(57)【要約】【課題】  本発明では、長時間使用されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】  酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムであって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルム。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムであって、
前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルム。
【請求項２】
前記剥離抑制処理が、
光照射後の定常状態における、高屈折率層の温度をＸ℃とし、低屈折率層の温度をＹ℃としたときに、下記式１：
【数１】
2016057537.tif 000013
を満たすようにすることによって行われてなる、請求項１に記載の光学反射フィルム。
【請求項３】
前記剥離抑制処理が、
下記式２：
【数２】
2016057537.tif 000014
を満たすようにすることによって行われてなる、請求項２に記載の光学反射フィルム。
【請求項４】
前記剥離抑制処理が、
下記式３：
【数３】
2016057537.tif 000015
を満たすようにすることによって行われてなる、請求項２または３に記載の光学反射フィルム。
【請求項５】
前記剥離抑制処理が、低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることによって行う、請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項６】
前記低屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量が、前記高屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量より多い、請求項５に記載の光学反射フィルム。
【請求項７】
前記低屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量が、前記低屈折率層の全固形分に対して、０．７〜５質量％である、請求項６に記載の光学反射フィルム。
【請求項８】
前記高屈折率層および前記低屈折率層が、それぞれ、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールをさらに含有する、請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項９】
前記酸化チタンの含有量が、前記高屈折率層において、４０〜８０体積％である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学反射フィルム。
【請求項１０】
前記温度上昇促進剤が、トリアゾール骨格、ベンゾフェノン骨格またはイミダゾール骨格を有する、請求項５〜９のいずれか１項に記載の光反射フィルム。
【請求項１１】
酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層することを有する、光学反射フィルムの製造方法であって、
前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを有する、光学反射フィルムの製造方法。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学反射フィルム、または請求項１１に記載の方法により製造された光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体。
【請求項１３】
酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムにおける、前記少なくとも一つのユニットの界面の剥離を抑制する方法であって、
前記少なくとも一つのユニットの低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることを有する、剥離を抑制する方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学反射フィルム、その製造方法およびそれを用いる光学反射体に関する。
【背景技術】
【０００２】
屈折率の異なる層を交互積層した積層ユニットを有する光学反射フィルムにおいて各層の光学特性を調整することで、近赤外線や遠赤外線、可視光、紫外線などの特定波長領域の光線を反射するように設計できることが知られている。
【０００３】
このような光学反射フィルムは、その用途に制限はないが、例えば、金属光沢調フィルム、可視光透過着色フィルム、遮熱フィルムとして好適に使用できる。
【０００４】
上記に関する開発は、各種方面でなされており、例えば、特許文献１には、建築物の窓ガラスや車載ガラス及びそれらに貼着して利用するフィルム、眼鏡用レンズ、カメラ用レンズ、ディスプレー用フィルター等のプラスチックやガラス上に多層コートすることで特定波長を選択反射、または透過する機能性膜を実現するためのコーティング用組成物が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−１２３７６６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかしながら、従来の光学反射フィルムにおいては、例えば、太陽光等に長時間曝されると、反射率が低下する問題があった。
【０００７】
そこで、本発明では、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することを目的とする。
【０００８】
また、かような光学反射フィルムの製造方法およびそれを用いる光学反射体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明者は、上記課題を解決すべく、鋭意検討を行った。
【００１０】
その過程で、太陽光等に長時間曝された際に、反射率が低下するメカニズムについて検討した。
【００１１】
検討を進めていく中で、光学反射フィルムに、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれが発生していることが分かり、それが、反射率の低下に繋がっていると考えた。そして、それは、外観の悪化にも繋がっていた。
【００１２】
光学反射フィルムは、通常、高屈折率層と、低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなるが、本発明では、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタン、低屈折率層の金属酸化物として酸化ケイ素を採用し、このユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことで、スジや、割れ、あるいは剥がれなどの外観の低下が抑制され、ひいては、反射率を向上させることができることを見出し、本発明を完成させることができた。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することができる。
【００１４】
また、かような光学反射フィルムの製造方法およびそれを用いる光学反射体を提供することができる。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
本発明の第１は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムであって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルムである。
【００１６】
本発明の第２は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層することを有する、光学反射フィルムの製造方法であって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを有する、光学反射フィルムの製造方法である。
【００１７】
本発明の第３は、本発明の第１の光学反射フィルム、または、本発明の第２の製造方法により光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体である。
【００１８】
上記構成をとることによって、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを提供することができる。
【００１９】
また、かような光学反射フィルムの製造方法およびそれを用いる光学反射体を提供することができる。
【００２０】
以下、本発明の好ましい実施形態について、詳細に説明する。なお、以下では、低屈折率層および高屈折率層を区別しない場合は、両者を含む、あるいはいずれか一方を指す概念として「屈折率層」と称する場合がある。
【００２１】
また、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性等の測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％の条件で測定する。
【００２２】
［本発明の第１］
本発明の第１は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムであって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理が施されている、光学反射フィルムである。
【００２３】
＜光学反射フィルムの層構成＞
まず、光学反射フィルムの層構成について説明する。本発明の第１に用いられる光学反射フィルムは、その基本の層構成として、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる。ここで、該ユニットは、基材の片面にのみ形成されていてもよいし、両面に形成されていてもよい。
【００２４】
上記のように、従来の光学反射フィルムは、太陽光等に長時間曝されると、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれが発生してしまう。それが、反射率の低下に繋がっていると、本発明者は考えた。
【００２５】
そこで、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットの少なくとも一層に、剥離抑制処理を施すことで、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれを抑制し、また、反射率の低下を抑制することができた。
