(57)【要約】【課題】ＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測できるようにすることを目的とする。【解決手段】透明フィルム材２、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層４が設けられている光学フィルム１の計測方法において、直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルム１に斜め入射すると共に、反射光を直線偏光板１５を介して入射して前記光学フィルム１を撮像することにより、前記第１及び第２の領域でコントラストの異なる撮像結果を取得し、前記撮像結果を画像処理して前記第１及び第２の領域に係る寸法を計測する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム材、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層が設けられている光学フィルムの計測方法において、
直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルムに斜め入射すると共に、反射光を直線偏光板を介して入射して前記光学フィルムを撮像することにより、前記第１及び第２の領域でコントラストの異なる撮像結果を取得し、
前記撮像結果を画像処理して前記第１及び第２の領域に係る寸法を計測する
光学フィルムの計測方法。
【請求項２】
前記直線偏光板の前記光学フィルム側に、１／４波長板が設けられた
請求項１に記載の光学フィルムの計測方法。
【請求項３】
前記光学フィルムが、パターン位相差フィルムである
請求項１又は請求項２の何れかに記載の光学フィルムの計測方法。
【請求項４】
透明フィルム材、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層が設けられている光学フィルムについて、前記第１及び第２の領域に係る寸法を計測する光学フィルムの計測装置において、
直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルムに斜め入射する光源側の光学系と、
前記計測光の反射光から撮像結果を取得する撮像側の光学系とを備え、
光源側の光学系は、
単色光の計測光を出射する光源と、
前記光源から出射された計測光を直線偏光による計測光に変換する直線偏光板とを備え、
前記撮像側の光学系は、
前記光学フィルムからの反射光を透過する１／４波長板と、
前記１／４波長板の透過光を透過する直線偏光板と、
前記直線偏光板の透過光を受光して撮像結果を出力する撮像装置とを備え、
前記光学フィルムの計測装置は、
前記撮像装置で得られる撮像結果の画像処理により前記寸法の計測結果を取得する
光学フィルムの計測装置。
【請求項５】
透明フィルム材、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層が設けられている光学フィルムの製造方法において、
直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルムに斜め入射すると共に、反射光を直線偏光板を介して撮像することにより、前記第１及び第２の領域でコントラストの異なる撮像結果を取得し、
前記撮像結果を画像処理して前記第１及び第２の領域の繰り返しに係る寸法を計測し、
計測結果により前記光学フィルムの製造工程を管理する
光学フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パッシブ方式による３次元画像表示に係るパターン位相差フィルム等の光学フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、パッシブ方式により３次元画像を表示する画像表示装置が提供されている。ここで図４は、液晶表示パネルを使用したパッシブ方式の画像表示装置を示す概略図である。パッシブ方式の画像表示装置は、垂直方向又は水平方向（この図４の例では、垂直方向）に連続する液晶表示パネルの画素を、順次交互に、右目用及び左目用に割り当て、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動し、これにより右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。また液晶表示パネルのパネル面（視聴者側面）にパターン位相差フィルムを配置し、右目用の画素及び左目用の画素からの直線偏光による出射光を、右目用及び左目用で方向の異なる円偏光に変換する。これによりパッシブ方式では、対応する偏光フィルタを備えてなる眼鏡を装着して、右目用の画像と左目用の画像とをそれぞれ選択的に視聴者の右目及び左目に提供し、３次元画像を表示する。
