(57)【要約】      （修正有）【課題】穿孔圧延時にプラグから剥離するスケールに起因する内面疵の発生を、有利に防止できる、継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去方法及び装置並びに前記プラグの使用方法の提供。【解決手段】酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材１とし、これをプラグ中心軸１Ａの周りに回転させつつこれにノズル２からの噴射水３を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、（１）式で定義される、前記被処理材が受ける噴射水の運動エネルギーＥ（Ｊ／ｍｍ２）が、２０〜１５００Ｊ／ｍｍ２である噴射条件で吹き付ける余剰スケール除去方法。Ｅ＝Ｑ×Ｐ×ｔ／（Ｄ×π×Ｗ×ρ×６０）…（１）［Ｑは噴射流量（Ｌ／ｍｉｎ）、Ｐは噴射圧力（Ｐａ）、ｔは噴射時間（ｓｅｃ）、Ｄは被処理材のプラグ直径（ｍｍ）、Ｗはノズルの噴射幅（ｍｍ）、πは円周率（＝３．１４）、ρは噴射水の密度（ｋｇ／ｍ３）］【選択図】図１
2016182622.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの余剰スケール除去方法であって、酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材とし、これをプラグ中心軸の周りに回転させつつこれにノズルからの噴射水を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、下記（１）式で定義される、前記被処理材が受ける噴射水の運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２以上１５００Ｊ／ｍｍ２以下である噴射条件で吹き付けることを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去方法。
記
Ｅ＝Ｑ×Ｐ×ｔ／（Ｄ×π×Ｗ×ρ×６０）      …（１）
ここで、Ｅは被処理材が受ける噴射水の運動エネルギー（Ｊ／ｍｍ２）、Ｑは噴射流量（Ｌ／ｍｉｎ）、Ｐは噴射圧力（Ｐａ）、ｔは噴射時間（ｓｅｃ）、Ｄは被処理材のプラグ直径（ｍｍ）、Ｗはノズルの噴射幅（ｍｍ）、πは円周率（＝３．１４）、ρは噴射水の密度（ｋｇ／ｍ３）である。
【請求項２】
継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの余剰スケール除去装置であって、酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材とし、これをプラグ中心軸の周りに回転させるプラグ回転手段と、前記回転中の被処理材にノズルからの噴射水を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、下記（１）式で定義される、前記被処理材が受ける噴射水の運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２以上１５００Ｊ／ｍｍ２以下である噴射条件で吹き付ける前記ノズルとを有することを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去装置。
記
Ｅ＝Ｑ×Ｐ×ｔ／（Ｄ×π×Ｗ×ρ×６０）      …（１）
ここで、Ｅは被処理材が受ける噴射水の運動エネルギー（Ｊ／ｍｍ２）、Ｑは噴射流量（Ｌ／ｍｉｎ）、Ｐは噴射圧力（Ｐａ）、ｔは噴射時間（ｓｅｃ）、Ｄは被処理材のプラグ直径（ｍｍ）、Ｗはノズルの噴射幅（ｍｍ）、πは円周率（＝３．１４）、ρは噴射水の密度（ｋｇ／ｍ３）である。
【請求項３】
継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの使用方法であって、前記プラグの未使用品に酸化スケール皮膜を付けるスケール付け熱処理を行い、次いで請求項１に記載の余剰スケール除去方法で余剰スケール除去を行った後、穿孔圧延に供することを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの使用方法。
【請求項４】
