(57)【要約】【課題】高品位のパネル特性補正を回路規模の増加を抑制して行うことのできる表示装置を提供する。【解決手段】発光素子（ＥＬ）と発光素子に発光電流を供給する駆動トランジスタ（ＤＲＴ）とを含み基板上にマトリクス状に配置された複数の画素部（ＰＸ）と、外部から供給される映像信号に画素部に供給するための表示用の補正を行うパネル特性補正部と、を有し、パネル特性補正部は、映像信号を発光素子の発光特性の逆特性で変換するＥＬ特性補正部（２３）と、映像信号を駆動トランジスタの駆動特性の逆特性で変換するＴＦＴ特性補正部（２４）とを備える表示装置である。【選択図】図３
2016012073.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光素子と、前記発光素子に発光電流を供給する駆動トランジスタとを含み、基板上にマトリクス状に配置された複数の画素部と、
外部から供給される映像信号に前記画素部に供給するための表示用の補正を行うパネル特性補正部と、を有し、
前記パネル特性補正部は、
前記映像信号を前記発光素子の発光特性の逆特性で変換するＥＬ特性補正部と、
前記映像信号を前記駆動トランジスタの駆動特性の逆特性で変換するＴＦＴ特性補正部とを備える、表示装置。
【請求項２】
前記ＴＦＴ特性補正部は、前記ＥＬ特性補正部が変換した映像信号を前記駆動トランジスタの駆動特性の逆特性で変換する、請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記ＴＦＴ特性補正部は、前記逆特性を表す補正曲線に近似する曲線を用いる曲線近似法によって前記映像信号を変換し、
前記曲線近似法は、入力データをＸ座標軸、出力データをＹ座標軸として表されるＸＹ座標系で表される補正曲線を近似する補正方法であって、
Ｘ座標軸を複数の区間に分割して補正曲線上に複数の境界点を設定し、隣接する境界点Ｐ１、Ｐ２間の補正曲線を近似する際、
入力データが区間の境界点Ｐ１のＸ座標の値（ｘｒｅｆ１）からｘａｄｒだけ増加するのに対応して、当該区間において前記補正曲線が上に凸の場合は境界点Ｐ１のＹ座標の値をｘａｄｒの比例係数倍だけ増加させた新たな境界点Ｑを求め、当該区間において前記補正曲線が下に凸の場合は境界点Ｐ１のＹ座標の値をｘａｄｒの比例係数倍だけ減少させた新たな境界点Ｑを求め、
点Ｐ２と点Ｑとを結ぶ直線を補正曲線として用いて出力データを求める、
請求項２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記ＴＦＴ特性補正部は、前記逆特性を表す補正曲線に近似する曲線を用いる曲線近似法によって前記映像信号を変換し、
前記曲線近似法は、入力データをＸ座標軸、出力データをＹ座標軸として表されるＸＹ座標系で表される補正曲線を近似する補正方法であって、
Ｘ座標軸を複数の区間に分割して補正曲線上に複数の境界点を設定し、隣接する２点の座標を（ｘｒｅｆ１、ＹＲＥＦ１）、（ｘｒｅｆ２、ＹＲＥＦ２）としたとき、Ｘ座標で（ｘｒｅｆ１＋ｘａｄｒ）の位置におけるＹ座標の近似値ＹＡＰＰＸを以下の式により求める、請求項２に記載の表示装置。
YAPPX = (YREF1 + xadr * α) + (YREF2 - (YREF1 + xadr * α)) / delta_x * xadr  
delta_x = xref2 - xref1  
αは、ｘａｄｒの増加に対応する比例係数であり、前記補正曲線が上に凸の場合は０よりも大きい値であり、前記補正曲線が下に凸の場合は０よりも小さい値である。
【請求項５】
前記区間の幅は、基準の区間幅に対して２ｎ倍または１／２ｎ倍である請求項３又は４に記載の表示装置。
【請求項６】
前記比例係数は、基準の比例係数に対して２ｎ倍または１／２ｎ倍である請求項３又は４に記載の表示装置。
【請求項７】
