(57)【要約】      （修正有）【課題】高温環境下での反射率の低下を抑制・防止できるフィルムミラーを提供する。【解決手段】最外層に位置しかつメタロキサン化合物１００質量部に対し５〜３０質量のフッ素化合物を含むハードコート層３、光反射層１、樹脂基材２、および前記ハードコート層３と反対側の最外層に位置しかつ付加硬化型のシリコーン粘着剤を含む粘着層６を有し、引き出し力が１０．０Ｎ／５０ｍｍ以下であるフィルムミラー。【選択図】図１Ａ
2016013672.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
最外層に位置しかつフッ素化合物を含むハードコート層、
光反射層、
樹脂基材、および
前記ハードコート層と反対側の最外層に位置しかつシリコーン粘着剤を含む粘着層を有し、
引き出し力が１０．０Ｎ／５０ｍｍ以下であるフィルムミラー。
【請求項２】
前記ハードコート層は、メタロキサン化合物をさらに含む、請求項１に記載のフィルムミラー。
【請求項３】
前記ハードコート層における前記フッ素化合物の含有量（固形分換算）は、前記メタロキサン化合物１００質量部に対して、５〜３０質量部である、請求項２に記載のフィルムミラー。
【請求項４】
前記シリコーン粘着剤は付加硬化型のシリコーン粘着剤である、請求項１〜３のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項５】
前記フィルムミラーは、ロール・トゥ・ロール方法で製造される、請求項１〜４のいずれか１項に記載のフィルムミラー。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１項に記載のフィルムミラーを直接（セパレータを介さずに）巻き取ってなるフィルムミラー製品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フィルムミラーおよびフィルムミラー製品に関する。より詳しくは、本発明は、セパレータを介さずに直接巻き取ることができるフィルムミラーおよびフィルムミラー製品に関する。本発明のフィルムミラーおよびフィルムミラー製品は、反射装置、特に太陽熱発電用反射装置に好適に使用できる。
【背景技術】
【０００２】
近年の地球温暖化は一層深刻な事態に発展している。その主原因は、２０世紀に入りエネルギー源として多量に使用されてきた化石燃料から放出された大気中の二酸化炭素（ＣＯ２）であると考えられている。したがって近い将来、化石燃料をこのまま使い続けることは許されなくなると考えられる。また、他方で、中国、インド、ブラジル等のいわゆる発展途上国の急激な経済成長に伴うエネルギー需用の増大により、かつては無尽蔵と考えられていた石油、天然ガスの枯渇が現実味を帯びてきている。
【０００３】
化石燃料の代替エネルギーとして最も安定しており、かつ量の多い自然エネルギーは、太陽エネルギーであると考えられる。特に世界のサンベルト地帯と呼ばれている赤道近くには、広大な砂漠が広がっており、そこに降りそそぐ太陽エネルギーは正に無尽蔵と言える。太陽エネルギーの利用に関して、米国南西部に拡がる砂漠のわずか数％を使えば、実に７，０００ＧＷものエネルギーを得ることが可能であると考えられている。また、アラビア半島、北アフリカの砂漠のわずか数％を使えば、全人類の使うエネルギーを全て賄うことができるとも考えられている。
【０００４】
このように、太陽エネルギーは非常に有力な代替エネルギーであるものの、これを社会活動の中で活用するためには、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いこと、並びに（２）太陽エネルギーの貯蔵及び移送が困難であることが、問題となると考えられる。このうち、（１）太陽エネルギーのエネルギー密度が低いという問題は、巨大な集光装置で太陽エネルギーを集めることによって解決することが提案されている。
【０００５】
太陽熱発電に使われるミラーとして、現在は厚いガラスミラーが使用されている。しかし、ガラスは、重く、割れやすいため、取り付け作業性が悪いのと維持コストが高い問題がある。そこで近年ミラーをフィルム化した樹脂製のフィルムミラーが注目されている。フィルムであれば、軽く、割れないので、簡単に取り付けられる上、反射率自体も高いという特徴を有する。
【０００６】
一方、太陽熱発電プラントは砂漠地帯等の日射量の多い地域に建設されるが、樹脂製のフィルムミラーでは、接着時のミラー表裏の応力差、温度変化による各層の膨張率の違いや応力差によりフィルムミラーに反りや歪みが生じる。その結果反射率（発電効率）が低下してしまい、その機能性フィルムを十分に機能させることができないという問題があった。当該問題を考慮して、最外層（光入射側）の保護層と当該保護層（ハードコート層）とは逆側の支持層を一定厚み以上で同一材料で形成させたフィルムミラーが報告される（例えば、特許文献１）。
【０００７】
また、太陽熱発電施設は砂漠地帯に建設されることが多いため、樹脂製のフィルムミラー表面に風雨、砂埃が付着して、継時的に反射率（発電効率）が低下することが問題として挙げられる。このため、通常、フィルムミラーの最外層に超撥水性を有する防汚層（ハードコート層）を設けて耐候性及び耐傷性を改善させている。（例えば、特許文献２）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開２０１３−２０８７４６号公報
【特許文献２】特開２０１３−２４５８４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、上記特許文献１及び２のフィルムミラーは、厳しい条件（例えば、１００℃以上の高温条件）下で反射率が低下するという課題がある。
【００１０】
したがって、本発明は、上記事情を鑑みてなされたものであり、高温環境下での反射率の低下を抑制・防止できるフィルムミラーを提供することを目的とする。
【００１１】
本発明の他の目的は、セパレータを介さずにロール・トゥ・ロール方法で製造できるフィルムミラーを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者は、上記の問題を解決すべく、鋭意研究を行った結果、ハードコート層にフッ素化合物を、および粘着層にシリコーン粘着剤を使用することによって上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【００１３】
すなわち、上記課題は、最外層に位置しかつフッ素化合物を含むハードコート層、光反射層、樹脂基材、および前記ハードコート層と反対側の最外層に位置しかつシリコーン粘着剤を含む粘着層を有し、引き出し力が１０．０Ｎ／５０ｍｍ以下であるフィルムミラーによって達成できる。
【発明の効果】
【００１４】
本発明のフィルムミラーは、高温環境下でも反射率の低下を抑制・防止できる。このため、本発明のフィルムミラーは、太陽熱発電用反射装置に好適に使用できる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１Ａ】本発明のフィルムミラーの構成の一実施形態を示す概略断面図である。
【図１Ｂ】本発明に係る太陽熱発電用反射装置の構成の一実施形態を示す概略断面図である。
【図２Ａ】本発明のフィルムミラーの構成の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図２Ｂ】本発明に係る太陽熱発電用反射装置の構成の他の実施形態を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
本発明のフィルムミラーは、最外層に位置しかつフッ素化合物を含むハードコート層、光反射層、樹脂基材、および前記ハードコート層と反対側の最外層に位置しかつシリコーン粘着剤を含む粘着層を有し、引き出し力が１０．０Ｎ／５０ｍｍ以下であることを特徴とする。当該構成によって、厳しい条件（例えば、１００℃以上の高温条件）下での反射率の低下を抑制・防止できる。また、フィルムミラーをセパレータを介さずにロール・トゥ・ロール方法で製造できる。
【００１７】
上記特許文献１または２に記載されるように、従来では、粘着層にはアクリル樹脂などが粘着剤として使用されていた（例えば、特許文献１の段落「００５５」、特許文献２の段落「０２０８」）。しかしながら、上記粘着剤は、耐熱性が十分ではなく、１００℃以上の高温雰囲気下で連続的に使用すると、粘着層の軟化、収縮が起こり、粘着層面が乱れて、反射率の低下を誘発する危険性がある。一方、上述したように、フィルムミラーは太陽熱発電用反射装置に使用されるが、太陽熱発電プラントは太陽エネルギーが無尽蔵に降り注ぐ広大な砂漠で使用されるため、高温条件にさらされることが多い。このため、フィルムミラーは、高温環境下でも高い反射率を発揮・維持する必要があり、このような高温条件下にあっても反射率の低下が起こらないまたは起こりにくいフィルムミラーの開発は強く要望されている。
【００１８】
上記問題に加えて、通常、フィルムミラーを（例えば、ロール・トゥ・ロール方法により）ロール状で製造・保管する場合には、粘着層と当該粘着層と接する他方の最外層（例えば、ハードコート層）との接着を防止するために、これらの層間にはセパレータを配置してセパレータを介してフィルムミラーを巻き取る。このようなロール状のフィルムミラーは、セパレータを剥離した後、支持基材に貼り合わせて太陽熱発電用反射装置とする。しかし、上記セパレータを粘着層から剥離する際に、粘着層表面が乱れ、これにより反射面の平滑性が低下して反射率を低下させることがありうる。また、このような形態で保管している間にセパレータのエージングが起こったり、高温条件下でセパレータが熱収縮したりする。このような現象によっても、粘着層表面が乱れ、これにより反射面の平滑性が低下して反射率が低下してしまう。加えて、セパレータは使用する際には廃棄されるものであるため、コストや環境面の観点からも好ましくない。このため、セパレータを介さずに直接フィルムミラーを巻き取る手段もまた強く要望されている。
【００１９】
上記点をかんがみて、本願発明者が鋭意検討を行った結果、ハードコート層にフッ素化合物を、および粘着層にシリコーン粘着剤を使用することによって、高温環境下での反射率の低下を抑制・防止する、および／またはセパレータを介さずに巻き取ることが可能なフィルムミラーが得られることが見出した。
【００２０】
本発明の構成による上記作用効果の発揮のメカニズムは以下のように推測される。なお、本発明は下記メカニズムに限定されるものではない。すなわち、本発明に係る粘着層は、シリコーン粘着剤を含む。ここで、シリコーン粘着剤は、高い耐熱性及び耐候性を有する。このため、当該シリコーン粘着剤を使用することによって、粘着層は、耐熱性や耐候性に優れる。このため、本発明のフィルムミラーを１００℃以上の高温雰囲気下で連続的に使用しても、粘着層の経時的な軟化、収縮を有効に抑制・防止でき、粘着層面の乱れが起きにくいまたは起こらない。このため、本発明のフィルムミラーは、高い反射率を発揮・維持できる。また、本発明によると、ハードコート層は、フッ素化合物を含む。ここで、フッ素化合物は、離型性に優れる。このため、本発明のフィルムミラーは、セパレータを介さずにロール状で製造・保管しても、粘着層と当該粘着層と直接接する他方の最外層（例えば、ハードコート層）とが、１０．０Ｎ／５０ｍｍ以下という少ない引き出し力で重なり合う、ゆえに容易にかつ反射面の平滑性を維持して剥離（離型）できる。また、本発明のフィルムミラーはセパレータを使用する必要がないので、セパレータのエージングや熱収縮による反射率の低下の問題が生じない。このため、本発明によると、フィルムミラーをセパレータを介さずに直接巻き取っても、粘着層表面の乱れ（反射面の平滑性の低下）、ゆえに反射率の低下を有効に抑制・防止できる。すなわち、本発明によると、本発明のフィルムミラーを直接（セパレータを介さずに）巻き取ってなるフィルムミラー製品が提供される。
