(57)【要約】【課題】簡便かつ効率的な水素を含むガスの生成方法及びガス生成装置であって、小規模な装置であっても大量のガスを生成することができると共に、生成量の制御が容易なガス生成方法及びガス生成装置を提供する。【解決手段】液中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる第一工程と、キーホール内で還元材のプルームを生成させる第二工程と、プルームと液中の水との還元反応によりガスを生成させる第三工程と、を含むこと、を特徴とするガス生成方法。【選択図】図１
2016222522.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる第一工程と、
前記キーホール内で前記還元材のプルームを生成させる第二工程と、
と、
を特徴とするガス生成方法。
【請求項２】
前記第二工程において、アシストガスによって密閉空間を形成した状態で前記レーザを前記還元材の一方の面に照射することで前記キーホールを形成させ、
前記キーホールを前記還元材の他方の面から貫通させること、
を特徴とする請求項１に記載のガス生成方法。
【請求項３】
気中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる第一工程と、
前記キーホール内で前記還元材のプルームを生成させる第二工程と、
前記プルームと気中の水蒸気との還元反応によりガスを生成させる第三工程と、を含むこと、
を特徴とするガス生成方法。
【請求項４】
前記還元材が酸化物であること、
を特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のガス生成方法。
【請求項５】
前記第三工程において生成する前記ガスを分離する第四工程を含むこと、
を特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載のガス生成方法。
【請求項６】
前記第三工程において生成する前記ガスに、水素、酸素、メタン、一酸化炭素、及び二  酸化炭素のうちの少なくとも１つが含まれること、
を特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載のガス生成方法。
【請求項７】
レーザ加工ヘッドと、
光学系ユニットと、
ノズルと、
レーザ発振器と、を備えたレーザ照射部と、
貯水槽と、
還元材と、を備えたガス発生部と、を備え、
前記レーザ加工ヘッドは前記光学系ユニットの下部に配置され、
前記ノズルは前記レーザ加工ヘッドの下部に配置されていること、
を特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載のガス生成方法に用いるガス生成装置。
【請求項８】
前記ノズルが内管と外管を有する二重管構造を有し、
前記内管の内側、及び／又は前記内管と前記外管の間から、アシストガスを供給するアシストガス供給装置と、
前記内管の内側、及び／又は前記内管と前記外管の間から、アシストガスを吸引するアシストガス吸引装置と、を備えること、
を特徴とする請求項７に記載のガス生成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、還元反応を利用した簡便なガス生成方法及びガス生成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、利用価値の高い各種ガスの生成方法が種々検討されており、特に、近年クリーンエネルギーとしての利用が期待されている水素については、盛んに研究開発が進められている。
【０００３】
例えば、特許文献１（特開２００７−１４５６８６号公報）では、金属元素を保持する反応容器と、反応容器に水を供給するための貯水槽と、金属元素を加熱するレーザと、金属元素と水との反応により生成した水素ガスおよび反応エネルギーを回収する水素取出管と、を含む水素生成装置、が提案されている。
【０００４】
上記特許文献１に記載の水素生成装置においては、金属元素を用いて水から水素を製造する場合に副生成物として得られる金属酸化物を、再生可能エネルギーとして再度アルカリ金属又はアルカリ土類金属に還元できることから、環境に対して負荷の少ない方法で水素ガスを生成することができる、としている。
【０００５】
