(57)【要約】【課題】  液晶パネルの対向基板に好適な積層体であって、光利用効率を高めるマイクロレンズアレイを内包し、光線透過率、複屈折、耐熱性、耐光性、表面平坦性に優れた積層体、更には、反射防止膜や透明電極が形成された光学部品を提供すること。【解決手段】  ガラス［Ｉ］／硬化樹脂層［ＩＩ］の層構成をもつ積層体において、ガラス［Ｉ］の片面に、同一形状を有する凹状マイクロレンズが、５００μｍ以下のピッチで周期的に複数形成されており、該凹状マイクロレンズのくぼみが、（メタ）アクリレート系化合物を含有する光硬化性組成物（Ａ）を光硬化してなる硬化樹脂層［ＩＩ］で平坦化されていることを特徴とする積層体。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス［Ｉ］／硬化樹脂層［ＩＩ］の層構成をもつ積層体において、ガラス［Ｉ］の片面に、同一形状を有する凹状マイクロレンズが、５００μｍ以下のピッチで周期的に複数形成されており、該凹状マイクロレンズのくぼみが、（メタ）アクリレート系化合物を含有する光硬化性組成物（Ａ）を光硬化してなる硬化樹脂層［ＩＩ］で平坦化されていることを特徴とする積層体。
【請求項２】
光硬化性組成物（Ａ）が、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）、多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）、及び光重合開始剤（Ａ３）を含有してなり、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）と多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の含有割合（Ａ１／Ａ２）が、５／９５〜５０／５０（重量比）であることを特徴とする請求項１記載の積層体。
【請求項３】
脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）が、下記一般式（１）で示される化合物であることを特徴とする請求項２記載の積層体。
【化１】
2016107432.tif 000004
（ここで、Ｒ1は水素又はメチル基であり、Ｒ2は炭素数１〜５のアルキレン基である。）
【請求項４】
ガラス［Ｉ］の厚さが０．２〜２ｍｍであり、硬化樹脂層［ＩＩ］の厚さが０．００１〜０．５ｍｍであることを特徴とする請求項１〜３いずれか一項に記載の積層体。
【請求項５】
凹状マイクロレンズの最大の対角線の長さが５００μｍ以下であることを特徴とする請求項１〜４いずれか一項に記載の積層体。
【請求項６】
凹状マイクロレンズの凹形状の底部が円形状に平坦であることを特徴とする請求項１〜５いずれか一項に記載の積層体。
【請求項７】
凹状マイクロレンズの凹形状の底部の平坦部の面積が、凹状マイクロレンズの投影面積の６５％以下であることを特徴とする請求項６記載の積層体。
【請求項８】
光硬化性組成物（Ａ）の粘度が１００〜１０００ｍＰａ・ｓであり、３μｍ以下の孔径を有するフィルターで濾過されていることを特徴とする請求項１〜７いずれか一項に記載の積層体。
【請求項９】
光硬化性組成物（Ａ）の硬化収縮率が５〜１０％であることを特徴とする請求項１〜８いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１０】
光硬化が、光硬化性組成物（Ａ）の上面に平滑かつ平坦なガラス［ＩＩＩ］をかぶせた状態で行われ、硬化後にガラス［ＩＩＩ］を剥離してなることを特徴とする請求項１〜９いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１１】
ガラス［Ｉ］の凹状マイクロレンズが形成された面の外周に、光硬化性組成物（Ａ）を線状に塗布し光硬化してバンクを形成した後、光硬化性組成物（Ａ）をバンク内側に塗布し光硬化して硬化樹脂層［ＩＩ］を形成してなることを特徴とする請求項１〜１０いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１２】
硬化樹脂層［ＩＩ］の屈折率ｎＤが１．５２〜１．５３であり、かつ各マイクロレンズ部の焦点距離ｆが０．０１〜０．５ｍｍであることを特徴とする請求項１〜１１いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１３】
全光線透過率が９０％以上であることを特徴とする請求項１〜１２いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１４】
リタデーションが１ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１〜１３いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１５】
液晶プロジェクタ用の光学部品として用いられることを特徴とする請求項１〜１４いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１６】
光通信用部品または光露光用部品として用いられることを特徴とする請求項１〜１４いずれか一項に記載の積層体。
【請求項１７】
プロジェクタ製品、光通信製品または光露光装置として用いられることを特徴とする請求項１〜１４ずれか一項に記載の積層体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ガラスと硬化樹脂層よりなる積層体に関し、ガラスと硬化樹脂層の境界面に光利用効率を向上させるマイクロレンズアレイが形成されており、光学特性、表面平滑性、熱特性、機械特性に優れた透明な積層体であり、とりわけ液晶プロジェクタ用の光学部品として有用な積層体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
液晶プロジェクタ等の投射型液晶表示装置において用いられる液晶パネルは、複数の透明電極とそれら透明電極を駆動するためのスイッチング素子を備えたＴＦＴ基板と、液晶層を挟んでＴＦＴ基板に対向して設けられ、各透明電極に対向する位置に対向電極が形成された対向基板で構成されている。
【０００３】
このような液晶パネルは、画像信号に基づいてスイッチング素子が制御されると、液晶層を挟んで対向する２つの電極間に印加される電圧が制御され、光源から対向基板を通して入射した光の透過具合が液晶層によって制御される。その結果、画素信号に基づいた投射画像が形成される。
【０００４】
ＴＦＴ基板のスイッチング素子は光源からの強い光により誤作動を起こしやすいため、対向基板には有害な光の入射を防ぐための遮光膜（ブラックマトリクス）が配置されている。しかし、ブラックマトリクスによって遮光された光は投射画像の形成に利用されず、投射画像の輝度を低下させる原因となっていた。
【０００５】
そこで近年では、ブラックマトリクスによって遮光されていた光をバスライン開口部（画素）領域に集光して、実効的に開口率を向上させる手法が取られている。具体的には、対向基板として、緻密なマイクロレンズアレイを形成し、かつマイクロレンズアレイを透明材料で平坦化した積層体が使用されている。各マイクロレンズは、液晶パネルの画素一つ一つに対応して配置されるが、画素サイズは年々小さくなっており、これに伴いマイクロレンズのサイズも１００μｍ程度から１０μｍ程度へと微細化している。
【０００６】
対向基板に使用される積層体としては、例えば、平坦なガラス上に樹脂原料を塗布し、凸状マイクロレンズが形成されたスタンパを用いて、２Ｐ（Ｐｈｏｔｏ−Ｐｏｌｙｍｅｒｉｚａｔｉｏｎ）成形で凹状マイクロレンズを形成し、その上に、接着剤を用いてカバーガラスを貼り合わせた積層体が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００７】
また、マイクロレンズが形成された石英ガラス（屈折率１．４６）を、石英ガラスよりも高屈折率なエポキシ系接着剤（屈折率１．６３）を用いて、カバーガラスと貼り合わせた積層体が提案されている（例えば、特許文献２参照。）。
【０００８】
また、マイクロレンズが形成されたガラスに、無機材料をＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ：化学気相成長）で堆積した後、ＣＭＰ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｍｅｃｈａｎｉｃａｌ Ｐｏｌｉｓｈｉｎｇ）で平坦化した積層体が提案されている（例えば、特許文献３参照。）。
【０００９】
また、マイクロレンズが形成されたガラスに、耐熱性かつ耐光性のある無機材料をゾルゲル法により数回塗布して平坦化した積層体が提案されている（例えば、特許文献４参照。）。
【００１０】
さらに、ガラス表面にマイクロレンズを形成する手法として、ドライエッチング加工による手法が提案されている（例えば、特許文献５〜７参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２０００−９８１０２号公報
【特許文献２】特開２０００−２３１００７号公報
【特許文献３】特開２００４−３１７８２７号公報
【特許文献４】特開２００７−２２６０７５号公報
【特許文献５】特開平０６−１９４５０２号公報
【特許文献６】特開平０９−０７７５３２号公報
【特許文献７】特開平０８−２９５５３８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
かかる特許文献の開示技術で、光利用効率を高める積層体が得られるが、耐久性や製造面から克服すべき課題は多い。
例えば、特許文献１の開示技術では、スタンパの製造が高コスト化を招くのみならず、樹脂の熱膨張／収縮や吸脱水によりマイクロレンズが変形したり、ガラスから樹脂層が剥離するなどの問題がある。
【００１３】
また、特許文献２の開示技術では、ガラスを２枚使用するため高コストになるばかりでなく、界面増加による光利用効率の低下、接着剤層の剥離、製造プロセス中や製品使用時に高温状態で接着剤層が軟化して積層体の平行度が低下するなどの問題がある。
【００１４】
また、特許文献３の開示技術では、ＣＶＤによる成膜を行うため高コストになるばかりでなく、無機材料の薄膜だけではマイクロレンズの凹凸を完全に平坦化できないため、精密な研磨工程が必要になる。
