(57)【要約】【課題】意図せぬ反射光による画像乱れや画質低下を抑制できる光偏向素子を提供する。【解決手段】図１（ｂ）に示すように、本実施形態に係る１軸走査型の光偏向素子２Ａは、枠体４と、枠体４内に分離した状態で設けられたミラー部６と、ミラー部６を支持する梁部８とから構成されている。梁部８は、一対のトーションバー１０、１０と、一対の駆動梁１２、１２とから構成されている。各駆動梁１２の表面には圧電部材１４が設けられている。圧電部材１４に電圧が印加されると、駆動梁１２が反り変形し、トーションバー１０に捩れが生じてミラー部６がＹ軸周り（主走査方向）に回転振動する。従来においては、図１（ａ）に示すように、分離用の溝１６は、ミラー部６や梁部８の周囲に亘って略一定となっているが本実施形態では、ミラー部６の周辺に溝１６よりも大きい幅を有し、ミラー部６から外れたりした光を通過させる間隙１８を設けている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
枠体と、
前記枠体に分離した状態で設けられ、光反射面を有するミラー部と、
前記枠体内おいて一端が前記枠体に固定されているとともに他端が前記ミラー部に固定され、外力により変形する梁部と、
を有し、
前記梁部の変形により前記ミラー部が振動するものであり、
前記ミラー部と前記枠体との間に、前記ミラー部を前記枠体から分離して振動可能とするための溝よりも大きい幅を有し、前記ミラー部から外れる光を通過させる間隙を有する光偏向素子。
【請求項２】
請求項１に記載の光偏向素子において、
前記枠体を囲むように配置された支持枠体と、
前記枠体の両側において前記枠体と前記支持枠体との間に配置された外側梁部と、
を備え、
前記各外側梁部の一端は前記支持枠体に固定されているとともに、他端は前記枠体に固定され、
前記各外側梁部は外力により変形する構成を有し、
前記各外側梁部の変形で前記枠体自体が振動することにより、前記ミラー部が前記梁部の変形による前記ミラー部の振動方向とは異なる方向に振動する光偏向素子。
【請求項３】
光反射面を有するミラー部と、
前記ミラー部を含む可動枠体と、
前記可動枠体を囲むように配置された支持枠体と、
前記可動枠体の両側において前記可動枠体と前記支持枠体との間に配置された梁部と、
を備え、
前記各梁部の一端は前記支持枠体に固定されているとともに、他端は前記可動枠体に固定され、
前記各梁部は外力により変形する構成を有し、
前記各梁部の変形で前記可動枠体が振動することにより前記ミラー部が振動するものであり、
前記ミラー部と前記可動枠体との間に、前記ミラー部から外れる光を通過させる間隙を有する光偏向素子。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１つに記載の光偏向素子において、
前記可動枠体に入射する光の光強度が前記ミラー部に入射する光の光強度のピークの１％以下となるように前記ミラー部と前記可動枠体との間の間隙の幅を設定する光偏向素子。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１つに記載の光偏向素子において、
前記ミラー部と前記可動枠体との間の間隙の幅は、１００μｍ以上２００μｍ以下である光偏向素子。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか１つに記載の光偏向素子において、
前記梁部又は前記外側梁部は、電圧が印加されることにより変形する光偏向素子。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１つに記載の光偏向素子において、
前記ミラー部の周辺に、前記ミラー部から外れた光の反射を抑制する反射防止手段を有している光偏向素子。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１つに記載の光偏向素子と、
