(57)【要約】【課題】本発明は、波長平坦性に優れた減光フィルタを提供する。【解決手段】減光フィルタ（１００）は、光学基板（１１０）と、光学基板の表面に形成される光吸収膜（１２０）と、を有し、光吸収膜が、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が大きくなる第１光吸収膜（１２２、１２６）と、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が小さくなる第２光吸収膜（１２４）と、を含む。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学基板と、前記光学基板の表面に形成される光吸収膜と、を有し、
前記光吸収膜が、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が大きくなる第１光吸収膜と、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が小さくなる第２光吸収膜と、を含む減光フィルタ。
【請求項２】
前記第１光吸収膜はチタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、又はニッケル（Ｎｉ）の薄膜であり、前記第２光吸収膜はシリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、又は酸化チタン（ＴｉＯ２）の薄膜である請求項１に記載の減光フィルタ。
【請求項３】
前記光学基板、前記第１光吸収膜、及び前記第２光吸収膜の間には二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜が形成される請求項１又は請求項２に記載の減光フィルタ。
【請求項４】
前記光吸収膜は、最表面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜を有する請求項１から請求項３のいずれか一項に記載の減光フィルタ。
【請求項５】
前記光吸収膜は前記光学基板上に形成される第１層から前記光吸収膜の最表面に形成される第６層までの６つの層を順番に積層することにより形成され、
前記第１層、第３層、及び前記第６層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜であり、第２層及び第５層が前記第１光吸収膜であり、第４層が前記第２光吸収膜であり、
前記第２層と前記第５層との膜厚が異なり、
４００ｎｍから８００ｎｍの間の波長の光に対して、反射率が０．４％以下、及び透過率の波長平坦性が０．５％以下である請求項１又は請求項２に記載の減光フィルタ。
【請求項６】
前記光吸収膜は、さらに前記第４層と前記第５層との間に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜が形成され、前記第６層の表面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜が形成される請求項５に記載の減光フィルタ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、透過率の波長平坦性に優れた減光フィルタに関する。
【背景技術】
【０００２】
カメラ等の撮影機器では、光量を減衰させる場合に減光（Ｎｅｕｔｒａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）フィルタが使用される。このような減光フィルタは、特に可視光領域において均等に光を減衰することが望まれている。そのため、減光フィルタには可視光領域において透過率の変動が少ないこと、すなわち、可視光領域の透過率の高い波長平坦性が求められている。
【０００３】
例えば、特許文献１では、可視光領域（波長４００〜８００ｎｍ）における透過率の波長平坦性が数％である減光フィルタが示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−５８８５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、特許文献１に示される数％の波長平坦性ではまだ不十分であり、さらに高い波長平坦性を有する減光フィルタが望まれている。
【０００６】
本発明は、透過率の波長平坦性に優れた減光フィルタを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
第１観点の減光フィルタは、光学基板と、光学基板の表面に形成される光吸収膜と、を有し、光吸収膜が、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が大きくなる第１光吸収膜と、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が小さくなる第２光吸収膜と、を含む。
