(57)【要約】【課題】所定波長の光を出射する構成と、所定波長の光を受光する構成とを、簡単な構成で両立できる光学モジュール及び電子機器を提供する。【解決手段】光学モジュール１０は、対象物Ｘに光を照射する光源部２１と、対象物Ｘからの光を受光する受光部２２と、入射した光から所定波長の光を出射させる波長可変干渉フィルター５と、光源部２１及び受光部２２と、波長可変干渉フィルター５との相対位置を変化させて、光源部２１から対象物Ｘまでの第１光路上に波長可変干渉フィルター５が配置される第１配置と、対象物Ｘから受光部２２までの第２光路上に波長可変干渉フィルター５が配置される第２配置との間で、波長可変干渉フィルター５の配置位置を切り替える切替部１１と、を備えている。【選択図】図１
2016048187.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
対象物に光を照射する光源部と、
前記対象物からの光を受光する受光部と、
入射した光から所定波長の光を出射させる分光素子と、
前記光源部及び前記受光部と、前記分光素子との相対位置を変化させて、前記光源部から前記対象物までの第１光路上に前記分光素子が配置される第１配置と、前記対象物から前記受光部までの第２光路上に前記分光素子が配置される第２配置との間で、前記分光素子の配置位置を切り替える切替部と、を備えた
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項２】
請求項１に記載の光学モジュールにおいて、
前記切替部は、前記分光素子に対して、前記光源部及び前記受光部を移動させる
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の光学モジュールにおいて、
前記第１配置において、前記光源部からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる入射光学系と、
前記第２配置において、前記対象物からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる第２の入射光学系と、を備え、
前記入射光学系の光軸及び前記第２の入射光学系の光軸は、平行であり、
前記切替部による前記分光素子の相対移動方向は、前記入射光学系の光軸及び前記第２の入射光学系の光軸に直交する
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項４】
請求項１又は請求項２に記載の光学モジュールにおいて、
前記第１配置において、前記光源部からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる入射光学系と、
前記第２配置において、前記対象物からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる第２の入射光学系と、を備え、
前記入射光学系及び前記第２の入射光学系は、前記分光素子と一体に保持された
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項５】
請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の光学モジュールにおいて、
前記分光素子への入射光の光軸に対する、当該分光素子の傾きを検出する検出部を備えた
ことを特徴とする光学モジュール。
【請求項６】
対象物に光を照射する光源部と、
前記対象物からの光を受光する受光部と、
入射した光から所定波長の光を出射させる分光素子と、
前記光源部及び前記受光部と、前記分光素子との相対位置を変化させて、前記光源部から前記対象物までの第１光路上に前記分光素子が配置される第１配置と、前記対象物から前記受光部までの第２光路上に前記分光素子が配置される第２配置との間で、前記分光素子の配置位置を切り替える切替部と、
前記分光素子から出射された光に基づく処理を実施する処理部と、を備えた
ことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学モジュール及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
所定波長の光を選択的に取り出して出射する光源装置が知られている（例えば、特許文献１参照）。
特許文献１には、光源からの光のうち所定波長の光を取り出すために、ファブリーペロー型可変干渉装置（干渉フィルター）を用いている。具体的には、特許文献１に記載の装置では、光源からの光をレンズで平行光とし、この平行光を干渉フィルターに入射させている。このような光源装置を用いることにより、所望波長域の光を出射させることができる。
【０００３】
ここで、所望波長域の光を対象物に照射する光源装置の一適用例として、植物の育成に必要な波長の光を照射する植物育成用光源装置が知られている（例えば、特許文献２参照）。
特許文献２に記載の光源装置は、植物の光合成に対して有効な波長域の光を出射する光源として、赤色光が多い分光分布を有する高圧ナトリウムランプと、青色光が多い分光分布を有するメタルハライドランプとを備えている。すなわち、この光源装置は、互いに異なる波長域の光を出射する、異なる種類の光源を備え、複数種類の植物に対して有効な波長の光を出射可能としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平１−１０２４１５号公報
【特許文献２】特開平１１−２６２３３１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、特許文献２に記載の光源装置では、波長域が異なる複数種類の光源を設ける必要があり、光源数が増大するため、構成が複雑になったり、コストが増大したりするおそれがある。また、波長を変更する場合は、光源そのものを交換する必要があり汎用性が低下するおそれもある。
【０００６】
ところで、対象物の反射スペクトルを測定することにより、照射波長を特定する場合がある。この場合、対象物からの光路上に干渉フィルター等の分光素子を配置して、分光測定を実施することが考えられる。
また、可視光域や赤外域等の広範囲の波長を含む光を出射させる光源を設けることで、広い波長範囲で分光測定を実施可能とすることが考えられる。
【０００７】
このような構成では、所定波長の光を出射する構成と、所定波長の光を受光する構成とを、両立させることができる。
しかしながら、このような構成では、分光測定用に、光源や分光素子を別に設けることとなり、やはり構成が複雑になったり、コストが増大したりするおそれがある。
【０００８】
本発明は、所定波長の光を出射する構成と、所定波長の光を受光する構成とを、簡単な構成で両立できる光学モジュール及び電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の一適用例に係る光学モジュールは、対象物に光を照射する光源部と、前記対象物からの光を受光する受光部と、入射した光から所定波長の光を出射させる分光素子と、前記光源部及び前記受光部と、前記分光素子との相対位置を変化させて、前記光源部から前記対象物までの第１光路上に前記分光素子が配置される第１配置と、前記対象物から前記受光部までの第２光路上に前記分光素子が配置される第２配置との間で、前記分光素子の配置位置を切り替える切替部と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
