(57)【要約】【課題】基材に対する処理の均一性の低下を抑制しつつ、基材の位置ずれを修正する技術を提供する。【解決手段】搬送経路の一部分が内部に設けられる乾燥炉５０において、乾燥炉５０内に基材の裏面に向けて気体を吐出し、搬送される基材を非接触で支持する複数の第２給気口３２と、第２給気口３２によって非接触で支持される基材９の両側方に向けて気体を吐出する位置補正機構３５とを設ける。これにより、乾燥炉５０内で基材９に蛇行が発生した場合でも、基材９の位置を補正することができ、基材９に塗工された塗工液の乾燥処理を均一に行うことができる。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
長尺帯状の基材の一方側の主面に塗工された塗工液を乾燥させる乾燥装置であって、
所定の搬送経路に沿って基材を搬送する搬送機構と、
前記搬送経路の一部分が内部に設けられた乾燥炉と、
前記乾燥炉内で前記基材の他方側の主面に向けて気体を吐出し、前記搬送機構によって搬送される前記基材を非接触で支持する第２気体供給機構と、
前記乾燥炉内において、前記搬送経路に沿って搬送される前記基材の両側方に配置され、前記第２気体供給機構によって非接触で支持される前記基材に対して両側方から気体を吐出し前記基材の幅方向の位置を補正する位置補正機構と、
を備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項２】
請求項１に記載の乾燥装置であって、
前記位置補正機構は、
前記第２気体供給機構によって非接触で支持される前記基材を進退可能とし、かつ前記気体を吐出する開口部を有することを特徴とする乾燥装置。
【請求項３】
請求項２に記載の乾燥装置であって、
前記位置補正機構は、
前記開口部と連通し、前記開口部から反吐出方向に向かうに従って前記気体の流速が早くなる流速向上部を有することを特徴とする乾燥装置。
【請求項４】
請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の乾燥装置であって、
前記位置補正機構は、前記第２気体供給機構から吐出される前記気体を前記基材の両側方に向けて吐出することを特徴とする乾燥装置。
【請求項５】
請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の乾燥装置であって、
前記乾燥炉内を搬送される前記基材の上方から前記基材に向けて気体を供給する第１気体供給機構をさらに備えることを特徴とする乾燥装置。
【請求項６】
長尺帯状の基材の表面に塗膜を形成する塗膜形成システムであって、
請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の乾燥装置と、
前記乾燥装置よりも前記搬送経路の上流側において、前記基材の表面に塗工液を塗工する塗工装置と、
を備えたることを特徴とする塗膜形成システム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、長尺帯状の基材の表面に塗布された塗工液を乾燥させる乾燥装置、当該乾装置を備えた塗膜形成システムに関する。
【背景技術】
【０００２】
リチウムイオン電池等の化学電池の製造においては、金属箔等の基材をロールトゥロール方式にて搬送しつつ、その基材の表面に電極材料の塗工液を吐出し、さらに当該方式で塗工液を乾燥させて塗膜を形成する装置が用いられている。このような装置では、基材に熱風を吹き付けて非接触で搬送しつつ乾燥処理を行う技術が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には金属製フィルムに塗工液が塗工され乾燥機構にて塗工液が乾燥されることで当該フィルム上に薄膜を形成する装置が記載されている。当該装置の乾燥機構には、フィルムの搬送方向に複数のエア噴出支持部が配列され、フィルムを浮上状態で支持しながら搬送される。
【０００４】
特許文献１に記載されるようにエアを噴き付けて搬送されるフィルム（特に金属箔）を浮上支持する場合、金属箔の撓み等に起因して金属箔にかかる搬送方向の張力が不均一になり、金属箔に蛇行が生じやすい。蛇行が発生すると乾燥機構内で均一に乾燥することができる領域からはみ出ることによる乾燥の不均一や、乾燥機構内の他の部材との接触によりフィルムが破断するおそれがあった。
