(57)【要約】【課題】主平面の表面粗さが小さく、かつ付着異物を十分に低減できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する研磨工程と、  前記研磨工程で研磨した磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄水に浸漬して超音波洗浄する洗浄工程を有し、  前記洗浄工程において、  前記超音波洗浄を行う際の超音波の周波数は３００ｋＨｚ以上５００ｋＨｚ以下であり、  前記洗浄水は、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有し、  前記洗浄水の温度が１５℃以上５５℃以下である磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する研磨工程と、
前記研磨工程で研磨した磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄水に浸漬して超音波洗浄する洗浄工程を有し、
前記洗浄工程において、
前記超音波洗浄を行う際の超音波の周波数は３００ｋＨｚ以上５００ｋＨｚ以下であり、
前記洗浄水は、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有し、
前記洗浄水の温度が１５℃以上５５℃以下である磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項２】
前記洗浄水のｐＨが６以上９以下である請求項１に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項３】
前記洗浄水は水素ガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有する請求項１または２に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項４】
前記洗浄工程において、前記磁気記録媒体用ガラス基板を、超音波の進行方向に対して垂直方向に揺動する請求項１乃至３のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板。
【請求項６】
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板を含む磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、磁気記録媒体用ガラス基板、磁気記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
磁気ディスク記録装置等に用いられる磁気記録媒体用基板としては、従来、アルミニウム合金基板が使用されてきた。しかしながら、近年、高記録密度化の要求に伴い、アルミニウム合金基板に比べて硬く、平坦性や平滑性に優れるガラス基板が主流となってきている。
【０００３】
そして、近年の磁気記録媒体の高記録密度化に伴い、磁気記録媒体上に磁気信号が微細に記録されるようになり、それに伴い信号は微弱になってきている。その微弱な信号の読み取り及び記録のため、磁気ディスクと磁気ヘッドとの距離をできるだけ短くすることが求められるようになっている。
【０００４】
高速で回転する磁気記録媒体と磁気ヘッドとの間の距離、すなわち磁気ヘッドの浮上量を小さくするためには、磁気記録媒体と磁気ヘッドとが接触しないように、磁気記録媒体の基板である磁気記録媒体用ガラス基板の表面を極めて均一な表面とする必要がある。このため、高記録密度対応の磁気記録媒体用ガラス基板は、主平面の表面粗さを従来よりもさらに低くすることが求められている。
【０００５】
磁気記録媒体用ガラス基板の主平面の表面粗さを低くするために、磁気記録媒体用ガラス基板を製造する際、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を例えば微小なシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨している。
【０００６】
しかしながら、微小なシリカ砥粒は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に強固に付着し、研磨工程終了後に洗浄しても除去することが困難であった。これに対しフッ酸等を含有する洗浄液を用いてガラス基板の表面をエッチングして除去する、強いアルカリ性の洗浄液を用いてガラス基板の表面をエッチングして除去する方法も行われているが、ガラス基板の表面に付着した異物を除去できたとしても、ガラス基板の表面粗さが大きくなってしまうため、高記録密度に対応できる磁気記録媒体用ガラス基板として用いることが難しくなってきている。
【０００７】
そこで、例えば特許文献１には、ガラス基板に対して所定の粒径を有する研磨砥粒を用いて研磨を行う研磨工程と、研磨工程後にガラス基板に超音波洗浄を行う超音波洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が開示されている。特許文献１に開示された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法では、超音波洗浄工程において、３００ｋＨｚ〜１０００ｋＨｚの周波数で第１の超音波洗浄を行って二次粒子を形成した後、３０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの周波数で第２の超音波洗浄を行うことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】国際公開第２０１１／１２５９０２号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１に開示された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法では、第２の超音波洗浄を行う際に３０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの周波数の超音波を用いている。係る周波数により洗浄した場合、ガラス基板の主平面にダメージを与えてしまい、ガラス基板の主平面の表面粗さが大きくなる、ガラス基板の表面に凹欠陥が生じる問題があった。
【００１０】
上記従来技術が有する問題に鑑み、本発明の一側面では、主平面の表面粗さが小さく、かつ付着異物を十分に低減できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
上記課題を解決するため本発明の一態様では、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する研磨工程と、
前記研磨工程で研磨した磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄水に浸漬して超音波洗浄する洗浄工程とを有し、
前記洗浄工程において、
前記超音波洗浄を行う際の超音波の周波数は３００ｋＨｚ以上５００ｋＨｚ以下であり、
前記洗浄水は、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有し、
前記洗浄水の温度が１５℃以上５５℃以下である磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１２】
本発明の一態様によれば、主平面の表面粗さが小さく、かつ付着異物を十分に低減できる磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の洗浄工程で使用できる洗浄装置の模式図。