本適用例では、光学モジュールは、第１配置と第２配置との間で配置位置を切り替える切替部を備えている。このような構成では、分光素子の配置位置を、対象物に所定波長の光を照射する場合は第１配置に、対象物からの光のうち所定波長の光を受光部に受光させる場合は第２配置に設定する。これにより、分光素子の配置位置を、必要に応じて第１配置及び第２配置の間で容易に切り替えることができ、所定波長の光を出射する構成と、所定波長の光を受光する構成とを、簡単な構成で両立できる。
【００１１】
本適用例の光学モジュールにおいて、前記切替部は、前記分光素子に対して、前記光源部及び前記受光部を移動させることが好ましい。
本適用例では、分光素子に対して、光源部と受光部とを移動させる。このような構成では、分光素子を、例えば、光学モジュールの筐体等に固定した状態で光源部と受光部とを移動させることができる。したがって、分光素子の位置ズレを抑制でき、当該位置ズレにより、分光素子への入射光の入射角度が変化することによる、分光精度の低下を抑制できる。
【００１２】
本適用例の光学モジュールにおいて、前記第１配置において、前記光源部からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる入射光学系と、前記第２配置において、前記対象物からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる第２の入射光学系と、を備え、前記入射光学系の光軸及び前記第２の入射光学系の光軸は、平行であり、前記切替部による前記分光素子の相対移動方向は、前記入射光学系の光軸及び前記第２の入射光学系の光軸に直交することが好ましい。
本適用例では、分光素子に光を入射させる２つの入射光学系の光軸が平行である。このような構成では、上記２つの入射光学系の光軸のそれぞれに交差する直線に沿って分光素子を相対移動させることにより、第１配置及び第２配置のいずれの場合でも、分光素子に対して同一の角度で光を入射させることができる。したがって、簡単な構成で、分光精度の低下を抑制できる。
【００１３】
本適用例の光学モジュールにおいて、前記第１配置において、前記光源部からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる入射光学系と、前記第２配置において、前記対象物からの光を平行光束として前記分光素子に入射させる第２の入射光学系と、を備え、前記入射光学系及び前記第２の入射光学系は、前記分光素子と一体に保持されたことが好ましい。
本適用例では、入射光学系及び第２の入射光学系が、分光素子と一体に保持される。このような構成では、分光素子に対する入射光の角度変化を抑制でき、当該角度変化による分光素子の分光精度の低下を抑制できる。例えば、分光素子が、一対の反射膜間のギャップ寸法に応じた波長の光を出射するファブリーペローエタロン（干渉フィルター）の場合、入射光の角度に応じて、干渉光の波長が変化する（波長シフト）。本適用例では、このような波長シフトを抑制できる。
【００１４】
本適用例の光学モジュールにおいて、前記分光素子への入射光の光軸に対する、当該分光素子の傾きを検出する検出部を備えたことが好ましい。
本適用例では、分光素子の傾きを検出する検出部を備える。このような構成では、分光素子を相対的に移動させた際に、入射光の光軸に対して分光素子の傾きが変化した場合でも、傾きを検出することにより、傾き変化による影響を補償する処理を実施することができ、傾きの変化による測定精度への影響を抑制できる。
【００１５】
本発明の一適用例に係る、電子機器は、対象物に光を照射する光源部と、前記対象物からの光を受光する受光部と、入射した光から所定波長の光を出射させる分光素子と、前記光源部及び前記受光部と、前記分光素子との相対位置を変化させて、前記光源部から前記対象物までの第１光路上に前記分光素子が配置される第１配置と、前記対象物から前記受光部までの第２光路上に前記分光素子が配置される第２配置との間で、前記分光素子の配置位置を切り替える切替部と、前記分光素子から出射された光に基づく処理を実施する処理部と、を備えたことを特徴とする。
本適用例では、上記光学モジュールに係る適用例と同様に、分光素子の配置位置を、必要に応じて第１配置及び第２配置の間で容易に切り替えることができる。したがって、所定波長の光を出射する構成と、所定波長の光を受光する構成とを、簡単な構成で両立できる。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】本発明の電子機器の第一実施形態である分光測定装置の概略構成を示す図。
【図２】第一実施形態の波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図。
【図３】第一実施形態の波長可変干渉フィルターの概略構成を示す断面図。
【図４】入射ユニットが配置された光学モジュールの概略構成を示す図。
【図５】補償処理用光学系が配置された光学モジュールの概略構成を示す図。
【図６】第一実施形態の分光測定装置の制御系の概略構成を示すブロック図。
【図７】第一実施形態の分光測定装置の動作の一例を示すフローチャート。
【図８】傾き補償処理の一例を示すフローチャート。
【図９】第二実施形態の光学モジュールの概略構成を示す図。
【図１０】補償処理用光学系の一変形例の概略構成を示す図。
【図１１】補償処理用光学系の他の変形例の概略構成を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
［第一実施形態］
以下、本発明に係る電子機器の第一実施形態である分光測定装置について、図面に基づいて説明する。
図１は、本実施形態の分光測定装置の概略構成を示す図である。
図１に示すように、本実施形態の分光測定装置１は、光学モジュール１０と、ユーザー操作を受け付ける操作部３０と、分光測定装置１を制御する制御部４０とを備えている。また、分光測定装置１は、入射ユニット１４（図４参照）及び補償処理用光学系１５（図５参照）を備えている。
この分光測定装置１は、対象物Ｘに対して、所定波長の光を照射する「照射モード」と、対象物Ｘからの光を分光して光量を取得する「測定モード」との、２つのモードを実行する。
【００１８】
なお、このような分光測定装置１としては、肌診断装置や植物育成装置等が例示できる。肌診断装置として用いる場合は、例えば、照射モードでは、肌の状態を改善可能な所定波長の光を照射する。また、測定モードでは、測色により肌の状態を測定する。
また、植物育成装置として用いる場合は、例えば、照射モードでは、植物の成長を促進させる所定波長の光を照射する。測定モードでは、植物からの光の分光スペクトルを取得し、植物の成長度合い等を測定する。
