(57)【要約】【課題】成膜性および撥液性に優れ、耐熱性およびアウトガス成分が少ないバンクを形成することができるポジ型感光性組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、このようなポジ型感光性組成物による硬化膜、およびこの膜を有する表示素子を提供する【解決手段】界面活性作用のある撥液剤（Ａ）と、シロキサンポリマー（Ｂ）と、１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）、溶媒（Ｄ）を含有するポジ型感光性組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
界面活性作用のある撥液剤（Ａ）と、シロキサンポリマー（Ｂ）と、１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）、溶媒（Ｄ）を含有するポジ型感光性組成物。
【請求項２】
前記撥液剤（Ａ）がフルオロアルキル基を有しており重量平均分子量５００以上である、請求項１に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項３】
シロキサンポリマー（Ｂ）の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で５００〜１０，０００であることを特徴とする、請求項１または２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項４】
シロキサンポリマー（Ｂ）の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で２，０００〜７，０００であることを特徴とする、請求項１または２に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【請求項５】
シロキサンポリマー（Ｂ）がフェニル基を有する化合物である、求項１〜４のいずれか１項に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項６】
シロキサンポリマー（Ｂ）が酸触媒を用いて重合される化合物である、求項１〜５のいずれか１項に記載のポジ型感光性組成物。
【請求項７】
さらに下式（１）に示す構造を持つ架橋剤（Ｅ）を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
2016188940.tif 000011
（一般式（１）中、Ｒは独立して、水素、炭素数が１〜４５のアルキル、炭素数が４〜８
のシクロアルキル、または、炭素数が６〜１０の置換もしくは非置換のアリールを表し、Ｘは独立して、水素、−ＳｉＭｅ２Ｈ、−ＳｉＭｅ３、−ＳｉＭｅ２（ＣＨ２）３−ＯＯＣＣ（Ｍｅ）＝ＣＨ２、−ＳｉＭｅ２（ＣＨ２）３ＣＯＯＨ、または、下記式（２−１）または（２−２）で表わされる基を表し、前記Ｒにおける炭素数が１〜４５のアルキルおよび炭素数が４〜８のシクロアルキルは、それぞれ、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、また隣接しない−ＣＨ２−が−Ｏ−または炭素数が５〜１８のシクロアルキレンで置き換えられてもよく、前記Ｒにおける置換アリールのベンゼン環において、ベンゼン環に結合している任意の水素は独立して炭素数が１〜１０のアルキル、またはハロゲンで置き換えられてもよい。）
2016188940.tif 000012
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜の露光、現像、および焼成によって形成されるパターン状膜。
【請求項９】
請求項１〜８のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から形成された撥液性バンク。
【請求項１０】
基板上に請求項９に記載の撥液性バンクを備える、光学素子製造用の基板。
【請求項１１】
請求項１０に記載の光学素子製造用の基板を備える光学素子。
【請求項１２】
請求項１１に記載の光学素子を備える表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ポジ型感光性組成物、これを用いて形成される有機ＥＬ素子の画素間の仕切りである撥液性バンクに関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、有機ＥＬパネルの大型化がすすめられている。これまで小型サイズのパネル製造で用いられていた方法は、真空チャンバー内に置かれた基板にマスクを使い有機ＥＬ素子を蒸着させる方法であった。中型・大型パネルにこの製造方法を適用することは、コストの点等で困難な点がある。
【０００３】
中型・大型有機ＥＬパネルを製造する方法として、有機ＥＬ素子をインクジェット技術によりパターニングされる方法が提案されている（特許文献１）。インクジェットによる正確なパターニングを行うために、あらかじめ塗布する基板にバンク（画素間の仕切り）を形成する。このバンクは、フォトレジスト材料で形成される。一般的にポジ型の材料の方が、パターン間に残渣が残りにくいという点で優れている。このバンクに求められる特性として、有機ＥＬ素子同士の混合を防ぐためにバンク表面の撥液性、耐熱性、有機ＥＬ素子にダメージを少なくするための低アウトガス性などの様々な特性が求められている。
【０００４】
ポジレジスト材料として、様々なポジレジスト材料が紹介されている。アクリル共重合系のレジストは、耐熱性が低くアウトガス成分が多い。耐熱性の改良をするため、Ｓｉ原子を有するアクリレートの共重合ポリマーを含むポジ型レジストが開発されたが、耐熱性や低アウトガス性が不十分である（特許文献２および３）。また、シロキサンポリマーを用いた耐熱性が良好なポジ型レジストが開発されたが、形成されたパターンの撥液性については触れていなく不明な点がある（特許文献４）。
【０００５】
撥液性バンクを形成するポジレジスト材料として、ゾルゲル法で合成された撥液剤とアルカリ可溶性樹脂を含む感光性組成物が発表されている（特許文献５）。ゾルゲル法で合成された撥液剤は界面活性作用がない。アルカリ可溶性樹脂としてシロキサンポリマーを用いて、ゾルゲル法で合成された撥液剤を添加した感光性組成物は、撥液剤に界面活性作用がないため成膜性が悪い。また、界面活性剤を併用して添加すると成膜性は改善されるが、現像後に、添加した撥液剤が界面活性作用がないため、バンク間の残渣、溶け残りの付着物およびクレーター等が発生するという問題点があった。また、同様に撥液性バンクを形成するポジレジスト材料として紹介されている特許文献６は、アルカリ可溶性樹脂としての記載しかなく、シロキサンポリマーについての記載はない。特許文献４と同様にバンクの撥液性とシロキサンポリマーについての関係性は不明である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１２３７７号
【特許文献２】特開２００８−２４２４３８
【特許文献３】特開２００９−１６８９９２
【特許文献４】特開２０１１−２２１７３
【特許文献５】国際公開２０１３／１３３３９２
【特許文献６】特開２００９−２５１３２７
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、成膜性および撥液性に優れ、耐熱性およびアウトガス成分が少ないバンクを形成することができるポジ型感光性組成物を提供することを課題とする。また、本発明は、このようなポジ型感光性組成物による硬化膜、およびこの膜を有する表示素子を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者等は、上記問題を解決するためポジ型レジスト材料の組成を鋭意検討した結果、撥液剤、アルカリ可溶性樹脂としてシロキサンポリマー、溶媒、１，２−ナフトキノンジアジド化合物を感光性組成物に用いることにより、特に撥液性に優れる硬化膜が得られることを見出し、以下に示す本発明を完成させた。
【０００９】
［１］界面活性作用のある撥液剤（Ａ）と、シロキサンポリマー（Ｂ）と、１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）、溶媒（Ｄ）を含有するポジ型感光性組成物。
【００１０】
［２］前記撥液剤（Ａ）がフルオロアルキル基を有しており重量平均分子量５００以上である、［１］に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１１】
［３］シロキサンポリマー（Ｂ）の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で５００〜１０，０００であることを特徴とする、［１］または［２］に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１２】
［４］シロキサンポリマー（Ｂ）の重量平均分子量が、ポリスチレン換算で２，０００〜７，０００であることを特徴とする、［１］または［２］に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
【００１３】
［５］シロキサンポリマー（Ｂ）がフェニル基を有する化合物である、［１］〜［４］のいずれか１項に記載のポジ型感光性組成物。
【００１４】
［６］シロキサンポリマー（Ｂ）が酸触媒を用いて重合される化合物である、［１］〜［５］のいずれか１項に記載のポジ型感光性組成物。
【００１５】
［７］さらに下式（１）に示す構造を持つ架橋剤（Ｅ）を含む、［１］〜［６］のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物。
2016188940.tif 000002
（一般式（１）中、Ｒは独立して、水素、炭素数が１〜４５のアルキル、炭素数が４〜８
のシクロアルキル、または、炭素数が６〜１０の置換もしくは非置換のアリールを表し、Ｘは独立して、水素、−ＳｉＭｅ２Ｈ、−ＳｉＭｅ３、−ＳｉＭｅ２（ＣＨ２）３−ＯＯＣＣ（Ｍｅ）＝ＣＨ２、−ＳｉＭｅ２（ＣＨ２）３ＣＯＯＨ、または、下記式（２−１）または（２−２）で表わされる基を表し、前記Ｒにおける炭素数が１〜４５のアルキルおよび炭素数が４〜８のシクロアルキルは、それぞれ、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、また隣接しない−ＣＨ２−が−Ｏ−または炭素数が５〜１８のシクロアルキレンで置き換えられてもよく、前記Ｒにおける置換アリールのベンゼン環において、ベンゼン環に結合している任意の水素は独立して炭素数が１〜１０のアルキル、またはハロゲンで置き換えられてもよい。）
