(57)【要約】【課題】柱状スペーサに起因する光漏れを起こさず、輝度を低下させることなく色バランスを取ることができる液晶表示装置を実現する。【解決手段】赤画素（Ｒ）と青画素（Ｂ）と緑画素（Ｇ）が並列して形成されている。第１の基板には、第１の柱状スペーサ１０と第２の柱状スペーサ２０が形成され、通常状態における第１の基板と第２の基板の間隔は、第１の柱状スペーサ１０によって規定されている。第１の柱状スペーサ１０に対応する遮光膜の径は第２の柱状スペーサ２０に対応する遮光膜の径よりも大きい。第１の柱状スペーサ１０は、緑画素（Ｇ）と、赤画素（Ｒ）あるいは青画素（Ｂ）画素の境界には形成されておらず、第２の柱状スペーサ２０は、画素の色に区別なく、画素の境界に形成されている。これによって、輝度を低下させずに、色バランスを容易にとることができる。【選択図】図３
2016080797.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
配向膜を有する第１の基板と配向膜を有する第２の基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記配向膜は光配向処理され、
前記第１の基板と前記第２の基板との間には、第１のスペーサと、前記液晶の中における高さが前記第１のスペーサよりも低い第２のスペーサとが形成され、前記第２のスペーサの数は、前記第１のスペーサの数よりも多く、
前記第１の基板には、赤カラーフィルタを有する赤画素（Ｒ）、緑カラーフィルタを有する緑画素（Ｇ）、青カラーフィルタを有する青画素（Ｂ）が並列に配置され、
前記第１のスペーサは、前記赤画素（Ｒ）と前記青画素（Ｂ）との境界に存在しており、
前記第２のスペーサは、前記緑画素（Ｇ）と前記赤画素（Ｒ）との境界、前記青画素（Ｂ）と前記緑画素（Ｇ）との境界、前記赤画素（Ｒ）と前記青画素（Ｂ）との境界の何れかに存在していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記第１のスペーサと前記第２のスペーサとは、前記第１の基板に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第２のスペーサの数は、前記第１のスペーサの数の１０倍以上であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記液晶表示装置は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置であることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
配向膜を有する第１の基板と配向膜を有する第２の基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、
前記配向膜は光配向処理され、
前記第１の基板と前記第２の基板のいずれか一方には、第１のスペーサと、前記液晶の中における高さが前記第１のスペーサよりも低い第２のスペーサとが形成され、前記第２のスペーサの数は、前記第１のスペーサの数よりも多く、
前記第１の基板には、赤カラーフィルタを有する赤画素（Ｒ）、緑カラーフィルタを有する緑画素（Ｇ）、青カラーフィルタを有する青画素（Ｂ）が並列に配置され、
前記第１のスペーサは、前記緑画素（Ｇ）と前記青画素（Ｂ）の境界および前記緑画素（Ｇ）と前記赤画素（Ｒ）との境界には存在せず、
前記第２のスペーサは、前記緑画素（Ｇ）と前記赤画素（Ｒ）の境界、前記青画素（Ｂ）と前記緑画素（Ｇ）の境界、前記赤画素（Ｒ）と前記青画素（Ｂ）の境界に存在していることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項６】
前記第１のスペーサと前記第２のスペーサとは、前記第１の基板に形成されていることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記第２のスペーサの数は、前記第１のスペーサの数の１０倍以上であることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記液晶表示装置は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置であることを特徴とする請求項５乃至７のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は，液晶表示装置に係り，特に白バランスに優れ、表示むらの無い、ＩＰＳ方式の液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して、対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板との間に液晶が挟持されている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
