(57)【要約】【課題】ワークの感光層の表面の異物を、円筒状フォトマスクの表面に付着する前に除去でき、円筒状フォトマスクの表面に付着した異物によって感光層に形成される潜像パターンに欠陥が生じにくい露光方法および露光装置を提供する。【解決手段】第１の粘着ロール１６および円筒状フォトマスク１０の軸方向に直交する方向にワーク１００を移動させながら、感光層１０４と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて感光層１０４の表面をクリーニングし、かつ表面がクリーニングされた感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段１２から感光層１０４に放射線を照射する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の表面に感光層が形成されたワークの感光層を、感光層に接触する円筒状フォトマスクを介して露光し、円筒状フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光方法であって、
第１の粘着ロールの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと第１の粘着ロールとを相対的に移動させながら、感光層と第１の粘着ロールとを接触させることによって、感光層の表面で第１の粘着ロールを回転させて第１の粘着ロールで感光層の表面をクリーニングし、
円筒状フォトマスクの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと円筒状フォトマスクとを相対的に移動させながら、表面がクリーニングされた感光層と円筒状フォトマスクとを接触させることによって、感光層の表面で円筒状フォトマスクを回転させると同時に、円筒状フォトマスクの内部に配置された放射線照射手段から感光層に放射線を照射する、露光方法。
【請求項２】
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在するときには、円筒状フォトマスクを下降させて感光層の表面に接触させる、請求項１に記載の露光方法。
【請求項３】
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在するときには、第１の粘着ロールを下降させて感光層の表面に接触させる、請求項２に記載の露光方法。
【請求項４】
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材を隣接して配置し、
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材を隣接して配置し、
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と円筒状フォトマスクとを接触させ、
第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、請求項１に記載の露光方法。
【請求項５】
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と第１の粘着ロールとを接触させ、
第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、請求項４に記載の露光方法。
【請求項６】
基材が、ガラス板である、請求項１〜５のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項７】
枚葉のワークの稜角が面取りされている、請求項１〜６のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項８】
枚葉のワークにおける基材の厚さが、０．３ｍｍ以上である、請求項１〜７のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項９】
第１の粘着ロールの表面に接触し、第１の粘着ロールの回転に追随して回転する、第１の粘着ロールよりも粘着力が高い強粘着ロールによって、第１の粘着ロールの表面をクリーニングする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１０】
第１の粘着ロールと接触した後、かつ円筒状フォトマスクと接触する前の感光層の表面を除電する、請求項１〜９のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１１】
円筒状フォトマスクの表面に接触し、円筒状フォトマスクの回転に追随して回転する第２の粘着ロールによって、円筒状フォトマスクの表面をクリーニングする、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の露光方法。
【請求項１２】
基材の表面に感光層が形成されたワークの感光層を、感光層に接触する円筒状フォトマスクを介して露光し、円筒状フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光装置であって、
中心軸を回転軸として回転自在とされた円筒状フォトマスクと、
円筒状フォトマスクの内部に配置された放射線照射手段と、
円筒状フォトマスクが接触するよりも前に感光層の表面に接触できる位置に配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の粘着ロールと、
円筒状フォトマスクの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと円筒状フォトマスクとを相対的に移動させ、第１の粘着ロールの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと第１の粘着ロールとを相対的に移動させる移動手段と
を備えた、露光装置。
【請求項１３】
円筒状フォトマスクおよび第１の粘着ロールが、フリーロールである、請求項１２に記載の露光装置。
【請求項１４】
円筒状フォトマスクを昇降させる第１の昇降手段と、
第１の昇降手段を制御する制御手段と
をさらに備え、
制御手段が、
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在するときには、円筒状フォトマスクを下降させて感光層の表面に接触させる、請求項１２または１３に記載の露光装置。
【請求項１５】
第１の粘着ロールを昇降させる第２の昇降手段をさらに備え、
前記制御手段が、第２の昇降手段を制御するものであり、かつ
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在するときには、第１の粘着ロールを下降させて感光層の表面に接触させる、請求項１４に記載の露光装置。
【請求項１６】
円筒状フォトマスクを昇降させる第１の昇降手段と、
第１の昇降手段を制御する制御手段と
をさらに備え、
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材を隣接して配置し、
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材を隣接して配置した際には、
制御手段が、
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と円筒状フォトマスクとを接触させ、
第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、請求項１２または１３に記載の露光装置。
【請求項１７】
第１の粘着ロールを昇降させる第２の昇降手段をさらに備え、
前記制御手段が、第２の昇降手段を制御するものであり、かつ
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と第１の粘着ロールとを接触させ、
第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、請求項１６に記載の露光装置。
【請求項１８】
第１の粘着ロールの表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた、第１の粘着ロールよりも粘着力が高い強粘着ロールをさらに備えた、請求項１２〜１７のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項１９】
第１の粘着ロールと接触した後、かつ円筒状フォトマスクと接触する前の感光層の表面を除電する除電手段をさらに備えた、請求項１２〜１８のいずれか一項に記載の露光装置。
【請求項２０】
円筒状フォトマスクの表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第２の粘着ロールをさらに備えた、請求項１２〜１９のいずれか一項に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、基材の表面に感光層が形成されたワークの感光層を、感光層に接触する円筒状フォトマスクを介して露光し、円筒状フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光方法および露光装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基材の表面に感光層が形成されたワークを所定方向に移動させながら、感光層に接触する円筒状フォトマスクを感光層の表面で回転させると同時に、円筒状フォトマスクの内部に配置された放射線照射手段から感光層に放射線を照射することによって、感光層を、感光層に接触する円筒状フォトマスクを介して露光し、円筒状フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光方法が提案されている（特許文献１）。
【０００３】
円筒状フォトマスクのパターンを、対応する潜像パターンとして感光層に精度よく転写するためには、感光層と円筒状フォトマスクとの接触部が、円筒状フォトマスクの軸方向に直交する方向にある程度の幅を有するように、かつ感光層と円筒状フォトマスクとが隙間なく密着するように、感光層と円筒状フォトマスクとを接触させる必要がある。そのため、円筒状フォトマスクの表面の材質は、柔軟なエラストマーとされている。
【０００４】
しかし、円筒状フォトマスクの表面の材質がエラストマーである場合、感光層の表面に異物が付着しているワークが搬入されると、感光層と円筒状フォトマスクとを接触させた際に、感光層の表面の異物が、密着性の高い円筒状フォトマスクの表面に移動し、付着する。円筒状フォトマスクの表面に異物が付着すると、異物が放射線照射手段からの放射線を遮光し、感光層に異物の影が転写されてしまうため、感光層に形成される潜像パターンに欠陥が生じる。よって、潜像パターンが形成された感光層を現像して、所望のパターンを有する製品を得た際に、製品のパターンに欠陥が生じ、製品の歩留まりが悪くなる。
