(57)【要約】【課題】平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法を提供すること。【解決手段】本発明の剥離フィルム１は、ポリエステルフィルムからなる基材１１と、基材１１の一方の表面１１ａ上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層１２とを具備し、基材１１は、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、剥離剤層１２は、厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であり、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層１２の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルフィルムからなる基材と、
前記基材の一方の表面上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層とを具備し、
前記基材は、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、
前記剥離剤層は、厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であり、
原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とする、剥離フィルム。
【請求項２】
前記剥離剤層形成用組成物が、オルガノポリシロキサンを含有する、請求項１に記載の剥離フィルム。
【請求項３】
前記基材の厚さが、１０μｍ以上１５０μｍ以下である、請求項１又は請求項２に記載の剥離フィルム。
【請求項４】
算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であって、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるポリエステルフィルムからなる基材上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下の剥離剤層を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下の剥離フィルムを得る工程を含むことを特徴とする、剥離フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法に関し、詳しくは、ポリエステルフィルムを基材とする剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
剥離剤層を有する剥離フィルムは、粘着材料の粘着面を保護するように粘着剤層に積層されたり、樹脂膜やセラミックグリーンシートを製膜するためのキャリアとして使用されている（例えば、特許文献１参照）。この特許文献１に記載の剥離フィルムは、ポリエステルフィルムの一方の表面上に設けられる離型層がシリカ粒子などの不活性微粒子を含有する。この剥離フィルムは、離型層に含まれる不活性微粒子によって離型層の表面粗さが適度に粗くなるので、剥離フィルムをロール状に巻き取った際に生じる剥離フィルムの表裏が密着する貼り付き現象（以下、「ブロッキング」ともいう）を防ぐことが可能となる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００４−２５５７０４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１に記載の剥離フィルムにおいては、離型層に不活性微粒子を含有するので、表面粗さが高くなり耐ブロッキング性に優れる一方、粘着剤に対する剥離力としては、不活性微粒子の影響で剥離力が高くなり、目的に応じた剥離力の制御と耐ブロッキング性の両立が困難であった。このため、特許文献１に記載の剥離フィルムにおいては、離型層の形成に用いられる離型層形成用組成物の種類が制限されて、剥離フィルムとして十分な性能が得られない場合があった。
【０００５】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の剥離フィルムは、ポリエステルフィルムからなる基材と、前記基材の一方の表面上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層とを具備し、前記基材は、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、前記剥離剤層は、厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であり、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であることを特徴とする。
【０００７】
この剥離フィルムによれば、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であって、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるので、基材の表面及び剥離剤層の表面粗さが適度な範囲となり、基材上に設けられた剥離剤層の表面を平滑にすることができると共に、適度な耐ブロッキング性が得られる。そして、剥離剤層の厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であるので、剥離剤層の厚みムラによる剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層表面の外観（塗工面状態）を損なうことなく、耐ブロッキング性が向上する。さらに、剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であるので、適度な粘弾性体となり、剥離剤層に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルムを実現できる。