【００１５】
また、特許文献４の開示技術では、ゾルゲル法による無機材料の成膜を多数回繰り返さないと平坦化せず、ある程度平坦化できても精密な研磨工程が必要になる。平坦化の目安となる表面の粗さＲａは０．１０μｍ程度と大きく、対向電極のクラックや液晶層のギャップムラの原因となっていた。更に、無機材料を多数成膜するため、積層体に反りが発生しやすいという問題と、耐光性、耐熱性に劣るという問題がある。
【００１６】
上述した課題は、光学特性、熱特性、機械特性に優れ、耐熱性や耐光性などの耐久性を有する樹脂層を形成し、かつ凹状マイクロレンズの微小なくぼみを埋めて平坦化が可能な樹脂原料が有れば解決できる。なお、樹脂の耐光性に関して言及すると、一般的に高屈折率になるほど光で変色しやすい。これは、高屈折率化のために、芳香環、ハロゲン、硫黄などの原子（団）を樹脂の化学構造に組み込むためである。液晶プロジェクタにおいて、色調の制御は高輝度化と同様に重要であるため、これらの原子（団）は極力回避されるべきである。
【００１７】
そこで、本発明ではこのような背景下において、液晶パネルの対向基板に好適な積層体であって、光利用効率を高めるマイクロレンズアレイを内包し、光線透過率、複屈折、耐熱性、耐光性、表面平坦性に優れた積層体を提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１８】
本発明者らが上記課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、ガラス［Ｉ］／硬化樹脂層［ＩＩ］の層構成をもつ積層体において、ガラス［Ｉ］の片面に、同一形状を有する凹状マイクロレンズが、５００μｍ以下のピッチで周期的に複数形成されており、該凹状マイクロレンズのくぼみを、特定の光硬化性組成物（Ａ）を用いて光硬化してなる硬化樹脂層で平坦化することにより、光利用効率が高く、光線透過率、複屈折、耐熱性、耐光性、表面平坦性に優れることを見出し、本発明を完成した。
【００１９】
即ち、本発明の要旨は、ガラス［Ｉ］／硬化樹脂層［ＩＩ］の層構成をもつ積層体において、ガラス［Ｉ］の片面に、同一形状を有する凹状マイクロレンズが、５００μｍ以下のピッチで周期的に複数形成されており、該凹状マイクロレンズのくぼみが、（メタ）アクリレート系化合物を含有する光硬化性組成物（Ａ）、好ましくは脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）、多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）、及び光重合開始剤（Ａ３）を含有してなり、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）と多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の含有割合（Ａ１／Ａ２）が、５／９５〜５０／５０（重量比）である光硬化性組成物（Ａ）を光硬化してなる硬化樹脂層［ＩＩ］で平坦化されていることを特徴とする積層体に関するものである。
【００２０】
また、本発明においては、前記積層体を用いてなる液晶プロジェクタ用の光学部品をも提供するものである。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の積層体は、光利用効率を高めるマイクロレンズアレイを内包し、光線透過率、複屈折、耐熱性、耐光性、表面平坦性に優れるものであり、液晶プロジェクタ用、光通信製品用、光露光装置用の光学部品として有用である。
【図面の簡単な説明】
【００２２】
【図１】（Ａ）〜（Ｈ）はガラスの表面に凹状マイクロレンズを作成する工程図である。
【図２】（Ａ）〜（Ｈ）は底部が平坦な凹状マイクロレンズを作成する工程図の一部である。
【図３】（Ａ）〜（Ｆ）は表面に凹状マイクロレンズを有するガラスの表面形状を別のガラス上に彫り移す工程図である。
【発明を実施するための形態】
【００２３】
以下に記載する構成要件の説明は、本発明の実施態様の一例（代表例）であり、これらの内容に限定されるものではない。
以下、本発明につき詳細に説明する。
なお、本発明において、「（メタ）アクリレート」は、アクリレートとメタクリレートの総称である。
【００２４】
本発明の積層体は、ガラス［Ｉ］／硬化樹脂層［ＩＩ］の層構成よりなる。
本発明で使用されるガラス［Ｉ］としては、凹状マイクロレンズを形成するのに用いられるガラスであればよく、例えば、硼珪酸ガラス、白板ガラス、石英ガラスなどが挙げられる。これらの中でも光線透過率の点で石英ガラスが好ましく、特には溶融石英ガラスや合成石英ガラスなどが好ましい。石英ガラスの屈折率ｎＤは１．４６と比較的小さいため、より高屈折率な他の無機材料や有機材料を組み合わせることにより、屈折や回折などの光機能を付与することができる。また石英ガラスは、耐熱性が高く、かつ線膨張係数が小さいため、対向基板の基材として好適である。例えば、高温で遮光膜や透明導電膜を成膜できるばかりでなく、ＴＦＴ基板の基材としても用いられるため、両基板の熱膨張／収縮挙動を一致させることが可能となり、液晶パネルの製造を歩留りよく行える。更に、液晶パネルの耐久性を向上させることができる。
【００２５】
本発明で使用されるガラス［Ｉ］の片面には、同一形状を有する凹状マイクロレンズが、５００μｍ以下のピッチで周期的に複数形成されている。
凹状マイクロレンズの形状は、円形でも多角形でもよいが、光制御の点から点対称形が好ましく、特に好ましくは、光利用効率の点から四角形である。
【００２６】
ピッチは、好ましくは１００μｍ以下、より好ましくは１０μｍ以下である。かかるピッチが大きすぎると光利用効率が低下する傾向にある。各凹状マイクロレンズは、光利用効率の点で隣接していることが好ましい。
【００２７】
凹状マイクロレンズの最大の対角線の長さは、光利用効率の点で５００μｍ以下が好ましく、より好ましくは、投影画像の高精細化の点で１００μｍ以下、特に好ましくは、液晶パネルの小型化の点で１０μｍ以下である。
なお、ここで言う対角線は、凹状マイクロレンズが円形の場合は直径であり、楕円形の場合は最も長い径の長さである。円形マイクロレンズの場合、最大の対角線の長さは開口径と一致する。
【００２８】
凹状マイクロレンズの断面形状は、光を集光する曲面状に限定されず、例えば、光を屈折させて光利用効率を高めるＶ溝状、台形状、多角形状なども含むものである。これらの形状の中では、光集光性機能の向上や製造の容易さから曲面状が好ましく、液晶パネルの耐久性の点から、曲面状の底部が平坦であることがより好ましく、更に、特には、光利用効率向上の点で、該平坦部の投影面積が凹状マイクロレンズの投影面積の６５％以下であることが好ましい。なお、プロジェクタ用液晶パネルにおいて、前述した遮光膜（ブラックマトリクス）の面積は、最大で３５％程度である。
【００２９】
以下に、凹状マイクロレンズの底部が、単純な曲面状では無く平坦な場合の効果を説明する。当然のことながら、該平坦部に集光機能や屈折機能はなく、入射光は平坦部以外の部分で屈折されることとなる。
【００３０】
前述したとおり、プロジェクタ用の液晶パネルにおいて、凹状マイクロレンズには集光機能が必要とされる。レンズが単純な曲面状の場合、光は１点に集光されるため、該集光部分の材料が光の集光によって特に劣化しやすい。特に、該集光部分が有機材料を含む場合は、黄変などの色変化が生じやすい傾向にある。レンズ底部が平坦な場合は、この集光による劣化を回避できる。
【００３１】
単純な曲面状レンズの場合、凹レンズの底部まで深くエッチングしなければならないため、加工時間が長くなり、コストも高くなる。レンズ底部が平坦な場合は、加工時間を短縮できる。
【００３２】
マイクロレンズアレイを２層配置した構造が提案されているが、２個のマイクロレンズの光軸を合わせることは非常に困難である。レンズ底部が平坦な場合は、軸合わせが容易になる。
【００３３】
本発明における凹状マイクロレンズの作製方法は、特に限定されず、ウェットエッチング加工、ドライエッチング加工、ＮＣ加工、レーザー加工、ウォータージェット加工、およびこれらを組み合わせた加工などの公知の手法を用いることができる。これらの中でも、一括して多数の凹状マイクロレンズを作製できる点で、ウェットエッチング加工とドライエッチング加工が好ましく、より好ましくは、形状制御の点で、ウェットエッチング加工が好ましい。
【００３４】
以下に、本発明の好ましい実施形態の一つとして、石英ガラス上にウェットエッチング加工により凹状マイクロレンズを作製する手法を説明する。石英ガラスの表面に凹状マイクロレンズを製作するのは、以下の工程で行われる（図１参照）。
【００３５】
（１）ガラス１１の表面（面１）に耐エッチング性の保護層１２Ａを形成する工程（図１(Ａ)。
（２）保護層１２Ａにマスク１２Ｂを用い所望の微細パターンを形成する工程（図１(Ｂ)〜(Ｅ)。
（３）保護層付き面１をエッチングし、断面が略半円形状または略Ｖ溝形状の凹部１４を形成する第一エッチング工程（図１(Ｆ)、(Ｇ)）。
（４）面１の保護層１２Ａを除去する工程（図１(Ｈ)）。
必要に応じて、
（５）面１全面をエッチングする第二エッチング工程 。
【００３６】
工程（１）の保護層１２Ａとしては、（ａ）Ｃｒ、Ｗ、Ｗ−Ｓｉ、Ｗ−Ｔｉ、Ｓｉ、Ｔｉ−Ｓｉ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｓｎ、Ｐｂ等の金属、（ｂ）ＳｉＯ2、ＴｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＴａＯ5、ＩＴＯ等のセラミックス、（ｃ）感光性樹脂が挙げられる。これらの中では、最終的に得られるマイクロレンズの形状精度の点で、（ａ）金属または（ｂ）セラミックスが好ましい。ガラス１１の表面（面１）に保護層１２Ａを形成する手法としては、保護層１２Ａとして（ａ）金属や（ｂ）セラミックスを用いる場合は、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法、ＥＣＲ成膜法等のドライプロセス、または鍍金法などの手法が挙げられる。これらの中では、製造の容易さの点で、スパッタリング法が好ましい。一方、保護層として（ｃ）感光性樹脂を用いる場合は、スピンコート法、ダイコート法、ディップコート法、バーコート法、スクリーン印刷法等のウェットプロセス、または真空蒸着法などの手法が挙げられる。
