(57)【要約】      （修正有）【課題】可視光透過率を低下させることなく日射熱取得率の低い熱線遮蔽部材を提供する。【解決手段】透明基材１、（Ａ）金属平板状微粒子からなる多角形又は円形の形状を有する構造又は（Ｂ）少なくとも１種の金属又は金属化合物からなる網目構造を有する赤外線反射層３及び赤外線吸収無機微粒子を含む赤外線吸収層２を含む積層構造からなり、前記赤外線反射層３が、前記赤外線吸収層２よりも光源１０に近い側に配置されて用いられる熱線遮蔽部材。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材、赤外線反射層及び赤外線吸収層を含む積層構造からなり、前記赤外線反射層が、前記赤外線吸収層よりも光源に近い側に配置されて用いられる熱線遮蔽部材。
【請求項２】
前記赤外線反射層が、下記（Ａ）又は（Ｂ）の構造を有する、請求項１記載の熱線遮蔽部材。
（Ａ）金属平板状微粒子からなり、前記金属平板状微粒子の主平面と前記透明基材表面とがなす角の平均値θが、−３０°＜θ＜３０°の範囲であり、前記金属平板状微粒子の主平面の上方から観察した際に、三角形、四角形若しくは五角形以上の多角形又は円形の形状を有し、平均円相当径が１μｍ未満である構造。
（Ｂ）少なくとも１種の金属又は金属化合物からなる網目構造を有し、前記網目構造の全表面積に対する前記金属又は金属化合物の面積率が１５〜９０％であり、前記金属又は金属化合物の平均線幅が１〜１０００ｎｍである構造。
【請求項３】
前記金属平板状微粒子が、金属及び金属化合物からなる群から選択される１種以上からなる、請求項１又は２に記載の熱線遮蔽部材。
【請求項４】
前記金属平板状粒子を構成する金属又は前記網目構造を構成する金属が、金、銀及び銅からなる群から選択される１種以上である、請求項２又は３に記載の熱線遮蔽部材。
【請求項５】
前記赤外線吸収層が、アンチモンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、六ホウ化ランタン、タングステン酸化物、複合タングステン酸化物及びこれらの混合物からなる群から選択される１以上の赤外線吸収無機微粒子を含む、請求項１〜４のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
【請求項６】
前記透明基材が、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂及びガラスからなる群から選択される１種以上である、請求項１〜５のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
【請求項７】
さらにコレステリック液晶を固定化してなる層を有する、請求項１〜６のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
【請求項８】
さらに高分子材料を含む層を有する、請求項１〜７のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
【請求項９】
前記赤外線反射層及び赤外線吸収層のいずれか一方又は両方が、高分子材料を含む、請求項１〜８のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
【請求項１０】
前記高分子材料が、アルコキシ基を有するシラン化合物、及び、Ｔｉ、Ｚｒ若しくはＡｌのアルコキシド化合物からなる群から選択される１種以上を含む、請求項８又は９に記載の熱線遮蔽部材。
【請求項１１】
可視光透過率が５０％以上である、請求項１〜１０のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含むフィルム。
【請求項１３】
請求項１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含む合わせガラス。
【請求項１４】
請求項１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含む複層ガラス。
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含むガラス用中間膜。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、熱線遮蔽部材、それを用いた熱線遮蔽フィルム、ガラス、中間膜及び合わせガラスに関する。
【背景技術】
【０００２】
本発明に係る技術分野では、太陽光中に含まれる熱線を遮蔽し、室内側への日射エネルギーの侵入を防ぐことで、冷房効果を向上させることが求められている。一般に熱線遮蔽材料としては、赤外線吸収材と赤外線反射材が知られている。特許文献１には、赤外線吸収材であるタングステン含有酸化物微粒子を媒体材料によって透明樹脂又はガラス上に固定化した赤外線遮蔽体が提案されているが、吸収された熱の再放射により、実質的に熱線遮蔽性能が低下することが問題となっている。また、特許文献２には、赤外線反射材として２層の誘電体膜を用いた熱線遮蔽ガラスが提案されている。しかしながら誘電体膜作製の際にはスパッタリング法、蒸着法を用いて膜厚を厳密に調整する必要があるため製造条件がシビアであり、かつ多層化が必要なため製造コストが高くなるという問題がある。また、当該反射材だけで構成された熱線遮蔽部材は一般に高い導電性を有しており電磁波シールド性が高いため、ビル周辺におけるテレビ画像のゴースト現象等の障害や、自動車内、建物内でのテレビ、ラジオ、携帯電話、ＥＴＣ、ＧＰＳ等の通信障害を引き起こす問題を有している。
【０００３】
電磁波シールド性が小さい赤外線吸収材と赤外線反射材を組み合わせた部材として、特許文献３には、反射する円偏光が逆向きでありかつ反射波長が同一である２層のコレステリック液晶層とタングステン酸化物を組み合わせた熱線カット部材について記載がある。しかしながら、特許文献３には光源の位置が規定されておらず、効率的に熱線カットする方法が記載されていない。さらに反射層を構成する２層のコレステリック液晶を設けるためには旋光性が逆向きである光学純度の高いカイラル剤をそれぞれ製造する必要があり、製造コストが高いという問題がある。
【０００４】
さらに、赤外線吸収材と赤外線反射材を組み合わせた部材として、特許文献４には、六角形状の銀ナノ平板によって形成された赤外線反射層と金属酸化物微粒子によって形成された赤外線吸収層の複層構成を有する銀粒子含有膜について記載がある。六角形状の銀ナノ平板によって赤外線反射性能を得るためには、それを基板に対して平行かつ適切な隙間を空けながら均一に配列する必要があるが、六角形状銀ナノ平板は製造の際に異形状のナノ平板が同時にできやすく、得られた平板状微粒子で反射層を形成する際には、異形状粒子の影響で不均一な隙間ができやすいため、均一に配列することは非常に難しい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４６２６２８４号公報
【特許文献２】特許第４００３９２１号公報
【特許文献３】特開２０１４−５９４３７号公報
【特許文献４】特開２０１３−２２８６９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、可視光透過率を低下させることなく日射熱取得率の低い熱線遮蔽部材を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、ＪＩＳＲ３１０６に規定される日射熱取得率を安価かつ効率的に低減するためには、塗布法によって形成可能な赤外線反射層と赤外線吸収層を、光源に対して特定の積層順序となるように配置することが最も重要であることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００８】
本発明によれば、以下の熱線遮蔽部材及び熱線遮蔽部材を含むフィルム等が提供される。
１．透明基材、赤外線反射層及び赤外線吸収層を含む積層構造からなり、前記赤外線反射層が、前記赤外線吸収層よりも光源に近い側に配置されて用いられる熱線遮蔽部材。
２．前記赤外線反射層が、下記（Ａ）又は（Ｂ）の構造を有する、１記載の熱線遮蔽部材。
（Ａ）金属平板状微粒子からなり、前記金属平板状微粒子の主平面と前記透明基材表面とがなす角の平均値θが、−３０°＜θ＜３０°の範囲であり、前記金属平板状微粒子の主平面の上方から観察した際に、三角形、四角形若しくは五角形以上の多角形又は円形の形状を有し、平均円相当径が１μｍ未満である構造。
（Ｂ）少なくとも１種の金属又は金属化合物からなる網目構造を有し、前記網目構造の全表面積に対する前記金属又は金属化合物の面積率が１５〜９０％であり、前記金属又は金属化合物の平均線幅が１〜１０００ｎｍである構造。
３．前記金属平板状微粒子が、金属及び金属化合物からなる群から選択される１種以上からなる、１又は２に記載の熱線遮蔽部材。
４．前記金属平板状粒子を構成する金属又は前記網目構造を構成する金属が、金、銀及び銅からなる群から選択される１種以上である、２又は３に記載の熱線遮蔽部材。
５．前記赤外線吸収層が、アンチモンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、六ホウ化ランタン、タングステン酸化物、複合タングステン酸化物及びこれらの混合物からなる群から選択される１以上の赤外線吸収無機微粒子を含む、項１〜４のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
６．前記透明基材が、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート系樹脂及びガラスからなる群から選択される１種以上である、１〜５のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
７．さらにコレステリック液晶を固定化してなる層を有する、１〜６のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
８．さらに高分子材料を含む層を有する、１〜７のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
９．前記赤外線反射層及び赤外線吸収層のいずれか一方又は両方が、高分子材料を含む、１〜８のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
１０．前記高分子材料が、アルコキシ基を有するシラン化合物、及び、Ｔｉ、Ｚｒ若しくはＡｌのアルコキシド化合物からなる群から選択される１種以上を含む、８又は９に記載の熱線遮蔽部材。
１１．可視光透過率が５０％以上である、１〜１０のいずれかに記載の熱線遮蔽部材。
１２．１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含むフィルム。
１３．１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含む合わせガラス。
１４．１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含む複層ガラス。
１５．１〜１１のいずれかに記載の熱線遮蔽部材を含むガラス用中間膜。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、赤外線反射層及び赤外線吸収層を安価かつ容易に形成でき、良好な熱線遮蔽性能を発揮する熱線遮蔽部材が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の熱線遮蔽部材を構成する透明基材、赤外線吸収層及び赤外線反射層の積層順序と光源との関係を示す模式図である。
【図２】本発明で用いる金属平板状微粒子の主平面と基材表面のなす角の平均値θ、平均円相当径ｎ及び平均重心間隔ｄの測定、並びに金属網目構造の面積率及び線幅の測定のための走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察視野の設定方法を示す図である。
【図３】本発明で用いる曲線状の金属網目構造の模式図である。
【図４】本発明で用いる直線状の金属網目構造の模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の熱線遮蔽部材は、透明基材、赤外線反射層及び赤外線吸収層を含む積層構造からなり、前記赤外線反射層が、前記赤外線吸収層よりも光源に近い側に配置されて用いられることを特徴とする。
【００１２】
