(57)【要約】【課題】高発光効率であり、安価に大面積化が可能な深紫外光を出射する蛍光体を提供する。【解決手段】ハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの粒子群からなり、深紫外光を出射する蛍光体であって、前記粒子群は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°を満たす。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの粒子群からなり、深紫外光を出射する蛍光体であって、
前記粒子群は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°を満たす蛍光体。
【請求項２】
前記ハロゲンはフッ素または塩素である請求項１に記載の蛍光体。
【請求項３】
前記ハロゲンはフッ素であり、前記粒子群は、マグネシウムに対して１．７ａｔｍ％以上１９．３ａｔｍ％以下の割合でフッ素を含む請求項２に記載の蛍光体。
【請求項４】
フッ素を含む酸化マグネシウムの粒子群からなり、深紫外光を出射する蛍光体であって、前記粒子群は、マグネシウムに対して１．７ａｔｍ％以上１９．３ａｔｍ％以下の割合でフッ素を含む、蛍光体。
【請求項５】
前記粒子群は、１００ｎｍ以上８μｍ以下の平均粒子径を有する、請求項１から４のいずれかに記載の蛍光体。
【請求項６】
前記蛍光体は、真空紫外光で励起され、２００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の前記深紫外光を出射する請求項１から５のいずれかに記載の蛍光体。
【請求項７】
前記粒子群は、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、マグネシウムアルコキシド、硝酸マグネシウムおよび酢酸マグネシウムからなる群から選択される少なくとも一種を含む前駆体と、前記ハロゲンを含むハロゲン化合物からなる焼結助剤とを混合し、混合物を、１０００℃以上１４００℃以下の温度で焼成することによって得られる請求項１から６のいずれかに記載の蛍光体。
【請求項８】
放電空間と、
前記放電空間中に封入された放電ガスと、
前記放電空間に接するように配置された請求項１から７のいずれかに規定される蛍光体とを備えた発光デバイス。
【請求項９】
第１電極、第２電極、および、前記第１電極および第２電極を覆う誘電体層を有する第１基板と、
前記誘電体層と対向するように前記第１基板に対して配置された第２基板と
をさらに備え、
前記第１基板および前記第２基板との間に前記放電ガスを含む前記放電空間が形成されるように前記第１基板および前記第２基板との間が封着され、
前記蛍光体が、前記放電空間に接するように前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方に支持されている請求項８に記載の発光デバイス。
【請求項１０】
前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方は前記深紫外光を透過する材料によって構成されている、請求項９に記載の発光デバイス。
【請求項１１】
前記深紫外光を透過する材料は石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムからなる群から選ばれる１種である請求項１０に記載の発光デバイス。
【請求項１２】
前記放電空間を有する放電管と、
前記放電管の内部に放電を発生させる少なとも一対電極と、
をさらに備え、
前記放電管の内部に前記蛍光体が配置されている請求項８に記載の発光デバイス。
【請求項１３】
前記放電空間を有する複数の放電管と、
前記放電管の内部に放電を発生させる少なとも一対電極と、
前記複数の放電管を支持するフレキシブルシートと
をさらに備え、
前記放電管の内部に前記蛍光体が配置されている請求項８に記載の発光デバイス。
【請求項１４】
前記複数の放電管と前記フレキシブルシートとの間に位置する反射層をさらに備えた請求項１３に記載の発光デバイス。
【請求項１５】
前記放電管は前記放電空間を規定する筺体を含み、前記筐体は、石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムからなる群から選ばれる１種によって構成されている請求項１２から１４のいずれかに記載の発光デバイス。
【請求項１６】
水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、マグネシウムアルコキシド、硝酸マグネシウムおよび酢酸マグネシウムからなる群から選択される少なくとも一種を含む前駆体と、前記ハロゲンを含むハロゲン化合物からなる焼結助剤とを混合し、混合物を得る工程と、
前記混合物を、１０００℃以上１４００℃以下の温度で焼成することによってハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの粒子群を得る工程と、
を包含し、
前記粒子群は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°を満たす、蛍光体の製造方法。
【請求項１７】
前記前駆体は、前記水酸化マグネシウムを含む請求項１６に記載の蛍光体の製造方法。
【請求項１８】
前記焼結助剤は、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウムおよび塩化ナトリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含む請求項１６または１７に記載の蛍光体の製造方法。
【請求項１９】
前記焼結助剤は、マグネシウムハロゲン化物である請求項１６または１７に記載の蛍光体の製造方法。
【請求項２０】
前記混合物における、前記焼結助剤の、前記前駆体および前記焼結助剤の合計に対する割合は、０．１０ｍｏｌ％以上１ｍｏｌ％以下である、請求項１６から１９のいずれかに記載の蛍光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、深紫外光を出射する蛍光体、深紫外光発光デバイスおよび蛍光体の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
