(57)【要約】【課題】溶液流延製膜法で位相差フィルムを製膜する際に、溶媒に対する溶解性の低い難溶性材料をリタデーション上昇剤として用いた場合でも、光学値のムラを低減でき、これによって、上記フィルムを液晶表示装置に適用したときのコントラストムラを低減する。【解決手段】ＶＡ用位相差フィルムとしての光学フィルム１３は、主溶媒としてのメチレンクロライドと、樹脂と、添加剤とを含むドープを用いて溶液流延製膜法によって製膜される。上記添加剤は、リタデーション上昇剤として、メチレンクロライドに対する２３℃での飽和溶解度が１０％以下である含窒素複素環化合物を含む。該フィルムにおける輝点異物の数が、１０個／ｃｍ２以下である。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
主溶媒としてのメチレンクロライドと、樹脂と、添加剤とを含むドープを用いて溶液流延製膜法によって製膜されるＶＡ用位相差フィルムであって、
前記添加剤は、リタデーション上昇剤として、前記メチレンクロライドに対する２３℃での飽和溶解度が１０％以下である含窒素複素環化合物を含み、
該フィルムにおける輝点異物の数が、１０個／ｃｍ２以下であることを特徴とするＶＡ用位相差フィルム。
【請求項２】
前記含窒素複素環化合物は、末端にベンゼン環を有する化合物であることを特徴とする請求項１に記載のＶＡ用位相差フィルム。
【請求項３】
前記樹脂は、セルロースエステルであることを特徴とする請求項１または２に記載のＶＡ用位相差フィルム。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムと、
前記ＶＡ用位相差フィルムが貼り合わされる偏光子とを有していることを特徴とする偏光板。
【請求項５】
請求項４に記載の偏光板と、
前記偏光板が貼り合わされる液晶セルとを有していることを特徴とする垂直配向型液晶表示装置。
【請求項６】
前記偏光板は、前記液晶セルに対して視認側に位置し、かつ、前記ＶＡ用位相差フィルムが前記偏光子に対して前記液晶セル側となるように、前記液晶セルに貼り合わされていることを特徴とする請求項５に記載の垂直配向型液晶表示装置。
【請求項７】
請求項１から３のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムを溶液流延製膜法によって製膜するＶＡ用位相差フィルムの製造方法であって、
前記リタデーション上昇剤としての前記含窒素複素環化合物を、前記メチレンクロライドの一部に分散させて有機物分散液を調製する工程と、
前記有機物分散液を、前記樹脂および前記メチレンクロライドの残りとともに溶解釜に投入して、前記ドープを調製する工程とを有していることを特徴とするＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【請求項８】
前記リタデーション上昇剤は、粉体のメディアン粒子径Ｄ５０が４０μｍ以下であることを特徴とする請求項７に記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【請求項９】
前記有機物分散液の粘度が、１０〜３０００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項７または８に記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【請求項１０】
前記有機物分散液の粘度が、５００〜２５００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする請求項７から９のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【請求項１１】
前記有機物分散液の固体濃度が、２８％以下であることを特徴とする請求項７から１０のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、溶液流延製膜法によって製膜されるＶＡ用位相差フィルムおよびその製造方法と、上記ＶＡ用位相差フィルムを有する偏光板と、上記偏光板を有する垂直配向型液晶表示装置とに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、テレビやモニターの普及、大画面化により、液晶表示装置（ＬＣＤ）には高い平面性および高画質化が求められている。そして、さらには、エコロジー、医療診断の観点から、コントラスト（ＣＲ）の飛躍的な向上が市場で求められている。例えば、昨今、医療用途のデジタル化が進む中、Ｘ線診断においては、Ｘ線フィルムへのＸ線像の記録から、液晶表示装置にてＸ線像を直接出力（表示）するデジタル化が進んでいる。このＸ線診断で出力される画像には、白黒画像が用いられる。白黒画像が高コントラストになるほど、深部の診断率が向上し、より精度の高い診断が可能となる。このため、Ｘ線診断においては、出力画像のコントラストの向上が非常に重要となる。
【０００３】
液晶表示装置の駆動方式の１つであるＶＡ（Virtical Alignment）方式は、初期状態で液晶を垂直に配向させ、電圧を印加させて液晶を倒すことにより変化する複屈折を利用して、透過状態（白）と非透過状態（黒）とを表現する。ＶＡ方式では、純度の高い黒状態を表現して高コントラストが得られる点が最大の特徴である。したがって、ＶＡ方式を採用する液晶表示装置（垂直配向型液晶表示装置）は、上述した医療系の分野をはじめ、世に幅広く貢献できる可能性を秘めている。
【０００４】
垂直配向型液晶表示装置の偏光板用の保護フィルム兼位相差フィルムとしては、溶液流涎製膜法により製膜される光学フィルム（ＶＡ用位相差フィルム）が用いられている。このようなＶＡ用位相差フィルムの一例として、例えば特許文献１に開示されたものがある。特許文献１では、ＶＡ用位相差フィルムを構成する水吸着性樹脂（例えばセルロースエステル）に、含窒素複素環化合物（例えばトリアゾール化合物）を添加することで、環境湿度の変化に応じてリタデーションが変動するのを抑制するようにしている。上記の含窒素複素環化合物は、ＶＡ用位相差フィルムの厚さ方向のリタデーションを上昇させるリタデーション上昇剤としても機能する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】国際公開第２０１４／１０９３５０号（段落〔００１４〕、〔００５１〕、〔０１４０〕〜〔０２１４〕等参照）
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
支持体上に樹脂溶液（ドープ）を流延してＶＡ用位相差フィルムを製膜する溶液流延製膜法では、通常、溶解釜で、溶媒（例えばメチレンクロライド）に樹脂や添加剤を溶解してドープを調製する。上記の添加剤には、リタデーション上昇剤としての上述した含窒素複素環化合物を含めることができる。しかし、含窒素複素環化合物の中には、溶媒に対する飽和溶解度の低い難溶性材料も存在する。このような難溶性材料を溶媒や樹脂とともに溶解釜に直接投入すると、上記材料が難溶性であること、溶媒に浮くこと、２次凝集してより難溶になることから、溶解不良が発生し、異物となる。このような異物は、光学散乱を引き起こす輝点異物となって、フィルム欠陥を招くだけでなく、添加剤の面内分布のムラ（ばらつき、不均一性）、ひいては、フィルムの光学値（例えば面内方向のリタデーションＲｏおよび厚み方向のリタデーションＲｔｈ）のムラを生じさせる原因となる。このため、そのような異物を含むフィルムを位相差フィルムとして液晶表示装置に適用したときに、コントラストのムラが生じる。ＶＡ用位相差フィルムとして新品種を検討する際、コントラストを劣化させる原因となる異物が生じるような材料（上記の難溶性材料）を使用する可能性が出てくるため、そのような材料を使用する場合でも、コントラストのムラを低減することが望まれる。
【０００７】
なお、支持体上へのドープの流延前に、不溶解物をフィルタで捕捉してある程度取り除くことも可能である。しかし、それでも、フィルムに求められる所望の品質とは多少なりともズレが生じるため、上記のフィルタに頼ることなく、コントラストのムラを低減できる所望の品質のフィルムを実現することが望まれる。
【０００８】
本発明は、上記の問題を解決するためになされたものであって、その目的は、溶液流延製膜法でＶＡ用位相差フィルムを製膜する際に、溶媒に対する溶解性の低い難溶性材料をリタデーション上昇剤として用いた場合でも、光学値のムラを低減でき、これによって、製膜したフィルムを備えた垂直配向型液晶表示装置において、コントラストのムラを低減することができるＶＡ用位相差フィルムおよびその製造方法と、そのＶＡ用位相差フィルムを用いた偏光板と、その偏光板を用いた垂直配向型液晶表示装置とを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
１．主溶媒としてのメチレンクロライドと、樹脂と、添加剤とを含むドープを用いて溶液流延製膜法によって製膜されるＶＡ用位相差フィルムであって、
前記添加剤は、リタデーション上昇剤として、前記メチレンクロライドに対する２３℃での飽和溶解度が１０％以下である含窒素複素環化合物を含み、
該フィルムにおける輝点異物の数が、１０個／ｃｍ２以下であることを特徴とするＶＡ用位相差フィルム。
【００１０】
２．前記含窒素複素環化合物は、末端にベンゼン環を有する化合物であることを特徴とする前記１に記載のＶＡ用位相差フィルム。
【００１１】
３．前記樹脂は、セルロースエステルであることを特徴とする前記１または２に記載のＶＡ用位相差フィルム。
【００１２】
４．前記１から３のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムと、
前記ＶＡ用位相差フィルムが貼り合わされる偏光子とを有していることを特徴とする偏光板。
【００１３】
５．前記４に記載の偏光板と、
前記偏光板が貼り合わされる液晶セルとを有していることを特徴とする垂直配向型液晶表示装置。
【００１４】
６．前記偏光板は、前記液晶セルに対して視認側に位置し、かつ、前記ＶＡ用位相差フィルムが前記偏光子に対して前記液晶セル側となるように、前記液晶セルに貼り合わされていることを特徴とする前記５に記載の垂直配向型液晶表示装置。
【００１５】
７．前記１から３のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムを溶液流延製膜法によって製膜するＶＡ用位相差フィルムの製造方法であって、
前記リタデーション上昇剤としての前記含窒素複素環化合物を、前記メチレンクロライドの一部に分散させて有機物分散液を調製する工程と、
前記有機物分散液を、前記樹脂および前記メチレンクロライドの残りとともに溶解釜に投入して、前記ドープを調製する工程とを有していることを特徴とするＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【００１６】
８．前記リタデーション上昇剤は、粉体のメディアン粒子径Ｄ５０が４０μｍ以下であることを特徴とする前記７に記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【００１７】
９．前記有機物分散液の粘度が、１０〜３０００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする前記７または８に記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【００１８】
１０．前記有機物分散液の粘度が、５００〜２５００ｍＰａ・ｓであることを特徴とする前記７から９のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【００１９】
１１．前記有機物分散液の固体濃度が、２８％以下であることを特徴とする前記７から１０のいずれかに記載のＶＡ用位相差フィルムの製造方法。
【発明の効果】
【００２０】
溶液流延製膜法でＶＡ用位相差フィルムを製膜する際に、リタデーション上昇剤として、溶媒（メチレンクロライド）に対する溶解性の低い含窒素複素環化合物を用いた場合でも、製膜されたフィルムにおいて輝点異物の数が少ないので、リタデーション上昇剤を含む添加剤の面内分布のムラを低減でき、フィルムの光学値（ＲｏおよびＲｔｈ）のムラを低減できる。その結果、製膜されたフィルムを位相差フィルムとして用いた垂直配向型液晶表示装置において、コントラストのムラが生じるのを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施の形態に係る液晶表示装置の概略の構成を示す断面図である。
【図２】溶液流延製膜法によって光学フィルムを製造する装置の一例を模式的に示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の実施の一形態について、図面に基づいて説明すれば以下の通りである。なお、本明細書において、数値範囲をＡ〜Ｂと表記した場合、その数値範囲に下限Ａおよび上限Ｂの値は含まれるものとする。また、本発明は、以下の内容に限定されるものではない。
【００２３】
〔垂直配向型液晶表示装置〕
図１は、本実施形態に係る垂直配向型（ＶＡ型）の液晶表示装置１の概略の構成を示す断面図である。液晶表示装置１は、液晶表示パネル２およびバックライト３を備えている。バックライト３は、液晶表示パネル２を照明するための光源である。
【００２４】
液晶表示パネル２は、ＶＡ方式で駆動される液晶セル４の視認側に偏光板５を配置し、バックライト３側に偏光板６を配置して構成されている。液晶セル４は、液晶層を一対の透明基板（不図示）で挟持して形成される。液晶セル４としては、カラーフィルタが液晶層に対してバックライト３側の透明基板、つまり、ＴＦＴ（Thin Film Transistor）形成側の基板に配置された、いわゆるカラーフィルタ・オン・アレイ（ＣＯＡ）構造の液晶セルを用いることができるが、カラーフィルタが液晶層に対して視認側の透明基板に配置された液晶セルであってもよい。
【００２５】
偏光板５は、偏光子１１と、光学フィルム１２・１３とを備えている。偏光子１１は、所定の直線偏光を透過する。光学フィルム１２は、偏光子１１の視認側に配置される保護フィルムである。光学フィルム１３は、偏光子１１のバックライト３側（液晶セル４側）に配置される保護フィルム兼位相差フィルムである。偏光板５は、液晶セル４の視認側に粘着層７を介して貼り付けられている。つまり、偏光板５は、液晶セル４に対して視認側に位置し、かつ、光学フィルム１３が偏光子１１に対して液晶セル４側となるように、液晶セル４に貼り合わされている。
【００２６】
偏光板６は、偏光子１４と、光学フィルム１５・１６を備える。偏光子１４は、所定の直線偏光を透過する。光学フィルム１５は、偏光子１４の視認側に配置される保護フィルムであり、位相差フィルムとして機能することもできる。光学フィルム１６は、偏光子１４のバックライト３側に配置される保護フィルムである。このような偏光板６は、液晶セル４のバックライト３側に粘着層８を介して貼り付けられている。なお、視認側の光学フィルム１５を省略し、偏光子１４を粘着層８に直接接触させても良い。偏光子１１と偏光子１４とは、クロスニコル状態となるように配置される。
【００２７】
本実施形態のＶＡ用位相差フィルムは、例えば偏光板５の光学フィルム１３として用いることもできるし、偏光板６の光学フィルム１５として用いることもできる。以下、ＶＡ用位相差フィルムとしての光学フィルムの詳細について説明する。なお、以下での説明において、特に断らない限り、「光学フィルム」とは、ＶＡ用位相差フィルムを指すものとする。
