(57)【要約】      （修正有）【課題】光路変換ミラーの形成位置の判別が容易であるミラー付き光導波路及びその製造方法を提供する。【解決手段】下部クラッド層と、その上に、コアパターン１及びダミーコアパターン２とを少なくとも有する光導波路であって、コアパターン１は、その光軸上に、コアパターン１の底面から上面までの高さを少なくとも有する傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを有し、ダミーコアパターン２は、コアパターン１の延在方向と略平行に延在し、ダミーコアパターン２は、その延在方向において端部を有すると共に、その端部においてコアパターン１の傾斜面１０１と略同一平面上にある傾斜面２０１を有し、傾斜面２０１は、光導波路をその面方向から視認したとき、傾斜面２０１のダミーコアパターン２の延在方向の幅が、傾斜面１０１のコアパターン１の延在方向の幅よりも小さい。【選択図】図１
2016170375.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部クラッド層と、その上に、コアパターンＸ及びダミーコアパターンＤとを少なくとも有する光導波路であって、前記コアパターンＸは、その光軸上に、前記コアパターンＸの底面から上面までの高さを少なくとも有する傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを有し、前記ダミーコアパターンＤは、前記コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し、前記ダミーコアパターンＤは、その延在方向において端部を有すると共に、その端部において前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄを有し、その傾斜面Ｄは、前記光導波路をその面方向から視認したとき、前記傾斜面Ｄの前記ダミーコアパターンＤの延在方向の幅が、前記傾斜面Ｘの前記コアパターンＸの延在方向の幅よりも小さいことを特徴とするミラー付き光導波路。
【請求項２】
前記ダミーコアパターンＤが、前記コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、光路となるコア側に主に延在する、ダミーコアパターンαであり、前記ダミーコアパターンαは、その端部が、前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にあり、かつ前記下部クラッド層とは接しない傾斜面α１と、前記傾斜面α１と一辺で接し、かつ
反対側の辺で前記下部クラッド層と接する端面α２とを有する請求項１に記載のミラー付き光導波路。
【請求項３】
前記ダミーコアパターンＤが、前記コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、光路となるコアとは反対側に主に延在する、ダミーコアパターンβであり、前記ダミーコアパターンβは、その端部が、前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にあり、かつ前記下部クラッド層と一辺で接する傾斜面β１と、前記傾斜面β１と一辺で接し、かつ反対側の辺で前記下部クラッド層と接する端端面β２とを有する請求項１に記載のミラー付き光導波路。
【請求項４】
下部クラッド層と、その上に、コアパターンＸ及びダミーコアパターンＤとを少なくとも有し、前記コアパターンＸの光軸上に、前記コアパターンＸの底面から上面までの高さを少なくとも有する傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを有する、ミラー付き光導波路の製造方法であって、
下部クラッド層上に、コアパターンＸと、前記コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し端部を有するダミーコアパターンＤを形成する工程Ａと、
加工によって前記傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを形成する工程Ｂと、
前記工程Ｂの後、前記ダミーコアパターンＤの前記端部において前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄの有無、及び／又は、前記傾斜面Ｄの前記コアパターンＤの延在方向の幅によって、傾斜面Ｘの形成位置を認識する工程Ｃと、
を有するミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項５】
前記工程Ａにおいて、ダミーコアパターンＤとは別に、前記コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し端面を有するダミーコアパターンγをさらに形成し、前記ダミーコアパターンγは、前記切削加工される範囲の近傍に端面γを有しており、
前記工程Ｂにおいて、前記端面γは、全て除去されるか又は全て残存され、
前記工程Ｃにおいて、さらに、前記傾斜面Ｘと略同一平面の傾斜面が、前記ダミーコアパターンγに形成されているか、いないことを確認することによって、傾斜面Ｘの形成位置を認識する請求項４に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項６】
前記工程Ｂが、ダイシングブレードによる切削加工によって形成される請求項４又は５に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【請求項７】
さらに上部クラッド層を形成する工程Ｄを有する請求項４〜６のいずれかに記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ミラー付き光導波路及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
情報容量の増大に伴い、幹線及びアクセス系といった通信分野のみならず、ルータ及びサーバ内の情報処理にも光信号を用いる光インターコネクション技術の開発が進められている。特に、ルータ及びサーバ装置内のボード間、又はボード内の短距離信号伝送に光を用いるための光伝送路としては、光ファイバに比べて配線の自由度が高く、かつ高密度化が可能な光導波路を用いることが望ましく、中でも、加工性及び経済性に優れたポリマー材料を用いた光導波路が有望である。
【０００３】
光導波路としては、まず、基板上に下部クラッド層を硬化形成した後に、下部クラッド層上にコアパターンを形成し、下部クラッド層及びコアパターン上に上部クラッド層を積層した光導波路が提案されている（例えば、特許文献１参照）。
このような光導波路に、コアパターンを通過する光信号の光路変換を行う光路変換ミラーを設ける場合は、上部クラッド層側からダイシングブレード等を用いて形成する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−０１１２１０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、従来のミラー付き光導波路では、ダイシングブレード等を用いて光路変換ミラーを形成する工程において、その切削形状等から所定の位置に光路変換ミラーが形成されているかの判別は困難で有り、得られたミラー付き光導波路においても所定の位置に光路変換ミラーが設けられているミラー付き光導波路かどうかが判別しにくい問題があった。
【０００６】
本発明は、上記の課題を解決するためになされたもので、光路変換ミラーの形成位置の判別が容易であるミラー付き光導波路及びその製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、鋭意検討を重ねた結果、コアパターンＸの光軸上に少なくとも前記コアパターンＸの底面から上面までの高さの傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを有する光導波路において、特定のダミーコアパターンを併せて形成し、ミラー形成後のミラー付き光導波路における前記ダミーコアパターンの状況を観察することにより、上記課題を解決し得ることを見出した。本発明は、かかる知見にもとづいて完成したものである。
【０００８】
