(57)【要約】【課題】外光下での表示品位低下が抑制される、カラーフィルタを備える表示装置の提供。【解決手段】表示素子と、カラーフィルタと、を備える、表示装置であって、前記カラーフィルタは、｛前記表示素子の表示領域と、平面視して重畳する、着色層｝と、｛前記表示素子の非表示領域と、平面視して重畳する、遮光層｝と、を備え、前記遮光層は、前記表示領域の周縁より内側の領域とも平面視して重畳するよう形成されるとともに、該周縁から中心にかけて、前記遮光層の厚みが単調減少し、前記着色層の厚みは、該周縁から中心にかけて、前記遮光層の厚みが単調減少するのに応じて単調増加する。【選択図】図５
2016161870.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と、前記表示領域を囲う非表示領域と、を有する表示素子と、
前記表示素子の、表示側に配置される、カラーフィルタと、
を備える、表示装置であって、
前記カラーフィルタは、
前記表示素子の表示領域と、平面視して重畳する、着色層と、
前記表示素子の非表示領域と、平面視して重畳する、遮光層と、
を備え、
前記遮光層は、前記表示領域の周縁より内側の領域とも平面視して重畳するよう形成されるとともに、該周縁から中心にかけて、前記遮光層の厚みが単調減少し、
前記着色層の厚みは、該周縁から中心にかけて、前記遮光層の厚みが単調減少するのに応じて単調増加する、
ことを特徴とする、表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の表示装置であって、
前記遮光層の厚みの変化率の絶対値は、前記表示領域の周縁から中心にかけて、単調減少する、
ことを特徴とする、表示装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の表示装置であって、
前記遮光層が前記表示領域の周縁よりも内側に形成される部分において、前記遮光層の透過率は、該周縁から中心にかけて、略一定の割合で増加する、
ことを特徴とする、表示装置。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれかに記載の表示装置であって、
前記着色層は、前記着色層の母材と比較してより高い光散乱性を有する粒子を含む、
ことを特徴とする、表示装置。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれかに記載の表示装置であって、
前記カラーフィルタが前記表示素子側に形成される、透明基板を、さらに備え、
前記遮光層が、前記透明基板の表面に形成され、
前記着色層が、前記遮光層に接して形成される、
ことを特徴とする、表示装置。
【請求項６】
請求項５に記載の表示装置であって、
前記カラーフィルタは、
前記着色層より前記表示素子側に配置されるとともに、前記非表示領域と平面視して重畳する、補助遮光層を、
さらに備える、ことを特徴とする、表示装置。
【請求項７】
表示領域と、前記表示領域を囲う非表示領域と、を有する表示素子と、
前記表示素子の、表示側に配置される、カラーフィルタ基板と、
を備える、表示装置の製造方法であって、
基板上に、前記表示素子の表示領域及び非表示領域に対向する領域を含んで、露光に対してネガ型となる材料からなるネガ型材料層を形成する工程と、
前記表示領域に対応する領域を開口部とするフォトマスクにより、前記ネガ型材料層に対して露光を施す工程と、
前記ネガ型材料層に遮光性を付与して、遮光層とする工程と、
を備え、
前記ネガ型材料層は、所定の波長の光に対して透光性を有し、該波長の光が照射されると硬化される性質を有する、
ことを特徴とする、表示装置の製造方法。
【請求項８】
表示領域と、前記表示領域を囲う非表示領域と、を有する表示素子と、
前記表示素子の、表示側に配置される、カラーフィルタ基板と、
を備える、表示装置の製造方法であって、
基板上に、前記表示素子の表示領域及び非表示領域に対向する領域を含んで、露光に対してポジ型となる材料を用いて遮光層を形成し、さらに、ネガ型のレジスト層を形成する工程と、
前記表示領域に対応する領域のうち、周縁から所定の距離までの領域を開口部とし、さらに内側の領域を前記開口部よりも透過性が低い半透明部とするフォトマスクにより、前記レジスト層に対して露光を施す工程と、
残存するレジスト層をマスクとして、前記遮光層の一部を除去する工程と、
を備える、表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、カラーフィルタを備える表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
カラー画像の表示を行う表示装置には、カラーフィルタを備える表示装置が用いられている。表示装置は並んで配置される複数の画素を含み、各画素は表示素子を含んでいる。各表示素子より出射される光がカラーフィルタを透過することにより、各画素の表示する色の光が外部へ出射される。複数の画素が表示する色に対応して、カラーフィルタは複数の色の着色層を含んでいる。カラーフィルタには、複数の画素それぞれに対応して、複数の着色層が並んで配置される。なお、複数の着色層それぞれの色は、対応する画素が表示する色である。
【０００３】
隣り合う着色層の間には、画素が出射する光を遮断する遮光層が形成される。各画素の表示素子が出射する光が遮光層で遮断され、遮光層に到達する光が外部へ出射されることが抑制される。それゆえ、通常の場合、観測者から表示装置の表示画像を見るとき、表示素子の表示領域の周縁は、遮光層の縁によって定義されるとしてもよい。表示素子は、表示領域と、該表示領域の周縁を囲って形成される非表示領域を有し、遮光層は非表示領域に形成され、表示領域には形成されず、かかる領域は開口部となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１０−８８６１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
カラーフィルタを備える表示装置には、回折による散乱反射が画像の表示品位が低下するという問題がある。回折による散乱反射とは、外光が、遮光層の縁（開口部の周縁）において回折され、回折された光が各画素の内部で反射するものであり、かかる光が観測者によって、例えば、虹色に視認されてしまうことで生じる。
【０００６】
