(57)【要約】【課題】真空複層ガラスを「流れ方式」で製造する。【解決手段】第１および第２のガラス基板の間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台に置載するステップであって、前記接合層は、第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持されるステップと、前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送するステップと、前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が第１および第２のガラス基板と接触することによって、第１および第２のガラス基板の間に密閉空間が形成されるステップと、前記搬送台により、前記組立体を前記真空チャンバから排出させるステップと、を有する真空複層ガラスの製造方法。【選択図】図２
2016210626.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、減圧された密閉空間を備える真空複層ガラスの製造方法であって、
（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台上に置載するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持されるステップと、
（ｂ）前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送するステップと、
（ｃ）前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触することによって、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、
（ｄ）前記搬送台により、前記組立体を、前記真空チャンバから排出させるステップと、
を有することを特徴とする真空複層ガラスの製造方法。
【請求項２】
前記組立体において、前記第２のガラス基板は、前記第１のガラス基板の上方に配置され、
前記支持部材は、第２のガラス基板を支持する支持部と該支持部が設置された基部とを有し、
前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記基部を押圧して、前記支持部が前記第２のガラス基板から遠ざかるようにスライドすることにより前記第２のガラス基板が落下し、前記開放空間の維持が解除される請求項１に記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項３】
前記支持部材は、上部に斜面が形成され、前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記斜面を押圧する請求項２に記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項４】
前記組立体において、前記第２のガラス基板は、前記第１のガラス基板の上方に配置され、
前記支持部材は、第２のガラス基板を支持する支持部と該支持部を回転可能とする基部とを有し、
前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記支持部に当接して、前記支持部が回転することにより前記第２のガラス基板が落下し、前記開放空間の維持が解除される請求項１に記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項５】
前記支持解除部材は、前記真空チャンバの上部に取り付けられる請求項１乃至４のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項６】
前記真空チャンバ内の圧力は、１×１０−５Ｐａ〜１０Ｐａの範囲である請求項１乃至５のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項７】
前記真空チャンバ内の温度は、１５０℃以上であり、前記第１および第２のガラス基板のうち、低い方の軟化点未満の温度である請求項１乃至６のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項８】
前記接合層は、ガラス固化層を有することを特徴とする請求項１乃至７のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【請求項９】
前記（ａ）のステップにおいて、前記組立体は、前記第１および第２のガラス基板の間に、さらに、額縁状の第２の接合層および額縁状の金属部材を有し、前記接合層は、前記第１のガラス基板に配置され、前記第２の接合層は、前記第２のガラス基板に配置され、前記金属部材は、前記接合層と第２の接合層の間に配置され、
前記（ｃ）のステップにおいて、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間には、前記接合層、前記金属部材、および前記第２の接合層によって取り囲まれた前記密閉空間が形成される請求項１乃至８のいずれか一つに記載の真空複層ガラスの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、真空複層ガラスの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
一対のガラス基板の間に、低圧または真空状態に保持された密閉空間を有する、いわゆる「真空複層ガラス」は、優れた断熱効果を有するため、例えばビルおよび住宅等の建築物用の窓ガラス用途に広く利用されている。
【０００３】