【００２８】
〔光学フィルム〕
本実施形態の光学フィルムは、後述する溶液流延製膜法により製膜される。光学フィルムは、熱可塑性樹脂から構成されているフィルムであれば何でも良いが、光学用途に使用する場合には、所望の波長に対して透明な性質を有する樹脂からなるフィルムであることが好ましい。このようなフィルムを構成する樹脂としては、ポリカーボネート系樹脂、ポリエーテルスルフォン系樹脂、ポリエチレンテレフタレート系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、ポリスルフォン系樹脂、ポリアリレート系樹脂、ポリエチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、脂環構造を有するオレフィンポリマー系樹脂（脂環式オレフィンポリマー系樹脂）、セルロースエステル系樹脂などが挙げられる。
【００２９】
これらの中でも、透明性や機械強度などの観点から、ポリカーボネート系樹脂、脂環式オレフィンポリマー系樹脂、セルロースエステル系樹脂が好ましい。その中でも、光学フィルムとした場合の位相差を調整することが容易であるセルロースエステル系樹脂が更に好ましい。
【００３０】
（セルロースエステル系樹脂）
好ましいセルロースエステル系樹脂としては、下記式（１）および（２）を満たすセルロースアシレートが挙げられる。
式（１）  ２．０≦Ｚ１＜３．０
式（２）  ０≦Ｘ＜３．０
（式（１）および（２）において、Ｚ１はセルロースアシレートの総アシル基置換度を表し、Ｘはセルロースアシレートのプロピオニル基置換度およびブチリル基置換度の総和を表す。）
【００３１】
セルロースエステルの原料のセルロースとしては、例えば綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることができるが、特にこれらに限定されるわけではない。また、それらから得られたセルロースエステルを各々任意の割合で混合して使用することができる。
【００３２】
セルロースアシレートは、総アシル基置換度が２．０〜２．７の範囲内のセルロースアシレートであることが、耐水性を向上する観点から好ましく、また、製膜の際の流延性及び延伸性を向上させ、膜厚の均一性が一層向上する観点からは、セルロースアシレートの総アシル基置換度は、２．１〜２．５であることが好ましい。
【００３３】
なお、アセチル基の置換度や他のアシル基の置換度は、ＡＳＴＭ（American Society for Testing and Materials；米国試験材料協会）が策定・発行する規格の一つであるＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６の規定に準じて測定することができる。
【００３４】
セルロースアシレートとしては、特にセルロースアセテート（セルロースジアセテート、セルローストリアセテート）、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートベンゾエート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレートから選ばれる少なくとも１種であることが好ましいが、これらの中でより好ましいセルロースアシレートは、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートである。
【００３５】
セルロースアシレートの重量平均分子量（Ｍｗ）は、好ましくは７５０００以上であり、７５０００〜３０００００の範囲であることがより好ましく、１０００００〜２４００００の範囲内であることが更に好ましく、１６００００〜２４００００のものが特に好ましい。セルロースアシレート樹脂の重量平均分子量（Ｍｗ）が７５０００以上であれば、セルロースアシレート層自身の自己成膜性や密着の改善効果が発揮され、好ましい。本実施形態では、２種以上のセルロースアシレート樹脂を混合して用いることもできる。
【００３６】
セルロースアアシレートの平均分子量（Ｍｎ、Ｍｗ）は、それぞれゲルパーミエーションクロマトグラフィーにより以下の測定条件で測定することができる。
【００３７】
溶媒：      メチレンクロライド
カラム：    Ｓｈｏｄｅｘ  Ｋ８０６、Ｋ８０５、Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度：  ０．１質量％
検出器：    ＲＩ  Ｍｏｄｅｌ  ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ：    Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量：      １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線：  標準ポリスチレンＳＴＫ  ｓｔａｎｄａｒｄ  ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝５００〜２８０００００の範囲内の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。
【００３８】
（リタデーション上昇剤）
本実施形態の光学フィルムは、リタデーション上昇剤を含んでいる。リタデーション上昇剤とは、測定波長５９０ｎｍにおけるフィルムのリタデーション（特に厚み方向のリタデーションＲｔｈ）を、リタデーション上昇剤が未添加のものに比べて増大させる機能を有する化合物をいう。
【００３９】
光学フィルムがリタデーション上昇剤を含むことにより、光学フィルムの面内方向のリタデーションおよび厚み方向のリタデーションをそれぞれＲｏおよびＲｔｈとしたとき、
３０ｎｍ＜Ｒｏ＜７０ｎｍ、かつ、１００ｎｍ＜Ｒｔｈ＜３００ｎｍ
となる光学フィルムを実現することができる。
【００４０】
上記のＲｏおよびＲｔｈは、例えば、自動複屈折率計アクソスキャン（Axo Scan Mueller Matrix Polarimeter：アクソメトリックス社製）を用いて、温度２３℃、相対湿度５５％ＲＨの環境下、測定波長５９０ｎｍにおいて、三次元屈折率測定を行って得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから、以下の式に基づいて算出できる。
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
Ｒｔｈ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
（式中、ｎｘはフィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙはフィルムの面内方向において前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚはフィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄはフィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。）
【００４１】
本実施形態では、分子量が１００〜８００の範囲内である含窒素複素環化合物をリタデーション上昇剤（添加剤）として使用することができる。中でも、含窒素複素環化合物は、下記一般式（１）で表される構造の化合物であることが好ましい。下記一般式（１）で表される構造を有する化合物を樹脂とともに用いることにより、ＲｏおよびＲｔｈが上記範囲の光学フィルムを実現できるほか、環境の湿度変動によるリタデーションの変動を抑えることもできる。
【００４２】
〈一般式（１）で表される構造を有する化合物〉
【００４３】
【化１】
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【００４４】
前記一般式（１）において、Ａ１、Ａ２及びＢは、それぞれ独立に、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表す。この中で、芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が好ましく、特に、５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環であることが好ましい。
【００４５】
５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環の構造に制限はないが、例えば、ベンゼン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環、１，２，４−トリアゾール環、テトラゾール環、フラン環、オキサゾール環、イソオキサゾール環、オキサジアゾール環、イソオキサジアゾール環、チオフェン環、チアゾール環、イソチアゾール環、チアジアゾール環、イソチアジアゾール環等が挙げられる。
【００４６】
Ａ１、Ａ２及びＢで表される５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は、置換基を有していてもよい。当該置換基としては、例えば、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、アルケニル基（ビニル基、アリル基等）、シクロアルケニル基（２−シクロペンテン−１−イル、２−シクロヘキセン−１−イル基等）、アルキニル基（エチニル基、プロパルギル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−ピロール基、２−フリル基、２−チエニル基、ピロール基、イミダゾリル基、オキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾイミダゾリル基、ベンゾオキサゾリル基、２−ベンゾチアゾリル基、ピラゾリノン基、ピリジル基、ピリジノン基、２−ピリミジニル基、トリアジン基、ピラゾール基、１，２，３−トリアゾール基、１，２，４−トリアゾール基、オキサゾール基、イソオキサゾール基、１，２，４−オキサジアゾール基、１，３，４−オキサジアゾール基、チアゾール基、イソチアゾール基、１，２，４−チオジアゾール基、１，３，４−チアジアゾール基等）、シアノ基、ヒドロキシ基、ニトロ基、カルボキシ基、アルコキシ基（メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、２−メトキシエトキシ基等）、アリールオキシ基（フェノキシ基、２−メチルフェノキシ基、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェノキシ基、３−ニトロフェノキシ基、２−テトラデカノイルアミノフェノキシ基等）、アシルオキシ基（ホルミルオキシ基、アセチルオキシ基、ピバロイルオキシ基、ステアロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基、ｐ−メトキシフェニルカルボニルオキシ基等）、アミノ基（アミノ基、メチルアミノ基、ジメチルアミノ基、アニリノ基、Ｎ−メチル−アニリノ基、ジフェニルアミノ基等）、アシルアミノ基（ホルミルアミノ基、アセチルアミノ基、ピバロイルアミノ基、ラウロイルアミノ基、ベンゾイルアミノ基等）、アルキル及びアリールスルホニルアミノ基（メチルスルホニルアミノ基、ブチルスルホニルアミノ基、フェニルスルホニルアミノ基、２，３，５−トリクロロフェニルスルホニルアミノ基、ｐ−メチルフェニルスルホニルアミノ基等）、メルカプト基、アルキルチオ基（メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ヘキサデシルチオ基等）、アリールチオ基（フェニルチオ基、ｐ−クロロフェニルチオ基、ｍ−メトキシフェニルチオ基等）、スルファモイル基（Ｎ−エチルスルファモイル基、Ｎ−（３−ドデシルオキシプロピル）スルファモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルスルファモイル基、Ｎ−アセチルスルファモイル基、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル基、Ｎ−（Ｎ’−フェニルカルバモイル）スルファモイル基等）、スルホ基、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、カルバモイル基（カルバモイル基、Ｎ−メチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル基、Ｎ，Ｎ−ジ−ｎ−オクチルカルバモイル基、Ｎ−（メチルスルホニル）カルバモイル基等）等の各基が挙げられる。
【００４７】
前記一般式（１）において、Ａ１、Ａ２及びＢは、ベンゼン環、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環を表すことが、光学特性の変動効果に優れ、かつ耐久性に優れたセルロースアシレートフィルムが得られるために好ましい。
【００４８】
前記一般式（１）において、Ｔ１及びＴ２は、それぞれ独立に、ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環を表すことが好ましい。これらの中で、ピラゾール環、トリアゾール環又はイミダゾール環であることが、湿度変動に対するリタデーションの変動抑制効果に特に優れ、かつ耐久性に優れた樹脂組成物が得られるために好ましく、ピラゾール環であることが特に好ましい。Ｔ１及びＴ２で表されるピラゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環、イミダゾール環は、互変異性体であってもよい。ピロール環、ピラゾール環、イミダゾール環、１，２，３−トリアゾール環又は１，２，４−トリアゾール環の具体的な構造を下記に示す。
【００４９】
【化２】
2016139095.tif 000004
【００５０】
式中、※印は、一般式（１）におけるＬ１、Ｌ２、Ｌ３又はＬ４との結合位置を表す。Ｒ５は水素原子又は非芳香族置換基を表す。Ｒ５で表される非芳香族置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１が有してもよい置換基のうちの非芳香族置換基と同様の基を挙げることができる。Ｒ５で表される置換基が芳香族基を有する置換基の場合、Ａ１とＴ１又はＢとＴ１がねじれやすくなり、Ａ１、Ｂ及びＴ１がセルロースアシレートとの相互作用を形成できなくなるため、光学的特性の変動を抑制することが難しい。光学的特性の変動抑制効果を高めるためには、Ｒ５は水素原子、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数１〜５のアシル基であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
【００５１】
前記一般式（１）において、Ｔ１及びＴ２は置換基を有してもよく、当該置換基としては、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【００５２】