かかる問題を解決するために、回折光に起因する表示性能の低下を軽減する技術が、特許文献１に開示されている。特許文献１に開示される第１の技術は、特許文献１の図３に記載の通り、着色透過領域（例えば、赤色透過領域Ｒ）と遮光領域との間に、色相が混色した混色領域（例えば、緑色と赤色と青色が混色した混色領域Ｍ１）を形成することである。これにより、遮光領域と接触する部分の光学的濃度が高くなっており、光学的濃度の勾配が形成される。また、特許文献１に開示される第２の技術は、特許文献１の図４に記載の通り、着色透過領域のうち、遮光領域に接する領域の厚みが他の領域より厚くすることである。これにより、光学的濃度の勾配が形成される。
【０００７】
しかしながら、第１の技術の場合には、表示領域の一部（周縁部）に異なる色の層が形成されることで、各画素の表示領域を透過する光の色純度が低下してしまう。さらには、混色領域の位置精度のばらつきにより、透過する光自体の色が安定しないという新たな問題が発生する。また、第２の技術の場合には、カラーフィルタの厚みが場所によって異なり、カラーフィルタの表面に凹凸が生じてしまう。かかる表面の凹凸が装置に悪い影響を及ぼすことがあり得る。また、それを抑制するために、カラーフィルタに平坦化層を形成することもあり得るが、工程数や製造コストの増大を招くだけでなく、カラーフィルタの厚みが増すので、例えば、混色が発生しやすくなるなどの新たな問題が発生する。
【０００８】
本発明は、かかる課題を鑑みてなされたものであり、外光下での表示品位低下が抑制される、カラーフィルタを備える表示装置の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
（１）本発明に係る表示装置は、｛表示領域と、前記表示領域を囲う非表示領域と、を有する表示素子｝と、前記表示素子の、表示側に配置される、カラーフィルタと、を備える、表示装置であって、前記カラーフィルタは、｛前記表示素子の表示領域と、平面視して重畳する、着色層｝と、｛前記表示素子の非表示領域と、平面視して重畳する、遮光層｝と、を備え、前記遮光層は、前記表示領域の周縁より内側の領域とも平面視して重畳するよう形成されるとともに、該周縁から中心にかけて、前記遮光層の厚みが単調減少し、前記着色層の厚みは、該周縁から中心にかけて、前記遮光層の厚みが単調減少するのに応じて単調増加する。
【００１０】
（２）上記（１）に記載の表示装置であって、前記遮光層の厚みの変化率の絶対値は、前記表示領域の周縁から中心にかけて、単調減少してもよい。
【００１１】
（３）上記（１）又は（２）に記載の表示装置であって、前記遮光層が前記表示領域の周縁よりも内側に形成される部分において、前記遮光層の透過率は、該周縁から中心にかけて、略一定の割合で増加してもよい。
【００１２】
（４）上記（１）乃至（３）のいずれかに記載の表示装置であって、前記着色層は、前記着色層の母材と比較してより高い光散乱性を有する粒子を含んでいてもよい。
【００１３】
（５）上記（１）乃至（４）のいずれかに記載の表示装置であって、前記カラーフィルタが前記表示素子側に形成される、透明基板を、さらに備え、前記遮光層が、前記透明基板の表面に形成され、前記着色層が、前記遮光層に接して形成されてもよい。
【００１４】
（６）上記（５）に記載の表示装置であって、前記カラーフィルタは、前記着色層より前記表示素子側に配置されるとともに、前記非表示領域と平面視して重畳する、補助遮光層を、さらに備えてもよい。
【００１５】
（７）本発明に係る表示装置の製造方法は、｛表示領域と、前記表示領域を囲う非表示領域と、を有する表示素子｝と、｛前記表示素子の、表示側に配置される、カラーフィルタ基板｝と、を備える、表示装置の製造方法であって、基板上に、前記表示素子の表示領域及び非表示領域に対向する領域を含んで、露光に対してネガ型となる材料からなるネガ型材料層を形成する工程と、前記表示領域に対応する領域を開口部とするフォトマスクにより、前記ネガ型材料層に対して露光を施す工程と、前記ネガ型材料層に遮光性を付与して、遮光層とする工程と、を備え、前記ネガ型材料層は、所定の波長の光に対して透光性を有し、該波長の光が照射されると硬化される性質を有してもよい。
【００１６】
（８）本発明に係る表示装置の製造方法は、｛表示領域と、前記表示領域を囲う非表示領域と、を有する表示素子｝と、｛前記表示素子の、表示側に配置される、カラーフィルタ基板｝と、を備える、表示装置の製造方法であって、基板上に、前記表示素子の表示領域及び非表示領域に対向する領域を含んで、露光に対してポジ型となる材料を用いて遮光層を形成し、さらに、ネガ型のレジスト層を形成する工程と、前記表示領域に対応する領域のうち、周縁から所定の距離までの領域を開口部とし、さらに内側の領域を前記開口部よりも透過性が低い半透明部とするフォトマスクにより、前記レジスト層に対して露光を施す工程と、残存するレジスト層をマスクとして、前記遮光層の一部を除去する工程と、を備えてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置を示す斜視図である。
【図２】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬパネルの構成を模式的に示すブロック図である。
【図３】本発明の第１の実施形態に係る表示部の等価回路図である。
【図４】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬパネルの断面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬパネルの断面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬパネル主要部の平面図である。
【図７】本発明の第１の実施形態に係るカラーフィルタの断面図である。
【図８】本発明の第１の実施形態に係るカラーフィルタの遮光層の透過率を示す図である。
【図９】本発明の第２の実施形態に係るカラーフィルタの断面図である。
【図１０】本発明の第２の実施形態に係るカラーフィルタの遮光層の透過率を示す図である。
【図１１】本発明の第３の実施形態に係るカラーフィルタの断面図である。
【図１２】本発明の第３の実施形態に係るカラーフィルタの遮光層の厚みの変化を示す図である。
【図１３】本発明の第３の実施形態に係るカラーフィルタの遮光層の透過率を示す図である。
【図１４】本発明の第４の実施形態に係る有機ＥＬパネルの断面図である。
