(57)【要約】      （修正有）【課題】α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造において、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高い、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造方法の提供【解決手段】成分［Ａ］、［Ｂ］を含み、工程［Ｉ］、［ＩＩ］を順次行う工程を含む、α−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。工程［Ｉ］：エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、成分［Ａ］と成分［Ｂ］を接触させる工程、工程［ＩＩ］：工程［Ｉ］の接触物の存在下、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとを共重合する工程、成分［Ａ］：アリールホスフィン化合物などが配位した、周期表第８〜１１族金属触媒、成分［Ｂ］：水素又はメチルと、極性基を有する炭化水素とを有す極性基含有オレフィン【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも下記成分［Ａ］、［Ｂ］を含み、下記工程［Ｉ］、［ＩＩ］を順次行う工程を含むことを特徴とする、α−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
工程［Ｉ］：エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、成分［Ａ］と成分［Ｂ］を接触させる工程。
工程［ＩＩ］：工程［Ｉ］の接触物の存在下に、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとを共重合する工程。
成分［Ａ］：置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した、周期表第８〜１１族金属触媒
成分［Ｂ］：一般式（１）で表される極性基含有オレフィン
【化１】
2016169385.tif 000012
［式中、Ｔ１は水素原子又はメチル基であり、Ｔ２は、水酸基で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数２〜１０のエステル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数３〜１８のシリル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、カルボキシル基、炭素数２〜１０のエステル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基、アミノ基、炭素数１〜１２の置換アミノ基、炭素数２〜１３のカルボン酸アミド基、炭素数３〜１８のシリル基、及びハロゲンからなる群より選ばれた置換基を示す。］
【請求項２】
前記成分（Ａ）が、周期表第１０族の金属触媒であることを特徴とする、請求項１記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項３】
前記成分（Ａ）が、ニッケル触媒であることを特徴とする、請求項１又は２に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項４】
前記成分（Ａ）が、置換基を有してもよいアリールホスフィン化合物が配位している金属触媒であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項５】
前記成分（Ａ）が、一般式（２）で表されることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか１項に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【化２】
2016169385.tif 000013
［式中、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、ニッケルに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素、硫黄、−ＳＯ３−又は−ＣＯ２−を表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表す。Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、ＰＯ３Ｍ”、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’又はエポキシ含有基を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はホスホニウムを表し、Ｍ”はアルカリ土類金属を表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２又はＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環又は酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【請求項６】
一般式（２）において、前記Ｘ１が酸素であることを特徴とする、請求項５に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項７】
一般式（２）において、前記Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、メトキシ基で置換されたフェニル基を有することを特徴とする、請求項５又は６に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項８】
前記成分（Ｂ）が、（メタ）アクリレートであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【請求項９】
前記成分（Ｂ）がアクリル酸メチル又は、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルであることを特徴とする、請求項１〜７のいずれか１項に記載のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造方法に関し、詳しくは、アリールホスフィンなどが配位した金属触媒を用いる特定の工程により、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高い、共重合体を製造する方法に係わるものである。
【背景技術】
【０００２】
エチレンと、極性基含有オレフィンモノマ−である酢酸ビニルや（メタ）アクリル酸系オレフィンとの共重合体は、極性基を有するエチレン系重合体として産業上有用なポリマーであり、従来は、エチレンと極性基含有オレフィンである酢酸ビニルや（メタ）アクリル酸エステルとを高温高圧のラジカル重合で共重合する方法を用いて製造されている。
しかしながら、この方法では、多数の分岐生成により結晶性の低い共重合体となるため、得られた共重合体の強度が低いという欠点がある（例えば、非特許文献１参照）。
【０００３】
また、高温高圧法以外で共重合体を得ることは困難であり、直鎖状のポリマーが得られるメタロセン触媒による配位重合で、エチレンと極性基含有オレフィンとの共重合を行なう場合、極性基が触媒毒として作用するため、通常、そのままでは重合活性が発現しない。
そこで、メタロセン触媒でエチレンと極性基含有モノマーとの共重合を行なう際に、一般的に、極性基を有機金属などで保護した状態で重合を行ない、重合後に、加水分解を行なう方法が採用されている。しかしながら、この場合、有機金属は、極性基含有モノマーに対して、等モル以上加える必要があり、実用化には問題が多い。
例えば、特許文献１には、極性基含有オレフィン共重合体の製造方法が開示されているが、開示されたいずれの製造例も、極性基含有オレフィンと当モル以上の有機アルミニウムが使用されている。
【０００４】
更に、いわゆるポストメタロセンと称される、後周期遷移金属錯体触媒を用い、有機アルミニウム化合物などのマスク化剤を使用することなく、オレフィンと極性コモノマーを共重合する試みも報告され、周期表の第８〜１１族を用いた触媒系では、保護基としての有機アルミニウム化合物を使用することなく、極性基含有オレフィンとの共重合が可能であることが知られている。
しかしながら、特許文献２及び３に開示された製造方法では、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体を製造する場合に、重合活性が必ずしも十分でない。また、極性基含有オレフィンの濃度が高い場合、重合活性が極端に低下し、更には、極性基含有オレフィンの種類によっては、低濃度でも、重合活性が全く発現しないなどといった問題点がある。更に、従来法では、極性基含有オレフィンの取り込み量が不十分で、生成した共重合体の分子量も十分に高くならない問題点も内包している。
【０００５】
