(57)【要約】      （修正有）【課題】簡易な構成で、様々なケースに対応可能な汎用性の高い模様を表示するパターン照射装置およびシステムを提供する。【解決手段】パターン照射装置２０は、コヒーレントな光を出射する発光部３１と、発光部３１から出射された光を透過または反射した光が入射され、入射された光を透過または反射する透過拡散板３３と、透過拡散板３３を透過または反射した光が入射され、入射された光を透過または反射する画像形成部３５と、画像形成部３５を透過または反射した光が入射され、入射された光を拡大して投影面に照射する照射光学系３６とを備え、透過拡散板３３は、入射した光のスポットよりも小さいピッチの凹凸が形成され、ランダムな輝度分布の第１模様を投影面に表示させ、画像形成部３５は、ランダムなマスクパターンが描かれ、第１模様とは異なる空間周波数のランダムな輝度分布の第２模様を投影面に表示させる。【選択図】図２
2016080535.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
コヒーレントな光を出射する発光部と、
前記発光部から出射された光を透過または反射した光が入射され、入射された光を透過または反射する第１板と、
前記第１板を透過または反射した光が入射され、入射された光を透過または反射する第２板と、
前記第２板を透過または反射した光が入射され、入射された光を拡大して投影面に照射する照射光学系と、
を備え、
前記第１板は、入射した光のスポットよりも小さいピッチの凹凸が形成され、ランダムな輝度分布の第１模様を前記投影面に表示させ、
前記第２板は、ランダムなマスクパターンが描かれ、前記第１模様とは異なる空間周波数のランダムな輝度分布の第２模様を前記投影面に表示させる
パターン照射装置。
【請求項２】
光の波長をλ、前記照射光学系の対物レンズを通過する光束径をＬ、前記照射光学系の前記対物レンズから前記投影面までの光路長をｚ、前記照射光学系の倍率をβとした場合、前記第２板は、最小パターンのサイズＭが下記の式を満たす前記マスクパターンが描かれている
Ｍ≠（λ×ｚ）／（Ｌ×β）
請求項１に記載のパターン照射装置。
【請求項３】
前記第２板は、前記第１模様に含まれるパターンより大きいサイズのパターンを含む前記第２模様を前記投影面に表示させる
請求項１または２に記載のパターン照射装置。
【請求項４】
前記発光部は、コヒーレントな光を出射する複数の光源を有する
請求項１から３の何れか１項に記載のパターン照射装置。
【請求項５】
前記第１板は、拡散板である
請求項１から４の何れか１項に記載のパターン照射装置。
【請求項６】
前記第２板は、フォトマスクである
請求項１から５の何れか１項に記載のパターン照射装置。
【請求項７】
第１タイミングにおいて、前記複数の光源のうちの一部の光源を発光させ、前記第１タイミングとは異なる第２タイミングにおいて、前記第１タイミングで発光させた光源とは異なる組み合わせの一部の光源を発光させる発光制御部
をさらに備える請求項１から６の何れか１項に記載のパターン照射装置。
【請求項８】
請求項１から６の何れか１項に記載のパターン照射装置と、
前記パターン照射装置により光が照射された対象物までの距離を測定する三次元測定装置と、
を備えるシステム。
【請求項９】
前記パターン照射装置は、第１タイミングにおいて、前記複数の光源のうちの一部の光源を発光させ、前記第１タイミングとは異なる第２タイミングにおいて、前記第１タイミングで発光させた光源とは異なる組み合わせの一部の光源を発光させる発光制御部をさらに備え、
前記三次元測定装置は、前記第１タイミングおよび前記第２タイミングのそれぞれにおいて、前記対象物までの距離を測定する
請求項８に記載のシステム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、パターン照射装置およびシステムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、トレイに積載された対象物（ワーク）をロボットを用いてハンドリングして、対象物を次工程の装置へと搬送したり、対象物を用いて製品を組み立てたりするシステムが知られている。このようなシステムでは、三次元測定装置によりトレイ上の対象物の距離を測定し、測定結果に基づき対象物の位置および姿勢を認識してハンドリングをする。また、このようなシステムでは、パターン照射装置によりトレイ上の対象物にランダム模様の光を照射して、三次元測定装置による距離測定の精度を向上させる（例えば、特許文献１）。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００３】
