(57)【要約】【課題】密着性、及び、耐久性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、上記人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供すること。【解決手段】成分Ａとして、重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタン、を含むことを特徴とする人工爪組成物。成分Ａの水酸基価は、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましい。また、成分Ａは、少なくとも主鎖末端以外の位置に水酸基を有するポリウレタンであることが好ましい。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
成分Ａとして、重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタン、を含むことを特徴とする
人工爪組成物。
【請求項２】
成分Ａの水酸基価が、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上である、請求項１に記載の人工爪組成物。
【請求項３】
成分Ａが、少なくとも主鎖末端以外の位置に水酸基を有するポリウレタンである、請求項１又は２に記載の人工爪組成物。
【請求項４】
成分Ａがラジカル重合性基を更に有するポリウレタンである、請求項１〜３のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
【請求項５】
成分Ａがアミノ基を更に有するポリウレタンである、請求項１〜４のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
【請求項６】
成分Ｂとして重合性モノマー、及び、成分Ｃとして重合開始剤を更に含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
【請求項７】
成分Ｄとして溶剤を更に含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の人工爪組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の人工爪組成物から形成された層を有する人工爪。
【請求項９】
請求項８に記載の人工爪と酸性水溶液とを接触させる工程を含む、人工爪の除去方法。
【請求項１０】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の人工爪組成物と除去液とを含む、ネイルアートキット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、人工爪組成物、人工爪、人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、ポリマー、重合性モノマー、光重合開始剤、等を含むジェル状の人工爪組成物を爪に塗布した後、紫外線を照射して硬化させた人工爪と呼ばれる爪装飾が、従来のマニキュアやネイルポリッシュと比較して硬化時間が短い、美観に優れる、長持ちする等の理由から注目を集めている。しかしながら、爪装飾が欠ける、割れる、剥離する、等で美観が損なわれるまでの期間が、施術される側の爪の状態及び生活環境、ネイリストの施術技術によっては短くなる場合があるため、より高い密着性及び耐久性を有する人工爪組成物が望まれている。
従来の人工爪組成物としては、特許文献１、及び２に記載のものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許３９２２７１０号公報
【特許文献２】特許５２４０９３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、密着性、及び、耐久性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、上記人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明の上記課題は、以下の＜１＞又は＜８＞〜＜１０＞に記載の手段により解決された。好ましい実施態様である＜２＞〜＜７＞と共に以下に記載する。
＜１＞  成分Ａとして、重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタン、を含むことを特徴とする人工爪組成物、
＜２＞  成分Ａの水酸基価が、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上である、＜１＞に記載の人工爪組成物、
＜３＞  成分Ａが、少なくとも主鎖末端以外の位置に水酸基を有するポリウレタンである、＜１＞又は＜２＞に記載の人工爪組成物、
＜４＞  成分Ａがラジカル重合性基を更に有するポリウレタンである、＜１＞〜＜３＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
＜５＞  成分Ａがアミノ基を更に有するポリウレタンである、＜１＞〜＜４＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
＜６＞  成分Ｂとして重合性モノマー、及び、成分Ｃとして重合開始剤を更に含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
＜７＞  成分Ｄとして溶剤を更に含む、＜１＞〜＜６＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物、
＜８＞  ＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物から形成された層を有する人工爪、
＜９＞  ＜８＞に記載の人工爪と酸性水溶液とを接触させる工程を含む、人工爪の除去方法、
＜１０＞  ＜１＞〜＜７＞のいずれか１つに記載の人工爪組成物と除去液とを含む、ネイルアートキット。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、密着性、及び、耐久性に優れる人工爪組成物、並びに、上記人工爪組成物を用いた人工爪、上記人工爪の除去方法、及び、ネイルアートキットを提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、本発明について詳細に説明する。
なお、本明細書中、「ｘｘ〜ｙｙ」の記載は、ｘｘ及びｙｙを含む数値範囲を表す。また、「重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタン」等を単に「成分Ａ」等ともいう。
また、本発明において、「質量％」と「重量％」とは同義であり、「質量部」と「重量部」とは同義である。
また、本発明において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
本明細書中、式で表される化合物における基の表記に関して、置換あるいは無置換を記していない場合、当該基が更に置換基を有することが可能な場合には、他に特に規定がない限り、無置換の基のみならず置換基を有する基も包含する。例えば、式の説明において、「Ｒはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基を表す」との記載があれば、「Ｒは無置換アルキル基、置換アルキル基、無置換シクロアルキル基、置換シクロアルキル基、無置換アリール基又は置換アリール基を表す」ことを意味する。また、本明細書中、（メタ）アクリルは、アクリルとメタクリルとを共に含む概念を表し、（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリルアミド等についても同様である。
また、本明細書におけるポリマーには、コポリマーを含むものとする。
【０００８】
（人工爪組成物）
本発明の人工爪組成物は、成分Ａとして、重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタン、を含むことを特徴とする。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪である。
【０００９】
本発明者は詳細な検討を行った結果、成分Ａを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、密着性、及び、耐久性に優れ、かつ除去性が劣化しないことを見出した。
水酸基含有ポリウレタンの水酸基が爪と水素結合を形成することで、爪と人工爪との間の密着力が増加したと推定している。また、効果の発現機構は不明であるが、水酸基を有しないポリマーと、水酸基を有し、かつ、ポリマーではない化合物とを別々に添加するのではなく、ポリマー分子中に水酸基が存在する化合物を添加することが、密着性及び耐久性向上に重要であると推定している。
なお、本発明においてポリマーとは、重量平均分子量が１０，０００以上の化合物をいい、本発明における重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定し、ポリスチレン標準試料から作成した検量線を用いて算出することができる。
【００１０】