真空複層ガラスは、以下のように製造される。まず、第１のガラス基板と、第２のガラス基板とを準備する。一方のガラス基板の表面には、周囲に沿って、接合層が形成されている。次に、第１および第２のガラス基板を、両者が接合層を介して対向するように積層して、組立体を構成する。次に、この組立体を加熱して、接合層を溶融、軟化させ、両ガラス基板を接合する。これにより、両ガラス基板の間には、密閉空間が形成される。次に、第１のガラス基板に予め設けられていた開口を利用して、密閉空間内が減圧処理される。その後、減圧処理に利用された開口が封止され、真空複層ガラスが製造される（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２１６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
前述のように、従来の真空複層ガラスの製造方法では、ガラス基板に設けられた開口を利用して、組立体の密閉空間内を減圧処理する工程、および開口を封止処理する工程が含まれる。
【０００６】
しかしながら、このような製造方法は、いわゆる「バッチ式」では実施できるものの、「流れ方式」で実施することは難しい。すなわち、従来の製造方法では、生産ライン等において、流れ作業的に真空複層ガラスを連続的に製造することには適していない。このため、生産効率の観点から、真空複層ガラスを「流れ方式」で製造することに関して、大きな要望がある。
【０００７】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、真空複層ガラスを「流れ方式」で製造することが可能な、真空複層ガラスの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明では、相互に対向する第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、減圧された密閉空間を備える真空複層ガラスの製造方法であって、
（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台上に置載するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持されるステップと、
（ｂ）前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送するステップと、
（ｃ）前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触することによって、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成されるステップと、
（ｄ）前記搬送台により、前記組立体を、前記真空チャンバから排出させるステップと、
を有することを特徴とする真空複層ガラスの製造方法が提供される。
【０００９】
ここで、本発明による製造方法において、前記組立体において、前記第２のガラス基板は、前記第１のガラス基板の上方に配置され、
前記支持部材は、第２のガラス基板を支持する支持部と該支持部が設置された基部とを有し、
前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記基部を押圧して、前記支持部が前記第２のガラス基板から遠ざかるようにスライドすることにより前記第２のガラス基板が落下し、前記開放空間の維持が解除されても良い。
【００１０】
また、本発明による製造方法において、前記支持部材は、上部に斜面が形成され、前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記斜面を押圧しても良い。
【００１１】
また、本発明による製造方法において、前記組立体において、前記第２のガラス基板は、前記第１のガラス基板の上方に配置され、
前記支持部材は、第２のガラス基板を支持する支持部と該支持部を回転可能とする基部とを有し、
前記（ｃ）のステップでは、前記支持解除部材が前記支持部に当接して、前記支持部が回転することにより前記第２のガラス基板が落下し、前記開放空間の維持が解除されても良い。
【００１２】
また、本発明による製造方法において、前記支持解除部材は、前記真空チャンバの上部に取り付けられても良い。
【００１３】
また、本発明による製造方法において、前記真空チャンバ内の圧力は、１×１０−５Ｐａ〜１０Ｐａの範囲であっても良い。
【００１４】
また、本発明による製造方法において、前記真空チャンバ内の温度は、１５０℃以上であり、前記第１および第２のガラス基板のうち、低い方の軟化点未満の温度であっても良い。
【００１５】
また、本発明による製造方法において、前記接合層は、ガラス固化層を有しても良い。
【００１６】
また、本発明による製造方法において、前記（ａ）のステップにおいて、前記組立体は、前記第１および第２のガラス基板の間に、さらに、額縁状の第２の接合層および額縁状の金属部材を有し、前記接合層は、前記第１のガラス基板に配置され、前記第２の接合層は、前記第２のガラス基板に配置され、前記金属部材は、前記接合層と第２の接合層の間に配置され、
前記（ｃ）のステップにおいて、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間には、前記接合層、前記金属部材、および前記第２の接合層によって取り囲まれた前記密閉空間が形成されても良い。
【発明の効果】
【００１７】
本発明では、真空複層ガラスを「流れ方式」で製造することが可能な、真空複層ガラスの製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】真空複層ガラスの構成の一例を模式的に示した断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による真空複層ガラスの製造方法を概略的に示したフロー図である。
【図３】組立体に使用される第１のガラス基板および第２のガラス基板を模式的に示した図である。
【図４】組立体の断面を模式的に示した図である。
