(57)【要約】      （修正有）【課題】希アルカリ水溶液による現像に優れた感光性導電ペースト及びその硬化物、並びに導電パターン付き積層体の提供。【解決手段】酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｅ）とを含有する感光性導電性インキ【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し、数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｅ）を含有する感光性導電性インキ。
【請求項２】
化合物（Ｂ）が沸点２００℃以下の有機塩基である、請求項１に記載の感光性導電性インキ。
【請求項３】
化合物（Ｂ）が、四級アンモニウム塩である、請求項１または２記載の感光性導電性インキ。
【請求項４】
化合物（Ｂ）の含有量が、成分（Ａ）の有する酸性官能基のうちの５〜９５％を中和し得る量である、請求項１〜３いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項５】
成分（Ａ）の数平均分子量が２，０００以上、１，０００，０００以下である、請求項１〜４いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項６】
成分（Ａ）が活性エネルギー線反応性官能基を有する成分（Ａ１）である、請求項１〜５いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項７】
成分（Ａ）がフェノキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレア系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１〜６いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項８】
成分（Ａ）の有する酸性官能基が、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、フェノール性水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１つである、請求項１〜７いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項９】
感光性導電性インキの固形分１００質量％中、導電性粒子（Ｃ）の含有量が６０〜９５質量％である、請求項１〜８いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項１０】
成分（Ａ１）の有する活性エネルギー線反応性官能基当量が３００〜５０００（ｇ／ｍｏｌ）である、請求項４〜９いずれか１項に記載の感光性導電性インキ。
【請求項１１】
酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）を、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）で中和してなる中和物（ＡＢ）、
導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｅ）を含有する感光性導電性インキ。
【請求項１２】
酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）に、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）を配合し、前記成分（Ａ）の中和物（ＡＢ）を得、
次いで、前記中和物（ＡＢ）、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｂ）を混合する、感光性導電性インキの製造方法。
【請求項１３】
請求項１〜１１いずれか記載の感光性導電性インキを硬化してなる硬化物。
【請求項１４】
基材と前記基材上に形成された導電パターンとを具備している導電パターン付き積層体であって、
前記導電パターンが、請求項１〜１１いずれか１項に記載の感光性導電性インキにより形成されている、導電パターン付き積層体。
【請求項１５】
前記導電パターンを被覆するように積層された絶縁層をさらに具備する、請求項１４記載の導電パターン付き積層体。
【請求項１６】
前記導電パターンと電気的に接続され、所定のパターンを有する他の導電パターンが、前記基材と前記導電パターンと間にさらに設けられている、請求項１４または１５に記載の導電パターン付き積層体。
【請求項１７】
前記他の導電パターンが、錫がドープされた酸化インジウムを主成分とする透明導電パターンである、請求項１４〜１６のいずれか１項に記載の導電パターン付き積層体。
【請求項１８】
タッチスクリーンパネル用途に用いられる、請求項１４〜１７のいずれか１項に記載の導電パターン付き積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、活性エネルギー線に対する感光性と現像性に優れた導電性インキ、およびその導電性インキを用いて得られる導電パターン付き積層体に関する。
【背景技術】
【０００２】
電子部品、電磁波シールド用の薄膜形成手段あるいは導電回路の形成手段として、エッチング法および印刷法が知られている。エッチング法は、金属の表面や形状を化学的あるいは電気化学的に溶解除去する方法であり、その表面処理を含めた広義の加工技術である。エッチングは、主に金属膜に希望のパターン形状を得るために行われるが、一般的に工程が煩雑であり、また後工程で廃液処理が必要であるため、費用もかかり問題が多い。また、エッチング法によって形成された導電回路は、アルミニウムや銅など金属材料等で形成されたものであるため、折り曲げ等の物理的衝撃に対して弱いという問題がある。
【０００３】
これらの問題を解決してより安価に導電回路を形成する技術として、導電性インキが注目を集めている。導電性インキを用いて印刷することにより、容易に導電回路を形成できる。更に、電子部品の小型軽量化、生産性の向上、低コスト化の実現が期待できる。このため、印刷可能な導電性インキについての研究開発が精力的になされ、多くの提案がなされている。
【０００４】
また、特許文献１には、セラミックス回路基板上に導体パターンを形成するための感光性導電ペーストとして、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するアクリル系共重合体の利用が開示されている。セラミックス回路基板用なので、パターン形成した後、ペースト中に含まれていた前記アクリル系共重合体等の有機物が完全に酸化、蒸発するよう、４００〜５５０℃で１〜３時間保持後、６００〜１０００℃で焼成し、回路パターンが形成される。
【０００５】
特許文献２には、有機バインダー（Ｂ）と（Ｅ）熱硬化性樹脂とを含有する、焼成不要の光硬化性熱硬化性導電組成物が開示されている。
【０００６】
特許文献３、４には、感光性ペーストの感光性樹脂として、側鎖にカルボキシル基とエチレン性不飽和基を有するエポキシ系樹脂が提案されている。
【０００７】
なお、導電性インキの例ではないが、特許文献５には、４０℃の温水で２分程度の時間をかけて現像可能な印刷版を形成するための光重合性組成物として、第２級または第３級の窒素原子を有するビニル化合物を含む光重合性組成物が開示されている。
また特許文献６には、色純度向上のために、カルボキシル基を有する親水性樹脂（Ａ）中のカルボキシル基の少なくとも一部が超強塩基性化合物（Ｅ）で中和されているカラーフィルター形成用感光性樹脂組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平０５−２７１５７６号公報
【特許文献２】特開２００３−１６２９２１号公報
【特許文献３】特開２０１０−９５５９７号公報
【特許文献４】特開２０１０−１９５８６０号公報
【特許文献５】特開昭６１−２２３３９公報
【特許文献６】特開２０１０−１０２１６９公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかし、特許文献１〜４に記載されるような感光性導電性インキは現像性が不十分だった。
