(57)【要約】【課題】原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる噴射衝突式微粉化方法を提供する。【解決手段】微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射部１から噴射される原料搬送用気体に随伴する状態で流動させて、衝突部Ｓでの衝突により粉砕して微粉化する噴射衝突式微粉化方法であって、衝突部Ｓを、原料搬送用気体が流動する気体流動経路Ｒから外れた箇所に配置し、原料搬送用気体に随伴して流動する原料を、電磁場形成部Ｃの偏向作用により気体流動経路Ｒから分岐させて衝突部Ｓに流動させることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射部から噴射される原料搬送用気体に随伴する状態で流動させて、衝突部での衝突により粉砕して微粉化する噴射衝突式微粉化方法であって、
前記衝突部を、前記原料搬送用気体が流動する気体流動経路から外れた箇所に配置し、
前記原料搬送用気体に随伴して流動する前記原料を、電磁場形成部の偏向作用により前記気体流動経路から分岐させて前記衝突部に流動させることを特徴とする噴射衝突式微粉化方法。
【請求項２】
前記原料を帯電させて、前記電磁場形成部にて電界を形成することを特徴とする請求項１記載の噴射衝突式微粉化方法。
【請求項３】
前記原料が磁性材であり、前記電磁場形成部にて磁界を形成することを特徴とする請求項１記載の噴射衝突式微粉化方法。
【請求項４】
微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射部から噴射される原料搬送用気体に随伴する状態で流動させて、衝突部での衝突により粉砕して微粉化する噴射衝突式微粉化装置であって、
前記衝突部が、前記原料搬送用気体が流動する気体流動経路から外れた箇所に配置され、
前記原料搬送用気体に随伴して流動する前記原料を、前記気体流動経路から分岐させて前記衝突部に流動させるように偏向作用する電磁場形成部が設けられている噴射衝突式微粉化装置。
【請求項５】
前記原料を帯電させる帯電部が設けられ、
前記電磁場形成部が、電界を形成するように構成されている請求項４記載の噴射衝突式微粉化装置。
【請求項６】
前記原料が磁性材であり、
前記電磁場形成部が、磁界を形成するように構成されている請求項４記載の噴射衝突式微粉化装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射部から噴射される原料搬送用気体に随伴する状態で流動させて、衝突部での衝突により粉砕して微粉化する噴射衝突式微粉化方法、及び、その噴射衝突式微粉化方法を実施する噴射衝突式微粉化装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
かかる噴射衝突式微粉化方法の従来例として、圧縮空気を、原料搬送用気体として、噴射部から衝突部に向けて噴射させるようにし、そして、噴射部に接続した加速管に、噴射される圧縮空気に原料を吸引させるための原料供給口を設けて、加速管を流動する圧縮空気により原料を吸引させて、原料を圧縮空気に随伴した状態で流動させて粉砕処理室の内部の衝突部に衝突させるようにしたものがある（例えば、特許文献１参照。）。
【０００３】
噴射衝突式微粉化方法の別の従来例として、ガス貯蔵タンクから供給される液体窒素を気化用熱交換器にて加熱して気化させた窒素ガスを、原料搬送気体として、粉砕処理室の底部に設けた噴射部から衝突部に向けて噴射させるようにし、そして、粉砕処理室の底部に供給する原料を、噴射部から噴射される窒素ガスの流れに引き寄せるようにして、原料を窒素ガスに随伴した状態で流動させて粉砕処理室の内部の衝突部に衝突させるようにしたものがある（例えば、特許文献２（段落〔００７７〕、図３）参照。）。
【０００４】
特許文献２には、原料を低温に冷却することにより、原料の脆性破壊性が大きくなるため、例えば、難微粉砕性プラスチック原料であるＰＴＦＥ原料であっても効率的に微粉砕できる等、原料の微粉砕性を向上できることが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０−２９６１１５号公報
