(57)【要約】      （修正有）【課題】反射率が高く耐候性及び耐擦傷性に優れた太陽光集光フィルムミラー及びその製造方法を提供する。【解決手段】太陽光集光フィルムミラーは、樹脂基材５上に、紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層１、銀反射層３及び当該銀反射層３に隣接した腐食防止層２、４を有し、表面被覆層１に紫外線遮蔽剤を含有させるとともに波長３８０〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層とすることを特徴とする。【選択図】図１
2016157043.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂基材上に、紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーであって、前記表面被覆層が、可視光硬化性化合物を用いて形成された層であることを特徴とする太陽光集光フィルムミラー。
【請求項２】
前記銀反射層が、前記腐食防止層と隣接していることを特徴とする請求項１に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項３】
前記表面被覆層が、波長３８０〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項４】
前記表面被覆層が、波長４００〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項５】
前記表面被覆層が、トリアジン系、ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系の有機紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項６】
前記表面被覆層が、無機紫外線吸収剤を含有することを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項７】
前記表面被覆層が、平均一次粒径が１００ｎｍ以下の無機酸化物を含有する紫外線散乱剤を前記表面被覆層に対して１０質量％未満の含有量で含有することを特徴とする請求項１から請求項６までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項８】
前記銀反射層がめっきにより形成された層であることを特徴とする請求項１から請求項７までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【請求項９】
紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーを製造する製造方法であって、前記製造方法が、電気めっきにより前記銀反射層を形成する工程と前記表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程とを有することを特徴とする太陽光集光フィルムミラーの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は太陽光集光フィルムミラーに関する。より詳しくは、反射率が高く耐候性及び耐擦傷性に優れた太陽光集光フィルムミラーとその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
屋外で使用されブラシ洗浄等も実施される太陽光集光用ミラーは、傷つきによる反射率低下を防止するためにポリマーの中でもより高硬度の硬化樹脂層が最表面に設けられることが多い。その製造方法として加熱硬化法や紫外線硬化法が知られている。
【０００３】
めっきにより銀反射層を形成した場合は、熱によってめっき処理液の残渣物が劣化し変色したり、銀反射層の結晶粗大化や構造変化が起こり反射率が低下する。そのため最表面の硬化樹脂層は加熱硬化法を避け紫外線硬化法が好んで使われている（例えば特許文献１参照。）。
【０００４】
ところが、太陽光に曝露される表面の硬化樹脂層は、太陽光に含まれる紫外線によって化学結合が切れ、硬度を長期にわたって維持できない。さらにめっきにより形成された銀反射層は、蒸着により形成された銀反射層よりも活性であり紫外線を当てることで銀がイオン化して銀光沢を失いやすい。そのため太陽光反射ミラーに用いる場合には、めっき銀の上層に紫外線遮蔽層を設ける必要があった。
【０００５】
また、特許文献２に記載されているように銀反射層を透過した３２０ｎｍ近傍の紫外線が銀反射層の下層に位置するポリマーフィルムの劣化を引き起こし、気泡による「鳥肌」状の膨れが発生する。特にめっきにより形成された銀反射層は、蒸着により形成された銀反射層に比べて銀膜が疎になる傾向がある。理由は製造方法に依存しており、蒸着法では高温で樹脂基材が膨張している状態で銀が蒸着されるため、常温（２５℃）では樹脂基材が収縮し、銀膜が密になる。めっきによる成膜では成膜時に高温にならないので樹脂基材は膨張したりせず銀膜は蒸着よりも疎になる。そのため製造過程で紫外線を使うと銀下層が劣化しやすい。
【０００６】
これらの対策として、紫外線遮蔽剤として紫外線吸収剤又は紫外線散乱剤を表面の樹脂層に含有させることが考えられるが、紫外線硬化樹脂の場合、光開始剤の吸収波長と紫外線遮蔽剤の波長が重なることで硬化不良が起こるため、十分な量の紫外線遮蔽剤を入れることが困難であった。したがって、紫外線を強く照射すると樹脂が劣化し、表面被覆層を厚くしたり、紫外線遮蔽剤を十分に含有させて表面被覆層の硬度を上げようとして紫外線を照射しても、銀反射層近傍まで十分硬化させることが困難であり、太陽光集光フィルムミラーの耐傷性を向上させることが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１４−００６２７８号公報
【特許文献２】特開昭６１-１５４９４２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、反射率が高く耐候性及び耐擦傷性に優れた太陽光集光フィルムミラーを提供することである。また、その製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において表面被覆層に紫外線遮蔽剤を含有させ、表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成することで、十分硬度を高めることができることを見いだし本発明に至った。
【００１０】
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１１】
１．樹脂基材上に、紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーであって、前記表面被覆層が、可視光硬化性化合物を用いて形成された層であることを特徴とする太陽光集光フィルムミラー。
【００１２】
２．前記銀反射層が、前記腐食防止層と隣接していることを特徴とする第１項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１３】
３．前記表面被覆層が、波長３８０〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１４】
４．前記表面被覆層が、波長４００〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１５】
５．前記表面被覆層が、トリアジン系、ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系の有機紫外線吸収剤を含有することを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１６】
６．前記表面被覆層が、無機紫外線吸収剤を含有することを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１７】
７．前記表面被覆層が、平均一次粒径が１００ｎｍ以下の無機酸化物を含有する紫外線散乱剤を前記表面被覆層に対して１０質量％未満の含有量で含有することを特徴とする第１項から第６項までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１８】
８．前記銀反射層がめっきにより形成された層であることを特徴とする第１項から第７項までのいずれか一項に記載の太陽光集光フィルムミラー。
【００１９】
９．紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーを製造する製造方法であって、前記製造方法が、電気めっきにより前記銀反射層を形成する工程と前記表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程とを有することを特徴とする太陽光集光フィルムミラーの製造方法。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の上記手段により、反射率が高く耐候性及び耐擦傷性に優れた太陽光集光フィルムミラーを提供することができる。また、その製造方法を提供することができる。
【００２１】
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
【００２２】
銀反射層は可視光を反射するが、紫外線の透過率は高いので、太陽光集光フィルムミラーの製造時において硬化させる光源を紫外線から可視光に変えることで、銀反射層の下層に位置する樹脂の劣化を防ぐことができる。さらに、硬化のため直接照射された可視光と銀反射層により反射された可視光の両者を用いることができるので、より効率的に硬化することができると考えられる。また、製造時に表面被覆層の硬化が十分に終わっていなくても可視光硬化性化合物を用いることにより、太陽光により追加硬化が可能である。銀反射層は紫外線を反射しないため、紫外線硬化型の樹脂ではこの効果は得られない。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の実施形態の太陽光集光フィルムミラーの構成の一例
【図２】本発明の実施形態の太陽光集光フィルムミラーの構成の他の一例
【発明を実施するための形態】
【００２４】
本発明の太陽光集光フィルムミラーは、紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーであって、前記表面被覆層が可視光硬化性化合物を用いて形成された層であることを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項９までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２５】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から銀反射層が、腐食防止層と隣接していることが好ましい。また、本発明の効果発現の観点から、前記表面被覆層が、波長３８０〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることが、太陽光による追加硬化反応の効果が得られることから、好好ましい。また、表面被覆層が、波長４００〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることがより好ましい。
【００２６】
さらに、本発明においては、表面被覆層が、トリアジン系、ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系の有機紫外線吸収剤を含有することが好ましい。これにより、ポリマーとの相溶性が高くヘイズの影響を少なくし、初期反射率を高くすることができる。
【００２７】