【００２１】
したがって、本発明のフィルムミラーは、高温環境下であっても高い反射率を発揮・維持でき、当該効果は、セパレータを介さずに巻き取った場合でも、達成できる。加えて、本発明のフィルムミラーは、セパレータの使用を省略できるので、コストや環境面の観点からも好ましい。なお、上記効果は、特に長期間（例えば、２０日以上、好ましくは１０年程度）高温環境にさらされた時に顕著に現れる。このため、フィルムミラーが太陽熱発電用反射装置に使用され、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに長持間晒されたとしても、フィルムミラーの高い反射率をより有効に発揮・維持できる。ゆえに、本発明のフィルムミラーは、太陽熱発電用反射装置に好適に使用できる。
【００２２】
以下、本発明の実施の形態を説明する。なお、本発明は、以下の実施の形態のみには限定されない。また、図面の寸法比率は、説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００２３】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００２４】
［フィルムミラー］
本発明のフィルムミラーは、ハードコート層及び粘着層がいずれもフィルムミラーの最外層に配置される構造を有する。すなわち、本発明のフィルムミラーは、ハードコート層が光（例えば、太陽光）が直接入射する側に配置されかつ粘着層が当該ハードコート層とは反対の最外層に配置される構造、および粘着層が光（例えば、太陽光）が直接入射する側に配置されかつハードコート層が当該粘着層とは反対の最外層に配置される構造双方を包含する。通常、ハードコート層は耐候性や耐傷性等に優れ、保護層として機能する。このため、外環境に暴露されるハードコート層が光（例えば、太陽光）が直接入射する側に配置されかつ粘着層が当該ハードコート層とは反対の最外層に配置されることが好ましい。以下、上記好ましい形態のフィルムミラーを引用して、本発明を詳細に説明するが、本発明は下記形態に限定されず、下記形態を粘着層が光（例えば、太陽光）が直接入射する側に配置されかつハードコート層が当該粘着層とは反対の最外層に配置された形態に適宜応用できる。
【００２５】
本発明のフィルムミラーは、（ａ）図１に示されるように、光入射側から順に、ハードコート層、光反射層および樹脂基材を有する；または（ｂ）図２に示されるように、光入射側から順に、ハードコート層、樹脂基材および光反射層を有する。
【００２６】
詳細には、図１Ａは、本発明のフィルムミラーの構成の一実施形態を示す概略断面図である。図１Ａに示されるように、当該形態（ａ）のフィルムミラー１０は、光入射側から順に、ハードコート層３、光反射層（例えば、銀反射層）１、および樹脂基材（例えば、樹脂フィルム）２を少なくとも有している。フィルムミラー１０は、上記に加えて、樹脂基材２の光反射層１が配置されていない側に粘着層６を有する。なお、上記各層間に他の層を介していてもよいし、それぞれの層が隣接していてもよい。当該形態によると、光反射層１が粘着層６と接しないため、粘着層６と光反射層１との界面から汚染物質が侵入し、光反射層１が腐食して反射率が低下することを抑制・防止できる。また、粘着層６と光反射層１との間に樹脂基材２を設けているため、粘着層６の凹凸が光反射層１に反映されることがなくなり、平面性の高い光反射層１を得ることができ、より高い反射率を達成できる。なお、図１Ａのフィルムミラー１０では、光反射層１が樹脂基材２に対して光入射側に配置されていたが、本発明は当該形態に限定されず、樹脂基材２が光反射層１に対して光入射側に配置されていてよい（上記形態（ｂ））。すなわち、図２Ａは、本発明のフィルムミラーの構成の他の実施形態を示す概略断面図である。図２Ａに示されるように、当該形態（ａ）のフィルムミラー１０は、光入射側から順に、ハードコート層３、樹脂基材（例えば、樹脂フィルム）２、および光反射層（例えば、銀反射層）１を少なくとも有している。フィルムミラー１０は、上記に加えて、光反射層１の樹脂基材２が配置されていない側に粘着層６を有する。なお、上記各層間に他の層を介していてもよいし、それぞれの層が隣接していてもよい。当該形態によると、ハードコート層３と樹脂基材２（例えば、ＰＥＴ等のポリエステル基材）との密着性に優れるので、高温環境下でのヘイズの低下をより有効に抑制・防止できる。また、本発明のフィルムミラーでは、ハードコート層３は、塗布により形成することが可能である。このため、溶融製膜などに起因する表面凹凸による反射光の散乱といった問題も防止できる。ゆえに、本発明のフィルムミラーは、高い反射率を達成できる。
【００２７】
本発明のフィルムミラーは、上記部材を少なくとも有するものであれば、いずれの構成を有してもよい。具体的には、光反射層１とハードコート層３との間にまたは光反射層１と粘着層６との間に腐食防止層を配置する；光反射層１と樹脂基材２との間にアンカー層を配置する；上記いずれかの組み合わせなどの構成が適用できる。
【００２８】
本発明のフィルムミラー全体の厚さは、特に制限されないが、撓み防止、正反射率、取り扱い性等の観点から２０〜３００μｍが好ましく、より好ましくは３０〜２００μｍ、更に好ましくは５０〜１７０μｍである。また、フィルムミラーの光入射側の最表面のハードコート層の中心線平均粗さ（Ｒａ）が、３ｎｍ以上２０ｎｍ以下であることが、反射光の散乱を防止でき集光効率を高めるという観点から好ましい。
【００２９】
ここで、太陽熱発電用のフィルムミラーの好ましい層構成の一例について、図１Ａ及び図２Ａを用いて説明する。また、太陽熱発電用反射装置の概要を、図１Ｂ及び図１Ｂに示す。
【００３０】
図１Ａに示されるフィルムミラー１０は、樹脂基材２上に、光反射層１及びハードコート層３が順に積層されて設けられている。また、樹脂基材２の光入射側の反対面に粘着層６が設けられている。当該フィルムミラーを用いてなる太陽熱発電用反射装置２０は、図１Ｂに示されるように、フィルムミラー１０における粘着層６を支持基材７に接合し、フィルムミラー１０と支持基材７を貼り合わせてなる反射鏡である。
【００３１】
図２Ａに示されるフィルムミラー１０は、光反射層１上に、樹脂基材２及びハードコート層３が順に積層されて設けられている。また、光反射層１の光入射側の反対面に粘着層６が設けられている。当該フィルムミラーを用いてなる太陽熱発電用反射装置２０は、図２Ｂに示されるように、フィルムミラー１０における粘着層６を支持基材７に接合し、フィルムミラー１０と支持基材７を貼り合わせてなる反射鏡である。
【００３２】
以下、各構成層の詳細について記載する。なお、下記において、本発明のフィルムミラーは、ハードコート層及び粘着層の構成に特徴を有するものであり、それ以外の構成要件についても、以下で説明するが、これらの部材は特に制限されず、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット、ＷＯ  ２０１１／１６２１５４号パンフレット、特開２０１３−２０８７４６号公報、特開２０１３−２４５８４９号公報等の公知の文献と同様でありうる。
【００３３】
（ハードコート層）
ハードコート層は、フィルムミラー表面の傷つきや汚れの付着を防止する目的に設けられる。このため、ハードコート層は、光入射側の最外層に配置されることが好ましい。また、本発明に係るハードコート層は、フッ素化合物を含むため、離型性（剥離性）に優れ、セパレータを介さずにロール状に巻き取っても、粘着層はハードコート層から容易にかつ反射面の平滑性を維持して剥離（離型）できる。さらに、なるべく多量の光を光反射層に届けることが好ましいため、ハードコート層は透明であることが好ましい。
【００３４】
ハードコート層の作製方法としては、グラビアコート法、バーコート法、リバースコート法、ダイコート法等、従来公知のコーティング方法を挙げることができる。また、所定の材料を塗布、塗工することに加え、各種表面処理等を組み合わせてもよい。
【００３５】
なお、ハードコート層の厚みは、特に制限されない。耐熱性、耐傷性、剥離性（離型性）、特に粘着層との剥離性（離型性）などの観点から、ハードコート層の厚み（乾燥膜厚）は、好ましくは０．０５〜１０μｍ、より好ましくは１〜８μｍ、さらにより好ましくは２〜５μｍである。
【００３６】
ハードコート層は、フッ素化合物を必須に含み、フッ素化合物およびハードコート剤を好ましく含む。
【００３７】
ここで、フッ素化合物は特に制限されないが、例えば、含フッ素アルキル基、含フッ素アルコキ基、含フッ素エーテル基、含フッ素ポリエーテル基、含フッ素アルキルシリル基、含フッ素アルコキシシリル基からなる群より選択される少なくとも一種の基を有するフッ素化合物などが挙げられる。これらのうち、ハードコート剤との相溶性、剥離性（離型性）、特に粘着層との剥離性（離型性）、耐熱性などの観点から、フッ素化合物は、含フッ素アルキルシリル基および／または含フッ素アルコキシシリル基を有する化合物であることが好ましく、シロキサン骨格にフッ素含有側鎖を有するポリマーがより好ましい。ここで、シロキサン骨格にフッ素含有側鎖を有するポリマーは、シロキサンからなる主鎖骨格にフッ素含有基が少なくとも１個導入されればいずれの構造であってもよいが、シロキサンからなる主鎖骨格に末端が炭素数１〜５０の含フッ素アルキル基である側鎖が導入されたポリマーが好ましい。ここで、含フッ素アルキル基は、アルキル基の少なくとも１個の水素原子がフッ素原子に置換されていれば特に制限されない。例えば、炭素数１〜５０のアルキル基は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、１，２−ジメチルプロピル基、ｎ−ヘキシル基、１，３−ジメチルブチル基、１−イソプロピルプロピル基、１，２−ジメチルブチル基、ｎ−ヘプチル基、１，４−ジメチルペンチル基、２−メチル−１−イソプロピルプロピル基、１−エチル−３−メチルブチル基、ｎ−オクチル基、２−エチルヘキシル基、３−メチル−１−ｉｓｏ−プロピルブチル基、２−メチル−１−イソプロピル基、１−ｔ−ブチル−２−メチルプロピル基、ｎ−ノニル基、３，５，５−トリメチルヘキシル基などの直鎖または分岐鎖のアルキル基が挙げられる。より具体的には、フッ素含有側鎖の好ましい例としては、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ヘプタフルオロプロピル基、４，４，４−トリフルオロブチル基、３，３，４，４，４−ペンタフルオロブチル基、２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチル基、４，４，５，５，５−ペンタフルオロペンチル基、３，３，４，４，５，５，５−ヘプタフルオロペンチル基、パーフルオロペンチル基、５，５，６，６，６−ペンタフルオロヘキシル基、パーフルオロヘキシル基、８，８，８−トリフルオロオクチル基等のパーフルオロアルキル基または上記パーフルオロアルキル基の一部のフッ素原子が水素原子に置換されたアルキル基などが挙げられる。これらのうち、含フッ素アルキル基は、パーフルオロアルキル基であることが好ましく、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基がより好ましい。上記フッ素含有側鎖は、１種単独で存在してもあるいは２種以上が組み合わせて存在してもよい。
【００３８】
フッ素化合物がシロキサン骨格にフッ素含有側鎖を有するポリマーである際に、フッ素化合物は、シロキサン骨格にフッ素を含まない側鎖が存在していてもよい。この場合のフッ素を含まない側鎖としては、特に制限されないが、ハロゲン原子（フッ素原子を除く）、アルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルキルアミノ基、アルキルチオ基などが挙げられる。
