(57)【要約】【課題】光学機能層に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層が劣化するのを抑制でき且つバックライト内部に使用したときにするバックライトの厚みを薄くすることができる積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】光学機能層４の片面に、バリア層５と該バリア層５を支持する支持体１とからなるガスバリアフィルム６を積層してなる積層フィルム８であって、ガスバリアフィルム６と光学機能層４とについて、支持体１とバリア層５との密着力が光学機能層４とバリア層５との密着力よりも小さく、且つ支持体１とバリア層５との密着力が剥離可能な密着力である密着力条件を満足する。【選択図】図１
2016068389.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学機能層の両面の一方面に、バリア層と該バリア層を支持する支持体とからなるガスバリアフィルムを積層してなる積層フィルムにおいて、
前記ガスバリアフィルムと前記光学機能層とについて、前記支持体と前記バリア層との密着力が前記光学機能層と前記バリア層との密着力よりも小さく、且つ前記支持体と前記バリア層との密着力が剥離可能な密着力である密着力条件を満足する積層フィルム。
【請求項２】
前記光学機能層の他方面にも前記ガスバリアフィルムが積層され、前記他方面のガスバリアフィルムと前記光学機能層とについて、前記一方面のガスバリアフィルムと同じ密着力条件を満足する請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
前記光学機能層の他方面にも前記ガスバリアフィルムが積層され、前記他方面のガスバリアフィルムと前記光学機能層とについて、前記一方面のガスバリアフィルムと異なる密着力条件であって、前記支持体と前記バリア層との密着力が剥離不能な密着力である請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記剥離可能な密着力は、０．２Ｎ以上１．０Ｎ以下である請求項１から３の何れか１項に記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記光学機能層に量子ドット又は量子ロッドの少なくとも一方を含有している請求項１から４の何れか１項に記載の積層フィルム。
【請求項６】
前記バリア層は無機層と有機層とで構成され、前記有機層が前記支持体側に配置され、前記無機層が前記光学機能層側に配置される請求項１から５の何れか１項に記載の積層フィルム。
【請求項７】
前記密着力条件は、前記支持体の材料選択、前記支持体への密着力低下処理、前記バリア層の組成調整の少なくとも１つによって達成されている請求項６に記載の積層フィルム。
【請求項８】
請求項１から７の何れか１項の積層フィルムを用いたバックライトユニットであって、
光源と、
前記積層フィルムから支持体を剥離した支持体なし積層フィルムと、を少なくとも含むバックライトユニット。
【請求項９】
請求項８のバックライトユニットと、
液晶セルと、を少なくとも含む液晶表示装置。
【請求項１０】
支持体上にバリア層を支持したガスバリアフィルムを形成するガスバリアフィルム形成工程と、
前記形成したガスバリアフィルム上に紫外線硬化性又は熱硬化性の光学機能層を形成して前記光学機能層の片面に前記ガスバリアフィルムを積層する光学機能層形成工程と、
前記光学機能層を硬化する硬化工程と、を備え、
前記ガスバリアフィルム形成工程では、前記支持体の材料選択、前記支持体への密着力低下処理、前記バリア層の組成調整の少なくとも１つを行うことによって、前記支持体と前記バリア層との密着力が前記光学機能層と前記バリア層との密着力よりも小さく、且つ前記支持体と前記バリア層との密着力が剥離可能な密着力となる密着力条件を満足させる密着力調整工程を、さらに有する積層フィルムの製造方法。
【請求項１１】
支持体上にバリア層を支持した２枚のガスバリアフィルムを形成するガスバリアフィルム形成工程と、
前記形成した２枚のガスバリアフィルムうちの一方のガスバリアフィルム上に紫外線硬化性又は熱硬化性の光学機能層を形成する光学機能層形成工程と、
前記光学機能層の前記一方のガスバリアフィルムの反対側面に他方のガスバリアフィルムをラミネートして前記光学機能層の両面に前記ガスバリアフィルムを積層するバリアフィルムラミネート工程と、
前記光学機能層を硬化する硬化工程と、を備え、
前記ガスバリアフィルム形成工程では、前記光学機能層の両面のうちの少なくとも一方の面の前記ガスバリアフィルムと前記光学機能層とについて、前記支持体の材料選択、前記支持体への密着力低下処理、前記バリア層の組成調整の少なくとも１つを行うことによって、前記支持体と前記バリア層との密着力が前記光学機能層と前記バリア層との密着力よりも小さく、且つ前記支持体と前記バリア層との密着力が剥離可能な密着力となる密着力条件を満足させる密着力調整工程を、さらに有する積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）（以下、ＬＣＤともいう）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。
【０００３】
フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｄｏｔ、ＱＤ粒子、量子点とも呼ばれる。）が注目を集めている。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のＴＶ（ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）規格（ＦＨＤ、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ））比７２％から１００％へと拡大している。
【０００４】
しかしながら、ＱＤ粒子は、酸素や水蒸気により量子収率の劣化が起こるため、バリア性のフィルムで保護して使用する必要がある。
【０００５】
特許文献１には、量子ドットを酸素等から保護するために、量子ドット含有層の両面を酸素バリア性や水蒸気バリア性の高いガスバリアフィルムで挟み込んで積層して積層フィルムにすることが提案されている。
【０００６】
量子ドット含有層をガスバリアフィルムで挟み込む方法として、ガスバリアフィルムに量子ドット含有層を塗布硬化して作製したフィルムに、粘着剤などを介してもう一枚のガスバリアフィルムを貼り付ける。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特表２０１３−５４４０１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、量子ドット含有層の両面をガスバリアフィルムで挟むため、積層フィルムの厚みが増してしまい、特に、薄い厚みが要求されるモバイル用途の液晶表示装置には向かないという問題がある。この問題の対策として、ガスバリアフィルムの厚みをできる限り薄くすることが考えられる。
【０００９】
しかし、ガスバリアフィルムや量子ドット含有層の構造上、薄いガスバリアフィルムは
皺が生じ易いという別の問題が発生する。皺を生じさせないでガスバリアフィルムの厚みを薄くするには、積層フィルムの総厚みで１００μｍ（ガスバリアフィルム２５μｍが２枚で５０μｍ、量子ドット含有層が５０μｍ）が限界と考えられている。
【００１０】
しかし、特に薄い厚みが要求されるモバイル用途の液晶表示装置には、積層フィルムの総厚みが１００μｍであっても未だ十分とは言えず、さらなる薄膜化が要望されている。
【００１１】
積層フィルムの厚みの問題は、光学機能層が量子ドット含有層である積層フィルムに限らず、量子ドット含有層以外の光学機能層にガスバリアフィルムを積層した積層フィルムについても同様である。
【００１２】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、光学機能層に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層が劣化するのを抑制でき且つバックライト内部に使用したときにするバックライトの厚みを薄くすることができるので、特にモバイル用途の液晶表示装置に好適な積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
上述の目的を達成するために、本発明に係る積層フィルムは、光学機能層の両面の一方面に、バリア層と該バリア層を支持する支持体とからなるガスバリアフィルムを積層してなる積層フィルムにおいて、ガスバリアフィルムと光学機能層とについて、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも小さく、且つ支持体とバリア層との密着力が剥離可能な密着力である密着力条件を満足する。
【００１４】
本発明の積層フィルムによれば、光学機能層の片面に、ガスバリアフィルムを積層したので、光学機能層に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層が劣化するのを抑制できる。しかも、本発明では、ガスバリアフィルムと光学機能層とについて、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも小さく、且つ支持体とバリア層との密着力が剥離可能な密着力である密着力条件を満足するので、積層フィルムから支持体を剥離してバックライトユニットの内部に使用することができる。これにより、支持体を剥離した分、バックライトユニットの厚みを薄くすることができるので、特に、薄い厚みが要求されるモバイル用途の液晶表示装置に好適な積層フィルムを提供できる。
【００１５】
上述の支持体とバリア層との密着力は、光学機能層とバリア層との密着力よりも０．４Ｎ以上小さいことが望ましい。０．４Ｎ未満では、剥離を意図しない側の、光学機能層とバリア層との剥離を生じる恐れがある。
【００１６】
本発明の積層フィルムは、光学機能層の他方面にもガスバリアフィルムが積層され、他方面のガスバリアフィルムと光学機能層とについて、一方面のガスバリアフィルムと同じ密着力条件を満足することが好ましい。
【００１７】
これにより、光学機能層の両面に積層した２枚のガスバリアフィルムの両方から支持体を剥離することができ、積層フィルムの厚みを支持体２枚分薄くすることができる。
【００１８】
本発明の積層フィルムは、光学機能層の他方面にもガスバリアフィルムが積層され、他方面のガスバリアフィルムと光学機能層とについて、一方面のガスバリアフィルムと異なる密着力条件であって、支持体とバリア層との密着力が剥離不能な密着力であることが好ましい。
【００１９】
これにより、剥離を意図しない側の支持体が剥離されるのを防止できるので、光学機能
層の両面に積層した２枚のガスバリアフィルムの片面のみから支持体を剥離し、反対側面の支持体は剥離させないようにできる。
【００２０】
本発明の積層フィルムは、剥離可能な密着力は、０．２Ｎ以上１．０Ｎ以下であることが好ましい。
【００２１】
密着力が１．０Ｎを超えると、剥離時にバリア層や光学機能層の性能を破損し易くなり、密着力が０．２Ｎ未満では、積層フィルムの製造工程やハンドリング等での剥がれのように剥離を意図しないときに剥離する恐れがある。
【００２２】
本発明の積層フィルムは、光学機能層は量子ドットおよび量子ロッドの少なくとも一方を含有していることが好ましい。
【００２３】
光学機能層に量子ドット又は量子ロッドの少なくとも一方を含有しているので、波長変換部材として用いることができ、輝度ムラ、色度ムラを改善できる。
【００２４】
本発明の積層フィルムは、バリア層は無機層と有機層とで構成され、有機層が支持体側に配置され、無機層が光学機能層側に配置されることが好ましい。
【００２５】
有機層は、塗布液として支持体に塗布できるので、一般的に、成膜材料を蒸発ないし飛散させて形成する無機層よりも上記密着力条件を形成し易いからである。
【００２６】
