(57)【要約】      （修正有）【課題】外部から加熱され、内面に螺旋状の溝が固定され、被処理物はこの溝を通りながら加熱処理され出口へと誘導されるロータリーキルンをコンパクトにして、また処理能力を向上できるロータリーキルンの提供。【解決手段】内面に連続する螺旋状溝７を有する円筒体１と、円筒体１を回転させる回転装置１３と、円筒体１の外部を加熱する加熱ヒータ１２を備え、螺旋状溝７の幅が円筒体１の軸方向の場所によって異なるロータリーキルン１００は、被処理物４に求められる熱処理パターンに合わせ、円筒体１の任意の場所のピッチ８ａ，８ｂ，８ｃ，を可変することで、効率的でコンパクトなロータリーキルン１００となり、例えば、熱処理ゾーン９ｂのピッチ８ｂを乾燥処理ゾーン９ａのピッチ８ａより短くすることで、実質的に円筒体１の長さを長くした効果を得るロータリーキルン１００。【選択図】図１
2016121860.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
内面に連続する螺旋状溝を有する円筒体と、
前記円筒体を回転させる回転装置と、
前記円筒体の外部を加熱する加熱ヒータを備え、
前記螺旋状溝の幅が前記円筒体の軸方向の場所によって異なることを特徴とするロータリーキルン。
【請求項２】
内面に連続する螺旋状溝を有する円筒体と、
前記円筒体を回転させる回転装置と、
前記円筒体の外部を加熱する加熱ヒータを備え、
前記螺旋状溝内に、幅が前記螺旋状溝幅以内で、高さが前記螺旋状溝深さの１／２以下の板状仕切りをもうけることを特徴とするロータリーキルン。
【請求項３】
内面にスパイラル板で形成される螺旋状溝を有する円筒体と、
前記円筒体を回転させる回転装置と、
前記円筒体の外部を加熱する加熱ヒータと、
前記円筒体の一方の端から他方の端に向かって雰囲気ガスを送風する雰囲気ガス噴出装置とを備え、
前記円筒体の軸芯周囲の円筒状空間に、側面が前記スパイラル板の端面に接触するように設置された貫通していない円筒を有することを特徴とするロータリーキルン。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、流動性のある粉体や粒状体の連続乾燥や連続熱処理に用いられるロータリーキルンに関する。
【背景技術】
【０００２】
ロータリーキルンはセメントキルンや産業廃棄物の乾燥等に広く使用されており、連続式の乾燥や熱処理を行う際に多用される。近年では電池材料やセラミック粉末の乾燥、熱処理に図４で示すようなロータリーキルン２００が用いられている。図４（ａ）はロータリーキルン２００の正面図であり、図４（ｂ）は側面図である。なお以後、ロータリーキルンで処理されるものを「被処理物」と呼ぶ。被処理物には、電池材料やセラミック粉末、樹脂材料等が含まれ、それ以外の物質（産業廃棄物を含む）が含まれていてもよい。
【０００３】
図４を参照して、ロータリーキルン２００は、円筒体１の両端下側を、回転装置１３で支持され、円筒体１の軸芯１ａを中心に５ａ方向若しくは５ｂ方向に回転される。円筒体１の上下には、加熱ヒータ２が配置されている。この加熱ヒータ２によって円筒体１は加熱され、円筒体１内部の温度が上昇する。
【０００４】
円筒体１の内面には、スパイラル板３によって、螺旋状溝７が形成されている。円筒体１の一方の端は被処理物の供給口１１であり、他方の端は被処理物の排出口１２である。
【０００５】
このロータリーキルン２００では、円筒体１を回転させながら、供給口１１から被処理物４を連続的に供給する。被処理物４は、円筒体１の下方面に溜まる。そして、被処理物４は、スパイラル板３の間の螺旋状溝７に分割されていく。結果、被処理物４が螺旋状溝７に沿って円筒体１内を移動する。被処理物４がスパイラル板３で分割され、貯留されている部分を貯留部１４と呼ぶ。
【０００６】
