(57)【要約】【課題】信頼性の高い有機発光装置を提供する。【解決手段】基板側から、第一電極２１、発光層を含む有機化合物層２２及び第二電極２３がこの順で設けられてなる有機発光素子２０を複数有する有機発光装置１であって、前記基板の上に、有機化合物層２２の端部の少なくとも一部を覆う無機層３０と、を有し、無機層３０が、有機発光素子２０が有する発光領域２０ａ以外の領域に設けられており、かつ発光領域２０ａの外側において前記基板の表面又は前記基板の上であって前記有機化合物層の下方の部材と接していることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板側から、第一電極、発光層を含む有機化合物層及び第二電極がこの順で設けられてなる有機発光素子を複数有する有機発光装置であって、
前記基板の上に、前記有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆う無機層、を有し、
前記無機層が、前記有機発光素子が有する発光領域以外の領域に設けられており、かつ前記発光領域の外側において、前記基板の表面又は前記基板の上であって前記有機化合物層の下方の部材と接していることを特徴とする、有機発光装置。
【請求項２】
前記発光領域の外側が、前記第一電極の面内方向における前記有機化合物層の外周部であることを特徴とする、請求項１に記載の有機発光装置。
【請求項３】
前記部材が、平坦化層であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機発光装置。
【請求項４】
前記部材が、画素分離膜であることを特徴とする、請求項１又は２に記載の有機発光装置。
【請求項５】
前記有機化合物層の端部を前記無機層が覆っている領域において、前記基板側から順に、前記有機化合物層、前記無機層及び前記第二電極がこの順に積層されていることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項６】
前記有機化合物層が、基板側に設けられる第一の有機化合物層と、第二の有機化合物層と、を有し、
前記第一の有機化合物層の端部の少なくとも一部が前記無機層に覆われており、
前記第一の有機化合物層の端部を前記無機層が覆っている領域において、前記基板側から順に、前記第一の有機化合物層、前記無機層、前記第二の有機化合物層及び前記第二電極がこの順に積層されていることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項７】
基板側から、第一電極、有機化合物層及び第二電極がこの順で設けられてなる有機発光素子を複数有する有機発光装置であって、
複数の前記第一電極を隔離する隔離部と、前記有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆う無機層と、を有し、
前記基板の主面に対して垂直な方向から俯瞰した場合、前記第一電極を設ける領域が、前記無機層を設ける領域と重複せず、
前記無機層の少なくとも一部が前記隔離部と接触していること特徴とする、有機発光装置。
【請求項８】
前記第一電極がパターニングされた電極であることを特徴とする、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項９】
保護膜によって封止されていることを特徴とする、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の有機発光装置。
【請求項１０】
感光体と、前記感光体を露光する露光部と、前記感光体を帯電させる帯電部と、前記感光体に現像剤を付与する現像部と、を有する画像形成装置であって、
前記露光部が、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の有機発光装置を有することを特徴とする、画像形成装置。
【請求項１１】
感光体を露光する露光装置であって、
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の有機発光装置を有し、
前記有機発光装置が複数の発光部を有し、
前記複数の発光部が、前記感光体の長軸方向に沿って一列に配置されていることを特徴とする、露光装置。
【請求項１２】
請求項１乃至９のいずれか一項に記載の有機発光装置と、前記有機発光装置に接続されているＡＣ／ＤＣコンバーター回路とを有することを特徴とする、照明装置。
【請求項１３】
基板側から、第一電極、発光層を含む有機化合物層及び第二電極がこの順で設けられてなる有機発光素子を複数有する有機発光装置の製造方法であって、
有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆うように無機層を形成する工程と、
前記無機層を形成する工程の後で基板を洗浄する洗浄工程と、を有することを特徴とする、有機発光装置の製造方法。
【請求項１４】
前記洗浄工程において、前記基板が、２流体洗浄法で洗浄されることを特徴とする、請求項１３に記載の有機発光装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、有機発光装置及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光装置は、基材の上に複数の有機発光素子をライン状あるいはマトリクス状に配列してなる装置である。ここで、互いに異なる色、例えば、赤、緑、青のいずれかの色を発光する有機発光素子を１個ずつ組み合わせて１組の画素を形成するように配置させると、多色表示が可能になる。
【０００３】
また有機発光装置を構成する有機発光素子は、一対の電極と、当該一対の電極の間に配置され少なくとも発光層を有する有機化合物層と、を有している。有機発光素子の発光色は、発光層に含まれる発光材料を適宜選択することによって変えることができる。
【０００４】
有機化合物層及び有機化合物層の上に設けられる電極を形成する方法としては、メタルマスクを用いた真空蒸着法が広く用いられている。その一方で、特許文献１に開示されているように、高精細のメタルマスクを用いずに、フォトリソグラフィを用いて有機化合物層を高い精度で選択的に形成する方法もある。
【０００５】
ところで、有機化合物層は水分に弱く、また水分により有機化合物層が劣化すると、有機発光素子の輝度が劣化することが知られている。そこで有機発光素子を水分から保護する必要があるが、有機発光素子の保護の１つの方策として、特許文献２にあるように、有機発光素子を保護膜で覆う封止法がある。しかしながら、有機発光素子を作製する過程において、真空チャンバー内に存在する異物及びマスクに付着した異物が、基板の搬送過程や成膜中に成膜面に付着することがある。特に有機化合物層となる膜の成膜においては、成膜エリアの外側部分における基板の表面に異物の付着が起こる確率が高い。このため、保護膜を形成する前の有機発光素子に異物が存在することになり、形成した保護膜に水分や酸素の浸入経路が生じてしまう。これは、有機発光素子上と異物上とではＳｉＮ保護膜の結晶成長の方向が異なるためである。このように結晶成長方向が異なる２つの結晶が合わさる部分では、保護膜中に隙間が発生したり低密度部ができてしまったりする。このため、当該部分が水分や酸素が浸入しやすい経路となってしまう。
【０００６】
したがって、保護膜の成膜時間を長くすることなく、保護膜に高い防護性能を持たせるためには、保護膜を形成する前に有機発光素子上に存在する異物を取り除いておくことが好ましい。このような課題に対して、特許文献３では、保護膜を形成する前に、ドライ洗浄を行い有機発光素子上の異物を取り除くことが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平９−２９３５８９号公報