【図２】本発明の実施形態に係る磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の洗浄工程前後での表面付着異物の状態の変化例。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明を実施するための形態について図面を参照して説明するが、本発明は、下記の実施形態に制限されることはなく、本発明の範囲を逸脱することなく、下記の実施形態に種々の変形および置換を加えることができる。
（磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法）
本実施形態ではまず、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の一構成例について説明を行う。
【００１５】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、以下の工程を有することができる。
【００１６】
磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する研磨工程。  
研磨工程で研磨した磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄水に浸漬して超音波洗浄する洗浄工程。  
そして洗浄工程において、超音波洗浄を行う際の超音波の周波数は３００ｋＨｚ以上５００ｋＨｚ以下であることが好ましい。また、洗浄水は、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有し、洗浄水の温度が１５℃以上５５℃以下である。
【００１７】
既述のように、近年磁気記録媒体用ガラス基板はさらなる高記録密度化が要求されている。そして、高記録密度化を達成するため、主平面の表面粗さをさらに低減することが求められている。
【００１８】
そこで、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を含有する研磨液により研磨する研磨工程を有することができる。研磨工程において磁気記録媒体用ガラス基板を研磨する方法は特に限定されるものではないが、例えば両面研磨装置を用いて実施することができる。両面研磨装置によりガラス基板の主平面を研磨する場合、一般に、上下の定盤に貼ったポリウレタン製の研磨パッドでガラス基板を挟み、上定盤に開けられた複数の研磨液供給口から砥粒を含有する研磨液を供給しながら所定の圧力と回転数で研磨する。
【００１９】
なお、シリカ砥粒の一次粒子の平均粒子径は例えば電子顕微鏡（例えば、走査型電子顕微鏡、透過型電子顕微鏡、など）によって観察した一次粒子径の平均値を意味している。
【００２０】
また、ここでの研磨工程を特に他の研磨工程と区別して説明する場合には仕上研磨工程とも記載する。
【００２１】
そして、上記研磨工程のように微細なシリカ砥粒を用いて主平面の研磨を実施すると、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面にシリカ砥粒が強固に付着する場合があるが、磁気記録媒体用ガラス基板の高記録密度化の観点からは好ましくない。そこで、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法では洗浄工程を実施し、付着したシリカ砥粒を除去することができる。なお、上記研磨工程後に実施する洗浄工程を、特に他の洗浄工程と区別して説明する場合には精密洗浄工程とも記載する。
【００２２】
ところで、既述のように特許文献１には研磨工程後にガラス基板に超音波洗浄を行う超音波洗浄工程を有する磁気ディスク用ガラス基板の製造方法が開示されている。しかしながら、特許文献１に開示された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法の超音波洗浄工程では第１の超音波洗浄と、第２の超音波洗浄との２段階に分けて超音波洗浄を実施する必要がある。このため超音波洗浄工程に時間がかかることや、超音波の周波数を切り替える必要があり、生産性の点で問題があった。また、特許文献１に開示された磁気ディスク用ガラス基板の製造方法では、第２の超音波洗浄において３０ｋＨｚ〜１００ｋＨｚの周波数の超音波を用いている。係る周波数により洗浄した場合、ガラス基板の主平面にダメージを与えてしまい、ガラス基板の主平面の表面粗さが大きくなる、あるいはガラス基板の表面に凹欠陥が生じることもあるという問題があった。
【００２３】
また、微小なシリカ砥粒を除去するために、ガラス成分を溶解することによりシリカ砥粒を除去する能力が高い薬液を使用し、ガラス基板の主平面の表面粗さが大きくなる問題もあった。
【００２４】
そこで、本発明の発明者らは、生産性を低下させることなく、洗浄工程で主平面に新たにダメージを与えることを防いで主平面の表面粗さが大きくなることを抑制し、かつ付着異物を十分に低減できる洗浄方法について鋭意検討を行った。そして、所定の洗浄水を用い、かつ所定範囲の周波数の超音波を用いて洗浄することで、係る課題を解決できることを見出した。
【００２５】
ここで、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法における洗浄工程で、超音波洗浄を行う際の超音波の条件について説明する。
【００２６】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法における洗浄工程では、超音波洗浄を行う際の超音波の周波数は３００ｋＨｚ以上５００ｋＨｚ以下とすることができる。特に超音波洗浄を行う際の超音波の周波数は３５０ｋＨｚ以上４５０ｋＨｚ以下であることがより好ましい。
【００２７】
これは、超音波洗浄を行う際の超音波の周波数が３００ｋＨｚ以上の場合、洗浄水中のキャビティー（ｃａｖｉｔｙ）の発生数を十分に確保することができ、かつ磁気記録媒体用ガラス基板表面において洗浄水に十分な加速度を付与した状態にできる。このため、パーティクル（付着異物）の除去能力を十分に高めることができ、研磨工程等で磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に強固に付着したパーティクルも十分に除去できるからである。また、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に対して超音波によるダメージを与えることも抑制することができる。
【００２８】
ただし、超音波洗浄を行う際の周波数が５００ｋＨｚを超える場合、研磨粒子の除去能力が低下する恐れがある。このため、超音波洗浄を行う際の周波数は上述のように５００ｋＨｚ以下であることが好ましい。
【００２９】
なお、洗浄工程で超音波洗浄を行う際の超音波の出力は特に限定されるものではなく、例えば洗浄槽の大きさや形状、洗浄する磁気記録媒体用ガラス基板のサイズや枚数、付着異物の付着の程度等に応じて、任意に選択することができる。
【００３０】
次に、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法における洗浄工程で用いる洗浄水について説明を行う。
【００３１】
洗浄水はその温度（水温）が、１５℃以上５５℃以下であることが好ましく、２０℃以上３０℃以下であることがより好ましい。
【００３２】
これは洗浄水の温度（水温）を１５℃以上とすることにより、洗浄水に含まれている気体の飽和度を上げることができるからである。洗浄水に含まれている気泡の飽和度が上がることで、キャビティー発生の閾値が下がり、パーティクルの除去に必要なキャビティーを十分に発生させ洗浄力を向上させることができる。
