(57)【要約】【課題】本発明の課題は、酸化セリウムの使用量を抑制し、より硬質なガラス基板に対して高い研磨速度を得ることができ、被研磨物の表面粗さを小さくすることができる研磨材の製造方法を提供することである。【解決手段】本発明の研磨材の製造方法は、コア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であって、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム（Ｃｅ）の塩を含有するシェル２を有する前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で、焼成する焼成工程を有することを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
コア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であって、
イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム（Ｃｅ）の塩を含有するシェルを有する前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で、焼成する焼成工程を有することを特徴とする研磨材の製造方法。
【請求項２】
前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、少なくとも、コア形成工程、シェル形成工程及び当該前駆体を反応溶液から分離する固液分離工程を経て製造し、
前記固液分離工程の後であって前記焼成工程の前に、３００〜４９０℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で当該前駆体を仮焼成することを特徴とする請求項１に記載の研磨材の製造方法。
【請求項３】
前記焼成工程での焼成温度の昇温速度が、２０〜５０℃／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする請求項１に記載の研磨材の製造方法。
【請求項４】
前記焼成工程の後、前記前駆体を冷却する温度の降温速度が、１〜２０℃／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の研磨材の製造方法。
【請求項５】
前記焼成工程で前記前駆体を焼成する焼成装置が、ローラーハースキルン又はロータリーキルンであることを特徴とする請求項１から請求項４までのいずれか一項に記載の研磨材の製造方法。
【請求項６】
前記コア形成工程が、尿素化合物を添加することによりイットリウム、チタン、ストロンチウム、バリウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム及びテルビウムから選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩を形成させ、当該塩基性炭酸塩を主成分とする前記前駆体のコアを形成させる工程であり、
前記シェル形成工程が、前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の硝酸塩及びセリウムの硝酸塩により調製された水溶液を添加して、前記コアの外側に前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩及びセリウムの塩基性炭酸塩を含有する前記前駆体のシェルを形成する工程であることを特徴とする請求項２から請求項５までのいずれか一項に記載の研磨材の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、研磨材の製造方法に関する。より詳しくは、コアにイットリウム等の元素の塩を含有し、シェルにイットリウム等の元素の塩とセリウムの塩を含有するコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学ガラスや半導体デバイスを仕上工程で精密研磨する研磨材としては、従来、酸化セリウムを主成分とし、これに酸化ランタン、酸化ネオジム、酸化プラセオジムなどが加わった希土類元素の酸化物が使用されている。この他の研磨材としては、ダイヤモンド、酸化鉄、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、コロイダルシリカ等が挙げられるが、研磨速度、研磨後の被研磨物の表面粗さの観点から比較したときに、酸化セリウムが有効であることは公知であり、広範囲で用いられている。
【０００３】
しかし、酸化セリウムは、世界的に偏在しており、供給が安定するとはいえない。そこで、酸化セリウムの使用量を削減しつつ、高い精度でガラスの研磨を行うことができる研磨材の製造方法の確立が求められている。
【０００４】
例えば、特許文献１には、８５０〜１１００℃の温度で１〜１０時間焼成して得られる結晶子径２０〜４０ｎｍ（２００〜４００Å）のセリウム系研磨材が得られる方法が記載されている。この方法では、混合希土類酸化物と混合希土類フッ素化物を混合し、粉砕することで、セリウム系研磨材を得ている。
【０００５】
しかしながら、特許文献１の方法で得られたセリウム系研磨材は、粒子の最表面のセリウム濃度が低いため、十分な研磨速度が得られない。
【０００６】
また、被研磨物の具体例として、例えば、ハードディスク用ガラス基板が挙げられるが、ハードディスク用ガラス基板は、記録密度を増加させるために、ガラス基板の表面粗さをより小さくすることでガラス基板と磁気ヘッドとの距離を短くする傾向がある。
【０００７】
しかし、表面粗さを小さくするために研磨材に含まれる粒子の平均粒子径を小さくしてしまうと、研磨速度が低下し、生産性も低下してしまうという問題がある。
【０００８】
また、ハードディスク用ガラス基板には、高速回転で回転した際のディスクのぶれを抑えるために機械的な特性、特に、硬さと剛性の向上等の要求が年々増加している。これらの機械的特性の要求を満たすためにアミノシリケートを主成分とする強化ガラス基板やリチウムシリケートを主成分とする結晶化ガラス基板が多く使用されるようになっている。
【０００９】
しかし、これらのガラス基板は、耐薬品性が優れており、硬質であるため加工性が悪く、研磨速度が従来のガラス基板を研磨する場合よりも極端に遅くなってしまう。また、これらのガラス基板は、従来のガラス基板よりも硬質であるため、従来のガラス基板を研磨する場合と比較して高い圧力をかけることで基板にキズがつきやすいという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１０】
【特許文献１】特開２００６−９７０１４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１１】
