(57)【要約】【課題】均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造するための方法を提供する。【解決手段】触媒電極の形成に用いられる触媒インクの製造方法であって、触媒担持粒子を溶媒に分散させて触媒分散液を生成する分散液生成工程Ｓ１０と、アイオノマをゲル化してゲル体を生成するゲル化工程Ｓ２０と、触媒分散液とゲル体とを撹拌混合して触媒インクを生成する撹拌混合工程Ｓ３０と、を備える。ゲル化工程Ｓ２０は、アイオノマを含む混合溶液の温度を所定温度まで上昇させつつ混合溶液を撹拌する昇温工程Ｓ２１と、混合溶液の温度を所定温度のまま維持しつつ混合溶液を撹拌する保温工程Ｓ２３と、混合溶液の温度を所定温度から下降させつつ混合溶液を撹拌する冷却工程Ｓ２５と、を有し、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数よりも、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数を小さい値に設定する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
触媒電極の形成に用いられる触媒インクの製造方法であって、
触媒担持粒子を溶媒に分散させて触媒分散液を生成する分散液生成工程と、
アイオノマをゲル化してゲル体を生成するゲル化工程と、
前記触媒分散液と前記ゲル体とを撹拌混合して触媒インクを生成する撹拌混合工程と、を備え、
前記ゲル化工程は、
前記アイオノマを含む混合溶液の温度を所定温度まで上昇させつつ前記混合溶液を撹拌する昇温工程と、
前記混合溶液の温度を所定温度のまま維持しつつ前記混合溶液を撹拌する保温工程と、
前記混合溶液の温度を所定温度から下降させつつ前記混合溶液を撹拌する冷却工程と、を有し、
前記昇温工程及び前記保温工程における撹拌回転数よりも、前記冷却工程における撹拌回転数を小さい値に設定する、触媒インクの製造方法。
【請求項２】
前記昇温工程及び前記保温工程における撹拌回転数を３０ｒｐｍ以上に設定する一方、前記冷却工程における撹拌回転数を３０ｒｐｍ未満に設定する、請求項１に記載の触媒インクの製造方法。
【請求項３】
前記昇温工程及び前記保温工程における撹拌回転数を１００ｒｐｍ以上に設定する、請求項２に記載の触媒インクの製造方法。
【請求項４】
前記冷却工程における撹拌回転数を２０ｒｐｍ以下に設定する、請求項２又は３に記載の触媒インクの製造方法。
【請求項５】
請求項１から４の何れか一項に記載の触媒インクの製造方法で使用される加工装置であって、
アイオノマを含む混合溶液を収容するための容器と、
前記容器に収容された前記混合溶液の温度を調整するための温度調整手段と、
前記容器に収容された前記混合溶液を撹拌するための撹拌手段と、
前記撹拌手段による撹拌回転数を制御する制御手段と、を備え、
前記制御手段は、前記温度調整手段で前記混合溶液の温度を所定温度まで上昇させかつ前記所定温度のまま維持するときの撹拌回転数よりも、前記温度調整手段で前記混合溶液の温度を前記所定温度から下降させるときの撹拌回転数が小さくなるように、前記撹拌手段による撹拌回転数を制御する、加工装置。
【請求項６】
前記制御手段は、前記温度調整手段で前記混合溶液の温度を所定温度まで上昇させかつ前記所定温度のまま維持するときの撹拌回転数を３０ｒｐｍ以上に設定する一方、前記温度調整手段で前記混合溶液の温度を前記所定温度から下降させるときの撹拌回転数を３０ｒｐｍ未満に設定する、請求項５に記載の加工装置。
【請求項７】
前記制御手段は、前記温度調整手段で前記混合溶液の温度を所定温度まで上昇させかつ前記所定温度のまま維持するときの撹拌回転数を１００ｒｐｍ以上に設定する、請求項６に記載の加工装置。
【請求項８】
前記制御手段は、前記温度調整手段で前記混合溶液の温度を前記所定温度から下降させるときの撹拌回転数を２０ｒｐｍ以下に設定する、請求項６又は７に記載の加工装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、触媒インクの製造方法及び加工装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
