(57)【要約】【課題】  本発明は、耐熱性、低熱線膨張係数、低複屈折、透明性に優れた特定の樹脂を用いてなる透明フィルム、特定のハードコート層、及び該ハードコート層と密着性の高い無機膜を用いることによって、高性能な光量絞り装置に好適なフィルム基板を提供する。【解決手段】  フマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムと、該透明フィルムの表面の両側に設けられたハードコート層と、該ハードコート層上に積層された無機膜とを備えるフィルム基板であり、該ハードコート層が無機粒子と有機成分を含有し、かつ、該ハードコート層上に積層された無機膜とハードコート層との間の界面エネルギー差が１０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とするフィルム基板。【選択図】    なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
フマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムと、該透明フィルムの表面の両側に設けられたハードコート層と、該ハードコート層上に積層された無機膜とを備えるフィルム基板であり、該ハードコート層が無機粒子と有機成分を含有し、かつ、該ハードコート層上に積層された無機膜とハードコート層との間の界面エネルギー差が１０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とするフィルム基板。
【請求項２】
フマル酸ジエステル系樹脂が下記一般式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５０モル％以上を含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルム基板。
【化１】
2016117232.tif 000003
（ここで、Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立して炭素数３〜１２の分岐状アルキル基又は環状アルキル基を示す。）
【請求項３】
無機膜が酸化アルミ又は酸化チタンを用いてなる無機膜であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載のフィルム基板。
【請求項４】
フィルム基板の耐熱温度が１５０℃以上であることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載のフィルム基板。
【請求項５】
フィルム基板の熱線膨張係数が８．０×１０−５／℃以下であることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれかに記載のフィルム基板。
【請求項６】
請求項１〜請求項５のいずれかに記載のフィルム基板を用いてなることを特徴とする固体撮像装置またはカメラモジュール。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、固体撮像装置またはカメラモジュールに用いられるフィルム基板に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来のビデオカメラやデジタルカメラ等の撮像機器には撮像素子に入射する光量の調整を目的として絞り羽根を有する光量絞り装置が組み込まれており、快晴時や高輝度の被写体を撮影する場合にその開口が小さく絞り込まれるようになっている。
【０００３】
しかしながら、開口を絞りすぎると、通過する光の回折の影響で像性能の劣化を生ずる問題が発生する。この問題の対策の為、絞り羽根に光量を低減させるフィルタを取り付けることが提案されており、該光量絞り装置を用いれば、被写界の明るさが大きくなっても絞り開口が極端に小さくなることを防止し、所定の大きさのままで光量を減衰させることが出来る。
【０００４】
従来から上記フィルタは固体撮像装置またはカメラモジュール内に設置されるため、薄くて軽い材料が求められており、該フィルタの基材として樹脂製のフィルムが広く使用されている。該フィルタは樹脂製のフィルムの表面に無機膜よりなる蒸着膜を形成し、この蒸着膜にフィルタ特性を発現させている。
【０００５】
近年、ビデオカメラやデジタルカメラ等の撮像機器の高画質化に伴い、光量調製装置に使用される光量を低減させるフィルタの光学特性への要求も厳しくなってきている。従来の該フィルタの基材としてはＰＥＴが一般に使用されてきたが、ＰＥＴは製造時の延伸に由来する大きな複屈折を有するため、更なる高画質化のためには低複屈折材料を用いる必要がある。
【０００６】
また、基材の材料としては撮像機器等の製造時の加工性や無機膜の蒸着における成膜温度を確保するために耐熱性が高く、線膨張係数が低いことが望ましい。さらに基材と無機膜の密着性が悪いと撮像機器等の製造加工時の無機膜の剥離や成膜時のクラックが発生するため、基材と無機膜の密着性が求められる。
【０００７】
一方、光学特性に優れたフィルムとして、フマル酸ジエステル系樹脂を用いたフィルムが提案されており、架橋フマル酸ジエステル系樹脂からなるディスプレイ用光学フィルムが提案されている（例えば、特許文献１参照）。しかしながら、特許文献１に記載のフィルムは、繰り返し加熱処理後の密着性が充分ではなく、繰り返し加熱処理後の密着性に優れるフィルムが求められていた。
【０００８】
また、透明導電性フィルムの構成の一部として、繰り返し加熱処理後の密着性に優れるフィルムを得るために、少なくとも片側に無機粒子と有機成分からなるハードコート層が設けられたフマル酸ジエステル系樹脂よりなるフィルム基板が提案されている（例えば、特許文献２参照）。
【０００９】
さらに、耐熱性、吸湿性および光学特性に優れ、かつ熱膨張係数が小さい表示素子用プラスチック基板用フィルムを得るために、無機粒子と有機成分からなるハードコート層が両側に設けられたフマル酸ジエステル系樹脂よりなる透明フィルムであって、該透明フィルムの両側に無機物層を１．３〜４．０μｍ有し、熱膨張係数が３０ｐｐｍ以下で、かつ全光線透過率が８５％以上である透明積層フィルムが提案されている（例えば、特許文献３参照）。
【００１０】
特許文献２及び特許文献３に記載のフィルムは各種性能に優れたものであるが、光量絞り装置に用いられる場合の特性については何らの記載がないものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００６−２４９３１８号公報
【特許文献２】特開２００９−１４３０２６号公報