【００３３】
ただし、洗浄水の温度が５５℃を超えると洗浄水中に溶存可能な気体濃度が暫減する場合がある。また、洗浄水の加熱が必要になりエネルギー消費量が増大する。このため、５５℃以下であることが好ましい。
【００３４】
なお、ここで説明した洗浄水の温度条件は、洗浄工程において磁気記録媒体用ガラス基板をセットする洗浄槽内での好適な条件を意味している。また、以下に説明する洗浄水に関する他の条件についても、洗浄工程において磁気記録媒体用ガラス基板をセットする洗浄槽内での洗浄水の好適な条件を意味している。
【００３５】
そして、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法における洗浄工程で用いる洗浄水は、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有することが好ましい。特に、洗浄水は酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１５ｍｏｌ／ｍ３以上０．６５ｍｏｌ／ｍ３以下含有することがより好ましく、０．２ｍｏｌ／ｍ３以上０．６５ｍｏｌ／ｍ３以下含有することがさらに好ましい。
【００３６】
これは洗浄水が、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上含有する場合、該洗浄水に超音波を印加することでキャビティーの発生数を十分に確保することができるためである。これによりパーティクルの除去能力を十分に高めることができ、研磨工程等で磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に強固に付着したパーティクルも十分に除去できるからである。
【００３７】
ただし、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを０．７ｍｏｌ／ｍ３を超えて洗浄水に含有させた場合、余剰気泡が大量に発生し、超音波の伝搬を阻害し洗浄力が低下する恐れがある。また、０．７ｍｏｌ／ｍ３を超えると洗浄水の温度によっては酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスの飽和濃度に近くなり、これらのガスを安定して溶解させることが困難な場合もある。このため、上述のように０．７ｍｏｌ／ｍ３以下とすることが好ましい。
【００３８】
なお、例えば洗浄水が含有するガスとして水素ガスを選択した場合には、水素ガスが上述の範囲を充足していればよく、この場合酸素ガスやその他のガスの含有量は問わない。また、洗浄水が含有するガスとして酸素ガスを選択した場合には、酸素ガスが上述の範囲を充足していればよく、この場合水素ガスやその他のガスの含有量は問わない。
【００３９】
特に洗浄水は水素ガスを含有することが好ましい。すなわち、洗浄水は水素ガスを０．１ｍｏｌ／ｍ３以上０．７ｍｏｌ／ｍ３以下含有することが好ましい。
【００４０】
これは、水素ガスは分子サイズが小さいため、洗浄水に超音波を印加した場合に超音波の周波数とのマッチングがよく、キャビティーを発生しやすいからである。これによりパーティクルの除去能力を特に高めることができ、研磨工程等で磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に強固に付着したパーティクルの除去率も高めることができる。
【００４１】
さらに本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法における洗浄工程で用いる洗浄水は、ｐＨが６以上９以下であることが好ましい。
【００４２】
これは洗浄水のｐＨを６以上とすることにより、洗浄工程においてパーティクル（付着異物）の除去能力を十分に高めることができ、研磨工程等で磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に強固に付着したパーティクルも十分に除去できるからである。ただし、ｐＨが９を超えるアルカリ性の洗浄水を用いると、磁気記録媒体用ガラス基板の表面粗さが高くなる場合がある。このため、洗浄水のｐＨは上述のように６以上９以下であることが好ましい。
【００４３】
また、洗浄水は２５℃換算電気抵抗率が１５．０ＭΩ・ｃｍ以上であることが好ましく、１８．０ＭΩ・ｃｍ以上であることがより好ましい。
【００４４】
洗浄水に含まれる金属イオンの濃度は、洗浄した磁気記録媒体用ガラス基板表面の汚染を防止する観点から低いことが好ましい。そして、洗浄水に含まれる金属イオンの濃度は上述した２５℃換算電気抵抗率により評価することができ、２５℃換算電気抵抗率は高い方が洗浄水中の金属イオン濃度が低いことを意味している。具体的には上述のように２５℃換算電気抵抗率が１５．０ＭΩ・ｃｍ以上の場合、洗浄水中の金属イオン濃度が十分に低く、洗浄工程後磁気記録媒体用ガラス基板表面に残存する金属イオン濃度を十分に低くすることができることから好ましい。
【００４５】
そして、洗浄水中の０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることが好ましい。
【００４６】
洗浄水中の０．２μｍ以上の微粒子数についても、洗浄した磁気記録媒体用ガラス基板
の汚染を防止する観点から低いことが好ましい。具体的には上述のように、洗浄水に含まれる０．２μｍ以上の微粒子数を１０個／ｍｌ以下とすることで、洗浄した磁気記録媒体用ガラス基板表面の汚染を防止することができるため好ましい。
【００４７】
なお、洗浄水中の０．２μｍ以上の微粒子数は、例えばパーティクルカウント測定機等により確認することができる。
【００４８】
次に、図１を用いて本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の洗浄工程における、具体的な磁気記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の構成例について説明する。図１は洗浄工程で使用できる洗浄装置１０を模式的に示したものであり、洗浄装置１０の洗浄槽１１内にセットした複数枚のガラス基板の主平面と、平行な面における断面図を模式的に示している。
【００４９】
図１に示したように、洗浄槽１１内には洗浄水１２が入れられ、複数枚の磁気記録媒体用ガラス基板（以下、単に「ガラス基板」とも記載する）１３がセットされている。なお、複数枚のガラス基板１３は図示しないガラス基板支持具により支持され、主平面が互いに平行になるようにして、Ｙ軸方向、すなわち紙面と垂直な方向に並べて配置することができる。
【００５０】
洗浄槽１１にはさらに、洗浄槽１１内に入れた洗浄水１２をモニターするための図示しない各種手段を設けておくこともできる。例えば溶存水素測定計や、溶存酸素測定計、水温計等を配置しておき、その検出値に基づいて洗浄水１２が所望の特性となるように例えば洗浄水１２の供給条件等を制御することができる。
【００５１】
そして、洗浄槽１１には洗浄水１２の調製、供給手段を接続しておくことができる。
【００５２】
洗浄水１２の調製、供給手段は特に限定されるものではないが、例えばガス透過膜モジュールを含む洗浄水の調製、供給手段を用いることができる。図１に示した場合を例に洗浄水の調製、供給手段の構成例を以下に説明する。ここでは水素ガスを含有する洗浄水を調製する場合を例に説明する。
【００５３】
まず水を水供給配管１４１を通って第１のガス透過膜モジュール１５１に供給することができる。なお、水供給配管１４１により供給する水としては超純水を用いることが好ましい。
【００５４】
