(57)【要約】【課題】イージークリーンコーティングの特性が改善され、かつ接触面が十分に要求される特性を有するように、多数のイージークリーンコーティングと相互作用することに好適である特別な表面を有する基材要素の提供。【解決手段】支持材料（２）及びコーティング（３）を包含する、イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素（１１、１２）において、コーティング（３）は、イージークリーンコーティングと相互作用を行うことができるように構成されている接着促進剤層であり、かつ接着促進剤層は混合酸化物を包含することを特徴とする、イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持材料（２）と、コーティング（３）とを含む、イージークリーンコーティングでのコーティング用の基材要素（１１、１２）において、コーティング（３）は接着促進剤層であり、イージークリーンコーティングと相互作用を行うことができるように構成されており、かつ接着促進剤層は混合酸化物を包含することを特徴とする、イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素。
【請求項２】
接着促進剤層（３）は、液相コーティング、殊に熱固化ゾルゲル層である、請求項１に記載の基材要素。
【請求項３】
接着促進剤層（３）は、CVDコーティング又は火炎熱分解層である、請求項１に記載の基材要素。
【請求項４】
接着促進剤層（３）は、PVDコーティング、殊にスパッタリング層である、請求項１に記載の基材要素。
【請求項５】
接着促進剤層（３）は、１層以上の中間層によって部分層に分かれており、部分層は有利に０．３〜１０ｎｍの厚さ、特に有利に１〜３ｎｍの厚さを有する、請求項１から４までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項６】
接着促進剤層（３）は、１．３５〜１．７の範囲、有利に１．３５〜１．６の範囲、特に有利に１．３５〜１．５６の範囲の屈折率を有する、請求項１から５までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項７】
接着促進剤層（３）は、珪素混合酸化物層であり、殊に、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素層であり、この際、有利に元素アルミニウムの少なくとも１種の酸化物が含有されている、請求項１から６までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項８】
接着促進剤層（３）は、１ｎｍよりも大きい、有利に１０ｎｍよりも大きい、特に有利に２０ｎｍよりも大きい厚さを有する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項９】
接着促進剤層（３）上に外層（４）が配置されていて、かつこの外層（４）は粒子層又は多孔層である、請求項１から８までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１０】
外層（４）は、酸化珪素から、又は珪素混合酸化物から成る、請求項９に記載の基材要素。
【請求項１１】
支持材料（２）は、金属、プラスチック、結晶、セラミック、ガラス、ガラスセラミック又は複合材料である、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１２】
支持材料（２）は、リチウムアルミニウムシリケートガラス、ソーダ石灰シリケートガラス、硼珪酸ガラス、アルカリ金属アルミノシリケートガラス、アルカリ金属不含又は低アルカリ金属アルミノシリケートガラスである、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１３】
支持材料（２）は表面（２０）上に構造化されていて、殊にエッチング表面を有する、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１４】
接着促進剤層（３）上へのイージークリーンコーティングの塗布後に、中性塩噴霧試験において１．５倍よりも長く、有利に２倍よりも長く、特に有利に３倍よりも長く負荷させた後のイージークリーンコーティングに対する水接触角は、中性塩噴霧試験において相応により短い負荷における接着促進剤層を塗布していない同じイージークリーンコーティングの場合よりも大きい、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１５】
次の段階：
−  少なくとも１表面（２０）を有する、殊にガラス又はガラスセラミック製の、支持材料（２）を準備する段階、
−  接着促進剤前駆層で、ゾルゲル塗布技術により支持材料の少なくとも１表面（２０）をコーティングする段階、
−  接着促進剤前駆層を熱固化し、かつ接着促進剤前駆層を接着促進剤層（３）へと変換する段階、この際、接着促進剤層は、混合酸化物、有利に珪素混合酸化物、特に有利に、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物と又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含し、従って、そうして得られる基材要素（１１）上に、イージークリーンコーティングを噴霧法、浸漬法、すり込法又は印刷法によって塗布可能である、
を包含する、イージークリーンコーティングでのコーティング用の基材要素（１１、１２）の製法。
【請求項１６】
支持材料（２）上での接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、支持材料の軟化温度を下回って、殊に、５５０℃より低い、有利に３５０〜５００℃、特に有利に４００〜５００℃の基材表面温度で、行われる、請求項１５に記載の基材要素（１１、１２）の製法。
【請求項１７】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、インサイチューで、支持材料の熱処理を伴い行われる、請求項１５に記載の基材要素の製法。
【請求項１８】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換の前に、有利に３００℃より低い温度で、特に有利に２００℃より低い温度で、接着促進剤前駆層の乾燥を先行させる、請求項１５から１７までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の製法。
【請求項１９】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換に続いて、殊に火炎熱分解による、接着促進剤層（３）上の外層（６）の塗布を後続させ、この際、外層（６）は、有利に酸化珪素から又は珪素混合酸化物から成り、かつこの外層は、粒子層又は多孔層であり、従ってそうして得られる基材要素上に、イージークリーンコーティングを、噴霧法、浸漬法、すり込法又は印刷法によって直接塗布可能である、請求項１５から１８までのいずれか１項に記載の基材要素（１２）の製法。
【請求項２０】
殊にガラス又はガラスセラミック製の、支持プレート（２）と、混合酸化物、有利に珪素混合酸化物、特に有利に少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含する接着促進剤層（３）とを含む、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の、イージークリーンコーティング、殊に有機弗素化合物又はナノ層系で、コーティングするための使用。
【請求項２１】
接着促進剤層（３）上に外層（６）が配置されていて、かつこの外層は粒子層又は多孔層であり、かつ殊に酸化珪素又は珪素混合酸化物から成る、イージークリーンコーティングで、殊に有機弗素化合物又はナノ層系でコーティングするための、請求項２０に記載の基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項２２】
カバーとしての、モニターのディスプレイスクリーン又はディスプレイフロントスクリーンとしての、有利に３Ｄディスプレイ又はフレキシブルディスプレイとしての、屋内及び屋外の建築範囲におけるスクリーンとしての、例えば、ショーウィンドウ、絵、ショーケース、カウンター、冷凍冷蔵ケースのガラス板又は清浄にするには接近が困難なガラス板としての、オーブンフロントパネルとしての、装飾ガラス要素、殊に汚染の比較的高い危険を伴う露出した範囲での、例えば、台所、浴室又は実験室での装飾ガラス要素としての、又は同様にソーラーモジュールのカバーとしての、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項２３】
殊にタッチ機能として構成されている、特に有利に抵抗方式、容量方式、光学方式、赤外線方式又は表面弾性波方式により作用されるタッチ技術を有する、対話型入力要素のための基材としての、殊にタッチスクリーン機能を有するディスプレイスクリーンとしての、特に有利にシングルタッチディスプレイ、デュアルタッチディスプレイ又はマルチタッチディスプレイとしての、請求項１から１４までのいずれか１項に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項２４】
請求項１から１９までのいずれか１項に記載の基材要素を含有する表示要素又は操作要素を有する装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、支持プレート及び支持プレート上に配置された接着促進剤層を包含し、前記接着促進剤層がイージークリーン（Easy-to-clean）コーティングと相互作用をするために好適である、イージークリーンコーティングでのコーティング用の基材要素に関する。更に、本発明は、そのような基材要素の製法及びそのような基材要素の使用に関する。
【背景技術】
【０００２】
表面、殊に透明な材料、例えば、ガラス又はガラスセラミックの処理は、特に、接触画像スクリーン又はセンサー画像スクリーン（タッチスクリーン）の急速に成長する市場に基づき、例えば、対話式入力でのタッチパネルアプリケーションの範囲で、増々重要性を増してきている。この際、接触面は、例えば、マルチタッチアプリケーションの範囲で増々高められる透明性及び機能性の要件に適合しなければならない。タッチスクリーンは、例えば、スマートフォン、現金自動預払機の操作部として又は、例えば、駅の時刻表情報のための情報モニターとして使用される。更に、タッチスクリーンは、例えば、ゲーム機で、又は工業における機械の制御（工業用PCｓ）にも使用される。透明なガラス表面又はガラスセラミック表面の処理は、全てのカバースクリーン、しかし特に携帯用電子製品のカバースクリーン、例えば、ノートブック、ラップトップコンピューター、腕時計又は携帯電話のディスプレイに注目が集まり始めている。しかし、例えば、冷凍冷蔵ケース、ショーウィンドウ、カウンター（Theken）又はショーケース（Vitrinen）の、ガラス表面又はガラスセラミック表面にも、表面処理はますます重要である。従って、全ての適用で、良好で衛生的な機能性で高い清浄労力をかけずに、高い美的作用を有する良好な透明性を保証することがねらいであり、このことは、例えば、汚れ及び指紋の残渣によって損なわれる。
【０００３】
表面処理は、例えば、ぎらつきのないスクリーン、例えば、アンチグレアスクリーンで公知であるガラス表面のエッチングである。しかしこの場合、透明度及び解像度の高い損失が欠点であり、それというのも、構造化された表面に基づき、装置から観察者への結像光も表示画面で破壊されかつ散乱されるからである。高い解像度を達成するために、イージークリーンコーティングでの表面のコーティングの範囲で他の解決可能性が探究される。
【０００４】
この際、特にタッチスクリーンのために、要求される特性の前面に、殊にマルチタッチアプリケーションのために平滑であるべき接触表面の触覚的及びハプチックな知覚可能性が押し出される。この際、本質的には、利用者による触知性が問題であり、測定可能な粗度はより問題が少ない。更に、僅少な反射挙動での高い透明度、高い防汚性及び清浄化しやすさ、特に利用後及び多くの清浄化サイクル後のイージークリーンコーティングの長期耐久性、例えば、スタイラスの使用時での耐引掻き性及び耐摩耗性、塩及び脂肪を含む指汗による化学的負荷に対する耐性及び同様に環境負荷及びUV負荷でのコーティングの耐久性が、前面に押し出される。イージークリーン作用は、環境により又は同様に自然使用により表面に達する汚れが、容易に再び除去されること、又はしかし、汚れが表面に付着残存しないような性質があることを確保する。この場合には、イージークリーン表面は、例えば指紋による、汚れが大体においてもはや目に見えず、従って清浄にしなくても使用表面はきれいに見えるという特性を有する。この場合は、イージークリーン表面の特例としての場合として、耐指紋表面である。接触面は、例えば、利用者による使用の際に、指紋の残渣から生じる水付着物、塩付着物及び脂肪付着物に対して耐性でなければならない。接触面の湿潤特性は、接触面が、疎水性でもあり、疎油性でもあるようでなければならない。
【０００５】