本発明の課題は、上記問題・状況に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、セリウムの使用量を抑制し、より硬質なガラス基板に対して高い研磨速度を得ることができ、被研磨物の表面粗さを小さくすることができる研磨材の製造方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記課題を解決すべく、上記問題の原因等について検討する過程において、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム（Ｃｅ）の塩を含有するシェルを有するコア・シェル型無機粒子の前駆体を特定温度範囲内で特定時間内焼成することが有効であることを見出し本発明に至った。
すなわち、本発明に係る上記課題は、以下の手段により解決される。
【００１３】
１．コア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であって、
イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム（Ｃｅ）の塩を含有するシェルを有する前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で、焼成する焼成工程を有することを特徴とする研磨材の製造方法。
【００１４】
２．前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、少なくとも、コア形成工程、シェル形成工程及び当該前駆体を反応溶液から分離する固液分離工程を経て製造し、
前記固液分離工程の後であって前記焼成工程の前に、３００〜４９０℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で当該前駆体を仮焼成することを特徴とする第１項に記載の研磨材の製造方法。
【００１５】
３．前記焼成工程での焼成温度の昇温速度が、２０〜５０℃／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする第１項に記載の研磨材の製造方法。
【００１６】
４．前記焼成工程の後、前記前駆体を冷却する温度の降温速度が、１〜２０℃／ｍｉｎの範囲内であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の研磨材の製造方法。
【００１７】
５．前記焼成工程で前記前駆体を焼成する焼成装置が、ローラーハースキルン又はロータリーキルンであることを特徴とする第１項から第４項までのいずれか一項に記載の研磨材の製造方法。
【００１８】
６．前記コア形成工程が、尿素化合物を添加することによりイットリウム、チタン、ストロンチウム、バリウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム及びテルビウムから選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩を形成させ、当該塩基性炭酸塩を主成分とする前記前駆体のコアを形成させる工程であり、
前記シェル形成工程が、前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の硝酸塩及びセリウムの硝酸塩により調製された水溶液を添加して、前記コアの外側に前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩及びセリウムの塩基性炭酸塩を含有する前記前駆体のシェルを形成する工程であることを特徴とする第２項から第５項までのいずれか一項に記載の研磨材の製造方法。
【発明の効果】
【００１９】
本発明の上記手段により、セリウムの使用量を抑制し、より硬質なガラス基板に対して高い研磨速度を得ることができ、被研磨物の表面粗さを小さくすることができる。
本発明の効果の発現機構ないし作用機構については、明確にはなっていないが、以下のように推察している。
焼成工程における焼成温度を５００〜１２００℃の範囲内で焼成時間を１〜５時間の範囲内とすることで、研磨材として適した結晶子径を持つ粒子が成長し、研磨の際に十分な硬さを持ったコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材が得られるものと考えられる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】研磨材の製造工程の流れを示す模式図
【図２】粒子の結晶子と粒径を示す模式図
【図３】仮焼成及び焼成工程における温度変化を模式的に示すグラフ
【図４】研磨材に含有されるコア・シェル型無機粒子の構造を示す模式図
【発明を実施するための形態】
【００２１】
本発明の研磨材の製造方法は、コア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であって、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム（Ｃｅ）の塩を含有するシェルを有する前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で、焼成する焼成工程を有することを特徴とする。この特徴は、請求項１から請求項６までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００２２】
本発明の実施態様としては、本発明の効果発現の観点から、前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、少なくとも、コア形成工程、シェル形成工程及び当該前駆体を反応溶液から分離する固液分離工程を経て製造し、前記固液分離工程の後であって前記焼成工程の前に、３００〜４９０℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で当該前駆体を仮焼成することが好ましい。これにより、コアを形成する結晶子が十分に成長し、研磨の際の圧力に対する耐久性が高いコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材が得られると考えられる。
【００２３】
また、前記焼成工程での焼成温度の昇温速度が、２０〜５０℃／ｍｉｎの範囲内であることが好ましい。これにより、セリウムの塩を多く含有するシェルの結晶子が安定して成長すると考えられる。
【００２４】
また、前記焼成工程の後、前記前駆体を冷却する温度の降温速度が、１〜２０℃／ｍｉｎの範囲内であることが好ましい。これにより、コアとシェルの間の微小なクラックの発生を抑制することができ、層間の結合がより強固になることで、研磨の際の圧力に強く、最表面の凹凸が少ないコア・シェル型無機粒子を形成させることができると考えられる。
【００２５】
また、前記焼成工程で前記前駆体を焼成する焼成装置が、ローラーハースキルン又はロータリーキルンであることが好ましい。これにより、研磨材に含有されるコア・シェル型無機粒子の前駆体に対して均一に熱が加わることとなり好ましい。
【００２６】
