(57)【要約】【課題】ホッパーから粉体供給部へ粉体を充分に投入しつつ、ホッパー内に噴射するガス量を削減する。【解決手段】内部に貯蔵する粉体に対してガスを噴射するガス噴射部を有するホッパーと、ホッパーから投入された粉体の所定量を、供給対象物に対して供給する供給部と、を備える粉体供給装置。供給部は、所定量の粉体を充填するための粉体充填部を有し、かつ、周期的に動作する周期動作部と、周期動作部を収容する筐体と、を備え、筐体上部において粉体充填部に粉体を充填した後、筐体下部において粉体充填部から粉体を供給対象物に対して放出する動作を繰り返す。ホッパーは、粉体充填部に粉体が充填されてから、次に粉体充填部に粉体が充填されるまでの間に、周期動作部の動作に同期して、内部に貯蔵する粉体に対してガス噴射部からガスを一時的に噴射する。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
内部に貯蔵する粉体に対してガスを噴射するガス噴射部を有するホッパーと、
前記ホッパーから投入された前記粉体の所定量を、供給対象物に対して供給する供給部と、を備えた粉体供給装置であって、
前記供給部は、
前記所定量の前記粉体を充填するための粉体充填部を有し、かつ、周期的に動作する周期動作部と、
前記周期動作部を収容する筐体と、を備え、
前記筐体上部において前記粉体充填部に前記粉体を充填した後、前記筐体下部において前記粉体充填部から前記粉体を前記供給対象物に対して放出する動作を繰り返し、
ホッパーは、
前記粉体充填部に前記粉体が充填されてから、次に前記粉体充填部に前記粉体が充填されるまでの間に、前記周期動作部の動作に同期して、内部に貯蔵する前記粉体に対して前記ガス噴射部からガスを一時的に噴射する、
粉体供給装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は粉体供給装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、無機材料もしくは有機材料からなる粉体にレーザビームを照射し、焼結または溶融固化させることにより、３次元形状の積層造形物を製造する積層造形装置が注目されている。具体的には、ステージ上に粉体を敷き詰めて粉体層を形成する工程と、この粉体層の所定領域にレーザビ−ムを照射して焼結または溶融固化させることにより硬化層を形成する工程とを繰り返す。これにより、多数の硬化層を積層一体化して３次元形状の造形物を製造することができる。
【０００３】
特許文献１に開示された積層造形装置は、大型タンクに貯蔵された粉体をスキージに供給するための粉体供給部（特許文献１の図７）を備えている。具体的には、貫通孔が設けられたピストン部を後退させると、貫通孔に所定量の粉体が充填され、ピストン部を前進させると、充填された粉体が貫通孔からスキージに放出される。特許文献１に開示されたような粉体供給部の上側には、通常、大型タンクから供給される粉体を一時的に貯蔵する漏斗状のホッパーが設けられている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１５−０２０３２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ホッパーに貯蔵されている粉体がホッパーの排出口から排出される際、ホッパー内に堆積した粉体にラットホールが形成され、ホッパーの下側に設けられた粉体供給部への粉体の投入が不充分になる場合がある。このようなラットホールは、ホッパー内にガス噴射ノズルを設け、堆積した粉体にガス噴射ノズルから不活性ガスなどのガスを噴射することで解消することができる。
【０００６】
ここで、ホッパー内に堆積した粉体にガスを噴射し続ければ、充分な粉体を粉体供給部に安定して投入することはできるが、ガスの消費量が増大し、経済性に劣る。一方、ガスを噴射し続けないのであれば、適切なタイミングでガスを噴射しないと、粉体供給部への粉体の投入が不充分になる虞がある。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みなされたものであって、ホッパーから粉体供給部へ粉体を充分に投入しつつ、ホッパー内に噴射するガス量を削減することができる粉体供給装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明に係る粉体供給装置は、
内部に貯蔵する粉体に対してガスを噴射するガス噴射部を有するホッパーと、
