(57)【要約】      （修正有）【課題】皮脂の付着に起因する感光層の亀裂の発生が抑制される単層型の電子写真感光体を提供する。【解決手段】結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される電荷発生材料と、特定構造の正孔輸送材料と、式（２）で表される電子輸送材料と、結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である溶剤と、を含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％以上０．１質量％以下である単層型の感光層を有す電子写真感光体。2016186616.tif 000028【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体と、
前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と、下記一般式（２）で表される電子輸送材料と、前記結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である少なくとも１種の溶剤と、を含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％以上０．１質量％以下である単層型の感光層と、
を有する電子写真感光体。
【化１】
2016186616.tif 000025
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子又は低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｐ及びｑは、各々独立に０又は１を示す。）
【化２】
2016186616.tif 000026
（一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ１９はアルキレン基を示し、Ｒ２０はアルキル基を示す。）
【請求項２】
前記結着樹脂が、下記一般式（Ａ）で表される構造単位を有するポリカーボネート樹脂である請求項１に記載の電子写真感光体。
【化３】
2016186616.tif 000027
（一般式（Ａ）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。ａ及びｂは、各々独立に０以上４以下の整数を表す。）
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体を備え、
画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジ。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、
前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備える画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体、プロセスカートリッジ及び画像形成装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の電子写真方式の画像形成装置においては、帯電、露光、現像、転写のプロセスを通じて電子写真感光体の表面上に形成したトナー像を記録媒体に転写させる。
【０００３】
電子写真感光体（以下、単に感光体という場合がある）は、基材上に電荷発生層と電荷輸送層を有する機能分離型の感光体と、電荷発生材料と電荷輸送層を含む感光層を有する単層型の感光体が知られている。
例えば、導電性基体と、前記導電性基体上に設けられた単層型の感光層であって、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、特定の正孔輸送材料と、特定の電子輸送材料と、を含んで構成された感光層と、を有する電子写真感光体が開示されている（特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１３−２３１８６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明は、導電性基体と、前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、一般式（１）で表される正孔輸送材料と、一般式（２）で表される電子輸送材料と、溶剤として前記結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９を超える溶剤のみを含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％未満である単層型の感光層と、を有する電子写真感光体に比べ、感光体に接触する部材や用紙含有成分、皮脂等の化学物質付着に起因する感光層の亀裂の発生が抑制される電子写真感光体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するため、以下の発明が提供される。
請求項１に係る発明は、導電性基体と、前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、下記一般式（１）で表される正孔輸送材料と、下記一般式（２）で表される電子輸送材料と、前記結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である少なくとも１種の溶剤と、を含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％以上０．１質量％以下である単層型の感光層と、を有する電子写真感光体である。
【０００７】
【化１】
2016186616.tif 000002
【０００８】
（一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子、又は低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｐ及びｑは、各々独立に０又は１を示す。）
【０００９】
【化２】
2016186616.tif 000003
【００１０】
（一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ１９はアルキレン基を示し、Ｒ２０はアルキル基を示す。）
【００１１】
請求項２に係る発明は、前記結着樹脂が、下記一般式（Ａ）で表される構造単位を有するポリカーボネート樹脂である請求項１に記載の電子写真感光体。
【００１２】
【化３】
2016186616.tif 000004
【００１３】
（一般式（Ａ）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。ａ及びｂは、各々独立に０以上４以下の整数を表す。）
【００１４】
請求項３に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体を備え、画像形成装置に脱着されるプロセスカートリッジである。
【００１５】
請求項４に係る発明は、請求項１〜請求項３のいずれか１項に記載の電子写真感光体と、前記電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える画像形成装置である。
【発明の効果】
【００１６】
請求項１に係る発明によれば、導電性基体と、前記導電性基体上に設けられ、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、一般式（１）で表される正孔輸送材料と、一般式（２）で表される電子輸送材料と、溶剤として前記結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５を超える溶剤のみを含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％未満である単層型の感光層と、を有する電子写真感光体に比べ、皮脂の付着に起因する感光層の亀裂の発生が抑制される電子写真感光体が提供される。
【００１７】
