(57)【要約】      （修正有）【課題】偏光板の構成部材を薄膜化しても、紫外線の透過率の低下が維持され、紫外線吸収剤のブリードアウトの発生が抑制され、しかも透湿度が低く、硬度の高い偏光板保護フィルム、積層体、偏光板及び表示装置を提供する。【解決手段】下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有する偏光板保護フィルム、積層体、偏光板及び表示装置。2016027397.tif 000045【選択図】図１
2016027397.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有する偏光板保護フィルム。
【化１】
2016027397.tif 000043
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、炭素数が１以上６以下の、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ｘは水酸基または炭素数が１以上６以下のアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＸ中の炭素数の総和は５以上１６以下である。
【請求項２】
請求項１に記載の偏光板保護フィルムおよび活性エネルギー線硬化層を有する積層体。
【請求項３】
偏光板保護フィルム、偏光子および位相差フィルムからなる偏光板であって、
前記偏光板保護フィルムが、樹脂および下記一般式（１）で表される少なくとも１つの化合物を前記樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有する偏光板保護フィルムであり、
前記位相差フィルムが、波長５９０ｎｍで測定した膜厚方向のレターデーションＲｔｈ５９０が下記式（Ｉ）を満たし、樹脂を含有する位相差フィルムである偏光板。
【化２】
2016027397.tif 000044
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、炭素数が１以上６以下の、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ｘは水酸基または炭素数が１以上６以下のアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＸ中の炭素数の総和は５以上１６以下である。
式（Ｉ）：−３０≦Ｒｔｈ５９０≦３０
【請求項４】
前記偏光板保護フィルムの樹脂が、セルロースアシレートを含む請求項３に記載の偏光板。
【請求項５】
前記偏光板保護フィルム上に活性エネルギー線硬化層を有する請求項３または４に記載の偏光板。
【請求項６】
前記活性エネルギー硬化線層の厚みが６μｍ以下である請求項５に記載の偏光板。
【請求項７】
鉛筆硬度が３Ｈ以上である請求項５または６に記載の偏光板。
【請求項８】
前記一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物を含有する請求項５〜７のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項９】
前記一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物を含有する層が、偏光板保護フィルムと異なる層である請求項８に記載の偏光板。
【請求項１０】
前記活性エネルギー線硬化層に、前記一般式（１）で表される化合物または前記一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物を含有する請求項５〜９のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１１】
前記一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物が、前記一般式（１）で表される化合物の吸収極大波長より長波側に吸収極大波長を有する請求項８〜１０のいずれか１項に記載の偏光板。
【請求項１２】
請求項１に記載の偏光板保護フィルム、または請求項２に記載の積層体、を有する偏光板。
【請求項１３】
請求項３〜１２のいずれか１項に記載の偏光板を少なくとも１枚有する表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、偏光板保護フィルム、積層体、偏光板および表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、消費電力の小さい省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。テレビ等の高品位の画像が要求される市場に加えて、携帯電話やタブレット型ＰＣ等いわゆるモバイル用途の市場が拡大するにつれて、薄型化のニーズが一段と高まっている。
【０００３】
液晶表示装置の基本的な構成は液晶セルの両側に偏光板を設けたものである。偏光板は一定方向の偏波面の光だけを通す役割を担っており、偏光板の性能によって液晶表示装置の性能が大きく左右される。偏光板は、一般にヨウ素や染料を吸着配向させたポリビニルアルコールフィルム等からなる偏光子と、その偏光子の表裏両側に透明な保護フィルム（偏光板保護フィルム）を貼り合わせた構成となっている。
偏光子や液晶セルに紫外線があたると、偏光子や液晶分子が分解され表示性能が劣化するため、従来、偏光板保護フィルムに紫外線吸収剤を添加し、紫外線の透過を抑制する方法（例えば、特許文献１参照）が取られてきた。
しかし、薄膜化した偏光板保護フィルム等で紫外線の透過率を低く抑えるには、紫外線吸収剤を高濃度で添加することが必要となるため、紫外線吸収剤のブリードアウトやフィルム物性への悪影響が問題となり、改良が求められていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１０−２３７１８６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
偏光板保護フィルム等の厚さが薄くなるに従って、偏光子に対する保護機能が低下する。例えば、偏光板保護フィルムの場合、耐光性、耐擦傷性や水分の透過性が挙げられる。
ベンゾフェノン骨格やベンゾトリアゾール骨格を代表とする紫外線吸収剤は、偏光板保護フィルムの厚さが薄くなるにしたがって、偏光板保護フィルム中に含有される紫外線吸収剤の総量が減少し、その減少量に応じて紫外線吸収能が目減りするため、フィルムの紫外線透過率が上がり、偏光子が劣化しやすくなる。一方、従来の厚さの偏光板保護フィルムと同等の紫外線吸収能を維持させるため、フィルム中の紫外線吸収剤の含有量を高くするとブリードアウトが生じやすくなる。すなわち、偏光板保護フィルムの厚さが薄くなるに伴い、紫外線吸収剤のブリードアウトを起こさずに、偏光子の耐光性を維持、さらには向上させることが難しくなる。
また、耐擦傷性については、表示装置の視認側における保護フィルムとしての利用や加工性の観点から、フィルム表面にハードコート層を設けることなども考えられるが、部材の薄型化が求められているため、フィルム自体の耐擦傷性を高めることが望ましい。さらに、偏光板保護フィルムの薄膜化により水分が透過しやすくなる結果、偏光性能が劣化しやすくなる。
【０００６】
このため、本発明は、偏光板保護フィルムの厚さが薄い場合でも、紫外線の透過率が維持され、また紫外線吸収剤のブリードアウトの発生が抑制され、しかも硬度の高い偏光板保護フィルム、また、耐久性に優れた積層体、偏光板および表示装置を提供することを課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討した結果、上記課題は、以下の構成により達成することができることを見出した。
【０００８】
（１）下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有する偏光板保護フィルム。
【０００９】
【化１】
2016027397.tif 000003
【００１０】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、炭素数が１以上６以下の、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ｘは水酸基または炭素数が１以上６以下のアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＸ中の炭素数の総和は５以上１６以下である。
（２）  （１）に記載の偏光板保護フィルムおよび活性エネルギー線硬化層を有する積層体。
（３）偏光板保護フィルム、偏光子および位相差フィルムからなる偏光板であって、
偏光板保護フィルムが、樹脂および下記一般式（１）で表される少なくとも１つの化合物を樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有する偏光板保護フィルムであり、
位相差フィルムが、波長５９０ｎｍで測定した膜厚方向のレターデーションＲｔｈ５９０が下記式（Ｉ）を満たし、樹脂を含有する位相差フィルムである偏光板。
【００１１】
【化２】
2016027397.tif 000004
【００１２】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、炭素数が１以上６以下の、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ｘは水酸基または炭素数が１以上６以下のアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＸ中の炭素数の総和は５以上１６以下である。
【００１３】
式（Ｉ）：−３０≦Ｒｔｈ５９０≦３０
【００１４】
（４）偏光板保護フィルムの樹脂が、セルロースアシレートを含む（３）に記載の偏光板。
（５）偏光板保護フィルム上に活性エネルギー線硬化層を有する（３）または（４）に記載の偏光板。
（６）活性エネルギー硬化線層の厚みが６μｍ以下である（５）に記載の偏光板。
（７）鉛筆硬度が３Ｈ以上である（５）または（６）に記載の偏光板。
（８）一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物を含有する（５）〜（７）のいずれか１つに記載の偏光板。
（９）一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物を含有する層が、偏光板保護フィルムと異なる層である（８）に記載の偏光板。
（１０）活性エネルギー線硬化層に、一般式（１）で表される化合物または一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物を含有する（５）〜（９）のいずれか１つに記載の偏光板。
（１１）一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０〜４００ｎｍの間に示す化合物が、一般式（１）で表される化合物の吸収極大波長より長波側に吸収極大波長を有する（８）〜（１０）のいずれか１つに記載の偏光板。
（１２）  （１）に記載の偏光板保護フィルム、または（２）に記載の積層体、を有する偏光板。
（１３）  （３）〜（１２）のいずれか１つに記載の偏光板を少なくとも１枚有する表示装置。
【発明の効果】
【００１５】
本発明により、偏光板の構成部材を薄膜化しても、紫外線の透過率の低下が維持され、紫外線吸収剤のブリードアウトの発生が抑制され、しかも硬度の高い偏光板保護フィルム、耐久性に優れた積層体、偏光板および表示装置の提供が可能となった。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の偏光板の実施形態の例を示す模式的な断面図の一例である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、本発明について詳細に説明する。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。また、本明細書において、紫外線もしくは紫外光とは４００ｎｍ以下の波長を意味する。
【００１８】
＜＜偏光板保護フィルム＞＞
偏光板保護フィルムの最低の基本構成は、樹脂フィルムのみであり、通常、樹脂フィルムのみも偏光板保護フィルムと称される。従って、本明細書では、「樹脂フィルム」を偏光板保護フィルムと称し、本発明のように、樹脂フィルムの他に別の機能層（例えば、活性エネルギー線硬化層など）を有するものを、積層体と称す。
最初に、樹脂フィルムである偏光板保護フィルムを説明する。
【００１９】
＜樹脂＞
本発明の偏光板保護フィルムは、樹脂を含有してなり、フィルム状であることが好ましい。
偏光板保護フィルムに用いられる樹脂としては、公知の樹脂を用いることができ、本発明の趣旨に反しない限りにおいて特に制限はない。樹脂としてはセルロースアシレート樹脂、アクリル樹脂、シクロオレフィン系樹脂を挙げられる。これらの樹脂のうち、アクリル樹脂とセルロースアシレート樹脂が好ましく、後述する一般式（１）で表される化合物との相溶性に優れるという観点でセルロースアシレート樹脂がなかでも好ましい。
これらの樹脂は１種を用いてもよいし、２種以上を併用してもよいが、２種以上を併用する場合は樹脂成分中最も多く含有される成分を主成分とする。
【００２０】
（セルロースアシレート）
本発明において、セルロースアシレートフィルムの主成分となるセルロースアシレートは、１種を用いてもよいし、２種以上を用いてもよい。例えば、セルロースアシレートは、アシル置換基としてアセチル基のみからなるセルロースアセテートであっても、複数の異なったアシル置換基を有するセルロースアシレートを用いてもよく、異なったセルロースアシレートの混合物であってもよい。なお、主成分とは、フィルムもしくは層を構成する樹脂成分において、セルロースアシレートが５０質量％以上含有されているものを意味し、樹脂成分中のセルロースアシレートの含有量は６０質量％以上が好ましく、８０質量％以上がより好ましい。
【００２１】
本発明で使用されるセルロースアシレートの原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ，針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。原料セルロースは、例えば、丸澤、宇田著，「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」，日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００２２】
本発明では、セルロースアシレートのアシル基は、１種類だけでもよいし、あるいは２種類以上のアシル基が使用されていてもよい。本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２以上のアシル基を置換基として有することが好ましい。炭素数２以上のアシル基としては、脂肪族のアシル基でも芳香族のアシル基でもよく特に限定されない。それらは、例えばセルロースのアルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基あるいは芳香族カルボニル基、芳香族アルキルカルボニル基などであり、それぞれさらに置換された基を有していてもよい。これらの好ましい例としては、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ヘプタノイル、ヘキサノイル、オクタノイル、デカノイル、ドデカノイル、トリデカノイル、テトラデカノイル、ヘキサデカノイル、オクタデカノイル、イソブタノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、シクロヘキサンカルボニル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどが挙げられる。これらの中でも、アセチル、プロピオニル、ブタノイル、ドデカノイル、オクタデカノイル、ｔｅｒｔ−ブタノイル、オレオイル、ベンゾイル、ナフチルカルボニル、シンナモイルなどがより好ましく、さらに好ましくはアセチル、プロピオニル、ブタノイルである。
【００２３】
本発明で使用されるセルロースアシレートは、炭素数２〜４のアシル基を置換基として有することが好ましい。２種類以上のアシル基を用いるときは、そのうち１種類がアセチル基であることが好ましく、その他に用いる炭素数２〜４のアシル基としてはプロピオニル基またはブチリル基が好ましい。これらのセルロースアシレートを用いることにより溶解性の好ましい溶液が作製でき、特に非塩素系有機溶媒において、良好な溶液の作製が可能となる。さらに粘度が低く、濾過性のよい溶液の作製が可能となる。
本発明では、特に、セルロースアシレートのアシル基はアセチル基１種であるものが好ましい。
【００２４】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートについて、以下に詳細に記載する。
セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離のヒドロキシ基を有している。セルロースアシレートは、これらのヒドロキシ基の一部または全部をアシル基によりアシル化した重合体（ポリマー）である。
アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースのヒドロキシ基のアシル化の度合いを示すものであり、全てのグルコース単位の２位、３位および６位のヒドロキシ基がいずれもアシル化された場合、総アシル置換度は３である。例えば、全てのグルコース単位で、６位のみが全てアシル化された場合、総アシル置換度は１である。同様に、全グルコースの全ヒドロキシ基において、各々のグルコース単位で、６位か、２位のいずれか一方の全てがアシル化された場合も、総アシル置換度は１である。
すなわち、グルコース分子中の全ヒドロキシ基が全てアシル化された場合を３として、アシル化の度合いを示すものである。
アシル置換度の測定方法の詳細については、手塚他，Ｃａｒｂｏｈｙｄｒａｔｅ．Ｒｅｓ．，２７３，８３−９１（１９９５）に記載の方法やＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に規定の方法に準じて測定することができる。
【００２５】
本発明で使用するセルロースアシレートの総アシル置換度をＡとすると、Ａは、１．５以上３．０以下（１．５≦Ａ≦３．０）であることが好ましいが、本発明では、２．８０〜２．９７であることが、本発明の一般式（１）で表される化合物との相溶性、ヘイズ低減の点で好ましい。
【００２６】
また、セルロースアシレートのアシル基としてアセチル基のみを用いたセルロースアセテートにおいては、総アセチル置換度をＢとすると、Ｂは、２．０以上３．０以下（２．０≦Ｂ≦３．０）であることが好ましいが、本発明では、２．８０〜２．９７であることが、本発明の一般式（１）で表される化合物との相溶性、ヘイズ低減の点で好ましい。
【００２７】
本発明の偏光板保護フィルムが積層体（複層構成）である場合、セルロースアシレートフィルムは、各層中におけるセルロースアシレートのアシル基置換度は均一であっても、アシル基置換度やアシル基の異なる複数のセルロースアシレートを一つの層に混在させてもよい。