【０００３】
このためパターン位相差フィルムは、液晶表示パネルにおける画素の設定に対応して、遅相軸方向（屈折率が最大となる方向）が直交する２種類の帯状領域が順次交互に形成される。ここでこの隣接する帯状領域の遅相軸方向は、通常、水平方向に対して、＋４５度と−４５度、又は０度と＋９０度の組み合わせが採用される。なおこの図４の例では、通常の画像表示装置における呼称に習って画面の長辺方向を水平方向として示す。
【０００４】
従来、パターン位相差フィルムは、光学異方性の小さな透明フィルム材であるＴＡＣ（トリアセチルセルロース）等のフィルム材による基材を搬送しながら、配向膜、位相差層を順次作製することにより作製される。また画像表示パネルへの貼り付けに供する粘着層、セパレータフィルム等がさらに設けられる。
【０００５】
パターン位相差フィルムは、寸法精度が低下すると、対応する画素に対する相対位置精度が低下することによりクロストークが発生し、著しく画質が劣化することになる。なおここでクロストークは、本来、右目及び左目にそれぞれ供給すべき画像表示パネルからの出射光が、これとは逆に左目及び右目に漏れ込む現象である。このため従来、パターン位相差フィルムの製造工程では、粘着剤、セパレータフィルムを設ける前の段階で、クロスニコル配置又はパラレルニコル配置による１対の直線偏光板の間にパターン位相差フィルムを配置した状態で、透過光によりパターン位相差フィルムに形成された帯状領域の寸法を計測し、計測結果を製品管理に利用していた。なおこの計測方法では、必要に応じて１／４波長板がパターン位相差フィルムと出射光側直線偏光板との間に配置される。
【０００６】
このようなパッシブ方式に係るパターン位相差フィルムに関して、特許文献１、２には、透過光により各部の寸法を計測する方法が提案されている。
【０００７】
ところでパターン位相差フィルムでは、最終的な形態である粘着層、セパレータフィルムを配置した状態で、各部の寸法を計測することが望まれる。しかしながらセパレータフィルムに通常使用されるＰＥＴ（ポリエステル）フィルムは、リタデーション値が大きく、これによりセパレータフィルムを配置した状態では、従来手法である透過光による計測手法では、隣接する帯状領域を識別することが難しく、結局、各部の寸法を計測できない問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１３−１５５６３号公報
【特許文献２】特開２０１３−１５５６４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は、このような実情に鑑みて提案されたものであり、ＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測できるようにすることを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者は、上述した課題を解決するために鋭意検討を重ねた。その結果、斜め入射による反射光により各部の寸法を計測する、との着想により、本発明を完成させた。
【００１１】
具体的に、本発明では、以下のものを提供する。
【００１２】
（１）  透明フィルム材、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層が設けられている光学フィルムの計測方法において、
直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルムに斜め入射すると共に、反射光を直線偏光板を介して入射して前記光学フィルムを撮像することにより、前記第１及び第２の領域でコントラストの異なる撮像結果を取得し、
前記撮像結果を画像処理して前記第１及び第２の領域に係る寸法を計測する光学フィルムの計測方法。
【００１３】
（１）によれば、斜め入射による反射光を使用して撮像結果を取得することにより、光学フィルムにリタデーション値の大きな部材が設けられている場合でも、第１及び第２の領域で充分なコントラスト比を確保して撮像結果を取得することができ、これによりＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測することができる。
【００１４】
（２）  （１）において、
前記直線偏光板の前記光学フィルム側に、１／４波長板が設けられた光学フィルムの計測方法。
【００１５】
（２）によれば、この１／４波長板の調整により一段とコントラスト比の大きな撮像結果を取得することができる。
【００１６】
（３）  （１）又は（２）において、
前記光学フィルムが、パターン位相差フィルムである光学フィルムの計測方法。
【００１７】