波長が約２００〜３５０ｎｍである深紫外光は、殺菌、浄水、リソグラフ、照明などの様々な分野で利用されている。従来、深紫外光の光源としては、水銀ランプが広く使われている。しかし、環境負荷の観点から、例えば欧州のＷＥＥＥ＆ＲｏＨＳ指令のような、水銀などの環境有害物質に対する規制が厳しくなっている。このため、水銀ランプに代わる光源の開発が望まれている。また、水銀ランプは点発光であるため、大面積で均一な強度の光を必要とするリソグラフなどに利用する場合、複雑な光学設計が必要となるなどの問題もある。
【０００３】
このような課題を解決するため、特許文献１から３は、水銀を使用しない面発光の深紫外発光素子を開示している。具体的には、特許文献１は、窒化物半導体を用い、深紫外線を出射する半導体ＬＥＤを開示している。特許文献２は、ガスの放電で生じるプラズマによって、窒化物半導体を発光させる発光素子を開示している。特許文献３は、紫外光を発する蛍光体層を内部に形成した複数の放電細長管を並列に配置し、放電によって発生した紫外光で蛍光体層を励起するとによって紫外光を面発光させるデバイスを開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−２７８５５４号公報
【特許文献２】特開２０１１−１２４０００号公報
【特許文献３】特開２０１１−１９３９２９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本願に開示された例示的なある実施形態は、深紫外線を発光し得る蛍光体およびこの蛍光体を用いた深紫外光発光デバイスを提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本開示の蛍光体は、ハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの粒子群からなり、深紫外光を出射する蛍光体であって、前記粒子群は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°を満たす。
【発明の効果】
【０００７】
本開示の蛍光体は、深紫外光を高効率で出射する。このため、この蛍光体を用いて面発光が可能な発光デバイスを実現し得る。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】実施の形態１に係る発光デバイスの構成を示す図である。
【図２】実施の形態２に係る発光デバイスの構成を示す図である。
【図３】実施の形態３に係る発光デバイスの構成を示す図である。
【図４】粉末Ｘ線回折測定で得られた実施例の回折チャートの一例を示す。
【図５】実施例および比較例１〜３のＦＷＨＭ（４２０）の値と発光強度との関係を示す図である。
【図６】実施例および比較例１〜３の発光スペクトルの例を示す図である。
【図７】実施例および比較例のフッ素の含有量と発光強度との関係を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
まず、本開示の基礎となった知見について説明する。本発明者らは、従来技術には次の様な課題があることを発見した。すなわち、特許文献１、２に開示された発光素子を実現するためには、ＡｌＧａＮなどの窒化物半導体を真空中でエピタキシャル成長させて多層化しなければならない。このため、煩雑な製造プロセスおよび大がかりな装置が必要となる。また、半導体層を成長させるために、サファイアのような基板を用いなければならないため、大面積化することが困難である。特許文献３のデバイスは、蛍光体としてガドリニウムなどの希土類系の紫外発光蛍光体を用いる。このため３１１ｎｍ以下の波長を発光させることが難しい。殺菌や浄化の目的では３００ｎｍ以下の深紫外光が求められる。
【００１０】
そこで、本発明者らは、深紫外線を発光し得る蛍光体およびこの蛍光体を用いた深紫外光発光デバイスを提供すべく、鋭意研究した。この研究において、本発明者らは、単結晶の酸化マグネシウムをＸ線回折測定した場合に回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークに着目した。本発明者らは、従来は避けるべきと考えられていた多量のハロゲンを酸化マグネシウムに添加すると、（４２０）回折ピークの半値全幅が広がり、深紫外光を高効率で出射する蛍光体が得られることを発見した。なお、酸化マグネシウムが有する他の回折ピークでも半値全幅が広がっている可能性があるが、発明者らは（４２０）回折ピークが特に重要であると考えた。これは、（４２０）回折ピークが高角側に存在するピークであり、Ｘ線回折測定において、（２００）回折ピーク等の低角側の酸化マグネシウムの回折ピークよりも結晶表面付近から得られる信号を感度良く得ることができるからである。さらに、（４２２）回折ピーク等の他の高角側の回折ピークよりもピーク値が大きく、半値全幅を判別しやすいからである。
【００１１】
本開示の一態様の概要は以下のとおりである。
【００１２】
本開示の一態様に係る蛍光体は、ハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの微粒子からなり、深紫外光を出射する蛍光体であって、前記微粒子は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°を満たす。
【００１３】
前記ハロゲンはフッ素または塩素であってもよい。
【００１４】
前記ハロゲンはフッ素であり、前記微粒子は、マグネシウムに対して１．７ａｔｍ％以上１９．３ａｔｍ％以下の割合でフッ素を含んでいてもよい。
【００１５】
前記微粒子は、１００ｎｍ以上８μｍ以下の平均粒子径を有していてもよい。
