(57)【要約】      （修正有）【課題】投影部による投影可能領域と撮像部による撮像可能領域との重複領域を認識するのに有利な計測装置を提供する。【解決手段】パターン光を被計測物に投影し、パターン光が投影された被計測物を撮像して得られる画像に基づいて、被計測物の形状を計測する計測装置１であって、被計測物が配置される空間に関する情報に基づいて、パターン光を投影する投影部１０２による投影可能領域ＰＲと被計測物を撮像する撮像部１０３による撮像可能領域ＳＲとが重なる重複領域ＯＲを特定する特定部１０４と、特定部によって特定された重複領域を示す出力部と、を有する。【選択図】図１
2016161561.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン光を被計測物に投影し、前記パターン光が投影された前記被計測物を撮像して得られる画像に基づいて、前記被計測物の形状を計測する計測装置であって、
前記被計測物が配置される空間に関する情報に基づいて、前記パターン光を投影する投影部による投影可能領域と前記被計測物を撮像する撮像部による撮像可能領域とが重なる重複領域を特定する特定部と、
前記特定部によって特定された重複領域を示す出力部と、
を有することを特徴とする計測装置。
【請求項２】
前記出力部は、前記特定部によって特定された重複領域を表示することを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項３】
前記出力部は、
前記重複領域を示すための第１パターンを生成する生成部を含み、
前記投影部を介して前記第１パターンを前記空間に投影することを特徴とする請求項１又は２に記載の計測装置。
【請求項４】
前記生成部は、前記パターン光を生成するための第２パターンを生成することを特徴とする請求項３に記載の計測装置。
【請求項５】
前記出力部は、
前記重複領域を示すための第１パターンを生成する生成部と、
前記第１パターンを前記空間に投影する、前記投影部とは別の投影部と、
を含むことを特徴とする請求項１に記載の計測装置。
【請求項６】
前記情報は、前記投影部及び前記撮像部についての基準位置と前記空間との間の距離、及び、前記空間の寸法の少なくとも一方を含むことを特徴とする請求項１乃至５のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項７】
前記特定部は、ユーザによって入力された前記情報、予め設定された前記情報、及び、前記画像から得られる前記情報のうちの少なくとも１つを取得することを特徴とする請求項１乃至６のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項８】
前記投影部及び前記撮像部の少なくとも一方は、フォーカスを調整する調整部を含み、
前記特定部は、前記フォーカスの調整による前記投影部による投影可能領域及び前記撮像部による撮像可能領域の少なくとも一方の変化を考慮して、前記重複領域を特定することを特徴とする請求項１乃至７のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項９】
前記第１パターンは、前記重複領域の少なくとも一部の輪郭を示すパターン、前記重複領域と当該重複領域を除く領域との間に光量差を与えるパターン、及び、前記重複領域を十字に分割するパターンのうちの少なくとも１つを含むことを特徴とする請求項３乃至８のうちいずれか１項に記載の計測装置。
【請求項１０】
前記重複領域の少なくとも一部の輪郭を示すパターンは、前記重複領域の全ての輪郭を示すパターン、又は、前記重複領域の隅を示すパターンを含むことを特徴とする請求項９に記載の計測装置。
【請求項１１】
前記第１パターンは、前記投影部及び前記撮像部についての基準位置と前記空間との間の距離を示すパターンを含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載の計測装置。
【請求項１２】
前記第１パターンは、前記投影部及び前記撮像部についての基準位置と前記空間との間の複数の距離のそれぞれにおける複数の前記重複領域を示すパターンを含むことを特徴とする請求項９又は１０に記載の計測装置。
【請求項１３】
前記第１パターンは、前記複数の距離のそれぞれを示すパターンを含むことを特徴とする請求項１２に記載の計測装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被計測物の形状を計測する計測装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