第１のガス透過膜モジュール１５１では、水中に溶存する酸素ガス等を除去することができる。具体的には例えば酸素ガス等について透過性のある材料からなる中空糸で形成された配管内に、水供給配管１４１からの水を通し、排気管１６１に接続された図示しないポンプにより中空糸の周辺雰囲気を脱気することで、水に溶存した酸素ガス等を除去できる。なお、この際に排気管１６１からの排気量等を調整することで、水供給配管１４１からの水に溶存した酸素ガス等の除去の程度を調整することができる。
【００５５】
次に酸素ガス等を除去した水を、ガス透過膜モジュール接続配管１４２を通って第２のガス透過膜モジュール１５２に供給し、水中へ水素ガスを溶解させることができる。
【００５６】
第２のガス透過膜モジュール１５２では、水素ガスについて透過性のある材料からなる中空糸で形成された配管内に、ガス透過膜モジュール接続配管１４２からの酸素ガス等を除去した水を通すことができる。この際、溶存ガス供給配管１６２に接続された図示しない水素供給手段により中空糸周辺の水素分圧を高めることで、水中に水素を溶存させ、洗浄水とすることができる。なお、溶存ガス供給配管１６２により供給する水素ガスの供給量等により、第２のガス透過膜モジュール１５２内の水素分圧を調整することで、洗浄水中に含まれる水素ガス濃度を調整することができる。
【００５７】
調製した洗浄水は洗浄水供給配管１４３を通って洗浄水供給口１４４を介して洗浄槽１１内に供給することができる。
【００５８】
なお、ここでは水素ガスを含有する洗浄水を調製する洗浄水の調製、供給手段の例を説明したが、既述のように洗浄水は、酸素を溶解させた洗浄水であってもよい。
【００５９】
酸素を含有する洗浄水とする洗浄水の調製、供給手段の構成例について簡単に説明する。
【００６０】
例えば水供給配管１４１を通って供給する水中に既に十分な酸素が溶解している場合には、第１のガス透過膜モジュール１５１で酸素を除去する程度を調整することで、溶存する酸素ガス濃度が所定の範囲内にある洗浄水とすることができる。この場合、第２のガス透過膜モジュール１５２を設けなくてもよい。
【００６１】
また、例えば水供給配管１４１を通って供給する水中に十分な酸素が溶解していない場合、第２のガス透過膜モジュール１５２に接続された溶存ガス供給配管１６２により、水素に替えて酸素を供給することができる。これにより洗浄水中の酸素ガス濃度を所望の範囲とすることができる。
【００６２】
図１に示した例を用いて洗浄水１２の調製、供給手段を説明したが係る形態に限定されず、酸素ガス及び水素ガスのうち１種類以上のガスを所定量含有する洗浄水を供給できる手段であれば、各種洗浄水の調製、供給手段を採用できる。
【００６３】
また、洗浄水を調製、供給する手段には、さらに任意の部材を設けることもできる。既述のように洗浄水は洗浄槽１１内で所定の温度、ｐＨを有することが好ましい。このため、洗浄水を調製、供給する配管上に温度調整手段、例えば図示しない加熱手段や冷却手段を設けることもできる。また、洗浄水のｐＨを調整するための試薬を供給するｐＨ調整剤供給配管等を設けることもできる。洗浄水のｐＨを調整するための試薬は特に限定されるものではないが、例えば洗浄水のｐＨを下げようとする場合、すなわち酸性化する場合には硝酸を好ましく用いることができる。また、洗浄水のｐＨを上げようとする場合、すなわちアルカリ化する場合にはアンモニアを好ましく用いることができる。
【００６４】
なお、温度調整手段や、ｐＨ調整剤供給配管等は洗浄水の供給配管上に設ける必要はなく、例えば洗浄槽１１に直接設けることもできる。
【００６５】
洗浄水は洗浄工程の間、洗浄槽１１に対して継続して供給することもできる。この場合、洗浄槽１１から溢れた洗浄水は、例えば洗浄水回収手段１７を設けておき、回収することができる。
【００６６】
そして、洗浄槽１１には既述のように洗浄水１２が入れられており、複数枚のガラス基板１３がセットされている。洗浄工程を実施する際には、超音波振動子１８により洗浄槽１１内に入れられた洗浄水１２に対して超音波を印加して複数枚のガラス基板１３を洗浄することが好ましい。超音波振動子１８は例えば洗浄槽１１の底部に直接接触させてもよいが、図１に示したように水層１９内に設置し、水等の液状媒体２０を介して洗浄槽１１内の洗浄水１２に超音波を印加するように構成することもできる。
【００６７】
超音波振動子１８から発振された超音波は直進性が強いため、例えば図１に示した例の場合、点線で示した矢印Ａに沿って超音波が伝搬しやすい。このため、複数枚のガラス基板１３に対して、超音波により発生したキャビティーや、加速された洗浄水を均一に供給できるように複数枚のガラス基板１３を移動させながら洗浄工程を実施することが好ましい。具体的には例えば、洗浄工程において、磁気記録媒体用ガラス基板１３を、超音波の進行方向に対して垂直方向に揺動することが好ましい。図１の場合、超音波振動子１８の超音波発振面１８Ａと垂直な矢印Ａが超音波の進行方向となる。このため、複数枚のガラス基板１３は図中Ｘ軸方向、および／またはＹ軸方向に揺動させることが好ましい。なお、ここでいうＸ軸方向とは図１中左右の方向を意味し、Ｙ軸方向とは紙面と垂直な方向を意味している。
【００６８】
このようにガラス基板１３を超音波の進行方向に対して垂直方向に揺動させながら洗浄工程を実施することで、ガラス基板１３に対して均一に超音波により発生したキャビティーや加速された洗浄水を供給できる。このため、ガラス基板１３表面に付着したパーティクル等をより確実に除去することができるため好ましい。
【００６９】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は上述の研磨工程、及び洗浄工程に限定されるものではなく、任意の工程をさらに有することができる。例えば本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、以下の工程をさらに有することができる。
【００７０】
板状ガラス基板から、中央部に円孔を有する円盤状ガラス基板を切り出す切断工程。  
切断された円盤状ガラス基板の内周端面と外周端面とに、面取り部を形成する面取り工程。  
ガラス基板の端面（内周端面及び外周端面）を研磨する端面研磨工程。  
ガラス基板の主平面を研磨する主平面研磨工程。
【００７１】
切断工程では、フロート法、フュージョン法、プレス成形法、ダウンドロー法またはリドロー法で成形された板状ガラス基板を、中央部に円孔を有する円盤状ガラス基板に加工することができる。なお、用いる板状ガラス基板は、アモルファスガラスでもよく、結晶化ガラスでもよい。
【００７２】
面取り工程では、切断された円盤状ガラス基板の中央部に形成された円孔の端面である内周端面と、円盤状ガラス基板の外周部の端面である外周端面とに面取り部を形成することができる。
【００７３】
端面研磨工程では、面取り工程で、内周端面及び外周端面に形成した面取り部と、面取り部に挟まれた端面部について研磨を実施できる。具体的な方法は特に限定されるものではなく、例えば、外周端面及び内周端面に研磨ブラシまたは研磨パッドを当て、これに砥粒を含有する研磨液（研磨スラリー）を供給しながら所望の表面粗さＲａになるように研磨を行うことができる。
【００７４】
端面研磨工程においては、面取り工程でガラス基板の表面に生じた疵などを、疵などの深さよりも多い研磨量で研磨して除去することが好ましい。
【００７５】
また、面取り工程の後や、端面研磨工程の後などに、端面エッチング工程を追加し、微細な端面キズを除去したり、端面クラックの進展を抑制することもできる。
【００７６】
主平面研磨工程では、既述の研磨工程とは別にガラス基板の主平面を研磨することができる。
【００７７】