また、特許文献５、６記載の発明は、印刷版形成用もしくはカラーフィルタ形成用の組成物に関するものであって、導電性インキに関するものではない。
【００１０】
本発明は、希アルカリ水溶液による現像に優れた感光性導電ペースト及びその硬化物、並びに導電パターン付き積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者らは前記の課題を解決するため、鋭意検討の結果、酸性官能基を有する成分（Ａ）と、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）とを含有する感光性導電性インキが前記課題を解決するものであると見出し、本発明を完成させるに至った。
すなわち、本発明は、酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）と、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し、数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｅ）とを含有する、感光性導電性インキに関する。
【００１２】
本発明において、前記化合物（Ｂ）は沸点が２００℃以下の有機塩基であることが好ましく、また四級アンモニウム塩であることが好ましい。
さらに、本発明においては化合物（Ｂ）の含有量が、成分（Ａ）の有する酸性官能基のうちの５〜９５％を中和し得る量であることが好ましい。
【００１３】
本発明において、前記成分（Ａ）の数平均分子量は２，０００以上、１，０００，０００以下であることが好ましい。
前記成分（Ａ）は活性エネルギー線反応性官能基を有する成分（Ａ１）であることが好ましく、成分（Ａ１）の有する活性エネルギー線反応性官能基当量は３００〜５０００（ｇ／ｍｏｌ）であることが好ましい。
【００１４】
前記成分（Ａ）は、フェノキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレア系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂からなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
また、前記成分（Ａ）の有する酸性官能基は、カルボキシル基、スルホ基、リン酸基、フェノール性水酸基からなる群より選ばれる少なくとも１つであることが好ましい。
【００１５】
本発明において、感光性導電性インキの固形分１００質量％中、導電性粒子（Ｃ）の含有量が６０〜９５質量％であることが好ましい。
【００１６】
さらに本発明は、酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）を、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）で中和してなる中和物（ＡＢ）、
導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｅ）を含有する感光性導電性インキに関する。
【００１７】
さらにまた本発明は、酸性官能基を有し酸価が５〜２００（ｍｇＫＯＨ／ｇ）であり、数平均分子量が２，０００以上である成分（Ａ）に、前記成分（Ａ）中の酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）を配合し、前記成分（Ａ）の中和物（ＡＢ）を得、
次いで、前記中和物（ＡＢ）、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有し数平均分子量が２，０００未満であるモノマー（Ｂ）を混合する、感光性導電性インキの製造方法に関する。
【００１８】
本発明は、前記本発明の感光性導電性インキを硬化してなる硬化物に関する。
【００１９】
また、本発明は、基材と前記基材上に形成された導電パターンとを具備する導電パターン付き積層体であって、前記導電パターンが、前記本発明の感光性導電性インキにより形成されている導電パターン付き積層体に関する。
前記導電パターンを被覆するように積層された絶縁層をさらに具備することが好ましい。
また、前記導電パターン付き積層体は、前記導電パターンと電気的に接続され、所定のパターンを有する他の導電パターンが、前記基材と前記導電パターンと間にさらに設けられていることが好ましい。
前記他の導電膜は、錫がドープされた酸化インジウムを主成分とする透明導電膜であることが好ましい。
さらに本発明の導電パターン付き積層体は、タッチスクリーンパネル用途に用いられるものであることが好ましい。
【発明の効果】
【００２０】
本発明により、希アルカリ水溶液による現像性に優れた感光性導電ペースト及びその硬化物、並びに導電パターン付き積層体を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の導電性インキを配線構造に適用した抵抗膜式タッチスクリーンパネルの一例の要部の概略断面構成図であり、図２のＡ−Ａ'切断線に相当する。
【図２】本発明の導電性インキを配線構造に適用して好適な抵抗膜式タッチスクリーンパネルの積層状態を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を詳細に説明する。なお、本発明の趣旨に合致する限り、他の実施形態も本発明の範疇に属し得る。また、本明細書において「任意の数Ａ〜任意の数Ｂ」なる記載は、数Ａ及び数Ａより大きい範囲であって、数Ｂ及び数Ｂより小さい範囲を意味する。また、本明細書及び請求の範囲において記載する「（メタ）アクリロ」という表記は、「アクリロ」に読み替えた化合物、及び「メタクリロ」に読み替えた化合物の何れも含むものとする。また、「（メタ）アクリル」及び「（メタ）アクリレート」においても同様に定義する。
【００２３】
［感光性導電性インキ］
感光性導電性インキは、酸性官能基を有する成分（Ａ）、酸性官能基の少なくとも一部を中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）および活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー（Ｅ）を含有するものである。
【００２４】
［成分（Ａ）］
本発明で用いられる成分（Ａ）は、酸性官能基を有する化合物であればよいが、好ましくはフェノキシ系樹脂、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、ウレア系樹脂、ウレタンウレア系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂であり、より好ましくはアクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、フェノキシ系樹脂である。
【００２５】
ここで本発明でいうフェノキシ系樹脂とは、ビスフェノール類とエピクロルヒドリンより合成されるものの他、ビスフェノール類と分子中にエポキシ基を 2個以上含むエポキシ化合物を重合して得た樹脂状物質を含む。
【００２６】
成分（Ａ）の数平均分子量は、２０００以上であり、好ましくは、３０００〜１００００００である。数平均分子量が小さい場合は、塗工時の粘度やハンドリング、及び、光硬化後の現像性を向上させることができる。一方、数平均分子量が大きい場合には、最終的に得られる塗膜の耐熱性、耐湿熱性等を向上することができる。また数平均分子量を大きくすることにより柔軟性を高め、密着性確保が困難な基材への密着性等を向上することができる。
成分（Ａ）の酸価は、５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであり、好ましくは、１０〜１７０ｍｇＫＯＨ／ｇである。成分（Ａ）の酸価が５〜２００ｍｇＫＯＨ／ｇであることにより、優れた現像性を付与しやすくなる。
【００２７】
成分（Ａ）の酸性官能基は特に限定されるものではないが、好ましくはカルボキシル基、スルホ基、リン酸基、フェノール性水酸基であり、より好ましくはカルボキシル基、スルホ基である。
【００２８】