【０００８】
本発明の剥離フィルムにおいては、前記剥離剤層形成用組成物が、オルガノポリシロキサンを含有することが好ましい。この構成により、粘着剤に対して適度な剥離性が得られる。
【０００９】
本発明の剥離フィルムにおいては、前記基材の厚さが、１０μｍ以上１５０μｍ以下であることが好ましい。使用用途に依るが、この構成により、基材の加工性が向上すると共に、基材のコストを低減することが可能となる。
【００１０】
本発明の剥離フィルムの製造方法は、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であって、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるポリエステルフィルムからなる基材上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下の剥離剤層を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した前記剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下の剥離フィルムを得る工程を含むことを特徴とする。
【００１１】
この剥離フィルムの製造方法によれば、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であって、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるので、基材の表面及び剥離剤層の表面粗さが適度な範囲となり、基材上に設けられた剥離剤層の表面を平滑にすることができると共に、優れた耐ブロッキング性が得られる。そして、剥離剤層の厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であるので、剥離剤層の厚みムラによる剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層表面の外観を損なうことなく、耐ブロッキング性が向上する。さらに、剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であるので、適度な粘弾性体となり、剥離剤層に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルムを実現できる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム及び剥離フィルムの製造方法を実現できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態に係る剥離フィルムの模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の一実施の形態について、添付図面を参照して詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、適宜変更して実施可能である。
【００１５】
（剥離フィルム１）
図１は、本発明の一実施の形態に係る剥離フィルム１の模式断面図である。図１に示すように、本実施の形態に係る剥離フィルム１は、ポリエステルフィルムからなる基材１１と、この基材１１の一方の主面１１ａ上に剥離剤層形成用組成物を塗布して設けられた剥離剤層１２とを備える。この剥離フィルム１は、コア材にロール状に巻き取って保管することが可能である。
【００１６】
本実施の形態に係る剥離フィルム１は、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層１２の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下である。この剥離フィルム１においては、剥離剤層１２の凝着エネルギーが１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であるので、剥離剤層１２が適度な粘弾性体となり、剥離剤層１２に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、剥離フィルム１は、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れ、ロール状で使用される剥離フィルムとして好適に用いることが可能となる。上述した効果を得る観点から、剥離剤層１２の凝着エネルギーは、１５ｍＪ／ｍ２以上であり、１６ｍＪ／ｍ２以上が好ましく、１８ｍＪ／ｍ２以上がより好ましく、また３５ｍＪ／ｍ２以下であり、３０ｍＪ／ｍ２以下が好ましく、２５ｍＪ／ｍ２以下がより好ましい。以上を考慮すると、剥離剤層１２の凝着エネルギーは、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であり、１６ｍＪ／ｍ２以上３０ｍＪ／ｍ２以下が好ましく、１８ｍＪ／ｍ２以上２５ｍＪ／ｍ２以下がより好ましい。
【００１７】
本実施の形態においては、剥離剤層１２の凝着エネルギーは、例えば、原子間力顕微鏡であるプローブ顕微鏡（商品名：ＳＰＭ−９７００、島津製作所社製）にシリコンプローブ（Ｔｅａｍ  ｎａｎｏｔｅｃ製、ＬＲＣＨ曲率半径２５０ｎｍ、バネ定数０．２Ｎ／ｍ）を取り付け、６００ｍ／ｓでタッピングを実施して得られたフォースカーブに基づいてＪＫＲ  ２点法に準拠して算出したものである。以下、本実施の形態に係る剥離フィルム１の各種構成要素について詳細に説明する。
【００１８】
剥離フィルム１の厚さとしては、１０μｍ以上が好ましく、１５μｍ以上がより好ましく、２００μｍ以下が好ましく、１２５μｍ以下がより好ましい。
【００１９】
（基材１１）
基材１１としては、各種ポリエステルフィルムを用いることが可能である。ポリエステルフィルムは、耐熱性に優れており、またＰＰ（ポリプロピレン）やＰＥ（ポリエチレン）のようなフィッシュアイが少なく、品質的に優れている。ポリエステルフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート及びポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルムが好ましい。また、ポリエステルフィルムとしては、二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムがより好ましい。