【００３９】
ハロゲン原子としては、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げられる。
【００４０】
アルキル基としては、上記同様のアルキル基が挙げられる。
【００４１】
アルケニル基としては、ビニル基、アリル基、プロペニル基、イソプロペニル基、１−ブテニル基、２−ブテニル基、３−ブテニル基、１−ヘキセニル基、２−ヘキセニル基、３−ヘキセニル基、４−ヘキセニル基、５−ヘキセニル基、シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基、シクロオクテニル基などが挙げられる。
【００４２】
アルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、ペンチルオキシ基、イソペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、２−エチルヘキシルオキシ基、オクチルオキシ基、ノニルオキシ基、デシルオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、テトラデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基、ヘキサデシルオキシ基、ヘプタデシルオキシ基、オクタデシルオキシ基、ｎ−ヘンエイコシルオキシ基、ｎ−ドコシルオキシ基、ｎ−トリコシルオキシ基、ｎ−テトラコシルオキシ基等の直鎖または分岐鎖のアルコキシ基が挙げられる。
【００４３】
アルキルアミノ基としては、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、プロピルアミノ基、ｎ−ブチルアミノ基、ｓｅｃ−ブチルアミノ基及びｔｅｒ−ブチルアミノ基などが挙げられる。
【００４４】
アルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ及びイソプロピルチオなどが挙げられる。
【００４５】
より具体的には、フッ素化合物の好ましい例としては、
トリフルオロメチルメチルジクロロシラン、ペンタフルオロエチルメチルジクロロシラン、ヘプタフルオロプロピルメチルジクロロシラン、トリフルオロメチルメチルジフルオロシラン、ペンタフルオロエチルメチルジフルオロシラン、ヘプタフルオロプロピルメチルジフルオロシラン、ジ（トリフルオロメチル）メチルクロロシラン、ジ（ペンタフルオロエチル）メチルクロロシラン、ジ（ヘプタフルオロプロピルメチルクロロシラン、ジ（トリフルオロメチル）メチルフルオロシラン、ジ（ペンタフルオロエチル）メチルフルオロシラン、ジ（ヘプタフルオロプロピル）メチルフルオロシラン、トリフルオロメチルエチルジクロロシラン、ペンタフルオロエチルエチルジクロロシラン、ヘプタフルオロプロピルエチルジクロロシラン、トリフルオロメチルエチルジフルオロシラン、ペンタフルオロエチルエチルジフルオロシラン、ヘプタフルオロプロピルエチルジフルオロシラン、（トリフルオロメチル）エチルクロロシラン、ジ（ペンタフルオロエチル）エチルクロロシラン、ジ（ヘプタフルオロプロピル）エチルジクロロシラン、ジ（トリフルオロメチル）エチルフルオロシラン、ジ（ペンタフルオロエチル）エチルフルオロシラン、ジ（ヘプタフルオロプロピル）エチルフルオロシラン、トリメチルフルオロシラン、ジメチルジフルオロシラン、メチルトリフルオロシラン、トリエチルフルオロシラン、ジエチルジフルオロシラン、エチルトリフルオロシラン、トリプロピルフルオロシラン、ジプロピルジフルオロシラン、プロピルトリフルオロシラン、ビニルジメチルフルオロシラン、ビニルメチルジフルオロシランからなる群より選択される少なくとも一種のフッ素含有側鎖を有するシラン化合物からなるホモポリマー；ならびに
上記少なくとも一種のフッ素含有側鎖を有するシラン化合物と、テトラメチルシラン、トリメチルクロロシラン、ジメチルジクロロシラン、メチルトリクロロシラン、トリメチルエチルシラン、ジメチルジエチルシラン、メチルトリエチルシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、ビニルジメチルクロロシラン、ビニルメチルジクロロシラン、テトラエチルシラン、トリエチルクロロシラン、ジエチルジクロロシラン、エチルトリクロロシラン、トリエチルエチルシラン、ジエチルジエチルシラン、エチルトリエチルシラン、ビニルジエチルクロロシラン、ビニルエチルジクロロシラン、ビニルジエチルクロロシラン、ビニルエチルジクロロシラン、テトラピロピルシラン、トリピロピルクロロシラン、ジピロピルジクロロシラン、ピロピルトリクロロシラン、トリピロピルエチルシラン、ジピロピルジエチルシラン、ピロピルトリエチルシラン、ビニルジピロピルクロロシラン、ビニルピロピルジクロロシラン、ビニルジピロピルクロロシラン、ビニルピロピルジクロロシランからなる群より選択される少なくとも一種のフッ素非含有側鎖を有するシラン化合物と、のコポリマー
などが挙げられる。なお、上記フッ素化合物は、単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００４６】
フッ素化合物がシロキサン骨格にフッ素含有側鎖を有するポリマーである際の、フッ素化合物中のフッ素含有量は、特に制限されないが、フッ素原子が、フッ素化合物中に、１〜１０質量％、より好ましくは２〜６質量％程度含まれることが好ましい。または、上記フッ素含有側鎖を有するシラン化合物が、フッ素化合物の全構成単位に対して、５０〜１００モル％、より好ましくは５０〜８０モル％程度含まれることが好ましい。上記組成であれば、フッ素化合物を含むハードコート層は、ハードコート剤との相溶性に優れる。また、剥離性（離型性）、特に粘着層との剥離性（離型性）や耐熱性にも優れるため、フィルムミラーは、高温条件下にあっても高い反射率を発揮・維持できる。
【００４７】
また、フッ素化合物がシロキサン骨格にフッ素含有側鎖を有するポリマーである際の、フッ素化合物の重量平均分子量は、特に制限されないが、剥離性（離型性）、特に粘着層との剥離性（離型性）、耐熱性などの観点から、好ましくは１０，０００〜２００，０００より好ましくは２０，０００〜１００，０００である。なお、本明細書において、「重量平均分子量」は、ポリスチレンを標準物質とするゲル浸透クロマトグラフィー（Gel Permeation Chromatography、GPC)により測定した値を採用するものとする。
【００４８】
フッ素化合物がシロキサン骨格にフッ素含有側鎖を有するポリマーである際の、フッ素化合物の製造方法もまた特に制限されず、公知の重合方法が同様にしてあるいは適宜修飾して適用できる。
【００４９】
上述したように、ハードコート層は、フッ素化合物に加えて、ハードコート剤を好ましく含む。ここで、ハードコート剤としては特に制限されない。例えば、アクリル系樹脂、ウレタン系樹脂、メラミン系樹脂、エポキシ系樹脂、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂などが挙げられる。これらのうち、硬度と耐久性などを考慮すると、シリコーン系樹脂やアクリル系樹脂が好ましい。硬化性、可撓性および生産性などを考慮すると、活性エネルギー線硬化型のアクリル系樹脂、または熱硬化型のアクリル系樹脂が好ましい。成形が容易なことから、活性エネルギー線硬化樹脂が好ましく、紫外線硬化型樹脂がより好ましい。かような硬化樹脂は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。また、硬化樹脂は市販品を用いてもよいし、合成品を用いてもよい。また、メタロキサン化合物（例えば、有機シリケート化合物、シリコーン系樹脂）は、剥離性（離型性）、特に粘着層との剥離性（離型性）、耐熱性、表面保護性、耐侯性に優れる。また、メタロキサン化合物は、高い透明性、硬度及び機械的強度をも有する。このため、メタロキサン化合物が特に好ましい。すなわち、ハードコート層は、メタロキサン化合物をさらに含むことが好ましい。なお、上記ハードコート剤は、単独で使用されても、２種以上を併用してもよい。
【００５０】
紫外線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。中でも紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂が好ましい。
【００５１】
紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物にさらに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９−１５１１１０号公報に記載の、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂としては、市販品を用いてもよく、市販品としては、ビームセット（登録商標）５７５、５７７（荒川化学工業株式会社製）、紫光（登録商標）ＵＶシリーズなどを挙げることができる。
【００５２】
紫外線硬化型ポリエステルアクリレート樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させることにより形成されるものを挙げることができ、特開昭５９−１５１１１２号公報に記載のものを用いることができる。
【００５３】
紫外線硬化型エポキシアクリレート樹脂としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光重合開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることができ、特開平１−１０５７３８号公報に記載のものを用いることができる。
【００５４】
紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることができる。紫外線硬化型ポリオールアクリレート樹脂としては、市販品を用いてもよく、市販品としては、サートマーＳＲ２９５、ＳＲ３９９（サートマー社製）などを挙げることができる。
【００５５】
また、紫外線硬化型樹脂と組み合わせて（または単独で）、重合性シリコーン化合物を用いてもよい。該重合性シリコーン化合物は、上記紫外線硬化型樹脂と組み合わせて用いることが好ましい。
【００５６】
重合性シリコーン化合物は、分子内にシロキサン結合による主骨格（シリコーン骨格）と重合性基を有する化合物である。
【００５７】
重合性基は、上記紫外線硬化型樹脂と重合可能な基であり、（メタ）アクリロイル基、（メタ）アクリロイルオキシ基等の重合性の二重結合を有する基が挙げられる。好ましくは（メタ）アクリロイル基である。したがって、好ましい重合性シリコーン化合物は、シリコーン（メタ）アクリレートまたはシリコーン（メタ）アクリレートオリゴマー（以下、併せてシリコーン（メタ）アクリレートという。）であることが好ましい。
【００５８】
また、重合性シリコーン化合物は、上述の紫外線硬化型樹脂との相溶性を向上させるという点から、分子内に紫外線硬化性樹脂との相溶性を向上する部位を含有する有機変性重合性シリコーン化合物であることが好ましい。このような有機変性重合性シリコーン化合物としては、例えば、ウレタン変性、アミノ変性、アルキル変性、エポキシ変性、カルボキシル変性、アルコール変性、フッ素変性、アルキルアラルキルポリエーテル変性、エポキシ・ポリエーテル変性またはポリエーテル変性した重合性シリコーン化合物が挙げられる。
【００５９】
例えば、紫外線硬化型樹脂が、紫外線硬化型ウレタンアクリレート樹脂を含む場合には、重合性シリコーン化合物は、ウレタン変性シリコーン（メタ）アクリレートであることが好ましい。ウレタン変性シリコーン（メタ）アクリレートは、たとえば両末端がＯＨであるシリコーン化合物に多価イソシアネートを反応させ、末端イソシアナートシリコーン化合物を得て、末端イソシアナートシリコーン化合物と前記ヒドロキシル基含有（メタ）アクリレートとを反応させて得られる。