本発明の実施態様としては、紫外線耐久性の観点から、表面被覆層が、無機紫外線吸収剤を含有することが好ましい。また、前記表面被覆層が、平均１次粒径が１００ｎｍ以下の無機酸化物からなる紫外線散乱剤を前記表面被覆層に対して１０質量％未満の含有量で含有することが、耐久性とヘイズ低減の両方の効果が得られることから、好ましい。
【００２８】
さらに、本発明においては、前記銀反射層がめっきにより形成された層であることが好ましい。これにより、樹脂基材と銀反射層の密着性向上の効果が得られる。
【００２９】
本発明の太陽光集光フィルムミラーを製造する太陽光集光フィルムミラーの製造方法としては、紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーを製造する製造方法であって、前記製造方法が、電気めっきにより前記銀反射層を形成する工程と前記表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程とを有することを特徴とする太陽光集光フィルムミラーの製造方法であることが好ましい。
【００３０】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３１】
《太陽光集光フィルムミラーの構成概要》
本発明の太陽光集光フィルムミラーは、樹脂基材上に、紫外線遮蔽剤を含有する表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有する太陽光集光フィルムミラーであって、前記表面被覆層が可視光硬化性化合物を用いて形成された層であることを特徴とする。
【００３２】
図１は、本発明の実施形態の太陽光集光フィルムミラーの構成の一例である。本発明の太陽光集光フィルムミラーは、構成層として少なくとも樹脂基材１、腐食防止層、銀反射層３及び表面被覆層５を備えている。腐食防止層は、腐食防止層２又は４の少なくともいずれかの位置で銀反射層に隣接していることが好ましい。表面被覆層は可視光硬化性樹脂を用いて形成された層であり、銀反射層を保護する役割を有している。
【００３３】
図２は、本発明の実施形態の太陽光集光フィルムミラーの構成の他の一例である。樹脂基材１の片面に表面被覆層５を有し、他の片面に銀反射層３と腐食防止層を有している例である。腐食防止層は、腐食防止層２又は４の少なくともいずれかの位置で銀反射層に隣接していることが好ましい。
【００３４】
このように、樹脂基材の片面に表面被覆層、銀反射層及び腐食防止層を有していても良いし、樹脂基材を介して片側に樹脂基材他の片側に銀反射層を有していても良い。いずれの場合も太陽光に曝される側は表面被覆層である。必要に応じて表面被覆層の反対側の面に粘着層６などを備えることができる。粘着層を介して支持体７に固定することができる。
【００３５】
このような構成とすることで、表面被覆層の硬度を高め耐擦傷性を強くするとともに、耐候性の優れた反射率の高い太陽光集光フィルムミラーを得ることができる。
【００３６】
《表面被覆層》
表面被覆層は可視光硬化性化合物を用いて形成された層である。表面被覆層には、可視光硬化性化合物と紫外線遮蔽剤を少なくとも含有する。
【００３７】
表面被覆層には他に酸化防止剤、表面活性剤、帯電防止剤等の各種添加剤が含有されていてもよい。表面被覆層は、表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程で硬化される。
【００３８】
表面被覆層の厚さは１〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。
【００３９】
〈可視光硬化性化合物〉
本発明において、可視光硬化性化合物とは、３８０〜７００ｎｍの可視光によって硬化するものをいう。紫外線との併用でも、赤外線との併用でも良い。この場合硬化に要する光エネルギーの５０％以上が可視光により与えられるものを可視光硬化性化合物という。
【００４０】
例えば、可視光を吸収して重合が開始するモノマー、又は単独では可視光を吸収しても重合は開始しないが光開始剤が添加され、その光開始剤が可視光を吸収して活性種となって重合反応が開始する可視光開始剤とモノマーを用いることができる。このとき起こる重合反応としてはラジカル重合、カチオン重合等が挙げられる。公知のモノマーを重合性モノマー成分とし、光開始剤によって重合反応を開始させることができる。
【００４１】
光開始剤によってラジカル反応を開始させることができるモノマーとしては、分子内に少なくとも１個のエチレン性不飽和結合を有する不飽和化合物を含有することが好ましい。
【００４２】
ラジカル重合可能なエチレン性不飽和結合を有するモノマーの例には、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩、エステル、ウレタン、アミドや無水物、アクリロニトリル、スチレン、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ウレタン等のラジカル重合性化合物などが含まれる。
【００４３】
このような不飽和化合物の典型的な例として、分子内に少なくとも１個の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリル系化合物を挙げることができる。（メタ）アクリル系化合物としては、特に限定されないが、例えば（メタ）アクリレート類、（メタ）アクリルアミド類、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリルアルデヒド等が挙げられる。
【００４４】
（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート類（以下、単官能（メタ）アクリレートという）としては、特に限定されないが、例えばメチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、イソプロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、オクチル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレートのようなアルキル（メタ）アクリレート類；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートのようなヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート類；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメチロールモノ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレートのような脂環式単官能（メタ）アクリレート類；ベンジル（メタ）アクリレート、ｐ−クミルフェノールアルキレンオキサイド付加物の（メタ）アクリレート、ｏ−フェニルフェノールアルキレンオキサイド付加物の（メタ）アクリレート、フェノールアルキレンオキサイド付加物の（メタ）アクリレート、ノニルフェノールアルキレンオキサイド付加物の（メタ）アクリレートのような芳香族環を有する単官能（メタ）アクリレート類（ここで、アルキレンオキサイドとしては、エチレンオキサイドやプロピレンオキサイド等が挙げられる）；２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシメチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシルアルコールのアルキレンオキサイド付加物の（メタ）アクリレートのようなアルコキシアルキル（メタ）アクリレート類；エチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ペンタンジオールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールモノ（メタ）アクリレートのような二価アルコールのモノ（メタ）アクリレート類；ジエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールのモノ（メタ）アクリレートのようなポリアルキレングリコールのモノ（メタ）アクリレート類；グリシジル（メタ）アクリレート；テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート；カプロラクトン変性テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートのようなテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート類；３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート；２−（メタ）アクリロイルオキシエチルイソシアネート等が挙げられる。
【００４５】
そのほかには、分子内に２個以上の（メタ）アクリロイル基を有する（メタ）アクリレート類が挙げられる。
【００４６】
〈光開始剤〉
表面被覆層は、波長３８０〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることが好ましい。表面被覆層は、波長４００〜４６０ｎｍの範囲内に吸収極大を持つ光開始剤を用いた重合反応により硬化された層であることがより好ましい。
【００４７】
このような光開始剤を用いることにより、紫外線を用いる場合比べて樹脂基材へのダメージを少なくすることができる。一般的な光学フィルムでは３８０ｎｍより長波長は高透明又は高反射率であることが望まれる。しかし、太陽熱発電用途においては太陽光加重平均反射率が高いことが重要である。太陽光スペクトルが最も高くなるのは４６０ｎｍからなので、この範囲の光を光開始剤の吸収波長に割り当てることにより、高耐久性と高い反射率を達成することができる。
【００４８】
３８０〜４６０ｎｍの波長範囲で光開始剤が光吸収を持つことは、太陽光集光フィルムミラーの反射率低下が懸念されるが、光開始剤は重合反応の後には吸収波長が変化するので、光開始剤を適量使用することにより、この影響を少なくすることができる。
【００４９】
可視光によるラジカル重合開始剤としては、芳香族ケトン、カンファーキノン、ケトクマリン等の水素引き抜き型、トリス（トリクロロメチル）トリアジン等のハロゲン化合物、過酸化ベンゾイル等の有機過酸化物、ヘキサアリールビスイミダゾール化合物、シアニンボレート等のホウ素化合物、Ｎ−フェニルグリシン、ビスペンタジエニルチタニウムージ（ペンタフルオロフェニル）等の有機金属化合物を用いることができる。
【００５０】
光開始剤の添加量は、可視光硬化性化合物に対して０．１〜１０質量％であることが好ましい。
【００５１】
〈光源〉
光開始剤を用いたときは可視光を照射して重合反応を開始させる可視光としては、可視光硬化性樹脂を硬化することができれば、特に限定されない。例えば、メタルハライドランプ、ハロゲンランプ、キセノンランプ、太陽光、超高圧水銀灯等を用いることができる。紫外線を併用する場合には、様々な光源を使用することができ、例えば水銀アークランプ、キセノンアークランプ、蛍光ランプ、炭素アークランプ、タングステン−ハロゲン輻射ランプ及び日光による照射光で硬化させることができる。
【００５２】
必要に応じて光源に各種フィルターを用いて照射光の波長を調整することができる。
【００５３】
〈紫外線遮蔽剤〉
表面被覆層は、表面被覆層及びその下層に位置する層の対候性を向上させるために紫外線遮蔽剤を含有する。紫外線遮蔽剤としては有機紫外線吸収剤、無機紫外線吸収剤又は紫外線散乱剤を上げることができる。
【００５４】
（有機紫外線吸収剤）
