(57)【要約】【課題】液晶ディスプレイ等に使用した際に視認性が良好で、かつパターニングが目立たない導電性積層体を提供すること。【解決手段】透明基材の少なくとも一方の面Ａに、透明導電層を有する部分Ｘ、および透明導電層を有さない部分Ｙを有し、下記条件（１）〜（５）を満たす導電性積層体を特徴とする。  （１）λ：整数。  （２）ＲＸλ：波長がλｎｍのとき、面Ａ側から測定した部分Ｘにおける反射率（％）。  （３）ＲＹλ：波長がλｎｍのとき、面Ａ側から測定した部分Ｙにおける反射率（％）。  （４）ΔＲλ＝｜ＲＸλ−ＲＹλ｜  （％） 2016133862.tif 000005【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材の少なくとも一方の面Ａに、透明導電層を有する部分Ｘ、および透明導電層を有さない部分Ｙを有し、下記条件（１）〜（５）を満たす導電性積層体。
（１）λ：整数。
（２）ＲＸλ：波長がλｎｍのとき、面Ａ側から測定した部分Ｘにおける反射率（％）。
（３）ＲＹλ：波長がλｎｍのとき、面Ａ側から測定した部分Ｙにおける反射率（％）。
（４）ΔＲλ＝｜ＲＸλ−ＲＹλ｜  （％）
【数１】
2016133862.tif 000004
【請求項２】
ヘイズが１．０％以下であることを特徴とする請求項１に記載の導電性積層体。
【請求項３】
前記面Ａと透明導電層の間に、色差調整層を有することを特徴とする請求項１または請求項２に記載の導電性積層体。
【請求項４】
前記色差調整層は、硬化樹脂成分（ｉ）、金属酸化物粒子（ｉｉ）、開始剤（ｉｉｉ）を含む硬化性組成物からなり、
前記硬化樹脂成分（ｉ）は、ウレタン構造を有し、分子量が１，０００〜３００，０００で重合性官能基を有する化合物（Ｂ１）と、分子間力を発現する構造を有し、分子量が２００〜５０，０００で重合性官能基を有する化合物（Ｂ２）とを含むことを特徴とする請求項３に記載の導電性積層体。（ただし、化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）は同一の化合物ではない。）
【請求項５】
前記硬化樹脂成分（ｉ）は、該成分（ｉ）の乾燥重量１００重量部に対して、化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）の合計が８０重量部未満含有していることを特徴とする請求項４に記載の導電性積層体。
【請求項６】
前記透明基材は、面Ａと反対側の面Ｂにアンチブロッキング層を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の導電性積層体。
【請求項７】
前記透明導電層が、酸化インジウムを含む結晶質層であり、且つ該透明導電層の厚みが５〜５０ｎｍである請求項１〜６のいずれかに記載の導電性積層体。
【請求項８】
前記請求項１〜７のいずれかに記載の導電性積層体を含むタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は透明基材上に透明導電層を積層した導電性積層体に関するものである。特に静電容量式タッチパネル等のパターニングされた電極フィルムとして用いた場合、透明導電層を有する部分と除去された部分での光学特性の差が小さいため、視認性を向上できる導電性積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
透明基材上に、透明でかつ抵抗が小さい薄膜を積層した導電性積層体は、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイやエレクトロルミネッセンス（ＥＬと略記される場合がある）ディスプレイなどのようなフラットパネルディスプレイや、抵抗膜式タッチパネルの透明電極など、電気、電子分野の用途に広く使用されている。
【０００３】
近年、静電容量式のタッチパネルが携帯電話、携帯音楽端末などのモバイル機器に搭載されるケースが増えてきた。このような静電容量式のタッチパネルではパターニングされた導体上に誘電体層を積層した構成を有し、指などでタッチすることにより、人体の静電容量を介して接地される。この際、パターニング電極と接地点との間の抵抗値に変化が生じ、位置入力を認識する。しかしながら従来の導電性積層体を用いた場合、透明導電層を有する部分と除去された部分での光学特性の差が大きいため、パターニングが目立ち、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置した際に視認性が低下するという問題があった。
【０００４】
導電性積層体の透過率または色目を向上させるために、反射防止加工等で用いられている屈折率の異なる層を積層させ光の干渉を利用する方法が提案されている。すなわち、導電性積層体と基材の間に屈折率の異なる層を設けて光学干渉を利用する方法が提案されている（特許文献１〜３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２８６０６６号公報
【特許文献２】特許第３６２６６２４号公報
【特許文献３】特開２００６−３４６８７８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、これらの特許文献１〜３記載の導電性積層体は、導電性積層体としての視認性の改善はできるものの、透明導電層をパターニングした際、透明導電膜が有る部分と無い部分とでの光学特性の差を小さくすることは考慮されておらず、パターニングした箇所が目立ってしまう。
【０００７】
すなわち、本発明の目的は、上記の従来の問題点に鑑み、透明導電層を有する部分と除去された部分の光学特性の差を小さくすることによって、液晶ディスプレイ等に使用した際に視認性が良好で、かつパターニングが目立たない導電性積層体を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上記のような状況に鑑みなされたものであって、上記の課題を解決することができた導電積層体とは、以下の［１］〜［８］の構成よりなる。