【００２０】
基材１１としては、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であるものを用いる。基材１１の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上であることにより、基材１１の表面及び剥離剤層１２の表面が適度に粗くなり、耐ブロッキング性が向上する。また、基材１１の算術平均粗さＲａが４０ｎｍ以下であることにより、基材１１の表面及び剥離剤層１２の表面が適度に平滑になるので、基材１１上に設けられた剥離剤層１２の表面を平滑にすることができる。上述した効果を得る観点から、基材１１の算術平均粗さＲａとしては、５ｎｍ以上であり、１０ｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、また４０ｎｍ以下であり、３８ｎｍ以下が好ましく、３７ｎｍ以下がより好ましい。以上を考慮すると、基材１１の算術平均粗さＲａとしては、５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、１０ｎｍ以上３８ｎｍ以下が好ましく、１５ｎｍ以上３７ｎｍ以下がより好ましい。
【００２１】
また基材１１としては、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるものを用いる。基材１１の最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上であることにより、基材１１の表面及び剥離剤層１２の表面が適度に粗くなり、耐ブロッキング性が向上する。また、基材１１の最大突起高さＲｐが１０００ｎｍ以下であることにより、基材１１の表面及び剥離剤層１２の表面が適度に平滑になるので、基材１１上に設けられた剥離剤層１２の表面を平滑にすることができる。上述した効果を得る観点から、基材１１の最大突起高さＲｐとしては、５０ｎｍ以上であり、１００ｎｍ以上が好ましく、１５０ｎｍ以上がより好ましく、また１０００ｎｍ以下であり、５００ｎｍ以下が好ましく、３００ｎｍ以下がより好ましい。以上を考慮すると、基材１１の最大突起高さＲｐとしては、５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下が好ましく、１５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下がより好ましい。
【００２２】
基材１１の厚さＴ１は、用途に応じて適宜変更可能である。基材１１の厚さＴ１は、剥離フィルム１の強度を維持する観点、及び剥離フィルム１に積層された層の抜き加工適性及びその他使用時のハンドリング性を確保する観点から、１０μｍ以上が好ましく、２０μｍ以上がより好ましく、３０μｍ以上が更に好ましく、また２００μｍ以下が好ましく、１５０μｍ以下がより好ましく、１２５μｍ以下が更に好ましい。以上を考慮すると、基材１１の厚さＴ１は、１０μｍ以上２００μｍ以下が好ましく、２０μｍ以上１５０μｍ以下がより好ましく、３０μｍ以上１２５μｍ以下が更に好ましい。
【００２３】
（剥離剤層１２）
剥離剤層１２は、例えば、離型剤を含む剥離剤層形成用組成物の硬化物で形成される。剥離剤層形成用組成物としては、剥離剤層１２上に積層される任意の層を剥離フィルム１０から剥離させる機能を剥離剤層１２に付与できるものであれば特に制限はない。離型剤としては、例えばシリコーン樹脂、長鎖アルキル樹脂、及びアルキド樹脂などが挙げられる。
【００２４】
シリコーン系離型剤としては、付加反応型シリコーン、縮合反応型シリコーン、エネルギー線硬化性シリコーンが挙げられる。また、剥離力を調整するために、無官能のポリジメチルシロキサン、フェニル変性シリコーン、シリコーンレジン、シリカ、セルロース系化合物を添加剤として用いても良い。
【００２５】
剥離フィルム１においては、剥離剤層形成用組成物が、オルガノポリシロキサンを含有することが好ましい。これにより、粘着剤に対して適度な剥離性が得られる。
【００２６】
剥離剤層１２の厚さＴ２は、０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下である。剥離剤層１２の厚さＴ２が０．０５μｍ以上であることにより、剥離剤層１２の厚みムラによる剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層１２の表面の平滑性が適度に向上して剥離フィルム１の外観が向上する。また、剥離剤層１２の厚さＴ２が０．３５μｍ以下であることにより、剥離剤層１２の表面粗さが適度に粗くなり、剥離フィルム１の耐ブロッキング性が向上する。上述した効果を得る観点から、剥離剤層１２の厚さＴ２は、０．０５μｍ以上であり、０．０７５μｍ以上が好ましく、０．１０μｍ以上がより好ましく、また０．３５μｍ以下であり、０．３２５μｍ以下が好ましく、０．３０μｍ以下がより好ましい。以上を考慮すると、剥離剤層１２の厚さＴ２は、０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であり、０．０７５μｍ以上０．３２５μｍ以下が好ましく、０．１０μｍ以上０．３０μｍ以下がより好ましい。
【００２７】
また、剥離剤層形成用組成物としては、市販品である、ビニルメチルシロキサンユニットを含有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＶＤＴ−１６３、ＶＤＴ−９５４、Ｇｅｌｅｓｔ社製）、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン（商品名：ＨＭＳ−９９３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）、及びビニル基を有するＭＱレジン（東レ・ダウコーニング社製、商品名「ＳＤ７２９２」、固形分７１質量％）などをトルエンなどの有機溶剤で所定濃度となるように希釈した溶液に、白金系触媒（固形分２質量％、商品名：ｃａｔａ  ＰＬ−５０Ｔ、信越化学社製）を所定量添加したものを用いることができる。
