(57)【要約】      （修正有）【課題】基材表面の耐腐食性の向上をはかる被膜を形成する化学気相蒸着法の提供。【解決手段】基材１０１を化学気相蒸着チャンバ１０３内に配置して、有機シランやジメチルシラン、シランを含む蒸着ガス１１３を蒸着ガスの熱分解温度を下回る温度で化学気相蒸着チャンバ１０３に装填し、そのうえでチャンバ１０３をそれら蒸着ガス１１３の熱分解温度か、それを上回る温度まで加熱して、0.01〜200psiaの圧力範囲内で化学気相蒸着を行いシリコンを含有する耐腐食性被膜を形成する化学気相蒸着方法。【選択図】図１
2016053217.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
化学気相蒸着方法であって
化学気相蒸着チャンバ内に物品を配置すること、次に
蒸着ガスの熱分解温度を下回る熱分解未満温度において蒸着ガスを化学気相蒸着チャンバへ導入すること、次に、
蒸着ガスの熱分解温度に等しいかまたはそれを上回る熱分解以上温度にチャンバを加熱して、物品の少なくとも表面に、蒸着ガスの導入による被膜蒸着を生じせしめること
を含み、 
ここで化学気相蒸着方法は、0.01〜200 psiaの圧力範囲内に収まる、
上記の方法。
【請求項２】
蒸着ガスが有機シランを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
蒸着ガスがジメチルシランを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
蒸着ガスがシランガスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
配置と導入との間に化学気相蒸着チャンバのパージ及び排気を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
熱分解未満温度が100〜450℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
熱分解未満温度が100〜300℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
チャンバを加熱することが、熱分解未満温度から熱分解以上温度へ6〜10℃/分の加熱速度で加熱することである、請求項１に記載の方法。 
【請求項９】
熱分解温度が440〜460℃である、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
熱分解以上温度が440℃を超える、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
蒸着ガスの導入の間、化学気相蒸着チャンバに触媒が実質的に含まれていない、請求項１に記載の方法。
【請求項１２】
蒸着ガスの導入の間、化学気相蒸着チャンバに触媒が含まれていない、請求項１に記載の方法。 
【請求項１３】
表面がステンレス鋼表面である、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
表面がニッケル基合金である、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
300〜350℃の酸化温度において蒸着被膜を酸化して酸化皮膜を形成することをさらに含む、請求項１に記載の方法。 
【請求項１６】
400〜500℃の官能化温度において、蒸着被膜にトリメチルシランを導入することによって酸化皮膜を官能化することをさらに含む、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
蒸着被膜が15%のNaClOに晒されたとき、熱分解未満温度において蒸着ガスを導入すること無く同じ方法で適用された被膜の腐食率と比較して、少なくとも5%高い率で腐食に抵抗する、請求項１に記載の方法。
【請求項１８】
蒸着被膜が0〜3ミル/年の15%のNaClOによる腐食率を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
化学気相蒸着方法であって、
化学気相蒸着チャンバ内に物品を配置すること、次に、 
触媒の非存在下において、ジメチルシランの熱分解温度を下回る熱分解未満温度でジメチルシランを化学気相蒸着チャンバへ導入すること、そして次に、 
ジメチルシランの熱分解温度に等しいかそれを上回る熱分解以上温度にチャンバを加熱して、物品の少なくともステンレス鋼表面上に、蒸着ガスの導入による蒸着皮膜を生じせしめること
を含む方法。 
【請求項２０】