また、特許文献２（特開２０１４−７００１２号公報）では、アンモニアから水素を生成する水素生成装置であって、プラズマ反応器と、プラズマ反応器の内側に配置された状態で高電圧パルス電源に接続されている高電圧電極と、プラズマ反応器の外側で高電圧電極と対向する位置に配置されている接地電極と、アンモニアを含むガスをプラズマ反応器に供給するガス供給手段と、を備えており、高電圧電極が水素分離膜を含んで構成され、高電圧パルス電源から供給される電力によって高電圧電極が接地電極との間で放電し、ガスに含まれるアンモニアをプラズマとすることによって水素を生成することを特徴とする水素生成装置、が提案されている。
【０００６】
上記特許文献２に記載の水素生成装置においては、常温常圧の条件下でアンモニアから水素を連続的に生成することができることに加え、水素分離膜で通常必要な４００〜５００℃の加熱が不要である、としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２００７−１４５６８６号公報
【特許文献２】特開２０１４−７００１２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
しかしながら、上記特許文献１に記載の水素生成装置では、太陽光励起レーザを高出力で使用する必要があり、実用化においては大規模な発電設備が必要となる。更に、当該水素生成装置ではアブレーション加工が前提となっており、大量の水素を生成するためには長時間を必要とする。
【０００９】
また、上記特許文献２に記載の水素生成装置では、アンモニアをプラズマ化することで水素を発生させることから、水素の生成前後において全ての状態が気相であり、水素の生成がどの程度進行しているのかを判断することが極めて困難である。
【００１０】
以上のような従来技術における問題点に鑑み、本発明の目的は、簡便かつ効率的な水素を含むガスの生成方法及びガス生成装置であって、小規模な装置であっても大量のガスを生成することができると共に、生成量の制御が容易なガス生成方法及びガス生成装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明者は上記目的を達成すべく、レーザを用いたガス生成方法及びガス生成装置について鋭意研究を重ねた結果、還元材から発生するプルームを利用すること等が極めて有効であることを見出し、本発明に到達した。
【００１２】
即ち、本発明は、
液中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる第一工程と、
前記キーホール内で前記還元材のプルームを生成させる第二工程と、
前記プルームと前記液中の水との還元反応によりガスを生成させる第三工程と、を含むこと、
を特徴とするガス生成方法を提供する。
【００１３】
本発明のガス生成方法においては、還元材のプルームと水とを接触させ、還元反応を進行させることで、極めて効率的に水素を含むガスを生成させることができる。ここで、当該ガスを効率的に生成できる理由は必ずしも明らかにはなっていないが、キーホール及びプルームの発生により還元材がナノ微粒子化され、当該ナノ微粒子が水（Ｈ２Ｏ）から酸素（Ｏ）を奪って酸化する、極めて効果的な還元材として機能するためであると考えられる。
【００１４】
また、本発明のガス生成方法では、本発明の効果を損なわない限りにおいて、従来公知の種々のレーザを用いることができる。本発明のガス生成方法で用いることができるレーザとしては、ディスクレーザ、半導体レーザ、ファイバレーザ、太陽光励起レーザ及び高密度に集光した太陽光等を例示することができ、ガス生成に用いる装置の大きさや必要なガス発生量等の観点から、適宜選択すればよい。
【００１５】
また、本発明のガス生成方法においては、前記第二工程において、アシストガスによって密閉空間を形成した状態で前記レーザを前記還元材の一方の面に照射することで前記キーホールを形成させ、前記キーホールを前記還元材の他方の面から貫通させること、が好ましい。還元材の裏面から排出されるプルームを用いることで、生成するガスとアシストガスを効率的に分離することができる。加えて、プルーム（還元材のナノ微粒子）と水を還元材の上下で効率的に混合することで、ガスの生成効率を向上させることができる。
【００１６】
また、本発明は、
気中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる第一工程と、