2016188940.tif 000003
【００１６】
［８］［１］〜［７］のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物の塗膜の露光、現像、および焼成によって形成されるパターン状膜。
【００１７】
［９］  ［１］〜［８］のいずれか１項に記載のポジ型感光性樹脂組成物から形成された撥液性バンク。
【００１８】
［１０］  基板上に［９］に記載の撥液性バンクを備える、光学素子製造用の基板。
【００１９】
［１１］  ［１０］に記載の光学素子製造用の基板を備える光学素子。
【００２０】
［１２］  ［１１］に記載の光学素子を備える表示装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の感光性組成物は、アルカリ可溶性のシロキサンポリマーに界面活性作用の撥液剤を添加することで、成膜性、バンク表面の撥液性、耐熱性および低アウトガス性などの優れたバンクを形成することができる。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明は、成膜性、バンク表面の撥液性、高耐熱性を有しまた低アウトガス性等に優れたバンクを形成するポジ型材料に関する。
【００２３】
以下、本発明のポジ型感光性組成物について、その構成要素ごとに説明する。
【００２４】
１．  界面活性作用のある撥液剤（Ａ）
本発明のポジ型感光性組成物は界面活性作用のある撥液剤（Ａ）を含有すると、得られるバンクの表面撥液性が高くなり、有機ＥＬ素子同士の混合を防ぐことができる。
【００２５】
本発明のポジ型感光性組成物は界面活性作用のある撥液剤（Ａ）を含有しているため、成膜性に優れており、アルカリ現像液に可溶しやすい。よって現像後も、残渣等が発生しない。
【００２６】
撥液剤の撥液性を発現する基が、Ｆ原子が入っている官能基もしくはＳｉ原子が入っている官能基またはその両方の官能基を有していても構わない。より高い撥液性を得られるという観点からがフルオロアルキル基を有しており、撥液性が現像工程後でも維持されやすいという点から重量平均分子量５００以上のオリゴマーが好ましい。
【００２７】
本発明のポジ型感光性組成物に含有する撥液剤は、界面活性作用のある撥液剤である。
2016188940.tif 000004
（上図の結合基に隣接する原子は炭素原子）
【００２８】
このような界面活性剤は、アクリルの共重合およびゾルゲル法によって合成できる。
【００２９】
Ｆ系の界面活性作用のある撥液剤（Ａ）の市販品としては、フタージェント７１０ＦＳ、フタージェント７３０ＦＬ、フタージェント７３０ＬＭ、フタージェント６０１ＡＤ（商品名：（株）ネオス製）、メガファックＦ−５５２、メガファックＦ−５５５、メガファックＦ−５５８、メガファックＦ−５６１、メガファックＦ−５６２、メガファックＦ−５６８、メガファックＦ−５７１、メガファックＲＳ−７２Ｋ、メガファックＲＳ−７５、メガファックＲＳ−７６−Ｅ、メガファックＲＳ−７６−ＮＳ、メガファックＲＳ−９０（商品名：ＤＩＣ（株）製）を挙げることができる。
【００３０】
Ｓｉ系の界面活性作用のある撥液剤（Ａ）の市販品としては、ＢＹＫ３００、ＢＹＫ３０６、ＢＹＫ３１０、ＢＹＫ３２０、ＢＹＫ３３０、ＢＹＫ３４２、ＢＹＫ３４４、ＢＹＫ３４６、ＢＹＫ  ＵＶ  ３５００およびＢＹＫ  ＵＶ  ３５７０（商品名：ビックケミー・ジャパン（株）製）、ＴＥＧＯ  Ｇｌｉｄｅ  ４１０、ＴＥＧＯ  Ｇｌｉｄｅ  ４４０、ＴＥＧＯ  Ｇｌｉｄｅ  ４５０、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２２００Ｎ、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２２５０、ＴＥＧＯ  Ｒａｄ  ２３００（商品名：エボニック  デグサ  ジャパン（株）製）を挙げることができる。
【００３１】
本発明のポジ型感光性組成物において、撥液剤（Ａ）の含有量は、組成物の固形分１００質量部対し、好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．０５〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５質量部である。撥液剤（Ａ）の含有量が前記範囲であると、作製したバンクの撥液性を維持しつつバンク間の残渣が少ないので好ましい。
【００３２】
本発明のポジ型感光性組成物に用いられる界面活性作用のある撥液剤（Ａ）は、作製したバンクの撥液性がプロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート（以下、ＰＧＭＥＡと略すこともある）との接触角が１５度以上であることが好ましい。
より好ましい界面活性作用のある撥液剤（Ａ）は、組成物の固形分１００質量部に対し０．１〜５質量部の撥液剤（Ａ）を含有した組成物を用いて作製したバンクの撥液性が、ＰＧＭＥＡとの接触角が１５度以上であること好ましい。
さらに好ましい界面活性作用のある撥液剤（Ａ）は、組成物の固形分１００質量部に対し０．１〜５質量部の撥液剤（Ａ）を含有した組成物を用いて作製したバンクの撥液性が、ＰＧＭＥＡとの接触角が３０度以上であること好ましい。
【００３３】
２．シロキサンポリマー（Ｂ）
２．１．アルコキシシラン化合物
シロキサンポリマー（Ｂ）は、アルコキシシラン化合物のゾルゲル法（加水分解と重縮合）により合成される（共）重合体である。シロキサンポリマー（Ｂ）の合成に用いられるアルコキシシラン化合物は一種でも二種以上でもよい。また、ゾルゲル法によるシロキサン構造を有していればよい。よって、シロキサン構造を有す化合物を反応させて（例えば、ラジカル重合等）合成される生成物であってもよい。
【００３４】
シロキサンポリマー（Ｂ）は、アルカリに対する所望の溶解速度を有する（すなわち、アルカリに溶けやすい）ようにアルカリ可溶性が制御されていることが好ましい。シロキサンポリマー（Ｂ）のアルカリ可溶性は、シロキサンポリマー（Ｂ）中のアルコキシル基の数とポリマーの分子量によって調整することができる。
【００３５】
アルコキシラン化合物の中でも、フェニル基を有するアルコキシラン化合物（ｂ１）を用いると、またポジ型感光性組成物とした時の露光部と未露光部のアルカリ可溶性の差が大きくなるため好ましい。また、シロキサンポリマー（Ｂ）の構成要素として、アルコキシシラン化合物に加えて、フェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２）やシロキサン化合物（ｂ３）等を使用することもできる。
【００３６】
フェニル基を有するアルコキシシラン化合物（ｂ１）の具体例として、ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシラン、ジフェニルジメトキシラン、ｍ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｍ−アミノフェニルトリメトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリエトキシシラン、ｐ−アミノフェニルトリメトキシシラン、３−（ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリエトキシシラン、３−（ｍ−アミノフェノキシ）プロピルトリメトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、（フェニルアミノエチル）メチルジエトキシラン、（フェニルアミノエチル）メチルジメトキシラン、Ｎ−フェニルアミノエチルトリエトキシシラン、Ｎ−フェニルアミノエチルトリメトキシシラン、ベンゾイルオキシプロピルトリエトキシシランおよびベンゾイルオキシプロピルトリメトキシシランがある。
【００３７】
フェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２）の具体例は、フェニル基を有さない四官能のアルコキシシラン化合物（ｂ２−４）としては、テトラブトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラエトキシシラン、およびテトラメトキシシランが挙げられる。
【００３８】
また、フェニル基を有さない三官能のアルコキシシラン化合物（ｂ２−３）としては、（３−ブロモプロピル）トリメトキシシラン、（３−メルカプトプロピル）トリエトキシシラン、（３−メルカプトプロピル）トリメトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、１−［３−（トリメトキシシリル）プロピル］尿素、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−シアノエチルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリエトキシシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルトリメトキシシラン、イソシアン酸−３−（トリエトキシシリル）プロピル、アクリル酸−３−（トリメトキシシリル）プロピル、メタクリル酸−３−（トリメトキシシリル）プロピル、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリエトキシシラン、３−グリシジルオキシプロピルトリメトキシシラン、３−トリメトキシシリルプロピルクロリド、３−ウレイドプロピルトリエトキシシラン、メタクリル酸−３−［トリス（トリメチルシリルオキシ）シリル］プロピル、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、シクロヘキシルトリメトキシシラン、ドデシルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、オクタデシルトリエトキシシラン、オクタデシルトリメトキシシラン、ペンチルトリエトキシシラン、トリメトキシ（ｐ−トリル）シラン、トリエトキシメチルシラン、［ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２−イル］トリエトキシシラン、トリエトキシ−１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−トリデカフルオロ−ｎ−オクチルシラン、トリエトキシエチルシラン、トリエトキシフルオロシラン、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、およびトリメトキシ［３−（フェニルアミノ）プロピル］シランが挙げられる。また、フェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２）の中には、アルカリ可溶性の観点から、三官能のアルコキシシラン化合物を含むのが好ましい。