日射熱取得率低減のためには、ＪＩＳＲ３１０６に規格される日射透過率やＩＳＯ１３８３７に規格される全日射透過エネルギー（Ｔｔｓ）算出における重価係数の大きい赤外線（特に８００〜１３００ｎｍの赤外線）を反射することが最も重要であり、赤外線反射層と赤外線吸収層とを積層した部材においては、赤外線反射層を光源側（又は太陽側）に設置することで、効率的に赤外線反射率を確保することができる。一方、赤外線吸収層を光源側に設置すると、赤外線反射層に至る赤外線量が減るばかりか、反射した赤外線までも赤外線吸収層で吸収されてしまい、実質的に部材によって反射される赤外線量が大きく低減し、部材による赤外線反射性能が不十分となる。
【００１３】
本発明の熱線遮蔽部材を構成する透明基材、赤外線吸収層及び赤外線反射層の可能な積層順序と光源との関係を図１の模式図で示す。本発明の熱線遮蔽部材は、製造する段階では、透明基材、赤外線吸収層及び赤外線反射層の積層順序は問わないが、これを熱線遮蔽部材として使用する際には、光源１０に対して図１（ａ）〜（ｃ）のいずれかの積層順序で用いることが意図されている。尚、図１では、透明基材１、赤外線吸収層２及び赤外線反射層３はそれぞれが互いに隣接して描かれているが、これらの層の間や、これらの層の外側に任意の層を有していてもよい。
【００１４】
（１）透明基材
本発明で用いる透明基材は、所望の透明性、強度、厚さ等の性能を備えるものであればよく、特に限定されないが、ガラス等の無機基材及び各種樹脂からなる基材が通常用いられる。
基材に用いることができる樹脂としては、例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、シクロオレフィン系樹脂（例：ＪＳＲ株式会社製「ＡＲＴＯＮ」、日本ゼオン株式会社製「ＺＥＯＮＯＲ」「ＺＥＯＮＥＸ」）、ポリメチルペンテン等のポリオレフィン系樹脂、ポリエチレンテレフタラート、ポリブチレンテレフタラート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系樹脂、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、アセチルセルロースブチレート等のセルロース系樹脂、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン樹脂（ＡＢＳ樹脂）等のスチレン系樹脂、ポリイミド、ポリエーテルイミド、ポリアミドイミド等のイミド系樹脂、ナイロン等のポリアミド系樹脂、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン等のケトン系樹脂、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン等のスルホン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン等の塩化ビニル系樹脂、ポリメタアクリル酸メチル等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリフェニレンスルフィド、ポリアセタール、変性ポリフェニレンエーテル、ポリビニルアルコール、エポキシ樹脂、フッ素樹脂、プラスチックレンズ用樹脂ポリメチルメタクリレート、脂環式ポリオレフィン、アクリロニトリルスチレン共重合体、メタクリルスチレン共重合体、脂環式アクリル、ジグリコールジアリルカーボネート、ジアリルフタレート、ポリウレタン、ポリチオウレタン、エピスルフィド等を挙げることができ、前記ポリマーを複数混合したポリマーアロイ・ポリマーブレンドでもよい。また、上記樹脂を複数積層した積層構造体でもよい。
【００１５】
これらの樹脂を素材とする基材は、透明、半透明のいずれであってもよく、また着色されていてもよいし、無着色のものでもよく、用途に応じて適宜選択すればよい。透明性に優れ、無着色のものが好ましい。
また、基材は樹脂製基材に限定されず、ガラスであってもよい。
【００１６】
本発明で用いる透明基材としては、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂（特にポリエチレンテレフタラート）、ポリオレフィン系樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂基材、及びガラスが好ましい。
【００１７】
基材の厚さに特に制限はなく、状況に応じて適宜選定されるが、通常、５μｍ〜３０ｍｍ程度、好ましくは１５μｍ〜１０ｍｍである。
【００１８】
本発明の熱線遮蔽部材における透明基材は、例えば、窓ガラス等の物品そのものであってもよく、その表面に赤外線反射層及び赤外線吸収層が順に塗布により形成されて本発明の熱線遮蔽部材を構成してもよい。
【００１９】
（２）赤外線吸収層
本発明で用いる赤外線吸収層は、赤外線吸収能及び所望の透明性を有していればよい。赤外線吸収層を形成する材料は特に限定されず、赤外線吸収能を有する公知の材料を用いることができるが、赤外線吸収層は、アンチモンドープ酸化スズ、スズドープ酸化インジウム、六ホウ化ランタン、タングステン酸化物、複合タングステン酸化物及びこれらの混合物からなる群から選択される１種以上の赤外線吸収無機微粒子を含むことが好ましい。
【００２０】
複合タングステン酸化物としては、式ＭｘＷｙＯｚ（ただし、Ｍは、水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ，Ｚｒ，Ｃｒ，Ｍｎ，Ｆｅ，Ｒｕ，Ｃｏ，Ｒｈ，Ｉｒ，Ｎｉ，Ｐｄ，Ｐｔ，Ｃｕ，Ａｇ，Ａｕ，Ｚｎ，Ｃｄ，Ａｌ，Ｇａ，Ｉｎ，Ｔｌ，Ｓｉ，Ｇｅ，Ｓｎ，Ｐｂ，Ｓｂ，Ｂ，Ｆ，Ｐ，Ｓ，Ｓｅ，Ｂｒ，Ｔｅ，Ｔｉ，Ｎｂ，Ｖ，Ｍｏ，Ｔａ，Ｒｅ，Ｂｅ，Ｈｆ，Ｏｓ，Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素又はアンモニウム基であり、Ｗはタングステンであり、Ｏは酸素である。０．００１≦ｘ／ｙ≦１．１であり、２．２≦ｚ／ｙ≦３．０である。）で表される複合タングステン酸化物を用いることが好ましい。
【００２１】
安定性の観点からは、前記式中のＭは、アルカリ金属、アルカリ土類金属、希土類元素、Ｍｇ、Ｚｒ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｕ、Ａｇ、Ａｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、Ｂ、Ｆ、Ｐ、Ｓ、Ｓｅ、Ｂｒ、Ｔｅ、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｖ、Ｍｏ、Ｔａ、Ｒｅ、Ｂｅ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｂｉ及びＩからなる群から選択される１種類以上の元素であることがより好ましく、赤外線遮蔽材料としての光学特性、耐候性を向上させる観点からは、アルカリ金属、アルカリ土類金属元素、遷移金属元素、４Ｂ族元素、５Ｂ族元素に属する元素がさらに好ましい。
アルカリ金属が、特に好ましく、Ｃｓが最も好ましい。
【００２２】
複合タングステン酸化物は、可視光領域の透過及び近赤外領域の吸収の観点から、六方晶の結晶構造を有することが好ましく、六方晶のタングステンブロンズがより好ましい。
また、正方晶、立方晶のタングステンブロンズの構造でもよい。
【００２３】
複合タングステン酸化物は、結晶質であっても非晶質であってもよい。
【００２４】
ｘ／ｙは０．００１以上１．１以下であり、０．２以上０．５以下が好ましく、さらに好ましくは０．３３である。ｚ／ｙ＝３の時、ｘ／ｙの値が０．３３となることで、添加元素Ｍが六角形の空隙の全てに配置されると考えられる。
ｘ／ｙが０．００１以上であれば、十分な量の自由電子が生成され目的とする赤外線遮蔽効果を得ることができる。そして、Ｍの添加量が多いほど、自由電子の供給量が増加し、赤外線遮蔽効率も上昇するが、ｘ／ｙの値が１程度でその効果が飽和するおそれがある。ｘ／ｙが１．１以下であれば、複合タングステン酸化物中に不純物相が生成されるのを回避できる。
【００２５】
ｚ／ｙは、２．２以上３．０以下であり、２．４５以上２．９９９以下が好ましい。
ｚ／ｙが２．２以上であれば、複合タングステン酸化物中にＷＯ２の結晶相が現れるのを回避することができ、材料としての化学的安定性を得ることができる。一方、ｚ／ｙが３．０以下であれば、複合タングステン酸化物中に適量の自由電子が生成され、効率よい赤外線遮蔽効果を得ることができる。
【００２６】
複合タングステン酸化物は、微粒子であることが好ましい。
散乱により光を完全に遮蔽することが無く、可視光線領域の視認性を保持し、同時に効率良く透明性を保持することができるため、その粒子直径が８００ｎｍ以下であることが好ましい。
散乱の低減の観点からは、粒子直径は２００ｎｍ以下が好ましく、１００ｎｍ以下がより好ましい。
【００２７】
また、複合タングステン酸化物の表面が、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌの一種類以上を含有する酸化物で被覆されていることは、耐候性の向上の観点から好ましい。
被覆方法は特に限定されないが、複合タングステン酸化物微粒子を分散した溶液中へ、上記金属のアルコキシドを添加することで、複合タングステン酸化物微粒子の表面を被覆することが可能である。
【００２８】
複合タングステン酸化物は、Ｃｓ０．３３ＷＯ３及びＲｂ０．３３ＷＯ３が好ましい。
複合タングステン酸化物は、１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【００２９】
赤外線吸収層は層中の赤外線吸収材料の濃度を変えることで性能制御できるため、用途に応じて膜厚は変更することができ、特に制限されないが、通常０．１〜５０００μｍの範囲、好ましくは１〜１０００μｍの範囲である。より好ましくは１〜１０μｍである。
【００３０】
赤外線吸収層は、上記成分の他、後記する高分子材料を含むことが好ましい。
赤外線吸収層の形成方法は特に限定されないが、上記成分及び高分子材料を含む組成物を塗布、硬化させることによって形成することが好ましい。
【００３１】
（３）赤外線反射層
本発明の熱線遮蔽部材における赤外線反射層は、赤外線を反射できる材料からなり、及び／又は赤外線を反射する構造を有していればよく、特に限定されないが、下記（Ａ）又は（Ｂ）の構造を有することが好ましい。
【００３２】
（Ａ）金属平板状微粒子からなり、前記金属平板状微粒子の主平面と前記透明基材表面とがなす角の平均値θが、−３０°＜θ＜３０°の範囲であり、前記金属平板状微粒子の主平面の上方から観察した際に、三角形、四角形若しくは五角形以上の多角形又は円形の形状を有し、平均円相当径が１μｍ未満である構造（以下、金属平板状微粒子配向構造（Ａ）、又は構造（Ａ）という）
（Ｂ）少なくとも１種の金属又は金属化合物からなる網目構造を有し、前記網目構造の全表面積に対する前記金属又は金属化合物の面積率が１５〜９０％であり、前記金属又は金属化合物の平均線幅が１〜１０００ｎｍである構造（以下、金属網目構造（Ｂ）、又は構造（Ｂ）という）
【００３３】
（Ａ）金属平板状微粒子配向構造
構造（Ａ）を構成する金属平板状微粒子は、基材表面に面配向していることが好ましい。ここで、「面配向している」とは、熱線遮蔽部材の断面を観察したときに、前記金属平板状微粒子の主平面と基材表面のなす角の平均値θが小さい状態をいう。前記金属平板状微粒子の主平面と基材表面のなす角の平均値θは、−３０°＜θ＜３０°の範囲であることが好ましく、−１０°＜θ＜１０°の範囲であることが特に好ましい。θが３０°を超えると、赤外線領域の反射率が著しく低下するおそれがある。
【００３４】
金属平板状微粒子における「平板状」とは、厚みｔに対して円相当半径ｒが、ｒ／ｔ＞２を満足する形態を意味する。
【００３５】
金属平板状微粒子の形状は、赤外線吸収層において平板状微粒子を互いに重ならないように均一に配置させることを意図していることから、金属平板状微粒子の主平面の上方から観察した際に、三角形、四角形、五角形、六角形状であることが好ましく、微粒子作製の際に形状を揃えやすく、かつ反射層を形成する際に平板状微粒子が適切な隙間を作りながら均一に配列された構造を形成する観点から、特に四角形状であることが好ましい。四角形状とは、平板状微粒子の主平面の上方からＳＥＭ又はＴＥＭで観察した際、１つの平板状微粒子を構成する辺の数が４であれば特に制限はなく、例えば四角平板状微粒子の角が鈍っていても鋭角であってもよい。
【００３６】
本発明で用いる金属平板状微粒子は、上記多角形状及び円形状のいずれかの形状のみの微粒子からなっていてもよいし、上記形状の微粒子の混合物であってもよい。
本発明において、四角平板状微粒子というとき、赤外線反射層中の全ての平板状微粒子が四角形状を有している必要はない。平板状微粒子の主平面の上方からＳＥＭで観察した際、計数された平板状微粒子の５０％以上が四角形状であれば、四角平板状微粒子と呼ぶ。