このため、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体を製造する重合方法において、触媒活性が良好で、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高い、強度などの物性に優れた共重合体を製造する方法が求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２００２−１５５１０９号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／０５０２５６号
【特許文献３】特開２００９−１３２８９８号公報
【非特許文献】
【０００７】
【非特許文献１】Ｓ．Ｍｅｃｋｉｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１９９８年，１２０巻，ｐ８８８．
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明の目的としての、発明が解決しようとする課題は、上記した従来技術の問題点に鑑み、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体を製造する場合に、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高く、触媒活性も良好な、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者らは、上記の課題の解決を目指して、α−オレフンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造方法において、重合条件や重合工程及び後周期遷移金属錯体触媒における配位子化合物の選択などを広く勘案し検討して、アリールホスフィンなどが配位した金属触媒を用いる特定の工程を採用するにより、触媒活性が改良され、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高い、共重合体を製造する方法を見い出すことができ、本発明を創出するに至った。
【００１０】
即ち、本発明は、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造において、アリールホスフィンなどが配位した金属触媒を用いて、かかる触媒と共重合モノマーの特異な接触工程を採用することにより、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高い、共重合体を製造する方法である。
【００１１】
具体的には、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、極性基含有オレフィンと、置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した周期表第８〜１１族の金属触媒を接触させる工程を行い、その後、この接触物の存在下に、エチレンと極性基含有オレフィンとの共重合を行うことにより、格段に極性基含有オレフィンの取り込み含量が多く、分子量の高い重合体が得られる共重合方法である。
【００１２】
かかる共重合方法が本発明の基本発明を構成し、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造において、少なくとも下記成分［Ａ］、［Ｂ］を含み、下記工程［Ｉ］、［ＩＩ］を順次行う工程を含むことを特徴とする、α−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法である。
工程［Ｉ］：エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、成分［Ａ］と成分［Ｂ］を接触させる工程。
工程［ＩＩ］：工程［Ｉ］の接触物の存在下に、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとを共重合する工程。
成分［Ａ］：置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した周期表第８〜１１族金属触媒
成分［Ｂ］：一般式（１）で表される極性基含有オレフィン
【００１３】
【化１】
2016169385.tif 000002
【００１４】
［式中、Ｔ１は水素原子又はメチル基であり、Ｔ２は、水酸基で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数２〜１０のエステル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数３〜１８のシリル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、カルボキシル基、炭素数２〜１０のエステル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基、アミノ基、炭素数１〜１２の置換アミノ基、炭素数２〜１３のカルボン酸アミド基、炭素数３〜１８のシリル基、及びハロゲンからなる群より選ばれた置換基を示す。］
【００１５】
上記した基本的な発明（請求項１の独立請求項の発明）に対して、付随する実施の態様発明（従属請求項の各発明）としては、成分（Ａ）が更に特定され（請求項２〜７）、成分（Ｂ）が更に特定される（請求項８，９）発明である。
【００１６】
本発明においては、上記したように、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造において、アリールホスフィンなどが配位した金属触媒を用いて、かかる触媒と共重合モノマーの特異な接触工程を採用することにより、極性基含有オレフィンの取り込み量が多く、生成した共重合体の分子量が高い、共重合体を製造する方法であって、かかる特異的で新規な構成は、従来技術の文献からは見い出すことができない。
【００１７】
以上において、本発明の創成の経緯と発明の基本的な構成と特徴について、概括的に記述したので、ここで本発明の全体的な構成を俯瞰して総括すると、本発明は次の［１］〜［９］の発明単位群からなるものである。
ここで、［１］における、共重合体の特異な製造方法が、基本発明［１］として構成され、［２］以下の各発明は、基本発明に付随的な要件を加え、或いはその実施の態様を示すものである。
【００１８】
［１］少なくとも下記成分［Ａ］、［Ｂ］を含み、下記工程［Ｉ］、［ＩＩ］を順次行う工程を含むことを特徴とする、α−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
工程［Ｉ］：エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、成分［Ａ］と成分［Ｂ］を接触させる工程。
工程［ＩＩ］：工程［Ｉ］の接触物の存在下に、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとを共重合する工程。
成分［Ａ］：置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した周期表第８〜１１族金属触媒
成分［Ｂ］：一般式（１）で表される極性基含有オレフィン
【００１９】
【化２】
2016169385.tif 000003
【００２０】
［式中、Ｔ１は水素原子又はメチル基であり、Ｔ２は、水酸基で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数２〜１０のエステル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数３〜１８のシリル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、カルボキシル基、炭素数２〜１０のエステル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基、アミノ基、炭素数１〜１２の置換アミノ基、炭素数２〜１３のカルボン酸アミド基、炭素数３〜１８のシリル基、及びハロゲンからなる群より選ばれた置換基を示す。］
【００２１】
［２］前記成分（Ａ）が、周期表第１０族の金属触媒であることを特徴とする、［１］におけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００２２】
［３］前記成分（Ａ）が、ニッケル触媒であることを特徴とする、［１］又は［２］におけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００２３】
［４］前記成分（Ａ）が、置換基を有してもよいアリールホスフィン化合物が配位していることを特徴とする、［１］〜［３］のいずれかにおけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００２４】
［５］前記成分（Ａ）が、一般式（２）で表されることを特徴とする、［１］〜［４］のいずれかにおけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００２５】
【化３】
2016169385.tif 000004
【００２６】
