(57)【要約】【課題】タッチセンサーを含む液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明の一実施形態による液晶表示装置は、基板と、前記基板の上に位置する薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタと連結される画素電極と、前記画素電極と対向して位置する下部絶縁層と、前記下部絶縁層の上に位置し、タッチセンサーを形成する第１透明導電膜および第２透明導電膜と、を備え、前記画素電極と前記下部絶縁層との間に複数のマイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）が形成されており、前記マイクロキャビティは、液晶物質を含む液晶層を形成し、前記下部絶縁層はマトリックス形状を有し、前記下部絶縁層の一部と重畳するように前記第２透明導電膜が配置される。【選択図】図７
2016018214.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板と、
前記基板の上に位置する薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタと連結される画素電極と、
前記画素電極と対向して位置する下部絶縁層と、
前記下部絶縁層の上に位置し、タッチセンサーを形成する第１透明導電膜および第２透明導電膜と、
を備え、
前記画素電極と前記下部絶縁層との間に複数のマイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）が形成されており、前記マイクロキャビティは、液晶物質を含む液晶層を形成し、
前記下部絶縁層は、マトリックス形状を有し、
前記下部絶縁層の一部と重畳するように前記第２透明導電膜が配置された、液晶表示装置。
【請求項２】
前記下部絶縁層の上に位置するルーフ層をさらに備え、
前記ルーフ層は、マトリックス形状を有する、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記ルーフ層の一部と重畳するように前記第２透明導電膜が配置された請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記下部絶縁層の一部と前記ルーフ層の一部は重畳し、前記下部絶縁層の一部と前記ルーフ層の一部は前記薄膜トランジスタに連結されるゲート線と交差する、請求項２又は３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記下部絶縁層の上に位置するルーフ層と、
前記ルーフ層の上に位置する上部絶縁層とをさらに備え、
前記ルーフ層は互いに分離されている複数の横部を含み、前記上部絶縁層は前記下部絶縁層の一部と接触する、請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記上部絶縁層と前記下部絶縁層の一部が接触する部分は、前記薄膜トランジスタに連結されるゲート線と交差する部分である、請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記上部絶縁層と前記下部絶縁層の一部が接触する部分の下に位置する犠牲層残留膜をさらに備える、請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記上部絶縁層と前記下部絶縁層とは、前記犠牲層残留膜の上部面及び側面を覆う、請求項７に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが交差する部分に位置する島型連結部をさらに備え、
前記第１透明導電膜は、前記島型連結部によって連結される、請求項１から８のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記島型連結部と前記第２透明導電膜との間を絶縁する第１絶縁膜と、
前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜との間を絶縁する第２絶縁膜とをさらに備える、請求項９に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在、最も幅広く使用されている平板表示装置の一つであって、画素電極及び共通電極等の電界生成電極が形成された二枚の表示板と、二枚の表示板の間に挿入された液晶層とを含む。
【０００３】
電界生成電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、これを通じて液晶層の液晶分子の配向を決定して入射光の偏光を制御することによって画像を表示する。
【０００４】
液晶表示装置の中の一つとして、ピクセルに複数のマイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）を形成し、ここに液晶を満たしてディスプレイを実現する技術が開発されている。従来の液晶表示装置では二枚の基板が使用され、二枚の基板の間に液晶を満たしていたが、上記技術は一つの基板上にマイクロキャビティを形成し、マイクロキャビティの中に液晶を満たすことによって、装置の重量、厚さなどを減らしている。
【０００５】
一方、液晶表示装置をはじめとする様々な平板表示装置は、多様な入力装置を用いて機能を遂行する。最近、このような入力装置としてタッチパネルを備えた入力装置が多く使用されている。
【０００６】
タッチパネルは、その上に指またはタッチペン（ｔｏｕｃｈ  ｐｅｎ、ｓｔｙｌｕｓ）などを接触して文字や絵を入力したり、アイコンに接触して当該アイコンに対応する機能を実行させてコンピュータなどの機械に所望の命令を遂行させることができる。タッチパネルが付着されるか内部に含まれている表示装置は、使用者の指またはタッチペンなどが画面に接触したか否かおよび接触位置情報を感知して、これにより画像を表示することができる。このようなタッチパネルは、タッチを感知する方法によって大きく抵抗膜方式（ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）、静電容量方式（ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  ｔｙｐｅ）、そして電磁気誘導型（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  ｔｙｐｅ、ＥＭ）などに分けられる。
【０００７】