前記キーホール内で前記還元材のプルームを生成させる第二工程と、
前記プルームと気中の水蒸気との還元反応によりガスを生成させる第三工程と、を含むこと、
を特徴とするガス生成方法も提供する。
【００１７】
還元材のプルームには当該還元材のナノ微粒子が含まれていると考えられ、当該プルームと気中の水蒸気が接触することで、水の還元反応が進行して極めて効率的に水素を含むガスを生成することができる。
【００１８】
また、本発明のガス生成方法においては、前記還元材が酸化物であること、が好ましい。還元材を金属等の酸化物とすることで、高密度エネルギーのレーザ照射により当該酸化物が還元され、プルームとなった金属が還元材として働き、水に作用して水素を発生させることができる（還元材をリサイクルしながら使用することができる）。
【００１９】
また、本発明のガス生成方法においては、前記第三工程において生成する前記ガスを分離する第四工程を含むこと、が好ましい。ガスの分離手段は特に限定されないが、例えば、ガス生成装置の外部にガス吸引装置及びガス分離装置を配置し、当該ガス吸引装置によってガスを吸引後、当該ガス分離装置によって分離してもよい。
【００２０】
更に、本発明のガス生成方法においては、前記第三工程において生成する前記ガスに、水素、酸素、メタン、一酸化炭素、及び二酸化炭素のうちの少なくとも１つが含まれること、が好ましい。これらのガスはそれぞれ高い利用価値を有しており、分離後に各種用途に用いることができる。ここで、含まれるガス種及びその割合は、還元材の種類やレーザ照射条件等によって制御することができる。
【００２１】
なお、本発明のガス生成方法においては、ガスの生成量がレーザの種類、照射条件、及び還元材の種類等に依存するため、極めて容易に生成量を制御することができる。
【００２２】
レーザ加工ヘッドと、
光学系ユニットと、
ノズルと、
レーザ発振器と、を備えたレーザ照射部と、
貯水槽と、
還元材と、を備えたガス発生部と、を備え、
前記レーザ加工ヘッドは前記光学系ユニットの下部に配置され、
前記ノズルは前記レーザ加工ヘッドの下部に配置されていること、
を特徴とする本発明のガス生成方法に用いるガス生成装置も提供する。
【００２３】
本発明のガス生成装置は、
前記ノズルが内管と外管を有する二重管構造を有し、
前記内管の内側、及び／又は前記内管と前記外管の間から、アシストガスを供給するアシストガス供給装置と、
前記内管の内側、及び／又は前記内管と前記外管の間から、アシストガスを吸引するアシストガス吸引装置と、を備えること、が好ましい。
【００２４】
ガス生成装置がアシストガス供給装置及びアシストガス吸引装置を備えることで、効率的に還元材の裏面からプルームを発生させることができる。
【発明の効果】
【００２５】
本発明によれば、簡便かつ効率的な水素を含むガスの生成方法及びガス生成装置であって、小規模な装置であっても大量のガスを生成することができると共に、生成量の制御が容易なガス生成方法及びガス生成装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明のガス生成方法の工程図である。
【図２】本発明のガス生成方法で用いるガス生成装置の一例を示す概略図である。
【図３】還元材にレーザを照射した状態の模式図である。
【図４】本発明のガス生成装置の概略図である。
【図５】実施例１で得られたガスの構成成分割合を示すグラフである。
【図６】実施例２で得られたガスの構成成分割合を示すグラフである。
【図７】実施例３で得られたガスの構成成分割合を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照しながら本発明のガス生成方法及びガス生成装置の代表的な実施形態について詳細に説明するが、本発明はこれらのみに限定されるものではない。なお、以下の説明では、同一または相当部分には同一符号を付し、重複する説明は省略する場合がある。また、図面は、本発明を概念的に説明するためのものであるから、表された各構成要素の寸法やそれらの比は実際のものとは異なる場合もある。
【００２８】
（１）ガス生成方法
図１は、本発明のガス生成方法の工程図である。本発明のガス生成方法は、液中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる第一工程（Ｓ０１）と、キーホール内で還元材のプルームを生成させる第二工程（Ｓ０２）と、プルームと水との還元反応によりガスを生成させる第三工程（Ｓ０３）と、を含んでいる。以下、これら各工程について詳細に説明する。