［式中、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、ニッケルに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素、硫黄、−ＳＯ３−又は−ＣＯ２−を表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表す。Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、ＰＯ３Ｍ”、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’又はエポキシ含有基を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はホスホニウムを表し、Ｍ”はアルカリ土類金属を表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２又はＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環又は酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【００２７】
［６］一般式（２）において、前記Ｘ１が酸素であることを特徴とする、［５］におけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００２８】
［７］一般式（２）において、前記Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、メトキシ基で置換されたフェニル基を有することを特徴とする、［５］又は［６］におけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００２９】
［８］前記成分（Ｂ）が、（メタ）アクリレートであることを特徴とする、［１］〜［７］のいずれかにおけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【００３０】
［９］前記成分（Ｂ）がアクリル酸メチル、又は４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルであることを特徴とする、［１］〜［７］のいずれかにおけるα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法。
【発明の効果】
【００３１】
本発明のα−オレフィン−極性基含有オレフィン共重合体の製造方法は、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体を製造する場合に、極性基含有オレフィンの取り込み量が良好であり、生成した共重合体の分子量が高い、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明における、共重合体のアクリル酸メチルの含量の制御を示すグラフ図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明は、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体の製造において、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、極性基含有オレフィンと、置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した周期表第８〜１１族の金属触媒を接触させる工程後、この接触物の存在下、α−オレフィンと極性基含有オレフィンとを共重合させる共重合体の製造方法である。
以下、共重合体の構成モノマー、金属触媒、共重合体の製造方法などについて、詳細に説明する。
【００３４】
１．共重合体の構成モノマー
（ａ）α−オレフィン
本発明におけるα−オレフィンは、構造式：ＣＨ２＝ＣＨＴ３で表されるα−オレフィンである。ここで、Ｔ３は、水素原子又は炭素数１〜１８の炭化水素基であり、分岐構造、環構造、及び／又は不飽和結合を有してもよい。
なかでも、好ましいα−オレフィンとしては、Ｔ３が水素原子又は炭素数１〜１０の炭化水素基であるα−オレフィンが挙げられる。更に好ましいα−オレフィンとしては、エチレン、プロピレン、１−ブテン、１−ペンテン、１−ヘキセン、１−オクテン、１−デセン、３−メチル−１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、ビニルシクロヘキセン、スチレンが挙げられ、更により好適なα−オレフィンとして、エチレン又はプロピレンが挙げられる。なお、単独のα−オレフィンを使用してもよいし、複数のα−オレフィンを併用してもよい。
【００３５】
本発明のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体において、α−オレフィンに由来する構造単位の割合は、通常８０〜９９．９９９ｍｏｌ％、好ましくは８５〜９９．９９ｍｏｌ％、更に好ましくは９０〜９９．９７ｍｏｌ％の範囲から選択されることが望ましい。
【００３６】
（ｂ）極性基含有オレフィン
本発明で用いられる極性基含有オレフィンは、一般式（１）で表されるとおり、分子中に炭素−炭素二重結合及び炭素原子と異なった電気陰性度をもつ原子又は原子団を含む置換基（極性基）を有する化合物をいう。
【００３７】
【化４】
2016169385.tif 000005
【００３８】
ここで、Ｔ１は水素原子又はメチル基であり、極性基はＴ２で表され、Ｔ２は、水酸基で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数２〜１０のエステル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数３〜１８のシリル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、カルボキシル基、炭素数２〜１０のエステル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基、アミノ基、炭素数１〜１２の置換アミノ基、炭素数２〜１３のカルボン酸アミド基、炭素数３〜１８のシリル基、及びハロゲンからなる群より選ばれた置換基である。
【００３９】
以上の中でも、（メタ）アクリル酸エステルが好ましく、好ましい例としては、（メタ）アクリル酸エステルとして、Ｔ１が水素原子であるアクリル酸エステル又はＴ１がメチル基であるメタクリル酸エステルが挙げられる。
（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、例えば、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸イソプロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸イソブチル、（メタ）アクリル酸ｔ−ブチル、（メタ）アクリル酸ペンチル、（メタ）アクリル酸ヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸オクチル、（メタ）アクリル酸２−エチルヘキシル、（メタ）アクリル酸ノニル、（メタ）アクリル酸デシル、（メタ）アクリル酸ドデシル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸トルイル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸ヒドロキシブチル、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル（４−ＨＢＡＧＥ）、３−（トリメトキシシリル）プロピル（メタ）アクリレート、（メタ）アクリル酸ポリエチレングリコールエステル（ＥＥＥＡ）、（メタ）アクリル酸ジメチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸ジエチルアミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−アミノエチル、（メタ）アクリル酸−２−メトキシエチル、（メタ）アクリル酸−３−メトキシプロピル、（メタ）アクリル酸グリシジル、（メタ）アクリル酸エチレンオキサイド、（メタ）アクリル酸トリフルオロメチル、（メタ）アクリル酸−２−トリフルオロメチルエチル、（メタ）アクリル酸パーフルオロエチル、４−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）アクリレートなどが挙げられる。
なお、単独の（メタ）アクリル酸エステルを使用してもよいし、複数の（メタ）アクリル酸エステルを併用してもよい。
また、極性基含有オレフィンとして、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリルジメチルアミドなども、（メタ）アクリル酸エステルに類似する化合物として、例示される。
【００４０】
これらの中でも、好ましい化合物として、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ｎ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、（４−ヒドロキシブチル）アクリレートグリシジルエーテル、４−（１，２，２，６，６−ペンタメチルピペリジル）アクリレートが挙げられる。特に好ましくは、アクリル酸メチル及び（４−ヒドロキシブチル）アクリレートグリシジルエーテルである。
【００４１】
本発明のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体において、極性基含有オレフィンに由来する構造単位の割合は、０．００１〜２０ｍｏｌ％、好ましくは０．０１〜１５ｍｏｌ％、更に好ましくは０．０３〜１０ｍｏｌ％の範囲から選択されることが望ましい。
【００４２】
２．金属触媒