現在、導電性を有する粒子に触媒を担持させた触媒担持粒子とアイオノマとを溶媒に分散させて触媒インクを生成し、この触媒インクを電解質膜の両面に塗布して乾燥させることにより、燃料電池用の触媒電極を形成する技術が実用化されている。近年においては、アイオノマと揮発性溶媒とを混合してゲル体を生成し、このゲル体と触媒分散液とを撹拌混合することにより、触媒インクの粘度を調整する技術が提案されている（例えば、特許文献１参照）。特許文献１に記載された技術によれば、加熱処理やせん断力の印加により、ゲル体の粘弾性を調整できる、とされている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】国際公開第２０１３／０３１０６０号パンフレット
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかし、特許文献１に記載された技術を採用するだけでは、ゲル化したアイオノマ（ゲル体）について所望の弾性率が得られず、また、弾性率のバラツキが発生するという問題が発生していた。すなわち、ゲル体を増粘させるには、触媒分散液及びゲル体の温度を所定温度まで昇温させた後、その所定温度を一定時間維持し、その後冷却する、というプロセスを経る必要があるが、昇温及び保温時における撹拌回転数が小さい場合にはアイオノマに均一に熱が伝わらず、弾性率にバラツキが発生してしまう。一方、冷却時における撹拌回転数が高い場合には、ゲル体に含まれる絡み合った高分子がせん断力により破壊され、所望の弾性率が得られなくなる（弾性率が低くなる）という問題があった。
【０００５】
本発明は、かかる事情に鑑みてなされたものであり、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造するための方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
前記目的を達成するため、本発明に係る製造方法は、触媒電極の形成に用いられる触媒インクの製造方法であって、触媒担持粒子を溶媒に分散させて触媒分散液を生成する分散液生成工程と、アイオノマをゲル化してゲル体を生成するゲル化工程と、触媒分散液とゲル体とを撹拌混合して触媒インクを生成する撹拌混合工程と、を備え、ゲル化工程は、アイオノマを含む混合溶液の温度を所定温度まで上昇させつつ混合溶液を撹拌する昇温工程と、混合溶液の温度を所定温度のまま維持しつつ混合溶液を撹拌する保温工程と、混合溶液の温度を所定温度から下降させつつ混合溶液を撹拌する冷却工程と、を有し、昇温工程及び保温工程における撹拌回転数よりも、冷却工程における撹拌回転数を小さい値に設定するものである。
【０００７】
かかる方法を採用すると、ゲル化工程の昇温・保温工程における撹拌回転数を比較的大きくすることにより、ゲル体の弾性率のバラツキを抑制して均一性を確保することができる。また、ゲル化工程の冷却工程における撹拌回転数を比較的小さくすることにより、ゲル体の高分子のせん断破壊を抑制して所望の弾性率を確保することができる。この結果、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造することができる。
【０００８】
本発明に係る製造方法において、昇温工程及び保温工程における撹拌回転数を３０ｒｐｍ以上（特に１００ｒｐｍ以上）に設定する一方、冷却工程における撹拌回転数を３０ｒｐｍ未満（特に２０ｒｐｍ以下）に設定することができる。
【０００９】
また、本発明に係る加工装置は、前記製造方法で使用される加工装置であって、アイオノマを含む混合溶液を収容するための容器と、容器に収容された混合溶液の温度を調整するための温度調整手段と、容器に収容された混合溶液を撹拌するための撹拌手段と、撹拌手段による撹拌回転数を制御する制御手段と、を備え、制御手段は、温度調整手段で混合溶液の温度を所定温度まで上昇させかつ所定温度のまま維持するときの撹拌回転数よりも、温度調整手段で混合溶液の温度を所定温度から下降させるときの撹拌回転数が小さくなるように、撹拌手段による撹拌回転数を制御するものである。
【００１０】
かかる構成を採用すると、温度調整手段で混合溶液の温度を所定温度まで上昇させかつ所定温度のまま維持するときの撹拌回転数を比較的大きくすることにより、ゲル体の弾性率のバラツキを抑制して均一性を確保することができる。また、温度調整手段で混合溶液の温度を所定温度から下降させるときの撹拌回転数を比較的小さくすることにより、ゲル体の高分子のせん断破壊を抑制して所望の弾性率を確保することができる。この結果、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造することができる。