［１］透明基材の少なくとも一方の面Ａに、透明導電層を有する部分Ｘ、および透明導電層を有さない部分Ｙを有し、下記条件（１）〜（５）を満たす導電性積層体。
【０００９】
（１）λ：整数。
【００１０】
（２）ＲＸλ：波長がλｎｍのとき、面Ａ側から測定した部分Ｘにおける反射率（％）。
【００１１】
（３）ＲＹλ：波長がλｎｍのとき、面Ａ側から測定した部分Ｙにおける反射率（％）。
【００１２】
（４）ΔＲλ＝｜ＲＸλ−ＲＹλ｜  （％）
【００１３】
【数１】
2016133862.tif 000002
【００１４】
［２］ヘイズが１．０％以下であることを特徴とする前記［１］に記載の導電性積層体。
【００１５】
［３］前記面Ａと透明導電層の間に、色差調整層を有することを特徴とする前記［１］または前記［２］に記載の導電性積層体。
【００１６】
［４］前記色差調整層は、硬化樹脂成分（ｉ）、金属酸化物粒子（ｉｉ）、開始剤（ｉｉｉ）を含む硬化性組成物からなり、
前記硬化樹脂成分（ｉ）は、ウレタン構造を有し、分子量が１，０００〜３００，０００で重合性官能基を有する化合物（Ｂ１）と、分子間力を発現する構造を有し、分子量が２００〜５０，０００で重合性官能基を有する化合物（Ｂ２）とを含むことを特徴とする前記［３］に記載の導電性積層体。（ただし、化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）は同一の化合物ではない。）
［５］前記硬化樹脂成分（ｉ）は、該成分（ｉ）の乾燥重量１００重量部に対して、化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）の合計が８０重量部未満含有していることを特徴とする前記［４］に記載の導電性積層体。
【００１７】
［６］前記透明基材は、面Ａと反対側の面Ｂにアンチブロッキング層を有することを特徴とする、前記［１］〜［５］のいずれかに記載の導電性積層体。
【００１８】
［７］前記透明導電層が、酸化インジウムを含む結晶質層であり、且つ該透明導電層の厚みが５〜５０ｎｍである前記［１］〜［６］のいずれかに記載の導電性積層体。
［８］前記［１］〜［７］のいずれかに記載の導電性積層体を含むタッチパネル。
【００１９】
ここで、前記［１］の要件（５）の左辺をΣ（ΔＲλ）と表現することとし、以降そのように扱う。
【発明の効果】
【００２０】
本発明の導電性積層体は、透明基材上に、透明導電性薄膜層を積層した構成を有し、透明導電層をパターニングした際、透明導電層を有する部分Ｘと有しない部分Ｙの光学特性の差が小さいため、液晶ディスプレイ等の表示体の前面に配置しても透明導電層のパターニングが目立たないため、視認性の低下を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態に係るＲＸλとＲＸλの光学特性を示すグラフである。
【発明を実施するための最良の形態】
【００２２】
本発明の導電性積層体は、透明基材上に、透明導電性薄膜層を積層した構成を有する。以下、各層別に詳細に説明する。
（透明基材）
本発明の導電性積層体に用いる透明基材としては、例えばポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系フィルム；ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース等のセルロース系フィルム；ポリメチルメタクリレート等のアクリル系フィルムのような、透明ポリマーからなる基板があげられる。また、本発明の導電性積層体に用いる透明基材としては、ポリスチレン、アクリロニトリル・スチレン共重合体等のスチレン系フィルム；ポリ塩化ビニル、ポリエチレン、ポリプロピレン、環状ないしノルボルネン構造を有するポリオレフィン、エチレン・プロピレン共重合体等のオレフィン系フィルム；ナイロン、芳香族ポリアミド等のアミド系フィルムのような、透明ポリマーからなる基板もあげられる。
【００２３】
またさらに、本発明の導電性積層体に用いる透明基材としては、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリフェニレンスルフィド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルブチラール、ポリアリレート、ポリオキシメチレン、エポキシ樹脂、及び上記ポリマーのブレンド物のような、透明ポリマーからなる基板なども挙げられる。これらの透明ポリマーの中でも、透明性や耐熱性、汎用性などの観点からポリカーボネートやポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【００２４】
本発明の導電性積層体における用途では、これら透明基材のうち、光学的に複屈折の少ないもの、あるいは位相差を波長（例えば５５０ｎｍ）の１／４（λ／４）や波長の１／２（λ／２）に制御したもの、さらには複屈折をまったく制御していないものを、用途に応じて適宜選択することができる。ここで言うように用途に応じて適宜選択を行う場合としては、例えば液晶ディスプレイに使用する偏光板や位相差フィルム、インナー型のタッチパネルのように、直線偏光、楕円偏光、円偏光などの偏光によって機能を発現するディスプレイと共に、本発明の導電性積層体を用いる場合をあげることができる。
【００２５】
透明基材の厚さは適宜に決定しうるが、一般には強度や取扱性等の作業性などの点より１０〜５００μｍ程度であり、特に２０〜３００μｍが好ましく、３０〜２００μｍがより好ましい。
【００２６】
（色差調整層）
