(57)【要約】【課題】光学的耐久性を改善し薄い厚さを実現することができる光学フィルム及びその製造方法と、前記光学フィルムを含む表示装置を提供する。【解決手段】本発明による光学フィルムは、高分子樹脂と二色性染料を含む偏光フィルムと、前記偏光フィルムの一面に位置し、液晶を含む位相遅延層とを含む。【選択図】図１
2016012134.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子樹脂と二色性染料を含む偏光フィルムと、
前記偏光フィルムの一面に位置し、液晶を含む位相遅延層と
を含む光学フィルム。
【請求項２】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ０）は、Ｒｅ０（４５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（５５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（６５０ｎｍ）またはＲｅ０（４５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（５５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記位相遅延層の短波長分散性は、０．７０乃至０．９９であり、
前記位相遅延層の長波長分散性は、１．０１乃至１．２０であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
５５０ｎｍ波長に対する前記位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ０）は、１２０ｎｍ乃至１６０ｎｍであることを特徴とする請求項１から３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記位相遅延層は、位相差が異なりそれぞれ液晶を含む第１位相遅延層と第２位相遅延層を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記第１位相遅延層は、λ／２位相遅延層であり、
前記第２位相遅延層は、λ／４位相遅延層であることを特徴とする請求項５に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層は、それぞれ独立して下記関係式１Ａまたは１Ｂを満たす屈折率を有することを特徴とする請求項５または６に記載の光学フィルム：
［関係式１Ａ］
ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ
［関係式１Ｂ］
ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ
前記関係式１Ａまたは１Ｂにおいて、
ｎｘは、前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の遅相軸での屈折率であり、ｎｙは前記第１位相遅延層と第２位相遅延層の進相軸での屈折率であり、ｎｚはｎｘ及びｎｙに垂直な方向の屈折率である。
【請求項８】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ１）は、Ｒｅ１（４５０ｎｍ）＞Ｒｅ１（５５０ｎｍ）＞Ｒｅ１（６５０ｎｍ）を満たし、
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記第２位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ２）は、Ｒｅ２（４５０ｎｍ）＞Ｒｅ２（５５０ｎｍ）＞Ｒｅ２（６５０ｎｍ）を満たし、
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体面内位相差（Ｒｅ０）は、Ｒｅ０（４５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（５５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（６５０ｎｍ）またはＲｅ０（４５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（５５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（６５０ｎｍ）を満たすことを特徴とする請求項５から７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の短波長分散性は、それぞれ１．１乃至１．２であり、
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体短波長分散性は、０．７０乃至０．９９であることを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の長波長分散性は、それぞれ０．９乃至１．０であり、
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体長波長分散性は、１．０１乃至１．２０であることを特徴とする請求項５から８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
５５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ１）は、２３０ｎｍ乃至２７０ｎｍであり、
５５０ｎｍ波長に対する前記第２位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ２）は、１００ｎｍ乃至１４０ｎｍであり、
５５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体面内位相差（Ｒｅ０）は、１２０ｎｍ乃至１６０ｎｍであることを特徴とする請求項５から１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
前記第１位相遅延層の遅相軸と第２位相遅延層の遅相軸とがなす角度は５０乃至７０度であることを特徴とする請求項５から１１のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１３】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層との間に位置する粘着層をさらに含むことを特徴とする請求項５から１２のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１４】
前記位相遅延層は、１０μｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項１から１３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１５】
前記偏光フィルムと前記位相遅延層との間に位置する粘着層をさらに含むことを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１６】
前記高分子樹脂は、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリル、ポリスチレン、これらの共重合体またはこれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１から１５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１７】
前記高分子樹脂は、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、これらの共重合体またはこれらの組み合わせを含むことを特徴とする請求項１６に記載の光学フィルム。
【請求項１８】
前記偏光フィルムは、１００μｍ以下の厚さを有することを特徴とする請求項１から１７のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１９】
前記偏光フィルムは、前記高分子樹脂と前記二色性染料の溶融混合物であることを特徴とする請求項１から１８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項２０】
前記偏光フィルムと前記位相遅延層との間に透明基材が介されていないことを特徴とする請求項１から１４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項２１】
請求項１から２０のいずれか一項に記載の光学フィルムを含む表示装置。
【請求項２２】
高分子樹脂と二色性染料を溶融混合して偏光フィルムを準備する段階と、
基材の上に液晶を含む位相遅延層を準備する段階と、
前記偏光フィルムの一面に前記位相遅延層を形成する段階と
を含む光学フィルムの製造方法。
【請求項２３】
前記位相遅延層を形成する段階は、前記基材から前記位相遅延層を除去し前記偏光フィルムの一面に転写する段階を含むことを特徴とする請求項２２に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項２４】
前記偏光フィルムの一面に粘着層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項２２または２３に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項２５】
前記位相遅延層を準備する段階は、前記基材の上にλ／２位相遅延層とλ／４位相遅延層を積層する段階を含むことを特徴とする請求項２２から２４のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
光学フィルム、その製造方法及び表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在主に使用されている平板表示装置は、自ら発光する発光表示装置と、別途の光源を必要とする受光型表示装置とに分けられ、これらの画質を改善するための方法として補償フィルムなどの光学的フィルムがよく使用される。
【０００３】