請求項３、４に係る発明によれば、導電性基体上に、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料と、一般式（１）で表される正孔輸送材料と、一般式（２）で表される電子輸送材料と、溶剤として前記結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５を超える溶剤のみを含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％未満である単層型の感光層と、を有する電子写真感光体を備える場合に比べ、皮脂の付着に起因する電子写真感光体の感光層の亀裂の発生が抑制されるプロセスカートリッジ及び画像形成装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本実施形態に係る電子写真感光体の一例を示す概略部分断面図である。
【図２】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【図３】本実施形態に係る画像形成装置の他の例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の一例である実施形態について説明する。
【００２０】
［電子写真感光体］
本実施形態に係る電子写真感光体は、導電性基体と、導電性基体上に設けられた単層型の感光層（以下、単に「感光層」と称する場合がある。）とを有する電子写真感光体（以下、「単層型感光体」又は単に「感光体」と称する場合がある。）である。本実施形態における単層型の感光層は、結着樹脂と、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種の電荷発生材料（以下、「特定電荷発生材料」と称する場合がある。）と、下記一般式（１）で表される正孔輸送材料（以下、「特定正孔輸送材料」と称する場合がある。）と、下記一般式（２）で表される電子輸送材料（以下、「特定電子輸送材料」と称する場合がある。）と、前記結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である少なくとも１種の溶剤（以下、「特定溶剤」と称する場合がある。）と、を含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％以上０．１質量％以下となっている。
【００２１】
【化４】
2016186616.tif 000005
【００２２】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子又は低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｐ及びｑは、各々独立に０又は１を示す。
【００２３】
【化５】
2016186616.tif 000006
【００２４】
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ１９はアルキレン基を示し、Ｒ２０はアルキル基を示す。
【００２５】
一般的に、電子写真感光体は、製造コストの観点から、単層型感光体が望ましい。
電荷発生材料、正孔輸送材料及び電子輸送材料を上記特定の組み合わせ、すなわち、上記特定電荷発生材料、特定正孔輸送材料及び特定電子輸送材料を単層型の感光層に含ませた単層型感光体を用いて画像形成を行うことで、画像の点欠陥の発生が抑制される一方、長期使用により感光層の表面に亀裂が発生する場合がある。
これに対し、本実施形態に係る電子写真感光体では、単層型の感光層が上記特定の組み合わせで特定電荷発生材料、特定正孔輸送材料及び特定電子輸送材料を含むことで、画像の点欠陥の発生が抑制されるほか、感光層における亀裂の発生が抑制される。その理由は定かでないが、以下のように考えられる。
【００２６】
感光層の亀裂の発生は、紙などの記録媒体に付着した皮脂（オレイン酸が主成分）が感光体の表面に転移し、感光体の表面に付着したオレイン酸が感光層を劣化させることが原因の１つと考えられる。
本実施形態に係る電子写真感光体では、感光層を形成する際に溶解度パラメータ（ＳＰ値）が結着樹脂のＳＰ値との差が小さい溶剤を用いることで結着樹脂との親和性により溶剤が感光層に適度に残存し、残存している溶剤が可塑剤のような役目をして亀裂の発生が抑制されると考えられる。
【００２７】
以下、図面を参照しつつ、本実施形態に係る電子写真感光体を詳細に説明する。
図１は、本実施形態に係る電子写真感光体の一例の一部の断面を概略的に示している。
図１に示した電子写真感光体７は、例えば、導電性支持体４を備え、導電性支持体４上に、下引層１及び単層型の感光層２がこの順で設けられて構成されている。
なお、下引層１は、必要に応じて、設けられる層である
【００２８】
以下、本実施形態に係る電子写真感光体の各層について詳細に説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００２９】
（導電性基体）
導電性基体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。また、導電性基体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。ここで、「導電性」とは体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ未満であることをいう。
【００３０】
導電性基体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性基体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３１】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性基体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３２】
粗面化の方法としては、導電性基体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性基体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３３】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性基体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性基体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３４】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３５】
導電性基体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３６】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これをさらにアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３７】
（下引層）
下引層は、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