【００３９】
また、フェニル基を有さない二官能のアルコキシシラン化合物（ｂ２−２）としては、例えば、ジエトキシジメチルシラン、ジメトキシジメチルシラン、３−（２−アミノエチルアミノ）プロピルジメトキシメチルシラン、３−アミノプロピルジエトキシメチルシラン、３−クロロプロピルジメトキシメチルシラン、３−グリシジルオキシプロピルジメトキシメチルシラン、３−メルカプトプロピルジメトキシメチルシラン、シクロヘキシルジメトキシメチルシラン、ジエトキシ（３−グリシジルオキシプロピル）メチルシラン、ジエトキシメチルフェニルシラン、ジメトキシメチルフェニルシラン、ジエトキシジフェニルシラン、ジメトキシジフェニルシラン、ジエトキシメチルシラン、ジメトキシメチルシラン、ジエトキシメチルビニルシラン、ジメトキシメチルビニルシラン、およびジメトキシジ−ｐ−トリルシランが挙げられる。また一つのアルコキシル基を有する単官能のアルコキシシラン化合物としては、例えば、エトキシトリエチルシラン、メトキシトリメチルシラン、およびトリメチルエトキシシランが挙げられる。また、フェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２）の中には、アルカリ可溶性の観点から、二官能のアルコキシシラン化合物を含むのが好ましい。
【００４０】
シロキサン化合物（ｂ３）としては、詳しくは、シラノール化合物、またはジシロキサン、テトラシロキサンを挙げることができる。シラノール化合物としては、例えば、ジフェニルシランジオール、ジエチル（イソプロピル）シラノール、トリエチルシラノール、およびトリフェニルシラノールが挙げられる。またシロキサン化合物としては、例えば、ヘキサメチルジシロキサン、およびオクタメチルシクロテトラシロキサンが挙げられる。
【００４１】
これらのアルコキシシラン化合物類を用いたシロキサンポリマーは、高温での焼成による劣化がほとんどなく、また現像時のアルカリ水溶液に対する溶解性が高く、すなわち現像性が高く、容易にパターン状膜が得られ、かつ耐溶剤性、高耐水性、耐アルカリ性、耐熱性、アウトガスが少なく、さらには下地との密着性が高くなる。
【００４２】
シロキサンポリマー（Ｂ）は、一種類以上のフェニル基を有するアルコキシシラン化合物（ｂ１）と一種類以上のフェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２）により合成されることが望ましい。このように構成したシロキサンポリマー（Ｂ）を用いたポジ型感光性組成物にすると、後述する１，２‐ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）を添加した場合の効果も十分に保たれる。すなわち、このようなポジ型感光性組成物を感光させた場合に、露光部分はアルカリに対して十分可溶であるが、未露光部分は膜として残すことが容易となる。
【００４３】
上記具体例の中でも、フェニル基を有するアルコキシシラン化合物（ｂ１）として、ベンジルトリエトキシシラン、ベンジルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、ジフェニルジエトキシラン、ジフェニルジメトキシラン、フェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２）として、テトラエトキシシラン、テトラメチルシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、トリエトキシビニルシラン、トリメトキシビニルシラン、トリエトキシシラン、トリメトキシシラン、ジエトキシジメチルしラン、ジメトキシジメチルシラン、エトキシトリメチルシラン、メトキシトリメチルシラン、ジフェニルシランジオールは入手が容易であり、得られたパターン状の耐溶剤性、耐水性、耐アルカリ性、アウトガスが少なく、さらには下地との密着性を高める観点から好ましい。
【００４４】
本発明に使用するシロキサンポリマー（Ｂ）自体の性質としては、アルカリ可溶性を有することが好ましい。本発明において、アルカリ可溶性とは、シロキサンポリマー（Ｂ）の溶液をスピンコートによって基板に塗布し、１００℃で２分間加熱して形成される厚さ０．０１〜１００μｍの被膜を、２５℃の２．３８質量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液で５分間浸した後に純水ですすいだときに、前記被膜が残こらない程度にアルカリへ溶解する性質を言う。
【００４５】
シロキサンポリマー（Ｂ）の前記原料における全アルコキシシラン化合物の総量に対するフェニル基を有するアルコキシシラン化合物（ｂ１）の含有量は、シロキサンポリマーの分子量の抑制と、パターニング時の感度向上との観点から、１０〜８０質量％であることが好ましく、１５〜７０質量％であることがより好ましく、２０〜６０質量％であることがさらに好ましい。
【００４６】
また、シロキサンポリマー（Ｂ）の前記原料における全アルコキシシラン化合物の総量に対して、フェニル基を有さない四官能のアルコキシシラン化合物（ｂ２−４）の含有量は、シロキサンポリマーの分子量増加と、アルカリ可溶性の付与との観点から、１０〜６０質量％であることが好ましく、１５〜５０質量％であることがより好ましく、２０〜４０質量％であることがさらに好ましい。
【００４７】
また、シロキサンポリマー（Ｂ）の前記原料における全アルコキシシラン化合物の総量に対して、フェニル基を有さない三官能アルコキシシラン化合物（ｂ２−３）の含有量は、シロキサンポリマーの分子量増加と、アルカリ可溶性の付与との観点から、０．１〜４０質量％であることが好ましく、０．５〜３０質量％であることがより好ましく、１〜２０質量％であることがさらに好ましい。
【００４８】
また、シロキサンポリマー（Ｂ）の前記原料における全アルコキシシラン化合物の総量に対して、二官能のフェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２−２）の含有量は、シロキサンポリマーの分子量の抑制と、パターニング時の感度向上との観点から、０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜１５質量％であることがより好ましく、３〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【００４９】
シロキサンポリマー（Ｂ）の前記原料における全アルコキシシラン化合物の総量に対して、単官能のフェニル基を有さないアルコキシシラン化合物（ｂ２−１）の含有量は、シロキサンポリマーの分子量の抑制の観点から、０．１〜３０質量％であることが好ましく、１〜２０質量％であることがより好ましく、３〜１０質量％であることがさらに好ましい。
【００５０】
２．２．触媒
シロキサンポリマー（Ｂ）の合成には触媒を用いてもよい。触媒として、酸触媒または塩基触媒を用いることができる。酸触媒としては、ギ酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、硝酸、硫酸、塩酸、ホウ酸、リン酸、シュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スベリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、陽イオン交換樹脂等、また塩基触媒としてはアンモニア、トリエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、陰イオン交換樹脂等が挙げられる。なかでも、酸触媒を用いると、均等に反応が進むため望ましい。酸触媒の中でも、取扱や後工程での留去および濾過が比較的容易である観点から、ギ酸、酢酸および陽イオン交換樹脂がより望ましい。触媒の使用量は、特に限定されないが、一価の酸または塩基として、前記、全アルコキシシラン化合物量に対して触媒量は１０〜４５質量％であることが好ましく、さらに好ましくは１５〜４０質量％であり、より好ましくは２０〜３５質量％である。触媒は水に薄めて水溶液として用いてもよく、水溶液として市販されているものを用いてもよい。
【００５１】
２．３．水分
シロキサンポリマー（Ｂ）の合成に用いられる水分量は、特に限定されないが、アルコキシラン化合物等が析出しない量を添加すれば十分である。ポリマーの溶解性および分子量増加の観点から、好ましくは、（水分量のモル数）／（全アルコキシラン化合物のアルコキシル基のモル数）が０．３０〜１．００、さらに好ましくは、０．５０〜０．９５、より好ましくは０．７０〜０．９０である。
【００５２】
２．４．溶媒
シロキサンポリマー（Ｂ）の合成反応は、溶媒中で行うことができる。溶媒は、原料として使用するアルコキシシラン化合物類、そして生成物が溶解する溶媒が好ましい。ここで用いる溶媒は、反応後に除去せずに、本発明のポジ型感光性組成物を構成する溶媒（Ｄ）の一部として残ってもかまわない。当該溶媒としては、例えばメタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール、１−ブタノール、２−ブタノール、イソブチルアルコール、ｔｅｒｔ−ブチルアルコール、アセトン、２−ブタノン、酢酸エチル、酢酸プロピル、テトラヒドロフラン、アセトニトリル、ジオキサン、トルエン、キシレン、シクロヘキサノン、エチレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、３−メトキシプロピオン酸メチル、ジプロピレングリコールジメチルエーテルおよび３−エトキシプロピオン酸エチルが挙げられる。溶媒は、これらの一種であってもよいし、これらの二種以上の混合物であってもよい。
