(57)【要約】【課題】簡単かつ安価な構成でプリズムの種類を判別することができるスペクトル測定装置を提供する。【解決手段】透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する際に用いられるバックグラウンドスペクトル（第１スペクトル）に基づいて、プリズム４３の種類を判別する。プリズム４３を試料１に接触させる前に得られるバックグラウンドスペクトルは、プリズム４３の種類に応じて異なるスペクトルとなるため、当該スペクトルを用いることにより、プリズム４３を試料１に接触させる前に予めプリズム４３の種類を判別することができる。このように、プリズム４３の種類を判別するためにセンサなどのハードウェアを別途設ける必要がないため、ソフトウェアによる処理を用いた簡単かつ安価な構成でプリズム４３の種類を判別することができる。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
赤外光を照射する光源と、
前記光源から照射された赤外光の測定位置における反射光を受光する検出器と、
前記測定位置において試料に接触する接触状態、又は、前記測定位置において試料に接触しない非接触状態に切り替えられるプリズムと、
前記プリズムが試料に対して非接触状態のときに、前記プリズムに照射された赤外光の前記測定位置における前記プリズムからの反射光を前記検出器で受光することにより、第１スペクトルを取得するバックグラウンド測定処理部と、
前記プリズムが試料に対して接触状態のときに、前記プリズムを介して試料に照射された赤外光の前記測定位置における試料からの反射光を前記検出器で受光することにより、第２スペクトルを取得する試料測定処理部と、
前記第１スペクトル及び前記第２スペクトルに基づいて、透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出するスペクトル算出処理部と、
前記第１スペクトルに基づいて、前記プリズムの種類を判別する判別処理部とを備えたことを特徴とするスペクトル測定装置。
【請求項２】
前記プリズムが前記測定位置に設置されていない状態で前記光源から赤外光を照射し、前記測定位置に設けられた反射物からの反射光を前記検出器で受光することにより、第３スペクトルを取得する事前測定処理部をさらに備え、
前記判別処理部は、前記第１スペクトル及び前記第３スペクトルに基づいて、前記プリズムの種類を判別することを特徴とする請求項１に記載のスペクトル測定装置。
【請求項３】
複数種類の前記プリズムが前記測定位置にそれぞれ設置され、各プリズムが試料に対して非接触状態のときに、各プリズムに照射された赤外光の前記測定位置における当該プリズムからの反射光を前記検出器で受光することにより得られた第４スペクトルを、各プリズムの種類に対応付けて記憶する記憶部をさらに備え、
前記判別処理部は、前記第１スペクトル及び前記第４スペクトルに基づいて、前記プリズムの種類を判別することを特徴とする請求項１に記載のスペクトル測定装置。
【請求項４】
前記判別処理部により判別された前記プリズムの種類及び前記検出器の種類に基づいて、予め定められた波長範囲又は波数範囲を測定可能範囲として自動的に設定する自動設定処理部をさらに備えたことを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のスペクトル測定装置。
【請求項５】
前記第１スペクトル及び前記第４スペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する疑似スペクトル算出処理部と、
前記疑似スペクトル算出処理部により算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのピークを検出し、当該ピークのベースラインに対する高さ又は面積に基づいて前記プリズムに対する付着物の有無を検出する付着物検出処理部とをさらに備えたことを特徴とする請求項３に記載のスペクトル測定装置。
【請求項６】
前記第１スペクトル及び前記第４スペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する疑似スペクトル算出処理部と、
前記疑似スペクトル算出処理部により算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのベースラインに対する傾き又は面積に基づいて、前記プリズムの面精度の低下を検出する面精度検出処理部とをさらに備えたことを特徴とする請求項３に記載のスペクトル測定装置。
【請求項７】
前記第１スペクトル及び前記第４スペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する疑似スペクトル算出処理部と、
前記疑似スペクトル算出処理部により算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのベースラインに対する面積に基づいて、前記プリズムの位置ずれを検出する位置ずれ検出処理部とをさらに備えたことを特徴とする請求項３に記載のスペクトル測定装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、測定位置において試料にプリズムを接触させた状態で、当該プリズムを介して試料に赤外光を照射し、測定位置における試料からの反射光を検出器で受光することによりスペクトルを取得するスペクトル測定装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
例えば赤外顕微鏡などの分析装置の中には、全反射吸収法（ＡＴＲ：Attenuated Total Reflection）を用いてスペクトルを測定可能なスペクトル測定装置が備えられているものがある。全反射吸収法では、試料よりも大きい屈折率を有するプリズムを試料に接触させ、当該プリズムを介して全反射臨界角以上の入射角で試料に赤外光を照射する。このとき、プリズムと試料との境界面（測定位置）において赤外光が全反射するが、赤外光は境界面をわずかに（例えば数μｍ）越えて試料側へ侵入し、試料の表面で固有の吸収を受ける。したがって、試料の表面からの反射光を検出器で受光して、透過スペクトル又は吸光スペクトルを測定することにより、試料の分析を行うことができる（例えば、下記特許文献１参照）。
【０００３】
試料の分析の際には、試料を用いずに行われるバックグラウンド測定の後、試料を用いた試料測定が行われる。バックグラウンド測定では、プリズムが試料に対して非接触状態とされた上で、当該プリズムに対して赤外光が照射され、測定位置におけるプリズムからの反射光を検出器で受光することにより、バックグラウンドスペクトルが取得される。一方、試料測定では、プリズムが試料に対して接触状態とされた上で、当該プリズムを介して試料に赤外光が照射され、測定位置における試料からの反射光を検出器で受光することにより、試料スペクトルが取得される。このようにして得られたバックグラウンドスペクトルと試料スペクトルとの比に基づいて、透過スペクトル又は吸光スペクトルが算出される。
