(57)【要約】【課題】フレキシブルデバイスの生成における重ね合わせ精度を向上し、かつ、スループットを向上しうる、フレキシブルデバイスの生成装置および生成方法を提供する。【解決手段】平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い外周面２１を有するベースローラ２上で積層体８の形成を行う。このため、ベースローラ２に相当する構成（基材１０よりも相対的に硬く寸法安定性の高い構成）を用いずに可撓性の基材１０上で積層体８を形成する他の態様に比べて、積層体８の機能層間での重ね合わせ精度を向上することができる。また、ベースローラ２を連続的に回転させ、これと同期して搬送部５によって基材１０を連続搬送しつつ、フレキシブルデバイスＦＤを生成することができる。このため、フレキシブルデバイスの生成速度が速く、スループットを向上することができる。【選択図】図１
2016043340.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
可撓性の基材の一方側主面に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスを生成する生成装置であって、
平坦でかつ前記基材よりも相対的に硬い外周面を有する円筒状のローラと、
前記ローラを軸心周りに回転させる回転部と、
回転される前記ローラの前記外周面上に複数の機能性材料を積層して、積層体を形成する処理部と、
搬送経路に沿って前記基材を搬送し、前記ローラの回転方向に沿って前記処理部よりも下流側の接触位置で、前記外周面上に形成される前記積層体の表面と前記基材の前記主面とを接触させる搬送部と、
制御部と、
を備え、
前記制御部が、前記回転部、前記処理部、および前記搬送部の各々を同期制御することによって、前記外周面上に前記積層体が形成され、該積層体が前記主面上に反転転写されることを特徴とする生成装置。
【請求項２】
請求項１に記載の生成装置であって、
前記ローラは、前記外周面に剥離加工の施されたローラであることを特徴とする生成装置。
【請求項３】
請求項１に記載の生成装置であって、
前記処理部は、前記ローラの回転方向に沿って配される複数の単位処理部を有し、
前記複数の単位処理部のうち最も上流側に位置する単位処理部は、前記ローラの前記外周面に剥離加工を施す剥離加工部であることを特徴とする生成装置。
【請求項４】
請求項３に記載の生成装置であって、
前記剥離加工部は、特定波長の光が照射されることにより接着性が低下する光分解性の接着剤を前記ローラの前記外周面に塗布する部分であり、
前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ローラの外周面に前記特定波長の光を照射する照射部であることを特徴とする生成装置。
【請求項５】
請求項３に記載の生成装置であって、
前記剥離加工部は、特定温度に熱されることにより接着性が低下する熱分解性の接着剤を前記ローラの前記外周面に塗布する部分であり、
前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ローラの外周面を前記特定温度に加熱する加熱部であることを特徴とする生成装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の生成装置であって、
前記ローラはガラスを主成分として構成されることを特徴とする生成装置。
【請求項７】
可撓性の基材の一方側主面に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスを生成する生成装置であって、
平坦でかつ前記基材よりも相対的に硬い外周面を有する無端形状のベルトと、
前記ベルトを張り渡して保持しつつ、前記ベルトを無端経路に沿って走行させる保持走行部と、
走行される前記ベルトの前記外周面上に複数の機能性材料を積層して、積層体を形成する処理部と、
搬送経路に沿って前記基材を搬送し、前記ベルトの前記無端経路に沿って前記処理部よりも下流側の接触位置で、前記外周面上に形成される前記積層体の表面と前記基材の前記主面とを接触させる搬送部と、
制御部と、
を備え、
前記制御部が、前記保持走行部、前記処理部、および前記搬送部の各々を同期制御することによって、前記外周面上に前記積層体が形成され、該積層体が前記主面上に反転転写されることを特徴とする生成装置。
【請求項８】
請求項７に記載の生成装置であって、
前記ベルトは、前記外周面に剥離加工の施されたベルトであることを特徴とする生成装置。
【請求項９】
請求項７に記載の生成装置であって、
前記処理部は、前記無端経路に沿って配される複数の単位処理部を有し、
前記複数の単位処理部のうち最も上流側に位置する単位処理部は、前記ベルトの前記外周面に剥離加工を施す剥離加工部であることを特徴とする生成装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の生成装置であって、
前記剥離加工部は、特定波長の光が照射されることにより接着性が低下する光分解性の接着剤を前記ベルトの前記外周面に塗布する部分であり、
前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ベルトの外周面に前記特定波長の光を照射する照射部であることを特徴とする生成装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の生成装置であって、
前記剥離加工部は、特定温度に熱されることにより接着性が低下する熱分解性の接着剤を前記ベルトの前記外周面に塗布する部分であり、
前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ベルトの外周面を前記特定温度に加熱する加熱部であることを特徴とする生成装置。
【請求項１２】
請求項７ないし請求項１１のいずれかに記載の生成装置であって、
前記ベルトは金属ベルトであることを特徴とする生成装置。
【請求項１３】
請求項１ないし請求項１２のいずれかに記載の生成装置であって、
前記基材の前記主面には粘着層が形成されていることを特徴とする生成装置。
【請求項１４】
請求項１ないし請求項１３のいずれかに記載の生成装置であって、
