(57)【要約】【課題】輝度を向上することができる積層フィルム、および、この積層フィルムを含むバックライトユニット、液晶表示装置、および、この積層フィルムの製造方法を提供する。【解決手段】光学機能層４と、光学機能層４の少なくとも一方の面にバリア層６と、を積層してなる積層フィルム７、８であって、光学機能層４の側面に、光学機能層４の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜５を有する積層フィルム７、８である。光学機能層４は、量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学機能層と、前記光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層と、を積層してなる積層フィルムであって、
前記光学機能層の側面に、前記光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有する積層フィルム。
【請求項２】
前記光学機能層が量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含む請求項１に記載の積層フィルム。
【請求項３】
前記膜が、ガスバリア性を有する膜である請求項１または２に記載の積層フィルム。
【請求項４】
前記膜は、無機膜である請求項１から３のいずれか１項に記載の積層フィルム。
【請求項５】
前記膜が、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択される１以上の金属の酸化物、窒化物および酸化窒化物の少なくとも１つを含む請求項４に記載の積層フィルム。
【請求項６】
前記膜が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属からなる第１の金属層と、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属の酸化物からなる金属酸化層と、の積層構造を１回以上繰り返した積層膜である請求項４に記載の積層フィルム。
【請求項７】
前記積層膜の上に、さらに、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属からなる第２の金属層を有する請求項６に記載の積層フィルム。
【請求項８】
前記第１の金属層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、前記金属酸化層の厚みが０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下である請求項６または７に記載の積層フィルム。
【請求項９】
前記膜の厚みが、５〜５００ｎｍである請求項１から８のいずれか１項に記載の積層フィルム。
【請求項１０】
前記膜の厚みが、２０〜２００ｎｍである請求項１から９のいずれか１項に記載の積層フィルム。
【請求項１１】
前記第２の金属層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下である請求項７に記載の積層フィルム。
【請求項１２】
前記光学機能層の屈折率が１．３以上１．６以下の範囲であり、前記膜の屈折率が１．５以上である請求項１から１１のいずれか１項に記載の積層フィルム。
【請求項１３】
前記光学機能層の屈折率と前記膜の屈折率との差が０．２以上である請求項１から１２のいずれか１項に記載の積層フィルム。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の積層フィルムと、
光源と、を少なくとも含む、バックライトユニット。
【請求項１５】
請求項１４に記載のバックライトユニットと、
液晶セルと、を少なくとも含む、液晶表示装置。
【請求項１６】
光学機能層と、前記光学機能層の両面をバリア層で積層してなる積層フィルムを、複数枚重ね合わせ、
重ね合わせた複数の前記積層フィルムの前記光学機能層の側面に、前記光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を形成する積層フィルムの製造方法。
【請求項１７】
前記膜を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法で形成する請求項１６に記載の積層フィルムの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、積層フィルム、バックライトユニット、液晶表示装置、および、積層フィルムの製造方法に係り、特に、輝度を向上させることができる積層フィルム、および、この積層フィルムの製造方法に関する。更に、この積層フィルムを含むバックライトユニット、およびこのバックライトユニットを含む液晶表示装置にも関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（ＬＣＤ：ｌｉｑｕｉｄ  ｃｒｙｓｔａｌ  ｄｉｓｐｌａｙ）（以下、ＬＣＤともいう）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。
【０００３】
フラットパネルディスプレイ市場では、ＬＣＤ性能改善として、色再現性の向上が進行している。この点に関し、近年、発光材料として、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ  Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）が注目を集めている。例えば、バックライトから量子ドットを含む光変換部材に励起光が入射すると、量子ドットが励起され蛍光を発光する。ここで異なる発光特性を有する量子ドットを用いることで、赤色光、緑色光、青色光の半値幅の狭い光を発光させて白色光を具現化することができる。量子ドットによる蛍光は半値幅が狭いため、波長を適切に選択することで得られる白色光を高輝度にしたり色再現性に優れる設計にすることが可能である。このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のＴＶ（ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ）規格（ＦＨＤ、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ  Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ  Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ））比７２％から１００％へと拡大している。
【０００４】
しかしながら、ＱＤ粒子は、酸素により量子収率の劣化が起こるため、バリア性のフィルムで保護して使用する必要がある。ＱＤ粒子を含有する樹脂層をバリアフィルムで保護することで、樹脂層の表面は保護することができるが、端部から酸素が入り、性能が劣化することが課題となっていた。また、フィルム端部からの漏れ光により輝度が低下するという課題があった。
【０００５】
このような課題に対し、下記の特許文献１には、ＱＤ蛍光体材料層の側面にバリア層を含む量子ドットフィルムが開示されている。また、特許文献２には、複数の発光ナノ結晶を含む組成物上にバリア層を配置することで、気密封止し、酸素、水分などの劣化要因から保護することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特表２０１３−５４４０１８号公報
【特許文献２】特表２０１０−５２８１１８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、特許文献１では、量子ドットフィルムの法線方向の輝度向上は記載されているが、量子ドットフィルム側面からの光漏れは検討されておらず、端面からの光漏れによる輝度低下の課題は改善されていなかった。特許文献２においても、組成物上にバリア層を配置するものであり、側面からの光漏れは検討されておらず、光の反射性が不十分で輝度の低下が見られた。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであり、バックライト内部に使用した時、輝度を向上させることができる積層フィルム、この積層フィルムを含むバックライトユニット、液晶表示装置、および、この積層フィルムの製造方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は、前記目的を達成するために、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層と、を積層してなる積層フィルムであって、光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有する積層フィルムを提供する。
【００１０】
本発明によれば、光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有しているので、側面で光を反射させることができ、光路長を伸ばすことができる。したがって、輝度を向上させることができる。
【００１１】
本発明の別の態様においては、光学機能層が量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含むことが好ましい。
【００１２】
この態様によれば、光学機能層に量子ドットおよび量子ロッドの少なくともいずれか一方を含んでいるので、波長変換部材として用いることができ、輝度ムラ、色度ムラを改善することができる。
【００１３】
本発明の別の態様においては、膜が、ガスバリア性を有する膜であることが好ましい。
【００１４】
この態様によれば、光学機能層の側面に有する膜が、ガスバリア性を有しているので、光学機能層の側面から酸素、水蒸気などが入り込むことを防止することができる。したがって、光学機能層の性能劣化を防止することができる。
【００１５】
本発明の別の態様においては、膜は、無機膜であることが好ましい。
【００１６】
この態様によれば、膜を無機膜で形成することで、ガスバリア性を付与することができる。
【００１７】
本発明の別の態様においては、膜が、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択される１以上の金属の酸化物、窒化物および酸化窒化物の少なくとも１つを含むことが好ましい。
【００１８】
この態様は、屈折率膜の材料を限定したものであり、上記の材料を用いることで、ガスバリア性を付与することができる。
【００１９】
本発明の別の態様においては、膜が、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属からなる第１の金属層と、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属の酸化物からなる金属酸化層と、の積層構造を１回以上繰り返した積層膜であることが好ましい。
【００２０】
この態様によれば、第１の金属層中のピンホールやクラックを金属酸化層で埋めることができるので、フィルム端面から光が漏れることを防止することができる。
【００２１】
本発明の別の態様においては、積層膜の上に、さらに、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属からなる第２の金属層を有することが好ましい。
【００２２】
この態様によれば、積層膜の金属酸化層の上に第２の金属層を形成することで、第２の金属層を鏡面化することができる。したがって、フィルム端面から漏れる光を鏡面にて高い反射率で再利用することができ、輝度を向上させることができる。
【００２３】
本発明の別の態様においては、第１の金属層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であり、金属酸化層の厚みが０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２４】
本発明の別の態様においては、膜の厚みが、５〜５００ｎｍであることが好ましく、２０〜２００ｎｍであることがより好ましい。
【００２５】
本発明の別の態様においては、第２の金属層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【００２６】
この態様は、膜の厚みを限定したものであり、上記範囲とすることで、輝度を向上させることができるとともに、光学機能層の経時劣化を防止することができる。また、積層膜とした場合の各層の厚みを上記範囲とすることにより、積層フィルムの端面の光反射効率を向上させることができ、輝度を向上させることができる。
【００２７】
本発明の別の態様においては、光学機能層の屈折率が１．３以上１．６以下の範囲であることが好ましく、膜の屈折率が１．５以上であることが好ましい。
【００２８】
この態様は、光学機能層の屈折率と、光学機能層の側面の膜の屈折率を規定したものであり、屈折率を上記範囲とすることにより、輝度を向上させることができる。
【００２９】
本発明の別の態様においては、光学機能層の屈折率と膜の屈折率との差が０．２以上であることが好ましい。
【００３０】
この態様は、光学機能層の屈折率と、光学機能層の側面の膜の屈折率と、の差を規定したものであり、屈折率の差を上記範囲とすることで、輝度を向上させることができる。
【００３１】
本発明は、前記目的を達成するために、上記記載の積層フィルムと、光源と、を少なくとも含む、バックライトユニットを提供する。