本発明の導電性積層体は、透明基材と透明導電層の間に色差調整層が存在することが好ましい。この色差調整層は、１層であってもよく、２層またはそれ以上からなる層であってもよい。色差調整層は、層間の密着性および導電性積層体の光学特性（透過率および色調など）を改良する層である。
色差調整層は、硬化樹脂成分（ｉ）、金属酸化物粒子（ｉｉ）、開始剤（ｉｉｉ）を含む硬化性組成物からなり、前記硬化樹脂成分（ｉ）は、ウレタン構造を有し、分子量が１，０００〜３００，０００で重合性官能基を有する化合物（Ｂ１）と、分子間力を発現する構造を有し、分子量が２００〜５０，０００で重合性官能基を有する化合物（Ｂ２）とを含むことが好ましい。ただし、化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）は同一の化合物ではない。
【００２７】
（硬化性組成物）
（硬化樹脂成分（ｉ））
（化合物（Ｂ１））
上記化合物（Ｂ１）は、得られる色差調整層の耐屈曲性等を高める機能を有する。
【００２８】
上記化合物（Ｂ１）は、重合性官能基を有することが好ましい。重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基であることがこのましい。また２個以上６００個以下の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましい。
【００２９】
上記化合物（Ｂ１）としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）における、ポリスチレン換算数平均分子量が１，０００〜３００，０００であるウレタン（メタ）アクリレートが好適に使用される。化合物（Ｂ１）のＧＰＣパターンは、ＨＬＣ−８０２０型高速液体クロマトグラフ（東ソー株式会社製）を用い、ＧＰＣ用カラムとしてスチレン・ジビニルベンゼン共重合体樹脂を用い、溶離液としてテトラヒドロフランを用いて測定する。
【００３０】
上記化合物（Ｂ１）としては、（メタ）アクリロイル基及びウレタン結合を有する化合物であれば特に制限されるものではなく、その市販品としては、例えば、アートレジンＵＮ−３３３、ＫＹ−１１、ＳＫ−３７、ＫＹ−１１１、ＵＮ−２６００、ＵＮ−２７００、Ｈ−３４、Ｈ−１７、ＵＮ−３３２０ＨＡ、ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４Ｍ、ＵＮ−９０５、ＣＤＷ−１、ＯＦ−０４８、ＬＰＶＣ−３（以上、根上工業（株）社製）、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、ＥＢＥＣＲＹＬ４８５８、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７、ＥＢＥＣＲＹＬ９２６０、ＥＢＥＣＲＹＬ９２７０（以上、ダイセル・サイテック（株）社製）、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−２００ＰＡ、ＵＡ−４２００、ＵＡ−１２２Ｐ、ＵＡ−５３Ｈ、ＵＮ−２６００、ＵＮ−２７００、ＧＨ−１２０３（以上、新中村化学工業（株）社製）等を挙げることができる。
【００３１】
上記化合物（Ｂ１）の含有量は、全固形分中、通常、１質量％以上６０質量％以下であり、１０質量％以上５０質量％以下が好ましい。このような範囲とすることで、得られる色差調整層の耐屈曲性等を効果的に高めることができる。
【００３２】
また、上記化合物（Ｂ１）の含有量は、上記組成物中の（ｉｉ）成分以外の全（メタ）アクリレート成分中、５質量％以上８５質量％以下が好ましく、５質量％以上７０質量％以下がより好ましい。このような含有量とすることで、ハードコート層に良好な柔軟性が効果的に付与されるとともに、表面硬度とのより高いバランスが図れる。ここで、（ｉｉ）成分以外の全（メタ）アクリレート成分とは、不溶性の粒子である（ｉｉ）成分を除いた全可溶性成分中に含まれる（メタ）アクリレート成分（（メタ）アクリロイル基を有する化合物）をいう。具体的には、化合物（Ｂ１）と、後に詳述する化合物（Ｂ２）および化合物（Ｃ）の合計量を意味する。
【００３３】
（化合物（Ｂ２））
上記分子間力を発現する構造を有する化合物（Ｂ２）は、得られる色差調整層の耐摺傷性等を高める機能を有する。
【００３４】
上記化合物（Ｂ２）の分子間力を発現する構造として、ウレタン構造、水酸基、アミノ基、カルボキシル基などがあり、この中でもウレタン構造を有するものが好ましい。
【００３５】
上記化合物（Ｂ２）は、２個以上の（メタ）アクリロイル基を有することが好ましく、４個以上１００個以下の（メタ）アクリロイル基を有することがさらに好ましい。
【００３６】
上記化合物（Ｂ２）としては、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）における、ポリスチレン換算数平均分子量が２００〜５０，０００であるウレタン（メタ）アクリレートが好適に使用される。ウレタン（メタ）アクリレート化合物（Ｂ２）のＧＰＣパターンは、ＨＬＣ−８０２０型高速液体クロマトグラフ（東ソー株式会社製）を用い、ＧＰＣ用カラムとしてスチレン・ジビニルベンゼン共重合体樹脂を用い、溶離液としてテトラヒドロフランを用いて測定する。
【００３７】
上記（Ｂ２）としては、（メタ）アクリロイル基を有する化合物であれば特に制限されるものではなく、その市販品としては、例えば、アートレジンＵＮ−９５２、ＫＹ−１１、ＳＫ−３７、ＫＹ−１１１、ＵＮ−２６００、ＵＮ−２７００、Ｈ−１７、ＵＮ−３３２０ＨＡ、ＵＮ−３３２０ＨＳ、ＵＮ−９０４Ｍ、ＵＮ−９０５、ＯＦ−０４８、ＬＰＶＣ−３（以上、根上工業（株）社製）、ＥＢＥＣＲＹＬ２３０、ＥＢＥＣＲＹＬ２７０、ＥＢＥＣＲＹＬ４８５８、ＥＢＥＣＲＹＬ８８０７、ＥＢＥＣＲＹＬ９２６０、ＥＢＥＣＲＹＬ９２７０（以上、ダイセル・サイテック（株）社製）、Ｕ−４ＨＡ、Ｕ−６ＨＡ、Ｕ−６ＬＰＡ、ＵＡ−１１００Ｈ、ＵＡ−２００ＰＡ、ＵＡ−４２００、ＵＡ−１２２Ｐ、ＵＡ−５３Ｈ、ＵＮ−２６００、ＵＮ−２７００、ＧＨ−１２０３（以上、新中村化学工業（株）社製）、ＵＡ−３０６Ｈ、ＵＡ−３０６Ｉ（以上、共栄社（株）社製）等を挙げることができる。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００３８】
