(57)【要約】【課題】  内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度の高い胚盤胞を成長させることを図ったヒト胚盤胞とその生産方法を提供することである。【解決手段】  ヒト胚盤胞の生産方法は、培養液に非平衡大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程と、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する受精卵培養工程と、を有する。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
胚盤胞の生産方法において、
培養液に非平衡大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程と、
非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する受精卵培養工程と、
を有すること
を特徴とする胚盤胞の生産方法。
【請求項２】
請求項１に記載の胚盤胞の生産方法において、
前記非平衡大気圧プラズマのプラズマ密度とプラズマ照射時間との積であるプラズマ密度時間積は、
３×１０16ｓｅｃ・ｃｍ-3以上３×１０18ｓｅｃ・ｃｍ-3以下であること
を特徴とする胚盤胞の生産方法。
【請求項３】
胚盤胞において、
非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養したものであること
を特徴とする胚盤胞。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書の技術分野は、胚盤胞とその生産方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
体外受精技術は、家畜の品種改良やヒトの不妊治療に応用されている。体外受精においては、例えば、次のような手順を実施する。まず、生体外で卵子と精子とを受精させて受精卵を生産する。次に、その受精卵を胚盤胞の段階まで培養する。そして、その胚盤胞を子宮に移植する。
【０００３】
特許文献１には、受精卵を培養する培養装置および培養方法について開示されている。この培養装置は、チャネルを有する。そして、チャネルの内部に受精卵と培養液とを充填する。そして、そのチャネルの姿勢を変更したり、チャネルを介して受精卵に物理的刺激を与える（特許文献１の段落［００３２］−［００３９］等参照）。これにより、受精卵の培養環境が、より生体に近いものとなる旨が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−２７１９６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１には、体外受精の成功率は、約２５％程度であると記載されている（特許文献１の段落［０００３］参照）。また、子宮に移植する胚盤胞として良好なものを選択した場合には、胚盤胞１個当たりの妊娠率は、３０％−４０％程度である。
【０００６】
そして、近年、胚盤胞における内部細胞塊（Ｉｎｎｅｒ  Ｃｅｌｌ  Ｍａｓｓ：ＩＣＭ）の密度が高いほど、妊娠率が高いことが明らかとなってきている。
【０００７】
本明細書の技術は、前述した従来の技術が有する問題点を解決するためになされたものである。すなわちその課題とするところは、内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度の高い胚盤胞を成長させることを図った胚盤胞とその生産方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
第１の態様における胚盤胞の生産方法は、培養液に非平衡大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程と、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する受精卵培養工程と、を有する。
【０００９】
この胚盤胞の生産方法では、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する。そのため、内部細胞塊の割合の高い胚盤胞を生産することができる。内部細胞塊の割合が高いため、この胚盤胞を子宮に移植する場合の妊娠率は従来の場合の妊娠率に比べて高い。
【００１０】
第２の態様における胚盤胞の生産方法においては、非平衡大気圧プラズマのプラズマ密度とプラズマ照射時間との積であるプラズマ密度時間積は、３×１０16ｓｅｃ・ｃｍ-3以上３×１０18ｓｅｃ・ｃｍ-3以下である。
【００１１】
第３の態様における胚盤胞は、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養したものである。
【発明の効果】
【００１２】
本明細書では、内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度の高い胚盤胞を成長させることを図った胚盤胞とその生産方法が提供されている。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態のプラズマ装置の概略構成を説明するための概念図である。
【図２】図２．Ａは第１のプラズマ発生部の構成を示す断面図であり、図２．Ｂは電極の形状を示す図である。
