(57)【要約】【課題】非粘着性及び／又は耐摩耗性の耐久性に優れたコーティング構造体を提供する。【解決手段】表面に多数の凹部及び凸部からなる凹凸状部が形成された基材と、凹凸状部の凹凸形状が表面に表れるように凹凸状部側から順に積層された、硬質層と、非粘着性及び／又は耐摩耗性のコーティング層と、を有するコーティング構造体。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面に多数の凹部及び凸部からなる凹凸状部が形成された基材と、前記凹凸状部の凹凸形状が表面に表れるように前記凹凸状部側から順に積層された、硬質層と、非粘着性及び／又は耐摩耗性のコーティング層と、を有するコーティング構造体。
【請求項２】
前記凹凸状部の表面粗さＲａが１μｍ〜２０μｍである請求項１に記載のコーティング構造体。
【請求項３】
前記硬質層が、ダイヤモンドライクカーボン、クロム、チタン、窒化クロム、窒化チタン、窒化ケイ素、炭化クロム、炭化チタン、炭化ケイ素、炭窒化クロム、炭窒化チタン、窒化チタンクロム、窒化チタンアルミニウム、又は炭窒化チタンアルミニウムからなる請求項１又は請求項２に記載のコーティング構造体。
【請求項４】
前記硬質層がダイヤモンドライクカーボンからなる請求項３に記載のコーティング構造体。
【請求項５】
前記コーティング層が、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、フッ素樹脂、フッ素ゴム、又はフッ素含有ダイヤモンドライクカーボンを含む請求項１〜請求項４のいずれか１項に記載のコーティング構造体。
【請求項６】
前記凹凸状部と前記硬質層との間に中間層を有する請求項１〜請求項５のいずれか１項に記載のコーティング構造体。
【請求項７】
前記凸部の少なくとも一部において前記硬質層が表面に露出している請求項１〜請求項６のいずれか１項に記載のコーティング構造体。
【請求項８】
前記凸部が略同一の高さを有する請求項１〜請求項７のいずれか１項に記載のコーティング構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、非粘着性及び／又は耐摩耗性のコーティング層を有するコーティング構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、粘着物切断用のカッター、複写機用ローラ等においては、基材表面をブラスト、溶射等の方法で粗面加工し、粗面加工した面に非粘着性及び／又は耐摩耗性のコーティング層を形成することが知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、表面が凹凸になるように形成された凹凸部と、凹凸部の凹凸形状が表面に表れるように少なくとも凹部に固着された非粘着性高重合体（シリコーン高重合体等）からなる非粘着層と、を備え、凹凸部と非粘着層とによって上記表面を、平均粗さＲａが１μｍ〜２０μｍ、隣接する凸部の平均間隔Ｚが２０μｍ〜１０００μｍとなるように形成した構造体（カッター等）が開示されている。
【０００４】
また、特許文献２には、導電性の基材の表面に多数の凹部及び高さが略同一となるように処理された多数の凸部からなる凹凸状部が形成されるとともに、凸部の頂部が露出するように凹凸状部の凹部にコーティング層が固着されたコーティング構造体（複写機用ローラ等）が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特公平７−１０６７４７号公報
【特許文献２】特許第２５１５１９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献１及び２に開示された技術によれば、非粘着層又はコーティング層を形成することにより、カッター、ローラ等の構造体の表面に非粘着性又は耐摩耗性を付与することができる。しかし、このような構造体を長期間使用した場合、コーティング層が有する非粘着性及び／又は耐摩耗性が低下するという問題が判明した。
【０００７】
そこで、本発明は、非粘着性及び／又は耐摩耗性の耐久性に優れたコーティング構造体を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決するための手段は、以下のとおりである。