上記化合物（Ｂ２）の含有量は、全固形分中、通常、１質量％以上６０質量％以下であり、１質量％以上４０質量％以下が好ましい。このような範囲とすることで、得られる色差調整層の耐屈曲性等を効果的に高めることができる。
【００３９】
また、上記化合物（Ｂ２）の含有量は、上記組成物中の（ｉｉ）成分以外の全（メタ）アクリレート成分中、５質量％以上８５質量％以下が好ましく、５質量％以上５０質量％以下がより好ましい。このような含有量とすることで、色差調整層に良好な柔軟性が効果的に付与されるとともに、表面硬度とのより高いバランスが図れる。ここで、（ｉｉ）成分以外の全（メタ）アクリレート成分とは、不溶性の粒子である（ｉｉ）成分を除いた全可溶性成分中に含まれる（メタ）アクリレート成分（（メタ）アクリロイル基を有する化合物）をいう。具体的には、上記（Ｂ１）成分と、（Ｂ２）成分および後に詳述する（Ｃ）成分の合計量を意味する。
【００４０】
（化合物（Ｃ））
化合物（Ｃ）は、色差調整層と基板２との密着性を上げ、硬度を調節するために好適に用いられる。（メタ）アクリレート化合物（Ｃ）は、１分子中に１個以上の（メタ）アクリロイル基を有する化合物であり、例えば、（メタ）アクリルエステル類等を挙げることができる。
【００４１】
上記化合物（Ｃ）の含有量は、全固形文中、１質量％以上５０質量％以下が好ましく、５質量％以上４０質量％以下がより好ましい。１質量％未満の場合は、この化合物（Ｃ）の機能が十分に発揮されない場合があり、４０質量％を超えると耐屈曲性等が低下するおそれがある。
【００４２】
（金属酸化物粒子（ｉｉ））
上記金属酸化物粒子（ｉｉ）は、ケイ素、アルミニウム、ジルコニウム、チタニウム、亜鉛、ゲルマニウム、インジウム、スズ、アンチモン及びセリウムからなる群より選ばれる少なくとも一種の元素の酸化物の粒子が好ましい。このような酸化物粒子（ｉｉ）を用いることで、透明性の高い色差調整層を得ることなどができる。
【００４３】
上記金属酸化物粒子（ｉｉ）としては、例えば、シリカ、アルミナ、ジルコニア、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化ゲルマニウム、酸化インジウム、酸化スズ、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、酸化アンチモン、酸化セリウム等の粒子を挙げることができる。これら中でも、高硬度の観点から、シリカ、アルミナ、ジルコニア及び酸化アンチモンの粒子が好ましい。これらは単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００４４】
上記金属酸化物粒子（ｉｉ）は、粉体状又は分散ゾルとして用いるのが好ましい。分散ゾルとして用いる場合、他の成分との分散性等の観点から、分散媒は有機分散媒が好ましい。このような有機分散媒としては、例えば、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、オクタノール等のアルコール類；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチル、乳酸エチル、γ−ブチロラクトン、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート等のエステル類；エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル等のエーテル類；ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類を挙げることができる。これらの中でも、メタノール、イソプロパノール、ブタノール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸ブチル、トルエン、キシレンが好ましい。
【００４５】
なお、この粒子の分散性を改良するために各種の界面活性剤やアミン類等を添加してもよい。
【００４６】
上記金属酸化物粒子（ｉｉ）の形状は、特に限定されず、球状、中空状、多孔質状、環状、棒状、板状、繊維状、鎖状、不定形状等のものを用いることができ、好ましくは、球状及び鎖状である。
【００４７】
上記金属酸化物粒子（ｉｉ）の平均粒子径は、０．００１μｍ以上２μｍ以下が好ましく、０．００３μｍ以上１μｍ以下がさらに好ましく、０．００５μｍ以上０．５μｍ以下が特に好ましい。平均粒子径が２μｍを超えると、硬化後の透明性が低下したり、表面状態が低化する傾向がある。逆に、平均粒子径が０．００１μｍ未満の場合は、十分な耐ブロッキング性等を発揮できない場合がある。
【００４８】
上記平均粒子径は、レーザー回折／散乱式粒度分布測定装置（例えば、ＨＯＲＩＢＡ  ＬＢ−５５０）を用いてバッチ式測定法により測定された散乱光データからＭｉｅ理論により粒度分布を自動計算させることによって得たメジアン径を意味する。メジアン径は頻度分布が累積５０％に相当する粒子径である。
【００４９】
（開始剤（ｉｉｉ））
開始剤（ｉｉｉ）としては、例えば、放射線（光）照射により活性ラジカル種を発生させる化合物（放射線（光）重合開始剤）、熱的に活性ラジカル種を発生させる化合物（熱重合開始剤）等を挙げることができる。なお、必要に応じて放射線（光）重合開始剤と熱重合開始剤とを併用することができる。
【００５０】