本発明の人工爪組成物は、ヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に乾燥及び／又は露光によって硬化し、人工爪を形成する組成物である。また、本発明の人工爪組成物により形成された人工爪は、従来の有機溶剤を用いた除去方法によって除去することも可能であるが、成分Ａがアミノ基を有する場合は酸性水溶液を用いても容易に除去することが可能である。
本発明における人工爪とは、ヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に、美装及び／又は保護を目的に形成される層を指す。また、例えば、上記他の人工爪としては、爪の美装及び／又は保護を目的とする任意の形状の樹脂基材等が挙げられる。
なお、「ヒト及び動物の爪、並びに、他の人工爪」を、単に「爪」ともいう。
【００１１】
上記人工爪の形状は、特に制限はなく、所望の形状に形成すればよい。例えば、爪の表面を被覆するように形成してもよいし、爪の一部のみに形成してもよいし、ネイルフォーム等を使用し爪の延長のため、爪よりも大きな形状に形成してもよい。
また、本発明の人工爪組成物は、塗布により厚みを制御することができる。厚みとしては、一般に人工爪がとりうる範囲であれば、特に制限されるものではないが、密着性、耐久性及び除去性の観点から、１０〜２，０００μｍの範囲であることが好ましい。
【００１２】
人工爪の構成は、一例として、爪から近い順に、プライマー層（ベース層のみで爪との密着力が不足する場合、密着力を向上させるための爪とベース層の間の層）、ベース層（密着力を向上させ、爪への色移りを防止するための爪とカラー層の間の層）、カラー層（色材を含む層）、トップ層（耐久性、光沢、美観を向上させるための最も外側の層）、等のいずれか１つ以上を含む層構造であることが一般的であるが、本発明の人工爪組成物は、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
中でも、密着性、耐久性及び除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した層が爪と接していることが好ましい。
また、本発明の人工爪組成物によって形成した人工爪層の上層（人工爪層を基準とした時に爪と反対側の面）又は下層（人工爪層と爪との間の面）に、別途、色・ツヤ・密着を出す目的で、プライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層を有していてもよい。
【００１３】
本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物（「ジェルネイル用人工爪組成物」）としても、マニキュア液用人工爪組成物としても好適に用いることができるが、密着性、耐久性の観点から、光硬化性人工爪組成物として特に好適に使用することできる。
上記光硬化性人工爪組成物は、活性光線により硬化可能な人工爪組成物である。「活性光線」とは、その照射により人工爪組成物中に開始種を発生させるエネルギーを付与できる放射線であり、紫外線、可視光線などを包含する。
以下に、本発明の人工爪組成物に使用することができる各種成分について説明する。
【００１４】
成分Ａ：重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタン
本発明の人工爪組成物は、成分Ａとして、重量平均分子量１２，０００以上の水酸基含有ポリウレタンを含む。重量平均分子量が１２，０００以上であると、密着性、耐久性に優れる人工爪組成物が得られる。
成分Ａの重量平均分子量は１２，０００〜５００，０００であることが好ましく、１２，０００〜１００，０００であることが更に好ましく、１２，０００〜５０，０００であることが特に好ましく、１５，０００〜４０，０００であることが最も好ましい。
【００１５】
成分Ａの構造については、特に制限はなく、任意の構造であればよく、例えば、直鎖状構造、枝分かれ（分岐）構造、星型構造などが挙げられる。また、成分Ａは、ポリウレタン主鎖骨格中に、エーテル骨格、ポリエーテル骨格、エステル骨格、ポリエステル骨格、カーボネート骨格、ポリカーボネート骨格、アミド骨格、ポリアミド骨格、ウレア骨格、ポリウレア骨格、などの他の骨格を部分的に含んでいてもよい。
【００１６】
＜水酸基価＞
成分Ａの単位質量当たりの水酸基数、即ち水酸基価は、０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であることが好ましく、０．２〜３．０ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましく、０．４〜２．５ｍｍｏｌ／ｇであることが特に好ましく、０．５〜２．５ｍｍｏｌ／ｇであることが最も好ましい。水酸基価が０．２ｍｍｏｌ／ｇ以上であれば、十分な密着性、耐久性を有する人工爪が得られ、３．０ｍｍｏｌ／ｇ以下であれば、人工爪組成物の粘度が適切な値となり塗布性が良好となる。水酸基価は、ＪＩＳ  Ｋ  １５５７−１に記載の方法により、成分Ａ１ｇ当たりの水酸基モル数に換算して測定することができる。
また、成分Ａは、少なくとも主鎖末端以外の位置に水酸基を有するポリウレタンであることが好ましい。上記の態様によれば、主鎖末端にのみ水酸基を有するポリウレタンよりも、高い水酸基価を付与することができる。
主鎖末端以外であれば、水酸基を側鎖に有していてもよいし、水酸基を主鎖の主鎖末端以外の位置に有している、すなわち、水酸基が連結基を介して主鎖と結合しているか、水酸基が側基（side-group）として主鎖と結合していてもよい。
更に、成分Ａは、主鎖末端以外の位置に水酸基を有していれば、主鎖末端に水酸基を更に有していてもよい。
なお、本発明において、主鎖とはポリマーを構成する高分子化合物の分子中で相対的に最も長い結合鎖をいう。
【００１７】
＜成分Ａの合成方法＞
ポリウレタンの合成方法としては、ポリイソシアネート化合物とポリオール化合物などを原料に、公知の方法で合成すればよい。ポリウレタンに水酸基を導入する方法としては、特に制限はなく、例えば、イソシアネート末端プレポリマーを合成した後に水酸基含有ポリアミンで鎖延長して合成する方法、不飽和結合含有ポリウレタンと水酸基含有チオールをＭｉｃｈａｅｌ付加するなどの高分子反応により水酸基を導入する方法、水酸基当量をイソシアネート当量よりも過剰に用いてポリウレタンを合成する方法、イソシアネート末端ポリウレタンを合成した後に多価アルコール又はアミノ基含有ポリオールでクエンチする方法、及び、上記方法を組み合わせた方法が挙げられる。
【００１８】
ポリウレタンの原料として用いることができるポリイソシアネート化合物としては、以下に限定されないが、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート二量体、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、ノルボルネンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ジオール１モルとジイソシアネート２モルとの反応生成物、二官能イソシアネートから誘導されるイソシアヌレート型ポリイソシアネートやビウレット型ポリイソシアネートやアダクト型ポリイソシアネートを用いることができる。
密着性、耐久性の観点から、ポリイソシアネート成分としては、ジフェニルメタンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ｍ−キシリレンジイソシアネート、ｐ−キシリレンジイソシアネート、ジシクロヘキシルメタンジイソシアネート、ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネートがより好ましい。これら化合物は１種類のみでも複数を組み合わせて使用してもよい。
また、ポリオール化合物としては、以下に限定されないが、ブタンジオール、ヘキサンジオール、ドデカンジオール等のアルキレンジオール、ビスフェノールＡ、水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加体等のビスフェノール誘導体、ジエチレングリコール、ペンタエチレングリコール、プロピレングリコール、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレンオキシド等のポリエーテルジオール、アジピン酸やイソフタル酸などのジカルボン酸化合物と、エチレングリコール、１，４−ブタンジオールや１，６−ヘキサンジオールなどのジオール化合物とを縮合して得られるポリエステルジオール、カプロラクトンの開環重合で得られるポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール、ポリイソプレンジオール、水添ポリイソプレンジオール、両末端カルビノール変性ポリジメチルシロキサンを用いることができる。
密着性、耐久性の観点から、ジオール成分としては、アルキレンジオール、ビスフェノール誘導体、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、ポリブタジエンジオール、水添ポリブタジエンジオール、ポリイソプレンジオール、水添ポリイソプレンジオールがより好ましく、アルキレンジオール、ビスフェノール誘導体、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカプロラクトンジオール、ポリカーボネートジオール、水添ポリブタジエンジオールが更に好ましく、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、が特に好ましく、ポリエーテルジオールが最も好ましい。これら化合物は１種類のみでも複数を組み合わせて使用してもよい。