ロータリーキルン２００はこのような構成を有するので、加熱履歴が一定で長時間滞留（充填率をあげる）が可能である。またこのロータリーキルン２００では、被処理物４のロータリーキルン２００内での滞留時間が、円筒体１の回転方向５ａ、５ｂを変え、送り時の回転数と戻し時の回転数の差だけで制御できる。したがって、このロータリーキルン２００は、精度の高い加熱処理が可能である。
【０００７】
なお、スパイラル板３で分割された貯留部１４に存在する被処理物４を層４ａと呼ぶ。また、隣り合うスパイラル板３の間隔をピッチ８とする。ピッチ８は、螺旋状溝７の「溝幅」といってもよい。また、円筒体１の最下線１ｄから層４ａの表面までを層４ａの層高４ｈとする。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平８−３０３９５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
被処理物の加熱処理では、被処理物をまず乾燥しその後高温で熱処理する場合や、被処理物を熱処理後できるだけ早く取り出さなければならないもの等さまざまな条件が求められる。
【００１０】
円筒体１内面に螺旋状溝７を持ったロータリーキルン２００では被処理物４は螺旋状溝７内を進む。スパイラル板３間（貯留部１４）に保持される層４ａ（被処理物４）の量は供給された時点で決まってしまう。したがって、層高４ｈも、被処理物４の供給時点で決まる。
【００１１】
一般に被処理物４を乾燥する乾燥工程では層高４ｈが低い方が効率的で、高温に加熱する熱処理工程では層高４ｈは高くてもよい。層高４ｈが高くても熱は層４ａ内部まで伝わるからである。そして、ロータリーキルン２００は、その長さ方向で、乾燥を主として行うゾーンと熱処理を主として行うゾーンが並設されていてもよい。このゾーンの設置は、加熱ヒータ２の温度設定を部分的に変更することで達成することができる。
【００１２】
そこで、ロータリーキルン２００には、被処理物４に対して所望の乾燥状態が得られるように、被処理物４が供給される。つまり、ロータリーキルン２００の乾燥能力に合わせて被処理物４が層高４ｈが低い状態で供給される。結果、ロータリーキルン２００の熱処理工程では、層高４ｈが低い状態で処理することになる。したがって、充填量が少ない状態で熱処理ゾーンを通過していくことになり、所定の熱処理時間をキープするには、ロータリーキルン２００の円筒体１を長くする必要があった。
【００１３】
またこのロータリーキルン２００は円筒体１の回転方向５ａ、５ｂを変えることで滞留時間を任意に調節できる。しかし、被処理物４の形態によっては、貯留部１４の中で、ゆりかごの中で滑るように移動し、伝熱面である円筒体１内面に接している被処理物４が入れ替わらず、一部の被処理物４の温度だけが上がり、被処理物４の熱処理に斑が生じる。したがって、全体の加熱時間を長くする必要があった。
【００１４】
また、被処理物４の乾燥や熱処理では円筒体１内に外気を取り込んだり、酸素や水素等の雰囲気ガスを導入することがある。これらの雰囲気ガスと被処理物４の接触機会を増やすことが、反応を速めたり別反応を抑制したりする。しかし、従来のロータリーキルン２００では円筒体１内の螺旋状溝７を形成する壁（スパイラル板３）によって導入された雰囲気ガスが貯留部１４に侵入しにくく、被処理物４との接触機会が妨げられていた。
【課題を解決するための手段】
【００１５】
本発明は上記の課題に鑑みて想到されたもので、コンパクトで充填率を高くできるロータリーキルンを提供する。
【００１６】
より具体的に本発明に係るロータリーキルンは、
内面に連続する螺旋状溝を有する円筒体と、
前記円筒体を回転させる回転装置と、
前記円筒体の外部を加熱する加熱ヒータを備え、
前記螺旋状溝の幅が前記円筒体の軸方向の場所によって異なることを特徴とする。
【００１７】
また、本発明は、上記の課題に鑑みて想到されたもので、被処理物４が円筒体の内面で滑ることなく、層４ａ全体を一様に加熱させることができるロータリーキルンを提供する。
