(57)【要約】【課題】  回折光を低減させることで、画像光のコントラスト比を高めることができる画像表示装置を提供する。【解決手段】  光源を有する照明光学系と、前記照明光学系からの入射光に基づいて投射画像を形成する画像光を出射する空間光変調素子と、前記空間光変調素子からの前記画像光を被投射物に向けて投射する投射光学系と、を有し、前記空間光変調素子は、前記投射画像を構成する画素の各々に対応する画素構造を有し、前記画素構造は、前記入射光に位相差を与える第１画素構造と前記入射光に位相差を与えない第２画素構造を有する、画像表示装置による。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源を有する照明光学系と、
前記照明光学系からの入射光に基づいて投射画像を形成する画像光を出射する空間光変調素子と、
前記空間光変調素子からの前記画像光を被投射物に向けて投射する投射光学系と、を有する画像表示装置であって、
前記空間光変調素子は、前記投射画像を構成する画素の各々に対応する画素構造を有し、
前記画素構造は、前記入射光に位相差を与える第１画素構造と前記入射光に位相差を与えない第２画素構造を有する、
ことを特徴とする画像表示装置。
【請求項２】
前記第１画素構造と前記第２画素構造は、前記入射光の入射方向に交差する平面上において千鳥格子状に配列されている、
請求項１記載の画像表示装置。
【請求項３】
前記空間光変調素子は、透過型である、
請求項１または２記載の画像表示装置。
【請求項４】
前記空間光変調素子は、反射型である、
請求項１または２記載の画像表示装置。
【請求項５】
前記第１画素構造は、入射側に薄膜が設けられている、
請求項１乃至４のいずれかに記載の画像表示装置。
【請求項６】
前記第１画素構造は、入射側に前記入射光の位相をシフトさせる微細構造が設けられている、
請求項１乃至４のいずれかに記載の画像表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
プロジェクタなどの画像表示装置において、表示画像（投射画像）の画質を表す指標の１つであるコントラスト比は、被投射物（例えば、スクリーンなど）に表示された画像全体を白色にしたときの輝度と、同じく画像全体を黒色にしたときの輝度を比較して、その比率により算出される。
【０００３】
一般に、コントラスト比が高い画像は、黒色部分の輝度が低いので元の画像の再現性（元の画像への忠実度）が高くて画質が良い。一方、コントラスト比が低い画像は、黒色部分の輝度が高いので元の画像の再現性（元の画像への忠実度）が低く画質が悪い。コントラスト比が低い画像は、暗闇を表示した場合でも「黒浮き」などが生じる。
【０００４】
そこで、プロジェクタはコントラスト比が高い方が望ましく、コントラスト比を低下させる要因を排除することが望ましい。コントラスト比の低下要因の一つとして、プロジェクタ内部に配置される光学系において生ずる迷光やゴースト光などが知られている。ここで、迷光やゴースト光は、投射画像を形成する画像光以外の光のことをいう。なお、「画像光」とは、空間光変調素子からスクリーンに到達する光のうち、表示画像の形成に寄与する光のことをいう。迷光やゴースト光の発生原因として、プロジェクタ内部の光学系における光の多重反射や、光の散乱、光の回折などがある。特に、空間光変調素子における光の回折によって迷光が生じやすい。
【０００５】
そこで、回折型の空間光変調素子を備える画像表示装置において、迷光やゴースト光の原因となる回折光を弱めるために、表示画像の各画素に各々対応する画素構造に複素振幅変調パターンを設けた画像表示装置が知られている（例えば、特許文献１を参照）。
【０００６】
特許文献１の画像表示装置は、回折型の空間光変調素子に設けた複素振幅変調パターンによって一次回折光を弱める。したがって、全ての画素構造に対して複素振幅変調パターンを設ける必要がある、また、複素振幅変調パターンの形状が複雑なものになる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、空間光変調素子において変調される光に位相差を与えることで回折光を低減する画像表示装置を提供することを目的とする
