(57)【要約】【課題】低抵抗かつパターン部及びエッチング部を有する光透過性導電性フィルムであって、パターン見え現象が抑制されているフィルムを提供することを目的とする。【解決手段】支持層；及び光透過性導電層を含有し、前記光透過性導電層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が以下の要件を満たすことを特徴とする光透過性導電性フィルム：（Ａ）前記光透過性導電層及び必要に応じてその外層を除去する前後における、６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度の差の絶対値が２０％未満である。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持層；及び
光透過性導電層
を含有し、
前記光透過性導電層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が以下の要件を満たすことを特徴とする光透過性導電性フィルム：
（Ａ）前記光透過性導電層及び必要に応じてその外層を除去する前後における、６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度の差の絶対値が２０％未満である。
【請求項２】
前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が、さらに以下の要件を満たす、請求項１に記載の光透過性導電性フィルム：
（Ｂ）光透過性導電層が存在する部分の６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度が６５％以下である。
【請求項３】
前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が、さらに以下の要件を満たす、請求項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム：
（Ｃ）光透過性導電層が存在する部分のヘイズが０．２〜１％である。
【請求項４】
前記光透過性導電層の厚さが、１５ｎｍ〜２０ｎｍである、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項５】
さらにＳｉＯｘを含有するアンダーコート層を含有し、
前記アンダーコート層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して前記光透過性導電層に隣接するように配置されている、請求項１〜４のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含む、タッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光透過性導電性フィルム及びその評価方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルに搭載される導電性フィルムとして、プラスチックからなる光透過性支持層の上に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等からなる光透過性導電層等を積層して得られる光透過性導電性フィルムが数多く使用されている。
【０００３】
近年、静電容量型のタッチパネルがスマートフォン、タブレット端末などのモバイル機器に搭載されるケースが増えてきた。これらのモバイル機器における応答速度向上や大画面化のために、２００Ω／□以下の抵抗値の光透過性導電性フィルムが求められるようになってきている。また、大画面化に伴い、従来より優れた見栄えが求められてきている。
【０００４】
これらの静電容量型のタッチパネルでは、光透過性導電性フィルムは、エッチング処理を行うことにより光透過性導電層をパターン化した上でタッチパネルに搭載されるのが通常である。このようにして光透過性導電層がパターン化された光透過性導電性フィルムにおいて、フィルム表面に光透過性導電層のパターンが視認されるようになること（いわゆるパターン見え現象；ｐａｔｔｅｒｎ  ｖｉｓｉｂｉｌｉｔｙ）が知られている。
【０００５】
パターン見え現象には、光透過性導電層の有無に伴う反射率の差により生じる現象と、加熱後において光透過性導電層と光透過性支持層の界面に生じる応力に起因してフィルムにうねりが生じることによる現象とが知られている。
【０００６】
特許文献１では、可視領域全体全体（波長；約４００〜８００ｎｍ）における反射率差の絶対値が小さいほど、パターン形状が目立ちにくく、視認性を良好にするすることができるとして、透明導電膜が形成されているパターン形成領域に入射した光の反射率と前記透明基板を介して前記透明導電膜が形成されていない非パターン形成領域に入射した光の反射率とを近似させる調節層（光学干渉層）を備えた透明面状体を開示している。
【０００７】
また、特許文献２は、加熱時の寸法変化率の差を所定範囲内にすることにより、うねりにより生じるパターン境界での段差（骨見え）を低減することによりパターン見え現象を抑止する方法を開示している。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特許第５０７８５３４号公報
