(57)【要約】【課題】透明基材とＩＴＯ層との密着性、エッチング工程での薬品耐性、均一・平滑な塗工性、高透明性、パターン形状の低視認性、機械強度に優れた透明導電性積層体を提供することを目的とする。【解決手段】透明基材１上にアンカーコート層２、透明導電層３を順次積層してなる透明導電性積層体であって、前記アンカーコート層２を形成するためのアンカーコート組成物が、末端に２つ以上のアクリロイル基を有するグリコール多重体からなるアクリレート化合物を含有し、且つ、アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合が７０〜９９重量％であることを特徴とする透明導電性積層体である。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基材上にアンカーコート層、透明導電層を順次積層してなる透明導電性積層体であって、
前記アンカーコート層を形成するためのアンカーコート組成物が、末端に２つ以上のアクリロイル基を有するグリコール多重体からなるアクリレート化合物を含有し、
且つ、アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合が７０〜９９重量％であることを特徴とする透明導電性積層体。
【請求項２】
前記アクリレート化合物が分子中に極性基を含まないことを特徴とする請求項１に記載の透明導電性積層体。
【請求項３】
前記透明導電層が酸化インジウム・スズからなることを特徴とする請求項１または２に記載の透明導電性積層体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電積層体を用いたことを特徴とするタッチパネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル等に用いられる透明導電性積層体に関するものである。具体的には、アンカーコート層を介して、透明基材の面上に透明導電層を形成してなる透明導電性積層体及びタッチパネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
現在、ディスプレイ表面に直接触れることにより、情報を入力できるインターフェースとして、タッチパネルが広く普及している。タッチパネルの代表的な形式として、透明電極と指との間に生じる電流容量の変化を感知する静電容量式タッチパネルがある。
【０００３】
静電容量式タッチパネルには、透明電極フィルムが用いられる。透明電極フィルムは、透明基材上に、透明且つ通電性のある物質、例えば酸化インジウム・スズ（以下、ＩＴＯと記す）を積層したものが一般的に用いられている。
【０００４】
しかし、長期使用を想定した耐久性試験後に、ＩＴＯ層と透明基材との間の密着性が劣化し、剥離する問題があった。
【０００５】
また、ＩＴＯと透明基材で屈折率が異なるため、透明電極回路のパターン形状がディスプレイ上で視認でき、外観が悪化する問題がある。特許文献３によれば、ハードコート層を含む透明基材上に、波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．６３〜１．８６の金属酸化物を含む層、波長４００ｎｍの光に対する屈折率が１．２５〜１．５０の酸化ケイ素を含む層を設けて、酸化ケイ素を含む層上にＩＴＯ膜を積層し、パターン形状を見えにくくする方法が提案されている。
【０００６】
しかしながら、酸化ケイ素は特にアルカリ液で劣化しやすく、ＩＴＯ層のエッチング工程での薬品耐性に問題がある。さらに、上記金属酸化物層、酸化ケイ素層はスパッタリング法で成膜するため、大面積の塗工が困難である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】ＷＯ０９／１１６３６３号公報
【特許文献２】特開２０１０−１７３２３４号公報
【特許文献３】特開２０１１−１７５９００号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
本発明は上記課題を鑑み、透明基材とＩＴＯ層との密着性、エッチング工程での薬品耐性、均一・平滑な塗工性、高い透明性、パターン形状の低視認性、機械強度に優れた透明導電性積層体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決するための手段として、請求項１に記載の発明は透明基材上にアンカーコート層、透明導電層を順次積層してなる透明導電性積層体であって、
前記アンカーコート層を形成するためのアンカーコート組成物が、末端に２つ以上のアクリロイル基を有するグリコール多重体からなるアクリレート化合物を含有し、
且つ、アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合が７０〜９９重量％であることを特徴とする透明導電性積層体である。
【００１０】
また、請求項２に記載の発明は、前記アクリレート化合物が分子中に極性基を含まないことを特徴とする請求項１に記載の透明導電性積層体である。
【００１１】
また、請求項３に記載の発明は、前記透明導電層がＩＴＯからなることを特徴とする請求項１または２に記載の透明導電性積層体である。