【特許文献３】特開２０１１−１１６０５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、その目的とするところは、耐熱性、低熱線膨張係数、低複屈折、透明性に優れた特定の樹脂を用いてなる透明フィルム、特定のハードコート層、及び該ハードコート層と密着性の高い無機膜を用いることによって、高性能な光量絞り装置に好適なフィルム基板を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者らは、上記課題に対し鋭意検討した結果、フマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムと、無機粒子と有機成分を含有するハードコート層と、該ハードコート層との間の界面エネルギー差が特定の値以下である無機膜とを備えるフィルム基板が上記課題を解決することを見出し、本発明を解決するに至った。
【００１４】
即ち本発明は、フマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムと、該透明フィルムの表面の両側に設けられたハードコート層と、該ハードコート層上に積層された無機膜とを備えるフィルム基板であり、該ハードコート層が無機粒子と有機成分を含有し、かつ、該ハードコート層上に積層された無機膜とハードコート層との間の界面エネルギー差が１０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とするフィルム基板に関するものである。
【００１５】
以下、本発明のフィルム基板について詳細に説明する。
【００１６】
本発明のフィルム基板は、透明フィルムと、該透明フィルムの表面の両側に設けられたハードコート層と、該ハードコート層上に積層された無機膜とを備えるフィルム基板である。そして、該透明フィルムは、フマル酸ジエステル系樹脂を用いてなるフィルムである。
【００１７】
本発明におけるフマル酸ジエステル系樹脂としては、フィルム基板として用いられるときの耐熱温度を高くし、複屈折を小さくするのに好適であるため、下記一般式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５０モル％以上を含む樹脂であることが好ましく、７０モル％以上を含む樹脂であることがさらに好ましく、８０モル％以上を含む樹脂であることが特に好ましく、９０モル％以上を含む樹脂であることが最も好ましい。
【００１８】
【化１】
2016117232.tif 000002
【００１９】
ここで、一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２は、フマル酸ジエステル残基単位のエステル置換基である。Ｒ１、Ｒ２は、耐熱性を高くできることから、それぞれ独立して、炭素数３〜１２の分岐アルキル基又は環状アルキル基であることが好ましく、フッ素，塩素などのハロゲン基、エーテル基、エステル基又はアミノ基で置換されていても良い。炭素数３〜１２の分岐状アルキル基としては、例えば、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｓ−ペンチル基、ｔ−ペンチル基、ｓ−ヘキシル基、ｔ−ヘキシル基等が挙げられ、炭素数３〜１２の環状アルキル基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。その中でも、フィルム基板として用いられるときに、特に耐熱性、機械特性に優れたフィルム基板が得られることから、イソプロピル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基が好ましく、より耐熱性、及び機械特性のバランスに優れたフィルム基板が得られることから、イソプロピル基がさらに好ましい。
【００２０】
一般式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位としては、具体的にはフマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル残基、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル残基、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル残基、フマル酸ジシクロプロピル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基等が挙げられ、その中でも耐熱性、機械特性に優れるため、フマル酸ジイソプロピル残基、フマル酸ジ−ｓ−ブチル残基、フマル酸ジ−ｔ−ブチル残基、フマル酸ジシクロペンチル残基、フマル酸ジシクロヘキシル残基が好ましく、フマル酸ジイソプロピル残基がさらに好ましい。
【００２１】
本発明で好ましく用いられるフマル酸ジエステル系樹脂は、一般式（１）で示されるフマル酸ジエステル残基単位５０モル％以上、及びフマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体からなる残基単位５０モル％以下を含む樹脂であり、フマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体からなる残基単位としては、例えば、スチレン残基、α−メチルスチレン残基等のスチレン類残基；アクリル酸残基；アクリル酸メチル残基、アクリル酸エチル残基、アクリル酸ブチル残基、アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基等のアクリル酸エステル類残基；メタクリル酸残基；メタクリル酸メチル残基、メタクリル酸エチル残基、メタクリル酸ブチル残基、メタクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基等のメタクリル酸エステル類残基；酢酸ビニル残基、プロピオン酸ビニル残基等のビニルエステル類残基；アクリロニトリル残基；メタクリロニトリル残基；エチレン残基、プロピレン残基等のオレフィン類残基、等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２２】
本発明で用いるフマル酸ジエステル系樹脂は、自立したフィルムを形成するのに好適であることから、ゲル・パーミエイション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ)により測定した溶出曲線より得られる標準ポリスチレン換算の数平均分子量（Ｍｎ）が１×１０４以上であることが好ましく、特に機械特性に優れ、製膜時の加工特性に優れたフィルムとなることから、２×１０４以上２×１０５以下であることがさらに好ましい。
【００２３】