【００１８】
より具体的に本発明に係るロータリーキルンは、
内面に連続する螺旋状溝を有する円筒体と、
前記円筒体を回転させる回転装置と、
前記円筒体の外部を加熱する加熱ヒータを備え、
前記螺旋状溝内に、幅が前記螺旋状溝幅以内で、高さが前記螺旋状溝深さの１／２以下の板状仕切りをもうけることを特徴とする。
【００１９】
また、本発明は、上記の課題に鑑みて想到されたもので、被処理物４に雰囲気ガスが接触しやすくするロータリーキルンを提供する。
【００２０】
より具体的に本発明に係るロータリーキルンは、
内面にスパイラル板で形成される螺旋状溝を有する円筒体と、
前記円筒体を回転させる回転装置と、
前記円筒体の外部を加熱する加熱ヒータと、
前記円筒体の一方の端から他方の端に向かって雰囲気ガスを送風する雰囲気ガス噴出装置とを備え、
前記円筒体の軸芯周囲の円筒状空間に、側面が前記スパイラル板の端面に接触するように設置された貫通していない円筒を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００２１】
本発明のロータリーキルン１００は、円筒体中の螺旋状溝のピッチを、場所によって変更した。特に乾燥ゾーンのピッチより熱処理ゾーンのピッチを狭くしたので、同じ回転数であっても、熱処理ゾーンでの単位長さあたりの被処理物の滞留時間を長くすることができる。また、排出ゾーンの螺旋状溝のピッチを長くすることで、熱処理を行った被処理物を短い時間で取り出すこともできる。したがって、同じ能力でも円筒体の長さを短くすることができる。すなわち、コンパクトなロータリーキルンを提供することができる。
【００２２】
また、本発明のロータリーキルン１１０は、螺旋状溝中に螺旋状溝の深さの半分以下の高さをもつ仕切りを設けたので、被処理物がよく攪拌される。したがって、滑りやすい被処理物であっても、短時間で均一な熱処理や乾燥を行うことができる。
【００２３】
また、本発明のロータリーキルン１２０は、円筒体の軸芯周囲に形成される円筒状空間を塞ぐようにスパイラル板の端面に接するように貫通していない円筒を配置する。この貫通していない円筒によって、螺旋状溝は蓋をされ、円筒体に導入される雰囲気ガスは、螺旋状溝の中だけを通過する。したがって、円筒体中に雰囲気ガスを導入しながら、処理を行う場合、被処理物は雰囲気ガスに効率よく暴露される。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明に係る場所によって溝ピッチを変えたロータリーキルン。
【図２】本発明に係る溝内に板状仕切りを設置したロータリーキルン。
【図３】本発明に係る円筒状空間に貫通していない円筒を設けたロータリーキルン。
【図４】従来例のロータリーキルン。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下に本発明に係るロータリーキルンについて図面および実施例を示し説明を行う。なお、以下の説明は、本発明の一実施形態および一実施例を例示するものであり、本発明が以下の説明に限定されるものではない。以下の説明は本発明の趣旨を逸脱しない範囲で改変することができる。
【００２６】
（実施の形態１）
図１に本実施の形態に係るロータリーキルン１００の構成を示す。図１（ａ）は、ロータリーキルン１００の正面図を示し、図１（ｂ）は、側面図を示す。ロータリーキルン１００は、円筒体１と、円筒体１を回転させる回転装置１３と、円筒体１の上下に配置された加熱ヒータ２を含む。
【００２７】
円筒体１の内部には、スパイラル板３で形成された螺旋状溝７が形成されている。また、円筒体１の一方の端には、被処理物４が投入される供給口１１が設けられ、他方の端には、処理された被処理物４が排出される排出口１２が設けられている。
【００２８】