また、前記コア形成工程が、尿素化合物を添加することによりイットリウム、チタン、ストロンチウム、バリウム、サマリウム、ユーロピウム、ガドリニウム及びテルビウムから選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩を形成させ、当該塩基性炭酸塩を主成分とする前記前駆体のコアを形成させる工程であり、前記シェル形成工程が、前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の硝酸塩及びセリウムの硝酸塩により調製された水溶液を添加して、前記コアの外側に前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩及びセリウムの塩基性炭酸塩を含有する前記前駆体のシェルを形成する工程であることが好ましい。これにより、不純物の少ない研磨材に適した単分散性を示すコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材を製造することができる。
【００２７】
以下、本発明とその構成要素及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本願において、「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００２８】
＜研磨材の製造方法の概要＞
本発明の研磨材の製造方法は、コア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であって、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を含有するコアと前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩とセリウム（Ｃｅ）の塩を含有するシェルを有する前記コア・シェル型無機粒子の前駆体を、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で、焼成する焼成工程を有することを特徴とする。
【００２９】
一般的な研磨材には、ベンガラ（αＦｅ２Ｏ３）、酸化セリウム、酸化アルミニウム、酸化マンガン、酸化ジルコニウム、コロイダルシリカ等の研磨材粒子を水や油に分散させてスラリー状にしたものなどがある。
【００３０】
本発明は、半導体デバイスやガラスの研磨加工において、高精度に平坦性を維持しつつ、十分な研磨速度を得るために物理的な作用と化学的な作用の両方で研磨を行う、化学機械研磨（ＣＭＰ；Chemical Mechanical Polishing）が可能なセリウムを含有するコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材の製造方法であり、以下、詳細に説明する。
【００３１】
＜研磨材の製造方法＞
以下に、コア１及びシェル２からなるコア・シェル型無機粒子（図４参照）を含有する研磨材の製造方法を示す。
本発明の研磨材粒子の製造方法は、図１に示すように、コア形成工程、シェル形成工程、固液分離工程及び焼成工程の４つの工程からなる態様の製造方法であることが好ましい。
【００３２】
１．コア形成工程
コア形成工程は、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩を形成させ、当該塩を主成分とする研磨材粒子の前駆体のコア１を形成させる態様が好ましい。なお、Ｃｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈ及びアルカリ土類金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の塩を併用してコア１を形成させてもよい。
【００３３】
具体的には、コア形成工程は、例えば、イットリウムの塩及び沈殿剤を水に溶解させ、所定の濃度の溶液を調製する。当該溶液を８０℃以上で加熱撹拌することで、コア１の種結晶を作製する。コア形成工程は、調製された溶液にさらにイットリウムの塩で調製した溶液を加えて８０℃以上で加熱撹拌する。これにより、コア形成工程は、水に不溶な塩基性炭酸塩、例えば、イットリウム塩基性炭酸塩（Ｙ（ＯＨ）ＣＯ３又はＹ（ＯＨ）ＣＯ３・ｘＨ２Ｏ，ｘ＝１等）を形成させ、種結晶の外側にイットリウム塩基性炭酸塩を成長させることで研磨材粒子の前駆体のコア１となる。以下の説明においては、加熱撹拌を開始した溶液を反応溶液とする。
【００３４】
コア形成工程において、水に溶解させる、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩並びに併用してもよいＣｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈ及びアルカリ土類金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の塩としては、硝酸塩、塩酸塩、硫酸塩等を用いることができるが、製品への不純物の混入が少ない硝酸塩（例えば、硝酸イットリウム、硝酸チタン、硝酸ストロンチウム、硝酸バリウム、硝酸サマリウム、硝酸ユーロピウム、硝酸ガドリニウム、硝酸テルビウム等）を使用することが好ましい。
【００３５】
また、沈殿剤としては、前記元素の塩とともに水に混ぜて加熱した際に塩基性炭酸塩を生成する種類のアルカリ化合物であればよく、尿素化合物、炭酸アンモニウム及び炭酸水素アンモニウム等が好ましい。
【００３６】
尿素化合物としては、尿素の塩（例えば、硝酸塩及び塩酸塩等）、Ｎ，Ｎ′−ジメチルアセチル尿素、Ｎ，Ｎ′−ジベンゾイル尿素、ベンゼンスルホニル尿素、ｐ−トルエンスルホニル尿素、トリメチル尿素、テトラエチル尿素、テトラメチル尿素、トリフェニル尿素、テトラフェニル尿素、Ｎ−ベンゾイル尿素、メチルイソ尿素及びエチルイソ尿素等が挙げられ、尿素も含むものとする。尿素化合物の中で特に尿素は、徐々に加水分解することでゆっくり沈殿が生成し、均一な沈殿が得られる点で好ましい。
【００３７】
また、水に不溶な塩基性炭酸塩、例えば、イットリウムの塩基性炭酸塩を生成させることで、析出した沈殿を単分散の状態で分散させることができる。更に、後述するシェル形成工程においてもセリウムの塩基性炭酸塩を形成させるため、塩基性炭酸塩による連続的な層構造を形成させることができる。
【００３８】
なお、以下の実施例において、コア形成工程及びシェル形成工程において反応溶液に添加されるイットリウムの塩から調製される水溶液としては、硝酸イットリウムを水に溶解させ、調製される硝酸イットリウム水溶液の場合を示す。また、尿素化合物として、尿素を用いる場合について示すが、一例であって、これに限定されるものではない。
【００３９】
コア形成工程における、例えば、イットリウムの塩を含有する水溶液の添加速度は、１分当たり０．００３ｍｏｌ／Ｌから５．５ｍｏｌ／Ｌが好ましく、８０℃以上で加熱撹拌しながら反応溶液に添加することが好ましい。添加速度を当該範囲とすることにより、単分散性の優れた、球状の研磨材粒子が形成されやすくなるためである。加熱する温度については、８０℃以上で加熱撹拌すると、添加された尿素の分解が進みやすくなるためである。また、添加する尿素の濃度は、イットリウムのイオン濃度の５から５０倍の濃度が好ましい。これは、イットリウムの水溶液中でのイオン濃度及び尿素の濃度を、当該範囲内とすることで、単分散性を示す球状の研磨材粒子を合成することができるためである。
なお、加熱撹拌の際には、十分な撹拌効率を得られれば、特に撹拌機の形状等は指定しないが、より高い撹拌効率を得るためには、ローター・ステータータイプの軸流撹拌機を使用することが好ましい。