【００２９】
（１−１）キーホールの形成（第一工程（Ｓ０１））
第一工程（Ｓ０１）は、液中の還元材にレーザを照射してキーホールを形成させる工程である。本発明のガス生成方法で用いるガス生成装置の一例を示す概略図を図２に示す。また、還元材にレーザを照射した状態の模式図を図３に示す。
【００３０】
ガス生成装置１は、レーザ加工ヘッド２、光学系ユニット４、発振器６及びノズル８から構成されるレーザ照射部１０と、貯水槽１２及び還元材１４等から構成されるガス発生部１６と、を有している。
【００３１】
貯水槽１２内の水中において、発振器６で生成されるレーザを、ノズル８を介して還元材１４に照射することによって、還元材１４の表面の一部が加熱され、キーホール１８が形成される。
【００３２】
レーザ照射に用いる条件は、レーザの種類、還元材１４の種類、貯水槽１２内に入れる液体の種類、所望の生成されるガス成分やガス量等によって、適宜選択すればよい。ここで、レーザ加工ヘッド２は固定してもガスを生成することができるが、移動させることが好ましい（例えば、移動速度１．０ｍ／ｍｉｎ）。レーザ加工ヘッド２を平行移動させた場合は、キーホール１８はやや斜め形状に形成される。なお、レーザの平行移動に伴い、キーホール１８周辺の還元材１４の一部も熔融状態となり、切断または状態変化することになる。
【００３３】
本発明のガス生成方法に用いるレーザ（発振器６）は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、従来公知の種々のレーザを用いることができる。本発明のガス生成方法で用いることができるレーザとしては、ディスクレーザ、半導体レーザ、ファイバレーザ、太陽光励起レーザ及び高密度に集光した太陽光等を例示することができ、ガス生成に用いる装置の大きさや必要なガス発生量等の観点から、適宜選択すればよい。ここで、例えば、出力３〜１０ｋＷ、波長１０３０ｎｍのディスクレーザ（連続波）を好適に用いることができる。
【００３４】
還元材１４としては、グラファイト、チタン、ステンレス、マグネシウム、アルミニウム、亜鉛、鉄、及び純金属等を用いることが好ましく、炭素元素を備えた素材や炭化水素を含むものを用いることがより好ましい。また、還元材１４として金属等の酸化物を用いることで、当該還元材をリサイクルしながら使用することができる。更に、予め微粒化した金属等を、コロイド状やスラリー状として使用してもよい。なお、還元材１４は、天然の素材である必要はない。
【００３５】
貯水槽１２内に入れる液体には水を好適に用いることができるが、少なくとも水を含む液体を用いることができる。当該液体としては、海水、メタノール、エタノール、アセトン等を例示することができる。また、これらの液体は、必要に応じて相変化させてもよい。なお、レーザの照射によって、液体の温度は２０００〜３０００℃まで上昇することもあるため、当該温度上昇に耐えうる液体等を用いることが好ましい。
【００３６】
（１−２）プルームの生成（第二工程（Ｓ０２））
第二工程（Ｓ０２）は、キーホール内で還元材１４のプルームを生成させる工程である。
【００３７】
第一工程（Ｓ０１）に引き続き、レーザを還元材１４に照射し続けることによって、キーホール８内で還元材１４の一部からプルーム２０を発生させることができる。ここで、プルーム２０とは、レーザを用いて溶接や切断する際に還元材１４の一部から生成する、高温の金属蒸気のことである。
【００３８】
レーザが照射された還元材１４は、３５００〜４５００℃以上に加熱され続けることによって、粒子状態まで昇華され、プルーム２０として可視化される状態となる。プルーム２０は、キーホール１８と垂直方向に噴出する特性があり、還元材１４の貫通前はキーホール１８の上方に噴出し、貫通後はキーホール１８の下方に向かって噴出する。
【００３９】
（１−３）還元反応によるガスの生成（第三工程（Ｓ０３））
第三工程（Ｓ０３）は、プルーム２０と水等の液体との還元反応により、ガスを生成させる工程である。
【００４０】
