(57)【要約】【課題】本発明は、外光反射を防止することができる画像表示装置を提供することを目的とする。【解決手段】本発明の一実施形態による表示装置は、複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する表示装置であって、絶縁表面上に設けられた画素電極と、画素電極の端部を覆い、画素電極上に開口部を有して画素を画定するバンクと、開口部上に設けられたＥＬ層と、ＥＬ層を覆って形成された対向電極と、対向電極の上方に設けられる封止基板とを有し、封止基板は、赤色、青色、及び緑色の各色にそれぞれ対応するカラーフィルタを有し、青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積は赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の面積よりも大きく、画素は、ブラックマトリクスで覆われている遮光領域を有し、青色の画素に隣接する画素の有効発光領域は、青色の画素の遮光領域に最も近い位置に配置される。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する表示装置であって、
絶縁表面上に設けられた画素電極と、
前記画素電極の端部を覆い、前記画素電極上に開口部を有して前記画素を画定するバンクと、
前記開口部上に設けられたＥＬ層と、
前記ＥＬ層を覆って形成された対向電極と、
前記対向電極の上方に設けられる封止基板とを有し、
前記封止基板は、赤色、青色、及び緑色の各色にそれぞれ対応するカラーフィルタを有し、
前記青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積は前記赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の面積よりも大きく、
前記画素は、ブラックマトリクスで覆われている遮光領域を有し、
青色の画素に隣接する画素の有効発光領域は、前記青色の画素の遮光領域に最も近い位置に配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項２】
前記カラーフィルタは、データ線と並行な方向またはゲート線と並行な方向のいずれか一方において、赤色と青色または緑色とが交互に配置されることを特徴とする請求項１に記載の表示装置。
【請求項３】
前記青色のカラーフィルタの有効発光領域は、前記赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の１．１５倍以上であることを特徴とする請求項１または２に記載の表示装置。
【請求項４】
前記遮光領域は、コンタクトホールを覆う部分であることを特徴とする請求項１ないし３のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項５】
前記赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域が形成される位置に対応する画素電極が、前記赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の形状と平面視において略同一に形成されることを特徴とする請求項１ないし４のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項６】
複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する表示装置であって、
絶縁表面上に設けられた画素電極と、
前記画素電極の端部を覆い、前記画素電極上に開口部を有するバンクと、
前記開口部上に設けられたＥＬ層と、
前記ＥＬ層を覆って形成された対向電極と、
前記対向電極の上方に充填材を介して設けられる封止基板とを有し、
前記封止基板は、赤色、青色、緑色及び白色の各色にそれぞれ対応するカラーフィルタを有し、
前記青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積は前記赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の面積よりも大きく、
前記画素は、ブラックマトリクスで覆われている遮光領域を有し、
青色の画素に隣接する画素の有効発光領域は、前記青色の画素の遮光領域に最も近い位置に配置されることを特徴とする表示装置。
【請求項７】
前記カラーフィルタは、データ線と並行な方向またはゲート線と並行な方向のいずれか一方において、赤色または白色と青色または緑色とが交互に配置されることを特徴とする請求項６に記載の表示装置。
【請求項８】
前記青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積は、前記赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の面積の１．１５倍以上であることを特徴とする請求項６または７に記載の表示装置。