【０００８】
第２観点の減光フィルタは、第１観点において、第１光吸収膜がチタン（Ｔｉ）、窒化チタン（ＴｉＮ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、又はニッケル（Ｎｉ）の薄膜であり、第２光吸収膜がシリコン（Ｓｉ）、ゲルマニウム（Ｇｅ）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、又は酸化チタン（ＴｉＯ２）の薄膜である。
【０００９】
第３観点の減光フィルタは、第１観点及び第２観点において、光学基板、第１光吸収膜、及び第２光吸収膜の間に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜が形成される。
【００１０】
第４観点の減光フィルタは、第１観点から第３観点において、光吸収膜が、最表面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜を有する。
【００１１】
第５観点の減光フィルタは、第１観点又は第２観点において、光吸収膜が光学基板上に形成される第１層から光吸収膜の最表面に形成される第６層までの６つの層を順番に積層することにより形成され、第１層、第３層、及び第６層が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜であり、第２層及び第５層が第１光吸収膜であり、第４層が第２光吸収膜であり、第２層と第５層との膜厚が異なり、４００ｎｍから８００ｎｍの間の波長の光に対して、反射率が０．４％以下、及び透過率の波長平坦性が０．５％以下である。
【００１２】
第６観点の減光フィルタは、第５観点において、光吸収膜が、さらに第４層と第５層との間に二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜が形成され、第６層の表面にフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）膜が形成される。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の減光フィルタによれば、透過率の波長平坦性を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】（ａ）は、減光フィルタ１００の上面図である。  （ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。
【図２】所定の光学濃度における光吸収膜１２０の各層の膜厚を示した表である。
【図３】（ａ）は、減光フィルタ１００の各ＯＤ値における波長と透過率との関係を示す図である。  （ｂ）は、減光フィルタ１００の各ＯＤ値における波長と反射率との関係を示す図である。
【図４】（ａ）は、チタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）、及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の波長と消衰係数との関係が示されたグラフである。  （ｂ）は、各光学濃度における波長と（ｋ１・Ｘ１）＋（ｋ２・Ｘ２）の値との関係を示した図である。
【図５】（ａ）は、チタン（Ｔｉ）の透過率と膜厚との関係を示した図である。  （ｂ）は、シリコン（Ｓｉ）の透過率と膜厚との関係を示した図である。
【図６】チタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）、及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の波長と屈折率との関係が示されたグラフである。
【図７】（ａ）は、複数の物質の波長に対する消衰係数の変化を示した図である。  （ｂ）は、複数の物質の波長に対する屈折率の変化を示した図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の好適な実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。なお、本発明の範囲は以下の説明において特に本発明を限定する旨の記載がない限り、これらの形態に限られるものではない。
【００１６】
（第１実施形体）
＜減光フィルタ１００の構成＞
図１（ａ）は、減光フィルタ１００の上面図である。減光フィルタ１００は、基板１１０上に光吸収膜１２０が形成されている。基板１１０は、例えばガラスにより形成される。光吸収膜１２０は基板１１０上に形成された膜である。図１（ａ）では、基板１１０の長辺が伸びる方向をＸ軸方向、短辺が伸びる方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向をＺ軸方向として示している。