【００３７】
所定形状の平板状微粒子の割合（％）は、１０ｃｍ四方の基板試料を図２のように９等分し、その中心点（計９箇所）における走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察で、視野中に微粒子が１００個以上存在する画像（計９画像）において、平板状微粒子数を相加平均することで求める。
【００３８】
前記金属平板状微粒子は、平均円相当径が１μｍ未満であることが好ましい。
前記金属平板状微粒子の平均円相当径は、散乱によるヘイズ上昇を防ぐため４００ｎｍ以下が好ましく、さらに好ましくは５ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。
【００３９】
平板状微粒子同士の平均重心間隔ｄは、平板状微粒子の平均円相当径ｎに対して、１．５ｎ≦ｄ≦５ｎであることが好ましい。間隔が１．５ｎよりも小さいと可視光透過率低下やヘイズ上昇を引き起こす。また、間隔が５ｎよりも大きいと、赤外線領域の反射率が著しく劣ってしまう。
【００４０】
平板状微粒子の主平面と基材表面のなす角の平均値θ、平均円相当径ｎ、平均重心間隔ｄの決定方法は、特に制限はなく目的に応じて適宜選択することができ、例えば、金属平板状微粒子を配列させた基材並びに基材の断面切片を作製し、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）でそれぞれを観察することで、１００箇所の平板状微粒子の主平面と表面基材のなす角から平均値θが決定でき、１００個の平板状微粒子から平均円相当径ｎが決定できる。また、１つの平板状微粒子の重心と隣接する平板状微粒子の重心の間隔を測定し、１００個の平板状微粒子に対して同様の操作を行うことで、平均重心間隔ｄを決定することができる。隣接する平板状微粒子とは、重心間隔が最も狭い位置にある平板状微粒子を指す。
【００４１】
金属平板状微粒子は、金属及び金属化合物からなる群から選択される１種以上からなることが好ましい。
金属平板状微粒子を構成する金属としては、金、銀、銅、クロム、ニッケル、アルミニウム及びそれらの合金が挙げられ、金、銀及び銅からなる群から選択される１種以上であることが好ましい。
【００４２】
金属平板状微粒子は、１種の金属又は金属化合物からなっていてもよいし、２種以上の金属又は金属化合物から成るコア−シェル構造であってもよい。
コア−シェル構造とは、少なくとも１種の金属又は金属化合物によって形成された平板状のコア部に対し、その表面上をコア部とは異なる少なくとも１種の金属又は金属化合物によって被覆した構造を指す。シェル部は、コア部の全面を被覆している必要はなく、少なくともコア部のフラットな主平面の表面上を走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）又は透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察した際、３０面積％以上被覆されていればよい。コア部の被覆は、少なくとも１種の金属又は金属化合物薄膜によってコア部がコーティングされている構造でもよく、少なくとも１種の金属又は金属化合物がコア部に担持され実質的に被覆されている構造でもよい。
【００４３】
金属平板状微粒子配向構造（Ａ）からなる赤外線反射層の膜厚は、通常０．００１〜１００μｍの範囲、好ましくは０．０１〜３０μｍの範囲である。より好ましくは０．０１〜１０μｍである。
【００４４】
（Ｂ）金属網目構造
金属網目構造（Ｂ）は、少なくとも１種の金属又は金属化合物から構成され、網目構造の全表面積に対する前記金属又は金属化合物の面積率が１５〜９０％であり、前記金属又は金属化合物の平均線幅が１〜１０００ｎｍであることが好ましい。平均線幅は、通常用いられる方法で測定することができる。
【００４５】
網目構造を形成する金属又は金属化合物（素材）としては、構造（Ａ）の金属平板状微粒子と同様のものを例示することができ、金、銀及び銅からなる群から選択される１種以上であることが好ましい。
【００４６】
網目構造の構成は特に限定されないが、例えば図３に示すような曲線状の金属又は金属化合物によって構成された網目構造であってもよく、図４に示すような直線状の金属又は金属化合物から構成された網目構造であってもよく、さらに曲線状及び直線状の金属又は金属化合物から構成された網目構造であってもよい。網目構造は規則的であっても不規則であってもよいが、製造の容易さから不規則であることが好ましい。
形成される網目構造の構成は作製方法によって異なる。しかし、得られた網目構造の面積率及び線幅が同一であれば、ほぼ同様の赤外線反射性能を示す。
【００４７】
網目構造の作製方法は特に限定されないが、例えば、金属ナノワイヤや金属ナノロッド等の任意の柱状物質を基材に対して均一に分散させて柱状物質同士の交点を生じさせることで作製できる。
【００４８】
柱状物質の断面形状としては、例えば円柱状、直方体状、多角形状等任意の形状をとることができるが、高い透明性が必要とされる用途では、円柱状や５角形以上の多角形状であるものが好ましい。柱状物質の断面形状は、基材上に柱状物質を塗布し、断面をＴＥＭで観察することにより検知することができる。
【００４９】
柱状物質の平均直径は、１５０ｎｍ以下であることが好ましく、１００ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることがさらに好ましく、３０ｎｍ以下であることが特に好ましい。耐久性を担保するため、柱状物質の平均直径は５ｎｍ以上であることが好ましい。
【００５０】
柱状物質の平均長としては、１μｍ〜１００μｍであることが好ましく、３μｍ〜５０μｍがより好ましく、５μｍ〜３０μｍがさらに好ましい。柱状物質の平均長が長すぎると網目構造の作製時に凝集物が生じる懸念があり、平均長が短すぎると、網目構造を形成できず十分な反射率が得られない場合がある。柱状物質の平均直径及び平均長は、サイズに応じ、ＴＥＭやＳＥＭ又は光学顕微鏡を用い、ＴＥＭ像やＳＥＭ像、光学顕微鏡像を観察することにより測定する。
【００５１】
柱状物質の平均直径は、１００個の柱状物質を観察し、それぞれの短軸方向の測定で最も短い箇所の長さを測定し、その平均値を平均直径とすることができる。また、平均長は、１００個の柱状物質を観察し、それぞれの長さを測定し、その平均値を平均長とする。柱状物質が曲がっている場合、それを弧とする円を考慮し、その半径、及び曲率から算出される値の平均値を平均長とする。
また、透明導電層中の柱状物質の平均直径及び平均長は、透明導電層の対角線の交点を中心とした視野中にて観察される柱状物質について測定を行う。視野中に１００個の柱状物質がない場合はさらに視野を広げて測定を行う。
【００５２】
柱状物質のアスペクト比としては、１０以上であれば特に制限はなく、目的に応じて適宜選択することができるが、５０〜１，０００，０００が好ましく、１００〜１，０００，０００がより好ましい。
アスペクト比とは、一般的には繊維状の物質の長径と短径との比（平均長／平均直径の比）を意味し、上述の方法で測定した平均長及び平均直径の値から算出できる。
【００５３】
網目構造を有する部材が形成されたガラス板の表面積に対する網目構造による被覆率（面積率）、線幅は、１０ｃｍ四方の試料を図２のように９等分し、その中心点（計９箇所）における走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）観察から得られた画像（合計９画像）を下記（ア）、（イ）の方法で解析することで求めることができる。
【００５４】
（ア）面積率の測定
得られた９枚の観察画像に対し、画像解析ソフトウェアを用い、網目構造領域を白色に、その他の領域を黒色に二値化し、全体の画像面積に対する白色部分の面積率を算出することで求める。
【００５５】
（イ）線幅の測定
上記（ア）で得られた二値化した９枚の観察画像のそれぞれをさらに９等分する合計４本の直線を引き、これらの直線と交差する白色部分（網目部分）の長さを線幅とし、得られた線幅を相加平均することで求める。
【００５６】
金属網目構造（Ｂ）を有する赤外線反射層の膜厚は、通常０．００１〜１００μｍの範囲、好ましくは０．０１〜３０μｍの範囲である。より好ましくは０．０１〜１０μｍである。
【００５７】
赤外線反射層は、上記柱状物質の他、後記する高分子材料を含んでいることが好ましい。
【００５８】
金属網目構造（Ｂ）を有する赤外線反射層の形成方法は、柱状物質を基材上に均一に分散させて柱状物質同士の交点を生じさせることができれば特に限定されないが、上記成分及び後記する高分子材料を含む組成物を塗布、硬化させることによって形成することが好ましい。
【００５９】
（４）コレステリック液晶を固定化してなる層
本発明の熱線遮蔽部材は、さらにコレステリック液晶を固定化してなる層（以下、コレステリック液晶層という）を有していてもよい。
コレステリック液晶層は、本発明で形成された反射層に対し、熱線遮蔽性能を補助する目的で、本発明の熱線遮蔽部材の積層構造の一部に導入することが好ましい。
コレステリック液晶層を形成する積層構造中の位置は特に限定されないが、赤外線吸収層よりも光源に近い位置であることが好ましく、赤外線反射層よりも光源に近い位置であることがさらに好ましい。
コレステリック液晶を固定化してなる層の膜厚は、原理的に反射波長（８００ｎｍ〜）以上の厚みが必要であるが、さらに反射率を確保するために、通常１〜５０００μｍの範囲、好ましくは１〜３０μｍの範囲で用いることが好適である。
【００６０】
コレステリック液晶層の作製方法には特に限定はないが、例えば、重合性官能基を有する液晶化合物・キラル剤・重合開始剤を溶解又は分散して液晶を重合硬化する方法、重合性モノマー中に液晶化合物とキラル剤・重合開始剤を溶解又は分散しモノマーを重合硬化する方法、重合性モノマー中に予め形成されたコレステリック液晶の粉砕物と重合開始剤を溶解又は分散しモノマーを重合硬化する方法等によって作製することができる。
【００６１】
前記重合性官能基を有する液晶化合物は、分子内に１つ以上の重合性官能基を有した液晶化合物を示し、耐久性と液晶特性の観点から２つ以上の重合性官能基を有する棒状液晶化合物が好適に用いられる。重合性官能基としては、不飽和重合性基、エポキシ基、及びアジリジニル基が含まれ、不飽和重合性基が好ましく、エチレン性不飽和重合性基が特に好ましい。
【００６２】
前記キラル剤は、コレステリック液晶を形成するために添加される光学活性化合物であり、公知の種々のキラル剤（例えば、液晶デバイスハンドブック、第３章４−３項、ＴＮ、ＳＴＮ用カイラル剤、１９９頁、日本学術振興会第１４２委員会編、１９８９に記載）から選択することができる。但し、上記液晶化合物が不斉炭素原子を有する分子であれば、キラル剤を添加しなくても、コレステリック液晶相を安定的に形成可能である場合もある。
【００６３】
前記重合開始剤は特に限定されないが、生産性の観点から通常は、紫外線照射により硬化反応を進行させるため、使用する重合開始剤は紫外線照射によって重合反応を開始可能な光重合開始剤であるのが好ましい。光重合開始剤の例には、α−カルボニル化合物（米国特許第２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許第２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許第２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許第３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許第３５４９３６７号明細書記載）、アクリジン及びフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許第４２３９８５０号明細書記載）及びオキサジアゾール化合物（米国特許第４２１２９７０号明細書記載）等が挙げられる。
【００６４】
（５）高分子材料を含む層
本発明の熱線遮蔽部材は、さらに高分子材料を含む層（以下、高分子材料層という）を含んでいてもよい。高分子材料層は、本発明の熱線遮蔽部材において、露出する層に対するオーバーコート層や、各層の間に位置する中間層として機能し、耐候性、体擦傷性等を改善することができる。
高分子材料層を形成する材料は特に限定されず、公知の材料を用いることができるが、後記する高分子材料を含む組成物から形成されていることが好ましい。
【００６５】
また、前記赤外線反射層（３）及び／又は赤外線吸収層（２）は、前記金属又は金属化合物以外に高分子材料を含む組成物から形成されることが好ましく、高分子材料によってこれらの層の耐候性、耐擦傷性等を改善することができる。高分子材料を含む組成物（以下、高分子材料組成物という）としては、下記のものが好ましい。
