(57)【要約】【課題】把持機構による被塗布体の把持位置や傾きにばらつきがあっても、被塗布体上に均一な塗膜を形成することができる塗布装置及びこれを用いて作成される像担持体を提供する。【解決手段】基体１を把持機構２で把持して塗布槽４内の塗布液に浸漬させた後、引き上げることによって基体１の表面に塗膜を形成する塗布装置において、基体１を引き上げる際に、基体１の位置を塗布槽４に対して水平方向に相対移動させる把持機構駆動ステージ３や塗布槽駆動ステージ７を備える。【選択図】図１
2016013532.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被塗布物を把持機構で把持して塗布槽内の塗布液に浸漬させた後、引き上げることによって被塗布物の表面に塗膜を形成する塗布装置において、
上記被塗布物を引き上げる際に、上記被塗布物の位置を上記塗布槽に対して水平方向に相対移動させる移動手段を備えることを特徴とする浸漬塗布装置。
【請求項２】
請求項１の塗布装置において、
上記移動手段は、上記塗布槽を水平移動させることを特徴とする浸漬塗布装置。
【請求項３】
請求項１の浸漬塗布装置において、
上記移動手段は、上記被塗布物の位置情報を計測する位置計測手段の計測結果を基に移動距離を決定することを特徴とする浸漬塗布装置。
【請求項４】
請求項１、２又は３の浸漬塗布装置において、
上記移動手段は、複数の把持機構及び／又は複数の塗布槽をそれぞれ個別に移動させることを特徴とする浸漬塗布装置。
【請求項５】
導電性円筒状基体上に少なくとも感光層を有する像担持体において、
上記感光層は、請求項１乃至４の浸漬塗布装置により成膜されることを特徴とする像担持体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被塗布物を把持機構で把持して塗布槽の塗布液に浸漬させた後、引き上げることによって被塗布物の表面に塗膜を形成する浸漬塗布装置、及びこの浸漬塗布装置により感光層が成膜された像担持体に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電子写真方式の画像形成装置においては、静電潜像を担持する像担持体として、無公害性と高生産性といった利点から、導電性を有する基体上に有機光導電物質からなる感光層が形成された電子写真感光体が広く利用されている。この電子写真感光体においては、電気的及び機械的特性の双方を満足するために、感光層として電荷発生層と電荷輸送層を積層した機能分離型感光体が広く利用されている。電子写真感光体に要求される特性としては、適用されるプロセスに応じた感度や電気的特性、光学的特性等が挙げられる。これらの特性を発現するにあたり、感光体材料が有する特性を有効に発現しうる感光層（塗膜）の精度、すなわち、均一性・平滑性・クリーン度等が必須条件となる。
【０００３】
したがって、電子写真感光体の前記要求特性を充たすための必要条件として、高精度な感光層（塗膜）が得られるような製造条件が重要な因子となる。電子写真感光体の製造方法としては、例えばアルミニウムなどの導電性の円筒状基体を用いる場合、基体表面に有機溶剤等を媒体とした感光体塗料を浸漬塗布する方法やスプレーにより塗布する方法などが挙げられる。基体表面に感光体塗料を塗布後、これを加熱することにより塗膜を乾燥及び／又は硬化させることで感光層（塗膜）を有する電子写真感光体を得る方法が一般的である。
【０００４】
このうち、塗布工程では円筒状基体に均一な塗膜を形成する方法として浸漬塗布が多用されている。浸漬塗布は、被塗布物たる円筒状基体を塗布液に浸漬することにより円筒状基体の外周面に塗膜を形成するものである。例えば、特許文献１には、塗布槽内に収容されている塗布液が塗布槽側壁上端の開口部を超えて溢れ流れるようにされている塗布槽に円筒状基体を浸漬し、次いでこの円筒状基体を引き上げることにより、円筒状基体上に塗膜を形成するオーバーフロー型の浸漬塗布方法が開示されている。この塗布方法では、浸漬速度を１ｍｍ／ｍｉｎ〜５０ｍｍ／ｍｉｎに設定することにより、塗布性の劣化や塗布欠陥を抑制している。
【０００５】
特許文献２には、複数本の円筒状基体を塗布槽に同時に浸漬させる多本取り方式のオーバーフロー型の浸漬塗布装置が開示されている。この塗布装置は、塗布槽に円筒状基体の数に対応する開口部と、開口部よりも少ない数の塗布液供給口とを備え、各開口部は塗布液供給口からの距離が離れるに従って垂直方向により低く設定されている。これにより、塗布槽の開口部での塗布液の挙動を均一化している。
