(57)【要約】      （修正有）【課題】ＳＯＤ様活性がより高く、皮膚への影響の少ない皮膚外用剤や化粧料等に有用な化合物の提供。【解決手段】式（１）で表されるテトラキスフェニルスルフィド化合物。2016141653.tif 000009【選択図】図１
2016141653.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（１）で表されるテトラキスフェニルスルフィド化合物。
【化１】
2016141653.tif 000008
【請求項２】
請求項１に記載のテトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する組成物。
【請求項３】
請求項１に記載のテトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する皮膚外用剤。
【請求項４】
請求項１に記載のテトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する化粧料。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、テトラキスフェニルスルフィド化合物、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する組成物、皮膚外用剤、及び化粧料に関する。
【背景技術】
【０００２】
活性酸素は、生体細胞内のエネルギー代謝過程で生じるものである。この活性酸素としては、例えば、スーパーオキサイド、過酸化水素、ヒドロキシラジカル、及び一重項酸素等が挙げられる。これらの活性酸素は、食細胞の殺菌機構にとって必須であり、ウイルスや癌細胞の除去に重要な働きを果たしていることが知られている。
【０００３】
一方で、活性酸素は、生体内の膜や組織を構成する生体内分子も攻撃することが知られている。通常、生体内で生産され、他の活性酸素の出発物質になっているスーパーオキサイドは、細胞内に含まれているスーパーオキサイドジスムターゼ（ＳＯＤ）の触媒作用により逐次消去されている。スーパーオキサイドの産出が過剰である場合やＳＯＤの活性が低下している場合には、スーパーオキサイドの消去が不充分となり、スーパーオキサイド濃度が高くなってしまうことがある。このような場合には、活性酸素が過剰に生成することになり、活性酸素が生体に悪影響を与えることになる。
【０００４】
特に、皮膚は、紫外線等の環境因子の刺激を直接受けることから、スーパーオキサイドが生成しやすい器官である。このため、皮膚は、スーパーオキサイド濃度の上昇により、例えば、コラーゲン等の生体組織が損傷しやすいと考えられる。このように生体組織が損傷すると、例えば、しわや炎症等を起こすことが知られている。
【０００５】
このような生体組織の損傷を抑制するために、様々な薬剤や、その薬剤を含む皮膚外用剤等の開発が種々検討されている。
【０００６】
このような薬剤等としては、例えば、特許文献１に記載の皮膚外用剤が挙げられる。具体的には、特許文献１には、ナリンギンやナリンゲニンを含む皮膚外用剤が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−１６３４３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１によれば、しわの原因となるラジカルの消去剤、及びそばかすの原因となるチロシナーゼの阻害剤として、極めて有効に利用できる旨が開示されている。
【０００９】
一方で、肌の美白指向及び美肌指向がより高まっており、色素斑（しみ）、雀卵斑（そばかす）、くすみ、及びしわ等が皮膚に形成されることや皮膚が炎症することをより抑制できる薬剤や皮膚外用剤等がより求められるようになってきている。この要求を満たすため、生体組織の損傷をより抑制できる薬剤として作用する化合物の開発が求められている。さらに、このような化合物は、皮膚外用剤や化粧料等の組成物に含有させて用いた場合に、得られた組成物を皮膚等の生体組織に塗ることが可能な化合物であることが求められている。具体的には、ＳＯＤ様活性のより高く、皮膚等への悪影響がない又は少ない化合物の開発が求められている。
【００１０】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであって、ＳＯＤ様活性が高く、皮膚外用剤や化粧料等に含有させることができるテトラキスフェニルスルフィド化合物を提供することを目的とする。また、本発明は、このテトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する、組成物、皮膚外用剤及び化粧料を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は、種々検討した結果、上記目的は、以下の本発明により達成されることを見出した。
【００１２】