発光型表示装置、例えば有機発光表示装置（ｏｒｇａｎｉｃ  ｌｉｇｈｔ  ｅｍｉｔｔｉｎｇ  ｄｉｓｐｌａｙ）の場合、電極などの金属による外部光の反射によって視認性とコントラスト比が落ちることがある。これを減らすために、偏光板と位相差フィルムを用いて直線偏光を円偏光に変えることにより有機発光表示装置によって反射された外部光が外側に漏れないようにしている。
【０００４】
受光型表示装置である液晶表示装置（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙａｙ、ＬＣＤ）は、透過型、半透過型、反射型など種類によって外部光の反射及びサングラス効果を解決するための方法として直線偏光を円偏光に変えることにより画質を改善している。
【０００５】
しかし、現在開発されている光学フィルムは、光学的耐久性が弱いため表示品質に影響を与えるだけでなく、光学フィルム自体の厚さが厚いため表示装置の薄型化の障害になっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
一実施形態は、光学的耐久性および光学特性を改善し薄い厚さを実現することができる光学フィルムを提供する。
【０００７】
他の実施形態は、前記光学フィルムの製造方法を提供する。
【０００８】
また他の実施形態は、前記光学フィルムを含む表示装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
一実施形態によれば、高分子樹脂と二色性染料を含む偏光フィルムと、前記偏光フィルムの一面に位置し、液晶を含む位相遅延層とを含む光学フィルムを提供する。
【００１０】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ０）は、Ｒｅ０（４５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（５５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（６５０ｎｍ）またはＲｅ０（４５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（５５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（６５０ｎｍ）を満たしてもよい。
【００１１】
前記位相遅延層の短波長分散性は、約０．７０乃至０．９９であってもよく、前記位相遅延層の長波長分散性は、約１．０１乃至１．２０であってもよい。
【００１２】
５５０ｎｍ波長に対する前記位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ０）は、約１２０ｎｍ乃至１６０ｎｍであってもよい。
【００１３】
前記位相遅延層は、位相差が異なりそれぞれ液晶を含む第１位相遅延層と第２位相遅延層を含んでもよい。
【００１４】
前記第１位相遅延層は、λ／２位相遅延層であってもよく、前記第２位相遅延層は、λ／４位相遅延層であってもよい。
【００１５】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層は、それぞれ独立して、下記関係式１Ａまたは１Ｂを満たす屈折率を有してもよい。
［関係式１Ａ］
ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ
［関係式１Ｂ］
ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ
【００１６】
上記関係式１Ａまたは１Ｂにおいて、ｎｘは、前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の遅相軸（ｓｌｏｗ  ａｘｉｓ）での屈折率であり、ｎｙは前記第１位相遅延層と第２位相遅延層の進相軸（ｆａｓｔ  ａｘｉｓ）での屈折率であり、ｎｚはｎｘ及びｎｙに垂直な方向の屈折率である。
【００１７】
４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ１）は、Ｒｅ１（４５０ｎｍ）＞Ｒｅ１（５５０ｎｍ）＞Ｒｅ１（６５０ｎｍ）を満たしてもよく、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記第２位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ２）は、Ｒｅ２（４５０ｎｍ）＞Ｒｅ２（５５０ｎｍ）＞Ｒｅ２（６５０ｎｍ）を満たしてもよく、４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体面内位相差（Ｒｅ０）は、Ｒｅ０（４５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（５５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（６５０ｎｍ）またはＲｅ０（４５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（５５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（６５０ｎｍ）を満たしてもよい。
【００１８】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の短波長分散性は、それぞれ１．１乃至１．２であってもよく、前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体短波長分散性は、０．７０乃至０．９９であってもよい。
【００１９】
前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の長波長分散性は、それぞれ約０．９乃至１．０であってもよく、前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体長波長分散性は、約１．０１乃至１．２０であってもよい。
【００２０】
５５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ１）は、約２３０ｎｍ乃至２７０ｎｍであってもよく、５５０ｎｍ波長に対する前記第２位相遅延層の面内位相差（Ｒｅ２）は、約１００ｎｍ乃至１４０ｎｍであってもよく、５５０ｎｍ波長に対する前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の全体面内位相差（Ｒｅ０）は、約１２０ｎｍ乃至１６０ｎｍであってもよい。
【００２１】
前記第１位相遅延層の遅相軸（ｓｌｏｗ  ａｘｉｓ）と第２位相遅延層の遅相軸とがなす角度は約５０乃至７０度であってもよい。
【００２２】
前記光学フィルムは、前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層との間に位置する粘着層をさらに含んでもよい。
【００２３】
前記位相遅延層は、約１０μｍ以下の厚さを有してもよい。
【００２４】
前記光学フィルムは、前記偏光フィルムと前記位相遅延層との間に位置する粘着層をさらに含んでもよい。
【００２５】
前記高分子樹脂は、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステル、ポリアクリル、ポリスチレン、これらの共重合体またはこれらの組み合わせを含んでもよい。
【００２６】
前記高分子樹脂は、ポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン、これらの共重合体またはこれらの組み合わせを含んでもよい。
【００２７】
前記偏光フィルムは、約１００μｍ以下の厚さを有してもよい。
【００２８】
前記偏光フィルムは、前記高分子樹脂と前記二色性染料の溶融混合物（ｍｅｌｔ  ｂｌｅｎｄ）であってもよい。
【００２９】
前記偏光フィルムと前記位相遅延層との間に透明基材が介されていなくてもよい。
【００３０】
他の実施形態によれば、前記光学フィルムを含む表示装置を提供する。
【００３１】
また他の実施形態によれば、高分子樹脂と二色性染料を溶融混合して偏光フィルムを準備する段階と、基材の上に液晶を含む位相遅延層を準備する段階と、前記偏光フィルムの一面に前記位相遅延層を形成する段階とを含む光学フィルムの製造方法を提供する。
【００３２】
前記位相遅延層を形成する段階は、前記基材から前記位相遅延層を除去し前記偏光フィルムの一面に転写する段階を含んでもよい。
【００３３】
前記製造方法は、前記偏光フィルムの一面に粘着層を形成する段階をさらに含んでもよい。
【００３４】
前記位相遅延層を準備する段階は、前記基材の上にλ／２位相遅延層とλ／４位相遅延層を積層する段階を含んでもよい。
【発明の効果】
【００３５】
本発明は、表示特性および光学的耐久性を改善し薄型表示装置を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３６】
【図１】一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。
【図２】光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【図３】偏光フィルムの一例を示した概略図である。
【図４】他の実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。
【図５】一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示した断面図である。
【図６】一実施形態による液晶表示装置を概略的に示した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３７】
以下、本発明の実施形態について本発明の属する技術分野における通常の知識を有する者が容易に実施できるように詳しく説明する。しかし、本発明は様々な形態に実現でき、ここで説明する実施形態に限定されない。
【００３８】
図面では、複数の層及び領域を明確に表現するために厚さを拡大して示している。明細書全体に亘って類似の部分については同一の図面符号を付けている。層、膜、領域、板などの部分が他の部分の「上」にあるというとき、これは他の部分の「直上」にある場合だけでなく、その中間に他の部分がある場合も含む。逆に、ある部分が他の部分の「直上」にあるというときは中間に他の部分がないことを意味する。
【００３９】
先ず、図面を参照して、一実施形態による光学フィルムを説明する。
【００４０】