【０００５】
そこで、円筒状フォトマスクの表面に異物が付着するたびに、一旦、露光装置の運転を止めて、円筒状フォトマスクの表面をクリーニングする必要がある。しかし、頻繁に露光装置の運転を止めてしまうと、製品の生産性が低下する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２０１１−５２６０６９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
本発明は、ワークの感光層の表面の異物を、円筒状フォトマスクの表面に付着する前に除去でき、円筒状フォトマスクの表面に付着した異物を除去するために露光装置の運転を停止する必要がなく、円筒状フォトマスクの表面に付着した異物によって感光層に形成される潜像パターンに欠陥が生じにくい露光方法および露光装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、以下の構成を有する。
［１］基材の表面に感光層が形成されたワークの感光層を、感光層に接触する円筒状フォトマスクを介して露光し、円筒状フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光方法であって、
第１の粘着ロールの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと第１の粘着ロールとを相対的に移動させながら、感光層と第１の粘着ロールとを接触させることによって、感光層の表面で第１の粘着ロールを回転させて第１の粘着ロールで感光層の表面をクリーニングし、
円筒状フォトマスクの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと円筒状フォトマスクとを相対的に移動させながら、表面がクリーニングされた感光層と円筒状フォトマスクとを接触させることによって、感光層の表面で円筒状フォトマスクを回転させると同時に、円筒状フォトマスクの内部に配置された放射線照射手段から感光層に放射線を照射する、露光方法。
［２］枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在するときには、円筒状フォトマスクを下降させて感光層の表面に接触させる、［１］の露光方法。
［３］枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在するときには、第１の粘着ロールを下降させて感光層の表面に接触させる、［２］の露光方法。
［４］枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材を隣接して配置し、
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材を隣接して配置し、
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と円筒状フォトマスクとを接触させ、
第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、［１］の露光方法。
［５］ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と第１の粘着ロールとを接触させ、
第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、［４］の露光方法。
［６］基材が、ガラス板である、［１］〜［５］のいずれかの露光方法。
［７］枚葉のワークの稜角が面取りされている、［１］〜［６］のいずれかの露光方法。
［８］枚葉のワークにおける基材の厚さが、０．３ｍｍ以上である、［１］〜［７］のいずれかの露光方法。
［９］第１の粘着ロールの表面に接触し、第１の粘着ロールの回転に追随して回転する、第１の粘着ロールよりも粘着力が高い強粘着ロールによって、第１の粘着ロールの表面をクリーニングする、［１］〜［８］のいずれかの露光方法。
［１０］第１の粘着ロールと接触した後、かつ円筒状フォトマスクと接触する前の感光層の表面を除電する、［１］〜［９］のいずれかの露光方法。
［１１］円筒状フォトマスクの表面に接触し、円筒状フォトマスクの回転に追随して回転する第２の粘着ロールによって、円筒状フォトマスクの表面をクリーニングする、［１］〜［１０］のいずれかの露光方法。
【０００９】
［１２］基材の表面に感光層が形成されたワークの感光層を、感光層に接触する円筒状フォトマスクを介して露光し、円筒状フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光装置であって、
中心軸を回転軸として回転自在とされた円筒状フォトマスクと、
円筒状フォトマスクの内部に配置された放射線照射手段と、
円筒状フォトマスクが接触するよりも前に感光層の表面に接触できる位置に配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の粘着ロールと、
円筒状フォトマスクの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと円筒状フォトマスクとを相対的に移動させ、第１の粘着ロールの軸方向に直交する方向で、かつ互いに逆方向にワークと第１の粘着ロールとを相対的に移動させる移動手段と
を備えた、露光装置。
［１３］円筒状フォトマスクおよび第１の粘着ロールが、フリーロールである、［１２］の露光装置。
［１４］円筒状フォトマスクを昇降させる第１の昇降手段と、
第１の昇降手段を制御する制御手段と
をさらに備え、
制御手段が、
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが円筒状フォトマスクの下方に存在するときには、円筒状フォトマスクを下降させて感光層の表面に接触させる、［１２］または［１３］の露光装置。
［１５］第１の粘着ロールを昇降させる第２の昇降手段をさらに備え、
前記制御手段が、第２の昇降手段を制御するものであり、かつ
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
枚葉のワークが第１の粘着ロールの下方に存在するときには、第１の粘着ロールを下降させて感光層の表面に接触させる、［１４］の露光装置。
［１６］円筒状フォトマスクを昇降させる第１の昇降手段と、
第１の昇降手段を制御する制御手段と
をさらに備え、
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材を隣接して配置し、
枚葉のワークの、円筒状フォトマスクと最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材を隣接して配置した際には、
制御手段が、
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在しないときには、円筒状フォトマスクを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と円筒状フォトマスクとを接触させ、
第２のダミー基材が円筒状フォトマスクの下方に存在するときに、円筒状フォトマスクを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、［１２］または［１３］の露光装置。
［１７］第１の粘着ロールを昇降させる第２の昇降手段をさらに備え、
前記制御手段が、第２の昇降手段を制御するものであり、かつ
ワーク、第１のダミー基材および第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在しないときには、第１の粘着ロールを感光層の表面よりも高い位置に退避させ、
第１のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを下降させて第１のダミー基材の表面に接触させ、
引き続きワークの感光層と第１の粘着ロールとを接触させ、
第２のダミー基材が第１の粘着ロールの下方に存在するときに、第１の粘着ロールを上昇させて第２のダミー基材の表面から離間させる、［１６］の露光装置。
［１８］第１の粘着ロールの表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた、第１の粘着ロールよりも粘着力が高い強粘着ロールをさらに備えた、［１２］〜［１７］のいずれかの露光装置。
［１９］第１の粘着ロールと接触した後、かつ円筒状フォトマスクと接触する前の感光層の表面を除電する除電手段をさらに備えた、［１２］〜［１８］のいずれかの露光装置。
［２０］円筒状フォトマスクの表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第２の粘着ロールをさらに備えた、［１２］〜［１９］のいずれかの露光装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の露光方法および露光装置によれば、ワークの感光層の表面の異物を、円筒状フォトマスクの表面に付着する前に除去でき、円筒状フォトマスクの表面に付着した異物を除去するために露光装置の運転を停止する必要がなく、円筒状フォトマスクの表面に付着した異物によって感光層に形成される潜像パターンに欠陥が生じにくい。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る露光装置を示す断面概略図である。
【図２】本発明の第２の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図３】本発明の第２の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図４】本発明の第２の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図５】本発明の第２の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図６】本発明の第２の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図７】本発明の第３の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図８】本発明の第３の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図９】本発明の第３の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１０】本発明の第３の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１２】本発明の第４の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１３】本発明の第４の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１４】本発明の第４の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１５】本発明の第４の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１６】本発明の第５の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１７】本発明の第５の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１８】本発明の第５の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図１９】本発明の第６の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図２０】本発明の第６の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図２１】本発明の第６の実施形態に係る露光装置におけるワーク、円筒状フォトマスクおよび各ロールの動きを示す概略図である。