【請求項９】
前記遮光領域は、コンタクトホールを覆う部分であることを特徴とする請求項６ないし８のいずれか１項に記載の表示装置。
【請求項１０】
前記赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域が形成される位置に対応する画素電極が、前記赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の形状と平面視において略同一に形成されることを特徴とする請求項６ないし９のいずれか１項に記載の表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、画像表示装置に関し、特に外光反射を抑制可能な画像表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロルミネセンス（Electroluminescence：EL）現象を利用した発光素子として、エレクトロルミネセンス（以下「ＥＬ」ともいう）素子が知られている。ＥＬ素子は、発光層を構成する発光材料の選択により様々な波長の色で発光させることが可能であり、表示装置や照明器具への応用が進められている。特に、発光材料として有機材料を用いた有機ＥＬ素子が注目されている。
【０００３】
有機ＥＬ素子を表示装置に応用した有機ＥＬ表示装置においては、基板上にマトリクス状に配置した各画素に、発光素子としての有機ＥＬ素子と、その有機ＥＬ素子の発光制御を行うスイッチング素子とが設けられている。そして、画素ごとにスイッチング素子のオン/オフを制御することにより、表示領域全体に任意の画像を表示することが可能となる。
【０００４】
有機ＥＬ表示装置の表示形態として、トップエミッション型とボトムエミッション型の２つが知られている。トップエミッション型とは、有機ＥＬ素子で発した光を画素電極で反射させて外部に取り出す方式であり、ボトムエミッション型とは、有機ＥＬ素子で発した光を、画素電極を透過させて外部に取り出す方式である。特に、トップエミッション型は、画素の開口率を広く確保できる点で有利である。
【０００５】
トップエミッション型の有機ＥＬ表示装置においては、従来、外光反射による顔の映り込みや色彩変化が問題となっており、円偏光板等を表示装置の最表面に設けて外光反射を抑制していた。しかしながら、円偏光板等を表示装置の最表面に設けると、円偏光板等の存在により光取出し効率が落ちてしまうという問題があった。
【０００６】
このような問題に対処するため、赤色、緑色、青色、白色各色の画素の開口率を調整することが考えられる。これに関連して、画素の赤色、緑色、青色各色の面積比率を変化させて形成する技術自体は知られている（特許文献１）。しかしながら、特許文献１に記載された技術は、画素電極（陽極）やガラス最表面で外光が反射してしまう問題に対処するものではなく、液晶セルの透過状態時の白色を自由に設定可能にして表示可能な色再現範囲を拡大することを課題とし、当該課題を解決する手段として液晶セルの赤色、緑色、青色各色の面積比率を変化させて形成するものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開平８−８４３４７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
そのため、円偏光板等を貼り付けることなく，画素電極（陽極）やガラス最表面で外光が反射してしまうことを防止する方法の解明が求められている。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するため、既存の構造や材料を変えることなく外光反射を防止することができる画像表示装置を提供することを目的の一つとする。
【００１０】
本発明は、輝度低下を抑えることができる画像表示装置を提供することを他の目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の一実施形態による表示装置は、複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する表示装置であって、絶縁表面上に設けられた画素電極と、画素電極の端部を覆い、画素電極上に開口部を有して画素を画定するバンクと、開口部上に設けられたＥＬ層と、ＥＬ層を覆って形成された対向電極と、対向電極の上方に設けられる封止基板とを有し、封止基板は、赤色、青色、及び緑色の各色にそれぞれ対応するカラーフィルタを有し、青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積は赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の面積よりも大きく、画素は、ブラックマトリクスで覆われている遮光領域を有し、青色の画素に隣接する画素の有効発光領域は、青色の画素の遮光領域に最も近い位置に配置される。
【００１２】
カラーフィルタは、データ線と並行な方向またはゲート線と並行な方向のいずれか一方において、赤色と青色または緑色とが交互に配置されてもよい。