【０００５】
そのため、金属箔を浮上支持する構成において蛇行を防止する技術として、例えば特許文献２には、金属箔等のフィルム状物を流体によって浮揚させて搬送する搬送装置が記載されている。この浮揚搬送装置は、流体を噴出する複数の開口部が形成された搬送面を有しており、開口部から流体が噴出されることでフィルム状物を浮揚させつつ搬送する。特に、搬送面はフィルム状物の幅方向中央に対して搬送方向に延びる中央領域と、幅方向において中央領域の両脇にそれぞれ位置して搬送方向に延びる脇領域とが規定されており、それぞれの脇領域には、中央領域に向けて流体を面方向に噴出する脇開口部を備えている。これにより、フィルム状物が搬送される際に生じる蛇行を防止している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１９４３４１号公報
【特許文献２】特開２０１３−０４０００８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上記従来技術の場合、フィルム状物の蛇行を防止するためフィルム状物を浮上させる搬送面と同一面に脇開口部が形成されており、当該脇開口部から流体を噴きつける。そのため、フィルム状物を浮揚させるための開口部から噴出される流体と、フィルム状物の蛇行を防止するための脇開口部から噴出される流体とが干渉し、フィルム状物の搬送が不安定になるおそれがある。
【０００８】
本発明は、基材に対する処理の均一性の低下を抑制しつつ、基材の位置ずれを修正する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、長尺帯状の基材の一方側の主面に塗工された塗工液を乾燥させる乾燥装置であって、所定の搬送経路に沿って基材を搬送する搬送機構と、前記搬送経路の一部分が内部に設けられた乾燥炉と、前記乾燥炉内で前記基材の他方側の主面に向けて気体を吐出し、前記搬送機構によって搬送される前記基材を非接触で支持する第２気体供給機構と、前記乾燥炉内において、前記搬送経路に沿って搬送される前記基材の両側方に配置され、前記第２気体供給機構によって非接触で支持される前記基材に対して両側方から気体を吐出し前記基材の幅方向の位置を補正する位置補正機構と、を備えることを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の乾燥装置であって、前記位置補正機構は、前記第２気体供給機構によって非接触で支持される前記基材を進退可能とし、かつ前記気体を吐出する開口部を有することを特徴とする。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の乾燥装置であって、前記位置補正機構は、前記開口部と連通し、前記開口部から反吐出方向に向かうに従って前記気体の流速が早くなる流速向上部を有することを特徴とする。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし請求項３のいずれか一項に記載の乾燥装置であって、前記位置補正機構は、前記第２気体供給機構から吐出される前記気体を前記基材の両側方に向けて吐出することを特徴とする乾燥装置。
【００１３】
請求項５に記載の発明は、請求項１ないし請求項４のいずれか一項に記載の乾燥装置であって、前記乾燥炉内を搬送される前記基材の上方から前記基材に向けて熱風を供給する第１気体供給機構をさらに備えることを特徴とする。
【００１４】
請求項６に記載の発明は、長尺帯状の基材の表面に塗膜を形成する塗膜形成システムであって、請求項１ないし請求項５のいずれか一項に記載の乾燥装置と、前記乾燥装置よりも前記搬送経路の上流側において、前記基材の表面に塗工液を塗工する塗工装置とを備えることを特徴とする。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、基材に対する処理の均一性の低下を抑制しつつ、基材の位置ずれを修正することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】塗膜形成システムの概略図である。