本発明の積層フィルムにおいて、密着力条件は、支持体の材料選択、支持体への密着力低下処理、バリア層の組成調整の少なくとも１つによって達成されていることが好ましい。
【００２７】
上述の目的を達成するために、本発明に係るバックライトユニットは、上記の何れか１の積層フィルムを用いたバックライトユニットであって、光源と、積層フィルムから支持体を剥離した支持体なし積層フィルムと、を少なくとも含む。
【００２８】
本発明によれば、バックライトユニットの厚みを薄くすることができる。
【００２９】
上述の目的を達成するために、本発明に係る液晶表示装置は、上記のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む。
【００３０】
本発明によれば、液晶表示装置の厚みを薄くすることができる。
【００３１】
上述の目的を達成するために、本発明に係る積層フィルムの製造方法は、支持体上にバリア層を支持したガスバリアフィルムを形成するガスバリアフィルム形成工程と、形成したガスバリアフィルム上に紫外線硬化性又は熱硬化性の光学機能層を形成して光学機能層の片面にガスバリアフィルムを積層する光学機能層形成工程と、光学機能層を硬化する硬化工程と、を備え、ガスバリアフィルム形成工程では、支持体の材料選択、支持体への密着力低下処理、バリア層の組成調整の少なくとも１つを行うことによって、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも小さく、且つ支持体とバリア層との密着力が剥離可能な密着力となる密着力条件を満足させる密着力調整工程を、さらに有する。
【００３２】
また、上述の目的を達成するために、本発明に係る積層フィルムの製造方法は、支持体上にバリア層を支持した２枚のガスバリアフィルムを形成するガスバリアフィルム形成工程と、形成した２枚のガスバリアフィルムうちの一方のガスバリアフィルム上に紫外線硬
化性又は熱硬化性の光学機能層を形成する光学機能層形成工程と、光学機能層の一方のガスバリアフィルムの反対側面に他方のガスバリアフィルムをラミネートして光学機能層の両面にガスバリアフィルムを積層するバリアフィルムラミネート工程と、光学機能層を硬化する硬化工程と、を備え、ガスバリアフィルム形成工程では、光学機能層の両面のうちの少なくとも一方の面のガスバリアフィルムと光学機能層とについて、支持体の材料選択、支持体への密着力低下処理、バリア層の組成調整の少なくとも１つを行うことによって、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも小さく、且つ支持体とバリア層との密着力が剥離可能な密着力となる密着力条件を満足させる密着力調整工程を、さらに有する。
【００３３】
本発明の製造方法によって製造された積層フィルムは、光学機能層に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層が劣化するのを抑制でき且つバックライト内部に使用したときにするバックライトユニットの厚みを薄くすることができる。
【発明の効果】
【００３４】
本発明によれば、光学機能層に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層が劣化するのを抑制でき且つバックライト内部に使用したときに、バックライトの厚みを薄くすることができる。したがって、特に、薄い厚みが要求されるモバイル用途の液晶表示装置に好適である。
【図面の簡単な説明】
【００３５】
【図１】積層フィルムの構成を示す断面図
【図２】有機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図
【図３】無機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図
【図４】積層フィルムの形成に用いられる製造設備の一例の概略図
【図５】積層フィルムを含むバックライトユニットの一例を説明する図
【図６】液晶表示装置の一例を説明する図
【図７】実施例２の表図
【発明を実施するための形態】
【００３６】
以下、添付図面に従って、本発明に係る積層フィルム、該積層フィルムを含むバックライトユニット、該バックライトユニットを含む液晶表示装置、および積層フィルムの製造方法について説明する。なお、本明細書において、「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００３７】
［積層フィルム］
図１（ａ）は、本発明の積層フィルムの構成を示す断面図であり、光学機能層の片面に、バリア層と該バリア層を支持する支持体とからなるガスバリアフィルムを積層した場合である。
【００３８】
図１（ａ）の積層フィルム８は、有機層２および無機層３からなるバリア層５を支持体１で支持したガスバリアフィルム６が、光学機能層４の片面に設けられる。この場合、バリア層５が１層の有機層２と１層の無機層３とで構成された場合には、支持体１と有機層２とが接面し、光学機能層４と無機層３とが接面するように設けられる。また、バリア層５が複数の有機層２と複数の無機層３とからなる場合には、支持体１と有機層２とが接面していれば、光学機能層４と無機層３とが接面することに限定されない。
【００３９】
図１（ａ）は、光学機能層４の下側面にガスバリアフィルム６を設けた場合であるが、上側面に設けてもよい。この積層フィルム８は、支持体１とバリア層５との密着力をＡ（Ｎ）、光学機能層４とバリア層５との密着力をＢ（Ｎ）としたときに、Ａ＜Ｂの関係であ
り、且つ支持体１とバリア層５との密着力Ａが剥離可能な密着力である密着力条件を満足する。
【００４０】
これにより、光学機能層４にガスバリアフィルム６を設けたので、積層フィルム８の光学機能層４に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層４が劣化するのを抑制できる。
【００４１】
さらに、ガスバリアフィルム６と光学機能層４とについて上記の密着力条件を満足するようにしたので、積層フィルム８を後記するバックライトユニット内部に使用するときには、積層フィルム８から支持体１を剥がして使用することができる。これにより、バックライトユニットの厚みを薄くすることができる。したがって、特に薄い厚みが要求されるモバイル用途の液晶表示装置のバックライトユニットに好適である。
【００４２】
図１（ｂ）は、本発明の積層フィルムの別態様の構成を示す断面図であり、光学機能層の両面に、バリア層と該バリア層を支持する支持体とからなるガスバリアフィルムを積層してなる場合である。
【００４３】
図１（ｂ）の積層フィルム８は、有機層２および無機層３からなるバリア層５を支持体１で支持したガスバリアフィルム６が、光学機能層４を挟んで両面に設けられる。
【００４４】
このように、光学機能層４の両面にガスバリアフィルム６を設けることで、ガスバリアフィルム６を片面に設ける場合よりも光学機能層４に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層４が劣化するのを一層確実に抑制できる。
【００４５】
また、積層フィルム８をバックライトユニット内部に使用するときには、積層フィルム８から支持体１を剥がして使用することができるので、図１（ａ）の場合と同様にバックライトユニットの厚みを薄くすることができる。
【００４６】
また、光学機能層４の両面のガスバリアフィルム６を設ける場合には、２つの態様がある。一つの態様は、光学機能層４の両面のガスバリアフィルム６が上記の密着力条件を満足する場合である。もう一つの態様は、光学機能層４の一方面のガスバリアフィルム６が密着力条件を満足し、他方面のガスバリアフィルム６が密着力条件を満足せず、支持体１とバリア層５とが剥離不能な密着力である場合である。
【００４７】
したがって、両面のうちの片面のみの支持体１を剥離したい場合には、剥離を意図しない側の支持体１が積層フィルム８から剥離されることを防止できる。
【００４８】
ここで、支持体１とバリア層５との剥離可能な密着力Ａとは、バリア層５や光学機能層４の性能を破損することのない小さな剥離力で支持体１を積層フィルム８から剥離できる密着力を言い、具体的には０．２Ｎ以上１．０Ｎ以下の範囲が好ましい。０．２Ｎ以上０．８Ｎ以下の範囲が更に好ましい。
【００４９】
密着力が１．０Ｎを超えると、支持体１の剥離時にバリア層５や光学機能層４の性能を破損し易くなり、密着力が０．２Ｎ未満では、積層フィルム８の製造工程やハンドリング等での支持体１の剥がれのように剥離を意図しないときに支持体１が剥離する恐れがある。
【００５０】
また、支持体１とバリア層５とが剥離不能な密着力とは、積層フィルム８から支持体１を剥離すると、バリア層５や光学機能層４の性能を破損する恐れがある程度に支持体１とバリア層５とが強く密着されていることを言う。具体的には、密着力が１．０Ｎ超える数値であり、好ましくは１．５Ｎ以上であることが好ましい。
【００５１】
密着力測定方法は、積層フィルム８から１インチ幅に切りだした試験片について、引張り試験機を用いて試験片から支持体１を剥離するのに要する剥離力として測定することができる。例えば、ＡＳＴＭ規格（米国試験材料協会が策定・発行する規格）のＤ１８７６を使用することができる。
【００５２】
また、上記の密着力条件は、以下の方法によって達成することができる。
【００５３】
（１）支持体の材料選択…一般に支持体材料として使用されるプラスチックフィルムは、難密着性（難接着性ともいう）である場合が多い。例えば、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）、ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）、ポリプロピレンやポリエチレン等のポリオレフィン系プラステックは密着力が小さい。したがって、支持体１として、これらの支持体材料を選択することができ、しかも支持体１のバリア層５と接面する面側には、易接着層の下塗り、易接着処理（コロナ処理、ブラスト処理、プラズマ処理、プライマー処理等）等を行なわないで使用する。
【００５４】
ここで、易接着層としては、ウレタン・プロエステルのポリマー、支持体１の延伸前にトルエン等で溶解塗布（支持体１の表面を溶解させる塗布）して支持体１に浸透させることで支持体面に易接着層を形成する方法がある。
【００５５】
（２）また、支持体の材料選択のみでは、支持体１とバリア層５とが剥離可能な密着力（１Ｎ以下）にならない場合には、支持体１への密着力低下処理を行うことができる。密着力低下処理としては、例えば支持体１のバリア層５と接面する側への離型剤のコーティング（例えばシリコーン系離型剤）、帯電防止剤のコーティング等を挙げることができる。
【００５６】
（３）また、バリア層５を、支持体側に接面する有機層２と、光学機能層４側に接面する無機層３とで構成する場合には、支持体１に面接する有機層２の組成を密着力が小さくなるように調整する有機層組成調整を行うことができる。有機層組成調整としては、例えば、有機層のベースとなる樹脂として密着力の小さい樹脂の選択がある。有機層２の樹脂材料として、分子量が２０００未満の３官能以上のアクリル（またはメタクリル）モノマーを主として用い、ラジカル重合にて硬化させることで、有機層２が硬質化するので、支持体１に対する有機層２の密着力を小さくできる。
【００５７】
また、有機層形成塗布液の溶剤に、ＭＥＫ（メチルエチルケトン）、アセトン、ＭＩＢＫ（メチルイソブチルケトン）等で希釈して塗布し、アルカリングさせないことにより、有機層の密着力を低下することができる。
【００５８】
また、積層フィルムの光学特性が問題にならない範囲で有機層内にフィラー（例えば微粒子）を含有する方法等がある。
【００５９】
（４）一方、光学機能層４と接面するバリア層５側の面に易接着層を下塗りした後で光学機能層４を塗設することで光学機能層４とバリア層５との密着力を大きくできる。易接着層としては、スチレン・ブタジエン系ラテックス、塩化ビニリデンラテックス、自己乳化性イソシアネート化合物および水性ポリウレタンとの併用などの公知の易接着層を用いることができる。