図１は一実施形態による光学フィルムの概略的な断面図であり、図２は光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図であり、図３は偏光フィルムの一例を示した概略図である。
【００４１】
図１に示すように、一実施形態による光学フィルム１００は、偏光フィルム１１０と、偏光フィルム１１０の一面に位置する位相遅延層１２０とを含む。位相遅延層１２０は例えばλ／４プレートであってもよく、偏光フィルム１１０を通過した光を円偏光させ位相差を発生させることができ、光の反射及び／または吸収に影響を与えることができる。
【００４２】
一例として、光学フィルム１００は、表示装置の一側または両側に備えられ、特に表示装置の画面部側に配置され外部から流入する光が反射されること（以下、「外光反射」という）を防止することができる。したがって、外光反射による視認性低下を防止することができる。
【００４３】
図２は、光学フィルムの外光反射防止原理を示す概略図である。
【００４４】
図２に示すように、非偏光の入射光（ｉｎｃｉｄｅｎｔ  ｕｎｐｏｌａｒｉｚｅｄ  ｌｉｇｈｔ）は偏光フィルム１１０を通過しながら二つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分、即ち、第１偏光直交成分のみが透過され、偏光された光は位相遅延層１２０を通過しながら円偏光に変えられる。前記円偏光された光は基板、電極などを含む表示パネル５０で反射されながら円偏光方向が変わり、前記円偏光された光が位相遅延層１２０を再び通過しながら二つの偏光直交成分のうちの他の一つの偏光直交成分、即ち、第２偏光直交成分のみが透過される。前記第２偏光直交成分は偏光フィルム１１０を通過せず外部に光が放出されないので、外光反射防止効果を得ることができる。
【００４５】
図３に示すように、偏光フィルム１１０は、高分子樹脂７１と二色性染料７２の溶融混合物（ｍｅｌｔ  ｂｌｅｎｄ）から形成された一体型構造を有してもよい。
【００４６】
高分子樹脂７１は例えば疎水性高分子樹脂であってもよく、例えばポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）及びこれらの共重合体のようなポリオレフィン樹脂；ナイロン及び芳香族ポリアミドのようなポリアミド樹脂；ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）のようなポリエステル樹脂；ポリメチル（メタ）アクリレートのようなポリアクリル樹脂；ポリスチレン（ＰＳ）及びアクリロニトリル‐スチレン共重合体のようなポリスチレン樹脂；ポリカーボネート樹脂；塩化ビニル系樹脂；ポリイミド樹脂；スルホン樹脂；ポリエーテルスルホン樹脂；ポリエーテル−エーテルケトン樹脂；ポリフェニレンスルフィド樹脂；ビニルアルコール樹脂；ビニリデンクロライド樹脂；ビニルブチラル樹脂；アリレート樹脂；ポリオキシメチレン樹脂；エポキシ樹脂、これらの共重合体またはこれらの組み合わせであってもよい。
【００４７】
この中で、高分子樹脂７１は、例えばポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアクリル樹脂、ポリスチレン樹脂、これらの共重合体またはこれらの組み合わせであってもよく、例えばポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンテレフタレートグリコール（ＰＥＴＧ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ナイロン（ｎｙｌｏｎ）、これらの共重合体またはこれらの組み合わせであってもよい。
【００４８】
高分子樹脂７１は、例えばポリエチレン（ＰＥ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、ポリエチレンとポリプロピレンの共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）から選択された少なくとも二つの混合物であってもよく、例えばポリプロピレン（ＰＰ）及びポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）の混合物であってもよい。
【００４９】
前記ポリプロピレン（ＰＰ）は、例えば約０．１ｇ／１０ｍｉｎ乃至約５ｇ／１０ｍｉｎの溶融流れ指数（ｍｅｌｔ  ｆｌｏｗ  ｉｎｄｅｘ、ＭＦＩ）を有してもよい。ここで、溶融流れ指数（ＭＦＩ）は１０分当り溶融状態の高分子が流れる量を示すものであって、溶融状態の高分子の粘度と関連がある。即ち、溶融流れ指数（ＭＦＩ）が小さいほど高分子の粘度が大きく、溶融流れ指数（ＭＦＩ）が大きいほど高分子の粘度が小さいことが分かる。前記ポリプロピレンの溶融流れ指数（ＭＦＩ）が前記範囲内である場合、加工性を効果的に改善することができ、最終製品の物性を効果的に向上させることができる。具体的に、前記ポリプロピレンは約０．５ｇ／１０ｍｉｎ乃至約５ｇ／１０ｍｉｎの溶融流れ指数（ＭＦＩ）を有してもよい。
【００５０】
前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）は、前記共重合体の総含量に対して約１重量％乃至約５０重量％のエチレン基を含んでもよい。前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）において、エチレン基の含量が前記範囲内である場合、前記ポリプロピレンと前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）の相分離を効果的に防止乃至緩和することができる。また、優れた光透過度及び配向性を有しながらも、延伸する時に延伸率を増加させることができるので、改善された偏光特性を実現することができる。具体的には、前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）は前記共重合体の総含量に対して約１重量％乃至約２５重量％のエチレン基を含んでもよい。
【００５１】
前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）は、約５ｇ／１０ｍｉｎ乃至約１５ｇ／１０ｍｉｎの溶融流れ指数（ＭＦＩ）を有してもよい。前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）の溶融流れ指数（ＭＦＩ）が前記範囲内である場合、加工性を効果的に改善することができ、最終製品の物性を効果的に向上させることができる。具体的には、前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）は約１０ｇ／１０ｍｉｎ乃至約１５ｇ／１０ｍｉｎの溶融流れ指数（ＭＦＩ）を有してもよい。
【００５２】
高分子樹脂７１は、前記ポリプロピレン（ＰＰ）と前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）を約１：９乃至約９：１の重量比で含んでもよい。前記ポリプロピレン（ＰＰ）と前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）が前記範囲内で含まれる場合、優れた機械的強度を有しながらも、ポリプロピレンの結晶化を防止してヘイズ特性を効果的に改善することができる。具体的に、高分子樹脂７１は、前記ポリプロピレン（ＰＰ）と前記ポリエチレン‐ポリプロピレン共重合体（ＰＥ‐ＰＰ）を約４：６乃至約６：４の重量比、さらに具体的に約５：５の重量比で含んでもよい。
【００５３】
高分子樹脂７１は、約１ｇ／１０ｍｉｎ乃至約１５ｇ／１０ｍｉｎの溶融流れ指数（ｍｅｌｔ  ｆｌｏｗ  ｉｎｄｅｘ、ＭＦＩ）を有してもよい。高分子樹脂７１の溶融流れ指数（ＭＦＩ）が前記範囲内である場合、樹脂内に過度な結晶が形成されず、優れた光透過度を確保することができると同時に、フィルムに製造するのに適した粘度を有し得るため加工性を改善することができる。具体的には、高分子樹脂７１は約５ｇ／１０ｍｉｎ乃至約１５ｇ／１０ｍｉｎの溶融流れ指数（ＭＦＩ）を有してもよい。
【００５４】
高分子樹脂７１は、約５％以下のヘイズを有してもよい。高分子樹脂７１が前記範囲のヘイズを有することによって、透過度が増加し優れた光学特性を有し得る。具体的に、高分子樹脂７１は約２％以下のヘイズを有してもよく、さらに具体的に約０．５％乃至約２％のヘイズを有してもよい。
【００５５】
高分子樹脂７１は約５０％以下の結晶化度を有してもよい。高分子樹脂７１が前記範囲の結晶化度を有することによって、ヘイズを低めることができるので、優れた光学特性を達成することができる。具体的に、高分子樹脂７１は約３０％乃至約５０％の結晶化度を有してもよい。
【００５６】
高分子樹脂７１は、約４００乃至７８０ｎｍの波長領域で透過度が約８５％以上であってもよい。高分子樹脂７１は一軸方向に延伸されている。前記一軸方向は、後述する二色性染料７２の長さ方向と同一であってもよい。
【００５７】
二色性染料７２は高分子樹脂７１に分散しており、高分子樹脂７１の延伸方向に沿って一方向に配列されている。二色性染料７２は所定の波長領域に対して二つの偏光直交成分のうちの一つの偏光直交成分のみを透過させることができる。
【００５８】
二色性染料７２は、高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０１乃至５重量部で含まれてもよい。前記範囲で含まれることにより、偏光フィルムの形成時に、透過度を低下させずに十分な偏光特性を示すことができる。前記範囲内で高分子樹脂７１の１００重量部に対して約０．０５乃至１重量部で含まれてもよい。
【００５９】
偏光フィルム１１０は、可視光線領域の最大吸収波長（λｍａｘ）で二色比（ｄｉｃｈｒｏｉｃ  ｒａｔｉｏ）が約２乃至１４であってもよい。前記範囲内で約３乃至１０であってもよい。ここで、二色比は、高分子の軸（ａｘｉｓ）に垂直な方向の平面偏光吸収をその水平な方向の偏光吸収で割る値であって、下記数式１によって求められる。
［数式１］
ＤＲ＝Ｌｏｇ（１／Ｔ⊥）／Ｌｏｇ（１／Ｔ‖）
【００６０】
前記数式１において、
ＤＲは、偏光フィルムの二色比であり、
Ｔ‖は、偏光フィルムの透過軸に平行に入射した光に対する偏光フィルムの光透過度であり、
Ｔ⊥は、偏光フィルムの透過軸に垂直に入射した光に対する偏光フィルムの光透過度である。