【図５】図４に示した組立体の概略的な上面図である。
【図６】支持部材の別の配置形態例を模式的に示した組立体の上面図である。
【図７】真空チャンバ内に設けられた支持解除部材によって、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示した断面図である。
【図８】別のシール部材を有する真空複層ガラスの概略的な部分断面図である。
【図９】図４の例とは異なる支持部材を有する別の組立体の断面を模式的に示した図である。
【図１０】図９に示した組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示した図である。
【図１１】図４および図９の例とは異なる支持部材を有する、さらに別の組立体の断面を模式的に示した図である。
【図１２】図１１に示した組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、図面を参照して、本発明について説明する。
【００２０】
（真空複層ガラスの構成について）
まず、図１を参照して、真空複層ガラスの構成の一例について、簡単に説明する。
【００２１】
図１には、真空複層ガラスの構成の一例を概略的に示す。
【００２２】
図１に示すように、真空複層ガラス１００は、第１のガラス基板１１０と、第２のガラス基板１２０と、両ガラス基板１１０、１２０の間に構成された密閉空間１３０と、該密閉空間１３０を取り囲むシール部材１５０とを有する。
【００２３】
第１のガラス基板１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有する。真空複層ガラス１００において、第１のガラス基板１１０は、第２の表面１１４の側が外側となるようにして配置される。同様に、第２のガラス基板１２０は、第３の表面１２２および第４の表面１２４を有する。真空複層ガラス１００において、第２のガラス基板１２０は、第４の表面１２４の側が外側となるようにして配置される。従って、密閉空間１３０は、第１のガラス基板１１０の第１の表面１１２と、第２のガラス基板１２０の第３の表面１２２との間に形成される。
【００２４】
密閉空間１３０内は、真空状態に維持される。ここで、密閉空間１３０の真空度は、特に限られず、大気圧よりも低いいかなる圧力であっても良い。一般に、密閉空間１３０の圧力は、０．２Ｐａ〜０．００１Ｐａ程度である。
【００２５】
必要な場合、真空複層ガラス１００は、密閉空間１３０内に、１または２以上のピラー（図示されていない）を有しても良い。
【００２６】
シール部材１５０は、密閉空間１３０を密閉保持するための部材であり、シール部材１５０は、密閉空間１３０の周囲全体にわたって構成される。
【００２７】
シール部材１５０の構成としては、従来より各種構造のものが提案されている。例えば、図１の例では、シール部材１５０は、単一の接合層１５５で構成されている。この接合層１５５は、真空複層ガラス１００を厚さ方向（Ｚ方向）から見たとき、第１または第２のガラス基板１１０、１２０の周囲にわたって、「額縁状」に設置されている。
【００２８】
なお、本願において、「額縁状」という用語は、平面視において、平板形状の内部が取り除かれ、外側輪郭および内側輪郭を有する「枠」で構成された形状の総称を意味する。すなわち、真空複層ガラス１００の周囲に沿って形成されることを意味している。ただし、「額縁状」の部材の外側輪郭および／または内側輪郭は、必ずしも額のような略直方体の形状に限られず、例えば、四角形、略四角形、台形、略台形などの多角形、円形、略円形、楕円形または略楕円形の形状であっても良い。また、「額縁状」の部材の外側輪郭と内側輪郭は、必ずしも相似形である必要はなく、両者は、例えば、異なる形状であっても良い。
【００２９】
接合層１５５は、熱処理によって、第１および第２のガラス基板１１０、１２０を相互に接合することができるものであれば、その材質および構成は、特に限られない。例えば、接合層１５５は、ガラス固化層（軟化点３５０〜６００℃）であっても良い。
【００３０】
ガラス固化層は、ガラスフリットを含むペーストを焼成することにより形成される。ガラス固化層は、ガラス成分を含むが、さらにセラミック粒子を含んでも良い。
【００３１】
ガラス固化層に含まれるガラス成分の組成は、特に限られない。ガラス固化層に含まれるガラス成分は、例えば、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系またはＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラスであっても良い。
【００３２】
表１には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ−Ｂｉ２Ｏ３−Ｂ２Ｏ３系のガラスの組成の一例を示す。また、表２には、ガラス固化層に含まれるガラス成分に使用され得る、ＺｎＯ−ＳｎＯ−Ｐ２Ｏ５系のガラスの組成の一例を示す。
【００３３】
【表１】
2016210626.tif 000003
【００３４】
【表２】
2016210626.tif 000004
あるいは、接合層１５５は、ろう材またははんだ材料を含んでも良い。
【００３５】
さらに、図１の例では、接合層１５５の断面は、コーナー部が丸みを帯びた略矩形状の形状で示されている。しかしながら、これは、単なる一例に過ぎず、接合層１５５の断面は、例えば、略楕円形、略台形など、その他の形状を有しても良い。
【００３６】
（本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法について）
以下、図２を参照して、本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法について、詳しく説明する。
【００３７】