本発明におけるフマル酸ジエステル系樹脂の製造方法としては、該フマル酸ジエステル系樹脂が得られる限りにおいて如何なる製造方法でもよく、例えば、フマル酸ジエステル類、場合によってはフマル酸ジエステル類と共重合可能な単量体を併用しラジカル重合を行うこと等が挙げられる。この際のフマル酸ジエステル類としては、例えば、フマル酸ジイソプロピル、フマル酸ジ−ｓ−ブチル、フマル酸ジ−ｔ−ブチル、フマル酸ジ−ｓ−ペンチル、フマル酸ジ−ｔ−ペンチル、フマル酸ジ−ｓ−ヘキシル、フマル酸ジ−ｔ−ヘキシル、フマル酸ジシクロプロピル、フマル酸ジシクロペンチル、フマル酸ジシクロヘキシル等が挙げられ、フマル酸ジエステルと共重合可能な単量体としては、例えば、スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン類；アクリル酸；アクリル酸メチル、アクリル酸エチ
ル、アクリル酸ブチル、アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル等のアクリル酸エステル類；メタクリル酸；メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル等のメタクリル酸エステル類；酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル等のビニルエステル類；アクリロニトリル；メタクリロニトリル；エチレン、プロピレン等のオレフィン類、等の１種又は２種以上を挙げることができる。
【００２４】
本発明において、フマル酸ジエステル系樹脂をラジカル重合により製造する場合には、用いるラジカル重合法としては特に制限がなく、例えば、塊状重合法、溶液重合法、懸濁重合法、沈殿重合法、乳化重合法等が挙げられ、これらのいずれもが採用可能である。
【００２５】
ラジカル重合法を行う際の重合開始剤としては、例えば、ベンゾイルパーオキサイド、ラウリルパーオキサイド、オクタノイルパーオキサイド、アセチルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシアセテート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｔ−ブチルパーオキシピバレート等の有機過酸化物；２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）、２，２’−アゾビス（２−ブチロニトリル）、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、ジメチル−２，２’−アゾビスイソブチレート、１，１’−アゾビス（シクロヘキサン−１−カルボニトリル）等のアゾ系開始剤等が挙げられる。
【００２６】
そして、本発明において、溶液重合法又は沈殿重合法を採用する場合には、溶液重合法又は沈殿重合法において使用可能な溶媒として特に制限はなく、例えば、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族溶媒；メタノール、エタノール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどのアルコール系溶媒；シクロヘキサン；ジオキサン；テトラヒドロフラン；アセトン；メチルエチルケトン；ジメチルホルムアミド；酢酸イソプロピル；水等が挙げられ、これらの混合溶媒も挙げられる。
【００２７】
また、ラジカル重合を行う際の重合温度は、重合開始剤の分解温度に応じて適宜設定することができ、一般的には４０〜１５０℃の範囲で行うことが好ましい。
【００２８】
本発明におけるフマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムの製造方法としては、前記フマル酸ジエステル系樹脂を溶液キャスト法、溶融キャスト法等によりフィルム化すること等が挙げられる。溶液キャスト法は、フマル酸ジエステル系樹脂をテトラヒドロフラン等の溶媒に溶解した溶液（以下、ドープと称する。）を支持体基板上に流延した後、加熱等により溶媒を除去しフィルムを得る方法である。また、溶融キャスト法は、フマル酸ジエステル系樹脂を押出機内で溶融し、Ｔダイスリットからフィルム状に押出した後、ロールやエアーなどで冷却しつつ引き取る成形法である。
【００２９】
本発明におけるフマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムの厚みとしては特に制限はなく、使用する用途に対応した厚みとして、２０〜１５０μｍが好ましく、さらに好ましくは３０〜１００μｍである。
【００３０】
本発明におけるハードコート層はフマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムの表面の両側に設けられたものであり、無機粒子と有機成分を含有するものである。本発明において、無機粒子のみでは、ハードコート層として成形することが困難である。また、有機成分のみでは、透明フィルムの表面の両側にハードコート層を設けた際に、透明フィルム及びハードコート層が変形し、平らにする時に亀裂が生じる。
【００３１】
ここで、無機粒子としては、例えば、コロイダルシリカ微粒子等のシリカ系粒子、炭酸カルシウム等の炭酸塩、酸化チタン等の金属酸化物系粒子などが挙げられ、その中でも表面修飾の容易さや入手しやすさからシリカ系粒子が好ましく、特に粒子径の制御が容易であることから、コロイダルシリカ微粒子がさらに好ましい。無機粒子の平均粒子径は、透明性の良好な膜が形成できる点で４００ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは１００ｎｍ以下であり、特に好ましくは５０ｎｍ以下である。
【００３２】
また、無機粒子として好ましく用いられるコロイダルシリカ微粒子は、平均粒子径が１〜４００ｎｍの範囲の無水ケイ酸の超微粒子を、水または有機溶媒に分散させた状態のものである。このようなコロイダルシリカ微粒子は、公知の方法で製造することもできるが市販もされている。
【００３３】
ここで、無機粒子としては、透明フィルムにおける分散性や強度などの点で重合性不飽和基によって表面処理されていることが好ましく、該重合性不飽和基としては、例えば、（メタ）アクリロイル基、スチリル基、ビニル基などが挙げられ、特に反応性が高く、生産性に優れることから、（メタ）アクリロイル基が好ましい。
【００３４】
無機粒子の表面処理方法は特に制限はなく、ハードコート層の有機成分と反応し、ハードコート膜が形成できるため、重合性不飽和基を有する有機シラン化合物を用いる表面処理方法が好ましい。該表面処理方法としては、例えば、無機粒子と重合性不飽和基を有する有機シラン化合物を混合した後、加水分解触媒を加え、常温または加熱下で攪拌する方法などが挙げられる。ここで、当該表面処理方法では、無機粒子中の分散触媒と反応で生じる水を常圧または減圧下で共沸留出させながら、縮合反応を行う。この際、反応を促進させる目的で、水、酸、塩基、塩等の触媒を用いてもよい。このようにして、表面修飾した無機粒子を得ることができる。
【００３５】