【図２】乾燥装置の構成を示す概略側面図である。
【図３】乾燥装置の内部を示す概略図である。
【図４】乾燥装置の構成を示す概略上面図である。
【図５】図３に係る乾燥装置の一部拡大図である。
【図６Ａ】基材の＋Ｘ軸方向に蛇行した状態を説明する図である。
【図６Ｂ】基材の−Ｘ軸方向に蛇行した状態を説明する図である。
【図７】乾燥装置の構成の変形例を示す概略上面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明の実施形態について、図面を参照しつつ説明する。
【００１８】
＜１．塗膜形成システムの構成＞
【００１９】
図１は、本発明の一実施形態に係る塗膜形成システム１の構成を示した図である。この塗膜形成システム１は、長尺帯状の基材９を長手方向に搬送しつつ、基材９の表面に、電極材料である活物質を含む塗工液を塗布し、その後に塗工液を乾燥させて、リチウムイオン二次電池の電極を製造する装置である。基材９には、例えば、銅箔やアルミニウム箔などの金属箔が用いられる。図１に示すように、塗膜形成システム１は、搬送機構１０、塗工装置２０、乾燥装置３０、および制御部４０を有する。
【００２０】
搬送機構１０は、基材９をその長手方向に沿う搬送方向に搬送する機構である。本実施形態の搬送機構１０は、巻き出しローラ１１、複数の搬送ローラ１２、および巻き取りローラ１３を有する。基材９は、巻き出しローラ１１から送り出され、複数の搬送ローラ１２により規定される搬送経路に沿って搬送される。各搬送ローラ１２は、水平軸を中心として回転することによって、基材９を搬送経路の下流側へ案内する。また、複数の搬送ローラ１２に基材９が接触することで、基材９に張力が付与される。これにより、搬送中における基材９の弛みや皺が抑制される。搬送後の基材９は、巻き取りローラ１３へ回収される。なお、搬送ローラ１２の位置や数は、必ずしも図１の通りでなくてもよい。
【００２１】
塗工装置２０は、搬送機構１０により搬送される基材９の表面に、塗工液を塗工する装置である。基材９は、乾燥装置３０よりも搬送経路の上流側において、搬送ローラの役割も兼ねたバックアップローラ１４に支持される。バックアップローラ１４は、円柱形状のローラであり、基材９の裏面に接触しつつ、水平軸を中心として回転する。塗工装置２０は、バックアップローラ１４に支持された基材９の表面に対向する塗工ノズル２１を有する。塗工ノズル２１には、例えば、幅方向（基材の長手方向に直交する水平方向）に沿って延びるスリット状の吐出口を有する、いわゆるスリットノズルが用いられる。
【００２２】
塗工ノズル２１は、給液配管２２を介して、塗工液供給源２３に接続されている。また、給液配管２２には、図示を省略する開閉弁が介挿されている。このため、開閉弁を開放すると、塗工液供給源２３から給液配管２２を通って塗工ノズル２１に塗工液が供給され、塗工ノズル２１の吐出口から、バックアップローラ１４に支持された基材９の表面へ向けて、塗工液が吐出される。これにより、基材９の表面に塗工液が塗工される。
【００２３】
なお、塗工ノズル２１は、必ずしもバックアップローラ１４に支持された基材９の表面に対して、塗工液を吐出するものでなくてもよい。例えば、隣り合うローラの間に掛け渡された基材９の表面に対して、塗工液を吐出するものであってもよい。
【００２４】
乾燥装置３０は、塗工装置２０よりも搬送経路の下流側に配置されている。乾燥装置３０は、搬送機構１０により搬送される基材９を、乾燥炉５０内において加熱する。これにより、基材９の表面に塗布された塗工液中の溶剤が気化する。その結果、塗工液が乾燥して、基材９の表面に塗膜が形成される。
【００２５】
制御部４０は、塗膜形成システム１内の各部を動作制御するための手段である。図１中に概念的に示したように、制御部４０は、ＣＰＵ等の演算処理部４１、ＲＡＭ等のメモリ４２、およびハードディスクドライブ等の記憶部４３を有するコンピュータにより構成されている。
【００２６】