また本発明における成分（Ａ）はエチレン性不飽和基を有すことが好ましく、そのエチレン性不飽和基当量は、３００〜５０００ｇ／ｅｑであることが好ましく、より好ましくは、３００〜３０００ｇ／ｅｑである。エチレン性不飽和基当量を３００ｇ／ｅｑに近い範囲で設計する場合、得られる塗膜の光感度が高くなるため、現像時に良好なパターン形状を得やすくなる。一方、５０００ｇ／ｅｑに近い範囲で設計する場合、適度な光架橋点となるため、最終的に得られる塗膜の柔軟性を増す事による密着性確保が困難な基材への密着性等を向上することができる。
なお、本発明でいう「エチレン性不飽和基当量」とは、樹脂の合成時に使用した原材料の重量から算出される理論値であって、樹脂の重量を、樹脂中に存在するエチレン性不飽和基の数で除したものであり、エチレン性不飽和基１モルあたりの樹脂の重量、すなわち、エチレン性不飽和基濃度の逆数に相当するものである。
【００２９】
成分（Ａ）の合成に使用する溶剤は、最終用途や、反応物の溶解性に応じて適宜選択することができる。
例えば、スクリーン印刷により粗パターンを形成してからフォトリソ法により微細回路を形成する工程で使用する場合、スクリーン印刷工程において、溶剤乾燥によるスクリーンメッシュでのインキ固化を抑制する必要があるため、高沸点の溶剤を用いることが好ましい。この場合の高沸点溶剤としては、例えばエチレングリコールモノヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジプロピレングリコールモノブチルエーテルなどのジアルキレングリコールモノアルキレンエーテル化合物、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテルなどのトリアルキレングリコールモノアルキレンエーテル化合物が挙げられる。
本発明において、これらの溶剤は、必要に応じて一種のみを単独で用いても良いし、複数を併用しても良く、又、反応過程で脱溶剤を行ったり、脱溶剤後、新たに別の溶剤を添加したりしても良い。
【００３０】
［酸性官能基を中和し得る化合物（Ｂ）］
本発明の感光性導電性インキ組成物には、樹脂の現像性を上げるために酸性官能基を中和し得る化合物（Ｂ）が用いられる。本発明で使用することのできる塩基性化合物（Ｂ）としては、無機塩基のほか、有機塩基などが挙げられる。
【００３１】
無機塩基としては、アンモニアのほか、アルカリ金属酸化物、アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属過酸化物、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩、アルカリ土類金属酸化物、アルカリ土類金属水酸化物、アルカリ土類金属過酸化物、アルカリ土類金属炭酸塩などが挙げられる。
【００３２】
また有機塩基としては、例えばメタノールアミン、エタノールアミン、プロパノールアミン、ブタノールアミン、Ｎ−メチルメタノールアミン、Ｎ−エチルメタノールアミン、Ｎ−プロピルメタノールアミン、Ｎ−ブチルメタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−プロピルエタノールアミン、Ｎ−ブチルエタノールアミン、Ｎ−メチルプロパノールアミン、Ｎ−エチルプロパノールアミン、Ｎ−プロピルプロパノールアミン、Ｎ−ブチルプロパノールアミン、Ｎ−メチルブタノールアミン、Ｎ−エチルブタノールアミン、Ｎ−プロピルブタノールアミン、Ｎ−ブチルブタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルメタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルメタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルメタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルプロパノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルブタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルブタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルブタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルブタノールアミン、Ｎ−メチルジメタノールアミン、Ｎ−エチルジメタノールアミン、Ｎ−プロピルジメタノールアミン、Ｎ−ブチルジメタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、Ｎ−プロピルジエタノールアミン、Ｎ−ブチルジエタノールアミン、Ｎ−メチルジプロパノールアミン、Ｎ−エチルジプロパノールアミン、Ｎ−プロピルジプロパノールアミン、Ｎ−ブチルジプロパノールアミン、Ｎ−メチルジブタノールアミン、Ｎ−エチルジブタノールアミン、Ｎ−プロピルジブタノールアミン、Ｎ−ブチルジブタノールアミン、Ｎ−（アミノメチル）メタノールアミン、Ｎ−（アミノメチル）エタノールアミン、Ｎ−（アミノメチル）プロパノールアミン、Ｎ−（アミノメチル）ブタノールアミン、Ｎ−（アミノエチル）メタノールアミン、Ｎ−（アミノエチル）エタノールアミン、Ｎ−（アミノエチル）プロパノールアミン、Ｎ−（アミノエチル）ブタノールアミン、Ｎ−（アミノプロピル）メタノールアミン、Ｎ−（アミノプロピル）エタノールアミン、Ｎ−（アミノプロピル）プロパノールアミン、Ｎ−（アミノプロピル）ブタノールアミン、Ｎ−（アミノブチル）メタノールアミン、Ｎ−（アミノブチル）エタノールアミン、Ｎ−（アミノブチル）プロパノールアミン、Ｎ−（アミノブチル）ブタノールアミン、メトキシメチルアミン、メトキシエチルアミン、メトキシプロピルアミン、メトキシブチルアミン、エトキシメチルアミン、エトキシエチルアミン、エトキシプロピルアミン、エトキシブチルアミン、プロポキシメチルアミン、プロポキシエチルアミン、プロポキシプロピルアミン、プロポキシブチルアミン、ブトキシメチルアミン、ブトキシエチルアミン、ブトキシプロピルアミン、ブトキシブチルアミン、メチルアミン、エチルアミン、プロピルアミン、ブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジプロピルアミン、Ｎ，Ｎ−ジブチルアミン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、テトラメチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラエチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラプロピルアンモニウムハイドロキサイド、テトラブチルアンモニウムハイドロキサイド、テトラメチルエチレンジアミン、テトラエチルエチレンジアミン、テトラプロピルエチレンジアミン、テトラブチルエチレンジアミン、メチルアミノメチルアミン、メチルアミノエチルアミン、メチルアミノプロピルアミン、メチルアミノブチルアミン、エチルアミノメチルアミン、エチルアミノエチルアミン、エチルアミノプロピルアミン、エチルアミノブチルアミン、プロピルアミノメチルアミン、プロピルアミノエチルアミン、プロピルアミノプロピルアミン、プロピルアミノブチルアミン、ブチルアミノメチルアミン、ブチルアミノエチルアミン、ブチルアミノプロピルアミン、ブチルアミノブチルアミン、ピリジン、ピロール、ピペラジン、ピロリジン、ピペリジン、ピコリン、モルホリン、メチルモルホリン、ジアザビシクロオクラン、ジアザビシクロノナン、ジアザビシクロウンデセン、さらに四級アンモニウム塩としてテトラメチルアンモニウムヒドロキシド、トリメチル（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムヒドロキシド、テトラメチルアンモニウムボロヒドリド、テトラブチルアンモニウムボロヒドリドなどが挙げられるがこれに限定されるものではない。  これらは単独で、または２種以上を混合して用いることができる。