【特許文献２】特開２００３−１７２４４号公報
【特許文献３】特開２０１１−８１９６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
有機発光装置は封止構造を有するが、仮に、その封止構造に欠陥が存在すると、その欠陥から水分が侵入し有機化合物層に到達する。有機化合物層のうち水分が到達した部分は、下地となる部材から剥離する。そして有機化合物層が部分的でも下地となる部材から剥離すると、その剥離を起点として水分の侵入速度が増加する。ここで、有機化合物層の端部は以下に説明する２つの理由により剥離が起こりやすい。１つ目は、一般的に蒸着で形成される有機化合物層の端部は膜厚が薄く、水分にさらされた際に変質されやすく下地となる部材との密着力が弱まりやすくなるからである。２つ目は、有機化合物層の端部は、基板に平行な方向から侵入する横浸透水分に最初に触れる位置にあるためである。
【０００９】
また、有機化合物層のパターニングをフォトリソグラフィによって行う製法のように、プロセス中に、有機化合物層が大気中の水分と触れ外圧にさらされる場合でも、有機化合物層の端部は最も剥離しやすい個所である。
【００１０】
本発明は、上述した課題を解決するためになされるものであり、その目的は、信頼性の高い有機発光装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の有機発光装置の第一の態様は、基板側から、第一電極、発光層を含む有機化合物層及び第二電極がこの順で設けられてなる有機発光素子を複数有する有機発光装置であって、
前記基板の上に、前記発光領域を制御する手段と、前記有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆う無機層と、を有し、
前記無機層が、前記発光領域以外の領域に設けられており、かつ前記発光領域の外側において前記基板の表面又は前記基板の上であって前記有機化合物層の下方の部材と接していることを特徴とする。
【００１２】
また本発明の有機発光装置の第二の態様は、基板側から、第一電極、有機化合物層及び第二電極がこの順で設けられてなる有機発光素子を複数有する有機発光装置であって、
複数の前記第一電極を隔離する隔離部と、前記有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆う無機層と、を有し、
前記第一電極を設ける領域が、前記無機層を設ける領域とは重複することがなく、
前記無機層の少なくとも一部が前記隔離部と接触していること特徴とする。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、信頼性の高い有機発光装置を提供することができる。即ち、本発明の有機発光装置は、有機化合物層の端部の少なくとも一部を無機層が覆っているため、当該端部における剥離を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の有機発光装置における第一の実施形態を示す模式図であり、（ａ）は、平面図、（ｂ）は、（ａ）中のＩ−Ｉ’断面を示す断面図である。
【図２】図１の有機発光装置の製造プロセスを示す断面模式図である。
【図３】本発明の有機発光装置における第二の実施形態を示す模式図であり、（ａ）は、平面図、（ｂ）は、（ａ）中のＩＩ−ＩＩ’断面を示す断面図である。
【図４】図３の有機発光装置の製造プロセスを示す断面模式図である。
【図５】発光画素の配置態様の例を示す平面模式図である。
【図６】本発明に係る有機発光装置を有する画像形成装置の例を示す模式図である。
【図７】図７（ａ）及び図７（ｂ）は、図６の画像形成装置６を構成する露光光源（露光器）の具体例を示す平面概略図であり、図７（ｃ）は、図６の画像形成装置６を構成する感光体の具体例を示す概略図である。
【図８】本発明に係る有機発光装置を有する照明装置の例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明は、基板側から、第一電極、発光層を含む有機化合物層及び第二電極がこの順で設けられてなる有機発光素子を複数有する有機発光装置に係るものである。本発明の有機発光装置において、前記基板の上に、前記有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆う無機層、を有する。また本発明の有機発光装置において、前記無機層は、前記発光領域以外の領域に設けられており、かつ前記発光領域の外側において前記基板の表面又は前記基板の上であって前記有機化合物層の下方の部材と接している。
【００１６】
また本発明の有機発光装置は、上記無機層の他に複数の第一電極を隔離する隔離部を有することがある。係る場合、第一電極を設ける領域は、無機層を設ける領域とは重複することがなく、無機層の少なくとも一部が隔離部と接触している。尚、上述した第一電極とは、基板側に設けられている電極であり、第二電極は基板とは反対側に設けられる電極である。また上述した隔離部は、基板側に複数設けられる第一電極間に設けられる部材である。この隔離部を設けることにより、各第一電極は一定の距離を開けた態様で基板側に設けられる。
【００１７】
以下、図面を適宜参照しながら、本発明の有機発光装置の実施形態について説明する。ただし以下に説明する実施形態は、あくまでも一例であり、本発明は、以下に説明する実施形態に制限されるものではない。また図面において特に図示されなかった部分や、以下の説明において説明がない部分に関しては、当該技術分野の周知あるいは公知の技術を適用することができる。
【００１８】
［第一の実施形態］
図１は、本発明の有機発光装置における第一の実施形態を示す模式図であり、（ａ）は、平面図、（ｂ）は、（ａ）中のＩ−Ｉ’断面を示す断面図である。
【００１９】
図１の有機発光装置１は、基板（不図示）の上に、有機発光装置１を構成する有機発光素子２０が設けられている。尚、図１の有機発光装置１には、有機発光素子２０が一個示されているが、本発明の有機発光装置は、複数の有機発光素子を有する。各有機発光素子の発光色は同じであっても異なっていてもよい。また各有機発光素子の配列態様として、例えば、複数の有機発光素子を組み合わせてなる画素をマトリクス状に配列してなる態様、一方向に配列してなる態様等があるが、本発明においては、これらの態様に限定されるものではない。尚、具体的な画素の配列態様については、後述する。
【００２０】
以下、図１の有機発光装置１の構成部材について説明する。
【００２１】
（１）基板
図１には図示されていないが、有機発光素子２０は、基板の上に設けられている。本発明において、基板は、基材と、この基材の上に設けられ有機発光素子２０を駆動させるための駆動回路及び配線と、を有してもよい。
【００２２】
（２）平坦化層
上述したように、基板が駆動回路や配線を有する場合、駆動回路や配線を設けた際に生じる凹凸を平坦化させる目的で平坦化層１１が設けられる。本発明において、平坦化層１１は、ＳｉＮ等の絶縁性の材料で形成される部材である。また基板が駆動回路や配線を有する場合、これらの部材（駆動回路、配線）と有機発光素子２０を構成する第一電極２１又は第二電極用電極パッド２４との電気接続を確保する目的で、平坦化層１１の所定の位置にコンタクトホール１２が設けられる。
【００２３】
（３）有機発光素子
図１の有機発光装置１において、有機発光素子２０は、第一電極２１と、有機化合物層２２と、第二電極２３と、を有する。