【００２８】
セルロースのアシル化において、アシル化剤としては、酸無水物や酸クロライドを用いた場合、反応溶媒である有機溶媒としては、メチレンクロライドや有機酸、例えば、酢酸等が使用される。
【００２９】
触媒としては、アシル化剤が酸無水物である場合には、硫酸のようなプロトン性触媒が好ましく用いられ、アシル化剤が酸クロライド（例えば、ＣＨ３ＣＨ２ＣＯＣｌ）である場合には、塩基性化合物が用いられる。
【００３０】
最も一般的なセルロースの混合脂肪酸エステルの工業的合成方法は、セルロースをアセチル基および他のアシル基に対応する脂肪酸（酢酸、プロピオン酸、吉草酸等）またはそれらの酸無水物を含む混合有機酸成分でアシル化する方法である。
【００３１】
セルロースアシレートは、例えば、特開平１０−４５８０４号公報に記載されている方法により合成できる。
【００３２】
本発明の偏光板保護フィルム、特に本発明に用いられるセルロースアシレートフィルムは、全固形分中、セルロースアシレートを５〜９９質量％含むことが透湿度の観点から好ましく、２０〜９９質量％含むことがより好ましく、５０〜９５質量％含むことが特に好ましい。
【００３３】
偏光板保護フィルム、すなわち、活性エネルギー線硬化層などの機能層を有さない樹脂フィルム自体が、２層以上の多層体であってもよく、本発明ではこのような多層体も好ましい態様である。２層以上の多層体である場合、２層構造または３層構造であることがより好ましく、３層構造であることがさらに好ましい。３層構造の場合は、１層のコア層（すなわち、最も厚い層であり、以下、基層とも言う。）と、コア層を挟むスキン層Ａおよびスキン層Ｂとを有することが好ましい。本発明では、はスキン層Ｂ／コア層／スキン層Ａの３層構造であることが好ましい。スキン層Ｂは、偏光板保護フィルムが溶液製膜で製造される際に、後述する金属支持体と接する層であり、スキン層Ａは金属支持体とは逆側の空気界面の層である。なお、スキン層Ａとスキン層Ｂを総称してスキン層（または表層）とも言う。
【００３４】
＜紫外線吸収剤＞
本発明者らが各種検討を行ったところ、偏光子の紫外線による偏光性能の劣化は、波長２９０〜３００ｎｍ付近に吸収極大を有する第１のポリヨウ素イオンの光励起と波長３６０ｎｍ付近に吸収極大を有する第２のポリヨウ素イオンの光励起を抑制することにより、効果的に改良できることを見出した。詳細な機構は定かではないが、本発明者らはこの理由について、次のように想定している。
偏光子中のポリヨウ素イオンとＰＶＡとは錯体を形成して平衡関係を維持して存在しているが、上記のような光励起によってポリヨウ素イオンが分解することにより、偏光子中のポリヨウ素イオンとＰＶＡとの平衡関係がくずれ、結果として、偏光性能に寄与するポリヨウ素イオンとＰＶＡとの錯体の存在量が低下する。これが原因で、偏光性能が劣化する。
なお、本発明において、ポリヨウ素イオンとは、Ｉ３−やＩ５−の他、より高次のポリヨウ素物イオンも意味するものである。
【００３５】
このため、波長２９０〜３００ｎｍ付近と波長３６０ｎｍ付近の紫外線の透過率を低下させることが望ましい。
【００３６】
本発明の偏光板保護フィルムでは、下記一般式（１）で表される少なくとも１種の化合物を樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有する。本発明の下記一般式（１）で表される化合物は紫外線吸収能を示す。
本発明の下記一般式（１）で表される化合物は、吸収極大波長が２９０〜３６０ｎｍの範囲であり、上記の波長２９０〜３００ｎｍの範囲と波長３６０ｎｍの範囲の両方の紫外線に対して、透過率を低下させることが可能である。
【００３７】
下記一般式（１）で表される化合物は、偏光板保護フィルムを構成する樹脂成分との相溶性に優れるため、フィルムの厚みが低減した場合でも十分な紫外線吸収能を付与することができ、透明性に優れた偏光板保護フィルムを作製することができる。
【００３８】
【化３】
2016027397.tif 000005
【００３９】
一般式（１）において、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は各々独立に、炭素数が１以上６以下の、直鎖もしくは分岐のアルキル基を表し、Ｘはヒドロキシ基または炭素数が１以上６以下のアルコキシ基を表す。ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＸ中の炭素数の総和は５以上１６以下である。
【００４０】
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基の炭素数は、１以上４以下が好ましい。アルキル基は分岐、直鎖いずれの場合でもよい。
Ｒ１、Ｒ２およびＲ３におけるアルキル基は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチルがより好ましく、エチル、プロピル、イソプロピルがさらに好ましい。
【００４１】
Ｘはヒドロキシ基、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が好ましく、ヒドロキシ基、炭素数１以上３以下のアルコキシ基がより好ましく、炭素数１以上３以下のアルコキシ基がさらに好ましい。
アルコキシ基としては、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシ、ブトキシが好ましく、メトキシ、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシがより好ましく、エトキシ、プロピルオキシ、イソプロピルオキシがさらに好ましい。
【００４２】
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＸ中の炭素数の総和は５以上１３以下が好ましく、５以上１１以下がより好ましい。
上述のような炭素数とすることで、一般式（１）で表される化合物とフィルムの主成分である樹脂との相溶性に優れる。
【００４３】
以下に、一般式（１）で表される化合物の具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００４４】
【表１】
2016027397.tif 000006
【００４５】
一般式（１）で表される化合物は、ＢＡＳＦ社などで市販されているものを入手して使用することができ、また、特開２００９−２２１２１８号公報に記載の方法に準じてＸがヒドロキシ基のものを合成し、これを一般的なアルキル化反応を行うことで合成できる。
例えば、塩基存在下に、対応するアルキルハライドなどのアルキル化剤で合成できる。
【００４６】
一般式（１）で表される化合物は、樹脂１００質量部に対して０．１質量部以上１０質量部以下含有するが、０．２質量部以上８質量部以下が好ましく、０．２質量部以上６質量部以下がより好ましい。一般式（１）で表される化合物は、このように少ない量でも紫外線による劣化を効果的に抑制できる。また、樹脂との相溶性に優れるため、薄層化したフィルムの紫外線吸収能を維持させることを目的として、フィルム中での含有量を高くすることができる。
【００４７】
一般式（１）で表される化合物は、偏光板保護フィルム中に分布して存在していてもよい。例えば、密着性や硬度を向上させることを目的とし、濃度が異なる複数種のドープを積層させることで一体のフィルムを作製したり、空気界面側におけるごく薄い領域中の化合物を溶媒とともに拡散させる等により、フィルム中で分布させることができる。
【００４８】
ここで、本発明における好ましい態様である偏光板保護フィルム上に活性エネルギー線硬化層を有する積層体の場合、一般式（１）で表される化合物は、偏光板保護フィルムの樹脂フィルム中だけでなく、活性エネルギー線硬化層にも含有させてもよい。
【００４９】
本発明では、一般式（１）で表される化合物を２種以上混合してもよく、また、既知の紫外線吸収剤と併用してもよい。
しかしながら、本発明の効果を効果的に奏するには、一般式（１）で表される化合物の含有量を高めて使用することが好ましい。
【００５０】
本発明では、一般式（１）で表される化合物を偏光板保護フィルムと異なった層、例えば、以後に説明する活性エネルギー線硬化層に使用することも好ましい。
この場合、偏光板保護フィルムの樹脂フィルムのみでは、樹脂フィルムの樹脂との相溶性、ヘイズの問題が軽減され、異なった層に加えられた一般式（１）で表される化合物との合計量で紫外線の透過率を低下させることが可能となる。
なお、一般式（１）で表される化合物を活性エネルギー線硬化層など、偏光板保護フィルムと異なった層に用いる場合、密着性を向上させることを目的として上述の方法等により分布させてもよい。
【００５１】
一般式（１）で表される化合物は、偏光板保護フィルムである樹脂フィルム、樹脂が、アクリル樹脂やセルロースアシレート、なかでもセルロースアシレートの場合、フィルム硬度、特にヌープ硬度や鉛筆硬度を向上させる。本発明者らは、一般式（１）で表される化合物が、樹脂中の極性基、例えばカルボニル基と強く相互作用し、セルロース鎖間に存在する自由体積を低減させることが起因していると想定している。また、一般式（１）で表される化合物を樹脂に含有させることで、偏光板保護フィルムの透湿度も低くなる。ヌープ硬度、鉛筆硬度と同様に、一般式（１）で表される化合物と樹脂との強い相互作用による自由体積の低減によるものと考えられる。
しかも、これらの効果は、活性エネルギー線硬化層と組み合わせた積層体の構成で、より効果的に発現される。積層体については後述する。
【００５２】
本発明では、一般式（１）で表される化合物以外に、これとは種類の異なる他の紫外線吸収剤を組み合わせて使用することも好ましい態様である。
ここで、種類が異なるとは、紫外線吸収剤の基本骨格が異なる紫外線吸収剤であるが、本発明では、これに加えてトリフェニルトリアジン骨格の場合、オルトヒドロキシフェニル基が１つのものをも包含する。なお、オルトヒドロキシフェニル基が１つのトリアジン骨格の紫外線吸収剤は、ヒドロキシ基の数が少なく、活性エネルギー線硬化層に含有させる場合、重合硬化反応にも耐えられ、好ましい。
なお、以後では、本発明の一般式（１）で表される化合物と構造が異なる他の紫外線吸収剤を紫外線吸収剤Ｂと称す。
【００５３】
紫外線吸収剤Ｂは、一般式（１）で表される化合物と異なる吸収極大波長を２８０ｎｍ〜４００ｎｍの間に示す化合物であることが液晶表示装置の耐光性を維持する観点で好ましい。
【００５４】
詳細な機構は定かではないが、本発明者らはこの理由を以下のように推定している。表示装置の耐光性を維持するにあたり、上述した通り、一般式（１）で表される化合物はポリヨウ素イオンの励起波長を吸収する。これに加え、紫外線吸収剤Ｂは紫外線、特に２８０〜４００ｎｍの紫外線による液晶セルの劣化を低減することができるため、これらの組み合わせにより表示装置の耐光性を維持できると考えている。紫外線による液晶セルの劣化を抑制するという観点では、紫外線吸収剤Ｂの吸収は吸収極大波長は２８０ｎｍ以上３３０ｎｍ以下、あるいは、３５０ｎｍ以上４００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００５５】
このような長波長側に吸収を示す化合物との組み合わせにより、液晶セルの紫外線による劣化を抑制することができると本発明者らは考えている。液晶セルが紫外線照射を受けることによって注入されている駆動液晶化合物が分解する。液晶セル中にこのような分解物が含まれ次第に不純物が多くなる結果、液晶セルの性能が劣化し、表示装置の画像表示性能が低下する。表示装置の画像表示性能の劣化は、上述したポリヨウ素イオンの分解による偏光子の偏光性能の劣化と液晶セルの性能の劣化が相乗的に影響していると想定しているためである。
【００５６】
吸収極大波長が２８０〜３３０ｎｍの範囲の紫外線吸収剤では、例えば、ベンゾトリアゾール骨格の紫外線吸収剤、ベンゾフェノン骨格の紫外線吸収剤、オルトヒドロキシフェニル基が１つのトリアジン骨格の紫外線吸収剤が挙げられ、ベンゾフェノン骨格の紫外線吸収剤、オルトヒドロキシフェニル基が１つのトリアジン骨格の紫外線吸収剤が好ましい。
ベンゾトリアゾール骨格の紫外線吸収剤は、特開２００７−３２６９７２号公報の段落番号００１８〜００３１に記載されたものが好ましく、ベンゾフェノン骨格の紫外線吸収剤は、特開２００５−１５４７６４号公報の段落番号０１３２〜０１５１に記載されたものが好ましい。オルトヒドロキシフェニル基が１つのトリアジン骨格の紫外線吸収剤は、例えば、特開平１０−１４７５７７号公報、特開平７−１８８９０号公報、特開平７−２３３１５４号公報、特開平８−３３７５７４号公報に記載されたものが挙げられる。
【００５７】
紫外線吸収剤Ｂとして、吸収極大波長が３５０〜４００ｎｍの範囲の紫外線吸収剤では、メロシアニン骨格の紫外線吸収剤、ベンゾジチオール骨格の紫外線吸収剤、ベンゾオキサゾール骨格の紫外線吸収剤が挙げられる。
吸収極大波長が３５０〜４００ｎｍの範囲の紫外線吸収剤としては、具体的には、特開２０１０−７０４７８号公報、特表２００９−５１９９９３号公報等に記載された紫外線吸収剤が挙げられる。また、特開２００９−６７９７３号公報の段落番号００１９〜００４６に記載の紫外線吸収剤および特開２００９−２９２７５３号公報の段落番号００１４〜００２４に記載の紫外線吸収剤も好ましい。
【００５８】
なお、吸収極大波長は、一般に認められているもの、例えば、製造メーカのカタログ等に記載の値を採用することができる。
【００５９】
ここで、紫外線吸収剤Ｂは、偏光板保護フィルムである樹脂フィルムの樹脂や活性エネルギー線硬化層を構成する樹脂との相溶性がよいものが好ましく、アルキル基もしくはアルキル部分を有する置換基の炭素数は１〜２０以下が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜１０がさらに好ましい。特に直鎖アルキル基もしくは直鎖アルキル部分を有する場合は、炭素数が８以上の直鎖アルキル基もしくは直鎖アルキル部分を有さないことが好ましい。
【００６０】
本発明では、紫外線吸収剤Ｂは、特に、一般式（１）で表される化合物を含む樹脂フィルムとは異なる層または樹脂フィルムに含有することもできる。
ここで、一般式（１）で表される化合物を含む樹脂フィルムとは異なる樹脂フィルムとは、例えば、偏光子の両面に偏光板保護フィルムを設けたり、または、一方の面に、複数の偏光板保護フィルムもしくは複数の樹脂フィルムを設ける場合である。
【００６１】
特に、一般式（１）で表される化合物を含む樹脂フィルムとは異なる層に含有することも好ましい。
ここで、一般式（１）で表される化合物を含む樹脂フィルムとは異なる層とは、例えば、偏光板保護フィルムに機能層を設けたり、一般式（１）で表される化合物を含む偏光板保護フィルムを偏光子の一方の面に設け、偏光子の反対の面に、位相差フィルム等別の樹脂フィルムを設けてその中に含有させる方法などが挙げられる。好ましくは、偏光子の反対の面に位相差フィルムを設けこの位相差フィルムに、一般式（１）で表される化合物やこれとは異なる紫外線吸収剤を含有させてもよい。
【００６２】
本発明では、紫外線吸収剤Ｂは、一般式（１）で表される化合物を含む樹脂フィルムを有する偏光板保護フィルムに設けられた活性エネルギー線硬化層に含有するか、または偏光子の両面に設けられた偏光板保護フィルムのうち、一般式（１）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルムとは反対側の面に設けられる偏光板保護フィルム（好ましくは樹脂フィルム）に含有するのが好ましい。
【００６３】
なかでも、本発明では、紫外線吸収剤Ｂは、一般式（１）で表される化合物の吸収極大波長より長波側に吸収極大波長を有するものが好ましく、１０ｎｍ以上長波のものがより好ましく、２０ｎｍ以上長波のものがさらに好ましい。上限は特に限定されるものではないが４０ｎｍである。なお、紫外線吸収剤Ｂの吸収極大波長は４００ｎｍ以内であると、可視域の透明性に優れた偏光板部材を製造することができるため好ましい。
このような構成とすることで、一般式（１）で表される化合物がより効果的に作用する。
紫外線吸収剤の吸収極大波長の比較は、含有する樹脂フィルムもしくは部材の吸収スペクトルを測定することで、直接的な比較が可能である。
【００６４】
本発明では、一般式（１）で表される化合物の吸収極大波長より長波側に吸収極大波長を有する紫外線吸収剤Ｂとして、下記一般式（２）または（３）で表される化合物が特に好ましい。
【００６５】
【化４】
2016027397.tif 000007
【００６６】
一般式（２）において、Ｙ１〜Ｙ４は各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｒ５およびＲ６は各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｘ１〜Ｘ４は各々独立に、ヘテロ原子を表す。
一般式（３）において、Ｙ３１およびＹ３２は各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。Ｖ１およびＶ２は各々独立に、水素原子または１価の置換基を表す。
【００６７】
ここで、一般式（２）で表される化合物については、特開２００９−２０９３４３号公報の段落番号００２０〜００９７に記載されている内容を好ましく取り込むことができる。
一般式（３）で表される化合物については、特開２００９−０９６９７２号公報の段落番号００３７〜００６２に記載されている内容を好ましく取り込むことができる。
【００６８】
なお、これらが記載されている公報には、いずれも炭素数８以上の直鎖アルキル基を有さないことが好ましいとされており、本発明においても同様である。
【００６９】
一般式（２）において、Ｙ１〜Ｙ４は１価の置換基を表す場合、１価の置換基としては、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アルキルスルホニル基、またはアリールスルホニル基が好ましく、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基がより好ましく、シアノ基、アルコキシカルボニル基が更に好ましい。Ｙ１〜Ｙ４の炭素数は1〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましい。
【００７０】
一般式（２）において、Ｒ５およびＲ６が１価の置換基を表す場合、１価の置換基としては、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、シアノ基、カルボキシ基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、ニトロ基、アミノ基、アシルアミノ基、スルホンアミド基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルキルスルホニルオキシ基、アリールスルホニルオキシ基、スルホ基、アルキルチオ基、アリールチオ基が好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アリールオキシ基、アシルオキシ基がより好ましく、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アルキルカルボニル基、アリールカルボニル基、アシルオキシ基が更に好ましい。Ｒ５およびＲ６の炭素数は1〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましい。
