(57)【要約】【課題】  高純度フッ素化炭化水素化合物を充填してなるフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、長期間保存した場合であっても、容器内部のフッ素化炭化水素化合物の純度が低下しない高純度フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器を提供する。【解決手段】  内部に、フッ素化炭化水素化合物が充填されてなる、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、前記フッ素化炭化水素化合物が、純度が９９．９０体積％以上、水分含有量が５００体積ｐｐｍ以下で、かつ、フッ素イオン含有量が０．０５重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。【選択図】なし。【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に、フッ素化炭化水素化合物が充填されてなる、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、
前記フッ素化炭化水素化合物が、純度が９９．９０体積％以上、水分含有量が５００体積ｐｐｍ以下で、かつ、フッ素イオン含有量が０．０５重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
【請求項２】
前記フッ素化炭化水素化合物が、分子末端の炭素原子にフッ素原子が結合していない化合物である、請求項１に記載のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
【請求項３】
前記フッ素化炭化水素化合物が、２−フルオロブタン、２−フルオロ−２−メチルプロパン、及び２−フルオロペンタンからなる群より選択される少なくとも一種の化合物である、請求項１又は２に記載のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
【請求項４】
前記フッ素化炭化水素化合物が、２−フルオロブタンである、請求項１〜３のいずれかに記載のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、水分含有量およびフッ素イオン含有量が少ない、高純度フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、フッ素化炭化水素化合物は、被エッチングガス材料に対するエッチング選択性に優れることから、半導体製造用ドライエッチングガスとして利用されている。
半導体製造分野等で使用されるフッ素化炭化水素化合物は、高いエッチング選択性を実現するために、有機成分純度９９．９０％以上、かつ、水分濃度５０ｐｐｍ以下の高純度に精製することが求められる。このようなフッ素化炭化水素化合物の脱水方法としては、一般的な脱水剤である合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩（モレキュラーシーブ、ＭＳ）を用いる方法が知られている。
【０００３】
例えば、特許文献１には、平均細孔径５ÅのＭＳを用いて、ヘキサフルオロ−１，３−ブタジエン（式；Ｃ４Ｆ６）を精製する方法が提案されている。この方法によれば、当該化合物を流通式でＭＳと接触させ、少なくとも９９．９％、かつ水分含有量１００ｐｐｍ以下のヘキサフルオロ−１，３−ブタジエンを得ることができるとされる。
特許文献２には、炭素数４〜８のフッ素化炭化水素化合物と、ＭＳ又はアルミナとを接触させることにより、フッ化水素を低減させることを特徴とするフッ素化炭化水素の精製方法が提案されている。実施例では、ＭＳによる処理前後で、当該化合物の純度に変化は見られず、新たな分解生成物も認めらなかったと記載されている。
また、特許文献３には、予備処理により所定量以下に酸点の量を減らしたＭＳ３Ａを用いて、有機液の分解反応を抑制し、当該化合物を脱水する方法が提案されている。
【０００４】
本発明に関連して、特許文献４には、有機溶剤中に含まれるフッ素イオンを、ＭＳを用いて除去する方法が記載されている。しかしながら、この文献には、用いる有機溶剤として、脂肪族炭化水素類、芳香族炭化水素類、塩素化炭化水素類、エーテル類、ケトン類、アミド類、アルコール類、脂肪族アミン類、芳香族アミン類、ニトリル類等の汎用の有機溶剤しか例示されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００３−２６１４８０号公報（ＵＳ６，５４４，３１９Ｂ１）
【特許文献２】特開２００２−４７２１８号公報
【特許文献３】特表２００２−５３１５３８号公報（ＷＯ００／３４２１７号パンフレット）
【特許文献４】特許第４５０１２１３号