【００２４】
図１の有機発光装置１において、第一電極２１と、有機化合物層２２と、第二電極２３とが重なる領域は、発光領域２０ａである。ここで発光領域２０ａは、発光画素が設けられている領域に相当する。
【００２５】
有機発光素子２０を構成する第一電極２１は、平坦化層１１の上に設けられる各有機発光素子２０ごとに個別に設けられる電極である。これにより、図１の有機発光装置１に含まれる各有機発光素子２０は、個別に発光する。図１の有機発光装置１において、第一電極２１は、発光領域２０ａ及びその周辺に設けられるようにパターニングがされている電極である。また図１の有機発光装置１において、第一電極２１は、その端部が後述する画素分離膜１３に覆われている。尚、図１の有機発光装置１では、基板の上方に有機発光素子２０が設けられているが、係る場合、第一電極２１は、下部電極ということができる。
【００２６】
有機発光素子２０を構成する有機化合物層２２は、少なくとも第一電極２１の上に設けられ、少なくとも発光層を含む一層又は複数層からなる積層体である。有機化合物層２２が発光層以外の層を含む場合、発光層以外の層として、具体的には、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層等が挙げられ、必要に応じて適宜選択される。尚、有機化合物層２０に含まれる層のうち、正孔注入層及び電子注入層は、部分的に無機系の材料が含まれる場合があるが、その場合おいても、本実施形態においてこれらの層（正孔注入層、電子注入層）は、有機化合物層２０に含まれる層である。また図１の有機発光装置１において、有機化合物層２２は、発光領域２０ａ及びその周辺に設けられるようにパターニングされている。
【００２７】
次に、有機化合物層２２を構成する層について説明する。正孔注入層は、正孔輸送層と正孔注入用の電極（アノード）との間に設けられ正孔注入性を向上することで素子の低電圧化や長寿命化に寄与する層である。
【００２８】
正孔輸送層は、主に正孔を輸送する機能を有する材料からなる層である。
【００２９】
電子ブロック層は、発光層と正孔輸送層との間に設けられ、発光層から漏れる電子をブロックして発光層に閉じ込めることで高効率化を行う際に設けられる層である。
【００３０】
発光層は、主に、正孔と電子とを再結合させて発光を得るための層であり、一般的には、ホスト及びゲストの２種類の材料が含まれる。ここでゲストとは、発光材料に相当する材料でありその含有量は１０％以下程度である。また素子特性の観点から発光層にはさらに別の材料を加えてもよい。
【００３１】
正孔ブロック層は、電子輸送層と発光層との間に設けられ、発光層から漏れる正孔をブロックして発光層に閉じ込めることで高効率化を行う層である。
【００３２】
電子輸送層は、主に電子を輸送するための層である。
【００３３】
電子注入層は、電子輸送層と電子注入用の電極（カソード）との間に設けられ、主に電子注入性を向上させることで素子の低電圧化や長寿命化に寄与する層である。
【００３４】
有機化合物層２２の積層構成は、上述した層のいずれかが欠けていても、あるいは重複していても、得られる有機化合物層２２の膜端構成に影響しない。このため本発明においては、有機化合物層２２の層構成は特に限定されるものではない。また、有機化合物層２２を構成する層の積層順については、第一電極２１がアノードかカソードかによって逆順になるが、本発明においては、これら層の積層順は特に限定されるものではない。
【００３５】
有機発光素子２０を構成する第二電極２３は、少なくとも有機化合物層２２の上、具体的には、図１（ｂ）に示されるように、有機化合物層２２の上部及び端部を覆うようにして設けられる。図１の有機発光装置１において、第二電極２３は、第二電極用電極パッド２４及び第二電極用電極パッド２４が設けられている位置に設けられるコンタクトホール１２を介して、基板（不図示）の上に設けられている駆動回路又は配線と電気接続している。尚、本発明において、第二電極２３は、複数ある有機発光素子に共通する電極として形成してもよい。また、図１の有機発光装置１では、基板の上方に有機発光素子２０が設けられているが、係る場合、第二電極２３は、上部電極ということができる。
【００３６】
また本発明において、光を取り出す電極は、第二電極２３、第一電極２１のどちらでもよく、光を取り出す側の電極を半透明もしくは透明とすることで、有機発光素子２０の内部から光を取り出すことができる。
【００３７】
（４）画素分離膜
図１の有機発光装置１には、平坦化層１１の上に、画素分離膜１３が設けられている。また図１の有機発光装置１において、画素分離膜１３は、第一電極２１及び第二電極用電極パッド２４の端部を覆っている。このため本実施形態では、この画素分離膜１３によって第一電極２１と、有機化合物層２２と、第二電極２３とが重なる領域である発光領域２０ａが制限されている。従って、図１の有機発光装置１を構成する画素分離膜１３は、発光領域２０ａを制御する手段となる。ただし、本発明において、発光領域２０ａを制御する手段は画素分離膜１３に限定されるものではなく、例えば、フォトリソグラフィを用いて所望の形状に形成した第一電極２１を用いて発光領域２０ａを制御してもよい。また本実施形態において、画素分離膜１３は、複数ある有機発光素子２０がそれぞれ有する基板側の電極である第一電極２１間に設けられる部材である。このため、画素分離膜１３は、複数ある基板側の電極である第一電極２１をそれぞれ隔離する隔離部としても機能する。
【００３８】
（５）封止層
図１の有機発光装置１において、第二電極２３の上には封止層４０が設けられている。また封止層４０は第二電極２３の全体を覆っているため、図１の有機発光装置１を構成する有機発光素子２０は、封止層４０によって封止されている。封止層４０の構成材料としては、窒化珪素、酸化ケイ素、酸化アルミニウム等の防湿性の高い無機材料を用いることができる。尚、図１に示されるように、第二電極用電極パッド２４も有機発光素子２０と共に封止層４０に被覆される態様で設けられる。
【００３９】
（６）その他
また図１には図示されていないが、封止層４０の外側には外部接続端子が設けられている。ここで、外部接続端子は、外部からの信号や電源電圧を基板の上に設けられている回路（不図示）に供給する端子である。
【００４０】
（７）無機層
図１の有機発光装置１において、有機化合物層２２の端部は、外部から画素分離膜１３と封止層４０との間を通って侵入する横浸透水分の影響により、剥離しやすいという課題がある。また、製造プロセス中に、有機化合物層２２が大気中の水分と触れ、外圧にさらされる場合においても、有機化合物層２２の端部は剥離しやすい。そこで本発明では、有機化合物層２２の端部の少なくとも一部を無機層３０で覆い、有機化合物層２２、特に、その端部の剥離を抑制する。
【００４１】
また図１の有機発光装置１において、基板主面に対して垂直な方向から俯瞰した場合、基板側の電極（第一電極）である第一電極２１を設ける領域は、無機層３０を設ける領域と重複しない。即ち、無機層３０は、発光領域２０ａ以外の領域に設けられている。また無機層３０は、発光領域２０ａの外側、具体的には、電極（第一電極２１）の面内方向における有機化合物層２２の外周部において画素分離膜１３と接触している。
【００４２】
また無機層３０が発光領域２０ａ以外の領域に設けられているため、無機層３０は有機発光装置を構成する有機発光素子の発光特性に影響を与える部材とはならない。また発光領域２０ａの外側において、無機層３０が基板の上に設けられる有機化合物層２２の下方にある部材である画素分離膜１３と接触することで、有機化合物層２２の端部における剥離を抑制することができる。尚、無機層３０は、基板の表面又は基板の上であって有機化合物層２２の下方にある部材（例えば、画素分離膜１３）と接触することにより、有機化合物層２２の端部の剥離を抑制することができる。
