(57)【要約】      （修正有）【課題】石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理に使用された脱硝触媒を含んで成る触媒層を脱硝装置に設置したままで前記脱硝触媒の性能を回復させる方法を提供すること。【解決手段】酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含有する脱硝触媒を含んで成る触媒層が設置されている脱硝装置に石炭の燃焼によって発生する排ガスを流すことによって排ガス浄化処理を行い、その後、前記排ガス浄化処理を停止し、前記触媒層に付着したダストを除去し、次いで、脱硝装置内を相対湿度８０〜９５％に加湿することを含む、前記触媒層を脱硝装置に設置したままで脱硝触媒の性能を回復させる。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含有する脱硝触媒を含んで成る触媒層が設置されている脱硝装置に石炭の燃焼によって発生する排ガスを流すことによって排ガス浄化処理を行い、その後、
前記排ガス浄化処理を停止し、
前記触媒層に付着したダストを除去し、
次いで、脱硝装置内を相対湿度８０〜９５％に加湿することを含む、
前記触媒層を脱硝装置に設置したままで脱硝触媒の性能を回復させる方法。
【請求項２】
加湿が、空気と水蒸気とを混合して高湿ガスを生成させ、該高湿ガスを触媒層に流すことによって行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
脱硝装置内に設置された触媒層の上流部または下流部において相対湿度を測定し、
該測定値が前記の値になるように、
前記高湿ガスの生成量および前記高湿ガスの流量を制御することをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
加湿を行っているときの触媒層の上流部または下流部の雰囲気温度が２０〜４０℃になるように、前記高湿ガスの温度を制御することをさらに含む、請求項２または３に記載の方法。
【請求項５】
酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含む脱硝触媒を含んで成る触媒層、および
空気と水蒸気とを混合して高湿ガスを生成させるための加湿装置、触媒層に前記高湿ガスを流すための送風装置、触媒層の上流部または下流部における相対湿度を測定するための湿度測定装置、および脱硝装置内に設置された触媒層の上流部または下流部における相対湿度測定値が８０〜９５％になるように高湿ガス生成量および高湿ガス流量を制御するための制御装置を有する脱硝触媒性能回復設備
を有する、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化のために用いられる脱硝装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、脱硝触媒の性能を回復させる方法に関する。より詳細に本発明は、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理に使用された脱硝触媒を含んで成る触媒層を脱硝装置に設置したままで前記脱硝触媒の性能を回復させる方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
酸化チタンを主成分として含有する触媒は、アンモニアや尿素を用いた脱硝処理において、高い活性と高い耐久性を示すので、国内外で広く使われている。この脱硝触媒は、長期間の使用の間に、排煙中に含まれる触媒毒（アルカリ成分、ヒ素、リンなど）の付着や、触媒自身のシンタリングによる触媒粒子の粗大化などによって脱硝性能が低下する。新しい脱硝触媒に交換した際に多量の使用済み脱硝触媒が発生する。この使用済み脱硝触媒を再生して、廃棄物の低減、触媒生産コストの低減などが図られている。
【０００３】