本開示において、平均粒子径とは、前記微粒子を走作型電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して３個以上１００個以下の粒子像の外接円の直径を測定し、その測定値を平均したものである。走作型電子顕微鏡としては、ＨＩＴＡＣＨ  Ｓ−４２００を使用することができる。測定する微粒子は、スプレー法や印刷によりガラス等の基板上に塗布されたものであってもよい。蛍光体層が作成された後にあっては、微粒子の粒子径は、蛍光体層の表面、あるいは、断面をＳＥＭで観察することによって、測定する。なお、粒子サイズを求める他の方法として、レーザー回折・散乱式粒子径分布測定を用いてもよい。すなわち、作製した粉体群から任意に取り出した粒子の集団の全体積を１００％として累積カーブを求めたときの累積カーブが５０％となる粒子径を用いることもできる。この場合、測定装置として、日機装株式会社のマイクロトラックを用いることができる。
【００１６】
前記蛍光体は、真空紫外光で励起され、２００ｎｍ以上３００ｎｍ以下の前記深紫外光を出射してもよい。
【００１７】
前記微粒子は、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、マグネシウムアルコキシド、硝酸マグネシウムおよび酢酸マグネシウムからなる群から選択される少なくとも一種を含む前駆体と、前記ハロゲンを含むハロゲン化合物からなる焼結助剤とを混合し、混合物を、１０００℃以上１４００℃以下の温度で焼成することによって得られてもよい。
【００１８】
本開示の他の態様に係る蛍光体は、フッ素を含む酸化マグネシウムの微粒子からなり、深紫外光を出射する蛍光体であって、前記微粒子は、マグネシウムに対して１．７ａｔｍ％以上１９．３ａｔｍ％以下の割合でフッ素を含む。
【００１９】
本開示の一態様に係る発光デバイスは、放電空間と、前記放電空間中に封入された放電ガスと、前記放電空間に接するように配置された上記いずれかに規定される蛍光体とを備える。
【００２０】
前記発光デバイスは、第１電極、第２電極、および、前記第１電極および第２電極を覆う誘電体層を有する第１基板と、前記誘電体層と対向するように前記第１基板に対して配置された第２基板とをさらに備え、前記第１基板および前記第２基板との間に前記放電ガスを含む前記放電空間が形成されるように前記第１基板および前記第２基板との間が封着され、前記蛍光体が、前記放電空間に接するように前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方に支持されていてもよい。前記第１基板および前記第２基板の少なくとも一方は前記深紫外光を透過する材料によって構成されていてもよい。
【００２１】
前記深紫外光を透過する材料は石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムからなる群から選ばれる１種であってもよい。
【００２２】
前記発光デバイスは、前記放電空間を有する放電管と、前記放電管の内部に放電を発生させる少なとも一対電極とをさらに備え、前記放電管の内部に前記蛍光体が配置されていてもよい。
【００２３】
前記発光デバイスは、前記放電空間を有する複数の放電管と、前記放電管の内部に放電を発生させる少なとも一対の電極と、前記複数の放電管を支持するフレキシブルシートとをさらに備え、前記放電管の内部に前記蛍光体が配置されていてもよい。
【００２４】
前記発光デバイスは、前記複数の放電管と前記フレキシブルシートとの間に位置する反射層をさらに備えていてもよい。
【００２５】
前記放電管は前記放電空間を規定する筺体を含み、前記筐体は、石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムからなる群から選ばれる１種によって構成されていてもよい。
【００２６】
本開示の一態様に係る蛍光体の製造方法は、水酸化マグネシウム、炭酸マグネシウム、マグネシウムアルコキシド、硝酸マグネシウムおよび酢酸マグネシウムからなる群から選択される少なくとも一種を含む前駆体と、前記ハロゲンを含むハロゲン化合物からなる焼結助剤とを混合し、混合物を得る工程と、前記混合物を、１０００℃以上１４００℃以下の温度で焼成することによってハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの微粒子を得る工程とを包含し、前記微粒子は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、回折角２θが１０９．０°以上１１０．０°以下の範囲に存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°を満たす。
【００２７】
前記前駆体は、前記水酸化マグネシウムを含んでいてもよい。
【００２８】
前記焼結助剤は、フッ化マグネシウム、塩化マグネシウム、フッ化アルミニウム、フッ化カルシウム、フッ化リチウムおよび塩化ナトリウムからなる群から選ばれる少なくとも１種を含んでいてもよい。
【００２９】
前記焼結助剤は、マグネシウムハロゲン化物であってもよい。
【００３０】
前記混合物における、前記焼結助剤の、前記前駆体および前記焼結助剤の合計に対する割合は、０．１０ｍｏｌ％以上１ｍｏｌ％以下であってもよい。
【００３１】
以下、本開示の実施の形態及び実施例を説明する。本開示はこれらの形態に限定されず、種々の改変が可能である。なお、本開示では、深紫外線および真空紫外線を含む紫外領域の電磁波も「光」と呼ぶ。
【００３２】
（実施の形態１）
蛍光体の実施の形態を説明する。本開示の蛍光体は、ハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの微粒子からなり、深紫外光を出射する。以下の実施例において詳細に説明するように、微粒子は、ＣｕＫα線を使用する粉末Ｘ線回折測定において、１０９．０°以上１１０．０°以下の回折角２θの範囲に（４２０）回折ピークを有する。この（４２０）回折ピークは酸化マグネシウムの結晶に由来する。本発明者の詳細な検討によれば、（４２０）回折ピークの半値全幅（Ｆｕｌｌ  ｗｉｄｔｈ  Ｈａｌｆ  Ｍａｘｉｍｕｍ）の値が、酸化マグネシウムにおける深紫外光の発光強度と密接に関連していることが分かった。具体的には、（４２０）回折ピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）としたとき、下記式（１）の関係を満たしていれば、酸化マグネシウムの微粒子からなる蛍光体において、深紫外光の発光強度が大幅に高められることが分かった。ＣｕＫα線が、ＣｕＫα1線およびＣｕＫα2線を含む場合、ローレンチアンでピーク分離し、ＣｕＫα2線より得られるピークを除去し、ＣｕＫα1線より得られるピークの半値全幅をＦＷＨＭ（４２０）とした。