また、円筒体１内には、供給口１１に近い部分に乾燥ゾーン９ａが設けられ、乾燥ゾーン９ａに続く部分に熱処理ゾーン９ｂが設けられ、排出口１２の近傍には、排出ゾーン９ｃが設けられる。なお、排出ゾーン９ｃには、加熱ヒータ２を省いても良い。
【００２９】
熱処理ゾーン９ｂの螺旋状溝７のピッチ８ｂは、乾燥ゾーン９ａの螺旋状溝７のピッチ８ａよりも短く形成されている。また、排出ゾーン９ｃの螺旋状溝７のピッチ８ｃは、３つのゾーンの中で最も長い。
【００３０】
以上の構成を有するロータリーキルン１００の動作について説明する。供給口１１から投入された被処理物４は、螺旋状溝７によって、排出口１２に向かって貯留部１４毎に層４ａに分割されて移送される。熱処理ゾーン９ｂに入ると、螺旋状溝７の貯留部１４（ピッチ８ｂ）が狭くなる。したがって、被処理物４の移送速度は遅くなる。
【００３１】
１つの貯留部１４で移送される被処理物４の量は同じなので、層高４ｈｂは高くなる。しかし、熱処理では、熱が貯留部１４中の被処理物４に伝わればよく、層高４ｈｂは高くても良い。言い方を変えると、乾燥ゾーン９ａでは、貯留部１４中の被処理物４の層高４ｈａは低く、空気とよく接することができる。
【００３２】
排出ゾーン９ｃでは、螺旋状溝７の貯留部１４は最も広い。したがって、熱処理ゾーン９ｂを通過した被処理物４の移送速度は速くなる。
【００３３】
このように乾燥ゾーン９ａと熱処理ゾーン９ｂおよび排出ゾーン９ｃを構成することで、円筒体１の全長を短くすることができ、ロータリーキルン１００をコンパクトに構成することができる。
【００３４】
例えば、ロータリーキルン１００の熱処理ゾーン９ｂのピッチ８ｂを、乾燥ゾーン９ａのピッチ８ａの１／２にしたとする。すなわち、一定時間の回転で熱処理ゾーン９ｂでは乾燥ゾーン９ａの１／２しか排出口１２方向に進まない。熱処理ゾーン９ｂは、同じ円筒体１の長さで乾燥ゾーン９ａの２倍の加熱時間を与えることができる。
【００３５】
乾燥ゾーン９ａもピッチ８ａを短くすることで、加熱時間を長くすることは可能である。しかし、乾燥処理では、被処理物４の層高４ｈａを低くするほうが、空気によく曝されるので、効率がよい。また被処理物４の品質も安定する。
【００３６】
同じ効果を螺旋状溝７のピッチ８が一定な場合で得ようとすると、円筒体１の長さが１．５倍必要になる。したがって、ロータリーキルン１００は、乾燥処理と熱処理を行う場合に、同じ性能を得るのに、従来よりも、コンパクトなロータリーキルンを提供することができる。つまり、被処理物４に求められる熱処理パターンに合わせ、円筒体１の任意の場所のピッチ８を可変することで、効率的でコンパクトなロータリーキルンができる。
【００３７】
（実施の形態２）
図２に本実施の形態に係るロータリーキルン１１０の構成を示す。実施の形態１と同じ部分には同じ符号を示す。ロータリーキルン１１０は、円筒体１と回転装置１３と、円筒体１の上下に加熱ヒータ２が設けられている。
【００３８】
円筒体１の螺旋状溝７は、等間隔のピッチ８とした。しかし、実施の形態１同様に、円筒体１中の場所によってピッチ８を変更してもよい。
【００３９】
円筒体１は、螺旋状溝７に仕切板６が設けられている。仕切板６は、螺旋状溝７の溝幅（ピッチ８）とほぼ同じ長さで、円筒体１の内面からの高さが、螺旋状溝７の深さの１／２以下に構成されている。なお、螺旋状溝７の深さ７ｄは、スパイラル板３の円筒体１の内面からの高さと同じである。
【００４０】
仕切板６は、螺旋状溝７の複数個所に設けることができる。図２（ｂ）を参照して、仕切板６は、円筒体１の軸芯１ａ方向から見て、それぞれ１２０度ずつ角度を違えた部分に設けてある。また、図では、螺旋状溝７の各ピッチ８毎に同じ角度の位置に仕切板６を設けているが、仕切板６の設定位置は、ピッチ８毎に変更してもよい。
【００４１】
１つの仕切板６に注目すると、円筒体１の回転に従って、仕切板６は、円筒体１の最下点から最上点に向かって上昇する。
【００４２】