ところで、パターン照射装置は、トレイに積載された対象物の形状、サイズおよび表面の光沢等に応じて対象物に照射する模様を変化させなければならなかった。このため、パターン照射装置は、ランダム模様を変化させるための機構および制御部等を備えなければならなく、構成が複雑となってしまっていた。
【０００４】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであって、簡易な構成で、様々なケースに対応可能な汎用性の高いランダム模様を表示することができるパターン照射装置およびシステムを提供すること目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
上述した課題を解決し、目的を達成するために、本発明に係るパターン照射装置は、コヒーレントな光を出射する発光部と、前記発光部から出射された光を透過または反射した光が入射され、入射された光を透過または反射する第１板と、前記第１板を透過または反射した光が入射され、入射された光を透過または反射する第２板と、前記第２板を透過または反射した光が入射され、入射された光を拡大して投影面に照射する照射光学系と、を備え、前記第１板は、入射した光のスポットよりも小さいピッチの凹凸が形成され、ランダムな輝度分布の第１模様を前記投影面に表示させ、前記第２板は、ランダムなマスクパターンが描かれ、前記第１模様とは異なる空間周波数のランダムな輝度分布の第２模様を前記投影面に表示させる。
【発明の効果】
【０００６】
本発明によれば、簡易な構成で、様々なケースに対応可能な汎用性の高い模様を表示することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】図１は、第１実施形態に係るハンドリングシステムを示す図である。
【図２】図２は、第１実施形態に係るパターン照射装置の構成を示す図である。
【図３】図３は、第１実施形態に係るパターン照射装置の一部分の斜視図である。
【図４】図４は、透過拡散板、画像形成部および照射光学系の配置を模式的に示す図である。
【図５】図５は、第１模様の一例を示す図である。
【図６】図６は、第２模様の一例を示す図である。
【図７】図７は、第１模様と第２模様とを合成した模様の一例を示す図である。
【図８】図８は、第２実施形態に係るパターン照射装置の構成を示す図である。
【図９】図９は、第３実施形態に係るパターン照射装置の構成を示す図である。
【図１０】図１０は、第３実施形態に係る発光部による発光パターンの一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下に添付図面を参照して、本発明の実施形態に係るハンドリングシステム１０を詳細に説明する。
【０００９】
（第１実施形態）
図１は、第１実施形態に係るハンドリングシステム１０を示す図である。ハンドリングシステム１０は、対象物１１（ワーク）をハンドリングし、対象物１１を次工程の装置へと搬送したり、対象物１１を用いて製品を組み立てたりする。
【００１０】
ハンドリングシステム１０は、トレイ１２と、ロボット１３と、パターン照射装置２０と、三次元測定装置２１と、認識装置２２と、ロボットコントローラ２３とを備える。トレイ１２は、少なくとも１つの対象物１１を積載する。
【００１１】
ロボット１３は、トレイ１２に積載された何れかの対象物１１をアームを移動させてハンドリングし、ハンドリングした対象物１１を指定された位置に移動させたり、指定された姿勢で保持したりする。ロボット１３は、爪を開閉して対象物１１を挟んでハンドリングしてもよいし、エアー吸着により対象物１１をハンドリングしてもよいし、電磁力で対象物１１をハンドリングしてもよい。
【００１２】
パターン照射装置２０は、対象物１１が積載されたトレイ１２に対して、単色のランダム模様の像を照射する。これにより、トレイ１２に積載されたそれぞれの対象物１１の表面における露出した部分には、ランダム模様が照射される。本実施形態においては、パターン照射装置２０は、青色の光を照射するが、青に限らずどのような色であってもよく、また、白色であってもよい。
【００１３】