前記一般式（１）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ独立に、単結合又は、２価の連結基を表し、２個以下の原子を介して、５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環が連結されている。２個以下の原子を介してとは、連結基を構成する原子のうち連結される置換基間に存在する最小の原子数を表す。連結原子数２個以下の２価の連結基としては、特に制限はないが、アルキレン基、アルケニレン基、アルキニレン基、Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）、ＮＲ、Ｓ、（Ｏ＝Ｓ＝Ｏ）からなる群より選ばれる２価の連結基であるか、それらを２個組み合わせた連結基を表す。Ｒは、水素原子又は置換基を表す。Ｒで表される置換基の例には、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、シクロアルキル基（シクロヘキシル基、シクロペンチル基、４−ｎ−ドデシルシクロヘキシル基等）、芳香族炭化水素環基（フェニル基、ｐ−トリル基、ナフチル基等）、芳香族複素環基（２−フリル基、２−チエニル基、２−ピリミジニル基、２−ベンゾチアゾリル基、２−ピリジル基等）、シアノ基等が含まれる。Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４で表される２価の連結基は置換基を有してもよく、置換基としては特に制限はないが、例えば、前記一般式（１）におけるＡ１及びＡ２が有してもよい置換基と同様の基を挙げることができる。
【００５３】
前記一般式（１）において、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物の平面性が高くなることで、水を吸着する樹脂との相互作用が強くなり、光学的特性の変動が抑制されるため、単結合又は、Ｏ、（Ｃ＝Ｏ）−Ｏ、Ｏ−（Ｃ＝Ｏ）、（Ｃ＝Ｏ）−ＮＲ又はＮＲ−（Ｃ＝Ｏ）であることが好ましく、単結合であることがより好ましい。
【００５４】
前記一般式（１）において、ｎは０〜５の整数を表す。ｎが２以上の整数を表すとき、前記一般式（１）における複数のＡ２、Ｔ２、Ｌ３、Ｌ４は同じであってもよく、異なっていてもよい。ｎが大きい程、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物と水を吸着する樹脂との相互作用が強くなることで光学的特性の変動抑制効果が優れ、ｎが小さいほど、水を吸着する樹脂との相溶性が優れる。このため、ｎは１〜３の整数であることが好ましく、１〜２の整数であることがより好ましい。
【００５５】
〈一般式（２）で表される構造を有する化合物〉
一般式（１）で表される構造を有する化合物は、一般式（２）で表される構造を有する化合物であることが好ましい。
【００５６】
【化３】
2016139095.tif 000005
【００５７】
（式中、Ａ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４は、それぞれ前記一般式（１）におけるＡ１、Ａ２、Ｔ１、Ｔ２、Ｌ１、Ｌ２、Ｌ３及びＬ４と同義である。Ａ３及びＴ３は、それぞれ一般式（１）におけるＡ１及びＴ１と同様の基を表す。Ｌ５及びＬ６は、前記一般式（１）におけるＬ１と同様の基を表す。ｍは０〜４の整数を表す。）
【００５８】
ｍが小さい方が、セルロースアシレートとの相溶性に優れるため、ｍは０〜２の整数であることが好ましく、０〜１の整数であることがより好ましい。
【００５９】
＜一般式（１．１）で表される構造を有する化合物＞
一般式（１）で表される構造を有する化合物は、下記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
【００６０】
【化４】
2016139095.tif 000006
【００６１】
（式中、Ａ１、Ｂ、Ｌ１及びＬ２は、上記一般式（１）におけるＡ１、Ｂ、Ｌ１及びＬ２と同様の基を表す。ｋは、１〜４の整数を表す。Ｔ１は、１，２，４−トリアゾール環を表す。）
【００６２】
さらに、上記一般式（１．１）で表される構造を有するトリアゾール化合物は、下記一般式（１．２）で表される構造を有するトリアゾール化合物であることが好ましい。
【００６３】
【化５】
2016139095.tif 000007
【００６４】
（式中、Ｚは、下記一般式（１．２ａ）の構造を表す。ｑは、２〜３の整数を表す。少なくとも二つのＺは、ベンゼン環に置換された少なくとも一つのＺに対してオルト位又はメタ位に結合する。）
【００６５】
【化６】
2016139095.tif 000008
【００６６】
（式中、Ｒ１０は水素原子、アルキル基又はアルコキシ基を表す。ｐは１〜５の整数を表す。＊はベンゼン環との結合位置を表す。Ｔ１は１，２，４−トリアゾール環を表す。）
【００６７】
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物は、水和物、溶媒和物若しくは塩を形成してもよい。なお、本実施形態において、水和物は有機溶媒を含んでいてもよく、また溶媒和物は水を含んでいてもよい。即ち、「水和物」及び「溶媒和物」には、水と有機溶媒のいずれも含む混合溶媒和物が含まれる。塩としては、無機又は有機酸で形成された酸付加塩が含まれる。無機酸の例として、ハロゲン化水素酸（塩酸、臭化水素酸など）、硫酸、リン酸などが含まれ、またこれらに限定されない。また、有機酸の例には、酢酸、トリフルオロ酢酸、プロピオン酸、酪酸、シュウ酸、クエン酸、安息香酸、アルキルスルホン酸（メタンスルホン酸など）、アリルスルホン酸（ベンゼンスルホン酸、４−トルエンスルホン酸、１，５−ナフタレンジスルホン酸など）などが挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくは、塩酸塩、酢酸塩、プロピオン酸塩、酪酸塩である。
【００６８】
塩の例としては、親化合物に存在する酸性部分が、金属イオン（例えばアルカリ金属塩、例えばナトリウム又はカリウム塩、アルカリ土類金属塩、例えばカルシウム又はマグネシウム塩、アンモニウム塩アルカリ金属イオン、アルカリ土類金属イオン、又はアルミニウムイオンなど）により置換されるか、あるいは有機塩基（エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モルホリン、ピペリジン、など）と調整されたときに形成される塩が挙げられ、またこれらに限定されない。これらのうち好ましくはナトリウム塩、カリウム塩である。
【００６９】
溶媒和物が含む溶媒の例には、一般的な有機溶剤のいずれも含まれる。具体的には、アルコール（例、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）、エステル（例、酢酸エチル）、炭化水素（例、トルエン、ヘキサン、ヘプタン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン）、ニトリル（例、アセトニトリル）、ケトン（アセトン）などが挙げられる。好ましくは、アルコール（例、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノール、１−メトキシ−２−プロパノール、ｔ−ブタノール）の溶媒和物である。これらの溶媒は、前記化合物の合成時に用いられる反応溶媒であっても、合成後の晶析精製の際に用いられる溶媒であってもよく、又はこれらの混合であってもよい。
【００７０】
また、２種類以上の溶媒を同時に含んでもよいし、水と溶媒を含む形（例えば、水とアルコール（例えば、メタノール、エタノール、ｔ−ブタノールなど）など）であってもよい。
【００７１】
なお、前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物を、水や溶媒、塩を含まない形態で添加しても、本実施形態における光学フィルム中において、水和物、溶媒和物又は塩を形成してもよい。
【００７２】
前記一般式（１）、（２）、（１．１）又は（１．２）で表される構造を有する化合物の分子量は特に制限はないが、小さいほど樹脂との相溶性に優れ、大きいほど環境湿度の変化に対する光学値の変動抑制効果が高いため、１５０〜２０００であることが好ましく、２００〜１５００であることがより好ましく、３００〜１０００であることがより好ましい。
【００７３】
また、本実施形態に係る含窒素複素環化合物は、下記一般式（３）で表される構造を有する化合物であることがより好ましい。
【００７４】
【化７】
2016139095.tif 000009
【００７５】
（式中、Ａはピラゾール環を表し、Ａｒ１及びＡｒ２はそれぞれ芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を表し、置換基を有してもよい。Ｒ１は水素原子、アルキル基、アシル基、スルホニル基、アルキルオキシカルボニル基、又はアリールオキシカルボニル基を表し、ｑは１〜２の整数を表し、ｎ及びｍは１〜３の整数を表す。）
【００７６】
Ａｒ１及びＡｒ２で表される芳香族炭化水素環又は芳香族複素環は、それぞれ一般式（１）で挙げた５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環であることが好ましい。また、Ａｒ１及びＡｒ２の置換基としては、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物で示したのと同様な置換基が挙げられる。
【００７７】
Ｒ１の具体例としては、ハロゲン原子（フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等）、アルキル基（メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基等）、アシル基（アセチル基、ピバロイルベンゾイル基等）、スルホニル基（例えば、メチルスルホニル基、エチルスルホニル基等）、アルキルオキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基等）等が挙げられる。
【００７８】
ｑは１〜２の整数を表し、ｎ及びｍは１〜３の整数を表す。
【００７９】
５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有する化合物の具体例としては、例えば国際公開番号ＷＯ２０１４／１０９３５０Ａ１の段落〔０１４０〕〜〔０２１４〕に記載の化合物を挙げることができる。なお、前記５員若しくは６員の芳香族炭化水素環又は芳香族複素環を有する化合物は、上記の具体例に限定されるものではない。上記の具体例は、互変異性体であってもよく、水和物、溶媒和物又は塩を形成していてもよい。
【００８０】
本実施形態では、溶液流延製膜法で用いるドープを調製する際に、樹脂を溶解する主溶媒として、メチレンクロライドを用いている。上記具体例で示される含窒素複素環化合物の中には、メチレンクロライドに対する飽和溶解度の低い難溶性材料が存在する。例えば、上記具体例で示される含窒素複素環化合物のうち、末端にベンゼン環を有する含窒素複素環化合物は、メチレンクロライドに対する２３℃での飽和溶解度が１０％以下であることがわかっている。このような難溶性の含窒素複素環化合物としては、以下の例示化合物１〜３が挙げられる。
【００８１】
【化８】
2016139095.tif 000010
【００８２】
難溶性の含窒素複素環化合物をメチレンクロライドや樹脂とともに溶解釜に直接投入すると、上記化合物の溶解不良によってフィルムに輝点異物が生じ、フィルムの光学値（ＲｏおよびＲｔｈ）のムラが生じたり、液晶表示装置においてコントラストのムラが生じるのは前述の通りである。そこで、本実施形態では、難溶性の含窒素複素環化合物を用いた場合でも、後述の方法によって光学フィルムを製膜することにより、フィルムにおける輝点異物の数を１０個／ｃｍ２以下に低減し、これによって、フィルムの光学値のムラや液晶表示装置におけるコントラストのムラを低減するようにしている。
【００８３】
〔一般式（１）で表される構造を有する化合物の合成方法〕
次に、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物の合成方法について説明する。
【００８４】
前記一般式（１）で表される構造を有する化合物は、公知の方法で合成することができる。前記一般式（１）で表される構造を有する化合物において、１，２，４−トリアゾール環を有する化合物は、いかなる原料を用いても構わないが、ニトリル誘導体又はイミノエーテル誘導体と、ヒドラジド誘導体を反応させる方法が好ましい。反応に用いる溶媒としては、原料と反応しないと溶媒であれば、いかなる溶媒でも構わないが、エステル系（例えば、酢酸エチル、酢酸メチル等）、アミド系（ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、エーテル系（エチレングリコールジメチルエーテル等）、アルコール系（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、２−ブタノール、エチレングリコール、エチレングリコールモノメチルエーテル等）、芳香族炭化水素系（例えば、トルエン、キシレン等）、水を挙げられることができる。使用する溶媒として、好ましくは、アルコール系溶媒である。また、これらの溶媒は、混合して用いても良い。
【００８５】
溶媒の使用量は、特に制限はないが、使用するヒドラジド誘導体の質量に対して、０．５〜３０倍量の範囲内であることが好ましく、更に好ましくは、１．０〜２５倍量であり、特に好ましくは、３．０〜２０倍量の範囲内である。
【００８６】
ニトリル誘導体とヒドラジド誘導体を反応させる場合、触媒を使用しなくても構わないが、反応を加速させるために触媒を使用する方が好ましい。使用する触媒としては、酸を用いても良く、塩基を用いても良い。酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、酢酸等が挙げられ、好ましくは塩酸である。酸は、水に希釈して添加しても良く、ガスを系中に吹き込む方法で添加しても良い。塩基としては、無機塩基（炭酸カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸水素カリウム、炭酸水素ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等）及び有機塩基（ナトリウムメチラート、ナトリウムエチラート、カリウムメチラート、カリウムエチラート、ナトリウムブチラート、カリウムブチラート、ジイソプロピルエチルアミン、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアミノピリジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン、Ｎ−メチルモルホリン、イミダゾール、Ｎ−メチルイミダゾール、ピリジン等）のいずれを用いて良く、無機塩基としては、炭酸カリウムが好ましく、有機塩基としては、ナトリウムエチラート、ナトリウムエチラート、ナトリウムブチラートが好ましい。無機塩基は、粉体のまま添加しても良く、溶媒に分散させた状態で添加しても良い。また、有機塩基は、溶媒に溶解した状態（例えば、ナトリウムメチラートの２８％メタノール溶液等）で添加しても良い。
【００８７】
触媒の使用量は、反応が進行する量であれば特に制限はないが、形成されるトリアゾール環に対して１．０〜５．０倍モルの範囲内が好ましく、更に１．０５〜３．０倍モルの範囲内が好ましい。