【００２６】
ここで、剥離抑制処理の具体的方法については、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層との界面の剥離を抑制することができる方法であれば、特に制限されないが、好ましくは、光照射後の定常状態における、高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における、低屈折率層の温度との差を、小さくする処理を行う。
【００２７】
より詳しく説明すると、本発明者は、表面にスジや、割れ、あるいは剥がれが発生してしまう原因について探求する課程で、高屈折率層の酸化チタンについて着目した。高屈折率層の酸化チタンは、太陽光等に照射されると温度が上昇するのに対して、低屈折率層の酸化ケイ素は、それと比較して上昇しない。そうすると、反射層内の各層における温度が不均一になって、各層の体積変化に差異が生じ、それに起因して、界面に剥離等が発生し、それが、反射率の低下、外観の悪化に繋がるのではないか、と考えた。
【００２８】
そこで、本発明の第１の好ましい実施形態によれば、前記剥離抑制処理は、光照射後の定常状態における、高屈折率層の温度をＸ℃とし、低屈折率層の温度をＹ℃としたときに、下記式１：
【００２９】
【数１】
2016057537.tif 000002
【００３０】
を満たすようにすることによって行われてなる。
【００３１】
このように、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差が、２０℃以内となるようにすることで、界面の剥離をより抑制することができ、ひいては、反射率の低下、外観の悪化をより抑制することができる。
【００３２】
ここで、「定常状態」とは、以下を意味する。
【００３３】
すなわち、ある光源に由来する光が、光学反射フィルムに照射された場合、各層とも、時間の経過に応じて温度が上昇する。しかし、一定時間照射を継続すると、それ以上照射をしても実質的に昇温しなくなる。その実質的に昇温しなくなった状態を「定常状態」と定義する。なお、ここで「実質的に」とは、例えば、±３℃以内である場合を言う。
【００３４】
また、本発明の第１のより好ましい実施形態によれば、下記式２：
【００３５】
【数２】
2016057537.tif 000003
【００３６】
を満たすようにすることによって行われてなる。
【００３７】
このような構成にすることによって、表面の割れや、剥がれをさらに抑制（好ましくは防止）することができ、ひいては、反射率をさらに向上させ、また、さらなる外観の改善にも繋がる。
【００３８】
また、本発明の第１の別のより好ましい実施形態によれば、下記式３：
【００３９】
【数３】
2016057537.tif 000004
【００４０】
を満たすようにすることによって行われてなる。
【００４１】
このように、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度が、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度より高くなるように設定することで、表面の割れや、剥がれを抑制（好ましくは防止）することができ、ひいては、反射率を向上させることができる。ただし、後述するΔＥの数値を小さくする観点で考えると、下記式４：
【００４２】
【数４】
2016057537.tif 000005
【００４３】
と設定する方がよい。そのメカニズムは、高屈折率層の膜厚の変動が可視域の反射ピークに影響を与えるためと推測される。
【００４４】
なお、本発明の第１の光学反射フィルムは、基材の下または基材と反対側の最表面層の上に、さらなる機能の付加を目的として、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、上記高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上を有していてもよい。なお、上述の各種の機能層の積層順は、特に制限されない。
【００４５】
例えば、窓ガラスの室内側に光学反射フィルムを貼る（内貼り）仕様では、基材表面に、上記高屈折率層および低屈折率層を積層したユニットを少なくとも１つ含む光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層を塗設する形態が好ましい一例として挙げられる。また、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層、基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。また、窓ガラスの室外側に本発明の光学反射フィルムを貼る（外貼り）仕様でも好ましい一例を挙げると、基材表面に光学反射層、粘着層の順に積層し、さらにこれらの層が積層されている側とは逆の側の基材表面にハードコート層が塗設する構成である。内貼りの場合と同様に、粘着層、基材、光学反射層、ハードコート層の順であってもよく、さらに他の機能層基材、または赤外吸収剤などを有していてもよい。
【００４６】
ただし、上記のような機能層を付与する形態であったとしても、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差を、小さくする処理を行うようにすることがよい。
【００４７】
＜高屈折率層中の酸化チタン＞
本発明において、高屈折率層は、高屈折率層用塗布液を塗布することによりなる。
【００４８】
本発明において、高屈折率層に使用される酸化チタンは、特に限定されないが、粒子状のものが想定されている。本発明では、透明でより屈折率の高い高屈折率層を形成するために、高屈折率層は、金属酸化物微粒子として酸化チタンを含有する。特に、ルチル型（正方晶形）酸化チタン粒子を含有することが高屈折率を示すことから好ましい。
【００４９】
水系の酸化チタンゾルの調製方法としては、従来公知のいずれの方法も用いることができ、例えば、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報、特開昭６３−１７２２１号公報、特開平７−８１９号公報、特開平９−１６５２１８号公報、特開平１１−４３３２７号公報等に記載された事項を参照することができる。
【００５０】
また、酸化チタン粒子のその他の製造方法については、例えば、「酸化チタン−物性と応用技術」清野学  ｐ２５５〜２５８（２０００年）技報堂出版株式会社、またはＷＯ２００７／０３９９５３号明細書の段落番号「００１１」〜「００２３」に記載の工程（２）の方法を参考にすることができる。ここで、上記工程（２）による製造方法とは、二酸化チタン水和物をアルカリ金属の水酸物またはアルカリ土類金属の水酸化物からなる群から選択される、少なくとも１種の塩基性化合物で処理する工程（１）の後に、得られた二酸化チタン分散物を、カルボン酸基含有化合物および無機酸で処理する工程（２）からなる。
【００５１】
さらに、酸化チタンは、含ケイ素の酸化物で被覆されたコアシェル粒子の形態が好ましい。ここで、「被覆」とは、酸化チタン粒子の表面の少なくとも一部に、含ケイ素の酸化物が付着されている状態を意味する。すなわち、酸化チタン粒子の表面が、完全に含ケイ素の酸化物で被覆されていてもよく、酸化チタン粒子の表面の一部が含ケイ素の酸化物で被覆されていてもよい。
【００５２】
上記のように、含ケイ素の酸化物で被覆された酸化チタン粒子の酸化チタンはルチル型であってもアナターゼ型であってもよいが、ルチル型であることがより好ましい。これは、ルチル型の酸化チタン粒子が、アナターゼ型の酸化チタン粒子より光触媒活性が低いため、高屈折率層や隣接した低屈折率層の耐候性が高くなり、さらに屈折率が高くなるという理由からである。
【００５３】
含ケイ素の酸化物の被覆量は、コアとなる酸化チタンに対して、３〜３０質量％、好ましくは３〜２０質量％、より好ましくは３〜１０質量％である。被覆量が３０質量％以下であると、高屈折率層の所望の屈折率化が得られ、被覆量が３質量％以上であると粒子を安定に形成することができるからである。
【００５４】
酸化チタン粒子を含ケイ素の酸化物で被覆する方法としては、本実施例に示されるような、加熱、濾過、脱塩を経る方法でもよいし、あるいは、従来公知の方法を適用することもでき、例えば、特開平１０−１５８０１５号公報、特開２０００−２０４３０１号公報、特開２００７−２４６３５１号公報等に記載された事項を参照にすることができる。
【００５５】
なお、高屈折率層の金属酸化物として含ケイ素の酸化物で被覆された酸化チタン粒子を用いることで、シェル層の含ケイ素の酸化物と、後述するポリビニルアルコールとの相互作用により、高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制される効果を奏する。
【００５６】
酸化チタン粒子（被覆された酸化チタン粒子）の体積平均粒径は、１〜５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜４０ｎｍであるのがさらに好ましい。ここで、本明細書でいう体積平均粒径とは、粒子そのものをレーザー回折散乱法、動的光散乱法、あるいは電子顕微鏡を用いて観察する方法や、屈折率層の断面や表面に現れた粒子像を電子顕微鏡で観察する方法により、１，０００個の任意の粒子の粒径を測定し、それぞれｄ１、ｄ２・・・ｄｉ・・・ｄｋの粒径を持つ粒子がそれぞれｎ１、ｎ２・・・ｎｉ・・・ｎｋ個存在する無機酸化物粒子の集団において、粒子１個当りの体積をｖｉとした場合に、体積平均粒径ｍｖ＝｛Σ（ｖｉ・ｄｉ）｝／｛Σ（ｖｉ）｝で表される体積で重み付けされた平均粒径を算出する。
【００５７】
さらに、高屈折率層に用いられる酸化チタン粒子は、単分散であることが好ましい。ここでいう単分散とは、下記式で求められる単分散度が４０％以下であることをいう。この単分散度は、さらに好ましくは３０％以下であり、特に好ましくは０．１〜２０％である。このような範囲であると、膨張、伸縮時の応力の特異的な集中がなくわれに強い技術的効果を有する。
【００５８】
【数５】
2016057537.tif 000006
【００５９】
また、高屈折率層における酸化チタン粒子の含有量としては、特に制限されないが、高屈折率層において、１５〜９０体積％であることが好ましく、２０〜８５体積％であることがより好ましく、３０〜８０体積％であることがさらに好ましく、４０〜８０体積％であることが特に好ましい。上記範囲とすることで、光学反射特性の良好なものとできる。よって、本発明の第１の好ましい実施形態によれば、前記酸化チタンの含有量は、前記高屈折率層において、４０〜８０体積％である。