【０００６】
特許文献３には、複数の円筒状基体を把持する把持機構を有し、アームに沿って搬送待機位置、浸漬塗布位置、乾燥位置の間を移動する搬送ステージを有する感光体製造装置が開示されている。この装置では、同一の搬送ステージ上で円筒状基体の配列間隔を変更しながら、円筒状基体の搬送、塗布、乾燥を実施する。これにより、浸漬塗布時は円筒状基体の配列間隔をできるだけ広くして良好な成膜性を保持しつつ、搬送時や乾燥時は円筒状基体の配列間隔をできるだけ狭くして乾燥炉や搬送路の大きさを小さくしている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、上述した浸漬塗布装置や浸漬塗布方法では、円筒状基体の形状のばらつきや、把持機構による把持時の円筒状基体の静止位置や傾きなどを要因として、円筒状基体の把持位置や傾きなどにばらつきが生じてしまう。そのため、漬塗布時において円筒状基体と塗布槽との位置関係にばらつきが生じ、オーバーフロー状態時には、円筒状基体と塗布槽との間の塗布液の挙動に円周方向で不均一性が生じてしまう。その結果、円筒状基体に均一な膜厚の塗膜を形成することが難しくなり、高品質な電子写真感光体を連続生産することが難しくなる。
【０００８】
特許文献１に開示される浸漬塗布装置は、塗布槽や円筒状基体を把持する把持機構が水平方向に動作するような機構を備えていない。よって、塗布槽から円筒状基体を引き上げる際、円筒状基体と塗布槽との位置関係を調整することができず、連続的に安定して円筒状基体に均一な塗膜を形成することが難しい。
【０００９】
特許文献２に開示される浸漬塗布装置においては、塗布槽開口部での塗布液の挙動を均一化することが期待できるが、円筒状基体と塗布槽との位置関係や繰り返しでの均一性を確保する手段については記載されていない。円筒状基体と塗布槽との位置関係は調整することができず、連続的に安定して円筒状基体に均一な塗膜を形成することが難しい。
【００１０】
特許文献３に開示される感光体製造装置においては、搬送待機位置、浸漬塗布位置、乾燥位置との間を搬送ステージがアームに沿って水平方向に移動することができるが、浸漬塗布時の動作ではない。そのため、浸漬塗布時における円筒状基体と塗布槽との位置関係は調整することができず、連続的に安定して円筒状基体に均一な塗膜を形成することが難しい。
【００１１】
本発明は以上の問題点に鑑みなされたものである。その目的は、把持機構による被塗布体の把持位置や傾きにばらつきがあっても、被塗布体上に均一な塗膜を形成することができる塗布装置及びこれを用いて作成される像担持体を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は、上記課題を解決するため、円筒状の被塗布物を把持機構で把持して塗布槽内の塗布液に浸漬させた後、引き上げることによって被塗布物の表面に塗膜を形成する塗布装置において、上記被塗布物を引き上げる際に、上記被塗布物の位置を上記塗布槽に対して水平方向に相対移動させる移動手段を備えることを特徴とするものである。
【発明の効果】
【００１３】
本発明は、把持機構による被塗布体の把持位置や傾きにばらつきがあっても、被塗布体上に均一な塗膜を形成することができるという優れた効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態に係る浸漬塗布装置の概略構成を示す構成図。
【図２】別の実施形態に係る浸漬塗布装置の概略構成を示す構成図。
【図３】同浸漬塗布装置の塗布槽ステージの駆動機構を説明する構成図。
【図４】多本取り方式の浸漬塗布装置の概略構成例を示す構成図。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の一実施形態について図面を参照して詳細に説明する。図１は、本実施形態に係る浸漬塗布装置の概略構成を示す構成図である。本実施形態に係る浸漬塗布装置は、図１に示すように、被塗布物たる円筒状の基体１を把持する把持機構２と、把持機構２を水平方向に動作させる把持機構駆動ステージ３と、把持機構２を昇降させて基体１を塗布液に浸漬又は引き上げる図示しない昇降装置を備えている。また、この浸漬塗布装置は、塗布槽として、塗布液を収容する塗布槽本体４と、塗布槽本体４の側壁上端部の開口部となるオーバーフロー部５より溢れ流れ出た塗布液を収容するオーバーフロー槽６とを備えている。また、後述するように、この浸漬塗布装置は、塗布槽本体４とオーバーフロー槽６とを水平方向に駆動させる塗布槽ステージ７を備えている。