０．１６°≦ＦＷＨＭ（４２０）≦０．２０°        （１）
【００３３】
酸化マグネシウムが励起光によって深紫外光を出射することは知られているが、その強度はあまり高くない。例えば、単結晶の酸化マグネシウムも励起光によって深紫外光を出射することができるが、深紫外光の発光強度は高くない。これは、単結晶の酸化マグネシウムが発する蛍光に関する局所的なエネルギー準位が深紫外光のエネルギーに対応していないからと考えられる。
【００３４】
詳細な理由は現段階では明らかでないが、本発明者による研究の結果、酸化マグネシウムにハロゲン原子を含有させることによって、深紫外光の発光強度を高められることが分かった。ハロゲン原子は、フッ素、塩素、臭素およびヨウ素から選ばれる少なくとも１種である。具体的には、酸化マグネシウムの微粒子が、マグネシウムに対して１．７ａｔｍ％以上１９．３ａｔｍ％以下の割合でフッ素を含むことにより、（４２０）回折ピークが式（１）の関係を満たすようになり、深紫外光の発光強度を大幅に高めることができることが分かった。
【００３５】
式（１）の条件よりもＦＷＨＭ（４２０）が小さい場合、微粒子は、単結晶など、より高い結晶性を備えていると考えられる。しかし、この場合、深紫外光の発光強度は大きく低下する。これは深紫外光を発光し得る局所準位が十分に形成されていないからと考えられる。同様に式（１）の条件よりもＦＷＨＭ（４２０）が大きい場合、微粒子の結晶性は低下する。この場合、深紫外光を発光し得る局所準位以外の不要な準位が多く存在するため、深紫外光の発光強度が大きく低下すると考えられる。（４２０）回折ピークは高次の回折ピークであり、粉末Ｘ線回折装置に依存せず、おおよそ１０９．０°以上１１０．０°以下の角度で観察される。
【００３６】
本実施の形態の蛍光体の厳密な構造や化学組成は現段階では明らかではないが、フッ素原子が入ることにより、深紫外光の発光に適した準位が酸化マグネシウムのエネルギー準位中に形成されると考えられる。
【００３７】
上述した理由から、微粒子の大きさは深紫外光の発光効率あるいは発光強度と密接には関連していない。微粒子は蛍光体として一般的な大きさを有していてもよい。例えば、微粒子は、１００ｎｍ以上８μｍ以下の平均粒子径を有していてもてよい。
【００３８】
本実施の形態の蛍光体に含まれる微粒子は、深紫外光よりも短い波長の光を励起光として受け、中心波長が２３０ｎｍの深紫外の蛍光を発する。例えば励起光には真空紫外光を用いることが望ましく、波長１４７ｎｍの紫外光を用いてもよい。
【００３９】
本実施の形態の蛍光体は以下の方法によって製造することができる。本実施の形態の蛍光体は、酸化マグネシウムの前駆体と、焼結助剤とを混合し、混合物を、１０００℃以上１４００℃以下の温度で焼成することによって得ることができる。
【００４０】
前駆体としては、水酸化マグネシウム（Ｍｇ（ＯＨ）2）、炭酸マグネシウム（ＭｇＣＯ3）、マグネシウムアルコキシド、硝酸マグネシウム（Ｍｇ（ＮＯ3）2）および酢酸マグネシウム（Ｍｇ（ＣＨ3ＣＯＯ）2）からなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることができる。本発明者らの検討によると、結晶性の高い水酸化マグネシウムを前駆体として用いた場合に望ましい発光特性を得ることができる。これは前駆体である水酸化マグネシウムの結晶性が高いことにより、得られる酸化マグネシウムの粒子の結晶性も向上することに起因していると考えられる。前駆体として用いる上記化合物の粒子径を選択することによって、得られる微粒子の粒子径を変えることが可能である。また、上述した群から選ばれる少なくとも１種を含む限り、前駆体は酸化マグネシウムをさらに含んでいてもよい。
【００４１】
焼結助剤は、前駆体の溶融温度を低下させ、より低温で酸化マグネシウムの微粒子を焼成させる。焼結助剤として、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、塩化マグネシウム（ＭｇＣｌ2）、フッ化アルミニウム（ＡｌＦ3）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）、フッ化リチウム（ＬｉＦ）および塩化ナトリウム（ＮａＣｌ）からなる群から選ばれる少なくとも１種を用いることができる。焼成後の残留元素としてマグネシウム以外の元素が含まれる場合、元素種によっては発光特性に望ましくない影響を及ぼす可能性がある。マグネシウムハロゲン化物を用いることにより、望ましい発光特性を確保することができる。このように焼結助剤は適宜使い分けることができる。
【００４２】
前駆体および焼結助剤は、湿式または乾式によって混合することができる。乾式混合を行う場合は、工業的に通常用いられるボールミル、媒体撹拌ミル、遊星型ボールミル、振動ミル、ジェットミル、Ｖ型混合機等を用いることができる。原料中の粗大な粒子は、発光特性に悪影響を及ぼす可能性があるので、粒度を揃えるため分級を行うことが望ましい。
【００４３】
前駆体および焼結助剤の混合物は、１０００℃以上１４００℃以下の温度で１０分以上５時間以下の時間焼成する。焼成温度と焼成時間は、用いる前駆体の粒子径や分級条件、焼結助剤の添加量、混合粉体量など、様々な条件により適宜調整することができる。また、所望の発光特性を得るために、焼成時の雰囲気を酸化、あるいは還元雰囲気制御することもできる。焼成粉体量によっては、焼結助剤と前駆体との混合の均質性を高めるため、本焼成前に仮焼工程を経ることが望ましい。
【００４４】