表面処理方法に用いる重合性不飽和基を有する有機シラン化合物としては、特に限定はなく、例えば、スチリルトリメトキシシラン、スチリルトリエトキシシラン、ビニルトリス（３−メトキシエトキシ）シラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−β（アミノエチル）−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニル−γ−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。これらは、１種または２種以上を併用して用いることができる。また、これらの化合物のエポキシ基やグリシジル基に（メタ）アクリル酸を付加したシラン化合物、アミノ基に（メタ）アクリロイルオキシ基を２個有する化合物をマイケル付加したシラン化合物、アミノ基やメルカプト基に（メタ）アクリロイルオキシ基およびイソシアネート基を有する化合物を付加したシラン化合物、イソシアネート基に（メタ）アクリロイルオキシ基および水酸基を有する化合物を付加したシラン化合物等も用いることができる。これらの中でも３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、３−アクリロイルオキシプロピルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシランから選択されるシラン化合物は反応性が優れる点で好ましい。
【００３６】
有機成分としては、例えば、重合性基を有する有機化合物等が挙げられ、該重合性基を有する有機化合物とは、例えば、（メタ）アクリロイル基を有する有機化合物、スチリル基を有する有機化合物、ビニル基を有する有機化合物等のラジカル重合性基を有する有機化合物；エポキシ基を有する有機化合物、オキセタン基を有する有機化合物等のイオン重合性基を有する有機化合物等が挙げられる。これらの中でも、反応性の高さ、生成する硬化物の熱的な安定性からラジカル重合性基を有する有機化合物が好ましく、特に生産性の点から（メタ）アクリロイル基を有する有機化合物がさらに好ましい。
【００３７】
ここで、有機化合物としては、例えば、ウレタン、エポキシ、ポリエステル、（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００３８】
具体的な（メタ）アクリロイル基を有する有機化合物としては、例えば、ウレタン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ポリエステル（メタ）アクリレート、モノ（メタ）アクリレート、ジ（メタ）アクリレート、モノまたはジ（メタ）アクリルアミド等の単官能または多官能（メタ）アクリル酸エステル類等が挙げられる。
【００３９】
ウレタン（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、１，５−ジイソシアナトペンタン、１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，４−ジイソシアナトペンタン、１，６−ジイソシアナト−３，５，５−トリメチルヘキサン、１，６−ジイソシアナト−３，３，５−トリメチルヘキサン、１，１２−ジイソシアナトドデカン、１，８−ジイソシアナト−４−イソシアナトメチルオクタン、１，３，６−トリイソシアナトヘキサン、１，６，１１−トリイソシアナトウンデカン、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等のイソシアネート化合物と；ポリエチレングリコール（繰返し単位数：６〜２０）、ポリプロピレングリコール（繰返し単位数：６〜２０）、ポリブチレングリコール（繰返し単位数：６〜２０）、１−メチルブチレングリコール（繰り返し単位数：６〜２０）、ポリテトラメチレングリコール（繰返し単位数：６〜２０）、ポリカプロラクトンジオール、アルキレン（炭素数：２〜１０）ジオールのカプロラクトン付加（繰返し単位数：２〜１０）ジオール、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物、フタル酸とアルキレンジオールから誘導されたポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール（炭素数４〜６の脂肪族骨格）等のジオール化合物と；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレートを反応させたウレタン（メタ）アクリレート；１，５−ジイソシアナトペンタン、１，６−ジイソシアナトヘキサン、１，４−ジイソシアナトペンタン、１，６−ジイソシアナト−３，５，５−トリメチルヘキサン、１，６−ジイソシアナト−３，３，５−トリメチルヘキサン、１，１２−
ジイソシアナトドデカン、１，８−ジイソシアナト−４−イソシアナトメチルオクタン、１，３，６−トリイソシアナトヘキサン、１，６，１１−トリイソシアナトウンデカンヘキサン、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリレンジイソシアネート、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、水添ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、リジントリイソシアネート等のイソシアネート化合物の単量体または多量体に；２−ヒドロキシエチル（
メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４―ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートやそれらのカプロラクトン付加体等の水酸基を有する（メタ）アクリレートを付加したウレタン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４０】
エポキシ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂等のグリシジルエーテル化合物に（メタ）アクリル酸またはその誘導体を反応させたエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。さらに生成する硬化物の機械物性を調整する目的で、分子内に１〜２個のラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物を、必要に応じて適宜含有させてもよい。該ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有する化合物としては、例えば、各種のアルキルモノ、もしくはポリアルコールから誘導されるエステル型モノ、またはジ（メタ）アクリレート；モノ、またはジ（メタ）アクリルアミド類；ビニルエーテル化合物；ビニルエステル化合