【００３２】
上記の積層フィルムは側面に光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有しているので、フィルム内部の光路長を伸ばすことができ、輝度を向上させることができるので、バックライトユニットに好適に用いることできる。
【００３３】
本発明は、前記目的を達成するために、上記記載のバックライトユニットと、液晶セルと、を少なくとも含む、液晶表示装置を提供する。
【００３４】
上記のバックライトユニットは、液晶表示装置に組み込むことで好適に用いることができる。
【００３５】
本発明は、前記目的を達成するために、光学機能層と、光学機能層の両面をバリア層で積層してなる積層フィルムを、複数枚重ね合わせ、重ね合わせた複数の積層フィルムの光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を形成する積層フィルムの製造方法を提供する。
【００３６】
本発明の積層フィルムの製造方法によれば、光学機能層とバリア層とからなる積層フィルムを形成した後、この積層フィルムを複数枚重ね合わせ、光学機能層の側面に光学機能層の屈折率より大きい屈折率を有する膜を形成することで、輝度の向上した積層フィルムを製造することができる。また、複数枚の積層フィルムの側面に一度に膜を形成することができ、効率良く成膜することができる。
【００３７】
本発明の別の態様においては、膜を、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法で形成することが好ましい。
【００３８】
この態様は、光学機能層の側面に形成する膜の形成方法を規定したものであり、上記方法で形成することで、一度に複数枚の積層フィルムに形成することができる。
【発明の効果】
【００３９】
本発明の積層フィルム、および、積層フィルムの製造方法によれば、光学機能層の側面に光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有するため、光学機能層の側面で光を反射させることができ、輝度を向上させることができる。また、この積層フィルムを含むバックライト、液晶表示装置によれば、光路長を伸ばすことができ、輝度を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００４０】
【図１】積層フィルムの構成を示す断面図である。
【図２】有機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。
【図３】無機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。
【図４】積層フィルムの形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。
【図５】光学機能層の側面に膜を形成する製造設備の一例の概略図である。
【図６】積層フィルムを含むバックライトユニットの一例を説明する図である。
【図７】液晶表示装置の一例を説明する図である。
【発明を実施するための形態】
【００４１】
以下、添付図面に従って、本発明に係る積層フィルム、該積層フィルムを含むバックライトユニット、該バックライトユニットを含む液晶表示装置、および積層フィルムの製造方法について説明する。なお、本明細書において、「〜」とは、その前後に記載される数値を下限値および上限値として含む意味で使用される。
【００４２】
［積層フィルム］
本発明の積層フィルムは、光学機能層と、光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層と、を積層してなり、光学機能層の側面に光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜を有する。
【００４３】
図１は、積層フィルムの構成を示す断面図である。図１（ａ）は、支持体１、有機層２および無機層３からなるバリア層６が、光学機能層４を挟んで両面に設けられている積層フィルム７である。図１（ｂ）は、支持体１、有機層２および無機層３からなるバリア層６が、光学機能層４の一方の面に形成されている積層フィルム８である。
【００４４】
（光学機能層）
光学機能層は、波長変換層、高屈折率層、中屈折率層、低屈折率層、防眩層、防眩性反射防止層、中間層、ハードコート層などの層を意味する。本実施形態において、光学機能層は、特に、入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドット、および、量子ロッドの少なくともいずれか一方を含む波長変換層として用いることが好ましい。
【００４５】
光学機能層を波長変換層として用いる場合、光学機能層は、量子ドットまたは量子ロッド、硬化性化合物、チキソトロピー剤、重合開始剤、および、シランカップリング剤などを含んで形成される。光学機能層は、これら各成分を混合し、光学機能層形成用塗布液（以下、「塗布液」ともいう）を調製し、後述するバリア支持体（バリア層）に塗布液を塗布し、光照射により形成する。
【００４６】
＜量子ドット、量子ロッド＞
量子ドットは、少なくとも、入射する励起光により励起され蛍光を発光する。
【００４７】
本実施形態の光学機能層に含まれる量子ドットとしては、少なくとも一種の量子ドットを含み、発光特性の異なる二種以上の量子ドットを含むこともできる。公知の量子ドットには、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む光学機能層へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、光学機能層を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、および（Ｃ）を含む光学機能層を有する積層フィルムに励起光として紫外光を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、および量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
【００４８】
量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。量子ドットの発光波長は、通常、粒子の組成、サイズにより調整することができる。
【００４９】
量子ドットは、塗布液中に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。ただし、塗布液が、実質揮発性の有機溶媒を含有しないことが好ましい。そのため、量子ドットを溶媒に分散した分散液の状態で塗布液に添加した場合は、塗布液をバリア支持体上に塗布して光学機能層を形成する前に、塗布液の溶媒を乾燥させる工程を含むことが好ましい。溶媒を乾燥させる工程を減らす観点からは、量子ドットを、塗布液に粒子の状態で添加することも好ましい。
【００５０】
なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が１６０℃以下の、塗布液中の硬化性化合物と外部刺激により硬化しない化合物で２０℃で液状の化合物のことを言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、１６０℃以下であり、１１５℃以下が更に好ましく、最も好ましくは３０℃以上１００℃以下である。
【００５１】
塗布液が実質揮発性の有機溶媒を含有しない場合、塗布液中、揮発性の有機溶媒の割合が１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
【００５２】
量子ドットは、塗布液の全量１００質量部に対して、例えば０．１〜１０質量部程度添加することができる。
【００５３】
また、量子ドットに代えて量子ロッドを用いることができる。量子ロッドは、細長い形状の粒子であり、量子ドットと同様の性質を有する。量子ロッドの添加量、塗布液への添加方法などについては、量子ドットと同じ量、同様の方法により行うことができる。また、量子ドットと量子ロッドを組み合わせて用いることもできる。
【００５４】
＜硬化性化合物＞
本実施形態で用いられる硬化性化合物は、重合性基を有するものが広く採用できる。重合性基の種類は、特に限定されないが、好ましくは、（メタ）アクリレート基、ビニル基またはエポキシ基であり、より好ましくは、（メタ）アクリレート基であり、さらに好ましくは、アクリレート基である。また、２つ以上の重合性基を有する重合性単量体は、それぞれの重合性基が同一であってもよいし、異なっていてもよい。
【００５５】
−（メタ）アクリレート系−
硬化後の硬化被膜の透明性、密着性等の観点からは、単官能または多官能（メタ）アクリレートモノマー等の（メタ）アクリレート化合物や、そのポリマー、プレポリマー等が好ましい。なお本発明および本明細書において、「（メタ）アクリレート」との記載は、アクリレートとメタクリレートとの少なくとも一方、または、いずれかの意味で用いるものとする。「（メタ）アクリロイル」等も同様である。
【００５６】
−−２官能のもの−−
重合性基を２つ有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を２個有する２官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。２官能の重合性不飽和単量体は組成物を低粘度にするのに適している。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００５７】
特に、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、１，９−ノナンジオールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル(メタ)アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート等が本発明に好適に用いられる。
【００５８】
２官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。
【００５９】
−−３官能以上のもの−−
重合性基を３つ以上有する重合性単量体として、エチレン性不飽和結合含有基を３個以上有する多官能重合性不飽和単量体を挙げることができる。これら多官能の重合性不飽和単量体は機械的強度付与の点で優れる。本実施形態では、反応性に優れ、残存触媒などの問題の無い（メタ）アクリレート系化合物が好ましい。
【００６０】
具体的には、ＥＣＨ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ＥＯ変性リン酸トリアクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヒドロキシペンタ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールポリ（メタ）アクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等が好適である。
【００６１】
これらの中で特に、ＥＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性グリセロールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールエトキシテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレートが本発明に好適に用いられる。
【００６２】
多官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、硬化後の光学機能層の塗膜強度の観点からは、５質量部以上とすることが好ましく、塗布液のゲル化抑制の観点からは、９５質量部以下とすることが好ましい。
【００６３】
−−単官能のもの−−
単官能（メタ）アクリレートモノマーとしては、アクリル酸およびメタクリル酸、それらの誘導体、より詳しくは、（メタ）アクリル酸の重合性不飽和結合（（メタ）アクリロイル基）を分子内に１個有するモノマーを挙げることができる。それらの具体例として以下に化合物を挙げるが、本実施形態はこれに限定されるものではない。
【００６４】
メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、イソブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、イソノニル（メタ）アクリレート、ｎ−オクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート等のアルキル基の炭素数が１〜３０であるアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート等のアラルキル基の炭素数が７〜２０であるアラルキル（メタ）アクリレート；ブトキシエチル（メタ）アクリレート等のアルコキシアルキル基の炭素数が２〜３０であるアルコキシアルキル（メタ）アクリレート；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチル（メタ）アクリレート等の（モノアルキル又はジアルキル）アミノアルキル基の総炭素数が１〜２０であるアミノアルキル（メタ）アクリレート；ジエチレングリコールエチルエーテルの（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールブチルエーテルの（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノメチルエーテルの（メタ）アクリレート、オクタエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ノナエチレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、ヘプタプロピレングリコールのモノメチルエーテル（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールのモノエチルエーテル（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜１０で末端アルキルエーテルの炭素数が１〜１０のポリアルキレングリコールアルキルエーテルの（メタ）アクリレート；ヘキサエチレングリコールフェニルエーテルの（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０で末端アリールエーテルの炭素数が６〜２０のポリアルキレングリコールアリールエーテルの（メタ）アクリレート；シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、メチレンオキシド付加シクロデカトリエン（メタ）アクリレート等の脂環構造を有する総炭素数４〜３０の（メタ）アクリレート；ヘプタデカフロロデシル（メタ）アクリレート等の総炭素数４〜３０のフッ素化アルキル（メタ）アクリレート；２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、３−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールのモノ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、グリセロールのモノ又はジ（メタ）アクリレート等の水酸基を有する（メタ）アクリレート；グリシジル（メタ）アクリレート等のグリシジル基を有する（メタ）アクリレート；テトラエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ヘキサエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、オクタプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート等のアルキレン鎖の炭素数が１〜３０のポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート；(メタ)アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル(メタ)アクリ��アミド、N−イソプロピル(メタ)アクリルアミド、２−ヒドロキシエチル(メタ)アクリルアミド、アクリロイルモルホリン等の(メタ)アクリルアミドなどが挙げら
れる。
【００６５】
単官能（メタ）アクリレートモノマーの使用量は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量１００質量部に対して、塗布液の粘度を好ましい範囲に調整する観点からは、１０質量部以上とすることが好ましく、１０〜８０質量部とすることがより好ましい。
【００６６】
−エポキシ系化合物他−
本実施形態で用いる重合性単量体として、エポキシ基、オキセタニル基等の開環重合可能な環状エーテル基等の環状基を有する化合物を挙げることができる。そのような化合物としてより好ましくは、エポキシ基を有する化合物（エポキシ化合物）を有する化合物を挙げることができる。エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物を、（メタ）アクリレート系化合物と組み合わせて使用することにより、バリア層との密着性が向上する傾向にある。
【００６７】
エポキシ基を有する化合物としては、例えば、多塩基酸のポリグリシジルエステル類、多価アルコールのポリグリシジルエーテル類、ポリオキシアルキレングリコールのポリグリシジルエーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエテーテル類、芳香族ポリオールのポリグリシジルエーテル類の水素添加化合物類、ウレタンポリエポキシ化合物およびエポキシ化ポリブタジエン類等を挙げることができる。これらの化合物は、その一種を単独で使用することもできるし、また、その二種以上を混合して使用することもできる。
【００６８】
その他に好ましく使用することのできるエポキシ基を有する化合物としては、例えば、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、臭素化ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＳジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテル類；エチレングリコール、プロピレングリコール、グリセリンなどの脂肪族多価アルコールに１種または２種以上のアルキレンオキサイドを付加することにより得られるポリエーテルポリオールのポリグリシジルエーテル類；脂肪族長鎖二塩基酸のジグリシジルエステル類；脂肪族高級アルコールのモノグリシジルエーテル類；フェノール、クレゾール、ブチルフェノールまたはこれらにアルキレンオキサイドを付加して得られるポリエーテルアルコールのモノグリシジルエーテル類；高級脂肪酸のグリシジルエステル類などを例示することができる。
【００６９】
これらの成分の中、脂肪族環状エポキシ化合物、ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＦジグリシジルエーテル、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１,６−ヘキサンジオールジグリシジルエーテル、グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプロパントリグリシジルエーテル、ネオペンチルグリコールジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリシジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジルエーテルが好ましい。
【００７０】
エポキシ基やオキセタニル基を有する化合物として好適に使用できる市販品としては、ＵＶＲ−６２１６（ユニオンカーバイド社製）、グリシドール、ＡＯＥＸ２４、サイクロマーＡ２００、セロキサイド２０２１Ｐ、セロキサイド８０００（以上、ダイセル化学工業（株）製）、シグマアルドリッチ社製の４−ビニルシクロヘキセンジオキシド、エピコート８２８、エピコート８１２、エピコート１０３１、エピコート８７２、エピコートＣＴ５０８（以上、油化シェル（株）製）、ＫＲＭ−２４００、ＫＲＭ−２４１０、ＫＲＭ−２４０８、ＫＲＭ−２４９０、ＫＲＭ−２７２０、ＫＲＭ−２７５０（以上、旭電化工業（株）製）などを挙げることができる。これらは、１種単独で、または２種以上組み合わせて用いることができる。
【００７１】
また、これらのエポキシ基やオキセタニル基を有する化合物はその製法は問わないが、例えば、丸善ＫＫ出版、第四版実験化学講座２０有機合成ＩＩ、２１３〜、平成４年、Ｅｄ．ｂｙ  Ａｌｆｒｅｄ  Ｈａｓｆｎｅｒ，Ｔｈｅ  ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ＯＦ  ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｉｃ  ｃｏｍｐｏｕｎｄｓ−Ｓｍａｌｌ  Ｒｉｎｇ  Ｈｅｔｅｒｏｃｙｃｌｅｓ  ｐａｒｔ３  Ｏｘｉｒａｎｅｓ，Ｊｏｈｎ  ＆  Ｗｉｌｅｙ  ａｎｄ  Ｓｏｎｓ, Ａｎ  Ｉｎｔｅｒｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｃａｔｉｏｎ，  Ｎｅｗ  Ｙｏｒｋ，１９８５、吉村、接着、２９巻１２号、３２、１９８５、吉村、接着、３０巻５号、４２、１９８６、吉村、接着、３０巻７号、４２、１９８６、特開平１１−１００３７８号公報、特許第２９０６２４５号公報、特許第２９２６２６２号公報などの文献を参考にして合成できる。
【００７２】
本実施形態で用いる硬化性化合物として、ビニルエーテル化合物を用いてもよい。
【００７３】
ビニルエーテル化合物は公知のものを適宜選択することができ、例えば、特開２００９−７３０７８号公報の段落番号００５７に記載のものを好ましく採用することができる。
【００７４】
これらのビニルエーテル化合物は、例えば、Ｓｔｅｐｈｅｎ．Ｃ．Ｌａｐｉｎ，Ｐｏｌｙｍｅｒｓ  Ｐａｉｎｔ  Ｃｏｌｏｕｒ  Ｊｏｕｒｎａｌ．１７９（４２３７）、３２１（１９８８）に記載されている方法、即ち多価アルコールもしくは多価フェノールとアセチレンとの反応、または多価アルコールもしくは多価フェノールとハロゲン化アルキルビニルエーテルとの反応により合成することができ、これらは１種単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００７５】
本実施形態の塗布液には、低粘度化、高硬度化の観点から特開２００９−７３０７８号公報に記載の反応性基を有するシルセスキオキサン化合物を用いることも可能である。
【００７６】
＜チキソトロピー剤＞
チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。
【００７７】
−無機物−
チキソトロピー剤の好ましい１つの態様は無機物のチキソトロピー剤であり、たとえば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。
【００７８】
層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。
【００７９】
これらを単独で又は２種以上を組み合わせて用いることができる。市販されている層状化合物としては、例えば、無機化合物としては、クラウンクレー、バーゲスクレー＃６０、バーゲスクレーＫＦ、オプチホワイト（以上、白石工業（株）製）、カオリンＪＰ−１００、ＮＮカオリンクレー、ＳＴカオリンクレー、ハードシル（以上、土屋カオリン工業（株）製）、ＡＳＰ−０７２、サテントンプラス、トランスリンク３７、ハイドラスデラミＮＣＤ（以上、エンジェルハード（株）製）、ＳＹカオリン、ＯＳクレー、ＨＡクレー、ＭＣハードクレー（以上、丸尾カルシウム（株）製）、ルーセンタイトＳＷＮ、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）、スメクトン（クニミネ工業社製）、ベンゲル、ベンゲルＦＷ、エスベン、エスベン７４、オルガナイト、オルガナイトＴ（以上、ホージュン（株）製）、穂高印、オルベン、２５０Ｍ、ベントン３４、ベントン３８（以上、ウイルバー・エリス社製）、ラポナイト、ラポナイトＲＤ、ラポナイトＲＤＳ（以上、日本シリカ工業（株）製）などが挙げられる。これら化合物は溶媒に分散されていてもかまわない。
【００８０】
塗布液に添加するチキソトロピー剤においては、層状無機化合物の中でも、ｘＭ（Ｉ）２Ｏ・ｙＳｉＯ２で表される珪酸塩化合物（酸化数が２，３であるＭ（ＩＩ）Ｏ、Ｍ（ＩＩＩ）２Ｏ３に相当するものもある。ｘ、ｙは正の数を表す）であり、更に好ましい化合物としてはヘクトライト、ベントナイト、スメクタイト、バーミキュライトなどの膨潤性層状粘土鉱物である。
【００８１】
特に好ましくは、有機カチオンで修飾された層状（粘土）化合物（珪酸塩化合物のナトリウムなどの層間陽イオンを有機カチオン化合物で交換したもの）が好適に使用でき、例えば、珪酸ナトリウム・マグネシウム（ヘクトライト）のナトリウムイオンを次のようなアンモニウムイオンで交換したものが挙げられる。
【００８２】
アンモニウムイオンの例としては、炭素数６から１８のアルキル鎖を有するモノアルキルトリメチルアンモニウムイオン、ジアルキルジメチルアンモニウムイオン、トリアルキルメチルアンモニウムイオン、オキシエチレン鎖が４から１８であるジポリオキシエチレンヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、ビス（２−ヒドロキシエチル）ヤシ油アルキルメチルアンモニウムイオン、オキソプロピレン鎖が４から２５であるポリオキシプロピレンメチルジエチルアンモニウムイオンなどが挙げられる。これらアンモニウムイオンは単独でまたは２種類以上を組み合わせて使用することができる。
【００８３】
珪酸ナトリウム・マグネシウムのナトリウムイオンをアンモニウムイオンで交換した有機カチオンで修飾珪酸塩鉱物の製造方法としては、珪酸ナトリウム・マグネシウムを水に分散させ十分撹拌した後、１６時間以上放置し、４質量％の分散液を調整する。この分散液を撹拌しながら、所望のアンモニウム塩を珪酸ナトリウム・マグネシウムに対して３０質量％〜２００質量％添加する。添加後、陽イオン交換が起こり、層間にアンモニウム塩を含んだヘクトライトは水に不溶となり沈殿するので、沈殿を濾取し、乾燥することで得られる。調製の際、分散を速めるために加熱してもよい。
【００８４】
