(57)【要約】【課題】高い性能を有しつつ薄型化することが可能であり、製造工程も効率化できる新規構成の光学フィルムおよびその製造方法を提供すること。【解決手段】ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを含む光学フィルムであって、ポジティブＡプレートはＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）を満たし、ポジティブＡプレートが液晶化合物Ａを含む組成物の硬化物からなり、ポジティブＣプレートが液晶化合物Ｃを含む組成物の硬化物からなる光学フィルム；２層のポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを含み、２層のポジティブＡプレートの少なくともいずれか一方は架橋性ポリマーを含む組成物から形成された層である光学フィルム；直線偏光膜と上記いずれかの光学フィルムとを含む偏光板；ならびにポジティブＡプレートの表面に液晶化合物Ｃを含む組成物を塗布することを含む光学フィルムの製造方法。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポジティブＡプレートＡ−０およびポジティブＣプレートを含む光学フィルムであって、前記ポジティブＡプレートＡ−０の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とがＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にあり、
前記ポジティブＡプレートＡ−０が液晶化合物Ａ０を含む組成物の硬化物からなり、かつ前記ポジティブＣプレートが液晶化合物Ｃを含む組成物の硬化物からなる光学フィルム。
【請求項２】
前記液晶化合物Ａ０が、重合性棒状液晶化合物であり、
前記ポジティブＡプレートＡ−０において前記液晶化合物Ａ０はホモジニアス配向した状態で固定化されている請求項１に記載の光学フィルム。
【請求項３】
前記液晶化合物Ｃが重合性棒状液晶化合物であり、
前記ポジティブＣプレートにおいて前記液晶化合物Ｃはホメオトロピック配向した状態で固定化されている請求項１または２に記載の光学フィルム。
【請求項４】
前記ポジティブＡプレートＡ−０が、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）として１００〜１８０ｎｍを示す、請求項１〜３のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項５】
前記ポジティブＣプレートが、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）として−１０〜１０ｎｍを示し、かつ波長５５０ｎｍで測定した厚さ方向のレターデーション値であるＲｔｈ（５５０）として−１８０〜−１０ｎｍを示す請求項１〜４のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項６】
前記ポジティブＡプレートＡ−０と前記ポジティブＣプレートとが直接接している、請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記ポジティブＣプレートが前記ポジティブＡプレートＡ−０表面に直接塗布された前記液晶化合物Ｃを含む組成物を硬化して得られた層である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記液晶化合物Ａ０および前記液晶化合物Ｃの少なくとも１つが、下記一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物である請求項１〜５のいずれか一項に記載の光学フィルム；
一般式（ＩＩ）：
Ｌ1−Ｇ1−Ｄ1−Ａｒ−Ｄ2−Ｇ2−Ｌ2
式中、
Ｄ1およびＤ2は、それぞれ独立に、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、−ＣＲ1Ｒ2−ＮＲ3−、−ＣＯ−ＮＲ1−、または−ＮＲ1−ＣＯ−を表し、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、前記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ6）−で置換されていてもよく、Ｒ6は水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ1およびＬ2からなる群から選ばれる少なくとも一種が、重合性基を有する１価の基を表し、
Ａｒは下記一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表し：
【化１】
2016053709.tif 000046
式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、
Ｑ1は、−Ｓ−、−Ｏ−、またはＮＲ11−を表し、Ｒ11は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ1は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２芳香族複素環基を表し、
Ｚ1、Ｚ2、および、Ｚ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ12Ｒ13またはＳＲ12を表し、Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ1およびＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ21−、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選ばれる基であって、Ｒ21は水素原子または置換基を表し、
Ｘは水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する炭素数２〜３０の有機基を表し、ＡｘおよびＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ2は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【請求項９】
前記液晶化合物Ａ０を含む組成物が、液晶化合物の総質量に対して０．１−２０．０質量％の架橋性ポリマーを含有し、前記架橋性ポリマーは重合性基を有する非液晶性ポリマーである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
前記架橋性ポリマーが、繰り返し単位にアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する、請求項９に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
配向膜を含み、
前記配向膜、前記ポジティブＡプレートＡ−０、および前記ポジティブＣプレートをこの順で含み、前記配向膜と前記ポジティブＡプレートＡ−０とが直接接しており、かつ前記ポジティブＡプレートＡ−０と前記ポジティブＣプレートとが直接接している請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
直線偏光膜と、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学フィルムとを含む偏光板。
【請求項１３】
前記直線偏光膜と前記光学フィルムとが直接接している、請求項１２に記載の偏光板。
【請求項１４】
前記直線偏光膜、前記ポジティブＡプレートＡ−０および前記ポジティブＣプレートをこの順で含み、かつ前記ポジティブＡプレートＡ−０の遅相軸と前記直線偏光膜の吸収軸とがなす角が９０°である請求項１２または１３に記載の偏光板。
【請求項１５】
前記直線偏光膜、前記ポジティブＣプレートおよび前記ポジティブＡプレートＡ−０をこの順で含み、かつ前記ポジティブＡプレートＡ−０の遅相軸と前記直線偏光膜の吸収軸とが平行である請求項１２または１３に記載の偏光板。
【請求項１６】
前記偏光板が円偏光板である請求項１５に記載の偏光板。
【請求項１７】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学フィルムを含む表示装置。
【請求項１８】
請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学フィルムおよび直線偏光膜を含み、前記ポジティブＡプレートＡ−０の遅相軸と前記直線偏光膜の吸収軸とがなす角が４５°である、反射防止板。
【請求項１９】
前記ポジティブＡプレートＡ−０の表面に、前記液晶化合物Ｃを含む組成物を塗布すること；前記塗布後の前記液晶化合物Ｃを含む組成物を加熱して、前記液晶化合物Ｃをホメオトロピック配向させること；ホメオトロピック配向した前記液晶化合物Ｃを含む組成物に紫外線照射して前記ポジティブＣプレートを得ることを含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の光学フィルムの製造方法。
【請求項２０】
支持体上に前記液晶化合物Ａ０を含む組成物を塗布すること；前記液晶化合物Ａ０を含む組成物を加熱して、前記液晶化合物Ａ０をホモジニアス配向させること；ホモジニアス配向した前記液晶化合物Ａ０を含む組成物に紫外線照射して前記ポジティブＡプレートＡ−０を得ることを含む請求項１９に記載の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学フィルム、偏光板および光学フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
位相差板としての機能を有する光学フィルムは、液晶表示装置に多く用いられており、例えばλ／４位相差板は直線偏光板と組み合わせた形態で円偏光板として使用されている。ＩＰＳモードなどの液晶表示装置の斜め方向の高コントラスト化のために、位相差板としてポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの組み合わせを使用する構成が種々提案されている（例えば、特許文献１および２）。
一方、位相差板は、可視光域の光線が混在している合成波である白色光に対しては、通常全ての波長の光線に対応して同様の効果を与える位相差板として作製することは困難であり、例えば、５５０ｎｍの波長の光に対しては１／４波長板として機能しても、４５０ｎｍまたは６５０ｎｍの光に対しては、１／４波長板として機能せず、使用時に着色等の問題が生じる。この問題に対し、引用文献３では広い波長域で機能する位相差板（広帯域位相差板）として逆波長分散性を有する位相差板が提案されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第４５９２００５号
【特許文献２】特開２０１２−２５５９２６号公報
【特許文献３】ＷＯ２００５／０５０２６９号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液晶表示装置の薄型化に伴い、上記の問題に対応して提案されている位相差板を組み合わせて構成する広帯域１／４波長板などの位相差板にも、性能を維持しつつより薄型化が可能な構成が求められている。また、円偏光板は近年、有機電界発光装置の反射防止膜としても使用されており、有機電界発光装置の普及に伴って、位相差板にも、より一層の薄型化や、製造工程の効率化が求められると考えられる。
本発明は、位相差板として使用できる光学フィルムとして、新規構成の光学フィルムを提供することを課題とする。具体的には、高い性能を有しつつ薄型化することが可能であり、製造工程も効率化できる新規構成の光学フィルムを提供することを課題とする。本発明はまた、上記光学フィルムを含む偏光板の提供、および上記光学フィルムの製造方法の提供を課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
課題を解決するための手段は以下＜１＞〜＜２０＞の通りである。
＜１＞ポジティブＡプレートＡ−０およびポジティブＣプレートを含む光学フィルムであって、
上記ポジティブＡプレートＡ−０の波長４５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定した面内レターデーションの値であるＲｅ（６５０）とがＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にあり、上記ポジティブＡプレートＡ−０が液晶化合物Ａ０を含む組成物の硬化物からなり、かつ上記ポジティブＣプレートが液晶化合物Ｃを含む組成物の硬化物からなる光学フィルム。
＜２＞液晶化合物Ａ０が、重合性棒状液晶化合物であり、
上記ポジティブＡプレートにおいて液晶化合物Ａ０はホモジニアス配向した状態で固定化されている＜１＞に記載の光学フィルム。
＜３＞液晶化合物Ｃが重合性棒状液晶化合物であり、
上記ポジティブＣプレートにおいて液晶化合物Ｃはホメオトロピック配向した状態で固定化されている＜１＞または＜２＞に記載の光学フィルム。
【０００６】
＜４＞上記ポジティブＡプレートＡ−０が、波長５５０ｎｍで測定した正面レターデーション値であるＲｅ（５５０）として１００〜１８０ｎｍを示す、＜１＞〜＜３＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜５＞上記ポジティブＣプレートが、波長５５０ｎｍで測定した面内レターデーション値であるＲｅ（５５０）として−１０〜１０ｎｍを示し、かつ厚さ方向のレターデーションであるＲｔｈ（５５０）として−１８０〜−１０ｎｍを示す＜１＞〜＜４＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜６＞上記ポジティブＡプレートＡ−０と上記ポジティブＣプレートとが直接接している、＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜７＞上記ポジティブＣプレートが上記ポジティブＡプレートＡ−０表面に直接塗布された液晶化合物Ｃを含む組成物を硬化して得られた層である、＜１＞〜＜６＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【０００７】
＜８＞液晶化合物Ａ０または液晶化合物Ｃも少なくとも１つが、下記一般式（ＩＩ）で表される液晶化合物である＜１＞〜＜５＞のいずれか１項に記載の光学フィルム；
一般式（ＩＩ）：
Ｌ1−Ｇ1−Ｄ1−Ａｒ−Ｄ2−Ｇ2−Ｌ2式中、
Ｄ1およびＤ2は、それぞれ独立に、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、−ＣＲ1Ｒ2−ＮＲ3−、−ＣＯ−ＮＲ1−、または−ＮＲ1−ＣＯ−を表し、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ6）−で置換されていてもよく、Ｒ6は水素原子、または炭素数１〜６のアルキル基を表し、Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ1およびＬ2からなる群から選ばれる少なくとも一種が、重合性基を有する１価の基を表し、
Ａｒは下記一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表し：
【０００８】
【化１】
2016053709.tif 000002
【０００９】
式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、
Ｑ1は、−Ｓ−、−Ｏ−、またはＮＲ11−を表し、Ｒ11は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ1は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２芳香族複素環基を表し、
Ｚ1、Ｚ2、および、Ｚ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ12Ｒ13またはＳＲ12を表し、Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ1およびＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ21−（Ｒ21は水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｘは水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表し、
Ａｘは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、ＡｘおよびＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ2は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
＜９＞液晶化合物Ａ０を含む組成物が、液晶化合物の総質量に対して０．１−２０．０質量％の架橋性ポリマーを含有し、上記架橋性ポリマーは重合性基を有する非液晶性ポリマーである、＜１＞〜＜８＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００１０】
＜１０＞上記架橋性ポリマーが、繰り返し単位にアクリロイル基またはメタクリロイル基を有する、＜９＞に記載の光学フィルム。
＜１１＞配向膜を含み、上記配向膜、上記ポジティブＡプレートＡ−０、および上記ポジティブＣプレートをこの順で含み、上記配向膜と上記ポジティブＡプレートＡ−０とが直接接しており、かつ上記ポジティブＡプレートＡ−０と上記ポジティブＣプレートとが直接接している＜１＞〜＜１０＞のいずれか１項に記載の光学フィルム。
＜１２＞直線偏光膜と、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の光学フィルムとを含む偏光板。
＜１３＞上記直線偏光膜と上記光学フィルムとが直接接している、＜１２＞に記載の偏光板。
＜１４＞上記直線偏光膜、上記ポジティブＡプレートＡ−０および上記ポジティブＣプレートをこの順で含み、かつ上記ポジティブＡプレートＡ−０の遅相軸と上記直線偏光膜の吸収軸とがなす角が９０°である＜１２＞または＜１３＞に記載の偏光板。
＜１５＞上記直線偏光膜、上記ポジティブＣプレートおよび上記ポジティブＡプレートＡ−０をこの順で含み、かつ上記ポジティブＡプレートＡ−０の遅相軸と上記直線偏光膜の吸収軸とが平行である＜１２＞または＜１３＞に記載の偏光板。
＜１６＞円偏光板である＜１５＞に記載の偏光板。
＜１７＞＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の光学フィルムを含む表示装置。
＜１８＞＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の光学フィルムおよび直線偏光膜を含み、上記ポジティブＡプレートＡ−０の遅相軸と上記直線偏光膜の吸収軸とがなす角が４５°である、反射防止板。
＜１９＞ポジティブＡプレートＡ−０の表面に、液晶化合物Ｃを含む組成物を塗布すること；上記塗布後の液晶化合物Ｃを含む組成物を加熱して、液晶化合物Ｃをホメオトロピック配向させること；ホメオトロピック配向した液晶化合物Ｃを含む組成物に紫外線照射してポジティブＣプレートを得ることを含む、＜１＞〜＜１１＞のいずれか１項に記載の光学フィルムの製造方法。
