(57)【要約】【課題】ウェハを保持した状態での厚みを薄くすることができるとともに、めっき液が内部に残留しにくいめっき用治具を提供する。【解決手段】本発明に係るめっき用治具は、被めっき基材であるウェハ７の一方の面に当接するステージ１２３を有する保持ベース１２と、ウェハ７の他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部１３１を有するかぶせ部材１３と、複数の被係止部１３１と係止する複数の係止部１４１を有し、かぶせ部材１３の外周の外側において保持ベース１２に対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の係止部１４１を複数の被係止部１３１に係止し、ウェハ７を保持ベース１２及びかぶせ部材１３の間に挟んで保持する回転リング１４とを備える。【選択図】図４
2016008344.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被めっき基材であるウェハの一方の面に当接するステージを有する保持ベースと、
前記ウェハの他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有するかぶせ部材と、
複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記かぶせ部材の外周の外側において前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記ウェハを前記保持ベース及び前記かぶせ部材の間に挟んで保持する回転リングと
を備えることを特徴とするめっき用治具。
【請求項２】
前記回転リングは、前記ウェハの外縁に沿った形状の回転リングスリットを複数有し、
前記保持ベースは、該回転リングの移動方向を案内するガイドピンを、前記回転リングスリットの一端又は他端に対応する位置に備えていることを特徴とする請求項１に記載のめっき用治具。
【請求項３】
前記ウェハが保持された状態で、前記ウェハのめっきの対象面が鉛直方向に設置された場合に、前記回転リングは、前記ウェハの前記めっきの対象面の中心を通る鉛直線上の下部にめっき液の排出口を備えることを特徴とする請求項１又は２に記載のめっき用治具。
【請求項４】
前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部は前記被係止部よりも高い位置に設けられており、
前記係止部の底面又は前記被係止部の上面は傾斜しており、
前記被係止部は、前記保持ベース及び前記係止部の間に挟まれて係止されることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載のめっき用治具。
【請求項５】
前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部の上面は、前記かぶせ部材の上面の高さ以下の位置に設けられていることを特徴とする請求項１乃至４に記載のめっき用治具。
【請求項６】
前記保持ベースは、他方の面にも被めっき基材である他のウェハを搭載するステージと、
前記他のウェハの外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有する他のかぶせ部材と、
複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記他のウェハを前記保持ベース及び前記他のかぶせ部材の間に挟んで保持する他の回転リングと
を備え、
前記回転リングと前記他の回転リングとを連結させ、一体として回転移動することを可能とする連結部を備えることを特徴とする請求項１乃至５のいずれか一項に記載のめっき用治具。
【請求項７】
前記回転リング及び前記他の回転リングは、中心角を等分した半径の延長部分に複数の突起部を有し、
前記保持ベースは、前記回転リング及び前記他の回転リングのリング形状に沿った複数の保持ベーススリットを、複数の前記突起部の位置に合わせて備えており、
前記突起部を連結する連結ピンを、連結部として前記保持ベーススリットに挿通してあることを特徴とする請求項６に記載のめっき用治具。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ウェハを保持した状態での厚みを薄くすることができるとともに、めっき液が内部に残留することを防止することが可能なめっき用治具に関する。
【背景技術】
【０００２】
半導体を実装する基板として用いるウェハの表面には、例えば銅めっきが施される。具体的には、めっき用治具にウェハを装着し、ウェハが装着されためっき用治具の全体をめっき槽内に貯留されている銅めっき液に浸漬することで、ウェハの表面をめっき処理する。