【０００４】
プリズムは、例えばゲルマニウム（Ｇｅ）、ダイヤモンド又はセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）などの各種材料により形成されている。屈折率が高く、かつ、赤外光を透過する材料であれば、任意の材料でプリズムを形成することが可能である。ただし、材料に応じて屈折率、強度及び価格が異なるため、通常は、測定対象となる試料の種類などに応じてプリズムが使い分けられる。
【０００５】
試料測定時には、プリズムと試料とが接触しているか否かが、例えば圧力センサにより検知される。すなわち、プリズムと試料とを接近させ、互いに接触したときの圧力増加を圧力センサで検知することにより、その圧力が閾値に到達した時点で測定を開始させる。このとき、圧力センサにより検知される圧力の閾値は、プリズムの種類（強度）に応じて異なる値に設定される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特許第４１３６９１１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記のような従来の分析装置では、圧力センサにより検知される圧力の閾値を設定するために、例えば使用するプリズムの種類が作業者により予め入力される。しかしながら、このような構成の場合には、プリズムを交換する度に作業者がプリズムの種類を入力しなければならないため、入力作業が煩雑であるとともに、入力作業を忘れて分析を開始させてしまうおそれがある。
【０００８】
作業者がプリズムの種類の入力作業を忘れた場合には、使用するプリズムの強度に対応していない圧力の閾値を基準として、プリズムと試料との接触状態が検知されることとなる。そのため、圧力の検知を適切に行うことができず、場合によってはプリズムが破損するおそれがある。このような問題は、作業者がプリズムの種類の入力作業を忘れた場合だけでなく、作業者がプリズムの種類を誤って入力した場合にも同様に生じる。
【０００９】
上記のような問題が生じることを防止するために、例えば使用されているプリズムの種類を判別するためのセンサを設けることも考えられる。しかしながら、このようなセンサを設けた場合には、構成が複雑になるとともに、製造コストが高くなるといった別の問題が生じることとなる。
【００１０】
本発明は、上記実情に鑑みてなされたものであり、簡単かつ安価な構成でプリズムの種類を判別することができるスペクトル測定装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明のスペクトル測定装置は、光源と、検出器と、プリズムと、バックグラウンド測定処理部と、試料測定処理部と、スペクトル算出処理部と、判別処理部とを備える。前記光源は、赤外光を照射する。前記検出器は、前記光源から照射された赤外光の測定位置における反射光を受光する。前記プリズムは、前記測定位置において試料に接触する接触状態、又は、前記測定位置において試料に接触しない非接触状態に切り替えられる。前記バックグラウンド測定処理部は、前記プリズムが試料に対して非接触状態のときに、前記プリズムに照射された赤外光の前記測定位置における前記プリズムからの反射光を前記検出器で受光することにより、第１スペクトルを取得する。前記試料測定処理部は、前記プリズムが試料に対して接触状態のときに、前記プリズムを介して試料に照射された赤外光の前記測定位置における試料からの反射光を前記検出器で受光することにより、第２スペクトルを取得する。前記スペクトル算出処理部は、前記第１スペクトル及び前記第２スペクトルに基づいて、透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する。前記判別処理部は、前記第１スペクトルに基づいて、前記プリズムの種類を判別する。
【００１２】
このような構成によれば、透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する際にバックグラウンドスペクトルとして用いられる第１スペクトルに基づいて、プリズムの種類が判別される。プリズムを試料に接触させる前に得られるバックグラウンドスペクトルは、プリズムの種類に応じて異なるスペクトルとなるため、当該スペクトルを用いることにより、プリズムを試料に接触させる前に予めプリズムの種類を判別することができる。したがって、その後に行われる試料測定の際には、プリズムの種類に応じた適切な圧力でプリズムを試料に接触させることができる。このように、プリズムの種類を判別するためにセンサなどのハードウェアを別途設ける必要がないため、ソフトウェアによる処理を用いた簡単かつ安価な構成でプリズムの種類を判別することができる。
【００１３】
前記スペクトル測定装置は、事前測定処理部をさらに備えていてもよい。前記事前測定処理部は、前記プリズムが前記測定位置に設置されていない状態で前記光源から赤外光を照射し、前記測定位置に設けられた反射物からの反射光を前記検出器で受光することにより、第３スペクトルを取得する。この場合、前記判別処理部は、前記第１スペクトル及び前記第３スペクトルに基づいて、前記プリズムの種類を判別してもよい。
【００１４】
このような構成によれば、バックグラウンドスペクトルとして用いられる第１スペクトルと、プリズムが測定位置に設置されていない状態で行われる事前測定により得られる第３スペクトルとに基づいて、プリズムの種類が判別される。このように、プリズムが測定位置に設置されていない状態で得られるスペクトル（第３スペクトル）を用いることにより、プリズムの種類に応じたバックグラウンドスペクトル（第１スペクトル）の特性をより明確にすることができるため、プリズムの種類をより精度よく判別することができる。
【００１５】
前記スペクトル測定装置は、記憶部をさらに備えていてもよい。前記記憶部には、複数種類の前記プリズムが前記測定位置にそれぞれ設置され、各プリズムが試料に対して非接触状態のときに、各プリズムに照射された赤外光の前記測定位置における当該プリズムからの反射光を前記検出器で受光することにより得られた第４スペクトルが、各プリズムの種類に対応付けて記憶される。この場合、前記判別処理部は、前記第１スペクトル及び前記第４スペクトルに基づいて、前記プリズムの種類を判別してもよい。
【００１６】
このような構成によれば、バックグラウンドスペクトルとして用いられる第１スペクトルと、複数種類のプリズムが測定位置にそれぞれ設置された状態で予め測定を行うことにより得られた第４スペクトルとに基づいて、プリズムの種類が判別される。このように、バックグラウンドスペクトルを取得する際と同じ条件で、プリズムの種類ごとに予めスペクトル（第４スペクトル）を取得しておくことにより、それらのスペクトルと実際に取得したバックグラウンドスペクトル（第１スペクトル）との比較によって、プリズムの種類をより精度よく判別することができる。