図２には、本発明の一実施例による真空複層ガラスの製造方法（第１の製造方法）のフローを概略的に示す。
【００３８】
図２に示すように、第１の製造方法は、
（ａ）第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、接合層および開放空間を有する組立体を、搬送台上に置載するステップであって、前記接合層は、前記第１および／または第２のガラス基板に額縁状に配置され、前記開放空間は、支持部材によって維持される、開放空間形成ステップ（ステップＳ１１０）と、
（ｂ）前記搬送台により、前記組立体を、支持解除部材が設置された真空環境下の真空チャンバ内に搬送する、真空チャンバ搬送ステップ（ステップＳ１２０）と、
（ｃ）前記真空チャンバ内で、前記組立体が加熱され、前記支持解除部材を用いて、前記支持部材による前記開放空間の維持が解除され、前記接合層が前記第１および第２のガラス基板と接触することによって、前記第１のガラス基板と第２のガラス基板との間に、前記接合層によって取り囲まれた密閉空間が形成される、密閉空間形成ステップ（ステップＳ１３０）と、
（ｄ）前記搬送台により、前記組立体を、前記真空チャンバから排出させる、真空チャンバ排出ステップ（ステップＳ１４０）と、
を有する。
【００３９】
以下、各工程について、詳しく説明する。
【００４０】
（ステップＳ１１０）
まず、第１のガラス基板および第２のガラス基板が準備される。両ガラス基板の材質および寸法は、特に限られない。例えば、両ガラス基板は、ソーダライムガラスおよび／または無アルカリガラス等であっても良い。なお、両ガラス基板の材質および寸法は、必ずしも同一である必要はない。
【００４１】
（接合層の形成）
次に、第１のガラス基板の一方の表面、および／または第２のガラス基板の一方の表面に、周囲にわたって、額縁状に接合層が形成される。以下の例では、第１のガラス基板の一方の表面（第１の表面）にのみ、接合層が形成されるものと仮定する。
【００４２】
図３には、第１および第２の表面３１２、３１４を有する第１のガラス基板３１０と、第３および第４の表面３２２、３２４を有する第２のガラス基板３２０とを示す。第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２には、接合層３５６が額縁上に形成されている。
【００４３】
前述のように、接合層３５６の材質は、特に限られないが、ここでは、接合層３５６がガラス固化層で形成される場合を例に、第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２に接合層３５６を形成する方法について説明する。
【００４４】
第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２の周囲に、ガラス固化層３５６を形成する場合、まず、ガラス固化層用のペーストが調製される。通常、ペーストは、ガラスフリット、セラミック粒子、ポリマー、および有機バインダ等を含む。ただし、セラミック粒子は、省略しても良い。ガラスフリットは、最終的に、ガラス固化層３５６を構成するガラス成分となる。
【００４５】
調製されたペーストは、第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２の周囲に塗布される。
【００４６】
次に、ペーストを含む第１のガラス基板３１０が乾燥処理される。乾燥処理の条件は、ペースト中の有機バインダが除去される条件である限り、特に限られない。乾燥処理は、例えば、第１のガラス基板３１０を、１００℃〜２００℃の温度に、３０分〜１時間程度保持することにより実施されても良い。
【００４７】
次に、ペーストを仮焼成するため、第１のガラス基板３１０が高温で熱処理される。熱処理の条件は、ペースト中に含まれるポリマーが除去される条件である限り、特に限られない。熱処理は、例えば３００℃〜４７０℃の温度範囲に、第１のガラス基板３１０を３０分〜１時間程度保持することにより実施しても良い。これにより、ペーストが焼成され、ガラス固化層が形成される。
【００４８】
（組立体の形成）
次に、第１のガラス基板３１０および第２のガラス基板３２０の間に開放空間を有する組立体が構成される。
【００４９】
図４および図５には、組立体３７０の一構成例を概略的に示す。図４は、組立体３７０の概略的な断面図を示しており、図５は、組立体３７０の概略的な上面図を示している。なお、図５において、第２のガラス基板３２０は、明確化のため省略されている。
【００５０】
図４および図５に示すように、組立体３７０は、第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２と、第２のガラス基板３２０の第３の表面３２２とが相互に対向するようにして、両ガラス基板３１０、３２０を相互に積層することにより構成される。
【００５１】
ただし、両ガラス基板３１０、３２０の間には、支持部材３７２が配置されており、このため、両ガラス基板３１０、３２０の間には、開放空間３２９が形成される。
【００５２】
より具体的には、支持部材３７２の存在により、接合層３５６の少なくとも一部は、第２のガラス基板３２０の第３の表面３２２と非接触な状態となり、これにより、組立体３７０を上面（図のＺ方向）から見たとき、接合層３５６で取り囲まれた領域と、その外側の領域の間で、気体連通が可能となる。
【００５３】
また、真空複層ガラス１００として、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０との間隔を保持するピラーを配置する場合、このステップで第２のガラス基板３２０が積層される前に第１のガラス基板３１０の第１の表面３１２に複数のピラーを配置すると良い。
【００５４】
支持部材３７２は、基部３７４と、支持部３７６とを有し、基部３７４の上部には斜面３７８が形成される。支持部３７６は、基部３７４の側部に、略水平な方向に延在するように形成される。また、斜面３７８は、基部３７４の上部に、支持部３７６の方に向かって傾斜するように（高さが減少するように）形成される。