前記光偏向素子が収容されたパッケージと、
を備え、
前記パッケージの内部に前記間隙を通過した光の反射を抑制する反射防止手段を有する光偏向器。
【請求項９】
請求項８に記載の光偏向器において、
前記反射防止手段が、光を吸収する微細な凹凸構造、反射防止材を塗布した構造、前記間隙を通過した光を前記光偏向素子による偏向角度の範囲外に導く偏向構造のうち、いずれか１つを有している光偏向器。
【請求項１０】
複数の異なる波長のレーザ光を出射する光源と、
前記各レーザ光の光路を一つに合成する光路合成手段と、
前記合成されたレーザ光を走査して画像を描画する２次元走査手段と、
を備え、
前記２次元走査手段が請求項８又は９に記載の光偏向器であり、該光偏向器による光偏向を行い、投影面に画像を投影する２次元画像表示装置。
【請求項１１】
光源と、
前記光源からの光ビームを偏向する光偏向器と、
偏向された光ビームを被走査面にスポット状に結像する結像光学系と、
を備え、
前記光偏向器は、請求項８又は９に記載の光偏向器である光走査装置。
【請求項１２】
像担持体と、
画像情報に基づいて前記像担持体に静電潜像を形成する光走査装置と、
前記静電潜像を可視像化する現像手段と、
前記可視像を被転写体に転写する転写手段と、
を有し、
前記光走査装置が請求項１１に記載の光走査装置である画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光偏向素子、光偏向器、２次元画像表示装置、光走査装置及び画像形成装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、光ビームを偏向、走査する手段として、半導体製造技術を応用したマイクロマシニング技術による小型の光偏向器が開発されている。
この種の光偏向器は、シリコンやガラスを微細加工するマイクロマシニング技術により、基板上に光反射面を有するミラー部や、該ミラー部を振動させる梁部を一体形成してなる。
梁部には圧電材料が設けられており、電圧印加による梁部の反り変形によりミラー部が回転振動する構成となっている。
ミラー部や梁部は振動を可能にするために、必要な部分が溝を介して基板から分離されている。
【０００３】
特許文献１には、ＭＥＭＳ（micro electro mechanical systems）プロセスによって形成された光スキャナにおいて、ミラー部が形成された基板の光ビーム入射方向上流側に位置するガラス基板で反射した不要光がスクリーンに到達して、スクリーン上に不要な輝点が生じることを抑制する技術が開示されている。
具体的には、上記ガラス基板の入射側表面に、光の反射を抑制する微細周期構造を設けた構成となっている。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、特許文献１等の従来構成においては、光ビームがミラー部の光反射面からはみ出した場合や、ミラー部の外に入射した場合には、意図せぬ反射光が生じ、この反射光が画像形成領域や画像表示領域に到達して画像乱れや画質低下を来たしていた。
【０００５】
本発明は、このような現状に鑑みて創案されたもので、意図せぬ反射光による画像乱れや画質低下を抑制できる光偏向素子の提供を、その主な目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するために、本発明の光偏向素子は、枠体と、前記枠体に分離した状態で設けられ、光反射面を有するミラー部と、前記枠体内おいて一端が前記枠体に固定されているとともに他端が前記ミラー部に固定され、外力により変形する梁部と、を有し、前記梁部の変形により前記ミラー部が振動するものであり、前記ミラー部と前記枠体との間に、前記ミラー部を前記枠体から分離して振動可能とするための溝よりも大きい幅を有し、前記ミラー部から外れる光を通過させる間隙を有する。