継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの使用方法であって、前記プラグの再使用品に酸化スケール皮膜を付ける再スケール付け熱処理を行い、次いで請求項１に記載の余剰スケール除去方法で余剰スケール除去を行った後、穿孔圧延に供する工程を１回又は複数回繰り返すことを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの使用方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、継目無鋼管の製造において素材の穿孔圧延に使用する継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去方法及び装置並びに前記プラグの使用方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来から、継目無鋼管の製造方法として、マンネスマン式製管法が広く用いられている。この方法は、所定の温度例えば１２００℃〜１３００℃に加熱された素材例えばビレットを、穿孔圧延機による穿孔圧延工程を経て、中空素材としたのち、延伸圧延機により肉厚を減じ、さらに必要に応じて再加熱したのち、絞り圧延機あるいはその他の成形機により、主として外径を減じて所望の寸法の継目無鋼管を得る方法である。
【０００３】
前記穿孔圧延機としては、２本の傾斜ロールと穿孔用プラグ（「継目無鋼管素材穿孔用プラグ」の意。以下、略して「プラグ」とも云う。）および２個のガイドシューを組み合わせた、いわゆるマンネスマンピアサ、３本の傾斜ロールとプラグとを組み合わせた、いわゆる３ロールピアサ、あるいは２本の孔型ロールとプラグとを組み合わせた、いわゆるプレスロールピアサが知られている。
【０００４】
上述した穿孔圧延機による穿孔圧延工程では、穿孔用プラグは、高温の素材や中空素管との絶え間ない接触により、高温、高負荷の環境下に長時間晒され、摩耗、溶損等を生じやすい。このため、従来から穿孔用プラグに９００〜１２５０℃程度の高温でのスケール処理を施し、プラグ表面に数十μｍから数百μｍ厚の酸化スケール皮膜を形成させる、いわゆるスケール付けを行って、穿孔用プラグの損耗（損耗とは、前記摩耗、溶損等の総称である。）を防止している。
【０００５】
しかしながら、酸化スケール皮膜を形成した穿孔用プラグを使用する際に、余剰なスケール（「酸化スケール」の意。以下同じ。）が穿孔圧延中に剥離して、素材に押し込まれることで、管内面の疵である内面疵の起点となることがある。
【０００６】
そこで、前記内面疵の防止対策として、プラグ表面に、該表面のスケール中のＦｅＯとの共晶温度が１２００℃以下のスケール溶融物質を塗布して穿孔圧延に供すると云う方法が提案されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００２−２４８５０７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかし、特許文献１で提案されている方法では、スケール付けをした穿孔用プラグにブリスターと呼ばれる浮き上がったスケールが存在した場合、ブリスターの下層にあるスケールが剥離して内面疵の起点となる場合がある。また、特許文献１にはプラグ表面のスケールのうちの外層スケールを除去した後にスケール溶融物質を塗布することが好ましいとある（特許文献１の段落［００１１］）が、スケール除去の具体的な方法が記されていない。スケールを除去するために、ハンマーで叩く、またはグラインダーで削る等の人手による対応では、処理能率が低い。また、自動のスケール除去方法の中で一般的に用いられるショットブラストによる方法では、ショット粒の経時的な減少によるショット条件の変化やショット粒自体の粉塵対策を講じなければならないなどの難点があり、穿孔圧延工程での工業的な実用化は困難である。
【０００９】
そこで、本発明は、上述した従来技術の現状に鑑み、スケール付け熱処理したプラグの余剰スケールを高い処理能率でむらなく、しかも粉塵も発生させずに除去できて、穿孔圧延時にプラグから剥離するスケールに起因する内面疵の発生を、技術的、経済的に有利に防止できる、継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去方法及び装置並びに前記プラグの使用方法を提供することを課題とした。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは、まず、スケール付けをした穿孔用プラグの余剰スケールを均一に除去する方法について検討した。その結果、高圧水で噴射する方法が好適であるという知見を得た。この方法によれば、噴射水の噴射圧力、流量及び噴射時間を管理することで、一定の余剰スケールの剥離条件を得ることが可能となり、粉塵の発生を防止し、能率良く均一に余剰スケールを除去することが可能である。また、この方法においては、高圧水噴射ノズルとして、例えば熱間圧延中の鋼板のスケール除去に使用される、デスケーリング用のノズルを用いることにより、様々なプラグ形状に適応した噴射パターンを設定することができる。
