(57)【要約】【課題】ウェハーホルダーを提供する。【解決手段】本発明に係るウェハーホルダーは、ホルダー本体と、支持部材と、制限部材とを備える。ホルダー本体は円形貫通孔を有する。支持部材は支持本体及び複数の支持脚を含む。支持本体は円形貫通孔から突出され、支持脚は支持本体の内側壁に間隔をあけて周設され、ウェハーの支持に用いられる。制限部材は支持本体から突出されると共に隣接する２つの支持脚の間に位置し、制限部材は前記ウェハーの平坦面に対向するように設置され、ウェハーが発生させる回転を制限させる。【選択図】図２Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
円形貫通孔を有するホルダー本体と、
支持部材と、
制限部材と、を備え、
前記支持部材は、
前記円形貫通孔から突出する支持本体と、
前記支持本体の内側壁に間隔をあけて周設され、ウェハーの支持に用いられる複数の支持脚と、を更に含み、
前記制限部材は、前記支持本体から突出すると共に隣接する２つの支持脚の間に位置し、前記制限部材は前記ウェハーの平坦面に対向するように設置され、前記ウェハーが発生させる回転を制限することを特徴とする、
ウェハーホルダー。
【請求項２】
各前記支持脚は前記ウェハーを支持するための第一支持面を有することを特徴とする、請求項１に記載のウェハーホルダー。
【請求項３】
前記制限部材は制限本体を備え、前記制限本体は前記ウェハーの前記平坦面に対向すると共に前記ウェハーが発生させる回転を制限するための制限面を有することを特徴とする、請求項１に記載のウェハーホルダー。
【請求項４】
前記制限面及び前記ウェハーの前記平坦面の間隔は０．０５ミリメートル（ｍｍ）から１ミリメートル（ｍｍ）の間であることを特徴とする、請求項３に記載のウェハーホルダー。
【請求項５】
前記制限部材は、前記制限面の下端に凸設され、上面を有し、前記ウェハーの支持に用いられる支持バンプを更に備えることを特徴とする、請求項１に記載のウェハーホルダー。
【請求項６】
これら前記支持本体の第二支持面に設置される均熱板を更に備え、前記第二支持面は前記第一支持面の上方に位置することを特徴とする、請求項１に記載のウェハーホルダー。
【請求項７】
前記制限部材は、前記支持本体の内側壁に間隔をあけて設置される複数の制限バンプを備え、各制限バンプは前記ウェハーの前記平坦面に対向する制限面を有することを特徴とする、請求項１に記載のウェハーホルダー。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハーの回転を制限させるためのウェハーホルダーに関する。
【背景技術】
【０００２】
図１Ａは従来のウェハーホルダー１００を示す断面模式図であり、図１Ｂは従来のウェハー１４０を示す概念図である。
ウェハーホルダー１００はホルダー本体１１０及び複数の支持部材１２０を備える。支持部材１２０はホルダー本体１１０の内側に間隔をあけて周設される。製造工程では、ウェハー１４０は下向き（ｆａｃｅ−ｄｏｗｎ）方式で支持脚１２０に設置される。このため、図１Ｂに示すように、ウェハー１４０は支持脚１２０の表面箇所に対応するように設置され、対応してマーク（ｍａｒｋ）１４２Ａを生成させる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
しかしながら、前述した従来の技術では、ウェハー１４０は製造工程において往々にして高温の状態に保持させねばならないため、一般的な製造工程ではウェハーホルダー１００の底部の開口部１３０がウェハー１４０に向けられて加熱され、且つ反応ガスをウェハー１４０の表面に加えてエピタキシャル成長を行う。これにより、ウェハー１４０が受熱により変形したり、ガスの衝撃により滑動或いは回転してしまい、ウェハー１４０の表面には相対的にマーク１４２Ｂの生成が増加し、ウェハー１４０が実際に使用される表面領域の範囲が縮減され、最良の使用率を得られなくなる。
【０００４】
そこで、本発明者は上記の欠点が改善可能と考え、鋭意検討を重ねた結果、合理的かつ効果的に課題を改善する本発明の提案に到った。
【０００５】
本発明は、上記の事情を考慮してなされたもので、上記課題解決のため、本発明は、ウェハーホルダーを提供することを主目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上述した課題を解決し、目的を達成するための本発明に係るウェハーホルダーは、円形貫通孔を有するホルダー本体と、支持部材と、制限部材とを備え、