液晶表示装置をはじめとする表示領域は、白色の色温度は、用途毎に、また、セットメーカー毎に決められ、要求された白色温度にあうように、赤画素（Ｒ）、緑画素（Ｇ）、青画素（Ｂ）の透過率を制御することが行われる。
【０００４】
特許文献１には、所定の色温度を得るために、赤画素（Ｒ）、緑画素（Ｇ）、青画素（Ｂ）毎に画素内における遮光パターンを変化させる構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−１７６１９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ＴＦＴ基板と対向基板との距離を規定するために、対向基板に柱状スペーサを形成する方法が用いられている。一方、液晶表示装置が完成したあと、動作中に対向基板に外圧が加わるとギャップが変動し、表示不良を生ずる。これを防止するために通常状態でＴＦＴ基板と対向基板の間隔を規定する第１の柱状スペーサの他に、対向基板等に圧力が加わった場合にＴＦＴ基板に接触する第２の柱状スペーサを形成し、この第２の柱状スペーサによって押し圧力に対抗する技術が存在している。
【０００７】
ＴＦＴ基板と対向基板において、液晶と接する面には、液晶を初期配向させるための配向膜が形成されている。液晶を初期配向させるために、従来は、布のようなもので、配向膜の表面を擦る、いわゆるラビング法が用いられてきた。ラビング法の場合、柱状スペーサが存在すると、柱状スペーサの影になった部分はラビングされないため、光漏れの原因になる。この光漏れ部分は、彗星の尾のような形状なので、尾引きとも呼ばれる。
【０００８】
人間の眼の感度（以後視感度という）は、色毎に異なり、特に緑色に対して感度が大きい。緑画素（Ｇ）において、このような光漏れが生ずると目立つので、従来は、柱状スペーサは緑画素（Ｇ）には形成しないようにしていた。
【０００９】
柱状スペーサの部分では、液晶の配向が乱れるので、遮光する必要がある。したがって、緑画素（Ｇ）に柱状スペーサが存在しない場合は、緑画素（Ｇ）には柱状スペーサに対応する遮光領域が存在しないので、緑画素（Ｇ）の透過率が他の画素の透過率よりも大きくなり、白色の色バランスが崩れることになる。
【００１０】
したがって、従来は、緑画素（Ｇ）の透過率を故意に低下させることが行われてきた。そうすると、液晶表示装置全体としての透過率が減少し、輝度が低下することになる。つまり、従来は、白色色温度の調整に制約があったために、画面の輝度を犠牲にしてきた。
【００１１】
本発明の課題は、白色色温度の調整（以後色バランスの調整とも言う）の自由度を広げ、画面の輝度を大きくすることができる液晶表示装置を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明は上記課題を克服するものであり、主な手段は次のとおりである。
【００１３】
（１）配向膜を有する第１の基板と配向膜を有する第２の基板との間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記配向膜は光配向処理され、前記第１の基板と前記第２の基板との間には、第１のスペーサと、前記液晶の中における高さが前記第１のスペーサよりも低い第２のスペーサとが形成され、前記第２のスペーサの数は、前記第１のスペーサの数よりも多く、前記第１の基板には、赤カラーフィルタを有する赤画素（Ｒ）、緑カラーフィルタを有する緑画素（Ｇ）、青カラーフィルタを有する青画素（Ｂ）が並列に配置され、前記第１のスペーサは、前記赤画素（Ｒ）と前記青画素（Ｂ）との境界に存在しており、前記第２のスペーサは、前記緑画素（Ｇ）と前記赤画素（Ｒ）との境界、前記青画素（Ｂ）と前記緑画素（Ｇ）との境界、前記赤画素（Ｒ）と前記青画素（Ｂ）との境界の何れかに存在していることを特徴とする液晶表示装置。
【００１４】
