(57)【要約】【課題】  新たな軌道に沿って可動体を駆動させるための指令データを、当該新たな軌道における学習制御下の駆動を介さずに作成可能な指令データの作成方法を提供する。【解決手段】  本発明は、可動体１１を第１軌道に沿って駆動させるための第１指令データを、可動体１１に対する学習制御により取得するステップと、可動体１１を第２軌道に沿って駆動させるための第２指令データを第１指令データの一部のデータを用いて作成するステップとを有することを特徴とする。【選択図】  図７
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
可動体を第１軌道に沿って駆動させるための第１指令データを、前記可動体に対する学習制御により取得するステップと、
前記可動体を第２軌道に沿って駆動させるための第２指令データを前記第１指令データの一部のデータを用いて作成するステップとを有することを特徴とする指令データの作成方法。
【請求項２】
前記第１指令データの、駆動における異なる区間に対応するデータに対して、つなぎ合わせ処理を行うことで前記第２指令データを作成することを特徴とする請求項１に記載の作成方法。
【請求項３】
前記第１指令データ及び前記第２指令データは、前記可動体の加速区間と等速区間と減速区間に対応するデータを有しており、
前記一部のデータは、前記第１指令データの前記加速区間のデータ及び前記減速区間のデータと、前記第１指令データの前記等速区間の一部のデータであることを特徴とする請求項１又は２に記載の指令データの作成方法。
【請求項４】
前記加速区間のデータ及び前記減速区間のデータは、経過時間に対する指令情報を示すデータであることを特徴とする請求項３に記載の指令データの作成方法。
【請求項５】
前記等速区間の一部のデータは、位置に対する指令情報を示すデータであることを特徴とする請求項３又は４に記載の指令データの作成方法。
【請求項６】
前記第２軌道上の、少なくとも前記第２指令データの等速区間に対応する軌道が、前記第１軌道上の前記第１指令データの等速区間に対応する軌道の一部と重複していることを特徴とする請求項３乃至５のいずれか１項に記載の指令データの作成方法。
【請求項７】
前記加速区間のデータ又は前記減速区間のデータと、前記等速区間の一部のデータとを切り替える切り替え区間において、前記切り替え区間に用いるデータの比率を調整するステップを有することを特徴とする請求項３乃至６のいずれか１項に記載の指令データの作成方法。
【請求項８】
前記第１指令データを記憶するステップを有し、
該記憶するステップにおいて、インデックスと、該インデックスに対応する指令情報と、前記加速区間のデータと前記減速区間のデータと前記等速区間のデータとの各区間に関する情報と、を記憶することを特徴とする請求項３乃至７のいずれか１項に記載の指令データの作成方法。
【請求項９】
前記第２指令データは、前記第１軌道に沿う前記可動体の駆動における加速条件および減速条件と同じ条件を用いて前記可動体を第２軌道に沿って駆動させるためのデータであることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の指令データの作成方法。
【請求項１０】
可動体と、
前記可動体に対する学習制御によって取得した第１指令データを記憶する記憶部と、
前記第１指令のデータの一部のデータを用いて第２指令データを作成する作成部と、
を有することを特徴とする位置決め装置。
【請求項１１】
前記一部のデータは、前記第１指令データの加速区間のデータ及び減速区間のデータと、前記第１指令データの等速区間の一部のデータとであることを特徴とする請求項１０に記載の位置決め装置。
【請求項１２】
請求項１乃至９に記載の作成方法で作成した指令データを受けて駆動する可動体を有し、
前記可動体上の基板に向けてビームを照射してパターンを形成することを特徴とするリソグラフィ装置。
【請求項１３】
請求項１２に記載のリソグラフィ装置を用いて、基板にビームを照射する工程と、
前記基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを有することを特徴とする物品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、指令データの作成方法、位置決め装置、リソグラフィ装置、物品の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