【００３８】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００３９】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４０】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４１】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４２】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００４３】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４４】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４５】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００４６】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００４７】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００４８】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００４９】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００５０】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００５１】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００５２】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００５３】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００５４】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００５５】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００５６】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００５７】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００５８】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００５９】
下引層形成用塗布液を導電性基体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００６０】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００６１】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層をさらに設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６２】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００６３】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００６４】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００６５】
（単層型の感光層）
単層型の感光層は、結着樹脂と、特定電荷発生材料と、特定正孔輸送材料と、特定電子輸送材料と、特定溶剤と、必要に応じて、その他の溶剤と、添加剤と、を含んで構成される。
【００６６】
−結着樹脂−
感光層に含まれる結着樹脂としては、特に制限はないが、例えば、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアリレート樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリ塩化ビニリデン樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体、塩化ビニリデン−アクリロニトリル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸共重合体、シリコーン樹脂、シリコーンアルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、スチレン−アルキッド樹脂、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等が挙げられる。これらの結着樹脂は、単独又は２種以上混合して用いてもよい。
これらの結着樹脂の中でも、特に、感光層の成膜性の観点及び感光層における亀裂の発生を抑制する観点から、例えば、粘度平均分子量３００００以上８００００以下のポリカーボネート樹脂がよい。
【００６７】
また、感光層における亀裂の発生を抑制する観点から、感光層は、下記一般式（Ａ）で表される構造単位を有するポリカーボネート樹脂を含むことが好ましい。
【００６８】
【化６】
2016186616.tif 000007
【００６９】
一般式（Ａ）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。ａ及びｂは、各々独立に０以上４以下の整数を表す。
【００７０】
一般式（Ａ）中、Ｒ３１及びＲ３２は、各々独立に、炭素数１以上６以下のアルキル基を表すことが望ましく、さらに、メチル基を表すことがより望ましい。
一般式（Ａ）中、ａ及びｂは、各々独立に０以上２の整数を表すことが望ましい。
【００７１】
一般式（Ａ）で表される構造単位として、具体的には、下記構造式（Ａ１）で表される構造単位であることが望ましい。
【００７２】
【化７】
2016186616.tif 000008
【００７３】
また、ポリカーボネート樹脂は、前記一般式（Ａ）で表される構造単位と、下記一般式（Ｂ）で表される構造単位と、を持つ共重合体であることが好ましい。
【００７４】
【化８】
2016186616.tif 000009
【００７５】
一般式（Ｂ）中、Ｒ３３及びＲ３４は、各々独立にハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。ｃ及びｄは、各々独立に０以上４以下の整数を表す。Ｘは、−ＣＲ３５Ｒ３６−（但し、Ｒ３５及びＲ３６は、各々独立に水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１以上６以下のアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。）、炭素数５以上１１以下の１，１−シクロアルキレン基、炭素数２以上１０以下のα，ω−アルキレン基、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＳＯ−、又は−ＳＯ２−を表す。
【００７６】
一般式（Ｂ）で表される構造単位として、具体的には、下記構造式（Ｂ１）〜（Ｂ３）で表される構造単位であることが望ましい。
【００７７】
【化９】
2016186616.tif 000010
【００７８】
ここで、一般式（Ａ）で表される構造単位と、一般式（Ｂ）で表される構造単位と、を含む共重合体であるポリカーボネート樹脂は、例えば、下記一般式（２Ａ）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物及び下記一般式（２Ｂ）で表されるビスフェノール化合物を原料として用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合又はビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によって得られる。
【００７９】
【化１０】
2016186616.tif 000011
【００８０】
一般式（２Ａ）及び（２Ｂ）中、Ｒ３１、Ｒ３２、Ｒ３３、Ｒ３４、ａ、ｂ、ｃ、ｄ、Ｘは、一般式（Ａ）及び（Ｂ）中のものと同様である。
【００８１】
ここで、一般式（２Ａ）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物として具体的には、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジフェニルビフェニル等が挙げられる。
【００８２】
一方、一般式（２Ｂ）で表されるビスフェノール化合物として具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらビスフェノール化合物は、１種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。