公知のイージークリーンコーティングの大部分は、本質的に、水に対する高い接触角を有する有機弗素化合物である。即ち、独国特許出願公開第１９８４８５９１号明細書は、そのような保護層の製造のために、キャリヤー液中の有機弗素化合物からの液体物質系の形の式  Rf−V  の有機弗素化合物の使用を記載していて、この際、式  Rf−V  中、Rfは、部分的又は完全に弗素化されていてよく、かつ直鎖、分枝鎖又は環状で存在していてよい脂肪族炭化水素基を表わし、この際、前記炭化水素基は、１個以上の酸素原子、窒素原子又は硫黄原子によって中断されていてよい。Vは、極性又は双極性の基を表わし、これは−COOR、−COR、−COF、−CH2OR、−OCOR、−CONR2、−CN、−CONH−NR2、−CON=C(NH2)2、−CH=NOR、−NRCONR2、−NR2COR、NRw、−SO3R、−OSO2R、−OH、−SH、≡B、−OP(OH)2、−OPO(OH)2、−OP(ONH4)2、−OPO(ONH4)2、−CO-CH=CH2から選択され、この際、基V中のRは、同じ又は異なっていてよく、かつ水素、フェニル基又は１２個まで、有利に８個までの炭素原子を有する、部分的又は完全に弗素化又はクロロ弗素化されていてよい直鎖又は分枝鎖のアルキル基又はアルキルエーテル基を表わし、かつｗは、２又は３であるか、又は−Rv-V-を表わす。式−Rv-V-中、Vは、前記の極性又は双極性の基を表わし、かつRvは、１〜１２個まで、有利に８個までの炭素原子を有する、部分的又は完全に弗素化又はクロロ弗素化されていてよい直鎖又は分枝鎖のアルキレン基を表わす。
【０００６】
更に、欧州特許出願公開第０８４４２６５号明細書は、表面に、十分で長く持続する防汚性、十分な耐候性、減摩性（Gleitfaehigkeit）、抗付着性、撥水性並びに油汚れ及び指紋に対する抵抗性を与えるために、金属材料、ガラス材料及びプラスチック材料のような基材表面のコーティングのための、珪素を含む有機フルオロポリマーを記載している。更に、珪素を含有する有機フルオロポリマー、弗素を含有する有機溶剤及びシラン化合物を包含する、表面処理法用の処理溶液を挙げている。そのような有機フルオロポリマーでのコーティング用の基材表面の適合性については何ら示されていない。
【０００７】
米国特許出願公開第２０１０／０２７９０６８号明細書は、耐指紋コーティングとして、フルオロポリマー又はフルオロシランを記載している。この関連では、既に米国特許出願公開第２０１０／０２７９０６８号明細書は、耐指紋コーティングのために要求された表面特性を準備するために、そのようなコーティングでの表面のコーティングだけでは不十分であることを指摘する。米国特許出願公開第２０１０／０２７９０６８号明細書は、前記問題の解決のために、ガラス製品の表面へ構造をエンボス加工すること又はこれへ粒子を圧入することを提案している。耐指紋コーティングでのコーティングのための表面のそのような表面の用意は、極めて煩雑で経費が掛かり、かつ必要な熱によるプロセスに基づく不所望な応力がガラス製品中に生じる。
【０００８】
米国特許出願公開第２０１０／０２８５２７２号明細書は、耐指紋コーティングとして、僅少な表面張力を有するポリマー又はオリゴマー、例えば、フルオロポリマー又はフルオロシランを記載している。耐指紋コーティングでのコーティングのための表面の用意のために、ガラス表面をサンドブラストし、かつその上に物理蒸着又は化学蒸着により、金属又は金属酸化物、例えば、酸化錫、酸化亜鉛、酸化セリウム、アルミニウム又はジルコニウムを施すことが提示されている。更に、耐指紋コーティングのための表面の用意のために、スパッタされた金属酸化物膜をエッチングするか、又は蒸着された金属膜を陽極酸化させることが提案されている。２つのトポロジカル平面を有する段階状の表面構造が提供されるということである。この場合、耐指紋コーティングはもう１つの段階状のトポロジカル構造を包含する。この方法も煩雑で経費が掛かり、その他の必要な特性を十分に考慮することなく、構造化された表面によるポリマーの機械的固着での疎水性及び疎油性の表面が単に得られるだけである。
【０００９】
米国特許出願公開第２００９／０１９７０４８号明細書は、ガラスカバーにある程度の疎水性及び疎油性を与え、従ってガラス表面と水及び油との湿潤を最小限にするフルオロ末端基、例えば、ペルフルオロカーボン基又はペルフルオロカーボン含有基を有する外側コーティングの形での、ガラスカバー上の耐指紋コーティング又はイージークリーンコーティングを記載している。ガラス表面上へのこの層の塗布のために、ナトリウムイオン及び／又はリチウムイオンの代わりに、殊にカリウムイオンを挿入することによるイオン交換により表面を化学的に硬化させることが提案されている。更に、ガラスカバーは、耐指紋コーティング又はイージークリーンコーティングの下に、二酸化珪素、石英ガラス、弗素ドープ二酸化珪素、弗素ドープ石英ガラス、MgF2、HfO2、TiO2、ZrO2、Y2O3又はGd2O3からの反射防止層を有することができる。また、ガラス表面上に、耐指紋コーティングの前に、エッチング、リソグラフィー又は粒子コーティングにより、テクスチャー又はパターンを生じさせることも提示されている。ガラス表面を、イオン交換による硬化後に、耐指紋コーティングの前に、酸処理することも提案されている。これらの方法も同様に煩雑であり、要求される特性の全体を満足するイージークリーンコーティングは得られない。
【００１０】
殊に、公知技術水準によるそのようなイージークリーン層の欠点は、前記層の限定された長期耐久性であり、従って、化学的及び物理的攻撃により、イージークリーン特性の急速な減少が観察される。この欠点は、イージークリーンコーティングの種類に依存するばかりでなく、それが塗布される基材表面の種類にも依存する。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】独国特許出願公開第１９８４８５９１号明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第０８４４２６５号明細書
【特許文献３】米国特許出願公開第２０１０／０２７９０６８号明細書
【特許文献４】米国特許出願公開第２０１０／０２８５２７２号明細書
【特許文献５】米国特許出願公開第２００９／０１９７０４８号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
従って、本発明の課題は、イージークリーンコーティングの特性が改善され、かつ接触面が十分な程度に要求される特性を有するように、多数のイージークリーンコーティングと相互作用することに好適である特別な表面を有する基材要素を準備することであり、かつこの際、そのような基材の製造は経費的に有利でありかつ簡単である。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明は、この課題を驚異的に簡単に、請求項１、請求項１５、請求項２０及び請求項２２〜２４に記載の特徴で解決する。本発明の更なる有利な実施態様は、従属請求項２〜１４、１６〜１９及び２１に記載されている。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明による基材要素の有利な１実施態様を示す。
【図２】図２は、本発明による基材要素の更なる有利な実施態様を示す。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明者は、全ての要求された特性を満足させるイージークリーンコーティングのために、支持基材上に配置されていて、混合酸化物から成りかつ後に塗布されるべきイージークリーンコーティングと相互作用をする特性を有する特殊な接着促進剤層を、コーティングされるべき基材要素上に準備しなければならないことを確認した。
【００１６】
相互作用は、本発明による基材の接着促進剤層と後に塗布されるべきイージークリーンコーティングとの間の化学結合、殊に共有結合であり、これはイージークリーンコーティングの長期安定性を高めるように作用する。
【００１７】
“イージークリーン（ETC）コーティング”、例えば、殊に“耐指紋（AFP）コーティング”とは、高い防汚性を有し、易清浄性でありかつ耐落書き作用も示し得るコーティングであると解される。そのようなイージークリーンコーティングの材料表面は、付着物、例えば、指紋からのもの、例えば、液体、塩、脂肪、汚れ及び他の物質に対する耐性を示す。この耐性は、そのような付着物に対する化学的耐性にも、そのような付着物に対する僅少な湿潤挙動にも関連する。更に、利用者による接触の際に指紋が生じるのを抑止、回避又は減少することに関連する。指紋は、特に、塩、アミノ酸及び脂肪、タルク、汗、死滅した皮膚細胞の残渣、化粧品及びローションのような物質及び、事情により、様々な種類の液体又は粒子の形の汚れを含有する。
【００１８】
従って、そのようなイージークリーンコーティングは、塩を含む水に対しても、脂肪付着物及び油付着物に対しても耐性でなければならず、かつこれら双方に対する僅少な湿潤挙動を有しなければならない。塩水噴霧試験での高い耐性に特に注目すべきである。イージークリーンコーティングを有する表面の湿潤特性は、表面が疎水性であることを証明する、即ち、表面と水との間の接触角が９０°よりも大きいだけでなく、疎油性であることも証明する、即ち、表面と油との間の接触角が５０°よりも大きいようでなければならない。
【００１９】
殊に公知技術水準による解決手段は、接触角の上昇のために、いわゆる、ロータス効果（Lotus-Effekt）を利用する。この際、表面の二重構造が根底にあり、それによって、接触面、従って、表面とその上にある粒子及び水滴との間の付着力が著しく減少される。この二重構造は、約１０〜２０マイクロメートルの範囲の特徴的に形成された表面構造及びその上に塗布されたイージークリーンコーティングから形成される。粗面化された固体表面上での液体の湿潤挙動は、低い接触角についてはヴェンツェルモデル（Wenzel-Modell）で、又は高い接触角についてはキャシー−バクスターモデル（Cassie-Baxter Modell）で記載することができ、例えば、米国特許出願公開第２０１０／０２８５２７２号明細書が詳説している。この構造的効果とは異なり、本発明は、化学的に基づく方法で前記課題を解決する。
【００２０】
有利な１実施態様で、接着促進剤層は、液相コーティング、殊に熱的に固化されるゾルゲル層である。しかし、接着促進剤層は、CVDコーティング（プラズマ増速化学蒸着による層塗布）であってもよく、これは、例えば、PECVD、PICVD、低圧CVD又は大気圧での化学蒸着によって製造される。しかし、接着促進剤層は、PVDコーティング（プラズマ増速物理蒸着による層塗布）であってもよく、これは、例えば、スパッタリング、熱蒸発、レーザービーム蒸発、電子ビーム蒸発又はアーク蒸発によって製造される。しかし、接着促進剤層は、火炎熱分解層であってもよい。
【００２１】
有利な１実施態様で、接着促進剤層は、珪素混合酸化物層であり、この際、混合物は、有利に、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムであり、この際、有利に元素アルミニウムの少なくとも１種の酸化物が含有されている。珪素−アルミニウム混合酸化物層の場合には、混合酸化物中の珪素に対するアルミニウムのモル比は、約３％〜約３０％、有利に約５％〜約２０％、特に有利に約７％〜約１２％である。
【００２２】
本発明の意における酸化珪素とは、一酸化珪素及び二酸化珪素の間のあらゆる酸化珪素であると解される。本発明の意における珪素は、金属として及び半金属として解される。珪素混合酸化物は、酸化珪素と少なくとも１種の他の元素の酸化物とからの混合物であり、これは均一又は不均一、化学量論的又は非化学量論的であってよい。
【００２３】
そのような接着促進剤層は、１ｎｍより大きい、有利に１０ｎｍより大きい、特に有利に２０ｎｍより大きい層厚を有する。この際、イージークリーンコーティングとの相互作用の深さを考慮して、前記層の接着促進剤機能が十分に使用され得ることが決定的である。
【００２４】
そのような接着促進剤層は、１．３５〜１．７の範囲、有利に１．３５〜１．６の範囲、特に有利に１．３５〜１．５６の範囲の屈折率を有する（参照波長５８８ｎｍで）。
【００２５】
本発明による接着促進剤層は、有利にゾルゲル法で塗布され、又は化学蒸着法又は物理蒸着法、殊にスパッタリングによっても塗布され得る。
【００２６】
本発明の大きな利点は、基材がガラスから成る又はガラスを包含する場合に、これをコーティング後もなお熱処理させ（thermisch vorgespannt）、従って熱硬化させることもでき、それによってコーティングは著しい障害を受けないことである。少なくともガラスの硬化すべき範囲を、ガラス厚に依り、例えば、約２分間〜６分間、有利に４分間に渡り、約６００℃〜約７５０℃の温度に、有利に約６７０℃の温度にすることによって有利に熱硬化させる。
【００２７】
本発明の更なる大きな利点は、液相コーティングによる、殊にゾルゲルコーティングによる、接着促進剤層の製造の際に、コーティングの熱固化を、インサイチューで、支持材料の熱処理を伴い行うことができることにある。このことは、経費的に有利な製造を含む。
【００２８】