腐食しやすい基板、及び
基板上の、シリコンを含む蒸着被膜
を含む被覆物品であって、下記のいずれかひとつ、または両方である被覆物品：
（ｉ）蒸着被膜を有する基板が、15%のNaClOに晒されたとき、熱分解未満温度において蒸着ガスを導入すること無く同じ方法で適用された被膜の腐食率と比較して、少なくとも5%高い率で腐食に抵抗する、及び
（ｉｉ）蒸着皮膜を有する基板が、0〜3ミル/年の15%NaClOによる腐食率を有する。
【発明の詳細な説明】
【関連出願】
【０００１】
［優先権］
[0001]本出願は、2014年9月3日に出願された「化学気相蒸着方法と被覆物品）」という名称の米国仮特許出願第62/045,168の優先権と利益を主張するものであり、その全体が参照によってここに組み込まれる。
【技術分野】
【０００２】
[0002]本件開発は化学気相蒸着方法に関するものである。より具体的にいえば、本件開発は、蒸着が少なくとも蒸着ガスの熱分解温度を下回る温度で開始される化学気相蒸着方法と、かかる方法により被覆される物品に関するものである。
【背景技術】
【０００３】
[0003]基板の表面は、期待される性能特性を備えていないことが多い。期待される一定の性能特性を備えていないと、結果として特定の環境下で表面劣化が発生したり、特定の性能要求事項を満たすことができなかったりするおそれがある。あるいは、その両方が生じるおそれもある。例えば、特定の環境下では、金属、ガラス、およびセラミックの表面は、摩耗、化学吸着、触媒作用、腐食、酸化、副生成物の蓄積・吸着、および（または）そのほかの望ましくない表面活性にさらされることがある。
【０００４】
[0004]望ましくない表面活性は、異分子の化学吸着、異分子の可逆的および不可逆的な物理吸着、異分子との触媒反応性、異物による破壊的な作用、表面分子の破壊、基板の物理的損害を引き起こすおそれがある。またこれらを複数引き起こすおそれがある。
【０００５】
[0005]期待される一定の性能特性を実現するため、水素化ケイ素表面と不飽和炭化水素試薬を、金属触媒の存在下で反応させることができる。この方法では、処理済み系から触媒を完全に除去することが困難である場合が多く、この触媒の存在によって望ましくない表面活性が再び発生しうるという欠点がある。アモルファスシリコンベースの化学気相蒸着材料はまた、腐食性の高ｐＨ媒体による溶解に対して感受性が高いため、かかる環境での使用が制限される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
[0006]化学気相蒸着は、蒸着剤をその熱分解温度を上回る温度で蒸着させることにより、よりよい性能特性をもつ被膜を生成するため、使用されてきた。しかしながら、さらなる改善が望まれている。
【０００７】
[0007]先行技術と比較して、ひとつ以上の改善を示す化学気相蒸着方法と該被覆物品が、当該技術分野において待望されている。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
［発明の簡単な説明］
[0008]あるひとつの実施形態においては、物品を化学気相蒸着チャンバ内に配置し、しかるのち蒸着ガスを蒸着ガスの熱分解温度を下回る熱分解未満温度で化学気相蒸着チャンバに装填し、そのうえチャンバを蒸着ガスの熱分解温度と同じかそれ以上の熱分解以上温度まで加熱する。化学気相蒸着方法には、蒸着ガスの装填から、物品の少なくとも表面に被膜を蒸着することまでが含まれる。化学気相蒸着方法は、0.01〜200 psiaの圧力範囲内に収まる。
【０００９】
[0009]もうひとつの実施形態においては、物品を化学気相蒸着チャンバ内に配置し、しかるのちジメチルシランを、触媒がない場合のジメチルシランの熱分解温度より低い熱分解未満温度で化学気相蒸着チャンバに装填し、そのうえでチャンバをジメチルシランの熱分解温度と同じかそれ以上の熱分解以上温度まで加熱する。化学気相蒸着方法には、蒸着ガスの装填から、物品の少なくともステンレス鋼表面に被膜が蒸着するところまでが含まれる。
【００１０】
[0010]もうひとつの実施形態においては、該被覆物品は、腐食しやすい基板のうえに、つぎのような蒸着被膜をもつ。蒸着被膜はシリコンを含む。また熱分解温度を下回る温度での蒸着ガスの装填を除いた同方法により塗布された被膜の腐食率よりも少なくとも5%高い耐腐食率を、15%NaClOに対して示す蒸着被膜。15%NaClOに対して0〜3ミル/年の腐食率を示す蒸着被膜。以上のいずれか、または両方が含まれる。
【００１１】
[0011]本件開発のそのほかの特徴および利点は、以下の、本発明の原理を例示する添付図面を取り入れた、より詳細な説明によって明白になるであろう。 