使用済み脱硝触媒の再生方法として、例えば、特許文献１は、劣化した石炭焚用脱硝触媒の再生に際し、触媒表面から物理的に付着したダスト成分を除去した後、その触媒表面に、触媒活性成分を含浸或いはコーティングして再担持させることを特徴とする触媒の再生方法を開示している。特許文献２は、酸化チタンと、バナジウム酸化物と、タングステン酸化物及び／又はモリブデン酸化物と、硫酸アルミニウムとを含有する使用済み脱硝触媒に、液滴、ミスト或いは蒸気の状態で水を供給して該触媒の表面が液膜で覆われる状態に為し、次いで乾燥することを含む、使用済み脱硝触媒の再生方法を開示している。このような脱硝触媒の再生方法のほとんどは、脱硝装置から脱硝触媒を取り外して行われる。このような再生処理には高額な費用がかかる場合がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−０７４１０６号公報
【特許文献２】特開２０１４−００８４８０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明の目的は、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理に使用された脱硝触媒を含んで成る触媒層を脱硝装置に設置したままで前記脱硝触媒の性能を回復させる方法を提供することである。
別の観点から、本発明の目的は、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理に使用された脱硝触媒を含んで成る触媒層を脱硝装置に設置したままで前記脱硝触媒に吸着したヒ素のオキソ酸を無毒化する方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成すべく検討した結果、以下のような態様を包含する本発明を完成するに至った。
【０００７】
〔１〕  酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含有する脱硝触媒を含んで成る触媒層が設置されている脱硝装置に石炭の燃焼によって発生する排ガスを流すことによって排ガス浄化処理を行い、その後、
前記排ガス浄化処理を停止し、
前記触媒層に付着したダストを除去し、
次いで、脱硝装置内を相対湿度８０〜９５％に加湿することを含む、
前記触媒層を脱硝装置に設置したままで脱硝触媒の性能を回復させる方法。
【０００８】
〔２〕  加湿が、空気と水蒸気とを混合して高湿ガスを生成させ、該高湿ガスを触媒層に流すことによって行われる、〔１〕に記載の方法。
〔３〕  脱硝装置内に設置された触媒層の上流部または下流部において相対湿度を測定し、
該測定値が前記の値になるように、
前記高湿ガスの生成量および前記高湿ガスの流量を制御することをさらに含む、〔２〕に記載の方法。
〔４〕  加湿を行っているときの触媒層の上流部または下流部の雰囲気温度が２０〜４０℃になるように、前記高湿ガスの温度を制御することをさらに含む、〔２〕または〔３〕に記載の方法。
〔５〕  酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含む脱硝触媒を含んで成る触媒層、および
空気と水蒸気とを混合して高湿ガスを生成させるための加湿装置、触媒層に前記高湿ガスを流すための送風装置、触媒層の上流部または下流部における相対湿度を測定するための湿度測定装置、および脱硝装置内に設置された触媒層の上流部または下流部における相対湿度測定値が８０〜９５％になるように高湿ガス生成量および高湿ガス流量を制御するための制御装置を有する脱硝触媒性能回復設備
を有する、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化のために用いられる脱硝装置。
【発明の効果】
【０００９】
本発明によれば、脱硝装置内に脱硝触媒を充填したままで脱硝触媒の性能を回復させることができる。本発明によれば、新たな脱硝触媒と交換しなければならない時までの期間を延ばすことができるので、経費の節減または資源の有効利用に資することができる。
【００１０】
石炭燃焼排ガスには、ヒ酸、亜ヒ酸などのヒ素化合物が多く含まれている。酸化チタンを主成分として含有する脱硝触媒で石炭燃焼排ガスの浄化処理を行うと、ヒ素化合物が、脱硝触媒の微細孔の奥にまで入り込んで、例えば、式１で表されるような反応をして強く吸着し、酸化チタン表面の活性点を失活させる。
