(57)【要約】【課題】深層濾過の機構およびケーク濾過の機構を利用して被濾過液中のＳＳ粒子を捕捉でき、さらにケーク濾過へ移行しても濾過流量を保持できる濾過用フィルターを提供する。【解決手段】実施形態の濾過用フィルターは、複数の貫通孔を形成してなる板状の基材と、該基材のうち少なくとも被濾過液が流入する一次面側に形成された複数の微細構造物と、を有する濾過体を備える。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の貫通孔を有する板状の基材と、前記基材のうち少なくとも被濾過液が流入する一次面側に形成された複数の微細構造物と、を有する濾過体を備えた濾過用フィルター。
【請求項２】
前記微細構造物は、少なくとも前記貫通孔の内側面にも形成された請求項１記載の濾過用フィルター。
【請求項３】
前記濾過体における前記一次面側を平面視した場合に、前記一次面全体の面積に対する前記貫通孔の面積の割合である開口率は０．０５％以上、３０％以下であり、前記貫通孔の内接円の直径は１μｍ以上、５ｍｍ以下である請求項１または２記載の濾過用フィルター。
【請求項４】
前記貫通孔は千鳥配列となるように形成されている請求項１ないし３いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項５】
前記濾過体は、複数重ねて形成され、前記一次面側に配された濾過体よりも前記二次面側に配された濾過体のほうが、前記貫通孔の開口サイズが小さい請求項１ないし４いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項６】
前記微細構造物は、円錐台形、楕円錐形、多角錐形、円錐台形、楕円錐台形、多角錐台形のうち、少なくともいずれか１つの形状である請求項１ないし５いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項７】
前記微細構造物の形成密度は、１．２〜１０．０個／μｍ２の範囲である請求項６記載の濾過用フィルター。
【請求項８】
前記微細構造物の断面における単位長さあたりの形成数は、１〜４個／μｍの範囲である請求項７記載の濾過用フィルター。
【請求項９】
前記微細構造物の平均高さは、０．２〜２．５μｍの範囲である請求項６ないし８いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項１０】
前記微細構造物の高さの変動係数は、０．１５〜０．５０の範囲である請求項９記載の濾過用フィルター。
【請求項１１】
前記微細構造物は、基端から先端に向けて先細りの形状の針状構造物である請求項６ないし１０いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項１２】
前記微細構造物は、多面体形状である請求項１ないし５いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項１３】
前記微細構造物の平均最大外形寸法は、０．５〜１０μｍの範囲である請求項１２記載の濾過用フィルター。
【請求項１４】
前記微細構造物の平均最大外形寸法の変動係数は、０．１５〜０．５０の範囲である請求項１２または１３記載の濾過用フィルター。
【請求項１５】
前記微細構造物は、金属または合金で形成されている請求項１ないし１４いずれか一項記載の濾過用フィルター。
【請求項１６】
前記微細構造物が、ニッケルまたはニッケル合金で形成されている請求項１５記載の濾過用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、濾過用フィルターに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、工業の発達や人口の増加により、水資源の有効利用が求められるようになってきている。水資源の有効利用を図るためには、工業排水や生活排水などの各種の排水を浄化して、再利用することが重要である。排水を浄化するためには、水中に含まれる水不溶物や不純物を分離除去する必要がある。
水中に含まれる水不溶物や不純物の粒子を分離除去する方法として、例えば、膜分離法、遠心分離法、活性炭吸着法、オゾン処理法、凝集剤添加による浮遊物質の沈殿除去法が挙げられる。
【０００３】
膜分離法に代表される濾過法では、さまざまな形態の膜や濾過材を用いたフィルターに、除去対象物質である懸濁物質（以下、ＳＳ粒子と表記する場合がある。）を含む水を通過させて、水中からＳＳ粒子を分離している。代表的な濾過機構としては、表面濾過、深層濾過（デプス濾過）、ケーク濾過と呼ばれる機構がある。
【０００４】
表面濾過は、フィルターの表面でフィルターを通過する水中に含まれるＳＳ粒子を受け止める機構である。表面濾過では、主にフィルターの孔よりも大きいＳＳ粒子が捕捉される。例えば、膜を用いる濾過では、主に表面濾過の機構が用いられている。
深層濾過は、フィルターの表面だけでなく孔の内面など、ＳＳ粒子を含む水と接するフィルター表面全面へのＳＳ粒子の付着を利用する機構である。深層濾過では、主にフィルターの孔よりも小さい粒子が捕捉される。例えば、砂などの濾過材が充填された塔を用いる濾過においては、深層濾過の機構が用いられている。
ケーク濾過は、フィルターに捕捉されたＳＳ粒子自身がケークを形成し、フィルターとして機能する機構である。ケーク濾過では、深層濾過よりもさらに小さいＳＳ粒子が捕捉される。
【０００５】
従来、金網を用いたフィルターを用いて、水中からＳＳ粒子を分離する濾過では、主に表面濾過の機構が用いられている。金網を用いたフィルターにおいて、深層濾過の機構を用いれば、フィルターの孔よりも小さい粒子を捕捉でき、フィルターの閉塞が生じにくく、かつ、通水量の確保がしやすくなる。しかし、金網を用いたフィルターでは、フィルターとＳＳ粒子を含む水との接触面積を確保しにくいため、深層濾過の機構を利用できない場合があった。
【０００６】
一般に、フィルターにＳＳ粒子を含む水を通過させて、水中からＳＳ粒子を除去する場合、ＳＳ粒子によるケークが形成されてケーク濾過へ移行する。この時の濾過性能は、形成されたケークに依存し（言い換えればＳＳ粒子に依存し）、ケークの厚みが増すと共に濾過流量の低下が観察される。
【０００７】