（２）配向膜を有する第１の基板と配向膜を有する第２の基板の間に液晶が挟持された液晶表示装置であって、前記配向膜は光配向処理され、前記第１の基板と前記第２の基板のいずれか一方には、第１の柱状スペーサと第２の柱状スペーサが形成され、前記第２の柱状スペーサの数は、前記第１の柱状スペーサの数よりも多く、前記第１の柱状スペーサは、通常状態では、対向する基板に接しており、前記第２の柱状スペーサは、通常状態では、前記対向する基板には接しておらず、前記第１の基板には、赤カラーフィルタを有する赤画素（Ｒ）、緑カラーフィルタを有する緑画素（Ｇ）、青カラーフィルタを有する青画素（Ｂ）が並列に配置され、前記第１の柱状スペーサは、前記緑画素（Ｇ）と前記青画素（Ｂ）の境界および前記緑画素（Ｇ）と前記赤画素（Ｒ）との境界には存在せず、前記第２の柱状スペーサは、前記緑画素（Ｇ）と前記赤画素（Ｒ）の境界、前記青画素（Ｂ）と前記緑画素（Ｇ）の境界、前記赤画素（Ｒ）と前記青画素（Ｂ）の境界に存在していることを特徴とする液晶表示装置。
【００１５】
（３）前記第１の柱状スペーサと前記第２の柱状スペーサは、前記第１の基板に形成されていることを特徴とする（１）又は（２）に記載の液晶表示装置。
【００１６】
（４）前記第２の柱状スペーサの数は、前記第１の柱状スペーサの数の１０倍以上であることを特徴とする（１）又は（２）に記載の液晶表示装置。
【００１７】
（５）前記液晶表示装置は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置であることを特徴とする（１）乃至（４）のいずれかに記載の液晶表示装置。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】ＩＰＳ方式の液晶表示装置の断面図である。
【図２】柱状スペーサ付近を示す断面模式図である。
【図３】本発明を示す平面図である。
【図４】比較例を示す平面図である。
【図５】比較例における問題点を示す平面図である。
【図６】他の比較例を示す平面図である。
【図７】他の比較例における問題点を示す平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
液晶表示装置は、視野角特性が問題であるが、ＩＰＳ（Ｉｎ  Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｃｈｉｎｇ）方式は、液晶分子を基板と平行な方向に回転させることによって画素の透過率を制御するので、優れた視野角特性を有している。液晶を初期配向させるための配向膜の配向方法は、先に述べたラビングの他に、例えば偏光紫外線を用いて配向膜に１軸異方性を付与する、光配向という手段がある。ＩＰＳ方式は、液晶分子に対するプレティルトが必要ないので、光配向に適している。
【００２０】
光配向を用いれば、ラビング法におけるラビング影の影響による光漏れは無いので、柱状スペーサを緑画素（Ｇ）にも配置することができる。したがって、色バランスを調整する自由度が大きくなる。
【００２１】
図１は、本発明が適用されるＩＰＳ方式の液晶表示装置の画素部の断面図である。図１において、ガラス基板１００の上にＳｉＮからなる第１下地膜１０１およびＳｉＯ２からなる第２下地膜１０２がＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）によって形成される。第１下地膜１０１および第２下地膜１０２の役割はガラス基板１００からの不純物が半導体層１０３を汚染することを防止することである。
【００２２】
第２下地膜１０２の上には半導体層１０３が形成される。この半導体層１０３は第２下地膜１０２の上にＣＶＤによってａ−Ｓｉ膜を形成し、これをレーザアニールすることによってｐｏｌｙ−Ｓｉ膜に変換したものである。このｐｏｌｙ−Ｓｉ膜をフォトリソグラフィによってパターニングする。
【００２３】
半導体層１０３の上にはゲート絶縁膜１０４が形成される。このゲート絶縁膜１０４はＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）によるＳｉＯ２膜である。この膜もＣＶＤによって形成される。その上にゲート電極１０５が形成される。ゲート電極１０５は図２に示す走査線１０が兼ねている。ゲート電極１０５は例えば、ＭｏＷ膜によって形成される。ゲート電極１０５の抵抗を小さくする必要があるときはＡｌ合金が使用される。
【００２４】
ゲート電極１０５はフォトリソグラフィによってパターニングされるが、このパターニングの際に、イオンインプランテーションによって、リンあるいはボロン等の不純物をｐｏｌｙ−Ｓｉ層にドープしてｐｏｌｙ−Ｓｉ層にソースＳおよびドレインＤを形成する。また、ゲート電極１０５のパターニングの際のフォトレジストを利用して、ｐｏｌｙ−Ｓｉ層のチャネル層と、ソースＳあるいはドレインＤとの間にＬＤＤ（Ｌｉｇｈｔｌｙ  Ｄｏｐｅｄ  Ｄｒａｉｎ）層を形成する。