【００２８】
（剥離フィルムの製造方法）
本実施の形態に係る剥離フィルムの製造方法は、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であって、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるポリエステルフィルムからなる基材１１上に、剥離剤層形成用組成物を塗布して厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下の剥離剤層１２を設けて、原子間力顕微鏡を用いて測定したフォースカーブから算出した剥離剤層１２の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下の剥離フィルム１を得る工程を含む。
【００２９】
本実施の形態に係る剥離フィルムの製造方法においては、剥離剤層１２は、例えば、剥離剤層形成用組成物を基材１１の一方の面に従来公知の塗工方法で塗工した後、所定の温度で加熱して乾燥及び硬化させることによって形成する。ここでは、剥離剤層形成用組成物は、有機溶媒で希釈したものを基材１１上に塗工してもよい。有機溶媒としては、トルエン及びキシレンなどの芳香族炭化水素、酢酸エチル及び酢酸ブチルなどの脂肪酸エステル、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンなどのケトン、ヘキサン、及びヘプタンなどの脂肪族炭化水素などが挙げられる。
【００３０】
剥離剤層形成用組成物の塗工方法としては、例えば、グラビアコート法、バーコート法、スプレーコート法、スピンコート法、エアーナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ゲートロールコート法、及びダイコート法などが挙げられる。これらの中でも、グラビアコート法及びバーコート法が好ましい。また、剥離剤層形成用組成物の加熱・乾燥方法としては、例えば、熱風乾燥炉などで熱乾燥する方法などが挙げられる。乾燥温度は、例えば、９０℃以上１５０℃以下である。また、乾燥時間は、例えば、１０秒間〜５分間であることが好ましい。
【００３１】
剥離剤層形成用組成物の塗布厚は、０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であることが好ましい。剥離剤層形成用組成物の塗布厚は、０．０５μｍ以上であれば、剥離剤層１２の厚みムラに起因した剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層１２の表面の平滑性が向上して剥離フィルム１の表面の外観が向上する。また、剥離剤層形成用組成物の塗布量は、０．３５μｍ以下であれば、耐ブロッキング性が向上する。
【００３２】
以上説明したように、上記実施の形態によれば、算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であって、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であるので、基材１１の表面１１ａ及び剥離剤層１２の表面粗さが適度な範囲となるので、基材１１上に設けられた剥離剤層１２の表面１２ａを平滑にすることができると共に、耐ブロッキング性が向上する。そして、剥離剤層１２の厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であるので、剥離力のバラつきを低減できると共に、剥離剤層１２の表面１２ａの外観を損なうことなく、耐ブロッキング性が向上する。さらに、剥離剤層１２の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下であるので、適度な粘弾性体となり、剥離剤層１２に不活性微粒子を含有させることなく、耐ブロッキング性が向上する。したがって、平滑性を有しつつ耐ブロッキング性に優れる剥離フィルム１を実現できる。
【実施例】
【００３３】
以下、本発明の効果を明確にするために行った実施例に基づいて本発明をより詳細に説明する。なお、本発明は、以下の実施例及び比較例によって何ら限定されるものではない。
【００３４】
＜表面粗さ＞
表面粗さは、算術平均粗さＲａ及び最大突起高さＲｐを測定して評価した。算術平均粗さＲａ及び最大突起高さＲｐは、表面粗さ測定機（商品名：ＳＶ３０００Ｓ４（触針式）、ミツトヨ社製）を使用し、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９９４に準拠して測定した。カットオフ値などは以下の条件とした。λｃ＝０．２５ｍｍ、λｓ＝０．００２５ｍｍ、基準長さ＝２．５ｍｍ、評価長さ＝１０ｍｍ、レンジ＝８０、走査速度＝１．０ｍｍ／ｓ
【００３５】
＜凝着エネルギー＞
剥離剤層１２の凝着エネルギーは、まず、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムをステンレス性の試料台に両面テープで固定し、プローブ顕微鏡（商品名：ＳＰＭ−９７００、島津製作所社製）にシリコンプローブ（Ｔｅａｍ  ｎａｎｏｔｅｃ製、ＬＲＣＨ曲率半径２５０ｎｍ、バネ定数０．２Ｎ／ｍ）を取り付けた後、６００ｍ／ｓでタッピングを実施してフォースカーブを得た。得られたフォースカーブの形状から、ＪＫＲ  ２点法に準拠して剥離剤層の凝着エネルギーを算出した。
【００３６】
＜耐ブロッキング性＞
耐ブロッキング性は、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅１２９０ｍｍ、長さ６０００ｍのロール状に巻き上げて剥離フィルムロールとして４０℃の環境下に７日間保管した後、剥離フィルムロールの外観を目視にて観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○（ブロッキング無し）：保管前後で色目に変化がなかったもの