本発明の金属触媒は、置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した金属触媒であり、分子中にリン、砒素又はアンチモン元素を有し、かつ置換基を有してもよいアリール基を有する化合物が配位した金属触媒である。
【００４３】
上記の置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物は、当技術分野で公知のものを例示することができる。
例えば、前記の特許文献２である国際公開ＷＯ２０１０／０５０２５６号に記載された化合物や、同公開公報におけるリガンドの合成例として例示された、リガンドＢ−１４、Ｂ−７、Ｂ−２７ＤＭ、Ｂ−３０、Ｂ−５６ＤＭなどのアリールホスフィン化合物、前記の特許文献３である特開２００９−１３２８９８号公報における実施例に金属錯体として例示記載された、リガンドＢ−７、Ｂ−８、Ｂ−１０などのアリールホスフィン化合物、特開２０１０−２６０９１３号公報に記載されたアリールホスフィン化合物、特開２０
１１−８８８３１号公報に記載されたアリールホスフィン化合物及び特開２０１２−２
０１６５７号公報に記載されたアリールホスフィン化合物、並びに、特開２０１２−２
２９１９０号公報、特開２０１２−２０１６７３号公報、特開２０１２−１５８７２７号公報、特開２０１１−２５６１６７号公報、特開２０１０−２０２６４７号公報、特開２０１０−１５０２４６号公報、特開２０１３−０４３８７１号公報などに記載されたアリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物が挙げられる。
【００４４】
中でも、前記の特許文献２である国際公開ＷＯ２０１０／０５０２５６号に記載された化合物やリガンドＢ−１４、Ｂ−７、Ｂ−２７ＤＭ、Ｂ−３０、Ｂ−５６ＤＭのアリールホスフィン化合物、前記の特許文献３である特開２００９−１３２８９８号公報に記載されたリガンドＢ−７、Ｂ−８、Ｂ−１０のアリールホスフィン化合物、特開２０１３−０４３８７１号公報に記載されたリガンドＢ−１１１などが、重合活性の観点から好ましい。
なお、これらの配位化合物及び金属触媒の合成法は、上記の各公報に詳細に記載されている。
【００４５】
これらのアリールホスフィン化合物などが配位した金属触媒の例示としては、以下の触媒が挙げられる。
【００４６】
【化５】
2016169385.tif 000006
【００４７】
（Ｙは、リン又は砒素であり、Ｚは、酸素、硫黄、−ＳＯ３−又は−ＣＯ２−である。Ｒ１〜Ｒ１３は、各々独立して、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、アルコキシ基で置換された炭素数２〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、又は炭素数１〜２０の炭化水素基で置換されたシリル基からなる群より選ばれた置換基を示す。Ｒ１４は、炭素原子、ケイ素原子、酸素原子の、いずれかを介して芳香環と結合している、炭素数１〜２０の置換基を示す。
Ｍは、８〜１１族の遷移金属からなる群より選択された金属原子を示し、Ａは、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜３０の炭化水素基、アルコキシ基で置換された炭素数１〜３０の炭化水素基、アリーロキシ基で置換された炭素数１〜３０の炭化水素基、炭素数１〜３０のアルコキシ基、又は炭素数１〜３０のアリールオキシ基からなる群より選ばれた置換基を示す。Ｂは、Ｍに配位した任意のリガンドを示す。また、ＡとＢは互いに結合して環を形成していてもよい。）
【００４８】
本発明で用いる金属触媒は、周期表第８〜１１族金属触媒であるが、好ましくは、ＮｉやＰｄなどの周期表第１０族の金属触媒である。
更に、本発明の金属触媒は、下記一般式（２）で表されるＮｉ触媒であることが重合活性の観点から好ましい。
【００４９】
【化６】
2016169385.tif 000007
【００５０】
［式中、Ｒ３は、水素原子又は炭素数１〜２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。Ｌ１は、ニッケルに配位したリガンドを表す。また、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ１は、酸素、硫黄、−ＳＯ３−又は−ＣＯ２−を表す。Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基を表す。Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２及びＲ１３は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、ＰＯ３Ｍ”、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’又はエポキシ含有基を表す（ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はホスホニウムを表し、Ｍ”はアルカリ土類金属を表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。また、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２又はＲ１３から適宜選択される複数の基が互いに連結し、脂環式環、芳香族環又は酸素、窒素もしくは硫黄から選ばれるヘテロ原子を含有する複素環を形成してもよく、このとき、環員数は５〜８であり、該環上に置換基を有していても、有していなくてもよい。］
【００５１】
また、本発明の一般式（２）で示される化合物において、式中のＸ１は、酸素であることが、重合活性の観点から好適である。
【００５２】
本発明においてＲ３は、水素又は炭素数１ないし２０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基を表す。本発明における重合又は共重合反応は、ニッケルとＲ３の結合に本発明におけるα−オレフィン又は極性基含有オレフィンが挿入することによって開始されると考えられる。したがって、Ｒ３の炭素数が過度に多いと、この開始反応が阻害される傾向にある。このため、好ましいＲ３としては、炭素数１〜１６、更に好ましくは炭素数１〜１０である。
【００５３】
Ｒ３の具体的な例としては、ヒドリド基、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ドデシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリフェニルシリル基などを挙げることができる。
【００５４】
本発明において、Ｌ１はニッケルに配位したリガンドを表す。本発明におけるリガンドＬ１は、配位結合可能な原子として、酸素、窒素、硫黄を有する炭素数１〜２０の炭化水素化合物である。また、Ｌ１として、遷移金属に配位可能な炭素−炭素不飽和結合を有する炭化水素化合物（ヘテロ原子を含有していてもよい）も使用することができる。好ましくは、Ｌ１の炭素数は１〜１６であり、更に好ましくは１〜１０である。また一般式（２）中のニッケルと配位結合するＬ１としては、電荷を持たない化合物が好ましい。
Ｌ１はニッケルと配位結合を形成するが、本発明においては、α−オレフィンの重合やα−オレフィンと極性基含有オレフィンの共重合を進行させるために、Ｌ１をニッケルから取り除く化合物（スカベンジャー）を使用する必要がない。 
【００５５】
なお、いわゆるＳＨＯＰ系金属錯体においては、本発明におけるＬ１の代わりに、フォスフィン、例えば、トリメチルフォスフィンやトリフェニルフォスフィンを用いても、本発明と類似の錯体を合成することができる。しかしながら、こうしたリガンドを用いた場合には、該リガンドをＭから取り除くスカベンジャーを併用することが、オレフィンの重合能発現のために必須であることが知られている（Ｕ．Ｋｌａｂｕｎｄｅ  ｅｔ  ａｌ
．，Ｊ．Ｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈｅｍ．，１９８７年，２５巻，ｐ１９８９．）。このような目的のために用いられるスカベンジャーとしては、Ｎｉ（ＣＯＤ）２（ＣＯＤ：シクロオクタジエン）、Ｂ（Ｃ６Ｆ５）３、アルミノキサン類、ロジウム錯体などが知られている。 
【００５６】
本発明における好ましいＬ１としては、ピリジン類、ピペリジン類、アルキルエーテル類、アリールエーテル類、アルキルアリールエーテル類、環状エーテル類、アルキルニトリル誘導体、アリールニトリル誘導体、アルコール類、アミド類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、アミン類、環状不飽和炭化水素類などを挙げることができる。
更に好ましいＬ１としては、ピリジン類、環状エーテル類、脂肪族エステル類、芳香族エステル類、環状オレフィン類が挙げられ、特に好ましいＬ１として、ピリジン、ルチジン（ジメチルピリジン）、ピコリン（メチルピリジン）、Ｒ１ＣＯ２Ｒ２（Ｒ１及びＲ２の定義は前記の通り）を挙げることができる。
なお、Ｒ３とＬ１が互いに結合して環を形成してもよい。そのような例として、シクロオクタ−１−エニル基を挙げることができ、これも本発明における好ましい様態である。
【００５７】