【００６０】
また、光学機能層４に多官能モノマーを含有させたり、シランカップリング剤を含有させたりすることで、光学機能層４とバリア層５との密着力を大きくできる。
【００６１】
このように、光学機能層４とバリア層５との密着力を大きくすることで、支持体１とバリア層５との密着力をＡ（Ｎ）、光学機能層４とバリア層５との密着力をＢ（Ｎ）としたときに、Ａ＜Ｂの関係を形成し易くなる。
【００６２】
（光学機能層）
光学機能層は、波長変換層、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層、防眩性反射抑制層、中間層、ハードコート層などの層を意味する。本実施形態において、光学機能層は、特に、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドット、および、量子ロッドの少なくともいずれか一方を含む波長変換層として用いることが好ましい。
【００６３】
光学機能層を波長変換層として用いる場合、光学機能層は、量子ドットまたは量子ロッド、硬化性化合物、チキソトロピー剤、重合開始剤、および、シランカップリング剤などを含んで形成される。光学機能層は、これら各成分を混合し、光学機能層形成用塗布液（以下、「塗布液」ともいう）を調製し、ガスバリアフィルムに塗布液を塗布し、光照射により形成する。
【００６４】
＜量子ドット、量子ロッド＞
量子ドットは、数ｎｍ〜数十ｎｍの大きさをもつ化合物半導体の微粒子であり、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
【００６５】
本実施形態の光学機能層に含まれる量子ドットとしては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む光学機能層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、光学機能層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む光学機能層を有する積層フィルムに励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
【００６６】
量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。
【００６７】
量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。ただし、塗布液が、実質揮発性の有機溶媒を含有しないことが好ましい。そのため、量子ドットを溶媒に分散した分散液の状態で塗布液に添加した場合は、塗布液をガスバリアフィルム上に塗布して光学機能層を形成する前に、塗布液の溶媒を乾燥させる工程を含むことが好ましい。溶媒を乾燥させる工程を減らす観点からは、量子ドットを、塗布液に粒子の状態で添加することも好ましい。
【００６８】
なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が１６０℃以下の、塗布液中の硬化性化合物と外部
刺激により硬化しない化合物であり、２０℃で液状の化合物のことを言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、１６０℃以下であり、１１５℃以下が更に好ましく、最も好ましくは３０℃以上１００℃以下である。
【００６９】
塗布液が実質揮発性の有機溶媒を含有しない場合、塗布液中、揮発性の有機溶媒の割合が１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
【００７０】
量子ドットは、塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。
【００７１】
また、量子ドットに代えて量子ロッドを用いることができる。量子ロッドは、細長い形状の棒状粒子であり、量子ドットと同様の性質を有する。量子ロッドの添加量、塗布液への添加方法などについては、量子ドットと同じ量、同様の方法により行うことができる。また、量子ドットと量子ロッドを組み合わせて用いることもできる。
【００７２】
＜硬化性化合物＞
本実施形態で用いられる硬化性化合物は、重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていても良い。
【００７３】
−（メタ）アクリレート系−
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明および本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
【００７４】
−−２官能のもの−−
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００７５】
特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。
【００７６】
２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。
【００７７】
−−３官能以上のもの−−
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以
上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００７８】
具体的には、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。
【００７９】
これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。
【００８０】
多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の光学機能層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。
【００８１】
−−単官能のもの−−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。
【００８２】
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、
オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリルアミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げられる。
【００８３】
単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。
【００８４】
−エポキシ系化合物他−
本実施形態で用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。
【００８５】
エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。
【００８６】
その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビ
スフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。
【００８７】
これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。
【００８８】
エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル（株）製）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、旭電化工業（株）製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
【００８９】
また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ、２１３〜、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ  Ａｌｆｒｅｄ  Ｈａｓｆｎｅｒ，Ｔｈｅ  ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＯＦ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ  Ｒｉｎｇ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ  ｐａｒｔ３  Ｏｘｉｒａｎｅｓ，Ｊｏｈｎ  ＆  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ, Ａｎ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，
１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。
【００９０】
本実施形態で用いる硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。
【００９１】
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。
【００９２】
これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Ｓｔｅｐｈｅｎ．Ｃ．Ｌａｐｉｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  Ｐａｉｎｔ  Ｃｏｌｏｕｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ．１７９（４２３７）、３２１（１９８８）に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビ
ニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９３】
本実施形態の塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。
【００９４】
＜チキソトロピー剤＞
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。
【００９５】
−無機物−
チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機物のチキソトロピー剤であり、たとえば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。
【００９６】
層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。
【００９７】
これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、白石工業（株）製）、カオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、土屋カオリン工業（株）製）、ＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、エンジェルハード（株）製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、丸尾カルシウム（株）製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）、スメクトン（クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、ホージュン（株）製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、日本シリカ工業（株）製）などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。
【００９８】