【００４３】
図１の有機発光装置１において、無機層３０は、有機化合物層２０の端部を覆うように設けられており、またこの端部において、無機層３０は、有機化合物層２２と第二電極２３との間に配置されている。尚、この無機層は有機発光素子の発光領域には設けられていないため、有機発光素子の発光特性に与える影響は小さい。
【００４４】
図１（ａ）に示されるように、本実施形態において、有機化合物層２２を設ける領域は矩形状の領域である。ただし、有機化合物層２２を設ける領域は、矩形状に限らず正方形状であってもよい。一方で、図１（ａ）に示されるように、無機層３０を設ける領域は、二箇所ある当該矩形の長辺側の端部及びその周辺の領域である。また本発明において、無機層３０は、有機化合物層２２の端部の少なくとも一部を覆えばよいが、１辺以上を覆っているのが好ましい。
【００４５】
また無機層３０が有機化合物層２２を覆う領域は、図１（ａ）中の符号Ａで示される矩形状の領域である。ここで、この符号Ａの領域の幅ｄとして表される、有機化合物層２２の端部から有機化合物層２２を覆う側の無機層３０の端部との距離は、１０μｍ以上が好ましい。より好ましくは５０μｍ以上である。また有機化合物層２２を設ける領域が矩形状である場合、無機層３０は、図１（ａ）に示されるように、矩形上の有機化合物層２２の長辺側を覆うように設けるのが好ましい。
【００４６】
本発明において、無機層３０の構成材料としては、Ａｌ等の金属材料、ＳｉＮ等の絶縁性の無機材料が挙げられる。
【００４７】
（８）有機発光装置の製造方法
次に、図１の有機発光装置１の具体的な製造方法について説明する。図２は、図１の有機発光装置の製造プロセスを示す断面模式図である。
【００４８】
（８−１）電極付基板の形成工程（図２（ａ））
まず、基板（不図示）の上に、有機発光装置の駆動の際に必要となる駆動回路（不図示）及び配線（不図示）を適宜形成する。次に、駆動回路及び配線を設けた際に生じる凹凸を平坦化させるために、基板、駆動回路及び配線の上に平坦化層１１を設ける。
【００４９】
平坦化層１１の構成材料としては、特に規定するものではないが、絶縁性に優れた窒化珪素（ＳｉＮ）や酸化珪素（ＳｉＯ）が好ましい。
【００５０】
上述したように、基板の上に、駆動回路及び配線を形成した場合、駆動回路又は配線と後述する第一電極２１又は第二電極用電極パッド２４との電気接続を確保するために、先程形成した平坦化層１１の所定の位置にコンタクトホール１２を設ける。コンタクトホール１２は、平坦化層１１となる絶縁性材料からなる膜を加工することで形成されるが、平坦化層１１となる絶縁性材料からなる膜の加工方法としては、公知の方法を用いることができる。
【００５１】
平坦化層１１の所定の位置にコンタクトホール１２には、導電性が高い材料が充填されるが、導電性が高い材料としては、後述する金属材料、透明酸化物半導体等が挙げられる。
【００５２】
次に、平坦化層１１上の所定の領域に第一電極２１を形成する。第一電極２１の構成材料としては、光を反射する材料、例えば、アルミニウム、銀等の金属材料であってもよいし、光を透過する材料、例えば、インジウムスズ酸化物、インジウム亜鉛酸化物等の透明酸化物半導体であってもよい。本発明において、第一電極２１は、一層で構成されていてもよいし複数の層で構成されていてもよい。第一電極２１が複数の層で構成される場合、第一電極２１は、上記光を反射する材料からなる層と上記光を透過する層とからなる積層電極層としてもよい。
【００５３】
また平坦化層１１上の第一電極２１が設けられていない領域の少なくとも一部に第二電極用電極パッド２４を形成する。第二電極用電極パッド２４は、第一電極２１を形成する際に、第一電極２１と同時に形成してもよいが、この態様に限定されず、第一電極２１の形成工程とは別個の工程で形成してもよい。第一電極２１と同時に形成する場合、第二電極用電極パッド２４の構成材料としては、第一電極２１と同じ材料が挙げられる。一方、第一電極２１の形成工程とは別の工程で第二電極用電極パッド２４を形成した場合、第二電極用電極パッド２４の構成材料としては、第一電極２１と同じ材料であってもよいし異なる材料であってもよい。
【００５４】
ところで、コンタクトホール１２が設けられている場所を含めて第一電極２１又は第二電極用電極パッド２４となる膜を形成すると、コンタクトホール１２には、第一電極２１又は第二電極用電極パッド２４の構成材料が充填される。ただし、第一電極２１又は第二電極用電極パッド２４となる膜を形成する前にコンタクトホール１２に導電性材料、具体的には、上述した金属材料、透明酸化物半導体等を充填させてもよい。
【００５５】
第一電極２１及び第二電極用電極パッド２４を形成した後、画素分離膜１３を形成する。画素分離膜１３の構成材料としては、絶縁性材料であれば特に規定されないが、好ましくは、ポリイミド等の有機材料、窒化珪素（ＳｉＮ）、酸化珪素（ＳｉＯ）等の無機材料である。
【００５６】
本実施形態において、画素分離膜１３は、絶縁性材料からなる膜を成膜した後、その膜の一部を加工して２種類の開口（１３ａ、１３ｂ）を設けることにより形成される。ここで、開口１３ａは、第一電極２１の一部（第一電極２１の端部以外の部分）を開放するために設けられる。一方、開口１３ｂは、第二電極用電極パッド２４の一部（第二電極用電極パッド２４の端部以外の部分）を開放するために設けられる。
【００５７】
（８−２）有機化合物層の形成工程（図２（ｂ））
次に、有機化合物層２２を、第一電極２１の上及び第一電極２１の周辺にて選択的に形成する。
【００５８】
有機化合物層２２は、少なくとも発光層を含む層である。発光層の他に正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層等が含まれる。第二電極は、有機化合物層の上に設けられる電極である。正孔とは正電荷のキャリアであり、電子とは負電荷のキャリアである。
【００５９】
有機化合物層２２を構成する層の形成方法としては、従来一般的に用いられる成膜手法を利用することができる。尚、本実施形態において、有機化合物層２２は、図１（ａ）に示されるように、平面形状が矩形状となるように形成されている。
【００６０】
（８−３）無機層の形成工程（図２（ｃ））
次に、無機層３０を、所望の領域に形成する。ここでいう所望の領域とは、図１（ａ）に示されるように、少なくとも二箇所ある矩形状の有機化合物層２２の長辺側端部を覆うことができる領域、即ち、有機化合物層２２の長辺側端部と有機化合物層２２の長辺側外周部とを含めた領域をいう。
【００６１】
無機層３０は、例えば、マスク蒸着により、ＳｉＯ2等の無機材料を上記所望の領域に選択的に成膜することで、この所望の領域にのみすることができる。
【００６２】
無機層３０は、有機化合物層２２の端部の少なくとも一部を覆うが、図１（ｂ）に示される発光領域２０ａを設ける領域には設けられていない。一方、無機層３０の一部は、基板の上であって有機化合物層２２の下方に設けられる画素分離膜１３と接している。以上のようにして無機層３０を設けることにより、有機化合物層２２の、特にその端部において剥離を抑制することができる。
【００６３】
尚、無機層３０の形成方法としては、マスク蒸着等の公知のものが利用できる。
【００６４】
（８−４）洗浄工程
