(57)【要約】【課題】画素の端部に液滴を着弾させる場合においても混色を抑制することができる液滴吐出方法を提供する。【解決手段】隔壁により区画された被吐出領域と前記被吐出領域に隣接する隣接被吐出領域とを有する基体と、ノズルを備えた液滴吐出ヘッドと、を相対的に移動させる走査を行いながら、前記ノズルから液滴を吐出する液滴吐出方法であって、前記ノズルから前記被吐出領域に対して吐出する少なくとも一つの液滴の目標着弾位置から、前記隣接被吐出領域までの最短距離に基づいて、前記被吐出領域に対して吐出する液量を規定する、液滴吐出方法。【選択図】図６
2016190187.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁により区画された被吐出領域と前記被吐出領域に隣接する隣接被吐出領域とを有する基体と、ノズルを備えた液滴吐出ヘッドと、を相対的に移動させる走査を行いながら、前記ノズルから液滴を吐出する液滴吐出方法であって、
前記ノズルから前記被吐出領域に対して吐出する少なくとも一つの液滴の目標着弾位置から、前記隣接被吐出領域までの最短距離Ｌに基づいて、前記被吐出領域に対して吐出する液量Ｖを規定する、液滴吐出方法。
【請求項２】
前記液量Ｖの最大値Ｖｍａｘを、前記最短距離Ｌ及び前記隔壁上における前記液滴の接触角θを用いた下記式（１）に基づいて設定する、請求項１に記載の液滴吐出方法。
【数１】
2016190187.tif 000006
【請求項３】
前記走査の方向が前記被吐出領域の長手方向に沿う方向である、請求項１又は２に記載の液滴吐出方法。
【請求項４】
前記液量Ｖを、前記被吐出領域に対して吐出する前記液滴の数を変化させることにより調整する、請求項１から３のいずれか１項に記載の液滴吐出方法。
【請求項５】
前記液量Ｖを、前記液滴の大きさを変化させることにより調整する、請求項１から４のいずれか１項に記載の液滴吐出方法。
【請求項６】
請求項１から５の液滴吐出方法を用いて、画素領域に有機機能層を形成する、有機半導体素子の製造方法。
【請求項７】
隔壁により区画された被吐出領域と前記被吐出領域に隣接する隣接被吐出領域とを有する基体と、ノズルを備えた液滴吐出ヘッドと、を相対的に移動させる走査を行いながら、前記ノズルから液滴を吐出する動作をコンピューターに実行させるプログラムであって、
前記ノズルから前記被吐出領域に対して吐出する少なくとも一つの液滴の目標着弾位置から、前記隣接被吐出領域までの最短距離Ｌに基づいて、前記被吐出領域に対して吐出する液量Ｖを規定するステップを有する、プログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液滴吐出方法、有機半導体素子の製造方法、プログラムに関する。
【背景技術】
【０００２】
カラーフィルターや有機エレクトロルミネッセンス素子（有機ＥＬ素子）の製造装置として、隔壁で囲まれた各画素に対してインクの液滴を塗布し、色材層や発光層などの機能層を形成する液滴吐出装置が知られている。この種の液滴吐出装置では、隔壁に囲まれた領域からインクが溢れると、隣り合う画素間で混色が生じてしまう。そこで、例えば特許文献１では、画素の中央部に着弾目標領域を設定し、インクが溢れやすい領域を避けて液滴を着弾させるようにしていた。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−１７０５７１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、高精細の画素や細長い形状の画素では、着弾目標領域そのものが小さくなる。また、液滴吐出装置のノズルピッチと画素領域のピッチは必ずしも一致しないため、全ての画素の着弾目標領域に適切にノズルを配置することが難しくなる。そうすると、画素の端部に液滴を着弾させざるを得なくなり、混色を生じるおそれがある。