また、フィルターの洗浄を行う際に、フィルターとＳＳ粒子との分離が円滑に行われないと洗浄効率が低下し、洗浄水の消費量の増大やフィルターの性能低下を引き起こす懸念がある。また微細な粒子を除去するために凝集剤を添加する必要があり、汚泥の量が増加するといった課題もあった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２００８−１８０２０６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明が解決しようとする課題は、深層濾過の機構およびケーク濾過の機構を利用して被濾過液中のＳＳ粒子を捕捉でき、さらにケーク濾過へ移行しても濾過流量を保持できる濾過用フィルターを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
実施形態の濾過用フィルターは、複数の貫通孔を有する板状の基材と、前記基材のうち少なくとも被濾過液が流入する一次面側に形成された複数の微細構造物と、を有する濾過体を備えた。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態の濾過用フィルターを適用した濾過処理装置の一例を示す概略構成図。
【図２】実施形態の濾過用フィルターを示す外観斜視図。
【図３】濾過用フィルターを端面側から見た時の断面図。
【図４】微細構造物が形成された基材を示す要部拡大模式図。
【図５】微細構造物を針状構造物とした場合のＳＥＭ写真。
【図６】微細構造物を多面体構造物とした場合のＳＥＭ写真。
【図７】微細構造物を多面体構造物とした場合のＳＥＭ写真。
【図８】別な実施形態の濾過用フィルターを端面側から見た時の要部拡大断面図。
【図９】別な実施形態の濾過用フィルターを示す平面図。
【図１０】別な実施形態の濾過用フィルターを示す平面図。
【図１１】別な実施形態の濾過用フィルターを示す平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、実施形態の濾過用フィルターを説明する。
図１は、実施形態の濾過用フィルターを適用した濾過処理装置の一例を示す概略構成図である。
濾過処理装置１００は、被濾過液を貯留する被濾過液槽１０１と、実施形態の濾過用フィルター１０と、処理液槽１０３と、濃縮汚泥槽１０４と、を有している。また、被濾過液槽１０１の被濾過液を濾過用フィルター１０に圧送するポンプ１０６、処理液槽１０３の処理水（濾過済液）を排出させ、あるいは、濾過用フィルター１０に返送するポンプ１０７、およびこれらを接続する複数の配管１０８などから構成されている。
【００１３】
被濾過液槽１０１は、被濾過液を貯留する。被濾過液としては、ＳＳ粒子を含む水などが挙げられる。被濾過液槽１０１には、被濾過液槽１０１内を攪拌する撹拌機が設置されていてもよい。被濾過液槽１０１の形状、容量、材質等は、濾過処理装置１００の用途などに応じて適宜決定することができ、特に制限されるものではない。
【００１４】
濾過用フィルター１０は、被濾過液中からＳＳ粒子など濾過対象物を除去して処理水（濾過済液）を生成する。濾過用フィルター１０の詳細な構成は後述する。
【００１５】
処理液槽１０３は、処理液を貯留する。処理液は、濾過用フィルター１０を被濾過液が通過することにより生成したものである。処理液槽１０３の形状、容量、材質等は、濾過処理装置１００の用途などに応じて適宜決定することができ、特に制限されない。
【００１６】
濃縮汚泥槽１０４は、被濾過液中から除去されたＳＳ粒子を多く含む濃縮液を貯留する。濃縮液は、濾過用フィルター１０の洗浄に使用した後の処理液である。濃縮汚泥槽１０４の形状、容量、材質等は、濾過処理装置１００の用途などに応じて適宜決定することができ、特に制限されない。
【００１７】
図２は、実施形態の濾過用フィルターを示す外観斜視図である。また、図３は、濾過用フィルターを端面側から見た時の断面図である。
濾過用フィルター１０は、厚み方向に貫通する複数の貫通孔１３，１３…を形成してなる板状の基材１１と、この基材１１のうち少なくとも被濾過液が流入する一次面（流入面）１１ａ側に形成された複数の微細構造物５と備えた濾過体１２から構成されている。本実施形態では、微細構造物５は、一次面（流入面）１１ａ、被濾過液が流入する二次面（流出面）１１ｂ、および貫通孔１３の内壁面を覆うように形成されている。
【００１８】
基材１１は、例えば、金属板から構成され、具体的には、ＳＵＳ板、アルミニウム板やアルミニウム合金板、銅板や銅合金板、亜鉛板などを用いることができる。基材１１の形状は、矩形板状、円板状、楕円板状、多角形板状など、任意の形状の板材を用いることができる。本実施形態では、矩形の金属板を用いている。
【００１９】
貫通孔１３，１３…は、基材１１の一次面（流入面）１１ａと二次面（流出面）１１ｂとを結ぶ円筒形の孔である。個々の貫通孔１３は、その直径が一次面１１ａ側から二次面１１ｂ側まで均一であっても、一次面１１ａ側と二次面１１ｂ側とで直径が異なるような形状の孔であってもよい。
【００２０】
本実施形態では、貫通孔１３は、一次面１１ａに沿った平面形状が円形を成している。そして、こうした貫通孔１３，１３…は、一次面１１ａに沿って千鳥配列となるように多数形成されている。
【００２１】
このような構成の濾過フィルター１０は、一次面（流入面）１１ａ側から被濾過液を流入させ、貫通孔１３を通過させて被濾過液の濾過を行い、二次面（流出面）１１ｂから濾過後の処理水を流出させる。
【００２２】
微細構造物５は、例えば、円錐台形、楕円錐形、多角錐形、円錐台形、楕円錐台形、多角錐台形のうち、少なくともいずれか１つの形状である。実施形態の微細構造物５は、基端から先端に向けて先細りの形状の針状構造物である。
【００２３】
図４は、微細構造物が形成された基材を示す要部拡大模式図である。
微細構造物５は、基材１１に例えば電気めっきによって形成しためっき層３から構成される。また、微細構造物５を構成するめっき層３と基材１１との間には、めっき層３と基材１１との密着性を高める下地層４が更に形成されていることが好ましい。
【００２４】
微細構造物５を形成する基材１１としては、濾過用フィルター１０を用いて濾過される被濾過液中で使用できるものが用いられる。基材１１の材料は、めっき処理を用いて、めっき層３、またはめっき層３および下地層４を容易に形成できるように、金属であることが好ましい。基材１１に用いる金属としては、例えば、鉄、ニッケル、銅、および、これらの合金などを用いることが好ましい。その中でも特に、基材１１として、耐蝕性に優れ、低コストで、加工しやすい材料であるステンレス鋼板を用いることが好ましい。
【００２５】