【特許文献２】特開２０１３−４５６３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
上記のように、光透過性導電性フィルムでは、低抵抗化が進む中、光透過性導電層をパターン化した場合、光透過性導電層のパターン部とエッチング部の境界が視認され難いことが求められている。しかし、上記のように、光透過性導電層と光透過性支持層の間に光学干渉層が設けられていても、フィルムのうねりにより生じる段差等によりパターン境界が視認されやすく、見栄えが悪くなる場合があり、さらに、ガラス基板を使う等してパターン部とエッチング部の寸法変化率の差を小さく、かつ、うねりを小さくしてパターン境界の段差を小さくしてもパターン境界が視認されやすく、見栄えが悪くなる場合があることが判明した。また、逆にうねりが大きくても、パターン境界が視認されにくい場合があることも判明した。
【００１０】
本発明は、上記のように低抵抗かつパターン部及びエッチング部を有する光透過性導電性フィルムであって、パターン見え現象が抑制されているフィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは、上記課題を解決するべく鋭意検討を重ね、本発明を完成させた。具体的には、本発明者らは、パターン化された光透過性導電性フィルム表面においては、斜め方向からの反射光によりパターンが視認されやすいことに着目し、６０°反射における像鮮明度が一定の範囲内に抑制されているとパターン見え現象が抑制されることを見出した。本発明は、次に掲げる態様を包含する。
項１．
支持層；及び
光透過性導電層
を含有し、
前記光透過性導電層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が以下の要件を満たすことを特徴とする光透過性導電性フィルム：
（Ａ）前記光透過性導電層及び必要に応じてその外層を除去する前後における、６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度の差の絶対値が２０％未満である。
項２．
前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が、さらに以下の要件を満たす、項１に記載の光透過性導電性フィルム：
（Ｂ）光透過性導電層が存在する部分の６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度が６５％以下である。
項３．
前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が、さらに以下の要件を満たす、項１又は２に記載の光透過性導電性フィルム：
（Ｃ）光透過性導電層が存在する部分のヘイズが０．２〜１％である。
項４．
前記光透過性導電層の厚さが、１５ｎｍ〜２０ｎｍである、項１〜３のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項５．
さらにＳｉＯｘを含有するアンダーコート層を含有し、
前記アンダーコート層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して前記光透過性導電層に隣接するように配置されている、項１〜４のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルム。
項６.
項１〜５のいずれか一項に記載の光透過性導電性フィルムを含む、タッチパネル。
【発明の効果】
【００１２】
本発明により、パターン見え現象が抑制されているフィルムを提供することができる。また、本発明のパターン見え現象の評価方法を利用することにより、パターン見え現象を定量的に評価することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】光透過性支持層の片面に光透過性導電層が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図２】光透過性支持層の両面に光透過性導電層が隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図３】光透過性支持層の片面にアンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図４】光透過性支持層の両面にアンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図５】光透過性支持層の片面にハードコート層、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図６】光透過性支持層の一方の面にハードコート層、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されており、他方の面に別のハードコート層が直接配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【図７】光透過性支持層の両面にハードコート層、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている、本発明の光透過性導電性フィルムを示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