高精度な位置決めが必要となるステージの制御方法として、反復学習制御により得た制御指令パターンを用いてステージを位置決め制御をする手法がある（特許文献１）。反復学習制御とは、ある試行によって得られた出力に基づいて次の試行の入力を決定する制御方法である。これをステージに適用すればステージの目標軌道に対する制御誤差が小さくなるような制御指令パターンを決定することができる。事前に学習制御を行っておくことで、再現性があり、かつ制御モデルに含めることが難しい制御誤差も補正することが可能となる。
【０００３】
しかしながら、ステージを駆動する際に目標軌道が異なる場合には、改めて学習制御を行って新たな目標軌道に対応する制御指令を決定する必要が生じる。リソグラフィ装置のステージに適用すると、学習制御に要する時間の分だけスループットが低減してしまうという課題がある。
【０００４】
特許文献２では、予め記憶している複数の制御指令パターンの中から新たな動作パターンに最も類似している制御指令パターンを抽出して、少ない反復試行回数で制御指令パターンを取得する学習制御方法を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００９−２０５６４１号公報
【特許文献２】特開平２−２９４７０３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特許文献２に記載の制御方法では、新しい動作パターンに対応する制御指令パターンを得るまでの時間を低減できる。しかしながら、短い時間で制御誤差の小さいパターンを得ようとするほど多くの制御指令パターンを記憶しておく必要が生じ、メモリに対する負荷が大きくなってしまう。
【０００７】
そこで本発明は上記課題を鑑みてなされたものであり、新たな軌道に沿って可動体を駆動させるための指令データを、当該新たな軌道における学習制御下の駆動を介さずに作成可能な指令データの作成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の指令データの作成方法は、可動体を第１軌道に沿って駆動させるための第１指令データを、前記可動体に対する学習制御により取得するステップと、前記可動体を第２軌道に沿って駆動させるための第２指令データを前記第１指令データの一部のデータを用いて作成するステップとを有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、新たな軌道に沿って可動体を駆動させるための指令データを、当該新たな軌道における学習制御下の駆動を介さずに作成することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】描画装置の構成図。
【図２】ステージの軌道を示す図。
【図３】制御データの作成方法を示すフローチャート。
【図４】学習制御について説明する図。
【図５】学習制御で得られる制御データ。
【図６】制御データの作成方法について説明する図。
【図７】切り替え区間のつなぎあわせについて説明する図。
【図８】第２の実施形態に係る制御データについて説明する図。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
［第１の実施形態］
（装置構成）
本発明の第１の実施形態は、複数の電子線を用いてウエハ上に潜像パターンを形成する描画装置（リソグラフィ装置）に関する。図１は描画装置１００の構成図である。電子源１は電子を放出し、静電型のレンズであるコリメータレンズ２が、電子源１によって放出された複数の電子の軌道を互いに略平行にする。
【００１２】
アパーチャ３は、アパーチャ３が有する２次元に配列された複数の開口を用いて、コリメータレンズ２を通過したひとつの電子線を複数の電子線に分割する。アパーチャ３の開口に対応する開口を有するレンズ４は、レンズ４を通過する電子線を複数の開口を有する開口アレイ５に向けて結像する。開口アレイ５と対応する位置に配列されている複数の電極対を有するブランカ６は、ブランカ６を通過しようとする電子線の軌道を個々に偏向することができる。複数の開口を有する絞り７は、ブランカ６によって偏向された電子線を遮蔽し、偏向されなかった電子線を通過させる。
【００１３】
偏向器８がブランカ６及び絞り７によって遮蔽されなかった電子線を一括でＸ軸方向に偏向させる。これによって、１本の電子線を用いて、偏向器８による偏向幅に応じた描画幅で描画できる。偏向器８を通過した電子線は対物レンズ９を介してウエハ１０上に縮小投影される。ステージ１１（可動体）は、ウエハ１０を保持しながらＸ軸、Ｙ軸、及びＺ軸方向に駆動される。