【０００３】
例えば特許文献１には、第１保持部材と第２保持部材との間に半導体ウェハを保持することができる半導体ウェハのめっき治具が開示されている。特許文献１では、円環状の固定リングを回転させることにより凸部（係止部）と逆Ｌ字状の爪（被係止部）とを係止し、その状態でめっき槽中のめっき液に浸漬させ、半導体ウェハをめっきする。
【０００４】
例えば特許文献２には、２枚一組でウェハを保持することができるウェハのめっき用ラックが開示されている。特許文献２では、表裏それぞれ独立してウェハを着脱することができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１６９７９２号公報
【特許文献２】特開平０７−２４３０９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、特許文献１では、円環状の固定リングを配置しているので、固定リングの上面と、ウェハのめっき処理の対象面との間の距離が大きくなり、めっき用治具の厚みを薄くすることが困難である。したがって、めっき液を十分に撹拌することができず、めっき厚の分布にバラツキが生じやすいという問題点があった。
【０００７】
また、固定リングが円環状であることから、めっき液が固定リングの内側に滞留し、めっき液の持ち出し量が多くなる。したがって、めっき処理費用の増大を招くおそれがあるという問題点もあった。さらに、表裏両面でウェハを保持する場合、それぞれ独立して保持する必要があるため、ユーザの作業が煩雑になるという問題点もあった。
【０００８】
本発明は斯かる事情に鑑みてなされたものであり、ウェハを保持した状態での厚みを薄くすることができるとともに、めっき液が内部に残留しにくいめっき用治具を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記目的を達成するために本発明に係るめっき用治具は、被めっき基材であるウェハの一方の面に当接するステージを有する保持ベースと、前記ウェハの他方の面の外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有するかぶせ部材と、複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記かぶせ部材の外周の外側において前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記ウェハを前記保持ベース及び前記かぶせ部材の間に挟んで保持する回転リングとを備えることを特徴とする。
【００１０】
上記構成では、ウェハ上に固定リングを設けるのではなく、かぶせ部材の外周の外側において保持ベースに対して回転リングを設け、複数の係止部を有する回転リングを回転移動させて複数の被係止部を係止することにより、ウェハを保持ベース及びかぶせ部材の間に挟んで保持するので、ウェハのめっきの対象面とめっき槽内に設置する撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽を小さくすることも可能となる。
【００１１】
また、本発明に係るめっき用治具は、前記回転リングが、前記ウェハの外縁に沿った形状の回転リングスリットを複数有し、前記保持ベースが、該回転リングの移動方向を案内するガイドピンを、前記回転リングスリットの一端又は他端に対応する位置に備えていることが好ましい。
【００１２】
上記構成では、回転リングが、ウェハの外縁に沿った形状の回転リングスリットを複数有しており、保持ベースが、回転リングの移動方向を案内するガイドピンを、回転リングスリットの一端又は他端に対応する位置に備えているので、回転リングの回転移動により複数の係止部を移動させ、複数の被係止部を均一に係止することができ、ウェハ全面のシール性が安定し、位置ずれが少なくなるので、液漏れ不良、通電不良、シール位置ずれ不良等のめっき不良を低減することができる。
【００１３】
また、本発明に係るめっき用治具は、前記ウェハが保持された状態で、前記ウェハのめっきの対象面が鉛直方向に設置された場合に、前記回転リングは、前記ウェハの前記めっきの対象面の中心を通る鉛直線上の下部にめっき液の排出口を備えることが好ましい。
【００１４】
上記構成では、回転リングは、ウェハのめっきの対象面の中心を通る鉛直線上の下部にめっき液の排出口を備えているので、内部にめっき液が残留した場合であってもめっき液の排出口から外部に排出される。したがって、環状の回転リングであっても、めっき液が回転リングの内側に滞留することがなく、めっき処理費用の増大を招くおそれがない。