前記基材の搬送経路のうち前記接触位置より下流側に配され、搬送される基材の前記主面側に封止層を形成する封止部、を備えることを特徴とする生成装置。
【請求項１５】
請求項１ないし請求項１４のいずれかに記載の生成装置であって、
前記処理部がトランジスタ構造を有する積層体を形成することを特徴とする生成装置。
【請求項１６】
請求項１ないし請求項１４のいずれかに記載の生成装置であって、
前記処理部が有機ＥＬの発光層を有する積層体を形成することを特徴とする生成装置。
【請求項１７】
可撓性の基材の一方側主面に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスを生成する生成方法であって、
平坦でかつ前記基材よりも相対的に硬いベース面を移動させる移動工程と、
移動する前記ベース面上に複数の機能性材料を積層して、積層体を形成する積層工程と、
前記ベース面の移動と同期して前記基材を搬送することにより、接触位置にて前記ベース面上に形成される前記積層体の表面と前記基材の前記主面とを接触させて、前記積層体を前記主面上に反転転写する反転転写工程と、
を、備えることを特徴とする生成方法。
【請求項１８】
請求項１７に記載の生成方法であって、
前記積層工程の前に行われる工程として、前記ベース面に剥離加工を施す剥離加工工程、を備えることを特徴とする生成方法。
【請求項１９】
請求項１８に記載の生成方法であって、
前記積層工程の後でかつ前記反転転写工程の前に行われる工程として、前記ベース面から前記積層体が剥離する際の剥離性を向上させる剥離性向上工程、を備えることを特徴とする生成方法。
【請求項２０】
請求項１７ないし請求項１９のいずれかに記載の生成方法であって、
前記反転転写工程の後に行われる工程として、搬送される前記基材の前記主面側に封止層を形成する封止工程、を備えることを特徴とする生成方法。
【請求項２１】
請求項１７ないし請求項２０のいずれかに記載の生成方法であって、
前記移動工程、前記積層工程、および、前記反転転写工程、のいずれもが同期して連続的に行われることを特徴とする生成方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フレキシブルデバイスの生成装置および生成方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
可撓性の基材の一方側主面に機能層を積層して生成されるフレキシブルデバイスが知られている。一般に、可撓性の基材は温度変化等の環境変化に対する寸法安定性が低い。このため、後述する母基板のようにベースとなる構成を用いずに可撓性の基材上で機能層を積層する場合には、機能層間で重ね合わせ精度が低下することや可撓性の基材と該基材に積層される機能層との間で重ね合わせ精度が低下することが生じやすい。
【０００３】
このような重ね合わせ精度の低下はフレキシブルデバイスの性能低下に繋がるため、フレキシブルデバイスの生成においては、上記した重ね合わせ精度を向上することが求められる。
【０００４】
例えば、特許文献１には、母基板たるガラス上に可撓性の基材たるポリマー膜を蒸着形成し、該ポリマー膜上に機能層たる素子膜を形成した後、ポリマー膜および素子膜からなるフレキシブルデバイスをガラスから剥離して取得する技術が開示されている。
【０００５】
この技術では、可撓性の基材よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）母基板をベースとして母基板上でフレキシブルデバイスを生成するため、機能層間での重ね合わせ精度および可撓性の基材と機能層と間での重ね合わせ精度を向上することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２００９−５１４２４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１に記載の技術では、母基板上での可撓性基材の形成、可撓性基材上での機能層の形成、可撓性基材および機能層の剥離、という一連の動作を１枚のフレキシブルデバイスを生成する度に順次に行う必要があった。このため、この技術ではフレキシブルデバイスの生成速度が遅く、スループットを向上する技術が求められていた。
【０００８】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、フレキシブルデバイスの生成における重ね合わせ精度を向上することができ、かつ、スループットを向上しうる、フレキシブルデバイスの生成装置および生成方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するため、本発明の第１の態様にかかる生成装置は、可撓性の基材の一方側主面に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスを生成する生成装置であって、平坦でかつ前記基材よりも相対的に硬い外周面を有する円筒状のローラと、前記ローラを軸心周りに回転させる回転部と、回転される前記ローラの前記外周面上に複数の機能性材料を積層して、積層体を形成する処理部と、搬送経路に沿って前記基材を搬送し、前記ローラの回転方向に沿って前記処理部よりも下流側の接触位置で、前記外周面上に形成される前記積層体の表面と前記基材の前記主面とを接触させる搬送部と、制御部と、を備え、前記制御部が、前記回転部、前記処理部、および前記搬送部の各々を同期制御することによって、前記外周面上に前記積層体が形成され、該積層体が前記主面上に反転転写されることを特徴とする。
【００１０】
本発明の第２の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様にかかる生成装置であって、前記ローラは、前記外周面に剥離加工の施されたローラであることを特徴とする。
【００１１】
本発明の第３の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様にかかる生成装置であって、前記処理部は、前記ローラの回転方向に沿って配される複数の単位処理部を有し、前記複数の単位処理部のうち最も上流側に位置する単位処理部は、前記ローラの前記外周面に剥離加工を施す剥離加工部であることを特徴とする。
