(57)【要約】      （修正有）【課題】曲面表示装置を提供する。【解決手段】曲面表示装置は、互いに対向し、少なくとも一部分に曲率が形成された第１基板１１０及び第２基板２１０と、第１基板１１０と第２基板２１０との間に配置される液晶層ＬＣと、第１基板１１０と液晶層ＬＣとの間または第１基板１１０の外側に配置される第１偏光層１２０と、第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間または第２基板２１０の外側に配置される第２偏光層２３０を含み、第１偏光層１２０と第２偏光層２３０のうち少なくとも何れか一つが第１基板１１０と液晶層ＬＣとの間または第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置される。【選択図】図５
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向し、少なくとも一部分に曲率が形成された第１基板及び第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、
前記第１基板と前記液晶層との間または前記第１基板の外側に配置される第１偏光層と、
前記第２基板と前記液晶層との間または前記第２基板の外側に配置される第２偏光層を含み、
前記第１偏光層と前記第２偏光層のうち少なくとも何れか一つが前記第１基板と液晶層との間または前記第２基板と前記液晶層との間に配置される曲面表示装置。
【請求項２】
前記第１基板の厚さと前記第２基板の厚さが同じである請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項３】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、
前記第２偏光層は前記第２基板の外側に配置される請求項２に記載の曲面表示装置。
【請求項４】
前記第１偏光層は前記第１基板の外側に配置され、
前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置される請求項２に記載の曲面表示装置。
【請求項５】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、
前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置される請求項２に記載の曲面表示装置。
【請求項６】
前記第１基板の厚さが前記第２基板の厚さより小さい請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項７】
前記第１偏光層は前記第１基板の外側に配置され、
前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置される請求項６に記載の曲面表示装置。
【請求項８】
前記第２基板の厚さが前記第１基板の厚さより小さい請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項９】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、
前記第２偏光層は前記第２基板の外側に配置される請求項８に記載の曲面表示装置。
【請求項１０】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、前記第１基板に直接接触する請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項１１】
前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される薄膜トランジスタをさらに含み、
前記第１偏光層は前記第１基板と前記薄膜トランジスタとの間に配置される請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項１２】
前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置され、前記第２基板に直接接触する  請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項１３】
前記第１偏光層は第１光軸を有するように形成され、前記第２偏光層は前記第１光軸と垂直である第２光軸を有するように形成される請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項１４】
前記第１基板の下部に配置され、光を供給するバックライトユニットをさらに含む請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項１５】
前記第１基板は映像を表示し、複数の画素が定義された表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置する非表示領域を含む請求項１に記載の曲面表示装置。
【請求項１６】
前記第１偏光層は吸収型偏光層であり、前記第２偏光層は吸収型偏光層であり、
前記第１偏光層と前記第２偏光層は前記第１基板上に全面的に配置されるか、前記第１基板上に表示領域と重畳するように配置される請求項１５に記載の曲面表示装置。
【請求項１７】
前記第１基板の画素単位で配置され、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される第１電極をさらに含み、
前記第１偏光層は反射型偏光層であり、前記第２偏光層は吸収型偏光層であり、
前記第１偏光層は前記第１基板上に全面的に配置される複数の金属線で構成されるか、前記第１基板上に前記表示領域と重畳するように配置される複数の金属線を含むように構成されるか、前記第１基板上に前記第１電極とオーバーラップするように配置される複数の金属線を含むように構成される請求項１５に記載の曲面表示装置。
【請求項１８】
前記第１基板の画素単位で配置され、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される第１電極をさらに含み、
前記第１偏光層は吸収型偏光層であり、前記第２偏光層は反射型偏光層であり、
前記第２偏光層は前記第２基板上に前記第１電極と重畳するように配置される複数の金属線で構成される請求項１５に記載の曲面表示装置。
【請求項１９】
前記第１偏光層と前記第１電極との間に配置される薄膜トランジスタと、
前記第２基板上で前記薄膜トランジスタと重畳するように配置されるブラックマトリックスをさらに含み、
前記第１電極は平面上で前記薄膜トランジスタを間において配置される第１サブ電極と第２サブ電極を含み、
前記第２偏光層は前記ブラックマトリックスと同一レベルにある請求項１８に記載の曲面表示装置。
【請求項２０】
前記第１基板の画素単位で配置され、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される第１電極をさらに含み、
前記第１偏光層は反射型偏光層であり、前記第２偏光層は反射型偏光層であり、
前記第１偏光層は前記第１基板上に全面的に配置される複数の金属線で構成されるか、前記第１基板上に前記表示領域とオーバーラップするように配置される複数の金属線を含むように構成されるか、前記第１基板上に前記第１電極とオーバーラップするように配置される複数の金属線を含むように構成され、
前記第２偏光層は前記第２基板上に前記第１電極とオーバーラップするように配置される複数の金属線で構成される請求項１５に記載の曲面表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は曲面表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在最も広く使用されている表示装置のうち一つとして、互いに対向する２個の基板上に形成された電極（画素電極及び共通電極）に電圧を印加し、その間に介在する液晶層の液晶分子の配列を制御することによって透過する光の量を調整する表示装置である。
【０００３】
液晶表示装置は、基板を含む液晶パネルが自主的に発光できない非発光性素子で構成されるため、液晶パネルに光を供給するためのバックライトユニットが必要とされる。また、液晶パネルの基板外側には互いに直交する透過軸を有する編光板が付着される。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、最近では表示パネルの映像を見るとき、視野にぎっしり埋め、より広く見えるパノラマ効果によって没入感を高めるための表示装置として、少なくとも一部が曲率を有する曲面表示装置が開発されている。
【０００５】
一例として、曲面表示装置は曲率を有するバックライトユニットにフラットな液晶パネルを締結することによって製造される。しかし、バックライトユニットに液晶パネルを締結する過程で液晶パネルにストレスが生じる。特に、液晶パネルの基板のうち曲率が形成される部分にストレスが生じ、基板の内部に光学的異方性現象が発生している。これにより、所望しない光が編光板を透過して曲面表示装置に所望しない映像が表示され得る。特に、曲面表示装置にブラック映像を表示する場合、光漏れ現象が発生し得、これは曲面表示装置でブラックムラとして大きく認識され得る。
【０００６】
これに、本発明が解決しようとする課題は、基板に生じたストレスによって所望しない映像が表示されることを減らす曲面表示装置を提供することにある。
【０００７】
本発明の課題は、以上で言及した技術的課題に制限されず、言及されていないまた他の技術的課題は次の記載から当業者に明確に理解できるであろう。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記課題を解決するための本発明の一実施形態による曲面表示装置は、互いに対向し、少なくとも一部分に曲率が形成された第１基板及び第２基板と、前記第１基板と前記第２基板との間に配置される液晶層と、前記第１基板と前記液晶層との間または前記第１基板の外側に配置される第１偏光層と、前記第２基板と前記液晶層との間または前記第２基板の外側に配置される第２偏光層を含み、前記第１偏光層と前記第２偏光層のうち少なくとも何れか一つが前記第１基板と液晶層間または前記第２基板と前記液晶層との間に配置される。
【０００９】
前記第１基板の厚さと前記第２基板の厚さが同じであり得る。
【００１０】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、前記第２偏光層は前記第２基板の外側に配置され得る。