【００５３】
２．５．温度
シロキサンポリマー（Ｂ）の合成反応における温度は特に限定されないが、通常５０℃〜１５０℃の範囲である。合成途中で発生するアルコールを除去すると同時に、加水分解縮合を促進させポリマーの分子量を増加させる工程を含んでもよいものとする。合成反応時間も特に限定されないが、通常１〜４８時間の範囲である。また、当該合成は、加圧、減圧または大気圧のいずれの圧力下でも行うことができる。留去は減圧でも常圧でも可能で、常圧では留去温度は通常１００℃〜１５０℃程度である。
【００５４】
シロキサンポリマー（Ｂ）は、ポリスチレンを標準としたＧＰＣ分析で求めた重量平均分子量が５００〜１０，０００の範囲であると、露光部分がアルカリ現像液で溶解されるまでの現像時間が適正であり、かつ、現像時に膜の表面が荒れにくくなり好ましい。さらに、重量平均分子量が１，０００〜８，０００の範囲であると、未露光部分がアルカリ現像液で溶解されるまでの時間が０．５〜５分であり、かつ、現像時に膜の表面が荒にくく、現像残渣も極めて少なくなるので、いっそう好ましい。同様の理由により、重量平均分子量が２，０００〜７，０００の範囲であると、特にいっそう好ましい。
【００５５】
シロキサンポリマー（Ｂ）の数平均分子量および重量平均分子量は、標準のポリスチレンには分子量が６４５〜１３２９００のポリスチレン（例えば、ＶＡＲＩＡＮ  Ｉｎｃ．製のポリスチレンキャリブレーションキットＰＬ２０１０−０１０２）、カラムにはＰＬｇｅｌ  ＭＩＸＥＤ−Ｄ（ＶＡＲＩＡＮ  Ｉｎｃ．製）を用い、移動相としてＴＨＦを使用して測定することができる。なお、本特許中に記された分子量は上記方法で測定を行った。
【００５６】
３．１．２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）
１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）には、例えばレジスト分野において感光剤として使用される化合物を用いることができる。１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）は一種でも二種以上でもよい。１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）としては、例えば、フェノール化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸または１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、フェノール化合物の水酸基をアミノ基に置き換えた化合物と１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸または１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのスルホンアミドが挙げられる。
【００５７】
前記フェノール化合物としては、例えば、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，３’，４−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェ
ニル］エチリデン］ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２’,３’,４’―トリヒドロキシフェニル）プロパン、テトラエチルカリックス［４］レゾルシナレン、ビス｛３−（４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル｝メタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２’,３’,４’―トリヒドロキシフェニル）プロパンおよびトリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが挙げられる。
【００５８】
１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）として、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸とのエステル、２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールと１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸とのエステル、または４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２’,３’,４’―トリヒドロキシフェニル）プロパンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、テトラエチルカリックス［４］レゾルシナレンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸のエステル、ビス｛３−（４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル｝メタンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸とのエステル、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２’,３’,４’―トリヒドロキシフェニル）プロパンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸のエステル、およびトリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸のエステルが挙げられる。
【００５９】
また、本発明の感光性組成物において、１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｃ）の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）を１００質量部に対し、５〜５０質量部であることが好ましい。
【００６０】
４．溶媒（Ｄ）
溶媒（Ｄ）は、前記の成分（Ａ）〜（Ｃ）を溶解する成分であればよく、通常の有機溶媒のうちの一種でも二種以上でもよい。また溶媒（Ｄ）は、沸点が１００℃〜３００℃であることが好ましい。沸点が１００℃〜３００℃である溶媒としては、例えば、酢酸ブチル、プロピオン酸ブチル、乳酸エチル、オキシ酢酸メチル、オキシ酢酸エチル、オキシ酢酸ブチル、メトキシ酢酸メチル、メトキシ酢酸エチル、メトキシ酢酸ブチル、エトキシ酢酸メチル、エトキシ酢酸エチル、３−オキシプロピオン酸メチル、３−オキシプロピオン酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸メチル、２−オキシプロピオン酸エチル、２−オキシプロピオン酸プロピル、２−メトキシプロピオン酸メチル、２−メトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシプロピオン酸プロピル、２−エトキシプロピオン酸メチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−オキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−メトキシ−２−メチルプロピオン酸メチル、２−エトキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、ピルビン酸プロピル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−オキソブタン酸メチル、２−オキソブタン酸エチル、ジオキサン、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、エチレングリコールモノイソプロピルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノプロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、トルエン、キシレン、γ−ブチロラクトン、ジプロピレングリコールジメチルエーテルおよびＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミドが挙げられる。これらは、前記の成分（Ａ）〜（Ｃ）を溶解させる範囲であれば、単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００６１】
前記溶媒（Ｄ）は、沸点が１００〜３００℃である前記の溶媒を２０質量％以上含有する混合溶媒であってもよい。混合溶媒における、沸点が１００〜３００℃である溶媒以外の溶媒には、公知の溶媒の一または二以上を用いることができる。
【００６２】
前記溶媒（Ｄ）がプロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、乳酸エチルおよび酢酸ブチルからなる群から選ばれる少なくとも一つを含むことは、本発明の感光性組成物の塗布均一性を高める観点からより好ましい。さらに、前記溶媒（Ｄ）がプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ジエチレングリコールメチルエチルエーテル、乳酸エチル、および酢酸ブチルからなる群から選ばれる少なくとも一つを含むことは、本発明の感光性組成物の塗布均一性を高める観点、および人体への安全性の観点からよりいっそう好ましい。
【００６３】
溶媒（Ｄ）の含有量は、本発明の感光性組成物において、固形分の濃度が総量で５〜５０質量％になる量であることが好ましい。
【００６４】
５．下記式（１）で表される架橋剤（Ｅ）