仮焼工程は、例えば、大気中、７００℃以上１０００℃以下の温度で１５分以上５時間以下の時間行う。本焼成工程と同様に焼成温度と焼成時間は、上述した様な条件の違いによって適宜調製することが望ましい。仮焼工程により得られる粉体は解砕、混合する。この際、仮焼粉の混合方法も湿式混合及び乾式混合のいずれでもよい。湿式混合の場合は、例えば水のように、酸化マグネシウムの溶解を伴う溶媒を用いることは適当ではない。各焼成工程で利用する焼成炉は、工業的に通常用いられる炉、例えばプッシャー炉等の連続式、またはバッチ式の電気炉や、ガス炉等を用いることができる。さらに、本仮焼工程で得られた微粒子は、ボールミルやジェットミルなどを用いて再度解砕し、必要に応じて分級することにより、前記酸化マグネシウム粒子の粒度分布や流動性を調整することができる。
【００４５】
一般に純度の高い酸化マグネシウムはマグネシウム蒸気を酸素と反応させることによって得ることができる。この製造方法は気相酸化法と呼ばれる。気相酸化法で作製される酸化マグネシウムでは、粒径に比較的バラツキが生じる。これに対し、本実施の形態による蛍光体の製造方法によれば、前駆体を焼成することによってハロゲンを含む酸化マグネシウムの微粒子を作製している。この方法によれば、前駆体の種類を候補（材料種、粒子径、粒度分布等の各条件の違いを含む候補）の中から選定し、かつ、その焼成条件（焼成温度、焼成雰囲気、焼成時間等の焼成に必要な各条件）を適宜制御することにより、適切に微粒子の粒度分布を制御できる。従って、本実施の形態の方法によって得られる酸化マグネシウムの微粒子は、気相酸化法で作製される粒子よりも狭い粒度分布を有する。このため、一定の粒径範囲（１００ｎｍ〜８μｍ、特に５００ｎｍ〜２μｍの範囲）の微粒子を得ることが可能である。
【００４６】
この理由で本実施の形態による方法では、基本的に分級工程を行わなくてもよく、得られた微粒子をそのまま深紫外光を出射する蛍光体デバイスに利用することが可能である。このため分級工程を省略して工程の簡略化が図れ、製造効率及びコストの面で非常に有利である。さらに本実施の形態による方法は、気相酸化法のように専用の装置を必要とせず、従来の一般的なセラミック粉体の製造工程でも実施できるメリットがあるため、製造コストの効果的な抑制が期待できる。
【００４７】
本実施の形態による方法によって得られるハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの微粒子は、気相酸化法で作製された微粒子よりも小さい比表面積（ＢＥＴ）を有する。比表面積が小さいことにより、不要なガス吸着が抑制され、耐吸着性に優れる。このため、ガス吸着による発光特性の変化や経年劣化が生じにくい蛍光体を実現することができる。
【００４８】
なお、本焼成及び仮焼成を含む焼成工程において、焼成炉中の雰囲気に過度のガスの流通があると、焼結助剤として添加されているハロゲン成分が流通ガスとともに焼去されてしまい、最終生成物である酸化マグネシウム微粒子の結晶性が低下する場合がある。従って、このようなハロゲン成分の焼去を防止する対策とることが望ましい。また、ハロゲン原子を酸化マグネシウムの微粒子に添加することにより、微粒子の結晶性を向上させるとともに、焼成温度を低減できる。酸化マグネシウムの焼成温度は、従来２０００℃以上が一般的である。しかし、ハロゲン原子を材料に添加することによって、焼成温度を約５００℃低減（すなわち約１５００℃以下まで低減）することができる。
【００４９】
（実施の形態２）
発光デバイスの実施の形態を説明する。図１は本開示の発光デバイスにおける放電単位である放電セル構造を示す模式的組図である。発光デバイス１０１はフロントパネル２およびバックパネル９を備える。フロントパネル２は、フロントパネル基板（第１基板）３と、フロントパネル基板３の片面に設けられた、走査電極（第１電極）５および維持電極（第２電極）４を一対とする複数の表示電極対６と、表示電極対６を覆う誘電体層７と、保護層８とを含む。走査電極５および維持電極４はそれぞれ透明電極５１、４１およびバスライン５２、４２を含み、これらが積層されている。各表示電極対６において、酸化インジウム錫（ＩＴＯ）、酸化錫（ＳｎＯ2）等の透明導電性材料からなる帯状の透明電極５１、４１上にＡｇ厚膜、Ａｌ薄膜またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜などからなるバスライン５２、４２が設けられることにより表示電極対６全体のシート抵抗が下げられる。表示電極対６は真空蒸着法やイオンプレーティング法や印刷法のような公知の薄膜形成法により成膜される。
【００５０】
フロントパネル２側から深紫外光を取り出す場合、フロントパネル基板３および誘電体層７は深紫外光の透過を妨げない材料によって構成されていることが望ましい。フロントパネル基板３には例えば、石英ガラス（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）およびフッ化リチウム（ＬｉＦ）からなる群から選ばれる
１種を用いることができる。
【００５１】
保護層８は、誘電体層７および表示電極対６をプラズマ放電のイオン衝突から保護すると共に、二次電子を効率よく放出し、放電開始電圧を低下させる役目をなす。通常、保護層８は二次電子放出特性、耐スパッタ性、光学透明性に優れる酸化マグネシウムを用いて、真空蒸着法やイオンプレーティング法や印刷法のような公知の薄膜形成法により成膜される。また、保護層８は、真空蒸着法やイオンプレーティング法や印刷法のような公知の薄膜形成法により成膜された酸化マグネシウム（ＭｇＯ）膜上に、実施の形態１で説明した蛍光体を配置してもよい。
【００５２】