表面被覆層は、有機紫外線吸収剤を含有することが好ましい。例えばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機紫外線吸収剤を用いることができる。表面被覆層は、トリアジン系、ベンゾトリアゾール系又はベンゾフェノン系の有機紫外線吸収剤を含有することがより好ましい。
【００５５】
ベンゾフェノン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ドデシロキシ−ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクタデシロキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシ−ベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシ−ベンゾフェノン、２，２′，４，４′−テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン等が挙げられる。
【００５６】
ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤としては、２−（２′−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２，２′−メチレンビス［６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール］（分子量６５９；市販品の例としては株式会社ＡＤＥＫＡのＬＡ３１）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（分子量４４７．６；市販品の例としてはＢＡＳＦジャパン株式会社のチヌビン２３４）などが挙げられる。
【００５７】
サリチル酸フェニル系紫外線吸収剤としては、フェニルサルチレート、２−４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート等が挙げられる。ヒンダードアミン系紫外線吸収剤としては、ビス（２，２，６，６−テトラメチルピペリジン−４−イル）セバケート等が挙げられる。
【００５８】
トリアジン系紫外線吸収剤としては、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−メトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−エトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−プロポキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ブトキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ヘキシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−オクチルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ドデシルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、２，４−ジフェニル−６−（２−ヒドロキシ−４−ベンジルオキシフェニル）−１，３，５−トリアジン、〔２−（４，６−ジフェニル−１，３，５−トリアジン−２−イル）−５−（ヘキシル）オキシフェノール〕（チヌビン１５７７ＦＦ、商品名、ＢＡＳＦジャパン社製）、〔２−［４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン−２−イル］−５−（オクチルオキシ）フェノール〕（ＣＹＡＳＯＲＢ  ＵＶ−１１６４、商品名、サイテックインダストリーズ製）等が挙げられる。
【００５９】
ベンゾエート系紫外線吸収剤としては、２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンゾエート（分子量４３８．７；市販品の例としては住友化学株式会社のＳｕｍｉｓｏｒｂ４００）などが挙げられる。
【００６０】
これら紫外線吸収剤のなかでも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。
【００６１】
有機紫外線吸収剤の表面被覆層中の添加量は、表面被覆層に対して０．１〜２０質量％であることが好ましく、より好ましくは１〜１５質量％、さらに好ましくは３〜１０質量％である。また、有機紫外線吸収剤の表面被覆層への含有量は、単位面積当たりの含有量が０．１７〜２．２８ｇ／ｍ２で、より好ましくは単位面積当たりの含有量が０．４〜２．２８ｇ／ｍ２以上である。含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能を十分発揮しつつ、有機紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすことを防止できる。
【００６２】
（無機紫外線吸収剤）
本発明に係る無機紫外線吸収剤とは、主には金属酸化物顔料であり、透光性樹脂層に２０質量％以上の濃度で分散させて、６μｍ厚のフィルムを形成し、光波長２９０〜３２０ｎｍの領域における光線透過率を１０％以下にする機能を備えた化合物である。本発明に適用可能な無機紫外線吸収剤としては、特に、酸化チタン、酸化ジルコニウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化アンチモン又はこれらの混合物から選択されることが好ましい。
【００６３】
また、無機紫外線吸収剤含有層の透明性を向上させる点から、平均粒径が５ｎｍと５００ｎｍとの間の平均基本粒子径であるものが好ましく、特に好ましくは１０ｎｍと１００ｎｍとの間の平均基本粒子径であって、粒径分布の最大粒径が１５０ｎｍ以下の金属酸化物粒子である。これらの粒径は体積累積径（Ｄ５０）で求めることができる。
【００６４】
また、本発明においては、無機酸化物の光触媒能による隣接樹脂の酸化劣化作用を抑える観点から、無機紫外線吸収剤が、表面被覆した平均粒径が、１０ｎｍ以上、１００ｎｍ以下の無機紫外線吸収剤微粒子であってもよい。また、表面被覆には無機紫外線吸収剤粒子の分散性を向上させる効果もあるため、なお好ましい。ここでいう表面被覆された無機紫外線吸収剤とは、アミノ酸、蜜蝋、脂肪酸、脂肪アルコール、陰イオン界面活性剤、レシチン、脂肪酸のナトリウム塩、カリウム塩、亜鉛塩、鉄塩又はアルミニウム塩、金属アルコキシド（チタン又はアルミニウムの）、ポリエチレン、シリコーン、タンパク質（コラーゲン、エラスチン）、アルカノールアミン、酸化ケイ素、金属酸化物又はヘキサメタリン酸ナトリウムのような化合物により、化学的、電子工学的、メカノケミストリー的又は機械的な特質の１つ又は複数の手段により表面処理を受けた無機紫外線吸収剤である。
【００６５】
無機紫外線吸収剤を単独で用いる場合の使用量は、表面被覆層の全質量に対し１〜３０質量％、好ましくは５〜２５質量％、さらに好ましくは１５〜２０質量％である。３０質量％以内では密着性が優れ、１質量％以上あれば耐候性改良効果が大きい。
【００６６】
また、無機紫外線吸収剤を後述する有機紫外線吸収剤と併用して用いる場合、表面被覆層の全質量に対し、無機紫外線吸収剤の使用量は３〜２０質量％、好ましくは５〜１０質量％であり、有機紫外線吸収剤の使用量は０．１〜１０質量％、好ましくは０．５〜５質量％である。前記の使用量の範囲で無機紫外線吸収剤と有機紫外線吸収剤とを併用すると、表面被覆層の透明度は高く、耐侯性も良好となる。
【００６７】
（紫外線散乱剤）
紫外線散乱剤は疎水化処理無機粉体であることが好ましい。無機粉体の幾何学的態様は、球状、多面体状、紡錘状、針状、板状等いずれの形状でもよい。紫外線散乱剤の平均一次粒径は１００ｎｍ以下であり、紫外線遮蔽性及び塗布時の透明性の点から１〜５０ｎｍが好ましい。
【００６８】
なお平均一次粒径は、レーザー回折式粒度分布測定装置を用いて測定された５０％体積累積径（Ｄ５０）を用いる。具体的にはＳＡＬＤ−２３００（島津製作所社製）を用いて測定することができる。
【００６９】
紫外線散乱剤の例としては、微粒子酸化チタン、微粒子鉄含有酸化チタン、微粒子酸化亜鉛、微粒子酸化セリウム及びそれらの複合体等、紫外線を吸収散乱する粒子が挙げられる。
【００７０】
これらの紫外線散乱剤は副次的な効果として、表面被覆層のフィラーとして機能するので、表面被覆層の硬度を高める上で好ましい。
【００７１】
これら無機粉体は表面活性の封鎖、及び分散性などを付与するため、アルミナ、シリカ等の無機素材で表面処理したものを用いるのが一般的である。更にこれらの粉体に撥水性や分散性を付与する目的で、油剤、金属石ケン、オルガノポリシロキサン、フッ素などで疎水化処理が施されるが、これらの疎水化処理は、常法に従って行うことができる。これらの疎水化処理の中でも、粉末粒子に高い安定性を付与可能である等の点から、メチルハイドロジェンポリシロキサン、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルジメチコン、トリエトキシシリルエチルポリジメチルシロキシエチルヘキシルジメチコン、トリエトキシカプリリルシラン、（ハイドロゲンジメチコン／オクチルシルセスキオキサン）コポリマーなどを用いたシリコーン処理が好適である。具体的には、ＫＦ−９９Ｐ、ＫＦ−９９０１、ＫＦ−９９０８、ＫＦ−９９０９、ＡＥＳ−３０８３等（いずれも信越化学工業（株）製）を用いることができる。
【００７２】
疎水化処理された無機粉体の具体例としては、疎水化処理微粒子酸化チタン又は疎水化処理微粒子酸化亜鉛を含有するＳＰＤ−Ｔ５、Ｔ６、Ｔ５Ｌ、Ｚ５、Ｚ６、Ｚ５Ｌ等（いずれも信越化学工業（株）製）を用いることができる。
【００７３】
表面被覆層における紫外線散乱剤の含有量としては特に制限はないが、０．１〜２０質量％、好ましくは１〜１０質量％の範囲内が好ましい。
【００７４】
《銀反射層》
銀反射層は、入射した太陽光を高い反射率で反射する。銀反射層の形成方法としては、湿式法、及び、乾式法のいずれの方法も適用することができる。
【００７５】
乾式法の具体的な方法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法等が挙げられる。本発明においては、連続的に成膜するロール・ｔｏ・ロール方式を適用することが可能な蒸着法を用いることができる。
【００７６】
湿式法は、溶液から金属を析出させて銀膜を形成する方法である。この湿式法の具体例としては、銀鏡反応を挙げることができる。
【００７７】
また、湿式法の一つとして、有機銀錯体化合物を含む溶液をフィルムに塗布し、焼成することにより銀反射層を形成する方法が挙げられる。有機銀錯体化合物を焼成することにより、有機銀錯体化合物を形成する配位子が分解、脱離、気化し、金属銀が析出する。
【００７８】
本発明に係る銀反射層の厚さは、反射率等の観点から１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【００７９】
銀反射層は、本発明の効果を損なわない程度に他に金属を含んでいてもよい。好ましくは、銀反射層の銀含有率は９０％以上である。より好ましくは９９．９％以上である。
ほかの金属の含有量は、０〜１０原子％が好ましい。他の金属としては、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン及びビスマスが好ましく、特に、銀と金との合金が好ましい。
【００８０】
〈めっきによる銀反射層の形成〉
本発明に係るミラーフィルムは、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層と、表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、銀を有し、前記銀反射層が反射面を構成することが好ましい。
【００８１】