【図３】図３．Ａは第２のプラズマ発生部の構成を示す断面図であり、図３．Ｂはプラズマ領域の長手方向に垂直な断面における部分断面図である。
【図４】プラズマ装置が培養液にプラズマを照射している様子を示す図である。
【図５】胚盤胞の総細胞数を示すグラフである。
【図６】胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数を示すグラフである。
【図７】胚盤胞の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数を示すグラフである。
【図８】胚盤胞における栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数に対する内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数の比を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、具体的な実施形態について、ヒト胚盤胞とその生産方法を例に挙げて図を参照しつつ説明する。
【００１５】
（第１の実施形態）
第１の実施形態について説明する。本実施形態のヒト胚盤胞の生産方法は、培養液に非平衡大気圧プラズマを照射するプラズマ照射工程と、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する受精卵培養工程と、を有する。そのため、まず、プラズマ装置について説明する。
【００１６】
１．プラズマ装置
１−１．プラズマ装置の構成
図１は、本実施形態のプラズマ装置ＰＭの概略構成を示す図である。本実施形態のプラズマ装置ＰＭは、図１に示すように、プラズマ照射部Ｐ１と、アームロボットＭ１と、を有している。プラズマ照射部Ｐ１は、非平衡大気圧プラズマを発生させるとともに、その非平衡大気圧プラズマを培養液に向けて照射するためのものである。
【００１７】
アームロボットＭ１は、図１に示すように、プラズマ照射部Ｐ１の位置をｘ軸、ｙ軸、ｚ軸方向のそれぞれの方向に移動させることができるようになっている。なお、説明の便宜上、プラズマを照射する向きを−ｚ軸方向としている。これにより、溶液の液面と、プラズマ照射部Ｐ１との間の距離を調整することができる。また、このプラズマ装置ＰＭは、予めプラズマ照射時間を設定することにより、その時間だけプラズマを照射することができるものである。
【００１８】
プラズマ照射部Ｐ１には、後述するように、２種類の方式（第１のプラズマ発生部Ｐ１０および第２のプラズマ発生部Ｐ２０）がある。そして、いずれの方式を用いてもよい。
【００１９】
１−２．第１のプラズマ発生部
図２．Ａはプラズマ発生部Ｐ１０の概略構成を示す断面図である。ここで、プラズマ発生部Ｐ１０は、プラズマを点状に噴出する第１のプラズマ発生部である。図２．Ｂは、図２．Ａのプラズマ発生部Ｐ１０の電極２ａ、２ｂの形状の詳細を示す図である。
【００２０】
プラズマ発生部Ｐ１０は、筐体部１０と、電極２ａ、２ｂと、電圧印加部３と、を有している。筐体部１０は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）を原料とする焼結体から成るものである。そして、筐体部１０の形状は、筒形状である。筐体部１０の内径は２ｍｍ以上３ｍｍ以下である。筐体部１０の厚みは０．２ｍｍ以上０．３ｍｍ以下である。筐体部１０の長さは１０ｃｍ以上３０ｃｍ以下である。筐体部１０の両端には、ガス導入口１０ｉと、ガス噴出口１０ｏとが形成されている。ガス導入口１０ｉは、プラズマを発生させるためのガスを導入するためのものである。ガス噴出口１０ｏは、プラズマを筐体部１０の外部に照射するための照射部である。なお、ガスの移動する向きは、図中の矢印の向きである。
【００２１】
電極２ａ、２ｂは、対向して配置されている対向電極対である。電極２ａ、２ｂの対向面方向の長さは、筐体部１０の内径より小さい。例えば１ｍｍ程度である。電極２ａ、２ｂには、図２．Ｂに示すように、対向面のそれぞれに凹部（ホロー）Ｈが多数形成されている。そのため、電極２ａ、２ｂの対向面は、微細な凹凸形状となっている。なお、この凹部Ｈの深さは、０．５ｍｍ程度である。
【００２２】
電極２ａは、筐体部１０の内部であってガス導入口１０ｉの近傍に配置されている。電極２ｂは、筐体部１０の内部であってガス噴出口１０ｏの近傍に配置されている。そのため、プラズマ発生部Ｐ１０では、電極２ａの対向面の反対側からガスを導入するとともに、電極２ｂの対向面の反対側にガスを噴出するようになっている。そして、電極２ａ、２ｂ間の距離は、２４ｃｍである。電極２ａ、２ｂ間の距離は、これより小さい距離であってもよい。
【００２３】
電圧印加部３は、電極２ａ、２ｂ間に交流電圧を印加するためのものである。電圧印加部３は、商用交流電圧である、６０Ｈｚ、１００Ｖを用いて９ｋＶに昇圧するとともに、電極２ａ、２ｂ間に電圧を印加する。
【００２４】
ガス導入口１０ｉからアルゴンを導入するとともに、電圧印加部３により、電極２ａ、２ｂ間に電圧を印加すると、筐体部１０の内部にプラズマが発生する。図２．Ａの斜線で示すように、プラズマが発生する領域をプラズマ発生領域Ｐとする。プラズマ発生領域Ｐは、筐体部１０に覆われている。
【００２５】
１−３．第２のプラズマ発生部
図３．Ａはプラズマ発生部Ｐ２０の概略構成を示す断面図である。ここで、プラズマ発生部Ｐ２０は、プラズマを線状に噴出する第２のプラズマ発生部である。図３．Ｂは、図３．Ａのプラズマ発生部Ｐ２０のプラズマ領域Ｐの長手方向に垂直な断面における部分断面図である。