本発明において、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であって、Ｒ４及びＲ５の少なくとも一つは、ヘテロ原子含有基を２個以上含有する炭化水素基である。Ｒ４及びＲ５はニッケルの近傍にあって、立体的及び／又は電子的にニッケルに相互作用を及ぼす。こうした効果を及ぼすためには、Ｒ４及びＲ５は嵩高い方が好ましい。Ｒ４及びＲ５の好ましい炭素数は３〜４０、更に好ましくは６〜２０である。
【００５８】
Ｒ４及びＲ５において、ヘテロ原子含有基中に含まれるヘテロ原子としては、酸素、窒素、リン、硫黄、セレン、ケイ素、フッ素、ホウ素が挙げられる。これらのヘテロ原子のうち、酸素、ケイ素、フッ素が好ましい。また、これらのヘテロ原子を含むヘテロ原子含有基としては、酸素含有基として、アルコキシ基、アリーロキシ基、アシル基、アロイル基、カルボキシレート基が挙げられ、窒素含有基としては、アミノ基、アミド基が挙げられ、硫黄含有基としては、チオアルコキシ基やチオアリーロキシが挙げられ、リン含有置換基としては、フォスフィノ基が挙げられ、セレン含有基としては、セレニル基が挙げられ、ケイ素含有基としては、トリアルキルシリル基、ジアルキルアリールシリル基、アルキルジアリールシリル基が挙げられ、フッ素含有基としては、フルオロアルキル基、フルオロアリール基が挙げられ、ホウ素含有基としては、アルキルホウ素基、アリールホウ素基が挙げられる。
これらのヘテロ原子含有基のうち、最も好ましいのは、アルコキシ基又はアリーロキシ基である。 
【００５９】
前記したヘテロ原子含有基に含まれるヘテロ原子としては、遷移金属に配位可能なものが好ましい。
こうした遷移金属に配位可能なヘテロ原子を含むヘテロ原子含有基の具体的な例としては以下のようなものが挙げられる。
即ち、酸素含有基として、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｔ−ブトキシ基、フェノキシ基、ｐ−メチルフェノキシ基、ｐ−メトキシフェノキシ基、アセチル基、ベンゾイル基、アセトキシ基、エチルカルボキシレート基、ｔ−ブチルカルボキシレート基、フェニルカルボキシレート基などを挙げることができる。
窒素含有基としては、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジ−ｎ−プロピルアミノ基、シクロヘキシルアミノ基などを挙げることができる。
硫黄含有基としては、チオメトキシ基、チオエトキシ基、チオ−ｎ−プロポキシ基、チオイソプロポキシ基、チオ−ｎ−ブトキシ基、チオ−ｔ−ブトキシ基、チオフェノキシ基、ｐ−メチルチオフェノキシ基、ｐ−メトキシチオフェノキシ基などを挙げることができる。
リン含有置換基としては、ジメチルフォスフィノ基、ジエチルフォスフィノ基、ジ−ｎ−プロピルフォスフィノ基、シクロヘキシルフォスフィノ基などを挙げることができる。
セレン含有基としては、メチルセレニル基、エチルセレニル基、ｎ−プロピルセレニル基、ｎ−ブチルセレニル基、ｔ−ブチルセレニル基、フェニルセレニル基などを挙げることができる。 
【００６０】
Ｒ４及びＲ５においては、Ｒ４又はＲ５のいずれか一方が２個以上のヘテロ原子含有基を有していればよいが、特に、Ｒ４及びＲ５が双方とも２個以上のヘテロ原子含有基を含有しているものが好ましい。
【００６１】
本発明において、Ｒ４及びＲ５は、それぞれ独立に、炭素数１〜４０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基であるが、より具体的には、ヘテロ原子を含有していてもよい直鎖状炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよい分岐鎖状炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が挙げられる。
前記したように、Ｒ４及びＲ５は嵩高い方が好ましい。したがって、これらのうち、ヘテロ原子を含有していてもよい脂環式炭化水素基、又はヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が好ましく、ヘテロ原子を含有していてもよいアリール基が最も好ましい。こうしたアリール基としては、フェニル基、ナフチル基、アンスラセニル基などを挙げることができる。 
【００６２】
本発明のＲ４及びＲ５において、これらアリール基の芳香族骨格に前記したヘテロ原子含有基が結合する場合、結合様式としては、ヘテロ原子含有基が芳香族骨格に直接結合してもよいし、メチレン基のようなスペーサーを介して芳香族骨格に結合してもよい。
なお、メチレン基を介してヘテロ原子含有基が芳香族骨格に結合する場合、メチレン基の数は１個が好ましい。また、置換位置としては、Ｒ４及びＲ５中の芳香族骨格のうち、リンに結合した炭素に対してオルト位が好ましい。このようにすることによって、Ｒ４及びＲ５中のヘテロ原子がニッケルと相互作用を持つように空間的配置をとることができる。 
【００６３】
好ましいＲ４及びＲ５の具体的な例示として、２，６−ジメトキシフェニル基、２，４
，６−トリメトキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジメトキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジメトキシフェニル基、１，３−ジメトキシ−２−ナフチル基、２，６−ジエトキシフェニル基、２，４，６−トリエトキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジエトキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジエトキシフェニル基、１，３−ジエトキシ−２−ナフチル基、２，６−ジフェノキシフェニル基、２，４，６−トリフェノキシフェニル基、４−メチル−２，６−ジフェノキシフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジフェノキシフェニル基、１，３−ジフェノキシ−２−ナフチル基、２，６−ジメトキシメチルフェニル基、２，４，６−トリメトキシメチルフェニル基、４−メチル−２，６−ジメトキシメチルフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジメトキシメチルフェニル基、１，３−ジメトキシメチル−２−ナフチル基、２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、２，４，６−トリフェノキシメチルフェニル基、４−メチル−２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジフェノキシメチルフェニル基、１，３−ジフェノキシメチル−２−ナフチル基、２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（２−メトキシエチル）フェニル基、４−メチル−２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジ（２−メトキシエチル）フェニル基、１，３−ジ（２−メトキシエチル）−２−ナフチル基、２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、２，４，６−トリ（２−フェノキシエチル）フェニル基、４−メチル−２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、４−ｔ−ブチル−２，６−ジ（２−フェノキシエチル）フェニル基、１，３−ジ（２−フェノキシエチル）−２−ナフチル基などを挙げることができる。 
【００６４】
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３については前記した通りであるが、これらのうち、Ｒ１３については、嵩高い方が、高分子量の重合体を与える傾向にあり、好ましい。Ｒ１３の炭素数は１〜３０であるが、炭素数３〜３０であることが好ましい。
Ｒ１３の例を具体的に挙げると、炭化水素基として、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、フェニル基、１−ナフチル基、２−ナフチル基、１−アンスラセニル基、２−アンスラセニル基、９−アンスラセニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、９−フルオレニル基、シクロヘキシル基などを、ヘテロ原子含有炭化水素基として、トリフルオロメチル基、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、トリ−ｎ−プロピルシリル基、トリフェニルシリル基、２，６−ジフルオロフェニル基、２，４，６−トリフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基、シクロヘキシルアミノ基などを挙げることができる。
これらのうち、特に好ましいＲ１３として、ｔ−ブチル基、トリメチルシリル基、フェニル基、９−アンスラセニル基、４−ｔ−ブチルフェニル基、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられる。 
【００６５】
