(57)【要約】【課題】低コストで、ウエハがＣＶＤ装置用ボートに張り付くことを抑制可能な技術を提供することを目的とする。【解決手段】ＣＶＤ装置用ボート１は、複数のウエハ１０を階層的に載置可能なＣＶＤ装置用ボートである。また、ＣＶＤ装置用ボート１は、複数の支柱３と、複数の支柱３の上下方向に予め定められた間隔ごとに配置され、かつ、ウエハ１０を支持する複数の爪４とを備えている。さらに、複数の爪４の上面に切り欠き部５が形成されている。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のウエハを階層的に載置可能なＣＶＤ装置用ボートであって、
複数の支柱と、
前記複数の支柱の上下方向に予め定められた間隔ごとに配置され、かつ、前記ウエハを支持する複数の爪と、
を備え、
前記複数の爪の上面に切り欠き部が形成される、ＣＶＤ装置用ボート。
【請求項２】
前記切り欠き部は、前記複数の爪の根元部および側部を避けて形成される、請求項１記載のＣＶＤ装置用ボート。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載のＣＶＤ装置用ボートを備える、ＣＶＤ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、半導体製造装置に関し、特に縦型ＬＰ−ＣＶＤ炉のボート形状に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来の縦型ＬＰ-ＣＶＤ炉は、複数のウエハを階層的に載置する、石英またはＳｉＣで形成されたボートを備えている。ウエハの載置構造は、ウエハ径よりも少し大きい円周上に位置する複数の支柱から、階層ごとに同一平面上に突出した爪を備え、ウエハはこの爪の表面（上面）上に載置される。
【０００３】
通常のＣＶＤプロセスでは従来のボート形状で問題はないが、例えば１μｍ（１００００Å）を超えるような厚膜形成のプロセスを処理する際にウエハがボートに張り付く現象が発生する。この場合、ウエハをボートとウエハカセット間で搬送する搬送機が停止したり、場合によってはボートが倒れたりするなどのトラブルが生じることがあった。
【０００４】
この現象を軽減させるため、例えば特許文献１には、ウエハの載置構造においてウエハとの接触部である爪の表面に半円形の突起を設けて、ウエハと爪との接触面積を小さくした構造が開示されている。
【０００５】
また、例えば特許文献２には、四角柱および円錐形など他の形状を有する突起が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平９−１３９３５２号公報
【特許文献２】特開２００９−１６５６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
しかしながら、縦型ＬＰ-ＣＶＤ炉のボートでは、一般的にウエハが載置される２００個程の階層（スリット部）があり、各階層には例えば４個の爪が設けられた構造が採用されている。この場合、ウエハがボートに張り付く現象を解消するためには、特許文献１，２に記載の構造では爪の表面全てに半円形、四角柱または円錐形の突起を設ける必要があるが、特殊な形状を爪に施すことは容易ではなく、加工費用も高額なものとなっていた。
【０００８】
そこで、本発明は、低コストで、ウエハがＣＶＤ装置用ボートに張り付くことを抑制可能な技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係るＣＶＤ装置用ボートは、複数のウエハを階層的に載置可能なＣＶＤ装置用ボートであって、複数の支柱と、前記複数の支柱の上下方向に予め定められた間隔ごとに配置され、かつ、前記ウエハを支持する複数の爪とを備え、前記複数の爪の上面に切り欠き部が形成されるものである。
【００１０】
本発明に係るＣＶＤ装置は、ＣＶＤ装置用ボートを備えるものである。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、ＣＶＤ装置用ボートは、複数の支柱と、複数の支柱の上下方向に予め定められた間隔ごとに配置され、かつ、ウエハを支持する複数の爪とを備え、複数の爪の上面に切り欠き部が形成される。したがって、従来の形状である爪の上面が平坦な場合と比べて、爪とウエハとの接触面積が減少するため、厚膜を成膜する際にウエハがＣＶＤ装置用ボートに張り付くことを抑制できる。さらに、従来の形状に切り欠き部を形成するだけで実現できるため、製造コストを低く抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】実施の形態に係るＣＶＤ装置用ボートの平面図である。
【図２】ＣＶＤ装置用ボートの下部の正面図である。
【図３】爪の平面図である。
【図４】爪の正面図である。
【図５】前提技術に係るＣＶＤ装置用ボートの爪の平面図である。
【図６】前提技術に係るＣＶＤ装置用ボートの爪の正面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