＜２０＞支持体上に液晶化合物Ａ０を含む組成物を塗布すること；液晶化合物Ａ０を含む組成物を加熱して、液晶化合物Ａ０をホモジニアス配向させること；ホモジニアス配向した液晶化合物Ａ０を含む組成物に紫外線照射して上記ポジティブＡプレートＡ−０を得ることを含む＜１９＞に記載の製造方法。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、位相差板として使用できる光学フィルムとして、新規構成の光学フィルムが提供される。本発明の光学フィルムは、逆波長分散性を有するため、位位相差板として広帯域であるとともに、高い性能を有しつつ薄型化することが可能であり、製造工程も効率化できる構成を有する。本発明の光学フィルムを含む偏光板は着色の問題が低減されており、斜め方向のコントラストも高い。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下、本発明について詳細に説明する。以下に記載する構成要件の説明は、本発明の代表的な実施態様に基づいてなされることがあるが、本発明はそのような実施態様に限定されるものではない。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。また、角度について「直交」および「平行」とは、厳密な角度±１０°の範囲を意味するものとし、並びに角度について「同一」および「異なる」は、その差が５°未満であるか否かを基準に判断できる。
【００１３】
本明細書において「遅相軸」とは、面内において屈折率が最大となる方向を意味し、「偏光板」とは、特別な記述がない限り、長尺の偏光板、および表示装置に組み込まれる大きさに裁断された偏光板の両者を含む意味で用いている。なお、ここでいう「裁断」には「打ち抜き」および「切り出し」等も含むものとする。また、本明細書において、「偏光板」のうち、特に、本発明の光学フィルムまたは一般的なλ／４板と偏光膜との積層体を含む形態を「反射防止板」または「円偏光板」と呼ぶ。
また、有機ＥＬ表示装置とは、有機エレクトロルミネッセンス表示装置を意味する。
【００１４】
本明細書において、「傾斜角」（チルト角とも称する）とは、傾斜した液晶が層平面となす角度を意味し、液晶化合物の屈折率楕円体において最大の屈折率の方向が層平面となす角度のうち、最大の角度を意味する。従って、正の光学的異方性を持つ棒状液晶化合物では、チルト角は棒状液晶化合物の長軸方向すなわちダイレクター方向と層平面とのなす角度を意味する。また、本発明において、「平均チルト角」とは、位相差層の上界面でのチルト角から下界面までのチルト角の平均値を意味する。
本明細書において逆波長分散性とは長波長になるほど面内レターデーションの絶対値が大きくなる性質を意味する。
【００１５】
本明細書において、Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は各々、波長λにおける面内のレターデーションおよび厚さ方向のレターデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲ（商品名、王子計測機器（株）製）において波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。
【００１６】
測定されるフィルムが１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）は算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにおいて算出される。
【００１７】
上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレターデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレターデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにおいて算出される。
なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合にはフィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレターデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基に、以下の数式（１）および数式（２）によりＲｔｈを算出することもできる。
【００１８】
【数１】
2016053709.tif 000003
【００１９】
式中、Ｒｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレターデーション値を表す。ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄはフィルムの膜厚を表す。
【００２０】
測定されるフィルムが１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ＯＰＴＩＣ ＡＸＩＳ）がないフィルムの場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。
Ｒｔｈ（λ）は、Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）としてフィルム法線方向に対して−５０度から＋５０度まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレターデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにより算出される。
【００２１】
上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについてはアッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ ２１ＡＤＨまたはＷＲにおいてｎｘ、ｎｙ、ｎｚが算出される。この算出されたｎｘ、ｎｙ、ｎｚによりＮｚ＝（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）が更に算出される。
【００２２】
＜光学フィルム＞
本明細書において、光学フィルムとは、各種表示装置、発光装置、偏光板などの各種光学素子などの、光学部材に用いることができるフィルムを意味する。
本発明の光学フィルムはポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを含む。ポジティブＡプレートは、組成、遅相軸が均一の一層のポジティブＡプレートＡ−０からなっていてもよい。
光学フィルムはポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの他に支持体、配向膜、接着層などの他の機能性層を含んでいてもよい。本発明の光学フィルムが支持体を含む場合、本発明の光学フィルムは、「支持体、ポジティブＡプレートＡ−０、およびポジティブＣプレート」をこの順で含むことが好ましい。さらに配向膜を含む場合、本発明の光学フィルムは「支持体、配向膜、ポジティブＡプレートＡ−０、およびポジティブＣプレート」をこの順で含むことが好ましい。本発明の光学フィルムにおいて、ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの間には他の層が含まれていてもよく、両層が互いに接していてもよいが、ポジティブＡプレートＡ−０ポジティブＣプレート、は互いに直接接していることが好ましい。
光学フィルムは、例えば、２００μｍ以下、１００μｍ以下、６０μｍ以下、４０μｍ以下、２５μｍ以下、１０μｍ以下、または５μｍ以下の膜厚であることが部材の薄型化の観点から好ましい。また製造適性の観点から１μｍ以上、５μｍ以上、１０μｍ以上であることが好ましい。
【００２３】
＜ポジティブＡプレート＞
本明細書のポジティブＡプレートＡ−０は波長４５０ｎｍで測定したレターデーション値であるＲｅ（４５０）と、波長５５０ｎｍで測定したレターデーション値であるＲｅ（５５０）と、波長６５０ｎｍで測定したレターデーションの値であるＲｅ（６５０）とがＲｅ（４５０）≦Ｒｅ（５５０）≦Ｒｅ（６５０）の関係にある。ポジティブＡプレートにおいては、液晶化合物がホモジニアス配向をしている。ホモジニアス配向とは、液晶化合物の分子長軸が水平方向に配向している状態を意味する。ポジティブＡプレートＡ−０は、スメクチック相を示すことが好ましい。
なお、本明細書において、スメクチック相とは、一方向にそろった分子が層構造を有している状態をいう。また、ネマチック相とは、その構成分子が配向秩序を持つが、三次元的な位置秩序を持たない状態をいう。
ポジティブＡプレートＡ−０の膜厚は、０．３〜３．０μｍが好ましく、０．５〜３．０μｍがより好ましく、０．９〜２．５μｍがさらに好ましく、１．５〜２．５μｍが最も好ましい。
【００２４】
また、ポジティブＡプレートＡ−０は、４０≦Ｒｔｈ（５５０）≦１１５を満たすことが好ましく、４５≦Ｒｔｈ（５５０）≦１１０を満たすことがより好ましい。このような範囲とすることで、本発明の光学フィルムが、ポジティブＣプレートと組み合わせて用いる本発明の構成でＩＰＳ用液晶表示装置に組み込まれる場合に特に好ましい。
ポジティブＡプレートＡ−０は、下記式（２）を満たすことが好ましい。
（式３）  ０．８≦Ｎｚ≦１．２
（式（３）中、Ｎｚは、（ｎｘ−ｎｚ）／（ｎｘ−ｎｙ）を表し、ｎｘは面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚはｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。）
Ｎｚは、０．９≦Ｎｚ≦１．１を満たすことがより好ましい。
【００２５】
スメクチック相の状態で液晶化合物が固定されているか否かの確認は、Ｘ線回折パターンによる観察によって行うことができる。スメクチック相の状態で固定されていれば、層秩序に由来するＸ線回折パターンが観察されるため、固定されている状態の判別が可能である。ポジティブＡプレートは、スメクチック液晶を、ネマチック相を示した状態で固定化したものでもよい。ネマチック相の状態で液晶化合物が固定されているか否かの確認も、Ｘ線回折パターンによる観察によって行うことができる。ネマチック相の状態で固定されていれば、層形成に由来する低角側のシャープなピークは観測されず、広角側にブロードなハローピークのみが観測されるため、固定されている状態の判別が可能である。
【００２６】
[ポジティブＡプレート形成用組成物]
本明細書において、「ポジティブＡプレート形成用組成物」とは、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物を意味する。また、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物は液晶化合物Ａ０を含む。
（液晶化合物Ａ０）
本発明の光学フィルムにおけるポジティブＡプレートＡ−０は液晶化合物Ａ０を含むポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物の硬化物からなる。本明細書において、液晶化合物Ａ０はポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物に含まれる全ての液晶化合物を示し、１つの液晶化合物からなるものであっても２種以上の液晶化合物の混合物であってもよい。液晶化合物Ａ０としては特に限定されないが、棒状液晶化合物でも、円盤状液晶化合物でもよく、両者の混合物であってもよいが、棒状液晶化合物がより好ましい。尚、具体的な棒状液晶化合物については後述する、液晶化合物Ｃも棒状液晶化合物であることが好ましい。液晶化合物Ａ０は、重合性液晶化合物を液晶化合物Ａ０総質量に対し６０質量％以上、７０質量％以上、８０質量％以上、９０質量％以上または１００質量％含むことが好ましい。
【００２７】
液晶化合物Ａ０としては規定された波長分散性を示す液晶化合物であれば、従来公知のいずれの液晶化合物を用いてもよく、例えば特開２００８−２９７２１０号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物（特に、段落番号００３４〜００３９に記載の化合物）、特開２０１０−８４０３２号公報に記載の一般式（１）で表される化合物（特に、段落番号００６７〜００７３に記載の化合物）等を用いてもよい。また、特に他の液晶化合物と併用して、アゾメチン類、アゾキシ類、シアノビフェニル類、シアノフェニルエステル類、安息香酸エステル類、シクロヘキサンカルボン酸フェニルエステル類、シアノフェニルシクロヘキサン類、シアノ置換フェニルピリミジン類、アルコキシ置換フェニルピリミジン類、フェニルジオキサン類、トラン類およびアルケニルシクロヘキシルベンゾニトリル類から選ばれる棒状液晶化合物を用いてもよい。
【００２８】
特に好ましい液晶化合物Ａ０の例としては、以下一般式（ＩＩ）で表される化合物が挙げられる。
Ｌ1−Ｇ1−Ｄ1−Ａｒ−Ｄ2−Ｇ2−Ｌ2 一般式（ＩＩ）
式中、Ｄ1およびＤ2は、それぞれ独立に、−ＣＯ−Ｏ−、−Ｏ−ＣＯ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｏ−Ｃ（＝Ｓ）−、−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＲ3Ｒ4−、−Ｏ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−、−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ1Ｒ2−、−ＣＲ1Ｒ2−Ｏ−ＣＯ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＣＲ1Ｒ2−ＣＯ−Ｏ−ＣＲ3Ｒ4−、−ＮＲ1−ＣＲ2Ｒ3−、−ＣＲ1Ｒ2−ＮＲ3−、−ＣＯ−ＮＲ1−、または−ＮＲ1−ＣＯ−を表し、
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、または炭素数１〜４のアルキル基を表し、
Ｇ1およびＧ2は、それぞれ独立に炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−Ｎ（Ｒ6）−で置換されていてもよく、Ｒ6は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｌ1およびＬ2は、それぞれ独立に、１価の有機基を表し、Ｌ1およびＬ2からなる群から選ばれる少なくとも一種が、重合性基を有する１価の基を表し、
Ａｒは下記一般式（ＩＩ−１）、（ＩＩ−２）、（ＩＩ−３）、または（ＩＩ−４）で表される２価の芳香環基を表し：
【００２９】
【化２】
2016053709.tif 000004
【００３０】
式（ＩＩ−１）〜（ＩＩ−４）中、Ｑ1は、−Ｓ−、−Ｏ−、またはＮＲ11−を表し、
Ｒ11は、水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ｙ1は、炭素数６〜１２の芳香族炭化水素基、または、炭素数３〜１２芳香族複素環基を表し、
Ｚ1、Ｚ2、および、Ｚ3は、それぞれ独立に、水素原子または炭素数１〜２０の脂肪族炭化水素基、炭素数３〜２０の脂環式炭化水素基、１価の炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、−ＮＲ12Ｒ13またはＳＲ12を表し、Ｚ1およびＺ2は、互いに結合して芳香環または芳香族複素環を形成してもよく、Ｒ12およびＲ13は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表し、
Ａ1およびＡ2は各々独立に、−Ｏ−、−ＮＲ21−（Ｒ21は水素原子または置換基を表す。）、−Ｓ−およびＣＯ−からなる群から選ばれる基を表し、Ｘは水素原子または置換基が結合していてもよい第１４〜１６族の非金属原子を表しＡｘは芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、Ａｙは水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基、または、芳香族炭化水素環および芳香族複素環からなる群から選ばれる少なくとも一つの芳香環を有する、炭素数２〜３０の有機基を表し、ＡｘおよびＡｙが有する芳香環は置換基を有していてもよく、ＡｘとＡｙは結合して、環を形成していてもよく、
Ｑ2は、水素原子、または、置換基を有していてもよい炭素数１〜６のアルキル基を表す。
【００３１】
一般式（ＩＩ）で表される化合物の各置換基の定義および好ましい範囲については、特開２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＤ1、Ｄ2、Ｇ1、Ｇ2、Ｌ1、Ｌ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ1、Ｙ1、Ｑ1、Ｑ2に関する記載をそれぞれＤ1、Ｄ2、Ｇ1、Ｇ2、Ｌ1、Ｌ2、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｘ1、およびＹ1、Ｚ1、Ｚ2について参照でき、
特開２００８−１０７７６７号公報に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡ1、Ａ2、およびＸに関する記載をそれぞれＡ1、Ａ2、およびＸについて参照でき、ＷＯ２０１３／０１８５２６に記載の一般式（Ｉ）で表される化合物についてのＡｘ、Ａｙ、Ｑ1に関する記載をそれぞれＡｘ、Ａｙ、Ｑ2について参照できる。Ｚ3については２０１２−２１０６８号公報に記載の化合物（Ａ）に関するＱ1に関する記載を参照できる。
【００３２】
特に、Ｌ1、Ｌ2で示される有機基としては、それぞれ、特に、−Ｄ3−Ｇ3−Ｓｐ−Ｐ3で表される基であることが好ましい。Ｄ3は、Ｄ1と同義である。Ｇ3は、単結合、炭素数６〜１２の２価の芳香環基もしくは複素環基、または炭素数５〜８の２価の脂環式炭化水素基を表し、上記脂環式炭化水素基に含まれるメチレン基は、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ7−で置換されていてもよく、ここでＲ7は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｓｐは、単結合、−（ＣＨ2）n−、−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、−Ｏ−（ＣＨ2）n−、−Ｏ−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−Ｏ−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｏ−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）m、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ8）−（ＣＨ2）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ8）−（ＣＨ2）n−Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ8）−（ＣＨ2−Ｏ−）n−、−Ｃ（＝Ｏ）−Ｎ（Ｒ8）−（ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−）mで表されるスペーサー基を表す。ここで、ｎは２〜１２の整数を表し、ｍは２〜６の整数を表し、Ｒ8は水素原子または炭素数１〜６のアルキル基を表す。Ｐ3は重合性基を示す。
【００３３】