すなわち、本発明は、次の各項に関するものである。
（１）下部クラッド層と、その上に、コアパターンＸ及びダミーコアパターンＤとを少なくとも有する光導波路であって、前記コアパターンＸは、その光軸上に、前記コアパターンＸの底面から上面までの高さを少なくとも有する傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを有し、前記ダミーコアパターンＤは、前記コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し、前記ダミーコアパターンＤは、その延在方向において端部を有すると共に、その端部において前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄを有し、その傾斜面Ｄは、前記光導波路をその面方向から視認したとき、前記傾斜面Ｄの前記ダミーコアパターンＤの延在方向の幅が、前記傾斜面Ｘの前記コアパターンＸの延在方向の幅よりも小さいことを特徴とするミラー付き光導波路。
【０００９】
（２）前記ダミーコアパターンＤが、前記コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、光路となるコア側に主に延在する、ダミーコアパターンαであり、前記ダミーコアパターンαは、その端部が、前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にあり、かつ前記下部クラッド層とは接しない傾斜面α１と、前記傾斜面α１と一辺で接し、かつ
反対側の辺で前記下部クラッド層と接する端面α２とを有する（１）に記載のミラー付き光導波路。
【００１０】
前記ダミーコアパターンＤが、前記コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、光路となるコアとは反対側に主に延在する、ダミーコアパターンβであり、前記ダミーコアパターンβは、その端部が、前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にあり、かつ前記下部クラッド層と一辺で接する傾斜面β１と、前記傾斜面β１と一辺で接し、かつ反対側の辺で前記下部クラッド層と接する端面β２とを有する（１）に記載のミラー付き光導波路。
【００１１】
下部クラッド層と、その上に、コアパターンＸ及びダミーコアパターンＤとを少なくとも有し、前記コアパターンＸの光軸上に、前記コアパターンＸの底面から上面までの高さを少なくとも有する傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを有する、ミラー付き光導波路の製造方法であって、
下部クラッド層上に、コアパターンＸと、前記コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し端部を有するダミーコアパターンＤを形成する工程Ａと、
加工によって前記傾斜面Ｘからなる光路変換ミラーを形成する工程Ｂと、
前記工程Ｂの後、前記ダミーコアパターンＤの前記端部において前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄの有無、及び／又は、前記傾斜面Ｄの前記コアパターンＤの延在方向の幅によって、傾斜面Ｘの形成位置を認識する工程Ｃと、
を有するミラー付き光導波路の製造方法。
【００１２】
前記工程Ａにおいて、ダミーコアパターンＤとは別に、前記コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し端面を有するダミーコアパターンγをさらに形成し、前記ダミーコアパターンγは、前記切削加工される範囲の近傍に端面γを有しており、
前記工程Ｂにおいて、前記端面γは、全て除去されるか又は全て残存され、
前記工程Ｃにおいて、さらに、前記傾斜面Ｘと略同一平面の傾斜面が、前記ダミーコアパターンγに形成されているか、いないことを確認することによって、傾斜面Ｘの形成位置を認識する（４）に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
【００１３】
前記工程Ｂが、ダイシングブレードによる切削加工によって形成される（４）又は（５）に記載のミラー付き光導波路の製造方法。
さらに上部クラッド層を形成する工程Ｄを有する（４）〜（６）のいずれかに記載のミラー付き光導波路の製造方法。
端面端面
【発明の効果】
【００１４】
本発明によれば、光路変換ミラーの形成位置の判別が容易であるミラー付き光導波路及びその容易な製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本発明のミラー付き光導波路の一例を示す平面模式図である（上部クラッド層は図示しない）。
【図２】図１のＸ−Ｘ´断面模式図である（上部クラッド層は図示しない）。
【図３】図１のα−α´断面模式図である（上部クラッド層は図示しない）。
【図４】図１のβ−β´断面模式図である（上部クラッド層は図示しない）。
【図５】図１のγ−γ´断面模式図である（上部クラッド層は図示しない）。
【図６】本発明のミラー付き光導波路の傾斜面Ｘを形成する前の平面模式図である。
【図７】本発明のミラー付き光導波路の傾斜面Ｘを形成する前の断面模式図である。
【図８】本発明のミラー付き光導波路の一例を示す断面模式図である。
【図９】本発明のミラー付き光導波路の別の一例を示す断面模式図である。
【図１０】本発明のミラー付き光導波路の別の一例を示す断面模式図である。
【図１１】本発明のミラー付き光導波路の傾斜面Ｘを形成する前の別の一例を示す断面模式図である。
【図１２】本発明のミラー付き光導波路の一例を示す断面模式図である。
【図１３】本発明のミラー付き光導波路の別の一例を示す断面模式図である。
【図１４】本発明のミラー付き光導波路の別の一例を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
図１において、コアパターンＸ（１）には、その光軸上に前記コアパターンＸ（１）の底面から上面までの高さの傾斜面Ｘ（１０１）からなる光路変換ミラー（１０１）を有するが、傾斜面Ｘ（１０１）は、コアパターンＸ（１）の光軸方向（図１中のＸ方向）にずれた位置で加工されたり、所定の深さ（図２中のＺ方向）からずれた深さ位置で加工されたりすると、光路変換ミラー（１０１）が、所定の位置からずれて形成されることがある。しかし、上記のように所定の位置からずれていても、ミラー付き光導波路の面方向（即ち、面に対して法線方向）から見たときの形状（加工形状）は、ほぼ同一形状となる。このため、所定の位置に光路変換ミラー（１０１）が形成されているのか、又は所定の位置に光路変換ミラー（１０１）が形成されたミラー付き光導波路かどうかの判別が困難である。
【００１７】
しかし、図１及び図３に示す本発明の第１の実施の態様のようにコアパターンＸ（１）と垂直方向（図１中のＹ方向）に、コアパターンＸの延在方向と略平行に、ダミーコアパターンＤ、図１中ではα―α´間に存在するダミーコアパターンα（２）を延在、具備させ、該ダミーコアパターンα（２）に傾斜面Ｘ（１０１）と略同一平面上にあるとともに下部クラッド層とは接しない面である傾斜面α１（２０１）と、前記傾斜面α１（２０１）と接続し傾斜面α１（２０１）と一辺で接し、かつ反対側の辺で下部クラッド層と接する端面α２（２０２）を有する形状とすることによって、所定の位置に光路変換ミラー（１０１）が形成されているかの判別が容易となる。前記端面α２（２０２）は、傾斜面α１（２０１）とは非垂直な面であることが好ましく、下部クラッド層に対しては略垂直な面であることが好ましい。
【００１８】
なお、本発明において使用する「略」の意味（例えば、略同一平面、略平行、略垂直、略法線等）は、その付される用語の意味が厳密なその意味に限るのではなく、本発明の技術的目的に照らして、ある程度の範囲を含むという意味であって、明瞭であり、その用語の意味を曖昧又は不明瞭にするものではない。いずれの用語においても、好ましい１つの態様は、略を抜いた用語の意味であるが、略を抜いた用語であっても、本発明の目的に照らして、その用語の解釈が厳密な意味に必ずしも限定されるものではないことは明らかであろう。
【００１９】