【００１２】
本発明の第４の態様にかかる生成装置は、本発明の第３の態様にかかる生成装置であって、前記剥離加工部は、特定波長の光が照射されることにより接着性が低下する光分解性の接着剤を前記ローラの前記外周面に塗布する部分であり、前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ローラの外周面に前記特定波長の光を照射する照射部であることを特徴とする。
【００１３】
本発明の第５の態様にかかる生成装置は、本発明の第３の態様にかかる生成装置であって、前記剥離加工部は、特定温度に熱されることにより接着性が低下する熱分解性の接着剤を前記ローラの前記外周面に塗布する部分であり、前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ローラの外周面を前記特定温度に加熱する加熱部であることを特徴とする。
【００１４】
本発明の第６の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様ないし第５の態様のいずれかにかかる生成装置であって、前記ローラはガラスを主成分として構成されることを特徴とする。
【００１５】
本発明の第７の態様にかかる生成装置は、可撓性の基材の一方側主面に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスを生成する生成装置であって、平坦でかつ前記基材よりも相対的に硬い外周面を有する無端形状のベルトと、前記ベルトを張り渡して保持しつつ、前記ベルトを無端経路に沿って走行させる保持走行部と、走行される前記ベルトの前記外周面上に複数の機能性材料を積層して、積層体を形成する処理部と、搬送経路に沿って前記基材を搬送し、前記ベルトの前記無端経路に沿って前記処理部よりも下流側の接触位置で、前記外周面上に形成される前記積層体の表面と前記基材の前記主面とを接触させる搬送部と、制御部と、を備え、前記制御部が、前記保持走行部、前記処理部、および前記搬送部の各々を同期制御することによって、前記外周面上に前記積層体が形成され、該積層体が前記主面上に反転転写されることを特徴とする。
【００１６】
本発明の第８の態様にかかる生成装置は、本発明の第７の態様にかかる生成装置であって、前記ベルトは、前記外周面に剥離加工の施されたベルトであることを特徴とする。
【００１７】
本発明の第９の態様にかかる生成装置は、本発明の第７の態様にかかる生成装置であって、前記処理部は、前記無端経路に沿って配される複数の単位処理部を有し、前記複数の単位処理部のうち最も上流側に位置する単位処理部は、前記ベルトの前記外周面に剥離加工を施す剥離加工部であることを特徴とする。
【００１８】
本発明の第１０の態様にかかる生成装置は、本発明の第９の態様にかかる生成装置であって、前記剥離加工部は、特定波長の光が照射されることにより接着性が低下する光分解性の接着剤を前記ベルトの前記外周面に塗布する部分であり、前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ベルトの外周面に前記特定波長の光を照射する照射部であることを特徴とする。
【００１９】
本発明の第１１の態様にかかる生成装置は、本発明の第９の態様にかかる生成装置であって、前記剥離加工部は、特定温度に熱されることにより接着性が低下する熱分解性の接着剤を前記ベルトの前記外周面に塗布する部分であり、前記複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部は、前記ベルトの外周面を前記特定温度に加熱する加熱部であることを特徴とする。
【００２０】
本発明の第１２の態様にかかる生成装置は、本発明の第７の態様ないし第１１の態様のいずれかにかかる生成装置であって、前記ベルトは金属ベルトであることを特徴とする。
【００２１】
本発明の第１３の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様ないし第１２の態様のいずれかにかかる生成装置であって、前記基材の前記主面には粘着層が形成されていることを特徴とする。
【００２２】
本発明の第１４の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様ないし第１３の態様のいずれかにかかる生成装置であって、前記基材の搬送経路のうち前記接触位置より下流側に配され、搬送される基材の前記主面側に封止層を形成する封止部、を備えることを特徴とする。
【００２３】
本発明の第１５の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様ないし第１４の態様のいずれかにかかる生成装置であって、前記処理部がトランジスタ構造を有する積層体を形成することを特徴とする。
【００２４】
本発明の第１６の態様にかかる生成装置は、本発明の第１の態様ないし第１４の態様のいずれかにかかる生成装置であって、前記処理部が有機ＥＬの発光層を有する積層体を形成することを特徴とする。
【００２５】
本発明の第１７の態様にかかる生成方法は、可撓性の基材の一方側主面に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスを生成する生成方法であって、平坦でかつ前記基材よりも相対的に硬いベース面を移動させる移動工程と、移動する前記ベース面上に複数の機能性材料を積層して、積層体を形成する積層工程と、前記ベース面の移動と同期して前記基材を搬送することにより、接触位置にて前記ベース面上に形成される前記積層体の表面と前記基材の前記主面とを接触させて、前記積層体を前記主面上に反転転写する反転転写工程と、を、備えることを特徴とする。
【００２６】
本発明の第１８の態様にかかる生成方法は、本発明の第１７の態様にかかる生成方法であって、前記積層工程の前に行われる工程として、前記ベース面に剥離加工を施す剥離加工工程、を備えることを特徴とする。
【００２７】
本発明の第１９の態様にかかる生成方法は、本発明の第１８の態様にかかる生成方法であって、前記積層工程の後でかつ前記反転転写工程の前に行われる工程として、前記ベース面から前記積層体が剥離する際の剥離性を向上させる剥離性向上工程、を備えることを特徴とする。