前記ＥＬ特性補正部は、前記逆特性を表す補正曲線に近似する直線を用いる直線近似法によって前記映像信号を変換し、
前記直線近似法は、入力データをＸ座標軸、出力データをＹ座標軸として表されるＸＹ座標系で表される補正曲線を近似する補正方法であって、
Ｘ座標軸を複数の区間に分割して補正曲線上に複数の境界点を設定し、隣接する境界点Ｐ１、Ｐ２間の補正曲線を近似する際、点Ｐ１とＰ２とを結ぶ直線を補正曲線として用いて出力データを求める、請求項３又は４に記載の表示装置。
【請求項８】
前記区間の幅は、基準の区間幅に対して２ｎ倍または１／２ｎ倍である請求項７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記ＥＬ特性補正部は、前記曲線近似法によって前記映像信号を変換する、請求項３又は４に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記ＥＬ特性補正部に代わる新たなＥＬ特性補正部を有し、
前記新たなＥＬ特性補正部は、前記映像信号を変換せずに出力する、請求項１乃至６の内のいずれか１項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、薄型、軽量、低消費電力の特徴を活かして、液晶表示装置に代表される平面表示装置の需要が急速に伸びている。中でも、オン画素とオフ画素とを電気的に分離し、かつオン画素への映像信号を保持する機能を有する画素スイッチを各画素に設けたアクティブマトリクス型表示装置は、携帯情報機器を始め、種々のディスプレイに利用されている。
【０００３】
このような平面型のアクティブマトリクス型表示装置として、自己発光素子を用いた有機ＥＬ表示装置が注目され、盛んに研究開発が行われている。有機ＥＬ表示装置は、バックライトを必要とせず、高速な応答性から動画再生に適し、さらに低温で輝度低下しないために寒冷地での使用にも適しているという特徴を有している。
【０００４】
一般に、有機ＥＬ表示装置は、複数行、複数列に並んで設けられた複数の画素を備えている。各画素は、自己発光素子である有機ＥＬ素子、及び有機ＥＬ素子に駆動電流を供給する画素回路により構成され、有機ＥＬ素子の発光輝度を制御することにより表示動作を行う。
【０００５】
また、有機ＥＬ表示装置では、高画質の画像を再現するため映像信号に各種の補正を行っている。特許文献１には、有機ＥＬ表示装置の駆動状態を検出して各種の補正を行う技術が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】国際公開第２００８／１３６３５８号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
ところで、有機ＥＬ表示装置では、入力された映像信号に対して主にＥＬ素子特性とＴＦＴ特性の補正を行うパネル特性補正ブロックが設けられている。パネル特性補正では、一般に多点直線近似によるディジタル階調補正が用いられるが、補正ポイント数が少ない場合、滑らかな補正が行われずにスジが視認されることがある。一方、表示品位の低下を防止するために補正ポイント数を増加すると、補正のための回路規模を増大させることになる。
【０００８】
本願発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであって、高品位のパネル特性補正を回路規模の増加を抑制して行うことのできる表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一実施形態に係る表示装置は、発光素子と、前記発光素子に発光電流を供給する駆動トランジスタとを含み、基板上にマトリクス状に配置された複数の画素部と、外部から供給される映像信号に前記画素部に供給するための表示用の補正を行うパネル特性補正部と、を有し、前記パネル特性補正部は、前記映像信号を前記発光素子の発光特性の逆特性で変換するＥＬ特性補正部と、前記映像信号を前記駆動トランジスタの駆動特性の逆特性で変換するＴＦＴ特性補正部とを備える。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】実施形態に係る表示装置を概略的に示す平面図である。