【００１１】
本発明は、上記知見に基づいて成されたものであり、その要旨構成は以下のとおりである。
〔１〕  継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの余剰スケール除去方法であって、酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材とし、これをプラグ中心軸の周りに回転させつつこれにノズルからの噴射水を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、下記（１）式で定義される、前記被処理材が受ける噴射水の運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２以上１５００Ｊ／ｍｍ２以下である噴射条件で吹き付けることを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去方法。
記
Ｅ＝Ｑ×Ｐ×ｔ／（Ｄ×π×Ｗ×ρ×６０）      …（１）
ここで、Ｅは被処理材が受ける噴射水の運動エネルギー（Ｊ／ｍｍ２）、Ｑは噴射流量（Ｌ／ｍｉｎ）、Ｐは噴射圧力（Ｐａ）、ｔは噴射時間（ｓｅｃ）、Ｄは被処理材のプラグ直径（ｍｍ）、Ｗはノズルの噴射幅（ｍｍ）、πは円周率（＝３．１４）、ρは噴射水の密度（ｋｇ／ｍ３）である。
〔２〕  継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの余剰スケール除去装置であって、酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材とし、これをプラグ中心軸の周りに回転させるプラグ回転手段と、前記回転中の被処理材にノズルからの噴射水を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、下記（１）式で定義される、前記被処理材が受ける噴射水の運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２以上１５００Ｊ／ｍｍ２以下である噴射条件で吹き付けるノズルとを有することを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの余剰スケール除去装置。
記
Ｅ＝Ｑ×Ｐ×ｔ／（Ｄ×π×Ｗ×ρ×６０）      …（１）
ここで、Ｅは被処理材が受ける噴射水の運動エネルギー（Ｊ／ｍｍ２）、Ｑは噴射流量（Ｌ／ｍｉｎ）、Ｐは噴射圧力（Ｐａ）、ｔは噴射時間（ｓｅｃ）、Ｄは被処理材のプラグ直径（ｍｍ）、Ｗはノズルの噴射幅（ｍｍ）、πは円周率（＝３．１４）、ρは噴射水の密度（ｋｇ／ｍ３）である。
〔３〕  継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの使用方法であって、前記プラグの未使用品に酸化スケール皮膜を付けるスケール付け熱処理を行い、次いで〔１〕に記載の余剰スケール除去方法で余剰スケール除去を行った後、穿孔圧延に供することを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの使用方法。
〔４〕  継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの使用方法であって、前記プラグの再使用品に酸化スケール皮膜を付ける再スケール付け熱処理を行い、次いで〔１〕に記載の余剰スケール除去方法で余剰スケール除去を行った後、穿孔圧延に供する工程を１回又は複数回繰り返すことを特徴とする継目無鋼管素材穿孔用プラグの使用方法。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、スケール付け熱処理したプラグの余剰スケールを高い処理能率でむらなく、しかも粉塵も発生させずに除去できて、穿孔圧延時にプラグから剥離するスケールに起因する内面疵の発生を、技術的、経済的に有利に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態において、ノズルを１本用いた例を示す被処理材及びノズル配置の概略側面図である。