【００２５】
その後、ゲート電極１０５を覆って第１層間絶縁膜１０６をＳｉＯ２によって形成する。第１層間絶縁膜１０６はゲート配線１０５とコンタクト電極１０７を絶縁するためである。第１層間絶縁膜１０６およびゲート絶縁膜１０４には、半導体層１０３のソース部Ｓをコンタクト電極１０７と接続するためのコンタクトホール１２０が形成される。第１層間絶縁膜１０６とゲート絶縁膜１０４にコンタクトホール１２０を形成するためのフォトリソグラフィは同時に行われる。
【００２６】
第１層間絶縁膜１０６の上にコンタクト電極１０７が形成される。コンタクト電極１０７は、コンタクトホール１３０を介して画素電極１１２と接続する。ＴＦＴのドレインＤは、コンタクト電極と同層で同時に形成される映像信号線と接続している。
【００２７】
コンタクト電極１０７および映像信号線（以後コンタクト電極１０７で代表させる）は、抵抗を小さくするために、例えば、ＡｌＳｉ合金が使用される。ＡｌＳｉ合金はヒロックを発生したり、Ａｌが他の層に拡散したりするので、例えば、ＭｏＷによるバリア層、およびキャップ層によってＡｌＳｉをサンドイッチする構造がとられている。
【００２８】
コンタクト電極１０７を覆って無機パッシベーション膜（絶縁膜）１０８を形成し、ＴＦＴ全体を保護する。無機パッシベーション膜１０８は第１下地膜１０１と同様にＣＶＤによって形成される。無機パッシベーション膜１０８を覆って有機パッシベーション膜１０９が形成される。有機パッシベーション膜１０９は感光性のアクリル樹脂で形成される。有機パッシベーション膜１０９は、アクリル樹脂の他、シリコーン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂等でも形成することが出来る。有機パッシベーション膜１０９は平坦化膜としての役割を持っているので、厚く形成される。有機パッシベーション膜１０９の膜厚は１乃至４μｍであるが、多くの場合は２乃至３μｍ程度である。
【００２９】
画素電極１１０とコンタクト電極１０７との導通を取るために、無機パッシベーション膜１０８および有機パッシベーション膜１０９にコンタクトホール１３０が形成される。有機パッシベーション膜１０９は感光性の樹脂を使用している。感光性の樹脂を塗付後、この樹脂を露光すると、光が当たった部分のみが特定の現像液に溶解する。すなわち、感光性樹脂を用いることによって、フォトレジストの形成を省略することが出来る。有機パッシベーション膜１０９にコンタクトホール１３０を形成したあと、２３０℃程度で有機パッシベーション膜を焼成することによって有機パッシベーション膜１０９が完成する。
【００３０】
その後コモン電極１１０となるＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）をスパッタリングによって形成し、コンタクトホール１３０およびその周辺からＩＴＯを除去するようにパターニングする。コモン電極１１０は各画素共通に平面状に形成することが出来る。その後、第２層間絶縁膜１１１となるＳｉＮをＣＶＤによって全面に形成する。その後、コンタクトホール１３０内において、コンタクト電極１０７と画素電極１１２の導通をとるためのコンタクトホールを第２層間絶縁膜１１１および無機パッシベーション膜１０８に形成する。
【００３１】
その後、ＩＴＯをスパッタリングによって形成し、パターニングして画素電極１１２を形成する。画素電極１１２の上に配向膜材料をフレキソ印刷あるいはインクジェット等によって塗布し、焼成して配向膜１１３を形成する。配向膜１１３の配向処理には偏光紫外線の照射等による光配向が用いられる。
【００３２】
画素電極１１２とコモン電極１１０の間に電圧が印加されると図１に示すような電気力線が発生する。この電界によって液晶分子３０１を回転させ、液晶層３００を通過する光の量を画素毎に制御することによって画像を形成する。
【００３３】
図１において、液晶層３００を挟んで対向基板２００が配置されている。対向基板２００には、カラーフィルタ２０１が形成されている。カラーフィルタ２０１は画素毎に、赤カラーフィルタ２０１Ｒ、緑カラーフィルタ２０１Ｇ、青カラーフィルタ２０１Ｂが形成されており、これによってカラー画像が形成される。カラーフィルタ２０１とカラーフィルタ２０１との間にはブラックマトリクス２０２が形成されている。なお、ブラックマトリクス２０２は、後で述べる柱状スペーサの部分における光漏れを防止する役割等を有している。
【００３４】