【００１４】
記憶部１２はユーザが設計した所望の描画パターンのデータを記憶する。変換部１３は、記憶部１２に記憶されたデータを、１つの画素に照射すべき電子線の階調数を定めたビットマップデータに変換する。記憶部１４は変換部１３が作成したビットマップデータを記憶する。
【００１５】
主制御部１９は、記憶部１４、処理部１５、制御部１６、制御部１７、及び制御部１８に接続されている。処理部１５は主制御部１９を介して記憶部１４から転送されたビットマップデータを用いて、ブランカ６用の制御部１６に対して制御を指示するためのデータを作成する。制御部１６は処理部１５の指示に従って時刻に応じて選択的に電子線を偏向させる。制御部１７が偏向器８を制御し、時刻に応じて電子線を偏向させる。すなわち、制御部１６及び制御部１７は、ウエハ１０に対する電子線の照射又は非照射のタイミングや照射位置を制御する。
【００１６】
描画装置１００において、ステージ装置（位置決め装置）２００は、制御部１８とステージ１１を有している。また、ステージ１１用の制御部１８は、作成部２０、記憶部（メモリ）２１、駆動制御部２２の機能を有している。制御部１８は、ＣＰＵ、メモリを有しており、ある目標軌道に基づいてステージ１１を反復学習制御（以下、学習制御と称す）駆動させて取得した制御データ（指令データ）を用いて、別の目標軌道に対応する制御データを作成する。目標軌道とは、経過時間に対するステージ１１の位置を示すデータを意味する。
【００１７】
制御データとは、少なくとも、経過時間と指令値（指令情報）との関係又はステージ１１の位置と指令値の関係を示すデータである。指令値は後述のアクチュエータ（不図示）を介してステージ１１に与える力を制御する量であれば、ステージ１１に与える力でも良いし、その力を生じるためにアクチュエータに与える必要がある電流等の電気量でも構わない。
【００１８】
記憶部２１は、ステージ１１を学習制御させながら駆動することにより取得した制御データを記憶している。記憶部２１は、当該学習制御を行う際に必要となる一時的な補正量を記憶する。記憶部２１は、作成部２０が制御データを作成するための、後述の図３のフローチャートが示すプログラムを記憶している。
【００１９】
さらに、作成部２０が作成した、時刻に対するステージ１１の位置を示す目標軌道に関するデータや、新しい目標軌道に対応する制御データも記憶する。駆動制御部２２はフィードバックやフィードフォワードの機能を有する回路を有している。前述の制御データに基づいて、駆動制御部２２がステージ１１を駆動させる。
【００２０】
主制御部１９はステージ１１の位置を計測する干渉計（不図示）の計測結果に基づいて、制御部１６と制御部１７と制御部１８に各々の制御のタイミングを指示する。これにより電子線の照射・非照射とウエハ１０の動きが同期制御され、描画パターンの潜像がウエハ１０上に形成される。
【００２１】
図２は、描画時のステージ１１の軌道を示す図である。図２（ａ）は、ステージ１１が、ｙ軸方向に走査したあと、ｘ軸方向に描画幅分だけ移動して、今度は逆向きにｙ軸方向に走査する動作を繰り返す様子を示している。ｙ軸方向への移動距離は、ｙ軸方向に並んでいるチップ２５の数に合わせて変動する。
【００２２】
図２（ｂ）は、ステージ１１が図２（ａ）とほぼ同様に往復運動を繰り返す様子を示している。しかしながら、ｙ軸方向への移動距離がｙ軸方向に並んでいるチップ２５の数に依らずに一定である点が、図２（ａ）の場合とは異なっている。
【００２３】
図２（ｃ）は、１つのチップ２５ずつ描画をしていく様子を示している。ステージ１１が１つのチップ２５のｙ軸方向の長さと同程度ｙ軸方向に走査した後、ｘ軸方向に描画幅分だけ移動して今度は逆向きに１チップ分ｙ軸方向に走査する動作を繰り返す様子を示している。
【００２４】
描画用の駆動の他、ステージ１１は比較的長距離を駆動することがある。例えば、ステージ１１は、電子線の照射位置とウエハ上等のアライメントマークを検出するアライメント光学系（不図示）による検出位置との間や、電子線の照射位置とウエハの受け渡しハンド（不図示）による受け渡し位置との間を駆動する。
【００２５】