一般式（２）において、Ｘ１〜Ｘ４におけるヘテロ原子としては、ホウ素原子、窒素原子、酸素原子、ケイ素原子、リン原子、硫黄原子、セレン原子、テルル原子が好ましく、窒素原子、酸素原子、硫黄原子がより好ましく、窒素原子、硫黄原子がさらに好ましく、硫黄原子が特に好ましい。
【００７１】
一般式（２）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、一般式（２）で表される化合物は下記具体例に限定されるものではない。
【００７２】
【化５】
2016027397.tif 000008
【００７３】
【化６】
2016027397.tif 000009
【００７４】
一般式（３）において、Ｙ３１およびＹ３２の一方がシアノ基であり、他方は置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、置換もしくは無置換のヘテロ環カルボニル基、置換もしくは無置換のアルキルスルホニル基、または、置換もしくは無置換のアリールスルホニル基であることが好ましく、Ｙ３１およびＹ３２の一方がシアノ基であり、他方が置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基、置換もしくは無置換のアリールカルボニル基、または、置換もしくは無置換のヘテロ環カルボニル基であることがより好ましく、一方がシアノ基であり、他方が、置換もしくは無置換のアルキルカルボニル基または置換もしくは無置換のアリールカルボニル基であることがさらに好ましい。
一般式（３）において、Ｖ１およびＶ２が１価の置換基を表す場合、１価の置換基としては、ハロゲン原子、メルカプト基、シアノ基、カルボキシ基、リン酸基、スルホ基、ヒドロキシ基、カルバモイル基、スルファモイル基、ニトロ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アシルオキシ基、アシルアミノ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基、スルホニル基、スルフィニル基、スルホニルアミノ基、アミノ基、置換アミノ基、アンモニウム基、ヒドラジノ基、ウレイド基、イミド基、アルキルもしくはアリールチオ基、無置換もしくは置換アルケニルチオ基、アルコキシカルボニル基、アリーロキシカルボニル基、アルコキシカルボニルオキシ基、無置換アルキル基、置換アルキル基、置換もしくは無置換のアリール基、または置換もしくは無置換の複素環基が好ましく、シアノ基、アシル基、アシルオキシ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基がより好ましく、アシルオキシ基、アルキルアミノカルボニルオキシ基がさらに好ましい。Ｙ３１およびＹ３２の炭素数は１〜１８が好ましく、１〜１０がより好ましい。
【００７５】
一般式（３）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、一般式（３）で表される化合物は下記具体例に限定されるものではない。
【００７６】
【化７】
2016027397.tif 000010
【００７７】
【化８】
2016027397.tif 000011
【００７８】
紫外線吸収剤Ｂは波長３５０〜４００ｎｍの範囲に吸収極大を有し、かつ４００ｎｍより長波長域のモル吸光係数が１０００以下であることが好ましい。４００ｎｍより長波長域に吸収を有さないことにより、より黄色味の少ないフィルムを得ることができる。
【００７９】
紫外線吸収剤Ｂのうち、吸収極大波長が２７０〜３３０ｎｍの範囲にある紫外線吸収剤のうち、本発明では、下記一般式（４）または（５）で表される化合物である。
【００８０】
【化９】
2016027397.tif 000012
【００８１】
一般式（４）において、Ｒ４１はヒドロキシ基、アルキル基またはアルコキシ基を表す。Ｒ４３〜Ｒ４８は各々独立に、水素原子、アルキル基またはアルコキシ基を表す。
一般式（５）において、Ｒ５１は水素原子またはヒドロキシ基を表す。Ｒ５２およびＲ５３は各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基またはアルコキシ基を表す。
【００８２】
一般式（４）において、Ｒ４１〜Ｒ４８におけるアルキル基の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８がさらに好ましい。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシルが挙げられる。
Ｒ４１〜Ｒ４８におけるアルコキシ基の炭素数は１〜２１が好ましく、１〜１６がより好ましく、１〜１２がさらに好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、２−エチルヘキシルオキシが挙げられる。
Ｒ４１〜Ｒ４８のアルコキシ基は置換基を有してもよく、このような置換基としては、ハロゲン原子、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、ヒドロキシ基、アシル基が挙げられる。置換基を有するアルコキシ基としては、下記一般式（ｅ）で表される基が好ましい。
【００８３】
【化１０】
2016027397.tif 000013
【００８４】
一般式（ｅ）において、Ｚはアルキル基、シクロアルキル基、アリール基またはアシル基を表す。
Ｚのアルキル基の炭素数は１〜１８が好ましく、１〜１６がより好ましく、１〜１２がさらに好ましい。Ｚのシクロアルキル基の炭素数は５〜２０が好ましく、５〜１２がより好ましい。例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロオクチル、シクロドデシル、アダマンチルが挙げられる。Ｚのアリール基の炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましい。例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。Ｚのアシル基は、炭素数２〜２０が好ましく、２〜１２がより好ましく、２〜８がさらに好ましい。アシル基としては、アルキルカルボニル基、シクロアルキルカルボニル基、アリールカルボニル基を含む。例えば、アセチル、シクロヘキシルカルボニル、ベンゾイルが挙げられる。
が挙げられる。
【００８５】
Ｒ４１は、ヒドロキシ基、アルコキシ基が好ましく、アルコキシ基がより好ましく、一般式（ｅ）で表される、置換アルコキシ基がさらに好ましい。
Ｒ４３およびＲ４６は、アルキル基、アルコキシ基が好ましく、アルキル基がより好ましい。
Ｒ４４、Ｒ４７は水素原子、アルキル基が好ましい。
Ｒ４５、Ｒ４８はアルキル基、アルコキシ基が好ましい。
Ｒ４４〜Ｒ４８におけるアルキル基はメチル基が好ましい。
【００８６】
一般式（４）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、一般式（４）で表される化合物は下記具体例に限定されるものではない。
【００８７】
【化１１】
2016027397.tif 000014
【００８８】
【化１２】
2016027397.tif 000015
【００８９】
一般式（４）で表される化合物は、特開平１０−１４７５７７号公報に記載の方法またはこれに準じた方法で合成できる。
【００９０】
一般式（５）において、Ｒ５２、Ｒ５３におけるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が好ましく、塩素原子、臭素原子がより好ましい。
Ｒ５２、Ｒ５３におけるアルキル基の炭素数は１〜２０が好ましく、１〜１２がより好ましく、１〜８がさらに好ましい。例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、２−エチルヘキシルが挙げられる。
Ｒ５２、Ｒ５３におけるアルコキシ基の炭素数は１〜２１が好ましく、１〜１６がより好ましく、１〜１２がさらに好ましい。例えば、メトキシ、エトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、ブトキシ、ヘキシルオキシ、２−エチルヘキシルオキシが挙げられる。
Ｒ５２、Ｒ５３におけるアリール基の炭素数は６〜２０が好ましく、６〜１２がより好ましい。例えば、フェニル、ナフチルが挙げられる。アリール基は置換基を有してもよく、このような置換基としては、一般式（２）におけるＲ５、Ｒ６の１価の置換基として挙げたものが挙げられる。
【００９１】
Ｒ５１は水素原子が好ましい。Ｒ５２は水素原子、アルキル基、アルコキシ基が好ましく、水素原子がより好ましい。Ｒ５３はアルキル基、アルコキシ基が好ましく、アルコキシ基がより好ましい。
【００９２】
一般式（５）で表される化合物の具体例を以下に示す。ただし、一般式（５）で表される化合物は下記具体例に限定されるものではない。
【００９３】
【化１３】
2016027397.tif 000016
【００９４】
一般式（５）で表される化合物は、特開平１１−１２２１９号公報に記載の方法またはこれに準じた方法で合成できる。
【００９５】
紫外線吸収剤Ｂの含有量は、吸収極大波長が３５０〜４００ｎｍの紫外線吸収剤では、加えられる層または樹脂フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．０１質量部以上２０質量部以下が好ましく、０．１質量部以上１５質量部以下がより好ましい。一方、吸収極大波長が２７０〜３３０ｎｍの紫外線吸収剤では、加えられる層または樹脂フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、０．１質量部以上２質量部以下が好ましく、０．１〜１５質量部以下がより好ましい。
【００９６】
＜紫外線吸収剤以外の添加剤＞
本発明の偏光板保護フィルムは、一般式（１）で表される化合物と併用して、紫外線吸収剤以外の各種添加剤を使用することができる。
【００９７】
このような添加剤としては、劣化防止剤（例えば、酸化防止剤、過酸化物分解剤、ラジカル禁止剤、金属不活性化剤、酸捕獲剤、アミン等）、マット剤、硬度向上剤が挙げられる。
【００９８】
（劣化防止剤）
樹脂の劣化を防止する劣化防止剤については、特開平３−１９９２０１号、同５−１９４７８９号、同５−２７１４７１号、同６−１０７８５４号の各公報に記載がある。劣化防止剤の添加量は、調製する溶液（ドープ）の０．０１〜１質量％が好ましく、０．０１〜０．２質量％がさらに好ましい。添加量が０．０１質量％以上であれば、劣化防止剤の効果が十分に発揮されるので好ましく、添加量が１質量％以下であれば、フィルム表面への劣化防止剤のブリードアウト（滲み出し）などが生じにくいので好ましい。特に好ましい劣化防止剤の例としては、ブチル化ヒドロキシトルエン（ＢＨＴ）、トリベンジルアミン（ＴＢＡ）を挙げることができる。
【００９９】
（マット剤）
本発明の偏光板保護フィルムでは、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子はケイ素を含むものが、濁度が低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。二酸化珪素の微粒子は、１次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上であるものが好ましい。見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルがさらに好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１００】
（硬度向上剤）
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ａ）で表される化合物を用いることが好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。なお、下記一般式（Ａ）で表される化合物は、硬度向上剤として分類するが、他の目的で使用しても構わない。
【０１０１】
【化１４】
2016027397.tif 000017
【０１０２】
一般式（Ａ）において、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５は各々独立に、水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数３〜２０のシクロアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０のアリール基を表す。ただし、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の中に、合計３個以上の環構造を有する。
【０１０３】
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５におけるアルキル基の炭素数は、１〜１０が好ましく、１〜５がより好ましく、１〜３がさらに好ましく、特に好ましくはメチルまたはエチルである。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５５におけるシクロアルキル基の炭素数は、３〜１０が好ましく、４〜８がより好ましい。シクロアルキル基としては、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロへキシルが挙げられ、シクロヘキシルが特に好ましい。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５におけるアルケニル基の炭素数は、２〜１０が好ましく、２〜５がより好ましい。
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５におけるアリール基の炭素数は、６〜１８がより好ましく、６〜１６がさらに好ましい。アリール基としては、フェニル、ナフチルが好ましく、フェニルがより好ましい。
【０１０４】
ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５における各基は、さらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、下記置換基群から選択される置換基が好ましい。
なお、下記置換基群は、上記一般式（Ａ）に対してのみでなく、特段に断りがない限り、他の一般式における１価の置換基にも適用される。また、「置換基を有してもよい」、「置換もしくは無置換の」における、「置換基」や「置換」の置換基も同様に、特段の断りがない限り、下記置換基群が参照される。
【０１０５】
〔置換基群〕
アルキル基（好ましくは炭素数１〜１０で、例えばメチル、エチル、イソプロピル、ｔ−ブチル、ペンチル、ヘプチル、１−エチルペンチル、２−エチルヘキシル、ベンジル、２−エトキシエチル、１−カルボキシメチル等）、アルケニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、ビニル、アリル、オレイル等）、アルキニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エチニル、２−ブチニル、フェニルエチニル等）、シクロアルキル基（好ましくは炭素数３〜２０で、例えば、シクロプロピル、シクロペンチル、シクロヘキシル、４−メチルシクロヘキシル等）、アリール基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニル、１−ナフチル、２−ナフチル、４−メトキシフェニル、２−クロロフェニル、３−メチルフェニル等）、ヘテロ環基（好ましくは炭素数０〜２０のヘテロ環基で、環を構成するヘテロ原子が酸素原子、窒素原子、硫黄原子から選択されるヘテロ環基が好ましく、５または６員環でベンゼン環やヘテロ環で縮環していてもよく、またヘテロ環基のヘテロ環が飽和環、不飽和環、芳香環であってもよい。ヘテロ環基としては、例えば、２−ピリジル、４−ピリジル、２−イミダゾリル、２−ベンゾイミダゾリル、２−チアゾリル、２−オキサゾリル等が挙げられる）、アルコキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メトキシ、エトキシ、イソプロピルオキシ、ベンジルオキシ等）、アリールオキシ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェノキシ、１−ナフチルオキシ、２−ナフチルオキシ、３−メチルフェノキシ、４−メトキシフェノキシ等）、
【０１０６】
アルキルチオ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、メチルチオ、エチルチオ、イソプロピルチオ、ベンジルチオ等）、アリールチオ基（好ましくは炭素数６〜２６で、例えば、フェニルチオ、１−ナフチルチオ、２−ナフチルチオ、３−メチルフェニルチオ、４−メトキシフェニルチオ等）、アシル基（アルキルカルボニル基、アルケニルカルボニル基、アリールカルボニル基、ヘテロ環カルボニル基を含み、炭素数は２０以下が好ましく、例えば、アセチル、ピバロイル、アクリロイル、メタクリロイル、ベンゾイル、ニコチノイル等）、アルコキシカルボニル基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、エトキシカルボニル、２−エチルヘキシルオキシカルボニル等）、アリールオキシカルボニル基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェニルオキシカルボニル、ナフチルオキシカルボニル等）、アミノ基（アミノ基、アルキルアミノ基、アリールアミノ基、ヘテロ環アミノ基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、アミノ、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ、Ｎ−エチルアミノ、アニリノ、１−ピロリジン−１−イル、ピペリジン−１−イル、モルホリン−１−イル、チオモルホリン−１−イル等）、スルホンアミド基（アルキルスルホンアミド基、アリールスルホンアミド基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルホンアミド、Ｎ−フェニルスルホンアミド等）、スルファモイル基（アルキルスルファモイル基、アリールスルファモイル基を含み、好ましくは炭素数０〜２０で、例えば、スルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル、Ｎ−フェニルスルファモイル等）、アシルオキシ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、カルバモイル基（アルキルカルバモイル基、アリールカルバモイル基を含み、好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル、Ｎ−フェニルカルバモイル等）、アシルアミノ基（好ましくは炭素数１〜２０で、例えば、アセチルアミノ、アクリロイルアミノ、ベンゾイルアミノ、ニコチンアミド等）、シアノ基、ヒドロキシ基、メルカプト基またはハロゲン原子（例えばフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）が挙げられる。