【００６６】
高分子材料は、アルコキシ基を有するシラン化合物、及び、Ｔｉ、Ｚｒ若しくはＡｌのアルコキシド化合物からなる群から選択される１種以上を含むことが好ましい。
【００６７】
高分子材料を含む組成物としては、有機高分子又は無機高分子を含むものが挙げられる。有機高分子又は無機高分子は下記の１種又は２種以上を用いてもよい。
【００６８】
（有機高分子）
有機高分子の具体例としては、ポリメタクリレート（例えば、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エステルを含む共重合体）、ポリアクリレート（例えば、ポリアクリル酸メチル、ポリアクリル酸エステルを含む共重合体）、ポリアクリロニトリル、ポリビニルアルコール、ポリエステル（例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート）、フェノール又はクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂（例えば、Ｎｏｖｏｌａｃｓ（登録商標））、ポリスチレン、ポリビニルトルエン、ポリビニルキシレン、ポリイミド、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルイミド、ポリスルフィド、ポリスルホン、ポリフェニレン、及びポリフェニルエーテル等の高芳香性を有する高分子、ポリウレタン（ＰＵ）、エポキシ樹脂、ポリオレフィン（例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリシクロオレフィン）、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン共重合体（ＡＢＳ）、セルロース誘導体、シリコーン、シリコン含有高分子（例えば、ポリシルセスキオキサン及びポリシラン）、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）、ポリアセテート、ポリノルボルネン、合成ゴム（例えば、ＥＰＲ、ＳＢＲ、ＥＰＤＭ）、含フッ素重合体（例えば、ポリビニリデンフルオライド、ポリテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ポリヘキサフルオロプロピレン）、及び炭化水素オレフィン（例えば、旭硝子株式会社製「ＬＵＭＩＦＬＯＮ」（登録商標））、及び非晶質フルオロカーボン重合体又は共重合体（例えば、旭硝子株式会社製の「ＣＹＴＯＰ」（登録商標）又はデュポン社製の「Ｔｅｆｌｏｎ」（登録商標）ＡＦ）等が挙げられる。
【００６９】
（無機高分子）
無機高分子としては、アルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物、並びにＴｉ、Ｚｒ及びＡｌからなる群から選ばれた元素のアルコキシド化合物（以下、「特定アルコキシド化合物」ともいう。）を加水分解及び重縮合し、さらに所望により加熱、乾燥して得られるゾルゲル硬化物を挙げることができる。これらの無機高分子は、１種又は２種以上を用いてもよい。
【００７０】
上記ゾルゲル硬化物は、キズ及び磨耗に対して高い耐性を有するものが容易に製造できるという点から好ましい。
アルコキシ基を有するシラン化合物としては、（Ｂ−１）〜（Ｂ−７）が挙げられ、これらの１種又は２種以上を用いてもよい。
（Ｂ−１）アミノ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物
（Ｂ−２）テトラアルコキシシラン化合物、
（Ｂ−３）アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基を含まないオルガノアルコキシシラン化合物
（Ｂ−４）エポキシ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物
（Ｂ−５）アルコキシ基を有するブロック化イソシアナトシラン化合物
（Ｂ−６）炭素間に二重結合を有するシラン化合物
（Ｂ−７）メルカプト基及びアルコキシ基を有するシラン化合物
（Ｂ−１）〜（Ｂ−５）成分は、加水分解縮合物であり、（Ｂ−６）〜（Ｂ−７）成分は、加水分解縮合物であってもよい。加水分解縮合物は（Ｂ−１）〜（Ｂ−７）成分の単独の化合物の加水分解縮合物であってもよいし、（Ｂ−１）〜（Ｂ−７）成分の中の任意の２種以上からなる混合物の加水分解縮合物であってもよい。
【００７１】
本発明において、アルコキシ基を含むシラン化合物とは、アルコキシシラン化合物及び／又はその部分縮合物であり、アルコキシシラン化合物の部分縮合物とは、アルコキシシラン化合物の一部が縮合し、分子内にシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）を形成してなるポリアルコキシシラン化合物又はポリオルガノアルコキシシラン化合物を指す。
また、アルコキシ基を含むシラン化合物の加水分解縮合物とは、アルコキシ基を含むシラン化合物の加水分解縮合物の他に加水分解縮合前の該アルコキシ基を含むシラン化合物を含んでもよい。
【００７２】
アルコキシ基を有するシラン化合物の加水分解縮合物は、好ましくは（Ｂ−１）〜（Ｂ−５）の全てを含む。
【００７３】
（Ｂ−１）アミノ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物
アミノ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物は、エポキシ基及びイソシアネート基を含まないアルコキシシラン化合物である。また、その部分縮合物（アミノ基含有ポリオルガノアルコキシシラン化合物）も用いることができる。これら化合物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
アミノ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物である、アミノ基含有オルガノアルコキシシラン化合物及びその部分縮合物は、例えば下記式（３）で表わすことができる。
Ｒ４ｂＳｉ（ＯＲ５）４−ｂ        ・・・（３）
［式中、Ｒ４は炭素数１〜４のアルキル基；フェニル基；又はアミノ基（−ＮＨ２基）、アミノアルキル基〔−（ＣＨ２）ｘ−ＮＨ２基（ただし、ｘは１〜３の整数）〕）、アルキルアミノ基〔−ＮＨＲ基（ただし、Ｒは炭素数１〜３のアルキル基）〕の中から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜３のアルキル基であり、Ｒ４の少なくとも１つは、アミノ基、アミノアルキル基又はアルキルアミノ基のいずれかで置換された炭素数１〜３のアルキル基である。Ｒ５は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｂは１又は２である。Ｒ４が複数ある場合、複数のＲ４は同一でも異なっていてもよく、複数のＯＲ５は同一でも異なっていてもよい。］
【００７４】
上記式（３）において、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基については、後述する式（１）又は（２）と同じである。好ましくはＲ４は炭素数１〜４のアルキル基又はアミノ基で置換された炭素数１〜３のアルキル基である。好ましくはＲ５は炭素数１〜４のアルキル基である。好ましくはｂは１である。
【００７５】
式（３）で表わされるアミノ基含有オルガノアルコキシシラン化合物の具体例としては、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジエトキシシラン、Ｎ―（２−アミノエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−アミノプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−メチルアミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられる。
また、アミノ基含有ポリオルガノアルコキシシラン化合物としては、例えば、信越シリコーン株式会社製の「ＫＢＰ−９０」等が挙げられる。
【００７６】
（Ｂ−２）テトラアルコキシシラン化合物
テトラアルコキシシラン化合物としては、テトラアルコキシシラン化合物又はシロキサン結合（Ｓｉ−Ｏ結合）で結合された部分縮合物（ポリアルコキシシラン化合物）を用いることができる。これら化合物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
テトラアルコキシシラン化合物及びその部分縮合物は、例えば下記式（１）で表すことができ、特に下記式（６）で表される化合物が好適である。
Ｓｉ（ＯＲ１）４        （１）
［式中、Ｒ１は、炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシアルキル基である。複数のＲ１は同一でも異なっていてもよい。］
【化１】
2016184052.tif 000003
［式中、Ｒ１は、上記と同じであり、ｎは１〜１５の整数である。］
【００７７】
式（１）及び（６）において、炭素数１〜４のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、各種ブチル基が挙げられ、また、Ｒ１が炭素数１〜４のアルコキシアルキル基であるＯＲ１としては、例えば、２−メトキシエトキシ基、３−メトキシプロポキシ基等が挙げられる。
【００７８】
テトラアルコキシシラン化合物としては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラ−ｎ−プロポキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトライソブトキシシラン等が挙げられる。
また、ポリアルコキシシラン化合物としては、多摩化学工業株式会社製の「Ｍシリケート５１」「シリケート４０」「シリケート４５」、コルコート株式会社製の「メチルシリケート５１」「メチルシリケート５３Ａ」「エチルシリケート４０」「エチルシリケート４８」等が挙げられる。
【００７９】
（Ｂ−３）アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基を含まないオルガノアルコキシシラン化合物
オルガノアルコキシシラン化合物としては、オルガノアルコキシシラン化合物又はその部分縮合物を用いることができる。オルガノアルコキシシラン化合物は、アミノ基、エポキシ基、及びイソシアネート基を含まない。
これら化合物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
オルガノアルコキシシラン化合物として、オルガノアルコキシシラン化合物及びその部分縮合物は、好ましくは２官能アルコキシシラン、３官能アルコキシシランであり、例えば下記式（２）で表わすことができ、特に下記式（７）で表される化合物が好適である。
Ｒ２ａＳｉ（ＯＲ３）４−ａ        ・・・（２）
［式中、Ｒ２は炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のフッ素化アルキル基又はフェニル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキル基又は炭素数１〜４のアルコキシアルキル基であり、ａは１又は２である。Ｒ２が複数ある場合、複数のＲ２は同一でも異なっていてもよく、複数のＯＲ３は同一でも異なっていてもよい。］
【化２】
2016184052.tif 000004
［式中、Ｒ２及びＲ３は上記と同じであり、ｍは１〜１５の整数である。］
【００８０】
式（２）及び（７）において、炭素数１〜１０のアルキル基としては、直鎖状、分岐状のいずれであってもよく、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、各種ブチル基、各種ヘキシル基、各種オクチル基、各種デシル基等が挙げられ、フッ素化アルキル基としては、例えば、トリフルオロエチル基、トリフルオロプロピル基等が挙げられる。また、炭素数１〜３のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基が挙げられる。炭素数１〜４のアルキル基もしくはアルコキシアルキル基については、式（１）で説明した通りである。好ましくはＲ２は炭素数１〜４のアルキル基である。好ましくはＲ３は炭素数１〜４のアルキル基である。好ましくはａは１である。
【００８１】
