(57)【要約】【課題】  透過色の着色が少なく、かつ透過率が高いベースフィルムを提供することにある。【解決手段】  基材フィルムの一方の面に、第１色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第２色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長３８０〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλａ、前記第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長２００〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλｂとしたとき、下記条件１および条件２を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。  （条件１）３８０ｎｍ≦λａ≦５００ｎｍ  （条件２）１００ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦２００ｎｍ【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの一方の面に、第１色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第２色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長３８０〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλａ、前記第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長２００〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλｂとしたとき、下記条件１および条件２を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
（条件１）３８０ｎｍ≦λａ≦５００ｎｍ
（条件２）１００ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦２００ｎｍ
【請求項２】
前記第１色調補正層は少なくともＡ１層を含み、Ａ１層は屈折率が１．４０以下でかつ膜厚が７０〜９０ｎｍである、請求項１に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項３】
前記第１色調補正層は、さらにＡ２層を含み、Ａ２層はＡ１層より基材フィルム側に位置し、Ａ２層は屈折率が１．６１以上１．７０未満でかつ膜厚が０．１μｍ以上である、請求項２に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項４】
前記第２色調補正層は、少なくともＢ１層およびＢ２層を含み、Ｂ２層はＢ１層より基材フィルム側に位置し、Ｂ１層は屈折率が１．５５以下でかつ膜厚が７０ｎｍ未満であり、Ｂ２層は屈折率が１．６５〜１．８５で膜厚５０ｎｍ未満である、請求項１〜３のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項５】
前記第２色調補正層は、更に、基材フィルムとＢ２層との間にＢ３層を含み、Ｂ３層は屈折率が１．４８〜１．８０でかつ膜厚が０．１μｍ以上である、請求項４に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの第２色調補正層の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
【請求項７】
前記透明導電膜がパターン化されている、請求項６に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムおよびこのベースフィルムを用いたタッチパネル用透明導電性フィルムに関する。詳しくは、視認性が良好なタッチパネル用透明導電性フィルムを得るためのベースフィルムに関する。
【０００２】
以下の説明において、「タッチパネル用透明導電性フィルム」を単に「透明導電性フィルム」と言うことがあり、また、「タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム」を単に「ベースフィルム」と言うことがある。
【背景技術】
【０００３】
透明導電性フィルムのベースフィルムとして、基材フィルム上にハードコート層が設けられたハードコートフィルムが一般に知られている。透明導電性フィルムは、このようなベースフィルムの片面もしくは両面に透明導電膜を設けることにより得られる。
【０００４】
また、透明導電性フィルムの透明導電膜の視認性を向上させるために、基材フィルム上に各種機能層を設けたベースフィルムが提案されている。
【０００５】
例えば、透明導電膜の色味を調整するために、基材フィルム上に光学機能層を積層したベースフィルムが提案されており（特許文献１〜３）、またパターン化された透明導電膜のパターンが視認される現象（いわゆる「骨見え」）を抑制するために、基材フィルム上に屈折率調整層を積層したベースフィルムが提案されている（特許文献４〜１１）。
【０００６】
また、上記ベースフィルムの片面のみに透明導電膜が設けられた場合、その面とは反対面に、ハードコート層を設けることが知られている。これらのハードコート層は、ベースフィルムのカールバランスの調整やブロッキング防止及び基材フィルムからのオリゴマー析出防止等のために設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０００−３０１６４８号公報
【特許文献２】特開２００３−２５１７５１号公報
【特許文献３】特開２００４−４７４５６号公報
【特許文献４】特開２００８−９８１６９号公報
【特許文献５】特開２００９−７６４３２号公報
【特許文献６】特開２０１０−２０８１６９号公報
【特許文献７】特開２０１１−３７２５８号公報
【特許文献８】特開２０１１−１３４４６４号公報
【特許文献９】特開２０１１−２４８６１２号公報
【特許文献１０】特開２０１３−１８４４３１号公報
【特許文献１１】特開２０１３−２０２８４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
透明導電性フィルムとしては、基材フィルム上に、酸化錫を含有するインジウム酸化物（錫ドープ酸化インジウム、ＩＴＯ）や酸化亜鉛等の金属酸化物による透明導電層を積層したものが一般的に用いられている。このような透明導電性フィルムは、金属酸化物層の反射及び吸収に由来する可視光短波長領域の透過率の低下により、黄色の呈色が見られることが多い。
【０００９】
上記の透明導電膜の着色を軽減するには、透明導電性フィルムのベースフィルムの透過色は着色が少ない、いわゆる無彩色に近いことが好ましい。また、透明導電性フィルムのベースフィルムは透過率が高いことが好ましい。
【００１０】
上記特許文献には、基材フィルムに対して透明導電層側とは反対面（裏面）を含めたトータルでの色調補正については言及されていない。透明導電性フィルムの裏面（基材フィルムに対して透明導電層側とは反対面）には、従来からハードコート層を設けることが知られているが、裏面にハードコート層が設けられた透明導電性フィルムのベースフィルムでは、無彩色に近い透過光を得ることは難しく、また、透過率が十分に高いものではない。
【００１１】
従って、本発明の目的は、上記従来技術の課題に鑑み、透過色の着色が少ない（無彩色に近い）ベースフィルムを提供することにある。本発明の他の目的は、このベースフィルムを用いた透明導電性フィルムを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の上記目的は、以下の発明によって達成された。
［１］基材フィルムの一方の面に、第１色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第２色調補正層を有するタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムであって、前記第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長３８０〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλａ、前記第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長２００〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλｂとしたとき、下記条件１および条件２を満足することを特徴とする、タッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
【００１３】
（条件１）３８０ｎｍ≦λａ≦５００ｎｍ
（条件２）１００ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦２００ｎｍ
［２］前記第１色調補正層は少なくともＡ１層を含み、Ａ１層は屈折率が１．４０以下でかつ膜厚が７０〜９０ｎｍである、［１］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［３］前記第１色調補正層は、さらにＡ２層を含み、Ａ２層はＡ１層より基材フィルム側に位置し、Ａ２層は屈折率が１．６１以上１．７０未満でかつ膜厚が０．１μｍ以上である、［２］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［４］前記第２色調補正層は、少なくともＢ１層およびＢ２層を含み、Ｂ２層はＢ１層より基材フィルム側に位置し、Ｂ１層は屈折率が１．５５以下でかつ膜厚が７０ｎｍ未満であり、Ｂ２層は屈折率が１．６５〜１．８５で膜厚５０ｎｍ未満である、［１］から［３］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［５］前記第２色調補正層は、更に、基材フィルムとＢ２層との間にＢ３層を含み、Ｂ３層は屈折率が１．４８〜１．８０でかつ膜厚が０．１μｍ以上である、［４］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルム。
［６］［１］から［５］のいずれかに記載のタッチパネル用透明導電性フィルムのベースフィルムの第２色調補正層の上に透明導電膜を有する、タッチパネル用透明導電性フィルム。
［７］前記透明導電膜がパターン化されている、［６］に記載のタッチパネル用透明導電性フィルム。
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、透過光の着色が少ない（無彩色に近い）透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することができる。また、本発明の好ましい態様によれば、透過光の着色が少なく、かつ透過率が高い透明導電性フィルムのベースフィルムを提供することができる。また、本発明のベースフィルムを透明導電性フィルムに用いることにより、透明導電性フィルムの透過光の着色が抑制され、かつ透過率が高められる。
【００１５】