【００１９】
水酸基含有ポリアミンとしては、１，３−ジアミノ−２−プロパノール、１，４−ジアミノ−２−ブタノール、１−アミノ−３−（アミノメチル）−３，５，５−トリメチルシクロヘキサン−１−オール、１，１１−ジアミノ−６−ウンデカノール、２−［ビス（２−アミノエチル）アミノ］エタノール、４−（２−アミノエチル）−４，７，１０−トリアザデカン−２−オール、３−（２−ヒドロキシプロピル）−ｏ−キシレン−α、α’−ジアミン、１−（３−アミノプロピルアミノ）−３−アミノプロパン−２−オール、１−ビス（２−アミノエチル）アミノ−２−プロパノール、を用いることができる。
【００２０】
水酸基含有チオールとしては、α−チオグリセロール、２−メルカプトエタノール、３−メルカプト−１−プロパノール、４−メルカプト−１−ブタノール、３−メルカプト−２−ブタノール、３−メルカプト−３−メチル−１−ブタノール、６−メルカプト−１−ヘキサノール、３−メルカプト−１−ヘキサノール、７−メルカプト−１−ヘプタノール、８−メルカプト−３，６−ジオキサオクタン−１−オール、メルカプトボルネオール、メルカプトイソボルネオール、２−ヒドロキシベンゼンチオール、を用いることができる。
【００２１】
多価アルコールとしては、エタンジオール、プロパンジオール、ブタンジオール、などのアルキレンジオール、ジエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリエチレングリコールなどのポリアルキレングリコール、グリセリン、ジグリセリン、ポリグリセリン、グリセリンモノエーテル化合物、グリセリンモノエステル化合物などのグリセリン誘導体、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、を用いることができる。
【００２２】
アミノ基含有ポリオールとしては、２−アミノ−１，３−プロパンジオール、３−アミノ−１，２−プロパンジオール、２−アミノ−２−メチル−１，３−プロパンジオール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオール、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、トリス（ヒドロキシメチル）アミノメタン、を用いることができる。
【００２３】
＜ラジカル重合性基＞
成分Ａはラジカル重合性基を更に有するポリウレタンであることが好ましい。反応性の観点から、ビニル基、アリル基、（メタ）アクリロイルオキシ基、（メタ）アクリルアミド基、のいずれかであることがより好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基、又は、（メタ）アクリルアミド基であることが更に好ましい。成分Ａの単位質量当たりのラジカル重合性基数、即ち架橋性基価は、０．０１〜２．０ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．０５〜１．５ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．１〜１．０ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましい。架橋性基価が上記範囲内であれば、硬度と靱性が両立した人工爪を得ることができる。架橋性基価は、例えば、以下の方法により測定できる。試料を有機溶媒に溶解し、アルカリ加水分解する。ＨＰＬＣにより生成した（メタ）アクリル酸を定量し、試料１ｇ当たりの（メタ）アクリル酸量を算出し、架橋性基価が算出される。また、成分Ａのラジカル重合性基の導入位置は、主鎖又は側鎖のいずれの箇所でもよい。
【００２４】
ポリウレタンにラジカル重合性基を導入する好ましい方法としては、ラジカル重合性基を有する化合物で末端キャップ化する方法、高分子反応により導入する方法、ラジカル重合性基を有するポリオール化合物やポリイソシアネート化合物を用いてポリウレタンを合成する方法、が挙げられる。
【００２５】
末端キャップ化で用いるラジカル重合性基を有する化合物としては、１分子中にイソシアネート基と反応する基及びラジカル重合性基を各々１つ以上有する化合物、又は、１分子中に水酸基と反応する基及びラジカル重合性基を各々１つ以上有する化合物、が挙げられる。
１分子中にイソシアネート基と反応する基及びラジカル重合性基を各々１つ以上有する化合物としては、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリルアミド、グリセリンジ（メタクリレート）、ペンタエリスリトールトリアクリレート、を用いることができる。
１分子中に水酸基と反応する基及びラジカル重合性基を各々１つ以上有する化合物としては、２−イソシアナトエチル（メタ）アクリレート、を用いることができる。これら化合物は１種類のみでも複数を組み合わせて使用してもよい。
【００２６】
ラジカル重合性基を有するポリオール化合物やポリイソシアネート化合物としては、以下に限定されないが、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、アルキレングリコールジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡアルキレンオキシド付加物ジグリシジルエーテル（メタ）アクリル酸付加物、特開２００７−１８７８３６号公報に記載されている化合物などを用いることができる。これら化合物は１種類のみでも複数を組み合わせて使用してもよい。
【００２７】
＜アミノ基＞
成分Ａは、アミノ基を更に有するポリウレタンであることが好ましい。具体的には、第１級アミノ基、第２級アミノ基、第３級アミノ基、ピロリジン、ピペリジン、ピペラジン、ピリジン、ピリミジン、が好ましく、第２級アミノ基、第３級アミノ基、ピペリジン、ピペラジン、ピリジン、がより好ましく、第３級アミノ基、ピペリジン、ピペラジン、が更に好ましく、３級アミノ基が特に好ましい。
第３級アミノ基の置換基は、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基であることが好ましく、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基又は炭素数６〜２０のアリール基であることがより好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数３〜１０のシクロアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であることが更に好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数５〜１０のシクロアルキル基又は炭素数６〜１０のアリール基であることが特に好ましく、炭素数１〜１０のアルキル基であることが最も好ましい。
また、成分Ａのアミノ基の導入位置は、主鎖又は側鎖のいずれの箇所でもよい。
【００２８】
成分Ａのアミン価は、０．００１〜８．５ｍｍｏｌ／ｇであることが好ましく、０．００３〜６．０ｍｍｏｌ／ｇであることがより好ましく、０．００５〜４．０ｍｍｏｌ／ｇであることが更に好ましく、０．０１〜２．０ｍｍｏｌ／ｇであることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の除去性及び耐水性により優れる。
アミン価は、以下の公知の方法により測定できる。試料を容器に秤量し、溶媒として酢酸を加えて溶解させ、滴定試薬として０．１Ｎ過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定する。滴定した際に消費される過塩素酸のモル数を、試料（固形分）１ｇ当たりに換算し、アミン価が算出される。
【００２９】
ポリウレタンにアミノ基を導入する方法としては、アミノ基を含むポリイソシアネート及び／又はポリオールを原料に用いてポリウレタンを合成する方法、アミノ基を有するクエンチ剤を用いて末端キャップ化することでアミノ基を導入する方法、アミノ基を含まないポリウレタンを合成した後、高分子反応によりアミノ基を導入する方法、が挙げられ、アミノ基を含むポリオールを原料に用いてポリウレタンを合成する方法、アミノ基を有するクエンチ剤を用いて末端キャップ化することでアミノ基を導入する方法、が好ましい。
アミノ基を含むポリオールしては、以下に限定されないが、３−（ジメチルアミノ）−１，２−プロパンジオール、３−（ジエチルアミノ）−１，２−プロパンジオール、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルジエタノールアミン、１，４−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、ピリジンジメタノール、１−（２−ヒドロキシエチル）−４−（３−ヒドロキシプロピル）ピペリジン、が例示される。