【０００５】
本発明は、画素の端部に液滴を着弾させる場合においても混色を抑制することができる液滴吐出方法、有機半導体素子の製造方法、及びプログラムを提供することを目的の一つとする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の態様によれば、隔壁により区画された被吐出領域と前記被吐出領域に隣接する隣接被吐出領域とを有する基体と、ノズルを備えた液滴吐出ヘッドと、を相対的に移動させる走査を行いながら、前記ノズルから液滴を吐出する液滴吐出方法であって、前記ノズルから前記被吐出領域に対して吐出する少なくとも一つの液滴の目標着弾位置から、前記隣接被吐出領域までの最短距離Ｌに基づいて、前記被吐出領域に対して吐出する液量Ｖを規定する液滴吐出方法が提供される。
この液滴吐出方法によれば、画素領域に吐出する液量を、液滴の目標着弾位置から隣接被吐出領域までの最短距離Ｌに基づいて規定するので、液滴が隔壁に乗り上げた場合であっても、隣接被吐出領域までは達しないような液量に調整することが可能である。これにより、隔壁により区画された被吐出領域内に、液体を溢れさせることなく液滴を均等でムラなく充填することができる。
【０００７】
前記液量Ｖの最大値Ｖｍａｘを、前記最短距離Ｌ及び前記隔壁上における前記液滴の接触角θを用いた下記式（１）に基づいて設定する方法としてもよい。
この方法によれば、混色を効果的に防止できる液量を容易に調整できる。
【０００８】
【数１】
2016190187.tif 000003
【０００９】
前記走査の方向が前記被吐出領域の長手方向に沿う方向である方法としてもよい。
被吐出領域の長手方向に沿って液滴吐出ヘッドを走査する場合、被吐出領域に対するノズル割り当てが少なくなり、また被吐出領域に対するノズル位置の自由度も低くなる。そのため、液滴の目標着弾位置が被吐出領域の端部になりやすく、塗布した液体が溢れやすい。本発明の液滴吐出方法によれば、上記のような状況であっても被吐出領域から液体が溢れるのを効果的に抑制することができる。
【００１０】
前記液量Ｖを、前記被吐出領域に対して吐出する前記液滴の数を変化させることにより調整するとしてもよい。
前記液量Ｖを、前記液滴の大きさを変化させることにより調整する方法としてもよい。
【００１１】
本発明の態様によれば、上記の液滴吐出方法を用いて、画素領域に有機機能層を形成する、有機半導体素子の製造方法が提供される。
この製造方法によれば、先に記載の液滴吐出方法を用いるので、隔壁により区画された画素領域内に、有機機能層形成用の液体を溢れさせることなく、液滴を均等でムラなく充填することができる。これにより、ムラのない高画質の有機半導体素子を製造することができる。
【００１２】
本発明の態様によれば、隔壁により区画された被吐出領域と前記被吐出領域に隣接する隣接被吐出領域とを有する基体と、ノズルを備えた液滴吐出ヘッドと、を相対的に移動させる走査を行いながら、前記ノズルから液滴を吐出する動作をコンピューターに実行させるプログラムであって、前記ノズルから前記被吐出領域に対して吐出する少なくとも一つの液滴の目標着弾位置から、前記隣接被吐出領域までの最短距離Ｌに基づいて、前記被吐出領域に対して吐出する液量Ｖを規定するステップを有する、プログラムが提供される。
このプログラムによれば、液滴吐出装置において、隔壁により区画された被吐出領域内に、液体を溢れさせることなく液滴を均等でムラなく充填する液滴吐出方法を実施することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態の液滴吐出方法を実施可能な液滴吐出装置を示す図。
【図２】液滴吐出ヘッドを示す図。
【図３】液滴吐出ヘッドの底面図。
【図４】基板における素子形成領域の説明図。
【図５】有機半導体素子の製造方法の説明図。