描画装置１００の場合は、スループット向上の観点から、ステージ１１は駆動位置範囲がどこであっても最大加速度や最大速度で駆動する。すなわち、最大の加速度で加速し、最大速度に達したらその速度を維持して等速で駆動し、再び逆向きの最大加速度で減速する。そのため、駆動位置や総駆動距離が変わったとしても加速や減速に要する時間はほぼ変化がなく、等速駆動にかかる時間だけが変化する。
【００２６】
（制御データの作成方法）
次に、作成部２０による制御データの作成方法について説明する。図３は、学習制御によって取得した１つの制御データの一部を用いて、他の制御データを作成するときの作成手順を示すフローチャートである。作成部２０が、図３に示す手順に関するプログラムを実行する。作成手順は、１つの目標軌道に対してステージ１１を学習制御させて制御データを取得する工程（Ｓ１０）と、取得した制御データに基づいて新しい目標軌道に制御データを作成する工程（Ｓ２０〜Ｓ５０）とに大別できる。そこで、まず、Ｓ１０の工程で実行する学習制御と、当該学習制御によって得られる制御データについて説明する。
【００２７】
最初にステージ１１の駆動の開始位置・停止位置に合わせて、学習制御をする際に必要となる目標軌道（第１軌道）を決定する。この目標軌道は、最大ストロークに対する軌道であることが好ましい。目標軌道は加速区間、等速区間、減速区間（駆動における異なる区間）を有する。ステージ１１に力を加えてステージ１１の位置が加速的に変化し、速度が初速度から所定の速度に達するまでの時間を加速区間とする。所定量ずつ位置が変化し、所定の速度で等速運動をする時間を等速区間とする。最後に、ステージ１１に加速区間とは逆向きの加速度を与えて、所定の速度から初速度になるまでの時間を減速区間とする。所定の速度は、通常はステージ１１の最大速度である。
【００２８】
図４（ａ）は、駆動制御部２２と記憶部２１が、学習制御によって制御対象であるステージ１１を駆動させる場合の機能を示すブロックである。ステージ１１に駆動力を与えるアクチュエータと、ステージ１１の位置を計測する計測器の図示を省略している。
【００２９】
駆動制御部２２が有するフィードバック制御回路２２１（以下、回路２２１と称す）は、ステージ１１の位置と目標位置（ｒ）との差からステージ１１に与えたい指令値を出力する。回路２２１におけるフィードバック制御として、例えばＰＩＤ制御を行う。駆動制御部２２は、回路２２１が出力した指令値に対して、記憶部２１に一時的に記憶されている、前回の試行における制御データを加算して、ステージ１１にフィードフォワードで入力するための制御データを決定する。
【００３０】
初めてステージ１１を駆動させる場合、記憶部２１は初期の制御データとして、経過時間に対して指令値が全て０の制御データを記憶している。１回目の試行を行うと、目標位置（ｒ）に対するステージ１１の応答位置の差に対する指令値が回路２２１から出力され、出力された指令値が順次記憶部２１に記憶されていく。駆動制御部２２は、２回目の試行では、回路２２１が２回目に出力した指令値に対して１回目の試行時に記憶部２１に記憶した制御データを加算して新しい制御データを取得する。この制御データを記憶部２１内に上書きして記憶させ、ステージ１１にはフィードフォワードさせて入力する。
【００３１】
同様にしてＮ回目（Ｎ≧３）の試行では、駆動制御部２２は、回路２２１からの指令値と（Ｎ−１）回目の試行で記憶部２１に記憶した制御データとを加算する。（Ｎ＋１）回目に使用する制御データとして記憶部２１に記憶させ、ステージ１１に対して入力する。駆動制御部２２は所定回数試行を繰り返した後の制御データを記憶部２１に記憶させる。あるいは、試行を繰り返して制御データがほとんど変化しなくなったと判断した段階で学習制御を停止して、得られた制御データを記憶部２１に記憶させてもよい。
【００３２】
学習制御を行うことにより、駆動制御部２２は目標軌道に対する制御誤差を低減させた制御データを取得する。特に、再現性のある量子化誤差や、再現性があり、かつ制御モデルを組んで補正演算することが難しいような誤差でも要因に関係なく補正する効果がある。例えば、ステージ１１に接続されている配線ケーブルによって生じる応力やステージ１１を駆動させるアクチュエータの推力ムラなど、位置に応じて繰り返し生じる外乱の影響をキャンセルできる効果がある。
【００３３】
なお、ステージ１１は加速時や減速時には指令値に対する駆動応答の遅れを伴う。そこで、目標位置（ｒ）が目標軌道の端に達したとしても、ステージ１１が整定するまでの時間は目標位置（ｒ）としてステージ１１の停止位置を入力して制御を続けておく。
【００３４】