殊にゾルゲル層としての接着促進剤層の塗布の前に、支持材料の表面の活性化が行われる場合には、それによって、塗布された層の接着能力が改善され得る。有利に、前記処理は洗浄プロセスにより行なうことができ、又はコロナ放電による活性化、火炎処理、UV処理、プラズマ活性化及び／又は機械的方法、例えば、粗面化、サンドブラスト、及び／又は化学的方法、例えば、エッチングとして行なうこともできる。
【００２９】
１実施態様で、反射防止層と支持材料の間に、少なくとも１バリヤー層が配置されていて、この際、バリヤー層は、殊にアルカリ金属バリヤー層、殊にナトリウムバリヤー層として構成されている。そのようなバリヤー層の厚さは、３〜１００ｎｍ、有利に５〜５０ｎｍ及び特に有利に１０〜３５ｎｍの範囲にある。バリヤー層は、有利に金属酸化物及び／又は半金属酸化物を包含する。殊にバリヤー層は本質的に、酸化珪素及び／又は酸化チタン及び／又は酸化錫から形成される。そのようなバリヤー層の塗布は、火炎熱分解法、物理蒸着法（PVD）法又は化学蒸着（CVD）法によって、又はゾルゲル法によっても行われる。そのようなバリヤー層は、有利に本質的にガラス層として構成されている。
【００３０】
更に本発明の構成要素は、１層以上の極めて薄い中間層によって部分層に分けられている接着促進剤層である。これは、特に接着促進剤層内の応力防止に用いられる。例えば、これは１層以上の純粋な酸化珪素中間層によって分けられていてよい。そのような中間層の厚さは、０．３〜１０ｎｍ、有利に１〜３ｎｍ、特に有利に１．５〜２．５ｎｍである。
【００３１】
１実施態様で、接着促進剤層は外層を備えていてよい。そのような外層は、外層を貫いて、接着促進剤層及びイージークリーン層の間の相互作用、即ち、接着促進剤層及び後に塗布されるべきイージークリーンコーティングの間の化学結合、殊に共有結合が十分に可能であるように形成されていなければならない。このような層は、例えば、多孔性ゾルゲル層又は部分透過性の火炎熱分解法により塗布された薄い酸化物層である。これは、後に塗布可能なイージークリーンコーティングのために、支持的構造付与性（unterstuetzend strukurgebend）であってよい。そのような外層は、粒子層又は多孔層として構成されていてよい。そのような外層は酸化珪素から製造されることが殊に有利であり、この際、酸化珪素は珪素混合酸化物、殊に少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物又は弗化マグネシウムと混合された酸化珪素であってもよい。そのような外層の製造のために、例えば、火炎熱分解コーティング、他の熱コーティング法（thermische Beschichtungsverfahren）、コールドスプレー法又は、例えば、スパッタリング法も好適である。
【００３２】
本発明による接着促進剤層の塗布のための支持材料として、原則的に全ての好適な材料、例えば、金属、プラスチック、結晶、セラミック又は複合材料が好適である。しかし、ガラス又はガラスセラミックが有利である。この際、その使用のために強化されているガラスが特に有利に使用される。このガラスは、イオン交換により化学強化されていてよく、又は熱処理されていてよい。殊に、低鉄のソーダ石灰ガラス、硼珪酸ガラス、アルミノシリケートガラス、リチウムアルミニウムシリケートガラス及びガラスセラミックが有利であり、これらは、例えば、ドロー法、例えば、アップドロー法又はダウンドロー法、オーバーフロー−フュージョン法、フロート法により、又はキャストガラス又は圧延ガラスから得られる。キャスト法又は圧延法又はフロートガラスでは特に、例えば、ディスプレイフロントスクリーンのために必要とされる表面の必要な光学的品質が、研磨技術により達成されることがありうる。
【００３３】
殊に、０．０５質量％よりも少ない、有利に０．０３質量％よりも少ないFe2O3含量を有する低鉄又は鉄を含まないガラスを使用することが有利であり、それというのも、このガラスは減少された吸収性を示し、従って、殊に高められた透明性を可能にするからである。
【００３４】
しかし、他の使用のために、グレーガラス又は着色ガラスも有利である。支持材料、殊にガラスは透明、半透明又は不透明であってもよい。“ホワイトボード（White Boards）”としての使用の例には、例えば、Schott AG, Mainzが、Opalika（登録商標）で提供するような、乳白色に見えるガラスの使用が有利である。
【００３５】
支持材料が石英ガラスである場合に、紫外線スペクトル範囲での優れた光学特性が達成され得る。支持材料として、光学ガラス、例えば、重フリントガラス、ランタン重フリントガラス、フリントガラス、軽フリントガラス、クラウンガラス、硼珪酸クラウンガラス、バリウムクラウンガラス、重クラウンガラス又は弗素クラウンガラスを用いることもできる。
【００３６】
次のガラス組成（質量％で）：
SiO2                                    ５５〜６９
Al2O3                                   １９〜２５
Li2O                                    ３〜５
Na2O＋K2Oの合計                         ０〜３
MgO＋CaO＋SrO＋BaOの合計                ０〜５
ZnO                                     ０〜４
TiO2                                    ０〜５
ZrO2                                    ０〜３
TiO2＋ZrO2＋SnO2の合計                  ２〜６
P2O5                                    ０〜８
F                                       ０〜１
B2O3                                    ０〜２
及び場合により、０〜１質量％の含量の着色酸化物、例えば、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、Nd2O3、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3、希土類酸化物の添加剤、及び０〜２質量％の含量の清澄剤、例えば、As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F、CeO2から成る、リチウムアルミニウムシリケートガラスを支持材料として有利に使用する。
【００３７】
更に、次のガラス組成（質量％で）：
SiO2                                    ４０〜８０
Al2O3                                   ０〜６
B2O3                                    ０〜５
Li2O＋Na2O＋K2Oの合計                  ５〜３０
MgO＋CaO＋SrO＋BaO＋ZnOの合計          ５〜３０
TiO2＋ZrO2の合計                       ０〜７
P2O5                                    ０〜２
及び場合により、０〜５質量％の含量又は“黒色ガラス”については０〜１５質量％の含量の着色酸化物、例えば、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、Nd2O3、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3、希土類酸化物の添加剤、及び０〜２質量％の含量の清澄剤、例えば、As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F、CeO2から成る、ソーダ石灰シリケートガラスを支持材料として有利に使用する。
【００３８】
更に、次のガラス組成（質量％で）：
SiO2                                    ６０〜８５
Al2O3                                   １〜１０
B2O3                                    ５〜２０
Li2O＋Na2O＋K2Oの合計                  ２〜１６
MgO＋CaO＋SrO＋BaO＋ZnOの合計          ０〜１５
TiO2＋ZrO2の合計                       ０〜５
P2O5                                    ０〜２
及び場合により、０〜５質量％の含量又は“黒色ガラス”については０〜１５質量％の含量の着色酸化物、例えば、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、Nd2O3、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3、希土類酸化物の添加剤、及び０〜２質量％の含量の清澄剤、例えば、As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F、CeO2から成る、硼珪酸ガラスを支持材料として有利に使用する。
【００３９】
更に、次のガラス組成（質量％で）：
SiO2                                    ４０〜７５
Al2O3                                   １０〜３０
B2O3                                    ０〜２０
Li2O＋Na2O＋K2Oの合計                  ４〜３０
MgO＋CaO＋SrO＋BaO＋ZnOの合計          ０〜１５
TiO2＋ZrO2の合計                       ０〜１５
P2O5                                    ０〜１０
及び場合により、０〜５質量％の含量又は“黒色ガラス”については０〜１５質量％の含量の着色酸化物、例えば、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、Nd2O3、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3、希土類酸化物の添加剤、及び０〜２質量％の含量の清澄剤、例えば、As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F、CeO2から成る、アルカリ金属アルミノシリケートガラスを支持材料として有利に使用する。
【００４０】
更に、次のガラス組成（質量％で）：
SiO2                                    ５０〜７５
Al2O3                                   ７〜２５
B2O3                                    ０〜２０
Li2O＋Na2O＋K2Oの合計                  ０〜０．１
MgO＋CaO＋SrO＋BaO＋ZnOの合計          ５〜２５
TiO2＋ZrO2の合計                       ０〜１０
P2O5                                    ０〜５
及び場合により、０〜５質量％の含量又は“黒色ガラス”については０〜１５質量％の含量の着色酸化物、例えば、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、Nd2O3、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3、希土類酸化物の添加剤、及び０〜２質量％の含量の清澄剤、例えば、As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F、CeO2から成る、アルカリ金属不含のアルミノシリケートガラスを支持材料として有利に使用する。
【００４１】
更に、次のガラス組成（質量％で）：
SiO2                                    ５０〜７５
Al2O3                                   ７〜２５
B2O3                                    ０〜２０
Li2O＋Na2O＋K2Oの合計                  ０〜４
MgO＋CaO＋SrO＋BaO＋ZnOの合計          ５〜２５
TiO2＋ZrO2の合計                       ０〜１０
P2O5                                    ０〜５
及び場合により、０〜５質量％の含量又は“黒色ガラス”については０〜１５質量％の含量の着色酸化物、例えば、Nd2O3、Fe2O3、CoO、NiO、V2O5、Nd2O3、MnO2、TiO2、CuO、CeO2、Cr2O3、希土類酸化物の添加剤、及び０〜２質量％の含量の清澄剤、例えば、As2O3、Sb2O3、SnO2、SO3、Cl、F、CeO2から成る、低アルカリ金属アルミノシリケートガラスを支持材料として有利に使用する。
【００４２】