カラーフィルタ２０１およびブラックマトリクス２０２を覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。カラーフィルタ２０１およびブラックマトリクス２０２の表面は凹凸となっているために、オーバーコート膜２０３によって表面を平らにしている。
【００３５】
オーバーコート膜の上にはＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定するための柱状スペーサ１０が形成されている。柱状スペーサ１０は、通常状態でＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定する第１の柱状スペーサ１０と、対向基板２００に押し圧力が加わった場合に、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔が過度に小さくならないようにするための第２柱状スペーサ２０とがあるが、図１では、第１柱状スペーサ１０のみ記載している。
【００３６】
オーバーコート膜２０３の上には、液晶の初期配向を決めるための配向膜１１３が形成される。配向膜１１３は、柱状スペーサ１０にも形成されるが、レベリング効果によって、柱状スペーサ１０の上の配向膜１１３の厚さは非常に薄くなっている。配向膜１１３の配向処理はＴＦＴ基板１００側の配向膜１１３と同様、光配向処理が用いられる。柱状スペーサ１０の周辺は液晶の配向が乱れるので、光漏れを防止するために、対応する部分の対向基板２００にブラックマトリクス２０２が形成されている。以下に実施例を用いて本発明を詳細に説明する。
【実施例１】
【００３７】
図２は液晶表示装置において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定する柱状スペーサ付近の断面図である。図２の対向基板２００側には、カラーフィルタ２０１とブラックマトリクス２０２が形成され、これを覆ってオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３の上には、第１の柱状スペーサ１０とそれよりも高さが低い第２の柱状スペーサ２０が形成されている。第２柱状スペーサは０．３乃至０．５μｍ程度第１柱状スペーサより高さが低くなっている。したがって、通常状態では、第２の柱状スペーサ２０は、ＴＦＴ基板１００側に接していない。
【００３８】
図２において、ＴＦＴ基板１００側の詳細構造は省略されている。ＴＦＴ基板１００側には、柱状スペーサと接する部分には、台座が形成されることもあるが、図１および図２ではこの台座は省略されている。図２は、通常状態の断面図であり、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔は、第１の柱状スペーサ１０によって規定されている。つまり、液晶層中における第１の柱状スペーサの高さは液晶層中における第２の柱状スペーサの高さよりも高い。
【００３９】
図２において、第１の柱状スペーサ１０および第２の柱状スペーサ２０の周辺は液晶の配向が乱れ、光漏れが生ずるので、これを防止するために対向基板２００にブラックマトリクス２０１が形成されている。外部から例えば、対向基板２００に押し圧力が加わると、第１柱状スペーサ１０が変形し、第２柱状スペーサ２０がＴＦＴ基板１００に接触し、外部の押し圧力に対抗して、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を維持する。
【００４０】
外部から押し圧力が加わると、第１柱状スペーサ１０が変形するので、その分、液晶の配向乱れによる光漏れが大きくなる。したがって、第１柱状スペーサ１０に対応するブラックマトリクス２０２の径φ１は第２柱状スペーサ２０に対応するブラックマトリクス２０２の径φ２よりも大きくなっている。つまり、透過率に対する影響は、単一の柱状スペーサに限れば、第１柱状スペーサ１０のほうが第２柱状スペーサ２０よりも大きい。
【００４１】
図３は、本発明における対向基板２００側の平面図である。図３において、赤画素（Ｒ）、緑画素（Ｇ）、青画素（Ｂ）に対応して赤カラーフィルタ、緑カラーフィルタ、青カラーフィルタが形成されている、カラーフィルタ２０１とカラーフィルタ２０１の間にはブラックマトリクス２０２が形成されている。
【００４２】