三次元測定装置２１は、パターン照射装置２０によりランダム模様の光が照射された状態において、トレイ１２に積載されたそれぞれの対象物１１の露出した表面の各位置までの距離を測定する。三次元測定装置２１は、一例として、ステレオカメラ等により距離を測定して、被写体の表面の各位置までの距離を表す三次元情報を生成する。
【００１４】
認識装置２２は、三次元測定装置２１により測定されたそれぞれの対象物１１の表面の位置までの距離に基づき、それぞれの対象物１１の位置および姿勢を認識する。認識装置２２は、一例として、３次元モデルとのマッチング処理またはサーフェースマッチング処理等のマッチング処理を実行して、それぞれの対象物１１の位置および姿勢を認識する。さらに、認識装置２２は、輝度情報に基づきエッジ抽出等を行ってマッチング処理の補完をしてもよい。
【００１５】
ロボットコントローラ２３は、予め登録されている制御フローに従って、認識装置２２により認識されたそれぞれの対象物１１の位置および姿勢に基づきロボット１３の動作を制御する。そして、ロボットコントローラ２３は、トレイ１２上の指定された対象物１１をハンドリングさせる。
【００１６】
このようなハンドリングシステム１０において、パターン照射装置２０は、三次元測定装置２１による三次元測定の精度を向上させるようなランダム模様の光を、トレイ１２上に積載されたそれぞれの対象物１１に照射する。これにより、ハンドリングシステム１０によれば、トレイ１２に積載されたそれぞれの対象物１１の位置および姿勢を精度良く認識し、精度良く対象物１１をハンドリングすることができる。
【００１７】
図２は、第１実施形態に係るパターン照射装置２０の構成を示す図である。パターン照射装置２０は、投影面３０に、三次元測定装置２１による距離の測定精度を向上させるようなランダム模様の像を照射する。投影面３０は、ハンドリングシステム１０における対象物１１が積載されるトレイ１２に対応する。
【００１８】
パターン照射装置２０は、発光部３１と、集光部３２と、透過拡散板３３（第１板）と、ライトトンネル３４と、画像形成部３５（第２板）と、照射光学系３６とを備える。
【００１９】
なお、図中において、ｘ、ｙ、ｚは、互いに直交する方向を示す。ｘ方向は、ライトトンネル３４の光軸に平行な方向を表す。ｙ方向は、ｘ方向に直交する方向を表す。ｚ方向は、ｘ方向およびｙ方向に直交する方向を表す。
【００２０】
発光部３１は、光を出射する。本実施形態において、発光部３１は、複数本の平行光束のレーザ光を同一方向に出射する。
【００２１】
発光部３１は、光源である複数のレーザダイオード４１と、複数のコリメータレンズ４２とを有する。複数のレーザダイオード４１は、互いに同一方向に、コヒーレント光であるレーザ光を出射する。本実施形態において、それぞれのレーザダイオード４１は、例えば４４０ｎｍ以上５００ｎｍ以下の波長の青色のレーザ光を発光する青色レーザダイオードである。なお、それぞれのレーザダイオード４１は、青色に限らず、他の色であってもよい。また、三次元測定装置２１が照射した光を検出できれば、レーザダイオード４１は、可視光以外のレーザ光を出射してもよい。
【００２２】
複数のコリメータレンズ４２は、複数のレーザダイオード４１のそれぞれに一対一に対応して設けられる。それぞれのコリメータレンズ４２は、対応するレーザダイオード４１から出射されたレーザ光を入射して、平行光束として出射する。これにより、発光部３１は、同一方向に複数本の平行光束のレーザ光を出射することができる。
【００２３】
集光部３２は、発光部３１から出射された光を透過拡散板３３上に集光する。本実施形態においては、集光部３２は、レンズであり、複数本のレーザ光を透過拡散板３３上の略一点に集光する。
【００２４】
透過拡散板３３は、入射した光を拡散させる拡散部である。透過拡散板３３は、全体が平板状であって、少なくとも一方の平面に微細でランダムな凹凸等が形成されている。透過拡散板３３は、集光部３２により集光された複数本のレーザ光を入射し、入射した光を透過して拡散させながらライトトンネル３４へと出射する。透過拡散板３３は、一例として、半値全幅の５°以上１０°以下の拡散角で光を拡散させる。
【００２５】
ライトトンネル３４は、通過する光の光軸方向（ｘ方向）に垂直な面（ｙ方向およびｚ方向）の輝度分布を均一化する均一化光学系である。ライトトンネル３４は、筒状であって、筒の内部には内側へと光を反射する反射面が形成されている。ライトトンネル３４は、筒の内部が光を通過させる光路として機能する。このようなライトトンネル３４は、透過拡散板３３により拡散された光を入射し、入射した光を内部で反射させながら通過させて、輝度分布を均一化して出射する。なお、ライトトンネル３４の内部は、光を通過させることができれば、中空であってもよいし、ガラス等の透明な部材で充填されていてもよい。