【００６０】
＜低屈折率層中の酸化ケイ素＞
本発明において、低屈折率層は、低屈折率層用塗布液を塗布することによりなる。
【００６１】
本発明において、低屈折率層中に使用される酸化ケイ素は、具体的な例としては、合成非晶質シリカ、コロイダルシリカ等が挙げられる。これらのうち、コロイダルシリカ、特に酸性のコロイダルシリカを用いることがより好ましい。酸性のコロイダルシリカを用いることで、水溶性樹脂と安定な塗布液を形成でき、生産性が向上する技術的効果を有する。
【００６２】
低屈折率層中の酸化ケイ素の平均一次粒径（塗布前の分散液状態での粒径）は、１〜２５ｎｍであるのがより好ましく、２〜２０ｎｍであるのがさらに好ましく、３〜１０ｎｍであるのが特に好ましく、４〜１０ｎｍであるのが最も好ましい。また、二次粒子の平均粒径としては、３０ｎｍ以下であることが、ヘイズが少なく可視光透過性に優れる観点で好ましい。
【００６３】
ここで、本明細書において平均一次粒径は、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）等による電子顕微鏡写真から計測することができる。動的光散乱法や静的光散乱法等を利用する粒度分布計等によって計測してもよい。透過型電子顕微鏡から求める場合、平均一次粒径は、粒子そのものあるいは屈折率層の断面や表面に現れた粒子を電子顕微鏡で観察し、１０００個の任意の粒子の粒径を測定し、その単純平均値（個数平均）として求められる。ここで個々の粒子の粒径は、その投影面積に等しい円を仮定したときの直径で表したものである。本発明においては、透過型電子顕微鏡を用いた方法を採用するものとする。
【００６４】
なお、本発明で用いられうるコロイダルシリカは、珪酸ナトリウムの酸等による複分解やイオン交換樹脂層を通過させて得られるシリカゾルを加熱熟成して得られるものであることも好ましく、例えば、特開昭５７−１４０９１号公報、特開昭６０−２１９０８３号公報、特開昭６０−２１９０８４号公報、特開昭６１−２０７９２号公報、特開昭６１−１８８１８３号公報、特開昭６３−１７８０７号公報、特開平４−９３２８４号公報、特開平５−２７８３２４号公報、特開平６−９２０１１号公報、特開平６−１８３１３４号公報、特開平６−２９７８３０号公報、特開平７−８１２１４号公報、特開平７−１０１１４２号公報、特開平７−１７９０２９号公報、特開平７−１３７４３１号公報、および国際公開第９４／２６５３０号などに記載されているものがよい。
【００６５】
このようなコロイダルシリカは合成品を用いてもよいし、市販品を用いてもよい。市販品としては、日産化学工業（株）から販売されているスノーテックスシリーズ（スノーテックスＯＳ、ＯＸＳ、Ｓ、ＯＳ、２０、３０、４０、Ｏ、Ｎ、Ｃ等）が挙げられる。
【００６６】
低屈折率層における酸化ケイ素の含有量は、低屈折率層の全固形分に対して、２０〜９０質量％であることが好ましく、３０〜８５質量％であることがより好ましく、４０〜８０質量％であることがさらに好ましい。２０質量％以上であると、所望の屈折率が得られ９０質量％以下であると塗布性が良好となり好ましい。
【００６７】
上記のように、剥離抑制処理の具体的方法は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層との界面の剥離を抑制することができる方法であれば、特に制限されないが、好ましくは、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差を、小さくする処理を行う。
【００６８】
ここで、かような処理の具体的方法についても特に制限されないが、高屈折率層の温度の上昇に、低屈折率層の温度を追随させるような形態で行うことがよい。そのような形態としては、本発明の第１の好ましい実施形態によれば、前記剥離抑制処理を、低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることによって行う。低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることによって、高屈折率層の温度上昇に、低屈折率層の温度上昇も追随し、ひいては、温度差を小さくすることができ、結果的に、界面の剥離の発生、反射率の低下および外観の悪化を抑制することができる。このように、好ましくは、温度上昇促進剤は、低屈折率層にのみ含有させる。
【００６９】
ただし、高屈折率層に、温度上昇促進剤を含有してはいけないわけではなく、高屈折率層にも、同様の温度上昇促進剤を含ませるのであれば、前記低屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量が、前記高屈折率層中の温度上昇促進剤の含有量より多くなるように設定することが好ましい。
【００７０】
また、温度上昇促進剤の種類によっても、昇温速度（つまり、単位時間当たりの温度上昇の速度）が異なる場合もあるので、各屈折率層への含有量は、温度上昇促進剤の種類に応じて、適宜調整すればよい。また、高屈折率層に、温度上昇促進剤を含有させるのであれば、温度上昇促進剤の種類に応じても、含有量等を調整する方がよい。
【００７１】
ここで、本発明の第１のより好ましい実施形態によれば、前記温度上昇促進剤の含有量は、前記低屈折率層の全固形分に対して、０．７〜５質量％である。このような構成とすることで、光照射後の定常状態における高屈折率層の温度と、光照射後の定常状態における低屈折率層の温度との差を、有意に小さくすることができ、表面の割れや、剥がれを抑制（好ましくは防止）することができ、ひいては、反射率を向上させ、また、外観の改善にも繋がる。より好ましくは、前記温度上昇促進剤の含有量は、前記低屈折率層の全固形分に対して、０．８〜４．９質量％であり、さらに好ましくは１．１〜４．８質量％である。
【００７２】
温度上昇促進剤としては、低屈折率層の温度を上昇させることができるものであれば、特に制限はされないが、トリアゾール骨格、ベンゾフェノン骨格またはイミダゾール骨格を有する。このような構成とすることで、本発明の効果を効率的に奏することができる。
【００７３】
また、本発明における好ましい実施形態によると、温度上昇促進剤の化合物は、カルボン酸Ｎａ基、リン酸Ｎａ基、スルホ基または−ＳＯ３Ｎａを有する。このような構成によって、水溶性が付与されるとの技術的効果を有する。
【００７４】
本発明における好ましい実施形態によると、トリアゾール骨格を有するものとしては、ベンゾトリアゾール骨格を有する化合物であることが好ましく、例えば、下記の一般式（１）で表される化合物が好適に挙げられる。
【００７５】
【化１】
2016057537.tif 000007
【００７６】
一般式（１）において、Ｒ１は、水素原子、ハロゲン原子または炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基を示す。ハロゲン原子としてはフッ素、塩素、臭素またはヨウ素を挙げることができる。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。Ｒ１の置換位置は、ベンゾトリアゾール骨格の４位または５位であることが好ましいが、ハロゲン原子およびアルキル基は４位に位置することが好ましい。Ｒ２は、水素原子または炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基を示す。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、ｉ−ブチル基、シクロヘキシル基等を挙げることができる。Ｒ３は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキル基、スルホ基または−ＳＯ３Ｎａを示す。
【００７７】
本発明における好ましい実施形態によると、ベンゾフェノン骨格を有するものとしては、例えば、下記の一般式（２）〜（３）で示される化合物が好適に挙げられる。
【００７８】
【化２】
2016057537.tif 000008
【００７９】
【化３】
2016057537.tif 000009
【００８０】
上記一般式（２）、一般式（３）において、
Ｒ４〜Ｒ６は、それぞれ独立して、炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルキル基、炭素数１〜１０、好ましくは１〜６のアルコキシ基、スルホ基または−ＳＯ３Ｎａである。アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ｉ−プロピル基、ブチル基、ｔ−ブチル基、及びシクロヘキシル基を挙げることができる。アルコキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ｉ−プロポキシ基、及びブトキシ基を挙げることができる。
【００８１】
ｑ１〜ｑ３は、それぞれ独立して、０〜４であり、好ましくは１〜３であり、より好ましくは２である。
【００８２】
なお、一般式（３）中、Ｒ５およびＲ６の好ましい組み合わせは、それぞれ、１〜６のアルコキシ基、スルホ基および−ＳＯ３Ｎａの少なくとも二種；１〜６のアルコキシ基、スルホ基および−ＳＯ３Ｎａの少なくとも二種である。
【００８３】
本発明における好ましい実施形態によると、イミダゾール骨格を有するものとしては、
【００８４】
【化４】
2016057537.tif 000010
【００８５】
上記一般式（４）において、
Ｒ７は、炭素数１〜１０、好ましくは１〜３のアルキル基、スルホ基または−ＳＯ３Ｎａを示す。Ｒ７の置換位置は、特に制限されない。
【００８６】
＜基材＞
本発明の第１の光学反射フィルムの基材としては、種々の樹脂フィルムを用いることができ、ポリオレフィンフィルム（ポリエチレン、ポリプロピレン等）、ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート等）、ポリ塩化ビニル、３酢酸セルロース等を用いることができ、好ましくはポリエステルフィルムである。ポリエステルフィルム（以降ポリエステルと称す）としては、特に限定されるものではないが、ジカルボン酸成分とジオール成分を主要な構成成分とするフィルム形成性を有するポリエステルであることが好ましい。
【００８７】