塗布液に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）２Ｏ・ｙＳｉＯ２で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（ＩＩ）Ｏ、Ｍ（ＩＩＩ）２Ｏ３に相当するものもある。ｘ、ｙは正の数を表す）であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。
【００９９】
特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物（珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの）が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。
【０１００】
アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオン
は単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【０１０１】
珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％〜２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。
【０１０２】
アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ−３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１０３】
本実施形態においては、無機物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。
【０１０４】
−有機物−
チキソトロピー剤は、有機物のチキソトロピー剤を用いることができる。
【０１０５】
有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。
【０１０６】
前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００−２０（商品名、楠本化成（株）製）、フローノンＳＡ３００（商品名、共栄社化学（株）製）等があげられる。
【０１０７】
前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。
【０１０８】
−含有量−
チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜８質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量以下であると、脆性が良化方向にある。
【０１０９】
＜重合開始剤＞
上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００３７を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量％として、０．１質量％〜１０質量％含むことが好ましく、更に好ましくは０．２質量％〜８質量％である。
【０１１０】
＜シランカップリング剤＞
シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐久性を示すことができ
る。また、シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、上記密着力条件のＡ＜Ｂの関係を形成する上でも好ましい。これは主に、光学機能層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光学機能層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光学機能層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光学機能層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。
【０１１１】
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。
【０１１２】
一般式（１）
【０１１３】
【化１】
2016068389.tif 000003
【０１１４】
（一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ１〜Ｒ６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）
Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒ１〜Ｒ６は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ１〜Ｒ６は、メチル基が特に好ましい。
【０１１５】
Ｒ１〜Ｒ６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ１〜Ｒ６の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ１〜Ｒ３の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ４〜Ｒ６のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。
【０１１６】
一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。
【０１１７】
ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【０１１８】
また、Ｒ１〜Ｒ６はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を
有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。
【０１１９】
シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。
【０１２０】
本実施形態においては、塗布液中には、前述の揮発性有機溶媒を用いることができる。好ましい態様は、塗布液が実質揮発性の有機溶媒を含有しない態様である。また別の態様としては、揮発性の有機溶剤を塗布液中に含ませることが可能であり、例えば１０質量％以上５０質量％以下含むことが可能であり、１０質量％以上４０質量％含有することも可能である。用いることの出来る溶媒の具体例は、特開２０１３−１０５１６０号公報段落００３８〜００４１を参照できる。
【０１２１】
（バリア層）
本実施形態の積層フィルム８においては、光学機能層４の少なくとも片面に、バリア層５と、該バリア層５を支持する支持体１からなるガスバリアフィルム６が積層されている。図１は、少なくとも、支持体１、有機層２、無機層３と、を含んで形成されているバリア層５を示しているが本発明はこれに限定されない。バリア層５は、図１（ａ）に示すように、光学機能層４の片面に形成されていてもよく、図１（ｂ）に示すように両面に形成されていてもよい。バリア層５が光学機能層４の両面に形成されている場合、少なくとも片面のバリア層５の支持体１が、可撓性の支持体であることが好ましい。
【０１２２】
バリア層５は少なくとも無機層を含んでいればよく、可撓性の支持体１上に少なくとも無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリア層５は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
【０１２３】
バリア層５の酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．０１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．００１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、３８０〜７８０ｎｍの波長帯域をいうものとし、全光線透過率とは、光学機能層の光吸収および反射の寄与を除いた光透過率の平均値を示す。
【０１２４】
可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは９０％以上である。酸素透過率は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。
【０１２５】
−可撓性の支持体−
バリア層５は、強度向上、成膜の容易性等のため、可撓性の支持体１を有する。
【０１２６】
図１においては、ガスバリアフィルム６は、無機層３、有機層２、および支持体１の順に形成されている。ガスバリアフィルム６は、これに限定されず、無機層３、および支持体１の順となるように形成されていてもよい。
【０１２７】
可撓性の支持体１としては、可視光に対して透明である透明支持体であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。支持体１については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。支持体１の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、１０〜５００μｍの範囲内、中でも１５〜３００μｍの範囲内、特に１５〜１２０μｍの範囲内、より特に１５〜１００μｍの範囲内、更には２５〜１１０μｍ、より更には２５〜６０μｍであることが好ましい。可撓性の支持体１として、市販品を用いてもよく、例えば易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである東洋紡（株）製  コスモシャインＡ４１００などを用いることができる。ただし、支持体１とバリア層５との間には、上記の密着力条件を満足する必要があり、その場合には易接着層が下塗りされていない側の面をバリア層５側の面として使用することができる。
【０１２８】
−無機層−
無機層３とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。
【０１２９】
無機層３は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層３の酸素透過度は、１．００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層３の酸素透過係数はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過係数を換算して求めることができる。無機層３は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。
【０１３０】
無機層３は、バリア層５中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。
【０１３１】
無機層３を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。
【０１３２】
上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層３が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層３であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層３は、有機層２との密着性が良好であることから、無機層３にピンホールがある場合でも、有機層２がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層３を積層したケースにおいても極め
て良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。
【０１３３】