下地層４は、めっき層３の基材１１への接着性を高めるために、必要に応じて設けられるものである。下地層４に用いられる材料としては、例えば、基材１１の表面にニッケル合金からなるめっき層３を形成する場合、ニッケルまたはニッケル合金を用いることが好ましい。ニッケル合金としては、ホウ素、リン、亜鉛から選ばれる一種以上の元素を含有するものが挙げられる。
【００２６】
下地層４の厚みは、めっき層３の基材１１への接着性を向上させることができる厚み以上とされている。また、下地層４の厚みは、貫通孔１３の直径が、濾過用フィルター１０にＳＳ粒子を含む被濾過液を通過させる際に適した大きさとなる範囲の厚みとされている。
【００２７】
実施形態におけるめっき層３は、複数の微細構造物（本実施形態においては針状構造物）５が下地層４の表面に集合してなる複合体である。それぞれの微細構造物５では、微細構造物５の基端５３ａよりも基材１１側の領域である基部５ａが、隣接する他の微細構造物５の基部５ａと一体化されている。このことにより、微細構造物５の基部５ａは、下地層４の表面に連続して形成されている。
【００２８】
本実施形態における微細構造物５は、例えば、円錐台形、楕円錐形、多角錐形、円錐台形、楕円錐台形、多角錐台形の形状を有する。このような錐形や錐台形の形状を有する各微細構造物５は、基端５３ａから先端５２に向けて先細りの形状を有している。
図５に、こうした微細構造物５を針状構造物とした場合のＳＥＭ写真（二次電子像（ＳＥＩ）、１５．０ｋＶ、２００００倍）を示す。
【００２９】
針状構造物とされた微細構造物５どうしの間には、断面視で基端５３ａに近づくにつれて幅が狭くなる谷５３が形成されている。谷５３は、平面視で各微細構造物５を取り囲むように形成されている。各微細構造物５を取り囲む谷５３は、隣接する別の微細構造物５を取り囲む谷５３と平面視で繋がって形成されている。
【００３０】
図４に示す濾過用フィルター１０では、複数の微細構造物５の一部に、被濾過液中から捕捉したＳＳ粒子が付着している。
基材１１の単位面積（１μｍ２）当たりの微細構造物５の数は、１．２〜１０．０個／μｍ２である。単位面積（１μｍ２）当たりの微細構造物５の数が上記範囲未満であると、濾過用フィルター１０とＳＳ粒子を含む被濾過液との接触面積が不足して、深層濾過の機構の効果が不十分となるので、被濾過液中のＳＳ粒子が捕捉されにくくなる。
【００３１】
また、単位面積（１μｍ２）当たりの微細構造物５の数が上記範囲未満であると、微細構造物５にＳＳ粒子が捕捉されにくくなるため、ケーク７が形成されにくくなる。しかし、単位面積（１μｍ２）当たりの微細構造物５の数が上記範囲を超えると、洗浄を行っても微細構造物５からＳＳ粒子が除去されにくくなり、洗浄性が不十分となる。
【００３２】
単位面積当たりの微細構造物５の数が１．２個／μｍ２以上であると、濾過用フィルター１０の表面積が十分に広くなり、隣接する微細構造物５間にＳＳ粒子が引っかかりやすくなる。このため、深層濾過の機構によってＳＳ粒子が捕捉されやすく、捕捉されたＳＳ粒子によってケーク７が形成されやすい濾過用フィルター１０とすることができる。
【００３３】
よって、濾過用フィルター１０は、深層濾過の機構およびケーク濾過の機構を用いてＳＳ粒子を捕捉できる優れた除去機能を有するものとなる。単位面積当たりの微細構造物５の数は、よりＳＳ粒子の除去機能の高い濾過用フィルター１０とするために、３．０個／μｍ２以上であることが好ましい。
【００３４】
単位面積当たりの微細構造物５の数が１０．０個／μｍ２以下であると、隣接する微細構造物５間の空間が狭くなりすぎることが防止される。このため、図４に示すように、隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３と、めっき層３上に形成されているケーク７とに囲まれた十分な広さの空間３１が形成される。空間３１は、ケーク７が形成された時に、ケーク濾過された処理水が流れる流路として機能する。
【００３５】
このため、微細構造物５を有さないフィルターと比較すると、ケーク７を通過した処理液の得られる面積が大きくなるため、濾過流量を大きくすることができる。したがって、濾過用フィルター１０は、ＳＳ粒子が除去されやすく、濾過流量の大きいものとなる。単位面積当たりの微細構造物５の数は、より濾過流量の大きい優れた濾過用フィルター１０とするために、７．０個／μｍ２以下であることが好ましい。
【００３６】
基材１１の単位面積（１μｍ２）当たりの微細構造物５の数は、以下に示す方法により測定したものである。
濾過用フィルターを電子顕微鏡で観察し、縦２μｍ横２μｍ面積４μｍ２の正方形内に存在する針状構造物の頂点の数を、４箇所測定する。そして、４箇所で測定した針状構造物の頂点の数を平均し、単位面積（１μｍ２）当たりの針状構造物の数を算出する。
【００３７】
基材１１の断面における単位長さ（１μｍ）当たりの微細構造物５の数は１．０〜４．０個／μｍである。上記の単位長さ（１μｍ）当たりの微細構造物５の数が上記範囲未満であると、濾過用フィルター１０とＳＳ粒子を含む被濾過液との接触面積が不足して、深層濾過の機構の効果が不十分となるので、被濾過液中のＳＳ粒子が捕捉されにくくなる。
【００３８】
一方、上述した単位長さ（１μｍ）当たりの微細構造物５の数が上記範囲を超えると、隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３と、めっき層３上に形成されたケーク７とに囲まれた空間３１が狭くなるため、濾過流量が少なくなる場合がある。
【００３９】
上記の単位長さ当たりの微細構造物５の数が１．０個／μｍ以上であると、単位面積当たりの微細構造物５の数が１．２個／μｍ２以上である場合と同様に、深層濾過の機構およびケーク濾過の機構を用いてＳＳ粒子を捕捉できる優れた除去機能を有するものとなる。上記の単位長さ当たりの微細構造物５の数は、よりＳＳ粒子の除去機能の高い濾過用フィルター１０とするために、１．５個／μｍ以上であることが好ましい。
【００４０】
上記の単位長さ当たりの微細構造物５の数が４．０個／μｍ以下であると、単位面積当たりの微細構造物５の数が１０．０個／μｍ２以下である場合と同様に、隣接する微細構造物５間の空間が狭くなりすぎることが防止される。このため、隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３と、めっき層３上に形成されているケーク７とに囲まれた十分な広さの空間３１が形成されるものとなり、濾過流量の大きな濾過用フィルター１０にすることができる。上記の単位長さ当たりの微細構造物５の数は、より一層濾過流量の大きい濾過用フィルター１０とするために、３．０個／μｍ以下であることが好ましい。