感光性導電インキを印刷して得られた印刷インキ塗膜の耐水性向上の点から、例えばアンモニア、トリエチルアミン、モルホリン、Ｎ−メチルモルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、Ｎ、Ｎ−ジメチルエタノールアミン、Ｎ、Ｎ−ジエチルエタノールアミンのような７６０ｍｍＨｇ下の沸点が２００℃以下の揮発性塩基性化合物を使用することが好ましく、特に有機塩基化合物が好ましい。
【００３３】
本発明における中和剤の添加時期としては、成分（Ａ）の合成の際、感光性導電性インキの製造時、印刷作業直前、印刷中、等が挙げられる。いずれも成分（Ａ）の酸性官能基を中和して樹脂の溶解性を上げるために行われる。添加は必要に応じて何度でも行うことができる。
前記化合物（Ｂ）の含有量は、現像液への溶解性の点から成分（Ａ）の有する酸性官能基のうちの５％以上を中和し得る量であることが好ましく、耐水性向上の点から成分（Ａ）の有する酸性官能基のうちの９５％以下を中和し得る量であることが好ましい。
【００３４】
［導電性粒子（Ｃ）］
本発明の導電性インキに用いる導電性粒子としては、例えば金、銀、銅、銀メッキ銅粉、銀−銅複合粉、銀−銅合金、アモルファス銅、ニッケル、クロム、パラジウム、ロジウム、ルテニウム、インジウム、ケイ素、アルミニウム、タングステン、モルブテン、白金等の金属粉、これらの金属で被覆した無機物粉体、酸化銀、酸化インジウム、酸化スズ、酸化亜鉛、酸化ルテニウム等の金属酸化物の粉末、これらの金属酸化物で被覆した無機物粉末、おとびカーボンブラック、グラファイト等を用いることができる。これらの導電性粒子は、１種または２種以上組み合わせて用いても良い。これらの導電性粒子のなかでも、コスト、高導電性で酸化による抵抗率の上昇が少ないことから銀が好ましい。
【００３５】
この導電性粒子の形状は、上記特性を満たしていれば特に限定されず、不定形、凝集状、鱗片状、微結晶状、球状、フレーク状等を適宜用いることができる。高精細パターンの印刷性の観点や導体パターンの基材への密着性の観点から、粒径の小さな球状のものや、凝集状のものであっても、凝集体として比較的小さいものが好ましい。
本発明に係る導電性インキに用いられる導電性粒子のＤ５０粒子径は０．５〜８μｍであり、１〜５μｍの範囲であることが好ましく、２〜４μｍの範囲であることがさらに好ましい。
また、ＢＥＴ比表面積は０．３〜５ｍ2／ｇであり、０．８〜２．３ｍ2／ｇの範囲であることが好ましく、０．８〜２ｍ2／ｇの範囲であることがさらに好ましい。
【００３６】
導電性粒子のＤ５０粒子径が０．５μｍ未満であると、導電性インキにしたときに導電性粒子の分散性が悪くなるために導電性粒子同士の接触不良が生じ、印刷物の抵抗値が大きくなる可能性がある。また、導電性粒子のコストが高くなる。
一方、Ｄ５０粒子径が８μｍを越えると、高精細パターンの印刷性が劣る可能性がある。
なお、導電性粒子のＤ５０粒子径は、島津製作所社製レーザー回折粒度分布測定装置「ＳＡＬＡＤ−３０００」を用いて、体積粒度分布の累積粒度（Ｄ５０）を測定した。
【００３７】
導電性粒子のＢＥＴ比表面積が０．３ｍ2／ｇ未満であると導電性粒子同士の接触点が小さくなり、接触抵抗が大きくなる。
また、ＢＥＴ比表面積が５ｍ2／ｇを超えると導電性粒子の表面を被覆するのに多くの樹脂を必要とするため、バインダー樹脂であるエポキシ樹脂に対する濡れが劣り、導電性インキにした場合の流動性が悪くなり印刷塗膜の表面のレベリング性が低下するので好ましくない。また、導電性粒子の表面を被覆するのに多くの樹脂を必要とするため、基材に対する導電パターンの密着性も低下する。
ＢＥＴ比表面積とは、粉体粒子表面に吸着占有面積の分かった分子を液体窒素の温度で吸着させ、その量から試料の比表面積を求める方法であり、不活性気体の低温低湿物理吸着を利用したものがＢＥＴ法である。ＢＥＴ比表面積は、島津製作所製流動式比表面積測定装置「フローソーブＩＩ」を用いて測定した表面積を、以下の式（１）を用いて算出した値と定義する。
式（１）    比表面積（ｍ2／ｇ）＝表面積（ｍ2）／粉末質量（ｇ）
【００３８】
本発明の感光性導電性インキは、インキの固形分１００質量％中に、導電性粒子（Ｃ）を６０〜９５質量％含むことが好ましく、７０〜９５質量％含むことがより好ましく、８５〜９５質量％含むことがさらに好ましい。硬化塗膜の導電性の点から導電性粒子を６０質量％以上とすることが好ましく、硬化塗膜の基材への密着性、機械強度の点から９５質量％以下とすることが好ましい。
【００３９】
［光重合開始剤（Ｄ）］
光重合開始剤（Ｄ）は、活性エネルギー線により感光性導電性インキを硬化させるために用いる。光重合開始剤としては、光励起によってビニル重合を開始できる機能を有するものであれば特に限定はなく、例えばモノカルボニル化合物、ジカルボニル化合物、アセトフェノン化合物、ベンゾインエーテル化合物、アシルフォスフィンオキシド化合物、アミノカルボニル化合物等が使用できる。活性エネルギー線としては紫外線が好ましい。
【００４０】
具体的にモノカルボニル化合物としては、ベンゾフェノン、４−メチル−ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−３−（４−ベンゾイル−フェノキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、４−ベンゾイル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−ｎ−［２−（１−オキソ−２−プロペニルオキシエチル）］メタアンモニウム臭酸塩、２−／４−ｉｓｏ−プロピルチオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジクロロチオキサントン、１−クロロ−４−プロポキシチオキサントン、２−ヒドロキシ−３−（３，４−ジメチル−９−オキソ−９Ｈチオキサントン−２−イロキシ）−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリメチル−１−プロパンアミン塩酸塩、ベンゾイルメチレン−３−メチルナフト（１，２−ｄ）チアゾリン等が挙げられる。
【００４１】
ジカルボニル化合物としては、１，７，７−トリメチル-ビシクロ［２．１．１］ヘプン−２，３−ジオン、ベンザイル、２−エチルアントラキノン、９，１０−フェナントレンキノン、メチル−α−オキソベンゼンアセテート、４−フェニルベンザイル等が挙げられる。
【００４２】
アセトフェノン化合物としては、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−（４−イソプロピルフェニル）２−ヒドロキシ−ジ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−スチリルプロパン−１−オン重合物、ジエトキシアセトフェノン、ジブトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，２−ジエトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノ−フェニル）ブタン−１−オン、１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、３，６−ビス（２−メチル−２−モルホリノ−プロパノニル）−９−ブチルカルバゾール等が挙げられる。
【００４３】
ベンゾインエーテル化合物としては、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインノルマルブチルエーテル等が挙げられる。
【００４４】
アシルフォスフィンオキシド化合物としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、４−ｎ−プロピルフェニル-ジ（２，６−ジクロロベンゾイ
ル）ホスフィンオキシド等が挙げられる。
【００４５】
アミノカルボニル化合物としては、メチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、エチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−ｎブトキシエチル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、イソアミル−４−（ジメチルアミノ）ベンゾエート、２−（ジメチルアミノ）エチルベンゾエート、４，４’−ビス−４−ジメチルアミノベンゾフェノン、等が挙げられる。