＜還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層＞
本発明における還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層は、還元された金属粒子と、後述の銀下地ポリマーとを有することが好ましい。
【００８２】
本発明においては、金属前駆体と後述の銀下地ポリマーとを含む組成物を用いて、支持体上に塗布等の方法により金属前駆体を含む銀下地ポリマー層を形成し、又は、後述の銀下地ポリマーを含む組成物を用いて支持体上又は腐食防止層上に層を形成し、その後、金属前駆体を含む組成物を支持体上に設けた前記層に浸漬等の方法によって接触させることにより金属前駆体を含むポリマー層を形成し、然る後、金属前駆体を含む銀下地ポリマー層が有する該金属前駆体を還元して、本発明の（Ｂ）還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層を形成することが好ましい。
【００８３】
（銀下地ポリマー）
先ず、銀下地ポリマー層形成用組成物に用いる銀下地ポリマーについて説明する。本発明における銀下地ポリマー層形成用組成物に用いる銀下地ポリマーは、重合性基、及び、金属前駆体と相互作用する官能基（以後、適宜「相互作用性基」と称する。）を有する。相互作用性基は、以下に詳述するように、酸性基などのイオン性極性基と、シアノ基などの非解離性官能基を含む。
【００８４】
銀下地ポリマーは、分子内に重合性基と相互作用性基を有すればよく、重合性基は、ポリマーの主鎖末端及び側鎖の少なくともいずれかに有すれよい。例えば、重合性基を有する構成単位と、相互作用性基を有する構成単位とを含んで構成されるポリマーなどが挙げられ、同一の構成単位に重合性基と相互作用性基とを含んでいてもよい。また、２種以上の重合性基を含んでいてもよく、２種以上の相互作用性基を含んでいてもよい。また、重合性基はポリマーの作製後に高分子反応により導入されてもよい。
【００８５】
銀下地ポリマーは、目的に応じて、重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位を含んでいてもよい。重合性基を含む構成単位、及び相互作用性基を含む構成単位以外の構成単位（以下、適宜、「他の構成単位」と称する。）を含むことによって、銀下地ポリマー層形成用組成物としたときに、水又は有機溶剤への溶解性に優れ、均一な銀下地ポリマー層を形成することができる。
【００８６】
（銀下地ポリマーの主骨格）
銀下地ポリマーの主骨格としては、アクリルポリマー、ポリエーテル、ポリアクリルアミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリエステル等が好ましいが、アクリルポリマーであることがより好ましい。
【００８７】
アクリルポリマーとしては、相互作用性基として、イオン性極性基である酸性基を側鎖に含み、かつ、重合性基を側鎖に含む高分子化合物であることが好ましい。アクリルポリマーに導入される酸性基としては、カルボキシ基、リン酸基、スルホン酸基等が挙げられるが、原料入手の点からカルボキシ基が好ましい。
【００８８】
また、重合性基としては、（メタ）アクリレート基、（メタ）アクリルアミド基、カルボン酸のビニルエステル基、ビニルエーテル基、アリルエーテル基、アリルエステル基、スチリル基等の各種重合性基が好ましい。
【００８９】
（重合性基）
銀下地ポリマーが有する重合性基は、エネルギー付与により、ポリマー同士、又は、ポリマーと下地層（支持体又は支持体上に設けられた下地層や腐食防止層）との間で化学結合を形成しうる官能基であればよい。重合性基としては、例えば、ラジカル重合性基、カチオン重合性基などが挙げられる。カチオン重合性基としては、オキセタン環、オキシラン環（エポキシ環）、ビニルエーテル基を含む官能基が挙げられる。なかでも、反応性の観点から、ラジカル重合性基が好ましい。
【００９０】
銀下地ポリマーにおける重合性基の含有量は、特に制限はないが、０．１〜３．０ｍｅｑ／ｇが好ましく、０．３〜３．０ｍｅｑ／ｇがより好ましく、０．５〜２．５ｍｅｑ／ｇが特に好ましい。含有量をこの範囲とすることにより、さらに反応量が多くアルカリ液の処理液耐性に優れる。ここで、含有量（ｍｅｑ／ｇ）は、例えば、ヨウ素価滴定により測定することができる。重合性基としては、特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができる。
【００９１】
（相互作用性基）
銀下地ポリマーが有する相互作用性基は、金属前駆体と相互作用する官能基（例えば、配位性基、金属イオン吸着性基など）であり、金属前駆体と静電相互作用を形成可能な官能基、あるいは、金属前駆体と配位形成可能な、含窒素官能基、含硫黄官能基、含酸素官能基などを使用することができる。相互作用性基としては、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよく、
これらが同時に含まれていてもよい。
【００９２】
相互作用性基としてより具体的には、アミノ基、アミド基、イミド基、ウレア基、３級のアミノ基、アンモニウム基、アミジノ基、トリアジン基、トリアゾール基、ベンゾトリアゾール基、イミダゾール基、ベンズイミダゾール基、キノリン基、ピリジン基、ピリミジン基、ピラジン基、ナゾリン基、キノキサリン基、プリン基、トリアジン基、ピペリジン基、ピペラジン基、ピロリジン基、ピラゾール基、アニリン基、アルキルアミン構造を含む基、イソシアヌル構造を含む基、ニトロ基、ニトロソ基、アゾ基、ジアゾ基、アジド基、シアノ基、シアネート基（Ｒ−Ｏ−ＣＮ）などの含窒素官能基；エーテル基、ヒドロキシ基、フェノール性ヒドロキシ基、カルボキシ基、カーボネート基、カルボニル基、エステル基、Ｎ−オキシド構造を含む基、Ｓ−オキシド構造を含む基、Ｎ−ヒドロキシ構造を含む基などの含酸素官能基；チオフェン基、チオール基、チオウレア基、チオシアヌール酸基、ベンズチアゾール基、メルカプトトリアジン基、チオエーテル基、チオキシ基、スルホキシド基、スルホ基、サルファイト基、スルホキシイミン構造を含む基、スルホキシニウム塩構造を含む基、スルホン酸エステル構造を含む基などの含硫黄官能基；ホスフォート基、ホスフォロアミド基、ホスフィン基、リン酸エステル構造を含む基などの含リン官能基；塩素、臭素などのハロゲン原子を含む基などが挙げられ、塩構造をとりうる官能基においてはそれらの塩も使用することができる。
【００９３】
（銀下地ポリマーのユニット構成）
本発明における銀下地ポリマーとしては、既述のように重合性基と、めっき触媒又はその前駆体と相互作用を形成する相互作用性基とを有するが、相互作用性基は、非解離性官能基であっても、イオン性極性基であってもよく、これらの少なくともいずれかを有するポリマーである。
【００９４】
本発明において、銀下地ポリマーは、１種単独で用いてもよいし、２種以上を混合して用いてもよい。また、銀下地ポリマーとは構造が異なる他の高分子化合物を混合して用いてもよい。この場合、他の高分子化合物の銀下地ポリマーにおける含有量は、５０質量％以下が好ましく、３０質量％以下がより好ましい。
【００９５】
本発明における銀下地ポリマーの重量平均分子量は、１０００以上７０万以下が好ましく、より好ましくは２０００以上２０万以下であり、さらに好ましくは５０００以上１０万以下である。重量平均分子量をこの範囲とすることにより、さらに高い密着強度が得られ、且つ、アルカリ水等の処理液耐性が得られ、経時保存性もより良好である。
【００９６】
なお、ここで記載の重量平均分子量とは、ＧＰＣ（使用溶媒：Ｎ−メチルピロリドン）を用いてポリスチレン換算により測定される値であり、例えば、次の条件で測定することができる。
・カラム
ガードカラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｕａｒｄｃｏｌｕｍ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷ−Ｈ
分離カラム：ＴＯＳＯＨ  ＴＳＫｇｅｌ  Ｓｕｐｅｒ  ＡＷＭ−Ｈ（サイズ６．０ｍｍ×１５ｃｍを３本連結）
・溶離液：Ｎ−メチルピロリドン（ＬｉＢｒ１０ｍＭ含有）
・流速：０．３５ｍＬ／ｍｉｎ
・検出方法：ＲＩ
・温度：カラム４０℃、インレット４０℃、ＲＩ４０℃
・サンプル濃度：０．１質量％
・注入量：６０μＬ
また、本発明における銀下地ポリマーの重合度としては、１０量体以上のものを使用することが好ましく、更に好ましくは２０量体以上のものである。また、１５００量体以下が好ましく、１０００量体以下がより好ましい。
【００９７】
銀下地ポリマーの具体例としては、ラジカル重合性基と非解離性官能基からなる相互作用性基を有するポリマーとして、特開２００９−００７５４０号公報の段落［０１０６］〜［０１１２］に記載のポリマーが使用できる。また、ラジカル重合性基とイオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２００６−１３５２７１号公報の段落［００６５］〜［００７０］に記載のポリマーなどが使用できる。ラジカル重合性基と、非解離性官能基からなる相互作用性基と、イオン性極性基からなる相互作用性基とを有するポリマーとしては、特開２０１０−２４８４６４号公報の段落［００１０］〜［０１２８］、特開２０１０−８４１９６号公報、米国特許出願公開２０１０−０８０９６４号明細書の段落［００３０］〜［０１０８］に記載のポリマーなどが使用できる。
【００９８】
銀下地ポリマー層を形成するためには、支持体、又は、下地層を有する支持体上に銀下地ポリマー層形成用組成物を接触させ、エネルギーを付与すればよい。支持体上への銀下地ポリマー層形成用組成物の接触は、支持体上に銀下地ポリマー層形成用組成物を含有する塗布液を塗布することにより行うことが好ましい。
【００９９】
（銀下地ポリマー層形成用組成物）
銀下地ポリマー層形成用組成物は銀下地ポリマーを含有する。銀下地ポリマー層形成用組成物中の銀下地ポリマーの含有量は特に制限されないが、組成物の全量に対して、２〜５０質量％が好ましく、５〜３０質量％の範囲内がより好ましい。上記範囲内であれば、組成物の取扱い性に優れ、ポリマー層の層厚の制御がしやすい。
【０１００】
また、銀下地ポリマーの含有量を、この範囲とすることにより、塗布膜の面状がより良好となり、塗布液が高粘化することもなく、所望の塗布膜厚を得ることがさらに容易である。
【０１０１】
なお、後述する金属前駆体は、銀下地ポリマー層形成後に付与してもよく、また、銀下地ポリマー層用組成物に当初から含有させてもよい。銀下地ポリマー層形成用組成物に金属前駆体を含有させる場合の金属前駆体の含有量としては、前記組成物の全量に対して、０．５〜９０質量％が好ましく、１〜５０質量％であることがより好ましい。この範囲であると、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層を電極として用いたときに導電性が良好でエネルギーの損失が小さい。
【０１０２】
〔溶剤〕
本発明に係る銀下地ポリマー層形成用組成物は、前述の銀下地ポリマーの他に、この銀下地ポリマーを溶解しうる溶剤を含有することが好ましい。
【０１０３】
銀下地ポリマー層形成用組成物に使用できる溶剤は特に限定されず、通常の塗布等で使用される溶剤などが挙げられる。
【０１０４】
〔活性種を発生しうる材料〕
本発明に係る銀下地ポリマー層形成用組成物は、エネルギー付与に対する感度を高めるために、活性種を発生しうる材料を含有することが好ましい。活性種を発生しうる材料としては、各種のラジカル開始剤が好適である。
【０１０５】
ラジカル開始剤としては、熱重合開始剤、光重合開始剤などが用いられ、熱重合開始剤としては、ベンゾイルパーオキサイド、アゾイソブチロニトリルなどのような過酸化物開始剤、及びアゾ系開始剤などを使用することができる。