【００８３】
本実施形態における単層型の感光層に含まれるポリカーボネート樹脂の具体例としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、例示化合物中、ｍ、ｎは共重合比を示す。
【００８４】
【化１１】
2016186616.tif 000012
【００８５】
ここで、上記例示化合物中、ｍ、ｎは共重合比（モル比）を示すが、ｍ：ｎ＝９５：５から５：９５の範囲、５０：５０から５：９５の範囲、更に好ましくは、１５：８５から２５：７５の範囲が挙げられる。
【００８６】
−溶剤−
本実施形態における単層型の感光層は、感光層に含まれる結着樹脂との溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である少なくとも１種の溶剤（特定溶剤）を含み、残存溶剤の総量が０．０１質量％以上０．１質量％以下となっている。
【００８７】
ここで、本実施形態における溶解度パラメータ（ＳＰ値）について説明する。
本実施形態におけるＳＰ値としては、ハンセン（Ｈａｎｓｅｎ）の溶解度パラメータを用いる。ハンセン溶解度パラメータは、ヒルデブランド（Ｈｉｌｄｅｂｒａｎｄ）の溶解度パラメータを、分散項δＤ、極性項δＰ、水素結合項δＨの３成分に分割し、３次元空間に表したものである。本実施形態においては下記式を用いて算出される値を用いる。
δ＝（δＤ２＋δＰ２＋δＨ２）１／２
【００８８】
混合溶剤の場合の計算は、例えば、溶剤１と溶剤２のハンセンの溶解度パラメータをそれぞれ［δＤ１，δＰ１，δＨ１］、［δＤ２，δＰ２，δＨ２］とし、溶剤１と溶剤２の体積比率をＶ１：Ｖ２とすると、混合溶剤の分散項δＤｍ、極性項δＰｍ、水素結合項δＨｍは、下記式で表される。
δＤｍ＝（Ｖ１×δＤ１＋Ｖ２×δＤ２）／（Ｖ１＋Ｖ２）
δＰｍ＝（Ｖ１×δＰ１＋Ｖ２×δＰ２）／（Ｖ１＋Ｖ２）
δＨｍ＝（Ｖ１×δＨ１＋Ｖ２×δＨ２）／（Ｖ１＋Ｖ２）
混合溶剤の溶解度パラメータは下記式で求められる。
δ＝（δＤｍ２＋δＰｍ２＋δＨｍ２）１／２
【００８９】
なお、結着樹脂の溶解度パラメータ（ＳＰ値）も上記と同様に求められ、本実施形態における単層型の感光層が２種以上の結着樹脂を含む場合は、混合樹脂の溶解度パラメータとの溶解度パラメータ（ＳＰ値）の絶対値の差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である少なくとも１種の溶剤を含めばよい。
【００９０】
本実施形態における単層型の感光層に含まれる溶剤は、感光層を形成する際に用いる感光層形成用塗布液に含まれる溶剤が残存している溶剤であり、結着樹脂のＳＰ値の絶対値との差が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下である特定溶剤を少なくとも１種含んでいる。
本実施形態における単層型の感光層に含まれる好ましい特定溶剤は結着樹脂によっても異なるが、例えば、結着樹脂としてポリカーボネート樹脂を用いる場合、溶剤としては、例えば、テトラヒドロフラン（ＳＰ値：１９．５、沸点：６６℃)、ジクロロメタン（ＳＰ値：１９．８、沸点：３９．６℃）、２−ブタノン（ＳＰ値:１９．１、沸点：７９．６℃）などが挙げられる。なお、上記ＳＰ値の単位は（J／ｃｍ３）０．５である。
単層型の感光層における残存溶剤の総量（溶剤残存量）を０．０１質量％以上０．１質量％以下の範囲に制御する観点から、感光層に含まれる結着樹脂のＳＰ値と特定溶剤のＳＰ値との差は小さいほど好ましい。
【００９１】
また、本実施形態における単層型の感光層に含まれる溶剤は、２種以上の溶剤（混合溶剤）を含んでもよい。混合溶剤を用いて感光層を形成する場合、少なくとも１種の特定溶剤のＳＰ値と結着樹脂のＳＰ値との差（絶対値）が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であればよく、結着樹脂のＳＰ値との差（絶対値）が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５を超える溶剤（特定溶剤以外の溶剤）を併用してもよい。例えば、結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（ＳＰ値：２０．５）を用い、特定溶剤としてジクロロメタン（ＳＰ値：１９．８、沸点：４０℃）と、特定溶剤以外の溶剤としてキシレン（ＳＰ値：１７．９、沸点：１３８℃）を併用してもよい。
なお、混合溶剤を用いる場合、結着樹脂のＳＰ値と前述した式によって求められる混合溶剤の溶解度パラメータ（ＳＰ値）との差（絶対値）が１．９（Ｊ／ｃｍ３）０．５以下であることが好ましい。
【００９２】
本実施形態における単層型の感光層は、残存溶剤の総量が０．０１質量％以上０．１質量％以下である。感光層における溶剤残存量は、溶剤の沸点、結着樹脂と溶剤との親和性（ＳＰ値の差）、感光層を塗布及び乾燥によって形成する際の乾燥温度、感光層形成用塗布液に含まれる溶剤の比率（質量％）などによって制御される。なお、感光層における残存溶剤の総量とは、特定溶剤と特定溶剤以外の溶剤を併用する場合は、特定溶剤と特定溶剤以外の溶剤との合計量である。
なお、単層型の感光層に特定溶剤と特定溶剤以外の溶剤が含まれている場合、残存溶剤の総量を０．０１質量％以上０．１質量％以下に維持する観点から、残存溶剤の総量に対する特定溶剤の比率は０．０１質量％以上２０質量％以下であることが好ましく、０．０１質量％以上１０質量％以下であることがより好ましい。
【００９３】
なお、感光層における溶剤残存量が０．０１質量％未満では、感光層は硬くて割れ易い膜となっているため亀裂が発生し易いと考えられる。一方、感光層における溶剤残存量が０．１質量％を超えていると、残留電位が上がり、電子写真感光体の前の画像形成サイクルの履歴が次の画像形成サイクルに画像として顕在化する現象が発生し易い。
【００９４】
感光層の亀裂の発生を抑制する観点から、感光層における溶剤残存量は０．０６質量％以上０．１質量％以下が好ましく、０．０７質量％以上０．０９質量％以下がより好ましい。
なお、感光層における溶剤残存量は、ガスクロマトグラフィー質量分析計によって測定される値である。
【００９５】
−電荷発生材料−
電荷発生材料としては、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料及びクロロガリウムフタロシアニン顔料から選択される少なくとも１種（特定電荷発生材料）が適用される。
電荷発生材料としては、これら顔料（特定電荷発生材料）を単独で用いてもよいが、必要に応じて併用してもよい。そして、電荷発生材料としては、感光体の高感度化及び画像の点欠陥の発生抑制の観点から、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
【００９６】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、Ｖ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がよい。
特に、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料としては、例えば、６００ｎｍ以上９００ｎｍ以下の波長域での分光吸収スペクトルにおいて、８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料がより優れた分散性が得られる観点から望ましい。このように、分光吸収スペクトルの最大ピーク波長を従来のＶ型ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料よりも短波長側にシフトさせることにより、顔料粒子の結晶配列が好適に制御された微細なヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料となり、電子写真感光体の材料として用いた場合に、優れた分散性と、十分な感度、帯電性及び暗減衰特性とが得られ易くなる。
【００９７】