前記ホッパーから投入された前記粉体の所定量を、供給対象物に対して供給する供給部と、を備えた粉体供給装置であって、
前記供給部は、
前記所定量の前記粉体を充填するための粉体充填部を有し、かつ、周期的に動作する周期動作部と、
前記周期動作部を収容する筐体と、を備え、
前記筐体上部において前記粉体充填部に前記粉体を充填した後、前記筐体下部において前記粉体充填部から前記粉体を前記供給対象物に対して放出する動作を繰り返し、
ホッパーは、
前記粉体充填部に前記粉体が充填されてから、次に前記粉体充填部に前記粉体が充填されるまでの間に、前記周期動作部の動作に同期して、内部に貯蔵する前記粉体に対して前記ガス噴射部からガスを一時的に噴射するものである。
前記ガス噴射部と前記周期動作部とが同一の駆動源により駆動されることが好ましい。
前記駆動源は、圧縮空気を用いたエア駆動源であることが好ましい。
【０００９】
本発明に係る粉体供給装置では、供給部における周期動作部の動作により、周期動作部に設けられた粉体充填部への粉体の充填と、粉体充填部からの粉体の放出とを繰り返す。そして、粉体充填部に粉体が充填されてから、次に粉体充填部に粉体が充填されるまでの間に、周期動作部の動作に同期して、ホッパーが内部に貯蔵する粉体に対してガス噴射部からガスを一時的に噴射する。そのため、粉体充填部に粉体を充填してから、次に粉体充填部に粉体を充填するまでの間に、供給部へ粉体を充分に投入しておくことができる。また、ホッパー内にガスを噴射し続けるのではなく、一時的にガスを噴射するため、ガスを噴射し続ける場合に比べ、ガス量を削減することができる。すなわち、ホッパーから供給部へ粉体を充分に投入しつつ、ホッパー内に噴射するガス量を削減することができる。
【００１０】
なお、前記ガス噴射部と前記周期動作部とが同一の駆動源により駆動されることが好ましい。
また、前記駆動源は、圧縮空気を用いたエア駆動源であることが好ましい。
【発明の効果】
【００１１】
本発明により、ホッパーから粉体供給部へ粉体を充分に投入しつつ、ホッパー内に噴射するガス量を削減することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１の実施形態に係る粉体供給装置が適用される積層造形装置の一例を示す模式的断面図である。
【図２】粉体供給装置２が備えるホッパー５０の模式的断面図である。
【図３】粉体供給装置２が備えるホッパー５０の模式的断面図である。
【図４】第１の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。
【図５】第１の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。
【図６】第１の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。
【図７】第２の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。
【図８】第２の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を適用した具体的な実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。ただし、本発明が以下の実施形態に限定される訳ではない。また、説明を明確にするため、以下の記載及び図面は、適宜、簡略化されている。
【００１４】
（第２の実施形態）
まず、図１を用いて本実施形態に係る粉体供給装置が適用される積層造形装置について説明する。図１は、第１の実施形態に係る粉体供給装置が適用される積層造形装置の一例を示す模式的断面図である。図１に示すように、積層造形装置１は、粉体供給装置２、ベース１１、定盤１２、造形槽１３、造形槽支持部１４、造形槽駆動部１５、支柱１６、支持部１７、レーザスキャナ１８、光ファイバ１９、レーザ発振器２０、スキージ３１、減圧装置３９、及び粉体貯蔵部４０を備える。
ここで、本実施形態に係る粉体供給装置２は、ホッパー５０及び供給部７０を備えている。
【００１５】
なお、図１その他の図面に示した右手系ｘｙｚ座標は、構成要素の位置関係を説明するための便宜的なものであるが、図面間において相互に対応している。通常、ｘｙ平面が水平面を構成し、ｚ軸プラス向きが鉛直上向きとなる。
【００１６】
ベース１１は、定盤１２及び支柱１６を固定するための台である。ベース１１は、定盤１２が載置される上面が水平になるように、床面に設置される。