既知のパターン光を被計測物に投影し、かかるパターン光が投影された被計測物を撮像して得られる画像に基づいて、被計測物の３次元形状を計測するパターン投影方式の計測装置が知られている（特許文献１参照）。このような計測装置において、被計測物を計測可能な領域は、パターン光を投影する投影部による投影可能領域と撮像部による撮像可能領域とが重なる重複領域に限定されるため、ユーザは、被計測物（被計測空間）を重複領域内に配置する必要がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第２５１７０６２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、パターン投影方式の計測装置において、投影部による投影可能領域と撮像部による撮像可能領域との重複領域を認識することはユーザにとって非常に困難である。特に、かかる重複領域は、計測装置と被計測物との間の距離に応じて変化してしまう。従って、任意の距離において重複領域内に被計測物を配置したとしても、別の距離では被計測物が重複領域から外れている可能性がある。このように、被計測物が重複領域から外れて配置された場合には、被計測物の３次元形状を計測することができなくなってしまう。
【０００５】
本発明は、このような従来技術の課題に鑑みてなされ、投影部による投影可能領域と撮像部による撮像可能領域との重複領域を認識するのに有利な計測装置を提供することを例示的目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の一側面としての計測装置は、パターン光を被計測物に投影し、前記パターン光が投影された前記被計測物を撮像して得られる画像に基づいて、前記被計測物の形状を計測する計測装置であって、前記被計測物が配置される空間に関する情報に基づいて、前記パターン光を投影する投影部による投影可能領域と前記被計測物を撮像する撮像部による撮像可能領域とが重なる重複領域を特定する特定部と、前記特定部によって特定された重複領域を示す出力部と、を有することを特徴とする。
【０００７】
本発明の更なる目的又はその他の側面は、以下、添付図面を参照して説明される好ましい実施形態によって明らかにされるであろう。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、例えば、投影部による投影可能領域と撮像部による撮像可能領域との重複領域を認識するのに有利な計測装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】本発明の一側面としての計測装置の構成を示す概略図である。
【図２】本発明の一側面としての計測装置の構成を示す概略図である。
【図３】投影可能領域と撮像可能領域との重複領域を示すためのパターンの一例を示す図である。
【図４】投影可能領域と撮像可能領域との重複領域を示すためのパターンの一例を示す図である。
【図５】投影可能領域と撮像可能領域との重複領域を示すためのパターンの一例を説明するための図である。
【図６】パターン投影方式の計測装置における投影可能領域と撮像可能領域との重複領域が変化することを説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下、添付図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１１】
まず、図６（ａ）乃至図６（ｃ）を参照して、パターン投影方式の計測装置において、計測装置と被計測物との間の距離、所謂、ワーキングディスタンスに応じて、投影部による投影可能領域と撮像部による撮像可能領域との重複領域が変化することを説明する。計測装置１は、図６（ａ）に示すように、被計測物に投影するパターン光を生成する生成部１０１と、かかるパターン光を被計測物に投影する投影部１０２とを有する。また、計測装置１は、パターン光が投影された被計測物を撮像して画像を取得する撮像部１０３と、撮像部１０３で取得された画像に基づいて、被計測物の３次元等の形状（位置姿勢）を求める処理部１０４とを有する。
【００１２】
生成部１０１は、例えば、光源と、パターン生成素子と、光学素子とを含む。パターン生成素子は、例えば、ＤＭＤ（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｍｉｃｒｏｍｉｒｒｏｒ  Ｄｅｖｉｃｅ）や液晶などで構成される。パターン生成素子は、光源からの光の進行方向や透過率を変化させることによって、被計測物に投影する測距用のパターン（第２パターン）を生成する。
【００１３】
投影部１０２は、光学素子を含み、生成部１０１によって生成されたパターンを被計測物（被計測物が配置される被計測空間）に投影する。撮像部１０３は、光学素子と、撮像素子とを含み、被計測物に投影されたパターンを撮像して画像を取得する。
【００１４】
ここで、投影部１０２を用いてパターンを投影可能な領域が投影部１０２による投影可能領域ＰＲであり、撮像部１０３を用いて撮像可能な領域が撮像部１０３による撮像可能領域ＳＲである。投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとが重なる領域の一部を切り出したものが重複領域ＯＲである。図６（ａ）では、ワーキングディスタンスに応じて、重複領域ＯＲの大きさや中心位置などが変化する様子を示している。
【００１５】