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、光源を有する照明光学系と、前記照明光学系からの入射光に基づいて投射画像を形成する画像光を出射する空間光変調素子と、前記空間光変調素子からの画像光を被投射物に向けて投射する投射光学系と、を有する画像表示装置であって、前記空間光変調素子は、前記投射画像を構成する画素の各々に対応する画素構造を有し、前記画素構造は、前記入射光に対して位相差を生じさせる部分と位相差を生じさせない部分を含む、ことを最も主な特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、空間光変調素子において変調される光に位相差を与えることで回折光を低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明に係る画像表示装置の実施形態の例を示す光学配置図である。
【図２】上記画像表示装置が備える空間光変調素子の実施形態の例を示す、（ａ）平面図、（ｂ）拡大平面図、（ｃ）側面図、である。
【図３】上記空間光変調素子のうち、透過型の空間光変調素子の例を示す側面図である。
【図４】上記空間光変調素子のうち、反射型の空間光変調素子の例を示す側面図である。
【図５】上記反射型の空間光変調素子の一部を拡大した拡大側面図である。
【図６】上記透過型の空間光変調素子における回折を説明する側面図である。
【図７】上記透過型の空間光変調素子において位相差を与える構成の例を示す側面図である。
【図８】上記透過型の空間光変調素子において位相差を与える構成による効果の例を示す側面図である。
【図９】上記透過型の空間光変調素子において位相差を与える構成の詳細な例を示す側面図である。
【図１０】上記反射型の空間光変調素子において位相差を与える構成の別の詳細例を示す側面図である。
【図１１】上記反射型の空間光変調素子において位相差を与える構成のさらに別の詳細例を示す側面図である。
【図１２】上記空間光変調素子において位相差を与える構成のさらに別の詳細例を示す側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、本発明に係る画像表示装置の実施形態について図を用いながら説明する。図１に示すように画像表示装置であるプロジェクタ１００は少なくとも、照明光学系１と、空間光変調素子２と、投射光学系３と、を有してなる。
【００１２】
照明光学系１は、空間光変調素子２を照明する光を出射する光学系である。照明光学系１は、光源１１と、防爆ガラス１２と、カラーホイール１３と、光均一化素子１４と、第１リレーレンズ１５と、第２リレーレンズ１６と、第１折り返しミラー１７と、第２折り返しミラー１８と、を有してなる。
【００１３】
光源１１から出射された光は、表示画像に係る信号に応じて制御されるカラーホイール１３を介して所定の色付けがなされて、光均一化素子１４に入射する。光均一化素子１４は、入射した光の照度を均一化して出射する。光均一化素子１４の出射端は面光源とみなせる状態になる。照明光学系１は、この面光源からの光を第１リレーレンズ１５、第２リレーレンズ１６、第１折り返しミラー１７、第２折り返しミラー１８、を介して空間光変調素子２へと導光するように構成されている。
【００１４】
空間光変調素子２は、表示画像に係る信号に応じて動作し、照明光学系１からの光に基づいて画像光を形成する素子である。空間光変調素子２において形成された画像光は、投射光学系３に向けて出射される。なお、図１に示したプロジェクタ１００は、反射型空間光変調素子２ｂを例示しているが、透過型空間光変調素子２ａを用いることもできる。透過型空間光変調素子２ａは、照明光学系１からの光を透過させて変調し画像光を形成するので、照明光学系１の構成は図１に例示したものとは異なる。本発明に係る画像表示装置は、空間光変調素子２について特徴を有しているので、その詳細な説明は後述する。
【００１５】
投射光学系３は、空間光変調素子２において形成された画像光（投射画像）を被投射物（例えば、スクリーン）に向けて投射する光学系である。投射光学系３は、複数の投射用レンズをレンズ鏡胴に収めて構成されている。
【００１６】
●空間光変調素子２