【００１６】
さらに、この浸漬塗布装置のオーバーフロー槽６には、オーバーフロー槽６からの塗布液を収容する塗布液貯溜槽１０が配管８を介して接続されている。塗布槽本体４と塗布液貯溜槽１０との間には、ポンプ９、エアダンパー１１、フィルター１２が設置されている。エアダンパー１１とフィルター１２との間には流量計１３、液粘度計１４が設置されている。
【００１７】
上記構成の浸漬塗布装置において、前工程から今回の塗膜形成工程に入るべく、まず把持機構２によって把持された基体１は、把持機構駆動ステージ３により塗布槽本体４上に搬送される。把持機構２による把持方法は特に制限されないが、基体１の外周面に塗膜を形成するため、一般的には基体１の内周面での把持が用いられる。把持方法にはＯリングチャックや風船チャック、バルーンチャック等が使用できる。
【００１８】
把持機構２によって把持された基体１は、図示しない昇降装置により降下して塗布槽本体４の塗布液に浸漬された後、所定のタイミングで引き上げられ基体１の外周面に塗膜が形成される。塗布槽本体４内の塗布液が消費されるに従って、塗布液貯溜槽１０内の塗布液がポンプ９、エアダンパー１１、フィルター１２を介して塗布槽本体４に供給される。一方、塗布槽本体４のオーバーフロー部５から溢れ流れ出た塗布液は塗布液貯溜槽１０に戻される。このようにしてこの浸漬塗布装置では塗布液が循環する構成となっている。
【００１９】
図２は、別の実施形態に係る浸漬塗布装置の概略構成を示す構成図である。図２中、図１に示した部材と同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に省略する。
【００２０】
図２に示すように、浸漬塗布装置の塗布槽本体４のオーバーフロー部５’は、先端（開口）に向かって径が小さくなるテーパー構造となっている。これにより、同一の液粘度である塗布液を用いても、高速で基体１を引き上げることが可能となる。テーパー構造は、オーバーフロー部５’の上部先端内径と基体１の外径との差が０．５ｍｍ以上４ｍｍ以下であることが好ましく、１ｍｍ以上４ｍｍ以下であることがさらに好ましい。オーバーフロー部５’の上部先端内径と基体１の外径との差が０．５ｍｍ未満では、オーバーフロー部５’の上部先端内径と基体１の外径との隙間が０．２５ｍｍ以下となり、塗布液の流路が極端に狭くなってしまう。そのため、この隙間で乱流が発生し、塗布膜の均一性を得ることができない。また、オーバーフロー部５’の上部先端内径と基体１の外径との差が４ｍｍを超えると、テーパー構造先端部での塗布液の流速が速くなることにより、引き上げ速度を高速にできる効果が低下してしまう。
【００２１】
上記浸漬塗布装置に用いられるポンプ９は要求される塗膜均一性にあわせて選定することができ、例えばダイヤフラムポンプ、容積式ポンプ、スネークポンプ等が適用できる。また配管経路内には、エアダンパー１１を設置することにより脈動を抑制し、配管経路やポンプ９、フィルター１２などにより発生する送液の負均一性を改善することができる。フィルター１２は、塗布液内の異物除去を目的に設置されており、塗布液への適性やフィルタリングの程度にあわせてハウジングやフィルター種を選定することができる。また、浸漬塗布では塗布液の粘度及び循環流量が塗膜品質に影響することから、流量計１３及び液粘度計１４をインラインで設置し、その管理を実施する。
【００２２】
ところで、上記浸漬塗布装置においては、上述したように、基体１の形状のばらつきや、把持機構２による把持時の基体１の静止位置や傾きなどを要因として、基体１の把持位置や傾きなどにばらつきが生じてしまう。浸漬塗布時において円筒状基体と塗布槽との位置関係にばらつきが生じ、オーバーフロー状態時には、円筒状基体の円周方向に塗布液の挙動に不均一性が生じてしまうのである。なお、この問題は、基体１の内周面、外周面でのいずれの把持方法においても起こり得る問題である。
【００２３】
そこで、本実施形態に係る浸漬塗布装置においては、この基体１の状態を位置計測機構１５にて計測し、その計測結果を基に基体１と塗布槽本体４との位置を相対移動させ、常に基体１が塗布槽本体４に対し同じ位置関係にあるなかで塗布が行えるようにする。移動手段たる把持機構駆動ステージ３、塗布槽駆動ステージ７の少なくともどちらか一方を水平方向（Ｘ方向、Ｙ方向）に移動させて、基体１と塗布槽本体４との位置を相対移動させ狙いの位置へ動作させるのである。把持機構駆動ステージ３は把持機構２を上部から支える構造となるため、停止位置の再現安定性や位置制御精度が塗布槽駆動ステージ７に比べ劣る。そのため、構造上どちらの構造の採用も可能であれば、移動手段は、より均一性塗膜を形成できる塗布槽駆動ステージ７で実施することが好ましい。