【００２６】
画像形成部３５は、ライトトンネル３４から出射された光が入射される。画像形成部３５は、一例として、ガラス等の透明な板であり、ランダムなマスクパターンが描かれたフォトマスクである。また、画像形成部３５は、電気信号によりマスクパターンを描くことができる板状の透過型液晶素子であってもよい。画像形成部３５は、描かれたマスクパターンに応じて光を透過および遮断（または反射）して、光軸に垂直な面にマスクパターンに応じた像を形成する。画像形成部３５を透過した光は、照射光学系３６へと入射される。
【００２７】
照射光学系３６は、画像形成部３５を透過した光が入射される。照射光学系３６は、入射された光を指定された倍率に拡大して投影面３０に照射する。
【００２８】
図３は、第１実施形態に係るパターン照射装置２０の一部分の斜視図である。発光部３１は、一例として、２×４のマトリクス状に配列された８個のレーザダイオード４１を有する。さらに、発光部３１は、それぞれのレーザダイオード４１に対応して設けられた８個のコリメータレンズ４２を有する。このような発光部３１は、同一方向に８本の平行光束を出射することができる。
【００２９】
このように、発光部３１は、複数個のレーザダイオード４１を有するので、出力する光のエネルギーを大きくすることができる。なお、発光部３１が有するレーザダイオード４１の個数および配置は、同一方向にレーザ光を出射できれば、どのような個数および配置であってもよい。
【００３０】
また、集光部３２は、発光部３１から出射された複数本のレーザ光を透過拡散板３３上に集光する。従って、発光部３１が有するレーザダイオード４１の個数を増加させても、レーザダイオード４１から出射された光をライトトンネル３４内に漏れなく入射させることができる。従って、パターン照射装置２０は、出力するエネルギーを容易に大きくすることができる。
【００３１】
図４は、透過拡散板３３、画像形成部３５および照射光学系３６の配置を模式的に示す図である。図５は、第１模様の一例を示す図である。図６は、第２模様の一例を示す図である。図７は、第１模様と第２模様とを合成した模様の一例を示す図である。
【００３２】
透過拡散板３３（第１板）には、発光部３１から出射されたコヒーレントな光が入射する。透過拡散板３３は、入射された光のスポットより小さいピッチの凹凸が形成されている。これにより、透過拡散板３３は、入射された光を拡散して出射することができる。そして、透過拡散板３３から出射された光が投影面３０に照射された場合、投影面３０には、図５に示すような、ランダムな輝度分布の第１模様（スペックル模様）が形成される。すなわち、透過拡散板３３は、ランダムな輝度分布の第１模様を投影面３０に表示させる。
【００３３】
例えば、発光部３１から出射されたレーザ光の波長をλ、照射光学系３６の対物レンズ４５を通過する光束径をＬ、照射光学系３６の対物レンズ４５から投影面３０までの光路長をｚとした場合、第１模様に含まれる個々のパターンの大きさのオーダーは、下記の式（１）で表される。
【００３４】
第１模様に含まれる個々のパターンの大きさのオーダー≒（λ×ｚ）／Ｌ  …（１）
【００３５】
例えば、λ＝５００ｎｍ、ｚ＝１ｍ、Ｌ＝３０ｍｍとした場合、式（１）から、第１模様に含まれる個々のパターンの大きさのオーダーは、１７μｍ程度となる。例えば、カメラまでの距離を１ｍ、カメラの焦点距離を６ｍｍ、撮像素子のサイズを１／３インチ、撮像素子の画素ピッチを３．７５μｍとする。このようなカメラで第１模様を撮像した画像における個々のパターンの大きさは、１ピクセル以下となる。このように透過拡散板３３は、非常に微細なランダム模様を投影面３０に表示させることができる。
【００３６】
また、画像形成部３５（第２板）は、例えば板状のフォトマスクまたは透過型液晶素子である。画像形成部３５は、光が通過する面に、光を遮断（または反射）する材料でランダムなマスクパターンが描かれている。このような画像形成部３５は、入射された光をマスクパターンに応じて光を透過および遮断（または反射）して、光軸に垂直な面にマスクパターンに応じた像を形成する。これにより、画像形成部３５から出射された光が投影面３０に照射された場合、投影面３０には、図６に示すような、ランダムな輝度分布の第２模様が形成される。すなわち、画像形成部３５は、ランダムな輝度分布の第２模様を投影面３０に表示させる。