放射線（光）重合開始剤としては、光照射により分解してラジカルを発生して重合を開始せしめるものであれば特に制限はなく、例えば、アセトフェノン、アセトフェノンベンジルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、キサントン、フルオレノン、ベンズアルデヒド、フルオレン、アントラキノン、トリフェニルアミン、カルバゾール、３−メチルアセトフェノン、４−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジメトキシベンゾフェノン、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、ベンゾインプロピルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンジルジメチルケタール、１−（４−イソプロピルフェニル）−２−ヒドロキシ−２−メチルプロパン−１−オン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、チオキサントン、ジエチルチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノ−プロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１，４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−（２−ヒドロキシ−２−プロピル）ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、ビス−（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルフォスフィンオキシド、オリゴ（２−ヒドロキシ−２−メチル−１−（４−（１−メチルビニル）フェニル）プロパノン）等を挙げることができる。
【００５１】
放射線（光）重合開始剤の市販品としては、例えば、チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製  商品名：イルガキュア１８４、３６９、６５１、５００、８１９、９０７、７８４、２９５９、ＣＧＩ１７００、ＣＧＩ１７５０、ＣＧＩ１８５０、ＣＧ２４−６１、ダロキュア１１１６、１１７３、ＢＡＳＦ社製  商品名：ルシリンＴＰＯ、ＵＣＢ社製  商品名：ユベクリルＰ３６、フラテツリ・ランベルティ社製  商品名：エザキュアーＫＩＰ１５０、ＫＩＰ６５ＬＴ、ＫＩＰ１００Ｆ、ＫＴ３７、ＫＴ５５、ＫＴＯ４６、ＫＩＰ７５／Ｂ等を挙げることができる。
【００５２】
熱重合開始剤としては、例えば、過酸化物及びアゾ化合物を挙げることができ、具体例としては、ベンゾイルパーオキサイド、ｔ−ブチル−パーオキシベンゾエート、アゾビスイソブチロニトリル等を挙げることができる。
【００５３】
上記開始剤（ｉｉｉ）の含有量としては、全固形分中、０．０１質量％以上１０質量％以下が好ましく、０．１質量％以上５質量％以下がより好ましい。０．０１質量％未満であると硬度が不十分となることがあり、１０質量％を超えると色差調整層の内部まで十分に硬化しないことがある。
【００５４】
（その他の重合性化合物）
上記硬化性組成物は、その他の重合性化合物を含有していてもよい。この重合性化合物としては、ビニル化合物類を挙げることができる。
【００５５】
このビニル化合物類としては、ジビニルベンゼン、エチレングリコールジビニルエーテル、ジエチレングリコールジビニルエーテル、トリエチレングリコールジビニルエーテル等を挙げることができる。
【００５６】
（他の添加剤）
上記硬化性組成物は、さらに他の添加剤を含有していてもよい。上記添加剤としては、レベリング剤、紫外線吸収剤、酸化防止剤、光安定剤、顔料、染料、充頃剤、分散剤、可塑剤、界面活性剤、チキソトロビー化剤等を挙げることができる。
【００５７】
上記レベリング剤としては、シリコーン系又はフッ素系のレベリング剤を適宜選択して使用するのが好ましい。シリコーン系レベリング剤としては、ポリジメチルシロキサン、ポリメチルアルキルシロキサン、ポリエーテル変性ポリジメチルシロキサン、（メタ）アクリル基を有するポリシロキサン等を挙げることができる。
【００５８】
上記紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サリチル酸系、シアノアクリレート系の各紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００５９】
上記酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール系、硫黄系、リン系の各酸化防止剤を挙げることができる。
【００６０】
上記光安定剤としては、ヒンダードアミン系光安定剤等を挙げることができる。
【００６１】
これらの各添加剤は、単独で使用されてもよいし、２種類以上併用されてもよい。また、これらの他の添加剤の含有量としては、全固形文中、１０質量％以下が好ましく、３質量部以下が好ましい。
【００６２】
（溶媒）
上記硬化性組成物は、通常、粘度（塗工性）や塗膜の厚さを調整すること等のため、溶媒で希釈して用いられる。上記硬化性組成物の粘度としては、通常０．１〜５０，０００ｍＰａ・秒／２５℃、好ましくは０．５〜１０，０００ｍＰａ・秒／２５℃である。
【００６３】