【００１１】
前記第１偏光層は前記第１基板の外側に配置され、前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置され得る。
【００１２】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置され得る。
【００１３】
前記第１基板の厚さが前記第２基板の厚さより小さくてもよい。
【００１４】
前記第１偏光層は前記第１基板の外側に配置され、前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置され得る。
【００１５】
前記第２基板の厚さが前記第１基板の厚さより小さくてもよい。
【００１６】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、前記第２偏光層は前記第２基板の外側に配置され得る。
【００１７】
前記第１偏光層は前記第１基板と前記液晶層との間に配置され、前記第１基板に直接接触し得る。
【００１８】
前記曲面表示装置は、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される薄膜トランジスタをさらに含み、前記第１偏光層は前記第１基板と前記薄膜トランジスタとの間に配置され得る。
【００１９】
前記第２偏光層は前記第２基板と前記液晶層との間に配置され、前記第２基板に直接接触し得る。
【００２０】
前記第１偏光層は第１光軸を有するように形成され、前記第２偏光層は前記第１光軸と垂直である第２光軸を有するように形成され得る。
【００２１】
前記曲面表示装置は、前記第１基板の下部に配置され、光を供給するバックライトユニットをさらに含み得る。
【００２２】
前記第１基板は映像を表示し、複数の画素が定義された表示領域と、前記表示領域の少なくとも一側に位置する非表示領域を含み得る。
【００２３】
前記第１偏光層は吸収型偏光層であり、前記第２偏光層は吸収型偏光層であり、前記第１偏光層と前記第２偏光層は前記第１基板上に全面的に配置されるか、前記第１基板上に表示領域と重畳するように配置され得る。
【００２４】
前記曲面表示装置は、前記第１基板の画素単位で配置され、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される第１電極をさらに含み、前記第１偏光層は反射型偏光層であり、前記第２偏光層は吸収型偏光層であり、前記第１偏光層は前記第１基板上に全面的に配置される複数の金属線で構成されるか、前記第１基板上に前記表示領域と重畳するように配置される複数の金属線を含むように構成されるか、前記第１基板上に前記第１電極とオーバーラップするように配置される複数の金属線を含むように構成され得る。
【００２５】
前記曲面表示装置は、前記第１基板の画素単位で配置され、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される第１電極をさらに含み、前記第１偏光層は吸収型偏光層であり、前記第２偏光層は反射型偏光層であり、前記第２偏光層は前記第２基板上に前記第１電極と重畳するように配置される複数の金属線で構成され得る。
【００２６】
前記曲面表示装置は、前記第１偏光層と前記第１電極の間に配置される薄膜トランジスタと、前記第２基板上で前記薄膜トランジスタと重畳するように配置されるブラックマトリックスをさらに含み、前記第１電極は平面上で前記薄膜トランジスタを間において配置される第１サブ電極と第２サブ電極を含み、前記第２偏光層は前記ブラックマトリックスと同一レベルにあり得る。
【００２７】
前記曲面表示装置は、前記第１基板の画素単位で配置され、前記第１偏光層と前記液晶層との間に配置される第１電極をさらに含み、前記第１偏光層は反射型偏光層であり、前記第２偏光層は反射型偏光層であり、前記第１偏光層は前記第１基板上に全面的に配置される複数の金属線で構成されるか、前記第１基板上に前記表示領域とオーバーラップするように配置される複数の金属線を含むように構成されるか、前記第１基板上に前記第１電極とオーバーラップするように配置される複数の金属線を含むように構成され、前記第２偏光層は前記第２基板上に前記第１電極とオーバーラップするように配置される複数の金属線で構成され得る。
【００２８】
その他実施形態の具体的な内容は詳細な説明及び図面に含まれている。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の実施形態によれば、少なくとも次のような効果がある。
【００３０】
本発明の一実施形態による曲面表示装置は、第１偏光層と第２偏光層のうち少なくとも何れか一つを表示パネルの内部に配置させることで、曲面表示装置を製造するときの第１基板及び第２基板に生じるストレスによって第１基板及び第２基板に光学的異方性現象が発生し、表示パネルで光の偏光特性が変わり、所望しない映像が表示されること、例えばブラック映像に光漏れ現象が発生することを最小化できる。
【００３１】
本発明による効果は、以上で例示された内容によって制限されず、より多様な効果が本明細書内に含まれている。
【図面の簡単な説明】
【００３２】
【図１】本発明の一実施形態による曲面表示装置の結合斜視図である。
【図２】図１の曲面表示装置の分離斜視図である。
【図３】図２の表示パネルの概略的なレイアウト図である。
【図４】図２の表示パネルを説明するための三つの画素の平面図である。
【図５】図４の表示パネルでＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。
【図６】図２の表示パネルの第１基板での第１偏光層の配置を示すレイアウト図である。
【図７】図２のパネルの第２基板での第２偏光層の配置を示すレイアウト図である。
【図８】本発明の他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【図９】図８の表示パネルを説明するための一画素の平面図である。
【図１０】図８の表示パネルの第１基板での第１偏光層の配置を示すレイアウト図である。
【図１１】図１０の第１偏光層の多様な実施形態を示すレイアウト図である。
【図１２】図１０の第１偏光層の多様な実施形態を示すレイアウト図である。
【図１３】本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【図１４】本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【図１５】図１４の表示パネルを説明するための一画素の平面図である。
【図１６】本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【図１７】本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【図１８】本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００３３】
本発明の利点及び特徴、これらを達成する方法は添付する図面と共に詳細に後述する実施形態において明確になるであろう。しかし、本発明は、以下で開示する実施形態に限定されるものではなく、互いに異なる多様な形態で実現されるものであり、本実施形態は、単に本発明の開示を完全にし、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者に発明の範疇を完全に知らせるために提供されるものであり、本発明は、請求項の範囲によってのみ定義される。
【００３４】
一つの素子（ｅｌｅｍｅｎｔｓ）が他の素子と「接続された（ｃｏｎｎｅｃｔｅｄ  ｔｏ）」または「カップリングされた（ｃｏｕｐｌｅｄ  ｔｏ）」と指称されるものは、他の素子と直接連結またはカップリングされた場合または中間に他の素子を介在する場合をすべて含む。明細書全体にかけて同一参照符号は同一構成要素を指称する。
【００３５】
第１、第２などが多様な素子、構成要素を叙述するために使用されるが、これら素子、構成要素はこれらの用語によって制限されないことはいうまでもない。これらの用語は、単に一つ構成要素を他の構成要素と区別するために使用するものである。したがって、以下で言及される第１構成要素は本発明の技術的思想内で第２構成要であり得ることは勿論である。
【００３６】
以下、図面を参照して本発明の実施形態について説明する。
【００３７】
図１は、本発明の一実施形態による曲面表示装置の結合斜視図である。図２は図１の曲面表示装置の分離斜視図である。図３は図２の表示パネルの概略的なレイアウト図である。
【００３８】
図１ないし図３を参照すると、曲面表示装置５０は少なくとも一部分に曲率を有し、前記曲率と対応する形状を有する表示パネル１０、バックライトユニット２０、中間収納容器３０及び上部収納容器４０を含み得る。
【００３９】
表示パネル１０は映像を表示すものであり、相互対向する第１表示板１００及び第２表示板２００を含み得る。第１表示板１００と第２表示板２００はシーリング材（図示せず）により結合する。第１表示板１００と第２表示板２００との間には液晶層（図５のＬＣ）が介在し得る。
【００４０】
表示パネル１０の第１表示板１００と第２表示板２００の各々は画像が表示される表示領域ＤＡと、表示領域ＤＡの少なくとも一側に位置する非表示領域ＮＤＡを含む。表示領域ＤＡにはマトリックス形態で配列される複数の画素ＰＸが定義される。各画素ＰＸは第１電極（図６のＰＥ）が形成される画素領域（図６のＰＡ）と、画素領域（図６のＰＡ）以外の領域の非画素領域（図６のＮＰＡ）を含み得る。非表示領域ＮＤＡにはゲートパッド（図４のＧＰ）及びデータパッド（図４のＤＰ）が形成され得る。図３では非表示領域ＮＤＡが表示領域ＤＡを囲む形態で表示パネル１０の４個の辺に対応するように形成される場合を示しているが、４個未満の辺に対応するようにも形成され得る。
【００４１】
バックライトユニット２０は表示パネル１０に光を提供し、下部収納容器２１、光源モジュール２２、反射シート２６、光学プレート２７、および光学シート２８を含み得る。
【００４２】
下部収納容器２１は光源モジュール２２、反射シート２６、光学プレート２７、および光学シート２８などを収納する。下部収納容器２１はボトムシャーシであり得る。下部収納容器２１は光源モジュール２２が配置される陥没部（図示せず）を含み得る。
【００４３】