【図６】実施形態の液滴吐出方法を説明するために示す２つの画素領域の平面図。
【図７】図６に示す２つの画素領域の断面図。
【図８】インクの液量調整の他の方法を示す説明図。
【図９】１枚の基板にサイズの異なる３種類の有機半導体素子を形成する場合を示す図。
【図１０】混色についての説明図、（ａ）は２つの画素領域の平面図、（ｂ）は複数の画素領域を含む素子形成領域の部分平面図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態について説明する。
なお、本発明の範囲は、以下の実施の形態に限定されるものではなく、本発明の技術的思想の範囲内で任意に変更可能である。また、以下の図面においては、各構成をわかりやすくするために、実際の構造と各構造における縮尺や数等を異ならせる場合がある。
【００１５】
（液滴吐出装置）
図１は、本実施形態の液滴吐出方法を実施可能な液滴吐出装置を示す図である。
液滴吐出装置１は、固形分として機能性材料を含有し、これを溶媒に溶解し、あるいは分散媒に分散させてなるインク（液体）を基板Ｗ上に吐出し、機能性材料からなる薄膜、すなわち機能性薄膜を形成するものである。
なお、本実施形態では、機能性材料として有機半導体材料を用い、したがって機能性薄膜として有機半導体素子を形成するものとする。
【００１６】
液滴吐出装置１は、ベース２と、基板Ｗを保持する基板ステージ３と、基板ステージ３を移動可能に支持する第１移動装置４と、基板ステージ３に保持された基板Ｗに対してインクを吐出する液滴吐出ヘッド５と、液滴吐出ヘッド５を移動可能に保持する第２移動装置６と、液滴吐出ヘッド５の液滴の吐出動作を制御する制御装置（制御部）７と、を備える。液滴吐出装置１において、制御装置７は、第１移動装置４及び第２移動装置６を駆動制御し、基板Ｗと液滴吐出ヘッド５との間の相対移動を制御する。
【００１７】
第１移動装置４は、ガイドレール８、８と、ガイドレール８、８に沿って移動可能に設けられたスライダー９と、リニアモーター（図示せず）とを備える。第１移動装置４は、リニアモーターにより、ガイドレール８、８に沿ってスライダー９をＹ方向（主走査方向）に沿って移動させる。第１移動装置４は、基板ステージ３に保持された基板ＷのＹ方向の位置決めを行う。基板ステージ３は、吸着保持装置（図示せず）を有する。吸着保持装置は基板ステージ３の孔３Ａを通して基板Ｗを吸着し、基板ステージ３上に保持する。
【００１８】
基板ステージ３には、スライダー９上に設けられたモーター１０が接続されている。モーター１０は例えばダイレクトドライブモーターである。モーター１０は基板ステージ３をＺ軸回り（θＺ方向）に回転させ、基板ステージ３をインデックス（回転割り出し）する。第１移動装置４は、基板ステージ３をＹ方向及びθＺ方向に移動させる。
【００１９】
第２移動装置６は、ベース２の後部２Ａから上方に延びる支柱１１、１１に支持されている。第２移動装置６は、リニアモーター（図示せず）と、支柱１１、１１に架け渡されたコラム１２と、コラム１２に取り付けられたガイドレール１３と、ガイドレール１３に移動可能に支持されたキャリッジ１４と、を備える。キャリッジ１４は、液滴吐出ヘッド５を支持する。キャリッジ１４をガイドレール１３に沿ってＸ方向（副走査方向）に移動させることで液滴吐出ヘッド５をＸ方向に位置決め可能である。
【００２０】
液滴吐出ヘッド５には、位置決め装置６２，６４，６７，６８が設けられている。位置決め装置６２，６４，６７，６８は、それぞれ異なる方向に液滴吐出ヘッド５を移動させる。位置決め装置６２は液滴吐出ヘッド５をＺ軸に沿って上下動させる。位置決め装置６４は液滴吐出ヘッド５をＹ軸回りのβ方向に沿って揺動する。位置決め装置６７は液滴吐出ヘッド５をＸ軸回りのγ方向に揺動する。位置決め装置６８は液滴吐出ヘッド５をＺ軸回りのα方向に揺動する。第２移動装置６は、液滴吐出ヘッド５を、Ｘ方向、Ｚ方向、θＸ方向、θＹ方向、θＺ方向に位置決め可能である。