【図２２】本発明の他の実施形態に係る露光装置を示す断面概略図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「フォトマスク」とは、フォトリソグラフィにおけるパターン原版、すなわちこれを介して感光層に放射線を照射した際に、感光層をパターン状に露光し得るものを意味する。
「ワーク」とは、フォトリソグラフィにおいて、露光処理される対象物を意味する。
「潜像パターン」とは、感光層において露光された部分と露光されなかった部分とからなるパターンである。現像処理によって露光された部分および露光されなかった部分のいずれか一方が除去されることによって、所望のパターンが形成される。
「放射線」、「光」とは、紫外線、γ線、Ｘ線、電子線等の総称である。
「フリーロール」とは、ワークの移動、他のロールの回転等に追随して回転する、モータ等の回転駆動源を有しないロールを意味する。
「駆動ロール」とは、モータ等の回転駆動源からの駆動力によって回転駆動可能とされたロールを意味する。
円筒状フォトマスクまたは各ロールの下方に対象物が存在しない、存在する、または到達するとは、円筒状フォトマスクまたは各ロールの回転軸の下方に対象物が存在しない、存在する、または到達することを意味する。
円筒状フォトマスクと各ロールとの距離、または各ロール間の距離とは、回転軸間の距離を意味する。
【００１３】
〔第１の実施形態〕
＜露光装置＞
図１は、本発明の第１の実施形態に係る露光装置を示す断面概略図である。
露光装置１は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成するものである。
【００１４】
露光装置１は、中心軸を回転軸として回転自在とされた円筒状フォトマスク１０と；円筒状フォトマスク１０の中心軸が水平方向となるように円筒状フォトマスク１０の回転軸を回転自在に支持する第１の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段１２と；放射線照射手段１２を覆うように円筒状フォトマスク１０の内部に配置され、感光層１０４と円筒状フォトマスク１０との接触部に向かって放射線が出射されるようにスリット１４ａが形成された遮光部材１４と；円筒状フォトマスク１０が接触するよりも前に感光層１０４の表面に接触できる位置に、かつ円筒状フォトマスク１０との距離がワーク１００の長さよりも短い距離となるように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の粘着ロール１６と；第１の粘着ロール１６の中心軸が水平方向となるように第１の粘着ロール１６の回転軸を回転自在に支持する第２の支持手段（図示略）と；第１の粘着ロール１６の表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の強粘着ロール１８と；第１の強粘着ロール１８の中心軸が第１の粘着ロール１６の中心軸と平行となるように第１の強粘着ロール１８の回転軸を回転自在に支持する第３の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に枚葉のワーク１００を移動させるステージ２０（移動手段）と；第１の粘着ロール１６と接触した後、かつ円筒状フォトマスク１０と接触する前の感光層１０４の表面を除電する除電手段２２とを備える。
【００１５】
（円筒状フォトマスク）
円筒状フォトマスク１０は、円筒状基体の表面にマスクのパターンが直接形成されたものであってもよく、マスクのパターンが形成されたフィルムを円筒状基体の表面に貼り付けたものであってもよい。
【００１６】
円筒状基体は、光透過性を有する材質からなる。円筒状基体の材質としては、透明樹脂、ガラス、合成石英等が挙げられる。
円筒状フォトマスク１０は、少なくともその表面の材質がエラストマーであることが好ましい。円筒状フォトマスク１０の表面の材質がエラストマーであれば、（ｉ）感光層１０４と円筒状フォトマスク１０との接触部が、円筒状フォトマスク１０の軸方向に直交する方向にある程度の幅を有することができる、（ｉｉ）感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とが隙間なく密着できる、（ｉｉｉ）円筒状フォトマスク１０が感光層１０４の表面で滑らない。そのため、円筒状フォトマスク１０のパターンを、対応する潜像パターンとして感光層１０４に精度よく転写できる。
エラストマーとしては、シリコーンゴム（ポリジメチルシロキサン等）、フッ素系透明エラストマー（旭硝子社製のアフラス（登録商標）、デュポン社製のカルレッツ（登録商標）＃８００２等）等の紫外線を透過するエラストマーが挙げられる。
【００１７】
フォトマスクの種類は、公知のフォトマスク（たとえば、特許文献１に記載されたフォトマスク）であればよく、特に限定されない。フォトマスクの種類としては、遮光部と光透過部とからなる２階調のバイナリーマスク；光の位相を変化させる部分（位相シフタ）をパターン状に形成したフォトマスクであって、位相シフタを透過して位相が変わった光と、位相シフタを透過せずに位相の変わっていない光との干渉現象を利用して感光層中に干渉パターンを形成する位相シフトマスク；表面プラズモン共鳴を生じる金属ナノ構造体からなるフォトマスク等が挙げられる。
【００１８】
円筒状フォトマスク１０は、フリーロールであってもよく、駆動ロールであってもよい。駆動ロールの場合、モータ等の回転駆動源が別途必要になり、また、ワーク１００の移動速度と円筒状フォトマスク１０の回転速度とを同期させるための速度調整手段が別途必要になる。露光装置１の構成を簡略化できる点から、円筒状フォトマスク１０は、ワーク１００の移動に追随して回転するフリーロールが好ましい。
【００１９】
（放射線照射手段）
放射線照射手段１２は、感光層１０４に放射線を照射し得る公知の放射線照射手段（たとえば、特許文献１に記載された放射線源）であればよく、特に限定されない。たとえば、外部の放射線源から供給された放射線を、レンズ、鏡、光導波路、回折格子およびこれらの組み合わせによって、円筒状フォトマスク１０の内部から外部に向かって放射線を出射できるようにしたものであってもよく；円筒状フォトマスク１０の内部に放射線源を配置したものであってもよい。
放射線照射手段１２は、ワーク１００の移動方向に直交する方向（幅方向）にわたって放射線を照射できる点から、ライン状の放射線照射手段が好ましい。
【００２０】
（第１の粘着ロール）
第１の粘着ロール１６は、表面に粘着性を有するロールであり、感光層１０４の表面に接触することによって、感光層１０４の表面に付着した異物（ゴミ、塵等）を除去するものである。
【００２１】
第１の粘着ロール１６は、その表面の粘着力が感光層１０４の表面の粘着力よりも高くされたものであればよい。第１の粘着ロール１６の粘着力が感光層１０４の粘着力よりも小さい場合、異物を充分に除去できない。一方、第１の粘着ロール１６の粘着力が極端に高い場合、感光層１０４の表面に第１の粘着ロール１６が強く貼り付いてしまうため、ワーク１００の移動を阻害したり、感光層１０４が剥離したりするおそれがある。また、第１の粘着ロール１６の粘着力は、円筒状フォトマスク１０の表面のエラストマーが有する粘着力よりも高いものが好ましい。第１の粘着ロール１６の粘着力は、３０〜９０ｈＰａが好ましい。
【００２２】
第１の粘着ロール１６としては、少なくともその表面の材質がエラストマーであるものが挙げられる。エラストマーとしては、シリコーンゴム、ブチルゴム、ウレタンゴム、ニトリルゴム、クロロプレンゴム、天然ゴム、エチレン−プロピレンゴム等が挙げられる。
第１の粘着ロール１６の市販品としては、ＴＥＫＮＥＫ社製のクリーナーＸＣＨ、ＣＭ、ＳＬｎ；オサダコーポレーション社製のＦＣフィルムクリーナー、ＳＣシートクリーナー；テクノロール社製のクリーンダッシュＥロール；宮川ローラー社製のミモザロールシリーズ等が挙げられる。
【００２３】
第１の粘着ロール１６の軸方向の長さは、ワーク１００の表面における感光層１０４が形成されているエリアの、第１の粘着ロール１６の軸方向の幅以上であることが好ましい。第１の粘着ロール１６の軸方向の長さが感光層１０４のエリアの幅よりも短い場合、エリアの全面をクリーニングできないため、ワーク１００において製品として利用できるエリアが小さくなってしまう。
【００２４】
第１の粘着ロール１６は、フリーロールであってもよく、駆動ロールであってもよい。駆動ロールの場合、モータ等の回転駆動源が別途必要になり、また、ワーク１００の移動速度と第１の粘着ロール１６の回転速度とを同期させるための速度調整手段が別途必要になる。露光装置１の構成を簡略化できる点から、第１の粘着ロール１６は、ワーク１００の移動に追随して回転するフリーロールが好ましい。
【００２５】
（第１の強粘着ロール）
第１の強粘着ロール１８は、表面に粘着性を有するロールであり、第１の粘着ロール１６の表面に接触することによって、第１の粘着ロール１６の表面に付着した異物（ゴミ、塵等）を除去するものである。第１の強粘着ロール１８を有することによって、第１の粘着ロール１６による感光層１０４のクリーニングを長時間実施できるため、露光装置１の長時間の運転が可能となり、製品の生産性が向上する。
【００２６】
第１の強粘着ロール１８は、その表面の粘着力が第１の粘着ロール１６の表面の粘着力と同じまたはそれよりも高くされたものであればよい。第１の強粘着ロール１８の粘着力が第１の粘着ロール１６の粘着力よりも小さい場合、異物を充分に除去できない。一方、第１の強粘着ロール１８の粘着力が極端に高い場合、第１の粘着ロール１６の表面に第１の強粘着ロール１８が強く貼り付いてしまうため、第１の粘着ロール１６の回転を阻害したり、第１の粘着ロール１６の表面が剥離したりするおそれがある。第１の強粘着ロール１８の粘着力は、第１の粘着ロール１６の表面の材質がポリジメチルシロキサンの場合、１００〜３００ｈＰａが好ましい。