【００４１】
基材１１の断面における単位長さ（１μｍ）当たりの微細構造物５の数は、以下に示す方法により測定したものである。
濾過用フィルター１０を埋め込み樹脂で固定して切断し、その切断面をイオンミリングで平滑化して、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて撮影する。その後、撮影したフィルター基材の断面の拡大写真におけるフィルター基材の表面の略延在方向に沿って、１０μｍ当たりの針状の微細構造物の数を測定する。そして、測定した微細構造物５の数から単位長さ（１μｍ）当たりの微細構造物の数を算出する。
【００４２】
本実施形態において、基材１１の断面における針状の微細構造物５の平均高さＨおよび基端部の平均幅Ｄは、以下に示す部分の寸法を、以下に示す測定方法により測定したものである。図４に示すように、基材１１の断面において隣接する微細構造物５間には、谷５３が形成されている。基材１１の断面において、微細構造物５を挟んで対向する谷底である基端５３ａ、５３ａ間を、直線５１でつなぎ、その長さを微細構造物５の基端部の幅Ｄ１、Ｄ２とする。また、微細構造物５の先端５２と上記の直線５１との最短距離を、微細構造物５の高さＨ１、Ｈ２とする。
【００４３】
基材１１の断面において、２つの微細構造物５７、５８が一体化されている場合（図４における符号５９で示す微細構造物）には、以下に示す部分の寸法を、微細構造物５７、５８の高さＨ３、Ｈ４および微細構造物５７、５８の基端部の幅Ｄ３、Ｄ４とした。
【００４４】
まず、針状の微細構造物５７、５８が一体化された微細構造物５９を挟んで対向する谷底である基端５３ａ、５３ａ間を、直線５４でつなぐ。次いで、２つの微細構造物５７、５８間の谷５５の谷底から直線５４に向かって垂線５６を引く。垂線５６と直線５４との交点から各基端５３ａ、５３ａまでのそれぞれの距離を、微細構造物５７、５８の基端部の幅Ｄ３、Ｄ４とする。
【００４５】
また、各微細構造物５７、５８の先端５２ａ、５２ｂと上記の直線５４との最短距離を、各微細構造物５７、５８の高さＨ３、Ｈ４とする。なお、垂線５６の長さが、微細構造物５７、５８の高さＨ３、Ｈ４の両方の高さの３／４未満である場合には、独立した２つの微細構造物とみなす。また、２つの微細構造物５７、５８が一体化されているとする基準は、前記独立した２つの微細構造物とみなされる場合以外とする。
【００４６】
針状の微細構造物５の高さおよび微細構造物５の基端部の幅を測定するには、濾過用フィルター１０を埋め込み樹脂で固定して切断し、その切断面をイオンミリングで研磨して、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて撮影する。その後、撮影した基材１１の断面の拡大写真における基材の表面の略延在方向に沿う長さ１０μｍの範囲を１つの測定領域とし、４箇所の測定領域に存在する全ての上記の微細構造物５の高さおよび基端部の幅を測定する。そして、測定した４箇所の微細構造物５の高さの平均値を、微細構造物５の平均高さＨとする。また、測定した４箇所の微細構造物５の基端部の幅の平均値を、微細構造物５の基端部の平均幅Ｄとする。
【００４７】
基材１１の断面における針状の微細構造物５の高さの変動係数は０．１５〜０．５０であることが好ましい。変動係数とは、上述した基材１１の断面における微細構造物５の高さの分布の標準偏差を、前記微細構造物５の高さの算術平均値で除したものである。
【００４８】
上記の変動係数が０．１５〜０．５０の範囲であると、より一層ＳＳ粒子の除去機能および洗浄性の優れた濾過用フィルター１０となる。上記の変動係数が０．１５未満であると、濾過用フィルター１０にＳＳ粒子を含む被濾過液を通過させる際に、濾過用フィルター１０の表面でのＳＳ粒子を含む被濾過液の流れが単調になり、微細構造物５にＳＳ粒子が捕捉されにくくなる。また、上記の変動係数が０．５０を超えると、高さの低い微細構造物５によってめっき層３の表面に形成されたケーク７を支える機能が得られにくくなる。
【００４９】
上記の変動係数が０．１５以上であると、微細構造物５の高さのばらつきが十分に大きいものとなる。このため、濾過用フィルター１０にＳＳ粒子を含む被濾過液を通過させる際に、濾過用フィルター１０の表面でのＳＳ粒子を含む被濾過液の流れが複雑になるとともに、高さの高い微細構造物５にＳＳ粒子が引っかかりやすくなる。その結果、深層濾過の機構によってＳＳ粒子が捕捉されやすくなるとともに、高さの高い微細構造物５に引っかかったＳＳ粒子を起点として、めっき層３の表面にケーク７が形成されやすくなる。上記の変動係数は、よりＳＳ粒子が捕捉されやすい濾過用フィルター１０とするために、０．１８以上であることが好ましい。
【００５０】
上記の変動係数が０．５０以下であると、めっき層３の表面に形成されたケーク７を、高さの低い微細構造物５が支えることによって、隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３とケーク７とに囲まれた空間３１の広さが確保されやすくなる。このため、濾過によってケーク７が形成された後、ケーク濾過された処理液が空間３１内を流れやすくなり、濾過流量が増大する。したがって、濾過用フィルター１０は、針状構造物のないフィルターと比較して濾過流量に優れたものとなる。上記の変動係数は、より一層、濾過流量の多い濾過用フィルター１０とするために、０．３６以下であることが好ましい。
【００５１】
基材１１の断面における針状の微細構造物５の基端部の平均幅Ｄと平均高さＨとのアスペクト比Ｈ／Ｄは０．５〜４．０であることが好ましい。アスペクト比Ｈ／Ｄが０．５以上であると、隣接する針状の微細構造物５間に形成されている谷５３と、めっき層３上に形成されたケーク７とに囲まれた十分な高さの空間３１が形成される。
【００５２】
このため、濾過によってケーク７が形成された後に、ケーク濾過された処理水が空間３１内を流れやすくなり、濾過流量に優れたものとなる。アスペクト比Ｈ／Ｄは、より一層濾過流量の大きな濾過用フィルター１０とするために、１．０以上であることが好ましい。アスペクト比Ｈ／Ｄが４．０以下であると、強度に優れた微細構造物５となるため、耐久性に優れた濾過用フィルター１０となる。アスペクト比Ｈ／Ｄは、より一層耐久性の優れた濾過用フィルター１０とするために、３．０以下であることが好ましい。