【００１５】
また、本発明に係るめっき用治具は、前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部は前記被係止部よりも高い位置に設けられており、前記係止部の底面又は前記被係止部の上面は傾斜しており、前記被係止部は、前記保持ベース及び前記係止部の間に挟まれて係止されることが好ましい。
【００１６】
上記構成では、ウェハの面に対して平行な、保持ベースの一方の面を基準面として、係止部は被係止部よりも高い位置に設けられており、係止部の底面又は被係止部の上面は傾斜しており、被係止部は、保持ベース及び係止部の間に挟まれて係止される。これにより、係止部を移動させることにより被係止部を確実に係止することができ、ウェハを確実に保持することが可能となる。
【００１７】
また、本発明に係るめっき用治具は、前記ウェハの面に対して平行な、前記保持ベースの一方の面を基準面として、前記係止部の上面は、前記かぶせ部材の上面の高さ以下の位置に設けられていることが好ましい。
【００１８】
上記構成では、係止部が、かぶせ部材の上面の高さ以下の位置に設けられていることにより、めっき槽内に設置する撹拌パドルをウェハのめっきの対象面に近づけることができ、めっきの対象面付近のめっき液を十分に撹拌することができる。
【００１９】
また、本発明に係るめっき用治具は、前記保持ベースが、他方の面にも被めっき基材である他のウェハを搭載するステージと、前記他のウェハの外縁を密封し、外周に複数の被係止部を有する他のかぶせ部材と、複数の前記被係止部と係止する複数の係止部を有し、前記保持ベースに対して回転移動可能に取り付けられ、回転移動させることにより複数の前記係止部を複数の前記被係止部に係止し、前記他のウェハを前記保持ベース及び前記他のかぶせ部材の間に挟んで保持する他の回転リングとを備え、前記回転リングと前記他の回転リングとを連結させ、一体として回転移動することを可能とする連結部を備えることが好ましい。
【００２０】
上記構成では、連結部を介して回転リングと他の回転リングとを連結させ、一体として回転移動させることができるので、一方の面のステージに搭載されたウェハと他方の面のステージに搭載された他のウェハとを同時に着脱することができ、ユーザの作業が簡略化される。
【００２１】
また、本発明に係るめっき用治具は、前記回転リング及び前記他の回転リングは、中心角を等分した半径の延長部分に複数の突起部を有し、前記保持ベースは、前記回転リング及び前記他の回転リングのリング形状に沿った複数の保持ベーススリットを、複数の前記突起部の位置に合わせて備えており、前記突起部を連結する連結ピンを、連結部として前記保持ベーススリットに挿通してあることが好ましい。
【００２２】
上記構成では、連結部として保持ベーススリットに挿通した連結ピンにより回転リングと他の回転リングとを連結しているので、回転リング又は他の回転リングのいずれかを回転させることで、他方も同時に回転する。したがって、一方の面のウェハと他方の面の他のウェハとを同時に着脱することができ、作業が煩雑にならない。
【発明の効果】
【００２３】
上記構成によれば、ウェハ上に固定リングを設けるのではなく、かぶせ部材の外周の外側において保持ベースに対して回転リングを設け、複数の係止部を有する回転リングを回転移動させて複数の被係止部を係止することにより、ウェハを保持ベース及びかぶせ部材の間に挟んで保持するので、ウェハのめっきの対象面とめっき槽内に設置する撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽を小さくすることも可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００２４】
【図１】本発明の実施の形態に係るめっき用治具を用いる、めっき装置の概要を説明するための模式図である。
【図２】本発明の実施の形態に係るめっき用治具の使用状態を示す斜視図である。
【図３】本発明の実施の形態に係るめっき用治具を用いるめっき装置の側面図である。
【図４】本発明の実施の形態に係るめっき用治具の構成を示す斜視図である。
【図５】本発明の実施の形態に係るめっき用治具の回転リングの構成を示す斜視図である（裏側から見た図）。
【図６】本発明の実施の形態に係るめっき用治具のウェハ搭載時の構成を示す斜視図である。
【図７】本発明の実施の形態に係るめっき用治具のかぶせ部材の装着前の構成を示す斜視図である。
【図８】本発明の実施の形態に係るめっき用治具のかぶせ部材の装着時の構成を示す斜視図である。