図６（ｂ）は、投影部１０２の視野で重複領域ＯＲを示す図であり、図６（ｃ）は、撮像部１０３の視野で重複領域ＯＲを示す図である。図６（ｂ）及び図６（ｃ）に示す重複領域ＯＲは、図６（ａ）に示す重複領域ＯＲと同じである。図６（ｂ）には、重複領域ＯＲに対する投影部１０２の視野範囲ＦＶＰが示されており、ワーキングディスタンスに応じて、投影部１０２の視野範囲ＦＶＰが変化していることがわかる。また、図６（ｃ）には、重複領域ＯＲに対する撮像部１０３の視野範囲ＦＶＳが示されており、ワーキングディスタンスに応じて、撮像部１０３の視野範囲ＦＶＳが変化していることがわかる。
【００１６】
このように、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲは、ワーキングディスタンスに応じて変化する。従って、任意のワーキングディスタンスにおいて重複領域ＯＲの領域内に被計測物を配置したとしても、別のワーキングディスタンスでは被計測物が重複領域ＯＲから外れている可能性がある。被計測物が重複領域ＯＲから外れて配置された場合には、被計測物の３次元形状を計測することができなくなってしまう。
【００１７】
そこで、本実施形態では、計測装置１において、ワーキングディスタンスに応じて変化する投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲをユーザに示すことを実現する。これにより、ユーザは、ワーキングディスタンスに応じて変化する重複領域ＯＲを認識することが可能となり、ユーザの利便性を向上させることができる。例えば、ユーザは、重複領域ＯＲの領域内に被計測物が位置していることを確認する、或いは、重複領域ＯＲの領域内に被計測物が位置するように被計測物を容易に配置することができるため、被計測物の計測を効率的に行うことが可能となる。
【００１８】
図１は、本発明の一側面としての計測装置１の構成を示す概略図である。計測装置１は、上述したように、パターン光を被計測物に投影し、パターン光が投影された被計測物を撮像して得られる画像に基づいて、被計測物の３次元形状を計測するパターン投影方式の計測装置である。
【００１９】
本実施形態において、処理部１０４は、被計測物が配置される被計測空間に関する情報に基づいて、投影部１０２による投影可能領域ＰＲと撮像部１０３による撮像可能領域ＳＲとが重なる重複領域ＯＲを特定する特定部として機能する。ここで、被計測空間に関する情報とは、例えば、投影部１０２及び撮像部１０３についての基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離（ワーキングディスタンス）、及び、被計測空間（被計測物）の寸法の少なくとも一方を含む。また、生成部１０１や投影部１０２は、処理部１０４によって特定された重複領域ＯＲをユーザ等に示す出力部として機能し、例えば、ユーザに対して、重複領域ＯＲを表示する。
【００２０】
具体的には、処理部１０４は、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴａ、ＤＴｂ及びＤＴｃのそれぞれについて、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲａ、ＯＲｂ及びＯＲｃを特定する。この際、処理部１０４は、例えば、投影部１０２の視野の設計値、撮像部１０３の視野の設計値、及び、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離に基づいて、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを特定する。但し、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離に応じて、投影部１０２や撮像部１０３ではピンぼけが発生するため、投影部１０２及び撮像部１０３の少なくとも一方は、フォーカスを調整する調整部を含んでいるとよい。フォーカスの調整によって、投影部１０２による投影可能領域ＰＲ及び撮像部１０３による撮像可能領域ＳＲの少なくとも一方が変化する場合には、それらも考慮して重複領域ＯＲを特定する。
【００２１】
また、生成部１０１は、処理部１０４によって特定された距離ＤＴａ、ＤＴｂ及びＤＴｃのそれぞれに対応する重複領域ＯＲａ、ＯＲｂ及びＯＲｃを示すためのパターン（第１パターン）を生成する。例えば、生成部１０１は、重複領域ＯＲａ乃至ＯＲｃのそれぞれに対応する投影部１０２の視野範囲に対し、その内側と外側との境界を認識可能なパターンを生成する。そして、かかるパターンを、投影部１０２を介して被計測空間に投影することによって、重複領域ＯＲをユーザに示すことが可能となる。これにより、ユーザは、被計測空間側で重複領域ＯＲａ乃至ＯＲｃを認識することができるため、被計測物や必要な冶工具などの配置（位置調整）を容易に行うことが可能となる。
【００２２】
ここで、処理部１０４は、例えば、ユーザの入力によって、被計測空間に関する情報としての基準位置ＲＦと被計測物との間の距離ＤＴａ、ＤＴｂ乃至ＤＴｃを取得する。例えば、ユーザは、計測装置１と被計測空間との相対的な距離や所定の被計測空間に対する距離を入力し、処理部１０４は、ユーザによって入力された距離の情報から距離ＤＴａ、ＤＴｂ乃至ＤＴｃを取得する。