このようなタッチパネルは、液晶表示装置のような平板表示装置の上部基板または平坦膜の上に付着されるか、または液晶表示装置内に内蔵される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そこで、本発明は、上記を鑑みてなされたものであり、本発明の目的とするところ、タッチセンサーを含む液晶表示装置の損傷を避けつつ、容易に製造することが可能な、新規かつ改良された液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するために、本発明のある観点によれば、基板と、前記基板の上に位置する薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタと連結される画素電極と、前記画素電極と対向して位置する下部絶縁層と、前記下部絶縁層の上に位置し、タッチセンサーを形成する第１透明導電膜および第２透明導電膜と、を備え、前記画素電極と前記下部絶縁層との間に複数のマイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）が形成されており、前記マイクロキャビティは、液晶物質を含む液晶層を形成し、前記下部絶縁層は、マトリックス形状を有し、前記下部絶縁層の縦部と重畳するように前記第２透明導電膜が配置された、液晶表示装置が提供される。
【００１０】
前記下部絶縁層の上に位置するルーフ層をさらに備え、前記ルーフ層は、マトリックス形状を有してもよい。
【００１１】
前記ルーフ層の一部と重畳するように前記第２透明導電膜が配置されてもよい。
【００１２】
前記下部絶縁層の一部と前記ルーフ層の一部は重畳し、前記下部絶縁層の一部と前記ルーフ層の一部は前記薄膜トランジスタに連結されるゲート線と交差してもよい。
【００１３】
前記下部絶縁層の上に位置するルーフ層と、前記ルーフ層の上に位置する上部絶縁層とをさらに備え、前記ルーフ層は互いに分離されている複数の横部を含み、前記上部絶縁層は前記下部絶縁層の一部と接触してもよい。
【００１４】
前記上部絶縁層と前記下部絶縁層の一部が接触する部分は、前記薄膜トランジスタに連結されるゲート線と交差する部分であってもよい。
【００１５】
前記上部絶縁層と前記下部絶縁層の一部が接触する部分の下に位置する犠牲層残留膜をさらに備えることができる。
【００１６】
前記上部絶縁層と前記下部絶縁層とは、前記犠牲層残留膜の上部面及び側面を覆うことができる。
【００１７】
前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜とが交差する部分に位置する島型連結部をさらに備え、前記第１透明導電膜は、前記島型連結部によって連結されることができる。
【００１８】
前記島型連結部と前記第２透明導電膜との間を絶縁する第１絶縁膜と、前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜との間を絶縁する第２絶縁膜とをさらに備えることができる。
【００１９】
前記基板は表示領域と周辺領域を含み、前記周辺領域には画素パッド部およびタッチパッド部が位置し、前記画素パッド部と前記タッチパッド部は互いに重畳しなくてもよい。
【００２０】
また、上記課題を解決するために、本発明の別の観点によれば、液晶表示装置の製造方法は、基板の上に薄膜トランジスタを形成する段階と、前記薄膜トランジスタと連結される画素電極を形成する段階と、前記画素電極の上に犠牲層を形成する段階と、前記犠牲層の上に下部絶縁層を形成する段階と、前記下部絶縁層の上にタッチセンサーを形成する第１透明導電膜および第２透明導電膜を形成する段階と、前記犠牲層を除去して複数のマイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）を形成する段階と、前記複数のマイクロキャビティに液晶物質を注入する段階と、を含み、前記下部絶縁層は横部および縦部を含むマトリックス形状を有するように形成し、前記第２透明導電膜は前記下部絶縁層の縦部と重畳するように形成してもよい。
【００２１】
前記犠牲層は、互いに離隔されている複数の縦部を含むように形成することができる。
【００２２】
前記下部絶縁層の上にルーフ層を形成する段階をさらに含み、前記ルーフ層は横部および縦部を含むマトリックス形状を有するように形成し、前記ルーフ層の縦部は前記犠牲層の縦部が離隔された部分に配置されてもよい。
【００２３】
前記第２透明導電膜は、前記ルーフ層の縦部と重畳するように形成することができる。
【００２４】
前記下部絶縁層の縦部と前記ルーフ層の縦部は重畳するように形成し、前記下部絶縁層の縦部と前記ルーフ層の縦部は前記薄膜トランジスタと連結されたゲート線と交差するように形成することができる。
【００２５】
前記液晶表示装置の製造方法は、前記下部絶縁層の上にルーフ層を形成する段階と、前記ルーフ層の上に上部絶縁層を形成する段階とをさらに含み、前記ルーフ層は互いに分離される複数の横部を含むように形成することができる。
【００２６】
前記上部絶縁層は、前記ルーフ層の横部が分離された部分で前記下部絶縁層の縦部と接触するように形成することができる。
【００２７】
前記液晶表示装置の製造方法は、前記下部絶縁層の上に島型連結部を形成する段階、前記島型連結部の上に第１絶縁膜を形成する段階、前記島型連結部と連結されるように前記第１透明導電膜を形成する段階そして、前記第１絶縁膜の上に前記第２透明導電膜を形成する段階を含み、前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜は同時に形成することができる。
【００２８】
前記基板は表示領域と周辺領域を含み、前記液晶表示装置の製造方法は前記周辺領域に画素パッド部とタッチパッド部が互いに重畳しないように形成する段階をさらに含むことができる。
【００２９】
前記液晶表示装置の製造方法は、前記第１透明導電膜と前記第２透明導電膜の上に第２絶縁膜を形成する段階そして、前記第２絶縁膜、前記第１絶縁膜、前記上部絶縁層および前記下部絶縁層をパターニングして前記画素パッド部に含まれる接触補助部材を露出する段階をさらに含むことができる。
【発明の効果】
【００３０】
以上説明したように本発明によれば、タッチセンサーを含む液晶表示装置を、損傷を避けつつ容易に製造することが可能である。
【図面の簡単な説明】
【００３１】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す配置図である。
【図２】本発明の一実施形態による液晶表示装置のタッチ領域を示す配置図である。
【図３】本発明の一実施形態による液晶表示装置のルーフ層を示す配置図である。
【図４】図１のＰ領域を拡大して示す平面図である。
【図５】図４の切断線Ｖ−Ｖに沿った断面図である。
【図６】図４の切断線ＶＩ−ＶＩに沿った断面図である。
【図７】図４の切断線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った断面図である。
【図８】図７の実施形態を変形した液晶表示装置を示す断面図である。
【図９】図８の実施形態を変形した液晶表示装置を示す断面図である。
【図１０】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す平面図である。
【図１１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１３】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す平面図である。