図２（ａ）は、空間光変調素子２を光の入射側（上方）から見た平面図である。図２（ａ）に示すように空間光変調素子２は、平面視の外形は矩形であって、その平面領域の殆どは画像光を形成する有効画像領域（表示領域２１）である。画像光によって表示される画像の大きさは、表示領域２１の対角線の長さによって決まる。
【００１７】
図２（ｂ）は、空間光変調素子２の表示領域２１の一部である領域Ａを拡大した平面図である。図２（ｂ）に示すように、表示領域２１には、表示画像を構成する各画素に対応する画素構造２１０が配列されている。画素構造２１０は、平面視の外形が正方形であって、一辺の長さは十μｍから数μｍである。画素構造２１０の大きさや配列数は、画像の解像度に応じて異なる。例えば、画像の解像度がＷＸＧＡ規格の場合は、１２８０×７６８個の画素構造２１０の配列を要する。
【００１８】
隣接する画素構造２１０は、画素ピッチｄをもって配列されている。この画素ピッチｄは、１つの画素構造２１０の有効領域の一辺の長さよりも長い。画素構造２１０は、光を変調して画像光を形成するときに、空間光変調素子２から出射される画像光に位相差δを与える位相差手段（位相差付与構造ともいう）を有している。たとえば、図２（ｂ）に示すように、入射された光に位相差δを与える第１の部分を第１画素構造２１１とし、入射された光に位相差δを与えない第２の部分を第２画素構造２１２とする。すなわち、空間光変調素子２の画素構造２１０は、第１画素構造２１１と第２画素構造２１２を組み合わせて構成されている。言い換えると、空間光変調素子２が備える位相差手段は、第１画素構造２１１と第２画素構造２１２の組み合わせにより構成されている。
【００１９】
図２（ｃ）に示すように、空間光変調素子２は、基板２２の上に画素構造２１０が配列されていて、表示領域２１が形成されている。画素構造２１０は、入射光Ｌｉの入射方向に交差する平面上において配列されている。この表示領域２１には保護カバー２３が設けられている。保護カバー２３は、透明な部材であって、空間光変調素子２へ入射する光は保護カバー２３を透過する。
【００２０】
図２（ｂ）に示すように、空間光変調素子２が備える画素構造２１０の配列は回折格子になる。仮に、空間光変調素子２が備える画素構造２１０に位相差δをシフトさせる位相差手段（位相差付与構造）がなければ、空間光変調素子２に入射した光の回折は以下のようになる。すなわち、入射光Ｌｉの波長を「λ」、回折角を「θ」とすると、画素ピッチｄと波長λと回折角θとの関係は、以下の式１によって規定される。
（式１）ｄ・ｓｉｎθ＝ｎλ（ただし、ｎは整数）
【００２１】
式１に示すように、ｎが整数であれば、建設的な干渉になるから回折により生じる光の強度は強くなる。仮に、ｎを整数以外とすると、破壊的な干渉になり回折により生じた光の強度は弱くなる。すなわち、回折は生じなくなる。
【００２２】
プロジェクタ１００によって表示される画像を高精細なものにするには、画素構造２１０の大きさや、空間光変調素子２における画素ピッチｄを狭くする必要がある。しかし、式１の関係から明らかなように、入射する光の波長を一定のままで画素ピッチｄを狭くした場合、回折角θが大きくなる。回折角θが大きくなると投射光学系３に迷光が入射しやすくなり、表示画像のコントラスト比を低下させる要因になる。
【００２３】
そこでプロジェクタ１００は、空間光変調素子２に入射する光の波長を一定のままにして画素ピッチｄを狭くした場合であっても、回折により生ずる光を低減させる位相差手段を空間光変調素子２に設けている。
【００２４】
ここで、空間光変調素子２の種類について説明する。空間光変調素子２には、「透過型」と「反射型」が知られている。図３は、透過型空間光変調素子２ａの例を示している。透過型空間光変調素子２ａは、光の変調に液晶を用いる。この透過型空間光変調素子２ａは、表示画像に係る信号に応じて各々の画素構造２１０を構成する液晶分子に動的な動きを与えて、直線偏光の偏光方向を変えることにより位相を変調する。これによって、空間光変調素子２を透過するときに変調されて画像光が形成され、出射光Ｌｏとして後段に配置されている投射光学系３に向けて出射される。
【００２５】
ここで、本明細書において用いる「位相差δ」とは、光屈折率の異なる物質を透過した光に生じる位相の差をいう。空間光変調素子２から出射されるときに、画素構造２１０の配列（画素配列）によって出射光Ｌｏと異なる方向に向かう回折光Ｌｄを生ずる。