【００３７】
工程（２）の保護層１２Ａに所望の微細パターンを形成する手法としては、保護層１２Ａが（ａ）金属または（ｂ）セラミックスの場合、保護層の上に感光性樹脂を塗布してパターニングし、かかる感光性樹脂のパターンをマスク１２Ｂとして、上記保護層１２Ａをウェットエッチングまたはドライエッチングでパターニングする手法が挙げられる。
【００３８】
例えば、先ず、保護層１２Ａの上にポジ型感光性樹脂１２Ｂを塗布（図１(Ｂ)）、遮光マスク１２Ｃを用いて露光（図１(Ｃ)）、現像、リンスして、ポジ型感光性樹脂１２Ｂが碁盤目状に並んだアレイ状パターン（マスク１２Ｂ）を形成する（図１(Ｄ)）。この際、露光に使用する遮光マスク１２Ｃのパターンは、目的とするマイクロレンズの配列のピッチを有するものである。次いで、感光性樹脂がアレイ状パターン（マスク１２Ｂ）となった面１を、フッ化水素酸などのウェットエッチング液に浸して、感光性樹脂に覆われていない部分の保護層１２Ａを溶解していく。ウェットエッチング液が石英ガラス面まで達して、更に保護層１２Ａが所定の開口サイズとなった時点でエッチングを終了し、保護層１２Ａに小開口部１３を形成する。かくして、保護層１２Ａに所望の微細パターンを形成することができる（図１(Ｅ)）。なお、エッチング後、感光性樹脂は除去してもよいし、除去しなくてもよい。除去しない場合は、保護層と感光性樹脂が一体となって、次工程（３）におけるマスクパターンとなる。
保護層１２Ａが（ｂ）感光性樹脂の場合、該感光性樹脂をパターニングして、かかるパターンをそのまま使用する手法が挙げられる。
【００３９】
工程（３）の第一エッチングの手法としては、特に限定されないが、マイクロレンズの形状制御の点で、ウェットエッチングが好適である。かかる場合、ウェットエッチング液としてフッ化水素酸（ＨＦ）を用いて、エッチング中にＨＦの濃度を段階的に変えることにより、最終的なマイクロレンズの断面形状を制御することができる（図１(Ｆ)、(Ｇ)）。例えば、最初に高濃度のフッ化水素酸（ＨＦ）を用いてエッチングを行い、次いで低濃度のフッ化水素酸（ＨＦ）を用いてエッチングすることにより、曲面状の凹状マイクロレンズアレイ１４を得ることができる。
【００４０】
凹状マイクロレンズが形成された面１は、不純物を除去するため、純水でリンスした後、乾燥することが好ましい。
【００４１】
工程（４）は、保護層１２Ａが除去できれば特に限定されないが、作業の簡便さの点で、ウェットエッチングすることが好ましい。例えば、市販の混酸を用いてウェットエッチングすることで保護層１２Ａを除去できる（図１(Ｈ)）。
【００４２】
工程（５）は、凹状マイクロレンズ間の隙間（スペース）を無くし、凹状マイクロレンズを細密充填化する場合に有効である。具体的には、上記第一エッチングと同様の条件で、保護層が除去された面１をウェットエッチングする手法が挙げられる。なお、光通信分野等で用いる凹状マイクロレンズアレイ１４ではスペースが残っていてもよいが、液晶分野ではスペースが残ると光の利用効率が低下するため好ましくない。
【００４３】
かくして凹状マイクロレンズアレイ１４が形成された石英ガラスを得ることができる。更に、本発明のより好ましい実施形態の一つとして、凹状マイクロレンズアレイ１４の底部が曲面状では無く平坦な場合の作製法を説明する。底部が平坦な凹状マイクロレンズアレイの作製は、（１）ガラス型の作製、（２）樹脂への形状転写、（３）ドライエッチングの３段階で行われるが、本発明はこの手法に限定されるものではない。
【００４４】
具体的には、以下の工程で行われることが好ましい（図２参照）。
【００４５】
（１）ガラス型の作製
（１−１）ガラス２１の表面（面２）に感光性樹脂層２２Ｂを均一な厚さで形成する工程（第一塗布工程、図２(Ａ)）。
（１−２）感光性樹脂層２２Ｂを選択的露光及び現像することにより（図２(Ｂ)）、目的とする凹状マイクロレンズの配列に応じた微細パターンを形成する工程（光パターニング工程、図２(Ｃ)）。
（１−３）パターニングされた感光性樹脂層２２Ｂを、感光性樹脂の熱変形温度以上に加熱して、滑らかな曲面状の突起をアレイ状に配列する工程（加熱工程、図２(Ｄ)）。
（１−４）突起がアレイ状に配列されたガラス２１の表面に、樹脂溶液２２Ｄを塗布及び乾燥して薄膜を形成し、突起間を滑らかにする工程（第二塗布工程、図２(Ｅ)）。なお、突起間の隙間が大きい場合に、必要に応じて実施される。
（１−５）突起がアレイ状に配列した面２全体をドライエッチングしていき（図２Ｆ）、樹脂層２２Ｂが残った状態でドライエッチングを中止し（図２(Ｇ)（拡大図））、最後に残った樹脂をＣＡＲＯＳ洗浄（硫酸と過酸化水素の混合液洗浄）等で除去する工程（ドライエッチング工程、図２(Ｈ)）。
【００４６】
かかる工程（１−１〜１−５）により、頂点部が平坦な凸状マイクロレンズを有するガラス型が得られる。なお、工程（１−３）で得られるアレイ状に配列された突起は、ガラス表面に印刷や２Ｐ成形などの手法で形成してもよいし、電子線やレーザーによる描画で形成してもよい。
【００４７】
次いで、該ガラス型の表面形状を、別ガラスの上に塗布された樹脂に転写する（図３）。
【００４８】
（２）樹脂への形状転写
（２−１）ガラス層３１の表面（面３）に光硬化性樹脂を均一な厚さで形成し光硬化性樹脂層３１Ｂを形成する工程（第三塗布工程、図３(Ａ)）
（２−２）光硬化性樹脂層３１Ｂに、頂点部が平坦な凸状マイクロレンズを有するガラス２１の表面（面２）を押し付けて光硬化することにより、ガラス層２１の表面形状を光硬化性樹脂層３１Ｂに転写する工程（転写工程、図３(Ｂ)、(Ｃ)）
【００４９】
使用される光硬化性樹脂としては、（メタ）アクリル系組成物、エポキシ系組成物、オキタセン系組成物、エン／チオール系組成物などが挙げられる。好ましくは速硬化の点で（メタ）アクリル系組成物である。
【００５０】
かかる工程（２−１、２−２）により、ガラス層２１の表面（面２）とは逆の表面形状を有する光硬化性樹脂層３１Ｂが形成され、底部が平坦な凹状マイクロレンズを有する光硬化性樹脂層３１Ｂ／ガラス層３１の積層体が得られる（図３(Ｄ)）。工程（２−１）において、光硬化性樹脂層３１Ｂ／ガラス層３１の密着性を高めるため、ガラス層３１の表面（面３）をシランカップリング剤で処理してもよいし、工程（２−２）において、光硬化性樹脂層３１Ｂ／ガラス層２１の剥離性を高めるために、ガラス層２１の表面（面２）に剥離剤を塗布してもよい。また、光硬化の際に、硬化収縮の緩和のため、ガラス層２１を加圧して光照射してもよい。更に、光硬化後に、応力緩和、硬化度向上、脱ガスなどのために、積層体を加熱処理してもよい。
なお、樹脂への転写は、上述した光硬化性樹脂を用いた光転写法以外に、熱硬化性樹脂や熱可塑性樹脂を用いて熱転写法で行ってもよい。
【００５１】
最後に、該積層体を光硬化樹脂層３１Ｂ側からドライエッチングする（図３(Ｅ)）。
【００５２】
（３）ドライエッチング
転写面全体をドライエッチングしていき、表面形状をガラスに彫り移す工程（ドライエッチング工程、図３(Ｆ)）
【００５３】
工程（１−５）及び／または工程（３）におけるドライエッチングは、異方性であることが好ましく、ＥＣＲプラズマエッチングや反応性イオンエッチング（ＲＩＥ）などの手法が挙げられる。
かかる手法により、底部が平坦な凹状マイクロレンズが形成されたガラスを得ることができる。得られたガラスは本発明で用いるガラス［Ｉ］として好適である。
【００５４】
本発明におけるガラス［Ｉ］の厚さは、０．２〜２ｍｍが好ましい。より好ましくは０．５〜１．５ｍｍ、特に好ましくは０．７〜１．２ｍｍである。ガラス［Ｉ］の厚さが厚すぎると液晶パネルの軽量薄型化が困難となり、逆に、薄すぎると液晶パネルの剛性が低下する傾向にある。
なお、上記ガラス［Ｉ］の厚さは、凹状マイクロレンズが形成されているガラス表面の、底部が平坦な凹部からの厚みではなく、ガラス表面の、凹部が形成されていない部分から、ガラス裏面までの厚み（ガラス厚みが一番厚くなる部分で測定した厚み）をいう。
【００５５】
本発明における硬化樹脂層［ＩＩ］の厚さは、０．００１〜０．５ｍｍであることが好ましい。より好ましくは０．００５〜０．３ｍｍ、特に好ましくは０．０１〜０．１ｍｍである。硬化樹脂層［ＩＩ］の厚さが厚すぎると積層体に反りが発生しやすい傾向にあり、逆に、薄すぎると積層体の平坦化が不充分となる傾向にある。
なお、上記硬化樹脂層［ＩＩ］の厚さは、ガラス表面の、凹部が形成されていない部分と接する硬化樹脂層表面部分から、硬化樹脂層裏面までの厚み（硬化樹脂層厚みが一番薄くなる部分で測定した厚み）をいう。
【００５６】
本発明の積層体において、凹状マイクロレンズのくぼみは、（メタ）アクリレート系化合物を含有する光硬化性組成物（Ａ）、好ましくは、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）、多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）、及び光重合開始剤（Ａ３）を含有してなる光硬化性組成物（Ａ）を光硬化してなる硬化樹脂層［ＩＩ］で平坦化されている。
【００５７】
かかる特定の光硬化性組成物（Ａ）を用いる主な理由としては、例えば、次の６つが挙げられる。
（ｉ）低粘度であるため微細なくぼみを埋めやすく、かつ、低表面張力であるため平坦化しやすい。１回の塗布および硬化で、平坦な硬化樹脂層［ＩＩ］を得ることができる。
（ｉｉ）（メタ）アクリレート系化合物は速硬化であるため安価に積層体を製造できる。
（ｉｉｉ）脂環骨格を含有する場合においては、脂環骨格を含有するため低硬化収縮であり、その結果複屈折が発生しにくく、リタデーションの小さな積層体が得られる。また脂環骨格を含有するため低吸水率であり、変形の少ない積層体が得られる。
（ｉｖ）ウレタンアクリレート系化合物を含有する場合においては、ウレタン結合を有するためガラスとの接着性が向上し、耐久性に優れる積層体が得られる。
（ｖ）架橋性の高分子を形成するため、耐熱性に優れ、蒸着やスパッタなどの手法を用い高温で反射防止膜や透明導電膜を直接成膜できる。また、低線膨張係数であるため、積層体に反りが生じにくい。更に、樹脂としては高硬度であるため、研磨性に優れた硬化樹脂層［ＩＩ］が得られる。