物；その他ビニル系化合物；アリル化合物等が挙げられる。
【００４１】
ポリエステル（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、フタル酸、テトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、アジピン酸等の多塩基酸類；エチレングリコール、プロピレングリコール、ネオペンチルグリコール、カプロラクタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、ビスフェノールＡ等の多価アルコール類；（メタ）アクリル酸またはその誘導体との反応で得られるポリエステル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００４２】
モノ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸モルフォリル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）
アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカン、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アリル、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸フェニル等が挙げられる。
【００４３】
ジ（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、ジ（メタ）アクリル酸エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ジエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸テトラエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコール（繰返し単位数：５〜１４）、ジ（メタ）アクリル酸プロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ジプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸テトラプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロピレングリコール（繰返し単位数：５〜１４）、ジ（メタ）アクリル酸１，３−ブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，４−ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ポリブチレングリコール（繰返し単位数：３〜１６）、ジ（メタ）アクリル酸ポリ（１−メチルブチレングリコール）（繰返し単位数：５〜２０）、ジ（メタ）アクリル酸１，６−ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸１，９−ノナンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリル酸エステル、ジシクロペンタンジオールのジ（メタ）アクリレートや、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのγ−ブチロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ネオペンチルグリコールのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ブチレングリコールのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、シクロヘキサンジメタノールのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ジシクロペンタンジオールのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＦのカプロラクトン付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリル酸エステル、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＦエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＦプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリル酸エステル等が挙げられる。
【００４４】
また、モノまたはジ（メタ）アクリルアミド類の具体例としては、例えば、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロール（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリロイルモルホリン、メチレンビス（メタ）アクリルアミド等が挙げられる。
【００４５】
多官能（メタ）アクリル酸エステル類の具体例としては、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート等が挙げられる。
【００４６】
これらの（メタ）アクリロイル基を有する有機化合物のうち、透明性、透明フィルムとの密着性に優れるため、モノまたはジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００４７】
これらは、一種を単独で、または二種以上を併用して用いることができる。
【００４８】
ハードコート層における無機粒子と有機成分の割合は、ハードコートの塗工性の点から、無機粒子１〜９５重量％、有機成分９９〜５重量％が好ましく、さらに好ましくは無機粒子１０〜８０重量％、有機成分９０〜２０重量％であり、特に好ましくは無機粒子４０〜７０重量％、有機成分６０〜３０重量％である。
【００４９】
そして、本発明におけるハードコート層は、無機粒子と有機成分を含有する組成物を硬化してなるものであり、該ハードコート層の製造方法としては、例えば、無機粒子および有機成分を含有する組成物を活性エネルギー線の照射および／または加熱によりラジカル重合して硬化してなる方法等が挙げられる。
【００５０】