上記溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンシクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類；酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル類；イソプロピルアルコール、エチルアルコールなどのアルコール類；ベンゼン、トルエン、キシレン、メトキシベンゼン、１，２−ジメトキベンゼンなどの芳香族炭化水素類；フェノール、パラクロロフェノールなどのフェノール類；クロロホルム、ジクロロメタン、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、クロロベンゼンなどのハロゲン化炭化水素類等があげられる。これら溶媒は１種を単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
【００６４】
上記硬化性組成物の塗布方法は、特に制限されず、公知の方法を用いることができ、例えばディッピングコート、スプレーコ−ト、フローコ−ト、シャワーコート、ロールコート、スピンコート、刷毛塗り等を挙げることができる。
【００６５】
上記硬化性組成物の塗布後、好ましくは０〜２００℃で溶媒（揮発成分）を乾燥させた後、熱及び／又は放射線で硬化処理を行うことにより色差調整層を形成することができる。
【００６６】
熱による場合、その熱源としては、例えば、電気ヒーター、赤外線ランプ、熱風等を用いることができる。熱による場合の好ましい硬化条件は２０〜１５０℃であり、１０秒〜２４時間の範囲内で行われる。
【００６７】
放射線（光）による場合、その線源としては、組成物を塗布後短時間で硬化させることができるものである限り特に制限はないが、例えば、赤外線の線源として、ランプ、抵抗加熱板、レーザー等を、また可視光線の線源として、日光、ランプ、蛍光灯、レーザー等を、また紫外線の線源として、水銀ランプ、ハライドランプ、レーザー等を、また電子線の線源として、市販されているタングステンフィラメントから発生する熱電子を利用する方式、金属に高電圧パルスを通じて発生させる冷陰極方式およびイオン化したガス状分子と金属電極との衝突により発生する２次電子を利用する２次電子方式を挙げることができる。また、アルファ線、ベータ線及びガンマ線の線源として、例えば、Ｃｏ６０等の核分裂物質を用いることができ、ガンマ線については加速電子を陽極へ衝突させる真空管等を利用することができる。これら放射線は１種単独で又は２種以上を同時に又は一定期間をおいて照射することができる。
【００６８】
上記放射線としては、紫外線又は電子線を用いることが好ましい。そのような場合、好ましい紫外線の照射光量は０．０１〜１０Ｊ／ｃｍ２であり、より好ましくは、０．１〜２Ｊ／ｃｍ２である。また、好ましい電子線の照射条件は、加速電圧は１０〜３００ｋＶ、電子密度は０．０２〜０．３０ｍＡ／ｃｍ２であり、電子線照射量は１〜１０Ｍｒａｄである。
【００６９】
（金属酸化物層）
本発明の透明導電性積層体は、必要に応じて、色差調整層および透明導電層の間に、金属酸化物層が形成されていてもよい。金属酸化物層を構成する成分としては、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫などの金属酸化物が挙げられる。この金属酸化物層として、例えば、厚さ０．５〜５．０ｎｍである層が挙げられる。
【００７０】
色差調整層および透明導電層の間に金属酸化物層を設けることによって、各層間の密着性を改善することができる。また、金属酸化物層が存在することによって、積層体の耐久性などの性能が向上するという利点もある。
【００７１】
金属酸化物層は、公知の手法により形成することができる。金属酸化物層の形成方法として、例えば、ＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法などの物理的形成法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ、以下「ＰＶＤ法」と記載する。）などを用いることができる。これらの方法の中でも、均一な厚さの金属酸化物層を形成することができ、かつ工業生産に優れる方法である、ＤＣマグネトロンスパッタリング法が特に好ましい。なお、上記物理的形成法（ＰＶＤ法）のほかに、Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ（以下「ＣＶＤ法」と記載する。）、ゾルゲル法、などの化学的形成法を用いることもできる。
【００７２】
スパッタリング法において用いられるターゲットは、金属ターゲットであるのが好ましい。またスパッタリング法として、反応性スパッタリング法が広く用いられている。これは、金属酸化物層として用いる元素の酸化物が絶縁体であることが多いため、金属酸化物ターゲットの場合は、ＤＣマグネトロンスパッタリング法を用いることが困難であるためである。なお、２つのカソードを同時に放電させることによって、ターゲットへの絶縁体の形成を抑制させた、擬似的なＲＦマグネトロンスパッタリング法なども用いることができる。
【００７３】
（透明導電層および導電性積層体）
本発明の導電性積層体は、色差調整層または金属酸化物層の上に、透明導電層が形成されている。透明導電層の構成材料としては、特に制限は無いが、例えば、金属層、又は金属化合物層を挙げることができる。透明導電層を構成する成分としては、例えば酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化チタン、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化錫等の金属酸化物の層が挙げられる。これらのうち酸化インジウムを主成分とした結晶質の層であることが好ましく、特に結晶質のＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）からなる層が好ましく用いられる。
【００７４】