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】[0012]図1は、本件開発の実施形態にもとづいたもので、該被膜製品形成を目的とした化学気相蒸着方法中の化学気相蒸着チャンバの概略斜視図である。
【図２】[0013]図2は、本開示の実施形態にもとづいたもので、さまざまな温度による蒸着で形成されたのち、15%のNaClOに晒された該被膜製品の腐食データのプロットを示すものである。
【図３】[0014]図3は、本開示の実施形態にもとづいたもので、さまざまな温度による蒸着で形成されたのち、6 mol/LのHClに晒された該被膜製品の腐食データのプロットを示すものである。
【図４】[0015]図4は、本開示の実施形態にもとづいたもので、蒸着ガスの熱分解温度を下回る温度で装填された蒸着ガスの化学気相蒸着で形成された該被膜製品の、最大8日間の電気化学インピーダンス分光法のプロットを示すものである。
【図５】[0016]図5は、本開示の実施形態にもとづいたもので、蒸着ガスの熱分解温度と同じまたはそれを上回る温度で装填された蒸着ガスでの化学気相蒸着で形成された該被膜製品の、最大8日間の電気化学インピーダンス分光法のプロットを示すものである。
【００１３】
[0017]すべての図面をとおして、同一の部品にはできるかぎり同一の参照番号を使用している。
［発明の詳細な説明］
[0018]化学気相蒸着方法および当該方法により被膜された物品が提供される。本開示の形態により、例えばここに開示される特徴のひとつまたは複数を含んでいないコンセプトと比較して、塩水内でのインピーダンス劣化の減少、腐食の減少、被膜密度の増加、本明細書中の開示により明らかになるほかの適当な特徴と利点、より多様な（例えばより酸化しやすい、あるいは熱の影響を受けやすい）素材の使用、水素脆化対策、硫黄不活性の強化、誘電特性の強化（例えば線形または実質的線形の分極化フィールドをもつ）、摩耗耐性の強化、あるいはこれらの複合利用が可能になる。
【００１４】
[0019]参照図1のとおり、ひとつの実施形態においては、化学気相蒸着方法100に、物品 101を化学気相蒸着チャンバ103内に配置すること（ステップ102）、しかるのち化学気相蒸着チャンバ103を作動させること（ステップ104）が含まれる。化学気相蒸着チャンバ103の動作には、化学気相蒸着チャンバ103のパージ、容器／シリンダー107から化学気相蒸着チャンバ103への蒸着ガス111の装填、化学気相蒸着チャンバ103の加熱、あるいはそれらの組み合わせが含まれる。動作中の圧力は、例えば、0.01〜200psia、1.0〜100psia、5〜40psiaの範囲内に調整するか、1.0 psia、5 psia、40 psia、100 psia、200 psiaに調節する。これら数値のうちであれば任意で、適切な組合せ、部分的組合せ、全範囲、または部分範囲に調節することもできる。当業者には理解できるところとして、化学気相蒸着チャンバ103とは、炉内スペース、または炉内スペースにある容器でありうる。
【００１５】
[0020]物品101の配置（ステップ102）には、化学気相蒸着チャンバ103内に物品101を配置するための任意の技術が含まれる。例えば、適した技術としては以下が含まれる。複数の物品101を化学気相蒸着チャンバ103内へ配置すること。複数の物品101を化学気相蒸着チャンバ103内のひとつまたは複数の化学気相蒸着装置のうえまたは内部に配置すること。単一の物品101を化学気相蒸着チャンバ103内に配置すること。ひとつまたは複数の物品101の一部を、例えば破片、ほこり、グリース、そのほかの非天然物質を除去することで、化学気相蒸着チャンバ103内への配置まえ、あるいは配置中に洗浄すること。ただし、これらに限定しない。
【００１６】
[0021]動作（ステップ104）中のパージには、パージガス105を、真空状態またはほぼ真空状態の化学気相蒸着チャンバ103に選択的に加えることを含む。パージガス105は、窒素、ヘリウム、アルゴン、またはそのほかの任意の適当な不活性ガスである。パージには化学気相蒸着チャンバ103へのパージガス105の装填が含まれる。パージとは、化学気相蒸着チャンバ103を化学的に不活性な環境にするための、単一パージサイクル、二連パージサイクル、三連パージサイクル、3回以上のパージサイクル、または任意の適切な回数行われるパージサイクルである。
【００１７】