また、上記の８１０ｎｍ以上８３９ｎｍ以下の範囲に最大ピーク波長を有するヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、平均粒径が特定の範囲であり、かつ、ＢＥＴ比表面積が特定の範囲であることが望ましい。具体的には、平均粒径が０．２０μｍ以下であることが望ましく、０．０１μｍ以上０．１５μｍ以下であることがより望ましく、一方、ＢＥＴ比表面積が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましく、５０ｍ２／ｇ以上であることがより望ましく、５５ｍ２／ｇ以上１２０ｍ２／ｇ以下であることが特に望ましい。平均粒径は、体積平均粒径（ｄ５０平均粒径）でレーザ回折散乱式粒度分布測定装置（ＬＡ−７００、堀場製作所社製）にて測定した値である。また、ＢＥＴ式比表面積測定器（島津製作所製：フローソープＩＩ２３００）を用い窒素置換法にて測定した値である。
ここで、平均粒径が０．２０μｍより大きい場合又は比表面積値が４５ｍ２／ｇ未満である場合は、顔料粒子が粗大化しているか又は顔料粒子の凝集体が形成される傾向があり、分散性や、感度、帯電性及び暗減衰特性といった特性に欠陥が生じやすい傾向にあり、それにより画質欠陥を生じ易くなることがある。
【００９８】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料の最大粒径（一次粒子径の最大値）は、１．２μｍ以下であることが望ましく、１．０μｍ以下であることがより望ましく、より望ましくは０．３μｍ以下である。かかる最大粒径が上記範囲を超えると、黒点が発生しやすい傾向にある。
【００９９】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、感光体が蛍光灯などに暴露されたことに起因する濃度ムラを抑制する観点から、平均粒径が０．２μｍ以下、最大粒径が１．２μｍ以下であり、かつ、比表面積値が４５ｍ２／ｇ以上であることが望ましい。
【０１００】
ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料は、ＣｕＫα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルにおいて、ブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜に回折ピークを有するＶ型であることが望ましい。
【０１０１】
一方、クロロガリウムフタロシアニン顔料としては、特に制限はないが、電子写真感光体材料として優れた感度が得られる、ブラッグ角度（２θ±０．２°）７．４°、１６．６°、２５．５°及び２８．３°に回折ピークを有するものであることが望ましい。
クロロガリウムフタロシアニン顔料の好適な分光吸収スペクトルの最大ピーク波長、平均粒径、最大粒径及び比表面積値は、ヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料と同様である。
【０１０２】
電荷発生材料の含有量は、例えば、結着樹脂に対して０．０５質量％以上３０質量％以下がよく、望ましくは１質量％以上１５質量％以下、より望ましくは２質量％以上１０質量％以下である。
【０１０３】
−正孔輸送材料−
正孔輸送材料としては、一般式（１）で表される正孔輸送材料（特定正孔輸送材料）が適用される。
【化１２】
2016186616.tif 000013
【０１０４】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５及びＲ６（以下、「Ｒ１〜Ｒ６」と称する場合がある。）は、各々独立に、水素原子、低級アルキル基、アルコキシ基、フェノキシ基、ハロゲン原子又は低級アルキル基、低級アルコキシ基及びハロゲン原子から選ばれる置換基を有していてもよいフェニル基を示す。ｐ及びｑは々独立に、０又は１を示す。
【０１０５】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示す低級アルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
これらの中でも、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基が望ましい。
【０１０６】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１０７】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１０８】
一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６が示すフェニル基としては、例えば、未置換のフェニル基；ｐ−トリル基、２，４−ジメチルフェニル基等の低級アルキル基置換のフェニル基；ｐ−メトキシフェニル基等の低級アルコキシ基置換のフェニル基；ｐ−クロロフェニル基等のハロゲン原子置換のフェニル基等が挙げられる。
なお、フェニル基に置換し得る置換基としては、例えば、Ｒ１〜Ｒ６が示す低級アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子が挙げられる。
【０１０９】
一般式（１）で表される特定正孔輸送材料として、高感度化及び画像の点欠陥の発生抑制の観点から、ｐ及びｑが１を示す正孔輸送材料がよく、特に、Ｒ１〜Ｒ６が各々独立に、水素原子、低級アルキル基又はアルコキシ基を示し、ｐ及びｑが１を示す正孔輸送材料が望ましい。
【０１１０】
以下、一般式（１）で表される特定正孔輸送材料の例示化合物を示すがこれに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（１−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（１−１５）」と以下表記する。
【０１１１】
【化１３】
2016186616.tif 000014
【０１１２】
【化１４】
2016186616.tif 000015
【０１１３】
【化１５】
2016186616.tif 000016
【０１１４】
【化１６】
2016186616.tif 000017
【０１１５】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・４−Ｍｅ：フェニル基の４−位に置換するメチル基
・３−Ｍｅ：フェニル基の３−位に置換するメチル基
・４−Ｃｌ：フェニル基の４−位に置換する塩素原子
・４−ＭｅＯ：フェニル基の４−位に置換するメトキシ基
・４−Ｆ：フェニル基の４−位に置換するフッ素原子
・４−Ｐｒ：フェニル基の４−位に置換するプロピル基
・４−ＯＰｈ：フェニル基の４−位に置換するフェノキシ基
【０１１６】
特定正孔輸送材料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。また、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて、例えば後述する特定正孔輸送材料以外の正孔輸送材料を併用してもよい。
正孔輸送材料の含有量は、例えば、結着樹脂１００質量部に対して１０質量部以上９８質量部以下がよく、望ましくは６０質量部以上９５質量部以下、より望ましくは７０質量部以上９０質量部以下である。
【０１１７】
−電子輸送材料−
電子輸送材料としては、一般式（２）で表される電子輸送材料（特定電子輸送材料）が適用される。
【０１１８】
【化１７】
2016186616.tif 000018
【０１１９】
一般式（２）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、及びＲ１７（以下、「Ｒ１１〜Ｒ１７」と称する場合がある。）は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アリール基、又はアラルキル基を示す。Ｒ１８は、アルキル基、−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０、アリール基、又はアラルキル基を示す。ただし、Ｌ１９はアルキレン基を示し、Ｒ２０はアルキル基を示す。
【０１２０】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられる。