【００１３】
青色のカラーフィルタの有効発光領域は、赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の１．１５倍以上であってもよい。
【００１４】
遮光領域は、コンタクトホールを覆う部分であってもよい。
【００１５】
赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域が形成される位置に対応する画素電極は、赤色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の形状と平面視において略同一に形成されてもよい。
【００１６】
本発明の他の実施形態による表示装置は、複数の画素がマトリクス状に配置された表示領域を有する表示装置であって、絶縁表面上に設けられた画素電極と、画素電極の端部を覆い、画素電極上に開口部を有するバンクと、開口部上に設けられたＥＬ層と、ＥＬ層を覆って形成された対向電極と、対向電極の上方に充填材を介して設けられる封止基板とを有し、封止基板は、赤色、青色、緑色及び白色の各色にそれぞれ対応するカラーフィルタを有し、青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積は赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の面積よりも大きく、画素は、ブラックマトリクスで覆われている遮光領域を有し、青色の画素に隣接する画素の有効発光領域は、青色の画素の遮光領域に最も近い位置に配置されてもよい。
【００１７】
カラーフィルタは、データ線と並行な方向またはゲート線と並行な方向のいずれか一方において、赤色または白色と青色または緑色とが交互に配置されてもよい。
【００１８】
青色用カラーフィルタの有効発光領域の面積は、赤色及び緑色用カラーフィルタの有効発光領域の面積の１．１５倍以上であってもよい。
【００１９】
遮光領域は、コンタクトホールを覆う部分であってもよい。
【００２０】
赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域が形成される位置に対応する画素電極は、赤色、白色及び緑色のカラーフィルタの有効発光領域の形状と平面視において略同一に形成されてもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の実施形態１における表示装置の全体の構成を示す図である。
【図２】本発明の実施形態１における表示装置の画素部の構成を示す図である。
【図３】本発明の実施形態１における表示装置の画素を図２に示すIII−III’で切断した断面の構成を示す図である。
【図４】従来の画素部の各カラーフィルタの形状を示す図である。
【図５】本発明の実施形態１における画素部の各カラーフィルタの形状を示す図である。
【図６】本発明の他の実施形態における画素部の各カラーフィルタの形状を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下に、本発明の各実施の形態について、図面を参照しつつ説明する。なお、開示はあくまで一例にすぎず、当業者において、発明の主旨を保っての適宜変更について容易に想到し得るものについては、当然に本発明の範囲に含有されるものである。また、図面は説明をより明確にするため、実際の態様に比べ、各部の幅、厚さ、形状等について模式的に表される場合があるが、あくまで一例であって、本発明の解釈を限定するものではない。また、本明細書と各図において、既出の図に関して前述したものと同様の要素には、同一の符号を付して、詳細な説明を適宜省略することがある。
【００２３】
〈実施形態１〉
図１乃至５を用いて、本発明の実施形態１における表示装置１００の構成を説明する。
【００２４】
図１は、本発明の第１の実施形態に係る表示装置１００の全体構成を示す図である。表示装置１００は、基板１０１上に形成された、画素部（表示領域）１０２、走査線駆動回路１０３、データ線駆動回路１０４、及びドライバＩＣ１０５を備えている。ドライバＩＣは、走査線駆動回路１０３及びデータ線駆動回路１０４に信号を与える制御部として機能する。
【００２５】
なお、図１では、基板１０１上にドライバＩＣ１０５を一体形成した例を示しているが、ＩＣチップのような形態で別途基板１０１上に配置してもよい。また、ドライバＩＣ１０５をＦＰＣ（Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔｓ）に設けて外付けする形態を採用してもよい。
【００２６】
図１に示す画素部１０２には、複数の画素がマトリクス状に配置される。各画素には、データ線駆動回路１０４から画像データに応じたデータ信号が与えられる。それらデータ信号を、各画素に設けられたスイッチング素子を介して画素電極に与えることにより、画像データに応じた画面表示を行うことができる。スイッチング素子としては、典型的には、薄膜トランジスタ（Thin Film Transistor）を用いることができる。但し、薄膜トランジスタに限らず、スイッチング機能を備える素子であれば、如何なる素子を用いても良い。