【００６１】
前記二色比は、偏光フィルム１１０内で二色性染料７２が一方向に並んで配列されている程度を示すことができ、可視光線波長領域で前記範囲の二色比を有することにより、高分子鎖の配向によって二色性染料７２の配向を誘導することができるので偏光特性を改善することができる。
【００６２】
偏光フィルム１１０は約８０％以上の偏光効率を有してもよく、前記範囲内で約８３乃至９９．９％の偏光効率を有してもよい。ここで、偏光効率は下記数式２によって求められる。
［数式２］
ＰＥ（％）＝［（Ｔ‖−Ｔ⊥）／（Ｔ‖＋Ｔ⊥）］１／２×１００
【００６３】
前記数式２において、
ＰＥは、偏光効率であり、
Ｔ‖は、偏光フィルムの透過軸に平行に入射した光に対する偏光フィルムの透過度であり、
Ｔ⊥は、偏光フィルムの透過軸に垂直に入射した光に対する偏光フィルムの透過度である。
【００６４】
偏光フィルム１１０は、約１００μｍ以下の比較的薄い厚さを有してもよく、例えば約３０μｍ乃至約９５μｍの厚さを有してもよい。前記範囲の厚さを有することによって、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）のような保護層が要求される偏光板と比較して厚さを大きく減らすことができ、これにより薄型表示装置を実現することができる。
【００６５】
位相遅延層１２０は、偏光フィルム１１０の一面に位置し、液晶（ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ）を含む異方性液晶層であってもよい。
【００６６】
前記液晶は、一方向に伸びた剛体棒（ｒｉｇｉｄ‐ｒｏｄ）状または平たいディスク（ｄｉｓｃ）状であってもよく、例えばモノマー、オリゴマーまたは重合体であってもよい。前記液晶は、例えば正または負の複屈折値を有してもよい。前記複屈折値（Δｎ）は光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）に対して水平に進行する光の屈折率（ｎｅ）から光学軸に対して垂直に進行する光の屈折率（ｎｏ）を引いた値である。前記液晶は光学軸に沿って一方向に配向されてもよい。
【００６７】
前記液晶は、反応性メソゲン（ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｍｅｓｏｇｅｎ）液晶であってもよく、例えば一つ以上の反応性架橋基を有してもよい。前記反応性メソゲン液晶は、例えば一つ以上の反応性架橋基を有する棒状の芳香族誘導体、プロピレングリコール１‐メチル、プロピレングリコール２‐アセテート及びＰ１‐Ａ１‐（Ｚ１‐Ａ２）ｎ‐Ｐ２で表現される化合物（ここで、Ｐ１とＰ２はそれぞれ独立的にアクリレート（ａｃｒｙｌａｔｅ）、メタクリレート（ｍｅｔｈａｃｒｙｌａｔｅ）、ビニル（ｖｉｎｙｌ）、ビニルオキシ（ｖｉｎｙｌｏｘｙ）、エポキシ（ｅｐｏｘｙ）またはこれらの組み合わせを含み、Ａ１とＡ２は、それぞれ独立的に１，４‐フェニレン（１，４‐ｐｈｅｎｙｌｅｎｅ）、ナフタレン（ｎａｐｈｔｈａｌｅｎｅ）‐２，６‐ジイル（ｄｉｙｌ）基またはこれらの組み合わせを含み、Ｚ１は、単一結合、‐ＣＯＯ‐、‐ＯＣＯ‐またはこれらの組み合わせを含み、ｎは、０、１または２である）のうちの少なくとも一つを含んでもよいが、これに限定されるのではない。
【００６８】
位相遅延層１２０は、逆波長分散位相遅延を有してもよい。ここで、逆波長分散位相遅延は、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きいことをいう。
【００６９】
前記位相遅延は、面内位相差（ｉｎ‐ｐｌａｎｅ  ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ、Ｒｅ０）で示すことができ、面内位相差（Ｒｅ０）はＲｅ０＝（ｎｘ０−ｎｙ０）ｄ０で表現できる。ここで、ｎｘ０は位相遅延層の面内屈折率が最も大きい方向（以下、「遅相軸（ｓｌｏｗ  ａｘｉｓ）」という）での屈折率であり、ｎｙ０は位相遅延層の面内屈折率が最も小さい方向（以下、「進相軸（ｆａｓｔ  ａｘｉｓ）」という）での屈折率であり、ｄ０は位相遅延層の厚さである。
【００７０】
位相遅延層１２０の遅相軸及び／または進相軸での屈折率及び／または厚さを変化して所定範囲の面内位相差を有するように調節することができる。
【００７１】
一例によれば、５５０ｎｍ波長（以下、「基準波長」という）に対する位相遅延層１２０の面内位相差（Ｒｅ０）は約１２０ｎｍ乃至１６０ｎｍであってもよい。
【００７２】
位相遅延層１２０は、前述のように、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きくてもよく、例えば４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する位相遅延層１２０の面内位相差（Ｒｅ０）はＲｅ０（４５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（５５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（６５０ｎｍ）またはＲｅ０（４５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（５５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（６５０ｎｍ）を満たしてもよい。
【００７３】
基準波長に対する短波長の位相遅延の変化程度は、短波長分散性で示すことができ、即ち、Ｒｅ０（４５０ｎｍ）／Ｒｅ０（５５０ｎｍ）で表現できる。例えば、位相遅延層１２０の短波長分散性は約０．７０乃至０．９９であってもよい。
【００７４】
基準波長に対する長波長の位相遅延の変化程度は、長波長分散性で示すことができ、即ち、Ｒｅ０（６５０ｎｍ）／Ｒｅ０（５５０ｎｍ）で表現できる。例えば、位相遅延層１２０の長波長分散性は約１．０１乃至１．２０であってもよい。
【００７５】
一方、前述の位相差は、面内位相差（Ｒｅ０）以外に厚さ方向位相差（Ｒｔｈ０）がある。厚さ方向位相差（Ｒｔｈ０）は位相遅延層１２０の厚さ方向に発生する位相差であって、位相遅延層１２０の厚さ方向位相差（Ｒｔｈ０）はＲｔｈ０＝｛［（ｎｘ０＋ｎｙ０）／２］−ｎｚ０｝ｄ０で表現できる。ここで、ｎｘ０は位相遅延層１２０の遅相軸での屈折率であり、ｎｙ０は位相遅延層１２０の進相軸での屈折率であり、ｎｚ０はｎｘ０及びｎｙ０に垂直な方向での屈折率である。
【００７６】
一例として、基準波長に対する位相遅延層１２０の厚さ方向位相差（Ｒｔｈ０）は約−２５０ｎｍ乃至２５０ｎｍであってもよい。
【００７７】
位相遅延層１２０は、約１０μｍ以下の厚さを有してもよい。
【００７８】
位相遅延層１２０は、偏光フィルム１１０の一面に配置されてもよく、位相遅延層１２０と偏光フィルム１１０は直接相接していてもよく、粘着層（図示せず）を介在して配置されてもよい。ここで、粘着層は、例えば減圧粘着剤を含んでもよい。
【００７９】
一例として、光学フィルム１００は、高分子樹脂と二色性染料を溶融混合して偏光フィルム１１０を準備する段階、基材の上に液晶を含む位相遅延層１２０を準備する段階、そして偏光フィルム１１０の一面に位相遅延層１２０を形成する段階によって準備できる。
【００８０】
偏光フィルム１１０を準備する段階は、高分子樹脂７１と二色性染料７２を含む組成物を溶融混合する段階、前記溶融混合物をモールドに入れ加圧してシートを製造する段階、及び前記シートを一軸延伸する段階を含んでもよい。
【００８１】
高分子樹脂７１と二色性染料７２は、それぞれ粉末（ｐｏｗｄｅｒ）のような固体形態に含まれてもよく、高分子樹脂７１の融点（ｍｅｌｔｉｎｇ  ｐｏｉｎｔ、Ｔｍ）以上の温度で溶融混合し延伸して偏光フィルム１１０に製造できる。
【００８２】
前記溶融混合する段階は、前記組成物を例えば約３００℃以下、具体的に約１３０乃至３００℃で溶融混合することができる。前記シートを製造する段階は、前記モールドに溶融混合物を入れて高圧プレス機で加圧するか、またはＴ−ダイ（Ｔ−ｄｉｅ）を通じてチルロール（ｃｈｉｌｌ  ｒｏｌｌ）に吐出して形成することができる。前記一軸延伸する段階は、約２５乃至２００℃の温度で約４００％乃至約１０００％の延伸率で延伸することができる。ここで、延伸率は前記シートの延伸前の長さと延伸後の長さの比率をいうものであって、一軸延伸後にシートが伸びた程度を意味する。
【００８３】
位相遅延層１２０は、基材の上に液晶溶液を塗布し、光照射によって硬化して準備できる。前記基材は、例えばトリアセチルセルロース（ｔｒｉａｃｅｔｙｌ  ｃｅｌｌｕｌｏｓｅ、ＴＡＣ）フィルムであってもよいが、これに限定されるのではない。位相遅延層１２０は、前記基材から位相遅延層１２０を除去して偏光フィルム１１０の一面に転写する段階によって準備できる。この時、偏光フィルム１１０の一面または位相遅延層１２０の一面に粘着層を形成する段階をさらに含んでもよい。しかし、前記転写方法に限定されず、例えばロール・ツー・ロール、スピンコーティングなどの方法で形成されてもよい。
【００８４】
光学フィルム１００は、位相遅延層１２０の一面に位置する補正層（図示せず）をさらに含んでもよい。補正層は、例えば色変異防止層（ｃｏｌｏｒ  ｓｈｉｆｔ  ｒｅｓｉｓｔａｎｔ  ｌａｙｅｒ）であってもよいが、これに限定されるのではない。
【００８５】
光学フィルム１００は、端に沿って伸びている遮光層（ｌｉｇｈｔ  ｂｌｏｃｋｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）（図示せず）をさらに含んでもよい。遮光層は、光学フィルム１００の周りに沿って帯の形態に形成されてもよく、例えば偏光フィルム１１０と位相遅延層１２０の間に配置されてもよい。遮光層は不透明な物質、例えば黒い色の物質を含んでもよい。
【００８６】
例えば、遮光層は黒い色インクで作られてもよい。
【００８７】
以下、他の実施形態による光学フィルムを説明する。
【００８８】
図４は他の実施形態による光学フィルムの概略的な断面図である。
【００８９】
図４に示すように、光学フィルム１００は、前述の実施形態と同様に、偏光フィルム１１０と偏光フィルム１１０の一面に位置する位相遅延層１２０を含む。
【００９０】
しかし、前述の実施形態とは異なり、位相遅延層１２０は、位相差が異なる第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂを含む。