小さな寸法のディスプレイガラス、殊にタッチパネル又はタッチスクリーンでの使用には、前記基材が、厚さ≦１ｍｍを有する場合及び、殊に極薄基材である場合が有利である。例えば、Schott AG、Mainzが、名称D263、B270、Borofloat、Xensation Cover又はXensation cover 3Dで販売しているような薄板ガラス及び極薄ガラスが特に有利である。極薄ガラスは０．０２〜１．３ｍｍの厚さを有する。０．０３ｍｍ、０．０５ｍｍ、０．０７ｍｍ、０．１ｍｍ、０．１４５ｍｍ、０．１７５ｍｍ、０．２１ｍｍ、０．３ｍｍ、０．４ｍｍ、０．５５ｍｍ、０．７ｍｍ、０．９ｍｍ、１．１ｍｍ、１．２ｍｍ又は１．３ｍｍの厚さが有利である。
【００４３】
より大きな面積、例えば、１ｍ２よりも大きい面積の、ディスプレイ用の、タッチパネル又はタッチスクリーンとしてのカバースクリーンの使用が意図される場合には、３〜６ｍｍの厚さを有する支持材料を使用することが有利であり、従って、ディスプレイの機械的保護機能を一緒に引き受ける。
【００４４】
支持材料は、単一シートでも複合シートであってもよい。複合シートは、例えば、PVB膜で結合されている、例えば、第１及び第２シートを包含する。複合シートの外の方へ向いた表面のうち、少なくとも１表面は、本発明による接着促進剤層が備えられている。例えば、ディスプレイの偏光板上への、ダイレクトラミネーションの適用が特に有利である。
【００４５】
支持材料の表面は、良好な触覚の要件を満たすために、表面特性の要求に従って、研磨され得る又は表面構造化、例えば、エッチングされ得る。１構成で、反射防止層をアンチグレア層と組み合わせて使用することができる。反射防止層及びその上に塗布されるイージークリーン層は、ETC特性又はAFP特性及び反射防止特性、殊にその長期耐久性を保持しながら、アンチグレア層の粗面性を得る。
【００４６】
更に、支持材料として、部分鏡面化（teilverspiegelte）又は完全鏡面化された（vollverspiegelte）表面も好適である。この際、長期安定なイージークリーン又は耐指紋性のコーティングの作用が特に有効になる。
【００４７】
更に、支持材料の表面は、耐引掻性コーティング、例えば、窒化珪素コーティングを有することもできる。
【００４８】
更に、支持材料、殊に支持材料の表面は、例えば、様々な使用のために、例えば、静電容量式タッチスクリーンの場合に、有利である、導電性コーティングを有することもできる。そのようなコーティングは、特に１種以上の金属酸化物、例えば、ZnO:Al、ZnO：B、ZnO:Ga、ZnO:F、SnOx:F、SnOx:Sb及びITO(In2O3:SnO2)を有するコーティングである。しかし、導電性コーティングとして、１種以上の金属薄層、例えば、アルミニウム、銀、金、ニッケル又はクロムを支持材料に塗布されていてもよい。
【００４９】
本発明の対象は、イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材の製法でもある。そのような方法は次の段階を包含する：
先ず、支持材料を、殊にガラス又はガラスセラミックから準備する。しかし、コーティングプロセスの要求を満たす、金属、プラスチック又は任意の材料を準備することもできる。１面以上のコーティングされるべき表面を清浄にする。液体で清浄にすることは、ガラス基材に関連して広く行き渡った方法である。この際、様々な清浄液、例えば、脱塩水又は水性系、例えば、希アルカリ液（pH＞９）及び酸、洗剤溶液又は非水性溶剤、例えば、アルコール又はケトンが使用される。
【００５０】
本発明の更なる実施態様で、支持材料をコーティングの前に活性化させることができる。そのような活性化法は、酸化、コロナ放電、火炎処理、UV処理、プラズマ活性化及び／又は機械的方法、例えば、粗面化、サンドブラスト、及びプラズマ処理又は酸及び／又はアルカリ液での活性化すべき基材表面の処理も包含する。
【００５１】
接着促進剤層は、物理蒸着法又は化学蒸着法により、火炎熱分解法により又はゾルゲル法により塗布される。後者の場合には、接着促進剤層は表面上に浸漬、蒸着、噴霧、印刷、ローラー塗布により、すり込法（Wischverfahren）、刷毛塗法又はロール法及び／又はドクターブレード法又は他の好適な方法で塗布され得る。この際、浸漬及び噴霧が有利である。
【００５２】
有利なゾルゲル法では、層形成のために溶解状態での金属−有機出発物質の反応が利用される。金属−有機出発物質の制御された加水分解及び縮合反応により、金属酸化物網状結合構造、即ち、その中で、反応生成物、例えば、アルコール及び水の脱離を伴って、金属原子が酸素原子によって互いに結合している構造が構成される。この際、触媒の添加によって加水分解反応は促進され得る。
【００５３】
有利な１実施態様では、支持材料は、ゾルゲルコーティングの際に、前記溶液から約２００ｍｍ／分〜約９００ｍｍ／分、有利に約３００ｍｍ／分の引上げ速度で引き上げられ、この際、大気の水分量は、約４ｇ／ｍ３〜約１２ｇ／ｍ３、殊に有利に約８ｇ／ｍ３である。
【００５４】
ゾルゲルコーティング溶液をより長時間にわたって使用すべき又は同様に貯蔵すべき場合には、前記溶液を１種以上の錯化剤の添加によって安定化させることが有利である。この錯化剤は、浸漬溶液中に可溶性でなければならず、かつ有利な方法で浸漬溶液の溶剤と同類であるべきである。同時に錯化特性を有する有機溶剤、例えば、メチルアセテート、エチルアセテート、アセチルアセトン、アセト酢酸エステル、エチルメチルケトン、アセトン及び類似化合物が有利となる。これらの安定剤は、前記溶液に１〜１．５ml／lの量で添加される。
【００５５】
例えば、図１に相応する有利な１構成では、基材要素１１の製造のために、そのような接着促進剤層３を、ゾルゲル原理に従って浸漬コーティングにより塗布する。この際、２として準備され洗浄された支持材料、例えば、ガラス板の、少なくとも１表面２０上に、接着促進剤層３としての珪素混合酸化物層を製造するために、この支持材料を、加水分解可能な珪素化合物を含有する有機溶剤中に浸漬させる。その後に、支持材料をこの溶液から湿気含有雰囲気中に一定に引き上げる。生じた珪素混合酸化物−接着促進剤前駆層の層厚は、浸漬溶液中の珪素出発化合物の濃度及び引上げ速度により決定される。高温炉への移送の際のより高い機械的強度を達成するために、前記層を塗布後に乾燥させることができる。この乾燥は、広い温度範囲で行われ得る。そのために、典型的には２００℃の範囲での温度で、数分間の乾燥時間が必要とされる。より低い温度は、より長い乾燥時間となる。前記層の塗布の直後に、高温炉中での熱固化の方法段階に移行することも可能である。この際、乾燥段階は、コーティングの機械的安定化に役立つ。
【００５６】
塗布されたゲル膜からの本質的に酸化物系の接着促進剤層の形成は高温段階で行われ、そこで前記ゲルの有機成分は燃え尽きる。この際、次いで、接着促進剤層としての最終的な珪素混合酸化物層又は混合酸化物層の生成のために、接着促進剤前駆層を、支持材料の軟化温度より低い温度で、有利に５５０℃よりも低い、殊に３５０〜５００℃、特に有利に４００〜５００℃の基材表面温度で焼成させる。基材ガラス（Grundglas）の軟化温度に依って、５５０°より上の温度を使用することもできる。しかし、この温度は、接着強度の更なる上昇には貢献しない。
【００５７】
有機溶液からの薄い酸化物層の製造は長年にわたり周知であり、これについては、例えば、H. Schroeder, Physics of Thin Films 5, Academic Press New York and London (1967, 87-141頁)又は米国特許第４５６８５７８号明細書も参照される。
【００５８】
ゾルゲル層がそれから製造される無機ゾルゲル物質は、殊に、１種以上の加水分解可能な及び縮合可能な又は縮合されたシラン及び／又は特にSi、Ti、Zr、Al、Nb、Hf及び／又はGeの、金属アルコキシドを包含する、縮合物が有利である。有利には、ゾルゲル法で無機加水分解及び／又は縮合を介して架橋結合される基は、例えば、次の官能基であり得る：TiR4、ZrR4、SiR4、AlR3、TiR3(OR)、TiR2(OR)2、ZrR2(OR)2、ZrR3(OR)、SiR3(OR)、SiR2(OR)2、TiR(OR)3、ZrR(OR)3、AlR2(OR)、AlR1(OR)2、Ti(OR)4、Zr(OR)4、Al(OR)3、Si(OR)4、SiR(OR)3及び／又はSi2(OR)6、及び／又はORを有する次の物質又は物質群の１官能基：アルコキシ、例えば、有利にメトキシ、エトキシ、ｎ−プロポキシ、ｉ−プロポキシ、ブトキシ、イソプロポキシエトキシ、メトキシプロポキシ、フェノキシ、アセトキシ、プロピオニルオキシ、エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、メタクリルオキシプロピル、アクリレート、メタクリレート、アセチルアセトン、エチルアセトアセテート、エトキシアセテート、メトキシアセテート、メトキシエトキシアセテート及び／又はメトキシエトキシエトキシアセテート、及び／又はRを有する次の物質又は物質群の１官能基：Cl、Br、F、メチル、エチル、フェニル、ｎ−プロピル、ブチル、アリル、ビニル、グリシジルプロピル、メタクリルオキシプロピル、アミノプロピル及び／又はフルオロオクチル。
【００５９】
全てのゾルゲル反応にとって、分子分散性前駆体を、加水分解反応、縮合反応及び重合反応を介して、先ず粒子分散系又はコロイド系に反応させることが共通している。選択される条件により、最初に生成される“一次粒子”は更に成長し、クラスターに凝集し又はむしろ直鎖を形成することができる。そうして生成した単位は、前記溶剤の除去によって生じる微細構造を引き起こす。理想的には、前記物質は熱的に完全に緻密化されるが、現実では、残留多孔性がしばしば、一部にはかなりの程度で残る。従って、例えば、P. Loebmann, “Sol-Gel-Beschichtungen”, Forbildungskurs 2003 “Oberflaechen Veredelung von Glass”, Huettentechnische Vereinigung der deutschen Glasindustrieが記載しているように、ゾル製造の際の化学的条件は、ゾルゲルコーティングの特性への決定的な影響を有する。
【００６０】
Si出発物質は、今まで最も良く調査されていて、これについては、C. Brinker, G. Scherer, “Sol-Gel-Science−The Physic and Chemistry of Sol-Gel Processing” (Academic Press, Boston 1990), R. Iller, The Chemistry of Silica (Willey, New York, 1979)が参照される。最も使用されるSi出発物質は、式Si(OR)4中の珪素アルコキシドであり、これは水添加の際に加水分解する。酸性条件下に、有利に直鎖状の集合体（Verbaende）が生じる。塩基性条件下に、珪素アルコキシドは反応して、より高度に架橋結合した“球形の”粒子になる。ゾルゲルコーティングは、予備縮合した粒子及びクラスターを含有する。
【００６１】
酸化珪素浸漬溶液の製造のために、出発化合物として、通常では、珪酸テトラエチルエステル又は珪酸メチルエステルが使用される。これを有機溶剤、例えば、エタノール、加水分解のための水及び触媒としての酸と指定された順序で混合し、良く混ぜ合わせる。そのために、加水分解のための水に鉱酸、例えば、HNO3、HCl、H2SO4又は有機酸、例えば、酢酸、エトキシ酢酸、メトキシ酢酸、ポリエーテルカルボン酸（例えば、エトキシエトキシ酢酸）、クエン酸、パラトルエンスルホン酸、乳酸、メタクリル酸又はアクリル酸を添加することが有利である。
【００６２】
特別な１実施態様で、加水分解は完全に又は部分的にアルカリ性で、例えば、NH4OH及び／又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシド及び／又はNaOHの使用下に実施される。
【００６３】
本発明による基材のための接着促進剤層の製造のために、浸漬溶液は次のように製造される：珪素出発化合物を有機溶剤中に溶かす。溶剤として、珪素出発化合物を溶解しかつ更に、珪素出発化合物の加水分解に必要である十分な量の水を溶解することができる全ての有機溶剤を使用することができる。好適な溶剤は、例えば、トルエン、シクロヘキサン又はアセトン、しかし殊に、C1〜C6アルコール、例えば、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール又はその異性体である。通常では、低級アルコール、殊にメタノール及びエタノールが使用され、それというのも、それらは容易に取り扱うことができかつ比較的低い蒸気圧を有するからである。
【００６４】
珪素出発化合物として、殊に珪酸C1〜C4アルキルエステル、即ち、珪酸メチルエステル、珪酸エチルエステル、珪酸プロピルエステル又は珪酸ブチルエステルが使用される。珪酸メチルエステルが有利である。
【００６５】
有機溶剤中の珪素出発化合物の濃度は、通常では、約０．０５〜１モル／リットルである。この溶液に、珪素出発化合物の加水分解の目的で、水、有利に蒸留水０．０５〜１２質量％及び酸性触媒０．０１〜７質量％を添加する。そのために、有機酸、例えば、酢酸、エトキシ酢酸、メトキシ酢酸、ポリエーテルカルボン酸（例えば、エトキシエトキシ酢酸）、クエン酸、パラトルエンスルホン酸、乳酸、メタクリル酸又はアクリル酸又は鉱酸、例えば、HNO3、HCl又はH2SO4等を添加することが有利である。