基板上の異物は有機発光素子のリークやショートを誘発する原因となる。また、水分から有機発光素子を保護するために封止層を用いる有機発光素子の場合、基板上の異物を起点として封止層に欠陥をもたらすことがある。
【００６５】
本発明では、有機化合物層２２の端部を無機層３０で覆うことにより、有機化合層２２の基板への密着力を向上させることができる。このため、基板を洗浄する際に有機化合物層２２の剥離が起こりづらくなる。このため基板上の異物を除去するため、有機化合物層２２上で水を含有する洗浄液による洗浄が可能となる。
【００６６】
従って、本発明の有機発光装置を製造する際には、無機層３０を形成した後に洗浄工程を導入し、この洗浄工程によって有機化合物層２２を形成する際に生じた成膜マスクからの転写異物やそれ以外の基板上の異物をさらに低減させてもよい。
【００６７】
ここで洗浄工程において、水を含有する洗浄液を使用する理由は、洗浄液に下記の２つの条件を満たすことが望ましいためである。
【００６８】
まず一つ目の条件は、有機発光素子２０を構成する有機化合物層２２が、洗浄液に対して溶解しにくいことである。ここで水は、有機発光素子２０を構成する有機化合物層２２を溶解しにくいため、洗浄液として使用できるが、一般的な有機溶剤等の液体は有機化合物層２２を容易に溶解してしまうため、洗浄液として使用することができない。二つ目の条件は、洗浄液の沸点が有機化合物層２２のガラス転移点（Ｔg）よりも低いことである。洗浄後に洗浄液が有機発光素子２０内に残留すると、有機発光素子２０の特性に悪影響を与える場合があるため、洗浄後には洗浄液を取り除くことが望ましい。特に洗浄液を取り除く手法としては、洗浄液の沸点以上の温度で基板や有機発光素子２０の構成部材を加熱することが効果的である。しかしながら洗浄液の沸点が有機化合物層２２のＴgよりも高い場合、洗浄液を取り除く目的で有機化合物層２２を加熱すると、有機化合物層２２のＴg以上まで加熱することになるため、有機化合物層２２が変質してしまう。一般的に有機発光素子を構成する有機化合物層２２のＴgは１００℃乃至２００℃であるため、洗浄液としては、その沸点が高くても２００℃未満、好ましくは、１００℃未満の液体を用いることが望まれる。従って、これら２つの条件を満たし、有機化合物層２２へ与えるダメージの少ない洗浄液として水が最適である。洗浄液には各種の添加剤を混合することも可能であるが、前述した２つの条件を満たしていることが望まれる。
【００６９】
本工程において、基板の洗浄方法としては、本発明の特徴である水、及び水を含有する液体を用いること以外は、２流体洗浄法や超音波、メガソニック、マイクロバブル、高圧スプレー等の方法を適宜選択できる。好ましくは、２流体洗浄法である。
【００７０】
この洗浄工程を行った後には、基板の加熱を行い、素子中に浸透した洗浄液成分を取り除くのが好ましい。ここで、基板の加熱条件としては、大気中での加熱のほか、Ｎ2ガス中での加熱、真空条件下での加熱等が挙げられるが、特に有効なのは真空条件下での加熱である。真空条件下で有機化合物層２２を有する基板を加熱することで、有機化合物層２２の表面や側面に付着した水分を除去することができるので好ましい。真空条件下で加熱する際に、真空度は、簡易的な真空ポンプを用いて得ることのできる圧力でよく、具体的には１×１０-3Ｐａ以下の圧力であればよい。１×１０-3Ｐａ以下の圧力に減圧することで、基板を加熱する際に有機化合物層２２内に吸着された水分が層内から除去された後、有機化合物層２２内に水分が再度取り込まれるのを抑制することができる。
【００７１】
このように有機化合物層２２と無機層３０とを順次形成した後に、基板を洗浄、脱水してから、他の部材（第二電極２３、保護膜４０）を形成することで、より封止不良のない有機発光素子を有する有機発光装置を提供することができる。
【００７２】
（８−５）第二電極及び封止層の形成工程（図２（ｄ））
上述したように基板の加熱を行った後、第二電極２３を形成する。第二電極２３を形成する方法としては、蒸着、スパッタ等の従来一般的に用いられている手法を用いることができる。
【００７３】
第二電極２３を、光を反射する電極として用いる場合、第二電極２３の構成材料としては、アルミニウムや銀等の反射性が高い金属が用いられる。一方、第二電極２３を、光を透過する電極として用いる場合、第二電極２３の構成材料としては、インジウム錫酸化物、インジウム亜鉛酸化物等の透明酸化物半導体が用いられる。
【００７４】
本発明において、第二電極２３は、単層であってもよいし複数の層からなる積層体であってもよい。また本工程において形成される第二電極２３は、第二電極用電極パッド２４の上にも形成され、第二電極用電極パッド２４及びコンタクトホール１２を介して、基板に設けられる起動回路又は配線との電気的接続を得る。また本発明において、第二電極２３は、有機発光装置１を構成する複数の有機発光素子２０に共通する電極として形成してもよい。
【００７５】
次に、第二電極２３の上に、封止層４０を設けることで、有機発光素子２０を水分から保護する。封止層４０に適した無機材料としては、窒化珪素（ＳｉＮ）、酸化珪素（ＳｉＯ）、酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）等があるが、本発明においては、これら材料に限定されるものではない。
【００７６】
［第二の実施形態］
（１）有機発光装置の具体的構成
図３は、本発明の有機発光装置における第二の実施形態を示す模式図であり、（ａ）は、平面図、（ｂ）は、（ａ）中のＩＩ−ＩＩ’断面を示す断面図である。以下、第一の実施形態との相違点を中心に説明する。
【００７７】
図３の有機発光装置２は、少なくとも発光領域２０ａにおいて第一電極２１と第二電極２３との間に設けられる有機化合物層が、基板側に設けられる第一の有機化合物層２２ａと、第二の有機化合物層２２ｂと、を有している。また図３の有機発光装置２においては、第一の有機化合物層２２ａの端部を無機層３０が覆っている。また第一の有機化合物層２２ａの端部を無機層３０が覆っている領域において、基板側から順に、第一の有機化合物層２２ａと、無機層３０と、第二の有機化合物層２２ｂと、第二電極２３と、がこの順に積層されている。本実施形態において、第一の有機化合物層２２ａは、第一の実施形態にて示される有機化合物層２２と同様に、水に対して溶解せず、かつＴgが低くても１００℃以上である層である。以上より、本発明において、無機層３０によって端部の少なくとも一部が覆われている有機化合物層は、第一電極２１と第二電極２３との間に設けられる層の全てに限定されず、その一部であってもよい。
【００７８】
また無機層３０は、発光領域２０ａの外側、具体的には、電極（第一電極２１）の面内方向における第一の有機化合物層２２ａの外周部において、基板の上であって第一の有機化合物層２２ａの下方にある平坦化層１１と接触している。
【００７９】
本発明においては、無機層３０によって端部が覆われる層は、有機化合物層そのものに限定されず、図３に示されるように、有機化合物層を構成する一部の層（第一の有機化合物層２２ａ）も含まれる。図３に示されるように、無機層３０が第一の有機化合物層２２ａの端部の少なくとも一部を覆うことで、第一の有機化合物層２２ａの剥離を防ぐことができる。また無機層３０を設けることで剥離していない第一の有機化合物層２２ａの上に第二の有機化合物層２２ｂを設けることで、有機発光素子２０の発光特性を確保することができる。
【００８０】
（２）有機発光装置の製造方法
次に、本実施形態の有機発光装置の製造方法について、第一の実施形態との相違点を中心に説明する。図４は、図３の有機発光装置２の製造プロセスを示す断面模式図である。
【００８１】