（３）によれば、パターン位相差フィルムに適用して、ＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測することができる。
【００１８】
（４）  透明フィルム材、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層が設けられている光学フィルムについて、前記第１及び第２の領域に係る寸法を計測する光学フィルムの計測装置において、
直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルムに斜め入射する光源側の光学系と、
前記計測光の反射光から撮像結果を取得する撮像側の光学系とを備え、
光源側の光学系は、
単色光の計測光を出射する光源と、
前記光源から出射された計測光を直線偏光による計測光に変換する直線偏光板とを備え、
前記撮像側の光学系は、
前記光学フィルムからの反射光を透過する１／４波長板と、
前記１／４波長板の透過光を透過する直線偏光板と、
前記直線偏光板の透過光を受光して撮像結果を出力する撮像装置とを備え、
前記光学フィルムの計測装置は、
前記撮像装置で得られる撮像結果の画像処理により前記寸法の計測結果を取得する光学フィルムの計測装置。
【００１９】
（４）によれば、斜め入射による反射光を使用して撮像結果を取得することにより、光学フィルムにリタデーション値の大きな部材が設けられている場合でも、第１及び第２の領域で充分なコントラスト比を確保して撮像結果を取得することができ、これによりＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測することができる。
【００２０】
（５）  透明フィルム材、又はＰＥＴフィルムを含む積層体に、遅相軸方向が異なる第１及び第２の領域を備えた位相差層が設けられている光学フィルムの製造方法において、
直線偏光、単色光による計測光を前記光学フィルムに斜め入射すると共に、反射光を直線偏光板を介して撮像することにより、前記第１及び第２の領域でコントラストの異なる撮像結果を取得し、
前記撮像結果を画像処理して前記第１及び第２の領域の繰り返しに係る寸法を計測し、
計測結果により前記光学フィルムの製造工程を管理する光学フィルムの製造方法。
【００２１】
（５）によれば、斜め入射による反射光を使用して撮像結果を取得することにより、光学フィルムにリタデーション値の大きな部材が設けられている場合でも、第１及び第２の領域で充分なコントラスト比を確保して撮像結果を取得することができ、これによりＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測することができる。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、ＰＥＴフィルム等を配置した状態でも、各部の寸法を精度良く計測することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。
【図２】図１のパターン位相差フィルムの製造工程を示す図である。
【図３】計測工程の説明に供する図である。
【図４】パターン位相差フィルムの説明に供する図である。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
〔第１実施形態〕
〔画像表示装置〕
図１は、本発明の第１実施形態に係るパターン位相差フィルムを示す図である。この実施形態に係る画像表示装置は、垂直方向（図１においては左右方向）に連続する液晶表示パネルの画素が、順次交互に、右目用の画像を表示する右目用画素、左目用の画像を表示する左目用画素に振り分けられて、それぞれ右目用及び左目用の画像データで駆動される。これにより画像表示装置は、右目用の画像を表示する帯状の領域と、左目用の画像を表示する帯状の領域とに表示画面が交互に区分され、右目用の画像と左目用の画像とを同時に表示する。この画像表示装置は、この液晶表示パネルのパネル面に、この図１に示すパターン位相差フィルム１が配置され、このパターン位相差フィルム１により右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。これによりこの画像表示装置は、パッシブ方式により所望の立体画像を表示する。
【００２５】
〔パターン位相差フィルム〕
パターン位相差フィルム１は、例えばトリアセチルセルロースの透明フィルム材による基材２の片面に配向層３、位相差層４、粘着層５、セパレータフィルム６が順次設けられる。パターン位相差フィルム１は、セパレータフィルム６を剥離することにより粘着層５を露出させて、この粘着層５により画像表示パネルのパネル面に配置される。
【００２６】