アミノ基を有するクエンチ剤としては、以下に限定されないが、２−（ジメチルアミノ）エタノール、１−ジメチルアミノ−２−プロパノール、３−ジメチルアミノ−１−プロパノール、４−ジメチルアミノ−１−ブタノール、２−（ジメチルアミノ）イソブタノール、３−ジメチルアミノ−２，２−ジメチル−１−プロパノール、６−ジメチルアミノ−１−ヘキサノール、８−ジメチルアミノ−１−オクタノール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエトキシエタノール、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリメチルビス（２−アミノエチル）エーテル、２−（ジエチルアミノ）エタノール、１−ジエチルアミノ−２−プロパノール、３−ジエチルアミノ−１−プロパノール、２−［２−（ジエチルアミノ）エトキシ］エタノール、２−（ジイソプロピルアミノ）エタノール、２−（ジブチルアミノ）エタノール、３−ヒドロキシ−１−メチルピペリジン、４−ヒドロキシ−１−メチルピペリジン、１−エチル−３−ヒドロキシピペリジン、１−ベンジル−４−ヒドロキシピペリジン、４−ヒドロキシ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−ヒドロキシメチル−１−メチルピペリジン、３−ヒドロキシメチル−１−メチルピペリジン、４−ヒドロキシメチル−１−メチルピペリジン、２−ピリジンメタノール、３−ピリジンメタノール、４−ピリジンメタノール、エチルフェニルエタノールアミン、２−ジメチルアミノエチルアミン、３−（ジメチルアミノ）プロピルアミン、２−ジエチルアミノエチルアミン、３−（ジエチルアミノ）プロピルアミン、１−（２−アミノエチル）ピペリジン、４−アミノ−１−メチルピペリジン、１−（３−アミノプロピル）−２−メチルピペリジン、４−アミノ−１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジン、４−アミノ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、２−ピコリルアミン、３−ピコリルアミン、４−ピコリルアミン、が例示される。
【００３０】
＜成分Ａの含有量＞
本発明の人工爪組成物における成分Ａの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることが更に好ましく、４０〜６０質量％であることが特に好ましい。上記範囲であると、得られる人工爪の密着性、耐久性により優れる。
【００３１】
＜成分Ａの具体例＞
以下に、成分Ａの具体例を示すが、この具体例に限定されるものではない。
成分Ａとしては、表１に記載の原料から合成、かつ、記載のクエンチ剤で末端キャップ化、あるいは記載の付加化合物でＭｉｃｈａｅｌ付加反応したポリマーが好ましい。また、原料の下の数字は仕込みモル比を表す。省略記号は下記の化合物を表す。ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート）、ＰＴＭＧ２０００（ポリテトラメチレンオキシド、平均分子量２，０００）、ＰＰＧ２０００（ポリプロピレングリコールジオール、平均分子量２，０００）、Ｔ−５６５２（デュラネートＴ−５６５２、旭化成ケミカルズ（株）製、ポリカーボネートジオール）、ＤＡＰ（１，３−ジアミノ−２−プロパノール）、ＧＬＭ（グリセリンモノメタクリレート）、ＤＭＡＰＯＨ（３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール）、ＨＥＭＡ（メタクリル酸２−ヒドロキシエチル）、ＭｅＯＨ（メタノール）、ＴＧ（α−チオグリセロール）。
【００３２】
【表１】
2016220733.tif 000002
【００３３】
成分Ｂ：重合性モノマー
本発明の人工爪組成物は、成分Ｂとして、重合性モノマー（以下、単に「成分Ｂ」又は「重合性モノマー」ともいう。）を含有していてもよい。成分Ｂを含有することにより、人工爪組成物の粘度を調整でき、塗布性を容易に付与することができる。
また、本発明の人工爪組成物が成分Ｂを含有する場合、成分Ｃとして、後述する重合開始剤を更に含有することがより好ましい。成分Ｂ及び成分Ｃを含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として更に好適に用いることができる。
【００３４】
成分Ｂは、ラジカル重合性化合物であることが好ましく、エチレン性不飽和基を有する化合物であることが好ましい。
エチレン性不飽和基を有する化合物としては、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレイン酸等の不飽和カルボン酸及びそれらの塩やエステル体、エチレン性不飽和基を有する酸無水物、アクリロニトリル、ビニル化合物、スチレン及びその誘導体、更に種々の不飽和ポリエステル、不飽和ポリエーテル、不飽和ポリアミド、不飽和ポリウレタン、ラジカル重合性基導入オリゴマー、ラジカル重合性基導入ポリマーなどの公知の化合物を使用できる。
成分Ｂは、分子量（分子量分布を有する場合には、重量平均分子量）が、１０，０００未満の化合物であり、分子量５，０００以下の化合物であることが好ましく、分子量１，０００未満の化合物であることが更に好ましい。分子量が上記範囲内であると、硬化性に優れる人工爪組成物が得られるので好ましい。
【００３５】
＜成分Ｂの具体例＞
成分Ｂとして具体的には、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ベヘニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリロイルモルホリン、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、メタクリル酸２−ｔ−ブチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸テトラメチルピペリジル、（メタ）アクリル酸ペンタメチルピペリジル、Ｎ−（メタ）アクリルオキシスクシンイミド、（メタ）アクリル酸グリシジル、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル、
【００３６】
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、デカンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメタノールジ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート（例えば、Ａ−ＢＰＥ−１０；新中村化学工業（株）製）、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレートトリ（メタ）アクリレート、イソシアヌル酸アルキレンオキシ変性トリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、アルキレンオキシ化ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミド、
【００３７】
Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、エチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、イソプロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、シクロヘキシルビニルエーテル、２−エチルヘキシルビニルエーテル、オクタデシルビニルエーテル、エチレングリコールモノビニルエーテル、ジエチレングリコールモノビニルエテール、テトラメチレングリコールモノビニルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルブチルエーテル、アリルフェニルエーテル、アリルベンジルエーテル、エチレングリコールモノアリルエーテル、スチレン、４−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、４−メトキシスチレン、市販のウレタン（メタ）アクリレート（例えば、ＥＢＥＣＲＹＬシリーズ（ダイセルサイテック（株）製）、紫光シリーズ（日本合成化学（株）製）、ＮＫオリゴシリーズ（新中村化学工業（株）製）で低分子量のもの）、を用いることができる。
【００３８】
上記以外にも、山下晋三編、「架橋剤ハンドブック」、（１９８１年、（株）大成社）；加藤清視編、「ＵＶ・ＥＢ硬化ハンドブック（原料編）」（１９８５年、高分子刊行会）；ラドテック研究会編、「ＵＶ・ＥＢ硬化技術の応用と市場」、７９頁、（１９８９年、シーエムシー）；滝山栄一郎著、「ポリエステル樹脂ハンドブック」、（１９８８年、（株）日刊工業新聞社）等に記載の市販品又は業界で公知のラジカル重合性化合物を用いることができる。
【００３９】
成分Ｂとしては、得られる人工爪の耐水性の観点から、（メタ）アクリル酸エステルのエステル部位の炭素数が３以上である（メタ）アクリル酸エステルを少なくとも１種類含むことが好ましく、エステル部位の炭素数が５以上の（メタ）アクリル酸エステルを少なくとも１種類含むことがより好ましく、エステル部位の炭素数が８以上の（メタ）アクリル酸エステルを少なくとも１種類含むことが更に好ましい。上記アルキル基は直鎖／分岐のどちらでもよく、置換基を有してもよく、環構造を有していてもよい。
また、得られる人工爪の硬度の観点から、成分Ｂはメタクリル酸エステルであることが好ましい。
【００４０】