【００２１】
図２は液滴吐出ヘッド５を示す図であり、（ａ）は部分斜視図、（ｂ）は部分断面図である。
液滴吐出ヘッド５は、図２（ａ）に示すように、振動板２０と、ノズルＮが設けられたノズルプレート２１と、振動板２０とノズルプレート２１との間に設けられたリザーバー（液溜まり）２２と、複数の隔壁２３と、複数のキャビティー（液室）２４とを備える。振動板２０にはリザーバー２２に接続する材料供給口２０ａが設けられている。材料供給口２０ａにはチューブ（図示せず）を介してインクタンク（図示せず）が接続される。ノズルプレート２１の表面（底面）は、複数のノズルＮを形成したノズル面２１ａとなっている。振動板２０上には、各ノズルＮに対応して圧電素子（駆動素子）ＰＺが配置されている。圧電素子ＰＺは、例えばピエゾ素子である。
【００２２】
リザーバー２２には、材料供給口２０ａを介してインクタンクからインクが充填される。キャビティー２４は、振動板２０と、ノズルプレート２１と、一対の隔壁２３とによって囲まれた領域である。キャビティー２４は、各ノズルＮに対して一対一に対応して設けられている。各々のキャビティー２４は供給口２４ａを介してリザーバー２２に連通する。
【００２３】
圧電素子ＰＺは、圧電膜２５と、圧電膜２５を挟んで対向する一対の電極２６とを有する。圧電素子ＰＺの一対の電極２６に駆動電圧を印加すると圧電膜２５が収縮し、振動板２０を外側（キャビティー２４の反対側）へ撓曲させる。これによりキャビティー２４の容積が増大する。圧電素子ＰＺへの駆動電圧の印加を停止すると、圧電素子ＰＺと振動板２０とは共に元の形状に戻り、キャビティー２４も元の容積に戻る。このキャビティー２４の容積変化によりノズルＮから基板Ｗに向けてインクの液滴が吐出される。
【００２４】
図３は、液滴吐出ヘッド５の底面図である。液滴吐出ヘッド５は、図３に示すように、複数のノズルＮをＸ方向に等間隔（ピッチＬＰ）で配列したノズル列ＮＡを有する。本実施形態の場合、１８０個のノズルＮからなる２つのノズル列ＮＡ１、ＮＡ２をＹ方向に２列配置している。また２列のノズル列ＮＡ１、ＮＡ２において、ノズル列ＮＡ１のノズルＮと、ノズル列ＮＡ２のノズルＮは、半ピッチ（ＬＰ／２）ずれた状態で配置されている。液滴吐出ヘッド５においては、上記の半ピッチ（ＬＰ／２）に対応する長さ（Ｐ）が、ノズルピッチＰである。
【００２５】
図１に戻り、制御装置７は、液滴吐出装置１を総合的に制御する。具体的に、制御装置７は、第１移動装置４にＹ方向位置制御信号を出力し、第１移動装置４により基板ＷをＹ方向に位置決めする。制御装置７は、第２移動装置６にＸ方向位置制御信号を出力し、液滴吐出ヘッド５をＸ方向に位置決めする。これにより、液滴吐出ヘッド５を基板Ｗ上で走査することができる。
【００２６】
制御装置７は、液滴吐出ヘッド５の駆動回路基板（図示せず）を介して個々の圧電素子ＰＺに、それぞれ駆動信号を出力する。駆動信号に含まれる駆動波形のパルス高さやパルス幅を変化させることで、インクの単位吐出量（１つの液滴の体積）を変化させることができる。また、単位時間当たりの吐出回数（駆動波形の入力回数）を変化させることで、基板Ｗ上に塗布するインクの容積を変化させることができる。
【００２７】
（有機半導体素子の製造方法（液滴吐出方法））
次に、液滴吐出装置１を用いた液滴吐出方法による有機半導体素子の製造方法の一例を説明する。本実施形態では、液滴吐出法を用いて有機半導体素子の構成層である有機機能層（正孔注入層、発光層）を形成する工程について主に説明する。
【００２８】
図４は、基板Ｗにおける素子形成領域１５の説明図である。
液滴吐出装置１を用いた有機半導体素子の製造方法は、生産性を高める観点から長方形状の基板Ｗ上に、複数個の素子形成領域１５を形成する工程に適用することができる。複数の素子形成領域１５は、後で基板Ｗを切断することにより、有機エレクトロルミネッセンス装置等に適合する個々の有機半導体素子５５として用いることができる。