【００２３】
また、被計測空間に関する情報については、ユーザが入力する例に限定されるものではない。例えば、計測装置１の仕様、投影部１０２又は撮像部１０３におけるフォーカスの調整範囲や焦点深度の範囲などによって、計測装置１で計測可能な相対距離が設定されて（決められて）いる場合もある。このような場合には、処理部１０４は、計測装置１に予め設定されている相対距離（被計測空間に関する情報）を参照（取得）すればよい。基準位置ＲＦと被計測物との間の距離が予め複数設定されている場合には、それらをユーザが選択することで、被計測空間に関する情報を取得してもよい。また、計測装置１が備える測距機能を用いて、即ち、パターン光が投影された被計測物を撮像して得られる画像から基準位置ＲＦと被計測物との間の距離を取得してもよい。
【００２４】
被計測空間に関する情報として、ユーザは、被計測空間の寸法を入力してもよい。この場合、処理部１０４は、ユーザによって入力された被計測空間の寸法を満たす重複領域ＯＲ（の位置）を特定し、その位置までの相対距離を被計測空間に関する情報とする。これにより、基準位置ＲＦと被計測物との間の距離がわからない場合であっても、被計測空間の寸法を入力するだけで、それを満たす重複領域ＯＲを特定し、ユーザに示すことが可能となる。
【００２５】
本実施形態では、投影部１０２や撮像部１０３の視野の設計値、及び、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離に基づいて、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを特定しているが、これに限定されるものではない。例えば、投影部１０２や撮像部１０３の視野の設計値に加えて、校正装置によって得られる校正値も考慮して、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを特定してもよい。また、重複領域ＯＲを特定する際に必要となる計算をオフラインで行って計測装置１に登録し、処理部１０４が登録された値を参照することで、重複領域ＯＲを特定してもよい。また、投影部１０２や撮像部１０３の視野を実測した値を計測装置１に登録し、処理部１０４が登録された値を参照して重複領域ＯＲを特定してもよい。
【００２６】
図１では、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲの最大領域を示す例を説明しているが、これに限定されるものではなく、重複領域ＯＲの領域範囲内であれば、重複領域ＯＲの一部の領域を示してもよい。例えば、被計測空間が奥行きを有している場合、ユーザの利便性を考えると、被計測空間の前面と背面で不変な重複領域ＯＲを示す方がよいことがある。
【００２７】
図２を参照して、重複領域ＯＲの最大領域ではなく、重複領域ＯＲの一部の領域を示す例について説明する。図２において、空間ＳＰは、被計測空間の奥行きＤＲａ（の方向）に対して不変な重複領域を示し、空間ＳＰの前面が重複領域ＯＲｄである。これは、パレットの内部にバラ積みされた部品を計測したいユーザに好適である。例えば、空間ＳＰの寸法と同等以下の寸法を有するパレットについて、パレットの上面を重複領域ＯＲｄの領域内に配置することで、パレットの内部（の空間）が全て投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲの領域内に位置することになる。この場合、処理部１０４は、被計測空間である空間ＳＰ、又は、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｄ及び奥行きＤＲａに基づいて、重複領域ＯＲを特定する。ここでは、距離ＤＴｄを、基準位置ＲＦと被計測空間（空間ＳＰ）の前面との間の距離としているが、基準位置ＲＦと被計測空間の背面との間の距離や基準位置ＲＦと被計測空間の内部の任意の位置との間の距離であってもよい。
【００２８】
図３（ａ）乃至図３（ｄ）を参照して、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンの一例について説明する。本実施形態では、重複領域ＯＲを示すためのパターンは、上述したように、生成部１０１によって生成される。図３（ａ）乃至図３（ｄ）は、生成部１０１を構成するＤＭＤの反射面又は液晶面を模式的に表しており、実際に投影されるパターンは、ＤＭＤや液晶のサイズ又は投影部１０２の視野によって、領域２０１の領域内に限定される。
【００２９】
図３（ａ）は、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンの一例として、重複領域ＯＲの少なくとも一部の輪郭、詳細には、重複領域ＯＲの全ての輪郭を示すパターン２０２Ａを示している。パターン２０２Ａは、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離における重複領域ＯＲの境界に対応するＤＭＤの反射面又は液晶面上での位置を示しており、かかる位置に入射した光のみが投影部１０２を介して被計測空間に投影される。従って、パターン２０２Ａから射出された光は、投影部１０２を介して投影され、指定された距離において重複領域ＯＲの輪郭（境界位置）を照射する。このようにして、ユーザに対して重複領域ＯＲを示す（表示する）ことが可能となる。