１．  光透過性導電性フィルム
本発明は、
支持層；及び
光透過性導電層
を含有し、
前記光透過性導電層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムであって、前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が以下の要件を満たすことを特徴とする光透過性導電性フィルムである：
前記光透過性導電層及び必要に応じてその外層を除去する前後における、６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度の差の絶対値が２０％未満である。
【００１５】
図１に、本発明の光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層の片面に光透過性導電層が互いに隣接して配置されている。
【００１６】
図２に、本発明の光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層の両面に光透過性導電層が互いに隣接して配置されている。
【００１７】
１．１  支持層
光透過性支持層とは、光透過性導電層を含有する光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性導電層を含む層を支持する役割を果たすものをいう。光透過性支持層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて、光透過性支持層として通常用いられるものを用いることができる。
【００１８】
光透過性支持層の素材は、特に限定されないが、例えば、各種の有機高分子等を挙げることができる。有機高分子としては、特に限定されないが、例えば、ポリエステル系樹脂、アセテート系樹脂、ポリエーテル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリアクリル系樹脂、ポリメタクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリアセタール系樹脂、ポリ塩化ビニリデン系樹脂及びポリフェニレンサルファイド系樹脂等が挙げられる。ポリエステル系樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）及びポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）等が挙げられる。光透過性支持層の素材は、ポリエステル系樹脂が好ましく、中でも特にＰＥＴが好ましい。光透過性支持層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。
【００１９】
光透過性支持層の厚さは、特に限定されないが、例えば、２〜３００μｍの範囲が挙げられる。
【００２０】
１．２  光透過性導電層
本発明において光透過性導電層とは、電気を導通しかつ可視光を透過する役割を果たすものをいう。光透過性導電層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいて光透過性導電層として通常用いられるものを用いることができる。
【００２１】
光透過性導電層の素材は、特に限定されないが、例えば、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化錫及び酸化チタン等が挙げられる。光透過性導電層としては、光透過性と導電性を両立する点で酸化インジウムにドーパントをドープしたものを含む光透過性導電層が好ましい。光透過性導電層は、酸化インジウムにドーパントをドープしたものからなる光透過性導電層であってもよい。ドーパントとしては、特に限定されないが、例えば、酸化スズ及び酸化亜鉛、並びにそれらの混合物等が挙げられる。
【００２２】
光透過性導電層の素材として酸化インジウムに酸化スズをドープしたものを用いる場合は、酸化インジウム（ＩＩＩ）（Ｉｎ２Ｏ３）に酸化スズ（ＩＶ）（ＳｎＯ２）をドープしたもの（ｔｉｎ−ｄｏｐｅｄ  ｉｎｄｉｕｍ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）が好ましい。この場合、ＳｎＯ２の添加量としては、特に限定されないが、例えば、１〜１５重量％、好ましくは２〜１０重量％、より好ましくは３〜８重量％等が挙げられる。また、ドーパントの総量が左記の数値範囲を超えない範囲で、酸化インジウムスズにさらに他のドーパントが加えられたものを光透過性導電層の素材として用いてもよい。左記において他のドーパントとしては、特に限定されないが、例えばセレン等が挙げられる。
【００２３】
光透過性導電層は、上記の各種素材のうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。