具体的には、ミラー付き光導波路の面に対して略法線方向（図２中のＺ方向）から見ると、傾斜面Ｘ（１０１）の位置が、所定の場所からずれて形成される場合、傾斜面α１（２０１）のコアパターンＸ（１）の光軸方向（図１中のＸ方向）の幅が、そのずれ量に伴って変化する。ずれ量がより大きくなると傾斜面α１が形成されない場合（図１０参照）や、傾斜面Ｘの幅と同じ幅（図９参照）になる。つまり、傾斜面α１（２０１）の幅の有無又はその幅を測定することによってコアパターンＸ（１）と光路変換ミラー（１０１）との相対的なずれ量を容易に把握することができ、所定の位置（所定の範囲）に、光路変換ミラー（１０１）が設けられているかを確認できる。よって、幅の計測を行わない場合には、図９や図１０となった場合を不良とすれば、その判定を行うことが可能となる。
ダミーコアパターンαは、一般に、図１に示されるように、コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、コアパターンＸの光路となるコア側（図１においては左側）に主に延在する。
【００２０】
特に後述する工程Ｃの前に、工程Ｂを行うようなミラー付き光導波路の場合、ミラー付き光導波路の面に対して略法線方向（図１中のＺ方向）からの透過光や反射光によって視認すると、傾斜面α１（２０１）は、傾斜しているため、透過光や反射光を屈折や反射させる。このため傾斜面α１とその周囲（傾斜面α１（２０１）の形成されていないダミーコアパターンα（２）や切削されていない下部クラッド層（７）表面）とのコントラストが明瞭となり、傾斜面α１（２０１）の幅の測定も容易かつ精度良く可能である利点もある。
図１に示す傾斜面Ｘは、下部クラッド層（７）に設けられる傾斜面（６）との連続面で有り、傾斜面Ｘ（１０１）の４辺の輪郭を視認することが困難であるのに対し、傾斜面α１（２０１）は、下部クラッド層に設けられる傾斜面（６）とは非連続であり、その４辺が明確に視認でき、傾斜面α１（２０１）の幅の測定が容易かつ精度良く可能である利点もある。
【００２１】
傾斜面α１（２０１）の視認方法は、上述したようにミラー付き光導波路の面に対して略法線方向（図２中のＺ方向）から透過光や反射光を用いて視認しても良いが、ダミーコアパターンα（２）に検出光を入射し、傾斜面α１（２０１）によって光路変換された光を受光することによってもできる。もちろんそれらを組み合わせて用いても良い。
【００２２】
なお、図１には、コアパターンＸ（１）は３本図示しているが、１本以上あれば良い。  また、ダミーコアパターンα（２）は、１つ以上設けられていれば良いが、図１に示すように、２つ以上設けられていると、光路変換ミラーを加工する際の角度ずれや、光導波路の基板のたわみやゆがみも測定できるためより好ましい。より好適には、図１のように、コアパターンＸ（１）の両脇にそれぞれ１つ以上配置されているとよい。
【００２３】
本発明の第２の実施態様として、ダミーコアパターンＤとして図１及び図４に示す（図１中ではβ―β´間に存在する）ダミーコアパターンβ（３）を用いる構造が挙げられる。本構造はコアパターンＸ（１）と垂直方向（図１中のＹ方向）にダミーコアパターンβ（３）を具備させ、該ダミーコアパターンβ（３）に傾斜面Ｘ（１０１）と略同一平面上にあるとともに、下部クラッド層と一辺で接する傾斜面β１（３０１）と、該傾斜面β１（３０１）と一辺で接し、かつ反対側の辺で下部クラッド層と接する端面β２（３０２）とを有する構造である。
【００２４】
本構造をミラー付き光導波路の面方向（面に対して法線方向）から見ると、傾斜面Ｘ（１０１）の位置が、所定の場所からずれて形成される場合、傾斜面β１（３０１）のコアパターンＸ（１）の光軸方向（図１中のＸ方向）の幅が、そのずれ量に伴って変化する。  ずれ量がより大きくなると傾斜面β１（３０１）が形成されない場合（図１４参照）や、傾斜面Ｘの幅と同じ幅になる（図１３参照）。つまり、傾斜面β１（３０１）の幅の有無又はその幅を測定することによってコアパターンＸ（１）と光路変換ミラーとの相対的なずれ量を容易に把握することができ、所定の位置（所定の範囲）に、光路変換ミラー（１０１）が設けられているかを確認することができる。よって、幅の計測を行わない場合には、図１３や図１４となった場合を不良とすれば、その判定を行うことが可能となる。  また、ミラー付き光導波路の面に対して略法線方向（図１中のＺ方向）からの透過光や反射光によって視認すると、傾斜面β１（３０１）は、傾斜しているため、透過光や反射光を屈折や反射させる。このため傾斜面β１（３０１）とその周囲とのコントラストが明瞭となり、傾斜面β１（３０１）の幅の測定も容易かつ精度良く可能である利点もある。
ダミーコアパターンβは、一般に、図１に示されるように、コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、コアパターンＸの光路となるコアとは反対側（図１においては右側）に主に延在する。
【００２５】
なお、図１に示すようにダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンβ（３）とを組み合わせて使用してもよい。組み合わせることによって、例えば所定の位置で傾斜面Ｘ（１０１）が形成された時に、傾斜面α１（２０１）と傾斜面β１（３０１）とが両方形成される位置関係にダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンβ（３）を配置することによって、傾斜面Ｘ（１０１）形成後の傾斜面α（２０１）と傾斜面β（３０１）の有無で、位置ずれ量を把握することが可能となる。
【００２６】
具体的には、傾斜面Ｘの加工精度（許容される位置ずれ範囲）が、コアパターンＸに対して±２０μｍとした場合、所定の位置（ずれ量が０μｍ）に傾斜面Ｘ（１０１）が形成されるときに、傾斜面α１（２０１）及び傾斜面β１（３０１）の幅（傾斜面α１（２０１）、傾斜面β１（３０１）をコアパターンＸ（１）の光軸に対して垂直方向から見たときの幅）が共に２０μｍに形成されるようにダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンβ（３）を配置する。上記の位置ずれ範囲内で傾斜面Ｘ（１０１）が形成できると、傾斜面α１（２０１）と傾斜面β１（３０１）が共に確認でき、上記の位置ずれ範囲より外れた位置で加工されると、傾斜面α１（２０１）と傾斜面β１（３０１）の少なくともいずれかが確認できなくなる。つまり、ダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンβ（３）を組み合わせることによって、傾斜面α１（２０１）や傾斜面β１（３０１）の幅（Ｘ方向）を測定しなくても、許容される位置ずれ範囲内で傾斜面Ｘ（１０１）が形成できていることを確認できる。
【００２７】
上述したダミーコアパターンα（２）及び／又はダミーコアパターンβ（３）には、さらにダミーコアパターンγを設けるとよりよい。
図１に示すようなダミーコアパターンγ（図１ではγ―γ´間に存在する）は、所定の位置（所定の範囲）で傾斜面Ｘを形成された際に、傾斜面Ｘと略同一平面上にかからないように設けられたダミーコアパターンである。例えば、ダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンγ（４）を組み合わせた場合について図７〜図１０を用いて説明する。まず図７に示すようにダミーコアパターンα（２）の端面α２（２０２）と、ダミーコアパターンγ（４）の端面γ（４０２）とをコアパターンＸの光軸方向（図７中のＸ方向）に任意の距離を離して形成する。このとき、形成予定である傾斜面Ｘの略同一平面と、ダミーコアパターンα（２）の上面との交点を上記任意の距離内にする。好ましくは、上記の任意の距離の１／２の値である。その後、ダイシングソー等を用いて傾斜面Ｘ（１０１）と略同一平面上の傾斜面α１（２０１）を形成する。このとき所定の位置（所定の範囲）で光路変換ミラーが形成されている場合、ダミーコアパターンα（２）には、傾斜面α１（２０１）が形成され、かつダミーコアパターンγ（４）には傾斜面が形成されない。さらに上記の任意の距離内のずれ量に収まっていることが確認できる。つまり、傾斜面α１（２０１）の幅の測定を行わず、ダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンγ（４）の傾斜面の有無によって所定の位置（所定の範囲）に光路変換ミラーが設けられているかどうかを判断でき、より容易に光路変換ミラー位置の確認が行える。なお、上述した任意の距離は、コアパターンＸ（１）に対して許容される傾斜面Ｘ（１０１）の位置ずれ量から算出されているとよく、コアパターンＸ（１）の厚み未満であるとより良い。また、端面α２（２０２）と端面γの位置は、傾斜面Ｘ（１）の位置及びコアパターンの厚み、必要とする位置精度等によって適宜選択される。