式（２）で表わされるオルガノアルコキシシラン化合物の中で、３官能アルコキシシランとしては、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、メチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、エチル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリプロポキシシラン、ヘキシルトリブトキシシラン、デシルトリメトキシシラン、デシルトリエトキシシラン、デシルトリプロポキシシラン、デシルトリブトキシシラン、トリフルオロプロピルトリメトキシシラン等のフッ素化アルキル（トリアルコキシ）シラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン等が挙げられる。また２種類のアルコキシ基を含むメチルジメトキシ（エトキシ）シラン、エチルジエトキシ（メトキシ）シラン等も挙げられる。
【００８２】
２官能アルコキシシランとしては、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ビス（２−メトキシエトキシ）ジメチルシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン等が挙げられる。
【００８３】
ポリオルガノアルコキシシラン化合物の具体例としては、多摩化学工業株式会社製の「ＭＴＭＳ−Ａ」、コルコート株式会社製の「ＳＳ−１０１」、東レ・ダウコーニング株式会社製の「ＡＺ−６１０１」「ＳＲ２４０２」「ＡＹ４２−１６３」等が挙げられる。
【００８４】
また、（Ｂ−２）及び（Ｂ−３）のアルコキシシラン化合物は、下記式（１０）で示される化合物であってもよい。
Ｓｉ（ＯＲｐ）ａＲｑ４−ａ    ・・・・（１０）
（式（１０）中、Ｒｐ及びＲｑは、それぞれ独立に水素原子又は炭化水素基を示し、ａは２〜４の整数を示す。）
式（１０）におけるＲｐ及びＲｑで表される各炭化水素基としては、好ましくはアルキル基又はアリール基が挙げられる。
【００８５】
アルキル基を示す場合の炭素数は好ましくは１〜１８、より好ましくは１〜８であり、さらにより好ましくは１〜４である。また、アリール基を示す場合は、フェニル基が好ましい。アルキル基又はアリール基は置換基をさらに有していてもよい。この化合物は分子量１０００以下であることが好ましい。
【００８６】
以下に、式（１０）で示される化合物の具体例を挙げるが、これに限定されるものではない。
式（１０）においてａが２の場合、即ち、ジアルコキシシランとしては、例えば、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、プロピルメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジプロピルジエトキシシラン、γ−クロロプロピルメチルジエトキシシラン、アセトキシメチルメチルジエトキシシラン、アセトキシメチルメチルジメトキシシラン、フェニルメチルジメトキシシラン、フェニルエチルジエトキシシラン、フェニルメチルジプロポキシシラン、ビニルメチルジメトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルジブトキシシラン、イソプロペニルメチルジメトキシシラン、イソプロペニルメチルジエトキシシラン、イソプロペニルメチルジブトキシシラン等を挙げることができる。これらのうち特に好ましいものとしては、入手容易な観点と親水性層との密着性の観点から、ジメチルジメトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン等を挙げることができる。
【００８７】
式（１０）においてａが３の場合、即ち、トリアルコキシシランとしては、例えば、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、クロロメチルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、イソプロペニルトリメトキシシラン、イソプロペニルトリエトキシシラン等を挙げることができる。これらのうち特に好ましいものとしては、入手容易な観点と親水性層との密着性の観点から、メチルトリメトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、エチルトリエトキシシラン等を挙げることができる。
【００８８】
式（１０）においてａが４の場合、即ち、テトラアルコキシシランとしては、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトラプロポキシシラン、テトラブトキシラン、メトキシトリエトキシシラン、エトキシトリメトキシシラン、メトキシトリプロポキシシラン、エトキシトリプロポキシシラン、プロポキシトリメトキシシラン、プロポキシトリエトキシシラン、ジメトキシジエトキシシラン等を挙げることができる。これらのうち特に好ましいものとしては、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を挙げることができる。
【００８９】
（Ｂ−４）エポキシ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物
エポキシ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物は、エポキシ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物であって、アミノ基及びイソシアネート基を含まないアルコキシシラン化合物である。また、その部分縮合物（エポキシ基含有ポリオルガノアルコキシシラン化合物）も用いることができる。これら化合物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
エポキシ基及びアルコキシ基を有するシラン化合物である、エポキシ基含有オルガノアルコキシシラン化合物及びその部分縮合物は、例えば下記式（４）で表わすことができる。
Ｒ６ｃＳｉ（ＯＲ７）４−ｃ        ・・・（４）
［式中、Ｒ６は炭素数１〜４のアルキル基；フェニル基；又はグリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基の中から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基であり、Ｒ６の少なくとも１つは、グリシドキシ基又は３，４−エポキシシクロヘキシル基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。Ｒ７は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｃは１又は２である。Ｒ６が複数ある場合、複数のＲ６は同一でも異なっていてもよく、複数のＯＲ７は同一でも異なっていてもよい。］
【００９０】
上記式（４）において、炭素数１〜４のアルキル基については、前記式（１）で説明した通りであり、炭素数１〜６のアルキル基は前記式（２）の炭素数１〜１０のアルキル基のうち炭素数１〜６のものである。好ましくはＲ６は炭素数１〜４のアルキル基又はグリシドキシ基、３，４−エポキシシクロヘキシル基の中から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基であり、より好ましくは炭素数１〜４のアルキル基又はグリシドキシ基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。好ましくはＲ７は炭素数１〜４のアルキル基である。好ましくは、ｃは２である。
【００９１】
式（４）で表わされるエポキシ基含有オルガノアルコキシシラン化合物の具体例としては、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、２−（３、４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリエトキシシラン等が挙げられる。
【００９２】
（Ｂ−５）アルコキシ基を有するブロック化イソシアネートシラン化合物
アルコキシ基を有するブロック化イソシアネートシラン化合物（一般的にブロック化イソシアナトシラン化合物、ブロック化イソシアナートシラン化合物とも称される）は、アルコキシ基及びブロック化イソシアネート基を含むが、アミノ基及びエポキシ基を含まないアルコキシシラン化合物である。また、その部分縮合物（ブロック化イソシアネート基含有ポリオルガノアルコキシシラン化合物）も用いることができる。これら化合物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
尚、ブロック化イソシアナトシラン化合物とは、イソシアネート基をオキシム等のブロック剤で保護して不活性としておき、加熱により脱ブロック化してイソシアネート基が活性化（再生）されるイソシアナトシラン化合物（一般的にイソシアネートシラン化合物とも称される）である。
アルコキシ基を有するブロック化イソシアネートシラン化合物である、ブロック化イソシアネート基含有オルガノアルコキシシラン化合物及びその部分縮合物は、例えば下記式（５）で表わすことができる。
Ｒ８ｄＳｉ（ＯＲ９）４−ｄ        ・・・（５）
［式中、Ｒ８は炭素数１〜４のアルキル基；フェニル基；又はブロック化イソシアネート基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基であり、Ｒ８の少なくとも１つは、ブロック化イソシアネート基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。Ｒ９は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｄは１又は２である。Ｒ８が複数ある場合、複数のＲ８は同一でも異なっていてもよく、複数のＯＲ９は同一でも異なっていてもよい。］
【００９３】
上記式（５）において、炭素数１〜４のアルキル基、炭素数１〜６のアルキル基、については、前記式（１）又は（４）で説明した通りである。好ましくはＲ８は炭素数１〜４のアルキル基又はブロック化イソシアネート基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。好ましくはＲ９は炭素数１〜４のアルキル基である。好ましくはｄは１である。
【００９４】
前記式（５）で表わされるブロック化イソシアネート基含有オルガノアルコキシシラン化合物の具合例としては、３−イソシアナトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルメチルジメトキシシラン、３−イソシアナトプロピルメチルジエトキシシラン、３−イソシアナトプロピルエチルジエトキシシラン等の化合物におけるイソシアネート基を、ブロック化剤で保護したものが挙げられる。これらの中で、好ましい化合物としては、３−ブロック化イソシアナトプロピルトリエトキシシランを挙げることができる。
【００９５】
イソシアネート基のブロック化剤としては、アセトオキシム、２−ブタノンオキシム、シクロヘキサノンオキシム、メチルイソブチルケトオキシム等のオキシム化合物、ε−カプロラクタム等のラクタム類、モノアルキルフェノール（クレゾール、ノニルフェノール等）等のアルキルフェノール類、３，５−キシレノール、ジ−ｔ−ブチルフェノール等のジアルキルフェノール類、トリメチルフェノール等のトリアルキルフェノール類、マロン酸ジエチル等のマロン酸ジエステル、アセチルアセトン、アセト酢酸エチルのようなアセト酢酸エステル等の活性メチレン化合物類、メタノール、エタノール、ｎ−ブタノール等のアルコール類、メチルセロソルブ、ブチルセロソルブ等の水酸基含有エーテル類、乳酸エチル、乳酸アミル等の水酸基含有エステル類、ブチルメルカプタン、ヘキシルメルカプタン等のメルカプタン類、アセトアニリド、ダイマー酸アマイド等の酸アミド類、イミダゾール、２−エチルイミダゾール等のイミダゾール類、３，５−ジメチルピラゾール等のピラゾール類、１，２，４−トリアゾール等のトリアゾール類、コハク酸イミド、フタル酸イミド等の酸イミド類等を使用できる。またブロック化剤解離温度を制御するため、ジブチル錫ジラウレート等の触媒を併用してもよい。
【００９６】
（Ｂ−６）炭素間２重結合を有するシラン化合物
（Ｂ−６）成分は、ビニル基、アクリル基、メタクリル基等の炭素間２重結合を有する基を含むシラン化合物であって、好ましくはアルコキシ基を含む。また、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基は含まない。