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上述したように、半導体製造分野等で使用されるフッ素化炭化水素化合物は、高いエッチング選択性を実現するために、有機成分純度９９．９０％以上、かつ、水分濃度５０ｐｐｍ以下の高純度に精製することが求められている。
しかしながら、このような高純度で、かつ水分含有量が少ないフッ素化炭素化合物であっても、このものを容器内に充填して長期間保存しておくと、容器内のフッ素化炭素化合物の純度が低下する場合があり、問題となっていた。
本発明は、かかる実情に鑑みてなされたものであり、高純度フッ素化炭化水素化合物を充填してなるフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、長期間保存した場合であっても、容器内部のフッ素化炭化水素化合物の純度が低下しない高純度フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者は、上記課題を解決すべく鋭意検討した結果、容器内に充填するフッ素化炭化水素化合物に微量含まれるフッ素イオンにより、フッ素化炭化水素化合物の分解が促進され、時間の経過とともに、フッ素化炭化水素化合物の分解反応により脱ＨＦ化合物が生成して、フッ素化炭化水素化合物の純度が低下することを見出し、この知見に基づいて、本発明を完成するに至った。
【０００８】
かくして本発明によれば、下記の（１）〜（４）のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器が提供される。
（１）内部に、フッ素化炭化水素化合物が充填されてなる、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、
前記フッ素化炭化水素化合物が、純度が９９．９０体積％以上、水分含有量が５００体積ｐｐｍ以下で、かつ、フッ素イオン含有量が０．０５重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
（２）前記フッ素化炭化水素化合物が、分子末端の炭素原子にフッ素原子が結合していない化合物である、（１）に記載のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
（３）前記フッ素化炭化水素化合物が、２−フルオロブタン、２−フルオロ−２−メチルプロパン、及び２−フルオロペンタンからなる群より選択される少なくとも一種の化合物である、（１）又は（２）に記載のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
（４）前記フッ素化炭化水素化合物が、２−フルオロブタンである、（１）〜（３）のいずれかに記載のフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、高純度フッ素化炭化水素化合物を充填してなるフッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、長期間保存した場合であっても、容器内部のフッ素化炭化水素化合物の純度が低下しない高純度フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器が提供される。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
本発明は、内部に、フッ素化炭化水素化合物が充填されてなる、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器であって、前記フッ素化炭化水素化合物が、純度が９９．９０体積％以上、水分含有量が５００体積ｐｐｍ以下で、かつ、フッ素イオン含有量が０．０５重量ｐｐｍ以下であることを特徴とする、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器である。
【００１１】
本発明において、容器内に充填されるフッ素化炭化水素化合物（以下、このものを「本発明のフッ素化炭化水素化合物」ということがある。）は、純度が９９．９０体積％以上、水分含有量が５００体積ｐｐｍ以下で、かつ、フッ素イオン含有量が０．０５重量ｐｐｍ以下のものである。
【００１２】
フッ素化炭化水素化合物の純度（含有量）は、水素炎イオン化検出器（ＦＩＤ）を検出器としたガスクロマトグラフィーによりピーク面積から算出される値である。
フッ素化炭化水素化合物中の水分量は、ＦＴ−ＩＲを用いて測定した値である。
また、フッ素イオン含有量は、実施例に記載された手順に従ってイオンメータ分析溶液を調製し、イオンメータ分析を行うことにより求められる値である。
【００１３】