【特許文献１】特開２００１−３１４７７６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
従来の噴射衝突式微粉化方法においては、原料用搬送気体が噴射部から衝突部に向けて噴射されて、原料搬送用気体に随伴された状態で流動する原料が衝突部との衝突により粉砕されるものであるため、衝突部に近い領域での原料搬送用気体の流れによって、原料が衝突部に適切に衝突しないことに起因して、粉砕処理効率を十分に向上できない虞があった。
【０００７】
つまり、衝突部に向けて流動する原料搬送用気体が衝突部に衝突して横外方に流動することになる等、衝突部の近くの領域では、原料搬送用気体が衝突部から離れる方向に向けて流れる流れを生じることになるため、衝突部の近くの領域での原料搬送用気体の流れに乗って原料が衝突部に衝突することなく流動する等、原料が衝突部に衝突することが原料搬送用気体に妨げられることにより、原料が衝突部に適切に衝突しないことに起因して、粉砕処理効率を十分に向上できない虞があった。
【０００８】
ちなみに、原料が衝突部で衝突する際の衝撃力を高めるべく、原料搬送用気体の流速を十分に増加させると、衝突部の近くの領域での原料用搬送用気体の流れが強くなって、原料が衝突部に衝突することが原料搬送用気体に妨げられる傾向が強くなるため、原料搬送用気体の流速を十分に増加させても、粉砕処理効率が向上し難いものとなる虞がある。
【０００９】
本発明は、上記実状に鑑みて為されたものであって、その目的は、原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる噴射衝突式微粉化方法を提供する点にある。
また、本発明の別の目的は、原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる噴射衝突式微粉化装置を提供する点にある。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の噴射衝突式微粉化方法は、微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射部から噴射される原料搬送用気体に随伴する状態で流動させて、衝突部での衝突により粉砕して微粉化する方法であって、その第１特徴構成は、
前記衝突部を、前記原料搬送用気体が流動する気体流動経路から外れた箇所に配置し、
前記原料搬送用気体に随伴して流動する前記原料を、電磁場形成部の偏向作用により前記気体流動経路から分岐させて前記衝突部に流動させることを特徴とする。
【００１１】
ちなみに、電磁場とは、電場（電界）と磁場（磁界）との総称であり、上記の電磁場形成部とは、電場（電界）を形成する場合と磁場（磁界）を形成する場合とを含むものである。
【００１２】
すなわち、原料搬送用気体に随伴して流動する原料が、電磁場形成部の偏向作用により気体流動経路から分岐されて、気体流動経路から外れた箇所に配置されている衝突部に向けて流動して、衝突部に衝突することになる。
【００１３】
したがって、原料は、衝突部に向けて流動して、衝突部に衝突することになるものの、原料搬送用気体は、衝突部に向けて流動しないものとなる。
このため、原料が衝突部に衝突することが原料搬送用気体に妨げられることがなくなって、原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる。
【００１４】
要するに、本発明の噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成によれば、原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる。
【００１５】
本発明の噴射衝突式微粉化方法の第２特徴構成は、上記した噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成に加えて、
前記原料を帯電させて、前記電磁場形成部にて電界を形成することを特徴とする。
【００１６】
すなわち、帯電させた原料が、電磁場形成部にて形成される電界の偏向作用により、気体流動経路から分岐されて、衝突部に流動することになる。
【００１７】
