(57)【要約】【課題】  複数の小遮蔽格子を備えるＸ線遮蔽格子であって、遮蔽格子に温度変化が生じた場合でも、強度パターンの局所的な変化を軽減することができるＸ線遮蔽格子を提供することを目的とする。【解決手段】  Ｘ線遮蔽格子１２は、第１の透過ユニット１０４と第２の透過ユニット１０６と遮蔽部１０８とを備える。第１の透過ユニット１０４は、Ｘ線を透過する透過部１０７と、透過部が配置されている第１の面１１３を有する第１の基板１０３とを有する。第２の透過ユニット１０６は、Ｘ線を透過する透過部１０７と、透過部が配置されている第２の面１１５を有する第２の基板１０５とを有する。遮蔽部１０８は、第１の面の透過部が配置されていない領域と、第２の面の透過部が配置されていない領域と、に配置され、第１の透過ユニットと、第２の透過ユニットとに接するように配置された接続領域１０９を有する。【選択図】  図１
2016017815.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｘ線を透過する透過部と、前記透過部が配置されている第１の面を有する第１の基板とを有する第１の透過ユニットと、
Ｘ線を透過する透過部と、前記透過部が配置されている第２の面を有する第２の基板とを有する第２の透過ユニットと、
前記第１の面の前記透過部が配置されていない領域と、前記第２の面の前記透過部が配置されていない領域と、に配置され、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部とを備え、
前記遮蔽部は、前記第１の透過ユニットと、前記第２の透過ユニットとに接するように配置された接続領域を有することを特徴とするＸ線遮蔽格子。
【請求項２】
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとのそれぞれは、前記透過部を複数有し、
前記透過部は凸部であることを特徴とする請求項１に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項３】
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとは、前記第１の透過ユニットの一部と、前記第２の透過ユニットの一部とが、１つの凹部を形成するように配置され、
前記接続領域は、前記１つの凹部の少なくとも一部に配置されていることを特徴とする請求項１に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項４】
前記第１の基板の法線と、前記第２の基板の法線とが交わるように、前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとが配置されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項５】
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとを支持する支持部を備え、
前記支持部は、前記第１の面と対向する面と、前記第２の面と対向する面との少なくとも一部と接していることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項６】
前記支持部は凸部を有し、
前記支持部の凸部は、前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとの間隙に配置され、
前記間隙のうち、前記凸部が配置されていない領域に前記接続領域が配置されていることを特徴とする請求項５に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項７】
前記第１の透過ユニットの一部と前記第２の透過ユニットの一部とが、高さ方向に重なっていることを特徴とする請求項１又は２に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項８】
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとは、間隙が形成されるように配置され、前記間隙の少なくとも一部に前記接続領域が配置されていることを特徴とする請求項１乃至５及び７のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項９】
前記接続領域は、前記遮蔽部のうち、前記接続領域以外の領域を構成する材料の熱膨張率の０．９倍以上１．１倍以下の熱膨張率を有する材料で構成されることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子。
【請求項１０】
Ｘ線源からのＸ線を回折して干渉パターンを形成する回折格子と、
前記干渉パターンを形成するＸ線の一部を遮蔽する分析格子と、
前記分析格子からのＸ線を検出する検出器とを備え、
前記分析格子は、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子であることを特徴とするトールボット干渉計。
【請求項１１】
Ｘ線源からのＸ線の一部を遮蔽して分割する線源格子と、
前記線源格子からのＸ線を回折して干渉パターンを形成する回折格子と、
前記干渉パターンを形成するＸ線の少なくとも一部を検出する検出器とを備え、前記線源格子は、請求項１乃至９のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子であることを特徴とするトールボット干渉計。
【請求項１２】
Ｘ線を透過する透過部と、前記透過部が配置されている第１の面を有する第１の基板とを有する第１の透過ユニットと、
Ｘ線を透過する透過部と、前記透過部が配置されている第２の面を有する第２の基板とを有する第２の透過ユニットとの、前記第１の面と前記第２の面のうち、前記透過部が配置されていない領域に金属を配置して遮蔽部を形成する工程を有し、
前記遮蔽部を形成する工程において、前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとのそれぞれの一部と接するように前記金属の一部を配置することを特徴とするＸ線遮蔽格子の製造方法。
【請求項１３】
前記遮蔽部を形成する工程において、
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットは支持部に配置されており、