【図２】実施形態に係る表示装置の画素回路とＥＬ素子との構成を示す図である。
【図３】実施形態に係る表示装置のコントローラの構成と信号の接続を示す図である。
【図４】実施形態に係る表示装置のパネル特性を例示する図である。
【図５】従来の多点直線近似による補正方法を示す図である。
【図６】従来の多点直線近似によるグラデーション表示例を示す図である。
【図７】実施形態に係る表示装置のパネル特性補正の構成を説明するための図である。
【図８】実施形態に係る表示装置のＴＦＴ特性補正方法を説明するための図である。
【図９】実施形態に係る表示装置のＥＬ特性補正方法を説明するための図である。
【図１０】実施形態に係る表示装置の他の特性補正方法を説明するための図である。
【図１１】実施形態に係る表示装置の他の特性補正方法を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。  
なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１２】
図１は、実施形態に係る表示装置を概略的に示す平面図である。図１に示すように、表示装置は、有機ＥＬパネル１およびこの有機ＥＬパネル１の動作を制御するコントローラ２を備えている。
有機ＥＬパネル１は、表示領域３、走査線駆動回路４、及び信号線駆動回路５を有する。
【００１３】
表示領域３は、ガラス板等の光透過性を有する絶縁基板上にマトリクス状に配列されたｍ×ｎ個の表示画素ＰＸを備えている。そして、表示画素ＰＸの配列する行に沿ってゲート線ＳＧ（１〜ｍ）が配置され、各表示画素ＰＸに接続されている。また、表示画素ＰＸの配列する列に沿ってｎ本の信号線ＳＬ（１〜ｎ）が配置され、列毎の各表示画素ＰＸに接続されている。更に、高電位電源線Ｐｖｄｄと、低電位電源線Ｐｖｓｓとが各表示画素ＰＸに接続されている。
【００１４】
走査線駆動回路４は、ゲート線ＳＧ（１〜ｍ）を表示画素ＰＸの行毎に順次駆動する。信号線駆動回路５は、複数の信号線ＳＬ（１〜ｎ）を駆動する。走査線駆動回路４、および信号線駆動回路５は、表示領域３の外側で絶縁基板上に一体的に形成され、コントローラ２とともに制御部を構成している。
【００１５】
図２は、実施形態の表示装置の画素回路とＥＬ素子との構成を示す図である。ゲート線ＳＧ及び信号線ＳＬで囲まれるそれぞれの表示画素ＰＸの領域内に、それぞれＲＧＢ各色に発光するＥＬ（Electroluminescence）素子と、それぞれのＥＬ素子を駆動する画素回路とを備えている。なお、図２に示す画素回路は基本的な動作を説明するために簡略化して記載している。
【００１６】
画素回路は、サンプリングトランジスタＳＳＴ、駆動トランジスタＤＲＴ、及び補助容量Ｃｓを備えている。  
画素回路において、駆動トランジスタＤＲＴの第１端子は高電位電源線Ｐｖｄｄ（高電位電源）と電気的に接続し、駆動トランジスタＤＲＴの第２端子は補助容量Ｃｓを介して駆動トランジスタＤＲＴの制御端子と電気的に接続する。また、駆動トランジスタＤＲＴの第３端子はＥＬ素子のアノード電極と電気的に接続し、ＥＬ素子のカソード電極は低電位電源線Ｐｖｓｓ（低電位電源）と電気的に接続している。
【００１７】
そして、サンプリングトランジスタＳＳＴの第１端子は信号線ＳＬと電気的に接続し、サンプリングトランジスタＳＳＴの第２端子は駆動トランジスタＤＲＴの制御端子（第３端子）と電気的に接続し、サンプリングトランジスタＳＳＴの制御端子はゲート線ＳＧと電気的に接続している。ここで、ゲート線ＳＧは、有機ＥＬパネル１の左側に配置された走査線駆動回路４によって駆動され、信号線ＳＬは、有機ＥＬパネル１の上部に配置された信号線駆動回路５によって駆動される。