【００６０】
重合性シリコーン化合物は、市販品を用いることができ、市販品としては、例えば、ＥＢＥＣＲＹＬ１３６０、ＥＢＥＣＲＹＬ３５０、ＫＲＭ８４９５（ダイセル・オルネクス社製）、ＣＮ９８００、ＣＮ９９０（アルケマ社製）などが挙げられる。
【００６１】
なお、重合性シリコーン化合物も重合物が形成されるため、樹脂の重合性成分となる。
【００６２】
紫外線硬化型樹脂は、光重合開始剤（ラジカル重合開始剤）を用いることが好ましい。光重合開始剤としては、ペンゾイン、べンゾインメチルエーテル、べンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、べンジルメチルケタールなどのべンゾインとそのアルキルエーテル類；アセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトンなどのアセトフェノン類；メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−アミルアントラキノンなどのアントラキノン類；チオキサントン、２，４−ジエチルチオキサントン、２，４−ジイソプロピルチオキサントンなどのチオキサントン類；アセトフェノンジメチルケタール、ベンジルジメチルケタールなどのケタール類；ベンゾフェノン、４，４−ビスメチルアミノべンゾフェノンなどのベンゾフェノン類およびアゾ化合物等を用いることができる。これらは単独でもまたは２種以上組み合わせても使用することができる。加えて、トリエタノールアミン、メチルジエタノールアミンなどの第３級アミン；２−ジメチルアミノエチル安息香酸、４−ジメチルアミノ安息香酸エチルなどの安息香酸誘導体等の光開始助剤などと組み合わせて使用することができる。光重合開始剤は市販品を用いてもよく、例えばイルガキュア（登録商標）−１８４、８１９、９０７、６５１、１７００、１８００、８１９、３６９、２６１、ＤＡＲＯＣＵＲ−ＴＰＯ（ＢＡＳＦジャパン株式会社製）、ダロキュア（登録商標）−１１７３（メルク株式会社製）、エザキュア−ＫＩＰ１５０、ＴＺＴ（ＤＫＳＨジャパン株式会社製）、カヤキュア（登録商標）ＢＭＳ、ＤＭＢＩ（日本化薬株式会社製）等が挙げられる。これら光重合開始剤の使用量は、樹脂の重合性成分１００質量部に対して好ましくは０．５〜３０質量部、より好ましくは１〜２５質量部である。
【００６３】
また、メタロキサン化合物は、メタロキサン骨格を有する化合物である。ここで、メタロキサン骨格を有する化合物は、特に制限されないが、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウムなどのポリメトキサン、ポリシラザン、パーヒドロポリシラザン、アルコキシシラン、アルキルアルコキシシラン、ポリシロキサンなどが挙げられる。これらのうち、メタロキサン骨格を有する材料は、２官能、３官能、４官能ポリシロキサンまたはその混合物を含むことが好ましい。すなわち、メタロキサン骨格を有する材料は、下記一般式（Ａ）：
【００６４】
【化１】
2016013672.tif 000003
【００６５】
で示される繰り返し単位を有する、ポリシロキサンであることが好ましい。このようなポリシロキサンを含むハードコート層を使用することによって、耐傷性（表面保護性）および耐侯性をより向上できる。なお、上記メタロキサン骨格を有する材料は、１種を単独で使用されてもあるいは２種以上の混合物の形態で使用されてもよい。
【００６６】
上記一般式（Ａ）において、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ独立して、水素原子、メチル基、エチル基、メトキシ基またはエトキシ基を表わす。ここで、Ｘ１、Ｘ２およびＸ３は、それぞれ、同一であってもあるいは異なるものであってもよい。また、各繰り返し単位が複数存在する（即ち、ｍ、ｎまたはｏが２以上の整数である）場合には、各繰り返し単位は、同一であってもあるいは異なるものであってもよい。
【００６７】
上記一般式（Ａ）において、ｍは、下記４官能のシロキサン繰り返し単位：
【００６８】
【化２】
2016013672.tif 000004
【００６９】
がポリシロキサン（メタロキサン骨格を有する材料）中に存在する数を示し、０〜３０００の整数である。より優れた耐傷性（表面保護性）および耐侯性などを考慮すると、ｍは、好ましくは０〜２５００の整数であり、より好ましくは０〜２０００の整数である。
【００７０】
ｎは、下記３官能のシロキサン繰り返し単位：
【００７１】
【化３】
2016013672.tif 000005
【００７２】
がポリシロキサン（メタロキサン骨格を有する材料）中に存在する数を示し、１〜３０００の整数である。より優れた耐傷性（表面保護性）および耐侯性などを考慮すると、ｎは、好ましくは１〜２５００の整数であり、より好ましくは１〜２０００の整数である。
【００７３】
ｏは、下記２官能のシロキサン繰り返し単位：
【００７４】
【化４】
2016013672.tif 000006
【００７５】
がポリシロキサン（メタロキサン骨格を有する材料）中に存在する数を示し、０〜３０００の整数である。より優れた耐傷性（表面保護性）および耐侯性などを考慮すると、ｎは、好ましくは１〜２５００の整数であり、より好ましくは１〜２０００の整数である。
【００７６】
また、ポリシロキサンは、アルコキシシラン系化合物の部分加水分解オリゴマーからなる熱硬化型シリコン系ハードコートであり、熱硬化型ポリシロキサン樹脂からなることが好ましい。
【００７７】
熱硬化型シリコーン系のハードコート層には公知の方法によって合成したアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーを使用できる。その合成方法の一例は以下の通りである。まず、アルコキシシラン化合物としてテトラメトキシシラン、又はテトラエトキシシランを用い、これを塩酸、硝酸等の酸触媒の存在下に所定量の水を加えて、副生するアルコールを除去しながら室温から８０℃で反応させる。この反応によりアルコキシシランは加水分解し、更に縮合反応により一分子中にシラノール基又はアルコキシ基を２個以上有し、平均重合度４〜８のアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーが得られる。次にこれに酢酸、マレイン酸等の硬化触媒を添加し、アルコール、グリコールエーテル系の有機溶剤に溶解させて熱硬化型シリコーン系ハードコート液が得られる。そしてこれを通常の塗料における塗装方法によりフィルムミラーの最表層（最外面）に塗布し、８０〜１４０℃の温度で加熱硬化することによって、透明ハードコート層を形成できる。ただし、この場合、フィルムミラーの熱変形温度以下での硬化温度の設定が前提となる。なお、テトラアルコキシシランの代わりにジ（アルキルまたはアリール）ジアルコキシシラン、並びに／或いはモノ（アルキルまたはアリール）トリアルコキシシランを使用することにより、同様にポリシロキサン系の透明ハードコート層を製造することが可能である。
【００７８】
なお、ハードコート層の硬化促進を目的として、触媒を使用してよい。ここで、触媒は、特に制限されないが、例えば、硫酸、塩酸、硝酸、次亜塩素酸、ホウ酸、フッ酸（好ましくは塩酸、硝酸）等の無機酸のほか、スルホ基（スルホン酸基ともいう）またはカルボキシル基を有する有機酸、例えば、酢酸、ポリアクリル酸、ベンゼンスルホン酸、パラトルエンスルホン酸、メチルスルホン酸等が用いられる。有機酸は１分子内に水酸基とカルボキシル基を有する化合物が好ましく使用され、例えば、クエン酸または酒石酸等のヒドロキシジカルボン酸が好ましく用いられる。また、有機酸は水溶性の酸であることが更に好ましく、例えば上記クエン酸や酒石酸の他に、レブリン酸、ギ酸、プロピオン酸、リンゴ酸、コハク酸、メチルコハク酸、フマル酸、オキサロ酢酸、ピルビン酸、２−オキソグルタル酸、グリコール酸、Ｄ−グリセリン酸、Ｄ−グルコン酸、マロン酸、マレイン酸、シュウ酸、イソクエン酸、乳酸等が好ましく用いられる。また、安息香酸、ヒドロキシ安息香酸、アトロバ酸等も適宜用いることができる。
【００７９】
または、シリコーン系ハードコート剤として、市販品を使用してもよい。市販品としては、以下に制限されないが、シリコーン系熱重合硬化ハードコート剤（例えば、メチルトリメトキシシラン（関東化学（株）製、化学式はＣＨ３Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）、（株）動研製：サーコート（ＳＡＲＣｏａｔ）（商標）シリーズ、（株）動研製：ＮＰシリーズ、東芝シリコーン製：トスガード５１０（シリコーンレジン）、ＳＲ２４４１（東レ・ダウコーニング社）、信越化学工業（株）製：ＫＰ−８６）、Ｐｅｒｍａ−Ｎｅｗ（登録商標）６０００（Ｃａｌｉｆｏｒｎｉａ  Ｈａｒｄ  ｃｏａｔｉｎｇ  Ｃｏｍｐａｎｙ）等を使用することができる。
【００８０】
または、ハードコート層は、ポリシラザンを塗布製膜し、加熱硬化することによって形成してもよい。ハードコート層の前駆体が、ポリシラザンを含有する場合、例えば下記一般式（６）で表されるポリシラザンを含む有機溶剤中に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶剤を蒸発させて除去し、それによってフィルムミラーの最表面に０．０５〜１０μｍの層厚を有するポリシラザン層を残す。そして、水蒸気を含む雰囲気中で酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、フィルムミラーの最表面にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する方法を採用することが好ましい。
【００８１】
【化５】
2016013672.tif 000007
【００８２】
上記一般式（６）において、Ｙ１、Ｙ２及びＹ３は、同一か又は異なり、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基、好ましくは水素原子、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル又は３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリルプロピル）からなる群から選択される基を表す。この際、ａは整数であり、ａは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００８３】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン又はＮ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％、好ましくは０．５〜７モル％の範囲である。
【００８４】
なお、好ましい態様の一つでは、一般式（６）中のＹ１、Ｙ２及びＹ３のすべてが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【００８５】
また、別の好ましい態様の一つでは、ハードコート層が、下記の一般式（７）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含むことである。
【００８６】
【化６】
2016013672.tif 000008
【００８７】
一般式（７）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５及びＹ６は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ａ及びｂは整数であり、特にａは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００８８】