【００５５】
支持部材３７２は、支持部３７６の上面を第２のガラス基板３２０の第３の表面３２２と接触させることにより、第２のガラス基板３２０を、第１のガラス基板３１０から「浮かした」状態で支持することができる。
【００５６】
支持部材３７２を含むこのような組立体３７０は、搬送台３８０の上に置載される。
【００５７】
搬送台３８０は、図５に示すように、ＸＹ平面（組立体３７０の設置面）に対して略水平な方向（矢印Ｆ１の方向）に移動することができる。このため、搬送台３８０上の組立体３７０も、矢印Ｆ１の方向に移動することができる。搬送台３８０は、例えば、真空チャンバの内部、さらには真空チャンバの出口、およびその外側まで延在しても良い。
【００５８】
なお、図４および図５の例では、組立体３７０は、単一の支持部材３７２を有し、この支持部材３７２の基部３７４は、第１のガラス基板３１０の外側であって、第１のガラス基板３１０の一つの辺３１６ａ（図５参照）の近傍に配置されている。また、支持部材３７２の基部３７４は、辺３１６ａの中央近傍に配置されている。
【００５９】
しかしながら、これは単なる一例に過ぎない。すなわち、第１および第２のガラス基板３１０、３２０の間に開放空間３２９が形成される限り、支持部材３７２の数および配置場所は、特に限られない。例えば、支持部材３７２は、複数存在しても良い。
【００６０】
図６には、支持部材３７２の別の配置形態の例を示す。この図は、組立体の概略的な上面図を示したものである。なお、図５の場合と同様、図６においても、第２のガラス基板３２０は、明確化のため省略されている。
【００６１】
図６の例では、組立体３７０ａは、２つの支持部材３７２−１、３７２−２を有する。これらの支持部材３７２−１、３７２−２の基部は、第１のガラス基板３１０の外側であって、第１のガラス基板３１０の一つの辺３１６ａの両端近傍（隣接する２つのコーナー部の近傍）に配置されている。
【００６２】
さらに、支持部材３７２の基部３７４の形状は、特に限られない。例えば、支持部材３７２の基部３７４は、図５〜図６に示すような、高さ方向（Ｚ方向）に延伸軸を有し、断面が四角形の他、円形でも良い。また、支持部材３７２の支持部３７６は、基部３７４に接合層３５６よりも高さ方向で高い位置に設置され、少なくとも最近接の接合層３５６部分が第２のガラス基板３２０に接触しない高さに設置されていれば良い。
【００６３】
この他にも、支持部材３７２の数、形状、および配置形態として、様々な態様が考えられる。
【００６４】
なお、図４に示したような組立体３７０の構成では、上側の第２のガラス基板３２０の状態が不安定であり、ハンドリング中に位置がずれる可能性がある。そのような場合には、第２のガラス基板３２０の周囲に、第２のガラス基板３２０の動きを拘束するような停止部材を設けても良い。あるいは、第２のガラス基板３２０を第１のガラス基板３１０と仮留めしても良い。そのような停止部材および仮留め方法は、従来から広く知られており、ここではこれ以上説明しない。
【００６５】
（ステップＳ１２０）
次に、搬送台３８０により、前述の工程で構成された組立体３７０が搬送され、組立体３７０は、真空チャンバ内に挿入される。組立体３７０の搬送速度は、特に限られない。なお、組立体３７０は、真空チャンバ内に挿入する前に、予熱しておいても良い。
【００６６】
真空チャンバ内は、減圧環境に維持されている。また、真空チャンバ内の圧力は、例えば、１×１０−５Ｐａ〜１０Ｐａの範囲であっても良い。好ましくは、真空チャンバ内の圧力は、０．１Ｐａ以下である。
【００６７】
（ステップＳ１３０）
組立体３７０は、真空チャンバ内で加熱され、減圧処理される。例えば、真空チャンバ内が高温に維持されていて組立体３７０全体が加熱されてもよく、真空チャンバ内を組立体３７０が搬送されながら加熱されていってもよい。また、組立体３７０全体が加熱されてもよいし、局所的に加熱されてもよく、加熱温度は、１５０℃以上であって良い。また、加熱温度は、第１のガラス基板３１０の軟化点と、第２のガラス基板３２０の軟化点のうち、低い方の軟化点よりも低い温度であっても良い。
【００６８】
次に、真空チャンバ内に設けられた支持解除部材を用いて、支持部材３７２による開放空間３２９の維持が解除される。すなわち、支持解除部材により、支持部材３７２は、支持機能が失われた状態となる。その結果、第１のガラス基板３１０上に、第２のガラス基板３２０が落下する。これにより、接合層３５６は、全周にわたって第２のガラス基板３２０と接触するようになる。その結果、組立体３７０の開放空間３２９は、接合層３５６によって周囲を覆われた密閉空間となる。
【００６９】
図７には、真空チャンバ内に設けられた支持解除部材によって、支持部材３７２による支持機能が失われる際の様子を示す。
【００７０】
図７に示すように、この例では、支持解除部材は、真空チャンバの上部に設けられたロッド部材３８９である。ロッド部材３８９は、支持部材３７２の方に向かって延伸することができる。
【００７１】
支持部材３７２による第２のガラス基板３２０の支持を解除する場合、真空チャンバの上部から、このロッド部材３８９が下降する。これにより、ロッド部材３８９の先端は、支持部材３７２の斜面３７８と当接する。
【００７２】
ロッド部材３８９の先端により、支持部材３７２の斜面３７８が押し圧を受けると、支持部材３７２には、水平方向（図の矢印Ｆ２の方向）に移動する力が生じる。従って、支持部材３７２は、第２のガラス基板３２０から遠ざかる方向に移動する。
【００７３】
ここで、支持部材３７２が一定距離以上移動すると、支持部材３７２の支持部３７６は、もはや第２のガラス基板３２０を支持することができなくなる。そのため、支持部材３７２による第２のガラス基板３２０の支持が解除される。これにより、第１のガラス基板３１０上に、第２のガラス基板３２０が落下する。
