(57)【要約】【課題】  改良された溶接法を提供する。【解決手段】  本明細書に記載された本発明は一般的に、（ａ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌからなる群から選択され、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を包含する、少なくとも１つの金属窒化物形成剤においてさらに、Ａｌが少なくとも１つの金属窒化物形成剤中に存在しないときＬｉ化合物が代用される金属窒化物形成剤または（ｂ）Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属からなる群から選択され、（ａ）および（ｂ）の組合せを包含する、０．２５〜１０部の間の少なくとも１つの有孔性減少剤をフッ化石灰系スラグを含む電極組成物に添加する工程によって、有効に低減されるシールドガス流量に関連して推奨されるよりも長いコンタクト−ワークピース間距離を使用する溶接分野の改良された方法に関する。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｍＬ／１００ｇ溶着物で測定された時に拡散性水素が４．０以下であるフラックス入り被覆Ｔ５電極から製造された溶接ビードの有孔性を前記Ｔ５電極を使用して減少させる方法において、
（ａ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌからなる群から選択され、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を包含する、少なくとも１つの金属窒化物形成剤においてさらに、Ａｌが前記少なくとも１つの金属窒化物形成剤中に存在しないときＬｉ化合物が代用される金属窒化物形成剤、または
（ｂ）Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属
からなる群から選択され、（ａ）および（ｂ）の組合せを包含する、０．２５〜１０部の間の少なくとも１つの有孔性減少剤をフッ化石灰系スラグを含む電極組成物に添加する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記Ｌｉ化合物がＬｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択されることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法において、前記Ｌｉ化合物がＬｉＦであることを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１に記載の方法において、前記少なくとも１つの窒化物形成剤の前記金属合金がＡｌ／Ｚｒ粉末合金およびＣａ／Ｓｉ／Ｂａ粉末合金を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１に記載の方法において、前記少なくとも１つの希土類金属が、セリウムおよびランタンからなる群から選択されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１に記載の方法において、前記フラックス入り被覆Ｔ５電極が、
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を含むことを特徴とする方法。
【請求項７】
電極から得られる溶接部の拡散性水素が４．０ｍＬ以下／１００ｇ溶着物であり、少なくとも１つの有孔性減少剤を含み、フッ化石灰系スラグを形成するフラックス入り被覆電極において、前記少なくとも１つの有孔性減少剤が、
（ａ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌからなる群から選択され、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を包含する、少なくとも１つの金属窒化物形成剤においてさらに、Ａｌが前記少なくとも１つの金属窒化物形成剤中に存在しないときＬｉ化合物が代用される金属窒化物形成剤、または
（ｂ）Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属
からなる群から選択され、（ａ）および（ｂ）の組合せを包含することを特徴とするフラックス入り被覆電極。
【請求項８】
請求項７に記載のフラックス入り被覆電極において、前記Ｌｉ化合物が、Ｌｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択されるとを特徴とするフラックス入り被覆電極。
【請求項９】
請求項８に記載のフラックス入り被覆電極において、前記Ｌｉ化合物がＬｉＦであることを特徴とするフラックス入り被覆電極。
【請求項１０】
請求項７に記載のフラックス入り被覆電極において、前記少なくとも１つの窒化物形成剤の前記金属合金がＡｌ／Ｚｒ粉末合金およびＣａ／Ｓｉ／Ｂａ粉末合金を含むことを特徴とするフラックス入り被覆電極。
【請求項１１】