パターン位相差フィルム１は、位相差層４が液晶材料により形成され、この液晶材料の配向を配向層３の配向規制力によりパターンニングする。なおこの液晶分子の配向を図１では細長い楕円により示す。このパターンニングにより、パターン位相差フィルム１は、液晶表示パネルにおける画素の割り当てに対応して、一定の幅により、右目用の領域Ａと、左目用の領域Ｂとが順次交互に帯状に形成され、右目用及び左目用の画素からの出射光にそれぞれ対応する位相差を与える。
【００２７】
パターン位相差フィルム１は、光配向材料による光配向材料層が作製された後、いわゆる光配向の手法によりこの光配向材料層に直線偏光による紫外線を照射して配向層３が作製される。ここでこの光配向材料層に照射する紫外線は、その偏光の方向が右目用の領域Ａと左目用の領域Ｂとで９０度異なるように設定される。位相差層４は、この配向層３の配向規制力により液晶材料が配向した状態で固化（硬化）して作製され、これによりパターン位相差フィルム１は、右目用の領域Ａ及び左目用の領域Ｂとで、透過光に対応する位相差を与える。
【００２８】
〔製造工程〕
図２は、このパターン位相差フィルム１の製造工程を示すフローチャートである。パターン位相差フィルム１の製造工程は、ロールに巻き取った長尺透明フィルム材により基材２が提供され、この基材２をロールより送り出して搬送しながら配向層材料層が順次作製される（ステップＳＰ１−ＳＰ２）。ここで配向層材料層は、各種の製造方法を適用することができるものの、この実施の形態では、光配向材料をベンゼン等の溶媒に分散させた塗工液をダイにより塗布した後、乾燥して作製される。なお光配向材料は、光配向の手法を適用可能な各種の材料を適用することができる。
【００２９】
続いてこの製造工程は、露光工程により紫外線を照射して配向層が作製される（ステップＳＰ３）。続いてこの製造工程は、位相差層作製工程（ステップＳＰ４）において、ダイ等により位相差層に係る塗工液を塗工した後、乾燥する。また続いて位相差層の塗工層に紫外線を照射し、これにより配向層３の配向規制力により液晶材料を配向させた状態で固化（硬化）し、位相差層４を作製する。続いてこの製造工程は、粘着層作製工程ＳＰ５において、粘着層５の塗工液を塗工して粘着層５を作製する。また続くセパレータフィルム配置工程ＳＰ６において、セパレータフィルム６を配置する。これによりこの製造工程は、長尺フィルム形状によりパターン位相差フィルムを作製する。
【００３０】
この製造工程は、続く計測工程ＳＰ７において、このようにして作製する長尺フィルム形状によるパターン位相差フィルムをインラインにより搬送しながら寸法を計測する。ここでこの寸法の計測は、画面の上下端に対応する所定本数の帯状領域の幅により定義されるトータルピッチを計測する。この製造工程は、パターン位相差フィルムを搬送しながら一定の時間間隔により計測することにより、この長尺フィルム形状によるパターン位相差フィルムの長手方向に順次トータルピッチを計測する。
【００３１】
この製造工程は、続く切断工程ＳＰ８において、長尺フィルム形状によるパターン位相差フィルムを、対応する画像表示パネルのパネル面に貼り付ける大きさに切断する。この切断の際に、この製造工程は、ステップＳＰ７で計測した計測結果に基づいて、トータルピッチが製品規格に合格する部位を選択してパターン位相差フィルムを切断し、これにより計測結果を工程管理に利用する。なお計測結果の工程管理への利用にあっては、例えば基材搬送時における張力の可変、配向層及び又は位相差層に係る塗工液の乾燥温度の可変等により、トータルピッチの分布中心を可変する場合等、種々の工程管理に広く適用することができる。
【００３２】
〔計測工程〕
図３は、計測工程の説明に供する図である。この計測工程は、計測装置１１によりパターン位相差フィルム１のトータルピッチを計測する。ここで製造工程は、基材２が上側となるように配置した状態で、長尺フィルム形状によるパターン位相差フィルムを下側に配置したガイドローラ１２によりガイドして水平方向に搬送する。ここでこのようにして搬送されるパターン位相差フィルム１は、搬送過程で上下に振動することになり、このような振動は寸法の計測を難しくする。そこでこの製造工程は、この上下方向の振動が抑制されるガイドローラ１２の箇所において、ガイドローラ１２の直上でパターン位相差フィルムの寸法をパターン位相差フィルム１の上方より光学的に計測し、これにより計測精度の劣化を有効に回避して確実にトータルピッチを計測する。
【００３３】
なお寸法の計測は、搬送過程のパターン位相差フィルムをガイドローラで上方より押圧するようにして、下方より光学的に寸法を計測するようにしても良く、上下方向にパターン位相差フィルムを搬送するようにして、側方よりガイドローラで押圧すると共に、押圧方向する側とは逆側より光学的に寸法を計測するようにしてもよい。
【００３４】