制御部４０は、記憶部４３に記憶されたコンピュータプログラムやデータを、メモリ４２に一時的に読み出し、当該コンピュータプログラムおよびデータに基づいて、演算処理部４１が演算処理を行うことにより、塗膜形成システム１内の各部を動作制御する。これにより、塗膜形成システム１における塗工・乾燥処理が進行する。
【００２７】
＜２．乾燥装置の構成＞
続いて、乾燥装置３０のより詳細な構成について説明する。
【００２８】
図２は、乾燥装置３０の構成を示した図である。図２に示すように、乾燥装置３０は、乾燥炉５０、第１気体供給機構６０、第２気体供給機構７０、第１排気機構８０、第２排気機構９０、および位置補正機構３５（図３参照）を有する。なお、上述した搬送機構１０及び制御部４０は、乾燥装置３０における搬送機構および制御部としても機能する。
【００２９】
乾燥炉５０は、塗工液を乾燥させるための処理空間を内部に有する筐体である。乾燥炉５０の一方の端面には、基材９の搬入口５１が設けられている。また、乾燥炉５０の他方の端面には、基材９の搬出口５２が設けられている。搬送機構１０により搬送される基材９は、搬入口５１から乾燥炉５０の内部へ搬入され、乾燥炉５０の内部において乾燥処理を受けた後、搬出口５２から乾燥炉５０の外部へ搬出される。すなわち、乾燥炉５０の内部には、基材９の搬送経路の一部分が配置されている。
【００３０】
本実施形態では、乾燥炉５０の内部において、基材９は、塗工液が塗布された処理面を上側に向けた状態で、水平に搬送される。ただし、乾燥炉５０内における基材９の姿勢は、必ずしも水平でなくてもよい。
【００３１】
乾燥炉５０の内部には、複数の第１給気口３１、複数の第２給気口３２、複数の第１排気口３３、複数の第２排気口３４、および複数の位置補正機構３５が設けられている。複数の第１給気口３１および複数の第１排気口３３は、乾燥炉５０内の基材９の搬送経路よりも上側の空間に配置されている。また、複数の第１給気口３１および複数の第１排気口３３は、基材９の上面に対向する。複数の第２給気口３２および複数の第２排気口３４は、乾燥炉５０内の基材９の搬送経路よりも下側の空間に配置されている。また、複数の第２給気口３２および複数の第２排気口３４は、基材９の下面に対向する。また、位置補正機構３５は基材９の両側方に配置されている。
【００３２】
乾燥装置３０の稼働時には、図２中の白抜き矢印のように、複数の第１給気口３１および複数の第２給気口３２から基材９へ向けて、高温の気体である熱風が吐出される。また、図２中のハッチング付きの矢印のように、乾燥炉５０内の気体が、複数の第１排気口３３および複数の第２排気口３４へ吸い込まれる。乾燥炉５０内の基材９は、これらの給排気により生じる圧力によって、所定の高さに浮上した状態で搬送される。つまり、第２気体供給機構７０によって、前記基材は非接触にて支持される。
【００３３】
なお、本実施形態では、３つの第１給気口３１と１つの第１排気口３３とが、搬送方向に沿って交互に配置されている。また、複数の第２給気口３２は、搬送方向に沿って等間隔に配列され、その上流側および下流側の端部付近に、それぞれ第２排気口３４が配置されている。ただし、複数の第１給気口３１、複数の第２給気口３２、複数の第１排気口３３、および複数の第２排気口３４は、乾燥炉５０内の他の位置に配置されていてもよい。例えば、第１給気口３１と第１排気口３３とが、搬送方向に沿って１つずつ交互に配置されていてもよい。
【００３４】
第１気体供給機構６０は、複数の第１給気口３１を介して、乾燥炉５０の内部へ気体である熱風を供給するための機構である。図２に示すように、第１気体供給機構６０は、第１給気配管６１と、第１給気配管６１へ空気を送り込む第１給気ブロワ６２とを有する。第１給気配管６１は、１本の第１共通配管６１１と、複数の第１分岐配管６１２とを有する。第１共通配管６１１の上流側の端部は、第１給気ブロワ６２に接続されている。第１共通配管６１１の下流側の端部と、複数の第１分岐配管６１２の上流側の端部とは、互いに接続されている。また、複数の第１分岐配管６１２の下流側の端部は、複数の第１給気口３１に、それぞれ接続されている。
【００３５】