【０１０６】
また、光重合開始剤としては低分子化合物でもよく、高分子化合物でもよく、一般に公知のものが使用される。
【０１０７】
〔増感剤〕
本発明に係る銀下地ポリマー層形成用組成物には、エネルギー付与が露光で行われる場合、その露光に対する感度をより高める目的で、ラジカル発生剤に加え、増感剤を含有させることもできる。
【０１０８】
増感剤は、活性エネルギー線により励起状態となり、ラジカル発生剤と相互作用（例えば、エネルギー移動、電子移動等）することにより、ラジカルの発生を促進することが可能である。
【０１０９】
〔その他の添加剤〕
本発明に係る銀下地ポリマー層形成用組成物には、界面活性剤、重合禁止剤、硬化剤・硬化促進剤、ゴム成分（例えば、ＣＴＢＮ）、難燃化剤（例えば、りん系難燃化剤）、希釈剤やチキソトロピー化剤、顔料、消泡剤、レベリング剤、カップリング剤、水溶性物質（例えば、酸化カルシウム、酸化マグネシウム等のミネラル成分）、溶解性低分子物質（例えば、εカプロラクタム、ポリエチレングリコール等のポリアルキルグリコール）などを添加してもよい。
【０１１０】
（還元された金属粒子）
本発明に係る銀下地ポリマー層は、還元された金属粒子を含むことが好ましい。銀下地ポリマー層に含まれる還元された金属粒子は、支持体上に形成された、前述の銀下地ポリマー層に、金属前駆体を付与し、該金属前駆体を還元することによって金属前駆体を、還元された金属粒子とすることによって得られる。金属前駆体を銀下地ポリマー層に付与すると、相互作用性基に金属前駆体が相互作用により付着する。
【０１１１】
以下に銀下地ポリマー層に含まれる金属前駆体について説明する。
【０１１２】
（金属前駆体）
本発明において用いられる金属前駆体とは、還元反応により金属に変化させることで電極として機能するものであれば、特に制限なく使用することができる。また、金属前駆体としては、銀反射層の形成工程において、めっきの電極として機能するものが好ましく挙げられる。そのため、金属前駆体は、金属に還元させることで電極として機能するものが好ましい。
【０１１３】
具体的には、Ａｕ、Ｐｔ、Ｐｄ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ａｌ、Ｆｅ、Ｃｏなどの金属イオンが用いられる。金属前駆体である金属イオンは、銀下地ポリマーを含む組成物（銀下地ポリマー層形成用組成物）に含まれており、支持体上に層を形成した後、還元反応によって０価の金属粒子となる。
【０１１４】
金属前駆体である金属イオンは、金属塩として銀下地ポリマー層形成用組成物に含まれることが好ましい。
【０１１５】
使用される金属塩としては、適切な溶剤に溶解して金属イオンと塩基（陰イオン）とに解離されるものであれば特に制限はなく、Ｍ（ＮＯ３）ｎ、ＭＣｌｎ、Ｍ２／ｎ（ＳＯ４）、Ｍ３／ｎ（ＰＯ４）（Ｍは、ｎ価の金属原子を表す）などが挙げられる。金属イオンとしては、上記の金属塩が解離したものを好適に用いることができる。例えば、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ａｌイオン、Ｎｉイオン、Ｃｏイオン、Ｆｅイオン、Ｐｄイオンが挙げられ、中でも、多座配位可能なものが好ましく、特に、配位可能な官能基の種類、数、及び触媒能の点で、Ａｇイオン、Ｃｕイオン、Ｐｄイオンが好ましい。
【０１１６】
本発明で用いられる金属前駆体の好ましい例の一つとして、銀イオンが挙げられる。銀イオンを用いる場合、以下に示すような銀化合物が解離したものを好適に用いることができる。銀化合物の具体例としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硝酸銀が好ましい。
【０１１７】
また、金属前駆体としては、銅イオンが好ましい別の例として挙げられる。銅イオンを用いる場合、以下に示すような銅化合物が解離したものを好適に用いることができる。銅化合物の具体例としては、硝酸銅、酢酸銅、硫酸銅、シアン化銅、チオシアン酸銅、塩化銅、臭化銅、クロム酸銅、クロラニル酸銅、サリチル酸銅、ジエチルジチオカルバミン酸銅、ジエチルジチオカルバミド酸銅、ｐ−トルエンスルホン酸銅が挙げられる。この中でも、水溶性の観点から硫酸銅が好ましい。
【０１１８】
上記に示した金属前駆体は、分散液又は溶液（金属前駆体液）として、銀下地ポリマー層に付与されることが好ましい。付与の方法としては、銀下地ポリマーを含む組成物を用いて支持体上に層を形成し、その後金属前駆体を含む組成物（分散液又は金属前駆体液）を前記層に浸漬等の方法により接触させることによって、金属前駆体を含む銀下地ポリマー層を形成する方法が挙げられる。
【０１１９】
金属前駆体の分散液に用いる溶媒、及び金属前駆体の溶液に用いる溶媒としては、水や有機溶媒が用いられる。水や有機溶剤を含有することで、ポリマー層に対する金属前駆体の浸透性が向上し、相互作用性基に効率よく金属前駆体を吸着させることができる。
【０１２０】
金属前駆体を銀下地ポリマー層へ付与するために、金属前駆体の分散液を用いる場合の金属前駆体の粒子径としては、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましく、１ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることが更に好ましい。この粒子径とすることで、還元された金属粒子の粒子径を所望の大きさに制御することができる。
【０１２１】
なお、ここで粒子径とは、平均１次粒子径（体積換算）のことであり、測定の方法については、紫外線散乱剤の項で述べる方法と同じである。
【０１２２】
銀下地ポリマー層に含まれる還元された金属粒子の粒子径としては、１ｎｍ以上２００ｎｍ以下が好ましく、１ｎｍ以上１００ｎｍ以下がより好ましく、１ｎｍ以上６０ｎｍ以下であることが更に好ましい。この範囲内にあることで、めっき後の反射率が良好となる。
【０１２３】
なお、ここで粒子径とは、平均１次粒子径（体積換算）のことであり、ＳＥＭ（日立ハイテクマニファクチャ＆サービス社製  Ｓ−５２００）画像から読み取ったものである。
【０１２４】
また、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層の表面抵抗値としては、０．００１Ω／□以上１００Ω／□以下であることが好ましく、０．０３Ω／□以上５０Ω／□以下であることがより好ましい。この範囲内であると、均一及び平滑にめっき面が形成され反射率が良好となる。
【０１２５】
表面抵抗の測定方法としては、表面抵抗計（三菱化学製、ロレスターＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６００）にて測定した。
【０１２６】
＜表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であり、銀を含有する反射層＞
本発明における銀反射層は、最表面、即ち、前述した表面被覆層を設ける側の表面粗さＲａが２０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１２７】
本発明における銀反射層は、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層の上に、電気めっき法等により、銀反射層を形成することで得られる。
【０１２８】
反射率と耐久性の観点から、銀合金としては、銀と、金、パラジウム、スズ、ガリウム、インジウム、銅、チタン及びビスマスからなる群の金属から選ばれる１種以上の金属とからなる合金が好ましく、特に、銀と金との合金が好ましい。銀の含有量としては、反射率と耐久性の観点から、銀反射層における銀と他の金属との合計（１００原子％）中、９０〜１００原子％が好ましい。また、他の金属の含有量は、０〜１０原子％が好ましい。
【０１２９】
本発明における銀反射層の表面粗さ（Ｒａ）としては、２０ｎｍ以下であることが好ましく、１０ｎｍ以下であることがより好ましく、５ｎｍ以下であることが更に好ましい。この範囲内とすることで、得られたミラーフィルムの反射率が向上し、太陽熱・光を効率よく集熱・集光し、太陽熱発電装置に用いたときのエネルギー効率が高くなる。
【０１３０】
以下、銀反射層を電気めっきによる方法で形成する場合について、説明する。電気めっきの方法としては、従来公知の方法を用いることができる。
【０１３１】
本発明においては、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層が、電極としての機能を有する場合、銀下地ポリマー層に対して電気めっきを行うことにより、銀反射層を形成できる。なお、銀下地ポリマー層と銀反射層との間に、例えば、銅、ニッケル、クロム、鉄などの他の金属を含有する金属層を下地金属層として有していてもよい。
【０１３２】
また、電気めっきにより得られる銀反射層の膜厚は、めっき浴中に含まれる金属濃度、又は、電流密度などを調整することで制御することができる。適切な厚みの下地金属層を入れることで、表面平滑化による反射率向上やピンホール低減が可能となる。
【０１３３】
銀反射層の膜厚は、ピンホールなく反射膜を形成する観点、及び銀反射層の表面に光を散乱させるような凹凸を作らないという観点から、０．０５μｍ以上２．０μｍ以下であることが好ましく、０．０８〜０．５μｍがより好ましい。
【０１３４】
更に、電気めっきの後、銀反射層の反射性能をより向上させたり、銀反射層の耐久性を向上させるために、銀反射層を強酸や強アルカリ等で処理してもよい。また、表面に無機皮膜や金属酸化皮膜を形成してもよい。また、変色防止剤で処理をして変色防止剤層を設けてもよい。
【０１３５】
変色防止剤層は、銀反射層の変色防止として機能する。変色防止剤としては、チオエーテル系、チオール系、Ｎｉ系有機化合物系、ベンゾトリアゾール系、イミダゾール系、オキサゾール系、テトラザインデン系、ピリミジン系、チアジアゾール系が挙げられる。
【０１３６】
＜めっき方法＞
めっき方法は、銀反射層を形成する面上に、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層を形成する工程（「工程１」と称する。）、電気めっきにより銀反射層を形成する工程（「工程２」と称する。）含む。
【０１３７】
〔銀反射層を形成する面上に、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層を形成する工程〕
銀反射層を形成する面上に、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層を形成する工程は、金属前駆体を含むポリマー層を形成する工程（「工程１−１」と称する。）と、前記金属前駆体を還元する工程（「工程１−２」と称する。）とからなることが好ましい。
【０１３８】
また、「工程１−１」は、銀下地ポリマーを含むポリマー層形成用組成物を塗布等の方法により、銀反射層を形成する面上に、層を設け、エネルギーを付与してポリマー層を形成する工程（「工程１−１−１」と、該ポリマー層に金属前駆体を付与する工程（「工程１−１−２」）とを含むことが好ましい。
【０１３９】
なお、「銀下地ポリマーを含むポリマー層形成用組成物」は、金属前駆体を含有しないで、銀下地ポリマーと、溶剤等のその他の成分を含む組成物であることを意味する。また、「ポリマー層」は、金属前駆体を含まず、銀下地ポリマーとその他の成分を含んで支持体上に形成された層を意味する。
【０１４０】
（工程１−１−１）
工程１−１−１では、ポリマー層を有する基板に対して、エネルギーを付与することにより、銀下地ポリマー中に含まれる重合性基、及び支持体表面の官能基が活性化され、ポリマー間の架橋や、銀反射層を形成する面とポリマー層との間で化学的な結合などが形成される。その結果として、ポリマー層と支持体銀反射層を形成する面とが強固に密着する。
【０１４１】