計測装置１１は、光源１０から計測用の光である計測光を出射し、この計測光を直線偏光板１３により直線偏光に変換して基材２側からパターン位相差フィルム１に斜め入射する。ここでこの計測光は、単色光であり、これにより光源１０には例えばレーザー光源が適用される。計測装置１１は、この斜め入射に係る直線偏光による計測光の偏光面の向きが、パターン位相差フィルム１における帯状領域Ａ及びＢの遅相軸方向に対して４５度の向きとなるように（帯状領域Ａ及びＢの延長方向又は延長方向と直交する方向である）、直線偏光板１３の向きが設定される。またこの計測光の入射方向が、パターン位相差フィルム１の上方より見て、パターン位相差フィルム１を横切る方向（帯状領域の繰り返し方向）となるように設定される。
【００３５】
このように帯状領域Ａ及びＢの遅相軸方向に対して４５度の角度を成す直線偏光により斜め入射する計測光は、パターン位相差フィルム１の表面、パターン位相差フィルムを構成する各構成部材の境界面、ガイドローラ１２の表面等で反射して出射されることになる。これらの各境界面等における反射光のうち、位相差層４の粘着層５側面での反射について着目すると、計測光がパターン位相差フィルム１の表面に垂直に入射する場合（入射角θ１＝０の場合）、計測光は、位相差層４において、帯状領域Ａ及びＢでそれぞれ＋１／４波長、−１／４波長の位相差が付与されることにより、向きの異なる円偏光に変換されて粘着層５側界面で反射し、この反射の際に円偏光に係る向きが反転することになる。またこの反転した円偏光による反射光は、位相差層４による位相差により帯状領域Ａ及びＢで偏光面が同一方向である直線偏光に変換されて出射されることになる。これによりこのようにして垂直入射する入射光の反射光によっては、領域Ａ及びＢを識別することができず、トータルピッチは計測できないことになる。
【００３６】
しかしながらこの実施形態のように計測光を斜め入射する場合、入射光は、位相差層４において１／４波長とは異なる位相差が付与されることにより、帯状領域Ａ及びＢで、帯状領域の延長方向に対して長軸方向が対称である楕円偏光により粘着層５側界面に到達し、ここでこの楕円偏光に係る回転方向が反転することになる。またこのようにして反転した楕円偏光による反射光は、位相差層４において１／４波長とは異なる位相差が付与され、その結果、反射光は、帯状領域Ａ及びＢで長軸方向が異なる楕円偏光により出射されることになる。これによりこのように斜め入射光によれば、反射光において、帯状領域Ａ及びＢを識別可能となる。
【００３７】
またこのようにして位相差層４の粘着層５側面で反射する反射光については、セパレータフィルム６を透過していないことにより、透過光により寸法を計測する場合のように、セパレータフィルム６におけるリタデーション値の影響を受けることなく、寸法の計測に供することができる。
【００３８】
そこでこの計測装置１１では、パターン位相差フィルム１で正反射して出射される出射光（出射各θ２＝入射角θ１の反射光である）について、当該反射光の光路上に、１／４波長板１４、直線偏光板１５、撮像装置１６が順次配置される。ここで１／４波長板１４、直線偏光板１５は、帯状領域Ａ及びＢで最もコントラスト比を確保できるように、向きが調整される。なおこのコントラスト比の調整にあっては、実用上充分にコンラスト比を確保できる場合、１／４波長板１４を省略するようにしてもよい。これにより計測装置１１では、撮像装置１６により、帯状領域Ａ及びＢをそれぞれハイライト及びローライトにより撮影した撮像結果、又はこれとは逆に帯状領域Ａ及びＢをそれぞれローライト及びハイライトにより撮影した撮像結果を得ることができ、この撮像結果におけるコントラスト差により領域Ａ及びＢを識別して、トータルピッチを計測することができる。
【００３９】
すなわち計測装置１１は、この撮像装置１６の撮像結果を計測に供する時間間隔でコンピュータ１７取り込む。コンピュータ１７は、この取り込んだ撮像結果の画像処理によりトータルピッチを計測する。より具体的に、コンピュータ１７は、例えば撮像結果より輪郭抽出して帯状領域Ａ及びＢの境界を検出し、この境界を、帯状領域Ａ及びＢを横切る方向にトータルピッチに対応する本数だけ計測して撮像結果上におけるトータルピッチを計測し、この撮像結果上の計測結果を撮像結果に係る倍率より乗算してトータルピッチを算出する。
【００４０】
ところで斜め入射の計測光は、パターン位相差フィルム１の基材２と配向層３との界面、配向層３と位相差層４との界面、粘着層５とセパレータフィルム６との界面、セパレータフィルムとガイドローラ１２との界面でも反射し、これらの反射光も撮像装置１６に入射することになる。このような界面による反射光は、帯状領域Ａ及びＢのコントラスト比を低減することになり、パターン位相差フィルム１の寸法計測精度を低下させることになり、著しい場合には、計測自体困難となる。