以上のような構成を有するロータリーキルン１１０の動作について説明する。螺旋状溝７中に仕切板６が設けられていると、供給口１１から投入された被処理物４は、螺旋状溝７を進むうちに仕切板６に堰き止められる。そして、仕切板６が円筒体１の回転と共に、円筒体１の内面に沿って上昇すると、次第に仕切板６から零れ落ちて、螺旋状溝７に落下する。
【００４３】
つまり、被処理物４は、仕切板６の存在によって円筒体１の内面に接している被処理物４ほど、仕切板６を乗り越えてからは、すでに仕切板６を乗り越えた被処理物４上に落下する。結果、被処理物４が攪拌される。よって、円筒体１の内面に対して、滑りやすい被処理物４であっても、ピッチ８ごとに被処理物４の全体の温度を均一に上昇させることができる。
【００４４】
なお、仕切板６の高さが螺旋状溝７の深さの１／２を超えると、被処理物４が仕切板６を乗り越えるときの円筒体１の回転角度が大きくなる。すると、仕切板６を乗り越えた被処理物４は、隣接する貯留部１４に落下するおそれがある。そのようになったら、被処理物４の過熱処理時間が変わってしまい、処理による品質の均一性が保持できなくなる。したがって、仕切板６の高さは、螺旋状溝７の深さの１／２以下であるのが好ましい。
【００４５】
（実施の形態３）
ロータリーキルンでは螺旋状溝７が円筒体１の内部に形成される。この螺旋状溝７を形成するスパイラル板３の端面によって、円筒体１の軸芯１ａ周囲に供給口１１から排出口１２までの間に、円筒状空間が形成される。被処理物４を雰囲気ガス中で処理するために円筒体１中に雰囲気ガスを導入した場合、雰囲気ガスは、螺旋状溝７内部に導入されるのが望ましい。
【００４６】
しかし、スパイラル板３に阻まれて、雰囲気ガスは円筒状空間を通過する。そこで、本実施の形態に係るロータリーキルン１２０では、この円筒状空間に貫通していない円筒１０を配置する。この円筒１０によって、ロータリーキルン１２０内に導入された雰囲気ガスは、螺旋状溝７だけを通過する。
【００４７】
図３に本実施の形態に係るロータリーキルン１２０の構成を示す。実施の形態１および２と同じ部分については同じ符号を用いる。本実施の形態に係るロータリーキルン１２０は、円筒体１と、円筒体１を回転させる回転装置１３と、円筒体１の上下に配した加熱ヒータ２を有している。円筒体１は、内面にスパイラル板３で螺旋状溝７が設けられている。
【００４８】
また、円筒体１の一方の端には被処理物４の供給口１１が設けられ、他方の端には被処理物４の排出口１２が設けられる。さらにロータリーキルン１２０は、排出口１２から供給口１１に向かって雰囲気ガスを流す雰囲気ガス噴出装置１５が設けられる。
【００４９】
また、スパイラル板３の端面から円筒体１の軸芯１ａ周囲に形成される空間に、スパイラル板３の端面に接するように、貫通していない円筒１０が設けられる。貫通していない円筒１０は、供給口１１から排出口１２までの間の少なくとも１箇所に遮蔽板１０ａが設けられた円筒である。
【００５０】
例えば、貫通していない円筒１０の両端のそれぞれに遮蔽板１０ａを設けてもよい。この場合は、貫通していない円筒１０は、円柱形状となる。また、遮蔽板１０ａは、円筒１０の内部の何れかの位置に１枚だけあってもよい。また、遮蔽板１０ａは、雰囲気ガスが内部を通過しにくくしてあればよく、貫通孔のあいた遮蔽板１０ａを複数枚、間を空けて配置してもよい。
【００５１】
言い換えると、円筒体１は、軸芯１ａ周囲の円筒状空間に、側面が前記スパイラル板３の端面に接触するように設置された貫通していない円筒１０を有するといってよい。
【００５２】
以上のように構成したロータリーキルン１２０の動作を説明する。被処理物４は供給口１１からロータリーキルン１２０に供給される。ロータリーキルン１２０は回転装置１３によって回転させられる。被処理物４は、螺旋状溝７のピッチ８毎に排出口１２に向かって移送される。
【００５３】