△（ブロッキング若干有り）：半分以下の領域の色目が異なったもの
×（ブロッキング有り）：過半の領域に亘って色目が異なったもの
【００３７】
＜帯電性＞
帯電性は、実施例及び比較例で得られた剥離フィルムを、幅１２９０ｍｍ、長さ６０００ｍのロール状に巻き上げて剥離フィルムロールとして４０℃の環境下に７日間保管した後、剥離フィルムロールから剥離フィルムを繰り出す際の帯電量を防爆型静電気電位測定器（商品名：ＫＳＤ−０１０８、春日電機社製）を使用して測定した。評価基準を以下に示す。
Ａ：帯電量５ｋＶ未満
Ｂ：帯電量５ｋＶ以上１０ｋＶ未満
Ｃ：帯電量１０ｋＶ以上
【００３８】
＜外観＞
外観は、剥離剤層の表面の外観を観察して評価した。実施例及び比較例で得られた剥離フィルム（重面側）に、アクリル系粘着剤（商品名：ＢＰＳ５１２７、トーヨーケム社製）を乾燥後に２０μｍの厚さになるように塗布した後、１０５℃で２分間乾燥させた。次に、剥離フィルム（商品名：ＰＥＴ３８１１３０、リンテック社製）を貼り合わせて、両面粘着シート（ノンキャリアフィルム）を作製した。次に、それぞれの両面粘着シートの軽面剥離フィルム（ＰＥＴ３８１１３０）を剥がし、露出した剥離剤層を黒アクリル板（三菱レイヨン社製）に貼り合わせた。その後、重面剥離フィルムを剥がし、蛍光灯の光を反射させて剥離剤層の表面を観察して評価した。評価基準を以下に示す。
○：写り込んだ蛍光灯の像が歪まずに見えた
×：写り込んだ蛍光灯の像が歪んで見えた
【００３９】
＜剥離剤層形成用組成物Ａの調製＞
ビニルメチルシロキサンユニットを０．５ｍｏｌ％含有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＶＤＴ−１６３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）３０質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン（商品名：ＨＭＳ−９９３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．３５質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が１．０質量％となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒（固形分２質量％、商品名：ｃａｔａ  ＰＬ−５０Ｔ、信越化学社製）を２質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Ａを調製した。
【００４０】
＜剥離剤層形成用組成物Ｂの調製＞
ビニルメチルシロキサンユニットを０．５ｍｏｌ％含有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＶＤＴ−１６３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）３０質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン（商品名：ＨＭＳ−９９３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．３５質量部と、ビニル基を有するＭＱレジン（固形分７１質量％、商品名：ＳＤ７２９２、東レ・ダウコーニング社製）を固形分換算で１５質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が１．０質量％となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒（固形分２質量％、商品名：ｃａｔａ  ＰＬ−５０Ｔ、信越化学社製）を２質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Ｂを調製した。
【００４１】
＜剥離剤層形成用組成物Ｃの調製＞
ビニルメチルシロキサンユニットを１２．０ｍｏｌ％含有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＶＤＴ−９５４、Ｇｅｌｅｓｔ社製）３０質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン（商品名：ＨＭＳ−９９３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）４．０質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が１．０質量％となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒（固形分２質量％、商品名：ｃａｔａ  ＰＬ−５０Ｔ、信越化学社製）を２質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Ｃを調製した。
【００４２】
＜剥離剤層形成用組成物Ｄの調製＞
ビニルメチルシロキサンユニットを０．５ｍｏｌ％含有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＶＤＴ−１６３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）３０質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン（商品名：ＨＭＳ−９９３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．３５質量部と、重剥離添加剤（固形分３０質量％、商品名：ＢＹ２４−４９８０、東レ・ダウコーニング社製）を固形分換算で１０質量部とを、トルエン溶媒にて固形分濃度が１．０質量％となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒（固形分２質量％、商品名：ｃａｔａ  ＰＬ−５０Ｔ、信越化学社製）を２質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Ｄを調製した。