また、本発明の好ましい態様によれば、透明導電膜の視認性を向上させることができる。ここで、透明導電膜の視認性が向上する（良化する）とは、透明導電性フィルムの透明導電膜に起因する色味（例えば、ＩＴＯ膜の黄色味）が抑制されて無彩色に近づくこと、あるいはパターン化された透明導電膜のパターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が抑制されることを意味する。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のベースフィルムは、基材フィルムの一方の面に、第１色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に、第２色調補正層を有する。そして、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長３８０〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλａ、第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長２００〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλｂとしたとき、下記条件１および条件２を満足することを特徴とする。
【００１７】
（条件１）３８０ｎｍ≦λａ≦５００ｎｍ
（条件２）１００ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦２００ｎｍ
本発明のベースフィルムを透明導電性フィルムに適用するに際し、ベースフィルムの第２色調補正層の上に透明導電膜が積層されることが好ましい。第１色調補正層の上には透明導電膜は積層されないことが好ましい。
【００１８】
上記したような特徴的な構成を採ることによって、即ち、透明導電膜が積層されない第１色調補正層側の光学特性と、透明導電膜が積層される第２色調補正層側の光学特性とを、上記したような特徴的な光学特性および関係とすることにより、ベースフィルムの透過光の着色が抑えることができる（無彩色に近づけることができる）。
【００１９】
第２色調補正層の色調は、第２色調補正層の上に積層される透明導電膜の視認性を向上（例えば「骨見え」の抑制）させるために透明導電膜の色調に合わせて設計される。例えば、代表的な透明導電膜であるＩＴＯ（酸化インジウム錫）膜は、通常、黄色に呈色しており、ＩＴＯ膜を含む透明導電性フィルムの透過色を無彩色に近づけるには、第２色調補正層の光学特性、即ち第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長２００〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長（λｂ）を低波長側（例えば、４００ｎｍ以下）になるように設計することが好ましい。
【００２０】
しかし、上記のように設計された第２色調補正層を含むベースフィルムは透過色が着色を呈することがある。そこで、ベースフィルムの基材フィルムに対して第２色調補正層が積層された面とは反対面からアプローチし、反対面にベースフィルムの透過色が無彩色に近づくような光学特性をもつ第１色調補正層を設けるという着想を得た。
【００２１】
この着想に基づいて検討した結果、第１色調補正層の光学特性を、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長３８０〜７８０ｎｍ領域における最小反射率波長（λａ）が、条件１（３８０ｎｍ≦λａ≦５００ｎｍ）を満足し、かつ、条件２（１００ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦２００ｎｍ）を満足するように設計することによって、ベースフィルムの透過色が無彩色に近づくことが分かり、本発明を想到するに至った。
【００２２】
上記観点から、条件１は更に、３８０ｎｍ≦λａ≦４５０ｎｍであることが好ましく、条件２は更に、１００ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦１５０ｎｍであることが好ましい。
【００２３】
条件２を満足させるには、λｂは、２６０〜３２０ｎｍの範囲が好ましく、２８０〜３００ｎｍの範囲がより好ましい。
【００２４】
［第１色調補正層］
第１色調補正層は、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長３８０〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長（λａ）が、条件１（３８０ｎｍ≦λａ≦５００ｎｍ）を満足することが重要である。
【００２５】
第１色調補正層の条件１を満足させる構成としては、第１色調補正層は、少なくともＡ１層含むことが好ましい。Ａ１層は、屈折率が１．４０以下でかつ膜厚が７０〜９０ｎｍであることが好ましい。第１色調補正層が少なくとも上記Ａ１層を含むことにより、ベースフィルムの透過色が無彩色に近づき、かつベースフィルムの透過率を高めることができる。
【００２６】
上記観点から、Ａ１層の屈折率は、更に１．３９以下が好ましく、１．３８以下がより好ましく、１．３６以下が特に好ましい。下限の屈折率は、１．３１以上が好ましく、１．３２以上がより好ましく、１．３４以上が特に好ましい。
【００２７】
Ａ１層の屈折率が１．４０より大きくなると、ベースフィルムの透過率を十分に高められないことがある。一方、Ａ１層の屈折率が１．３１未満となると、ベースフィルムの透過色を十分に無彩色に近づけることができないことがある。
【００２８】
Ａ１層の膜厚は、ベースフィルムの透過色を無彩色に近づけるという観点およびベースフィルムの透過率を高めるという観点から、７０〜９０ｎｍの範囲が好ましい。更に上記観点から、Ａ１層の膜厚は、７５〜８５ｎｍの範囲が好ましく、７５〜８０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【００２９】
第１色調補正層は、更にＡ２層を含むことが好ましい。この構成において、Ａ２層はＡ１層より基材フィルム側に位置する。つまり、「基材フィルム／Ａ２層／Ａ１層」の構成であることが好ましい。Ａ２層は、屈折率が１．６１以上１．７０未満でかつ膜厚が０．１μｍ以上であることが好ましい。
【００３０】
第１色調補正層がＡ２層を含むことにより、ベースフィルムの耐擦傷性が向上し、基材フィルムからのオリゴマー析出が抑制される。
【００３１】
Ａ２層の屈折率は、更に１．６２〜１．６９の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がより好ましく、１．６４〜１．６７の範囲が特に好ましい。また、干渉縞を抑制するという観点から、基材フィルムとＡ２層との屈折率差の絶対値は、０．０３以下好ましく、０．０２以下がより好ましく、０．０１以下が特に好ましい。
【００３２】
Ａ２層の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性の向上および基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制の観点から、０．２μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましく、０．５μｍ以上が特に好ましい。上限の膜厚は、ベースフィルムのカール性やクラック発生防止および透明性の観点から５μｍ以下が好ましく、３μｍ以下がより好ましく、２．５μｍ以下が特に好ましい。
【００３３】
［Ａ１層の形成］
Ａ１層は、屈折率が１．４０以下であることが好ましく、このような比較的低い屈折率とするために、Ａ１層は、低屈折率材料（例えば、低屈折率無機粒子および／または含フッ素化合物）を含有することが好ましい。
【００３４】
低屈折率無機粒子としては、例えば、シリカやフッ化マグネシウム等の無機粒子が挙げられる。更に、これらの無機粒子は中空状や多孔質のものが好ましい。特に中空状のシリカやフッ化マグネシウムが好ましく用いられる。これらの無機微粒子の屈折率は、１．２０〜１．３５であるのが好ましい。
【００３５】
Ａ１層における低屈折率無機粒子の含有量は、Ａ１層の固形分総量１００質量％に対して１０質量％以上が好ましく、２０質量％以上がより好ましく、特に３０質量％以上が好ましい。上限は７５質量％以下が好ましく、７０質量％以下が好ましく、特に６０質量％以下が好ましい。
【００３６】
含フッ素化合物としては、含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマー、含フッ素高分子化
合物が挙げられる。ここで、含フッ素モノマーあるいは含フッ素オリゴマーは、分子中に
前述の重合性官能基とフッ素原子とを有するモノマーあるいはオリゴマーである。
【００３７】
含フッ素モノマー、含フッ素オリゴマーとしては、例えば、２，２，２−トリフルオロ
エチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピル（メタ）ア
クリレート、２−（パーフルオロブチル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフル
オロヘキシル）エチル（メタ）アクリレート、２−（パーフルオロオクチル）エチル（メ
タ）アクリレート、２−（パーフルオロデシル）エチル（メタ）アクリレート、βー（パ
ーフロロオクチル）エチル（メタ）アクリレートなどのフッ素含有（メタ）アクリル酸エ
ステル類、  ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，２−トリフルオロエチルエチレ
ングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，３−ペンタフルオロ
プロピルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，
４，４−ヘプタフルオロブチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−
２，２，３，３，４，４，５，５，５−ノナフルオロペンチルエチレングリコール、ジ−
（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，６−ウンデカ
フルオロヘキシルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，
３，４，４，５，５，６，６，７，７，７−トリデカフルオロヘプチルエチレングリコー
ル、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４，４，５，５，６，６，７，
７，８，８，８−ペンタデカフルオロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロ
アクリル酸）−３，３，４，４，５，５，６，６，７，７，８，８，８−トリデカフルオ
ロオクチルエチレングリコール、ジ−（α−フルオロアクリル酸）−２，２，３，３，４
，４，５，５，６，６，７，７，８，８，９，９，９−ヘプタデカフルオロノニルエチレ
ングリコールなどのジ−（α−フルオロアクリル酸）フルオロアルキルエステル類が挙げ
られる。
【００３８】
含フッ素高分子化合物としては、例えば、含フッ素モノマーと架橋性基付与のためのモ
ノマーを構成単位とする含フッ素共重合体が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例
としては、例えばフルオロオレフィン類（例えばフルオロエチレン、ビニリデンフルオラ
イド、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、
パーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール等）、（メタ）アクリル酸の部
分または完全フッ素化アルキルエステル誘導体類（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化
学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、完全または部分フッ素化ビニルエーテル類等
である。架橋性基付与のためのモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子
内にあらかじめ架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル
基やヒドロキシル基、アミノ基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー
（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（
メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。
【００３９】
Ａ１層における含フッ素化合物の含有量は、Ａ１層の固形分総量１００質量％に対して、３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、５０質量％以上が特に好ましい。上限は９５質量％以下が好ましく、９０質量％以下がより好ましく、８０質量％以下が特に好ましい。
【００４０】
Ａ１層は、上記した低屈折率無機粒子と含フッ素化合物を併用することができる。併用する場合の比率は特に限定されないが、低屈折率無機粒子の１００質量部に対して含フッ素化合物を１０〜５００質量部の範囲が好ましく、特に１０〜３００質量部の範囲が好ましい。
【００４１】
Ａ１層は、更に樹脂を含有することが好ましい。このような樹脂としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
【００４２】
上記熱硬化性樹脂としては、熱によって重合又は架橋する、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリイミド系樹脂等が挙げられる。
【００４３】
上記活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。かかる活性エネルギー線硬化性樹脂としては、分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物（モノマーやオリゴマー）が挙げられる。ここで、エチレン性不飽和基としては、アクリロイル基、メタクリロイル基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アリル基、ビニル基等が挙げられる。
【００４４】
尚、以下の説明において、「・・・（メタ）アクリレート」とは、「・・・アクリレート」と「・・・メタクリレート」の総称である。
【００４５】
分子中に少なくとも１個のエチレン性不飽和基を有する化合物として、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、エチルジエチレングリコール（メタ）アクリレート、エトキシジエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、グリセリンプロポキシトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートヘキサメチレンジイソシアネートウレタンプレオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−トルエンジイソシアネートウレタンオリゴマー、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート−イソホロンジイソシアネートウレタンオリゴマーなどが挙げられる。
【００４６】
また、多官能のウレタン（メタ）アクリレートオリゴマーとして、市販されているものを使用することができる。例えば、共栄社化学（株）製のウレタンアクリレートＡＨシリーズ、ウレタンアクリレートＡＴシリーズ、ウレタンアクリレートＵＡシリーズ、根上工業（株）製のＵＮ−３３２０シリーズ、ＵＮ−９００シリーズ、新中村化学工業（株）製のＮＫオリゴＵシリーズ、ダイセル・ユーシービー社製のＥｂｅｃｒｙｌ１２９０シリーズなどが挙げられる。
【００４７】
活性エネルギー線硬化性樹脂として、分子中にエチレン性不飽和基を２個以上有する化合物が好ましく、更に分子中にエチレン性不飽和基を３個以上有する化合物が好ましく用いられる。
【００４８】
Ａ１層は、上記した低屈折率無機粒子および／または含フッ素化合物と、活性エネルギー線硬化性樹脂とを含有する活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成されたものであることが好ましい。
【００４９】
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
【００５０】
紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【００５１】
活性エネルギー線硬化性組成物における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、５〜７０質量％の範囲が好ましく、１０〜６０質量％の範囲がより好ましく、特に１５〜５５質量％の範囲が好ましい。
【００５２】
活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。か
かる光重合開始剤の具体例としては、例えばアセトフェノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、ｐ−ジメチルアセトフェノン、ｐ−ジメチルアミノプロピオフェノン、ベンゾフェノン、２−クロロベンゾフェノン、４，４’−ジクロロベンゾフェノン、４，４’−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、ミヒラーケトン、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、メチルベンゾイルフォルメート、ｐ−イソプロピル−α−ヒドロキシイソブチルフェノン、α−ヒドロキシイソブチルフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのカルボニル化合物、テトラメチルチウラムモノスルフィド、テトラメチルチウラムジスルフィド、チオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−メチルチオキサントンなどの硫黄化合物などを用いることができる。これらの光重合開始剤は単独で使用してもよいし、２種以上組み合せて用いてもよい。
【００５３】
また、光重合開始剤は一般に市販されており、それらを使用することができる。例えば
、  チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製のイルガキュア１８４、イルガキュア９０７、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９、イルガキュア１２７、イルガキュア５００、イルガキュア７５４、イルガキュア２５０、イルガキュア１８００、イルガキュア１８７０、イルガキュアＯＸＥ０１、ＤＡＲＯＣＵＲ ＴＰＯ、ＤＡＲＯＣＵＲ１１７３等、
日本シイベルヘグナー（株）製のＳｐｅｅｄｃｕｒｅＭＢＢ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＰＢＺ
、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＩＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＣＴＸ、ＳｐｅｅｄｃｕｒｅＥＤＢ、
Ｅｓａｃｕｒｅ ＯＮＥ、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＩＰ１５０、Ｅｓａｃｕｒｅ ＫＴＯ４６等
、日本化薬（株）製のＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＥＴＸ−Ｓ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＣＴＸ、ＫＡ
ＹＡＣＵＲＥ ＢＭＳ、ＫＡＹＡＣＵＲＥ ＤＭＢＩ等が挙げられる。
【００５４】
上記光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００５５】
活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合すること
ができる。例えば、酸化防止剤、レベリング剤、粒子分散剤、滑り性付与剤、消泡剤、帯
電防止剤、防汚剤などを含有させることができる。
【００５６】
［Ａ２層の形成］
Ａ２層は、屈折率が１．６１以上１．７０未満であることが好ましく、このような比較的高い屈折率とするために、Ａ２層は金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。
【００５７】
このような金属酸化物微粒子としては、屈折率が１．７〜２．８の金属酸化物からなる
微粒子が好ましく用いられる。かかる金属酸化物微粒子としては、例えば、酸化ジルコニ
ウム、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化アンチモン、酸化セリウム、酸化鉄、アンチ
モン酸亜鉛、酸化錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ
）、リンドープ酸化錫、アルミニウムドープ酸化亜鉛、ガリウムドープ酸化亜鉛、フッ素
ドープ酸化錫等が挙げられる。これらの中でも、酸化ジルコニウムあるいは酸化チタンが
好ましく用いられる。これらの金属酸化物微粒子は単独で用いてもよいし、複数併用して
もよい。Ａ２層に含有させる金属酸化物微粒子としては、特に酸化ジルコニウムあるいは酸化チタンが好ましく用いられる。
【００５８】
Ａ２層における金属酸化物微粒子の含有量は、Ａ２層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、４０質量％以上がより好ましく、特に５０質量％以上が好ましい。上限の含有量は、９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下が好ましい。
【００５９】
Ａ２層は、上記した金属酸化物微粒子と樹脂を含有することが好ましい。このような樹脂としては、熱硬化性樹脂あるいは活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく、特に活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。ここで、活性エネルギー線硬化性樹脂とは、紫外線や電子線等の活性エネルギー線によって重合されて硬化する樹脂を意味する。
【００６０】
活性エネルギー線硬化性樹脂を得るための重合性化合物としては、前述のＡ１層に用いられる重合性化合物と同様の化合物を用いることができる。
【００６１】
Ａ２層は、上記した金属酸化物微粒子と活性エネルギー線硬化性樹脂とを含有する活性エネルギー線硬化性組成物をウェットコーティング法により塗布し、必要に応じて乾燥した後、活性エネルギー線を照射して硬化することにより形成されたものであることが好ましい。