【００２８】
上記のダミーコアパターンγ（４）と、ダミーコアパターンα（２）とを組み合わせると、形成されるコアパターンが所定の大きさよりも大きく形成される場合や、小さく形成される場合、具体的には、コアパターンをフォトリソグラフィー加工によって形成する際の露光過剰起因や露光不足等によるコアパターンの太りや細り、及びコアパターンをエッチングによって形成する際の現像不足や過剰現像によるコアパターンの太りや細りがあった場合でも、実際に形成されたコアパターンを基準に形成及び良否の判定ができる。
【００２９】
具体例として、傾斜面Ｘの加工精度（許容される位置ずれ範囲）が、コアパターンＸに対して±２０μｍとした場合、所定の位置（ずれ量が０μｍ）に傾斜面Ｘ（１０１）が形成されるときに、傾斜面α１（２０１）の幅（傾斜面αをコアパターンＸ（１）に対して垂直方向から見たときの幅）が２０μｍに形成されるようにダミーコアパターンα（２）を配置する。このとき、端面γ（４０２）は、端面α２と４０μｍコアパターンＸ（１）の光軸方向（図中のＸ軸負方向）に離れた位置になるようにダミーコアパターンγ（４）を配置する。傾斜面Ｘ（１０１）を形成したあとに、傾斜面α１（２０１）が存在し、傾斜面γ（４０１）が存在しなければ、形成された傾斜面Ｘ（１０１）は、所定の範囲（±２０μｍ）以内であることが確認できる。ダミーコアパターンγ（４）を設けることによって、傾斜面α１（２０１）の幅の測定では無く、傾斜面α１（２０１）及びダミーコアパターンγ（４）の傾斜面γ（４０１）の有無によって加工精度を確認できるため、作業効率がよい。さらに後の工程における傾斜面Ｘ（１０１）の位置精度の検査も容易となる。尚、加工精度は上記の値に限らず適宜選択でき、それに伴った端面α２（２０２）と端面γ（４０２）を有するダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンγ（４）を設ければ良い。
なお、上記の所定の範囲外に加工されたときには、傾斜面α１（２０１）、及びダミーコアパターンγ上に傾斜面（４０１）が共に観測される。又は共に観測されなくなる。このとき、不良と判定することができる。
以上の具体例のダミーコアパターンγ（４）は、一般に、図１に示されるように、コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、コアパターンＸの光路となるコア側（図１においては左側）に主に延在する。
【００３０】
ダミーコアパターンγの別の一例として図１、図１１〜図１４に示す構造が挙げられる。この場合のダミーコアパターンγ（５）は、ダミーコアパターンβ（３）と類似した形状であるが、傾斜面Ｘ（１０１）と位置の相関がある切削加工等によって、ダミーコアパターンγ（５）を切削した際に、ダミーコアパターンβ（３）の傾斜面β１（３０１）と端面β２（３０２）に相当する部分が除去されるパターンである。この場合、傾斜面形成前のダミーコアパターンβ（３）の端面β２（３０２）に相当するダミーコアパターンγ（５）の端面γ（５０２）と、端面β１（３０２）とをコアパターンＸ光軸方向に任意の距離を離して形成し、その後、ダイシングソー等を用いて傾斜面Ｘと同一平面の傾斜面β１（３０１）を形成する。このとき所定の位置（所定の範囲）で光路変換ミラーが形成されている場合、ダミーコアパターンβ（３）には、傾斜面β１（３０１）が形成され、かつダミーコアパターンγ（５）には傾斜面β１（３０１）と同一平面の傾斜面が形成されない。さらに上記の任意の距離未満のずれ量に収まっていることが確認できる。つまり、傾斜面β１（３０１）の幅の測定を行わず、傾斜面の有無によって所定の位置（所定の範囲）に光路変換ミラーが設けられているかどうかを判断でき、より容易に光路変換ミラー位置の確認が行える。なお、上述した任意の距離は、許容される傾斜面Ｘの位置ずれ量から算出されているとよく、コアパターンの厚み未満であるとより良い。また、端面β２（３０２）と端面γ（５０２）の位置は、傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置及びコアパターンの厚み、必要とする位置精度等によって適宜選択される。
【００３１】
上記のダミーコアパターンγ（５）と、ダミーコアパターンβ（３）とを組み合わせると、形成されるコアパターンが所定の大きさよりも大きく形成される場合や、小さく形成される場合、具体的には、コアパターンをフォトリソグラフィー加工によって形成する際の露光過剰起因や露光不足等によるコアパターンの太りや細り、及びコアパターンをエッチングによって形成する際の現像不足や過剰現像によるコアパターンの太りや細りがあった場合でも、実際に形成されたコアパターンを基準に形成及び良否の判定ができる。
【００３２】
具体的に、ダミーコアパターンβ（３）と、ダミーコアパターンγ（５）を用いたときについて説明する。傾斜面Ｘ（１０１）の加工精度（許容される位置ずれ範囲）が、コアパターンＸ（１）に対して±２０μｍとした場合、所定の位置（ずれ量が０μｍ）に傾斜面Ｘ（１０１）が形成されるときに、傾斜面β１（３０１）の幅（傾斜面β１（３０１）をコアパターンＸ（１）に対して垂直方向から見たときの幅）が２０μｍに形成されるようにダミーコアパターンβ（３）を配置する。このとき、端面γ（５０２）は、端面β２（３０２）と４０μｍコアパターンＸの光軸方向（図中のＸ軸正方向）に離れた位置になるようにダミーコアパターンγ（５）を配置する。傾斜面Ｘ（１０１）を形成したあとに、傾斜面β１（３０１）が存在し、コアパターンγ上に傾斜面（５０１）が存在しなければ、形成された傾斜面Ｘ（１０１）は、所定の範囲（±２０μｍ）以内であることが確認できる。ダミーコアパターンγ（５）を設けることによって、傾斜面β１（３０１）の幅の測定では無く、傾斜面β１（３０１）及びダミーコアパターンγ（５）の傾斜面（５０１）の有無によって加工精度を確認できるため、作業効率がよい。さらに後の工程における傾斜面Ｘ（１０１）の位置精度の検査も容易となる。尚、加工精度は上記の値に限らず適宜選択でき、それに伴った端面β（３０２）と端面γ（５０２）を有するダミーコアパターンβ（３）とダミーコアパターンγ（５）を設ければ良い。
【００３３】
なお、上記の所定の範囲外に加工されたときには、傾斜面β１（３０１）、及び傾斜面γ（５０１）が共に観測される。又は共に観測されなくなる。このとき、不良と判定することができる。
以上のダミーコアパターンβ（５）は、一般に、図１に示されるように、コアパターンＸの光路変換ミラーの位置よりも、コアパターンＸの光路となるコアとは反対側（図１においては右側）に主に延在する。
なお、例示した２つのダミーコアパターンγ（４）は、ダミーコアパターンα（２）と、ダミーコアパターンγ（５）は、ダミーコアパターンβ（３）と組み合わされるとよい。
【００３４】
上記のダミーコアパターンα（２）とダミーコアパターンβ（３）とを組み合わせると、形成されるコアパターンが所定の大きさよりも大きく形成される場合や、小さく形成される場合、具体的には、コアパターンをフォトリソグラフィー加工によって形成する際の露光過剰起因や露光不足等によるコアパターンの太りや細り、及びコアパターンをエッチングによって形成する際の現像不足や過剰現像によるコアパターンの太りや細りがあった場合でも、設計値を基準に形成及び良否の判定ができる。
【００３５】
本発明のミラー付き光導波路は、上述したように、コアパターンＸ（１）の他に、ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）の少なくともいずれかを有する構造であって、ダミーコアパターンγ（４及び／又は５）をさらに有していても良い。ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）、ダミーコアパターンγ（４，５）は、光路変換ミラー（１０１）の位置を把握及び認識するためのマーカとして機能する。