【図１４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す平面図である。
【図１５】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す平面図である。
【図１６】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１７】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１８】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図１９】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２０】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２３】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２５】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２６】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２７】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２８】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図２９】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３０】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３１】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３２】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３３】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３４】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３５】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３６】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【図３７】本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３２】
以下に添付図面を参照しながら、本発明の好適な実施の形態について詳細に説明する。なお、本明細書及び図面において、実質的に同一の機能構成を有する構成要素については、同一の符号を付することにより重複説明を省略する。
【００３３】
図面において、層および領域の厚さは明確性を期するために誇張されたものである。また、層が他の層または基板“上”にあると言及される場合にそれは他の層または基板の上に直接形成されるか、またはそれらの間に第３の層が介される場合を含む。明細書全体にわたって同一の参照番号で表示された部分は同一の構成要素を意味する。
【００３４】
まず、図１乃至図７を参照して本発明の一実施形態による液晶表示装置について説明する。
【００３５】
図１は本発明の一実施形態による液晶表示装置を概略的に示す配置図である。図２は本発明の一実施形態による液晶表示装置のタッチ領域を示す配置図である。図３は本発明の一実施形態による液晶表示装置のルーフ層を示す配置図である。図４は図１のＰ領域を拡大して示す平面図である。図５は図４の切断線Ｖ−Ｖに沿った断面図である。図６は図４の切断線ＶＩ−ＶＩに沿った断面図である。図７は図４の切断線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った断面図である。
【００３６】
図１および図２に示すように、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、複数の画素ＰＸが位置する表示パネル５００、タッチパネル６００およびタッチ制御部７００を含む。本実施形態でタッチパネル６００は表示パネル５００の上に位置する。具体的に、表示パネル５００の最上端層の上にタッチパネル６００を配置することができる。
【００３７】
表示パネル５００は、画像を表示する表示領域（ｄｉｓｐｌａｙ  ａｒｅａ）ＤＡと、表示領域ＤＡ周辺の周辺領域（ｐｅｒｉｐｈｅｒａｌ  ａｒｅａ）ＰＡを含む。
【００３８】
表示領域ＤＡには、複数のゲート線１２１、複数のデータ線１７１、そして複数のゲート線１２１および複数のデータ線１７１に接続されている複数の画素ＰＸが位置する。
【００３９】
ゲート線１２１は、ゲート信号を伝達し、ほぼ行方向に伸び、互いがほとんど平行する。各ゲート線１２１はゲート駆動部（図示せず）との接続のためのゲートパッド部１２９を含むことができる。ゲート駆動部が表示パネル５００の上に集積されている場合、ゲートパッド部１２９はゲート駆動部と直接接続される。ゲートパッド部１２９は周辺領域ＰＡに配置することができる。
【００４０】
データ線１７１は、画像信号に対応するデータ電圧を伝達し、ほぼ列方向に伸び、互いがほとんど平行する。各データ線１７１は、データ駆動部（図示せず）との接続のためのデータパッド部１７９を含むことができる。データ駆動部が表示板５００の上に集積されている場合、データパッド部１７９はデータ駆動部と直接接続される。データパッド部１７９は周辺領域ＰＡに配置することができる。
【００４１】
複数の画素ＰＸは、ほぼ行列形態に配列されている。各画素ＰＸは該当ゲート線１２１および該当データ線１７１と接続されたスイッチング素子（図示せず）およびこれに接続された画素電極（図示せず）を含むことができる。スイッチング素子は表示パネル５００に集積されている薄膜トランジスタなどの三端子素子であってもよい。スイッチング素子は、ゲート線１２１のゲート信号によってターンオンまたはターンオフされ、データ線１７１からのデータ信号を選択的に画素電極に伝達することができる。
【００４２】
図２に示すように、タッチパネル６００の周辺領域ＰＡには第１タッチ信号線５１および第２タッチ信号線６１が位置し、表示領域ＤＡには第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５が位置する。
【００４３】
第１タッチ信号線５１は、タッチ制御部７００からタッチ入力信号を受信して第１透明導電膜５５に伝達することができる。
【００４４】
第１タッチ信号線５１は第１パッド部５３と接続されており、第１パッド部５３を通じてタッチ入力信号が第１透明導電膜５５に伝達される。
【００４５】