【００２８】
本発明の第２０の態様にかかる生成方法は、本発明の第１７の態様ないし第１９の態様のいずれかにかかる生成方法であって、前記反転転写工程の後に行われる工程として、搬送される前記基材の前記主面側に封止層を形成する封止工程、を備えることを特徴とする。
【００２９】
本発明の第２１の態様にかかる生成方法は、本発明の第１７の態様ないし第２０の態様にかかる生成方法であって、前記移動工程、前記積層工程、および、前記反転転写工程、のいずれもが同期して連続的に行われることを特徴とする。
【発明の効果】
【００３０】
本発明の第１の態様では、平坦でかつ基材よりも相対的に硬い外周面を有する円筒状のローラの外主面上で機能層の積層体を形成する。本発明の第７の態様では、平坦でかつ基材よりも相対的に硬い外周面を有する無端形状のベルトの外周面上で機能層の積層体を形成する。本発明の第１７の態様では、平坦でかつ基材よりも相対的に硬いベース面上で機能層の積層体を形成する。
【００３１】
このため、本発明の第１の態様、第７の態様、または第１７の態様のいずれかを含む本発明の各態様では、基材よりも相対的に硬い構成を用いずに可撓性の基材上で積層体を形成する他の態様に比べて、積層体の機能層間での重ね合わせ精度を向上することができる。
【００３２】
また、本発明の第１の態様ないし第１６の態様のいずれか、および、本発明の第２１の態様では、連続的に積層体を形成し、搬送される基材に対して連続的に該積層体を反転転写することが可能である。このため、フレキシブルデバイスの生成におけるスループットを向上できる。
【図面の簡単な説明】
【００３３】
【図１】生成装置１の主要部分に係る側面図である。
【図２】ベースローラ２上に機能性材料の積層体８を形成する過程を示す側面図である。
【図３】ベースローラ２上に機能性材料の積層体８を形成する過程を示す側面図である。
【図４】ベースローラ２上に機能性材料の積層体８を形成する過程を示す側面図である。
【図５】ベースローラ２上に機能性材料の積層体８を形成する過程を示す側面図である。
【図６】ベースローラ２上に機能性材料の積層体８を形成する過程を示す側面図である。
【図７】フレキシブルデバイスＦＤの側面図である。
【図８】生成装置１Ａの主要部分に係る側面図である。
【図９】生成装置１Ｂの主要部分に係る側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３４】
以下、添付の図面を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。
【００３５】
＜１  第１実施形態＞
＜１．１  生成装置１の構成および動作＞
図１は、可撓性の基材１０の上面１１（一方側主面）に機能性材料を積層してフレキシブルデバイスＦＤを生成する生成装置１の主要部分に係る側面図である。図２ないし図６は、後述するベースローラ２上に機能性材料の積層体８を形成する過程を示す側面図である。なお、図２ないし図６では、紙面の前後方向がベースローラ２の回転方向と一致する。図７は、生成装置１によって生成されるフレキシブルデバイスＦＤの側面図である。なお、図７では、紙面の前後方向が基材１０の搬送方向と一致する。また、図面においては、理解容易のため、各部の寸法や数が誇張または簡略化して図示されている場合がある。
【００３６】
生成装置１は、主たる構成として、ベースローラ２と、ベースローラ２を軸心周りに回転させる回転部（図示せず）と、回転されるベースローラ２の外周面２１上に複数の機能性材料を積層して積層体８（図６）を形成する処理部４と、搬送経路に沿って基材１０を搬送する搬送部５と、装置の各部を制御する制御部９と、を備える。
【００３７】
生成装置１では、制御部９が、回転部、処理部４、および搬送部５の各々を同期制御することによって、ベースローラ２の外周面２１上に積層体８が形成され（図６）、該積層体が基材１０の上面１１上に反転転写される。その結果、可撓性の基材１０の上面１１に機能性材料が積層されて、フレキシブルデバイスＦＤが生成される（図７）。以下では、フレキシブルデバイスＦＤとしてボトムゲートトップコンタクト型のトランジスタ構造体を生成する生成装置１の各部の構成および動作について説明する。
【００３８】
ベースローラ２は、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い外周面を有する円筒状のローラである。ここで、「平坦」とは、平面的であることを意味するのではなく、面の凹凸の程度が形成すべき積層体８の厚さと比較して十分に小さいことを意味する用語である。ベースローラ２は、寸法安定性の高い材料であれば望ましく、例えば、ＳＵＳ或いはガラスを主成分として構成しうる。
【００３９】
処理部４は、ローラの回転方向（図１に示す時計回り方向）に沿って配される複数の単位処理部として、剥離性の調整部４０１、乾燥部４０２、絶縁材料の塗布部４０３、乾燥部４０４、配線材料の印刷部４０５、乾燥部４０６、有機半導体材料の供給部４０７、乾燥部４０８、絶縁材料の塗布部４０９、乾燥部４１０、配線材料の印刷部４１１、および、乾燥部４１２を備える。
【００４０】
調整部４０１は、処理部４によって形成される積層体８が反転転写される際の、外周面２１からの積層体８の剥離性を調整する部分である（図６、図７を参照）。
【００４１】
したがって、ベースローラ２の外周面２１に予め剥離加工（テフロンコーティング等。ここにおいて、「テフロン」は登録商標である。）が施されており外周面２１に強い溌液性が付与されている態様においては、例えば調整部４０１としてプラズマ処理部が採用されて外周面２１に親水処理が施される。これにより、外周面２１上で滑ることなく積層体８が形成され、かつ、反転転写の際に該積層体８が外周面２１から剥離するよう、外周面２１における剥離性が調整される。なお、ベースローラ２の外周面２１に予め剥離加工が施されており外周面２１が予め適当な剥離性で調整されている態様においては、調整部４０１による調整は不要となる。
【００４２】