支持体など銀反射層を形成する面上に、にポリマー層を設ける方法は特に限定されず、公知の方法をそのまま適用することができる。
【０１４２】
銀下地ポリマーを含むポリマー層形成用組成物の支持体への塗設量は、金属前駆体との充分な相互作用形成性の観点から、固形分換算で０．０５〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、特に０．３〜５ｇ／ｍ２が好ましい。
【０１４３】
なお、工程１−１−１において、ポリマー層を形成するに際しては、塗布後の溶媒が残存した状態で露光しても、乾燥させて残存溶媒を除去してから露光してもよいが、ポリマー層の表面平滑性の観点から乾燥させてから露光するほうが好ましい。乾燥条件としては、ポリマー層を２０〜６０℃で０〜２時間乾燥した後に６０℃以上で０〜２時間乾燥することが好ましく、２０〜６０℃で１秒〜２０分乾燥した後に６０℃以上で０〜２時間乾燥することがより好ましい。
【０１４４】
工程１−１−１におけるエネルギー付与方法としては、例えば、加熱や露光を用いることができる。
【０１４５】
露光を行う場合の光源としては、「エネルギーの付与」において使用する光源として先に記載した光源をそのまま適用することができる。また、エネルギー付与方法についても、先に記載したエネルギーの付与方法をそのまま適用することができる。
【０１４６】
加熱を行う場合、例えば、一般の熱ヒートローラー、ラミネーター、ホットスタンプ、電熱板、サーマルヘッド、レーザー、送風乾燥機、オーブン、ホットプレート、赤外線乾燥機、加熱ドラム等を用いることができる。エネルギー付与に要する時間としては、光源により異なるが、通常、０．５秒〜５時間の間である。また、これらのエネルギー付与方法を組み合わせてもよい。例えば、露光と加熱を組み合わせてもよい。
【０１４７】
なお、エネルギーの付与を露光にて行う場合、その露光パワーは、重合を容易に進行させるため、またポリマーの分解を抑制するため、更には後述の未反応ポリマー除去後の表面をより平滑にするため、１０〜８０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることが好ましく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲であることがより好ましい。
【０１４８】
また、加熱にてエネルギー付与を行う場合、その温度は、重合を容易に進行させるため、また支持体の熱変性を抑制するため、２０〜２００℃の範囲であることが好ましく、４０〜１２０℃の範囲であることがより好ましい。
【０１４９】
また、窒素、ヘリウム、二酸化炭素等の不活性ガスによる置換を行い、酸素濃度を６００ｐｐｍ以下、好ましくは４００ｐｐｍ以下に抑制した雰囲気中で露光してもよい。さらに、必要に応じて、パターン状にエネルギー付与を行ってもよい。さらに、エネルギー付与後に、適宜、エネルギー付与後のポリマー層から未反応の銀下地ポリマーを除去してもよい。除去方法としては、溶媒を使用する方法が挙げられ、例えば、「未反応の銀下地ポリマーを除去」に関して先に記載した方法をそのまま適用することができる。
【０１５０】
得られるポリマー層の厚さは特に制限されないが、銀反射層の銀反射層を形成する面の密着性の観点から、０．０５〜１０μｍが好ましく、０．３〜５μｍがより好ましい。また、乾燥質量で０．０５〜１０ｇ／ｍ２が好ましく、特に０．３〜５ｇ／ｍ２が好ましい。さらに、ポリマー層の表面粗さ（Ｒａ）は、反射性能の点から、２０ｎｍ以下が好ましく、１０ｎｍ以下がより好ましい。
【０１５１】
なお、ポリマー層中におけるポリマーの含有量は、ポリマー層全量に対して、２〜１００質量％であることが好ましく、更に好ましくは１０〜１００質量％の範囲である。
【０１５２】
（工程１−１−２）
金属前駆体を、工程１−１−１で得られたポリマー層に付与する方法は、特に制限されない。
【０１５３】
例えば、金属前駆体を適当な分散媒に分散した分散液、又は、金属塩を適切な溶媒で溶解し、解離した金属イオンを含む溶液を調製し、その分散液若しくは溶液（金属前駆体液）をポリマー層上に塗布する方法、又は、その分散液若しくは溶液中にポリマー層が形成された基板を浸漬する方法などが挙げられる。
【０１５４】
ポリマー層と金属前駆体含有液（分散液、溶液）との接触時間としては、３０秒〜２４時間程度であることが好ましく、１分〜１時間程度であることがより好ましい。
【０１５５】
接触時の金属前駆体含有液の温度は、５〜８０℃程度であることが好ましく、１５〜６０℃程度であることがより好ましい。
【０１５６】
上記のように金属前駆体含有液を接触させることで、銀下地ポリマー中の相互作用性基に、ファンデルワールス力のような分子間力による相互作用、又は、孤立電子対による配位結合による相互作用を利用して、金属前駆体を吸着させることができる。このような吸着を充分に行わせるという観点からは、金属前駆体含有液中の金属前駆体濃度又は金属イオン濃度は、０．００１〜５０質量％の範囲であることが好ましく、０．００５〜３０質量％の範囲であることがより好ましい。
【０１５７】
（工程１−２：金属前駆体を還元する工程）
ポリマー層に付与した金属前駆体である金属イオンを金属活性化液（還元液）により還元する。金属活性化液は、金属前駆体（主に金属イオン）を０価金属に還元できる還元剤と該還元剤を活性化するためのｐＨ調整剤からなる。金属活性化液全体に対する還元剤の濃度が０．０５〜５０質量％であることが好ましく、０．１〜３０質量％であることがより好ましい。
【０１５８】
還元剤としては、水素化ホウ素ナトリウム、ジメチルアミンボランのようなホウ素系還元剤、ホルムアルデヒド、次亜リン酸などの還元剤を使用することが可能である。特に、ホルムアルデヒドを含有するアルカリ水溶液で還元することが好ましい。
【０１５９】
金属活性化液全体に対するｐＨ調整剤の濃度としては、０．０５〜１０質量％の範囲であることが好ましく、０．１〜５質量％の範囲であることがより好ましい。
【０１６０】
ｐＨ調整剤としては、酢酸、塩酸、硫酸、硝酸、炭酸水素ナトリウム、アンモニア水、水酸化ナトリウム、水酸化カリウムなどを使用することが可能である。また、還元時の温度としては１０〜１００℃が好ましく、２０〜７０℃が更に好ましい。
【０１６１】
これら濃度や温度範囲は、還元の際の、金属前駆体の粒子径、ポリマー層の表面粗さ、導電性（表面抵抗値）、還元液の劣化の観点からこの範囲であることが好ましい。
【０１６２】
次の工程である銀反射層の形成工程において、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層の表面抵抗値、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層の表面のＲａ及び還元された金属粒子の粒子径としては、それぞれ先に記載した数値がそのまま適用される。
【０１６３】
（工程２：電気めっきにより銀反射層を形成する工程）
銀反射層は、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層の上に、電気めっき法などで形成される。電気めっきの方法としては、従来公知の方法を用いることができる。
【０１６４】
本発明においては、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層が、電極としての機能を有する場合、還元された金属粒子を含む銀下地ポリマー層に対して電気めっきを行うことにより、銀反射層を形成できる。
【０１６５】
めっきに用いる銀化合物としては、硝酸銀、酢酸銀、硫酸銀、炭酸銀、メタンスルホン酸銀、アンモニア銀、シアン化銀、チオシアン酸銀、塩化銀、臭化銀、クロム酸銀、クロラニル酸銀、サリチル酸銀、ジエチルジチオカルバミン酸銀、ジエチルジチオカルバミド酸銀、ｐ−トルエンスルホン酸銀が挙げられる。中でも環境影響や平滑性の観点から、メタンスルホン酸銀が好ましい。
【０１６６】
《腐食防止層》
腐食防止層は銀反射層に隣接して設けられることが好ましい。腐食防止層は銀に対する腐食防止剤を含有する層である。該腐食防止剤としては、大別して、銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤と酸化防止能を有する腐食防止剤（酸化防止剤ともいう）が好ましく用いられる。
【０１６７】
腐食防止層は銀反射層の両方の面に隣接して設けられることが好ましく、１層のみ設けるときは、銀反射層の表面被覆層から遠い側に設けられることが好ましい。
【０１６８】
ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的又は電気化学的に浸食されるか又は材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照。）。
【０１６９】
太陽光集光フィルムミラーは、腐食防止層が銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤又は酸化防止剤を含有している態様であることが好ましい。
【０１７０】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には、０．１〜１．０／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１７１】
腐食防止層の厚さは３０ｎｍ〜１μｍの範囲内が好ましい。銀反射層の両面に設ける場合、二つの腐食防止層の厚さは同じでも異なっていてもよい。
【０１７２】
＜銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤＞
銀に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、アミン類及びその誘導体、ピロール環を有する化合物、トリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、ナフタレン系の少なくとも１種又はこれらの混合物から選ばれることが望ましい。
【０１７３】
《樹脂基材》
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。特にポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましい。また樹脂フィルムは、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１７４】
樹脂基材の厚さは、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍの範囲内である。好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１７５】
《粘着層》
粘着層は、太陽光集光フィルムミラーを支持体に貼り付けることを可能にする粘着性を有している。粘着層は、その粘着性によって太陽光集光フィルムミラーを支持体に接合して、太陽熱発電用反射装置等を形成するための構成層である。
【０１７６】
粘着層としては、特に制限されず、例えば、ドライラミネート剤、ウエットラミネート剤、粘着剤、ヒートシール剤、ホットメルト剤等のいずれもが用いられる。粘着剤としては、例えば、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリ酢酸ビニル系樹脂、アクリル系樹脂、ニトリルゴム等が用いられる。粘着層９を形成するラミネート法は、特に制限されず、例えば、ロール式で連続的に行う手法が経済性及び生産性の点から好ましい。また、粘着層の厚さは、粘着効果、乾燥速度等の観点から、通常１〜１００μｍ程度の範囲であることが好ましい。
【０１７７】
なお、太陽光集光フィルムミラーは、粘着層における樹脂基材とは反対側の面を覆う剥離シートを備えていてもよい。フィルムミラーが剥離シートを有する場合、剥離シートを粘着層から剥離した後に、粘着層を介してフィルムミラーを支持体に貼り付けることができる。
