(57)【要約】      （修正有）【課題】汚れの除去性と安全性とに優れた、可視光以下の周期の微細凹凸構造体から汚れを除去する洗浄液の提供。【解決手段】活性エネルギー線硬化樹脂組成物からなる微細凹凸構造と前記微細凹凸構造を支持する透明基材からなる微細凹凸構造体１０に使用する洗浄液であって、洗浄液が弱塩基性水溶液である微細凹凸構造体１０洗浄用洗浄液。水溶液のｐＨが８〜１０である微細凹凸構造体１０洗浄用洗浄液。【選択図】図１
2016210869.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性エネルギー線硬化性樹脂組成物からなる微細凹凸構造と前記微細凹凸構造を支持する透明基材からなる微細凹凸構造体に使用する洗浄液であって、前記洗浄液が弱塩基性水溶液である微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
【請求項２】
前記弱塩基性水溶液のｐＨが８以上１０以下である請求項１記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
【請求項３】
前記洗浄液に界面活性剤を含まないことを特徴とする請求項１〜２記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
【請求項４】
前記弱塩基性水溶液が炭酸水素ナトリウム水溶液である請求項１〜３記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
【請求項５】
前記微細凹凸構造の周期が可視光領域の波長以下である、請求項１〜４記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微細凹凸構造を表面に有する微細凹凸構造体用の洗浄液に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、可視光の波長以下の周期の微細凹凸構造（以下、単に微細凹凸構造という場合がある。）を表面に有するフィルムなどの物品は、反射防止効果、ロータス効果等を発現することが知られている。特に、モスアイ構造と呼ばれる凹凸構造は、空気の屈折率から物品の材料の屈折率へと連続的に屈折率が増大していくことで有効な反射防止の手段となることが知られている。
【０００３】
微細凹凸構造を形成する方法としては、例えば、微細凹凸構造の反転構造が形成されたモールドを用いて射出成形やプレス成形する方法、モールドと透明基材との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下「樹脂組成物」という場合がある。）を配置し、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、モールドの凹凸形状を転写した後にモールドを剥離する方法、樹脂組成物にモールドの凹凸形状を転写してからモールドを剥離し、その後活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化させる方法などが提案されている。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の観点から、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法が好ましい。この方法は、連続生産が可能なベルト状やロール状のモールドを用いる場合に特に好ましく、生産性に優れる方法である。
【０００４】
微細凹凸構造が良好な反射防止性能を発現するには、隣り合う凸部または凹部の間隔が可視光の波長以下のサイズである必要がある。このような微細凹凸構造体は、同じ樹脂組成物を硬化させた表面が平滑なハードコートなどの成形体に比べて、防汚性に課題がある。人の手に触れるディスプレイ表面に用いた場合、指紋（皮脂汚れ）が微細凹凸構造体に付着し、容易に除去できなくなる。これは、微細な凹凸間に汚れが入り、表面を拭くだけでは凹凸間の汚れを除去できないためである。微細な凹凸間に汚れが詰まった結果、本来の反射防止性能は損なわれる。
【０００５】
そこで、微細な凹凸形状に付着した汚れを洗浄することが可能な機構や洗浄液、洗浄キットが種々提案されている。（特許文献１、２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０００−３０８８６０号公報
