(57)【要約】【課題】溶接部の表面での反射光がより散乱しやすい構成を得る。【解決手段】実施形態の溶接部処理方法は、第一の部材と第二の部材とを溶接した溶接部の表面を粗面化する工程を含む。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第一の部材と第二の部材とを溶接した溶接部の表面を粗面化する工程を含む溶接部処理方法。
【請求項２】
前記工程では、前記表面にレーザ光を照射することにより前記表面を粗面化する、請求項１に記載の溶接部処理方法。
【請求項３】
前記レーザ光は、パルスレーザ光である、請求項２に記載の溶接部処理方法。
【請求項４】
前記工程では、前記表面を酸化させることにより前記表面を粗面化する、請求項１に記載の溶接部処理方法。
【請求項５】
前記工程では、酸素を含むガスで前記表面を覆った状態でレーザ光を照射することにより前記表面を粗面化する、請求項４に記載の溶接部処理方法。
【請求項６】
前記レーザ光は、連続発振のレーザ光である、請求項５に記載の溶接部処理方法。
【請求項７】
前記溶接部は、環状であり、
前記工程では、前記溶接部の周方向に沿って前記レーザ光を照射する請求項２，３，５，６のいずれか一項に記載の溶接部処理方法。
【請求項８】
前記表面の一部のみに前記レーザ光を照射する請求項２，３，５，６のいずれか一項に記載の溶接部処理方法。
【請求項９】
前記溶接部は、レーザ溶接によって設けられ、
前記粗面化のためのレーザ光の最大強度は、前記レーザ溶接のレーザ光の最大強度よりも弱い、請求項２，３，５，６，７，８のいずれか一項に記載の溶接部処理方法。
【請求項１０】
前記第一の部材には、開口部が設けられ、
前記第二の部材は、前記開口部を塞ぎ、
前記溶接部は、前記開口部の周囲に設けられた、請求項１〜９のいずれか一項に記載の溶接部処理方法。
【請求項１１】
前記第一の部材と前記第二の部材とは、二次電池に設けられ内部に電極体を収納する容器に設けられた、請求項１０に記載の溶接部処理方法。
【請求項１２】
第一の部材と、
第二の部材と、
粗面化された粗面化部が表面に設けられ、前記第一の部材と前記第二の部材とを溶接した溶接部と、
を備えた構造体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、溶接部処理方法および構造体に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、二つの部材の接合をレーザ溶接によって行うことがある。レーザ溶接によって設けられた溶接部の検査方法として、例えば白色干渉計を用いて溶接部の表面の高さ情報を取得し、当該高さ情報に基づいて溶接部の良否を判定する検査方法が知られている。白色干渉計は、溶接部の表面に検査光を照射し、当該検査光の溶接部の表面での反射光（散乱光）を受光部で受光し、当該受光した反射光に基づいて溶接部の表面の高さ情報を得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−９１１９８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
この種の検査方法では、溶接部の表面が滑らかすぎると溶接部の表面で光が散乱しにくいため、白色干渉計の受光部に向かう反射光が発生しにくくなる場合がある。この場合、溶接部の高さ情報の精度が低くなってしまう。そこで、溶接部の表面での反射光がより散乱しやすい構成が得られれば有意義である。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