【０１７８】
（剥離シート）
剥離シートは、太陽光集光フィルムミラーにおける粘着層の光入射側とは反対側の面を覆う部材である。
【０１７９】
例えば、フィルムミラーの出荷時には剥離シートが粘着層に張り付いた状態であり、その後、剥離シートをフィルムミラーの粘着層から剥離し、そのフィルムミラーを支持基材に貼り合わせて太陽熱発電用反射装置を形成することができる。
【０１８０】
剥離シートとしては、粘着層９の粘着性を保護することができるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂にコーティングを施したりアルミニウム等の金属を金属蒸着したりするなどの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。
【０１８１】
剥離シートの厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１８２】
〈その他の層〉
太陽光集光フィルムミラーは必要に応じてガスバリアー層、中間層等を設けることができる。
【０１８３】
《太陽光集光フィルムミラーの製造方法》
上述した各構成層を適宜積層することによって、太陽光集光フィルムミラーを製造することができる。ここでは、図１に示すフィルムミラーを例に説明する。
【０１８４】
例えば、溶融製膜などで作製された樹脂基材１であるポリエチレンテレフタレートフィルム上に、腐食防止剤を含有した樹脂材料を塗布することによって腐食防止層２を形成する。
【０１８５】
次いで、腐食防止層２上に、塗布法で形成した銀下地層ポリマー層を介して前述した「電気めっきにより銀反射層を形成する工程」によって金属反射層３を形成する。次いで、銀反射層上に、腐食防止剤を含有した樹脂材料を塗布することによって腐食防止層を形成する。
【０１８６】
次いで、腐食防止層上に、可視光硬化性化合物と紫外線遮蔽剤を含有した表面被覆層を形成する。
【０１８７】
次いで、形成した表面被覆層に「表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程」を経て硬化させる。
【０１８８】
必要に応じ、樹脂基材の表面被覆層とは反対の面に粘着層を塗布して形成することができる。
【０１８９】
塗布の方法は特に制限されず、具体的な方法としては、ダブルロールコータ、スリット
コータ、エアナイフコータ、ワイヤーバーコータ、スライドホッパー、スプレーコーチィ
ング、ブレードコータ、ドクターコータ、スクイズコータ、リバースロールコータ、トラ
ンスファーロールコータ、エクストロージョンコータ、カーテンコータ、ダイコータ、グ
ラビアロールによる塗工法、押し出し塗布法、ロール塗布法、インクジェット法等の公知の方法を用いることができる。
【０１９０】
〈表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程〉
形成した表面被覆層を可視光硬化性化合物を用いて形成する工程である。硬化する照射量は用いる材料によって適宜変えることができるが、例えば、３００〜３０００ｍＪ／ｃｍ２の範囲内である。光源は前述した公知の可視光の光源を用いることができる。
【実施例】
【０１９１】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」又は「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」又は「質量％」を表す。
【０１９２】
〔実施例１〕
《太陽光集光フィルムミラー１の作製》
樹脂基材１として、二軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ２５μｍ（Ａ４１００  東洋紡社製））を用いた。前記ポリエステルフィルムの片面に、ポリエステル系樹脂（ポリエスター  ＳＰ−１８１、日本合成化学社製）とＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）系イソシアネート（２，４−トリレンジイソシアネート）を樹脂固形分比率で１０：２に混合し、溶媒としてメチルエチルケトンを加え、更に腐食防止剤としてＴｉｎｕｖｉｎ２３４（ＢＡＳＦジャパン社製）を樹脂に対して５質量％となるよう混合し、グラビアコート法によりコーティングして、厚さ１００ｎｍの腐食防止層２を得た。
【０１９３】
腐食防止剤層２の上に銀下地ポリマー層形成と電解めっき還元金属粒子の付与を経て、銀反射層の形成を下記方法で行った。電気めっきにより銀反射層３を１５０ｎｍになるように成膜した。次に銀反射層３上に、前記腐食防止剤層２と同組成の層を１００ｎｍの厚さで作製し、腐食防止剤層４を形成した。
（銀下地ポリマー層の形成）
アクリルポリマー１（下記構造、各繰り返し単位の数字は質量換算の組成比を表す。）：７質量％、１−メトキシ−２プロパノール：７４質量％、水：１９質量％の溶液に、光重合開始剤エサキュアＫＴＯ−４６（商品名、ランベルディー社製）：０．３５質量％を添加し、撹拌することにより、銀下地ポリマー（アクリルポリマー１）の溶液を調製した。
【０１９４】
【化１】
2016157043.tif 000003
【０１９５】
得られた銀下地ポリマーの溶液を、上記作製した腐食防止層上に、乾燥後の厚さが約０．５５μｍとなるように、バーコート法により塗布し、２５℃で１０分及び８０℃で５分間乾燥した後、三永電機製のＵＶ（紫外線）露光機（型番：ＵＶＦ−５０２Ｓ、ランプ：ＵＸＭ−５０１ＭＤ）を用いて、２５４ｎｍの波長において１０００ｍＪ／ｃｍ２の露光量でＵＶ露光した。
【０１９６】
得られた銀下地ポリマーが塗布されたＰＥＴフィルムは、１質量％の炭酸水素ナトリウム水溶液に５分間浸漬後に純水で１分間掛け流しにより洗浄を行い、未反応のポリマーを除去した。
【０１９７】
下記樹脂液（Ａ−１）を腐食防止層４の上に、乾燥後の厚さが５μｍになるようにグラビアコート法によりコーティングして、乾燥し、窒素雰囲気下（酸素濃度０．１体積％）で、トクソーパワーライト（株式会社トクヤマ製ハロゲンランプ（波長４００〜５２０ｎｍ））を光源として可視光を照射（７００ｍＪ／ｃｍ２）して表面被覆層５を形成し、太陽光集光フィルムミラー１を得た。
【０１９８】
樹脂液（Ａ−１）は以下の組成で配合した。
【０１９９】
樹脂（Ｉ）オキセタニル基含有のシルセスキオキサン化合物：ＭＡＣ−ＳＱ−  ＨＤＭ（東亞合成製）                                                      ９５質量％
ジフェニル−４−チオフェノキシスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート
１質量％
光開始剤ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７８４（ＢＡＳＦジャパン製）              １質量％
紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）                              ２質量％
ＳＴ８６ＰＡ（東レダウコーニングシリコーン製）                      １質量％
〈電解めっき還元金属粒子の付与〉
−金属前駆体の付与−
金属前駆体を含む溶液として、硝酸銀の１質量％水溶液を調製した。上記のように銀下地ポリマー層が形成されたＰＥＴフィルムを、２５℃に温調した１質量％の硝酸銀水溶液に５分間浸漬させた。その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、金属前駆体の付与を行った。
【０２００】
−金属前駆体の還元−
続いて、還元液として、０．１４質量％の水酸化ナトリウムを含有する０．２５質量％のホルムアルデヒド水溶液を調製した。金属前駆体が付与されたＰＥＴフィルムを、２５℃に温調した上記の還元液に１分間浸漬させた。その後、純水で１分間掛け流しにより洗浄し、金属前駆体を還元し、金属粒子を付着させた。
【０２０１】
還元後の表面抵抗値を、表面抵抗計を用いて測定したところ、約１０Ω／□であった。また、表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約７ｎｍであった。さらに、還元後の金属の粒子径を、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて測定したところ、約５０ｎｍであった。
【０２０２】
上記の樹脂中間層を形成する一連の工程は、空気中の浮遊塵埃を低減するため、清浄用フィルターにより清浄しているクラス１００００のクリーン環境下で行なった。
【０２０３】
［銀反射層の形成］
−前処理−
電気めっきの前処理として、上記にて得られた還元された金属の粒子を含む銀下地ポリマー層を表面に有するＰＥＴフィルムを、２５℃に温調したダインクリーナーＡＣ１００（大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に３０秒間浸漬させた。その後、数回洗浄した。続けて、同じく電気めっきの前処理として、ダインシルバーＡＣＣ（主成分：メタンスルホン酸、大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に１０秒間浸漬させ、数回洗浄した。
【０２０４】
−電気めっき−
次に、電気めっき液として、ダインシルバーブライトＰＬ５０（主成分：メタンスルホン酸銀、大和化成（株）製）を、８Ｍ水酸化カリウムによりｐＨ８．０に調整した。ｐＨ調整後の電気めっき液に対して、濾過処理を施し、混入している異物を除去した。続いて、この電気めっき液に、上記のようにして前処理を行ったＰＥＴフィルムを浸漬させ、０．５Ａ／ｃｍ２にて２０秒間めっきした。
【０２０５】
その後、電気めっきの後処理として、めっき後のＰＥＴフィルムを、ダインシルバーＡＣＣ（商品名：大和化成（株）製）の１０質量％水溶液に９０秒間浸漬させた後、数回洗浄した。
【０２０６】
以上のようにして、厚さ０．１μｍの銀反射層を形成した。この銀反射層の表面粗さ（Ｒａ）を、原子間力顕微鏡（ＡＦＭ）を用いて測定したところ、約４ｎｍであった。
【０２０７】
上記の銀反射層を形成する一連の工程は、空気中の浮遊塵埃を低減するため、清浄用フィルターにより清浄しているクラス１００００のクリーン環境下で行なった。
【０２０８】
《太陽光集光フィルムミラー２の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、銀腐食防止層４を省き、直接銀反射層上に表面被覆層を形成した他は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして、太陽光集光フィルムミラー２を作製した。
【０２０９】
《太陽光集光フィルムミラー３の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）２質量％を９質量％に増量した樹脂液（Ａ−２）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー３を得た。
【０２１０】
《太陽光集光フィルムミラー４の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）をＴｉｎｕｖｉｎ  ４００（ＢＡＳＦジャパン社製：表ではＴｉ４００と略記した。）３質量％に変更した樹脂液（Ａ−３）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー４を得た。
【０２１１】