【００６２】
活性エネルギー線硬化性組成物における活性エネルギー線硬化性樹脂の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、１０〜６５質量％の範囲が好ましく、１５〜６０質量％の範囲がより好ましく、特に２０〜５５質量％の範囲が好ましい。
【００６３】
活性エネルギー線硬化性組成物は、さらに光重合開始剤を含有することが好ましい。光
重合開始剤としては、前述のＡ１層に用いられる光重合開始剤と同様の化合物を用いることができる。光重合開始剤の含有量は、活性エネルギー線硬化性組成物の固形分総量１００質量％に対して、０．５〜１０質量％の範囲が適当である。
【００６４】
活性エネルギー線硬化性組成物には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合すること
ができる。例えば、酸化防止剤、紫外線吸収剤、粒子分散剤、レベリング剤、帯電防止剤
などを含有させることができる。
【００６５】
また、活性エネルギー線硬化性組成物は、更に上記高屈折率樹脂を含有することができ
る。
【００６６】
［第２色調補正層］
第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの波長２００〜７８０ｎｍの領域における最小反射率波長をλｂとしたとき、条件２（０ｎｍ≦（λａ−λｂ）≦２００ｎｍ）を満足させる必要がある。このためには、λｂは、２６０〜３２０ｎｍの範囲が好ましく、２８０〜３００ｎｍの範囲がより好ましい。
【００６７】
第２色調補正層におけるλｂを上記範囲とするには、第２色調補正層は、少なくともＢ１層およびＢ２層を含み、Ｂ２層はＢ１層より基材フィルム側に位置する構成とすることが好ましい。つまり、「基材フィルム／Ｂ２層／Ｂ１層」の構成であることが好ましい。
【００６８】
ここで、Ｂ１層は屈折率が１．５５以下でかつ膜厚が７０ｎｍ未満であることが好ましく、Ｂ２層は屈折率が１．６５〜１．８５で膜厚５０ｎｍ未満であることが好ましい。
【００６９】
Ｂ１層の屈折率は、透明導電膜の「骨見え」抑制の観点から、更に１．５４以下が好ましく、１．５３以下がより好ましい。Ｂ１層の屈折率の下限は特に限定されないが、Ｂ１層の屈折率を小さくするためには、低屈折率材料（低屈折率無機粒子やフッ素化合物）を比較的多量に含有させる必要があり、その結果、Ｂ１層の透明性が低下したり、膜物性（強度）が低下するなどの不都合が生じることがあることから、Ｂ１層の屈折率の下限は１．３５以上が好ましく、１．４０以上がより好ましく、１．４３以上が更に好ましく、特に１．４５以上が好ましい。
【００７０】
Ｂ１層の膜厚は、更に透明導電膜の「骨見え」を抑制するという観点から、６０ｎｍ以下が好ましく、５０ｎｍ以下がより好ましく、４５ｎｍ以下が特に好ましい。Ｂ１層の膜厚の下限は、上記観点から、２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が更に好ましく、３５ｎｍ以上が特に好ましい。
【００７１】
Ｂ２層の屈折率は、透明導電膜の「骨見え」抑制の観点から、更に１．６７以上が好ましく、１．６９以上がより好ましい。
【００７２】
Ｂ２層の屈折率の上限は、１．８５以下が好ましく、１．８０以下がより好ましく、１．７８以下が特に好ましい。Ｂ２層は後述するように、高屈折率材料である金属酸化物微粒子と樹脂を含有させた層であることが好ましいが、このようなＢ２層の屈折率を、１．８５を超えて大きくするには多量の金属酸化物微粒子を含有させる必要があり、その結果、Ｂ２層の透明性が低下したり、膜強度が低下したり、あるいは塗布性が低下するなどの不都合な問題が発生することがある。
【００７３】
Ｂ２層の屈折率は、基材フィルムの屈折率より０．０３以上大きいことが好ましく、０．０４以上大きいことがより好ましく、０．０５以上大きいことが特に好ましい。上記差の上限は０．２０以下が好ましく、０．１５以下がより好ましく、０．１０以下が特に好ましい。これによって、更に透明導電膜の「骨見え」の抑制効果が向上する。
【００７４】
Ｂ２層の膜厚は、透明導電膜の「骨見え」の抑制の観点から、更に４５ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下が特に好ましい。下限の膜厚は、上記観点から２０ｎｍ以上が好ましく、２５ｎｍ以上がより好ましく、３０ｎｍ以上が特に好ましい。
【００７５】
第２色調補正層は、更に、基材フィルムとＢ２層との間にＢ３層を含むことが好ましい。つまり、「基材フィルム／Ｂ３層／Ｂ２層／Ｂ１層」の構成であることが好ましい。
【００７６】
Ｂ３層は屈折率が１．４８〜１．８０でかつ膜厚が０．１μｍ以上であることが好ましい。
【００７７】
第２色調補正層がＢ３層を含むことにより、透明導電膜の視認性の向上を図りながら、ベースフィルムの耐擦傷性の向上効果や基材フィルムからのオリゴマー析出の抑制効果が得られる。
【００７８】
Ｂ３層の膜厚は、ベースフィルムの耐擦傷性を向上させるという観点および基材フィルムからのオリゴマー析出を抑制するという観点から、０．１μｍ以上が好ましく、０．３μｍ以上がより好ましく、０．５μｍ以上が特に好ましい。Ｂ３層の膜厚の上限は、透明導電膜の視認性、Ｂ３層のクラックの発生、ベースフィルムのカール性等の観点から、３μｍ以下が好ましく、２．５μｍ以下がより好ましく、特に２μｍ以下が好ましい。
【００７９】
［Ｂ１層の形成］
Ｂ１層は、スパッタリング等のドライプロセスで形成された無機膜であってもよいし、ウェットコーティング法で形成された樹脂含有層であってもよい。
【００８０】
Ｂ１層は、後者の樹脂含有層であることが好ましい。樹脂含有層をウェットコーティング法で形成する方法は、無機膜をドライプロセスで形成する方法に比べて生産効率に優れること、また後述のＢ２層やＢ３層と同一生産工程で生産できることから生産設備の統一化によるコストダウンが図られる。
【００８１】
上記したようにＢ１層は、樹脂を含有することが好ましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。また、Ｂ１層は、樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂を併用することができる。この場合の活性エネルギー線硬化性樹脂と熱硬化性樹脂の比率（質量比）は、９５：５〜５０：５０の範囲が適当である。
【００８２】
上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述のＡ１層と同様の樹脂を用いることができる。
【００８３】
Ｂ１層における樹脂の含有量は、Ｂ１層の固形分総量１００質量％に対して３０質量％以上が好ましく、５０質量％以上がより好ましく、６０質量％以上が特に好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましい。
【００８４】
Ｂ１層は、屈折率を１．５５以下に調整するために、低屈折率無機粒子や含フッ素化合物を含有することができる。低屈折率無機粒子および含フッ素化合物はそれぞれ単独で使用してもよいし、組み合わせて使用してもよい。
【００８５】
低屈折率無機粒子および含フッ素化合物としては、前述のＡ１層と同様の材料を用いることができる。Ｂ１層が低屈折率無機粒子を含有する場合の含有量は、Ｂ１層の固形分総量１００質量％に対して１〜４５質量％の範囲が好ましく、３〜３５質量％の範囲がより好ましく、特に５〜３０質量％の範囲が好ましい。
【００８６】
Ｂ１層が含フッ素化合物を含有する場合の含有量は、Ｂ１層の固形分総量１００質量％に対して１〜５０質量％の範囲が好ましく、５〜４５質量％の範囲がより好ましく、特に１０〜４０質量％の範囲が好ましい。
【００８７】
Ｂ１層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、Ｂ１層は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述のＡ１層と同様の光重合開始剤を用いることができる。
【００８８】
Ｂ１層における光重合開始剤の含有量は、Ｂ１層の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【００８９】
Ｂ１層の好ましい一つの態様として、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を含有する態様が挙げられる。かかるオリゴマー型光重合開始剤は、光重合開始性能（光によりラジカルを発生させる基）を有する繰り返し単位を２〜５０有する化合物である。この繰り返し単位は、側鎖に光ラジカル発生基を有するものが好ましく、かかる光ラジカル発生基としては公知の光ラジカル発生剤に由来する官能基を用いることができる。
【００９０】
本発明に用いることができるオリゴマー型光重合開始剤の代表例として、例えば、下記の一般式（１）に示す化合物が挙げられる。
【００９１】
【化１】
2016170467.tif 000002
【００９２】
式中、Ｙは直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基を表す。Ｒ１、Ｒ２はそれぞれ独立的に直鎖状又は分岐状のアルキル基を表し、Ｒ１とＲ２は相互に結合して環を形成してもよい。ｎは２〜５０の整数を表す。
【００９３】
Ｙの直鎖状又は分岐状の３価の炭化水素基の炭素数は、特に制限されないが、２〜１０が好ましく、２〜６がより好ましく、特に２〜３が好ましい。Ｒ１及びＲ２の直鎖状又は分岐状のアルキル基の炭素数は、特に制限されないが、１〜８が好ましく、１〜５がより好ましく、特に１〜３が好ましい。ｎは２〜３０が好ましく、２〜２０がより好ましく、２〜１０が特に好ましい。
【００９４】
上記の一般式（１）の中でも、下記一般式（２）の化合物が好ましく用いられる。
【００９５】
【化２】
2016170467.tif 000003
【００９６】
式中、Ｒ３は水素原子またはメチル基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびｎは一般式（１）と同義である。
【００９７】
また、一般式（１）、（２）において、オリゴマー型光重合開始剤の繰り返し単位の連鎖部の末端は、置換基が結合されている。置換基としては、オリゴマー重合開始剤に由来する基であってもよいし、オリゴマー重合停止剤に由来する基であってもよいが、通常は水素原子、炭化水素基が挙げられる。炭化水素基としては、例えば、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基などが挙げられる。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基などの低級アルキル基等が挙げられる。シクロアルキル基としては、シクロヘキシル、シクロへプチル基、シクロオクチル基およびこれ等のアルキル基置換体などが挙げられる。アリール基としては、フェニル基、およびそのアルキル基置換体等が挙げられる。
【００９８】
上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型光重合開始剤の具体例としては、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕プロパノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕ブタノン］、ポリ［２−ヒドロキシ−２−エチル−１−〔４−ビニル−フェニル〕ブタノン］等が挙げられる。