【００１９】
［光学モジュールの構成］
光学モジュール１０は、分光素子としての波長可変干渉フィルター５と、光学ユニット２０と、切替部１１と、各部材を収納する筐体１２とを備えている。なお、波長可変干渉フィルター５は、筐体１２に対して固定されている。
この光学モジュール１０では、照射モード及び測定モードのうちの実施するモードに応じて、切替部１１によって光学ユニット２０の配置位置を切り替える。すなわち、光学ユニット２０は、照射モードの実行時に第１位置に配置され（図１参照）、測定モードの実行時に第２位置に配置される（図４参照）。
【００２０】
［波長可変干渉フィルターの構成］
図２は、波長可変干渉フィルターの概略構成を示す平面図である。図３は、図２のＩＩＩ−ＩＩＩ線を断面した際の波長可変干渉フィルターの断面図である。
波長可変干渉フィルター５は、本発明の分光フィルターに相当し、波長可変型のファブリーペローエタロンである。この波長可変干渉フィルター５は、例えば矩形板状の光学部材であり、厚み寸法が例えば５００μｍ程度に形成される固定基板５１と、厚み寸法が例えば２００μｍ程度に形成される可動基板５２を備えている。これらの固定基板５１及び可動基板５２は、それぞれ例えば、ソーダガラス、結晶性ガラス、石英ガラス、鉛ガラス、カリウムガラス、ホウケイ酸ガラス、無アルカリガラスなどの各種ガラスや、水晶などにより形成されている。そして、これらの固定基板５１及び可動基板５２は、固定基板５１の第一接合部５１３及び可動基板の第二接合部５２３が、例えばシロキサンを主成分とするプラズマ重合膜などにより構成された接合膜５３（第一接合膜５３１及び第二接合膜５３２）により接合されることで、一体的に構成されている。
【００２１】
固定基板５１には、固定反射膜５４が設けられ、可動基板５２には、可動反射膜５５が設けられている。これらの固定反射膜５４及び可動反射膜５５は、ギャップＧ１を介して対向配置されている。そして、波長可変干渉フィルター５には、このギャップＧ１の寸法を調整（変更）するのに用いられる静電アクチュエーター５６が設けられている。
また、波長可変干渉フィルター５を固定基板５１（可動基板５２）の基板厚み方向から見た図２に示すような平面視（以降、フィルター平面視と称する）において、固定基板５１及び可動基板５２の平面中心点Ｏは、固定反射膜５４及び可動反射膜５５の中心点と一致し、かつ後述する可動部５２１の中心点と一致するものとする。
【００２２】
（固定基板の構成）
固定基板５１には、エッチングにより電極配置溝５１１及び反射膜設置部５１２が形成されている。この固定基板５１は、可動基板５２に対して厚み寸法が大きく形成されており、固定電極５６１及び可動電極５６２間に電圧を印加した際の静電引力や、固定電極５６１の内部応力による固定基板５１の撓みはない。
また、固定基板５１の頂点Ｃ１には、切欠部５１４が形成されており、波長可変干渉フィルター５の固定基板５１側に、後述する可動電極パッド５６４Ｐが露出する。
【００２３】
電極配置溝５１１は、フィルター平面視で、固定基板５１の平面中心点Ｏを中心とした環状に形成されている。反射膜設置部５１２は、前記平面視において、電極配置溝５１１の中心部から可動基板５２側に突出して形成されている。この電極配置溝５１１の溝底面は、固定電極５６１が配置される電極設置面５１１Ａとなる。また、反射膜設置部５１２の突出先端面は、反射膜設置面５１２Ａとなる。
また、固定基板５１には、電極配置溝５１１から、固定基板５１の外周縁の頂点Ｃ１，頂点Ｃ２に向かって延出する電極引出溝５１１Ｂが設けられている。
【００２４】
電極配置溝５１１の電極設置面５１１Ａには、静電アクチュエーター５６を構成する固定電極５６１が設けられている。より具体的には、固定電極５６１は、電極設置面５１１Ａのうち、後述する可動部５２１の可動電極５６２に対向する領域に設けられている。また、固定電極５６１上に、固定電極５６１及び可動電極５６２の間の絶縁性を確保するための絶縁膜が積層される構成としてもよい。
そして、固定基板５１には、固定電極５６１の外周縁から、頂点Ｃ２方向に延出する固定引出電極５６３が設けられている。この固定引出電極５６３の延出先端部（固定基板５１の頂点Ｃ２に位置する部分）は、制御部４０に接続される固定電極パッド５６３Ｐを構成する。
なお、本実施形態では、電極設置面５１１Ａに１つの固定電極５６１が設けられる構成を示すが、例えば、平面中心点Ｏを中心とした同心円となる２つの電極が設けられる構成（二重電極構成）などとしてもよい。
【００２５】
反射膜設置部５１２は、上述したように、電極配置溝５１１と同軸上で、電極配置溝５１１よりも小さい径寸法となる略円柱状に形成され、当該反射膜設置部５１２の可動基板５２に対向する反射膜設置面５１２Ａを備えている。
この反射膜設置部５１２には、図３に示すように、固定反射膜５４が設置されている。この固定反射膜５４としては、例えばＡｇ等の金属膜や、Ａｇ合金等の合金膜を用いることができる。また、例えば高屈折層をＴｉＯ２、低屈折層をＳｉＯ２とした誘電体多層膜を用いてもよい。さらに、誘電体多層膜上に金属膜（又は合金膜）を積層した反射膜や、金属膜（又は合金膜）上に誘電体多層膜を積層した反射膜、単層の屈折層（ＴｉＯ２やＳｉＯ２等）と金属膜（又は合金膜）とを積層した反射膜などを用いてもよい。
【００２６】
また、固定基板５１の光入射面（固定反射膜５４が設けられない面）には、固定反射膜５４に対応する位置に反射防止膜を形成してもよい。この反射防止膜は、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、固定基板５１の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させる。
【００２７】
そして、固定基板５１の可動基板５２に対向する面のうち、エッチングにより、電極配置溝５１１、反射膜設置部５１２、及び電極引出溝５１１Ｂが形成されない面は、第一接合部５１３を構成する。この第一接合部５１３には、第一接合膜５３１が設けられ、この第一接合膜５３１が、可動基板５２に設けられた第二接合膜５３２に接合されることで、上述したように、固定基板５１及び可動基板５２が接合される。
【００２８】
（可動基板の構成）
可動基板５２は、図２に示すフィルター平面視において、平面中心点Ｏを中心とした円形状の可動部５２１と、可動部５２１と同軸であり可動部５２１を保持する保持部５２２と、保持部５２２の外側に設けられた基板外周部５２５とを備えている。
また、可動基板５２には、図２に示すように、頂点Ｃ２に対応して、切欠部５２４が形成されており、波長可変干渉フィルター５を可動基板５２側から見た際に、固定電極パッド５６３Ｐが露出する。
【００２９】
可動部５２１は、保持部５２２よりも厚み寸法が大きく形成され、例えば、本実施形態では、可動基板５２の厚み寸法と同一寸法に形成されている。この可動部５２１は、フィルター平面視において、少なくとも反射膜設置面５１２Ａの外周縁の径寸法よりも大きい径寸法に形成されている。そして、この可動部５２１には、可動電極５６２及び可動反射膜５５が設けられている。