上記アルキル基を有する（メタ）アクリル酸エステルとしてはこれらに限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸アミル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸イソノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸イソデシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸トリデシル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸イソステアリル、（メタ）アクリル酸ベヘニル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸４−ｔ−ブチルシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸アダマンチルが挙げられる。
【００４１】
成分Ｂとしては、溶解性の観点から、ヒドロキシ基を有する（メタ）アクリル酸エステル、アルキレンオキシ骨格を有する（メタ）アクリル酸エステル、及び、（メタ）アクリルアミド化合物よりなる群から選択される少なくとも１種類を含むことが好ましい。上記アルキレンオキシ骨格は、鎖状でも環状でもよく、また、ポリアルキレンオキシ骨格を形成していてもよい。
上記ヒドロキシ基又はアルキレンオキシ骨格を有する（メタ）アクリル酸エステルとしては、これらに限定されないが、例えば、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、グリセリンモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリテトラメチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・プロピレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール・テトラメチレングリコール）−モノ（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸２−メトキシエチル、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸２−エトキシエチル、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、オクトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル−ジグリコール（メタ）アクリレート、ラウロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ステアロキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、フェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレートが挙げられる。
（メタ）アクリルアミド化合物としては、これらに限定されないが、例えば、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−メトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−イソプロピル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−フェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ドデシル（メタ）アクリルアミド、ジアセトン（メタ）アクリルアミド、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）（メタ）アクリルアミドが使用できる。
【００４２】
＜成分Ｂの含有量＞
成分Ｂは、１種類を単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
本発明の人工爪組成物における成分Ｂの含有量は、特に制限はないが、人工爪組成物の全質量に対し、２０〜６０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましく、３５〜６０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、人工爪組成物の粘度を調整でき、塗布性を容易に付与することができる。また、得られる人工爪の密着性、耐久性、及び除去性に優れる。
【００４３】
成分Ｃ：重合開始剤
本発明の人工爪組成物は、成分Ｃとして、重合開始剤（以下、単に「成分Ｃ」又は「重合開始剤」ともいう。）を含むことが好ましい。上述したように、本発明の人工爪組成物が成分Ｂとして重合性モノマーを含有する場合、成分Ｃとして、重合開始剤を含有することが好ましい。
重合開始剤としては、光重合開始剤、熱重合開始剤のどちらでもよいが、光重合開始剤を少なくとも１つ以上含むことがより好ましい。光重合開始剤を含有することにより、本発明の人工爪組成物は、光硬化性人工爪組成物として好適に用いることができる。
光重合開始剤としては、公知の光重合開始剤を使用することができる。
本発明に用いることができる光重合開始剤は、１種類を単独で使用しても、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。また、カチオン光重合開始剤や、熱重合開始剤を併用してもよい。
本発明に用いることのできる光重合開始剤は、光を吸収して重合開始種を生成する化合物である。光としては、γ線、β線、電子線、紫外線、可視光線、赤外線が例示できる。これらの中でも、紫外線及び／又は可視光線の照射により重合開始種を生成する化合物が好ましい。
【００４４】
本発明に用いることができる光重合開始剤として、以下のものを好ましく使用できる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
アセトフェノン化合物（例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、４’−イソプロピル−２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルホリノ−１−プロパン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタン−１−オン、２−ジメチルアミノ−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−（４−モルホリノフェニル）ブタン−１−オン、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル等）；
ベンゾフェノン化合物（例えば、ベンゾフェノン、４，４’−ビス（ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、３，３−ジメチル−４−メトキシベンゾフェノン等）；
アントラキノン化合物（例えば、アントラキノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ｔ−ブチルアントラキノン等）；
チオキサントン化合物（例えば、２−クロロチオキサントン、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、ジイソプロピルチオキサントン等）；
トリハロアルキル化合物（例えば、２，４，６−（トリクロロメチル）トリアジン、２，４−トリクロロメチル−６−（４−メトキシフェニル）トリアジン、トリブロモメチルフェニルスルホン等）；
ロフィンダイマー化合物（例えば、２−（ｏ−クロロフェニル）−４，５−ジフェニルイミダゾリル二量体）；
アクリジン化合物（例えば、９−フェニルアクリジン、１，７−ビス（９−アクリジニル）ヘプタン、１，５−ビス（９−アクリジニル）ペンタン、１，３−ビス（９−アクリジニル）プロパン）；
ホスフィンオキシド化合物（例えば、ジフェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィンオキシド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）フェニルホスフィンオキシド等）；
メタロセン化合物（例えば、ビスシクロペンタジエニルビス（ジフルオロピリルフェニル）チタニウム等）；
オニウム塩（例えば、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトシレート、トリフェニルスルホニウムトシレート等）；
オキシムエステル化合物（例えば、１−（４−フェニルチオフェニル）−１，２−オクタンジオン−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）、１−［９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−エタノン−１−（Ｏ−アセチルオキシム）等）。
【００４５】
成分Ｃは、アセトフェノン化合物、ホスフィンオキシド化合物、メタロセン化合物、及び、ロフィンダイマー化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが更に好ましく、アセトフェノン化合物、及び、ホスフィンオキシド化合物よりなる群から選ばれた光重合開始剤であることが特に好ましい。
本発明の人工爪組成物中における成分Ｃの含有量としては、人工爪組成物の総質量に対して、０．０１〜１５質量％であることが好ましく、０．１〜１２質量％であることがより好ましく、０．５〜１０質量％であることが更に好ましい。上記範囲であると、硬化性に優れ、得られる人工爪の密着性が優れる。
【００４６】