前記遮蔽部が形成された、前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとから、前記支持部を分離する工程を有することを特徴とする請求項１２に記載のＸ線遮蔽格子の製造方法。
【請求項１４】
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットとを、前記遮蔽部から分離する工程を有することを特徴とする請求項１２又は１３に記載のＸ線遮蔽格子の製造方法。
【請求項１５】
前記遮蔽部を形成する工程において、
前記第１の透過ユニットと前記第２の透過ユニットは、間隙が形成されるように配置され、前記間隙の少なくとも一部に前記金属の一部を配置することを特徴とする請求項１２乃至１４のいずれか１項に記載のＸ線遮蔽格子の製造方法。
【請求項１６】
前記間隙に配置された金属にＸ線透過部を形成する工程を有することを特徴とする請求項１５に記載のＸ線遮蔽格子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、Ｘ線遮蔽格子、該Ｘ線遮蔽格子を備えるトールボット干渉計、および該Ｘ線遮蔽格子の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線をはじめとする放射線を利用した被検体の撮影装置は医療診断や非破壊検査において多目的に利用される。近年、Ｘ線強度パターンを撮像し、被検体によるＸ線強度パターンの変化から被検体による吸収強度や位相変調、散乱強度に関する情報（以下、被検体の情報と呼ぶことがある）を取得することが試みられている。例えば、Ｘ線回折格子が形成する干渉パターンをＸ線強度パターンとして用いる、トールボット干渉計がある。
【０００３】
トールボット干渉計において、干渉パターンは、一般的なＸ線検出器の画素サイズよりも小さな周期を有する場合がある。その場合、干渉パターンと同程度の周期を有するＸ線遮蔽格子（以下、分析格子と呼ぶことがある）を用いて、新たに強度パターンを形成し、この強度パターンを撮像することで、被検体の情報を取得する方法が用いられている。
【０００４】
撮像範囲を大きくするためには、大面積の分析格子が必要となる。しかしながら、分析格子のＸ線遮蔽部は高いアスペクト比が必要であるため、大面積の分析格子の作製は容易でない。
【０００５】
また、可干渉性のないＸ線源をトールボット干渉計の光源として用いる場合、Ｘ線遮蔽格子（以下、線源格子と呼ぶことがある）を用いて照射されたＸ線を空間的に分割し、Ｘ線に可干渉性を付与する方法（トールボット・ラウ干渉法と呼ばれる）を用いる。線源格子は、仮想的に微小なＸ線源を作ることでＸ線に可干渉性を付与することができる。線源格子における透過部のピッチは回折格子の構造と回折格子との距離により決まるため、微小なＸ線源（仮想）をたくさん配列させて時間当たりのＸ線照射量を増やすためには、線源格子も大面積にする必要があることがある。尚、本発明及び本明細書において、単にＸ線遮蔽格子というときには、線源格子と分析格子の両方を含むこととする。
【０００６】
特許文献１には、大面積のＸ線遮蔽格子を実現する方法として、支持基板上に複数の小遮蔽格子を配置したＸ線遮蔽格子が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１２−２２２３９
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
特許文献１のＸ線遮蔽格子では、支持基板上に小遮蔽格子を１００μｍ程度の間隙をあけて配列している。よって、Ｘ線遮蔽格子に温度変化が生じると、支持基板の膨張と収縮により複数の小遮蔽格子の間隙の幅が変化することがある。小遮蔽格子の間隙は透過部であるため、局所的に透過部の幅が変化することで、そのＸ線遮蔽格子を分析格子として用いた場合は強度パターンも局所的に変化する。これにより、取得される被検体の情報の正確性が低くなったり、被検体の情報を取得することが難しくなったりすることがあると考えられる。また、そのＸ線遮蔽格子の線源格子として用いた場合は、仮想的なＸ線源（線源格子の透過部に対応）のピッチが局所的に変化し、干渉パターンのコントラストを低下させてしまうことがあると考えられる。
【０００９】
そこで本発明は、複数の小遮蔽格子を備えるＸ線遮蔽格子であって、Ｘ線遮蔽格子に温度変化が生じた場合でも、強度パターンの局所的な変化又は干渉パターンのコントラスト低下を軽減することができるＸ線遮蔽格子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明の一側面としてのＸ線遮蔽格子は、Ｘ線を透過する透過部と、前記透過部が配置されている第１の面を有する第１の基板とを有する第１の透過ユニットと、Ｘ線を透過する透過部と、前記透過部が配置されている第２の面を有する第２の基板とを有する第２の透過ユニットと、前記第１の面の前記透過部が配置されていない領域と、前記第２の面の前記透過部が配置されていない領域と、に配置され、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部とを備え、前記遮蔽部は、前記第１の透過ユニットと、前記第２の透過ユニットとに接するように配置された接続領域を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【００１１】
本発明の一側面としてのＸ線遮蔽格子によれば、複数の小遮蔽格子を備えるＸ線遮蔽格子であって、Ｘ線遮蔽格子に温度変化が生じた場合でも、強度パターンの局所的な変化又は干渉パターンのコントラスト低下を軽減することができる。
【００１２】
本発明のその他の側面については、以下で説明する実施の形態で述べる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】実施形態１に係る遮蔽格子の模式図。
【図２】実施形態１に係る遮蔽格子の変形例の模式図。
【図３】実施形態１に係る遮蔽格子の遮蔽部の断面の一例の模式図。
【図４】実施形態１に係る遮蔽格子の支持部の変形例の模式図。
【図５】実施形態１に係る遮蔽格子の支持部の変形例の模式図。
【図６】実施形態１に係る遮蔽格子の支持部の変形例の模式図。
【図７】実施形態１に係る遮蔽格子の支持部の変形例の模式図。