尚、（Ｂ−６）成分の「炭素間２重結合」は、芳香族二重結合を含まない。本明細書において、芳香族二重結合とは、４ｎ＋２個（ｎは０以上の整数）のπ電子を有する環状共役化合物における二重結合である。
本発明で用いる高分子材料は（Ｂ−６）炭素間２重結合を有するシラン化合物を含む場合、熱硬化に加え、光硬化（ＵＶ硬化）、電子線硬化（ＥＢ硬化）が可能となる。
炭素間２重結合を有するシラン化合物としては、その部分縮合物（炭素間２重結合を有する基を含有するポリオルガノアルコキシシラン化合物）も用いることができる。これら化合物は１種を単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
炭素間２重結合を有するシラン化合物及びその部分縮合物は、例えば下記式（２０）で表すことができる。
Ｒ２０ｅＳｉ（ＯＲ２１）４−ｅ        ・・・（２０）
［式中、Ｒ２０は炭素数１〜４のアルキル基；ビニル基；又はビニル基、アクリル基及びメタクリル基の中から選ばれる１以上の基を有する置換基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基であり、Ｒ２０の少なくとも１つは、ビニル基、アクリル基及びメタクリル基の中から選ばれる１以上の基を有する置換基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。Ｒ２１は炭素数１〜４のアルキル基であり、ｅは１又は２である。Ｒ２０が複数ある場合、複数のＲ２０は同一でも異なっていてもよく、複数のＯＲ２１は同一でも異なっていてもよい。］
【００９７】
上記式（２０）において、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数１〜４のアルキル基については、式（１）又は（４）で説明した通りである。好ましくは、Ｒ２０は炭素数１〜４のアルキル基、又はビニル基、アクリル基及びメタクリル基の中から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。好ましくは、ｅは１である。
ビニル基、アクリル基及びメタクリル基の中から選ばれる１以上の基を有する置換基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基は、好ましくは、ビニル基、ビニルオキシ基、アクリル基、アクリロキシ基、メタクリル基及びメタクリロキシ基の中から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基であり、より好ましくは、アクリル基、アクリロキシ基、メタクリル基及びメタクリロキシ基の中から選ばれる１以上の基で置換された炭素数１〜６（好ましくは炭素数１〜４）のアルキル基である。
【００９８】
式（２０）で表される化合物の具体例として、３−アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、３−メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン等のアクリルシラン化合物（アクリル基含有シラン化合物）、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン等のビニル基含有シラン化合物が挙げられる。
【００９９】
（Ｂ−７）メルカプト基及びアルコキシ基を有するシラン化合物
メルカプト基及びアルコキシ基を有するシラン化合物は、チオール基（ＩＵＰＡＣ；別名は水硫基、メルカプト基、スルフヒドリル基）を有する基を含むシラン化合物であって、アルコキシ基を含む。また、アミノ基、エポキシ基及びイソシアネート基は含まない。また、トリアジンチオール基を有する基を含むシラン化合物であってもよい。
（Ｂ−７）成分の具体例としては、３−メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリエトキシシランが挙げられる。アルコキシオリゴマーとしては、信越化学工業株式会社製Ｘ−４１−１８０５、Ｘ−４１−１８１８、Ｘ−４１−１８１０等が挙げられる。さらに、トリアジンチオール基含有シリコーンアルコキシオリゴマーとしては、信越化学工業株式会社製Ｘ−２４−９４５１、Ｘ−２４−９４５２，Ｘ−２４−９４５３，Ｘ−２４−９４５４が挙げられる。
Ｔｉ、Ｚｒ及びＡｌからなる群から選ばれた元素の特定アルコキシド化合物としては、下記式（１１）で示される化合物であることが好ましい。
Ｍ（ＯＲｐ）ａＲｑ４−ａ    ・・・・（１１）
（式（１１）中、ＭはＴｉ、Ａｌ及びＺｒから選択される元素を示し、Ｒｐ及びＲｑは、それぞれ独立に水素原子又は炭化水素基を示し、ａは２〜４の整数を示す。）
【０１００】
式（１１）におけるＲｐ及びＲｑで表される各炭化水素基としては、好ましくはアルキル基又はアリール基が挙げられる。
Ｒｐ及びＲｑがアルキル基を示す場合の炭素数は好ましくは１〜１８、より好ましくは１〜８であり、さらにより好ましくは１〜４である。また、アリール基である場合は、フェニル基が好ましい。アルキル基又はアリール基は置換基をさらに有していてもよい。この化合物は分子量１０００以下であることが好ましい。
【０１０１】
以下に、式（１１）で示される化合物の具体例を挙げるが、これに限定されるものではない。
（アルコキシチタネート）
ＭがＴｉでａが２の場合、即ち、ジアルコキシチタネートとしては、例えば、ジメチルジメトキシチタネート、ジエチルジメトキシチタネート、プロピルメチルジメトキシチタネート、ジメチルジエトキシチタネート、ジエチルジエトキシチタネート、ジプロピルジエトキシチタネート、フェニルエチルジエトキシチタネート、フェニルメチルジプロポキシチタネート、ジメチルジプロポキシチタネート等を挙げることができる。
ＭがＴｉでａが３の場合、即ち、トリアルコキシチタネートとしては、例えば、メチルトリメトキシチタネート、エチルトリメトキシチタネート、プロピルトリメトキシチタネート、メチルトリエトキシチタネート、エチルトリエトキシチタネート、プロピルトリエトキシチタネート、クロロメチルトリエトキシチタネート、フェニルトリメトキシチタネート、フェニルトリエトキシチタネート、フェニルトリプロポキシチタネート等を挙げることができる。
ＭがＴｉでａが４の場合、即ち、テトラアルコキシチタネートとしては、例えば、テトラメトキシチタネート、テトラエトキシチタネート、テトラプロポキシチタネート、テトライソプロポキシチタネート、テトラブトキシチタネート等を挙げることができる。
【０１０２】
（ジルコニウム又はアルミニウムのアルコキシド）
ＭがＺｒの場合、即ち、ジルコニウムのアルコキシドとしては、例えば、前記チタンを含むものとして例示した化合物に対応するジルコネートを挙げることができる。
ＭがＡｌの場合、即ち、アルミニウムのアルコキシドとしては、例えば、トリメトキシアルミネート、トリエトキシアルミネート、トリプロポキシアルミネート、テトラエトキシアルミネート等を挙げることができる。
これらの特定アルコキシドは市販品として容易に入手できるほか、公知の合成方法、例えば各金属塩化物と任意のアルコールとの反応によって製造してもよい。
上記アルコキシドは、一種類の化合物を単独で用いても、二種類以上の化合物を組み合わせて使用してもよい。
【０１０３】
ゾルゲル硬化膜を高分子材料とする導電性層は、金属ナノワイヤや金属平板状粒子と特定アルコキシド化合物を含む含水溶液を塗布液（以下、「ゾルゲル塗布液」ともいう。）として、基材上に塗布して塗布液膜を形成し、この塗布液膜中で特定アルコキシド化合物の加水分解と重縮合の反応（以下、この加水分解と重縮合の反応を「ゾルゲル反応」ともいう。）を起こさせ、さらに必要に応じて加熱して水を蒸発、乾燥することにより、形成することが好ましい。ゾルゲル塗布液の調製に際しては、金属ナノワイヤの分散液を別に調製しておき、これと特定アルコキシド化合物とを混合してもよい。さらに、特定アルコキシド化合物を含む溶液を調製したのち、この溶液を加熱して特定アルコキシド化合物の少なくとも一部を加水分解及び重縮合させてゾル状態とし、このゾル状態にある溶液と金属ナノワイヤや金属平板状粒子の分散液とを混合したものをゾルゲル塗布液としてもよい。
【０１０４】
（触媒）
ゾルゲル反応を促進させるため、酸性触媒又は塩基性触媒を添加することが好ましい。以下、この触媒について、説明する。
触媒としては、アルコキシド化合物の加水分解及び重縮合の反応を促進させるものであれば、任意のものを使用することができる。
このような触媒としては、酸、あるいは塩基性化合物が含まれ、そのまま用いるか、又は、水又はアルコール等の溶媒に溶解させた状態のもの（以下、これらを包括してそれぞれ酸性触媒、塩基性触媒とも称する）が使用される。
酸、あるいは塩基性化合物を溶媒に溶解させる際の濃度については特に限定はなく、用いる酸、或いは塩基性化合物の特性、触媒の所望の含有量等に応じて適宜選択すればよい。ここで、触媒を構成する酸或いは塩基性化合物の濃度が高い場合は、加水分解、重縮合速度が速くなる傾向がある。但し、濃度の高過ぎる塩基性触媒を用いると、沈殿物が生成して導電性層に欠陥となって現れる場合があるので、塩基性触媒を用いる場合、その濃度は水溶液での濃度換算で１Ｎ以下であることが好ましい。
【０１０５】
酸性触媒あるいは塩基性触媒の種類は特に限定されないが、濃度の濃い触媒を用いる必要がある場合には、乾燥後の導電性層中にほとんど残留しない化合物が好ましい。具体的には、酸性触媒としては、塩酸等のハロゲン化水素、硝酸、硫酸、亜硫酸、硫化水素、過塩素酸、過酸化水素、炭酸、ギ酸や酢酸等のカルボン酸、そのＲＣＯＯＨで示される構造式のＲを他元素又は置換基によって置換した置換カルボン酸、ベンゼンスルホン酸等のスルホン酸等が挙げられ、塩基性触媒としては、アンモニア水等のアンモニア性塩基、エチルアミンやアニリン等のアミン類等が挙げられる。
【０１０６】
金属錯体からなるルイス酸触媒もまた好ましく使用できる。特に好ましい触媒は、金属錯体触媒であり、周期表の第２族，第１３族，第４族、及び、第５族から選ばれる金属元素とβ−ジケトン、ケトエステル、ヒドロキシカルボン酸又はそのエステル、アミノアルコール、エノール性活性水素化合物の中から選ばれるオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物から構成される金属錯体である。
構成金属元素の中では、Ｍｇ，Ｃａ，Ｓｔ，Ｂａ等の第２族元素、Ａｌ，Ｇａ等の第１３族元素，Ｔｉ，Ｚｒ等の第４族元素及びＶ，Ｎｂ及びＴａ等の第５族元素が好ましく、それぞれ触媒効果の優れた錯体を形成する。その中でもＺｒ、Ａｌ及びＴｉから得られる錯体が優れており、好ましい。
【０１０７】
上記金属錯体の配位子を構成するオキソ又はヒドロキシ酸素含有化合物としては、アセチルアセトン（２，４−ペンタンジオン）、２，４−ヘプタンジオン等のβジケトン、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、アセト酢酸ブチル等のケトエステル類、乳酸、乳酸メチル、サリチル酸、サリチル酸エチル、サリチル酸フェニル、リンゴ酸、酒石酸、酒石酸メチル等のヒドロキシカルボン酸及びそのエステル、４−ヒドロキシー４−メチル−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−２−ペンタノン、４−ヒドロキシ−４−メチル−２−ヘプタノン、４−ヒドロキシ−２−ヘプタノン等のケトアルコール類、モノエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ−メチル−モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン等のアミノアルコール類、メチロールメラミン、メチロール尿素、メチロールアクリルアミド、マロン酸ジエチルエステル等のエノール性活性化合物、アセチルアセトン（２，４−ペンタンジオン）のメチル基、メチレン基又はカルボニル炭素に置換基を有する化合物が挙げられる。
【０１０８】
好ましい配位子はアセチルアセトン誘導体であり、アセチルアセトン誘導体は、アセチルアセトンのメチル基、メチレン基又はカルボニル炭素に置換基を有する化合物も含む。アセチルアセトンのメチル基に置換する置換基としては、いずれも炭素数が１〜３の直鎖又は分岐のアルキル基、アシル基、ヒドロキシアルキル基、カルボキシアルキル基、アルコキシ基、アルコキシアルキル基であり、アセチルアセトンのメチレン基に置換する置換基としてはカルボキシル基、いずれも炭素数が１〜３の直鎖又は分岐のカルボキシアルキル基及びヒドロキシアルキル基であり、アセチルアセトンのカルボニル炭素に置換する置換基としては炭素数が１〜３のアルキル基であってこの場合はカルボニル酸素には水素原子が付加して水酸基となる。