【００７４】
その結果、図７に示すように、組立体３７０の開放空間３２９が失われ、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０の間に、密閉空間３３０が形成される。
【００７５】
一方、組立体３７０中の接合層３５６は、真空チャンバ内での加熱により、溶融、軟化した状態にある。このため、第１のガラス基板３１０の接合層３５６が、全周にわたって第２のガラス基板３２０と接触した際には、接合層３５６によって、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０とが接合され、接合体３９０が構成される。
【００７６】
ここで、真空チャンバ内は、減圧環境になっており、このため、第２のガラス基板３２０が落下する直前には、開放空間３２９は、既に減圧状態となっている。従って、第２のガラス基板３２０が落下した後に、両ガラス基板３１０、３２０の間に形成される密閉空間３３０は、減圧状態となる。
【００７７】
なお、支持解除部材の働きにより、支持部材３７２による支持が解除された後（すなわち第２のガラス基板３２０が第１のガラス基板３１０上に落下した後）には、接合体３９０に、必要に応じて、第２のガラス基板３２０の側から、押し圧を加えても良い。これにより、接合体３９０の周囲にわたって、接合層３５６が均一に分布するようになり、第１のガラス基板３１０と第２のガラス基板３２０の間に、より良好な接合を得ることができる。
【００７８】
（ステップＳ１４０）
次に、搬送台３８０により、接合体３９０、すなわち真空複層ガラスが、真空チャンバから排出される。これにより、接合体３９０が降温される。なお、接合体３９０の降温は、真空チャンバ内で実施しても良い。
【００７９】
以上のような工程を経て、例えば図１に示したような真空複層ガラス１００を製造することができる。
【００８０】
このような第１の製造方法では、複数の真空複層ガラス１００を、「流れ方式」で連続的に製造することができる。このため、真空複層ガラス１００の生産性が向上する。
【００８１】
また、このような第１の製造方法では、複雑な駆動系を使用せずに、ロッド部材３８９のような、真空チャンバ側に設置された簡単な支持解除部材を用いて、支持部材３７２による第２のガラス基板３２０の支持を解除することができる。このため、製造設備の構成を簡略化することができる。
【００８２】
また、第１の製造方法では、油分等の、飛散の原因となる成分が必要な支持部材は、使用されない。このため、真空チャンバ内を汚染することなく、清浄な真空環境下で、接合体３９０を形成することができる。
【００８３】
（シール部材の別の構成について）
以上の記載では、真空複層ガラスのシール部材として、図１に示したような額縁状の接合層１５５を想定し、本発明の一実施例による製造方法について説明した。
【００８４】
しかしながら、シール部材の構成は、これに限られるものではない。例えば、シール構造は、金属部材と、第１および第２の接合層とで構成されても良い。以下、図８を参照して、そのようなシール構造について、簡単に説明する。
【００８５】
図８には、真空複層ガラスに適用され得る、別のシール部材の概略的な部分断面図を示す。
【００８６】
図８に示すように、この真空複層ガラス６００は、第１のガラス基板６１０と、第２のガラス基板６２０と、両ガラス基板６１０、６２０の間に構成された密閉空間６３０と、該密閉空間６３０を取り囲むシール部材６５０とを有する。
【００８７】
シール部材６５０は、第１の接合層６６５、金属部材６５８、および第２の接合層６６７を、この順に積層することにより構成される。
【００８８】
第１の接合層６６５は、第１のガラス基板６１０の第１の表面６１２側に、第１のガラス基板６１０の周囲にわたって、額縁状に設置されている。同様に、第２の接合層６６７は、第２のガラス基板６２０の第３の表面６２２側に、第２のガラス基板６２０の周囲にわたって、額縁状に設置されている。
【００８９】
また、金属部材６５８は、第１の表面６６１および第２の表面６６２を有し、額縁状の形状を有する。金属部材６５８の第１の表面６６１は、少なくとも一部が第１の接合層６６５と結合されており、金属部材６５８の第２の表面６６２は、少なくとも一部が第２の接合層６６７と結合されている。
【００９０】
ここで、図８からは明確ではないが、金属部材６５８の第１の表面６６１は、第１の接合層６６５と結合された結合部分以外の箇所では、他の部材とは結合されておらず、金属部材６５８の第２の表面６６２は、第２の接合層６６７と結合された結合部分以外の箇所では、他の部材とは結合されていない。
【００９１】
なお、図８の例では、金属部材６５８は、断面で見たとき、直線的に折れ曲がった輪郭の「段差」形状を有する。しかしながら、金属部材６５８の形状は、特に限られない。例えば、金属部材５５８は、断面で見たとき、曲線的に湾曲した形状、または直線と曲線の組み合わせで構成された輪郭を有しても良い。あるいは、金属部材６５８は、断面で見たとき、略平坦な形状を有しても良い。
【００９２】
また、図８の例では、真空複層ガラス６００を上部（厚さ方向：図８のＺ方向）から見たとき、第１の接合層６６５は、第２の接合層６６７とは設置位置がずれている。しかしながら、これは必ずしも必要ではなく、図８のＺ方向から見たとき、第１の接合層６６５は、一部または全部が第２の接合層６６７と重なっていても良い。
【００９３】
真空複層ガラスのシール部材６５０は、このような構成を有しても良い。
【００９４】
このようなシール部材６５０を有する真空複層ガラス６００も、基本的に、前述の図１に示した真空複層ガラス１００の製造用の、図２に示した各ステップを実施することにより、同様に製造することができる。
【００９５】