無機層３の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。
【０１３４】
無機層３の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）、酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基材としてその表面に行えばよい。
【０１３５】
酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。
【０１３６】
無機層３の厚さは、１ｎｍ〜５００ｎｍであればよく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層３における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供することができるからである。
【０１３７】
積層フィルム８において、光学機能層４に隣接している無機層３が少なくとも一層含まれていることが好ましい。光学機能層４の両面に無機層３が直接接していることも好ましい。
【０１３８】
−有機層−
有機層２とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。
【０１３９】
有機層２としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層２は、上記の密着力条件を満足する範囲内でカルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層２と隣接する層との密着性、特に、無機層３とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。有機層２の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層２がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には
、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層２の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層３との密着性をより良好なものとすることができるからである。
【０１４０】
無機層３、有機層２のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。
【０１４１】
［積層フィルムの製造方法］
次に積層フィルム８の製造において、ガスバリアフィルム６および光学機能層４の形成方法について説明する。図２は、有機層２の形成に用いられる製造設備の一例の概略図であり、図３は、無機層３の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。また、図４は、光学機能層４の製造に用いられる製造設備の一例の概略図である。なお、図２〜図４に示す装置は、一例であり、上述した方法で各層を形成することができる。
【０１４２】
（ガスバリアフィルム形成工程）
有機層形成においては、図２に示すように、まず、送出機１２から支持体１が塗布部１０へと連続搬送される。塗布部１０では、連続搬送される支持体１の表面に有機層形成用塗布液が塗布され、有機層２が形成される。この場合、有機層２と支持体１とが剥離可能になるように、支持体１および有機層２のうちの少なくとも一方について、上記の密着力条件を達成するための上記（１）〜（３）を行うことが好ましい。また、有機層２と支持体１との間の界面に接着剤層又は易接着層を介在させないことが好ましい。
【０１４３】
塗布部１０では、例えば、ダイコーター１４と、ダイコーター１４に対向配置されたバックアップローラ１６とが設置されている。支持体１の有機層の形成される面と反対の面をバックアップローラ１６に巻きかけて、連続搬送される支持体１の表面にダイコーター１４の吐出口から有機層形成用塗布液が塗布され、有機層２が形成される。
【０１４４】
有機層形成用塗布液が塗布された支持体１は、乾燥部２０へと搬送される。乾燥部２０は、乾燥装置２２および加熱装置２４を備え、支持体１上に塗布された有機層形成用塗布液を乾燥させる。乾燥装置２２は、有機層に含まれる溶媒を蒸発させる。加熱装置２４は必要により加熱して溶媒を除去したり、膜硬化させたりするのに用いられることもある。
【０１４５】
乾燥部２０で乾燥された支持体１は、紫外線照射部３０へと搬送される。紫外線照射部３０は、紫外線照射装置３２を備え、紫外線ランプによって有機層形成用塗布液に紫外線を照射する。紫外線により有機層形成用塗布液中のモノマー等を架橋させて、有機層２を形成する。
【０１４６】
紫外線照射部３０で有機層２が形成された支持体１は、有機層２上に保護フィルムが貼付され（不図示）、巻取機３４で、支持体１をロール状に巻き取って回収する。なお、図２においては、支持体１に保護フィルムを貼付し、巻取機３４で巻き取る装置で説明したが、保護フィルムを貼付せず、そのまま、次の工程（無機層の形成など）を行ってもよい。
【０１４７】
無機層３は、図３に示すように、ロール・トゥ・ロールの真空成膜装置により形成することができる。図３の無機膜製造装置５０は、有機層２上に無機層３を形成する装置である。
【０１４８】
有機層２が形成され、巻取機３４で巻き取られた支持体１は、支持体ロール５２として
、支持体供給室５４の回転軸６０に装填される。
【０１４９】
支持体供給室５４は図示しない駆動原によって回転軸６０を図中反時計方向に回転して、支持体ロール５２から支持体１を送り出しガイドローラ６２によって、所定の経路を案内して、支持体１を無機成膜室５６に送る。支持体１は、無機成膜室５６に送られる途中で、有機層形成後に貼り付けられた保護フィルムが剥離される。支持体供給室５４は、真空チャンバになっており、真空排気手段５５によって所定の圧力（真空度）に排気される。無機膜製造装置５０においては、これにより、支持体供給室５４の圧力が、後述する無機成膜室５６における無機膜の成膜に悪影響を与えることを抑制している。
【０１５０】
無機成膜室５６は、ドラム６６と、成膜手段６８ａ、６８ｂ、６８ｃおよび６８ｄと、真空排気手段７４とを有して構成される。また、無機層３をスパッタリングやプラズマＣＶＤなどにより成膜を行う場合は、無機成膜室５６には、高周波電源なども設置される。
【０１５１】
支持体供給室５４から搬送された支持体１は、ドラム６６の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム６６に支持／案内されつつ、所定の搬送経路を搬送され、成膜手段６８ａ〜６８ｄなどによって、支持体１の有機層２上に無機層３が形成される。
【０１５２】
成膜手段６８ａ〜６８ｄは、真空成膜法によって、支持体１の有機層２上に無機層３を形成するためのものであり、実施する真空成膜法に応じた、各種の部材で構成される。例えば、無機層をＣＶＤ法によって成膜を行うものであれば、成膜手段６８ａ〜６８ｄは、反応ガスの導入手段などを有して構成される。また、スパッタリング法により無機層３の成膜を行うものであれば、成膜手段６８ａ〜６８ｄは、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段などを有して構成される。
【０１５３】
無機層３が形成された支持体１は、次に、支持体巻取室５８に送られる。支持体巻取室５８は、図示しない駆動原によって回転軸７０を図中時計方向に回転して、支持体ロール７２で支持体を巻き取る。無機層３を形成後の支持体１の搬送経路には、タッチロール７６が備えられており、タッチロール７６で保護フィルム（不図示）を貼り合わせる。支持体巻取室５８は、支持体供給室５４と同様に、真空チャンバになっており、真空排気手段７８によって所定の圧力（真空度）に排気されることで、無機層３の形成に悪影響を与えることを抑制している。
【０１５４】
バリア層５として支持体１上に、有機層２および無機層３が形成されたガスバリアフィルム６Ａは、次に、光学機能層４の形成、および、光学機能層４の上に更にもう１枚のガスバリアフィルム６Ｂをラミネートして、光学機能層４を２枚のガスバリアフィルム６Ａ，６Ｂで挟み込む。図４は、光学機能層４を成膜する製造設備１００の一例である。
【０１５５】
（光学機能層形成工程）
ガスバリアフィルム６Ａ（保護フィルムがラミネートされている場合は、保護フィルムを剥離する）が、図示しない送出機から塗布部１２０へと連続搬送される。送出機から、例えば、ガスバリアフィルム６Ａが１〜５０ｍ／分の搬送速度で送り出される。ただし、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、ガスバリアフィルム６Ａには、２０〜１５０Ｎ／ｍの張力、好ましくは３０〜１００Ｎ／ｍの張力が加えられる。
【０１５６】
塗布部１２０では、連続搬送されるガスバリアフィルム６Ａの表面に塗布液が塗布され、塗膜が形成される。塗布部１２０では、例えば、ダイコーター１２４と、ダイコーター１２４に対向配置されたバックアップローラ１２６とが設置されている。ガスバリアフィルム６Ａの光学機能層４が形成される面と反対の表面をバックアップローラ１２６に巻きかけて、連続搬送されるガスバリアフィルム６Ａの表面にダイコーター１２４の吐出口か
ら塗布液が塗布され、塗膜が形成される。ここで塗膜とは、ガスバリアフィルム６Ａ上に塗布された重合処理前の塗布液のことをいう。
【０１５７】
図４においては、塗布装置として、エクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター１２４を示したが、これに限定されず、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法など、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。
【０１５８】
（バリアフィルムラミネート工程）
塗布部１２０を通過し、その上に塗膜が形成されたガスバリアフィルム６Ａは、ラミネート部１３０に連続搬送される。ラミネート部１３０では、塗膜の上に、ガスバリアフィルム６Ｂがラミネートされ、ガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂとで塗膜が挟持される。この場合、ガスバリアフィルム６Ａおよびガスバリアフィルム６Ｂのうち、少なくとも一方のガスバリアフィルム６Ａ又は６Ｂと、光学機能層４との関係において上記の密着力条件を満足する。
【０１５９】
ラミネートローラ１３２に対向する位置には、バックアップローラ１６２が配置されている。塗膜の形成されたガスバリアフィルム６Ａは、塗膜の形成面と反対の表面がバックアップローラ１６２に巻きかけられ、ラミネート位置Ｐへと連続搬送される。ラミネート位置Ｐはガスバリアフィルム６Ｂと塗膜との接触が開始する位置を意味する。ガスバリアフィルム６Ａはラミネート位置Ｐに到達する前にバックアップローラ１６２に巻きかけられることが好ましい。仮にガスバリアフィルム６Ａにシワが発生した場合でも、バックアップローラ１６２によりシワがラミネート位置Ｐに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、ガスバリアフィルム６Ａがバックアップローラ１６２に巻きかけられた位置（接触位置）と、ラミネート位置Ｐまでの距離Ｌ１は長い方が好ましく、例えば、３０ｍｍ以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ１６２の直径とパスラインとにより決定される。
【０１６０】
本実施形態では重合処理部１６０で使用されるバックアップローラ１６２とラミネートローラ１３２とによりガスバリアフィルム６Ｂのラミネートが行われる。即ち、重合処理部１６０で使用されるバックアップローラ１６２が、ラミネート部１３０で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部１３０に、バックアップローラ１６２と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ１６２を兼用しないようにすることもできる。