【０１２１】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基としては、例えば、直鎖状又は分岐状で、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルキル基が挙げられ、具体的には、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基等が挙げられる。
【０１２２】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルコキシ基としては、例えば、炭素数１以上４以下（好ましくは１以上３以下）のアルコキシ基が挙げられ、具体的には、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基等が挙げられる。
【０１２３】
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
一般式（２）中、Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアラルキル基としては、例えば、ベンジル基、フェネチル基、フェニルプロピル基等が挙げられる。
これらの中でも、フェニル基が望ましい。
【０１２４】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアルキル基としては、例えば、炭素数１以上１０以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の直鎖状のアルキル基、炭素数３以上１０以下（好ましくは炭素数５以上１０以下）の分岐状のアルキル基が挙げられる。
炭素数１以上１０以下の直鎖状のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−ノニル基、ｎ−デシル基等が挙げられる。
炭素数３以上１０以下の分岐状のアルキル基としては、例えば、イソプロピル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、ｔｅｒｔ−ペンチル基、イソヘキシル基、ｓｅｃ−ヘキシル基、ｔｅｒｔ−ヘキシル基、イソヘプチル基、ｓｅｃ−ヘプチル基、ｔｅｒｔ−ヘプチル基、イソオクチル基、ｓｅｃ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基、イソノニル基、ｓｅｃ−ノニル基、ｔｅｒｔ−ノニル基、イソデシル基、ｓｅｃ−デシル基、ｔｅｒｔ−デシル基等が挙げられる。
【０１２５】
一般式（２）中、Ｒ１８が示す−Ｌ１９−Ｏ−Ｒ２０で示される基は、Ｌ１９がアルキレン基を示し、Ｒ２０は、アルキル基を示す。
Ｌ１９が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ｒ２０が示すアルキル基としては、上記Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。
【０１２６】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアリール基としては、例えば、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基等が挙げられる。
なお、一般式（２）中のＲ１８がアリール基である場合、前記アリール基がさらにアルキル基で置換されていることが、溶解性の観点で好ましい。前記アリール基に置換されるアルキル基としては、前記Ｒ１１〜Ｒ１７が示すアルキル基と同様の基が挙げられる。また、さらにアルキル基で置換されたアリール基の具体例としては、上記メチルフェニル基及びジメチルフェニル基のほか、エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１２７】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアラルキル基としては、−Ｒ２１−Ａｒで示される基が挙げられる。但し、Ｒ２１は、アルキレン基を示す、Ａｒは、アリール基を示す。
Ｒ２１が示すアルキレン基としては、直鎖状又は分岐状の炭素数１以上１２以下のアルキレン基が挙げられ、メチレン基、エチレン基、ｎ−プロピレン基、イソプロピレン基、ｎ−ブチレン基、イソブチレン基、ｓｅｃ−ブチレン基、ｔｅｒｔ−ブチレン基、ｎ−ペンチレン基、イソペンチレン基、ネオペンチレン基、ｔｅｒｔ−ペンチレン基等が挙げられる。
Ａｒが示すアリール基としては、フェニル基、メチルフェニル基、ジメチルフェニル基エチルフェニル基等が挙げられる。
【０１２８】
一般式（２）中、Ｒ１８が示すアラルキル基として具体的には、ベンジル基、メチルベンジル基、ジメチルベンジル基、フェニルエチル基、メチルフェニルエチル基、フェニルプロピル基、フェニルブチル基等が挙げられる。
【０１２９】
一般式（２）で表される特定電子輸送材料として、高感度化及び画像の濃度低下を抑制する観点から、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましく、特に、Ｒ１１〜Ｒ１７が各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、又はアルキル基を示し、かつ、Ｒ１８が炭素数５以上１０以下の分岐状のアルキル基又はアラルキル基を示す電子輸送材料が好ましい。
【０１３０】
以下、一般式（２）で表される特定電子輸送材料の例示化合物を示すが、これに限定されるわけではない。なお、以下の例示化合物番号は、例示化合物（３−番号）と以下表記する。具体的には、例えば、例示化合物１５は、「例示化合物（３−１５）」と以下表記する。
【０１３１】
【化１８】
2016186616.tif 000019
【０１３２】
なお、上記例示化合物中の略記号は、以下の意味を示す。
・Ｐｈ：フェニル基
【０１３３】
特定電子輸送材料は、１種単独で使用してもよいし、２種以上を組合せて用いてもよい。また、本実施形態の目的を阻害しない範囲で、必要に応じて例えば後述する特定電子輸送材料以外の電子輸送材料を併用してもよい。
電子輸送材料の含有量は、例えば、結着樹脂１００質量部に対して１０質量部以上７０質量部以下がよく、望ましくは１５質量部以上５０質量部以下、より望ましくは２０質量部以上４０質量部以下である。
【０１３４】
−その他電荷輸送材料−
上記特定の正孔輸送材料及び電子輸送材料以外にも、機能を損ねない範囲で、他の電荷輸送材料（他の正孔輸送材料、他の電子輸送材料）を併用してもよい。但し、他の電荷輸送材料は、正孔輸送材料及び電子輸送材料全体に対して１０質量％以下で併用することがよい。
【０１３５】
他の電荷輸送材料としては、例えば、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノビニル系化合物、エチレン系化合物等の電子輸送性化合物；トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物などの正孔輸送性化合物が挙げられる。これらの他の電荷輸送材料は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられるが、これらに限定されるものではない。
【０１３６】
他の電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（Ｂ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および下記構造式（Ｂ−２）で示されるベンジジン誘導体が望ましい。
【０１３７】
【化１９】
2016186616.tif 000020
【０１３８】