【００２７】
第１の強粘着ロール１８としては、芯のまわりに粘着フィルムを巻き回した粘着フィルムロール等が挙げられる。第１の強粘着ロール１８の表面の粘着力が低下した場合には、最表面の粘着フィルムを剥がし取ることによって、新しい粘着フィルムの表面を露出させることができる。
【００２８】
第１の強粘着ロール１８の軸方向の長さは、第１の粘着ロール１６の軸方向の長さ以上であることが好ましい。第１の強粘着ロール１８の軸方向の長さが第１の粘着ロール１６の軸方向の長さよりも短い場合、第１の粘着ロール１６の全面をクリーニングできない。
【００２９】
第１の強粘着ロール１８は、フリーロールであってもよく、駆動ロールであってもよい。駆動ロールの場合、モータ等の回転駆動源が別途必要になり、また、第１の粘着ロール１６の回転速度と第１の強粘着ロール１８の回転速度とを同期させるための速度調整手段が別途必要になる。露光装置１の構成を簡略化できる点から、第１の強粘着ロール１８は、第１の粘着ロール１６の回転に追随して回転するフリーロールが好ましい。
【００３０】
露光装置１においては、第１の粘着ロール１６の軸方向から見て、第１の強粘着ロール１８の回転軸が、感光層１０４と第１の粘着ロール１６との接触部の中心と、第１の粘着ロール１６の回転軸とを結ぶ線の延長線上にあることが好ましい。
第１の強粘着ロール１８がこのように配置されることによって、第１の強粘着ロール１８の押し付け力が第１の粘着ロール１６を介して感光層１０４にも伝わることによって、第１の粘着ロール１６の自重以上の圧力を感光層１０４にかけることができる。その結果、感光層１０４と第１の粘着ロール１６との接触圧力を充分に確保できる。
一方、第１の強粘着ロール１８の回転軸が、前記延長線上からずれてしまうと、第１の強粘着ロール１８の押し付け力の分力が第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向（水平方向）にもかかってしまい、第１の粘着ロール１６が軸方向に直交する方向にずれやすくなる。
【００３１】
（除電手段）
除電手段２２は、強く密着していた第１の粘着ロール１６と感光層１０４とが離れる際に発生し、感光層１０４の表面に帯電した電荷を除去するものである。感光層１０４の表面が帯電した状態にあると、感光層１０４の表面に異物が再付着しやすくなる。
除電手段２２としては、コロナ放電で生成したイオンを感光層１０４の表面に吹き付けるコロナ除電装置、柔Ｘ線や真空紫外線を利用した光照射式除電装置等が挙げられる。コロナ式除電装置においては、窒素や乾燥空気等の気体の流れを使って、生成したイオンを効率よく帯電部位まで搬送することが好ましい。
【００３２】
＜露光方法＞
本発明の第１の実施形態に係る露光装置１を用いた露光方法は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成する方法である。
【００３３】
（ワーク）
ワーク１００は、枚葉の基材１０２と、基材１０２の表面に感光層１０４とを有する。
基材１０２は、目的とする製品の種類に応じて適宜選定すればよく、特に限定されない。基材１０２の材質としては、ガラス、樹脂、金属、シリコン、半導体デバイス等が挙げられる。
感光層１０４は、フォトリソグラフィにおける放射線の照射によって潜像パターンを形成し得るものであればよく、特に限定されない。感光層１０４を形成するための材料としては、フォトレジスト等の公知の放射線感受性材料が挙げられる。
ワーク１００は、円筒状フォトマスク１０や第１の粘着ロール１６と衝突した場合に円筒状フォトマスク１０や第１の粘着ロール１６の表面の破損を抑えるために、稜角が面取りされていることが好ましい。
【００３４】
（クリーニング）
第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に、ワーク１００を載置したステージ２０を移動させながら、感光層１０４と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、ワーク１００の移動に追随させて感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させ、感光層１０４の表面をクリーニングする。
この際、第１の強粘着ロール１８を第１の粘着ロール１６の表面に接触させることによって、第１の粘着ロール１６の回転に追随して回転させ、第１の粘着ロール１６の表面をさらにクリーニングする。
【００３５】
（除電）
粘着力によって強く密着していた第１の粘着ロール１６と感光層１０４とが離れる際には、感光層１０４の表面に電荷が発生し、帯電する。
よって、第１の粘着ロール１６と接触した後、かつ円筒状フォトマスク１０と接触する前の感光層１０４の表面に、除電手段２２のノズルからイオンを含む気体を吹き付けることによって、感光層１０４の表面を除電する。
【００３６】
（露光）
円筒状フォトマスク１０の軸方向に直交する方向に、ワーク１００を載置したステージ２０を移動させながら、表面がクリーニングおよび除電された感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、ワーク１００の移動に追随させて感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させる。
この際、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段１２から放射線を出射する。放射線照射手段１２から出射された放射線のほとんどは、遮光部材１４に遮られ、遮光部材１４に形成されたスリット１４ａのみから、感光層１０４と円筒状フォトマスク１０との接触部に向かって放射線が出射される。スリット１４ａから出射された放射線は、円筒状フォトマスク１０を通過し、感光層１０４に照射される。
このようにして、感光層１０４が円筒状フォトマスク１０を介して露光され、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンが感光層１０４に形成される。
【００３７】
＜作用機序＞
以上説明した本発明の第１の実施形態にあっては、ワーク１００を移動させながら、感光層１０４と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で感光層１０４の表面をクリーニングしているため、円筒状フォトマスク１０の表面への異物の付着を抑えることができる。そのため、円筒状フォトマスク１０の表面に付着した異物を除去するために、露光装置１の運転を停止する必要がない。また、感光層１０４に形成される潜像パターンに、円筒状フォトマスク１０の表面に付着した異物に由来する欠陥が生じにくい。
【００３８】
また、以上説明した本発明の第１の実施形態にあっては、第１の粘着ロール１６の表面に接触して回転する第１の強粘着ロール１８によって、第１の粘着ロール１６の表面をクリーニングしているため、第１の粘着ロール１６による感光層１０４のクリーニングを長時間実施できる。そのため、露光装置１の長時間の運転が可能となり、製品の生産性が向上する。
【００３９】
また、以上説明した本発明の第１の実施形態にあっては、第１の粘着ロール１６と接触した後、かつ円筒状フォトマスク１０と接触する前の感光層１０４の表面を除電手段２２によって除電しているため、感光層１０４の表面に異物が再付着しにくくなる。
【００４０】
〔第２の実施形態〕
＜露光装置＞
図２は、本発明の第２の実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
露光装置２は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成するものである。
【００４１】
露光装置２は、中心軸を回転軸として回転自在とされた円筒状フォトマスク１０と；円筒状フォトマスク１０の中心軸が水平方向となるように円筒状フォトマスク１０の回転軸を回転自在に支持する第１の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段（図示略）と；放射線照射手段を覆うように円筒状フォトマスク１０の内部に配置され、感光層１０４と円筒状フォトマスク１０との接触部に向かって放射線が出射されるようにスリットが形成された遮光部材（図示略）と；円筒状フォトマスク１０が接触するよりも前に感光層１０４の表面に接触できる位置に、かつ円筒状フォトマスク１０との距離がワーク１００の長さよりも短い距離となるように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の粘着ロール１６と；第１の粘着ロール１６の中心軸が水平方向となるように第１の粘着ロール１６の回転軸を回転自在に支持する第２の支持手段（図示略）と；第１の粘着ロール１６の表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の強粘着ロール１８と；第１の強粘着ロール１８の中心軸が第１の粘着ロール１６の中心軸と平行となるように第１の強粘着ロール１８の回転軸を回転自在に支持する第３の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０を昇降させる第１の昇降手段（図示略）と；第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を昇降させる第２の昇降手段（図示略）と；第１の昇降手段および第２の昇降手段を制御する制御手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に枚葉のワーク１００を移動させるステージ２０（移動手段）とを備える。
以下、第１の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、図示されている場合には同じ符号を付す。また、第１の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、詳しい説明を省略する。
【００４２】
（制御手段）
制御手段は、第１の昇降手段および第２の昇降手段を制御するものであり、各昇降手段に下記の動作を行わせるものである。
（α）ワーク１００が第１の粘着ロール１６の下方に存在しないときには、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（β）ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（γ）ワーク１００が第１の粘着ロール１６の下方に存在するときには、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面に接触させる。