主要な構成成分のジカルボン酸成分としては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、２，７−ナフタレンジカルボン酸、ジフェニルスルホンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸、ジフェニルエタンジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸、ジフェニルジカルボン酸、ジフェニルチオエーテルジカルボン酸、ジフェニルケトンジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸などを挙げることができる。また、ジオール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、シクロヘキサンジメタノール、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（４−ヒドロキシエトキシフェニル）プロパン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビスフェノールフルオレンジヒドロキシエチルエーテル、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ハイドロキノン、シクロヘキサンジオールなどを挙げることができる。これらを主要な構成成分とするポリエステルの中でも透明性、機械的強度、寸法安定性などの点から、ジカルボン酸成分として、テレフタル酸や２，６−ナフタレンジカルボン酸、ジオール成分として、エチレングリコールや１，４−シクロヘキサンジメタノールを主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。中でも、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートを主要な構成成分とするポリエステルや、テレフタル酸と２，６−ナフタレンジカルボン酸とエチレングリコールからなる共重合ポリエステル、およびこれらのポリエステルの２種以上の混合物を主要な構成成分とするポリエステルが好ましい。
【００８８】
本発明に用いられる基材の厚みは、１０〜３００μｍ、特に２０〜１５０μｍであることが好ましい。また、基材は、２枚重ねたものであってもよく、この場合、その種類が同じでも異なってもよい。
【００８９】
基材は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の透過率が８５％以上であることが好ましく、特に９０％以上であることが好ましい。基材が上記透過率以上であることにより、赤外遮蔽フィルムとしたときのＪＩＳ  Ｒ３１０６−１９９８で示される可視光領域の透過率を５０％以上（上限：１００％）にするという点で有利であり、好ましい。
【００９０】
また、上記樹脂等を用いた基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
強度向上、熱膨張抑制の点から延伸フィルムが好ましい。
【００９１】
基材は、従来公知の一般的な方法により製造することが可能である。例えば、材料となる樹脂を押し出し機により溶融し、環状ダイやＴダイにより押し出して急冷することにより、実質的に無定形で配向していない未延伸の基材を製造することができる。また、未延伸の基材を一軸延伸、テンター式逐次二軸延伸、テンター式同時二軸延伸、チューブラー式同時二軸延伸などの公知の方法により、基材の流れ（縦軸）方向、または基材の流れ方向と直角（横軸）方向に延伸することにより延伸基材を製造することができる。この場合の延伸倍率は、基材の原料となる樹脂に合わせて適宜選択することできるが、縦軸方向および横軸方向にそれぞれ２〜１０倍が好ましい。
【００９２】
また、基材は、寸法安定性の点で弛緩処理、オフライン熱処理を行ってもよい。弛緩処理は前記ポリエステルフィルムの延伸製膜工程中の熱固定した後、横延伸のテンター内、またはテンターを出た後の巻き取りまでの工程で行われるのが好ましい。弛緩処理は処理温度が８０〜２００℃で行われることが好ましく、より好ましくは処理温度が１００〜１８０℃である。また長手方向、幅手方向ともに、弛緩率が０．１〜１０％の範囲で行われることが好ましく、より好ましくは弛緩率が２〜６％で処理されることである。弛緩処理された基材は、下記のオフライン熱処理を施すことにより耐熱性が向上し、さらに、寸法安定性が良好になる。
【００９３】
＜反射層＞
本発明の第１の光学反射フィルムにおける反射層は、高屈折率層と、低屈折率層とを積層してなるユニットを少なくとも１層含む。好適には、基材の片面上または両面上に、高屈折率層と低屈折率層が交互に積層して形成された多層の光学干渉膜を有する。生産性の観点から、基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、１００層以下、より好ましくは４５層以下である。基材の片面あたりの好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲の下限は特に限定されるものではないが、５層以上であることが好ましい。
【００９４】
本発明の第１の光学反射フィルムの好ましい実施形態によれば、ユニット数は、高屈折率層と低屈折率層との総数をＺとしたとき、Ｚ／２となる（ただし、「Ｚ／２」が整数でない場合、切り捨てた値となる）。
【００９５】
なお、前記の好ましい高屈折率層および低屈折率層の総層数の範囲は、基材の片面にのみ積層される場合においても適応可能であり、基材の両面に同時に積層される場合においても適応可能である。基材の両面に積層される場合において、基材一の面と他の面との高屈折率層および低屈折率層の総層数は、同じであってもよく、異なっていてもよい。
【００９６】
また、本発明の第１の光学反射フィルムにおいて、最下層（基材と接触する層）および最表層は、高屈折率層および低屈折率層のいずれであってもよい。しかしながら、低屈折率層が、最下層および最表層に位置する層構成とすることにより、最下層の基材への密着性、最上層の吹かれ耐性、さらには最表層へのハードコート層等の塗布性や密着性に優れるという観点から、最下層および最表層が、低屈折率層である層構成が好ましい。
【００９７】
本発明の第１の光学反射フィルムは、ユニットの少なくとも一つに、剥離抑制処理が施されているが、反射層のうちすべてのユニットに剥離抑制処理が施されていてもよいし、一部であってもよい。一部である場合は、好ましくは、ユニットの総数の６０％以上、より好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上、剥離抑制処理が施されている。
【００９８】
また、一部である場合は、反射層の最表面に近い方に施すことが好ましい。具体的には、剥離抑制処理が施されているユニットの好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上が、反射層の最表面から見て（数えて）、好ましくは１／２以内に、より好ましくは１／３以内に存在していることがよい。
【００９９】
本発明の第１の光学反射フィルムにおける好ましい実施形態において、各層の厚みは各層の屈折率と反射ピークをどこに何層の積層体で出したいかによって決定すればよいが、最表層、最下層以外の屈折率層の１層あたりの厚み（乾燥後の厚み）は、通常、２０〜１０００ｎｍ、５０〜５００ｎｍ、８００〜３５０ｎｍ、あるいは、１００〜２００ｎｍ程度である。
【０１００】
最表層の厚みは、通常、８０〜２５０ｎｍであり、より好ましくは９０〜１５０ｎｍである。
【０１０１】
最下層の厚みは、同時多層塗布を採用する場合、塗布時の塗布液の厚みがある程度必要であり、それには、反射ピークに影響を持たない最下層の厚みを厚くすることで調整すればよく、通常、３００〜３０００ｎｍであり、あるいは、１０００〜３０００ｎｍである。
【０１０２】
また、最表層、最下層以外の、高屈折率層と低屈折率層との厚みは、同じものであっても、異なるものであってもよいが、塗布後の乾燥のムラの観点から、同じであることが好ましい。異なる場合であっても、高屈折率層と低屈折率層との厚みの比は、薄い層／厚い層が、０．６〜０．９９程度であることが好ましい。
【０１０３】
本発明の第１の光学反射フィルムにおける低屈折率層は、基本的に、より低屈折率が望ましい。ただし、通常、低屈折率層の屈折率は、１．１０〜１．６０程度、あるいは、１．３０〜１．５０程度になりうる。高屈折率層も、より高屈折率であることが望ましい。ただし、通常、高屈折率層の屈折率は、１．７０〜２．５０程度、あるいは、１．９０〜２．２０程度になりうる。
【０１０４】
なお、一般に、光学反射フィルムにおいては、高屈折率層と低屈折率層との屈折率の差を大きく設計することが、少ない層数で所望の光線に対する反射率を高くすることができるという観点から好ましい。本発明においては、少なくとも隣接した２層（高屈折率層および低屈折率層）の屈折率差が０．３以上であることが好ましく、より好ましくは０．３５以上であり、最も好ましくは０．４以上である。また、上限には特に制限はないが通常１．４以下である。
【０１０５】
この屈折率差と、必要な層数とについては、市販の光学設計ソフトを用いて計算することができる。例えば、近赤外線反射率９０％以上を得るためには、屈折率差が０．１より小さいと２００層以上の積層が必要になり、生産性が低下するだけでなく、積層界面での散乱が大きくなり、透明性が低下し、故障なく製造することも非常に困難になる場合がある。
【０１０６】
光学反射フィルムにおいて高屈折率層および低屈折率層を交互に積層する場合には、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が、上記好適な屈折率差の範囲内にあることが好ましい。ただし、例えば、最表層はフィルムを保護するための層として形成される場合または最下層が基板との接着性改良層として形成される場合などにおいて、最表層や最下層に関しては、上記好適な屈折率差の範囲外の構成であってもよい。
【０１０７】
本発明の光学反射フィルムは、反射率をアップさせる特定波長領域を変えることにより、可視光反射フィルムや近赤外線反射フィルムとすることができる。すなわち、反射率をアップさせる特定波長領域を可視光領域に設定すれば可視光線反射フィルムとなり、近赤外領域に設定すれば近赤外線反射フィルムとなる。また、反射率をアップさせる特定波長領域を紫外光領域に設定すれば、紫外線反射フィルムとなる。本発明の光学反射フィルムを遮熱フィルムに用いる場合は、（近）赤外反射（遮蔽）フィルムとすればよい。
【０１０８】
本発明の光学反射フィルムの全体の厚みは、好ましくは１２μｍ〜３１５μｍ、より好ましくは１５μｍ〜２００μｍ、さらに好ましくは２０μｍ〜１００μｍである。
【０１０９】
＜水溶性高分子＞
本発明においては、屈折率層の中に、水溶性高分子を含むと好ましい。以下、屈折率層に含まれる水溶性高分子について説明する。なお、高屈折率層に含まれる水溶性高分子は、低屈折率層に含まれる水溶性高分子と同じであっても、互いに異なるものであってもよい。