成分Ｄ：溶剤
本発明の人工爪組成物は、成分Ｄとして、溶剤を含んでいてもよい。人工爪組成物が、成分Ｂを含む場合、安全性や取り扱い性の観点から、溶剤の含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、０質量％以上１０質量％未満であることが好ましく、０質量％以上５質量％未満であることがより好ましく、本発明の人工爪組成物が溶剤を含有しないことが特に好ましい。成分Ｂを含まない場合、塗布性の観点から、成分Ｄの含有量は、人工爪組成物の全質量に対し、１〜８０質量％であることが好ましく、５〜８０質量％であることがより好ましく、１０〜７０質量％であることが更に好ましく、１５〜５０質量％であることが特に好ましい。
溶剤としては、公知の溶剤であればいずれも好適に使用することができる。例えば、エタノール、２−プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤が挙げられ、これらは１種単独で含有していても、２種以上を併用していてもよい。
【００４７】
乾燥速度の観点から、溶剤の沸点は、３０〜１３０℃であることが好ましく、３５〜１００℃であることがより好ましく、４０〜９０℃であることが更に好ましく、５０〜８５℃であることが特に好ましい。
【００４８】
その他の成分
本発明の人工爪組成物は、上記成分Ａ〜成分Ｄ以外のその他の成分として、一般に人工爪組成物中に配合されうる添加成分を、本発明効果を損なわない範囲内において任意に配合することができる。このような添加成分としては、例えば、消泡剤、緩衝剤、キレート化剤、分散剤、分散助剤、染料、充填剤、顔料、防腐剤、重合禁止剤、無機粉末（例えば、シリカゲル等）、増粘剤、潤滑剤、湿潤剤等が挙げられる。ただし、これら例示に限定されるものではない。
【００４９】
人工爪組成物の組成
本発明の人工爪組成物は、成分Ｂを含有する場合、人工爪組成物の全質量に対し、成分Ａを２０〜６０質量％含有し、成分Ｂを２０〜６０質量％含有し、成分Ｃを０．０１〜１５質量％含有し、成分Ｄを０質量％以上１０質量％未満含有することが好ましい。
また、本発明の人工爪組成物は、成分Ｂを含有しない場合、人工爪組成物の全質量に対し、成分Ａを２０〜９０質量％含有し、成分Ｄを１〜８０質量％含有することが好ましい。
【００５０】
（人工爪）
本発明の人工爪は、人工爪の少なくとも一部が本発明の人工爪組成物により形成された層を有する人工爪であり、人工爪の少なくとも一部が本発明の人工爪組成物を乾燥及び／又は光硬化して形成された層を有する人工爪であることが好ましい。
本発明の人工爪は、マニキュア、ペディキュア等のネイルポリッシュや、ジェルネイルとして好適である。
本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層以外に他の層や構造を有していてもよく、人工爪全体が本発明の人工爪組成物により形成されていてもよい。
本発明の人工爪組成物により形成された層は、本発明の人工爪におけるプライマー層、ベース層、カラー層、及び／又は、トップ層のいずれにも好適に用いることができる。
また、本発明の人工爪は、本発明の人工爪組成物により形成された層を１層のみ有していても、２層以上有していてもよい。
中でも、密着性、耐久性、除去性の観点から、本発明の人工爪組成物により形成した少なくとも１層が爪と接している層であることが好ましい。
また、本発明の人工爪における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、１０〜２，０００μｍであることが好ましく、２０〜１，５００μｍであることがより好ましく、２０〜１，０００μｍが更に好ましい。
【００５１】
（人工爪の形成方法）
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物を用いて人工爪を形成する方法であれば、特に制限はないが、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程（塗布工程）、並びに、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程（乾燥工程又は露光工程）、を含む方法であることが好ましい。
本発明の人工爪組成物を人工爪として形成するには、乾燥又は光硬化のいずれかの形成方法を好適に選択することができる。
また、本発明の人工爪組成物は、重合性化合物、及び、光重合開始剤を少なくとも含むか、又は、溶剤を少なくとも含むことが好ましい。本発明の人工爪組成物が溶剤を含有し、重合性モノマー及び光重合開始剤を含有しない場合には、乾燥により人工爪を形成することが好ましく、本発明の人工爪組成物が重合性モノマー及び光重合開始剤を含有し、溶剤を含有しない場合には、露光により人工爪を形成することが好ましく、本発明の人工爪組成物が、溶剤、重合性モノマー及び光重合開始剤を含有する場合には、乾燥及び露光により人工爪を形成することが好ましい。
また、本発明の人工爪の形成方法における本発明の人工爪組成物により形成された層の厚さは、特に制限はないが、１０〜２，０００μｍであることが好ましく、２０〜１，５００μｍであることがより好ましく、２０〜１，０００μｍであることが更に好ましい。
【００５２】
本発明の人工爪の形成方法は、場合により、塗布工程の前に、ヒト若しくは動物の爪、又は、他の人工爪の表面を粗面化する工程を含んでいてもよい。上記態様であると、得られる人工爪の密着性及び耐久性が改善する場合がある。
爪表面を粗面化する方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行うことができる。例えば、ファイル等の爪用やすりにより粗面化を行う方法が好ましく挙げられる。
【００５３】
＜塗布工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、本発明の人工爪組成物をヒト若しくは動物の爪上、又は、他の人工爪上に塗布し塗布膜を形成する工程を含むことが好ましい。
他の人工爪は、人工爪に用いられる基材であれば、特に制限はなく、例えば、樹脂基材、本発明の人工爪の形成方法以外の方法により形成された人工爪、又は、本発明の人工爪の形成方法により得られた人工爪が挙げられる。
塗布方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよいが、刷毛や筆等を使用して塗布する方法が好ましく挙げられる。また、スプレー塗布やインクジェット塗布を行ってもよい。
塗布膜の厚さについても、特に制限はなく、得られる人工爪における所望の厚さを考慮して、塗布厚を適宜調整すればよい。
【００５４】
＜乾燥及び／又は露光工程＞
本発明の人工爪の形成方法は、上記塗布膜を乾燥及び／又は露光して人工爪を形成する工程を含むことが好ましい。
【００５５】
〔乾燥工程〕
本発明の人工爪組成物が溶剤を含有している場合、乾燥工程を含むことが好ましい。
乾燥方法としては、特に制限はなく、公知の方法により行えばよい。
具体的には、例えば、室温（例えば、１０〜３０℃）にて放置乾燥する方法、気流下において放置乾燥する方法、加熱乾燥する方法、及び、これらを組み合わせた方法が好ましく挙げられる。加熱方法としては、特に制限はないが、室温より高い温度の雰囲気下に放置する方法、加熱気流下に放置する方法、ヒーターや赤外線ランプ（ＩＲランプ）等の加熱手段により加熱する方法が例示できる。
乾燥時間としては、特に制限はなく、人工爪組成物の組成や、乾燥方法、塗布厚によって適宜調整すればよいが、簡便性及びセルフレベリングによる平滑性や光沢性付与の観点から、１０秒〜２０分であることが好ましく、１５秒〜１０分であることがより好ましく、３０秒〜５分であることが更に好ましく、３０秒〜２分であることが特に好ましい。
【００５６】
〔露光工程〕
本発明の人工爪組成物が、重合性モノマー、及び、光重合開始剤を含有している場合、露光工程を含むことが好ましい。
また、本発明の人工爪組成物が、重合性化合物及び光重合開始剤に加え、溶剤を含有している場合、露光工程の前に、乾燥工程を経ていることが好ましい。
露光に使用する光としては、紫外線、可視光線などが挙げられ、硬化感度及び装置の入手容易性の観点から、紫外線が特に好ましい。
露光手段としては、特に制限はなく、公知の露光手段を用いることができるが、例えば、水銀ランプ及びメタルハライドランプ等の紫外線ランプ（ＵＶランプ）、発光ダイオード（ＬＥＤ）、レーザーダイオード（ＬＤ）等が挙げられる。
露光時間としては、特に制限はないが、２秒〜５分が好ましく、５秒〜３分がより好ましく、５秒〜２分が更に好ましい。また、露光は、間歇的に行っても、連続的に行ってもよいし、パルス光により行ってもよく、任意の方法で露光すればよい。
【００５７】
乾燥及び／又は露光工程の後、場合により、得られる人工爪の光沢や美観、また、露光を行った場合は未硬化成分の除去の目的で、得られた人工爪の表面を洗浄又は拭き取る工程を含んでいてもよい。
洗浄又は拭き取り方法としては、エタノール等の溶剤を含ませたワイプシートやスポンジワイプ等の拭き取り基材により拭き取る方法、エタノール等の溶剤や水により洗浄する方法が例示できる。
また、洗浄又は拭き取りに使用する溶剤としては、得られた人工爪を溶解しない溶剤であることが好ましい。
本発明の人工爪の形成方法は、上記以外にもその他、公知の工程を含んでいてもよい。
【００５８】
（人工爪の除去方法）
本発明の人工爪の除去方法は、人工爪にアセトン等の有機溶剤を含む除去液で膨潤させて除去する方法、人工爪に酸性水溶液を接触させて除去する方法、のいずれの方法でも除去可能である。