【００９１】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂのうちの一つはλ／２位相遅延層であり、他の一つはλ／４位相遅延層であってもよい。例えば、第１位相遅延層１２０ａはλ／２位相遅延層であり、第２位相遅延層１２０ｂはλ／４位相遅延層であってもよい。
【００９２】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂはそれぞれ液晶を含む異方性液晶層であってもよく、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂはそれぞれ独立して正または負の複屈折値を有してもよい。
【００９３】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂはそれぞれ正波長分散位相遅延を有してもよく、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの組み合わせは逆波長分散位相遅延を有してもよい。ここで、正波長分散位相遅延は短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差よりも大きいことを言い、逆波長分散位相遅延は長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差よりも大きいことをいう。
【００９４】
前記位相遅延は面内位相差で示すことができ、第１位相遅延層１２０ａの面内位相差（Ｒｅ１）はＲｅ１＝（ｎｘ１−ｎｙ１）ｄ１で表現でき、第２位相遅延層１２０ｂの面内位相差（Ｒｅ２）はＲｅ２＝（ｎｘ２−ｎｙ２）ｄ２で表現でき、位相遅延層１２０の全体面内位相差（Ｒｅ０）はＲｅ０＝（ｎｘ０−ｎｙ０）ｄ０で表現できる。ここで、ｎｘ１は第１位相遅延層１２０ａの遅相軸での屈折率であり、ｎｙ１は第１位相遅延層１２０ａの進相軸での屈折率であり、ｄ１は第１位相遅延層１２０ａの厚さであり、ｎｘ２は第２位相遅延層１２０ｂの遅相軸での屈折率であり、ｎｙ２は第２位相遅延層１２０ｂの進相軸での屈折率であり、ｄ２は第２位相遅延層１２０ｂの厚さであり、ｎｘ０は位相遅延層１２０の遅相軸での屈折率であり、ｎｙ０は位相遅延層１２０の進相軸での屈折率であり、ｄ０は位相遅延層１２０の厚さである。
【００９５】
したがって、第１位相遅延層１２０ａ及び第２位相遅延層１２０ｂの遅相軸及び／または進相軸での屈折率及び／または厚さを変化して、所定範囲の面内位相差（Ｒｅ１、Ｒｅ２）を有するように調節することができる。
【００９６】
一例によれば、基準波長に対する第１位相遅延層１２０ａの面内位相差（Ｒｅ１）は約２３０ｎｍ乃至２７０ｎｍであってもよく、基準波長の入射光に対する第２位相遅延層１２０ｂの面内位相差（Ｒｅ２）は約１００ｎｍ乃至１４０ｎｍであってもよく、基準波長の入射光に対する第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの全体面内位相差、即ち、位相遅延層１２０の面内位相差（Ｒｅ０）は第１位相遅延層１２０ａの面内位相差（Ｒｅ１）と第２位相遅延層１２０ｂの面内位相差（Ｒｅ２）の差値であり得る。例えば、基準波長に対する位相遅延層１２０の面内位相差（Ｒｅ０）は約１２０ｎｍ乃至１６０ｎｍであってもよい。
【００９７】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、前述のように、短波長の光に対する位相差が長波長の光に対する位相差より大きくてもよく、例えば４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する第１位相遅延層１２０ａの面内位相差（Ｒｅ１）はＲｅ１（４５０ｎｍ）＞Ｒｅ１（５５０ｎｍ）＞Ｒｅ１（６５０ｎｍ）を満たしてもよく、第２位相遅延層１２０ｂの面内位相差（Ｒｅ２）はＲｅ２（４５０ｎｍ）＞Ｒｅ２（５５０ｎｍ）＞Ｒｅ２（６５０ｎｍ）を満たしてもよい。
【００９８】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの組み合わせは、前述のように、長波長の光に対する位相差が短波長の光に対する位相差より大きくてもよく、例えば４５０ｎｍ、５５０ｎｍ及び６５０ｎｍ波長に対する第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの全体面内位相差（Ｒｅ０）はＲｅ０（４５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（５５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（６５０ｎｍ）またはＲｅ０（４５０ｎｍ）＜Ｒｅ０（５５０ｎｍ）≦Ｒｅ０（６５０ｎｍ）を満たしてもよい。
【００９９】
基準波長に対する短波長の位相差変化程度は短波長分散性で示すことができ、第１位相遅延層１２０ａの短波長分散性はＲｅ１（４５０ｎｍ）／Ｒｅ１（５５０ｎｍ）で表現でき、第２位相遅延層１２０ｂの短波長分散性はＲｅ２（４５０ｎｍ）／Ｒｅ２（５５０ｎｍ）で表現できる。例えば、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの短波長分散性はそれぞれ約１．１乃至１．２であってもよく、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの全体短波長分散性は約０．７０乃至０．９９であってもよい。
【０１００】
基準波長に対する長波長の位相差変化程度は長波長分散性で示すことができ、第１位相遅延層１２０ａの長波長分散性はＲｅ１（６５０ｎｍ）／Ｒｅ１（５５０ｎｍ）で表現でき、第２位相遅延層１２０ｂの長波長分散性はＲｅ２（６５０ｎｍ）／Ｒｅ２（５５０ｎｍ）で表現できる。例えば、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの長波長分散性はそれぞれ約０．９乃至１．０であってもよく、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの全体長波長分散性は約１．０１乃至１．２０であってもよい。
【０１０１】
一方、第１位相遅延層１２０ａの厚さ方向位相差（Ｒｔｈ１）はＲｔｈ１＝｛［（ｎｘ１＋ｎｙ１）／２］−ｎｚ１｝ｄ１で表現でき、第２位相遅延層１２０ｂの厚さ方向位相差（Ｒｔｈ２）はＲｔｈ２＝｛［（ｎｘ２＋ｎｙ２）／２］−ｎｚ２｝ｄ２で表現でき、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂの組み合わせの厚さ方向位相差（Ｒｔｈ０）はＲｔｈ０＝｛［（ｎｘ０＋ｎｙ０）／２］−ｎｚ０｝ｄ０で表現できる。ここで、ｎｘ１は第１位相遅延層１２０ａの遅相軸での屈折率であり、ｎｙ１は第１位相遅延層１２０ａの進相軸での屈折率であり、ｎｚ１はｎｘ１及びｎｙ１に垂直な方向での屈折率であり、ｎｘ２は第２位相遅延層１２０ｂの遅相軸での屈折率であり、ｎｙ２は第２位相遅延層１２０ｂの進相軸での屈折率であり、ｎｚ２はｎｘ２及びｎｙ２に垂直な方向での屈折率であり、ｎｘ０は位相遅延層１２０の遅相軸での屈折率であり、ｎｙ０は位相遅延層１２０の進相軸での屈折率であり、ｎｚ０はｎｘ０及びｎｙ０に垂直な方向での屈折率である。
【０１０２】
位相遅延層１２０の厚さ方向位相差（Ｒｔｈ０）は、第１位相遅延層１２０ａの厚さ方向位相差（Ｒｔｈ１）と第２位相遅延層１２０ｂの厚さ方向位相差（Ｒｔｈ２）の合計で表現できる。
【０１０３】
一方、第１位相遅延層１２０ａの遅相軸と第２位相遅延層１２０ｂの遅相軸がなす角度は約５０乃至７０度であってもよい。前記範囲内で、例えば約５５乃至６５度であってもよく、例えば約５２．５度乃至６２．５度であってもよく、例えば約６０度であってもよい。一例として、第１位相遅延層１２０ａの遅相軸は約１５度であり、第２位相遅延層１２０ｂの遅相軸は約７５度であってもよく、これらの間になす角度は約６０度であってもよい。
【０１０４】
また、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、それぞれ独立して、下記関係式１Ａまたは１Ｂを満たす屈折率を有してもよい。
［関係式１Ａ］
ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ
［関係式１Ｂ］
ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ
【０１０５】
前記関係式１Ａまたは１Ｂにおいて、
ｎｘは前記第１位相遅延層と前記第２位相遅延層の遅相軸（ｓｌｏｗ  ａｘｉｓ）での屈折率であり、ｎｙは前記第１位相遅延層と第２位相遅延層の進相軸（ｆａｓｔ  ａｘｉｓ）での屈折率であり、ｎｚはｎｘ及びｎｙに垂直な方向の屈折率である。
【０１０６】
一例として、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、それぞれ関係式１Ａを満たす屈折率を有してもよい。
【０１０７】
一例として、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、それぞれ関係式１Ｂを満たす屈折率を有してもよい。
【０１０８】
一例として、第１位相遅延層１２０ａは関係式１Ａを満たす屈折率を有し、第２位相遅延層１２０ｂは関係式１Ｂを満たす屈折率を有してもよい。
【０１０９】
一例として、第１位相遅延層１２０ａは関係式１Ｂを満たす屈折率を有し、第２位相遅延層１２０ｂは関係式１Ａを満たす屈折率を有してもよい。
【０１１０】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、それぞれ５μｍ以下の厚さを有してもよい。
【０１１１】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、直接相接していてもよく、粘着層（図示せず）を介在して配置されてもよい。ここで、粘着層は、例えば減圧粘着剤を含んでもよい。
【０１１２】