実施形態の溶接部処理方法は、第一の部材と第二の部材とを溶接した溶接部の表面を粗面化する工程を含む。
【図面の簡単な説明】
【０００６】
【図１】図１は、第１の実施形態の二次電池の概略構成を示す外観斜視図である。
【図２】図２は、第１の実施形態の二次電池における容器の封口蓋周辺を示す平面図である。
【図３】図３は、図２のIII−III線に沿った断面の概略を示す図である。
【図４】図４は、第１の実施形態の二次電池の封口蓋の一部を示す断面図である。
【図５】図５は、第１の実施形態の封口装置の概略構成を示す図である。
【図６】図６は、第１の実施形態の二次電池の製造工程の流れを示すフローチャートである。
【図７】図７は、第１の実施形態のレーザ溶接を説明するための説明図である。
【図８】図８は、第１の実施形態のレーザ溶接を説明するための説明図である。
【図９】図９は、第１の実施形態の二次電池の粗面化前の溶接部周辺を示す平面図である。
【図１０】図１０は、第１の実施形態の二次電池の粗面化前の溶接部周辺に対する白色干渉計の計測結果の画像を示す図である。
【図１１】図１１は、第１の実施形態の二次電池の粗面化後の溶接部周辺に対する白色干渉計の計測結果の画像を示す図である。
【図１２】図１２は、第２の実施形態の封口装置の概略構成を示す図である。
【図１３】図１３は、第２の実施形態の二次電池における容器の封口蓋周辺を示す平面図である。
【図１４】図１４は、図１３のXIV部を拡大して示す図である。
【図１５】図１５は、第３の実施形態の二次電池における容器の封口蓋周辺を示す平面図である。
【図１６】図１６は、第３の実施形態のレーザ溶接を説明するための説明図である。
【図１７】図１７は、第３の実施形態の二次電池の粗面化前の溶接部周辺を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００７】
以下、図面を参照して、実施形態について詳細に説明する。なお、以下の複数の実施形態には、同様の構成要素が含まれている。よって、以下では、それら同様の構成要素には共通の符号を付与するとともに、重複する説明を省略する。
【０００８】
（第１の実施形態）
図１に示すように、本実施形態の二次電池１は、電極体２と、電極体２および電解液を内部に収容する容器３と、一対の正極端子４および負極端子５とを備えている。二次電池１は、例えば、リチウムイオン電池などの非水電解質二次電池である。
【０００９】
電極体２は、発電要素である正極シートおよび負極シートがセパレータを介してスパイラル状に巻かれて構成されており、容器３内に電解液と共に収納されている。
【００１０】
容器３は、扁平な直方体形状の外装容器であり、例えば、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの金属により構成されている。容器３は、上端（図１中）が開口する一端開口の容器本体３ａと、容器本体３ａの開口を塞ぐ矩形板状の蓋体３ｂとを有しており、蓋体３ｂが容器本体３ａに溶接されて液密に構成されている。蓋体３ｂは、壁部とも称され得る。容器３は、構造体の一例である。
【００１１】
正極端子４は、蓋体３ｂの長手方向の一端部に設けられており、負極端子５は、蓋体３ｂの長手方向の他端部に設けられている。これらの正極端子４および負極端子５は、電極体２の正極および負極にそれぞれ接続されており、蓋体３ｂの外面３ｃ（上面、面）から突出している。また、どちらか一方の端子、例えば正極端子４は、蓋体３ｂに電気的に接続されて容器３と同電位になっている。負極端子５は、蓋体３ｂを貫通して延伸しており、その負極端子５と蓋体３ｂとの間には、合成樹脂やガラスなどの絶縁体からなるシール材、例えばガスケット（図示せず）が設けられている。このシール材は、負極端子５と容器３との間を気密にシールすると共に電気的に絶縁している。