アルキルアンモニウム変性珪酸塩鉱物の市販品としては、ルーセンタイトＳＡＮ、ルーセンタイトＳＡＮ−３１６、ルーセンタイトＳＴＮ、ルーセンタイトＳＥＮ、ルーセンタイトＳＰＮ（以上コープケミカル社製）などが挙げられ、単独又は２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００８５】
本実施形態においては、無機物のチキソトロピー剤として、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。
【００８６】
−有機物−
チキソトロピー剤は、有機物のチキソトロピー剤を用いることができる。
【００８７】
有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。
【００８８】
前述の酸化ポリオレフィンは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ディスパロン４２００−２０（商品名、楠本化成（株）製）、フローノンＳＡ３００（商品名、共栄社化学（株）製）等があげられる。
【００８９】
前述の変性ウレアは、イソシアネート単量体あるいはそのアダクト体と有機アミンとの反応物である。前述の変性ウレアは、自家調製してもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、例えば、ＢＹＫ４１０（ビッグケミー社製）等があげられる。
【００９０】
−含有量−
チキソトロピー剤の含有量は、塗布液中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１５〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜８質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量以下であると、脆性が良化方向にある。
【００９１】
＜重合開始剤＞
上記塗布液は、重合開始剤としては、公知の重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００３７を参照できる。重合開始剤は、塗布液に含まれる硬化性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全硬化性組成物中に質量％として、０．１質量％〜１０質量％含むことが好ましく、更に好ましくは０．２質量％〜８質量％である。
【００９２】
＜シランカップリング剤＞
シランカップリング剤を含む塗布液から形成される光学機能層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐光性を示すことができる。これは主に、光学機能層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの光学機能層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、光学機能層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、光学機能層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。
【００９３】
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。
【００９４】
【化１】
2016068556.tif 000003
【００９５】
（一般式（１）中、Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ１〜Ｒ６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）
Ｒ１〜Ｒ６は、それぞれ独立に置換または無置換のアルキル基またはアリール基である。Ｒ１〜Ｒ６は、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である場合を除き、無置換のアルキル基または無置換のアリール基が好ましい。アルキル基としては炭素数１〜６のアルキル基が好ましく、メチル基がより好ましい。アリール基としては、フェニル基が好ましい。Ｒ１〜Ｒ６は、メチル基が特に好ましい。
【００９６】
Ｒ１〜Ｒ６のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有し、Ｒ１〜Ｒ６の２つがラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基であることが好ましい。さらに、Ｒ１〜Ｒ３の中で、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であって、Ｒ４〜Ｒ６のなかでラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基を有するものの数が１であることが特に好ましい。
【００９７】
一般式（１）で表されるシランカップリング剤が２つ以上のラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、それぞれの置換基は同じであってもよいし、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。
【００９８】
ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基は、−Ｘ−Ｙで表されることが好ましい。ここで、Ｘは、単結合、炭素数１〜６のアルキレン基、アリーレン基であり、好ましくは、単結合、メチレン基、エチレン基、プロピレン基、フェニレン基である。Ｙは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合基であり、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基、アクリロイルアミノ基、メタクリロイルアミノ基、ビニル基、プロペニル基、ビニルオキシ基、ビニルスルホニル基が好ましく、（メタ）アクリロイルオキシ基がより好ましい。
【００９９】
また、Ｒ１〜Ｒ６はラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基以外の置換基を有してもよい。置換基の例としては、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−オクチル基、ｎ−デシル基、ｎ−ヘキサデシル基、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基等）、ハロゲン原子（例えば、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素）、アシル基（例えば、アセチル基、ベンゾイル基、ホルミル基、ピバロイル基等）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、アクリロイルオキシ基、メタクリロイルオキシ基等）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基等）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェニルオキシカルボニル基等）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ベンゼンスルホニル基等）、等が挙げられる。
【０１００】
シランカップリング剤は、隣接層との密着性をより一層向上する観点からは、塗布液中に、１〜３０質量％の範囲で含まれることが好ましく、より好ましくは３〜３０質量％であり、さらに好ましくは５〜２５質量％である。
【０１０１】
本実施形態においては、塗布液中には、前述の揮発性有機溶媒を用いることができる。好ましい態様は、塗布液が実質揮発性の有機溶媒を含有しない態様である。また別の態様としては、揮発性の有機溶剤を塗布液中に含ませることが可能であり、例えば１０質量％以上５０質量％以下含むことが可能であり、１０質量％以上４０質量％含有することも可能である。用いることの出来る溶媒の具体例は、特開２０１３−１０５１６０号公報段落００３８〜００４１を参照できる。
【０１０２】
（バリア層）
本実施形態の積層フィルムにおいては、光学機能層の少なくとも一方の面にバリア層が積層されている。バリア層としては、公知のいずれのバリアフィルムであってもよい。図１は、少なくとも、支持体１、有機層２、無機層３と、を含んで形成されているバリア層６を示しているが本発明はこれに限定されない。バリア層６は、図１（ａ）に示すように、光学機能層４の両面に形成されていてもよく、図１（ｂ）に示すように、いずれか一方に形成されていてもよい。バリア層６が光学機能層４の両面に形成されている場合、少なくとも一方のバリア層６の支持体１が、可撓性の支持体であることが好ましい。
【０１０３】
バリア層は少なくとも無機層を含んでいればよく、可撓性の支持体上に少なくとも無機層１層と少なくとも１層の有機層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐光性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリア層は、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が１．００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
【０１０４】
バリア層の酸素透過度は、より好ましくは０．１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．０１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．００１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。ここで、上記酸素透過率は、測定温度２３℃、相対湿度９０％の条件下で、酸素ガス透過率測定装置（ＭＯＣＯＮ社製、ＯＸ−ＴＲＡＮ  ２／２０：商品名）を用いて測定した値である。また、可視光領域とは、３８０〜７８０ｎｍの波長帯域をいうものとし、全光線透過率とは、光学機能層の光吸収および反射の寄与を除いた光透過率の平均値を示す。
【０１０５】
可視光領域における全光線透過率は、より好ましくは９０％以上である。酸素透過率は低いほど好ましく、可視光領域における全光線透過率は高いほど好ましい。
【０１０６】
−可撓性の支持体−
バリア層は、強度向上、成膜の容易性等のため、可撓性の支持体を有していてもよい。
【０１０７】
図１においては、バリア層６は、無機層３、有機層２、および支持体１の順に形成されている。バリア層は、これに限定されず、無機層、および支持体の順となるように形成されていてもよい。また、有機層と無機層との間、二層の有機層の間、または二層の無機層の間に、支持体を配置してもよい。さらに、支持体は、積層フィルム中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。
【０１０８】
可撓性の支持体としては、可視光に対して透明である透明支持体であることが好ましい。ここで可視光に対して透明とは、可視光領域における線透過率が、８０％以上、好ましくは８５％以上であることをいう。透明の尺度として用いられる光線透過率は、ＪＩＳ−Ｋ７１０５に記載された方法、すなわち積分球式光線透過率測定装置を用いて全光線透過率および散乱光量を測定し、全光線透過率から拡散透過率を引いて算出することができる。支持体については、特開２００７−２９０３６９号公報段落００４６〜００５２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００４０〜００５５を参照できる。支持体の厚さは、ガスバリア性、耐衝撃性等の観点から、１０〜５００μｍの範囲内、中でも１５〜３００μｍの範囲内、特に１５〜１２０μｍの範囲内、より特に１５〜１００μｍの範囲内、更には２５〜１１０μｍ、より更には２５〜６０μｍであることが好ましい。可撓性の支持体として、市販品を用いてもよく、例えば易接着層付きポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムである東洋紡（株）製  コスモシャインＡ４１００などを用いることができる。
【０１０９】
支持体はバリア層のいずれか、または双方に用いることもできる。バリア層が支持体の両面に含む場合、同一であっても異なっていてもよい。
【０１１０】
−無機層−
バリア層は、無機層を含んでいてもよい。無機層とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。
【０１１１】
無機層は酸素を遮断するガスバリア機能を有する層であることが好ましい。具体的には、無機層の酸素透過度は、１．００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。無機層の酸素透過係数はオービスフェアラボラトリー社製型酸素濃度計の検出部に波長変換層を、シリコングリスを介して貼付し、平衡酸素濃度値から酸素透過係数を換算して求めることができる。無機層は、水蒸気を遮断する機能を有することも好ましい。
【０１１２】
無機層は、バリア層中に２つまたは３つ以上含まれていてもよい。
【０１１３】
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウムおよびセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。