光源モジュール２２は表示パネル１０に提供する光を生成する複数の光源２３、例えば、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）光源と、複数の光源２３を駆動させる電源を提供する印刷回路基板２４と、複数の光源２３から放出された光を拡散させる光学レンズ２５を含み得る。
【００４４】
反射シート２６は下側に向かう光を上側に反射させる役割を果たす。反射シート２６は全体が一つとして連結され得る。反射シート２６は光源２３の個数と同数の開口部（２６ａ）を含み得る。
【００４５】
光学プレート２７と光学シート２８は光源モジュール２２の上部に配置され、光を変調する光変調構造物である。例示的な実施形態で、光学プレート２７は拡散プレートであり得る。光学シート２８としてはプリズムシート、拡散シート、マイクロレンズシート、レンチキュラーシート、位相差補償シート、反射偏光シートなどが適用され得る。
【００４６】
中間収納容器３０は光学シート２８の上部に配置され、モールドフレームまたはミドルモールドであり得る。中間収納容器３０は下部収納容器２１に締結されて固定され得る。中間収納容器３０は表示パネル１０、光学プレート２７及び光学シート２８などを収納する。
【００４７】
上部収納容器４０は表示パネル１０の上部に配置され、トップシャーシまたはベゼルであり得る。上部収納容器４０は開口窓を含み、表示パネル１０の枠を覆って保護する。上部収納容器４０は下部収納容器２１と結合し得る。
【００４８】
以下、表示パネル１０についてさらに詳細に説明する。表示パネル１０の構成については一画素ＰＸを中心に説明する。
【００４９】
図４は図２の表示パネルを説明するための三つの画素の平面図である。図５は図４の表示パネルでＩ−Ｉ’線に沿って切断した断面図である。図６は図２の表示パネルの第１基板での第１偏光層の配置を示すレイアウト図である。図７は図２のパネルの第２基板での第２偏光層の配置を示すレイアウト図である。
【００５０】
図４及び図５を参照すると、表示パネル１０の第１表示板１００は第１基板１１０、第１偏光層１２０、第１絶縁層１３０、ゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ、ストレージ線ＳＬ、基準線ＲＬ、ゲート絶縁層１４０、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２、第３薄膜トランジスタＴＦＴ３、保護層１５０及び第１電極（または画素電極という）ＰＥを含む。
【００５１】
第１基板１１０は曲面表示装置５０の形状に応じて少なくとも一部分に曲率を有し、表示領域ＤＡと、非画素領域ＮＤＡを含み得る。第１基板１１０は透過性、耐熱性、耐化学性などに優れる物質を含み得る。例えば、第１基板１１０は光透過力に優れたガラス、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンテレフタレート層及びポリアクリルのうち何れか一つを含み得る。第１基板１１０は第１厚さｔ１を有し得る。このような第１基板１１０は、曲率を有するバックライトユニット２０にフラットな表示パネル１０を締結し、曲面表示装置５０を製造する過程で第１ストレスを受け得る。ここで、表示パネル１０に含まれる第１基板１１０は、当初はフラットな表示パネル１０と同様にフラットな形状を有する。しかし、曲率を有するバックライトユニット３０にフラットな表示パネル１０を締結することで、フラットな表示パネル１０に含まれる第１基板１１０等は図５に示すように曲率を有するように湾曲する。このとき、フラットな表示パネル１０と、曲率を有するバックライトパネル２０とは、その面がフラットな面か曲率を有する面かで異なる。そのため、前述の通り、第１基板１１０は、曲面表示装置５０として製造されると、曲率を有するバックライトユニット２０から第１ストレスを受け得る。
【００５２】
第１偏光層１２０は第１基板１１０と液晶層ＬＣとの間に形成される。例えば、第１偏光層１２０は第１基板１１０と薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１、ＴＦＴ２、ＴＦＴ３）との間に形成され得る。すなわち、第１偏光層１２０は、第１基板１１０上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１、ＴＦＴ２、ＴＦＴ３）を含む他の構成より先に形成されるため、第１偏光層１２０を形成する時においては、第１偏光層１２０は、他の構成を形成するために加えられる高温による影響を回避し得る。また、第１偏光層１２０は第１基板１１０上に直接配置され、第１基板１１０の平坦面に容易に付着されたり、第１基板１１０の平坦面で容易に製造され得る。図６では、第１偏光層１２０が第１基板１１０上に全面的に配置される場合を示すが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第１偏光層１２０は表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【００５３】
第１偏光層１２０はバックライトユニット２０から提供される内部光を所定の特定方向に偏光させる。例えば、第１編光板１２０は０°の光軸（図６のＯＡ１）を有するように形成され、前記内部光を０°に偏光させる。第１偏光層１２０は第１基板１１０をすでに通過した内部光を偏光させる。これにより、第１基板１１０に光学的異方性現象が発生し、内部光の位相遅延（ｒｅｔａｒｄａｔｉｏｎ）が発生しても、第１偏光層１２０はすでに位相遅延が発生した内部光を偏光させるため、偏光特性が維持された光が液晶層ＬＣに提供され得る。第１基板１１０の光学的異方性現象は曲率を有するバックライトユニット２０にフラットな表示パネル１０を締結して曲面表示装置５０を製造する過程で第１基板１１０に発生する第１ストレスによって発生され得る。
【００５４】
一方、第１偏光層１２０が第１基板１１０の外部に配置されると、液晶層ＬＣに提供される光の偏光特性は、第１偏光層１２０によって偏光した内部光の偏光特性と異なる。これは第１編光板１２０によって偏光した内部光が、光学的異方性を有する第１基板１１０を通過しながら第１編光板１２０によって偏光した内部光に位相遅延が発生し得るからである。
【００５５】
第１偏光層１２０は前記特定方向に偏光させる光以外の光を吸収させる吸収型偏光層であるか、前記特定方向に偏光させる光以外の光を反射させる反射型偏光層であり得る。前記吸収型偏光層は延伸したポリビニルアルコールフィルムにヨードまたは異色性染料を染着させることにより形成され得る。前記反射型偏光層は導電性物質をパターニングすることによって形成され、ワイヤーグリッド偏光パターンで形成される。図５及び図６では、第１偏光層１２０が吸収型偏光層で実現された場合を示す。
【００５６】
第１絶縁層１３０は第１偏光層１２０上に配置される。第１絶縁層１３０は第１偏光層１２０を平坦化し、かつ保護下は役割を果たす。第１絶縁層１３０はシリコン酸化物ＳｉＯｘを含み得る。第１絶縁層１３０は省略できる。
【００５７】
ゲート線ＧＬは第１基板１１０、具体的には第１絶縁層１３０上に第１方向に延長して形成され、ゲート信号を伝達する。ゲート線ＧＬの一端にはゲートパッドＧＰが接続される。ゲートパッドＧＰ上にはゲートパッド電極ＧＰＥが形成され得る。ゲートパッド電極ＧＰＥは第１電極ＰＥに信号を印加するための外部配線を連結するためのコンタクト電極である。
【００５８】
データ線ＤＬは第１基板１１０、具体的にはゲート絶縁層１４０上に前記第１方向と交差する第２方向に延長して形成され、ゲート線ＧＬと絶縁されてデータ信号を伝達する。データ線ＤＬの一端にはデータパッドＤＰが接続される。データパッドＤＰ上にはデータパッド電極ＤＰＥが形成される。データパッド電極ＤＰＥは第１電極ＰＥに信号を印加するための外部配線を接続するためのもう一つのコンタクト電極である。
【００５９】
ストレージ線ＳＬは第１基板１１０、具体的に第１絶縁層１３０上に前記第１方向に延長され、前記第２方向に分岐され、第１電極（ＰＥ、ＰＥ１、ＰＥ２）を囲む分岐電極をさらに含む。ストレージ線ＳＬは第１電極ＰＥの間にストレージキャパシタを形成し、第１電極ＰＥと第２電極ＣＥｔｐとの間に形成される液晶キャパシタの電圧維持能力を強化させ得る。
【００６０】
ゲート絶縁層１４０は第１絶縁層１３０上に形成されるゲート線ＧＬ、ストレージ線ＳＬ及びゲートパッドＧＰをカバーし、絶縁物質で形成される。例えば、ゲート絶縁層１４０はシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）またはシリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などの無機物質を含み得る。
【００６１】
第１薄膜トランジスタＴＦＴ１は第１偏光層１２０と液晶層ＬＣとの間に配置され、ゲート線ＧＬとデータ線ＤＬとの間に接続され、第１ゲート電極ＧＥ１、第１半導体層ＳＭ１、第１ソース電極ＳＥ１及び第１ドレイン電極ＤＥ１を含む。
【００６２】
第１ゲート電極ＧＥ１は平面上でゲート線ＧＬから第１半導体層ＳＭ１側に突出して形成される。第１ゲート電極ＧＥ１はＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、ＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）、ＩＴＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）のうち何れか一つを含み得る。また、第１ゲート電極ＧＥ１は前述した物質で構成された第１電極層と後述する物質で構成された第２電極層を含む２層構造を有し得る。前記第２電極層は銅（Ｃｕ）、モリブデン（Ｍｏ）、アルミニウム（Ａｌ）、タングステン（Ｗ）、クロム（Ｃｒ）、チタニウム（Ｔｉ）のような金属であるが、少なくとも一つの前記金属を含む合金であり得る。
【００６３】
第１半導体層ＳＭ１はゲート絶縁層１４０を間において第１ゲート電極ＧＥ１上に形成される。第１半導体層ＳＭ１は第１ゲート絶縁層１４０上に提供される活性層と前記活性層上に提供されるオーミックコンタクト層を含み得る。一方、第１半導体層ＳＭ１はデータ線ＤＬとゲート絶縁層１４０との間に形成され得る。また、第１半導体層ＳＭ１はデータパッドＤＰとゲート絶縁層１４０との間にも形成され得る。
【００６４】