【００２６】
図４は反射型空間光変調素子２ｂを示している。反射型空間光変調素子２ｂは、光の変調に反射材（鏡）を用いるものである。この反射型空間光変調素子２ｂは、表示画像に係る信号に応じて各々の画素構造２１０を構成する反射材に動的な動きを与えて、入射光Ｌｉの反射方向を変えることにより位相を変調する。
【００２７】
反射型空間光変調素子２ｂの具体例として、２次元状に配置されたマイクロミラー群により構成されるＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ、Ｔｅｘａｓ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社）が知られている。図５は、ＤＭＤである反射型空間光変調素子２ｂの一部を拡大した図である。図５に示すように、反射型空間光変調素子２ｂは、複数のマイクロミラー２２１を有してなる。このマイクロミラー２２１の一つ一つが画素構造２１０の一つ一つに相当する。ＤＭＤである反射型空間光変調素子２ｂは、各マイクロミラー２２１を個別に傾けることで入射光Ｌｉを変調することができる。
【００２８】
マイクロミラー２２１は、例えば、一辺が１０μｍ前後の微小ミラーであって、これらを異なる方向に傾けられて配列されているので、ブレーズド回折格子とみなせる。この配列格子によって回折が生じる。
【００２９】
以上のとおり、空間光変調素子２は、透過型であっても反射型であっても回折格子とみなせるので、入射光Ｌｉによる回折が生じる。図６に示すように、仮に透過型空間光変調素子２ａに位相差手段を設けない場合は、平面波である入射光Ｌｉが入射したとき、回折格子である画素構造２１０の配列構造によって回折が生ずる。図６は、回折光Ｌｄのうち、一次回折光Ｌｄ１のみを図示している。一次回折光Ｌｄ１は、出射光Ｌｏに対して回折角θをもって出射される。なお、出射光Ｌｏは透過光（零次光）であるから、入射方向から直進して出射される。
【００３０】
一般に回折光Ｌｄは、上記の式１に従うから、画素ピッチｄを１０μｍ、入射光の波長λを０．５５μｍ、とするとｎ＝１のときの回折角θは３．１５°になる。同様に、ｎ＝２のときの回折角θは６．３２°、ｎ＝３のとき回折角θは９．５０°になる。なお、ｎ＝４以降も同様に回折角θが規定される。
【００３１】
そこで、図７に示すように透過型空間光変調素子２ａのように、画素構造２１０の一部に、入射光Ｌｉの位相をλ／２だけずらす位相差手段を設ける。ここで、位相差手段において、位相をλ／２だけずらすようにした場合を仮定する。そうすると、隣接する第１画素構造２１１を通過する入射光Ｌｉと第２画素構造２１２を通過する入射光Ｌｉの波長はλ／２（半波長）ずれることになるので、これから生ずる零次光（透過光）は干渉によって消えてしまう。この場合、±１次（あるいはさらに高次の）の回折光Ｌｄのみが出射される状態になる。
【００３２】
空間光変調素子２における零次光は、画像を表示するための光（画像光）に相当するから、これが消えてしまうと画像が表示されなくなる。そこで、零次光は残しつつ、±１次の回折光Ｌｄのみを消す必要がある。
【００３３】
図７に示したような画素構造２１０（第１画素構造２１１と第２画素構造２１２が交互に配列されている構造）を有する空間光変調素子２において、画素ピッチｄと入射光Ｌｉの波長λと回折角θとの関係は、以下の式２のようになる。
（式２）ｄ・ｓｉｎθ＝（ｎ−１／２）λ（ただし、ｎは整数）
【００３４】
式２は、式１の場合とは逆であって、ｎが整数のときには破壊的な干渉となるから光の強度は弱まり、ｎがそれ以外のときには建設的な干渉となって光の強度は弱くなる。すなわち、式１と式２とでは、回折の生じる角度と生じない角度の関係が入れ替わる。
【００３５】
第１画素構造２１１と第２画素構造２１２によって与えられる位相差δをλ／２にした場合は、図６を用いて説明のとおり、零次光（画像光になる出射光Ｌｏ）が消えてしまう。そこで、位相差δをゼロからλ／２の間になるように、第１画素構造２１１と第２画素構造２１２によって与えられる位相差δを設定すれば、式１に従って生ずる回折と、式２に従って生ずる回折の中間の性質を有する回折を生じさせることができる。
【００３６】