【００４０】
２．シェル形成工程
シェル形成工程は、コア形成工程により形成するイットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩基性炭酸塩を分散させる反応溶液に、前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素の塩から調製する水溶液とセリウム（Ｃｅ）の塩から調製する水溶液の混合液を一定速度で所定時間添加する態様が好ましい。具体的には、前記８種の元素から選ばれる少なくとも一種の元素としてイットリウムを用いる場合、コア１の外側にイットリウムの塩基性炭酸塩、例えば、イットリウム塩基性炭酸塩（Ｙ（ＯＨ）ＣＯ３又はＹ（ＯＨ）ＣＯ３・ｘＨ２Ｏ，ｘ＝１等）及びセリウムの塩基性炭酸塩、例えば、セリウム塩基性炭酸塩（Ｃｅ（ＯＨ）ＣＯ３又はＣｅ（ＯＨ）ＣＯ３・ｘＨ２Ｏ，ｘ＝１等）を含有する研磨材粒子の前駆体のシェル２を形成させる。
なお、Ａｌ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈ及びアルカリ土類金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の塩を併用してシェル２を形成させてもよい。
【００４１】
また、水溶液の調製に用いるセリウムの塩として、製品への不純物の混入が少ない硝酸塩を使用することが好ましいため、硝酸セリウムを用いる場合を示したが、これに限定するものではなく、塩酸塩、硫酸塩等を用いることができる。
【００４２】
シェル形成工程で添加する水溶液の添加速度は、１分当たり０．００３ｍｏｌ／Ｌから５．５ｍｏｌ／Ｌが好ましい。これは、添加速度を当該範囲とすることにより、単分散性の優れた、球状の研磨材粒子が形成されやすくなるためである。
【００４３】
また、添加する水溶液が含有するセリウムの濃度の割合が９０モル％以下であることが好ましい。これは、添加する水溶液のセリウムの濃度の割合が９０モル％より大きい場合、９０モル％以下に調製された水溶液を添加する場合と同じ添加時間で添加を行うと、形成される研磨材粒子が単分散性を示さず、板状に凝集してしまうためである。
【００４４】
また、反応溶液は、前記添加速度で水溶液を添加されながら、８０℃以上で加熱撹拌されることが好ましい。これは、８０℃以上で加熱撹拌されると、コア形成工程において添加された尿素の分解が進みやすくなるためである。
【００４５】
３．固液分離工程
固液分離工程は、シェル形成工程によりシェル２が形成されたコア・シェル型無機粒子の前駆体を反応溶液から固液分離する。なお、固液分離工程においては、必要に応じて、得られたコア・シェル型無機粒子の前駆体を乾燥した後に、焼成工程へ移行してもよい。
【００４６】
４．焼成工程
焼成工程は、固液分離工程で得られたコア・シェル型無機粒子の前駆体を空気中若しくは酸化性雰囲気中、５００〜１２００℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で焼成する。コア・シェル型無機粒子の前駆体は、焼成されることにより二酸化炭素が脱離するため、塩基性炭酸塩から酸化物となり、目的のコア・シェル型無機粒子が得られる。
【００４７】
当該温度範囲及び当該時間の範囲内で焼成することにより、研磨材として適した結晶子径を持つ粒子が成長し、研磨の際に十分な硬さを持ったコア・シェル型無機粒子が得られるものと考えられる。ここで、結晶子とは、単結晶とみなせる最大の領域をいう。具体的には、図２に示すように、１つの粒子は、複数の結晶子により形成されている。焼成の温度及び時間によって、結晶子の成長速度が変化するため、５００〜１２００℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で焼成することで、研磨材として適した結晶子径を持つコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材を製造することができるものと考えられる。
【００４８】
コア・シェル型無機粒子の前駆体を焼成する具体的な焼成装置としては、公知のローラーハースキルン又はロータリーキルンであることが好ましい。これにより、研磨材に含有されるコア・シェル型無機粒子の前駆体に対して均一に熱が加わることとなり好ましい。
一般的なローラーハースキルンとしては、例えば、炉内に複数のローラーが設置され、原料をローラーに載せて搬送するので、炉内の領域を仮焼成、焼成、冷却と温度に合わせてわけることもできる。また、一般的なロータリーキルンとしては、例えば、略円筒状で、キルン内では原料はゆっくり回転しながら徐々に送られる。
【００４９】
また、固液分離工程の後であって、焼成工程の前に仮焼成を行うことが好ましい。具体的には、仮焼成は、焼成温度が３００〜４９０℃の範囲内で、１〜５時間の範囲内で行うことが好ましい。当該条件で仮焼成を行うことで、コア１を形成する結晶子が十分に成長し、研磨の際の圧力に対する耐久性が高いコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材が得られると考えられる。特に、３００〜４００℃の範囲内で、２〜３時間の範囲内で仮焼成を行うことが、結晶子が十分に成長する点で好ましい。
なお、仮焼成においても焼成工程と同様に、公知のローラーハースキルン又はロータリーキルンを用いることができる。
【００５０】
さらに、焼成工程における温度を２０〜５０℃／ｍｉｎの範囲内の昇温速度で昇温することが好ましい。これにより、セリウムを多く含有するシェル２の結晶子が安定して成長すると考えられる。
【００５１】
また、焼成工程の後、５００℃から室温（２５℃）までの温度を１〜２０℃／ｍｉｎの範囲内の降温速度で降温することが好ましい。これにより、コア１とシェル２の間の微小なクラックの発生を抑制することができ、層間の結合がより強固になることで、研磨の際の圧力に強く、最表面の凹凸が少ないコア・シェル型無機粒子を形成させることができると考えられる。
【００５２】
仮焼成及び焼成工程における温度変化を模式的に示すグラフを図３に示す。図３に示すように、コア・シェル型無機粒子の前駆体を、焼成工程の前に３００〜４９０℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で仮焼成した後、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で焼成することが好ましい。ここで、本願では焼成工程における焼成とは、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で焼成することをいう。また、焼成工程の前の仮焼成とは、焼成工程の前に３００〜４９０℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で仮焼成することをいう。なお、焼成工程は、一定の温度に保つ保持時間を焼成時間に含まない温度変化であってもよく、仮焼成についても同様である。
【００５３】