バックパネル９は、バックパネル基板（第２基板）１０と、バックパネル基板１０上に位置するデータを書き込むための複数のデータ（アドレス）電極１１とを含む。データ電極１１はフロントパネル２の表示電極対６と直交方向で交差するように配設される。データ電極１１は、バスライン５２、４２と同様、Ａｇ厚膜、Ａｌ薄膜またはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒ積層薄膜）等のいずれかからなり、真空蒸着法やイオンプレーティング法や印刷法のような公知の薄膜形成法により成膜される。データ電極１１は発光デバイス１０１の面内で、特定の領域を発光させるためのアドレス電極として機能する。このため、発光デバイス１０１の全面で深紫外光を発光させる際には、必ずしも必要ではない。バックパネル基板１０はデータ電極１１を覆う誘電体層１２および蛍光体層１４をさらに含む。誘電体層１２は必須ではなく、データ電極１１を直接蛍光体層１４が覆うように構成にしてもよい。隣接する放電セルとの境界上には、低融点ガラスからなり、所定の高さの隔壁１３が設けられる。隔壁１３は井桁状等のパターン部１２３１、１２３２を含み、放電空間１５を区画している。この隔壁１３は、低融点ガラス材料ペーストを塗布し、サンドブラスト法やフォトリソグラフィ法を用い、隣接放電セルとの境界周囲を仕切るように、放電セルの複数個の配列を行および列を仕切る井桁形状のパターンで形成する。また、隔壁１３は放電セルが区画されることで誤放電や光学的なクロストークの発生を防ぐ役割をはたす。隔壁１３は、発光デバイス１０１の全面で深紫外光を発光させる場合にはなくてもよい。しかし、隔壁１３は、フロントパネル２とバックパネル９の間に放電空間を作り出すためのスペーサーの役割を果たす。このため、パネルのサイズや発光面積に応じて区画間隔を調整すればよく、例えばストライプ状やドット状の形で形成されても良い。
【００５３】
誘電体層１２表面と隔壁１３の側面には実施の形態１で説明した蛍光体が塗布および焼成されてなる蛍光体層１４が形成されている。蛍光体層１４は、スプレー法や静電塗布法、スリットコート法、ドクターブレード法、ダイコート法で形成することができる。蛍光体層１４の形成法はこれらに限られずこれ以外の方法でもよい。製造コストを考慮すると、厚膜形成技術として工業的に広く用いられているスクリーン印刷法を用いるのが一般的である。印刷法は、使用するインクの固形分比率やスクリーンメッシュの仕様により、容易に塗着量を制御できる点でも優れている。
【００５４】
バックパネル９側から深紫外光を取り出す場合、バックパネル基板１０および誘電体層１２は深紫外光の透過を妨げない材料によって構成されていることが望ましい。バックパネル基板１０には例えば、石英ガラス（ＳｉＯ2）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ2）、フッ化カルシウム（ＣａＦ2）およびフッ化リチウム（ＬｉＦ）からなる群から選ばれる
１種を用いることができる。
【００５５】
フロントパネル２とバックパネル９は、表示電極対６とデータ電極１１とが放電空間１５をおいて互いに直交するように配置され、両パネル２、９の外周縁部がガラスフリット、あるいは紫外硬化性の樹脂などにより封着される。この際に内部に形成され、封止された放電空間１５には、放電ガスとしてＸｅ−Ｎｅ系、あるいはＸｅ−Ｈｅ系等の希ガスが約数十ｋＰａの圧力で封入される。
【００５６】
蛍光体層１４を構成する蛍光体は実施の形態１で説明したようには、ハロゲン原子を含む酸化マグネシウムの微粒子によって構成される。
【００５７】
発光デバイス１０１において、走査電極５と維持電極４との間に電圧を印加すると、放電ガスの種類に応じた波長の真空紫外光が放電空間中に発生する。発生した真空紫外光は、蛍光体層１４の蛍光体に励起光として入射する。これにより、蛍光体層１４から深紫外光が出射する。生成した深紫外光は、例えば、フロントパネル２から外部へ出射する。
【００５８】
本実施の形態によれば、水銀や、窒化物半導体あるいはサファイア基板を用いることなく、深紫外光を出射することが可能な発光デバイスが実現し得る。また、蛍光体層全体から深紫外光を出射することができるため、大面積化が容易である。
【００５９】
（実施の形態３）
発光デバイスの他の実施の形態を説明する。図２は、本実施の形態の発光デバイス１０２を開示している。発光デバイス１０２は、複数の放電管１１１と、フレキシブルシート１１３と、フレキシブルシート上に設けられた反射層１１４と、反射層１１４上に設けられた複数組の電極対１１２Ｘ、１１２Ｙとを備える。放電管１１１は、長手方向に垂直な面において例えば扁平な楕円形状を有しており、内部に放電空間１２１を備える。放電空間には、Ｘｅ−Ｎｅ系、Ｘｅ−Ｈｅ系等の放電ガスが充填されている。放電管１１１の筐体は、深紫外光を透過する材料によって構成されている。具体的には筐体は、石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムからなる群から選ばれる１種によって構成されている。放電空間１２１に接するように放電管１１１の内側には実施の形態１の蛍光体を含む蛍光体層１２３が設けられている。
【００６０】
電極対１１２Ｘ、１１２Ｙは、放電管１１１の長手方向と垂直に伸びるストライプ形状を有しており、導電性部材は薄膜によって構成されている。反射層１１４は、深紫外光を反射し得る材料、たとえは、金属膜によって構成されている。反射層１１４が導電性を有する場合には、電極対１１２Ｘ、１１２Ｙと反射層１１４との間に深紫外光を透過し得る絶縁性膜を設けてもよい。
【００６１】
発光デバイス１０２において、電極対１１２Ｘ、１１２Ｙとの間に電圧を印加すると、放電管１１１の内部の放電ガスの種類に応じた波長の真空紫外光が放電空間中に発生する。発生した真空紫外光は、蛍光体層１２３の蛍光体に励起光として入射する。これにより、蛍光体層１２３から深紫外光が出射する。生成した深紫外光は、放電管１１１の外部へ出射する。発光デバイス１０２から出射した深紫外光のうち、フレキシブルシート１１３側へ出射した深紫外光は反射層１１４によって反射される。よって、発光デバイス１０２は、フレキシブルシート１１３と反対側へ効率よく深紫外光を出射する。
【００６２】
また、蛍光体層１２３の蛍光体は酸化マグネシウムからなる。酸化マグネシウムは二次電子放出特性に優れるため、放電電圧を低下させることができる。また、放電空間内に放電に必要な電子が十分に供給され、強度の強い真空紫外光が生成し得る。放電管１１１内に二次電子放出材料を形成する必要がなくなるため、材料種やプロセス数を減らすことができ、発光デバイスの製造コストを低減することも可能となる。さらに、蛍光体層１２３に入射する真空紫外光の強度も強くなるため、高効率で深紫外光を出射することができる。
【００６３】
また、フレキシブルシート１１３は可撓性を有する。このため、例えば、殺菌や浄化すべき液体を、深紫外光が透過し得る管内に流し、管の外部に発光デバイス１０２を巻きつけることによって、管内を流れる液体に高効率で深紫外光を照射することが可能である。