他方、ベースローラ２の外周面２１に予め剥離加工（溌液性付与等の加工処理）が施されていない態様においては、例えば調整部４０１として剥離加工部（例えば、ＨＤＭＳなどの溌液性を付与するプリコート剤の塗布部）が採用されて外周面２１に溌液処理が施される。これにより、外周面２１に滑ることなく積層体８が形成され、かつ、反転転写の際に該積層体８が外周面２１から剥離するよう、外周面２１における剥離性が調整される。
【００４３】
本実施形態では、調整部４０１（剥離加工部）としてＨＤＭＳなどの溌液性を付与するプリコート剤の塗布部が採用される場合について説明する。調整部４０１は、ベースローラ２の幅方向に伸びる開口を有するスリットノズルからベースローラ２の外周面２１にプリコート剤を吐出する。このため、調整部４０１からプリコート剤を吐出しつつベースローラ２を回転することで、ベースローラ２の外周面２１にプリコート剤の層を形成することができる（剥離加工工程）。ここで、「調整部４０１による剥離加工」は、「後述する反転転写工程において積層体８が反転転写されるよう外周面２１に剥離性を付与すること」を意味し、「外周面２１の滑りやすさに起因して積層体８の形成を出来ない程に外周面２１に剥離性を付与すること」を意味するものではない。
【００４４】
乾燥部４０２は、ベースローラ２の外周面２１に形成されたプリコート剤の層を乾燥させる部分である。本実施形態では、乾燥部４０２として、外周面２１を加熱するハロゲンランプが用いられる態様について説明する。本実施形態の態様の他にも、乾燥部４０２として、外周面２１に熱風を供給する送風部が用いられる態様であっても構わない。
【００４５】
乾燥部４０４、乾燥部４０６、乾燥部４０８、乾燥部４１０、および、乾燥部４１２についても、乾燥部４０２と同様に種々の態様を採用しうる。なお、各乾燥部の処理条件は、乾燥対象の条件（例えば、乾燥部４０２においては、調整部４０１によって外周面２１に形成されたプリコート層の性質や膜厚など）によって個別に設定可能な事項である。
【００４６】
塗布部４０３は、ベースローラ２の幅方向に伸びる開口を有するスリットノズルからベースローラ２の外周面２１に絶縁材料を塗布する部分である。このため、塗布部４０３から絶縁材料を吐出しつつベースローラ２を回転することで、ベースローラ２の外周面２１上に絶縁層８１を形成することができる（図２）。外周面２１上に形成された絶縁層８１は、ベースローラ２の回転方向に沿って塗布部４０３のすぐ下流側に位置する乾燥部４０４によって乾燥される。
【００４７】
以下では、説明の便宜のため、図２ないし図６において示される積層体８の形成過程物のうち処理部４側の面を被処理面８０と呼ぶ。
【００４８】
印刷部４０５は、供給源（図示せず）から供給される印刷材料を、供給ローラ４２０の外周面４２１および版胴４３０の外周面４３１を介して、被処理面８０に特定のパターンで印刷する部分である。
【００４９】
供給ローラ４２０および版胴４３０は、ベースローラ２の軸心と同一方向に伸びる軸心周りに回転可能な円筒状の部材である。供給ローラ４２０の外周面４２１には供給源（図示せず）から印刷材料が供給されており、版胴４３０の外周面４３１には上記パターンと対応する版が装着されている。また、外周面４２１と外周面４３１、および、外周面４３１と外周面２１、はその幅方向に沿って接触している。さらに、供給ローラ４２０および版胴４３０には、これらを自身の軸心回りに回転させる回転部（図示せず）が設けられている。このため、制御部９が、供給ローラ４２０およびベースローラ２を図１に示す時計回り方向に、版胴４３０を図１に示す反時計回り方向に、同期回転させることによって、被処理面８０に上記パターンの印刷層８２を形成することができる（図３）。
【００５０】
印刷層８２は、最終的に生成されるフレキシブルデバイスＦＤにおいて、トランジスタ構造のソース配線およびドレイン配線として機能する層である。したがって、印刷材料としては、乾燥した際にソース配線およびドレイン配線として機能する電極材料（例えば、Ａｕ材料）が利用される。被処理面８０上に形成された印刷層８２は、ベースローラ２の回転方向に沿って印刷部４０５のすぐ下流側に位置する乾燥部４０６によって乾燥される。以下では、「印刷層８２」のことを、その電極機能に由来して、「電極層８２」と呼ぶ。なお、電極層の形成においては、本実施形態の態様（印刷態様）の他にも種々の態様を採用しうる。
【００５１】
供給部４０７は、被処理面８０のうちベースローラ２の回転方向に沿って伸びる２つの電極層８２（図３）の区間に有機半導体材料（例えば、C10-DNBDT）を供給する部分である。具体的には、供給部４０７が有機半導体材料を微滴化して被処理面８０のうち上記区間に直接吹き付けるインクジェット方式によって上記区間に有機半導体材料を供給する。その結果、上記区間には、有機半導体層８３が形成される（図４）。上記区間に形成された有機半導体層８３は、ベースローラ２の回転方向に沿って供給部４０７のすぐ下流側に位置する乾燥部４０８によって乾燥される。なお、インクジェット方式で有機半導体材料を供給する本実施形態の態様の他にも、回転されるベースローラ２に向けて有機半導体材料を供給可能な種々の態様を採用しうる。
【００５２】
塗布部４０９は、ベースローラ２の幅方向に伸びる開口を有するスリットノズルから被処理面８０に絶縁材料を塗布する部分である。このため、塗布部４０９から絶縁材料を吐出しつつベースローラ２を回転することで、被処理面８０上に絶縁層８４を形成することができる（図５）。絶縁層８４は、ベースローラ２の回転方向に沿って塗布部４０９のすぐ下流側に位置する乾燥部４１０によって乾燥される。
【００５３】
印刷部４１１は、供給源（図示せず）から供給される印刷材料を、供給ローラ４４０の外周面４４１および版胴４５０の外周面４５１を介して、被処理面８０に特定のパターンで印刷する部分である。
【００５４】
供給ローラ４４０および版胴４５０は、ベースローラ２の軸心と同一方向に伸びる軸心周りに回転可能な円筒状の部材である。供給ローラ４４０の外周面４４１には供給源（図示せず）から印刷材料が供給されており、版胴４５０の外周面４５１には上記パターンと対応する版が装着されている。また、外周面４４１と外周面４５１、および、外周面４５１と被処理面８０、はその幅方向に沿って接触している。さらに、供給ローラ４４０および版胴４５０には、これらを自身の軸心回りに回転させる回転部（図示せず）が設けられている。このため、制御部９が、供給ローラ４４０およびベースローラ２を図１に示す時計回り方向に、版胴４５０を図１に示す反時計回り方向に、同期回転させることによって、被処理面８０に上記パターンの印刷層８５を形成することができる（図６）。