【００６６】
前記溶液のpH値は、概ね、pH０．５〜pH３であるべきである。前記溶液が十分に酸性でない（pH＞３）場合には、重縮合体／クラスターが大きくなるという危険がある。前記溶液が酸性になり過ぎると、溶液がゲル化するという危険がある。
【００６７】
更なる１実施態様では、前記溶液を２段階で製造することができる。第１段階は前記のように経過する。そこから、この溶液を放置する（熟成させる）。熟成時間は、熟成溶液を更なる溶剤で希釈しかつ溶液のpH値を強酸性範囲へ移動させることによって熟成を停止させることによって達成される。pH範囲１．５〜２．５への移動が有利である。強酸性範囲へのpH値の移動は、無機酸の添加によって、殊に塩酸、硝酸、硫酸、燐酸又は同様に有機酸、例えば、蓚酸等の添加によって有利に行われる。強酸を、有機溶剤中に、殊にその中に珪素出発化合物も溶解している溶剤中に添加させることが有利である。この際、１段階での出発溶液の希釈及び停止が行われるような量の溶剤中に、殊に再びアルコール性溶液中に前記酸を添加させることも可能である。
【００６８】
特別な１実施態様で、加水分解を完全に又は部分的にアルカリ性で、例えば、NH4OH及び／又はテトラメチルアンモニウムヒドロキシド及び／又はNaOHの使用下に実施する。
【００６９】
ゾルゲルコーティングは、様々な構造を有し得る予備縮合粒子及びクラスターを含有する。実際には、この構造を散乱光実験で検出することができる。プロセスパラメーター、例えば、温度、配量率、撹拌速度によって、しかし特にpH値によって、この構造をゾル中に製造することができる。２０ｎｍ以下、有利に４ｎｍ以下、及び特に有利に１〜２ｎｍの範囲の直径を有する小さい酸化珪素重縮合体／クラスターによって、従来の酸化珪素層よりも密に充填されている浸漬層を製造することができることが示された。このことは既に化学的安定性の改善に繋がる。
【００７０】
化学的安定性と、接着促進剤層としての機能との更なる改善は、前記溶液中で均一に分散しかつ後の層中で同様に分散していて、かつ混合酸化物を生成させる少量の混合剤を前記溶液に混ぜることによって達成される。混合剤として、錫、アルミニウム、燐、硼素、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ又はマグネシウムの加水分解可能な又は解離性の、場合により結晶水含有の、無機塩、例えば、SnCl4、SnCl2、AlCl3、Al(NO3)3、Mg(NO3)2、MgCl2、MgSO4、TiCl4、ZrCl4、CeCl3、Ce(NO3)3等が好適である。これらの無機塩は、含水形でも、結晶水を有しても使用され得る。これらはその低価格で一般に有利である。
【００７１】
本発明による更なる１実施態様で、混合剤として、１種以上の、錫、アルミニウム、燐、硼素、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ又はマグネシウム、有利にチタン、ジルコニウム、アルミニウム又はニオブの、金属アルコキシドを使用することができる。更に、燐酸エステル、例えば、燐酸メチルエステル又は燐酸エチルエステル、燐ハロゲニド、例えば、クロリド及びブロミド、硼酸エステル、例えば、エチルエステル、メチルエステル、ブチルエステル又はプロピルエステル、無水硼酸、BBr3、BCl3、マグネシウムメチラート又はマグネシウムエチラート等が好適である。これらの１種以上の混合剤は、例えば、SiO2として計算される前記溶液の珪素含量に対して、酸化物として計算される約０．５〜２０質量％の濃度で添加される。混合剤は、各々互いに任意の組み合わせでも使用され得る。
【００７２】
浸漬溶液をより長期にわたり使用すべき又は同様に貯蔵すべき場合には、前記溶液を１種以上の錯化剤の添加により安定化させる場合が有利であり得る。この錯化剤は、浸漬溶液中で可溶性でなければならず、かつ有利に浸漬溶液の溶剤と同類であるべきである。
【００７３】
錯化剤として、例えば、エチルアセトアセテート、２，４−ペンタンジオン（アセチルアセトン）、３，５−ヘプタンジオン、４，６−ノナンジオン又は３−メチル−２，４−ペンタンジオン、２−メチルアセチルアセトン、トリエタノールアミン、ジエタノールアミン、エタノールアミン、１，３−プロパンジオール、１，５−ペンタンジオール、カルボン酸、例えば、酢酸、プロピオン酸、エトキシ酢酸、メトキシ酢酸、ポリエーテルカルボン酸（例えば、エトキシエトキシ酢酸）、クエン酸、乳酸、メチルアクリル酸、アクリル酸を使用することができる。
この際、半金属酸化物前駆体及び／又は金属酸化物前駆体に対する錯化剤のモル比は、０．１〜５である。
【実施例】
【００７４】
完成層の製造は、次のように行われた：洗浄プロセスで慎重に清浄にした１０×２０ｃｍ寸法のフロートガラス板を、各浸漬溶液中に浸漬した。次いで、前記板を６ｍｍ／秒の速度で再び引き上げ、この際、周囲雰囲気の水分量は４ｇ／ｍ３〜１２ｇ／ｍ３、有利に８ｇ／ｍ３であった。引き続いて、前記溶剤を９０〜１００℃で蒸発させ、その後に前記層を４５０℃の温度で２０分間焼成した。そうして製造した層の層厚は、約９０ｎｍであった。
【００７５】
例溶液の製造：
第１浸漬溶液
エタノール１２５ｍｌを前装入する。それに、珪酸メチルエステル４５ｍｌ、蒸留水４８ｍｌ及び氷酢酸６ｍｌを撹拌下に加える。水及び酢酸の添加後に、前記溶液を４時間撹拌し、この際、温度は４０℃を超えてはならない。場合により、前記溶液を冷却しなければならない。引き続いて、反応溶液をエタノール６７５ｍｌで希釈し、かつHCl１ｍｌを加える。次いで、この溶液に、エタノール９５ｍｌ及びアセチルアセトン５ｍｌ中に溶かしたSnCl4ｘ６H2O１０ｇを加える。
【００７６】
第２浸漬溶液
エタノール１２５ｍｌを前装入する。それに、珪酸メチルエステル４５ｍｌ、蒸留水４８ｍｌ及び３７％のHCl１．７ｇを撹拌下に加える。水及び塩酸の添加後に、前記溶液を１０分間撹拌し、この際、温度は４０℃を超えてはならない。場合により、前記溶液を冷却しなければならない。引き続いて、反応溶液をエタノール６７５ｍｌで希釈する。次いで、この溶液に、エタノール９５ｍｌ及びアセチルアセトン５ｍｌ中に溶かしたSnCl4ｘ６H2O１０ｇを加える。
【００７７】
第３浸漬溶液
エタノール１２５ｍｌ中に、珪酸テトラエチルエステル６０．５ｍｌ、蒸留水３０ｍｌ及び１N硝酸１１．５ｇを撹拌下に加える。水及び硝酸の添加後に、前記溶液を１０分間撹拌し、この際、温度は４０℃を超えてはならない。場合により、前記溶液を冷却しなければならない。引き続いて、前記溶液をエタノール６７５ｍｌで希釈する。２４時間後に、この溶液に、エタノール９５ｍｌ及びアセチルアセトン５ｍｌ中に溶かしたAl(NO3)3×９H2O１０．９ｇを加える。
【００７８】
第４浸漬溶液
エタノール１２５ｍｌ中に、珪酸テトラエチルエステル６０．５ｍｌ、蒸留水３０ｍｌ及び１N硝酸１１．５ｇを撹拌下に加える。水及び硝酸の添加後に、前記溶液を１０分間撹拌し、この際、温度は４０℃を超えてはならない。場合により、前記溶液を冷却しなければならない。引き続いて、前記溶液をエタノール６７５ｍｌで希釈する。この溶液に、エタノール９５ｍｌ及びエチルアセテート４ｇ中に溶かしたテトラブチルオルトチタネート９．９ｇを加える。
【００７９】
更なる有利な１実施態様で、珪素混合酸化物の溶液を支持基材上に塗布し、かつ熱処理プロセスで熱固化させる。ゾルゲル層の熱固化は、インサイチューで、その後の、５００℃より上の基材表面温度での前記基材の熱処理を伴い行われる。これは極めて経費的に有利な製造を含み、それというのも、熱処理及び接着促進剤層の熱固化が１つのプロセスで行われるからである。この際、炉の温度は、温度時間曲線に依って、約６５０℃である。前記温度処理に続いて、ショック冷却が行われる。
【００８０】
前記の溶液を用いて、接着促進剤層としての化学的及び機械的に安定な混合酸化物層が得られ、この際、アルミニウム−珪素混合酸化物層の生成のための混合物の場合には、混合酸化物中の珪素に対するアルミニウムのモル比は、約３％〜約３０％、有利に約５％〜約２０％、特に有利に約７％〜約１２％である。
【００８１】
本発明の更なる実施態様で、例えば、図２に示すように、基材要素１２の製造のために、図１に相応する例に付加的に、接着促進剤層３上に、外層４を粒子層又は多孔層として塗布する。これは、殊に火炎熱分解コーティング法、熱コーティング法、コールドスプレー法又はスパッタリング法により行われ、この際、外層４は、有利に酸化珪素から成る。この際、外層は珪素混合酸化物から成ってもよい。混合物として、例えば、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物又は弗化マグネシウムが好適である。
【００８２】
外層４の十分な開放気孔率に基づき、イージークリーン層の塗布の際に、基材要素１２の使用の場合に、イージークリーンコーティング及び接着促進剤層の分子の間に相互作用が行われ、これはイージークリーンコーティングのより高い長期安定性を保証する。
【００８３】
本発明の対象は、同様に、イージークリーンコーティングでの、殊に有機弗素化合物でのコーティングのための本発明による基材要素の使用である。この際、基材要素は、殊にガラス又はガラスセラミック製の、支持プレートと、混合酸化物、有利に珪素混合酸化物、特に有利に少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含する、接着促進剤層とを包含し、この際、元素アルミニウムの少なくとも１種の酸化物が含有されていることが有利である。
【００８４】
イージークリーンコーティングでのコーティングのための本発明による基材要素の使用の１実施態様で、接着促進剤層上に外層が配置されている。この外層は、殊に酸化珪素製の、粒子層又は多孔層であり、この際、酸化珪素は珪素混合酸化物であってもよい。
【００８５】
そのような本発明による基材は、イージークリーンコーティングでのコーティングのために使用される。殊に、このイージークリーンコーティングは、耐指紋コーティング又は非粘着コーティングであってよい。非粘着コーティングの場合には、その層は極めて平滑であり、従って、機械的表面保護が達成される。通常、次に説明される層は、イージークリーン、非粘着、耐指紋、アンチグレア又は平滑（glaettende）表面の範囲からの多数の特性を有する。この際、各製品は１つの領域でより良好に適し、従って、本発明による基材要素と結び付いたイージークリーンコーティングの適切な種類の選択に依って、特に長期耐久性の最適化されたイージークリーン特性を有する製品が達成され得る。
【００８６】
イージークリーンコーティングは、市場で多様に入手できる。殊に、例えば、独国特許出願公開第１９８４８５９１号明細書が記載しているような有機弗素化合物である。公知のイージークリーンコーティングは、Solvay Solexis社製の“Fluorolink（登録商標）PFPE”、例えば、“Fluorolink（登録商標）S10”又は同様に、Daikin Industries LTD社製の“Optool（商標）DSX”又は“Optool（商標）AES4-E”、ETC products GmbH社製の“Hymocer（登録商標）EKG 6000N”という名称のペルフルオロポリエーテルをベースとする製品、又はCytonix LLC社製の“FSD”、例えば、“FSD 2500”又は“FSD 4500”又は3M Deutschland GmbH社製のEasy Clean Coating “ECC”製品、例えば“ECC 3000”又は“ECC 4000”という名称のフルオロシランをベースとする製品である。これらは、液状で塗布される層である。例えば、物理蒸着によって塗布されるナノ層系としての、耐指紋コーティングは、例えば、Cotec GmbH社製の名称“DURALON UltraTec”として提供される。
【００８７】
本発明を続けて、前記製品でコーティングされた基材は、それが本発明による基材要素上に塗布される場合、良好な特性、殊に長期特性を有する。次の例はこれを明らかにする。試験基材を前記コーティングの塗布後に、特性付けのために次の試験をする：
１．DIN EN 1096-2:2001-05による中性塩噴霧試験（NSS試験）
特に挑戦的な試験として、コーティングされたガラス試料を恒温で２１日間中性塩水雰囲気に曝す、中性塩噴霧試験が実証されている。塩水噴霧は、コーティングに負荷を生じさせる。前記試料が垂直で１５±５°の角度を成すように、ガラス試料を試料ホルダー中に置く。（２５±２）℃で（５０±５）ｇ／ｌの濃度が達成されるように、純NaClを脱イオン水中に溶かして中性塩溶液を製造する。塩噴霧を発生させるために、前記塩溶液を好適なノズルを介して噴霧させる。試験室内の操作温度は、３５±２℃であるべきである。
疎水特性の安定性を特徴付けるために、試験前及び試験時間１６８時間後、３３６時間後及び５０４時間後に、各々水に対する接触角を測定する。６０°を下まわる接触角の下落で実験を中止し、それというのも、このことは疎水特性の損失と関連するからである。
【００８８】
２．接触角測定
接触角測定は、様々な液体との接触角及び表面エネルギーの測定を可能にする機器PCA 100を用いて行われた。
【００８９】