例えば、前述のステップＳ１１０において、まず、第１の表面６１２上に第１の接合層６６５が配置された第１のガラス基板６１０と、第３の表面６２２上に第２の接合層６６７が配置された第２のガラス基板６２０と、を準備する。また、第１のガラス基板６１０の第１の接合層６５６上に、額縁状の金属部材６５８を配置する。
【００９６】
次に、両ガラス基板６１０、６２０の間に開放空間が形成されるように支持部材を配置して、組立体を構成する。その後は、前述のステップＳ１２０〜ステップＳ１４０を実施することにより、図８に示したようなシール部材６５０を有する真空複層ガラス６００を製造することができる。
【００９７】
なお、以上の記載では、支持解除部材の一例として、上下方向に伸縮可能なロッド部材３８９を挙げ、このロッド部材３８９の上からの押し圧により、支持部材３７２の第２のガラス基板３２０の支持を解除する方法について説明した。
【００９８】
しかしながら、支持部材３７２の第２のガラス基板３２０の支持を解除する方法は、これに限られるものではない。例えば、上下方向に伸縮可能なロッド部材３８９の代わりに、両ガラス基板６１０、６２０に沿った横（水平）方向に伸縮可能なロッド部材を用いることにより、支持部材の第２のガラス基板３２０の支持を解除しても良い。この場合、支持部材は、基部の側面に、ロッド部材と当接する斜面を有するように構成される。
【００９９】
あるいは、支持部材と支持解除部材の組み合わせとして、別の構成を使用しても良い。
【０１００】
図９および図１０には、支持部材と支持解除部材の別の組み合わせの一例を模式的に示す。
【０１０１】
図９には、図４の例とは異なる支持部材を有する別の組立体の断面を模式的に示す。また、図１０には、この別の組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示す。
【０１０２】
図９に示すように、この組立体４７０は、第１のガラス基板４１０と、第２のガラス基板４２０と、支持部材４７２とを備える。
【０１０３】
第１のガラス基板４１０は、第１の表面４１２および第２の表面４１４を有し、第２のガラス基板４２０は、第３の表面４２２および第４の表面４２４を有する。第１のガラス基板４１０の第１の表面４１２には、接合層４５６が形成されている。
【０１０４】
支持部材４７２は、基部４７４と、該基部４７４の側面から水平方向に延伸する支持部４７６とを有する。支持部４７６は、上部から所定の負荷を受けた際に、自身がＸＺ平面内で回転可能な回転軸４７７を有する。回転軸４７７は、図９の紙面と垂直な方向（Ｙ方向）に延伸している。
【０１０５】
支持部材４７２は、両ガラス基板４１０および４２０の間に、開放空間４２９が形成されるように配置される。より具体的には、支持部材４７２は、支持部４７６によって、第２のガラス基板４２０を第３の表面４２２で支持しており、これにより、第２のガラス基板４２０を、第１のガラス基板４１０から「浮かした」状態にすることができる。
【０１０６】
なお、支持部材４７２の回転軸４７７は、第２のガラス基板４２０の重量程度では、支持部４７６が回転しないように設定される。
【０１０７】
このような組立体４７０において、支持部材４７２による第２のガラス基板４２０の支持を解除する際には、組立体４７０を搬送台４８０上に置載して、組立体４７０を真空チャンバ内に搬送する。
【０１０８】
図１０に示すように、真空チャンバの上部には、支持解除部材として、ロッド部材４８９が設けられている。このロッド部材４８９は、支持部材４７２の支持部４７６の方に向かって延伸することができる。
【０１０９】
支持部材４７２による第２のガラス基板４２０の支持を解除する場合、真空チャンバの上部から、このロッド部材４８９が下降する。これにより、ロッド部材４８９の先端は、支持部材４７２の支持部４７６と接触する。
【０１１０】
ロッド部材４８９の先端により、支持部材４７２の支持部４７６が押し圧を受けると、回転軸４７７を中心として、支持部４７６が下方に回転する（矢印Ｆ３参照）。
【０１１１】
ここで、支持部４７６がある角度以上回転すると、支持部４７６は、もはや第２のガラス基板４２０を支持することができなくなる。そのため、支持部材４７２による第２のガラス基板４２０の支持が解除される。これにより、第１のガラス基板４１０上に、第２のガラス基板４２０が落下する。なお、図面上は第２のガラス基板４２０が大きく傾いて支持されているが、これは説明のために誇張して記載しており、実際には第２のガラス基板４２０は、第１のガラス基板４１０と重ね合わせる際に位置ズレや破損が発生しない程度の高さから落下される。
【０１１２】
その結果、図１０に示すように、組立体４７０の開放空間４２９が失われ、第１のガラス基板４１０と第２のガラス基板４２０の間に、密閉空間４３０を形成することができる。
【０１１３】
図１１および図１２には、支持部材と支持解除部材のさらに別の組み合わせの一例を模式的に示す。
【０１１４】
図１１には、図４および図９の例とは異なる支持部材を有する、さらに別の組立体の断面を模式的に示す。また、図１２には、この組立体において、支持部材による支持機能が失われる際の様子を模式的に示す。なお、図１２は、組立体の模式的な上面図であるが、明確化のため、一部の部材は省略されている。
【０１１５】
図１１に示すように、この組立体５７０は、第１のガラス基板５１０と、第２のガラス基板５２０と、支持部材５７２とを備える。
【０１１６】
第１のガラス基板５１０は、第１の表面５１２および第２の表面５１４を有し、第２のガラス基板５２０は、第３の表面５２２および第４の表面５２４を有する。第１のガラス基板５１０の第１の表面５１２には、接合層５５６が形成されている。
【０１１７】
支持部材５７２は、基部５７４と、該基部４７４の側面から水平方向に延伸する支持部５７６とを有する。支持部５７６は、水平方向から所定の負荷を受けた際に、自身がＸＹ平面（組立体５７０の搬送方向と平行な平面）内で回転可能な回転軸５７７を有する。回転軸５７７は、図１１のＺ方向に延伸しており、従って、基部５７４の延伸方向と一致している。