ＴｉＯ2＋Ａｓ2Ｏ3＋Ｏ2  →  ＴｉＯ2−Ａｓ2Ｏ5（吸着）    （１）
従来の脱硝触媒の再生法では、吸着したヒ素化合物を酸洗浄などで酸化チタン表面から除去して、酸化チタン表面の活性点を再生させていた。
【００１１】
本発明にしたがって、酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含む脱硝触媒を用いて石炭燃焼排ガスの浄化処理を行い、その後、ダスト除去、次いで加湿を行うと、酸化チタンに吸着したヒ素化合物が、酸化チタンから脱離し、Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩もしくは酸化物と反応（例えば、式２で表される反応）してヒ酸塩化合物（ＡｌＡｓＯ4、Ｍｎ2（ＡｓＯ4）3、ＢｉＡｓＯ4、およびＭｇ2（ＡｓＯ4）3）を生成するので、酸化チタン表面の活性点を再生させることができる。
ＴｉＯ2−Ａｓ2Ｏ5（吸着）＋Ａｌ2（ＳＯ4）3＋３Ｈ2Ｏ
→  ＴｉＯ2＋２ＡｌＡｓＯ4＋３Ｈ2ＳＯ4    （２）
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明に係る脱硝触媒の性能回復方法は、脱硝触媒を含んで成る触媒層が設置されている脱硝装置に石炭の燃焼によって発生する排ガスを流すことによって排ガス浄化処理を行い、  その後、前記排ガス浄化処理を停止し、  前記触媒層に付着したダストを除去し、  次いで、脱硝装置内を加湿することを含むものである。本発明に係る脱硝触媒の性能回復方法は、前記触媒層を脱硝装置に設置したままで行うものである。
【００１３】
本発明に使用される脱硝触媒は、酸化チタンを主成分として含有し、バナジウム（Ｖ）を副成分として含有し、且つアルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物をさらに含有するものである。
【００１４】
脱硝触媒の主成分である酸化チタンとしては、二酸化チタン（ＴｉＯ2）の粉末、スラリまたはペースト；オルトチタン酸もしくはメタチタン酸（Ｈ2ＴｉＯ3）の粉末、スラリまたはペーストなどを用いることができる。酸化チタン粉末は、その製法によって制限されず、塩素法や硫酸法などで製造されたものであることができる。硫黄による触媒活性向上が期待できることがあるので、硫酸法で得られる酸化チタンが好ましい。
【００１５】
脱硝触媒の副成分であるバナジウム（Ｖ）は、バナジウム元素を含む化合物を添加することによって含有させることができる。バナジウム元素を含む化合物としては、硫酸バナジル、メタバナジン酸アンモニウム、酸化バナジウムなどが挙げられる。Ｖの量は、特に限定されないが、酸化チタンに対して、好ましくは０．３〜４atom％である。
【００１６】
脱硝触媒の副成分として、モリブデン（Ｍｏ）またはタングステン（Ｗ）をさらに含有させることができる。脱硝触媒の副成分であるモリブデンまたはタングステンはモリブデン元素を含む化合物またはタングステン元素を含む化合物を添加することによって含有させることができる。モリブデン元素を含む化合物としてはモリブデン酸アンモニウム、モリブデン酸などが挙げられる。タングステン元素を含む化合物としては、タングステン酸アンモニウム、タングステン酸などが挙げられる。Ｍｏの量は、特に限定されないが、酸化チタンに対して、好ましくは０．５〜５atom％である。Ｗの量は、特に限定されないが、酸化チタンに対して、好ましくは０．５〜５atom％である。
さらに、必要に応じてリン（Ｐ）元素を含有させることができる。脱硝触媒に添加することができるリン元素を含む化合物としてはリン酸、ポリリン酸などが挙げられる。Ｐの量は、特に限定されないが、酸化チタンに対して、好ましくはＰ原子として０．５〜２質量％である。
【００１７】
本発明に使用される脱硝触媒は、アルミニウム（Ａｌ）、マンガン（Ｍｎ）、ビスマス（Ｂｉ）、およびマグネシウム（Ｍｇ）からなる群より選ばれる少なくともひとつの硫酸塩もしくは酸化物を含有する。
【００１８】
Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩またはＡｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの酸化物の添加量は、特に限定されないが、Ａｌ2（ＳＯ4）3のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量（ＴｉＯ2とＶとの合計質量、以下同じ）に対して好ましくは２〜６質量％であり、ＭｎＳＯ4のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは２〜４質量％であり、Ｂｉ2（ＳＯ4）3のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは４〜９質量％であり、ＭｇＳＯ4のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは２〜４質量％であり、Ａｌ2Ｏ3のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは１〜２質量％であり、Ｍｎ2Ｏ3のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは１〜３質量％であり、Ｂｉ2Ｏ3のみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは３〜６質量％であり、ＭｇＯのみを添加する場合、その添加量は触媒成分質量に対して好ましくは１〜３質量％である。
Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩、Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの酸化物を２種以上組み合わせて添加する場合は、上記の範囲内で（Ａｌ＋Ｍｎ＋Ｂｉ＋Ｍｇ）／Ｔｉの原子比が１乃至２．５になるようにするとよい。
Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩またはＡｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの酸化物の添加量が、少なすぎると脱硝性能の回復度合いが低くなる傾向があり、多すぎると初期の脱硝性能が低くなる傾向がある。
【００１９】
本発明に使用される脱硝触媒は、例えば、主成分の酸化チタンと副成分のＷ、Ｍｏ、Ｖなどの元素を含む化合物とＡｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩または酸化物とを含んで成る触媒活性物質をハニカム状に成形してなるもの、メタルラスやガラス繊維製板などの板状基材に主成分の酸化チタンと副成分のＷ、Ｍｏ、Ｖなどの元素を含む化合物とＡｌ、Ｍｎ、ＢｉもしくはＭｇの硫酸塩または酸化物とを含んで成る触媒活性物質を担持してなるものなどが挙げられる。
【００２０】
本発明に使用される触媒層は所望の形状に形成された脱硝触媒を含有してなるものである。触媒層は、例えば、複数の板状脱硝触媒を所定の距離間隔を開けて重ね、それらを枠内に固定したものなどを挙げることができる。係る触媒層は脱硝装置内に設置される。
【００２１】
本発明に係る脱硝触媒の性能回復方法では、先ず、上記脱硝触媒を含んで成る触媒層が設置されている脱硝装置に排ガスを流すことによって排ガス浄化処理を行う。
本発明の方法において使用される排ガスは、石炭の燃焼によって発生する排ガスである。該排ガスは、例えば、石炭火力発電設備のボイラなどで発生するものである。この排ガスにはすでに述べたとおりヒ素化合物が含まれている。排ガス浄化処理を継続して行うことによって脱硝触媒に吸着するヒ素化合物の量が増えてくる。ヒ素化合物の吸着量が増えてくるほど脱硝性能が低下してくる。
【００２２】
所定のレベルまで脱硝率が低下したときに、上記の排ガス浄化処理を停止させる。そして、本発明の方法においては、前記触媒層に付着したダストを除去する。ダストの除去方法は特に制限されない。ダストの除去は、例えば、ブラシ、低周波振動機、スートブロワ、エアブローガン、サンドブラスト、集塵機などで行うことができる。本発明においては、触媒層以外の箇所（例えば、脱硝装置の内壁）に付着したダストも除去することが好ましい。