なお、以下の実施例における仮温度とは、仮焼成がない場合の焼成工程の前の最高温度又は仮焼成がある場合の仮焼成における最高温度である。仮焼成時間とは、３００〜４９０℃の範囲内で仮焼成を行った時間である。仮保持時間とは、仮焼成において仮温度を保持した時間である。同様に、温度とは、焼成工程における最高温度である。焼成時間とは、焼成工程における５００〜１２００℃の範囲内で焼成を行った時間である。保持時間とは、焼成工程において最高温度を保持した時間である。
【００５４】
また、昇温速度とは、焼成工程における５００℃から最高温度まで温度を昇温させる速度を表す。冷却速度とは、焼成工程の後に５００℃から室温（２５℃）まで温度を冷却する速度を表す。
【００５５】
＜コア・シェル型無機粒子の構造＞
本発明に係る「コア・シェル型無機粒子」とは、当該無機結晶粒子の中心部を含む内部を構成するコア（「コア部」又は「内核部」ともいう。）と当該無機結晶粒子の最外殻部（「最外層」ともいう。）を構成するシェル（「シェル層」ともいう。）からなる結晶構造を持つ無機結晶粒子をいう。
なお、コアは、複数の層を有する構造であっても良い。また、当該コアとシェルとの界面となる境界線は明確であっても、コアの構成成分とシェルの構成成分が境界付近で混じり合い境界線が不明確でも良い。
本発明に係る無機粒子のコア・シェル構造の形状を確認する方法としては、例えば透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）を用いコアとシェルとの界面となる境界線を目視にて確認する方法がある。
すなわち、具体的には、例えば、まず本発明に係る無機粒子を常温硬化性のエポキシ樹脂中に十分分散させた後、包埋し、粒径１００ｎｍ程度のスチレン微粉末に分散させた後加圧成形する。必要により得られたブロックを四三酸化ルテニウム又は四三酸化オスミウムを併用し染色を施した後、ダイヤモンド歯を備えたミクロトームを用い薄片状のサンプルを切り出し、透過型電子顕微鏡を用いて、当該無機粒子１個の断面が視野に入る倍率（約１００００倍）にて写真撮影する。次に、前記写真において、コアとシェルとの界面となる境界線を目視にて確認する。
具体的には、本発明に係るコア・シェル型無機粒子として、図４に示すように、中心を含むコア１と、コア１の外側にシェル２を有する２層構造の態様が好ましい。
【００５６】
コア１は、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩、例えば、酸化イットリウムが主成分（６０モル％以上）として含有する。これは、酸化イットリウム等の塩が、研磨の際にかかる応力に対して酸化セリウムよりも壊れにくいためである。なお、コア形成工程において形成された種結晶及びその外側に形成された塩基性炭酸塩を合わせてコア１とする。
【００５７】
また、コア１は、Ｃｅ、Ａｌ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈ及びアルカリ土類金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素の塩を併用して含んでもよい。
【００５８】
シェル２は、イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩、例えば、酸化イットリウムと、セリウム（Ｃｅ）の塩、例えば、酸化セリウムを含む。
【００５９】
また、シェル２は、上記イットリウム（Ｙ）、チタン（Ｔｉ）、ストロンチウム（Ｓｒ）、バリウム（Ｂａ）、サマリウム（Ｓｍ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ガドリニウム（Ｇｄ）及びテルビウム（Ｔｂ）から選ばれる少なくとも一種の元素の塩並びにセリウム（Ｃｅ）の塩に加えて、Ａｌ、Ｓｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｇａ、Ｇｅ、Ｚｒ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ｗ、Ｂｉ、Ｔｈ及びアルカリ土類金属からなる群から選ばれる少なくとも１種の元素を併用して含んでもよい。
【００６０】
シェル２の濃度分布は、均一であってもよいが、コア・シェル型無機粒子の中心から表面に向かって酸化セリウムの組成が連続的に増加する態様が好ましい。具体的には、シェル２のうち、コア・シェル型無機粒子の中心側のコア１に近い部分の組成は、酸化イットリウムが多い割合を占めている。そして、コア・シェル型無機粒子の中心側から表面側にむかうにつれて、シェル２の組成は、酸化セリウムの占める割合が連続的に増加する。
【００６１】
なお、シェル２の組成変化については、一例であって、酸化セリウムの占める割合がコア１側から連続的に増加して、最表面側の所定領域が一定の割合となっていてもよい。また、コア・シェル型無機粒子の形状は、球状に限定するものではなく、略楕円形状等であってもよい。
【００６２】
＜コア・シェル型無機粒子の形状等＞
コア１の粒子径は、０．０１５〜１．１μｍの範囲が好ましい。この範囲にすることで、研磨の際にかかる圧力に対して高い耐久性を維持することができる。
【００６３】
シェル２の厚さは、０．００２５〜０．４５μｍの範囲が好ましい。この範囲にすることで、単分散性を示す、研磨速度及び耐久性の優れたコア・シェル型無機粒子を作製することができる。
【００６４】
研磨材に含有される研磨材粒子は、その使用用途によって粒子径に対する要求レベルは異なるが、研磨後の仕上がり表面精度が高くなるにつれて、使用される研磨材に含まれる研磨材粒子の微粒子化が必要になる。例えば、半導体デバイスの製造工程で使用するには平均粒子径が２．０μｍ以下である必要がある。
【００６５】
研磨材の粒子径が小さくなるほど、研磨後の仕上がり表面精度が高くなるのに対して、研磨速度は粒子径が小さいほど遅くなる傾向があるので、０．０２μｍ未満の粒子径では、セリウム系研磨材の研磨速度が、コロイダルシリカ等の研磨材に比べて速いという優位性が失われてしまう。
【００６６】
したがって、コア・シェル型無機粒子の平均粒子径としては、０．０２〜２．０μｍの範囲が好ましく、さらに０．０５〜１．５μｍの範囲がより好ましい。
【００６７】
また、研磨加工後の平面精度を高めるためには、できるだけ粒子径がそろっており、粒子径分布変動係数が小さい研磨材を使用することが望ましい。
【００６８】
＜研磨材の使用方法と研磨材の劣化＞
ガラス基板の研磨加工を例にとり、研磨材の使用方法を記載する。
１．研磨材スラリーの調製
コア・シェル型無機粒子を用いた研磨材の粉体を水等の溶媒に添加し、研磨材スラリーを作製する。研磨材スラリーには、分散剤等を添加することで、凝集を防止するとともに、撹拌機等を用いて常時撹拌し、分散状態を維持する。研磨材スラリーは供給用ポンプを利用して、研磨機に循環供給される。
【００６９】
２．研磨工程
研磨パット（研磨布）が貼られた研磨機の上下定盤にガラス基板を接触させ、接触面に対して研磨材スラリーを供給しながら、加圧条件下でパットとガラスを相対運動させることで研磨される。
【００７０】
３．研磨材の劣化
研磨材は、前記研磨工程にあるように、加圧条件下で使用される。このため、研磨材に含まれるコア・シェル型無機粒子は、研磨時間が経過するにつれて、徐々に崩壊し微小化してしまう。コア・シェル型無機粒子の微小化は研磨速度の減少を引き起こすので、研磨前後で粒子径分布の変化が小さいコア・シェル型無機粒子が望まれる。