構造式（Ｂ−１）中、ＲＢ１は、水素原子またはメチル基を示す。ｎ１１は１または２を示す。ＡｒＢ１およびＡｒＢ２は各々独立に置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＢ３）＝Ｃ（ＲＢ４）（ＲＢ５）、または−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）を示し、ＲＢ３乃至ＲＢ７はそれぞれ独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。置換基としてはハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、または炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基を示す。
【０１３９】
【化２０】
2016186616.tif 000021
【０１４０】
構造式（Ｂ−２）中、ＲＢ８およびＲＢ８’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、を示す。ＲＢ９、ＲＢ９’、ＲＢ１０、およびＲＢ１０’は同一でも異なってもよく、各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは未置換のアリール基、−Ｃ（ＲＢ１１）＝Ｃ（ＲＢ１２）（ＲＢ１３）、または−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）を示し、ＲＢ１１乃至ＲＢ１５は各々独立に水素原子、置換若しくは未置換のアルキル基、または置換若しくは未置換のアリール基を表す。ｍ１２、ｍ１３、ｎ１２およびｎ１３は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
【０１４１】
ここで、構造式（Ｂ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、および構造式（Ｂ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ６）（ＲＢ７）」を有するトリアリールアミン誘導体、および「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＢ１４）（ＲＢ１５）」を有するベンジジン誘導体が望ましい。
【０１４２】
−正孔輸送材料と電子輸送材料との比率−
正孔輸送材料と電子輸送材料との比率は、質量比（正孔輸送材料／電子輸送材料）で、５０／５０以上９０／１０以下が望ましく、より望ましくは６０／４０以上８０／２０以下である。
なお、本比率は、他の電荷輸送材料を併用した場合、その合計での比率である。
【０１４３】
−その他添加剤−
単層型の感光層には、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤等の周知のその他添加剤を含んでいてもよい。また、単層型の感光層が表面層となる場合、フッ素樹脂粒子、シリコーンオイル等を含んでいてもよい。
【０１４４】
−単層型の感光層の形成−
単層型の感光層は、上記成分を溶剤に加えた感光層形成用塗布液を用いて形成される。
溶剤としては、少なくとも１種の特定溶剤が用いられ、必要に応じて特定溶剤以外の溶剤が併用される。
感光層形成用塗布液に含まれる溶剤の含有量は結着樹脂、電荷発生材料、正孔輸送材料、電子輸送材料、及び必要に応じて添加される添加剤等の種類、固形成分の全体量にもよるが、単層型の感光層に含まれる残留溶媒の総量を０．０１質量％以上０．１質量％以下に制御する観点から、結着樹脂１００質量部に対して、溶液７００質量部以上  ９００質量部以下とすることが望ましく、７６０質量部以上８４０質量部以下とすることがより望ましい。
【０１４５】
また、特定溶剤と特定溶剤以外の溶剤を併用する場合は、単層型の感光層における残存溶剤の総量を０．０１質量％以上０．１質量％以下に制御する観点から、塗布液中の溶剤の総量に対する特定溶剤の比率は５０質量％以上であることが好ましく、７０質量％以上であることがより好ましい。
【０１４６】
感光層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが挙げられる。
【０１４７】
感光層形成用塗布液を導電性基体上又は下引層等の層上に塗布する方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等が挙げられる。
【０１４８】
感光層形成用塗布液を塗布して塗布膜を形成した後、必要に応じて加熱し、乾燥させることで塗布膜が硬化し、単層型の感光層が形成される。塗布膜を加熱して乾燥させる際の条件は溶剤の種類、配合量等にもよるが、短時間で乾燥する観点、感光層に含まれる材料の変質を抑制する観点、感光層における残留溶媒の総量を０．０１質量％以上０．１質量％以下に制御する観点から、通常は、１００℃以上１５０℃以下で１０分以上３０分以下の条件で加熱乾燥を行う。
【０１４９】
単層型の感光層の膜厚は、望ましくは５μｍ以上６０μｍ以下、より望ましくは１０μｍ以上５０μｍ以下の範囲に設定される。
【０１５０】
［画像形成装置（及びプロセスカートリッジ）］
本実施形態に係る画像形成装置は、電子写真感光体と、電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備える。そして、電子写真感光体として、上記本実施形態に係る電子写真感光体が適用される。
【０１５１】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前の電子写真感光体の表面をクリーニングするクリーニング手段を備えた装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１５２】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、像保持体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１５３】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１５４】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、本実施形態に係る電子写真感光体を備えるプロセスカートリッジが好適に用いられる。なお、プロセスカートリッジには、電子写真感光体以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも一つを備えてもよい。
【０１５５】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示すが、これに限定されるわけではない。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１５６】
図２は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
本実施形態に係る画像形成装置１００は、図２に示すように、電子写真感光体７を備えるプロセスカートリッジ３００と、露光装置９（静電潜像形成手段の一例）と、転写装置４０（一次転写装置）と、中間転写体５０とを備える。なお、画像形成装置１００において、露光装置９はプロセスカートリッジ３００の開口部から電子写真感光体７に露光し得る位置に配置されており、転写装置４０は中間転写体５０を介して電子写真感光体７に対向する位置に配置されており、中間転写体５０はその一部が電子写真感光体７に接触して配置されている。図示しないが、中間転写体５０に転写されたトナー像を記録媒体（例えば用紙）に転写する二次転写装置も有している。なお、中間転写体５０、転写装置４０（一次転写装置）、及び二次転写装置（不図示）が転写手段の一例に相当する。
【０１５７】
図２におけるプロセスカートリッジ３００は、ハウジング内に、電子写真感光体７、帯電装置８（帯電手段の一例）、現像装置１１（現像手段の一例）、及びクリーニング装置１３（クリーニング手段の一例）を一体に支持している。クリーニング装置１３は、クリーニングブレード（クリーニング部材の一例）１３１を有しており、クリーニングブレード１３１は、電子写真感光体７の表面に接触するように配置されている。なお、クリーニング部材は、クリーニングブレード１３１の態様ではなく、導電性又は絶縁性の繊維状部材であってもよく、これを単独で、又はクリーニングブレード１３１と併用してもよい。
【０１５８】