【特許文献２】国際公開２０１４／１１９５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、これまで提案されてきた洗浄液はｐＨが大きいため、民生用として一般に使用する場合には、目や皮膚への接触による薬傷等の危険性が排除できず、より安全な洗浄液が求められていた。また、特許文献２では、洗浄液に界面活性剤が含まれているため、洗浄液で拭いた際、拭き痕が残り、アルコールを主成分とする仕上げ液でふき取る必要があり、洗浄方法が煩雑であるなどの課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は上記の各事情に鑑みてなされたものである。すなわち、本発明の目的は、温和なｐＨ条件で汚れを除去でき、複数の液を用いることなく簡便な作業で汚れを良好に除去できる洗浄液を提供することである。本発明者らは鋭意検討した結果、微細凹凸構造に付着した汚れを除去する際、適切なｐＨ条件を選択することで、界面活性剤を含まずとも、汚れの除去性と安全性とを両立することが可能であることを見出した。
【０００９】
すなわち、本発明は、以下の特徴を有する。
（１）活性エネルギー線硬化樹脂組成物からなる微細凹凸構造と前記微細凹凸構造を支持する透明基材からなる微細凹凸構造体に使用する洗浄液であって、該洗浄液が弱塩基性水溶液である微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
（２）上記弱塩基性水溶液のｐＨが８〜１０である上記（１）記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
（３）上記塩基性水溶液が、界面活性剤を含まない上記（１）〜（２）記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
（４）上記弱塩基性水溶液が炭酸水素ナトリウム水溶液である上記（１）〜（３）記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
（５）上記微細凹凸構造の周期が可視光領域の波長以下である、上記（１）〜（４）記載の微細凹凸構造体洗浄用洗浄液。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、弱塩基性の洗浄液を用いて、汚れ除去性と安全性と作業の簡易性とに優れた微細凹凸構造体用洗浄液を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明において用いられる微細凹凸構造体の実施形態の一例を示す模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
［微細凹凸構造体］
図１は、本発明の一実施形態において用いられる微細凹凸構造体を示す模式的断面図である。図１（ａ）に示す微細凹凸構造体１０は、基材１１上に本発明の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物の硬化物である層（表層）１２が積層されたものである。層１２の表面は、微細凹凸構造を有する。微細凹凸構造は、円錐状の凸部１３と、凹部１４とが等間隔Ｗ１で形成される。凸部の形状は、垂直面における断面積が、頂点側から基材側に、連続的に増大する形状であることが、屈折率を連続的に増大させることができ、波長による反射率の変動（波長依存性）を抑制し、可視光の散乱を抑制して低反射率にできることから好ましい。
凸部の間隔ｗ１（または凹部の間隔）は、可視光の波長（３８０〜７８０ｎｍ）以下が好ましい。凸部の間隔ｗ１が３８０ｎｍ以下であれば、可視光の散乱を抑制でき、反射防止膜として光学用途に好適に使用できる。
また、凸部の高さまたは凹部の深さ、すなわち、凹部の底点１４ａと凸部の頂部１３ａとの垂直距離ｄ１は、波長により反射率が変動するのを抑制できる深さとすることが好ましい。具体的には、１２０ｎｍ以上が好ましく、１５０ｎｍ以上がより好ましく、１８０ｎｍ以上が特に好ましい。垂直距離ｄ１が１５０ｎｍ近傍では、人が一番認識し易い５５０ｎｍの波長域光の反射率を最も低くすることができる。凸部の高さが１５０ｎｍ以上になると、凸部の高さが高いほど、可視光域における最高反射率と最低反射率の差が小さくなる。このため、凸部の高さが１５０ｎｍ以上になれば、反射光の波長依存性が小さくなり、目視での色味の相違は認識されなくなる。
【００１３】
微細凹凸構造体の凸部のアスペクト比は０．６〜１．５である。凸部の間隔ｗ１が３００ｎｍの場合、凸部の高さｄ１が１８０ｎｍあれば十分な反射防止性能を得ることが出来るので、アスペクト比は０．６となる。凸部の間隔ｗ１が１２０ｎｍの場合、凸部の高さｄ１が１８０ｎｍあれば十分な反射防止性能を得ることが出来るので、アスペクト比は１．５となる。アスペクト比が１．５以下であれば、隣り合う凸部同士が寄り添うことで、反射防止性能が低下するといった現象を回避することが出来る。またアスペクト比が０．６以上であれば、十分な反射防止性能を得ることが出来る。
ここで凸部の間隔および高さは、電界放出形走査電子顕微鏡（ＪＳＭ−７４００Ｆ：日本電子（株）製）により加速電圧３.００ｋＶの画像における測定により得られる測定値の算術平均値を採用した。
【００１４】
凸部は、図１（ｂ）に示すような、凸部の頂部１３ｂが曲面である釣鐘状であってもよく、その他、垂直面における断面積が、頂点側から基材側に連続的に増大する形状を採用することができる。
【００１５】