【００２３】
次に、脱硝装置内を加湿する。加湿の方法は特に制限されないが、本発明において、加湿は、空気と水蒸気とを混合して高湿ガスを生成させ、該高湿ガスを触媒層に流すことによって行うことが好ましい。空気は脱硝装置内に存在するものでも、脱硝装置外に存在するものでもよい。また、窒素、酸素などの空気主要構成成分を混合して人工的に空気を調製してもよい。なお、特許文献２のように液滴やミスト状の水を脱硝装置内に供給すると、該装置内壁面や脱硝触媒層の金属枠表面がすぐに結露してしまい腐食が進行してしまう上に、相対湿度を均一に制御することが困難となるため好ましくない。
高湿ガスの生成のために加湿装置が用いられる。加湿装置としては、浸透膜式、滴下浸透式、毛細管式、回転式などの気化式加湿器；超音波式、遠心式、高圧スプレー式、二流体噴射式などの水噴霧式加湿器；蒸気配管式、電熱式、電極式などの蒸気式加湿器などがある。蒸気式加湿器のうち蒸気配管式加湿器（例えば、二重管式加湿器、間接蒸気式加湿器など）はボイラなどで発生した水蒸気を利用することができる。
【００２４】
加湿は、脱硝装置内の相対湿度が、８０〜９５％、好ましくは９０〜９５％になるようにして行う。相対湿度が低すぎると脱硝触媒の細孔内に水が十分供給されないため性能回復の度合いが低くなる傾向がある。相対湿度が高すぎると脱硝装置内の金属壁面や触媒を固定している金属枠などで水蒸気が凝縮して腐食を促す傾向がある。
相対湿度は、脱硝装置内に設置された触媒層の上流部または下流部において測定することが好ましい。相対湿度の測定は、例えば、伸縮式湿度計、バイメタル式湿度計、電気式湿度計、露点計などの湿度測定装置を触媒層の上流部または下流部に設置して行うことができる。触媒層の上流部または下流部における相対湿度が均一になるようにまたは触媒層に高湿ガスを送り込むために送風装置を触媒層の上流部または下流部に設置することができる。
【００２５】
高湿ガスの生成量および触媒層への高湿ガスの流量は、相対湿度の測定値が、前記の値になるように制御することが好ましい。さらに、加湿を行っているときの触媒層の上流部または下流部の雰囲気温度が２０〜４０℃になるように、前記高湿ガスの温度や流量を制御することが好ましい。温度が低すぎると、空気中の水分量が減少するため、触媒全体を十分に吸湿処理し難くなり、式（２）などで表される反応が抑制される傾向がある。逆に温度が高すぎると、大容量の加湿設備が必要となる上に、環境上、入缶作業が困難になる傾向がある。
【００２６】
脱硝装置内を加湿する時間は、特に制限されないが、数時間〜１日程度が好ましい。加湿終了後、脱硝装置内での結露を防止するために、脱硝装置内を外気などの低湿度ガスに置き換えることが好ましい。
【００２７】
本発明の性能回復方法を行った後、石炭の燃焼によって発生する排ガスの浄化処理を再開させると、初期脱硝率と同程度の脱硝率で排ガスの浄化を行うことができる。
【００２８】
以下に実施例を示して本発明をより詳細に説明する。なお、以下の実施例によって本発明の範囲は制限されない。
【００２９】
実施例１  （触媒Ａの調製）
酸化チタン粉末（石原産業製、比表面積２９０ｍ2／ｇ）９００ｇ、硫酸アルミニウム１３〜１４水和物６２．６ｇ、２０質量％シリカゾル（日産化学製、ＯＳゾル）３８５ｇおよび水１００ｇをニーダに入れ、３０分間混練して、硫酸イオンをＴｉＯ2表面に吸着させた。これに三酸化モリブデン１６．２ｇおよびメタバナジン酸アンモニウム１３．２ｇを添加し、更に１時間混練した。その後、シリカアルミナ系セラミック繊維（東芝ファインレックス製）１４４ｇを徐々に添加しながら２０分間混練してペーストを得た。該ペーストを厚さ０．２ｍｍのＳＵＳ３０４製鋼板をラス加工して成る厚さ０．７ｍｍのメタルラス基材の上におき、ペーストとメタルラス基材を二枚のポリエチレンシートに挟んで、その状態で一対の加圧ローラに通してメタルラス基材の網目にペーストを埋め込むように塗布した。これを自然乾燥させ、次いで５００℃で２時間焼成して板状触媒Ａを得た。該板状触媒Ａは、Ｔｉ／Ｍｏ／Ｖの原子比が９８／１／１、硫酸アルミニウム（Ａｌ2（ＳＯ4）3）の含有量がＴｉＯ2に対して４．５質量％であった。この板状触媒Ａを幅２０ｍｍ×長さ１００ｍｍのサイズに裁断した。