【００１８】
実施形態に係る表示装置において、駆動トランジスタＤＲＴ、サンプリングトランジスタＳＳＴは、ここでは同一導電型、例えばＮチャネル型のＴＦＴ（薄膜トランジスタ）により構成されている。また、駆動トランジスタＤＲＴおよびサンプリングトランジスタＳＳＴをそれぞれ構成する薄膜トランジスタは、全て同一工程、同一層構造で形成され、例えば、半導体層にＩＧＺＯ、ａ−Ｓｉ、あるいはポリシリコンを用いたトップゲート構造の薄膜トランジスタである。なお、サンプリングトランジスタＳＳＴおよび駆動トランジスタＤＲＴは、Ｎチャネル型に限らず、Ｐチャネル型としてもよい。駆動トランジスタＤＲＴにＰチャネル型を用いる場合は補助容量Ｃｓは高電位電源線Ｐｖｄｄ（高電位電源）と制御端子（第３端子）との間に電気的に接続される。
【００１９】
有機ＥＬパネル１の端部に設けられたコントローラ２は、外部の信号源（不図示）から映像信号、同期信号、各種コマンド信号などを通信により取得する。コントローラ２はこれらの信号を受けて走査線駆動回路４への制御信号の生成を行うとともに、信号線駆動回路５を駆動する。信号線駆動回路５は、ディジタル映像信号をＤ／Ａ変換して信号線ＳＬにアナログの映像信号Ｖｓｉｇを供給する。
【００２０】
ｎライン目のゲート線ＳＧ（ｎ）がハイレベル“Ｈ”となることで接続されたサンプリングトランジスタＳＳＴが導通し、信号線駆動回路５から出力された映像信号Ｖｓｉｇは補助容量Ｃｓに書き込まれる。これによって、駆動トランジスタＤＲＴが導通して電源であるＰｖｄｄ、Ｐｖｓｓ間に電流が流れることでＥＬ素子が発光する。このときに流れる電流の大きさは、補助容量Ｃｓの電位、即ち映像信号Ｖｓｉｇに対応する。ＥＬ素子の明るさは、ＥＬ素子に流れる電流値が大きいほど明るくなり、ＥＬ電流は映像信号Ｖｓｉｇによって制御される。従って映像信号Ｖｓｉｇの電圧が高いほどＥＬ電流が増加してＥＬ素子は明るく発光する。
【００２１】
図３は、実施形態の表示装置のコントローラの構成と信号の接続を示す図である。コントローラ２は、リニアガンマ部２１、画像処理部２２、ＥＬ特性補正部２３、ＴＦＴ特性補正部２４、ディザ部２５、ドライブ部２６、及びタイミングコントローラ２７を備えている。
【００２２】
リニアガンマ部２１は、外部信号源から入力された映像信号のガンマ特性をリニアな特性に変換する。画像処理部２２は、ホワイトバランス、色温度などのカラーマネージメントに関する処理を映像信号に施す。ＥＬ特性補正部２３は、ＥＬ素子の輝度−電流特性を補正する。ＴＦＴ特性補正部２４は、駆動トランジスタＤＲＴの電圧−電流特性を補正する。ここで、ＥＬ特性補正部２３とＴＦＴ特性補正部２４とが上述のパネル特性を構成するパネル特性補正部の主たる要素である。ディザ部２５は、擬似的な階調表示を処理する。ドライブ部２６は、映像信号を有機ＥＬパネル１（信号線駆動回路５）に対して出力する。タイミングコントローラ２７は、外部信号源の同期信号から生成した各種タイミング信号を有機ＥＬパネル１（走査線駆動回路４、信号線駆動回路５など）に対して出力する。
【００２３】
図４は、実施形態の表示装置のパネル特性を例示する図である。
【００２４】
図４（ａ）はＥＬ素子の発光特性、即ちＥＬ素子の輝度−電流特性を示している。ＥＬ素子は、流れる電流により発光量が定まるが、図４（ａ）に示すように輝度−電流特性はリニアではない。また、色（ＲＧＢ）毎に特性曲線が異なる。従って、ＥＬ特性の補正は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）青（Ｂ）の各色毎に独立して行うことが望ましい。
【００２５】