定盤１２は、ベース１１の水平な上面に載置、固定されている。定盤１２の上面も水平であって、この定盤１２の上面（ステージ）に粉体が敷き詰められ、３次元造形物２７が形成されていく。図１の例では、定盤１２は、四角柱状の部材である。図１に示すように、定盤１２の上面の周縁全体に、水平方向に張り出したフランジ状の凸部１２ａが形成されている。凸部１２ａの外周面が全体に亘り造形槽１３の内側面と接触しているため、定盤１２の上面及び造形槽１３の内側面に囲われた空間に、積層された粉体層２６を保持することができる。本実施形態において、粉体は、例えば鉄粉などの金属材料である。
【００１７】
造形槽１３は、定盤１２の上面に敷き詰められた粉体を側面から保持する筒状の部材である。造形槽１３の上部開口端である造形部２５に粉体層２６を形成し、この粉体層２６にレーザビーム２２を照射することにより硬化層を形成する。また、造形槽１３は、上下方向（鉛直方向すなわちｚ軸方向）に移動可能に設置されている。つまり、硬化層を形成する度に造形槽１３を定盤１２に対して一定量ずつ上昇させ、３次元造形物２７を形成していく。
【００１８】
造形槽支持部１４は、造形槽１３のフランジ部１３ａの上面が水平となるように、フランジ部１３ａの下面を支持している支持部材である。造形槽支持部１４は、造形槽１３を上下方向に移動させる造形槽駆動部１５の連結部１５ｃに連結されている。
【００１９】
造形槽駆動部１５は、造形槽１３を上下方向に移動させるための駆動機構である。造形槽駆動部１５は、ベース１１から鉛直方向に立設された支柱１６に固定されている。造形槽駆動部１５は、モータ１５ａ、ボールねじ１５ｂ、連結部１５ｃを備える。モータ１５ａが駆動すると、鉛直方向に延設されたボールねじ１５ｂが回転する。そして、ボールねじ１５ｂが回転すると、ボールねじ１５ｂに沿って、連結部１５ｃが上下方向に移動する。これにより、造形槽１３が上下方向に移動する。
【００２０】
レーザスキャナ１８は、造形槽１３の上部開口端である造形部２５に形成された粉体層２６に対して、レーザビーム２２を照射する。レーザスキャナ１８は、不図示のレンズ及びミラーを備えており、レーザビーム２２を水平面上において走査することができる。つまり、水平面上の任意の箇所の粉体を選択的に加熱して固化することができる。レーザビーム２２は、レーザ発振器２０において生成され、光ファイバ１９を介して、レーザスキャナ１８に導入される。レーザスキャナ１８は、支持部１７に固定されている。
【００２１】
スキージ３１は、ｙ軸方向に延設された２枚の板状部材から構成されている。また、スキージ３１は、造形槽１３の上部開口端である造形部２５を通過して、一方のフランジ部１３ａから対向するフランジ部１３ａまでｘ軸方向にスライドすることができる。２枚の板状部材からなるスキージ３１の間隙には、供給部７０から所定量の粉体が供給される。つまり、スキージ３１は、２枚の板状部材の間隙に所定量の粉体を保持し、その後、ｘ軸方向に移動することで、造形部２５に粉体層２６を形成する。
【００２２】
具体的には、３次元造形物２７を形成する際、まず造形槽駆動部１５により造形槽１３を上方向に移動する。これにより、粉体層２６の上面と造形槽１３のフランジ部１３ａの上面との間に段差が形成される。そして、図１に示すように、スキージ３１がｘ軸マイナス側のフランジ部１３ａ上に設置された状態で、スキージ３１の間隙に所定量の粉体が供給部７０から供給される。その後、スキージ３１がｘ軸マイナス側のフランジ部１３ａからｘ軸プラス側のフランジ部１３ａまでｘ軸プラス方向にスライドすることにより、上記段差に新たな粉体層２６が形成される。ここで、新たな粉体層２６の上面とフランジ部１３ａの上面とが同一面となり、段差がなくなる。その後、新たな粉体層２６の所定領域にレーザビーム２２を照射して粉体層２６を選択的に固化する。
【００２３】
このように、造形槽１３を上方向に移動した後、スキージ３１を用いて新たな粉体層２６を形成する工程と、レーザビーム２２を用いて新たな粉体層２６を選択的に固化する工程とを繰り返すことで、３次元造形物２７を形成することができる。
【００２４】
粉体貯蔵部４０は、粉体を貯蔵する大型のタンクである。粉体貯蔵部４０は、床面に設置されることが好ましい。
ホッパー５０は、供給部７０に投入する粉体を一時的に貯蔵する漏斗状の容器であって、供給部７０の上側に設けられている。ホッパー５０から配管３５を介して供給部７０に粉体が投入される。