本発明に係る一態様は、下記式（１）で表されるテトラキスフェニルスルフィド化合物である。
【００１３】
【化１】
2016141653.tif 000003
【００１４】
このような構成によれば、ＳＯＤ様活性が高く、皮膚外用剤や化粧料等に含有させることができるテトラキスフェニルスルフィド化合物を提供することができる。
【００１５】
すなわち、上記のようなテトラキスフェニルスルフィド化合物は、ＳＯＤ様活性が高い。また、このテトラキスフェニルスルフィド化合物は、皮膚外用剤や化粧料等の組成物に含有させて用いた場合に、得られた組成物を皮膚等の生体組織に塗って用いても、生体組織に与える悪影響を充分に抑制できるものである。これらのことから、上記のテトラキスフェニルスルフィド化合物は、ＳＯＤ様活性が高く、皮膚外用剤や化粧料等に含有させることができる化合物である。
【００１６】
また、本発明に係る他の一態様は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する組成物である。
【００１７】
このような構成であれば、ＳＯＤ様活性が高く、組成物に含有させても生体組織に与える悪影響を充分に抑制できる前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含むので、皮膚の生体組織の損傷をより抑制できる組成物を提供することができる。
【００１８】
また、皮膚の黒化に関わるメラニンの生成には、皮膚の表皮細胞において発生する活性酸素が寄与することが指摘されている。メラニンの生成を抑制し、皮膚の黒化、しみ、及びそばかす等の色素沈着を予防するためには、表皮細胞における活性酸素を消去することが有効であると考えられる。このことから、ＳＯＤ様活性のより高く、皮膚等への悪影響がない又は少ない化合物である前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有することで、皮膚の黒化等を好適に抑制できる組成物が得られる。
【００１９】
以上のことから、このような組成物は、ＳＯＤ様活性が高く、組成物に含有させても生体組織に与える悪影響を充分に抑制できる前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有するので、皮膚の黒化等を好適に抑制できる組成物である。また、この組成物は、例えば、皮膚外用剤であっても、化粧料であっても用いることができる。
【００２０】
また、本発明の他の一態様は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含む皮膚外用剤である。
【００２１】
このような構成であれば、ＳＯＤ様活性が高く、皮膚外用剤等の組成物に含有させても生体組織に与える悪影響を充分に抑制できる前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含むので、皮膚の生体組織の損傷をより抑制できる皮膚外用剤を提供することができる。
【００２２】
また、本発明の他の一態様は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含む化粧料である。
【００２３】
このような構成であれば、ＳＯＤ様活性が高く、化粧料等の組成物に含有させても生体組織に与える悪影響を充分に抑制できる前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含むので、皮膚の生体組織の損傷をより抑制できる化粧料を提供することができる。
【発明の効果】
【００２４】
本発明によれば、ＳＯＤ様活性が高く、皮膚外用剤や化粧料等に含有させることができるテトラキスフェニルスルフィド化合物を提供することができる。また、本発明によれば、このテトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する、組成物、皮膚外用剤及び化粧料が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００２５】
【図１】図１は、実施例において得られた化合物の１Ｈ  ＮＭＲスペクトルである。
【図２】図２は、実施例において得られた化合物の１３Ｃ  ＮＭＲスペクトルである。
【図３】図３は、実施例において得られた化合物のＨＭＱＣスペクトルである。
【図４】図４は、実施例において得られた化合物のＨＭＢＣスペクトルである。
【図５】図５は、実施例において得られた化合物の化学式を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２６】
以下、本発明に係る実施形態について説明するが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【００２７】
本発明の一実施形態に係るテトラキスフェニルスルフィド化合物は、下記式（１）で表される。
【００２８】
【化２】