【０１１４】
上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。
【０１１５】
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。
【０１１６】
無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）、酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。蒸着は、支持体、基材フィルム、波長変換層、有機層などを基材としてその表面に行えばよい。
【０１１７】
酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することが好ましい。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。
【０１１８】
無機層の厚さは、１ｎｍ〜５００ｎｍであればよく、５ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましく、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍのであることが好ましい。隣接無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い積層フィルムを提供することができるからである。
【０１１９】
積層フィルムにおいて、光学機能層に隣接している無機層が少なくとも一層含まれていることが好ましい。光学機能層の両面に無機層が直接接していることも好ましい。
【０１２０】
−有機層−
有機層とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。
【０１２１】
有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。
【０１２２】
無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。
【０１２３】
［バリア層および光学機能層の形成方法］
次に積層フィルムの製造において、バリア層および光学機能層の形成方法について説明する。図２は、有機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図であり、図３は、無機層の形成に用いられる製造設備の一例の概略図である。また、図４は、光学機能層の製造に用いられる製造設備の一例の概略図である。なお、図２〜図４に示す装置は、一例であり、上述した方法で各層を形成することができる。
【０１２４】
有機層形成においては、図２に示すように、まず、送出機１２から支持体１が塗布部１０へと連続搬送される。塗布部１０では、連続搬送される支持体１の表面に有機層形成用塗布液が塗布され、有機層が形成される。
【０１２５】
塗布部１０では、例えば、ダイコーター１４と、ダイコーター１４に対向配置されたバックアップローラ１６とが設置されている。支持体１の有機層の形成される面と反対の面をバックアップローラ１６に巻きかけて、連続搬送される支持体１の表面にダイコーター１４の吐出口から有機層形成用塗布液が塗布され、有機層が形成される。
【０１２６】
有機層形成用塗布液が塗布された支持体１は、乾燥部２０へと搬送される。乾燥部２０は、乾燥装置２２および加熱装置２４を備え、支持体１上に塗布された有機層形成用塗布液を乾燥させる。乾燥装置２２は、有機層に含まれる溶媒を蒸発させる。加熱装置２４は必要により加熱して溶媒を除去したり、膜硬化させたりするのに用いられることもある。
【０１２７】
乾燥部２０で乾燥された支持体１は、紫外線照射部３０へと搬送される。紫外線照射部３０は、紫外線照射装置３２を備え、紫外線ランプによって有機層形成用塗布液に紫外線を照射する。紫外線により有機層形成用塗布液中のモノマー等を架橋させて、有機層を形成する。
【０１２８】
紫外線照射部３０で有機層が形成された支持体１は、有機層上に保護フィルムが貼付され（不図示）、巻取機３４で、支持体１をロール状に巻き取って回収する。なお、図２においては、支持体１に保護フィルムを貼付し、巻取機３４で巻き取る装置で説明したが、保護フィルムを貼付せず、そのまま、次の工程（無機層の形成など）を行ってもよい。
【０１２９】
無機層は、図３に示すように、ロール・トゥ・ロールの真空成膜装置により形成することができる。図３に示す無機膜製造装置５０は、有機層上に無機層を形成する装置である。
【０１３０】
有機層２が形成され、巻取機で巻き取られた支持体１は、支持体ロール５２として、支持体供給室５４の回転軸６０に装填される。
【０１３１】
支持体供給室５４は図示しない駆動原によって回転軸６０を図中反時計方向に回転して、支持体ロール５２から支持体１を送り出しガイドローラ６２によって、所定の経路を案内して、支持体１を無機成膜室５６に送る。支持体１は、無機成膜室５６に送られる途中で、有機層形成後に貼り付けられた保護フィルムが剥離される。支持体供給室５４は、真空チャンバになっており、真空排気手段５５によって所定の圧力（真空度）に排気される。無機膜製造装置５０においては、これにより、支持体供給室５４の圧力が、後述する無機成膜室５６における無機膜の成膜に悪影響を与えることを防止している。
【０１３２】
無機成膜室５６は、ドラム６６と、成膜手段６８ａ、６８ｂ、６８ｃおよび６８ｄと、真空排気手段７４とを有して構成される。また、無機膜をスパッタリングやプラズマＣＶＤなどにより成膜を行う場合は、無機成膜室５６には、高周波電源なども設置される。
【０１３３】
支持体供給室５４から搬送された支持体は、ドラム６６の周面の所定領域に掛け回されて、ドラム６６に支持／案内されつつ、所定の搬送経路を搬送され、成膜手段６８ａ〜６８ｄなどによって、支持体１の有機層２上に無機層が形成される。
【０１３４】
成膜手段６８ａ〜６８ｄは、真空成膜法によって、支持体１の有機層２上に無機層３を形成するためのものであり、実施する真空成膜法に応じた、各種の部材で構成される。例えば、無機層をＣＶＤ法によって成膜を行うものであれば、成膜手段６８ａ〜６８ｄは、反応ガスの導入手段などを有して構成される。また、スパッタリング法により無機層の成膜を行うものであれば、成膜手段６８ａ〜６８ｄは、ターゲットの保持手段や高周波電極、スパッタガスの供給手段などを有して構成される。
【０１３５】
無機層が形成された支持体１は、次に、支持体巻取室５８に送られる。支持体巻取室５８は、図示しない駆動原によって回転軸７０を図中時計方向に回転して、支持体ロール７２で支持体を巻き取る。無機層を形成後の支持体１の搬送経路には、タッチロール７６が備えられており、タッチロール７６で保護フィルム（不図示）を貼り合わせる。支持体巻取室５８は、支持体供給室５４と同様に、真空チャンバになっており、真空排気手段７８によって所定の圧力（真空度）に排気されることで、無機層の形成に悪影響を与えることを防止している。
【０１３６】
バリア層として支持体１上に、有機層２および無機層３が形成されたバリア支持体１１０は、次に、光学機能層の形成、および、形成された光学機能層上にバリア層を形成する。図４は、光学機能層を成膜する製造設備１００の一例である。
【０１３７】
バリア支持体１１０（保護フィルムが貼合わされている場合は、保護フィルムを剥離する）が、図示しない送出機から塗布部１２０へと連続搬送される。送出機から、例えば、バリア支持体１１０が１〜５０ｍ／分の搬送速度で送り出される。ただし、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、バリア支持体１１０には、２０〜１５０Ｎ／ｍの張力、好ましくは３０〜１００Ｎ／ｍの張力が加えられる。
【０１３８】
塗布部１２０では、連続搬送されるバリア支持体１１０の表面に塗布液が塗布され、塗膜が形成される。塗布部１２０では、例えば、ダイコーター１２４と、ダイコーター１２４に対向配置されたバックアップローラ１２６とが設置されている。バリア支持体１１０の光学機能層が形成される面と反対の表面をバックアップローラ１２６に巻きかけて、連続搬送されるバリア支持体１１０の表面にダイコーター１２４の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜が形成される。ここで塗膜とは、バリア支持体１１０上に塗布された重合処理前の塗布液のことをいう。
【０１３９】
図４においては、塗布装置として、エクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター１２４を示したが、これに限定されず、カーテンコーティング法、エクストルージョンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法など、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。
【０１４０】
塗布部１２０を通過し、その上に塗膜が形成されたバリア支持体１１０は、ラミネート部１３０に連続搬送される。ラミネート部１３０では、塗膜の上に、バリア支持体１５０がラミネートされ、バリア支持体１１０とバリア支持体１５０で塗膜が挟持される。バリア支持体１１０およびバリア支持体１５０は、同じ組成、同じ構成のものでもよく、また、異なっていてもよい。
【０１４１】
ラミネートローラ１３２に対向する位置には、バックアップローラ１６２が配置されている。塗膜の形成されたバリア支持体１１０は、塗膜の形成面と反対の表面がバックアップローラ１６２に巻きかけられ、ラミネート位置Ｐへと連続搬送される。ラミネート位置Ｐはバリア支持体１５０と塗膜との接触が開始する位置を意味する。バリア支持体１１０はラミネート位置Ｐに到達する前にバックアップローラ１６２に巻きかけられることが好ましい。仮にバリア支持体１１０にシワが発生した場合でも、バックアップローラ１６２によりシワがラミネート位置Ｐに達するまでに矯正され、除去できるからである。したがって、バリア支持体１１０がバックアップローラ１６２に巻きかけられた位置（接触位置）と、ラミネート位置Ｐまでの距離Ｌ１は長い方が好ましく、例えば、３０ｍｍ以上が好ましく、その上限値は、通常、バックアップローラ１６２の直径とパスラインとにより決定される。
【０１４２】
本実施形態では重合処理部１６０で使用されるバックアップローラ１６２とラミネートローラ１３２とによりバリア支持体１５０のラミネートが行われる。即ち、重合処理部１６０で使用されるバックアップローラ１６２が、ラミネート部１３０で使用するローラとして兼用される。ただし、上記形態に限定されるものではなく、ラミネート部１３０に、バックアップローラ１６２と別に、ラミネート用のローラを設置し、バックアップローラ１６２を兼用しないようにすることもできる。
【０１４３】
重合処理部１６０で使用されるバックアップローラ１６２をラミネート部１３０で使用することで、ローラの数を減らすことができる。また、バックアップローラ１６２は、バリア支持体１１０に対するヒートローラとしても使用できる。
【０１４４】
図示しない送出機から送出されたバリア支持体１５０は、ラミネートローラ１３２に巻きかけられ、ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との間に連続搬送される。バリア支持体１５０は、ラミネート位置Ｐで、バリア支持体１１０に形成された塗膜の上にラミネートされる。これにより、バリア支持体１１０とバリア支持体１５０とにより塗膜が挟持される。ラミネートとは、バリア支持体１５０を塗膜の上に重ねあわせ、積層することをいう。
【０１４５】
ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離は、バリア支持体１１０と、塗膜を重合硬化させた光学機能性層と、バリア支持体１５０と、の合計厚みの値以上であることが好ましい。また、ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離はバリア支持体１１０と塗膜とバリア支持体１５０との合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下であることが好ましい。ラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離を合計厚みに５ｍｍを加えた長さ以下にすることより、バリア支持体１５０と塗膜との間に泡が侵入することを防止することができる。ここでラミネートローラ１３２とバックアップローラ１６２との距離とは、ラミネートローラ１３２の外周面とバックアップローラ１６２の外周面との最短距離をいう。
【０１４６】
バックアップローラ１６２の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップローラ１６２の温度を調整することができる。
【０１４７】
塗膜の上にバリア支持体１５０を積層する工程では、線圧５〜３００Ｎ／ｃｍの間でニップして塗膜の上にバリア支持体１５０を貼り合わせていくことが好ましく、線圧１０〜２００Ｎ／ｃｍの間でニップすることがより好ましく、線圧３０〜１００Ｎ／ｃｍの間でニップすることが特に好ましい。また貼り合わせ方法に制約はなく、ニップロールを用いない貼り合わせ方法でもよい。
【０１４８】
また、バリア支持体１１０とバリア支持体１５０とで塗膜を挟持した後の熱変形を抑制するため、重合処理部１６０のバックアップローラ１６２の温度とバリア支持体１１０の温度との差、およびバックアップローラ１６２の温度とバリア支持体１５０の温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。