【００１２】
また、図１および図２に示すように、蓋体３ｂには、注液口７が設けられている。注液口７は、蓋体３ｂの板厚方向に蓋体３ｂを貫通した貫通孔である。注液口７は、一例として円形状に構成されている。この注液口７から容器３内に電解液が注入される。注液口７は、開口部の一例である。
【００１３】
蓋体３ｂには、注液口７を塞ぐ封口蓋９が、一例としてレーザ溶接によって接合（固定）されている。蓋体３ｂは、第一の部材の一例であり、封口蓋９は、第二の部材の一例である。封口蓋９は、例えば、アルミニウムまたはアルミニウム合金などの金属により形成されており、蓋体３ｂの外面３ｃに重ねられ注液口７を塞いだ状態で蓋体３ｂに接合されている。封口蓋９は、例えば円形状に形成されており、その半径が注液口７の半径より大きく形成されている。封口蓋９は、壁部とも称され得る。
【００１４】
図２および図３に示すように、蓋体３ｂと封口蓋９とに亘って、レーザ溶接による溶接部１０が設けられている。溶接部１０は、注液口７の周囲に設けられている。溶接部１０は、注液口７を囲繞した略円環状に構成されている。本実施形態では、溶接部１０は、注液口７を囲繞した略円環状の環状部１０ａによって構成されている。溶接部１０は、封口蓋９の蓋体３ｂとは反対側の表面である外面９ａに対してレーザ光Ｌ（図５）が照射されることにより形成される。レーザ光Ｌの照射は、例えば、注液口７回りに一周または複数周行われる。本実施形態では、一例として、レーザ光Ｌの照射が二周行われることで、溶接部１０が形成される。このような溶接部１０の環状部１０ａは、各レーザ光Ｌの照射に対応した二つの領域１０ｂ，１０ｃ（図３）を有する。領域１０ｂは、二つの領域１０ｂ，１０ｃのうち内側の領域であり、領域１０ｃは、二つの領域１０ｂ，１０ｃのうち外側の領域である。二つの領域１０ｂ，１０ｃの一部は、互いに重なっている。溶接部１０は、溶接痕とも称され得る。
【００１５】
溶接部１０は、蓋体３ｂの外面９ａを構成する表面１０ｄを有している。表面１０ｄは、封口蓋９の外面９ａにおいてレーザ光Ｌが照射された部分である。表面１０ｄは、外面９ａのうち表面１０ｄに隣接する部分に対して凸状に構成されている。
【００１６】
図２に示すように、表面１０ｄには、粗面化された粗面化部１０ｅが設けられている。粗面化部１０ｅは、環状部１０ａの周方向に沿った略円環状に構成されている。粗面化部１０ｅは、例えば、同心円状の複数の環状部１０ｇを有している。粗面化部１０ｅは、表面１０ｄの全体または一部に設けられている。図４に示されるように、粗面化部１０ｅには、凹凸部１０ｆが設けられている。凹凸部１０ｆは、環状部１０ａの周方向Ｒに沿って凹部と凸部とが交互に繰り返されて構成されている。粗面化部１０ｅは、表面１０ｄにパルスレーザ光が照射されて表面１０ｄに凹凸部１０ｆが生じることにより、形成される。粗面化部１０ｅを形成するパルスレーザ光は、注液口７回りに環状に照射される。図２では、パルスレーザ光が、三周（三重）照射されて三つの環状部１０ｇが形成された例が示されている。なお、環状部１０ｇは、一周だけ設けられてもよい。
【００１７】
また、溶接部１０の周囲には、複数の仮溶接部１１が設けられている。仮溶接部１１は、レーザ溶接によって蓋体３ｂと封口蓋９とに亘って設けられている。
【００１８】
次に、二次電池１の製造方法について説明する。二次電池１の製造方法は、溶接部処理方法（溶接部表面処理方法）を含む。