【００２６】
プラズマ発生部Ｐ２０は、筐体部１１と、電極２ａ、２ｂと、電圧印加部３と、を有している。筐体部１１は、アルミナ（Ａｌ2 Ｏ3 ）を原料とする焼結体から成るものである。筐体部１１の両端には、ガス導入口１１ｉと、多数のガス噴出口１１ｏとが形成されている。ガス導入口１１ｉは、図３．Ａの左右方向を長手方向とするスリット形状をしている。ガス導入口１１ｉからプラズマ領域Ｐの直上までのスリット幅（図３．Ｂの左右方向の幅）は１ｍｍである。
【００２７】
ガス噴出口１１ｏは、プラズマを筐体部１１の外部に照射するための照射部である。ガス噴出口１１ｏは、円筒形状もしくはスリット形状である。円筒形状の場合のガス噴出口１１ｏは、プラズマ領域の長手方向に沿って一直線状に形成されている。ガス噴出口１１ｏの内径は１ｍｍ以上２ｍｍ以下の範囲内である。また、スリット形状の場合には、ガス噴出口１１ｏのスリット幅を１ｍｍ以下とすることが好ましい。これにより、安定したプラズマが形成される。また、ガス導入口１１ｉは、電極２ａと電極２ｂとを結ぶ線と交差する向きにガスを導入するようになっている。
【００２８】
電極２ａ、２ｂおよび電圧印加部３については、図１に示したプラズマ発生部Ｐ１０と同じものである。そして、同様に、商用交流電圧を用いて、電極２ａ、２ｂ間に電圧を印加する。これにより、プラズマを一直線状に噴出することができる。
【００２９】
また、この一直線状にプラズマを噴出するプラズマ発生部Ｐ２０を図３．Ｂの左右方向に列状に並べて配置すれば、プラズマをある長方形の領域にわたって平面的に噴出することができる。
【００３０】
２．プラズマ発生部により発生されるプラズマ
２−１．第１のプラズマ発生部および第２のプラズマ発生部
プラズマ発生部Ｐ１０、Ｐ２０により発生されるプラズマは、非平衡大気圧プラズマである。ここで、大気圧プラズマとは、０．５気圧以上２．０気圧以下の範囲内の圧力であるプラズマをいう。
【００３１】
本実施の形態では、プラズマ発生ガスとして、主にＡｒガスを用いる。プラズマ発生部Ｐ１０、Ｐ２０により発生されるプラズマの内部では、もちろん、電子と、Ａｒイオンとが生成されている。そして、Ａｒイオンは、紫外線を発生する。また、このプラズマは大気中に放出されているため、大気中の分子に由来するラジカル等を発生させる。
【００３２】
このプラズマのプラズマ密度は、１×１０14ｃｍ-3以上１×１０17ｃｍ-3以下の範囲内である。なお、誘電体バリア放電により発生されるプラズマにおけるプラズマ密度は、１×１０11ｃｍ-3以上１×１０13ｃｍ-3以下の程度である。したがって、プラズマ発生部Ｐ１０、Ｐ２０により発生されるプラズマのプラズマ密度は、誘電体バリア放電により発生されるプラズマのプラズマ密度に比べて、３桁程度大きい。したがって、このプラズマの内部では、より多くのＡｒイオンが生成する。そのため、ラジカルや、紫外線の発生量も多い。なお、このプラズマ密度は、プラズマ内部の電子密度にほぼ等しい。
【００３３】
そして、このプラズマ発生時におけるプラズマ温度は、およそ１０００Ｋ以上２５００Ｋ以下の範囲内である。また、このプラズマにおける電子温度は、ガスの温度に比べて大きい。しかも、電子の密度が１×１０14ｃｍ-3以上１×１０17ｃｍ-3以下の範囲内の程度であるにもかかわらず、ガスの温度はおよそ１０００Ｋ以上２５００Ｋ以下の範囲内である。このプラズマの温度は、プラズマの発生しているプラズマ領域Ｐでの温度である。したがって、プラズマの条件や、ガス噴出口から液面までの距離を異なる条件とすることにより、液面の位置でのプラズマ温度を室温程度とすることができる。
【００３４】
２−２．プラズマ密度時間積
プラズマ密度時間積は、プラズマ密度とプラズマ照射時間との積である。プラズマ密度時間積は、培養液に照射されたプラズマ生成物（ラジカル等）の総量にほぼ比例する。プラズマ発生部Ｐ１０、Ｐ２０により発生されるプラズマのプラズマ密度を、１×１０17ｃｍ-3であるとする。プラズマ照射時間は、１秒以上１０秒以下であると仮定する。このとき、プラズマ密度時間積は、１×１０17ｓｅｃ・ｃｍ-3以上１×１０18ｓｅｃ・ｃｍ-3以下である。
【００３５】
プラズマ密度時間積は、例えば、３×１０16ｓｅｃ・ｃｍ-3以上３×１０18ｓｅｃ・ｃｍ-3以下であるとよい。好ましくは、５×１０16ｓｅｃ・ｃｍ-3以上２×１０18ｓｅｃ・ｃｍ-3以下である。より好ましくは、１×１０17ｓｅｃ・ｃｍ-3以上１×１０18ｓｅｃ・ｃｍ-3以下である。プラズマ照射時間は、プラズマ密度に応じて設定するとよい。
【００３６】
３．ヒト胚盤胞
本実施形態のヒト胚盤胞は、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養したものである。そして、このヒト胚盤胞は、その受精卵を胚盤胞まで成長させたものである。胚盤胞は、内部細胞塊（ＩＣＭ）と栄養外胚葉（ＴＥ）とを有している。内部細胞塊（ＩＣＭ）は、胎児となる部分である。栄養外胚葉（ＴＥ）は、胎盤や胚膜に分化する部分である。本実施形態のヒト胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度は、プラズマによる処置を施していないヒト胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度より高い。そのため、本実施形態のヒト胚盤胞を子宮に移植することにより、妊娠率は向上する。