【００１１】
本発明に係る製造装置において、温度調整手段で混合溶液の温度を所定温度まで上昇させかつ所定温度のまま維持するときの撹拌回転数を３０ｒｐｍ以上（特に１００ｒｐｍ以上）に設定する一方、温度調整手段で混合溶液の温度を所定温度から下降させるときの撹拌回転数を３０ｒｐｍ未満（特に２０ｒｐｍ以下）に設定する制御手段を採用することができる。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造するための方法を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明の実施形態に係る触媒インクの製造方法で使用される加工装置の構成を説明するための説明図である。
【図２】本発明の実施形態に係る触媒インクの製造方法を説明するためのフローチャートである。
【図３】本発明の実施形態に係る触媒インクの製造方法のゲル化工程を説明するためのフローチャートである。
【図４】本発明の実施形態に係る触媒インクの製造方法のゲル化工程における加工温度及び撹拌回転数の時間履歴を示すタイムチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、各図を参照しながら、本発明の実施形態について説明する。なお、以下の実施形態は、本発明を説明するための例示であり、本発明を本実施形態のみに限定する趣旨ではない。また、本発明は、その要旨を逸脱しない限り、様々な変形が可能である。
【００１５】
最初に、図１を用いて、本発明の実施形態に係る触媒インクの製造方法で使用される加工装置１の構成について説明する。
【００１６】
本実施形態に係る加工装置１は、触媒インクの製造方法におけるゲル化工程Ｓ２０（後述）で使用されるものである。燃料電池用の触媒電極を形成する際には、導電性を有する粒子に触媒を担持させた触媒担持粒子とアイオノマとを溶媒に分散させて触媒インクを生成し、この触媒インクを電解質膜の両面に塗布して乾燥させる、というプロセスを経る。この際、発電に寄与しない部分に触媒インクを塗布しないように間欠塗工を行うが、間欠塗工を行うためには、触媒インクのダレを抑制する必要がある。また、触媒インクが均一でないと、塗工での欠損が生じる。本実施形態に係る加工装置１は、触媒インクのダレを抑制するとともに塗工での欠損を無くすことができるように、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクの製造に寄与するものである。
【００１７】
加工装置１は、図１に示すように、アイオノマと揮発性溶媒とを混合させた混合溶液Ｍを収容するための容器１０と、容器１０に収容された混合溶液Ｍの温度を調整するための温度調整手段２０と、容器１０に収容された混合溶液Ｍを撹拌するための撹拌手段３０と、撹拌手段３０による撹拌回転数を制御する制御手段４０と、を備えている。
【００１８】
容器１０としては、図１に示すような筒状の中空容体を採用することができる。容器１０は、温度調整手段２０による加熱に耐え得る材料（例えば、金属や熱可塑性樹脂等）で構成される。
【００１９】
温度調整手段２０は、容器１０に収容された混合溶液Ｍの温度を調整するためのものである。本実施形態においては、温度調整手段２０として、容器１０を構成する側壁１１の内部に電気ヒータを採用している。電気ヒータの温度は、制御手段４０から送出される制御信号によって制御されるようになっている。また、本実施形態に係る加工装置１は、容器１０に収容された混合溶液Ｍの温度を計測する温度計測手段２１を備えている。温度計測手段２１で計測された温度に関する情報は、制御手段４０に送られて、後述する撹拌回転数の制御に使用される。
【００２０】
撹拌手段３０は、容器１０に収容された混合溶液Ｍを撹拌するためのものである。本実施形態における撹拌手段３０は、容器１０に収容された混合溶液Ｍの内部に挿入される撹拌羽根３１と、撹拌羽根３１を回転させる撹拌モータ３２と、を有している。撹拌モータ３２の回転数（撹拌回転数）は、制御手段４０から送出される制御信号によって制御されるようになっている。
【００２１】