ラジカル重合する際には、反応速度を速くすることができ、反応の制御をしやすいことから、重合開始剤を用いることが好ましく、該重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、クロロチオキサントン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−メチル−１−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノプロパン−１−オン、メチルベンゾイルホルメート、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン等の光重合開始剤；メチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイド、ジクミルパーオキサイド、ｔ−ブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔ−ブチルパーオキシオクトエート、ｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ラウロイルパーオキサイド等の熱重合開始剤等が挙げられる。これらの重合開始剤は、生産性や保存安定性などの製造加工面、着色などの品質面を考慮して選択され、特に生産性に優れることから、光重合開始剤が好ましく用いられる。
【００５１】
また、活性エネルギー線の種類としては、例えば、電子線、紫外線、赤外線、可視光線等の公知の活性エネルギー線が挙げられる。それらの中でも、汎用性が高く、装置のコストや生産性に優れることから、紫外線を利用することが好ましい。その紫外線を発生させる光源としては、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、中圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、高周波誘導水銀ランプ等が適している。
【００５２】
活性エネルギー線の照射による硬化時の雰囲気下は、窒素、アルゴン等の不活性ガスの雰囲気下であっても、空気雰囲気下であってもよい。それらの中でも、簡便で低コストであることから、空気雰囲気下であることが好ましい。
【００５３】
硬化条件についても特に制限されるものではなく、例えば、活性エネルギー線を用いた場合、硬化反応を完結させるため、照射量を０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２の範囲内の値とするのが好ましく、０．１〜５Ｊ／ｃｍ２の範囲内の値とするのがさらに好ましく、０．３〜３Ｊ／ｃｍ２の範囲内の値とするのが特に好ましい。また、加熱して硬化させる場合には、硬化反応を完結させるため、３０〜２００℃の範囲内の温度で１〜１８０分間加熱するのが好ましく、５０〜１８０℃の範囲内の温度で２〜１２０分間加熱するのがさらに好ましく、８０〜１５０℃の範囲内の温度で５〜６０分間加熱するのが特に好ましい。
【００５４】
本発明のハードコート層として市販のハードコート剤を用いることもできる。無機粒子を含有する市販のハードコート剤としては、例えば、ＪＳＲ製ハードコート剤デソライト、三菱レイヨン製ハードコート剤レイクイーン、荒川化学工業製ハードコート剤コンポラセン、株式会社アデカ製ハードコート剤アデカナノハイブリッドシリコーンＦＸ−Ｖなどが挙げられる。
【００５５】
ハードコート層の厚みは、生産性向上のため、片面につき１〜１５μｍが好ましく、さらに好ましくは２〜１０μｍである。
【００５６】
本発明において、透明フィルムの表面の両側にハードコート層を設ける方法としては、例えば、フマル酸ジエステル系樹脂を用いてなる透明フィルムに、ハードコート層を形成する組成物を塗布して塗膜を形成した後、活性エネルギー線の照射および／または加熱によりラジカル重合することが挙げられる。
【００５７】
塗布する際には、粘度調整の他、分散安定性、さらには透明フィルムとの密着性およびハードコート層の平滑性、均一性などの面から、有機溶剤を用いることが好ましい。該有機溶剤を使用する場合、硬化反応を完結させるため、塗布後、硬化を行う前に溶剤を揮発させることが好ましい。その手法としては特に限定されるものではなく、自然乾燥の他、赤外線乾燥または熱風炉による乾燥等公知の手段を用いてハードコート層を形成させることができる。
【００５８】
本発明において、透明フィルムの表面の両側にハードコート層を設けたとき、透明フィルム及びハードコート層（以下、「ハードコート層付透明フィルム」という）の厚みは、生産性向上のため、２２〜１８０μｍが好ましく、さらに好ましくは３２〜１２０μｍの範囲である。また、フィルム基板の透明性向上のため、全光線透過率は９０％以上が好ましく、さらに好ましくは９２％以上であり、ヘーズは１％以下が好ましい。
【００５９】
本発明において、ハードコート層付透明フィルムの耐熱温度は、フィルム基板としたときに、優れた耐熱性を有するフィルム基板が得られるため、１５０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１８０℃以上である。
【００６０】
本発明において、ハードコート層付透明フィルムの熱線膨張係数は、フィルム基板としたときに、優れた耐クラック性及び耐剥離性を有するフィルム基板が得られるため、８．０×１０−５／℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは７．０×１０−５／℃以下であり、特に好ましくは６．５×１０−５／℃以下である。
【００６１】
本発明において、ハードコート層付透明フィルムは、熱安定性または光安定性を向上させる目的で酸化防止剤または光安定剤を含んでいてもよい。該酸化防止剤としては、例えば、ペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネートなどのヒンダードフェノール系酸化防止剤、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイトなどのリン系酸化防止剤、硫黄系酸化防止剤、ラクトン系酸化防止剤、アミン系酸化防止剤、ヒドロキシル系酸化防止剤、ビタミンＥ系酸化防止剤、その他酸化防止剤が挙げられる。また、該光安定剤としては、例えば、ヒンダードアミン系光安定剤等が挙げられる。これら酸化防止剤または光安定剤をそれぞれ単独で用いてもよく、それぞれ併用して用いてもよい。
【００６２】
また、本発明において、ハードコート層付透明フィルムは、その劣化防止などの目的で、紫外線吸収剤を含んでいてもよい。該紫外線吸収剤としては、例えば、ベンゾトリアゾール、ベンゾフェノン、トリアジン、ベンゾエートなどの紫外線吸収剤を必要に応じて添加することもできる。これら紫外線吸収剤は一種類以上組み合わせて用いることもできる。
【００６３】
さらに、本発明において、ハードコート層付透明フィルムは、発明の主旨を越えない範囲で、その他ポリマー、界面活性剤、高分子電解質、導電性錯体、無機フィラー、顔料、染料、帯電防止剤、アンチブロッキング剤、滑剤等が配合されたものであってもよい。