【００２９】
なお、各々の素子形成領域１５においては、図４に示したように、Ｒインク（赤色発光層形成用インク）、Ｇインク（緑色発光層形成用インク）、およびＢインク（青色発光層形成用インク）をそれぞれ所定のパターンで基板Ｗ上に配置する。本実施形態では公知のストライプ型で各インクを配置する。なお、この形成パターンとしては、ストライプ型のほかに、モザイク型やデルタ型あるいはスクウェア型等としてもよい。
【００３０】
図５は、有機半導体素子５５の製造方法の説明図である。
素子形成領域１５を形成するには、まず、図５（ａ）に示すように、透明の基板Ｗを用意する。基板Ｗの上面には、平面視マトリクス状に画素電極（図示せず）が形成されている。基板Ｗの画素電極が形成された面に対し、バンク５２（隔壁）を形成する。バンク５２は画素電極同士の境界に対応して格子状に形成する。
【００３１】
バンク５２を形成する方法としては、例えば、光透過性のない樹脂（好ましくは黒色樹脂）を、スピンコート等の方法で所定の厚さ（例えば２μｍ程度）に塗布し、フォトリソグラフィ技術を用いてパターニングする方法が挙げられる。バンク５２の格子で囲まれる最小の表示要素が画素領域（被吐出領域）５３となる。
【００３２】
次に、液滴吐出装置１の液滴吐出ヘッド５から、図５（ｂ）に示すように正孔注入層となる導電性樹脂を含有するインクの液滴５４を吐出し、基板Ｗ上に着弾させる。吐出する液滴５４の量については、詳細は後述するが、画素領域５３における液滴５４の目標着弾位置と、この目標着弾位置から、吐出対象の画素領域５３に隣り合う他の画素領域（隣接被吐出領域）までの距離に基づいて設定される。その後、基板Ｗ上のインクを乾燥固化を行い、図５（ｃ）に示すような正孔注入層６０を形成する。
【００３３】
次に、液滴吐出ヘッド５から、図５（ｄ）に示すようにＲインクの液滴５４Ｒ、Ｇインクの液滴５４Ｇ、及びＢインクの液滴５４Ｂを吐出し、これを基板Ｗの正孔注入層６０上に着弾させる。吐出する液滴５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂの量についても、画素領域５３（被吐出領域）における液滴５４の目標着弾位置と、この目標着弾位置から隣り合う画素領域（隣接被吐出領域）までの距離に基づいて設定される。
【００３４】
各色の発光層形成用インクを塗布した後、図５（ｅ）に示すように、基板Ｗのインクを乾燥固化させ、赤色発光層５５Ｒ、緑色発光層５５Ｇ、及び青色発光層５５Ｂを形成する。その後、赤色発光層５５Ｒ、緑色発光層５５Ｇ、及び青色発光層５５Ｂを覆うように、陰極５６を、蒸着法やスパッタ法を用いて形成する。
【００３５】
次に、上述した有機半導体素子の製造方法において、画素領域５３に液滴５４を吐出する方法について詳細に説明する。
図６は、本実施形態の液滴吐出方法を説明するために示す２つの画素領域５３の平面図である。図７は、図６に示す２つの画素領域５３の断面図である。
【００３６】
上述した有機半導体素子の製造方法では、図５（ｂ）に示す液滴吐出ヘッド５から液滴５４を吐出して画素領域５３に着弾させる工程、及び図５（ｄ）に示す液滴吐出ヘッド５から液滴５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂを吐出して正孔注入層６０上に着弾させる工程において、液滴吐出ヘッド５から画素領域５３に吐出するインクの液量を以下のように規定する。これらの工程におけるインクの液量規定の具体的方法は同様であるから、以下では、図５（ｄ）に示す発光層を形成する工程についてのみ説明する。
【００３７】
図６には、画素領域５３Ｒに液滴５４Ｒを着弾させる様子が示されている。なお、図示は省略しているが、画素領域５３内には正孔注入層６０が形成されている。