図３において、各画素のコーナーの境界部に柱状スペーサが形成され、これに対応してブラックマトリクス２０２が形成されている。第２柱状スペーサ２０は外部からの押し圧力に対応する必要があるので、第１柱状スペーサ１０よりも数が多く形成されている。第２の柱状スペーサ２０の数は、第１の柱状スペーサ１０の数の１０倍以上である。また、第１柱状スペーサ１０は、外部から押し圧力が加わった場合に大きく変形するので、対応するブラックマトリクス２０２の径は第２柱状スペーサ２０に対応するブラックマトリクス２０２の径よりも大きい。図３では、第1の柱状スペーサ１０として示されている以外のスペーサは全て第２の柱状スペーサである。
【００４３】
図３では、第２柱状スペーサ２０は赤画素（Ｒ）と緑画素（Ｇ）との境界には存在していないが、赤画素（Ｒ）と緑画素（Ｇ）との境界に存在していてもよい。図３の特徴は、第２柱状スペーサ２０は緑画素（Ｇ）と青画素（Ｂ）との境界、赤画素（Ｒ）と青画素（Ｂ）との境界、あるいは、緑画素（Ｇ）と赤画素（Ｒ）との境界にも存在するが、第１柱状スペーサ１０は、赤画素（Ｒ）と青画素（Ｂ）との境界のみに存在しており、緑画素（Ｇ）と赤画素（Ｒ）と、あるいは、緑画素（Ｇ）と青画素（Ｂ）との境界には存在していないことである。
【００４４】
第１柱状スペーサ１０は、数が少ないので、第２柱状スペーサ２０よりも大きなピッチで形成され、かつ、サイズも大きい。そのため、対応するブラックマトリクス２０２の径も大きい。第１柱状スペーサ１０が緑画素（Ｇ）に係って形成されている場合、人間の緑色に対する視感度は大きいので、後で説明するように、特殊な表示パターンの場合は、第１の柱状スペーサ１０に対応する緑画素（Ｇ）の境界に存在するブラックマトリクス２０２の存在によって、スジむらが生ずることがある。人間の視感度は、赤色あるいは青色に対しては、緑色に対してよりも小さいので、赤画素（Ｒ）あるいは青画素（Ｂ）に対しては、第１柱状スペーサの影響によるこのようなスジむらが認識され難い。
【００４５】
図４および図５は、緑画素（Ｇ）の境界に第１柱状スペーサ１０を配置した場合の問題点の例を示す図である。図４は、対向基板２００の平面図である。赤カラーフィルタ、緑カラーフィルタ、青カラーフィルタがストライプ状に縦方向に延在している。図４において、大きなドットは第１柱状スペーサ１０に対応するブラックマトリクス２０２であり、小さなドットは、第２柱状スペーサ２０に対応するブラックマトリクス２０２である。
【００４６】
図４の画面は、ＲＧＢの画素セットが横方向に１３個、縦方向に８個配列したものの繰り返しで形成されている。図４において、画素セットは横方向にはｘ１乃至ｘ１３であり、縦方向には、ｙ１乃至ｙ８となっている。図４において、第２柱状スペーサ２０は、緑画素（Ｇ）と青画素（Ｂ）の境界に形成され、第１柱状スペーサ１０は、横方向、縦方向とも、４画素セット毎に緑画素（Ｇ）と青画素（Ｂ）の境界に形成されている。
【００４７】
図４の画面において、縦方向に延在する白色パターンと黒色パターンを１画素セット毎に表示する画像信号を入力したとする。図５は、この場合の各画素の透過の状態を示すものである。図５において、１画素セット毎に縦方向に白パターンと黒パターンが形成されている。図５において、ハッチングをほどこした部分が黒パターンであり、ＲＧＢと表示されている部分が白パターンである。
【００４８】
図５において、左半分の画面の白パターンには、第１柱状スペーサ１０に対応するブラックマトリクス２０２が形成されているが、右半分の画面の白パターンには、第１柱状スペーサ１０に対応するブラックマトリクス２０２は形成されていない。第１柱状スペーサ１０に対応するブラックマトリクス２０２の面積は、第２柱状スペーサ２０に対応するブラックマトリクス２０２の面積に比べて大きいので、左半分の画面のほうが暗くなる。したがって、１３個の画素セットおきに明るいパターンと暗いパターンが繰り返されることになる。つまり、画像は、映像信号を忠実に再現しないことになる。
【００４９】
図４および図５は一例であるが、緑色に対する視感度が大きいので、このようなパターンが目立つが、他の色において、このような現象が出ても目立ちにくい。したがって、本発明は、緑画素（Ｇ）には、第１柱状スペーサ１０を配置しないようにして、このような明暗のパターンの発生を抑えている。言い換えると、本発明では、第１柱状スペーサに対応する面積の広いブラックマトリクスを緑画素（Ｇ）には配置しない。
【００５０】
一方、緑画素（Ｇ）の境界に第１柱状スペーサ１０を配置しない場合、緑画素（Ｇ）の透過率が他の画素に比べて大きくなる。この様子を図６に示す。そうすると、色バランスを取るために、図７に示すように、緑画素（Ｇ）に対して遮光パターン２０２１を形成する必要が生ずる。図７では、色バランスを取るために、緑画素（Ｇ）には比較的大きな遮光パターンである開口部調整領域２０２１を、青画素（Ｂ）画素には比較的小さな遮光パターンでる開口部調整領域２０２１を形成し、赤画素（Ｒ）には遮光パターンを形成しない例である。しかし、図７の方法は、画面全体としては透過率を下げることになる。