【０１０９】
好ましいアセチルアセトン誘導体の具体例としては、エチルカルボニルアセトン、ｎ−プロピルカルボニルアセトン、ｉ−プロピルカルボニルアセトン、ジアセチルアセトン、１―アセチル−１−プロピオニル−アセチルアセトン、ヒドロキシエチルカルボニルアセトン、ヒドロキシプロピルカルボニルアセトン、アセト酢酸、アセトプロピオン酸、ジアセト酢酸、３，３−ジアセトプロピオン酸、４，４−ジアセト酪酸、カルボキシエチルカルボニルアセトン、カルボキシプロピルカルボニルアセトン、ジアセトンアルコールが挙げられる。中でも、アセチルアセトン及びジアセチルアセトンがとくに好ましい。上記のアセチルアセトン誘導体と上記金属元素の錯体は、金属元素１個当たりにアセチルアセトン誘導体が１〜４分子配位する単核錯体であり、金属元素の配位可能の手がアセチルアセトン誘導体の配位可能結合手の数の総和よりも多い場合には、水分子、ハロゲンイオン、ニトロ基、アンモニオ基等通常の錯体に汎用される配位子が配位してもよい。
【０１１０】
好ましい金属錯体の例としては、トリス（アセチルアセトナト）アルミニウム錯塩、ジ（アセチルアセトナト）アルミニウム・アコ錯塩、モノ（アセチルアセトナト）アルミニウム・クロロ錯塩、ジ（ジアセチルアセトナト）アルミニウム錯塩、エチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、環状アルミニウムオキサイドイソプロピレート、トリス（アセチルアセトナト）バリウム錯塩、ジ（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、トリス（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、ジ−ｉ−プロポキシ・ビス（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス（エチルアセトアセテート）、ジルコニウムトリス（安息香酸）錯塩等が挙げられる。これらは水系塗布液での安定性及び、加熱乾燥時のゾルゲル反応でのゲル化促進効果に優れているが、中でも、特にエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）、ジ（アセチルアセトナト）チタニウム錯塩、ジルコニウムトリス（エチルアセトアセテート）が好ましい。
【０１１１】
上記した金属錯体の対塩の種類は、錯体化合物としての電荷の中性を保つ水溶性塩である限り任意であり、例えば硝酸塩、ハロゲン酸塩、硫酸塩、燐酸塩等の化学量論的中性が確保される塩の形が用いられる。
金属錯体のシリカゾルゲル反応での挙動については、Ｊ．Ｓｏｌ−Ｇｅｌ．Ｓｃｉ．ａｎｄ  Ｔｅｃ．１６．２０９（１９９９）に詳細な記載がある。反応メカニズムとしては以下のスキームを推定している。即ち、塗布液中では、金属錯体は、配位構造を取って安定であり、塗布後の加熱乾燥過程に始まる脱水縮合反応では、酸触媒に似た機構で架橋を促進させるものと考えられる。いずれにしても、この金属錯体を用いたことにより塗布液の経時安定性、並びに導電性層の皮膜面質及び高耐久性に優れるものを得られる。
上記の金属錯体触媒は、市販品として容易に入手でき、また公知の合成方法、例えば各金属塩化物とアルコールとの反応によっても得られる。
上記触媒は、前記ゾルゲル塗布液中に、その不揮発性成分に対して、好ましくは０〜５０質量％、さらに好ましくは５〜２５質量％の範囲で使用される。触媒は、単独で用いても二種以上を組み合わせて使用してもよい。
【０１１２】
（溶剤）
上記のゾルゲル塗布液には、基材上に均一な塗布液膜の形成性を確保するために、所望により、溶剤を含有させてもよい。
このような溶剤としては、例えば、水、ケトン系溶剤（例えば、アセトン、メチルエチルケトン、ジエチルケトン等）、アルコール系溶剤（例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、１−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等）、塩素系溶剤（例えば、クロロホルム、ジクロロメタン等）、芳香族系溶剤（例えば、ベンゼン、トルエン等）、エステル系溶剤（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸イソプロピル等）、エーテル系溶剤（例えば、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン等）、グリコールエーテル系溶剤（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールジメチルエーテル等）等が挙げられる。
【０１１３】
基材上に形成されたゾルゲル塗布液の塗布液膜中においては、特定アルコキシド化合物の加水分解及び縮合の反応が起こるが、その反応を促進させるために、上記塗布液膜を加熱、乾燥することが好ましい。ゾルゲル反応を促進させるための加熱温度は、３０℃〜２００℃の範囲が適しており、５０℃〜１８０℃の範囲がより好ましい。加熱、乾燥時間は１０秒間〜３００分間が好ましく、１分間〜１２０分間がより好ましい。
【０１１４】
高分子材料を含む組成物は、上記成分に加え、必要に応じて有機高分子微粒子及び／又は無機微粒子を含んでいてもよい。
【０１１５】
（有機高分子微粒子及び／又は無機微粒子）
有機高分子微粒子としては、エチレン系不飽和化合物（アクリル酸、メタクリル酸及びそれらの誘導体、スチレン、酢酸ビニル等）を重合させたものが例示される。
有機高分子微粒子は、製造性、組成物中における分散性、組成物の塗工性及び塗膜の透明性等の観点から、平均粒子径が１〜２００ｎｍの範囲にあるものが好ましく、１〜１００ｎｍの範囲にあるものがより好ましい。尚、この有機高分子微粒子の平均粒子径は、動的光散乱法により測定することができる。また、動的光散乱法によって測定できない場合は、Ｘ線小角散乱法によって測定してもよい。
上記動的光散乱法は、例えば有機高分子微粒子をイオン交換水で１００倍希釈した液を動的光散乱法粒子径分布測定装置（ベックマンコールター株式会社製、コールターカウンターＮ５）を用いて測定を行い、ユニモーダル解析（単分散モード解析）による平均粒子径を求める。これを５回繰り返し行い、５回分の平均粒子径の平均値を有機高分子の平均粒子径とすることができる。
【０１１６】
本発明においては、当該有機高分子微粒子は、分散媒体に分散させた形態で用いることが好ましく、分散媒体としては、例えば、水、メタノール、エタノール、プロパノール、１−メトキシ−２−プロパノール等の低級アルコール、メチルセロソルブ等のセロソルブ類等が好ましく挙げられる。このような分散媒体を用いることにより、有機高分子微粒子の分散性が向上し、沈降を防ぐことができる。さらに好ましくは分散媒体が水のものである。
有機高分子微粒子の製造方法に特に制限はなく、従来公知の方法、例えば、乳化重合法や微細懸濁重合法等を採用することができる。
【０１１７】
乳化重合法は、エチレン性不飽和単量体、水性分散媒体、アニオン性又はノニオン性界面活性剤からなる乳化剤及び水溶性重合開始剤を用いて、微細な液滴に乳化させて上記単量体混合物を包む界面活性剤ミセル層内で重合を進め、有機高分子微粒子の分散液を得る方法である。
【０１１８】
一方、微細懸濁重合液は、まず、水性媒体中に、前記単量体、油溶性重合開始剤、乳化剤及び必要に応じその他添加剤を加えてプレミックスし、ホモジナイザにより均質化処理して、油滴の粒子径調節を行う。次いで均質化処理した液を重合器に送り、重合反応を行い、有機高分子微粒子の分散液を得る方法である。
上記いずれかの方法も、重合温度は３０〜８０℃程度である。
【０１１９】
乳化重合に用いる水溶性重合開始剤としては、例えば、過硫酸カリウム、過硫酸アンモニウム、過酸化水素等の水溶性過酸化物、これらの開始剤又はクメンヒドロパーオキシド、ｔ−ブチルヒドロパーオキシド等のヒドロパーオキシドに、酸性亜硫酸ナトリウム、亜硫酸アンモニウム、アスコルビン酸等の還元剤を組み合わせたレドックス系開始剤、２，２’−アゾビス（２−メチルプロピオンアミジン）二塩酸塩等の水溶性アゾ化合物等を挙げることができる。
【０１２０】
一方、微細懸濁重合に用いる油溶性重合開始剤としては、例えば、ジアシルパーオキシド類、ケトンパーオキシド類、パーオキシエステル類、パーオキシジカーボネート類等の油溶性有機過酸化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）等のアゾ化合物等を挙げることができる。
【０１２１】
有機高分子微粒子の具体例としては、一方社油脂工業株式会社製のエマルション系高分子紫外線吸収剤ＵＬＳ−７００、ＵＬＳ−１７００、ＵＬＳ−３８３ＭＡ、ＵＬＳ−１３８３ＭＡ、ＵＬＳ−３８３ＭＧ、ＵＬＳ−３８５ＭＧ、ＵＬＳ−１３８３ＭＧ、ＵＬＳ−１３８５ＭＧ、ＵＬＳ−６３５ＭＨ等、日信化学工業株式会社製ビニブラン７００、７０１、７１１、日本ゼオン株式会社製ニポールシリーズ等が挙げられる。
前記有機高分子微粒子を１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２２】
無機微粒子としては、銀や銅等の金属微粒子、コロイダルシリカ、酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、ＩＴＯ、ＡＴＯ（三酸化アンチモン）等の金属酸化物微粒子が挙げられる。
【０１２３】
無機微粒子は好ましくはコロイダルシリカである。コロイダルシリカとは、コロイドシリカ、コロイド珪酸ともいう。水中では、水和によって表面にＳｉ−ＯＨ基を有する酸化ケイ素のコロイド懸濁液をいい、珪酸ナトリウムの水溶液に塩酸を加えると生成する。最近は、新しい調製法が次々に開発され、非水溶液中に分散したものや、気相法で作った微粉末状のものがあり、また、中空タイプのものもあり、粒子径も数ｎｍから数μｍのものまで多彩である。
【０１２４】
無機微粒子の平均粒子径としては１〜２００ｎｍ程度のものが好ましい。粒子の組成は不定で、シロキサン結合（−Ｓｉ−Ｏ−、−Ｓｉ−Ｏ−Ｓｉ−）を形成して、高分子化しているものもある。粒子表面は多孔性で、水中では一般的に負に帯電している。
【０１２５】
尚、上記平均粒子径は例えば無機微粒子を乾燥・焼成・粉砕した後、ＢＥＴ比表面積測定装置（モノソーブＭＳ−１７）を用いて、窒素吸着法によりＢＥＴ比表面積を求め、真状粒子と仮定したときの粒子径に換算することで測定できる。ＢＥＴ比表面積により平均粒子系が測定できない場合は、Ｘ線小角散乱法によって測定してもよい。
【０１２６】
コロイダルシリカの市販品としては、扶桑化学工業株式会社製「超高純度コロイダルシリカ」クォートロンＰＬシリーズ（品名：ＰＬ−１、ＰＬ−３、ＰＬ−７）、同社製「高純度オルガノゾル」や、日産化学工業株式会社製「コロイダルシリカ（品名：スノーテックス２０、スノーテックス３０、スノーテックス４０、スノーテックスＯ、スノーテックスＯ−４０、スノーテックスＣ、スノーテックスＮ、スノーテックスＳ、スノーテックス２０Ｌ、スノーテックスＯＬ等）」や「オルガノシリカゾル（品名：メタノールシリカゾル、ＭＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＭＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＭＳ、ＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＺＬ、ＩＰＡ−ＳＴ−ＵＰ、ＥＧ−ＳＴ、ＮＰＣ−ＳＴ−３０、ＭＥＫ−ＳＴ、ＭＥＫ−ＳＴ−ＭＳ、ＭＩＢＫ−ＳＴ、ＸＢＡ−ＳＴ、ＰＭＡ−ＳＴ、ＤＭＡＣ−ＳＴ、ＰＧＭ−ＳＴ等）」が挙げられる。
（Ｃ）成分として、コロイダルシリカを、１種単独で用いてもよく、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０１２７】
高分子材料には、上記成分以外に、必要に応じ、従来の高分子材料に用いられる公知の各種添加剤成分を含有させることができる。
必要に応じ含有させることのできる添加剤成分としては、例えば、分散安定剤、レベリング剤、重合開始剤、さらには潤滑性付与剤、酸化防止剤、硫化防止剤、金属腐食防止剤、防腐剤、ブルーイング剤、消泡剤（発泡防止剤）、光安定化剤、耐候性付与剤、着色剤、粘度調整剤、微粒子の分散剤（沈降防止剤）や微粒子表面活性の改質剤等を挙げることができる。
【０１２８】
（レベリング剤）