【００６４】
（実施の形態４）
発光デバイスのさらに他の実施の形態を説明する。図３に示すように、一般的な蛍光灯の蛍光体を実施の形態１の蛍光体に置き換えることによっても深紫外光を出射する発光デバイスを実現できる。発光デバイス１０３は、放電管１５１と放電管１５１の内部に形成される放電空間１５２と放電管１５１の内面に配置された蛍光体層１５３と、放電空間１５２に充電された放電ガスとを備える。放電管１５１の筐体は、筐体は、石英ガラス、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウムおよびフッ化リチウムからなる群から選ばれる１種によって構成されている。蛍光体層１５３は実施の形態１の蛍光体を含む。放電管１５１の両端にはエミッタ（電子放出物質）が塗布されたタングステンからなる二重コイルのフィラメント１５４が設けられている。前述したように、蛍光灯と同様の構造によって発光デバイス１０３を実現することができる。
【００６５】
発光デバイス１０３において、両端のフィラメント１５４に電圧を印加するとフィラメント１５４から放出された電子が、印加された電圧により加速し、放電が起こる。これにより、放電空間１５２中の放電ガスのＸｅから発生する１４７ｎｍ及び１７２ｎｍの真空紫外光により、蛍光体層１５３中の蛍光体が励起され、深紫外発光が出射する。
【００６６】
（実施例）
実施の形態１の蛍光体および実施の形態２の発光デバイスを作製し、特性の評価を行った結果を説明する。
【００６７】
１．蛍光体の特性の評価
実施の形態１で説明した方法によって、実施例の蛍光体を作製した。本実施例においては、酸化マグネシウムの前駆体として市販の水酸化マグネシウムを用い、焼結助剤を兼ねたフッ素原子源には市販のフッ化マグネシウム粉末を用いた。
【００６８】
酸化マグネシウムの前駆体である水酸化マグネシウム２００ｇと所定量のフッ化マグネシウムを正確に秤量し、エタノール溶媒と直径５ｍｍのジルコニア球媒体を用いた遊星型ボールミルで十分に混合した。次に、混合したスラリーを１５０℃の熱風乾燥機中で乾燥後、高純度アルミナ製のるつぼに投入し、大気中で１０００℃〜１４００℃で２時間焼成し、蛍光体を作製した。本実施例においては、焼成する粉体量が少量であるため、仮焼工程を経ずに本焼成のみを行った。焼成した深紫外蛍光体微粒子は乳鉢にて解砕した。焼結助剤であるフッ化マグネシウムの量は、前駆体および焼結助剤全体に対して、０．１０ｍｏｌ％以上１ｍｏｌ％以下の範囲で変化させ、焼成温度を１０００℃から１４００℃の範囲で変化させることによって、２２個の実施例を作製した。
【００６９】
次に、比較例として、次の４種類の試料を作製した。
比較例１：気相合成法によって合成された酸化マグネシウム（宇部マテリアルズ社製  気相法高純度超微粉マグネシア）を用いた。
比較例２：気相合成法によって合成された酸化マグネシウム（宇部マテリアルズ社製  気相法高純度超微粉マグネシア）とフッ化マグネシウム粉末を実施例と同様に混合し、１３００℃で焼成した。
比較例３：本実施例と、同様の方法で、酸化マグネシウム微粒子を形成しているが、焼結の際に、焼結助剤のフッ化マグネシウム粉末は０ｇ添加して、焼結を行った。焼成温度を１０００℃から２０００℃の範囲で変化させ、１６個の比較例３を作製した。
比較例４：本実施例と同様の方法で、酸化マグネシウム微粒子を作成した。ただし、焼結の際に、焼結助剤のフッ化マグネシウム粉末を前駆体および焼結助剤全体に対して、１ｍｏｌ％超の割合で添加し、２個の比較例４を作製した。
【００７０】
これら実施例および比較例１〜４の蛍光体を１４７ｎｍの真空紫外光で励起し、その発光測定を行った。得られた発光スペクトルより、２３０±１０ｎｍの波長域で観測されるピークの強度を算出した。なお、発光強度については、市販の水酸化マグネシウムと市販のフッ化マグネシウム粉末を混合し、１０００℃〜１４００℃で焼成した実施例のうち、１３００℃で焼成した実施例の発光強度が最も大きかった。このため、この発光強度を１００として、他の蛍光体の発光強度と相対比較した。
【００７１】
また、ＣｕＫα線を用いた粉末Ｘ線回折測定を行い、１０９．０°以上１１０．０°以下の回折角（２θ）の範囲の存在する（４２０）回折ピークの半値全幅をそれぞれ求めた。（４２０）回折ピークの半値全幅を以下ＦＷＨＭ（４２０）と表す。
【００７２】
図４に、ＣｕＫα線を用いた粉末Ｘ線回折測定で得られた実施例の回折チャートの一例を示す。図４に示すように、照射光がＣｕＫα1線およびＣｕＫα2線を含むため、（４２０）のピークが２本現れている。このため、ローレンツ関数を用いてピークを分離し、ＣｕＫα1線のピークについて、ＦＷＨＭ（４２０）をそれぞれ求めた。
【００７３】
図５に、実施例および比較例１〜３のＦＷＨＭ（４２０）と発光強度との関係を示す。図５において●、×、△、〇がそれぞれ実施例、および比較例１から３を示している。図５からＦＷＨＭ（４２０）が０．１６°から０．２０°の範囲にある場合、７０以上の発光強度が得られていることが分かる。
【００７４】
比較例１〜３の結果から、ＦＷＨＭ（４２０）が０．１６°から０．２０°の範囲を外れると発光強度は急激に小さくなることが分かる。比較例１は気相合成法によって得られた酸化マグネシウムの蛍光体であり、純度が高い。ＦＷＨＭ（４２０）の値も０．１４°程度であり、結晶性が高いと考えられる。しかし、発光強度は２程度であり非常に小さい。このことから、結晶性が高い酸化マグネシウムは、深紫外光の発光強度が小さいことが分かる。
【００７５】
一方、比較例３の蛍光体は、ＦＷＨＭ（４２０）が０．２５°よりも大きく、結晶性が低いことを示している。また、発光強度も２０以下であり、実施例に比べて１／３以下の強度である。これは、比較例３の蛍光体は、種々の局所準位を含んでおり、深紫外光以外の波長の蛍光が生じているからと考えられる。この結果から、式（１）を満たす実施例の蛍光体は、大幅に深紫外光の発光強度が向上していることが分かった。
【００７６】