＜１＞  表面に多数の凹部及び凸部からなる凹凸状部が形成された基材と、前記凹凸状部の凹凸形状が表面に表れるように前記凹凸状部側から順に積層された、硬質層と、非粘着性及び／又は耐摩耗性のコーティング層と、を有するコーティング構造体。
＜２＞  前記凹凸状部の表面粗さＲａが１μｍ〜２０μｍである＜１＞に記載のコーティング構造体。
＜３＞  前記硬質層が、ダイヤモンドライクカーボン、クロム、チタン、窒化クロム、窒化チタン、窒化ケイ素、炭化クロム、炭化チタン、炭化ケイ素、炭窒化クロム、炭窒化チタン、窒化チタンクロム、窒化チタンアルミニウム、又は炭窒化チタンアルミニウムからなる＜１＞又は＜２＞に記載のコーティング構造体。
＜４＞  前記硬質層がダイヤモンドライクカーボンからなる＜３＞に記載のコーティング構造体。
＜５＞  前記コーティング層が、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、フッ素樹脂、フッ素ゴム、又はフッ素含有ダイヤモンドライクカーボンを含む＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載のコーティング構造体。
＜６＞  前記凹凸状部と前記硬質層との間に中間層を有する＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載のコーティング構造体。
＜７＞  前記凸部の少なくとも一部において前記硬質層が表面に露出している＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載のコーティング構造体。
＜８＞  前記凸部が略同一の高さを有する＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載のコーティング構造体。
【０００９】
なお、本明細書において「層」との語は、平面図として観察したときに、全面に形成されている形状の構成に加え、一部に形成されている形状の構成も包含される。
また、本明細書において「〜」を用いて示された数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を示す。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、非粘着性及び／又は耐摩耗性の耐久性に優れたコーティング構造体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のコーティング構造体の一実施形態を示す模式断面図である。
【図２】実施例及び比較例の各コーティング構造体について、摩擦摩耗試験機を用いて接触子を摺動させたときの摩擦係数の変化を示す図である。
【図３】実施例及び比較例の各コーティング構造体について、テーバー摩耗試験機を用いて摩耗輪を走行させたときのセロハンテープの剥離力の変化を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明を実施するための形態について詳細に説明する。ただし、本発明は以下の実施形態に限定されるものではない。
【００１３】
本実施形態のコーティング構造体の模式断面図を図１に示す。図１に示すとおり、コーティング構造体１は、表面に多数の凹部及び凸部からなる凹凸状部が形成された基材２と、硬質層３と、非粘着性及び／又は耐摩耗性のコーティング層４と、を有し、硬質層３及びコーティング層４は凹凸状部側からこの順で積層されている。硬質層３及びコーティング層４の膜厚は薄いため、硬質層３及びコーティング層４によって凹凸状部の凹凸形状が消失することはなく、凹凸状部の凹凸形状が表面に表れている。
【００１４】
基材２の材質は、特に限定されず、コーティング構造体１の用途に応じて選択される。例えば、基材２の材質としては、金属、セラミック、合成樹脂等が挙げられる。例えば、コーティング構造体１の用途が複写機等に用いられるローラである場合、基材２の材質としては、アルミニウム、アルミニウム合金、鉄、ステンレス等の金属が好ましい。
【００１５】