《太陽光集光フィルムミラー５の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を無機紫外線吸収剤の酸化チタンＴｉＯ２  ２質量％変更した樹脂液（Ａ−４）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー５を得た。
【０２１２】
《太陽光集光フィルムミラー６の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を無機紫外線吸収剤の酸化亜鉛ＺｎＯ  ２質量％に変更した樹脂液（Ａ−５）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー６を得た。
【０２１３】
《太陽光集光フィルムミラー７の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を無機紫外線吸収剤の酸化セリウム（セリア）ＣｅＯ２  ２質量％に変更した樹脂液（Ａ−６）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー７を得た。
【０２１４】
《太陽光集光フィルムミラー８の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を無機紫外線散乱剤のシリカ粒子（平均粒子径  ８０ｎｍ）８質量％に変更した樹脂液（Ａ−７）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー８を得た。
【０２１５】
《太陽光集光フィルムミラー９の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を無機紫外線散乱剤のアルミナ粒子（平均粒子径  ５０ｎｍ）９質量％に変更した樹脂液（Ａ−８）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー９を得た。
【０２１６】
《太陽光集光フィルムミラー１０の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を無機紫外線散乱剤のアルミナ粒子（平均粒子径  ５０ｎｍ）２０質量％に変更した樹脂液（Ａ−９）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１０を得た。
【０２１７】
《太陽光集光フィルムミラー１１の作製》
太陽光集光フィルムミラー４の作製において、紫外線吸収剤Ｔｉｎｕｖｉｎ  ４００  ３質量％に加え無機紫外線吸収剤の酸化チタンＴｉＯ２  １質量％を加えた樹脂液（Ａ−１０）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー４の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１１を得た。
【０２１８】
《太陽光集光フィルムミラー１２の作製》
太陽光集光フィルムミラー５の作製において、無機紫外線吸収剤の酸化チタンＴｉＯ２を４質量％に増量しさらに無機紫外線散乱剤のシリカ粒子（平均粒子径  ８０ｎｍ）４質量％を加えた樹脂液（Ａ−１１）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー５の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１２を得た。
【０２１９】
《太陽光集光フィルムミラー１３の作製》
太陽光集光フィルムミラー４の作製において、紫外線吸収剤をＴｉｎｕｖｉｎ  ４００  ３質量％を１質量％に変更し無機紫外線吸収剤の酸化チタンＴｉＯ２を１質量％、及び無機紫外線散乱剤のシリカ粒子（平均粒子径  ８０ｎｍ）２質量％を加えた樹脂液（Ａ−１２）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー４の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１３を得た。
【０２２０】
《太陽光集光フィルムミラー１４の作製》
太陽光集光フィルムミラー１３の作製において、表面被覆層５の乾燥硬化後の厚さを１５μｍとした以外は太陽光集光フィルムミラー１３の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１４を得た。
【０２２１】
《太陽光集光フィルムミラー１５の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、樹脂液（Ａ−１）から紫外線吸収剤ＬＡ−２９（ＡＤＥＫＡ製）を抜いた（調液の際に入れなかった）樹脂液（Ａ−１３）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１５を得た。
【０２２２】
《太陽光集光フィルムミラー１６の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、樹脂液（Ａ−１）をポリエステル系樹脂からＮＰ７２０（動研社製、三官能ポリシロキサンハードコート）に変更し、ＴｉｎｕｖｉｎＰＳ（ＢＡＳＦジャパン社製：表ではＴｉＰＳと略記した。）をＮＰ７２０に対して２質量％混合した樹脂液（Ｂ−１）を用い、ワイヤーバーで塗布し、９０℃で、６０秒間乾燥して、厚さが３μｍのハードコート層を形成した変更した以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１６を得た。
【０２２３】
《太陽光集光フィルムミラー１７の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、樹脂液（Ａ−１）を樹脂液Ｈ−１に変更した以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１７を得た。
【０２２４】
〔比較例の樹脂液の調製〕
（１）樹脂液Ｈ−１液の調製
ポリグリシジルメタクリレート（ポリスチレン換算分子量は１２，０００）をメチルエチルケトンに５０質量％濃度になるように溶解した溶液１００質量％に、光重合開始剤２−イソプロピルチオキサントン（東京化成工業製）４質量％を撹拌しながら混合し樹脂液Ｈ−１を作製した。
（２）樹脂液Ｈ−２液の調製
紫外線遮蔽剤として有機紫外線吸収剤のＴｉｎｕｖｉｎ  ＰＳ（ＢＡＳＦジャパン製）を樹脂液（Ｈ−１）の液質量に対して２質量％混合し、樹脂液Ｈ−２を作製した。
【０２２５】
《太陽光集光フィルムミラー１８の作製》
太陽光集光フィルムミラー１の作製において、樹脂液（Ａ−１）をＨ−２に変更した以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー１８を得た。
【０２２６】
《太陽光集光フィルムミラー１９の作製》
太陽光集光フィルムミラー１８の作製において、樹脂液（Ｈ−２）中の重合開始剤をイルガキュア１８４（ＢＡＳＦジャパン社製）４質量％に変更した樹脂液（Ｈ−３）を用いた以外は太陽光集光フィルムミラー１と同様にして太陽光集光フィルムミラー１９を得た。
【０２２７】
《太陽光集光フィルムミラー２０の作製》
比較例４の太陽光集光フィルムミラー１８の作製において、樹脂液（Ｈ−２）の乾燥硬化後の厚さを、１５μｍに変更した以外は太陽光集光フィルムミラー１の作製と同様にして太陽光集光フィルムミラー２０を得た。
【０２２８】
《太陽光集光フィルムミラーの評価》
上記で得た各太陽光集光フィルムミラーについて、下記の方法により正反射率、耐候性、耐擦傷性の評価をそれぞれ行った。
【０２２９】
＜初期正反射率の測定＞
島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、２５０ｎｍから２５００ｎｍまでの平均反射率として測定した。
【０２３０】
＜強制劣化試験後の正反射率の測定＞
キセノンランプ照射下、温度８５℃、湿度８５％ＲＨの条件で３０日間放置後の太陽光集光フィルムミラーの正反射率を、初期正反射率の測定と同様の方法により測定した。強制劣化前後の太陽光集光フィルムミラーの正反射率の差が少ないほうが耐候性に優れている。
【０２３１】
耐傷擦傷性の評価として、スチールウール試験、脆性及び鉛筆硬度試験を行った。
【０２３２】
＜スチールウール試験＞
キセノン照射試験機（ＳＸ７５、スガ試験機社製）でＢＰＴ６３℃湿度６０％に設定し、６か月曝露した。その後表面被覆層を＃００００のスチールウールを用い、往復摩耗試験機（新東科学（株）製ＨＥＩＤＯＮ−１４ＤＲ）で１０００ｇ／ｃｍ２の荷重を掛けながら表面を速度１０ｍｍ／ｓｅｃで１０回往復させ擦った時の傷が目視で見えるようになる程度の評価を行い以下のランク付けを行った。
【０２３３】
５：往復１０回擦っても跡が見えない状態
４：往復１０回擦っても跡が僅かに見える状態
３：跡が残るが往復７回までは跡が見えない状態
２：跡が残るが往復５回までは跡が見えない状態
１：往復５回未満で跡が見える状態。
【０２３４】
＜脆性＞
表面被覆層塗設側を外側にして丸めたときに、ひび割れが発生する曲率直径を求めた。曲率半径４０ｍｍ以上５０ｍｍ未満でひび割れが発生したものを１、３０ｍｍ以上４０ｍｍ未満ひび割れが発生したものを２、２０ｍｍ以上３０ｍｍ未満でひび割れが発生したものを３、１０ｍｍ以上２０ｍｍ未満でひび割れが発生したものを４、１０ｍｍ未満でひび割れが発生したもの又はひび割れが発生しなかったものを５とした。
【０２３５】
＜鉛筆硬度試験＞
ＪＩＳ  Ｋ  ５６００の規格に従って実施した。鉛筆を４５度の角度として、５００ｇの荷重を掛けて、各フィルムミラーのサンプルの表面の引っ掻き試験を行った。５回のうち４回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行った。
【０２３６】
得られた結果を表１にまとめる。なお、表中、銀反射層に対し腐食防止層の位置は、表面被覆層と銀反射層の間にある場合を「上」、その反対側に位置する場合を「下」で表し、銀反射層の両側に位置する場合を「上／下」と表記した。また、有機ＵＶ、無機ＵＶ、無機散乱は、それぞれ、有機紫外線吸収剤、無機紫外線吸収剤及び無機の紫外線散乱剤を表す。また、ＬＡ−２９はＬＡ２９と略記した。
【０２３７】
【表１】
2016157043.tif 000004
【０２３８】
本発明の太陽光集光フィルムミラーは強制劣化試験後も９０％以上の良好な正反射率を示し、かつ表面被覆層の傷がつきにくいことがわかる。
【０２３９】
比較例の太陽光集光フィルムミラー１５は、紫外線吸収剤を含んでいないため表面被覆層が脆くなりスチールウール試験で傷が入った。
【０２４０】
比較例の太陽光集光フィルムミラー１６は、表面被覆層が熱硬化で、熱履歴によってめっき銀にピンホールが発生し反射率が低下した。
【０２４１】
比較例の太陽光集光フィルムミラー１７は、表面被覆層がＵＶ硬化で、紫外線吸収剤を含まないため表面被覆層が脆くなりスチールウールで傷と下層の樹脂基材が劣化して剥離が発生した。
【０２４２】
比較例の太陽光集光フィルムミラー１８は、表面被覆層がＵＶ硬化で、開始剤２−イソプロピルチオキサントン（３６０ｎｍ付近に吸収）（東京化成工業製）を含み、硬化不良のため硬度が維持できなかった。
【０２４３】
比較例の太陽光集光フィルムミラー１９は、表面被覆層がＵＶ硬化開始剤１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン（２６０ｎｍ付近に吸収）（ＢＡＳＦジャパン社製）を含み、硬化不良のため硬度が維持できなかった。
【０２４４】
比較例の太陽光集光フィルムミラー２０は、表面被覆層の厚さが１５μｍであり太陽光集光フィルムミラー１４と厚さは同じであるが、可視光で硬化する手段がなく硬化不良のため硬度が維持できなかった。
【符号の説明】
【０２４５】
１  表面被覆層
２、４  腐食防止層
３  銀反射層
５  樹脂基材
６  粘着層
７  支持体
【図１】
2016157043.tif 000005
【図２】
2016157043.tif 000006