【００２７】
図２は、図１に示す表示装置１００における画素部１０２の構成を示す図である。本実施形態において、画素２０１は、赤（Ｒ）に対応するサブ画素２０１Ｒ、緑（Ｇ）に対応するサブ画素２０１Ｇ、青（Ｂ）に対応するサブ画素２０１Ｂ及び白（Ｗ）に対応するサブ画素２０１Ｗを含む。各サブ画素には、スイッチング素子として薄膜トランジスタ２０２が設けられる。薄膜トランジスタ２０２を用いて各サブ画素２０１Ｒ、２０１Ｇ、２０１Ｂ及び２０１Ｗをオン/オフ制御することにより、各サブ画素に対応する任意の色を発光させ、１つの画素として様々な色を表現できる。
【００２８】
図２では、サブ画素として、ＲＧＢＷの四色を用いる構成を示したが、本実施形態はそれに限定されるものではなく、ＲＧＢの三原色のサブ画素で画素２０１を構成することもでき、ＲＧＢに黄（Ｙ）を加えた４つのサブ画素で画素２０１を構成することもできる。各サブ画素の形状や並び方については後述する。
【００２９】
図３は、図２に示す画素２０１をIII−III’で切断した断面の構成を示す図である。
【００３０】
図３において、第１基板３０１上には、薄膜トランジスタ３０３が形成されている。
【００３１】
第１基板３０１としては、ガラス基板、石英基板、フレキシブル基板（ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートその他の曲げることが可能な基板）を用いることができる。第１基板３０１が透光性を有する必要がない場合には、金属基板、セラミックス基板、半導体基板を用いることも可能である。
【００３２】
薄膜トランジスタ３０３は、公知の方法で形成すればよい。薄膜トランジスタ３０３の構造は、トップゲート型であってもボトムゲート型であってもよい。本実施形態の表示装置１００では、薄膜トランジスタ３０３を覆うように第１の絶縁層３０４を設け、薄膜トランジスタ３０３に起因する凹凸を平坦化する構造としている。第１の絶縁層３０４としては、樹脂材料を用いることが好ましい。例えば、ポリイミド、ポリアミド、アクリル、エポキシ等の公知の有機材料を用いることができる。平坦化効果を奏するのであれば、有機材料に代えて、酸化シリコン等の無機材料を用いてもよいし、有機材料と無機材料とを積層することも可能である。
【００３３】
第１の絶縁層３０４上には、画素電極３０５が設けられる。画素電極３０５は、第１の絶縁層３０４に形成されたコンタクトホールを介して薄膜トランジスタ３０３に接続されている。本実施形態の表示装置１００において、画素電極３０５は、有機ＥＬ素子を構成する陽極（アノード）として機能する。
【００３４】
画素電極３０５は、トップエミッション型であるかボトムエミッション型であるかで異なる構成とする。例えば、トップエミッション型である場合、画素電極３０５として反射率の高い金属膜を用いるか、酸化インジウム系透明導電膜や酸化亜鉛系透明導電膜といった仕事関数の高い透明導電膜と金属膜との積層構造を用いれば良い。逆に、ボトムエミッション型である場合、画素電極３０５として上述した透明導電膜を用いれば良い。本実施形態では、トップエミッション型の表示装置を例に挙げて説明する。
【００３５】
隣接する画素電極３０５の間には、図３に示すように、バンク３０６が配置される。バンク３０６は、各画素電極３０５の端部（エッジ）を覆い、各画素電極３０５上に開口部を有するように設けられ、結果として、各画素を区画画定する部材として機能する。なお、バンク３０６は、画素電極３０５の端部を覆うだけでなく、コンタクトホールに起因する凹部を埋める充填材として機能させてもよい。
【００３６】
本実施形態では、バンク３０６としてポリイミド系、ポリアミド系、アクリル系、エポキシ系もしくはシロキサン系といった公知の樹脂材料を用いることができる。バンク３０６の形状は図３に示した形状に限定されず、頂部を含む断面（画素電極の主面に対して垂直な面で切断した断面）の輪郭が曲線状であってもよいし、それ以外の形状でもよい。
【００３７】
画素電極３０５及びバンク３０６の上には、エレクトロルミネセンス層（ＥＬ層）３０７が設けられる。ＥＬ層３０７は、少なくとも発光層を有し、有機ＥＬ素子の発光部として機能する。ＥＬ層３０７には、発光層以外に、電子注入層、電子輸送層、正孔注入層、正孔輸送層といった各種機能層も含まれ得る。これらの層は、低分子系もしくは高分子系の有機材料を用いて構成される。また、発光層として、有機材料だけでなく、エレクトロルミネセンス型の量子ドットを用いてもよい。
【００３８】
本実施形態では、白色光を発光するＥＬ層３０７を設け、後述するカラーフィルタで色分離する構成とする。白色光を発光するＥＬ層３０７としては、例えば青色に発光する発光層と黄色に発光する発光層とを組み合わせた構造を用いても良い。しかし、ＥＬ層３０７には、公知の構造や公知の材料を用いることが可能であり、特に本実施形態の構成に限定されるものではない。
【００３９】