図６に示すように、画素が高精細化して画素領域５３の大きさ小さくなると、それぞれの画素領域５３に１つのノズルＮしか割り当てられなくなる。
また、画素領域５３のピッチＰｏが小さくなり、液滴吐出ヘッド５のノズルピッチＰに近い大きさになったとしても、画素領域５３のピッチＰｏとノズルピッチＰは必ずしも一致しないため、画素領域５３の端部近傍に液滴５４を着弾させる必要が生じる。
具体的に、図６に示す画素領域５３Ｇの幅方向（Ｙ方向）の中心にノズル軌跡Ｔ２を設定すると、隣り合う画素領域５３Ｒでは、画素領域５３Ｒの端部領域にノズル軌跡Ｔ１を設定しなければならなくなる。
【００３８】
このように、高精細の画素領域５３に対して液滴５４を吐出する場合、１つの画素領域５３に対して割り当てられるノズルＮの数が少なくなるため、ノズル１つ当たりの液滴吐出量が多くなる。さらに、画素領域５３に対するノズルＮの割り当てが制限されるため、画素領域５３の端部近傍にも液滴５４を着弾させなければならない。このような状況で液滴吐出ヘッド５から液滴５４を吐出して画素領域５３にインクを塗布すると、以下に詳細に説明するように、画素領域５３からインクが溢れて混色を生じやすくなる。
【００３９】
ここで、図１０（ａ）は、混色についての説明図である。図１０（ａ）は２つの画素領域５３の平面図、図１０（ｂ）は複数の画素領域を含む素子形成領域１５の部分平面図である。
【００４０】
図１０（ａ）に示すように、ノズル軌跡Ｔ１に沿って短い間隔で多くの液滴５４Ｒを滴下すると、液滴５４Ｒ同士が集まって大径の集合液滴５４ａを形成する。画素領域５３Ｒのようにノズル軌跡Ｔ１が端部の近くを通る場合には、集合液滴５４ａがバンク５２側へも広がりやすくなる。そして、集合液滴５４ａが大きくなりすぎると、バンク５２を乗り越えて隣の画素領域５３Ｇへ到達する。これにより、図１０（ｂ）に示すように、隣り合う画素領域５３Ｒ、５３Ｇの間の領域において、液滴５４Ｒと液滴５４Ｂが混ざり合い、混色部５４Ｙを形成する。
【００４１】
本実施形態では、液滴５４の着弾位置が画素領域５３の端部領域であっても、上記のような混色を抑制することができるように、液滴吐出ヘッド５から吐出するインクの量を適切に調整するようにした。以下、具体的に説明する。
【００４２】
図６及び図７に示すように、集合液滴５４ａはノズル軌跡Ｔ１上に中心点を有するほぼドーム状の液滴となる。そこで、本実施形態の液滴吐出方法では、ノズル軌跡Ｔ１に沿って滴下された液滴５４Ｒが全て集まって集合液滴５４ａを形成した場合であっても、集合液滴５４ａが隣の画素領域５３Ｇに達しないように吐出するインクの液量を規定する。
【００４３】
具体的には、液滴吐出ヘッド５から吐出するインクの液量の最大値Ｖｍａｘを、下記式（１）に基づいて規定する。式（１）において、最短距離Ｌは画素領域５３Ｒにおける液滴の目標着弾位置Ｎｔから近い側の隣の画素領域５３Ｇまでの最短距離である。接触角θは、液滴５４Ｒ（赤色発光層形成用インク）のバンク５２表面での接触角である。
接触角θは、インクの特性と、基板および隔壁の特性および状態に依存する。接触角θの値は、あらかじめ検査吐出などを行い取得しておくことが望ましい。
目標着弾位置Ｎｔは、基板Ｗ上におけるノズル位置（ノズル軌跡）と液滴の吐出タイミングにより決定される着弾の目標位置である。
【００４４】
【数２】
2016190187.tif 000004
【００４５】
図７に示す集合液滴５４ａの液量Ｖ（体積）は、部分球（球の一部）の体積として算出することができる。集合液滴５４ａの液量Ｖは、下記式（２）で表すことができる。ｒは集合液滴５４ａの底面の半径である。
【００４６】
【数３】
2016190187.tif 000005
【００４７】