すなわち、位相差δをゼロに近づけるように第１画素構造２１１と第２画素構造２１２を設定すれば、式１に従う回折と同様の傾向が強くなる。一方、位相差δをλ／２に近づけるように第１画素構造２１１と第２画素構造２１２を設定すれば、式２に従う回折と同様の傾向が強くなる。
【００３７】
そこで、図８に示すように隣接する画素構造２１０に入射する入射光Ｌｉに与える位相差δが「０＜δ＜λ／２」になるように、第１画素構造２１１と第２画素構造２１２を構成する。これによって、零次光（出射光Ｌｏ）を残しながら、±１次の一次回折光Ｌｄ１を低減させることができる。すなわち、迷光の原因となる回折光Ｌｄを低減させることができる。
【００３８】
入射光Ｌｉに位相差δを与える構成について、より詳細な例を説明する。透過型空間光変調素子２ａの場合であれば、図９に示すように、第１画素構造２１１の入射側のみに薄膜２１１０を形成すればよい。入射側に薄膜２１１０が形成されている第１画素構造２１１と、これに隣接する第２画素構造２１２を交互に配列し、千鳥格子状にする。これによって表示領域２１全体の画素構造２１０において、位相差δを生じさせる部分（第１画素構造２１１）と位相差δを生じさせない部分（第２画素構造２１２）が隣接し合う状態になり、効率的に回折光Ｌｄを低減させることができる。
【００３９】
また、入射光Ｌｉに位相差δを与える構成として、反射型空間光変調素子２ｂの場合であれば、図１０（ａ）に示すように、第１画素構造２１１の入射側に薄膜２１１０を形成し、これに隣接する第２画素構造２１２には薄膜２１１０を形成しないようにすればよい。この場合、第１画素構造２１１と第２画素構造２１２を千鳥格子状に配列させる。これによって、表示領域２１全体の画素構造２１０において、位相差δを生じさせる部分（第１画素構造２１１）と位相差δを生じさせない部分（第２画素構造２１２）が隣接し合う状態になり、効率的に回折光Ｌｄを低減させることができる。
【００４０】
なお、反射型空間光変調素子２ｂであれば、図１０（ｂ）に示すように、隣接するマイクロミラー２２１の厚みを異なるものにしてもよい。この場合、隣接するマイクロミラー２２１の厚みの差は、所望の位相差δに対する半分（δ／２）にする。反射型空間光変調素子２ｂは、往路と復路を考慮した上で位相差δを与えるためである。このように、反射型空間光変調素子２ｂの場合は、隣接する第１画素構造２１１と第２画素構造２１２に対する光路長を所定の位相差δに応じて異なるようにマイクロミラー２２１の厚みに差を設けることで、所定の位相差δが与えることができる。
【００４１】
また、反射型空間光変調素子２ｂの場合は、図１１（ａ）に示すように、隣接するマイクロミラー２２１に異なる２種類の薄膜材料を用いても良い。この場合、第１画素構造２１１に相当するマイクロミラー２２１には、屈折率ｎ、厚みｔ１からなる第１薄膜材料２１１１を用い、第２画素構造２１２に相当するマイクロミラー２２１には、屈折率ｎ２、厚みｔ２からなる第２薄膜材料２１１２を用いるようにする。この場合、屈折率ｎ１≠屈折率ｎ２の場合は厚みｔ１＝厚みｔ２とし、屈折率ｎ１＝屈折率ｎ２の場合は、厚みｔ１≠厚みｔ２とする。または、屈折率ｎ１≠屈折率ｎ２及び厚みｔ１≠厚みｔ２等とすることで、位相差δを与える位相差手段を構成することができる。第１薄膜材料２１１１と第２薄膜材料２１１２の重さを同じにしたい場合であれば、これらの材料の選定を考慮すればよい。
【００４２】
また、反射型空間光変調素子２ｂの場合は、図１１（ｂ）に示すように、隣接するマイクロミラー２２１の厚みを変えて、さらに一方に所定の材料及び厚さからなる薄膜２１１０を形成してもよい。薄膜２１１０は、半導体プロセスによって比較的簡便に作製することが可能である。
【００４３】
次に、透過型と反射型のいずれの空間光変調素子２においても適用することができる第１画素構造２１１のさらに別の例について説明する。図１２に示すようなサブ波長構造２１１３（ＳＷＳ：Ｓｕｂｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ  Ｓｔｒｕｃｔｕｒｅ）を第１画素構造２１１に用いればよい。サブ波長構造２１１３は、ピッチ「ｐ」、溝の幅「ｗ」、高さ「ｔ」をパラメータとして、最適な値に設定することで、特定の波長に対して位相差δを与えることができる。
【００４４】