【００３７】
例えば、画像形成部３５に描かれたマスクパターンに含まれる個々のパターンのうちの最小パターンのサイズをＭ、照射光学系３６の倍率をβとした場合、第２模様に含まれる最小パターンの大きさは、下記の式（２）で表される。
【００３８】
第２模様に含まれる最小パターンの大きさ＝Ｍ×β  …（２）
【００３９】
例えば、Ｍ＝１００μｍ、β＝５０とした場合、式（２）から、第２模様に含まれる個々のパターンの大きさは、５ｍｍ以上となる。例えば、カメラまでの距離を１ｍ、カメラの焦点距離を６ｍｍ、撮像素子のサイズを１／３インチ、撮像素子の画素ピッチを３．７５μｍとする。このようなカメラで第２模様を撮像した画像における個々のパターンは、８ピクセル以上となる。このように画像形成部３５は、比較的に大きなランダム模様を投影面３０に表示させることができる。
【００４０】
そして、画像形成部３５（第２板）には、透過拡散板３３（第１板）から出射された光が入射する。従って、透過拡散板３３から出射された光は、画像形成部３５を透過して投影面３０に照射される。従って、投影面３０には、図７に示すような、第１模様と第２模様とを合成したランダムな輝度分布の模様が表示される。
【００４１】
ここで、画像形成部３５は、第１模様とは異なる空間周波数のランダムな輝度分布の第２模様を投影面３０に表示させる。すなわち、画像形成部３５には、最小パターンのサイズＭが下記の式（３）を満たすようなマスクパターンが描かれている。
【００４２】
Ｍ≠（λ×ｚ）／（Ｌ×β）  …（３）
【００４３】
本実施形態においては、画像形成部３５は、第１模様に含まれるパターンよりも大きいサイズのパターンを含む第２模様を投影面３０に表示させる。すなわち、本実施形態において、画像形成部３５には、含まれている複数のパターンのうちの最小パターンのサイズＭが、下記の式（４）を満たすようなマスクパターンが描かれている。
【００４４】
Ｍ＞（λ×ｚ）／（Ｌ×β）  …（４）
【００４５】
これにより、パターン照射装置２０は、透過拡散板３３による微細なパターンと、画像形成部３５による比較的に大きなパターンとを重ねたランダム模様を投影面３０に表示させることができる。例えば、フォトマスクにより微細なランダムパターンを形成すると、制作のコストが非常に高くなってしまう。一方、拡散板では、比較的に大きなランダムパターンを発生することができない。従って、パターン照射装置２０は、透過拡散板３３と画像形成部３５とを組み合わせることにより、簡易な構成で、微細なパターンと比較的に大きなパターンとを含むランダム模様を投影面３０に表示させることができる。
【００４６】
また、このようなパターン照射装置２０をハンドリングシステム１０に用いた場合、空間周波数が広いランダム模様を表示しているので、対象物１１の大きさおよび形状等が変わっても、画像形成部３５に描かれているマスクパターンを切り替える必要が無い。従って、パターン照射装置２０は、画像形成部３５に描かれているマスクパターンを切り替えるための機構および制御部等を備えなくてよい。
【００４７】
このように本実施形態に係るパターン照射装置２０によれば、簡易な構成で、様々なケースに対応可能な汎用性の高いランダム模様を表示することができる。
【００４８】
（第２実施形態）
つぎに、第２実施形態に係るパターン照射装置５０について説明する。第２実施形態に係るパターン照射装置５０は、第１実施形態に係るパターン照射装置２０に代えて、ハンドリングシステム１０に適用される。なお、第３実施形態も同様である。
【００４９】
また、第２実施形態に係るパターン照射装置５０は、第１実施形態に係るパターン照射装置２０と略同一の機能および構成を有する。略同一の機能および構成を有する部材については、同一の符号を付けて、相違点を除き詳細な説明を省略する。
【００５０】
図８は、第２実施形態に係るパターン照射装置５０の構成を示す図である。パターン照射装置５０は、発光部３１と、集光部３２と、反射拡散板５１（第１板）と、ライトトンネル３４と、画像形成部３５と、照射光学系３６とを備える。パターン照射装置５０は、透過拡散板３３に代えて反射拡散板５１を備える点で、第１実施形態と異なる。
【００５１】
集光部３２は、発光部３１から出射された光を反射拡散板５１上に集光する。本実施形態においては、集光部３２は、複数本のレーザ光を反射拡散板５１上の略一点に集光する。
【００５２】