基材２の表面には、多数の凹部及び凸部からなる凹凸状部が形成されている。凹凸状部を形成する方法としては、ブラスト加工法、微小電気機械システム（ＭＥＭＳ：Micro Electro Mechanical Systems）加工法等が挙げられる。例えば、ブラスト法では、粒状の金属体又はセラミック体である研削材を所定のブラスト圧で基材の表面に噴射することによって、基材の表面に凹凸状部を形成することができる。
凹凸状部を形成する方法の中でも、特にブラスト加工法によって形成した凹凸形状は、アンカー効果に優れ、基材２と硬質層３、コーティング層４等との密着性向上に有効である。また、ブラスト加工法は、大面積の凹凸形状を低コストで形成できるという利点も有する。
【００１６】
凹凸状部における表面粗さＲａは、非粘着性及び／又は耐摩耗性の耐久性を向上させる観点から、１μｍ〜２０μｍが好ましく、１μｍ〜１０μｍがより好ましく、１μｍ〜５μｍが更に好ましく、１μｍ〜３μｍが特に好ましく、１μｍ〜２μｍが極めて好ましい。表面粗さＲａは、例えば、（株）東京精密製の表面粗さ形状測定機「サーフコム５９０Ａ−３Ｄ」（商品名）を用いて測定することができる。
【００１７】
基材２の凹凸状部は、図１に示すように凸部の高さが不揃いであってもよいが、特許第２５１５１９０号公報で提案されているように、凸部の高さを略同一としてもよい。凸部の高さを略同一とすることにより、非粘着性及び／又は耐摩耗性を維持しつつ、コーティング層４の膜厚を薄くすることができる。
凹凸状部における凸部の高さを略同一とするには、例えば、凹凸状部を形成した後、凸部の高さが略同一となるように凸部の頂部を処理すればよい。凸部の頂部を処理する方法としては、凸部の頂部を圧縮する方法、凸部の頂部を切削する方法、凸部の頂部を研磨する方法等を採用することができる。
【００１８】
硬質層３としては、一般に、ビッカース硬度で９００Ｈｖ〜３５００Ｈｖの硬質層が好ましく用いられる。
硬質層３の材質としては、例えば、ダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ：Diamond Like Carbon）、クロム、チタン、窒化クロム、窒化チタン、窒化ケイ素、炭化クロム、炭化チタン、炭化ケイ素、炭窒化クロム、炭窒化チタン、窒化チタンクロム、窒化チタンアルミニウム、又は炭窒化チタンアルミニウムからなるものが挙げられる。
この中でも、低摩擦特性の観点から、ダイヤモンドライクカーボンが好ましい。ダイヤモンドライクカーボンは、ドープ元素を含むものであってもよく、ドープ元素を含まないものであってもよい。ドープ元素としては、ケイ素、チタン、クロム、アルミニウム、鉄、ニッケル、銅、銀、モリブデン、タングステン、フッ素、水素、窒素等の元素が挙げられる。
【００１９】
基材２上に硬質層３を形成する方法としては、化学気相成長（ＣＶＤ：Chemical Vapor Deposition）法、物理気相成長（ＰＶＤ：Physical Vapor Deposition）法等の公知の方法を採用することができる。ＣＶＤ法としては、プラズマＣＶＤ法が挙げられる。ＰＶＤ法としては、スパッタリング法、アークイオンプレーティング法、イオン蒸着法、イオンビーム法、レーザーアブレーション法等が挙げられる。
【００２０】
例えば、ダイヤモンドライクカーボンからなる硬質層３をＣＶＤ法により形成する場合、炭素源となる原料ガスが用いられる。原料ガスとしては、メタン、エタン、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン等のアルカン系ガス；エチレン、プロピレン、ブテン、ペンテン等のアルケン系ガス；アセチレン、メチルアセチレン等のアルキン系ガス；ベンゼン、トルエン、キシレン、インデン、ナフタレン、フェナントレン等の芳香族炭化水素系ガス；シクロプロパン、シクロヘキサン等のシクロアルカン系ガス；などが挙げられる。上記の原料ガスは単独で用いてもよく、２種以上を併用してもよい。また、上記の原料ガスと、水素ガス、希ガス等とを混合した混合ガスを用いてもよい。
ダイヤモンドライクカーボンからなる硬質層３を形成する際の成膜温度は、例えば、８０℃〜３００℃が好ましい。成膜温度を高めることにより、基材２と硬質層３との密着性を向上させることができる。
【００２１】
硬質層３の平均膜厚は、例えば、０．１μｍ〜５μｍが好ましく、０．３μｍ〜２μｍがより好ましい。基材２上に硬質層３を形成するのと同時に平坦な基板（シリコンウエハ等）上にも硬質層を形成し、基板上の硬質層の平均膜厚を測定することにより、硬質層３の平均膜厚を簡易的に見積もることができる。