測定範囲は、１０〜１５０°の接触角及び１＊１０−２〜２＊１０３ｍN／ｍの表面エネルギーに及ぶ。表面の状態（きれいさ、表面の均一性）に応じて、接触角を１°まで正確に決定することができる。表面エネルギーの精度は、どの程度正確に個々の接触角がOwens-Wendt-Kaelbleにより計算される回帰直線上にあるか、かつ回帰値として一緒に示されるかに従う。
【００９０】
ポータブル機器が使用され、測定のために大きなシート上に載せられ得るので、どんな大きさの試料も測定することができる。前記試料は少なくとも、試料の縁と衝突することなく、小滴を載せ得るほどの大きさでなければならない。プログラムは様々な小滴法を処理することができる。この際、通常、静滴法（静置した液滴）が使用され、“ellipse fitting”（楕円当てはめ法）で評価される。
【００９１】
測定の前に、試料表面をエタノールで清浄にする。次いで、前記試料を位置決めし、測定液を滴下し、かつ接触角を測定する。表面エネルギー（極性成分及び分散力成分）を、Owens-Wendt-Kaelbleにより適合される回帰直線から求める。
【００９２】
長期耐久性の測定値を得るために、接触角測定を、長期に渡るNSS試験により実施する。
【００９３】
ここで示される測定結果については、測定液として、脱イオン水を使用した。測定結果の誤差許容値は±４°である。
【００９４】
３．指紋試験
指紋試験は、基材表面上への指紋の再現可能な塗布のために及び清浄性の評価のために用いられる。
【００９５】
この試験は、相応する試料表面上での指紋の強度を示す。スタンプを用いて、調整された（nachgestellter）再現可能な指紋を、指紋感受性の評価のために基材表面上に施す。耐溶剤性物質製のスタンププレートを有するスタンプは、３．５×３．９ｃｍ２の底面積を有し、かつ約１．２ｍｍの溝間隔及び約０．５ｍｍの溝の深さを有する同心円状のリング構造を有する。各々次の３種の試験媒体をスタンプ面上に施す：
指紋媒体（Printmedium）として、DIN ISO 105-E04によるアルカリ性人工汗液５０ｇ、パラフィン油２ｇ、レシチン（Fluidlecithin Super、Brennnessel Muenchen社）１．５ｇ及びゲル化剤（PNC400, Brennnessel Muenchen社）０．３ｇから製造される、BMW試験手順506による手汗溶液を使用した。
【００９６】
試験媒体の塗布のために、フェルトをペトリ皿中で、前記媒体で浸し、スタンプを、浸したフェルト上に１ｋｇの重さでプレスする。引き続いて、スタンプをスタンプ押しすべき基材面上に３ｋｇでプレスする。基材表面は、試験開始前に、無塵、無脂肪でかつ乾燥していなければならない。引き続き、個々のリングの形の跡としてのスタンプ像は滲んでいてはならない。少なくとも３個の指紋をスタンプ押しする。評価の前に、前記指紋を約１２時間乾燥させる。指紋の評価の際に、どれくらい多くの指紋媒体が試料表面上に残留しているか、及びどれくらい平面的に広がり得るかを確認すべきである。そのために、前記指紋を、カメラ測定場中で環状リング照明を有する冷光光源KL 1500LCD(Schott社)で照明し、写真撮影し、かつ画像評価ソフトウエアNI Visionでの画像評価を介して分析する。画像評価を可能にするために、指紋を排他的に光沢無しで記録する。指紋によって散乱された光、散乱光の強度値を求め、平均値及び散乱幅を計算する。散乱幅は０．０６５以下であるべきである。
【００９７】
典型例（Musterbeispiel）  試料１の製造（図１に相応する本発明による基材要素）：
浸漬溶液の製造のために、エタノール１２５ｍｌ中に、撹拌下に、珪酸テトラエチルエステル６０．５ｍｌ、蒸留水３０ｍｌ及び１N硝酸１１．５ｇを加える。水及び硝酸の添加後に前記溶液を１０分間撹拌し、この際、温度は４０℃を超えてはならない。場合により、前記溶液を冷却しなければならない。引き続いて、前記溶液をエタノール６７５ｍｌで希釈する。この溶液に２４時間後に、エタノール９５ｍｌ及びアセチルアセトン５ｍｌ中に溶かしたAl(NO3)3×9H2O１０．９ｇを加える。
【００９８】
１０×２０ｃｍ寸法の慎重に清浄にした硼珪酸フロートガラス板２を浸漬溶液中に浸漬した。前記板を６ｍｍ／秒の速度で再び引き上げ、この際、周囲雰囲気の水分量は、５ｇ／ｍ３〜１２ｇ／ｍ３、有利に８ｇ／ｍ３であった。引き続いて、前記溶剤を９０〜１００℃で蒸発させ、その後に前記層を４５０℃の温度で２０分間焼成した。そうして製造した接着促進剤層３の層厚は、約９０ｎｍであった。
【００９９】
典型例  試料２の製造（比較試料）：
比較のために、公知技術水準による接着促進剤層としての、ゾルゲル浸漬法による慣用の珪素コーティングを用いる。
【０１００】
浸漬溶液の製造のために、エタノール１２５ｍｌを前装入させる。それに、撹拌下に、珪酸メチルエステル４５ｍｌ、蒸留水４０ｍｌ及び氷酢酸５ｍｌを加える。水及び酢酸の添加後に、前記溶液を４時間撹拌し、この際、温度は４０℃を超えてはならない。場合により、前記溶液を冷却しなければならない。引き続いて、反応溶液をエタノール７９０ｍｌで希釈し、かつHCl１ｍｌを加える。
【０１０１】
１０×２０ｃｍ寸法の慎重に清浄にした硼珪酸フロートガラス板を浸漬溶液中に浸漬した。次いで、前記板を６ｍｍ／秒の速度で再び引き上げ、この際、周囲雰囲気の水分量は、５ｇ／ｍ３〜１０ｇ／ｍ３、有利に８ｇ／ｍ３であった。引き続いて、前記溶剤を９０〜１００℃で蒸発させ、その後に前記層を４５０℃の温度で２０分間焼成させた。そうして製造した接着促進剤層の層厚は、約９０ｎｍであった。
【０１０２】
典型例  試料３の製造（比較試料）：
イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材として、清浄にした硼珪酸フロートガラス板を、接着促進剤層なしで製造した。
【０１０３】
そうして製造した基材を各々次のようなイージークリーンコーティングでコーティングした。この際、本発明による典型例１の基材は、試料１−１〜１−４の名称を有し、比較基材は、試料２−１〜２−４又は試料３−１〜３−４の名称を有する。
【０１０４】
試料１−１、２−１及び３−１：
Daikin Industries LTD社製の“Optool（商標）AES4-E”、末端シラン基を有するペルフルオロエーテル
【０１０５】
試料１−２、２−２及び３−２：
Solvay Solexis社製の“Fluorolink（登録商標）S10”、２個の末端シラン基を有するペルフルオロエーテル
【０１０６】
試料１−３、２−３及び３−３：
イージークリーンコーティングでのコーティングのための本発明による基材要素の試験のために、同様に、名称“F5”の独自のコーティング配合物を使用し、この際、前駆体として、Evonik社製のDynasylan（登録商標）F8261を使用した。濃縮物の製造のために、前駆体Dynasylan（登録商標）F8261 ５ｇ、エタノール１０ｇ、H2O２．５ｇ及びHCl０．２４ｇを混合させ、２分間撹拌した。濃縮物３．５ｇにエタノール５００ｍｌを混合してコーティング配合物F5を得た。
【０１０７】
試料１−４、２−４及び３−４：
Cotec GmbH, Frankenstrasse 19, 0-63791 Karlstein製の“Duralon UltraTec”
このコーティングでは、真空を用いるプロセスで基材ガラスが処理される。各接着促進剤層でコーティングされた基材ガラスを、減圧容器中に入れ、前記容器を引き続き低真空に真空引きする。“Duralon UltraTec”を、錠剤の形（直径１４ｍｍ、高さ５ｍｍ）に結合させて、減圧容器中にある蒸発器中に加える。次いで、この蒸発器から１００℃〜４００℃の温度で、コーティング物質は錠剤の内容物から蒸発され、基材の接着促進剤層の表面上に堆積する。時間プロファイル及び温度プロファイルは、Cotec GmbH社によって、物質“Duralon UltraTec”の錠剤の蒸発のために指定されたように調整される。
【０１０８】
前記基材は、前記プロセス中、３００K〜３７０Kの範囲にあるやや高められた温度に達する。
【０１０９】
試験結果
前記試料を、中性塩噴霧試験（NSS試験）及び一定雰囲気試験（KK試験）の前、その経過中及びその後に調べた。前記試料について、中性塩噴霧試験（NSS試験）の前及びその経過中に、水接触角及び指紋特性を測定した。結果を表１〜３に挙げる。
【０１１０】
表１：中性塩噴霧試験（NSS試験）後の結果
名称：試料１−X  接着促進剤層有り、試料２−X  公知技術水準による酸化珪素層有り、試料３−Xコーティング無し
【表１】
2016183099.tif 000003
【０１１１】
表２：時間の関数としての中性塩噴霧試験（NSS試験）の前及び経過中での水接触角測定。
名称：試料１−X  接着促進剤層有り、試料２−X  公知技術水準による酸化珪素層有り、試料３−Xコーティング無し
【表２】
2016183099.tif 000004
【０１１２】
表３：中性塩噴霧試験（NSS試験）による負荷の前及びそれによる３週間後の媒体  ７個の手汗溶液BMW（Medium 7 Handschweissloesung BMW）での指紋試験後の結果。
名称：試料１−X  接着促進剤層有り、試料２−X  公知技術水準による酸化珪素層有り、試料３−Xコーティング無し
【表３】
2016183099.tif 000005
【０１１３】
イージークリーンコーティング用の下地としての本発明による接着促進剤層を有する試料は、５０４時間の試験時間後も、僅かに変色しただけで、認識可能な侵食（ＯＫ＝満足）は示さない。それに対して、イージークリーンコーティング用の下地としての公知技術水準によるゾルゲル酸化珪素コーティングは、１６８時間の試験時間後に既に、強い変色を伴う強い侵食（ＯＫではない＝不満足）を示す。NSS試験でのETC層の耐性は、本発明による基材上の塗布によって、目に見える侵食なしに、２１日間よりも長く高められた。
【０１１４】
様々なイージークリーンコーティング用のベースとしての基材上の本発明による接着促進剤層は、全ての場合に、その長期安定性の著しい改善を与える。それに比較して、接着促進剤層のない基材上のイージークリーンコーティングは、全ての場合に、NSS試験の１６８時間後に既に疎水性の損失を示す。高い接触角の維持のために、実地に関連するイージークリーン特性のための、この角度は８０°を上回らなければならない。このことは、負荷試験後の特性の維持を調べるための良好な指標として認められた。NSS試験は、広く周知された試験として、このようなコーティングの基準試験の１つである。これは、例えば、指紋での接触により生じる負荷を反映する。指汗の塩分は、層破壊に典型的に影響する。長期安定性は決定的な特性として見なされる。全体的に、より長い安定性を有するより低い耐指紋性が、不足的な長期安定性を有する極めて良好な耐指紋性よりも良好に等級付けされる。NSS試験は、例えば、タッチパネル及びタッチスクリーンの実際の（reelle）タッチ使用及びアウトドア使用に関する著しい関連性を有する。
【０１１５】
本発明による接着促進剤層上へのイージークリーンコーティングの塗布後に、中性塩噴霧試験において３倍超より長く負荷させた後のイージークリーンコーティングに対する水接触角は、中性塩噴霧試験において相応により短い負荷における接着促進剤層を塗布されていない同じイージークリーンコーティングの場合よりも大きい。１０％までの長時間NSS試験での水接触角の減少では、イージークリーン層は未だ本質的に侵食されてはなく、５０°よりも少ない水接触角の減少では、イージークリーン層はもはや存在しないか又は強く損傷されて存在するだけであり、かつその作用は失われていることが推測される。
即ち、純粋なガラス表面上又は公知技術水準による酸化珪素コーティング上の全ての様々なイージークリーンコーティングでの、表２における測定結果は、７日間後に既に、イージークリーン又は耐指紋性の極めて広範な損失ないし完全な損失を示し、これに対して、本発明による接着促進剤層上での同じコーティングは、２１日間後も、その有効性を一部では完全なレベルで保持したままである。
【０１１６】
結果から、全ての調べた有機弗素化合物について、接着促進剤層を有する本発明による基材要素は安定性の明らかな延長を引き起こすことが判明する。
【０１１７】
それにも拘らず、様々なイージークリーン系の間で差異を当然観察され得るが、それというのも、接着促進剤層の他に、イージークリーン層の基本耐性（Grundbestaendigkeit）も、安定性への影響を有するからである。しかし、各々の有機弗素化合物に依らず、殊にイージークリーンコーティングの長期作用を明らかに改善する一貫した効果を観察することができる。その効果は、イージークリーンコーティングが接着促進剤層と相互作用をすることによって生じる。
【０１１８】
耐指紋試験結果は、イージークリーンコーティングのためのベースとしての本発明による基材要素の利点を確証する。表３は、中性塩噴霧試験（NSS試験）における１７日間に渡る負荷の前及びその後の、接着促進剤層を有する及び接着促進剤層の無い試料について、塗布された標準指紋の散乱光の強度の分析を示す。結果は、ETCコーティングの種類により、コーティング直後に既に耐指紋特性の改善を示す。しかし結果は、特に、NSS試験における長時間負荷後のAFP特性の著しい改善を示し、即ち、ETCコーティングのAFP作用は、前記コーティング用の本発明による基材要素の使用下に、接着促進剤層なしの従来の基材についてよりも、著しく長期安定である。