図４（ａ）に示した反復学習制御回路は一例であって、適宜変更を施して回路を設計しても構わない。例えば、図４（ｂ）のように、回路２２１を介す前に目標位置とステージ１１の位置の差を示すデータを記憶部２１に記憶させてもよい。また、その際にフィルタ２２２を介すことで波形を成形しておいてもよい。フィルタ２２２を介すことで、再現性の無い外乱を示す波形に含まれ学習する必要の無い成分の影響を除いたデータを用いて加算や蓄積を行うことができる。
【００３５】
また、回路２２１に対してフィードフォワード制御回路を挿入しても良い。回路２２１からの指令値がフィードフォワード制御回路を介したものであれば、事前に外乱の影響を低減できるため、学習制御の実行回数を低減することが可能となる。
【００３６】
図５は、駆動部２２が学習制御をして取得した制御データのテーブルである。この制御データは、ステージ１１を、１軸方向への総移動距離が１ｍとなるように最大１ｍ／ｓの速度で駆動させた場合のデータである。制御データは、駆動開始時からの経過時間（ｍｓ）と指令値（Ｎ）を有している。指令値は、駆動制御部２２による最後の試行で得た、経過時間に対する指令値である。さらに後述の工程で使用するために、各経過時間に対応する目標軌道の位置（ｍｍ）も保存しておく。記憶部２１は、経過時間をデジタル制御系のサンプリング間隔と等しい間隔で記憶しても構わないし、データ量を削減するために間引いて記憶してもよい。
【００３７】
図３のＳ２０〜Ｓ５０の説明に戻る。作成部２０が新たに目標軌道（第２軌道）を決定する（Ｓ２０）。この目標軌道上の等速区間の軌道は、学習制御を行った時の目標軌道上の等速区間軌道の一部と重複している。ステージ１１の駆動開始位置・停止位置に合わせて、新しい目標軌道を作成する。
【００３８】
Ｓ３０〜Ｓ５０は、図５（ａ）に示した制御データを用いて、新しい目標軌道に対する制御データを作成する工程である。図６（ａ）は図５に示した制御データをグラフ化した図であり、図６（ｂ）は新しく作成する制御データに関するグラフである。Ｓ２０で作成した目標軌道の等速区間はＳ１０における目標軌道と一致しているが、ステージ１１の駆動開始位置と停止位置が異なっている。
【００３９】
図７は、学習制御をして取得した制御データを用いて、新しい目標軌道に対する制御データの作成方法を模式的に示している。まず、作成部２０は、新しく作成する制御データの等速区間に係るデータを取得する（Ｓ３０）。Ｓ１０で取得した制御データのうち、Ｓ２０で取得した目標軌道の等速区間の位置と同じ位置における、各位置に対する指令値を取得する。
【００４０】
つづいて、作成部２０は、Ｓ１０で取得した制御データのうち、加速区間と減速区間における経過時間に対する指令値を取得する（Ｓ４０）。この際、加速及び減速の各々に対する制御応答の遅れに相当する時間（以下、整定時間と称す）の制御データも等速区間の制御データから併せて取得しておく。
【００４１】
最後に、Ｓ３０とＳ４０で取得した各々のデータをつなぎ合わせる（つなぎ合わせ処理を行う）（Ｓ５０）。加速度を有する区間の制御データと等速区間の制御データとの切り替えは滑らかにつなぐ必要がある。そこで、Ｓ３０で取得した等速区間用のデータの始点側では、加速区間の制御データと共に取得した整定時間分の等速区間の制御データも用いる。Ｓ３０で取得した等速区間用のデータの終点側では、減速区間と共に取得した整定時間分の等速区間の制御データも用いる。加速区間後の整定時間分の制御データと等速区間の制御データとを切り替えるための切り替え区間では、切り替えゲインを以下のように設定する。
（つなぎ合わせた制御データ）
＝（加速区間後の制御データ）×（加速区間用の切り替えゲイン）
＋（等速区間の制御データ）×（等速区間用の切り替えゲイン）
（加速区間用の切り替えゲイン）＋（等速区間用の切り替えゲイン）＝１
【００４２】
例えば、加速区間から等速区間に移行する場合は、加速区間用の切り替えゲインを１から０に変化させると同時に等速区間用の切り替えゲインを０から１に変化させる。このように、加速区間または減速区間の切り替え区間の制御データと、等速区間の制御データの比率を連続的に変化させながら切り替える（比率を調整する）。これにより、不連続な指令値がステージ１１に対して与えられてしまい、ステージ１１の制御精度が低下してしまうことを防ぐことができる。
【００４３】
等速区間の制御データと減速区間の制御データのつなぎ合わせも同様にする。つなぎ合わせた後は、データの開始時を経過時間０として適宜経過時間の値を変更する。なお、つなぎ合わせた制御データの作成は、ステージ１１を駆動させる前に行ってもよいし、駆動中に逐次行ってもよい。駆動中も並行してつなぎ合わせを行えば、待機時間を短縮することができる。