反射拡散板５１は、入射した光を拡散させる拡散部である。反射拡散板５１は、集光部３２により集光された複数本のレーザ光を入射して、入射した光を反射して拡散させながらライトトンネル３４へと出射する。反射拡散板５１は、光を反射して拡散させる点において、透過拡散板３３と異なるが、他の機能および効果について透過拡散板３３と同一である。
【００５３】
ライトトンネル３４は、反射拡散板５１により拡散された光を入射し、輝度分布を均一化して出射する。
【００５４】
反射拡散板５１は、第１実施形態に係る透過拡散板３３と同様に、入射された光のスポットより小さいピッチの凹凸が形成されている。これにより、反射拡散板５１は、第１実施形態と同様に、ランダムな輝度分布の第１模様を投影面３０に表示させることができる。
【００５５】
（第３実施形態）
つぎに、第３実施形態に係るパターン照射装置６０について説明する。第３実施形態に係るパターン照射装置６０は、第１実施形態に係るパターン照射装置２０と略同一の機能および構成を有する。略同一の機能および構成を有する部材については、同一の符号を付けて、相違点を除き詳細な説明を省略する。
【００５６】
図９は、第３実施形態に係るパターン照射装置６０の構成を示す図である。パターン照射装置６０は、発光部３１と、集光部３２と、透過拡散板３３と、ライトトンネル３４と、画像形成部３５と、照射光学系３６と、発光制御部６１とを備える。パターン照射装置６０は、発光制御部６１をさらに備える点で、第１実施形態と異なる。
【００５７】
発光制御部６１は、発光部３１が有する複数のレーザダイオード４１のうちの一部を選択して発光させる。例えば、発光制御部６１は、第１タイミングにおいて、図１０の（ａ）に示すように、複数のレーザダイオード４１のうちの一部のレーザダイオード４１を発光させる。そして、発光制御部６１は、第１タイミングとは異なる第２タイミングにおいて、図１０の（ｂ）に示すように、第１タイミングで発光させたレーザダイオード４１とは異なる組み合わせの一部のレーザダイオード４１を発光させる。
【００５８】
第１模様は、光の干渉の影響により形成されるので、透過拡散板３３に入射される光の入射位置および光量等によって変化する。従って、発光制御部６１は、第１タイミングと第２タイミングとで光の発光位置を変更することにより、第１模様を変化させることできる。
【００５９】
また、三次元測定装置２１は、第１タイミングおよび第２タイミングのそれぞれにおいて、対象物１１までの距離を測定する。そして、三次元測定装置２１は、第１タイミングでの測定結果と第２タイミングでの測定結果に基づき、画像内の各位置までの距離を表す三次元情報を生成する。これにより、三次元測定装置２１は、例えば表面に光沢を有する対象物１１までの距離を測定する場合に、対象物１１に照射するランダム模様を変化させることができる。
【００６０】
このように本実施形態に係るパターン照射装置６０によれば、対象物１１に照射するランダム模様を、簡易な構成で変化させることができる。なお、第２実施形態に係るパターン照射装置５０も、同様に、発光制御部６１を備える構成であってもよい。
【００６１】
以上、本発明の実施形態を説明したが、実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能である。
【符号の説明】
【００６２】
１０  ハンドリングシステム
１１  対象物
１２  トレイ
１３  ロボット
２０，５０，６０  パターン照射装置
２１  三次元測定装置
２２  認識装置
２３  ロボットコントローラ
３０  投影面
３１  発光部
３２  集光部
３３  透過拡散板
３４  ライトトンネル
３５  画像形成部
３６  照射光学系
４１  レーザダイオード
４２  コリメータレンズ
４５  対物レンズ
５１  反射拡散板
６１  発光制御部
【先行技術文献】
【特許文献】
【００６３】
【特許文献１】特開２００１−１４７１１０号公報
【図１】
2016080535.tif 000003
【図２】
2016080535.tif 000004
【図３】
2016080535.tif 000005
【図４】
2016080535.tif 000006
【図８】
2016080535.tif 000007
【図９】
2016080535.tif 000008
【図１０】
2016080535.tif 000009
【図５】
2016080535.tif 000010
【図６】
2016080535.tif 000011
【図７】
2016080535.tif 000012