【００１７】
前記スペクトル測定装置は、前記判別処理部により判別された前記プリズムの種類及び前記検出器の種類に基づいて、予め定められた波長範囲又は波数範囲を測定可能範囲として自動的に設定する自動設定処理部をさらに備えていてもよい。
【００１８】
このような構成によれば、判別処理部により判別されたプリズムの種類の情報を用いて、波長範囲又は波数範囲の測定可能範囲を自動的に設定することができる。これにより、測定可能範囲を測定パラメータとして作業者が手動で設定する手間を省くことができるため、作業効率を向上することができる。
【００１９】
前記スペクトル測定装置は、前記第１スペクトル及び前記第４スペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する疑似スペクトル算出処理部をさらに備えていてもよい。この場合、前記スペクトル測定装置は、前記疑似スペクトル算出処理部により算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのピークを検出し、当該ピークのベースラインに対する高さ又は面積に基づいて前記プリズムに対する付着物の有無を検出する付着物検出処理部をさらに備えていてもよい。
【００２０】
このような構成によれば、第１スペクトル及び第４スペクトルに基づいて算出される疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを用いて、プリズムに対する付着物の有無を検出することができる。したがって、その検出結果に基づいてプリズムに対する付着物の除去などを行うことができるため、メンテナンス性が向上する。特に、プリズムに対する付着物の有無は、疑似的に算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのピークのベースラインに対する高さ又は面積に基づいて好適に検出することができるため、誤検知を効果的に防止することができる。
【００２１】
前記スペクトル測定装置は、前記疑似スペクトル算出処理部により算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのベースラインに対する傾き又は面積に基づいて、前記プリズムの面精度の低下を検出する面精度検出処理部とをさらに備えていてもよい。
【００２２】
このような構成によれば、第１スペクトル及び第４スペクトルに基づいて算出される疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを用いて、プリズムの面精度の低下を検出することができる。したがって、その検出結果に基づいてプリズムの交換などを行うことができるため、メンテナンス性が向上する。特に、プリズムの面精度の低下は、疑似的に算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのベースラインに対する傾き又は面積に基づいて好適に検出することができるため、誤検知を効果的に防止することができる。
【００２３】
前記スペクトル測定装置は、前記疑似スペクトル算出処理部により算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのベースラインに対する面積に基づいて、前記プリズムの位置ずれを検出する位置ずれ検出処理部とをさらに備えていてもよい。
【００２４】
このような構成によれば、第１スペクトル及び第４スペクトルに基づいて算出される疑似的な透過スペクトル又は吸光スペクトルを用いて、プリズムの位置ずれを検出することができる。したがって、その検出結果に基づいてプリズムの位置ずれを補正することができるため、メンテナンス性が向上する。特に、プリズムの位置ずれは、疑似的に算出された透過スペクトル又は吸光スペクトルのベースラインに対する面積に基づいて好適に検出することができるため、誤検知を効果的に防止することができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、プリズムの種類を判別するためにセンサなどのハードウェアを別途設ける必要がないため、ソフトウェアによる処理を用いた簡単かつ安価な構成でプリズムの種類を判別することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の第１実施形態に係るスペクトル測定装置の構成例を示した概略図である。
【図２】プリズムが試料に対して非接触状態のときのスペクトル測定装置の概略図である。
【図３】事前測定の際のスペクトル測定装置の概略図である。
【図４】疑似スペクトルの一例を示した図である。
【図５】スペクトル測定装置の電気的構成の一例を示したブロック図である。
【図６】制御部による処理の流れを示したフローチャートである。
【図７】本発明の第２実施形態に係るスペクトル測定装置の電気的構成の一例を示したブロック図である。
【図８】制御部による処理の流れを示したフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
＜第１実施形態＞
図１は、本発明の第１実施形態に係るスペクトル測定装置の構成例を示した概略図である。本実施形態に係るスペクトル測定装置は、全反射吸収法（ＡＴＲ：Attenuated Total Reflection）を用いてスペクトルを測定可能であり、例えば赤外顕微鏡などの分析装置に備えられている。このスペクトル測定装置には、試料１に向けて赤外光を照射する光源２と、試料１からの反射光を受光する検出器３とが備えられている。光源２からの赤外光は、ハーフミラー５を介してカセグレン反射対物鏡４に導かれ、当該カセグレン反射対物鏡４によって試料１に照射される。
【００２８】
カセグレン反射対物鏡４には、例えば凹面主鏡４１、凸面副鏡４２及びプリズム４３などが備えられている。これらの凹面主鏡４１、凸面副鏡４２及びプリズム４３は、光源２からの赤外光の光軸Ｌに沿って同軸上に配置されている。ただし、プリズム４３は、カセグレン反射対物鏡４に対して着脱可能であり、測定対象となる試料１の種類などに応じて、異なる材料により形成されたプリズム４３を取り付けることができる。プリズム４３の材料としては、例えばゲルマニウム（Ｇｅ）、ダイヤモンド又はセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）などが用いられるが、これらの材料に限られるものではなく、屈折率が高く、かつ、赤外光を透過する材料であれば、任意の材料でプリズム４３を形成することができる。
【００２９】