【図８】実施形態１に係る遮蔽格子の支持部の変形例の模式図。
【図９】実施例１に係る遮蔽格子の製造方法の工程図。
【図１０】実施例５に係る遮蔽格子の製造方法の工程図。
【図１１】実施形態２に係る遮蔽格子の模式図。
【図１２】実施形態１に係る遮蔽格子の変形例の模式図。
【図１３】実施例６に係るトールボット干渉計の模式図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下に、本発明の好ましい実施形態を添付の図面に基づいて詳細に説明する。
【００１５】
なお、各図において、同一の部材については同一の参照番号を付し、重複する説明は省略する。
【００１６】
以下、実施形態を２つ挙げて（実施形態１、２）説明をする。実施形態１、２にかかるＸ線遮蔽格子は、複数の小遮蔽格子を有し、複数の小遮蔽格子のそれぞれは、Ｘ線を透過する透過部と透過部が配置された基板を有する透過ユニットと、Ｘ線を遮蔽する遮蔽部とを有する。また、小遮蔽格子のうち、第１の小遮蔽格子の遮蔽部と、第１の小遮蔽格子の隣に配置される第２の小遮蔽格子の遮蔽部とが接し、１つの遮蔽部を形成する。言い換えると、第１の小遮蔽格子が有する第１の透過ユニットと、第２の小遮蔽格子が有する第２の透過ユニットとが、遮蔽部が有する接続領域を介して接続されている。接続領域とは、遮蔽部のうち、透過部に挟まれた領域であり、且つ、第１の透過ユニットと、第２の透過ユニットとに接する領域のことを指す。この接続領域は、遮蔽部のうちの接続領域以外の領域を構成する材料の熱膨張率の０．９倍以上１．１倍以下の熱膨張率を有する材料で構成される。好ましくは、接続領域は、遮蔽部のうちの接続領域以外の領域を構成する材料と同じ材料で構成される。よって、透過ユニット同士の間隙の温度変化による伸縮は、小遮蔽格子自体の伸縮に近く、温度変化による透過部又は遮蔽部の幅の局所的な変化が生じにくい。
【００１７】
実施形態１、２にかかるＸ線遮蔽格子１２は、分析格子として、回折格子と検出器とともにトールボット干渉計を構成することができる。トールボット干渉計は、線源格子を備える、トールボット・ロー干渉計であってもよく、その場合、本実施形態にかかるＸ線遮蔽格子を線源格子と分析格子の両方に用いてもよい。また、検出器が、回折格子で形成される干渉パターンを撮像できる空間分解能を有する場合、分析格子は不要であるが、その場合であっても、トールボット・ロー干渉計の線源格子としてＸ線遮蔽格子１２を用いてもよい。
【００１８】
以下、それぞれの実施形態について説明をする。尚、本明細書では、Ｘ線遮蔽格子のことを単に遮蔽格子と呼ぶことがある。
【００１９】
（実施形態１）
図１は、本実施形態にかかるＸ遮蔽格子の模式図である。本実施形態では、複数の透過ユニットのそれぞれが、複数の透過部を有する形態について説明をする。
【００２０】
図１（ａ）は本実施形態の断面構造を説明する断面図である。遮蔽格子１２は、複数の透過ユニットと遮蔽部１０８を備える。本実施形態では、複数の透過ユニットとして、第１の透過ユニット１０４と第２の透過ユニット１０６とを備える遮蔽格子１２について説明する。
【００２１】
第１の透過ユニット１０４は、複数の透過部と複数の透過部が配置された第１の基板１０３とを有し、第２の透過ユニット１０６は、複数の透過部と複数の透過部が配置された第２の基板１０５とを有する。透過部１０７は凸部であり、第１の基板１０３と第２の基板１０５のそれぞれに周期的に配置されている。尚、第１の基板１０３のうち、複数の透過部が配置された面を第１の面１１３、第２の基板のうち、複数の透過部が配置された面を第２の面１１５と呼ぶ。また本明細書において、第１の基板と第２の基板とを合わせて、支持基板と呼ぶことがある。
【００２２】
透過部１０７と第１の基板１０３と第２の基板１０５とは、Ｘ線の透過率の高い材料であることが好ましい。例えば、シリコンや炭素、樹脂材料を用いることができる。第１と第２の透過ユニットは、メッキなどを用いて遮蔽部１０８を形成する際の鋳型として機能することができるため、第１と第２の透過部を合わせて鋳型部１０２と呼ぶこともある。
【００２３】
第１と第２の透過ユニットの製造方法は特に問わない。例えば、Ｘ線の透過率の高い材料で構成される支持基板に、Ｘ線透過率の高いフォトレジストを塗布し、パターニングをすることによってフォトレジストからなる複数の透過部を配置することで、第１と第２の透過ユニットを製造することができる。また、Ｘ線の透過率の高い材料で構成される基板を、複数の透過部と支持基板が残るようにエッチングすることで、第１と第２の透過ユニットを製造することができる。
【００２４】
第１の透過ユニット１０４と第２の透過ユニット１０６は、支持部１００に支持されており、第１基板の第１の面と対向する面と、第２の基板の第２の面と対向する面とのそれぞれの少なくとも一部と支持部１００が接している。
【００２５】
遮蔽部１０８はＸ線の透過率の低い材料であることが好ましい。例えば、金や鉛、白金を用いることができる。遮蔽部１０８のうち、支持基板と接する面と対向する面（図１（ａ）における、上の面）は平坦であることが好ましい。ここで平坦とは、表面の高さの差が透過部１０７の高さよりも小さく、表面の高さのピッチが透過部１０７のピッチよりも長いことを意味する。つまり、透過部１０７の凸部に遮蔽部１０８が配置されていてもよいが、その場合であっても、凸部上の遮蔽部１０８の高さを凸部が配置されていない領域（つまり、凸部に挟まれた領域）の遮蔽部１０８の高さよりも小さくする。これにより、遮蔽格子のＸ線透過率を周期的に変化させることができる。遮蔽部１０８の高さは、図３（ｂ）に示すように、透過部１０７の高さ以下であることが好ましいが、図３（ａ）に示すように、透過部１０７の高さより高くともよい。但し、遮蔽部１０８の高さとは、透過部が配置されていない領域における遮蔽部１０８の高さの平均値とする。
【００２６】
第１と第２の透過ユニットにおいて、遮蔽部１０８は、第１と第２の面うちの透過部１０７が配置されていない領域の全部を覆うように配置されていることが好ましい。しかしながら、透過部が配置されていない領域のうち、遮蔽部１０８が配置されていない領域が存在していても、その領域を用いなければ（トールボット干渉計の場合、撮像範囲内にその領域を配置しなければ）、遮蔽部１０８が配置されていない領域が存在していても良い。また、遮蔽部１０８は、図１（ａ）、（ｃ）に示すように支持部１００のうち、透過ユニットが配置されていない領域の一部と接していてもよい。このとき、遮蔽部１０８は、支持部１００のうち、透過ユニットが配置されていない領域の一部を覆うように配置されていても良いし、全部を覆うように配置されていてもよい。