【００５３】
基材１１の断面における針状の微細構造物５の平均高さＨは、０．２〜２．５μｍであることが好ましい。上記の微細構造物５の平均高さＨが０．２μｍ以上であると、隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３と、めっき層３上に形成されるケーク７とに囲まれた十分な高さの空間３１が形成される。このため、濾過の際にケークが形成された後に、ケーク濾過された処理液が空間３１内を流れやすくなり、濾過流量に優れたものとなる。
【００５４】
上記の微細構造物５の平均高さＨは、より一層濾過流量の優れた濾過用フィルター１０とするために、０．４μｍ以上であることが好ましい。上記の針状の微細構造物５の平均高さＨが２．５μｍ以下であると、隣接する微細構造物５間の空間が狭くなりすぎることが防止される。このため、１０．０個／μｍ２以下である場合と同様に、空間３１が十分に確保された濾過流量に優れた濾過用フィルター１０となる。上記の微細構造物５の平均高さＨは、より一層濾過流量の優れた濾過用フィルター１０とするために、１．８μｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
基材１１の断面における針状の微細構造物５の基端部の平均幅Ｄと、除去対象物質の平均粒子径（Ｄ５０）φ（ＳＳ粒子の平均粒子径）との関係は、φ／Ｄ≧０．３３を満足することが好ましい。上記φ／Ｄが０．３３以上であると、ＳＳ粒子が隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３の谷底の近傍に入り込みにくいものとなる。したがって、谷５３と、めっき層３上に形成されたケーク７とに囲まれた広い空間３１が形成されやすくなる。よって、濾過用フィルター１０は、ケーク濾過された処理液が空間３１内を流れやすく、濾過流量に優れたものとなる。
【００５６】
上記φ／Ｄは、より一層濾過流量の多い濾過用フィルター１０とするために、０．５０以上であることが好ましい。また、上記φ／Ｄは３．００以下であることが好ましい。上記φ／Ｄが３．００以下であると、ＳＳ粒子が隣接する微細構造物５間に、より一層引っかかりやすいものとなる。
【００５７】
このため、より一層、深層濾過の機構によってＳＳ粒子が捕捉されやすく、捕捉されたＳＳ粒子によってケーク７が形成されやすい濾過用フィルター１０となる。上記φ／Ｄは、よりＳＳ粒子が捕捉されやすい濾過用フィルター１０とするために、２．００以下であることがより好ましい。
ここで、平均粒子径φは、レーザー回折法により測定されたものである。具体的には、株式会社島津製作所製のＳＡＬＤ−ＤＳ２１型測定装置（商品名）などにより測定することができる。
【００５８】
複数の微細構造物５で形成されためっき層３に用いられる金属としては、電気めっき等の処理によって、基材１１や下地層４の表面に複数の微細構造物５を析出できるものを用いる。このような金属としては、鉄、ニッケル、銅、および、これらの合金などが挙げられる。めっき層３に用いられる金属としては、上記の金属の中でも特に、微細構造物５の形状の制御がしやすく耐食性に優れた金属であるため、ニッケルまたはニッケル合金を用いることが好ましい。ニッケル合金としては、ホウ素、リン、亜鉛から選ばれる一種以上の元素を含有するものが挙げられる。
【００５９】
濾過用フィルター１０を構成する濾過体１２における一次面１１ａ側を平面視した場合に、一次面１１ａ全体の平面積に対する貫通孔１３の開口面の面積の合計の割合である開口率は０．０５％以上、３０％以下にすることが好ましい。また、個々の貫通孔１３の直径（貫通孔の断面形状が円形の場合）、あるいは内接円の直径（貫通孔の断面形状が多角形の場合）は、１μｍ以上、５ｍｍ以下にすることが好ましい。
【００６０】
微細構造物５を錐形や錐台形、例えば針状構造物にした場合に、開口率Ｇが０．０５％未満であると、濾過された処理水の通水量が少なくなり過ぎて、効率的に被濾過液の濾過を行うことが難しくなる。開口率Ｇを０．０５％以上に保つことによって、処理水の通水量を適切に保つことができ、効率的に被濾過液の濾過を行うことができる。一方、開口率Ｇが３０％を超えると、捕捉したＳＳによるブリッジが形成されにくくなり、ケーク濾過による濾過性能が低下する懸念がある。開口率Ｇを３０％以下に保つことによって、ケーク濾過による濾過性能を高めることができる。
【００６１】
上述した実施形態では、微細構造物５を錐形や錐台形、例えば針状構造物にした例を説明したが、微細構造物５を多面体形状に形成することも好ましい。
図６、図７は、こうした微細構造物５を多面体構造物とした場合のＳＥＭ写真（二次電子像（ＳＥＩ）、１５．０ｋＶ、２０００倍（図６）、５０００倍（図７））を示す。
微細構造物５を多面体構造物とした場合、複数の多面体が相互に結合して体積の一部を共有している。多面体形状の微細構造物５は、それぞれ、３つ以上の平面が交わる頂点を複数有している。各微細構造物５は、図６および図７に示すように、それぞれ異なる形状および異なる大きさを有しており、基材１１、または基材１１に形成された下地層４（図４参照）の表面に密集して形成されている。その結果、多面体形状の辺に相当する部分は、不規則な方向を向いている。
【００６２】
多面体形状の微細構造物５の最大外形寸法の平均値は０．５〜１０μｍが好ましい。析出物の平均最大外形寸法が上記範囲内であると、被濾過液中のＳＳ粒子が引っかかりやすいものとなる。
【００６３】
特に、被濾過液中のＳＳ粒子の平均粒子径が０．１〜１０μｍである場合、めっき層３にＳＳ粒子が引っかかりやすいものとなる。したがって、被濾過液中のＳＳ粒子の平均粒子径が上記範囲である場合に、深層濾過の機構によって効率よくＳＳ粒子を捕捉できる。また、析出物の平均最大外形寸法が上記範囲内であると、めっき層３にＳＳ粒子が引っかかりやすいため、濾過用フィルター１０に捕捉されたＳＳ粒子によってケークが形成されやすくなる。その結果、ケーク濾過の機構を用いてＳＳ粒子を捕捉しやすいものとなり、ＳＳ粒子を除去する機能の高い濾過用フィルター１０となる。
【００６４】
多面体形状の微細構造物５の平均最大外形寸法が０．５μｍ未満であると、めっき層３の表面の凹凸が減少するとともに、多面体形状の析出物の間の空隙を通る被濾過液量が低下して、めっき層３へのＳＳ粒子の付着が起こりにくくなる。多面体形状の微細構造物５の平均最大外形寸法は、２μｍ以上であることがさらに好ましい。また、多面体形状の微細構造物５の平均最大外形寸法が１０μｍを超えると、めっき層３とＳＳ粒子を含む被濾過液との接触面積が減少して、めっき層３へのＳＳ粒子の付着が起こりにくくなる。多面体形状の微細構造物５の平均最大外形寸法は、８μｍ以下であることがさらに好ましい。