ここで、粉体貯蔵部４０には３次元造形物を形成するための粉体が貯蔵されており、粉体貯蔵部４０の容量は、ホッパー５０の容量よりも充分に大きい。
【００２５】
粉体は、粉体貯蔵部４０から配管４１を介してホッパー５０に搬送される。ここで、粉体は、吸引部３７により粉体貯蔵部４０から吸引され、ホッパー５０に搬送される。具体的には、図１に示すように、吸引部３７には配管３８を介して減圧装置３９が接続されている。そのため、減圧装置３９を用いて吸引部３７を減圧することにより、粉体貯蔵部４０に貯蔵されている粉体が吸引部３７側に吸引される。そして、この吸引された粉体がホッパー５０に供給される。ホッパー５０に一定量の粉体が搬送されると（つまり、ホッパー５０の容量がいっぱいになると）、減圧装置３９を停止して、粉体貯蔵部４０からホッパー５０への粉体の搬送を停止する。
【００２６】
次に、図２を参照して、第１の実施形態に係る粉体供給装置２が備えるホッパー５０について詳細に説明する。図２は、粉体供給装置２が備えるホッパー５０の模式的断面図である。図２に示すように、ホッパー５０は、粉体貯蔵部４０から供給された粉体４５を一時的に貯蔵し、この粉体４５を下側に設けられた排出口５８から排出する。ホッパー５０の底部には、横方向（水平方向）にガスを噴射する横方向ノズル５１と、上方向（垂直方向）にガスを噴射する上方向ノズル５２とが、ガス噴射部として設けられている。横方向ノズル５１及び上方向ノズル５２には、配管５３からガスが供給される。ガスとしては、粉体の酸化防止のため、例えばアルゴンガスや窒素ガス等の不活性ガスを用いることが好ましい。
【００２７】
横方向ノズル５１及び上方向ノズル５２と配管５３との間にはバルブ５５が設けられており、バルブ５５の開閉を制御することで、横方向ノズル５１からガスを噴射する場合、上方向ノズル５２からガスを噴射する場合、並びに横方向ノズル５１及び上方向ノズル５２からガスを噴射する場合を切り替えることができる。
【００２８】
詳細には後述するように、バルブ５５の開閉は、供給部７０のロール７２の駆動タイミングと同期して駆動源８０によって駆動される。すなわち、ロール７２の駆動タイミングと同期して、ホッパー５０においてガスが噴射される。
ここで、バルブ５５とロール７２とを別々の駆動源により駆動した場合、両者の駆動タイミングを同期させる装置が必要になる。そのため、図２に示すように、ホッパー５０のバルブ５５とロール７２が同一の駆動源８０により駆動されることが好ましい。また、駆動源８０は、圧縮空気を用いたエア駆動源であることが好ましい。簡易な構成で、ホッパー５０におけるガス噴射のタイミングをロール７２の駆動タイミングに同期させることができる。
【００２９】
なお、図２では、横方向ノズル５１が水平方向（図の例ではｘ軸方向）と平行で、上方向ノズル５２が垂直方向（図の例ではｚ軸方向）と平行である場合を示している。しかし、本実施形態では、横方向ノズル５１が水平方向に対してある程度の角度を備えていてもよく、また上方向ノズル５２が垂直方向に対してある程度の角度を備えていてもよい。
また、ホッパー５０は、横方向ノズル５１と上方向ノズル５２のうち、いずれか一方のみを備えていてもよい。
【００３０】
ここで、図３は、粉体供給装置２が備えるホッパー５０の模式的断面図であって、粉体４５にラットホール６０が形成された様子を示している。図３に示すように、ホッパー５０に貯蔵されている粉体４５がホッパー５０の排出口５８から排出される際、ホッパー５０の内壁に沿って粉体４５が堆積し、この堆積した粉体４５によってラットホール６０が形成される場合がある。一般的に、ラットホール６０は、排出口５８から上下方向（ｚ軸方向）に延びるように形成される。ラットホール６０が形成されると、粉体４５がホッパー５０に貯蔵されているにも関わらず、粉体４５が排出口５８から排出されなくなる。すなわち、供給部７０に粉体４５が投入されなくなる。
【００３１】
実施形態に係る粉体供給装置２は、ホッパー５０の底部に横方向ノズル５１及び上方向ノズル５２を備えている。堆積した粉体４５に横方向ノズル５１及び上方向ノズル５２からガスを噴射することにより、堆積した粉体４５を破砕し、ラットホール６０を解消することができる。その結果、供給部７０に充分な粉体４５を投入することができる。
【００３２】