なお、固定基板５１と同様に、可動部５２１の固定基板５１とは反対側の面には、反射防止膜が形成されていてもよい。このような反射防止膜は、低屈折率膜及び高屈折率膜を交互に積層することで形成することができ、可動基板５２の表面での可視光の反射率を低下させ、透過率を増大させることができる。
【００３０】
可動電極５６２は、ギャップＧ２を介して固定電極５６１に対向し、固定電極５６１と同一形状となる環状に形成されている。この可動電極５６２は、固定電極５６１とともに静電アクチュエーター５６を構成する。また、可動基板５２には、可動電極５６２の外周縁から可動基板５２の頂点Ｃ１に向かって延出する可動引出電極５６４を備えている。この可動引出電極５６４の延出先端部（可動基板５２の頂点Ｃ１に位置する部分）は、制御部４０に接続される可動電極パッド５６４Ｐを構成する。
可動反射膜５５は、可動部５２１の可動面５２１Ａの中心部に、固定反射膜５４とギャップＧ１を介して対向して設けられる。この可動反射膜５５としては、上述した固定反射膜５４と同一の構成の反射膜が用いられる。
なお、本実施形態では、上述したように、ギャップＧ２がギャップＧ１の寸法よりも大きい例を示すがこれに限定されない。例えば、測定対象光として赤外線や遠赤外線を用いる場合等、測定対象光の波長域によっては、ギャップＧ１の寸法が、ギャップＧ２の寸法よりも大きくなる構成としてもよい。
【００３１】
保持部５２２は、可動部５２１の周囲を囲うダイアフラムであり、可動部５２１よりも厚み寸法が小さく形成されている。このような保持部５２２は、可動部５２１よりも撓みやすく、僅かな静電引力により、可動部５２１を固定基板５１側に変位させることが可能となる。この際、可動部５２１が保持部５２２よりも厚み寸法が大きく、剛性が大きくなるため、保持部５２２が静電引力により固定基板５１側に引っ張られた場合でも、可動部５２１の形状変化が起こらない。したがって、可動部５２１に設けられた可動反射膜５５の撓みも生じず、固定反射膜５４及び可動反射膜５５を常に平行状態に維持することが可能となる。
なお、本実施形態では、ダイアフラム状の保持部５２２を例示するが、これに限定されず、例えば、平面中心点Ｏを中心として、等角度間隔で配置された梁状の保持部が設けられる構成などとしてもよい。
【００３２】
基板外周部５２５は、上述したように、フィルター平面視において保持部５２２の外側に設けられている。この基板外周部５２５の固定基板５１に対向する面は、第一接合部５１３に対向する第二接合部５２３を備えている。そして、この第二接合部５２３には、第二接合膜５３２が設けられ、上述したように、第二接合膜５３２が第一接合膜５３１に接合されることで、固定基板５１及び可動基板５２が接合されている。
【００３３】
［光学ユニットの構成］
光学ユニット２０は、図１に示すように、光源部２１と、受光部２２と、光源側光学系２３と、受光側光学系２４と、各部材を一体的に保持する保持部材２５とを備えている。
光源部２１は、ハロゲンランプ、キセンノンランプ、ＬＥＤ等の各種光源を備える。なお、光源部２１は、光源以外にもリフレクター等を適宜備えていてもよい。
受光部２２は、対象物Ｘからの光を受光し、受光量に基づいた検出信号を出力する。
【００３４】
光源側光学系２３は、入射光学系としての第１入射レンズ２３１と、第１投射レンズ２３２とを備え、光源部２１からの光を対象物Ｘに導く。
第１入射レンズ２３１は、コリメーターやテレセントリック光学系により構成され、光源部２１からの光を平行光束とする。ここで、照射モードにおいて、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１上（第１光路上）に、波長可変干渉フィルター５が配置され、第１入射レンズ２３１を透過した平行光束が波長可変干渉フィルター５に入射される。以下、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１上に波長可変干渉フィルター５が配置された状態を「第１配置」とも称する。
第１投射レンズ２３２は、第１入射レンズ２３１を透過した光を対象物Ｘに照射する。第１投射レンズ２３２としては、分光測定装置１を適用する装置により適宜変更することができる。例えば、肌診断装置において、肌の一点又は所定領域に光を集光させたい場合では、集光レンズを用いることができ、肌の広い範囲に光を照射する場合や植物育成装置等では、拡散レンズを用いることができる。
【００３５】
図４は、測定モード時における入射ユニット１４が配置された光学モジュール１０を模式的に示す図である。
受光側光学系２４は、図１及び図４に示すように、第２の入射光学系としての第２入射レンズ２４１と、第２投射レンズ２４２とを備え、対象物Ｘからの光を受光部２２に導く。なお、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２は、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１と平行に設定されている。
第２入射レンズ２４１は、コリメーターやテレセントリック光学系により構成され、対象物Ｘからの光を平行光束とする。ここで、測定モードにおいて、図４に示すように、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２上（第２光路上）に、波長可変干渉フィルター５が配置され、第２入射レンズ２４１を透過した平行光束が波長可変干渉フィルター５に入射される。以下、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２上に波長可変干渉フィルター５が配置された状態を「第２配置」とも称する。
第２投射レンズ２４２は、第２入射レンズ２４１を透過した光を受光部２２に導く。例えば、波長可変干渉フィルター５を透過した光から分光画像を取得する場合、第２投射レンズ２４２として、受光部２２のサイズに合わせて光を集光又は拡散する集光レンズや拡散レンズを用いることができる。なお、受光部２２のサイズによっては、第２投射レンズ２４２が設けられていなくてもよい。また、波長可変干渉フィルター５からの透過光の光軸上の１点のみの測色を実施する場合でも、第２投射レンズ２４２が設けられていなくてもよい。
【００３６】
［切替部の構成］
切替部１１は、中心光軸Ｌ１，Ｌ２と直交する方向Ｍ（図１及び図４参照）に光学ユニット２０を移動させて、第１配置と第２配置とを切り替える。
切替部１１は、光学ユニット２０を方向Ｍに沿って移動させる構成であれば、いかなる構成を備えていてもよい。例えば、光学ユニット２０の移動方向を規定するレールと、光学ユニット２０をレールに沿って移動させるモーター等の駆動装置とを備え、制御部４０の制御に基づいて、光学ユニット２０を移動させる構成等が例示できる。
【００３７】
［筐体の構成］
筐体１２は、図１及び図４に示すように、第１開口１２１、第２開口１２２及び第３開口１２３を有する。
第１開口１２１は、第２配置において、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１と重なる位置に設けられている。