ここでは、前記支持部材は、前記円形貫通孔から突出される支持本体と、
前記支持本体の内側壁に間隔をあけて周設され、ウェハーの支持に用いられる複数の支持脚とを更に含み、
また、前記制限部材は、前記支持本体から突出されると共に隣接する２つの支持脚の間に位置され、前記制限部材は前記ウェハーの平坦面に対向させるように設置され、前記ウェハーが発生させる回転を制限させることを特徴とする。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、製造工程中にウェハーに発生する回転或いは変移現象を改善させ、ウェハーの表面のマークの面積を減少させ、その製造工程での歩留り及び使用率を向上させる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１Ａ】従来のウェハーホルダーを示す断面模式図である。
【図１Ｂ】従来のウェハーを示す概念図である。
【図２Ａ】本発明の一実施形態に係るウェハーホルダーの部分を示す外観斜視図である。
【図２Ｂ】図２Ａに示す一実施形態のウェハーホルダーを示す上面図である。
【図２Ｃ】ウェハーが図２Ａに示すウェハーホルダーに配置される概念図である。
【図２Ｄ】均熱板が図２Ａに示すウェハーホルダーに配置される断面の概念図である。
【図３Ａ】本発明の他の実施形態に係るウェハーホルダーの部分を示す外観斜視図である。
【図３Ｂ】ウェハーが図３Ａに示すウェハーホルダーに配置される概念図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下に図面を参照して、本発明を実施するための形態について、詳細に説明する。なお、本発明は、図面と同一の要素には同一の符号を付してその説明を省略する。且つ、説明する実施形態に限定されるものではない。
【００１０】
（第１実施形態）
図２Ａは本発明の第１実施形態に係るウェハーホルダー２００の部分を示す外観斜視図であり、図２Ｂは図２Ａに示す第１実施形態のウェハーホルダー２００を示す上面図であり、図２Ｃはウェハー２４０が図２Ａに示すウェハーホルダー２００に配置される概念図である。
上述したように、ウェハーホルダー２００はホルダー本体２１０と、支持部材２２０と、制限部材２３０とを備える。ホルダー本体２１０は円形貫通孔２１２を有する。支持部材２２０は支持本体２２２及び複数の支持脚２２４を含む。支持本体２２２は円形貫通孔２１２から突出され、支持脚２２４は支持本体２２２の内側壁に間隔をあけて周設され、ウェハー２４０の支持に用いられる。
制限部材２３０は支持本体２２２から突出されると共に隣接する２つの支持脚２２４の間に位置され、制限部材２３０はウェハー２４０の平坦面２４２に対向するように設置され、ウェハー２４０に発生する回転を制限させる。このほか、一実施形態において、ホルダー本体２１０、支持部材２２０及び制限部材２３０は実際の設計及び需要に基づいて、一体成形されてもよい。
【００１１】
より詳しくは、各支持脚２２４はウェハー２４０の支持に用いられる第一支持面２２６を有する。しかしながら、支持本体２２２及び支持脚２２４は実際の設計及び需要に応じて、一体成形されてもよい。このほか、制限部材２３０は制限本体２３１を備え、制限本体２３１は、ウェハー２４０の平坦面２４２に対向すると共にウェハー２４０に発生する回転を制限させるための制限面２３２を有する。
【００１２】
本実施形態において、制限部材２３０は支持バンプ２３３を更に備える。支持バンプ２３３は制限本体２３１の制限面２３２の下端に凸設される。支持バンプ２３３はウェハー２４０の支持に用いられる上面２３４を有する。より具体的には、支持バンプ２３３の上面２３４の水平高度は各支持脚２２４の第一支持面２２６の水平高度と大方一致する。
このように、ウェハー２４０がウェハーホルダー２００に配置されると、ウェハー２４０は支持脚２２４の第一支持面２２６及び支持バンプ２３３の上面２３４に同時に設置される。
【００１３】
続いて、制限本体２３１が支持部材２３０の支持本体２２２に凸設されるため、ウェハー２４０が受熱により変形されて外に向けて拡張されるか、或いは反応ガスの衝撃により変移されると、ウェハー２４０の平坦面２４２が先ず制限本体２３１の制限面２３２に当着され、ウェハー２４０が回転或いは変移できなくなる（図２Ｃ参照）。