重合性基は特に限定されないが、ラジカル重合またはカチオン重合可能な重合性基が好ましい。ラジカル重合性基としては、一般に知られているラジカル重合性基を用いることができ、好適なものとして、アクリロイル基またはメタアクリロイル基を挙げることができる。この場合、重合速度はアクリロイル基が一般的に速いことが知られており、生産性向上の観点からアクリロイル基が好ましいが、メタアクリロイル基も高複屈折性液晶の重合性基として同様に使用することができる。カチオン重合性基としては、一般に知られているカチオン重合性を用いることができ、具体的には、脂環式エーテル基、環状アセタール基、環状ラクトン基、環状チオエーテル基、スピロオルソエステル基、ビニルオキシ基などを挙げることができる。中でも、脂環式エーテル基、ビニルオキシ基が好適であり、エポキシ基、オキセタニル基、ビニルオキシ基が特に好ましい。
特に好ましい重合性基の例としては下記が挙げられる。
【００３４】
【化３】
2016053709.tif 000005
【００３５】
なお、本明細書において、「アルキル基」は、直鎖状、分枝鎖状、または環状のいずれでもよい。例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，１−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
一般式（ＩＩ）で表される化合物として好ましい例を以下に示すが、これらに特に限定されない。
【００３６】
【化４】
2016053709.tif 000006
【００３７】
【化５】
2016053709.tif 000007
【００３８】
【化６】
2016053709.tif 000008
【００３９】
【化７】
2016053709.tif 000009
【００４０】
【化８】
2016053709.tif 000010
【００４１】
【化９】
2016053709.tif 000011
【００４２】
【化１０】
2016053709.tif 000012
【００４３】
【化１１】
2016053709.tif 000013
【００４４】
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物における液晶化合物Ａ０の量は、ポジティブＡプレート形成用組成物全固形分質量の５０〜９８質量％が好ましく、７０〜９５質量％がより好ましい。
【００４５】
（架橋性ポリマー）
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物は架橋性ポリマーを含んでいることも好ましい。架橋性ポリマーは、架橋性基（重合性基）を有するポリマーで、かつ液晶性を有さないポリマー（非液晶性ポリマー）を意味し、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物からポジティブＡプレートＡ−０を形成する際に空気界面に偏在して表面を平滑化するレベリング機能を発現するとともにポジティブＣプレートの配向膜に代わる機能を有すると推定される。即ち、架橋性ポリマーがポジティブＡプレートの空気界面側に移行して架橋性ポリマーを多く含む表面濃縮領域が形成され、ポジティブＣプレートもしくは他方のポジティブＡプレートなどの上層中の液晶性化合物を配向させることができる。
【００４６】
例えば、架橋性ポリマーがポジティブＡプレートＡ−０の空気界面に偏在してホメオトロピック配向膜として機能して、上層中の液晶化合物Ｃである重合性棒状液晶化合物が垂直配向し、ポジティブＣプレートが作製されていてもよい。その結果、ポジティブＡプレートＡ−０とポジティブＣプレートとが直接接しており、かつポジティブＡプレートＡ−０のポジティブＣプレート側界面に架橋性ポリマーが偏在している光学フィルムが得られる。
【００４７】
なお、架橋性ポリマーの層中での偏在は、スパッタを用いたＸＰＳ（Ｘ線光電子分光）や断面ＴＯＦ−ＳＩＭＳなどによる元素・フラグメントの深さ方向分析、もしくは同装置を用いたフィルム断面の同評価によって分布状態を観測することにより、確認することができる。なお、液晶化合物Ｃについては後述する。
【００４８】
また、架橋性ポリマーは、架橋性基を架橋させることで、ポジティブＡプレートの表面べたつきを抑えることが可能であり、上層のポジティブＣプレート形成時に、液晶性化合物および用いる塗布溶剤などに対して溶解耐性を付与することが可能となり、著しく配向膜機能を向上させることができる。
【００４９】
上記観点、即ち、充分なレベリング機能を発現するとともに、充分な表面濃縮領域形成性を示すためには、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物に用いる架橋性ポリマーは、用いる液晶性化合物Ａ−０に対して疎水性が高いことが好ましい。架橋性ポリマーの疎水性を大きく高めることで、表面への偏在が促進されて表面濃縮領域を形成させることが可能である。
好ましい架橋性ポリマーの例としては下記一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を有するポリマーが挙げられる。
【００５０】
【化１２】
2016053709.tif 000014
【００５１】
一般式（ＩＩＩ）中、Ｒ31は水素原子もしくは炭素原子数１〜４のアルキル基を表し、好ましくは水素原子もしくはメチル基である。Ｐ31はエチレン性不飽和基を含む一価の基であり、Ｌ31は単結合もしくは二価の連結基であり、好ましくは単結合、−Ｏ−、アルキレン基、アリーレン基および＊側で主鎖に連結する、＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、＊−ＯＣＯ−、＊−ＮＨＣＯ−である。Ｐ31はエチレン性不飽和基を含む一価の基である。好ましいＰ31としては、アクリロイル基、メタクリロイル基およびスチリル基から選ばれる基を含む一価の基であり、最も好ましくはアクリロイル基およびメタクリロイル基から選ばれる基を含む一価の基である。
【００５２】
一般式（ＩＩＩ）中、好ましい組合せとしては、Ｒ31が水素原子またはメチル基、Ｌ31がアリーレン基、＊−ＣＯＯ−、＊−ＣＯＮＨ−、または＊−ＯＣＯ−Ｐ31がアクリロイル基、メタクリロイル基、およびスチリル基から選ばれる基を含む一価の基である。
【００５３】
以下に一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位の好ましい具体例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５４】
【化１３】
2016053709.tif 000015
【００５５】
【化１４】
2016053709.tif 000016
【００５６】
【化１５】
2016053709.tif 000017
【００５７】
【化１６】
2016053709.tif 000018
【００５８】
【化１７】
2016053709.tif 000019
【００５９】
一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、複数種の一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位で構成されたコポリマーであってもよく、また、一般式（ＩＩＩ）以外の繰り返し単位（例えばエチレン性不飽和基を含まない繰り返し単位または重合性基を含まない繰り返し単位）を含んだコポリマーでもよい。
一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーは、一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を、０．５質量％以上１００質量％以下含んでいることが好ましく、２質量％以上１００質量％以下含んでいることがより好ましく、５質量％以上１００質量％以下含んでいることがさらに好ましい。また、一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーの好ましい分子量範囲は、重量平均分子量で１０００〜１００万であり、さらに好ましくは３０００〜２０万であり、最も好ましくは５０００〜１０万である。
本発明における重量平均分子量とは、ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）によりポリスチレン換算で測定される平均分子量を言うものとする。具体的な測定条件の一例としては、以下の測定条件を挙げることができる。
ＧＰＣ装置：ＨＬＣ−８３２０（東ソー製）：
カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺＭ−Ｈ、ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ４０００、ＴＳＫ ｇｅｌ ＳｕｐｅｒＨＺ２０００併用、（東ソー製、４．６ｍｍＩＤ(内径)×１５．０ｃｍ）
溶離液：テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）
一般式（ＩＩＩ）で表される繰り返し単位を含む架橋性ポリマーについては、特開２００４−２３８４３１号公報の段落＜００５２＞〜＜００８２＞の記載を参照できる。
【００６０】
ポジティブＡプレートＡ−０上にラビング操作を行って直接ポジティブＣプレートを積層する場合において、ポジティブＡプレートＡ−０に添加する架橋性ポリマーについては、架橋後にラビングを行なって積層するポジティブＣプレートに配向規制力を付与する際の操作適正の観点から、膜表面にある程度の柔軟性を与える架橋性ポリマーが好ましい。具体的には、架橋後の架橋性ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）がラビングを行う温度（室温）以下であることが好ましい。例えば、Ｔｇが−１０℃〜２５℃であることが好ましく、０℃〜１５℃程度であることがより好ましい。
このような架橋性ポリマーの具体例としては、上記のＡ−３、Ａ−４、Ａ−１０、Ａ−１９、Ａ−２０、Ａ−２３〜Ａ−４４で表される繰り返し単位を有するポリマーなどが挙げられる。
【００６１】
架橋性ポリマーのガラス転移温度とは、その温度以上で高分子差のミクロブラウン運動が発現する温度であり、例えば、この温度以上にすることで高分子鎖が延伸されやすくなり、延伸後の高分子をＴｇ以下にすることで、延伸した状態を凍結（すなわち固定化）することが可能となる。
【００６２】
配向膜をラビングすることによって液晶が配向する要因としては諸説が唱えられているが、そのうちの有力な説の一つとして、配向膜高分子基板表面のラビングによる微視的な延伸に沿って液晶層が配向するというものがある。
非晶性高分子膜をラビング操作して延伸する場合、そのフィルムのＴｇよりやや高い温度で行われるのが一般的であり、Ｔｇ以下では破断が起こりやすくなる。一方、非晶性高分子をＴｇよりもはるかに低い温度で延伸した場合、ラビングによる延伸が起こらず配向規制力が発現しないため無配向状態になる。
以上の観点から、ＡプレートのＣプレート界面側に架橋性ポリマーを偏在させた表面濃縮領域の配向規制力等の諸物性を推定する上で架橋性ポリマーのガラス転移温度は有益な指標として用いることができる。
【００６３】
フィルムのＴｇは、熱重量測定・示差熱分析（ＴＧ／ＤＴＡ）、示差走査熱量分析（ＤＳＣ）、熱機械分析（ＴＭＡ）、動的粘弾性分析（ＤＭＡ）、誘電分析（ＤＥＡ）などによって測定することができる。配向膜のラビングでは配向膜表面のポリマー鎖の延伸を行っているが、ラビング操作はポリマーのＴｇに応じた温度で行われるのが好ましい。
【００６４】
たとえば、液晶便覧 P226(K.Miyano, Phys. Rev. Lett. 43, 51 (1979), K. Okano and J. Murakami, J. Phys. (Paris), 40, C3-525 (1979)J. M. Geary, J. W. Goodby, A.R.Kmetz, and J.S.Patel, J.Appl.Phys., 62, 4100, (1987))に記載されているように、通常、フィルム等の表面に形成した配向膜では、ラビング処理によって配向膜の空気界面近傍に存在する配向膜ポリマーの主鎖もしくは側鎖が延伸され、これを配向の原動力として液晶化合物の配向が誘起されてると言われている。
このため、架橋反応後の架橋性ポリマーのＴｇは、ラビング処理を行う環境温度±３０℃程度であることが好ましく、さらに好ましくはラビング処理を行う環境温度−３０〜＋１５℃であり、特に好ましいのはラビング処理を行う環境温度−３０〜＋０℃の範囲にあることである。
本発明の実施例の様にラビングを室温で行う場合では、このましい架橋後の架橋性ポリマーのＴｇは、−１０〜３５℃であり、さらに好ましくは−１０〜２５℃であり、特に好ましいのは０〜２０℃の範囲にあることである。
【００６５】
架橋性ポリマー等のＴｇは、（１）架橋する前のポリマーを入手できた場合、（２）架橋する前のポリマーを入手することができ、かつ、架橋させる操作をすることができた場合、（３）フィルムに含まれた状態で架橋性ポリマー（架橋反応実施済）を入手できた場合などに応じて以下のように設定すればよい。
（１）架橋性ポリマーは、架橋密度が４０〜１００％において架橋反応後のガラス転移温度が３０〜４０℃程度向上するため、具体的には、架橋反応前の架橋性ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）が｛ラビングを行う温度（室温）−３０℃｝以下であることが好ましい。例えば、硬化前のＴｇが−５０℃〜−５℃であることが好ましく、−４０℃〜−１０℃程度であることがより好ましい。
（２）開始剤を添加した架橋性ポリマーを単独でガラス上に塗布し、ポジティブＡプレートを作製する際と同じ条件で硬化を行った場合に、架橋性ポリマーは、架橋反応後の架橋性ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）がラビングを行う温度（室温）以下であることが好ましい。例えば、硬化後のＴｇが−１０℃〜２５℃であることが好ましく、０℃〜１５℃程度であることがより好ましい。
（３）架橋性ポリマーは、上述のように架橋性ポリマー単体ではなく、層中に含まれている状態であってもガラス転移温度（Ｔｇ）を測定することができる。具体的には、nanoscale Thermal Analysis（nano-TA）による表面分析をすることによって、層の表面に偏在した架橋反応後の架橋性ポリマーのガラス転移温度(Tg)を、調べることができる。このとき、最表面に偏在する架橋反応後の架橋性ポリマーのガラス転移温度（Ｔｇ）がラビングを行う温度（室温）以下であることが好ましい。例えば、硬化後のＴｇが−１０℃〜２５℃であることが好ましく、０℃〜１５℃程度であることがより好ましい。
【００６６】
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物中に含まれる架橋性ポリマーの含有量は、光学特性を損なわないように液晶性化合物よりも少ないこと、すなわち液晶化合物が主成分であることが好ましく、液晶化合物の総質量に対して０．０１〜２０質量％、より好ましくは０．１〜１０質量％、特に好ましくは０．５〜５質量％である。また、複数種の架橋性ポリマーを同時に含んでいてもよく、また架橋性基を有さないポリマーと併用してもよい。
【００６７】
また、液晶からなる層を多層積層する場合にも架橋性ポリマーを好ましく用いることができる。
例えば、位相差や波長分散性の制御の観点で、上述の態様のうちポジティブＡプレートＡ−０をポジティブＡプレートＡ−１とポジティブＡプレートＡ−２との積層体として、ポジティブＡプレートＡ−１／ポジティブＡプレートＡ−２／ポジティブＣプレートの３層で構成させた場合で説明する。
ポジティブＡプレートＡ−２とポジティブＣプレートとの界面の関係は上述のポジティブＡプレートＡ−０／ポジティブＣプレートと同様であるため、説明は省略する。
一方で、ポジティブＡプレートＡ−１に架橋性ポリマーを添加した場合のポジティブＡプレートＡ−１とポジティブＡプレートＡ−２の界面については、ポジティブＡプレートＡ−１用形成組成物に架橋性ポリマーを添加すると、ポジティブＡプレートＡ−０と同様に架橋性ポリマーがポジティブＡプレートＡ−１の空気界面側に移行して架橋性ポリマーを多く含む表面濃縮領域が形成される。
この架橋性ポリマーの表面濃縮領域が形成されることにより、ポジティブＡプレートＡ−１を形成する液晶性化合物の界面近傍での影響が緩和され、ポジティブＡプレートＡ−１とは異なる光学軸、つまり液晶化合物の配向方向が異なるポジティブＡプレートＡ−２の形成をより容易とすることができる。
【００６８】
具体的な構成を上げるとポジティブＡプレートＡ−１形成用組成物に棒状液晶化合物と架橋性ポリマーを添加して液晶化合物を配向させてその状態を固定したポジティブＡプレートＡ−１を形成する。その際にはポジティブＡプレートＡ−１の表面には架橋性ポリマーの表面濃縮領域を形成させておき、この表面濃縮領域を設けた表面に架橋性ポリマーのＴｇに適した温度下でラビング処理を行った後、棒状液晶化合物と架橋性ポリマーを含有するポジティブＡプレートＡ−２用形成用組成物を積層し、液晶化合物の配向と固定および架橋性ポリマーの表面濃縮領域を形成させておき、ポジティブＡプレートＡ−２を形成する。
ポジティブＡプレートＡ−２の表面にポジティブＡプレートＡ−２用形成用組成物中の架橋性ポリマーのＴｇに適した温度下でラビング処理を行った後、ポジティブＣプレート形成用組成物を積層し、液晶化合物の配向と固定を行って、ポジティブＡプレートＡ−１／ポジティブＡプレートＡ−２／ポジティブＣプレートＣの３層で構成された光学フィルムを生成させることができる。
【００６９】
このとき、ポジティブＡプレートＡ−１のＲｅ(５５０)を２８０ｎｍ、ポジティブＡプレートＡ−１とポジティブＡプレートＡ−２の遅相軸がなす角度を６０°とし、ポジティブＡプレートＡ−２のＲｅ(５５０)を１１０ｎｍ、ポジティブＣプレートのＲｔｈ(５５０)を１１０ｎｍの構成とすると、ポジティブＡプレートＡ−０のＲｅ(５５０)が１３０ｎｍ、ポジティブＣプレートのＲｔｈ(５５０)が１００ｎｍとした光学フィルムの光学補償能と同様な光学フィルムが得られる。
多層構成とすることで各層の設計の自由度が増し、素材選択などが行いやすくなることがある。また、各層の光学設計、特に波長分散の観点ではポジティブＡプレートＡ−１の波長分散性を順分散から逆分散まで適宜調整することにより、光学フィルム全体の波長分散性の調整が容易となる。
【００７０】
（チルト角制御剤）
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物はチルト角制御剤を含んでいてもよい。チルト角制御剤を添加することにより液晶化合物Ａ０の支持体側あるいは空気界面側（製造時）の極角を制御することができる。
チルト角制御剤は、一例としてフルオロ脂肪族基含有モノマーの共重合体をもちいることができ、芳香族縮合環官能基との共重合体、あるいはカルボキシル基、スルホ基またはホスホノキシ基もしくはその塩を含むモノマーとの共重合体を用いることが好ましい。また、複数のチルト角制御剤を用いることにより、さらに精密かつ安定に制御可能となる。このようなチルト角制御剤としては、特開２００８−２５７２０５号公報の段落００２２〜００６３、特開２００６−９１７３２号公報の段落００１７〜０１２４の記載を参酌できる。
なお、チルト制御剤を用いる以外に液晶化合物の傾斜角を制御する手段としては、ラビング条件を制御した配向膜によりプレ傾斜角を付与する方法がある。この様なプレ傾斜角を付与する配向膜とチルト制御剤は併用することもできる。
【００７１】
（重合開始剤）