なお、傾斜面Ｘ（１０１）は、光路変換ミラー（１０１）として機能させる観点から、空気反射ミラー又は金属反射ミラーとすることが好ましく、空気反射ミラーの場合、傾斜面Ｘ上の上部クラッド層は除去されているとよい。金属反射ミラーの場合には、傾斜面Ｘ上に、Ａｇ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ等、又はそれの積層体や合金等の反射金属層を具備していると良い。
【００３６】
傾斜面α１（２０１）や傾斜面β１（３０１）を後の工程（例えばミラー位置の良／不良の判別作業や、受光や発光素子の実装、外部の筐体との位置合わせ等）に使用する場合には、傾斜面Ｘ（１０１）と同様に傾斜面α１（２０１）や傾斜面β１（３０１）上の上部クラッド層を除去したり、金属層等を設けたりすることによって視認性を向上させるとよい。
本発明のミラー付き光導波路は、上述した構造を有していればその製造方法は特に限定がないが、以下詳細に示す工程Ａ〜Ｃを経ることによって容易に形成できる。
【００３７】
（工程Ａ）
まず工程Ａとして、下部クラッド層上にコアパターンＸと、ダミーコアパターンＤ（具体例としてはダミーコアパターンα及び／又はダミーコアパターンβ）を、下部クラッド層上に形成する。ダミーコアパターンＤは、コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し端部を有するように形成する。コアパターンＸとダミーコアパターンＤはほぼ同時（より好ましくは同時）に形成することが好ましい。ほぼ同時に形成する方法としては、特に限定はなく、凹版によってそれぞれのコアパターンを形成しても、フォトリソグラフィー加工を用いて形成してもよい。フォトリソグラフィー加工を用いてコアパターンを形成すると、コアパターンＸ（１）、ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）の位置の相関が確保しやすく、良好な形状が得られやすいためより好ましい。
なお、本明細書において使用する「ほぼ」は前述した「略」と同様に解釈すべきものであり、明瞭なものである。
【００３８】
下部クラッド層は、コアパターンＸ（１）よりも低屈折率な樹脂層であれば良く、実施例中に記載するように、基板上に下部クラッド層（７）を積層形成しておいてもよい。
基板上に、下部クラッド層（７）を形成する方法としては、特に限定はなく、例えば、基板の形成面側からクラッド層形成用樹脂ワニスを、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等を用いて直接塗布し、適宜硬化して下部クラッド層にする方法が挙げられる。
【００３９】
各コアパターンを形成する方法としてフォトリソグラフィー加工を用いる場合は、その方法にも特に限定はなく、例えば、下部クラッド層上にコア形成用樹脂層を形成した後に、エッチング等により所望の形状に各コアパターンを形成する方法が挙げられる。
コア形成用樹脂層が感光性の樹脂である場合には、フォトリソグラフィー加工によってパターン化することができるので好ましい。具体的なフォトリソグラフィー加工としては、所望するパターン形状が描画されたフォトマスクを介し、露光にてコア層に未硬化部と硬化部を形成し、未硬化部を溶解、除去可能な各種溶剤及びアルカリ溶液等の現像液を用いた現像処理によってパターン化することができる。
【００４０】
（工程Ｂ）
工程Ｂとして、加工、好ましくは切削加工によって、傾斜面Ｘ（１０１）からなる光路変換ミラーを形成する。このとき、通常、同じ加工によって、前記傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄ（具体例としてはダミーコアパターンα及び／又はダミーコアパターンβに形成される、傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１））が形成される。
本工程は、それぞれのコアパターンを形成した直後（即ち上部クラッド層を形成する前）に行っても、上部クラッド層を形成した後に行ってもよく、後者の場合、各傾斜面を形成すると共に該傾斜面上の上部クラッド層を除去することもできる。これにより、傾斜面Ｘ（１０１）と、略同一平面上の傾斜面Ｄ（具体的には傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１））を容易に得られる。前記傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄ（具体例としてはダミーコアパターンα及び／又はダミーコアパターンβに形成される、傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１））の視認性の観点から前者であることが好ましい。
【００４１】
（工程Ｃ）
次に、工程Ｃとして、前記ダミーコアパターンＤの端部において、前記コアパターンＸの傾斜面Ｘと略同一平面上にある傾斜面Ｄの有無、及び／又は、前記傾斜面Ｄの前記コアパターンＤの延在方向の幅によって、傾斜面Ｘの形成位置を認識することができる。
傾斜面Ｄは、具体的には、図１等に示されるように傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１）の有無、及び／又は、傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１）のコアパターンＸの延在方向（略平行方向）の幅によって傾斜面Ｘ（１０１）の形成位置を認識することができる。形成位置を認識することによって、工程中に加工精度の良／不良の判別も、製品完成後のミラー付き光導波路の良／不良の判定も行うことができる。
また、傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１）の幅から算出される所定の加工位置からの光路変換ミラー（１０１）のずれ量を加味し、例えばミラー付き光導波路と、受光及び／又は発光素子との位置合わせや、外部の筐体との位置合わせに使用することができる。
工程中の光路変換ミラー形成位置の認識には、上述したミラー付き光導波路の光の視認方法と同様の方法が用いられる。
【００４２】
（ダミーコアパターンγ）
本発明のミラー付き光導波路の製造方法においては、ダミーコアパターンＤ（具体的にはダミーコアパターンα及び／又はダミーコアパターンβ）とは別に、コアパターンＸの延在方向と略平行に延在し端面を有するダミーコアパターンγ（４，５）をさらに形成することができる。このダミーコアパターンγは、工程Ｂにおいて、加工、好ましくは切削加工、される範囲の近傍に端面γを有していることが好ましい。
ダミーコアパターンγは、工程Ａにおいて、コアパターンＸ（１）等と同時に形成されるとよい。同時に形成されることで、コアパターンＸ（１）、ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）と位置の相関が得られる。
また、ダミーコアパターンγ（４，５）の端面γ（４０２,５０２）は、上述した切削加工される範囲の近傍に存在するダミーコアパターンγの場合、傾斜面Ｘ（１０１）、傾斜面α１（２０１）、傾斜面β１（３０１）の少なくとも２つを結ぶ直線の近傍に設けられることが好ましい。
【００４３】
（ダミーコアパターンの形状）
ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）、ダミーコアパターンγ（４，５）のうち、少なくとも２つを設ける場合には、それらが接合して一体化したパターンであっても良い。また、それらは、コアパターンＸ（１）の光の伝搬に悪影響の出ない範囲であれば、コアパターンＸ（１）と接続していても良い。
また、下部クラッド層（７）の法線方向（光導波路の面方向）から見たときの各端面の形状は、図１に示すようにＹ方向と略平行であってもよいが、良否の判定が可能な範囲であれば、端面が、曲面、階段状、それらを複合した形状等であっても良い。
【００４４】
（傾斜面形成方法）