特に好ましいものは、Ｙ１、Ｙ３及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２、Ｙ４及びＹ５がメチルを表す化合物。またＹ１、Ｙ３及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２、Ｙ４がメチルを表し、そしてＹ５がビニルを表す化合物。また、Ｙ１、Ｙ３、Ｙ４及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２及びＹ５がメチルを表す化合物である。
【００８９】
さらに、別の好ましい態様の一つでは、透明ハードコート層が、下記の一般式（８）で表される少なくとも一種のポリシラザンを含むことである。
【００９０】
【化７】
2016013672.tif 000009
【００９１】
一般式（８）中、Ｙ１、Ｙ２、Ｙ３、Ｙ４、Ｙ５、Ｙ６、Ｙ７、Ｙ８及びＹ９は、互いに独立して、水素原子、あるいは場合によっては置換されたアルキル基、アリール基、ビニル基又は（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ａ、ｂ及びｃは整数であり、特にａは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの数平均分子量を有するように定められる。
【００９２】
特に好ましいものは、Ｙ１、Ｙ３及びＹ６が水素原子を表し、そしてＹ２、Ｙ４、Ｙ５及びＹ８がメチルを表し、Ｙ９が（トリエトキシシリル）プロピルを表し、そしてＹ７がアルキル又は水素原子を表す化合物である。
【００９３】
溶剤中のポリシラザンの割合は、一般的には、ポリシラザン１〜８０質量％、好ましくは５〜５０質量％、特に好ましくは１０〜４０質量％である。
【００９４】
溶剤としては、特に、水及び反応性基（例えばヒドロキシ基又はアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機系で好ましくは非プロトン性の溶剤が好適である。これは、例えば、脂肪族又は芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル、例えば酢酸エチル又は酢酸ブチル、ケトン、例えばアセトン又はメチルエチルケトン、エーテル、例えばテトラヒドロフラン又はジブチルエーテル、並びにモノ−及びポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）又はこれらの溶剤からなる混合物である。
【００９５】
このポリシラザン溶液の追加の成分に、通常の塗料（ハードコート剤）の製造に慣用されているもののような、更に別のバインダーを用いることができる。これは、例えば、セルロースエーテル及びセルロースエステル、例えばエチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート又はセルロースアセトブチレート、天然樹脂、例えばゴムもしくはロジン樹脂、又は合成樹脂、例えば重合樹脂もしくは縮合樹脂、例えばアミノプラスト、特に尿素樹脂及びメラミンホルムアルデヒド樹脂、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、又はポリシロキサンである。
【００９６】
また、このポリシラザン調合物に更に追加する別の成分として、例えば、調合物の粘度、下地の濡れまたは成膜性に影響を与える添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２又はＡｌ２Ｏ３を用いることができる。
【００９７】
ハードコート層は、紫外線吸収剤を含有してもよい。これにより、ハードコート層自体およびハードコート層より下層（例えば、光反射層）をより有効に保護することができる。このため、フィルムミラーの耐久性をより向上できる。ここで、紫外線吸収剤は、特に制限はないが、例えばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機系の紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系の紫外線遮断剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄等の無機系の紫外線吸収剤などがある。これらのうち、有機系の紫外線吸収剤や無機系の紫外線吸収剤が好ましく、トリアジン系紫外線吸収剤や無機系紫外線吸収剤がより好ましい。すなわち、紫外線吸収剤は、トリアジン系紫外線吸収剤または無機系紫外線吸収剤であることが好ましい。ここで、紫外線吸収剤の例示や添加量は、特に制限されず、例えば、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０２０９」〜「０２１２」）等の公知の文献に具体的に例示されたのと同様でありうる。
【００９８】
また、ハードコート層は、劣化を防止するために、酸化防止剤を含有してもよい。これにより、ハードコート層自体およびハードコート層より下層（例えば、有機無機ハイブリッド層）をより有効に保護することができる。ここで、酸化防止剤は、特に制限されないが、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。ここで、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤としては、それぞれ、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号などに記載される公知の酸化防止剤が使用できる。
【００９９】
ハードコート層中には、さらに各種の添加剤を必要に応じて配合することができる。例えば、界面活性剤、レベリング剤および帯電防止剤などを用いることができる。
【０１００】
レベリング剤は、表面凹凸低減に効果的である。レベリング剤としては、例えば、シリコーン系レベリング剤として、ジメチルポリシロキサン−ポリオキシアルキレン共重合体（例えば東レダウコーニング（株）製ＳＨ１９０）が好適である。
【０１０１】
ハードコート層の作製方法としては、フッ素化合物およびハードコート剤を適当な溶媒に溶解して、塗布液を作製して、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、バーコート法等、従来公知のコーティング方法により、塗布する方法が使用できる。
【０１０２】
ハードコート層がフッ素化合物およびハードコート剤を含む際の、フッ素化合物のハードコート層中の含有量は、特に制限されないが、ハードコート層におけるフッ素化合物の含有量（固形分換算）が、ハードコート剤１００質量部に対して、好ましくは３〜４０質量部、より好ましくは５〜３０質量部、より好ましくは１０〜３０質量部である。また、上記含有量は、ハードコート剤がメタロキサン化合物である際に適用されることが特に好ましい。すなわち、ハードコート層におけるフッ素化合物の含有量（固形分換算）は、メタロキサン化合物１００質量部に対して、好ましくは３〜４０質量部、より好ましくは５〜３０質量部、より好ましくは１０〜３０質量部である。このような量であれば、セパレータを介さずにロール状にフィルムミラーを巻き取っても、粘着層はハードコート層からより容易にかつ反射面の平滑性をより有効に維持して剥離（離型）できる。また、セパレータを使用する必要がないので、セパレータのエージングや熱収縮による反射率の低下の問題が生じない。なお、フッ素化合物の量が多すぎる場合には、強度（表面硬度）が低下して、保護特性（例えば、耐傷性）が劣る場合がある。
【０１０３】
（粘着層）
粘着層は、フィルムミラーを支持基材に貼り付けることを可能にする粘着性を有しており、この粘着層によってフィルムミラーを支持基材に接合して、太陽熱発電用反射装置を形成するための構成層である。
【０１０４】
粘着層は、シリコーン粘着剤を含む。ここで、シリコーン粘着剤としては、特に制限されないが、例えば、付加型シリコーン粘着剤、過酸化物型（過酸化物硬化型）シリコーン粘着剤、縮合型シリコーン粘着剤などが挙げられる。シリコーン粘着剤は１液型、２液型のいずれであってもよい。なお、シリコーン粘着剤は、１種単独で使用されてもまたは２種以上を組み合わせて使用されてもよい。
【０１０５】
このうち、付加型シリコーン粘着剤は、例えば、下記反応に示されるように、ケイ素原子にビニル基等のアルケニル基を有するオルガノポリシロキサンとヒドロシリル基を有するオルガノポリシロキサンとを、塩化白金酸等の白金化合物触媒（下記反応中の「Ｐｔ」）を用いて付加反応（ヒドロシリル化反応）させることによって製造されるシリコーンポリマーからなる粘着剤である。
【０１０６】
【化８】
2016013672.tif 000010
【０１０７】
また、過酸化物型（過酸化物硬化型）シリコーン粘着剤は、例えば、下記反応に示されるように、オルガノポリシロキサンを過酸化物（下記反応中の「ＰＯ」）により硬化（架橋）させることによって製造されるシリコーン系ポリマーからなる粘着剤である。
【０１０８】
【化９】
2016013672.tif 000011
【０１０９】
また、縮合型シリコーン粘着剤は、一般に、末端にシラノール基又はアルコキシシリル基等の加水分解性シリル基を有するポリオルガノシロキサン間の脱水又は脱アルコール反応によりシリコーン系ポリマーを生成させる粘着剤である。
【０１１０】
ここで、付加型シリコーン粘着剤は、合成によって製造されてもあるいは市販品を使用してもよい。後者の場合には、例えば、商品名「ＫＲ−３７００」、商品名「ＫＲ−３７０１」、商品名「Ｘ−４０−３２３７−１」、商品名「Ｘ−４０−３２４０」、商品名「Ｘ−４０−３２９１−１」（いずれも、信越化学工業（株）製）が使用できる。また、過酸化物型（過酸化物硬化型）シリコーン粘着剤もまた、合成によって製造されてもあるいは市販品を使用してもよい。後者の場合には、例えば、商品名「ＫＲ−１００」、商品名「ＫＲ−１０１−１０」、商品名「ＫＲ−１３０」（いずれも、信越化学工業（株）製）が使用できる。
【０１１１】
上記シリコーン粘着剤のうち、付加型シリコーン粘着剤が好ましい。すなわち、シリコーン粘着剤は付加硬化型のシリコーン粘着剤であることが好ましい。このようなシリコーン粘着剤を使用することによって、粘着層の耐熱性及び耐候性、ゆえにフィルムミラーの反射率をより向上できる。
【０１１２】
なお、粘着層の厚みは、特に制限されない。耐熱性、耐候性、剥離性（離型性）、特に粘着層との剥離性（離型性）などの観点から、粘着層の厚み（乾燥膜厚）は、好ましくは１０〜１００μｍ、より好ましくは１５〜４０μｍである。
【０１１３】
粘着層の作製方法としては、上記シリコーン粘着剤および必要であれば塩化白金酸等の白金化合物触媒または過酸化物を適当な溶媒に溶解して、塗布液を作製して、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法、バーコート法等、従来公知のコーティング方法により、塗布した後、塗膜を乾燥する方法が使用できる。
【０１１４】
なお、本発明のフィルムミラーでは、セパレータ（剥離シート）を介さずに粘着層を当該粘着層と接する他方の最外層（例えば、ハードコート層）とを重ね合わせることができる。このため、粘着層における樹脂基材とは反対側の面を覆うセパレータ（剥離シート）を必ずしも設置する必要はないが、セパレータ（剥離シート）を樹脂基材とは反対側の粘着層面に設置してもよい。フィルムミラーが剥離シートを有する場合、剥離シートを粘着層から剥離した後に、粘着層を介してフィルムミラーを支持基材に貼り付けることができる。
【０１１５】