【００１２】
また、請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれかに記載の透明導電積層体を用いたことを特徴とするタッチパネルである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明の請求項１に係る発明によれば、前記アンカーコート層を形成するためのアンカーコート組成物が、末端に２つ以上のアクリロイル基を有するグリコール多重体からなるアクリレート化合物を含有し、且つ、アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合が７０〜９９重量％とすることで、下地である透明基材及びその上に形成されるＩＴＯ層との密着性が向上する。また、これにより、前記ＩＴＯ層のエッチング工程においても優れた耐エッチング性が得られる。
【００１４】
また、請求項２によれば、分子中に極性基を含まない前記アクリレート化合物を用いることにより、硬化により形成されるアンカーコート層の屈折率を低くすることができ、従来用いられている微粒子を添加する必要がなく平滑な膜面を形成することができる。また、このことによりその上に形成される透明導電層のパターン化を精細にすることができる。
【００１５】
また、請求項３によれば、前記透明導電層をＩＴＯから形成することで、目視ではそのパターン形状が視認が難しい効果があり、特にタッチパネル用の透明電極を形成することができる。
【００１６】
また、請求項４によれば、上記で説明した透明導電性積層体を用いることで、高い透明性と、パターン形状の低視認性及び機械強度に優れたタッチパネルを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明に係る透明導電性積層体の一実施形態を示す断面模式図である。
【図２】本発明に係る透明導電性積層体のパターン化後の一実施形態を示す断面模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
本発明に係る透明導電性積層体は図１及び図２に示すように、透明基材１の一方の面に、アンカーコート層２と透明導電層３を順次積層してなり、前記アンカーコート層を形成するためのアンカーコート組成物が、末端に２つ以上のアクリロイル基を有するグリコール多重体からなるアクリレート化合物を含有し、且つ、アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合が７０〜９９重量％であることを特徴とする。以下、本発明について、詳細に説明する。
【００１９】
本発明に使用できる前記透明基材としては、透明性や光の屈折率等の光学特性、さらには耐衝撃性、耐熱性、耐久性などの諸物性を考慮して、ポリエチレン、ポリプロピレン等のポリオレフィン系、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステル系、トリアセチルセルロース、ジアセチルセルロース、セロファン等のセルロース系、６−ナイロン、６，６−ナイロン等のポリアミド系、ポリメチルメタクリレート等
のアクリル系、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリカーボネート、エチレンビニルアルコール等の有機高分子からなるものが用いられる。特に、ポリエチレンテレフタレートが好ましい。また、透明基材は上記の有機高分子から選ばれる１種または２種以上の混合物、または重合体からなるものでもよく、透明基材とアンカーコート層の間に、複数の層を積層させたものであってもよい。
【００２０】
次に、本発明に係るアンカーコート層について説明する。
【００２１】
従来、透明導電性積層体は透明基材と透明導電層（一般にはＩＴＯ層）との密着性を向上させるために、その中間にアンカーコート層が形成されていた。しかしながら、アンカーコート層とＩＴＯ層との屈折率の差が大きく、そのために透明電極としてパターン化されたＩＴＯ層が視認され易く問題となっていた。この解決策として、例えばアンカ−コート層の屈折率を低下させるために、酸化ケイ素などの無機粒子や中空粒子を添加していた。しかしながらこの方法は、透明性の低下という新たな問題が生じている。
【００２２】
また、例えば、上記のような粒子を添加せずにアンカーコート層の屈折率を低下する方法として、フッ素原子を含むモノマーを添加する方法も挙がられる。しかしながら、このような方法は、アンカーコート層の極性が下がりＩＴＯとの密着性が低下することや、モノマーと含フッ素原子モノマーとの相溶性が悪いことに起因する相分離が発生し、塗工面が不均一となる。また、分子中の不飽和結合が１つのみである、架橋点の少ないモノマー（単官能モノマー）の添加も挙げられるが、架橋点が少ないため、機械強度が低下するといった問題が生じる。
【００２３】
本発明の透明導電性積層体は、層中に粒子を含有せず、また、密着性や塗工性を低下させることなく、アンカーコート層のマトリックス樹脂となるアクリル化合物自体の屈折率を低下させることを特徴としている。
【００２４】