【００８８】
イミノエーテル誘導体とヒドラジド誘導体を反応させる場合は、触媒を用いる必要がなく、溶媒中で加熱することにより目的物を得ることができる。
【００８９】
反応に用いる原料、溶媒及び触媒の添加方法は、特に制限がなく、触媒を最後に添加しても良く、溶媒を最後に添加しても良い。また、ニトリル誘導体を溶媒に分散若しくは溶解させ、触媒を添加した後、ヒドラジド誘導体を添加する方法も好ましい。
【００９０】
反応中の溶液温度は、反応が進行する温度であればいかなる温度でも構わないが、好ましくは、０〜１５０℃の範囲内であり、更に好ましくは、２０〜１４０℃の範囲内である。また、生成する水を除去しながら、反応を行っても良い。
【００９１】
反応溶液の処理方法は、いかなる手段を用いても良いが、塩基を触媒として用いた場合は、反応溶液に酸を加えて中和する方法が好ましい。中和に用いる酸としては、例えば、塩酸、硫酸、硝酸又は酢酸等が挙げられるが、特に好ましくは酢酸である。中和に使用する酸の量は、反応溶液のｐＨが４〜９になる範囲であれば特に制限はないが、使用する塩基に対して、０．１〜３倍モルが好ましく、特に好ましくは、０．２〜１．５倍モルの範囲内である。
【００９２】
反応溶液の処理方法として、適当な有機溶媒を用いて抽出する場合、抽出後に有機溶媒を水で洗浄した後、濃縮する方法が好ましい。ここでいう適当な有機溶媒とは、酢酸エチル、トルエン、ジクロロメタン、エーテル等非水溶性の溶媒、又は、前記非水溶性の溶媒とテトラヒドロフラン又はアルコール系溶媒との混合溶媒のことであり、好ましくは酢酸エチルである。
【００９３】
一般式（１）で表される構造を有する化合物を晶析させる場合、特に制限はないが、中和した反応溶液に水を追加して晶析させる方法、若しくは、一般式（１）で表される構造を有する化合物が溶解した水溶液を中和して晶析させる方法が好ましい。
【００９４】
（例示化合物１の合成）
例示化合物１は以下のスキームによって合成することができる。
【００９５】
【化９】
2016139095.tif 000011
【００９６】
脱水テトラヒドロフラン５２０ｍｌに、アセトフェノン８０ｇ（０．６７ｍｏｌ）、イソフタル酸ジメチル５２ｇ（０．２７ｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、氷水冷で撹拌しながら、ナトリウムアミド５２．３ｇ（１．３４ｍｏｌ）を少しずつ滴下した。氷水冷下で３時間撹拌した後、水冷下で１２時間撹拌した。反応液に濃硫酸を加えて中和した後、純水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶にメタノールを加えて懸濁洗浄することにより、中間体Ａを５５．２ｇ得た。
【００９７】
テトラヒドロフラン３００ｍｌ、エタノール２００ｍｌに中間体Ａ５５ｇ（０．１５ｍｏｌ）を加え、室温で撹拌しながら、ヒドラジン１水和物１８．６ｇ（０．３７ｍｏｌ）を少しずつ滴下した。滴下終了後、１２時間加熱還流した。反応液に純水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘプタン）で精製することによって、例示化合物１を２７ｇ得た。
【００９８】
得られた例示化合物１の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。なお、互変異性体の存在により、ケミカルシフトが複雑化するのを避けるために、測定溶媒にトリフルオロ酢酸を数滴加えて測定を行った。
【００９９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：８．３４（１Ｈ、ｓ）、７．８７〜７．８１（６Ｈ、ｍ）、７．５５〜７．５１（１Ｈ、ｍ）、７．４８−７．４４（４Ｈ、ｍ）、７．３６−７．３３（２Ｈ、ｍ）、７．２９（１Ｈ、ｓ）
【０１００】
（例示化合物２の合成）
例示化合物２は以下のスキームによって合成することができる。
【０１０１】
【化１０】
2016139095.tif 000012
【０１０２】
ｎ−ブタノール３５０ｍｌにベンゾニトリル７７．３ｇ（７５．０ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン３４．０ｇ（２５．０ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム１０７．０ｇ（７７．４ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１２０℃で２４時間撹拌した。反応液を室温まで冷却し、析出物を濾過後、濾液を減圧下で濃縮した。濃縮物にイソプロパノール２０ｍｌを加え、析出物を濾取した。濾取した析出物をメタノール８０ｍｌに溶解し、純水３００ｍｌを加え、溶液のｐＨが７になるまで酢酸を滴下した。析出した結晶を濾取後、純水で洗浄し、５０℃で送風乾燥することにより、例示化合物２を３８．６ｇ得た。収率は、ベンゾイルヒドラジン基準で７０％であった。
【０１０３】
得られた例示化合物２の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
【０１０４】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：７．５６−７．４８（６Ｈ、ｍ）、７．６２−７．６１（４Ｈ、ｍ）
【０１０５】
（例示化合物３の合成）
例示化合物３は以下のスキームによって合成することができる。
【０１０６】
【化１１】
2016139095.tif 000013
【０１０７】
ｎ−ブタノール４０ｍｌに、１，３−ジシアノベンゼン２．５ｇ（１９．５ｍｍｏｌ）、ベンゾイルヒドラジン７．９ｇ（５８．５ｍｍｏｌ）、炭酸カリウム９．０ｇ（６８．３ｍｍｏｌ）を加え、窒素雰囲気下、１２０℃で２４時間撹拌した。反応液を冷却後、純水４０ｍｌを加え、室温で３時間撹拌した後、析出した固体を濾別し、純水で洗浄した。得られた固体に水及び酢酸エチルを加えて分液し、有機層を純水で洗浄した。有機層を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒を減圧留去した。得られた粗結晶をシリカゲルクロマトグラフィー（酢酸エチル／ヘプタン）で精製し、例示化合物３を５．５ｇ得た。収率は、１，３−ジシアノベンゼン基準で７７％であった。
【０１０８】
得られた例示化合物３の１Ｈ−ＮＭＲスペクトルは以下のとおりである。
【０１０９】
１Ｈ−ＮＭＲ（４００ＭＨｚ、溶媒：重ＤＭＳＯ、基準：テトラメチルシラン）δ（ｐｐｍ）：８．８３（１Ｈ、ｓ）、８．１６〜８．１１（６Ｈ、ｍ）、７．６７−７．５４（７Ｈ、ｍ）
【０１１０】
その他の化合物についても同様の方法によって合成が可能である。
【０１１１】
〈一般式（１）で表される構造を有する化合物の使用方法について〉
前記一般式（１）で表される構造を有する化合物は、適宜量を調整して光学フィルムに含有することができるが、添加量としては、光学フィルムを構成する樹脂に対して、０．１〜１０質量％含むことが好ましく、特に、０．５〜５質量％含むことが好ましい。この範囲内であれば、光学フィルムの機械強度を損なうことなく、環境湿度の変化に依存した位相差の変動を低減することができる。
【０１１２】
また、前記一般式（１）で表される構造を有する化合物の添加方法としては、光学フィルムを形成する樹脂に粉体で添加しても良く、溶媒に溶解した後、光学フィルムを形成する樹脂に添加しても良い。
【０１１３】
〔有機エステル〕
本実施形態の光学フィルム（位相差フィルム）は、有機エステルとして、糖エステル、重縮合エステル、多価アルコールエステルから選択される少なくとも１種を含むことが好ましい。
【０１１４】
（糖エステル）
糖エステルとは、フラノース環又はピラノース環の少なくともいずれかを含む化合物であり、単糖であっても、糖構造が２〜１２個連結した多糖であってもよい。そして、糖エステルは、糖構造が有するＯＨ基の少なくとも一つがエステル化された化合物が好ましい。糖エステルにおける平均エステル置換度が、４．０〜８．０の範囲内であることが好ましく、５．０〜７．５の範囲内であることがより好ましい。
【０１１５】
糖エステルとしては、特に制限はないが、下記一般式（Ａ）で表される糖エステルを挙げることができる。
【０１１６】
一般式（Ａ）
（ＨＯ）ｍ−Ｇ−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）ｎ
上記一般式（Ａ）において、Ｇは、単糖類又は二糖類の残基を表し、Ｒ２は、脂肪族基又は芳香族基を表し、ｍは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合しているヒドロキシ基の数の合計であり、ｎは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合している−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）基の数の合計であり、３≦ｍ＋ｎ≦８であり、ｎ≠０である。
【０１１７】
一般式（Ａ）で表される構造を有する糖エステルは、ヒドロキシ基の数（ｍ）、−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）基の数（ｎ）が固定された単一種の化合物として単離することは困難であり、式中のｍ、ｎの異なる成分が数種類混合された化合物となることが知られている。したがって、ヒドロキシ基の数（ｍ）、−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）基の数（ｎ）が各々変化した混合物としての性能が重要であり、本実施形態の光学フィルムの場合、平均エステル置換度が、５．０〜７．５の範囲内である糖エステルが好ましい。
【０１１８】
上記一般式（Ａ）において、Ｇは単糖類又は二糖類の残基を表す。単糖類の具体例としては、例えばアロース、アルトロース、グルコース、マンノース、グロース、イドース、ガラクトース、タロース、リボース、アラビノース、キシロース、リキソースなどが挙げられる。
【０１１９】
以下に、一般式（Ａ）で表される糖エステルの単糖類残基を有する化合物の具体例を示すが、これら例示する化合物には限定されない。
【０１２０】
【化１２】
2016139095.tif 000014
【０１２１】
また、二糖類残基の具体例としては、例えば、トレハロース、スクロース、マルトース、セロビオース、ゲンチオビオース、ラクトース、イソトレハロース等が挙げられる。
【０１２２】
以下に、一般式（Ａ）で表される糖エステルの二糖類残基を有する化合物の具体例を示すが、これら例示する化合物には限定されない。
【０１２３】
【化１３】
2016139095.tif 000015
【０１２４】
一般式（Ａ）において、Ｒ２は、脂肪族基又は芳香族基を表す。ここで、脂肪族基及び芳香族基は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい。
【０１２５】
また、一般式（Ａ）において、ｍは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合しているヒドロキシ基の数の合計であり、ｎは、単糖類又は二糖類の残基に直接結合している−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）基の数の合計である。そして、３≦ｍ＋ｎ≦８であることが必要であり、４≦ｍ＋ｎ≦８であることが好ましい。また、ｎ≠０である。なお、ｎが２以上である場合、−（Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）−Ｒ２）基は互いに同じでもよいし、異なっていてもよい。
【０１２６】
Ｒ２の定義における脂肪族基は、直鎖であっても、分岐であっても、環状であってもよく、炭素数１〜２５のものが好ましく、１〜２０のものがより好ましく、２〜１５のものが特に好ましい。脂肪族基の具体例としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉｓｏ−プロピル、シクロプロピル、ｎ−ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、アミル、ｉｓｏ−アミル、ｔｅｒｔ−アミル、ｎ−ヘキシル、シクロヘキシル、ｎ−ヘプチル、ｎ−オクチル、ビシクロオクチル、アダマンチル、ｎ−デシル、ｔｅｒｔ−オクチル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、ジデシル等の各基が挙げられる。
【０１２７】
また、Ｒ２の定義における芳香族基は、芳香族炭化水素基でもよいし、芳香族複素環基でもよく、より好ましくは芳香族炭化水素基である。芳香族炭化水素基としては、炭素数が６〜２４のものが好ましく、６〜１２のものがさらに好ましい。芳香族炭化水素基の具体例としては、例えば、ベンゼン、ナフタレン、アントラセン、ビフェニル、ターフェニル等の各環が挙げられる。芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環、ナフタレン環、ビフェニル環が特に好ましい。芳香族複素環基としては、酸素原子、窒素原子又は硫黄原子のうち少なくとも一つを含む環が好ましい。複素環の具体例としては、例えば、フラン、ピロール、チオフェン、イミダゾール、ピラゾール、ピリジン、ピラジン、ピリダジン、トリアゾール、トリアジン、インドール、インダゾール、プリン、チアゾリン、チアジアゾール、オキサゾリン、オキサゾール、オキサジアゾール、キノリン、イソキノリン、フタラジン、ナフチリジン、キノキサリン、キナゾリン、シンノリン、プテリジン、アクリジン、フェナントロリン、フェナジン、テトラゾール、ベンズイミダゾール、ベンズオキサゾール、ベンズチアゾール、ベンゾトリアゾール、テトラザインデン等の各環が挙げられる。芳香族複素環基としては、ピリジン環、トリアジン環、キノリン環が特に好ましい。
【０１２８】
糖エステルは、一つの分子中に二つ以上の異なった置換基を含有していても良く、芳香族置換基と脂肪族置換基を１分子内に含有、異なる二つ以上の芳香族置換基を１分子内に含有、異なる二つ以上の脂肪族置換基を１分子内に含有することができる。
【０１２９】
また、２種類以上の糖エステルを混合して含有することも好ましい。芳香族置換基を含有する糖エステルと、脂肪族置換基を含有する糖エステルを同時に含有することも好ましい。
【０１３０】
以下、一般式（Ａ）で表される糖エステルの好ましい例を下記に示すが、これらの例示する化合物には限定されない。
【０１３１】
【化１４】
2016139095.tif 000016
【０１３２】
【化１５】
2016139095.tif 000017
【０１３３】
〈合成例：一般式（Ａ）で表される糖エステルの合成例〉
以下に、糖エステルの合成例を示す。
【０１３４】
【化１６】
2016139095.tif 000018
【０１３５】