主平面研磨工程では両面研磨装置を用い、ガラス基板の主平面にクーラント液または研磨液を供給しながらガラス基板の上下主平面を同時に研磨することができる。この際用いるクーラント液や、研磨液については特に限定されるものではなく、研磨量や、被研磨面に要求される特性等に応じて任意に選択することができる。
【００７８】
なお、主平面研磨工程は、主平面を研削（ラップ）するものと、主平面の研磨するものを含む。
【００７９】
主平面研磨工程は、１次研磨のみでもよく、１次研磨に加えて２次研磨、３次研磨のように複数回主平面研磨を行うこともできる。
【００８０】
また、１次研磨の前において、主平面の研削（ラップ）、例えば、遊離砥粒ラップ、固定砥粒ラップなど、を実施してもよい。なお、研削（ラップ）とは広義の主平面の研磨である。
【００８１】
上述した切断工程、面取り工程、端面研磨工程、及び主平面研磨工程を実施する順番は特に限定されるものではなく、任意の順番、タイミングにより実施することができる。
【００８２】
また、主平面研磨工程と端面研磨工程とを実施する順番についても特に限定されるものではなく、任意の順番で実施できる。上述のように主平面研磨工程を複数回実施する場合に、主平面研磨工程の間に端面研磨工程を実施することもできる。
【００８３】
ただし、上述の切断工程、面取り工程、端面研磨工程、及び主平面研磨工程から選択された１以上の工程を実施する場合、既述の研磨工程（仕上研磨工程）及び洗浄工程（精密洗浄工程）は、切断工程、面取り工程、端面研磨工程、及び主平面研磨工程から選択した１以上の工程を実施した後に実施することが好ましい。
【００８４】
これは研磨工程（仕上研磨工程）は既述のように、磁気記録媒体用ガラス基板の主平面を一次粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を含有する研磨液を用いて研磨する工程であり、主平面の表面粗さを特に低減する工程である。従って、研磨工程（仕上研磨工程）により主平面の表面粗さを低減した後に、さらに主平面や端面等の研磨などを実施することで主平面の表面粗さが大きくなることを避けることが好ましいからである。
【００８５】
また洗浄工程（精密洗浄工程）は、研磨工程（仕上研磨工程）で研磨した磁気記録媒体用ガラス基板を洗浄水に浸漬して超音波洗浄する工程であり、ガラス基板の主平面等に付着した微細なパーティクルを除去することができる。このため、洗浄工程後には主平面や端面を研磨する工程は実施しないことが好ましいからである。
【００８６】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法は、さらに必要に応じて各種工程を実行することもできる。例えば、磁気記録媒体用ガラス基板に高い機械的強度が求められる場合、ガラス基板の表層に強化層を形成する強化工程（例えば、化学強化工程）を実施することもできる。化学強化工程は例えば主平面研磨工程前、または主平面研磨工程後、あるいは主平面研磨工程間で実施してもよい。
【００８７】
また、例えば主平面研磨工程を終えた後など、必要に応じてガラス基板を洗浄するための工程間洗浄工程を実施することができる。工程間洗浄工程における洗浄条件は特に限定されるものではなく、任意の条件で実施することができる。例えば既述の洗浄工程と同様の条件により実施することもできる。工程間洗浄工程を実施する場合、既述の洗浄工程（精密洗浄工程）よりも前に実施することが好ましい。
【００８８】
さらに、研磨工程（仕上研磨工程）後、洗浄工程（精密洗浄工程）を実施する前に、おおまかに研磨剤を洗浄除去するための洗浄工程を実施することもできる。この場合の洗浄工程の実施条件は特に限定されないが、例えば弱アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄等を実施することができる。
【００８９】
なお、洗浄工程（精密洗浄工程）を終えた後、洗浄したガラス基板を乾燥させる乾燥工程を実施することもできる。乾燥工程の条件は特に限定されないが、例えばイソプロピルアルコール蒸気にて乾燥することもできる。
【００９０】
以上に説明した本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法においては、研磨工程において一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ粒子の数個から数十個の凝集体であるシリカ砥粒により研磨を行うため、主平面の表面粗さＲａを小さくすることができる。
【００９１】
さらに洗浄工程で磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に新たなダメージが生じることを抑制しつつ、主に研磨工程で付着した付着異物である一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を生産性良く除去できる。
【００９２】
ここで、研磨工程後、洗浄工程を実施する前と、洗浄工程を実施した後での磁気記録媒体用ガラス基板の表面の付着異物の変化を図２に示す。なお、既述のように磁気記録媒体用ガラス基板表面に付着した付着異物は主に、一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒であり、図２では視覚的に把握できるように、係る粒子の存在頻度を黒点で示したものである。
【００９３】
図２（Ａ）は研磨工程後、洗浄工程を実施する前の磁気記録媒体用ガラス基板の表面を表面欠陥検査装置（システム精工社製、  型式：ＲＳＩ６５２００）で評価した画像を示している。図２（Ｂ）は、水素が０．６６ｍｏｌ／ｍ３溶解した、２５℃、ｐＨ７の洗浄水を用い、４３０ｋＨｚの超音波を用いて洗浄した後の磁気記録媒体用ガラス基板の表面を同様にして表面欠陥検査装置で評価した画像を示している。
【００９４】
図２（Ａ）と、図２（Ｂ）との比較から、既述の洗浄工程を実施することで、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に付着した付着異物を十分に低減できることが確認できた。
【００９５】
図２（Ａ）と、図２（Ｂ）とを比較すると表面付着異物の除去率は９３％であることが確認できた。すなわち、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法の洗浄工程において、付着異物である一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下のシリカ砥粒を生産性良く除去できることが確認できた。
【００９６】
また、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により得られる磁気記録媒体用ガラス基板は上述のようにその主平面の表面粗さＲａを小さくすることができる。これは上述のように、研磨工程を実施し、かつ洗浄工程において磁気記録媒体用ガラス基板の表面に対して、新たなダメージを与えることを抑制しつつ、付着異物を除去することができるためである。本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により得られる磁気記録媒体用ガラス基板の主平面の表面粗さＲａは特に限定されるものではないが、例えば０．２５ｎｍ以下であることが好ましく、０．１５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００９７】
以上に説明したように、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法によれば、主平面の表面粗さが小さく、かつ付着異物を十分に低減した磁気記録媒体用ガラス基板を得ることができる。