なお、図２には、画像形成装置として、潤滑材１４を電子写真感光体７の表面に供給する繊維状部材１３２（ロール状）、及び、クリーニングを補助する繊維状部材１３３（平ブラシ状）を備えた例を示してあるが、これらは必要に応じて配置される。
【０１５９】
以下、本実施形態に係る画像形成装置の各構成について説明する。
【０１６０】
−帯電装置−
帯電装置８としては、例えば、導電性又は半導電性の帯電ローラ、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用される。また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等も使用される。
【０１６１】
−露光装置−
露光装置９としては、例えば、電子写真感光体７表面に、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の光を、定められた像様に露光する光学系機器等が挙げられる。光源の波長は電子写真感光体の分光感度領域内とする。半導体レーザの波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１６２】
−現像装置−
現像装置１１としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。現像装置１１としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体７に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１６３】
現像装置１１に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１６４】
−クリーニング装置−
クリーニング装置１３は、クリーニングブレード１３１を備えるクリーニングブレード方式の装置が用いられる。
なお、クリーニングブレード方式以外にも、ファーブラシクリーニング方式、現像同時クリーニング方式を採用してもよい。
【０１６５】
−転写装置−
転写装置４０としては、例えば、ベルト、ローラ、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が挙げられる。
【０１６６】
−中間転写体−
中間転写体５０としては、半導電性を付与したポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むベルト状のもの（中間転写ベルト）が使用される。また、中間転写体の形態としては、ベルト状以外にドラム状のものを用いてもよい。
【０１６７】
図３は、本実施形態に係る画像形成装置の他の一例を示す概略構成図である。
図３に示す画像形成装置１２０は、プロセスカートリッジ３００を４つ搭載したタンデム方式の多色画像形成装置である。画像形成装置１２０では、中間転写体５０上に４つのプロセスカートリッジ３００がそれぞれ並列に配置されており、１色に付き１つの電子写真感光体が使用される構成となっている。なお、画像形成装置１２０は、タンデム方式であること以外は、画像形成装置１００と同様の構成を有している。
【実施例】
【０１６８】
以下、実施例及び比較例に基づき本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は以下の実施例に何ら限定されるものではない。
＜実施例１＞
［電子写真感光体の作製］
電荷発生材料としてＣｕｋα特性Ｘ線を用いたＸ線回折スペクトルのブラッグ角度（２θ±０．２°）が少なくとも７．３゜，１６．０゜，２４．９゜，２８．０゜の位置に回折ピークを有するＶ型のヒドロキシガリウムフタロシアニン顔料  １．０質量部と、結着樹脂としてビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）５０質量部と、下記式（１−Ａ）で表される構造を有する正孔輸送材料（一般式（１）で表される特定正孔輸送材料の例示化合物（１−９）に相当）  ３７質量部と、下記式（２−Ａ）で表される構造を有する電子輸送材料  １０質量部と、溶剤１としてテトラヒドロフラン２５０質量部と、溶剤２としてキシレン５０質量部とからなる混合物を、直径１ｍｍφのガラスビーズを用いてダイノーミルにて４時間分散し、感光層形成用塗布液を得た。
【０１６９】
【化２１】
2016186616.tif 000022
【０１７０】
得られた感光層形成用塗布液を浸漬塗布法にて、直径３０ｍｍ、長さ２４４．５ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１４０℃、３０分の乾燥硬化を行い、厚さ３２μｍの単層型の感光層を形成した。
以上の工程を経て、電子写真感光体を作製した。
【０１７１】
＜実施例２〜６、比較例１〜５＞
実施例１での感光層の形成において、表１に従って、結着樹脂の種類、溶剤の種類及び配合量を変更した以外は、実施例１と同様にして、単層型の電子写真感光体を作製した。      
【０１７２】
＜実施例７＞
感光層の形成において、表１に従って、溶剤としてテトラヒドロフランのみ用いた以外は、実施例１と同様にして、単層型の電子写真感光体を作製した。
【０１７３】
［評価］
各例で得られた電子写真感光体について、以下の評価を行った。
【０１７４】
−溶剤残存量−
感光層における残存溶剤の総量（溶剤残存量）は、下記の方法によって測定した。
感光層をＮ−メチル−２−ピロリドン（以下「ＮＭＰ」という）に溶解した液（質量％濃度を算出）をガスクロマトグラフィー質量分析計ＨＰ６８９０（アジレント社製）とカラムＨＰ-５ＭＳ（アジレント社製）を使用し、感光層中の溶剤のピークを検出した。
ＮＭＰと感光層形成用塗布液に用いた溶剤を混合した液(混合比率を変えたものを５種類)を調液し、溶剤ピークを検出し、検量線を作成する。検量線から膜中の溶剤量を求めた。
【０１７５】
−亀裂評価−
感光層の表面に直径５ｍｍの範囲で、皮脂に模したオレイン酸を塗布し、一週間静置する。一週間後、感光層表面からオレイン酸をエタノールで拭き取り、塗布部を光学顕微鏡で観察し、亀裂の有無及び発生している亀裂の大きさ（最大長）を評価する。
１：亀裂発生なし。
２：亀裂が発生しているが、最大長は０．１ｍｍ未満である。
３：最大長が０．１ｍｍ以上の亀裂が発生している。
なお、評価２以上であれば、実用上問題が無いと評価する。
【０１７６】
以下、表１中の略称の詳細について示す。
【０１７７】
−結着樹脂−
・ＰＣＺ：  ビスフェノールＺポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量：５万）
・ＰＣＺ−ＢＰ：  下記構造の共重合体（ＰＣＺ／ＢＰ比率（質量比）＝７５／２５、粘度平均分子量：４万）
・ＰＣＣ−ＢＰ：  下記構造の共重合体（ＰＣＣ／ＢＰ比率（質量比）＝７５／２５、粘度平均分子量：４万）
【０１７８】
【化２２】
2016186616.tif 000023
【０１７９】
−溶剤−
・ＴＨＦ：テトラヒドロフラン
・ＣＰＭＥ：シクロペンチルメチルエーテル
・ＭＩＢＫ：メチルイソブチルケトン
・ＣＰＮ：シクロペンタノン
【０１８０】
各例で用いた感光層形成用塗布液に含まれる結着樹脂及び溶剤並びに評価結果を表１に示す。なお、結着樹脂及び溶剤のＳＰ値は、前述した手法によって求めた値であり、単位は（Ｊ／ｃｍ３）０．５である。また、配合量を示す「部」は質量部を意味する。
有機化合物の構造から溶解度パラメータを計算するソフトウェア「ＨＳＰｉＰ」（ ver. ４．０）を用いて値を算出している。
【０１８１】
【表１】
2016186616.tif 000024
【０１８２】
上記結果から、本実施例では、比較例に比べ、感光層の亀裂の発生が抑制されていることがわかる。
【符号の説明】
【０１８３】
１  下引層、２  感光層、４  導電性基体、７  電子写真感光体、８  帯電装置、９  露光装置、１１  現像装置、１３  クリーニング装置、１４  潤滑材、４０  転写装置、５０  中間転写体、１００  画像形成装置、１２０  画像形成装置、３００  プロセスカートリッジ
【図２】
2016186616.tif 000029
【図１】
2016186616.tif 000030
【図３】
2016186616.tif 000031