図６は、実施例（図５において、発光強度１００、ＦＷＨＭ（４２０）＝０．１９５）、比較例１〜３および市販の一般的な青色蛍光体の発光スペクトルを示している。図６から分かるように、実施例の蛍光体は、２３０ｎｍ程度にピークを持つ深紫外光を出射する。この発光強度は、一般的な青色蛍光体の発光強度と同程度であり、十分に実用的な強度が得られることを示している。
【００７７】
蛍光体におけるハロゲンの効果を確認するため、実施例および比較例３および４のフッ素の含有量を定量した。蛍光体の表面近傍におけるフッ素をＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって定量した。分析にはＡｌのＫα線（エネルギ：１４８７ｅＶ）を用いた。
【００７８】
図７は、実施例および比較例３、４のフッ素の含有量と発光強度との関係を示している。縦軸の発光強度は、図５とは異なる基準を用いて示している。横軸はマグネシウム１原子に対するフッ素原子の含有量（ａｔｍ％）を示している。図７より、実施例の蛍光体は、マグネシウム１原子に対して１．７ａｔｍ％以上１９．３ａｔｍ％以下の割合でフッ素を含んでいることが分かった。比較例３の蛍光体のフッ素の含有量は１．７ａｔｍ％より小さかった。比較例３は合成時には焼結助剤を添加していないが、微量のフッ素が検出された。これは、炉内に残存したフッ素が焼成時に混入したからと考えられる。比較例４の蛍光体では、フッ素の含有量が２０ａｔｍ％以上であり、発光強度の低下が見られた。
【００７９】
２．発光デバイスの評価
実施の形態２で説明した発光デバイスを作製した。まず、厚さ約１．１ｍｍの石英ガラスからなるフロントパネル基板３の面上に表示電極対６を作製した。ここではスクリーン印刷法によって表示電極対６を形成した。ＩＴＯ透明電極材料を最終厚み約１００ｎｍで幅約１５０μｍのストライプ状パターンでフロントパネル基板３上に塗布し、乾燥させた。これにより透明電極４１、５１が形成された。次に、Ａｇ粉末と有機ビヒクルに感光性樹脂（光分解性樹脂）を混合してなる感光性ペーストを調製し、これに前記透明電極４１、５１の上に重ねて塗布し、形成するバスラインのパターン（厚さ７μｍ、幅９５μｍ）に合わせた開口部を有するマスクで覆った。そして、当該マスク上から露光し、現像工程を経て、５９０〜６００℃程度の温度で焼成した。次に、表示電極対６の上から軟化点が５５０℃〜６００℃の鉛系あるいは非鉛系の低融点ガラスやＳｉＯ２材料粉末とブチルカルビトールアセテート等からなる有機バインダーを混合したペーストを塗布する。そして５５０℃〜６５０℃程度で焼成し、最終厚みが膜厚数μｍ〜数十μｍの誘電体層７を形成した。保護層８は前記誘電体層７上に真空蒸着法を使って厚さ約１μｍのＭｇＯ薄膜を形成した。
【００８０】
バックパネル９は以下に記す手順で作製した。厚さ約１．８ｍｍの石英からなるバックパネル基板１０の表面上に所定のパターンで隔壁１３を形成した。この隔壁１３は、スクリーン印刷法により低融点ガラス材料ペーストを塗布、焼成し、サンドブラスト法を用いて隣接放電セル（図示省略）との境界周囲を仕切るように、放電セルの複数個の配列を行および列を仕切るストライプ形状のパターンで形成した。なお、本実施例においては、全面で発光させるためデータ電極１１の形成および誘電体層１２の配設を行わなかった。
【００８１】
隔壁１３の形成後、隔壁１３の壁面と、隔壁１３間で露出している石英製バックパネル基板１０表面に、作製した蛍光体を塗布した。これを乾燥・焼成し、蛍光体層１４とした。具体的には、実施例の蛍光体を乳鉢で解砕した後、所定量の溶剤と樹脂とともに三本ロールミルによって、スクリーン印刷用インクとした。このインクを使って、予め隔壁１３を形成したバックパネル基板１０に、スクリーン印刷法を用いて蛍光体層１４を成膜した。成膜後は、１００℃で１時間乾燥した後、５００℃で３時間焼成して有機成分を焼去した。
【００８２】
こうして得たフロントパネル２とバックパネル９は、表示電極対６が、隣接する隔壁１３により形成される放電空間１５の中心にそって配列するように設置し、両パネル２、９の外周縁部をＵＶ硬化性樹脂により封着した。この際に内部封止された放電空間１５には、放電ガスとしてＸｅ−Ｎｅ（Ｘｅ分圧４％）の希ガスが約３０ｋＰａの圧力で封入した。
【００８３】
以上のようにして実施の形態２で説明したものと同様の交流型面放電の発光デバイスを作製した。
【００８４】
各表示電極対６の間隙に数十ｋＨｚ〜数百ｋＨｚのＡＣ電圧を印加した。これにより放電セル内で放電が発生させ、励起Ｘｅ原子による波長１４７ｎｍ主体の共鳴線と励起Ｘｅ分子による波長１７２ｎｍ主体の分子線を含む真空紫外光が蛍光体層１４に照射される。蛍光体層１４は励起されて深紫外出射する。発生した深紫外光はバックパネル９を透過して背面から出射する。作製した発光デバイスも、蛍光体の実施例と同様に深紫外光を出射することが確認できた。
【産業上の利用可能性】
【００８５】
本開示の蛍光体は、深紫外光を出射する蛍光体とし種々の分野および用途で使用可能である。例えば、深紫外光を出射する発光デバイスに用いることができる。また、本開示の発光デバイスは、深紫外光を出射し、殺菌、浄水、リソグラフ、照明などの様々な分野で利用される発光デバイスに用いることができる。
【符号の説明】
【００８６】
２      フロントパネル
３      フロントパネル基板
４      維持電極
５      走査電極
６      表示電極対
７      誘電体層
８      保護層
９      バックパネル
１０    バックパネル基板
１１    データ電極
１２    誘電体層
１３    隔壁
１４    蛍光体層
１５    放電空間
４１    透明電極
４２    バスライン
５１    透明電極
５２    バスライン
１０１、１０２、１０３  発光デバイス
１１１、１５１  放電管
１１２Ｘ    電極対
１１２Ｙ    電極対
１１３  フレキシブルシート
１１４  反射層
１２１、１５２  放電空間
１２３  蛍光体層
１５１  放電管
１５２  放電空間
１５４  フィラメント
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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