したがって、バイオ材料、合成樹脂、有機材料、金属等の種々の材料の粉粒物を、帯電させて、電界により偏向させることができるため、帯電させることができる種々の材料の粉粒物を、微粉砕対象の原料として、微粉砕処理することができる。
【００１８】
要するに、本発明の噴射衝突式微粉化方法の第２特徴構成によれば、上記した噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成による作用効果に加えて、帯電させることができる種々の材料の粉粒物を、微粉砕対象の原料として、微粉砕処理することができる。
【００１９】
本発明の噴射衝突式微粉化方法の第３特徴構成は、上記した噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成に加えて、
前記原料が磁性材であり、前記電磁場形成部にて磁界を形成することを特徴とする。
【００２０】
すなわち、磁性材である原料が、電磁場形成部にて形成される磁界の偏向作用により、気体流動経路から分岐されて、衝突部に流動することになる。
つまり、原料が磁性材であることを利用して、電磁場形成部にて形成される磁界の偏向作用により、原料を気体流動経路から分岐させて、衝突部に流動させる。
【００２１】
したがって、原料に対する特別な処理を施すことなく、電磁場形成部にて磁界を形成するという簡素な構成にて、原料を気体流動経路から分岐させて、衝突部に流動させることができる。
【００２２】
要するに、本発明の噴射衝突式微粉化方法の第３特徴構成によれば、上記した噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成による作用効果に加えて、簡素な構成にて、原料を微粉砕処理することができる。
【００２３】
本発明の噴射衝突式微粉化装置は、微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射部から噴射される原料搬送用気体に随伴する状態で流動させて、衝突部での衝突により粉砕して微粉化するものであって、その第１特徴構成は、
前記衝突部が、前記原料搬送用気体が流動する気体流動経路から外れた箇所に配置され、
前記原料搬送用気体に随伴して流動する前記原料を、前記気体流動経路から分岐させて前記衝突部に流動させるように偏向作用する電磁場形成部が設けられている点にある。
【００２４】
ちなみに、電磁場とは、電場（電界）と磁場（磁界）との総称であり、上記の電磁場形成部とは、電場（電界）を形成する場合と磁場（磁界）を形成する場合とを含むものである。
【００２５】
本発明の噴射衝突式微粉化装置の第１特徴構成は、上述した噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成を実施するための構成を備えるものであるから、上述した噴射衝突式微粉化方法の第１特徴構成の欄で記載の作用効果と同様な作用効果を奏することになる。
【００２６】
すなわち、原料搬送用気体に随伴して流動する原料が、電磁場形成部の偏向作用により気体流動経路から分岐されて、気体流動経路から外れた箇所に配置されている衝突部に向けて流動して、衝突部に衝突することになる。
【００２７】
したがって、原料は、衝突部に向けて流動して、衝突部に衝突することになるものの、原料搬送用気体は、衝突部に向けて流動しないものとなる。
このため、原料が衝突部に衝突することが原料搬送用気体に妨げられることがなくなって、原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる。
【００２８】
要するに、本発明の噴射衝突式微粉化装置の第１特徴構成によれば、原料を衝突部に適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる。
【００２９】
本発明の噴射衝突式微粉化装置の第２特徴構成は、上記した噴射衝突式微粉化装置の第１特徴構成に加えて、
前記原料を帯電させる帯電部が設けられ、
前記電磁場形成部が、電界を形成するように構成されている点にある。
【００３０】
本発明の噴射衝突式微粉化装置の第２特徴構成は、上述した噴射衝突式微粉化方法の第２特徴構成を実施するための構成を備えるものであるから、上述した噴射衝突式微粉化方法の第２特徴構成の欄で記載の作用効果と同様な作用効果を奏することになる。