【実施例】
【００７１】
以下、実施例及び比較例を挙げて具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００７２】
なお、焼成工程における焼成とは、５００〜１２００℃の範囲内の温度で１〜５時間の範囲内で焼成することをいう。また、焼成工程の前の仮焼成とは、焼成工程の前に３００〜４９０℃の範囲内で１〜５時間の範囲内で仮焼成することをいう。表中における仮温度とは、仮焼成における最高温度である。仮焼成時間とは、３００〜４９０℃の範囲内で仮焼成を行った時間である。仮保持時間とは、仮焼成において仮温度を保持した時間である。同様に、温度とは、焼成工程における最高温度である。焼成時間とは、焼成工程における５００〜１２００℃の範囲内で焼成を行った時間である。保持時間とは、焼成工程において最高温度を保持した時間である。
【００７３】
また、昇温速度とは、焼成工程における５００℃から最高温度まで温度を昇温させる速度を表す。降温速度とは、焼成工程の後に５００℃から室温（２５℃）まで温度を冷却する速度を表す。
【００７４】
［実施例１］
＜研磨材１：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム（III）水溶液（以下、単に硝酸イットリウム水溶液という。）２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム（III）水溶液（以下、単に硝酸セリウム水溶液という。）の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を５００℃まで昇温して１時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００７５】
＜研磨材２：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を５００℃まで昇温して５時間焼成（うち５時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００７６】
＜研磨材３：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を８００℃まで昇温して３時間焼成（保持時間０時間）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００７７】
＜研磨材４：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００７８】
＜研磨材５：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して１時間焼成（うち０．５時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００７９】
＜研磨材６：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して５時間焼成（保持時間０時間）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８０】
＜研磨材７：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して５時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８１】
＜研磨材８：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して５時間焼成（うち４時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８２】
＜研磨材９：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を３００℃まで昇温して５時間保持してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８３】
＜研磨材１０：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を３００℃まで昇温して８時間保持してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８４】
＜研磨材１１：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を５００℃まで昇温して０．８時間焼成（うち０．８時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８５】
＜研磨材１２：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を５００℃まで昇温して６時間焼成（うち６時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８６】
＜研磨材１３：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して０．８時間焼成（うち０．１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８７】
＜研磨材１４：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して０．８時間焼成（うち０．５時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８８】
＜研磨材１５：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１２００℃まで昇温して６時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００８９】
＜研磨材１６：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１５００℃まで昇温して１時間焼成して、８時間を１５００℃に保持してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００９０】
＜研磨材１７：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌して種結晶を作製した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１５００℃まで昇温して５時間焼成して、０．５時間を１５００℃に保持してコア・シェル型無機粒子を得た。
【００９１】
＜研磨材の評価＞
研磨材１から１７について、以下の方法に従って、研磨速度及び研磨後の表面粗さの評価を行った。
【００９２】
１．研磨速度
研磨加工に使用した研磨機は、コア・シェル型無機粒子を用いた研磨材の粉体を水等の溶媒に分散させた研磨材スラリーを、研磨対象面に供給しながら、研磨対象面を研磨布で研磨するものである。
【００９３】