【図２】本発明の実施形態において、ノズルを２本用いた例を示す被処理材及びノズル配置の概略側面図である。
【図３】本発明に好ましく用いうるデスケーリング用のノズルの一例を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
本発明に用いるプラグは、継目無鋼管素材の穿孔圧延に用いるプラグである。該プラグは、組成が例えば、質量％で、Ｃ：０．１〜０．５％、Ｓｉ：０．１〜１．０％、Ｍｎ：０．１〜１．０％、Ｎｉ：０．５〜３．０％、Ｃｒ：０．１〜１．０％、Ｍｏ：０．１〜３．０％を含有し、残部がＦｅ及び不可避的不純物である鋳造品が、使用頻度が高いと云う点で、好ましい。なお、前記組成はさらに選択添加元素として、質量％で、Ｃｏ：０．５〜２．０％、Ｎｂ：０．１〜０．７％、Ｖ：０．０１〜０．０７％、Ｗ：１．０〜５．０％の１種以上を含有してもよい。
【００１５】
プラグはほぼ砲弾形の回転体であり、前記（１）式中のプラグ直径Ｄは、プラグ長手方向で変化する直径値の中での最大値で表される。本発明に用いるプラグは、プラグ直径Ｄが例えば７０〜２００ｍｍ、かつプラグ長さ（プラグの中心軸方向の全長）が例えば３００〜６００ｍｍのものが、使用頻度が高いと云う点で、好ましい。
【００１６】
また、本発明に係るスケール付け熱処理は、プラグの未使用品を処理対象としてこれの表面に酸化スケール皮膜を形成させるものであり、潤滑皮膜として有効な酸化スケール皮膜を得るには、処理対象を酸化雰囲気中で９００℃以上１０００℃以下の温度域に加熱保持し、５００℃以下９００℃以上の温度域まで５℃／ｈｒ以上３０℃／ｈｒ以下の冷却速度で冷却し、その後放冷するのが好ましい。
【００１７】
上記したスケール付け熱処理により、処理対象の表面には、０．５〜２ｍｍ厚の酸化鉄層が形成される。この酸化鉄層が前記酸化スケール皮膜である。
【００１８】
また、本発明に係る再スケール付け熱処理は、前記スケール付け熱処理において、処理対象を、プラグの未使用品に代えて、プラグの再使用品としたものであり、これにより、未使用品の場合と同様、再使用品の表面に、潤滑皮膜として有効な酸化スケール皮膜を形成することができる。
【００１９】
次に、本発明に係る余剰スケール除去方法について説明する。この方法は、前記スケール付け熱処理又は前記再スケール付け熱処理により形成した酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材とし、例えば図１に示すように、被処理材１をプラグ中心軸１Ａの周りに回転させつつこれにノズル２からの噴射水３を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、（１）式で定義される、被処理材１が受ける噴射水３の運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２以上１５００Ｊ／ｍｍ２以下である噴射条件で吹き付けるものである。
記
Ｅ＝Ｑ×Ｐ×ｔ／（Ｄ×π×Ｗ×ρ×６０）      …（１）
ここで、Ｅは被処理材が受ける噴射水の運動エネルギー（Ｊ／ｍｍ２）、Ｑは噴射流量（Ｌ／ｍｉｎ）、Ｐは噴射圧力（Ｐａ）、ｔは噴射時間（ｓｅｃ）、Ｄは被処理材のプラグ直径（ｍｍ）、Ｗはノズルの噴射幅（ｍｍ）、πは円周率（＝３．１４）、ρは噴射水の密度（ｋｇ／ｍ３）である。
【００２０】
前記噴射圧力は、ノズル出口における噴射水の動圧であり、ノズル近傍に設置した圧力計で測定される。この測定値が目標噴射圧力となるようにポンプの出力を調節する。この目標噴射圧力は、前記噴射圧力の数値限定範囲である１５〜８０ＭＰａとする。なお、前記噴射圧力の数値限定理由については、被処理材１が受ける噴射水３の運動エネルギーの数値限定理由と併せて後述する。
【００２１】
また、前記噴射流量は、ノズル出口における噴射水の流量であり、ノズルの型式によって圧力ごとの噴射流量が決定される。この測定値が目標噴射流量となるようにノズルの型式を選定する。この目標噴射流量は、少なくし過ぎると均一な噴射状態を得るのが困難となり、多くし過ぎると余剰スケールの除去効果が飽和して噴射水の浪費を招くため、５０〜６００（Ｌ／ｍｉｎ）とするのが好ましい。
【００２２】