2016141653.tif 000004
このようなテトラキスフェニルスルフィド化合物は、ＳＯＤ様活性が高い。また、このテトラキスフェニルスルフィド化合物は、皮膚外用剤や化粧料等の組成物に含有させて用いた場合に、得られた組成物を皮膚等の生体組織に塗って用いても、生体組織に与える悪影響を充分に抑制できるものである。これらのことから、上記のテトラキスフェニルスルフィド化合物は、ＳＯＤ様活性が高く、皮膚外用剤や化粧料等に含有させることができる化合物である。
【００２９】
このテトラキスフェニルスルフィド化合物の製造方法は、上記の化合物を得ることができれば、特に限定されない。具体的には、このテトラキスフェニルスルフィド化合物は、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸（２，２’−ジチオ二安息香酸）との反応における副生成物として得られる。
【００３０】
このテトラキスフェニルスルフィド化合物の製造方法としては、具体的には、以下のような製造方法が挙げられる。まず、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸とを、加熱により反応させ、得られた生成物（加熱反応生成物）を、所定のｐＨにして、エーテル抽出し、有機相と水相とに分配する。ここでの加熱条件としては、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸とが反応できる温度等の条件であればよく、例えば、１１０℃で８時間の加熱等が挙げられる。また、ここでのｐＨは、例えば、５に調整される。また、ここで用いるエーテルは、特には限定されないが、例えば、ジエチルエーテルが挙げられる。また、以後で用いるエーテルも、特には限定されないが、同様にジエチルエーテルが挙げられる。そして、分配された水相のｐＨを下げた後、再度、エーテル抽出して溶媒を除去し、エーテル抽出物を得る。ここでの水相のｐＨは、例えば、４に調整される。この得られたエーテル抽出物を酢酸エチルに溶解させ、酢酸エチル可溶部を除去して、酢酸エチル不溶部を取り出す。この取り出した不溶部を、再度、メタノールに溶解させ、メタノールに溶けやすいものを取り除き、不溶部を含む難溶解性部を取り出す。この取り出した難溶解性部が、上記テトラキスフェニルスルフィド化合物として得られる。
【００３１】
また、本発明の他の一実施形態に係る組成物は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する。この組成物は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有すれば、特に限定されない。前記組成物としては、例えば、精製した前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する組成物だけではなく、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸との加熱反応生成物を含有する組成物も挙げられる。また、前記加熱反応生成物は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有するものであるので、前記加熱反応生成物が、前記組成物でもある。また、この加熱反応生成物には、上述したように、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物が、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸との反応における副生成物として含まれる。また、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を、皮膚外用剤や化粧料等に含有させる際、精製した前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を用いるのではなく、この加熱反応生成物をそのまま含有させてもよい。
【００３２】
このような組成物は、ＳＯＤ様活性が高く、組成物に含有させても生体組織に与える悪影響を充分に抑制できる前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含むので、皮膚の生体組織の損傷をより抑制できる組成物である。また、このような組成物は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物が、皮膚の黒化等を好適に抑制できる組成物でもある。また、この組成物は、例えば、皮膚外用剤であっても、化粧料であっても用いることができる。すなわち、前記組成物は、例えば、皮膚外用剤及び化粧料等が挙げられる。
【００３３】