Ｒ１０、Ｒ１１、Ｒ１２については前記した通りであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基、ＯＲ２、ＣＯ２Ｒ２、ＣＯ２Ｍ’、Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１）２、Ｃ（Ｏ）Ｒ２、ＳＲ２、ＳＯ２Ｒ２、ＳＯＲ２、ＯＳＯ２Ｒ２、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２−ｙ（Ｒ１）ｙ、ＣＮ、ＮＨＲ２、Ｎ（Ｒ２）２、Ｓｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＯＳｉ（ＯＲ１）３−ｘ（Ｒ１）ｘ、ＮＯ２、ＳＯ３Ｍ’、ＰＯ３Ｍ’２、ＰＯ３Ｍ”、Ｐ（Ｏ）（ＯＲ２）２Ｍ’又はエポキシ含有基である（ここで、Ｒ１は、水素原子又は炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｒ２は、炭素数１〜２０の炭化水素基を表し、Ｍ’は、アルカリ金属、アンモニウム、４級アンモニウム又はホスホニウムを表し、Ｍ”はアルカリ土類金属を表し、ｘは０〜３の整数を表し、ｙは０〜２の整数を表す。）。
炭素数１〜３０のヘテロ原子を含有していてもよい炭化水素基は、Ｒ１３において前記した炭化水素基と同様である。
【００６６】
本発明に係る金属触媒は、必要により、活性化剤、担体などを併用することができる。上記活性化剤としては、通常のメタロセン触媒で使用される助触媒であるアルキルアルモキサンやホウ素含有化合物が例示される。
本発明に係る遷移金属錯体は、必要により、活性化剤、担体などを併用することができる。
【００６７】
また、担体としては、本発明の主旨をそこなわない限りにおいて、任意の担体を用いることができる。一般に、無機酸化物やポリマー担体が好適に使用できる。
具体的には、ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ｂ２Ｏ３、ＣａＯ、ＺｎＯ、ＢａＯ、ＴｈＯ２など又はこれらの混合物が挙げられ、ＳｉＯ２−Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２−Ｖ２Ｏ５、ＳｉＯ２−ＴｉＯ２、ＳｉＯ２−ＭｇＯ、ＳｉＯ２−Ｃｒ２Ｏ３などの混合酸化物も使用することができ、無機ケイ酸塩、ポリエチレン担体、ポリプロピレン担体、ポリスチレン担体、ポリアクリル酸担体、ポリメタクリル酸担体、ポリアクリル酸エステル担体、ポリエステル担体、ポリアミド担体、ポリイミド担体などが使用可能である。これらの担体については、粒径、粒径分布、細孔容積、比表面積などに特に制限はなく、任意のものが使用可能である。
【００６８】
これら無機物担体は、通常、２００〜８００℃、好ましくは４００〜６００℃で空気中又は窒素、アルゴンなどの不活性ガス中で焼成して、表面水酸基の量を０．８〜１．５ｍｍｏｌ／ｇに調節して用いるのが好ましい。これら無機物担体の性状としては、特に制限はないが、通常、平均粒径は５〜２００μｍ、好ましくは１０〜１５０μｍ、平均細孔径は２０〜１，０００Å、好ましくは５０〜５００Å、比表面積は１５０〜１，０００ｍ２／ｇ、好ましくは２００〜７００ｍ２／ｇ、細孔容積は０．３〜２．５ｃｍ３／ｇ、好ましくは０．５〜２．０ｃｍ３／ｇ、見掛比重は０．２０〜０．５０ｇ／ｃｍ３、好ましくは０．２５〜０．４５ｇ／ｃｍ３を有する無機物担体を用いるのが好ましい。  
【００６９】
上記した無機物担体は、もちろんそのまま用いることもできるが、予備処理としてこれらの担体をトリメチルアルミニウム、トリエチルアルミニウム、トリプロピルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウム、トリブチルアルミニウム、トリヘキシルアルミニウム、トリオクチルアルミニウム、トリデシルアルミニウム、ジイソブチルアルミニウムハイドライドなどの有機アルミニウム化合物やＡｌ−Ｏ−Ａｌ結合を含む有機アルミニウムオキシ化合物に接触させた後、用いることができる。
【００７０】
上記無機ケイ酸塩としては、粘土、粘土鉱物、ゼオライト、珪藻土などが使用可能である。これらは、合成品を用いてもよいし、天然に産出する鉱物を用いてもよい。
粘土、粘土鉱物の具体例としては、アロフェンなどのアロフェン族、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイトなどのカオリン族、メタハロイサイト、ハロイサイトなどのハロイサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライトなどの蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライトなどのスメクタイト族、バーミキュライトなどのバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石などの雲母鉱物、アタパルジャイト、セピオライト、パイゴルスカイト、ベントナイト、木節粘土、ガイロメ粘土、ヒシンゲル石、パイロフィライト、リョクデイ石群などが挙げられる。これらは混合層を形成していてもよい。
人工合成物としては、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトなどが挙げられる。
【００７１】
これら具体例のうち好ましくは、ディッカイト、ナクライト、カオリナイト、アノーキサイトなどのカオリン族、メタハロサイト、ハロサイトなどのハロサイト族、クリソタイル、リザルダイト、アンチゴライトなどの蛇紋石族、モンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライトなどのスメクタイト族、バーミキュライトなどのバーミキュライト鉱物、イライト、セリサイト、海緑石などの雲母鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられ、特に好ましくはモンモリロナイト、ザウコナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイト、ヘクトライトなどのスメクタイト族、バーミキュライトなどのバーミキュライト鉱物、合成雲母、合成ヘクトライト、合成サポナイト、合成テニオライトが挙げられる。
【００７２】
これらの担体は、そのまま用いてもよいが、塩酸、硝酸、硫酸などによる酸処理及び／又は、ＬｉＣｌ、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、ＣａＣｌ２、ＭｇＣｌ２、Ｌｉ２ＳＯ４、ＭｇＳＯ４、ＺｎＳＯ４、Ｔｉ（ＳＯ４）２、Ｚｒ（ＳＯ４）２、Ａｌ２（ＳＯ４）３などの塩類処理を行なってもよい。該処理において、対応する酸と塩基を混合して反応系内で塩を生成させて処理を行なってもよい。また、粉砕や造粒などの形状制御や乾燥処理を行なってもよい。
【００７３】
３．共重合体の製造方法
（ａ）工程［Ｉ］
本発明における接触工程は、下記成分［Ａ］、［Ｂ］を含み、下記工程［Ｉ］、［ＩＩ］を順次行う工程を含む。
工程［Ｉ］：エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、成分［Ａ］と成分［Ｂ］を接触させる工程。
工程［ＩＩ］：工程［Ｉ］の接触物の存在下に、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとを共重合する工程。
成分［Ａ］：置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した周期表第８〜１１族金属触媒
成分［Ｂ］：一般式（１）で表される極性基含有オレフィン
【００７４】
【化７】
2016169385.tif 000008
【００７５】
［式中、Ｔ１は水素原子又はメチル基であり、Ｔ２は、水酸基で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数２〜１０のエステル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数３〜１８のシリル基で置換された炭素数１〜２０の炭化水素基、ハロゲン原子で置換された炭素数１〜１０の炭化水素基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリーロキシ基、カルボキシル基、炭素数２〜１０のエステル基、炭素数２〜１０のアシルオキシ基、アミノ基、炭素数１〜１２の置換アミノ基、炭素数２〜１３のカルボン酸アミド基、炭素数３〜１８のシリル基、及びハロゲンからなる群より選ばれた置換基を示す。］
【００７６】
本発明において、工程［Ｉ］は、一般に不活性ガス雰囲気下で行なわれる。例えば、窒素、アルゴン、二酸化炭素雰囲気が使用でき、窒素雰囲気が好ましく使用される。なお、少量の酸素や空気の混入があってもよい。
接触温度としては、特に制限はないが、好ましくは−８０℃〜１００℃、更に好ましくは−７５℃〜５０℃がよい。接触時間としては、通常０．５分〜８時間、好ましくは０．５分〜６時間がよい。添加順としては、特に制限はないが、好ましくは成分［Ａ］に成分［Ｂ］を加える方が望ましい。
また、必要に応じて、成分［Ｂ］をプロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素溶媒で希釈してから、成分［Ａ］に加えてもよい。
成分［Ａ］と成分［Ｂ］との接触は、両成分を混合する、或いは添加後放置するなどの態様にて行われる。
【００７７】
（ｂ）工程［ＩＩ］