中でも、本発明において、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルホリノプロパン−１−オンとチオキサントン類とを組み合わせて使用する場合は、安価でありながら感光性が非常に優れるため、特に好ましい。
これらは前記化合物に限定されず、紫外線により重合を開始させる能力があればどのようなものでも構わない。これらは単独使用または併用することができ、使用量に制限はないが、成分（Ａ）：１００質量部に対して１〜２０質量部の範囲で添加されるのが好ましい。又、増感剤として公知の有機アミンを加えることもできる。
【００４６】
［活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー（Ｅ）］
本発明の感光性導電性インキは、数平均分子量が２０００未満のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）をさらに含む。
数平均分子量が２０００未満のエチレン性不飽和化合物（Ｅ）としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、又はポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート等の単官能（メタ）アクリレート類；
エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロプレングリコールポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、又はネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート等の二官能（メタ）アクリレート類；
トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、又はジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート等の三官能以上の多官能（メタ）アクリレート類；あるいは、
１，６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、グリセロールジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物、ビスフェノールＦ型エポキシの（メタ）アクリル酸付加物、又はノボラック型エポキシの（メタ）アクリル酸付加物等のエポキシ（メタ）アクリレート類等が挙げられる。
【００４７】
又、以上挙げた（メタ）アクリレートを、更に（ポリ）アルキレンオキシドや（ポリ）カプロラクトン等で変性したものも使用することができる。
【００４８】
又、他に、トリス［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル）］イソシアヌレート、又はジイソシアネート類のイソシアヌレートとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとの反応物等も挙げることができる。
【００４９】
又、ヒドロキシエチルビニルエーテル、エチレングリコールジビニルエーテル、又はペンタエリスリトールトリビニルエーテル等のビニルエーテル類；
（メタ）アクリル酸、スチレン、又は酢酸ビニル等の単価能モノマー類；あるいは、
（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、又はアクリロニトリル等の窒素元素を有する単官能モノマー等も使用できる。
【００５０】
更に、ポリウレタン、ポリエステル、メチロールメラミン樹脂、ポリジメチルシロキサン、又はロジン等のオリゴマーを（メタ）アクリロイル基で変性したものも使用できる。
【００５１】
その他、（メタ）アクリル酸、スチレン、酢酸ビニル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルホルムアミド、又はアクリロニトリル等も挙げることができる。
【００５２】
本発明において、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）は、一種のみを単独で用いてもよいし、複数を併用しても良い。エチレン性不飽和化合物（Ｅ）の使用量は、本発明の感光性導電性インキの用途等を考慮して決定すればよく、特に限定されるものではないが、インキ固形分１００質量％中に１〜３０質量％の割合で加えることが好ましい。エチレン性不飽和化合物（Ｅ）の使用量を１質量％より多くすると、エチレン性不飽和化合物添加による感度向上の効果が得られる。３０質量％より少ない場合は、露光表面付近で硬化が進行し内部硬化が進行しにくくなることがなく、十分な塗膜強度を持つパターン形成が可能となる。
【００５３】
［その他添加剤］
この他、本発明の感光性樹脂組成物には目的を損なわない範囲で任意成分として、更に溶剤、染料、顔料、難燃剤、酸化防止剤、重合禁止剤、連鎖移動剤、レベリング剤、保湿剤、粘度調整剤、防腐剤、抗菌剤、アンチブロッキング剤、紫外線吸収剤、赤外線吸収剤、電磁波シールド剤、フィラー等を添加することができる。
【００５４】
本発明の感光性導電性インキは、前述の通り、インキ固形分１００質量％中、導電性粒子（Ｃ）を６０〜９５質量％含むことが好ましく、７０〜９５質量％含むことがより好ましく、８５〜９５質量％含むことがさらに好ましい。
従って、感光性導電性インキとしては、インキ固形分の残り５〜４０質量％のうち、成分（Ａ）を２〜３８質量％、光重合開始剤（Ｄ）を０．１〜５質量％、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）を１〜３０質量％含むことが好ましく、インキ固形分の残り５〜３０質量％のうち、成分（Ａ）を４〜２８質量％、光重合開始剤（Ｄ）を０．５〜４質量％、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）を１〜２０質量％含むことがより好ましく、インキ固形分の残り５〜１５質量％のうち、成分（Ａ）を４〜１３質量％、光重合開始剤（Ｄ）を１〜３質量％、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）を１〜９質量％含むことがさらに好ましい。
【００５５】
本発明の感光性導電性インキは、基材として、金属、セラミックス、ガラス、プラスチック、木材、スレート等に塗工することができ、特に制限されるものではない。
具体的なプラスチックの種類としては、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、トリアセチルセルロース樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＡＳ樹脂、ポリアミド、エポキシ樹脂、メラミン樹脂等が挙げられる。又、基材の形状としてはフィルムシート、板状パネル、レンズ形状、ディスク形状、ファイバー状の物が挙げられるが、特に制限されるものではない。
【００５６】
本発明の導電性インキは、特にスクリーン印刷に好適に適用することができるが、従来公知の種々の印刷法に適用してもよい。スクリーン印刷法においては、導電回路パターンの高精細化に対応すべく微細なメッシュ、特に好ましくは４００〜６５０メッシュ程度の微細なメッシュのスクリーンを用いることが好ましい。この時のスクリーンの開放面積は約２０〜５０％が好ましい。スクリーン線径は約１０〜７０μｍが好ましい。
スクリーン版の種類としては、ポリエステルスクリーン、コンビネーションスクリーン、メタルスクリーン、ナイロンスクリーン等が挙げられる。また、高粘度なペースト状態のものを印刷する場合は、高張力ステンレススクリーンを使用することができる。
スクリーン印刷のスキージは丸形、長方形、正方形いずれの形状であっても良く、またアタック角度（印刷時の版とスキージの角度）を小さくするために研磨スキージも使用することができる。その他の印刷条件等は従来公知の条件を適宜設計すればよい。