【００４１】
ここで計測光の入射角θ１が小さい場合には、セパレータフィルム６の界面（ガイドローラの表面）で反射する反射光の光量が大きいことにより、撮像結果における帯状領域Ａ及びＢのコントラスト比が著しく低下し、入射角θ１が大きくなるに従って撮像結果における帯状領域Ａ及びＢのコントラスト比が大きくなることが判った。
【００４２】
しかしながら計測光の入射角θ１が大きくなるに従って撮像装置１６で取得される撮像結果で輪郭がぼやけるようになり、撮像結果の処理において、輪郭抽出が困難になる。種々に検討した結果によれば、入射角θ１を３０度以上５０度以下に設定して、より好ましくは入射角θ１を３０度以上４０度以下に設定して、確実に寸法を計測することができる。
【００４３】
これによりこの実施形態において、光源１０、直線偏光板１３は、直線偏光、単色光による計測光を計測対象の光学フィルムであるパターン位相差フィルム１に斜め入射する光源側の光学系を構成する。また１／４波長板１４、直線偏光板１５、撮像装置１６は、計測光の反射光から撮像結果を取得する撮像側の光学系とを構成する。
【００４４】
〔他の実施形態〕
以上、本発明の実施に好適な具体的な構成を詳述したが、本発明は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で、上述の実施形態の構成を種々に変更することができる。
【００４５】
すなわち上述の実施形態では、光配向層により配向層を作製する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ラビング処理により配向層を作製する場合、微細なライン状凹凸形状を賦型処理により転写して配向層を作製する場合等に広く適用することができる。また光配向機能を有する光配向性液晶ポリマーにより位相差層を作製して、配向層を省略するようにしてもよい。
【００４６】
また上述の実施形態では、トータルピッチを計測する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、帯状領域Ａ、Ｂの幅を計測する場合、帯状領域Ａ、Ｂの境界の位置、蛇行を計測する場合等、領域Ａ、Ｂに係る寸法の計測に広く適用することができる。
【００４７】
また上述の実施形態では、遅相軸方向の異なる第１及び第２の領域である領域Ａ、Ｂが繰り返されてなるパターン位相差フィルムについて、寸法を計測する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、要は、遅相軸方向の異なる第１及び第２の領域を備えている位相差層による光学フィルムについて、この第１及び第２の領域に係る寸法を計測する場合に広く適用することができる。
【００４８】
また上述の実施形態では、基材の上に、配向層、位相差層、粘着層、セパレータフィルムを順次配置する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、基材の一方の面に配向層、位相差層を設け、基材の他方の面に、粘着層、セパレータフィルムを配置する場合にも広く適用することができる。なおこの場合、位相差層側より計測光を入射して反射光により寸法を計測することになる。
【００４９】
また上述の実施形態では、透明フィルムによる基材に位相差層が設けられてなる光学フィルムに本発明を適用する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、ＰＥＴフィルムを含む積層体に位相差層が設けられている光学フィルムを計測する場合に広く適用することができる。
【００５０】
また上述の実施形態では、インラインにより寸法を計測する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、別途、検査用の検査片を取得して計測する場合等にも広く適用することができる。
【００５１】
また上述の実施形態では、パターン位相差フィルムに適用して帯状領域Ａ、Ｂに係る寸法を計測する場合について述べたが、本発明はこれに限らず、帯状領域に代えて矩形形状に形成された領域Ａ、Ｂによる光学フィルムに適用して、この矩形系形状による領域Ａ、Ｂに係る寸法を計測する場合等に広く適用することができる。
【符号の説明】
【００５２】
１  パターン位相差フィルム
２  基材
３  配向層
４  位相差層
７  パターン位相差フィルム原反
１０  光源
１１  計測装置
１２  ガイドロール
１３、１５  直線偏光板
１４  １／４波長板
１６  撮像装置
１７  コンピュータ
【図１】
2016148779.tif 000003
【図２】
2016148779.tif 000004
【図３】
2016148779.tif 000005
【図４】
2016148779.tif 000006