ここで、セパレータ（剥離シート）は、フィルムミラーにおける粘着層の光入射側とは反対側の面を覆う部材である。例えば、フィルムミラーの出荷時にはセパレータが粘着層に張り付いた状態であり、その後、セパレータをフィルムミラーの粘着層から剥離し、そのフィルムミラーを支持基材に貼り合わせて太陽熱発電用反射装置を形成することができる。セパレータとしては、粘着層の粘着性を保護することができるものであればよく、例えば、アクリルフィルム又はシート、ポリカーボネートフィルム又はシート、ポリアリレートフィルム又はシート、ポリエチレンナフタレートフィルム又はシート、ポリエチレンテレフタレートフィルム又はシート、シリコーンフィルム又はシート、フッ素フィルムなどのプラスチックフィルム又はシート、又は酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルム又はシート、これらを練り込んだ樹脂にコーティングを施したりアルミニウム等の金属を金属蒸着したりなどの表面加工を施した樹脂フィルム又はシートが用いられる。セパレータの厚さは、特に制限されないが、通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１１６】
（樹脂基材）
樹脂基材としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、セルロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィルム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フィルム、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロースジアセテートフィルム、セルローストリアセテートフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィルム、ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケトンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポリアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、ポリメチルメタクリレートフィルム、アクリルフィルム等を挙げることができる。中でも、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、及びセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましい。これらのうち、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルム又はアクリルフィルムを用いることが好ましく、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル系フィルムが特に好ましい。ここで、樹脂基材は、いずれの方法によって製造されてもよく、例えば、溶融流延製膜で製造されたフィルムであっても、溶液流延製膜で製造されたフィルムであってもよい。
【０１１７】
樹脂基材は、光反射層よりも光入射側から遠い位置にあるため、紫外線が樹脂基材に到達しにくい。特に、樹脂基材よりも光入射側にある透光性樹脂層等に紫外線吸収剤を含有させたりする場合は、紫外線が樹脂基材により一層到達しにくい。従って、樹脂基材は、紫外線に対して劣化しやすい樹脂であっても用いることが可能となる。そのような観点から、樹脂基材として、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルフィルムを用いることが可能となる。
【０１１８】
樹脂基材の厚さは、特に制限されないが、樹脂の種類及び目的等に応じて適切な厚さにすることが好ましい。樹脂基材の厚さは、例えば、１０〜２５０μｍの範囲内であることが好ましく、より好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１１９】
（光反射層）
光反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等からなる層である。
【０１２０】
光反射層の表面反射率は好ましくは８０％以上、さらに好ましくは９０％以上である。この光反射層は、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｎｉ、Ｔｉ、Ｍｇ、Ｒｈ、Ｐｔ及びＡｕからなる元素群の中から選ばれるいずれかの元素を含む材料により形成されることが好ましい。中でも、反射率、耐食性の観点からＡｌまたはＡｇを主成分としていることが好ましく、このような金属の薄膜を２層以上形成するようにしてもよい。本発明においては、特に銀を主成分とする光反射層としている。
【０１２１】
光反射層の厚さは、反射率等の観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、より好ましくは３０〜１５０ｎｍである。
【０１２２】
また、光反射層にＳｉＯ２、ＴｉＯ２等の金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【０１２３】
この光反射層の形成法としては、湿式法及び乾式法のどちらも使用することができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例をあげるとすれば、銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空製膜法の総称であり、具体的に例示するとすれば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。とりわけ、本発明には連続的に製膜するロール・トゥ・ロール(roll-to-roll)方式が可能な蒸着法が好ましく用いられる。すなわち、本発明のフィルムミラーは、ロール・トゥ・ロール方法で製造される。例えば、太陽熱発電用フィルムミラーの製造方法において、光反射層を銀蒸着（特に真空蒸着）によって形成する製造方法であることが好ましい。
【０１２４】
（アンカー層）
アンカー層は、樹脂基材と光反射層との間に配置されうる。アンカー層は、樹脂からなり、樹脂基材と光反射層とを密着させるものである。したがって、アンカー層は、樹脂基材と光反射層とを密着する密着性、光反射層を真空蒸着法等で形成する際の熱にも耐え得る耐熱性、及び光反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性が必要である。
【０１２５】
アンカー層に使用される材料（樹脂材料）、アンカー層の形成方法は、特に制限されないが、例えば、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０２０９」〜「０２１２」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料や方法が使用できる。
【０１２６】
（腐食防止層）
腐食防止層は、腐食防止剤を含有している樹脂層であり、光反射層に隣接していることが好ましい。例えば、光反射層とハードコート層との間に設けられうる。
【０１２７】
腐食防止層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。腐食防止層の厚さは、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは２〜８μｍである。
【０１２８】
腐食防止層に用いる樹脂、腐食防止剤は、特に制限されないが、例えば、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「００７９」〜「００９５」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料が使用できる。
【０１２９】
これら樹脂材料（バインダー）を光反射層１上などに塗布、塗工するなどして、腐食防止層を形成することができる。
【０１３０】
腐食防止剤としては、銀に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属（銀）がそれをとり囲む環境物質によって、化学的または電気化学的に浸食されるか若しくは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３−２００４参照）。
【０１３１】
なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【０１３２】
（ガスバリア層）
ガスバリア層は、光反射層よりも光入射側に設けることが好ましい。特に、樹脂基材と光反射層の間にガスバリア層を設けることが好ましい。
【０１３３】
ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材及び樹脂基材に支持される各構成層等の劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、より好ましくは０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下、更に好ましくは０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下である。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、湿度９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【０１３４】
ガスバリア層に使用される材料、ガスバリア層の形成方法は、特に制限されないが、例えば、ＷＯ  ２０１２／１６５４６０号パンフレット（特に、段落「０１８８」〜「０２０９」）等の公知の文献に記載されるのと同様の材料や方法が使用できる。
【０１３５】
（フィルムミラーの製造方法）
上述した各構成層を適宜積層することによって、太陽熱発電用のフィルムミラーを製造することができる。以下、図１Ａに示されるフィルムミラーの製造方法の好ましい実施形態を説明するが、本発明は下記形態に限定されるものではない。
【０１３６】
まず、樹脂基材（例えば、溶融製膜などで作製されたポリエチレンテレフタレートフィルム）を用意する。なお、必要であれば、樹脂基材上に、所定の樹脂材料を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥する）ことによってアンカー層を形成する。次いで、樹脂基材（または、アンカー層を樹脂基材上に設ける場合には、アンカー層）上に、真空蒸着等の方法によって光反射層（例えば、銀反射層）を形成する。必要であれば、上記光反射層（例えば、銀反射層）上に、腐食防止層を形成する。
【０１３７】
別途、フッ素化合物及びハードコート剤を適当な溶剤に溶解して、ハードコート層形成用塗布液を調製する。ここで、ハードコート層形成用塗布液の調製に使用できる溶剤としては、フッ素化合物及びハードコート剤を溶解できるものであれば特に制限されない。例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、トリフルオロトルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ｔ−ブチル、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコールブタノール、メチルセロソルブ、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。ハードコート層形成用塗布液中のフッ素化合物の濃度は、特に制限されないが、塗布しやすさ、所望の厚みの調節のしやすさなどを考慮すると、好ましくは０．００１〜１質量％、より好ましくは０．００１〜０．５質量％である。また、ハードコート層形成用塗布液中のハードコート剤の濃度は、特に制限されないが、塗布しやすさ、所望の厚みの調節のしやすさなどを考慮すると、好ましくは１０〜５０質量％、より好ましくは２０〜４０質量％である。