請求項７に記載のフラックス入り被覆電極において、前記少なくとも１つの希土類金属が、ランタンおよびセリウムからなる群から選択されることを特徴とするフラックス入り被覆電極。
【請求項１２】
ｍＬ／１００ｇ溶着物で測定された時に拡散性水素が４．０以下であるフラックス入り被覆Ｔ５電極から製造された溶接ビードの有孔性を前記Ｔ５電極を使用して減少させる方法において、
Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属を含む０．２５〜１０部の間の少なくとも１つの有孔性減少剤をフッ化石灰系スラグを含む電極組成物に添加する工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項１３】
請求項１２に記載の方法において、前記フラックス入り被覆電極が、Ｌｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択されるＬｉ化合物をさらに含むことを特徴とする方法。
【請求項１４】
請求項１３に記載の方法において、前記Ｌｉ化合物がＬｉＦであることを特徴とする方法。
【請求項１５】
請求項１３に記載の方法において、前記少なくとも１つの希土類金属が、セリウムおよびランタンからなる群から選択されることを特徴とする方法。
【請求項１６】
電極から得られる溶接部の拡散性水素が４．０ｍＬ以下／１００ｇ溶着物であり、少なくとも１つの有孔性減少剤を含み、フッ化石灰系スラグを形成するフラックス入り被覆電極において、前記少なくとも１つの有孔性減少剤がＬａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属を含むことを特徴とする、フラックス入り被覆電極。
【請求項１７】
請求項１６に記載のフラックス入り被覆電極において、Ｌｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択されるＬｉ化合物をさらに含むことを特徴とする、フラックス入り被覆電極。
【請求項１８】
請求項１７に記載のフラックス入り被覆電極において、前記Ｌｉ化合物がＬｉＦであることを特徴とする、フラックス入り被覆電極。
【請求項１９】
請求項１７に記載のフラックス入り被覆電極において、前記少なくとも１つの希土類金属が、ランタンおよびセリウムからなる群から選択されることを特徴とする、フラックス入り被覆電極。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本明細書に記載される本発明は一般的に、シールドガス流量の低減に関連して推奨されるよりも長いコンタクト−ワークピース間距離を使用して溶接するための改良された方法および同方法を達成するための溶接組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
推奨される距離と比較して過度のコンタクト−ワークピース間距離（ｃｏｎｔａｃｔ−ｔｏ−ｗｏｒｋ−ｄｉｓｔａｎｃｅ）（「ＣＴＷＤ」）を使用して（例えば、推奨される距離が例えば、１と８分の３インチである時に２．５インチもの値）および過度の電圧（例えば、３６ボルトもの値）および（乱流のためにシールドガス量が有効に低下されるという結果になる）推奨されるよりも高いシールドガス量を使用して大断面板を溶接および接合するとき、上記の全てが、Ｔ５溶接電極を使用するときに溶接ビードの内部有孔性をもたらす。
【０００３】
何れか一つの理論または作業方式にとらわれることがなければ、この有孔性の原因の少なくとも１つは溶融した溶接パドル中の過度の窒素であると考えられる。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】ＡＷＳ  Ａ５．２０／Ａ５．２０Ｍ（２００５）
【発明の概要】
【０００５】
本発明に従って、（ａ）少なくとも１つの金属窒化物形成剤または（ｂ）少なくとも１つの希土類化合物からなる群から選択される少なくとも１つの有孔性減少剤を電極組成物に添加する工程を含む、フラックス入り被覆電極を使用して推奨されるコンタクト−ワークピース距離の範囲外で製造される溶接ビードの有孔性を低減する方法が提供され、前述の「または」は選言的な意味において使用されならびに（ａ）および（ｂ）の組合せ、前述の「および」は連言的な意味において使用される。
【０００６】
本発明の一態様において、少なくとも１つの金属窒化物形成剤は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌからなる群から選択され、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を包含する。
【０００７】
本発明の別の態様において、少なくとも１つの窒化物形成剤の金属合金が、Ａｌ／Ｚｒ粉末合金（５０／５０）およびＣａ／Ｓｉ／Ｂａ粉末合金（４〜１９％のＣａ／４５〜６５％のＳｉ／８〜１８％のＢａ／最大９％のＦｅ／最大１％のＡｌ）を含む。
【０００８】