【図１５Ａ】本発明の第５の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１５Ｂ】本発明の第５の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１５Ｃ】本発明の第５の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１５Ｄ】本発明の第５の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１６Ａ】本発明の第６の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１６Ｂ】本発明の第６の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１６Ｃ】本発明の第６の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【図１６Ｄ】本発明の第６の実施形態に係るカラーフィルタ基板の途中の製造工程を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００１９】
［第１の実施形態］
本発明の第１の実施形態に係る表示装置は有機ＥＬ表示装置ＤＤであり、アクティブマトリクス方式で駆動される。図１は、本発明の第１の実施形態に係る有機ＥＬ表示装置ＤＤを示す斜視図である。有機ＥＬ表示装置ＤＤは、上フレームＵＦと下フレームＬＦとで挟まれるように固定された有機ＥＬパネル１を備えている。特に図示していないが、有機ＥＬパネル１を駆動するための外部駆動回路は、有機ＥＬパネル１と共に上フレームＵＦと下フレームＬＦとの内部に設けられてもよいし、引き出し配線を介して外側に設けられてもよい。
【００２０】
図２は、当該実施形態に係る有機ＥＬパネル１の構成を模式的に示すブロック図である。有機ＥＬパネル１は，基板６の上側に、画像表示を行う表示部２と、表示部２の周辺にそれぞれ配置されるデータ駆動回路３及び走査駆動回路４と、を備える。表示部２は、走査駆動回路４とそれぞれ接続される複数のゲート線５と、データ駆動回路３とそれぞれ接続される複数のデータ線７と、複数の電位配線８と、を備えている。基板６は、ガラスやプラスチックなどの絶縁性の基板であり、表示部２は基板６のほぼ中央に設けられる。図２に示す通り、データ駆動回路３は表示部２に対して図の上側に配置され、図の縦方向に延びる複数のデータ線７に対して画像信号を出力する。走査駆動回路４は表示部２に対して図の左側に配置され、図の横方向に延びる複数のゲート線５に対して走査信号を出力する。データ駆動回路３及び走査駆動回路４は、複数の薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor：以下、ＴＦＴと記す）をそれぞれ含むシフトレジスタ回路、レベルシフタ回路、及びアナログスイッチ回路を含んでいる。有機ＥＬパネル１は、２本の電位供給線９ａ，９ｂをさらに備える。図の縦方向に延びるとともに複数のデータ線７とそれぞれ隣接して並ぶ複数の電位配線８それぞれは、スイッチング素子を介して２本の電位供給線９ａ，９ｂと接続される。
【００２１】
図３は、当該実施形態に係る表示部２の等価回路図である。アクティブマトリクス駆動型液晶表示装置と同様に、複数のゲート線５と複数のデータ線７が基板６上に配置される。ここで、複数のゲート線５は、ｍ本のゲート線からなり、図３には、横方向に延在するゲート線Ｇ１、Ｇ２，・・・，Ｇｍとして示されている。複数のデータ線７は、複数のゲート線５の延伸方向（図の横方向）に対して交差する方向（図の縦方向）に延在するｎ本のデータ線Ｄ１，Ｄ２，・・・，Ｄｎとして示されている。複数のゲート線５と複数のデータ線７とが交差する箇所にマトリクス状に複数の画素６０が配置される。各画素６０は、ドライバトランジスタ１０と、スイッチトランジスタ３０と、蓄積容量４０と、画素容量５０と、発光素子とを備えている。ドライバトランジスタ１０及びスイッチトランジスタ３０はともにＴＦＴである。また、発光素子は、表示素子の一例であり、ここでは、有機発光ダイオード素子７０（Organic Light Emitting Diode：ＯＬＥＤ）である。
【００２２】
図３に示す通り、ドライバトランジスタ１０のゲート電極とドレイン電極との間に蓄積容量４０が接続され、ソース電極に電位配線８が接続される。スイッチトランジスタ３０のゲート電極が対応するゲート線５に接続され、ソース／ドレイン電極の一方が対応するデータ線７に、他方が蓄積容量４０（及びドライバトランジスタ１０のゲート電極）に接続される。画素容量５０はドライバトランジスタ１０のドレイン電極と電位配線８との間に接続される。有機発光ダイオード素子７０は、ドライバトランジスタ１０のドレイン電極と、所定の共通電位Ｖａに保持される電流供給線との間に接続される。電流供給線は全画素６０に共通している。
【００２３】
図４は、当該実施形態に係る有機ＥＬパネル１の断面図であり、表示部２の１個の画素６０の一部の断面構造を模式的に示している。当該実施形態に係る有機ＥＬ表示装置ＤＤは、トップエミッション型有機ＥＬ表示装置であり、図４の上方に位置する観測者１０００に対して上向きの光２０００を出射する。有機発光ダイオード素子７０が形成される基板６側とは反対の向きに、有機発光ダイオード素子７０が発光する光２０００を取り出し、光２０００は観測者１０００へ到達する。本明細書において、平面視するとは、基板６の平面の法線方向に沿って見ることを言い、その一例として、図４の観測者１０００が、図の上方から下向きに見ることである。ドライバトランジスタ１０やスイッチトランジスタ３０（図示せず）は、ポリシリコン薄膜トランジスタによって構成される。以下、ポリシリコン薄膜トランジスタの構成をドライバトランジスタ１０を例に説明する。基板６上に、ＳｉＮｘ膜などからなる第１の下地膜１１、及びＳｉＯｘ膜などからなる第２の下地膜１２が、順に積層され、その上側に、ソース・ドレイン領域１３，１７及びチャネルポリシリコン領域１４を含むポリシリコン層が所定の形状に形成される。ポリシリコン層の上側に、ゲート絶縁膜１６、ゲート線層１５、第１の層間絶縁膜１８、ソース・ドレイン電極層１９、第２の層間絶縁膜２０が、順に形成される。なお、第１の下地膜１１及び第２の下地膜１２は、ポリシリコン層及びゲート絶縁膜１６にＮａやＫなどのイオンが混入するのを抑制するために設けられている。
【００２４】