また、前記組成物には、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物以外の成分（他の成分）を含んでいてもよい。この他の成分としては、ＳＯＤ様活性を著しく低下させるもの以外であればよく、特に限定されない。また、この他の成分としては、具体的には、皮膚外用剤及び化粧料等に一般的に含有される成分等が挙げられる。
【００３４】
また、前記組成物における前記テトラキスフェニルスルフィド化合物の含有量は、前記組成物に求める作用等に応じて、適宜選択できる。
【００３５】
また、本発明の他の一態様に係る皮膚外用剤は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有すれば、特に限定されない。前記皮膚外用剤は、前記組成物と同様、精製した前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する組成物だけではなく、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸との加熱反応生成物を含有する組成物も挙げられる。このような皮膚外用剤は、皮膚の生体組織の損傷をより抑制でき、皮膚の黒化等も好適に抑制できる。
【００３６】
また、本発明の他の一態様に係る化粧料は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有すれば、特に限定されない。前記化粧料は、前記組成物と同様、精製した前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有する組成物だけではなく、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸との加熱反応生成物を含有する組成物も挙げられる。このような化粧料は、皮膚の生体組織の損傷をより抑制でき、皮膚の黒化等も好適に抑制できる。
【００３７】
また、前記皮膚外用剤又は前記化粧料には、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物以外の成分（他の成分）を含んでいてもよい。この他の成分としては、ＳＯＤ様活性を著しく低下させるものでなければ、特に制限されず、皮膚外用剤や化粧料に一般的に含有される成分等が挙げられる。この他の成分としては、例えば、界面活性剤、油性成分、保湿剤、香料、防腐剤、色素類、及びビタミン類等が挙げられる。
【００３８】
ここで、界面活性剤としては、例えば、石鹸用素地、ステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム、グリセリン脂肪酸エステル、ソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンヒマシ油、及びポリオキシエチレン硬化ヒマシ油等が挙げられる。
【００３９】
また、油性成分としては、例えば、ホホバ油、アボカド油、ミリスチン酸グリセリル、及び２−エチルヘキサン酸トリグリセリド等の油脂類；スクワラン、セレシン、及びワセリン等の炭化水素類；カルナバロウ、及びミツロウ等のロウ類；ラウリン酸、ステアリン酸、及びオレイン酸等の脂肪酸類；セチルアルコール、ステアリルアルコール、及びオレイルアルコール等の高級アルコール類；オクタン酸セチル、ミリスチン酸オクチルドデシル、及びミリスチン酸ミリスチル等のエステル類等が挙げられる。
【００４０】
また、保湿剤としては、例えば、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリン、１，３−ブチレングリコール、ソルビトール、マルチトール、及びヒアルロン酸等が挙げられる。
【００４１】
これらの皮膚外用剤及び化粧料の形態は、特には限定されず、例えば、クリーム、化粧乳液、美容液、化粧水、軟膏剤、及び分散液等が挙げられる。この中でも、皮膚外用剤は、軟膏剤が好ましい。また、化粧料は、クリーム、化粧乳液、美容液、化粧水が好ましい。
【００４２】
また、前記組成物における前記テトラキスフェニルスルフィド化合物の含有量は、前記組成物に求める作用等に応じて、適宜選択できる。
【００４３】
具体的には、前記組成物が、軟膏剤等の皮膚外用剤であれば、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物の含有量は、皮膚外用剤に対して、０．０００１〜１０質量％であることが好ましく、０．００１〜１質量％であることがより好ましい。
【００４４】
また、前記組成物が、化粧水等の化粧料であれば、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物の含有量は、皮膚外用剤に対して、０．０００１〜１０質量％であることが好ましく、０．００１〜１質量％であることがより好ましい。
【００４５】