【００３１】
すなわち、帯電させた原料が、電磁場形成部にて形成される電界の偏向作用により、気体流動経路から分岐されて、衝突部に流動することになる。
【００３２】
したがって、バイオ材料、合成樹脂、有機材料、金属等の種々の材料の粉粒物を、帯電させて、電界により偏向させることができるため、帯電させることができる種々の材料の粉粒物を、微粉砕対象の原料として、微粉砕処理することができる。
【００３３】
要するに、本発明の噴射衝突式微粉化装置の第２特徴構成によれば、上記した噴射衝突式微粉化装置の第１特徴構成による作用効果に加えて、帯電させることができる種々の材料の粉粒物を、微粉砕対象の原料として、微粉砕処理することができる。
【００３４】
本発明の噴射衝突式微粉化装置の第３特徴構成は、上記した衝突式微粉化装置の第１特徴構成に加えて、
前記原料が磁性材であり、
前記電磁場形成部が、磁界を形成するように構成されている点にある。
【００３５】
本発明の噴射衝突式微粉化装置の第３特徴構成は、上述した噴射衝突式微粉化方法の第３特徴構成を実施するための構成を備えるものであるから、上述した噴射衝突式微粉化方法の第３特徴構成の欄で記載の作用効果と同様な作用効果を奏することになる。
【００３６】
すなわち、磁性材である原料が、電磁場形成部にて形成される磁界の偏向作用により、気体流動経路から分岐されて、衝突部に流動することになる。
つまり、原料が磁性材であることを利用して、電磁場形成部にて形成される磁界の偏向作用により、原料を気体流動経路から分岐させて、衝突部に流動させる。
【００３７】
したがって、原料に対する特別な処理を施すことなく、電磁場形成部にて磁界を形成するという簡素な構成にて、原料を気体流動経路から分岐させて、衝突部に流動させることができる。
【００３８】
要するに、本発明の噴射衝突式微粉化装置の第３特徴構成によれば、上記した噴射衝突式微粉化装置の第１特徴構成による作用効果に加えて、簡素な構成にて、原料を微粉砕処理することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３９】
【図１】第１実施形態の噴射衝突式微粉化装置の構成を示す図
【図２】第１実施形態の電磁場形成部の偏向作用を説明する図
【図３】第２実施形態の噴射式微粉化装置の構成を示す図
【発明を実施するための形態】
【００４０】
〔第１実施形態〕
以下、本発明の第１実施形態を図面に基づいて説明する。
（噴射衝突式微粉化装置の全体構成）
図１に示すように、噴射衝突式微粉化装置には、原料搬送用気体としての圧縮空気を噴射部としての噴射ノズル１から噴射する圧縮空気供給部Ａ、噴射ノズル１から噴射された圧縮空気が流動する気体流動経路Ｒに微粉化対象の粉粒状の原料を供給する原料供給部Ｂ、圧縮空気に随伴して流動する原料を、気体流動経路Ｒから分岐させて、気体流動経路Ｒから外れた箇所に配置された衝突部Ｓに流動させるように偏向作用する電磁場形成部Ｃ、及び、原料が衝突部Ｓと衝突することによって粉砕された粒子を回収する粒子回収部Ｄが設けられている。
【００４１】
すなわち、本実施形態の噴射衝突式微粉化装置は、微粉化対象の粉粒状の原料を、噴射ノズル１から噴射される圧縮空気に随伴する状態で流動させて、衝突部Ｓでの衝突により粉砕して微粉化する噴射衝突式微粉化方法を実行するものであり、加えて、衝突部Ｓを、圧縮空気が流動する気体流動経路Ｒから外れた箇所に配置し、圧縮空気に随伴して流動する原料を、電磁場形成部Ｃの偏向作用により気体流動経路Ｒから分岐させて衝突部Ｓに流動させる噴射衝突式微粉化方法を実行するものである。
【００４２】
本実施形態の噴射衝突式微粉砕装置は、例えば、バイオ材料、合成樹脂、有機材料、金属等の粉状物を原料とすることができ、そして、例えば、１００ミクロン〜１０ミクロン程度の粉粒状の原料を、目標粒径が１ミクロン〜数ミクロン程度の粉砕済処理物に粉砕するのに用いることができるものである。
【００４３】
ちなみに、原料を衝突部Ｓに衝突させた原料が目標粒径にならない場合には、粒子回収部Ｄにて回収した粒子を原料供給部Ｂに戻して、原料（回収した粒子）が目標粒径になるまで、原料を衝突部Ｓに対して繰り返し衝突させることになる。