有機発光ダイオード素子７０は、発光層を含む有機膜１００と、その上下両側にそれぞれ形成される上部電極２００及び下部電極３００と、を含んでいる。下部電極３００は、画素６０の発光領域となる部分を覆うように島状に形成される。ここで、第２の層間絶縁膜２０には貫通穴（スルーホール）が形成されており、下部電極３００は、ドライバトランジスタ１０のドレイン電極（図のソース・ドレイン電極層１９）と電気的に接続される。下部電極３００のうち周辺領域と、非発光領域を覆うように、第３の層間絶縁膜（バンク２１）が形成される。なお、非発光領域は、表示素子が発光をしない領域であり、ドライバトランジスタ１０や、ゲート線５、データ線７などが配置されている。バンク２１は絶縁膜であり、画素６０の下部電極３００のうち発光領域には形成されておらず開口部となっている。バンク２１は、隣り合う画素６０それぞれに形成される下部電極３００との間を電気的に遮断している。
【００２５】
有機膜１００は、表示部２の全領域を覆うように、下部電極３００やバンク２１の上側に形成されるが、下部電極３００のうち発光領域以外の領域では、前述の通りバンク２１が形成されており、バンク２１によって、かかる領域にある有機膜１００は下部電極３００と隔離されている。さらに、有機膜１００の上側に、表示部２の全領域にわたって、上部電極２００が形成される。上部電極２００及び下部電極３００の一方が陽極として、他方が陰極として機能する。ここでは、有機膜１００は多層構造を有しており、上部電極２００と下部電極３００との間に、陰極側から順に電子輸送層、発光層、ホール輸送層が積層配置されている。有機発光ダイオード素子７０では、上部電極２００と下部電極３００との間に直流電圧を印加すると、陽極側から注入されたホールがホール輸送層を経由して、また、陰極側から注入された電子が電子輸送層を経由して、それぞれ発光層に到達し、電子−ホールの再結合が生じてここから所定の波長の発光が生じる。なお、有機膜１００の発光層と電子輸送層とは、共通の材料を用いても形成されてもよい。陽極とホール輸送層の間に、陽極バッファ層、又はホール注入層を配置してもよい。なお、下部電極３００は光の反射率が高い材料から構成されることが、発光層から放射した光の利用効率向上の観点から望ましい。ここで、有機膜１００には、陽極と陰極との間に所定の電圧を印加し電流を流すにより、白色発光がなされる材料や構造が採用されている。有機発光ダイオード素子７０によって白色発光を実現するためには、発光色の異なる複数の発光層をマルチフォトンと呼ばれる構造により積層する方法と、一つの発光層中に発光色が異なる色素をドーピングする方法などがある。いずれの方法を採用する場合であっても、白色発光の有機発光ダイオード素子７０として発光効率が高く、寿命の長い白色発光が得られるものを用いることが望ましい。また、有機膜１００は、発光層や、ホール輸送層、電子輸送層などの複数の層を含んでいるが、場合によっては無機材料による層を含んでいてもよい。
【００２６】
封止材６００は、少なくとも表示部２の全面を覆うように、上部電極２００の上側に形成される。封止材６００は、水分等が有機発光ダイオード素子７０の内部に侵入しないようにするために、ガスバリア性が高く可視光に対して透明であることが望ましい。このため、窒化シリコンのような緻密な無機膜、あるいは無機膜と有機膜による積層膜により実現してもよい。
【００２７】
当該実施形態に係る有機ＥＬパネル１は、カラーフィルタ基板７００をさらに含む。カラーフィルタ基板７００は、透明基板上に、カラーフィルタが形成される。カラーフィルタは、着色層と遮光層（ブラックマトリクス）とを含んでいる。そして、封止材６００とカラーフィルタ基板７００との間に、透明な充填材５００が充填される。充填材５００は、高分子材料であってもよく、この場合、充填材５００を密閉することにより固体封止がなされる。また、充填材５００は、窒素ガスなどの不活性ガスであってもよく、基板６とカラーフィルタ基板７００の周縁部をシール材で密閉し、内部の空間に充填材５００を封入した後に、封止してもよい。
【００２８】
本発明に係る表示装置の主な特徴は、カラーフィルタの構造に特徴がある。カラーフィルタは、着色層と遮光層とを含み、遮光層は、表示素子の表示領域の周縁より内側の領域とも平面視して重畳するように形成されており、さらに、該周縁から中心にかけて、遮光層の厚みが単調減少する。遮光層の厚みが単調減少するのに応じて、着色層の厚みは、該周縁から中心にかけて単調増加する。カラーフィルタの着色層と遮光層とがかかる構成であることにより、表示領域の周縁付近において、外光が回折することが抑制され、外光下での表示品位が向上される。以下、カラーフィルタの構造について説明する。
【００２９】
図５は、当該実施形態に係る有機ＥＬパネル１の断面図であり、表示部２の２個の画素６０の一部の断面構造を模式的に示している。図には、表示素子として、有機発光ダイオード素子７０が模式的に示されているが、有機発光ダイオード素子７０の構成については前述の通りである。
【００３０】
図５に示す通り、カラーフィルタ基板７００において、透明基板７０１の有機発光ダイオード素子７０側に、カラーフィルタ７１０が形成されており、カラーフィルタ７１０は、着色層ＣＦと遮光層ＢＭ（ブラックマトリクス）とを含んでいる。着色層ＣＦは、第１の色に着色される第１着色層ＣＦａと、第２の色に着色される第２着色層ＣＦｂとして、図５に示されている。カラーフィルタ７１０（カラーフィルタ基板７００）は、基板６（図示せず）上に複数並んで形成される有機発光ダイオード素子７０に対向し、有機発光ダイオード素子７０の、表示側（観測者側）に配置される。有機発光ダイオード素子７０は発光領域から光を出射しているが、平面視して発光領域の周縁部分は遮光層ＢＭと重畳しており、かかる部分から出射した光は遮光層ＢＭによって遮蔽されるので、外部へは出射されない。それゆえ、平面視して、発光領域のうち、かかる周縁部分を除いて、内側の領域が表示領域である。また、かかる周縁部分を含み、表示領域を囲う領域からは外部へ光が出射されないので、非表示領域である。すなわち、有機発光ダイオード素子７０は、平面視して、表示領域と非表示領域とを有している。遮光層ＢＭは、有機発光ダイオード素子７０の非表示領域と、平面視して重畳している。また、着色層ＣＦは、有機発光ダイオード素子７０の表示領域と、平面視して重畳しており、有機発光ダイオード素子７０の表示領域（発光領域の一部）から出射した光が、着色層ＣＦを透過し、着色層ＣＦの色の光が外部へ出射する。
【００３１】
前述の通り、通常のカラーフィルタの場合、遮光層は非表示領域に形成され、表示領域には形成されず、かかる領域は開口部となっている。すなわち、平面視して、表示領域の周縁は、遮光層の縁（開口部の周縁）と一致している。しかしながら、本発明に係る表示装置では、表示領域の周縁と遮光層の縁とは一致しておらず、遮光層は表示領域の周縁より内側の領域（の一部）とも平面視して重畳するよう形成されている。
【００３２】