還元材１４のプルーム２０と水等の液体とを接触させ、還元反応を進行させることで、極めて効率的に水素を含むガスを生成させることができる。ここで、上述のとおり、当該ガスを効率的に生成できる理由は必ずしも明らかにはなっていないが、キーホール１８及びプルーム２０の発生により還元材１４がナノ微粒子化され、当該ナノ微粒子が効果的な還元材として機能することが本発明の特徴であると考えられる。つまり、本発明のガス生成方法においては、還元材１４にキーホール１８を形成させ、プルーム２０を発生させることが極めて重要である。
【００４１】
また、本発明のガス生成方法においては、第二工程（Ｓ０２）において、アシストガスによって密閉空間を形成した状態でレーザを還元材１４の一方の面に照射することでキーホール１８を形成させ、キーホール１８を還元材１４の他方の面から貫通させること、が好ましい。還元材１４の裏面から排出されるプルーム２０を用いることで、生成するガスとアシストガスを効率的に分離することができる。加えて、プルーム２０（還元材１４のナノ微粒子）と水等の液体を還元材１４の上下で効率的に混合することで、ガスの生成効率を向上させることができる。
【００４２】
また、第三工程（Ｓ０３）において生成するガスを分離する第四工程（Ｓ０４）を含むこと、が好ましい。ガスの分離手段は特に限定されないが、例えば、ガス生成装置の外部にガス吸引装置２２及びガス分離装置２４を配置し、ガス吸引装置２２によってガスを吸引後、ガス分離装置２４によって分離してもよい。
【００４３】
第三工程（Ｓ０３）において生成するガスには、水素、酸素、メタン、一酸化炭素、及び二酸化炭素のうちの少なくとも１つが含まれること、が好ましい。これらのガスはそれぞれ高い利用価値を有しており、分離後に各種用途に用いることができる。ここで、含まれるガス種及びその割合は、還元材１４の種類やレーザ照射条件等によって制御することができる。
【００４４】
なお、第一工程（Ｓ０１）〜第三工程（Ｓ０３）の各工程が有する意義は上記説明のとおりであるが、お互いに密接に連関しており、各工程は連続的に進行するものである。
【００４５】
（１−４）その他の実施形態
本発明のガス生成方法においては、第一工程（Ｓ０１）において気中の還元材１４にレーザを照射してキーホール１８を形成させ、第三工程（Ｓ０３）においてプルーム２０と気中の水蒸気との還元反応によりガスを生成させてもよい。
【００４６】
気中において、発振器６で生成されるレーザを、ノズル８を介して還元材１４に照射することによって、還元材１４の表面の一部が加熱され、キーホール１８が形成される。引き続きレーザを還元材１４に照射し続けることによって、キーホール１８内で還元材１４の一部がプルーム２０状態となる。次いで、プルーム２０と気中の水蒸気が接触し、還元反応を引き起こすことで、ガスが生成される。
【００４７】
気中の水蒸気としては、常温状態だけでなく、高温状態のものであっても、ガスを生成することができる。ここで、気中の水蒸気としては、酸素、水素、窒素等が存在しているため、水素、酸素、窒素等の気体元素単独の雰囲気下として、プロセス条件を最適化することもできる。
【００４８】
気中においてガスを生成する場合、ガスの生成状況を明確に確認することが難しく、ガス生成装置１を内包するように密閉した空間を補足的に整える必要がある。ここで、水素や酸素は熱と反応しやすい性質を有しているため、ガス生成装置１等の故障が発生しないように、防爆対策を講じることが好ましい。
【００４９】
（２）ガス生成装置
本発明のガス生成装置の基本構成は、図２に示す通りである。ガス生成装置１は、レーザ加工ヘッド２、光学ユニット４、発振器６及びノズル８から構成されるレーザ照射部１０と、貯水槽１２及び還元材１４等から構成されるガス発生部１６と、を有している。
【００５０】
発振器６は、本発明の効果を損なわない限りにおいて、従来公知の種々のレーザ発振器を用いることができ、ディスクレーザ、半導体レーザ、ファイバレーザ、太陽光励起レーザ及び高密度に集光した太陽光等の発振器を例示することができる。
【００５１】
本発明のガス生成装置の第二の実施形態について、装置の概略図を図４に示す。ガス生成装置１は、レーザ加工ヘッド２、光学ユニット４、発振器６及びノズル８から構成されるレーザ照射部１０と、貯水槽１２及び還元材１４等から構成されるガス発生部１６と、を有している。ここで、ノズル８は内管と外管を有する二重管構造を有し、内管の内側、及び／又は内管と外管の間から、アシストガスを供給するアシストガス供給装置２６と、内管の内側、及び／又は内管と外管の間から、アシストガスを吸引するアシストガス吸引装置２８と、を更に備えている。
【００５２】