【００１９】
二次電池１の製造では、電解液注入装置（図示せず）や封口装置２０（図５）が用いられる。図５に示すように、封口装置２０は、レーザ照射装置２２と、ガス噴射ノズル２４と、ガス供給装置２５と、を備えている。レーザ照射装置２２は、レーザ光Ｌを出射する。レーザ光Ｌは、連続発振のレーザ光である連続レーザ光やパルスレーザ光である。レーザ照射装置２２は、ガルバノスキャナなどのスキャナを用いてレーザ光Ｌを走査することが可能である。ガス噴射ノズル２４は、ガス供給装置２５から供給されるガスを、レーザ光Ｌの照射対象に向けて噴射する。ガス供給装置２５が供給するガスは、窒素ガス等の不活性ガスである。
【００２０】
図６に示すように、二次電池１の製造では、まず、電解液注入装置によって容器３内に注液口７から電解液を注入する（工程Ｓ１）。その後、電解液が注入された容器３を封口装置２０の内部に供給する（工程Ｓ２）。
【００２１】
次に、ロボットなどの載置装置（図示せず）により、注液口７を塞ぐ位置で蓋体３ｂに封口蓋９を載置する（工程Ｓ３）。
【００２２】
次に、容器３の蓋体３ｂに封口蓋９を溶接する（工程Ｓ４）。工程Ｓ４では、仮溶接によって仮溶接部１１を設けた後に、本溶接によって溶接部１０を設ける。仮溶接および本溶接では、ガス噴射ノズル２４によって溶接対象（加工部位）に対して不活性ガスが噴射された状態で、レーザ照射装置２２が溶接対象にレーザ光Ｌを照射する。このとき、溶接部１０は、不活性ガスで覆われているので、溶接部１０の酸化が抑制される。本溶接では、レーザ照射装置２２が、封口蓋９の外面９ａにレーザ光Ｌを円環状に照射する。本溶接でのレーザ光Ｌは、連続レーザ光である。図７，８には、工程Ｓ４の本溶接での封口蓋９の外面９ａ上のレーザ光Ｌの軌跡Ｂ１〜Ｂ４が示されている。レーザ光Ｌは、図７に実線の軌跡Ｂ１，Ｂ２で示されるように、外面９ａの始点となる位置Ｐ１，Ｐ２から、それぞれ上方からの視線で注液口７周りに環状に照射された後、引き続き図８に実線の軌跡Ｂ３，Ｂ４で示されるように、位置Ｐ１，Ｐ２から位置Ｐ３，Ｐ４までの規定の長さだけ、軌跡Ｂ１，Ｂ２に沿って照射される。すなわち、レーザ光Ｌは、各位置Ｐ１，Ｐ２から一周を超えて照射される。このとき、位置Ｐ１，Ｐ２〜位置Ｐ１，Ｐ２までの環状の溶接は、規定の強度のレーザ光Ｌにより行われる第一の溶接であり、位置Ｐ１，Ｐ２〜位置Ｐ１，Ｐ２までの環状の溶接に引き続いて行われる位置Ｐ１，Ｐ２〜位置Ｐ３，Ｐ４までの溶接は、第二の溶接である。第一の溶接でのレーザ光Ｌの強度は、第一の規定の強度となるように制御され、第二の溶接でのレーザ光Ｌの強度は、位置Ｐ１，Ｐ２から位置Ｐ３，Ｐ４（終端）に向かうにつれて弱くなるように制御される。第一の溶接によって、蓋体３ｂと封口蓋９との接合強度は確保され、第二の溶接において、レーザ光Ｌの強度を序々に落とすことができる。このようなレーザ溶接によって、封口蓋９が蓋体３ｂに接合（固定）され、溶接部１０が円環状に設けられる。粗面化される前の溶接部１０の一例が図９に示されている。
【００２３】
上記のように蓋体３ｂと封口蓋９とが溶接された後、溶接部１０の表面１０ｄを粗面化する（工程Ｓ５）。工程Ｓ５では、表面１０ｄにレーザ光Ｌを照射することにより表面１０ｄを粗面化する。工程Ｓ５のレーザ光Ｌは、パルスレーザ光である。工程Ｓ５のレーザ光Ｌの最大強度（最大パワー密度）は、工程Ｓ４のレーザ溶接のレーザ光Ｌの最大強度よりも弱い。工程Ｓ５では、レーザ照射装置２２は、溶接部１０の周方向に沿ってレーザ光Ｌを照射する。詳細には、レーザ照射装置２２は、溶接部１０の表面１０ｄに、例えばレーザ光Ｌを注液口７回りの円環状に三周照射する。