（ｖｉ）芳香環、硫黄、ハロゲンを含まない化学構造を選択することにより、耐光性に優れる積層体を得ることができる。また、色分散の小さな硬化樹脂層［ＩＩ］が得られる。
【００５８】
本発明で使用される脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）としては、２官能以上のものであればよいが、低硬化収縮率の観点から２官能性のウレタン（メタ）アクリレート系化合物であることが好ましく、特には低吸水率の観点から下記一般式（１）で示される化合物であることが好ましい。
【００５９】
【化１】
2016107432.tif 000002
（ここで、Ｒ1は水素又はメチル基であり、Ｒ2は炭素数１〜５、好ましくは２〜３のアルキレン基である。）
【００６０】
脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）は、脂環骨格を有するポリイソシアネート化合物と、水酸基含有（メタ）アクリレートを、必要に応じてジブチルチンジラウレートなどの触媒を用いて反応させることにより得ることができる。
【００６１】
脂環骨格を有するポリイソシアネート化合物の具体例としては、例えば、イソホロンジイソシアネート、ノルボルネンジイソシアネート、シクロペンタジエンジイソシアネート、１，３−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（イソシアナトメチル）シクロヘキサン、水添化キシリレンジイソシアネート、水添化ジフェニルメタンジイソシアネートの３量体化合物などが挙げられる。
【００６２】
水酸基含有（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−（メタ）アクリロイロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレートなどが挙げられる。
【００６３】
なお、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）は、２種以上混合して用いても良い。
また、上記脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）の他に、その他の多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物を併用することもできる。
【００６４】
本発明で使用される多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）は、２官能以上の（メタ）アクリレート系化合物（但し、上記多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物を除く。）であり、低硬化収縮率の観点から２官能性の（メタ）アクリレート系化合物が好ましく、特には低複屈折の観点から脂環骨格含有（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００６５】
かかる２官能性の脂環骨格含有（メタ）アクリレート系化合物としては、例えば、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシ）ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）ペンタシクロ［６．５．１．１３，６．０２，７．０９，１３］ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート、２，２−ビス［４−（β−（メタ）アクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，３−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、１，４−ビス（（メタ）アクリロイルオキシエチル）シクロヘキサンなどの２官能（メタ）アクリレート系化合物などが挙げられる。これらの中でも、耐薬品・溶剤性の観点から、ビス（ヒドロキシ）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジ（メタ）アクリレート、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジ（メタ）アクリレートが好ましい。
【００６６】
本発明において、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）と多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の含有割合は、５／９５〜５０／５０（重量比）であることが好ましい。より好ましくは１０／９０〜４０／６０（重量比）、特に好ましくは１５／８５〜３０／７０（重量比）である。脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）の含有量が少なすぎるとガラス［Ｉ］と硬化樹脂層［ＩＩ］の接着性が低下する傾向にあり、逆に、多すぎると光硬化性組成物（Ａ）の粘度が増大する傾向にある。
【００６７】
本発明で使用される光重合開始剤（Ａ３）としては、例えば、ベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。これらの中でも、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシドなどのラジカル開裂型の光重合開始剤が好ましい。これらは単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００６８】
光重合開始剤（Ａ３）の含有量は、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）と多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の合計に対して、０．１〜５重量％、更には０．２〜３重量％、特には０．３〜１重量％であることが好ましい。かかる含有量が多すぎると、積層体の複屈折が増大し、また耐光性が低下する傾向にあり、一方、少なすぎると重合速度が低下し、重合が充分に進行しないおそれがある。
【００６９】
本発明で用いられる光硬化性組成物（Ａ）には、本発明の積層体の物性を損なわない範囲で、少量の補助成分が含有されていてもよい。例えば、紫外線吸収剤、酸化防止剤、連鎖移動剤、重合禁止剤、熱重合開始剤、シランカップリング剤、黄変防止剤、ブルーイング剤、染顔料、消泡剤、レベリング剤、チクソトロピー性付与剤、難燃剤、増粘剤、フィラーなどが挙げられる。
【００７０】
これらの中でも紫外線吸収剤は、耐光性向上の点で好適である。紫外線吸収剤としては、光硬化性組成物（Ａ）に溶解するものであれば特に限定されず、各種紫外線吸収剤を使用することができる。例えば、サリチル酸エステル系、ベンゾフェノン系、トリアゾール系、ヒドロキシベンゾエート系、ヒドロキシフェニルトリアジン系、シアノアクリレート系などが挙げられる。これらの紫外線吸収剤は複数を組み合わせて用いてもよい。これらの中でも、光硬化性組成物（Ａ）との相溶性の点で、ベンゾフェノン系、トリアゾール系、ヒドロキシフェニルトリアジン系が好ましく、特にはヒドロキシフェニルトリアジン系の紫外線吸収剤が好ましい。具体的には、（２−ヒドロキシ−４−オクチロキシ−フェニル）−フェニル−メタノン、２−ベンゾトリアゾール−２−イル−４−ｔｅｒｔ−オクチル−フェノール、２−｛４−［（２−ヒドロキシ−３−（２′−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン等の紫外線吸収剤が好ましい。
【００７１】
紫外線吸収剤の含有割合は、光硬化性組成物（Ａ）に対して、通常０．００１〜１重量％であることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．１重量％である。かかる紫外線吸収剤が少なすぎると樹脂成形体の耐光性が低下する傾向があり、多すぎると樹脂成形体の重合が不充分となる傾向がある。
【００７２】
上述した補助成分の中でも酸化防止剤は、耐熱性向上の点で好適である。酸化防止剤としては、光硬化性組成物（Ａ）に溶解するものであれば特に限定されず、各種酸化防止剤を使用することができる。例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２，４，６−トリ−ｔ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ｓ−ブチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノール、ｎ−オクタデシル−β−（４′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔ−ブチルフェニル）プロピオネート、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノメチル）フェノール、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスフォネート−ジエチルエステル、２，４−ビス（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３′  ，５′−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、４，４−メチレン−ビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、１，６−ヘキサンジオールビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、ビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）スルフィド、４，４′−ジ−チオビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、４，４′−トリ−チオビス（２，６−ジ−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−チオジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシヒドロシンナミド、Ｎ，Ｎ′−ビス［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル］ヒドラジン、カルシウム（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）モノエチルフォスフォネート、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）イソシアヌレート、トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス−２［３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチルイソシアネート、テトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン、３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジルフォスファイト−ジエチルエステル等の化合物が挙げられ、これらの化合物は、単独または２種以上併用してもよい。これらの中でも、テトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタンが、色相を抑制する効果が大きくなる点から特に好ましい。