【００５７】
本発明の感光性導電性インキは、公知のラジエーション硬化方法により硬化させ硬化物とすることができ、活性エネルギー線としては、電子線、紫外線、４００〜５００ｎｍの可視光を使用することができる。照射する電子線の線源には熱電子放射銃、電界放射銃等が使用できる。又、紫外線および４００〜５００ｎｍの可視光の線源（光源）には、例えば、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、メタルハライドランプ、ガリウムランプ、キセノンランプ、カーボンアークランプ等を使用することができる。具体的には、点光源であること、輝度の安定性から、超高圧水銀ランプ、キセノン水銀ランプ、メタルハライドランプ、が用いられることが多い。照射する活性エネルギー線量は、５〜２０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲で適時設定できるが、工程上管理しやすい５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲であることが好ましい。又、これら活性エネルギー線と、赤外線、遠赤外線、熱風、高周波加熱等による熱の併用も可能である。
【００５８】
なお、活性エネルギー線による露光感度を上げるために、感光性導電性インキを塗布乾燥後、水溶性あるいはアルカリ可溶性樹脂、例えばポリビニルアルコールや水溶性アクリル樹脂等を塗布乾燥し酸素による重合阻害を防止する膜を形成した後、組成物塗布面側から活性エネルギー線を照射することもできる。
【００５９】
更に、本発明の感光性導電性インキは、フォトマスクを介して組成物塗布面側から活性エネルギー線を照射し、溶剤又はアルカリ現像液に漬浸するかスプレー等により現像液を噴霧して未照射部、すなわち未硬化部を除去して現像を行うことにより、形成することができる。アルカリ現像液としては、炭酸ナトリウム、水酸化ナトリウム等の水溶液が使用され、ジメチルベンジルアミン、トリエタノールアミン等の有機アルカリを用いることもできる。又、現像液には、消泡剤や界面活性剤を添加することもできる。
【００６０】
更に、本発明の感光性導電性インキは、ラジエーション硬化／現像によるパターン形成後、ポストキュアとして加熱乾燥させることで各種耐久性、導電性に優れる塗膜を形成する。ポストキュアは、１００℃〜２００℃で３０分〜２時間が好ましい。又、更に塗膜の耐性を向上するために、ポストキュアの後にも必要に応じて活性エネルギー線を照射することができる。ポストキュアの後に活性エネルギー線を照射することで、各種耐久性、導電性などを更に向上することができる。
【００６１】
本発明に係る導電パターン付き積層体は、特にタッチスクリーンパネルの透明電極上に配線構造を形成する際に好適に用いることができる。
ここで、本発明の導電性インキを抵抗膜方式のタッチスクリーンパネルに適用した場合の一例を図１及び図２を用いつつ説明する。なお、本図１、２は抵抗膜式タッチスクリーンパネルの簡易的な概念図であり、配線の本数、配線幅、配線と配線の間隔は概念図として表している。なお、図２では、三層の中間、粘着材５の位置に視点を置き、下部基板１側は見下ろす状態で、上部基板２側は見上げる状態で各基板側の積層状態を模式的に示した。
【００６２】
タッチスクリーンパネルは、ガラス又はプラスチックフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンナフタレートフィルム、アクリル樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム等）の基材からなる下部基板１及び上部基板２を具備する。下部基板１及び上部基板２上には、ＩＴＯ等の透明電極６，７がそれぞれ部分的に形成されている。その結果、下部基板１及び上部基板２と、透明電極６，７とがそれぞれ露出することとなる。
そして、下部基板１上の透明電極６の両端部には、導電性インキパターン層３からなる下側駆動電極１３，１４がそれぞれ形成されている。導電性インキ層３は、絶縁層４によって被覆されている。導電性インキパターン層３は、図１に示すように、基材１、ＩＴＯ等の透明電極６、そして絶縁層４に接する。
同様に上部基板２上の透明導電７の両端部にも、導電性インキ層３からなる上部駆動電極９，１０がそれぞれ形成されている。
【００６３】
具体的には、上部基板２側の透明電極７端部に、本発明の導電性インキを用い、スクリーン印刷し、予備乾燥、露光、現像、乾燥工程を順番に行い、低抵抗の導電性インキパターン層３を形成する。次いで、導電性インキ層３及び該導電性インキパターン層３の近傍の上部基板２、透明電極７端部の上に、絶縁レジスト（図示省略）をスクリーン印刷等により印刷する。その後、乾燥・硬化し、絶縁層を形成し、本発明の絶縁レジスト付き積層体を形成する。下部基板１側も同様である。
【００６４】
下部基板１上に設けられた透明電極６上の適所には、本来の目的である入力の時以外に透明電極６、７とが接触することを防ぐために、図１に示すように透明電極６上の適所には、微小なドットスペーサー８が一定の間隔で設けられる。
の間隔（例えば、１０〜１５０μｍの間隔）を開け（図１参照）、下部基板１側の絶縁層４と上部基板２、下部基板１と上部基板２、下部基板１と上部基板２側の絶縁層４が、それぞれ粘着材５により貼り合わされ、積層される。粘着材５は、額縁状に配置することができる。また、図２に示されるように、下部基板１側の駆動電極１３，１４と、前記上部基板２側の上側駆動電極９，１０とは、平面視上において直交するように形成され得る。  更に、前記上部基板２側の駆動電極９，１０には、接続電極１１，１２がそれぞれ導電性接着剤で接続されている。同様に、前記下部基板１側の駆動電極１３，１４には、接続電極１５，１６に導電性接着剤でそれぞれ接続されている。
【００６５】
下部基板１側および上部基板２側のそれぞれに本発明の導電性インキを用いて導電性インキパターン層３を形成したタッチスクリーンパネルは、抵抗値安定性が良好であり、長期間にわたり各種電子機器の機能を切り替える部品として安定して使用できると共に、電気的特性に優れたものである。
【実施例】
【００６６】
以下に、実施例により、本発明をさらに詳細に説明するが、以下の実施例は本発明の権利範囲を何ら制限するものではない。なお、実施例における「部」は、「質量部」を表す。
【００６７】
ＧＰＣの測定条件は以下のとおりである。
＜数平均分子量（Ｍｎ）の測定＞
Ｍｎの測定は東ソー株式会社製ＧＰＣ（ゲルパーミエーションクロマトグラフィー）「ＨＰＣ−８０２０」を用いた。ＧＰＣは溶媒（ＴＨＦ；テトラヒドロフラン）に溶解した物質をその分子サイズの差によって分離定量する液体クロマトグラフィーである。本発明における測定は、カラムに「ＬＦ−６０４」（昭和電工株式会社製：迅速分析用ＧＰＣカラム：６mmＩＤ×１５０mmサイズ）を直列に２本接続して用い、流量０．６ｍｌ／ｍｉｎ、カラム温度４０℃の条件で行い、数平均分子量（Ｍｎ）の決定はポリスチレン換算で行った。
【００６８】
酸価はＪＩＳ Ｋ００７０に準じて測定した。
＜酸価の測定＞
共栓三角フラスコ中に試料約１ｇを精密に量り採り、トルエン／エタノール（容量比：トルエン／エタノール＝２／１）混合液１００ｍｌを加えて溶解する。これに、フェノールフタレイン試液を指示薬として加え、０．１Ｎアルコール性水酸化カリウム溶液で滴定し、指示薬が淡紅色を３０秒間保持した時を終点とした。酸価は次式により求めた（単位：ｍｇＫＯＨ／ｇ）。
酸価（ｍｇＫＯＨ／ｇ）＝（５．６１１×ａ×Ｆ）／Ｓ
ただし、
Ｓ：試料の採取量（ｇ）
ａ：０．１Ｎアルコール性水酸化カリウム溶液の消費量（ｍｌ）
Ｆ：０．１Ｎアルコール性水酸化カリウム溶液の力価
【００６９】
＜エチレン性不飽和基当量の計算＞
本発明において、感光性樹脂（Ａ）のエチレン性不飽和基当量は、次式により求めた。（単位：ｇ／ｍｏｌ）
エチレン性不飽和基当量（ｇ／ｍｏｌ）＝原料のトータル固形分（ｇ）／エチレン性不飽和基含有化合物の仕込みモル数（ｍｏｌ）
【００７０】
＜成分（Ａ）の合成＞
［製造例１］
工程１