前記テトラキスフェニルスルフィド化合物は、後述するように、ＳＯＤ様活性が高い化合物である。また、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物は、皮膚外用剤や化粧料等に含有させることができ、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含有した、皮膚外用剤や化粧料等の組成物は、生体組織に与える悪影響を充分に抑制できるものである。
【００４６】
以下に、実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
【実施例】
【００４７】
［加熱反応生成物］
耐熱ねじ口瓶に、１００ｍＭのリン酸緩衝液（ｐＨ７．０）１００ｍＬを入れ、さらに、ナリンギン及び２，２’−ジチオサリチル酸（２，２’−ジチオ二安息香酸）をそれぞれ、濃度が２ｍＭとなるように入れた。その後、耐熱ねじ口瓶を密閉し、８時間、耐熱ねじ口瓶内の液体の温度が１１０℃になるように加熱した。そうすることによって、加熱反応生成物が得られた。この加熱反応生成物は、後述の方法により、上記式（１）で表されるテトラキスフェニルスルフィド化合物を含むことが確認できる。すなわち、この加熱反応生成物は、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含み、それ以外の成分も含む組成物である。
【００４８】
［ＳＯＤ様活性］
得られた加熱反応生成物の、下記の方法で、ＳＯＤ様活性を測定した。
【００４９】
（分析用緩衝液）
まず、キレート剤（ＥＤＴＡ−２Ｎａ：エチレンジアミン四酢酸二ナトリウム）を０．２ｍＭ、発色剤（ＮＢＴ：ニトロブルーテトラゾリウム）を０．０５ｍＭ、キサンチンを０．２ｍＭ、ウシ血清アルブミンを０．０１ｗ／ｖ％となるように、１００ｍＭの炭酸緩衝液（ｐＨ１０．２）に溶解させた。この溶液を、分析用緩衝液として、用意した。
【００５０】
（試験試料液）
測定対象物である試料（加熱反応生成物等）を、所定の濃度になるように、濃縮、又は、蒸留水、１００ｍＭのリン酸緩衝液（ｐＨ７．０）、又はジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）で希釈した。得られた液体を、試験試料液として、用意した。
【００５１】
具体的には、ナリンギン及び２，２’−ジチオサリチル酸の濃度が、０．１ｍＭ、０．２ｍＭ、及び０．４ｍＭに相当する、５質量％、１０質量％、及び２０質量％となるように、得られた加熱反応生成物を、濃縮又は希釈した。
【００５２】
（酵素液）
吸光度が、０．２〜０．２３となるように、酵素であるキサンチンオキシダーゼを蒸留水で希釈した。この液体を、酵素液として、用意した。
【００５３】
（試験）
まず、９６穴マイクロプレートを用意した。
【００５４】
次に、このマイクロプレートの穴に、分析用緩衝液を１００μＬ添加した。
【００５５】
次に、分析用緩衝液を添加した穴に、さらに、蒸留水を２０μＬ添加した。
【００５６】
次に、蒸留水を添加した穴に、さらに、試験試料液を４０μＬ添加した。そのマイクロプレートを、２５℃で１０分間静置した。
【００５７】
次に、試験試料液を添加した穴に、酵素液を４０μＬ添加した。そのマイクロプレートを、２５℃で２０分間静置した。
【００５８】
次に、この酵素液を添加した液体の、５５０ｎｍにおける吸光度を、マイクロプレートリーダーで測定した。ここで得られた吸光度を、Ｓｔとする。なお、ここでの吸光度は、検体数４の平均値とした。
【００５９】
また、酵素液の代わりに、蒸留水を用いたこと以外、Ｓｔの測定方法と同様に測定した。そのときの吸光度を、Ｓｂとする。すなわち、酵素液を用いない場合の吸光度を、Ｓｂとした。
【００６０】
また、試験試料液の代わりに、リン酸緩衝液、蒸留水及びＤＭＳＯを、適宜用いたこと以外、Ｓｔの測定方法と同様に測定した。そのときの吸光度を、Ｃｔとする。すなわち、試験試料液を用いない場合の吸光度を、Ｃｔとした。
【００６１】
また、酵素液の代わりに、蒸留水を用い、試験試料液の代わりに、リン酸緩衝液、蒸留水及びＤＭＳＯを、適宜用いたこと以外、Ｓｔの測定方法と同様に測定した。そのときの吸光度を、Ｃｂとする。すなわち、酵素液を用いず、さらに、試験試料液を用いない場合の吸光度を、Ｃｂとした。
【００６２】
得られた、Ｓｔ、Ｓｂ、Ｃｔ、及びＣｂを用いて、下記式から、ＳＯＤ様活性である阻害率（％）を算出した。
【００６３】
阻害率（％）＝｛１−（Ｓｔ−Ｓｂ）／（Ｃｔ−Ｃｂ）｝×１００
上記測定方法により、種々の濃度の加熱反応生成物のＳＯＤ様活性とともに、加熱反応生成物の原料である、ナリンギン及び２，２’−ジチオサリチル酸のＳＯＤ様活性も測定した。また、ナリンギンは、加熱反応生成物を製造する際と同様の加熱を行ったもの（ナリンギンの加熱処理物）も測定した。また、２，２’−ジチオサリチル酸は、加熱反応生成物を製造する際と同様の加熱を行ったもの（２，２’−ジチオサリチル酸の加熱処理物）も測定した。
【００６４】