高分子材料には、得られる塗膜の平滑性、並びにコートの際のフロー性を向上させるために、レベリング剤を添加することができ、それらの添加剤として、シリコーン系レベリング剤、フッ素系レベリング剤、アクリル系レベリング剤、ビニル系レベリング剤、並びに、フッ素系とアクリル系が複合化されたレベリング剤等が挙げられる。全て、塗膜表面に働き、表面張力を低下させる。各々特徴があり、目的に応じて使用することができる。表面張力の低下能力は、シリコーン系とフッ素系が強いが、アクリル系とビニル系はリコートを行う場合、濡れ不良が生じにくく有利である。
【０１２９】
シリコーン系レベリング剤の具体例としては、ポリオキシアルキレンとポリジメチルシロキサンの共重合体等を用いることができる。シリコーン系レベリング剤の市販品としては、東レ・ダウコーニング株式会社製ＦＺ−２１１８、ＦＺ−７７、ＦＺ−２１６１等、信越化学工業株式会社製ＫＰ３２１、ＫＰ３２３、ＫＰ３２４、ＫＰ３２６、ＫＰ３４０、ＫＰ３４１等、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社製ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４１、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４５０、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４５３、ＴＳＦ４４６０等、ビックケミー・ジャパン株式会社製ＢＹＫ−３００、ＢＹＫ−３０２、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３２０、ＢＹＫ−３２５、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３３１、ＢＹＫ−３３３、ＢＹＫ−３３７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３４５、ＢＹＫ−３４６、ＢＹＫ−３４８、ＢＹＫ−３７７、ＢＹＫ−３７８、ＢＹＫ−ＵＶ３５００、ＢＹＫ−３５１０、ＢＹＫ−３５７０等のポリエーテル変性シリコーンオイル（ポリオキシアルキレン変性シリコーンオイル）等を挙げることができる。
【０１３０】
また、１５０℃以上の耐熱性が必要な場合は、ポリエステル変性やベンゼン環を有するアラルキル変性シリコーンオイルが適している。ポリエステル変性シリコーンオイルの市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製ＢＹＫ−３１０、ＢＹＫ−３１５、ＢＹＫ−３７０等、ベンゼン環を有するアラルキル変性シリコーンオイルの市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製ＢＹＫ−３２２、ＢＹＫ−３２３等が挙げられる。
【０１３１】
フッ素系レベリング剤としては、ポリオキシアルキレンとフルオロカーボンとの共重合体等を用いることができる。
フッ素系レベリング剤の市販品としては、ＤＩＣ株式会社製のＭＥＧＡＦＡＣシリーズ、住友スリーエム株式会社製のＦＣシリーズ等を挙げられる。
【０１３２】
アクリル系レベリング剤の市販品としては、ビックケミー・ジャパン株式会社製のＢＹＫ−３５０、ＢＹＫ−３５２、ＢＹＫ−３５４、ＢＹＫ−３５５、ＢＹＫ３５８Ｎ、ＢＹＫ−３６１Ｎ、ＢＹＫ−３８０Ｎ、ＢＹＫ−３８１、ＢＹＫ−３９２等、フッ素を導入したＢＹＫ−３４０等が挙げられる。
【０１３３】
このようなレベリング剤を配合することにより、塗膜の仕上がり外観が改善され、薄膜としても均一に塗布することができる。レベリング剤の使用量は、組成物全量に対して、好ましくは０．０１〜１０質量％、さらに好ましくは０．０２〜５質量％である。
【０１３４】
レベリング剤を配合する方法としては、組成物を調製する際に配合してもよいし、塗膜を形成する直前に組成物に配合してもよく、さらには組成物の調製と塗膜の形成直前の両方の段階で配合してもよい。
【０１３５】
（その他の特性）
本発明の熱線遮蔽部材を紫外可視近赤外（ＵＶ−Ｖｉｓ−ＮＩＲ）分光光度計で測定した際の光線透過率が、７００ｎｍ〜２，５００ｎｍの範囲（好ましくは７００〜１４００ｎｍの範囲）において２０％以下となる波長範囲が存在していることが、熱線遮蔽性能の効率を上げる点で好ましい。７００ｎｍ〜８３０ｎｍの領域はＪＩＳＺ８１２０では可視光と定義されるが、この領域の光はＪＩＳＲ３１０６に規格される可視光透過率を算出する際の重価係数が小さく、事実、人間の目にはほとんど感知できない。また、この領域の光は熱線遮蔽性能の指標であるＪＩＳＲ３１０６に規格される日射透過率やＩＳＯ１３８３７に規格される全日射透過エネルギー（Ｔｔｓ）算出における重価係数が比較的大きいため、８３０ｎｍ以降の赤外線だけでなく７００ｎｍ〜８３０ｎｍの領域の可視光も反射又は吸収することが好ましい。
【０１３６】
本発明の熱線遮蔽部材の可視光透過率としては、５０％以上が好ましく、６５％以上がより好ましく、７０％以上であることが特に好ましい。前記可視光透過率が、６０％未満であると、例えば、自動車用ガラスや建物用ガラスとして用いた時に、外部が見にくくなることがある。可視光透過率の上限は、用いる基材の可視光透過率に依存し、自ずと決まる。
【０１３７】
本発明の熱線遮蔽部材のヘイズは、２０％以下であることが好ましい。前記ヘイズが２０％を超えると、例えば、自動車用ガラスや建物用ガラスとして用いた時に外部が見にくくなる等、安全上好ましくない場合がある。
【０１３８】
本発明の熱線遮蔽部材は、熱線遮蔽を目的とするフィルム、合わせガラス、複層ガラス、ガラス用中間膜等を構成する部材として有用である。
【実施例】
【０１３９】
製造例１  赤外線反射層（Ｒ１層）形成用組成物の調製
［１］高分子材料含有組成物（Ｘ液）の調製
容積５０ｍＬのサンプル管に、有機高分子微粒子ＵＬＳ−１３８５ＭＧ（一方社油脂工業株式会社製、紫外線吸収骨格種：ベンゾトリアゾール系、水分散／固形分濃度３０質量％）０．８０ｇを仕込み５００ｒｐｍで撹拌しながら、１−メトキシ−２−プロパノール４．２５ｇ、水０．５０ｇ、酢酸０．５０ｇ、Ｍシリケート５１（多摩化学工業株式会社製、「テトラメトキシシランの部分縮合物（平均３〜５量体）であるポリアルコキシシラン」）（成分（Ｂ−２））０．４０ｇ、メチルトリメトキシシラン（成分（Ｂ−２）又は（Ｂ−３））１．５１ｇ、ジメトキシ−３−グリシドキシプロピルメチルシラン（成分（Ｂ−４））０．５５ｇ、２０質量％ｐ−トルエンスルホン酸メタノール液０．０５ｇの順に、それぞれ１分間かけて滴下した。引き続き、室温、５００ｒｐｍで６０分撹拌後、一日静置し、これをＸ１液とした。
【０１４０】
容積２０ｍＬのサンプル管に、３−イソシアナトプロピルトリエトキシシラン１．１０ｇ及び２−ブタノンオキシム（イソシアネート基のブロック化剤）０．３５ｇを仕込み、室温、５００ｒｐｍで１０分撹拌後、一日静置し、これをＸ２液とした。イソシアネート基がブロック化されたことについては、１３Ｃ−ＮＭＲでイソシアネート基のシグナルが消失することにより確認した。３−イソシアナトプロピルトリエトキシシランと２−ブタノンオキシムの配合量の合計をブロック化イソシアナトシラン化合物：（Ｂ−５）成分の量とした。
【０１４１】
冷却管を取り付けた２００ｍＬ三口フラスコに、Ｘ１液と撹拌子を入れ、５００ｒｐｍで撹拌しながら、これにＩＰＡ−ＳＴ−Ｌ（日産化学工業株式会社製（コロイダルシリカ、イソプロパノール分散、コロイダルシリカ濃度３０質量％、平均粒子径４０〜５０ｎｍ（メーカー公表値））６．５０ｇを５分間かけて滴下し、室温で６０分間撹拌した。続いて、窒素気流下、６００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。引き続き、Ｘ２液を加え、同条件にて８０℃で４時間撹拌後、室温で一晩静置した。
さらに、これに３−アミノプロピルトリメトキシシラン（成分（Ｂ−１））０．４０ｇを２分間かけて滴下した。室温で１０分撹拌後、さらに窒素気流下、７００ｒｐｍ、８０℃で３時間加熱した。引き続き１週間静置し、高分子材料含有組成物であるＸ液を得た。
【０１４２】
［２］金属網目構造（Ｂ）形成用組成物の調製
固形分濃度が０．５質量％となるように平均直径２５ｎｍ、長さ２３μｍの銀ナノワイヤ（Ｓｅａｓｈｅｌｌ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ社：Ｓｉｌｖｅｒ  Ｎａｎｏｗｉｒｅｓ  ＡｇＮＷ−２５）をイソプロピルアルコールに分散させ、銀ナノワイヤ分散液を調製した。高分子材料含有組成物であるＸ液にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）を加え固形分濃度が０．５質量％となるよう調製した溶液１０質量部に、銀ナノワイヤ分散液９０質量部を加え、室温で撹拌することで金属網目構造形成用の塗液を調製した。塗液に対し、超音波洗浄装置（ＳＨＡＲＰ株式会社：ＵＴ−６０６Ｈ）を用いて超音波処理することによって銀ナノワイヤを破断し、赤外線反射層（Ｒ１層）形成用組成物を得た。得られた塗液内の銀ナノワイヤの平均長さは１．６μｍであった。
【０１４３】
製造例２  赤外線反射層（コレステリック液晶層；Ｒ２層）形成用組成物の調製
反応性メソゲンＰＬＣ−８８０３（ＡＤＥＫＡ製）２．５ｇ、反応性キラル剤ＣＮＬ−７１５（ＡＤＥＫＡ製）１２５ｍｇ、光重合開始剤Ｎ−１９１９（ＡＤＥＫＡ製）８０ｍｇ、メチルエチルケトン５．０ｇを室温で混合し、赤外線反射層（Ｒ２層）形成用組成物を調製した。
【０１４４】
製造例３  赤外線吸収層（Ｗ層）形成用組成物の調製
セシウムタングステン複合酸化物分散液ＹＭＳ−０１Ａ−２（住友金属鉱山製、セシウムタングステン複合酸化物（Ｃｓ０．３３ＷＯ３）及び分散剤（ポリアルキレングリコール系分散剤）を含有、固形分濃度４０％、セシウムタングステン複合酸化物：分散剤（質量比）＝１００：６０）６ｇを１００℃に加熱して含有する溶剤を蒸発させ２．７ｇに濃縮した。そこに６ｇになるまで１−メトキシ−２−プロパノールを加え、サンドグラインダー（アイメックス株式会社製ＢＳＧ−０１型）を用いて均一になるまで撹拌混合し、Ｙ液を得た。高分子材料含有組成物であるＸ液６ｇに、Ｙ液６ｇを加えて撹拌混合し、赤外線吸収層（Ｗ層）形成用組成物を得た。
【０１４５】
実施例１
製造例３で調製した赤外線吸収層（Ｗ層）形成用組成物をバー＃６を用いてバーコーターでガラス基材に塗布した。室温で３分、その後、１００℃で１分乾燥させ、ガラス基材上にＷ層を形成した。Ｗ層の膜厚は４．３μｍであった。Ｗ層付ガラスのＷ層の上に、製造例１で調製した赤外線反射層（Ｒ１層）形成用組成物をバー＃６を用いてバーコーターでガラス基材に塗布した。室温で３分、その後、１００℃で１分乾燥させＲ１層を形成し、Ｒ１−Ｗ−ガラス積層部材を作製した。Ｒ１層の膜厚は約１００ｎｍであった。Ｒ１層の固形分中の銀ナノワイヤの割合は９０．０質量％、網目構造の平均線幅は１６１ｎｍ、面積率は３７％であった。
【０１４６】
実施例２及び３
実施例１において、表２に示す通りの積層構成に変更した以外は、同様にしてＲ１−ガラス−Ｗ積層部材、ガラス−Ｒ１−Ｗ積層部材をそれぞれ作製した。
【０１４７】
実施例４
実施例１で得られたＲ１−Ｗ−ガラス積層部材に対し、Ｒ１層の上に、製造例２で調製した赤外線反射層（Ｒ２層）用塗液をバー＃８を用いてバーコーターでガラス基材に塗布した。室温で３０秒間乾燥した後、１００℃で３分間加熱することによってコレステリック液晶層とした。基板温度を室温まで下げた後、コンベア型ＵＶ照射装置ＥＣＳ−１５１１Ｕ（アイグラフィックス株式会社製）を用い、Ｒ２層に対して５００ｍＪ／ｃｍ２のＵＶを照射してコレステリック液晶を硬化させ、Ｒ２−Ｒ１−Ｗ−ガラス複層部材を作製した。Ｒ２層の膜厚は６．４μｍであった。
【０１４８】
比較例１〜４
実施例１において、表２に示す通りの積層構成に変更した以外は、同様にしてＷ−Ｒ１−ガラス積層部材、Ｗ−ガラス−Ｒ１積層部材、ガラス−Ｗ−Ｒ１積層部材、Ｗ−Ｒ２−Ｒ１−ガラス積層部材をそれぞれ作製した。
【０１４９】
（可視光透過率、日射取得率の測定）
紫外可視分光光度計（日本分光株式会社製  Ｖ−５７０）に積分球ユニット（日本分光株式会社製  ＩＳＮ−７２３）を取り付けて、標準白板（Ｌａｂｓｈａｒｅ社製）をリファレンスにして可視光から赤外光領域の透過率（％）と反射率（％）を測定した。ＪＩＳＲ３１０６に準拠し測定値から可視光透過率（％）及び日射熱取得率（η値）を算出した。
【０１５０】
【表１】
2016184052.tif 000005
【符号の説明】
【０１５１】
１  基材
２  赤外線吸収層
３  赤外線反射層
１０  光源
【図１】
2016184052.tif 000006
【図２】
2016184052.tif 000007
【図３】
2016184052.tif 000008
【図４】
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