【図９】本発明の実施の形態に係るめっき用治具のかぶせ部材を係止し、ウェハを保持した時の構成を示す斜視図である。
【図１０Ａ】本発明の実施の形態に係るめっき用治具のかぶせ部材の係止時の構成を示す部分斜視図である。
【図１０Ｂ】本発明の実施の形態に係るめっき用治具の部分断面図である。
【図１０Ｃ】本発明の実施の形態に係るめっき用治具の係止部の底面と被係止部の上面との係止状態を示す部分断面図である。
【図１１】本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具の両面にウェハを保持する場合の、ウェハの開放時の構成を示す平面図及び側面図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具の両面にウェハを保持する場合の、ウェハの保持時の構成を示す平面図である。
【図１３】本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具の両面にウェハを保持する場合の、ウェハの保持時の構成を示す斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２５】
以下、本発明の実施の形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。図１は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具を用いる、めっき装置の概要を説明するための模式図である。図１に示すように、本実施の形態に係るめっき用治具１０を用いる、めっき装置１は、めっき槽３０にめっき液４０が貯留されている。
【００２６】
めっき槽３０には、陽極電極２０が設置されており、被めっき基材であるウェハ７を保持しためっき用治具１０を、めっき液４０が貯留されているめっき槽３０に出し入れする。直流電源５０の陽極は陽極電極２０に、負極はめっき用治具１０に、それぞれ接続されており、直流電流を供給することにより、ウェハ７の表面にめっき膜を生成する。
【００２７】
図２は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０の使用状態を示す斜視図である。図２に示すように、本実施の形態に係るめっき用治具１０は、把持部１１が図示しない搬送ユニットに把持され、めっき槽３０の直上まで移動される。そして、めっき用治具１０を矢印方向に下降させて、ウェハ７を保持した保持ベース１２をめっき槽３０内部に貯留されているめっき液４０へ浸漬させることにより、ウェハ７表面へのめっき処理を実行する。
【００２８】
めっき槽３０は、一のめっき装置１に複数設けてある。図３は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０を用いるめっき装置１の側面図である。図３に示すように、めっき装置１は、ウェハ７を保持しためっき用治具１０をめっき槽３０の上方から出し入れする複数のめっき槽３０を設けている。
【００２９】
めっき装置１は、めっき槽３０が上部から見て配列状に配置されており、複数のめっき槽３０からなるめっき槽群に隣接して、めっき液を水で洗い落とす水洗槽３１と、図示しない乾燥槽とが設けられている。めっき処理時には、ウェハ７を保持しためっき用治具１０を、一のめっき槽３０に浸漬させ、所定の時間通電することでめっき処理を実行する。めっき処理が実行された後、めっき用治具１０を引き上げて水洗槽３１へ移動する。付着しているめっき液を水洗槽３１で水洗した後、乾燥槽へ移動させて表面に付着している水滴を排除する。
【００３０】
図４は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０の構成を示す斜視図である。図４に示すように、本実施の形態に係るめっき用治具１０は、上述した把持部１１と、板状であり、合成樹脂等の電気絶縁材料で形成された保持ベース１２と、ウェハ７の外縁を密封し、外周に複数の被係止部１３１を有するかぶせ部材１３と、かぶせ部材１３の外周の外側において保持ベース１２に対して回転移動可能に取り付けられている回転リング１４とで構成されている。回転リング１４は、内周側に、複数の被係止部１３１と係止する複数の係止部１４１を備えている。なお、係止部１４１は、回転リング１４の一部であり、実質的に被係止部１３１と係止する部分を意味する。
【００３１】
ウェハ７を保持ベース１２のステージ１２３の上に搭載し、かぶせ部材１３をかぶせてウェハ７をステージ１２３に押し付け、回転リング１４を回転させることにより回転リング１４の係止部１４１をかぶせ部材１３の被係止部１３１に係止させる。これにより、ウェハ７を保持ベース１２及びかぶせ部材１３の間に挟んで保持する。かぶせ部材１３の内縁部１３５とウェハ７との間にはシール部材（図示せず）が設けられていても良い。