【００９９】
上記の一般式（１）、（２）で表されるオリゴマー型光重合開始剤は、一般に市販されており入手することができる。例えば、ランベルティ社製の商品名「エザキュアワン」、「エザキュアＫＩＰ１５０」、「エザキュアＫＩＰ６５ＬＴ」、「エザキュアＫＩＰ１００Ｆ」、「エザキュアＫＴ３７」、「エザキュアＫＴ５５」、「エザキュアＫＴＯ４６」、「エザキュアＫＩＰ７５／Ｂ」等を挙げることができる。
【０１００】
また、オリゴマー型光重合開始剤として、特開２０１１−９９９７４号公報に開示されている光ラジカル発生基を有するエチレン性不飽和化合物（同公報の式（２）〜式（７）の化合物）を重合して得られた化合物を用いることができる。
【０１０１】
Ｂ１層におけるオリゴマー型光重合開始剤の含有量は、Ｂ１層の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【０１０２】
Ｂ１層がオリゴマー型光重合開始剤を含有することの効果として以下の点が挙げられる。
【０１０３】
オリゴマー型光重合開始剤は、前述した単量体の光重合開始剤に比べて昇華性が低いので、Ｂ１層を塗布した後の乾燥工程（溶剤等加熱蒸発させる工程）の乾燥温度（加熱温度）を高くすることができる。
【０１０４】
活性エネルギー線硬化性樹脂と光重合開始剤を含有するＢ１層は、一般に基材フィルム上に塗布され、乾燥工程で乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化されることによって形成される。この製造過程の中で、乾燥工程での乾燥温度を高くすると、Ｂ１層中の光重合開始剤が昇華し減少することにより硬化が十分に行われないことがある。しかし、光重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤を用いることによって、上記課題が軽減される。
【０１０５】
Ｂ１層の乾燥工程での乾燥温度を高くすることによって、後工程（透明導電膜の製膜工程）に不利となる揮発成分（水分、有機溶剤、低分子量成分等）を、Ｂ１層あるいは基材フィルムとＢ１層の間に配置される他の層（例えば、Ｂ２層やＢ３層）から蒸発させることができる。
【０１０６】
このような揮発成分がベースフィルムに比較的多く存在すると、透明導電膜の製膜工程において真空度の調整に必要以上の時間を要したり、あるいは透明導電膜の結晶化が安定的に行われないなどの不都合な問題が起こることがある。
【０１０７】
Ｂ１層の形成にかかる好ましい方法は、少なくとも活性エネルギー線硬化性樹脂、光重合開始剤および有機溶媒を含有する塗布組成物（Ｂ１層の塗布液）を基材フィルム上にウェットコーティング法により塗布し、乾燥し、硬化する方法が挙げられる。
【０１０８】
塗布組成物を基材フィルム上に塗布するためのウェットコーティング法としては、前述のＡ１層と同様の塗布方法を用いることができる。
【０１０９】
基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、該組成物中に含有する有機溶媒を蒸発させるために乾燥される。乾燥方法としては、熱風乾燥や赤外線乾燥等が挙げられる。乾燥温度は、５０〜１２０℃の範囲が一般的である。
【０１１０】
塗布組成物に含有される光重合開始剤として前述のオリゴマー型光重合開始剤を用いた場合は、乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）を１３０℃以上とすることが好ましい。このように、乾燥温度を高くすることにより、前述したように揮発成分（水分、有機溶剤、低分子量成分）を、Ｂ１層あるいは基材フィルムとＢ１層の間に配置される他の層（例えば、Ｂ２層やＢ３層）から蒸発させることができる。
【０１１１】
塗布組成物がオリゴマー型光重合開始剤を含有する場合の乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）は、上記したように揮発成分を蒸発させると言う観点から、更に１４０℃以上が好ましく、特に１５０℃以上が好ましい。乾燥温度（乾燥工程における最高乾燥温度）の上限は２００℃以下が好ましく、１９０℃以下がより好ましい。
【０１１２】
基材フィルム上に塗布された塗布組成物は、乾燥された後、活性エネルギー線が照射されて硬化し、Ｂ１層が形成される。
【０１１３】
活性エネルギー線としては、紫外線、可視光線、赤外線、電子線、β線、γ線などが挙げられる。これらの活性エネルギー線の中でも、紫外線および電子線が好ましく、特に紫外線が好ましく用いられる。
【０１１４】
紫外線の照射光量は、５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましく、１００ｍＪ／ｃｍ２以上がより好ましく、特に１５０ｍＪ／ｃｍ２以上が好ましい。上限は２０００ｍＪ／ｃｍ２以下が好ましく、１０００ｍＪ／ｃｍ２以下がより好ましい。
【０１１５】
［Ｂ２層の形成］
Ｂ２層は、屈折率が１．６５〜１．８５であることが好ましく、このような比較的高い屈折率とするために、Ｂ２層は、金属酸化物微粒子を含有することが好ましい。かかる金属酸化物微粒子としては、前述のＡ２層と同様の金属酸化物微粒子を用いることができる。
【０１１６】
Ｂ２層における金属酸化物微粒子の含有量は、Ｂ２層の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましく、４５質量％以上が最も好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましく、特に８０質量％以下が好ましい。
【０１１７】
Ｂ２層は、樹脂を含有することがこのましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
【０１１８】
上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述のＡ１層と同様の樹脂を用いることができる。
【０１１９】
Ｂ２層における樹脂の含有量は、Ｂ２層の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。
【０１２０】
Ｂ２層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、Ｂ２層は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述のＡ１層と同様の光重合開始剤を用いることができる。
【０１２１】
Ｂ２層における光重合開始剤の含有量は、Ｂ２層の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【０１２２】
［Ｂ１層およびＢ２層の積層方法］
Ｂ１層とＢ２層とを、それぞれウェットコーティングにより塗布して積層する場合、Ｂ１層とＢ２層とをそれぞれ別々に塗布して積層してもよいし、同時に積層塗布してもよいし、あるいは１つの塗布液を１回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成してもよい。
【０１２３】
Ｂ１層とＢ２層とをそれぞれ別々に塗布して積層する方法は、Ｂ２層をウェットコーティングし、乾燥および硬化せしめて形成した後、Ｂ１層をウェットコーティングし、乾燥および硬化せしめて形成する方法である。Ｂ１層とＢ２層の形成は、別々の工程で行ってもよいし、１つの工程で連続的に行ってもよい。
【０１２４】
Ｂ１層とＢ２層とをウェットコーティング法により同時に積層塗布する方法は、同時に積層塗布が可能なコーティング方法、例えば、多層スロットダイコーター、多層スライドビードコーター、エクストルージョン型ダイコーター等を用いてＢ１層とＢ２層とを同時に積層塗布し、乾燥および硬化せしめる方法である。
【０１２５】
１つの塗布液を１回ウェットコーティング法により塗布した後、層分離せしめて形成する方法は、例えば、特開２００８−７４１４号公報、特開２００８−７４１５号公報、特開２００９−５８９５４号公報、特開２００９−７５５７６号公報、特開２００９−１９８７４８号公報、特開２０１０−３９４１７号公報、特開２０１０−１９６０４３号公報、特開２０１０−２１５７４６号公報、特開２０１１−８４７１０号公報、特開２０１２−３１３２５号公報、特開２０１３−３６３９４号公報等に記載されており、これらの方法を参照して用いることができる。
【０１２６】
［Ｂ３層の形成］
Ｂ３層は、樹脂を含有することがこのましい。かかる樹脂としては、熱硬化性樹脂や活性エネルギー線硬化性樹脂が挙げられる。これらの樹脂の中でも、活性エネルギー線硬化性樹脂が好ましく用いられる。
【０１２７】
上記熱硬化性樹脂および活性エネルギー線硬化性樹脂としては、前述のＡ１層と同様の樹脂を用いることができる。
【０１２８】
Ｂ３層における樹脂の含有量は、Ｂ３層の固形分総量１００質量％に対して２０質量％以上が好ましく、３０質量％以上がより好ましく、４０質量％以上が特に好ましい。上限は９０質量％以下が好ましく、８５質量％以下がより好ましい。
【０１２９】
Ｂ３層が樹脂として活性エネルギー線硬化性樹脂を含有する場合は、Ｂ３層は更に光重合開始剤を含有することが好ましい。かかる光重合開始剤としては、前述のＡ１層と同様の化合物を用いることができる。
【０１３０】
Ｂ３層における光重合開始剤の含有量は、Ｂ３層の固形分総量１００質量％に対して０．１〜１０質量％の範囲が適当であり、０．５〜８質量％の範囲が好ましい。
【０１３１】
Ｂ３層は、更に粒子を含有することが好ましい。Ｂ３層が粒子を含有することにより、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムの耐ブロッキング性が向上する。かかる粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）は、Ｂ３層の膜厚（ｄ：μｍ）に対する比率（ｒ／ｄ）が、０．０２〜０．５０の範囲が好ましい。このような粒子をＢ３層に含有させることにより、ベースフィルムおよび透明導電性フィルムのヘイズ値を上昇させることなく耐ブロッキング性の向上が図られる。
【０１３２】
かかる粒子としては、有機粒子および無機粒子の中から適宜選択して用いることができる。例えば、有機粒子としては、アクリル粒子、ポリスチレン粒子、シリコーン粒子など、無機粒子としては、シリカ粒子などが好ましく用いられる。
【０１３３】
Ｂ３層におけるシリカ粒子の含有量は、Ｂ３層の固形分総量１００質量％に対して１〜３０質量％の範囲が好ましく、３〜２５質量％の範囲がより好ましく、５〜２０質量％の範囲が特に好ましい。
【０１３４】
［基材フィルム］
本発明における基材フィルムの材料は、特に限定されるものではないが、かかる材料として、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（以下、「ＰＥＴ」と称することがある。）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなど）、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリスチレン、トリアセチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリエチレン、エチレン−酢酸ビニル共重合体、ポリビニルブチラール、金属イオン架橋エチレン−メタクリル酸共重合体、ポリウレタン、セロファン等が挙げられる。好ましくは、熱、溶剤、折り曲げ等の加工時の負荷に対する耐性が高く、透明性が特に高い点で、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂等が挙げられ、より好ましくは、加工性に優れている点でポリエステルが使用される。このポリエステルの中でもポリエチレンテレフタレートが特に好ましい。