本発明のフッ素化炭化水素化合物は、半導体製造用ドライエッチングガスとして用いられる化合物である。その炭素数に特に限定はないが、通常、３〜１０、好ましくは４〜８、より好ましくは４〜６、特に好ましくは４又は５である。また、本発明のフッ素化炭化水素化合物は、鎖状構造を有するものであっても、環状構造を有するものであってもよいが、鎖状構造を有するものが好ましく、鎖状飽和フッ素化炭化水素化合物がより好ましい。これらのフッ素化炭化水素化合物の具体例としては、特開２００２−４７２１８号公報に、ハイドロフルオロカーボンとして列記されているものが挙げられるが、この文献に記載されるものに限定されない。
【００１４】
これらの中でも、本発明においては、式：Ｃ４Ｈ９Ｆ又はＣ５Ｈ１１Ｆで表される鎖状飽和フッ素化炭化水素化合物が特に好ましい。
Ｃ４Ｈ９Ｆ又はＣ５Ｈ１１Ｆで表される鎖状飽和フッ素化炭化水素化合物の例としては、１−フルオロブタン、２−フルオロブタン、１−フルオロ−２−メチルプロパン、２−フルオロ−２−メチルプロパン、１−フルオロペンタン、２−フルオロペンタン、３−フルオロペンタン、１−フルオロ−２−メチルブタン、１−フルオロ−３−メチルブタン、２−フルオロ−２−メチルブタン、２−フルオロ−３−メチルブタン、１−フルオロ−２，２−ジメチルプロパンが挙げられる。なかでも、本発明のより顕著な効果が得られる観点から、２−フルオロブタン、２−フルオロ−２−メチルプロパン、及び、２−フルオロペンタンからなる群より選択される、鎖状飽和フッ素化炭化水素化合物であるのがより好ましく、２−フルオロブタンであるのが特に好ましい。
【００１５】
本発明のフッ素化炭化水素化合物は、以下に述べるように、フッ素化炭化水素化合物の粗製物を精製することにより得ることができる。
【００１６】
フッ素化炭化水素化合物の粗製物は、公知の製造方法により製造したものを、所望により、蒸留等の公知の精製手段により精製することで得ることができる。例えば、２−フルオロブタンの粗製物は、Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ，４４（２２），３８７２（１９８７）記載の方法により製造し、得られる反応混合物を蒸留することにより得ることができる。また、本発明においては、フッ素化炭化水素化合物の粗製物として、市販されているものを用いることもできる。
【００１７】
フッ素化炭化水素化合物の粗製物は、フッ素化炭化水素化合物のほかに、脱ＨＦ化合物や水分、フッ素イオン等を微量含むものである。
前記粗製物に含まれる脱ＨＦ化合物の含有量は、体積基準で、通常０．０１％〜０．１％、好ましくは０．０２％〜０．０５％である。
前記粗製物に含まれる水分含有量は、体積基準で、通常１００ｐｐｍ〜５０００ｐｐｍ、好ましくは１００ｐｐｍ〜３０００ｐｐｍである。
また、前記粗製物に含まれるフッ素イオンの含有量は、通常１〜１０重量ｐｐｍ、好ましくは１〜５重量ｐｐｍである。
【００１８】
本発明のフッ素化炭化水素化合物は、前記フッ素炭化水素化合物の粗製物をさらに精製することにより、得ることができる。
フッ素化炭化水素化合物の粗製物を精製する手段としては、フッ素化炭化水素化合物の粗製物を、モレキュラーシーブス等の吸着剤とを接触させる方法が挙げられる。
【００１９】
フッ素化炭化水素化合物の粗製物を吸着剤と接触させる方法としては、例えば、（１）吸着剤が入った容器に、精製するフッ素化炭化水素化合物の粗製物を投入して放置する浸漬法、（２）吸着剤を充填した管に、フッ素化炭化水素化合物の粗製物を、ポンプ等を用いて流通させて、両者を接触させる流通法などが挙げられる。フッ素化炭化水素化合物は気体状態あるいは液体状態のいずれでもよい。浸漬法、流通法のいずれの方法でも良く、適宜選択することができる。
【００２０】
用いる吸着剤としては、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩（ＭＳ）、アルミナ、イオン交換樹脂等が挙げられる。これらの吸着剤は、一種単独で、あるいは二種以上を組み合わせて用いることができる。
これらの中でも、より効率よく本発明のフッ素化炭化水素化合物が得られる観点から、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩（ＭＳ）が好ましく、平均細孔径が３Åのモレキュラーシーブ（ＭＳ３Ａ）がより好ましい。
【００２１】
一般的に、ＭＳは固体酸として知られている。このようなＭＳの中でも、フッ素化炭化水素化合物を接触させても分解反応等により引き起こされる脱ＨＦ化合物の生成を抑制し、かつ効率よく水分を除去できることから、二酸化炭素吸着量（固体表面の塩基点の量）が５０μｍｏｌ／ｇ以下、好ましくは、二酸化炭素吸着量が４０μｍｏｌ／ｇ以下、より好ましくは、３０μｍｏｌ／ｇ以下のものを用いる。
【００２２】