本発明における共重合反応は、プロパン、ｎ−ブタン、イソブタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素溶媒や液化α−オレフィンなどの液体、また、ジエチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、酢酸エチル、安息香酸メチル、アセトン、メチルエチルケトン、ホルミアミド、アセトニトリル、メタノール、イソプロピルアルコール、エチレングリコールなどのような極性溶媒の存在下或いは非存在下に行われる。また、ここで記載した液体化合物の混合物を溶媒として使用してもよい。なお、高い重合活や高い分子量を得るうえでは、上述の炭化水素溶媒がより好ましい。
【００７８】
本発明における共重合に際して、公知の添加剤の存在下又は非存在下で共重合を行なうことができる。添加剤としては、ラジカル重合禁止剤や、生成共重合体を安定化する作用を有する添加剤が好ましい。
例えば、キノン誘導体やヒンダードフェノール誘導体などが好ましい添加剤の例として挙げられる。具体的には、モノメチルエーテルハイドロキノンや、４−メトキシ−１−ナフトール、１，４−ジエトキシナフタレン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール（ＢＨＴ）、トリメチルアルミニウムとＢＨＴとの反応生成物、４価チタンのアルコキサイドとＢＨＴとの反応生成物などが使用可能である。また、添加剤として、無機及び／又は有機フィラーを使用し、これらのフィラーの存在下で重合を行なっても良い。
【００７９】
本発明において、重合形式に特に制限はない。媒体中で少なくとも一部の生成重合体がスラリーとなるスラリー重合、液化したモノマー自身を媒体とするバルク重合、気化したモノマー中で行なう気相重合、又は高温高圧で液化したモノマーに生成重合体の少なくとも一部が溶解する高圧イオン重合などが好ましく用いられる。また、バッチ重合、セミバッチ重合、連続重合のいずれの形式でもよい。また、リビング重合であってもよいし、連鎖移動を併発しながら重合を行なってもよい。更に、いわゆるｃｈａｉｎ  ｔｒａｎｓｆｅｒ  ａｇｅｎｔ（ＣＳＡ）を併用し、ｃｈａｉｎ  ｓｈｕｔｔｌｉｎｇや、ｃｏｏｒｄｉｎａｔｉｖｅ  ｃｈａｉｎ  ｔｒａｎｓｆｅｒ  ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ（ＣＣＴＰ）を行なってもよい。
【００８０】
共重合温度、共重合圧力及び共重合時間に特に制限はないが、通常は、以下の範囲から生産性やプロセスの能力を考慮して、最適な設定を行なうことができる。  即ち、共重合温度は、通常−２０℃〜２９０℃、好ましくは０℃〜２５０℃、共重合圧力は、０．１ＭＰａ〜１００ＭＰａ、好ましくは、０．３ＭＰａ〜９０ＭＰａ、共重合時間は、０．１分〜１０時間、好ましくは、０．５分〜７時間、更に好ましくは１分〜６時間の範囲から選ぶことができる。
【００８１】
本発明において、共重合は、一般に不活性ガス雰囲気下で行なわれる。例えば、窒素、アルゴン、二酸化炭素雰囲気が使用でき、窒素雰囲気が好ましく使用される。なお、少量の酸素や空気の混入があってもよい。
【００８２】
共重合反応器への触媒とモノマーの供給に関しては、予めエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、極性基含有オレフィンと置換基を有してもよい、アリールホスフィン化合物、アリールアルシン化合物又はアリールアンチモン化合物が配位した金属触媒とを接触させ、その接触物の存在下、共重合を行なう。
共重合反応器への触媒とモノマーの供給方式は、特に制限はなく、目的に応じてさまざまな方式をとることができる。例えば、バッチ重合の場合、予め所定量の極性モノマーを共重合反応器に供給しておき、有機金属化合物を添加した後、接触触媒を形成し、その後、共重合する手法をとることが可能である。この場合、エチレンや極性基含有モノマーなどの追加のモノマーや追加の触媒を共重合反応器に供給してもよい。また、連続重合の場合、所定量のモノマーと有機金属化合物を添加し接触した後、接触した触媒を共重合反応器に連続的に、又は間欠的に供給し、共重合反応を連続的に行なう手法をとることができる。
【００８３】
共重合体の組成の制御に関しては、複数のモノマーを反応器に供給し、その供給比率を変えることによって、制御する方法を一般に用いることができる。その他、触媒の構造の違いによるモノマー反応性比の違いを利用して、共重合組成を制御する方法や、モノマー反応性比の重合温度依存性を利用して、共重合組成を制御する方法が挙げられる。
【００８４】
共重合体の分子量制御には、従来公知の方法を使用することができる。即ち、重合温度を制御して分子量を制御する方法、モノマー濃度を制御して分子量を制御する方法、連鎖移動剤を使用して分子量を制御する方法、金属触媒中のリガンド構造の制御により分子量を制御するなどが挙げられる。
連鎖移動剤を使用する場合には、従来公知の連鎖移動剤を用いることができる。例えば、水素、メタルアルキルなどを使用することができる。また、極性基含有オレフィン自身が一種の連鎖移動剤となる場合には、極性基含有オレフィンのα−オレフィンに対する比率や、極性基含有オレフィンの濃度を制御することによっても分子量調節が可能である。
金属触媒中のリガンド構造を制御して分子量調節を行なう場合には、遷移金属Ｍの周りに嵩高い置換基を配置したり、遷移金属Ｍに置換基を有してもよいアリール基やヘテロ原子含有置換基などの電子供与性基が相互作用可能となるように配置したりすることができる。
【００８５】
４．共重合体
本発明のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）が、通常１０，０００〜１，０００，０００、好ましくは１２，０００〜５００，０００、更に好ましくは１５，０００〜３００，０００の範囲であることが望ましい。Ｍｗが１，０００，０００を超えると、溶融粘度が非常に高くなり、成形加工が困難となる。
【００８６】
本発明のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体は、重量平均分子量（Ｍｗ）と数平均分子量（Ｍｎ）の比（Ｍｗ／Ｍｎ）が、通常１．５〜３．５、好ましくは１．６〜３．３、更に好ましくは１．７〜３．０の範囲であることが望ましい。Ｍｗ／Ｍｎが１．５未満では、各種加工性が充分でなくなる傾向があり、一方、Ｍｗ／Ｍｎが３．５を超えると、接着性などの性能発現が充分でなくなる傾向がある。なお、Ｍｗ／Ｍｎを分子量分布パラメーターと表現することがある。
【００８７】
本発明に係る重量平均分子量（Ｍｗ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって求められる。また、分子量分布パラメーター（Ｍｗ／Ｍｎ）は、ゲルパーミエイションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって、更に数平均分子量（Ｍｎ）を求め、ＭｗとＭｎの比、Ｍｗ／Ｍｎを算出することによって求められる。
【実施例】
【００８８】
以下、本発明を実施例によって、具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって限定されるものではなく、本発明の構成の合理性と有意性及び従来技術に対する本発明の有用性と卓越性を実証する。なお、実施例と比較例で用いた評価方法及び金属触媒は、以下の通りである。  
【００８９】
１．評価方法
（１）Ｔｍ
以下のＤＳＣ測定により求めた。セイコー電子工業株式会社製「ＥＸＳＴＡＲ６０００」を使用し、４０℃で１分等温、１０℃／分で４０〜１６０℃までの昇温、１６０℃で１０分等温、１０℃／分で１６０〜１０℃まで降温、１０℃で５分等温後、１０℃／分で１０〜１６０℃までの昇温時の測定により求めた。
【００９０】
（２）Ｍｗ／Ｍｎ：ＧＰＣにより測定した。
装置：日本ウォーターズ社製Ａｌｌｉａｎｃｅ・ＧＰＣＶ２０００型    
検出器：ＧＰＣＶ２０００内蔵の示差屈折計検出器    
試料の調製：４ｍＬバイアル瓶に試料３ｍｇ及びオルトジクロロベンゼン（０．１ｍｇ／ｍＬの１，２，４−トリメチルフェノールを含む）３ｍＬを秤採し、樹脂製スクリューキャップ及びテフロン（登録商標）製セプタムで蓋をした後、温度１５０℃に設定したセンシュー科学製ＳＳＣ−９３００型高温振とう機を用いて２時間溶解を行った。溶解終了後、不溶成分がないことを目視で確認した。    
カラム：昭和電工社製Ｓｈｏｄｅｘ  ＨＴ−８０６Ｍ×２本＋同・ＨＴ−Ｇ
較正曲線の作成：４ｍＬガラス瓶を４本用意し、それぞれに下記（ｉ）〜（ｉｖ）の組み合わせの単分散ポリスチレン標準試料又はｎ−アルカンを０．２ｍｇずつ秤り採り、続いてオルトジクロロベンゼン（０．１ｍｇ／ｍＬの１，２，４−トリメチルフェノールを含む）３ｍＬを秤り採り、樹脂製スクリューキャップ及びテフロン（登録商標）製セプタムで蓋をした後、温度１５０℃に設定したセンシュー科学製ＳＳＣ−９３００型高温振とう機を用いて２時間溶解を行った。
（ｉ）Ｓｈｏｄｅｘ  Ｓ−１４６０，同Ｓ−６６．０，ｎ−エイコサン
（ｉｉ）Ｓｈｏｄｅｘ  Ｓ−１９５０，同Ｓ−１５２，ｎ−テトラコンタン
（ｉｉｉ）Ｓｈｏｄｅｘ  Ｓ−３９００，同Ｓ−５６５，同Ｓ−５．０５
（ｉｖ）Ｓｈｏｄｅｘ  Ｓ−７５００，同Ｓ−１０１０，同Ｓ−２８．５
試料溶液が入ったバイアル瓶を装置にセットし、前述の条件にて測定を行い、サンプリング間隔１ｓでクロマトグラム（保持時間と示差屈折計検出器の応答のデータセット）を記録した。得られたクロマトグラムから各ポリスチレン標準試料の保持時間（ピーク頂点）を読み取り、分子量の対数値に対してプロットした。ここで、ｎ−エイコサン及びｎ−テトラコンタンの分子量は、それぞれ６００及び１，２００とした。このプロットに非線形最小自乗法を適用し、得られた４次曲線を較正曲線とした。