【００４４】
切り替え区間の長さは、長すぎても短すぎても制御誤差が大きくなる恐れがある。加速度がステージ１１に与える影響が消失するまでのぎりぎりの時間を整定時間として設定することが好ましい。例えば、切り替え区間の長さは１ｍｓ以上５０ｍｓ以下、より好ましくは１ｍｓ以上１０ｍｓ以下とする。以上で、図３のフローチャートに示すプログラムを終了する。
【００４５】
なお、加速区間や減速区間における外乱は、位置に依存する前述の配線ケーブル等よりも、加速度を与えるために与えた力に対する制御応答の遅れの方が支配的である。制御応答の遅れは、加速度の大きさや加速区間や減速区間の維持時間が大きく影響していることからステージ１１の位置に対する依存性は小さい。そのため、加速区間や減速区間の制御データであれば、異なる位置で取得した制御データを新しい制御データに対して転用することができる。一方、等速区間における誤差要因は主に位置に依存する外乱である。そのため、Ｓ３０では、同じ位置に対応する制御データを転用することが好ましい。
【００４６】
以上で本実施形態に係る制御データの作成方法の説明を終了する。本実施形態のように、新しく作成する目標軌道の加速区間及び減速区間の長さや加速度の大きさ（条件）と、学習制御を行った１つの長距離駆動の目標軌道の加速区間及び減速区間長さや加速度の大きさとの同一性が高いほど、目標軌道に沿って駆動する制御データが作成できる。本実施形態における制御データの作成において、ステージ１１の駆動開始位置や停止位置が変更されていても構わない。Ｓ５０で作成された制御データは、Ｓ１０で学習制御を行って取得したデータの一部を用いて作成しているため、改めて学習制御下で駆動をさせて取得する場合の制御データとほぼ同程度の制御誤差の低減効果を有している。
【００４７】
また、事前の学習制御の時間を省略できることから、スループットを向上できる。さらに、加速区間と減速区間の分の制御データは少なくとも１つ分のデータ量で済むことから、必要な記憶容量（メモリ容量）を低減することができるのでコストダウンを図ることができる。
【００４８】
（実施例）
本実施形態による効果について、簡単な実施例を用いて説明する。ステージ１１の軌道が図２（ｃ）に示す軌道の場合、固定のｘ値においてｙ軸方向には最大で６チップ分、６通りのステージ１１の開始位置と終了位置がある。本実施形態を適用しない場合は、６パターン分の制御データを６回学習制御を行うことで取得しなければならないが、本実施形態を適用すれば６チップ分をまとめて駆動させた場合の学習制御を１回するだけで済む。他の学習制御下での駆動時間の短縮と、必要となる記憶容量を低減することができる。
【００４９】
次に、ウエハ１０上に形成されている複数のアライメントマークの位置を計測する場合を考える。数十点のマークを計測することもある。ここでは、マーク計測に伴う駆動のための制御データが１軸あたり５０通りとする。学習制御による１回の試行が１秒であり、１つの制御データを取得するために２０回の試行が必要であるとすると、５０パターン分の制御データを取得するためには約１６分かかる。このような時間を短縮することでスループットを向上させることが可能となる。
【００５０】
また、指令値１つが２Ｂｙｔｅであり、１ｍの距離を０．１ｍｍ間隔でサンプリングした制御データを取得するならば、１００００点×２Ｂｙｔｅ×５０＝１ＭＢｙｔｅも必要となってしまう。本実施形態を適用すれば、１軸あたりに必要な記憶容量を約１／５０に低減することができる。
【００５１】
［第２の実施形態］
次に、第２の実施形態について説明する。第２の実施形態は、図３におけるＳ１０で作成した制御データの保存方法を工夫することで、第１の実施形態よりも必要とする記憶容量を削減できる実施形態である。新しい目標軌道に対する制御データの作成方法の主な順序は図３に示したフローチャートと同様であるため説明を省略する。
【００５２】
図８（ａ）は第１の実施形態で示した制御データに関するテーブルである。作成部２０は、経過時間、目標軌道、指令値をセットにして記憶部２１に記憶させている。一方、図７（ｂ）は本実施形態で保存する制御データに関するテーブルである。インデックス（Ｎｏ．１、２、・・・）とそれに対応する指令値を記憶部２１に記憶させている。
【００５３】