また、第１共通配管６１１の経路上には、第１加熱部６３が介挿されている。第１給気ブロワ６２および第１加熱部６３を動作させると、第１給気ブロワ６２から第１共通配管６１１内に空気が送り込まれ、当該空気が第１加熱部６３において加熱されて、熱風となる。その後、熱風は複数の第１分岐配管６１２へ分岐して流れ、複数の第１給気口３１から基材９の上面に向けて、熱風が吐出される。
【００３６】
第２気体供給機構７０は、複数の第２給気口３２を介して、乾燥炉５０の内部へ気体である熱風を供給するための機構である。図２に示すように、第２気体供給機構７０は、第２給気配管７１と、第２給気配管７１へ空気を送り込む第２給気ブロワ７２とを有する。第２給気配管７１は、１本の第２共通配管７１１と、複数の第２分岐配管７１２とを有する。第２共通配管７１１の上流側の端部は、第２給気ブロワ７２に接続されている。第２共通配管７１１の下流側の端部と、複数の第２分岐配管７１２の上流側の端部とは、互いに接続されている。また、複数の第２分岐配管７１２の下流側の端部は、複数の第２給気口３２に、それぞれ接続されている。
【００３７】
また、第２共通配管７１１の経路上には、第２加熱部７３が介挿されている。第２給気ブロワ７２および第２加熱部７３を動作させると、第２給気ブロワ７２から第２共通配管７１１内に空気が送り込まれ、当該空気が第２加熱部７３において加熱されて、熱風となる。その後、熱風は複数の第２分岐配管７１２へ分岐して流れ、複数の第２給気口３２から基材９の下面に向けて、熱風が吐出される。
【００３８】
第１排気機構８０は、乾燥炉５０の内部から、複数の第１排気口３３を介して気体を排出するための機構である。図３に示すように、第１排気機構８０は、第１排気配管８１と、第１排気配管８１から気体を吸い出す第１排気ブロワ８２とを有する。第１排気配管８１は、複数の第１個別配管８１１と、１本の第１集合配管８１２とを有する。複数の第１個別配管８１１の上流側の端部は、複数の第１排気口３３に、それぞれ接続されている。また、複数の第１個別配管８１１は、それぞれ、第１排気口３３から乾燥炉５０の外部へ向けて延びている。複数の第１個別配管８１１の下流側の端部と、第１集合配管８１２の上流側の端部とは、互いに接続されている。また、第１集合配管８１２の下流側の端部は、第１排気ブロワ８２に接続されている。
【００３９】
第１排気ブロワ８２を動作させると、第１排気配管８１内に負圧が生じ、乾燥炉５０内の気体が、複数の第１排気口３３を通って複数の第１個別配管８１１へ吸い込まれる。また、複数の第１個別配管８１１内の気体は、下流側へ流れて、第１集合配管８１２へ合流する。その後、第１集合配管８１２内の気体は、第１排気ブロワ８２によって、工場内の排気ラインへ排出される。
【００４０】
第２排気機構９０は、乾燥炉５０の内部から、複数の第２排気口３４を介して気体を排出するための機構である。図３に示すように、第２排気機構９０は、第２排気配管９１と、第２排気配管９１から気体を吸い出す第２排気ブロワ９２とを有する。第２排気配管９１は、複数の第２個別配管９１１と、１本の第２集合配管９１２とを有する。複数の第２個別配管９１１の上流側の端部は、複数の第２排気口３４に、それぞれ接続されている。また、複数の第２個別配管９１１は、それぞれ、第２排気口３４から乾燥炉５０の外部へ向けて延びている。複数の第２個別配管９１１の下流側の端部と、第２集合配管９１２の上流側の端部とは、互いに接続されている。また、第２集合配管９１２の下流側の端部は、第２排気ブロワ９２に接続されている。
【００４１】
第２排気ブロワ９２を動作させると、第２排気配管９１内に負圧が生じ、乾燥炉５０内の気体が、複数の第２排気口３４を通って複数の第２個別配管９１１へ吸い込まれる。また、複数の第２個別配管９１１内の気体は、下流側へ流れて、第２集合配管９１２に合流する。その後、第２集合配管９１２内の気体は、第１排気ブロワ８２によって、工場内の排気ラインへ排出される。
【００４２】
次に図３ないし図５を参照しつつ位置補正機構３５について説明する。図３は乾燥炉５０の内部をＹ軸方向に見た概略図である。また、図４は図２のＺ軸方向から見た概略図である。また、図５は図３の一部拡大図である。
【００４３】