このとき、三周のそれぞれの円環状の径は互いに異なる。各周のレーザ光Ｌの照射により環状部１０ｇが設けられる。これにより、三つの環状部１０ｇを有する粗面化部１０ｅが設けられる。図２，４に示されるように、パルスレーザ光であるレーザ光Ｌの照射によって、環状部１０ｇには、環状部１０ｇの周方向Ｒに沿って凹部と凸部とが交互に繰り返された凹凸部１０ｆが設けられる。工程Ｓ５では、例えば、レーザ光Ｌの走査速度は５０ｍｍ／ｓ、レーザ光Ｌの繰り返し周波数は５００Ｈｚ、レーザ光Ｌの照射時間（加工時間）は０．５６ｓｅｃである。この場合、レーザ光Ｌのピークパワーは、４００Ｗ〜６００Ｗの範囲内が好適である。この範囲内であると、表面１０ｄがわずかに荒らされる（粗面化される）だけなので、溶接部１０への悪影響の発生を抑制しつつ、粗面化部１０ｅを設けることができる。なお、レーザ光Ｌの、走査速度、繰り返し周波数、照射時間およびピークパワーは、上記に限定されるものではなく、上記の値以外のものであってもよい。工程Ｓ５は、溶接部処理方法に含まれる。
【００２４】
このようにして製造された二次電池１では、溶接部１０による蓋体３ｂと封口蓋９との溶接によって、蓋体３ｂと封口蓋９との間の密閉性（気密性および液密性）が確保される。そこで、密閉性の確認のために溶接部１０の検査が行われる。溶接部１０の検査では、例えば白色干渉計（干渉計）を用いて溶接部１０の表面の高さ情報を取得し、当該高さ情報に基づいて溶接部１０の良否を判定する。例えば、規定の深さ以上の深さの凹部が溶接部１０に存する場合、当該凹部を不良部として判定する。
【００２５】
図１０には、粗面化前の溶接部１０周辺に対する白色干渉計による計測結果の画像が示され、図１１には、粗面化後の溶接部１０周辺に対する白色干渉計による計測結果の画像が示されている。図１０，１１では、白色が強い（輝度値が高い）程、高さが高く、黒色が強い（輝度値が低い）ほど、高さが低い。図１０，１１は、粗面化の有無が違うだけの画像であるが、粗面化前後の溶接部１０の画像に違いが生じている。詳細には、粗面化前の溶接部１０（図１０）に比べて粗面化後の溶接部１０（図１１）の方が、黒色の部分が少ない。これは、粗面化前の溶接部１０では、溶接部１０の凸状の表面１０ｄに滑らかすぎる部分が生じ、当該滑らかすぎる部分では、光が散乱しにくいため、白色干渉計の受光部に向かう反射光が発生しにくくなるためと考えられる。これにより、正常な部位であっても規定の深さ以上の深さの凹部を示す画像となってしまうことがある。すなわち画像に偽像が生じてしまうことがある。この滑らかすぎる部分は、例えば、第一の溶接の終端部周辺、すなわち位置Ｐ１，Ｐ２の周囲を含む領域Ｃである。この原因の一つとしては、第一の溶接の終端部付近でキーホール型の溶接から熱伝導型の溶接に移行することが考えられる。これに対して、粗面化後の溶接部１０では、粗面化された粗面化部１０ｅに光を散乱させる凹凸部１０ｆが設けられている。よって、粗面化部１０ｅで反射した反射光は、散乱光となり、白色干渉計の受光部に向かう光が発生する。これにより、白色干渉計による計測の精度が向上する。
【００２６】
以上、説明したように、本実施形態の溶接部処理方法では、蓋体３ｂ（第一の部材）と封口蓋９（第二の部材）とを溶接した溶接部１０の表面１０ｄを粗面化する。これにより、粗面化された粗面化部１０ｅが溶接部１０の表面１０ｄに設けられる。粗面化部１０ｅは、反射光がより散乱しやすい。すなわち、溶接部１０の表面１０ｄでの反射光がより散乱しやすい構成を得ることができる。よって、例えば、白色干渉計を用いた溶接部１０の検査の検査精度を向上させることができる。
