折率２．３５）などが挙げられる。
このうち、屈折率２．０以上の高屈折率の無機化合物材料を使用することがさらに好ましい。
無機膜の形成方法としては、例えば、蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法などの気相成膜が挙げられる。
【００５９】
〔無機微粒子膜〕
また、上記屈折率２．０以上の無機微粒子を分散媒に分散した分散液をフッ素樹脂層上に塗布、乾燥することで形成される無機微粒子膜を反射層としても、上記高屈折率樹脂層などと同様の効果が得られる。
無機微粒子膜を形成するための無機微粒子の粒径は、好ましくは５ｎｍ以上５μｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上１μｍ以下、さらに好ましくは１００ｎｍ以上１μｍ以下である。
無機微粒子膜の形成方法としては、例えば、キャスト法、スピンコート法、ディップコート法、スリットコート法、バーコート法、アプリケータ法、マイクログラビアコート法、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、インクジェット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法、各種オフセット印刷法、圧延、圧着などが挙げられる。これらの中でも、スクリーン印刷法、グラビア印刷法、インクジェット印刷法、反転印刷法、フレキソ印刷法、各種オフセット印刷法が好ましく用いられる。特に好ましいものはスクリーン印刷法、フレキソ印刷法である。
【００６０】
反射層１５Ｂはフッ素樹脂層１４Ｂの上に形成するが、フッ素樹脂は表面エネルギーが小さいため、塗布法によって反射層を形成し難い場合がある。この場合には、フッ素樹脂層１４Ｂの上面に表面処理を施して、表面エネルギーを増加させた後に、反射層１５Ｂを形成することが好ましい。
表面処理としては、Ｏ２プラズマ、Ａｒプラズマ、ＵＶ／オゾンアッシング、レーザーアッシング等が挙げられる。上記表面処理を実施することで、塗布法による反射層１５Ｂの積層が容易になる。
【００６１】
（第二電極層）
本実施形態の第二電極層１３Ｂは、有機層１２Ｂおよび反射層１５Ｂの上に形成され、かつ、隣接する有機太陽電池セル１００Ｃの第一電極層１１Ｃと導通するように形成される。
本実施形態の第二電極層１３Ｂとしては、例えば、カソード電極層等が挙げられる。第二電極層１３Ｂを形成する材料としては、例えば、銀、銅、アルミニウム、タングステン、モリブデン、マンガン、およびマグネシウム等の金属が挙げられる。また、前述の金属ナノワイヤが挙げられる。
【００６２】
第二電極層１３Ｂの膜厚は、電流の導通さえあれば特に制限はないが、好ましくは５ｎｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは５０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲である。上記好ましい範囲内であれば、導電性を付与しかつ、短時間に成膜することができる。また透明電極としても透明性を確保できる。
第二電極層１３Ｂの形成方法としては、真空加熱蒸着法、およびスクリーン印刷等の印刷法等が挙げられる。
【００６３】
本実施形態によれば、フッ素樹脂層１４Ｂを第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂに隣接して設けたので、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂは絶縁性のフッ素樹脂層１４Ｂで覆われる。このため、第一電極層１１Ｂの上に、有機層１２Ｂおよび第二電極層１３Ｂを積層したとき、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂは、フッ素樹脂層１４Ｂで覆われているために、有機層１２Ｂで完全に被覆できる。このため、起電力による端部１１２Ｂへの電界集中が避けられ、第二電極層１３Ｂと第一電極層１１Ｂとの間のリーク電流を抑制することが可能となる。
また、フッ素樹脂層１４Ｂの屈折率は、１．０以上１．５以下であり、フッ素樹脂層１４Ｂは、反射層１５Ｂの屈折率よりも小さくなるように設定されている。このような低屈折率のフッ素樹脂層１４Ｂを備えることによって、光閉じ込め効果が期待できる。
また、フッ素樹脂層１４Ｂの上に、フッ素樹脂層１４Ｂよりも屈折率が大きい反射層１５Ｂを備えている。このため、隣接する有機太陽電池セル１００Ｃとの間隔（ギャップ）に設けられたフッ素樹脂層１４Ｂを通過してきた光を反射層１５Ｂで反射させ、有機層１２Ｂに効率よく入射させることができる。結果として、光電変換効率を向上させた有機太陽電池モジュールを提供できる。