撹拌装置、還流冷却器、温度計及び窒素ガス導入管を備えた四頭コルベンに、ショ糖を３４．２ｇ（０．１モル）、無水安息香酸を１８０．８ｇ（０．８モル）、ピリジンを３７９．７ｇ（４．８モル）、それぞれ仕込み、撹拌下で窒素ガス導入管から窒素ガスをバブリングさせながら昇温し、７０℃で５時間エステル化反応を行った。次に、コルベン内を４×１０２Ｐａ以下に減圧し、６０℃で過剰のピリジンを留去した後に、コルベン内を１．３×１０Ｐａ以下に減圧し、１２０℃まで昇温させ、無水安息香酸、生成した安息香酸の大部分を留去した。そして、次にトルエンを１Ｌ、０．５質量％の炭酸ナトリウム水溶液を３００ｇ添加し、５０℃で３０分間撹拌した後、静置して、トルエン層を分取した。最後に、分取したトルエン層に水を１００ｇ添加し、常温で３０分間水洗した後、トルエン層を分取し、減圧下（４×１０２Ｐａ以下）、６０℃でトルエンを留去させ、化合物Ａ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４及びＡ−５の混合物を得た。得られた混合物をＨＰＬＣ及びＬＣ−ＭＡＳＳで解析したところ、Ａ−１が７質量％、Ａ−２が５８質量％、Ａ−３が２３質量％、Ａ−４が９質量％、Ａ−５が３質量％で、糖エステルの平均エステル置換度が、６．５７であった。なお、得られた混合物の一部をシリカゲルカラムクロマトグラフィーにより精製することで、それぞれ純度１００％のＡ−１、Ａ−２、Ａ−３、Ａ−４及びＡ−５を得た。
【０１３６】
当該糖エステルの添加量は、光学フィルムを構成する樹脂（例えばセルロースアシレート）に対して０．１〜２０質量％の範囲で添加することが好ましく、１〜１５質量％の範囲で添加することがより好ましい。
【０１３７】
糖エステルとしては、色相が１０〜３００であるものが好ましく、１０〜４０のものが好ましい。
【０１３８】
（重縮合エステル）
本実施形態の光学フィルムにおいては、有機エステルとして、下記一般式（４）で表される構造を有する重縮合エステルを用いることが好ましい。当該重縮合エステルはその可塑的な効果から、光学フィルムを構成する樹脂に対して１〜３０質量％の範囲で含有することが好ましく、５〜２０質量％の範囲で含有することがより好ましい。
【０１３９】
一般式（４）
Ｂ３−（Ｇ２−Ａ）ｎ−Ｇ２−Ｂ４
上記一般式（４）において、Ｂ３及びＢ４は、それぞれ独立に脂肪族又は芳香族モノカルボン酸残基、若しくはヒドロキシ基を表す。Ｇ２は、炭素数２〜１２のアルキレングリコール残基、炭素数６〜１２のアリールグリコール残基又は炭素数が４〜１２のオキシアルキレングリコール残基を表す。Ａは、炭素数４〜１２のアルキレンジカルボン酸残基又は炭素数６〜１２のアリールジカルボン酸残基を表す。ｎは１以上の整数を表す。
【０１４０】
重縮合エステルは、ジカルボン酸とジオールを反応させて得られる繰り返し単位を含む重縮合エステルであり、Ａは重縮合エステル中のカルボン酸残基を表し、Ｇ２はアルコール残基を表す。
【０１４１】
重縮合エステルを構成するジカルボン酸は、芳香族ジカルボン酸、脂肪族ジカルボン酸又は脂環式ジカルボン酸であり、好ましくは芳香族ジカルボン酸である。ジカルボン酸は、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。特に芳香族、脂肪族を混合させることが好ましい。
【０１４２】
重縮合エステルを構成するジオールは、芳香族ジオール、脂肪族ジオール又は脂環式ジオールであり、好ましくは脂肪族ジオールであり、より好ましくは炭素数１〜４のジオールである。ジオールは、１種類であっても、２種類以上の混合物であってもよい。
【０１４３】
中でも、少なくとも芳香族ジカルボン酸を含むジカルボン酸と、炭素数１〜８のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことが好ましく、芳香族ジカルボン酸と脂肪族ジカルボン酸とを含むジカルボン酸と、炭素数１〜８のジオールとを反応させて得られる繰り返し単位を含むことがより好ましい。
【０１４４】
重縮合エステルの分子の両末端は、封止されていても、封止されていなくてもよい。
【０１４５】
一般式（４）のＡを構成するアルキレンジカルボン酸の具体例としては、１，２−エタンジカルボン酸（コハク酸）、１，３−プロパンジカルボン酸（グルタル酸）、１，４−ブタンジカルボン酸（アジピン酸）、１，５−ペンタンジカルボン酸（ピメリン酸）、１，８−オクタンジカルボン酸（セバシン酸）などから誘導される２価の基が含まれる。Ａを構成するアルケニレンジカルボン酸の具体例としては、マレイン酸、フマル酸などが挙げられる。Ａを構成するアリールジカルボン酸の具体例としては、１，２−ベンゼンジカルボン酸（フタル酸）、１，３−ベンゼンジカルボン酸、１，４−ベンゼンジカルボン酸、１，５−ナフタレンジカルボン酸などが挙げられる。
【０１４６】
Ａは、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ａは、炭素原子数４〜１２のアルキレンジカルボン酸と炭素原子数８〜１２のアリールジカルボン酸との組み合わせが好ましい。
【０１４７】
一般式（４）中のＧ２は、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基、炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される２価の基、又は炭素原子数４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基を表す。
【０１４８】
Ｇ２における炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、エチレングリコール、１，２−プロピレングリコール、１，３−プロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，２−プロパンジオール、２−メチル−１，３−プロパンジオール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、２，２−ジメチル−１，３−プロパンジオール（ネオペンチルグリコール）、２，２−ジエチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールペンタン）、２−ｎ−ブチル−２−エチル−１，３−プロパンジオール（３，３−ジメチロールヘプタン）、３−メチル−１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、２，２，４−トリメチル−１，３−ペンタンジオール、２−エチル−１，３−ヘキサンジオール、２−メチル−１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、及び１，１２−オクタデカンジオール等から誘導される２価の基が含まれる。
【０１４９】
Ｇ２における炭素原子数６〜１２のアリールグリコールから誘導される２価の基の例には、１，２−ジヒドロキシベンゼン（カテコール）、１，３−ジヒドロキシベンゼン（レゾルシノール）、１，４−ジヒドロキシベンゼン（ヒドロキノン）などから誘導される２価の基が含まれる。Ｇにおける炭素原子数が４〜１２のオキシアルキレングリコールから誘導される２価の基の例には、ジエチレングルコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコールなどから誘導される２価の基が含まれる。
【０１５０】
Ｇ２は、１種類であっても、２種類以上が組み合わされてもよい。中でも、Ｇ２は、炭素原子数２〜１２のアルキレングリコールから誘導される２価の基が好ましく、２〜５がさらに好ましく、２〜４が最も好ましい。
【０１５１】
一般式（４）におけるＢ３及びＢ４は、各々芳香環含有モノカルボン酸又は脂肪族モノカルボン酸から誘導される１価の基、若しくはヒドロキシ基である。
【０１５２】
芳香環含有モノカルボン酸から誘導される１価の基における芳香環含有モノカルボン酸は、分子内に芳香環を含有するカルボン酸であり、芳香環がカルボキシ基と直接結合したものだけでなく、芳香環がアルキレン基などを介してカルボキシ基と結合したものも含む。芳香環含有モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、安息香酸、パラターシャリブチル安息香酸、オルソトルイル酸、メタトルイル酸、パラトルイル酸、ジメチル安息香酸、エチル安息香酸、ノルマルプロピル安息香酸、アミノ安息香酸、アセトキシ安息香酸、フェニル酢酸、３−フェニルプロピオン酸などから誘導される１価の基が含まれる。中でも安息香酸、パラトルイル酸が好ましい。
【０１５３】
脂肪族モノカルボン酸から誘導される１価の基の例には、酢酸、プロピオン酸、ブタン酸、カプリル酸、カプロン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸、オレイン酸などから誘導される１価の基が含まれる。中でも、アルキル部分の炭素原子数が１〜３であるアルキルモノカルボン酸から誘導される１価の基が好ましく、アセチル基（酢酸から誘導される１価の基）がより好ましい。
【０１５４】
本実施形態において、重縮合エステルの重量平均分子量は、５００〜３０００の範囲であることが好ましく、６００〜２０００の範囲であることがより好ましい。重量平均分子量は前記ゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によって測定することができる。
【０１５５】
〈多価アルコールエステル〉
多価アルコールエステルは、２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなる化合物であり、分子内に芳香環又はシクロアルキル環を有することが好ましい。好ましくは２〜２０価の脂肪族多価アルコールエステルである。
【０１５６】
本実施形態で好ましく用いられる多価アルコールは、次の一般式（５）で表される。
【０１５７】
一般式（５）  Ｒ１１−（ＯＨ）ｎ
ただし、Ｒ１１はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数、ＯＨ基はアルコール性、及び／又はフェノール性水酸基を表す。
【０１５８】
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることができるが、これらに限定されるものではない。
【０１５９】
アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることができる。
【０１６０】
特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。
【０１６１】
多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることができる。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。
【０１６２】
好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることができるが、これに限定されるものではない。
【０１６３】
脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖又は側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることができる。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロースアセテートとの相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。
【０１６４】
好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることができる。
【０１６５】
好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることができる。
【０１６６】
好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基、メトキシ基あるいはエトキシ基などのアルコキシ基を１〜３個を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、又はそれらの誘導体を挙げることができる。特に安息香酸が好ましい。
【０１６７】
多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００の範囲であることが好ましく、３５０〜７５０の範囲であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロースアシレートとの相溶性の点では小さい方が好ましい。
【０１６８】
多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。
【０１６９】
〔その他の添加剤〕
〈リン酸エステル〉
本実施形態の光学フィルムは、リン酸エステルを含有することもできる。リン酸エステルとしては、トリアリールリン酸エステル、ジアリールリン酸エステル、モノアリールリン酸エステル、アリールホスホン酸化合物、アリールホスフィンオキシド化合物、縮合アリールリン酸エステル、ハロゲン化アルキルリン酸エステル、含ハロゲン縮合リン酸エステル、含ハロゲン縮合ホスホン酸エステル、含ハロゲン亜リン酸エステル等が挙げられる。
【０１７０】
具体的なリン酸エステルとしては、トリフェニルホスフェート、９，１０−ジヒドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキシド、フェニルホスホン酸、トリス（β−クロロエチル）ホスフェート、トリス（ジクロロプロピル）ホスフェート、トリス（トリブロモネオペンチル）ホスフェート等が挙げられる。
【０１７１】
〈グリコール酸のエステル類〉
また、多価アルコールエステル類の１種として、グリコール酸のエステル類（グリコレート化合物）を用いることができる。グリコレート化合物としては、特に限定されないが、アルキルフタリルアルキルグリコレート類が好ましく用いることができる。
【０１７２】
アルキルフタリルアルキルグリコレート類としては、例えば、メチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルプロピルグリコレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、オクチルフタリルオクチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート、エチルフタリルメチルグリコレート、エチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルメチルグリコレート、ブチルフタリルエチルグリコレート、プロピルフタリルブチルグリコレート、ブチルフタリルプロピルグリコレート、メチルフタリルオクチルグリコレート、エチルフタリルオクチルグリコレート、オクチルフタリルメチルグリコレート、オクチルフタリルエチルグリコレート等が挙げられ、好ましくはエチルフタリルエチルグリコレートである。
【０１７３】
〈微粒子（マット剤）〉
光学フィルムは、表面の滑り性を高めるため、必要に応じて微粒子（マット剤）をさらに含有してもよい。
【０１７４】
微粒子は、無機微粒子であっても有機微粒子であってもよい。無機微粒子の例には、二酸化ケイ素（シリカ）、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムなどが含まれる。中でも、二酸化ケイ素や酸化ジルコニウムが好ましく、得られるフィルムのヘイズの増大を少なくするためには、より好ましくは二酸化ケイ素である。