研磨材スラリーは分散媒を水のみとして、濃度は１００ｇ／Ｌとした。研磨試験においては、研磨材スラリーを５Ｌ／ｍｉｎの流量で循環供給させて研磨加工を行った。研磨対象物として、６５ｍｍΦの結晶化ガラスからなるガラス基板を使用し、研磨布は、ポリウレタン製の物を使用した。
【００９４】
研磨面に対する研磨時の圧力は、９．８ｋＰａ（１００ｇ／ｃｍ２）とし、研磨試験機の回転速度は１００ｍｉｎ−１（ｒｐｍ）に設定し、３０分間研磨加工を行った。研磨前後の厚さをＮｉｋｏｎ  Ｄｉｇｉｍｉｃｒｏ（ＭＦ５０１）にて測定し、厚さ変位から１分間当たりの研磨量（μｍ）を算出し、研磨速度とした。
【００９５】
２．研磨後の表面状態
ガラス基板表面の表面状態（表面粗さＲａ）については、「１．研磨速度」の測定において、３０分間研磨加工を行ったガラス基板を、光波干渉式表面粗さ計（Ｚｙｇｏ社製Ｄｕａｌ−ｃｈａｎｎｅｌ  ＺｅＭａｐｐｅｒ）により表面粗さ評価を行った。なお、Ｒａとは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−２００１における算術平均粗さを表している。
【００９６】
＜評価方法＞
研磨速度    ◎：１．０μｍ／ｍｉｎより速い
○：０．３〜１．０μｍ／ｍｉｎの範囲内
×：０．３μｍ／ｍｉｎ未満
表面状態  ◎◎：表面粗さＲａが０．１５μｍ未満
◎：表面粗さＲａが０．１５μｍ以上、０．３μｍ未満の範囲内
○：表面粗さＲａが０．３〜０．５μｍの範囲内
×：表面粗さＲａが０．５μｍより粗い
【００９７】
＜研磨材の評価＞
以上の実験条件及び評価により得られた結果を表１にまとめた。
【００９８】
【表１】
2016056215.tif 000003
【００９９】
表１から分かるように、本発明の実施例である研磨材１〜８は、研磨速度が０．３〜１．０μｍ／ｍｉｎの範囲内で、被研磨物の表面状態として表面粗さＲａが０．５μｍ以下である。したがって、研磨材として生産上良好であり、被研磨物をハードディスクデバイス（Hard disk device；ＨＤＤ）として使用するのに好適であることが分かった。
【０１００】
一方、比較例である研磨材９〜１７は、研磨速度が、０．３μｍ／ｍｉｎ未満であり、被研磨物の表面状態として表面粗さＲａが０．５μｍより粗いという結果が得られた。これにより、焼成工程における焼成温度が５００〜１２００℃の範囲内であり、焼成時間が１〜５時間の範囲内で焼成した実施例の方が、比較例よりも研磨速度及び被研磨物の表面状態が良好であることが分かった。
【０１０１】
［実施例２］
＜研磨材１８：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を２００℃まで昇温して１時間を仮保持した後、８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１０２】
＜研磨材１９：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を３００℃まで昇温して１時間仮焼成（うち１時間を仮保持）した後、８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１０３】
＜研磨材２０：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を３００℃まで昇温して５時間仮焼成（うち５時間を仮保持）した後、８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１０４】
＜研磨材２１：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を４９０℃まで昇温して１時間仮焼成（うち０．５時間を仮保持）した後、８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１０５】
＜研磨材２２：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を４９０℃まで昇温して５時間仮焼成（うち４時間を仮保持）した後、８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１０６】
＜研磨材２３：比較例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を３００℃まで昇温して１時間仮焼成（うち１時間を仮保持）した後、４５０℃まで昇温して１時間を保持してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１０７】
＜研磨材の評価＞
以上の実験条件及び評価により得られた結果を表２にまとめた。なお、評価方法は実施例１と同様である。
【０１０８】
【表２】
2016056215.tif 000004
【０１０９】
表２から分かるように、本発明の実施例である研磨材１９〜２２は、表面状態の表面粗さＲａが０．１５μｍ未満であり、研磨材４及び１８よりもキズをつけにくいより良好な研磨材であることが分かった。これは、３００〜４９０℃の仮焼成を行うことで、コア１を形成する結晶子が十分に成長し、研磨の際の圧力に対する耐久性が高いコア・シェル型無機粒子が得られ、表面状態が良好な結果が得られたものと考えられる。
【０１１０】
一方、比較例である研磨材２３は、３００℃、１時間の仮焼成を行ったが、焼成工程における焼成温度が４５０℃であったため、コア・シェル型無機粒子が十分成長せず、研磨材として十分な研磨速度及び表面状態が得られなかったものと考えられる。
【０１１１】
［実施例３］
＜研磨材２４：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を、焼成工程において、昇温速度２０℃／ｍｉｎで５００℃から８００℃まで昇温し、３時間焼成（うち１時間を保持）して、５００℃から室温（２５℃）まで降温速度３０℃／ｍｉｎで冷却してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１１２】
＜研磨材２５：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を、焼成工程において、昇温速度５０℃／ｍｉｎで５００℃から８００℃まで昇温し、３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１１３】
＜研磨材の評価＞
以上の実験条件及び評価により得られた結果を表３にまとめた。なお、評価方法は実施例１と同様である。
【０１１４】
【表３】
2016056215.tif 000005
【０１１５】
表３から分かるように、本発明の実施例である研磨材２４及び２５は、研磨速度が１．０μｍ／ｍｉｎより速く、研磨材４よりも研磨速度が優れた研磨材であり、生産効率が高いため研磨材の使用量を削減できるより良好な研磨材であることが分かった。これは、焼成工程における昇温速度を２０〜５０℃／ｍｉｎにすることで、セリウムを多く含有するシェル２の結晶子が安定して成長するため、研磨速度がより速い優れた研磨材が得られたものと考えられる。
【０１１６】
［実施例４］