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた４口フラスコに、メチルメタクリレート４３．２部、スチレン４３．２部、メタクリル酸１３．６部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１００部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル１部を入れ、窒素雰囲気下、８０℃で２〜６時間撹拌し、アクリル樹脂溶液を得た。酸価は８８．６４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００７１】
工程２
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、グリシジルメタクリレート１３．３９部、重合禁止剤としてヒドロキノン０．１２部を投入し、８０℃で８時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が５０％になるように調整し、成分（Ａ）を得た。
【００７２】
［製造例２〜６］
表１に示す原料を用い、製造例１と同様な操作を行うことにより、製造例２〜６の成分（Ａ）を得た。各成分（Ａ）の数平均分子量、酸価、エチレン性不飽和基当量を表１に示す。
【００７３】
［製造例７］
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた４口フラスコに、メチルメタクリレート４８．５部、スチレン４８．５部、メタクリル酸３部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１００部、重合開始剤としてアゾビスイソブチロニトリル１部を入れ、窒素雰囲気下、８０℃で２〜６時間撹拌し、成分（Ａ）を得た。
【００７４】
［製造例８〜１２］
表１に示す原料を用い、製造例７と同様な操作を行うことにより、製造例８〜１２の成分（Ａ）を得た。各成分（Ａ）の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表１に示す。
【００７５】
［製造例１３］
工程１
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた４口フラスコに、エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物として、ｊＥＲ８２５（三菱化学株式会社製、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、エポキシ当量１７６ｇ／ｅｑ）５４．２７部、ＥＸ８３０（ナガセケムテックス株式会社製、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量２６８ｇ／ｅｑ）８２．６３部、フェノール性ＯＨ基を２個以上有するフェノール化合物としてビスフェノールＡ８４．４７部、触媒としてトリフェニルホスフィン（以下、ＴＰＰという）１．７１部、ジアザビシクロウンデンセン（以下、ＤＢＵという）１．７１部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１００部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら８０℃に昇温し１２時間反応させ、樹脂溶液を得た。
【００７６】
工程２
次に、酸無水物基含有化合物としてリカシッドＴＨ（新日本理化株式会社製、テトラヒドロ無水フタル酸）１４．０７部投入し、８０℃のまま８時間反応させた。ＦＴ−ＩＲ測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却し側鎖ヒドロキシル基カルボキシル基含有樹脂を得た。酸価は２２．０４ｍｇＫＯＨ／ｇであった。
【００７７】
工程３
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、イソシアネート基とエチレン性不飽和基とを有する化合物（ｅ）としてＭＯＩ（昭和電工株式会社製、メタクリロイルオキシエチルイソシアネート）４２．２９部、重合禁止剤としてヒドロキノン０．１２部を投入し、４０℃で８時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が５０％になるように調整し、成分（Ａ）を得た。
【００７８】
［製造例１４〜１８］
表１に示す原料を用い、製造例１３と同様な操作を行うことにより、製造例１４〜１８の成分（Ａ）を得た。各成分（Ａ）の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表１に示す。
【００７９】
［製造例１９］
工程１
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた４口フラスコに、エポキシ基を２個以上有するエポキシ化合物として、ｊＥＲ８２５（三菱化学株式会社製、ビスフェノールＡ型エポキシ化合物、エポキシ当量１７６ｇ／ｅｑ）５４．２７部、ＥＸ８３０（ナガセケムテックス株式会社製、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、エポキシ当量２６８ｇ／ｅｑ）８２．６３部、フェノール性水酸基を２個以上有するフェノール化合物としてビスフェノールＡ８４．４７部、触媒としてトリフェニルホスフィン１．７１部、ジアザビシクロウンデンセン１．７１部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１００部を仕込み、窒素気流下、撹拌しながら８０℃に昇温し１２時間反応させ、樹脂溶液を得た。
【００８０】
工程２
次に、酸無水物基含有化合物としてリカシッドＴＨ（新日本理化株式会社製、テトラヒドロ無水フタル酸）１１．２６部投入し、８０℃のまま８時間反応させた。ＦＴ−ＩＲ測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却し、成分（Ａ）を得た。
【００８１】
［製造例２０〜２４］
表１に示す原料を用い、製造例１９と同様な操作を行うことにより、製造例２０〜２４の成分（Ａ）を得た。各成分（Ａ）の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価等を表１に示す。
【００８２】
［製造例２５］
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ＰＴＧ１０００ＳＮ（保土ヶ谷化学株式会社製、ポリテトラメチレングリコール、水酸基価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）８８．５７部、ジメチロールブタン酸（日本化成株式会社製）３８．４１部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１００部を仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながら６０℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコに、イソホロンジイソシアネート７３．０２部を投入し、撹拌しながら９０℃に昇温し８時間反応させウレタン樹脂溶液を得た。
【００８３】
工程２
次に、このフラスコに、窒素導入管からの窒素を停止し乾燥空気の導入に切り替え、攪拌しながら、グリシジルメタクリレート３４．６５部、重合禁止剤としてヒドロキノン０．１２部を投入し、９０℃のまま８時間反応させ、水酸基含有のウレタン樹脂溶液を得た。
【００８４】
工程３
次にこのフラスコにリカシッドＳＡ（新日本理化株式会社製、無水コハク酸）７．０７部を投入し、乾燥空気雰囲気下、９０℃のままさらに６時間反応させた。ＦＴ−ＩＲ測定にて酸無水物基の吸収が消失しているのを確認後、室温まで冷却した。次いでこの溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が５０％になるように調整し、成分（Ａ）を得た。
【００８５】
［製造例２６〜２８］