【００２４】
把持機構駆動ステージ３又は塗布槽駆動ステージ７による移動量の決定に際しては、例えば、位置計測機構１５での測定データと、狙いとなる基体１の長手方向の位置データとを紐付けさせることにより行うとよい。基体１を引き上げる際に、それぞれの長手方向での位置データを基に、狙いの位置からずれた位置分を把持機構駆動ステージ３又は塗布槽ステージ７を動作させることで狙いの位置に調整する。
【００２５】
把持機構駆動ステージ３及び塗布槽駆動ステージ７の駆動方法としては、一般的なエアシリンダやロボシリンダ、サーボモータ等により外力を与えることにより行うことができる。動作時の衝撃や位置停止精度を良好にするためには、特にサーボモータで駆動させることが好ましい。
【００２６】
図３は、本実施形態に係る塗布槽駆動ステージの駆動機構の例を示す構成図である。本実施形態では、さらに高精度な駆動を実現させるために、図３に示すように、サーボモータ２１により駆動される高精度テーパー部材２２と、塗布槽駆動ステージ７に接続された球体部材２３で構成されたステージ駆動機構を採用している。サーボモータ２１による動作量をテーパー部材２２で縮小させてサーボモータの動作方向に対し直角方向（図中Ｘ、Ｙ方向）に塗布槽駆動ステージ７を動作させるためのものである。本機構により、サーボモータ２１の分解能以上の高精度で塗布槽駆動ステージ７を動作させることができる。
【００２７】
ここで位置計測機構１５に使用される位置測定器としては、渦電流式、透過型及び反射型の変位センサ等が使用できるが、溶剤蒸気下で測定への影響が小さい渦電流式がより好ましい。基体１に接触することが品質上問題ない場合には、接触式の変位計を使用することができる。この位置計測機構１５は少なくとも基体１の長手方向から見た断面方向に２箇所以上設置することが好ましい。把持機構駆動ステージ３についても位置計測機構１５の設置方向へ動作できるよう同一の駆動軸数とすることがより好ましい。
【００２８】
位置計測機構１５による計測タイミングは基体１を浸漬させる際に測定することが好ましいが、設備構成上スペースが確保できる場合には塗布槽本体４とは独立した位置で把持機構２を垂直方向に動作させて計測することもできる。計測データ数は特に制限はないが、長手方向に対し多くの計測を実施することで位置計測精度が向上し、基体１を狙いの位置に動作させることがより容易となる。
【００２９】
なお、図１及び図２に示す浸漬塗布装置の例では、基体１と塗布槽本体４を１つのセットとして例示しているが、本発明は、取り本数が複数あるいわゆる多本取り方式の浸漬塗布装置においても適用できる。図４は、多本取り方式の浸漬塗布装置の例を示す構成図である。図４中、図１及び図２に示した部材と同一又は相当する部分には同一の符号を付しており、その重複説明は適宜に省略する。図４に示す浸漬塗布装置は、３本の基体に塗膜を形成するべく、３対の把持機構駆動ステージ３及び塗布槽駆動ステージ７が相互に干渉しない範囲で設置されている。
【００３０】
以下、本発明を実施例を挙げて更に具体的に説明するが、これらは本発明の一態様にすぎず、これらに本発明の技術的範囲は限定されない。
【００３１】
[実施例１]
アルミニウム製の円筒状基体（外径６０ｍｍ）上に下記組成の中間層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃／２０分間乾燥を行ない、膜厚約３．５μｍの中間層を形成した。続いて下記組成の電荷発生層用塗工液を用いて塗布後、１３０℃／２０分間乾燥を行ない、膜厚約０．２μｍの電荷発生層を形成した。
【００３２】
（中間層用塗工液）
酸化チタンＣＲ−ＥＬ（石原産業社製）：             ５０重量部
アルキッド樹脂ベッコライトＭ６４０１−５０：      １５重量部
（固形分５０重量％、大日本インキ化学工業社製）
メラミン樹脂Ｌ−１４５−６０：                      ８重量部
（固形分６０重量％、大日本インキ化学工業社製）
２−ブタノン：                                  １２０重量部
【００３３】
（電荷発生層用塗工液）
