(57)【要約】【課題】ＵＶ硬化液の塗布直後からＵＶ光を照射することができ、さらに、そのＵＶ光の照射量を自由に設定できることにより、ＵＶ硬化液膜の膜厚を精度よく形成することができる塗布装置を提供する。【解決手段】基板を載置する基板載置面を有するステージと、前記ステージに対して一方向に相対的に移動しつつ前記基板載置面に載置された基板にＵＶ硬化液を塗布する塗布ユニットと、前記基板載置面に対して直交する前記ステージの側面側からＵＶ光を照射するＵＶ照射部と、前記ＵＶ照射部のＵＶ光を基板載置面側に反射させる反射部と、を備ええる構成とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を載置する基板載置面を有するステージと、
前記ステージに対して一方向に相対的に移動しつつ前記基板載置面に載置された基板にＵＶ硬化液を塗布する塗布ユニットと、
前記基板載置面に対して直交する前記ステージの側面側からＵＶ光を照射するＵＶ照射部と、
前記ＵＶ照射部のＵＶ光を基板載置面側に反射させる反射部と、
を備えたことを特徴とする塗布装置。
【請求項２】
前記ＵＶ照射部は、前記塗布ユニットの移動方向における前記ステージの一方側端部に配置されており、
前記反射部は、前記ＵＶ照射部から反対側に向かって前記基板載置面に近づくように傾斜していることを特徴とする請求項１に記載の塗布装置。
【請求項３】
前記塗布ユニットは、移動方向と直交する方向に延び、ＵＶ硬化液が吐出されるスリットノズルを有しており、
この塗布ユニットには、少なくとも前記ＵＶ照射部と反対側に、前記反射部からの光を遮断する遮光部がスリットノズルの延びる方向に亘って設けられていることを特徴とする請求項２に記載の塗布装置。
【請求項４】
前記ＵＶ照射部は、照射方向を調節する照射調節機構を有しており、この照射調節機構は、塗布中の前記塗布ユニットの移動に応じて前記ＵＶ照射部が照射する照射領域を変更することを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の塗布装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基板上にＵＶ硬化液を塗布する塗布装置に関するものであり、特に、基板上に塗布されたＵＶ硬化液を硬化させる紫外線（ＵＶ）照射機構を有するものに関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶ディスプレイや電子ペーパーには、様々のモジュール、パネル等（以下、ワークという）が用いられている。これらの接着、機能液の封止等には、ＵＶ硬化型の樹脂材料（以下、ＵＶ硬化液）が用いられることが多い。例えば、電子ペーパーでは、基板上に格子状の隔壁により多数の画素が形成されており、各画素内に機能液が充填された後、基板上にＵＶ硬化液が一様に塗布され、このＵＶ硬化液が硬化されることにより各画素内に機能液が封止される。
【０００３】
このようなＵＶ硬化液は、例えばスリットノズルを有する塗布装置によって塗布される。この塗布装置は、ＵＶ硬化液を吐出する口金部を有する塗布ユニットが設けられており、口金部に形成された一方向に延びるスリットノズルからＵＶ硬化液を吐出させながら、口金部をガラス基板に沿う方向に移動させることにより、均一厚さのＵＶ硬化液膜が形成される。そして、ＵＶ硬化液膜が形成された後、このＵＶ硬化液膜にＵＶ光を照射することにより、ＵＶ硬化液膜が硬化される。例えば、特許文献１では、ＵＶ硬化液を塗布する供給部（塗布ユニット）に仮硬化処理部（ＵＶ照射部）が設けられており、供給部から吐出されたＵＶ硬化液膜に仮硬化処理部からのＵＶ光が照射されることによりＵＶ硬化液膜が硬化される。具体的には、仮硬化処理部は、供給部の移動方向後側（供給部の走査後領域側）に設けられており、供給部によって基板上に形成された直後のＵＶ硬化液膜にＵＶ光が照射されるようになっている。