【００３０】
（初期脱硝率（脱硝率（I））の測定）
管型反応器に幅２０ｍｍ×長さ１００ｍｍの板状触媒Ａを１枚充填した。管型反応器を４００℃に加熱した。加熱された管型反応器に、表１に示す組成のガスを３．１Ｌ／ｍｉｎにて供給して、脱硝率（I）を測定した。結果を表３に示す。
【００３１】
【表１】
2016209835.tif 000002
【００３２】
（ヒ素による被毒処理）
規定濃度の亜ヒ酸（Ａｓ2Ｏ3）水溶液を定量フィーダで２００℃に設定された気化器に導入して水蒸気と亜ヒ酸蒸気を生成させた。これに、窒素、酸素、および二酸化炭素からなる混合ガスを混ぜて、表２に示すガス組成の模擬燃焼排ガスを得た。
幅２０ｍｍ×長さ１００ｍｍの板状触媒Ａの充填された３５０℃の管型反応器に模擬燃焼排ガスを導入して前記触媒Ａを模擬燃焼排ガスに５０時間曝した。被毒処理された板状触媒Ａは亜ヒ酸１質量％を吸着していた。
【００３３】
（被毒後脱硝率（脱硝率（II））の測定）
被毒処理された板状触媒Ａの充填された４００℃の管型反応器に表１に示す組成のガスを、３．１Ｌ／ｍｉｎにて供給して、脱硝率（II）を測定した。結果を表３に示す。
【００３４】
【表２】
2016209835.tif 000003
【００３５】
（加湿処理）
被毒処理された板状触媒Ａが充填された管型反応器に、温度３０℃、相対湿度９５％に調整された高湿ガスを２４時間流した。その後、管型反応器を１２０℃に加熱して乾燥させた。
【００３６】
（回復後脱硝率（脱硝率（III））の測定）
加湿処理された板状触媒Ａが充填された４００℃の管型反応器に表１に示す組成のガスを、３．１Ｌ／ｍｉｎにて供給して、脱硝率（III）を測定した。結果を表３に示す。
【００３７】
実施例２  （触媒Ｂの調製）
硫酸アルミニウム１３〜１４水和物を硫酸マンガンに置き換えた以外は実施例１と同じ方法で板状触媒Ｂを得た。板状触媒Ｂは、硫酸マンガンの含有量がＴｉＯ2に対して４質量ｗｔ％であった。板状触媒Ｂについて、実施例１と同じ方法で脱硝率（I）〜（III）を測定した。結果を表３に示す。
【００３８】
実施例３  （触媒Ｃの調製）
硫酸アルミニウム１３〜１４水和物を硫酸ビスマスに置き換えた以外は実施例１と同じ方法で板状触媒Ｃを得た。板状触媒Ｃは、硫酸ビスマスの含有量がＴｉＯ2に対して９質量％であった。板状触媒Ｃについて、実施例１と同じ方法で脱硝率（I）〜（III）を測定した。結果を表３に示す。
【００３９】
実施例４  （触媒Ｄの調製）
硫酸アルミニウム１３〜１４水和物を硫酸マグネシウムに置き換えた以外は実施例１と同じ方法で板状触媒Ｄを得た。板状触媒Ｄは、硫酸マグネシウムの含有量がＴｉＯ2に対して３質量％であった。板状触媒Ｄについて、実施例１と同じ方法で脱硝率（I）〜（III）を測定した。結果を表３に示す。
【００４０】
比較例１  （触媒Ｅの調製）
硫酸アルミニウム１３〜１４水和物を添加しなかった以外は実施例１と同じ方法で板状触媒Ｅを得た。板状触媒Ｅについて、実施例１と同じ方法で脱硝率（I）〜（III）を測定した結果を表３に示す。
【００４１】
【表３】
2016209835.tif 000004
【００４２】
触媒Ｅは、脱硝率（III）が脱硝率（II）に対して３％増加した。これは、表面に局在していたヒ素化合物が触媒全体に広がって、活性点を失活させていたヒ素化合物の濃度が下がり、見かけ上脱硝性能が回復したように見えるだけであると推定する。
これに対して、Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉまたはＭｇを含有する触媒Ａ〜Ｄは、加湿処理によって脱硝率（III）が脱硝率（I）と同程度にまで増加した。これは、Ａｌ、Ｍｎ、ＢｉまたはＭｇがヒ素化合物と反応してヒ素を無毒化したからであると考える。
これらの結果から、本発明の方法によれば、脱硝装置内に脱硝触媒を充填したままで脱硝触媒の性能を回復させることができる。