【００４４】
（圧縮空気供給部の詳細）
圧縮空気供給部Ａには、圧縮空気を噴射ノズル１に供給するコンプレッサ２、及び、コンプレッサ２から噴射ノズル１への圧縮空気の供給を断続する空気断続弁３が設けられている。
【００４５】
そして、噴射ノズル１が、空気断続弁３の開き状態において、上述の気体流動経路Ｒを形成する筒状体４の内部に向けて、圧縮空気を噴射するように構成されている。
筒状体４には、気体流動経路Ｒから分岐した原料が流動する原料流動経路Ｒｇを形成する原料導入用筒部４ｇが、下方側に向けて分岐され、衝突部Ｓが、原料導入用筒部４ｇの内部に配設されている。
【００４６】
そして、衝突部Ｓが、原料導入用筒部４ｇの内面よりも小さな板状体Ｓｔにて形成されて、衝突部Ｓの外縁部と原料導入用筒部４ｇの内面との間に、粉砕された粒子を流動させる隙間Ｕが形成されている。
【００４７】
ちなみに、噴射ノズル１から筒状体４の内部に向けて噴出された圧縮空気は、筒状体４の内部を気体流動経路Ｒに沿って直進して、筒状体４の端部排出口４ｅから外部に排出される。
【００４８】
（原料供給部の詳細）
原料供給部Ｂには、原料を投入自在な原料容器５、原料容器５の下部から筒状体４の内部に伸びる形態の原料供給路６、及び、原料供給路６を開閉する原料供給弁７が設けられている。
【００４９】
そして、原料供給弁７の開き状態において、原料容器５に収納した原料を筒状体４の内部の気体流動経路Ｒに供給するように構成されている。
尚、原料容器５には、粉砕前の原料が投入されるが、上述の如く、衝突部Ｓに衝突させた原料が目標粒径にならない場合には、粒子回収部Ｄにて回収した粒子が、原料として、原料容器５に投入されることになる。
【００５０】
原料供給路６に、原料を帯電させる帯電部Ｆが設けられて、原料容器５から筒状体４の内部に供給される原料を帯電させるように構成されている。
帯電部Ｆは、コロナ放電により原料を帯電させるものであって、その具体構成は周知であるので、本実施形態においては詳細な説明は省略する。尚、本実施形態においては、原料を負に帯電させるように構成されている。
【００５１】
（粒子回収部の詳細）
粒子回収部Ｄには、粉砕された粒子を回収する回収容器８が設けられ、この回収容器８の底部には、回収された粒子を排出する排出路９が接続され、排出路９には、粒子排出弁９Ａが設けられている。
【００５２】
したがって、衝突部Ｓとの衝突により粉砕した粒子が回収容器８に回収されることになり、適当なタイミングにて、粒子排出弁９Ａを開いて、回収された粒子が排出することになる。
尚、回収容器８にて回収された粒子が、目標粒径である場合には、粉砕済処理物として回収されることになるが、回収容器８に回収された粒子が、目標粒径でまで粉砕されていない場合には、粉砕対象の原料として、原料供給部Ｂに戻されることになる。
【００５３】
（電磁場形成部の詳細）
電磁場形成部Ｃには、一対の極板Ｐ、Ｑが、気体流動経路Ｒを上下から挟む形態で設けられ、一対の極板Ｐ、Ｑに電位を印可する電源１０、及び、電源１０からの電力供給を断続する電源スイッチ１１が設けられている。
【００５４】
そして、電源スイッチ１１の入り状態において、一対の極板Ｐ、Ｑの間に電界（電場）が形成されて、電界による偏向作用により、圧縮空気に随伴して流動する原料を、気体流動経路Ｒから原料流動経路Ｒｇに分岐させるように構成されている。
【００５５】
ちなみに、本実施形態においては、原料を負に帯電させるものであるから、一対の極板Ｐ、Ｑのうちの下方側に位置する極板Ｐが正極となる形態で、一対の極板Ｐ、Ｑに電位が印可されている。
【００５６】
（電界による電子の偏向について）
電界による原料の偏向について、図２に基づいて説明を加える。
長さｎの一対の極板Ｐ、Ｑが、間隔ｄを隔てて、上下に配置されている。そして、一対の極板Ｐ、Ｑに平行となるｘ軸に沿って、質量ｍ 、電気量−ｅの原料（以下、粒子と呼称する）を速さＶｏで連続的に入射させると、極板Ｐ、Ｑの中心から距離Ｎを離れたスクリーン上の点Ｏに輝点を生じる。点Ｏを原点にして、ｙ軸をとる。
尚、極板Ｐ、Ｑの中心から距離Ｎを離れた位置には、衝突部Ｓが配置され、その衝突部Ｓのｙ軸上の座標が、Ｙである。
【００５７】