【００３０】
図３（ｂ）は、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンの一例として、重複領域ＯＲと重複領域ＯＲを除く領域との間に光量差を与えるパターン２０２Ｂを示している。パターン２０２Ｂは、例えば、重複領域ＯＲの境界及びその領域内に対して光を照射するためのパターンである。このように、重複領域ＯＲの領域内と領域外とに投影される光量を変化させることで、ユーザに対して重複領域ＯＲを示してもよい。
【００３１】
図３（ｃ）は、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンの一例として、重複領域ＯＲの少なくとも一部の輪郭、詳細には、重複領域ＯＲの隅を示すパターン２０２Ｃを示している。パターン２０２Ｃは、例えば、重複領域ＯＲの隅に対して光を照射するためのパターンである。
【００３２】
図３（ｄ）は、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンの一例として、重複領域ＯＲを十字に分割するパターン２０２Ｄを示している。パターン２０２Ｄでは、十字の長さを重複領域ＯＲの幅に対応させることで、ユーザに対して重複領域ＯＲを示すことが可能である。また、パターン２０２Ｄは、パターン２０２Ａ又は２０２Ｃと組み合わせてもよい。
【００３３】
図３（ａ）乃至図３（ｄ）では、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンが明部として投影されるが、これに限定されるものではない。例えば、重複領域ＯＲを示すためのパターンを暗部とし、その他を明部として投影することで、ユーザに対して重複領域ＯＲを示してもよい。
【００３４】
また、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンは、かかる重複領域ＯＲを特定する際に用いた基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離を示すパターンを含んでもよい。例えば、ユーザが基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離を入力していない場合には、ユーザに対して、重複領域ＯＲに加えて基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離を示すとよい。
【００３５】
図４は、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンの一例として、重複領域ＯＲの全ての輪郭を示すパターン２０２Ａと、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離を示すパターン２０３Ｅとを含むパターンを示している。なお、図４は、生成部１０１を構成するＤＭＤの反射面又は液晶面を模式的に表している。パターン２０３Ｅでは、例えば、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離（の数値）をデジタル書式でパターン化している。図４に示すパターンは、ユーザに対して、重複領域ＯＲと併せて基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離を示すことができる。これにより、ユーザは、重複領域ＯＲと、かかる重複領域ＯＲを特定する際に用いた基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離とを認識することができるため、被計測物や必要な冶工具などの配置（位置調整）を容易に行うことが可能となる。なお、図４では、重複領域ＯＲを示すためのパターンを、重複領域ＯＲの全ての輪郭を示すパターン２０２Ａとしているが、重複領域ＯＲの隅を示すパターン２０２Ｃや重複領域ＯＲを十字に分割するパターン２０２Ｄに置換してもよい。
【００３６】
次に、図５（ａ）乃至図５（ｃ）を参照して、被計測空間が奥行きを有している場合において、被計測空間の前面及び背面のそれぞれにおける重複領域ＯＲを示すためのパターンについて説明する。これは、上述したように、パレットの内部にバラ積みされた部品を計測したいユーザに好適である。パレットの開口部である上面（被計測空間の前面）及びパレットの底部である下面（被計測空間の背面）のそれぞれにおける重複領域ＯＲを示すことで、ユーザは、パレットの配置位置を容易に決定することが可能である。
【００３７】