【００３７】
４．ヒト胚盤胞の生産方法
４−１．受精卵準備工程
本実施形態のヒト胚盤胞の生産方法について説明する。まず、ヒトの卵巣から卵子を採取する。そして、採取した卵子に精子を供給して体外受精させる。これにより、受精卵を得る。
【００３８】
４−２．プラズマ照射工程
次に、図４に示すように、培養液に非平衡大気圧プラズマを照射する。その際に、本実施形態のプラズマ装置ＰＭを用いればよい。プラズマ密度は、１×１０14ｃｍ-3以上１×１０17ｃｍ-3以下の範囲内である。非平衡大気圧プラズマを培養液に照射する照射時間（プラズマの照射時間）は、例えば、１秒以上１０秒以下である。
【００３９】
４−３．受精卵培養工程
次に、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する。そして、受精卵をヒト胚盤胞の段階まで成長させる。
【００４０】
５．変形例
５−１．培養液の交換
受精卵の成長段階に応じて培養液の種類を交換してもよい。受精卵の成長段階に応じた好適な環境下に受精卵をおくことで、品質の高い受精卵を成長させるためである。そして、受精卵の成長段階に応じて培養液の種類を交換する際に、新たな培養液に非平衡大気圧プラズマを照射してもよい。
【００４１】
５−２．プラズマの照射
本実施形態では、非平衡大気圧プラズマを照射した培養液で受精卵を培養する。しかし、受精卵を培養している最中の培養液に非平衡大気圧プラズマを照射してもよい。その場合には、受精卵が受精してから細胞分裂を開始するまでの間に受精卵を培養している培養液に非平衡大気圧プラズマを照射するとよい。そして、その培養液で受精卵を引き続き培養するとよい。
【００４２】
５−３．動物の胚盤胞
本実施形態の胚盤胞は、ヒト胚盤胞である。しかし、その他の動物の受精卵についても本明細書の技術を適用することができる。例えば、家畜となる動物や、水産資源となる魚類等に対しても、本明細書の技術を適用することができる。
【００４３】
６．本実施形態のまとめ
以上詳細に説明したように、本実施形態のヒト胚盤胞は、受精卵を培養する培養液に非平衡大気圧プラズマを照射し、その培養液中で受精卵を胚盤胞まで成長させたものである。このヒト胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度は、プラズマを照射していない培養液で培養したヒト胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度より高い。そのため、本実施形態のヒト胚盤胞を子宮に移植することにより、妊娠率は向上する。
【実施例】
【００４４】
１．実験Ａ
１−１．実験方法
本実験では、マウスの受精卵を用いた。培養液に非平衡大気圧プラズマを照射した。このようにプラズマを照射した培養液をプラズマ培養液ということとする。そして、プラズマ培養液中でマウスの受精卵を胚盤胞の状態になるまで培養した。また、この胚盤胞と比較するために、プラズマを照射しない通常の培養液中でマウスの受精卵を胚盤胞の状態になるまで培養した。そして、プラズマ培養液で培養した胚盤胞と通常の培養液で培養した胚盤胞とを比較した。
【００４５】
本実験におけるプラズマ装置のプラズマ密度は、１．０×１０17ｃｍ-3であった。プラズマ照射時間は、５秒であった。プラズマ密度時間積は、５．０×１０17ｓｅｃ・ｃｍ-3であった。液面からガス噴出口までの距離は５ｍｍであった。
【００４６】
１−２．実験結果
図５は、胚盤胞の総細胞数を示すグラフである。図５の縦軸は、胚盤胞の総細胞数である。つまり、内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数と栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数との和である。そして、図５は、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の総細胞数と、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の総細胞数と、を示す。
【００４７】
図５に示すように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の総細胞数は、約８８である。通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の総細胞数は、約９３である。このように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の総細胞数は、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の総細胞数よりもやや少ない。
【００４８】
図６は、胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数を示すグラフである。図６の縦軸は、胚盤胞の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数である。そして、図６は、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数と、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数と、を示す。
【００４９】