下記構造式（化１）の非対称ビスアゾ顔料：        ２．５重量部
ポリビニルブチラール（「ＸＹＨＬ」ＵＣＣ製）：    ０．５重量部
メチルエチルケトン：                            １１０重量部
シクロヘキサノン：                              ２６０重量部
【化１】
2016013532.tif 000003
【００３４】
さらに、下記組成の電荷輸送層用塗工液を用いて下記に示す塗布装置及び条件にて塗布後、１３０℃／２０分間乾燥を行ない、膜厚約３０μｍの電荷輸送層を形成した。
（電荷輸送層用塗工液）
ポリカーボネートＺポリカ（帝人化成社製）：           １０重量部
下記構造式（化２）で示される電荷輸送性化合物：        ７重量部
テトラヒドロフラン：                                ８０重量部
シリコーンオイル：                            ０．００２重量部
（ＫＦ５０−１００ｃｓ、信越化学工業社製）
【化２】
2016013532.tif 000004
【００３５】
（塗布装置及び条件）
図２に示す浸漬塗布装置を用い、膜厚中心値３０μｍ狙いの塗膜を形成した。
循環流量：３．５Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：あり
上部先端部と基体外形との差：４ｍｍ
取り本数：５本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式変位センサ
計測位置：基体長手方向に対し、５ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：サーボモータによるＸＹ軸駆動（ステージ独立型）
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差をＸＹ軸それぞれ５ｍｍ間隔で動作させた。ただし１動作あたりの動作量Ｌの最大値はオーバーフロー槽先端内径をＲ、基体外径をｒとしたとき下記式１を満たす事とし、超える場合は動作量をＬとする。また、Ｒ−ｒが１０ｍｍを超える場合には、Ｌの最大値を１００μｍとする。
（Ｒ−ｒ）／１００  ≧  Ｌ・・・式１
上記内容にて、５０本連続して塗布を実施し、その後乾燥させサンプルを作製した。
【００３６】
（評価）
作製したサンプルの電荷輸送層単独の膜厚を光干渉式膜厚計により測定し、作製した５０本のサンプルの膜厚均一性を下記のように評価した。
１本内膜厚バラツキ（長手方向５ｍｍ間隔、円周方向４５°ごと８）
１μｍ未満：優
１μｍ以上１．５μｍ未満：良
１．５μｍ以上２μｍ未満：可
２μｍ以上：不可
【００３７】
[実施例２]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：５．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：あり
上部先端部と基体外形との差：０．５ｍｍ
取り本数：１０本取り
位置計測：キーエンス社製  透過型レーザー変位センサ
計測位置：基体長手方向に対し、１０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：サーボモータによるＸＹ軸駆動（ステージ独立型）
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差をＸＹ軸それぞれ１０ｍｍ間隔で動作させた。ただし、動作量Ｌの制約は実施例１の（式１）の通りとする。
【００３８】
[実施例３]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：４．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：なし
上部先端部と基体外形との差：２０ｍｍ
取り本数：２本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、３０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：図３に示す機構にて実施。本機構ではサーボモータの動作量の１／２５動作するよう設定し実施した。（ステージ独立型）
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差をＸＹ軸それぞれ３０ｍｍ間隔で動作させた。ただし、動作量Ｌの制約は実施例１の（式１）の通りとする。