工程Ｂにおける傾斜面の形成方法は、傾斜面Ｘ（１０１）と、傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１）の位置の相関が確保され、略同一平面上に形成されていれば特に限定はないが、具体的には、ダイシングソー等の回転ブレードを用いた切削加工や、レーザーアブレーションを利用した加工などが挙げられる。ダイシングブレードで加工すると、同一平面上に傾斜面Ｘ（１０１）と、傾斜面Ｄ（傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１））を設けることが容易となるため、より好ましい。
また、傾斜面Ｘ（１０１）は、下部クラッド層（７）に傾斜面（６）が形成される深さまで形成すると、所定の角度の傾斜面Ｘ（１０１）を得られやすい。
【００４５】
（上部クラッド層の形成）
さらに工程Ｄとして、上部クラッド層を形成することが好ましい。上部クラッド層は、コアパターンの下部クラッド層と反対の面上に設けられていれば良く、さらに、コアパターンの側面を覆うとよい。上部クラッド層が設けられるコアパターンは、コアパターンＸ（１）であれば良く、ダミーコアパターンＤ（ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３））、ダミーコアパターンγ（４，５）等の上に設けられていてもよい。  コアパターンＸ（１）と、ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）、ダミーコアパターンγ（４，５）との少なくともいずれかとの上面に形成されている上部クラッド層が、つながっていると、ミラー付き光導波路の反り等を抑制でき、傾斜面加工時と同一の光路変換ミラーの位置ずれ精度を有したミラー付き光導波路を得られやすいためより好ましい。
【００４６】
上部クラッド層の形成は、工程Ｂの前に行われても、後に行われても良く、工程Ｂの前に行い、傾斜面Ｘ（１０１）を空気反射ミラーとする場合には、傾斜面Ｘ（１０１）を少なくとも含む領域には、上部クラッド層が具備されないようにすると良い。例えば、傾斜面Ｘ（１０１）を形成後、上部クラッド層形成用樹脂層をコアパターンＸ（１）と傾斜面Ｘ（１０１）を埋設し、フォトリソグラフィー加工によって、傾斜面Ｘ（１０１）を含む一部の領域の上部クラッド層形成用樹脂を除去することによってできる。
なお、傾斜面Ｘ（１０１）上に反射金属層を設け、その上に上部クラッド層を形成する場合には、上部クラッド層形成用樹脂を積層した後、適宜硬化することによってできる。  上部クラッド層をフォトリソグラフィー加工によって除去する場合、傾斜面Ｄ（傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１）を含む領域の上部クラッド層も除去するとよい。これによって、傾斜面α１（２０１）及び／又は傾斜面β１（３０１）の輪郭を明瞭にすることが可能となり、幅（Ｘ方向）やそれらの有無の確認が容易となる。
【００４７】
上部クラッド層形成用樹脂を積層する方法としては、特に限定はなく、例えば、コアパターンの形成面側からクラッド層形成用樹脂ワニスを、スピンコーター、ダイコーター、コンマコーター、カーテンコーター等を用いて直接塗布したり、別の方法としては、あらかじめ支持フィルム上にクラッド層形成用樹脂ワニスを塗布したクラッド層形成用樹脂フィルムを、ロールラミネート、真空ロールラミネート、平板ラミネート、真空平板ラミネート、常圧プレス、真空プレス等を用いてコアパターンの形成面側から積層したりすることによって可能となる。
【００４８】
以下、本発明の実施例に用いられる各部材について詳細に説明する。
＜基板＞
基板は、ダイシングソー等を用いて傾斜面を形成する場合に、光導波路の破断を抑制する効果がある。基板は、剛直な基板でも柔軟な基板でも特に限定はない。
剛直な基板としては、例えば、ガラス基板、シリコン基板、リジッド電気配線板、ＦＲ−４、金属板等が用いられる。
柔軟な基板としては、各種の樹脂フィルムが好適で有り、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリフェニレンエーテル、ポリエーテルサルファイド、ポリアリレート、液晶ポリマー、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド、ポリイミド、それらに電気配線が形成されたフレキシブルな電気配線板等が好適に挙げられる。
基板としては、光導波路を伝送する光信号波長に対して透明な材質であると、光信号が基板を透過することができるため好ましい。
【００４９】
＜クラッド層＞
クラッド層（下部クラッド層及び上部クラッド層）に使用する材料は、各クラッド層がコアパターンＸよりも低屈折率で、熱及び／又は光により硬化する樹脂であれば特に限定されず、熱硬化性樹脂や感光性樹脂を好適に使用することができる。下部クラッド層及び上部クラッド層を形成するクラッド層形成用樹脂は、含有する成分が同一であっても異なっていてもよく、屈折率が同一であっても異なっていてもよい。
【００５０】
下部クラッド層及び上部クラッド層の厚さに関しては、特に限定するものではないが、５〜５００μｍの範囲であることが好ましい。下部クラッド層の厚さが５μｍ以上であると、光の閉じ込めに必要なクラッド厚さが確保でき、５００μｍ以下であると、低背な光導波路を得ることができる。上記の観点から、下部クラッド層及び上部クラッド層の厚さは、更に１０〜１００μｍの範囲であることがより好ましい。
【００５１】
＜コアパターン＞
コアパターンＸに使用する材料としては、下部クラッド層及び上部クラッド層より高屈折率で、用いる光信号に対して光信号の伝送に影響がない程度に透明であれば特に限定はなく、フォトリソグラフィー加工によってコアパターンＸを形成する場合には、活性光線によりパターン化し得るものを用いることが好ましい。パターン化する方法の一例としては、コアパターンＸを形成する樹脂層を下部クラッド層上に積層し、露光現像することで形成することができる。上記の観点からコアパターンＸを形成する樹脂としては、感光性樹脂組成物であることが好ましい。
ダミーコアパターンα、ダミーコアパターンβ、ダミーコアパターンγは、光の透過性は必要ないが、コアパターンＸと同時に形成すると位置の相関が得られやすいという観点から、コアパターンＸと同じ樹脂層から形成されると良い。
【００５２】
コアパターンＸの厚さについては特に限定されないが、パターン形成後の厚さが、１０μｍ以上であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において位置合わせトレランスが拡大できるという利点があり、１００μｍ以下であると、光導波路形成後の受発光素子又は光ファイバとの結合において、結合効率が向上するという利点がある。上記の観点から、コアパターンＸの厚さは、１０〜１００μｍの範囲であることが好ましく、３０〜９０μｍの範囲であることがさらに好ましい。
なお、図１において、コアパターンＸ（１）の厚さによって、ダミーコアパターンα（２）の端面α２（２０２）及び／又はダミーコアパターンγ（４）の端面γ（４０２）と、ダミーコアパターンβ（３）の端面β２（３０２）及び／又はダミーコアパターンγ（５）の（除去される前の）端面γ（５０２）の図１のＸ方向の距離を適宜選択するとよい。
【００５３】
コアパターンＸ（１）に設けられる傾斜面Ｘ（１０１）の角度は、特に限定はなく、下部クラッド層（７）形成面とのなす角が、３０°〜６０°であると好ましく、３５°〜５５°であるとより好ましく、４４°〜４６°であると、略垂直方向に光路変換することが可能であるため、さらに好ましい。
なお、傾斜面Ｘ（１０１）の角度によって、ダミーコアパターンα（２）の端面α（２０２）及び／又はダミーコアパターンγ（４）の端面γ（４０２）と、ダミーコアパターンβ（３）の端面β２（３０２）及び／又はダミーコアパターンγ（５）の（除去される前の）端面γ（５０２）のＸ方向の距離を適宜選択するとよい。
【００５４】
上述の通り、コアパターンＸ（１）の厚さと、傾斜面Ｘ（１０１）の角度によって、ダミーコアパターンα（２）の端面α２（２０２）及び／又はダミーコアパターンγ（４）の端面γ（４０２）と、ダミーコアパターンβ（３）の端面β２（３０２）及び／又はダミーコアパターンγ（５）の（除去される前の）端面γ（５０２）のＸ方向の距離は、適宜選択される。
以下に、ダミーコアパターンα（２）の端面α２（２０１）と、ダミーコアパターンβ（３）の端面β２（３０２）とのＸ方向の距離；Δについて具体的に例示する。