横方向ノズル５１から横方向にガスを噴射すると、排出口５８近傍に堆積した粉体４５を破砕することができる。上方向ノズル５２から上方向にガスを噴射すると、ホッパー５０の内壁近傍に堆積した粉体４５を破砕することができる。破砕された粉体４５が排出口５８から排出され、供給部７０に供給される。ここで、横方向ノズル５１から横方向にガスを噴射し、堆積した粉体４５の量を減らした後、上方向ノズル５２から上方向にガスを噴射することが好ましい。上方向のガス噴射により上方向に吹き飛ばされた後、落下する際に再度堆積する粉体４５の量を減らすことができる。
【００３３】
また、上方向ノズル５２から噴射されるガスの流量を横方向ノズル５１から噴射されるガスの流量よりも小さくしてもよい。このようにすることで、上方向にガスを噴射した際に上方向に吹き飛ばされる粉体の量を少なくすることができる。例えば、横方向ノズル５１及び上方向ノズル５２から噴射されるガスの流量は、バルブ５５を用いて制御することができる。
【００３４】
次に、図４〜図６を参照して、第１の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０について詳細に説明する。図４〜図６は、第１の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。
図４〜図６に示すように、供給部７０は、筐体７１、ロール７２、蓋部７３を備えている。
【００３５】
筐体７１は、ロール（周期動作部）７２を回転自在に収容している。筐体７１の上部（すなわちロール７２の上側）には、ホッパー５０から投入される粉体４５を導入するための導入口７１ａが設けられている。また、筐体７１の上面すなわち導入口７１ａの上側には、蓋部７３が設けられている。そのため、導入口７１ａから導入された粉体４５が筐体７１の上部から溢れない構造になっている。筐体７１の下部（すなわちロール７２の下側）には、供給対象物であるスキージ３１に粉体４５を投入するための投下口７１ｂが設けられている。導入口７１ａ及び投下口７１ｂは、いずれも上側が広く、下側が狭くなっている。
【００３６】
ロール７２は、ｙ軸方向に延設され、ｙ軸に平行な軸を有する円柱状の部材である。ロール７２の表面には、粉体４５を充填するための凹溝（粉体充填部）７２ａが軸方向（ｙ軸方向）に延設されている。ロール７２は、ホッパー５０のバルブ５５と共通の駆動源８０により、回転駆動される。上述の通り、ロール７２の駆動タイミングと同期して、ホッパー５０においてガスが噴射される。
なお、ロール７２に設けられた凹溝７２ａは、２箇所以上に設けられていてもよい。
【００３７】
図４に示すように、ロール７２の凹溝７２ａが上側（ｚ軸方向プラス側）に位置すると、配管３５を介してホッパー５０から投入された粉体４５が凹溝７２ａに充填される。
図５に示すように、ロール７２が回転することにより、凹溝７２ａに充填された所定量の粉体４５が、回転移動（図の例では時計回りに）する。
そして、図６に示すように、ロール７２の凹溝７２ａが下側（ｚ軸方向マイナス側）に位置すると、凹溝７２ａに充填されていた所定量の粉体４５が落下する。この粉体４５は、筐体７１の投下口７１ｂを介して、供給対象物であるスキージ３１に供給される。
【００３８】
このように、本実施形態に係る粉体供給装置２では、供給部７０におけるロール７２が周期的に動作する（すなわち回転する）ことにより、凹溝７２ａに粉体４５を充填した後、凹溝７２ａから粉体４５を放出する動作を繰り返す。ここで、本実施形態に係る粉体供給装置２では、凹溝７２ａに粉体４５を充填した後、次に粉体４５を充填するまでの間に（図の例では、ロール７２が１回転する間に）、このロール７２の回転動作に同期して、ホッパー５０において所定の期間すなわち一時的にガスを噴射する。そのため、凹溝７２ａに粉体４５を充填した後、次に粉体４５を充填するまでの間に、ホッパー５０から供給部７０へ粉体４５を充分に投入しておくことができる。図の例では、図４と図５との間において、ホッパー５０においてガスを噴射したため、図５においてホッパー５０から供給部７０に投入された粉体４５の量が増加している。
【００３９】
また、本実施形態に係る粉体供給装置２では、ホッパー５０内にガスを噴射し続けるのではなく、上述のようにロール７２の動作に同期して一時的（周期的、間欠的に）ガスを噴射するため、ガスを噴射し続ける場合に比べ、ガス量を削減することができる。
すなわち、本実施形態に係る粉体供給装置２では、ホッパー５０から供給部７０へ粉体４５を充分に投入しつつ、ホッパー５０内に噴射するガス量を削減することができる。
【００４０】
（第２の実施形態）