第２タッチ信号線６１は、第２透明導電膜６５からタッチ出力信号を受信してタッチ制御部７００に伝達することができる。
【００４６】
第２タッチ信号線６１は第２パッド部６３と接続されており、第２パッド部６３を通じてタッチ出力信号がタッチ制御部７００に伝達される。
【００４７】
図１および図２に示すように、第１パッド部５３および第２パッド部６３は表示領域ＤＡを基準にそれぞれ右側と下側に配置し、ゲートパッド部１２９とデータパッド部１７９は表示領域ＤＡを基準にそれぞれ左側と上側に配置することができる。このように、本実施形態で第１パッド部５３と第２パッド部６３を含むタッチパッド部はゲートパッド部１２９とデータパッド部１７９を含む画素パッド部と重畳しない領域に配置することができる。
【００４８】
第１パッド部５３を含む第１タッチ信号線５１と第２パッド部６３を含む第２タッチ信号線６１は金属のような導電物質からなり、同一の工程で同一層に形成することができる。
【００４９】
本発明の他の実施形態によれば、前述の第１タッチ信号線５１と第２タッチ信号線６１のそれぞれの機能を互いに入れ替えてもよい。例えば、第２タッチ信号線６１がタッチ制御部７００からタッチ入力信号を受信して第２透明導電膜６５に伝達し、第１タッチ信号線５１が第１透明導電膜５５からタッチ出力信号を受信してタッチ制御部７００に伝達することができる。
【００５０】
図３に示すように、基板１１０は複数の画素ＰＸを含む。複数の画素ＰＸは複数の画素行と複数の画素列を含むマトリックス形態に配置されている。複数の画素行の間には第１トレンチＶ１が位置し、複数の画素列の間には第２トレンチＶ２が位置する。但し、複数の画素ＰＸの配置形態はこれに限定されず多様な変形が可能である。
【００５１】
以下、図４乃至図６を参照して、本発明の一実施形態による液晶表示装置の表示パネル５００およびタッチパネル６００について説明する。
【００５２】
図４乃至図６に示すように、透明なガラスまたはプラスチックなどで作られた基板１１０の上にゲート線１２１が形成されている。ゲート線１２１はゲート電極１２４および他の層または外部駆動回路との接続のための広い端部（図１の１２９）を含む。ゲート線１２１は、アルミニウム（Ａｌ）やアルミニウム合金などアルミニウム系金属、銀（Ａｇ）や銀合金など銀系金属、銅（Ｃｕ）や銅合金など銅系金属、モリブデン（Ｍｏ）やモリブデン合金などモリブデン系金属、クロム（Ｃｒ）、タンタル（Ｔａ）およびチタニウム（Ｔｉ）などで作られる。しかし、ゲート線１２１は物理的性質の異なる少なくとも二つの導電膜を含む多重膜構造を有してもよい。
【００５３】
ゲート線１２１の上には、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などからなるゲート絶縁膜１４０が形成されている。ゲート絶縁膜１４０は、物理的性質の異なる少なくとも二つの絶縁層を含む多層膜構造を有してもよい。ゲート絶縁膜１４０の上には、データ線１７１の下部に位置する半導体層１５１、ソース／ドレイン電極の下部および薄膜トランジスタ（Ｑ）のチャネル部分に位置する半導体層１５４が形成されている。半導体層１５４はアモルファスシリコンまたは多結晶シリコンなどで作られ、または酸化物半導体で形成することもできる。
【００５４】
各半導体層１５１、１５４の上であり、データ線１７１、ソース／ドレイン電極の間には複数の抵抗性接触部材を形成することができるが、図面では省略されている。
【００５５】
各半導体層１５１、１５４およびゲート絶縁膜１４０の上にソース電極１７３およびソース電極１７３と接続されるデータ線１７１、ドレイン電極１７５を含むデータ導電体１７１、１７３、１７５が形成されている。データ線１７１は他の層または外部駆動回路との接続のための広い端部（図１の１７９）を含む。データ線１７１は、データ信号を伝達し、主に縦方向に伸びてゲート線１２１と交差する。
【００５６】
ソース電極１７３はデータ線１７１の一部であり、データ線１７１と同一線上に配置される。ドレイン電極１７５はソース電極１７３と平行に伸びるように形成されている。したがって、ドレイン電極１７５はデータ線１７１の一部と平行する。このようなソース電極１７３およびドレイン電極１７５の構造は変形してもよい。
【００５７】
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、およびドレイン電極１７５は、半導体層１５４と共に薄膜トランジスタＱを形成し、薄膜トランジスタＱのチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５の間の半導体層部分１５４に形成される。
【００５８】
データ線１７１とドレイン電極１７５は、モリブデン、クロム、タンタルおよびチタニウムなど耐火性金属（ｒｅｆｒａｃｔｏｒｙ  ｍｅｔａｌ）またはこれらの合金で作られるのが好ましく、耐火性金属膜（図示せず）と低抵抗導電膜（図示せず）を含む多重膜構造を有してもよい。多重膜構造の例としては、クロムまたはモリブデン（合金）下部膜とアルミニウム（合金）上部膜との二重膜、モリブデン（合金）下部膜とアルミニウム（合金）中間膜とモリブデン（合金）上部膜との三重膜等が挙げられる。
【００５９】
データ導電体１７１、１７３、１７５および露出された半導体層１５４部分の上には、第１保護層１８０ａが形成されている。第１保護層１８０ａは、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）や酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などの無機絶縁物または有機絶縁物を含むことができる。
【００６０】
第１保護層１８０ａの上には、カラーフィルタ２３０および遮光部材２２０が形成されている。
【００６１】
まず、遮光部材２２０は画像を表示する領域に対応する開口部を有する格子構造になっており、光が透過できない物質で形成されている。遮光部材２２０の開口部にはカラーフィルタ２３０が形成されている。遮光部材２２０は、ゲート線１２１と平行な方向に沿って形成された横遮光部材２２０ａと、デート線１７１と平行な方向に沿って形成された縦遮光部材２２０ｂとを含む。
【００６２】
カラーフィルタ２３０は、赤色、緑色および青色の三原色など基本色（ｐｒｉｍａｒｙ  ｃｏｌｏｒ）のうちの一つを表示することができる。しかし、赤色、緑色、および青色の三原色に制限されず、青緑色（ｃｙａｎ）、赤紫色（ｍａｇｅｎｔａ）、イエロー（ｙｅｌｌｏｗ）、ホワイト系の色のうちの一つを表示することもできる。カラーフィルタ２３０は、隣接する画素ごとに互いに異なる色を表示する物質で形成されていてもよい。
【００６３】