一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｅ）  前記一般式（１）中、Ｒは独立して、水素、炭素数が１〜４５のアルキル、炭素数が４〜８のシクロアルキル、または炭素数６〜１０の置換もしくは非置換のアリールを表す。前記Ｒにおける炭素数が１〜４５のアルキルおよび炭素数が４〜８のシクロアルキルは、それぞれ、任意の水素がフッ素で置き換えられてもよく、また隣接しない−ＣＨ２−が−Ｏ−または炭素数５〜１８のシクロアルキレンで置き換えられてもよい。
2016188940.tif 000005
【００６５】
前記Ｒのアルキルは、耐熱性の観点から、メチルであることが好ましい。また、前記Ｒのシクロアルキルは、耐熱性の観点から、シクロヘキシルであることが好ましい。さらに前記Ｒのアリールは、耐熱性の観点から、フェニルであることが好ましい。
【００６６】
また、前記Ｒにおける置換アリールのベンゼン環において、ベンゼン環に結合している任意の水素は独立して炭素数が１〜１０のアルキル、またはハロゲンで置き換えられてもよい。また置換アリールにおける置換基は、特に限定されないが、耐熱性の観点からメチル、フッ素であることが好ましい。このような置換アリールとしては、例えば４−メチルフェニル、４−フルオロフェニル、３，４−ジフルオロフェニル、および３，４，５−トリフルオロフェニルが挙げられる。
【００６７】
好ましい前記Ｒとしては、例えばメチル、フェニルが挙げられる。
【００６８】
また一般式（１）中、Ｘは独立して、水素、−ＳｉＭｅ２Ｈ、−ＳｉＭｅ３、−ＳｉＭｅ−（ＣＨ２）３−ＯＯＣＣ（Ｍｅ）＝ＣＨ２、−ＳｉＭｅ２（ＣＨ２）３ＣＯＯＨ、または、下記式（２−１）または（２−２）で表わされる基を表す。
2016188940.tif 000006
【００６９】
前記一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｅ）は一種でも二種以上でもよい。一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｅ）は、目的に応じて官能基の種類、数を選択することが可能であり、要求特性に応じて最適な化合物を選ぶことができる。また、一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｅ）を組成物に添加することも可能であるし、またはシロキサンポリマー（Ｂ）と反応させて構造の一部に組み込むことも可能である。
【００７０】
一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｅ）は、特許第４５８１４７２号公報または特許第４４７０７３８号公報に記載の方法により容易に合成することができる。
【００７１】
一般式（Ｉ）で表される化合物（Ｅ）は、分子レベルで構造が制御されており、他成分との相溶性にも優れ、該感光性組成物からパターン状膜を形成した際に、表面荒れもなく、均一な性質の膜を得ることが可能である。
【００７２】
本発明の感光性組成物における前記化合物（Ｅ）の含有量は、耐熱性および撥液性および現像性等の一般に要求される諸特性を十分に発現させる観点から、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対して０．１〜３０質量部であることが好ましく、０．１〜２０質量部であることがより好ましく、０．１〜１０質量部であることがさらに好ましい。
【００７３】
６．その他の成分
本発明の感光性組成物は、本発明の効果が得られる範囲において、前述した成分（Ａ）〜（Ｅ）以外の他の成分をさらに含有していてもよい。本発明の感光性組成物には、解像度、塗布均一性、現像性、密着性を向上させるために各種の添加剤を添加することができる。このような添加剤としては、例えば、アニオン系、カチオン系、ノニオン系、フッ素系またはシリコン系等の界面活性剤、アクリル系、スチレン系、ポリエチレンイミン系またはウレタン系等の高分子分散剤、有機カルボン酸、フェノール化合物または酸発生剤等のアルカリ溶解性促進剤、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系またはイオウ系化合物等の酸化防止剤、シランカップリング剤等の密着性向上剤、アルコキシベンゾフェノン類等の紫外線吸収剤、ポリアクリル酸ナトリウム等の凝集防止剤、エポキシ化合物、メラミン化合物またはビスアジド化合物等の熱架橋剤が挙げられる。なお、これらの添加剤は単独でも、複数の添加剤を併用してもよい。
【００７４】
６．１．界面活性剤、
本組成物は界面活性作用のある撥液剤（Ａ）を含んでいることは、上に述べた。更なる成膜性等向上のため、上記撥液剤（Ａ）とは別の界面活性剤を添加してもよい。そのような界面活性剤として使用される化合物は一種でも二種以上でもよい。このような界面活性剤としては、例えば、ポリフローＮｏ．４５、ポリフローＫＬ−４０１、ポリフローＫＬ−４０３、ポリフローＮｏ．７５、ポリフローＮｏ．７７ポリフローＮｏ．９０、ポリフローＮｏ．９５、ポリフローＮｏ．９９Ｃ（以上いずれも商標、共栄社化学工業（株）製）ＫＰ−１０４、ＫＰ−１１０、ＫＰ−３２３、ＫＰ−３４１、ＫＰ−３５８、ＫＰ−３６８、ＫＦ−９６−５０ＣＳ、ＫＦ−５０−１００ＣＳ（以上いずれも商標、信越化学工業（株）製）、フタージェント１５０、フタージェント１５０ＣＨ、フタージェント２５１、フタージェント２１２Ｍ、フタージェント２１５Ｍ、フタージェント２２０Ｐ、フタージェントＦＴＸ−２１８、フタージェントＤＦＸ−１８（以上いずれも商標、（株）ネオス製）、メガファックＦ−２５１、メガファックＦ−４７７、メガファックＦ−５５４、メガファックＦ−５５６、メガファックＦ−５５７、メガファックＦ−５５９、メガファックＦ−５６０、メガファックＦ−５６３、メガファックＦ−５６５、メガファックＦ−５６７、メガファックＲ−０８、メガファックＲ−３０（以上いずれも商標、ＤＩＣ（株）製）、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、フルオロアルキルアミノスルホン酸塩、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレントリデシルエーテル、ポリオキシエチレンセチルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンラウレート、ポリオキシエチレンオレレート、ポリオキシエチレンステアレート、ポリオキシエチレンラウリルアミン、ソルビタンラウレート、ソルビタンパルミテート、ソルビタンステアレート、ソルビタンオレエート、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタンラウレート、ポリオキシエチレンソルビタンパルミテート、ポリオキシエチレンソルビタンステアレート、ポリオキシエチレンソルビタンオレエート、ポリオキシエチレンナフチルエーテル、アルキルベンゼンスルホン酸塩、およびアルキルジフェニルエーテルジスルホン酸塩が挙げられる。
【００７５】
これらの中でも、フルオロアルキルベンゼンスルホン酸塩、フルオルアルキルカルボン酸塩、フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル、フルオロアルキルアンモニウムヨージド、フルオロアルキルベタイン、フルオロアルキルスルホン酸塩、ジグリセリンテトラキス（フルオロアルキルポリオキシエチレンエーテル）、フルオロアルキルトリメチルアンモニウム塩、およびフルオロアルキルアミノスルホン酸塩からなる群から選ばれる少なくとも一種が前記添加剤に含まれることは、本発明の感光性組成物の塗布均一性を高める観点から好ましい。
【００７６】
本発明の感光性組成物における界面活性剤の含有量は、それぞれ、組成物の固形分１００質量部に対し、好ましくは０．０１〜２０質量部、より好ましくは０．０５〜１０質量部、さらに好ましくは０．１〜５質量部である。
【００７７】
６．２．アルカリ溶解性促進剤
前記アルカリ溶解性促進剤には、有機カルボン酸、フェノール化合物および酸発生剤を用いることができる。アルカリ溶解性促進剤には、有機カルボン酸とフェノール化合物を併用してもよく単独でも用いてもよい。
【００７８】
６．２．１．有機カルボン酸
アルカリ溶解性促進剤に使用される有機カルボン酸は一種でも二種以上でもよい。有機カルボン酸としては、多価カルボン酸が好ましく、このような多価カルボン酸としては、例えば無水トリメリット酸、無水フタル酸、および４−メチルシクロヘキサン−１，２−ジカルボン酸無水物が挙げられる。これらの多価カルボン酸の中でも無水トリメリット酸が好ましい。
【００７９】
本発明の感光性組成物に多価カルボン酸が添加されると、感光性組成物のアルカリ可溶性を高めることができる。また、多価カルボン酸のカルボキシルは、感光性組成物にエポキシが含まれる場合に、これらと反応して、耐熱性、耐薬品性をさらに向上させることができる。
【００８０】
本発明の感光性組成物における前記有機カルボン酸の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対し、１〜３０質量部であることが好ましく、２〜２０質量部であることがより好ましい。
【００８１】
６．２．２．フェノール化合物
アルカリ溶解性促進剤に使用されるフェノール化合物は一種でも二種以上でもよい。フェノール化合物としては、例えば２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，４，６−トリヒドロキシベンゾフェノン、２，２’，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，３’，４−テトラヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノン、ビス（２，４−ジヒドロキシフェニル）メタン、ビス（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１，１−トリ（ｐ−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（２，３，４−トリヒドロキシフェニル）プロパン、１，１，３−トリス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−３−フェニルプロパン、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノール、ビス（２，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシフェニルメタン、３，３，３’，３’−テトラメチル−１，１’−スピロビインデン−５，６，７，５’，６’，７’−ヘキサノール、および２，２，４−トリメチル−７，２’，４’−トリヒドロキシフラバン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２’,３’,４’―トリヒドロキシフェニル）プロパン、テトラエチルカリックス［４］レゾルシナレン、ビス｛３−（４−ヒドロキシベンジル）−４−ヒドロキシ−２，５−ジメチルフェニル｝メタン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−２−（２’,３’,４’―トリヒドロキシフェニル）プロパンおよびトリス（４−ヒドロキシフェニル）エタンが挙げられる。これらのフェノール化合物の中でも、４，４’−［１−［４−［１−［４−ヒドロキシフェニル］−１−メチルエチル］フェニル］エチリデン］ビスフェノールが好ましい。