凹面主鏡４１には、赤外光を反射させる反射面４４が形成されている。当該反射面４４は、光源２からの赤外光の光軸Ｌを中心とする凹面からなり、その中央部には開口４５が形成されている。凸面副鏡４２には、赤外光を反射させる反射面４６が形成されている。当該反射面４６は、光源２からの赤外光の光軸Ｌを中心とする凸面からなる。光軸Ｌに沿ってカセグレン反射対物鏡４に入射した赤外光は、凹面主鏡４１の開口４５を介して凸面副鏡４２に導かれ、凸面副鏡４２の反射面４６において反射した赤外光が、凹面主鏡４１の反射面４４で反射して、プリズム４３へと導かれる。
【００３０】
プリズム４３は、例えば半球形状であり、試料１に接触する平坦面４７と、試料１側とは反対側に突出した凸面４８とを有している。凸面４８の曲率中心は平坦面４７上にあり、当該曲率中心は凹面主鏡４１の集光点と一致している。すなわち、凹面主鏡４１の集光点はプリズム４３の平坦面４７上にあり、当該平坦面４７が試料１に接触した状態では、プリズム４３と試料１との境界面に位置している。この凹面主鏡４１の集光点の位置が、試料１において赤外光が反射する位置（測定位置Ｐ）となる。
【００３１】
凹面主鏡４１の反射面４４からプリズム４３へと導かれた赤外光は、プリズム４３の凸面４８からプリズム４３内を通過し、測定位置Ｐにおいて全反射臨界角以上の入射角で試料１に照射される。このとき、測定位置Ｐにおいて赤外光が全反射し、その反射光が凹面主鏡４１の反射面４４、及び、凸面副鏡４２の反射面４６において順次反射する。このようにしてカセグレン反射対物鏡４の外部へと導かれた試料１からの反射光が、ハーフミラー５を介して検出器３で受光されることにより、試料スペクトル（第２スペクトル）としてのパワースペクトルが取得される。
【００３２】
試料１は、ステージ６により保持される。ステージ６は、カセグレン反射対物鏡４に入射する赤外光の光軸Ｌに対して平行方向に移動可能であり、試料１をプリズム４３に接近させたり、離間させたりすることができる。したがって、ステージ６を移動させることにより、プリズム４３が測定位置Ｐにおいて試料１に接触する接触状態、又は、プリズム４３が測定位置Ｐにおいて試料１に接触しない非接触状態に切り替えることができる。
【００３３】
図２は、プリズム４３が試料１に対して非接触状態のときのスペクトル測定装置の概略図である。このような非接触状態において光源２から赤外光を照射した場合には、カセグレン反射対物鏡４に入射した赤外光が、凸面副鏡４２の反射面４６、及び、凹面主鏡４１の反射面４４において順次反射してプリズム４３に照射され、測定位置Ｐにおいてプリズム４３の平坦面４７で反射する。そして、測定位置Ｐにおける反射光が、凹面主鏡４１の反射面４４、及び、凸面副鏡４２の反射面４６において順次反射し、ハーフミラー５を介して検出器３で受光されることにより、バックグラウンドスペクトル（第１スペクトル）としてのパワースペクトルが取得される。
【００３４】
試料１の分析の際には、図２のような非接触状態で測定（バックグラウンド測定）を行うことにより得られたバックグラウンドスペクトルと、図１に示すような接触状態で測定（試料測定）を行うことにより得られた試料スペクトルに基づいて、透過スペクトルが算出される。具体的には、試料スペクトルをバックグラウンドスペクトルで除算し、それらの比を求めることにより、透過スペクトルが算出される。
【００３５】
本実施形態では、上記のようなバックグラウンド測定及び試料測定が行われる前に、プリズム４３をカセグレン反射対物鏡４から取り外した状態で測定（事前測定）が行われる。そして、事前測定により得られる事前スペクトル（第３スペクトル）を用いて、プリズム４３の種類を判別することができるようになっている。
【００３６】
図３は、事前測定の際のスペクトル測定装置の概略図である。図３に示すように、事前測定の際には、カセグレン反射対物鏡４からプリズム４３が取り外され、例えばミラーなどの反射物７が測定位置Ｐに設けられる。ただし、このとき使用される反射物７は、赤外光を反射することができれば、ミラーに限られるものではない。
【００３７】
反射物７が測定位置Ｐに設けられた状態で光源２から赤外光を照射した場合には、カセグレン反射対物鏡４に入射した赤外光が、凸面副鏡４２の反射面４６、及び、凹面主鏡４１の反射面４４において順次反射して反射物７に照射される。そして、測定位置Ｐにおける反射物７からの反射光が、凹面主鏡４１の反射面４４、及び、凸面副鏡４２の反射面４６において順次反射し、ハーフミラー５を介して検出器３で受光されることにより、事前スペクトル（第３スペクトル）としてのパワースペクトルが取得される。
【００３８】
このような事前測定を予め行って事前スペクトルを取得しておくことにより、バックグラウンド測定を行った際に、事前スペクトルとバックグラウンドスペクトルとに基づいてプリズム４３の種類を判別することができる。具体的には、バックグラウンドスペクトルを事前スペクトルで除算し、それらの比を求めることにより、疑似的な透過スペクトルとしての疑似スペクトルが算出される。このようにして算出された疑似スペクトルは、プリズム４３の種類に応じた特性を有しているため、その特性に基づいてプリズム４３の種類を判別することができる。
【００３９】
図４は、疑似スペクトルの一例を示した図である。この図４に示すように、プリズム４３の材料が、例えばゲルマニウム（Ｇｅ）、ダイヤモンド又はセレン化亜鉛（ＺｎＳｅ）のいずれであるかによって、疑似スペクトルは異なる特性を有している。
【００４０】
例えば、プリズム４３がゲルマニウムにより形成されている場合には、３１００〜３６００ｃｍ−１の波数範囲で疑似スペクトルに吸収ピークが生じる。さらに、プリズム４３がゲルマニウムにより形成されている場合には、プリズム４３の表面（凸面４８）での反射を防止するために反射防止膜（ＡＲコート）が成膜されるため、その影響により、６００〜１０００ｃｍ−１の波数範囲で疑似スペクトルに吸収帯が生じる。
【００４１】
また、プリズム４３がダイヤモンドにより形成されている場合には、１７００〜２７００ｃｍ−１の波数範囲で疑似スペクトルに吸収ピークが生じる。これに対して、プリズム４３がセレン化亜鉛により形成されている場合には、ゲルマニウムやダイヤモンドの場合のような吸収が生じず、全体的にフラットな疑似スペクトルとなる。したがって、上記のような各波数範囲における透過率の最大値と最小値との差（透過率変動量）が、一定の閾値以上であるか否かに基づいて、プリズム４３の種類（材料）を判別することができる。
【００４２】
具体的には、３１００〜３６００ｃｍ−１や６００〜１０００ｃｍ−１といった波数範囲で、透過率変動量が一定の閾値以上となった場合には、プリズム４３の材料がゲルマニウムであると判別することができる。また、１７００〜２７００ｃｍ−１の波数範囲で、透過率変動量が一定の閾値以上となった場合には、プリズム４３の材料がダイヤモンドであると判別することができる。一方、３１００〜３６００ｃｍ−１、１７００〜２７００ｃｍ−１、６００〜１０００ｃｍ−１の各波数範囲で、透過率変動量が一定の閾値未満である場合には、プリズム４３の材料がセレン化亜鉛であると判別することができる。
【００４３】