すなわち、式（１）の右辺は、集合液滴に半径ｒが最短距離Ｌ（目標着弾位置Ｎｔから隣の画素領域５３Ｇまでの最短距離）に等しい場合である。したがって、液量の最大値Ｖｍａｘを式（１）のように規定することで、画素領域５３Ｒに着弾した液滴５４Ｒが全て集まって集合液滴５４ａを形成したとしても、集合液滴５４ａの半径ｒは最短距離Ｌよりも小さくなる。つまり、集合液滴５４ａは隣の画素領域５３Ｇまで到達しない大きさとなる。その結果、画素領域５３Ｒに塗布されたインクと画素領域５３Ｇに塗布されたインクとが混色するのを抑制することができる。
【００４８】
上記のように目標着弾位置Ｎｔ（ノズル軌跡Ｔ１）に基づいて液量Ｖの最大値Ｖｍａｘが決定されたら、液滴吐出ヘッド５から吐出するインクの液量を調整する。吐出する液量は種々の方法で調整することができる。例えば、図６に示すように、図１０に示した例と比較して液滴５４Ｒの吐出間隔を広くする。これにより、画素領域５３Ｒ内に着弾する液滴５４の数が少なくなり、塗布されるインクの量が少なくなるので、集合液滴５４ａの大きさを小さくすることができる。
本実施形態においては、走査において画素領域に相対するノズルのＹ軸上の位置（ノズル軌跡Ｔ１の位置）を、ノズルから吐出される液滴のＹ軸上における目標着弾位置とし、目標着弾位置から隣の画素領域５３Ｇまでの最短距離をＬとしている。
しかしながら本発明はこれに限らず、検査吐出により実際に吐出された液滴あるいは集合液滴の着弾位置を測定することで得られる着弾位置に基づき、ノズルの特性バラツキに起因する着弾位置ばらつきを加味して目標着弾位置を設定してもよい。
【００４９】
図８は、液量調整の他の方法を示す説明図である。
液滴吐出ヘッド５から吐出するインクの液量を調整する方法としては、図８に示すように、液滴５４Ｒの大きさを小さくしてもよい。この場合にも形成される集合液滴５４ａの大きさを小さくすることができ、混色を抑制することができる。
【００５０】
以上説明したように、本実施形態の液滴吐出法を用いた有機半導体素子の製造方法によれば、バンク５２により区画された画素領域５３内に、インクを溢れさせることなく液滴５４、５４Ｒ、５４Ｇ、５４Ｂを均等でムラなく充填することができる。これにより、液滴５４がバンク５２上に残留したり、隣り合う他の画素領域５３内に混入することを抑制することができ、歩留まりよく有機半導体素子を製造することができる。
【００５１】
また本実施形態の液滴吐出方法は、液滴吐出装置の制御プログラムとして提供することもできる。このプログラムは、上述の液滴吐出方法を実行する。すなわち、図１に示す制御装置（コンピューター）７を介して、液滴吐出装置１に液滴吐出方法を実行させる。
上記プログラムは、例えばコンピューターのメモリーに記憶（格納）されていてもよく、外部の記録装置や記録媒体に記録したものでもよい。このプログラムを用いることで、画素領域へのノズル割り当てに制限がある場合でも安定して画素領域内にインクを塗布することができる。
【００５２】
（他の適用例）
図９は、１枚の基板Ｗに対してサイズの異なる３種類の有機半導体素子を形成する場合を示す図である。
図９（ａ）において一番大きなサイズの第１の素子形成領域３０は、例えば対角の長さが５０インチの矩形状のものである。一番小さなサイズの第２の素子形成領域４０は、例えば対角の長さが２インチの正方形状のものである。二番目に大きなサイズの第３の素子形成領域５０は、例えば対角の長さが２０インチの矩形状のものである。
なお、第１の素子形成領域３０及び第３の素子形成領域５０は、例えばテレビやモニターなどの表示パネル用であり、第２の素子形成領域４０は、例えばデジタルカメラやヘッドマウントディスプレイにおける小型の表示素子用である。
【００５３】
図９に示す例では、１枚の基板Ｗから効率良く複数の有機半導体素子を形成するために、矩形状の基板Ｗの長辺の長さ方向に沿って２枚の第１の素子形成領域３０を配置し、５枚の第３の素子形成領域５０を配置し、さらに、１７枚の第２の素子形成領域４０を配置する。
【００５４】