微細凹凸構造は、図１に示す実施形態に限定されず、基材の片面または全面、もしくは、全体または一部に形成することができる。また、撥水性能を効果的に発現させるには、凸部の突起の先端が細いことが好ましく、微細凹凸構造体と水滴の接触面における硬化物の占有する面積ができるだけ少ないことが好ましい。
また、基材１１と表層１２の間に、耐擦傷性や接着性などの諸物性を向上させる為の中間層を設けてもよい。
【００１６】
基材としては、微細凹凸構造を有する硬化物を支持可能なものであれば、いずれであってもよいが、微細凹凸構造体をディスプレイ部材に適用する場合は、透明基材、すなわち光を透過する成形体が好ましい。透明基材を構成する材料としては、例えば、メチルメタクリレート（共）重合体、ポリカーボネート、スチレン（共）重合体、メチルメタクリレート−スチレン共重合体等の合成高分子、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートブチレート等の半合成高分子、ポリエチレンテレフタラート、ポリ乳酸等のポリエステル、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルスルフォン、ポリスルフォン、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリメチルペンテン、ポリ塩化ビニル、ポリビニルアセタール、ポリエーテルケトン、ポリウレタン、それら高分子の複合物（ポリメチルメタクリレートとポリ乳酸の複合物、ポリメチルメタクリレートとポリ塩化ビニルの複合物等）、ガラスが挙げられる。基材はこれらの材料を一種含んでもよく、二種以上含んでもよい。本発明に係る微細凹凸構造体をディスプレイや自動車用部材に用いる場合には、微細凹凸構造体は耐衝撃性を有していることが好ましいため、基材がポリカーボネートを含むことが好ましい。
基材の形状はシート状、フィルム状等いずれでってもよく、その製造方法も、例えば、射出成形、押し出し成形、キャスト成形等、いずれの製法により製造されたものを使用することができる。更に、密着性、帯電防止性、耐擦傷性、耐候性等の特性の改良を目的として、透明基材の表面に、コーティングやコロナ処理が施されていてもよい。
【００１７】
基材の厚さは特に限定されない。基材の厚みは３８μｍ以上が好ましく、８０μｍ以上がより好ましく、１２５μｍ以上が更に好ましく、４００μｍ以上が特に好ましい。基材の厚みの上限は特に限定されないが、例えば３ｍｍ以下とすることができる。なお、基材の厚みはマイクロメータを用いて測定した値である。
【００１８】
［微細凹凸構造体の製造方法］
微細凹凸構造を形成する方法としては、例えば、微細凹凸構造の反転構造が形成されたモールドを用いて射出成形やプレス成形する方法、モールドと透明基材との間に活性エネルギー線硬化性樹脂組成物（以下「樹脂組成物」という場合がある。）を配置し、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、モールドの凹凸形状を転写した後にモールドを剥離する方法、樹脂組成物にモールドの凹凸形状を転写してからモールドを剥離し、その後活性エネルギー線を照射して樹脂組成物を硬化させる方法などが提案されている。これらの中でも、微細凹凸構造の転写性、表面組成の自由度の観点から、活性エネルギー線の照射により樹脂組成物を硬化させて、微細凹凸構造を転写する方法が好ましい。
モールドに微細凹凸構造の反転構造を形成する方法は、特に限定されず、その具体例としては、電子ビームリソグラフィー法、レーザー光干渉法が挙げられる。例えば、適当な支持基板上に適当なフォトレジスト膜を塗布し、紫外線レーザー、電子線、Ｘ線等の光で露光し、現像することによって微細凹凸構造を形成した型を得て、この型をそのままモールドとして使用することもできる。また、フォトレジスト層を介して支持基板をドライエッチングにより選択的にエッチングして、レジスト層を除去することで支持基板そのものに直接微細凹凸構造を形成することも可能である。
【００１９】
また、陽極酸化ポーラスアルミナを、モールドとして利用することも可能である。例えば、アルミニウムをシュウ酸、硫酸、リン酸等を電解液として所定の電圧にて陽極酸化することにより形成される２０〜２００ｎｍの細孔構造をモールドとして利用してもよい。この方法によれば、高純度アルミニウムを定電圧で長時間陽極酸化した後、一旦酸化皮膜を除去し、再び陽極酸化することで非常に高規則性の細孔が自己組織化的に形成できる。さらに、二回目に陽極酸化する工程で、陽極酸化処理と孔径拡大処理を組み合わせることで、断面が矩形でなく三角形や釣鐘型である微細凹凸構造も形成可能となる。また、陽極酸化処理と孔径拡大処理の時間や条件を適宜調節することで、細孔最奥部の角度を鋭くすることも可能である。さらに、微細凹凸構造を有する原型から電鋳法等で複製型を作製し、これをモールドとして使用してもよい。
【００２０】