【００１７】
図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ断面図である。光吸収膜１２０は、基板１１０の＋Ｚ軸側の面に形成されている。光吸収膜１２０は、例えば基板１１０の表面に形成される第１層１２１から第８層１２８までの８つの層により形成されている。減光フィルタ１００は、＋Ｚ軸側の面から光を入射させ、減光フィルタ１００を透過させて−Ｚ軸側の面から透過光を射出させることにより用いられる。
【００１８】
光吸収膜１２０は、基板１１０の＋Ｚ軸側の面に形成される第１層１２１、第１層１２１の表面に形成される第２層１２２、第２層１２２の表面に形成される第３層１２３、第３層１２３の表面に形成される第４層１２４、第４層１２４の表面に形成される第５層１２５、第５層１２５の表面に形成される第６層１２６、第６層１２６の表面に形成される第７層１２７、及び第７層１２７の表面に形成される第８層１２８の８つの層により形成されている。
【００１９】
図２は、所定の光学濃度における光吸収膜１２０の各層の膜厚を示した表である。縦列には基板１１０、光吸収膜１２０の第１層１２１から第８層１２８、及び各層を構成する材料が示されており、横列には光学濃度（ＯＤ値）が示されている。ＯＤ値としては、０．３、０．６、０．９、１．２、１．５、１．８、２．１、及び２．４が示されている。図２に示される各層の配置及び膜厚は、図２に示される各ＯＤ値において減光フィルタ１００の可視光領域の透過率の波長平坦性が±０．５％以下、反射率が０．４％以下になるように調整されたものである。ここで、可視光領域の透過率の波長平坦性とは可視光領域の透過率の平均値を基準とした透過率の変化する範囲を表したものである。また、可視光領域は入射光の波長が４００ｎｍから８００ｎｍの間としている。図２に示された膜厚は、透過率の波長平坦性が±０．５％以下、反射率が０．４％以下となる一条件を計算で導いたものであるが、適した条件はこれらの条件に限られない。
【００２０】
光学濃度は光の透過量を表す指標となるものであり、ＯＤ（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｎｓｉｔｙ）値で表される。ＯＤ値は、透過率をＴとすると以下の式（１）で表される。
ＯＤ＝−Ｌｏｇ１０Ｔ・・・・・（１）
ここで、透過率Ｔは入射光の強度ＩＯ及び透過光の強度ＩとするとＴ＝Ｉ／ＩＯとなる。式（１）によれば、例えば、ＯＤ値が１．０の場合には透過率Ｔが１／１０になり、ＯＤ値が２．０の場合には透過率Ｔが１／１００になる。すなわち、ＯＤ値が大きくなるに従って、透過率Ｔが低くなる。
【００２１】
また、可視光領域の透過率の波長平坦性を±０．５％以下としているのは、このような高い波長平坦性が求められるためである。例えば、白色であり、青：赤：緑＝１００：１００：１００の割合の入射光を透過率が５０％である減光フィルタで減光する場合、減光フィルタの波長平坦性が０．５％を超えると減光フィルタの透過光は青：赤：緑＝５０：５０：４９となる場合がある。このような透過光はセンサで紫色と認識される。一方、波長平坦性が０．５％以下の減光フィルタを用いた場合には、透過光は青：赤：緑＝５０：５０：４９．７５となる。このような透過光の緑はセンサで５０と認識されるため、透過光全体が白色と認識され、センサで正しく光の色が認識される。即ち、波長平坦性によりセンサで検出される光の色が変わってしまうため、減光フィルタには透過率の波長平坦性が±０．５％以下となるような高い波長平坦性が求められる。この例ではセンサの感度によって結果が変わるが、透過率の波長平坦性が±０．５％以下であることは一つの目安となりうる。また、この例は、センサの感度が高くなるに従って高い波長平坦性が求められることを示している。波長平坦性が±０．５％以下である減光フィルタは、高感度のセンサを有する映画撮影用のカメラ等でも光の色を正しく判断することができる。
【００２２】
図３（ａ）は、減光フィルタ１００の各ＯＤ値における波長と透過率との関係を示す図である。図３（ａ）には、横軸に入射光の波長が示され、縦軸に透過率が示されており、図２で示された各ＯＤ値における透過率の計算結果が示されている。図３（ａ）に示されるように、減光フィルタ１００では各ＯＤ値において高い波長平坦性を有し、その波長平坦性の範囲は±０．５％内となっている。減光フィルタでは需要者の要望に応じて様々なＯＤ値に形成されるが、減光フィルタ１００では図３（ａ）に示されるように±０．５％の範囲内の波長平坦性を保った状態で様々なＯＤ値に形成することができる。
【００２３】
図３（ｂ）は、減光フィルタ１００の各ＯＤ値における波長と反射率との関係を示す図である。図３（ｂ）では、横軸に波長が示され、縦軸に反射率が示されており、図２で示された各ＯＤ値における反射率の計算結果が示されている。図３（ｂ）に示されるように、減光フィルタ１００ではどのＯＤ値においても、０．４％以下の低い反射率を保つことができる。
【００２４】
図２に戻って、光吸収膜１２０は、第１層１２１、第３層１２３、第５層１２５、及び第７層１２７が二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）により構成され、第２層１２２及び第６層１２６がチタン（Ｔｉ）により構成され、第４層１２４がシリコン（Ｓｉ）により構成され、第８層１２８がフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）により構成されている。これらの膜は、例えば、スパッタリング、真空蒸着等の物理的方法、又は化学的方法により形成される。
【００２５】
図３（ａ）に示されるような減光フィルタ１００の可視光領域の透過率の波長平坦性は、主に第２層１２２、第４層１２４、及び第６層１２６により形成される。また、図３（ｂ）に示されるような低い反射率は、主に第１層１２１、第３層１２３、第５層１２７、第７層１２７、及び第８層１２８により調整される。
【００２６】
＜減光フィルタ１００の透過率＞
減光フィルタ１００では、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が大きくなる第１光吸収材料と、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が小さくなる第２光吸収材料と、を含み、第１光吸収材料により形成される第１光吸収膜と第２光吸収材料により形成される第２光吸収膜との膜厚を調整することにより透過率の波長平坦性が調整されている。
【００２７】
ここで消衰係数とは、どの程度の光が吸収されるかを示す値であり、以下の式（２）のｋにより表される。
Ｉ／Ｉｏ＝ｅｘｐ（−４πｋＸ／λ）・・・・・（２）
式（２）は光の物質による吸収を示すランベルト・ベールの法則を示した式であり、Ｉｏは物質に入射する入射光の強度、Ｉは物質から出る透過光の強度、Ｘは物質中で光が進む距離、λは光の波長を示している。
【００２８】
図４（ａ）は、チタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）、及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の波長と消衰係数との関係が示されたグラフである。横軸には入射光の波長が示され、縦軸に消衰係数が示されている。チタン（Ｔｉ）は入射光の波長が大きくなるに従って消衰係数が大きくなる。また、シリコン（Ｓｉ）は入射光の波長が大きくなるに従って消衰係数が小さくなる。従って、チタン（Ｔｉ）は第１光吸収材料に相当し、シリコン（Ｓｉ）は第２光吸収材料に相当する。また、チタン（Ｔｉ）により形成される第２層１２２及び第６層１２６は第１光吸収膜に相当し、シリコン（Ｓｉ）により形成される第４層１２４は第２光吸収膜に相当する。二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の消衰係数はほぼ０であるため第１光吸収材料又は第２光吸収材料のどちらでもない。減光フィルタ１００では、波長平坦性がほぼ第１光吸収膜及び第２光吸収膜により得られるため、以下の透過率の説明では二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の影響を除外して考える。
【００２９】
図４（ｂ）は、各光学濃度における波長と（ｋ１・Ｘ１）＋（ｋ２・Ｘ２）の値との関係を示した図である。ｋ１、Ｘ１は第１光吸収膜の消衰係数、膜厚であり、ｋ２、Ｘ２は第２光吸収膜の消衰係数、膜厚である。第１光吸収膜及び第２光吸収膜は、各膜が複数層形成されている場合には、膜厚はその合計の値として計算される。図４（ｂ）に示されている光学濃度（ＯＤ）としては、０．３、０．６、０．９、１．２、１．５、１．８、２．１、及び２．４が示されている。
【００３０】
減光フィルタ１００における透過率の波長平坦性の調整は、例えば、（ｋ１・Ｘ１）＋（ｋ２・Ｘ２）の値が所定の範囲内に収まるように調整することにより行うことができる。減光フィルタ１００では、図４（ｂ）に示される各光学濃度において、可視光領域の（ｋ１・Ｘ１）＋（ｋ２・Ｘ２）が、可視光領域の（ｋ１・Ｘ１）＋（ｋ２・Ｘ２）の最大値と最小値との中間の値に対して±２０％の範囲内に収まっている。
【００３１】
図５（ａ）は、チタン（Ｔｉ）の透過率と膜厚との関係を示した図である。図５（ａ）では、第１光吸収材料としてのチタン（Ｔｉ）の膜厚Ｘ１を１ｎｍ、５ｎｍ、１０ｎｍ、２０ｎｍ、４０ｎｍ、６０ｎｍとした場合の透過率変化が示されている。チタン（Ｔｉ）の透過率は、どの膜厚においても、入射光の波長が長くなるに従って低くなる傾向にある。