しかし、各素子形成領域の長辺方向と基板Ｗの長辺方向は必ずしも一致しない。具体的には、第１の素子形成領域３０の長辺方向は基板Ｗの長辺方向に一致しているが、第３の素子形成領域５０の長辺方向は基板Ｗの長辺方向と直交する方向に一致する。
【００５５】
また、各々の素子形成領域３０、４０、５０において、インクを塗布すべき画素領域は、それぞれ図９（ｂ）〜（ｄ）に示すようにそれぞれ大きさ、形状、向きが異なる。第１の素子形成領域３０におけるＡ部を拡大した図５（ｂ）に示すように、素子形成領域の画素３１を構成する画素領域３２Ｒ、３２Ｇ、３２Ｂは、それぞれ第１の素子形成領域３０の短辺方向（基板Ｗの短辺方向；Ｘ方向）に沿って配列される。
【００５６】
一方、第２の素子形成領域４０では、Ｂ部を拡大した図９（ｃ）に示すように、画素４１を構成する画素領域４２Ｒ、４２Ｇ、４２Ｂは正方形状であり、デルタ配列される。
また、第３の素子形成領域５０では、Ｃ部を拡大した図９（ｄ）に示すように、画素５１を構成する画素領域５３Ｒ、５３Ｇ、５３Ｂは、それぞれ第３の素子形成領域５０の短辺方向（基板Ｗの長辺方向；Ｙ方向）に沿って配列される。
【００５７】
また、このように素子形成領域３０、４０、５０を配置する基板Ｗに対し、液滴吐出ヘッド５は、図９（ａ）に示すように基板Ｗの短辺方向に平行に配置される。したがって液滴吐出ヘッド５のノズル列ＮＡも基板Ｗの短辺方向に沿って配列される。
液滴吐出ヘッド５は、図１に示した第１移動装置４により、基板Ｗに対してＸ方向（副走査方向）に相対移動する。基板Ｗは、第２移動装置６により、液滴吐出ヘッド５に対してＹ方向（主走査方向）に相対移動する。
【００５８】
素子形成領域３０、４０、５０において、インクを塗布すべき画素領域３２Ｒ（３２Ｇ、３２Ｂ）、４２Ｒ（４２Ｇ、４２Ｂ）、５３Ｒ（５３Ｇ、５３Ｂ）は、形状、面積が互いに大きく異なる。そのため、これらの画素領域に例えばほぼ同じ厚さの有機機能層（正孔注入層、発光層）を形成しようとした場合、画素領域毎にインクの配置量（吐出量）を変える必要がある。
【００５９】
また、画素領域３２Ｒ（３２Ｇ、３２Ｂ）、４２Ｒ（４２Ｇ、４２Ｂ）、５３Ｒ（５３Ｇ、５３Ｂ）は、幅（Ｘ方向長さ）が互いに異なることから、画素領域３２Ｒ（３２Ｇ、３２Ｂ）、４２Ｒ（４２Ｇ、４２Ｂ）、５３Ｒ（５３Ｇ、５３Ｂ）に対して同時に吐出可能となる液滴吐出ヘッド５のノズルＮの数も異なっている。
【００６０】
すなわち、図９（ｂ）に示した第１の素子形成領域３０における画素領域３２Ｒ（３２Ｇ、３２Ｂ）は、ノズル列ＮＡの配列方向に長手の形状であるため、複数個のノズルＮから画素領域３２Ｒ（３２Ｇ、３２Ｂ）に同時にインクを吐出することができる。一方、図９（ｄ）に示した画素領域５３Ｒ（５３Ｇ、５３Ｂ）、図９（ｃ）に示した画素領域４２Ｒ（４２Ｇ、４２Ｂ）に対しては、１個のノズルＮからのみインクを吐出することができる。
【００６１】
上記のように画素領域３２Ｒ（３２Ｇ、３２Ｂ）、４２Ｒ（４２Ｇ、４２Ｂ）、５３Ｒ（５３Ｇ、５３Ｂ）に対する液滴吐出ヘッドのノズル割り当てに制限がある場合、液滴を画素領域の端部に着弾させざるを得なくなる場合が多い。そこで本実施形態の液滴吐出方法を適用することで、着弾位置が画素の端部である場合にもインクが溢れるのを抑制することができ、インクを安定的に塗布することができる。その結果、ムラのない高画質の有機半導体素子を製造することができる。
【符号の説明】
【００６２】
５…液滴吐出ヘッド、２３…隔壁、３１，４１，５１…画素、５３…画素領域、５４，５４Ｂ，５４Ｇ，５４Ｒ…液滴、Ｌ…距離、Ｎ…ノズル、Ｖ…液量、Ｗ…基板、Ｎｔ…着弾位置、Ｖｍａｘ…液量の最大値
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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