合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩の二酸化炭素吸着量は、昇温脱離測定法（ＴＰＤ法）により求める。
合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩０．１ｇを全自動昇温脱離スペクトル装置（日本ベル社製、型名；ＴＰＤ−１−ＡＴｗ）の測定用セルに入れ、０．５体積％の二酸化炭素ガスを含むヘリウムガスを１００ｍｌ／分で気流下、１００℃で３０分間保持した後に、ヘリウムガスに変更し、５０ｍｌ／分の速度で３０分間流す。さらに、１０℃／分で８００℃まで昇温し、この時に脱離した二酸化炭素量の合計を、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩の二酸化炭素吸着量とする。
【００２３】
二酸化炭素吸着量が５０μｍｏｌ／ｇ以下であり、かつ平均細孔径が３Åである合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩は、公知物質であり、公知の方法により製造し、入手することができる。また、二酸化炭素吸着量が５０μｍｏｌ／ｇ以下であり、かつ平均細孔径が３Åである合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩として市販されているものを、そのまま使用することもできる。
【００２４】
合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩は、ペレット状、トライシブ状、ビーズ状、パウダー状など種々の形状で市販されている。なかでも、脱水効果に優れることや取り扱い性の観点から、ペレット状のものが好ましく、直径１〜４ｍｍのペレット状のものがより好ましく、直径１．５〜３．５ｍｍのペレット状のものがさらに好ましい。
また、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩は、使用する前に必要に応じて活性化処理を行っても良い。
【００２５】
浸漬法の場合、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩の使用量は、フッ素化炭化水素化合物１００重量部に対して、好ましくは５〜８０重量部、より好ましくは１０〜５０重量部である。合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩の使用量が少なすぎると、脱水能力が低下する傾向があり、逆に合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩使用量を過度に多くしても効果が特に上がるわけではなく、生産性は低下する。
フッ素化炭化水素化合物の粗製物と、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩とを接触させる時間は、８〜７２時間、より好ましくは１２〜４８時間、さらに好ましくは１８〜３６時間である。接触時間が短いと、フッ素化炭化水素化合物中の水分およびフッ素イオンが除去し切れず、また、長いと、フッ素化炭化水素化合物の分解反応が始まるおそれがある。
【００２６】
流通法の場合、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩の使用量は、フッ素化炭化水素化合物１００重量部に対して、好ましくは３〜２０重量部、より好ましくは５〜１０重量部である。流通速度は、０．１〜２リットル／分が好ましく、より好ましくは０．５〜１リットル／分である。流通時間は、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩の使用量、流通させるフッ素化炭化水素化合物量、および、流通速度によって、適宜調整するが、好ましくは、１〜２４時間、より好ましくは、５〜１２時間である。
【００２７】
フッ素化炭化水素化合物の粗製物と、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩とを接触させる温度は、使用するフッ素化炭化水素化合物の沸点により異なるが、沸点よりも温度が高い場合には、収率低下を招くおそれがあるため、沸点よりも低い温度で接触させることが好ましい。接触温度は、生産性の観点から、０〜５０℃の範囲が好ましく、より好ましくは０〜３０℃の範囲である。
【００２８】
フッ素化炭化水素化合物の粗製物と、吸着剤との接触処理後におけるフッ素化炭化水素化合物の精製物中の脱ＨＦ化合物の含有量は、好ましくは０．１％以下、より好ましくは０．０５％以下である。
前記フッ素化炭化水素化合物の精製物の純度は、体積基準で、通常９９．９０％以上、好ましくは９９．９５％以上である。