【００２２】
本実施形態のコーティング構造体１は、基材２の凹凸状部と硬質層３との間に中間層（図示せず）を有していてもよい。特に、硬質層３がダイヤモンドライクカーボンからなる場合には、基材２の凹凸状部と硬質層３との間に中間層を有することが好ましい。中間層としては、ケイ素、チタン、リン等を含む公知の中間層が挙げられる。このような中間層を設けることにより、ダイヤモンドライクカーボンからなる硬質層３の内部応力を緩和し、硬質層３の剥離を抑制することができる。
【００２３】
基材２上に中間層を形成する方法としては、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法等の公知の方法を採用することができる。例えば、ケイ素、チタン、リン等を含む中間層をＣＶＤ法により形成する場合、原料ガスとしては、テトラメチルシラン、ヘキサメチルジシロキサン、チタニウムテトライソプロポキシド、チタニウムテトラエトキシド、亜リン酸トリメチル等のガスを用いることができる。
【００２４】
中間層の平均膜厚は、例えば、０．１μｍ〜１μｍが好ましい。基材２上に中間層を形成するのと同時に平坦な基板（シリコンウエハ等）上にも中間層を形成し、基板上の中間層の平均膜厚を測定することにより、中間層の平均膜厚を簡易的に見積もることができる。
【００２５】
なお、基材２の凹凸状部と硬質層３との間に中間層を設ける代わりに、例えば、フッ素をドープしたダイヤモンドライクカーボンを硬質層３に用いることによっても、硬質層３の内部応力を緩和することが可能である。
【００２６】
コーティング層４は、非粘着性及び／又は耐摩耗性を有する。コーティング層４としては、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、フッ素樹脂、フッ素ゴム、又はフッ素含有ダイヤモンドライクカーボンを含むものが好ましい。コーティング層４は、必要に応じて、充填剤等を含んでいてもよい。
【００２７】
シリコーン樹脂としては、ジメチルポリシロキサン、ジメチルシロキサン／メチルフェニルシロキサン共重合体等のポリオルガノシロキサン；メチルハイドロジェンポリシロキサン、メチルフェニルハイドロジェンポリシロキサン等のオルガノハイドロジェンポリシロキサン；などが挙げられる。
シリコーンゴムとしては、ジメチルシリコーンゴム、フルオロシリコーンゴム、メチルフェニルシリコーンゴム等が挙げられる。
フッ素樹脂としては、ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）、テトラフルオロエチレン／パーフルオロアルコキシエチレン共重合体（ＰＦＡ）、テトラフルオロエチレン／ヘキサフルオロプロピレン共重合体（ＦＥＰ）、ポリフッ化ビニリデン、ポリビニルフロオライド等が挙げられる。
フッ素ゴムとしては、フッ化ビニリデンゴム、テトラフルオロエチレン／プロピレンゴム、テトラフルオロエチレン／パーフルオロメチルビニルエーテルゴム等が挙げられる。
フッ素含有ダイヤモンドライクカーボンとしては、フッ素をドープしたダイヤモンドライクカーボンを用いることができる。
【００２８】
硬質層３上にコーティング層４を形成する方法としては、シリコーン樹脂、シリコーンゴム、フッ素樹脂、又はフッ素ゴムを含むコーティング材を硬質層３上にスプレー塗布する方法が挙げられる。コーティング層４がフッ素含有ダイヤモンドライクカーボンを含む場合には、ＣＶＤ法、ＰＶＤ法等により、硬質層３上にコーティング層４を形成することができる。
【００２９】
コーティング層４の平均膜厚は、例えば、０．１μｍ〜３μｍが好ましい。硬質層３上にコーティング層４を形成するのと同時に平坦な基板（シリコンウエハ等）上にもコーティング層を形成し、基板上のコーティング層の平均膜厚を測定することにより、コーティング層４の平均膜厚を簡易的に見積もることができる。
【００３０】
コーティング層４は、硬質層３の全面を覆っていてもよいが、図１に示すように、凸部の少なくとも一部において硬質層３が表面に露出していることが好ましい。例えば、硬質層３がダイヤモンドライクカーボン等の導電性を有する材質である場合、凸部の少なくとも一部において硬質層３が表面に露出することにより、帯電防止効果を得ることができる。