【００３２】
図４の例では、めっき用治具１０は、円板状のウェハ７を搭載するべく、対応する形状のステージ１２３を保持ベース１２の中央部分に備え、ウェハ７を取り囲むように環状の回転リング１４が設けられている。回転リング１４の複数の係止部１４１は、ウェハ７が搭載された状態で、ウェハ７のめっきの対象面（めっき対象面Ｔ）が鉛直方向に設置された場合に、ウェハ７のめっきの対象面の中心を通る鉛直線に対して対称な位置に４個配置されていることが好ましい。ウェハ７を均等に保持することができるからである。
【００３３】
また、保持ベース１２のステージ１２３には、めっき用治具１０のめっき槽３０への移動方向と同一の方向に２本のアーム逃げ溝１２４が設けられている。ウェハ７は、アーム逃げ溝１２４に沿って移動するウェハ供給アーム（図示せず）により、ステージ１２３上に搭載される。
【００３４】
図５は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０の回転リング１４の構成を示す斜視図（裏側から見た図）である。図５に示すように、回転リング１４は、環状であり、リング形状に沿った複数の（４つの）回転リングスリット１４２が設けてある。回転リング１４には、ウェハ７を保持した状態でめっき用治具１０をめっき対象面Ｔが鉛直方向となるように設置した場合に、保持ベース１２と当接する面であって、鉛直下側になる箇所にめっき液の排出口１５０が設けられている。上記構造により、回転リング１４の裏側にめっき液などが残りにくくなる。
【００３５】
保持ベース１２は、回転リング１４の移動方向を案内する複数のガイドピン１３０を備えている。ガイドピン１３０は、回転リング１４に設けられた複数の回転リングスリット１４２に挿通しており、保持ベース１２に固定されている。回転リング１４は、ガイドピン１３０にガイドされながらウェハの面に対して平行に回転移動し、複数の係止部１４１が移動（回転移動）して、かぶせ部材１３の被係止部１３１を係止する。これにより、ウェハ７の全面のシール性が安定し、位置ずれが少なくなるので、液漏れ不良、通電不良、シール位置ずれ不良等のめっき不良を低減することができる。
【００３６】
なお、回転リング１４は、中心角を等分した半径の延長部分（直径方向の外周側）へ２ヶ所の突起部１４３を備えており、表裏２枚の回転リング１４を連結する連結部として後述する連結ピン１１１を挿通するピン孔１４４を備えている。
【００３７】
図６は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０のウェハ搭載時の構成を示す斜視図である。図６（ａ）に示すように、ステージ１２３の直上に、図６（ｂ）に示すように円板状のウェハ７を移動させ、図６（ｃ）に示すようにウェハ７を搭載する。この上からかぶせ部材１３をかぶせることにより、ウェハ７を押さえ付ける。
【００３８】
図７は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０のかぶせ部材１３の装着前の構成を示す斜視図である。図７に示すように、ウェハ７がステージ１２３上に搭載された側の面と反対側から、かぶせ部材１３をかぶせることにより、ウェハ７を押さえ付ける。かぶせ部材１３は、ウェハ７のめっき対象面Ｔの外縁を密封してウェハ７を押さえ付け、かぶせ部材１３の外周に外側に向けて突出する複数の被係止部１３１を備えている。
【００３９】
図８は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０のかぶせ部材１３の装着時の構成を示す斜視図である。図８に示すように、かぶせ部材１３を回転リング１４の内側に配置し、かぶせ部材１３の内縁部１３５をウェハ７のめっき対象面Ｔの外縁に当接させることにより、ウェハ７をステージ１２３に密着させる。かぶせ部材１３をかぶせる場合、被係止部１３１が、係止部１４１に重ならないようにかぶせる。なお、かぶせ部材１３は、係止する際に保持ベース１２に対して回転摺動しないように、図示しない位置決めピンなどにより位置規制される。
【００４０】
そして、係止部１４１を回転移動させて、被係止部１３１を係止部１４１に係止させる。図９は、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０のかぶせ部材１３の係止時の構成を示す斜視図である。図９に示すように、複数の係止部１４１を矢印方向へ回転移動させることにより、係止部１４１が被係止部１３１の上に覆いかぶさり、係止部１４１により係止される。これにより、ウェハ７を保持ベース１２及びかぶせ部材１３の間に挟んで保持することができる。