モールドそのものの形状は特に限定されず、例えば、平板状、ベルト状、ロール状のいずれでもよい。特に、ベルト状やロール状にすれば、連続的に微細凹凸構造を転写でき、生産性をより高めることができる。
【００２１】
このようなモールドと、基材間に、下記樹脂組成物を配する。モールドと基材間に樹脂組成物を配置する方法としては、モールドと基材間に樹脂組成物を配置した状態でモールドと基材とを押圧することで、成型キャビティーへ樹脂組成物を注入する方法などによることができる。
【００２２】
基材とモールド間の樹脂組成物に活性エネルギー線を照射して重合硬化する方法としては、紫外線照射による重合硬化が好ましい。紫外線を照射するランプとしては、例えば、高圧水銀灯、メタルハライドランプ、フュージョンランプを用いることができる。
紫外線の照射量は、重合開始剤の吸収波長や含有量に応じて決定すればよい。通常、その積算光量は、４００〜４０００ｍＪ／ｃｍ2が好ましく、４００〜２０００ｍＪ／ｃｍ2がより好ましい。積算光量が４００ｍＪ／ｃｍ2以上であれば、樹脂組成物を十分硬化さ
せて硬化不足に因る耐擦傷性低下を抑制することができる。また。積算光量が４０００ｍＪ／ｃｍ2以下であれば、硬化物の着色や基材の劣化を防止することができる。照射強度
も特に制限されないが、基材の劣化等を招かない程度の出力に抑えることが好ましい。
重合・硬化後、モールドを剥離して、微細凹凸構造を有する硬化物を得て、微細凹凸構造体を得る。また、上記基材が立体形状の成形体等の場合は、形成した微細凹凸構造体を、別途成形した立体形状の成形体に貼り付けることもできる。このようにして得られる微細凹凸構造体は、その表面にモールドの微細凹凸構造が鍵と鍵穴の関係で転写され、連続的な屈折率の変化によって優れた反射防止性能を発現でき、フィルムや、立体形状の成形品の反射防止膜として好適である。
【００２３】
［活性エネルギー線硬化性樹脂組成物］
重合性モノマー成分としては、分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するモノマー、オリゴマー、反応性ポリマー等が挙げられる。ラジカル重合性結合を有する単官能または多官能モノマー成分としては、各種の（メタ）アクリレートおよびその誘導体が挙げられる。カチオン重合性結合を有するモノマー成分としては、エポキシ基、オキセタニル基、オキサゾリル基、ビニルオキシ基等を有するモノマーが挙げられ、エポキシ基を有するモノマーが好ましい。
【００２４】
ラジカル重合性結合を有する単官能モノマーとしては、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉ−ブチル（メタ）アクリレート、ｓ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔ−ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−エトキシエチル（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート誘導体；（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリロニトリル；スチレン、α−メチルスチレン等のスチレン誘導体；（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、ジメチルアミノプロピル（メタ）アクリルアミドなどの（メタ）アクリルアミド誘導体等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２５】
ラジカル重合性結合を有する多官能モノマーとしては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性ジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、１，５−ペンタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシポリエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（メタ）アクリロキシエトキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル）プロパン、１，２−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）エタン、１，４−ビス（３−（メタ）アクリロキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）ブタン、ジメチロールトリシクロデカンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物ジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジビニルベンゼン、メチレンビスアクリルアミド等の二官能性モノマー；ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパンプロピレンオキシド変性トリアクリレート、トリメチロールプロパンエチレンオキシド変性トリアクリレート、イソシアヌール酸エチレンオキサイド変性トリ（メタ）アクリレート等の三官能モノマー；コハク酸／トリメチロールエタン／アクリル酸の縮合反応混合物、ジペンタエリストールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリストールペンタ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、テトラメチロールメタンテトラ（メタ）アクリレート等の四官能以上のモノマー；二官能以上のウレタンアクリレート、二官能以上のポリエステルアクリレート等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種類以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２６】
分子中にラジカル重合性結合および／またはカチオン重合性結合を有するオリゴマーまたは反応性ポリマーとしては、不飽和ジカルボン酸と多価アルコールとの縮合物等の不飽和ポリエステル類；ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリレート、ポリオール（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、カチオン重合型エポキシ化合物、側鎖にラジカル重合性結合を有する前記モノマーの単独または共重合ポリマー等が挙げられる。
【００２７】
活性エネルギー線重合開始剤としては、公知の重合開始剤を用いることができ、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させる際に用いる活性エネルギー線の種類に応じて適宜選択することができる。
【００２８】
例えば光硬化反応を利用する場合、光重合開始剤としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンジル、ベンゾフェノン、ｐ−メトキシベンゾフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノン、メチルフェニルグリオキシレート、エチルフェニルグリオキシレート、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン等のカルボニル化合物；テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド等の硫黄化合物；２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ベンゾイルジエトキシフォスフィンオキサイド等が挙げられる。これらは１種を単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。
【００２９】
樹脂組成物は、非反応性のポリマー、活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物を含んでもよい。非反応性のポリマーとしては、アクリル樹脂、スチレン樹脂、ポリウレタン樹脂、セルロース樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステル樹脂、熱可塑性エラストマー等が挙げられる。これらは一種を用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
活性エネルギー線ゾルゲル反応性組成物としては、例えばアルコキシシラン化合物、アルキルシリケート化合物等が挙げられる。アルコキシシラン化合物としては、ＲｘＳｉ（ＯＲ’）ｙで表される化合物が挙げられる。ＲおよびＲ’は炭素数１〜１０のアルキル基を表し、ｘおよびｙはｘ＋ｙ＝４の関係を満たす整数である。具体的には、テトラメトキシシラン、テトラ−ｉｓｏ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｓｅｃ−ブトキシシラン、テトラ−ｔｅｒｔ−ブトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、トリメチルエトキシシラン、トリメチルメトキシシラン、トリメチルプロポキシシラン、トリメチルブトキシシランなどが挙げられる。これらは一種を用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