【００３１】
なお、コーティング構造体１の使用によりコーティング層４が摩耗した場合には、ブラスト処理によってコーティング層４を除去し、再度、コーティング層４を形成してもよい。ブラスト処理によってコーティング層４を除去しても、硬質層３の寸法精度は殆ど変化しない。
【００３２】
本実施形態のコーティング構造体１は、非粘着性及び／又は耐摩耗性の耐久性に優れており、非粘着性及び／又は耐摩耗性が要求される用途に好適である。具体的な用途としては、粘着剤用の容器（反応容器、混合容器、バット等）；移送パイプ；タイヤ製造用の治具；タイヤ製造用機械設備の部品防汚体等の構造体；未加硫ゴム等の粘着物を切断するカッター；複写装置、印刷装置等に用いるローラ；等が挙げられる。
【実施例】
【００３３】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００３４】
＜実施例１＞
アルミニウム合金（Ａ６０６３）製の基材の表面をブラスト加工し、表面粗さＲａが１．５μｍである凹凸状部を形成した。ブラスト加工には、研削材としてマテリアルサイエンス（株）製の「ＷＡ−８０」（商品名）を用いた。表面粗さＲａの測定には、（株）東京精密製の表面粗さ形状測定機「サーフコム５９０Ａ−３Ｄ」（商品名）を用いた。
次に、アルゴンイオンで約３０分間スパッタリングを行うことにより、凹凸状部を形成した基材の表面のクリーニングを行った。
【００３５】
次に、原料ガスとしてテトラメチルシランを用いたプラズマＣＶＤ法により、基材の凹凸状部の表面に中間層を形成した。
次に、原料ガスとしてアセチレンガスを用いたプラズマＣＶＤ法により、中間層上にダイヤモンドライクカーボンからなる硬質層を形成した。プラズマＣＶＤの条件は、印加電圧−４ｋＶ、成膜温度２５０℃〜３００℃とした。中間層上に硬質層を形成するのと同時にシリコンウエハ上にも硬質層を形成し、シリコンウエハ上の硬質層の平均膜厚を測定したところ、平均膜厚は１．１μｍ〜１．３μｍであった。
次に、スプレーガンを用いてシリコーン樹脂を含むコーティング材を硬質層上にスプレー塗布し、硬質層上にコーティング層を形成することにより、実施例１のコーティング構造体を得た。コーティング材としては、信越化学工業（株）製の「ＫＳ−７００」（商品名）を用いた。コーティング層の平均膜厚は約１．０μｍであった。
【００３６】
＜実施例２＞
アルミニウム合金（Ａ６０６３）製の基材の表面に、ニッケルワイヤーを使用したアーク方式溶射機（コーケン・テクノ（株）製）を用いて、表面粗さＲａが９μｍ〜１６μｍである凹凸状部を形成した。表面粗さＲａの測定には、（株）東京精密製の表面粗さ形状測定機「サーフコム５９０Ａ−３Ｄ」（商品名）を用いた。
次に、アルゴンイオンで約３０分間スパッタリングを行うことにより、凹凸状部を形成した基材の表面のクリーニングを行った。
【００３７】
次に、実施例１と同様にして基材の凹凸状部の表面に中間層を形成し、更に、中間層上にダイヤモンドライクカーボンからなる硬質層を形成した。実施例１と同様にして硬質層の平均膜厚を測定したところ、平均膜厚は１．１μｍ〜１．３μｍであった。
次に、実施例１と同様にして硬質層上にコーティング層を形成することにより、実施例２のコーティング構造体を得た。実施例１と同様にしてコーティング層の平均膜厚を測定したところ、平均膜厚は約８．０μｍであった。
【００３８】
＜比較例１＞
アルミニウム合金（Ａ６０６３）製の基材の表面をブラスト加工し、表面粗さＲａが１．２μｍである凹凸状部を形成した。ブラスト加工には、研削材としてマテリアルサイエンス（株）製の「ＷＡ−８０」（商品名）を用いた。表面粗さＲａの測定には、（株）東京精密製の表面粗さ形状測定機「サーフコム５９０Ａ−３Ｄ」（商品名）を用いた。
次に、アルゴンイオンで約３０分間スパッタリングを行うことにより、凹凸状部を形成した基材の表面のクリーニングを行った。
【００３９】
次に、スプレーガンを用いてシリコーン樹脂を含むコーティング材を基材上にスプレー塗布し、基材上にコーティング層を形成することにより、比較例１のコーティング構造体を得た。コーティング材としては、信越化学工業（株）製の「ＫＳ−７００」（商品名）を用いた。コーティング層の平均膜厚は約１．０μｍであった。