【００７３】
酸化防止剤の含有量は、光硬化性組成物中の脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）及び多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の合計１００重量部に対して、通常０．００１〜１重量部であることが好ましく、特に好ましくは０．０１〜０．５重量部である。かかる酸化防止剤が少なすぎると積層体の耐熱性が低下する傾向があり、多すぎると光線透過率が低下する傾向にある。
【００７４】
上述した補助成分の中でも連鎖移動剤は、積層体のリタデーション低減の点で好適である。連鎖移動剤としては、光硬化性組成物（Ａ）に溶解するものであれば特に限定されず、各種連鎖移動剤を使用することができるが、多官能メルカプタン系化合物が好ましい。多官能メルカプタン系化合物としては、例えば、ペンタエリスルトールテトラキスチオグリコレート、ペンタエリスルトールテトラキスチオプロピオネートなどが挙げられる。これらの多官能メルカプタン系化合物は、光硬化性組成物中の脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）及び多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の合計１００重量部に対して、通常１０重量部以下の割合で使用されることが好ましく、更には５重量部以下、特には３重量部以下が好ましい。かかる使用量が多すぎると、得られる積層体の表面硬度が低下する傾向がある。
【００７５】
かくして本発明で使用される光硬化性組成物（Ａ）が得られるが、光硬化性組成物（Ａ）の粘度は１００〜１０００ｍＰａ・ｓが好ましい。より好ましくは１５０〜７００ｍＰａ・ｓ、特に好ましくは２００〜５００ｍＰａ・ｓである。粘度が高すぎると、微細なくぼみを埋めることが困難となる傾向があり、逆に、低すぎると硬化樹脂層［ＩＩ］の平坦化が困難となる傾向がある。粘度を制御する手法としては、例えば、光硬化性組成物（Ａ）の成分や含有量を適宜調整する手法などが挙げられる。
【００７６】
本発明で使用される光硬化性組成物（Ａ）は、３μｍ以下の孔径を有するフィルターで濾過されていることが好ましい。より好ましくは２μｍ以下、特に好ましくは１μｍ以下である。フィルターの孔径が大きすぎると、液晶パネルの欠点が増加する傾向にある。
【００７７】
本発明で使用される光硬化性組成物（Ａ）の硬化収縮率は、５〜１０％が好ましい。より好ましくは６〜９％、特に好ましくは７〜８％である。硬化収縮率が大きすぎると、積層体の複屈折が増大する傾向にあり、逆に、小さすぎると積層体の製造が困難となる。なお、ここで言う硬化収縮率とは、光硬化性組成物の硬化前後における体積収縮率を意味する。硬化収縮率を制御する手法としては、例えば、光硬化性組成物（Ａ）の成分や含有量を適宜調整する手法などが挙げられる。
【００７８】
以下に、光硬化性組成物（Ａ）を用いて硬化樹脂層［ＩＩ］を形成し、積層体を得る手法を説明するが、本発明はかかる手法に限定されるものではない。
【００７９】
本発明における積層体は、ガラス［Ｉ］の凹状マイクロレンズが形成された面１上に、光硬化性組成物（Ａ）を塗工し、光照射して硬化樹脂層［ＩＩ］を形成することで製造することができる。光照射は、一般的なＵＶコートの様に、光硬化性組成物（Ａ）の上面をフリーな状態で行ってもよいが、本発明の好ましい実施形態の一つとして、光硬化性組成物（Ａ）の上面に平滑かつ平坦なガラス［ＩＩＩ］をかぶせて光照射を行い、硬化後にガラス［ＩＩＩ］を剥離する手法が挙げられる。かかる手法は、酸素による重合阻害を回避できるので光硬化が完結しやすい点と、硬化樹脂層［ＩＩ］を平滑かつ平坦にする点で好ましい。
【００８０】
面１と硬化樹脂層［ＩＩ］の密着強度を上げるため、面１をシランカップリング剤で処理することが好ましい。すなわち、面１にシランカップリング剤を塗布後乾燥させ、その後光硬化性組成物（Ａ）を塗工してもよい。かかる場合に使用されるシランカップリング剤としては、例えば、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリエトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−イソシアネートプロピルトリエトキシシランなどのトリアルコキシシランが挙げられる。これらの中でも、面１と硬化樹脂層［ＩＩ］との接着性の観点から、３−（メタ）アクリロキシプロピルトリメトキシシランが好ましい。
【００８１】
光硬化性組成物（Ａ）の塗工方法としては公知の手法を用いることができる。例えば、スピンコート、バーコート、ダイコート、グラビアコート、スプレーコート、スクリーン印刷などが挙げられる。
【００８２】
なお、光硬化性組成物（Ａ）は、塗工の手法に応じて、溶剤で希釈してもよい。溶剤で希釈することにより粘度を調整し、塗工性を向上することができる。かかる場合は、ガラス［Ｉ］に塗工後、溶剤を乾燥させてから、光硬化を行う。溶剤としては、例えば、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチルなどのエステル系溶剤、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン系溶剤、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶剤、シクロヘキサノンなどの脂肪族系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、Ｎ−メチルピロリドン、セロソルブ類などの通常の有機溶剤が挙げられる。
有機溶剤の配合量については、光硬化性組成物（Ａ）の濃度が１０重量％以上、特には５０重量％以上、更には８０重量％以上であることが好ましい。かかる濃度が低すぎると、乾燥負荷が増大する傾向がある。なお、かかる濃度の上限は通常９９．９９９９重量％である。
【００８３】
光硬化には、紫外線、可視光線、赤外線などの光が利用できるが、硬化速度、照射装置の入手のし易さ、価格等から紫外線照射による硬化が有利である。紫外線光源としては、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、無電極水銀ランプ、ＬＥＤランプ等が挙げられる。
【００８４】
紫外線照射により光硬化させる方法としては、光硬化性組成物（Ａ）を、波長１５０〜４５０ｎｍの紫外線を用いて、照射光量０．１〜２０Ｊ／ｃｍ2で光硬化することが好ましい。照射光量のより好ましい範囲は０．５〜１５Ｊ／ｃｍ2、更に好ましくは１〜１０Ｊ／ｃｍ2である。照射光量が少なすぎると硬化が不充分となり、逆に、多すぎると生産性に低下する傾向がある。紫外線の照度は、通常１０〜５０００ｍＷ／ｃｍ2、好ましくは１００〜１０００ｍＷ／ｃｍ2である。照度が小さすぎると充分に硬化しない場合がある。逆に、照度が大きすぎると硬化が暴走し複屈折が増大するおそれがある。
【００８５】
光照射の時に、光硬化性組成物（Ａ）の上面に平滑かつ平坦なガラス［ＩＩＩ］をかぶせる場合は、予めガラス［Ｉ］の外周部に、硬化樹脂層［ＩＩ］の厚み制御のためのスペーサを設置し、光硬化性組成物（Ａ）を塗布した後、ガラス［ＩＩＩ］で光硬化性組成物（Ａ）を挟み込んで光照射を行うことが好ましい。スペーサとしては、シリコンシートや樹脂シートなどを、リング状に切り出したものが好適である。
【００８６】
ガラス［ＩＩＩ］の材質としては、例えば、ソーダライムガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどが挙げられるが、これらの中では、安価なソーダライムガラスが好ましい。ガラス［ＩＩＩ］の厚さは、重量や強度の点から、１〜３ｍｍが好ましい。光照射後にガラス［ＩＩＩ］は剥離され、繰り返し使用される。
【００８７】
ガラス［ＩＩＩ］の表面粗さＲａは、２０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。表面粗さＲａが大きすぎると、積層体の表面平滑性が低下する傾向がある。なお、表面粗さＲａの下限は通常１ｎｍである。更に、ガラス［ＩＩＩ］の平坦性は、±２０μｍ以内が好ましく、より好ましくは±１５μｍ以内、特に好ましくは±１０μｍ以内である。かかる範囲が大きすぎても小さすぎても、積層体の平坦性が低下する傾向がある。かかる表面平滑性と平坦性を制御する手法としては、例えば、ガラス［ＩＩＩ］表面を光学研磨する手法が挙げられる。
【００８８】
ガラス［ＩＩＩ］の光硬化性組成物（Ａ）と接する表面は、光硬化後のガラス［ＩＩＩ］の剥離を容易にするため、予め離型剤で表面処理してもよい。かかる場合、ガラス［ＩＩＩ］の表面平滑性を低下させないような単分子膜を形成することが好ましい。例えば、フッ素化アルキル基含有シランカップリング剤よりなる単分子膜が好適である。