【００５５】
印刷層８５は、最終的に生成されるフレキシブルデバイスＦＤにおいて、トランジスタ構造のゲート配線として機能する層である。したがって、印刷材料としては、乾燥した際にゲート配線として機能する電極材料（例えば、Ａｇ材料）が利用される。被処理面８０上に形成された印刷層８５は、ベースローラ２の回転方向に沿って印刷部４１１のすぐ下流側に位置する乾燥部４１２によって乾燥される。以下では、「印刷層８５」のことを、その電極機能に由来して、「電極層８５」と呼ぶ。なお、電極層の形成においては、本実施形態の態様（印刷態様）の他にも種々の態様を採用しうる。
【００５６】
このように、本実施形態では、ベースローラ２が回転されつつ（移動工程）、該ベースローラ２が処理部４によって積層処理を施され（積層工程）、ベースローラ２の外周面２１上には、外周面２１から離れる方向に沿って絶縁層８１、電極層８２、有機半導体層８３、絶縁層８４、および電極層８５が積層された積層体８が形成される（図６）。
【００５７】
搬送部５は、ベースローラ２の軸心と同一方向に伸びる軸心回りに回転可能な複数の搬送ローラを有し、搬送経路に沿って基材１０を搬送する。なお、図１には、上記複数の搬送ローラのうち、３つの搬送ローラ５１〜５３が描かれている。また、各搬送ローラ５１〜５３は、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面を有する。
【００５８】
また、搬送部５は、ベースローラ２の回転方向に沿って処理部４よりも下流側の接触位置Ｐ１で、外周面２１上に形成される積層体８の表面８６と基材１０の上面１１とを接触させる（図１、図６）。ここで、「ベースローラ２の回転方向に沿って処理部４よりも下流側の接触位置Ｐ１」とは、処理部４による一連の処理（すなわち、調整部４０１による調整処理から乾燥部４１２による乾燥処理までの一連の処理）が終了した位置を意味し、具体的には、ベースローラ２の回転方向に沿って乾燥部４１２から調整部４０１までの位置を意味する。
【００５９】
特に、本実施形態では、搬送ローラ５２が基材１０を介してベースローラ２と当接されている。具体的には、基材１０の上面１１側にベースローラ２が配され基材１０の下面１２側に搬送ローラ５２が配されて、接触位置Ｐ１を通過する基材１０がベースローラ２および搬送ローラ５２に特定の押込み圧で挟まれる。図１に示すように、ベースローラ２は図示時計回り方向に回転され、搬送ローラ５２は図示反時計回り方向に回転されるため、基材１０は接触位置Ｐ１にてその上面１１に積層体８が押し込まれつつ搬送経路に沿って搬送される。
【００６０】
さらに、既述の通り、ベースローラ２の外周面２１には調整部４０１による積層体８の剥離性調整処理が施されている。その結果、積層体８は、ベースローラ２の外周面２１から剥離しやすい状態とされている。
【００６１】
その結果、基材１０の上面１１と積層体８の表面８６との摩擦力によって、積層体８がベースローラ２の外周面２１から剥離し、基材１０の上面１１上に反転転写される。（反転転写工程）これにより、可撓性の基材１０上に積層体８が積層され、トランジスタ構造のフレキシブルデバイスＦＤが生成される（図７）。
【００６２】
なお、基材１０として、その上面１１に粘着性を有する粘着層が形成された基材を用いてもよい。この場合、上記摩擦力の影響に加わり粘着層の粘着力の影響も生じるため、より安定的に上記反転転写が実現される。
【００６３】
生成装置１は、上記各部の構成に加えてさらに、接触位置Ｐ１よりも搬送方向下流側に配され、搬送される基材１０の上面１１側に封止層を形成する封止部６を備える。封止部６は、封止フィルム６１を巻き出す巻出しローラ（図示せず）、および、封止フィルム６１を基材１０の上面１１側に押し付けるためのローラ６２を有する。
【００６４】
ローラ６２は、基材１０を介して搬送ローラ５３と当接される。具体的には、基材１０の上面１１側にローラ６２が配され基材１０の下面１２側に搬送ローラ５３が配されて、接触位置Ｐ１よりも搬送方向下流側の封止位置Ｐ２を通過する基材１０がローラ６２および搬送ローラ５３に特定の押込み圧で挟まれる。図１に示すように、ローラ６２は図示時計回り方向に回転され、搬送ローラ５３は図示反時計回り方向に回転されるため、基材１０は封止位置Ｐ２にてその上面１１側に封止フィルム６１が押し込まれつつ搬送経路に沿って搬送される。既述の通り封止位置Ｐ２は接触位置Ｐ１よりも搬送方向下流側に配されるので、基材１０の上面１１には積層体８が反転転写されており、封止フィルム６１はフレキシブルデバイスＦＤの上面８７に押し込まれることとなる。
【００６５】
その結果、封止位置Ｐ２では、フレキシブルデバイスＦＤの上面８７と封止フィルム６１の主面との摩擦力によって、フレキシブルデバイスＦＤの上面８７が封止フィルム６１で封止される（封止工程）。
【００６６】
上面８７が封止フィルム６１にて封止されたフレキシブルデバイスＦＤは、その後も搬送部５によって搬送された後、巻取りローラ（図示せず）によって回収される。
【００６７】
＜１．２  生成装置１の効果＞
本実施形態では、図２ないし図６に示すように、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面２１を有するベースローラ２上で積層体８の形成を行う。このため、本実施形態の態様では、ベースローラ２に相当する構成（基材１０よりも相対的に硬く寸法安定性の高い構成）を用いずに可撓性の基材１０上で積層体８を形成する他の態様に比べて、積層体８の機能層間での重ね合わせ精度を向上することができる。
【００６８】
また、本実施形態では、図１に示すように、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面２１を有するベースローラと、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面を有する搬送ローラ５２と、に挟まれて基材１０へ積層体８が反転転写される。このため、本実施形態の態様では、基材１０よりも相対的に硬く寸法安定性の高い部材で挟み込まずに可撓性の基材１０へ積層体８を反転転写する他の態様に比べて、可撓性の基材１０と積層体８と間での重ね合わせ精度を向上することができる。