【００２７】
遮蔽部１０８は第１と第２の透過ユニットを覆うように配置されることで接続領域１０９を有する。遮蔽部１０８を第１と第２の透過ユニットを覆うように配置すると、遮蔽部１０８のうち接続領域１０９とそれ以外の領域の少なくとも一部とを構成する材料が同じになる。よって、この接続領域１０９により第１と第２の透過ユニット同士が接続されることで、温度変化に因る透過ユニットのピッチ（つまり、透過ユニットの間隙の幅）の変化を軽減することができる。尚、本実施形態のように、第１と第２の透過ユニットが支持部１００に支持されている場合または、第１と第２の透過ユニットの支持基板同士が接着されている場合など、接続領域１０９がなくても第１と第２の透過ユニットが接続されている場合もある。しかしながら、本発明および本明細書では、このような場合であっても、遮蔽部１０８が第１と第２の透過ユニットの両方と接している領域を有するとき、その領域を接続領域１０９とみなす。
【００２８】
支持部１００はＸ線の透過率の高い材料であることが好ましく、透過ユニットと同様な材料を用いることができるが、透過ユニットと異なる材料を用いてもよい。第１および第２の透過ユニットを支持部１００に配置する際には、透過部１０７が配置された面（第１の面と第２の面）と対向する面と支持部１００が接するように第１と第２の透過ユニットを配置する。
【００２９】
接続領域１０９が接続領域以外の遮蔽部１０８と同じパターンであること、つまり、接続領域１０９とその周辺の領域における透過部と遮蔽部１０８とのパターンが、ほかの領域における遮蔽部１０８と透過部のパターンと同じであることが好ましい。図１（ｂ）は、図１（ａ）のＸ線遮蔽格子のうち、支持部１００と第１と第２の透過ユニット１０４、１０６を透過ユニット側からみた上面図であり、図１（ｃ）は、図１（ａ）のＸ線遮蔽格子１２を遮蔽部１０８側から見た上面図である。図１（ａ）、（ｂ）のように、図１のＸ線遮蔽格子１２において、第１と第２の透過ユニット１０４、１０６は、間隙を設けずに（つまり、互いに接するように）支持部１００に配置されている。図１に示したＸ線遮蔽格子では、第１と第２の透過ユニットにおいて、第１と第２の透過ユニットが接する面と、その面と最も近い凸部との距離を凸部のピッチｐの１／２とすることで、接続領域１０９を接続領域以外の遮蔽部１０８と同じパターンにすることができる。こうすることで、図１（ｃ）のように、透過部１０７と遮蔽部１０８とのパターンが遮蔽格子１２全体で連続しており、接続領域１０９と接続領域以外の遮蔽部１０８との区別がつかない遮蔽格子１２を取得することができる。このとき、接続領域１０９の幅と接続領域以外の遮蔽部１０８の幅とは等しい。但し、接続領域１０９の幅は、第１の透過ユニット１０４の透過部と第２の透過ユニット透過部とのうち、最も近くに配置されている透過部間（図１中、第１の透過部３０７と第２の透過部２０７との間とする）に挟まれた領域の幅とする。また、接続領域以外の遮蔽部１０８の幅は、第１の透過ユニット１０４の複数の透過部のうち、第１と第２の透過部を結んだ方向において第１の透過部３０７と、第１の透過部の最も近くに配置されている透過部（図１中、第３の透過部４０７）とに挟まれた領域の幅とする。尚、第１の透過ユニット１０４と第２の透過ユニット１０６とをまたいで透過部を周期的に配置できれば、第１と第２の透過ユニットにおいて、第１と第２の透過ユニットと接する面と、その面と最も近い凸部との距離は特に問わない。また、図２のように、第１と第２の透過ユニットが接していなくても、第１と第２の透過ユニットと接する面と、その面と最も近い凸部との距離を調整すれば第１と第２の透過ユニットをまたいで透過部を周期的に配置することができる。図２においても、図２（ａ）がＸ線遮蔽格子１２の断面構造を説明する断面図であり、図２（ｂ）は図２（ａ）から遮蔽部１０８を除いたものを透過ユニット側からみた上面図であり、図２（ｃ）は、図２（ａ）のＸ線遮蔽格子１２を遮蔽部１０８側から見た上面図である。第１の基板１０３と第２の基板１０５とが接する面の平坦性が低い場合は、間隙を設けて第１と第２の透過ユニットを配置することが好ましい。
【００３０】
第１と第２の透過ユニットが間隙を設けて配置されている場合、図３に示すように、間隙１１０にも遮蔽部１０８が配置されることが好ましい。よって、図３（ｃ）に示すように、間隙１１０に対応する位置での遮蔽部１０８の平坦性が透過ユニットに配置された遮蔽部１０８に比べて劣っていても問題ない。
【００３１】
図１２は、第１と第２の透過ユニットが間隙１１０を設けて配置されているＸ線遮蔽格子の模式図である。図１２（ａ）が遮蔽格子１２から遮蔽部１０８を除いたもの（支持部１００と第１と第２の透過ユニット１０４、１０６）を透過ユニット側から見た上面図、図１２（ｂ）が遮蔽格子１２を遮蔽部１０８側から見た上面図である。図１２のＸ線遮蔽格子において、接続領域１０９の幅は接続領域以外の遮蔽部１０８の幅よりも大きい。接続領域１０９の幅が接続領域以外の遮蔽部１０８の幅よりも大きいとき、第１の透過部と第２の透過部とのピッチが、第１の透過部と第３の透過部とのピッチの整数倍になるように、第１と第２の透過ユニットとを配置することが好ましい。
【００３２】
このように、接続領域１０９の幅が接続領域以外の遮蔽部１０８の幅よりも大きい場合、局所的にＸ線遮蔽格子のパターンが変化してしまう。しかしながら、透過部１０７を支持基板の端に配置することが難しいこともあるため、接続領域１０９の幅は透過ユニットの製造しやすさと遮蔽格子に求めるパターンの連続性とを考慮して適宜決めることができる。
【００３３】