【０１３５】
ポリエチレンテレフタレートフィルムの屈折率は、通常１．６１〜１．７０の範囲であり、このような屈折率を有するポリエチレンテレフタレートフィルムを基材フィルムとして用いることにより、前述の第１色調補正層および第２色調補正層との組み合わせにより、上記した効果（透明導電膜の視認性の向上（「骨見え」抑制）、および全光線透過率の向上）が得られやすくなる。
【０１３６】
上記観点から、基材フィルムの屈折率は、更に１．６２〜１．６９の範囲が好ましく、１．６３〜１．６８の範囲がさらに好ましく、１．６４〜１．６７の範囲が特に好ましい。
【０１３７】
基材フィルムの厚みは、２０〜３００μｍの範囲が適当であるが、剛性、強度、加工性等の観点から、５０μｍ以上が好ましく、７５μｍ以上がより好ましい。基材フィルムの上限の厚みは３００μｍ以下が好ましく、２５０μｍ以下がより好ましく、２００μｍ以下が特に好ましい。
【０１３８】
［易接着層］
基材フィルムは、第１色調補正層が積層される面および第２色調補正層が積層される面に、それぞれ易接着層が設けられていることが好ましい。基材フィルムと第１色調補正層との間、および基材フィルムと第２色調補正層との間に、それぞれ易接着層を介在させることにより、基材フィルムと第１色調補正層および第２色調補正層との密着力が向上する。
【０１３９】
易接着層は、樹脂を主成分とする層であることが好ましい。すなわち、易接着層の固形分総量１００質量％に対して樹脂を５０質量％以上含むことが好ましく、６０質量％以上含むことがより好ましく、７０質量％以上含むことが特に好ましく、８０質量％以上含むことが最も好ましい。上限は９９質量％以下が好ましく、９８質量％以下がより好ましく、特に９５質量％以下が好ましい。
【０１４０】
このような樹脂としては、ポリエステル樹脂、アクリル樹脂、ウレタン樹脂が好ましく用いられる。これらの樹脂の中でもポリエステル樹脂が好ましく、さらに分子中にナフタレン環を有するポリエステル樹脂が好ましく用いられる。
【０１４１】
易接着層の厚みは、１０〜２００ｎｍの範囲が好ましく、１５〜１５０ｎｍの範囲がより好ましく、２０〜１２０ｎｍの範囲が特に好ましい。
【０１４２】
また、基材フィルムとしてポリエチレンテレフタレートフィルムを用いる場合、易接着層の屈折率は、第１色調補正層および第２色調補正層の干渉縞を抑制するという観点から、１．５５〜１．７０の範囲が好ましく、１．５７〜１．６６の範囲がより好ましく、１．５８〜１．６５の範囲が特に好ましい。
【０１４３】
易接着層の屈折率を上記範囲に調整するには、樹脂としてナフタレン環を有するポリエステル樹脂やフルオレン環を有するポリエステル樹脂を用いることが好ましい。また、前述した屈折率が１．６５以上である金属酸化物粒子を含有させることによって、易接着層の屈折率を上記範囲に調整することができる。
【０１４４】
［ベースフィルム］
本発明にかかるベースフィルムは、基材フィルムの一方の面に第１色調補正層を有し、前記基材フィルムの他方の面に第２色調補正層を有する。
【０１４５】
第１色調補正層は、少なくともＡ１層含むことが好ましく、更にＡ２層を含むことが好ましい。
【０１４６】
第２色調補正層は、少なくともＢ１層およびＢ２層を含むことが好ましく、更にＢ３層を含むことが好ましい。
【０１４７】
本発明にかかるベースフィルムの好ましい構成は、「Ａ１層／基材フィルム／Ｂ２層／Ｂ１層」であり、更に好ましい構成は、「Ａ１層／基材フィルム／Ｂ３層／Ｂ２層／Ｂ１層」であり、特に好ましい構成は、「Ａ１層／Ａ２層／基材フィルム／Ｂ３層／Ｂ２層／Ｂ１層」である。ここで、基材フィルムの両面にはそれぞれ易接着層が設けられていることが好ましい。
【０１４８】
本発明におけるベースフィルムの全光線透過率は９０％以上が好ましく、９１％以上がより好ましく、９２％以上が特に好ましい。全光線透過率は高いほど好ましく、上限は特に限定されないが、現実的には９８％程度である。
【０１４９】
また、ベースフィルムの透過色は無彩色であることが好ましく、Ｌ＊ａ＊ｂ＊表色系で示されるａ＊及びｂ＊はそれぞれ、−１．０以上０．５以下であることが好ましく、−０．５以上０．２以下であることがより好ましく、−０．３以上０．０以下であることが特に好ましい。
【０１５０】
［透明導電性フィルム］
透明導電性フィルムは、前述のベースフィルムの第２色調補正層の上に透明導電膜を設けることにより得られる。
【０１５１】
タッチパネルとしては、抵抗膜式タッチパネルと静電容量式タッチパネルが主流であるが、本発明の透明導電性フィルムはいずれのタッチパネルにも用いることができる。特に、本発明の透明導電性フィルムは、静電容量式タッチパネルに好適である。
【０１５２】
静電容量式タッチパネルの透明導電性フィルムの透明導電膜は、通常、所定のパターンにパターン化されている。この透明導電膜のパターン化は、透明導電膜をエッチング処理することにより行われる。
【０１５３】
パターン化された透明導電膜を有する透明導電性フィルムは、透明導電膜のパターン部（透明導電膜がエッチングされずに残存している部分（導電部））と非パターン部（透明導電膜がエッチングされて除去された部分（非導電部））との反射率や透過率の違い、あるいはパターン部と非パターン部の色調の違いにより、パターン部が視認される、いわゆる「骨見え」が起こり、透明導電膜の視認性を低下させている。
【０１５４】
また、ベースフィルムで発生する干渉縞も透明導電膜の視認性低下の原因となっている。
【０１５５】
これらの透明導電膜の視認性低下の問題（特に「骨見え」の問題）は、本発明のベースフィルムを用いることにより解決する。
【０１５６】
透明導電性フィルムは、全光線透過率が８５％以上であることが好ましく、８７％以上であることがより好ましい。上限は特に限定されないが、現実的には９８％程度である。このような透明導電性フィルムは、本発明のベースフィルムを用いることによって得ることができる。
【０１５７】
例えば、本発明のベースフィルムの第２色調補正層の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜（膜厚２５ｎｍ）を積層して得られた透明導電性フィルムの全光線透過率は、ベースフィルムの全光線透過率に対して、０．２〜２％程度低下することを確認している。従って、透過率の高いベースフィルムを用いることによって、透過率の高い透明導電性フィルムが得られる。なお、以下の実施例および比較例においても、透明導電性フィルムの透過率は、ベースフィルムの透過率から０．２〜２％低下するに留まった。
【０１５８】
［透明導電膜］
透明導電膜の表面抵抗値は、タッチパネル用途であることに鑑みて、１０００Ω／□以下が好ましく、５００Ω／□以下がより好ましく、２００Ω／□以下が特に好ましい。下限の表面抵抗値は、１０Ω／□程度である。
【０１５９】
上記観点（表面抵抗値を小さくするという観点）から、透明導電膜の厚みは、１０ｎｍ以上が好ましく、１５ｎｍ以上がより好ましく、２０ｎｍ以上が特に好ましい。一方、透明導電膜の厚みが大きくなりすぎると視認性が低下したり、透明性が低下するなどの不都合が生じることがあるので、透明導電膜の厚みの上限は、５０ｎｍ以下が好ましく、４０ｎｍ以下がより好ましく、３５ｎｍ以下が特に好ましい。
【０１６０】
上記したように、透明導電膜の表面抵抗値を小さくするために、透明導電膜の厚みを大きくすると、視認性が低下する（特に「骨見え」が起こりやすくなる）。
【０１６１】
従って、本発明のベースフィルムは、厚みが２０ｎｍ以上でパターン化された透明導電膜の場合に、その「骨見え」を有効に抑制することができる。
【０１６２】
透明導電膜の材料としては、透明導電性フィルムに用いられる公知の材料を用いることができる。例えば、酸化錫、酸化インジウム、酸化アンチモン、酸化亜鉛、ＩＴＯ（酸化インジウム錫）、ＡＴＯ（酸化アンチモン錫）などの金属酸化物、銀ナノワイヤーなどの金属ナノワイヤー、カーボンナノチューブ等が挙げられる。これらの中でもＩＴＯが好ましく用いられる。
【０１６３】
透明導電膜の屈折率は１．８１以上であることが好ましい。さらに透明導電膜の屈折率は１．８５以上が好ましく、１．９０以上がより好ましい。上限は２．２０以下が好ましく、２．１０以下がより好ましい。
【０１６４】
透明導電膜の形成方法としては特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。具体的には、例えば真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法等のドライプロセスを用いることができる。
【０１６５】
透明導電膜はパターン化されていることが好ましい。透明導電膜のパターン化は、透明導電性フィルムが適用される用途に応じて、各種のパターンを形成することができる。なお、透明導電膜のパターン化により、パターン部と非パターン部が形成されるが、パターン部のパターン形状としては、例えば、ストライプ状、格子状、あるいはこれらの組み合わせ等が挙げられる。具体的には、例えば、特開２００６−３４４１６３号公報、特開２０１１−１２８８９６号公報等に開示されているパターンが挙げられる。
【０１６６】
透明導電膜のパターン化は、一般的にはエッチングによって行われる。例えば、透明導電膜上に所定パターンのエッチングレジスト膜を、フォトリソグラフィ法、レーザー露光法、あるいは印刷法により形成した後エッチン処理することにより、透明導電膜がパターン化される。
【０１６７】
エッチング液としては、従来公知のものが用いられる。例えば、塩化水素、臭化水素、硫酸、硝酸、リン酸等の無機酸、酢酸等の有機酸、およびこれらの混合物、ならびにそれらの水溶液が用いられる。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではない。尚、本実施例における、測定方法および評価方法を以下に示す。
【０１６９】
［測定方法および評価方法］
（１）第１色調補正層の最小反射率波長（λａ）の測定
得られたベースフィルムの第２色調補正層側の面を＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、第１色調補正層の面の波長３８０〜７８０ｎｍにおける反射スペクトルを、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて測定した。次に、上記得られた反射スペクトルから、波長３８０〜７８０ｎｍにおける最小反射率波長（λａ）を求めた。
【０１７０】
（２）第２色調補正層の最小反射率波長（λｂ）の測定
得られたベースフィルムの第１色調補正層側の面を＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、第２色調補正層の面の波長２００〜７８０ｎｍにおける反射スペクトルを、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて測定した。次に、上記得られた反射スペクトルから、波長２００〜７８０ｎｍにおける最小反射率波長（λｂ）を求めた。
【０１７１】
（３）ベースフィルムの全光線透過率の測定
ＪＩＳ Ｋ ７１３６（２０００）に基づき、日本電色工業（株）製の濁度計「ＮＤＨ−２０００」を用いて測定した。測定に際し、ベースフィルムの第２色調補正層の表面に光が入射するように配置した。
【０１７２】
（４）ベースフィルムの透過色の測定
分光光度計（島津製作所製の「ＵＶ３１５０ＰＣ」）を用いて、波長３８０〜７８０ｎｍの透過率を測定し、Ｃ光源における透過色（ＪＩＳ Ｚ８７８１−４：２０１３において規定されているａ＊、ｂ＊）を求めた。