第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、基材の上に液晶溶液を適用して形成することができる。この時、第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂは、それぞれの基材の上に形成されてもよく、一つの基材の上に順次に形成されてもよい。前記基材は、例えばトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）であってもよいが、これに限定されるのではない。前記溶液は液晶と例えばトルエン、キシレン、シクロヘキサノンのような溶媒を含むことができ、前記溶液は例えばスピンコーティングのような溶液工程で前記透明基材の上に適用できる。その次に、前記溶液を乾燥する段階及び例えばＵＶを用いて硬化する段階をさらに含んでもよい。
【０１１３】
位相遅延層１２０は、光学特性が制御された第１位相遅延層１２０ａと第２位相遅延層１２０ｂを接合することによって、逆波長分散遅延を実現して、可視光線全領域でλ／４位相差が示されるようにすることができる。これにより、位相遅延層１２０は円偏光補償機能を効果的に実現することができ、前述の偏光フィルム１１０と共に光学フィルムを形成して表示装置の表示特性を改善することができる。
【０１１４】
前述の光学フィルム１００は多様な表示装置に適用できる。
【０１１５】
一実施形態による表示装置は、表示パネル、そして表示パネルの一面に位置する光学フィルムを含む。表示パネルは、液晶表示パネルまたは有機発光表示パネルであってもよいが、これに限定されるのではない。
【０１１６】
以下、表示装置の一例として有機発光表示装置について説明する。
【０１１７】
図５は一実施形態による有機発光表示装置を概略的に示した断面図である。
【０１１８】
図５に示すように、一実施形態による有機発光表示装置は、有機発光パネル４００、そして有機発光パネル４００の一面に位置する光学フィルム１００を含む。
【０１１９】
有機発光パネル４００は、ベース基板４１０、下部電極４２０、有機発光層４３０、上部電極４４０及び封止基板４５０を含んでもよい。
【０１２０】
ベース基板４１０は、ガラスまたはプラスチックから形成できる。
【０１２１】
下部電極４２０及び上部電極４４０のうちの一つはアノード（ａｎｏｄｅ）であり、他の一つはカソード（ｃａｔｈｏｄｅ）であってもよい。アノードは、正孔（ｈｏｌｅ）が注入される電極であって、仕事関数（ｗｏｒｋ  ｆｕｎｃｔｉｏｎ）が高く発光された光が外部に出られる透明導電物質で形成でき、例えばＩＴＯまたはＩＺＯであってもよい。カソードは、電子（ｅｌｅｃｔｒｏｎ）が注入される電極であって、仕事関数が低く有機物質に影響を与えない導電物質で形成でき、例えばアルミニウム（Ａｌ）、カルシウム（Ｃａ）及びバリウム（Ｂａ）から選択されてもよい。
【０１２２】
有機発光層４３０は、下部電極４２０と上部電極４４０に電圧が印加された時に光を出すことができる有機物質を含む。
【０１２３】
下部電極４２０と有機発光層４３０の間及び上部電極４４０と有機発光層４３０の間には付帯層（図示せず）をさらに含んでもよい。付帯層は、電子と正孔の均衡を保つための正孔輸送層（ｈｏｌｅ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、正孔注入層（ｈｏｌｅ  ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）、電子注入層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｉｎｊｅｃｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）及び電子輸送層（ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｔｒａｎｓｐｏｒｔｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）を含んでもよい。
【０１２４】
封止基板４５０は、ガラス、金属または高分子から形成でき、下部電極４２０、有機発光層４３０及び上部電極４４０を封止して、外部から水分及び／または酸素が流入するのを防止することができる。
【０１２５】
光学フィルム１００は光が出る側に配置される。例えば、ベース基板４１０側に光が出る背面発光（ｂｏｔｔｏｍ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ）構造の場合、ベース基板４１０の外側に配置され、封止基板４５０側に光が出る前面発光（ｔｏｐ  ｅｍｉｓｓｉｏｎ）構造の場合、封止基板４５０の外側に配置される。
【０１２６】
光学フィルム１００は、前述のように、高分子樹脂と二色性染料の溶融混合物から形成された一体型の偏光フィルム１１０と、１層または２層の液晶性異方層である位相遅延層１２０とを含む。偏光フィルム１１０と位相遅延層１２０はそれぞれ前述した通りであり、偏光フィルム１１０を通過した光が有機発光パネル４００の電極などのような金属によって反射され表示装置の外側に出ることを防止して、外部から流入される光による視認性低下を防止することができる。したがって、有機発光表示装置の表示特性を改善することができる。
【０１２７】
以下、表示装置の一例として液晶表示装置について説明する。
【０１２８】
図６は一実施形態による液晶表示装置を概略的に示した断面図である。
【０１２９】
図６に示すように、一実施形態による液晶表示装置は、液晶表示パネル５００、そして液晶表示パネル５００の一面または両面に位置する光学フィルム１００を含む。
【０１３０】
液晶表示パネル５００は、ツイストネマチック（ｔｗｉｓｔ  ｎｅｍａｔｉｃ、ＴＮ）モード、垂直配向（ｐａｔｔｅｒｎｅｄ  ｖｅｒｔｉｃａｌ  ａｌｉｇｎｍｅｎｔ、ＰＶＡ）モード、平面整列スイッチング（ｉｎ  ｐｌａｎｅ  ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ、ＩＰＳ）モード、ＯＣＢ（ｏｐｔｉｃａｌｌｙ  ｃｏｍｐｅｎｓａｔｅｄ  ｂｅｎｄ）モードなどであってもよい。
【０１３１】
液晶表示パネル５００は、第１表示板５１０、第２表示板５２０及び第１表示板５１０と第２表示板５２０の間に介在されている液晶層５３０を含む。
【０１３２】
第１表示板５１０は、例えば基板（図示せず）の上に形成されている薄膜トランジスタ（図示せず）及びこれに連結されている第１電場生成電極（図示せず）を含んでもよく、第２表示板５２０は、例えば基板（図示せず）の上に形成されているカラーフィルタ（図示せず）及び第２電場生成電極（図示せず）を含んでもよい。しかし、これに限定されず、カラーフィルタが第１表示板５１０に含まれてもよく、第１電場生成電極と第２電場生成電極が第１表示板５１０に共に配置されてもよい。
【０１３３】
液晶層５３０は、複数の液晶分子を含んでもよい。液晶分子は正または負の誘電率異方性を有してもよい。液晶分子が正の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１表示板５１０と第２表示板５２０の表面に対してほぼ平行になるように配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１表示板５１０と第２表示板５２０の表面に対してほぼ垂直になるように配向されてもよい。これとは反対に、液晶分子が負の誘電率異方性を有する場合、電場がない状態でその長軸が第１表示板５１０と第２表示板５２０の表面に対してほぼ垂直に配向され、電場が印加された状態でその長軸が第１表示板５１０と第２表示板５２０の表面に対してほぼ平行に配向されてもよい。
【０１３４】
光学フィルム１００は液晶表示パネル５００の外側に位置し、図面では液晶表示パネル５００の下部及び上部にそれぞれ形成されたと示したが、これに限定されず、液晶表示パネル５００の下部及び上部のうちのいずれか一つにのみ形成されてもよい。
【０１３５】
光学フィルム１００は、前述のように、高分子樹脂と二色性染料の溶融混合物から形成された一体型の偏光フィルム１１０と１層または２層の液晶性異方層である位相遅延層１２０を含み、前述の通りである。
【０１３６】
以下、実施例を通じて前述の本発明の実施形態をより詳細に説明する。但し、下記の実施例は単に説明の目的のためのものであり、本発明の範囲を制限するものではない。
【０１３７】
〈偏光フィルムまたは偏光板の製造〉
［製造例１］
ポリプロピレン（ＰＰ）とポリプロピレン‐ポリエチレン共重合体（ＰＰ‐ポＰＥ）を５：５（ｗ／ｗ）で含む高分子樹脂と、前記高分子樹脂１００重量部に対して下記の化学式Ａ、Ｂ及びＣで表現される二色性染料をそれぞれ０．５、０．２及び０．３重量部を混合した偏光フィルム用組成物を準備する。
【０１３８】
【化１】
2016012134.tif 000003
【０１３９】
前記偏光フィルム用組成物を約２５０℃でＤＳＭ社のＭｉｃｒｏ−ｃｏｍｐｏｕｎｄｅｒを用いて溶融混合する。前記溶融混合物をシート状のモールドに入れた後、高温高圧プレスで加圧してフィルムを製造する。その次に、１１５℃で前記フィルムを１０００％倍率で一軸延伸（インストロン（Ｉｎｓｔｒｏｎ）社の引張試験機使用）して２０ｕｍ厚さの偏光フィルムを製造する。
【０１４０】
［比較製造例１］
ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）フィルム（ＰＳ６０、クラレ（Ｋｕｒａｒａｙ））を３０μｍに延伸して延伸されたＰＶＡフィルムを準備する。その次に、前記延伸されたＰＶＡフィルムの両面にそれぞれ４０μｍ厚さのＴＡＣフィルム（富士フィルム（Ｆｕｊｉ  Ｆｉｌｍ）社製造）をそれぞれ付着して偏光板を製造する。
【０１４１】
〈位相遅延層の準備〉
［製造例２］
６０μｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、Ｂｉａｘｉａｌ液晶（ｎｘ≠ｎｙ≠ｎｚ、ＲＭＳ０３‐０１３Ｃ、メルク（Ｍｅｒｃｋ）社）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表１の光学的特性を有するλ／４位相遅延層を準備する。面内位相差、厚さ方向位相差及び波長分散性はＡｘｏｓｃａｎ装備（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ社）を用いて測定する。
【０１４２】
【表１】
2016012134.tif 000004
【０１４３】
［製造例３］