第１ソース電極ＳＥ１はデータ線ＤＬから突出して形成され、平面上で第１ゲート電極ＧＥの少なくとも一部と重畳する。第１ドレイン電極ＤＥ１は第１ソース電極ＳＥ１から離隔して形成され、平面上で第１ゲート電極ＧＥ１の少なくとも一部と重畳する。第１ドレイン電極ＤＥ１は保護層１５０に形成される第１コンタクトホールＣＨ１を介して第１電極ＰＥの第１サブ電極ＰＥ１と接続される。第１ソース電極ＳＥ１と第１ドレイン電極ＤＥ１は、銅、モリブデン、アルミニウム、タングステン、クロム、チタニウムのような金属であるが、少なくとも一つの前記金属を含む合金であり得る。ここで、第１ソース電極ＳＥ１と第１ドレイン電極ＤＥ１は第１ソース電極ＳＥ１と第１ドレイン電極ＤＥ１との間の離隔した領域を除いた領域で第１半導体層ＳＭ１の一部と重畳する。
【００６５】
第２薄膜トランジスタＴＦＴ２は第１偏光層１２０と液晶層ＬＣとの間に配置され、ゲート線ＧＬとデータ線ＤＬとの間に接続され、第２ゲート電極ＧＥ２、第２半導体層ＳＭ２、第２ソース電極ＳＥ２及び第２ドレイン電極ＤＥ２を含む。
【００６６】
第２ゲート電極ＧＥ２は平面上でゲート線ＧＬから第２半導体層ＳＭ２側に突出して形成され、第１ゲート電極ＧＥ１と接続される。第２ゲート電極ＧＥ２は第１ゲート電極ＧＥ１と同じ物質で形成され得る。
【００６７】
第２半導体層ＳＭ２はゲート絶縁層１４０を間において第２ゲート電極ＧＥ２上に形成される。第２半導体層ＳＭ２はゲート絶縁層１４０上に提供される活性層と前記活性層上に提供されるオーミックコンタクト層を含み得る。一方、第２半導体層ＳＭ２はデータ線ＤＬとゲート絶縁層１４０との間に形成され得る。また、第２半導体層ＳＭ２はデータパッドＤＰとゲート絶縁層１４０との間にも形成され得る。
【００６８】
第２ソース電極ＳＥ２は第１ソース電極ＳＥ１と接続され、平面上で第２ゲート電極ＧＥ２の少なくとも一部と重畳する。第２ドレイン電極ＤＥ２は第２ソース電極ＳＥ２から離隔して形成され、平面上で第２ゲート電極ＧＥ２の少なくとも一部と重畳する。第２ドレイン電極ＤＥ２は保護層１５０に形成される第２コンタクトホールＣＨ２を介して第１電極ＰＥの第２サブ電極ＰＥ２と接続される。ここで、第２ソース電極ＳＥ２と第２ドレイン電極ＤＥ２は第２ソース電極ＳＥ２と第２ドレイン電極ＤＥ２との間の離隔した領域を除いた領域で第２半導体層ＳＭ２の一部と重畳する。第２ソース電極ＳＥ２及び第２ドレイン電極ＤＥ２は第１ソース電極ＳＥ１及び第１ドレイン電極ＤＥ１と同じ物質で形成され得る。
【００６９】
第３薄膜トランジスタＴＦＴ３は第１偏光層１２０と液晶層ＬＣとの間に配置され、ゲート線ＧＬとデータ線ＤＬとの間に接続され、第３ゲート電極ＧＥ３、第３半導体層ＳＭ３、第３ソース電極ＳＥ３及び第３ドレイン電極ＤＥ３を含む。
【００７０】
第３ゲート電極ＧＥ３は平面上でゲート線ＧＬから第３半導体層ＳＭ３側に突出して形成され、第２ゲート電極ＧＥ２と離隔する。第３ゲート電極ＧＥ３は第１ゲート電極ＧＥ１と同じ物質で形成され得る。
【００７１】
第３半導体層ＳＭ３はゲート絶縁層１４０を間において第３ゲート電極ＧＥ３上に形成される。第３半導体層ＳＭ３はゲート絶縁層１４０上に提供される活性層と前記活性層上に提供されるオーミックコンタクト層を含み得る。一方、第３半導体層ＳＭ３はデータ線ＤＬとゲート絶縁層１４０との間に形成され得る。また、第３半導体層ＳＭ３はデータパッドＤＰとゲート絶縁層１４０との間にも形成され得る。
【００７２】
第３ソース電極ＳＥ３は第２ドレイン電極ＤＥ２と接続され、平面上で第３ゲート電極ＧＥ３の少なくとも一部と重畳する。第３ドレイン電極ＤＥ３は第３ソース電極ＳＥ３から離隔して形成され、平面上で第３ゲート電極ＧＥ３の少なくとも一部と重畳する。第３ドレイン電極ＤＥ３は保護層１５０に形成される第３コンタクトホールＣＨ３を介して後述する基準線ＲＬと接続される。ここで、第３ソース電極ＳＥ３と第３ドレイン電極ＤＥ３は第３ソース電極ＳＥ３と第３ドレイン電極ＤＥ３との間の離隔した領域を除いた領域で第３半導体層ＳＭ３の一部と重畳する。第３ソース電極ＳＥ３及び第３ドレイン電極ＤＥ３は第１ソース電極ＳＥ１及び第１ドレイン電極ＤＥ１と同じ物質で形成され得る。
【００７３】
保護層１５０は、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２及び第３薄膜トランジスタＴＦＴ３上に配置される。保護層１５０はシリコン窒化物（ＳｉＮｘ）またはシリコン酸化物（ＳｉＯｘ）などの無機物質で形成され得、低誘電率有機絶縁膜でも形成され得る。また、保護層１５０は無機絶縁膜と有機絶縁膜の二重膜でも形成され得る。保護層１５０は第１ドレイン電極ＤＥ１の一部を露出する第１コンタクトホールＣＨ１と、第２ドレイン電極ＤＥ２の一部を露出する第２コンタクトホールＣＨ２と、第３ドレイン電極ＤＥ３の一部を露出するコンタクトホールＣＨ３を有する。
【００７４】
第１電極ＰＥは第１偏光層１２０と液晶層ＬＣとの間、具体的には保護層１５０上に各画素（図３のＰＸ）単位で配置され、平面上で薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１、ＴＦＴ２、ＴＦＴ３）を間において配置される第１サブ電極ＰＥ１と第２サブ電極ＰＥ２を含み得る。
【００７５】
第１サブ電極ＰＥ１は第１コンタクトホールＣＨ１を介して第１ドレイン電極ＤＥ１に接触する。第１サブ電極ＰＥ１は複数の開口を有するスリットパターンを含み得る。例えば、第１サブ電極ＰＥ１は幹部ＰＥ１ａと、幹部ＰＥ１ａから突出して延長された複数の枝部ＰＥ１ｂと、幹電極ＰＥ１ａと第１ドレイン電極ＤＥ１を接続する接続電極ＰＥ１ｃを含み得る。幹部ＰＥ１ａは一つの水平線と三つの垂直線を含む形態で形成され得る。前記一つの垂直線は一つの水平線と交差し、二つの垂直線は一つの水平線の両側に接続され得る。枝部ＰＥ１ｂはストレージ線ＳＬが形成された領域にまで延長され形成され得る。幹部ＰＥ１ａと複数の枝部ＰＥ１ｂは図４に示す配列形態に限定されず、多様な配列形態を有し得る。第１サブ電極ＰＥ１は透明導電物質を含み得る。例えば、第１サブ電極ＰＥ１はＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）を含み得る。第１サブ電極ＰＥ１はストレージ線ＳＬと部分的にオーバーラップしてストレージキャパシタを形成し得る。
【００７６】
第２サブ電極ＰＥ２は第２コンタクトホールＣＨ２を介して第２ドレイン電極ＤＥ２に接触する。第２サブ電極ＰＥ２は複数の開口を有するスリットパターンを含み得る。例えば、第２サブ電極ＰＥ２は幹部ＰＥ２ａと、幹部ＰＥ２ａから突出して延長された複数の枝部ＰＥ２ｂと、幹電極ＰＥ２ａと第２ドレイン電極ＤＥ２を接続する接続電極ＰＥ２ｃを含み得る。幹部ＰＥ２ａは一つの水平線と三つの垂直線を含む形態で形成され得る。枝部ＰＥ２ｂはストレージ線ＳＬが形成された領域にまで延長して形成され得る。幹部ＰＥ２ａと複数の枝部ＰＥ２ｂは図４に示す配列形態に限定されず、多様な配列形態を有し得る。第２サブ電極ＰＥ２は第１サブ電極ＰＥ１と同じ物質で形成され得る。第２サブ電極ＰＥ２はストレージ線ＳＬと部分的にオーバーラップしてストレージキャパシタを形成し得る。一方、第１サブ電極ＰＥ１が配置された第１サブ画素と第２サブ電極ＰＥ２が配置された第２サブ画素のサイズは異なる場合もある。例えば、第２サブ画素のサイズが第１サブ画素のサイズより大きくてもよい。
【００７７】
基準線ＲＬは保護層１５０上に配置される。基準線ＲＬは前記第２方向に延長され、平面上でデータ線ＤＬの一部と重畳し、第３薄膜トランジスタＴＦＴ３の一部と重畳するように突出した突出部を含むように形成される。基準線ＲＬの突出部は第３コンタクトホールＣＨ３を介して第３薄膜トランジスタＴＦＴ３の第３ドレイン電極ＤＥ３と接触する。また、基準線ＲＬは第１サブ画素ＰＥ１と第２サブ画素ＰＥ２との間の離隔した領域に延長して形成され得る。基準線ＲＬは第１サブ電極ＰＥ１及び第２サブ電極ＰＥ２と同じ層に同じ物質で形成され得る。
【００７８】
基準線ＲＬにはストレージ線ＲＬと同じレベルの基準電圧が印加される。このような基準線ＲＬは第３薄膜トランジスタＴＦＴ３を介して第２サブ電極ＰＥ２に印加される電圧を低くし、第２サブ電極ＰＥ２と第２電極ＣＥとの間の電圧が、第１サブ電極ＰＥ１と第２電極ＣＥとの間の電圧より低い大きさを有するようにできる。これにより、第１サブ電極ＰＥ１が位置する第１サブ画素に対応する領域に位置する液晶分子と、第２サブ電極ＰＥ２が位置する第２サブ画素に対応する領域に位置する液晶分子とが、互いに異なる電場強度を受けて互いに異なる角度に傾く。したがって、前記第１サブ画素に対応する領域に位置する液晶分子と前記第２サブ画素に対応する領域に位置する液晶分子とが互いに異なる傾斜角を有し、前記第１サブ画素の輝度と前記第２サブ画素の輝度とが変わる。したがって、側面視認性が向上できる。一方、基準線ＲＬはデータ線ＤＬと第１電極ＰＥとの間、データ線ＤＬと第２電極ＣＥとの間の電磁気干渉を遮断する遮蔽電極として作用できる。
【００７９】
第２表示板２００は第２基板２１０、ブラックマトリックスＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコーティング層２２０、第２電極ＣＥ及び第２偏光層２３０を含む。図５では、第２偏光層２３０が第２基板２１０の外側に全面的に配置される場合を示すが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第２偏光層２３０は表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【００８０】
第２基板２１０は曲面表示装置５０の形状と対応するように少なくとも一部分に曲率を有し、第１基板１１０と対向する。第２基板１１０は透過性、耐熱性、耐化学性などに優れた物質を含み得る。例えば、第１基板１１０は光透過力に優れたガラス、ポリエチレンナフタレート、ポリエチレンナフタレート層及びポリアクリルのうちいずれか一つを含み得る。第２基板２１０は第１基板１１０の第１厚さｔ１のような第２厚さｔ２を有し得る。このような第２基板２１０は、曲率を有するバックライトユニット２０にフラットな表示パネル１０を締結して曲面表示装置５０を製造する過程で第１基板１１０の第１ストレスのような第２ストレスを受け得る。ここで、表示パネル１０に含まれる第２基板２１０は、当初はフラットな表示パネル１０と同様にフラットな形状を有する。しかし、曲率を有するバックライトユニット３０にフラットな表示パネル１０を締結することで、フラットな表示パネル１０に含まれる第２基板２１０等は図５に示すように曲率を有するように湾曲する。このとき、フラットな表示パネル１０と、曲率を有するバックライトパネル２０とは、その面がフラットな面か曲率を有する面かで異なる。そのため、前述の通り、第２基板２１０は、曲面表示装置５０として製造されると、曲率を有するバックライトユニット２０から、第１ストレスのような第２ストレスを受け得る。