本発明のさらに別の態様において、希土類金属の添加は窒化特性を改良することにさらに留意されたい。この適用において使用されるとき、しばしばケイ化物または酸化物の形態の希土類金属には、周期表の１７の化学元素のセット、具体的には１５のランタニド：Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、ＹｂおよびＬｕ；ならびにＳｃおよびＹが含まれる。スカンジウムおよびイットリウムは、ランタニドと同じ鉱床に存在する傾向があり同様な化学的性質を示す傾向があるので稀土類元素であると考えられる。それらの名称にもかかわらず、稀土類元素は−放射性プロメチウムを例外として−地殻に比較的豊富である。それらは、本質的に一緒に存在する傾向があり、互いに分離するのが難しい。しかしながら、それらの地球化学的性質のために、稀土類元素は典型的に、経済的に利用できる鉱床中に分散され、時たま希土類鉱物として濃縮されて発見される。
【０００９】
本発明のさらなる態様において、表Ｉに示されるようにＨ４拡散性水素レベルを満たすＴ５フラックス入り被覆電極用の電極組成物が提供される。この適用において使用されるとき、Ｔ５という名称を有する電極組成物はＣＯ２シールドガスと共に使用されるが、電極をＣＯ２とＡｒのブレンドと共に使用してスパッタを低減してもよい。この適用において使用されるとき、これらの電極はフッ化石灰系スラグ（ＣａＦ２）を有するということにさらに留意されたい。
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【００１０】
（ａ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌからなる群から選択され、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を包含する、少なくとも１つの金属窒化物形成剤においてさらに、Ａｌが少なくとも１つの金属窒化物形成剤中に存在しないときＬｉ化合物が代用される金属窒化物形成剤、または（ｂ）Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属からなる群から選択され、（ａ）および（ｂ）の組合せを包含する、０．２５〜１０部の間の少なくとも１つの有孔性減少剤をフッ化石灰系スラグを含む電極組成物に添加する工程を含む、ｍＬ／１００ｇ溶着物で測定された時に拡散性水素が４．０以下であるフラックス入り被覆Ｔ５電極から製造された、推奨されるコンタクト−ワークピース距離の範囲外で製造される溶接ビードの有孔性をＴ５電極を使用して低減する方法が本明細書に記載される。
【００１１】
上記の方法において、Ｌｉ化合物は、Ｌｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択され、好ましくはＬｉＦである。方法において、少なくとも１つの窒化物形成剤の金属合金には、Ａｌ／Ｚｒ粉末合金およびＣａ／Ｓｉ／Ｂａ粉末合金などが含まれる。本発明の一態様において、特許請求の範囲の方法は、セリウムおよびランタンからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属の添加を包含する。
【００１２】
構成において、電極から得られる溶接部の拡散性水素が４．０ｍＬ以下／１００ｇ溶着物であり、少なくとも１つの有孔性減少剤を含み、フッ化石灰系スラグを形成するフラックス入り被覆電極であって、少なくとも１つの有孔性減少剤が、（ａ）Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌからなる群から選択され、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を包含する、少なくとも１つの金属窒化物形成剤においてさらに、Ａｌが少なくとも１つの金属窒化物形成剤中に存在しないときＬｉ化合物が代用される金属窒化物形成剤、または（ｂ）Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属からなる群から選択され、（ａ）および（ｂ）の組合せを包含する。
【００１３】
Ｌｉ化合物が、Ｌｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択され、好ましくはＬｉＦである。少なくとも１つの窒化物形成剤の金属合金には、Ａｌ／Ｚｒ粉末合金およびＣａ／Ｓｉ／Ｂａ粉末合金などが含まれる。少なくとも１つの希土類金属は好ましくは、ランタンおよびセリウムからなる群から選択される。
【００１４】
本発明の別の態様において、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属を含む０．２５〜１０部の間の少なくとも１つの有孔性減少剤をフッ化石灰系スラグを含む電極組成物に添加する工程を含む、ｍＬ／１００ｇ溶着物で測定された時に拡散性水素が４．０以下であるフラックス入り被覆Ｔ５電極から製造された、推奨されるコンタクト−ワークピース距離の範囲外で製造される溶接ビードの有孔性をＴ５電極を使用して減少させる方法が記載される。
【００１５】