【０１１０】
屈折率層で用いられうる水溶性高分子の溶剤は水であるから、後述の基材に対して腐食、溶解、浸透を起こさないという利点もある。さらに、水溶性高分子は、柔軟性が高いため、屈曲時の光学反射層の耐久性が向上するため好ましい。以下、本発明の光学反射フィルムにおいて好適に用いられる水溶性高分子について説明する。
【０１１１】
本発明において、屈折率層で用いられる水溶性高分子としては、特に制限されないが、ポリビニルアルコール類（ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール）、ポリビニルピロリドン類などの合成水溶性樹脂；ゼラチン、増粘多糖類などの天然水溶性高分子などが挙げられる。これらの中でも、酸素透過性が低く、高屈折率層中に含まれる酸化チタンの光触媒作用を抑制するという観点から、ポリビニルアルコール類（ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコール）を用いると好ましい。よって、本発明の第１の好ましい形態によれば、前記高屈折率層および前記低屈折率層が、それぞれ、ポリビニルアルコールまたは変性ポリビニルアルコールをさらに含有する。
【０１１２】
ポリビニルアルコール類には、ポリ酢酸ビニルを加水分解して得られる通常のポリビニルアルコールの他に、カチオン変性したカチオン変性ポリビニルアルコール、カルボキシル基のようなアニオン性基を有するアニオン変性ポリビニルアルコール、ノニオン性基を有するノニオン変性ポリビニルアルコール、シリル基を有するシリル変性ポリビニルアルコール等の変性ポリビニルアルコールも含まれる。
【０１１３】
ポリビニルアルコールは、重合度が２００以上のものが好ましく用いられ、さらに、１，０００以上のものが好ましく、重合度が１，５００〜５，０００のものがより好ましく、２，０００〜５，０００のものが特に好ましく用いられる。ポリビニルアルコールの重合度が２００以上であると塗布膜のひび割れがなく、５，０００以下であると塗布液が安定するからである。なお、塗布液が安定するとは塗布液が経時的に安定することを意味する。以下、同様である。
【０１１４】
また、鹸化度は、７０〜１００モル％のものが好ましく、８０〜９９．５モル％のものが水への溶解性の点でより好ましい。
【０１１５】
カチオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開昭６１−１０４８３号公報に記載されているような、第一〜三級アミノ基や第四級アンモニウム基を上記ポリビニルアルコールの主鎖または側鎖中に有するポリビニルアルコールであり、カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体と酢酸ビニルとの共重合体を鹸化することにより得られる。
【０１１６】
カチオン性基を有するエチレン性不飽和単量体としては、例えば、トリメチル−（２−アクリルアミド−２，２−ジメチルエチル）アンモニウムクロライド、トリメチル−（３−アクリルアミド−３，３−ジメチルプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−ビニルイミダゾール、Ｎ−ビニル−２−メチルイミダゾール、Ｎ−（３−ジメチルアミノプロピル）メタクリルアミド、ヒドロキシルエチルトリメチルアンモニウムクロライド、トリメチル−（２−メタクリルアミドプロピル）アンモニウムクロライド、Ｎ−（１，１−ジメチル−３−ジメチルアミノプロピル）アクリルアミド等が挙げられる。カチオン変性ポリビニルアルコールのカチオン変性基含有単量体の比率は、酢酸ビニルに対して０．１〜１０モル％、好ましくは０．２〜５モル％である。
【０１１７】
アニオン変性ポリビニルアルコールは、例えば、特開平１−２０６０８８号公報に記載されているようなアニオン性基を有するポリビニルアルコール、特開昭６１−２３７６８１号公報および同６３−３０７９７９号公報に記載されているような、ビニルアルコールと水溶性基を有するビニル化合物との共重合体および特開平７−２８５２６５号公報に記載されているような水溶性基を有する変性ポリビニルアルコールが挙げられる。
【０１１８】
また、ノニオン変性ポリビニルアルコールとしては、例えば、特開平７−９７５８号公報に記載されているようなポリアルキレンオキサイド基をビニルアルコールの一部に付加したポリビニルアルコール誘導体、特開平８−２５７９５号公報に記載されている疎水性基を有するビニル化合物とビニルアルコールとのブロック共重合体、シラノール基を有するシラノール変性ポリビニルアルコール、アセトアセチル基やカルボニル基、カルボキシル基などの反応性基を有する反応性基変性ポリビニルアルコール等が挙げられる。
【０１１９】
これらポリビニルアルコール類は、単独でも、または重合度や変性の種類違いなどの２種以上を併用してもよい。また、ポリビニルアルコール類は、市販品を用いてもよいし合成品を用いてもよい。市販品の例としては、例えば、ＰＶＡ−１０２、ＰＶＡ−１０３、ＰＶＡ−１０５、ＰＶＡ−１１０、ＰＶＡ−１１７、ＰＶＡ−１２０、ＰＶＡ−１２４、ＰＶＡ−１３５、ＰＶＡ−２０３、ＰＶＡ−２０５、ＰＶＡ−２１０、ＰＶＡ−２１７、ＰＶＡ−２２０、ＰＶＡ−２２４、ＰＶＡ−２３５等のポバール（登録商標、株式会社クラレ製）、エクセバール（登録商標、株式会社クラレ製）、ニチゴーＧポリマー（登録商標、日本合成化学工業株式会社製）等が挙げられる。
【０１２０】
屈折率層におけるポリビニルアルコールの含有量は、屈折率層の全固形分に対して、好ましくは３〜７０質量％、より好ましくは５〜６０質量％、さらに好ましくは１０〜５０質量％、特に好ましくは１５〜４５質量％である。
【０１２１】
（硬化剤）
本発明においては、屈折率層の中に、硬化剤を使用してもよい。水溶性高分子としてポリビニルアルコールを用いた場合、その効果は特に発揮されうる。
【０１２２】
ポリビニルアルコールと共に用いることのできる硬化剤としては、ポリビニルアルコールと硬化反応を起こすものであれば特に制限はないが、ホウ酸及びその塩が好ましい。ホウ酸またはその塩とは、ホウ素原子を中心原子とする酸素酸およびその塩のことをいい、具体的には、オルトホウ酸、二ホウ酸、メタホウ酸、四ホウ酸、五ホウ酸および八ホウ酸およびそれらの塩が挙げられる。硬化剤としてのホウ酸およびホウ酸塩は、単独の水溶液でも、また、２種以上を混合して使用してもよい。本発明において、ホウ酸および／またはその塩を用いた場合には、酸化チタン粒子とポリビニルアルコールのＯＨ基と水素結合ネットワークを形成し、その結果として高屈折率層と低屈折率層との層間混合が抑制され、好ましい光学特性が達成されうる。特に、高屈折率層と低屈折率層の多層重層をコーターで塗布後、一旦塗膜の膜面温度を１５℃程度に冷やした後、膜面を乾燥させるセット系塗布プロセスを用いた場合には、より好ましく効果を発現することができる。
【０１２３】
硬化剤としては、上記ホウ酸及びその塩以外にも、公知のものを使用することができ、一般的にはポリビニルアルコールと反応し得る基を有する化合物あるいはポリビニルアルコールが有する異なる基同士の反応を促進するような化合物であり、適宜選択して用いられる。硬化剤の具体例としては、例えば、エポキシ系硬化剤（ジグリシジルエチルエーテル、エチレングリコールジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジオールジグリシジルエーテル、１，６−ジグリシジルシクロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジグリシジル−４−グリシジルオキシアニリン、ソルビトールポリグリシジルエーテル、グリセロールポリグリシジルエーテル等）、アルデヒド系硬化剤（ホルムアルデヒド、グリオキザール等）、活性ハロゲン系硬化剤（２，４−ジクロロ−４−ヒドロキシ−１，３，５，−ｓ−トリアジン等）、活性ビニル系化合物（１，３，５−トリスアクリロイル−ヘキサヒドロ−ｓ−トリアジン、ビスビニルスルホニルメチルエーテル等）、アルミニウム明礬等が挙げられる。
【０１２４】
上記硬化剤の総使用量は、ポリビニルアルコール（複数のポリビニルアルコールを用いる場合には、その合計量）１ｇ当たり１０〜６００ｍｇが好ましく、２０〜５００ｍｇがより好ましい。
【０１２５】
＜界面活性剤＞
本発明においては、屈折率層の中に、界面活性剤が含まれてもよい。それは、高屈折率層用塗布液、低屈折率層用塗布液が、界面活性剤を含むと、塗布性の観点から好適であるからである。なお、高屈折率層に含まれる界面活性剤は、低屈折率層に含まれる界面活性剤と同じであっても、互いに異なるものであってもよい。
【０１２６】
塗布時の表面張力調整のため用いられる界面活性剤として、アニオン系界面活性剤、ノニオン系界面活性剤、両性界面活性剤などを用いることができるが、両性界面活性剤がより好ましい。
【０１２７】
本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤としては、アドミスルホベタイン型、カルボキシベタイン型、スルホベタイン型、イミダゾリウム型などがある。本発明に好ましく用いられる両性界面活性剤の具体例を以下に示す。本発明ではスルホベタイン型が塗布ムラの観点から好ましく、製品としてはＬＳＢ−Ｒ、ＬＳＢ（川研ファインケミカル株式会社製）、アンヒトールＨＤ（花王株式会社製）等が挙げられる。
【０１２８】
屈折率層および低屈折率層における界面活性剤の含有量は、高屈折率層および低屈折率層の全固形分に対して、それぞれ、０．００１〜１質量％であることが好ましく、０．００５〜０．５０質量％であることがより好ましい。
【０１２９】
〔その他の添加剤〕
本発明の第１の高屈折率層または低屈折率層には、例えば、特開昭５７−７４１９２号公報、同５７−８７９８９号公報、同６０−７２７８５号公報、同６１−１４６５９１号公報、特開平１−９５０９１号公報および同３−１３３７６号公報等に記載されている退色防止剤、アニオン、カチオンまたはノニオンの各種界面活性剤、特開昭５９−４２９９３号公報、同５９−５２６８９号公報、同６２−２８００６９号公報、同６１−２４２８７１号公報および特開平４−２１９２６６号公報等に記載されている蛍光増白剤、硫酸、リン酸、酢酸、クエン酸、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸カリウム等のｐＨ調整剤、消泡剤、ジエチレングリコール等の潤滑剤、防腐剤、帯電防止剤、マット剤等の公知の各種添加剤を含有していてもよい。特に、クエン酸を添加すると、塗布液の安定化に寄与する。
【０１３０】