【００８２】
本発明の感光性組成物にフェノール化合物が添加されると、感光性組成物のアルカリ可
溶性を高めることができる。また、フェノール化合物のフェノールは、感光性組成物にエ
ポキシが含まれる場合に、これらと反応して、耐熱性、耐薬品性をさらに向上させること
ができる。
【００８３】
本発明の感光性組成物におけるフェノール化合物の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対し、１〜５０質量部であることが好ましく、５〜２０質量部であることがより好ましい。
【００８４】
６．２．３．酸発生剤
酸発生剤は、該組成物中で均一に溶解するものが好ましい。酸発生剤（Ｅ）としては、トリアリールスルホニウム塩等の芳香族ヨードニウム塩、ジアリールヨードニウム塩等の芳香族ヨードニウム塩などのオニウム塩、スルホン酸のニトロベンジルエステルなどの非イオン性の開始剤が挙げられる。
【００８５】
本発明の感光性組成物に酸発生剤が添加されると、感光性組成物のアルカリ可溶性を高めることができる。また、酸発生剤から発生する酸は、感光性組成物にエポキシが含まれる場合に、これらと反応して、耐熱性、耐薬品性をさらに向上させることができる。
【００８６】
本発明の感光性組成物における前記酸発生剤の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部であることが好ましく、０．０５〜５質量部であることがより好ましい。
【００８７】
６．４．酸化防止剤
前記酸化防止剤には、ヒンダードフェノール系、ヒンダードアミン系、リン系、およびイオウ系化合物の酸化防止剤を好適に用いることができる。酸化防止剤は一種でも二種以上でもよい。酸化防止剤は、ヒンダードフェノール系化合物の酸化防止剤であることが耐候性の観点から好ましい。このような酸化防止剤としては、例えばＩｒｇａｎｏｘ１０１０、ＩｒｇａｎｏｘＦＦ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１０３５ＦＦ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６ＦＤ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０７６ＤＷＪ、Ｉｒｇａｎｏｘ１０９８、Ｉｒｇａｎｏｘ１１３５、Ｉｒｇａｎｏｘ１３３０、Ｉｒｇａｎｏｘ１７２６、Ｉｒｇａｎｏｘ１４２５  ＷＬ、Ｉｒｇａｎｏｘ１５２０Ｌ、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５ＦＦ、Ｉｒｇａｎｏｘ２４５ＤＷＪ、Ｉｒｇａｎｏｘ２５９、Ｉｒｇａｎｏｘ３１１４、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５、Ｉｒｇａｎｏｘ５６５ＤＤ、Ｉｒｇａｎｏｘ２９５（商品名：ＢＡＳＦジャパン（株）製）、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−２０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−３０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−５０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−６０、ＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−７０、およびＡＤＫ  ＳＴＡＢ  ＡＯ−８０（商品名：（株）ＡＤＥＫＡ製）が挙げられる。この中でもＩｒｇａｎｏｘ１０１０がより好ましい。
【００８８】
本発明の感光性組成物における酸化防止剤の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対し、０．１〜１５質量部であることが好ましく、１〜１０質量部であることがより好ましい。
【００８９】
６．５．密着性向上剤
前記密着性向上剤は、感光性組成物と基板との密着性を向上させるために使用される。密着性向上剤には、カップリング剤を好適に用いることができる。密着性向上剤は一種でも二種以上でもよい。前記カップリング剤には、シラン系、アルミニウム系またはチタネート系の化合物を用いることができる。このようなカップリング剤としては、例えば３−グリシドキシプロピルジメチルエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、アセトアルコキシアルミニウムジイソプロピレート、およびテトライソプロピルビス（ジオクチルホスファイト）チタネートが挙げられる。これらの中でも、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシランが、密着性を向上させる効果が大きいため好ましい。
【００９０】
本発明の感光性組成物における密着性向上剤の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１
００質量部に対し１０質量部以下であることが好ましい。
【００９１】
６．６．紫外線吸収剤
前記紫外線吸収剤には、アルコキシベンゾフェノン類等の、感光性組成物において紫外線吸収剤として用いられる成分を用いることができる。紫外線吸収剤は一種でも二種以上でもよい。このような紫外線吸収剤としては、例えばチヌビンＰ、チヌビン１２０、チヌビン１４４、チヌビン２１３、チヌビン２３４、チヌビン３２６、チヌビン５７１、チヌビン７６５（以上いずれも商標、ＢＡＳＦジャパン（株）製）が挙げられる。
【００９２】
本発明の感光性組成物における紫外線吸収剤の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対し、０．０１〜１０質量部であることが好ましく、０．１〜５質量部であることがより好ましい。
【００９３】
６．７．熱架橋剤
前記熱架橋剤には、感光性組成物を材料とする成膜における加熱条件下で架橋反応を起こす成分を用いることができる。熱架橋剤は一種でも二種以上でもよい。熱架橋剤にはエポキシ化合物等の熱架橋剤を用いることができ、このような熱架橋剤としては、例えばエピコート８０７、エピコート８１５、エピコート８２５、エピコート８２７、エピコート８２８、エピコート１９０Ｐ、エピコート１９１Ｐ、エピコート１００４、エピコート１２５６、ＹＸ８０００（商品名：ジャパンエポキシレジン（株）製）、アラルダイトＣＹ１７７、アラルダイトＣＹ１８４（商品名：ＢＡＳＦジャパン（株）製）、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド３０００、ＥＨＰＥ−３１５０（商品名：ダイセル化学工業（株）製）、テクモアＶＧ３１０１Ｌ（商品名：（株）プリンテック製））ｊＥＲ８０７、ｊＥＲ８１５、ｊＥＲ８２５、ｊＥＲ８２７、ｊＥＲ８２８、ｊＥＲ１９０Ｐ、ｊＥＲ１９１Ｐ、ｊＥＲ１００４、ｊＥＲ１２５６、ｊＥＲ１５７Ｓ７０、ｊＥＲ１０３２Ｈ６０」（商品名：三菱化学（株）製）、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−４０３２Ｄ、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−４７００、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−７２４０、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−７２００、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−７２００Ｈ、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＨＰ−７２００ＨＨ、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−７２６０、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−７３３５、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−４７７０、ＥＰＩＣＬＯＮ  ＥＸＡ−４８５０（商品名：ＤＩＣ（株）製）、アラルダイトＣＹ１７７、アラルダイトＣＹ１８４（商品名：ハンツマン・ジャパン（株）製）、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−ｍ−キシレンジアミン、１，３−ビス（Ｎ，Ｎ−ジグリシジルアミノメチル）シクロヘキサン、およびＮ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラグリシジル−４，４’−ジアミノジフェニルメタンが挙げられる。
【００９４】
本発明の感光性組成物における熱架橋剤の含有量は、シロキサンポリマー（Ｂ）１００質量部に対し、１〜３０質量部であることが好ましく、５〜１５質量部であることがより好ましい。
【００９５】
７．保存条件