そして、最終的に基板上に形成されたＵＶ硬化液膜のすべてにＵＶ光が順次照射されることにより、基板上に所定膜厚のＵＶ硬化液膜が形成されるようになっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１２−０７１２８１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、上述のＵＶ照射機構付きの塗布装置では、ＵＶ硬化液膜の膜厚を精度よく形成するのが困難であるという問題があった。すなわち、ＵＶ硬化液膜は、その膜厚により機能性が発揮されるため、膜厚を精度よく形成する必要がある。ところが、上述の構成では、供給部（塗布ユニット）の移動に伴って仮硬化処理部（ＵＶ照射部）も移動するため、ＵＶ照射部からのＵＶ照射量が塗布ユニットの移動速度に依存することになる。ＵＶ硬化液の硬化は、その種類によってＵＶ照射量が様々である一方で、塗布ユニットの移動速度は、ＵＶ硬化液の粘性に影響を受けるため、ＵＶ硬化液膜の一様な形成と、十分なＵＶ光の照射量とを上手く調整することが困難であり、ＵＶ硬化液膜の膜厚を設計通りに形成することが困難であった。
【０００６】
また、電子ペーパの機能液をＵＶ硬化液膜で封止する場合、基板上の各画素内に機能液が充填され、その上にＵＶ硬化液が一様に塗布された後、所定時間経過すると、機能液に接するＵＶ硬化液が機能液内に沈降し機能液を損ねる可能性がある。ところが、上述の構成では、供給部（塗布ユニット）からＵＶ硬化液を吐出した後、仮硬化処理部（ＵＶ照射部）のＵＶ光が照射されるまでにタイムラグがあるため、そのタイムラグによってはＵＶ硬化液が機能液内に沈降し、膜厚を精度よく形成するのが困難になる。仮に、上記タイムラグは一見問題ない場合でも、特許文献１のようにＵＶ照射が上方から行われると、ＵＶ硬化液が機能液に接する部分には直接照射されないことから、機能液に接するＵＶ硬化液膜は、実際には上記タイムラグ以上の時間接触していることになり、ＵＶ硬化液膜の表面は硬化しても機能液に接する部分が機能液内に沈降しまうという現象が生じていた。このように、ＵＶ光が照射されるまでに一定時間を要すると、ＵＶ硬化液膜の膜厚制御が損なわれ、さらには電子ペーパの品質に影響を及ぼす虞があるという問題があった。
【０００７】
本発明は、上記の問題点に鑑みてなされたものであり、ＵＶ硬化液の塗布直後からＵＶ光を照射することができ、さらに、そのＵＶ光の照射量を自由に設定できることにより、ＵＶ硬化液膜の膜厚を精度よく形成することができる塗布装置を提供することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するために本発明の塗布装置は、基板を載置する基板載置面を有するステージと、前記ステージに対して一方向に相対的に移動しつつ前記基板載置面に載置された基板にＵＶ硬化液を塗布する塗布ユニットと、前記基板載置面に対して直交する前記ステージの側面側からＵＶ光を照射するＵＶ照射部と、前記ＵＶ照射部のＵＶ光を基板載置面側に反射させる反射部と、を備えたことを特徴としている。
【０００９】
上記塗布装置によれば、ＵＶ照射部が塗布ユニットとは別にステージの側面側に設けられているため、塗布ユニットの動作によらず、自由にＵＶ光を照射することができる。すなわち、従来の塗布装置に比べてタイムラグを生じることなくＵＶ光を照射することができるため、ＵＶ硬化液の塗布直後からＵＶ照射を行ってＵＶ硬化液膜を硬化させることができる。また、ステージの側面側に設置されたＵＶ照射部からのＵＶ光が反射部で反射され基板載置面側から基板載置面に載置された基板に照射されることにより、ＵＶ光は、基板に対して基板載置面側から照射される。すなわち、電子ペーパの機能液をＵＶ硬化液膜で封止する場合、ＵＶ硬化液が機能液に接する側からＵＶ光が照射されるため、ＵＶ硬化液を機能液に接する側から硬化させることができる。したがって、従来の塗布装置に比べてＵＶ硬化液が機能液内に沈降するのを極力抑えることができる。