＜実施の形態＞
本発明の実施の形態について、図面を用いて以下に説明する。図１は、実施の形態に係るＣＶＤ装置用ボート１の平面図であり、図２は、ＣＶＤ装置用ボート１の下部の正面図である。なお、図１においては図面を見やすくするために、天板と支柱３を図示していない。
【００１４】
図１と図２に示すように、ＣＶＤ装置用ボート１は、ＣＶＤ装置の反応炉（縦型ＬＰ-ＣＶＤ炉）内に配置され、底板２、複数（図１と図２では例えば４本）の支柱３、天板（図示省略）、および複数の爪４を備えている。
【００１５】
底板２および天板は、楕円形状に形成され、底板２の中央部には脚部６の接続部６ａが設けられている。複数の支柱３は、上下方向に延びるように形成され、底板２と天板とで保持されている。また、複数の支柱３は、互いに底板２および天板の周方向に予め定められた間隔をあけて底板２および天板の周縁部に沿って配置されている。底板２および天板の周縁部には支柱３が配置されていない領域（図１では紙面の上側）があるが、この領域はウエハ１０を出し入れするための領域である。
【００１６】
複数の爪４は、複数のウエハ１０を階層的に載置可能に構成されている。より具体的には、複数の爪４は、複数の支柱３の上下方向に予め定められた間隔ごとにそれぞれ配置され、同じ高さ位置に配置された４つの爪４によってウエハ１０が支持される。これにより、複数のウエハ１０は複数の支柱３の上下方向に階層的に載置される。
【００１７】
次に、爪４の構造について説明する。図３は、爪４の平面図であり、図４は、爪４の正面図である。図３と図４に示すように、爪４は、平面視にて長方形状に形成されており、爪４の先端側の角部には、面取り加工が施されている。爪４の根元部および側部を避けるように切り欠き部５が設けられている。より具体的には、切り欠き部５は、爪４の角部を除いた先端側から爪４の全長の約３分の２の領域に設けられている。ここで、ウエハ１０は爪４の先端側から中央部に渡る領域に載置されるが、切り欠き部５を設けることで、ウエハ１０は爪４の幅方向両端部のみに接触することになり、爪４とウエハ１０との接触面積が減少する。そのため、爪４は、切り欠き部５を設けた状態で４つの爪４によってウエハ１０を支持することが可能な強度を有している。
【００１８】
次に、実施の形態に係るＣＶＤ装置用ボート１およびＣＶＤ装置用ボート１を備えるＣＶＤ装置が奏する効果について、前提技術と対比しながら説明する。図５は、前提技術に係るＣＶＤ装置用ボートの爪１４の平面図であり、図６は、前提技術に係るＣＶＤ装置用ボートの爪１４の正面図である。
【００１９】
図５と図６に示すように、前提技術に係るＣＶＤ装置用ボートの爪１４の上面は平坦に形成されている。そのため、ウエハ１０をＣＶＤ装置用ボートに載置した状態で、爪１４とウエハ１０との接触面積は大きくなり、例えば１μｍ（１００００Å）を超えるような厚膜を成膜した際、ウエハ１０が爪１４に張り付く現象が発生する。この場合、ウエハ１０をＣＶＤ装置用ボートとウエハカセット間で搬送する搬送機が停止したり、場合によってはＣＶＤ装置用ボートが倒れたりするなどのトラブルが生じることがあった。
【００２０】
これに対して、実施の形態に係るＣＶＤ装置用ボート１およびＣＶＤ装置では、複数の支柱３と、複数の支柱３の上下方向に予め定められた間隔ごとに配置され、かつ、ウエハ１０を支持する複数の爪４とを備え、複数の爪４の上面に切り欠き部５が形成される。
【００２１】
したがって、前提技術の場合と比べて、爪４とウエハ１０との接触面積が減少するため、厚膜を成膜する際にウエハ１０がＣＶＤ装置用ボート１の爪４に張り付くことを抑制できる。
【００２２】
その結果、ＣＶＤ装置用ボート１の交換頻度を削減することができ、ＣＶＤ装置用ボート１の洗浄および先行確認などの削減にも繋がり、作業負荷を軽減することが可能となる。また、ウエハ１０をＣＶＤ装置用ボート１とウエハカセット間で搬送する搬送機が停止したり、ＣＶＤ装置用ボート１が倒れたりするなどのトラブルの予防にもなる。以上より、ＣＶＤ装置用ボート１およびＣＶＤ装置の長期使用が可能となるとともに、半導体装置の歩留り向上を図ることが可能となる。
【００２３】
さらに、前提技術の形状に切り欠き部５を形成するだけで実現できるため、加工を簡単に行うことができ、製造コストを低く抑えることができる。
【００２４】
切り欠き部５は、複数の爪４の根元部および側部を避けて形成されるため、爪４の角部に切り欠き部５が形成されることを避けることができ、爪４の強度が低下することを抑制できる。これにより、爪４におけるウエハ１０を支持するために必要な強度を確保することができる。
【００２５】
なお、本発明は、その発明の範囲内において、実施の形態を適宜、変形、省略することが可能である。
【符号の説明】
【００２６】
１  ＣＶＤ装置用ボート、３  支柱、４  爪、５  切り欠き部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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