上記のように、本発明の第１によれば、光学反射フィルムの界面の剥離の発生を抑制することができる。そして、反射率の低下および外観の悪化を抑制することができる。
【０１３１】
よって、本発明においては、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層してなる、光学反射フィルムにおける、前記少なくとも一つのユニットの界面の剥離を抑制する方法であって、前記少なくとも一つのユニットの低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませることを有する、剥離を抑制する方法もが提供される。
【０１３２】
かかる実施形態の具体的説明は、上記の説明と同様であり、直接適用できる。なお、仮に、少なくとも一つのユニットの低屈折率層に、温度上昇促進剤を含ませた場合であっても、高屈折率層にも同様に含ませるなどして、剥離を抑制することができなければ、本形態の「剥離を抑制する方法」には、含まれない。
【０１３３】
［本発明の第２］
本発明の第２は、酸化チタンを含有する高屈折率層と、酸化ケイ素を含有する低屈折率層とからなる一ユニットを少なくとも一層含む反射層を、基材上に積層することを有する、光学反射フィルムの製造方法であって、前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを有する、光学反射フィルムの製造方法である。
【０１３４】
前記ユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すこと以外は、従来公知の方法を適宜参照し、あるいは組み合わせることで、光学反射フィルムを製造することができる。
【０１３５】
本発明の第２の好ましい実施形態によれば、高屈折率層と低屈折率層とを交互に塗布、乾燥して積層体を形成することが好ましい。具体的には以下の形態が挙げられる；（１）基材上に、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成した後、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成し、光学反射フィルムを形成する方法；（２）基材上に、低屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して低屈折率層を形成した後、高屈折率層用塗布液を塗布し乾燥して高屈折率層を形成し、光学反射フィルムを形成する方法；（３）基材上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを交互に逐次重層塗布した後乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法；（４）基材上に、高屈折率層用塗布液と、低屈折率層用塗布液とを同時重層塗布し、乾燥して、高屈折率層、および低屈折率層を含む光学反射フィルムを形成する方法；などが挙げられる。なかでも、より簡便な製造プロセスとなる上記（４）の方法が好ましい。
【０１３６】
塗布方式としては、例えば、ロールコーティング法、ロッドバーコーティング法、エアナイフコーティング法、スプレーコーティング法、カーテン塗布方法、あるいは米国特許第２，７６１，４１９号、同第２，７６１，７９１号公報に記載のホッパーを使用するスライドビード塗布方法、エクストルージョンコート法等が好ましく用いられる。
【０１３７】
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を調製するための溶媒は、特に制限されないが、水、有機溶媒、またはその混合溶媒が好ましい。本発明においては、水系溶媒を用いることができる。水系溶媒は、有機溶媒を用いる場合と比較して、大規模な生産設備を必要とすることがないため、生産性の点で好ましく、また環境保全の点でも好ましい。
【０１３８】
前記有機溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−ブタノールなどのアルコール類、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテートなどのエステル類、ジエチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル類、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどのアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、アセチルアセトン、シクロヘキサノンなどのケトン類などが挙げられる。これら有機溶媒は、単独でもまたは２種以上混合して用いてもよい。環境面、操作の簡便性などから、塗布液の溶媒としては、水系溶媒が好ましく、水、または水とメタノール、エタノール、もしくは酢酸エチルとの混合溶媒がより好ましく、水が特に好ましい。
【０１３９】
水と少量の有機溶媒との混合溶媒を用いる際、当該混合溶媒中の水の含有量は、混合溶媒全体を１００質量％として、８０〜９９．９質量％であることが好ましく、９０〜９９．５質量％であることがより好ましい。ここで、８０質量％以上にすることで、溶媒の揮発による体積変動が低減でき、ハンドリングが向上し、また、９９．９質量％以下にすることで、液添加時の均質性が増し、安定した液物性を得ることができるからである。
【０１４０】
ここで、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の調製方法は、特に制限されず、例えば、各成分を添加し、混合する方法が挙げられる。この際、各成分の添加順も特に制限されず、攪拌しながら各成分を順次添加し混合してもよいし、攪拌しながら一度に添加し混合してもよい。
【０１４１】
また、本発明において、同時多層塗布を行う場合は高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液に用いるポリビニルアルコールの鹸化度が異なることが好ましい。鹸化度が異なることによって塗布、乾燥工程の各工程において層の混合を抑制することができる。この仕組みはいまだ明らかではないが、鹸化度差に由来する表面張力差によって混合が抑制されていると考えられる。本発明においては高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液に用いるポリビニルアルコールの鹸化度の差は３モル％以上が好ましく、より好ましくは８モル％以上が好ましい。すなわち、高屈折率層の鹸化度と低屈折率層の鹸化度との差が３モル％以上であることが好ましく、８モル％以上であることがより好ましい。高屈折率層の鹸化度と低屈折率層の鹸化度との差の上限は、高屈折率層と低屈折率層との層間混合の抑制／防止効果を考慮すると、高いほど好ましいため、特に制限されないが、２０モル％以下であることが好ましく、１５モル％以下であることがより好ましい。
【０１４２】
各屈折率層中で鹸化度の相違を比較するポリビニルアルコールは、各屈折率層が（鹸化度および重合度が異なる）複数のポリビニルアルコールを含む場合には、屈折率層中で最も含有量の高いポリビニルアルコールである。ここで、「屈折率層中で最も含有量が高いポリビニルアルコール」という際には、鹸化度の差が３モル％以内のポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールであるとし、重合度を算出する。具体的には、鹸化度が９０モル％、鹸化度が９１モル％、鹸化度が９３モル％のポリビニルアルコールが同一層内にそれぞれ１０質量％、４０質量％、５０質量％含まれる場合には、これら３つのポリビニルアルコールは同一のポリビニルアルコールとし、これら３つの混合物をポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）とするが、このポリビニルアルコール（Ａ）／（Ｂ）の鹸化度は、（９０×０．１＋９１×０．４＋９３×０．５）／１＝９１．９モル％となる。また、上記「鹸化度の差が３モル％以内のポリビニルアルコール」とは、いずれかのポリビニルアルコールに着目した場合に３モル％以内であれば足り、例えば、９０、９１、９２、９４モル％のビニルアルコールを含む場合には、９１モル％のビニルアルコールに着目した場合にいずれのポリビニルアルコールも３モル％以内なので、同一のポリビニルアルコールとなる。
【０１４３】
同一層内に鹸化度が３モル％以上異なるポリビニルアルコールが含まれる場合、異なるポリビニルアルコールの混合物とみなし、それぞれに重合度と鹸化度を算出する。
【０１４４】
例えば、ＰＶＡ２０３：５質量％、ＰＶＡ１１７：２５質量％、ＰＶＡ２１７：１０質量％、ＰＶＡ２２０：１０質量％、ＰＶＡ２２４：１０質量％、ＰＶＡ２３５：２０質量％、ＰＶＡ２４５：２０質量％が含まれる場合、最も含有量の多いＰＶＡはＰＶＡ２１７〜２４５の混合物であり（ＰＶＡ２１７〜２４５の鹸化度の差は３モル％以内なので同一のポリビニルアルコールである）、この混合物がポリビニルアルコール（Ａ）または（Ｂ）となる。そして、ＰＶＡ２１７〜２４５の混合物（ポリビニルアルコール（Ａ）／（Ｂ））においては、重合度は、（１７００×０．１＋２０００×０．１＋２４００×０．１＋３５００×０．２＋４５００×０．２）／０．７＝３２００であり、鹸化度は、８８モル％となる。
【０１４５】
同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の温度は、スライドビード塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。また、カーテン塗布方式を用いる場合は、２５〜６０℃の温度範囲が好ましく、３０〜４５℃の温度範囲がより好ましい。
【０１４６】
同時重層塗布を行う際の高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液の粘度は、特に制限されない。しかしながら、スライドビード塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１６０ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは６０〜１４０ｍＰａ・ｓの範囲である。また、カーテン塗布方式を用いる場合には、上記の塗布液の好ましい温度の範囲において、５〜１２００ｍＰａ・ｓの範囲が好ましく、さらに好ましくは２５〜５００ｍＰａ・ｓの範囲である。このような粘度の範囲であれば、効率よく同時重層塗布を行うことができる。
【０１４７】
また、高屈折率層用塗布液と低屈折率層用塗布液の１５℃における粘度としては、それぞれ独立して、１００ｍＰａ・ｓ以上が好ましく、１００〜３０，０００ｍＰａ・ｓがより好ましく、さらに好ましくは２，５００〜３０，０００ｍＰａ・ｓである。