[0022]パージ後の動作（ステップ104）には、蒸着ガス111の装填および（または）分解を含む。蒸着ガス111に適した分子種には、有機シラン、ジメチルシラン、任意のシランガス、またはそのほかの適切な化学気相蒸着ガスが含まれる。ただしこれらに限定しない。装填および（または）それに続く処理に適したほかの素材には、トリメチルシラン、ジアルキルシリル二水素化物、アルキルシリル三水素化物、有機フルオロ三アルコキシシラン、および（または）有機フルオロシリル水素化物が含まれるが、それらに限定しない。そのほかの実施形態において、蒸着ガス111は、アミノシランのような窒素含有種を含まない。
【００１８】
[0023]蒸着ガス111は、蒸着ガス111の熱分解温度を下回る熱分解未満温度で装填する。ここで用いられている「熱分解未満温度」という表現は、蒸着ガス111が100オングストローム以上の被膜を生成しない、被膜生成が視認できない、赤外線検査でも被膜生成を探知できない状況を指す。あるいはこれらが複数あてはまる状況を指す。蒸着ガス111の分子種によって、熱分解温度を下回る温度の適切な例として、30℃未満、60℃未満、100℃未満、150℃未満、200℃未満、250℃未満、300℃未満、350℃未満、400℃未満、440℃未満、450℃未満、100〜300℃、125〜275℃、200〜300℃、230〜270℃を挙げることができる。これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることもできる。またこれら数値は例示列挙であり、これらに限定されるわけでない。
【００１９】
[0024]ひとつの実施形態においては、少なくとも蒸着ガス111の装填中、化学気相蒸着チャンバ103の動作（ステップ104）には、触媒を事実上用いない（方法100に影響を与えるレベルを下回る量しかない）か、まったく用いない（検知可能レベルを下回り、なおかつ〔または〕全く存在しない）。
【００２０】
[0025]蒸着ガス111の装填中および（または）装填後、化学気相蒸着チャンバ103の動作（ステップ104）には、化学気相蒸着チャンバ103内の条件下における蒸着ガス111の熱分解温度に等しいかそれを上回る熱分解以上温度まで化学気相蒸着チャンバ103を加熱する動作を含む。ここで用いられている「熱分解以上温度」という表現は、100オングストローム以上の被膜を生成する、被膜生成が視認できる、赤外線検査で被膜生成が探知できる状況を指す。あるいはこれらが複数あてはまる状況を指す。
【００２１】
[0026]蒸着ガス111が存在するところで、化学気相蒸着チャンバ103を熱分解以上温度まで加熱することは、蒸着被膜109が物品101の少なくとも表面113上に形成されることにつながる。ひとつの実施形態において、表面113とはつぎのものを指す。ステンレス鋼表面（マルテンサイトまたはオーステナイト）、ニッケル基合金、金属表面、金属的表面（鉄または非鉄、焼戻しまたは非焼戻し、および（または）等軸晶、方向性凝固、あるいは単一結晶）、陶材面、陶材マトリックス複合材表面、ガラス表面、複合金属表面、被膜表面、繊維表面、箔面、フィルム、高分子表面（ポリテトラフルオロエチレンなど）、および（または）そのほかの方法100の動作条件に耐えうる任意の適切な表面。
【００２２】
[0027]そのほかの実施形態では、表面113のひとつまたは複数の構成物は濃度値以下である。例えば、銅を含む実施形態においては、濃度値は5%、1.2%、1%、0.9%、0.4%、0.4〜0.15%、 0.01〜1.2%、0.03〜5%、0.03〜0.9%であり、これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を用いることができる。マグネシウムを含む実施形態においては、濃度値は3%、1.5%、1.2%、0.2〜3%、0.01〜2%、0.05〜1.5%、0.8〜1.2%であり、これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることができる。マンガンを含む実施形態においては、濃度値は2%、1.8%、1.5%、1.4%、0.15%、0.02〜1.4%、0.03〜1.5%、0.05〜1.8%、1%〜1.5%であり、これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を用いることができる。さらなる実施形態では、濃度値はこれら構成物のうちひとつ以上と関連しており、例えば、8.5%、5.6%、4.2%の、合計、または任意の適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を下回っている。
【００２３】