カラーフィルタ２３０および遮光部材２２０の上には、これを覆う第２保護層１８０ｂが形成されている。第２保護層１８０ｂは窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）や酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などの無機絶縁物または有機絶縁物を含むことができる。図２の断面図で示されたものとは異なり、カラーフィルタ２３０と遮光部材２２０の厚さの差によって段差が生じた場合には、第２保護層１８０ｂでカラーフィルタ２３０と遮光部材２２０とを覆うようにして、段差を減らすか除去することができる。このように段差を減らすか除去することによって、第２の保護層１８０ｂの上に多くの層を積層しても、各層を平坦性の高い層に形成することができる。
【００６４】
カラーフィルタ２３０、遮光部材２２０および保護層１８０ａ、１８０ｂには、ドレイン電極１７５を露出する接触孔１８５が形成されている。
【００６５】
第２保護層１８０ｂの上には共通電極２７０が位置する。共通電極２７０は、面型（ｐｌａｎａｒ  ｓｈａｐｅ）として基板１１０の全面の上に一つの板状で形成され、ドレイン電極１７５周辺に対応する領域に配置されている開口部１３８を有する。即ち、共通電極２７０は板形態の平面形状を有し得る。
【００６６】
隣接画素に位置する共通電極２７０は、互いに接続され、表示領域外部から供給される一定の大きさの共通電圧の伝達を受けることができる。
【００６７】
共通電極２７０の上には層間絶縁層１８０ｃが位置する。層間絶縁層１８０ｃは有機絶縁物質または無機絶縁物質などからなる。
【００６８】
層間絶縁層１８０ｃの上には画素電極１９１が位置する。画素電極１９１はＩＴＯ）（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）などの透明な導電物質で作られる。画素電極１９１は複数の切開部９１を有し、隣接する切開部の間に位置する複数の枝電極１９２を含む。
【００６９】
第１保護層１８０ａ、第２保護層１８０ｂ、そして層間絶縁層１８０ｃには、ドレイン電極１７５を露出する接触孔１８５が形成されている。画素電極１９１は接触孔１８５を通じてドレイン電極１７５と物理的電気的に接続され、ドレイン電極１７５から電圧の印加を受ける。
【００７０】
共通電極２７０は第１電界生成電極または第１電極であり、画素電極１９１は第２電界生成電極または第２電極である。画素電極１９１と共通電極２７０は水平電界を形成することができる。電界生成電極である画素電極１９１と共通電極２７０とは電界を生成することによって、二つの電界生成電極１９１、２７０の上に位置する液晶分子３１０は、電界の方向と平行な方向に回転する。このように決定された液晶分子の回転方向によって液晶層を通過する光の偏光が変わることとなる。
【００７１】
図に示した実施形態による液晶表示装置によれば、共通電極２７０が面型の平面形状を有し、画素電極１９１が複数の枝電極１９２を有するが、本発明の他の一実施形態による液晶表示装置によれば、画素電極１９１が面型の平面形状を有し、共通電極２７０が複数の枝電極を有してもよい。
【００７２】
本発明による実施形態は、二つの電界生成電極が基板１１０の上に絶縁層を挟んで重畳し、絶縁層の下に形成されている第１電界生成電極が面型の平面形状を有し、絶縁層の上に形成されている第２電界生成電極が複数の枝電極を有する全ての他の場合に適用可能である。
【００７３】
画素電極１９１の上には下部配向膜１１が形成されており、下部配向膜１１は配向物質を含む。
【００７４】
下部配向膜１１と対向する部分に上部配向膜２１が位置し、下部配向膜１１と上部配向膜２１の間にはマイクロキャビティ３０５が形成されている。マイクロキャビティ３０５には液晶分子３１０を含む液晶物質が注入されており、マイクロキャビティ３０５は液晶注入口３０７を有する。
【００７５】
マイクロキャビティ３０５は画素電極１９１の列方向、言い換えると縦方向に沿って形成することができる。本実施形態で、配向膜１１、２１を形成する配向物質と液晶分子３１０を含む液晶物質は、毛管力（ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｆｏｒｃｅ）を用いてマイクロキャビティ３０５に注入することができる。
【００７６】
マイクロキャビティ３０５はゲート線１２１と重畳する部分に位置する複数の液晶注入口形成領域３０７ＦＰによって縦方向に分けられ、また、ゲート線１２１が伸びている方向に沿って複数形成されている。複数形成されたマイクロキャビティ３０５それぞれは画素領域一つまたは二つ以上に対応し、画素領域は画面を表示する領域に対応する。図３に示したように、第１トレンチ領域Ｖ１に液晶注入口形成領域３０７ＦＰを配置することができる。
【００７７】
上部配向膜２１の上には下部絶縁層３５０が位置する。下部絶縁層３５０は窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で形成することができる。
【００７８】
下部絶縁層３５０の上にルーフ層（ｒｏｏｆ  ｌａｙｅｒ）３６０が位置する。ルーフ層３６０はマイクロキャビティ３０５が形成されるようにマイクロキャビティ３０５を支持する役割を果たす。ルーフ層３６０はフォトレジストまたはその他の有機物質を含むことができる。
【００７９】
本実施形態でルーフ層３６０は図３に示したように互いに異なる画素行に位置するルーフ層３６０を連結する連結部３６０ａを含む。ルーフ層３６０は、画素行に沿って横方向に伸びている横部と連結部３６０ａを含み、横部と交差する方向に伸びている縦部を含むマトリックス形状を有してもよい。ルーフ層３６０の下端に位置する下部絶縁層３５０は、ルーフ層３６０と同一なパターン形状を有してもよい。したがって、ルーフ層３６０の横部および縦部に対応するように下部絶縁層３５０も横部および縦部を有し、下部絶縁層３５０はマトリックス形状を有してもよい。
【００８０】
ルーフ層３６０の上に上部絶縁層３７０が位置する。上部絶縁層３７０はルーフ層３６０の上部面と接触してもよい。上部絶縁層３７０は窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯ２）から形成されてもよい。ルーフ層３６０上端に位置する上部絶縁層３７０は、ルーフ層３６０と同一なパターン形状を有してもよい。したがって、ルーフ層３６０の横部および縦部に対応するように上部絶縁層３７０も横部および縦部を有し、上部絶縁層３７０はマトリックス形状を有してもよい。
【００８１】
図７に示すように、下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０および上部絶縁層３７０それぞれの縦部はゲート線１２１と交差する。具体的に、ゲート線１２１と交差するルーフ層３６０の縦部は、連結部３６０ａに対応する部分である。
【００８２】
以上で表示パネル５００の構成について説明したが、以下では上部絶縁層３７０の上に位置するタッチパネル６００の構成について説明する。
【００８３】
図２、図５乃至図７に示すように、上部絶縁層３７０の上に島型連結部５７が位置する。
【００８４】
図２に示したように、島型連結部５７は互いに分離されて複数形成することができる。
【００８５】