図４（ｂ）は駆動トランジスタＤＲＴの駆動特性、即ち駆動トランジスタＤＲＴの電圧−電流特性を示している。トランジスタ特性は非線形なため、図４（ｂ）に示すように電圧−電流特性はリニアではない。但し、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）青（Ｂ）の各画素で同じ画素回路を用いれば、上記駆動トランジスタＤＲＴの特性は同じであるため、ＴＦＴ特性の補正は、ＲＧＢ共通の特性曲線を用いて行うことができる。
【００２６】
続いて、従来の多点直線近似によるディジタル階調補正について説明する。
【００２７】
図５は、従来の多点直線近似による補正方法を示す図である。従来方式は、補正用の特性曲線の内から離散的な複数のポイントを選び、隣接するポイント間（区間）の中間値を直線近似により求めていた。即ち、隣接する２点の座標を（ｘｒｅｆ１、ＹＲＥＦ１）、（ｘｒｅｆ２、ＹＲＥＦ２）としたとき、Ｘ座標で（ｘｒｅｆ１＋ｘａｄｒ）の位置におけるＹ座標の近似値ＹＡＰＰＸを式（１）により求める。  
YAPPX = YREF1 + (YREF2 - YREF1) / delta_x * xadr・・・式（１）  
delta_x = xref2 - xref1
【００２８】
図６は、従来の多点直線近似によるグラデーション表示例を示す図である。図６（１）は、ターゲット特性（真の特性）でのグラデーション表示例を示し、図６（２）は、多点直線近似方式でのグラデーション表示例を示している。
【００２９】
多点直線近似による補正では、図５に示す区間の境界において近似直線の傾きが不連続に変化する。このため、図６（２）に示すようにグラデーション表示において階調スジが観測されることがある。また、ターゲット特性曲線の曲率が大きい場合、あるいは直線近似の区間の数が少ない場合には、真の値ＹＶＡＬＵと近似値ＹＡＰＰＸとの差（誤差）が大きくなる。
【００３０】
図７は、実施形態の表示装置のパネル特性補正の構成を説明するための図である。コントローラ２では、最初にＥＬ特性補正部２３がＥＬ素子の輝度−電流特性を補正した後、ＴＦＴ特性補正部２４が駆動トランジスタＤＲＴの電圧−電流特性を補正するように２つの特性補正部に分離して構成されている。図７に示すように、変換対象である物理量（輝度、電流、電圧）を明示した場合、コントローラ２で実行される変換の順序と、画素ＰＸ内で実行される変換の順序とが対称の関係にある。このように、コントローラ２では、有機ＥＬパネル１内での変換の動作の順序と逆の順番となるようにパネル特性補正回路を構成することによって、ＥＬ補正とＴＦＴ補正とを互いに分離独立して扱うことが可能となる。
【００３１】
なお、ＥＬ特性は色毎に異なるため、ＥＬ特性補正部２３は色毎に異なる特性を補正するように設けられる。一方、ＴＦＴ特性補正部２４の特性は、同じ画素回路を使用している有機ＥＬパネル１内では同じであると見做せるため、ＴＦＴ特性補正部２４は有機ＥＬパネル１内で同一の特性を補正するように設けられる。
【００３２】
図８は、実施形態の表示装置のＴＦＴ特性補正方法を説明するための図である。図８は、図４（ｂ）に示すＴＦＴ特性曲線を、基準直線に対して対称となるように変換した補正曲線Ａを表している。即ち、図８は、図４（ｂ）に示すＴＦＴ特性の逆特性を表す曲線である。これにより入力された信号はＴＦＴ特性の逆特性によって変換される。ここで、基準直線は、入力値と出力値とがリニアな関係となるように設けられている。従って、補正曲線Ａに従って、入力データ（電流）を出力データ（電圧）に変換することで、駆動トランジスタＤＲＴが流す電流は基準直線に従った値となり、ＴＦＴの特性に影響されない値となる。
【００３３】
図８に示す方法では、特性曲線Ａの形状に応じて区間を可変とする。Ｘ座標でＸＲＥＦ０〜ＸＲＥＦ１６の間は特性曲線Ａの傾き又は曲率が大きく、ＸＲＥＦ１７〜ＸＲＥＦ２２の間は特性曲線Ａの傾き及び曲率は小さい。そのため、区間の間隔をＸＲＥＦ０〜ＸＲＥＦ１６の間は狭くして、特性曲線Ａの曲率の大きい部分については短い間隔で補正することによって誤差の小さい近似値を得ることができる。