その結果を、下記表１に示す。なお、表１において、加熱反応生成物の試料濃度として、０．１ｍＭ、０．２ｍＭ、０．４ｍＭと表記しているのは、実際には、それぞれ、５質量％、１０質量％、２０質量％である。加熱反応生成物に用いた試薬は、それぞれ２ｍＭの濃度である。このため、５質量％、１０質量％、２０質量％は、それぞれ、ナリンギン及び２，２’−ジチオサリチル酸の、０．１ｍＭ、０．２ｍＭ、０．４ｍＭに相当する。このことから、比較を容易にするため、このように、ｍＭに統一して記載する。
【００６５】
【表１】
2016141653.tif 000005
表１からわかるように、前記テトラキスフェニルスルフィド化合物を含む加熱反応生成物は、その原料である、ナリンギンや２，２’−ジチオサリチル酸より、ＳＯＤ様活性が高い。また、加熱反応生成物は、ナリンギンや２，２’−ジチオサリチル酸の加熱処理物よりＳＯＤ様活性が高い。このことから、加熱反応生成物は、単に加熱処理をしたので、ＳＯＤ様活性が高いのではなく、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸との反応によって得られたものが、ＳＯＤ様活性を高めていることがわかる。また、この加熱反応生成物は、ナリンギンと２，２’−ジチオサリチル酸との反応によって得られたものであるので、皮膚等に塗っても、生体組織を大きく損傷させるものではなかった。
【００６６】
［テトラキスフェニルスルフィド化合物］
次に、上記加熱反応生成物から、テトラキスフェニルスルフィド化合物を取り出した。具体的には、まず、上記加熱反応生成物を濃縮した。その後、この濃縮された加熱反応生成物を、希塩酸で、ｐＨ５．０になるように調整した。その後、ジエチルエーテルで抽出し、有機相と水相とに分配した。この分配されたエーテル抽出処理後の水相を、希塩酸で、ｐＨ４．０になるように調整した。このｐＨ調整した液体を、ジエチルエーテルで抽出して溶媒を除去し、エーテル抽出物を得た。この得られたエーテル抽出物を、酢酸エチルで溶解させ、酢酸エチル可溶部を除去して、酢酸エチル不溶部を取り出した。この取り出した酢酸エチル不溶部を、メタノールで溶解させ、メタノールに溶けやすいものを取り除き、不溶部を含む難溶解性部を取り出した。
【００６７】
この難溶解性部が、テトラキスフェニルスルフィド化合物であった。このことを、赤外線吸収スペクトル（ＩＲ）測定、紫外線吸収スペクトル（ＵＶ）測定、質量分析（高分解能質量分析、ＭＡＬＤＩ  ＴＯＦ−ＭＳ）測定、及び核磁気共鳴スペクトル（ＮＭＲ：１Ｈ  ＮＭＲ、１３Ｃ  ＮＭＲ、ＨＭＱＣ、ＨＭＢＣ）測定で確認した。
【００６８】
まず、ＩＲ測定の結果を、以下に示す。
【００６９】
ＩＲ  νｍａｘ（ＫＢｒ）ｃｍ−１：３４０６，３０７０，２９８０，２８８３，１６８３，１２６０，７４０
次に、ＵＶ測定の結果を、以下に示す。
【００７０】
ＵＶ  λｍａｘ（１０％ＤＭＳＯ  ｉｎ  ＭｅＯＨ）ｎｍ（ε）：３７５（１３１００），３２３（１１６００）
次に、質量分析測定の結果を、以下に示す。
【００７１】
ＭＡＬＤＩ  ＴＯＦ−ＭＳ：Ｃ３４Ｈ２２ＮａＯ１０Ｓ４（ＭＨ＋Ｎａ）＋    ｍ／ｚ：７４０．９８９５[（計算値）７４０．９９９４]の分子式が示された。
【００７２】
次に、ＮＭＲ測定の結果を、図１〜４に示した。なお、図１〜４は、それぞれ、実施例において得られた化合物の、１Ｈ  ＮＭＲスペクトル（６００ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）、１３Ｃ  ＮＭＲスペクトル（１５０ＭＨｚ、ＤＭＳＯ−ｄ６）、ＨＭＱＣスペクトル、及びＨＭＢＣスペクトルである。
【００７３】
また、これらのスペクトルの相関性を、表２及び図５に示す。なお、表２における位置は、図５に示す化学式における位置である。また、表２中、「ｍｕｌｔ」は、多重度を示し、「Ｊ」は、カップリング定数を示す。なお、図５は、実施例において得られた化合物の化学式を示す図である。また、図５において、矢印は、プロトンからカーボンへの相関を示す。
【００７４】
【表２】
2016141653.tif 000006
上記の結果から、実施例において得られた化合物が、上記式（１）で表されるテトラキスフェニルスルフィド化合物であることがわかる。
【００７５】
この得られたテトラキスフェニルスルフィド化合物のＳＯＤ様活性を、上記と同様の方法で測定した。その結果を表３に示す。
【００７６】
【表３】
2016141653.tif 000007
表３からわかるように、テトラキスフェニルスルフィド化合物のＳＯＤ様活性は、上記のように低い濃度であるにもかかわらず、高いＳＯＤ様活性を示す。ここでの、試料濃度１５ｐｐｍは、約０．０２１ｍＭに相当する。
【図１】
2016141653.tif 000010
【図２】
2016141653.tif 000011
【図３】
2016141653.tif 000012
【図４】
2016141653.tif 000013
【図５】
2016141653.tif 000014