このように、接続領域１０９の幅が接続領域以外の遮蔽部１０８の幅よりも大きい場合であっても、局所的なＸ線遮蔽格子のパターンの変化が少ないＸ線遮蔽格子の一例を図４に示す。尚、本明細書において、局所的なＸ線遮蔽格子のパターンの変化が少ないとは、局所的なＸ線遮蔽格子のパターンの変化がないことを含む。図４（ａ）が遮蔽格子１２の断面図、図４（ｂ）が支持部１００と第１と第２の透過ユニット１０４、１０６を透過ユニット側から見た上面図、図４（ｃ）が遮蔽格子１２を遮蔽部１０８側から見た上面図である。図４のＸ線遮蔽格子１２は、凸部１１２を有する支持部１００を備える。この凸部１１２を挟んで第１と第２の透過ユニットを配置し、第１と第２の透過ユニットの間隙１１０に凸部１１２が配置されることで、遮蔽部１０８のパターンを、接続部の幅が接続部以外の遮蔽部１０８の幅と同じときと同様のパターンにすることができる。支持部１００が有する凸部１１２のパターンを第１と第２の透過ユニットの透過部１０７のパターンと同じにすれば、上面図（図４（ｃ））において接続領域１０９と接続領域以外の遮蔽部１０８との見分けがつかないＸ線遮蔽格子を取得することができる。尚、接続領域１０９と接続領域以外の遮蔽部１０８との見分けがつかないＸ線遮蔽格子とは、図１、２のＸ線遮蔽格子と同じパターンの遮蔽部１０８を有するＸ線遮蔽格子である。凸部１１２のパターンは、図５（ａ）に示すように第１と第２の透過ユニットの透過部１０７のパターンと同じであることが好ましい。しかしながら、図５（ｂ）に示すように第１と第２の透過ユニットの透過部１０７と異なる断面形状を有する凸部１１２が配置されたパターンでも良い。また、すべての凸部１１２が同じ断面形状でもよいし、図５（ｃ）に示すように異なっていても良い。このように、凸部１１２のパターンが第１と第２の透過ユニットの透過部１０７のパターンと異なっていても、支持部１００が凸部１１２を有さないＸ線遮蔽格子よりは、図１のＸ線遮蔽格子の遮蔽パターンに近づけることができる。また、このように、第１と第２の透過ユニットの間に凸部１１２が配置されていても、第１と第２の透過ユニットが接続領域１０９により接続されているため、温度変化により生じる支持部１００の伸縮が原因の局所的な遮蔽パターンの変化は軽減できる。
【００３４】
以上、支持部１００の平坦な面に第１と第２の透過ユニットを配置したＸ線遮蔽格子について説明をしたが、次に、支持部１００の平坦でない面に第１と第２の透過ユニットを配置した例について説明する。平坦でない面に第１と第２の透過ユニットを配置した一例として、階段構造を有する支持部１１８を用いた例を図６に示す。第１と第２の透過ユニットが配置される面は、図６のように、階段構造を有しても良い。例えば、階段構造の下段と上段に第１の透過ユニット１０４と第２の透過ユニット１０６とをそれぞれ配置する。第１の透過ユニット１０４の第１の基板の厚みが階段構造の段差よりも薄い場合、第２の透過ユニット１０６を階段構造の上段から一部がはみ出すように配置することで、第１と第２の透過型ユニットの支持基板同士の一部が重なるように配置することが可能となる。こうすることで、支持基板同士が重ならないように配置する時よりも接続領域１０９の幅が小さくなるように、第１と第２の透過ユニットを配置することができる。つまり、透過部１０７と支持基板の端面との距離が大きい透過ユニット用いた場合であっても、接続領域１０９による局所的な周期パターンの変化が少ない、Ｘ線遮蔽格子を取得することができる。また、Ｘ線遮蔽格子が複数の透過ユニットを備える場合、透過ユニット毎に透過部１０７と支持基板の端面との距離がばらつく可能性がある。その場合であっても、階段構造を有する支持部１１８を用いれば、そのばらつきに合わせて、隣り合う支持基板同士を重ねる量を調整したり、支持基板同士の間隙を調整したりすることで、接続領域１０９による局所的な周期パターンの変化を軽減することができる。また、隣り合う支持基板同士を重ねる必要がない場合であっても、透過ユニットの位置合わせに階段構造を用いることもできる。
【００３５】
また別の一例として、図７に示すように、部分的に一つまたは複数の隆起を有する支持部１２０、１２６を用いてもよい。図７（ａ）に示すように、第１と第２の透過ユニットのそれぞれと複数の隆起を有する支持部１２０とが、支持部１２０の隆起と、隆起が配置されていない位置とで接するように第１と第２の透過ユニットを配置する。このように第１と第２の透過ユニットを配置すると第１の透過ユニット１０４の法線１２４と第２の透過ユニット１０６の法線１２２とが非平行となり、法線同士１２４、１２２はやがて交わる。同様に、図７（ｂ）に示すように、第１と第２の透過ユニットのそれぞれと１つの隆起を有する支持部１２６とが支持部１２６の隆起と、隆起が配置されていない位置とで接するように第１と第２の透過ユニットを配置する。図７（ｂ）のＸ線遮蔽格子は、第１と第２の透過ユニットが、同じ隆起と接している点で図７（ａ）のＸ線遮蔽格子と異なる。図７（ｂ）のＸ線遮蔽格子も、第１の透過ユニット１０４の法線１３０と第２の透過ユニット１０６の法線１２８とが非平行となり、法線同士１３０、１２８はやがて交わる。このように、第１と第２の透過ユニットの法線同士が交わるように、第１と第２の透過ユニットを配置することで、発散するＸ線に対応したＸ線遮蔽格子が実現できる。発散するＸ線とは、例えばコーンビームやファンビームのように、Ｘ線源からの距離が大きくなるにつれ、拡散するＸ線のこと指す。
【００３６】
このように、法線同士が交わるように第１と第２の透過ユニットを配置するためには、図７に示すような隆起を有する支持部１２０、１２６を用いてもよいし、谷型または山型に面が形成された支持部を用いてもよい。また、図８に示すように、平坦な面しか持たない支持部１００を用いてもよい。平坦な面しか持たない支持部１００を用いる場合、第１の透過ユニット１０４の一部に第２の透過ユニット１０６の一部を重ねることで、法線が交わるように第１と第２の透過ユニットを配置することができる。このように第１と第２の透過ユニットを配置することで、隆起のある支持部１２０、１２６を用いた場合と同様に、発散するＸ線に対応した遮蔽格子１２が実現できる。重なる領域は支持基板同士であることが好ましい。また、第１と第２の透過ユニットをこのように配置することで、隆起を有する支持部１２０、１２６を用いなくても法線同士が交わるように第１と第２の透過ユニットを配置することができる。
【００３７】
本実施形態のＸ線遮蔽格子の製造方法は、第１と第２の透過ユニット（鋳型部１０２）の第１の面と第２の面のうち、透過部が配置されていない領域（つまり、支持基板が露出している領域）に金属を配置して遮蔽部１０８を形成する工程を有する。第１と第２の面のうち、透過部が配置されていない領域に金属が配置できれば金属の配置方法は問わないが、微細で高アスペクト比な透過部に挟まれた領域に金属を配置する好ましい方法として、電気めっきがあげられる。電気めっきを用いる場合、支持基板にシード電極が設けられた透過ユニットを用い、それらの透過ユニットを配置して電気めっきを行えば、透過部が配置されていない領域に金属を配置することができる。このとき、露出している支持基板全体を覆うように金属を配置することが好ましいが、上述のように、透過部が配置されていない領域全体が金属でおおわれていなくても良い。上述のように第１と第２の透過ユニットを配置すれば、第１と第２の透過ユニットのそれぞれの一部と接するように形成された接続領域１０９を有する遮蔽部１０８を形成することができる。