[0028]化学気相蒸着チャンバ103のは、熱分解未満温度から熱分解以上温度へ、任意の適切な加熱速度で行う。適切な加熱速度としては、6℃/分〜400℃/分、20℃/分〜30℃/分、20℃/分〜50℃/分、50℃/分〜100℃/分、10℃/分〜30℃/分、10℃/分以上、 毎分20℃/分以上、30℃/分以上、40℃/分以上、50℃/分以上、100℃/分以上、100℃/分未満、50℃/分未満、40℃/分未満、30℃/分未満、20℃/分未満、20℃/分、30℃/分、40℃/分、50℃/分であるが、これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、あるいは部分範囲を用いることができる。また数値は例示列挙であり、これらに限定されない。ひとつの実施形態においては、化学気相蒸着チャンバ103の加熱を上記の加熱速度で、3〜10分、5〜10分、7〜10分、3〜7分、3〜5分の期間、実施する。これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることもできる。 
【００２４】
[0029]蒸着ガス111の分子種によって、熱分解以上温度の適切な例として、300〜 600℃、380〜420℃、400〜460℃、420〜460℃、440〜460℃、400〜600℃、450〜 600℃、500〜600℃、400℃以上、450℃以上、460℃以上、480℃以上、500℃以上、600℃未満、550℃未満、500℃未満、450℃未満を挙げることができる。これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることもできる。これら数値は例示列挙であり、これらに限定されるわけではない。 
【００２５】
[0030]動作（ステップ104）には、物品101に関するそのほかの適切な処置が含まれる。適切な処置には、表面113および（または）蒸着被膜109の酸化、表面113および（または）蒸着被膜109の官能化、あるいはこれらの組み合わせが含まれるが、これらに限定されない。ひとつの実施形態では、表面113および（または）蒸着被膜109は酸化温度で酸化し、酸化皮膜を形成する（図なし）。具体的な素材によって、酸化温度は100〜500℃、300〜350℃、280〜320℃、 440〜460℃であるが、これら数値のうちでは任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることができる。また数値は例示列挙であり、これらに限定されない。ひとつの実施形態では、表面113および（または）蒸着被膜109の官能化は、トリメチルシランの装填による。
【００２６】
[0031]蒸着被膜109は、動作（ステップ104）のパラメーターに対応する特性を有する。例えば、蒸着被膜109は、方法100中の化学気相蒸着チャンバ103の動作（ステップ104）にもとづいた、腐食およびインピーダンスに関する特性を有する。蒸着被膜109の適切な厚さとしては、 100〜10,000nm、200〜5,000nm、300〜1,500nm、150〜450オングストローム、350〜450オングストローム、100オングストローム以上、200オングストローム以上、300オングストローム以上、400オングストローム以上、450オングストローム以上を挙げることができる。これらの数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることもできる。数値は例示列挙であり、これらに限定されない。
【００２７】
[0032]ひとつの実施形態における蒸着被膜109の腐食特性についていえば、蒸着ガス111の熱分解温度またはそれを上回る温度で塗布される比較品被膜と比べ、15%のNaClOに実質的により長期間にわたり耐性を保持する。例えば、図2で示され、例1でさらに詳しく述べられているように、方法100により形成された蒸着被膜109をもつ物品101は、例えば、蒸着ガス111の熱分解温度205（例：摂氏温度）による蒸着の腐食率203と比べ、5〜10%低い腐食率201（例：ミル/年）を実現する。同様に、方法100により形成された蒸着被膜109をもつ物品101は、蒸着ガス111の熱分解温度205またはそれを上回る温度による蒸着により形成された比較品被膜の腐食率と比べ、8〜17ミル/年低い腐食率201を実現する。さまざまな実施形態における15%のNaClOに対する腐食耐性は、0〜3ミル/年、0〜2ミル/年、0〜1ミル/年、1ミル/年、2ミル/年、3ミル/年であり、これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を用いることもできる。 