このようにしてプリズム４３の種類を判別することにより、その後に試料測定を行う際に、プリズム４３の種類に応じて異なる圧力で試料１をプリズム４３に接触させることができる。すなわち、試料測定の際には、ステージ６を移動させることにより、プリズム４３と試料１とを接近させ、互いに接触したときの圧力増加を圧力センサ（図示せず）で検知することにより、その圧力がプリズム４３の種類に応じた一定の閾値に到達した時点で、ステージ６を停止させて試料測定を開始させる。これにより、プリズム４３の種類に応じた適切な圧力でプリズム４３と試料１とを接触させることができるため、プリズム４３が破損するのを防止することができる。
【００４４】
図５は、スペクトル測定装置の電気的構成の一例を示したブロック図である。本実施形態に係るスペクトル測定装置には、その動作を制御するための制御部１００の他、当該制御部１００に接続された記憶部２００及び表示部３００などが備えられている。記憶部２００は、例えばＲＡＭ（Random Access Memory）又はハードディスクを含む構成であり、スペクトル記憶部２０１及び測定パラメータ記憶部２０２などが割り当てられている。表示部３００は、例えば液晶表示器からなり、測定結果などを表示画面に表示させることができる。
【００４５】
制御部１００は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）を含む構成である。制御部１００は、ＣＰＵがプログラムを実行することにより、事前測定処理部１０１、バックグラウンド測定処理部１０２、試料測定処理部１０３、疑似スペクトル算出処理部１０４、判別処理部１０５、自動設定処理部１０６、スペクトル算出処理部１０７及び出力処理部１０８などとして機能する。
【００４６】
事前測定処理部１０１は、図３に示すような状態で測定位置Ｐに設けられた反射物７からの反射光を検出器３で受光することにより、事前スペクトルを取得する。バックグラウンド測定処理部１０２は、試料測定の直前に、図２に示すような状態で測定位置Ｐにおけるプリズム４３からの反射光を検出器３で受光することにより、バックグラウンドスペクトルを取得する。試料測定処理部１０３は、バックグラウンド測定の直後に、図１に示すような状態で測定位置Ｐにおける試料１からの反射光を検出器３で受光することにより、試料スペクトルを取得する。このようにして取得された事前スペクトル、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルは、スペクトル記憶部２０１に記憶される。
【００４７】
疑似スペクトル算出処理部１０４は、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトルを算出する処理を行う。すなわち、疑似スペクトル算出処理部１０４は、バックグラウンドスペクトルを事前スペクトルで除算し、それらの比を求めることにより、疑似的な透過スペクトルとしての疑似スペクトルを算出する。
【００４８】
判別処理部１０５は、バックグラウンドスペクトルに基づいて、プリズム４３の種類を判別する処理を行う。本実施形態では、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいてプリズム４３の種類が判別される。具体的には、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいて疑似スペクトル算出処理部１０４により算出された疑似スペクトルが、特定の波数範囲において一定の閾値以上の透過率変動量を有するか否かに基づいて、プリズム４３の種類が判別される。ただし、特定の波数範囲で透過率変動量を閾値と比較するような構成に限らず、特定の波長範囲で透過率変動量を閾値と比較するような構成であってもよい。
【００４９】
自動設定処理部１０６は、判別処理部１０５により判別されたプリズム４３の種類に基づいて、このスペクトル測定装置において測定可能な波長範囲又は波数範囲を測定可能範囲として自動的に設定する処理を行う。本実施形態では、プリズム４３の種類だけでなく、検出器３の種類も考慮して測定可能範囲が自動的に設定される。すなわち、プリズム４３の種類及び検出器３の種類に対応付けて波長範囲又は波数範囲が予め定められており、判別処理部１０５により判別されたプリズム４３の種類と、設定されている検出器３の種類とに基づいて、予め定められた波長範囲又は波数範囲が測定パラメータ記憶部２０２に記憶されることにより、測定可能範囲が自動的に設定される。
【００５０】
測定パラメータ記憶部２０２には、試料測定の際に必要な測定パラメータが記憶されている。測定パラメータには、上記測定可能範囲の他、例えば試料１をプリズム４３に接触させる際の圧力などの各種パラメータが含まれる。試料測定時には、それらの各種の測定パラメータが測定パラメータ記憶部２０２から読み出され、当該測定パラメータに基づいてスペクトル測定装置の動作が制御される。
【００５１】
スペクトル算出処理部１０７は、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルに基づいて、透過スペクトルを算出する処理を行う。すなわち、スペクトル算出処理部１０７は、試料スペクトルをバックグラウンドスペクトルで除算し、それらの比を求めることにより、試料１の透過率を表す透過スペクトルを測定結果として算出する。このようにして得られた測定結果は、出力処理部１０８の処理により出力され、表示部３００の表示画面に表示される。ただし、測定結果は、表示部３００の表示画面に表示されるような構成に限らず、出力処理部１０８からプリンタなどの各種出力先に出力することもできる。
【００５２】
図６は、制御部１００による処理の流れを示したフローチャートである。本実施形態では、試料１の分析を行う前に、事前測定処理部１０１により事前測定が行われ、測定位置Ｐに設けられた反射物７からの反射光が検出器３で受光されることにより、事前スペクトルが取得される（ステップＳ１０１）。事前測定は、試料１の分析（一連のバックグラウンド測定及び試料測定）を行う直前に行われてもよいし、分析とは独立して行われることにより、事前スペクトルが記憶部２００に予め記憶されていてもよい。
【００５３】
試料１の分析を行う際には、まず、バックグラウンド測定処理部１０２によりバックグラウンド測定が行われ、測定位置Ｐにおけるプリズム４３からの反射光が検出器３で受光されることにより、バックグラウンドスペクトルが取得される（ステップＳ１０２）。このとき、事前スペクトル及びバックグラウンドスペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトルが疑似スペクトルとして疑似スペクトル算出処理部１０４により算出され、その疑似スペクトルに基づいて判別処理部１０５によりプリズム４３の種類が判別される（ステップＳ１０３）。そして、判別されたプリズム４３の種類及び検出器３の種類に基づいて、自動設定処理部１０６により測定可能範囲が自動的に設定される（ステップＳ１０４）。