また、前記噴射時間は、ノズルからの噴射開始から噴射終了までの時間であり、この時間が目標噴射時間となるようにノズル付属の遮断弁の開閉動作をタイマー等で設定する。この目標噴射時間は、短くし過ぎるとプラグ全周に均一に噴射水を吹き付けるのが困難となり、長くし過ぎると余剰スケールの除去効果が飽和して噴射水の浪費を招くため、３０〜４５０ｓｅｃとするのが好ましい。
【００２３】
なお、前記ノズルの噴射幅の与え方については後述する。
【００２４】
また、前記プラグ直径は、プラグの長手方向で変化する直径値の中での最大値である。また、前記円周率は、小数点以下２桁までの数値を用いる。また、前記噴射水の密度は、１０００ｋｇ／ｍ３の数値を用いる。
【００２５】
噴射水３用水には、工場環水を加圧して使用でき、また、工場環水に防錆剤を添加した水エマルジョンを加圧して使用してもよい。
【００２６】
ここで、前記ノズルの噴射幅の与え方について説明する。図１のようにノズル２を１本用いる場合、（１）式中のノズルの噴射幅Ｗは、以下のように与える。すなわち、噴射の主方向線２Ａをプラグ中心軸１Ａと直交させ、かつ噴射の主方向線２Ａに直交する面内で噴射水３の衝突圧が均一になる領域であるスプレーパターンの長手方向をプラグ中心軸１Ａと平行にし、かつプラグ中心軸１Ａまでの噴射距離Ｈを、噴射水３（の噴射範囲）が被処理材１の全長を過不足なく含むときの噴射距離とし、このときの噴射距離「Ｈ−Ｄ／２」の位置におけるスプレーパターンの長さを、（１）式中のノズルの噴射幅Ｗとして用いる。
【００２７】
また、ノズル２を複数本用いる場合、（１）式の運動エネルギーＥはノズル毎に計算し、それぞれの計算値が２０〜１５００Ｊ／ｍｍ２の範囲内に入るようなノズル配置とする。ノズル２を複数本用いるときの、ノズルの噴射幅Ｗの与え方について、図２のようにノズル２を２本（ノズル２１及びノズル２２の計２本）用いる場合を例として説明する。すなわち、ノズル２１及び２２のそれぞれの噴射の主方向線２１Ａ及び２２Ａをプラグ中心軸１Ａと直交させ、かつノズル２１及び２２のそれぞれについてのプラグ中心軸１Ａまでの噴射距離Ｈ１およびＨ２を、ノズル２１の噴射水３１（の噴射範囲）とノズル２２の噴射水３２（の噴射範囲）が重複なしで連接して被処理材１の全長を過不足なく含むときのそれぞれの噴射距離とし、このときのノズル２１の噴射距離「Ｈ１−Ｄ／２」の位置のスプレーパターンの長さをノズル２１の噴射幅Ｗ１として用い、またノズル２２の噴射距離「Ｈ２−Ｄ／２」の位置におけるスプレーパターンの長さをノズル２２の噴射幅Ｗ２として用いる。ノズル２を３本以上用いる場合でもそれぞれのノズルの噴射幅の与え方は同様である。
【００２８】
被処理材１のプラグ回転数は、１０〜４００ｒｐｍ（round／min）が好ましい。プラグ回転数が１０ｒｐｍ未満の場合、被処理材１の回転が不安定となり、周方向で均一な余剰スケール除去ができない虞がある。また、プラグ回転数が４００ｒｐｍ超の場合、回転を安定させるための装置が高コストなものになる。
【００２９】
次に、前記噴射圧力および前記被処理材が受ける噴射水の運動エネルギーの数値限定理由について説明する。
【００３０】
余剰スケールの除去には、噴射圧力が１５〜８０ＭＰａ、かつ前記（１）式で定義される、被処理材１が受ける噴射水３の運動エネルギーが２０〜１５００Ｊ／ｍｍ２である噴射条件（「適正噴射条件」と云う。）とする必要がある。噴射圧力が１５ＭＰａ未満では、前記運動エネルギーを上昇させるために噴射時間を長くしても、余剰スケールを除去することができない。また、噴射圧力が８０ＭＰａ超では、前記スケール付け又は再スケール付け熱処理にて形成した酸化スケール皮膜が全て除去される場合があり、その場合、穿孔圧延に供用したプラグがすぐに損耗してしまう。また、噴射圧力が１５〜８０ＭＰａであっても、前記運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２未満では、余剰スケールを完全に除去することはできず、また、噴射圧力が１５〜８０ＭＰａであっても、前記運動エネルギーが１５００Ｊ／ｍｍ２超では、前記スケール付け又は前記再スケール付け熱処理にて形成した酸化スケール皮膜が全て除去される部分が発生し、プラグの損耗が早まる。
【００３１】
プラグは砲弾形で先細り形状をしているが、前記適正噴射条件で被処理材１に噴射水３を吹き付けることにより、余剰スケールのみを完全に除去することができる。
【００３２】
また、被処理材１のプラグサイズが、１本のノズルだけでは前記適正噴射条件を満足できないプラグサイズである場合、図２に示したように、複数本のノズルを使用することで、前記適正噴射条件を満足することができる。ここで、複数本のノズルは、それらの噴射圧力や噴射流量が互いに異なるノズルであってもよい。