【００８１】
ブラックマトリックスＢＭは第２基板２１０の下部に配置される。具体的には、ブラックマトリックスＢＭは非画素領域（ＮＰＡ）の少なくとも一部領域に対応して配置される。例えば、ブラックマトリックスＢＭはゲート線ＧＬ及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１、ＴＦＴ２、ＴＦＴ３）と重畳し得る。この場合、曲面表示装置の実現のために表示パネルを、データ線と平行な方向を軸にして曲げる場合において、第１表示板と第２表示板がミスアラインされ、データ線と重畳するブラックマトリックスが第１電極が形成された部分に侵し、実質的に画像が表示される領域（第１電極の部分）が減ることを防止できる。また、ブラックマトリックスＢＭは非表示領域ＮＤＡに対応して配置される。このようなブラックマトリックスＢＭは不必要な光を遮断する。いくつかの実施形態で、ブラックマトリックスＢＭは第１基板１１０上に形成される。このとき、ブラックマトリックスＢＭはゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１、ＴＦＴ２、ＴＦＴ３）と重畳し得る。この場合、曲面表示装置の実現のために表示パネルを、データ線と平行な方向を軸に曲げる場合において、第１表示板と第２表示板がミスアラインされてもブラックマトリックスと第１電極皆が第１基板上に位置するので、データ線と重畳するブラックマトリックスが第１電極が形成された部分に侵入しない。したがって、実質的に画像が表示される領域が減ることを防止できる。
【００８２】
カラーフィルタＣＦはブラックマトリックスＢＭが配置された第２基板２１０の下部に配置される。カラーフィルタＣＦは液晶層ＬＣを透過する光に色を提供するためのものである。カラーフィルタＣＦは赤色カラーフィルタ（ｒｅｄ）、緑色カラーフィルタ（ｇｒｅｅｎ）、および青色カラーフィルタ（ｂｌｕｅ）であり得る。カラーフィルタＣＦは各画素領域（ＰＡ）に対応して提供され、互いに隣接した画素ＰＸの間で互いに異なる色を有するように配置され得る。カラーフィルタＣＦは互いに隣接した画素ＰＸの境界で一部が隣接するように重畳するか、または互いに隣接した画素ＰＸの境界で離隔し得る。いくつかの実施形態で、カラーフィルタＣＦは第１基板１１０上に形成され得る。
【００８３】
オーバーコーティング層２２０はカラーフィルタＣＦ及びブラックマトリックスＢＭの下部に形成される。オーバーコーティング層２２０はカラーフィルタＣＦを平坦化し、かつカラーフィルタＣＦを保護する役割と絶縁する役割を果たし、アクリル系エポキシ材料を利用して形成され得る。
【００８４】
第２電極ＣＥはオーバーコーティング層２２０及び液晶層ＬＣとの間に配置され、オーバーコーティング層２２０上に全面的に形成され得る。第２電極ＣＥは共通線（図示せず）と電気的に接続する。第２電極ＣＥは透明導電物質を含み得る。例えば、第２電極ＣＥはＩＴＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）またはＩＺＯ（ｉｎｄｉｕｍ  ｚｉｎｃ  ｏｘｉｄｅ）を含み得る。
【００８５】
第２偏光層２３０は第２基板２１０の外側に配置され、第２基板２１０上に全面的に形成され得る。第２偏光層２３０は液晶層ＬＣを通過した光を前記特定方向と垂直方向に偏光させる。例えば、図７に示すように第２編光板２３０は第１編光板１２０の０°の光軸（図６のＯＡ１）と直交する９０°の光軸ＯＡ２を有するように形成され、液晶層ＬＣを通過した光を９０°に偏光させる。一方、曲面表示装置５０がブラック映像を表示するように液晶層ＬＣの液晶分子の配列が制御された場合、液晶層ＬＣを通過した光が第２偏光層２３０に通過してはならない。しかし、液晶層ＬＣを通過した光が光学的異方性現象が発生する第２基板２１０を通過する場合、液晶層ＬＣを通過した光に位相遅延が発生し得る。このような位相遅延が発生した光が第２偏光層２３０に提供される場合、位相遅延が発生した光の一部が第２偏光層２３０を通過してブラック映像に微小な光漏れ現象が発生し得る。前記微小な光漏れ現象は大きく認識されない。第２基板２３０の光学的異方性現象は曲率を有するバックライトユニット２０にフラットな表示パネル１０を締結して曲面表示装置５０を製造する過程で第２基板２３０に発生する第２ストレスによって発生し得る。
【００８６】
第２偏光層２３０は前記特定方向と垂直方向に偏光させる光以外の光を吸収させる吸収型偏光層であるか、前記特定方向と垂直方向に偏光させる光以外の光を反射させる反射型偏光層であり得る。
【００８７】
図５及び図７で、第２偏光層２３０は吸収型偏光層で形成された場合を示す。第２偏光層２３０が吸収型偏光層で形成された場合、第２偏光層２３０に入射する外部光が第２偏光層２３０から反射することによって発生するグレア現象が減る。一方、図７で第２偏光層２３０が第２基板２１０上に全面的に配置される場合を示すが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第２偏光層２３０は表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【００８８】
表示パネル１０の液晶層ＬＣは誘電率異方性を有する液晶分子を含む。前記液晶分子は電場がない状態でその長軸が二つの表示板（１００、２００）の表面に対して垂直または水平を成す。
【００８９】
上記のような構造を有する曲面表示装置５０でゲート線ＧＬを介してゲート信号が提供され、データ線ＤＬを介して第１薄膜トランジスタＴＦＴ１及び第２薄膜トランジスタＴＦＴ２を介してデータ信号が提供される。そうすると、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１及び第２薄膜トランジスタ（ＴＦ２Ｔ）がターンオンされ、データ信号に該当する電圧が第１サブ電極ＰＥ１と第２サブ電極ＰＥ２に提供される。この際、第２サブ電極ＰＥ２に印加される電圧は基準電圧が印加される基準線ＲＬと接続される第３薄膜トランジスタＴＦＴ３のターンオンによって分圧され、第１サブ電極ＰＥ１に印加される電圧より低い場合もある。互いに異なる電圧が印加される第１サブ電極ＰＥ１と第２サブ電極ＰＥ２の各々と共通電圧が印加される第２電極ＣＥの間には互いに異なる大きさの電界が形成される。互いに異なる電界に応じて、第１サブ電極ＰＥ１と第２電極ＣＥとの間に位置する液晶分子と第２サブ電極ＰＥ２と第２電極ＣＥとの間に位置する液晶分子が駆動され、その結果、液晶層ＬＣを透過する光量に応じて画像が表示される。
【００９０】
上記のように本発明の一実施形態による曲面表示装置５０は第１基板１１０と液晶層ＬＣとの間に形成される第１偏光層１２０を備えることによって、第１基板１１０に光学的異方性現象が発生しても第１偏光層１２０の偏光特性が維持された光を液晶層ＬＣに提供できる。
【００９１】
したがって、本発明の一実施形態による曲面表示装置５０は、第１偏光層が第１基板の外部に配置される場合、第１基板の光学的異方性現象により、第１偏光層によって偏光した光に位相遅延が発生した光（第１偏光層の偏光特性と異なる偏光特性を有する光）が液晶層を通過することで所望しない映像が表示されること、例えばブラック映像に光漏れ現象が発生することを減すことができる。
【００９２】
次に、本発明の他の実施形態による曲面表示装置について説明する。
【００９３】
図８は本発明の他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。図９は図８の表示パネルを説明するための一画素の平面図である。図１０は図８の表示パネルの第１基板での第１偏光層の配置を示すレイアウト図である。図１１及び図１２は図１０の第１偏光層の多様な実施形態を示すレイアウト図である。図９では第１サブ電極ＰＥ１及び第２サブ電極ＰＥ２が点線で示す四角形領域に形成され、第１サブ電極ＰＥ１及び第２サブ電極ＰＥ２の具体的な形状は省略した。
【００９４】
図８を参照すると、本発明の他の実施形態による曲面表示装置は図２の曲面表示装置５０と比較して表示パネル１１のみ異なり、同様の構成を有する。したがって、本発明の他の実施形態による曲面表示装置では表示パネル１１についてのみ説明する。
【００９５】
表示パネル１１は相互対向する第１表示板１００ａ及び第２表示板２００を含み得る。第１表示板１００ａと第２表示板２００はシーリング材（図示せず）により結合し得る。第１表示板１００ａと第２表示板２００との間には液晶層ＬＣが介在し得る。
【００９６】
表示パネル１１の第１表示板１００ａは第１基板１１０、第１偏光層１２０ａ、第１絶縁層１３０ａ、ゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ、ストレージ線ＳＬ、基準線ＲＬ、ゲート絶縁層１４０、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２、第３薄膜トランジスタＴＦＴ３、保護層１５０及び第１電極ＰＥを含み、図５の第１表示板１００と類似する。
【００９７】
ただし、第１偏光層１２０ａが反射型偏光層で形成される。この場合、第１偏光層１２０ａは複数の金属線で構成される。前記複数の金属線１２１はパターニング方法などにより第１基板１１０上に一方向に延長され、前記一方向と垂直方向に互いに一定間隔をおいて離隔して形成される。前記一定間隔は数十ないし数百ｎｍであり得る。前記一方向は０°の光軸ＯＡ１を有する第１偏光層１２０ａが０°の光軸ＯＡ１を有するようにするための方向にあり得る。第１偏光層１２０ａは導電性物質、例えばＡｌ、Ａｕ、Ｃｕ、Ｃｒ、Ｆｅ及びＮｉのうち少なくとも一つを含み得る。
【００９８】
このように第１偏光層１２０ａを反射型偏光層で形成する場合、第１偏光層１２０ａを第１基板１１０に付着させる別途の付着工程を経ず第１基板１１０に直接パターニング工程により形成させ得る。これによって、第１偏光層１２０ａの形成が容易になる。図１０では、第１偏光層１２０ａを構成する複数の金属線が第１基板１１０上に全面的に配置された。すなわち、前記複数の金属線が第１基板１１０の表示領域ＤＡだけでなく、非表示領域ＮＤＡに配置された。この場合、表示領域ＤＡに配置された複数の金属線から反射した光と非表示領域ＮＤＡに配置された複数の金属線から反射した光が第１偏光層１２０ａに再入射され得るため、光利用効率が向上できる。一方、第１偏光層１２０ａのパターンは図１０に示すパターンに限定されない。例えば、第１偏光層１２０ａの代わりに図１１の第１偏光層１２０ｂまたは図１２の第１偏光層１２０ｃが第１基板１１０上に配置される。以下で詳細に説明する。