（２−１）無機層の形成工程まで（図４（ａ）乃至（ｃ））
まず、第一の実施形態と同様に、電極付基板を形成する（図４（ａ））。本実施形態においても、画素分離膜１３を加工する際に、第一電極２１の少なくとも一部を開放させるための開口１３ａ及び第二電極用電極パッド２４の少なくとも一部を開放させるための開口１３ｂが設けられている。また本実施形態においては、開口１３ａ及び１３ｂの他に、第一電極２１と第二電極用電極パッド２４との間に設けられている画素分離膜１３にも開口１３ｃが設けられており、この開口１３ｃにより、平坦化層１１の一部が開放されている。また本実施形態において、開口１３ｃ等によって開放された平坦化層１１は、複数ある有機発光素子２０がそれぞれ有する基板側の電極である第一電極２１間に設けられる部材である。このため、平坦化層１１のうち画素分離膜１３を加工して形成された開口（例えば、符号１３ｃの開口）によって開放されている部分は、複数ある基板側の電極である第一電極２１をそれぞれ隔離する隔離部としても機能する。
【００８２】
次に、第一の有機化合物層２２ａを形成する（図４（ｂ））。本実施形態において、第一の有機化合物層２２ａは、複数の機能層からなる積層構成になっており、例えば、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、正孔ブロック層及び電子輸送層がこの順で積層されてなる積層体である。また本実施形態において、第一の有機化合物層２２ａは、図３（ａ）に示されるように、正方形状に形成されている。
【００８３】
次に、無機層３０を第一の有機化合物層２２ａの端部の一部を覆うように形成する（図４（ｃ））。具体的には、図３（ａ）に示されるように、正方形状の第一の有機化合物層２２ａの４辺のうち３辺の端部が無機層３０で覆われるように無機層３０を形成する。これにより、第一の有機化合物層２２ａの端部が剥離するのを抑制する。尚、本実施形態において、無機層３０は、図３（ｂ）に示されるように、発光領域２０ａ以外の領域に設けられ、基板の上であって第一の有機化合物層２２ａの下方に設けられる平坦化層１１と接触する。
【００８４】
（２−２）洗浄工程
以上説明したように、無機層３０まで形成した後、第一の実施形態と同様に基板の洗浄工程を行う。
【００８５】
（２−３）封止層の形成工程まで（図４（ｄ））
洗浄工程の後、電子注入層からなる第二の有機化合物層２２ｂを形成する。電子注入層には、電子注入特性を良好にする等の目的で、層内にアルカリ金属やアルカリ土類金属等が含まれることがある。ただし、アルカリ金属やアルカリ土類金属は、化合物を含めて水に溶けやすい性質である。このため、アルカリ金属あるいはアルカリ土類金属又はその化合物を含む電子注入層を形成する場合、本実施形態のように、電子注入層を形成する前に、洗浄工程及び洗浄工程の前に行われる無機層の形成工程を行っておく。
【００８６】
次に、第二電極２３、封止層４０を順次形成することで図３の有機発光装置２が得られる（図４（ｄ））。
【００８７】
［画素の配置態様］
次に、本発明の有機発光装置に含まれる発光画素の配置態様について説明する。図５は、発光画素の配置態様の例を示す平面模式図である。本発明において、発光画素の配置態様としては、例えば、図５（ａ）のライン状、図５（ｂ）の千鳥ライン状、図５（ｃ）の２次元配置のマトリックス状等があるが、これらに限定されるものではない。プリントヘッド用のライン光源への用途を考える場合、発光画素の配置態様は、ライン状、千鳥ライン状が好ましい。一方、ディスプレイへの用途を考える場合、発光画素の配置態様は、２次元配置のマトリックス状が好ましい。
【００８８】
尚、有機発光装置が有する発光画素５１は、１個の有機発光素子であってもよいし発光色がそれぞれ異なる複数個の有機発光素子から構成されているものであってもよい。また本発明においては、基本的に、有機化合物層を設ける領域５２は、図５に示されるように発光画素５１よりも大きくなる。
【００８９】
［能動素子］
本発明の有機発光装置は、装置を構成する有機発光素子の発光の制御のための能動素子をさらに有していてもよい。能動素子はトランジスタ、ＭＩＭ素子等のスイッチング素子が挙げられる。
【００９０】
有機発光素子に接続される能動素子は、その活性領域に酸化物半導体を有してもよい。また能動素子の構成材料である酸化物半導体は、アモルファス状のものであってもよいし、結晶状のものであってもよいし、両者の混在しているものであってもよい。尚、ここでいう結晶とは、単結晶、微結晶、あるいはＣ軸等の特定軸が配向している結晶のいずれかであるが、これに限定されず、これら複数種類の結晶のうちの少なくとも２種類が混合されたものであってもよい。
【００９１】
［有機発光素子の用途］
次に、本発明の有機発光装置の用途について説明する。本発明の有機発光装置は、表示装置や照明装置の構成部材として用いることができる。他にも、電子写真方式の画像形成装置の露光光源や液晶表示装置のバックライト、白色光源にカラーフィルターを有する発光装置等の用途がある。カラーフィルターは例えば赤、緑、青の３つの色が透過するフィルターが挙げられる。
【００９２】
本発明の表示装置は、本発明の有機発光装置を表示部に有する。尚、この表示部は複数の画素を有する。
【００９３】
そしてこの画素は、本発明の有機発光装置と、発光輝度を制御するための能動素子（スイッチング素子）又は増幅素子の一例であるトランジスタとを有し、この有機発光素子の陽極又は陰極とトランジスタのドレイン電極又はソース電極とが電気接続されている。ここで表示装置は、ＰＣ等の画像表示装置として用いることができる。上記トランジスタとして、例えば、ＴＦＴ素子が挙げられ、このＴＦＴ素子は、例えば、基板の絶縁性表面に設けられている。
【００９４】
表示装置は、エリアＣＣＤ、リニアＣＣＤ、メモリーカード等からの画像情報を入力する画像入力部と、この画像情報を処理する情報処理部と、を有し、入力された画像を表示部に表示する画像情報処理装置でもよい。
【００９５】
また、撮像装置やインクジェットプリンタが有する表示部は、タッチパネル機能を有していてもよい。このタッチパネル機能の駆動方式は特に限定されない。
【００９６】
また表示装置はマルチファンクションプリンタの表示部に用いられてもよい。
【００９７】
照明装置は例えば室内を照明する装置である。照明装置は白色（色温度が４２００Ｋ）、昼白色（色温度が５０００Ｋ）、その他青から赤のいずれの色を発光するものであってもよい。
【００９８】
本発明の照明装置は、本発明の有機発光装置と、この有機発光装置と接続し駆動電圧を供給するＡＣ／ＤＣコンバーター回路（交流電圧を直流電圧に変換する回路）とを有している。尚、この照明装置は、カラーフィルターをさらに有してもよい。また本発明の照明装置は、照明装置内の熱を外部へ放出する放熱板を有していてもよい。
【００９９】
本発明の画像形成装置は、感光体と、この感光体の表面を帯電させる帯電部と、感光体を露光して静電潜像を形成するための露光部と、感光体に現像材を供給し感光体の表面に形成された静電潜像を現像するための現像部とを有する画像形成装置である。ここで画像形成装置に備える露光手段は、本発明の有機発光装置を含んでいる。
【０１００】
また本発明の有機発光装置は、感光体を露光するための露光装置の構成部材として使用することができる。本発明の有機発光装置を有する露光装置は、例えば、本発明の有機発光装置を構成する有機発光素子を、それぞれ発光点として、所定の方向に沿って列を形成して配置されている露光装置がある。
【０１０１】