一対の極板Ｐ、Ｑ間に、極板Ｑに対する極板Ｐの電位がＶになるように、極板Ｐを正極にして電圧をかけて、粒子の進路を曲げることになる。
すなわち、極板Ｐ、Ｑ間に一様な電界ができているとすると、その向きはｙ軸の正の向きで、大きさＥは、次式（１）の通りである。
Ｅ＝Ｖ／ｄ  --------（１）
【００５８】
粒子が一対の極板Ｐ、Ｑ間で受ける力の向きはｙ軸の負の向きで、大きさＦはＦ＝ｅＥであるから、ｙ軸方向の加速度をａとすると、粒子の運動法定式は、次式（２）の通りである。
ｍａ＝ｅＥ  -------（２）
そして、式（１）、（２）より、ａ＝ｅＶ／ｍｄが導出できる。
【００５９】
粒子が一対の極板Ｐ、Ｑ間を通過する時間をｔとすると、ｘ軸方向には電界の力が働かないので、粒子の速度のｘ成分はＶｏのまま変化せず、等速運動の公式より、ｔは、次式（３）にて求めることができる。
ｔ＝ｎ／Ｖｏ  --------（３）
【００６０】
よって、一対の極板Ｐ、Ｑの間から出るときの粒子のｙ軸での座標ｙ１は、重力の下での水平投射の放物運動の式と同じように、次式（４）にて求めることができる。
ｙ１＝１／２・ａｔ2  ＝ｅＶｎ2／２ｍｄＶｏ2  --------（４）
【００６１】
一対の極板Ｐ、Ｑの間から出るときの粒子の速度のｙ軸に沿う成分Ｖｙは、次式（５）にて求めることができる。
Ｖｙ＝ａｔ＝ｅＶｎ／ｍｄＶｏ  --------（５）
したがって、粒子のｘ軸方向からの偏向の角度Ｗは、次式（６）にて求めることができる。
ｔａｎＷ＝Ｖｙ／Ｖｏ＝ｅＶｎ／ｍｄＶｏ2  --------（６）
【００６２】
そして、衝突部Ｓのｙ軸上の座標Ｙを、次式（７）にて求めることができる。
Ｙ＝ｙ１＋（Ｎ−１／２・ｎ）ｔａｎＷ＝Ｎ・ｅＶｎ／ｍｄＶｏ2 --------（７）
つまり、Ｙ＝Ｎ・ｔａｎＷと表すことができ、粒子は一対の極板Ｐ、Ｑの中心から角度Ｗの傾きで直線的に飛び出したように見えることがわかる。
【００６３】
以上の通り、電位Ｖ、流速Ｖｏ、電荷（電気量）−ｅ、極板Ｐ、Ｑの長さｎ、極板Ｐ、Ｑの中心から衝突部Ｓまでの距離Ｎを装置の設計変数として定めることにより、粒子を偏向させながら衝突部Ｓに衝突させることができる。
尚、上述の説明は真空中での説明であるため、圧縮空気に随伴させて粒子（原料）を流動させる場合には、空気抵抗を考慮して、上述の設計変数を定める必要がある。
【００６４】
ちなみに、上述の説明においては、粒子を負に電荷させる場合を例示したが、粒子を正に電荷させるようにしてもよく、この場合には、極板Ｑを正極とする形態で、極板Ｐ、Ｑの間に電位を印可させることになる。
【００６５】
（第１実施形態のまとめ）
以上の通り、本実施形態の噴射衝突式微粉化装置は、圧縮空気に随伴して流動する原料が、電磁場形成部Ｃの偏向作用により気体流動経路Ｒから分岐されて、気体流動経路Ｒから外れた箇所に配置されている衝突部Ｓに向けて流動して、衝突部Ｓに衝突して粉砕されることになる。
【００６６】
そして、原料は、衝突部Ｓに向けて流動して、衝突部Ｓに衝突することになるものの、圧縮空気は、衝突部Ｓに向けて流動しないものとなるから、原料が衝突部Ｓに衝突することが圧縮空気に妨げられることがなくなるため、原料を衝突部Ｓに適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる。
【００６７】
また、原料を、帯電部Ｆにて帯電させて、帯電させた原料を、電磁場形成部Ｃにて形成される電界の偏向作用により、気体流動経路Ｒから分岐させて衝突部Ｓに流動するものであるから、バイオ材料、合成樹脂、有機材料、金属等の種々の材料の粉粒物を、帯電させて、電界により偏向させることができるため、帯電させることができる種々の材料の粉粒物を、微粉砕対象の原料として、微粉砕処理することができる。
【００６８】
〔第２実施形態〕
次に、第２実施形態を説明するが、この第２実施形態は、原料が、磁性材の一例としての鉄粒子であり、それに合わせて、電磁場形成部Ｃが磁界（磁場）を形成する場合の別実施形態を示すものであって、その他の構成は第１実施形態と同様であるので、第１実施形態と異なる部分についてのみ説明して、第１実施形態と同様な構成については、第１実施形態と同じ符号を付して、詳細な説明を省略する。
【００６９】