【０１３８】
次いで、上記で調製されたハードコート層形成用塗布液を、上記光反射層または腐食防止材上に塗布した後、塗膜を乾燥することによって、ハードコート層を形成する。ここで、塗布方法としては、特に制限されないが、ロールコーティング法、バーコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコーティング法、ブレードコーティング法、バーコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、スプレーコーティング法、ドクターコーティング法等の方法を用いることができる。また、乾燥条件は、塗膜から十分量の溶剤が蒸発できる（ハードコート層が形成できる）条件であれば特に制限されない。具体的には、乾燥温度は、好ましくは６０〜１００℃、より好ましくは７０〜９５℃である。また、乾燥時間は、好ましくは０．５〜２分、より好ましくは０．５〜１．５分である。
【０１３９】
さらに、光反射層または樹脂基材の裏面側（それぞれ、樹脂基材および光反射層が形成されない側）に、粘着材料を塗工して粘着層を形成することによって、フィルムミラーが製造される。具体的には、シリコーン粘着剤に白金化合物触媒または過酸化物を添加して、粘着層形成用塗布液を調製する。なお、必要であれば、適当な溶剤をさらに添加してもよい。ここで、粘着層形成用塗布液の調製に使用できる溶剤としては、シリコーン粘着剤及び必要であれば白金化合物触媒または過酸化物を溶解できるものであれば特に制限されない。例えば、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、トルエン、トリフルオロトルエン、キシレン、メチレンクロライド、１，２−ジクロロエタン、シクロヘキサン、酢酸エチル、酢酸ｔ−ブチル、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、ｓｅｃ−ブチルアルコールブタノール、メチルセロソルブ、４−メトキシ−４−メチル−２−ペンタノン、エチルセロソルブ、テトラヒドロフラン、１−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、ピリジン、ジエチルアミン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。これらの溶剤は、単独でもまたは２種以上組み合わせても用いることができる。粘着層形成用塗布液中のシリコーン粘着剤の濃度は、特に制限されないが、塗布しやすさ、所望の厚みの調節のしやすさなどを考慮すると、好ましくは４０〜８０質量％、より好ましくは４５〜７０質量％である。
【０１４０】
次いで、上記で調製された粘着層形成用塗布液を、ハードコート層が形成されていない側の上記樹脂基材上に塗布した後、塗膜を乾燥することによって、粘着層を形成する。ここで、塗布方法としては、特に制限されないが、ロールコーティング法、バーコーティング法、ディップコーティング法、スピンコーティング法、キャスティング法、ダイコーティング法、ブレードコーティング法、バーコーティング法、グラビアコーティング法、カーテンコーティング法、スプレーコーティング法、ドクターコーティング法等の方法を用いることができる。また、乾燥条件は、塗膜から十分量の溶剤が蒸発できる（ハードコート層が形成できる）条件であれば特に制限されない。具体的には、乾燥温度は、好ましくは６０〜１３０℃、より好ましくは８０〜１１０℃である。また、乾燥時間は、好ましくは０．５〜５分、より好ましくは１〜３分である。なお、必要であれば、上記で形成された粘着層を剥離シートで覆ってもよい。
【０１４１】
なお、上記構成以外の層を有するフィルムミラーを製造する際には、各フィルムミラーに必要な構成層を樹脂基材または光反射層に所定順に積層することで、所望のフィルムミラーを製造することができる。例えば、アンカーコート層を樹脂基材と光反射層との間に形成する場合には、樹脂基材上に、所定の樹脂材料（必要であれば、所定の樹脂材料を含むアンカーコート層形成液）を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥する）ことによって、アンカーコート層を形成することが可能である。ここで、アンカーコート層形成液の調製に使用できる溶剤、乾燥条件などは、制限されず、例えば、上記と同様の記載が適用できるため、ここでは説明を省略する。同様にして、腐食防止層を光反射層と粘着層との間に形成する場合には、光反射層上に、腐食防止剤を含有した樹脂材料（必要であれば、所定の樹脂材料及び腐食防止剤を含む腐食防止層形成液）を塗布する（塗布後、必要であれば乾燥する）ことによって、腐食防止層を形成することが可能である。ここで、腐食防止層形成液の調製に使用できる溶剤、乾燥条件などは、制限されず、例えば、上記と同様の記載が適用できるため、ここでは説明を省略する。また、フィルムミラーがガスバリア層を有する場合には、ガスバリア層は、所定の層上にゾル−ゲル法および加熱／ＵＶ処理を施すことによって形成されうる。
【０１４２】
そして、本発明のフィルムミラーでは、樹脂基材のみが溶融製膜などで作製された樹脂フィルムであり、他の構成層には樹脂フィルムを用いておらず、その樹脂基材に対して順次、各構成層の材料の塗布・塗工や蒸着などによる成膜を繰り返し、所定の構成層を積層することでフィルムミラーを製造することが好ましい。
【０１４３】
上記したような本発明のフィルムミラーは、セパレータを介さずにロール状で製造・保管しても、粘着層と当該粘着層と直接接する他方の最外層（例えば、ハードコート層）とが、１０．０Ｎ／５０ｍｍ以下（下限：０Ｎ／５０ｍｍ）という少ない引き出し力で重なり合う、ゆえに容易にかつ反射面の平滑性を維持して剥離（離型）できる。ここで、上記引き出し力は、小さいほど好ましい。具体的には、上記引き出し力は、０．０１〜８．０Ｎ／５０ｍｍであることが好ましく、０．０５〜５．０Ｎ／５０ｍｍであることがより好ましい。なお、上記引き出し力（Ｎ／５０ｍｍ）は、下記実施例の［引き出し力の測定］で測定される値である。また、本発明のフィルムミラーはセパレータを使用する必要がないので、セパレータのエージングや熱収縮による反射率の低下の問題が生じない。このため、本発明によると、フィルムミラーをセパレータを介さずに直接巻き取っても、粘着層表面の乱れ（反射面の平滑性の低下）、ゆえに反射率の低下を有効に抑制・防止できる。すなわち、本発明によると、本発明のフィルムミラーを直接（セパレータを介さずに）巻き取ってなるフィルムミラー製品が提供される。
【０１４４】
また、上記したような本発明のフィルムミラーは、高温環境下であっても高い反射率を発揮・維持でき、当該効果は、セパレータを介さずに巻き取った場合でも、達成できる。ここで、フィルムミラーの反射率は、高いほど好ましい。具体的には、高温環境下に放置する前のフィルムミラーの反射率は、７５〜９９％以上であることが好ましく、８０〜９７％であることがより好ましく、８５〜９５％であることが特に好ましい。なお、上記高温環境下に放置する前の反射率は、下記実施例の［正反射率の測定］で測定される反射率（初期正反射率）である。また、高温環境下に放置後のフィルムミラーの反射率は、７０〜９９％以上であることが好ましく、７５〜９７％であることがより好ましく、８０〜９５％であることが特に好ましい。なお、上記高温環境下に放置する前の反射率は、下記実施例の［耐久性試験（１００℃×５００時間放置）後の正反射率の測定］で測定される反射率（耐久試験後正反射率）である。加えて、本発明のフィルムミラーは、セパレータの使用を省略できるので、コストや環境面の観点からも好ましい。なお、上記効果は、特に長期間（例えば、２０日以上、好ましくは１０年程度）高温環境にさらされた時に顕著に現れる。このため、フィルムミラーが太陽熱発電用反射装置に使用され、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに長持間晒されたとしても、フィルムミラーの高い反射率をより有効に発揮・維持できる。ゆえに、本発明のフィルムミラーは、太陽熱発電用反射装置に好適に使用できる。
【０１４５】
（太陽熱発電用反射装置）
太陽熱発電用反射装置は、フィルムミラーと自己支持性の支持基材とを有しており、粘着層を介してフィルムミラーが支持基材に接合されている反射鏡である。
【０１４６】
なお、ここで言う「自己支持性」とは、太陽熱発電用反射装置の支持基材として用いられる大きさに断裁された状態で、支持基材がフィルムミラーの端縁部分を支持することで、フィルムミラーを担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。太陽熱発電用反射装置の支持基材が自己支持性を有することで、太陽熱発電用反射装置を設置する際に取り扱い性に優れるとともに、太陽熱発電用反射装置を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、反射装置自体を軽量化することが可能となり、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１４７】
（支持基材）
自己支持性の支持基材としては、一対の金属平板とその金属平板間に介装された中間層を有するもの（タイプＡ）か、中空構造を有する樹脂材料からなるもの（タイプＢ）であることが好ましい。具体的な構成については、ＷＯ  ２０１１／１６２１５４号パンフレットまたは米国特許出願公開第２０１３／０１１４１５５号公報などに記載される自己支持性基材ＡやＢを採用することができる。
【０１４８】
（保持部材）
太陽熱発電用反射装置は、反射装置自体を保持する保持部材を有する。
【０１４９】
保持部材は、太陽熱発電用反射装置における反射面（フィルムミラー）が、太陽を追尾可能な状態で保持することが好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、太陽熱発電用反射装置が所望の形状や姿勢を保持できるように、例えば、太陽熱発電用反射装置の裏面側の支持基材における複数個所を棒状の柱状部材や梁状部材によって保持する形態が好ましい。
【０１５０】
保持部材は、太陽を追尾可能な状態で太陽熱発電用反射装置を保持する構成を有するが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０１５１】
本発明の効果を、以下の実施例および比較例を用いて説明する。ただし、本発明の技術的範囲が以下の実施例のみに制限されるわけではない。なお、下記実施例において、特記しない限り、操作は室温（２５℃）で行われた。また、特記しない限り、「％」および「部」は、それぞれ、「質量％」および「質量部」を意味する。
【０１５２】
合成例１：フッ素化合物１の合成
トリフルオロメチルメチルジクロロシラン、ジメチルジクロロシラン及びビニルジメチルクロロシランを、１００／５０／１のモル比で混合し、上記単量体の合計量に対して１重量％量のナトリウム触媒の存在下で、上記単量体の合計濃度が３０重量％となるように反応溶媒としてトルエンを用いて重合用混合液を調製し、上記重合用混合液について１１０℃で５時間、重合処理することにより、フッ素含有シロキサン系ポリマー（フッ素化合物１）を得た。このフッ素含有シロキサン系ポリマーの重量平均分子量を測定したところ、約４．３万であった。
【０１５３】
実施例１
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム、厚さ：２５μｍ）を用いた。上記樹脂基材の片面に光反射層として、真空蒸着法により厚さ１００ｎｍの銀反射層を形成した。