雰囲気ガス噴出装置１５は、排出口１２から供給口１１に向かって雰囲気ガスを流す。雰囲気ガスは、酸素リッチの酸化性ガスであったり、水素リッチの還元性ガスであってもよい。また、窒素ガスといった不活性ガスであってもよい。雰囲気ガスは、被処理物４の種類によって変更してよい。
【００５４】
雰囲気ガスは、排出口１２から円筒体１内に送り込まれると、円筒体１の内面とスパイラル板３と貫通していない円筒１０で仕切られた空間（螺旋状溝７と同じ）を排出口１２から供給口１１に向かって流れる。なお、円筒体１の軸芯１ａ周囲の空間は、貫通していない円筒１０の遮蔽板１０ａがあるため雰囲気ガスは通過できない。雰囲気ガスは、螺旋状溝７の中だけを通過していく。
【００５５】
雰囲気ガスが空気より軽くても、螺旋状溝７は貫通していない円筒１０によってふさがれているので、雰囲気ガスで充満される。したがって、円筒体１の下部に沿って貯留部１４毎に移動する被処理物４にも接触する。雰囲気ガスが空気と同じか重ければ、やはり螺旋状溝７内に充満するので、被処理物４は雰囲気ガスと接触する。
【００５６】
以上のように、ロータリーキルン１２０は、被処理物４を乾燥処理若しくは熱処理する際に、雰囲気ガス中で行うことができる。
【実施例】
【００５７】
（実施例１）
図１に示したロータリーキルン１００を作製した。また図４で示した従来のロータリーキルン２００も作製し、その性能を比較した。いずれのロータリーキルンも内径が６００ｍｍで長さが２５００ｍｍの円筒体１で、主な構成は表１のようにした。なお、従来のロータリーキルン２００を２ｒｐｍで運転した場合を従来例１−１とし、３ｒｐｍで運転した場合を従来例１−２とした。本発明に係るロータリーキルン１００は、３ｒｐｍで運転したので、実施例１と従来例１−２は同じ回転数での処理である。
【００５８】
また、いずれのロータリーキルンも、乾燥処理および熱処理を１つの円筒体で行うものとして比較した。ここで、乾燥ゾーン９ａは加熱ヒータ２の設定温度を２００℃になるように設定し、乾燥ゾーン９ａに続く熱処理ゾーン９ｂは加熱ヒータ２の設定温度が６００℃になるように設定した。
【００５９】
実施例１では熱処理ゾーン９ｂの螺旋状溝７のピッチ８ｂを乾燥ゾーン９ａの螺旋状溝７のピッチ８ａより狭くした。このようにすることで、熱処理ゾーン９ｂでの滞留時間を長くする。また、排出ゾーン９ｃではピッチ８ｃを広げ被処理物４の移送時間の短縮を図っている。
【００６０】
検討に用いた被処理物４は、処理前には比表面積が大きく、乾燥および熱処理が進むと比表面積が小さくなるという特徴を有する。そして、この被処理物４を使用する製品では、比表面積が１．０ｍ２／ｇ以下が１つの基準となっている。
【００６１】
したがって、処理の結果、被処理物４の比表面積が１．０ｍ２／ｇ以下になれば、処理済品として製品の材料として使用することができる。１．０ｍ２／ｇより比表面積が大きければ、ロータリーキルンでの処理は不十分であったと評価できる。なお、この被処理物４は、電池用材料の１つである。
【００６２】
なお、従来例１−１は実施例１より回転数が遅く、従来例１−２は実施例１と同じ回転数である。また、従来のロータリーキルン２００と本発明に係るロータリーキルン１００は、内部の螺旋状溝７の形状（特にピッチ）も異なる。したがって、被処理物４が投入されてから排出されるまでの時間（表１では「排出までのトータル時間」と記した。）は、従来例１−１、従来例１−２、実施例１のそれぞれの場合で異なる。
【００６３】
表１を参照して、従来例１−１では、実施例１より遅い回転数で材料投入量が１分あたり０．５ｋｇのときに、処理された被処理品（表では「処理品」と記した。）の比表面積は、０．８ｍ２／ｇであった。この比表面積は、ロータリーキルンの処理として問題はない。
【００６４】
しかし、従来例１−２では、実施例１と同じ回転数で、材料投入量を実施例１と同じ１ｋｇ／ｍｉｎに増やした。結果、処理品の比表面積は１．２ｍ２／ｇと増大した。一方、実施例１では、材料投入量が１ｋｇ／ｍｉｎの場合であっても、処理品の比表面積は０．８ｍ２／ｇであった。