表１に示す原料を用い、製造例２６と同様な操作を行うことにより、製造例２６〜２８の成分（Ａ）を得た。各成分（Ａ）の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価を表１に示す。
【００８６】
［製造例２９］
撹拌機、還流冷却管、窒素導入管、導入管、温度計を備えた４口フラスコに、ＰＴＧ１０００ＳＮ（保土ヶ谷化学株式会社製、ポリテトラメチレングリコール、水酸基価１１０ｍｇＫＯＨ／ｇ）１４４．２２部、ジメチロールブタン酸（日本化成株式会社製）１０．７４部、溶剤としてジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート１００部を仕込み、窒素雰囲気下、撹拌しながら６０℃まで昇温し、均一に溶解させた。続いてこのフラスコに、イソホロンジイソシアネート４５．０４部を投入し、撹拌しながら９０℃に昇温し８時間反応させた。反応終了後、この溶液にジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテートを加えて固形分が５０％になるように調整した、成分（Ａ）を得た。
【００８７】
［製造例３０〜３２］
表１に示す原料を用い、製造例２９と同様な操作を行うことにより、製造例３０〜３２の成分（Ａ）を得た。各成分（Ａ）の数平均分子量、エチレン性不飽和基当量、酸価を表１に示す。
【００８８】
【表１】
2016184084.tif 000002
【００８９】
＜感光性導電性インキ＞
［比較例１］
製造例１で得られた成分（Ａ）の溶液１４質量部（固形分７質量部）、導電性粒子（Ｃ）として球状銀粉（Ｄ５０粒子径２．８μｍ、比表面積０．３６ｍ２／ｇ）８６質量部、光重合開始剤（Ｄ）としてＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７（ＢＡＳＦ株式会社製、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン）３質量部を溶解させたジエチレングリコールモノエチルエーテルアセテート６質量部、活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー（Ｅ）としてアロニックスＭ３１０（東亞合成株式会社製、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート）４質量部、をディスパーにて混合後、３本ロールにより分散し、比較例の感光性導電性インキを得た。
得られた感光性導電性インキについて、後述する方法で現像性、導電性（体積抵抗値）を評価した。結果を表２に示す。
【００９０】
［実施例１］
製造例１で得られた成分（Ａ）の溶液１４質量部（固形分７質量部）に対し、塩基性化合物（Ｂ）としてテトラメチルアンモニウムボロヒドリド０．２８質量部（中和率２０％に相当する量）を加え、導電性粒子（Ｃ）、光重合開始剤（Ｄ）、活性エネルギー線反応性官能基を有するモノマー（Ｅ）等とをディスパーにて混合後、３本ロールにより分散し、本発明の感光性導電性インキを得た。
得られた感光性導電性インキについて、後述する方法で現像性等を評価した。結果を表２に示す。
【００９１】
ここでいう中和率とは、下記の関係式で表される値である。
中和率(％)＝１００×（塩基性化合物（Ｂ）の仕込み塩基性官能基モル数（ｍｏｌ））×（塩基の価数）／（成分（Ａ）の酸性官能基モル数（ｍｏｌ））
【００９２】
［実施例２〜１３９］、［比較例２〜３６］
表２〜４に示した組成、および量（固形分）で、成分（Ａ）、塩基性化合物（Ｂ）、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、感光性導電性インキを得、同様に評価した。
【００９３】
［中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）］
・Ｂ１：テトラメチルアンモニウムボロヒドリド  沸点：２０５℃
・Ｂ２：テトラメチルアンモニウムヒドロキシド  沸点：１４０℃（分解）
・Ｂ３：水酸化ナトリウム  沸点：１３８８℃
・Ｂ４：Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエタノール  沸点：１３４℃
・Ｂ５：トリエチルアミン  沸点：９０℃
【００９４】
［エチレン性不飽和化合物（Ｅ）］
・アロニックスＭ３１０（東亞合成株式会社製、トリメチロールプロパンＰＯ変性トリアクリレート）
・Ａ−２００（新中村化学株式会社製、ポリエチレングリコールジアクリレート）
・Ｒ−１６７（日本化薬株式会社製、1，6−ヘキサンジオールジエポキシアクリレート）
【００９５】
＜感光性導電性インキとしての評価＞
【００９６】
［現像性］
感光性導電性インキをスクリーン印刷によりガラス基板に塗工した後、７０℃で１５分間乾燥し、塗膜を得た。膜厚を測定したところ、膜厚は８〜１０μｍであった。紫外線を照射せずに、０．５％炭酸ナトリウム水溶液を用い、スピン現像機にて、スプレー圧０．２ＭＰａで未露光の塗膜にスプレーし、感光性導電性インキの乾燥塗膜が消失する時間を測定した。測定時間を測定膜厚で除し、単位膜厚当たりの時間（秒／μｍ）を現像速度とした。
なお、膜厚は、仙台ニコン社製ＭＨ−１５Ｍ型測定器を用いて測定した。
【００９７】
［現像時間短縮率］
ここでいう現像時間短縮率とは、塩基性化合物（Ｂ）を含まない比較例の現像性を基準とし、塩基性化合物（Ｂ）を含まないこと以外は、同一の組成、および量（固形分）で、成分（Ａ）、エチレン性不飽和化合物（Ｅ）を含む実施例の現像性を、下記の式に従い、求めた値である。
現像時間短縮率(％)＝１００×［（比較例の現像性）−（実施例の現像性）］／（比較例の現像性）
【００９８】
［導電性（体積抵抗値）］
厚さ７５μmのポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴという）フィルムに実施例１〜１３９、比較例１〜３６記載の導電性インキを３ｍｍ×９０ｍｍのパターンをスクリーン印刷し、１５０ ℃のボックス型オーブンにて１０分間乾燥後、得られた印刷物の抵抗率を三和電気計器株式会社製三和デジタルマルチメーターにて測定した。
なお、膜厚は、仙台ニコン社製ＭＨ−１５Ｍ型測定器を用いて測定した。
【００９９】
〔体積抵抗率の算出〕
上記方法で測定された抵抗率、および膜厚より、体積抵抗値を算出した。
評価基準は以下の通りである。
＜評価＞
◎：１．０×１０-5Ω・cm未満
○：１．０×１０-5Ω・cm以上５．０×１０-5Ω・cm未満
△：５．０×１０-5Ω・cm以上１．０×１０-4Ω・cm未満
×：１．０×１０-4Ω・cm以上
【０１００】
【表２】
2016184084.tif 000003
【０１０１】
【表３】
2016184084.tif 000004
【０１０２】
【表４】
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【０１０３】
【表５】
2016184084.tif 000006
【０１０４】
この表２〜５に示す結果から明らかなように、本発明の感光性導電性インキによれば、現像性の良化が容易であることが確認できた。さらに、中和し得る官能基を有する化合物（Ｂ）として四級アンモニウム塩を用いると導電性も向上する。
【産業上の利用可能性】
【０１０５】
本発明の感光性導電性インキは、導電性インキ用途に広範に利用できる。特に、タッチスクリーンパネルの額縁部分に形成される微細導電回路として好適に用いることができる。さらに、本発明の感光性導電性インキは導電性に優れ、高精細なパターンを形成できるので、透明に見える微細パターン形成が可能であり、タッチスクリーンパネルの表示部に用いる透明電極としても適用可能である。
【符号の説明】
【０１０６】
１：下部基板
２：上部基板
３：導電性インキパターン層
４：絶縁層
５：粘着材（貼り合わせ）
６：下部基板の透明電極
７：上部基板の透明電極
８：ドットスペーサー
９，１０：上部側駆動電極
１１，１２：上部側接続電極
１３，１４：下部側駆動電極
１５，１６：下部側接続電極
１７：取り回し回路
【図１】
2016184084.tif 000007
【図２】
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