図５に示す通り、遮光層ＢＭは、透明基板７０１の表面（図の下側表面）に形成されているが、遮光層ＢＭの厚さが、表示領域の周縁から中心にかけて、単調減少している（連続的に薄くなっている）。着色層ＣＦは、透明基板７０１上に、前記遮光層に接して形成されている。複数の着色層ＣＦ（第１着色層ＣＦａ、第２着色層ＣＦｂ）が並んで形成されるとともに、カラーフィルタ７１０の表面（図の下側表面）は平坦化されている。それゆえ、着色層ＣＦの厚さが、表示領域の周縁から中心にかけて、遮光層ＢＭの厚みが単調減少するのに応じて単調増加する。ここでは、カラーフィルタ７１０は平坦化されており、遮光層ＢＭの厚さと着色層ＣＦの厚さは一定となっている。
【００３３】
図５には、外部より表示装置へ入射する光（外光）の軌跡が矢印で示されている。従来のカラーフィルタでは遮光層の縁で外光は回折され、表示素子の内部で反射して、回折による散乱反射が生じてしまう。これに対して、本発明に係る表示装置では、遮光層がかかる構成をしていることにより、遮光層の縁（開口部の周縁）で生じる回折が抑制されるので、表示領域の周縁付近において、外光が回折することが抑制され、外光下での表示品位が向上される。
【００３４】
図６は、当該実施形態に係る有機ＥＬパネル１主要部の平面図であり、表示部２の４個の画素６０を模式的に示している。当該実施形態では、有機発光ダイオード素子７０は白色の光を発する素子であり、３原色（ＲＧＢ）の着色層を備えるカラーフィルタ７１０と組み合わせることにより、フルカラーの画像表示を実現している。赤色の着色層ＣＦでは、入射側から入射する白色の光が着色層ＣＦを透過して、出射側から赤色の光が出射する。赤色の着色層ＣＦが形成される画素が赤色表示用の画素である。緑色の着色層ＣＦ及び青色の着色層ＣＦも同様である。図４には、第１着色層ＣＦａ、第２着色層ＣＦｂ、及び第３着色層ＣＦｃが示されており、例えば、それぞれ、赤色、緑色、及び青色の着色層ＣＦである。当該実施形態では、表示装置の消費電力を下げるために、白色（Ｗ）表示用の画素をさらに備えており、ＲＧＢＷの４個の画素によりフルカラーの画像が表示される。白色（Ｗ）表示用の画素には、必ずしも着色層ＣＦを設ける必要はなく、その場合、光をそのまま透過する透明層を配置すればよい。しかしながら、白色の色度を調整するために、適当な着色層ＣＦを配置してもよい。ここでは、第４着色層ＣＦｄが示されており、白色の色度調整のための着色層である。着色層ＣＦは、染色法、顔料分散法、又は印刷法など公知の技術によって形成すればよい。図６の左上に示す画素には、かかる画素の表示素子の表示領域がＤＡとして示されている。遮光層ＢＭの縁（開口部の周縁）は、前述の通り、表示領域の周縁より内側にも形成されている。また、表示領域の中心が、図６にＯとして示されている。
【００３５】
なお、当該実施形態において、表示領域は矩形状をしており、矩形状の中心は、２本の縦辺（長辺）の中心線と、２本の横辺（短辺）の中心線と、の交点で定義できる。また、表示領域が厳密に矩形状を有していない場合であっても、長手方向の中心線（長手方向における幅の中心を貫く線）と、短手方向の中心線（短手方向における幅の中心を貫く線）と、の交点で定義できる。
【００３６】
図７は、当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０の断面図である。有機発光ダイオード素子７０の表示領域の周縁から中心にかけて、位置（Position）を示すｘ座標が定義されている。すなわち、表示領域の周縁がｘ＝０である。例えば、図６にＡとして示されており、図６に示すＡからＯへ向く矢印がｘ座標の一例である。遮光層ＢＭの厚み（図７の縦方向の長さ：カラーフィルタ基板７００の積層方向の長さ）は、ｘが増加するに伴って、単調減少している。さらに、遮光層ＢＭの厚みの変化率の絶対値は、ｘが増加するに伴って、単調減少している。ここで、厚みの変化率とは、厚みをｘで微分したものである。厚みの変化率は負であるので、その絶対値で考えると、厚みの変化率の絶対値は、ｘ＝０において最大であり、ｘが増加するに伴って、徐々に小さくなり、０に至っている。これを、遮光層ＢＭの断面形状が凹状であるとする。遮光層ＢＭのｘ＝０にける厚みＤは、Ｄ＝１．３μｍであり、遮光層ＢＭが、表示領域の周縁から内側に形成される領域の長さＬは、可視波長（７８０ｎｍ）より大きいのが望ましく、具体的には１μｍ以上が望ましい。ここではＬ＝１．３μｍである。これは、外光の反射として問題になる光が、観測者が視認できる可視光であることによる。
【００３７】
なお、ここで、図６に示すＡからＯへ向く矢印は、ｘ座標の一例である。しかし、当該実施形態では表示領域は矩形状であり、表示領域の周縁のうち長辺上の点から長辺から内側へ垂直に延びる座標における断面形状は、矩形状の頂点近傍を除き、図５に示す断面形状と共通している。また、短辺から内側へ垂直に延びる座標における断面形状も、図５に示す断面形状と実質的に共通している。それゆえ、図６に示す表示領域（ＤＡ）の長辺のうち、Ａ以外の点から中心（Ｏ）へ延びる座標における断面形状は、図５に示す断面形状とは異なっているが、遮光層ＢＭの厚み（やその変化率の絶対値）が単調減少していることでは、共通している。
【００３８】
当該実施形態では、遮光層ＢＭの厚みが指数関数的に変化するよう、設計されている。位置ｘにおける厚みをｙ（μｍ）であるとすると、遮光層ＢＭの厚みが指数関数で変化するとき、ｙ＝Ａｅｘｐ｛−Ｂｘ｝で表すことが出来る。Ａ及びＢは定数であり、ここでは、Ａ＝１．３，Ｂ＝５としている。遮光層ＢＭは、漆黒性を示すＯＤ値が４．０であるカーボン系の材料により形成されている。
【００３９】
図８は、当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０の遮光層ＢＭの透過率を示す図である。図の横軸は、図７に示すｘ座標（位置）であり、図の縦軸は、遮光層ＢＭの光の透過率（ＢＭ透過率：BM Transmittance）を表している。図に示す通り、ｘ＝０でＢＭ透過率が０であるが、ｘがｘ＝０から増加してすぐにＢＭ透過率が０から上昇している。ｘ＞０の領域は、表示素子の表示領域であり、このように、ｘがｘ＝０から増加してすぐにＢＭ透過率が０から上昇するのが望ましい。そのためには、遮光層ＢＭの厚みの変化率の絶対値が、ｘが増加するに伴って単調減少することに加えて、ｘ＝０における厚みの変化率の絶対値が、２以上の大きな値であるのが望ましく、５以上であればなお望ましい。遮光層ＢＭの厚さが、ｘの増加に伴って、指数関数的に減少していくのがさらに望ましい。そのために、遮光層ＢＭの厚さが、ｘの増加に伴って、指数関数に従って設計し、遮光層ＢＭの厚みの変化を制御すればよい。
【００４０】