６０μｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、＋Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ＲＭＭ１４１Ｃ、メルク社）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表２の光学的特性を有するλ／２位相遅延層を準備する。その次に、６０ｕｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、＋Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ＲＭＭ１４１Ｃ、メルク社）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表２の光学的特性を有するλ／４位相遅延層を準備する。
【０１４４】
【表２】
2016012134.tif 000005
【０１４５】
［製造例４］
６０μｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、＋Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ＲＭＭ１４１Ｃ、メルク社）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表３の光学的特性を有するλ／２位相遅延層を準備する。その次に、６０ｕｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、＋Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ＲＭＭ１４１Ｃ、メルク社）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表３の光学的特性を有するλ／４位相遅延層を準備する。
【０１４６】
【表３】
2016012134.tif 000006
【０１４７】
［製造例５］
６０μｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、−Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ、ディスコチック液晶）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表４の光学的特性を有するλ／２位相遅延層を準備する。その次に、６０ｕｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、−Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ、ディスコチック液晶）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表４の光学的特性を有するλ／４位相遅延層を準備する。
【０１４８】
【表４】
2016012134.tif 000007
【０１４９】
［製造例６］
６０μｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、−Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ、ディスコチック液晶）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表５の光学的特性を有するλ／２位相遅延層を準備する。その次に、６０ｕｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、＋Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ＲＭＭ１４１Ｃ、メルク社 ）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表５の光学的特性を有するλ／４位相遅延層を準備する。
【０１５０】
【表５】
2016012134.tif 000008
【０１５１】
［製造例７］
６０μｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、＋Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＞ｎｙ＝ｎｚ、ＲＭＭ１４１Ｃ、メルク社）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表６の光学的特性を有するλ／２位相遅延層を準備する。その次に、６０ｕｍ厚さのＺ‐ＴＡＣフィルム（富士フィルム社）の上に一方向にラビング配向処理した後、−Ａ  ｐｌａｔｅ液晶（ｎｘ＜ｎｙ＝ｎｚ、ディスコチック液晶）をコーティングした後、乾燥オーブンで６０℃で１分間乾燥してコーティング溶媒を除去する。その次に、窒素充填された容器で３０秒間８０ｍＷ／ｃｍ２強さの紫外線を照射して液晶を光架橋させ、下記表６の光学的特性を有するλ／４位相遅延層を準備する。
【０１５２】
【表６】
2016012134.tif 000009
【０１５３】
〈光学フィルムの製造〉
［実施例１］
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例２による位相遅延層を対向するように配置する。その次に、Ｚ‐ＴＡＣフィルムを除去しながら前記粘着剤の上に前記位相遅延層を転写させて光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記位相遅延層の遅相軸は４５度であり、光学フィルムの厚さは約３４μｍである。
【０１５４】
［実施例２］
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例３によるλ／２位相遅延層を対向するように配置する。前記粘着剤の上にＺ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／２位相遅延層を転写する。その次に、前記λ／２位相遅延層の一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布する。前記粘着剤の上に製造例３のλ／４位相遅延層を対向するように配置した後、Ｚ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／４位相遅延層を転写して光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記λ／２位相遅延層の遅相軸は１５度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は７５度であり、光学フィルムの厚さは約３８μｍである。
【０１５５】
［実施例３］
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例４によるλ／２位相遅延層を対向するように配置する。前記粘着剤の上にＺ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／２位相遅延層を転写する。その次に、前記λ／２位相遅延層の一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布する。前記粘着剤の上に製造例４のλ／４位相遅延層を対向するように配置した後、Ｚ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／４位相遅延層を転写して光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記λ／２位相遅延層の遅相軸は１５度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は７５度であり、光学フィルムの厚さは約３８μｍである。
【０１５６】
［実施例４］
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例５によるλ／２位相遅延層を対向するように配置する。前記粘着剤の上にＺ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／２位相遅延層を転写する。その次に、前記λ／２位相遅延層の一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布する。前記粘着剤の上に製造例５のλ／４位相遅延層を対向するように配置した後、Ｚ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／４位相遅延層を転写して光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記λ／２位相遅延層の遅相軸は１５度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は７５度であり、光学フィルムの厚さは約３８μｍである。
【０１５７】
［実施例５］
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例６によるλ／２位相遅延層を対向するように配置する。前記粘着剤の上にＺ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／２位相遅延層を転写する。その次に、前記λ／２位相遅延層の一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布する。前記粘着剤の上に製造例６のλ／４位相遅延層を対向するように配置した後、Ｚ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／４位相遅延層を転写して光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記λ／２位相遅延層の遅相軸は１５度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は７５度であり、光学フィルムの厚さは約３８μｍである。
【０１５８】
［実施例６］