【００５４】
その後、試料測定処理部１０３により試料測定が行われ、測定位置Ｐにおける試料１からの反射光が検出器３で受光されることにより、試料スペクトルが取得される（ステップＳ１０５）。そして、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルに基づいて、試料１の透過スペクトルがスペクトル算出処理部１０７により算出され（ステップＳ１０６）、その透過スペクトルが測定結果として出力処理部１０８により出力される。
【００５５】
ただし、疑似スペクトル算出処理部１０４は、透過スペクトルではなく、吸光スペクトルを疑似的に算出するような構成であってもよい。すなわち、疑似的な吸光スペクトルとしての疑似スペクトルが算出され、当該疑似スペクトルに基づいて、判別処理部１０５によりプリズム４３の種類が判別されるような構成であってもよい。また、スペクトル算出処理部１０７は、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルに基づいて、透過スペクトルではなく吸光スペクトルを算出するような構成であってもよい。
【００５６】
以上のように、本実施形態では、透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する際に用いられるバックグラウンドスペクトルに基づいて、プリズム４３の種類が判別される。プリズム４３を試料１に接触させる前に得られるバックグラウンドスペクトルは、プリズム４３の種類に応じて異なるスペクトルとなるため、当該スペクトルを用いることにより、プリズム４３を試料１に接触させる前に予めプリズム４３の種類を判別することができる。したがって、その後に行われる試料測定の際には、プリズム４３の種類に応じた適切な圧力でプリズム４３を試料に接触させることができる。このように、プリズム４３の種類を判別するためにセンサなどのハードウェアを別途設ける必要がないため、ソフトウェアによる処理を用いた簡単かつ安価な構成でプリズム４３の種類を判別することができる。
【００５７】
特に、本実施形態では、バックグラウンドスペクトルと、プリズム４３が測定位置Ｐに設置されていない状態で行われる事前測定により得られる事前スペクトルとに基づいて、プリズム４３の種類が判別される。このように、プリズム４３が測定位置Ｐに設置されていない状態で得られる事前スペクトルを用いることにより、プリズム４３の種類に応じたバックグラウンドスペクトルの特性をより明確にすることができるため、プリズム４３の種類をより精度よく判別することができる。
【００５８】
また、本実施形態では、判別処理部１０５により判別されたプリズム４３の種類の情報を用いて、自動設定処理部１０６により波長範囲又は波数範囲の測定可能範囲を自動的に設定することができる。これにより、測定可能範囲を測定パラメータとして作業者が手動で設定する手間を省くことができるため、作業効率を向上することができる。
【００５９】
＜第２実施形態＞
図７は、本発明の第２実施形態に係るスペクトル測定装置の電気的構成の一例を示したブロック図である。なお、本実施形態に係るスペクトル測定装置の機械的構成については、図１に示した第１実施形態の場合と同様であるため、それらの構成についての詳細な説明は省略する。
【００６０】
本実施形態に係るスペクトル測定装置には、その動作を制御するための制御部４００の他、当該制御部４００に接続された記憶部５００及び表示部６００などが備えられている。記憶部５００は、例えばＲＡＭ（Random Access Memory）又はハードディスクを含む構成であり、スペクトル記憶部５０１及び測定パラメータ記憶部５０２などが割り当てられている。表示部６００は、例えば液晶表示器からなり、測定結果などを表示画面に表示させることができる。
【００６１】
制御部４００は、例えばＣＰＵ（Central Processing Unit）を含む構成である。制御部４００は、ＣＰＵがプログラムを実行することにより、事前測定処理部４０１、バックグラウンド測定処理部４０２、試料測定処理部４０３、疑似スペクトル算出処理部４０４、判別処理部４０５、自動設定処理部４０６、付着物検出処理部４０７、面精度検出処理部４０８、位置ずれ検出処理部４０９、スペクトル算出処理部４１０及び出力処理部４１１などとして機能する。
【００６２】
本実施形態では、バックグラウンド測定及び試料測定が行われる前に、プリズム４３をカセグレン反射対物鏡４に対して適切な位置に順次取り付けて測定（事前測定）が行われる。このような事前測定は、複数種類のプリズム４３について、それぞれのプリズム４３がスペクトル測定装置に初めて設置される際（初回設置時）などに行われる。このとき、図２に示すように各プリズム４３が試料１に対して非接触の状態で、測定位置Ｐに設置された各プリズム４３に赤外光が照射され、測定位置Ｐにおける各プリズム４３からの反射光が検出器３で受光されることにより、各プリズム４３に対応する事前スペクトル（第４スペクトル）としてのパワースペクトルが取得される。
【００６３】
事前測定処理部４０１は、上記のような態様で事前測定を行うことにより、事前スペクトルを取得する。バックグラウンド測定処理部４０２は、試料測定の直前に、図２に示すような状態で測定位置Ｐにおけるプリズム４３からの反射光を検出器３で受光することにより、バックグラウンドスペクトルを取得する。試料測定処理部４０３は、バックグラウンド測定の直後に、図１に示すような状態で測定位置Ｐにおける試料１からの反射光を検出器３で受光することにより、試料スペクトルを取得する。このようにして取得された事前スペクトル、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルは、スペクトル記憶部５０１に記憶される。事前スペクトルは、各プリズム４３の種類に対応付けてスペクトル記憶部５０１に記憶される。
【００６４】
疑似スペクトル算出処理部４０４は、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトルを算出する処理を行う。すなわち、疑似スペクトル算出処理部４０４は、バックグラウンドスペクトルを事前スペクトルで除算し、それらの比を求めることにより、疑似的な透過スペクトルとしての疑似スペクトルを算出する。このような演算が、プリズム４３の種類に対応付けてスペクトル記憶部５０１に記憶されている各事前スペクトルについて行われることにより、プリズム４３の種類に対応する複数の疑似スペクトルが算出される。
【００６５】
このとき、バックグラウンド測定のときと同一のプリズム４３に対応する事前スペクトルを用いた疑似スペクトルについては、プリズム４３に付着物、面精度の低下、位置ずれといったスペクトルに影響を与える要因がない限り、いずれの波長範囲又は波数範囲においても透過率が１００％に近い値となる。これは、バックグラウンド測定のときと同一のプリズム４３に対応する事前スペクトルが、バックグラウンドスペクトルと近似した波形となるためである。したがって、例えば透過率が１００％のラインをベースラインとすれば、当該ベースラインに最も近い疑似スペクトルを特定することにより、プリズム４３の種類を判別することができる。