なお、当該実施形態では、図７に示す通り、表示領域の周縁において、遮光層ＢＭの厚みが不連続に変化し、周縁から内側へかけて、遮光層ＢＭの厚みが連続的に減少している。言い換えれば、ｘがｘ＝０から増加してすぐにＢＭ透過率が０から上昇している。しかし、非表示領域において、遮光層ＢＭが十分に厚い場合もあり得る。その場合、遮光層ＢＭの厚みが図７と同様に、不連続に変化しても、かかる位置からＢＭ透過率が０から上昇する位置まで間隔が存在する。その場合であっても、ＢＭ透過率が実質的に０から上昇する位置を表示領域の周縁と定義すればよい。例えば、図７に示すｘ≧０の厚みの曲線がｘ＜０の所定の値（上記間隔の値）まで延長するような場合であっても、ｘ＝０を表示領域の周縁とすればよい。
【００４１】
当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０の着色層ＣＦは、光散乱性の微粒子を含んでいる。すなわち、かかる微粒子の光散乱性は、着色層ＣＦの母材の光散乱性より高くなっている。複数のかかる微粒子が分散して着色層ＣＦに混入されている。これにより、着色層ＣＦの光散乱作用は高まるので、遮光層ＢＭの縁で回折される光が表示素子の内部で反射される場合にあっても、反射される光の色づきがより抑制されるので、外光下での表示品位がさらに向上される。かかる微粒子の粒径は、可視光の波長と同程度であるのが望ましく、具体的には、２００ｎｍ以上１μｍ以下が望ましい。また、かかる微粒子の屈折率は、着色層ＣＦの母材の屈折率と異なっているのが望ましく、具体的には、母材の屈折率と比べて５０％以上異なるのが望ましい。
【００４２】
［第２の実施形態］
図９は、本発明の第２の実施形態に係るカラーフィルタ７１０の断面図である。当該実施形態に係る表示装置は、カラーフィルタ７１０の構成が異なる以外は、第１の実施形態に係る表示装置と同じ構造をしている。図９に示すカラーフィルタ７１０の断面は、図７に示す第１の実施形態に係るカラーフィルタ７１０の断面に対応している。第１の実施形態と同様に、遮光層ＢＭのｘ＝０にける厚みＤは、Ｄ＝１．３μｍであり、表示領域の周縁から内側に形成される領域の長さＬは、Ｌ＝１．３μｍである。遮光層ＢＭの厚みは、第１の実施形態と同様に、ｘが増加するに伴って、単調減少している。当該実施形態において、遮光層ＢＭの厚みは直線的に減少しており、遮光層ＢＭの厚みの変化率の絶対値は実質的に一定である。
【００４３】
図１０は、当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０の遮光層ＢＭの透過率を示す図である。図の横軸及び縦軸は、図７と同様である。当該実施形態において、図に示す通り、ｘ＝０でＢＭ透過率が０であり、ｘがｘ＝０から増加するに伴いＢＭ透過率が０から上昇して１に至っている。それゆえ、本発明の効果が得られている。しかしながら、当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０において、ｘ＝０からｘ＝０．６５（＝０．５Ｌ）の範囲においては、ＢＭ透過率は実質的に０であり、第１の実施形態と比較して、ＢＭ透過率の立ち上がりが遅くなり、ｘが大きな値に増加するまで、ＢＭ透過率が０近傍から増加していない。また、厚みの変化率の絶対値が、ｘが増加するに伴って、徐々に大きくなる場合を考え、遮光層ＢＭのかかる断面形状を凸状であるとする。遮光層ＢＭの断面形状が凸状である場合においても、遮光層ＢＭの厚みがｘが増加するに伴い単調減少しており、本発明の効果は得られている。しかしながら、ＢＭ透過率の立ち上がりはさらに遅くなる。それゆえ、第１の実施形態のように、断面形状が凹状であることにより、本発明の効果はより顕著に奏する。
【００４４】
［第３の実施形態］
図１１は、本発明の第３の実施形態に係るカラーフィルタ７１０の断面図である。当該実施形態に係る表示装置は、カラーフィルタ７１０の構成が異なる以外は、第１の実施形態に係る表示装置と同じ構造をしている。図１１に示すカラーフィルタ７１０の断面は、図７に示す第１の実施形態に係るカラーフィルタ７１０の断面に対応しており、当該実施形態に係る遮光層ＢＭの断面形状は、第１の実施形態と同様に、凹状をしている。遮光層ＢＭのｘ＝０における厚みＤ＝１．３μｍであり、表示領域の周縁から内側に形成される領域の長さＬは、Ｌ＝１．０μｍである。
【００４５】
図１２は、当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０の遮光層ＢＭの厚みの変化を示す図である。第１の実施形態と同様に、位置ｘにおける厚みをｙとしている。図の縦軸は厚み（Thickness）であり、横軸は位置である。図に実線で示す曲線Ｘ１は当該実施形態に係る遮光層ＢＭの厚みである。比較のために、第１の実施形態に係る遮光層ＢＭの厚みを、曲線Ｘ２として図に破線で示している。
【００４６】
図１３は、当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０の遮光層ＢＭの透過率を示す図である。図の横軸及び縦軸は、図７と同様である。遮光層ＢＭの縁（開口部の周縁）付近における外光の回折を抑制するという観点では、図１３に示す通り、ＢＭ透過率はｘ＝０から直線的に増加して１に至るのがさらに望ましい。それゆえ、ＢＭ透過率が直線的に増加するために、図１２に曲線Ｘ１として示す通り、遮光層ＢＭの厚みｙは、対数関数的に減少している。よって、当該実施形態では、遮光層ＢＭの厚みが対数関数的に変化するよう、設計されており、遮光層が表示領域の周縁よりも内側に形成される部分において、遮光層の透過率が、該周縁から中心にかけて、略一定の割合で増加する。遮光層ＢＭの厚みが対数関数で変化するとき、ｙ＝−Ｃ・ｌｎ（ｘ）＋Ｄで表すことが出来る。Ｃ及びＤは定数であり、ここでは、Ｃ＝０．１４１，Ｄ＝０としている。遮光層ＢＭは、漆黒性を示すＯＤ値が４．０であるカーボン系の材料により形成されており、遮光層ＢＭの厚みｙがかかる関数で変化するとき、ＢＭ透過率は図１３に示す通り、ＢＭ透過率が直線的に変化する。当該実施形態では、遮光層ＢＭの縁における外光の回折がさらに抑制されており、外光下での表示品位がさらに向上される。
【００４７】
［第４の実施形態］
本発明の第４の実施形態に係る表示装置は、カラーフィルタ７１０の構成が異なる以外は、第１乃至第３の実施形態のいずれかに係る表示装置と同じ構造をしている。当該実施形態に係るカラーフィルタ７１０は、補助遮光層をさらに備える。補助遮光層は、着色層の表示側に配置されるとともに、非表示領域と平面して重畳している。
【００４８】