すなわち、本発明に係るアンカーコート層は、それを形成するためのアンカーコート組成物が、末端に２つ以上のアクリロイル基を有するグリコール多重体からなるアクリレート化合物を含有し、且つ、アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合が７０〜９９重量％とすることで、下地である透明基材及びその上に形成されるＩＴＯ層との密着性が向上する。また、これにより、前記ＩＴＯ層のエッチング工程においても優れた耐エッチング性が得られる。
【００２５】
また、前記アクリレート化合物としては、分子中に水酸基、カルボキシル基などの極性基を含まないことにより、ＩＴＯとの密着性、均一な塗工性、パターン形状の低視認性、機械強度などをより向上させることができる。
【００２６】
前記アクリレート化合物としては、例えばジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアクリレート、ジプロピレングリコールジアクリレート、トリプロピレングリコールジアクリレート、アルコキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロポキシ化ネオペンチルグリコールジアクリレート、エトキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化トリメチロールプロパントリアクリレート、プロポキシ化グリセリルトリアクリレート、高プロポキシ化（５．５）グリセリルトリアクリレートなどが挙げられる。これらのアクリレート化合物は電子線や紫外線などの電離放射線照射により硬化する特性を有している。
【００２７】
前記アンカーコート組成物中の前記アクリレート化合物の占める割合（重量比）は、７０〜９９重量％の範囲であることが好ましい。７０重量％未満ではＩＴＯとの密着性が損なわれ、パターン形状が視認される。また、９９重量％以上であれば、後述する重合開始剤の配合量が少なくなるため、モノマーの硬化が不十分で、機械強度が劣化する。
【００２８】
また、前記アンカーコート組成物には、電離放射線として紫外線を用いる場合には、光重合開始剤を添加する必要がある。前記光重合開始剤としては、例えば、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類等が挙げられる。また、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、ポリ−ｎ−ブチルホスフィン等を用いることができる。
【００２９】
前記アンカーコート組成物中の前記光重合開始剤の含有量は、１〜３０重量％、好ましくは５〜２０重量％の範囲で用いることが出来る。
【００３０】
また、前記アンカーコート組成物には、塗布するために粘度調整用として溶剤を用いることが出来る。溶剤としては特に限定されないが、例えば、アルコール類（例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、ブタノール、イソブタノール、セカンダリーブタノール、ターシャリーブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール等）、多価アルコール類（例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、ブチレングリコール、ヘキサンジオール、ペンタンジオール、グリセリン、ヘキサントリオール、チオジグリコール等）、多価アルコールエーテル類（例えば、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、プロピレングリコールモノフェニルエーテル等）、アミン類（例えば、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、Ｎ−メチルジエタノールアミン、Ｎ−エチルジエタノールアミン、モルホリン、Ｎ−エチルモルホリン、エチレンジアミン、ジエチレンジアミン、トリエチレンテトラミン、テトラエチレンペンタミン、ポリエチレンイミン、ペンタメチルジエチレントリアミン、テトラメチルプロピレンジアミン等）、アミド類（例えば、ホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等）、複素環類（例えば、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、シクロヘキシルピロリドン、２−オキサゾリドン、１，３−ジメチル−２−イミダゾリジノン等）、スルホキシド類（例えば、ジメチルスルホキシド等）、スルホン類（例えば、スルホラン等）、尿素、アセトニトリル、アセトン等が挙げられる。
【００３１】
また、アンカーコート組成物には必要に応じて、消泡剤、レベリング剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、重合禁止剤などの添加剤を加えることができる。
【００３２】
次に本発明のアンカーコート層の成膜法について、以下に説明する。
【００３３】
本発明のアンカーコート層は、前記透明基材上に前記アンカーコート組成物を塗布し、乾燥工程、硬化工程を経て形成される。なお、アンカーコート層の形成方法としては、前記透明基材の形態、例えば一枚ごとの枚葉形態でも、連続したロール形態でも行うことが出来、特に生産性の面でロール形態での加工方法が好ましい。以下、ロール形態に対する連続加工について説明する。