１）傾斜面Ｘ（１０１）の角度；θ
２）コアパターンＸ（１）の厚さ；Ｈ
とすると、Δは、下記（式１）の範囲とすることで、傾斜面α１（２）と傾斜面β１（３）とが共に形成される位置が生じる。
（式１）０＜Δ＜（Ｈ／tanθ）
さらに、下記（式２）とすることで、所定の位置精度の範囲内（±Ａ）のマーカとして機能させることができる。
（式２）Δ＝（Ｈ／tanθ）−２Ａ
なお、ダミーコアパターンγ（４）の端面γ（４０２）についてはダミーコアパターンα（２）の端面α２（２０２）を基準に、ダミーコアパターンγ（５）の端面５０２については、ダミーコアパターンβ（３）の端面β２（３０２）を基準に配置すれば良い。
【００５５】
このように、本発明はここでは記載していない様々な実施の形態等を包含するということを理解すべきである。
【実施例】
【００５６】
（光導波路の形成）
基板としての厚さ；２５μｍ、引っ張り弾性率；５．３ＧＰａ、１００ｍｍ×１００ｍｍサイズのポリイミド基板（東レ・デュポン株式会社製、商品名；カプトンＥＮ）上の全面に、厚さ；２５μｍ、引っ張り弾性率；０．８ＭＰａ、屈折率；１．５３６の下部クラッド層７（日立化成株式会社製、商品名；Ｃ７３）を積層形成し、該下部クラッド層上に、厚さ；５０μｍのコア層形成用の感光性樹脂を積層し、パターン露光、現像、熱硬化を順次行うことによって、幅５０μｍ、引っ張り弾性率１．５ＧＰａのコアパターンＸ（１）を３本（２５０μｍピッチ）、その両脇に、ダミーコアパターンα（２）、ダミーコアパターンβ（３）、ダミーコアパターンγ（４）及びダミーコアパターンγ（５）をそれぞれ、同時に形成した（図６参照）。硬化後のコアパターンの屈折率は１．５５６である。なお、基板の４角近傍にφ２００μｍの円柱状のパターンを形成した。
このとき、端面α（２）は、形成予定である傾斜面Ｘ（１０１）の中心位置からコアパターンＸ方向（光の伝搬に使用するコアパターン方向；図６のＸ軸方向）に−１０μｍ、端面β（３）は＋１０μｍ、端面γ（４）は−４０μｍ、端面γ（５）は＋４０μｍに配置した（所定の傾斜面Ｘ（１０１）のＸ方向の許容ずれ範囲は±１５μｍ）。
【００５７】
（光路変換ミラーの形成）
コアパターンＸ（１）形成面側から９０°開口（４５°の傾斜面）を有したダイシングブレードを用い、回転数；３０，０００ｒｐｍ、切削速度；３．０ｍｍ／ｓの条件で、傾斜面Ｘ（１０１）が、所定の位置になるように合わせ、ブレード先端が、下部クラッド層（７）中に（下部クラッド層（７）表面から７μｍ下方）に食い込むようにコアパターンＸ（１）に対して略垂直方向にブレードを動かして切削加工した。
上記の光路変換ミラーの加工までを５０シート分行った。
【００５８】
（上部クラッド層の形成）
コアパターンＸ（１）形成面側から感光性樹脂フィルムである上部クラッド層形成用樹脂フィルム（厚み；７５μｍ、硬化後の屈折率；１．５３６）を全てのコアパターンの上面及び端面を覆うように積層し、その後、パターン露光、現像、熱硬化することによって、傾斜面Ｘ（１０１）、傾斜面α１（２０１）、傾斜面β１（３０１）、傾斜面γ（４０１，５０１）（傾斜面γが形成される可能性のある領域）部分のみを除去し、略柱状の開口部内に、空気反射型の光路変換ミラー（傾斜面Ｘ（１０１））が配置されるように、上部クラッド層を形成した（図１中には図示しない）。
【００５９】
［実施例１］
（傾斜面α１を用いたミラー位置の判定１）
加工した５０シートの内の１シートを確認したところ、２つのダミーコアパターンα（２）に傾斜面α１（２０１）が形成されていた。倍率２００倍の測長顕微鏡を用いて、基板と反対の面から視認し、白色の落射光（反射照明）を照明光（基板反対側からの照明光）として照らしながらコアパターンＸ（１）と平行方向の幅を測定したところ、共に１５μｍ（傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれ量は０μｍに相当する）であった。計測にかかった時間は３０秒であった。照明光によって傾斜面α１（２０１）は暗く認識され周囲は明るかったため、容易に認識できた。
４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の位置ずれ量を算出したところ、０μｍであり、傾斜面α１（２０１）の位置マーカとしての機能していることを確認した（本実施例においては許容されるずれ量を±１５μｍ以内としたため、本シートは良品と判定した）。
【００６０】
［実施例２］
（傾斜面α１を用いたミラー位置の判定２）
実施例１で使用した１シートを用い、倍率２００倍の測長顕微鏡を用いて、基板と反対の面から視認し、白色の透過光を照明光（基板側からの照明光）として照らした以外は同様の方法で傾斜面α１（２０１）の幅を測定した。その結果、共に１５μｍ（傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれ量は０μｍに相当する）であった。計測にかかった時間は３０秒であった。照明光によって傾斜面α１（２０１）は暗く認識され周囲は明るかったため、容易に認識できた。良否判定も実施例１と同様の結果を導けた。
【００６１】
［実施例３］
（傾斜面α１を用いたミラー位置の判定３）
実施例１で使用した１シートを用い、倍率２００倍の測長顕微鏡を用いて、基板方向から視認し、白色の落射光（反射照明）を照明光（基板側からの照明光）とした以外は同様の方法で傾斜面α１（２０１）の幅を測定した。その結果、共に１５μｍ（傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれ量は０μｍに相当する）であった。計測にかかった時間は３０秒であった。照明光によって傾斜面α１（２０１）は暗く認識され周囲は明るかったため、容易に認識できた。良否判定も実施例１と同様の結果を導けた。
【００６２】
［実施例４］
（傾斜面α１を用いたミラー位置の判定４）
実施例１で使用した１シートを用い、倍率２００倍の測長顕微鏡を用いて、基板方向から視認し、白色の透過光を照明光（基板反対側からの照明光）とした以外は同様の方法で傾斜面α１（２０１）の幅を測定した。その結果、共に１５μｍ（傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれ量は０μｍに相当する）であった。計測にかかった時間は３０秒であった。照明光によって傾斜面α１（２０１）は暗く認識され周囲は明るかったため、容易に認識できた。良否判定も実施例１と同様の結果を導けた。
【００６３】
［実施例５］
（傾斜面α１を用いたミラー位置の判定５）
実施例１で使用した１シートを用い、倍率２００倍の測長顕微鏡を用いて、基板方向から視認し、基板端面方向（図１のＸ軸負方向）から白色を照明光として照らした（ダミーコアパターンα（２）に入光されるように）。それ以外は同様の方法で傾斜面α１（２０１）の幅を測定した。その結果、共に１５μｍ（傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれ量は０μｍに相当する）であった。計測にかかった時間は３０秒であった。照明光によって傾斜面α１（２０１）は明るく認識され周囲は暗かったため、容易に認識できた。良否判定も実施例１と同様の結果を導けた。
【００６４】
［実施例６〜１０］
（傾斜面β１を用いたミラー位置の判定）
実施例１で使用したシートとは別のシートを用い、実施例１〜実施例５と同様の視認方向及び照明光の方向で、傾斜面β１（３０１）の幅を測定した。その結果を表１に記載する。また、実施例１と同様に、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量を算出したところ、−１μｍ（図１のＸ軸負方向のずれ）であり、傾斜面β１（３０１）の位置マーカとしての機能していることを確認した（本実施例においては許容されるずれ量を±１５μｍ以内としたため、本シートは良品と判定した）。
【００６５】
【表１】
2016170375.tif 000003
なお、実施例６〜９の計測に要した時間は３０秒であった。
【００６６】
［実施例１１〜１３］
（傾斜面α１と傾斜面β１を用いたミラー位置の判定）