ＥＬ層３０７の上には、有機ＥＬ素子の陰極（カソード）として機能する共通電極３０８が設けられる。本実施形態の表示装置１００は、トップエミッション型であるため、共通電極３０８として、ＭｇＡｇ薄膜もしくは透明導電膜（ＩＴＯやＩＺＯ）を用いることとする。共通電極３０８は、各画素間を跨いで画素部１０２の全面に設けられる。共通電極３０８の上には、補助配線（図示せず）が設けられてもよい。
【００４０】
共通電極３０８の上方には、接着材及び保護材として機能する封止膜３０９、充填材（フィル材）３１１を介して封止基板が設けられる。充填材３１１としては、ポリイミド系、ポリアミド系、アクリル系、エポキシ系もしくはシロキサン系の公知の樹脂材料を用いることができる。
【００４１】
なお、本実施形態において、「封止基板」とは、第２基板３１２、第２基板３１２の主面（第１基板３０１に対向する面）に設けられたＲＧＢＷの各色にそれぞれ対応するカラーフィルタ３１３及び、それらカラーフィルタの隙間に設けられたブラックマトリクス３１４を含む。
【００４２】
ただし、封止基板の構造はこれに限定されるものではなく、ＥＬ層３０７をＲＧＢＷ各色で分けて設ければ、封止基板からカラーフィルタを省略することも可能である。
【００４３】
図４は、従来の画素部のカラーフィルタの形状を示す図である。
【００４４】
図４を参照すると、従来の画素部において、赤色用カラーフィルタの有効発光領域４０１Ｒ、緑色用カラーフィルタの有効発光領域４０２Ｇ、白色用カラーフィルタの有効発光領域４０３Ｗ、青色用カラーフィルタの有効発光領域４０４Ｂはそれぞれ略同一の形状である。なお、本明細書において有効発光領域とは、バンクの開口端部によって画定される各画素において、ブラックマトリクスに覆われていない領域（つまり、画面上において実効的な発光領域として機能する領域）をいう。
【００４５】
このような従来の画素部によると、透過率の高い白色用カラーフィルタの有効発光領域４０３Ｗや、反射の色味に悪影響を与える赤色用カラーフィルタの有効発光領域４０１Ｒの面積が、緑色用カラーフィルタの有効発光領域４０２Ｇや青色用カラーフィルタの有効発光領域４０４Ｂの面積と略同一であるため、外光の反射電極での反射を抑制するためには円偏光板等を貼り付ける必要があった。
【００４６】
図５は、本発明の実施形態１における画素部のカラーフィルタの形状を示す図である。
【００４７】
図５を参照すると、本発明の実施形態１における画素部のカラーフィルタは、各色によって異なる形状に形成される。具体的には、透過率の高い白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗや、反射の色味に悪影響を与える赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒの面積を小さくし、透過率の低い青色用カラーフィルタの有効発光領域５０４Ｂの面積を大きく形成する。
【００４８】
カラーフィルタは、データ線と並行な方向またはゲート線と並行な方向のいずれか一方において、赤色または白色と青色または緑色とが交互に配置されてもよい。
【００４９】
前述のとおり青色用カラーフィルタの有効発光領域５０４Ｂの面積が赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒ、白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗ及び緑色用カラーフィルタの有効発光領域５０２Ｇの面積よりも大きく形成されれば本発明の課題が解決されるが，好ましくは，青色用カラーフィルタの有効発光領域５０４Ｂの面積は、赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒ、白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗ及び緑色用カラーフィルタの有効発光領域５０２Ｇの面積の１．１５倍以上であると，画素電極（陽極）やガラス最表面で外光が反射してしまうことをより防止することができる。
【００５０】
本発明の実施形態１における緑色用カラーフィルタの有効発光領域５０２Ｇの面積は青色用カラーフィルタの有効発光領域５０４Ｂの面積より小さく、白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗや赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒの面積より大きく形成されているが、これに限定されず、白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗや赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒの面積と略同一としてもよいし、青色用カラーフィルタの有効発光領域５０４Ｂの面積と略同一としてもよい。
【００５１】