次に、図７、図８を参照して、第２の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０について詳細に説明する。図７、図８は、第２の実施形態に係る粉体供給装置２が備える供給部７０の模式的断面図である。第１の実施形態に係る供給部７０の周期動作部が回転式であるのに対し、本実施形態に係る供給部７０の周期動作部はレシプロ式である。
図７、図８に示すように、本実施形態に係る供給部７０は、筐体７１、ピストン７４を備えている。
【００４１】
第１の実施形態に係る供給部７０と同様に、筐体７１の上部（すなわちピストン７４の上側）には、ホッパー５０から投入される粉体４５を導入するための導入口７１ａが設けられている。筐体７１の下部（すなわちピストン７４の下側）には、供給対象物であるスキージ３１に粉体４５を投入するための投下口７１ｂが設けられている。そして、本実施形態に係る筐体７１には、ピストン７４を摺動自在に収容するシリンダ部７１ｃが設けられている。
【００４２】
ピストン（周期動作部）７４は、貫通孔（粉体充填部）７４ａを備えている。ピストン７４はロッド７４ｂを介して駆動源８０に連結されている。
図７に示すように、空の貫通孔７４ａを導入口７１ａの下に位置させた場合、貫通孔７４ａ内に所定量の粉体４５が充填される。
図８に示すように、ピストン７４をシリンダ部７１ｃの内部に押し込み、貫通孔７４ａを投下口７１ｂの上に位置させた場合、貫通孔７４ａに充填されていた所定量の粉体４５が落下する。この粉体４５は、筐体７１の投下口７１ｂを介して、供給対象物であるスキージ３１に供給される。
【００４３】
このように、本実施形態に係る粉体供給装置２では、供給部７０におけるピストン７４が周期的に動作する（すなわち往復する）ことにより、貫通孔７４ａに粉体４５を充填した後、貫通孔７４ａから粉体４５を放出する動作を繰り返す。ここで、本実施形態に係る粉体供給装置２では、貫通孔７４ａに粉体４５を充填した後、次に粉体４５を充填するまでの間に（図の例では、ピストン７４が１往復する間に）、このピストン７４の往復動作に同期して、ホッパー５０において所定の期間すなわち一時的にガスを噴射する。そのため、貫通孔７４ａに粉体４５を充填した後、次に粉体４５を充填するまでの間に、ホッパー５０から供給部７０へ粉体４５を充分に投入しておくことができる。図の例では、図７と図８との間において、ホッパー５０においてガスを噴射したため、図８においてホッパー５０から供給部７０に投入された粉体４５の量が増加している。
【００４４】
また、本実施形態に係る粉体供給装置２では、ホッパー５０内にガスを噴射し続けるのではなく、上述のようにピストン７４の往復動作に同期して一時的（周期的、間欠的に）ガスを噴射するため、ガスを噴射し続ける場合に比べ、ガス量を削減することができる。
すなわち、本実施形態に係る粉体供給装置２でも、ホッパー５０から供給部７０へ粉体４５を充分に投入しつつ、ホッパー５０内に噴射するガス量を削減することができる。
【００４５】
なお、本発明は上記実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
例えば、バルブを一定量の開きで固定しておき、エア駆動源から直接配管５３にエアを供給してもよい。
【符号の説明】
【００４６】
１  積層造形装置
２  粉体供給装置
１１  ベース
１２  定盤
１２ａ  凸部
１３  造形槽
１３ａ  フランジ部
１４  造形槽支持部
１５  造形槽駆動部
１５ａ  モータ
１５ｂ  ボールねじ
１５ｃ  連結部
１６  支柱
１７  支持部
１８  レーザスキャナ
１９  光ファイバ
２０  レーザ発振器
２２  レーザビーム
２５  造形部
２６  粉体層
２７  ３次元造形物
３１  スキージ
３５、３８、４１、５３  配管
３７  吸引部
３９  減圧装置
４０  粉体貯蔵部
４５  粉体
５０  ホッパー
５１  横方向ノズル
５２  上方向ノズル
５５  バルブ
５８  排出口
６０  ラットホール
７０  供給部
７１  筐体
７１ａ  導入口
７１ｂ  投下口
７１ｃ  シリンダ部
７２  ロール
７２ａ  凹溝
７３  蓋部
７４  ピストン
７４ａ  貫通孔
７４ｂ  ロッド
８０  駆動源
【図１】
2016204131.tif 000003
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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