サブ波長構造２１１３は、半導体プロセスにより作製される。サブ波長構造２１１３のある画素構造２１０（第１画素構造２１１）とサブ波長構造２１１３のない画素構造２１０（第２画素構造２１２）を隣接して配列する。これによって、入射光Ｌｉに対して所定の位相差δを与えることができ、零次光である出射光Ｌｏを残しながら、±１次の一次回折光Ｌｄ１を低減させることができる。すなわち、画像光となる出射光Ｌｏを消すことなく、迷光の原因となる回折光Ｌｄを低減させることができる。
【００４５】
全ての画素構造２１０にサブ波長構造２１１３を形成し、隣接するサブ波長構造２１１３のパラメータを異ならせてもよい。ＤＭＤである反射型空間光変調素子２ｂであれば、画像光を形成するときには全ての画素構造２１０を物理的に動かすことになる。そこで、全ての画素構造２１０にサブ波長構造２１１３を形成すれば、画素構造２１０の重さを均一にしつつ、位相差δを与えることができるので望ましい。
【００４６】
サブ波長構造２１１３は、耐久性に優れている無機材料（ＳｉＯ２など）を用いて作製すればよい。照明光学系１からの光が集光するので、耐久性や耐光性が要求される。そこで、無機材料からなるサブ波長構造２１１３を用いることで、耐久性や耐光性に優れ、かつ、迷光を防止し、コントラスト比の低下を防止する空間光変調素子２を得ることができる。
【００４７】
Ｒ、Ｇ、Ｂのそれぞれに対して好適な位相差δを与えようとすると、それぞれの色（波長）に応じた位相差手段を画素構造２１０に形成しなければならない。人間の眼は緑色（波長＝５５５ｎｍ）に対する比視感度が最大であるから、この緑色の波長に対して位相差δを与えるように、サブ波長構造２１１３のピッチ「ｐ」、溝の幅「ｗ」、高さ「ｔ」を設定すればよい。これによって、緑色光の回折光Ｌｄを低減されることができ、最も効果的に回折による迷光を低減できる。
【００４８】
以上のとおりプロジェクタ１００は、空間光変調素子２が備える画素構造２１０において、入射光Ｌｉに位相差δを与える部分と位相差δを与えない部分を設けて光の干渉を制御し、空間光変調素子２において生ずる回折光Ｌｄを低減できる。
【００４９】
空間光変調素子２は、位相差δを与える部分と位相差δを与えない部分を千鳥格子状に配列することで、光の干渉をより良く制御し、空間光変調素子２において生ずる回折光Ｌｄを効率的に低減できる。
【００５０】
この構造を用いて透過型空間光変調素子２ａを構成でき、また、反射型空間光変調素子２ｂを構成できる。
【００５１】
空間光変調素子２における位相差δを与える部分には、薄膜２１１０を形成すればよい。これによって、位相差δを与える手段を簡便に作製し提供できる。
【００５２】
また、位相差δを与える手段として、無機材料の微細構造を用いることにより、耐久性のある位相差手段を提供できる。
【００５３】
なお、位相差手段において位相差δを与える波長を人の比視感度が高い緑の波長に合わせることで、より効率的に回折光を低減する空間光変調素子２を提供することができる。
【符号の説明】
【００５４】
１        照明光学系
２        空間光変調素子
２ａ      透過型空間光変調素子
２ｂ      反射型空間光変調素子
３        投射光学系
２１      表示領域
１００    プロジェクタ
２１０    画素構造
２１１    第１画素構造
２１２    第２画素構造
２２１    マイクロミラー
２１１０  薄膜
２１１３  サブ波長構造
【先行技術文献】
【特許文献】
【００５５】
【特許文献１】特許第３６５５２９４号明細書
【図１】
2016130821.tif 000003
【図２】
2016130821.tif 000004
【図３】
2016130821.tif 000005
【図４】
2016130821.tif 000006
【図５】
2016130821.tif 000007
【図６】
2016130821.tif 000008
【図７】
2016130821.tif 000009
【図８】
2016130821.tif 000010
【図９】
2016130821.tif 000011
【図１０】
2016130821.tif 000012
【図１１】
2016130821.tif 000013
【図１２】
2016130821.tif 000014