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物は、重合開始剤を含んでいてもよい。重合開始剤は、液晶化合物が重合性基を有する場合や重合性化合物を含む場合に好ましく配合される。重合開始剤の具体例としては、α−カルボニル化合物（米国特許２３６７６６１号、同２３６７６７０号の各明細書記載）、アシロインエーテル（米国特許２４４８８２８号明細書記載）、α−炭化水素置換芳香族アシロイン化合物（米国特許２７２２５１２号明細書記載）、多核キノン化合物（米国特許３０４６１２７号、同２９５１７５８号の各明細書記載）、トリアリールイミダゾールダイマーとｐ−アミノフェニルケトンとの組み合わせ（米国特許３５４９３６７号明細書記載）、アクリジンおよびフェナジン化合物（特開昭６０−１０５６６７号公報、米国特許４２３９８５０号明細書記載）、オキサジアゾール化合物（米国特許４２１２９７０号明細書記載）、アシルフォスフィンオキシド化合物（特公昭６３−４０７９９号公報、特公平５−２９２３４号公報、特開平１０−９５７８８号公報、特開平１０−２９９９７号公報記載）が含まれる。
【００７２】
重合開始剤として、光重合開始剤の具体的な例としてはＢＡＳＦ社から市販されているイルガキュア（Irgacure）シリーズ（例えば、イルガキュア６５１、イルガキュア７５４、イルガキュア１８４、イルガキュア２９５９、イルガキュア９０７、イルガキュア３６９、イルガキュア３７９、イルガキュア８１９など）、ダロキュア（Darocure)シリーズ（例えば、ダロキュアＴＰＯ、ダロキュア１１７３など）、クオンタキュア（Quantacure）ＰＤＯ、ランベルティ(Lamberti）社から市販されているエザキュア（Ezacure）シリーズ（例えば、エザキュアＴＺＭ、エザキュアＴＺＴ、エザキュアＫＴＯ４６など）等が挙げられる。
光重合開始剤の使用量は、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物の固形分の０．０１〜２０質量％であることが好ましく、０．５〜５質量％であることがさらに好ましい。
【００７３】
（非液晶性の重合性化合物）
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物は、前述の架橋性ポリマー以外に非液晶性の重合性化合物を含んでいてもよい。
液晶化合物とともに使用する非液晶性の重合性化合物としては、液晶化合物Ａ０と相溶性を有し、液晶化合物の傾斜角変化や配向阻害を著しく引き起こさない限り、特に限定はない。これらの中では重合活性なエチレン性不飽和基、例えばビニル基、ビニルオキシ基、アクリロイル基およびメタクリロイル基などを有する化合物が好ましく用いられる。
非液晶性の重合性化合物は、反応性官能基数が２以上の重合性化合物を用いることが、配向膜とポジティブＡプレート間の密着性を高める効果が期待できるため、特に好ましい。重合性化合物は、ポリマーでもよいが、モノマー（例えば、分子量２０００以下）が好ましい。
ポジティブＡプレートがスメクチック相を示す場合、非液晶性の多官能重合性化合物を加えることによりスメクチック相の層間が非液晶性の多官能重合性化合物で連結されることになり層間の近接が抑止できるため、配向欠陥を抑止する効果を期待できる。
【００７４】
非液晶性の重合性化合物の具体例としては、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル（例、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート）、ビニルベンゼンおよびその誘導体（例、１，４−ジビニルベンゼン、４−ビニル安息香酸−２−アクリロイルエチルエステル、１，４−ジビニルシクロヘキサノン）、ビニルスルホン（例、ジビニルスルホン）、アクリルアミド（例、メチレンビスアクリルアミド）およびメタクリルアミドが挙げられる。
非液晶性の重合性化合物は、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物に１種類のみ含まれていてもよいし、２種類以上含まれていてもよい。非液晶性の重合性化合物の含有量は、液晶化合物に対して一般に０．５〜５０質量％の範囲にあり、１〜３０質量％の範囲にあることが好ましい。
【００７５】
（溶剤）
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物は、溶剤を含んでいてもよい。組成物の溶剤としては、有機溶剤が好ましく用いられる。有機溶剤の例には、アミド（例、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド）、スルホキシド（例、ジメチルスルホキシド）、ヘテロ環化合物（例、ピリジン）、炭化水素（例、ベンゼン、ヘキサン）、アルキルハライド（例、クロロホルム、ジクロロメタン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸ブチル）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン）、エーテル（例、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン）が含まれる。アルキルハライドおよびケトンが好ましい。溶剤は、１種類のみでも、２種類以上の有機溶剤を併用してもよい。溶剤は、組成物の固形分濃度が１０〜５０質量％となるように調整されるのが好ましい。
【００７６】
（その他の添加剤）
光ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物は、上記以外に、表面性状や表面形状を制御するための界面活性剤、液晶化合物のチルト角を制御するための添加剤（配向助剤）、配向温度を低下させる添加剤（可塑剤）、重合性モノマー、その他機能性を付与するための薬剤等を含んでいてもよい。
【００７７】
（ポジティブＡプレートＡ−０の製造方法）
ポジティブＡプレートＡ−０は、支持体表面に、または支持体上に形成された配向膜の表面に、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物を適用し、硬化させて製造することができる。また、偏光膜（例えば、ポリビニルアルコールフィルム）の表面をラビング処理し、その表面にポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物を適用し、硬化させることでも製造することができる。
【００７８】
（配向処理と配向膜）
ポジティブＡプレートＡ−０を形成する際には、組成物中の液晶化合物の分子を所望の配向状態にするための技術が必要になる。例えば、配向膜を利用して、液晶化合物を所望の方向に配向させる技術が一般的である。配向膜としては、ポリマー等の有機化合物からなるラビング処理膜や無機化合物の斜方蒸着膜、マイクログルーブを有する膜、あるいはω−トリコサン酸やジオクタデシルメチルアンモニウムクロライド、ステアリル酸メチルの如き有機化合物のラングミュア・ブロジェット法によるＬＢ膜を累積させた膜などが挙げられる。さらに光の照射で配向機能が生じる配向膜なども挙げられる。配向膜としては、ポリマー層の表面をラビング処理して形成されたものが好ましい。ラビング処理は、ポリマー層の表面を紙や布で一定方向に数回こすることにより実施される。配向層に使用するポリマーの種類は、ポリイミド、ポリビニルアルコール、特許第３９０７７３５号公報の段落番号＜００７１＞〜＜００９５＞に記載の変性ポリビニルアルコール、特開平９−１５２５０９号公報に記載された重合性基を有するポリマー等を好ましく使用することができる。配向層の厚さは配向機能を提供できれば厚い必要はなく、０．０１〜５μｍであることが好ましく、０．０５〜２μｍであることがさらに好ましい。配向膜は、ラビング処理を施されたラビング処理面を有する。ラビング処理としては一般的なラビング処理方法を利用することができ、例えば、配向膜の表面を、ラビングロールで摺ることによって実施できる。長尺状のポリマーフィルムからなる支持体上に連続的に配向膜を形成する態様では、製造適性の観点では、ラビング処理の方向（ラビング方向）は、支持体の長手方向と一致していることが好ましい。偏光膜の表面に直接ポジティブＡプレートを形成する場合も同様である
【００７９】
配向膜としては光配向性の素材に偏光または非偏光を照射して配向膜とした、いわゆる光配向膜を用いることが最も好ましい態様である。光配向膜には、垂直方向または斜め方向から偏光照射する工程、または、斜め方向から非偏光照射する工程により配向規制力を付与することが好ましい。
光配向膜では、上記のような非接触の光照射によって光配向材料を配向させるため、ラビングのような不均一な物理的凹凸形状が発生しにくい。そのため、光配向膜を利用して作製した光学フィルムを用いた液晶表示装置では光漏れが低減され、高コントラストが実現できる。光配向膜の利用によっては、例えば、垂直方向からの光照射によってプレ傾斜角が０°である対称性に優れた配向膜を作製することができる。得られた配向膜を利用することによっては、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物中の液晶化合物を優れた対称性で水平配向させることが可能である。そのため、光配向膜を利用して形成されたポジティブＡプレートを含む光学フィルムは、特にＩＰＳモード液晶表示装置のように駆動液晶のプレ傾斜角が必要無い液晶表示装置における光学補償に有用である。
【００８０】
光配向膜に用いられる光配向材料としては、例えば、特開２００６−２８５１９７号公報、特開２００７−７６８３９号公報、特開２００７−１３８１３８号公報、特開２００７−９４０７１号公報、特開２００７−１２１７２１号公報、特開２００７−１４０４６５号公報、特開２００７−１５６４３９号公報、特開２００７−１３３１８４号公報、特開２００９−１０９８３１号公報、特許第３８８３８４８号、特許第４１５１７４６号に記載のアゾ化合物、特開２００２−２２９０３９号公報に記載の芳香族エステル化合物、特開２００２−２６５５４１号公報、特開２００２−３１７０１３号公報に記載の光配向性単位を有するマレイミドおよび／またはアルケニル置換ナジイミド化合物、特許第４２０５１９５号、特許第４２０５１９８号に記載の光架橋性シラン誘導体、特表２００３−５２０８７８号公報、特表２００４−５２９２２０号公報、特許第４１６２８５０号に記載の光架橋性ポリイミド、ポリアミド、またはエステル、特開平９−１１８７１７号公報、特表平１０−５０６４２０号公報、特表２００３−５０５５６１号公報、ＷＯ２０１０/１５０７４８号、特開２０１３−１７７５６１号公報、特開２０１４−１２８２３号公報に記載の光二量化可能な化合物、特にシンナメート化合物、カルコン化合物、クマリン化合物が挙げられる。特に好ましい例としては、アゾ化合物、光架橋性ポリイミド、ポリアミド、エステル、シンナメート化合物、カルコン化合物が挙げられる。
【００８１】
（塗布方法）
配向膜または偏光膜の表面にポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物を塗布する際の方法としてはカーテンコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、印刷コーティング法、スプレーコーティング法、スロットコーティング法、ロールコーティング法、スライドコーティング法、ブレードコーティング法、グラビアコーティング法、ワイヤーバー法等の公知の方法が挙げられる。
その他、ポジティブＡプレートの製造方法の詳細は、特開２００８−２２５２８１号公報や特開２００８−０２６７３０号公報の記載を参酌できる。
【００８２】
（液晶化合物の配向）
ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物の硬化の前には、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物の塗布層の液晶化合物Ａの配向処理を行う。配向処理は、室温等により乾燥させる、または加熱することにより、行うことができる。配向処理で形成される液晶相は、サーモトロピック性液晶化合物の場合、一般に温度または圧力の変化により転移させることができる。リオトロピック性をもつ液晶化合物の場合には、溶媒量等の組成比によっても転移させることができる。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する場合、ネマチック相を発現する温度領域の方が、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域よりも高いことが普通である。従って、棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域まで棒状液晶化合物を加熱し、次に、加熱温度を棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域まで低下させることにより、棒状液晶化合物をネマチック相からスメクチック相に転移させることができる。このような方法をスメクチック相とすることで、液晶化合物が高秩序度で配向したポジティブＡプレートを提供できる。
棒状液晶化合物がネマチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がモノドメインを形成するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、1０秒間〜３分間がさらに好ましく、1０秒間〜２分間が最も好ましい。
棒状液晶化合物がスメクチック相を発現する温度領域では、棒状液晶化合物がスメクチック相を発現するまで一定時間加熱する必要がある。加熱時間は、１０秒間〜５分間が好ましく、１０秒間〜３分間がさらに好ましく、１０秒間〜２分間が最も好ましい。
【００８３】
［配向状態の固定］
配向状態の固定は、熱重合や活性エネルギー線による重合で行うことができ、その重合に適した重合性基や重合開始剤を適宜選択することで行うことができる。製造適性等を考慮すると紫外線照射による重合反応を好ましく用いることができる。紫外線の照射量が少ないと、未重合の重合性棒状液晶が残存し、光学特性の温度変化や、経時劣化の起きる原因となる。
そのため、残存する重合性棒状液晶の割合が５%以下になる様に照射条件を決めることが好ましく、その照射条件は重合性組成物の処方やポジティブＡプレートの膜厚にもよるが目安として２００ｍＪ／ｃｍ2以上の照射量で行われることが好ましい。
【００８４】
＜ポジティブＣプレート＞
本発明のポジティブＣプレートは、液晶化合物がホメオトロピック配向をしている。ホメオトロピック配向とは、液晶化合物の分子長軸が垂直方向に配向している状態を意味する。ポジティブＣプレートは、スメクチック相またはネマチック相を示すことが好ましく、スメクチック相を示すことがより好ましい。スメクチック相であると液晶分子の重心位置が揃った高秩序のレイヤー構造を取るためホメオトロピック配向を取り易く、基材の層形成面(下地面)の配向規制力が弱い場合であっても良好なホメオトロピック配向の液晶層を得ることができる。本発明では、配向膜を形成することなく、ポジティブＡプレートの表面に直接に配向秩序の高いスメクチック相やネマチック相を示すポジティブＣプレートを形成できるため、薄膜化しつつ、高いコントラストを達成できる。
【００８５】
ポジティブＣプレートの膜厚は、０．３〜３．０μｍが好ましく、０．５〜２．８μｍがより好ましく、０．９〜２．５μｍがさらに好ましく、１．０〜１．５μｍが最も好ましい。
【００８６】
また、ポジティブＣプレートは、−５≦Ｒｅ（５５０）≦５（｜Ｒｅ（５５０）｜≦５）を満たすことが好ましく、−３≦Ｒｅ（５５０）≦３（｜Ｒｅ（５５０）｜≦３）を満たすことがより好ましい。
また、ポジティブＣプレートは、−３００≦Ｒｔｈ（５５０）≦０を満たすことが好ましく、−２００≦Ｒｔｈ（５５０）≦−６０を満たすことがより好ましく、−１８０≦Ｒｔｈ（５５０）≦−８０を満たすことがさらに好ましい。このような範囲とすることにより、ＩＰＳ用液晶表示装置に組み込んだときにより効果的に本発明の効果が発揮される。
【００８７】
[ポジティブＣプレート形成用組成物]
本発明の光学フィルムにおけるポジティブＣプレートは液晶化合物Ｃを含むポジティブＣプレート形成用組成物の硬化物からなる。本明細書において、液晶化合物ＣはポジティブＣプレート形成用組成物に含まれる全ての液晶化合物を示し、１つの液晶化合物からなるものであっても２種以上の液晶化合物の混合物であってもよい。
【００８８】
ポジティブＣプレート形成用組成物は、液晶化合物Ｃを含み、さらに、必要に応じて、重合開始剤、溶剤等が配合される。ポジティブＣプレート形成用組成物は、さらに、後述の垂直配向剤を含むことが好ましい。
【００８９】
（液晶化合物Ｃ）
液晶化合物Ｃとしては、棒状液晶化合物が好ましい。液晶化合物Ｃは、スメクチック相またはネマチック相の液晶状態を呈する液晶化合物が好ましく、製造条件等の観点からネマチック相の液晶状態を呈する液晶化合物を用いてもよく、前述の観点からスメクチック相の液晶状態を呈する液晶化合物を用いてもよい。
液晶化合物Ｃとしては、従来公知のいずれの液晶化合物を用いてもよく、液晶化合物Ａ０と同様の液晶化合物を用いることもできる。
また、液晶化合物Ｃは、下記一般式（ＩＡ）で表される化合物および下記一般式（ＩＩＡ）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも１種の化合物を含有することが最も好ましい。
【００９０】
【化１８】
2016053709.tif 000020
【００９１】
一般式（ＩＡ）および一般式（ＩＩＡ）中、Ｒ101〜Ｒ104は、各々独立に、−（ＣＨ2）n−ＯＯＣ−ＣＨ＝ＣＨ2で、ｎは２〜８の整数を表す。Ｘ101およびＹ101は各々独立に、水素原子またはメチル基を表す。
結晶析出を抑止する観点から、一般式（ＩＡ）または（ＩＩＡ）において、Ｘ101およびＹ101がメチル基を表すことが好ましい。液晶としての性質を示す観点から、ｎは４〜８の整数であることが好ましい。
【００９２】
ポジティブＣプレート形成用組成物における液晶化合物Ｃの量は、全固形分の５０〜９８質量％が好ましく、７０〜９５質量％がより好ましい。
【００９３】
（垂直配向剤）
ポジティブＣプレート形成用組成物は、垂直配向剤を含んでいることが好ましい。垂直配向剤を配合することにより、ポジティブＡプレート界面での液晶化合物の配向をより効果的に行うことができる。垂直配向剤は、ボロン酸化合物および／またはオニウム塩を用いることが好ましい。
ボロン酸化合物の具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
【００９４】
【化１９】
2016053709.tif 000021
【００９５】
式中、Ｒ51およびＲ52はそれぞれ独立に、水素原子、置換若しくは無置換の、脂肪族炭化水素基、アリール基、またはヘテロ環基を表す。Ｒ53は、（メタ）アクリル基と結合し得る官能基を含む置換基を表す。
ボロン酸化合物の具体例としては、特開２００８−２２５２８１号公報の段落番号００２３〜００３２に記載の一般式（Ｉ）で表されるボロン酸化合物を用いることができる。また、下記に示すボロン酸化合物も好ましく用いられる。
【００９６】
【化２０】
2016053709.tif 000022
【００９７】
オニウム塩の具体例としては、下記式で表される化合物が挙げられる。
【化２１】
2016053709.tif 000023
【００９８】
式中、環Ａは含窒素複素環からなる第４級アンモニウムイオンを表し、Ｘはアニオンを表し；Ｌ51は二価の連結基を表し；Ｌ52は単結合または二価の連結基を表し；Ｙ51は５または６員環を部分構造として有する２価の連結基を表し；Ｚは２〜２０のアルキレン基を部分構造として有する２価の連結基を表し；Ｐ51およびＰ52はそれぞれ独立に重合性エチレン性不飽和基を有する一価の置換基を表す。