図１４は、当該実施形態に係る有機ＥＬパネル１の断面図であり、図５に示す第１の実施形態に係る有機ＥＬパネル１の断面に対応している。図１４に示す通り、カラーフィルタ７１０は、補助遮光層となる第２遮光層ＢＭ２をさらに含んでいる。第２遮光層ＢＭ２は、複数の着色層ＣＦの表面（表示素子側の表面）に、各画素の有機発光ダイオード素子７０の非表示領域に重畳して形成される。
【００４９】
有機発光ダイオード素子７０から出射した光のうち、非表示領域に進行する光は、遮光層ＢＭにより遮蔽されて外部には放出されない。しかし、図１４に示す通り、両側の画素にそれぞれ配置される着色層ＣＦは、その境界領域にある非表示領域に及んでおり、遮光層ＢＭの表面（表示素子側の表面）に形成されている。有機発光ダイオード素子７０から出射した光のうち、かかる領域に形成される着色層ＣＦを斜めに透過し、隣りの画素（着色層ＣＦ）から外部へ放出される場合があり得る。かかる光により、画素に隣りの色の光が混入する混色という新たな問題が生じてしまう。しかしながら、第２遮光層ＢＭ２により、混色を抑制することが出来るので、表示品位がさらに向上される。
【００５０】
［第５の実施形態］
本発明の第５の実施形態に係る表示装置は、第１乃至第４いずれかの実施形態に係る表示装置と同じ構造をしている。以下、当該実施形態にかかるカラーフィルタ７１０（カラーフィルタ基板７００）の製造方法を説明する。
【００５１】
図１５Ａ乃至図１５Ｄは、当該実施形態に係るカラーフィルタ基板７００の途中の製造工程を示す断面模式図である。第１に、基板上に、表示素子の表示領域及び非表示領域に対向する領域を含んで、露光に対してネガ型となる材料からなるネガ型材料層を形成する（ネガ型材料層形成工程）。図１５Ａに、透明基板７０１（基板）上に、ネガ型材料層７０２が形成される状態が示されている。ネガ型材料層７０２は、露光に対してネガ型となるネガ型材料を用いて形成されており、露光に対して高い感光性を有している。さらに、ネガ型材料層７０２は、少なくとも所定の波長の光に対して透光性を有し、該波長の光が照射されると硬化される性質を有する、ここでは、ネガ型材料層７０２の材料に紫外線硬化性樹脂を用いている。かかる樹脂は透明であり、紫外線及び可視光に対して高い透光性を有している。なお、ネガ型材料層７０２は、後の工程で遮光性を付与して遮光層となる。
【００５２】
第２に、表示領域に対応する領域を開口部とするフォトマスクにより、ネガ型材料層に対して露光を施す（露光工程）。図１５Ｂに、ネガ型材料層７０２に対して、フォトマスクＭＡＳＫを用いて露光を施す状態が示されている。フォトマスクＭＡＳＫは、表示素子の表示領域に対応して、表示領域の形状と同一の形状の開口部（マスクが形成されず、露光に対して高い透過性を有する領域）を有している。そして、露光を施す際に、ネガ型材料層７０２の上方にフォトマスクＭＡＳＫを配置するとともに、フォトマスクＭＡＳＫの開口部が表示領域と平面視して一致するように位置合わせをする。なお、ここでは、フォトマスクＭＡＳＫの開口部の形状を、表示領域の形状と同一としたが、開口部の形状が表示領域に対応していれば、これに限定されることはない。露光の際に、光がフォトマスクＭＡＳＫを透過して、その後、光がネガ型材料層７０２に照射される領域を考慮して、フォトマスクＭＡＳＫの形状を決定すればよい。
【００５３】
当該実施形態に係るネガ型材料層７０２の材料は、前述の通り、紫外線硬化性樹脂であり、紫外線が照射されると硬化する。露光を施す光には、紫外線（所定の波長の光）も含まれている。露光を施す光がネガ型材料層７０２に照射されると、紫外線がネガ型材料層７０２を透過して、透明基板７０１へ到達する。かかる紫外線のうち一部は、透明基板７０１の下表面（図の下側表面）で反射して、再び、ネガ型材料層７０２の下表面を照射する。図１５Ｂには、露光を施す光Ｅ（実線）が、透明基板７０１の下表面（裏面）で反射（破線）する様子が示されている。露光を施す過程で、ネガ型材料層７０２は、光の照射とともに、上側から順に感光されつつ、ネガ型材料層７０２の下側表面から一部硬化する。
【００５４】
第３に、露光工程後に、かかる基板に対して現像を施す（現像工程）。現像工程により、ネガ型材料層７０２のうち感光された部分が除去される。ここで、硬化した部分が残存する。それゆえ、ネガ型材料層７０２（遮光層）は、その開口部の周縁において、凹状の断面形状を有する（図１５Ｃ）。
【００５５】
第４に、ネガ型材料層に遮光性を付与して、遮光層とする（遮光性付与工程）。ネガ型材料層７０２は透明であるので、公知の染色法などによりネガ型材料層７０２を着色し、所望の漆黒性を有する遮光層ＢＭとする。
【００５６】
第５に、着色層ＣＦを基板上に形成することにより、カラーフィルタ基板７００が形成される。
【００５７】
［第６の実施形態］
本発明の第６の実施形態に係る表示装置は、第１乃至第４いずれかの実施形態に係る表示装置と同じ構造をしている。以下、当該実施形態にかかるカラーフィルタ７１０（カラーフィルタ基板７００）の製造方法を説明する。
【００５８】
図１６Ａ乃至図１６Ｄは、当該実施形態に係るカラーフィルタ基板７００の途中の製造工程を示す断面模式図である。第１に、基板上に、表示素子の表示領域及び非表示領域に対向する領域を含んで、露光に対してポジ型となる材料を用いて遮光層を形成し、さらに、ネガ型のレジスト層を形成する（遮光層レジスト層形成工程）。図１６Ａに、透明基板７０１（基板）上に、ポジ型材料層７０３（遮光層）とレジスト層７５０とが形成される状態が示されている。ポジ型材料層７０３は、露光に対してポジ型となるポジ型材料を用いて形成されており、露光に対して非感光性である。また、ここでは、ポジ型材料は、所望の遮光性（漆黒性）を有しており、後の工程で着色をすることなく、遮光層となる。しかし、これに限定されることなく、ポジ型材料層が所望の遮光性を有していない場合であっても、後の工程で着色すればよい。
【００５９】