【００６４】
本発明における無機膜は、ハードコート層上に積層されたものであり、該ハードコート層との間の界面エネルギー差が１０ｍＮ／ｍ以下であることを特徴とする。そして、本発明において、ハードコート層と無機膜との間の界面エネルギー差が１０ｍＮ／ｍよりも大きい場合、ハードコート層表面と無機膜との密着性を十分確保することができなくなり、無機膜のクラックや剥離の発生を防止することが困難となる。また、ハードコート層表面と無機膜との密着性を確保し、無機膜のクラックや剥離の発生防止により好適であることから、ハードコート層と無機膜との界面エネルギー差が５ｍＮ／ｍ以下であることが好ましく、無機膜の材料としては、酸化アルミや酸化チタンが好ましい。これらの材料にその他金属酸化物が少量含まれていても構わない。
【００６５】
本発明において、無機膜の積層体は高い耐熱性、低熱線膨張係数、低複屈折、優れた透明性を有するものであり、フィルム基板の耐熱性、熱線膨張係数、複屈折及び透明性は、専らハードコート層付透明フィルムに依存するものである。そして、本発明において、フィルム基板の耐熱温度、熱線膨張係数、複屈折並びに全光線透過率及びヘーズは、それぞれハードコート層付透明フィルムの耐熱温度、熱線膨張係数、複屈折並びに全光線透過率及びヘーズに依存する。
【００６６】
本発明におけるフィルム基板の耐熱温度は、無機膜の形成時に掛かる温度によってフィルム基板が変形することを防止するのに好適であるため、１５０℃以上であることが好ましく、さらに好ましくは１８０℃以上である。
【００６７】
本発明におけるフィルム基板の熱線膨張係数は、無機膜のクラック、剥がれのないフィルム基板を得るのにより好適であるため、８．０×１０−５／℃以下であることが好ましく、さらに好ましくは７．０×１０−５／℃以下であり、特に好ましくは６．５×１０−５／℃以下である。
【００６８】
本発明におけるフィルム基板の複屈折は、固体撮像装置等に組み込まれたときに良好な画質を得るのにより好適であるため、２０ｎｍ以下であることが好ましく、さらに好ましくは１０ｎｍ以下である。
【００６９】
本発明におけるフィルム基板の全光線透過率は、透明性向上のため、９０％以上が好ましく、さらに好ましくは９２％である。
【００７０】
本発明におけるフィルム基板のヘーズは、透明性向上のため、１％以下が好ましい。
【００７１】
本発明において、積層された無機膜は、特定の反射防止膜と光吸収膜を積層してなる無機多層膜である。そして、本発明において、このような無機多層膜を少なくとも透明フィルム基板の一方の面または両方の面に有することにより、光量絞り装置として用いられるときに、光透過性を高度に制御することができるものである。ここで、本発明において、無機膜が多層膜ではなく、単層膜である場合、光の吸収や反射を制御できず光量絞り装置として性能が低いものとなるとなる。
【００７２】
本発明において、反射防止膜として酸化アルミ、光吸収膜として酸化チタンを用いたとき、良好な光学特性を有するフィルム基板を得ることが出来る。
【００７３】
一般に上記反射防止膜、光吸収膜の製膜には真空蒸着法が用いられるが、本発明でハードコート層上に無機膜を製膜する場合または製膜した無機膜上に重ねて無機膜を製膜する場合、イオンスプレーティング法またはスパッタリング法等によっても同様の効果を得ることができる。また、本発明において、無機膜の層数、膜厚等はこれらに限定されるものではない。
【００７４】
また、本発明のフィルム基板には発明の主旨を超えない範囲でフィルムとハードコート層の間、またはハードコート層と光吸収膜、反射防止膜の間にガスバリア層を積層させても構わない。このガスバリア層の製膜には真空蒸着法、イオンスプレーティング法、スパッタリング法などを用いることができる。
【００７５】
本発明のフィルム基板は、光量絞り装置の材料としてビデオカメラやデジタルカメラの固体撮像素子に組み込まれた際、被写界の明るさが大きい場合でも良好な撮影を可能にする。さらに、耐熱性と低熱線膨張係数を有することにより、固体撮像装置やカメラモジュール製造での加熱プロセスや高温雰囲気下での使用にも好適である。
【発明の効果】
【００７６】
本発明によると、ＰＥＴなど従来の樹脂と比較して分光特性、耐熱性等に優れた、高性能な光量絞り装置の材料として有用なフィルム基板を提供することができる。
【実施例】
【００７７】
以下に本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら制限されるものではない。
【００７８】
＜フマル酸ジエステル系樹脂の組成＞
核磁気共鳴測定装置（日本電子製、商品名ＪＮＭ−ＧＸ２７０）を用い、プロトン核磁気共鳴分光（１Ｈ−ＮＭＲ）スペクトル分析より求めた。
【００７９】
＜数平均分子量の測定＞
フマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は、ゲル・パーミエーション・クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー株式会社製、商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）を用い、ＴＨＦを溶剤とし標準ポリスチレン換算値として求めた。
【００８０】
＜耐熱性の評価方法＞
ハードコート層付透明フィルムを１５０℃から２５０℃のオーブン内に１時間保持し、変色、変形の有無を目視により判定した。
【００８１】
＜熱線膨張係数の測定＞
ハードコート層付透明フィルムを無荷重条件において、１０℃から２４０℃まで５℃／ｍｉｎ．で昇降温させ、測定２回目の昇降温から求められる膨張係数の平均値を熱線膨張係数とした。
【００８２】
＜透明性の評価方法＞
ハードコート層付透明フィルムの全光線透過率およびヘーズは、ヘーズメーター（日本電色工業製、商品名ＮＤＨ２０００）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ  ７３６１−１に準拠して測定した。
【００８３】
＜複屈折の測定＞
ハードコート層付透明フィルムの複屈折は、光学特性評価装置（王子計測機器製、商品名ＫＯＢＲＡ−ＷＰＲ）を使用して測定した。
【００８４】
＜界面エネルギー差の評価方法＞
ハードコート層と無機膜との間の界面エネルギー差は、接触角計（協和界面化学社製、商品名ＤＭ−３００）を使用して、θ/２法により接触角を測定し、Ｏｗｅｎｓ−Ｗｅｎｄｔの方法を用いて算出した。
【００８５】
合成例１（フマル酸ジエステル系樹脂の製造例）