【００１０】
また、前記ＵＶ照射部は、前記塗布ユニットの移動方向における前記ステージの一方側端部に配置されており、前記反射部は、前記ＵＶ照射部から反対側に向かって前記基板載置面に近づくように傾斜している構成にしてもよい。
【００１１】
この構成によれば、１つのＵＶ照射部からのＵＶ光を反射部を通じて基板載置面の全面に照射させることができる。
【００１２】
また、前記塗布ユニットは、移動方向と直交する方向に延び、ＵＶ硬化液が吐出されるスリットノズルを有しており、この塗布ユニットには、少なくとも前記ＵＶ照射部と反対側に、前記反射部からの光を遮断する遮光部がスリットノズルの延びる方向に亘って設けられている構成にしてもよい。
【００１３】
この構成によれば、塗布ユニットの移動方向前側（未塗布領域側）に位置する反射部によって反射されたＵＶ光がスリットノズルの先端に照射されるのを抑えることができるため、スリットノズルの吐出直後のＵＶ硬化液が基板に到達する前に硬化してしまうのを抑えることができる。
【００１４】
また、前記ＵＶ照射部は、照射方向を調節する照射調節機構を有しており、この照射調節機構は、塗布中の前記塗布ユニットの移動に応じて前記ＵＶ照射部が照射する照射領域を変更する構成にしてもよい。
【００１５】
この構成によれば、基板に塗布された直後のＵＶ硬化液にＵＶ光を照射することができるため、ＵＶ硬化液膜の膜厚を精度よく形成することができる。また、ＵＶ硬化液が機能液に沈降するのを極力抑えることができる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明の塗布装置によれば、ＵＶ硬化液膜の膜厚を精度よく形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の塗布装置の外観を示す概略斜視図である。
【図２】上記塗布装置をＹ軸方向から見た図である。
【図３】上記塗布装置のプロセスフローを示す概略図である。
【図４】他の実施形態におけるＵＶ照射部を示す図である。
【図５】他の実施形態におけるＵＶ照射部を示す図である。
【図６】ＵＶ照射部の照射調節機構を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に係る実施の形態を図面を用いて説明する。
【００１９】
図１は、本発明の一実施形態における塗布装置を示す斜視図であり、図２は、塗布装置のステージをＹ方向から見た図である。
【００２０】
図１、図２に示すように、塗布装置は、供給される薄板状の透明な基板２（隔壁により形成された画素内に機能液が充填されたワーク等を含む）に塗布液を塗布するものである。本実施形態では、塗布液としてＵＶ照射することにより硬化するＵＶ硬化液が使用される。この塗布装置は、基台３と、基板２を載置するためのステージ４と、このステージ４に対し一定方向に移動可能に構成される塗布ユニット５とを備えている。
【００２１】
なお、以下の説明では、塗布ユニット５が移動する方向をＸ軸方向、これと水平面上で直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸およびＹ軸方向の双方に直交する方向をＺ軸方向として説明を進めることとする。
【００２２】
前記基台３は、各構成部材、例えばステージ４及び塗布ユニット５を支持するものであり、石材等で形成されている。
【００２３】