制御手段４０は、温度計測手段２１等から送られた各種情報に基づいて、撹拌手段３０による撹拌回転数を制御するものである。本実施形態における制御手段４０は、温度調整手段２０で混合溶液Ｍの温度を所定温度まで上昇させる昇温工程Ｓ２１（後述）及び混合溶液Ｍの温度を所定温度のまま所定時間維持する保温工程Ｓ２３（後述）における撹拌回転数よりも、温度調整手段２０で混合溶液Ｍの温度を所定温度から下降させる冷却工程Ｓ２５（後述）における撹拌回転数が小さくなるように、撹拌手段３０による撹拌回転数を制御する。具体的には、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数を３０ｒｐｍ以上（好ましくは１００ｒｐｍ以上）に設定する一方、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数を３０ｒｐｍ未満（好ましくは２０ｒｐｍ以下）に設定する。
【００２２】
次に、図２〜図４を用いて、本発明の実施形態に係る触媒インクの製造方法について説明する。図２は、本実施形態に係る触媒インクの製造方法を説明するためのフローチャートである。また、図３及び図４は、本製造方法におけるゲル化工程を説明するためのフローチャート及びタイムチャートである。
【００２３】
まず、図２に示すように、触媒担持粒子を溶媒に分散させて触媒分散液を生成する（分散液生成工程：Ｓ１０）。触媒担持粒子は、燃料電池反応を促進するための触媒（例えば白金（Ｐｔ）等）を導電性粒子に担持させたもの（例えば白金担持カーボン）である。触媒担持粒子を分散させる溶媒としては、水、有機溶媒、水溶性溶媒等を採用することができる。なお、溶媒には、触媒担持粒子の分散を促進させるための界面活性剤を添加してもよい。
【００２４】
分散液生成工程Ｓ１０と並行して（又は分散液生成工程Ｓ１０に次いで）、イオン伝導性を有するポリマーであるアイオノマをゲル化してゲル体を生成する（ゲル化工程：Ｓ２０）。アイオノマとしては、例えばパーフロロスルホン酸等を採用することができる。本実施形態においては、アイオノマと揮発性溶媒（例えばアルコール溶液等）と水とを混合させた混合溶液Ｍに以下の処理を施すことにより、所望の弾性率を有するゲル体を生成する。
【００２５】
ここで、図３及び図４を用いて、ゲル化工程Ｓ２０で混合溶液Ｍに施す処理について説明する。
【００２６】
ゲル化工程Ｓ２０では、まず、アイオノマと揮発性溶媒とを混合させた混合溶液Ｍを加工装置１の容器１０（図１）に収容し、加工装置１の制御手段４０により温度調整手段（電気ヒータ）２０を作動させて、容器１０に収容された混合容器Ｍの温度を上昇させる（昇温工程：Ｓ２１）。また、加工装置１の制御手段４０は、昇温工程Ｓ２１において、温度調整手段２０を作動させると同時に撹拌手段３０を作動させて、撹拌モータ３２の回転数（撹拌回転数）を比較的大きい値（例えば１００ｒｐｍ）に設定する。
【００２７】
次いで、加工装置１の制御手段４０は、温度計測手段２１で計測された混合溶液Ｍの温度が所定温度ＴPに到達したか否かを判定し（第一温度判定工程：Ｓ２２）、混合溶液Ｍの温度が所定温度ＴPに到達していないものと判定した場合には、昇温工程Ｓ２１を続行させる。一方、制御手段４０は、第一温度判定工程Ｓ２２において、混合溶液Ｍの温度が所定温度ＴPに到達したものと判定した場合には、温度調整手段２０を制御して、混合溶液Ｍの温度を所定温度のまま維持する（保温工程：Ｓ２３）。加工装置１の制御手段４０は、保温工程Ｓ２３において、温度調整手段２０を制御するとともに撹拌手段３０を制御して、撹拌モータ３２の回転数（撹拌回転数）を比較的大きい値（例えば１００ｒｐｍ）のまま維持する。
【００２８】
次いで、加工装置１の制御手段４０は、混合溶液Ｍの温度が所定温度ＴPに到達してから所定時間ｔpが経過したか否かを判定し（経時判定工程：Ｓ２４）、所定時間ｔpが経過していないものと判定した場合には、保温工程Ｓ２３を続行する。一方、制御手段４０は、経時判定工程Ｓ２４において、混合溶液Ｍの温度が所定温度ＴPに到達してから所定時間ｔpが経過したものと判定した場合には、温度調整手段２０による加熱を停止させて、混合溶液Ｍを自然冷却させる（冷却工程：Ｓ２５）。加工装置１の制御手段４０は、冷却工程Ｓ２５において、撹拌手段３０を制御して、撹拌モータ３２の回転数（撹拌回転数）を昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数よりも小さい値（例えば２０ｒｐｍ）に設定する。