【００８９】
光硬化のより好ましい手法として、ガラス［Ｉ］の凹状マイクロレンズが形成された面１の外周部に、光硬化性組成物（Ａ）を線状に所定の厚さで塗布し光硬化してバンクを形成した後、光硬化性組成物（Ａ）をバンク内側に塗布し光硬化して硬化樹脂層［ＩＩ］を形成する手法が挙げられる。例えば、凹状マイクロレンズを、６〜１５インチの円盤（ウェハー）状のガラスに形成した場合、この円盤の外周にバンクを形成することとなる。かかる手法を用いることにより、ガラス［Ｉ］の凹状マイクロレンズが形成された領域に、正確に硬化樹脂層［ＩＩ］を形成することができ、液漏れなどの不具合を回避することができる。なお、光硬化性組成物（Ａ）に厚み制御のためのギャップ材を配合することも可能である。
【００９０】
かくして本発明の積層体が得られるが、硬化樹脂層［ＩＩ］の重合度の向上のため、あるいは応力ひずみ開放のために積層体を熱処理してもよく、その場合１００℃以上で熱処理することが好ましい。また、硬化樹脂層［ＩＩ］を研磨により薄膜化してもよい。
【００９１】
本発明における硬化樹脂層［ＩＩ］の屈折率ｎＤは、１．５２〜１．５３であることが好ましく、より好ましくは１．５２１〜１．５２９、特に好ましくは１．５２２〜１．５２８である。屈折率ｎＤが、小さすぎると、マイクロレンズの焦点距離を充分に短くできない傾向があり、逆に、大きすぎると、樹脂は、前述したとおり、化学構造中に変色しやすい原子（団）を含有するため、耐光性が低下する傾向にある。かかる屈折率ｎＤを上記範囲に調整するに当たっては、例えば、上述した光硬化性組成物（Ａ）の種類や成分の含有量を適宜コントロールする手法が挙げられる。具体的には、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）や多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の脂環量、ウレタン結合量、エステル基数を制御するなどの手法が挙げられる。
【００９２】
本発明における各マイクロレンズ部の焦点距離ｆは、０．０１〜０．５ｍｍであることが好ましく、より好ましくは０．０２〜０．３ｍｍ、特に好ましくは０．０３〜０．１ｍｍである。焦点距離ｆが大きすぎても小さすぎても、光利用効率が低下する傾向にある。かかる焦点距離ｆを上記範囲に調整するに当たっては、例えば、マイクロレンズ形成の際に、サイズや形状を制御する手法が挙げられる。なお、マイクロレンズの形状が球面である場合、焦点距離ｆ（ｍｍ）は、球面の曲率半径ｒと硬化樹脂層［ＩＩ］の屈折率ｎより、下記式に従って求められる（１．４５８は石英ガラスの屈折率である）。
焦点距離ｆ（ｍｍ）＝ｒ×ｎ／（ｎ−１．４５８）
【００９３】
本発明における硬化樹脂層［ＩＩ］の表面粗さＲａは、２０ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１５ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。表面粗さＲａが大きすぎると、平坦化が不充分であり、対向電極のクラックや液晶層のギャップムラが発生しやすい傾向にある。かかる表面粗さＲａを上記範囲に調整するに当たっては、例えば、光硬化性組成物（Ａ）の粘度や表面張力を適宜コントロールする手法や、ガラス［ＩＩＩ］の表面平滑性を向上するなどの手法が挙げられる。なお、表面粗さＲａの下限としては通常１ｎｍである。
【００９４】
本発明における硬化樹脂層［ＩＩ］のガラス転移温度は、１５０℃以上であることが好ましく、より好ましくは１８０℃以上、特に好ましくは２００℃以上である。ガラス転移温度が低すぎると、反射防止膜や透明導電膜の高温成膜が困難となるばかりか、液晶パネルの耐久性が低下する傾向にある。かかるガラス転移温度を上記範囲に調整するに当たっては、例えば、上述した光硬化性組成物（Ａ）の種類や成分の含有量を適宜コントロールする手法が挙げられる。具体的には、多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の官能基数を上げるなどの手法が挙げられる。なおガラス転移温度の上限としては通常４００℃である。
【００９５】
本発明における硬化樹脂層［ＩＩ］の線膨張係数は、１００ｐｐｍ／℃以下であることが好ましく、より好ましくは９０ｐｐｍ／℃以下、特に好ましくは８０ｐｐｍ／℃以下である。線膨張係数が大きすぎると、ガラス［Ｉ］と硬化樹脂層［ＩＩ］の接着性が低下する傾向にある。かかる線膨張係数を上記範囲に調整するに当たっては、例えば、上述した光硬化性組成物（Ａ）の種類や成分の含有量を適宜コントロールする手法が挙げられる。具体的には、多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の官能基数を上げるなどの手法が挙げられる。なお線膨張係数の下限としては通常１０ｐｐｍ／℃である。
【００９６】
本発明における硬化樹脂層［ＩＩ］のアッベ数νＤは、４０以上であることが好ましく、より好ましくは４５以上、特に好ましくは５０以上である。アッベ数νＤが小さすぎると色分散が増大し、光利用効率が低下する傾向にある。かかるアッベ数νＤを上記範囲に調整するに当たっては、例えば、上述した光硬化性組成物（Ａ）の種類や成分の含有量を適宜コントロールする手法が挙げられる。具体的には、脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート系化合物（Ａ１）や多官能（メタ）アクリレート系化合物（Ａ２）の脂環量、ウレタン結合量、エステル基数を制御するなどの手法が挙げられる。なおアッベ数νＤの上限としては通常８０である。
【００９７】
本発明の積層体の全光線透過率は、９０％以上であることが好ましく、より好ましくは９１％以上、特に好ましくは９２％以上である。全光線透過率が低すぎると、液晶プロジェクタの高輝度化が困難となる傾向がある。なお、全光線透過率の上限としては通常９９．９％である。全光線透過率を向上する手法としては、例えば、光硬化性組成物（Ａ）の成分や含有量を調整する手法（具体的には、多官能（メタ）アクリレートとして芳香環を含まないモノマーを用いたり、光重合開始剤の量を調整したりすること等）や、補助成分として酸化防止剤、黄変防止剤、紫外線吸収剤などを添加する手法、光硬化の際の照射条件を制御する手法（具体的には、過度に光量を高めないことや、不活性ガス化で光照射したりすること等）等が挙げられる。
【００９８】
本発明における積層体のリタデーションは、投影画像の高精細性の点で、１ｎｍ以下であることが好ましい。より好ましくは０．５ｎｍ以下、特に好ましくは０．２ｎｍ以下である。リタデーションが大きすぎると、画像の精細性が低下する傾向がある。リタデーションを低減する手法としては、例えば、光硬化性組成物（Ａ）の成分や含有量を特定する手法（具体的には、硬化収縮の小さい脂環骨格モノマーを用いたり、光重合開始剤の量を調整したりすること等）、補助成分としてメルカプタン化合物などの連鎖移動剤を添加する手法、光硬化の際の照射条件を制御する手法（具体的には、過度に照度を高めないことや、数回に分けて照射したりすること等）、光硬化後に熱処理する手法などが挙げられる。
【００９９】
本発明における積層体の反りは、例えば一般的な１５０ｍｍウェハーのサイズで、０．１ｍｍ以下であることが好ましい。反りが大きすぎると液晶パネルの製造が困難となる傾向にある。より好ましくは、光利用効率の点で、０．０５ｍｍ以下、特に好ましくは、液晶パネルの耐久性の点で、０．０３ｍｍ以下である。反りを低減する手法としては、例えば、光硬化性組成物（Ａ）の成分や含有量を特定する手法（具体的には、硬化収縮の小さい脂環骨格モノマーを用いたり、光重合開始剤の量を調整したりすること等）、光硬化の際の照射条件を制御する手法（具体的には、両面照射することや、数回に分けて照射したりすること等）、光硬化後に熱処理する手法などが挙げられる。
【０１００】
本発明の積層体において、ガラス［Ｉ］と硬化樹脂層［ＩＩ］の界面は充分な強度で接着していることが好ましい。接着強度は、例えば、クロスハッチテストで評価されるが、長時間の高温高湿下でも剥がれないことが好ましい。
【０１０１】
本発明の積層体は、少なくとも片面に反射防止膜を成膜して、より光利用効率の高い積層体とすることができる。反射防止膜としては、ＳｉＯ2／ＴｉＯ2／ＳｉＯ2の３層構成からなる無機多層膜やフッ素樹脂からなる低屈折率有機コート膜が挙げられる。これらの中でも、低反射率の点から無機多層膜が好ましい。かかる反射防止膜の膜厚は、用途に合わせて選択されるが、通常、λ／４やλ／２に調整されることが好ましい。
【０１０２】
無機反射防止膜を成膜するに当たっては、蒸着、スパッタ、ＣＶＤなど公知の手法が用いられるが、成膜温度は、好ましくは３０〜２５０℃、より好ましくは５０〜２００℃、更に好ましくは７０〜１５０℃である。成膜温度が低すぎると、反射防止が不充分となる傾向にあり、逆に、高すぎると積層体に反りが発生する傾向にある。
【０１０３】
得られる反射防止膜の反射率は、好ましくは３％以下、より好ましくは２％以下、更に好ましくは１％以下であり、高すぎると液晶パネルの輝度が低下する傾向にある。なお、下限は通常０．０１％である。
【０１０４】
本発明の積層体は、硬化樹脂層［ＩＩ］または前述した反射防止膜の上に透明導電膜を成膜して、対向基板とすることができる。透明導電膜としては、導電性と透明性の点でインジウムとスズの酸化物（ＩＴＯ）が好ましい。かかる透明導電膜の膜厚は、通常１００〜５０００Å、好ましくは３００〜３０００Å、更に好ましくは５００〜２０００Åである。かかる膜厚が厚すぎると、光線透過率が低下する傾向にあり、薄すぎると導電性が不充分となる傾向にある。
【０１０５】
透明導電膜を成膜するに当たっては、成膜温度は、好ましくは５０〜３００℃、より好ましくは１００〜２５０℃、更に好ましくは１５０〜２００℃である。成膜温度が低すぎると導電性が不充分となる傾向にあり、逆に、高すぎると対向基板に反りが発生する傾向にある。
【０１０６】
得られる透明電極基板の導電性は、好ましくは５０Ω／□以下、より好ましくは３０Ω／□以下、更に好ましくは２０Ω／□以下であり、高すぎると液晶パネルの消費電力が増大する傾向にある。なお、下限値は通常１Ω／□である。