【００６５】
以上のことから、実施例１のロータリーキルン１００は同じ全長の円筒体であっても、多くの被処理物４を処理することができ、ロータリーキルンをコンパクトにすることができた。
【００６６】
【表１】
2016121860.tif 000003
【００６７】
（実施例２および実施例３）
図２および図３で示した本発明の実施例２および３を従来例２の構成を表２に示す。
【００６８】
いずれのロータリーキルンも、円筒体１は、内径が６００ｍｍで長さが２５００ｍｍのサイズである。また、加熱ヒータ２の設定は、全長２５００ｍｍのうち、２０００ｍｍに設置した。また螺旋状溝７の形状およびピッチは、実施例２、３および従来例２において同じである。また、回転速度（３ｒｐｍ）および円筒体１外部の加熱ヒータ２の設定温度（２００℃）も同じである。つまり、実施例２、３および従来例２は、乾燥工程を行うロータリーキルンとして構成されている。
【００６９】
実施例２は、図２で示した構成である。ここで、螺旋状溝７に配置した仕切板６は、高さが５０ｍｍで幅が螺旋状溝７幅と同等の大きさである。仕切板６は、熱処理ゾーン９ｂに形成される螺旋状溝７に、螺旋状溝７が円筒体１の内面を１周する間に等間隔に３枚配置した。
【００７０】
実施例３は図３に示す構成とした。螺旋状溝７を形成するスパイラル板３の端面を結んでつくられる円筒体１の軸芯１ａ周囲の円筒状空間に、貫通していない円筒１０を加熱部２がカバーされるように設置した。なお、従来例も含め、雰囲気ガスとして、出口側１２から外気（１．８ｍ３／ｍｉｎ）を導入し、乾燥を促進した。
【００７１】
検討に用いた被処理物４は、中和晶析で得た粉末状の材料である。この材料は、処理前の水分量が多く、ロータリーキルンで乾燥処理を行う。処理後の処理物の水分量が１．０％以下であれば、製品として使用することができる。
【００７２】
表２を参照して、従来例２では被処理物４を１ｋｇ／ｍｉｎで供給口１１から投入した場合、処理品の水分量が１％以下（０．２％）で乾燥できた。しかし、投入量を、１．５ｋｇ／ｍｉｎに増やすと、処理品の水分量は１．５％まで上昇した。
【００７３】
一方、実施例２および実施例３では、投入量が１．５ｋｇ／ｍｉｎであっても、それぞれ０．２％および０．１８％の水分量であった。これより、実施例２および３の構成は、被処理物４に対する乾燥能力が向上していることが確認できた。なお、ここには記載しなかったが、仕切板６と貫通していない円筒１０の両方を設置した場合、さらに乾燥能力が向上することを確認している。
【００７４】
【表２】
2016121860.tif 000004
【産業上の利用可能性】
【００７５】
本発明は、流動性のある粉体や粒状体の連続乾燥や連続加熱処理に使われるロータリーキルンに関する。乾燥の効率化や正確な温度履歴で材料の熱処理が連続的に実施できるもので、小型低コスト化が可能。樹脂原料粉末の加熱改質、電池材料やセラミック材料、樹脂材料等の乾燥、熱処理（酸化処理）等に利用できる。
【符号の説明】
【００７６】
１  円筒体
１ａ  軸芯
１ｄ  最下線
２  加熱ヒータ
３  スパイラル板
４  被処理物
４ａ  層
４ｈ、４ｈａ、４ｈｂ  層高
５、５ａ、５ｂ  円筒体の回転方向
６  仕切板
７  螺旋状溝
８、８ａ、８ｂ、８ｃ  ピッチ
９ａ  乾燥ゾーン
９ｂ  熱処理ゾーン
９ｃ  排出ゾーン
１０  貫通していない円筒
１０ａ  遮蔽板
１１  供給口
１２  排出口
１３  回転装置
１４  貯留部
１５  雰囲気ガス噴出装置
１００、１１０、１２０、２００  ロータリーキルン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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