【００３８】
尚、支持部を備えるＸ線遮蔽格子を製造する場合は、遮蔽部１０８を形成する工程において、第１と第２の透過ユニットを支持部に配置しておくことが好ましい。また、第１と第２の透過ユニットが間隙を有して支持部に配置され、電気めっきを用いて金属を配置する場合、第１の面と第２の面に加え、支持部のうち、第１の面と第２の面との間隙の底面となる領域もシードとすることが好ましい。また、第１と第２の透過ユニットの法線同士が交わるＸ線遮蔽格子を製造する場合は、遮蔽部１０８を形成する工程において、第１と第２の透過ユニットを、法線同士が交わるように配置しておく。尚、遮蔽部１０８を形成する工程の後で、支持部を第１と第２の透過ユニットから分離する工程を行ってもよい。また、遮蔽部１０８を形成する工程の後で、第１と第２の透過ユニットを遮蔽部１０８から分離する工程を行っても良い。支持部や透過ユニットの分離方法は特に問わないが、エッチングなどをもちいて支持部や透過ユニットを溶解させても良い。支持部や透過ユニットを分離することで、Ｘ線遮蔽格子の透過部のＸ線透過率を向上させることができる。
【００３９】
（実施形態２）
本実施形態は、図１１に示すように、透過ユニットのそれぞれが１つの透過部を有し、複数の遮蔽部１０８を有するＸ線遮蔽格子について説明をする。但し、実施形態１と重複する部分は省略する。
【００４０】
本実施形態のＸ線遮蔽格子１２は、第１と第２の透過ユニットと複数の遮蔽部１０８とを備え、第１と第２の透過ユニットのそれぞれは透過部を１つ有する。以下、より具体的に説明をする。図１１（ａ）は、本実施形態のＸ線遮蔽格子１２の断面図である。第１と第２の透過ユニット１０４、１０６は、複数の凹部１３４を有し、複数の凹部に挟まれた領域が透過部１０７である。図１１（ｂ）は本実施形態のＸ線遮蔽格子１２の上面図である。図１１（ｂ）に示すように、複数の凹部に挟まれた領域がつながっているため、透過ユニットが有する透過部１０７は１つである。複数の凹部１３４のそれぞれには遮蔽部１０８が配置されており、それぞれの遮蔽部１０８は独立している。このように、第１と第２の透過ユニットのそれぞれが複数の凹部を有する場合、複数の凹部の底面同士を仮想的に繋いだ面を第１の基板の第１の面あるいは第２の基板の第２の面とみなす。よって、第１と第２の透過ユニットのそれぞれは、透過部と、第１又は第２の基板とを有するものとみなす。
【００４１】
第１と第２の透過ユニットの製造方法は特に問わない。例えば、Ｘ線の透過率の高い材料で構成される第１又は第２の基板に、Ｘ線透過率の高いフォトレジストを塗布し、パターニングをすることによってフォトレジストからなる透過部を配置することで、第１と第２の透過ユニットを製造することができる。また、Ｘ線の透過率の高い材料で構成される基板に、複数の凹部を形成することで、第１と第２の透過ユニットを製造することができる。この場合、第１又は第２の基板と透過部は同じ材料からなり、一体化しているが、上述のように、複数の凹部の底面同士を仮想的に繋いだ面を第１の面あるいは第２の面とみなし、複数の凹部に挟まれた領域を有する方を透過部とみなす。
【００４２】
本実施形態において、第１と第２の透過ユニットは、第１の透過ユニット１０４の一部と第２の透過ユニットの一部とが１つの凹部（以下、第１と第２の透過ユニットで形成される凹部１３６と呼ぶことがある）を形成するように配置されている。この凹部にも遮蔽部１０８が配置されており、第１と第２の透過ユニットで形成される凹部１３６に配置された遮蔽部１０８が接続領域１０９である。このように、接続領域１０９で第１と第２の透過ユニットが接続されているため温度変化による伸縮により生じる局所的な遮蔽パターンの変化が軽減できる。その他は実施形態１と同様であり、例えば、第１と第２の透過ユニットが接していても、間隙を有して配置されていても良いことは実施形態１と同様である。また、第１と第２の透過ユニットの法線同士が交わるように第１と第２の透過ユニットを配置することで、発散Ｘ線に対応するＸ線遮蔽格子とすることができることも、実施形態１と同様である。加えて、第１と第２の透過部を配置する面は平坦であっても平坦でなくても良いことも、支持部がなくても良いことも、実施形態１と同様である。本実施形態のＸ線遮蔽格子も、透過ユニットの形状は違うが、実施形態１と同様に製造することができるため、詳細は省略する。
【００４３】
以下、本実施形態のより具体的な実施例について、図を用いて説明する。
【実施例１】
【００４４】
実施例１では、図１に示す、第１と第２の透過ユニットが支持基板で接し、接続領域１０９のパターンが接続領域１０９以外のパターンと同じ遮蔽パターンを有するＸ線遮蔽格子とその製造方法について具体的に説明をする。また、Ｘ線遮蔽格子は透過ユニットを４つ（第１〜第４の透過ユニット）備え、透過ユニットのそれぞれにおいて、複数の透過部が２方向に周期を有するように支持基板に配置されている（つまり、Ｘ線遮蔽格子は２次元遮蔽格子である）ものとする。
【００４５】
本実施例では、第１〜第４の透過ユニットを製造する工程と、支持部の平坦な面に第１〜第４の透過ユニットを配置する工程と、遮蔽部１０８を形成する工程とを行うことで、Ｘ線遮蔽格子を製造する。各工程について説明をする。尚、遮蔽部１０８を形成する工程は、支持部に配置された第１〜第４の透過ユニットのうち、透過部が配置されていない領域に金属を配置することで行う。
【００４６】
第１〜第４の透過ユニットは、シリコン基板（シリコンウェハ１）にボッシュプロセスを用いたエッチングを行うことにより製造する。本実施例では、図１に示すように、円柱上の透過部が２方向に周期を有するように支持基板に配置され、遮蔽部がメッシュ状のパターンを有するように配置されている。尚、複数のライン状の透過部が１方向に周期を有するように支持基板に配置されている透過ユニットを用いれば、遮蔽部がラインアンドスペースのパターンを有する１次元遮蔽格子を製造することができる。