方法においてフラックス入り被覆電極は、Ｌｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択されるＬｉ化合物、好ましくはＬｉＦをさらに含有する。少なくとも１つの希土類金属は好ましくは、セリウムおよびランタンからなる群から選択される。
【００１６】
本発明のさらに別の態様において、電極から得られる溶接部の拡散性水素が４．０ｍＬ以下／１００ｇ溶着物であり、少なくとも１つの有孔性減少剤を含み、フッ化石灰系スラグを形成するフラックス入り被覆電極が記載され、そこで少なくとも１つの有孔性減少剤が、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、ＳｃおよびＹからなる群から選択される少なくとも１つの希土類金属を含有する。
【００１７】
Ｌｉ化合物は典型的にＬｉ２ＣＯ３およびＬｉＦからなる群から選択され、好ましくはＬｉＦであるが、他方、少なくとも１つの希土類金属は、ランタンおよびセリウムからなる群から選択される。
【００１８】
本発明のこれらおよびその他の目的は、図面、詳細な説明および添付した特許請求の範囲を考慮に入れて検討されるとき明らかであろう。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１は、異なった電極を使用してワンパス溶接からとられる窒素のグラフであり、溶接ビードは端溶接ビードの端から２インチに穿孔され、使用される溶接条件は、ＣＴＷＤ＝２．５インチ、ワイヤ送り速度（「ＷＦＳ」）＝３００ｉｐｍ、電圧＝３６ｖ、移動速度＝１１．９ｉｐｍ、アンペア数＝約４５０ａｍｐｓ、ＣＯ２ガス流量３５ＣＦＨ、およびワイヤ直径３／３２インチであった。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
本特許出願の出願時に出願人に公知の最良の方式を示す目的のために本発明を実施するための最良の方式がここで説明される。実施例および図は例示のためにすぎずそして本発明を制限することを意図せず、それは特許請求の範囲および趣旨によって判断される。
【００２１】
文脈がはっきりと他に指示しない限り：「および（ａｎｄ）」という語は連言的な意味を示し、「または（ｏｒ）」という語は選言的な意味を示し、項目が選言的に表現され、その後に、「または両方」または「それらの組合せ」という語が続くとき、連言的な意味および選言的な意味の両方が意図される。
【００２２】
溶融した溶接パドルの有孔性は多くの要因によって生じさせられる場合があり、それらの少なくとも１つには、過度の窒素の存在が含まれる。窒素レベルを低減させる一つの方法は、溶融状態で窒素を組み合わせることである。これは、少なくとも１つの金属窒化物形成剤の添加、例えば、金属Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌ、ならびにそれらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金の添加によってまたは少なくとも１つの希土類鉱物の添加、または両方の添加によって行なわれる。窒化物形成剤は、溶液中の有効窒素と結合し、スラグ中に流れ出る。溶接が終わった後に固溶体中に若干の窒化物が存在している場合がある。本発明の組成物を使用することによって、溶接金属の窒素の量は、標準Ｌｉｎｃｏｌｎ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｃｏｍｐａｎｙ  ＵｌｔｒａＣｏｒｅ（登録商標）７５Ｃフラックス入り電極製品と比較した時に２５〜５５％低減することができた。電極中にＡｌが存在しないとき、炭酸リチウム（Ｌｉ２ＣＯ３）およびフッ化リチウム（ＬｉＦ）を代用することができるが、Ｌｉ２ＣＯ３は水を吸収し、溶接金属の水素含有量を増加させる傾向があり、このため、それは好ましくないことに留意されたい。
【００２３】
ＬｉＦの添加は、溶接アークのボールトランスファーのサイズに影響を与えるように思われ、或る場合には、ボールをより球状にし、アークプラズマに対して付加的なシールドを与えるが、それは有孔性を低下させるという結果をさらにもたらす場合がある。
【００２４】
Ｌｉｎｃｏｌｎ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃの  ＵｌｔｒａＣｏｒｅ（登録商標）７５Ｃは、Ｈ４拡散性水素レベルを達成する下向きおよび横向きの高溶着用に設計されたＴ５溶接電極である。それは典型的に、高級なアーク性能およびビード外観のためにシールドガスとして１００％のＣＯ２を使用する溶接のために使用される。４０〜５５の間のＣＦＨの流量が推奨される。
【００２５】
この適用において使用されるとき、Ｔ５溶接電極は、表ＩＩに示されるようにＨ４拡散性水素レベルを満たすＴ５フラックス入り被覆電極を包含する。この適用において使用されるとき、Ｔ５という名称を有する電極組成物は、ＣＯ２シールドガスと共に使用されるが、電極をＣＯ２とＡｒのブレンドと共に使用してスパッタを低減してもよい。この適用において使用されるとき、これらの電極はフッ化石灰系スラグ（ＣａＦ２）を有するということにもさらに留意されたい。