本発明の感光性組成物は、温度−３０℃〜２５℃の範囲で遮光して保存することが、感光性組成物の経時安定性の観点から好ましい。保存温度が−２０℃〜１０℃であれば、感光性組成物からの析出物の発生を防止する観点からよりいっそう好ましい。
【００９６】
８．パターン状膜形成法
本発明のパターン状膜は、前述の本発明の感光性組成物の塗膜の露光、現像および焼成によって形成される。例えば、本発明のパターン状膜は、レジスト分野において膜を形成する通常の方法で形成することができ、例えば以下のようにして形成される。
【００９７】
まず、本発明の感光性組成物をスピンコート、ロールコート、スリットコート等の公知の方法により、ガラス等の基板上に塗布する。基板としては、例えば、白板ガラス、青板ガラス、シリカコート青板ガラス等の透明ガラス基板、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、ポリエステル、アクリル、塩化ビニール、芳香族ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミド等の合成樹脂製シート、フィルムまたは基板、アルミニウム板、銅板、ニッケル板、ステンレス板等の金属基板、その他セラミック板、および光電変換素子を有する半導体基板が挙げられる。これらの基板には、所望により、シランカップリング剤等の薬品処理、プラズマ処理、イオンプレーティング、スパッタリング、気相反応法、ＵＶアッシングおよび真空蒸着等の前処理を行うことができる。
【００９８】
次に、基板上の感光性組成物の塗膜をホットプレートまたはオーブンで乾燥する。通常、６０〜１２０℃で１〜５分間乾燥する。乾燥した基板上の前記膜に、所望のパターン形状を有するマスクを介して紫外線等を照射する。照射条件は、感光性組成物中の感光剤が１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｂ）であることから、ｉ線で５〜１０００ｍＪ／ｃｍ２（ウシオ電機（株）製の受光器ＵＶＤ−３６５ＰＤ（３６５ｎｍ換算）を取り付けた積算光量計ＵＩＴ−１５０で測定した値）が適当である。紫外線の当たった部分の１，２−ナフトキノンジアジド化合物（Ｂ）はインデンカルボン酸となり速やかに現像液に溶解する。
【００９９】
紫外線照射後の膜は、アルカリ水溶液等の現像液を用いて現像される。この現像により、前記膜における紫外線が照射された部分は速やかに現像液に溶解する。現像方法は特に限定されず、ディップ現像、パドル現像、シャワー現像のいずれも用いることができる。
【０１００】
前記現像液はアルカリ水溶液が好ましい。アルカリ性水溶液としては、例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシドおよび２−ヒドロキシエチルトリメチルアンモニウムハイドロオキサイド等の有機アルカリ性水溶液や、炭酸ナトリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素カリウム、水酸化ナトリウムおよび水酸化カリウム等の無機アルカリ性水溶液があげられる。
【０１０１】
現像液には現像残渣の低減やパターン形状の適性化を目的として、メタノール、エタノールや界面活性剤を添加してもよい。界面活性剤には、例えばアニオン系、カチオン系、およびノニオン系から選択される界面活性剤を使用することができる。これらの中でも、特に、ノニオン系のポリオキシエチレンアルキルエーテルを添加すると、解像度を高める観点から好ましい。
【０１０２】
本発明のパターン状膜は、ＥＬ表示素子等の表示素子における所望の用途に応じた通常の厚さで形成することができる。本発明のパターン状膜の膜厚は、耐クラック性の十分な発現の観点から５μｍ以下であることが好ましく、前記の所望の用途の実現の観点から１μｍ以上であることが好ましい。パターン状膜の膜厚は、本発明の感光性組成物の粘度や本発明の感光性組成物における固形物の濃度によって調整することができる。本発明のパターン状膜は、前述したような２００℃以上の高い温度で焼成することから、表示素子の種々の工程の条件に晒されたときの膜の物性の変化が抑制される。
【０１０３】
本発明の感光性組成物はきわめて残渣が少ないが所望により、バンク形成後に、バンク間の残渣を取り除く目的の工程（ＵＶアッシング工程等）をいれてもよいものとする。
【０１０４】
本発明の好ましい態様に係る感光性組成物が形成するバンクは、低アウトガス性、高耐溶剤性、高耐水性、高耐酸性、高耐アルカリ性、高耐熱性に優れ、下地との密着性等の各種特性をさらに有する。よって、当該感光性組成物を用いたＥＬ表示素子等は、その製造後工程において２００〜３００℃の高温下に晒されても、または溶剤、酸、アルカリ溶液等に浸漬、接触、熱処理等がなされても、膜に表面荒れが発生しにくい。その結果、それを用いた表示素子等の製品の表示品位を高めることができる。
【実施例】
【０１０５】
以下、実施例により本発明をさらに説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。
【０１０６】
［合成例１］共重合体（Ｂ１）の合成  
攪拌器付四つ口２Ｌフラスコに、溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル、モノマーとしてテトラエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、およびフェニルトリメトキシシランを下記の質量で仕込んだ後、系内を撹拌した。ギ酸（８８％水溶液）１８７．７ｇと純水１２０．７ｇを混ぜてギ酸水溶液を作り系内の温度が上がらないようにゆっくり滴下を行った。その後、オイルバスの温度を１００℃に設定し１時間還流した後、低沸点分子を留去しながら１時間反応させ、オイルバスの温度を上げ１５０℃に設定し３時間低沸点分子を留去しながら反応を行った。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル        ５８５．８ｇ
テトラエトキシシラン                            ２７９．７ｇ
ジメチルジメトキシシラン                          ４０．４ｇ
フェニルトリメトキシシラン                      ２６６．０ｇ
得られたポリマー溶液の分子量を測定したところ数平均分子量Ｍｎ＝１，９００、重量平均分子量Ｍｗ＝４，３００であった。ガスクロマトグラフィーにて固形分を測定したところ約３８質量％であった。
【０１０７】
［合成例２］共重合体（Ｂ２）の合成  
溶媒およびモノマーの仕込み量を下記質量に変更し、ギ酸を（８８質量％水溶液）４９．４ｇ、純水を１５８．８ｇの質量に変更した。その後、オイルバスの温度を１００℃に設定し１時間還流した後、低沸点分子を留去しながら１時間反応させ、さらに温度を上げ１５０℃に設定し５時間低沸点分子を留去しながら反応を行った。それ以外は合成例１と同一条件で反応を行った。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル        ７７０．８ｇ
テトラエトキシシラン                            ３６７．７ｇ
ジメチルジメトキシシラン                          ５３．０ｇ
フェニルトリメトキシシラン                      ３５０．０ｇ
得られたポリマー溶液の分子量を測定したところ数平均分子量Ｍｎ＝１，７００、重量平均分子量Ｍｗ＝４，２００であった。ガスクロマトグラフィーにて固形分を測定したところ約３５質量％であった。
【０１０８】
［合成例３］共重合体（Ｂ３）の合成  
温度履歴を変えた以外は、同一条件でポリマーを合成した。オイルバスの温度を１００℃に設定し１時間還流した後、低沸点分子を留去しながら１時間反応させ、さらに温度を上げ１５０℃に設定し４時間低沸点分子を留去しながら反応を行った。それ以外は合成例１と同一条件で反応を行った。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル        ４５３．１ｇ
テトラエトキシシラン                            ３２４．３ｇ
ジメチルジメトキシシラン                          ４６．８ｇ
フェニルトリメトキシシラン                      ３０８．７ｇ
得られたポリマー溶液の分子量を測定したところ数平均分子量Ｍｎ＝１，９００、重量平均分子量Ｍｗ＝３，９００であった。ガスクロマトグラフィーにて固形分を測定したところ約４５質量％であった。
【０１０９】
［合成例４］共重合体（Ｂ４）の合成  
攪拌器付四つ口フラスコに、溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル、モノマーとしてテトラエトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、およびフェニルトリメトキシシランを下記の質量で仕込んだ後、系内を撹拌した。ギ酸（８８％水溶液）１８８．３ｇと純水１２０．５ｇを混ぜてギ酸水溶液を作り系内の温度が上がらないようにゆっくり滴下を行った。その後、オイルバスの温度を１００℃に設定し１時間還流した後、低沸点分子を留去しながら１時間反応させ、さらに温度を上げ１５０℃に設定し２時間低沸点分子を留去しながら反応を行った。それ以外は合成例１と同一条件で反応を行った。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル        ５８４．７ｇ
テトラエトキシシラン                            ２７８．５ｇ
メチルトリメトキシシラン                          ２６．９ｇ
フェニルトリメトキシシラン                      ２６６．０ｇ
得られたポリマー溶液の分子量を測定したところＭｎ＝１，９００、Ｍｗ＝３，８００であった。ガスクロマトグラフィーにて固形分を測定したところ約３５質量％であった。
【０１１０】
［合成例５］ゾルゲル法による撥液剤Ｘ１の合成