【０１０７】
これらの置換基は、さらに上記の置換基で置換されていてもよい。
【０１０８】
ここで、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５における各基が有してもよい置換基のうち、アルキル基、アリール基、アルコキシ基、アシル基が好ましい。
【０１０９】
一般式（Ａ）では、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の中に、合計３個以上の環構造を有するが、このような環構造としては、シクロアルカン、アリール環が挙げられ、シクロペンタン、シクロヘキサン、ベンゼン環、ナフタレン環が好ましく、シクロヘキサン、ベンゼン環がより好ましい。
このため、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５は、シクロヘキシル基、アリール基、アラルキル基のいずれかであって、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の中に、合計３個以上の環構造を有する場合が好ましい。ここで、アラルキル基とは、アルキル基にアリール基が置換した基である。
【０１１０】
一般式（Ａ）で表される化合物のうち、好ましい化合物を列挙すると以下の通りである。
・ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれか１つがアラルキル基である化合物
なお、アラルキル基のなかでも、アルキル基に１個または２個のアリール基が置換した基（２個のアリール基が置換した場合、同一炭素原子に置換していることが好ましい。）が好ましい。さらに、アルキル基にアリール基とアシル基（好ましくはアリーロイル基）が置換した基も好ましい。
・ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５のいずれか１つが、シクロアルキル基を含む基で、好ましくは、シクロアルキル基を含む基がシクロアルキル基である化合物
【０１１１】
一般式（Ａ）で表される化合物は、製膜時の溶解安定性の観点からＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数２〜２０のアルケニル基または炭素数６〜２０のアリール基であることがより好ましい。また、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５が、それぞれ１個以上、好ましくは１個の環構造を有することがさらに好ましい。
【０１１２】
一般式（Ａ）で表される化合物は、下記一般式（Ａ−ａ）で表される化合物が、なかでも好ましい。
【０１１３】
【化１５】
2016027397.tif 000018
【０１１４】
一般式（Ａ−ａ）において、ＬＡ１〜ＬＡ３は各々独立に、単結合または炭素数１〜１０のアルキレン基を表す。ＡｒＡ１〜ＡｒＡ３は各々独立に、炭素数６〜２０のアリール基を表す。
【０１１５】
ＬＡ１〜ＬＡ３におけるアルキレン基の炭素数は炭素数１〜６が好ましく、炭素数１〜３がより好ましい。
アルキレン基はさらに置換基で置換されていてもよく、このような置換基としては、ＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の各基がさらに置換基で置換してもよい置換基群が挙げられる。
【０１１６】
ＬＡ１〜ＬＡ３は、単結合、メチレン基またはエチレン基がなかでも好ましく、単結合またはメチレン基が特に好ましい。溶解安定性を考慮すると、ＬＡ１〜ＬＡ３のうちの少なくとも１つは炭素数１〜６のアルキレン基であることが好ましい。
【０１１７】
ＡｒＡ１〜ＡｒＡ３は、フェニル基、ナフチル基が好ましく、フェニル基がより好ましい。
【０１１８】
一般式（Ａ）で表される化合物の分子量は、２５０〜１２００が好ましく、３００〜８００がより好ましく、３５０〜６００が特に好ましい。分子量が２５０以上であればフィルムから揮散しにくいため好ましく、１２００以下であればヘイズが低くなるため好ましい。
【０１１９】
以下に、一般式（Ａ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。下記例示化合物中、Ｍｅはメチル基を表す。
【０１２０】
【化１６】
2016027397.tif 000019
【０１２１】
【化１７】
2016027397.tif 000020
【０１２２】
【化１８】
2016027397.tif 000021
【０１２３】
一般式（Ａ）で表される化合物は、尿素誘導体とマロン酸誘導体とを縮合させるバルビツール酸の合成法を用いて合成できることが知られている。窒素原子上に置換基を２つ有するバルビツール酸は、Ｎ，Ｎ’−ジ置換型尿素とマロン酸クロリドを加熱するか、マロン酸と無水酢酸などの活性化剤を混合して、加熱することにより得られる。例えば、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｓｏｃｉｅｔｙ，第６１巻，１０１５頁（１９３９年）、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍｅｄｉｃｉｎａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第５４巻，２４０９頁（２０１１年）、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，第４０巻，８０２９頁（１９９９年）、国際公開第２００７／１５００１１号パンフレットなどに記載の方法を好ましく用いることができる。
【０１２４】
また、縮合に用いるマロン酸は、無置換のものでも置換基を有するものでもよく、ＲＡ５に相当する置換基を有するマロン酸を用いれば、バルビツール酸を構築することにより一般式（Ａ）で表される化合物を合成することができる。また、無置換のマロン酸と尿素誘導体を縮合させると５位が無置換のバルビツール酸が得られるので、これを修飾することにより一般式（Ａ）で表される化合物を合成してもよい。
なお、一般式（Ａ）で表される化合物の合成法は上記に限定されるものではない。
【０１２５】
一般式（Ａ）で表される化合物の偏光板保護フィルム中の含有量は特に限定されないが、偏光板保護フィルム中の樹脂１００質量部に対して、０．１〜２０質量部が好ましく、０．２〜１５質量部がより好ましく、０．３〜１０質量部が特に好ましい。
添加量が０．１質量部以上であれば、透湿度を効果的に下げることができ、２０質量部以下であれば、ヘイズを低くすることができるため好ましい。
【０１２６】
本発明の偏光板保護フィルムは下記一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物または後述の一般式（Ｂ−ＩＩ）で表される化合物を硬度向上剤として用いることも好ましい。特に、偏光板保護フィルムを構成する樹脂がセルロースアシレートである場合に好ましい。
【０１２７】
【化１９】
2016027397.tif 000022
【０１２８】
一般式（Ｂ−Ｉ）において、ＲＢ１およびＲＢ２は各々独立に、炭素数１〜２０のアルキル基または炭素数６〜２０のアリール基を表す。ＺＢ１およびＺＢ２は各々独立に、単結合、−Ｏ−または−Ｎ（Ｒａ）−を表す。ここで、Ｒａは水素原子または炭素数１〜２０のアルキル基を表す。ＲａとＲＢ１またはＲＢ２が、互いに結合して環を形成してもよい。ＸＢ１は、炭素数１〜６のアルキレン基、炭素数５〜２０のシクロアルキレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基またはこれらの基を組み合わせた基を表す。ＹＢ１およびＹＢ２は各々独立に、−ＮＨ−または−Ｏ−を表す。
【０１２９】
ＲＢ１およびＲＢ２におけるアルキル基、アリール基は、一般式（Ａ）におけるＲＡ１、ＲＡ３、ＲＡ５におけるアルキル基、アリール基が好ましい。
ＲＢ１、ＲＢ２、ＸＢ１、Ｒａの各基は、さらに置換基を有してもよく、このような置換基としては、一般式（Ａ）におけるＲＡ１、ＲＡ３およびＲＡ５の各基がさらに置換基で置換してもよい置換基群に加え、カルバモイルオキシ基（アルキルカルバモイルオキシ基、アリールカルバモイルオキシ基を含み、好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、Ｎ−メチルカルバモイルオキシ、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ、Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイルオキシ等）、カルバモイルアミノ基（アルキルカルバモイルアミノ基、アリールカルバモイルアミノ基を含み、好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、Ｎ−メチルカルバモイルアミノ、Ｎ、Ｎ−ジメチルカルバモイルアミノ、Ｎ−フェニルカルバモイルアミノ、Ｎ−メチル−Ｎ−フェニルカルバモイルアミノ等）、アルコキシカルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数２〜２０で、例えば、メトキシカルボニルアミノ、エトキシカルボニルアミノ、２−エチルヘキシルオキシカルボニルアミノ等）、アリールオキカルカルボニルアミノ基（好ましくは炭素数７〜２０で、例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）が挙げられる。
【０１３０】
ＲＢ１、ＲＢ２、ＸＢ１、Ｒａの各基が置換してもよい置換基としては、なかでも、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヒドロキシ基、シアノ基、カルバモイル基、アシルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、アルコキシカルカルボニルアミノ基、アリールオキカルカルボニルアミノ基が好ましい。
【０１３１】
特に、ＲＢ２がアルキル基の場合、カルバモイル基、アシルアミノ基、アシル基、アシルオキシ基、カルバモイルオキシ基、カルバモイルアミノ基、アルコキシカルカルボニルアミノ基、アリールオキカルカルボニルアミノ基が置換したアルキル基が好ましい。
【０１３２】
ＸＢ１は、下記Ｘ−１〜Ｘ−８で表される基が好ましい。
なお、式中、＊は−ＹＢ１−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＹＢ２−Ｃ（＝Ｏ）−中のＹＢ１、ＹＢ２との結合する位置を示す。
【０１３３】
【化２０】
2016027397.tif 000023
【０１３４】
Ｒａは水素原子または炭素数１〜８のアルキル基が好ましく、水素原子、炭素数１〜３のアルキル基がより好ましく、水素原子がさらに好ましい。
【０１３５】
ＲａとＲＢ１またはＲＢ２が、互いに結合して環を形成する環は、５または６員環が好ましく、例えば、ピロリジン環、ピぺリジン環、ピペラジン環、モルホリン環、チオモルホリン環が挙げられる。
【０１３６】
ＹＢ１、ＹＢ２は−ＮＨ−が好ましい。
ＺＢ１およびＺＢ２は−Ｏ−が好ましい。
【０１３７】
以下に、一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物の具体例を示すが、本発明は、これらに限定されるものではない。
【０１３８】
【化２１】
2016027397.tif 000024
【０１３９】
【化２２】
2016027397.tif 000025
【０１４０】
【化２３】
2016027397.tif 000026
【０１４１】
【化２４】
2016027397.tif 000027
【０１４２】
【化２５】
2016027397.tif 000028
【０１４３】
【化２６】
2016027397.tif 000029
【０１４４】
【化２７】
2016027397.tif 000030
【０１４５】
一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物は既知の方法により製造することができる。
例えば、アルキルまたはアリールイソシアネートへのアルコールの付加反応、あるいはアミンとカーボネートの縮合反応などにより得ることができる。
アルキルまたはアリールイソシアネートへのアルコールの付加反応の際、触媒を用いることも好ましく、触媒として、アミン類、亜鉛、スズなどの金属有機酸塩もしくは金属キレート化合物、亜鉛、スズ、ビスマスなどの有機金属化合物などの従来公知のウレタン化触媒を使用できる。ウレタン化触媒としては、例えば、ジブチルスズジラウレート、ジブチルスズジアセテートなどが好ましく用いられる。
【０１４６】
また、２価のアルコールや２価のアミン化合物のアシル化などでも合成できる。
【０１４７】
本発明では、硬度向上剤としては、前述の一般式（Ｂ−Ｉ）で表される化合物以外に、下記一般式（Ｂ−ＩＩ）で表される化合物も好ましい。
【０１４８】
【化２８】
2016027397.tif 000031
【０１４９】
一般式（Ｂ−ＩＩ）において、Ｒ１Ｂ〜Ｒ７ＢおよびＲ９Ｂ〜Ｒ１１Ｂは各々独立に、水素原子または置換基を表し、Ｒ８Ｂは、水素原子または非共役置換基を表し、Ｘ１ＢおよびＸ２Ｂは各々独立に、単結合または脂肪族連結基を表し、Ｌは、単結合、−Ｎ（Ｒ１２Ｂ）−または−Ｃ（Ｒ１３Ｂ）（Ｒ１４Ｂ）−を表す。ここで、Ｒ１２Ｂ〜Ｒ１４Ｂは、それぞれ独立に、水素原子または置換基を表す。
【０１５０】
一般式（Ｂ−ＩＩ）で表される化合物は、特開２０１３−１２７０５８号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物であり、上記のＲ１Ｂ〜Ｒ１４Ｂ、Ｘ１Ｂ、Ｘ２Ｂを、対応するＲ１〜Ｒ１４、Ｘ１、Ｘ２に読み替えることができる。この読み替えを行った上で、特開２０１３−１２７０５８号公報の段落番号００９４〜０１１６を、本明細書に好ましく取り込むことができる。
特開２０１３−１２７０５８号公報と同じく、段落番号０１１２〜０１１５に記載の例示化合物１〜３１が本発明でも好ましい化合物である。
【０１５１】
一般式（Ｂ−Ｉ）または（Ｂ−ＩＩ）で表される化合物の偏光板保護フィルム中の含有量は特に限定されないが、偏光板保護フィルムを構成する樹脂１００質量部に対して、２〜２０質量部が好ましく、５〜１５質量部がより好ましい。
【０１５２】
＜偏光板保護フィルムの製造方法＞
本発明の偏光板保護フィルムは、溶液流延製膜方法により製造することができる。以下、偏光板保護フィルムの製造方法について、主成分の樹脂としてセルロースアシレートを用いた態様を例に挙げて説明するが、その他の樹脂を用いた場合も同様に偏光板保護フィルムを製造することができる。
【０１５３】
溶液流延製膜方法では、セルロースアシレートを有機溶媒に溶解した溶液（ドープ）を用いてフィルムを製造する。
【０１５４】
有機溶媒は、炭素数が３〜１２のエーテル、炭素数が３〜１２のケトン、炭素数が３〜１２のエステルおよび炭素数が１〜６のハロゲン化炭化水素から選ばれる溶媒を含むことが好ましい。
これらのエーテル、ケトンおよびエステルは、環状構造を有していてもよい。また、エーテル、ケトンおよびエステルが有する官能基（すなわち、−Ｏ−、−ＣＯ−および−ＣＯＯ−）のいずれかを２つ以上有する化合物も、有機溶媒として用いることができる。
有機溶媒は、アルコール性水酸基のような他の官能基を有していてもよい。２種類以上の官能基を有する有機溶媒の場合、炭素数は１〜１２が好ましく、３〜１２がより好ましい。
【０１５５】
セルロースアシレート溶液中におけるセルロースアシレートの量は、得られる溶液中に１０〜４０質量％含まれるように調整することが好ましい。セルロースアシレートの量は、１０〜３０質量％がさらに好ましい。有機溶媒（主溶媒）中には、後述する任意の添加剤を添加しておいてもよい。
【０１５６】
溶液流延製膜方法における乾燥方法については、米国特許第２，３３６，３１０号、同２，３６７，６０３号、同２，４９２，０７８号、同２，４９２，９７７号、同２，４９２，９７８号、同２，６０７，７０４号、同２，７３９，０６９号および同２，７３９，０７０号の各明細書、英国特許第６４０７３１号および同７３６８９２号の各明細書、ならびに特公昭４５−４５５４号、同４９−５６１４号、特開昭６０−１７６８３４号、同６０−２０３４３０号および同６２−１１５０３５号の各公報に記載がある。バンドまたはドラム上での乾燥は空気、窒素などの不活性ガスを送風することにより行なうことができる。
【０１５７】
調製したセルロースアシレート溶液（ドープ）を用いて２層以上の流延を行いフィルム化することもできる。この場合、溶液流延製膜方法によりセルロースアシレートフィルムを作製することが好ましい。ドープは、ドラムまたはバンド上に流延し、溶媒を蒸発させてフィルムを形成することが好ましい。流延前のドープは、固形分量が１０〜４０質量％の範囲となるように濃度を調整することが好ましい。ドラムまたはバンドの表面は、鏡面状態に仕上げておくことが好ましい。
【０１５８】
２層以上の複数のセルロースアシレート溶液を流延する場合、複数のセルロースアシレート溶液を流延することが可能であり、支持体の進行方向に間隔をおいて設けられた複数の流延口からセルロースアシレートを含む溶液をそれぞれ流延させて積層させながらフィルムを作製してもよい。これらは、例えば、特開昭６１−１５８４１４号、特開平１−１２２４１９号、および特開平１１−１９８２８５号の各公報に記載の方法を用いることができる。また、２つの流延口からセルロースアシレート溶液を流延することによっても、フィルム化することもできる。これは、例えば、特公昭６０−２７５６２号、特開昭６１−９４７２４号、特開昭６１−９４７２４５号、特開昭６１−１０４８１３号、特開昭６１−１５８４１３号、および、特開平６−１３４９３３号の各公報に記載の方法を用いることができる。さらに特開昭５６−１６２６１７号公報に記載の高粘度セルロースアシレート溶液の流れを低粘度のセルロースアシレート溶液で包み込み、その高・低粘度のセルロースアシレート溶液を同時に押し出すセルロースアシレートフィルムの流延方法を用いることもできる。
【０１５９】
また、２個の流延口を用いて、第一の流延口により支持体に成形したフィルムを剥ぎ取り、支持体面に接していた側に第二の流延を行うことにより、フィルムを作製することもできる。例えば、特公昭４４−２０２３５号公報に記載の方法を挙げることができる。
【０１６０】
流延するセルロースアシレート溶液は同一の溶液を用いてもよいし、異なるセルロースアシレート溶液を２種以上用いてもよい。複数のセルロースアシレート層に機能をもたせるために、その機能に応じたセルロースアシレート溶液を、それぞれの流延口から押し出せばよい。さらに本発明におけるセルロースアシレート溶液は、他の機能層（例えば、接着層、染料層、帯電防止層、アンチハレーション層、紫外線吸収層、偏光層など）と同時に流延することもできる。
【０１６１】
（紫外線吸収剤等の添加剤の添加）
偏光板保護フィルムの樹脂原料の一例であるセルロースアシレート溶液に対し、紫外線吸収剤等の添加剤を添加するタイミングは、製膜される時点で添加されていれば特に限定されない。例えば、セルロースアシレートの合成時点で添加してもよいし、ドープ調製時にセルロースアシレートと混合してもよい。