また、本発明の光偏向素子は、光反射面を有するミラー部と、前記ミラー部を含む可動枠体と、前記可動枠体を囲むように配置された支持枠体と、前記可動枠体の両側において前記可動枠体と前記支持枠体との間に配置された梁部と、を備え、前記各梁部の一端は前記支持枠体に固定されているとともに、他端は前記可動枠体に固定され、前記各梁部は外力により変形する構成を有し、前記各梁部の変形で前記可動枠体が振動することにより前記ミラー部が振動するものであり、前記ミラー部と前記可動枠体との間に、前記ミラー部から外れる光を通過させる間隙を有する。
【発明の効果】
【０００７】
本発明によれば、光偏向素子における意図せぬ反射光による画像乱れや画質低下を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】光偏向素子の正面図で、（ａ）は従来構成を示す図、（ｂ）本発明の第１の実施形態に係る光偏向素子の図である。
【図２】光偏向素子の正面図で、（ａ）は従来構成を示す図、（ｂ）本発明の第２の実施形態に係る光偏向素子の図である。
【図３】第３の実施形態に係る光偏向素子の正面図である。
【図４】第４の実施形態に係る光偏向器を示す断面図である。
【図５】同光偏向器に設けられた反射防止手段としての反射防止層を示す図で、（ａ）は微細な凹凸構造の拡大図、（ｂ）は反射防止層の光吸収機能を示す図である。
【図６】第５の実施形態に係る光偏向器を示す断面図である。
【図７】同光偏向器に設けられた反射防止手段としての多層膜を示す図で、（ａ）は多層膜の概要断面図、（ｂ）は多層膜の光反射機能を示す図である。
【図８】第６の実施形態に係る２次元画像表示装置としてのプロジェクタの構成を示す図である。
【図９】第７の実施形態に係る光走査装置を示す斜視図である。
【図１０】第８の実施形態に係る画像形成装置を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下、本発明の実施形態を図を参照して説明する。
図１に基づいて第１の実施形態を説明する。
図１（ｂ）に示すように、本実施形態に係る１軸走査型の光偏向素子２Ａは、平板状の基板からなる枠体４と、枠体４内に振動可能に分離した状態で設けられ、光反射面を有するミラー部６と、ミラー部６を支持する梁部８とから構成されている。
梁部８は、一端がミラー部６に固定された弾性支持部材としての一対のトーションバー１０と、一端がトーションバー１０の他端に固定され、他端が枠体４に固定された一対の駆動梁１２とから構成されている。
枠体４を構成する基板には、通常、ＳＯＩ(Silicon On Insulator)基板が使用され、ミラー部６や梁部８はＭＥＭＳプロセスによって形成される。
【００１０】
各駆動梁１２の表面にはドット表示してなる圧電部材１４が設けられている。
圧電部材１４は、駆動梁１２の表面側から順に、下部電極と、圧電材料と、上部電極と、絶縁層とを積層した構成を有している。
圧電部材１４に正弦波の外力としての電圧印加がなされると、駆動梁１２が反り変形し、トーションバー１０に捩れが生じてミラー部６がＹ軸周り（主走査方向）に回転振動する。
Ｚ軸方向は枠体４の厚み方向を示している。
なお、以下では圧電部材による駆動を行う圧電駆動方式について説明するが、本発明はこれに限定されない。例えば、静電力又は電磁力のような外力により梁部が変形するようにしてもよい。
【００１１】
この種の光偏向素子では、図１（ａ）に示すように、ミラー部６と梁部８とが動作できるように、溝１６を介して枠体４と分離されている。
溝１６は、ミラー部６の回転振動と梁部８の変形動作を得ることのみを目的としているため、必要最小限の幅に設定されている。
また、溝１６の幅は、ミラー部６や梁部８の周囲に亘って略一定となっている。
【００１２】
しかしながら、光源からの光ビームのスポットがミラー部６からはみ出したり、あるいはミラー部６以外の部分に当たると、その反射光が画像形成領域や画像表示領域に入り込み、画像乱れや画質低下を来たすことがあった。