第２開口１２２は、第１配置において、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１と重なり、かつ第２配置において、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２と重なる位置に設けられている。
第３開口１２３は、第１配置において、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２と重なる位置に設けられている。
【００３８】
［入射ユニットの構成］
入射ユニット１４は、図４に示すように、測定モード時において、不図示の移動機構により、第２開口１２２に対する所定の位置に配置される。入射ユニット１４は、対象物Ｘに入射する光のうち、中心光軸Ｌ１に対して所定の角度、図示例では４５°の角度で反射する光を反射面１４１で反射して、中心光軸Ｌ２に沿って、受光側光学系２４に入射させる。これにより、入射光に対して４５°の角度で反射した反射光を受光部２２に導くことができ、測色精度を向上させることができる。
なお、第２開口１２２は、中心光軸Ｌ１に対する反射光の角度４５°を中心とする許容範囲（例えば±５°）を超える角度で、対象物Ｘから反射された光を遮蔽可能な位置及び開口径に設定されてもよい。
【００３９】
［補償処理用光学系の構成］
図５は、傾き補償処理を実施するための補償処理用光学系が配置された光学モジュール１０の概略構成を示す図である。
本実施形態では、切替部１１による光学ユニット２０の移動に応じて、波長可変干渉フィルター５に対する入射光の傾き（入射角）θが変化した場合でも、所望波長の光が波長可変干渉フィルター５から出射されるように傾き補償処理を実施する。補償処理用光学系１５は、傾き補償処理を実施する際に用いる光学系であり、当該傾き補償処理において、不図示の移動機構により、筐体１２の所定の位置に配置される。なお、図５では、波長可変干渉フィルター５の配置状態が第１配置である場合について図示している。
【００４０】
補償処理用光学系１５は、光源部２１からの光のうち所定波長の光のみを受光部２２に導光する。この補償処理用光学系１５は、光源部２１からの光を受光部２２に導光するミラー１５１，１５２と、補償処理用光学系１５の光路上に配置され、所定波長の光のみを通過させるバンドパスフィルター１５３と、これら各部材を収納し、外光を遮光する筐体１５４とを備える。なお、本発明における、傾きを検出する検出部は、補償処理用光学系１５、及び後述する傾き取得部４６（図６参照）を含み構成される。
【００４１】
筐体１５４の光入射側開口１５４Ａ及び光出射側開口１５４Ｂは、傾き補償処理において、光学モジュール１０の開口１２１，１２２，１２３のいずれかに対向する位置に適宜移動される。
具体的には、図５に示すように、波長可変干渉フィルター５が第１配置である場合、光入射側開口１５４Ａは、第２開口１２２に、光出射側開口１５４Ｂは、第３開口１２３に取り付けられる。また、図示しないが、波長可変干渉フィルター５が第２配置である場合、光入射側開口１５４Ａは、第１開口１２１に、光出射側開口１５４Ｂは、第２開口１２２に取り付けられる。
なお、傾き補償処理の詳細については後述する。
【００４２】
［制御部の構成］
図６は、本実施形態の分光測定装置の制御系の概略構成を示すブロック図である。
制御部４０は、例えばＣＰＵやメモリー等が組み合わされることで構成され、分光測定装置１の全体動作を制御する。この制御部４０は、図６に示すように、フィルター駆動部４１と、切替制御部４２と、光源制御部４３と、光量取得部４４と、分光測定部４５と、傾き取得部４６と、記憶部４７とを備えている。
なお、記憶部４７には、波長可変干渉フィルター５を透過させる光の波長と、当該波長に対応して静電アクチュエーター５６に印加する駆動電圧との関係を示すＶ−λデータが記憶されている。また分光測定装置１を制御するための各種プログラムやデータ等が記憶されている。
【００４３】
フィルター駆動部４１は、総光量が安定した後に設定されている、分光測定の測定タイミングに応じて、波長可変干渉フィルター５により取り出す光の目的波長を設定し、Ｖ−λデータに基づいて、設定した目的波長に対応する駆動電圧を静電アクチュエーター５６に印加する。
ここで、後に詳述するが、波長可変干渉フィルター５は、各反射膜５４，５５に対する入射光の光軸の角度に応じて、取り出される干渉光の波長が変化する。フィルター駆動部４１は、波長可変干渉フィルター５の角度のずれ（傾き）に応じた駆動電圧を静電アクチュエーター５６に印加する。
【００４４】
切替制御部４２は、切替部１１を駆動させて、光学ユニット２０を移動させることにより、波長可変干渉フィルター５の配置状態を、第１配置及び第２配置の間で切り替える。
光源制御部４３は、光源部２１の点灯及び消灯を制御する。
光量取得部４４は、受光部２２によって検出された検出信号を取得し、当該検出信号において、波長可変干渉フィルター５を透過した目的波長の光の光量を測定する。
分光測定部４５は、光量取得部４４によって測定された各波長の光量に基づいて、測定対象光の分光スペクトルを取得する。
【００４５】
傾き取得部４６は、中心光軸Ｌ１，Ｌ２に対する波長可変干渉フィルター５の傾きを取得する。傾き取得部４６は、所定波長の干渉光の光量値の光量が最大となる際の、静電アクチュエーター５６の駆動電圧を取得する。詳細には後に詳述するが、例えば、フィルター駆動部４１の制御に応じて駆動電圧を変更しながら取得された複数の光量値から、光量値が最大となる駆動電圧を取得する。
【００４６】
［分光測定装置の動作］
次に、分光測定装置１の動作について、図面に基づいて以下に説明する。
図７は、分光測定装置１の動作の一例を示すフローチャートである。
図７に示すように、切替制御部４２は、ユーザー操作に応じて、照射モード及び測定モードのうちの実行指示を受けたモード種別を取得する（ステップＳ１）。
【００４７】
次に、切替制御部４２は、現在の波長可変干渉フィルター５の配置、すなわち第１配置（図１参照）及び第２配置（図４参照）と、ステップＳ１で取得されたモード種別とに応じて、配置状態の切り替えが必要か否かを判定する（ステップＳ２）。
例えば、ステップＳ１にて取得されたモードが「照射モード」の場合、波長可変干渉フィルター５の配置状態を「第１配置」に設定することとなる。そして、現在の波長可変干渉フィルター５が第１配置に設定されている場合は、切替制御部４２は、配置を切り替える必要がないと判定する（ステップＳ２；ＮＯ）。一方、現在の波長可変干渉フィルター５が第２配置に設定されている場合は、切替制御部４２は、第１配置に切り替える必要があると判定する（ステップＳ２；ＹＥＳ）。
なお、ステップＳ１にて取得されたモードが「測定モード」の場合、波長可変干渉フィルター５の配置を「第２配置」に設定することとなり、切替制御部４２は、同様に、配置の切り替えが必要か否かを判定する。
【００４８】