【０１１８】
支持部材５７２は、両ガラス基板５１０および５２０の間に、開放空間５２９が形成されるように配置される。より具体的には、支持部材５７２は、支持部５７６によって、第２のガラス基板５２０を第３の表面５２２で支持しており、これにより、第２のガラス基板５２０を、第１のガラス基板５１０から「浮かした」状態にすることができる。
【０１１９】
このような組立体５７０において、支持部材５７２による第２のガラス基板５２０の支持を解除する際には、組立体５７０を搬送台５８０上に置載して、組立体５７０を真空チャンバ内に搬送する。
【０１２０】
図１２の上図に示すように、真空チャンバの上部には、支持解除部材として、ロッド部材５８９が設けられている。ロッド部材５８９は、真空チャンバの上部から、下方に向かって延在している。ロッド部材５８９の先端は、搬送台５８０には達していない。なお、このロッド部材５８９は、位置が固定されている上、非可動式である。
【０１２１】
真空チャンバ内では、搬送台５８０上の組立体５７０は、図１２の矢印Ｆ４の方向（Ｙ方向）に進行する。
【０１２２】
ここで、搬送台５８０によって、組立体５７０がロッド部材５８９の設置位置まで搬送されると、支持部材５７２の支持部５７６は、ロッド部材５８９と当接する。しかしながら、搬送台５８０によって、組立体５７０は、さらに矢印Ｆ４の方向に前進する。その結果、図１２の下図に示すように、支持部５７６は、ロッド部材５８９からの力によって、回転軸５７７を中心に、矢印Ｆ５の方向に回転する。
【０１２３】
これにより、支持部材５７２による第２のガラス基板５２０の支持が解除され、第１のガラス基板５１０上に、第２のガラス基板５２０が落下する。なお、図面上は第２のガラス基板５２０が大きく傾いて支持されているが、これは説明のために誇張して記載しており、実際には第２のガラス基板５２０は、第１のガラス基板５１０と重ね合わせる際に位置ズレや破損が発生しない程度の高さから落下される。
【０１２４】
その結果、組立体５７０の開放空間５２９が失われ、第１のガラス基板５１０と第２のガラス基板５２０の間に、密閉空間を形成することができる。
【０１２５】
以上、組立体に使用され得る支持部材と、真空チャンバ内に設置される支持解除部材の組み合わせの一例について説明した。しかしながら、上記の組み合わせは、単なる一例に過ぎず、支持部材と支持解除部材の組み合わせとして、その他の組み合わせを適用しても良いことは、当業者には明らかである。
【０１２６】
すなわち、本発明において重要なことは、組立体に含まれる支持部材によって形成された開放空間が、真空チャンバ内に設けられた支持解除部材によって、真空チャンバ内で密閉空間に変化することであり、これが満たされる限り、支持部材と支持解除部材の組み合わせは、特に限定されないことに留意する必要がある。
【産業上の利用可能性】
【０１２７】
本発明は、建築物の窓ガラス等に使用される真空複層ガラス等に利用することができる。
【符号の説明】
【０１２８】
１００    真空複層ガラス
１１０    第１のガラス基板
１１２    第１の表面
１１４    第２の表面
１２０    第２のガラス基板
１２２    第３の表面
１２４    第４の表面
１３０    密閉空間
１５０    シール部材
１５５    接合層
３１０    第１のガラス基板
３１２    第１の表面
３１４    第２の表面
３１６ａ  辺
３２０    第２のガラス基板
３２２    第３の表面
３２４    第４の表面
３２９    開放空間
３３０    密閉空間
３５６    接合層
３７０    組立体
３７０ａ  組立体
３７２    支持部材
３７２―１、３７２−２  支持部材
３７４    基部
３７６    支持部
３７８    斜面
３８０    搬送台
３８９    ロッド部材
３９０    接合体
４１０    第１のガラス基板
４１２    第１の表面
４１４    第２の表面
４２０    第２のガラス基板
４２２    第３の表面
４２４    第４の表面
４２９    開放空間
４３０    密閉空間
４５６    接合層
４７０    組立体
４７２    支持部材
４７４    基部
４７６    支持部
４７７    回転軸
４８０    搬送台
４８９    ロッド部材
５１０    第１のガラス基板
５１２    第１の表面
５１４    第２の表面
５２０    第２のガラス基板
５２２    第３の表面
５２４    第４の表面
５２９    開放空間
５５６    接合層
５７０    組立体
５７２    支持部材
５７４    基部
５７６    支持部
５７７    回転軸
５８０    搬送台
５８９    ロッド部材
６００    真空複層ガラス
６１０    第１のガラス基板
６１２    第１の表面
６２０    第２のガラス基板
６２２    第３の表面
６３０    密閉空間
６５０    シール部材
６５８    金属部材
６６１    金属部材の第１の表面
６６２    金属部材の第２の表面
６６５    第１の接合層
６６７    第２の接合層
【図１】
2016210626.tif 000005
【図２】
2016210626.tif 000006
【図３】
2016210626.tif 000007
【図４】
2016210626.tif 000008
【図５】
2016210626.tif 000009
【図６】
2016210626.tif 000010
【図７】
2016210626.tif 000011
【図８】
2016210626.tif 000012
【図９】
2016210626.tif 000013
【図１０】
2016210626.tif 000014
【図１１】
2016210626.tif 000015
【図１２】
2016210626.tif 000016