オニウム塩の例の具体例としては、特開２０１２−２０８３９７号公報の段落番号００５２〜００５８に記載のオニウム塩、特開２００８−０２６７３０号公報の段落番号００２４〜００５５に記載のオニウム塩、特開２００２−３７７７７号公報に記載のオニウム塩が挙げられる。
【００９９】
垂直配向剤は、ポジティブＣプレート形成用組成物に含まれる液晶化合物の総質量に対し、０．１〜５質量％が好ましく、０．５〜３質量％がより好ましい。垂直配向剤は、１種類のみ含んでいてもよいし、２種類以上含んでいてもよい。２種類以上含む場合、その合計量が上記範囲となる。
さらに、ポジティブＣプレート形成用組成物は、重合開始剤、非液晶性の重合性化合物、溶剤、その他の添加剤等を含んでいてもよい。これらの詳細は、ポジティブＡプレート形成用組成物に関する記載を参酌でき、好ましい範囲や配合量等も同じである。
【０１００】
（ポジティブＣプレートの製造方法）
ポジティブＣプレートは、ポジティブＡプレートの表面に、ポジティブＣプレート形成用組成物を塗布することによって形成することが好ましい。ポジティブＣプレートの製造方法は、ポジティブＡプレートの表面に直接にポジティブＣプレート形成用組成物を適用すること、および、ポジティブＣプレート形成用組成物の組成を除き、ポジティブＡプレートの製造方法の記載を参酌できる。
【０１０１】
＜支持体＞
本発明の光学フィルムは支持体を含んでいてもよい。支持体は、ポジティブＡプレートＡ−０形成用組成物を塗布するための基材として機能や、ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートの層形状を維持するための機能を有する層である。支持体は上述の重合性組成物を塗布するための基材として用いられてポジティブＡプレートまたはポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを形成後、剥離される仮支持体であってもよい。すなわち、本発明の光学フィルムは支持体を含んでいなくてもよい。ポジティブＡプレートまたはポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートを形成後、剥離して用いる場合は剥離しやすい表面性状の材質を用いてもよく、このような形成用の仮支持体としては、ガラスや易接着処理をしていないポリエステルフィルムなどを用いることができる。
支持体（仮支持体）としては、プラスチックフィルムの他、ガラス等を用いてもよい。プラスチックフィルムの例としては、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などのポリエステル、ポリカーボネート、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン、ポリアミド、ポリオレフィン、セルロース誘導体、シリコーン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）などが挙げられる。
支持体の膜厚としては、５μｍ〜１０００μｍ程度であればよく、１０μｍ〜２５０μｍが好ましく、１５μｍ〜９０μｍがより好ましい。
なお、支持体、配向膜はそれぞれの機能を果たす層を別々に設けてもよいし、単一の層で両方の機能を兼ね備えてもよい。
例えば、ポリマーフィルムと積層をせずに、偏光膜をラビング処理または光配向処理してポジティブＡプレートを形成した薄膜の偏光板を液晶セルなどのガラス基板上に直接作製してもよい。
【０１０２】
＜光学フィルムの用途＞
本発明の光学フィルムは、例えば、液晶セルを光学補償するための光学補償フィルムや、有機ＥＬ表示装置に用いられる広帯域λ／４板の位相差板として有用である。広帯域λ／４板の位相差板は有機ＥＬ表示装置において偏光膜と組み合わせて反射防止板として用いることができる。
【０１０３】
（光学補償フィルム）
光学補償フィルムは、液晶表示装置（ＬＣＤ）の光学補償用途に好適に用いられ、斜め方向から視認した時の色味変化や黒表示時の光漏れを改善することができる。
例えば、ＩＰＳ液晶表示装置の偏光膜と液晶セルの間に光学補償フィルムを設けることができる。
【０１０４】
光学補償フィルムは、例えば、光学フィルムと偏光膜とを積層して偏光板の一部として使用することができる。本発明の光学フィルムが、支持体を有する場合、支持体側から見てポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレート側の面で偏光膜と積層されていてもよく、その反対側の面で、偏光膜と積層されていてもよい。
偏光膜、ポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレートがこの順となるように光学フィルムと偏光膜とを積層するときは、ポジティブＡプレートの遅相軸方向と偏光膜の吸収軸方向とのなす角は９０°±１０°の範囲であることが好ましい。
偏光膜、ポジティブＣプレートおよびポジティブＡプレートをこの順がこの順となるように光学フィルムと偏光膜とを積層するときは、ポジティブＡプレートの遅相軸方向と偏光膜の吸収軸方向が平行であることが好ましい。
【０１０５】
（反射防止板）
反射防止板は、本発明の光学フィルムと、偏光膜を用いて構成される。
反射防止板は、液晶表示装置（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、エレクトロルミネッセンスディスプレイ（ＥＬＤ）や陰極管表示装置（ＣＲＴ）のような画像表示装置の反射防止用途に好適に用いられ、表示光のコントラスト比を向上させることができる。
例えば、有機ＥＬ表示装置の光取り出し面側に反射防止板を用けることができる。この場合、外光は偏光膜によって直線偏光となり、次に位相差板を通過することで、円偏光となる。これが有機ＥＬパネルの金属電極等にて反射された際に円偏光状態が反転し、再び位相差板を通過した際に、入射時から９０°傾いた直線偏光となり、偏光膜に到達して吸収される。結果として、外光の影響を抑制することができる。
【０１０６】
反射防止板は、例えば、光学フィルムと、偏光膜とを接着剤等により貼り合わせるや偏光膜上に直接形成することにより製造することができる。本発明の光学フィルムが、支持体を有する場合、支持体側から見てポジティブＡプレートおよびポジティブＣプレート側の面で偏光膜と接着されていてもよく、その反対側の面で、偏光膜と接着されていてもよい。
反射防止板のポジティブＡプレートの遅相軸方向と偏光膜の吸収軸方向とのなす角は４５°±１０°の範囲であることが好ましい。
【０１０７】
反射防止板の製造の際は、例えば、光学フィルムと偏光膜とが、それぞれ長尺の状態で連続的に積層される工程を含むことが好ましい。長尺の反射防止板は、用いられる画像表示装置の画面の大きさに合わせて裁断される。
【０１０８】
反射防止板は光学フィルムおよび偏光膜以外の層を含んでいてもよい。
例えば、反射防止板は、偏光膜の光学フィルムが配置されている面の反対側の面に保護膜および／または機能層を含んでいてもよい。
保護膜としては、光学的等方性が高いセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
機能層としては、反射防止層、防眩層、およびハードコート層からなる群から選択される少なくとも１つが挙げられる。これらは公知の層材料が使用される。なお、これらの層は、複数層が積層してもよい。
【０１０９】
反射防止層は、上述の本発明の光学フィルムと偏光板から構成されるいわゆる円偏光板の反射防止板とは異なり、光の干渉を用いた構造により反射を低下させる構造体を指す。反射防止層は、最も単純な構成として、低屈折率層のみからなる構成であってもよい。更に反射率を低下させるには、屈折率の高い高屈折率層と、屈折率の低い低屈折率層を組み合わせて反射防止層を構成することが好ましい。構成例としては、下側から順に、高屈折率層／低屈折率層の２層のものや、屈折率の異なる３層を、中屈折率層（下層よりも屈折率が高く、高屈折率層よりも屈折率の低い層）／高屈折率層／低屈折率層の順に積層されているもの等があり、更に多くの反射防止層を積層するものも提案されている。中でも、耐久性、光学特性、コストや生産性等から、ハードコート層上に、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の順に有することが好ましく、例えば、特開平８−１２２５０４号公報、特開平８−１１０４０１号公報、特開平１０−３００９０２号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２０００−１１１７０６号公報等に記載の構成が挙げられる。また、膜厚変動に対するロバスト性に優れる３層構成の反射防止フィルムは特開２００８−２６２１８７号公報記載されている。上記３層構成の反射防止フィルムは、画像表示装置の表面に設置した場合、反射率の平均値を０．５％以下とすることができ、映り込みを著しく低減することができ、立体感に優れる画像を得ることができる。また、各層に他の機能を付与させてもよく、例えば、防汚性の低屈折率層、帯電防止性の高屈折率層、帯電防止性のハードコート層、防眩性のハードコート層としたもの（例、特開平１０−２０６６０３号公報、特開２００２−２４３９０６号公報、特開２００７−２６４１１３号公報等）等が挙げられる。
【０１１０】
（偏光膜）
偏光膜（偏光子層）は、自然光を特定の直線偏光に変換する機能を有するいわゆる直線偏光膜であればよい。偏光膜としては、特に限定されないが、吸収型偏光子を利用することができる。
偏光膜の種類は特に制限はなく、通常用いられている偏光膜を利用することができ、例えば、ヨウ素系偏光膜、二色性染料を利用した染料系偏光膜、およびポリエン系偏光膜、ワイヤーグリッドを用いた偏光子のいずれも用いることができる。ヨウ素系偏光膜、および染料系偏光膜は、一般に、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸することで作製される。
偏光膜の膜厚は５０μｍ以下であればよく、３０μｍ以下が好ましく、２０μｍ以下がより好ましい。また、偏光膜の膜厚は、通常、１μｍ以上、５μｍ以上、または８μｍ以上であればよい。
【０１１１】
また、本発明に用いられる偏光膜として、サーモトロピック液晶性二色性色素を用い、塗布等により作製した塗布型偏光膜を用いることも好ましい。塗布型偏光膜を用いることにより、ポリビニルアルコールを延伸した偏光膜に対して、さらなる薄膜化が実現できる。また、曲げ等の外力が付加された場合においても、光学特性の変化が少ない偏光板を提供できる。
【０１１２】
上述した塗布型偏光膜の膜厚としては、２５０ｎｍ以上であればよく、３５０ｎｍ以上が好ましく、４５０ｎｍ以上がより好ましい。
また、１０００ｎｍ以下が好ましく、８００ｎｍ以下がより好ましい。
【０１１３】
上述した塗布型偏光膜は、サーモトロピック液晶性二色性色素の少なくとも１種を含む二色性色素組成物から形成される。二色性色素組成物は、非着色性の液晶性化合物の占める割合が３０質量％以下であることが好ましい。
【０１１４】
上述したサーモトロピック液晶性二色性色素としては、特開２０１１−２３７５１３号公報に記載の光吸収性異方性膜に用いられるサーモトロピック液晶性二色性色素が挙げられる。
【０１１５】
本発明に用いられるサーモトロピック液晶性二色性色素の具体例を以下に示すが、これらの化合物に限定されるものではない。
【０１１６】
【化２２】
2016053709.tif 000024
【０１１７】
【化２３】
2016053709.tif 000025
【０１１８】
【化２４】
2016053709.tif 000026
【０１１９】
（接着剤）
光学フィルム、反射防止板、有機ＥＬ表示装置等の作製の際は、各部材の貼合のために接着剤を用いてもよい。本明細書において、「接着」は「粘着」も含む概念で用いられる。接着剤としては特に限定はないが、ポリビニルアルコール系接着剤、ホウ素化合物水溶液、特開 ２００４−２４５９２５号公報に示されるような、分子内に芳香環を含まないエポキシ化合物の硬化性接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の３６０〜４５０ｎｍの波長におけるモル吸光係数が４００以上である光重合開始剤と紫外線硬化性化合物とを必須成分とする活性エネルギー線硬化型接着剤、特開２００８−１７４６６７号公報記載の（メタ）アクリル系化合物の合計量１００質量部中に（ａ）分子中に（メタ）アクリロイル基を２以上有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｂ）分子中に水酸基を有し、重合性二重結合をただ１個有する（メタ）アクリル系化合物と、（ｃ）フェノールエチレンオキサイド変性アクリレートまたはノニルフェノールエチレンオキサイド変性アクリレートとを含有する活性エネルギー線硬化型接着剤などが挙げられる。
【０１２０】
なお、ポリビニルアルコール系接着剤は変性または未変性ポリビニルアルコールを含む接着剤である。ポリビニルアルコール系接着剤は、変性または未変性ポリビニルアルコールのほか、架橋剤を含有していてもよい。接着剤の具体例としては、ポリビニルアルコールまたはポリビニルアセタール（例、ポリビニルブチラール）の水溶液や、ビニル系ポリマー（例、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリブチルアクリレート）のラテックスが挙げられる。特に好ましい接着剤は、ポリビニルアルコールの水溶液である。このとき、ポリビニルアルコールは完全鹸化されたものが好ましい。
接着剤により形成される接着層の膜厚は、乾燥膜厚で０．０１〜１０μｍが好ましく、０．０５〜５μｍが特に好ましい。
【０１２１】
＜有機ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）表示装置＞
本発明の光学フィルムまたは反射防止板は、画像表示装置に使用することが可能である。画像表示装置としては、前述のＩＰＳ型液晶表示装置以外に、有機ＥＬ表示装置、液晶表示装置などが挙げられる。有機ＥＬ表示装置を一例として説明すると、反射防止板は、例えば、偏光膜、光学フィルム、有機ＥＬパネルがこの順になるように設けられていればよい。
【０１２２】
有機ＥＬパネルは、陽極、陰極の一対の電極間に発光層もしくは発光層を含む複数の有機化合物薄膜を形成した部材であり、発光層のほか正孔注入層、正孔輸送層、電子注入層、電子輸送層、保護層などを有してもよく、またこれらの各層はそれぞれ他の機能を備えたものであってもよい。各層の形成にはそれぞれ種々の材料を用いることができる。
【０１２３】
陽極は正孔注入層、正孔輸送層、発光層などに正孔を供給するものであり、金属、合金、金属酸化物、電気伝導性化合物、またはこれらの混合物などを用いることができ、好ましくは仕事関数が４ｅＶ以上の材料である。具体例としては酸化スズ、酸化亜鉛、酸化インジウム、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の導電性金属酸化物、あるいは金、銀、クロム、ニッケル等の金属、さらにこれらの金属と導電性金属酸化物との混合物または積層物、ヨウ化銅、硫化銅などの無機導電性物質、ポリアニリン、ポリチオフェン、ポリピロールなどの有機導電性材料、およびこれらとＩＴＯとの積層物などが挙げられ、好ましくは、導電性金属酸化物であり、特に、生産性、高導電性、透明性等の点からＩＴＯが好ましい。陽極の膜厚は材料により適宜選択可能であるが、通常１０ｎｍ〜５μｍの範囲のものが好ましく、より好ましくは５０ｎｍ〜１μｍであり、更に好ましくは１００ｎｍ〜５００ｎｍである。
【実施例】
【０１２４】
以下に実施例と比較例を挙げて本発明の特徴をさらに具体的に説明する。以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順等は、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。したがって、本発明の範囲は以下に示す具体例により限定的に解釈されるべきものではない。
【０１２５】
［実施例１−１］
＜支持体のアルカリ鹸化処理＞
支持体として、市販されているトリアセチルセルロースフィルム「Ｚ−ＴＡＣ」（富士フイルム社製）を用いた。温度６０℃に調整した誘電式加熱ロール支持体を通過させ、支持体のフィルム表面温度を４０℃に昇温した後に、フィルムの片面に下記に示す組成のアルカリ溶液を、バーコーターを用いて塗布量１４ｍｌ／ｍ2で塗布し、１１０℃に加熱した。その後、支持体を（株）ノリタケカンパニーリミテド製スチーム式遠赤外ヒーターの下に、１０秒間搬送した。続いて、アルカリ溶液を塗布した面上に同じくバーコーターを用いて、純水を３ｍｌ／ｍ2塗布した。次いで、ファウンテンコーターによる水洗とエアナイフによる水切りをそれぞれ３回繰り返した後に、７０℃の乾燥ゾーンに１０秒間搬送して乾燥し、アルカリ鹸化処理した透明支持体を作製した。
【０１２６】
───────────────────────────────────
アルカリ溶液の組成（質量部）
───────────────────────────────────
水酸化カリウム                                          ４．７質量部
水                                                    １５．８質量部
イソプロパノール                                      ６３．７質量部
界面活性剤
ＳＦ−１：Ｃ14Ｈ29Ｏ（ＣＨ2ＣＨ2Ｏ）20Ｈ                １．０質量部
プロピレングリコール                                  １４．８質量部
───────────────────────────────────
【０１２７】
＜配向膜１の作製＞
上記透明支持体を用い、下記の組成の配向膜１形成用塗布液を＃８のワイヤーバーでアルカリ鹸化処理した面に連続的に塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒、塗布面を乾燥し、配向膜１を形成した。
───────────────────────────────────
配向膜１形成用塗布液の組成
───────────────────────────────────
下記変性ポリビニルアルコール                              ２．４質量部
イソプロピルアルコール                                    １．６質量部
メタノール                                                  ３６質量部
水                                                          ６０質量部
───────────────────────────────────
【０１２８】
【化２５】
2016053709.tif 000027
【０１２９】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（１）の作製＞
続いて、下記のポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１の組成
───────────────────────────────────
逆波長分散液晶性化合物  Ｒ−１                            １００質量部