特許文献１に記載の構成では、ガラス基板での不要光の反射は抑制できるが、ガラス基板を透過し、ミラー部から外れた光による不要な反射光の問題は解消できない。
この問題に対処すべく、本実施形態では、図１（ｂ）に示すように、溝１６よりも大きい幅を有し、ミラー部６から外れたりした光を通過させる間隙１８を設けている。
本実施形態では間隙１８をミラー部６の周辺をリング状にくり抜いた形状に形成しているがこれに限定されない。
間隙１８は、ミラー部６の回転振動を維持する枠体４の強度が確保される範囲内において、ミラー部６の周辺を中心としてできるだけ広く開口することが望ましい。
【００１３】
光ビームのスポットがミラー部６からはみ出したり、あるいはミラー部６から外れても、光は反射することなく間隙１８を通過するため、反射光による上記不具合を抑制することができる。
ミラー部６の径は、レーザ強度のピークの１／ｅ２で定義されたレーザビーム径（レーザビームの直径）と同程度以上の大きさの構造を有する。
上記定義より、レーザビーム径の範囲にはレーザ全光量の８７％程度が含まれているが残りの１３％程度はレーザビーム径の外に広がって入射している。
そこで、間隙１８を広く設けることによって、レーザビーム径の外に広がるレーザビームの僅かな入射によって、ミラー部６からはみ出したレーザビームが、ミラー部以外の基板上で反射することを抑制することが可能になる。
【００１４】
このとき、ミラー部以外の基板上におけるレーザ強度がピーク値の１％以下になるように間隙を設計すると良い。例えば、レーザ強度がピーク値の１％以下となる径が１．１ｍｍ以上であるとき、ミラー部の直径が１ｍｍであれば、間隙を１００μｍ以上とすればよい。
ミラー部以外の基板上におけるレーザ強度をより小さくするためには、間隙を１５０ｍｍ〜２００ｍｍにするとなおよい。これにより、振動等でレーザ中心がズレた場合でも、ミラー部以外の基板上におけるレーザ強度を十分に小さくすることができる。
なお、間隙の大きさは求められる性能とレーザビーム径またはミラー部の大きさによって適宜最適化すればよい。
【００１５】
図２に基づいて第２の実施形態を説明する。
上記実施形態と同一部分は同一符号で示し、既にした構成上及び機能上の説明は省略して要部のみ説明する（以下の他の実施形態において同じ）。
本実施形態に係る１軸走査型の光偏向素子２Ｂは、図２（ｂ）に示すように、ミラー部６を含む可動枠体２０と、可動枠体２０を囲むように配置された支持枠体２２とを有している。
また、光偏向素子２Ｂは、可動枠体２０の両側において、可動枠体２０と支持枠体２２との間に配置された外側梁部としての第１の蛇行状梁部２４と、第２の蛇行状梁部２６とを有している。
【００１６】
第１の蛇行状梁部２４の一端２４ａは支持枠体２２に固定され、他端２４ｂは可動枠体２０に固定されている。
同様に、第２の蛇行状梁部２６の一端２６ａは支持枠体２２に固定され、他端２６ｂは可動枠体２０に固定されている。
すなわち、可動枠体２０は、第１の蛇行状梁部２４と第２の蛇行状梁部２６とにより間接的に支持枠体２２に支持されている。
【００１７】
第１の蛇行状梁部２４と第２の蛇行状梁部２６は、細長い梁部２８ａと梁部２８ｂとがＸ方向に交互に位置する折り返し形状を有している。
梁部２８ａと梁部２８ｂの表面には、折り返し部を除いて圧電部材１４と同様の圧電部材３０が設けられており、梁部２８ａと梁部２８ｂとを独立して駆動可能となっている。
梁部２８ａと梁部２８ｂのそれぞれの圧電部材３０に外力としての異なる電圧（のこぎり波）を印加すると、梁部２８ａと梁部２８ｂとにそれぞれ反り変形が発生して隣り合う梁部が異なる方向に撓む。
この撓みが累積されて可動枠体２０に伝達され、可動枠体自体が振動することにより、非共振でのミラー部６の回転振動がＸ軸周り（＝垂直方向）に生じ、走査機能を持つことになる。
【００１８】