本発明の実施形態１における青色用カラーフィルタの有効発光領域５０４Ｂは、図５に示した形状に限定されず、台形状に形成してもよいし、コンタクトホールを隠せるぎりぎりのところまで広げてもよいし、ゲート線及びデータ線で囲まれた画素部分全域としてもよい。
【００５２】
また、面積を小さく形成する赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒ、白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗ及び緑色用カラーフィルタの有効発光領域５０２Ｇは，画素電極も有効発光領域の形状に合わせて小さく形成してもよい。
【００５３】
このように各カラーフィルタの有効発光領域を設定することで、本発明の実施形態１にかかる画像表示装置においては、全体的に輝度を下げつつ、最も透過率が低く輝度制約となる青色のカラーフィルタの有効発光領域の面積を大きくして外光の表面反射の色味を青色側にすることで、輝度低下を抑えつつ外光反射の強度を下げることができる。
【００５４】
さらに、図５を参照すると、本発明の実施形態１におけるサブ画素のカラーフィルタの有効発光領域は、隣接するサブ画素同士で、形状や配置方向（長辺・短辺）が異なるように配列される。具体的には、白色用または赤色用カラーフィルタの有効発光領域が、隣接する青色用または緑色用画素の遮光領域に最も近い部分に配置される。換言すれば、白色用または赤色用カラーフィルタの有効発光領域は、隣接する青色用または緑色用画素の遮光領域に対して、データ線を挟んで対向する位置に配置される。
【００５５】
例えば、図５において紙面の横方向の列をみると、白色用カラーフィルタの有効発光領域５０３Ｗは、隣接する青色用画素の遮光領域５４Ｂに最も近い部分に配置される。同様に、赤色用カラーフィルタの有効発光領域５０１Ｒは、隣接する緑色用画素の遮光領域５２Ｇに最も近い部分に配置される。なお、本明細書において遮光領域とは、バンクの開口端部によって画定される各画素において、ブラックマトリクスで覆われている領域（つまり、バンクの開口部内に露出した画素電極に対してブラックマトリクスが重畳する領域）をいう。遮光領域は、コンタクトホールを覆う部分であってもよい。
【００５６】
本実施形態においては、図５に示した各サブ画素のカラーフィルタの形状や配置に限定されず、白色用または赤色用カラーフィルタの有効発光領域が、隣接する青色用または緑色用画素の遮光領域に最も近い部分に配置されるように形成されていれば、他の任意の形状や配置で形成してもよい。
【００５７】
このように各サブ画素を形成することで、本発明の実施形態１にかかる画像表示装置においては、他の画素に光が漏れにくくなるように隣接画素同士における有効発光領域の位置が決定されるので、画素部の発光層から発せされる光が他の隣接する画素の方へ流れて隣接する画素同士の色が混ざることを抑制することができる。
【００５８】
〈実施形態２〉
図６は、本発明の他の実施形態における画素部の各カラーフィルタの形状を示す図である。
【００５９】
本発明の他の実施形態における緑色用カラーフィルタの有効発光領域は、図６（Ａ）や（Ｂ）のような形状であってもよい。また、本発明の他の実施形態における赤色用カラーフィルタの有効発光領域や白色用カラーフィルタの有効発光領域は、図６（Ｃ）のような正方形状であってもよい。
【００６０】
なお、本発明は上記の実施形態に限られたものではなく、趣旨を逸脱しない範囲で適宜変更することが可能である。
【符号の説明】
【００６１】
１００  表示装置
１０２  画素部
１０３  走査線駆動回路
１０４  データ線駆動回路
１０５  ドライバＩＣ
２０１  画素
２０１Ｒ  Ｒ（赤）に対応するサブ画素
２０１Ｇ  Ｇ（緑）に対応するサブ画素
２０１Ｂ  Ｂ（青）に対応するサブ画素
２０１Ｗ  Ｗ（白）に対応するサブ画素
２０２  薄膜トランジスタ
３０１  第１基板
３０３  薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）
３０４  第１の絶縁層
３０５  画素電極（陽極）
３０６  バンク
３０７  ＥＬ層
３０８  共通電極（陰極）
３０９  封止膜
３１１  充填材
３１２  第２基板
３１３Ｒ  Ｒ（赤）に対応するカラーフィルタ
３１３Ｇ  Ｇ（緑）に対応するカラーフィルタ
３１３Ｂ  Ｂ（青）に対応するカラーフィルタ
３１４  ブラックマトリクス
４０１Ｒ、５０１Ｒ  赤色用カラーフィルタの有効発光領域
４０２Ｇ、５０１Ｇ  緑色用カラーフィルタの有効発光領域
４０３Ｗ、５０１Ｗ  白色用カラーフィルタの有効発光領域
４０４Ｂ、５０４Ｂ  青色用カラーフィルタの有効発光領域
５４Ｂ  青色用画素の遮光領域
５２Ｇ  緑色用画素の遮光領域
【図１】
2016119185.tif 000003
【図２】
2016119185.tif 000004
【図３】
2016119185.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
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