図６は、本発明に係る有機発光装置を有する画像形成装置の例を示す模式図である。図６の画像形成装置６は、感光体６１と、露光光源６２と、現像器６４と、帯電部６５と、転写器６６と、搬送ローラー６７と、定着器６９と、を有している。
【０１０２】
図６の画像形成装置６は、露光光源６２から感光体６１へ向けて光６３が照射され、感光体６１の表面に静電潜像が形成される。露光光源６２は、本発明に係る有機発光装置である。現像器６４は、トナー等を含む現像剤を有しており、感光ドラム６２に現像剤を付与する。帯電部６５は、感光体６１を帯電させるために設けられている。転写器６６は、現像された画像を紙等の記録媒体６８に転写するために設けられている。尚、記録媒体６８は、搬送ローラー６７によって転写機６６へ搬送される。定着器６９は、記録媒体６８に形成された画像を定着させるために設けられている。
【０１０３】
図７（ａ）及び図７（ｂ）は、図６の画像形成装置６を構成する露光光源（露光器）の具体例を示す平面概略図であり、図７（ｃ）は、図６の画像形成装置６を構成する感光体の具体例を示す概略図である。図６において、露光光源６２には、複数の発光点、即ち、複数の発光部６２ａを備えている。尚、図７（ａ）及び図７（ｂ）は、露光光源６２に有機発光素子を含む発光部６２ａが長尺状の基板６２ｃの長軸方向に沿って、一列に複数配置されている点で共通している。また符合６２ｂの矢印は、発光部６２ａが配列されている列方向を表わす。この列方向は、感光体６１が回転する軸の方向と同じである。
【０１０４】
ところで図７（ａ）では、発光部６２ａは、感光体６１の軸方向に沿って配置した形態である。一方、図７（ｂ）では、第一の列αと第二の列βとのそれぞれにおいて発光部６２ａが列方向に交互に配置されている形態である。図７（ｂ）において、第一の列α及び第二の列βは、それぞれ行方向に異なる位置に配置されている。
【０１０５】
また図７（ｂ）において、第一の列αは、複数の発光部６２αが一定の間隔を空けて配置される一方で、第二の列βは、第一の列αに含まれる発光部６２α同士の間隔に対応する位置に発光部６２βを有する。即ち、図７（ｂ）の露光光源は、行方向にも、複数の発光部が一定の間隔を空けつつ配置されている。
【０１０６】
尚、図７（ｂ）の露光光源は、露光光源を構成する発光部（６２α、６２β）を、例えば、格子状、千鳥格子、あるいは市松模様に配置されている状態と言い換えることもできる。
【０１０７】
図８は、本発明に係る有機発光装置を有する照明装置の例を示す模式図である。図８の照明装置は、基板（不図示）の上に設けられる有機発光素子７１と、ＡＣ／ＤＣコンバーター回路７２と、を有している。図８の照明装置において、装置を構成する有機発光素子７１は、本発明の有機発光装置あるいは本発明の有機発光装置の構成部材である。また装置内の熱を外部へ放出する放熱部に相当する放熱板（不図示）を、例えば、有機発光素子７１が載置されている側とは反対側の基板面に有していてもよい。
【０１０８】
以上説明の通り、本発明の有機発光装置を駆動することにより、良好な画質で、長時間安定な表示や露光が可能である。
【０１０９】
また本発明の有機発光装置は、有機化合物層の端部の少なくとも一部を覆う無機層を有するので、その製造工程において、有機化合物層や第二電極を水で洗浄した場合でも、有機化合物層が基板から剥離するのを抑制することができる。
【実施例】
【０１１０】
以下、実施例により本発明を詳細に説明する。尚、以下の説明において、基板形成工程を行う際はガラス基板が用いられているが、シリコン等の基板を用いてもよい。また以下の説明において、発光層は青色発光層としているが、本発明において発光層は青色発光層に限定されるものではない。また以下の説明において、発光画素の配置についても特に限定されるものではない。
【０１１１】
［実施例１］
図２に示される製造プロセスに従って、図１の有機発光装置１を作製した。
【０１１２】
（１）基板の形成工程
ガラス板である基材（不図示）の上に、有機発光装置の駆動に必要な回路及び配線を形成することで基板（不図示）を形成した。
【０１１３】
（２）平坦化層の形成工程（図２（ａ））
次に、ＣＶＤ成膜により、この基板の上にＳｉＮを成膜して絶縁膜を形成した。このとき絶縁膜の膜厚を２００ｎｍとした。次に、この絶縁膜の上にフォトレジストを形成した後、このフォトレジストを用いたフォトリソグラフィにより、当該絶縁膜の加工を行い、所定の位置にコンタクトホール１２を有する平坦化層１１を形成した（図２（ａ））。
【０１１４】
（３）第一電極の形成工程（図２（ａ））
次に、平坦化層１１の上の全面に亘って、インジウム錫酸化物（ＩＴＯ）を成膜して透明導電膜を形成した。このとき透明導電膜の膜厚を１００ｎｍとした。次に、この透明導電膜の上にフォトレジストを形成した後、このフォトレジストを用いたフォトリソグラフィにより、当該透明導電膜の加工を行い、平坦化層１１の上の所定の領域に、第一電極２１及び第二電極用電極パッド２４を形成した（図２（ａ））。尚、第一電極２１及び第二電極用電極パッド２４は、コンタクトホール１２にて基材の上に設けられる回路又は配線に接続された。
【０１１５】
（４）画素分離膜の形成工程（図２（ａ））
次に、ＣＶＤ成膜により、窒化珪素を基板の全面に亘って成膜して窒化珪素膜を形成した。このとき窒化珪素膜の膜厚を１００ｎｍとした。次に、この窒化珪素膜の上にフォトレジストを形成した後、このフォトレジストを用いたフォトリソグラフィにより、当該窒化珪素膜の加工を行った。具体的には、符号１３ａ及び１３ｂで示された開口を有する画素分離膜１３を形成した（図２（ａ））。ここで当該窒化珪素膜の加工を行う際は、パターニングしたレジストをマスクにしたＣＦ4ガスを用いたドライエッチングを用いた。また符号１３ａの開口を設けることにより、第一電極２１の一部が開放され、符号１３ｂの開口を設けることにより、第二電極用電極パッド２４の一部が開放された。一方、画素分離膜１３の上に残ったレジスト残渣は、酸素ガスによるドライエッチングによって除去した。
【０１１６】
以上より、画素分離膜１３及び第一電極２１を有する電極付基板を得た。尚、この電極付基板は、市販の枚様式洗浄機を用いて、二流体あるいはメガソニックを使った純水洗浄を用いた洗浄を行い、基板表面を洗浄した。またこの電極付基板は、図５（ｂ）に示される、千鳥ライン配置に発光画素５１が配されている有機発光装置を形成するために用いられる。
【０１１７】
（５）有機化合物層の形成工程（図２（ｂ））
次に、作製した電極付基板に対して前処理となるＵＶオゾン処理を行った。この後、真空蒸着法により、基板の上に、少なくとも発光画素を設ける領域に有機化合物層２２を形成した（図２（ｂ））。尚、有機化合物層２２を形成する際は、発光画素を設ける領域及びその周辺の領域に開口を有するマスクを用いた。また以下に、有機化合物層２２の形成の際に用いた化合物及び有機化合物層２２の具体的な形成方法を説明する。
【０１１８】
【化１】
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【０１１９】
まず第一電極２１の上に、化合物１を成膜して正孔注入層を形成した。このとき正孔注入層の膜厚を３ｎｍとした。次に、正孔注入層の上に、化合物２を成膜して正孔輸送層を形成した。このとき正孔輸送層の膜厚を５０ｎｍとした。次に、正孔輸送層の上に、化合物３を成膜して電子ブロック層を形成した。このとき電子ブロック層の膜厚を１０ｎｍとした。次いで、電子ブロック層の上に、化合物４（ホスト）と化合物５（発光材料）とを共蒸着させて発光層を形成した。このとき発光層の膜厚を２０ｎｍとし、発光層全体に対して化合物５が１体積％含まれるように蒸着量を調整した。次に、発光層の上に、化合物６を成膜して正孔ブロック層を形成した。このとき正孔ブロック層の膜厚を１０ｎｍとした。次に、正孔ブロック層の上に、化合物７を成膜して電子輸送層を形成した。このとき電子輸送層の膜厚を４０ｎｍとした。次に、電子輸送層の上に、化合物７及び化合物８を共蒸着して電子注入層を形成した。このとき電子注入層の膜厚を１５ｎｍとし、化合物７に対して化合物８が３０体積％含まれるように蒸着量を調整した。