（δ）ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときには、円筒状フォトマスク１０を下降させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面に接触させる。
【００４３】
制御手段は、処理部（図示略）とインターフェイス部（図示略）と記憶部（図示略）とを備える。
インターフェイス部は、第１の昇降手段、第２の昇降手段、ステージ２０等と、処理部との間を電気的に接続するものである。
処理部は、記憶部に記憶された設定（ワーク１００の大きさ、厚さ、設置位置等）、ステージ２０の位置等に基づいて各昇降手段を制御するものである。
【００４４】
なお、該処理部は専用のハードウエアにより実現されるものであってもよく、また、該処理部はメモリおよび中央演算装置（ＣＰＵ）によって構成され、処理部の機能を実現するためのプログラムをメモリにロードして実行することによりその機能を実現させるものであってもよい。
また、制御手段には、周辺機器として、入力装置、表示装置等が接続されるものとする。ここで、入力装置とは、ディスプレイタッチパネル、スイッチパネル、キーボード等の入力デバイスのことをいい、表示装置とは、ＣＲＴ、液晶表示装置等のことをいう。
【００４５】
＜露光方法＞
本発明の第２の実施形態に係る露光装置２を用いた露光方法は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成する方法である。
以下、第１の実施形態に係る露光方法と同じ動作については、詳しい説明を省略する。
【００４６】
（クリーニング、露光）
円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向にワーク１００を載置したステージ２０を移動させる。
（α）図２に示すように、ワーク１００が第１の粘着ロール１６の下方に存在しないときには、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（β）また、図２に示すように、ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
【００４７】
（γ）図３に示すように、ワーク１００の先頭が第１の粘着ロール１６の下方に到達したときに、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、感光層１０４の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で感光層１０４の表面をクリーニングする。
【００４８】
（δ）図４に示すように、ワーク１００の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０を下降させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、表面がクリーニングされた感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段から感光層１０４に放射線を照射する。
このようにして、表面がクリーニングされた感光層１０４が円筒状フォトマスク１０を介して露光され、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンが感光層１０４に形成される。
【００４９】
（α）図５に示すように、ワーク１００の最後尾が第１の粘着ロール１６の下方に到達したときに、ワーク１００を載置したステージ２０の移動速度を変えないまま第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面から離間させる。
（β）図６に示すように、ワーク１００の最後尾が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面から離間させる。
【００５０】
＜作用機序＞
以上説明した本発明の第２の実施形態にあっては、第１の実施形態と同じ構成を有し、第１の実施形態と同じ動作をする場合には、第１の実施形態と同じ作用機序を発揮する。
また、以上説明した本発明の第２の実施形態にあっては、枚葉のワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させ、枚葉のワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときには、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面に接触させているため、枚葉のワーク１００の先頭が円筒状フォトマスク１０に側方から衝突することがない。そのため、円筒状フォトマスク１０の表面がワーク１００の衝突によって破損することがない。
【００５１】
また、以上説明した本発明の第２の実施形態にあっては、枚葉のワーク１００が第１の粘着ロール１６の下方に存在しないときには、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させ、枚葉のワーク１００が第１の粘着ロール１６の下方に存在するときには、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面に接触させているため、枚葉のワーク１００の先頭が第１の粘着ロール１６に側方から衝突することがない。そのため、第１の粘着ロール１６の表面がワーク１００の衝突によって破損することがない。
【００５２】
また、以上説明した本発明の第２の実施形態にあっては、第１の粘着ロール１６と円筒状フォトマスク１０との距離がワーク１００の長さよりも短い距離とされているため、感光層１０４のクリーニングと露光とを短い移動距離で連続して行うことができ、露光処理の時間を短縮できる。
【００５３】
〔第３の実施形態〕
＜露光装置＞
図７は、本発明の第３の実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
露光装置３は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成するものである。
【００５４】
露光装置３は、第１の粘着ロール１６と円筒状フォトマスク１０との距離がワーク１００の長さ以上とされている以外は、第２の実施形態に係る露光装置と同じものである。
以下、第１、２の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、図示されている場合には同じ符号を付す。また、第１、２の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、詳しい説明を省略する。
【００５５】
＜露光方法＞
本発明の第３の実施形態に係る露光装置３を用いた露光方法は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成する方法である。
以下、第１の実施形態に係る露光方法と同じ動作については、詳しい説明を省略する。
【００５６】
（クリーニング、露光）
第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向にワーク１００を載置したステージ２０を移動させる。
（α）図７に示すように、ワーク１００が第１の粘着ロール１６の下方に存在しないときには、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（β）また、図７に示すように、ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
【００５７】
（γ）図８に示すように、ワーク１００の先頭が第１の粘着ロール１６の下方に到達したときに、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、感光層１０４の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で感光層１０４の表面をクリーニングする。
【００５８】
（α）図９に示すように、ワーク１００の最後尾が第１の粘着ロール１６の下方に到達したときに、第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面から離間させる。
【００５９】
引き続き、円筒状フォトマスク１０の軸方向に直交する方向にワーク１００を載置したステージ２０を移動させる。
（δ）図１０に示すように、ワーク１００の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０を下降させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、表面がクリーニングされた感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段から感光層１０４に放射線を照射する。
このようにして、表面がクリーニングされた感光層１０４が円筒状フォトマスク１０を介して露光され、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンが感光層１０４に形成される。
【００６０】
（β）図１１に示すように、ワーク１００の最後尾が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面から離間させる。
【００６１】
＜作用機序＞
以上説明した本発明の第３の実施形態にあっては、第１、２の実施形態と同じ構成を有し、第１、２の実施形態と同じ動作をする場合には、第１、２の実施形態と同じ作用機序を発揮する。
また、以上説明した本発明の第３の実施形態にあっては、第１の粘着ロール１６と円筒状フォトマスク１０との距離がワーク１００の長さ以上とされているため、クリーニングと露光とを別々のステップで段階的に行うことができる。そのため、第１の粘着ロール１６の昇降時または円筒状フォトマスク１０の昇降時に、ワーク１００の移動を一時停止しても、第１の粘着ロール１６や円筒状フォトマスク１０が感光層１０４の表面に接触したまま停止することがない。そのため、感光層１０４の表面全体を均一にクリーニング、露光処理できる。
【００６２】
〔第４の実施形態〕
＜露光装置＞
図１２は、本発明の第４の実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
露光装置４は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成するものである。
露光装置４においては、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材１０６を隣接して配置し、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材１０８を隣接して配置する。
【００６３】
露光装置４は、第１の粘着ロール１６および円筒状フォトマスク１０の昇降タイミングを変更した以外は、第２の実施形態に係る露光装置と同じものである。