【００３４】
図９は、実施形態の表示装置のＥＬ特性補正方法を説明するための図である。図９は、図４（ａ）に示すＥＬ特性曲線を、基準直線に対して対称となるように変換した特性曲線Ｂを表している。即ち、図９は、図４（ａ）に示すＥＬ特性の逆特性を表す曲線である。これにより入力された信号はＥＬ特性の逆特性によって変換される。図９では、特性曲線Ｂの傾き、曲率に応じて５種類の区間幅（ＸＲＥＦ０〜ＸＲＥＦ６、ＸＲＥＦ６〜ＸＲＥＦ７、ＸＲＥＦ７〜ＸＲＥＦ１６、ＸＲＥＦ１６〜ＸＲＥＦ１９、ＸＲＥＦ１９〜ＸＲＥＦ２２）に区分している。
【００３５】
各区間の幅を任意の値に設定できるようにすると、区間の中間ポイントを算出する時に除算器が必要になり、補正に必要な回路規模の増大と補正処理負荷の増大とが発生することが考えられる。そこで、この回路規模及び処理負荷の増大を、区間幅の設定方法を規定することにより抑制することが可能である。即ち、区間幅は、例えば多点直線近似では式（１）のｄｅｌｔａ＿ｘで表される。そこで区間幅を基準値の２ｎ倍（あるいは１／２ｎ倍）（ｎは１以上の整数）として設定することにより、乗除算をビットシフト演算によって実現することができるため、各区間内の中間ポイントを近似計算するための回路規模の増大と処理負荷の増大とを抑制することができる。
【００３６】
なお、有機ＥＬパネル１に使用するＥＬ素子の材料が変更されたとき、あるいはＴＦＴの設計が変更されたとき、変更された特性曲線の傾き、曲率に応じて自動で区間幅を設定しても良く、手動で区間幅を設定しても良い。
【００３７】
図１０は、実施形態の表示装置の他の特性補正方法を説明するための図である。図１０に示す特性補正方法では、新たな曲線近似方式を用いる。
【００３８】
区間１の２つの境界点Ｐ１、Ｐ２の座標をＰ１（ｘｒｅｆ１、ＹＲＥＦ１）、Ｐ２（ｘｒｅｆ２、ＹＲＥＦ２）とする。次に、境界点Ｐ１に対してＸ座標が同じｘｒｅｆ１であり、Ｙ座標がＹＲＥＦ１ａである点Ｐ１ａ（ｘｒｅｆ１、ＹＲＥＦ１ａ）を設ける。そして、入力データ（ｘｒｅｆ１＋ｘａｄｒ１）に対しては、点Ｐ１ａと点Ｐ２とを結ぶ直線を用いて出力データを求める。境界点Ｐ１に対してＸ座標が同じｘｒｅｆ１であり、Ｙ座標がＹＲＥＦ１ｂである点Ｐ１ｂ（ｘｒｅｆ１、ＹＲＥＦ１ｂ）を設ける。そして、入力データ（ｘｒｅｆ１＋ｘａｄｒ２）に対しては、点Ｐ１ｂと点Ｐ２とを結ぶ直線を用いて出力データを求める。同様にして、入力データの増加に対応した新たな直線を用いて出力データを求める。
【００３９】
上述の方法は、入力データをＸ座標軸、出力データをＹ座標軸として表されるＸＹ座標系で表される補正曲線を近似する補正方法において、Ｘ座標軸を複数の区間に分割して補正曲線上に複数の境界点を設定し、隣接する境界点Ｐ１、Ｐ２間の補正曲線を近似する際、入力データが区間の境界点Ｐ１のＸ座標の値（ｘｒｅｆ１）からｘａｄｒだけ増加するに対応して、境界点Ｐ１のＹ座標の値をｘａｄｒの比例係数倍だけ増加させた新たな境界点Ｑを求め、点Ｐ２と点Ｑとを結ぶ直線を補正曲線として用いて出力データを求める、と表現することができる。
【００４０】
この方法は数式を用いると、隣接する２点の座標を（ｘｒｅｆ１、ＹＲＥＦ１）、（ｘｒｅｆ２、ＹＲＥＦ２）としたとき、Ｘ座標で（ｘｒｅｆ１＋ｘａｄｒ）の位置におけるＹ座標の近似値ＹＡＰＰＸを以下の式（２）により求めると表現できる。
【００４１】
YAPPX = (YREF1 + xadr * α) + (YREF2 - (YREF1 + xadr * α)) / delta_x * xadr  
・・・式（２）  
delta_x = xref2 - xref1  
αは、ｘａｄｒの増加に対応する比例係数（０よりも大きい）である。
【００４２】