【００５１】
画面全体としては、透過率を低下させないようにするために、本発明では、図３に示すように、第２柱状スペーサ２０に対応する遮光パターン２０２を用いて色バランスを取っている。つまり、第２柱状スペーサ２０の数は第１柱状スペーサ１０の数の１０倍以上であり、第２柱状スペーサ２０を配置する自由度は大きいので、色バランスをとるように、第２柱状スペーサ２０を配置することは容易である。
【００５２】
従来例のように、配向膜１１３をラビング処理していた場合は、柱状スペーサの影によってラビングされない部分が生ずることに起因する尾引き状の光漏れが、第１柱状スペーサ、第２柱状スペーサの両方に生じていた。つまり、従来例においては、第１柱状スペーサ１０も第２柱状スペーサ２０も緑画素（Ｇ）には配置することができなかった。したがって、色バランスを取るためには、特に緑画素（Ｇ）に対する遮光領域２０２１を大きくとる必要があり、画面輝度を大きく下げる原因になっていた。
【００５３】
これに対して、本発明では、第２柱状スペーサ２０は緑画素（Ｇ）にも配置することができるので、色バランスを取るための緑画素（Ｇ）に対する遮光パターン２０２１を形成する必要が無いか、形成する場合でも僅かな面積ですむ。すなわち、本発明では、色バランスは第２柱状スペーサ２０の配置方法によって取ることができるからである。
【００５４】
図３において、緑画素（Ｇ）と青画素（Ｂ）の境界に第２柱状スペーサ２０が存在しないが、遮光領域２０２１が形成されている部分がある。これは従来における開口部調整領域２０２１に対応する。しかしこれは、第２柱状スペーサ２０の配置のみで色バランスが十分にとれない場合の手段であって、むしろ、例外的な場合である。つまり、このような遮光パターン２０２１を形成するのは、ごく一部の領域で十分であり、全体としては、色バランスは第２柱状スペーサ２０に対応するブラックマトリクス２０２の配置によってとることができる。したがって、画面の透過率はほとんど低下しない。
【００５５】
以上のように、本発明によれば、色バランスをとりつつ、画面の輝度の大きい液晶表示装置を実現することができる。
【００５６】
以上の説明では、ＩＰＳ方式の液晶表示装置を例にとって説明したが、光配向を用いる液晶表示装置であれば、ＩＰＳ方式以外の液晶表示装置についても本発明を適用することができる。また、以上の説明では、第１の柱状スペーサと第２の柱状スペーサは対向基板側に形成されているが、これに限らず、第１の柱状スペーサと第２の柱状スペーサはＴＦＴ基板側に形成された場合でも、本発明を適用することができる。カラーフィルタについては、ＴＦＴ基板側に設けることも可能である。また、柱状スペーサとして円形のスペーサを例示しているが、これに限ったものでなく、断面形状が多角形や楕円であってもよい。また、楕円や長方形のスペーサを一方の基板に設け、前記楕円や長方形と所定の角度ずらせた楕円や長方形のスペーサを他方の基板に設けるものであってもよい。尚、所定の高さにおける第１のスペーサの断面積が所定の高さにおける第２のスペーサの断面積よりも大きくてもよいが、断面積が同じであり、高さが異なるだけであってもよい。また、ＲＧＢの画素以外に白画素を青画素と赤画素との間に設けるような構成であっても本願発明を適用することは可能である。
【符号の説明】
【００５７】
１０…第１柱状スペーサ、  ２０…第２柱状スペーサ、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…第１下地膜、  １０２…第２下地膜、  １０３…半導体層、  １０４…ゲート絶縁膜、  １０５…ゲート電極、  １０６…第１層間絶縁膜、  １０７…コンタクト電極、  １０８…無機パッシベーション膜、  １０９…有機パッシベーション膜、  １１０…コモン電極、  １１１…第２層間絶縁膜、  １１２…画素電極、  １１３…配向膜、  １２０…第１スルーホール、  １３０…第２スルーホール、  ２００…対向基板、  ２０１…カラーフィルタ、  ２０２…ブラックマトリクス、  ２０３…オーバーコート膜、  ３００…液晶層、  ３０１…液晶分子、  ２０２１…開口部調整領域、  Ｄ…ドレイン部、Ｓ…ソース部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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