【００４３】
＜剥離剤層形成用組成物Ｅの調製＞
ビニルメチルシロキサンユニットを０．５ｍｏｌ％含有するオルガノポリシロキサン（商品名：ＶＤＴ−１６３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）３０質量部と、ヒドロシリルメチルシロキサンユニットの繰り返しであるオルガノポリシロキサン（商品名：ＨＭＳ−９９３、Ｇｅｌｅｓｔ社製）０．３５質量部と、重剥離添加剤（固形分３０質量％、商品名：ＢＹ２４−４９８０、東レ・ダウコーニング社製）を固形分換算で５質量部と、をトルエン溶媒にて固形分濃度が１．０質量％となるように希釈混合した。この溶液に白金系触媒（固形分２質量％、商品名：ｃａｔａ  ＰＬ−５０Ｔ、信越化学社製）を２質量部添加し、剥離剤層形成用組成物Ｅを調製した。
【００４４】
（実施例１）
基材としては、表面及び裏面が同粗度のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（厚さ３８μｍ、算術平均粗さＲａ：２０ｎｍ、最大突起高さＲｐ：２００ｎｍ）を用いた。次に、この基材の一方の面に、剥離剤層形成用組成物Ａを乾燥後の厚みが０．１μｍとなるようにバーコーターにて塗布した後、１２０℃で１分間乾燥して剥離剤層を設けて剥離フィルムを得た。
【００４５】
（実施例２）
基材を厚さ３８μｍ、算術平均粗さＲａ：９ｎｍ、最大突起高さＲｐ：９５ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００４６】
（実施例３）
剥離剤層形成用組成物Ａに代えて剥離剤層形成用組成物Ｂを用いたこと、及び乾燥後の厚みが０．１５μｍとなるようにバーコーターにて剥離剤層形成用組成物Ｂを塗布したこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００４７】
（実施例４）
剥離剤層形成用組成物Ａに代えて剥離剤層形成用組成物Ｃを用いたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００４８】
（実施例５）
剥離剤の塗工量を０．３μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００４９】
（実施例６）
基材を厚さ３８μｍ、算術平均粗さＲａ：３７ｎｍ、最大突起高さＲｐ：６００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５０】
（比較例１）
剥離剤層形成用組成物Ａに代えて剥離剤層形成用組成物Ｄを用いたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５１】
（比較例２）
基材を厚さ３８μｍ、算術平均粗さＲａ：９ｎｍ、最大突起高さＲｐ：９５ｎｍとしたこと以外は、比較例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５２】
（比較例３）
基材を厚さ３８μｍ、算術平均粗さＲａ：４ｎｍ、最大突起高さＲｐ：２２ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５３】
（比較例４）
剥離剤層形成用組成物Ａに代えて剥離剤層形成用組成物Ｅを用いたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５４】
（比較例５）
剥離剤の塗工量を０．４μｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５５】
（比較例６）
基材を厚さ３８μｍ、算術平均粗さＲａ：７０ｎｍ、最大突起高さＲｐ：１２００ｎｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして剥離フィルムを作製した。
【００５６】
【表１】
2016141008.tif 000003
【００５７】
表１から分かるように、基材の算術平均粗さＲａが５ｎｍ以上４０ｎｍ以下であり、最大突起高さＲｐが５０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であり、剥離剤層の厚さが０．０５μｍ以上０．３５μｍ以下であり、剥離剤層の凝着エネルギーが、１５ｍＪ／ｍ２以上３５ｍＪ／ｍ２以下である場合には、いずれも優れた耐ブロッキング性、帯電性及び外観の評価となることが分かる（実施例１−６）。
【００５８】
これに対して、剥離剤層の凝着エネルギーが、３５ｍＪ／ｍ２を超える場合には、いずれも耐ブロッキング性が著しく低下することが分かる（比較例１、２、４）。この結果は、剥離剤層の凝着エネルギーが大きくなり過ぎたために、剥離剤層の粘弾特性のバランスが悪くなり、弾性項に対して粘性項の影響が強くなってブロッキングが発生したためと考えられる。また、基材の算術平均粗さＲａが５ｎｍ未満及び最大突起高さＲｐが５０ｎｍ未満となる場合（比較例３）にも、耐ブロッキング性が著しく低下することが分かる（比較例３）。この結果は、基材が平滑すぎて剥離剤層の表面が過度に平滑となったためにブロッキングが発生したためと考えられる。さらに、剥離剤層の厚さが０．３５μｍを超える場合にも、耐ブロッキング性が著しく低下することが分かる（比較例５）。この結果は、剥離剤層の厚さが厚すぎて表面が過度に平滑となったためにブロッキングが発生したためと考えられる。また、基材の算術平均粗さＲａが４０ｎｍ超え及び最大突起高さＲｐが１０００ｎｍ超えの場合には、耐ブロッキング性が良好となる一方、外観の評価が悪化することが分かる（比較例６）。この結果は、剥離フィルムの剥離剤層の表面の表面粗さが粗くなり過ぎたためと考えられる。
【符号の説明】
【００５９】
１  剥離フィルム
１１  基材
１１ａ  表面
１２  剥離剤層
１２ａ  表面
【図１】
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