(57)【要約】【課題】転写法により位相差層を転写して作製される円偏光板による反射防止フィルムに関して、色味ムラを充分に低減することを目的とする。【解決手段】直線偏光板１５と透過光に１／４波長分の位相差を付与する位相差層１９とを備えた反射防止フィルム１３において、前記位相差層１９は、液晶材料による塗工液を塗工した後、硬化して作製された位相差層であり、一定のピッチによるサンプリング点でそれぞれ計測して得られるリタデーション値の、隣接するサンプリング点間の差分絶対値の平均値Ｙが、０．２以下である。【選択図】図１
2016133617.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
直線偏光板と透過光に１／４波長分の位相差を付与する位相差層とを備えた反射防止フィルムにおいて、
前記位相差層は、
液晶材料による塗工液を塗工した後、硬化して作製された位相差層であり、
一定のピッチによるサンプリング点でそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下である
反射防止フィルム。
【請求項２】
請求項１に記載の反射防止フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置した
画像表示装置。
【請求項３】
転写法により直線偏光板に位相差層が転写されて反射防止フィルムを構成する転写フィルムにおいて、
支持体基材と、
前記支持体基材上に設けられた配向層と、
前記配向層の上に設けられた、透過光に位相差を付与する位相差層とを備え、
前記位相差層は、
液晶材料による塗工液を塗工した後、硬化して作製された位相差層であり、
一定のピッチによるサンプリング点でそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下である
転写フィルム。
【請求項４】
支持体基材に配向層を作製する配向層作製工程と、
前記配向層の上に、位相差層の塗工液を塗工して乾燥、硬化して前記位相差層を作製する位相差層の作製工程とを備え、
前記位相差層の作製工程は、
前記塗工液における固形分を１３質量％以下とすることにより、一定のピッチによるサンプリング点で前記位相差層をそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下であるように前記位相差層を作製する
転写フィルムの製造方法。
【請求項５】
支持体基材、配向層、位相差層の積層による転写フィルムを作製する転写フィルムの製造工程と、
被転写体に、転写法により、前記転写フィルムの位相差層を前記配向層と一体に配置する光学フィルムの製造工程とを備え、
前記転写フィルムの製造工程は、
前記支持体基材に前記配向層を作製する配向層作製工程と、
前記配向層の上に、前記位相差層の塗工液を塗工して乾燥、硬化して前記位相差層を作製する位相差層の作製工程とを備え、
前記位相差層の作製工程は、
前記塗工液における固形分を１３質量％以下とすることにより、一定のピッチによるサンプリング点で前記位相差層をそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下であるように前記位相差層を作製する
光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、直線偏光板と１／４波長位相差層との積層による反射防止フィルムに適用することができる。
【背景技術】
【０００２】
従来、円偏光板による反射防止フィルムにより外来光の反射を低減する方法が提案されている（特許文献１）。ここでこの反射防止フィルムは、直線偏光板、１／４波長板の積層により構成され、画像表示パネルのパネル面に向かう外来光を直線偏光板により直線偏光に変換し、続く１／４波長板により円偏光に変換する。ここでこの円偏光による外来光は、画像表示パネルの表面等で反射するものの、この反射の際に偏光面の回転方向が逆転する。その結果、この反射光は、到来時とは逆に、１／４波長板により、直線偏光板で遮光される方向の直線偏光に変換された後、続く直線偏光板により遮光され、その結果、外部への出射が著しく抑制される。
【０００３】
このような反射防止フィルムの１／４波長板には、液晶材料による位相差層を備えた位相差フィルムを適用することができる。ここでこの位相差フィルムは、透明フィルム材による基材の表面に、配向層を作製した後、位相差層に係る塗工液を塗工、乾燥、硬化することにより、配向層の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で固化して位相差層が作製され、この位相差層により透過光に所望の位相差を付与する。
【０００４】