【００６９】
これにより、重ね合わせ精度が高く高性能なフレキシブルデバイスＦＤを生成することができる。
【００７０】
さらに、本実施形態では、回転部によってベースローラ２を連続的に回転させ、これと同期して搬送部５によって基材１０を連続搬送しつつ、フレキシブルデバイスＦＤを生成することができる。このため、本実施形態の態様では、特許文献１に記載の技術のように、可撓性基材の形成、可撓性基材上での機能層の形成、可撓性基材および機能層の剥離、という一連の動作を１枚のフレキシブルデバイスを生成する度に順次に行う他の態様に比べて、フレキシブルデバイスの生成速度が速く、スループットを向上することができる。
【００７１】
＜２  第２実施形態＞
＜２．１  生成装置１Ａの構成および動作＞
図８は、第２実施形態の生成装置１Ａの概略構成を模式的に示す側面図である。
【００７２】
以下では、図８を参照しつつ第２実施形態の生成装置１Ａについて説明するが、第１実施形態と同一の要素については同一の符号を付し重複説明を省略する。
【００７３】
生成装置１Ａは、積層体８を形成するベース部分の構成および処理部の構成において第１実施形態の生成装置１と相違する。生成装置１Ａにおけるその他の各部の構成（例えば、搬送部５、封止部６など）は、第１実施形態の生成装置１における各部の構成と同様である。したがって、以下では、上記の相違点について主に説明する。
【００７４】
生成装置１Ａは、積層体８を形成するベース部分の構成として、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い外周面２３を有する無端形状のベルト２２と、ベルト２２を張り渡して保持しつつ該ベルト２２を無端経路に沿って走行させる保持走行部２４と、を備える。
【００７５】
ベルト２２は、寸法安定性の高い材料であれば望ましく、例えば、ＳＵＳを主成分とした金属ベルトで構成しうる。ベルト２２の外周面２３からの積層体８の剥離性を調整する態様としては、第１実施形態と同様、装置に装着される前の段階でベルト２２の外周面２３に剥離加工が施される態様や、単位処理部の最も上流側に調整部４０１として剥離加工部を設ける態様などを採用しうる。
【００７６】
保持走行部２４は、ベルト２２を張り渡して保持する２つのローラ２４１、２４２と、これらのローラ２４１、２４２を図８に示す時計回り方向に回転させる回転部（図示せず）と、を有する。このため、回転部が２つのローラ２４１、２４２を図８に示す時計回り方向に回転させることによって、該２つのローラ２４１、２４２に張り渡されるベルト２２が無端経路に沿って走行される。
【００７７】
処理部４Ａは、処理部４と同様に、複数の単位処理部として、剥離性の調整部４０１、乾燥部４０２、絶縁材料の塗布部４０３、乾燥部４０４、配線材料の印刷部４０５、乾燥部４０６、有機半導体材料の供給部４０７、乾燥部４０８、絶縁材料の塗布部４０９、乾燥部４１０、配線材料の印刷部４１１、および、乾燥部４１２を備える。なお、処理部４Ａは、これら複数の単位処理部を上記無端経路に沿って備える点で、複数の単位処理部をローラ２の回転方向に沿って備える処理部４とは異なる。
【００７８】
このため、処理部４Ａは、上記無端経路に沿って走行されるベルト２２の外周面２３上に複数の機能性材料を積層して積層体８を形成することができる。
【００７９】
また、搬送部５は、第１実施形態と同様、搬送経路に沿って基材１０を搬送する。そして、搬送部５は、ベルト２２の無端経路に沿って処理部４Ａよりも下流側の接触位置Ｐ１で、外周面２３上に形成される積層体８の表面と基材１０の上面１１とを接触させる。
【００８０】
したがって、制御部９が、保持走行部２４、処理部４Ａ、および搬送部５の各々を同期制御することによって、外周面２３上に積層体８が形成され、該積層体８が基材１０の上面１１上に反転転写されて、フレキシブルデバイスＦＤが生成される。
【００８１】
生成装置１Ａは、上記各部の構成に加えてさらに、接触位置Ｐ１よりも搬送方向下流側に配され、搬送される基材１０の上面１１側に封止層を形成する封止部６を備える。このため、封止位置Ｐ２では、フレキシブルデバイスＦＤの上面８７と封止フィルム６１の主面との摩擦力によって、フレキシブルデバイスＦＤの上面８７が封止フィルム６１で封止される。
【００８２】
上面８７が封止フィルム６１にて封止されたフレキシブルデバイスＦＤは、その後も搬送部５によって搬送された後、巻取りローラ（図示せず）によって回収される。
【００８３】
＜２．２  生成装置１Ａの効果＞
第２実施形態では、図８に示すように、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面２３を有するベルト２２上で積層体８の形成を行う。このため、第２実施形態の態様では、ベルト２２に相当する構成（基材１０よりも相対的に硬く寸法安定性の高い構成）を用いずに可撓性の基材１０上で積層体８を形成する他の態様に比べて、積層体８の機能層間での重ね合わせ精度を向上することができる。
【００８４】
また、第２実施形態では、図８に示すように、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面２３を有するベルト２２と、平坦でかつ基材１０よりも相対的に硬い（相対的に寸法安定性の高い）外周面を有する搬送ローラ５２と、に挟まれて基材１０へ積層体８が反転転写される。このため、第２実施形態の態様では、基材１０よりも相対的に硬く寸法安定性の高い部材で挟み込まずに可撓性の基材１０へ積層体８を反転転写する他の態様に比べて、可撓性の基材１０と積層体８と間での重ね合わせ精度を向上することができる。
【００８５】
これにより、重ね合わせ精度が高く高性能なフレキシブルデバイスＦＤを生成することができる。
【００８６】