【０１１９】
イージークリーンコーティングでコーティングされた本発明による基材要素は、保護機能を有するカバーとして使用される。この際、従来のカバー及び保護装備の全ての基礎材料が、本発明による基材要素の支持材料として用いられ、かつ接着促進剤層及びイージークリーンコーティングを備えることができる。
【０１２０】
更に、イージークリーンコーティングでコーティングされた本発明による基材要素は、タッチ機能を有する基材として使用される。支持材料として、タッチ機能が備えられている全ての好適な材料、例えば、金属、プラスチック、ガラス又は複合材料がこれに該当する。この際、殊に、タッチスクリーン機能を有するディスプレイが高い相対的価値を有する。この際殊に、摩耗及び指汗、例えば、塩及び脂肪の形での化学的攻撃に対する長期安定性が強調され得る。
【０１２１】
用途は、例えば、モニターのディスプレイスクリーン又はディスプレイフロントスクリーンであり、これらは、各々、エアギャップを有するフロントスクリーンとして、又は場合により積層された偏光板を有するディスプレイスクリーンに直接ボンディングされたフロントスクリーンとして使用される。
【０１２２】
イージークリーンコーティングでコーティングされた本発明による基材要素は、全種類のディスプレイ用途、例えば、シングルタッチ、デュアルタッチ又はマルチタッチディスプレイ、３Ｄディスプレイ又はフレキシブルディスプレイとして、タッチスクリーン機能を有するディスプレイ用途に用いることができる。
【０１２３】
イージークリーンコーティングでコーティングされた本発明による基材要素は、殊にタッチ機能として構成されている、有利に抵抗方式、容量方式、光学方式、赤外線方式又は表面弾性波方式により作用されるタッチ技術を有する、全ての種類の対話型入力要素用の基材として使用される。特に、光入力結合（Lichteinkopplung）で動作する系、例えば、赤外線又は光学的に作用されるタッチ技術は、接触面上の汚れ及び付着物の存在に敏感に反応し、それというのも、ここでは付着物に基づき不所望な反射が生じ得るからである。この際、イージークリーンコーティングでコーティングされた本発明による基材要素の使用が特に有利である。
【０１２４】
長期安定なETC特性又はAFP特性を有する他の使用は、屋内及び屋外の建築範囲におけるスクリーン、例えば、ショーウィンドウ、絵、ショーケース、カウンター、冷凍冷蔵ケースのガラス板又は清浄にするには接近が困難なガラス板である。建築分野において、良好な接着、引掻き強度及び長期安定性の他に、ETC層のUV安定性も重要である。
【０１２５】
他の使用は、例えば、オーブンフロントパネル、装飾ガラス要素、殊に汚染の比較的高い危険を伴う露出した範囲で、例えば、台所、浴室又は実験室での装飾ガラス要素、又は同様にソーラーモジュールのカバーである。
【０１２６】
イージークリーンコーティングでコーティングされた本発明による基材は、部分的にはエッチングされた支持材料表面も有し、耐指紋性、耐落書き性又はアンチグレア性を有する実用表面として使用される。
【０１２７】
ガラスの背面上に印刷を有する又は鏡面コーティング（spiegelnde Beschichtung）を有する特殊な装飾要素は、イージークリーンコーティングで特に利益を得る。例えば、オーブンフロントパネルとして又は他の台所用品で使用されるこれらの要素は、使用時に指紋又は油脂状物質と繰返し接触する。これらの場合には、前記表面は極めて急速に美しくなくなりかつ非衛生なように見える。この際、イージークリーンコーティングは既に、抑制のために良好な視覚的な結果をもたらし、かつより容易に清浄にし得る。そのような使用における本発明による基材によって、作用の寿命が明らかに上昇されかつ対象物の使用価値が高められる。
【０１２８】
本発明は前記の特徴の組み合わせに限定されることなく、むしろ当業者は本発明の全特徴を、それが合理的である限り、任意に組み合わせることが理解される。
【０１２９】
［発明の態様］
１．  支持材料（２）と、コーティング（３）とを含む、イージークリーンコーティングでのコーティング用の基材要素（１１、１２）において、コーティング（３）は接着促進剤層であり、イージークリーンコーティングと相互作用を行うことができるように構成されており、かつ接着促進剤層は混合酸化物を包含することを特徴とする、イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素。
２．  接着促進剤層（３）は、液相コーティング、殊に熱固化ゾルゲル層である、前記１に記載の基材要素。
３．  接着促進剤層（３）は、CVDコーティング又は火炎熱分解層である、前記１に記載の基材要素。
４．  接着促進剤層（３）は、PVDコーティング、殊にスパッタリング層である、前記１に記載の基材要素。
５．  接着促進剤層（３）は、１層以上の中間層によって部分層に分かれており、部分層は有利に０．３〜１０ｎｍの厚さ、特に有利に１〜３ｎｍの厚さを有する、前記１から４までのいずれか１に記載の基材要素。
６．  接着促進剤層（３）は、１．３５〜１．７の範囲、有利に１．３５〜１．６の範囲、特に有利に１．３５〜１．５６の範囲の屈折率を有する、前記１から５までのいずれか１に記載の基材要素。
７．  接着促進剤層（３）は、珪素混合酸化物層であり、殊に、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素層であり、この際、有利に元素アルミニウムの少なくとも１種の酸化物が含有されている、前記１から６までのいずれか１に記載の基材要素。
８．  接着促進剤層（３）は、１ｎｍよりも大きい、有利に１０ｎｍよりも大きい、特に有利に２０ｎｍよりも大きい厚さを有する、前記１から７までのいずれか１に記載の基材要素。
９．  接着促進剤層（３）上に外層（４）が配置されていて、かつこの外層（４）は粒子層又は多孔層である、前記１から８までのいずれか１に記載の基材要素。
１０．  外層（４）は、酸化珪素から、又は珪素混合酸化物から成る、前記９に記載の基材要素。
１１．  支持材料（２）は、金属、プラスチック、結晶、セラミック、ガラス、ガラスセラミック又は複合材料である、前記１から１０までのいずれか１に記載の基材要素。
１２．  支持材料（２）は、リチウムアルミニウムシリケートガラス、ソーダ石灰シリケートガラス、硼珪酸ガラス、アルカリ金属アルミノシリケートガラス、アルカリ金属不含又は低アルカリ金属アルミノシリケートガラスである、前記１から１０までのいずれか１に記載の基材要素。
１３．  支持材料（２）は表面（２０）上に構造化されていて、殊にエッチング表面を有する、前記１から１２までのいずれか１に記載の基材要素。
１４．  接着促進剤層（３）上へのイージークリーンコーティングの塗布後に、中性塩噴霧試験において１．５倍よりも長く、有利に２倍よりも長く、特に有利に３倍よりも長く負荷させた後のイージークリーンコーティングに対する水接触角は、中性塩噴霧試験において相応により短い負荷における接着促進剤層を塗布していない同じイージークリーンコーティングの場合よりも大きい、前記１から１３までのいずれか１に記載の基材要素。
１５．  次の段階：
−  少なくとも１表面（２０）を有する、殊にガラス又はガラスセラミック製の、支持材料（２）を準備する段階、
−  接着促進剤前駆層で、ゾルゲル塗布技術により支持材料の少なくとも１表面（２０）をコーティングする段階、
−  接着促進剤前駆層を熱固化し、かつ接着促進剤前駆層を接着促進剤層（３）へと変換する段階、この際、接着促進剤層は、混合酸化物、有利に珪素混合酸化物、特に有利に、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物と又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含し、従って、そうして得られる基材要素（１１）上に、イージークリーンコーティングを噴霧法、浸漬法、すり込法又は印刷法によって塗布可能である、
を包含する、イージークリーンコーティングでのコーティング用の基材要素（１１、１２）の製法。
１６．  支持材料（２）上での接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、支持材料の軟化温度を下回って、殊に、５５０℃より低い、有利に３５０〜５００℃、特に有利に４００〜５００℃の基材表面温度で、行われる、前記１５に記載の基材要素（１１、１２）の製法。
１７．  接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、インサイチューで、支持材料の熱処理を伴い行われる、前記１５に記載の基材要素の製法。
１８．  接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換の前に、有利に３００℃より低い温度で、特に有利に２００℃より低い温度で、接着促進剤前駆層の乾燥を先行させる、前記１５から１７までのいずれか１に記載の基材要素（１１、１２）の製法。
１９．  接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換に続いて、殊に火炎熱分解による、接着促進剤層（３）上の外層（６）の塗布を後続させ、この際、外層（６）は、有利に酸化珪素から又は珪素混合酸化物から成り、かつこの外層は、粒子層又は多孔層であり、従ってそうして得られる基材要素上に、イージークリーンコーティングを、噴霧法、浸漬法、すり込法又は印刷法によって直接塗布可能である、前記１５から１８までのいずれか１に記載の基材要素（１２）の製法。
２０．  殊にガラス又はガラスセラミック製の、支持プレート（２）と、混合酸化物、有利に珪素混合酸化物、特に有利に少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含する接着促進剤層（３）とを含む、前記１から１４までのいずれか１に記載の基材要素（１１、１２）の、イージークリーンコーティング、殊に有機弗素化合物又はナノ層系で、コーティングするための使用。
２１．  接着促進剤層（３）上に外層（６）が配置されていて、かつこの外層は粒子層又は多孔層であり、かつ殊に酸化珪素又は珪素混合酸化物から成る、イージークリーンコーティングで、殊に有機弗素化合物又はナノ層系でコーティングするための、前記２０に記載の基材要素（１１、１２）の使用。
２２．  カバーとしての、モニターのディスプレイスクリーン又はディスプレイフロントスクリーンとしての、有利に３Ｄディスプレイ又はフレキシブルディスプレイとしての、屋内及び屋外の建築範囲におけるスクリーンとしての、例えば、ショーウィンドウ、絵、ショーケース、カウンター、冷凍冷蔵ケースのガラス板又は清浄にするには接近が困難なガラス板としての、オーブンフロントパネルとしての、装飾ガラス要素、殊に汚染の比較的高い危険を伴う露出した範囲での、例えば、台所、浴室又は実験室での装飾ガラス要素としての、又は同様にソーラーモジュールのカバーとしての、前記１から１４までのいずれか１に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
２３．  殊にタッチ機能として構成されている、特に有利に抵抗方式、容量方式、光学方式、赤外線方式又は表面弾性波方式により作用されるタッチ技術を有する、対話型入力要素のための基材としての、殊にタッチスクリーン機能を有するディスプレイスクリーンとしての、特に有利にシングルタッチディスプレイ、デュアルタッチディスプレイ又はマルチタッチディスプレイとしての、前記１から１４までのいずれか１に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
２４．  前記１から１９までのいずれか１に記載の基材要素を含有する表示要素又は操作要素を有する装置。
【符号の説明】
【０１３０】
２  支持材料、  ３  コーティング、  ４  外層、  １１、１２  基材要素、  ２０  表面
【図１】
2016183099.tif 000006
【図２】
2016183099.tif 000007
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月20日(2016.5.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持材料（２）及びコーティング（３）を包含するイージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素（１１，１２）において、コーティング（３）は、イージークリーンコーティングと化学的結合をする混合酸化物を包含する接着促進剤層であることを特徴とし、
前記接着促進剤層（３）は、少なくとも１種の元素アルミニウムの酸化物が含有されている珪素混合酸化物層である、
イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素（１１、１２）。
【請求項２】
前記化学的結合が、共有結合である、請求項１に記載の基材要素。
【請求項３】
接着促進剤層（３）は、液相コーティングである、請求項１に記載の基材要素。
【請求項４】
前記液相コーティングが、熱固化ゾルゲル層である、請求項３に記載の基材要素。