【０１４８】
塗布および乾燥方法の条件は、特に制限されないが、例えば、逐次塗布法の場合は、まず、３０〜６０℃に加温した高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液のいずれか一方を基材上に塗布、乾燥して層を形成した後、もう一方の塗布液をこの層上に塗布、乾燥して積層膜前駆体を形成する。次に、所望の性能を発現するために必要なユニット数を、前記方法にて逐次塗布、乾燥して積層させて積層膜前駆体を得る。乾燥する際は、形成した塗膜を、３０℃以上で乾燥することが好ましい。例えば、膜面温度５〜１００℃（好ましくは１０〜５０℃）の範囲で乾燥するのが好ましく、例えば、４０〜６０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。乾燥方法としては、温風乾燥、赤外乾燥、マイクロ波乾燥が用いられる。また単一プロセスでの乾燥よりも多段プロセスの乾燥が好ましく、恒率乾燥部の温度＜減率乾燥部の温度にするのがより好ましい。この場合の恒率乾燥部の温度範囲は３０〜６０℃、減率乾燥部の温度範囲は５０〜１００℃にするのが好ましい。
【０１４９】
また、同時重層塗布を行う場合の塗布および乾燥方法の条件は、高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液を３０〜６０℃に加温して、基材上に高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の同時重層塗布を行った後、形成した塗膜の温度を好ましくは１〜１５℃にいったん冷却し（セット）、その後１０℃以上で乾燥することが好ましい。より好ましい乾燥条件は、膜面温度１０〜９０℃の範囲の条件である。例えば、４０〜８０℃の温風を１〜５秒吹き付けて乾燥する。また、塗布直後の冷却方式としては、形成された塗膜の均一性向上の観点から、水平セット方式で行うことが好ましい。
【０１５０】
ここで、前記セットとは、冷風等を塗膜に当てて温度を下げるなどの手段により、塗布液の粘度を高め、各層間および各層内の物質の流動性を低下させたり、またゲル化させたりする工程のことを意味する。冷風を塗布膜に表面から当てて、塗布膜の表面に指を押し付けたときに指に何もつかなくなった状態を、セット完了の状態と定義する。
【０１５１】
塗布した時点から、冷風を当ててセットが完了するまでの時間（セット時間）は、５分以内であることが好ましく、２分以内であることがより好ましい。また、下限の時間は特に制限されないが、４５秒以上の時間をとることが好ましい。セット時間が短すぎると、層中の成分の混合が不十分となる虞がある。一方、セット時間が長すぎると、無機酸化物粒子の層間拡散が進み、高屈折率層と低屈折率層との屈折率差が不十分となる虞がある。なお、高屈折率層と低屈折率層との間の中間層の高弾性化が素早く起こるのであれば、セットさせる工程は設けなくてもよい。セット時間の調整は、ポリビニルアルコールの濃度や無機酸化物粒子の濃度を調整したり、ゼラチン、ペクチン、寒天、カラギ−ナン、ゲランガム等の各種公知のゲル化剤など、他の成分を添加することにより調整することができる。
【０１５２】
冷風の温度は、０〜２５℃であることが好ましく、３〜１０℃であることがより好ましい。また、塗膜が冷風に晒される時間は、塗膜の搬送速度にもよるが、好ましくは１０〜３６０秒、より好ましくは１０〜３００秒、さらに好ましくは１０〜１２０秒である。
【０１５３】
高屈折率層用塗布液および低屈折率層用塗布液の塗布厚は、上記で示したような好ましい乾燥時の厚みとなるように塗布すればよい。
【０１５４】
［本発明の第３］
本発明の光学反射フィルムは、幅広い分野に応用することができる。すなわち、本発明の第３は、本発明の第１の光学反射フィルム、または本発明の第２の方法により製造された光学反射フィルムが、基体の少なくとも一方の面に設けられてなる光学反射体である。
【０１５５】
例えば、建物の屋外の窓や自動車窓等長期間太陽光に晒らされる設備（基体）に貼り合せ、熱線反射効果を付与する熱線反射フィルム等の窓貼用フィルム、農業用ビニールハウス用フィルム等として、主として耐候性を高める目的で用いられる。特に、本発明の光学反射フィルムが直接もしくは接着剤を介してガラスもしくはガラス代替樹脂等の基体に貼合されている部材には好適である。特に、本発明の第３によれば、太陽光等に長時間曝されても、反射率の低下が抑制される、光学反射フィルムを用いる光学反射体であるので、非常に好適である。
【０１５６】
＜基体＞
基体の具体的な例としては、例えば、ガラス、ポリカーボネート樹脂、ポリスルホン樹脂、アクリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリスルフィド樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ポリイミド樹脂、ウレタン樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂、スチレン樹脂、塩化ビニル樹脂、金属板、セラミック等が挙げられる。樹脂の種類は、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電離放射線硬化性樹脂のいずれでも良く、これらを２種以上組み合わせて用いてもよい。基体は、押出成形、カレンダー成形、射出成形、中空成形、圧縮成形等、公知の方法で製造することができる。基体の厚みは特に制限されないが、通常０．１ｍｍ〜５ｃｍである。
【０１５７】
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、光学反射フィルムを日光（熱線）入射面側に設置することが好ましい。また、光学反射フィルムを、窓ガラスと基体との間に挟持すると、水分等の周囲のガスから封止でき耐久性に優れるため好ましい。本発明の第１の光学反射フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性があって好ましい。
【０１５８】
光学反射フィルムと基体とを貼り合わせる接着層または粘着層は、窓ガラスなどに貼り合わせたとき、光学反射フィルムが日光（熱線）入射面側にあるように設置することが好ましい。また光学反射フィルムを窓ガラスと基材との間に挟持すると、水分等周囲ガスから封止でき耐久性に好ましい。本発明の光学反射フィルムを屋外や車の外側（外貼り用）に設置しても環境耐久性（特に、耐光性）があって好ましい。
【０１５９】
本発明に適用可能な接着剤としては、光硬化性もしくは熱硬化性の樹脂を主成分とする接着剤を用いることができる。
【０１６０】
接着剤は紫外線に対して耐久性を有するものが好ましく、アクリル系粘着剤またはシリコーン系粘着剤が好ましい。更に粘着特性やコストの観点から、アクリル系粘着剤が好ましい。特に剥離強さの制御が容易なことから、アクリル系粘着剤において、溶剤系およびエマルジョン系の中で溶剤系が好ましい。アクリル溶剤系粘着剤として溶液重合ポリマーを使用する場合、そのモノマーとしては公知のものを使用できる。
【０１６１】
また、合わせガラスの中間層として用いられるポリビニルブチラール系樹脂、あるいはエチレン−酢酸ビニル共重合体系樹脂を用いてもよい。具体的には可塑性ポリビニルブチラール〔積水化学工業社製、三菱モンサント社製等〕、エチレン−酢酸ビニル共重合体〔デュポン社製、武田薬品工業社製、デュラミン〕、変性エチレン−酢酸ビニル共重合体〔東ソー社製、メルセンＧ〕等である。なお、接着層には紫外線吸収剤、抗酸化剤、帯電防止剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を適宜添加配合してもよい。
【０１６２】
本発明においては、上記のように、高屈折率層の金属酸化物として酸化チタン、低屈折率層の金属酸化物として酸化ケイ素を採用し、このユニットの少なくとも一つに、界面の剥離抑制処理を施すことを特徴とする。よって、当該特徴以外に関しては、従来技術を適宜参照し、あるいは組み合わせることで、設計できる。
【実施例】
【０１６３】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれにより限定されるものではない。なお、実施例において「部」または「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量部」または「質量％」を表す。また、特記しない限り、各操作は、室温（２５℃）で行われる。
【０１６４】
＜実施例１＞
（高屈折率層用塗布液１の作製）
はじめに、ルチル型酸化チタンを含有する酸化チタンゾル分散液を調製した。
【０１６５】
（シリカ変性酸化チタン粒子（ルチル型）の分散液の調製）
シリカ変性酸化チタン粒子（ルチル型）の分散液は、以下のように調製した。
【０１６６】
硫酸チタン水溶液を公知の方法により熱加水分解して、酸化チタン水和物を得た。得られた酸化チタン水和物を水に懸濁させて、酸化チタン水和物の水性懸濁液（ＴｉＯ２濃度：１００ｇ／Ｌ）１０Ｌを得た。これに、水酸化ナトリウム水溶液（濃度１０ｍｏｌ／Ｌ）３０Ｌを撹拌下で添加し、９０℃に昇温して、５時間熟成した。得られた溶液を塩酸で中和し、濾過、水洗することで、塩基処理チタン化合物を得た。
【０１６７】
次に、塩基処理チタン化合物をＴｉＯ２濃度２０ｇ／Ｌになるよう純水に懸濁させて撹拌した。撹拌下、ＴｉＯ２量に対し０．４ｍｏｌ％の量のクエン酸を添加した。９５℃まで昇温し、濃塩酸を塩酸濃度が３０ｇ／Ｌとなるように加え、液温を維持して３時間撹拌した。ここで、得られた混合液のｐＨ及びゼータ電位を測定したところ、２５℃におけるｐＨは１．４、ゼータ電位は＋４０ｍＶであった。また、ゼータサイザーナノ（マルバーン社製）により粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は３５ｎｍ、単分散度は１６％であった。また、酸化チタンゾル液を１０５℃で３時間乾燥させて粒子紛体を得て、日本電子データム株式会社製、ＪＤＸ−３５３０型を用いてＸ線回折の測定を行い、ルチル型粒子であることを確認した。
【０１６８】
上記ルチル型酸化チタン粒子を含む２０．０質量％の酸化チタンゾル水系分散液１ｋｇに純水１ｋｇを添加して、１０．０質量％の酸化チタンゾル水系分散液を調製した。
【０１６９】