【００４１】
図１０Ａは、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０のかぶせ部材１３の係止時の構成を示す部分斜視図である。図１０Ａ（ａ）に示すように、かぶせ部材１３をかぶせる場合、かぶせ部材１３の被係止部１３１が、回転リング１４の係止部１４１に重ならないようにかぶせる。具体的には、回転リング１４の凹部１４５に被係止部１３１が入るようにかぶせる。
【００４２】
かぶせ部材１３をかぶせた時点で、保持ベース１２の一方の面（ウェハ７の面に対して平行な面）を基準面Ｓとして、回転リング１４の複数の係止部１４１の底面ｂは、かぶせ部材１３の被係止部１３１の上面ｕよりも高い位置となるよう設けられている。これにより、係止部１４１が移動（回転移動）することにより、かぶせ部材１３を係止することができる。
【００４３】
すなわち、図１０Ａ（ｂ）に示すように、係止部１４１を回転移動させることにより、係止部１４１が被係止部１３１の上に覆いかぶさり被係止部１３１が係止され、かぶせ部材１３が係止される。図１０Ｂは、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０の部分断面図である。図１０Ｂに示すように、回転リング１４に設けられた回転リングスリット１４２に、保持ベース１２に設けてある回転リングスリット１４２の移動方向を案内するガイドピン１３０を挿通している。これにより、回転リングスリット１４２の形状に沿って係止部１４１が摺動可能となり、係止部１４１が回転移動することができる。
【００４４】
これにより、回転リング１４の回転移動により複数の係止部１４１を複数の被係止部１３１に均一に係止させることができ、ウェハ７の全面のシール性が安定し、位置ずれが少なくなるので、液漏れ不良、通電不良、シール位置ずれ不良等のめっき不良を低減することができる。
【００４５】
なお、係止部１４１の底面ｂ又は被係止部１３１の上面ｕは傾斜していることが好ましい。係止部１４１が移動することにより、係止部１４１の底面ｂと被係止部１３１の上面ｕとの接触度合を変えることができ、より堅固にかぶせ部材１３を固着することができ、ウェハ７をより確実に保持することができるからである。
【００４６】
図１０Ｃは、本発明の実施の形態に係るめっき用治具１０の係止部１４１の底面ｂと被係止部１３１の上面ｕとの係止状態を示す部分断面図である。図１０Ｃの例では、係止部１４１の移動方向に沿って、係止部１４１の底面ｂが次第に低くなるよう傾斜している場合を示している。
【００４７】
この場合、図１０Ｃ（ａ）に示すように、係止部１４１は、底面ｂの高さが高い方から被係止部１３１に接近する。そして、図１０Ｃ（ｂ）に示すように、被係止部１３１の上面ｕが係止部１４１の底面ｂに接触することにより、係止部１４１の移動を抑制するとともに、強く押し込むことにより、係止部１４１の底面ｂと被係止部１３１の上面ｕとの摩擦力が増大し、被係止部１３１を確実に係止部１４１に係止することが可能となり、ウェハ７を両面に確実に保持することができる。
【００４８】
本実施の形態では、保持ベース１２の一方の面を基準面Ｓとして、係止部１４１の上面ｕ２の高さは、かぶせ部材１３の上面ｕ１の高さに比べて同じ又はそれより低い位置、すなわちかぶせ部材１３の高さ以下の位置に設けられている。
【００４９】
これにより、ウェハ７のめっきの対象面と図示しない撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具１０自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽３０を小さくすることも可能となる。
【００５０】
なお、図１０Ｂでは、ガイドピン１３０の上面ｕ３が回転リング１４（係止部１４１）の上面ｕ２よりも高くなる構造としているが、ガイドピン１３０の頭部を回転リング１４内に埋め込み、ガイドピン１３０の上面ｕ３が回転リング１４の上面ｕ２よりも低くなる構造であっても良い。
【００５１】
また、ウェハ７をめっき用治具１０の両面に保持しても良い。図１１は、本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具１０の両面にウェハ７を保持する場合の、ウェハ７の開放時の構成を示す平面図及び側面図である。図１１（ａ）は、めっき用治具１０の両面にウェハ７を保持する場合の、ウェハ７の開放時の構成を示す平面図を、図１１（ｂ）は、めっき用治具１０の両面にウェハ７を保持する場合の、ウェハ７の開放時の構成を示す側面図を、それぞれ示している。