図６に示すように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数は、約２５である。通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数は、約１７である。このように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数は、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数よりも多い。
【００５０】
図７は、胚盤胞の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数を示すグラフである。図７の縦軸は、胚盤胞の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数である。そして、図７は、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数と、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数と、を示す。
【００５１】
図７に示すように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数は、約６３である。通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数は、約７６である。このように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数は、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数よりもやや少ない。
【００５２】
図８は、胚盤胞における栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数に対する内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数の比を示すグラフである。図８の縦軸は、胚盤胞における栄養外胚葉（ＴＥ）の細胞数に対する内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数の比（以下、単に「細胞数比」という）である。そして、図８は、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の細胞数比と、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の細胞数比と、を示す。
【００５３】
図８に示すように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）における細胞数比は、約０．２８である。通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）における細胞数比は、約０．１９である。このように、プラズマ培養液で培養した胚盤胞（ｐｌａｓｍａ）の細胞数比は、通常の培養液で培養した胚盤胞（ｃｏｎｔｒｏｌ）の細胞数比よりも大きい。
【００５４】
以上の結果を表１にまとめる。
【００５５】
［表１］
プラズマ培養液          通常の培養液
総細胞数                  ８７．９±９．２        ９３．３±９．９
内部細胞塊の細胞数        ２４．５±５．７        １７．４±３．４
栄養外胚葉の細胞数        ６３．３±１３．５      ７５．８±９．７
細胞数比                  ０．２８±０．０８      ０．１９±０．０３
【００５６】
このように、プラズマを照射した培養液で受精卵を培養することにより、胚盤胞の総細胞数はやや少なくなるものの、内部細胞塊（ＩＣＭ）の細胞数は増加する。そのため、プラズマを照射した培養液で受精卵を培養することにより、受精卵の細胞の分化の状態は変化する。そして、上記のように、内部細胞塊（ＩＣＭ）の密度の高い胚盤胞が得られる。つまり、状態の良好な胚盤胞が生産される。したがって、妊娠率は向上する。
【００５７】
なお、培養液へのプラズマの照射時間が長くなると、胚盤胞の段階まで発育する受精卵の割合は少なくなる。そのため、プラズマ照射時間は、プラズマ密度にもよるが、例えば、３０秒以下であるとよい。また、１０秒以下であるとよい。また、本実験は、マウスについての実験である。しかし、ヒトの受精卵についても、本明細書の技術を適用することにより、良好なヒト胚盤胞が得られると考えられる。また、その他の動物一般にも、本明細書の技術を適用することができる。
【符号の説明】
【００５８】
ＰＭ…プラズマ装置
Ｐ１…プラズマ照射部
Ｍ１…ロボットアーム
Ｐ１０、Ｐ２０…プラズマ発生部
１０、１１…筐体部
１０ｉ、１１ｉ…ガス導入口
１０ｏ、１１ｏ…ガス噴出口
２ａ、２ｂ…電極
Ｐ…プラズマ領域
Ｈ…凹部（ホロー）
【図１】
2016174553.tif 000003
【図２】
2016174553.tif 000004
【図３】
2016174553.tif 000005
【図４】
2016174553.tif 000006
【図５】
2016174553.tif 000007
【図６】
2016174553.tif 000008
【図７】
2016174553.tif 000009
【図８】
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