【００６５】
多面体形状の微細構造物５における平均最大外形寸法の変動係数は０．１５〜０．５０であることが好ましい。変動係数が０．１５〜０．５０の範囲であると、より一層ＳＳ粒子の除去機能および洗浄性の優れた濾過用フィルター１０となる。上記の変動係数が０．１５未満であると、濾過用フィルター１０にＳＳ粒子を含む被濾過液を通過させる際に、濾過用フィルター１０の表面でのＳＳ粒子を含む被濾過液の流れが単調になり、微細構造物５にＳＳ粒子が捕捉されにくくなる。また、上記の変動係数が０．５０を超えると、高さの低い微細構造物５によってめっき層３の表面に形成されたケーク７を支える機能が得られにくくなる。
【００６６】
上記の変動係数が０．１５以上であると、微細構造物５の高さのばらつきが十分に大きいものとなる。このため、濾過用フィルター１０にＳＳ粒子を含む被濾過液を通過させる際に、濾過用フィルター１０の表面でのＳＳ粒子を含む被濾過液の流れが複雑になるとともに、高さの高い微細構造物５にＳＳ粒子が引っかかりやすくなる。その結果、深層濾過の機構によってＳＳ粒子が捕捉されやすくなるとともに、高さの高い微細構造物５に引っかかったＳＳ粒子を起点として、めっき層３の表面にケーク７が形成されやすくなる。上記の変動係数は、よりＳＳ粒子が捕捉されやすい濾過用フィルター１０とするために、０．１８以上であることが好ましい。
【００６７】
上記の変動係数が０．５０以下であると、めっき層３の表面に形成されたケーク７を、高さの低い微細構造物５が支えることによって、隣接する微細構造物５間に形成されている谷５３とケーク７とに囲まれた空間３１の広さが確保されやすくなる。このため、濾過によってケーク７が形成された後、ケーク濾過された処理液が空間３１内を流れやすくなり、濾過流量が増大する。したがって、濾過用フィルター１０は、多面体構造物のないフィルターと比較して濾過流量に優れたものとなる。上記の変動係数は、より一層、濾過流量の多い濾過用フィルター１０とするために、０．３６以下であることが好ましい。
【００６８】
多面体形状の微細構造物５の平均最大外形寸法は、以下に示す測定方法により測定する。
即ち、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）を用いて拡大した濾過用フィルター１０の写真を撮影し、画像処理を行う。具体的には、多面体形状の微細構造物５の最も大きさの大きい部分の外形寸法を、一つの写真に対して代表的な１０か所を選択して測定し、その平均値を平均最大外形寸法と定義する。
【００６９】
めっき層３に用いられる金属としては、めっき処理によって、フィルター基材の表面に多面体形状の複数の微細構造物５が得られるものを用いる。このような金属としては、鉄、ニッケル、銅、および、これらの合金などが挙げられる。めっき層３に用いられる金属としては、上記の金属の中でも特に、形状が制御しやすく耐食性に優れた金属であるため、ニッケルまたはニッケル合金を用いることが好ましい。ニッケル合金としては、ホウ素、リン、亜鉛から選ばれる一種以上の元素を含有するものが挙げられる。
【００７０】
以上、詳細に説明した実施形態の濾過用フィルターを適用した濾過処理装置の作用を説明する。
濾過処理装置１００を用いて、例えばＳＳ粒子を含む被濾過液を濾過して処理水を得る際には、まず、ポンプ１０６によって、被濾過液槽１０１に貯留されている被濾過液を濾過用フィルター１０に向けて圧送する。
【００７１】
濾過用フィルター１０に流入した被濾過液は、平板状の濾過用フィルター１０の一次面１１ａに形成された多数の微細構造物５からなるめっき層３によって、ＳＳ粒子が捕捉される。濾過用フィルター１０は、複数の微細構造物５を所定の密度で有するものであるため、濾過用フィルター１０とＳＳ粒子を含む被濾過液との接触面積が多い。このため、表面濾過および深層濾過の機構によって微細構造物５の表面に付着したＳＳ粒子を起点として、めっき層３の表面の複数の箇所で速やかにＳＳ粒子の凝集物が形成される。
【００７２】
形成された凝集物は、濾過用フィルター１０へのＳＳ粒子を含む被濾過液の通過を継続させることにより、成長して剥離し、ＳＳ粒子を含む被濾過液とともに貫通孔１３に向かって移動する。貫通孔１３に移動した１つまたは複数の凝集物は、貫通孔１３をふさぐブリッジ状のケーク７となる。このように、本実施形態の処理方法では、表面濾過の機構だけでなく、深層濾過の機構およびケーク濾過の機構も利用して、被濾過液中の小さなＳＳ粒子を除去できる。よって、優れた濾過性能が得られる。
【００７３】
濾過用フィルター１０は、図４に示すように、隣接する微細構造物５間に谷５３を有している。谷５３は、断面視で谷底である基端５３ａに近づくにつれて幅が狭くなっている。このため、濾過用フィルター１０に捕捉されたＳＳ粒子は、谷５３の基端５３ａ近傍には入り込みにくい。
【００７４】
したがって、めっき層３の表面にケーク７が形成されている濾過用フィルター１０では、図４に示すように、谷５３とケーク７とに囲まれた十分な広さの空間３１が形成される。空間３１が形成された後、さらに濾過用フィルター１０へのＳＳ粒子を含む被濾過液の通過を継続させても、空間３１の上部はケーク７で形成された蓋が被せられた状態となっているため、ＳＳ粒子は空間３１内に入り込みにくい。したがって、濾過用フィルター１０へのＳＳ粒子を含む被濾過液の通過を継続させると、ケーク７上にさらにＳＳ粒子が堆積される。
【００７５】
こうした多数の微細構造物５からなるめっき層３によって、ＳＳ粒子を含む被濾過液からＳＳ粒子を効率的に、かつ確実に捕捉して除去することができる。そして、ＳＳ粒子が除去された処理水は、基材１１に形成された貫通孔１３を通り、濾過用フィルター１０の二次面１１ｂから処理液槽１０３に排出される。
【００７６】
このように、実施形態の濾過用フィルター１０によれば、被濾過液が流入する一次面１１ａ側に、例えば針状や多面体の微細構造物５を多数形成することによって、ＳＳ粒子を含む被濾過液からＳＳ粒子を効率的に、かつ確実に捕捉して除去することが可能になる。
【００７７】