またこの種の反射防止フィルムは、いわゆる転写法により作製することにより全体の厚みを薄くすることができると考えられる。ここで転写法とは、例えば基材等の上に所望の層を形成する場合に、この層を直接当該基材等の上に形成するのでは無く、一旦、離型性の支持体上に剥離可能に該層を積層形成して転写体を作製した後、工程、需要等に応じて、該支持体上に形成した層を、最終的に該層を積層すべき基材等（被転写体）の上に接着、積層し、その後、該支持体を剥離除去することにより、該基材等の上に所望の層を形成する方法である（特許文献２〜５）。
【０００５】
すなわち円偏光板による反射防止フィルムに転写法を適用する場合、支持体基材、配向層、位相差層が順次積層されてなる転写フィルムを用意し、位相差層が直線偏光板側となるようにしてこの転写フィルムを直線偏光板に貼り付けた後、支持体基材を剥離する。これにより支持体基材の厚みを低減して円偏光板により反射防止フィルムを作製することができる。
【０００６】
ところで、例えば有機ＥＬによる画像表示パネルのパネル面に円偏光板による反射防止フィルムを貼り付けて反射防止を図る場合に、何ら画像表示していない状態で表示画面の各部で色味がばらついて視認される問題がある。以下、この色味のバラツキを色味ムラと呼ぶ。このような色味ムラは、画像表示装置としての品位を低下させることにより、充分に低減することが望まれる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００６−２６８００７号公報
【特許文献２】特開２００５−３０９２９０号公報
【特許文献３】特開２００６−３２３３４９号公報
【特許文献４】特開２００５−３０９２９０号公報
【特許文献５】特開２００６−３２３３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明はこのような状況に鑑みてなされたものであり、転写法により位相差層を転写して作製される円偏光板による反射防止フィルムに関して、色味ムラを充分に低減することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
具体的には、本発明では、以下のようなものを提供する
【００１０】
（１）  直線偏光板と透過光に１／４波長分の位相差を付与する位相差層とを備えた反射防止フィルムにおいて、
前記位相差層は、
液晶材料による塗工液を塗工した後、硬化して作製された位相差層であり、
一定のピッチによるサンプリング点でそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下である反射防止フィルム。
【００１１】
（１）によれば、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下であることにより、色ムラを認識困難とすることができる。
【００１２】
（２）  （１）に記載の反射防止フィルムを画像表示パネルのパネル面に配置した画像表示装置。
【００１３】
（２）によれば、色ムラを認識困難にしてなる画像表示装置を提供することができる。
【００１４】
（３）  転写法により直線偏光板に位相差層が転写されて反射防止フィルムを構成する転写フィルムにおいて、
支持体基材と、
前記支持体基材上に設けられた配向層と、
前記配向層の上に設けられた、透過光に位相差を付与する位相差層とを備え、
前記位相差層は、
液晶材料による塗工液を塗工した後、硬化して作製された位相差層であり、
一定のピッチによるサンプリング点でそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下である転写フィルム。
【００１５】
（３）によれば、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下であることにより、色ムラを認識困難に反射防止フィルムを作製することができる。
【００１６】
（４）  支持体基材に配向層を作製する配向層作製工程と、
前記配向層の上に、位相差層の塗工液を塗工して乾燥、硬化して前記位相差層を作製する位相差層の作製工程とを備え、
前記位相差層の作製工程は、
前記塗工液における固形分を１３質量％以下とすることにより、一定のピッチによるサンプリング点で前記位相差層をそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下であるように前記位相差層を作製する転写フィルムの製造方法。
【００１７】
（４）によれば、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下に設定して、色ムラを認識困難とすることができる。
【００１８】
（５）  支持体基材、配向層、位相差層の積層による転写フィルムを作製する転写フィルムの製造工程と、