【０１６１】
重合処理部１６０で使用されるバックアップローラ１６２をラミネート部１３０で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ１６２は、ガスバリアフィルム６Ａに対するヒートローラとしても使用できる。
【０１６２】
図示しない送出機から送出されたガスバリアフィルム６Ｂは、ラミネートローラ１３２に巻きかけられ、ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との間に連続搬送される。ガスバリアフィルム６Ｂは、ラミネート位置Ｐで、ガスバリアフィルム６Ａに形成された塗膜の上にラミネートされる。これにより、ガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂとにより塗膜（光学機能層４）が挟持される。ラミネートとは、ガスバリアフィルム６Ｂを塗膜の上に重ねあわせ、積層することをいう。
【０１６３】
ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離は、ガスバリアフィルム６Ａと、塗膜を重合硬化させた光学機能層４と、ガスバリアフィルム６Ｂと、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離はガスバリアフィルム６Ａと塗膜とガスバリアフィルム６Ｂとの合計厚みに
５ｍｍを加えた長さ以下であることが好ましい。ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離を合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下にすることより、ガスバリアフィルム６Ｂと塗膜との間に泡が侵入することを抑制することができる。ここでラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離とは、ラミネートローラ１３２の外周面とバックアップローラ１６２の外周面との最短距離をいう。
【０１６４】
バックアップローラ１６２の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ１６２の温度を調整することができる。
【０１６５】
塗膜の上にガスバリアフィルム６Ｂを積層する工程では、線圧５〜３００Ｎ／ｃｍの間でニップして塗膜の上にガスバリアフィルム６Ｂを貼り合わせていくことが好ましく、線圧１０〜２００Ｎ／ｃｍの間でニップすることがより好ましく、線圧３０〜１００Ｎ／ｃｍの間でニップすることが特に好ましい。また貼り合わせ方法に制約はなく、ニップロールを用いないで貼り合わせる方法でもよい。
【０１６６】
また、ガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂとで塗膜を挟持した後の熱変形を抑制するため、重合処理部１６０のバックアップローラ１６２の温度とガスバリアフィルム６Ａの温度との差、およびバックアップローラ１６２の温度とガスバリアフィルム６Ｂの温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。
【０１６７】
バックアップローラ１６２の温度との差を小さくするため、加熱チャンバ１３４が設けられている場合には、ガスバリアフィルム６Ａ、およびガスバリアフィルム６Ｂを加熱チャンバ１３４内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバ１３４には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、ガスバリアフィルム６Ａ、およびガスバリアフィルム６Ｂを加熱することができる。
【０１６８】
ガスバリアフィルム６Ａが、温度調整されたバックアップローラ１６２に巻きかけられることにより、バックアップローラ１６２によってガスバリアフィルム６Ａを加熱してもよい。
【０１６９】
一方、ガスバリアフィルム６Ｂについては、ラミネートローラ１３２をヒートローラとすることにより、ガスバリアフィルム６Ｂをラミネートローラ１３２で加熱することができる。ただし、加熱チャンバ１３４、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。
【０１７０】
なお、図４においては、光学機能層（塗膜）をガスバリアフィルム６Ａおよびガスバリアフィルム６Ｂとで両面を挟持し、両面にバリア層を設ける場合で説明しているが、光学機能層の一方の面のみバリア層である場合は、ガスバリアフィルム６Ｂを他のフィルムまたは支持体とすることもできる。
【０１７１】
（硬化工程）
ガスバリアフィルム６Ａに塗膜を形成し、ガスバリアフィルム６Ｂをラミネートした後、光照射により塗膜を重合硬化させて、光学機能層４を得ることができる。硬化条件は、使用する硬化性化合物の種類や塗布液の組成に応じて、適宜設定することができる。また、塗布液中に溶媒を含む場合は、重合処理を行う前に、溶媒除去のための乾燥処理を施してもよい。塗膜の重合処理は、塗膜を２枚のガスバリアフィルム間に挟持した状態で行う。
【０１７２】
図４に記載の装置において、ガスバリアフィルム６Ａは、塗膜が形成され、ガスバリア
フィルム６Ｂがラミネートされた状態で、重合処理部１６０に搬送される。重合処理部１６０は、バックアップローラ１６２と、バックアップローラ１６２に対向する位置に光照射装置１６４が設けられている。バックアップローラ１６２と光照射装置１６４との間を、塗膜を挟持したガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂとが連続搬送される。
【０１７３】
光照射装置１６４により照射される光は、塗布液に含まれる硬化性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ、レーザー等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を塗膜に向けて照射することができる。塗膜への光照射量は、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２とすることができ、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。
【０１７４】
重合処理部１６０では、ガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂとにより塗膜を挟持した状態で、ガスバリアフィルム６Ａをバックアップローラ１６２に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置１６４から光照射を行い、塗膜を硬化させて光学機能層を形成することができる。
【０１７５】
本実施の形態では、ガスバリアフィルム６Ａ側をバックアップローラ１６２に巻きかけて、連続搬送したが、ガスバリアフィルム６Ｂをバックアップローラ１６２に巻きかけて、連続搬送させることもできる。
【０１７６】
バックアップローラ１６２に巻きかけるとは、ガスバリアフィルム６Ａおよびガスバリアフィルム６Ｂの何れかが、あるラップ角でバックアップローラ１６２の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、ガスバリアフィルム６Ａおよびガスバリアフィルム６Ｂはバックアップローラ１６２の回転と同期して移動する。バックアップローラ１６２へ巻きかけは、少なくとも光が照射されている間であればよい。
【０１７７】
バックアップローラ１６２の温度は、光照射時の発熱と、塗膜の硬化効率と、ガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂのバックアップローラ１６２上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ１６２は、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。
【０１７８】
ラミネート位置Ｐと光照射装置１６４との距離は、例えば３０ｍｍ以上とすることができる。
【０１７９】
ガスバリアフィルム６Ａとガスバリアフィルム６Ｂとで挟持し、光照射により塗膜が硬化し光学機能層が形成されることで、両面にバリア層を含む積層フィルム８が製造される。積層フィルム８は、剥離ローラ１８０によりバックアップローラ１６２から剥離される。積層フィルム８は、図示しない巻取機に連続搬送され、ロール状に巻き取られる。
【０１８０】
なお、図４では、重合処理を光照射により行う方法で説明したが、塗布液に含まれる硬化性化合物が加熱により重合するもの（熱硬化性）である場合には、温風の吹き付けなどの加熱により重合処理を行うことができる。
【０１８１】
［波長変換部材］
本実施形態の積層フィルム８は、量子ドット、または、量子ロッドのいずれか一方を含むことで、波長変換部材として用いることができ、液晶表示装置などに組み込んで用いることができる。
【０１８２】
波長変換部材として用いられる量子ドットまたは量子ロッドの少なくともいずれか（以下、「量子ドットなど」ともいう）を含む積層フィルムは、少なくとも入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットなどを含む波長変換層を有する。
【０１８３】
波長変換部材における波長変換層は、通常、量子ドットなどを有機マトリックス中に含む。有機マトリックスは、通常、硬化性化合物を光照射などにより重合させた重合体である。
【０１８４】
波長変換層の膜厚は、好ましくは１〜５００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲であり、特に好ましくは３０〜１５０μｍの範囲である。また、波長変換層が複数の層から形成される場合、一層の膜厚は、好ましくは１〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲である。
【０１８５】
［バックライトユニット］
本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、本発明の積層フィルムと、光源と、を少なくとも含む。また、積層フィルムは、好ましくは、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として含まれる。
【０１８６】
図５は、本発明の一態様にかかる積層フィルムを含むバックライトユニット３００の一例の説明図である。図５中、バックライトユニット３００は、光源３００Ａと、面光源とするための導光板３００Ｂを備える。図５（Ａ）に示す例では、波長変換部材として、上記の如く製造された積層フィルム８から支持体１を剥離した支持体なしの積層フィルム３００Ｃが、導光板３００Ｂから出射される光の経路上に配置されている。一方、図５（Ｂ）に示す例では、波長変換部材としての積層フィルム３００Ｃは、導光板３００Ｂと光源３００Ａとの間に配置されている。このように、積層フィルム８から支持体１を剥離した支持体なしの積層フィルム３００Ｃを使用することで、バックライトユニット３００の厚みを薄くできる。
【０１８７】
そして図５（Ａ）に示す例では、導光板３００Ｂから出射される光が、波長変換部材である積層フィルム３００Ｃに入射する。図５（Ａ）に示す例では、導光板３００Ｂのエッジ部に配置された光源３００Ａから出射される光は青色光３１０であり、導光板３００Ｂの液晶セル（図示せず）側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板３００Ｂから出射された青色光３１０の経路上に配置された波長変換部材である積層フィルム３００Ｃには、青色光３１０により励起され赤色光３３０を発光する量子ドット（Ａ）と、青色光３１０により励起され緑色光３２０を発光する量子ドット（Ｂ）を、少なくとも含む。このようにしてバックライトユニット３００からは、励起され発光した緑色光３２０および赤色光３３０、ならびに波長変換部材である積層フィルム３００Ｃを透過した青色光３１０が出射される。こうしてＲＧＢの輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