切替制御部４２は、波長可変干渉フィルター５の配置状態を変更する必要があると判定すると（ステップＳ２；ＹＥＳ）、切替部１１を駆動して、波長可変干渉フィルター５の配置を切り替える（ステップＳ３）。すなわち、切替制御部４２は、第１配置に設定されている場合は、第２配置に切り替え、第２配置に設定されている場合は、第１配置に切り替える。
【００４９】
次に、ステップＳ３において、配置状態が切り替えられた後、傾き補償処理を実施する（ステップＳ４）。この傾き補償処理は、波長可変干渉フィルター５に対する中心光軸Ｌ１，Ｌ２の角度変化による、波長可変干渉フィルター５の波長シフト量を取得し、当該波長シフトの影響を補償する処理である。傾き補償処理については後に詳述する。
【００５０】
上述のように、波長可変干渉フィルター５の配置状態が、モード種別に応じた状態に設定されたら、モード種別に応じた処理が実施される（ステップＳ５）。
例えば、照射モードの場合、所定波長の光を対象物Ｘに照射する。このために、フィルター駆動部４１は、上記所定波長に応じた電圧を静電アクチュエーター５６に印加し、ギャップＧ１の寸法を変更する。そして、光源制御部４３は、光源部２１を点灯させる。
一方、測定モードの場合、対象物Ｘからの光のうち、測定対象波長の光量を取得する。このために、フィルター駆動部４１は、上記測定対象波長に応じた電圧を静電アクチュエーター５６に印加し、ギャップＧ１の寸法を変更する。次に、ギャップＧ１の寸法が設定されたら、光量取得部４４は、受光部２２を制御して、ギャップＧ１の寸法に応じて取り出された光の光量を取得する。そして、測定対象波長の光量が取得されたら、分光測定部４５は、必要に応じて、取得された測定対象光の分光スペクトルを取得する。
【００５１】
［傾き補償処理］
以下、図７に示すステップＳ４の傾き補償処理について、図面に基づいて説明する。
ここで、波長可変干渉フィルター５により取り出される干渉光の波長λは、下記式（１）に示す条件を満たす。なお、下記（１）式において、ｎは反射膜間の媒体の屈折率（空気の場合はｎ＝１）であり、ｄは、反射膜間の間隔である。また、ｍは、次数であり、整数である。
【００５２】
ｍλ＝２ｎｄｃｏｓθ  ・・・（１）
【００５３】
波長可変干渉フィルター５によって取り出された干渉光は、上記式（１）を満たす波長λをピーク波長とする分光スペクトルを示す。このピーク波長は、上記式（１）に示すように、波長可変干渉フィルター５に入射する角度に応じて変化する。
【００５４】
本実施形態では、切替部１１による光学ユニット２０の移動に応じて、波長可変干渉フィルター５に対する入射光の傾き（入射角）θが変化した場合でも、所望波長の光が波長可変干渉フィルター５から出射されるように傾き補償処理を実施する。
つまり、光学ユニット２０の移動により、傾きθが変化すると、波長可変干渉フィルター５からの出射される光のピーク波長がシフトする。したがって、Ｖ−λデータに基づいた駆動電圧Ｖを印加すると、当該駆動電圧Ｖに対応付けられた波長λよりも、実際の透過光のピーク波長がシフトすることになる。
本実施形態では、波長可変干渉フィルター５の傾きを取得することで、波長可変干渉フィルター５に対する入射光軸の傾きによる影響を補償する。
【００５５】
図８は、分光測定装置１による傾き補償処理の一例を示すフローチャートである。
図８に示すように、本実施形態の傾き補償処理では、傾きを取得するために、Ｖ−λデータに基づいて、バンドパスフィルター１５３の透過波長に対応する電圧値を含む複数の電圧値に対応する駆動電圧を、静電アクチュエーター５６に順次印加し、それぞれの駆動電圧値に対応する光量値を取得する。これら光量値のうち、最大光量値に対応する駆動電圧を、上記透過波長に対応する電圧値とする。そして、当該駆動電圧と、Ｖ−λデータとを用いて、傾きの影響が補償された新たな駆動パラメーター（Ｖ−λ）を生成する。
【００５６】
具体的には、図８に示すように、フィルター駆動部４１は、Ｖ−λデータに基づいて、バンドパスフィルター１５３の透過波長に対応する電圧値を読み込み、例えば、当該電圧値に対する所定電圧範囲内で、静電アクチュエーター５６に印加する駆動電圧を順次変化させる。一方、光量取得部４４は、受光部２２を制御して、それぞれの駆動電圧に対応する光量値を取得する（ステップＳ４１）。
【００５７】
なお、上記所定電圧範囲は、実際のピーク波長に対して傾きによる波長シフト量を加算した波長（すなわち、誤差を含むピーク波長）に、Ｖ−λデータにおいて対応付けられている駆動電圧を含む。なお、傾きによる波長シフト量は、切替部１１の精度に応じて変化する。したがって、所定電圧範囲は、切替部１１の精度に応じて設定される。
【００５８】
次に、傾き取得部４６は、ステップＳ４１において取得された複数の光量値から最大光量値を取得し、当該最大光量値に対応する駆動電圧を取得する（ステップＳ４２）。
そして、傾き取得部４６は、最大光量値に対応する駆動電圧が、バンドパスフィルター１５３の透過波長に対応する駆動電圧と同じか否かを判定する（ステップＳ４３）。
最大光量値に対応する駆動電圧が、バンドパスフィルター１５３の透過波長に対応する駆動電圧と同一の場合（ステップＳ４３；ＹＥＳ）、傾き補償処理を終了する。
一方、最大光量値に対応する駆動電圧が、バンドパスフィルター１５３の透過波長に対応する駆動電圧と異なる場合（ステップＳ４３；ＮＯ）、傾き取得部４６は、最大光量値に対応する駆動電圧と、Ｖ−λデータとに基づいて、入射光の中心光軸の波長可変干渉フィルターに対する傾きを取得する（ステップＳ４４）。
【００５９】
以下、ステップＳ４５において、傾きを取得する方法を説明する。
記憶部４７に記憶されているＶ―λデータに基づく波長λ１は、波長可変干渉フィルター５に対して入射光軸が直交する場合、すなわち、傾きθ＝０°の場合における下記式（２）を満たす。
【００６０】
これに対して、波長可変干渉フィルター５に対して入射光軸が傾きθで傾いている場合、出射光の波長λ２は、下記式（３）を満たす。
そして、下記式（２），（３）から、Ｖ―λデータに基づく波長λ１と、入射光軸が傾きθで傾いている場合の出射光の波長λ２とは、下記式（４）の関係を満たす。
なお、下記式（２）〜（４）におけるλ１，λ２及びｄは、それぞれ、駆動電圧Ｖに応じて変化する。
【００６１】
ｍλ１(v)＝２ｎｄ(v)          ・・・（２）
ｍλ２(v)＝２ｎｄ(v)ｃｏｓθ  ・・・（３）
λ２(v)＝λ１(v)ｃｏｓθ      ・・・（４）
【００６２】
ここで、記憶部４７に記憶されているＶ−λデータから、バンドパスフィルター１５３の透過波長λBPFに対応する駆動電圧Ｖａを取得する。これに対して、実際に波長可変干渉フィルター５からの出射光のピーク波長がλBPFとなる駆動電圧は、ステップＳ４２において取得された駆動電圧、すなわち光量値が最大となる駆動電圧Ｖｂである。
これら駆動電圧Ｖａ，Ｖｂは、下記式（５）の関係を満たす。そして、式（５）から、下記式（６）に示すように傾きθをｃｏｓθの値として算出することができる。
【００６３】
λBPF＝λ１(va)＝λ２(vb)＝λ１(vb)ｃｏｓθ   ・・・（５）
ｃｏｓθ＝λ１(va)／λ１(vb)                ・・・（６）