被転写体に、転写法により、前記転写フィルムの位相差層を前記配向層と一体に配置する光学フィルムの製造工程とを備え、
前記転写フィルムの製造工程は、
前記支持体基材に前記配向層を作製する配向層作製工程と、
前記配向層の上に、前記位相差層の塗工液を塗工して乾燥、硬化して前記位相差層を作製する位相差層の作製工程とを備え、
前記位相差層の作製工程は、
前記塗工液における固形分を１３質量％以下とすることにより、一定のピッチによるサンプリング点で前記位相差層をそれぞれ計測して得られるリタデーション値Ｒｅの、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下であるように前記位相差層を作製する光学フィルムの製造方法。
【００１９】
（５）によれば、隣接するサンプリング点間の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙが、０．２以下に設定して、色ムラを認識困難とすることができる。
【発明の効果】
【００２０】
本発明は、転写法により位相差層を転写して作製される円偏光板による反射防止フィルムに関して、色味ムラを充分に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。
【図２】図１の画像表示装置に係る反射防止フィルムに適用される転写フィルムを示す図である。
【図３】図２の転写フィルムの製造工程を示す図である。
【図４】反射防止フィルムの製造工程を示す図である。
【図５】位相差層のリタデーション値を示す図である。
【図６】図５の各試料の説明に供する図である。
【図７】拡散反射による色ムラ差異の説明に供する図である。
【図８】図７の各試料の反射率を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
〔第１実施形態〕
〔画像表示装置及び光学部品〕
図１は、本発明の第１実施形態に係る画像表示装置を示す図である。この画像表示装置１１は、画像表示パネル１２のパネル面（視聴者側面）に、円偏光板の機能により反射防止を図る反射防止フィルム１３が配置される。ここで画像表示パネル１２は、例えば有機ＥＬパネルであり、所望のカラー画像を表示する。なお画像表示パネル１２は、有機ＥＬパネルに限らず、液晶表示パネル等、種々の画像表示パネルを広く適用することができる。しかしながら有機ＥＬパネルは、電流駆動型の画像表示パネルであることにより、液晶表示パネル等の電圧駆動型の画像表示パネルに比して、電極の厚みが厚く作製されており、その結果、パネル内部からの反射光量が大きい。これにより反射防止フィルム１３は、有機ＥＬによる画像表示パネルに適用して、色ムラ低減効果が顕著になる。
【００２３】
反射防止フィルム１３は、ＰＳＡ（ＰＲｅｓｓｕＲｅ  Ｓｅｎｓｉｔｉｖｅ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ）粘着剤による粘着層１４により画像表示パネル１２のパネル面に貼り付けられて保持される。反射防止フィルム１３は、直線偏光板１５、１／４波長板１６を、ＰＳＡ粘着剤による粘着層１８により積層一体化して構成される。なおＰＳＡ粘着剤による粘着層に代えて他の粘着剤、接着剤により、反射防止フィルム１３を配置しても良く、さらには直線偏光板１５、１／４波長板１６を積層するようにしてもよい。このような他の粘着剤、接着剤としては、例えば紫外線硬化性樹脂、熱硬化性樹脂等を例示することができる。
【００２４】
直線偏光板１５は、直線偏光板として機能を担う光学機能層を１対の基材により挟持して構成される。ここで基材は、ＴＡＣ（トリアセチルセルロース）による透明フィルム、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸メチル−（メタ）アクリル酸ブチル共重合体、（メタ）アクリル酸メチル−スチレン共重合体等のアクリル樹脂等の樹脂、ソーダ硝子、カリ硝子、鉛硝子、石英硝子等の硝子等を適用することができる。光学機能層は、例えばポリビニルアルコール（ＰＶＡ）によるフィルム材に、ヨウ素化合物分子を吸着配向させて作製される。
【００２５】
１／４波長板１６は、位相差層１９により形成される。この実施形態において、この位相差層１９は、後述する転写フィルムから転写法により転写して配置される。
【００２６】
〔転写フィルム〕
図２は、この反射防止フィルム１３の作成に供する転写フィルムを示す図である。この転写フィルム２０は、支持体基材２１に、配向層２２、位相差層１９が設けられる。反射防止フィルム１３は、この転写フィルム２０に設けられた位相差層１９を転写法により直線偏光板１５に積層して作成される。
【００２７】