攪拌機、冷却管、窒素導入管および温度計を備えた５００ｍＬの４口フラスコに、ポリビニルアルコール（分子量２，０００、けん化度８０％）０．４ｇ、蒸留水２６０ｇ、フマル酸ジイソプロピル１３７．５ｇ（０．６８７モル）、アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル２．５ｇ（０．０１５モル）および重合開始剤であるｔ−ブチルパーオキシピバレート０．８ｇ（０．００５モル）を入れ、窒素バブリングを１時間行なった後、５５０ｒｐｍで攪拌しながら５０℃で２４時間保持することによりラジカル共重合を行なった。共重合反応の終了後、フラスコ中の重合物をろ別し、蒸留水およびメタノールで洗浄することによりフマル酸ジエステル系樹脂を得た（収率：８２％）。１Ｈ−ＮＭＲ測定により、得られたフマル酸ジエステル系樹脂は、フマル酸ジイソプロピル残基単位／アクリル酸−３−エチル−３−オキセタニルメチル残基単位＝９６／４（モル％）であった。なお、フマル酸ジエステル系樹脂の数平均分子量は４７，０００であった。
【００８６】
合成例２（透明フィルム作成例）
合成例１で得られたフマル酸ジエステル系樹脂をトルエン：メチルエチルケトン重量比１：１の溶液に溶解し２０重量％溶液とし、さらにフマル酸ジエステル系樹脂１００重量部に対し、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト１．０重量部およびペンタエリスリトール−テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］０．５重量部を添加し、支持体基板上に流延し、７０℃で１０分乾燥後、更に１２０℃で１０分乾燥した。厚み８０μｍ、厚みムラ３μｍの透明フィルムを作製した。
【００８７】
合成例３（ハードコート溶液作製例）
攪拌機、温度計およびコンデンサーを備えた５リットルの４ツ口フラスコに、無機粒子としてイソプロパノールシリカゾル（コロイダルシリカ微粒子  ＳｉＯ２濃度；３０重量％、平均粒子径；２０ｎｍ、日産化学工業（株）製）２，０００重量部と、重合性基としてメタアクリロイル基を有する３−メタクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（東芝シリコン（株）製）１６０重量部を計量し、攪拌しながら昇温させ、揮発分の還流が始まると同時に純水１００重量部を徐々に滴下させ、滴下終了後、還流下で２時間攪拌しながら加水分解を行った。反応後にトルエン５００重量部を追加し、アルコール、水等をトルエンと一緒に共沸留出させた。次に、トルエン１，０００重量部を追加し、トルエンを留出させながら１１０℃で４時間反応を行った。得られた分散液は、固形分濃度６５重量％、粘度５５ｃｐｓであった。無機粒子として得られた分散液１００重量部（固形分；６５重量％）、有機成分としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（商品名；カヤラッドＤＰＨＡ、日本化薬（株）社製）２３．３重量部、トリメチロールプロパントリアクリレート（大阪有機（株）社製）２０重量部、光重合開始剤（チバスペシャリテーケミカルズ（株）社製  商品名；ダロキュア１１７３）１重量部を混合攪拌して組成物（無機粒子６０重量％、有機成分４０重量％）を得た。得られた組成物にメチルエチルケトン１００重量部を加え、ハードコート溶液とした。
【００８８】
実施例１
合成例２で作製した透明フィルムを用い、合成例３で作製したハードコート溶液をコーターで塗布して塗膜を形成し、６０℃で２分間乾燥した後、高圧水銀灯で紫外線を照射し（照射量３００ｍＪ／ｃｍ２）、厚さ８μｍのハードコート層を形成した。そして、片面にハードコート層を形成したフィルムに対し、反対面にも同様に厚さ８μｍのハードコート層を形成し、ハードコート層付透明フィルムを得た。
【００８９】
得られたハードコート層付透明フィルムの熱線膨張係数は６．０×１０−５／℃で、２００℃加熱１時間で変形や変色は見られなかった。さらに、全光線透過率９３％、ヘーズ０．５％であった。
【００９０】
また、得られたハードコート層付透明フィルムの複屈折は１ｎｍであった。
【００９１】
得られたハードコート層付透明フィルムを用い、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法（真空蒸着法）により、酸化アルミ層（膜厚１０ｎｍ）と酸化チタン層（膜厚１０ｎｍ）を交互に４層ずつ蒸着し、反射率を低下させるための反射防止膜および透過率を低下させるための光吸収膜からなる無機多層膜を両面に形成して、フィルム基板を得た。
【００９２】
得られたフィルム基板は、ハードコート層と接する酸化アルミ膜とハードコート層との間の界面エネルギー差が４．０ｍＮ／ｍであった。また、外観評価では、目視により、酸化アルミ層にクラック・剥がれがないことを確認した。
【００９３】
実施例２
実施例１で得られたハードコート層付透明フィルムを用い、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法（真空蒸着法）により、酸化チタン層（膜厚１０ｎｍ）と酸化アルミ層（膜厚１０ｎｍ）を交互に４層ずつ蒸着し、反射率を低下させるための反射防止膜および透過率を低下させるための光吸収膜からなる無機多層膜を両面に形成して、フィルム基板を得た。
【００９４】
得られたフィルム基板は、ハードコート層と接する酸化チタン膜とハードコート層との間の界面エネルギー差が０．５ｍＮ／ｍであった。また、外観評価では、目視により酸化チタン層にクラック・剥がれがないことを確認した。
【００９５】
比較例１
実施例１で得られたハードコート層付透明フィルムを用い、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法（真空蒸着法）により、二酸化珪素（膜厚５ｎｍ）を両面に形成したのち酸化アルミ層（膜厚１００ｎｍ）と酸化チタン層（膜厚１０ｎｍ）を交互に４層ずつ両面に形成して蒸着し、反射率を低下させるための反射防止膜および透過率を低下させるための光吸収膜からなる無機多層膜を形成して、フィルム基板を得た。
【００９６】
得られたフィルム基板は、ハードコート層と接する無機膜（二酸化珪素膜）とハードコート層との間の界面エネルギー差が２１ｍＮ／ｍであり、目視による外観評価において、二酸化珪素の層にクラックが多数確認され、密着性に劣るものであった。
【００９７】
比較例２
合成例２で作製した透明フィルムを用い、電子ビーム蒸着（ＥＢ）法（真空蒸着法）により、酸化アルミ層（膜厚１００ｎｍ）と酸化チタン層（膜厚１００ｎｍ）とを交互に積層蒸着し、反射率を低下させるための反射防止膜および透過率を低下させるための光吸収膜からなる無機多層膜を形成した。
【００９８】
合成例２で製した透明フィルムは、熱線膨張係数が１０×１０−５／℃であるため、目視による外観評価において、透明フィルムと接する酸化アルミの層にクラックが多数確認された。
【００９９】
透明フィルムと接する酸化アルミの層にクラックが多数確認されたことから、光量絞り装置に組み込むフィルム基板として使用できないものであった。