また、実施形態のように、多数の微細構造物５を、被濾過液が流入する一次面１１ａを平坦面にすることによって、被濾過液の流入時の液圧が局部的に集中することなく均一に印加される。これによって、液圧に対する濾過体１２の耐久性が高められる。また、液圧が局部的に集中することがないので、微細構造物５の損傷や隔離を防止し、効果的にブリッジ状のケーク７を形成できる。
【００７８】
なお、濾過用フィルター１０の内部にケークが多量に堆積して通水量が低下した際には、濾過用フィルター１０の二次面１１ｂ側から一次面１１ａに向けて通水する逆洗浄を行うことが好ましい。こうした逆洗浄によって排出されたケークは、汚泥として濃縮汚泥槽１０４に集められる。逆洗浄に用いる洗浄水は、例えば、処理液槽１０３に貯留された処理水の一部を用いて、ポンプ１０７によって濾過用フィルター１０の二次面１１ｂ側に逆送すればよい。
【００７９】
濾過用フィルター１０の逆洗浄は、濾過用フィルター１０が一定量のＳＳ粒子を捕捉した段階で行うことが好ましい。洗浄を行うタイミングは、特に限定されるものではなく、濾過用フィルター１０に通過させる被濾過液に含まれるＳＳ粒子の量などに応じて適宜決定できる。洗浄は、濾過用フィルター１０に、ＳＳ粒子を含む被濾過液を通過させた方向と反対向きに洗浄液を通過（逆洗）させる以外にも、濾過用フィルター１０の表面に洗浄液を流したりして行うこともできる。
【００８０】
本実施形態において、濾過用フィルター１０の逆洗を行うと、空間３１には、各微細構造物５を取り囲むように形成された谷５３を介して、多方向から洗浄液が流入する。このことにより、谷５３の上部の少なくとも一部を覆うように形成されていたケーク７が、洗浄液に押し上げられて、ケーク７の剥離が促進される。また、濾過用フィルター１０の微細構造物５は、基端５３ａから先端５２に向けて先細りの形状を有している。
【００８１】
このため、洗浄液に押し上げられたケーク７は、濾過用フィルター１０から容易に剥離される。また、微細構造物５が先細りの形状を有しているので、微細構造物５に付着しているＳＳ粒子が逆洗時に谷５３に挟まりにくく、微細構造物５から容易に剥離される。したがって、逆洗を行うことにより、濾過用フィルター１０に堆積したＳＳ粒子が速やかに除去され、水濾過用フィルター１０が再生される。
【００８２】
上述した実施形態では、１枚の濾過体１２によって濾過用フィルター１０を構成しているが、複数枚の濾過体１２を重ねて濾過用フィルター１０を構成することも好ましい。
図８は、別な実施形態の濾過用フィルターを端面側から見た時の要部拡大断面図である。
本実施形態の濾過用フィルター６０は、第一の濾過体６１、第二の濾過体７１、第三の濾過体８１が互いに重ねて配されてなる。第一の濾過体６１を構成する板状の基材６２には、複数の貫通孔６３が形成されている。第二の濾過体７１を構成する板状の基材７２には、複数の貫通孔７３が形成されている。更に、第三の濾過体８１を構成する板状の基材８２には、複数の貫通孔８３が形成されている。
【００８３】
この実施形態においては、第一の濾過体６１側が被濾過液が流入する一次面６１ａを構成し、第三の濾過体８１側が被濾過液が流出する二次面８１ａを構成する。そして、これら第一の濾過体６１、第二の濾過体７１、第三の濾過体８１をそれぞれ構成する基材６１，７１，８１は、その表面に微細構造物５が形成されている。こうした微細構造物５は、図５に示す針状の微細構造物や、図６、図７に示す多面体形状の微細構造物であればよい。
【００８４】
この実施形態においては、個々の貫通孔６３、貫通孔７３、貫通孔８３が、それぞれ同一の中心軸上に配されるように形成されている。そして、一次面側に配された濾過体６１に形成された貫通孔６３よりも、二次面８１ａ側に配された濾過体８１に形成された貫通孔８３のほうが、開口サイズが小さくなるように形成されている。即ち、開口サイズは、貫通孔６３、貫通孔７３、貫通孔８３の順に小さくなるように形成されている。なお、ここで言う開口サイズは、それぞれの貫通孔の平面形状における最大直径であればよい。
【００８５】
このような構成の濾過用フィルター６０によれば、被濾過液が流入する一次面６１ａから二次面８１ａに向かって延びる貫通孔が段階的に狭められる形状となる。これにより、比較的サイズの大きいＳＳ粒子は貫通孔６３で捕捉され、比較的サイズの小さいＳＳ粒子は貫通孔７１や貫通孔８１で捕捉されるなど、ＳＳ粒子のサイズに応じて捕捉する位置を変えることができる。これによって、ケークによる貫通孔の詰まりを低減し、より効率的に被濾過液の濾過を行うことが可能になる。
【００８６】
上述した実施形態では、濾過用フィルターの基材に形成する貫通孔を円形として、千鳥配列となるように形成しているが、個々の貫通孔の形状やその配列形態は限定されるものでは無い。
例えば、図９に示す濾過用フィルター９１では、平面形状が矩形である貫通孔９２を等間隔で均一に配列している。
また、図１０に示す濾過用フィルター９４では、平面形状が長方形である貫通孔９５を千鳥配列となるように形成している。
更に、図１１に示す濾過用フィルター９７では、平面形状が六角形である貫通孔９８を千鳥配列となるように形成している。  
【００８７】
これ以外にも、基材に形成する貫通孔の平面形状としては、三角形や五角形など多角形状、楕円形状、十字形状など各種形状にすることができ、限定されるものでは無い。
また、複数の貫通孔の配列形態に関しても、均等配列や千鳥配列以外にも、ランダムに配列することもでき、限定されるものでは無い。
【００８８】
次に、濾過用フィルターの製造方法の一例について説明する。
基材に針状の微細構造物を備えた、図２に示す濾過用フィルターを製造するには、まず、板状の基材１１を用意する。基材１１は、めっき処理を用いて、めっき層３、またはめっき層３および下地層４を容易に形成できるように、金属であることが好ましい（図４参照）。基材１１に用いる金属としては、例えば、鉄、ニッケル、銅、および、これらの合金などを用いることが好ましい。その中でも特に、基材１１として、耐蝕性に優れ、低コストで、加工しやすい材料であるステンレス鋼板を用いることが好ましい。
【００８９】
次いで、この基材１１に多数の貫通孔１３を形成する。貫通孔１３を形成は、例えば、プレスによる打ち抜きや、エッチングなどによって行うことができる。
【００９０】
次いで、複数の貫通孔１３，１３…を形成した基材１１の表面に、めっき処理を用いて、下地層４を形成する。下地層４を形成するためのめっき処理としては、従来公知の方法を用いることができる。例えば、ニッケルまたはニッケル合金からなるめっき層３を形成する前に、ステンレスからなる基材１１の表面に下地層４を形成する場合には、電解ニッケルめっき処理または無電解ニッケルめっき処理を用いて、ニッケルまたはニッケル合金からなる下地層４を形成することが好ましい。