【００２７】
また、本実施形態では、溶接部１０の表面１０ｄにレーザ光Ｌを照射することにより表面１０ｄを粗面化する。よって、例えば、溶接部１０用のレーザ照射装置２２を、粗面化処理にも用いることができる。
【００２８】
また、本実施形態では、粗面化を行うレーザ光Ｌは、パルスレーザ光である。よって、溶接部１０の表面１０ｄに凹凸部１０ｆの凹部と凸部とを交互に規則的に設けることができる。
【００２９】
また、本実施形態では、溶接部１０は、環状である。そして、溶接部１０の周方向に沿ってレーザ光Ｌを照射することにより粗面化部１０ｅを設ける。よって、溶接部１０の周方向に沿った粗面化部１０ｅを設けることができる。
【００３０】
また、本実施形態では、溶接部１０は、レーザ溶接によって設けられる。そして、粗面化のためのレーザ光Ｌの最大強度は、レーザ溶接のレーザ光Ｌの最大強度よりも弱い。よって、粗面化部１０ｅの凹凸部１０ｆを比較的小さくしやすい。
【００３１】
なお、本実施形態では、溶接部１０の周方向Ｒに沿った環状の粗面化部１０ｅが設けられた例を説明したが、これに限るものではない。粗面化部１０ｅは、環状でなくてもよい。例えば、レーザ溶接によって表面１０ｄが滑らかになってしまうことが分かっている領域Ｃだけに粗面化部１０ｅを設けてもよい。このように、粗面化する部位を環状でなくすことにより、粗面化処理の短時間化を図ることができる。領域Ｃは、予め設定された表面１０ｄの一部の一例である。
【００３２】
（第２の実施形態）
本実施形態は、溶接部１０の表面１０ｄの粗面化の方法が第１の実施形態に対して主に異なる。本実施形態では、工程Ｓ５（図６）では、溶接部１０の表面１０ｄを酸化させることにより表面１０ｄを粗面化する。詳細には、図１２に示すように、本実施形態の封口装置２０Ａは、レーザ照射装置２２、ガス噴射ノズル２４、およびガス供給装置２５の他に、ガス供給装置２６を備えている。ガス供給装置２６は、ガス噴射ノズル２４に、酸素を含むガスを供給する。ガスは、酸素だけで構成されていてもよいし、空気等によって構成されていてもよい。ガス噴射ノズル２４へのガス供給装置２５，２６によるガスの供給は、切り替え可能に構成されている。
【００３３】
そして、工程Ｓ５では、ガス噴射ノズル２４は、ガス供給装置２６から供給されるガスを、粗面化のためのレーザ光Ｌの照射対象に向けて噴射する。これにより、レーザ光Ｌの照射対象、すなわち溶接部１０の表面１０ｄが、酸素を含むガス（雰囲気）で覆われる。そして、酸素を含むガスで表面１０ｄを覆った状態で、レーザ照射装置２２が、表面１０ｄに、レーザ光Ｌを照射する。これにより、表面１０ｄが酸化される。このときのレーザ光Ｌは連続レーザ光である。このとき、レーザ照射装置２２は、溶接部１０の周方向に沿ってレーザ光Ｌを照射する。詳細には、レーザ照射装置２２は、溶接部１０の表面１０ｄに、例えばレーザ光Ｌを注液口７回りの円環状に複数周（例えば四周）照射する。このとき、複数周のそれぞれの円環状の径は互いに異なる。各周のレーザ光Ｌの照射により環状部１０ｇが設けられる。これにより、複数の環状部１０ｇを有する粗面化部１０ｅが設けられる。図１３には、酸化後、すなわち粗面化後の溶接部１０の周辺が示され、図１４には、図１３のXIV部が拡大されて示されている。図１４から分かるように、酸化により、表面１０ｄに皺状の凹凸部１０ｆＡが生じる。すなわち、酸素を含むガスで表面１０ｄを覆った状態で、レーザ照射装置２２が、表面１０ｄにレーザ光Ｌを照射することにより表面１０ｄが粗面化される。なお、図１３では、粗面化部１０ｅが五つの環状部１０ｇを有する例が示されている。