以下、第１、２の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、図示されている場合には同じ符号を付す。また、第１、２の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、詳しい説明を省略する。
【００６４】
（制御手段）
制御手段は、第１の昇降手段および第２の昇降手段を制御するものであり、各昇降手段に下記の動作を行わせるものである。
（Ｉ）ワーク１００、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（ＩＩ）第１のダミー基材１０６が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときに、円筒状フォトマスク１０、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第１のダミー基材１０６の表面に接触させる。
（ＩＩＩ）円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第１のダミー基材１０６の表面に接触させた後、引き続きワーク１００の感光層１０４と円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６とを接触させる。
（ＩＶ）第２のダミー基材１０８が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときに、円筒状フォトマスク１０、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第２のダミー基材１０８の表面から離間させる。
【００６５】
制御手段は、処理部（図示略）とインターフェイス部（図示略）と記憶部（図示略）とを備える。
インターフェイス部は、第１の昇降手段、第２の昇降手段、ステージ２０等と、処理部との間を電気的に接続するものである。
処理部は、記憶部に記憶された設定（ワーク１００の大きさ、厚さ、設置位置、各ダミー基材の大きさ等）、ステージ２０の位置等に基づいて各昇降手段を制御するものである。
処理部の構成、周辺機器等については、第２の実施形態と同様である。
【００６６】
＜露光方法＞
本発明の第４の実施形態に係る露光装置４を用いた露光方法は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成する方法である。
露光装置４を用いた露光方法においては、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材１０６を隣接して配置し、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材１０８を隣接して配置する。
以下、第１、２の実施形態に係る露光方法と同じ動作については、詳しい説明を省略する。
【００６７】
（ダミー基材）
第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８の厚さは、ワーク１００の厚さと同じである。
第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８の材質は、基材１０２と同じものが好ましい。
【００６８】
（クリーニング、露光）
円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に、ワーク１００、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８を載置したステージ２０を移動させる。
（Ｉ）図１２に示すように、ワーク１００、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
【００６９】
（ＩＩ）図１３に示すように、第１のダミー基材１０６の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第１のダミー基材１０６の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、第１のダミー基材１０６の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、第１のダミー基材１０６の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で第１のダミー基材１０６の表面をクリーニングする。
【００７０】
（ＩＩＩ）図１４に示すように、引き続き、ワーク１００を移動させながら、感光層１０４の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で感光層１０４の表面をクリーニングする。
また、ワーク１００を移動させながら、表面がクリーニングされた感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段から感光層１０４に放射線を照射する。
このようにして、表面がクリーニングされた感光層１０４が円筒状フォトマスク１０を介して露光され、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンが感光層１０４に形成される。
【００７１】
（ＩＶ）図１５に示すように、第２のダミー基材１０８の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第２のダミー基材１０８の表面から離間させる。
【００７２】
＜作用機序＞
以上説明した本発明の第４の実施形態にあっては、第１、２の実施形態と同じ構成を有し、第１、２の実施形態と同じ動作をする場合には、第１、２の実施形態と同じ作用機序を発揮する。
また、以上説明した本発明の第４の実施形態にあっては、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材１０６を隣接して配置し、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材１０８を隣接して配置しているため、ワーク１００の先頭および最後尾に第１の粘着ロール１６が確実に接触できる。そのため、感光層１０４の全面を確実にクリーニングできる。また、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８とワーク１００とは、同じ厚みを有するため、第１の粘着ロール１６および円筒状フォトマスク１０がワーク１００の前方端部および後方端部の上を通過する際に段差を乗り上げるまたは段差から落ちることによってダメージを受けることがない。また、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の昇降は、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８上にて行われるため、ワーク１００を停止して昇降動作を行っても感光層１０４の表面全体を均一にクリーニング、露光処理でき、また、昇降動作の制御が簡単になる。また、この方法ではワーク１００のサイズや設置位置に多少の誤差があった場合にも、感光層１０４の全面を確実にクリーニング、露光処理できる。
【００７３】
また、以上説明した本発明の第４の実施形態にあっては、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を同時に昇降させているため、第１の昇降手段および第２の昇降手段を１つの昇降手段にまとめることができる。そのため、露光装置４の構成を簡略化できる。
【００７４】
なお、本発明の第４の実施形態においては、第１のダミー基材１０６の一部は、第１の粘着ロール１６によってクリーニングされずに円筒状フォトマスク１０に接触することになる。よって、ワーク１００の設置や取り外し時に、第１のダミー基材１０６のクリーニングされない部分を囲ってクリーン度を局所的に上げ、オペレータが近づいた場合においても第１のダミー基材１０６に異物が付着しないようにしたり、円筒状フォトマスク１０よりも粘着性の高い表面を有する第１のダミー基材１０６を用いたりして、第１のダミー基材１０６から円筒状フォトマスク１０への異物の転移を抑えることが好ましい。
【００７５】
〔第５の実施形態〕
＜露光装置＞
図１６は、本発明の第５の実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
露光装置５は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成するものである。
【００７６】
露光装置５は、第２の昇降手段をバネ機構２４（ガス圧機構、油圧機構等でもよい。）に変更し、ステージ２０、感光層１０４と接触する間は第１の粘着ロール１６に常に下方に向かう圧力をかけ続け、ステージ２０、感光層１０４のクリーニングを行うようにした以外は、第２の実施形態に係る露光装置と同じものである。
以下、第１、２の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、図示されている場合には同じ符号を付す。また、第１、２の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、詳しい説明を省略する。
【００７７】
（制御手段）
制御手段は、第１の昇降手段を制御するものであり、第１の昇降手段に下記の動作を行わせるものである。
（β）ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（δ）ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときには、円筒状フォトマスク１０を下降させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面に接触させる。
【００７８】
制御手段は、処理部（図示略）とインターフェイス部（図示略）と記憶部（図示略）とを備える。
インターフェイス部は、第１の昇降手段、ステージ２０等と、処理部との間を電気的に接続するものである。
処理部は、記憶部に記憶された設定（ワーク１００の大きさ、厚さ、設置位置等）、ステージ２０の位置等に基づいて第１の昇降手段を制御するものである。
処理部の構成、周辺機器等については、第２の実施形態と同様である。
【００７９】
＜露光方法＞
本発明の第５の実施形態に係る露光装置５を用いた露光方法は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成する方法である。
以下、第１、２の実施形態に係る露光方法と同じ動作については、詳しい説明を省略する。
【００８０】
（クリーニング、露光）
円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向にワーク１００を載置したステージ２０を移動させる。