【００３３】
なお、上記の吹き付け方法では、用いるノズルの仕様によっては被処理材１のプラグ最先端部において噴射水３の噴射範囲外となる領域が生じる場合があるが、この領域のプラグ長手方向長さが５０ｍｍ以下であれば、内面疵に影響しないことを確認している。
【００３４】
また、本発明に係る余剰スケール除去装置は、継目無鋼管製造における素材の穿孔圧延に用いるプラグの余剰スケール除去装置であって、酸化スケール皮膜を有するプラグを被処理材１とし、これをプラグ中心軸１Ａの周りに回転させるプラグ回転手段４と、前記回転中の被処理材１にノズル２からの噴射水を、噴射圧力が１５ＭＰａ以上８０ＭＰａ以下、かつ、前記（１）式で定義される、前記被処理材１が受ける噴射水３の運動エネルギーが２０Ｊ／ｍｍ２以上１５００Ｊ／ｍｍ２以下である噴射条件で吹き付ける前記ノズル２とを有する。
【００３５】
ノズル２としては、熱間圧延により薄鋼板又は厚鋼板を得る工程において被圧延材のスケール除去に使用されるノズルであるデスケーリング用のノズル１０が好ましい。このデスケーリング用のノズル１０の中でも、図３に示すように被吹き付け平面内のスプレーパターンが直線状になるものが、余剰スケールを均一に除去する観点から、より好ましい。
【００３６】
また、被処理材１を回転させるプラグ回転手段４としては、図１に示すような、プラグ底部に連結した回転ロッド１１、あるいは、図示しないが、プラグを下から支えて回転させるターニングロールが好ましく用いうる。
【００３７】
また、本発明に係る継目無鋼管素材穿孔用プラグの使用方法は、プラグの未使用品に、前記スケール付け熱処理及び本発明に係る余剰スケール除去の処理を行った後、穿孔圧延に供すること、あるいは、プラグの再使用品に、前記再スケール付け熱処理及び本発明に係る余剰スケール除去の処理を行った後、穿孔圧延に供する工程を１回又は複数回繰り返すことを特徴とするものである。
【００３８】
これにより、スケール付け熱処理したプラグの未使用品及び再使用品の何れに対しても余剰スケールを高い処理能率でむらなく、しかも粉塵も発生させずに除去できて、穿孔圧延時にプラグから剥離するスケールに起因する内面疵の発生を、技術的、経済的に有利に防止できる。
【実施例】
【００３９】
図１又は図２のように構成した装置を用い、表１に示すプラグ回転数及び噴射条件（ノズル使用本数を含む）で、被処理材への水吹き付けを行った。被処理材はプラグ直径＝１００ｍｍ、プラグ長さ＝３５０ｍｍの未使用プラグにスケール付け熱処理を行って１ｍｍ±０．５ｍｍ厚の酸化スケール皮膜を形成したものを用いた。ノズルとしては共立合金社製のデスケーリング用のノズルを用いた。
【００４０】
前記水吹き付けでは、安定した噴射状態が得られ、粉塵の発生もなく、かつ、処理能率（プラグ１本あたりの処理時間の逆数）は、ショットブラストによる方法と比べ４〜８倍と、高能率であった。
【００４１】
前記水吹き付け後のプラグは、１３Ｃｒ系鋼ビレットの穿孔圧延に使用した。前記穿孔圧延ではビレット加熱温度＝１２００〜１２６０℃とした。
【００４２】
穿孔圧延時の焼付き発生の有無を穿孔圧延機の荷重変動の有無にて調査し、かつ穿孔圧延成品管の内面疵発生の有無を目視にて調査した。その結果を表１に示す。
【００４３】
表１において、前記適正噴射条件で処理した本発明例は何れも、余剰スケールが剥離し、焼付き発生は無く、内面疵発生も無しであった。これに対し、比較例（Ｎｏ．５）は、噴射条件のうち運動エネルギーが過小なため、余剰スケールが残存し、内面疵が発生した。比較例（Ｎｏ．６）は、噴射条件のうち噴射圧力が過小なため、余剰スケールが残存し、内面疵が発生した。比較例（Ｎｏ．７）は、噴射条件のうち運動エネルギーが過大なため酸化スケール皮膜が全て剥離し、焼付きが発生した。
【００４４】
【表１】
2016182622.tif 000003
【符号の説明】
【００４５】
１  被処理材（酸化スケール皮膜を有するプラグ）
１Ａ  プラグ中心軸
２  ノズル
２Ａ  噴射の主方向線
３  噴射水
４  プラグ回転手段
１０  デスケーリング用のノズル
１１  回転ロッド
【図１】
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【図２】
2016182622.tif 000005
【図３】
2016182622.tif 000006