さらに、加速区間を開始するインデックスが１であり、サンプリングした時間間隔が０．１ｍｓであるという情報を記憶部２１に記憶させている。減速区間については減速区間を開始するインデックスが１００４０であり、時間間隔が０．１ｍｓであるという情報を記憶部２１に記憶させている。また、等速区間については等速区間を開始するインデックスが５０００であり、等速区間の開始位置が４７６．６４３２ｍｍであり、以降のインデックスが示す位置間隔は０．１ｍｍであるという情報を記憶部２１に記憶させている。
【００５４】
本実施形態の場合は、加速区間と減速区間の指令値は、等間隔の時間に対する値であることが好ましい。このように、等間隔で設定しておけば、サンプリングの時間間隔を入力しておくだけで、インデックスの変化と対応づけることが容易になる。
【００５５】
また、加速区間と減速区間では、位置に対する指令値ではなく時間に対する指令値に基づいてデータを記憶させることが好ましい。加速区間の開始時や減速区間の終了時には位置はほとんど変化しないことから、位置に対応するデータとして記憶させると制御データの分解能が悪くなってしまうからである。
【００５６】
このように記憶部２１は、インデックスとインデックスに対応する指令値の他に、各区間に関する情報について記憶しておく。ここで、各区間に関する情報とは、各速度区間の開始を示すインデックス、インデックスが示す情報（位置や時間）、各速度区間開始時の該情報の値、及び各速度区間における情報のデータ間隔を示す。これにより、記憶部２１が経過時間、目標軌道、指令値をセットで全て記憶する場合に比べて、記憶部２１が保持するデータ量を大幅に削減することができる。
【００５７】
また、制御精度に影響が生じない範囲で、加速区間、等速区間、減速区間のデータ間隔を間引いても良い。また、記憶させたデータを使用する場合は、適宜データを補完してもよい。これにより、記憶部２１に要求されるデータ容量をさらに低減させることが可能となる。
【００５８】
［その他の実施形態］
Ｓ１０の学習制御の工程とＳ２０の目標軌道の作成工程の順序が逆になっても構わない。また、作成部２０が新たに作成する制御データは、直線的な目標軌道に対するデータに限られない。複数軸の分のデータを組み合わせることで、曲線軌道を目標軌道として設定し、学習制御の結果を転用した制御データを作成する場合も含む。
【００５９】
学習制御で取得した制御データにおける等速区間の切り出しは、実施形態で説明したように新しく作成する制御データの等速区間と同じ位置に対応するデータであることが好ましい。再現性のある外乱の影響を低減することができる。しかし、新しく作成する制御データの位置が学習制御を行った軌道と近く、外乱の影響が許容値内である場合には、他の位置に対応するデータを転用してもよい。
【００６０】
描画装置１００の電源を切ると、干渉計が認識するステージの位置がリセットされてしまう。そのため、駆動制御部２２は初期化動作ごとに図３に示すＳ１０の学習制御を行い、作成部２０が再び様々な目標軌道に対応する制御データを作成することが好ましい。ステージに対して一時的に衝撃が加わった場合も同様である。
【００６１】
描画装置１００は、前述の実施形態のように複数本の電子線でウエハを照射してもよいし、１本の電子線で照射してもよい。また、本発明におけるリソグラフィ装置は描画装置に限らない。イオンビーム等の荷電粒子線あるいはＡｒＦレーザ光やＥＵＶ光等の光線でウエハを照射してウエハ上に潜像パターンを形成する装置や、インプリント法によりウエハパターンを形成する装置に適用しても構わない。
【００６２】
［物品の製造方法］
本発明の物品（半導体集積回路素子、液晶表示素子、撮像素子、磁気ヘッド、ＣＤ−ＲＷ、光学素子、フォトマスク等）の製造方法は、前述の実施形態の描画装置を用いて基板（ウエハやガラス板等）上にパターンを露光する工程と、露光された基板に対してエッチング処理及びイオン注入処理の少なくともいずれか一方を施す工程とを含む。さらに、他の周知の処理工程（現像、酸化、成膜、蒸着、平坦化、レジスト剥離、ダイシング、ボンディング、パッケージング等）を含んでも良い。
【符号の説明】
【００６３】
１０  ウエハ
１１  ステージ
１８  制御部
２０  作成部
２１  記憶部
１００  描画装置
２００  ステージ装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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