【０１７５】
二酸化ケイ素の微粒子の例には、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００、ＮＡＸ５０（以上日本アエロジル（株）製）、シーホスターＫＥ−Ｐ１０、ＫＥ−Ｐ３０、ＫＥ−Ｐ５０、ＫＥ−Ｐ１００（以上日本触媒（株）製）などが含まれる。中でも、アエロジルＲ９７２Ｖ、ＮＡＸ５０、シーホスターＫＥ−Ｐ３０などが、得られるフィルムの濁度を低く保ちつつ、摩擦係数を低減させるため特に好ましい。
【０１７６】
微粒子の一次粒子径は、５〜５０ｎｍの範囲であることが好ましく、７〜２０ｎｍの範囲であることがより好ましい。一次粒子径が大きい方が、得られるフィルムの滑り性を高める効果は大きいが、透明性が低下しやすい。そのため、微粒子は、粒子径０．０５〜０．３μｍの範囲の二次凝集体として含有されていてもよい。微粒子の一次粒子又はその二次凝集体の大きさは、透過型電子顕微鏡にて倍率５０〜２００万倍で一次粒子又は二次凝集体を観察し、一次粒子又は二次凝集体１００個の粒子径の平均値として求めることができる。
【０１７７】
微粒子の含有量は、位相差フィルムを形成する樹脂に対して０．０５〜１．０質量％の範囲であることが好ましく、０．１〜０．８質量％の範囲であることがより好ましい。
【０１７８】
〈位相差制御剤〉
液晶表示装置等の画像表示装置の表示品質の向上のため、光学フィルム中に位相差制御剤を添加するか、配向膜を形成して液晶層を設け、偏光板保護フィルムと液晶層由来の位相差を複合化することにより、光学フィルム（位相差フィルム）に光学補償能を付与することができる。
【０１７９】
位相差制御剤としては、欧州特許９１１，６５６Ａ２号明細書に記載されているような、２以上の芳香族環を有する芳香族化合物、特開２００６−２０２５号公報に記載の棒状化合物等が挙げられる。また、二種類以上の芳香族化合物を併用してもよい。この芳香族化合物の芳香族環には、芳香族炭化水素環に加えて、芳香族性ヘテロ環を含む芳香族性ヘテロ環であることが好ましい。芳香族性ヘテロ環は、一般に不飽和ヘテロ環である。なかでも、特開２００６−２０２６号公報に記載の１，３，５−トリアジン環が好ましい。なお、前述した一般式（１）で表される構造を有する化合物は、位相差制御剤としても機能する。
【０１８０】
これらの位相差制御剤の添加量は、フィルム基材として使用する樹脂１００質量％に対して、０．５〜２０質量％の範囲内であることが好ましく、１〜１０質量％の範囲内であることがより好ましい。
【０１８１】
〔光学フィルムの製造方法〕
本実施形態の光学フィルムは、例えば溶液流延製膜法や溶融流延製膜法によって製造することができる。ただし、薄膜の光学フィルムを製造する場合は、含水（吸湿）によるリタデーションＲｔｈの低下を抑えるために、リタデーション上昇剤としての含窒素複素環化合物の添加量を多くする必要がある。含窒素複素環化合物の添加量が多い場合、溶融流延製膜法では、含窒素複素環化合物が溶融せず、製膜過程で焦げ付き等が発生するため、溶液流延製膜法で製膜することが望ましい。以下、本実施形態の光学フィルムを溶液流延製膜法で製造する例について説明する。
【０１８２】
（溶液流延製膜法）
図２は、溶液流延製膜法によって光学フィルムを製造する装置の一例を模式的に示している。溶液流延製膜法では、（１）少なくともセルロースエステル系樹脂、含窒素複素環化合物及び有機エステルなどの添加剤を溶剤に溶解させてドープを調製する工程、（２）ドープをベルト状若しくはドラム状の金属支持体上に流延する工程、（３）金属支持体上で流延したドープの溶媒を蒸発させてウェブを得る工程、（４）ウェブを金属支持体から剥離する工程、（５）剥離したウェブ（フィルム）を延伸し、乾燥させる工程、６）フィルムを冷却した後に巻き取る工程、が順に行われる。
【０１８３】
（１）ドープ調製工程
この工程は、（Ａ）メチレンクロライド（ＭＣ）に対する２３℃での飽和溶解度が１０％以下である含窒素複素環化合物（リタデーション上昇剤）を、分散釜３１にて、メチレンクロライドの一部（所定量のメチレンクロライドを二分したときの一方）に分散（プレ分散）させて有機物分散液を調製する工程と、（Ｂ）調製した有機物分散液を、樹脂（例えばセルロースエステル系樹脂）およびメチレンクロライドの残りとともに溶解釜３２に投入して、ドープを調製する工程と、を含む。なお、糖エステルや微粒子などの、リタデーション上昇剤以外の添加剤については、必要に応じて溶解釜３２に投入すればよい。
【０１８４】
上記（Ａ）の工程では、比重差によって原料（含窒素複素環化合物）が溶媒上に浮くのを低減するため、分散釜３１に溶媒のメチレンクロライドを張った後、撹拌子で撹拌して、吸込み力を生じるボルテックス（渦巻き）を立て、その状態で含窒素複素環化合物を分散釜３１に投入して分散させることが望ましい。その後は、撹拌のみで含窒素複素環化合物を分散させてもよいが、さらに以下の（ａ）〜（ｄ）の少なくともいずれかの対応を取ることにより、より良い分散性を得ることができる。
（ａ）循環での剪断付与による分散を行う。
（ｂ）配管径を一部絞ることによるインジェクター効果を利用した剪断付与による分散を行う。
（ｃ）ディスパー羽根を分散釜３１に追加して、剪断付与による分散を行う。
（ｄ）工程適正（後述する）が得られる範囲内で、原料の固形分濃度をアップさせる。
【０１８５】
本実施形態では、難溶性の上記含窒素複素環化合物をメチレンクロライドに分散させた有機物分散液の粘度は、１０〜３０００ｍＰａ・ｓとなっており、スラリー状（固体／液体混合状態）となっている。このような粘度範囲の有機物分散液は、上記含窒素複素環化合物として、粉体のメディアン粒子径Ｄ５０が４０μｍ以下のものを用い、有機物分散液の固体濃度が２８％以下となるように、分散溶媒（上記含窒素複素環化合物を分散させる溶媒）を選択するとともに、その溶媒量を調整することで実現できる。なお、メディアン粒子径とは、粉体をある粒子径から２つに分けたときに、大きい側と小さい側とが等量となるような径を指す。
【０１８６】
上記粘度範囲のスラリー状の有機物分散液を予め調製し、この有機物分散液を樹脂およびメチレンクロライド（有機物分散液の調製に用いずに残った溶媒）とともに溶解釜３２に投入することにより、難溶性材料（上記含窒素複素環化合物）の溶媒からの浮きや、２次凝集の発生を抑えることができ、これによって難溶性材料の溶解不良およびそれによる異物の発生を低減することができる。そして、製膜されたフィルムにおける輝点異物の数を１０個／ｃｍ２以下に減らすことができる。これにより、添加剤の面内分布のムラ、ひいては、フィルムの光学値（リタデーションＲｏおよびＲｔｈ）のムラを低減することができ、そのようなフィルムを適用した液晶表示装置において、コントラストのムラが生じるのを低減することができる。
【０１８７】
なお、輝点異物とは、直交状態（クロスニコル）で配置した２枚の偏光子の間にフィルムを置き、一方の偏光子の外側から光を当て、他方の偏光子の外側から顕微鏡で観察したときに、異物部分で光が漏れ、星が輝くように輝点となって見える異物を指す。本実施形態では、フィルムの平均膜厚をｄ（μｍ）、異物の長径をｒ（μｍ）としたとき、１ｃｍ２の範囲でｒ＞ｄ／２を満たす、クロスニコル状態で認識される異物を、輝点異物とした。
【０１８８】
難溶性材料の溶解不良を確実に低減して、フィルムの輝点異物を確実に減らす観点から、有機物分散液の粘度は、５００〜２５００ｍＰａ・ｓであることが望ましい。
【０１８９】
ところで、本実施形態では、上記含窒素複素環化合物をプレ分散させる溶媒として、アルコールではなく、メチレンクロライドを用いている。その理由は、以下の通りである。
【０１９０】
スラリー分散液は、原料が溶媒に溶解しないものが良いとされている。仮に、溶解する原料を溶媒に分散した際、原料の一部は溶媒に溶解し、一部は溶けずに残る。上記溶解した原料は、外気温度の影響等で再析出するおそれがある。その際、再析出物は、結晶性を有する形で析出する可能性が高い。したがって、原料が溶媒に対して溶解性の高い材料である場合、結晶性を有する再析出物が生じる可能性が高くなる。結晶性を有する再析出物は、原料そのものよりも溶媒に対する溶解性が低くなる。
【０１９１】
スラリー分散液である有機物分散液は、溶解釜３２に添加されるが、結晶性を有する再析出物がある場合、それが不溶解物となり、異物の原因となってしまう。そのため、スラリー分散に適用する溶媒は、原料の飽和溶解度が著しく低いものを使用する必要がある。上記含窒素複素環化合物は、メチレンクロライドに対しては飽和溶解度が１０％以下と著しく低いが、アルコール（例えばエタノール）に対しては多少の溶解性を有してしまう。このため、本実施形態では、プレ分散に用いる溶媒として、アルコールではなく、メチレンクロライドを用いている。
【０１９２】
上記（Ｂ）の工程において、溶解釜３２には、有機溶媒であるメチレンクロライドの他に、１〜４０質量％の範囲の炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを投入してもよい。ドープ中のアルコールの比率が高くなると、ウェブがゲル化し、金属支持体からの剥離が容易になる。光学フィルムの製膜においては、得られる光学フィルムの平面性を高める点から、アルコール濃度が０．５〜１５．０質量％の範囲内にあるドープを用いて製膜する方法を適用することができる。
【０１９３】
特に、メチレンクロライド、及び炭素数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールを含有する溶媒に、セルロースアシレート及びその他の化合物を、計１５〜４５質量％の範囲で溶解させたドープ組成物であることが好ましい。
【０１９４】
炭素原子数１〜４の直鎖又は分岐鎖状の脂肪族アルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールを挙げることができる。これらのうち、ドープの安定性、沸点も比較的低く、乾燥性もよいこと等から、メタノールまたはエタノールを用いることが好ましい。
【０１９５】
溶解釜３２でのセルロースエステル系樹脂、糖エステル、重縮合エステル、及び多価アルコールエステル、又はその他の化合物の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、又は特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載されている高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。
【０１９６】
ドープ中のセルロースエステル系樹脂の濃度は、１０〜４０質量％の範囲であることが好ましい。溶解中又は後のドープに化合物を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。
【０１９７】
濾過は捕集粒子径０．５〜５μｍで、かつ濾水時間１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材を用いることが好ましい。
【０１９８】
この方法では、粒子分散時に残存する凝集物や主ドープ添加時に発生する凝集物を、捕集粒子径０．５〜５μｍで、かつ濾水時間１０〜２５ｓｅｃ／１００ｍｌの濾材を用いることで凝集物だけ除去できる。主ドープでは粒子の濃度も添加液に比べ十分に薄いため、濾過時に凝集物同士がくっついて急激な濾圧上昇することもない。
【０１９９】
（２）流延工程
この工程では、溶解釜３２中のドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイ３３に送液し、無限に移送する無端の金属支持体３４上の流延位置に、加圧ダイ３３からドープを流延する。加圧ダイ３３は、ダイの口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にしやすい点で好ましい。加圧ダイ３３には、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。製膜速度を上げるために、加圧ダイ３３を金属支持体３４上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。
【０２００】
金属支持体３４は、２個のローラ３５・３５によって張架されるステンレススティールベルトで構成されている。金属支持体３４としては、表面を鏡面仕上げしたものが好ましく、上記のステンレススティールベルト以外に、鋳物で表面をメッキ仕上げした金属ドラム等を用いることもできる。
【０２０１】
流延（キャスト）の幅は、１〜４ｍの範囲、好ましくは１．５〜３ｍの範囲、さらに好ましくは２〜２．８ｍの範囲とすることができる。流延工程での金属支持体３４の表面温度は、−５０℃〜溶剤が沸騰して発泡しない温度、さらに好ましくは、−３０〜０℃の範囲に設定される。温度が高い方がウェブの乾燥速度が速くできるので好ましいが、余り高過ぎるとウェブが発泡したり、平面性が劣化する場合がある。好ましい支持体温度としては０〜１００℃で適宜決定され、５〜３０℃の範囲が更に好ましい。あるいは、冷却することによってウェブをゲル化させて残留溶媒を多く含んだ状態で支持体から剥離することも好ましい方法である。
【０２０２】
金属支持体３４の温度を制御する方法は特に制限されないが、温風又は冷風を吹きかける方法や、温水を金属支持体３４の裏側に接触させる方法がある。温水を用いる方が熱の伝達が効率的に行われるため、金属支持体３４の温度が一定になるまでの時間が短く好ましい。温風を用いる場合は、溶媒の蒸発潜熱によるウェブの温度低下を考慮して、溶媒の沸点以上の温風を使用しつつ、発泡も防ぎながら目的の温度よりも高い温度の風を使う場合がある。特に、流延から剥離するまでの間で支持体の温度及び乾燥風の温度を変更し、効率的に乾燥を行うことが好ましい。
【０２０３】
（３）溶媒蒸発工程
この工程では、金属支持体３４上に流延されたドープによって形成された膜（ウェブ）を加熱し、溶媒を蒸発させる。溶媒を蒸発させるには、ウェブの表面（金属支持体３４とは反対側）から風を吹かせる方法、金属支持体３４の裏面（ウェブとは反対側の面）から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱方法が、乾燥効率が良く好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましく用いられる。流延後の金属支持体３４上のウェブを、４０〜１００℃の雰囲気下で、金属支持体３４上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気下に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか、赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
【０２０４】
面品質、透湿性、剥離性の観点から、３０〜１２０秒以内で当該ウェブを金属支持体３４から剥離することが好ましい。
【０２０５】
（４）剥離工程
この工程では、金属支持体３４上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離ローラ３６によって所定の剥離位置で剥離する。以降、剥離後のウェブを、ウェブ３７とする。ウェブ３７は、次工程に送られる。
【０２０６】
金属支持体３４上の剥離位置における温度は、好ましくは１０〜４０℃の範囲であり、さらに好ましくは、１１〜３０℃の範囲である。