【００３４】
前記塗布方法としては、ロールコーター、リバースロールコーター、グラビアコーター、マイクログラビアコーター、ナイフコーター、バーコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、ディップコーターを用いることが出来る。これらの塗布方法を用い、ウェット膜厚を０．１〜１００μｍの範囲で塗布する。
【００３５】
次に、前記乾燥工程により、塗布されたアンカーコート組成物の溶媒が除去される。このとき乾燥手段としては、加熱、送風、熱風等を用いることができる。
【００３６】
次に、前記乾燥工程で得られた塗膜に対し、電離放射線を照射することにより、本発明のアンカーコート層が形成される。電離放射線としては、紫外線、電子線を用いることができる。紫外線硬化の場合は、高圧水銀灯、低圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク、キセノンアーク等の光源が利用できる。また、電子線硬化の場合はコックロフトワルト型、バンデグラフ型、共振変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型、高周波型等の各種電子線加速器から放出される電子線が利用できる。電子線は、５０〜１０００ＫｅＶのエネルギーを有するのが好ましい。１００〜３００ＫｅＶのエネルギーを有する電子線がより好ましい。
【００３７】
本発明のアンカーコート層にＩＴＯを成膜することで、本発明の透明導電性積層体が作製される。ＩＴＯの組成やＩＴＯの成膜方法は特に限定されないが、真空蒸着法やスパッタリング法に代表される物理堆積法（ＰＶＤ）、化学堆積法（ＣＶＤ）を用いることが出来る。
【００３８】
上記で得られたＩＴＯ層をフォトリソ法及びエッチング法により透明電極としてパターン化する。以下、具体的に説明する。
【００３９】
先ず、透明基材の一方の面に、アンカーコート層、透明電極層としてのＩＴＯ層が順次積層された前記透明導電性積層体のＩＴＯ層の全面にフォトレジストを塗布し、次に必要に応じて乾燥する。次に、所定のマスクを解して露光して硬化させ、その後未硬化のフォトレジストを現像して前記フォトレジストをパターン化する。
【００４０】
次に、アルカリ現像液を用いて露出したＩＴＯ層を現像し、その後、剥離液に浸漬してフォトレジストを剥がして、所定の透明電極が形成された透明導電性積層体を得ることが出来る。
【実施例】
【００４１】
以下、本発明を実施例により具体的に説明する。
【００４２】
＜実施例１＞
下記材料をアセトンに溶解してアンカーコート組成物１を調整した。
（アンカーコート組成物１）
ジプロピレングリコールジアクリレート                  ８８．６４重量部
（商品名：ＡＰＧ−１００、新中村化学工業社製）
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：ＴＰＯ）                    ８．８６重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）      ２．５０重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００４３】
次に、上記で得られたアンカーコート組成物１を用いて、ポリエチレンテレフタレートフィルム（東レ製：膜厚１００μｍ）の片面にワイヤーバーにより塗布し、６５℃、３０秒オーブンで乾燥し、乾燥後、紫外線照射装置（フュージョンＵＶシステムジャパン、光源Ｈバルブ）にて照射線量２５０ｍＪ／ｍ２照射して、硬化後の膜厚が２０ｎｍとなるように形成した。
【００４４】
次に、上記で形成したアンカーコート層の上に、酸化スズを１０重量部含むＩＴＯ膜を、光学膜厚３０ｎｍで積層して透明導電性積層体を得た。その後、フォトリソグラフィ法により、透明導電性積層体をエッチングし、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
【００４５】
＜実施例２＞
下記材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物２を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物２）
トリプロピレングリコールジアクリレート                ９０．４８重量部
（商品名：ＡＰＧ−２００、新中村化学工業株式会社製）
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００４６】
＜実施例３＞
下記材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物３を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物３）
プロポキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート
（商品名：ＳＲ４９２、巴工業社製）                    ９０．４８重量部
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００４７】
＜実施例４＞
下記材料をアセトンに溶解してアンカーコート組成物４を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物４）
プロポキシ化（６）トリメチロールプロパントリアクリレート
（商品名：ＣＤ５０１、巴工業社製）                    ８８．６４重量部
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：ＴＰＯ）                    ８．８６重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）      ２．５０重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００４８】
＜実施例５＞
以下の材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物５を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物５）
エトキシ化（３）トリメチロールプロパントリアクリレート
（商品名：ＳＲ４５４、巴工業社製）                    ９０．４８重量部
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：イルガキュア１８４）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００４９】
＜実施例６＞
下記材料をイソプロピルアルコールに溶解してアンカーコート組成物６を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物６）
プロポキシ化（３）グリセリルトリアクリレート          ９０．４８重量部
（商品名：ＳＲ９０２０、巴工業株式会社製）
光重合開始剤（ＢＡＳＦ社製：Ｉｒｇ９０７）              ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００５０】
＜実施例７＞
下記材料をメチルイソブチルケトンに溶解してアンカーコート組成物７を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物７）
高プロポキシ化（５．５）グリセリルトリアクリレート    ８８．６４重量部
（商品名：ＣＤ９０２１、巴工業社製）
光重合開始剤（イルガキュア  ＯＸＥ０１：ＢＡＳＦ社製）  ８．８６重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）      ２．５０重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００５１】
＜比較例１＞
下記材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物８を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物８）
メトキシジプロピレングルコールアクリレート            ９０．４８重量部
（商品名：ライトアクリレートＤＰＭ−Ａ、共栄社化学社製）
光重合開始剤（イルガキュア１８４：ＢＡＳＦ社製）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００５２】
＜比較例２＞
下記材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物９を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物９）
ペンタエリスリトールトリアクリレート                  ６０．４８重量部
（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機化学工業社製）
２−（パーフルオロブチル）エチルアクリレート          ３０．００重量部
（商品名：Ｒ−１４２０、ダイキン工業社製）
光重合開始剤（イルガキュア１８４：ＢＡＳＦ社製）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００５３】
＜比較例３＞
下記材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物１０を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物１０）
リン酸系アクリレート                                  ９０．４８重量部
（商品名：ＫＡＹＡＭＥＲ  ＰＭ−２、日本化薬社製）
光重合開始剤（イルガキュア１８４：ＢＡＳＦ社製）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００５４】