前記ステージ４は、搬入された基板２をその表面に載置して保持するものである。ステージ４は、平坦面を有する矩形状に形成されており、その平坦面が基板２よりも大きく形成されている。この平坦面は、基板２を載置するための基板載置面４ａであり、基板載置面４ａに基板２が載置されると基板保持機構（不図示）により基板２が位置合わせされるとと共に基板載置面４ａ上に確実に固定されるようになっている。すなわち、基板載置面４ａに基板２が固定された状態では、基板２の高さ位置が塗布ユニット５が走査する範囲において均一高さになるように設定されており、後述の塗布ユニット５のスリットノズル５１ａ（図２参照）の先端と基板２との距離が、スリットノズル５１ａの延びる方向に亘って一定になるようになっている。
【００２４】
塗布ユニット５は、ステージ４に載置された基板２にＵＶ硬化液を塗布するためのものであり、ＵＶ硬化液を塗布する口金部５１と、この口金部５１の両端部分に設けられたユニット支持部５２とを有している。
【００２５】
前記ユニット支持部５２は、口金部５１を昇降動作可能に支持するとともに、この口金部５１をＸ軸方向に移動させるためのものであり、走行装置５３とこの走行装置５３に支持される昇降装置５４とを有している。
【００２６】
昇降装置５４は、口金部５１を昇降動作させるものであり、Ｚ軸方向に延びるレール５４ａと口金部５１に連結されるスライダ５４ｂとを有している。このレール５４ａには、スライダ５４ｂがレール５４ａに沿ってスライド自在に取り付けられている。また、スライダ５４ｂにはサーボモータにより駆動されるボールねじ機構が取り付けられており、このサーボモータを駆動制御することにより、スライダ５４ｂがＺ軸方向に移動するとともに、任意の位置で停止できるようになっている。これにより、口金部５１は、Ｚ軸方向への昇降動作が駆動制御され、ステージ４に対して接離可能に動作するようになっている。
【００２７】
走行装置５３は、口金部５１をＸ軸方向に走行させるためのものであり、走行装置本体１１とＸ軸方向に延びるレール１３とを有している。この走行装置本体１１は、基台３との間に設けられるエアパッド（不図示）によって基台３上に支持されている。そして、走行装置本体１１は、その一部がレール１３にスライド自在に取り付けられており、走行装置本体１１に取り付けられたリニアモータ１２を駆動制御することにより、走行装置本体１１がＸ軸方向に移動するようになっている。これにより、口金部５１は、Ｘ軸方向に沿って走行することができるようになっている。
【００２８】
このように構成されるユニット支持部５２により、口金部５１は、ステージ４の表面に対してＺ軸方向に昇降動作できるとともに、ステージ４の表面から所定高さを維持した状態でステージ４の表面上をＸ軸方向に沿って移動できるようになっている。
【００２９】
前記口金部５１は、移動方向と直交する方向に延びる形状を有する柱状部材であり、ステージ４の表面と対向する対向面には塗布液を吐出するスリットノズル５１ａが形成されている。このスリットノズル５１ａは、移動方向と直交する方向に延びると共に、ステージ４の基板載置面４ａ側に突出し、この突出した部分にはＹ軸方向に延びる形状の間隙（スリット）が形成されている。すなわち、このスリットノズル５１ａを通じて口金部５１に供給された塗布液が基板２の表面に吐出されるようになっている。なお、この口金部５１の上流側には、塗布液を貯留する塗布液タンクと塗布液ポンプユニットとが備えられており、塗布液ポンプユニットにより、塗布液タンクの塗布液が口金部５１に送液されることにより、口金部５１内の塗布液がスリットを通じて吐出されるようになっている。
【００３０】
また、ステージ４の側面側には、ＵＶ照射部６が設けられており、ステージ４上の基板２に対してＵＶ光を照射できるようになっている。ここで、図２は、ＵＶ照射部６とステージ４とをＹ方向から見た図であり、図中の矢印は、ＵＶ光の光路を示している。ＵＶ照射部６は、ステージ４側に開口するケーシング６１と、このケーシング６１内に配置されるＵＶランプ６２とを有している。ケーシング６１の内側にはミラーが設けられており、ＵＶランプ６２を点灯するとＵＶ光がケーシング６１内を反射してケーシング６１の開口部６３から照射されるようになっている。すなわち、ＵＶ光は、ステージ４の側面に向かって照射されるようになっている。