【００２４】
光透過性導電層は、特に限定されないが、結晶体若しくは非晶質体、又はそれらの混合体であってもよい。
【００２５】
光透過性導電層の厚さは、１５ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが好ましく、１５ｎｍ以上２０ｎｍ未満であることがより好ましい。１５ｎｍ以上であれば必要な導電性が得られ、２０ｎｍ以下であれば骨見え現象が緩和される。
【００２６】
光透過性導電層を配置する方法は、特に限定されないが、特にマグネトロンスパッタリング法が好ましい。具体的には、例えば、８００ガウス以上の最大水平時速密度で行う高磁場マグネトロンスパッタリング法が好ましい。スパッタリング法を採用する場合は、不活性ガス（例えば、アルゴン等）と微量酸素との混合気体中で行うことが好ましい。該混合気体中の酸素分圧の範囲としては、例えば０．００５〜０．０２０Ｐａ、好ましくは０．００５〜０．０１５Ｐａが挙げられる。
【００２７】
本発明の光透過性導電性フィルムは、表面抵抗値（シート抵抗）が、１６０Ω／□以下であり、より好ましくは１４０Ω／□以下である。
【００２８】
本発明において、表面抵抗値は、光透過性導電性フィルムを１５０℃で１時間加熱処理したものを、ＭＩＴＳＵＢＩＳＩ ＣＨＥＭＩＣＡＬ  ＡＮＡＬＹＴＥＣＨ社製の表面抵抗計（商品名：Ｌｏｒｅｓｔａ−ＥＰ）又はその同等品を用いて測定する。
【００２９】
１．３  像鮮明度及びヘイズ
本発明の光透過性導電性フィルムは、前記光透過性導電層が配置されている少なくとも一方の面が以下の要件を満たすことを特徴とする：
（Ａ）前記光透過性導電層及び必要に応じてその外層を除去する前後における、６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度の差の絶対値が２０％未満である。
【００３０】
なお、上記において、「必要に応じてその外層を除去する」とは、光透過性導電層の外層が存在していれば除去するということを意味する。
【００３１】
すなわち、本発明の光透過性導電性フィルムは、エッチングにより光透過性導電層が存在するパターン部、及び光透過性導電層が存在しないエッチング部を形成したときに、これらの間における像鮮明度が特定の範囲内にあり、このためパターン見え現象が抑制されている。
【００３２】
上記において、像鮮明度の差の絶対値が２０％未満であればより好ましく、１５％未満であればさらに好ましい。
【００３３】
本発明において、像鮮明度は、写像性測定器（スガ試験機株式会社製、商品名ＩＣＭ−１Ｔ又はその同等品）を用いて、光学くし幅０．２５ｍｍにおける６０°反射を３回計測し、それらの平均を計算して求める。
【００３４】
前記光透過性導電層及びその外層（あれば）の除去は、特に限定されないが、光透過性導電層を除去できればよく、一般的なエッチング液を用いて、エッチング液の温度や時間を調整すればよい。例えば、３５ｗｔ％の塩酸：６０ｗｔ％の硝酸：水＝２０：１：３０（体積比）のエッチング溶液を用いる場合、光透過性導電性フィルムを室温で１５分浸漬し、その後、純水で十分に洗浄することで、光透過性導電層を除去できる。
【００３５】
また、本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに以下の要件を満たすものであってもよい：
（Ｂ）光透過性導電層が存在する部分の６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度が６５％以下である。
【００３６】
要件（Ｂ）を満たす場合、本発明の光透過性導電性フィルムは、反射光を効果的に揺らがせることができ、パターン部とエッチング部の境界を目立たなくさせることができる。なお、光透過性導電層が存在する部分の像鮮明度は、低すぎると反射光が散乱し過ぎて反対側の像が見えにくくなるので、用途に応じて適切な範囲内とすればよい。
【００３７】
上記において、像鮮明度が６５％以下であればより好ましく、６０％以下であればさらに好ましい。
【００３８】
本発明の光透過性導電性フィルムは、上記要件（Ｂ）に加えてさらに、あるいは要件（Ｂ）に替えて以下の要件を満たすものであってもよい：
（Ｃ）光透過性導電層が存在する部分のヘイズが０．２〜１である。
【００３９】
要件（Ｃ）のうち、ヘイズが０．２以上であるという要件を満たす場合、本発明の光透過性導電性フィルムは、パターン見えが抑制されているという利点を有する。
【００４０】
要件（Ｃ）のうち、ヘイズが１％以下であるという要件を満たす場合、本発明の光透過性導電性フィルムは、粒状感がないという利点を有する。
【００４１】
光透過性導電層が存在する部分のヘイズは、好ましくは０．２〜０．９％である。
【００４２】
なお、本発明において、ヘイズはヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００、またはその同等品）を用いて、ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて、送風乾燥機内で１５０℃で１時間加熱処理した光透過性導電性フィルムを測定する。