【０１７３】
（５）屈折率の測定１
各層を形成するための塗布組成物をシリコンウエハー上にスピンコーターにて塗工形成した塗膜（乾燥厚み約２μｍ）について、２５℃の温度条件下で位相差測定装置（ニコン（株）製：ＮＰＤＭ−１０００）で５８９ｎｍの屈折率を測定した。この塗工形成した塗膜の屈折率をもって各層の屈折率とする。よって、下記の実施例および比較例における各層の屈折率の値は、ここで測定した屈折率の値である。
【０１７４】
（６）屈折率の測定２
基材フィルム（ＰＥＴフィルム）の屈折率は、ＪＩＳ Ｋ７１０５（１９８１）に準じて、アッベ屈折率計で５８９ｎｍの屈折率を測定した。
【０１７５】
（７）屈折率の測定その３（透明導電膜の屈折率）
透明導電膜を、屈折率が既知のＰＥＴフィルム上に実際の積層条件と同条件で所定の厚み（例えば２５ｎｍ）となるように積層して屈折率測定用サンプルを作製した。次に、屈折率測定用サンプルの透明導電膜薄の反射率と膜厚をそれぞれ測定した。このようにして得られた反射率、膜厚、およびＰＥＴフィルムの屈折率とから、透明導電膜の屈折率を算出した。
【０１７６】
上記反射率は、透明導電膜が積層された面とは反対側のＰＥＴフィルム面に＃３２０〜４００の耐水サンドペーパーで均一に傷をつけた後、黒色塗料（黒マジックインキ（登録商標）液）を塗布して、反対側の面からの反射を完全になくした状態にして、島津製作所（株）の分光光度計ＵＶ−３１５０を用いて５５０ｎｍの反射率を測定する。
【０１７７】
透明導電膜の厚みは、下記（８）の方法にて測定する。
【０１７８】
（８）第１色調補正層、第２色調補正層及び透明導電膜の厚みの測定
ベースフィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で加速電圧１００ｋＶにて観察（１〜３０万倍の倍率で観察）し、その断面写真から厚みを測定する。尚、表面に粒子もしくは粒子集合体の突起を有する層については、突起が存在しない部分における厚みである。厚みの測定は５箇所で行い、その平均値を厚みとした。
【０１７９】
（９）易接着層の厚みの測定
易接着層が積層された基材フィルムの断面を超薄切片に切り出し、ＲｕＯ４染色、ＯｓＯ４ 染色、あるいは両者の二重染色による染色超薄切片法により、ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）で断面構造が目視可能な以下の条件にて観察し、その断面写真から易接着層の厚みを測定する。尚、測定個所は粒子が存在しない部分である。なお、５箇所を測定して、その平均値を易接着層の厚みとした。
・測定装置：透過型電子顕微鏡（日立（株）製  Ｈ−７１００ＦＡ型）
・測定条件：加速電圧  １００ｋＶ
・試料調整：凍結超薄切片法
・倍率：３０万倍。
【０１８０】
（１０）透明導電膜の表面抵抗値の測定
パターン化する前の透明導電膜の表面抵抗値を、株式会社三菱アナリテック製の抵抗率計（ＡＸ ＭＣＰ−Ｔ３７０、ＡＳＰプローブ  ＭＣＰ−ＴＰ０３Ｐ）を用いて測定した。
【０１８１】
測定は１０ｃｍ×１０ｃｍのサンプルの無作為に選択した５箇所について行い、平均した。
【０１８２】
（１１）透明導電膜のパターンの視認性（「骨見え」）の評価
黒い板の上に、透明導電性フィルムを透明導電膜が上になるように置いて、目視により透明導電膜のパターン部が視認できるかどうか以下の基準で評価した。
○（最良）：パターン部が視認できない。
△（良好）：パターン部が僅かに視認できる。
×（不良）：パターン部が明確に視認できる。
【０１８３】
［原料］
《易接着層の塗布組成物》
易接着層形成用塗布液として下記の２種類の塗布液を用意した。
【０１８４】
＜易接着層形成用塗布液ｂ１＞
下記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、酸化ジルコニウムを６０質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は１．６５であった。
【０１８５】
＜ナフタレン環含有のポリエステル樹脂＞
下記の共重合組成からなるポリエステル樹脂である。
・カルボン酸成分
テレフタル酸                  ３５モル％
２，６−ナフタレンジカルボン酸  ９モル％
５−Ｎａスルホイソフタル酸    ６モル％
・グリコール成分
エチレングリコール          ４９モル％
ジエチレングリコール          １モル％。
【０１８６】
＜易接着層形成用塗布液ｂ２＞
上記のナフタレン環含有のポリエステル樹脂を１００質量部、メラミン系架橋剤（メチロール型メラミン系架橋剤（三和ケミカル（株）製の「ニカラック ＭＷ１２ＬＦ」））を１５質量部、平均粒子径が１９０ｎｍのコロイダルシリカを１質量部含有する水系分散物である。この塗布液の屈折率は１．５８であった。
【０１８７】
＜Ａ１層の塗布組成物＞
（塗布組成物ｃ１）
無機微粒子として中空シリカを固形分で５５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートを４２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イ
ルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール）に溶解・分散して
調製した。この塗布組成物の屈折率は１．３５であった。
【０１８８】
（塗布組成物ｃ２）
無機微粒子として中空シリカを固形分で４５質量部、ジペンタエリスリトールヘキサア
クリレートを５２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イ
ルガキュア９０７）３質量部を、有機溶媒（イソプロピルアルコール）に溶解・分散して
調製した。この塗布組成物の屈折率は１．３８であった。
【０１８９】
＜Ａ２層の塗布組成物＞
（塗布組成物ｄ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１３質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３４質量部）４７質量部、酸化ジルコニウム５０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６５であった。
【０１９０】
（塗布組成物ｄ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１６質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３８質量部）５４質量部、酸化ジルコニウム４３質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６２であった。
【０１９１】
（塗布組成物ｄ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート１０質量部とウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）３０質量部）４０質量部、酸化ジルコニウム５７質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)３質量部を有機溶剤（メチイソブチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６８であった。
【０１９２】
＜Ｂ１層の塗布組成物＞
（塗布組成物ｅ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを７８質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を２０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４８であった。
【０１９３】
（塗布組成物ｅ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを６８質量部、含フッ素化合物として（ダイキン工業（株）製のフッ素樹脂「ＡＲ１１０」）を３０質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）２質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．４６であった。
【０１９４】
（塗布組成物ｅ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレートを９７質量部、重合開始剤としてオリゴマー型光重合開始剤（ランベルティ社製のエザキュアワン；ポリ［２−ヒドロキシ−２−メチル−１−〔４−（１−メチルビニル）フェニル〕プロパノン］）３質量部を有機溶媒（メチルエチルケトン）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．５２であった。
【０１９５】
＜Ｂ２層の塗布組成物＞
（塗布組成物ｆ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３７質量部、酸化ジルコニウム６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７０であった。
【０１９６】
（塗布組成物ｆ２）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４３質量部、酸化ジルコニウム５４質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．６７であった。
【０１９７】
（塗布組成物ｆ３）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート３７質量部、酸化チタン６０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．７５であった。
【０１９８】
（塗布組成物ｆ４）
活性エネルギー線硬化性樹脂としてジペンタエリスリトールヘキサアクリレート２７質量部、酸化チタン７０質量部、および光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」）３質量部を有機溶媒（プロピレングリコールモノエチルエーテル）に分散・溶解して調製した。この塗布組成物の屈折率は１．８０であった。
【０１９９】
＜Ｂ３層の塗布組成物＞
（塗布組成物ｇ１）
活性エネルギー線硬化性樹脂として（ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート４２質量部、ウレタンアクリレートオリゴマー（根上工業（株）の「ＵＮ−９０１Ｔ」）４１質量部）８３質量部、下記の表面処理シリカ粒子分散液を固形分換算で１２質量部、光重合開始剤（チバ・スペシャリティ・ケミカルズ（株）製「イルガキュア（登録商標）１８４」)５質量部を有機溶剤（メチルイソブチルケトン）に分散あるいは溶解した塗布組成物である。この塗布組成物の屈折率は１．５１であった。
【０２００】
＜表面処理シリカ粒子分散液＞
コロイダルシリカ（日産化学工業株式会社製の「オルガノシリカゾル  ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ」、平均粒子径０．１３μｍ）３３０質量部に、アクリロイルオキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学工業（株）製）８質量部、トリデカフルオロオクチルトリメトキシシラン（ＧＥ東芝シリコーン（株）製）２質量部、及びジイソプロポキシアルミニウムエチルアセテート１．５質量部加え混合した後に、イオン交換水９質量を加えた。６０℃で８時間反応させた後に室温まで冷却し、アセチルアセトン１．８質量部を添加した。次に、この分散液にシクロヘキサノンを添加しながら、圧力２０ｋＰａで減圧蒸留による溶媒置換を行って分散液を得た。