（β）図１６に示すように、ワーク１００が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
【００８１】
図１６に示すように、ステージ２０のみが第１の粘着ロール１６の下方に存在するとき、第１の粘着ロール１６は、バネ機構２４によってステージ２０の表面に押し付けられる。ステージ２０を移動させながら、ステージ２０と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、ステージ２０の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６でステージ２０の表面をクリーニングする。
【００８２】
ワーク１００の先頭が第１の粘着ロール１６に到達したときに、第１の粘着ロール１６は、ワーク１００に乗り上がり、バネ機構２４によって感光層１０４の表面に押し付けられる。
ワーク１００を移動させながら、感光層１０４の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で感光層１０４の表面をクリーニングする。
【００８３】
（δ）図１７に示すように、ワーク１００の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０を下降させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、表面がクリーニングされた感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段から感光層１０４に放射線を照射する。
このようにして、表面がクリーニングされた感光層１０４が円筒状フォトマスク１０を介して露光され、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンが感光層１０４に形成される。
【００８４】
ワーク１００の最後尾が第１の粘着ロール１６の下方に到達したときに、第１の粘着ロール１６は、ステージ２０の表面に転がり落ち、バネ機構２４によってステージ２０の表面に押し付けられる。ステージ２０を移動させながら、ステージ２０と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、ステージ２０の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６でステージ２０の表面をクリーニングする。
ステージ２０の最後尾が第１の粘着ロール１６を通過することによって、第１の粘着ロール１６は、ステージ２０の表面から離間する。
【００８５】
（β）図１８に示すように、ワーク１００の最後尾が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０を上昇させて、円筒状フォトマスク１０を感光層１０４の表面から離間させる。
【００８６】
＜作用機序＞
以上説明した本発明の第５の実施形態にあっては、第１、２の実施形態と同じ構成を有し、第１の実施形態と同じ動作をする場合には、第１、２の実施形態と同じ作用機序を発揮する。
また、以上説明した本発明の第５の実施形態にあっては、バネ機構２４によって第１の粘着ロール１６を感光層１０４等の表面に押し付けているため、第２の昇降手段を設ける必要がない。そのため、露光装置５の構成を簡略化できる。
【００８７】
また、第１の粘着ロール１６を第２の昇降手段によって昇降させる場合には、ワーク１００の移動を一旦停止し、露光も停止する必要があるが、本発明の第５の実施形態にあっては、第２の昇降手段を設けないため、露光を停止することなく、連続して行うことができる。そのため、露光処理の時間を短縮できる。また、感光層１０４の表面全体を均一に露光処理できる。
【００８８】
なお、本発明の第５の実施形態においては、第１の粘着ロール１６がワーク１００に乗り上げる際またはワーク１００から転げ落ちる際に、ワーク１００の稜角に接触して、第１の粘着ロール１６の表面が破損する場合がある。よって、ワーク１００の稜角は、あらかじめ面取りされていることが好ましい。
【００８９】
〔第６の実施形態〕
＜露光装置＞
図１９は、本発明の第６の実施形態に係る露光装置を示す概略図である。
露光装置６は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成するものである。
露光装置６においては、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材１０６を隣接して配置し、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材１０８を隣接して配置する。
【００９０】
露光装置６は、ステージ２０（移動手段）へのワーク１００の載置およびステージ２０（移動手段）からのワーク１００の取り外しを行う作業室９０と；ワーク１００の感光層１０４を円筒状フォトマスク１０を介して露光する露光室９２と；作業室９０と露光室９２とを仕切る仕切り板９４と；露光室９２の給気口に取り付けられたクリーンエア供給装置９６と；作業室９０へのワーク１００の搬入および作業室９０からのワークの搬出を行う作業扉９８と；円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に、かつ作業室９０と露光室９２との間で枚葉のワーク１００を移動させるステージ２０（移動手段）とを備える。
【００９１】
露光装置６の露光室９２には、中心軸を回転軸として回転自在とされた円筒状フォトマスク１０と；円筒状フォトマスク１０の中心軸が水平方向となるように円筒状フォトマスク１０の回転軸を回転自在に支持する第１の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段（図示略）と；放射線照射手段を覆うように円筒状フォトマスク１０の内部に配置され、感光層１０４と円筒状フォトマスク１０との接触部に向かって放射線が出射されるようにスリットが形成された遮光部材（図示略）と；円筒状フォトマスク１０の表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第２の粘着ロール２６と；第２の粘着ロール２６の中心軸が円筒状フォトマスク１０の中心軸と平行となるように第２の粘着ロール２６の回転軸を回転自在に支持する第４の支持手段（図示略）と；第２の粘着ロール２６の表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第２の強粘着ロール２８と；第２の強粘着ロール２８の中心軸が第２の粘着ロール２６の中心軸と平行となるように第２の強粘着ロール２８の回転軸を回転自在に支持する第５の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０が接触するよりも前に感光層１０４の表面に接触できる位置に、かつ円筒状フォトマスク１０との距離がワーク１００の長さおよび第１のダミー基材１０６長さよりも短い距離となるように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の粘着ロール１６と；第１の粘着ロール１６の中心軸が水平方向となるように第１の粘着ロール１６の回転軸を回転自在に支持する第２の支持手段（図示略）と；第１の粘着ロール１６の表面に接触するように配置され、中心軸を回転軸として回転自在とされた第１の強粘着ロール１８と；第１の強粘着ロール１８の中心軸が第１の粘着ロール１６の中心軸と平行となるように第１の強粘着ロール１８の回転軸を回転自在に支持する第３の支持手段（図示略）と；円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８を昇降させる第１の昇降手段（図示略）と；第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を昇降させる第２の昇降手段（図示略）と；第１の昇降手段および第２の昇降手段を制御する制御手段（図示略）とを備える。
以下、第１、２、４の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、図示されている場合には同じ符号を付す。また、第１、２、４の実施形態に係る露光装置と同じ構成のものについては、詳しい説明を省略する。
【００９２】
（作業室、露光室）
露光装置６は、仕切り板９４によって作業室９０と露光室９２とに分けられている。仕切り板９４を設けることによって、ステージ２０へのワーク１００の載置およびステージ２０からのワーク１００の取り外しを行う際に、円筒状フォトマスク１０に異物が付着することを防止する。
露光室９２の給気口にクリーンエア供給装置９６（ヘパフィルター空気清浄機等）を取り付けることによって、露光室９２のクリーンブース化を行う。また、露光室９２を陽圧にすることによって、作業室９０から露光室９２に異物を含むエアが流れ込みにくくする。
【００９３】
（第２の粘着ロール、第２の強粘着ロール）
第２の粘着ロール２６としては、第１の粘着ロール１６と同様のものを用いればよい。
第２の強粘着ロール２８としては、第１の強粘着ロール１８と同様のものを用いればよい。
【００９４】
（制御手段）
制御手段は、第１の昇降手段および第２の昇降手段を制御するものであり、各昇降手段に下記の動作を行わせるものである。
（Ｉ）ワーク１００、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
（ＩＩ）第１のダミー基材１０６が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときに、円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第１のダミー基材１０６の表面に接触させる。
（ＩＩＩ）円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第１のダミー基材１０６の表面に接触させた後、引き続きワーク１００の感光層１０４と円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６とを接触させる。
（ＩＶ）第２のダミー基材１０８が円筒状フォトマスク１０の下方に存在するときに、円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第２のダミー基材１０８の表面から離間させる。
【００９５】
制御手段は、処理部（図示略）とインターフェイス部（図示略）と記憶部（図示略）とを備える。
インターフェイス部は、第１の昇降手段、第２の昇降手段、ステージ２０等と、処理部との間を電気的に接続するものである。
処理部は、記憶部に記憶された設定（ワーク１００の大きさ、厚さ、設置位置、各ダミー基材の大きさ等）、ステージ２０の位置等に基づいて各昇降手段を制御するものである。