さらに、本実施形態では、回転部によってベースローラ２を連続的に回転させ、これと同期して搬送部５によって基材１０を連続搬送しつつ、フレキシブルデバイスＦＤを生成することができる。このため、本実施形態の態様では、特許文献１に記載の技術のように、可撓性基材の形成、可撓性基材上での機能層の形成、可撓性基材および機能層の剥離、という一連の動作を１枚のフレキシブルデバイスを生成する度に順次に行う他の態様に比べて、フレキシブルデバイスの生成速度が速く、スループットを向上することができる。
【００８７】
また、第２実施形態の生成装置１Ａにおいては、２つのローラ２４１、２４２間の距離を長く設けて該２つのローラ２４１、２４２に張り渡されるベルト２２を準備すれば、無端経路を長くすることができる。この結果、処理部４Ａの単位処理部の個数が増大した場合であっても、無端経路を長く設けることで対応可能である。他方、第１実施形態の生成装置１では、ベースローラ２の径を大きくする（ベースローラ２の部材構成を大型化する）ことによってベースローラ２の外周長さを長くし、単位処理部の個数増大に対応可能である。第２実施形態の生成装置１Ａでは、ローラの大型化等を要せずに単位処理部の個数増大に対応可能なため、積層体８の処理工程が多い態様（すなわち、単位処理部の個数が増大する態様）に有利である。
【００８８】
なお、第２実施形態の生成装置１Ａでは無端経路に沿ってベルト２２が撓むことが求められる一方で、第１実施形態の生成装置１ではベースローラ２が撓むことは求められない。このため、第１実施形態の生成装置１では、特に硬く寸法安定性の高い素材、（例えば、ガラスなど）をベースローラ２として採用することができ、積層体８の重ね合わせがより高精度に求められる態様に有利である。
【００８９】
＜３  変形例＞
以上、本発明の実施形態について説明したが、この発明はその趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。
【００９０】
上記各実施形態では、ボトムゲートトップコンタクト型のトランジスタ構造体を有するフレキシブルデバイスＦＤを生成する態様（すなわち、処理部がボトムゲートトップコンタクト型のトランジスタ構造を反転した積層体を形成する態様）について説明したが、これに限られるものではない。ボトムゲートトップコンタクト型の他、ボトムゲートボトムコンタクト型、トップゲートトップコンタクト型、または、トップゲートボトムコンタクト型のトランジスタ構造を有するフレキシブルデバイスＦＤを生成する態様を採用しうる。
【００９１】
また、上記各実施形態のように処理部がトランジスタ構造を有する積層体を形成する態様の他、処理部が有機ＥＬの発光層を有する積層体を形成する態様であっても構わない。その他にも、ベース部分の主面に機能性材料を積層して積層体を生成した後、該積層体を基材の主面に反転転写してフレキシブルデバイスＦＤを生成する種々の態様に本発明を適用しうる。
【００９２】
上記各実施形態では、「剥離加工」としてベース部分（ベースローラ２またはベルト２２）のベース面（外周面２１または外周面２３）にＨＤＭＳなどの溌液性を付与するプリコート剤の塗布する態様について説明したが、これに限られるものではない。
【００９３】
例えば、図９に示すように、複数の単位処理部のうち最も上流側に位置する剥離加工部として特定波長の光が照射されることにより接着性が低下する（剥離性を発揮する）光分解性の接着剤をベース部分の外周面に塗布する塗布部４１３を設け、かつ、複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部としてベース部の外周面に上記特定波長の光を照射する照射部４１４を設ける態様であってもよい。また別の例として、複数の単位処理部のうち最も上流側に位置する剥離加工部として特定温度に熱されることにより接着性が低下する（剥離性を発揮する）熱分解性の接着剤をベース部分の外周面に塗布する塗布部を設け、かつ、複数の単位処理部のうち最も下流側に位置する単位処理部としてベース部の外周面を上記特定温度に加熱する加熱部を設ける態様であってもよい。これらの態様では、積層工程の前に剥離加工工程を実施して（上記接着剤の塗布をして）、積層工程の後でかつ反転転写工程の前にベース面から積層体８が剥離する際の剥離性を向上させる剥離性向上工程を実施することで（上記光照射や上記加熱をすることで）、ベース部分から基材１０へと積層体８を精度よく反転転写することが可能となる。
【００９４】
以上説明したように、本明細書における「剥離加工」とは、積層工程前に剥離性材料をベース面に供給する態様（上記第１実施形態の態様）と、特定の条件で剥離性を発揮する材料を積層工程前にベース面に供給しておき積層工程後に上記条件を満足させる態様（図９に示す上記変形例の態様）と、の双方を含む概念である。
【００９５】
また、図９に示すようにシリンダ状のベースローラ２Ａの内部に照射部４１４（或いは、加熱部）を設ける生成装置１Ｂでは、照射部４１４による照射の影響（或いは、加熱部による加熱の影響）が基材１０に到達し難くなるので望ましい。
【００９６】
以上、実施形態およびその変形例に係る生成装置および生成方法について説明したが、これらは本発明に好ましい実施形態の例であって、本発明の実施の範囲を限定するものではない。本発明は、その発明の範囲内において、各実施形態の自由な組み合わせ、あるいは各実施形態の任意の構成要素の変形、もしくは各実施形態において任意の構成要素の省略が可能である。
【符号の説明】
【００９７】
１、１Ａ、１Ｂ  生成装置
２  ベースローラ
４  処理部
５  搬送部
６  封止部
８  積層体
９  制御部
１０  基材
１１  上面
２１、２３  外周面
２２  ベルト
８０  被処理面
８１  絶縁層
８２  電極層
８３  有機半導体層
８４  絶縁層
８５  電極層
８６  表面
８７  上面
ＦＤ  フレキシブルデバイス
【図１】
2016043340.tif 000003
【図２】
2016043340.tif 000004
【図３】
2016043340.tif 000005
【図４】
2016043340.tif 000006
【図５】
2016043340.tif 000007
【図６】
2016043340.tif 000008
【図７】
2016043340.tif 000009
【図８】
2016043340.tif 000010
【図９】
2016043340.tif 000011