水中（液中）において、発振器６で生成されるレーザを、アシストガス供給装置２６から供給されるアシストガスによって密閉空間を形成した状態で、ノズル８を介して還元材１４の一方の面に照射することによって、還元材１４の表面の一部を加熱し、キーホール１８が形成される。なお、アシストガスは常時アシストガス吸引装置２８から吸引され、密閉空間は一定の値の気圧が維持される。次に、レーザを還元材１４に照射し続けることによって、キーホール１８内で還元材１４の一部がプルーム２０状態となる。次に、キーホール１８を還元材１４のもう一方の面に貫通させることで、プルーム２０が水中（液中）に排出されることによって、プルーム２０と水（液体）が接触し、還元反応が生じることで、ガスが生成される。
【００５３】
また、発生したガスをより効果的に利用するため、発生したガスを吸引し、別の動力として活動したい場合、ガス生成装置１の外部に、ガス吸引装置２２を配置すればよい。ここで、吸引対象のガスの総量をある程度限定する必要があり、例えば、ノズル８の上面から貯水槽１２に貯水する液面の空間全体を対象とする場合、ノズル８の下面から還元材１４の上面までの空間を対象とする場合、及び還元材１４の下面の数ｃｍ四方の空間を対象とする場合等を想定することができる。
【００５４】
更に、発生したガスをより効果的に利用するためには、種々の元素で構成されるガスを用途に応じて分離する必要がある。そこで、ガス生成装置１の外部やガス吸引装置２２と接続する形で、ガス分離装置２４を配置してもよい。
【００５５】
以上、本発明の代表的な実施形態について説明したが、本発明はこれらのみに限定されるものではなく、種々の設計変更が可能であり、それら設計変更は全て本発明の技術的範囲に含まれる。
【実施例】
【００５６】
≪実施例１≫
図２に示すガス生成装置１（レーザ：出力３ｋＷ、波長１０３０ｎｍのディスクレーザ（連続波）、移動速度１．０ｍ／ｍｉｎ）を用い、還元材をグラファイト、液体を水としてガスを発生させた。得られたガスを１００ｍｌ回収し、ガスクロマトグラフィで気体分析した。
【００５７】
図５に、発生したガスの構成成分を示す。ガスの成分は、窒素５１.４％、水素２０.８％、酸素７.６％、一酸化炭素１７％であった。
【００５８】
≪実施例２≫
図２に示すガス生成装置１（レーザ：出力５ｋＷ、波長１０３０ｎｍのディスクレーザ（連続波）、移動速度１．０ｍ／ｍｉｎ）を用い、還元材をチタン、液体を水としてガスを発生させた。得られたガスを１００ｍｌ回収し、ガスクロマトグラフィで気体分析した。
【００５９】
図６に、発生したガスの構成成分を示す。ガスの成分は、窒素２２.２％、水素６７.５％、酸素８％、一酸化炭素０.１％であった。
【００６０】
≪実施例３≫
図２に示すガス生成装置１（レーザ：出力３ｋＷ、波長１０３０ｎｍのディスクレーザ（連続波）、移動速度１．０ｍ／ｍｉｎ）を用い、還元材をＳＵＳ３０４ステンレス鋼、液体を水としてガスを発生させた。得られたガスを１００ｍｌ回収し、ガスクロマトグラフィ及びラマン分光分析にて気体分析した。
【００６１】
図７に、発生したガスの構成成分を示す。ガスの成分は、窒素２９.３％、水素４８.７％、酸素１１.８％、一酸化炭素８.９％であった。
【００６２】
実施例１〜３の結果より、どの場合においても、水素が生成されることが分かるが、特に、チタンを用いた場合には、多量の水素の発生が確認できる。更に、水素以外にも、酸素、一酸化炭素、二酸化炭素、メタン、窒素等、利用価値の高いガス種の生成が確認できる。
【符号の説明】
【００６３】
１・・・ガス生成装置、
２・・・レーザ加工ヘッド、
４・・・光学系ユニット、
６・・・発振器、
８・・・ノズル、
１０・・・レーザ照射部、
１２・・・貯水槽、
１４・・・還元材、
１６・・・ガス発生部、
１８・・・キーホール、
２０・・・プルーム、
２２・・・ガス吸引装置、
２４・・・ガス分離装置、
２６・・・アシストガス供給装置、
２８・・・アシストガス吸引装置。
【図１】
2016222522.tif 000003
【図５】
2016222522.tif 000004
【図６】
2016222522.tif 000005
【図７】
2016222522.tif 000006
【図２】
2016222522.tif 000007
【図３】
2016222522.tif 000008
【図４】
2016222522.tif 000009