【００５２】
図１１に示すように、保持ベース１２は、表裏両面にウェハ７を搭載するステージ１２３を備えている。両面のステージ１２３にそれぞれウェハ７を搭載し、外周に複数の被係止部１３１を有するかぶせ部材１３ａ、１３ｂをかぶせている。表裏両面に回転リング１４ａ、１４ｂを備えており、突起部１４３を連結する連結ピン１１１を、連結部として保持ベース１２の保持ベーススリット１１２に挿通させている。
【００５３】
連結部である連結ピン１１１を保持ベーススリット１１２に沿って移動させることにより、表裏両面の回転リング１４ａ、１４ｂが同時に回転移動し、それに伴い複数の係止部１４１を移動させて複数の被係止部１３１を係止する。これにより、表裏両面のステージ１２３に搭載されたそれぞれのウェハ７を保持ベース１２及びかぶせ部材１３ａ、１３ｂの間に挟んで保持することができる。
【００５４】
図１２は、本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具１０の両面にウェハ７を保持する場合の、ウェハ７の保持時の構成を示す平面図である。図１１及び図１２では、保持ベース１２は、ウェハ７が両面に保持された状態で、ウェハ７のめっきの対象面が鉛直方向に設置された場合の上下に連結用の保持ベーススリット１１２を備えている。連結部である連結ピン１１１は、保持ベーススリット１１２の反時計回りの終端（図１１）に位置している。この位置では、係止部１４１は被係止部１３１を係止していない。
【００５５】
そして、表裏両面の回転リング１４ａ、１４ｂを回転移動させる。すなわち、図１２に示すように、連結部である連結ピン１１１が、保持ベーススリット１１２に沿って時計回りに移動するよう、回転リング１４ａを時計回りに回転移動させる。表側から回転リング１４ｂを透視した場合、回転リング１４ｂも時計回りに回転移動させられる。連結部である連結ピン１１１は、保持ベーススリット１１２の時計回りの終端に位置している。この位置では、係止部１４１は被係止部１３１を係止している。
【００５６】
そして、図１３は、本発明の他の実施の形態に係るめっき用治具１０の両面にウェハ７を保持する場合の、ウェハ７の保持時の構成を示す斜視図である。図１３に示すように、連結ピン１１１は、保持ベーススリット１１２の時計回りの終端まで移動しており、係止部１４１が被係止部１３１を係止している。つまり、表裏両面の回転リング１４を同時に回転させることで、表裏両面のウェハ７を同時に保持することが可能となる。
【００５７】
以上のように本実施の形態によれば、ウェハ７上に固定リングを設けるのではなく、かぶせ部材１３の外周の外側において保持ベース１２に対して回転リング１４を設け、複数の係止部１４１を有する回転リング１４を回転移動させて複数の被係止部１３１を係止することにより、ウェハ７を保持ベース１２及びかぶせ部材１３の間に挟んで保持するので、ウェハ７のめっきの対象面とめっき槽内に設置する撹拌パドルとの間の距離を十分に小さくすることができ、めっき液を十分に撹拌することができ、めっき厚の分布を均一にすることが可能となる。また、めっき用治具１０自体の厚みを薄くすることができるので、めっき槽３０を小さくすることも可能となる。
【００５８】
その他、上述した実施の形態は、本発明の趣旨を逸脱しない範囲で変更することができることは言うまでもない。例えば係止部１４１及び被係止部１３１の配置は、上述した実施例に限定されるものではなく、ウェハ７を確実に保持できるよう複数配置されていれば良い。したがって、個数についても、特に限定されるものではない。
【符号の説明】
【００５９】
１  めっき装置
７  ウェハ
１０  めっき用治具
１２  保持ベース
１３  かぶせ部材
１４、１４ａ、１４ｂ  回転リング
１１１  連結ピン
１１２  保持ベーススリット
１２３  ステージ
１３０  ガイドピン
１３１  被係止部
１４１  係止部
１４２  回転リングスリット
１５０  めっき液の排出口
【図１】
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【図１０Ｂ】
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【図１０Ｃ】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０Ａ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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