この種の光偏向素子では、図２（ａ）に示すように、ミラー部６の周囲は可動枠体２０で囲まれている。
しかしながら、光源からの光ビームのスポットがミラー部６からはみ出したり、あるいはミラー部６以外の部分に当たると、その反射光が画像形成領域や画像表示領域に入り込み、画像乱れや画質低下を来たすことがあった。
この問題に対処すべく、本実施形態では、図２（ｂ）に示すように、ミラー部６と可動枠体２０との間に、ミラー部６から外れたりした光を通過させる矩形状の間隙３２を設けている。
ミラー部６は、可動枠体２０内において間隙３２を形成して残った一対の支持部２０ａにより支持されている。
本実施形態では間隙３２を矩形状としたがこれに限定されない。
【００１９】
間隙３２は、ミラー部６の偏向特性を維持する可動枠体２０の適正重量を阻害しない範囲内において、ミラー部６の周辺を中心としてできるだけ広く開口することが望ましい。
【００２０】
光ビームのスポットがミラー部６からはみ出したり、あるいはミラー部６から外れても、光は反射することなく間隙３２を通過するため、反射光による上記不具合を抑制することができる。
【００２１】
図３に第３の実施形態を示す。
本実施形態に係る２軸走査型の光偏向素子２Ｃは、基本的には光偏向素子２Ａと光偏向素子２Ｂとを組み合わせた構成を有している。
すなわち、光偏向素子２Ｂの可動枠体２０の中に光偏向素子２Ａの偏向構成を設けた構造を有している。
駆動梁１２に電圧を印加することによりミラー部６がＹ軸周りに回転振動し、第１の蛇行状梁部２４と第２の蛇行状梁部２６とに電圧を印加することによりミラー部６がＸ軸周りに回転振動する。
蛇行状梁部の駆動による場合には、ミラー部６は駆動梁１２の駆動による振動方向とは異なる方向（垂直方向ないし副走査方向）に振動する。
これにより、Ｙ軸方向の機械的共振による正弦波振動と、Ｘ軸方向の非共振駆動による回転により、２軸方向でのレーザ走査が可能になる。
【００２２】
図４及び図５に基づいて第４の実施形態を説明する。
本実施形態に係る光偏向器３６は、上記で説明したいずれかの光偏向素子２と、内部に光偏向素子２が収容されたパッケージ３８とを有している。
パッケージ３８は、ベース部３８ａと、光偏向素子２の収容凹部を区画する壁部３８ｂと、パッケージ３８の上面を覆うカバーガラス４０とから構成されている。
パッケージ３８の底面となるベース部３８ａの上面には、反射防止手段としての反射防止層４２が形成されている。
光偏向素子２は、脚部材４４を介して反射防止層４２上に配置されている。
【００２３】
反射防止層４２は、図５（ａ）に示すように、表面に光を吸収する微細な凹凸構造（周期構造）４２ａを有している。
図４に示すように、光源から光ビームは入射光ｂ１として光偏向素子２のミラー部６に入射し、反射光ｂ２として出る。
光偏向素子２による走査は、ミラー部６の矢印４６方向における回転振動により走査角θの範囲内で行われる。
ミラー部６からはみ出したり外れたりする不要な入射光ｂ３が入射した場合、入射光ｂ３は間隙１８又は３２を通過し、反射防止層４２に到達する。
反射防止層４２は上記のように微細な凹凸構造４２ａを有しているため、図５（ｂ）に示すように入射光ｂ３は吸収され、パッケージ３８内で反射した光が画像形成領域や画像表示領域に入ることが抑制される。
【００２４】
なお、本実施例では、反射防止層は、光を吸収する微細な凹凸構造（周期構造）を有しているが、入射光の反射を防止できる構造であれば良く、入射光の波長よりも短い周期で微細構造を形成することにより光の反射を防止するモスアイ構造や、ＭｇＦ２やＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３、ＳｉＯ２、ＴｉＯ２、グラファイト粉末等を用いた低反射コートを採用してもよい。
なお、反射防止層は、ＭＥＭＳ表面のＳｉＯ２を加工して光を吸収する微細構造を備えさせることで生成してもよいし、新たに酸化アルミニウム等を塗布して微細構造をＭＥＭＳ表面に生成させても良い。