【００２８】
[0033]ひとつの実施形態における蒸着被膜109の腐食特性についていえば、蒸着ガス111の熱分解温度305またはそれを上回る温度で形成される比較品被膜と比べ、より長期間、6MのHClに対する耐性を保持する。例えば、図3で示され、例2でさらに詳しく述べられているように、方法100により形成された蒸着被膜109をもつ物品101は、蒸着ガス111の熱分解温度305 （例：摂氏温度）またはそれを上回る温度における蒸着により形成される比較品被膜の腐食率303と比べ、60〜90%低い腐食率301（例：ミル/年）を実現する。同様に、方法100により形成された蒸着被膜109をもつ物品101は、蒸着ガス111の熱分解温度における蒸着の腐食率と比べ、0.5〜3ミル/年低い腐食率を実現する。さまざまな実施形態における6MのHClに対する腐食耐性は、0〜0.5ミル/年、1〜1.5ミル/年、1.5〜2.5ミル/年、2.5〜3ミル/年、2〜3ミル/年、2.5〜3.5ミル/年であり、これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を挙げることができる。 
【００２９】
[0034]ひとつの実施形態における蒸着被膜109のインピーダンス特性（不透過性の定量的典型）としては、蒸着ガス111の熱分解温度かそれを上回る温度における蒸着により形成される比較品被膜と比べ、インピーダンス劣化の減少が挙げられる。例えば、図4-5に示され、例 3でさらに詳しく述べられているように、方法100によって形成された蒸着被膜109をもつ物品 101は、電気化学インピーダンス分光法により解説されているとおり、8日間の塩水曝露によるインピーダンス劣化を減少させる。ひとつの実施形態では、蒸着被膜109のインピーダンスは初期劣化ののち、例えば1日後に増加し、自己不動態化を示す。
【００３０】
[0035]参照図4によると、ひとつの実施形態では、蒸着被膜109のインピーダンス401（オーム）は、塩水曝露の有無に関わらず、例えば100〜100,000 Hzでは、周波数403でほぼ直線である。100 Hz 未満の周波数におけるインピーダンス401は認識可能な劣化を示すが、比較品被膜の比較インピーダンス501（オーム）の劣化よりも実質的に少ない（図5参照）。
【００３１】
[0036]ひとつの実施形態では、8日間および（または）それ以下の期間（例：1日または6日間）における蒸着被膜109の劣化は、1 MΩ以下である。そのほかの実施形態では、劣化は0.9 MΩ以下、0.7 MΩ以下、0.6 MΩ以下、0.5〜0.9 MΩ、0.872 MΩ、 0.659 MΩ、0.556 MΩであり、これらの数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を用いることができる。追加的または代替的にいえることとして、ひとつの実施形態では、蒸着被膜109の劣化は30%未満である。そのほかの実施形態では、劣化は23%未満、20%未満、18〜30%、20〜30%、18〜23%、29%、22%、19%であり、これらの数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を用いることができる。 
【００３２】
[0037]ひとつの実施形態では、蒸着ガス111の熱分解温度かそれを上回る温度における蒸着により形成される比較品被膜の劣化と比べ、同じ長さの塩水曝露における蒸着被膜109の劣化は0.7 MΩ以上の差を示した。そのほかの実施形態では、差は1 MΩ以上、2 MΩ以上、 0.7〜2.2 MΩ、2 〜2.2 MΩ、0.7〜2.1 MΩ、0.762 MΩ、2.007 MΩ、2.166 MΩ であり、これらの数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、部分範囲を用いることができる。追加的または代替的にいえることとして、ひとつの実施形態では、蒸着ガス111の熱分解温度かそれを上回る温度における蒸着により形成される比較品被膜の劣化と比べ、同じ長さの塩水曝露における蒸着被膜109の劣化は、45%以上、75%以上、79%以上、45〜80%、45〜76%、75%〜80%、46.63%、75.28%、79.57%の差を示した。これら数値のうちであれば任意で、適切な組み合わせ、部分的組み合わせ、全範囲、または部分範囲を用いることができる。 
【実施例】
【００３３】