図２に示すように、第１タッチ信号線５１と第２タッチ信号線６１の上には絶縁膜２８０が位置する。絶縁膜２８０はタッチパネル６００の周辺領域ＰＡに位置する。表示領域ＤＡには島型で複数形成された第１絶縁膜２８０ａが位置する。
【００８６】
絶縁膜２８０および第１絶縁膜２８０ａは、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）または酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などの無機絶縁物で形成することができる。
【００８７】
絶縁膜２８０および第１絶縁膜２８０ａの上には第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５を配置することができる。
【００８８】
第１透明導電膜５５は主に行方向に伸び、互いに平行する。第１透明導電膜５５は第１パッド部５３と電気的に接続されており、第１パッド部５３を通じてタッチ制御部７００からのタッチ入力信号を受信するか、タッチ制御部７００へタッチ出力信号を出力することができる。タッチ入力信号とタッチ出力信号を共にタッチ信号という。
【００８９】
各第１透明導電膜５５は図２に示したように互いに物理的に分離された複数の部分を含むことができる。各第１透明導電膜５５の互いに隣接する複数の部分は連結手段を通じて電気的に連結される。連結手段は島型連結部５７を含むことができる。
【００９０】
島型連結部５７は第１絶縁膜２８０ａと重畳してもよい。さらに具体的には、島型連結部５７の互いに対向する一対の辺、例えば列方向に対向する一対の辺は、第１絶縁膜２８０ａによって覆われる。島型連結部５７の少なくとも一部は第１絶縁膜２８０ａに覆われず露出されてもよい。特に各島型連結部５７は第１絶縁膜２８０ａを中心に露出された両端部分を含むことができる。
【００９１】
島型連結部５７は第１タッチ信号線５１および第２タッチ信号線６１と同一な工程で同一物質で同一層に形成することができる。
【００９２】
第２透明導電膜６５は主に列方向に伸び、互いに平行する。第２透明導電膜６５は第２パッド部６３と電気的に接続されており、第２パッド部６３を通じてタッチ制御部７００からのタッチ入力信号を受信するか、タッチ制御部７００へタッチ出力信号を出力することができる。
【００９３】
各第２透明導電膜６５は図２に示したように物理的に連結された一つの部分からなる。第２透明導電膜６５は島型連結部５７の上に位置する第１絶縁膜２８０ａの上を過ぎて列方向に伸びる。第２透明導電膜６５は表示パネル５００の下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０および／または上部絶縁層３７０の縦部と重畳するように配置される。すなわち、タッチセンサーを形成するための第２透明導電膜６５を上下に連結されたルーフ層３６０または下部絶縁層３５０に対応するように形成することができる。本実施形態においては、データ線１７１のような信号線や半導体層１５１の上に、下部絶縁層３５０、上部絶縁層３７０、第１絶縁膜２８０ａを除去せずに維持するため、本発明の一実施形態による液晶表示装置の形成は容易である。さらに、下部絶縁層３５０、上部絶縁層３７０、第１絶縁膜２８０ａを除去せずに維持することから、タッチセンサーを形成するための第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５に対するパターニング過程でデータ線１７１や半導体層１５１が損傷するのを防止することができる。
【００９４】
互いに交差する第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５とを絶縁するように、第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５の上に第２絶縁膜２８０ｂが位置する。
【００９５】
第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５、第１パッド部５３と第２パッド部６３はＩＴＯ、ＩＺＯなどの透明な導電物質を含み、同一の工程で同一物質で形成することができる。
【００９６】
本発明の他の実施形態によれば、前述の第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５の構造は変形可能である。即ち、各第１透明導電膜５５が物理的に連結された一つの部分からなり、第２透明導電膜６５が物理的に分離された複数の部分を含み、複数の部分が連結手段を通じて電気的に連結されてもよい。
【００９７】
本発明の他の実施形態によれば、第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５は第２絶縁膜２８０ｂを挟んで互いに異なる層に配置されてもよい。この場合、第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５それぞれは行方向または列方向に長く伸びる一部分からなる。
【００９８】
タッチ制御部７００は第１透明導電膜５５または第２透明導電膜６５から出力されたタッチ出力信号を処理して、タッチパネル６００の接触有無および接触位置を判断することができる。
【００９９】
第２絶縁膜２８０ｂの上にキャッピング層３９０が位置する。本実施形態にかかるキャッピング層３９０は、液晶注入口形成領域３０７ＦＰを満たしながら液晶注入口形成領域３０７ＦＰによって露出されたマイクロキャビティ３０５の液晶注入口３０７を覆う。キャッピング層３９０は有機物質または無機物質を含む。
【０１００】
本実施形態では図６に図示したように、横方向に隣接するマイクロキャビティ３０５の間である図３に示した第２トレンチＶ２に隔壁形成部ＰＷＰが形成されている。隔壁形成部ＰＷＰはデータ線１７１が伸びている方向に沿って形成され、ルーフ層３６０によって覆われる。隔壁形成部ＰＷＰには下部絶縁層３５０、上部絶縁層３７０およびルーフ層３６０が満たされており、このような構造物が隔壁（ｐａｒｔｉｔｉｏｎ  ｗａｌｌ）を形成することによってマイクロキャビティ３０５の区画を定めることができる。本実施形態ではマイクロキャビティ３０５の間に隔壁形成部ＰＷＰのような隔壁構造があるため、絶縁基板１１０が曲がっても発生するストレスが少なく、セルギャップ（ｃｅｌｌ  ｇａｐ）が変更される程度がはるかに減少できる。
【０１０１】
図８は図７の実施形態を変形した液晶表示装置の変形例を示す断面図である。
【０１０２】
図８で説明する実施形態は図７の実施形態と異なり、ルーフ層３６０を縦に連結するルーフ層連結部３６０ａがなく、ルーフ層３６０は第１トレンチＶ１を基準に上下に分離されている。連結部３６０ａに対応する部分であって下部絶縁層３５０の下端に犠牲層残留膜３００ｒが位置する。犠牲層残留膜３００ｒは下部絶縁層３５０と上部絶縁層３７０によって上部面と側面が覆われる。本実施形態で下部絶縁層３５０と上部絶縁層３７０それぞれの縦部はゲート線１２１と交差し、ルーフ層３６０が分離された領域で下部絶縁層３５０と上部絶縁層３７０が直接接触する。犠牲層残留膜３００ｒは犠牲層除去過程で下部絶縁層３５０と上部絶縁層３７０によって囲まれているため除去されずに残った部分であり得る。