【００３４】
以上、説明したように、本実施形態の溶接部処理方法では、溶接部１０の表面１０ｄを粗面化する。これにより、粗面化された粗面化部１０ｅが溶接部１０の表面１０ｄに設けられる。粗面化部１０ｅは、反射光がより散乱しやすい。すなわち、溶接部１０の表面１０ｄでの反射光がより散乱しやすい構成を得ることができる。よって、例えば、白色干渉計を用いた溶接部１０の検査の検査精度を向上させることができる。
【００３５】
（第３の実施形態）
本実施形態は、図１５に示すように、溶接部１０Ａが、環状部１０ａの他に延出部１０ｈを有している点が、第１の実施形態や第２の実施形態に対して主に異なる。
【００３６】
延出部１０ｈは、環状部１０ａの外周部から環状部１０ａから離れる方向に延出している。図１６には、工程Ｓ４での溶接部１０Ａの外面９ａ上のレーザ光Ｌの軌跡Ｂ１，Ｂ２，Ｂ５，Ｂ６が示されている。本実施形態では、レーザ光Ｌは、第１の実施形態と同様に軌跡Ｂ１，Ｂ２で示されるように、外面９ａの始点となる位置Ｐ１，Ｐ２から、それぞれ上方からの視線で注液口７周りに環状に照射される。その後、本実施形態では、図１６に軌跡Ｂ５，Ｂ６で示されるように、位置Ｐ１，Ｐ２から位置Ｐ５，Ｐ６までの規定の長さだけ、軌跡Ｂ１，Ｂ２の外側へ延びるように照射される。この位置Ｐ１，Ｐ２から位置Ｐ５，Ｐ６へ照射されるレーザ光Ｌによって、延出部１０ｈが設けられる。本実施形態では、位置Ｐ１，Ｐ２〜位置Ｐ１，Ｐ２までの環状の溶接は、規定の強度のレーザ光Ｌにより行われる第一の溶接であり、位置Ｐ１，Ｐ２〜位置Ｐ１，Ｐ２までの環状の溶接に引き続いて行われる位置Ｐ１，Ｐ２〜位置Ｐ５，Ｐ６までの溶接は、第二の溶接である。第一の溶接でのレーザ光Ｌの強度は、第一の規定の強度となるように制御され、第二の溶接でのレーザ光Ｌの強度は、位置Ｐ１，Ｐ２から位置Ｐ５，Ｐ６に向かうにつれて弱くなるように制御される。本実施形態でも、第１の実施形態と同様に第一の溶接によって、蓋体３ｂと封口蓋９との接合強度は確保され、第二の溶接において、レーザ光Ｌの強度を序々に落とすことができる。このようなレーザ溶接によって、封口蓋９が蓋体３ｂに接合（固定）され、図１５に示すように、延出部１０ｈを有した環状の溶接部１０Ａが設けられる。粗面化部１０ｅは、少なくとも環状部１０ａに沿った環状で、環状部１０ａに設けられている。なお、延出部１０ｈにも粗面化部１０ｅが設けられていてもよい。粗面化の方法は、第一の実施形態や第２の実施形態で説明した方法で行われる。
【００３７】
図１７には、粗面化前の溶接部１０Ａの周辺が示されている。上記のようなレーザ溶接の場合、例えば、第一の溶接の終端部周辺、すなわち位置Ｐ１，Ｐ２の周囲を含む領域ＣＡの表面１０ｄが滑らかになりやすい。よって、別例として、領域ＣＡだけを粗面化してもよい。
【００３８】
以上、本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００３９】
１…二次電池、２…電極体、３…容器（構造体）、３ｂ…蓋体（第一の部材）、７…注液口（開口部）、９…封口蓋（第二の部材）、１０，１０Ａ…溶接部、１０ｄ…表面、１０ｅ…粗面化部、Ｃ，ＣＡ…領域（一部）、Ｌ…レーザ光、Ｓ５…工程。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１０】
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【図１１】
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