【００９９】
第１絶縁層１３０ａは図５の第１絶縁層１３０と類似する。ただし、第１絶縁層１３０ａは第１基板１１０上に第１偏光層１２０ａを覆うように形成される。
【０１００】
図１１は第１偏光層１２０ｂが表示領域ＤＡに配置される複数の金属線１２１ｂと非表示領域ＮＤＡに配置される金属ピース１２２ｂを含む場合を例示する。複数の金属線１２１ｂは図１０の第１偏光層１２０ａを構成する複数の金属線と同じである。金属ピース１２２ｂは複数の金属線１２１ｂの形成時に共に形成され得、複数の金属線１２１ｂと同じ高さを有し得る。よって、金属ピース１２２ｂと複数の金属線１２１ｂとは同一材料及び同一工程で形成され得る。このような第１偏光層１２０ｂは非表示領域ＮＤＡで表面積が大きい金属ピース１２２ｂを有するため、表示領域ＤＡに配置された複数の金属線１２１ｂから反射した光と非表示領域ＮＤＡに配置された金属ピース１２２ｂから反射した光が第１偏光層１２０ｂに再入射されるため、光利用効率が大きく向上できる。なお、金属線１２１ｂは、上述と同様に、複数の金属線が一方向に延長され、前記一方向と垂直方向に互いに一定間隔をおいて離隔して形成される配線である。金属ピース１２２ｂは、表示領域ＤＡに配置される複数の金属線１２１ｂの周囲において、非表示領域ＮＤＡを覆うように配置される。よって、金属ピース１２２ｂは、例えば枠状に形成され得る。また、図１１に示すように非表示領域ＮＤＡの概ね全面を覆うように形成され得る。このとき、金属線１２１ｂと金属ピース１２２ｂとは接続されてもよいし、分離されていてもよい。
【０１０１】
図１２は第１偏光層１２０ｃが第１電極ＰＥ、具体的には第１サブ電極ＰＥ１と第２サブ電極ＰＥ２上に配置される複数の金属線１２１ｃと、表示領域ＤＡで第１電極ＰＥが配置された領域を除いた領域と非表示領域ＮＤＡに配置される金属ピース１２２ｃを含む場合を例示する。つまり、金属線１２１ｃは、第１電極ＰＥ上において、上述と同様に、複数の金属線が一方向に延長され、前記一方向と垂直方向に互いに一定間隔をおいて離隔して形成される配線である。金属ピース１２２ｃは、第１電極ＰＥの周囲に配置される配線であり、第１電極ＰＥ以外の領域（第１電極ＰＥが配置された領域を除いた領域と非表示領域ＮＤＡ）の概ね全面を覆うように配置される。このとき、金属線１２１ｃと金属ピース１２２ｃとは接続されてもよいし、分離されていてもよい。金属ピース１２２ｃは複数の金属線１２１ｃの形成時に共に形成され、複数の金属線１２１ｃと同じ高さを有し得る。よって、金属ピース１２２ｂと複数の金属線１２１ｂとは同一材料及び同一工程で形成され得る。このような第１偏光層１２０ｃは表示領域ＤＡで第１電極ＰＥが配置された領域を除いた領域と非表示領域ＮＤＡで表面積が大きい金属ピース１２２ｃを有するため、表示領域ＤＡに配置された複数の金属線１２１ｃから反射した光と非表示領域ＮＤＡに配置された金属ピース１２２ｃから反射した光が第１偏光層１２０ｃに再入射されるため光利用効率がさらに大きく向上できる。
【０１０２】
表示パネル１１の第２表示板２００は図５を参照して詳細に説明したので、重複する説明は省略する。
【０１０３】
上記のように本発明の他の実施形態による曲面表示装置は、第１基板１１０と液晶層ＬＣとの間に複数の金属線で構成される第１偏光層１２０ａを備えることによって、第１基板１１０上に第１偏光層１２０ａの形成を容易にし、かつ光利用効率を上げることができ、第１基板１１０に光学的異方性現象が発生しても第１偏光層１２０ａの偏光特性が維持された光を液晶層ＬＣに提供することができる。
【０１０４】
したがって、本発明の他の実施形態による曲面表示装置は、第１偏光層が第１基板の外部に配置される場合、第１基板の光学的異方性現象により、第１偏光層によって偏光した光に位相遅延が発生した光（第１偏光層の偏光特性と異なる偏光特性を有する光）が液晶層を通過することで所望しない映像が表示されること、例えばブラック映像に光漏れ現象が発生することを減らすことができる。
【０１０５】
次に、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置について説明する。
【０１０６】
図１３は本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【０１０７】
図１３を参照すると、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、図２の曲面表示装置５０と比較して表示パネル１２のみ異なり、同様の構成を有する。しがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置では表示パネル１２についてのみ説明する。
【０１０８】
表示パネル１２の第１表示板１００は相互対向する第１表示板１００ｄ及び第２表示板２００ａを含み得る。第１表示板１００ｄと第２表示板２００ａはシーリング材（図示せず）により結合し得る。第１表示板１００ｄと第２表示板２００ａとの間には液晶層ＬＣが介在し得る。
【０１０９】
表示パネル１２の第１表示板１００ｄは第１基板１１０、第１偏光層１２０ｄ、第１絶縁層１３０ｄ、ゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ、ストレージ線ＳＬ、基準線ＲＬ、ゲート絶縁層１４０、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２、第３薄膜トランジスタＴＦＴ３、保護層１５０及び第１電極ＰＥを含み、図５の第１表示板１００と類似する。
【０１１０】
ただし、第１偏光層１２０ｄは第１基板１１０の外側に配置される。これによって、第１偏光層１２０ｄはバックライトユニット２０から提供される内部光を所定の特定方向に偏光させ、偏光した光を第１基板１１０に提供する。したがって、第１基板１１０に光学的異方性現象が発生する場合、第１偏光層１２０ｄにより偏光した光が第１基板１１０を通過するときに、第１偏光層１２０ｄにより偏光した光に位相遅延が発生し得る。これによって位相遅延が発生した光が液晶層ＬＣに提供され、液晶層ＬＣに提供される光の偏光特性は、第１偏光層１２０ｄにより偏光した光の偏光特性を変化させ得る。これは、第２偏光層２３０ａにより偏光した光に所望しない光が微小に含まれるようにできる。例えば、曲面表示装置がブラック映像を表示するように液晶層ＬＣの液晶分子の配列が制御された場合において、ブラック映像に微小な光漏れ現象が発生できる。しかし、前記微小な光漏れ現象は大きく認識されない。
【０１１１】
第１偏光層１２０ｄは第１偏光層１２０のように吸収型偏光層であるか、反射型偏光層であり得る。図１３では、第１偏光層１２０ｄが０°の光軸（図６のＯＡ１）を有する吸収型偏光層で形成された場合を例示した。第１偏光層１２０ｄは第１基板１１０上に全面的に配置されるが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第１偏光層１２０ｄは表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【０１１２】
第１絶縁層１３０ｄは図５の第１絶縁層１３０と類似する。ただし、第１絶縁層１３０ｄは第１基板１１０上に直接形成される。いくつかの実施形態で、第１絶縁層１３０ａは省略できる。
【０１１３】
表示パネル１２の第２表示板２００ａは第２基板２１０、ブラックマトリックスＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコーティング層２２０、第２電極ＣＥ及び第２偏光層２３０ａを含み、図５の第２表示板２００と類似する。
【０１１４】
ただし、第２偏光層２３０ａは第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置される。例えば、第２偏光層２３０ａは第２基板２１０とカラーフィルタＣＦとの間に形成され得る。すなわち、第２偏光層２３０ａは第２基板２１０上にカラーフィルタＣＦを含む他の構成より先に形成されるため、第２偏光層２３０ａを形成する時においては、第２偏光層２３０ａは、他の構成を形成するために加えられる高温による影響回避し得る。また、第２偏光層２３０ａは第２基板２１０上に直接配置され、第２基板２１０の平坦面に容易に付着されるか、第２基板２１０の平坦面で容易に製造され得る。
【０１１５】
第２偏光層２３０ａは図５の偏光層２３０と類似する役割を果たす。ただし、第２偏光層２３０ａは第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置され、液晶層ＬＣを通過した光を偏光させて第２基板２１０に提供する。したがって、第２基板２１０に光学的異方性現象が発生しても、第２偏光層２３０ａは第２基板２１０の光学的異方性による光の位相遅延に関係なく、液晶層ＬＣから提供される光を偏光させることができる。これによって第２偏光層が第２基板の外部に配置され、位相遅延が発生した光を偏光させる場合において偏光した光に所望しない光が含まれることが減る。ただし、前述したように第１基板１１０の外部に配置された第１偏光層１２０ｄによって偏光した光の偏光特性が変わった状態で液晶層ＬＣに提供されるため、第２編光板２３０ａによって偏光した光に所望しない光が微小に含まれ得るが、これは大きく認識されない。
【０１１６】
第２偏光層２３０ａは吸収型偏光層であるか、反射型偏光層であり得る。図１３では、第２偏光層２３０ａが９０°の光軸（図７のＯＡ２）を有する吸収型偏光層で形成された場合を例示した。第２偏光層２３０ａは第２基板２３０上に全面的に配置されるが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第２偏光層２３０ａは表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【０１１７】
上記のように本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に形成される第２偏光層２３０ａを備えることによって、第２基板２１０に光学的異方性現象が発生しても第２基板２１０の光学的異方性現象による光の位相遅延に関係なく、液晶層ＬＣから提供される光を偏光させることができる。
【０１１８】
したがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は第２偏光層が第２基板の外部に配置される場合、第２基板の光学的異方性現象により、位相遅延が発生した光が第２偏光層に提供されて偏光されることで所望しない映像が表示されること、例えばブラック映像に光漏れ現象が発生することを減らすことができる。
【０１１９】
次は、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置について説明する。
【０１２０】
図１４は本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。図１５は図１４の表示パネルを説明するための一画素の平面図である。
【０１２１】
図１４を参照すると、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は図２の曲面表示装置５０と比較して表示パネル１３のみ異なり、同様の構成を有する。したがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置では表示パネル１３についてのみ説明する。
【０１２２】
表示パネル１３の相互対向する第１表示板１００ｄ及び第２表示板２００ｂを含み得る。第１表示板１００ｄと第２表示板２００ｂはシーリング材（図示せず）により結合し得る。第１表示板１００ｄと第２表示板２００ｂとの間には液晶層ＬＣが介在し得る。
【０１２３】
表示パネル１３の第１表示板１００ｄは図１３を参照して詳細に説明したので、重畳する説明は省略する。例えば、図１４に示すように、第１偏光層１２０ｄは第１基板１１０の外側の面に配置される。図１４では、第１偏光層１２０ｄが第１基板１１０の外側の面に全面的に配置される場合を示すが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第１偏光層１２０ｄは表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【０１２４】
表示パネル１３の第２表示板２００ｂは第２基板２１０、ブラックマトリックスＢＭ、カラーフィルタＣＦ、オーバーコーティング層２２０、第２電極ＣＥ及び第２偏光層２３０ｂを含み、図５の第２表示板２００と類似する。
【０１２５】
ただし、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置される。例えば、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０とカラーフィルタＣＦとの間に形成され得る。すなわち、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０上にカラーフィルタＣＦを含む他の構成より先に形成されるため、第２偏光層２３０ｂを形成する時においては、他の構成を形成するために加えられる高温による影響を回避し得る。また、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０上に直接配置され第２基板２１０の平坦面に容易に付着されたり、第２基板２１０の平坦面で容易に製造され得る。
【０１２６】
第２偏光層２３０ｂは図５の偏光層２３０と類似する役割を果たす。ただし、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置され、液晶層ＬＣを通過した光を偏光させ第２基板２１０に提供する。したがって、第２基板２１０に光学的異方性現象が発生しても、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０の光学的異方性による光の位相遅延に関係なく、液晶層ＬＣから提供される光を偏光させることができる。これによって第２偏光層が第２基板の外部に配置され、位相遅延が発生した光を偏光させる場合において偏光した光に所望しない光が含まれることを減らすことができる。ただし、前述したように第１偏光層１２０ｄにより偏光した光の偏光特性が変わった状態で液晶層ＬＣに提供されるため、第２編光板２３０ｂによって偏光した光に所望しない光が微小に含まれるが、これは大きく認識されない。
【０１２７】
第２偏光層２３０ｂは前記特定方向と垂直方向に偏光させる光以外の光を吸収させる吸収型偏光層であるか、前記特定方向と垂直方向に偏光させる光以外の光を反射させる反射型偏光層であり得る。図１４及び図１５では、第２偏光層２３０ｂが９０°の光軸ＯＡ２を有する反射型偏光層で形成された場合を例示した。この際、第２偏光層２３０ｂは第１電極ＰＥ、具体的には第１サブ電極ＰＥ１と第２サブ電極ＰＥ２上にのみ配置される。ここで図９の第１偏光層１２０ｂでは複数の金属線はデータ線ＤＬに沿った縦方向に延びて、互いにゲート線方向に沿った方向に離隔している。しかし、図１４及び図１５の第２偏光層２３０ｂの金属線は、図９の複数の金属線とは概ね垂直であり得る。つまり、図１４及び図１５の第２偏光層２３０ｂの複数の金属線は、ゲート線に沿った横方向に延びて、互いにデータ線ＤＬ方向に沿った方向に離隔している。したがって、第２偏光層２３０ｂが反射型偏光層で形成された場合において、第２偏光層２３０ｂに入射する外部光が第２偏光層２３０ａから反射することによってグレア現象が発生することを最小化できる。一方、第２偏光層２３０ｂを構成する前記複数の金属線が第１電極ＰＥ、具体的には第１サブ電極ＰＥ１と第２サブ電極ＰＥ２上にのみ配置する場合、第２偏光層２３０ｂはブラックマトリックスＢＭと同一層にあり得る。
【０１２８】
上記のように本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に形成される第２偏光層２３０ｂを備えることによって、グレア現象が発生することを最小化し、かつ第２基板２１０に光学的異方性現象が発生しても第２基板２１０の光学的異方性現象による光の位相遅延に関係なく、液晶層ＬＣから提供される光を偏光させることができる。
【０１２９】
したがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第２偏光層が第２基板の外部に配置される場合、第２基板の光学的異方性現象により、位相遅延が発生した光が第２偏光層に提供されて偏光されることで所望しない映像が表示されること、例えばブラック映像に光漏れ現象に発生することを減らすことができる。
なお、上記では、第２偏光層２３０ｂは、ゲート線に沿った横方向に延びて、互いにデータ線ＤＬ方向に沿った方向に離隔している。しかし、第２偏光層２３０ｂの複数の金属線はデータ線ＤＬに沿った縦方向に延びて、互いにゲート線方向に沿った方向に離隔していてもよい。
【０１３０】
次に、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置について説明する。
【０１３１】
図１６は本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【０１３２】
図１６を参照すると、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、図２の曲面表示装置５０と比較して表示パネル１４のみ異なるため、同様の構成を有する。したがって、本発明の他の実施形態による曲面表示装置では表示パネル１４についてのみ説明する。
【０１３３】
表示パネル１４は相互対向する第１表示板１００ａ及び第２表示板２００ｂを含み得る。第１表示板１００ａと第２表示板２００ｂはシーリング材（図示せず）により結合し得る。第１表示板１００ａと第２表示板２００ｂとの間には液晶層ＬＣが介在し得る。
【０１３４】
表示パネル１４の第１表示板１００ａは図８を参照して詳細に説明したので、重畳する説明は省略する。例えば、第１偏光層１２０ａが反射型偏光層で形成される。この場合、第１偏光層１２０ａは複数の金属線で構成される。前記複数の金属線はパターニング方法などにより第１基板１１０上に一方向に延長され、前記一方向と垂直方向に互いに一定間隔をおいて離隔して形成される。
【０１３５】
表示パネル１４の第２表示板２００ｂは図１４を参照して詳細に説明したので、重畳する説明は省略する。例えば、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置される。第２偏光層２３０ｂが反射型偏光層で形成される場合は、第１偏光層１２０ａと同様に複数の金属配線によって形成されてもよい。このとき、第２偏光層２３０ｂの複数の金属線は、図１４と同様に、ゲート線に沿った横方向に延びて、互いにデータ線ＤＬ方向に沿った方向に離隔している。ただし、第２偏光層２３０ｂの複数の金属線はデータ線ＤＬに沿った縦方向に延びて、互いにゲート線方向に沿った方向に離隔していてもよい。このとき、第１偏光層１２０ａの複数の金属線と、第２偏光層２３０ｂの複数の金属線とは交差するのがよい。
あるいは、第２偏光層２３０ｂが第１基板１１０上に全面的に配置されるか、表示領域ＤＡと対応するように配置されてもよい。
【０１３６】
ただし、表示パネル１４では液晶層ＬＣに提供される光の偏光特性が第１偏光層１２０ａによって偏光した光の偏光特性を有し、液晶層ＬＣを通過した光が第２基板２１０に提供される前に第２偏光層２３０ｂに提供されるため、液晶層ＬＣを通過した光が光学的異方性現象を有する第２基板２１０の影響を受けず第２偏光層２３０ｂによって偏光され得る。
【０１３７】
したがって、曲面表示装置で所望する映像、例えばブラック映像を表示するように液晶層ＬＣの液晶分子の配列が制御された場合において、液晶層ＬＣを通過した光が第２偏光層２３０ｂを通過しないため、光漏れのないブラック映像が表示され得る。
【０１３８】
上記のように本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第１基板１１０と液晶層ＬＣＬとの間に形成される第１偏光層１２０ａと第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に形成される第２偏光層２３０ｂを備えることによって、第１基板１１０に光学的異方性現象が発生しても第１偏光層１２０ａの偏光特性が維持された光を液晶層ＬＣに提供することができ、また第２基板２１０に光学的異方性現象が発生しても第２基板２１０の光学的異方性現象による光の位相遅延に関係なく、液晶層ＬＣから提供される光を偏光させることができる。
【０１３９】
したがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第１基板１１０の光学的異方性現象と第２基板２３０の光学的異方性現象によって所望しない映像が表示されること、例えばブラック映像に光漏れ現象が発生することを最小化できる。
【０１４０】
次に、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置について説明する。
【０１４１】
図１７は本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【０１４２】
図１７を参照すると、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、図２の曲面表示装置５０と比較して表示パネル１５のみ異なるため、同様の構成を有する。したがって、本発明の他の実施形態による曲面表示装置では表示パネル１５についてのみ説明する。
【０１４３】
表示パネル１５は相互対向する第１表示板１００ｅ及び第２表示板２００ｂを含み得る。第１表示板１００ｅと第２表示板２００ｂはシーリング材（図示せず）により結合し得る。第１表示板１００ｅと第２表示板２００ｂとの間には液晶層ＬＣが介在し得る。
【０１４４】
表示パネル１５は第１基板１１０ｅ、第１偏光層１２０ｄ、第１絶縁層１３０ｄ、ゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ、ストレージ線ＳＬ、基準線ＲＬ、ゲート絶縁層１４０、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２、第３薄膜トランジスタＴＦＴ３、保護層１５０及び第１電極ＰＥを含み、図１４の第１表示板１００ｄと類似する。
【０１４５】
ただし、第１基板１１０ｅは図１４の第１基板１１０ａの第１厚さｔ１より薄い第１厚さｔ１１を有する。すなわち、第１基板１１０ｅの第１厚さｔ１１は第２基板２１０の第２厚さｔ２より薄くてもよい。この場合、曲率を有するバックライトユニット２０にフラットな表示パネル１３を締結して曲面表示装置を製造する過程で第１基板１１０ｅに発生する第１ストレスは第２基板２１０に発生する第２ストレスより小さい。
【０１４６】
これにより、第１基板１１０ｅに発生する光学的異方性現象が減る。したがって、第１偏光層１２０ｄが第１基板１１０ｅの外部に配置されても、第１編光板１２０ｄにより偏光した内部光が光学的異方性を有する第１基板１１０ｅを通過するときに第１編光板１２０ｄにより偏光した内部光に位相遅延が大きく発生しない。
なお、例えば、図１７に示すように、第１偏光層１２０ｄは図１４と同様に第１基板１１０ｅの外側の面に配置される。図１７では、第１偏光層１２０ｄが第１基板１１０ｅの外側の面に全面的に配置される場合を示すが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第１偏光層１２０ｄは表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【０１４７】
表示パネル１５の第２表示板２００ｂは図１４を参照して詳細に説明したので、重畳する説明は省略する。例えば、第２偏光層２３０ｂは第２基板２１０と液晶層ＬＣとの間に配置される。第２偏光層２３０ｂが反射型偏光層で形成される場合は、第１偏光層１２０ｄと同様に複数の金属配線によって形成されてもよい。このとき、第２偏光層２３０ｂの複数の金属線は、図１４と同様に、ゲート線に沿った横方向に延びて、互いにデータ線ＤＬ方向に沿った方向に離隔している。ただし、第２偏光層２３０ｂの複数の金属線はデータ線ＤＬに沿った縦方向に延びて、互いにゲート線方向に沿った方向に離隔していてもよい。
あるいは、第２偏光層２３０ｂが第１基板１１０上に全面的に配置されるか、表示領域ＤＡと対応するように配置されてもよい。
【０１４８】
上記のように本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第１基板１１０ｅの第１厚さｔ１１を第２基板２１０の第２厚さｔ２より薄くし、第１基板１１０ｅに発生する第１ストレスを第２基板２１０の第２ストレスより小さくすることができる
【０１４９】
したがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第１基板１１０ｅの光学的異方性現象により、第１偏光層１２０ｄによって偏光した光の位相遅延が発生することを減らし、位相遅延が減った光が液晶層に提供することができ、またスリムな曲面表示装置を実現できる。
【０１５０】
次に、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置について説明する。
【０１５１】
図１８は本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置のうち図５の表示パネルと対応する表示パネルの断面図である。
【０１５２】
図１８を参照すると、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、図２の曲面表示装置５０と比較して表示パネル１６のみ異なり、同様の構成を有する。したがって、本発明の他の実施形態による曲面表示装置では表示パネル１６についてのみ説明する。
【０１５３】
表示パネル１６は相互対向する第１表示板１００ｆ及び第２表示板２００ｃを含み得る。第１表示板１００ｆと第２表示板２００ｃはシーリング材（図示せず）により結合し得る。第１表示板１００ｆと第２表示板２００ｃとの間には液晶層ＬＣが介在し得る。
【０１５４】
表示パネル１６は第１基板１１０、第１偏光層１２０ａ、第１絶縁層１３０ａ、ゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ、ストレージ線ＳＬ、基準線ＲＬ、ゲート絶縁層１４０、第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２、第３薄膜トランジスタＴＦＴ３、第２絶縁層１６０ｆ、ブラックマトリックスＢＭ、カラーフィルタＣＦ、平坦化層１７０ｆ及び第１電極ＰＥを含み、図８の第１表示板１００ａと類似する。
【０１５５】
ただし、第２絶縁層１６０ｆは第１薄膜トランジスタＴＦＴ１、第２薄膜トランジスタＴＦＴ２及び第３薄膜トランジスタＴＦＴ３上に形成され、図８の第２表示板２００に含まれたブラックマトリックスＢＭとカラーフィルタＣＦが第１表示板１００ｆの第２絶縁層１６０ｆ上に形成され、ブラックマトリックスＢＭとカラーフィルタＣＦを平坦化させる平坦化層１７０ｆが形成される。この際、ブラックマトリックスＢＭはゲート線ＧＬ、データ線ＤＬ及び薄膜トランジスタ（ＴＦＴ１、ＴＦＴ２、ＴＦＴ３）と重畳し得る。
また、例えば、第１偏光層１２０ａが反射型偏光層で形成される。この場合、第１偏光層１２０ａは複数の金属線で構成される。前記複数の金属線はパターニング方法などにより第１基板１１０上に一方向に延長され、前記一方向と垂直方向に互いに一定間隔をおいて離隔して形成される。また、前記一方向とは、ゲート線方向であってもデータ線方向であってもよい。
【０１５６】
表示パネル１６の第２表示板２００ｃは、第２基板２１０ｃ、第２偏光層２３０及び第２電極ＣＥを含み、図８の第２表示板２００と類似する。例えば、図８、図１８に示すように、第２偏光層２３０は第２基板２１０ｃの外側の面に配置される。図８、図１８は、第２偏光層２３０が第２基板２１０ｃの外側の面に全面的に配置される場合を示すが、これに限定されない。いくつかの実施形態で、第２偏光層２３０は表示領域ＤＡと対応するように配置され得る。
【０１５７】
ただし、第２表示板２００ｃの構成が図８の第２表示板２００の構成より減り、第２基板２１０ｃは第１基板１１０の第１厚さｔより薄い第２厚さｔ１２で形成される。この場合、曲率を有するバックライトユニット２０にフラットな表示パネル１６を締結して曲面表示装置を製造する過程で第２基板２１０ｃに発生する第２ストレスは第１基板１１０に発生する第１ストレスより小さい。
【０１５８】
これにより、第２基板２１０ｃに発生する光学的異方性現象が減れる。したがって、第２偏光層２３０が第２基板２１０ｃの外部に配置されても、液晶層ＬＣから提供された光が光学的異方性を有する第２基板２１０ｃを通過するとき、第２基板２１０ｃを通過した光に位相遅延が大きく発生しない。
【０１５９】
上記のように本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第２基板２１０ｃの第２厚さｔ１２を第１基板１１０の第１厚さｔ１より薄くし、第２基板２１０ｃに発生する第２ストレスを第１基板１１０の第１ストレスより小さくすることができる
【０１６０】
したがって、本発明のまた他の実施形態による曲面表示装置は、第２基板２１０ｃの光学的異方性現象により液晶層ＬＣから提供され、第２基板２１０ｃを通過する光の位相遅延が発生することを減らして第２偏光層２３０に提供することができ、またスリムな曲面表示装置を実現することができる。
【０１６１】
以上、添付する図面を参照して本発明の実施形態について説明したが、本発明が属する技術分野で通常の知識を有する者は、本発明のその技術的思想や必須の特徴を変更しない範囲で他の具体的な形態で実施され得ることを理解できるであろう。したがって、上記実施形態はすべての面で例示的なものであり、限定的なものではないと理解しなければならない。
【符号の説明】
【０１６２】
１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６    表示パネル、
２０    バックライトユニット、
３０    中間収納容器、
４０    上部収納容器、
５０    曲面表示装置、
１００、１００ａ、１００ｄ、１００ｅ、１００ｆ    第１表示板、
１１０、１１０ｅ    第１基板、
１２０、１２０ａ、１２０ｂ、１２０ｃ、１２０ｄ    第１偏光層、
１３０、１３０ａ、１３０ｄ    第１絶縁層、
１４０    ゲート絶縁層、
１５０    保護層、
１６０ｆ    第２絶縁層、
１７０ｆ    平坦化層、
２００、２００ａ、２００ｂ、２００ｃ    第２表示板、
２１０、２１０ｃ    第２基板、
２２０    オーバーコーティング層、
２３０、２３０ａ、２３０ｂ    第２偏光層。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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