【００６４】
以上のように、ｃｏｓθが算出されると、フィルター駆動部４１は、算出されたｃｏｓθを用いて、駆動パラメータ（Ｖ−λ）を設定する（ステップＳ４５）。
すなわち、フィルター駆動部４１は、Ｖ−λデータの各波長に対して、ｃｏｓθをかけ合せて補正することで、傾きθを加味した新たなＶ−λデータを、上記駆動パラメータとして得ることができる。
【００６５】
［第一実施形態の作用効果］
本実施形態の分光測定装置１では、光学モジュール１０は、第１配置と第２配置との間で、波長可変干渉フィルター５の配置を切り替える切替部１１を備えている。
このような構成では、波長可変干渉フィルター５の配置位置を、照射モードの際には第１配置に、測定モードの際には第２位置に設定できる。これにより、モードに応じて第１配置及び第２配置との間で配置位置を容易に切り替えることができ、所定波長の光を出射する構成と、所定波長の光を受光する構成とを、簡単な構成で両立できる。
【００６６】
ここで、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１上に波長可変干渉フィルター５が配置された状態で分光測定を実施すると、外光の影響を受けやすいため、高精度の分光測定を実施することが困難である。これに対して、測定モードの際には、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２上に波長可変干渉フィルター５が配置されるため、測定対象の波長以外の光が受光されることを抑制でき、高精度の分光測定を実施できる。
【００６７】
本実施形態では、切替部１１は、波長可変干渉フィルター５に対して、光学ユニット２０を移動させる。このような構成では、波長可変干渉フィルター５を筐体１２に対して固定し、位置決めした状態で、第１配置及び第２配置の切り替えを実施できる。したがって、波長可変干渉フィルター５の位置ズレによる光の入射角度の変化を抑制でき、当該入射角度変化による分光精度の低下を抑制できる。
また、波長可変干渉フィルター５を移動させる構成では、移動に伴う振動により、波長可変干渉フィルター５の反射膜５４，５５間のギャップ寸法が変動し、測定精度が低下するおそれがある。さらに、ギャップ寸法の変動が収束するまで待機する場合では、待機時間が長くなることで、測定時間が長くなるおそれがある。これに対して、本実施形態では、上記構成により、波長可変干渉フィルター５の移動による振動がなく、迅速かつ高精度な測定が実施できる。
【００６８】
本実施形態では、波長可変干渉フィルター５に光を入射させる第１入射レンズ２３１及び第２入射レンズ２４１の中心光軸Ｌ１，Ｌ２が平行である。このような構成では、第１入射レンズ２３１及び第２入射レンズ２４１の光軸のそれぞれに交差する方向に波長可変干渉フィルター５を移動させることにより、第１配置及び第２配置のいずれの場合でも、波長可変干渉フィルター５に同一の角度で光を入射させることができる。したがって、波長可変干渉フィルター５を直線に沿って移動させる構成を採用することができ、簡単な構成で、分光精度の低下を抑制できる。
【００６９】
本実施形態では、補償処理用光学系１５及び傾き取得部４６により、波長可変干渉フィルター５の傾きを検出する。このような構成では、波長可変干渉フィルター５を相対的に移動させた際に、入射光の光軸に対して波長可変干渉フィルター５の傾きが変化した場合でも、傾きを検出することにより、上述の傾き補償処理を実施でき、傾き変化による測定精度への影響を抑制できる。
また、本実施形態では、補償処理用光学系１５を用いることにより、光源部２１からの光を受光部２２に受光させる。これにより、受光部２２を傾き検出の際にも用いることができ、傾き検出用の受光素子を別に設ける場合と比べて、構成の簡略化を図ることができる。
【００７０】
［第二実施形態］
第一実施形態では、波長可変干渉フィルター５に対して平行光束を入射する入射光学系が、光源部２１及び受光部２２と一体的に保持部材２５に固定されていた。これに対して、第二実施形態では、波長可変干渉フィルター５に対して一体的に固定されている点で相違する。
以下の説明では、第一実施形態と同様の構成については、同一の符号を付してその説明は省略又は簡略化する。
【００７１】
図９は、本発明に係る第二実施形態の分光測定装置における光学モジュールの概略構成を示す図である。
図９に示すように、分光測定装置１Ａは、光学モジュール１０Ａを備えている。この光学モジュール１０Ａは、切替部１１と、分光ユニット１６と、光学ユニット２０Ａとを備えている。
【００７２】
分光ユニット１６は、波長可変干渉フィルター５と、波長可変干渉フィルター５の一対の反射膜５４，５５の法線方向において、当該波長可変干渉フィルター５を挟んで配置された２つの入射光学系１６１，１６２と、これら各部材を一体的に保持し、筐体１２に固定されている保持部材１６３とを備える。なお、入射光学系１６２は、本発明の第２の入射光学系に相当する。
【００７３】
入射光学系１６１，１６２は、コリメーターやテレセントリック光学系により構成され、波長可変干渉フィルター５とは反対側の端面から入射した光を平行光束として、波長可変干渉フィルター５に入射させる。入射光学系１６１，１６２は、光軸が、波長可変干渉フィルター５の反射膜５４，５５の法線方向に沿うように配置されている。
【００７４】
光学ユニット２０Ａは、光源部２１と、受光部２２と、光源側光学系２３Ａと、受光側光学系２４Ａと、各部材を一体的に保持する保持部材２５とを備えている。
光源側光学系２３Ａは、光源部２１からの光を対象物Ｘに導く。
受光側光学系２４Ａは、対象物Ｘからの光を受光部２２に結像させる。
【００７５】
この光学ユニット２０Ａは、切替部１１によって、分光ユニット１６に対して移動される。これにより、本実施形態においても、光源側光学系２３Ａの中心光軸Ｌ１上に波長可変干渉フィルター５が配置された「第１配置」と、受光側光学系２４Ａの中心光軸Ｌ２上に波長可変干渉フィルター５が配置された「第２配置」との、２つの配置状態のいずれかに設定される。
【００７６】
［第二実施形態の作用効果］
本実施形態では、波長可変干渉フィルター５に光を入射させる入射光学系１６１，１６２が、当該波長可変干渉フィルター５と一体に保持される。
このような構成では、波長可変干渉フィルター５に対する入射光の角度変化を抑制できる。したがって、波長可変干渉フィルター５への入射角度の変化に応じた、干渉光の波長シフトを抑制でき、波長可変干渉フィルター５の分光精度の低下を抑制できる。
【００７７】
［実施形態の変形］
なお、本発明は上述の各実施形態に限定されるものではなく、本発明の目的を達成できる範囲での変形、改良、及び各実施形態を適宜組み合わせる等によって得られる構成は本発明に含まれるものである。
例えば、上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター５に対して光学ユニット２０，２０Ａを移動させることで、第１配置と第２配置とを切り替えていたが、本発明はこれに限定されず、光学ユニット２０，２０Ａに対して波長可変干渉フィルター５を移動させることで、第１配置と第２配置とを切り替える構成としてもよい。