第２に、表示領域に対応する領域のうち、周縁から所定の距離までの領域を開口部とし、さらに内側の領域を前記開口部よりも透過性が低い半透明部とするフォトマスクにより、レジスト層に対して露光を施す（露光工程）。図１６Ａに、レジスト層７５０に対して、フォトマスクＭＡＳＫを用いて露光を施す状態が示されている。フォトマスクＭＡＳＫは、表示領域の周縁と同一の周縁を有する開口部を有している。しかし、第５の実施形態に係るフォトマスクＭＡＳＫとの違いは、開口部となる領域は、表示領域に対応する領域のうち、周縁部分のみであり、フォトマスクＭＡＳＫは、周縁部分の内側の領域に形成される半透明部をさらに有している。ここで、半透明部は半透過性のマスク（ハーフトーンマスク）である。当該実施形態において、表示領域は矩形状であるので、開口部の形状は、額縁形状をしており、額縁形状の外縁も内縁も矩形状である。すなわち、表示領域に対応する領域のうち、周縁（外縁）から内縁まで、周縁から所定の距離までの領域（額縁形状）が開口部である。なお、内縁は周縁（外縁）から所定の距離にある。そして、半透明部が形成される領域は、内縁の内側の領域（矩形状）である。ここで、半透過性のマスクとは、露光に施す光に対して開口部が有する透過性よりも、低い透過性を有するが、フォトマスクのマスク部分よりは高い透過性を有するマスクを言う。図１６Ａには、露光を施す光Ｅが、開口部を通過する場合（実線）と、半透明部を通過する場合（破線）と、光の強度が異なっている様子が示されている。
【００６０】
第３に、露光工程後に、かかる基板に対して現像を施す（現像工程）。現像工程により、フォトマスクＭＡＳＫの開口部に対向する領域のレジスト層７５０は除去されるが、半透明部に対向する領域のレジスト層７５０は層厚は層厚が薄くなるものの残存している。また、露光工程及び現像工程により、開口部に対向する領域に位置するポジ型材料層７０３の表面部分の一部も除去され得る。この工程により、図１６Ｂに示すレジストパターンが形成される。
【００６１】
第４に、残存するレジスト層をマスクとして、遮光層の一部を除去する（遮光層一部除去工程）。図１６に示すレジスト層７５０（レジストパターン）をマスクとして、ポジ型材料層７０３に対して、等方エッチングを施す（図１６Ｃ）。かかる工程により、ポジ型材料層７０３は凹状の断面形状を有する。
【００６２】
第５に、レジスト層７５０を除去する（レジスト除去工程）。ポジ型材料層７０３は凹状の断面形状を有しており、第５の実施形態と異なり、さらに着色する工程が必要なく、ポジ型材料層７０３が遮光層ＢＭである。第６に、着色層ＣＦを基板上に形成することにより、カラーフィルタ基板７００が形成される。
【００６３】
第５及び第６の実施形態に係る製造方法により、所望の凹状の断面形状を有する遮光層ＢＭの形成が可能となり、本発明に係る表示装置が製造される。
【００６４】
以上、本発明の実施形態に係る表示装置及びその製造方法について有機ＥＬ表示装置を例に説明した。有機ＥＬ表示装置では、カラーフィルタ基板７００（カラーフィルタ７１０）の表示素子側の表面は平坦であるのが望ましい。表面に凹凸があると、カラーフィルタ基板７００（カラーフィルタ７１０）を、基板上に形成される封止材と貼り合わせる工程において、充填材に気泡が発生して装置不良が発生するなどの問題が発生するからである。また、表面に凹凸があるために、表面を平坦化するために平坦化層を形成する場合は、平坦化層の厚みにより、表示素子と着色層との距離が離れてしまい、混色が発生しやすくなるという新たな問題が生じてしまう。しかしながら、第１乃至第３の実施形態では、カラーフィルタ７１０の表面を平坦化することが出来ており、さらなる効果を奏している。同様に、第４の実施形態では、カラーフィルタ７１０のうち、着色層ＣＦの表面を平坦化出来ており、また、第２遮光層ＢＭ２が形成される部分は共通する厚みで維持されており、さらなる効果を奏している。また、有機ＥＬ表示装置の場合、画素の明るさの変調を、表示素子自体の発光・非発光で行う（発光の強度を調整する）ので、遮光層による遮光の有無は、暗室下のコントラスト比に全く影響せず、遮光層自体の透過率制御が画質に与える影響は極めて少なく、有機ＥＬ表示装置やその他の自発光表示素子を備える表示装置に最適な発明である。本発明は、有機ＥＬ表示装置に限定されることはなく、他の自発光表示素子を備える表示装置にも広く適用することが出来る。さらに、液晶表示装置など、光源が出射する光を制御する表示装置にも広く適用することが出来る。
【００６５】
本発明の思想の範疇において、当業者であれば、各種の変更例及び修正例に想到し得るものであり、それら変更例及び修正例についても本発明の範囲に属するものと了解される。例えば、前述の各実施形態に対して、当業者が適宜、構成要素の追加、削除若しくは設計変更を行ったもの、又は、工程の追加、省略若しくは条件変更を行ったものも、本発明の要旨を備えている限り、本発明の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６６】
１  有機ＥＬパネル、２  表示部、３  データ駆動回路、４  走査駆動回路、５  ゲート線、６  基板、７  データ線、８  電位配線、９ａ，９ｂ  電位供給線、１０  ドライバトランジスタ、１１  第１の下地膜、１２  第２の下地膜、１３，１７  ソース・ドレイン領域、１４  チャネルポリシリコン領域、１５  ゲート線層、１６  ゲート絶縁膜、１８  第１の層間絶縁膜、１９  ソース・ドレイン電極層、２０  第２の層間絶縁膜、２１  バンク、３０  スイッチトランジスタ、４０  蓄積容量、５０  画素容量、６０  画素、７０  有機発光ダイオード素子、１００  有機膜、２００  上部電極、３００  下部電極、５００  充填材、６００  封止材、７００  カラーフィルタ基板、７０１  透明基板、７１０  カラーフィルタ、１０００  観測者、２０００  光、ＢＭ  遮光層、ＢＭ２  第２遮光層、ＣＦ  着色層、ＣＦａ  第１着色層、ＣＦｂ  第２着色層、ＣＦｂ  第３着色層、ＣＦｄ  第４着色層、ＤＤ  有機ＥＬ表示装置、ＬＦ  下フレーム、ＵＦ  上フレーム。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５Ａ】
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【図１５Ｂ】
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【図１５Ｃ】
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【図１５Ｄ】
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【図１６Ａ】
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【図１６Ｂ】
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【図１６Ｃ】
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【図１６Ｄ】
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