【００３９】
[実施例４]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：７．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：あり
上部先端部と基体外形との差：１ｍｍ
取り本数：１本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、１０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：サーボモータによるＸＹ軸駆動（ステージ独立型）
塗布槽駆動ステージ：なし
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差を、各ステージでその差の１／２ずつＸＹ軸それぞれ２０ｍｍ間隔で動作させた。ただし、動作量Ｌの制約は実施例１の（式１）の通りとする。
【００４０】
[実施例５]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：４．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：あり
上部先端部と基体外形との差：２ｍｍ
取り本数：５本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、１０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：サーボモータによるＸＹ軸駆動（ステージ一体型）
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差を、各ステージでその差の１／２ずつＸＹ軸それぞれ２０ｍｍ間隔で動作させた。ただし、動作量Ｌの制約は実施例１の（式１）の通りとする。
【００４１】
[実施例６]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：５．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：なし
上部先端部と基体外形との差：２０ｍ
取り本数：５本取り
位置計測：キーエンス社製  透過型レーザー変位センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、１０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：サーボモータによるＸＹ軸駆動（ステージ一体型）
塗布槽駆動ステージ：なし
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差をＸＹ軸それぞれ１０ｍｍ間隔で動作させた。ただし、動作量Ｌの制約は実施例１の（式１）の通りとする。
【００４２】
[実施例７]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：７．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：あり
上部先端部と基体外形との差：４ｍｍ
取り本数：１０本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、１０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：サーボモータによるＸＹ軸駆動（ステージ一体型）
ステージ動作制御方法：計測データと基準位置の差を、各ステージでその差の１／２ずつＸＹ軸それぞれ２０ｍｍ間隔で動作させた。ただし、動作量Ｌの制約は実施例１の（式１）の通りとする。
【００４３】
[比較例１]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：４．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：なし
上部先端部と基体外形との差：０．５ｍｍ
取り本数：５本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、３０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：なし
【００４４】
[比較例２]
塗布装置及び条件を下記の通りとした以外は実施例１と同様に作製及び評価を実施した。