＜比較例４＞
下記材料をＭＥＫに溶解してアンカーコート組成物１１を調整した以外は、実施例１と同様にして、アンカーコート層上に所定の導電パターンを形成した。
（アンカーコート組成物１１）
エトキシ化（３）                                      ５０．００重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート（商品名：ＳＲ４５４、巴工業社製）
ペンタエリスリトールトリアクリレート                  ４０．４８重量部
（商品名：ビスコート＃３００、大阪有機化学工業社製）
光重合開始剤（イルガキュア１８４：ＢＡＳＦ社製）        ４．５２重量部
レベリング剤（商品名：ＲＳ７５、大日本インキ社製）            ５重量部
（重合性基を有する含フッ素化合物、分子量：７０００）
【００５５】
実施例１〜７、比較例１〜４で得られたアンカーコート層については、エッチング工程での薬品耐性、塗工表面の目視確認び平滑性、透明性、機械強度を評価した。また、導電パターンが形成されたＩＴＯ膜については、アンカーコート層との密着性、パターン形状の目視確認を評価した。結果を以下の表１に記す。
【００５６】
＜評価及び方法＞
・エッチング工程での薬品耐性
アンカーコート層を、（１）４ｗｔ％水酸化ナトリウム水溶液、（２）王水（塩酸と
硝酸を体積比で３：１で混合したもの、（３）塩化鉄（III）と塩酸、水を重量比で１：３：１で混合したもの、の３試薬に、２５℃の常温下で３０分漬け、試験前後におけるヘーズと全光透過率を、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠し、ＮＩＰＰＯＮ  ＤＥＮＳＨＯＫＵ社製ＮＤＨ２０００ヘーズメーターにて、透過Ｌ＊、透過ａ＊、透過ｂを日立製作所社製の自動分光光度計Ｕ−４１００にて測定した。
○：薬品試験前後の変化値が±０．３未満
×：薬品試験前後の変化値が±０．３以上
【００５７】
・均一・平滑な塗工性
アンカーコート層を目視にて、均一な塗工面になっているかを確認した。
○：塗工面が均一
×：塗工面にムラがある、白化がある
また、アンカーコート層を原子間力顕微鏡（ＡＦＭ、日立ハイテクサイエンス社製：ＡＦＭ５４００Ｌ）にて走査範囲□１μｍにて測定し、一辺が１μｍ四方の微小領域における算術平均粗さ（Ｒａ）を算出した。
○：Ｒａが０．６ｎｍ／μｍ□未満
△：Ｒａが０．６〜０．７ｎｍ／μｍ□未満
×：Ｒａが０．７ｎｍ／μｍ□以上
【００５８】
・透明性
アンカーコート層積層前後のヘーズを、ＪＩＳ  Ｋ  ７１０５に準拠し、ＮＩＰＰＯＮ
ＤＥＮＳＨＯＫＵ社製のＮＤＨ２０００ヘーズメーターにて測定した。
○：積層前後のヘーズ変化値が±０．０５未満
×：積層前後のヘーズ変化値が±０．０５以上
【００５９】
・機械強度
アンカーコート層表面をスチールウール〔ボンスター＃００００：日本スチールウール社製〕により、２５０ｇ／ｃｍ２、５００ｇ／ｃｍ２、７５０ｇ／ｃｍ２、でそれぞれ１０回擦り、目視評価にて傷の本数を確認した。
○：いずれの荷重条件でも傷０本
×：いずれかの荷重条件で、傷が発生
【００６０】
・ＩＴＯとの密着性
透明導電性積層体を（１）初期、（２）８５℃−８５ＲＨ％の環境下に２４０時間放置、（３）−４０℃と８５℃とを２００回繰り返し変動、の３つの条件に対して、ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−６に準拠したクロスカットピール試験を行った。判定基準を以下に示す。
○：１００マス中０ハガレ
△：１００マス中２０〜８０ハガレ
×：１００マス中０〜２０ハガレ
【００６１】
・パターン形状の視認性
透明導電性積層体を目視し、パターン形状が視認されるかを確認した。
○：パターン形状が視認されない
×：パターン形状が視認される
【００６２】
【表１】
2016014952.tif 000003
【００６３】
＜比較結果＞
実施例１〜７で得られた本発明品は、ＩＴＯとの密着性、薬品耐性、均一・平滑な塗工性、透明性、パターン形状の視認性、機械強度がいずれも良好であった。一方、比較例１では、架橋点の少ない単官能アクリレートを用いており、パターン形状は視認されなかったが、機械強度の低下が見られた。また、比較例２では、含フッ素アクリレートを用いており、パターン形状は視認されなかったが、アンカーコート層の極性が下がり、ＩＴＯとの密着性が不良となった。また、三官能アクリレートとの相溶性が悪く、層内で相分離を起こし、塗工面の全面に白化が発生し、平滑性、透明性共に悪化した。比較例３では極性の高いリン酸系アクリレートを用いたため、ＩＴＯとの密着性は良好だが、屈折率が高く、パターン形状が視認された。また、比較例４ではアクリレート化合物の占める重量比が５０重量％であり、本発明に必要な配合比７０重量％を下回っており、ＩＴＯの密着性が不良で、パターン形状が視認された。
【符号の説明】
【００６４】
１    透明基材
２    アンカーコート層
３    透明導電層
【図１】
2016014952.tif 000004
【図２】
2016014952.tif 000005