【０１０７】
かくして得られる積層体は、光線透過率、複屈折、耐熱性、耐光性、表面平坦性に優れ、光利用効率を高めるマイクロレンズアレイを内包し、高精細かつ高信頼性の液晶パネルを製造するための光学部品として有用である。更に、光通信用部品、光露光用部品、また、プロジェクタ製品、光通信製品、光露光装置として用いられる積層体としても有用である。
【実施例】
【０１０８】
以下、実施例を挙げて本発明を更に具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り以下の実施例に限定されるものではない。
なお、例中「部」、「％」とあるのは、重量基準を意味する。
各物性の測定方法は以下の通りである。
【０１０９】
（１）粘度（ｍＰａ・ｓ）
芝浦システム社製Ｂ型粘度計、「ビスメトロンＶＳ−Ａ１」を用いて、２３℃、回転数６０ｒｐｍ（Ｎｏ．３回転子）で測定した。
【０１１０】
（２）硬化収縮率（％）
硬化前の光硬化性組成物の比重Ｄ１と、硬化後の硬化樹脂シートの比重Ｄ２から、下記式に基づき算出した。
硬化収縮率（％）＝１００×（１−Ｄ１／Ｄ２）
なお、かかる硬化樹脂シートの製造方法は以下の通りである。
長さ１１０ｍｍ、幅１１０ｍｍ、厚さ１ｍｍのガラス２枚を用意し、ガラス表面をフッ素系離型剤で表面処理した後、厚さ１ｍｍのシリコン板をスペーサとして対向させ、この成形型に光硬化性組成物を注入し、高圧水銀ランプにて、照度１００ｍＷ／ｃｍ2、光量１０Ｊ／ｃｍ2の紫外線を照射して光硬化した。次いで、成形型から硬化樹脂シートを取り出し、１５０℃で２時間熱処理を行った後、レーザーカットで、長さ１０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚さ１ｍｍの試験片を切り出した。
【０１１１】
（３）屈折率ｎＤ、アッベ数νＤ
長さ１０ｍｍ×幅１０ｍｍ×厚さ１ｍｍの硬化樹脂シートの試験片を用いて、アタゴ社製アッベ屈折率計「ＲＸ−２０００（ＮａＤ線）」にて２３℃で測定した。
なお、かかる硬化樹脂シートの製造方法は上記と同様である。
【０１１２】
（４）ガラス転移温度（℃）
長さ２０ｍｍ×幅５ｍｍ×厚さ１ｍｍの硬化樹脂シートの試験片を用いて、レオロジー社製動的粘弾性装置「ＤＶＥ−Ｖ４型  ＦＴレオスペクトラー」の引っ張りモードを用いて、周波数１０Ｈｚ、昇温速度３℃／分、歪０．０２５％で測定を行い、得られた複素弾性率の実数部（貯蔵弾性率）に対する虚数部（損失弾性率）の比（ｔａｎδ）を求め、このｔａｎδの最大ピーク温度をガラス転移温度（℃）とした。
なお、かかる硬化樹脂シートの製造方法は上記と同様であり、これを上記所定サイズに試験片を切り出した。
【０１１３】
（５）線膨張係数（ｐｐｍ／℃）
長さ３０ｍｍ×幅３ｍｍ×厚さ１ｍｍの硬化樹脂シートの試験片を用いて、セイコー電子社製「ＴＭＡ１２０」で、引っ張り法ＴＭＡ（支点間距離２０ｍｍ、加重１０g、昇温速度５℃／分）にて測定した。２５℃から１００℃に昇温した時の試験片の伸び（ｍｍ）を測定し、線膨張係数（ｐｐｍ／℃）を下式により算出した。
線膨張係数（ｐｐｍ／℃）＝伸び（ｍｍ）／２０（ｍｍ）／７５（℃）×１０６
なお、かかる硬化樹脂シートの製造方法は上記と同様であり、これを上記所定サイズに試験片を切り出した。
【０１１４】
（６）密着性
ＪＩＳ  Ｋ  ５４００（１９９０年版）に準じてクロスハッチ法により、初期、６５℃９５％ＲＨ１０００時間の高温高湿試験後、及びＵＶＡ０．８Ｗ／ｍ２５００時間の耐光性試験後における評価を行った。
○・・・硬化樹脂層の剥がれ無し
×・・・硬化樹脂層の剥がれ有り
【０１１５】
（７）表面粗さＲａ（ｎｍ）
ＪＩＳ  Ｂ０６０１：２００１に準じて、東京精密社製「サーフコム５７０Ａ」を用いて、硬化樹脂層のＲａ（ｎｍ）を測定した（測定長：１ｍｍ）。
【０１１６】
（８）全光線透過率（％）
積層体をスクライブで５０ｍｍ×５０ｍｍに切断し、日本電色社ヘイズメーター「ＮＤＨ−２０００」で、初期、８５℃８５％ＲＨ１０００時間の高温高湿試験後、及びＵＶＡ０．８Ｗ／ｍ２５００時間の耐光性試験後における全光線透過率（％）を測定した。
【０１１７】
（９）リタデーション（ｎｍ）
大塚電子社製ＲＥＴＳ１００Ａを用いて、２５℃で波長５５０ｎｍのリタデーション（ｎｍ）を測定した。
【０１１８】
（１０）欠陥検査
積層体のマイクロレンズが形成された１ｃｍ×１ｃｍの領域を、レーザー顕微鏡（キーエンス社製「ＶＫＸ−１１０」）で観察し、下記の通り評価した。
○・・・気泡や異物などの欠陥のないもの
×・・・１か所でも欠陥のあるもの
【０１１９】
（１１）反り（ｍｍ）
マイクロレンズが形成された面を上側にして、積層体の端部の最大浮き量（ｍｍ）を、隙間ゲージで測定した。
【０１２０】
（１２）表面抵抗値（Ω／□）
三菱化学社製の４端子法抵抗測定器（ロレスターＭＰ）を用いて、透明導電膜の表面抵抗値を測定した。
【０１２１】
＜実施例１＞
〔脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ１―１）の製造〕
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート５３．３４ｇ（０．２４モル）、２−ヒドロキシエチルアクリレート５５．７３ｇ（０．４８モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル０．０２ｇ、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇ、メチルエチルケトン５００ｇを仕込み、６０℃で３時間反応させ、残存イソシアネート基が０．３％となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してイソホロン骨格含有２官能ウレタンアクリレート（Ａ１―１）を得た。
【０１２２】
［光硬化性組成物（Ａ−１）の製造］
上記ウレタンアクリレート（Ａ１―１）１０部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジアクリレート（Ａ２−１）（新中村化学社製「Ａ−ＤＣＰ」）９０部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ａ３−１）（チバガイギー社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部を、６０℃にて均一になるまで撹拌した後、３μｍの孔径を有するフィルターで濾過し、光硬化性組成物（Ａ−１）を得た。かかる光硬化性組成物（Ａ−１）の粘度は２００ｍＰａ・ｓであり、硬化収縮率は８％である。
【０１２３】
［凹状マイクロレンズの製造１］
厚さ１ｍｍ、直径１５０ｍｍのウェハー状石英ガラスを用意し、ガラス表面（面１）にスパッタリング法により、耐フッ化水素酸保護層として３０００ÅのＣｒ膜を形成した。該保護層の上に、ポジ型感光性高分子を塗布、露光、現像、リンスして、開口径６０μｍの円形開口部が、ピッチ１００μｍで碁盤目状に配列したアレイ状パターンを形成した。次いで、フッ化水素酸を用いて、石英基板をウェットエッチングした後、純水でリンス、乾燥を行った。最後に、混酸（関東化学社製ＨＹ液）に浸漬して、ガラス表面に残っているＣｒ膜と感光性樹脂を除去した。
そして、開口径１００μｍ、曲率半径５０μｍのほぼ半球状の凹状マイクロレンズが細密充填で形成されたガラス［Ｉ−１］を得た。
【０１２４】
上記ウェットエッチングは、市販のフッ化水素溶液（ＨＦ溶液）または、バッファーフッ化水素溶液（ＢＨＦ溶液）を用い、形成する目的形状によって、これらの溶液濃度を変更してウェットエッチングを行う。
【０１２５】
具体的には、上記溶液を使用して、ＨＦウェットエッチング装置（基板を装置にセットし、基板を回転させながら高濃度⇒  中濃度⇒  低濃度のＨＦ溶液で濃度を変更させながらウェットエッチングを行う）を１７分間実施した。ＨＦ溶液は、濃度ごとに回収しながら繰り返し使用する。次に、純粋でリンスを実施する。最後に、基板を高速度で回転させて乾燥する。この状態で、石英基板上には、凹形状の全面マイクロレンズアレイとマスクとして使用したＣｒ金属膜、この上の（わずかな厚さに減少した）レジストが残っている。
【０１２６】
Ｃｒ金属膜が残存する上記石英基板をウェットエッチング液（混酸ＨＹ液、関東化学社製）に浸漬するとＣｒが溶解して、上記基板に残っているＣｒ金属膜と感光性樹脂を除去できる。
【０１２７】
［積層体（１）の作製］
ガラス［Ｉ−１］の凹状マイクロレンズが形成された面１に、３−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製「ＫＢＭ５０３」）の１％エタノール溶液２ｇをスピンコート法（５００ｒｐｍ、１０秒）で塗布し、ホットプレート上で１５０℃、５分乾燥させた。次いで、かかる面１の外周部に、厚さ０．１ｍｍ、幅５ｍｍのリング状シリコンスペーサを設置し、内面の中央部に上記光硬化性組成物（Ａ−１）２ｇを滴下し、上部より厚さ３ｍｍ、直径１６５ｍｍの光学研磨ガラス［ＩＩＩ］をかぶせ、リング内の直径１５５ｍｍの領域に、光硬化性組成物（Ａ−１）を押し広げた。最後に、メタルハライドランプを用いて、光学研磨ガラス［ＩＩＩ］側から照度２００ｍＷ／ｃｍ２、光量２０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射して、硬化樹脂層［ＩＩ−１］を形成し、光学研磨ガラス［ＩＩＩ］を剥離した後、１００℃、６時間で熱処理し、目的とするガラス［Ｉ−１］／硬化樹脂層［ＩＩ−１］よりなる積層体（１）を得た。硬化樹脂層［ＩＩ−１］の厚さは０．１ｍｍであり、クロスハッチテストでの剥離はなく、ガラス［Ｉ−１］との密着性は良好であった。得られた積層体（１）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１２８】
［反射防止膜の形成］
得られた積層体（１）の両面に、スパッタ法にて７０℃で、ＳｉＯ２（３００ｎｍ）／ＴｉＯ２（３００ｎｍ）／ＳｉＯ２（３００ｎｍ）の３層構成の反射防止膜を成膜した。クロスハッチテストで両面とも剥離はなく、密着性は良好であった。得られた反射防止膜付き積層体の全光線透過率は９９％であり、良好であった。
【０１２９】
［透明導電膜の形成］