【００２９】
次いで、加工装置１の制御手段４０は、温度計測手段２１で計測された混合溶液Ｍの温度が目標温度ＴAに到達したか否かを判定し（第二温度判定工程：Ｓ２６）、混合溶液Ｍの温度が目標温度ＴAに到達していないものと判定した場合には、冷却工程Ｓ２５を続行する。一方、制御手段４０は、第二温度判定工程Ｓ２６において、混合溶液Ｍの温度が目標温度ＴAに到達したものと判定した場合には、撹拌手段３０を停止させて、ゲル化処理を終了する。
【００３０】
図２に戻り、分散液生成工程Ｓ１０で生成した触媒分散液と、ゲル化工程Ｓ２０で生成したゲル体と、を撹拌混合して触媒インクを生成する（撹拌混合工程：Ｓ３０）。撹拌混合工程Ｓ３０で混合される触媒分散液とゲル体との質量比は、例えば１：１に設定することができる。このように生成した触媒インクは、均一でかつ所望の弾性率を有するものとなる。
【００３１】
以上説明した実施形態に係る触媒インクの製造方法においては、ゲル化工程２０の昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数を比較的大きくすることにより、ゲル体の弾性率のバラツキを抑制して均一性を確保することができる。また、ゲル化工程Ｓ２０の冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数を比較的小さくすることにより、ゲル体の高分子のせん断破壊を抑制して所望の弾性率を確保することができる。この結果、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造することができる。
【００３２】
また、以上説明した実施形態に係る製造方法で使用される加工装置１は、温度調整手段２０で混合溶液Ｍの温度を所定温度まで上昇させかつ所定温度のまま維持するときの撹拌回転数を比較的大きくすることにより、ゲル体の弾性率のバラツキを抑制して均一性を確保することができる。また、温度調整手段２０で混合溶液Ｍの温度を所定温度から下降させるときの撹拌回転数を比較的小さくすることにより、ゲル体の高分子のせん断破壊を抑制して所望の弾性率を確保することができる。この結果、均一でかつ所望の弾性率を有する触媒インクを製造することができる。
【００３３】
なお、以上の実施形態においては、ゲル化工程Ｓ２０の冷却工程Ｓ２５において、温度調整手段２０（電気ヒータ）による加熱を停止させて混合溶液Ｍを自然冷却させた例を示したが、混合溶液Ｍを積極的に冷却させることができる温度調整手段を用いて混合溶液Ｍを強制的に冷却してもよい。
【００３４】
また、以上の実施形態においては、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数を１００ｒｐｍに設定する一方、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数を２０ｒｐｍに設定した例を示したが、撹拌回転数の値はこれらに限定されるものではなく、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数よりも冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数が小さくなっていればよい。
【００３５】
但し、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数は、３０ｒｐｍ以上とすることが好ましい。昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数を３０ｒｐｍ未満とすると、容器１０の中心付近における混合溶液Ｍの弾性率と、容器１０の内壁付近における混合溶液Ｍの弾性率と、の差が大きくなる（すなわち不均一となる）ため好ましくない。一方、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数は、３０ｒｐｍ未満とすることが好ましい。冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数を３０ｒｐｍ以上とすると、生成されるゲル体の弾性率が実用化に適しない程度に低くなる（例えば１００Ｐａを下回る）場合があるため好ましくない。