【００２５】
本実施形態では、間隙１８、３２を通過した光がパッケージ３８内で反射して画像形成領域や画像表示領域に入ることを抑制しているが、間隙の存在のみによって不要な反射光が抑制される場合には、パッケージ３８内での反射防止手段は不要である。
【００２６】
図６及び図７に第５の実施形態を示す。
図６に示すように、本実施形態に係る光偏向器３６では、パッケージ３８の底面に反射防止手段としての偏向構造である多層膜４８を設けている。
多層膜４８は図７（ａ）に示すように、屈折率を徐々に変化させる複数の層から構成されている。
図７（ｂ）に示すように、多層膜４８に入射した不要な入射光ｂ３は通常の反射角とは異なる角度で反射する。
図６に示すように、ミラー部６のからはみ出したり外れたりする不要な入射光ｂ３が入射した場合、入射光ｂ３は間隙１８又は３２を通過し、多層膜４８に到達する。
【００２７】
なお、本実施形態では、反射防止手段は屈折率を徐々に変化させる複数の層で形成された多層膜を有しているが、入射光の反射を防止できる構造であれば良く、上記の入射光の波長よりも短い周期で微細構造を形成された構造や低反射コートを採用してもよい。
【００２８】
多層膜４８に到達した不要な入射光ｂ３はその反射角が変化し、光偏向素子２の裏面に当たったりして光偏向素子２の偏向角度（走査角度）の範囲外に導かれる。
これにより、パッケージ３８内で反射した光が画像形成領域や画像表示領域に入ることが抑制される。
【００２９】
反射防止手段としては、上記の他に、反射防止材としての反射防止塗料を塗布する構成としてもよい。
上記各反射防止手段は、パッケージ３８の底面だけでなく、壁部３８ｂの内面にも設けてもよい。
上記各反射防止手段を、光偏向素子の間隙以外の部分に設けてもよい。このようにすれば、光偏向素子における間隙以外の部分で反射した光が画像形成領域や画像表示領域に入ることを抑制でき、反射抑制精度をさらに高めることができる。
【００３０】
従来では、エッチングの精度を高めるために、梁部内の間隙や梁部の周囲の間隙とミラー部の周囲の間隙を近づけており、ミラー部の直径が１ｍｍ程度のときミラー部の周りの間隙は３０〜５０μｍ程度であり、レーザビーム径の外に広がるわずかなレーザビームがミラー部以外の基板上で反射される問題が生じていた。
また、ミラー部を大きくすることで上記問題を抑制することができるが、ミラー部を大きくしすぎると走査角θを大きくするための外力がより大きくなる問題があった。
本発明では、上記のようにミラー部の周囲の間隙を広げることで、レーザビームがミラー部以外の基板上で反射される問題を抑制している。
また、間隙全てを広げるのではなく、上記問題の抑制に必要であり、かつ、エッチング精度がそれほど求められないミラー部周りの間隙を梁部内の間隙や梁部の周囲の間隙より大きくすることで、強度低下を抑制しつつ小型化に貢献している。
【００３１】
図８に基づいて第６の実施形態（２次元画像表示装置）を説明する。
本実施形態では、２次元画像表示装置としてプロジェクタ５０を例示している。
プロジェクタ５０では、赤色レーザ光源５２、緑色レーザ光源５４、青色レーザ光源５６のそれぞれから発せられた光は、コリメートレンズ５８によってそれぞれ平行光になって出射される。
具体的には、赤色レーザとして波長６４０ｎｍ、緑色レーザとして波長５２０ｎｍ、青色レーザとして波長４５０ｎｍの光源を用いた。
コリメートされたレーザ光は、光路合成手段６０に入射される。光路合成手段６０は、３本の光路を１つの光路に合成するものであり、ダイクロイックミラーなどの光路合成プリズムを使う。
【００３２】
光路合成手段６０は、３つの反射面を有する。合成されたレーザ光は、画像を描画する２次元走査手段としての２軸走査型の光偏向素子を有する光偏向器３６によって、入射されたレーザ光を２次元に走査し、投影面としてのスクリーン６２に画像を形成する。