循環流量：５．０Ｌ／ｍｉｎ
上部テーパー部：なし
上部先端部と基体外形との差：２０ｍｍ
取り本数：５本取り
位置計測：キーエンス社製  渦電流式センサ
計測位置：ワーク長手方向に対し、３０ｍｍ間隔でＸＹ方向それぞれデータ取得
把持機構駆動ステージ：なし
塗布槽駆動ステージ：なし
【００４５】
実施例１乃至実施例７及び比較例１及び比較例２の評価結果について下記の表１に示す。
【表１】
2016013532.tif 000005
【００４６】
表１の結果からわかるように、基体の位置を塗布槽本体の位置に対して水平方向に相対移動させて塗膜を形成した実施例１乃至実施例７では、両者の位置が不動である比較例１及び比較例２に比べ、膜厚均一性に優れていた。特に、塗布槽駆動ステージにより塗布槽本体の位置を移動させた実施例１、２、３、５、７では、把持機構駆動ステージにより基体の位置を移動させた実施例４、６に比べ、膜厚均一性に優れていた。また、複数設置された塗布槽駆動ステージを互いに独立して駆動させて塗膜を形成した実施例１、２、３では、複数の塗布槽駆動ステージを一体に駆動させた実施例５、７に比べ、膜厚均一性に優れていた。
【００４７】
以上に説明したものは一例であり、本発明は次の態様毎に特有の効果を奏する。
（態様Ａ）
基体１などの被塗布物を把持機構２などの把持機構で把持して塗布槽本体４などの塗布槽内の塗布液に浸漬させた後、引き上げることによって被塗布物の表面に塗膜を形成する塗布装置において、上記被塗布物を引き上げる際に、上記被塗布物の位置を上記塗布槽に対して水平方向に相対移動させる把持機構駆動ステージ３や塗布槽駆動ステージ７などの移動手段を備える。
これによれば、上記実施形態について説明したように、把持機構による被塗布体の把持位置や傾きにばらつきがあっても、移動手段が被塗布物と塗布槽との位置を水平方向に相対移動させて被塗布物と塗布槽との間隔を調整する。これにより、塗布槽から被塗布物を引き上げる際、基体と塗布槽との間隔を一定にすることができ、連続的に安定して被塗布体上に均一な塗膜を形成することができる。
（態様Ｂ）
（態様Ａ）の塗布装置において、塗布槽駆動ステージ７などの移動手段は、塗布槽本体４などの塗布槽を水平移動させる。
これによれば、上記実施形態について説明したように、移動手段は被塗布物を移動させる手段であっても、塗布槽を移動させる手段であってもよいが、塗布槽を移動させる移動手段は、被塗布物を移動させる移動手段に比べ、停止位置の再現安定性や位置制御精度に優れる。
（態様Ｃ）
（態様Ａ）又は（態様Ｂ）の浸漬塗布装置において、把持機構駆動ステージ３や塗布槽駆動ステージ７などの移動手段は、上記被塗布物の位置情報を計測する位置計測機構１５などの位置計測手段の計測結果を基に移動距離を決定する。
これによれば、上記実施形態について説明したように、移動手段は位置計測手段の計測結果を基に容易に移動距離を決定することができる。
（態様Ｄ）
（態様Ａ）（態様Ｂ）又は（態様Ｃ）１の浸漬塗布装置において、上記移動手段は、複数の把持機構及び／又は複数の塗布槽をそれぞれ個別に移動可能である。
これによれば、上記実施形態について説明したように、複数本ある被塗布物の把持位置や傾きに互いに異なるばらつきがあっても、それぞれ個別に対応することができる。
（態様Ｅ）
基体１などの導電性円筒状基体上に少なくとも感光層を有する電子写真感光体などの像担持体において、上記感光層は、（態様Ａ）（態様Ｂ）（態様Ｃ）（態様Ｄ）の浸漬塗布装置により成膜される。
これによれば、上記実施形態について説明したように、均一な感光層が形成されるので、高品質な電子写真感光体を得ることができる。
【符号の説明】
【００４８】
１  基体
２  把持機構
３  把持機構駆動ステージ
４  塗布槽本体
５  オーバーフロー部
６  オーバーフロー槽
７  塗布槽駆動ステージ
８  配管
９  ポンプ
１０  塗布液貯溜槽
１５  位置計測機構
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４９】
【特許文献１】特開平９−３０４９４９号公報
【特許文献２】特開２００２−１８９３０５号公報
【特許文献３】特開２００６−３３０３５５号公報
【図１】
2016013532.tif 000006
【図２】
2016013532.tif 000007
【図３】
2016013532.tif 000008
【図４】
2016013532.tif 000009