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例７によるλ／２位相遅延層を対向するように配置する。前記粘着剤の上にＺ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／２位相遅延層を転写する。その次に、前記λ／２位相遅延層の一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布する。前記粘着剤の上に製造例７のλ／４位相遅延層を対向するように配置した後、Ｚ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／４位相遅延層を転写して光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記λ／２位相遅延層の遅相軸は１５度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は７５度であり、光学フィルムの厚さは約３８μｍである。
【０１５９】
［比較例１］
比較製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムと製造例３によるλ／２位相遅延層を対向するように配置する。前記粘着剤の上にＺ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／２位相遅延層を転写する。その次に、前記λ／２位相遅延層の一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布する。前記粘着剤の上に製造例３のλ／４位相遅延層を対向するように配置した後、Ｚ−ＴＡＣフィルムを除去しながら前記λ／４位相遅延層を転写して光学フィルムを製造する。前記偏光フィルムの光学軸は０度、前記λ／２位相遅延層の遅相軸は１５度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は７５度であり、光学フィルムの厚さは約１１５μｍである。
【０１６０】
［比較例２］
５０μｍ厚さの逆波長分散性を有する下記表７の光学的特性を有するλ／４位相遅延層（ＷＲＳ、帝人（Ｔｅｉｊｉｎ）社）を準備する。
【０１６１】
製造例１による偏光フィルムの一面に粘着剤（ＰＳ‐４７、Ｓｏｋｅｎ社）を塗布した後、前記偏光フィルムに前記λ／４位相遅延層を積層して光学フィルムを製造する。前記偏光板の光学軸は０度、前記λ／４位相遅延層の遅相軸は４５度であり、光学フィルムの厚さは約８０μｍである。
【０１６２】
【表７】
2016012134.tif 000010
【０１６３】
〈有機発光表示装置の製造〉
［実施例７］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に実施例１による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１６４】
［実施例８］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に実施例２による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１６５】
［実施例９］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に実施例３による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１６６】
［実施例１０］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に実施例４による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１６７】
［実施例１１］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に実施例５による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１６８】
［実施例１２］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に実施例６による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１６９】
［比較例３］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に比較例１による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１７０】
［比較例４］
有機発光パネル（ギャラクシーＳ４パネル、三星ディスプレイ製造）の上部に比較例２による光学フィルムを付着して有機発光表示装置を製造する。
【０１７１】
〈評価１〉
実施例７、８と比較例３、４による有機発光表示装置の正面反射率を評価する。正面反射率は光源Ｄ６５、８度反射、受光部２度条件で光を供給しながら分光測色計（ＣＭ‐３６００ｄ、コニカミノルタ（Ｋｏｎｉｃａ  Ｍｉｎｏｌｔａ）社）を用いて評価する。その結果は表８の通りである。
【０１７２】
【表８】
2016012134.tif 000011
【０１７３】
表８に示すように、実施例７、８による有機発光表示装置は比較例３、４による有機発光表示装置と比較して同等な水準の反射率を示すのを確認することができる。これから実施例７、８による有機発光表示装置は光学フィルムの厚さを顕著に減らしながらも同等な水準の反射率を示すことにより、薄型の利点を有しながらも表示特性に影響を与えないのを確認することができる。
【０１７４】
〈評価２〉
実施例８乃至１２と比較例４による有機発光表示装置の正面での反射率および反射色を評価する。正面での反射率および反射色は光源Ｄ６５、８度反射、受光部２度条件で光を供給しながら分光測色計（ＤＭＳ、Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍｓ、Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）を用いて評価する。反射色は、ＣＩＥ-Ｌａｂ色座標系を用いて表記され、正数ａ＊は赤色、負数ａ＊は緑色、正数ｂ＊は黄色、負数ｂ＊は青色を示し、ａ＊とｂ＊の絶対値が大きいほど色が濃い程度を示す。その結果は表９の通りである。
【０１７５】
【表９】
2016012134.tif 000012
【０１７６】
表９に示すように、実施例８乃至１２による有機発光表示装置は比較例４による有機発光表示装置と比較して正面で同等な水準の反射率を示しながら小さい反射色値を有するのを確認することができる。小さい反射色値を有するのは反射による色感が黒にさらに近く、色感の変化が少ないことを示し、外光反射による視認性が良好であることを意味する。例えば、実施例８乃至１２による有機発光表示装置は正面で０≦Δａ＊ｂ＊≦９を満たすことができる。
【０１７７】
これから実施例８乃至１２による有機発光表示装置は光学フィルムの厚さを顕著に減らしながらも正面で同等な水準の反射率および改善された反射色を示すのを確認することができ、これから薄型の利点を有しながらも表示特性が改善できるのを確認することができる。
【０１７８】
〈評価３〉
実施例８乃至１２と比較例４による有機発光表示装置の側面での反射率および反射色を評価する。側面での反射率および反射色は光源Ｄ６５、４５度反射条件で光を供給しながら分光測色計（ＤＭＳ、Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍｓ、Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔ  Ｓｙｓｔｅｍ）を用いて評価する。その結果は表１０の通りである。
【０１７９】
【表１０】
2016012134.tif 000013
【０１８０】
表１０に示すように、実施例８乃至１２による有機発光表示装置は比較例４による有機発光表示装置と比較して側面で同等または改善された水準の反射率を示しながら小さい反射色値を有するのを確認することができる。例えば、実施例８乃至１２による有機発光表示装置は側面で０≦Δａ＊ｂ＊≦５を満たすことができる。また、有機発光表示装置の視感評価で、実施例８乃至１２による有機発光表示装置の視感が比較例４による有機発光表示装置の視感に比べてさらに黒に近いのを確認することができる。これから実施例８乃至１２による有機発光表示装置は光学フィルムの厚さを顕著に減らしながらも側面で同等または改善された水準の反射率および改善された反射色を示すのを確認することができ、これから薄型の利点を有しながらも表示特性が改善できるのを確認することができる。
【０１８１】
〈評価４〉
実施例８と比較例３による有機発光表示装置の光学的耐久性を評価する。光学的耐久性の平価は、熱安定性評価及び高温多湿評価で行われ、熱安定性評価は実施例８と比較例３による有機発光表示装置を８５℃で５００時間放置した後、光透過度及び偏光度変化程度を評価し、高温多湿評価は実施例８と比較例３による有機発光表示装置を６０℃／９５％湿度条件で５００時間放置した後、光透過度及び偏光度変化程度を評価する。その結果は表１１の通りである。
【０１８２】
【表１１】
2016012134.tif 000014
【０１８３】
表１１に示すように、実施例８による有機発光表示装置は比較例３による有機発光表示装置と比較して熱安定性に優れ、高温多湿環境で光学的耐久性に優れたのを確認することができる。
【０１８４】
以上、本発明の好ましい実施形態及び実施例について説明したが、本発明はこれに限定されるのではなく、特許請求の範囲と発明の詳細な説明及び添付した図面の範囲内で多様に変形して実施することが可能であり、これも本発明の範囲に属するのは当然である。
【符号の説明】
【０１８５】
１００：  光学フィルム
１１０：  偏光フィルム
１２０：  位相遅延層
１２０ａ：第１位相遅延層
１２０ｂ：第２位相遅延層
５０：  表示パネル
４００：  有機発光表示パネル
４１０：  ベース基板
４２０：  下部電極
４３０：  有機発光層
４４０：  上部電極
４５０：  封止基板
５００：  液晶表示パネル
５１０：  第１表示板
５２０：  第２表示板
５３０：  液晶層
【図１】
2016012134.tif 000015
【図２】
2016012134.tif 000016
【図３】
2016012134.tif 000017
【図４】
2016012134.tif 000018
【図５】
2016012134.tif 000019
【図６】
2016012134.tif 000020