【００６６】
判別処理部４０５は、バックグラウンドスペクトルに基づいて、プリズム４３の種類を判別する処理を行う。本実施形態では、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいてプリズム４３の種類が判別される。具体的には、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいて疑似スペクトル算出処理部４０４により算出された各疑似スペクトルのうち、上記ベースラインとの差が最も小さい疑似スペクトルに対応するプリズム４３の種類が、使用されているプリズム４３の種類と判別される。ただし、疑似スペクトルに基づいてプリズム４３の種類を判別するような構成に限らず、例えばバックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルを比較することにより、最も波形が近い事前スペクトルに対応するプリズム４３の種類が、使用されているプリズム４３の種類と判別されるような構成などであってもよい。
【００６７】
自動設定処理部４０６は、判別処理部４０５により判別されたプリズム４３の種類に基づいて、このスペクトル測定装置において測定可能な波長範囲又は波数範囲を測定可能範囲として自動的に設定する処理を行う。本実施形態では、プリズム４３の種類だけでなく、検出器３の種類も考慮して測定可能範囲が自動的に設定される。すなわち、プリズム４３の種類及び検出器３の種類に対応付けて波長範囲又は波数範囲が予め定められており、判別処理部４０５により判別されたプリズム４３の種類と、設定されている検出器３の種類とに基づいて、予め定められた波長範囲又は波数範囲が測定パラメータ記憶部５０２に記憶されることにより、測定可能範囲が自動的に設定される。
【００６８】
測定パラメータ記憶部５０２には、試料測定の際に必要な測定パラメータが記憶されている。測定パラメータには、上記測定可能範囲の他、例えば試料１をプリズム４３に接触させる際の圧力などの各種パラメータが含まれる。試料測定時には、それらの各種の測定パラメータが測定パラメータ記憶部５０２から読み出され、当該測定パラメータに基づいてスペクトル測定装置の動作が制御される。
【００６９】
付着物検出処理部４０７は、疑似スペクトル算出処理部４０４により算出された疑似スペクトルのピークを検出し、当該ピークのベースラインに対する高さ又は面積に基づいてプリズム４３に対する付着物の有無を検出する。具体的には、水蒸気に対応する波数範囲（例えば３５００〜４０００ｃｍ−１、１４００〜１８００ｃｍ−１）や、二酸化炭素に対応する波数範囲（例えば２３００〜２４００ｃｍ−１）などの特定の範囲を除く波数範囲内に、ベースラインに対する高さ又は面積が一定の閾値以上のピークが存在する場合には、プリズム４３に付着物があると判断することができる。
【００７０】
プリズム４３に付着物が検出された場合には、その検出結果が、例えば表示部６００に表示される。したがって、その検出結果に基づいてプリズム４３に対する付着物の除去などを行うことができるため、メンテナンス性が向上する。上記の通り、プリズム４３に対する付着物の有無は、疑似スペクトルのピークのベースラインに対する高さ又は面積に基づいて好適に検出することができるため、誤検知を効果的に防止することができる。
【００７１】
面精度検出処理部４０８は、疑似スペクトル算出処理部４０４により算出された疑似スペクトルのベースラインに対する傾き又は面積に基づいて、プリズム４３の面精度の低下を検出する。具体的には、プリズム４３の面精度が低下した場合には、高波数側（短波長側）の透過率が低下し、高波数側（短波長側）が低く傾斜した波形となるため、ベースラインと疑似スペクトルとの差分の面積が大きくなる。したがって、ベースラインに対する疑似スペクトルの傾き又は面積が一定の閾値以上である場合には、プリズム４３の面精度が低下していると判断することができる。
【００７２】
プリズム４３の面精度の低下が検出された場合には、その検出結果が、例えば表示部６００に表示される。したがって、その検出結果に基づいてプリズム４３の交換などを行うことができるため、メンテナンス性が向上する。上述の通り、プリズム４３の面精度の低下は、疑似スペクトルのベースラインに対する傾き又は面積に基づいて好適に検出することができるため、誤検知を効果的に防止することができる。
【００７３】
位置ずれ検出処理部４０９は、疑似スペクトル算出処理部４０４により算出された疑似スペクトルのベースラインに対する面積に基づいて、プリズム４３の位置ずれを検出する。具体的には、プリズム４３の位置がずれている場合には、ベースラインと疑似スペクトルとの差分の面積が大きくなる。したがって、ベースラインに対する疑似スペクトルの面積が一定の閾値以上である場合には、プリズム４３の位置がずれていると判断することができる。このときのベースラインと疑似スペクトルとの差分の面積は、プリズム４３の面精度が低下している場合よりも大きくなるため、閾値を異ならせる（より高い閾値に設定する）ことにより、面精度の低下と位置ずれを区別することができる。
【００７４】
プリズム４３の位置ずれが検出された場合には、その検出結果に基づいてプリズム４３の位置ずれを補正することができるため、メンテナンス性が向上する。上述の通り、プリズム４３の位置ずれは、疑似スペクトルのベースラインに対する面積に基づいて好適に検出することができるため、誤検知を効果的に防止することができる。
【００７５】
スペクトル算出処理部４１０は、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルに基づいて、透過スペクトルを算出する処理を行う。すなわち、スペクトル算出処理部４１０は、試料スペクトルをバックグラウンドスペクトルで除算し、それらの比を求めることにより、試料１の透過率を表す透過スペクトルを測定結果として算出する。このようにして得られた測定結果は、出力処理部４１１の処理により出力され、表示部６００の表示画面に表示される。ただし、測定結果は、表示部６００の表示画面に表示されるような構成に限らず、出力処理部４１１からプリンタなどの各種出力先に出力することもできる。
【００７６】
図８は、制御部４００による処理の流れを示したフローチャートである。本実施形態では、試料１の分析を行う前に、事前測定処理部４０１により事前測定が行われ、各プリズム４３の種類に対応付けて事前スペクトルが記憶部５００に記憶されている。
【００７７】