【０１０３】
図８の実施形態の以上で説明した差異点以外の箇所については、図１乃至図７で説明した内容が適用できる。
【０１０４】
図９は図８の実施形態を変形した液晶表示装置を示す断面図である。
【０１０５】
図９で説明する実施形態は図８の実施形態と大部分同一である。但し、犠牲層残留膜３００ｒが存在しない。
【０１０６】
図９の実施形態の以上で説明した差異点以外の箇所については、図８で説明した内容が適用できる。
【０１０７】
図１０乃至図３７は本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す平面図および断面図である。図１０は、本発明の一実施形態による液晶表示装置の製造方法を示す平面図である。図１１、１６、１９、２１、３２、３６は図４の切断線Ｖ−Ｖに沿った断面図であり、工程順序に従って示したものである。図１２、１７、２２、２４、２５は図４の切断線ＶＩ−ＶＩに沿った断面図であり、工程順序に従って示したものである。図１８、２０、２３、２６、２７、２８、２９、３３、３７は図４の切断線ＶＩＩ−ＶＩＩに沿った断面図であり、工程順序に従って示したものである。
【０１０８】
まず、図４、図１１および図１２に示すように、基板１１０の上に一般に知られたスイッチング素子を形成するために横方向に伸びているゲート線１２１、ゲート線１２１の上にゲート絶縁膜１４０を形成し、ゲート絶縁膜１４０の上に半導体層１５１、１５４を形成し、ソース電極１７３およびドレイン電極１７５を形成する。この時、ソース電極１７３と接続されたデータ線１７１はゲート線１２１と交差しながら縦方向に伸びるように形成することができる。
【０１０９】
ソース電極１７３、ドレイン電極１７５およびデータ線１７１を含むデータ導電体１７１、１７３、１７５および露出された半導体層１５４部分の上には第１保護層１８０ａを形成する。
【０１１０】
第１保護層１８０ａの上に画素領域に対応する位置にカラーフィルタ２３０を形成し、カラーフィルタ２３０の間に遮光部材２２０ａ、２２０ｂを形成する。
【０１１１】
カラーフィルタ２３０および遮光部材２２０ａ、２２０ｂの上にこれを覆う第２保護層１８０ｂを形成し、第２保護層１８０ｂは画素電極１９１とドレイン電極１７５を電気的、物理的に連結する接触孔１８５を有するように形成する。
【０１１２】
以後、第２保護層１８０ｂの上に面型の共通電極２７０を形成する。共通電極２７０はゲート線１２１またはデータ線１７１と重畳する一部分に位置する開口部１３８を有するが、隣接画素で互いに連結されるように形成することができる。共通電極２７０の上に層間絶縁層１８０ｃを形成し、層間絶縁層１８０ｃの上に画素電極１９１を形成する。層間絶縁層１８０ｃは第１保護層１８０ａおよび第２保護層１８０ｂと共に画素電極１９１とドレイン電極１７５を電気的、物理的に連結する接触孔１８５を有するように形成する。
【０１１３】
画素電極１９１は複数の切開部９１を有し、隣接する切開部９１の間に位置する複数の枝電極１９２を含むように形成する。
【０１１４】
以後、画素電極１９１の上に犠牲層３００を形成する。犠牲層３００には図１２に示したようにデータ線１７１と平行な方向に沿ってオープン部ＯＰＮが形成されている。オープン部ＯＰＮには以後工程で下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０および上部絶縁層３７０が満たされて隔壁形成部ＰＷＰを形成することができる。
【０１１５】
図１３は図１０の実施形態から変形された犠牲層構造を示す平面図である。
【０１１６】
図１３に示すように、図１０の実施形態とは異なり、犠牲層３００の間に複数の犠牲層残留パターン３００Ｐを形成する。以後形成される下部絶縁層と上部絶縁層が犠牲層残留パターン３００Ｐの上部面および側面を覆って、犠牲層３００除去工程以後に図８に示したように犠牲層残留膜３００ｒを形成する。
【０１１７】
図１４は図１０の実施形態から変形された犠牲層構造を示す平面図である。
【０１１８】
図１４に示すように、図１０の実施形態とは異なり、犠牲層３００の間に複数の犠牲層連結部３００ａを形成する。以後形成される下部絶縁層と上部絶縁層が犠牲層連結部３００ａの上にも形成されて、図９に示したようにタッチパネルの透明導電膜が縦方向に途切れることなく連結される橋の役割を果たす。
【０１１９】
図１６乃至図１８に示すように、犠牲層３００の上に下部絶縁層３５０およびルーフ層３６０を順次に形成する。図１５は本発明の一実施形態によるルーフ層構造を示す平面図であり、図１５および図１８に示すように、ルーフ層３６０は露光および現像工程によって横遮光部材２２０ａと対応する領域で除去される。したがって、ルーフ層３６０は横遮光部材２２０ａと対応する領域で下部絶縁層３５０を外部に露出させる。しかし、本実施形態による液晶表示装置でルーフ層３６０は縦方向につながる縦部を有するように連結部３６０ａを含む。言い換えると、図１５に示したように、ルーフ層３６０は横部および縦部を含むマトリックス形状を有する。
【０１２０】
この時、図１７に示したように、下部絶縁層３５０およびルーフ層３６０は、犠牲層３００のオープン部ＯＰＮを満たしながら隔壁形成部ＰＷＰを形成する。
【０１２１】
ルーフ層３６０と露出された下部絶縁層３５０の上を覆うように上部絶縁層３７０を形成する。
【０１２２】
図１９および図２０に示すように、上部絶縁層３７０と下部絶縁層３５０を乾式エッチングして上部絶縁層３７０および下部絶縁層３５０が部分的に除去されることによって、隣接する画素行の間に液晶注入口形成領域３０７ＦＰを形成する。この時、上部絶縁層３７０がルーフ層３６０の側面を覆う構造を有するが、これに限定されず、ルーフ層３６０の側面を覆っていた上部絶縁層３７０が除去されルーフ層３６０の側面が外部に露出されるようにすることもできる。
【０１２３】
図２１乃至図２３に示すように、液晶注入口形成領域３０７ＦＰを通じて犠牲層３００を酸素（Ｏ２）アッシング（ａｓｈｉｎｇ）処理または湿式エッチング法などで除去する。この時、液晶注入口３０７を有するマイクロキャビティ３０５が形成される。マイクロキャビティ３０５は犠牲層３００が除去されて空いた空間である。
【０１２４】
図２４に示すように、上部絶縁層３７０の上に島型連結部５７を形成する。島型連結部５７は導電性物質で形成することができる。図２に示したように、島型連結部５７は互いに分離されて複数形成することができ、第１タッチ信号線５１および第２タッチ信号線６１と同一の工程で形成することができる。
【０１２５】
図２５に示すように、島型連結部５７の上に絶縁物質を形成した後にパターニングして第１絶縁膜２８０ａを形成する。第１絶縁膜２８０ａは図２に示したように表示領域ＤＡで島型で複数形成される。この時、周辺領域ＰＡには第１タッチ信号線５１と第２タッチ信号線６１を覆うように絶縁膜２８０が形成される。