【０１６２】
これら流延から後乾燥までの工程は、空気雰囲気下でもよいし窒素ガスなどの不活性ガス雰囲気下でもよい。本発明における偏光板保護フィルムの製造に用いる巻き取り機は、一般的に使用されているものでよく、定テンション法、定トルク法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法などの巻き取り方法で巻き取ることができる。
【０１６３】
（延伸処理）
本発明の偏光板保護フィルムには、延伸処理を行うこともできる。延伸処理により偏光板保護フィルムに所望のレターデーションを付与することが可能である。セルロースアシレートフィルムの延伸方向は幅方向、長手方向のいずれでも好ましい。
幅方向に延伸する方法は、例えば、特開昭６２−１１５０３５号、特開平４−１５２１２５号、同４−２８４２１１号、同４−２９８３１０号、同１１−４８２７１号などの各公報に記載されている。
【０１６４】
フィルムの延伸は、加熱条件下で実施する。フィルムは、乾燥中の処理で延伸することができ、特に溶媒が残存する場合は有効である。長手方向の延伸の場合、例えば、フィルムの搬送ローラーの速度を調節して、フィルムの剥ぎ取り速度よりもフィルムの巻き取り速度の方を速くするとフィルムは延伸される。幅方向の延伸の場合、フィルムの巾をテンターで保持しながら搬送して、テンターの巾を徐々に広げることによってもフィルムを延伸できる。フィルムの乾燥後に、延伸機を用いて延伸すること（好ましくはロング延伸機を用いる一軸延伸）もできる。
【０１６５】
（鹸化処理）
偏光板保護フィルムやその積層体はアルカリ鹸化処理することによりＰＶＡのような偏光子の材料との密着性を付与し、偏光板保護フィルムとして用いることができる。
鹸化の方法については、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２１１および段落番号０２１２に記載されている方法を用いることができる。
【０１６６】
例えば、偏光板保護フィルムやその積層体に対するアルカリ鹸化処理は、フィルム表面をアルカリ溶液に浸漬した後、酸性溶液で中和し、水洗して乾燥するサイクルで行われることが好ましい。アルカリ溶液としては、水酸化カリウム溶液、水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。水酸化イオンの濃度は０．１〜５．０ｍｏｌ／Ｌの範囲が好ましく、０．５〜４．０ｍｏｌ／Ｌの範囲がさらに好ましい。アルカリ溶液温度は、室温〜９０℃の範囲が好ましく、４０〜７０℃の範囲がさらに好ましい。
【０１６７】
アルカリ鹸化処理の代わりに、特開平６−９４９１５号公報、特開平６−１１８２３２号公報に記載されているような易接着加工を施してもよい。
【０１６８】
［偏光板保護フィルムの膜厚］
本発明の偏光板保護フィルムである樹脂フィルムの膜厚は、１μｍ以上４０μｍ以下が好ましく、１μｍ以上３０μｍ以下がより好ましく、３μｍ以上２５μｍ以下がさらに好ましい。
偏光板保護フィルムの膜厚を１μｍ以上４０μｍ以下にすることで、フィルム製造および偏光板作製時における搬送工程で、フィルムや偏光板を安定に搬送させることが可能となる。
しかも、本発明では、上記のように膜厚が薄い場合に、効果的に本願発明の効果を奏することが可能となる。
【０１６９】
＜＜積層体＞＞
本発明の偏光板保護フィルムは、偏光板保護フィルム上に所望により目的に応じた機能性層を設け、偏光板保護フィルムの積層体とすることができる。機能性層としては、活性エネルギー線硬化層、反射防止層、光散乱層、防汚層、帯電防止層等が挙げられ、これらは一層で複数の機能を兼ねていていてもよい。
【０１７０】
本発明では、活性エネルギー線硬化層と偏光板保護フィルムとを組み合わせた積層体とすることで、本発明の効果が、効果的に発現される。
【０１７１】
＜活性エネルギー線硬化層＞
活性エネルギー線硬化層は、ハードコート層とも称される層であり、偏光板保護フィルムである樹脂フィルムに硬度や耐傷性を付与するための層である。例えば、塗布組成物を偏光板保護フィルムである樹脂フィルム上に塗布し、硬化させることによって、偏光板保護フィルムと密着性の高い活性エネルギー線硬化層を形成することができる。
一般式（１）で表される化合物を含有させた偏光板保護フィルムは、偏光板保護フィルム自体の硬度が高まる他、活性エネルギー線硬化層との密着性を高めることができる。このため、偏光板保護フィルムを薄層化した場合であっても、耐擦傷性に優れた偏光板保護フィルムおよび活性エネルギー硬化線層を有する積層体が得られる。
【０１７２】
活性エネルギー線硬化層にフィラーや添加剤を加えることで、機械的、電気的、光学的などの物理的な性能や撥水・撥油性などの化学的な性能を活性エネルギー線硬化層自体に付与することもできる。活性エネルギー線硬化層の厚みは０．１〜６μｍが好ましく、３〜６μｍがさらに好ましい。このような範囲の薄い活性エネルギー線硬化層を有することで、脆性やカール抑制などの物性改善、軽量化および製造コスト低減がなされた活性エネルギー線硬化層を含む偏光板保護フィルムになる。
【０１７３】
＜活性エネルギー線硬化層の種類＞
本発明の光学フィルムにおける活性エネルギー線硬化層は、前方散乱、アンチグレア（防眩）、ガスバリア、滑り、帯電防止、下塗り、ハードコート、反射防止、保護等の機能を提供することができる。すなわち、活性エネルギー線硬化層は、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層、ガスバリア層、滑り層、帯電防止層、下塗り層、ハードコート層、反射防止層または保護層等の機能層として積層される形態をとる。
活性エネルギー線硬化層は、反射防止層またはハードコート層として用いられることが多く、特に機能層がハードコート層の形態が広く用いられている。
なお、１層の活性エネルギー線硬化層で複数の機能層として作用しても構わない。
これらの活性エネルギー線硬化層は、本発明の偏光板保護フィルムにおいて少なくとも一方の表面に設けられていることが好ましい。活性エネルギー線硬化層は、例えば、偏光子側および偏光子と反対面（より空気側の面）のどちらか片面、もしくは両面に設けて使用できる。
【０１７４】
以下、本発明に活性エネルギー線硬化層として用いられる機能層について、説明する。
なお、本発明の偏光板保護フィルムは少なくとも１層の活性エネルギー線硬化層をセルロースアシレートフィルム上に有していることが好ましい。本発明の偏光板保護フィルムは、活性エネルギー線硬化性である後述の各機能層を有し、さらにその他の活性エネルギー線硬化性ではない後述の各機能層を有していてもよい。また、本発明の偏光板保護フィルムにおいて、活性エネルギー線硬化層は１層のみ設けられていても、複数層設けられていてもよい。また、複数の各活性エネルギー線硬化層は同一であっても、異なっていてもよい。
【０１７５】
（１）ハードコート層
本発明の偏光板保護フィルムは耐擦傷性等の力学的強度を付与するため、ハードコート層を活性エネルギー線硬化層としてセルロースアシレートフィルムの表面に設けることが好ましい。特に、一般式（１）で表される化合物を含有するセルロースアシレートフィルム上に上述の好適な硬化性組成物で形成されたハードコート層は、その硬化性組成物が一般式（１）で表される化合物と相俟って、セルロースアシレートフィルムとさらに高い密着性で形成される。
ハードコート層の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験で、Ｈ以上であることが好ましく、２Ｈ以上であることがさらに好ましく、３Ｈ以上であることが最も好ましい。又、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従うテーバー試験で、試験前後の試験片の摩耗量が少ないほど好ましい。
【０１７６】
ハードコート層を形成する材料（バインダー）としては、エチレン性不飽和基を含む化合物、開環重合性基を含む化合物を用いることができ、これらの化合物は単独あるいは組み合わせて用いることができる。
エチレン性不飽和基を含む化合物の好ましい例としては、エチレングリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート等のポリオールのポリアクリレート類；ビスフェノールＡジグリシジルエーテルのジアクリレート、ヘキサンジオールジグリシジルエーテルのジアクリレート等のエポキシアクリレート類；ポリイソシナネートとヒドロキシエチルアクリレート等の水酸基含有アクリレートの反応によって得られるウレタンアクリレート等を好ましい化合物として挙げることができる。
また、エチレン性不飽和基を含む化合物の市販化合物としては、ＰＥＴ−３０（日本化薬（株）製）、ビスコート３６０（大阪有機化学工業（株）社製）、ＥＢ−６００、ＥＢ−４０、ＥＢ−１４０、ＥＢ−１１５０、ＥＢ−１２９０Ｋ、ＩＲＲ２１４、ＥＢ−２２２０、ＴＭＰＴＡ、ＴＭＰＴＭＡ（以上、ダイセル・ユーシービー（株）製）、ＵＶ−６３００、ＵＶ−１７００Ｂ（以上、日本合成化学工業（株）製）等が挙げられる。
【０１７７】
また、開環重合性基を含む化合物の好ましい例としては、グリシジルエーテル類としてエチレングリコールジグリシジルエーテル、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、トリメチロールエタントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、グリセロールトリグリシジルエーテル、トリグリシジルトリスヒドロキシエチルイソシアヌレート、ソルビトールテトラグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシルエーテル、クレゾールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテル、フェノールノボラック樹脂のポリグリシジルエーテルなど、脂環式エポキシ類としてセロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド２０８１、エポリードＧＴ−３０１、エポリードＧＴ−４０１、ＥＨＰＥ３１５０ＣＥ（以上、ダイセル化学工業（株）製）、フェノールノボラック樹脂のポリシクロヘキシルエポキシメチルエーテルなど、オキセタン類としてＯＸＴ−１２１、ＯＸＴ−２２１、ＯＸ−ＳＱ、ＰＮＯＸ−１００９（以上、東亞合成（株）製）などが挙げられる。その他にグリシジル（メタ）アクリレートの重合体、或いはグリシジル（メタ）アクリレートと共重合できるモノマーとの共重合体をハードコート層に使用することもできる。
【０１７８】
ハードコート層には、ハードコート層の硬化収縮の低減、基材との密着性の向上、光拡散性の付与、ハードコート処理物品のカールを低減するため、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム等の酸化物微粒子やポリエチレン、ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸エステル類、ポリジメチルシロキサン等の架橋粒子、ＳＢＲ、ＮＢＲなどの架橋ゴム微粒子等の有機微粒子等の架橋微粒子を添加することも好ましく行われる。これらの架橋微粒子の平均粒径は、１ｎｍないし２００００ｎｍであることが好ましい。また、架橋微粒子の形状は、球状、棒状、針状、板状など特に制限なく使用できる。微粒子の添加量は硬化後のハードコート層の６０体積％以下であることが好ましく、４０体積％以下がより好ましい。
【０１７９】
無機微粒子を添加する場合、一般にバインダーポリマーとの親和性が悪いため、ケイ素、アルミニウム、チタニウム等の金属を含有し、かつアルコキシド基、カルボン酸基、スルホン酸基、ホスホン酸基等の官能基を有する表面処理剤を用いて表面処理を行うことも好ましく行われる。
【０１８０】
ハードコート層は、光および／または熱による硬化性化合物の架橋反応、または、重合反応により形成されることが好ましい。硬化性官能基としては、光重合性官能基が好ましい。
さらに、加水分解性官能基含有の有機金属化合物をさらに用いてもよい。加水分解性官能基含有の有機金属化合物としては有機アルコキシシリル化合物が好ましい。
その他、ハードコート層には、重合開始剤、レベリング剤を添加してもよく、いずれも公知の物を採用することができる。
ハードコート層の具体的な構成組成物としては、例えば、特開２００２−１４４９１３号公報、同２０００−９９０８号公報、国際公開第００／４６６１７号パンフレット等に記載のものを好ましく使用することができる。
【０１８１】
（２）反射防止層
本発明の偏光板保護フィルムは、反射防止層を活性エネルギー線硬化層としてセルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
反射防止層は、フッ素系ポリマー等の低屈折率素材を単層付与しただけの反射率１．５％程度の層、もしくは薄膜の多層干渉を利用した反射率１％以下の層のいずれも使用できる。本発明では、透明支持体上に低屈折率層、および低屈折率層より高い屈折率を有する少なくとも一層の層（即ち、高屈折率層、中屈折率層）を積層した構成が好ましく使用される。また、日東技報，ｖｏｌ．３８，Ｎｏ．１，ｍａｙ，２０００，２６頁〜２８頁や特開２００２−３０１７８３号公報などに記載された反射防止層も好ましく使用できる。
各層の屈折率は以下の関係を満足する。
【０１８２】
高屈折率層の屈折率＞中屈折率層の屈折率＞透明支持体の屈折率＞低屈折率層の屈折率
【０１８３】
反射防止フィルムに用いる透明支持体は、前述の偏光子の保護フィルムに使用する透明ポリマーフィルムを好ましく使用することができる。
【０１８４】
低屈折率層の屈折率は１．２０〜１．５５であり、好ましくは１．３０〜１．５０である。低屈折率層は、耐擦傷性、防汚性を有する最外層として使用することが好ましい。耐擦傷性向上のため、シリコーン基や、フッ素の含有する素材を用い表面への滑り性付与することも好ましく行われる。
【０１８５】
含フッ素化合物としては、例えば、特開平９−２２２５０３号公報の段落番号００１８〜００２６、同１１−３８２０２号公報の段落番号００１９〜００３０、特開２００１−４０２８４号公報の段落番号００２７〜００２８、特開２０００−２８４１０２号公報等に記載の化合物を好ましく使用することができる。
含シリコーン化合物はポリシロキサン構造を有する化合物が好ましいが、反応性シリコーン（例、サイラプレーン（チッソ（株）製）や両末端にシラノール基含有のポリシロキサン（特開平１１−２５８４０３号公報）等を使用することもできる。シランカップリング剤等の有機金属化合物と特定のフッ素含有炭化水素基含有のシランカップリング剤とを触媒共存下に縮合反応で硬化させてもよい（特開昭５８−１４２９５８号公報、同５８−１４７４８３号公報、同５８−１４７４８４号公報、特開平９−１５７５８２号公報、同１１−１０６７０４号公報、特開２０００−１１７９０２号公報、同２００１−４８５９０号公報、同２００２−５３８０４号公報に記載の化合物等）。
【０１８６】
低屈折率層には、上記以外の添加剤として充填剤（例えば、二酸化珪素（シリカ）、含フッ素粒子（フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、フッ化バリウム）等の一次粒子平均径が１〜１５０ｎｍの低屈折率無機化合物、特開平１１−３８２０公報の段落番号００２０〜００３８に記載の有機微粒子等）、シランカップリング剤、滑り剤、界面活性剤等を含有させることも好ましく行うことができる。
【０１８７】
低屈折率層は、気相法（真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法等）により形成されても良いが、安価に製造できる点で、塗布法で形成することが好ましい。塗布法としては、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート、マイクログラビア法を好ましく使用することができる。
低屈折率層の膜厚は、３０〜２００ｎｍであることが好ましく、５０〜１５０ｎｍであることがさらに好ましく、６０〜１２０ｎｍであることが最も好ましい。
【０１８８】
中屈折率層および高屈折率層は、平均粒径１００ｎｍ以下の高屈折率の無機化合物超微粒子をマトリックス用材料に分散した構成とすることが好ましい。高屈折率の無機化合物微粒子としては、屈折率１．６５以上の無機化合物、例えば、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｂ、Ｓｎ、Ｚｒ、Ｃｅ、Ｔａ、Ｌａ、Ｉｎ等の酸化物、これらの金属原子を含む複合酸化物等を好ましく使用できる。
このような超微粒子は、粒子表面を表面処理剤で処理したり（シランカップリング剤等：特開平１１−２９５５０３号公報、同１１−１５３７０３号公報、特開２０００−９９０８、アニオン性化合物或は有機金属カップリング剤：特開２００１−３１０４３２号公報等）、高屈折率粒子をコアとしたコアシェル構造としたり（特開２００１−１６６１０４号公報等）、特定の分散剤併用する（例、特開平１１−１５３７０３号公報、米国特許第６，２１０，８５８号明細書、特開２００２−２７７６０６９号公報等）等の態様で使用することができる。
【０１８９】
マトリックス用材料としては、従来公知の熱可塑性樹脂、硬化性樹脂皮膜等を使用できるが、特開２０００−４７００４号公報、同２００１−３１５２４２号公報、同２００１−３１８７１号公報、同２００１−２９６４０１号公報等に記載の多官能性材料や、特開２００１−２９３８１８号公報等に記載の金属アルコキシド組成物から得られる硬化性膜を使用することもできる。
高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．２０が好ましい。高屈折率層の厚さは、５ｎｍ〜１０μｍが好ましく、１０ｎｍ〜１μｍがさらに好ましい。
中屈折率層の屈折率は、低屈折率層の屈折率と高屈折率層の屈折率との間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５０〜１．７０が好ましい。
【０１９０】
反射防止層のヘイズは、５％以下が好ましく、３％以下がさらに好ましい。また膜の強度は、ＪＩＳ  Ｋ５４００に従う鉛筆硬度試験でＨ以上が好ましく、２Ｈ以上がさらに好ましく、３Ｈ以上が最も好ましい。
【０１９１】
（３）前方散乱層
本発明の偏光板保護フィルムは、前方散乱層を活性エネルギー線硬化層としてセルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
前方散乱層は、本発明の偏光板を液晶表示装置に適用した際の、上下左右方向の視野角特性（色相と輝度分布）改良するために使用される。本発明では、屈折率の異なる微粒子をバインダー分散した構成が好ましく、例えば、前方散乱係数を特定の値とした特開１１−３８２０８号公報、透明樹脂と微粒子の相対屈折率を特定の範囲とした特開２０００−１９９８０９号公報、ヘイズ値を４０％以上と規定した特開２００２−１０７５１２号公報等の構成を使用することができる。また、本発明の偏光板をヘイズの視野角特性を制御するため、住友化学（株）の技術レポート「光機能性フィルム」，３１頁〜３９頁に記載された「ルミスティ」と組み合わせて使用することも好ましい。
【０１９２】
（４）アンチグレア層
本発明の偏光板保護フィルムは、アンチグレア層を活性エネルギー線硬化層としてセルロースアシレートフィルムの表面に設けてもよい。