処理部の構成、周辺機器等については、第２の実施形態と同様である。
【００９６】
＜露光方法＞
本発明の第６の実施形態に係る露光装置６を用いた露光方法は、基材１０２の表面に感光層１０４が形成されたワーク１００の感光層１０４を、感光層１０４に接触する円筒状フォトマスク１０を介して露光し、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンを感光層１０４に形成する方法である。
露光装置６を用いた露光方法においては、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最初に接触する側の前方に、枚葉の第１のダミー基材１０６を隣接して配置し、枚葉のワーク１００の、円筒状フォトマスク１０と最後に接触する側の後方に、枚葉の第２のダミー基材１０８を隣接して配置する。
以下、第１、２、４の実施形態に係る露光方法と同じ動作については、詳しい説明を省略する。
【００９７】
（クリーニング、露光）
円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に、かつ作業室９０から露光室９２に向かって、ワーク１００、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８を載置したステージ２０を移動させる。
（Ｉ）図１９に示すように、ワーク１００、第１のダミー基材１０６および第２のダミー基材１０８が円筒状フォトマスク１０の下方に存在しないときには、円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させる。
【００９８】
（ＩＩ）図２０に示すように、第１のダミー基材１０６の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を下降させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第１のダミー基材１０６の表面に接触させる。
ワーク１００を移動させながら、第１のダミー基材１０６の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、第１のダミー基材１０６の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で第１のダミー基材１０６の表面をクリーニングする。
【００９９】
（ＩＩＩ）引き続き、ワーク１００を移動させながら、感光層１０４の表面と第１の粘着ロール１６とを接触させることによって、感光層１０４の表面で第１の粘着ロール１６を回転させて第１の粘着ロール１６で感光層１０４の表面をクリーニングする。
また、ワーク１００を移動させながら、表面がクリーニングされた感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、円筒状フォトマスク１０の内部に配置された放射線照射手段から感光層１０４に放射線を照射する。
このようにして、表面がクリーニングされた感光層１０４が円筒状フォトマスク１０を介して露光され、円筒状フォトマスク１０のパターンに対応する潜像パターンが感光層１０４に形成される。
【０１００】
少なくとも感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させている間は、第２の粘着ロール２６を円筒状フォトマスク１０の表面に接触させることによって、円筒状フォトマスク１０の回転に追随して回転させ、円筒状フォトマスク１０の表面をクリーニングする。
この際、第２の強粘着ロール２８を第２の粘着ロール２６の表面に接触させることによって、第２の粘着ロール２６の回転に追随して回転させ、第２の粘着ロール２６の表面をさらにクリーニングする。
【０１０１】
（ＩＶ）図２１に示すように、第２のダミー基材１０８の先頭が円筒状フォトマスク１０の下方に到達したときに、円筒状フォトマスク１０、第２の粘着ロール２６および第２の強粘着ロール２８、ならびに第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８を上昇させて、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を第２のダミー基材１０８の表面から離間させる。
その後、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６の軸方向に直交する方向に、かつ露光室９２から作業室９０に向かってワーク１００を載置したステージ２０を移動させる。この際、円筒状フォトマスク１０および第１の粘着ロール１６を感光層１０４の表面よりも高い位置に退避させたままとする。
【０１０２】
＜作用機序＞
以上説明した本発明の第６の実施形態にあっては、第１、２、４の実施形態と同じ構成を有し、第１、２、４の実施形態と同じ動作をする場合には、第１、２、４の実施形態と同じ作用機序を発揮する。
【０１０３】
また、以上説明した本発明の第６の実施形態にあっては、ワーク１００を移動させながら、感光層１０４と円筒状フォトマスク１０とを接触させることによって、感光層１０４の表面で円筒状フォトマスク１０を回転させると同時に、放射線照射手段１２から感光層１０４に放射線を照射しつつ、円筒状フォトマスク１０の表面に接触して回転する第２の粘着ロール２６によって、円筒状フォトマスク１０の表面をクリーニングしている。そのため、円筒状フォトマスク１０の表面に付着した異物を露光装置１の運転を停止することなく除去できる。また、円筒状フォトマスク１０の表面に付着した異物が常に除去された状態となるため、感光層１０４に形成される潜像パターンに、円筒状フォトマスク１０の表面に付着した異物に由来する欠陥が生じにくい。
【０１０４】
また、以上説明した本発明の第６の実施形態にあっては、第２の粘着ロール２６の表面に接触して回転する第２の強粘着ロール２８によって、第２の粘着ロール２６の表面をクリーニングしているため、第２の粘着ロール２６による円筒状フォトマスク１０のクリーニングを長時間実施できる。そのため、露光装置１の長時間の運転が可能となり、製品の生産性が向上する。
【０１０５】
〔他の実施形態〕
本発明の露光方法および露光装置は、ワークの感光層の表面に接触し、ワークの移動に追随して回転する第１の粘着ロールによって、感光層の表面をクリーニングする露光方法および露光装置であればよく、第１〜６の実施形態に限定されない。
たとえば、第１〜６の実施形態のうち、２つ以上の実施形態を組み合わせてもよい。
また、第１の強粘着ロール、除電手段、各昇降手段、第２の粘着ロール、第２の強粘着ロールは、必ずしも設けなくてもよい。
また、移動手段は、図示例のような移動可能なステージに限定されない。移動手段は、ワークを移動させない場合は、円筒状フォトマスクおよび第１の粘着ロールを移動させる移動手段であってもよい。また、ワークが枚葉の場合は、ベルトコンベアであってもよい。
また、第４、６の実施形態においてダミー基材を配置する代わりに、図２２に示すように、ステージ２０に、ワーク１００に対応する大きさの凹部２０ａを設け、そこにワーク１００を嵌め込んでもよい。これによって、第４、６の実施形態と同様の効果を得ることができる。
【実施例】
【０１０６】
以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらの例によって限定されない。
例１は実施例であり、例２は比較例である。
【０１０７】
（例１）
図１に示す露光装置１を用意した。
円筒状フォトマスク１０、第１の粘着ロール１６、第１の強粘着ロール１８、除電手段２２を除く装置本体としては、ＳＵＳＳ社製、ＲＭＬ−２を用意した。
円筒状フォトマスク１０としては、フィルム状の位相シフトマスク（材質：ポリジメチルシロキサン）を円筒状基体（材質：合成石英、長さ：３０ｃｍ、外径：１６ｃｍ、内径１３ｃｍ、重さ：８ｋｇ）の表面に貼り付けたものを用意した。
第１の粘着ロール１６および第１の強粘着ロール１８としては、市販の粘着ロール（ＴＥＫＮＥＫ社製、ＳＬ３００、粘着力：４０ｈＰａ）を用意した。
除電手段２２としては、エアノズル付きのコロナ除電装置（Ｋｅｙｅｎｃｅ社製、超高速シースセンシングイオナイザＳＪ−Ｈ０３６、コロナ放電方式、パルスＡＣ：７０００Ｖ、エア供給：０．４ＭＰａ）を用意した。
ワーク１００としては、基材（材質：ソーダライムガラス、縦：３０ｃｍ、横：３０ｃｍ、厚さ：２ｍｍ）の表面に、フォトレジスト（ＡＺエレクトロニクス社製、ＡＺ７９０４）を塗布し、乾燥させて感光層１０４（厚さ：４５０ｎｍ）を形成されたものを用意した。
【０１０８】
ステージ２０上にワーク１００を載置し、移動速度：９ｃｍ／分で移動させながら、感光層１０４の表面に接触する第１の粘着ロール１６によって感光層１０４の表面をクリーニングしつつ、感光層１０４の表面に接触する円筒状フォトマスク１０を介して感光層１０４に紫外線を照射し、露光処理を行った。この際、円筒状フォトマスク１０の内部に挿入したＬＥＤアレイ光源が発する紫外線を、スリット１４ａを介して感光層１０４に照射した。なお、あらかじめ円筒状フォトマスク１０と感光層１０４が隙間なく密着する幅を確認しておき、その幅よりも狭くなるようにスリット１４ａの幅を設定した。その後、現像処理を行い、基材の表面にレジストパターンを形成した。
５０枚のワーク１００について露光処理および現像処理を行い、レジストパターンにおける欠陥の有無を確認したところ、すべてのワーク１００において欠陥は見られなかった。
【０１０９】
（例２）
第１の粘着ロール１６、第１の強粘着ロール１８および除電手段２２を設けない以外は、例１と同様にして、５０枚のワーク１００について露光処理および現像処理を行った。レジストパターンにおける欠陥の有無を確認したところ、３５枚のワーク１００において欠陥が見られた。
【産業上の利用可能性】
【０１１０】
本発明の露光方法および露光装置は、基材の表面に感光層が形成されたワークの感光層を、感光層に接触するフォトマスクを介して露光し、フォトマスクのパターンに対応する潜像パターンを感光層に形成する露光方法および露光装置として有用である。
【符号の説明】
【０１１１】
１〜８  露光装置
１０  円筒状フォトマスク
１２  放射線照射手段
１４  遮光部材
１４ａ  スリット
１６  第１の粘着ロール
１８  第１の強粘着ロール
２０  ステージ
２０ａ  凹部
２２  除電手段
２６  第２の粘着ロール
２８  第２の強粘着ロール
９０  作業室
９２  露光室
９４  仕切り板
９６  クリーンエア供給装置
９８  作業扉
１００  ワーク
１０２  基材
１０４  感光層
１０６  第１のダミー基材
１０８  第２のダミー基材
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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