【００９１】
次に、下地層４の設けられた基材１１の表面に、電気めっき処理によって、複数の微細構造物５を析出させて、基材１１をめっき層３で被覆する（めっき工程）。めっき層３を形成するための電気めっき処理としては、従来公知の方法を用いることができる。例えば、下地層４およびめっき層３がニッケルまたはニッケル合金からなるものである場合、下地層４の形成後、めっき浴に添加剤を添加して、連続して電解ニッケルめっき処理または無電解ニッケルめっき処理を用いて、めっき層３を形成することが好ましい。
【００９２】
複数の微細構造物５を析出させる電気めっき処理では、めっき浴に添加する添加剤の種類、濃度、めっき時間を変化させることにより、微細構造物５の形状および大きさを変化させることができる。添加剤としては、エチレンジアミン二塩酸塩（ethylenediamine  dihydrochloride）、エチレンジアミン（ＥＤＡ）などが挙げられる。
【００９３】
めっき層３を形成するためのめっき処理を行った後、必要に応じて熱処理を行って、めっき層３の結晶化を促進してもよい。
また、めっき層３を形成するためのめっき処理を行った後、必要に応じて、濾過用フィルターの耐久性を向上させるために、めっき層３の表面に、他の金属や有機物などを用いて別の被覆層を形成してもよい。
【００９４】
また、めっき層３の表面に、被濾過液との親和性が互いに異なる複数種類の改質領域を形成することもできる。めっき層３の改質処理としては、具体的には、親水化処理と疎水化処理とが挙げられる。こうした改質処理を行うことで、めっき層３の表面における被濾過液の流れが、より複雑になり、ＳＳ粒子がめっき層３の表面で凝集しやすいものとすることができる。
【００９５】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【実施例】
【００９６】
（実施例１）
貫通孔の口径が３μｍ程度のパンチングメタル（基材）を作成した。この基材にニッケル−リンメッキをおこない下地層を形成した後、非特許文献１に示すようにethylenediamine dihydrochloride（ＥＤＡ）存在下でのメッキによって、厚み３．５μｍの針状の微細構造物５を表面に形成して濾過用フィルター１０を得た。この時の濾過用フィルター１０の厚みは１００３．５μｍ程度であった。開口率は８．０％であった。
（非特許文献１）Tao Hang, Ming Li, Qin Fei and Dali Mao, Characterization of nickel nanocones routed by electrodeposition without any template, Nanotechnology, 19 (2008) 035201 (5pp) 
【００９７】
得られた濾過用フィルター１０のメッキ層（微細構造物５）の表層をＳＥＭ観察したところ、４μｍ２（２μｍ×２μｍ）の範囲に１６個〜１９個の針状構造物があった（図６参照）。
またこのメッキ層を埋め込み樹脂で固定した後、切断して断面観察を行ったところ、１０μｍあたりの平均針状構造物数は２０個、針状構造物平均高さは７５０ｎｍ、変動係数は０．２８であった。また針状構造物の平均幅は５５０ｎｍであり、アスペクト比（高さ／幅）は１．３６であった。
【００９８】
次に、図１に示す濾過処理装置１００を用意した。上述したように作製した濾過用フィルター１０を設置し、この濾過用フィルター１０を用いて粒度が０．１μｍのアルミナを１００ｍｇ／Ｌ含有するスラリーを０．１ＭＰａの圧力で定圧濾過したところ、透明な処理水（濾過水）が得られ、濾過を行うことができた。濾過後の濾過フィルター１０を濾過ケーク（アルミナ層）ごと埋め込み樹脂で固定し断面を観察したところ、ケーク層と濾過フィルター１０の間に、凹凸に起因する隙間が観察された。
【００９９】
次にこの濾過フィルター１０の処理水側（二次面側）から０．１Ｍｐａの圧力で洗浄水を送り、ケーク層の洗浄を行ったところ、隙間近傍のケークはきれいに剥離していて表面の凹凸が復元されていた。再度この濾過フィルターで濾過を行ったところ、一回目の濾過と同様の濾過性能を発揮している事が確認された。
【０１００】
（実施例２）
実施例１と同様に、貫通孔の口径が３μｍ程度のパンチングメタル（基材）を作成した。この基材にニッケル−リンメッキをおこない下地層を形成した後、非特許文献２に示すように添加剤として２−ブチン−１，４−ジオールを添加して、無電解ニッケルめっき処理を行い、厚み３．５μｍの多面体状の微細構造物５を表面に形成して濾過用フィルター１０を得た。この時の基材の厚さは１０００μｍであり、メッキ後の板厚は１００３．５μｍであった。この時の開孔率は８％であった。
（非特許文献２）S.Chakraborty,Role of organic additives in nickel plating,Transactions of the Metal Finishers' Association of india,Vol.12,No.3-4(2003)
【０１０１】
得られた濾過用フィルター１０のメッキ層（微細構造物５）の表層をＳＥＭ観察したところ、平均最大外形寸法は４μｍであった。この濾過用フィルター１０を実施例１と同様に図１の濾過処理装置１００に設置し、この濾過用フィルター１０を用いて粒度が０．１μｍのアルミナを１００ｍｇ／Ｌ含有するスラリーを０．１ＭＰａの圧力で定圧ろ過したところ、透明な処理水が得られ、濾過を行うことができた。この濾過後の濾過用フィルター１０を濾過ケーク（アルミナ層）ごと埋め込み樹脂で固定し断面を観察したところ、ケーク層とフィルターの間に、凹凸に起因する隙間が観察された。
次にこの濾過用フィルターの二次側から０．１ＭＰａの圧力をかけて逆洗浄水を送り、ケーク層の逆洗浄を行ったところ、隙間の近傍のケークはきれいに剥離していて表面の凹凸が戻っていた。再度この濾過フィルターで濾過を行ったところ、一回目の濾過と同様の濾過性能を発揮している事が確認された。
【符号の説明】
【０１０２】
５…微細構造物、１０，６０，９１，９４，９７…濾過用フィルター、１１…基材、１２，６１，７１，８１…濾過体、１３…貫通孔。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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