【００４３】
１．４  パターン部及びエッチング部
本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層がパターニングされたときにパターン見え現象が抑制されているという利点を有する。本発明の光透過性導電性フィルムは、光透過性導電層がパターニングされる前の状態のものであってもよいし、光透過性導電層がパターニングされたものであってもよい。
【００４４】
パターニングの方法は、特に限定されないが、例えば次のようにして行うことができる。まず、レジスト（エッチング液から層を保護するための保護膜）を、光透過性導電層上の、残したい領域に塗布する。塗布の手段はレジストの種類にもよるがスクリーン印刷によって行ってもよいし、フォトレジストを用いる場合であれば、次のようにして行う。光透過性導電層上の、残したい領域にスピンコーター又はスリットコーター等を用いてフォトレジストを塗布し、光又は電子線を部分的に照射してフォトレジストの溶解性をその部分においてのみ変化させ、その後に溶解性が相対的に低くなっている部分を除去する（これを現像という）。このようにしてレジストが光透過性導電層上の、残したい領域においてのみ存在している状態とする。引き続いて、エッチング液を光透過性導電層に作用させ、光透過性導電層のうちレジストで保護されていない領域を選択的に溶解し、この溶解物を最終的に除去することにより、パターンを形成する。
【００４５】
本発明において評価対象とする光透過性導電性フィルムは、パターニングの後に、さらに熱処理を行ったものであってもよい。熱処理は、主に光透過性導電層を結晶化させる目的で行われる。熱処理によって光透過性導電性フィルムに波状のうねりが生じ、これにより、パターン部の断面形状が上に凸の円弧形状、かつエッチング部の断面形状が下に凸の円弧形状となる場合がある。熱処理の条件としては、特に限定されないが、例えば、温度を１００〜１８０℃とし、処理時間を０.２〜１．５時間とすることができる。熱処理の条件は必要に応じて上記範囲から適宜選択することもできるが、低温側で処理する場合は処理時間を長時間側とし、高温側で処理する場合は処理時間を短時間側としてもよい。
【００４６】
パターン部及びエッチング部からなる縞状パターンは、特に限定されないが、通常、縞状パターンの長手方向と直交する方向のパターン部の幅（ピッチ）が０．０１ｍｍ〜５ｍｍであり、かつエッチング部の同方向の幅（ピッチ）が０．０１ｍｍ〜５ｍｍである。
【００４７】
１．５  アンダーコート層
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、アンダーコート層を含有し、かつ少なくとも一方の光透過性導電層が少なくともアンダーコート層を介して光透過性支持層の面に配置されていてもよい。
【００４８】
光透過性導電層は、アンダーコート層に隣接して配置されていてもよい。
【００４９】
図３に、本発明の片面光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層の一方の面に、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００５０】
図４に、本発明の両面光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層の両方の面に、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００５１】
アンダーコート層の素材は、特に限定されないが、例えば、誘電性を有するものであってもよい。アンダーコート層の素材としては、特に限定されないが、例えば、酸化ケイ素、窒化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、シリコンアルコキシド、アルキルシロキサンの及びその縮合物、ポリシロキサン、シルセスキオキサン、ポリシラザン、酸化二オブ（Ｖ）等が挙げられる。また、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。アンダーコート層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。
【００５２】
アンダーコート層としては、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）を含む層が好ましい。アンダーコート層は、ＳｉＯｘ（ｘ＝１．０〜２．０）からなる層であってもよい。
【００５３】
アンダーコート層は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。アンダーコート層が二層以上互いに隣接して配置されているのが好ましい。例えば三層が互いに隣接して配置されている場合、中間に酸化度が例えば５〜３０％（好ましくは８〜２５％、より好ましくは８〜２２％、さらに好ましくは１０〜２０％）のＳｉＯｘからなるアンダーコート層、それを挟むようにして、いずれもＳｉＯｘからなるアンダーコート層を配置させるのが好ましい。
【００５４】