前記精製物に含まれる水分量（すなわち、合成結晶アルミノシリケートの含水金属塩と接触させた後のフッ素化炭化水素化合物の精製物中に含まれる水分含有量）は、体積基準で、通常５０ｐｐｍ以下、好ましくは３０ｐｐｍ、より好ましくは２０ｐｐｍ以下である。
また、前記精製物に含まれるフッ素イオン含有量は、０．０５重量ｐｐｍ以下、好ましくは０．０３重量ｐｐｍ以下、より好ましくは０．０１重量ｐｐｍ以下である。
【００２９】
本発明は、内部に、本発明のフッ素化炭化水素化合物が充填されてなる、フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器である。
用いるガス充填用の容器（以下、単に「容器」ということがある。）としては、大きさや形状は特に限定されないが、精製処理したフッ素化炭化水素化合物を、外気に触れることなく連続的に充填できるものであることが好ましい。
【００３０】
容器の材質としては、前記フッ素化炭化水素化合物に対して不活性なものであればよく、例えば、鉄−マンガン鋼、鉄−クロム−マンガン鋼、ステンレス鋼、ニッケル鋼、アルミニウム合金、ガラス等が挙げられる。ただし、ガラス製のガス充填容器内に、フッ素イオンを含有するフッ素化炭化水素化合物を充填し、長時間置いておくと、フッ素イオン（フッ化水素酸）がガラスを溶解させ、ガラス成分が混入するおそれがある。
【００３１】
また、容器としては、パーティクルや吸着ガスによる汚染を防止するため、通常内面を平滑化したものを使用するのが好ましい。具体的には、内面粗度（平滑度）は凹部と凸部の高さの差をミクロン単位で表した数値にＳを付して表したとき、通常は２５Ｓ以下まで平滑化したものを使用することが好ましい。
【００３２】
精製したフッ素化炭化水素化合物を外気に触れさせることなく連続的に容器に充填する方法は、特に限定されない。例えば、フッ素化炭化水素化合物の精製物を、液体状態で容器に充填する場合には、精製物が入ったタンクを窒素、ヘリウム等の不活性ガスで加圧するか、フッ素化炭化水素化合物の沸点＋５℃程度に加温した上で、タンク下部の出口に充填容器を接続し、フッ素化炭化水素化合物を該容器内に充填すればよい。
【００３３】
フッ素化炭化水素化合物の精製物を、気体状態で容器に充填する場合には、充填容器をドライアイス、液体窒素等で冷却した上で、タンク上部の出口に充填容器を接続し、フッ素化炭化水素化合物を該容器内に充填すればよい。
【００３４】
以上のようにして得られる本発明のフッ素化炭化水素充填済み容器は、長期間保存した場合であっても、容器内部のフッ素化炭化水素化合物の純度が低下しない高純度フッ素化炭化水素化合物充填済みガス充填容器である。
【実施例】
【００３５】
以下に、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
以下において採用した分析方法は下記の通りである。
【００３６】
〔ガスクロマトグラフィー分析〕
フッ素化炭化水素化合物の純度と、フッ素化炭化水素化合物の分解物（脱ＨＦ化合物）の量は、ガスクロマトグラフィー分析（ＧＣ分析）により求めた。
ＧＣ分析の分析条件は以下のとおりである。
【００３７】
装置：Ａｇｉｌｅｎｔ（登録商標）７８９０Ａ（アジレント社製）
カラム：製品名「Ｉｎｅｒｔ  Ｃａｐ（登録商標）１」、長さ６０ｍ、内径０．２５ｍｍ、膜厚１．５μｍ（ジーエルサイエンス社製）
カラム温度：４０℃で２０分間保持
インジェクション温度：８０℃
キャリヤーガス：窒素
スプリット比：４０／１
検出器：ＦＩＤ
【００３８】
[ＦＴ−ＩＲ分析]
フッ素化炭化水素化合物の水分含有量は、ＦＴ−ＩＲ分析により求めた。
ＦＴ−ＩＲ分析の分析条件は以下のとおりである。
装置：ＩＧ−１０００（大塚電子社製）
セル長：１０ｍ
測定流量：１００ｓｃｃｍ
測定圧力：２００Ｔｏｒｒ
測定温度：２３℃
【００３９】
[イオンメータ分析]
フッ素化炭化水素化合物のフッ素イオン含有量は、イオンメータ分析溶液を以下の手順で調製し、イオンメータ分析により求めた。
（１）ポリテトラフルオロエチレン製分液ロートに、２−フルオロブタンを５０ｇ秤量する。
（２）分液ロートに、超純水を２−フルオロブタンと同重量添加する。
（３）分液ロートに栓をし、３０秒撹拌する。
（４）二層に分離するまで、１時間静置する。分液ロート下のコックを開け、水層２０ｇをポリテトラフルオロエチレン製容器に収集する。
（５）容器に、全イオン強度調製液（ＴＩＳＡＢ）を２ｇ添加する。
イオンメータ分析の分析条件は以下のとおりである。
装置：ハンディイオンメータ  ＴｉＮ−５１０１（東興科学研究所製）
フッ化物イオン電極  ＣＥ５１０１−ＳＲ（東興科学研究所製）
【００４０】
〔用いた器具、試薬〕
モレキュラーシーブ：製品名；ゼオラム（登録商標）Ａ３（東ソー社製）
フィルター：ＭＣＹ４４６３ＦＴＥＨ１（孔径０．１μｍ）（日本ポール社製）