（磁気記録媒体用ガラス基板）
次に本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の一構成例について説明する。
【００９８】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板は、既述の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板とすることができる。なお、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法で既述の部分については一部説明を省略する。
【００９９】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板は、主平面の表面粗さが小さく、かつ付着異物を十分に低減した磁気記録媒体用ガラス基板とすることができる。
【０１００】
具体的には、本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板は、主平面の表面粗さＲａが０．２５ｎｍ以下であることが好ましく、０．１５ｎｍ以下であることがより好ましい。
【０１０１】
主平面の表面粗さＲａを０．２５ｎｍ以下とすることにより、平坦性や平滑性に特に優れた磁気記録媒体用ガラス基板とすることができる。このため、係る磁気記録媒体用ガラス基板を用いた磁気記録媒体は、磁気ヘッドとの距離、すなわち磁気ヘッドの浮上量を小さくすることができる。さらには、高記録密度用の磁気記録媒体とすることができる。
【０１０２】
なお、研磨工程で付着した一次粒子の平均粒子径が１ｎｍ以上５０ｎｍ以下であるシリカ砥粒の付着量を特に低減することができる。
【０１０３】
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板は、既述のように主平面の表面粗さが小さく、付着異物を十分に低減することができる。このため、係る磁気記録媒体用ガラス基板は上述のように高記録密度用の磁気記録媒体に好適に用いることができる。
（磁気記録媒体）
本実施形態の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により得られたガラス基板は、さらにその表面に磁性層等を形成することにより磁気記録媒体とすることができる。すなわち、既述の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された磁気記録媒体用ガラス基板を含む磁気記録媒体とすることができる。なお、磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法、及び磁気記録媒体用ガラス基板で既述の部分については一部説明を省略する。
【０１０４】
磁気記録媒体用ガラス基板から磁気記録媒体を製造する方法について簡単に説明する。
【０１０５】
磁気記録媒体には水平磁気記録方式、垂直磁気記録方式があるが、ここでは垂直磁気記録方式を例に手順を以下に説明する。
【０１０６】
磁気記録媒体は、磁気記録媒体用ガラス基板の表面に磁性層、保護層、潤滑膜等を積層した構造を有することができる。そして、垂直磁気記録方式の場合、磁気ヘッドからの記録磁界を環流させる役割を果たす軟磁性材料からなる軟磁性下地層等をさらに磁気記録媒体用ガラス基板上に配するのが一般的である。このため、磁気記録媒体用ガラス基板表面から順に、例えば、軟磁性下地層、非磁性中間層、垂直記録用磁性層、保護層、潤滑膜のように積層されている。
【０１０７】
各層について以下に説明する。
【０１０８】
軟磁性下地層としては例えば、ＣｏＮｉＦｅ、ＦｅＣｏＢ、ＣｏＣｕＦｅ、ＮｉＦｅ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＴａＮ、ＦｅＮ、ＦｅＴａＣ、ＣｏＦｅＢ、ＣｏＺｒＮ等が使用できる。
【０１０９】
そして、非磁性中間層は、Ｒｕ，Ｒｕ合金等から構成できる。この非磁性中間層は垂直記録用磁性層のエピタキシャル成長を容易にするための機能、及び軟磁性下地層と記録用磁性層との間での磁気交換結合を断つ機能を有する。
【０１１０】
垂直記録用磁性層は、磁化容易軸が基板面に対して垂直方向を向いた磁性膜であり、例えば少なくともＣｏ、Ｐｔを含むことができる。そして、高い固有媒体ノイズの原因となる粒間交換結合を低減するため、良好に隔離された微粒子構造（グラニュラー構造）とするのが良い。具体的には、ＣｏＰｔ系合金などに酸化物（ＳｉＯ２、ＳｉＯ、Ｃｒ２Ｏ３、ＣｏＯ、Ｔａ２Ｏ３、ＴｉＯ２等）や、Ｃｒ、Ｂ、Ｃｕ、Ｔａ、Ｚｒなどを添加したものを用いるのがよい。
【０１１１】
ここまで説明した軟磁性下地層、非磁性中間層、垂直記録用磁性層はインラインスパッタ法、ＤＣマグネトロンスパッタ法などで連続的に製造することができる。
【０１１２】
次いで、保護層は垂直記録用磁性層の腐食を防ぎ、かつ、磁気ヘッドが媒体に接触した場合でも媒体表面の損傷を防ぐために設けられたものであり、垂直記録用磁性層の上に設けられる。保護層としてはＣ、ＺｒＯ２、ＳｉＯ２などを含む材料を用いることができる。
【０１１３】
その形成方法としては、例えばインラインスパッタ法、ＣＶＤ法、スピンコート法などを用いることができる。
【０１１４】
保護層の表面には磁気ヘッドと記録媒体（磁気ディスク）との摩擦を低減するために、潤滑膜を形成できる。潤滑膜は、例えばパーフルオロポリエーテル、フッ素化アルコール、フッ素化カルボン酸などを用いることができる。潤滑膜についてはディップ法、スプレー法などで形成することができる。
【０１１５】
以上に説明した本実施形態の磁気記録媒体は、既述の磁気記録媒体用ガラス基板の製造方法により製造された、主平面の表面粗さが小さく、付着異物を十分に低減された磁気記録媒体用ガラス基板を用いている。このため、高記録密度対応の磁気記録媒体とすることができる。
【実施例】
【０１１６】
以下に具体的な実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【０１１７】
まず、以下の実施例、比較例において製造した磁気記録媒体用ガラス基板の評価方法について説明する。
【０１１８】
（表面粗さＲａ）
研磨工程後、及び洗浄工程後のガラス基板の主平面の表面粗さ（算術平均粗さ）Ｒａは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（２０１３）によって表されるものであり、ＡＦＭ（Ｐａｒｋ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製  型式：ＸＥ−ＨＤＭ）を用いて測定した。
【０１１９】
（超音波ダメージの有無）
以下の手順により洗浄（精密洗浄工程）後の磁気記録媒体用ガラス基板の主平面の超音波ダメージの有無の評価を行った。
（ａ）表面欠陥検査装置（システム精工社製  型式：ＲＳＩ６５２００）で不動欠点の有無の観察を行った。
（ｂ）（ａ）の工程で不動欠点があると判断されたガラス基板についてＳＥＭ観察を実施し、不動欠点が、凹形状の超音波ダメージであるかについて確認を行った。
【０１２０】
以上の手順により表面欠陥検査装置で不動欠点がないと判断されたか、またはＳＥＭ観察で超音波ダメージがないと判断されたガラス基板についてはＡ判定とした。また、ＳＥＭ観察で超音波ダメージがあると判断されたガラス基板についてはＢ判定とした。
【０１２１】
（表面付着異物の除去率）
研磨工程（仕上研磨工程）後、スクラブ洗浄を終えた後、洗浄工程（精密洗浄工程）を実施する前、及び洗浄工程（精密洗浄工程）後の検出欠点数を表面欠陥検査装置（システム精工社製  型式：ＲＳＩ６５２００）で評価した。そして、以下の（１）式により、表面付着異物除去率を求めた。  