【００４０】
＜比較例２＞
アルミニウム合金（Ａ６０６３）製の基材の表面に、ニッケルワイヤーを使用したアーク方式溶射機（コーケン・テクノ（株）製）を用いて、表面粗さＲａが９μｍ〜１６μｍである凹凸状部を形成した。表面粗さＲａの測定には、（株）東京精密製の表面粗さ形状測定機「サーフコム５９０Ａ−３Ｄ」（商品名）を用いた。
次に、アルゴンイオンで約３０分間スパッタリングを行うことにより、凹凸状部を形成した基材の表面のクリーニングを行った。
【００４１】
次に、比較例１と同様にして基材上にコーティング層を形成することにより、比較例２のコーティング構造体を得た。実施例１と同様にしてコーティング層の平均膜厚を測定したところ、平均膜厚は約８．０μｍであった。
【００４２】
＜評価＞
［非粘着性の評価］
実施例及び比較例の各コーティング構造体のコーティング層にセロハンテープ（ニチバン（株）製「ＣＴ−１５」（商品名）、テープ幅１５ｍｍ）を貼り付け、重量２ｋｇのゴム製ローラを２往復させて加圧した。そして、剥離角度を９０度としてセロハンテープを剥離し、剥離力を測定した。剥離力の測定には、（株）イマダ製のデジタルフォースゲージ「ＤＳ２−５Ｎ」を用いた。剥離力は、セロハンテープの単位幅（１０ｍｍ）あたりの力（Ｎ／１０ｍｍ）で示す。
【００４３】
剥離力を測定した結果、実施例１のコーティング構造体の剥離力は０．００７Ｎ／１０ｍｍであり、実施例２のコーティング構造体の剥離力は０．０１Ｎ／１０ｍｍ未満であり、比較例１及び２のコーティング構造体の剥離力は０．００６Ｎ／１０ｍｍであり、いずれも０．０１Ｎ／１０ｍｍ未満であった。このことから、基材とコーティング層との間に中間層及び硬質層を設けても、コーティング構造体の非粘着性には影響を与えないと考えられる。
【００４４】
［耐摩耗性の耐久性の評価］
（株）レスカ製の摩擦摩耗試験機「ＦＰＲ−２０００」（商品名）を用いて、実施例及び比較例の各コーティング構造体のコーティング層上で接触子（ＳＵ２Ｊ、φ５ｍｍ球）を繰り返し摺動させ、摩擦係数の変化を測定した。試験条件は、摺動半径５ｍｍ、荷重２００ｇ、回転数４００ｒｐｍとした。実施例及び比較例の各コーティング構造体の摩擦係数の変化を図２に示す。
【００４５】
図２から分かるように、比較例１のコーティング構造体は、摺動距離１ｍ未満で摩擦係数が１を超えた。一方、実施例１のコーティング構造体は、摺動距離が３５０ｍを超えても摩擦係数は０．３未満であり、耐摩耗性の耐久性に優れていた。
また、比較例２のコーティング構造体は、摺動距離１０ｍ未満で摩擦係数が１を超えた。一方、実施例２のコーティング構造体は、摺動距離３０ｍ未満で摩擦係数が０．６を超え、比較例２よりも耐摩耗性の耐久性に優れていた。
【００４６】
［非粘着性の耐久性の評価］
テスター産業（株）製のテーバー摩耗試験機を用い、摩耗輪（ＣＳ−０）を走行させたときのセロハンテープの剥離力の変化を測定した。試験条件は、回転数６０ｒｐｍ、荷重１０００ｇとした。セロハンテ−プの剥離力の測定方法は、上記［非粘着性の評価］と同じである。実施例１及び比較例１のコーティング構造体の剥離力の変化を図３に示す。
【００４７】
図３から分かるように、比較例１のコーティング構造体は、約３００回転で剥離力が約０．７Ｎ／１０ｍｍを示し、回転数が増すと非常に大きな値を示した。一方、実施例１のコーティング構造体は、約５０００回転まで剥離力は増加して約０．０６Ｎ／１０ｍｍを示したが、その後は殆ど変化せず、非粘着性の耐久性に優れていた。
比較例２のコ−ティング構造体は、約５０００回転まで剥離力は増加して約０．２５Ｎ／１０ｍｍを示し、その後も回転数が増すと値は僅かに増加した。一方、実施例２のコ-ティング構造体は、約５０００回転まで剥離力は増加して約０．１５Ｎ／１０ｍｍを示したが、その後は殆ど変化せず、比較例２よりも非粘着性の耐久性に優れていた。
【符号の説明】
【００４８】
１…コーティング構造体、２…基材、３…硬質層、４…コーティング層
【図１】
2016210190.tif 000003
【図２】
2016210190.tif 000004
【図３】
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