【００５９】
＜有機溶剤を含む除去液で除去する方法＞
人工爪にアセトン等の有機溶剤を含む除去液で膨潤させて除去する方法としては以下に限定されないが、人工爪の表面をファイル等の爪用やすりにより傷をつけ、除去液を浸した綿と人工爪を接触させ、アルミホイル等で固定し、数分静置し、膨潤させた後、木へら等で押し剥がし、最後に人工爪の表面をファイル等の爪用やすりやネイルプッシャーにより整える方法、を用いることができる。
【００６０】
〔有機溶剤〕
有機溶剤を含む除去液の有機溶剤は、エタノール、２−プロパノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル等のアルコール系溶剤及びこれらのアセテート系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチル等のエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、メチル−ｔ−ブチルエーテル、シクロペンチルメチルエーテル等のエーテル系溶剤、を用いることができる。
【００６１】
〔その他成分〕
有機溶剤以外に以下の添加剤を含んでいてもよい。具体的には、界面活性剤、防腐剤、香料、防錆剤、消泡剤、湿潤剤、キレート剤、安定化剤、増粘剤、乳化剤、色材、無機塩、有機溶剤含有量以下の水等の添加剤を用いることができる。
【００６２】
＜酸性水溶液を接触させて除去する方法＞
成分Ａ又は成分Ｂがアミノ基を有する場合、皮膚・爪への負担の観点から、人工爪に除去液である酸性水溶液を接触させて除去する方法、が好ましい。
以下に好ましい除去液の態様について記載する。
〔酸化合物〕
上記除去液に使用できる酸化合物は公知の無機酸や有機酸のいずれも使用することができる。酸化合物の具体例としては、以下に限定されないが、塩酸、リン酸、スルホン酸、硝酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パルミチン酸、ステアリン酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、酒石酸、アミノ酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸等）、炭酸が挙げられる。リン酸、ギ酸、酢酸、プロピオン酸、クエン酸、グルコン酸、グリコール酸、乳酸、リンゴ酸、アミノ酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸等）、炭酸がより好ましく、酢酸、クエン酸、グリコール酸、グルコン酸、リンゴ酸、アミノ酸類（アスパラギン酸、グルタミン酸等）、炭酸が更に好ましい。
【００６３】
〔水、及び、ｐＨ〕
上記除去液に使用する水は、特に制限はなく、水道水、蒸留水、硬水、軟水、イオン交換水等を用いることができる。除去液中の水の含有量は、特に制限はないが、除去液の全質量に対し、５０〜９９．５質量％であることが好ましく、７０〜９９質量％であることがより好ましく、９０〜９９質量％であることが更に好ましい。
除去液のｐＨは、本発明の人工爪に含まれるアミノ基を有するポリマーをイオン化する能力、すなわち除去性の観点から、５．０以下であることが好ましく、４．０以下であることがより好ましく、３．０以下であることが更に好ましい。また、除去液のｐＨは、皮膚・爪への安全性の観点から、１．０以上であることが好ましく、２．０以上であることがより好ましい。
また、ｐＨが経時や液の希釈・濃縮などによる外部因子によって変動を起こさないようにするため、酸塩を添加して緩衝液にすることが好ましい。緩衝液にするためには、上記の酸の塩、好ましくはナトリウム塩（クエン酸ナトリウム、グルコン酸ナトリウム、炭酸ナトリウム、リン酸二ナトリウム）を、酸と共存させる方法が挙げられるが、特に限定されるものではない。
【００６４】
＜その他成分＞
本発明の除去液は、上記成分の他に必要に応じて他の成分を含有していてもよい。具体的には、界面活性剤、防腐剤、香料、防錆剤、アルコール、有機溶剤、消泡剤、湿潤剤、キレート剤、安定化剤、増粘剤、乳化剤、色材、無機塩等が挙げられる。
【００６５】
＜使用形態＞
除去液は、コストや運搬性、保管性の観点から、濃縮液としてもよく、使用する際に当該濃縮液を希釈して除去液とする実施形態であってもよい。
また、除去液を使用する際は、安全性を損なわない程度に加温してもよく、また、人工爪を除去液に浸漬する場合には、浸漬する液を撹拌してもよい。
【００６６】
以上のように、本発明の人工爪の除去方法は、人工爪と酸性水溶液とを接触させる工程を含むことが好ましい。
人工爪と除去液を接触させる方法は、特に限定されるものではなく、人工爪を直接除去液に浸漬してもよく、除去液を湿らせたコットン等で人工爪を包んでもよく、噴霧器やシャワーによって吹き付けてもよく、ゼリー状やクリーム状にして人工爪に塗布してもよい。ただし、これら例示に限定されるものではない。
また、本発明の人工爪の除去方法は、人工爪表面及び／又は端を本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れるように傷をつける工程を含むことが好ましい。
傷をつける方法としては、特に制限はないが、ファイル等の爪用やすりを好適に用いることができる。
【００６７】
酸性水溶液を用いた除去方法の好ましい具体例を以下に示す。すなわち、任意に人工爪表面及び／又は端を爪用やすりで擦って本発明の人工爪組成物により形成された層が表層に一部表れる程度に粗めに傷をつけた後、ｐＨ５．０以下の酸性水溶液に浸漬し、直ちに、又は、場合により１〜５分程度そのまま放置した後、人工爪を布若しくは不織布などにより拭き取る、又は、へら状若しくはスティック状の器具により押し剥がすことによって、指先や爪に負担をかけることなく、極めて容易かつ安全に剥がすことができる。
【００６８】
なお、上記方法において、浸漬しながら、拭き取り、押し剥がしをすることも可能であり、より早く除去することが可能になる。また、超音波や振動などを与えることで拭き取り・剥離を促進してもよい。
また、本発明の人工爪の除去方法は、その他、公知の工程を含んでいてもよい。
【００６９】
（ネイルアートキット）
本発明のネイルアートキットは、本発明の人工爪組成物と、除去液と、を含み、上記除去液が、酸性水溶液であることが好ましい。
本発明のネイルアートキットにおける本発明の人工爪組成物及び除去液の好ましい態様は、上述したものと同様である。
また、本発明のネイルアートキットは、上記人工爪組成物及び除去液以外に、任意の品を含んでいてもよい。
例えば、カラー用又はトップ用など、本発明の人工爪組成物以外の人工爪組成物、ファイル等の爪用やすり、人工爪組成物を塗布するための平筆等の筆や刷毛、ＵＶライト等の露光装置、拭き取り又は洗浄用液、拭き取り用ワイプ、ネイルブラシ、ダストブラシ、爪の長さ出しに使用するネイルフォーム、アクリル製、ガラス製、金属製又は天然石製等の装飾用ストーン、ネイルシール、グリッターやホログラム等の装飾用パウダー、カッター、へら、スティック、爪同士の接触を防ぐため指の間隔を広げるセパレーター等が挙げられるが、これらに制限されない。
【実施例】
【００７０】
以下実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例における形態に限定されるものではない。なお、特に断りのない限り、「部」、及び「％」は質量基準である。
【００７１】
＜合成例１＞
３口フラスコに、ポリテトラメチレンオキシド７５部（和光純薬工業（株）製、平均分子量１，９００〜２，１２０）、テトラヒドロフラン２１０部（和光純薬工業（株）製）を入れ、２５℃で１時間撹拌した。次に、トリレンジイソシアネート１０部（東京化成工業（株）製）を添加し、更にネオスタンＵ−６００、０．０９部（ビスマス触媒、日東化成（株）製）を添加し、４０℃で３時間撹拌した。次に、１，３−ジアミノ−２−プロパノール１．６部（東京化成工業（株）製）を添加し、更に１時間撹拌した。次に、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル３．６部（和光純薬工業（株）製）を添加し、４０℃で１時間撹拌した。２５℃まで冷却し、ポリマー反応液を得た。別途、ビーカーに蒸留水３，０００部を入れ、２５℃で撹拌し、ポリマー反応液を滴下した。１時間撹拌した後、静置し、上澄みをデカントした。更に、蒸留水３，０００部を入れ、２５℃で１時間撹拌した後、静置した。沈殿物を取り出し、乾燥し、水酸基含有ポリウレタンＡ−１を得た。
【００７２】
＜合成例２＞
表２に記載の原料及び仕込み比率（モル比）とした以外は合成例１と同様に合成し、水酸基含有ポリウレタンＡ−２〜Ａ−７、Ａ−９〜Ａ−１２を得た。
なお、表２中「−」が記載された欄は、当該化合物を使用しなかったことを示している。
【００７３】
＜合成例３＞
３口フラスコに、ポリテトラメチレンオキシド５９部（和光純薬工業（株）製、平均分子量１，９００〜２，１２０）、ブレンマーＧＬＭ１１部（日油（株）製、グリセリンモノメタクリレート）、テトラヒドロフラン２１０部（和光純薬工業（株）製）を入れ、２５℃で１時間撹拌した。次に、トリレンジイソシアネート１８部（東京化成工業（株）製）を添加し、更にネオスタンＵ−６００  ０．０９部（ビスマス触媒、日東化成（株）製）を添加し、４０℃で５時間撹拌した。メタノール１．７部（和光純薬工業（株）製）を添加し、５０℃で１時間撹拌した。１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン０．１８部（ＤＢＵ、東京化成工業（株）製）、α−チオグリセロール３．８部（東京化成工業（株）製）を添加し、５０℃で５時間反応させた。２５℃まで冷却し、ポリマー反応液を得た。別途、ビーカーに蒸留水３，０００部を入れ、２５℃で撹拌し、ポリマー反応液を滴下した。滴下後、１時間撹拌した後、静置し、上澄みをデカントした。更に、蒸留水３，０００部を入れ、２５℃で１時間撹拌した後、静置した。沈殿物を取り出し、乾燥し、水酸基含有ポリウレタンＡ−８を得た。