（表面付着異物の除去率）＝［（洗浄前欠点数）−（洗浄後欠点数）］／（洗浄前欠点数）・・（１）  
なお、（１）式中、洗浄前欠点数が研磨工程（仕上研磨工程）後、スクラブ洗浄を終えた後、洗浄工程（精密洗浄工程）を実施する前に評価した検出欠点数を示している。また、洗浄後欠点数が洗浄工程（精密洗浄工程）後に評価した検出欠点数を示している。
【０１２２】
以下に各実験例の実施手順について説明する。例１〜例８が実施例、例９〜例１３が比較例となっている。
［例１］
まず、フロート法により成形されたアルミノシリケートガラスをコアドリルにより切断して、中央に同心円状の円孔を有する直径が６５ｍｍ、円孔の直径が２０ｍｍの磁気記録媒体用ガラス基板が得られるように切断した（切断工程）。
【０１２３】
該ガラス基板について内周端面、及び外周端面に、面取り幅０．１５ｍｍ、面取り角度４５°、外径約６５ｍｍ、内径約２０ｍｍの磁気ディスク用ガラス基板が得られるよう面取り工程を実施した。
【０１２４】
次に、アルミナ砥粒を用いて、ガラス基板の上下における主平面をラッピングし、砥粒を洗浄除去した。研磨具として鋳鉄定盤と、アルミナ砥粒を含有する研削液を用いて、両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ−１６Ｂ−５ＰＶ−４ＭＨ）により、ガラス基板の上下における主平面を１次研削した（主平面研磨工程（１次研削工程））。
【０１２５】
次に、面取り工程で内周端面及び外周端面に形成した面取り部と、面取り部に挟まれた端面部について、外周端面及び内周端面に研磨ブラシを当て、これに酸化セリウム砥粒を含有する研磨液（研磨スラリー）を供給しながら端面を研磨する端面研磨工程を実施した。この後ガラス基板の砥粒を洗浄除去した（工程間洗浄工程）。
【０１２６】
次に、研磨具として固定砥粒工具（平均粒径４μｍのダイヤモンド粒子を含有）と界面活性剤を含有する研削液を用いて、両面研削装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ−１６Ｂ−５ＰＶ−４ＭＨ）により上下の主平面を２次研削（固定砥粒による研削）した（主平面研磨工程（２次研削工程））。
【０１２７】
２次研削工程後のガラス基板を洗浄し、研削液その他の汚れを除去した（工程間洗浄工程）。
【０１２８】
次いで、一次粒子の平均粒子径が１μｍの酸化セリウムを含有する研磨液を用いて、両面研磨装置で主平面を研磨する主平面研磨工程を実施した（主平面研磨工程（１次研磨工程）。具体的には、研磨具として軟質ウレタン製の研磨パッド（スエード系研磨パッド）と酸化セリウム砥粒を含有する研磨液（平均粒子直径（以下、平均粒子径と略す）約１．０μｍの酸化セリウムを主成分した研磨液組成物）を用いて、１６Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ１６Ｂ−５ＰＶ−４ＭＨ）により、ガラス基板の上下の主平面を１次研磨した。
【０１２９】
研磨後のガラス基板において、酸化セリウムを洗浄除去した（工程間洗浄工程）。
【０１３０】
次に、係る磁気記録媒体用ガラス基板について一次粒子の平均粒子径が２０ｎｍのコロイダルシリカと、超純水とを含有する研磨液を用いて、１６Ｂ型両面研磨装置（スピードファム社製、製品名：ＤＳＭ１６Ｂ−５ＰＶ−４ＭＨ）で研磨を行う２次研磨工程（仕上研磨工程）を実施した。
【０１３１】
次に、研磨後洗浄を行った。具体的には、２次研磨工程（仕上研磨工程）後のガラス基板において、弱アルカリ性洗剤に浸漬後、弱アルカリ性洗剤によるスクラブ洗浄を行い、大まかに研磨剤を洗浄除去した。
【０１３２】
そして、研磨後洗浄工程の後に、図１に示した洗浄装置を用いて洗浄工程（精密洗浄工程）を実施した。
【０１３３】
洗浄装置１０の洗浄槽１１内に上述の研磨後洗浄を終えた複数枚のガラス基板１３をセットし、洗浄槽１１内に洗浄水１２を供給した。
【０１３４】
洗浄水１２は、水供給配管１４１から超純水を供給し、第１のガス透過膜モジュール１５１、及び第２のガス透過膜モジュール１５２を通過させて、水素ガスを０．５５ｍｏｌ／ｍ３含有する洗浄水とした。
【０１３５】
第１のガス透過膜モジュール１５１では、水供給配管１４１から供給した超純水中に溶存する酸素ガス等の除去を行った。具体的には中空糸で形成された配管内に水供給配管１４１から供給された超純水を通し、排気管１６１に接続された図示しないポンプにより中空糸の周辺から酸素等を除去することで、超純水に溶存した酸素ガス等の除去を行った。
【０１３６】
第１のガス透過膜モジュール１５１で酸素等を除去した超純水を、ガス透過膜モジュール接続配管１４２を通って第２のガス透過膜モジュール１５２に供給した。
【０１３７】
そして、第２のガス透過膜モジュール１５２では、水素ガスについて透過性のある材料からなる中空糸で形成された配管内に酸素等を除去した超純水を通した。この際、図示しない水素供給手段に接続された溶存ガス供給配管１６２により第２のガス透過膜モジュールに水素を供給することで、中空糸で形成された配管周辺の水素分圧を高め、水中に水素を溶存させ、洗浄水とした。なお、中空糸で形成された配管周辺の水素分圧を調整することで、洗浄水中に含まれる水素ガス濃度を０．５５ｍｏｌ／ｍ３に調整した。
【０１３８】
調製した洗浄水は洗浄水供給配管１４３を通って洗浄水供給口１４４を介して洗浄槽１１内に供給した。なお、洗浄水は洗浄工程の間継続的に供給しており、洗浄槽１１から溢れた洗浄水１２は洗浄水回収手段１７により回収した。
【０１３９】
そして、超音波振動子１８により４３０ｋＨｚの超音波を発振し、洗浄槽１１に設置した磁気記録媒体用ガラス基板１３の洗浄を行った。
【０１４０】
なお、洗浄槽１１には、溶存水素測定計（トラストレックス社製  型式：ＥＮＨ−１０００）を設置し、洗浄水の水素ガスの含有量が洗浄工程の間、０．５５ｍｏｌ／ｍ３に維持されていることを確認しながら行った。
【０１４１】
また、洗浄槽１１にはｐＨ計（ＴＯＡＤＫＫ社製  型式：ＨＭ３０Ｐ）、及び温度計も設置し、洗浄水のｐＨ、温度（水温）がそれぞれ７．０、１５℃に保たれていることを確認した。
【０１４２】
なお、洗浄水１２の温度は洗浄槽１１内に設けられた図示しない温度調整手段により所定の温度になるように調整した。
【０１４３】
さらに洗浄槽１１には、電気抵抗率測定機（ＹＯＫＯＧＡＷＡ社製  型式：ＳＣ３２）、パーティクルカウント測定機（Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｍｅａｓｕｒｉｎｇ  Ｓｙｓｔｅｍｓ社製  型式：ＣＬＳ−７００Ｔ）を設置した。そして、洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。
【０１４４】
洗浄後、洗浄した磁気記録媒体用ガラス基板を取り出し、製造した磁気記録媒体用ガラス基板の表面粗さ、超音波ダメージの有無、表面付着異物の除去率の評価を行った。
【０１４５】
評価結果を表１に示す。
［例２］
洗浄工程（精密洗浄工程）においてガラス基板を洗浄する際、図１中に点線矢印Ａで示した超音波の進行方向に対して、垂直方向に、すなわち図１中Ｘ軸方向、及びＹ軸方向にガラス基板が移動するようにガラス基板を保持した冶具を移動させた点、及び洗浄水の温度（水温）を表１に示した水温に変更した点以外は例１と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１４６】