酸化度を調整する方法としては、例えばスパッタプロセスモニター等で常時観測しながら、不活性ガス（例えば、アルゴン）に酸素ガスを調整して導入することが好ましい。
【００５５】
アンダーコート層の一層あたりの厚さとしては、特に限定されないが、例えば３〜５０ｎｍ等が挙げられる。二層以上が互いに隣接して配置されている場合は互いに隣接している全てのアンダーコート層の合計厚さが上記範囲内であればよい。また、アンダーコート層は完全な層でなくてもよく、断続的な層となっていてもよい。
【００５６】
アンダーコート層の屈折率は、本発明の光透過性導電性フィルムがタッチパネル用光透過性導電性フィルムとして使用できる限り特に限定されないが、例えば、１．４〜１．６が好ましい。
【００５７】
アンダーコート層を配置する方法は、湿式及び乾式のいずれでもよく、特に限定されないが、湿式としては例えば、ゾル−ゲル法、微粒子分散液、コロイド溶液を塗布する方法等が挙げられる。
【００５８】
アンダーコート層を配置する方法として、乾式としては、例えば、スパッタリング法、イオンプレーティング法、真空蒸着法、化学気相堆積法及びパルスレーザーデポジション法により隣接する層上に積層する方法等が挙げられる。
１．６  その他の構成
本発明の光透過性導電性フィルムは、さらに、ハードコート層を含有していてもよい。
【００５９】
本発明の光透過性導電性フィルムがハードコート層を含有している場合、少なくとも一方の光透過性導電層が少なくともハードコート層を介して光透過性支持層の面に配置されている。
【００６０】
ハードコート層は、一層が配置されていてもよい。あるいは二層以上が互いに隣接して、または他の層を介して互いに離間して配置されていてもよい。
【００６１】
ハードコート層は、光透過性支持層の両面に配置されていてもよい。
【００６２】
図５に、ハードコート層を含有する本発明の片面光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層の一方の面にハードコート層、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００６３】
図６に、ハードコート層を含有する本発明の片面光透過性導電性フィルムの別の態様を示す。この態様では、光透過性支持層の一方の面にハードコート層、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されており、光透過性支持層の他方の面に別のハードコート層が直接配置されている。
【００６４】
図７に、ハードコート層を含有する本発明の両面光透過性導電性フィルムの一態様を示す。この態様では、光透過性支持層の両方の面にハードコート層、アンダーコート層及び光透過性導電層がこの順で互いに隣接して配置されている。
【００６５】
本発明においてハードコート層とは、光透過性支持層表面の傷つきを防止する役割を果たすものをいう。ハードコート層としては、特に限定されないが、例えば、タッチパネル用光透過性導電性フィルムにおいてハードコート層として通常用いられるものを用いることができる。
【００６６】
ハードコート層の素材は、特に限定されないが、例えば、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂及びアルキド系樹脂等が挙げられる。ハードコート層の素材としては、さらに、シリカ、ジルコニア、チタニア及びアルミナ等のコロイド粒子等を上記樹脂中に分散させたものも挙げられる。ハードコート層は、これらのうちいずれか単独からなるものであってもよいし、複数種からなるものであってもよい。ハードコート層としては、ジルコニア粒子を分散したアクリル樹脂が好ましい。
【００６７】
ハードコート層の厚さ（二層が隣接して配置されている場合は二層の厚さの合計）（μｍ）は、１μｍ〜１０μｍである。
【００６８】
ハードコート層を配置する方法としては、特に限定されないが、例えば、フィルムに塗布して、熱で硬化する方法、紫外線や電子線などの活性エネルギー線で硬化する方法等が挙げられる。生産性の点で、紫外線により硬化する方法が好ましい。
【００６９】
本発明の光透過性導電性フィルムは、タッチパネルの製造のために用いられる。タッチパネルについて詳細は、以下に説明する通りである。
【００７０】
本発明のタッチパネルは、本発明の光透過性導電性フィルムを含み、さらに必要に応じてその他の部材を含んでなる。
【００７１】
本発明の静電容量型タッチパネルの具体的な構成例としては、次のような構成が挙げられる。なお、保護層（１）側が操作画面側を、ガラス（５）側が操作画面とは反対側を向くようにして使用される。
（１）保護層
（２）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｙ軸方向）
（３）絶縁層
（４）本発明の光透過性導電性フィルム（Ｘ軸方向）
（５）ガラス
本発明のタッチパネルは、特に限定されないが、例えば、上記（１）〜（５）、並びに必要に応じてその他の部材を通常の方法に従って組み合わせることにより製造することができる。
【００７２】
２．  パターン見え現象を評価する方法
本発明のパターン見え現象を評価する方法は、
支持層；及び
光透過性導電層