【００７４】
上記合成例１〜３により得られたポリウレタンＡ−１〜Ａ−１２について、重量平均分子量、水酸基価、架橋性基価、アミン価の測定を行い、結果を表２に記載した。
重量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定し、ポリスチレン標準試料から作成した検量線を用いて算出した。
水酸基価は、ＪＩＳ  Ｋ  １５５７−１に記載の方法により、成分Ａ、１ｇ当たりの水酸基モル数に換算して測定した。
架橋性基価は、試料をテトラヒドロフランに溶解し、水酸化ナトリウム水溶液を添加、加水分解した後、生成したメタクリル酸をＨＰＬＣにより定量することにより算出した。
アミン価は、試料を容器に秤量し、溶媒として酢酸を加えて溶解させ、滴定試薬として０．１Ｎ過塩素酸酢酸溶液を用いて、滴定装置で滴定し、滴定した際に消費される過塩素酸のモル数を、試料（固形分）１ｇ当たりに換算することにより算出した。
【００７５】
【表２】
2016220733.tif 000003
【００７６】
＜比較合成例１＞
表３に記載の原料及び仕込み比率（モル比）とした以外は合成例１と同様に合成し、ａ−１〜ａ−３を得た。
【００７７】
＜比較合成例２＞
３口フラスコに、ポリテトラメチレンオキシド７３部（和光純薬工業（株）製、平均分子量６５０）、テトラヒドロフラン２１０部（和光純薬工業（株）製）を入れ、２５℃で１時間撹拌した。次に、イソホロンジイソシアネート１７部（和光純薬工業（株）製）を添加し、更にネオスタンＵ−６００、０．３部（ビスマス触媒、日東化成（株）製）を添加し、ＧＰＣで分子量を追跡しながら６５℃で撹拌し、反応が収束した８時間で撹拌を停止し、２５℃まで冷却し、ポリマー反応液を得た。別途、ビーカーに蒸留水３，０００部を入れ、２５℃で撹拌し、ポリマー反応液を滴下した。１時間撹拌した後、静置し、上澄みをデカントした。更に、蒸留水３，０００部を入れ、２５℃で１時間撹拌した後、静置した。沈殿物を取り出し、乾燥し、水酸基含有ポリウレタンａ−４を得た。
【００７８】
【表３】
2016220733.tif 000004
【００７９】
表２及び表３の省略記載は以下の化合物を表す。ＴＤＩ（トリレンジイソシアネート、東京化成工業（株）製）、ＩＰＤＩ（イソホロンジイソシアネート、和光純薬工業（株）製）、ＰＴＭＧ２０００（ポリテトラメチレンオキシド、平均分子量１，９００〜２，１２０、和光純薬工業（株）製）、ＰＰＧ２０００（ポリプロピレングリコールジオール、平均分子量約２，０００、和光純薬工業（株）製）、Ｔ−５６５２（デュラネートＴ−５６５２、旭化成ケミカルズ製、ポリカーボネートジオール）、ＤＡＰ（１，３−ジアミノ−２−プロパノール、東京化成工業（株）製）、ＧＬＭ（ブレンマーＧＬＭ、日油（株）製、グリセリンモノメタクリレート）、ＤＭＡＰＯＨ（３−ジメチルアミノ−１，２−プロパンジオール、和光純薬工業（株）製）、ＨＥＭＡ（メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、和光純薬工業（株）製）、ＭｅＯＨ（メタノール、和光純薬工業（株）製）、ＴＧ（α−チオグリセロール、東京化成工業（株）製）、ＰＴＭＧ６５０（ポリテトラメチレンオキシド、平均分子量６５０、和光純薬工業（株）製）。
【００８０】
（実施例１〜１５、及び、比較例１〜４）
＜人工爪組成物の調製＞
下記表４に示す各種成分を均一に混合し、人工爪組成物Ｊ−１〜Ｊ−１５、Ｈ−１〜Ｈ−４を得た。なお、表中の略記は以下の化合物を表す。ＩＢＸＭＡ（メタクリル酸イソボルニル、和光純薬工業（株）製）、ＨＥＭＡ（メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、和光純薬工業（株）製）、ＨＰＭＡ（メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、和光純薬工業（株）製）、ＢＣ（ライトエステルＢＣ、共栄社化学（株）製）、Ｉｒｇ．１８４（イルガキュア１８４、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ＢＡＳＦ社製）、Ｉｒｇ．ＴＰＯ（イルガキュアＴＰＯ、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニルホスフィンオキサイド、ＢＡＳＦ社製）、ＥｔＯＡｃ（酢酸エチル、和光純薬工業（株）製）。
【００８１】
＜人工爪の形成＞
〔形成例１〕
実施例１〜９、実施例１１〜１５、比較例１〜２、比較例４は以下の方法で人工爪を形成した。すなわち、得られた人工爪組成物一定量を爪型プラスチック片に刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ−０３フレッシュピンク（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、更にトップ層として市販のカルジェル＃００（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約１，０００μｍであった。
【００８２】
〔形成例２〕
実施例１０、及び、比較例３は以下の方法で人工爪を形成した。すなわち、得られた人工爪組成物一定量を爪型プラスチック片に刷毛で塗布し、十分に乾燥した。その上に、カラー層として市販のカルジェル＃ＣＧ−０３フレッシュピンク（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、更にトップ層として市販のカルジェル＃００（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約１，０００μｍであった。
【００８３】
＜除去液の調製＞
クエン酸２．７部（東京化成工業（株）製）、クエン酸三ナトリウム０．３部（和光純薬工業（株）製）、及び、水道水２９７部を均一に混合し、除去液を調製した。上記除去液のｐＨは２．６であった。
【００８４】
＜人工爪の評価＞
〔密着性、耐久性〕
ポリ瓶に得られた人工爪、爪型プラスチック片２０個、水道水７５０ｍＬを入れ、５５℃で２４時間撹拌した。撹拌後、人工爪の様子を目視観察し、下記評価基準により評価した。
−評価基準−
５：剥離は確認できなかった
４：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の１／４未満であった
３：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の１／４以上、１／２未満であった
２：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の１／２以上、３／４未満であった
１：一部剥離し、剥離面積が人工爪全体の３／４以上、又は、完全に剥離していた
【００８５】
〔除去性〕
得られた人工爪の表面や端にファイル（爪用のヤスリ）で傷をつけ、本発明の人工爪組成物からなる層を露出させた。続いて、人工爪を除去液に浸漬し、露出させた層と除去液を接触させ、直ちに木製のヘラを用いて人工爪を剥離し、下記評価基準により評価した。
５：剥離できた
１：剥離できなかった
密着性、耐久性、除去性を評価した結果を表４に示す。
なお、除去性については実施例９及び比較例２においてのみ評価を行い、その他の実施例及び比較例の除去性の評価結果の欄には「−」を記載した。
【００８６】
【表４】
2016220733.tif 000005
【００８７】
表４の結果から、本発明の人工爪組成物より得られた人工爪は、高い密着性、及び、耐久性を有しており、実施例９で用いたＪ−９は酸性水溶液を用いて除去可能であることがわかる。
【００８８】
（実施例１６）
＜人工爪の形成＞
〔形成例３〕
一定量の人工爪組成物Ｊ−６地爪に刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、カラー層代替として一定量のＪ−６を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に、更にトップ層として一定量のＪ−６を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約１，０００μｍであった。
【００８９】
＜評価＞
〔長期間の密着性、耐久性〕
人工爪を形成してから二週間生活した後、人工爪の様子を目視観察した。結果、剥離は確認されなかった。
【００９０】
（実施例１７）
＜人工爪の形成＞
〔形成例４〕
一定量の人工爪組成物Ｊ−８を地爪に刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その上に市販のカルジェル＃００（（株）モガ・ブルック製）一定量を刷毛で塗布し、紫外線ランプ（３６Ｗ）を２分間照射した。その後、エタノールで表面を拭いた。この時の人工爪全体の膜厚は約５００μｍであった。
【００９１】
＜評価＞
〔長期間の密着性、耐久性〕
人工爪を形成してから二週間生活した後、人工爪の様子を目視観察した。結果、剥離は確認されなかった。