【００４７】
光が照射された領域が現像処理で除去されるポジティブフォトレジストを、直径４インチ、厚さ１５０μｍのシリコンウェハ１上に厚さ１．５μｍで塗布する。次に、ピッチ１０μｍ、Ｌ／Ｓ＝１／１、５０００周期（ラインとスペースのペア）で直径５μｍの円形パターンがマトリックス状に配列したフォトマスクを用いて、フォトレジスト層をパターニングする。その後、フォトレジスト層の現像を行い、現像後のフォトレジストパターン２をマスクとして、ボッシュプロセスを用いてシリコンウェハをエッチングする。エッチングは、円形パターンによりマスクされている領域の高さが１００μｍになるまで行う（図９（ａ））。これにより、直径５μｍの円柱状の凸部が第１の基板１０３に周期的に配置される。このように形成された凸部が、第１の透過ユニット１０４の透過部１０７である。
【００４８】
透過部がパターニングされたシリコンウェハに、酸素プラズマによるアッシング処理を行い、フォトレジスト層を除去した後、ダイシングにより凹部とその周辺を矩形に切り出す。切り出す際、凹部の外周の４つの辺のうち、いずれかの接する２辺（つまり、対向する２辺以外の組み合わせ）は、第１の基板１０３の端とその端に最も近い凸部との距離が、凸部の配列方向において２．５μｍ（遮蔽部１０８の幅の１／２）になるように切り出す。この２辺をパターン露出領域とする。残りの２辺は、第１の基板１０３の端とその端に最も近い凸部との距離が１０ｍｍになるように切り出す。残した１０ｍｍの領域は、ハンドリング領域として用いる。同様のプロセスにより、４つの透過ユニットを製造する。
【００４９】
次に、支持部１００の平坦な面に第１〜第４の透過ユニットを配置する。支持部１００としてガラス基板を用い、ガラス基板上にパターン露出領域同士が突き当たるように第１〜第４の透過ユニットを配置し（図９（ｂ）。但し、図中は第１と第２の透過ユニット１０４、１０６のみ記載）、ハンドリング領域で樹脂によりガラス基板に固定する。
【００５０】
次に、遮蔽部１０８を形成する。電気めっきにより、第１〜第４の面の、透過部が配置されていない領域に厚さ１１０μｍの金薄膜を作製する（図９（ｃ））。但し、第３の透過ユニットの透過部が配置されている面を第３の面、第４の透過ユニットの透過部が配置されている面を第４の面とする。この金簿膜が遮蔽部１０８となる。その後、化学的機械的研磨（ＣＭＰ）を用いて、透過部１０７の頭頂部が露出されるまで金簿膜の表面を研磨して平坦化を行うことで、遮蔽格子１２を製造する。尚、本実施例では、シリコンウェハのシリコン露出面を電気めっきのシード層として用いたが、別途、導電性の材料でシード層を設けても良い。その場合、遮蔽部１０８の底面になる領域、つまり、第１〜第４の面のうち、透過部が配置されていない領域にシード層を設けることが好ましい。加えて、透過部の側壁は絶縁層が設けられていることがより好ましい。
【００５１】
遮蔽部１０８を形成した後で、透過部が配置されていない領域に金属が配置された第１と第２の透過ユニットから支持部１００を分離する工程を行っても良い。本実施例において、支持部１００はガラスであり、透過ユニットはシリコンであり、遮蔽部１０８は金である。よって、ガラスを選択的にエッチングすることができるフッ酸に図９（ｃ）のＸ線遮蔽格子を浸すことで、支持部１００を透過ユニットから分離することができる（図９（ｄ））。支持部１００を除去することで、透過部におけるＸ線の減衰を低減することができる。
【００５２】
また、遮蔽部１０８を形成した後で、透過ユニットを遮蔽部１０８から分離する工程を行っても良い。フッ酸により、支持部１００を透過ユニットから分離した後、シリコンを選択的にエッチングすることができる水酸化カリウム水溶液に図９（ｄ）のＸ線遮蔽格子を浸すことで、透過ユニットを遮蔽部１０８から分離することができる（図９（ｅ））。透過ユニット１０４、１０６を除去することで、Ｘ線の不要な減衰を低減することができる。また、透過ユニットを除去する場合は、遮蔽部１０８を金コバルトの合金のように、金簿膜よりも機械的強度が高い簿膜とすることが好ましい。遮蔽部１０８を金コバルトの合金の簿膜で形成するためには、金コバルトの合金メッキ液を用いた電気めっきを行えばよい。金メッキに比べて、メッキ薄膜の機械的強度が増加し、遮蔽部１０８のみでの形状保持が容易になる。また、金簿膜よりも機械強度の高い多層のメッキ薄膜を遮蔽部１０８として用いても良い。例えば、金メッキ後にニッケルメッキを行い、金とニッケルの多層膜を形成すると、金簿膜のみからのある遮蔽部１０８よりも機械強度の高い遮蔽部１０８を形成することができる。
【００５３】
尚、透過ユニットを遮蔽部１０８から分離する場合、支持部１００を透過ユニットから分離する工程と透過ユニットを遮蔽部１０８から分離する工程とを同時に行っても良い。たとえば、支持部１００としてシリコン基板を用い、図９（ｃ）に示したような、遮蔽部１０８と透過ユニットと支持部１００とを備えるＸ線遮蔽格子を水酸化カリウム水溶液に浸せば、２つの工程を同時に行うことができる。
【実施例２】
【００５４】
実施例２では、支持部１００が凸部を有し、この凸部が第１〜第４の透過ユニット同士の間隙に配置されているＸ線遮蔽格子の製造方法について説明をする。本実施例は、支持部１００の構造と第１〜第４の透過ユニットの配置方法が実施例１と異なるが、第１〜第４の透過ユニットの製造方法は実施例１と同じであるため、説明は省略する。
【００５５】
凸部を有する支持部の製造方法について説明をする。凸部を有する支持部１００は、８インチのガラス基板にレジストで凸部を形成することにより製造する。ガラス基板上に厚さ１５０μｍでネガティブレジストを塗布する。次に、基板中央を基準に、直径５０μｍの円形の開口が十字状にピッチ１００μｍで配列したフォトマスクを用いて露光を行う。その後、現像し、直径５０μｍ、高さ１５０μｍの凸部が基板中央から外側にかけて十字状に並んだ支持部１００を作製する。
【００５６】
次に、支持部１００の凸部につき当てるように第１〜第４の透過ユニットを配置し、実施例１と同様に固定する。その後、実施例１と同様に電気めっきとＣＭＰを行い、遮蔽格子１２を製造する。
【実施例３】
【００５７】
実施例３では、階段構造を有する支持部１１８を用いた遮蔽格子１２の製造方法について説明する。本実施例では、支持部１１８の構造が実施例１と異なるが、透過ユニットの構造と製造方法は実施例１と同じであるため、説明は省略する。