試料１の分析を行う際には、まず、バックグラウンド測定処理部４０２によりバックグラウンド測定が行われ、測定位置Ｐにおけるプリズム４３からの反射光が検出器３で受光されることにより、バックグラウンドスペクトルが取得される（ステップＳ２０１）。このとき、事前スペクトル及びバックグラウンドスペクトルに基づいて、疑似的な透過スペクトルが疑似スペクトルとして疑似スペクトル算出処理部４０４により算出され、その疑似スペクトルに基づいて判別処理部４０５によりプリズム４３の種類が判別される（ステップＳ２０２）。そして、判別されたプリズム４３の種類及び検出器３の種類に基づいて、自動設定処理部４０６により測定可能範囲が自動的に設定される（ステップＳ２０３）。
【００７８】
また、付着物検出処理部４０７、面精度検出処理部４０８及び位置ずれ検出処理部４０９などにより、疑似スペクトルに基づいて各種の検出処理が行われ（ステップＳ２０４）、その検出結果が表示部６００に表示される。このとき、作業者は、表示部６００に表示された検出結果に基づいて必要なメンテナンス作業を行った上で、試料１の分析を開始させることができる。ただし、上記各種の検出処理には、プリズム４３についての付着物、面精度又は位置ずれなどの検出処理に限らず、プリズム４３の状態を検出するような他の検出処理が含まれていてもよい。
【００７９】
その後、試料測定処理部４０３により試料測定が行われ、測定位置Ｐにおける試料１からの反射光が検出器３で受光されることにより、試料スペクトルが取得される（ステップＳ２０５）。そして、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルに基づいて、試料１の透過スペクトルがスペクトル算出処理部４１０により算出され（ステップＳ２０６）、その透過スペクトルが測定結果として出力処理部４１１により出力される。
【００８０】
ただし、疑似スペクトル算出処理部４０４は、透過スペクトルではなく、吸光スペクトルを疑似的に算出するような構成であってもよい。すなわち、疑似的な吸光スペクトルとしての疑似スペクトルが算出され、当該疑似スペクトルに基づいて、判別処理部４０５によりプリズム４３の種類が判別されたり、付着物検出処理部４０７、面精度検出処理部４０８及び位置ずれ検出処理部４０９などにより検出処理が行われたりするような構成であってもよい。また、スペクトル算出処理部４１０は、バックグラウンドスペクトル及び試料スペクトルに基づいて、透過スペクトルではなく吸光スペクトルを算出するような構成であってもよい。
【００８１】
以上のように、本実施形態では、透過スペクトル又は吸光スペクトルを算出する際に用いられるバックグラウンドスペクトルに基づいて、プリズム４３の種類が判別される。プリズム４３を試料１に接触させる前に得られるバックグラウンドスペクトルは、プリズム４３の種類に応じて異なるスペクトルとなるため、当該スペクトルを用いることにより、プリズム４３を試料１に接触させる前に予めプリズム４３の種類を判別することができる。したがって、その後に行われる試料測定の際には、プリズム４３の種類に応じた適切な圧力でプリズム４３を試料に接触させることができる。このように、プリズム４３の種類を判別するためにセンサなどのハードウェアを別途設ける必要がないため、ソフトウェアによる処理を用いた簡単かつ安価な構成でプリズム４３の種類を判別することができる。
【００８２】
特に、本実施形態では、バックグラウンドスペクトルと、複数種類のプリズム４３が測定位置Ｐにそれぞれ設置された状態で予め測定を行うことにより得られた事前スペクトルとに基づいて、プリズム４３の種類が判別される。このように、バックグラウンドスペクトルを取得する際と同じ条件で、プリズム４３の種類ごとに予め事前スペクトルを取得しておくことにより、それらの事前スペクトルと実際に取得したバックグラウンドスペクトルとの比較によって、プリズム４３の種類をより精度よく判別することができる。
【００８３】
また、本実施形態では、判別処理部４０５により判別されたプリズム４３の種類の情報を用いて、自動設定処理部４０６により波長範囲又は波数範囲の測定可能範囲を自動的に設定することができる。これにより、測定可能範囲を測定パラメータとして作業者が手動で設定する手間を省くことができるため、作業効率を向上することができる。
【００８４】
以上の実施形態では、バックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルに基づいて疑似スペクトルを算出し、その疑似スペクトルに基づいてプリズム４３の種類を判別するような構成について説明した。しかし、疑似スペクトルを算出せずに、例えばバックグラウンドスペクトル及び事前スペクトルを比較することによりプリズム４３の種類を判別するような構成や、バックグラウンドスペクトルのみに基づいてプリズム４３の種類を判別するような構成などであってもよい。
【００８５】
また、以上の実施形態では、光学測定装置の一例として、試料１からの反射光を検出器３で受光することにより測定を行う赤外顕微鏡について説明した。しかし、本発明は、汎用のフーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴＩＲ）といった赤外顕微鏡以外の分析装置にも適用可能である。
【符号の説明】
【００８６】
１    試料
２    光源
３    検出器
４    カセグレン反射対物鏡
５    ハーフミラー
６    ステージ
７    反射物
４１    凹面主鏡
４２    凸面副鏡
４３    プリズム
４４    反射面
４５    開口
４６    反射面
４７    平坦面
４８    凸面
１００    制御部
１０１    事前測定処理部
１０２    バックグラウンド測定処理部
１０３    試料測定処理部
１０４    疑似スペクトル算出処理部
１０５    判別処理部
１０６    自動設定処理部
１０７    スペクトル算出処理部
１０８    出力処理部
２００    記憶部
２０１    スペクトル記憶部
２０２    測定パラメータ記憶部
３００    表示部
４００    制御部
４０１    事前測定処理部
４０２    バックグラウンド測定処理部
４０３    試料測定処理部
４０４    疑似スペクトル算出処理部
４０５    判別処理部
４０６    自動設定処理部
４０７    付着物検出処理部
４０８    面精度検出処理部
４０９    位置ずれ検出処理部
４１０    スペクトル算出処理部
４１１    出力処理部
５００    記憶部
５０１    スペクトル記憶部
５０２    測定パラメータ記憶部
６００    表示部
【図１】
2016161408.tif 000003
【図２】
2016161408.tif 000004
【図３】
2016161408.tif 000005
【図４】
2016161408.tif 000006
【図５】
2016161408.tif 000007
【図６】
2016161408.tif 000008
【図７】
2016161408.tif 000009
【図８】
2016161408.tif 000010