このように、光電変換効率を向上させる効果が得られるため、本実施形態の有機太陽電池モジュールは、室内用の有機太陽電池モジュールとして、好適に用いられる。
【００６４】
（有機太陽電池モジュールの製造方法）
上述した有機太陽電池モジュールを製造する方法について説明する。
なお、以下の説明では、第二の有機太陽電池セル１００Ｂの製造方法について説明し、第一の有機太陽電池セル１００Ａおよび第三の有機太陽電池セル１００Ｃの各部材については、その説明を省略する。
図２（Ａ）に示すように、基板１０上に、第一電極層１１Ｂを形成する。第一電極層１１Ｂの形成は、特に制限はなく、既知の手法を用いて製造できる。第一電極層１１Ｂは、隣接する有機太陽電池セル１００Ａ，１００Ｃの第一電極層１１Ａ，１１Ｃとそれぞれ所定の間隔をあけて形成される。
【００６５】
図２（Ｂ）に示すように、基板１０上の、第一電極層１１Ｂと、隣接する第一電極層１１Ｃとの間に、屈折率１．０以上１．５以下のフッ素樹脂層１４Ｂを形成する。フッ素樹脂層１４Ｂは、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂに隣接するように形成することが好ましい。また、フッ素樹脂層１４Ｂは、次工程で形成される有機層の表面高さと略同一高さとなるように形成することが好ましい。
【００６６】
図２（Ｃ）に示すように、第一電極層１１Ｂの上に、塗布法により有機層１２を形成する。有機層１２は、基板１０の有機太陽電池セルが形成される面の全面が覆われるように形成することが好ましい。塗布法により有機層１２を形成すると、フッ素樹脂層１４Ｂが塗布液をはじくため、フッ素樹脂層１４Ｂの表面には有機層１２は形成されない。そのため、従来の有機太陽電池モジュールの製造方法に比べてフォトリソグラフィなどの手法を使用する回数を低減できるので、有機太陽電池モジュールを効率的に製造することが可能となる。
【００６７】
図２（Ｄ）に示すように、フッ素樹脂層１４Ｂの上に、フッ素樹脂層の屈折率よりも大きい反射層１５Ｂを形成する。反射層１５Ｂはフッ素樹脂層１４Ｂの表面を部分的に覆うように形成されていてもよいが、光閉じ込め効果の観点からは、フッ素樹脂層１４Ｂの全面に形成されることが好ましい。
【００６８】
図２（Ｅ）に示すように、有機層１２の一部を除去して、有機層１２Ｂを形成する。
有機層１２の一部除去は、レーザースクライブやメカニカルスクライブ、フォトリソグラフィなどの手法により行われる。有機層１２の一部除去により、第一電極層１１Ｂの一部が露出する。
【００６９】
そして、図１に示すように、有機層１２Ｂおよび反射層１５Ｂの上に、第二電極層１３Ｂを形成する。第二電極層１３Ｂは、隣接する有機太陽電池セル１００Ｃの第一電極層１１Ｃと導通するように形成される。第二電極層１３Ｂの形成は、特に制限はなく、既知の手法を用いて製造できる。
本実施形態によれば、上記工程を経ることで、上記本実施形態の有機太陽電池モジュールを好適に製造できる。
【００７０】
（電子機器）
本実施形態に係る電子機器は、上述の本発明の一態様に係る有機太陽電池モジュールを備えている。
本実施形態に係る電子機器としては、例えば、電子計算機、携帯電話、モバイル電子機器、非常用電源、各種センサー、時計、リモコン等が挙げられる。
【００７１】
［変形例］
本発明は前述の実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良等は本発明に含まれるものである。
例えば、フッ素樹脂層１４Ｂを、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂに隣接して設けられることを説明したが、第一電極層１１Ｂの端部１１２Ｂが有機層で完全に覆われるのであれば、フッ素樹脂層１４Ｂは第一電極層１１Ｂと間隔をあけて設けてもよい。
また、有機層１２Ｂが、第一電極層１１Ｂ上に形成されることを説明したが、第一電極層１１Ｂおよびフッ素樹脂層１４Ｂの上に形成してもよい。
その他、本発明の実施の際の具体的な手順、および構造等は本発明の目的を達成できる範囲で他の構造等としてもよい。
【符号の説明】
【００７２】
１…有機太陽電池モジュール、１０…基板、１００Ａ…第一の有機太陽電池セル、１００Ｂ…第二の有機太陽電池セル、１００Ｃ…第三の有機太陽電池セル、１１Ａ，１１Ｂ，１１Ｃ…第一電極層、１２Ａ，１２Ｂ，１２Ｃ…有機層、１３Ａ，１３Ｂ，１３Ｃ…第二電極層、１４Ａ，１４Ｂ，１４Ｃ…フッ素樹脂層、１５Ａ，１５Ｂ，１５Ｃ…反射層。
【図１】
2016157789.tif 000008
【図２】
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