光重合開始剤                                              ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ                                          ０．８質量部
クロロホルム                                              ５８８質量部
──────────────────────────────────―
【０１３０】
【化２６】
2016053709.tif 000028
【０１３１】
表面に配向膜１を有する上記透明支持体の表面にラビング処理を施した。ラビング処理を施した面上にポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、塗膜の温度、いわゆる膜面温度１２０℃で６０秒間加熱熟成して、等方相としてからネマチック相を発現させるため、７０℃まで冷却した後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（１）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（１）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行であった（逆波長分散液晶性化合物がラビング方向に対して平行に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８４、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０２、光軸のチルト角が０．４°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。このときの膜厚は約1.8μmであった。
【０１３２】
＜ポジティブＣプレート１−１の作製＞
変性ポリビニルアルコールを市販の未変性ポリビニルアルコールＰＶＡ１０３（クラレ社製）に変更した以外は配向膜１形成用塗布液と同様の組成である塗布液を用い、仮支持体用ポリエチレンテレフタレート上に配向膜１と同様の手順で配向膜１−１を作製した。この上に、ポジティブＣプレート形成用下記塗布液１−１を塗布し、６０℃６０秒間加熱熟成させた後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより、重合性棒状液晶化合物を垂直配向させ、ポジティブＣプレート１−１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−１１０ｎｍ、光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物はホメオトロピック配向であった。このときの膜厚は約1.5μmであった。
【０１３３】
───────────────────────────────────
ポジティブＣプレート形成用塗布液１−１の組成
───────────────────────────────────
液晶化合物Ｂ０１                                            ８０質量部
液晶化合物Ｂ０２                                            ２０質量部
垂直配向剤（Ｓ０１）                                          １質量部
垂直配向剤（Ｓ０２）                                      ０．５質量部
エチレンオキサイド変成トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                          ８質量部
イルガキュアー９０７（ＢＡＳＦ製）                            ３質量部
カヤキュアーＤＥＴＸ（日本化薬（株）製）                      １質量部
Ｂ０３                                                    ０．４質量部
メチルエチルケトン                                        １７０質量部
シクロヘキサノン                                            ３０質量部
───────────────────────────────────
【０１３４】
【化２７】
2016053709.tif 000029
【０１３５】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（１）およびポジティブＣプレート１−１の貼合＞
上記で作製したポジティブＡプレートＡ−０（１）の液晶層面側に、粘着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を用いて上記ポジティブＣプレート１−１の液晶層面側を貼合した。貼合後に仮支持体用ポリエチレンテレフタレートを剥離して、光学フィルム１を作製した。
【０１３６】
＜偏光板１−１の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。ついで、再度、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。
以下に示す手順で偏光膜を作製した。厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続してＭＤ（搬送）方向に５倍延伸し、乾燥させて厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
上記の偏光膜の一方の面に上記で作製した光学フィルム１の支持体（トリアセチルセルロースフィルム）を貼り合わせ、さらに偏光膜の他方の面には上記でアルカリ鹸化処理をしたセルローストリアセテートフィルム貼り合わせることで、偏光膜を挟みこみ、偏光膜の保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬと光学フィルム１を用いた偏光板１−１を作製した。貼合には、ポリビニルアルコール系接着剤水溶液を利用した。また、貼合は、ポジティブＡプレートＡ−０（１）の遅相軸と、偏光膜の吸収軸が直交になるように行った。
【０１３７】
［実施例１−２］
＜偏光板１−２の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬し、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。再度、室温の水洗浴槽中で洗浄した後、更に１００℃の温風で乾燥した。
実施例１−１と同様の手順で厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続してＭＤ方向に５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
上記の偏光膜の一方の面に上記で作製した光学フィルム１のポジティブＣプレート面側を貼り合わせ、さらに偏光膜の他方の面には上記でアルカリ鹸化処理をしたセルローストリアセテートフィルム貼り合わせることで、偏光膜の保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬと光学フィルム１を用いた偏光板１−２を作製した。貼合には、ポリビニルアルコール系接着剤水溶液を利用した。また、貼合は、ポジティブＡプレートＡ−０（１）の遅相軸と、偏光膜の吸収軸が平行になるように行った。
【０１３８】
［実施例２］
＜ポジティブＡプレートＡ−０（２）の作製＞
下記のポジティブＡプレート用塗布液２を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液２の組成
───────────────────────────────────
逆波長分散液晶性化合物  Ｒ−２                            １００質量部
光重合開始剤                                              ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ                                          ０．８質量部
架橋性ポリマー  Ｏ−２                                    ０．３質量部
クロロホルム                                              ５８８質量部
──────────────────────────────────―
【０１３９】
【化２８】
2016053709.tif 000030
【０１４０】
実施例１−１と同様の手順で表面に配向膜１を有するトリアセチルセルロースフィルムを作製した、配向膜１にラビング処理を施した。ラビング処理面上にポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液２を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１５０℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（２）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（２）は、ラビング方向に対して遅相軸方向が平行であった（逆波長分散液晶性化合物がラビング方向に対して平行に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０１、光軸のチルト角が０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。
【０１４１】
＜ポジティブＣプレート１−１の作製＞
上記で作製したポジティブＡプレートＡ−０（２）の上にラビング方向が配向膜１と同一方向となる様に直接ラビング処理した後、実施例１−１で用いたポジティブＣプレート形成用塗布液１−１を塗布し、６０℃６０秒間加熱熟成させた。その後、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、ポジティブＣプレート１−１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは−１１０ｎｍ、光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物がホメオトロピック配向であることを確認した。このときの膜厚は１．２μｍであった。
【０１４２】
＜偏光板２の作製＞
光学フィルム１の代わりに、上記作製したポジティブＡプレートＡ−０（２）およびポジティブＣプレート１−１の積層体を用いる以外は、実施例１−１と同様の操作を行い、偏光板２を作製した。
【０１４３】
［実施例３］
＜光配向膜３付き偏光板の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。
実施例１−１と同様の手順で厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中でＭＤ方向に連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。上記の偏光膜の一方の面に上記でアルカリ鹸化処理をした保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬを貼り合わせた偏光板を作製した。この偏光板の他方の表面に、下記の組成の光配向膜３形成用塗布液をワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、光配向膜３付き偏光板を作製した。
───────────────────────────────────
光配向膜３形成用塗布液の組成
───────────────────────────────────
下記光配向用素材Ｐ−１                                    １．０質量部
ブトキシエタノール                                          ３３質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル                      ３３質量部
水                                                          ３３質量部
───────────────────────────────────
【０１４４】
【化２９】
2016053709.tif 000031
【０１４５】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（３）付き偏光板の作製＞
続いて、下記のポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液３を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液３の組成
───────────────────────────────────
逆波長分散液晶性化合物  Ｒ−３                            １００質量部
光重合開始剤                                              ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ                                          ０．８質量部
架橋性ポリマー  Ｏ−２                                    ０．３質量部
クロロホルム                                              ５８８質量部
──────────────────────────────────―
【０１４６】
【化３０】
2016053709.tif 000032
【０１４７】
作製した光配向膜３付き偏光板に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を光配向膜３の面と平行に、かつ、ワイヤーグリッド偏光子の透過軸と光配向膜３付き偏光板の吸収軸が平行になるようにセットして露光し、光配向処理を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１４８】
次いで、光配向処理面上にポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液３を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度１００℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（３）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（３）は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が直交（すなわち、偏光板の吸収軸とも直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して直交に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８３、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０５、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。
【０１４９】
＜偏光板３の作製＞
上記ポジティブＡプレートＡ−０（３）の上に直接、実施例１−１のポジティブＣプレート形成用塗布液１−１を塗布し、６０℃６０秒間加熱熟成させた後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、ポジティブＣプレート１−１を作製した。光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物がホメオトロピック配向であることを確認した。また、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ製）を用いてポジティブＣプレートのレターデーションのみを測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１１０ｎｍであった。このようにして、偏光板にポジティブＡプレートＡ−０（３）とポジティブＣプレート３が直接積層された、偏光板３を作製した。
【０１５０】
［実施例４］
＜光配向膜４の作製＞
実施例１−１と同様の手順で鹸化処理したトリアセチルセルロースフィルムを用い、実施例３で調整した光配向膜３形成用塗布液をワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒乾燥し、光配向膜４付きセルローストリアセテートフィルムを形成した。
【０１５１】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（４）の作製＞
続いて、下記のポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液４を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液４の組成
───────────────────────────────────
逆波長分散液晶性化合物  Ｒ−４                            １００質量部
光重合開始剤                                              ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ                                          ０．８質量部
架橋性ポリマー  Ｏ−２                                    ０．３質量部
クロロホルム                                              ５８８質量部
──────────────────────────────────―
【０１５２】
【化３１】
2016053709.tif 000033
【０１５３】
作製した光配向膜４付きセルローストリアセテートフィルムに、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を光配向膜４の面と平行になるようにセットして露光を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１５４】
次いで、光配向処理面上にポジティブＡプレートＡ−０用塗布液４を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度１１５℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（４）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（４）は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が直交であった（逆波長分散液晶性化合物Ｒ−４が偏光照射方向に対して直交に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．８８、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．００、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。