ガス充填容器：ステンレス製（電解研磨処理済み）、容量２５０ｃｃ
【００４１】
［実施例１］
２−フルオロブタン（純度：９９．９２体積％、脱ＨＦ化合物量：０．０４体積％、水分含有量：２，９５８体積ｐｐｍ、フッ素イオン含有量：３．４重量ｐｐｍ）１ｋｇを、容量５Ｌのステンレス製タンク（電解研磨処理済み）に入れた。このタンクを、モレキュラーシーブ５０ｇを充填した円筒状のステンレス製のモレキュラーシーブ充填塔（電解研磨処理済み）と、フィルターとに、タンクから出た２−フルオロブタンがモレキュラーシーブ充填塔とフィルターを経由して、再びタンクに戻るように接続した。
次いで、タンク内の２−フルオロブタンを、０．５リットル／分の流通速度でポンプ循環させ、５時間の流通時間で吸着処理した。次いで、タンクを−２０℃に冷却し、圧力コントローラを介して２００Ｔｏｒｒ圧力下、真空ポンプで減圧しながら、２００ｇの２−フルオロブタンの気相部を留出した。タンクを３０℃に加温した後、ガス充填容器を、タンクに繋がるガス充填ラインに接続した。ガス充填ラインに対して、回分パージ処理（窒素ガスで満たした後に真空引きする処理）を施した後、ガス充填容器２本に、２−フルオロブタン８０ｇずつ充填し、２−フルオロブタン充填済みガス充填容器を得た。
ガス充填容器の１本は、ガス充填容器中の２−フルオロブタンの純度、脱ＨＦ化合物量、水分含有量の測定に用いた。残液にて、イオンメータ分析溶液を調製し、フッ素イオン含有量を測定した。
もう１本は、８０℃で４５日間静置した後、ガス充填容器中の２−フルオロブタンの純度、及び脱ＨＦ化合物量を測定した。結果を下記第１表に示す。
【００４２】
［実施例２］
実施例１において、２−フルオロブタンとして、（純度：９９．９２体積％、脱ＨＦ化合物量：０．０３体積％、水分含有量：８，７４２体積ｐｐｍ、フッ素イオン含有量：３．２重量ｐｐｍ）の２−フルオロブタンを用いた以外は、実施例１と同様にして、ガス充填容器２本を得、各測定を実施した。結果を第１表に示す。
【００４３】
［比較例１］
２−フルオロブタン（純度：９９．９２体積％、脱ＨＦ化合物量：０．０４体積％、水分含有量：２，９５８体積ｐｐｍ、フッ素イオン含有量：３．４重量ｐｐｍ）１ｋｇを、容量５Ｌのステンレス製タンク（電解研磨処理済み）に入れた。次いで、タンクを−２０℃に冷却し、圧力コントローラを介して２００Ｔｏｒｒ圧力下、真空ポンプで減圧しながら、８００ｇの２−フルオロブタンの気相部を留出した。タンクを３０℃に加温した後、ガス充填容器を、２−フルオロブタンが入っているタンクに繋がっているガス充填ラインに接続した。ガス充填ラインに対して、回分パージ処理（窒素ガスで満たした後に真空引きする処理）を施した後、ガス充填容器２本に、２−フルオロブタン８０ｇずつ充填し、２−フルオロブタン充填済みガス充填容器を得た。
実施例１と同様にして、各測定を実施した。結果を第１表に示す。
【００４４】
［比較例２］
モレキュラーシーブによる吸着処理を０．１リットル／分の流通速度で、流通時間１２時間とした以外は、実施例１と同様にして、ガス充填容器２本を得、各測定を実施した。結果を第１表に示す。
【００４５】
［比較例３］
２−フルオロブタン（純度：９９．９２体積％、脱ＨＦ化合物量：０．０４体積％、水分含有量：２，９５８体積ｐｐｍ、フッ素イオン含有量：３．４重量ｐｐｍ）１ｋｇを、容量５Ｌのステンレス製タンク（電解研磨処理済み）に入れ、タンクを３０℃に加温した後、ガス充填容器を、２−フルオロブタンが入っているタンクに繋がっているガス充填ラインに接続した。ガス充填ラインに対して、回分パージ処理（窒素ガスで満たした後に真空引きする処理）を施した後、ガス充填容器に、２−フルオロブタン８０ｇずつ充填し、２−フルオロブタン充填済みガス充填容器を得た。
実施例１と同様にして、各測定を実施した。結果を第１表に示す。
【００４６】
【表１】
2016166157.tif 000002
【００４７】
第１表から以下のことが分かる。
実施例１及び２の２−フルオロブタン充填済みガス充填容器においては、４５日経過後においても、２−フルオロブタンの分解反応はほとんど進行しておらず、その高い純度が維持されている。
一方、比較例１の２−フルオロブタン充填済みガス充填容器においては、３．４重量ｐｐｍのフッ素イオンを含有しているため、フッ素イオンが２−フルオロブタンの水素を引き抜き、分解反応が進行している。
また、比較例２も、モレキュラーシーブ吸着処理量が少なく、１．２重量ｐｐｍのフッ素イオンが残っているため、比較例１と同様に、分解反応が進行している。
比較例３は、３．４重量ｐｐｍのフッ素イオン、及び、２９５８体積ｐｐｍの水分を含有しており、分解反応は進行しないが、水分含有量が多いと、エッチング加工した後に、基板の加工面に水分が吸着残存し、銅等の配線形成工程で積層膜の剥がれや、埋め込んだ配線の腐食を起こすおそれがある。