【００３１】
また、ステージ４の内部には、反射部７が設けられている。この反射部７は、ＵＶ照射部６からのＵＶ光をステージ４の基板載置面４ａに照射するためのものである。この反射部７は、ステージ４内部に配置されるミラー７１によって形成されている。本実施形態では、ステージ４は、透明なガラスで形成された部分４１と、平板形状のミラー７１が設けられた部分４２とを有しており、ステージ４の内部に平板形状のミラー７１が傾斜された状態で配置されている。具体的には、平板形状のミラー７１は、ステージ４の内部にＵＶ照射部６から反対側（離れる側）に向かって基板載置面４ａに近づくように傾斜して配置されている。したがって、ＵＶ照射部６から照射されるＵＶ光は、反射部７のミラー７１によって反射されることにより、基板載置面４ａの裏面側に照射されるようになっている。これにより、基板２上に塗布されたＵＶ硬化液を硬化させることができる。すなわち、ＵＶ硬化液膜が形成された基板２に対し、ＵＶ照射部６からＵＶ光を照射すると、ＵＶ光は反射部７で反射され基板載置面４ａの裏面側から基板２の裏面を照射する。そして、ＵＶ光は、透明な基板２の内部を通過し、基板２の表面に形成されたＵＶ硬化液膜を照射することによりＵＶ硬化液膜を硬化させることができる。
【００３２】
また、口金部５１には、遮光ケース８が設けられている。この遮光ケース８は、反射されたＵＶ光がスリットノズル５１ａから吐出された直後のＵＶ硬化液を照射して硬化させるのを防止するためのものである。遮光ケース８は、口金部５１の移動方向前側（ＵＶ照射部６と反対側）をスリットノズル５１ａの延びる方向に沿って覆う遮光部８１と、移動方向後側（ＵＶ照射部６側）をスリットノズル５１ａの延びる方向に沿って覆う遮光部８１とを有しており、これら遮光部８１により口金部５１のステージ４と対向する部分を覆っている。そして、スリットノズル５１ａが位置する部分には、スリットノズル５１ａの延びる方向に沿って開口部８２が形成されている。また、遮光ケース８には、開口部８２を開閉させるシャッター部８３が設けられており、塗布開始前にＵＶ光が照射された場合にスリットノズル５１ａから吐出されようとするＵＶ硬化液が照射されるのを防止できるようになっている。これにより、反射部７で反射されたＵＶ光によりスリットノズル５１ａから吐出された直後のＵＶ硬化液が照射され、スリットノズル５１ａのノズル詰まりを発生させてしまう問題を抑えることができる。
【００３３】
次に、上記塗布装置の動作について図３のプロセスフロー図に基づいて説明する。本実施形態では、電子ペーパの機能液をＵＶ硬化液膜で封止する場合を例として説明する。
【００３４】
まず、準備工程が行われる。図３（ａ）に示すように、ステージ４の基板載置面４ａ上に基板２が供給されると、所定の位置に位置決めされ固定される。そして、ＵＶ照射部６のＵＶランプ６２が点灯される。なお、供給される基板２上には、隔壁で画素が形成されており、各画素内に機能液が充填されている。
【００３５】
次に、塗布工程が行われる。具体的には、図３（ｂ）に示すように、塗布ユニット５が塗布開始位置に移動し、口金部５１のスリットノズル５１ａ先端と基板２との距離が塗布に応じた適切な距離に設定される。そして、口金部５１内に基板２上への塗布に必要な量のＵＶ硬化液が供給される。なお、この段階において、遮光ケース８のシャッター部８３は閉じられたままであるため、遮光ケース８内にＵＶ光は照射されない。したがって、口金部５１内のＵＶ硬化液は硬化されず、スリットノズル５１ａにおけるノズル詰まりの発生が防止される。
【００３６】