【００３２】
図５（ｂ）は、シリコン（Ｓｉ）の透過率と膜厚との関係を示した図である。図５（ｂ）では、第２光吸収材料としてのシリコン（Ｓｉ）の膜厚Ｘ２を１ｎｍ、５ｎｍ、１０ｎｍ、２０ｎｍ、４０ｎｍ、６０ｎｍとした場合の透過率変化が示されている。所定の膜厚におけるシリコン（Ｓｉ）の透過率は、入射光の波長が短くなるに従って低くなる傾向にある。また、膜厚が厚くなるに従って長波長側と短波長側の透過率の差が大きくなる傾向にある。
【００３３】
図５（ａ）及び図５（ｂ）に示されるように、物質の透過率は膜厚及び入射光の波長に応じて変化する。その為、一種類の物質のみを用いて、又は波長に対して透過率が正の傾き又は負の傾きを有する物質のみを組み合わせて減光フィルタの透過率の波長平坦性を高めることは困難である。また、式（２）に示されるように、透過率Ｔ（＝Ｉ／Ｉｏ）と消衰係数ｋとの間には、消衰係数ｋが大きくなる場合には透過率Ｔが小さくなり、消衰係数ｋが小さくなる場合には透過率Ｔが大きくなるという相関関係がある。すなわち、図４（ａ）に示される消衰係数の傾向と図５（ａ）及び図５（ｂ）に示される透過率の傾向とは、互いに負の相関を有する。そのため、消衰係数が波長に対して同様の変化傾向を有する物質のみを用いて減光フィルタの透過率の波長平坦性を高めることは困難である。
【００３４】
減光フィルタ１００は、第１光吸収材料及び第２光吸収材料という波長の変化に対して透過率が正の傾き及び負の傾きで変化する物質を組み合わせて形成されることにより、減光フィルタの透過率の波長平坦性を高めるように調整することが容易であり、図３（ａ）に示されるように高い精度で透過率の波長平坦性を調整することができる。
【００３５】
＜減光フィルタ１００の反射率＞
図６は、チタン（Ｔｉ）、シリコン（Ｓｉ）、及び二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の波長と屈折率との関係が示されたグラフである。横軸には入射光の波長が示され、縦軸に屈折率が示されている。チタン（Ｔｉ）及びシリコン（Ｓｉ）の屈折率は高く、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の屈折率は低い。また、図６には示されていないが、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）の屈折率は、５５０ｎｍの波長の光に対して約１．３８であり、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）と同様に屈折率が低い。
【００３６】
減光フィルタでは高屈折率の層と低屈折率の層とを組み合わせることにより反射率の低減が図られるが、減光フィルタ１００では、チタン（Ｔｉ）及びシリコン（Ｓｉ）の層を高屈折率層として、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の層を低屈折率層として用いることにより反射率の低減が図られている。すなわち、第１層１２１、第３層１２３、第５層１２７、及び第７層１２７の二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜が第２層１２２、第４層１２４、及び第６層１２６の各層を挟むように形成されることにより、第２層１２２、第４層１２４、及び第６層１２６の各層における反射を防止している。また、減光フィルタ１００では、第１層１２１の二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の膜が減光フィルタ１００の−Ｚ軸側から入射する入射光の反射を防止し、第８層１２８のフッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）の膜が減光フィルタ１００の＋Ｚ軸側から入射する入射光の反射を防止する。さらに、第１光吸収膜を異なる厚さの２つの層に分け、反射光の干渉効果を利用することにより全体の反射率が低く抑えられている。減光フィルタには低反射率であることが求められており、低反射率の目安の値として現在は０．４％以下という値が用いられているが、減光フィルタ１００では、このような構成により反射率を０．４％以下に抑えることができる。減光フィルタ１００では、基本的には図１（ｂ）に示されるような８つの層により光学吸収膜１２０が形成されるが、反射率を０．４％以下に抑えることができる場合には図２に示されるように光学濃度によって７つの層又は６つの層となる場合がある。
【００３７】
以上により、減光フィルタ１００では、０．４％以下の低い反射率及び０．５％以下の高い波長平坦性を有するように形成されている。また、減光フィルタ１００の成膜構成は、基板１１０の片面に８層のみというシンプルな構造であるため製造が容易である。さらに、成膜構成を変えずに各層の膜厚を調整するだけで様々な光学濃度にすることができるため、各光学濃度の減光フィルタを効率よく生産することができる。