【０１５５】
＜ポジティブＣプレート４の作製>
上記ポジティブＡプレートＡ−０（４）の上に上述の偏光照射方向と直交する方向にラビングした後、直接、実施例１のポジティブＣプレート用塗布液１−１を塗布し、６０℃６０秒間加熱熟成させた後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、ポジティブＣプレート４を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１１０ｎｍ、光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物がホメオトロピック配向であることを確認した。
【０１５６】
＜偏光板４の作製＞
光学フィルム１の代わりに、上記作製したポジティブＡプレートＡ−０（４）およびポジティブＣプレート４の積層体を用いる以外は、実施例１−１と同様の操作にて、偏光板４を作製した。
【０１５７】
［参考例１］
＜偏光板０の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃で０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。
以下に示す手順で偏光膜を作製した。厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
実施例１−１と同様の手順で作製したトリアセチルセルロースフィルム（「Ｚ−ＴＡＣ」）と、セルローストリアセテートフィルムのアルカリ鹸化処理を施した面とを貼合して偏光膜を挟みこみ、偏光膜の保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルム（（ＴＤ８０ＵＬ）とトリアセチルセルロースフィルムを用いて偏光板０を作製した。貼合には、ポリビニルアルコール系接着剤水溶液を利用した。
【０１５８】
［比較例１］＜ポジティブＡプレートＡ−０（５）の作製＞
下記のポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液５を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液５の組成
───────────────────────────────────
順波長分散液晶性化合物  Ｎ−１                              ４０質量部
順波長分散液晶性化合物  Ｎ−２                              ６０質量部
光重合開始剤                                              ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
含フッ素化合物Ａ                                          ０．８質量部
クロロホルム                                              ５８８質量部
──────────────────────────────────―
【０１５９】
【化３２】
2016053709.tif 000034
【０１６０】
順波長分散液晶性化合物  Ｎ−２；特許第４５９２００５号参考例２記載の「ＰａｌｉｏｃｏｌｏｒＬＣ２４２（ＢＡＳＦ社製）」
実施例１−１と同様の手順で表面に配向膜１を有するアセチルセルロース透明支持体を作製し、配向膜１にラビング処理を施した。ラビング処理面上にポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液５を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度９０℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（５）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（５）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行であった（順波長分散液晶性化合物がラビング方向に対して平行に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０９、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９５、光軸のチルト角が０°で、順波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。このときの膜厚は約１．１μmであった。
【０１６１】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（５）とポジティブＣプレート５の貼合＞
上記で作製したポジティブＡプレートＡ−０（５）の液晶層面側に、粘着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を用いて実施例１−１と同様の手順で作製したポジティブＣプレート５の液晶層面側を貼合した。貼合後に仮支持体用ポリエチレンテレフタレート透明支持体を剥離して、光学フィルム５を作製した。
【０１６２】
＜偏光板５の作製＞
セルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）の支持体表面をアルカリ鹸化処理した。具体的には、５５℃の１．５規定の水酸化ナトリウム水溶液に支持体を２分間浸漬した後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、３０℃の０．１規定の硫酸を用いて中和した。中和後、室温の水洗浴槽中で洗浄し、更に１００℃の温風で乾燥した。
実施例１−１と同様の手順で、厚さ８０μｍのロール状ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素水溶液中で連続して５倍に延伸し、乾燥して厚さ２０μｍの偏光膜を得た。
上記の偏光膜の一方の面に上記で作製した光学フィルム５の支持体（トリアセチルセルロースフィルム）を貼り合わせ、さらに偏光膜の他方の面には上記でアルカリ鹸化処理をしたセルローストリアセテートフィルム貼り合わせることで、偏光膜を挟みこみ、偏光膜の保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬと光学フィルム５を用いた偏光板５を作製した。貼合には、ポリビニルアルコール系接着剤水溶液を利用した。また、貼合は、ポジティブＡプレートＡ−０（５）の遅相軸と、偏光膜の吸収軸が直交になるように作製した。
【０１６３】
［実施例５］
＜光配向膜５付き偏光板の作製＞
実施例３と同様に手法により、片面に保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）が貼合された偏光板を準備した。
さらに、特開２０１２ー１５５３０８号公報、実施例３の記載を参考に、光配向膜用塗布液５を調製し、偏光膜の他方の面にワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒乾燥し、光配向膜５付き偏光板を作製した。
【０１６４】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（６）付き偏光板の作製＞
続いて、下記のポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液６を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液６の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記化合物Ａ−１                                          ２０．００質量部
下記液晶性化合物Ｌ−１                                    ４０．００質量部
下記液晶性化合物Ｌ−２                                    ４０．００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４、ＢＡＳＦ社製）        ３．００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）  ３．００質量部
架橋性ポリマー  Ｏ−２                                      ０．３０質量部
レベリング剤（下記化合物Ｔ−１）                            ０．２０質量部
シクロペンタノン                                        ４２３．１１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１６５】
【化３３】
2016053709.tif 000035
【０１６６】
作製した光配向膜５付き偏光板に、大気下にて超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)を光配向膜５の面と平行に、かつ、ワイヤーグリッド偏光子の透過軸と光配向膜５付き偏光板５の吸収軸が垂直になるようにセットして露光し、光配向処理を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において５００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１６７】
次いで、光配向処理面上にポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液６を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度８０℃で２０秒間加熱熟成し、５５℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（６）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（６）は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が平行（すなわち、偏光板の吸収軸とは直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して平行に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１４５ｎｍ、Ｒｔｈが７３ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９０、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０１、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。なお、ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液６のスメクチック−ネマチック相転移温度は６０℃であった。
【０１６８】
＜偏光板５の作製＞
上記ポジティブＡプレートＡ−０（６）の表面を上述の偏光照射方向と直交する方向にラビングした後、直接、実施例１−１のポジティブＣプレート形成用塗布液１−１を塗布し、６０℃６０秒間加熱熟成させた後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、ポジティブＣプレート１−１を作製した。光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物がホメオトロピック配向であることを確認した。また、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ製）を用いてポジティブＣプレートのレターデーションのみを測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１１０ｎｍであった。このようにして、偏光板にポジティブＡプレートＡ−０（６）とポジティブＣプレート１−１とが直接積層された、偏光板５を作製した。
【０１６９】
［実施例６〜８］
実施例５の偏光板の作製において、ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液６の架橋性ポリマーO-2を下記架橋性ポリマーO-６〜O-８に変更してポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液７〜９とした以外は実施例５と同様の手順に従って、偏光板６〜８を作製した。
なお、実施例８では、架橋性ポリマーＯ−８のＴｇが２０℃で、実施例３、４、６、７で使用される架橋性ポリマーＯ−２（１０℃）、Ｏ−６（１３℃）、Ｏ−７（１５℃）のＴｇより高いため、ラビングによる規制力が付与され難く、ポジティブＣプレート９の配向性が悪化しておりＲｔｈが−７０ｎｍに低下していた。
【０１７０】
【化３４】
2016053709.tif 000036
【０１７１】
［実施例９］
＜光配向膜１０付き偏光板の作製＞
実施例３と同様に手法により、片面に保護フィルムとしてセルローストリアセテートフィルムＴＤ８０ＵＬ（富士フイルム製）が貼合された偏光板を準備した。
さらに、特開２０１２ー１５５３０８号公報、実施例３の記載を参考に、光配向膜用塗布液１０を調製し、偏光膜の他方の面にワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒乾燥し、光配向膜１０付き偏光板を作製した。
【０１７２】
＜ポジティブＡプレートＡ−０（１０）付き偏光板の作製＞
続いて、下記のポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１０を作製した。
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１０の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
下記化合物Ａ−１                                          ２０．００質量部
下記液晶性化合物Ｌ−１                                    ４０．００質量部
下記液晶性化合物Ｌ−２                                    ４０．００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４、ＢＡＳＦ社製）        ３．００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）  ３．００質量部
レベリング剤（下記化合物Ｔ−１）                            ０．２０質量部
シクロペンタノン                                        ４２３．１１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７３】
作製した光配向膜１０付き偏光板に、大気下にて超高圧水銀ランプを用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子（Ｍｏｘｔｅｋ社製，ＰｒｏＦｌｕｘ  ＰＰＬ０２）を光配向膜１０の面と平行に、かつ、ワイヤーグリッド偏光子の透過軸と光配向膜１０付き偏光板の吸収軸が垂直になるようにセットして露光し、光配向処理を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において５００ｍＪ／ｃｍ2とした。
【０１７４】
次いで、光配向処理面上にポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１０を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度８０℃で２０秒間加熱熟成し、５５℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（１０）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（１０）は、偏光照射方向に対し遅相軸方向が平行（すなわち、偏光板の吸収軸とは直交）であった（逆波長分散液晶性化合物が偏光照射方向に対して平行に配向していた）。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１４５ｎｍ、Ｒｔｈが７３ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９０、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０１、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。なお、ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１０のスメクチック−ネマチック相転移温度は６０℃であった。
【０１７５】
＜偏光板９の作製＞
上記ポジティブＡプレートＡ−０（１０）の表面に直接、下記ポジティブＣプレート形成用塗布液１０を塗布し、４０℃６０秒間加熱熟成させた後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、ポジティブＣプレート１０を作製した。光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物がホメオトロピック配向であることを確認した。また、ＡｘｏＳｃａｎ（Ａｘｏｍｅｔｒｉｃｓ製）を用いてポジティブＣプレートのレターデーションのみを測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは１１０ｎｍであった。このようにして、偏光板にポジティブＡプレートＡ−０（１０）とポジティブＣプレート１０とが直接積層された、偏光板９を作製した。なお、ポジティブＣプレート９形成用塗布液１０のスメクチック−ネマチック相転移温度は５０℃であった。
【０１７６】
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
ポジティブＣプレート１０形成用塗布液１０の組成
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
上記液晶化合物Ｂ０１                                      ５０．００質量部
上記液晶性化合物Ｌ−１                                    ３２．９０質量部
上記液晶性化合物Ｌ−２                                    １７．１０質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４、ＢＡＳＦ社製）        ３．００質量部