【０１８８】
図５（Ｂ）に示す例は、光変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図５（Ａ）に示す態様と同様である。図５（Ｂ）に示す例では、波長変換部材である積層フィルム３００Ｃから、励起された緑色光３２０および赤色光３３０、ならびに波長変換部材である積層フィルム３００Ｃを透過した青色光３１０が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。
【０１８９】
＜バックライトユニットの発光波長＞
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。好ましい一態様としては、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、を発光するバックライトユニットを挙げることができる。
【０１９０】
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４５０〜４８０ｎｍであることが好ましく、４６０〜４７０ｎｍであることがより好ましい。
【０１９１】
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５２０〜５５０ｎｍであることが好ましく、５３０〜５４０ｎｍであることがより好ましい。
【０１９２】
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６１０〜６８０ｎｍであることが好ましく、６２０〜６４０ｎｍであることがより好ましい。
【０１９３】
また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４０ｎｍ以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が３０ｎｍ以下であることが、特に好ましい。
【０１９４】
バックライトユニットは、少なくとも、上記波長変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、量子ドット含有積層体には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット（Ａ）と、緑色光を発光する量子ドット（Ｂ）が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され量子ドット含有積層体を透過した青色光と、波長変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
【０１９５】
または他の態様では、光源として、３００ｎｍ〜４３０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、波長変換層には、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット（Ｃ）が含まれることが好ましい。これにより、量子ドット含有積層体から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
【０１９６】
また他の態様では、青色光を発光する青色レーザー、緑色光を発光する緑色レーザー、赤色光を発光する赤色レーザーからなる群から選ばれる光源の二種を用い、この光源が出射する光とは異なる発光波長を有する蛍光を発光する量子ドットを、量子ドット含有積層体に存在させることにより、光源から発光される二種の光と、量子ドット含有積層体の量子ドットから発光される光により、白色光を具現化することもできる。
【０１９７】
＜散乱粒子＞
波長変換部材は、量子ドットの蛍光を効率よく外部に取り出すために光散乱機能を有することができる。光散乱機能は、波長変換層の内部に設けてもよいし、光散乱層として光
散乱機能を有する層を別途設けてもよい。
【０１９８】
一態様として、波長変換層の内部に散乱粒子を添加することも好ましい。
【０１９９】
また別の一態様として、波長変換層の表面に光散乱層を設けることも好ましい。光散乱層での散乱は、散乱粒子に依ってもよいし、表面凹凸に依ってもよい。
【０２００】
＜バックライトユニットの構成＞
バックライトユニットの構成としては、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であることができる。図５には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示したが、本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。
【０２０１】
また、バックライトユニットは、光源３００Ａの後部に、反射部材（図示せず）を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２０２】
バックライトユニットが、青色光のうち４６０ｎｍよりも短波長の光を選択的に透過する青色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
【０２０３】
また、バックライトユニットが、赤色光のうち６３０ｎｍよりも長波長の光を選択的に透過する赤色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
【０２０４】
このような青色用波長選択フィルタや赤色用波長選択フィルタとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのようなフィルタは、特開２００８−５２０６７号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２０５】
バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２０６】
［液晶表示装置］
本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、本発明のバックライトユニットと、液晶セル、とを少なくとも含む。
【０２０７】
＜液晶表示装置の構成＞
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。
【０２０８】
液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは２枚の偏光板の間に配置して構成される。
液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射抑制層、低反射層、アンチグレア層等とともに（又はそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電抑制層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。
【０２０９】
図６に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図６に示す液晶表示装置３５１は、液晶セル３７１のバックライト側の面にバックライト側偏光板３６４を有する。バックライト側偏光板３６４は、バックライト側偏光子３６２のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム３６１を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
【０２１０】
バックライト側偏光板３６４は、バックライト側偏光子３６２が、２枚の偏光板保護フィルム３６１および３６３で挟まれた構成であることが好ましい。
【０２１１】
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図６に示す例では、偏光板保護フィルム３６３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム３６１がアウター側偏光板保護フィルムである。
【０２１２】
バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。
【０２１３】
液晶表示装置３５１は、液晶セル３７１のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板３９４を有する。表示側偏光板３９４は、表示側偏光子３９２が、２枚の偏光板保護フィルム３９１および３９３で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム３９３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム３９１がアウター側偏光板保護フィルムである。
【０２１４】
液晶表示装置３５１が有するバックライトユニット３００については、先に記載した通りであり、積層フィルム８から支持体１を剥離した支持体なし積層フィルム３００Ｃを使用することで、液晶表示装置３５１の厚みを薄くできる。
【０２１５】
本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。
【０２１６】
（カラーフィルター）
カラーフィルター基板のＲＧＢ画素形成方法としては、公知の種々の方法を使用することができる。例えば、ガラス基板上にフォトマスク、およびフォトレジストを用いて所望のブラックマトリックス、およびＲ、Ｇ、Ｂの画素パターンを形成することもできるし、また、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、所定の幅のブラックマトリクス、およびｎ個置きにブラックマトリクスの幅よりも広いブラックマトリックスで区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の印刷装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルターを作製することもできる。画像着色後は、ベーク等することで各画素およびブラックマトリックス
を完全に硬化させてもよい。
【０２１７】
カラーフィルターの好ましい特性は特開２００８−０８３６１１号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２１８】
カラーフィルター用顔料としては、公知のものを何ら制限なく用いることができる。なお、現在は、一般的に顔料を用いているが、分光を制御でき、プロセス安定性、信頼性が確保できる色素であれば、染料によるカラーフィルターであってもよい。
【０２１９】
（ブラックマトリックス）
液晶表示装置には、各画素の間にブラックマトリックスが配置されていることが好ましい。ブラックストライプを形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
【０２２０】
（薄層トランジスタ）
液晶表示装置は、さらに薄層トランジスタ（以下、ＴＦＴとも言う）を有するＴＦＴ基板を有することもできる。薄層トランジスタは、キャリア濃度が１×１０１４／ｃｍ３未満である酸化物半導体層を有することが好ましい。薄層トランジスタの好ましい態様については特開２０１１−１４１５２２号公報に記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２２１】
以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、高い光透過率を発揮し得る量子ドット含有積層体を含むバックライトユニットを備えるため、高輝度かつ高い色再現性を実現することができるものである。
【実施例】
【０２２２】
以下に実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。