図５（ａ）において、空間ＳＰは、被計測空間の奥行きＤＲａ（の方向）に対して不変な重複領域を示し、空間ＳＰの前面が重複領域ＯＲｆであり、空間ＳＰの背面が重複領域ＯＲｇである。この場合、処理部１０４は、被計測空間である空間ＳＰ及び基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｆ、又は、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｇに基づいて、重複領域ＯＲｆ及びＯＲｇを特定する。例えば、計測装置１に対してパレットを配置するのに好適な位置を床などにマーキングしたいユーザは、パレットの開口部及び底部のそれぞれを重複領域ＯＲｆ及びＯＲｇのそれぞれの領域内に配置してマーキングすればよい。これにより、パレットの内部が全て重複領域ＯＲの領域内に位置するパレット配置位置を決定することが可能となる。
【００３８】
図５（ｂ）は、重複領域ＯＲｆと重複領域ＯＲｇとを同時に示すパターンの一例を示す図である。パターン２０２Ｆは、重複領域ＯＲｆを示すためのパターンであり、パターン２０２Ｇは、重複領域ＯＲｇを示すためのパターンである。これにより、ユーザに対して、被計測空間の前面及び背面のそれぞれにおける重複領域ＯＲを同時に示すことができる。
【００３９】
更に、パターン２０２Ｆ及び２０２Ｇのそれぞれがどの距離における重複領域ＯＲを示しているのかを明確にするために、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離も示すとよい。具体的には、図５（ｃ）に示すように、重複領域ＯＲｆ及びＯＲｇのそれぞれを示すためのパターン２０２Ｆ及び２０２Ｇに加えて、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｆ及びＤＴｇのそれぞれを示すためのパターン２０３Ｆ及び２０３Ｇも生成する。パターン２０３Ｆでは、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｆをデジタル書式でパターン化している。また、パターン２０３Ｇでは、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｇをデジタル書式でパターン化している。これにより、ユーザは、複数の重複領域ＯＲと、かかる複数の重複領域ＯＲのそれぞれを特定する際に用いた基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離とを認識することができる。
【００４０】
また、図５（ｂ）及び図５（ｃ）では、投影可能領域ＰＲと撮像可能領域ＳＲとの重複領域ＯＲを示すためのパターンとして、重複領域ＯＲの全ての輪郭を示すパターンを示している。但し、重複領域ＯＲを示すためのパターンは、重複領域ＯＲの隅を示すパターンや重複領域ＯＲを十字に分割するパターンであってもよい。
【００４１】
また、本実施形態では、重複領域ＯＲｆ及びＯＲｇを、空間ＳＰ及び基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｆ、又は、基準位置ＲＦと被計測空間との間の距離ＤＴｇに基づいて特定しているが、これに限定されるものではない。例えば、ユーザが被計測空間の寸法を入力し、かかる被計測空間を満足する重複領域ＯＲを求めることで、重複領域ＯＲｆ及びＯＲｇを特定してもよい。これにより、例えば、所定の寸法を有するパレットを使用するユーザは、かかるパレットの寸法を入力すれば、それを満たす重複領域ＯＲが示されるため、パレットの配置位置を容易に決定することができる。
【００４２】
また、本実施形態では、被計測物の３次元形状を計測するための測距用のパターンを生成する生成部１０１が重複領域ＯＲを示すためのパターンを生成している。但し、生成部１０１とは別に、重複領域ＯＲを示すためのパターンを生成する生成部を設けてもよい。同様に、本実施形態では、測距用のパターンを投影する投影部１０２が重複領域ＯＲを示すためのパターンを投影しているが、投影部１０２とは別に、重複領域ＯＲを示すためのパターンを投影する投影部を設けてもよい。換言すれば、計測装置１の付加機能として、重複領域ＯＲを示すためのパターンを生成する生成部と、重複領域ＯＲを示すためのパターンを投影する投影部とを、被計測物の３次元形状を計測するための生成部１０１及び投影部１０２と別体で構成してもよい。
【００４３】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されないことはいうまでもなく、その要旨の範囲内で種々の変形及び変更が可能である。
【符号の説明】
【００４４】
１：計測装置    １０１：生成部    １０２：投影部    １０３：撮像部    １０４：処理部    ＰＲ：投影可能領域    ＳＲ：撮像可能領域    ＯＲ：重複領域
【図１】
2016161561.tif 000003
【図２】
2016161561.tif 000004
【図３】
2016161561.tif 000005
【図４】
2016161561.tif 000006
【図５】
2016161561.tif 000007
【図６】
2016161561.tif 000008