【０２０７】
なお、剥離時点での金属支持体３４上でのウェブの残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体３４の長さ等により、５０〜１２０質量％の範囲で剥離することが好ましい。残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損ね、剥離張力によるツレや縦スジが発生しやすいため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。なお、ウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
【０２０８】
残留溶媒量（％）＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／
（ウェブの加熱処理後質量）×１００
ここで、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０２０９】
金属支持体３４からウェブを剥離する際の剥離張力は、通常、１９６〜２４５Ｎ／ｍの範囲内であるが、剥離の際に皺が入りやすい場合、１９０Ｎ／ｍ以下の張力で剥離することが好ましい。
【０２１０】
本実施形態においては、金属支持体３４上の剥離位置における温度を、−５０〜４０℃の範囲内とするのが好ましく、１０〜４０℃の範囲内がより好ましく、１５〜３０℃の範囲内とするのが最も好ましい。
【０２１１】
（５）延伸、乾燥工程
この工程では、予備乾燥工程、延伸工程、本乾燥工程が順に行われる。予備乾燥は、必要に応じて行われればよい。
【０２１２】
〈予備乾燥工程〉
金属支持体３４から剥離して得られたウェブ３７を乾燥させる。ウェブ３７の乾燥は、ウェブ３７を、上下に配置した多数のローラにより搬送しながら乾燥させてもよいし、テンター乾燥機のようにウェブ３７の両端部をクリップで固定して搬送しながら乾燥させてもよい。
【０２１３】
ウェブ３７を乾燥させる手段は特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ローラ、マイクロ波等で行うことができるが、簡便さの点で、熱風で行うことが好ましい。
【０２１４】
ウェブ３７の乾燥工程における乾燥温度は、好ましくはフィルムのガラス転移点−５℃以下、１００℃以上で、１０分以上６０分以下の熱処理を行うことが効果的である。乾燥温度は１００〜２００℃の範囲内、更に好ましくは１１０〜１６０℃の範囲内であることが望ましい。
【０２１５】
〈延伸工程〉
この工程では、金属支持体３４から剥離され、必要に応じて予備乾燥されたウェブ３７に対して、ＭＤ方向及び／又はＴＤ方向への延伸が行われる。このとき、少なくともテンター延伸装置３８によって、ＴＤ方向に延伸することが好ましい。
【０２１６】
延伸工程での延伸は、一軸延伸又は二軸延伸とすることができる。二軸延伸には、一方向に延伸し、もう一方の方向の張力を緩和して収縮させる態様も含まれる。
【０２１７】
本実施形態の位相差フィルムは、延伸後の膜厚が所望の範囲になるように、ＭＤ方向及び／又はＴＤ方向に、好ましくはＴＤ方向に、（Ｔｇ＋１５）〜（Ｔｇ＋５０）℃の温度範囲で延伸することが好ましい。なお、Ｔｇは、フィルムのガラス転移温度（℃）である。上記温度範囲で延伸を行うと、リタデーションの調整がしやすく、また延伸応力を低下できるのでヘイズが低くなる。また、破断の発生を抑制し、平面性、フィルム自身の着色性に優れた偏光板用の位相差フィルムが得られる。延伸温度は、（Ｔｇ＋２０）〜（Ｔｇ＋４０）℃の範囲であることが好ましい。
【０２１８】
なお、ここでいうガラス転移温度Ｔｇは、市販の示差走査熱量測定器を用いて、昇温速度２０℃／分で測定し、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従い求めた中間点ガラス転移温度（Ｔｍｇ）である。具体的な位相差フィルムのガラス転移温度Ｔｇの測定方法は、ＪＩＳ  Ｋ７１２１（１９８７）に従って、セイコーインスツル（株）製の示差走査熱量計ＤＳＣ２２０を用いて測定する。
【０２１９】
本実施形態の光学フィルムは、ウェブ３７を少なくともＴＤ方向に１．１倍以上延伸することが好ましい。延伸の範囲は、元幅に対して１．１〜１．５倍であることが好ましく、１．０５〜１．３倍であることがより好ましい。上記範囲内であれば、フィルム中の分子の移動が大きく、所望のリタデーション値が得られるばかりではなく、フィルムの寸法変化の挙動を所望の範囲内に制御することができる。
【０２２０】
さらに、当該延伸は製膜した後残留溶剤量が４０質量％以上であるときに該フィルムをＭＤ方向に延伸を開始することが好ましく、残留溶剤量が４０質量％未満であるときにＴＤ方向に延伸することが好ましい。
【０２２１】
ＭＤ方向に延伸するために、剥離張力を１３０Ｎ／ｍ以上で剥離することが好ましく、特に好ましくは１５０〜１７０Ｎ／ｍである。剥離後のウェブは高残留溶剤状態であるため、剥離張力と同様の張力を維持することで、ＭＤ方向への延伸を行うことができる。ウェブが乾燥し、残留溶剤量が減少するに従って、ＭＤ方向への延伸率は低下する。
【０２２２】
なお、ＭＤ方向の延伸倍率は、ベルト支持体の回転速度とテンター運転速度から算出できる。
【０２２３】
ＴＤ方向に延伸するには、例えば、特開昭６２−４６６２５号公報に示されているような乾燥全工程あるいは一部の工程を幅方向にクリップ又はピンでウェブの幅両端を幅保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。
【０２２４】
本実施形態の位相差フィルムは、延伸することにより必然的にリタデーションを有するが、面内リタデーションＲｏ、及び厚さ方向のリタデーションＲｔの各値は、自動複屈折率計アクソスキャン（Ａｘｏ  Ｓｃａｎ  Ｍｕｅｌｌｅｒ  Ｍａｔｒｉｘ  Ｐｏｌａｒｉｍｅｔｅｒ：アクソメトリックス社製）を用いて、２３℃・５５％ＲＨの環境下、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。
【０２２５】
本実施形態の位相差フィルムは、下記式（ｉ）で定義される面内方向のリタデーションＲｏおよび下記式（ii）で定義される厚さ方向のリタデーションＲｔｈが以下の範囲内にあることが、ＶＡモード型液晶表示装置に具備された場合に視認性を向上する観点から好ましい。位相差フィルムは、少なくともＴＤ方向に延伸倍率を調整しながら延伸することで、リタデーションＲｏ、Ｒｔｈを上記範囲内に調整することができる。
３０ｎｍ＜Ｒｏ＜７０ｎｍ
１００ｎｍ＜Ｒｔｈ＜３００ｎｍ
【０２２６】
式（ｉ）：Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ（ｎｍ）
式（ii）：Ｒｔ＝｛（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ｝×ｄ（ｎｍ）
〔式（ｉ）及び式（ii）において、ｎｘは、フィルムの面内方向において屈折率が最大になる方向ｘにおける屈折率を表す。ｎｙは、フィルムの面内方向において、前記方向ｘと直交する方向ｙにおける屈折率を表す。ｎｚは、フィルムの厚さ方向ｚにおける屈折率を表す。ｄは、フィルムの厚さ（ｎｍ）を表す。〕
【０２２７】
〈本乾燥工程〉
延伸後のウェブ３７は、フィルムＦとして乾燥装置３９に搬送され、そこで上述した予備乾燥と同様の手法で乾燥が行われる。なお、本乾燥工程での乾燥条件は、予備乾燥工程と異なっていてもよい。本乾燥工程では、含水によるリタデーションＲｔｈの変動を抑える観点から、延伸後に、延伸温度よりも低い温度である１００℃以上で、５分以上乾燥が行われることが望ましく、１１０〜１５０℃で１０〜２０分間の乾燥が行われることがより望ましい。
【０２２８】
〈ナーリング加工〉
上記の本乾燥の終了後、フィルムＦの巻取前に、スリッターを設けてフィルムＦの端部を切り落とすことが、良好な巻姿を得るため好ましい。更に、フィルム幅手両端部には、ナーリング加工を施すことが好ましい。
【０２２９】
ナーリング加工は、加熱されたエンボスローラーを押し当てることにより形成することができる。エンボスローラーには細かな凹凸が形成されており、これを押し当てることでフィルムに凹凸を形成し、端部を嵩高くすることができる。フィルムＦの幅手両端部のナーリングの高さは、４〜２０μｍ、幅５〜２０ｍｍが好ましい。
【０２３０】
（６）巻取工程
この工程では、残留溶媒量が２質量％以下となってから、巻取装置４０にてフィルムＦを巻き取る工程である。残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより、寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
【０２３１】
フィルムＦの巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを使いわければよい。
【０２３２】
〔光学フィルムの物性〕
（ヘイズ）
本実施形態の光学フィルムは、ヘイズが１％未満であることが好ましく、０．５％未満であることがより好ましい。ヘイズを１％未満とすることにより、フィルムの透明性がより高くなり、光学用途のフィルムとしてより用いやすくなるという利点がある。
【０２３３】
（平衡含水率）
本実施形態の光学フィルムは、２５℃、相対湿度６０％における平衡含水率が４％以下であることが好ましく、３％以下であることがより好ましい。平衡含水率を４％以下とすることにより、湿度変化に対応しやすく、光学特性や寸法がより変化しにくく好ましい。
【０２３４】
（フィルム長、幅、膜厚）
本実施形態の光学フィルムは、長尺であることが好ましく、具体的には、１００〜１００００ｍ程度の長さであることが好ましく、ロール状に巻き取られる。また、本実施形態の光学フィルムの幅は、１ｍ以上であることが好ましく、更に好ましくは１．４ｍ以上であり、特に１．４〜４ｍであることが好ましい。
【０２３５】
光学フィルムの膜厚は、表示装置の薄型化、生産性の観点から、１０〜１００μｍの範囲内であることが好ましい。膜厚が１０μｍ以上であれば、一定以上のフィルム強度や位相差を発現させることができる。膜厚が１００μｍ以下であれば、熱や湿度による位相差の変動を抑えることができる。好ましい膜厚の範囲は、２０〜７０μｍであり、さらに好ましくは、２０〜４０μｍである。
【０２３６】
光学フィルムの膜厚ムラは、厚さ方向又は幅方向のいずれも０〜５μｍの範囲内が好ましく、より好ましくは０〜３μｍの範囲内であり、さらに好ましくは０〜２μｍの範囲内である。
【０２３７】
〔実施例〕
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「部」あるいは「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」あるいは「質量％」を表す。
【０２３８】
＜光学フィルム１０１の作製＞
〈微粒子分散液１〉
微粒子（アエロジル  Ｒ８１２  日本アエロジル（株）製）              １１質量部
エタノール                                                          ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間撹拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行い、微粒子分散液１を調製した。
【０２３９】
〈微粒子添加液１〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクに十分撹拌しながら、微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。
メチレンクロライド                                                  ９９質量部
微粒子分散液１                                                        ５質量部
【０２４０】
〈ドープの調製〉
以下に示す材料を用意するとともに、調製時の条件に応じた所定量のメチレンクロライド（例えば密閉容器投入総メチレンクロライド（ＭＣ）の１〜４％分）に、リタデーション上昇剤としての例示化合物１を分散させて有機物分散液を調製した。このとき用いた例示化合物１の粉体粒径（溶質粒径）Ｄ５０、有機物分散液の固体濃度および粘度は、表１に示す通りである。なお、粘度は、ＪＩＳ  Ｚ  ８８０３に準拠して、Ｂ型粘度計（型式ＶＳ−Ａ１、芝浦システム株式会社製）により測定した。
【０２４１】
次に、下記材料のうち、有機物分散液の調製で用いなかった残りの材料と、上記の有機物分散液とを、密閉容器に入れて混合し、８０℃まで昇温した後、３時間攪拌を行って完全に溶解し、ドープを調製した。その後、攪拌を停止し、液温を４３℃まで下げ、濾過精度０．００５ｍｍの濾紙を用いて濾過を行った。その後、濾過したドープをストックタンク内で静置し、ドープ中の気泡を脱泡させた。なお、ストックタンク内でドープを静置する時間は、特に限定されないが、数時間であれば十分であり、それ以上長い時間（例えば一晩）であっても勿論構わない。
【０２４２】
《ドープの組成》
メチレンクロライド                                                ３６５質量部
エタノール                                                          ５０質量部
セルロースアシレート（ＣＡＢ（セルロースアセテートブチレート）、アセチル基置換度２．６、ブチリル基置換度０．３、総アシル基置換度２．９）
１００質量部
含窒素複素環化合物（例示化合物１）                                    ３質量部
有機エステルＳ１                                                      ５質量部
微粒子添加液１                                                        １質量部
【０２４３】
なお、上記の有機エステルＳ１としては、糖エステルを用いた。この糖エステルとしては、ＢｚＳｃ（ベンジルサッカロース：糖残基がＢ−２で、置換基が化１４に記載のａ１〜ａ４の混合物、平均エステル置換度＝５．５）を用いた。
【０２４４】
〈フィルムの製膜〉
次に、ステンレスベルト支持体上で、流延（キャスト）したドープによって形成されるウェブ中の残留溶媒量が７５質量％になるまで溶媒を蒸発させ、次いで剥離張力１３０Ｎ／ｍで、ステンレスベルト支持体上からウェブを剥離した。その後、剥離したウェブを、１５０℃の熱をかけながらテンターを用いて幅方向に３０％延伸した。延伸開始時の残留溶媒は１５％であった。
【０２４５】
次いで、乾燥ゾーンを多数のローラで搬送させながら乾燥を終了させた。このときの乾燥温度は１３０℃とし、搬送張力は１００Ｎ／ｍとした。以上のようにして、乾燥膜厚４０μｍの光学フィルム１０１を製膜した。
【０２４６】
＜光学フィルム１０２〜１１２の作製＞