ここで支持体基材２１は、ＴＡＣフィルム、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）樹脂による透明フィルム材等の各種の透明フィルム材を適用することができるものの、この実施形態では、ＴＡＣフィルムによる透明フィルム材が適用される。
【００２８】
転写フィルム２０は、配向層２２の配向規制力により位相差層１９に係る液晶材料を配向させた状態で硬化させて位相差層１９が作成される。配向層２２は、これにより位相差層１９に係る液晶材料を配向させることが可能な各種の構成を適用することができるものの、この実施形態では光配向層が適用される。これにより転写フィルム２０は、光配向層に係る塗工液の塗工、乾燥により、光配向層に係る材料層が基材２１上に形成された後、直線偏光による紫外線の照射により配向層２２が形成される。なおこの光配向層に係る材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができるものの、この実施形態では、例えば光２量化型の材料を使用する。なおこの光２量化型の材料は、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，Ｋ．Ｓｃｈｍｉｔｔ，Ｖ．Ｋｏｚｉｎｋｏｖ  ａｎｄ  Ｖ．ＣｈｉｇＲｅｉｎｏｖ：Ｊｐｎ．Ｊ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，３１，２１５５（１９９２）」、「Ｍ．Ｓｃｈａｄｔ，Ｈ．ＳｅｉｂｅＲｅｌｅ  ａｎｄ  Ａ．ＳｃｈｕｓｔｅＲｅ：ＮａｔｕＲｅ，３８１，２１２（１９９６）」等に開示されている。
【００２９】
位相差層１９は、ダイ等の塗工ヘッドにより対応する塗工液を塗工した後、乾燥し、その後、紫外線を照射して硬化させることにより、配向層２２の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で固化（硬化）して作製される。位相差層１９は、この塗工ヘッドによる塗工方向と直交する方向に、一定のピッチＰにより複数個ｘのサンプリング点でそれぞれリタデーション値Ｒｅを計測し、隣接するサンプリング点間のリタデーション値の差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜を計算するようにして、次式により示すように、この差分絶対値｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜の平均値Ｙ＝Σ｜Ｒｅｎ−Ｒｅｎ＋１｜／（ｘ−１）が０．２以下となるように、均一な膜厚により作製される。
【００３０】
【数１】
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【００３１】
なおここでΣは、ｎ＝１からｘ−１である。またサンプリングに係るピッチＰは、５ｍｍである。またリタデーション値の計測に供する計測光のビーム径は６ｍｍである。またリタデーション値の計測波長は、５８８．６ｎｍである。
【００３２】
すなわち塗工ヘッドによる塗工液の塗工においては、膜厚のバラツキを避け得ず、その結果、硬化後の位相差層では計測に供する部位で位相差がばらつくことになる（以下、この位相差のバラツキを位相差ムラと呼ぶ）。種々に検討した結果、このような位相差ムラが大きくなると、色ムラも増大し、これにより位相差ムラを低減することにより、色ムラを低減できると判断される。しかしながら位相差が緩やかに変化している部位に比して、位相差が急激に変化している部位の方が、色ムラは目立ち易い。また人間の目は、波長４５０ｎｍ以上７００ｎｍ以下の範囲で拡散反射の程度が大きい場合に色ムラを視認し易い。これによりこの実施形態では、サンプリングピッチＰ＝５ｍｍ、計測光のビーム径６ｍｍ、計測波長５８８．６による計測結果を上述の（１）式により計算して得られる平均値Ｙにより位相差ムラを判断して色ムラを低減する。
【００３３】
位相差層１９は、光学異方性を発現する液晶材料である各種の重合性液晶組成物を適用することができる。ここでこの重合性液晶組成物は、液晶性を示し、分子内に重合性官能基を有する液晶化合物（以下、「棒状化合物」ともいう。）のほか、アンチブロッキング剤等を含有させることができる。
【００３４】
位相差層１９に係る棒状化合物は、屈折率異方性を有し、配向層２２の配向規制力により規則的に配列することにより、所望の位相差性を付与する機能を有する。棒状化合物として、例えば、ネマチック相、スメクチック相等の液晶相を示す材料が挙げられるが、他の液晶相を示す液晶化合物と比較して規則的に配列させることが容易である点で、ネマチック相を示す棒状化合物を用いることがより好ましい。
【００３５】
本実施形態において用いられる棒状化合物の具体例としては、例えば、下記式（１）〜（１３）で表される化合物を例示でき、これらの化合物を重合させて使用することができる。
【００３６】
【化１】