アルキルシリケート化合物としては、Ｒ１［Ｓｉ（ＯＲ３）（ＯＲ４）Ｏ］ｚＲ２で表される化合物が挙げられる。Ｒ１〜Ｒ４はそれぞれ炭素数１〜５のアルキル基を表し、ｚは３〜２０の整数を表す。具体的にはメチルシリケート、エチルシリケート、イソプロピルシリケート、ｎ−プロピルシリケート、ｎ−ブチルシリケート、ｎ−ペンチルシリケート、アセチルシリケートなどが挙げられる。これらは一種を用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
樹脂組成物は、必要に応じて紫外線吸収剤、酸化防止剤、離型剤、滑剤、可塑剤、帯電防止剤、光安定剤、難燃剤、難燃助剤、重合禁止剤、充填剤、シランカップリング剤、着色剤、強化剤、無機フィラー、耐衝撃性改質剤等の添加剤を含有してもよい。
【００３０】
[洗浄液]
本発明の洗浄液は、上述した微細凹凸構造体を洗浄する際に用いられる洗浄液であって、弱塩基性水溶液のものである。
本発明において洗浄液として用いられる弱塩基性水溶液のｐＨは、薬傷の危険性を抑え、なおかつ微細凹凸構造の劣化を防止するため、１１以下であるものをいう。本発明において、洗浄液のｐＨは、１０以下であることがより好ましい。また、８以上であれば汚れの除去性の点から好ましく、９以上がより好ましい。
【００３１】
洗浄液に用いる溶質成分として使用する物質としては、特に限定されるものではないが、例えば炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素アンモニウムなどの炭酸水素塩、リン酸水素二ナトリウム、リン酸水素二カリウム、リン酸水素二アンモニウム、亜硫酸ナトリウム、亜硫酸カリウム、が挙げられる。これらは単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。上記の他にも、イオン交換により得られた弱塩基性の水溶液を使用することも可能である。
洗浄液は、緩衝液、有機溶媒を含んでいてもよい。緩衝液としては、設定したｐＨに応じた通常知られた緩衝液を適宜選択できる。有機溶媒としては、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類、アセトン、酢酸エチルなどが挙げられる。これらは単独で用いてもよく、二種以上を併用してもよい。
【００３２】
また、本発明において用いられる洗浄液は、界面活性剤を含有していない。界面活性剤を洗浄液に含有させると、微細凹凸構造に付着した汚れ等を除去した後に、拭き跡等が残ってしまい、これをアルコール等でさらに除去する必要がある。このように、複数の洗浄液を用い、複数回微細凹凸構造の洗浄を行うことは煩雑であることから、界面活性剤を含有せずに、一度の拭き取り作業で汚れを除去できることが好ましい。
【００３３】
本発明に係る洗浄液は弱塩基性であるために、界面活性剤を含まずとも微細凹凸構造に付着した汚れを除去でき、また薬傷を抑制することが可能である。
【００３４】
洗浄液の使用方法としては、洗浄液をあらかじめケイドライ（登録商標、日本製紙クレシア製）などのパルプ素材のワイパーに含浸させたのちに、微細凹凸構造体をふき取ればよい。洗浄液を直接微細凹凸構造体にスプレーなどで吹き付けた後に、ケイドライ（登録商標）等のワイパーでふき取ってもよい。
【実施例】
【００３５】
以下、本発明について実施例を挙げて具体的に説明する。ただし、本発明はこれらに限定されない。以下の記載において、特に断りがない限り「部」は「質量部」を意味する。また、各種測定及び評価方法は以下の通りである。
【００３６】
（１）モールドの細孔の測定：
陽極酸化ポーラスアルミナからなるモールドの一部の縦断面を１分間Ｐｔ蒸着し、電界放出形走査電子顕微鏡（日本電子社製、商品名ＪＳＭ−７４００Ｆ）により加速電圧３.
００ｋＶで観察し、隣り合う細孔の間隔（周期）及び細孔の深さを測定した。具体的にはそれぞれ１０点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
【００３７】
（２）ナノ凹凸構造の凹凸の測定：
ナノ凹凸構造の縦断面を１０分間Ｐｔ蒸着し、上記（１）の場合と同じ装置及び条件にて、隣り合う凸部又は凹部の間隔及び凸部の高さを測定した。具体的にはそれぞれ１０点ずつ測定し、その平均値を測定値とした。
【００３８】
（３）洗浄液のｐＨ測定：
洗浄液のｐＨは、ｐＨメーター（ＨＯＲＩＢＡ製、商品名カスタニーＬＡＢ）を用いて２５℃で測定した。
【００３９】
（４）汚れ除去性の評価：
微細凹凸構造を形成したフィルムを黒色アクリル板に光学接着剤を用いて貼合せた。ついでヘキサデカン０．８部、オレイン酸０．２部をエタノール９９部に溶解させた人工指紋液を１μｌ滴下させ、エタノールが乾いた状態で、各洗浄液をケイドライ（登録商標）に含浸させて１方向から１回だけふき取り作業を実施した。蛍光灯（１０００ルクス）の下で多方向に傾けて観察し、滴下させた部位と、滴下させなかった部位の差が目視確認できるか否かを判定した。
○：人工指紋液が視認できない。
△：人工指紋液または拭き痕がわずかに視認できる。
×：人工指紋液または拭き痕が視認できる。
【００４０】
［実施例１］
［モールドの作製］