乾燥炉５０の内部には上述したように、複数の第１給気口３１、複数の第２給気口３２、複数の第１排気口３３、複数の第２排気口３４、および複数の位置補正機構３５が設けられている。そして、基材９はこれらの給排気により生じる圧力によって、所定の高さに浮上した状態で搬送される。また、位置補正機構３５は、基材９の両側方に配置されており、基材９の側方から基材９に向けて気体を吐出し、基材の幅方向（Ｘ軸方向）の位置を補正する。
【００４４】
図３に示すように、位置補正機構３５は、乾燥炉５０の内部で搬送経路に沿って搬送される基材９の両側方位置で、かつ、第２給気口３２の上方に配置されている。ここで、第２給気口３２の幅方向の長さ寸法は基材９の幅方向の長さ寸法よりも大きい。そのため、第２給気口３２から基材９の他方側の主面である裏面に噴出される熱風を、基材９に対して両側方から吐出されるように誘導することが可能となる。言い換えると、基材９の搬送経路においては、第２給気口３２から吐出される熱風は基材９の裏面側に吐出され、搬送経路の両側においては、位置補正機構３５を介して基材９の両側方から吐出される構成となっている。
【００４５】
また、位置補正機構３５は、図４に示すように基材９の搬送方向（＋Ｙ軸方向）において、第２給気口３２にあわせて複数配置されている。つまり、複数配置される第２給気口３２と同数の位置補正機構３５が配設されている。これにより、第２給気口３２から噴出される熱風を基材９の位置補正に有効に活用することができる。なお、基材９の両側に配置される機構は同一であるため、以降の説明においては一方側のみを説明する。
【００４６】
位置補正機構３５の構造について図５を参照しつつ詳細に説明する。位置補正機構３５は、第２給気口３２の吐出口３２１から吐出される熱風を収容する筐体３５１と、筐体３５１を介して誘導された熱風を基材９の側方に向けつつ、熱風の流速を高くする流速向上部３５２と、第２給気口３２によって非接触で支持される基材９をその内部に向かって進退可能とする開口部３５３とを備える。
【００４７】
筐体３５１は第２給気口３２の吐出口３２１からの熱風を受け入れ可能とするために導入口と、導入された熱風を流速向上部３５２へ導出するための導出口が形成されている。流速向上部３５２の一端は筐体３５１の導出口と連通している。また、流速向上部３５２は、筐体３５１の内部を通った熱風の流速を高くするため、筐体３５１の容積よりも小さい容積となる空間を形成している。
【００４８】
流速向上部３５２で流速が向上した熱風は、流速向上部３５２の他端と接続される開口部３５３から基材９の側方に向けて吐出される。ここで、開口部３５３は、流速向上部３５２と接続される位置での高さ（Ｚ軸方向）寸法よりも、大きくなるように形成されている。開口部３５３側から見ると反吐出方向に向かうに従って気体の流速を早くする流速向上部３５２が形成されている。
【００４９】
また、開口部３５３は、基材９のＺ軸方向の高さ位置を包含するように開口しており、基材９が蛇行した場合、開口部３５３に基材９が進入してくる。そして、蛇行が補正されることで基材９は開口部３５３から退避する。また、開口部３５３に進入した基材９に対して吐出される熱風は基材９の表面と裏面とに沿って流れる。つまり、基材９を浮上支持するための第２供給口３２とは異なる面から吐出され、基材９の上下に分かれて供給されることとなる。これにより、基材９の裏面に第２給気口３２から吐出される熱風の乱れを抑え、安定した非接触支持を行うことができる。一方、先行技術で記載した特許文献２の技術では、基材９の下方から斜め上方に向けて蛇行補正のための気体を吐出しているため、浮上支持する気体と同一の面から気体が吐出される。そのため、非接触支持が不安定になるという問題がある。本発明では、基材９を安定して非接触で支持するとともに、基材９の蛇行を補正することができる。
【００５０】
このような流速向上部３５２と開口部３５３の一例として、筐体３５１の導出口に接続される一対の第１板状部材を設けることで流速向上部３５２を形成し、当該一対の第１板状部材から連続するように、基材９に向かってハの字になるように一対の第２板状部材を設けることで構成することができる。図５では、一対の第１板状部材はお互いが平行に設けられているがこれに限られるものではなく、下方側の第１板状部材の基材９側の先端位置を高くしても良い。このようにすることで、第２給気口３２から吐出される気体に対する影響を軽減することができる。