ここで、式（２）の右辺をxadrについて整理すると式（３）が得られる。  
YAPPX = -α * (xadr)2 / delta_x +((YREF2 - YREF1)/ delta_x +α) * xadr + YREF1
・・・式（３）  
【００４３】
即ち、近似値ＹＡＰＰＸは、ｘａｄｒの２次関数として表現されるため、本補正方法は、２次曲線による近似として把握することができる。また、式（３）のｘａｄｒの２次の係数は、-α / delta_xである。従って、αが大きいほど（小さいほど）補正曲線の曲率は大きく（小さく）なる。このため、αを選択することによってターゲット補正曲線に近似する精度を調整することができる。
【００４４】
図１１は、実施形態の表示装置の他の特性補正方法を説明するための図である。図１０に示す曲線は上に凸の形状であった。図１１に示す曲線は下に凸の形状である。
【００４５】
区間３の２つの境界点Ｐ３、Ｐ４の座標をＰ３（ｘｒｅｆ３、ＹＲＥＦ３）、Ｐ４（ｘｒｅｆ４、ＹＲＥＦ４）とする。次に、境界点Ｐ３に対してＸ座標が同じｘｒｅｆ３であり、Ｙ座標がＹＲＥＦ３ａである点Ｐ３ａ（ｘｒｅｆ３、ＹＲＥＦ３ａ）を設ける。そして、入力データ（ｘｒｅｆ３＋ｘａｄｒ１）に対しては、点Ｐ３ａと点Ｐ４とを結ぶ直線を用いて出力データを求める。境界点Ｐ３に対してＸ座標が同じｘｒｅｆ３であり、Ｙ座標がＹＲＥＦ３ｂである点Ｐ３ｂ（ｘｒｅｆ３、ＹＲＥＦ３ｂ）を設ける。そして、入力データ（ｘｒｅｆ３＋ｘａｄｒ２）に対しては、点Ｐ３ｂと点Ｐ４とを結ぶ直線を用いて出力データを求める。同様にして、入力データの増加に対応した新たな直線を用いて出力データを求める。
【００４６】
上述の方法は、入力データをＸ座標軸、出力データをＹ座標軸として表されるＸＹ座標系で表される補正曲線を近似する補正方法において、Ｘ座標軸を複数の区間に分割して補正曲線上に複数の境界点を設定し、隣接する境界点Ｐ３、Ｐ４間の補正曲線を近似する際、入力データが区間の境界点Ｐ３のＸ座標の値（ｘｒｅｆ３）からｘａｄｒだけ増加するに対応して、境界点Ｐ３のＹ座標の値をｘａｄｒの比例係数倍だけ減少させた新たな境界点Ｑを求め、点Ｑと点Ｐ４とを結ぶ直線を補正曲線として用いて出力データを求める、と表現することができる。
【００４７】
この方法は数式を用いると、隣接する２点の座標を（ｘｒｅｆ３、ＹＲＥＦ３）、（ｘｒｅｆ４、ＹＲＥＦ４）としたとき、Ｘ座標で（ｘｒｅｆ３＋ｘａｄｒ）の位置におけるＹ座標の近似値ＹＡＰＰＸを以下の式（４）により求めると表現できる。
【００４８】
YAPPX = (YREF3 - xadr * α) + (YREF4 - (YREF3 - xadr * α)) / delta_x * xadr  
・・・式（４）  
delta_x = xref4 - xref3  
αは、ｘａｄｒの増加に対応する比例係数（０よりも大きい）である。
【００４９】
ここで、式（４）の右辺をxadrについて整理すると式（５）が得られる。  
YAPPX = α * (xadr)2 / delta_x +((YREF4 - YREF3)/ delta_x -α) * xadr + YREF3
・・・式（５）  
即ち、近似値ＹＡＰＰＸは、ｘａｄｒの２次関数として表現されるため、本補正方法は、２次曲線による近似として把握することができる。また、式（５）のｘａｄｒの２次の係数は、α / delta_xである。従って、αが大きいほど（小さいほど）補正曲線の曲率は大きく（小さく）なる。このため、αを選択することによってターゲット補正曲線に近似する精度を調整することができる。
【００５０】
なお、図１０、図１１に示すαの選択は次の手順によって実行することができる。  
（１）ターゲット補正曲線の入力データと出力データとの関係をグラフに作成する。  
（２）ターゲット補正曲線の傾き、曲率から複数の区間を設定する。  