【請求項５】
接着促進剤層（３）は、CVDコーティング又は火炎熱分解層である、請求項１に記載の基材要素。
【請求項６】
接着促進剤層（３）は、PVDコーティングである、請求項１に記載の基材要素。
【請求項７】
前記PVDコーティングが、スパッタリング層である、請求項６に記載の基材要素。
【請求項８】
接着促進剤層（３）は、１層以上の中間層によって部分層に分けられていて、かつ１層以上の中間層は、０．３〜１０ｎｍの厚さを有する、請求項１から７までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項９】
前記中間層は、１〜３ｎｍの厚さを有する、請求項８に記載の基材要素。
【請求項１０】
接着促進剤層（３）は、１．３５〜１．７の範囲の屈折率を有する、請求項１から９までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１１】
接着促進剤層（３）は、１．３５〜１．６の範囲の屈折率を有する、請求項１から９までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１２】
接着促進剤層（３）は、１．３５〜１．５６の範囲の屈折率を有する、請求項１から９までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１３】
接着促進剤層（３）は、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素層である、請求項１から１２までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１４】
接着促進剤層（３）は、１ｎｍよりも大きい厚さを有する、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１５】
接着促進剤層（３）は、１０ｎｍよりも大きい厚さを有する、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１６】
接着促進剤層（３）は、２０ｎｍよりも大きい厚さを有する、請求項１から１３までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１７】
接着促進剤層（３）上に外層（４）が配置されていて、かつこの外層（４）は粒状層又は多孔層である、請求項１から１６までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項１８】
外層（４）は、酸化珪素から、又は珪素混合酸化物から成る、請求項１７に記載の基材要素。
【請求項１９】
支持材料（２）は、金属、プラスチック、結晶、セラミック、ガラス、ガラスセラミック又は複合材料である、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２０】
支持材料（２）は、リチウムアルミニウムシリケートガラス、ソーダ石灰シリケートガラス、硼珪酸ガラス、アルカリ金属アルミノシリケートガラス、アルカリ金属不含又は低アルカリ金属アルミノシリケートガラスである、請求項１から１８までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２１】
支持材料（２）は表面（２０）上に構造されている、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２２】
支持材料（２）は表面（２０）上に構造されていて、エッチング表面を有する、請求項１から２０までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２３】
接着促進剤層（３）上へのイージークリーンコーティングの塗布後に、中性塩噴霧試験で１．５倍よりも長く負荷させた後のイージークリーンコーティングに対する水接触角は、中性塩噴霧試験で相応により短い負荷において接着促進剤層を塗布していない同じイージークリーンコーティングの場合よりも高い、請求項１から２２までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２４】
接着促進剤層（３）上へのイージークリーンコーティングの塗布後に、中性塩噴霧試験で２倍よりも長く負荷させた後のイージークリーンコーティングに対する水接触角は、中性塩噴霧試験で相応により短い負荷において接着促進剤層を塗布していない同じイージークリーンコーティングの場合よりも高い、請求項１から２２までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２５】
接着促進剤層（３）上へのイージークリーンコーティングの塗布後に、中性塩噴霧試験で３倍よりも長く負荷させた後のイージークリーンコーティングに対する水接触角は、中性塩噴霧試験で相応により短い負荷において接着促進剤層を塗布していない同じイージークリーンコーティングの場合よりも高い、請求項１から２２までのいずれか１項に記載の基材要素。
【請求項２６】
次の段階：
−  少なくとも１表面（２０）を有する支持材料（２）を準備する段階、
−  接着促進剤前駆層で、ゾルゲル塗布法により支持材料の少なくとも１表面（２０）をコーティングする段階、
−  接着促進剤前駆層を熱固化し、かつ接着促進剤前駆層を接着促進剤層（３）へと変換する段階（この際、接着促進剤層は、少なくとも１種の元素アルミニウムの酸化物が含有されている珪素混合酸化物である）
を包含する、イージークリーンコーティングでのコーティングのための基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項２７】
前記支持材料（２）が、ガラス又はガラスセラミックである、請求項２６に記載の基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項２８】
前記接着促進剤層は、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物と又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含する、請求項２６に記載の基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項２９】
支持材料（２）上での接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、支持材料の軟化温度より低い温度で行われる、請求項２６に記載の基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項３０】
支持材料（２）上での接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、５５０℃より低い基材表面温度で行われる、請求項２６に記載の基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項３１】
支持材料（２）上での接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、３５０〜５００℃の基材表面温度で行われる、請求項２６に記載の基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項３２】
支持材料（２）上での接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、４００〜５００℃の基材表面温度で行われる、請求項２６に記載の基材要素（１１，１２）の製法。
【請求項３３】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換は、支持材料の熱処理で行われる、請求項２６に記載の基材要素の製法。
【請求項３４】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換の前に、３００℃より低い温度で接着促進剤前駆層の乾燥を先行させる、請求項２６から３３までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の製法。
【請求項３５】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換の前に、２００℃より低い温度で、接着促進剤前駆層の乾燥を先行させる、請求項２６から３３までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の製法。
【請求項３６】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換に続いて、接着促進剤層（３）上の外層（４）の塗布を後続させ、この際、外層（４）は、酸化珪素から又は珪素混合酸化物から成り、かつこの外層は、粒状層又は多孔層である、請求項２６から３５までのいずれか１項に記載の基材要素（１２）の製法。
【請求項３７】
接着促進剤前駆層の熱固化及び接着促進剤前駆層の接着促進剤層（３）への変換に続いて、火炎熱分解による接着促進剤層（３）上の外層（４）の塗布を後続させ、この際、外層（４）は、酸化珪素から又は珪素混合酸化物から成り、かつこの外層は、粒状層又は多孔層である、請求項２６から３５までのいずれか１項に記載の基材要素（１２）の製法。
【請求項３８】
支持プレート（２）及び珪素混合酸化物を包含する接着促進剤層（３）を包含する、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の、イージークリーンコーティングでのコーティングのための使用。
【請求項３９】
支持プレート（２）がガラス又はガラスセラミックである、請求項３８に記載の使用。
【請求項４０】
接着促進剤層（３）が、少なくとも１種の元素アルミニウム、錫、マグネシウム、燐、セリウム、ジルコニウム、チタン、セシウム、バリウム、ストロンチウム、ニオブ、亜鉛、硼素の酸化物及び／又は弗化マグネシウムと混合した酸化珪素を包含する、請求項３８に記載の使用。
【請求項４１】
支持プレート（２）及び珪素混合酸化物を包含する接着促進剤層（３）を包含する、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の、弗素有機化合物又はナノ層系でのコーティングのための使用。
【請求項４２】
接着促進剤層（３）上に外層（４）を配置させ、かつこの外層は粒状層又は多孔層であり、かつ酸化珪素又は珪素混合酸化物から成る、イージークリーンコーティングでのコーティングのための、請求項３８から４１までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項４３】
接着促進剤層（３）上に外層（４）を配置させ、かつこの外層は粒状層又は多孔層であり、かつ酸化珪素又は珪素混合酸化物から成る、弗素有機化合物での又はナノ層系でのコーティングのための、請求項３８から４１までのいずれか１項に記載の基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項４４】
カバーとしての、モニター又はディスプレイフロントスクリーンのディスプレイスクリーンとしての、内部建築範囲及び外部建築範囲におけるスクリーンとしての、画像、陳列ケース、カウンター、冷凍ユニットのガラス板又は清浄するには接近が困難なガラス板としての、オーブンフロントスクリーンとしての、装飾ガラス要素としての、又は太陽光モジュールのカバーとしての、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項４５】
３Ｄディスプレイ又はフレキシブルディスプレイとしての、ディスプレイウインドーとしての、又は、台所、浴室又は実験室の装飾ガラス要素としての、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項４６】
タッチ機能として構成されている対話型入力要素のための基材としての、タッチスクリーン機能を有するディスプレイスクリーンとしての、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項４７】
抵抗方式、容量方式、光学方式、赤外線又は表面弾性波方式により作用されるタッチ技術で構成されている対話型入力要素のための基材としての、シングルタッチディスプレイ、デュアルタッチディスプレイ又はマルチタッチディスプレイとしての、請求項１から２５までのいずれか１項に記載の、イージークリーンコーティングでコーティングされた基材要素（１１、１２）の使用。
【請求項４８】
請求項１から２５までのいずれか１項に記載の基材要素を含有する表示要素又は操作要素を有する装置。
【請求項４９】
前記イージークリーンコーティングが、耐指紋（AFP）コーティングである、請求項１〜２５に記載の基材要素。
【請求項５０】
前記珪素混合酸化物層において、混合酸化物中のアルミニウム対珪素のモル比が、３〜３０％である、請求項１〜２５に記載の基材要素。
【請求項５１】
前記珪素混合酸化物層において、混合酸化物中のアルミニウム対珪素のモル比が、５〜２０％である、請求項１〜２５に記載の基材要素。
【請求項５２】
前記珪素混合酸化物層において、混合酸化物中のアルミニウム対珪素のモル比が、７〜１２％である、請求項１〜２５に記載の基材要素。