【００３６】
＜実施例＞
ここで、表１を用いて、本発明の実施例について説明する。本実施例においては、加工装置１の温度調整装置２０として、ユラボ社製のサーキュレータを採用した。また、第一温度判定工程Ｓ２２における判定で用いられる所定温度を「８５℃」に設定し、サーキュレータで昇温された混合溶液Ｍの温度が「８５℃」に到達した場合には、その温度を所定時間維持することとした。
【００３７】
本実施例においては、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数を「１２０ｒｐｍ」に設定する一方、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数を「１５ｒｐｍ」に設定した。これに対し、比較例１においては、昇温工程Ｓ２１、保温工程Ｓ２３及び冷却工程Ｓ２５の全てにおいて撹拌回転数を「１０ｒｐｍ」（一定）に設定した。比較例２においては、昇温工程Ｓ２１、保温工程Ｓ２３及び冷却工程Ｓ２５の全てにおいて撹拌回転数を「１５ｒｐｍ」（一定）に設定し、比較例３においては、昇温工程Ｓ２１、保温工程Ｓ２３及び冷却工程Ｓ２５の全てにおいて撹拌回転数を「３０ｒｐｍ」（一定）に設定した。
【００３８】
本実施例及び各比較例において、容器１０の中心付近におけるゲル体の弾性率（中心付近弾性率）と、容器１０の内壁付近におけるゲル体の弾性率（内壁付近弾性率）と、を実測した。そして、中心付近弾性率の理論統計上計算される値（計算値）を算出し、中心付近弾性率の実測値と計算値の差を算出した。また、内壁付近弾性率と中心付近弾性率の差を算出した。以下の表１は、各実測値及び各計算値をまとめたものである。
【００３９】
【表１】
2016085918.tif 000003
【００４０】
表１を見ると明らかなように、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数が比較的小さい（３０ｒｐｍ未満の）比較例１及び比較例２では、内壁付近弾性率と中心付近弾性率の差とが「７１Ｐａ」、「８４．９Ｐａ」と比較的大きくなっており、生成されるゲル体の弾性率が不均一となっていることがわかる。これに対し、昇温工程Ｓ２１及び保温工程Ｓ２３における撹拌回転数が比較的大きい（３０ｒｐｍ以上の）本実施例では、内壁付近弾性率と中心付近弾性率の差とが「２３．２Ｐａ」と比較的小さくなっており、生成されるゲル体の弾性率が均一になっていることがわかる。
【００４１】
また、表１を見ると明らかなように、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数が比較的大きい（３０ｒｐｍ）比較例３では、中心付近弾性率の実測値と計算値の差とが「−２７８．０Ｐａ」ときわめて大きくなっており、実際にはゲル体の中心付近弾性率が低い値（２０２Ｐａ）となっている。これに対し、冷却工程Ｓ２５における撹拌回転数が比較的小さい（３０ｒｐｍ未満の）本実施例では、中心付近弾性率の実測値と計算値の差とが「−３０．７Ｐａ」と比較的小さくなっており、実用に耐え得る程度（２４０Ｐａ以上）の弾性率が確保されていることがわかる。
【００４２】
すなわち、本実施例で生成されるゲル体は、弾性率が比較的均一でかつ実用に耐え得る値となっている。
【００４３】
本発明は、以上の実施形態に限定されるものではなく、この実施形態に当業者が適宜設計変更を加えたものも、本発明の特徴を備えている限り、本発明の範囲に包含される。すなわち、前記実施形態が備える各要素及びその配置、材料、条件、形状、サイズ等は、例示したものに限定されるわけではなく適宜変更することができる。また、前記実施形態が備える各要素は、技術的に可能な限りにおいて組み合わせることができ、これらを組み合わせたものも本発明の特徴を含む限り本発明の範囲に包含される。
【符号の説明】
【００４４】
１…加工装置
１０…容器
２０…温度調整手段
３０…撹拌手段
４０…制御手段
Ｍ…混合溶液
Ｓ１０…分散液生成工程
Ｓ２０…ゲル化工程
Ｓ２１…昇温工程
Ｓ２３…保温工程
Ｓ２５…冷却工程
Ｓ３０…撹拌混合工程
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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