また、透明導電層が結晶質ＩＴＯの場合、結晶粒径は、特に上限を設ける必要はないが５００ｎｍ以下であることが好ましい。結晶粒径が５００ｎｍを超えると屈曲耐久性が悪くなるため好ましくない。ここで結晶粒径とは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）下で観察される多角形状または長円状の各領域における対角線または直径の中で最大のものと定義される。透明導電層が非晶質ＩＴＯの場合には、環境信頼性が低下することがある。
【００７５】
透明導電層は、公知の手法にて形成することが可能であり、例えばＤＣマグネトロンスパッタリング法、ＲＦマグネトロンスパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、パルスレーザーデポジション法等の物理的形成法等を用いることができる。大面積に対して均一な膜厚の金属化合物層を形成するという工業生産性に着目すると、ＤＣマグネトロンスパッタリング法が望ましい。なお、上記物理的形成法（ＰＶＤ）のほかに、化学気相堆積法、ゾルゲル法などの化学的形成法を用いることもできるが、膜厚制御の観点からはやはりスパッタリング法が望ましい。
【００７６】
透明導電層の膜厚は、透明性と導電性の点から５〜５０ｎｍであることが好ましい。更に好ましくは５〜３０ｎｍである。透明導電層の膜厚が５ｎｍ未満では抵抗値の経時安定性に劣る傾向があり、また５０ｎｍを超えると屈曲耐久性の低下や透明導電層に起因する着色が強くなるためタッチパネルとして好ましくない。
【００７７】
本発明の導電性積層体をタッチパネルに用いる場合、タッチパネルの消費電力の低減と回路処理上の必要等から、膜厚１０〜４０ｎｍにおいて透明導電層の表面抵抗値が１０〜２０００Ω／□、より好ましくは３０〜１０００Ω／□の範囲を示す透明導電層を用いることが好ましい。
【００７８】
なお、透明導電層としては、金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ、導電性酸化物微粒子等を分散した分散液を高分子基材上に湿式法（例えば、スピンコート法、グラビア、スロットダイ、印刷など）によって形成した層を用いることもできる。
【００７９】
こうして形成された透明導電層は、エッチング処理によるパターン形成が行われる。このエッチング処理は、一般に、透明導電層を、パターン形成マスクで覆い、次いで酸性水溶液などのエッチング液を用いて透明導電層をエッチングすることによって行われる。エッチング液として、例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸などの無機酸、酢酸などの有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が挙げられる。より具体的なエッチング液として、１２Ｎ塩酸、１６Ｎ硝酸および水を１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られる強酸水溶液が挙げられる。
【００８０】
なお、透明導電層をパターン化する前もしくは後に、必要に応じて、熱処理をしてもよい。透明導電層が熱処理により結晶化するＩＴＯの場合、熱処理を行うことによって、透明性および導電性を向上させることができるという利点がある。熱処理は、例えば、１００〜１５０℃で、１５〜１８０分加熱することによって行うことができる。
【００８１】
本発明の導電性積層体は、加熱処理した導電部分（Ｘ）に対し、導電層のある面とは反対側の反射を、例えば黒色のテープを貼る等をして消し、導電層のある面から、波長５４０〜５６０ｎｍ及び５８０〜６４０ｎｍ(λ)の範囲の光源を照射した場合における反射率をＲＸλ、エッチング液により透明導電層を除いた非導電部分（Ｙ）に対し、導電層のある面とは反対側の反射を、例えば黒色のテープを貼る等をして消し、導電層のある面から、波長λの範囲の光源を照射した場合における反射率をＲＹλとし、波長λにおける反射率の差の絶対値を△Ｒλ（＝|ＲＸλ-ＲＹλ|）としたとき、その合計値Σ（△Ｒλ）が０．７以下であることを特徴とする。
【００８２】
図１中の上記反射率ＲＸλは、導電部分（Ｘ）における波長λの範囲の反射率を示し、上記反射率ＲＹλは、導電部分（Ｙ）における波長λの範囲の反射率を示す。
【００８３】
導電性積層体の反射率の測定は、例えば大塚電子ＦＥ−３０００などの分光光度計を用いて、入射角０度における絶対反射率を測定することができる。
【００８４】
なお、導電性積層体のヘイズ値は、ＪＩＳ  Ｋ７３６１：１９９７に準拠して、算出される。
【００８５】
ヘイズ値の測定は、例えばヘイズメーター（東洋精機社製）を用いて測定することができる。
【００８６】
（アンチブロッキング層）
本発明の導電性積層体は、必要に応じて透明基材の他の一方の面上に、アンチブロッキング層が形成されていてもよい。他の一方の面上にアンチブロッキング層を形成することによって、導電性積層体の製造工程におけるブロッキング現象の発生を抑えることができ、製造時における保存安定性が向上するという利点がある。
【００８７】
アンチブロッキング層を形成する組成物は、硬化性組成物の形成材料として上述したものと同じであるので詳細な説明を省略する。
【００８８】
（ハードコート層）
本発明の導電性積層体は、必要に応じて、透明基材と色差調整層の間に、ハードコート層が形成されていてもよい。
【００８９】
ハードコート層を形成することで、耐屈曲性と耐ブロッキングとが共に高い導電性積層体を得ることができる。ハードコート層を形成する組成物は、硬化性組成物の形成材料として上述したものと同じであるので詳細な説明を省略する。
【００９０】
（タッチパネル）
本発明のタッチパネルは、上記導電性積層体を有する。本発明のタッチパネルとして、例えば、静電容量方式のタッチパネルが挙げられる。また、本発明の導電性積層体を、抵抗膜方式のタッチパネルに用いてもよい。
【実施例】
【００９１】