また、一実施形態では、制限面２３２とウェハー２４０の平坦面２４２との間隔は０．０５ミリメートル（ｍｍ）から１ミリメートル（ｍｍ）の間である。また、図２Ｃに示す実施形態において、制限面２３２の長さ（Ｌ１）はウェハー２４０の平坦面２４２の長さ（Ｌｗ）より長い。しかしながら、本発明はこれに限定されるものではない。制限面２３２の長さ（Ｌ１）は実際の製造の需要に基づいて、ウェハー２４０の平坦面２４２の長さ（Ｌｗ）より短いか或いは等しくなるように調整されてもよい。
【００１４】
図２Ｄは均熱板２５０及びウェハー２４０が同時に図２Ａに示すウェハーホルダー２０に配置される断面の概念図である。
ウェハーホルダー２００は均熱板２５０を更に備え、且つ均熱板２５０は支持部材２２０の支持本体２２２の第二支持面２２８に設置される。第二支持面２２８は第一支持面の上方に位置される。これにより、加熱製造工程においてウェハー２４０の下方箇所から加熱されると、均熱板２５０が支持部材２２０によりウェハー２４０の上方箇所に配置されるため、均熱板２５０及びウェハー２４０の間に位置される空洞でガスが熱対流を発生させ、ウェハー２４０の表面が有効的に均一に受熱させ、製造工程での歩留りを大幅に向上させる。
【００１５】
また、図３Ａは本発明の他の実施形態に係るウェハーホルダー３００の部分を示す外観斜視図であり、図３Ｂはウェハー３４０が図３Ａに示すウェハーホルダー３００に配置される概念図である。
制限部材３３０は複数の制限バンプ３３１を備える。制限バンプ３３１は支持本体３２２の内側壁に間隔をあけて設置され、各制限バンプ２３１はウェハー３４０の平坦面３４２に対向する制限側面３３２を有する。これにより、これら制限バンプ３３１が支持本体２２２の内側壁に凸設され、且つ大方同じ幅を有するため、ウェハー３４０が受熱により変形されて外に向けて拡張されるか、或いは反応ガスの衝撃により変移されると、ウェハー３４０の平坦面３４２が先ず制限バンプ３３１の制限面３３２に当着され、ウェハー３４０が回転或いは変移できなくなる。一実施形態では、制限バンプ３３１とウェハー３４０の平坦面３４２との間隔は０．０５ミリメートル（ｍｍ）から１ミリメートル（ｍｍ）の間である。
【００１６】
さらに、図３Ｂに示すように、隣接する各２つの制限バンプ３３１の間隔（Ｌ２）はウェハー３４０の平坦面３４２の長さ（Ｌｗ）より短いか或いは等しい。このため、ウェハー３４０が受熱により変形されて外に向けて拡張されると、複数の制限バンプ３３１の側面３３２が同時に対応してウェハー３４０の平坦面３４２に当着されて固定させ、ウェハー３４０の回転或いは変移がさらに有効的に制限される。これによりウェハー３４０の表面のマークの面積の範囲を有効に減少させる。
【００１７】
以上、本発明の実施形態について図面を参照して詳述したが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
【符号の説明】
【００１８】
１００    ウェハーホルダー
１１０    ホルダー本体
１２０    支持部材
１３０    底部開口部
１４０    ウェハー
１４２Ａ  マーク
１４２Ｂ  マーク
２００    ウェハーホルダー
２１０    ホルダー本体
２１２    円形貫通孔
２２０    支持部材
２２２    支持本体
２２４    支持脚
２２６    第一支持面
２２８    第二支持面
２３０    制限部材
２３１    制限本体
２３２    制限面
２３３    支持バンプ
２３４    上面
２４０    ウェハー
２４２    平坦面
２５０    均熱板
３００    ウェハーホルダー
３１０    ホルダー本体
３１２    円形貫通孔
３２０    支持部材
３２２    支持本体
３２４    支持脚
３２６    第一支持面
３２８    第二支持面
３３０    制限部材
３３１    制限バンプ
３３２    制限面
３４０    ウェハー
３４２    平坦面
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図２Ｃ】
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【図２Ｄ】
2016149533.tif 000008
【図３Ａ】
2016149533.tif 000009
【図３Ｂ】
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