アンチグレア（防眩）層は、反射光を散乱させ映り込みを防止するために使用される。アンチグレア機能は、液晶表示装置の最表面（表示側）に凹凸を形成することにより得られる。アンチグレア機能を有する偏光板保護フィルムのヘイズは、３〜３０％が好ましく、５〜２０％がさらに好ましく、７〜２０％が最も好ましい。
フィルム表面に凹凸を形成する方法は、例えば、微粒子を添加して膜表面に凹凸を形成する方法（例えば、特開２０００−２７１８７８号公報等）、比較的大きな粒子（粒径０．０５〜２μｍ）を少量（０．１〜５０質量％）添加して表面凹凸膜を形成する方法（例えば、特開２０００−２８１４１０号公報、同２０００−９５８９３号公報、同２００１−１００００４号公報、同２００１−２８１４０７号公報等）、フィルム表面に物理的に凹凸形状を転写する方法（例えば、エンボス加工方法は、特開昭６３−２７８８３９号公報、特開平１１−１８３７１０号公報、特開２０００−２７５４０１号公報等に記載）等を好ましく使用することができる。
【０１９３】
＜活性エネルギー線硬化層の製造方法＞
活性エネルギー線硬化層の形成方法としては特に制限はなく、公知の方法を用いることができる。その中でも、活性エネルギー線硬化層を形成する材料（バインダー）を有機溶媒に溶解させたものを、セルロースアシレートフィルム上に塗設して形成することが好ましい。
有機溶媒としては、公知の有機溶媒を単独または複数を混合して用いることができる。その中でも、本発明では、ケトン系溶媒、酢酸エステル系溶媒、炭化水素系溶媒が好ましい。
有機溶媒としては、例えば、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、酢酸エチル、トルエンなどを挙げることができる。
【０１９４】
活性エネルギー線硬化層を塗工する具体的に方法についても特に制限はないが、マイクログラビア塗工方式を好ましく用いることができる。また、塗布時の搬送速度についても特に制限はなく、搬送速度１〜１００ｍ／分の条件で塗布することが好ましい。塗布後の乾燥についても特に制限はなく、乾燥温度は２５〜１４０℃で３０〜１０００秒乾燥することが好ましい。
活性エネルギー線硬化層は、活性エネルギー線の中でも放射線、ガンマー線、アルファー線、電子線、紫外線等の活性エネルギー線を用いることがより好ましく、安全性、生産性を考えると電子線、紫外線を用いることが特に好ましい。熱で硬化させる場合は、プラスチック自身の耐熱性を考えて、加熱温度は１４０℃以下が好ましく、より好ましくは１００℃以下である。
活性エネルギー線を照射するときは、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら行うことが好ましい。活性エネルギー線の強度等についても特に制限はないが、例えば紫外線を照射する場合は、照度１０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射量５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射することが好ましい。
【０１９５】
［偏光板保護フィルムのヌープ硬度］
本発明の偏光板保護フィルムである樹脂フィルムは、押し込み荷重５０ｍＮでヌープ圧子を用いて測定した表面硬度は、１８５Ｎ／ｍｍ２以上が好ましい。より好ましくは、ＪＩＳ  Ｚ  ２２５１の方法に準じて押し込み荷重５０ｍＮで、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を回転させて測定されるヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ２以上である。表面硬度（ヌープ硬度）は、ナノインデンテーション法により測定される。なお、ＪＩＳ  Ｚ  ２２５１はＩＳＯ４５４５を基に作成した日本工業規格である。例えば、同じ押し込み位置においてヌープ圧子を１０°ずつ回転させて測定される合計１８方位のヌープ硬度の最小値が２１０Ｎ／ｍｍ２以上である。偏光板保護フィルムの表面硬度は２２０Ｎ／ｍｍ２以上が好ましく、２３０Ｎ／ｍｍ２以上がより好ましい。
偏光板保護フィルムの表面硬度は、添加剤の種類および添加量、樹脂の重合度、ドープ溶媒組成、およびフィルムの延伸処理等により調整することができる。
【０１９６】
［偏光板保護フィルムの鉛筆硬度］
本発明の偏光板保護フィルム、活性エネルギー線硬化層付き偏光板保護フィルムの鉛筆硬度も高いことが好ましい。
鉛筆硬度は、ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価に基づいて行われるものである。具体的には、偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重での評価を２０回繰り返して評価する。
実用的には、３H以上の結果が必要となる。
【０１９７】
［偏光板保護フィルムもしくはその積層体の紫外線透過率］
本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体は、紫外線による偏光子や液晶セル内の駆動液晶の劣化を防止するため、紫外線を遮蔽する能力が高いことが好ましい。このため、波長２９０〜３００ｎｍの領域の紫外線透過率は、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。波長２９０〜３００ｎｍの領域の紫外線の透過率を１０％以下にすることで、波長２９０〜３００ｎｍ付近に吸収極大を有する第１のポリヨウ素イオンの光励起を抑制することにより、光による偏光性能の劣化を効率的に抑制できる。
【０１９８】
本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体は、波長３５５〜３６５ｎｍの紫外線の透過率は、１０％以下が好ましく、５％以下がより好ましい。波長３５５〜３６５ｎｍの紫外線の透過率を１０％以下にすることで、波長３６０ｎｍ付近に吸収極大を有する第２のポリヨウ素イオンの光励起を抑制する観点で好ましい。
偏光板保護フィルムもしくはその積層体の紫外線の透過率は、紫外線吸収剤の種類および添加量により調整することができる。本発明の一般式（１）で表される化合物は、紫外線の透過率を上記の範囲に好ましく調整することが可能である。
本発明の透過率は市販の分光光度計を用いて参照試料は空気（フィルムなし）として、測定した値である。
【０１９９】
［偏光板保護フィルムもしくはその積層のヘイズ］
本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体のヘイズは０．０１〜１．００％であることが好ましい。より好ましくは０．０５〜０．８０％である。ヘイズが１．００％以下であると液晶表示装置のコントラストが高くなり好ましい。
ヘイズの測定は、ヘイズメーター、例えば、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を使用し、ＪＩＳ  Ｋ−７１３６に従って測定して求めることができる。
測定する偏光板保護フィルムもしくはその積層体を４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさにして、２５℃、相対湿度６０％の条件で測定する。
【０２００】
［偏光板保護フィルムもしくはその積層体の透湿度］
本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体は、４０℃、相対湿度９０％、２４時間経時における、透湿度が１０５０ｇ／ｍ２以下であることが好ましく、９９０ｇ／ｍ２以下がより好ましい。透湿度を上記範囲にすることにより、本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体を組み込んだ偏光板の高温高湿環境下における偏光性能劣化を小さくすることができる。
本明細書中における透湿度の値は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ２あたりの値に換算した値である。
本明細書中における透湿度の値は、ＪＩＳ  Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、試料を２４時間に通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、試料面積１ｍ２あたりの値に換算した値である。
【０２０１】
＜＜偏光板＞＞
本発明の偏光板は、偏光子、および少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムもしくは上述した積層体を含む。
本発明の偏光板は、偏光子と、偏光子の片側のみに少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムまたは上述した積層体が配置されてなる。一般的には、偏光子の両面に偏光板保護フィルムで挟み両面を保護した偏光板が広く用いられている。なお、偏光子の両側に偏光板保護フィルムを有する場合、本発明の偏光板保護フィルムまたは上述した積層体を有する面とは反対の面には、公知の偏光板保護フィルムを有してもよい。
【０２０２】
＜位相差フィルム＞
本発明の偏光板には、本発明の偏光板保護フィルムもしくは上述した積層体を有する面とは反対の面に、２５℃相対湿度６０％の環境下における波長５９０ｎｍの面内レターデーション（Ｒｅ５９０）が−５〜５ｎｍ、厚み方向のレターデーション（Ｒｔｈ５９０）が−３０〜３０ｎｍである位相差フィルムを有することが好ましい。このような構成とすることで、ＩＰＳ（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ−Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ）モード用液晶表示装置に組み込んだ時に、より効果的に本発明の効果が発揮される。Ｒｅ５９０は０〜３ｎｍの範囲が好ましく、０〜２ｎｍの範囲であることがさらに好ましい。また、Ｒｔｈ５９０は−２０〜２０ｎｍの範囲が好ましく、−１０〜１０ｎｍの範囲がさらに好ましい。
このような位相差フィルムとしては、特開２０１４−４１３７１号公報の段落番号００６６〜００６８に記載のフィルム等が挙げられる。
また、他の駆動モードについても液晶セルの駆動モードやレターデーションが考慮された光学補償能を有する位相差フィルムを有してもよい。
【０２０３】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレターデーション、および厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
【０２０４】
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定する。このようにして測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、および式（ＩＩＩ）よりＲｅおよびＲｔｈを算出することもできる。
【０２０５】
【数１】
2016027397.tif 000032
【０２０６】
なお、上記のＲｅ（θ）は、法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。
【０２０７】
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（ＩＩＩ）
【０２０８】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定する。このようにして測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。
なお、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な位相差フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚにより、Ｎｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）がさらに算出される。
【０２０９】
Ｒｅ、Ｒｔｈの測定波長は特別な記述がない限り、可視光域のλ＝５９０ｎｍでの値である。
【０２１０】
＜偏光板の性能＞
（偏光度）
本発明の偏光板は、偏光度９９．９５０以上が好ましく、９９．９７０以上がより好ましく、最も好ましくは９９．９９０以上である。
【０２１１】
ここで、偏光度の変化量とは下記式で算出されるものである。
【０２１２】
偏光度の変化量＝偏光板耐久性試験後の偏光度−偏光板耐久性試験前の偏光度
【０２１３】
上記偏光度の変化量の範囲を満たせば、偏光板の長時間使用中の安定性が確保でき、好ましい。
【０２１４】
本発明において、偏光板の偏光度は、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて波長７００ｎｍで測定した直交透過率および平行透過率から以下の式により算出する。
【０２１５】
（偏光度）＝｛（平行透過率）−（直交透過率）｝／｛（平行透過率）＋（直交透過率）｝
【０２１６】
（偏光度変化）
本発明の偏光板は、湿熱経時条件下における耐久性に優れる。このため、後述する偏光板耐久性試験前後での偏光度の変化量は小さい。
本発明の偏光板は、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下において４００時間照射した後の偏光度の変化量が、１．０％以下が好ましく、０．３０％以下がより好ましい。
本発明では、特に、本発明の一般式（１）で表される化合物を使用することで、波長７００ｎｍで測定した直交透過率の変化量（変化率）を少なくすることができる。波長７００ｎｍでの直交透過率は、偏光板が湿熱経時条件において劣化したときの影響を受けやすい波長である。
【０２１７】
本発明の偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成する。この際、本発明の偏光板保護フィルムが、ガラスと反対側(空気界面)側になるように貼り付ける。直交透過率測定は、このサンプルのガラス側を光源に向けてセットして測定する。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率、および平行透過率とする。
【０２１８】
（その他の特性）
本発明の偏光板のその他の好ましい光学特性等については特開２００７−０８６７４８号公報の段落番号０２３８〜０２５５に記載されており、これらの特性を満たすことが好ましい。
【０２１９】
＜形状・構成＞
本発明の偏光板の形状は、液晶表示装置にそのまま組み込むことが可能な大きさに切断されたフィルム片の態様の偏光板のみならず、連続生産により、長尺状に作製され、ロール状に巻き上げられた態様（例えば、ロール長２５００ｍ以上や３９００ｍ以上の態様）の偏光板も含まれる。大画面液晶表示装置用とするためには、偏光板の幅は１４７０ｍｍ以上とすることが好ましい。
【０２２０】
本発明の偏光板は、偏光子および少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体で構成されているが、さらに偏光板の一方の面にプロテクトフィルム（本発明の偏光板保護フィルムではない）を、反対面にセパレートフィルムを貼合して構成されることも好ましい。
プロテクトフィルムおよびセパレートフィルムは偏光板出荷時、製品検査時等において偏光板を保護する目的で用いられる。この場合、プロテクトフィルムは、偏光板の表面を保護する目的で貼合され、偏光板を液晶板へ貼合する面の反対面側に用いられる。また、セパレートフィルムは液晶板へ貼合する接着層をカバーする目的で用いられ、偏光板を液晶板へ貼合する面側に用いられる。
以下、本発明の偏光板に用いることができる偏光子と２枚の偏光板保護フィルムの詳細について説明する。
【０２２１】
＜偏光子＞
本発明の偏光板に用いられる偏光子について説明する。
本発明の偏光板に用いることができる偏光子としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）と二色性分子から構成することが好ましい。これ以外に、特開平１１−２４８９３７号公報に記載されているようにＰＶＡやポリ塩化ビニルを脱水、脱塩素することによりポリエン構造を生成し、これを配向させたポリビニレン系偏光子も使用することができる。
【０２２２】
（偏光子の膜厚）
偏光子は延伸または塗布いずれの方法で製造してもよい。膜厚は特に限定されないが、０．１μｍ〜１ｍｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、５〜５０μｍが特に好ましい。
延伸によって製造する場合、偏光子の延伸前のフィルム膜厚は特に限定されないが、フィルム保持の安定性、延伸の均質性の観点から、作製された偏光子の膜厚は１μｍ〜１ｍｍが好ましく、５〜２００μｍがより好ましく、５〜５０μｍが特に好ましい。
また、特開２００２−２３６２１２号公報に記載されているように水中において４倍〜６倍の延伸を行った時に発生する応力が１０Ｎ以下となるような薄いＰＶＡフィルムを使用してもよい。
本発明では、本発明の一般式（１）で表される化合物を使用することで、１〜２０μｍのような薄い厚みの偏光子に効果的に、耐久性向上とヘイズ抑制を解決できる。
【０２２３】
＜偏光子の製造方法＞
本発明の偏光板の製造方法において、偏光子を製造する方法は、特に制限はないが、例えば、ＰＶＡをフィルム化した後、二色性分子を導入して偏光子を構成することが好ましい。ＰＶＡフィルムの製造は、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２１３〜０２３７に記載の方法、特許第３３４２５１６号公報、特開平０９−３２８５９３号公報、特開２００１−３０２８１７号公報、特開２００２−１４４４０１号公報等を参考にして行うことができる。
【０２２４】
＜偏光子と偏光板保護フィルムもしくはその積層体の積層方法＞
本発明の偏光板の製造方法は、上記にて得られた偏光子の少なくとも一方の面に、少なくとも１枚の本発明の偏光板保護フィルムまたは積層体を積層する。
本発明の偏光板の製造方法では、偏光板保護フィルム面をアルカリ処理し、ＰＶＡフィルムをヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光子の少なくとも一方の面、好ましくは両面に、完全ケン化ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法により作製することが好ましい。
偏光板保護フィルムもしくはその積層体の処理面と偏光子を貼り合わせるのに使用される接着剤としては、例えば、ＰＶＡ、ポリビニルブチラール等のポリビニルアルコール系接着剤や、ブチルアクリレート等のビニル系ラテックス等が挙げられる。
なお、上述の積層方法以外の積層方法も用いることができる。例えば、本発明の紫外線吸収剤の能力が保たれる範囲において紫外線硬化型の接着剤などを用いることができる。
【０２２５】
本発明の偏光板保護フィルムもしくはその積層体を偏光子に貼り合せる際、偏光子の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸が直交、平行または４５°となるように貼り合せることが好ましい。