図３に示すように、原料供給部Ｂの原料容器５に、原料として、鉄粒子が収納されている。本実施形態においては、原料容器５の底部に、原料を送り出すマイクロンフィーダー１２が設けられて、マイクロンフィーダー１２にて送り出された原料が、筒状体４に連通する状態で設けた原料ホッパー１３を通して、筒状体４の内部の気体流動経路Ｒに供給されるように構成されている。
【００７０】
電磁場形成部Ｃには、鉄心等の磁性材の心材１５Ａの外周部にコイル１５Ｂを巻回させた電磁石１５が設けられ、そして、電磁石１５に通電する電磁石用電源１６、及び、通電を断続する電磁石用スイッチ１７が設けられている。
【００７１】
そして、電磁石用スイッチ１７を入り状態にすると、電磁石１５にて磁界（磁場）が形成されて、磁界の偏向作用により、原料が気体流動経路Ｒから分岐されて、気体流動経路Ｒから外れた箇所に配置されている衝突部Ｓに向けて流動して、衝突部Ｓに衝突して粉砕されるように構成されている。
【００７２】
つまり、圧縮空気に随伴する状態で流動する原料（鉄粒子）が、電磁石１５に吸引されることにより、原料流動経路Ｒｇに分岐して、衝突部Ｓに向けて流動することになる。
【００７３】
（第２実施形態のまとめ）
以上の通り、この第２実施形態の噴射衝突式微粉化装置は、第１実施形態と同様に、圧縮空気に随伴して流動する原料が、電磁場形成部Ｃの偏向作用により気体流動経路Ｒから分岐されて、気体流動経路Ｒから外れた箇所に配置されている衝突部Ｓに向けて流動して、衝突部Ｓに衝突して粉砕されることになる。
【００７４】
そして、原料は、衝突部Ｓに向けて流動して、衝突部Ｓに衝突することになるものの、圧縮空気は、衝突部Ｓに向けて流動しないものとなるから、原料が衝突部Ｓに衝突することが圧縮空気に妨げられることがなくなるため、原料を衝突部Ｓに適切に衝突させるようにして、粉砕処理効率を向上できる。
【００７５】
また、磁性材である原料が、電磁場形成部Ｃにて形成される磁界の偏向作用により、気体流動経路Ｒから分岐されて、衝突部に流動することになるから、原料が磁性材であることを利用して、原料に対する特別な処理を施すことなく、電磁場形成部Ｃにて磁界を形成するという簡素な構成にて、原料を気体流動経路Ｒから分岐させて、衝突部Ｓに流動させることができる。
【００７６】
〔別実施形態〕
次に、別実施形態を列記する。
（１）上記第１及び第２実施形態においては、原料搬送用気体として、圧縮空気を例示したが、原料搬送用気体としては、液体窒素、液体ヘリウム、液体アルゴン、液体二酸化炭素等の液化不活性ガスを用いるようにしてもよい。
【００７７】
（２）上記第１及び第２実施形態においては、板状体Ｓｔを衝突部Ｓに配置して、原料搬送用気体に随伴して流動する原料を、衝突部Ｓに配置した板状体Ｓｔに衝突させる場合を例示したが、衝突部Ｓに向けて、異なる箇所から原料搬送用気体に随伴して原料を流動させるようにして、衝突部Ｓにて原料同士を衝突させる形態で実施してもよい。
【００７８】
（３）上記第１及び第２実施形態においては、粒子回収部Ｄに回収容器８を設ける場合を例示したが、粒子回収部Ｄに、目標径となる粒子と目標径よりも大きな粒子とに分級する分級装置、及び、目標径よりも大きな粒子を原料供給部Ｂに搬送する搬送部を設けて、目標径よりも大きな粒子を、自動的に原料供給部Ｂに戻す形態で実施してもよい。
【００７９】
（４）上記第２実施形態においては、電磁場形成部Ｃに、電磁石１５を設ける場合を例示したが、電磁石１５に代えて永久磁石を設ける形態で実施してもよい。
【００８０】
尚、上記実施形態（別実施形態を含む、以下同じ）で開示される構成は、矛盾が生じない限り、他の実施形態で開示される構成と組み合わせて適用することが可能であり、また、本明細書において開示された実施形態は例示であって、本発明の実施形態はこれに限定されず、本発明の目的を逸脱しない範囲内で適宜改変することが可能である。
【符号の説明】
【００８１】
１        噴射部
Ｃ        電磁場形成部
Ｆ        帯電部
Ｓ        衝突部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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