【０２０１】
［実施例１］
下記の要領でベースフィルムを作製した。
【０２０２】
＜ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム）の作製＞
実質的に外部添加粒子を含有しないＰＥＴペレット（極限粘度０．６３ｄｌ／ｇ）を充分に真空乾燥した後、押し出し機に供給し２８５℃で溶融し、Ｔ字型口金よりシート状に押し出し、静電印加キャスト法を用いて表面温度２５℃の鏡面キャスティングドラムに巻き付けて冷却固化せしめた。この未延伸フィルムを９０℃に加熱して長手方向に３．４倍延伸し、一軸延伸フィルムとした。この一軸延伸フィルムの両面に空気中でコロナ放電処理を施した後、一軸延伸フィルムの一方の面（第１面）に易接着層の塗布液ｂ１、他方の面（第２面）に易接着層の塗布液ｂ２をそれぞれ塗布した。
【０２０３】
次に、両面にそれぞれの易接着層塗布液が塗布された一軸延伸フィルムをクリップで把持して予熱ゾーンに導き、雰囲気温度７５℃で乾燥、ラジエーションヒーターを用いて１１０℃に上げ、再度９０℃で乾燥した後、引き続き連続的に１２０℃の加熱ゾーンで幅方向に３．５倍延伸し、続いて２２０℃の加熱ゾーンで２０秒間熱処理を施し、結晶配向の完了した二軸延伸ＰＥＴフィルムを作製した。このＰＥＴフィルム（易接着層積層ＰＥＴフィルム）は、両面に易接着層を有するＰＥＴフィルムである。
【０２０４】
このＰＥＴフィルムの厚みは１００μｍ、第１面に設けられた易接着層の厚みは２０ｎｍ、第２面に設けられた易接着層の厚みは８０ｎｍであった。
【０２０５】
ＰＥＴフィルムの屈折率は１．６５、第１面の易接着層の屈折率は１．６５、第２面の易接着層の屈折率は１．５８であった。
【０２０６】
尚、ＰＥＴフィルムの屈折率は、両面に易接着層を積層しない以外は上記と同様の条件で製造したＰＥＴフィルムの屈折率を測定し、その値をＰＥＴフィルムの屈折率とした。
【０２０７】
＜ベースフィルムの作製＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層上に、Ｂ３層、Ｂ２層およびＢ１層をこの順で積層し、次いでＰＥＴフィルムの第１面の易接着層上にＡ１層を積層してベースフィルムを作製した。
【０２０８】
＜Ｂ３層の積層＞
上記で作製したＰＥＴフィルムの第２面の易接着層上に、塗布組成物ｇ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてＢ３層を形成した。このＢ３層は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．５１であった。
【０２０９】
なお、Ｂ３層に含まれるシリカ粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）は０．１３μｍで、シリカ粒子の含有量はＢ３層の固形分総量１００質量％に対して１２質量％である。Ｂ３層の膜厚（ｄ：μｍ）に対するシリカ粒子の平均粒子径（ｒ：μｍ）の比率（ｒ／ｄ）は、０．１３である。
【０２１０】
＜Ｂ２層の積層＞
上記で積層したＢ３層の上に、塗布組成物ｆ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてＢ２層を形成した。このＢ２層は、厚みが３０ｎｍ、屈折率が１．７０であった。
【０２１１】
＜Ｂ１層の積層＞
上記で積層したＢ２層の上に、塗布組成物ｅ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、１５０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてＢ１層を形成した。このＢ１層は、厚みが５０ｎｍ、屈折率が１．４８であった。
【０２１２】
＜Ａ１層の積層＞
ＰＥＴフィルムの第１面の易接着層の上に、塗布組成物ｃ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてＡ１層を形成した。このＡ１層は、厚みが８０ｎｍ、屈折率が１．３５であった。
【０２１３】
＜透明導電性フィルムの作成＞
上記で作成したベースフィルムのＢ１層の上に、透明導電膜としてＩＴＯ膜を厚みが２５ｎｍとなるようにスパッタリング法で積層し、次にこのＩＴＯ膜のみをストライプ状にパターン加工（エッチング処理）して、透明導電性フィルムを得た。透明導電膜の屈折率は２．００、表面抵抗値は１００Ω／□であった。
【０２１４】
［比較例１］
実施例１において、Ａ１層を積層しないこと以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２１５】
［実施例２〜５および比較例２、３］
実施例１において、Ａ１層の膜厚を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２１６】
［実施例６］
実施例１において、Ａ１層の塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２１７】
［実施例７、８および比較例４］
実施例１において、Ｂ１層の膜厚を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２１８】
［実施例９、１０］
実施例１において、Ｂ１層の塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２１９】
［実施例１１〜１３］
実施例１において、Ｂ２層の塗布組成物を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２２０】
［実施例１４、１５および比較例５］
実施例１において、Ｂ２層の膜厚を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２２１】
［比較例６〜９］
実施例１において、Ａ１層、Ｂ１層及びＢ２層の膜厚をそれぞれ表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２２２】
［比較例１０］
第１色調補正層として、従来のハードコート層に相当する下記のハードコート層を積層する以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。このとき、易接着層積層ＰＥＴフィルムとして、ＰＥＴフィルムの両面に易接着層塗布液ｂ２（屈折率１．５８）が乾燥厚み８０ｎｍでそれぞれ積層されたものを用いた。
【０２２３】
＜ハードコート層の積層＞
市販のハードコート剤（ＪＳＲ（株）製 オプスター（登録商標）Ｚ７５３４；固形分濃度６０質量％）を、固形分濃度が４５質量％になるようにメチルエチルケトンで希釈してハードコート層用塗工液とした。この塗工液をグラビアコーターで、易接着層積層ＰＥＴフィルムの一方の面（第１面）に塗工し、９０℃で乾燥後、紫外線５００ｍＪ／ｃｍ２を照射して硬化させ、厚みが１．０μｍのハードコート層を形成した。このハードコート層の屈折率は１．５１であった。
【０２２４】
［評価］
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムの両面から測定した最小反射率波長（λａおよびλｂ）、ベースフィルムの全光線透過率と透過色、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表１、評価結果を表２に示す。
【０２２５】
【表１−１】
2016170467.tif 000004
【０２２６】
【表１−２】
2016170467.tif 000005
【０２２７】
【表２】
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【０２２８】
本発明の実施例のベースフィルムは、透過色の着色が抑えられ且つ全光線透過率が向上しており、これらのベースフィルムを用いた透明導電性フィルムはいずれも、透明導電膜の視認性（パターン化された透明導電膜の「骨見え」）が良好である。
【０２２９】
一方、比較例１は、第１色調補正層を塗布していないため、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）が７８０ｎｍ以上であり、全光線透過率が低下している。
【０２３０】
比較例２は、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）が３８０ｎｍ未満であり、全光線透過率が低下している。
【０２３１】
比較例３は、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）が５００ｎｍより大きいので、透過色が着色している。
【０２３２】
比較例４、５は、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）と第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λｂ）の差が２００ｎｍより大きく、透過色が着色している。
【０２３３】
比較例６，７は、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）と第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λｂ）の差が１００ｎｍより小さく、透過色が着色している。
【０２３４】
比較例８，９は、第１色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）と第２色調補正層を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λｂ）の差が２００ｎｍより大きく、透過色が着色している。
【０２３５】
比較例１０は、層第１色調補正層（ハードコート層）を測定面とした反射スペクトルの最小反射率波長（λａ）が５００ｎｍより高く、透過色が着色しており、透過率が低下している。
【０２３６】
［実施例１６］
実施例１において、第１面の易接着層とＡ１層の間に下記のＡ２層を設けたこと以外は、実施例１と同様にしてベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２３７】
＜Ａ２層の積層＞
実施例１と同様にして作製したＰＥＴフィルムの第１面の易接着層上に、塗布組成物ｄ１をウェットコーティング法（グラビアコート法）により塗布して、９０℃（最高温度）で乾燥後、紫外線を５００ｍＪ／ｃｍ２照射し硬化させてＡ２層を形成した。このＡ２層は、厚み１．０μｍ、屈折率が１．６５であった。
【０２３８】
［実施例１７、１８］
実施例１６において、Ａ２層の塗布組成物を表３に示すように変更する以外は、実施例１６と同様にしてそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムを作製した。
【０２３９】
［評価］
上記で作製したそれぞれのベースフィルムおよび透明導電性フィルムについて、ベースフィルムの両面から測定した最小反射率波長、ベースフィルムの透過色、並びに透明導電膜の視認性を評価した。上記実施例の詳細な構成を表３、評価結果を表４に示す。
【０２４０】
【表３】
2016170467.tif 000007
【０２４１】
【表４】
2016170467.tif 000008