を含有し、
前記光透過性導電層が、前記支持層の少なくとも一方の面に、直接又は一以上の他の層を介して配置されている光透過性導電性フィルムにおいて、前記光透過性導電層をエッチング処理によりパターン化したときのパターン見え現象を評価する方法であって、
前記光透過性導電層及びその外層を除去する前後における像鮮明度の差の絶対値に基づいて評価を行う方法である。
【００７３】
像鮮明度の計測方法は上記において説明した通りである。
【００７４】
像鮮明度の計測条件は、特に限定されない。上記において説明したように、６０°反射、くし幅０．２５ｍｍの条件にて計測される像鮮明度を指標として評価することもできるが、これは指標としてはあくまで一例であり、計測方法としては特にこれに限定されない。
【実施例】
【００７５】
以下に実施例を掲げて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
【００７６】
実施例１
光透過性支持層として、５０μｍのＰＥＴフィルムを用いた。ＰＥＴフィルムの一方の面にジルコニア粒子を分散したアクリル系ハードコート樹脂を塗布し、１．５μｍのハードコート層を得た。ＰＥＴフィルムの他方の面には、アクリル系ハードコート樹脂を塗布し、１．５μｍのハードコート層を得た。このようにして、両面ハードコートフィルムを得た。
【００７７】
ジルコニア粒子が分散したハードコート表面上に有機シリカ化合物を含むアクリル系樹脂を１５ｎｍ塗布し、アンダーコート層とした。
【００７８】
この基材を真空装置内に設置し、５×１０−４Ｐａ以下となるまで真空排気した後、アルゴンガス（濃度：９９．９％。以下、同じ。）を導入して、ＤＣマグネトロンスパッタリング法によりアルゴン雰囲気下でＳｉＯｘ層を１．０ｎｍとなるように成膜し、連続して、スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、ＧＥＮＣＯＡ社製）により酸化度の設定値を１０％になるように酸素ガスを調整してＳｉＯｘを１０．０ｎｍとなるように成膜した。さらに、アルゴンガスのみを導入してＳｉＯｘからなる層を１.０ｎｍとなるように成膜した。次に、ＳｉＯｘ層の上に、連続して酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）を積層した。具体的にはＳｎＯ２が７重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットを用いて、厚さ１８ｎｍのＩＴＯからなる層を酸素分圧が０．００８Ｐａのアルゴンガス雰囲気中でスパッタ成膜した。このようにして、光透過性導電性フィルムを得た。
【００７９】
物性評価
物性評価には、光透過性透明導電性フィルムを送風乾燥機内で１５０℃で１時間加熱処理したものをサンプルとして用いた。
【００８０】
また、エッチング処理では、加熱処理したサンプルを、３５ｗｔ％の塩酸：６０ｗｔ％の硝酸：水＝２０：１：３０（体積比）のエッチング溶液を用いて、室温で１５分浸漬し、その後、純水で十分に洗浄することにより、ＩＴＯを除去した。
【００８１】
像鮮明度
像鮮明度は、写像性測定器（スガ試験機株式会社製、商品名ＩＣＭ−１Ｔ）を用いて、光学くし幅０．２５ｍｍにおける６０°反射を３回計測し、それらの平均を計算して求めた。サンプルは加熱処理した光透過性透明導電性フィルムを用いて、エッチング前（Ｒ１）後（Ｒ２）で、それぞれ評価した。
【００８２】
ヘイズ測定
ヘイズはヘーズメーター（日本電色社製、商品名：ＮＤＨ−２０００）を用いてＪＩＳ−Ｋ−７１０５に基づいて測定した。サンプルは加熱処理した光透過性透明導電性フィルムを用いた。
【００８３】
うねり評価
うねり評価には、レーザー顕微鏡を用いて、電極パターンを形成した際に生じる段差をうねりの指標とした。段差計測は、具体的には以下のようにして行った。
【００８４】
加熱処理後の光透過性透明導電性フィルムをスクリーン印刷にて、Ｌ／Ｓ＝６００μｍのストライプ状にレジストを塗布・乾燥し、ＩＴＯをエッチング処理により除去した後、レジストをアルカリ溶液（１／４ＮのＫＯＨ水溶液）にて除去した。純水にて水洗したサンプルを風乾し、さらに１３０℃で３０分間加熱して、電極パターンを形成した光透過性導電性フィルムを得た。
【００８５】
次に、電極パターンが形成されたＩＴＯ側の表面に光透過性粘着剤（３Ｍ製ＯＣＡ）を貼り、さらに、光透過性粘着剤のＩＴＯ表面側とは反対側の表面にゴリラガラス（５０ｍｍ×８０ｍｍ×０．７ｍｍ）を貼り付け、評価サンプルを作製した。
【００８６】
レーザー顕微鏡はキーエンス社製超深度カラー３Ｄ形状測定顕微鏡ＶＫ−９５００を用いた。ガラス面を入射面として、倍率２００倍で画面中央に電極のパターン部とエッチング部の境界線が映るようにした。ステージ移動ステップを１μｍとしてレーザー反射光量が小さくなる範囲を設定した。このときエッチング部側が下限（Ｌレベル）、パターン部側が上限（Ｈレベル）である。ステージ移動ステップを０．０１μｍとしてＬレベルからＨレベルまで走査した。
【００８７】
解析ソフトを用いて、電極のパターン部とエッチング部の境界線に直交する直線上の高さプロファイルを計算し、傾き補正を行った上でパターン部とエッチング部の境界線における段差を求めた。この作業を画面上の５点で行いその平均値の段差をうねりとした。