ここで、平行および直交については、本発明が属する技術分野において許容される誤差の範囲を含む。例えば、平行、直交に関する厳密な角度から±１０°未満の範囲内であることを意味し、厳密な角度との誤差は、５°以下であることが好ましく、３°以下であることがより好ましい。
偏光子層の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての平行とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、５°以内が好ましく、より好ましくは３°以内、さらに好ましくは１°以内、最も好ましくは０．５°以内である。
また、偏光子層の透過軸と偏光板保護フィルムの遅相軸についての直交とは、偏光板保護フィルムの主屈折率ｎｘの方向と偏光板の透過軸の方向とが９０°±１０°の角度で交わっていることを意味する。この角度は、好ましくは９０°±５°、より好ましくは９０°±３°、更に好ましくは９０°±１°、最も好ましくは９０°±０．１°である。上述のような範囲であれば、偏光板クロスニコル下における偏光度性能の低下が抑制され、光抜けが低減され好ましい。
【０２２６】
＜偏光板の機能化＞
本発明の偏光板は、ディスプレイの視認性向上のための反射防止フィルム、輝度向上フィルムや、前方散乱層、アンチグレア（防眩）層等の機能層を有する光学フィルムと複合した機能化偏光板としても好ましく使用される。機能化のための反射防止フィルム、輝度向上フィルム、他の機能性光学フィルム、前方散乱層、アンチグレア層については、特開２００７−８６７４８号公報の段落番号０２５７〜０２７６に記載され、これらの記載を基に機能化した偏光板を作製することができる。
【０２２７】
＜＜表示装置＞＞
本発明は偏光子を利用する表示装置用途として好ましく用いられる。
このような表示装置として液晶表示装置や有機エレクトロルミネッセンス表示装置の反射防止用途等が挙げられる。
液晶表示装置を例として説明すると、本発明の液晶表示装置は、液晶セルと本発明の偏光板とを少なくとも有する。液晶表示装置では、第一偏光板および第二偏光板の様に２枚の偏光板の間に液晶セルを配置した構成を取る。液晶セルの駆動モードは特に限定されないが、ＴＮ、ＯＣＢ、ＶＡ、ＩＰＳ等の各駆動モードが一般的に用いられている。さらに、液晶セルの駆動モードに応じて光学補償を行う光学異方性層を用いることが好ましく、液晶セルと偏光板の間に配置される。なお、光学異方性層の機能を偏光板保護フィルムが有していてもよい。
【０２２８】
図１は、本発明の表示装置の例を、液晶表示装置として示す概略図の一例である。図１において、液晶表示装置１０は、液晶層５とこの上下に配置された液晶セル上電極基板３および液晶セル下電極基板６とを有する液晶セル、液晶セルの両側に配置された上側偏光板１および下側偏光板８からなる。液晶セルと各偏光板との間にカラーフィルターを配置してもよい。液晶表示装置１０を透過型として使用する場合は、冷陰極あるいは熱陰極蛍光管、あるいは発光ダイオード、フィールドエミッション素子、エレクトロルミネッセント素子を光源とするバックライトを背面に配置する。
【０２２９】
上側偏光板１および下側偏光板８は、それぞれ２枚の偏光板保護フィルムで偏光子を挟むように積層した構成を有しており、本発明の液晶表示装置１０は、少なくとも一方の偏光板が本発明の偏光板であることが好ましい。本発明の液晶表示装置１０は、装置の外側（液晶セルから遠い側）から、本発明の偏光板保護フィルム、偏光子、一般の透明保護フィルムの順序で積層することが好ましい。
【０２３０】
特開２０１０−１０２２９６号公報の段落番号０１２８〜０１３６に記載のＩＰＳモードの液晶表示装置は本発明の表示装置として好ましい。
【実施例】
【０２３１】
以下に実施例に基づいて本発明をさらに詳細に説明する。
以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。従って、本発明の範囲は以下に示す実施例によって、限定的に解釈されるべきものではない。
【０２３２】
実施例１
以下のようにして、偏光板保護フィルムを作製し、得られた偏光板保護フィルムのヘイズと鉛筆硬度を測定した。
【０２３３】
［セルロースアシレートフィルム１０１の作製］
（セルロースアシレート溶液１０１の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、攪拌して各成分を溶解し、セルロースアシレート溶液１０１を調製した。
【０２３４】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
セルロースアシレート溶液１０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８７のセルロースアセテート
１００．０質量部
・添加剤（Ｂ−２０）                                    ８．０質量部
・添加剤（Ａ−４）                                      ４．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                    ３８９．８質量部
・メタノール（第２溶媒）                              ５８．２質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３５】
【化２９】
2016027397.tif 000033
【０２３６】
（マット剤溶液１０２の調製）
下記の組成物を分散機に投入し、攪拌して各成分を溶解し、マット剤溶液１０２を調製した。
【０２３７】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液１０２の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、
日本アエロジル（株）製）                              ２．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ７５．５質量部
・メタノール（第２溶媒）                              １１．３質量部
・セルロースアシレート溶液１０１                        ０．９質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２３８】
（紫外線吸収剤溶液１０３の調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し、加熱しながら攪拌して、各成分を溶解し、紫外線吸収剤溶液１０３を調製した。
【０２３９】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
紫外線吸収剤溶液１０３の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・紫外線吸収剤〔例示化合物（１−１６）〕              ２０．０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ６９．６質量部
・メタノール（第２溶媒）                              １０．４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２４０】
＜流延＞
マット剤溶液１０２の１．３質量部と、紫外線吸収剤溶液１０３の１．２質量部をそれぞれ濾過した後に、インラインミキサーを用いて混合し、更にセルロースアシレート溶液１０１を９７．５質量部加えて、インラインミキサーを用いて混合し、樹脂溶液（ドープ）を調整した。バンド流延装置を用い、調製したドープをステンレス製の流延支持体（支持体温度２２℃）に流延した。ドープ中の残留溶媒量が略２０質量％になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取った。剥ぎ取ったフィルムの幅方向の両端をテンターで把持し、残留溶媒量が５〜１０質量％の状態のフィルムを、１２０℃の温度下で幅方向に１．１７倍（１７％）延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、更に乾燥し、本発明で用いるセルロースアシレートフィルム１０１を得た。得られたセルロースアシレートフィルム１０１の厚みは２５μｍ、幅は１４８０ｍｍであった。
【０２４１】
［セルロースアシレートフィルム１０２〜１１０およびｃ０１〜ｃ０３の作製］
セルロースアシレートフィルム１０１の作製において、紫外線吸収剤の種類および添加量を、下記表２に記載のように変更した以外はセルロースアシレートフィルム１０１と同様にして、本発明で用いるセルロースアシレート１０２〜１１０、および比較で用いるセルロースアシレートフィルムｃ０１〜ｃ０３を作製した。
【０２４２】
こ得られた各セルロースアシレートフィルムの透湿度と平均弾性率を測定した。
【０２４３】
＜透湿度の測定＞
各セルロースアシレートフィルムを面積１ｍ２の大きさに裁断し、測定用試料とした。
ＪＩＳ  Ｚ０２０８の透湿度試験（カップ法）に準じて、温度４０℃、相対湿度９０％の雰囲気中、２４時間で、試料を通過する水蒸気の質量（ｇ）を測定し、透湿度（ｇ／ｍ２）を求めた。
【０２４４】
＜セルロースアシレートフィルムの表面硬度の測定＞
フィッシャーインスツルメンツ（株）社製“フッシャースコープＨ１００Ｖｐ型硬度計”を用いた。圧子の短軸の向きを、セルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向（長手方向；鉛筆硬度試験での試験方向）に対して平行に配置したヌープ圧子により、ガラス基板に固定したサンプル表面を、負荷時間１０秒間、クリープ時間５秒間、除荷時間１０秒間、最大荷重５０ｍＮの条件で測定した。押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係により、硬度を算出した。同一試料で、５点測定し、この５点の平均値を表面硬度とした。
得られた結果を、ヌープ硬度として、下記表２にまとめた。
【０２４５】
上記で得られた値の妥当性は、以下の測定で確認した。
フィッシャーインスツルメンツ（株）社製“フッシャースコープＨ１００Ｖｐ型硬度計”を用い、ＪＩＳ  Ｚ  ２２５１の方法に準じて、ガラス基板に固定したサンプル表面を負荷時間１０秒間、クリープ時間５秒間、除荷時間１０秒間、押し込み荷重５０ｍＮの条件で測定した。押し込み深さから求められる圧子とサンプルとの接触面積と最大荷重の関係により、硬度を算出した。なお、ＪＩＳ  Ｚ  ２２５１はＩＳＯ４５４５を基に作成された日本工業規格である。
【０２４６】
さらに、同じ押し込み位置において、ヌープ圧子を１０°ずつ回転させて測定される合計１８方位のヌープ硬度の測定を行ない、最小値を求めた。この結果、上記のヌープ圧子の短軸の向きをセルロースアシレートフィルム製膜時の搬送方向（長手方向；鉛筆硬度試験での試験方向）に対して平行に配置して測定した表面硬度と一致した。
【０２４７】
得られた結果を、下記表２にまとめて示す。
なお、使用した比較の紫外線吸収剤は、以下の比較化合物Ａ、Ｂである。
【０２４８】
【化３０】
2016027397.tif 000034
【０２４９】
【表２】
2016027397.tif 000035
【０２５０】
上記表２より、本発明で使用するセルロースアシレートフィルムは、いずれもヌープ硬度が１８５Ｎ／ｍｍ２以上であり、１０５０ｇ／ｍ２・２４ｈｒ以下であり、紫外線吸収剤を含有しないセルロースアシレートフィルムｃ０１と比較して、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有することで、ヌープ硬度が高まり、しかも透湿度が低下することがわかる。
これに対して、比較化合物Ｂは、ドープに不溶で、フィルムを作製できなかった。また、比較化合物Ａを使用したセルロースアシレートフィルムｃ０２では、本発明で使用するセルロースアシレートフィルムより、ヌープ硬度が低く、透湿度は高いことがわかる。なお、と紫外線吸収剤を含有しないセルロースアシレートフィルムｃ０１と比較して、ヌープ硬度は、セルロースアシレートフィルムｃ０１と同じ１８３Ｎ／ｍｍ２であり、本発明の一般式（１）で表される化合物のように、ヌープ硬度を高める効果は認められなかった。
【０２５１】
［［偏光板保護フィルムの作製］］
以下のようにして、偏光板保護フィルムを作製し、ヘイズと鉛筆硬度を評価した。
【０２５２】
［偏光板保護フィルムＡ０２の作製］
（活性エネルギー線硬化層の製膜）
（活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１の調製）
下記組成物を、孔径３０μｍのポリプロピレン製フィルターでろ過して活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１を調製した。
【０２５３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・ＰＥＴ−３０（バインダー）                  ２２．９質量部
・ビスコート３６０（バインダー）              ２２．９質量部
・重合開始剤（Ｔ）                              １．５質量部
・架橋アクリル・スチレン微粒子の３０質量％ＭＩＢＫ分散液
（粒径８μｍの光拡散性粒子）
１質量部
・ＭＩＢＫ（溶媒）                            １９．２質量部
・ＭＥＫ（溶媒）                                  ２５質量部
・ＦＰ−１３（レベリング剤）                    ０．１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２５４】
ここで、溶媒のＭＩＢＫは、メチルイソブチルケトンであり、ＭＥＫはメチルエチルケトンである。
バインダー、レベリング剤、重合開始剤（Ｔ）は以下のものである。
・ＰＥＴ−３０：ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレートの混合物［日本化薬（株）製］
・ビスコート３６０：エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート［大阪有機化学社製］
・ＦＰ−１３：下記のフッ素系の界面活性剤の固形分濃度４０質量％ＭＥＫ溶液
【０２５５】
【化３１】
2016027397.tif 000036
【０２５６】
＜活性エネルギー線硬化層の形成＞
セルロースアシレートフィルム１０２上に、以下のようにして活性エネルギー線硬化層を形成し、偏光板保護フィルムＡ０２を作製した。なお、作製した偏光板保護フィルムは、通常、活性エネルギー線硬化層付き偏光板保護フィルムもしくは、ハードコート層付き偏光板保護フィルムとも称される。
セルロースアシレートフィルムの、製膜時に支持体に接していた面（以下支持体面と称す）上に、活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１を、マイクログラビア塗工方式で、搬送速度３０ｍ／分の条件で塗布した。８０℃で１２０秒乾燥の後、窒素パージ（酸素濃度０．５％以下）しながら、１６０Ｗ／ｃｍの空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて、照度４００ｍＷ／ｃｍ２、照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２の紫外線を照射して塗布層を硬化させ、活性エネルギー線硬化層を形成した。活性エネルギー線硬化層の厚みは４μｍであった。
【０２５７】
［偏光板保護フィルムＡ０３〜Ａ１０、Ａｃ１、Ａｃ２の作製］
下記表３に示すセルロースアシレートフィルム上に、偏光板保護フィルムＡ０２と同様にして活性エネルギー線硬化層を形成し、偏光板保護フィルムＡ０３〜Ａ１０、Ａｃ１、Ａｃ２を作製した。
【０２５８】
［偏光板保護フィルムＢ０１〜Ｂ１０、Ｂｃ１、Ｂｃ２の作製］
活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１の組成中に紫外線吸収剤ａを３．４質量部添加したことのみ異なる活性エネルギー線硬化層用塗布液を使用し、下記表３に示すセルロースアシレートフィルム上に、偏光板保護フィルムＡ０２と同様にして活性エネルギー線硬化層を形成し、偏光板保護フィルムＢ０１〜Ｂ１０、Ｂｃ１、Ｂｃ２を作製した。
【０２５９】
［偏光板保護フィルムＣ０１〜Ｃ１０、Ｃｃ１、Ｃｃ２の作製］
活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１の組成中に紫外線吸収剤ｂを３．４質量部添加したことのみ異なる活性エネルギー線硬化層用塗布液を使用し、下記表３に示すセルロースアシレートフィルム上に、偏光板保護フィルムＡ０２と同様にして活性エネルギー線硬化層を形成し、偏光板保護フィルムＣ０１〜Ｃ１０、Ｃｃ１、Ｃｃ２を作製した。
【０２６０】
［偏光板保護フィルムＤ０１〜Ｄ０５の作製］
活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１の組成中に紫外線吸収剤ｃを３．４質量部添加したことのみ異なる活性エネルギー線硬化層用塗布液を使用し、下記表３に示すセルロースアシレートフィルム上に、偏光板保護フィルムＡ０２と同様にして活性エネルギー線硬化層を形成し、偏光板保護フィルムＤ０１〜Ｄ０５を作製した。
【０２６１】
［偏光板保護フィルムＥ０１〜Ｅ０５の作製］
活性エネルギー線硬化層用塗布液ＨＣ−１の組成中に紫外線吸収剤ｄを３．４質量部添加したことのみ異なる活性エネルギー線硬化層用塗布液を使用し、下記表３に示すセルロースアシレートフィルム上に、偏光板保護フィルムＡ０２と同様にして活性エネルギー線硬化層を形成し、偏光板保護フィルムＥ０１〜Ｅ０５を作製した。
【０２６２】
以下に、活性エネルギー線硬化層に使用した紫外線吸収剤とその吸収極大波長を示す。
ここで、紫外線吸収剤ａは一般式（１）で表される化合物であり、例示化合物（１−１７）である。また、紫外線吸収剤ｂは例示化合物（２−１）、紫外線吸収剤ｃは例示化合物（５−１）、紫外線吸収剤ｄは例示化合物（３−１）である。
【０２６３】
吸収極大波長は、活性エネルギー線硬化層での吸収極大波長である。別途、紫外線吸収剤を含有しないセルロースアシレートフィルムｃ０１上に、紫外線吸収剤ａ〜ｄをそれぞれ含有する活性エネルギー線硬化層を上記と同様にして設けた測定用試料を作製した。これらの各試料を、（株）島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１５０を用い、空気を参照試料（リファレンス）として測定した値である。
一方、一般式（１）で表される化合物の吸収最大波長は、セルロースアシレートフィルム１０１〜１１０を、（株）島津製作所製分光光度計ＵＶ−３１５０を用い、空気を参照試料（リファレンス）として測定した。この結果、例示化合物（１−３）、（１−４）、（１−１３）、（１−１５）〜（１−１８）、（１−２４）はいずれも３３５〜３６０ｎｍの範囲であり、紫外線吸収剤ｂ〜ｄとは異なった範囲に吸収最大波長を有していた。
【０２６４】
【化３２】