【０１４９】
バックアップローラ１６２の温度との差を小さくするため、加熱チャンバ１３４が設けられている場合には、バリア支持体１１０、およびバリア支持体１５０を加熱チャンバ１３４内で加熱することが好ましい。例えば、加熱チャンバ１３４には、図示しない熱風発生装置により熱風が供給され、バリア支持体１１０、およびバリア支持体１５０を加熱することができる。
【０１５０】
バリア支持体１１０が、温度調整されたバックアップローラ１６２に巻きかけられることにより、バックアップローラ１６２によってバリア支持体１１０を加熱してもよい。
【０１５１】
一方、バリア支持体１５０については、ラミネートローラ１３２をヒートローラとすることにより、バリア支持体１５０をラミネートローラ１３２で加熱することができる。ただし、加熱チャンバ１３４、およびヒートローラは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。
【０１５２】
なお、図４においては、光学機能層（塗膜）をバリア支持体１１０およびバリア支持体１５０とで両面を挟持し、両面にバリア層を設ける場合で説明しているが、光学機能層の一方の面のみバリア層である場合は、バリア支持体１５０を他のフィルムまたは支持体とすることもできる。
【０１５３】
バリア支持体１１０に塗膜を形成し、バリア支持体１５０をラミネートした後、光照射により塗膜を重合硬化させて、光学機能層を得ることができる。硬化条件は、使用する硬化性化合物の種類や塗布液の組成に応じて、適宜設定することができる。また、塗布液中に溶媒を含む場合は、重合処理を行う前に、溶媒除去のための乾燥処理を施してもよい。塗膜の重合処理は、塗膜を２枚のバリア支持体間に挟持した状態で行う。
【０１５４】
図４に記載の装置において、バリア支持体１１０は、塗膜が形成され、バリア支持体１５０がラミネートされた状態で、重合処理部１６０に搬送される。重合処理部１６０は、バックアップローラ１６２と、バックアップローラ１６２に対向する位置に光照射装置１６４が設けられている。バックアップローラ１６２と光照射装置１６４との間を、塗膜を挟持したバリア支持体１１０とバリア支持体１５０とが連続搬送される。
【０１５５】
光照射装置１６４により照射される光は、塗布液に含まれる硬化性化合物の種類に応じて決定すればよく、一例としては、紫外線が挙げられる。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ、レーザー等を用いることができる。光照射量は塗膜の重合硬化を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を塗膜に向けて照射することができる。塗膜への光照射量は、一例として１０〜１００００ｍＪ／ｃｍ２とすることができ、１０〜１０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、５０〜８００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。
【０１５６】
重合処理部１６０では、バリア支持体１１０とバリア支持体１５０とにより塗膜を挟持した状態で、バリア支持体１１０をバックアップローラ１６２に巻きかけて、連続搬送しながら光照射装置１６４から光照射を行い、塗膜を硬化させて光学機能層を形成することができる。
【０１５７】
本実施の形態では、バリア支持体１１０側をバックアップローラ１６２に巻きかけて、連続搬送したが、バリア支持体１５０をバックアップローラ１６２に巻きかけて、連続搬送させることもできる。
【０１５８】
バックアップローラ１６２に巻きかけるとは、バリア支持体１１０およびバリア支持体１５０の何れかが、あるラップ角でバックアップローラ１６２の表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、バリア支持体１１０およびバリア支持体１５０はバックアップローラ１６２の回転と同期して移動する。バックアップローラ１６２へ巻きかけは、少なくとも光が照射されている間であればよい。
【０１５９】
バックアップローラ１６２の温度は、光照射時の発熱と、塗膜の硬化効率と、バリア支持体１１０とバリア支持体１５０のバックアップローラ１６２上でのシワ変形の発生と、を考慮して、決定することができる。バックアップローラ１６２は、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでローラに関する温度とは、ローラの表面温度をいうものとする。
【０１６０】
ラミネート位置Ｐと光照射装置１６４との距離は、例えば３０ｍｍ以上とすることができる。
【０１６１】
バリア支持体１１０とバリア支持体１５０とで挟持し、光照射により塗膜が硬化し光学機能層が形成されることで、両面にバリア層を含む積層フィルム１７０が製造される。積層フィルム１７０は、剥離ローラ１８０によりバックアップローラ１６２から剥離される。積層フィルム１７０は、図示しない巻取機に連続搬送され、ロール状に巻き取られる。
【０１６２】
なお、図４では、重合処理を光照射により行う方法で説明したが、塗布液に含まれる硬化性化合物が加熱により重合するものである場合には、温風の吹き付けなどの加熱により重合処理を行うことができる。また、バリア支持体１１０とバリア支持体１５０の貼合方法は、上述した以外にニップローラによる貼合方法、ローラ間にクリアランスを設けた貼合方法を用いることができる。
【０１６３】
（光学機能層の屈折率より大きい屈折率を有する膜）
本実施形態の積層フィルムは、さらに、光学機能層の側面に、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜５を備える（図１）。以下、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜５、および、該膜の形成方法について説明する。
【０１６４】
光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜５は、無機膜であることが好ましい。無機膜で形成することにより、膜５にガスバリア性を付与することができる。ガスバリア性としては、上述したバリア層と同様に、酸素透過度が、１．００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましく、より好ましくは０．１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、さらに好ましくは０．１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．００１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である。
【０１６５】
光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する無機膜を構成する材料としては、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択される１以上の金属の酸化物、窒化物および酸化窒化物の少なくとも１つを含むことが好ましい。
【０１６６】
また、光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜５は、第１の金属層と金属酸化層の積層構造を１回以上繰り返した積層膜であることが好ましい。第１の金属層を形成する材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属であることが好ましい。金属酸化層を形成する材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属の酸化物であることが好ましい。
【０１６７】
さらに、積層膜の上、すなわち、の金属酸化層の上に第２の金属層を有することが好ましい。第２の金属層を形成する材料としては、アルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される１以上の金属であることが好ましい。第１の金属層、金属酸化層、第２の金属層を構成する金属は、それぞれ、同じ金属を用いてもよいし、異なっていてもよいが、同じ金属を用いることが好ましい。
【０１６８】
光学機能層の屈折率よりも大きい屈折率を有する膜５を形成する方法としては、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、プラズマＣＶＤ法で形成することができる。これらの方法により形成することで、複数のフィルムを重ね合わせて、光学機能層の側面に膜５を付与することができるので、効率良く光学機能層の側面に膜を形成することができる。具体的には、上述したように、光学機能層にバリア層を積層してなる積層フィルム１７０を形成した後、この積層フィルム１７０を所定のサイズに切断し、複数枚重ね合わせる。また、複数枚重ね合わせた積層フィルムの上面に保護フィルムを積層する。そして、重ね合わせた積層フィルムを上記方法により成膜する装置内に入れ、成膜することで、効率良く光学機能層の側面に膜５を形成することができる。膜５を形成する装置としては、例えば、図５に示すスパッタリング装置を用いることができる。
【０１６９】
膜５の厚みとしては、５〜５００ｎｍとすることが好ましく、より好ましくは、１０〜２００ｎｍであり、さらに好ましくは、１５〜１００ｎｍであり、２０〜５０ｎｍとすることが好ましい。膜５の厚みを上記範囲とすることにより、積層フィルムの内部に水蒸気、酸素が侵入することを防止することができ、機能を長時間維持することができる。
【０１７０】
また、膜５を第１の金属層、金属酸化層からなる積層膜とする場合、第１の金属層の厚みが５ｎｍ以上５０ｎｍ以下であることが好ましく、金属酸化層の厚みが０．１ｎｍ以上５ｎｍ以下であることが好ましい。さらに、第２の金属層を有する場合は、第２の金属層の厚みが１０ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１７１】
また、膜５の屈折率は１．５以上とすることが好ましい。また、光学機能層４の屈折率は、光学機能層４に含まれる量子ドットの保護樹脂（リガンド）と同等にする必要があり、１．３以上１．６以下の範囲であることが好ましい。光学機能層４の屈折率と膜５の屈折率との差は０．２以上とすることが好ましく、より好ましくは０．４以上である。光学機能層４の屈折率と膜５の屈折率との差をこの範囲とすることにより、積層フィルムの側面で光を反射することができるので、積層フィルム内部の光路長を伸ばすことができ、輝度を向上させることができる。膜５の屈折率の上限は、特に限定されないが、膜５を構成する材料の点から３．０以下とすることが好ましい。同様に、光学機能層４の屈折率と膜５の屈折率との差の上限も、特に限定されないが、１．５以下とすることが好ましい。
【０１７２】
屈折率の調製は、真空成膜で膜を付与する場合、酸素導入量を調整することで、調製することができる。例えば、ＳｉＯ２の屈折率１．５に対し、酸素導入量を減らし、膜のＳｉＯの割合を増やすことで、屈折率を１．６〜１．７と高くすることができる。
【０１７３】
［光学機能層の屈折率よりも高い屈折率を有する膜の成膜方法］
図５は、光学機能層の側面に光学機能層より屈折率の高い膜５を成膜する装置の一例である。図５は、スパッタリング法により成膜する図である。
【０１７４】
図５に示すように、スパッタリング装置２００は、内部に、積層フィルムを保持するホルダ２１１と、プラズマを発生させるプラズマ電極（カソード電極）２１２とが備えられた真空容器２１０から概略構成されている。
【０１７５】
図４で形成された積層フィルム１７０にスパッタリング法で側面に膜を形成するため、巻取機で巻き取られた積層フィルム１７０を所定の形状、サイズに切断する。なお、所定の形状、サイズとは、スパッタリング装置に入るサイズであり、かつ、積層フィルムの用途により決定することができる。
【０１７６】
また、積層フィルムは複数の積層フィルムを重ね合わせて、側面に膜を形成することが好ましい。複数の積層フィルムを重ね合わせて膜を形成することにより、複数膜の積層フィルムに処理した際、全体の処理時間を短くすることができる。光学機能層の側面に膜５を形成する際の積層フィルムを重ね合わせる枚数は、生産性を考慮すると、多いほど好ましい。最大枚数は、フィルムの厚み、膜の塗布幅、又は、真空チャンバとフィルム、固定治具の大きさ、把持力に依存する。一般的な工程を、取扱いを含めて考慮した場合、フィルムの厚みを１５０μｍとすると、１００枚〜３０００枚程度が好ましい。なお、積層フィルムの上面は、膜の形成から保護するため保護フィルム２１６が積層される。
【０１７７】
ホルダ２１１とプラズマ電極２１２とは、互いに対向するように離間配置され、プラズマ電極２１２上にターゲットＴが装着されるようになっている。プラズマ電極２１２はＲＦ（Ｒａｄｉｏ  Ｆｒｅｑｙｅｎｃｙ）電源２１３に接続されている。
【０１７８】
真空容器２１０には、真空容器２１０内に成膜に必要なガスＧを導入するガス導入管２１４と、真空容器２１０内のガスの排気Ｖを行うガス排出管２１５とが取り付けられている。ガスＧとしては、Ａｒ、Ａｒ／Ｏ２混合ガス、または、Ａｒ／Ｎ２混合ガスを用いることができる。ターゲットＴとしては、ケイ素、アルミニウム、インジウム、スズ、亜鉛、チタン、クロム、ニッケル、銅、銀および金から選択され、反応ガスとして、酸素または窒素の少なくともいずれかを用いることで、酸化物、窒化物、酸化窒化物として膜を形成することができる。