得られた積層体（１）の硬化樹脂層［ＩＩ−１］面に、スパッタ法にて膜厚１０００ÅのＩＴＯ膜を２００℃で成膜した。クロスハッチテストで剥離はなく、密着性は良好であった。得られた透明導電膜付き積層体の表面抵抗値は３０Ω／□であり、良好であった。
【０１３０】
＜実施例２＞
［積層体（２）の作製］
実施例１において、リング状シリコンスペーサの代わりに、光硬化性組成物（Ａ１−１）を幅１ｍｍ、高さ０．１ｍｍになるようディスペンサから吐出しながらスポットＵＶで光硬化したバンクを用いる以外は同様にして積層体（２）を得た。得られた積層体（２）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１３１】
＜実施例３＞
［積層体（３）の作製］
ガラス［Ｉ−１］の凹状マイクロレンズが形成された面１に、３−メタアクリロキシプロピルトリメトキシシラン（信越化学社製「ＫＢＭ５０３」）の１％エタノール溶液２ｇをスピンコート法（５００ｒｐｍ、１０秒）で塗布し、ホットプレート上で１５０℃、５分乾燥させた。次いで、かかる面１の中央部に上記光硬化性組成物（Ａ−１）０．４ｇを滴下し、上部より厚さ３ｍｍ、直径１６５ｍｍの光学研磨ガラス［ＩＩＩ］を、ガラス同士の面間距離が０．０２ｍｍとなるようにかぶせ、面１の直径１５５ｍｍの領域に、光硬化性組成物（Ａ−１）を押し広げた。最後に、メタルハライドランプを用いて、光学研磨ガラス［ＩＩＩ］側から照度２００ｍＷ／ｃｍ２、光量２０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射し、硬化樹脂層［ＩＩ−１］を形成し、光学研磨ガラス［ＩＩＩ］を剥離した後、１００℃、６時間で熱処理し、目的とするガラス［Ｉ−１］／硬化樹脂層［ＩＩ−１］よりなる積層体（３）を得た。硬化樹脂層［ＩＩ−１］の厚さは０．０２ｍｍであり、クロスハッチテストでの剥離はなく、ガラス［Ｉ−１］との密着性は良好であった。得られた積層体（３）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１３２】
＜実施例４＞
［凹状マイクロレンズの製造２］
（ガラス型の作製）
厚さ１ｍｍ、直径１５０ｍｍのウェハー状石英ガラスを充分に洗浄した後、表面（面１）にポジ型フォトレジスト（シップレー社製、ポジ−レジスト１４００−２７）を塗布し、プリベークを行って厚さ１．５８μｍの感光性樹脂層を得た。次いで、７μｍ×７μｍの正方形遮光部が隙間１μｍ（長手方向８μｍピッチ，短手方向８μｍピッチ）で配列したマスクを用意し、感光性材料層に密着させて紫外線露光、現像、リンスを行った。更に、２度目の紫外線露光を前記紫外線露光量の１／３の強度で基板全体に均一に照射し、次いで感光性樹脂層を１５０℃で加熱して、滑らかな曲面状の突起をアレイ状に形成した。各パターンは凸状突起となり、長さ７μｍ×幅７μｍ×高さ２．０５μｍの半円球形状となった。最後に、得られた面１を、酸素を導入ガスとして、ＥＣＲプラズマで異方性のドライエッチングを行った。この時の選択比、即ちエッチングレートは、感光性樹脂層：石英ガラス＝１：１．５（選択比：１．５）である。すなわち、上記高さ２．０５μｍの感光性材料層の高さ形状よりもエッチング後はレンズ高さが高くなるような条件でエッチングを行った。エッチングを感光性樹脂層が無くなる前に中止し、硫酸とＨ２Ｏ２混合液でＣＡＲＯＳ洗浄して、残った樹脂を除去した。
得られた凸状マイクロレンズアレイにおける各マイクロレンズは、長さ７μｍ×幅７μｍ×高さ２．４７μｍであり、凸状マイクロレンズの頂点部は平坦な円形状であった。平坦部の直径は約２μｍであった。この時の平坦部面積割合は、マイクロレンズ全体の２５．６％であった。
【０１３３】
（樹脂への転写）
厚さ１ｍｍ、直径１５０ｍｍのウェハー状石英ガラスの表面をシランカップリング剤処理した後、上述した凸状マイクロレンズが形成されたガラス型表面と間隙５μｍで対向させ、該間隙に光硬化性組成物（Ａ−１）を充填し、光量１０Ｊ／ｃｍ２の紫外線を照射して光硬化した。ガラス型を剥離して、光硬化樹脂層／ガラスよりなる積層体を得た。光硬化樹脂層に転写された凹状マイクロレンズアレイにおける各マイクロレンズは、長さ７μｍ×幅７μｍ×深さ２．３４μｍであり、凹状マイクロレンズアレイの底部は平坦な円形状であった。上記（ガラス型の作製）で製作した凸形状を凹凸反転させた形状が僅かに低くなった形状であった。
【０１３４】
（ドライエッチング）
得られた積層体をＥＣＲプラズマエッチング装置内にセットし、エッチングガスとして、Ａｒ：ＣＨＦ３：Ｏ２の混合ガスを導入し、光硬化樹脂層及びガラスの異方性ドライエッチングを下記の条件で行った。
【０１３５】
ガス種：Ａｒ：ＣＨＦ３：Ｏ２の混合ガス
圧力：３〜５×１０−４Ｔｏｒｒ
ＲＦパワー：５００ｗ
エッチング時間：１６分
【０１３６】
かくして凹状マイクロレンズが細密充填で形成されたガラス［Ｉ−２］を得た。各凹状マイクロレンズは正方形状であり、最大の対角線の長さが９．９０μｍ、断面形状は曲率半径約３．５μｍのほぼ半球状であるが、底部は平坦な円形状であり、平坦部の投影面積はマイクロレンズの投影面積の２５．６％であった。
【０１３７】
［積層体（４）の作製］
実施例１において、石英ガラス「Ｉ−１」に代えて石英ガラス「Ｉ−２」を用いること以外は同様にして積層体（４）を得た。得られた積層体（４）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１３８】
＜実施例５＞
実施例１において、光硬化性組成物（Ａ−１）に紫外線吸収剤として２−｛４−［（２−ヒドロキシ−３−（２′−エチル）ヘキシル）オキシ］−２−ヒドロキシフェニル｝−４，６−ビス（２，４−ジメチルフェニル）−１，３，５−トリアジン（ＢＡＳＦ社製「Ｔｉｎｕｖｉｎ４０５」）０．０１部を加える以外は同様にして積層体（５）を得た。得られた積層体（５）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１３９】
＜実施例６＞
実施例１において、光硬化性組成物（Ａ−１）に酸化防止剤としてテトラキス［メチレン−３−（３′，５′−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］メタン（ＢＡＳＦ社製「Ｉｒｇａｎｏｘ１０１０」）０．１部を加える以外は同様にして積層体（６）を得た。得られた積層体（６）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１４０】
＜実施例７＞
〔脂環骨格含有多官能ウレタン（メタ）アクリレート（Ａ１−２）の製造〕
温度計、撹拌機、水冷コンデンサー、窒素ガス吹き込み口を備えた４つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート５３．３４ｇ（０．２４モル）、ペンタエリスリトールトリアクリレート（水酸基価１２５．４ｍｇＫＯＨ／ｇ）（大阪有機化学工業社製、「ビスコート＃３００」）９５．４６ｇ（０．４８モル）、重合禁止剤としてハイドロキノンメチルエーテル０．０２ｇ、反応触媒としてジブチルスズジラウレート０．０２ｇ、メチルエチルケトン５００ｇを仕込み、６０℃で３時間反応させ、残存イソシアネート基が０．３％となった時点で反応を終了し、溶剤を留去してイソホロン骨格含有６官能ウレタンアクリレート（Ａ１−２）を得た。
【０１４１】
［光硬化性組成物（Ａ−２）の製造］
上記ウレタンアクリレート（Ａ１−２）３０部、ビス（ヒドロキシメチル）トリシクロ［５．２．１．０２，６］デカン＝ジメタクリレート（Ａ２−２）（新中村化学社製「ＤＣＰ」）７０部、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（Ａ３−１）（チバガイギー社製「Ｉｒｇａｃｕｒｅ１８４」）１部を、６０℃にて均一になるまで撹拌した後、３μｍの孔径を有するフィルターで濾過し、光硬化性組成物（Ａ−２）を得た。かかる光硬化性組成物（Ａ−２）の粘度は１０００ｍＰａ・ｓであり、硬化収縮率は１０％である。
【０１４２】
［積層体（７）の作製］
実施例１において、光硬化性組成物（Ａ−１）に代えて光硬化性組成物（Ａ−２）を用いること以外は同様にして積層体（７）を得た。得られた積層体（７）は欠陥もなく、後記の表１に示される通り、良好な特性を有していた。
【０１４３】
＜比較例１＞
実施例１において、硬化樹脂層を無機ゾルゲル層とすること以外は同様にして積層体を得た。かかる積層体の作製方法は以下のとおりである。
ガラス［Ｉ−１］の凹状マイクロレンズが形成された面１に、（１）ポリジメチルシロキサン７０部、有機溶剤３０部よりなる無機ゾルゲル材料（粘度５ｍＰａ・ｓ）をスピンコート法（５００ｒｐｍ、１０秒）で塗布し、（２）８０℃で３分間プリベークを行った後、（３）２００℃で１０分間ポストベークを行い、（４）最後に２００℃で３０分間焼成した。更に、（１）〜（４）の工程を１０回繰り返して、ガラス［Ｉ−１］／無機ゾルゲル層よりなる積層体を得た。
得られた積層体は、凹状マイクロレンズ部が完全に埋まっていないため平坦でなく、大きく反り、更に欠陥が多く、実用に耐えないものであった。
【０１４４】
【表１】
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【０１４５】
上記結果からも分かるように、実施例品においては、１回の塗布で平滑かつ反りのない積層体が得られるばかりでなく、光線透過率やリタデーションに優れ、更に欠陥が少ないのに対して、比較例では、１０回の塗布でも平坦化せず、反りが大きく、欠陥も多かった。
【産業上の利用可能性】
【０１４６】
本発明の積層体は、様々な光学部品、電子部品に有利に利用できる。例えば、液晶パネル、有機／無機ＥＬパネル、電子ペーパー、導光板、位相差板、タッチパネル等、各種ディスプレイ用部品、液晶プロジェクタ用の光学部品および製品、光ディスクを初めとする記憶・記録用途、太陽電池などのエネルギー用途、光導波路などの光通信用部品および製品、光露光用部品および製品、更には機能性シート、反射防止板、光学多層部品等各種光学シート・コーティング用途に利用できる。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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