＜研磨材２６：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を、昇温速度２０℃／ｍｉｎで５００℃から８００℃まで昇温し、３時間焼成（うち１時間保持）して、降温速度１℃／ｍｉｎで５００℃から室温（２５℃）まで冷却してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１１７】
＜研磨材２７：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸イットリウム水溶液と、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を、昇温速度２０℃／ｍｉｎで５００℃から８００℃まで昇温し、３時間焼成（うち１時間保持）して、降温速度２０℃／ｍｉｎで５００℃から室温（２５℃）まで冷却してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１１８】
＜研磨材の評価＞
以上の実験条件及び評価により得られた結果を表４にまとめた。なお、評価方法は実施例１と同様である。
【０１１９】
【表４】
2016056215.tif 000006
【０１２０】
表４から分かるように、本発明の実施例である研磨材２６及び２７は、表面状態が研磨材２４よりも優れた研磨材であることが分かった。これは、焼成工程の後の冷却する際における降温速度を１〜２０℃／ｍｉｎの範囲内にすることで、コア１とシェル２の間の微小なクラックの発生を抑制することができ、層間の結合がより強固になることで、研磨の際の圧力に強く、最表面の凹凸が少ないコア・シェル型無機粒子を含有する研磨材が得られたものと考えられる。
【０１２１】
［実施例５］
＜研磨材２８：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸チタン（IV）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸チタン（IV）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸チタン（IV）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２２】
＜研磨材２９：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸ストロンチウム（II）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸ストロンチウム（II）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸ストロンチウム（II）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２３】
＜研磨材３０：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸バリウム（II）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸バリウム（II）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸バリウム（II）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２４】
＜研磨材３１：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸サマリウム（III）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸サマリウム（III）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸サマリウム（III）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２５】
＜研磨材３２：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸ユーロピウム（III）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸ユーロピウム（III）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸ユーロピウム（III）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２６】
＜研磨材３３：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸ガドリニウム（III）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸ガドリニウム（III）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸ガドリニウム（III）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２７】
＜研磨材３４：実施例＞
（１）０．０２ｍｏｌ／Ｌの硝酸テルビウム（III）水溶液２Ｌを調製し、その後、この水溶液に、尿素が０．６０ｍｏｌ／Ｌになるようにして混合し、９０℃で加熱撹拌した。
（２）前記（１）で得られた反応溶液に、濃度１．６ｍｏｌ／Ｌの硝酸テルビウム（III）水溶液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、塩基性炭酸塩からなるコア１を形成した。
（３）前記（２）で得られた反応溶液に、０．４８ｍｏｌ／Ｌの硝酸テルビウム（III）水溶液、１．１２ｍｏｌ／Ｌの硝酸セリウム水溶液の混合液を１ｍＬ／ｍｉｎの添加速度で６５分間、９０℃で加熱撹拌しながら添加して、シェル２を形成した。
（４）前記（３）で得られた反応溶液から析出したコア・シェル型無機粒子の前駆体をメンブランフィルターにて分離した。
（５）前記（４）で得られた前駆体を１００℃まで昇温して１時間保持した後、昇温速度１０℃／ｍｉｎで８００℃まで昇温して３時間焼成（うち１時間を保持）してコア・シェル型無機粒子を得た。
【０１２８】
＜研磨材の評価＞
以上の実験条件及び評価により得られた結果を表５にまとめた。なお、評価方法は実施例１と同様である。
【０１２９】
【表５】
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【０１３０】
表５から分かるように、本発明の実施例である研磨材２８〜３４は、研磨材４と同様に優れた研磨材であることが分かった。これは、研磨材２８〜３４で用いた元素がイットリウムと同様に、研磨する際にコア１にかかる高い圧力に耐性があり、シェル２にセリウムとともに含まれることでシェル内及びコア・シェル間の結合力を高めているためであると考えられる。
【符号の説明】
【０１３１】
１        コア
２        シェル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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