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【００３７】
〔製造工程〕
転写フィルム２０は、ロールに巻き取った長尺フィルム形態により基材２１が提供され、この基材２１をロールより引き出して搬送しながら配向層２２、位相差層１９が順次作製された後、ロールに巻き取って光学フィルムの製造工程に搬送される。
【００３８】
図３は、転写フィルム２０の製造工程を示す図である。この製造工程３０は、ロール３１により基材２１が提供され、ロール３１から基材２１を引き出しながら搬送し、ダイ３２により配向層２２の塗工液を塗工する。続いて乾燥装置３３において、塗工した塗工液を乾燥させた後、光源３４からの直線偏光による紫外線の照射により硬化させ、これにより配向層２２を作製する。
【００３９】
続いてこの製造工程３０は、ダイ３５により位相差層１９に係る塗工液を配向層２２の上に塗工した後、乾燥装置３６により乾燥する。また続いて光源３７により紫外線を照射し、これにより配向層２２の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で硬化させ、位相差層１９を作製する。ここでこの紫外線の照射においては、位相差層１９に係る塗工液の塗工面側から実行され、これにより塗工層に効率良く紫外線を照射して位相差層１９を作製する。なお配向層、位相差層に係る塗工液の塗工にあっては、ダイによる塗工に限らず、種々の手法を広く適用することができる。
【００４０】
この製造工程３０は、このようにして作製した長尺フィルム形状による転写フィルム２０をロール３９に巻き取って直線偏光板との一体化工程に搬送する。
【００４１】
このようにして塗工液を塗工して位相差層１９を作製するようにして、製造工程３０は、上述した材料による固形成分を溶剤により溶解して位相差層１９に係る塗工液を作製するようにして、この塗工液における固形成分を１３質量％以下に設定することにより、（１）式に係る平均値Ｙが０．２以下となるようにして位相差層を作製する。
【００４２】
図４は、直線偏光板との一体化工程を示す図である。この製造工程は、ロール３９により転写フィルム２０が提供される。また粘着層１８、ＰＥＴフィルムによる剥離フィルム４１を配置した状態でロール４２により直線偏光板１５が供給される。この製造工程は、ロール４２から直線偏光板１５、粘着層１８、剥離フィルム４１の積層体を引き出しながら、剥離ロール４３により剥離フィルム４１を剥離し、剥離した剥離フィルム４１をロール４４に巻き取る。またロール３９から転写フィルム２０を引き出しながら、剥離フィルム４１を剥離してなる直線偏光板１５、粘着層１８と積層した後、加圧ロール４５により加圧し、これにより転写フィルム２０、直線偏光板１５、粘着層１８の積層体を構成する。また続く剥離ロール４６により基材２１を配向層２２と一体に剥離してロール４７に巻き取り、これにより直線偏光板１５、粘着層１８、位相差層１９の積層体を形成して反射防止フィルム１３を作成し、この反射防止フィルム１３をロール４８に巻き取る。反射防止フィルム１３の製造工程は、その後、粘着層１４、セパレータフィルムを配置した後、所望の大きさに切断する。
【００４３】
図５は、実施例及び比較例に係る反射防止フィルムにおける位相差層１９のリタデーション値Ｒｅの計測結果を示す図表である。この図５において、符号ＬＡ１、ＬＡ２、ＬＡ３はそれぞれ比較例１、２、３の計測結果である。また符号ＬＢ１、ＬＢ２、ＬＢ３はそれぞれ実施例１、２、３の計測結果である。この計測は、ロール形状による透明フィルム材による基材の幅方向（いわゆるＴＤ方向であり、塗工方向と直交する方向である）に、サンプリングピッチＰ＝５ｍｍ、計測光のビーム径６ｍｍ、計測波長５８８．６により、王子計測機器株式会社製；KOBRA-WX150Kを使用して計測した結果である。また転写フィルムの状態での計測結果である。
【００４４】
比較例１〜３、実施例１〜３は、位相差層１９に係る塗工液が異なる点を除いて、同一に作製される。ここで支持体基材２１は、厚み１００μｍのＰＥＴフィルムを適用した。配向層２２は、対応する塗工液を、乾燥膜厚２００μｍとなるように塗工した後、１２０℃の熱風により乾燥し、光量２０ｍＪ／ｃｍ２により直線偏光の紫外線を照射して作製した。この配向層２２の塗工液は、ＰＧＭＥ溶剤により固形分４．５質量％となるように作製した。また位相差層１９は、対応する塗工液を乾燥膜厚１μｍとなるように塗工した後、９０℃の熱風により乾燥し、光量４５０ｍＪ／ｃｍ２による紫外線の照射により作製した。なおこの位相差層１９の塗工液は、ＭＥＫ：ＭＩＢＫ＝１：１混合溶剤である。図６に示すように、比較例１、２、３は、それぞれこの塗工液における固形分が３０質量％、２５質量％、２０質量％となるように塗工液を作製し、実施例１、２、３は、固形分が１３質量％、９質量％、７質量％となるように塗工液を作製した。