【０１５４】
次に、ポリエステル系樹脂（ポリエスターＴＰ２２０、日本合成化学工業株式会社製）とＴＤＩ（２．４−トリレンジイソシアネート）系イソシアネートを樹脂固形分質量比率で１０：２に混合した樹脂に対して、銀の腐食防止剤として、２−メルカプトベンゾチアゾールを、樹脂１００質量部に対して１０質量部となるように添加し、メチルエチルケトン中に５質量％になるよう塗布液を調製した。この塗布液を、グラビアコート法により光反射層上にコーティングして、厚さ３μｍの腐食防止層を形成した。
【０１５５】
シリコーン系ハードコード剤ＢＰ１６Ｎ（動研製、不揮発分  ４５質量％）１００質量部、および上記合成例１で合成したフッ素含有シロキサン系ポリマー２２．５質量部（不揮発分  ３０質量％）を、濃度（固形分）が３０質量％となるようにメチルエチルケトンに加えて、ハードコート層形成用塗布液１を調製した。このハードコート層形成用塗布液１を、厚さ（乾燥膜厚）が３μｍとなるように、上記で形成した腐食防止層上にメイヤーバーコートにて塗布した後、９０℃で１分間乾燥して、厚さ３μｍのハードコート層を腐食防止層上に形成した。
【０１５６】
シリコーン粘着剤（付加型シリコーン粘着剤、信越化学工業（株）製、ＫＲ−３７００、不揮発分６０質量％）１００質量部に、白金系触媒（信越化学工業社製、ＣＡＴ−ＰＬ−５０Ｔ、不揮発分０．５質量％）０．５質量部を添加して、粘着層形成用塗布液１を調製した。この粘着層形成用塗布液１を、厚さ（乾燥膜厚）が２５μｍとなるように、銀反射層が形成されていない側の樹脂基材にバーコートにより塗布した後、１００℃で２分間乾燥して、厚さ２５μｍの粘着層を樹脂基材上に形成した（フィルムミラー１）。このフィルムミラー１  ５ｍを、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂製コア（直径  ３５ｍｍ、長さ  ４００ｍｍの円柱状物）に直接（セパレータを介さずに）巻き、サンプル１を得た。
【０１５７】
実施例２
実施例１において、フッ素含有シロキサン系ポリマーの添加量を２２．５質量部から４５．１質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー２）およびサンプル（サンプル２）を作製した。
【０１５８】
実施例３
実施例１において、フッ素含有シロキサン系ポリマーの添加量を２２．５質量部から５９．９質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー３）およびサンプル（サンプル３）を作製した。
【０１５９】
実施例４
実施例１に記載の方法と同様にして、樹脂基材に、銀反射層及び腐食防止層を形成した。
【０１６０】
６官能ウレタンアクリレートオリゴマー（荒川化学工業社製株式会社、商品名：ビームセット５７７）を１００質量部を、６官能ウレタンアクリレートオリゴマーの濃度が４０質量％となるように、メチルエチルケトン（希釈溶剤）で希釈して、希釈液を得た、この希釈液に、光重合開始剤として１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（チバジャパン株式会社製、商品名：イルガキュア１８４）および上記合成例１で合成したフッ素含有シロキサン系ポリマーを、６官能ウレタンアクリレートオリゴマー１００質量部に対して、それぞれ、１質量部および１５質量部の混合比になるように添加して、ハードコート層形成用塗布液２を調製した。このハードコート層形成用塗布液２を、厚さ（乾燥膜厚）が３μｍとなるように、上記で形成した腐食防止層上にメイヤーバーにより塗布した後、塗膜に紫外線照射装置（フュージョンＵＶコンベア（ＣＶ−１１０Ｑ−Ｇ，電源ＶＰＳ−６））を用いて、積算光量が３００ｍＪ／ｃｍ２になるようにして紫外線を照射して、厚さ３μｍのハードコート層を腐食防止層上に形成した。
【０１６１】
次に、銀反射層が形成されていない側の樹脂基材面に、実施例１と同様にして、厚さ２５μｍの粘着層を形成した（フィルムミラー４）。このフィルムミラー１  ５ｍを、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂製コア（直径  ３５ｍｍ、長さ  ４００ｍｍの円柱状物）に直接（セパレータを介さずに）巻き、サンプル４を得た。
【０１６２】
実施例５
実施例１において、フッ素含有シロキサン系ポリマーの添加量を２２．５質量部から７．５質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー３）およびサンプル（サンプル３）を作製した。
【０１６３】
実施例６
実施例１に記載の方法と同様にして、樹脂基材に、銀反射層及び腐食防止層を形成した。
【０１６４】
実施例１において、フッ素含有シロキサン系ポリマーの添加量を２２．５質量部から１５．０質量部に変更した以外は、実施例１と同様にして、厚さ３μｍのハードコート層を腐食防止層上に形成した。
【０１６５】
シリコーン粘着剤（過酸化物型シリコーン粘着剤、信越化学工業（株）製  ＫＲ−１００  不揮発分６０質量％）１００質量部に、架橋剤としてベンゾイルパーオキサイド  ナイパーＢＭＴ−Ｋ４０（日油製、不揮発分  ５０質量％）２．０質量部を添加して、粘着層形成用塗布液２を調製した。この粘着層形成用塗布液２を、厚さ（乾燥膜厚）が２５μｍとなるように、銀反射層が形成されていない側の樹脂基材に塗布した後、１００℃で２分間乾燥して、厚さ２５μｍの粘着層を樹脂基材上に形成した（フィルムミラー６）。このフィルムミラー６  ５ｍを、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂製コア（直径  ３５ｍｍ、長さ  ４００ｍｍの円柱状物）に直接（セパレータを介さずに）巻き、サンプル６を得た。
【０１６６】
実施例７
実施例１と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー７）を作製した。このフィルムミラー７の粘着層側に、フロロシリコーンセパレーターＰＥＴ３８×１−ＳＳ４Ａ（ニッパ株式会社製、厚さ  ３８μｍ）を貼りあわせた後、５ｍの長さ分を、アクリロニトリル−ブタジエン−スチレン（ＡＢＳ）樹脂製コア（直径  ３５ｍｍ、長さ  ４００ｍｍの円柱状物）に上記セパレータを介して巻き、サンプル７を得た。
【０１６７】
比較例１
実施例１において、粘着層形成用塗布液１の代わりに、下記粘着層形成用塗布液３を使用した以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー８）およびサンプル（サンプル８）を作製した。
【０１６８】
（粘着層形成用塗布液３の作製）
アクリル系粘着剤（日本カーバイド社製、ＳＺ７５４ｐ３、不揮発分  ３５質量％）１００質量部に、イソシアネート系硬化剤（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ５５Ｅ、不揮発分  ５５質量％）１．０質量部を添加して、粘着層形成用塗布液３を調製した。
【０１６９】
比較例２
実施例１において、上記合成例１で合成したフッ素含有シロキサン系ポリマーを添加しない以外は、実施例１と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー９）およびサンプル（サンプル９）を作製した。
【０１７０】
比較例３
実施例４において、粘着層形成用塗布液１の代わりに、比較例１で調製した粘着層形成用塗布液３を使用した以外は、実施例４と同様にして、フィルムミラー（フィルムミラー１０）およびサンプル（サンプル１０）を作製した。
【０１７１】
上記実施例及び比較例で得られたフィルムミラーおよびサンプルについて、下記方法にしたがって、正反射率、引き出し力、表面汚れおよび表面鉛筆硬度を評価し、その結果を下記表１に示す。
【０１７２】
［正反射率の測定］
各フィルムミラーについて、島津製作所社製の分光光度計「ＵＶ２６５」に、積分球反射付属装置を取り付けたものを改造し、反射面の法線に対して、入射光の入射角を５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。評価は、２５０ｎｍから２５００ｎｍまでの平均反射率（太陽光加重平均反射率）（％）として測定した。
【０１７３】
なお、評価は、各サンプルについて、フィルムミラーを巻き戻し、５０ｍｍ幅×３００ｍｍ長さにカットしたものを、直径（外径）３５ｍｍの紙芯に巻き付けた後、４５℃で７日間放置（エージング）した。放置後、各サンプルを紙芯（巻芯）部分まで巻出し、紙芯部分から１周分外側の部分をサンプリングし、これをガラス板に貼りつけた後、上記方法に従って、正反射率（％）を測定した。下記表１では、当該方法に従って測定された正反射率を「初期正反射率（％）」と称する。
【０１７４】
［耐久性試験（１００℃×５００時間放置）後の正反射率の測定］
上記［正反射率の測定］において、各サンプルを４５℃で７日間放置（エージング）した後、さらに１００℃で５００時間放置（エージング）した。放置後、各サンプルを紙芯（巻芯）部分まで巻出し、紙芯部分から１周分外側の部分をサンプリングし、これをガラス板に貼りつけた後、上記［正反射率の測定］に記載の方法に従って、正反射率（％）を測定した。下記表１では、当該方法に従って測定された正反射率を「耐久試験後正反射率（％）」と称する。
【０１７５】
［引き出し力の測定］
各サンプルについて、フィルムミラーを巻き戻し、５０ｍｍ幅×３００ｍｍ長さにカットしたものを、直径（外径）３５ｍｍの紙芯に２．０ｋｇｆの力で巻き付けた後、４５℃で７２時間保管した後、さらに、２３℃で１時間放置した。所定時間放置後の、各サンプルの巻径に対して接線方向に３００ｍｍ／分の速度で５０ｍｍの長さ分引き出した際の力（Ｎ／５０ｍｍ）を測定した。
【０１７６】
［表面汚れの評価］
各フィルムミラーについて、ハードコート層を外側にして、ハードコート層にアルミ板（厚さ  ０．５ｍｍ）を貼り付け、４０℃湿度９０％下に１か月間暴露した後、上記［正反射率の測定］に記載の方法に従って、正反射率（％）を測定した。この反射率を、上記［正反射率の測定］で測定した初期の反射率で除して、反射率の低下率（％）を算出し、以下のようにして評価した。
【０１７７】
【化１０】
2016013672.tif 000012
【０１７８】
［表面鉛筆硬度（鉛筆硬度）の測定］
ＪＩＳ  Ｋ５６００−５−４：１９９９の規格に従って測定する。鉛筆を４５度の角度にして、５００ｇの荷重をかけて、各サンプルの最表面（ハードコート層側）の引っ掻き試験を行なう。５回のうち４回以上傷の付かなかった鉛筆の硬さ記号で、ランク付けを行なった。測定には、安田精機製作所社製の鉛筆硬度測定計（型番：５５３−Ｍ１）を用いて測定した。なお、下記表１では、単に「鉛筆硬度」と称する。
【０１７９】
【表１】
2016013672.tif 000013
【０１８０】
上記表１に示されるように、本発明のフィルムミラーは、セパレータを用いなくとも、高温条件下で反射率を高く維持できることが分かる。これは、セパレータを使用しないため、熱収縮による粘着層の乱れを抑制し、反射面の平滑性を維持できるためであると考察される。また、本発明のフィルムミラーは、巻き取った後もスムーズに（小さな引き出し力で）巻き出すことができる（離型できる）ことも示される。
【符号の説明】
【０１８１】
１…光反射層、
２…樹脂基材、
３…ハードコート層、
６…粘着層、
７…支持基材、
１０…フィルムミラー、
２０…太陽熱発電用反射装置。
【図１Ａ】
2016013672.tif 000014
【図１Ｂ】
2016013672.tif 000015
【図２Ａ】
2016013672.tif 000016
【図２Ｂ】
2016013672.tif 000017