セルロースアシレートの種類、含窒素複素環化合物を分散させる溶媒の種類、含窒素複素環化合物の種類／溶質粒径／固体濃度／粘度を表１のように変化させた以外は、光学フィルム１の作製と同様にして、光学フィルム１０２〜１１２を作製した。なお、含窒素複素環化合物の飽和溶解度は、用いる含窒素複素環化合物および溶媒に応じて決まる。表１では、メチレンクロライドに対する個々の含窒素複素環化合物の飽和溶解度を示している。なお、表１において、ＳＣＡＰは、アセチル基置換度１．９、プロピオニル基置換度０．６、総アシル基置換度２．５のセルロースアシレート（セルロースアセテートプロピオネート）を指す。
【０２４７】
なお、光学フィルム１０９の作製では、有機物分散液を調製せず、その他の材料とともに含窒素複素環化合物を直接溶解釜に投入してドープを調製した。また、光学フィルム１１０および１１２の作製では、含窒素複素環化合物を分散させる溶媒として、メチレンクロライドおよびエタノール（表１ではＥｔＯＨと表記）を用い、含窒素複素環化合物を分散溶媒に溶解させて有機物分散液を調製した。特に、光学フィルム１１０の作製では、含窒素複素環化合物を分散溶媒に完全に溶解させて有機物分散液を調製した。
【０２４８】
＜輝点異物の測定＞
２枚の偏光板を直交状態（クロスニコル）に配置して透過光を遮断し、２枚の偏光板の間に上記作製した光学フィルムを配置し、片側から光を照射し、反対側から光学顕微鏡（５０倍）で輝点異物の数をカウントした。このとき、１ｃｍ２当たり、フィルム平均膜厚ｄ（μｍ）の１／２よりも大きい長径（μｍ）の異物を輝点異物としてカウントした。
【０２４９】
＜工程適正＞
工程適正とは、フィルムの生産性への影響を判断するための指標である。添加剤（含窒素複素環化合物）は、上述のように、事前に溶媒に溶解または分散させてから、溶解釜に残りの溶媒および樹脂（酢綿）とともに添加される。このとき、上記添加剤を分散させる溶媒の量が増大すると、樹脂を溶解させるための溶媒の量が減少してしまう（全体で用いる溶媒量は一定であるため）。樹脂を溶解させる溶媒の量が減少すると、ママコ（酢綿不溶解の塊）の形成や詰まりなどが生じ、生産工程を止めるなどの対応が必要となり、フィルムの生産性が落ちる。すなわち、添加剤を分散させる溶媒の量が一定以上になると、フィルムの生産性に影響が生じる。ここでは、フィルムの生産性に影響が生じるかどうかを、工程適正という形で、以下の基準に基づいて評価した。
《評価基準》
○  ：生産性に問題なし。
△  ：生産性にギリギリ問題が生じない。
×  ：生産性に問題が生じ、工程停止に繋がる。
××：そもそも工程導入が不可能な条件である。
【０２５０】
＜ドープ評価＞
各光学フィルムの作製に用いたドープを広口瓶に入れ、蓋をした後、瓶を逆さにして光を通し、ドープ中の不溶解物の状態と、ドープの瓶内の移動の状態とを観察した。そして、ドープの状態を以下の基準に基づいて評価した。
《評価基準》
ａ：不溶解物は見つからず、ドープはスムーズに瓶内を移動した。
ｂ：不溶解物が極僅か見られるが、ドープはスムーズに瓶内を移動した。
ｃ：不溶解物が若干見られるが、ドープはほぼスムーズに移動した。
ｄ：不溶解物がかなり見られ、部分的にドープの移動がぎこちなく見えた。
ｅ：不溶解物が多くあり、ドープがぎこちなく（ざらざらした感じで）移動した。
【０２５１】
＜ＲｏムラおよびＲｔｈムラの評価＞
自動複屈折計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器社製）を用いて、温度２３℃、湿度５５％ＲＨの環境下で、フィルムの幅手方向に１０ｍｍピッチで、波長５９０ｎｍにおける屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚを求めた。そして、下記式に従って、フィルム面内方向のリタデーションＲｏ及び厚み方向のリタデーションＲｔｈを算出した。
Ｒｏ＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ
ここで、ｎｘはフィルムの面内における遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内における進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの厚み（ｎｍ）である。
【０２５２】
そして、フィルムのＲｏムラおよびＲｔｈムラを、それぞれΔＲｏおよびΔＲｔｈに対応させ、以下の評価基準に基づいて評価した。なお、ΔＲｏは、測定値（Ｒｏ）の最大値と最小値との差を表し、ΔＲｔｈは、測定値（Ｒｔｈ）の最大値と最小値との差を表す。このとき、全ての光学フィルムにおいて、Ｒｏの最大値および最小値ともに、３０ｎｍ＜Ｒｏ＜７０ｎｍを満足し、Ｒｔｈの最大値および最小値ともに、１００ｎｍ＜Ｒｔｈ＜３００ｎｍを満足していた。
《Ｒｏムラ評価基準》
◎：ΔＲｏ≦1．５ｎｍ
○：１．５ｎｍ＜ΔＲｏ≦２．０ｎｍ
△：２．０ｎｍ＜ΔＲｏ≦２．５ｎｍ
×：２．５ｎｍ＜ΔＲｏ
《Ｒｔｈムラ評価基準》
◎：Ｒｔｈムラ≦３．０ｎｍ
○：３．０ｎｍ＜Ｒｔｈムラ≦４．０ｎｍ
△：４．０ｎｍ＜Ｒｔｈムラ≦５．０ｎｍ
×：５．０ｎｍ＜Ｒｔｈムラ
【０２５３】
＜コントラスト評価＞
（偏光子の作製）
厚さ７５μｍのポリビニルアルコールフィルムを、３５℃の水で膨潤させた。得られたフィルムを、ヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇおよび水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、さらに、ヨウ化カリウム３ｇ、ホウ酸７．５ｇおよび水１００ｇからなる４５℃の水溶液に浸漬した。そして、得られたフィルムを、延伸温度５５℃、延伸倍率５倍の条件で一軸延伸した。この一軸延伸フィルムを、水洗した後、乾燥して偏光子を得た。
【０２５４】
（偏光板の作製）
（１）上記した偏光子の両側に貼り合わせるフィルムとして、光学フィルム１０１〜１１２と、セルローストリアセテートフィルム（ＫＣ４ＵＡ、コニカミノルタ（株）製、膜厚４０μｍ）とを準備した。これらのフィルムを、予め４５℃の２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬させて鹸化処理した後、水洗し、乾燥させた。
【０２５５】
（２）上記の偏光子を、固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤溶液に１〜２秒間浸漬させた。
【０２５６】
（３）偏光子に付着した過剰のポリビニルアルコール接着剤を軽く拭き取った。その後、上記（１)で鹸化処理したフィルムを、偏光子のそれぞれの面に配置し、セルローストリアセテートフィルム／偏光子／光学フィルムの積層物を、光学フィルム１０１〜１１２のそれぞれについて作製した。
【０２５７】
（４）得られた積層物を、ロール機により、圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ２、搬送スピード２ｍ／分で貼り合わせた。貼り合わせた積層物を、２分間乾燥させて偏光板とした。そして、上記と同様の工程で、偏光板を２つ作製した。
【０２５８】
（液晶表示装置の作製）
ＳＯＮＹ製４０型の液晶ディスプレイ（ＢＲＡＶＩＡ  Ｘ１）を準備した。そして、この液晶ディスプレイの液晶セルの両面に取り付けられていた２枚の偏光板を剥がしとった。その後、液晶セルのそれぞれの面に前記作製した偏光板を取り付けて、液晶表示装置を作製した。このとき、液晶セルに対して視認側に配置される偏光板において、偏光子に対して液晶セル側に光学フィルム１０１〜１１２のいずれかが位置し、視認側にセルローストリアセテートフィルムが位置するように、視認側の偏光板を取り付けた。また、液晶セルに対してバックライト側に配置される偏光板において、偏光子に対して液晶セル側に光学フィルム１０１〜１１２のいずれかが位置し、バックライト側にセルローストリアセテートフィルムが位置するように、バックライト側の偏光板を取り付けた。
【０２５９】
（コントラストムラの評価）
上記作製した液晶表示装置を、２３℃９５％ＲＨで４８時間保存した。保存後の液晶表示装置を、２３℃５５％ＲＨの環境下でバックライトを１時間連続点灯させた後、正面コントラストを測定した。なお、正面コントラストの測定は、以下の手順で行った。
【０２６０】
（ｉ）液晶表示装置を白表示させたときの表示画面の正面輝度（表示画面の法線方向から測定される輝度）を、ＥＬＤＩＭ社製 ＥＺ−Ｃｏｎｔｒａｓｔ１６０Ｄにより測定した。同様にして、液晶表示装置を黒表示させたときの表示画面の正面輝度を測定した。
【０２６１】
（ii）黒表示させたときの表示画面の正面輝度に対する、白表示させたときの表示画面の正面輝度の比を、正面コントラストとした。すなわち、正面コントラスト＝（白表示させたときの正面輝度）／（黒表示させたときの正面輝度）、とした。
【０２６２】
前述のようにして、液晶表示装置の表示画面における任意の１０点の正面コントラストを測定した。そして、得られた１０点の正面コントラストの平均値を求めた。さらに、得られた１０点の正面コントラストのうち、平均値との差が最大となる正面コントラストの最大値を求めた。そして、以下の式から、正面コントラストのばらつき（％）を求めた。
正面コントラストのばらつき（％）＝｛（正面コントラストの最大値）−（正面コントラストの平均値）｝／（正面コントラストの平均値）×１００
【０２６３】
そして、コントラストムラを正面コントラストのばらつきに対応させ、以下の基準に基づいて評価した。
◎：正面コントラストのばらつきが１％未満であり、ムラもない。
○：正面コントラストのばらつきが１％以上５％未満であり、ムラが小さい。
△：正面コントラストのばらつきが５％以上１０％未満であり、ムラがややある。
×：正面コントラストのばらつきが１０％以上であり、ムラが大きい。
【０２６４】
表１は、各光学フィルム１０１〜１１２についての評価の結果を示している。また、実施例と比較例との対応関係についても併せて表１に示す。なお、光学フィルム１０９については、工程適正が悪く、生産工程を停止する必要があったため、輝点異物の測定、およびコントラストムラ等の評価を実施することが不可能であった。
【０２６５】
【表１】
2016139095.tif 000019
【０２６６】
表１より、光学フィルム１０１〜１０８をＶＡ用位相差フィルム（３０ｎｍ＜Ｒｏ＜７０ｎｍ、１００ｎｍ＜Ｒｔｈ＜３００ｎｍ）として用いて作製した液晶表示装置においては、コントラストムラが小さいことがわかる。これは、光学フィルム１０１〜１０８を溶液流延製膜法で製膜する際に、飽和溶解度１０％以下の難溶性の含窒素複素環化合物をメチレンクロライドの一部に分散させてスラリー状の有機物分散液を予め調製した後、この有機物分散液を樹脂およびメチレンクロライドの残りとともに溶解釜に投入してドープを調製することで、含窒素複素環化合物の溶解不良が低減され、このドープを用いてフィルムを作製することで、輝点異物が１０個／ｃｍ２以下と少なくなり、その結果、フィルムの光学値ムラ（ＲｏムラおよびＲｔｈムラ）が低減されたためと考えられる。
【０２６７】
このことから、溶液流延製膜法によって製膜され、ＶＡ用位相差フィルムとして機能する光学フィルム１０１〜１０８において、輝点異物の数が１０個／ｃｍ２以下であれば、フィルムの光学値ムラを低減して、液晶表示装置に適用したときのコントラストムラを低減できると言える。
【０２６８】
特に、リタデーション上昇剤として用いた含窒素複素環化合物が、末端にベンゼン環を有する化合物（例示化合物１〜３）である場合、メチレンクロライドに対する飽和溶解度が１０％以下であり、メチレンクロライドに溶けにくい。このため、そのような含窒素複素環化合物を用いる場合、溶解不良の発生を低減して輝点異物の数を低減できる上述の製法が非常に有効となる。ここでは、ドープに溶解させる樹脂として、ＣＡＢやＳＣＡＰなどのセルロースエステルを用いているが、スラリー状の有機物分散液を調製するにあたっては、用いる樹脂の種類は関係ないため（樹脂はスラリー状の有機物分散液を調製した後に混合されるため）、セルロースエステル以外の樹脂（例えば環状ポリオレフィン樹脂）を用いた場合でも、上述の製法によって光学フィルムを製膜することにより、溶解不良の発生を低減して輝点異物の数を低減できると考えられる。
【０２６９】
なお、輝点異物の数の上限（１０個／ｃｍ２）としては、光学フィルム１０５における輝点異物の数（３．８個／ｃｍ２）と、光学フィルム１１０における輝点異物の数（１５個／ｃｍ２）との間の値を採用している。輝点異物の数のさらに望ましい上限としては、上記の１０個／ｃｍ２よりも、光学フィルム１０５における輝点異物の数（３．８個／ｃｍ２）に近い５個／ｃｍ２を採用することができる。輝点異物の数の上限としては、３．８個／ｃｍ２を採用することがより望ましく、光学フィルム１０１および１０４の結果から、２個／ｃｍ２を採用することがより一層望ましい。
【０２７０】
また、有機物分散液の粘度としては、光学フィルム１０９の作製時の粘度（５ｍＰａ・ｓ）よりも大きい１０ｍＰａ・ｓ以上であり、光学フィルム１１０の作製時の粘度（３２００ｍＰａ・ｓ）よりも小さい３０００ｍＰａ・ｓ以下であれば、輝点異物の数を１０個／ｃｍ２以下にして、光学値ムラおよびコントラストムラを低減することができると言える。なお、光学フィルム１１２の作製時の粘度（２０００ｍＰａ・ｓ）については、分散溶媒がエタノールを含み、添加物の一部がエタノールに溶解し、再結晶異物に起因するコントラストムラが生じたため、粘度範囲の検討から除外している。
【０２７１】
なお、有機物分散液の粘度の下限としては、上記した１０ｍＰａ・ｓよりも光学フィルム１０４の作製時の粘度（７００ｍＰａ・ｓ）に近い５００ｍＰａ・ｓを採用することが望ましく、７００ｍＰａ・ｓを採用することがより望ましいと言える。また、有機物分散液の粘度の上限としては、上記した３０００ｍＰａ・ｓよりも光学フィルム１０１の作製時の粘度（２０００ｍＰａ・ｓ）に近い２５００ｍＰａ・ｓを採用することが望ましく、２０００ｍＰａ・ｓを採用することがより望ましいと言える。
【０２７２】
有機物分散液の粘度の好ましい範囲は、上記した上限および下限の組み合わせることによって実現することができる。したがって、有機物分散液の粘度は、１０〜３０００ｍＰａ・ｓであれば、輝点異物の数を減らしてコントラストムラを低減できるが、その効果を確実に得る観点から、５００〜２５００ｍＰａ・ｓであることが望ましいと言える。
【０２７３】
また、光学フィルム１０２・１１０の結果より、リタデーション上昇剤である含窒素複素環化合物の粒子径が５０μｍと大きいと、有機物分散液の粘度が３０００ｍＰａ・ｓを超え、コントラストムラが生じる。このことから、含窒素複素環化合物の粒子径は、上記の５０μｍよりも小さい４０μｍ以下であることが望ましく、２０μｍ以下であることがより望ましいと言える。
【０２７４】
また、光学フィルム１０２・１１１の結果より、有機物分散液の固体濃度が３０％であると、有機物分散液の粘度が３０００ｍＰａ・ｓを大幅に超え、コントラストムラが生じる。このことから、有機物分散液の固体濃度は、上記の３０％よりも小さい２８％以下であることが望ましく、２０％以下であることがより望ましいと言える。
【産業上の利用可能性】
【０２７５】
本発明は、液晶表示装置の偏光板に用いられる位相差フィルムおよびその製造に利用可能である。
【符号の説明】
【０２７６】
１      液晶表示装置（垂直配向型液晶表示装置）
４      液晶セル
５      偏光板
１１      偏光子
１３      光学フィルム
３２      溶解釜
【図１】
2016139095.tif 000020
【図２】
2016139095.tif 000021