【００４５】
この図５の計測結果によれば、何れの計測結果においても、リタデーション値Ｒｅの計測結果よっては位相差ムラの大小が判り難いことが判る。
【００４６】
図６は、この図５の計測結果により（１）式の演算処理を実行して平均値Ｙを計算した結果を示す図表である。この図６によれば、固形分を低減することにより、順次、平均値Ｙが低下することが判る。この図６において、色ムラ視認性は、比較例１〜３、実施例１〜３の転写フィルムによる位相差層を転写法により直線偏光板に転写して反射防止フィルムを作製し、この反射防止フィルムを有機ＥＬによる画像表示パネルのパネル面に貼り付けて色ムラを目視により観察した結果である。なお画像表示パネルは、後述する高精細ＯＬＥＤパネルである。
【００４７】
ここで「×」は、一般ユーザにおいてもほぼ１００％の確率で色ムラを視認できる程度を示し、「△」は、一般ユーザにおいても１００％では無いものの色ムラを認識できる程度であり、「○」は、注意して観察しなければ色ムラを認識できない場合である。「◎」は、注意して観察しても色ムラを認識できない場合である。これにより平均値Ｙを０．２以下とすれば充分に色ムラを低減できることが判る。また固形成分を１３質量％以下とすることにより、平均値Ｙを０．２以下に設定できることが判る。
【００４８】
図７は、この比較例１〜３、実施例１〜３に係る反射防止フィルムを、ミラー、有機ＥＬによる通常の画像表示パネル（ＯＬＥＤパネル）、有機ＥＬによる高精細の画像表示パネル（高精細ＯＬＥＤパネル）、表面が粗面であるアルミ蒸着フィルムに貼り付けて色ムラを観察した結果を示す図である。なお有機ＥＬによる通常の画像表示パネル、有機ＥＬによる高精細の画像表示パネルは、画素ピッチがそれぞれ      μｍ、      μｍであり、この画素ピッチが異なる点を除いて同一に構成されている。計測方法及び評価方法は、図６の例と同一である。
【００４９】
また図８は、この図７に係る試料の反射率の計測結果を示す図である。符号Ｍ１、Ｍ２、Ｍ３、Ｍ４は、それぞれミラー、有機ＥＬによる通常の画像表示パネル、有機ＥＬによる高精細の画像表示パネル、アルミ蒸着フィルムの反射率計測結果であり、積分球を使用して計測される拡散反射光及び正反射光による反射光による反射率である。符号Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４は、それぞれミラー、有機ＥＬによる通常の画像表示パネル、有機ＥＬによる高精細の画像表示パネル、アルミ蒸着フィルムの反射率計測結果であり、正反射光を除いた拡散反射光による反射率である。なお計測は、王子計測機器株式会社製；KOBRA-WX150Kを使用した。
【００５０】
この図８の拡散反射に係る反射率Ｎ１、Ｎ２、Ｎ３、Ｎ４と、図７との比較により、拡散反射率が大きくなるに従って色ムラが目立ち易くなり、特に波長４５０ｎｍ〜７００ｎｍにおける拡散反射が大きくなるに従って色ムラが目立ち易くなることが判る。しかしながら実施例１〜３にあっては、有機ＥＬによる通常の画像表示パネル、有機ＥＬによる高精細の画像表示パネルの何れにおいても、充分に色ムラを低減できることが判る。
【００５１】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態を種々に変更することができる。
【００５２】
すなわち上述の実施形態では、光配向層により配向層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ラビング処理により配向層を作製する場合、微細なライン状凹凸形状を賦型処理により作製して配向層を作製する場合等にも広く適用することができる。
【００５３】
また上述の実施形態では、位相差層のみ直線偏光板に転写する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、配向層と一体に転写する場合にも広く適用することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１１  画像表示装置
１２  画像表示パネル
１３  反射防止フィルム
１４、１８  粘着層
１５  直線偏光板
１６  １／４波長板
１９  位相差層
２０  転写フィルム
２１  支持体基材
２２  配向層
３０  製造工程
３１、３９、４２〜４８  ロール
３２、３５  ダイ
３３、３６  乾燥装置
３４、３７  光源
４１  剥離フィルム
３９、４２〜４８  ロール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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