次に、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）が、−１μｍ（図１のＸ軸負方向のずれ）の良品（実施例１１）と、−２０μｍの不良品（実施例１２）、＋２０μｍの不良品（実施例１３）を用い、それらに形成された傾斜面α１、傾斜面α１の有無を確認した。その結果を表２に示す。
【００６７】
【表２】
2016170375.tif 000004
上記の結果から、傾斜面α１及び傾斜面β１の有無で傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれの良否判定が可能であった。なお。傾斜面α１及び傾斜面β１の有無による良否判定に要した時間はシートあたり３秒であった。
【００６８】
［実施例１４〜１６］
（傾斜面α１と傾斜面γ（４）を用いたミラー位置の判定）
次に、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）が、−７μｍ（図１のＸ軸負方向のずれ）の良品（実施例１４）と、−１８μｍの不良品（実施例１５）、＋２２μｍの不良品（実施例１６）を用い、それらに形成された傾斜面α１、傾斜面γ（４）の有無を確認した。その結果を表３に示す。
【００６９】
【表３】
2016170375.tif 000005
上記の結果から、傾斜面α１及び傾斜面γ（４）の有無で傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれの良否判定が可能であった。なお。傾斜面α１及び傾斜面γ（４）の有無による良否判定に要した時間はシートあたり３秒であった。
【００７０】
［実施例１７〜１９］
（傾斜面β１と傾斜面γ（５）を用いたミラー位置の判定）
次に、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）が、＋５μｍ（図１のＸ軸正方向のずれ）の良品（実施例１７）と、−１８μｍの不良品（実施例１８）、＋２２μｍの不良品（実施例１９）を用い、それらに形成された傾斜面β１、傾斜面γ（５）の有無を確認した。その結果を表４に示す。
【００７１】
【表４】
2016170375.tif 000006
上記の結果から、傾斜面β１及び傾斜面γ（５）の有無で傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からのずれの良否判定が可能であった。なお。傾斜面β１及び傾斜面γ（５）の有無による良否判定に要した時間はシートあたり３秒であった。
【００７２】
［実施例２０］
実施例１１〜１３に用いた傾斜面α１と傾斜面β１の有無で、傾斜面Ｘの所定の位置からの位置ずれの良否判定を行う方法を用いて、５０シート分の良否判定を行った。
良否の判定に要した時間はシートあたり３秒で行えた。さらに、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出した結果と比較したところ、その良否判定は±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定されており、正確に良否判定が行えていた。
【００７３】
［実施例２１］
実施例１４〜１６に用いた傾斜面α１と傾斜面γ（４）の有無で、傾斜面Ｘの所定の位置からの位置ずれの良否判定を行う方法を用いて、５０シート分の良否判定を行った。
良否の判定に要した時間はシートあたり３秒で行えた。さらに、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出した結果と比較したところ、その良否判定は±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定されており、正確に良否判定が行えていた。
【００７４】
［実施例２２］
実施例１７〜１９に用いた傾斜面β１と傾斜面γ（５）の有無で、傾斜面Ｘの所定の位置からの位置ずれの良否判定を行う方法を用いて、５０シート分の良否判定を行った。
良否の判定に要した時間はシートあたり３秒で行えた。さらに、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出した結果と比較したところ、その良否判定は±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定されており、正確に良否判定が行えていた。
【００７５】
［実施例２３］
実施例１１〜１３に用いた傾斜面α１と傾斜面β１の有無で、傾斜面Ｘの所定の位置からの位置ずれの良否判定を行う方法を用いて、傾斜面Ｘ形成直後（上部クラッド層形成前）の工程途中で、良否判定を５０シート分の良否判定を行った。
良否の判定に要した時間はシートあたり３秒で行えた。さらに、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出した結果と比較したところ、その良否判定は±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定されており、正確に良否判定が行えていた。
【００７６】
［実施例２４］
実施例１４〜１６に用いた傾斜面α１と傾斜面γ（４）の有無で、傾斜面Ｘの所定の位置からの位置ずれの良否判定を行う方法を用いて、傾斜面Ｘ形成直後（上部クラッド層形成前）の工程途中で、良否判定を５０シート分の良否判定を行った。
良否の判定に要した時間はシートあたり３秒で行えた。さらに、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出した結果と比較したところ、その良否判定は±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定されており、正確に良否判定が行えていた。
【００７７】
［実施例２５］
実施例１７〜１９に用いた傾斜面β１と傾斜面γ（５）の有無で、傾斜面Ｘの所定の位置からの位置ずれの良否判定を行う方法を用いて、傾斜面Ｘ形成直後（上部クラッド層形成前）の工程途中で、良否判定を５０シート分の良否判定を行った。
良否の判定に要した時間はシートあたり３秒で行えた。さらに、４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出した結果と比較したところ、その良否判定は±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定されており、正確に良否判定が行えていた。
【００７８】
［比較例１］
５０シート分の良否判定を、それぞれのシートの４角に配置された円柱状のパターンから傾斜面Ｘ（１０１）の所定の位置からの位置ずれ量（実測ずれ量）を算出し、±１５μｍ以内が「良」、それより外れた値のシートは、「不良」と判定した。良否の判定に要した時間はシートあたり１２０秒であった。
【産業上の利用可能性】
【００７９】
本発明のミラー付き光導波路は、光路変換ミラーの形成位置の判別が容易であるミラー付き光導波路であり、形状が安定したミラー付き光導波路として利用可能であるため、ミラー付き光電気複合基板、各種光学装置、光インターコネクション等の幅広い分野に適用可能である。
【符号の説明】
【００８０】
１…コアパターンＸ
１０１…傾斜面Ｘ
２…ダミーコアパターンα
２０１…傾斜面α１
２０２…端面α２
３…ダミーコアパターンβ
３０１…傾斜面β１
３０２…端面β２
４…ダミーコアパターンγ（ダミーコアパターンαとともに使用されるパターン）
４０１…傾斜面γ（傾斜面α１とともに使用されるパターン）
４０２…端面γ（傾斜面α１とともに使用されるパターン）
５…ダミーコアパターンγ（ダミーコアパターンβとともに使用されるパターン）
５０１…傾斜面γ（傾斜面β１とともに使用されるパターン）
５０２…端面γ（傾斜面β１とともに使用されるパターン）
６…下部クラッド層に設けられる傾斜面
７…下部クラッド層
８…切削予定線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
2016170375.tif 000014
【図９】
2016170375.tif 000015
【図１０】
2016170375.tif 000016
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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