【０１２６】
図２６および図２７に示すように、上部絶縁層３７０または第１絶縁膜２８０ａの上に第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５を形成する。第１透明導電膜５５は主に行方向に伸びて互いに平行するように形成することができ、第２透明導電膜６５は主に列方向に伸びて互いに平行するように形成することができる。第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５は互いに電気的に連結されないように離隔して配置する。
【０１２７】
図２に示したように、第１透明導電膜５５は互いに物理的に分離された複数の部分を含むため、島型連結部５７と接触して電気的に連結されるように形成する。
【０１２８】
第２透明導電膜６５は、下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０および／または上部絶縁層３７０それぞれの縦部と重畳するように配置する。本実施形態においては、下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０および／または上部絶縁層３７０は、隣接する画素行の間で連結されているため、第２透明導電膜６５は物理的に連結された一つの部分で形成することができる。
【０１２９】
図２８および図２９に示すように、互いに交差する第１透明導電膜５５と第２透明導電膜６５を絶縁するように第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５の上に第２絶縁膜２８０ｂを形成する。
【０１３０】
以下、図１、図２、図３０乃至図３５を参照して、画素パッド部とタッチパッド部の形成方法について説明する。
【０１３１】
図３０および図３４は図１のＡ−Ａ’に沿った断面図であり、図３１および図３５は図２のＢ−Ｂ’に沿った断面図である。
【０１３２】
図３０および図３１に示すように、第２絶縁膜２８０ｂを形成した段階で、画素パッド部に含まれるデータパッド部１７９およびタッチパッド部に含まれる第１パッド部５３それぞれの下および上には、ゲート絶縁膜１４０、第１保護層１８０ａ、第２保護層１８０ｂ、層間絶縁層１８０ｃ、下部絶縁層３５０、上部絶縁層３７０、第１絶縁膜２８０ａおよび第２絶縁膜２８０ｂが積層されている。本実施形態においては、データパッド部１７９のような信号線の上に、下部絶縁層３５０、上部絶縁層３７０、第１絶縁膜２８０ａを除去せずに維持するため、タッチセンサーを形成するための第１透明導電膜５５および第２透明導電膜６５に対するパターニング過程で接触補助部材７９が損傷するのを防止することができる。
【０１３３】
図３０に示したデータパッド部１７９の下の半導体部１５９は、データパッド部１７９とその下の半導体物質を同時にパターニングする過程で残っている半導体物質層である。
【０１３４】
図３２乃至図３５を参照すれば、図３２に示したように第１絶縁膜２８０ａと第２絶縁膜２８０ｂをパターニングして液晶注入口形成領域３０７ＦＰおよび液晶注入口３０７が外部に露出されるようにし、図３３に示したように第２絶縁膜２８０ｂが連結部３６０ａを覆うようにする。
【０１３５】
また、図３４に示したように、下部絶縁層３５０、上部絶縁層３７０、第１絶縁膜２８０ａおよび第２絶縁膜２８０ｂを同時にパターニングして接触補助部材７９をオープンし、図３５に示したように第１パッド部５３の上の第２絶縁膜２８０ｂを除去することができる。
【０１３６】
図３６および図３７に示すように、液晶注入口３０７を通じて配向物質を注入する。以後、配向物質をベーク（ｂａｋｅ）してマイクロキャビティ３０５の内壁に沿って配向膜１１、２１を形成する。
【０１３７】
その後、液晶注入口３０７を通じてマイクロキャビティ３０５にインクジェット方法などを用いて液晶分子３１０を含む液晶物質を注入する。この液晶分子３１０は、水平に配向させることができる。
【０１３８】
以後、第２絶縁膜２８０ｂの上に液晶注入口３０７および液晶注入口形成領域３０７ＦＰを覆うようにキャッピング層３９０を形成すると図１乃至図７のような液晶表示装置を形成することができる。
【０１３９】
以上、添付図面を参照しながら本発明の好適な実施形態について詳細に説明したが、本発明はかかる例に限定されない。本発明の属する技術の分野における通常の知識を有する者であれば、特許請求の範囲に記載された技術的思想の範疇内において、各種の変更例または修正例に想到し得ることは明らかであり、これらについても、当然に本発明の技術的範囲に属するものと了解される。
【符号の説明】
【０１４０】
５５  第１透明導電膜
５７  島型連結部
６５  第２透明導電膜
１１０  基板
１２１  ゲート線
１２４  ゲート電極
１２９  ゲートパッド部
１３８  開口部
１４０  ゲート絶縁膜
１７１  データ線
１７３  ソース電極
１７５  ドレイン電極
１７９  データパッド部
１８０ａ、１８０ｂ  および保護層
１８０ｃ  層間絶縁層
１８５  接触孔
１９１  画素電極
２２０  遮光部材
２３０  カラーフィルタ
２７０  共通電極
２８０  絶縁膜
３００  犠牲層
３０５  マイクロキャビティ（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）
３０７  液晶注入口
３１０  液晶分子
３５０  下部絶縁層
３６０  ルーフ層
３７０  上部絶縁層
３９０  キャッピング層
５００  表示パネル
６００  タッチパネル
７００  タッチ制御部
ＤＡ  表示領域
ＯＰＮ  オープン部
ＰＡ  周辺領域
ＰＷＰ  隔壁形成部
ＰＸ  画素
Ｑ  薄膜トランジスタ
【図１】
2016018214.tif 000003
【図２】
2016018214.tif 000004
【図３】
2016018214.tif 000005
【図４】
2016018214.tif 000006
【図５】
2016018214.tif 000007
【図６】
2016018214.tif 000008
【図７】
2016018214.tif 000009
【図８】
2016018214.tif 000010
【図９】
2016018214.tif 000011
【図１０】
2016018214.tif 000012
【図１１】
2016018214.tif 000013
【図１２】
2016018214.tif 000014
【図１３】
2016018214.tif 000015
【図１４】
2016018214.tif 000016
【図１５】
2016018214.tif 000017
【図１６】
2016018214.tif 000018
【図１７】
2016018214.tif 000019
【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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