【０１７９】
積層フィルム１７０の側面に積層膜を形成する場合は、裁断された積層フィルム１７０の側面にスパッタリング法でアルミニウム、チタン、クロム、ニッケル、スズ、銅および銀から選択される少なくとも１つの金属からなる第１の金属層を形成する。次に、反応ガスとして、酸素を導入して、スパッタリング法により、第１の金属層上に金属酸化層を形成する。酸素の導入の有無を変更することで、第１の金属層と金属酸化層を繰り返し形成する。第２の金属層を有する場合は、金属酸化層を形成後、ガスＧ（反応ガス）をＡｒとし、第２の金属層を形成する。第１の金属層上に金属酸化層を積層することで、第１の金属層中のピンホールやクラックを埋めることができ、フィルム端面から光が漏れることを防止することができる。また、金属酸化層上に第２の金属層を形成することで、第２の金属層で鏡面を得ることができる。したがって、積層フィルム端面から漏れる光を第２の金属層の鏡面にて、高い反射率で再利用できるため、波長変換部材として用いた場合に、輝度の高い波長変換部材を用いることができる。
【０１８０】
［波長変換部材］
本実施形態の積層フィルムは、量子ドット、または、量子ロッドのいずれか一方を含むことで、波長変換部材として用いることができ、液晶表示装置などに組み込んで用いることができる。
【０１８１】
波長変換部材として用いられる量子ドットまたは量子ロッドの少なくともいずれか（以下、「量子ドットなど」ともいう）を含む積層フィルムは、少なくとも入射する励起光により励起され蛍光を発光する量子ドットなどを含む波長変換層を有する。
【０１８２】
波長変換部材における波長変換層は、通常、量子ドットなどを有機マトリックス中に含む。有機マトリックスは、通常、硬化性化合物を光照射などにより重合させた重合体である。
【０１８３】
波長変換層の膜厚は、好ましくは１〜５００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲であり、特に好ましくは３０〜１５０μｍの範囲である。また、波長変換層が複数の層から形成される場合、一層の膜厚は、好ましくは１〜３００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲である。
【０１８４】
［バックライトユニット］
本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、本発明の積層フィルムと、光源と、を少なくとも含む。また、積層フィルムは、好ましくは、液晶表示装置のバックライトユニットの構成部材として含まれる。
【０１８５】
図６は、本発明の一態様にかかる積層フィルムを含むバックライトユニット３００の一例の説明図である。図６中、バックライトユニット３００は、光源３００Ａと、面光源とするための導光板３００Ｂを備える。図６（ａ）に示す例では、波長変換部材としての積層フィルムは、導光板から出射される光の経路上に配置されている。一方、図６（ｂ）に示す例では、波長変換部材としての積層フィルムは、導光板と光源との間に配置されている。
【０１８６】
そして図６（ａ）に示す例では、導光板３００Ｂから出射される光が、波長変換部材３００Ｃに入射する。図６（ａ）に示す例では、導光板３００Ｂのエッジ部に配置された光源３００Ａから出射される光３１０は青色光であり、導光板３００Ｂの液晶セル（図示せず）側の面から液晶セルに向けて出射される。導光板３００Ｂから出射された光（青色光３１０）の経路上に配置された波長変換部材３００Ｃには、青色光３１０により励起され赤色光３３０を発光する量子ドット（Ａ）と、青色光３１０により励起され緑色光３２０を発光する量子ドット（Ｂ）を、少なくとも含む（図中量子ドット（Ｂ）を符号３２１で示す）。このようにしてバックライトユニット３００からは、励起され発光した緑色光３２０および赤色光３３０、ならびに量子ドット波長変換部材３００Ｃを透過した青色光３１０が出射される。こうしてＲＧＢの輝線光を発光させることで、白色光を具現化することができる。
【０１８７】
本実施形態においては、図６（ａ）の波長変換部材３００Ｃの左右方向の側面に光学機能層の屈折率より大きい屈折率を有する膜を備えている。本発明の効果を量子ドット（Ｂ）３２１で説明する。導光板３００Ｂから出射された光は、量子ドット（Ｂ）３２１により緑色光３２０を発光する。しかしながら、量子ドット（Ｂ）３２１で励起された緑色光のうち、斜めに出射された光は、波長変換部材３００Ｃの界面で反射し、端面に到達する。従来においては、端面に膜が形成されていないため、端面に到達した光は、波長変換部材３００Ｃの端面から漏れてしまう場合があるが、本実施形態においては、端面に膜を有し、反射させることができるので、輝度を向上させることができる。
【０１８８】
図６（ｂ）に示す例は、光変換部材と導光板の配置が異なる点以外は、図６（ａ）に示す態様と同様である。図６（ｂ）に示す例では、波長変換部材３００Ｃから、励起された緑色光３２０および赤色光３３０、ならびに波長変換部材３００Ｃを透過した青色光３１０が出射され導光板に入射し、面光源が実現される。
【０１８９】
＜バックライトユニットの発光波長＞
高輝度かつ高い色再現性の実現の観点からは、バックライトユニットとして、多波長光源化されたものを用いることが好ましい。好ましい一態様としては、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する青色光と、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する緑色光と、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有し、半値幅が１００ｎｍ以下である発光強度のピークを有する赤色光と、を発光するバックライトユニットを挙げることができる。
【０１９０】
より一層の輝度および色再現性の向上の観点から、バックライトユニットが発光する青色光の波長帯域は、４５０〜４８０ｎｍであることが好ましく、４６０〜４７０ｎｍであることがより好ましい。
【０１９１】
同様の観点から、バックライトユニットが発光する緑色光の波長帯域は、５２０〜５５０ｎｍであることが好ましく、５３０〜５４０ｎｍであることがより好ましい。
【０１９２】
また、同様の観点から、バックライトユニットが発光する赤色光の波長帯域は、６１０〜６８０ｎｍであることが好ましく、６２０〜６４０ｎｍであることがより好ましい。
【０１９３】
また同様の観点から、バックライトユニットが発光する青色光、緑色光および赤色光の各発光強度の半値幅は、いずれも８０ｎｍ以下であることが好ましく、５０ｎｍ以下であることがより好ましく、４５ｎｍ以下であることがさらに好ましく、４０ｎｍ以下であることが一層好ましい。これらの中でも、青色光の各発光強度の半値幅が３０ｎｍ以下であることが、特に好ましい。
【０１９４】
バックライトユニットは、少なくとも、上記波長変換部材とともに、光源を含む。一態様では、光源として、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光するもの、例えば、青色光を発光する青色発光ダイオードを用いることができる。青色光を発光する光源を用いる場合、量子ドット含有積層体には、少なくとも、励起光により励起され赤色光を発光する量子ドット（Ａ）と、緑色光を発光する量子ドット（Ｂ）が含まれることが好ましい。これにより、光源から発光され量子ドット含有積層体を透過した青色光と、波長変換部材から発光される赤色光および緑色光により、白色光を具現化することができる。
【０１９５】
または他の態様では、光源として、３００ｎｍ〜４３０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する紫外光を発光するもの、例えば、紫外光発光ダイオードを用いることができる。この場合、波長変換層には、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）とともに、励起光により励起され青色光を発光する量子ドット（Ｃ）が含まれることが好ましい。これにより、量子ドット含有積層体から発光される赤色光、緑色光および青色光により、白色光を具現化することができる。
【０１９６】
また他の態様では、青色光を発光する青色レーザー、緑色光を発光する緑色レーザー、赤色光を発光する赤色レーザーからなる群から選ばれる光源の二種を用い、この光源が出射する光とは異なる発光波長を有する蛍光を発光する量子ドットを、量子ドット含有積層体に存在させることにより、光源から発光される二種の光と、量子ドット含有積層体の量子ドットから発光される光により、白色光を具現化することもできる。
【０１９７】
＜散乱粒子＞
波長変換部材は、量子ドットの蛍光を効率よく外部に取り出すために光散乱機能を有することができる。光散乱機能は、波長変換層の内部に設けてもよいし、光散乱層として光散乱機能を有する層を別途設けてもよい。
【０１９８】
一態様として、波長変換層の内部に散乱粒子を添加することも好ましい。
【０１９９】
また別の一態様として、波長変換層の表面に光散乱層を設けることも好ましい。光散乱層での散乱は、散乱粒子に依ってもよいし、表面凹凸に依ってもよい。
【０２００】
＜バックライトユニットの構成＞
バックライトユニットの構成としては、導光板や反射板などを構成部材とするエッジライト方式であることができる。図６には、エッジライト方式のバックライトユニットの例を示したが、本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、直下型方式であっても構わない。導光板としては、公知のものを何ら制限なく使用することができる。
【０２０１】
また、バックライトユニットは、光源の後部に、反射部材を備えることもできる。このような反射部材としては特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２０２】
バックライトユニットが、青色光のうち４６０ｎｍよりも短波長の光を選択的に透過する青色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
【０２０３】
また、バックライトユニットが、赤色光のうち６３０ｎｍよりも長波長の光を選択的に透過する赤色用波長選択フィルタを有することも、好ましい。
【０２０４】
このような青色用波長選択フィルタや赤色用波長選択フィルタとしては特に制限は無く、公知のものを用いることができる。そのようなフィルタは、特開２００８−５２０６７号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２０５】
バックライトユニットは、その他、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器を備えていることも好ましい。その他の部材についても、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２０６】
［液晶表示装置］
本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、本発明のバックライトユニットと、液晶セル、とを少なくとも含む。
【０２０７】
＜液晶表示装置の構成＞
液晶セルの駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。
【０２０８】
液晶表示装置の一実施形態では、対向する少なくとも一方に電極を設けた基板間に液晶層を挟持した液晶セルを有し、この液晶セルは２枚の偏光板の間に配置して構成される。液晶表示装置は、上下基板間に液晶が封入された液晶セルを備え、電圧印加により液晶の配向状態を変化させて画像の表示を行う。さらに必要に応じて偏光板保護フィルムや光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（又はそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。
【０２０９】
図７に、本発明の一態様にかかる液晶表示装置の一例を示す。図７に示す液晶表示装置３５１は、液晶セル３７１のバックライト側の面にバックライト側偏光板３６４を有する。バックライト側偏光板３６４は、バックライト側偏光子３６２のバックライト側の表面に、偏光板保護フィルム３６１を含んでいても、含んでいなくてもよいが、含んでいることが好ましい。
【０２１０】
バックライト側偏光板３６４は、バックライト側偏光子３６２が、２枚の偏光板保護フィルム３６１および３６３で挟まれた構成であることが好ましい。
【０２１１】
本明細書中、偏光子に対して液晶セルに近い側の偏光板保護フィルムをインナー側偏光板保護フィルムと言い、偏光子に対して液晶セルから遠い側の偏光板保護フィルムをアウター側偏光板保護フィルムと言う。図７に示す例では、偏光板保護フィルム３６３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム３６１がアウター側偏光板保護フィルムである。
【０２１２】
バックライト側偏光板は、液晶セル側のインナー側偏光板保護フィルムとして、位相差フィルムを有していてもよい。このような位相差フィルムとしては、公知のセルロースアシレートフィルム等を用いることができる。
【０２１３】