【０２２３】
［実施例１］
［積層フィルムの作成］
＜支持体＞
一方面にのみ易接着層が下塗りされているポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。
【０２２４】
＜有機層の形成＞
上記支持体に、有機層の形成を行った。まず、有機層形成用塗布液の調整を行った。有機層形成用塗布液は、ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック社製）および光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の重量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％とした。
【０２２５】
この有機層形成用塗布液を、ダイコーターを用いて、ロール・トゥ・ロールにより支持体であるＰＥＴフィルムの易接着面とは反対側の平滑面に塗布した。塗布後のＰＥＴフィルムを５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線を照射し（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ２）、ＵＶ硬化により硬化させた。ＵＶ硬化直後のパスロールにて保護フィル
ムのポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、サンエー科研製、商品名：ＰＡＣ２−３０−Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。支持体上に形成されて有機層の厚みは１μｍであった。
【０２２６】
＜無機層の形成＞
次に、ロール・トゥ・ロールのＣＶＤ装置を用いて、有機層の表面に無機層（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。送出機より支持体を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層の上に無機層を形成した。無機層の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いてＳｉＮ層を形成した。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。
【０２２７】
このようにして有機層の上に無機層を形成し、形成後の膜面タッチロール部にて、保護ＰＥフィルムを貼り付け、無機膜がパスロールに触れることなく搬送した後、巻き取った。
【０２２８】
＜光学機能層の形成＞
上記のように形成した支持体と、有機膜および無機膜からなるバリア層と、で構成されたガスバリアフィルムの保護ＰＥフィルムを剥がし、光学機能層形成用塗布液を無機層上に塗布し、塗膜を形成した。光学機能層形成用塗布液は、以下の組成となるように調整した。光学機能層の塗膜を、上記と同様の方法で形成したガスバリアフィルムで挟み込み、ＵＶ硬化をして積層フィルムをロール・トゥ・ロールで形成した。
【０２２９】
（光学機能層形成用塗布液の組成）
光学機能層形成用塗布液として、以下の組成の量子ドット分散液を調製した。
【０２３０】
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）          １０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）            １質量部
・ラウリルメタクリレート                                      ２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート                    ０．５４質量部
・光重合開始剤                                            ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製）
量子ドット１，２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
【０２３１】
量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−１ａｂｓ社製）
量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−１ａｂｓ社製）
光学機能層形成用塗布液粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。
【０２３２】
＜シート加工＞
形成した積層フィルムを、刃先角度１７°のトムソン刃を使用し、Ａ４サイズのシート状に抜き打ちを行った。
【０２３３】
＜密着力の測定＞
上記の如く製造したＡ４サイズの積層フィルムについて、ガスバリアフィルムの支持体とバリア層との密着力（即ち、支持体と有機層との密着力）、バリア層と光学機能層との密着力（即ち、無機層と光学機能層との密着力）を次のように測定した。
【０２３４】
ＡＳＴＭ規格のＤ１８７６を使用して、積層フィルムから１インチ幅に切りだした試験
片について、引張り試験機を用いて試験片から支持体を剥離するのに要する剥離力として測定した。
【０２３５】
その結果、支持体と有機層との密着力は０．５Ｎ（ニュートン）であり、積層フィルムから支持体を剥離する際にバリア層及び光学機能層が破損することなく、支持体とバリア層との界面からきれいに剥がれた。
【０２３６】
また、無機層と光学機能層との密着力は１．６Ｎ（ニュートン）であり、「支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも小さく、且つ支持体とバリア層との密着力が剥離可能な密着力である」との本発明の密着力条件を満足した。
【０２３７】
ちなみに、無機層と光学機能層との間を無理に剥がすと、無機層と光学機能層との間の界面が破損した。
【０２３８】
これにより、本実施例で製造された積層フィルムは、光学機能層に酸素や水蒸気が侵入して光学機能層が劣化するのを抑制でき且つバックライトユニット内部に使用したときにするバックライトユニットの厚みを薄くすることができる。したがって、特に、モバイル用途の液晶表示装置に好適である。
【０２３９】
［実施例２］
次に、実施例１における積層フィルムの作成において、支持体と有機層との密着力の大きさ、及び無機層と光学機能層との密着力の大きさを図７の表のように試験１から試験１０まで変えて、下記の２項目についての好ましい密着力条件を調べた。
（ｉ）支持体とバリア層との剥離可能な密着力についての好ましい範囲。
（ii）支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりもどの程度小さいことが好ましいか。
【０２４０】
上記の２項目を「パスローラ上の剥がれ」「有機層の破壊」及び「無機層／光学機能層の剥がれ」を調べることにより評価した。
【０２４１】
「パスローラ上の剥がれ」とは、積層フィルムをパスローラ式の搬送装置で搬送したときに支持体が有機層から剥がれしまわないか否かであり、剥がれなしをＡ，僅かに剥がれが認められるが問題ないレベルをＢ，明確な剥がれが認められ問題ある場合をＣとした。
【０２４２】
「有機層の破壊」とは、支持体を剥がしたときに有機層の破壊が生じるか否かであり、破壊なしをＡ，僅かに破壊が認められるが問題ないレベルをＢ，明確な破壊が認められ問題ある場合をＣとした。
【０２４３】
「無機層／光学機能層の剥がれ」とは、積層フィルムから支持体を剥離したときに、剥離を意図しない側の光学機能層とバリア層との剥がれを生じるか否かであり、剥がれなしをＡ，僅かには剥がれが認められるが問題ないレベルをＢ，明確な剥がれが認められ問題ある場合をＣとした。
【０２４４】
〈試験結果〉
（ｉ）支持体とバリア層との剥離可能な密着力についての好ましい範囲について
図７の表の試験１のように、支持体と有機層との密着力が０．１Ｎと小さすぎると、「パスローラ上の剥がれ」がＣ評価となり、積層フィルムから支持体を意図的に剥離する以外の状況で支持体が剥がれてしまうという問題が生じる恐れがある。
【０２４５】
また、試験４のように、支持体と有機層との密着力が１．５Ｎと大きすぎると、「パス
ローラ上の剥がれ」はＡ評価であるが、「有機層の破壊」がＣ評価となる。即ち、積層フィルムから支持体を剥離するときに、密着力が大きすぎて有機層が破壊されてしまうという問題が生じる恐れがある。
【０２４６】
これに対して、試験２−３、試験５−１０のように、支持体と有機層との密着力が０．２Ｎ〜１．０Ｎの範囲では、「パスローラ上の剥がれ」及び「有機層の破壊」はＡ〜Ｂの評価であり、良好な結果であった。
【０２４７】
この結果から、支持体とバリア層との剥離可能な密着力についての好ましい範囲は０．２Ｎ〜１．０Ｎの範囲であることが分かる。
【０２４８】
（ii）支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりもどの程度小さいことが好ましいかについて
図７の表の試験５及び８のように、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力より０．２Ｎだけ小さい場合には、「無機層／光学機能層の剥がれ」が評価Ｃであった。即ち、積層フィルムから支持体を剥離したときに、剥離を意図しない側の光学機能層とバリア層との剥がれを生じる恐れがある。
【０２４９】
これに対して、試験１−４、試験６−７、試験９−１０のように、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力より０．４Ｎ以上小さい場合には、「無機層／光学機能層の剥がれ」が評価Ａ〜Ｂであり、良好な結果であった。
【０２５０】
この結果から、支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも０．４Ｎ以上小さいことが好ましいことが分かる。
【０２５１】
したがって、本発明は、「支持体とバリア層との密着力が光学機能層とバリア層との密着力よりも０．４Ｎ以上小さく、且つ支持体とバリア層との密着力が０．２Ｎ〜１．０Ｎの範囲である」との密着力条件を満足することが好ましい。
【符号の説明】
【０２５２】
１…支持体、２…有機層、３…無機層、４…光学機能層、５…バリア層、６（６Ａ，６Ｂ）…ガスバリアフィルム、８…積層フィルム、１０…塗布部、１２…送出機、１４…ダイコーター、１６…バックアップローラ、２０…乾燥部、２２…乾燥装置、２４…加熱装置、３０…紫外線照射部、３２…紫外線照射装置、３４…巻取機、５０…無機膜製造装置、５２、７２…支持体ロール、５４…支持体供給室、５５、７４、７８…真空排気手段、５６…無機成膜室、５８…支持体巻取室、６０、７０…回転軸、６２…ガイドロール、６６…ドラム、６８…成膜手段、７６…タッチロール、１００…製造設備、１２０…塗布部、１２４…ダイコーター、１２６、１６２…バックアップローラ、１３０…ラミネート部、１３２…ラミネートローラ、１３４…加熱チャンバ、１６０…重合処理部、１６４…光照射装置、１７０…積層フィルム、１８０…剥離ローラ、２００…スパッタリング装置、２１０…真空容器、２１１…ホルダ、２１２…プラズマ電極、２１３…ＲＦ電源、２１４…ガス導入管、２１５…ガス排出管、２１６…保護フィルム、３００…バックライトユニット、３００Ａ…光源、３００Ｂ…導光板、３００Ｃ…積層フィルム（波長変換部材、３１０…青色光、３２０…緑色光、３３０…赤色光、３５１…液晶表示装置、３６１、３６３、３９１、３９３…偏光板保護フィルム、３６２…バックライト側偏光子、３６４…バックライト側偏光板、３７１…液晶セル、３９２…表示側偏光子、３９４…表示側偏光板
【図１】
2016068389.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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