[0038]最初の例では、ジメチルシランを蒸着ガス111として装填することで形成された蒸着被膜109のさまざまな実施形態に、15%のNAClOを加え、蒸着ガス111の熱分解温度である 450°の蒸着で形成される比較品被膜との比較により、蒸着被膜109の腐食耐性を試験する。
【００３４】
[0039]図2で示されているように、蒸着被膜109の腐食特性についていえば、比較品被膜 203と比べ、15%のNaClOに対し実質的により長いあいだ耐性を保持する。例えば、比較品被膜203の腐食率は9ミル/年から18ミル/年の間であるが、蒸着被膜のどの実施形態でも、201の腐食率は1ミル/年を下回っている。
【００３５】
[0040]具体的には、熱分解未満温度が27℃である実施形態の腐食率は、0〜0.2ミル/年である。熱分解未満温度が100℃である実施形態の腐食率は、0〜0.5ミル/年である。熱分解未満温度が250℃である実施形態の腐食率は、0.2〜0.5ミル/年である。熱分解未満温度が300℃である実施形態の腐食率は、0.1〜0.3ミル/年である。熱分解未満温度が350℃である実施形態の腐食率は、0.2〜0.4ミル/年である。熱分解未満温度が400℃である実施形態の腐食率は、0.2〜0.4ミル/年である。 
【００３６】
[0041]第2例では、蒸着被膜109の腐食耐性は、蒸着被膜109に6MのHClを加えることで試験する。図3で示されているように、蒸着被膜109の腐食特性ついていえば、6MのHClに対しては、比較品被膜と同じ長さか、より長いあいだ耐性を保持する。例えば、比較品被膜の腐食率303は0.5〜5ミルであるが、蒸着被膜のどの実施形態も、腐食率301は3.5ミル/年を下回っている。
【００３７】
[0042]具体的には、熱分解未満温度が27℃である実施形態の腐食率は、1〜1.5ミル/年である。熱分解未満温度が100℃である実施形態の腐食率は、1.75〜2ミル/年である。熱分解未満温度が250℃である実施形態の腐食率は、0.4〜0.6ミル/年である。熱分解未満温度が300℃である実施形態の腐食率は、2.5〜3ミル/年である。熱分解未満温度が350℃である実施形態の腐食率は、2.2〜2.9ミル/年である。熱分解未満温度が400℃である実施形態の腐食率は、2.5〜3.5ミル/年である。 
【００３８】
[0043]第3例では、電気化学的インピーダンス分光法により蒸着被膜109のインピーダンス特性を試験する。図4（蒸着被膜109の実施形態に対応）と図5（比較品被膜に対応）を比較することで示されるように、蒸着被膜109は比較品被膜に比べてインピーダンス劣化が実質的に減少している。例えば、100 Hz以下の周波数でのインピーダンス401は認識可能な劣化を示すが、 比較品被膜の比較インピーダンス501の劣化よりも実質的に少ない。
【００３９】
[0044]具体的には、図4にみられるように、蒸着被膜109の8日間における劣化は、第ゼロ日計測値（405）の2.988 MΩ、第1日計測値（407）の2.116 MΩ、第6日計測値（409）の2.329 MΩ、および第八日計測値（411）の2.432 MΩにもとづいて、1日で0.872 MΩ、 6日間で0.659 MΩ、そして8日間で0.556 MΩであるといえる。比較して、図5にみられるように、比較品被膜の8日間における劣化は、第ゼロ日計測値（503）の2.822 MΩ、第1日計測値（505）の 1.188 MΩ、第6日計測値（507）の0.156 MΩ、および第8日計測値（509）の0.100 MΩ にもとづいて、1日で1.634 MΩ、6日間で2.666 MΩ、そして8日間で2.722 MΩであるといえる。
【００４０】
[0045]本発明については、ひとつまたは複数の実施形態を参照しつつ説明しているが、これにより、本発明の範囲内で、種々の変更を行うことは可能であり、また、その要素も均等物をもって置き換えることが可能であることは、当業者の理解できるところであろう。さらに、本発明の本質的な範囲を逸脱することなく特定の状況または材料を本発明の教示内容に適応させるため、多くの改変を行うことも可能である。したがって本発明は、本発明を実施するために考えられた最良の実施形態として開示された特定の実施形態に限定されるものでなく、添付の特許請求範囲に入るすべての実施形態を含むことが意図されている。さらに、詳細な説明で特定されたすべての数値は、正確な値および近似値が両方とも明示的に特定されたものとして解釈されなければならない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【外国語明細書】
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