【００７８】
上記実施形態では、測定モードの際に、入射ユニット１４を第２開口部の中心光軸Ｌ２上に配置する例を示したが、入射ユニット１４を備えない構成としてもよい。この場合でも、対象物Ｘにて反射された光の一部が第２入射レンズ２４１から波長可変干渉フィルター５に導かれ、受光部２２で受光させることができる。
【００７９】
上記各実施形態では、傾き補償処理を実施する際に、光源部２１からの光のうち所定波長の光のみを受光部２２に導光する補償処理用光学系１５を配置する構成を例示したが、本発明はこれに限定されない。
図１０は、照射モード、すなわち第１配置に設定されている際の、補償処理用光学系の一変形例を模式的に示す図である。図１０に示す、補償処理用光学系１７は、所定波長の光のみを通過させるバンドパスフィルター１７１と、バンドパスフィルター１７１を透過した光を受光する受光部１７２と、これら各部材を収納し、外光を遮光する筐体１７３とを備える。図１０に示す変形例においても、受光部１７２で受光された光量に基づいて、上述の傾き補償処理を実施することができる。
【００８０】
また、図１１は、測定モード、すなわち第２配置に設定されている際の、補償処理用光学系の一変形例を模式的に示す図である。図１１に示す補償処理用光学系１８は、所定波長の光を出射する光源部１８１と、光源部１８１を収納し、外光を遮光する筐体１８２とを備える。なお、光源部１８１としては、ＬＥＤ等の所定波長の光を照射する光源を用いることができる。また、ハロゲンランプとバンドパスフィルターとを組み合わせて所定波長の光を照射する構成を採用してもよい。図１１に示す変形例においても、受光部２２で受光された光量に基づいて、上述の傾き補償処理を実施することができる。
【００８１】
上記各実施形態では、傾き補償処理は、モードの切り替えが行われた場合に実施される構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、所定回数の切り替えが行われた場合や、ユーザーによる実行指示があった場合等の任意のタイミングで実行するようにしてもよい。
なお、傾き補償処理を実施しなくてもよい。
【００８２】
上記各実施形態では、光源側光学系２３の中心光軸Ｌ１と、受光側光学系２４の中心光軸Ｌ２とが平行である構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、中心光軸Ｌ１と、中心光軸Ｌ２とが交差する構成でもよい。すなわち、第１配置と第２配置とにおいて、波長可変干渉フィルター５に対してそれぞれ所定の角度で光が入射し、各入射角度が異なる構成でもよい。この場合、第１配置と第２配置とにおいて、それぞれの入射角度に応じたＶ−λデータを用いればよい。
また、例えば、波長可変干渉フィルター５の移動軌跡に対して、中心光軸Ｌ１と、中心光軸Ｌ２とが所定の角度で交差する構成でもよい。より具体的には、円弧に沿って波長可変干渉フィルター５を移動させ、波長可変干渉フィルター５の円弧状の移動軌跡に対して各中心光軸Ｌ１，Ｌ２が所定の角度（例えば９０度）で交差する構成が例示できる。
【００８３】
上記各実施形態では、ギャップ変更部として、固定電極５６１、及び可動電極５６２に電圧を印加することで、静電引力により反射膜間ギャップＧ１の大きさを変更する静電アクチュエーター５６を備える構成を例示したが、これに限定されない。
例えば、ギャップ変更部として、誘導アクチュエーターを用いてもよい。この場合、固定電極５６１の代わりに、第一誘導コイルを配置し、可動電極５６２の代わりに第二誘導コイル又は永久磁石を配置する構成を例示できる。
さらに、ギャップ変更部として、圧電アクチュエーターを用いてもよい。この場合、保持部５２２に下部電極層、圧電膜、及び上部電極層を積層配置させ、下部電極層及び上部電極層の間に印加する電圧を入力値として可変させることで、圧電膜を伸縮させて保持部５２２を撓ませる構成を例示できる。
また、上記各実施形態では、ギャップ変更部としての静電アクチュエーター５６を一対の基板の一方のみに設けた構成を例示したが、本発明はこれに限定されず、ギャップ変更部を両方の基板に設けてもよい。
【００８４】
上記各実施形態では、反射膜間ギャップＧ１を変更可能に構成された波長可変干渉フィルター５を例示したが、これに限定されず、反射膜間ギャップＧ１の大きさが固定された干渉フィルターであってもよい。
また、上記各実施形態では、波長可変干渉フィルター５として、一対の基板５１，５２と、各基板５１，５２のそれぞれに設けられた一対の反射膜５４，５５を備える構成を例示したが、これに限定されない。例えば、可動基板５２が設けられない構成としてもよい。この場合、例えば、基板（固定基板）の一面に第一反射膜、ギャップスペーサ、及び第二反射膜を積層形成し、第一反射膜と第二反射膜とがギャップを介して対向する構成とする。当該構成では、一枚の基板からなる構成となり、分光フィルターをより薄型化することができる。
【００８５】
上記各実施形態において、波長可変干渉フィルター５がパッケージ内に収納された状態で光学モジュール１０，１０Ａに組み込まれる構成としてもよい。この場合、パッケージ内を真空密閉することで、波長可変干渉フィルター５の静電アクチュエーター５６に電圧を印加した際の応答性を向上させることができる。
【００８６】
上記各実施形態では、分光フィルターとして、波長可変干渉フィルター５を例示したが、本発明はこれに限定されず、例えばＡＯＴＦ（Acousto Optic Tunable Filter）やＬＣＴＦ（Liquid Crystal Tunable Filter）が用いられてもよい。ただし、装置の小型化の観点から上記各実施形態のようにファブリーペローフィルターを用いることが好ましい。
【００８７】
その他、本発明の実施の際の具体的な構造は、本発明の目的を達成できる範囲で上記各実施形態及び変形例を適宜組み合わせることで構成してもよく、また他の構造等に適宜変更してもよい。
【符号の説明】
【００８８】
１，１Ａ…分光測定装置、５…波長可変干渉フィルター（分光素子）、１０，１０Ａ…光学モジュール、１１…切替部、１５，１７，１８…補償処理用光学系（傾き検出部）、２１…光源部、２２…受光部、４６…傾き取得部（傾き検出部）、１６１…入射光学系、１６２…入射光学系（第２の入射光学系）、２３１…第１入射レンズ（入射光学系）、２４１…第２入射レンズ（第２の入射光学系）。
【図１】
2016048187.tif 000003
【図２】
2016048187.tif 000004
【図３】
2016048187.tif 000005
【図４】
2016048187.tif 000006
【図５】
2016048187.tif 000007
【図６】
2016048187.tif 000008
【図７】
2016048187.tif 000009
【図８】
2016048187.tif 000010
【図９】
2016048187.tif 000011
【図１０】
2016048187.tif 000012
【図１１】
2016048187.tif 000013