【００８８】
骨みえ評価
うねり評価で用いた評価サンプルを、２７Ｗ型蛍光灯（ＦＰＬ２７ＥＸ−Ｎ、Ｐａｎａｓｏｎｉｃ社製）を用いて、ガラス面側を目視にて骨みえを評価した。この際、蛍光灯から１５ｃｍ離れた距離で評価サンプルを目視評価しても骨みえが確認できない場合を◎とし、蛍光灯から１５ｃｍでは骨みえが確認できても、１００ｃｍ離れた距離で評価サンプルを目視評価した際に骨みえが確認できない場合を〇とし、蛍光灯から１００ｃｍ離れた距離で評価サンプルを目視評価しても骨みえが確認できる場合を×とした。
【００８９】
実施例２
実施例１で得た両面ハードコートフィルムを用いて、ジルコニア粒子が分散したハードコート表面上にＤＣマグネトロンスパッタリング法によりアルゴン雰囲気下でＳｉＯｘ層を５．０ｎｍとなるように成膜し、連続して、スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）により酸化度の設定値を２０％になるように酸素ガスを調整してＳｉＯｘを２０．０ｎｍとなるように成膜した。さらに、アルゴンガスのみを導入してＳｉＯｘからなる層を４.０ｎｍとなるように成膜した。次に、ＳｉＯｘ層の上に、連続して酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）を積層した。具体的にはＳｎＯ２が７重量％のＩＴＯ焼結体ターゲットを用いて、厚さ１７ｎｍのＩＴＯからなる層を酸素分圧が０．００５Ｐａのアルゴンガス雰囲気中でスパッタ成膜した。
【００９０】
それ以外は実施例１と同じとした。
【００９１】
実施例３
アンダーコート層における２層目のＳｉＯｘを成膜する際の酸化度の設定値を２５％になるように酸素ガスを調整したこと、および、厚さ１７ｎｍのＩＴＯからなる層を酸素分圧が０．００８Ｐａのアルゴンガス雰囲気中でスパッタ成膜したこと以外は実施例２と同じとした。
【００９２】
比較例１
スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）による酸化度の設定値を２０％とした以外は実施例１と同じとした。
【００９３】
比較例２
スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）による酸化度の設定値を３０％とした以外は実施例２と同じとした。
【００９４】
実施例４
ＰＥＴフィルムの一方の面にジルコニア粒子を分散したアクリル系ハードコート樹脂を塗布し、１．５μｍのハードコート層を得た。ＰＥＴフィルムの他方の面には、全体の固形分比率で５ｗｔ％になるように１００ｎｍのシリカフィラーをアクリル系ハードコート樹脂に分散させた両面ハードコートフィルムを用いた以外は、実施例２と同じとした。
【００９５】
実施例５
スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）による酸化度の設定値を１０％とした以外は実施例２と同じとした。
【００９６】
実施例６
ハードコート層に分散させるシリカフィラーの粒径を１μｍとした以外は実施例４と同じとした。
【００９７】
実施例７
ＩＴＯからなる層を酸素分圧が０．０１２Ｐａのアルゴンガス雰囲気中でスパッタ成膜した以外は実施例１と同じとした。
【００９８】
実施例８
スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）による酸化度の設定値を１５％とした以外は実施例２と同じとした。
【００９９】
実施例９
スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）による酸化度の設定値を１２％とした以外は実施例１と同じとした。
【０１００】
比較例３
スパッタプロセスモニター（Ｓｐｅｅｄｆｌｏ、  ＧＥＮＣＯＡ社製）による酸化度の設定値を３０％とした以外は実施例３と同じとした。
【０１０１】
実施例１〜９及び比較例１〜３で得られた光透過性導電性フィルムについて評価した結果を表１〜３に示す。
【０１０２】
【表１】
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【０１０３】
【表２】
2016182814.tif 000003
【０１０４】
【表３】
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【符号の説明】
【０１０５】
１        光透過性導電性フィルム
１１      光透過性支持層
１２      光透過性導電層
１３      アンダーコート層
１４      ハードコート層 
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
2016182814.tif 000009
【図６】
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【図７】
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