純度９９.９９％のアルミニウム板を、羽布研磨及び過塩素酸／エタノール混合溶液（１／４体積比）中で電解研磨し鏡面化した。
（ａ）工程：
このアルミニウム板を、０.３Ｍシュウ酸水溶液中で、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件
で３０分間陽極酸化を行った。
（ｂ）工程：
上記工程で酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、６質量％リン酸／１.８質量％ク
ロム酸混合水溶液に６時間浸漬して、酸化皮膜を除去した。
（ｃ）工程：
このアルミニウム板を、０.３Ｍシュウ酸水溶液中、直流４０Ｖ、温度１６℃の条件で
３０秒陽極酸化を行った。
（ｄ）工程：
上記工程で酸化皮膜が形成されたアルミニウム板を、３２℃の５質量％リン酸に８分間浸漬して、細孔径拡大処理を行った。
（ｅ）工程：
前記（ｃ）工程及び（ｄ）工程を合計で５回繰り返し、周期１００ｎｍ、深さ１８０ｎｍの略円錐形状の細孔を有する陽極酸化ポーラスアルミナを得た。
【００４１】
得られた陽極酸化ポーラスアルミナを脱イオン水で洗浄し、次いで表面の水分をエアーブローで除去し、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸を固形分０.１質量％になるように脱イオン水で希釈した水溶液に１０分間浸漬し、２０時間風乾して、表面上に細孔が形成されたモールドを得た。
【００４２】
＜微細凹凸構造を表面に有する物品の製造＞
得られたモールドと、透明基材であるＰＥＴフィルム（東洋紡社製、「コスモシャイン  Ａ４３００」）との間に、下記に示す組成の活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を充填して、フュージョンランプを用いて積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することによって、活性エネルギー線硬化性樹脂組成物を硬化させた。その後、フィルムからモールドを剥離し、凸部の平均間隔：１００ｎｍ、平均高さ：１８０ｎｍの微細凹凸構造を表面に有する物品を得た。得られた微細凹凸構造体の各評価結果を表１に示す。
（活性エネルギー線硬化性樹脂組成物）
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（新中村化学社製）２５質量部
ペンタエリスリトールトリアクリレート（第一工業製薬社製）２５質量部
エチレンオキサイド変性ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（日本化薬社製）２５質量部
ポリエチレングリコールジアクリレート（東亜合成社製）２５質量部
１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（ＢＡＳＦ社製）：１質量部、
ビス（２，４，６‐トリメチルベンゾイル）‐フェニルホスフィンオキサイド（ＢＡＳＦ社製）：０．５質量
ポリオキシエチレンアルキル（Ｃ１２‐１５）エーテルリン酸（日本ケミカルズ社製）：０．１質量部
【００４３】
（実施例２〜３、比較例１〜３）
表１に示す洗浄液を採用したこと以外は、実施例１と同様に微細凹凸構造を作製、評価した。評価結果を表１に示す。
【００４４】
【表１】
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【００４５】
（比較例４）
実施例１と同様に微細凹凸構造を作製した。微細凹凸構造への人工指紋液の滴下後、モスアイ（登録商標）パネル専用クリーニングキット（シャープ製）内の洗浄用（１）液及び専用クロスを用いて指紋のふき取り作業を行ったところ、わずかに拭き痕が視認でき、△であった。
ついで、仕上げ用（２）液及び専用クロスを用いて拭き痕をふき取ったところ、指紋は視認できなくなった。
【００４６】
表１の結果から明らかなように、実施例１〜３の洗浄液は付着した人工指紋を１回のふき取りで除去することができた。
一方、比較例１〜３は、ｐＨの範囲が中性〜酸性であるため指紋が十分に除去できなかった。
比較例４は洗浄用（１）液は界面活性剤を含むため拭き痕が残った。ついで、仕上げ用（２）液を用いることで、指紋及び拭き痕は除去できたが、作業が複数回にわたり、煩雑であった。
【産業上の利用可能性】
【００４７】
本発明にかかる微細凹凸構造体用洗浄液は、簡単かつ安全に汚れを除去することが可能であり、ディスプレイや建材用途等に使用される微細凹凸構造体の洗浄液として有用である。
【符号の説明】
【００４８】
１０    微細凹凸構造体
１１    基材
１２    表層
１３    凸部
１３ａ  凸部の頂点
１４    凹部
１４ａ  凹部の底点
Ｗ１    隣り合う凸部の間隔
ｄ１    凹部の底点から凸部の頂点までの垂直距離
【図１】
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