液晶表示装置３５１は、液晶セル３７１のバックライト側の面とは反対側の面に、表示側偏光板３９４を有する。表示側偏光板３９４は、表示側偏光子３９２が、２枚の偏光板保護フィルム３９１および３９３で挟まれた構成である。偏光板保護フィルム３９３がインナー側偏光板保護フィルムであり、偏光板保護フィルム３９１がアウター側偏光板保護フィルムである。
【０２１４】
液晶表示装置３５１が有するバックライトユニット３００については、先に記載した通りである。
【０２１５】
本発明の一態様にかかる液晶表示装置を構成する液晶セル、偏光板、偏光板保護フィルム等については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。
【０２１６】
（カラーフィルター）
カラーフィルター基板のＲＧＢ画素形成方法としては、公知の種々の方法を使用することができる。例えば、ガラス基板上にフォトマスク、およびフォトレジストを用いて所望のブラックマトリックス、およびＲ、Ｇ、Ｂの画素パターンを形成することもできるし、また、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素用着色インクを用いて、所定の幅のブラックマトリクス、およびｎ個置きにブラックマトリクスの幅よりも広いブラックマトリックスで区分された領域内（凸部で囲まれた凹部）に、インクジェット方式の印刷装置を用いて所望の濃度になるまでインク組成物の吐出を行い、Ｒ、Ｇ、Ｂのパターンからなるカラーフィルターを作製することもできる。画像着色後は、ベーク等することで各画素及びブラックマトリックスを完全に硬化させてもよい。
【０２１７】
カラーフィルターの好ましい特性は特開２００８−０８３６１１号公報などに記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２１８】
カラーフィルター用顔料としては、公知のものを何ら制限なく用いることができる。なお、現在は、一般的に顔料を用いているが、分光を制御でき、プロセス安定性、信頼性が確保できる色素であれば、染料によるカラーフィルターであってもよい。
【０２１９】
（ブラックマトリックス）
液晶表示装置には、各画素の間にブラックマトリックスが配置されていることが好ましい。ブラックストライプを形成する材料としては、クロム等の金属のスパッタ膜を用いたもの、感光性樹脂と黒色着色剤等を組み合わせた遮光性感光性組成物などが挙げられる。黒色着色剤の具体例としては、カーボンブラック、チタンカーボン、酸化鉄、酸化チタン、黒鉛などが挙げられ、中でも、カーボンブラックが好ましい。
【０２２０】
（薄層トランジスタ）
液晶表示装置は、さらに薄層トランジスタ（以下、ＴＦＴとも言う）を有するＴＦＴ基板を有することもできる。薄層トランジスタは、キャリア濃度が１×１０１４／ｃｍ３未満である酸化物半導体層を有することが好ましい。薄層トランジスタの好ましい態様については特開２０１１−１４１５２２号公報に記載されており、この公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０２２１】
以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、高い光透過率を発揮し得る量子ドット含有積層体を含むバックライトユニットを備えるため、高輝度かつ高い色再現性を実現することができるものである。
【実施例】
【０２２２】
以下に実施例を挙げ、本発明をより詳細に説明する。ただし、本発明はこの実施例に限定されるものでなく、以下の実施例に示す材料、使用量、割合、処理内容、処理手順などは、本発明の趣旨を逸脱しない限り適宜変更することができる。
【０２２３】
［積層フィルムの作成］
＜支持体＞
ポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャインＡ４３００、厚さ５０μｍｍ、幅１０００ｍｍ、長さ１００ｍ）を用いた。
【０２２４】
＜有機層の形成＞
上記支持体に、有機層の形成を行った。まず、有機層形成用塗布液の調整を行った。有機層形成用塗布液は、ＴＭＰＴＡ（トリメチロールプロパントリアクリレート、ダイセルサイテック社製）および光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥＫＴＯ４６）を用意し、ＴＭＰＴＡ：光重合開始剤の重量比率が、９５：５となるように、秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％とした。
【０２２５】
この有機層形成用塗布液を、ダイコーターを用いて、ロール・トゥ・ロールにより支持体であるＰＥＴフィルムに塗布した。塗布後のＰＥＴフィルムを５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた後、紫外線を照射し（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ２）、ＵＶ硬化により硬化させた。ＵＶ硬化直後のパスロールにて保護フィルムのポリエチレンフィルム（ＰＥフィルム、サンエー科研製、商品名：ＰＡＣ２−３０−Ｔ）を貼り付け、搬送し、巻き取った。支持体上に形成されて有機層の厚みは１μｍであった。
【０２２６】
＜無機層の形成＞
次に、ロール・トゥ・ロールのＣＶＤ装置を用いて、有機層の表面に無機層（窒化ケイ素（ＳｉＮ）層）を形成した。送出機より支持体を送り出し、無機層の成膜前の最後の膜面タッチロール通過後に保護フィルムを剥離し、暴露された有機層の上に無機層を形成した。無機層の形成には、原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、および窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いてＳｉＮ層を形成した。成膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。
【０２２７】
このようにして有機層の上に無機層を形成し、形成後の膜面タッチロール部にて、保護ＰＥフィルムを貼り付け、無機膜がパスロールに触れることなく、搬送した後、巻き取った。
【０２２８】
＜光学機能性層の形成＞
上記のように形成した支持体、有機膜および無機膜からなるバリア支持体（バリア層）の保護ＰＥフィルムを剥がし、光学機能層形成用塗布液を無機層上に塗布し、塗膜を形成した。光学機能層形成用塗布液は、以下の組成となるように調整した。光学機能層の塗膜を、上記と同様の方法で形成したバリア支持体で挟み込み、ＵＶ硬化をして複合フィルムをロール・トゥ・ロールで形成した。
【０２２９】
（光学機能層形成用塗布液の組成）
・量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）              １０質量部
・量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）                １質量部
・ラウリルメタクリレート                                          ２．４質量部
・トリメチロールプロパントリアクリレート                        ０．５４質量部
・光重合開始剤                                                ０．００９質量部
（イルガキュア８１９（チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製））
量子ドット１、２としては、下記のコア−シェル構造（ＩｎＰ／ＺｎＳ）を有するナノ結晶を用いた。
【０２３０】
・量子ドット１：ＩＮＰ５３０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
・量子ドット２：ＩＮＰ６２０−１０（ＮＮ−ｌａｂｓ社製）
光学機能層形成用塗布液の粘度は５０ｍＰａ・ｓであった。
【０２３１】
＜シート加工＞
形成した複合フィルムを、刃先角度１７°のトムソン刃を使用し、Ａ４サイズのシート状に抜き打ちを行った。
【０２３２】
＜端面処理＞
シート状にカットした複合フィルムを、１０００枚重ね、スパッタリング装置を用いて、複合フィルムの積層体の側面に無機層を形成した。ターゲットとしてケイ素、放電ガスとしてアルゴン、反応ガスとして酸素を用いた。成膜圧力は０．１Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった（実施例１）。
【０２３３】
また、反応ガスの酸素導入量を減らし、側面の膜をＳｉＯとした（実施例２）。ターゲットとしてアルミナを用い、側面の膜の厚みを変更し積層フィルムを作成した（実施例３〜６）。ターゲットとしてチタンを用いて側面の膜を形成した（実施例７）。
【０２３４】
また、次のように積層フィルムの側面に積層膜を形成した。形成した複合フィルムをスパッタリング装置にセットするまでは、実施例１と同様の方法により行った。ターゲットとしてアルミニウム、放電ガスとしてアルゴンを用い、成膜圧力は０．５Ｐａとし、第１の金属層として、膜厚が２０ｎｍのアルミニウム層を形成した。続いて、反応ガスとして、酸素を導入し、第１の金属層の上に、膜厚１ｎｍの酸化アルミニウムの金属酸化層を形成した。このアルミニウム層と酸化アルミニウムの層の形成を５回繰り返し、合計膜厚１０５ｎｍの積層膜を形成した（実施例８）。実施例８の積層膜上に、実施例８の第１の金属層の形成と同じ方法で、第２の金属層として、膜厚が２００ｎｍのアルミニウム層を形成した（実施例９）。合計膜厚は３０５ｎｍであった。
【０２３５】
結果を表１に示す。なお、表１に記載の評価は、以下の方法、基準で行った。また、比較例１として、実施例１のフィルムの側面に膜を形成しないフィルムについても評価を行った。
【０２３６】
＜屈折率、膜厚測定＞
大塚電子株式会社  分光エリプソメータ  ＦＥ−５０００を用いて測定を行った。
【０２３７】
＜輝度測定＞
Ｋｉｎｄｌｅ  ｆｉｒｅ  ＨＤＸ  ７ｉｎに実装し、目視で輝度を判定した。
【０２３８】
側面に膜を有さない比較例をＤ：基準とし、Ｃ：輝度が少し向上した、Ｂ：輝度が向上した、Ａ：輝度が大幅に向上した、により評価した。
【０２３９】
輝度半減時間は、温度６０、湿度９０％の環境下、所定の時間経過後にＫｉｎｄｌｅ  ｆｉｒｅ  ＨＤＸ  ７ｉｎに実装し、輝度が初期から半減した時間を確認した。
【０２４０】
＜曲げ＞
φ１００ｍｍの円筒への巻き付けを１００回繰り返し、積層フィルムの端部に割れが発生するか確認した。割れの確認は、光学顕微鏡を用い、４００倍の倍率で確認し、以下の基準で評価を行った。
ＡＡ：表面が目視で鏡面である
Ａ：端部の割れは見られない
Ｂ：一部割れが見られる
Ｃ：全体に割れが確認される
【０２４１】
【表１】
2016068556.tif 000004
【０２４２】
表１に示すように、光学機能層の側面に膜を形成していない比較例１に比べ、膜を形成した実施例１〜４は輝度が向上しており、側面の膜の屈折率を高くすることで、より輝度を向上させることができた。また、側面の膜の厚みを厚くすることで、輝度半減時間を延ばすことができたが、膜の厚みが厚くなると曲げ評価で端部に割れが生じるため、膜の厚みは、２０ｎｍ以上５０ｎｍ以下とすることが好ましい。
【０２４３】
２０ｎｍ〜２００ｎｍの膜厚で膜を形成した実施例１〜４は、輝度半減時間が伸びており、機能を長時間維持できていることが確認できた。また、表面輝度も比較例１に比べ、向上していることが確認できた。膜の厚みは、厚い方が輝度半減時間、表面輝度の観点で好ましいが、膜の厚みが厚いと膜割れが生じるため、２０ｎｍ以上１００ｎｍ以下とすることが好ましい。
【０２４４】
また、実施例８から、側面の膜を第１の金属層と金属酸化層の積層膜とすることで、曲げ評価で良好な結果が得られ、強度の高い膜が形成できることが確認できた。さらに、実施例９より、第２の金属層を形成することで、輝度を向上させることができた。
【符号の説明】
【０２４５】
１…支持体、２…有機層、３…無機層、４…光学機能層、５…膜、６…バリア層、７、８…積層フィルム、１０…塗布部、１２…送出機、１４…ダイコーター、１６…バックアップローラ、２０…乾燥部、２２…乾燥装置、２４…加熱装置、３０…紫外線照射部、３２…紫外線照射装置、３４…巻取機、５０…無機膜製造装置、５２、７２…支持体ロール、５４…支持体供給室、５５、７４、７８…真空排気手段、５６…無機成膜室、５８…支持体巻取室、６０、７０…回転軸、６２…ガイドロール、６６…ドラム、６８…成膜手段、７６…タッチロール、１００…製造設備、１１０、１５０…バリア支持体、１２０…塗布部、１２４…ダイコーター、１２６、１６２…バックアップローラ、１３０…ラミネート部、１３２…ラミネートローラ、１３４…加熱チャンバ、１６０…重合処理部、１６４…光照射装置、１７０…積層フィルム、１８０…剥離ローラ、２００…スパッタリング装置、２１０…真空容器、２１１…ホルダ、２１２…プラズマ電極、２１３…ＲＦ電源、２１４…ガス導入管、２１５…ガス排出管、２１６…保護フィルム、３００…バックライトユニット、３００Ａ…光源、３００Ｂ…導光板、３００Ｃ…波長変換部材、３１０…青色光、３２０…緑色光、３３０…赤色光、３５１…液晶表示装置、３６１、３６３、３９１、３９３…偏光板保護フィルム、３６２…バックライト側偏光子、３６４…バックライト側偏光板、３７１…液晶セル、３９２…表示側偏光子、３９４…表示側偏光板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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