【００５１】
続いて、図６を参照しつつ基材９が蛇行した場合の位置補正について説明する。図６Ａは、基材９が搬送方向と直交する方向、特に＋Ｘ軸方向に蛇行した状態を示す図であり、図６Ｂは、基材９が−Ｘ軸方向に蛇行した状態を示す図である。
【００５２】
基材９に蛇行が発生していない状態では、位置補正機構３５から吐出される熱風の影響をほとんど受けない位置を基材９が搬送される。しかし、図６Ａで示すように、基材９が＋Ｘ軸方向に蛇行すると、基材９の側端部が開口部３５３に接近する。さらに基材９が開口部３５３に接近すると、開口部３５３に接続される流速向上部３５２で流速が高くなった熱風が基材９の側方に当たる。基材９の側方に熱風が当たると、−Ｘ軸方向に基材９を押し戻す押圧力が発生し、基材９を矢印ＡＲ１の方向に押し返す。これにより、基材９の幅方向の位置が補正される。
【００５３】
図６Ｂは−Ｘ軸方向に基材９が蛇行した場合を示す図である。前述したのと同様の原理で、基材９が矢印ＡＲ２の方向に押し戻され、基材９が点線で示す位置に戻される。この時、矢印ＡＲ２の方向へ基材９が押し戻され過ぎた場合は、＋Ｘ軸方向側に配設された位置補正機構３５によって図６Ａで示す矢印ＡＲ１方向に再度押し戻されるため、基材９の蛇行を抑制することができる。
【００５４】
このように乾燥炉５０内において、位置補正機構３５を設けることで基材９の蛇行を抑制しつつ安定した搬送を行うことで、塗工液が塗工された基材９から溶剤成分が除去され、基材９の主面に塗膜が形成される。塗膜が形成された基材９は巻き取りローラ１３に巻き取られる。
【００５５】
以上、説明したように塗膜形成システム１に設けられた乾燥装置３０は、乾燥炉５０内に、基材９を非接触で支持する複数の第２給気口３２と、搬送経路に沿って搬送される基材９の両側方に配置され、基材９の両側方から気体を吐出し、基材の幅方向の位置を補正する位置補正機構３５とを備えることにより、乾燥炉５０内で基材９に蛇行が発生した場合でも、基材９を正しい搬送経路に戻すことができる。これにより、基材９上に塗工された塗工液の乾燥処理を均一に行うことができる。
【００５６】
上記、塗膜形成システム１の乾燥装置３０では様々な変形が可能である。
【００５７】
例えば、位置補正機構３５による基材９の幅方向の位置補正が第２給気口３２から噴出される熱風を誘導することで行っていたがこれに限られるものではなく、それぞれの位置補正機構３５を独立した気体供給機構と接続することで、位置補正機構３５から気体を吐出する構成としてもよい。このようにすることで、位置補正機構３５を柔軟に配置することができる。
【００５８】
また、位置補正機構３５を第２給気口３２と同数だけ配置していたがこれに限られるものではない。例えば、図７に示すように基材９の搬送方向に長尺な位置補正機構３５Ａを基材９の両側に設けてもよい。これにより、乾燥炉５０内において常に位置補正が行われるため、基材９の蛇行をより修正することができる。
【００５９】
また、乾燥装置３０は、第１気体供給機構６０によって、基材９の上方から熱風を供給して塗工液を乾燥させていたがこれに限られるものではなく、例えば、ＩＲヒーターや、過熱水蒸気による乾燥を行っても良い。
【００６０】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００６１】
１    塗膜形成システム
９    基材
１０    搬送機構
２０    塗工装置
３０    乾燥装置
３１    第１給気口
３２    第２給気口
３３    第１排気口
３４    第２排気口
３５、３５Ａ    位置補正機構
４０    制御部
５０    乾燥炉
６０    第１気体供給機構
７０    第２気体供給機構
８０    第１排気機構
９０    第２排気機構
３２１    吐出口
３５１    筐体
３５２    流速向上部
３５３    開口部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図７】
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