上記１０．０質量％の酸化チタンゾル水系分散液の０．５ｋｇに、純水２ｋｇを加えた後、９０℃に加熱した。その後、ＳｉＯ２濃度が２．０質量％のケイ酸水溶液０．１ｋｇを徐々に添加した。得られた分散液をオートクレーブ中、１７５℃で１８時間加熱処理を行い、限外濾過を用いて脱塩、さらに濃縮することで、ＳｉＯ２で被覆されたルチル型構造を有する酸化チタンを含む、２０質量％のシリカ変性酸化チタン粒子の分散液（ゾル水分散液）を得た。このとき、シリカの被覆量は酸化チタン粒子に対して４質量％であった。また、ゼータサイザーナノ（マルバーン社製）によりシリカ変性酸化チタン粒子（ルチル型）の粒径測定を行ったところ、体積平均粒子径は３５ｎｍ、単分散度は１６％であった。
【０１７０】
下記構成材料を４５℃で順次添加し、最後に純水で１０００部に仕上げ、高屈折率層用塗布液１を調製した。
【０１７１】
【表１】
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【０１７２】
（低屈折率層用塗布液１の作製）（添加量０．３％）
１０質量％の酸性コロイダルシリカの水溶液（スノーテックスＯＸＳ、平均一次粒径：４〜６ｎｍ、日産化学工業株式会社製）４３０質量部、３質量％のホウ酸水溶液８５質量部、純水３３２質量部、水溶性高分子であるポリビニルアルコールの８質量％水溶液（ＰＶＡ−２３５、重合度：３５００、鹸化度：８８モル％、株式会社クラレ製）１５０質量部と、５質量％の界面活性剤の溶液（アンヒトールＨＤ、花王株式会社製）３．０質量部、さらに１質量％のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を１７．５質量部を４５℃でこの順に添加、混合し、低屈折率層用塗布液１を調製した。
【０１７３】
（反射層の作製）
得られた塗布液（高屈折率層用塗布液１および低屈折率層用塗布液１）を、１５層重層塗布可能なスライドホッパー塗布装置を用い、高屈折率層用塗布液１および低屈折率層用塗布液１を４０℃に保温しながら厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡製Ａ４３００、両面易接着層、長さ２００ｍ×幅２１０ｍｍ）上に、最下層および最表層は低屈折率層とし、それ以外は、高屈折率層と低屈折率層とをそれぞれ交互に積層されるように、計１５層の同時重層塗布を行った。この際、乾燥時の膜厚は、最下層が１５１０ｎｍ、最表層が１００ｎｍ、最下層および最表層以外の低屈折率層の各層が１５０ｎｍ、および高屈折率層の各層が１５０ｎｍになるように調整した。
【０１７４】
塗布直後、５℃の冷風を吹き付けて増粘させた。増粘後、８０℃の温風を吹き付けて乾燥させて、１５層からなる重層塗布品（反射層１）を作製した。
【０１７５】
なお、低屈折率層の屈折率は、１．４８であり、高屈折率層の屈折率は、１．８１であった。以下の実施例でも同様である。また、高屈折率層におけるシリカ変性酸化チタン粒子の含有量は、５２体積％であった。以下の実施例でも同様である。
【０１７６】
＜実施例２＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を２６２質量部に変更し、１質量％のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を７０質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液２（添加量１．２質量％）を作製した。
【０１７７】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層２を作製した。
【０１７８】
＜実施例３＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を１５７質量部に変更し、１質量％のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を１７５質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液３（添加量３質量％）を作製した。
【０１７９】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層３を作製した。
【０１８０】
＜実施例４＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を５２質量部に変更し、１質量％のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を２８０質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液４（添加量４．８質量％）を作製した。
【０１８１】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層４を作製した。
【０１８２】
＜実施例５＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を１１．２質量部に変更し、１質量％のベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を３２０．８質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液５（添加量５．５質量％）を作製した。
【０１８３】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層５を作製した。
【０１８４】
＜実施例６＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を１５７質量部に変更し、１質量％のフェニルベンズイミダゾールスルホン酸を１７５質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液６（添加量３質量％）を作製した。
【０１８５】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層６を作製した。
【０１８６】
＜実施例７＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を１５７質量部に変更し、１質量％のベンゾフェノン４を１７５質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液７（添加量３質量％）を作製した。
【０１８７】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層７を作製した。
【０１８８】
＜実施例８＞
低屈折率層用塗布液１において、純水を１５７質量部に変更し、１質量％のベンゾフェノン９を１７５質量部に変更した以外は、実施例１と同様の方法で、低屈折率塗布液８（添加量３質量％）を作製した。
【０１８９】
そして、実施例１と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層８を作製した。
【０１９０】
＜比較例１＞
低屈折率層用塗布液１に、ベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を添加せずに調液した以外は、実施例１と同様の方法で１５層のユニットからなる反射層９を作成した。
【０１９１】
＜比較例２＞
高屈折率層用塗布液１に、さらに、ベンゾトリアゾリルブチルフェノールスルホン酸Ｎａ水溶液を１０５部加えることで、高屈折率層用塗布液２を作製した。
【０１９２】
高屈折率層用塗布液２を用い、実施例３と同様の方法で、１５層のユニットからなる反射層１０を作製した。
【０１９３】
＜温度測定＞
（高屈折率層の温度の測定）
各実施例および各比較例で用いた、高屈折率層用塗布液を、膜厚５μｍとなるように、ＰＥＴ上に単層で塗布し、７．５ｋＷスーパーキセノンウェザーメーター  ＳＸ７５中でキセノン光（１８０ｍｗ／ｃｍ２）を照射し、３０分後に反射温度計にて、各高屈折率層の温度を測定した。
【０１９４】
（低屈折率層の温度の測定）
高屈折率層用塗布液を、低屈折率層用塗布液に変更した以外は、高屈折率層の温度の測定と同様に、各低屈折率層の温度を測定した。
【０１９５】
＜耐侯性試験＞
各実施例および各比較例で作製した、各反射層に対して、７．５ｋＷ  スーパーキセノンウェザーメーター  ＳＸ７５を用いて、槽内温度３０℃に設定し、キセノン光（１８０ｍｗ／ｃｍ２）を、１００時間（降雨モード２０分、晴れモード１００分のサイクル）、照射した。
【０１９６】
＜ΔＥ＞
各実施例および各比較例で作製した、各反射層に、３０℃６０％ＲＨの条件でキセノンウェザーメーター（スガ試験機社製；太陽光に極めて近似した光を発する）を用いて１００Ｗ／ｍ２の強度のキセノン光に２０００時間曝露し、曝露前後での透過光の差異から色差（ΔＥ）を計算した。なお、曝露前後のサンプルの透過光は、分光光度計Ｕ−４０００型（積分球使用、日立製作所社製）の２００〜２０００ｎｍ領域における透過率によって評価した。それぞれの結果を表１に示す。このΔＥの値が小さいほど、キセノン光曝露による着色の程度が小さいことを意味する。
【０１９７】
＜外観評価＞
耐候性試験後の各光学遮蔽フィルムの外観評価をするために、光学顕微鏡（２０倍に拡大）を用い、各実施例、各比較例で製造した反射層の外観評価を行った。
【０１９８】
具体的には、光学顕微鏡で２０倍に拡大して外観評価を行った。
【０１９９】
なお、表１中の、記号の意味は、以下のとおりである。
【０２００】
◎：表面に割れ、はがれがない。
【０２０１】
○：表面に割れ、はがれがないが、一部にスジが見える。
【０２０２】
×：表面に割れ、はがれが見える。
【０２０３】
＜反射率＞
耐候性試験後の各光学遮蔽フィルムの遮蔽性能を評価するために、分光光度計（積分球使用、株式会社日立製作所製、Ｕ−４０００型）を用い、各光学遮蔽フィルムを３ｍｍのガラスに貼り付け、ガラス側から３００ｎｍ〜２０００ｎｍの領域における透過率を測定した。８００〜１１００ｎｍにおける反射率を測定し最も反射率が高いピークの透過率の値を用いて赤外線反射率％を評価した。
【０２０４】
【表２】
2016057537.tif 000012
【０２０５】
＜考察＞
上記結果のとおり、実施例の光学反射フィルムは、比較例の光学反射フィルムと比較して、ΔＥ、外観評価、反射率のいずれの観点から見ても、優れていることが分かる。ここで、実施例１〜４、６〜８を比較すると、実施例２〜４、６〜８が、実施例１よりも、ΔＥ、外観評価、反射率のいずれの観点でも、より優れていることが分かる。これは、後者の実施例における温度差が、１５℃以下であるからであると推測される。また、実施例３と、実施例５とを比較すると、外観評価、反射率の観点では、実施例３の方がより優れている。これは、同じ温度差でも、実施例３では、高屈折率層が、低屈折率層の温度が高いためであると推測される。一方で、ΔＥの観点では、実施例５の方が優れている。