【００３８】
（第２実施形体）
第１光吸収膜又は第２光吸収膜には、チタン（Ｔｉ）又はシリコン（Ｓｉ）以外の物質が用いられても良い。以下に、チタン（Ｔｉ）又はシリコン（Ｓｉ）以外の物質が用いられた例を説明する。
【００３９】
図７（ａ）は、複数の物質の波長に対する消衰係数の変化を示した図である。図７（ａ）より、物質は主に、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が大きくなる第１光吸収膜と、透過する光の波長が大きくなるに従って消衰係数が小さくなる第２光吸収膜と、に分けることができることが分かる。図７（ａ）では、窒化チタン（ＴｉＮ）、モリブデン（Ｍｏ）、ニオブ（Ｎｂ）、タンタル（Ｔａ）、クロム（Ｃｒ）、又はニッケル（Ｎｉ）が第１光吸収材料に相当する。これらの物質は、減光フィルタ１００においてチタン（Ｔｉ）の代わりに用いることができる。また、図７（ａ）では、ゲルマニウム（Ｇｅ）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、又は酸化チタン（ＴｉＯ２）が第２光吸収材料に相当する。これらの物質は、減光フィルタ１００においてシリコン（Ｓｉ）の代わりに用いることができる。
【００４０】
図７（ｂ）は、複数の物質の波長に対する屈折率の変化を示した図である。図７（ｂ）に示される各物質を、第１実施形態の減光フィルタ１００におけるチタン（Ｔｉ）及びシリコン（Ｓｉ）の高屈折率層、二酸化ケイ素（ＳｉＯ２）の低屈折率層に代えて用いることで低反射率の減光フィルタを作製することも可能である。但し、これらの物質を用いる場合においても、第１実施形態の減光フィルタ１００と同様に、物質の屈折率、膜厚及び各物質の組み合わせ等を考慮して、波長に対する透過率、反射率の変動を小さく抑えることを考慮する必要がある。
【００４１】
減光フィルタでは、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示される物質を組み合わせて使用しても、４００ｎｍから８００ｎｍの間の波長の光に対して、反射率が０．４％以下、及び透過率の波長平坦性が０．５％以下の条件に合わせることができる。
【００４２】
減光フィルタには、図７（ａ）及び図７（ｂ）に示される窒化チタン（ＴｉＮ）、一酸化ケイ素（ＳｉＯ）、及び酸化チタン（ＴｉＯ２）のように複数の元素から成る物質を第１光吸収膜及び第２光吸収膜に用いることができる。また、図７（ａ）及び図７（ｂ）には示されていないが、複数の金属元素から成る合金が用いられても良い。
【００４３】
一方、合金等が用いられる場合には、合金を構成する各金属の融点の違い等により合金の組成比が意図したものからずれてしまい、設計された合金の光学特性とは異なる特性を示す場合がある。図７（ａ）及び図７（ｂ）に示されるような単一金属元素を使用した場合には、合金の場合のような元素の組成比のずれにより光学特性の変化を起こすような問題を防ぐことができるため好ましい。
【００４４】
また、減光フィルタ１００では第１光吸収膜としてチタン（Ｔｉ）、第２光吸収膜としてシリコン（Ｓｉ）の計２種類の金属膜が用いられているが、更に多くの種類の物質が用いられても良い。例えば、図２に示される減光フィルタ１００において、シリコン（Ｓｉ）に代えてゲルマニウム（Ｇｅ）を用いることができるが、図７（ａ）に示されるように、ゲルマニウム（Ｇｅ）の消衰係数は約４００〜５００ｎｍの間で正の傾きを有し、この範囲でチタン（Ｔｉ）と同様の傾きになるため減光フィルタの波長平坦性の調整が困難になりうる。そのため、例えば、この範囲で負の傾きを有するタンタル（Ｔａ）又は一酸化ケイ素（ＳｉＯ）等をさらに用い、屈折率、消衰係数、膜厚等の組み合わせの条件等を考慮することにより、波長平坦性の調整をすることができる場合がある。
【００４５】
以上、本発明の最適な実施形態について詳細に説明したが、当業者に明らかなように、本発明はその技術的範囲内において実施形態に様々な変更・変形を加えて実施することができる。
【符号の説明】
【００４６】
１００  …  減光フィルタ
１１０  …  基板
１２０  …  光吸収膜
１２１  …  第１層
１２２  …  第２層
１２３  …  第３層
１２４  …  第４層
１２５  …  第５層
１２６  …  第６層
１２７  …  第７層
１２８  …  第８層
【図１】
2016053610.tif 000003
【図２】
2016053610.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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