なお、洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の水素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１４７】
評価結果を表１に示す。
［例３］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水中の水素ガス濃度と、洗浄水の温度（水温）を表１に示した値となるようにした点以外は例１と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１４８】
なお、洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の水素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１４９】
評価結果を表１に示す。
［例４］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水に含有されるガスを酸素ガスとし、その濃度を表１に示した濃度とした点、及び洗浄水の温度（水温）を２５℃とした点以外は例１と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１５０】
なお、酸素ガスを含有する洗浄水は、第１のガス透過膜モジュール１５１での水中に溶存する酸素ガス等を除去する程度を調整することにより、所定の濃度の酸素ガスを含有する洗浄水とした。このため、酸素ガスを含有する洗浄水を調製する際には第２のガス透過膜モジュール１５２を経由せずに、第１のガス透過膜モジュール１５１から直接洗浄槽１１に洗浄水１２を供給した。
【０１５１】
また、洗浄槽１１には、溶存酸素測定計（ＨＡＣＨ社製  型式：ＨＱ３０ｄ）を設置し、洗浄水の酸素ガスの含有量が洗浄工程の間０．１７ｍｏｌ／ｍ３に維持されていることを確認しながら行った。
【０１５２】
さらに洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水のｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１５３】
評価結果を表１に示す。
［例５］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水に含有される酸素ガスの濃度を表１に示した濃度とした点、及び洗浄工程中に、例２の場合と同様にしてガラス基板を移動させた点以外は、例４と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１５４】
なお、洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の酸素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１５５】
評価結果を表１に示す。
［例６］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水の温度（水温）を表１に示した温度にした点以外は、例４と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１５６】
なお、洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の酸素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１５７】
評価結果を表１に示す。
［例７、例８］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水のｐＨを表１に示したｐＨとした点以外は、例４と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１５８】
なお、例７においてｐＨを調整するための試薬としてアンモニア水を使用した。また、例８においてｐＨを調整するための試薬として硝酸を使用した。
【０１５９】
例７、例８いずれの場合でもｐＨを調整するための試薬は洗浄槽１１に対して直接供給した。
【０１６０】
いずれの実験例でも洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の酸素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１６１】
評価結果を表１に示す。
［例９］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水が含有する酸素ガス濃度を表１に示したガス濃度にした点以外は、例４と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１６２】
なお、洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の酸素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１６３】
評価結果を表１に示す。
［例１０、例１１］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、洗浄水の温度（水温）を表１に示した温度にした点以外は、例４と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１６４】
なお、いずれの実験例でも洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の酸素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１６５】
評価結果を表１に示す。
［例１２、例１３］
洗浄工程（精密洗浄工程）において、超音波振動子１８が発振する超音波の振動数を表１に示した振動数にした点以外は、例４と同様にして磁気記録媒体用ガラス基板を製造し、評価を行った。
【０１６６】
なお、いずれの実験例でも洗浄工程（精密洗浄工程）の間、洗浄水の電気抵抗率が１８．０ＭΩ・ｃｍ以上、０．２μｍ以上の微粒子数が１０個／ｍｌ以下であることを確認した。また、洗浄水の酸素ガスの含有量、ｐＨ、水温についても洗浄工程（精密洗浄工程）の間、所定の値になっていることを確認した。
【０１６７】
評価結果を表１に示す。
【０１６８】
【表１】
2016115373.tif 000003
表１に示した結果によると、実施例である例１〜例８はいずれも超音波のダメージの有無の評価がＡ判定であり、かつ表面付着異物の除去率が５０％以上であることが確認できた。これに対して、比較例である例９〜例１３については、表面付着異物の除去率が高いものでも３４％であり、洗浄工程（精密洗浄工程）において表面付着異物を十分に除去できていないことが確認できた。また、例１２においては、超音波の周波数を１７０ｋＨｚとしたことにより磁気記録媒体用ガラス基板の主平面に超音波によるダメージが生じていることを確認できた。
【０１６９】
また、洗浄水に含有されるガスが水素ガスである例１〜例３はいずれも表面付着異物の除去率が６５％以上であることが確認できた。さらに洗浄工程（精密洗浄工程）の間に磁気記録媒体用ガラス基板を超音波の進行方向と垂直な方向に移動させた例２は表面付着異物の除去率が９０％以上と特に高くなることを確認できた。
【符号の説明】
【０１７０】
１２    洗浄水
１３    磁気記録媒体用ガラス基板
【図１】
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【図２】
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