特許文献５を参考に合成を行った。５０ｍＬスクリュー管に（トリデカフルオロ‐１，１，２，２‐テトラヒドロオクチル）‐トリエトキシシラン０．５ｇ、テトラエトキシシラン０．１２ｇ、フェニルトリメチルシラン０．１２ｇ、溶媒として混合溶媒（トルエン：イソプロピルアルコール＝７：３（質量比））５．０ｇを加え撹拌した。撹拌後、１．０質量％の塩酸水溶液０．１５ｇを系内にゆっくり滴下した。室温で１８時間撹拌を行った。得られたポリマー溶液の分子量を測定したところ数平均分子量Ｍｎ＝１，１００、重量平均分子量Ｍｗ＝１，５００であった。固形分を計算したところ約１０質量％であった。Ｆ原子含有率は約４４質量％であった。
【０１１１】
［合成例６］ポジレジスト用アクリルポリマーＸ２の合成（特許文献２および３を参考に合成）
【０１１２】
［合成例６−１］アクリル共重合体（Ｘ２−１）の合成  
攪拌器付４つ口フラスコに、重合溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル、モノマーとしてグリシジルメタクリレート、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、４−ヒドロキシフェニルビニルケトンを２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチルを下記の質量で仕込み、９０℃の重合温度で２時間加熱して重合を行った。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル        ３０．０ｇ
グリシジルメタクリレート                          ８．０ｇ
４−ヒドロキシフェニルビニルケトン                ２．０ｇ
３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン    １０．０ｇ
２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル            ３．０ｇ
【０１１３】
固形分は４０質量％であり、共重合体の分子量は数平均分子量Ｍｎ＝３，０００、重量平均分子量Ｍｗ＝５，５００であった。
【０１１４】
［合成例６−２］アクリル共重合体（Ｘ２−２）の合成  
攪拌器付４つ口フラスコに、重合溶媒としてジエチレングリコールエチルメチルエーテル、モノマーとしてジシクロペンタニルメタクリレート、メトキシポリエチレングリコールメタクリレート、Ｎ−シクロヘキシルマレイミド、メタクリル酸メチルを下記の重量で仕込み、１０５℃の重合温度で２時間加熱して重合を行った。
ジエチレングリコールエチルメチルエーテル        ４０．０ｇ
ジシクロペンタニルメタクリレート                １０．０ｇ
メトキシポリエチレングリコールメタクリレート      ０．４ｇ
Ｎ−シクロヘキシルマレイミド                      ４．６ｇ
メタクリル酸メチル                                ５．０ｇ
２，２’−アゾビス（イソ酪酸）ジメチル            ３．０ｇ
【０１１５】
固形分は３３．３質量％であり、共重合体の分子量は数平均分子量Ｍｎ＝２，０００、重量平均分子量Ｍｗ＝３，５００であった。
【０１１６】
［実施例１］
［ポジ型感光性組成物１の製造］
化合物（Ａ）としてフッ素系で界面活性作用のある撥液剤であるメガファックＲＳ−７２Ｋ（商品名：ＤＩＣ（株）製）、シロキサンポリマー（Ｂ）として合成例１で得られたシロキサンポリマー（Ｂ１）溶液、１，２−キノンジアジド化合物（Ｃ）としてＡＴ−６７（商品名：東洋合成工業（株）製、４-［４-［１，１‐ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチル］］‐α，α−ジメチルベンジルフェノールと１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸クロライドとの縮合物（平均エステル化率６７％））、溶媒（Ｄ）としてジエチレングリコールエチルメチルエーテルを下記の重量比（下記表１）で混合溶解し、ポジ型感光性組成物１を得た。
2016188940.tif 000007
【０１１７】
［実施例２］
［ポジ型感光性組成物２の製造］
架橋剤（Ｅ）を抜いた以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物２を得た。
【０１１８】
［実施例３］
［ポジ型感光性組成物３の製造］
シロキサンポリマー（Ｂ）として合成例１で得られたシロキサンポリマー（Ｂ１）溶液の代わりに合成例２で得られたシロキサンポリマー（Ｂ２）を用いて下記の重量比（下記表１）にした以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物３を得た。
【０１１９】
［実施例４］
［ポジ型感光性組成物４の製造］
シロキサンポリマー（Ｂ）として合成例１で得られたシロキサンポリマー（Ｂ１）溶液の代わりに合成例３で得られたシロキサンポリマー（Ｂ３）を用いて下記の重量比（下記表１）にした以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物４を得た。
【０１２０】
［実施例５］
［ポジ型感光性組成物５の製造］
シロキサンポリマー（Ｂ）として合成例１で得られたシロキサンポリマー（Ｂ１）溶液の代わりに合成例４で得られたシロキサンポリマー（Ｂ４）を用いて下記の重量比（下記表１）にした以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物５を得た。
【０１２１】
［実施例６］
［ポジ型感光性組成物６の製造］
ＲＳ−７２Ｋの代わりに、シリコン系の界面活性作用のある撥液剤ＴＥＧＯ ＲＡＤ ２２００Ｎ（商品名：エボニック  デグサ  ジャパン（株）製））を用いた以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物６を得た。
【０１２２】
［比較例１］
［ポジ型感光性組成物７の製造］
撥液剤としてＲＳ−７２Ｋの添加量を減らしたかわりに、合成例５で合成した撥液剤と界面活性剤としてフッ素系界面活性剤メガファックＲ−０８（商品名：ＤＩＣ（株）製）を用いた以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物７を得た。
【０１２３】
［比較例２］
［ポジ型感光性組成物８の製造］
ＲＳ−７２Ｋの代わりに、撥液性のないフッ素系界面活性剤メガファックＲ−０８（商品名：ＤＩＣ（株）製）を用いた以外は実施例１と同様にして、ポジ型感光性組成物８を得た。
【０１２４】
［比較例３］
［ポジ型感光性組成物９の製造］
シロキサンポリマーの代わりに合成例６で合成したアクリルポリマーＸ２−１とＸ２−２を使用し下記の重量比（下記表１）にした以外は、実施例１と同様にしてポジ型感光性組成物９を得た
【０１２５】
以上の実施例および比較例組成（重量比）を下記の表１および表２にまとめて示す。
【０１２６】
【表１】
2016188940.tif 000008
【０１２７】
【表２】
2016188940.tif 000009
【０１２８】
（パターン状膜の作成法）
ガラス基板にスピンコート法によりポジ型感光性組成物１〜６を塗布し（厚み２μｍ）、１００℃のオーブンで２分間プリベイクを行った後に、空気雰囲気中、塗膜とマスク（ライン／スペース＝３０μｍ／３０μｍ）のギャップを１０μｍに固定し、超高圧水銀灯（ウシオ電機（株）製、型式  ＵＳＨ−２００４ＴＯ）により紫外線を１００ｍＪ／ｃｍ２照射し、次いで未露光部分をテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（以下、ＴＭＡＨと略す。ポジ型感光性組成物１〜５および７については２．３８質量％のＴＭＡＨ水溶液。ポジ型感光性組成物６については０．９質量％のＴＭＡＨ水溶液を用いた）に１分間浸漬し現像し、純水でリンスし、乾燥させた。次いで、オーブンに入れ２３０℃で３０分ポストベイクすることにより、パターンが形成されたガラス基板を得た。
【０１２９】
（残膜率）
パターン状膜の作成工程での膜厚を測定した。具体的には、アルカリ水溶液を用いた現像前後の膜厚とポストベイク前後での膜厚を測定した。それぞれ、何パーセントの膜が残っているかを計算した。なお、膜厚は触針式膜厚計Ｐ−１６（商品名：ＫＬＡ−Ｔｅｎｃｏｒ  Ｊａｐａｎ（株）製）を用いて測定した。
【０１３０】
（接触角の測定法）
得られた塗膜の現像性は良好で、きれいなパターンが得られた。この基板のパターンが形成されていない樹脂部分に接触角計Ｄｒｏｐ  Ｍａｓｔｅｒ  ５００（商品名：協和界面化学（株）製）を用い、プロピレングリコール−１−モノメチルエーテル−２−アセタート（以下、ＰＧＭＥＡと略す）との接触角の測定を行った。
【０１３１】
（パターン状膜の外観確認）
作製したパターン状膜に異常がないかをシステム工業顕微鏡  ＯＬＹＭＰＵＳ  ＢＸ５１（商品名：オリンパス（株）製）を用いて確認した。次の項目にひとつでも当てはまるものを外観不良とした。
・バンクとバンクの間に残渣が存在する
・クラックが生じている
・パターンの一部が欠けている、
・パターン状膜にクレーターが生じている
【０１３２】
（アウトガスの測定法）
ガラス基板にポジ型感光性組成物をスピンコートで塗布した。その際、厚さ２μｍになるように回転数を調節した。そのガラス基板を１００℃でプリベイク後２３０℃でポストベイクし感光性組成物の硬化膜が塗布された基板を得た。この基板を発生ガス濃縮導入装置ＭＳＴＤ２５８Ｍ（商品名：ジーエルサイエンス（株））に入れて、２５０℃で３０分間アウトガスを捕集した。この捕集した濃縮ガスをＧＣＭＳ−ＱＰ２０１０  Ｕｌｔｒａ（商品名：（株）島津製作所製）を用いてガス成分を分析し、アウトガス量を測定した。
【０１３３】
以上の評価結果を表３にまとめて示す。
【表３】
2016188940.tif 000010
比較例２の接触角（ＰＧＭＥＡ）は、低すぎて測定できなかった。
【０１３４】
以上のことより、本実施例に示した組成物で作ったバンクは、撥液性に優れ、膜外観に優れ、アウトガス成分が少ない。また、（３）式で表せるような化合物を添加することにより、熱ダレを抑えることができる。
【産業上の利用可能性】
【０１３５】
以上のことより、本組成物は、耐熱性、撥液性に優れまたアウトガス成分も少ない。よって、有機ＥＬパネルを作成するのに好適なバンクを形成することができるために産業上有効である。