2016027397.tif 000037
【０２６５】
＜偏光板保護フィルムのヘイズの測定＞
上記のようにして作製した各偏光板保護フィルムを、それぞれ４０ｍｍ×８０ｍｍの大きさに裁断して、試験試料を作製した。これらの試料を、ヘイズメーター（ＨＧＭ−２ＤＰ、スガ試験機）を用いて、ＪＩＳ  Ｋ−６７１４に従って、ヘイズを測定した。なお、測定は、２５℃、相対湿度６０％の条件で行った。
ヘイズは低いほど好ましく、１．００％以下が実用レベルである。
【０２６６】
＜鉛筆硬度の評価＞
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００に記載の鉛筆硬度評価を行った。偏光板保護フィルムを温度２５℃、相対湿度６０％で２時間調湿した後、ＪＩＳ  Ｓ  ６００６に規定する３Ｈの試験用鉛筆を用いて、５００ｇの荷重で、以下の判定で評価した。
鉛筆硬度は、Ｂ以上が実用レベルである。
【０２６７】
Ａ：ｎ＝２０の評価において、傷なし〜傷５つ
Ｂ：ｎ＝２０の評価において、傷が６つ以上１０以下
Ｃ：ｎ＝２０の評価において、傷が１１以上１５以下
Ｄ：ｎ＝２０の評価において、傷が１６以上
【０２６８】
得られた結果をまとめて下記表３に示す。
【０２６９】
【表３】
2016027397.tif 000038
【０２７０】
上記表３の結果、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有するセルロースアシレーフィルムを使用した活性エネルギー線硬化層付き偏光板保護フィルムは、いずれもヘイズが１．００％以下と低く、鉛筆硬度も、活性エネルギー線硬化層に紫外線吸収剤の有無、紫外線吸収剤の種類にかかわらず、いずれもＢタンク以上であった。
ここで、鉛筆硬度は、偏光板保護フィルムＡｃ１、Ｂｃ１、Ｃｃ１の比較から、活性エネルギー線硬化層に紫外線吸収剤を加えると、鉛筆硬度が低下するが、セルロースアシレートフィルムに本発明の一般式（１）で表される化合物を含有させると、鉛筆硬度の低下が抑えられ、活性エネルギー線硬化層に紫外線吸収剤ｂを含有すると、逆に鉛筆硬度が高まることがわかる。
【０２７１】
実施例２
以下のようにして、偏光板および液晶表示装置を作製し、偏光板耐久性および液晶表示装置の耐光性を評価した。
【０２７２】
［［偏光板の作製］］
［セルロースアシレートフィルムＦ０１の作製］
（コア層セルロースアシレート溶液Ａの調製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、コア層セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
【０２７３】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
コア層セルロースアシレート溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート      １００質量部
・エステルオリゴマー２                                １３質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                    ４３０質量部
・メタノール（第２溶媒）                              ６４質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２７４】
【化３３】
2016027397.tif 000039
【０２７５】
（外層セルロースアシレート溶液Ａの調製）
上記のコア層セルロースアシレート溶液Ａ９０質量部に、下記のマット剤溶液Ａを１０質量部加え、外層セルロースアシレート溶液Ａを調製した。
【０２７６】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
マット剤溶液Ａの組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・平均粒子サイズ１６ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）    ２質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ７６質量部
・メタノール（第２溶媒）                              １１質量部
・コア層セルロースアシレート溶液Ａ                      １質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２７７】
＜セルロースアシレートフィルムＦ０１の作製＞
コア層セルロースアシレート溶液Ａおよび外層セルロースアシレート溶液Ａを、それぞれ平均孔径３４μｍのろ紙および平均孔径１０μｍの焼結金属フィルターでろ過した後、コア層セルロースアシレート溶液Ａと、その両側に外層セルロースアシレート溶液Ａとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶媒含有率が略２０質量％になった時点で、形成されたフィルムを剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、横方向に１．１倍に延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間に延伸したフィルムを搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ２５μｍのセルロースアシレートフィルムＦ０１を作製した。
【０２７８】
＜セルロースアシレートフィルムＦ０２、Ｆ０３の作製＞
セルロースアシレートフィルムＦ０１の作製において、下記表４に示す添加量の紫外線吸収剤を添加した以外はセルロースアシレートフィルムＦ０１と同様にして、セルロースアシレートフィルムＦ０２およびＦ０３を作製した。
ここで、紫外線吸収剤ｅは例示化合物（３−１３）である。
【０２７９】
（厚さ方向のレターデーションＲｔｈ５９０の測定）
セルロースアシレートフィルムＦ０１〜Ｆ０３のＲｔｈ５９０を以下のようにして求めた。
作製したセルロースアシレートフィルムを、２５℃、相対湿度６０％で２時間以上調湿し、複屈折測定装置（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、王子計測器（株）製）を用いて、２５℃、相対湿度６０％での波長５９０ｎｍにおけるＲｅ値およびＲｔｈ値を測定した。
このうち、得られたＲｔｈ値を、下記表４で、Ｒｔｈ５９０として示した。
【０２８０】
【化３４】
2016027397.tif 000040
【０２８１】
【表４】
2016027397.tif 000041
【０２８２】
＜偏光子の作製＞
平均重合度２４００、けん化度９９．９％以上のＰＶＡの粉体を純水に溶解し、ＰＶＡが１０質量％になるように調整した。得られたＰＶＡ水溶液を、ポリエステルフィルム上に塗布して４０℃、３時間乾燥した後、さらに１１０℃、６０分乾燥を行ない、厚さ４４μｍのＰＶＡフィルムを得た。得られたＰＶＡフィルムを３０℃の温水で１分間膨潤させ、３０℃のヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液に浸漬して１．５倍に縦一軸延伸した。なお、使用したヨウ化カリウム／ヨウ素（質量比１０：１）の水溶液の濃度は、ヨウ素の濃度が、０．３８質量％である。次いで、縦一軸延伸したＰＶＡフィルムを５０℃の４．２５％のホウ酸水溶液に浸漬して、このホウ酸水溶液中で、さらにＰＶＡフィルムの総延伸倍率が７倍になるように縦一軸延伸した。延伸されたＰＶＡフィルムを取り出し、３０℃の水浴に浸漬することで、ＰＶＡフィルムを水洗し、５０℃、４分間乾燥して、厚さ１１μｍの偏光子Ａを得た。
【０２８３】
［偏光板Ａ１０２の作製］
（偏光板保護フィルム、セルロースアシレートフィルムの鹸化処理）
実施例１で作製した偏光板保護フィルムＡ０２および上記で作製したセルロースアシレートフィルムＦ０１を、以下のようにして表面の鹸化処理を行った。
これらの各フィルムを２．３ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液に、５５℃で３分間浸漬した。浸漬したフィルムを取り出し、室温の水洗浴槽中で洗浄した後、３０℃で０．０５ｍｏｌ／Ｌの硫酸を用いて中和した。再度、中和したフィルムを室温の水洗浴槽中で洗浄し、さらに１００℃の温風で乾燥した。
【０２８４】
（偏光板の作製）
鹸化処理した偏光板保護フィルムムＡ０２の、活性エネルギー線硬化層と反対の側の表面を、ポリビニルアルコール系接着剤を用いて、上記で作製した偏光子の一方の面に貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と、偏光板保護フィルムムＡ０２の幅方向とが平行になるように配置した。さらに、偏光子の反対側の面に、鹸化処理したセルロースアシレートフィルムＦ０１を、セルロースアシレートフィルムＦ０１が製膜時に支持体に接していた面と反対側の面が偏光子側になるように偏光子に貼り付けた。この際、偏光子の透過軸と、セルロースアシレートフィルムＦ０１の幅方向とが平行になるように配置した。
【０２８５】
［偏光板Ａ１０２以外の偏光板の作製］
偏光板Ａ１０２の作製と同様にして、下記表５に記載の偏光板保護フィルムおよびセルロースアシレートフィルムの組み合わせで、下記表５に記載の偏光板を作製した。
【０２８６】
ただし、偏光板Ｆ２０ａ、Ｆ２０ｂ、Ｆｃ２ａ、Ｆｃ２ｂは、活性エネルギー線硬化層を設けないセルロースアシレートフィルム１０２、１０８、ｃ０１、ｃ０２をそれぞれ偏光板保護フィルムとして使用した以外は偏光板Ａ１０２と同様にして作製した。
【０２８７】
（偏光板耐久性の評価）
上記で作製した各偏光板に対して、波長４１０ｎｍにおける偏光子の直交透過率を下記の方法で測定した。
偏光板の直交透過率ＣＴは、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定装置ＶＡＰ−７０７０を用いて、以下の方法により波長４１０ｎｍで測定した。
偏光板を、粘着剤を介してガラスの上に貼り付けたサンプル（５ｃｍ×５ｃｍ）を２つ作成した。この際、上記で作製した偏光板保護フィルムが、ガラスと反対側（空気界面側）になるように貼り付けた。直交透過率の測定は、このサンプルのガラス側を光源に向けてセットして測定した。２つのサンプルをそれぞれ測定し、その平均値を直交透過率とした。
【０２８８】
その後、６０℃、相対湿度９５％の環境下で１０００時間保存した。経時後の偏光板も上記と同様にして、直交透過率を測定した。経時前後の直交透過率の変化量を求めた。（変化量／経時前の直交透過率）×１００の式から、直交透過率の変化率を算出し、以下の基準により評価した。表５には、偏光子耐久性として示した。
偏光子耐久性は、Ｂ以上が実用レベルである。
【０２８９】
Ａ：波長４１０ｎｍの直交透過率の変化率が１％未満
Ｂ：波長４１０ｎｍの直交透過率の変化率が１％以上５％未満
Ｃ：波長４１０ｎｍの直交透過率の変化率が５％以上
【０２９０】
〔液晶表示装置の作製〕
市販のＩＰＳモード液晶テレビの２枚の偏光板をはがし、視認者側およびバックライト側に本発明の偏光板Ａ０２を、粘着剤を介して、観察者側およびバックライト側に一枚ずつ貼り付け、液晶表示装置を作製した。観察者側の偏光板の透過軸が上下方向に、そして、バックライト側の偏光板の透過軸が左右方向になるように、クロスニコル配置とした。下記表５に記載の残りの偏光板も同様にして偏光板Ａ０２と同様に貼り合わせ、液晶表示装置を作製した。
ここで、２枚の偏光板は、いずれもセルロースアシレートフィルムＦ０１〜Ｆ０３側を液晶面上に向けて設置されるため、下記表５では、液晶側フィルムとして記載した。
【０２９１】
（耐光性の評価）
このようにして作製した液晶表示装置について、（株）スガ試験機社製スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ７５で、６０℃、相対湿度５０％の環境下において４００時間光を照射した。照射後の液晶装置の画質の劣化の程度を、目視により、以下の４段階で評価した。表５には、光照射後の画像劣化として示した。
耐光性は、Ｃ以上が実用レベルである。
【０２９２】
Ａ：劣化が視認されない
Ｂ：やや劣化しているが目立たない
Ｃ：色味が変化
Ｄ：顕著に色抜け
【０２９３】
【表５】
2016027397.tif 000042
【０２９４】
上記表５から、以下の点が明らかである。
表５の結果から、本発明の一般式（１）で表される化合物を含有する偏光板保護フィルムをアウター保護フィルム（偏光子の両面に設けられた偏光板保護フィルムのうち、液晶とは反対側の偏光板保護フィルム）として含む偏光板は高温高湿環境下に保存しても偏光性能の劣化が少なく好ましいことがわかる。
さらに、インナー保護フィルム（液晶側フィルム）にも紫外線吸収剤を含有すると、液晶表示装置の耐光性がさらに改良され、光照射後の画質劣化が起こりにくく、特に好ましいことがわかる。
【０２９５】
実施例３
樹脂フィルムの樹脂がアクリル樹脂を含む偏光板保護フィルムを使用した偏光板と液晶表示装置を作製し、液晶表示装置の耐光性を評価した。
【０２９６】
［偏光板保護フィルムＡＡ０１の作製］
（アクリル樹脂溶液ＡＡ０１の調製）
以下の組成物を攪拌および加熱しながら十分に溶解し、アクリル樹脂溶液ＡＡ０１を調製した。
【０２９７】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
アクリル樹脂溶液ＡＡ０１の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
・アクリル樹脂：ダイヤナールＢＲ８８（三菱レイヨン（株）製）
（Ｔｇ＝１０５℃、Ｍｗ＝４８万）                        ７０質量部
・セルロースアセテートプロピオネート（アセチル置換度：０．１９、
プロピオニル置換度：２．５６、Ｍｗ＝２２万）            ３０質量部
・紫外線吸収剤〔例示化合物（１−１０）〕               ２．０質量部
・マット剤：Ｒ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製）
（シリカ粒子、平均粒径＝１６ｎｍ）                ０．３０質量部
・剥離助剤：エレカットＳ４１２（竹本油脂（株）製）  ０．５０質量部
・メチレンクロライド（第１溶媒）                      ３００質量部
・エタノール（第２溶媒）                                ４０質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０２９８】
（アクリル樹脂フィルムＡＡ０１の作製）
アクリル樹脂溶液ＡＡ０１を、ベルト流延装置を用い、温度２２℃、２ｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が１００％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１６２Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から、形成されたフィルムを剥離した。
【０２９９】
次いで、剥離したフィルム（ウェブ）を３５℃で溶媒を蒸発させ、１ｍ幅にスリットし、その後、ゾーン延伸で搬送方向（ＭＤ方向）に２．０倍、テンター延伸で幅手方向（ＴＤ方向）に２．０倍延伸しながら、１３５℃の乾燥温度で乾燥させた。この時、テンターによる延伸を開始したときの残留溶媒量は、８％であった。
【０３００】
テンターで延伸した後、１３０℃で５分間の緩和処理を施した後、１２０℃、１４０℃の乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させた。乾燥後のフィルムを１．５ｍ幅にスリットし、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工を施した後、コアに巻き取り、本発明で使用するアクリル樹脂フィルムＡＡ０１を作製した。作製したアクリル樹脂フィルムの膜厚は４０μｍ、巻長は４０００ｍであった。
【０３０１】
〔偏光板ＡＡ０１の作製〕
（偏光子の調製）
厚さ７０μｍのＰＶＡフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇおよび水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらにヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇおよび水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥させて、厚さ２５μｍの偏光子を得た。
【０３０２】
（活性エネルギー線硬化性接着剤液Ｒの調製：ラジカル重合型）
Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド１００質量部に、光重合開始剤（ＢＡＳＦジャパン（株）製；商品名、イルガキュア１２７）３質量部を配合したものを活性エネルギー線硬化性接着剤液Ｒとして用いた。
【０３０３】
（偏光板ＡＡ０１の作製）
まず、実施例２で作製したセルロースアシレートフィルムＦ０２上に、上記で調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液Ｒを、マイクログラビアコーター（グラビアロール：＃３００、回転速度１４０％／ライン速度）を用いて、厚さ５μｍになるように塗工して活性エネルギー線硬化型樹脂層（Ｆ０２Ｂ）を形成した。
【０３０４】
次いで、アクリル樹脂フィルムＡＡ０１に、上記で調製した活性エネルギー線硬化性接着剤液Ｒを、上記と同様に、厚さ５μｍとなるように塗工して活性エネルギー線硬化型樹脂層（ＡＡ０１Ａ）を形成した。
【０３０５】
この活性エネルギー線硬化型樹脂層（ＡＡ０１Ａ）と（Ｆ０２Ｂ）の間に、上記で作製したＰＶＡ−ヨウ素系の偏光子を配置し、ロール機で貼合し、アクリル樹脂フィルムＡＡ０１／活性エネルギー線硬化型樹脂層（ＡＡ０１Ａ）／偏光子／活性エネルギー線硬化型樹脂層（Ｆ０２Ｂ）／セルロースアシレートフィルム（Ｆ０２）が積層された積層物を得た。その際に、セルロースアシレートフィルム（Ｆ０２）の遅相軸と偏光子の吸収軸が互いに平行になるようにロール機で貼合した。
【０３０６】
この積層物の両面側から、電子線を照射して、偏光板ＡＡ０１を作製した。
ライン速度は２０ｍ／ｍｉｎ、加速電圧は２５０ｋＶ、照射線量は２０ｋＧｙとした。
【０３０７】
このようにして作製した偏光板ＡＡ０１を、実施例２で作製した偏光板Ａ１０１の評価と同様にして、市販のＩＰＳモード液晶テレビに組み込んで評価したところ、本発明の偏光板ＡＡ０１は光照射後の画質劣化が起こりにくく、好ましいことがわかった。
【符号の説明】
【０３０８】
１  上側偏光板
２  上側偏光板吸収軸の方向
３  液晶セル上電極基板
４  上基板の配向制御方向
５  液晶層
６  液晶セル下電極基板
７  下基板の配向制御方向
８  下側偏光板
９  下側偏光板吸収軸の方向
１０  液晶表示装置
【図１】
2016027397.tif 000046