【００９１】
分子量の計算：前述の条件にて測定を行い、サンプリング間隔１ｓでクロマトグラムを記録した。このクロマトグラムを用い、森定雄著「サイズ排除クロマトグラフィー」（共立出版）第４章ｐ．５１〜６０に記載の方法で微分分子量分布曲線及び平均分子量値（Ｍｎ、Ｍｗ及びＭｚ）を算出した。ただし、ｄｎ／ｄｃの分子量依存性を補正するため、クロマトグラムにおけるベースラインからの高さＨを下記式にて補正した。クロマトグラムの記録（データ取り込み）及び平均分子量計算は、Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ社製ＯＳ・Ｗｉｎｄｏｗｓ（登録商標）・ＸＰをインストールしたＰＣ上で自社製プログラム（Ｍｉｃｒｏｓｏｆｔ製Ｖｉｓｕａｌ  Ｂａｓｉｃ６．０で作成）を用いて行った。
Ｈ’＝Ｈ／［１．０３２＋１８９．２／Ｍ（ＰＥ）］
【００９２】
なお、ポリスチレンからポリエチレンへの分子量変換は、下記式を用いた。
Ｍ（ＰＥ）＝０．４６８×Ｍ（ＰＳ）
測定温度：１４５℃    濃度：２０ｍｇ／１０ｍＬ    注入量：０．３ｍｌ    溶媒：  オルソジクロロベンゼン  流速：１．０ｍｌ／分
【００９３】
２．金属触媒
Ｂ−１１１／Ｎｉ錯体は、特開２０１３−０４３８７１号公報に記載された合成例１に従い合成し、以下の化学式で示されるリガンドＢ−１１１を使用した。また、国際公開ＷＯ２０１０／０５０２５６号の実施例１に準じて、ビス−１，５−シクロオクタジエンニッケル（０）（Ｎｉ（ＣＯＤ）２と称する）を用いて、Ｂ−１１１とＮｉ（ＣＯＤ）２とが１対１で反応したニッケル錯体を合成した。
【００９４】
【化８】
2016169385.tif 000009
【００９５】
（実施例１）
上記の通り、Ｂ−１１１／Ｎｉ触媒は、特開２０１３−０４３８７１号公報に記載された合成例１に従い合成した。
【００９６】
（ａ）工程［Ｉ］
窒素雰囲気下、Ｂ−１１１（１４．５ｍｇ）とＮｉ（ＣＯＤ）（５．５ｍｇ）から合成したＢ−１１１／Ｎｉ触媒２ｍｌ（２０μｍｏｌ）を２５ｍｌの試験管に加え、続いてアクリル酸メチル０．９ｍｌ（１０．０ｍｍｏｌ）を加え、室温で２分間放置した。
【００９７】
（ｂ）工程［ＩＩ］：エチレンとアクリル酸メチル（ＭＡ）との共重合：
内容積２．４リットルの攪拌翼付きオートクレーブに、乾燥トルエン（１．０リットル）と、トリｎ−オクチルアルミニウム（ＴＮＯＡ）を３６．６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）を仕込んだ。攪拌しながらオートクレーブを１００℃に昇温し、窒素を０．５ＭＰａまで供給した後、エチレンをオートクレーブに供給し、圧力が３．０ＭＰａになるように調整した。調整終了後、Ｂ−１１１／Ｎｉとアクリル酸メチルの接触物を窒素で圧入して共重合を開始させた。２０分間重合させた後、冷却、脱圧して反応を停止した。反応溶液は、１リットルのアセトンに投入してポリマーを析出させた後、ろ過洗浄を行い回収し、更に減圧下で恒量になるまで乾燥を行なった。結果を表１に示す。
なお、共重合に用いたアクリル酸メチルはモレキュラーシーブ３Ａにより脱水したものを使用した。
【００９８】
（実施例２）
アクリル酸メチルの量を０．１８ｍｌ（２．０ｍｍｏｌ）とし、重合時間を６０分とした以外は実施例１と同様にしてエチレン−アクリル酸メチル共重合を行なった。結果を表１に示す。
【００９９】
（実施例３）
アクリル酸メチルの量を０．０２ｍｌ（０．２ｍｍｏｌ）とし、重合時間を６分とした以外は実施例１と同様にしてエチレン−アクリル酸メチル共重合を行なった。結果を表１に示す。
【０１００】
（実施例４）
４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル（４−ＨＢＡＧＥ）の量を１．９ｍｌ（１０．０ｍｍｏｌ）、重合温度を９０℃、トリｎ−オクチルアルミニウム（ＴＮＯＡ）を７３．２ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）、Ｂ−１１１／Ｎｉ触媒４ｍｌ（４０
μｍｏｌ）とした以外は実施例１と同様にして重合を行った。結果を表２に示す。
【０１０１】
（比較例１）
エチレンとアクリル酸メチル（ＭＡ）との共重合：
内容積２．４リットルの攪拌翼付きオートクレーブに、乾燥トルエン（１．０リットル）と、トリｎ−オクチルアルミニウム（ＴＮＯＡ）を３６．６ｍｇ（０．１ｍｍｏｌ）及び所定量のアクリル酸メチルを０．９ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）仕込んだ。攪拌しながらオートクレーブを１００℃に昇温し、窒素を０．５ＭＰａまで供給した後、エチレンをオートクレーブに供給し、圧力が３．０ＭＰａになるように調整した。調整終了後、Ｂ−１１１／Ｎｉ触媒を２ｍｌ（２０μｍｏｌ）を窒素で圧入して共重合を開始させた。２０分間重合させた後、冷却、脱圧して反応を停止した。反応溶液は、１リットルのアセトンに投入してポリマーを析出させた後、ろ過洗浄を行い回収し、更に減圧下で恒量になるまで乾燥を行なった。結果を表１に示す。
【０１０２】
（比較例２）
エチレンと４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテル（４−ＨＢＡＧＥ）との共重合：
内容積２．４リットルの攪拌翼付きオートクレーブに、乾燥トルエン（１．０リットル）と、トリｎ−オクチルアルミニウム（ＴＮＯＡ）を７３．２ｍｇ（０．２ｍｍｏｌ）及び所定量の４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートグリシジルエーテルを１．９ｍｌ（１０ｍｍｏｌ）仕込んだ。攪拌しながらオートクレーブを９０℃に昇温し、窒素を０．５ＭＰａまで供給した後、エチレンをオートクレーブに供給し、圧力が３．０ＭＰａになるように調整した。調整終了後、Ｂ−１１１／Ｎｉ触媒を４ｍｌ（４０μｍｏｌ）を窒素で圧入して共重合を開始させた。２０分間重合させた後、冷却、脱圧して反応を停止した。反応溶液は、１リットルのアセトンに投入してポリマーを析出させた後、ろ過洗浄を行い回収し、更に減圧下で恒量になるまで乾燥を行なった。結果を表２に示す。
【０１０３】
（実施例と比較例の評価）
表１より、本発明の工程［１］を実施した実施例１の共重合は、未実施の比較例１の共重合と比べ、アクリル酸メチルの含量が非常に多く、比較的にかなり分子量（Ｍｗ）の高い重合体が得られることが分る。
また、表２より、本発明は４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルの場合でも、アクリル酸メチルのときと同様に、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルの含量が非常に多く、比較的にかなり分子量（Ｍｗ）の高い重合体が得られることが分る。
即ち、実施例１と比較例１を比べると、工程［１］を実施した実施例１は、未実施の比較例１と比べると、同一重合条件でアクリル酸メチルの含量が３１．５倍となっていることが分かる。また、重合体の分子量（Ｍｗ）もかなり高い。実施例４と比較例２を比べても、工程［１］を実施した実施例４は、未実施の比較例２と比べると、同一重合条件で４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルの含量が３５倍となっていることが分かる。また、重合体の分子量（Ｍｗ）もかなり高い。
なお、段落００８６に記載のＭｗ／Ｍｎから見ても、実施例１は比較例１と異なり、Ｍｗ／Ｍｎが１．７〜３．０の範囲内であり、各種加工性が充分で、接着性などの性能発現が良好であることが示されている。  
【０１０４】
なお、図１より明らかなように、且つ、実施例２，３により明らかにされている通り、工程［１］で接触させるアクリル酸メチルの量を変えることで、共重合体のアクリル酸メチルの含量を制御することができる。
以上から明らかなように、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンが共存しない状態で、金属触媒と極性基含有オレフィン、特にアクリル酸メチル又は、４−ヒドロキシブチルアクリレートグリシジルエーテルを接触させる工程［１］を含むことで、効率的に極性基含有オレフィンの取込含量及び分子量を増やすことができ、且つ、実施例２，３により明らかにされている通り、接触させるアクリル酸メチルの濃度を変えることで、重合体中のアクリル酸メチルの含量を制御することができる。
よって、本発明の構成の合理性と有意性及び従来技術に対する本発明の有用性と卓越性が実証されている。  
【０１０５】
【表１】
2016169385.tif 000010
【０１０６】
【表２】
2016169385.tif 000011
【産業上の利用可能性】
【０１０７】
本発明により、エチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体において、極性基含有オレフィンが高含量の共重合体が入手可能となり、また、工業的に容易に製造可能となり、かつ、得られた共重合体の分子量も高い。更に、本発明においては、希少かつ高価な遷移金属を使用しても、比較的安価にエチレン及び／又は炭素数３〜２０のα−オレフィンと極性基含有オレフィンとの共重合体を製造することができる。
したがって、本発明は、かかる共重合体を経済的に製造することができるので、工業的に極めて有用である。
【図１】
2016169385.tif 000014