【００５８】
階段構造を有する支持部１１８の製造方法について説明する。階段構造を有する支持部１１８は、８インチのガラス基板をエッチングして製造される。ガラス基板上にフォトレジストを塗布する。次に、基板中央で領域を左右に分け、片方を覆うフォトマスクを用いてフォトレジストを露光、現像する。フォトレジストをマスクとしてガラス基板をエッチングし、段差が１００μｍの階段構造を製造する。
【００５９】
次に階段構造下段に第１の透過ユニット１０４を配置し、段差にパターン露出領域をつき当てて固定する。次に、階段構造上段にパターン露出領域が下段側になるように第２の透過ユニット１０６を配置する。このとき、第１の透過ユニット１０４の透過部１０７と第２の透過ユニット１０６の透過部１０７とが連続的（第１の透過部と第２の透過部とのピッチが、１０μｍになるように）になるように顕微鏡で観察しながら第１と第２の透過ユニットの位置を調整し、固定する。また、第３と第４の透過ユニットも、同様に支持部１１８に配置し、固定する。
【００６０】
その後、実施例１と同様に電気めっきとＣＭＰを行い、遮蔽格子１２を製造する。本実施例により、透過ユニットのパターン露出領域の端面の平坦性が低くても、第１〜第４の透過ユニットの透過部を連続的に配置することができる。
【実施例４】
【００６１】
実施例４では、隆起を有する支持部１２０を用いた遮蔽格子１２の製造方法について説明する。本実施例では、支持部１２０の構造が実施例１と異なるが、透過ユニットの構造と製造方法は実施例１と同じであるため、説明は省略する。
【００６２】
隆起を有する支持部１２０の製造方法について説明する。隆起を有する支持部１２０は、８インチのガラス基板にレジストで隆起部を形成することにより製造される。ガラス基板に厚さ１．５ｍｍでネガティブレジストを塗布する。次に、基板中央に９０ｍｍ×１２０ｍｍの矩形の遮光部を有するフォトマスクを用いて露光を行う。その後、現像し、９０ｍｍ×１２０ｍｍの矩形の凹部を有する支持部１２０を製造する。矩形の凹部の周りが、隆起部である。
【００６３】
次に、凹部から各透過ユニットの一部がはみ出すように第１〜第４の透過ユニットを配置し、パターン露出領域が支持部１２０の中央で突き当たるように調整して、固定する。これにより、透過ユニットが傾いて並び、各透過ユニットの支持基板（第１〜第４の基板）のうち、透過部が配置された面から延びる法線が、その面から約１５００ｍｍの位置で交差するように第１〜第４の透過ユニットが配置される。その後、実施例１と同様に電気めっきとＣＭＰを行い、遮蔽格子を製造する。
【実施例５】
【００６４】
本実施例では、透過ユニット同士の間隙に接続領域１０９を形成した後で、接続領域１０９にＸ線透過部を形成する工程を行う遮蔽格子１２の製造方法について説明する。第１〜第４の透過ユニットの構造と製造方法は実施例１と同じであるため、説明は省略する。
【００６５】
支持部１００に第１〜第４の透過ユニットを配置する際に、パターン露出領域同士に間隙１１０が生じるように第１〜第４の透過ユニットを配置して固定する（図１０（ａ））。固定方法については、実施例１と同じなので省略する。
【００６６】
次に実施例１と同様に電気メッキとＣＭＰを行い、遮蔽部１０８を形成する（図１０（ｂ））。
【００６７】
次に、接続領域１０９にＸ線透過部を形成する工程を行う。この工程は、接続領域１０９の一部を除去することで行う。除去方法は特に問わないが、本実施例では、ドリルを用いた切削により接続領域１０９の一部を除去する。ドリルを用いて間隙１１０上に作製された接続領域１０９に直径５０μｍの孔１１９を複数形成する。このとき、孔は間隙１１０に沿って形成する。尚、ドリルの代わりに、レーザーを用いて孔を形成しても良い。レーザー加工を用いる孔の断面形状がテーパー状になるが、加工速度が速い利点がある。
【実施例６】
【００６８】
本実施例では、実施例１の遮蔽格子を分析格子として備えるトールボット干渉計５について説明をする。
【００６９】
本実施例のトールボット干渉計５の模式図を図１３に示す。トールボット干渉計５は、線源格子を備えるトールボット・ラウ干渉計である。トールボット干渉計５は、Ｘ線源３と、Ｘ線源からのＸ線を空間的に分割して仮想的に微小なＸ線源が配列した状態を形成する線源格子４と、線源格子からのＸ線を回折して干渉パターンを形成する回折格子８を備える。更に、干渉パターンを形成するＸ線の一部を遮蔽して、新たにＸ線の強度パターンを形成する分析格子１０として、実施例１の遮蔽格子を備え、分析格子１０からのＸ線の強度分布を検出する検出器１４も備える。更に、トールボット干渉計は、検出器の検出結果を用いて被検体６の情報を算出する演算装置１６と、演算結果を表示する表示部１７と、トールボット干渉システムを構成している。演算装置１６は、プロセッサ、メモリ、記憶装置、入出力装置などを有するコンピュータであり、一部の機能を論理回路などのハードウェアで代替することもできる。また、表示部は、例えばディスプレイ、プリンタである。
【００７０】
尚、トールボット干渉計は、Ｘ線源を備えなくても良い。Ｘ線源を備えないトールボット干渉計で撮像を行う場合、適宜、撮像に適したＸ線源と組み合わせることで撮像を行うことができる。
【００７１】
以上、本発明の好ましい実施形態について説明したが、本発明はこれらの実施形態に限定されず、その要旨の範囲内で種々の変形および変更が可能である。
【符号の説明】
【００７２】
１２  Ｘ線遮蔽格子
１０４  第１の透過ユニット
１０６  第２の透過ユニット
１０８  遮蔽部
１００  支持部
【図１】
2016017815.tif 000003
【図２】
2016017815.tif 000004
【図３】
2016017815.tif 000005
【図４】
2016017815.tif 000006
【図５】
2016017815.tif 000007
【図６】
2016017815.tif 000008
【図７】
2016017815.tif 000009
【図８】
2016017815.tif 000010
【図９】
2016017815.tif 000011
【図１０】
2016017815.tif 000012
【図１１】
2016017815.tif 000013
【図１２】
2016017815.tif 000014
【図１３】
2016017815.tif 000015