【００２６】
さらに、この適用において使用されるとき、形成される石灰系スラグまたはＣａＦ２は好ましくは、スラグ系の約８０％を占める。
【００２７】
この適用において使用されるとき、用語「約」は、特記される場合を除き、表記値の１０％の範囲内である。
【００２８】
Ｌｉｎｃｏｌｎ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  ＵｌｔｒａＣｏｒｅ（登録商標）７５Ｃ溶接電極は典型的に、インチおよび括弧内のｍｍ単位の両方で記載される以下のワイヤ直径で販売されている：１／１６インチ（１．６）、５／６４インチ（２．０）および３／３２インチ（２．４）。（非特許文献１）によって必要とされる機械的性質が以下の表ＩＩに示される。
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【００２９】
ＡＷＳ  Ａ５．２０／Ａ５．２０Ｍ（２００５）によって必要とされる溶着組成物が表ＩＩＩに示される。
2016209931.tif 000004
【００３０】
下向きおよび横向き溶接姿勢のための典型的な作業手順は、以下の表ＩＶの通りである。
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【００３１】
一組の比較例が実施され（表Ｖを参照）、図１に示されるように減少した有孔性を示すために部分組が試験された。
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【００３２】
上の表において、（Ｓ）は、Ｌｉｎｃｏｌｎ  Ｅｌｅｃｔｒｉｃ  Ｃｏｍｐａｎｙによって販売される標準Ｔ５溶接電極を表わし、少なくとも実施例（１）〜（４）は有孔性の減少を示す。実施例（７）〜（１３）は、有孔性の減少を同様に示すことが予想される。実施例（５）および（６）は、標準Ｔ５フラックス入り被覆溶接電極に等しい機能を果たした。図１に示されるように、表ＩＶに示される推奨される仕様外で溶接するとき、有孔性は不合格であった。
【００３３】
図１において、試料１〜４は、標準Ｔ５電極（Ｓ）よりも良く機能し、同様に比較試験組成物５〜６よりも良かった、それらの組成物は表ＩＶに記載され、今までの最良の組成物は標準Ｔ５電極（Ｓ）と比較した時に溶接金属中の窒素の５２％の減少を示す。試料７〜１３は、標準電極（Ｓ）よりも良く機能することが予想される。
【００３４】
金属窒化物形成剤を含有することによって、例えば、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｃａ、ＢａおよびＡｌの少なくとも１つの金属、それらの金属合金または特定された金属の少なくとも１つを混合する合金を含む、を標準組成物  ＵｌｔｒａＣｏｒｅ（登録商標）７５Ｃフラックス入り電極中に添加することによって、標準  ＵｌｔｒａＣｏｒｅ（登録商標）７５Ｃフラックス入り電極製品と比較した時に、少なくとも部分的には窒素に起因する有孔性の約２５〜５５％の減少をもたらした。ＵｌｔｒａＣｏｒｅ（登録商標）７５Ｃフラックス入り電極は表ＶＩの説明文に示される有孔性試験に合格しないことに留意されたい。電極中にＡｌが存在しないとき、炭酸リチウム（Ｌｉ２ＣＯ３）およびフッ化リチウム（ＬｉＦ）を代用することができる。さらなる一連の実験結果を表ＶＩに示す。
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【００３５】
さらなる一連の実験を表ＶＩＩに記載し、希土類ケイ化物および酸化物を含む希土類金属の含有物を示す。
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【００３６】
希土類ケイ化物の特定の一つの分析において、表ＩＸに示すように以下の組成が実験的に定量された。
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【００３７】
少なくとも１つの希土類ケイ化物および／または少なくとも１つの希土類酸化物、好ましくはそれらの組合せを含有することによって、表ＶＩＩに示されるように最終溶接生成物の特性が改良されると考えられる。
【００３８】
その時に出願人に公知である最良の方式を示す目的で本発明を実施するための最良の方式が説明された。実施例は例示のためにすぎず、そして本発明を制限することを意図せず、それは特許請求の範囲の範囲および趣旨によって判断される。本発明は、好ましいおよび別の実施形態を参照して説明された。明らかに、本明細書を読んで理解する時に改良形態および変更形態は思い浮かぶであろう。全てのこのような改良形態および変更形態が添付した特許請求の範囲の範囲またはその等価物の範囲内にある限りにおいて、それらを包含することが意図される。
【図１】
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【外国語明細書】
2016209931000001.pdf