重合開始剤（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ−０１、ＢＡＳＦ社製）  ３．００質量部
エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリアクリレート
（Ｖ＃３６０、大阪有機化学（株）製）                        ８．００質量部
レベリング剤（下記化合物Ｔ−１０−１）                      ０．４０質量部
レベリング剤（下記化合物Ｔ−１０−２）                      ０．２０質量部
シクロペンタノン                                        ２２３．１１質量部
―――――――――――――――――――――――――――――――――――――
【０１７７】
【化３５】
2016053709.tif 000037
【０１７８】
［液晶表示装置の作製］
ｉＰａｄ（光配向膜使用、Ａｐｐｌｅ社製、登録商標）の液晶セルから視認側の偏光板を剥し、光配向膜を使用したＩＰＳモードの液晶セルとして利用した。なお、セル液晶のプレチルトは０°であった。
剥がした偏光板の代わりに、上記で作製した光学フィルムを含む偏光板をポジティブＣプレートの面側を介して液晶セルに貼合し、実施例１〜４、比較例１、および参考例１の液晶表示装置を作製した。また、実施例１−１で作製した光学フィルムを含む偏光板はポジティブＡプレートの面側を介して液晶セルに貼合した。このとき、液晶セル基板面に対して垂直な方向から観察したとき、偏光板の吸収軸と、液晶セル内の液晶層の光軸とが垂直な方向になるように貼りあわせた。貼合には、接着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を利用した。
【０１７９】
＜評価１＞
表示性能の測定は、市販の液晶視野角、色度特性測定装置Ｅｚｃｏｍ（ＥＬＤＩＭ社製）を使用し、バックライトは市販の液晶表示装置ｉＰａｄ（Ａｐｐｌｅ社製、登録商標）を使用した。上記で作製した光学フィルムがバックライト側と反対側になるように偏光板を貼り合わせた液晶セルを設置して測定を行った。結果を下記表１に示す。
【０１８０】
（パネルコントラスト）
白表示におけるパネルに対して垂直方向からの輝度（Ｙｗ）および黒表示におけるパネルに対して垂直方向からの輝度（Ｙｂ）を測定し、パネルに対して垂直方向のコントラスト比（Ｙｗ／Ｙｂ）を算出し、正面コントラストとし、以下の基準で評価した。
Ａ：正面コントラストが参考例１に対して９５％以上
Ｂ：正面コントラストが参考例１に対して８５％以上９５％未満
Ｃ：正面コントラストが参考例１に対して７５％以上８５％未満
Ｄ：正面コントラストが参考例１に対して７５％未満
【０１８１】
（斜め方向の光漏れ）
上方向（方位角０〜１８０°、５°刻み）および下方向（方位角１８０〜３６０°、５°刻み）のそれぞれの黒輝度（Ｃｄ／ｍ2）の最大値を平均した値（輝度ｍａｘ）を示した。
数値が小さいほど黒表示の光漏れは少ないこと示し、下記のＡ〜Ｄの４段階で評価した。
Ａ：１以下
Ｂ：１を超え２以下
Ｃ：２を超え５以下
Ｄ：１０を超える
【０１８２】
【表１】
2016053709.tif 000038
【０１８３】
［実施例１０］
（有機ＥＬ用反射防止板の作製）
片面がトリアセチルセルロース（厚さ４０μｍ）で保護された厚さ２０μｍの偏光膜（ポリビニルアルコールにヨウ素を分散後、延伸して作製）を有する積層体を用いて、以下の手順で有機ＥＬ用反射防止板を作製した。
上記積層体の保護されていない面（延伸したポリビニルアルコールよりなる偏光膜）に対し、上記実施例１と同様に作製した、ポジティブＡプレートＡ−０（１１）とポジティブＣプレート１１（ただし、波長５５０ｎｍにおけるＲｔｈが−６５ｎｍとなるように、ポジティブＣプレートの厚みは制御している）を積層した光学フィルムを光学的に等方性の接着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を用いて貼り合わせ、有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）を作製した。このとき、偏光膜の透過軸とポジティブＡプレートＡ−０（１１）の遅相軸とのなす角は４５°とした。
【０１８４】
［実施例１１〜１３］
実施例１０の光学フィルムの作製において、ポジティブＡプレートＡ−０を実施例２〜４の方法で作製したポジティブＡプレートＡ−０（１２）〜（１４）に変更した以外は実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）１２〜１４を作製した。
なお、実施例１２では、ワイヤーグリッド偏光子を実施例３の方法で作製した光配向膜３の面と平行に、かつ、ワイヤーグリッド偏光子の透過軸と偏光板の吸収軸が４５°になるようにセットして露光を行った。
【０１８５】
［比較例２］
＜ポジティブＣプレート１５の作製＞
下記のポジティブＣプレート用塗布液１５を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＣプレート用塗布液１５の組成
───────────────────────────────────
順波長分散重合体        Ｎ−３                            １００質量部
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン                ２質量部
シクロヘキサノン                                          ５８８質量部
───────────────────────────────────
順波長分散重合体  Ｎ−３；特開２０１２−２５５９２６号実施例１記載の重合体（１）
【０１８６】
実施例１−１と同様の手順で表面に配向膜１を有するトリアセチルセルロースフィルムを作製し、表面にポジティブＣプレート用塗布液１５を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１００℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＣプレート１５を形成した。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが０ｎｍ、Ｒｔｈが−６５ｎｍ、光軸のチルト角が９０°で、順波長分散重合体はホメオトロピック配向であった。このときの膜厚は０．６μmであった。
【０１８７】
＜ポジティブＣプレート６−６とポジティブＡプレートＡ−０（１５）の積層＞
下記のポジティブＡプレート用塗布液１５を作製した。
───────────────────────────────────
ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１５の組成
───────────────────────────────────
順波長分散重合体        Ｎ−４                              ８４質量部
順分散低分子化合物      Ｎ−５                              １６質量部
４，４’−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン                ２質量部
トルエン                                                  ５８８質量部
──────────────────────────────────―
順波長分散重合体    Ｎ−４；特開２０１２−２５５９２６号実施例１記載の重合体（２）
順分散低分子化合物  Ｎ−５；特開２０１２−２５５９２６号実施例１記載の低分子（１）
【０１８８】
上記で作製したポジティブＣプレート１５の液晶層側に、ポジティブＡプレートＡ−０用塗布液１５を、バーコーターを用いて塗布した。次いで、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて紫外線を照射した。このとき、ワイヤーグリッド偏光子(Moxtek社製, ProFlux PPL02)をポジティブＣプレート１５の面と平行になるようにセットして露光を行った。この際用いる紫外線の照度はＵＶ−Ａ領域（波長３８０ｎｍ〜３２０ｎｍの積算）において１００ｍＷ／ｃｍ2、照射量はＵＶ−Ａ領域において１０００ｍＪ／ｃｍ2とした。さらに、膜面温度１００℃で６０秒間加熱熟成し、７０℃まで冷却した後に、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（１５）を形成して積層体を得た。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３０ｎｍ、Ｒｔｈが６５ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が１．１５、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９０、光軸のチルト角が０°で、順波長分散重合体はホモジニアス配向であった。
【０１８９】
実施例１０の光学フィルムを上記積層体に変更した以外は実施例１０と同様の手順に従って、有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）１５を作製した。
【０１９０】
＜有機ＥＬ素子への実装および表示性能の評価＞
（表示装置への実装）
有機ＥＬパネル搭載のＳＡＭＳＵＮＧ社製ＧＡＬＡＸＹ  ＳＩＩを分解し、円偏光板を剥離して、剥離した面に、実施例５〜８、および比較例２の反射防止板をポジティブＣプレートの面貼合し、表示装置を作製した。貼合には、光学的に等方性の接着剤（ＳＫ２０５７、綜研化学社製）を利用した。
【０１９１】
（表示性能の評価）
作製した有機ＥＬ表示装置について、明光下にて視認性および表示品位を評価した。
表示装置に白表示、黒表示、画像表示をして、正面および極角６０度から蛍光灯を映し込んだときの反射光を観察した。正面および極角６０度の表示品位を下記の基準で評価した。結果を下記表２に示す。
４：色味付きが全く視認されない。（許容）
３：色味差が視認されるものの、ごくわずか（許容）
２：色味差が視認されるが反射光は小さく、使用上問題はない。（許容）
１：色味差が視認され、反射光も多く、許容できない。
【０１９２】
【表２】
2016053709.tif 000039
【０１９３】
[実施例１４〜１６]
実施例６の有機EL用反射防止板（円偏光板）の作製において、偏光膜の厚さを８μｍ、５μｍ、３μｍに変更した以外は実施例１１と同様の手順に従って、有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）１６〜１８を作製した。
【０１９４】
＜有機EL素子への実装および表示性能の評価＞
実施例１４〜１６の有機ＥＬ用反射防止板（円偏光板）について、実施例１１と同様の手順に従って有機EL素子への実装および表示性能の評価を行った。
結果を下記表３に示す。
【０１９５】
【表３】
2016053709.tif 000040
【０１９６】
[実施例１７]
（塗布型偏光板１９の作製）
下記の塗布型偏光板用塗布液１９を作製した。
──────────────────────────────────
塗布型偏光板用塗布液１９の組成
──────────────────────────────────
二色性色素ＰＢ−９                                      ５０質量部
二色性色素Ｃ−３                                        ３０質量部
二色性色素Ｃ−１５                                      ２０質量部
含フッ素化合物Ｃ                                      ０．３質量部
クロロホルム                                        １９００質量部
──────────────────────────────────
【０１９７】
【化３６】
2016053709.tif 000041
【０１９８】
市販のＰＥＴフィルム（１６μｍ厚）の表面に、実施例１−１と同様の方法で配向膜１を形成し、ラビング処理を施した。ラビング処理面上に、塗布型偏光板用塗布液１９をバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１６０℃で１５秒間加熱熟成し、室温まで冷却し、フィルム上に偏光膜が形成された塗布型偏光板１９を得た。形成された塗布型偏光板１９はラビング方向に対して吸収軸が平行であった。偏光度は９８であった。
【０１９９】
なお、偏光度は偏光膜の透過光のうち、偏光した成分の光の強度の比率を示すものである。本発明においては、偏光膜２枚をパラニコル状態にした透過率をＴ（ｐａｒａ）、クロスニコル状態にした透過率をＴ（ｃｒｏｓｓ）とした場合に、４００ｎｍ〜７００ｎｍの波長領域において、１ｎｍ刻みで測定した下記式Ｐの平均値を偏光度とする。測定には、日本分光（株）製自動偏光フィルム測定VAP-7070を用いた。
【０２００】
【数２】
2016053709.tif 000042
【０２０１】
（有機EL用反射防止板（円偏光板）の作製）
実施例１１の有機EL用反射防止板（円偏光板）の作製において、偏光板を塗布型偏光板１７に変更した以外は実施例６と同様の手順に従って、有機EL用反射防止板（円偏光板）１９を作製した。
【０２０２】
[実施例１８]
実施例１７において、塗布型偏光板用塗布液１９のクロロホルム量を２６００質量部に変更する以外は同様に、有機EL用反射防止板（円偏光板）２０を作製した。
【０２０３】
［実施例１９］
（有機ＥＬ用反射防止板の作製）
片面に易接着層を有するポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴ；厚さ１６μｍ）を用いて、以下の手順で有機ＥＬ用反射防止板を作製した。
【０２０４】
＜配向膜２１の作製＞
上記ＰＥＴの易接着面に、下記の組成の配向膜２１形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒、塗布面を乾燥し、配向膜２１を形成した。
───────────────────────────────────
配向膜２１形成用塗布液の組成
───────────────────────────────────
下記変性ポリビニルアルコール                              ２．４質量部
イソプロピルアルコール                                    １．６質量部
メタノール                                                  ３６質量部
水                                                          ６０質量部
───────────────────────────────────
【０２０５】
【化３７】
2016053709.tif 000043
【０２０６】
＜塗布型偏光板２１の作製＞
下記の塗布型偏光板用塗布液２１を作製した。
──────────────────────────────────
塗布型偏光板用塗布液２１の組成
──────────────────────────────────
二色性色素Ｙ−２１                                      ５２質量部
二色性色素Ｍ−２１                                      ２３質量部
二色性色素Ｃ−２１−１                                  １５質量部
二色性色素Ｃ−２１−２                                  １０質量部
含フッ素化合物Ｃ                                      ０．３質量部
光重合開始剤                                          ３．０質量部
（イルガキュア８１９、ＢＡＳＦ（株）製）
クロロホルム                                        １９００質量部
──────────────────────────────────
【０２０７】
【化３８】
2016053709.tif 000044
【０２０８】
上述した配向膜２１にラビング処理を施した。ラビング処理面上に、塗布型偏光板用塗布液２１をバーコーターを用いて塗布した。次いで、膜面温度１６０℃で１５秒間加熱熟成し、室温まで冷却し、窒素下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することにより塗布型偏光板２１を形成した。形成された塗布型偏光板２１はラビング方向に対して吸収軸が平行であった。偏光度は９８であった。
【０２０９】
＜配向膜２１−１の作製＞
上記塗布型偏光板２１の表面に、上記配向膜１４形成用塗布液を＃８のワイヤーバーで塗布した。６０℃の温風で６０秒、さらに１００℃の温風で１２０秒、塗布面を乾燥し、配向膜２１−１を形成した。
【０２１０】
＜ポジティブAプレートA-0(２１)付き偏光板の作製＞
作製した配向膜２１−１を、塗布型偏光板の透過軸に対して４５°の角度でラビング処理した後、上記ポジティブＡプレートＡ−０形成用塗布液１０を、バーコーターを用いて塗布した。膜面温度８０℃で２０秒間加熱熟成し、空気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍJ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化することによりポジティブＡプレートＡ−０（２１）を形成した。形成されたポジティブＡプレートＡ−０（２１）は、ラビング方向に対し遅相軸方向が平行（すなわち、偏光板の透過軸とは４５°）であった。自動複屈折率計（ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ、王子計測機器（株）社製）を用いて、Ｒｅの光入射角度依存性および光軸のチルト角を測定したところ、波長５５０ｎｍにおいてＲｅが１３７ｎｍ、Ｒｔｈが６９ｎｍ、Ｒｅ（４５０）／Ｒｅ（５５０）が０．９０、Ｒｅ（６５０）／Ｒｅ（５５０）が１．０１、光軸のチルト角は０°で、逆波長分散液晶性化合物はホモジニアス配向であった。
【０２１１】
＜有機EL用反射防止板２１（円偏光板２１）の作製）
上記ポジティブＡプレートＡ−０（２１）の表面に直接、上記ポジティブＣプレート形成用塗布液１０を塗布し、４０℃６０秒間加熱熟成させた後に、大気下にて空冷メタルハライドランプ（アイグラフィックス（株）製）を用いて１０００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射して、その配向状態を固定化し、ポジティブＣプレート２１を作製した。波長５５０ｎｍにおいてＲｅは０ｎｍ、Ｒｔｈは−６９ｎｍ、光軸のチルト角が９０°で、重合性棒状液晶化合物がホメオトロピック配向であることを確認した。このようにして、偏光板にポジティブＡプレートＡ−０（２１）とポジティブＣプレート２１が直接積層された、円偏光板２１を作製した。
【０２１２】
＜有機EL素子への実装および表示性能の評価＞
実施例１７〜１９の反射防止板について、実施例１１と同様の手順に従って有機EL素子への実装および表示性能の評価を行った。
結果を下記表４に示す
【０２１３】
【表４】
2016053709.tif 000045