（３）設定した区間ごとにターゲット補正曲線に近似する多項式を求める。  
（４）求めた多項式から各区間毎に曲率を設定する。  
ここで、上述の手順はマニュアルで実行しても良く、所定のプログラムを用いて自動で実行しても良く、マニュアルによる処理と自動処理とを適宜組み合わせて実行しても良い。
【００５１】
しかし、αを任意の値に設定し、またαの種類を増加することで、補正に必要な回路規模の増大と補正処理負荷の増大とが発生することが考えられる。そこで、この回路規模及び処理負荷の増大を、αの値を規定することにより抑制することが可能である。即ち、αを設定する際、基準値の２ｎ倍（あるいは１／２ｎ倍）（ｎは１以上の整数）として設定することにより、乗除算をビットシフト演算によって実現することができるため、αを演算するための回路規模の増大と処理負荷の増大とを抑制することができる。
【００５２】
以上、本実施の形態に係る補正方式について説明した。上述のように、本願ではＥＬ補正とＴＦＴ補正とを独立して扱うことが可能となっている。そして、図４に示すＥＬ特性とＴＦＴ特性とを参照すると、ＥＬ特性はＴＦＴ特性よりも補正量が少ないことがわかる。従って、有機ＥＬパネル１に求められる特性に応じて、図３に示すコントローラ２でのパネル特性補正機能は次のように複数の態様で構成することができる。
【００５３】
（１）コントローラ２にＥＬ特性補正部２３とＴＦＴ特性補正部２４を設け、共に図１０、図１１に示す曲線近似補正を実行する。  
（２）コントローラ２にＥＬ特性補正部２３とＴＦＴ特性補正部２４を設け、ＥＬ特性補正部２３は図５に示す直線近似補正を実行し、ＴＦＴ特性補正部２４は図１０、図１１に示す曲線近似補正を実行する。  
（３）コントローラ２にはＴＦＴ特性補正部２４のみを設け、ＥＬ特性補正部２３は設けない。ＴＦＴ特性補正部２４は図１０、図１１に示す曲線近似補正を実行する。
【００５４】
なお、上述の実施形態に開示された技術思想は、ＲＧＢ色に発光するＥＬ素子を用いた表示装置に限られず、白色に発光するＥＬ素子とＲＧＢフィルタとを組み合わせた表示装置についても適用することができる。またＥＬ素子は有機ＥＬ素子に限られず、無機ＥＬ素子を適用することができる。
【００５５】
本発明の実施の形態として上述した表示装置及び表示装置の駆動方法を基にして、当業者が適宜設計変更して実施し得る全ての表示装置及び表示装置の駆動方法も、本発明の要旨を包含する限り、本発明の範囲に属する。
【００５６】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、上述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除もしくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【００５７】
また、本実施形態において述べた態様によりもたらされる他の作用効果について本明細書記載から明らかなもの、又は当業者において適宜想到し得るものについては、当然に本発明によりもたらされるものと解される。
【００５８】
上記実施形態に開示されている複数の構成要素の適宜な組み合せにより種々の発明を形成できる。例えば、実施形態に示される全構成要素から幾つかの構成要素を削除してもよい。更に、異なる実施形態に亘る構成要素を適宜組み合せてもよい。
【符号の説明】
【００５９】
ＰＸ…画素、ＳＳＴ…サンプリングトランジスタ、ＤＲＴ…駆動トランジスタ、１…有機ＥＬパネル、２…コントローラ、４…走査線駆動回路、５…信号線駆動回路、２１…リニアガンマ部、２２…画像処理部、２３…ＥＬ特性補正部、２４…ＴＦＴ特性補正部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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