次に、基板２上にＵＶ硬化液が塗布される。図３（ｃ）に示すように、遮光ケース８のシャッター部８３が開いた後、スリットノズル５１ａからＵＶ硬化液が吐出されつつ、塗布ユニット５が一方向に移動することにより、基板２上に一定膜厚のＵＶ硬化液が塗布される。塗布されたＵＶ硬化液は、ＵＶ光が照射されることにより硬化が開始される。すなわち、ＵＶ照射部６からのＵＶ光が反射部７によって反射され、透明なステージ４及び基板２を通過することにより基板２上に塗布されたＵＶ硬化液が照射される。具体的には、スリットノズル５１ａから塗布されたＵＶ硬化液は、塗布開始位置から順にＵＶ照射部６から離れる側に向かって塗布されるのと同時にＵＶ光に曝されるため、ＵＶ硬化液膜は、塗布開始位置側から順に硬化が開始される。そのため、スリットノズル５１ａから吐出された直後に形成されたＵＶ硬化液膜の膜厚がほぼ維持されたまま硬化されるため、基板２上には、設定通りの均一厚さのＵＶ硬化液膜が形成される。また、ＵＶ光は、基板載置面４ａ側から照射されるため、塗布されたＵＶ硬化液は、基板２上の機能液と接する側が照射され、この機能液と接する側から硬化が開始される。したがって、基板２上に形成されるＵＶ硬化液膜は、機能液と接する側から硬化が開始されるため、ＵＶ硬化液膜の表面側（機能液と接する側の反対側）からＵＶ光が照射される場合に比べて、ＵＶ硬化液の状態で機能液に接触する時間が短くなりＵＶ硬化液が機能液に沈降する現象を抑えることができる。
【００３７】
そして、口金部５１が塗布終了位置に達するとスリットノズル５１ａからＵＶ硬化液が吐出されるのが停止され、開口部６３がシャッター部８３により閉じられる（図３（ｄ））。これにより、スリットノズル５１ａに残存するＵＶ硬化液がＵＶ光に曝されるのを防止されるため、スリットノズル５１ａでＵＶ硬化液が硬化されず、ノズル詰まりを回避できる。
【００３８】
その後、基板２上のＵＶ硬化液膜に十分なＵＶ光が照射され、硬化が完了するとＵＶ照射部６のＵＶ光が消灯される（図３（ｅ））。
【００３９】
このように、上述の塗布装置によれば、ＵＶ照射部６が塗布ユニット５とは別にステージ４の側面側に設けられているため、塗布ユニット５の動作によらず、自由にＵＶ光を照射することができる。すなわち、従来の塗布装置に比べてタイムラグを生じることなくＵＶ光を照射することができるため、ＵＶ硬化液の塗布直後からＵＶ照射を行ってＵＶ硬化液膜を硬化させることができる。また、ステージ４の側面側に設置されたＵＶ照射部６からのＵＶ光が反射部７で反射され基板載置面４ａ側から基板載置面４ａに載置された基板２に照射されることにより、ＵＶ光は、基板２に対して基板載置面４ａ側から照射される。すなわち、電子ペーパの機能液をＵＶ硬化液膜で封止する場合、ＵＶ硬化液が機能液に接する側からＵＶ光が照射されるため、ＵＶ硬化液を機能液に接する側から硬化させることができる。したがって、従来の塗布装置に比べてＵＶ硬化液が機能液内に沈降するのを極力抑えることができる。
【００４０】
また、上記実施形態では、ＵＶ照射部６がステージ４の一方側端部にのみ設けられる例について説明したが、図４に示すように、塗布ユニット５の移動方向他方側端部にも設けるものであってもよい。この実施形態では、反射部７がそれぞれのＵＶ照射部６に対して設けられており、ＵＶ照射部６から離れるに従って基板載置面４ａに近づくように傾斜させて配置され、ステージ４の中央部分で基板載置面４ａに最も接近するように設けられている。このように構成することにより、ステージ４が塗布ユニット５の移動方向に十分に大きく、ＵＶ照射部６からのＵＶ光がＵＶ照射部６から遠い領域では十分に届かない場合であっても、塗布ユニット５の移動方向両側から照射できることにより、基板載置面４ａ全面にＵＶ光を照射することができる。
【００４１】