【０１２０】
（６）無機層の形成工程（図２（ｃ））
次に、マスク蒸着により、ＳｉＯ2を成膜して無機層３０を形成した（図２（ｃ））。このとき無機層３０の膜厚を５０ｎｍとした。尚、本実施例において、無機層３０を設ける領域は、図１（ａ）に示されるように、有機化合物層３０の端部の一部である２辺の長辺を無機層３０で覆うことができる領域とした。また、本工程で形成された無機層３０は、発光画素２０ａを設ける領域以外の領域に設けられており、その一部が基板の上に設けられている画素分離膜１３と接している。
【０１２１】
（７）洗浄工程
次に、無機層３０まで形成した基板を大気中に開放した後、下記の条件で２流体洗浄を行った。尚、２流体洗浄を行う際は、有機化合物層２２の端部の剥離が起こしやすい上流側に無機層３０が配置されるよう基板を設置した。尚、本工程は大気中イエロー光蛍光灯下にて行った。
２流体洗浄条件
・水流量０．３４Ｌ／ｍｉｎ、窒素流量４０Ｌ／ｍｉｎ
・基板回転速度  ２００ｒｐｍ
・洗浄時間  ３０秒
【０１２２】
次に、洗浄した基板を真空チャンバーに搬送した後、１０-4Ｐａの真空下にて、基板温度が１３０℃になるようにハロゲンランプヒーターにて２０分ベイクした。真空ベイク後の基板を、真空を維持したまま次の工程を行って有機発光装置を作製した。
【０１２３】
（８）第二電極及び保護層の形成工程（図２（ｄ））
次に、真空蒸着法により、少なくとも、有機化合物層２２、無機層３０及び第二電極用電極パッド２４の上に、アルミニウム（Ａｌ）を成膜して第二電極２３を形成した。このとき第二電極２３の膜厚を１００ｎｍとした。次に、窒化珪素（ＳｉＮ）からなる保護層４０による薄膜封止を行った。具体的には、まずＣＶＤ成膜により、第二電極２３まで形成した基板の上に、窒化珪素膜を成膜した（図２（ｄ））。このとき窒化珪素膜の膜厚を２μｍとし、反応ガスとして、ＳｉＨ4及びＮ2を用いた。この後、フォトリソグラフィ及びＣＦ4ガスを用いたドライエッチングによってこの窒化珪素膜のパターニングを行い、外部接続用のパッド電極（不図示）を露出させた。以上により、有機発光装置を作製した。
【０１２４】
［比較例１］
実施例１において、図２（ｃ）に示される無機層の形成工程を省き、有機化合物層の形成工程後に洗浄工程を行ったこと以外は、実施例１と同様の方法により、有機発光装置を作製した。
【０１２５】
［実施例２］
図４に示される製造プロセスに従って、図３の有機発光装置２を作製した。
【０１２６】
（１）基板の形成工程
実施例１（１）と同様の方法により、回路及び配線を有する基板を作製した。
【０１２７】
（２）平坦化層の形成工程（図４（ａ））
実施例１（２）と同様の方法により、コンタクトホール１２を有する平坦化層１１を形成した（図４（ａ））。
【０１２８】
（３）第一電極の形成工程（図４（ａ））
実施例１（３）と同様の方法により、第一電極２１を形成した。
【０１２９】
（４）画素分離膜の形成工程（図４（ａ））
実施例１（４）と同様の方法により、画素分離膜１３を形成した。尚、本実施例においては、開口１３ａ及び１３ｂ、並びに第一電極２１と第二電極用電極パッド２４との間に設けられる開口１３ｃを設ける目的で画素分離膜１３となる窒化珪素膜を加工した。また画素分離膜１３の形成後、実施例１と同様の方法により、基板の洗浄及び前処理を行った。
【０１３０】
（５）有機化合物層（第一の有機化合物層）の形成工程（図４（ｂ））
次に、正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、発光層、正孔ブロック層及び電子輸送層からなる有機化合物層（第一の有機化合物層２２ａ）を形成した（図４（ｂ））。尚、有機化合物層２２ａを構成する各層は、それぞれ実施例１（５）と同様の方法により形成した。
【０１３１】
（６）無機層の形成工程（図４（ｃ））
次に、マスク蒸着により、ＳｉＯ2を成膜して無機層３０を形成した（図４（ｃ））。このとき無機層３０の膜厚を５０ｎｍとした。尚、本実施例において、無機層３０を設ける領域は、図３（ａ）に示されるように、有機化合物層３０の端部の一部である２辺の長辺及び１辺の短辺を無機層３０で覆うことができる領域とした。また、本工程で形成された無機層３０は、発光画素２０ａを設ける領域以外の領域に設けられており、その一部が基板の上に設けられている平坦化膜１１と接している。
【０１３２】
（７）洗浄工程
次に、実施例１（７）と同様の方法により、洗浄工程を行った。
【０１３３】
（８）第二の有機化合物層、第二電極及び保護層の形成工程（図４（ｄ））
次に、実施例１（５）と同様の方法により、電子注入層を形成した。尚、本実施例において、電子注入層は、第二の有機化合物層として機能する。次に、実施例１（７）と同様の方法により、第二電極２３及び保護膜４０を順次形成し（図４（ｄ））、保護膜４０の一部を加工した。以上により、有機発光装置を作製した。
【０１３４】
［比較例２］
実施例２において、図３（ｃ）に示される無機層の形成工程を省き、有機化合物層の形成工程後に洗浄工程を行ったこと以外は、実施例２と同様の方法により、有機発光装置を作製した。
【０１３５】
［評価結果］
実施例１、実施例２においてそれぞれ作製した有機発光装置は、有機化合物層の端部剥離は見られることなく良好な発光特性を示した。一方、比較例１、比較例２においてそれぞれ作製した有機発光装置は、２流体洗浄時に上流方向に設置された有機化合物層の端部において剥離が見られた。さらには、剥離した有機化合物層が原因とみられる微小異物が発光画素内に散見され、発光特性としては良好とはいえない有機発光装置であることがわかった。
【０１３６】
［高温高湿保管試験］
実施例及び比較例でそれぞれ作製した有機発光装置について、温度８５℃、湿度８５％下で１３５時間保管した後の非発光領域の出現についての評価を行った。比較例１、比較例２でそれぞれ作製した有機発光装置では、基板と保護層との間隙から侵入したと思われる横浸透水分により、基板の端部に近い発光画素に非発光領域が見られた。一方、実施例１、実施例２でそれぞれ作製した有機発光装置では、少なくとも無機層で覆われている方向の発光画素においては、非発光領域は見られなかった。
【０１３７】
以上のように、本発明によれば、複数の発光画素を有する有機発光装置において、高温、高湿下においても非発光領域の発生しにくい信頼性の高い有機発光装置を提供できる。また、水等を洗浄液とする洗浄工程を可能にし、有機化合物層の剥離なく、基板上の異物を低減できることで、保護膜に高い防護性能を有する有機発光装置を提供することができる。
【産業上の利用可能性】
【０１３８】
本発明の有機発光装置は、表示ディスプレイ、照明、光源等の一部材として利用することができる。
【符号の説明】
【０１３９】
１（２）：有機発光装置、１１：平坦化層、１２：コンタクトホール、１３：画素分離膜、２０：有機発光素子、２１：第一電極、２２：有機化合物層、２３：第二電極、２４：第二電極用電極パッド、３０：無機層、４０：封止層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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