以下の実施例により本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されない。実施例中、「部」および「％」は、ことわりのない限り、質量基準による。
【００９２】
［実施例１］
樹脂組成物の調整
ポリウレタン樹脂（化合物（Ｂ１）：根上工業社製アートレジンＨ−３４）を４８．５部、ポリウレタン樹脂（化合物（Ｂ２）：根上工業社製ＵＮ−９５２）を２６．１部、ポリプロピレンオキシド末端アクリレート（化合物（Ｃ））を２５．４部混合し、２時間撹拌することで均一な樹脂組成物を得た。
【００９３】
硬化性組成液の調整
金属酸化物粒子の分散液として平均粒径４０ｎｍの酸化ジルコニア分散液（Ａ１）（堺化学工業(株)製：ＳＺＲ−Ｋ）を乾燥重量で４６．９部と、前記樹脂組成物５２．７部、重合開始剤を１．４部（ＢＡＳＦ社製 イルガキュア１８４）の比で混合し、さらにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈し、硬化性組成液全重量中の固形分量を３０部となるよう調整して硬化性組成液を得た。
【００９４】
導電性積層体の作成
基材として、５０μｍ厚ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム（東レ社製  ＵＨ１３）にアンチブロッキング塗工液（ＪＳＲ社製：ＡＢ０１３）を厚みが１．５μｍとなるように塗工した。
さらに硬化性組成液を乾燥厚み０．６μｍとなるように基材のアンチブロッキング層のある面とは反対面に塗工、硬化をすることで色差調整層を形成した。
続いて、得られた色差調整層上に、珪素ターゲットと反応性ガスを用いる反応性スパッタリング法及び、酸化インジウムと酸化錫が質量比９０：１０の組成のターゲットを用いるスパッタリング法によって非晶性のＳｉＯ２層（厚み１５ｎｍ）及びＩＴＯ層（厚み２２ｎｍ）を形成した。得られたフィルムに対し、１５０℃１時間加熱処理をすることでＩＴＯが結晶化した導電性積層体を作成した。得られた導電性積層体の表面抵抗値は１３０Ω／□（三菱化学アナリテック：ロレスタＧＰ  ＭＣＰ−Ｔ６１０型）であった。
【００９５】
［実施例２〜４および比較例１〜３］
樹脂組成物の調整に関して、組成比を表１に記載されたものに変更したこと以外は実施例１ と同様の手順にて調整した。その後、導電性積層体の形成において、基材厚み、金属酸化物粒子量、樹脂量、硬化厚み、ＳｉＯ２層の厚みを表１に記載されたものに変更したこと以外は実施例１ と同様の手順にて作成した。
【００９６】
ヘイズ値の測定
導電性積層体に対し、導電部（Ｘ）のヘイズ値（東洋精機社製：ヘイズガードＩＩ）を測定した。なお、このヘイズ値はＪＩＳ  Ｋ７３６１：１９９７に準拠して、算出される。
【００９７】
Σ（△Ｒλ）の測定
導電性積層体に対し、１ｍｍ幅のテープを用い１ｍｍ間隔でマスクした後に、１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られる強酸水溶液によるエッチングを行い、導電部（Ｘ）と非導電部（Ｙ）が交互に現れるパターンを形成した。得られたパターニング導電性積層体の導電層のある面とは反対側の反射を黒テープを張ることで消し、平らな板に固定した状態で波長１ｎｍごとの反射率（ＲＸλ及びＲＹλ）を測定した（図１）。波長５４０〜５６０ｎｍおよび波長５８０〜６４０ｎｍの各波長における差の絶対値△Ｒλをとり、足し合わせた。
【００９８】
エッチングマーク観察サンプルの作成
得られた導電性積層体に対し、１ｍｍ幅のテープを用い１ｍｍ間隔でマスクした後に、１２Ｎ塩酸：１６Ｎ硝酸：水＝３．３：１．０：７．６の質量比で混合して得られる強酸水溶液によるエッチングを行い、導電部（Ｘ）と非導電部（Ｙ）が交互に現れるパターン導電性積体を形成した。５０μｍ厚タッチパネル用ＯＣＡ（ＬＧ社製：ＬＧ  ＯＣ９０５２Ｄ）を得られたパターンニング導電性積層体の導電層のある面に貼り付け、さらに、パターニングした導電性積層体と張り合わせた面とは反対面に、パターニングされていない導電性積層体の導電層のない面を張り合わせた。１００μｍ厚タッチパネル用ＯＣＡ（ＬＧ社製：ＬＧ  ＯＣ９１０２Ｄ）を、得られた貼り合わせ品の、パターニングされていない導電性積層体の導電層のある面に貼り付け、１００μ厚ＯＣＡのもう一方の面にガラスを貼り付けた。得られたガラス貼り合わせ品を５０℃、８５％の条件で３０分晒し、エッチングマーク観察サンプルを得た。
【００９９】
エッチングマークの観察
作成した観察用サンプルを暗室内で三波長蛍光灯（ＴＷＩＮＢＡＲＤ製ＳＬＨ−３９９型）の下観察した。三波長蛍光灯の光を観察用サンプルのガラス面から照射したときの反射光で判別し、観察者と蛍光灯、観察用サンプル間での角度および距離にとくに制限は設けずに目視観察を実施し、下記の評価基準に基づき、判定した。
◎：導電部（Ｘ）と非導電部（Ｙ）の判別が困難または不可能。
○：導電部（Ｘ）と非導電部（Ｙ）の判別が僅かに可能。
×：導電部（Ｘ）と非導電部（Ｙ）の判別が容易に可能。
【０１００】
【表１】
2016133862.tif 000003
【０１０１】
前記表１より実施例の導電性積層体は、何れも、Σ（△Ｒλ） が０．７ 以下でありかつヘイズ値 が１．０ ％ 以下である。これにより、エッチング処理を行った後においても、極めて優れた視認性が確保されていることが確認できる。さらに化合物（Ｂ１）と化合物（Ｂ２）の全樹脂中に占める割合が８０部以下である例でもある。これにより、導電性積層体のヘイズ値が１．０以下となり、視認性が確保されていることが確認できる。
比較１〜３はΣ△Ｒが０．７より大きい例である。これらは一様に視認性が低下し、エッチングマークの観察が容易であった。さらに化合物Ｂ１と化合物Ｂ２の全樹脂中に占める割合が８０部より大きい例でもある。これにより、導電性積層体のヘイズ値が１．０より大きくなり、視認性が低下した。
【図１】
2016133862.tif 000006