また、上記実施形態では、ＵＶ照射部６のＵＶ光がケーシング６１の開口部６３から照射する例について説明したが、開口部６３に照射シャッター６４を設けることにより、照射範囲を制限しスリットノズル５１ａ直下にＵＶ光が照射されないように構成してもよい。すなわち、図５に示すように、開口部６３に照射シャッター６４を設け、照射シャッター６４を口金部５１の動作に合わせて開くように構成する。具体的には、ミラー７１がＵＶ照射部６から反対側に向かって基板載置面４ａに近づくように傾斜しているため、照射シャッター６４が上方（ミラー７１側から基板載置面４ａに向かう方向）に向かって開くように構成されている。これにより、照射シャッター６４の開き度が大きくなるにしたがって、基板載置面４ａに載置された基板２に対しＵＶ照射部６から反対側（離れる側）に向かってＵＶ光が照射される（図５（ａ）→図５（ｂ））。そして、照射シャッター６４の開き度が口金部５１の走行に合わせて調節されており、照射されたＵＶ光がスリットノズル５１ａよりも口金部５１の移動方向後側を照射するように調節されることにより、スリットノズル５１ａにＵＶ光が照射されることなく、基板２上に形成されたＵＶ硬化液膜のみにＵＶ光を照射することができる。これにより、スリットノズル５１ａから吐出されるＵＶ硬化液を硬化させることなく、基板２上に形成されたＵＶ硬化液膜を硬化させることができる。なお、ミラー７１が口金部５１の移動方向に長い場合には、ＵＶ光の照度がＵＶ照射部６から離れるにしたがって減衰する可能性がある。このような場合には、ＵＶ光の照度をＵＶ照射部６から離れるにしたがって大きくなるように調節できるように照度コントロール機能を設けてもよい。
【００４２】
また、上記実施形態では、ＵＶ照射部６の照射領域が固定されている例について説明したが、塗布ユニット５の移動に応じて照射領域を変更できるものであってもよい（照射調節機構）。具体的には、図６に示すように、ＵＶ照射部６のケーシング６１がＵＶランプ６２の軸回りに回転できるように形成されており、回転することにより開口部６３の開口角度が調節できるようになっている。これにより、開口部６３から照射されたＵＶ光が反射部７で反射され、基板２の一部の領域を照射する。そして、開口部６３の開口角度を変更する（図６の例では点線状態から実線状態）ことにより基板２に対する照射領域をＵＶ照射部６から離れる側に変更することができる。したがって、塗布ユニット５から吐出されたＵＶ硬化液が基板２に塗布される部分に応じて開口部６３の開口角度を調整するように制御することにより、吐出され基板２上に塗布された直後のＵＶ硬化液にＵＶ光を照射することができるため、ＵＶ硬化膜の膜厚を精度よく形成することができる。
【００４３】
また、上記実施形態では、遮光ケース８を塗布ユニット５の移動方向前側及び後側に設ける例について説明したが、移動方向前側のみに設けるものであってもよい。すなわち、移動方向前側（未塗布領域側）には基板２上にＵＶ硬化液膜が形成されていないため、反射部７で反射されたＵＶ光がスリットノズル５１ａを照射する虞があるが、少なくとも移動方向前側に遮光部８１を設けることにより吐出直後のＵＶ硬化液が硬化してスリットノズル５１ａにノズル詰まりを生じさせるのを抑えることができる。
【符号の説明】
【００４４】
２  基板
４  ステージ
４ａ  基板載置面
５  塗布ユニット
６  ＵＶ照射部
７  反射部
８  遮光ケース
５１  口金部
５１ａ  スリットノズル
６１  ケーシング
６２  ＵＶランプ
７１  ミラー
８３  シャッター部
【図１】
2016147231.tif 000003
【図２】
2016147231.tif 000004
【図３】
2016147231.tif 000005
【図４】
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【図５】
2016147231.tif 000007
【図６】
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