スクリーン６２への画像の形成は、光偏向器３６によるレーザ光の２次元光走査と、各レーザ光源の強度変調によって行われる。
光偏向器３６は、光偏向器駆動部６６から得られる信号にしたがってミラー部６の角度を変え、スクリーン６２に画像を投影させる。
このとき各色の光源には、ＬＤ駆動部６４より光偏向器３６の走査角度に合わせた映像信号が送られ、その信号に応じて光強度変調されたレーザ光が出射される。
【００３３】
このようにして、光源の光強度変調と光偏向器３６による光走査により、画像表示部（スクリーン）には目的の画像が表示されることになる。
画像を形成するためのＬＤ（レーザダイオード）、光偏向器３６の制御は、制御部６８で行われる。
符号７０は電源を示している。
【００３４】
図９に基づいて第７の実施形態（光走査装置）を説明する。
光源としてのレーザ素子８４からのレーザ光はコリメート光学系８６を経た後、光偏向素子２Ａ又は２Ｂを備えた光偏向器３６により偏向される。
偏向されたビームは、第１のレンズであるｆθレンズ８８、第２のレンズであるトロイダルレンズ９０及びミラー９２からなる結像光学系で感光ドラム等の被走査面９４にスポット状に結像する。
【００３５】
図１０に基づいて第８の実施形態（画像形成装置）を説明する。
光走査装置１００は、記録信号によって変調された１本又は複数本のレーザビームで像担持体としての感光体ドラム１０２の表面（被走査面）を同ドラムの軸方向に走査する。
感光体ドラム１０２は矢印方向に回転駆動され、帯電手段１０４により帯電された表面に光走査装置１００により画像情報に基づいて光走査されることによって静電潜像が形成される。
静電潜像は現像手段１０６でトナー像に可視像化され、このトナー像は転写手段１０８で被転写体としての記録紙１１０に転写される。転写されたトナー像は定着手段１１２によって記録紙１１０に定着される。
感光体ドラム１０２の転写手段１０８に対向する部位を通過した表面部分はクリーニング手段１１４で残留トナーを除去される。
【００３６】
感光体ドラム１０２に代えてベルト状の感光体を用いる構成も可能である。
また、トナー像を記録紙以外の転写媒体に一旦転写し、この転写媒体からトナー像を記録紙に転写して定着させる構成とすることも可能である。
【００３７】
光走査装置１００は、記録信号によって変調された１本又は複数本のレーザビームを発する光源１１６と、光源１１６を変調する光源駆動手段１１８と、光偏向素子２Ａ又は２Ｂを備えた光偏向器３６とを有している。
また、光走査装置１００は、光偏向器３６の光反射面に光源１１６からの光ビームを結像させるための結像光学系１２０と、光反射面で反射された光ビームを感光体ドラム１０２の表面に結像させるための走査光学系１２２等を有している。
光偏向器３６は、その駆動のための集積回路１２４とともに回路基板１２６に実装された形で光走査装置１００に組み込まれている。
【００３８】
本発明の効果として、意図せぬ反射光が生じ、この反射光が画像形成領域や画像表示領域に到達して画像乱れや画質低下が生じる場合の抑制について上記に述べたが、他にも経時劣化や衝撃等により使用中にミラー部またはレーザ照射位置が基準位置からズレてしまった場合に、意図せぬ反射によりレーザが観察者の目に直接入射してしまうことを抑制する効果も有する。これにより安全性の向上が図れる。
【００３９】
以上、本発明の好ましい実施の形態について説明したが、本発明はかかる特定の実施形態に限定されるものではなく、上述の説明で特に限定しない限り、特許請求の範囲に記載された本発明の趣旨の範囲内において、種々の変形・変更が可能である。
本発明の実施の形態に記載された効果は、本発明から生じる最も好適な効果を例示したに過ぎず、本発明による効果は、本発明の実施の形態に記載されたものに限定されるものではない。
【符号の説明】
【００４０】
２Ａ、２Ｂ、２Ｃ  光偏向素子
４  枠体
６  ミラー部
８  梁部
１４、３０  圧電部材
１６  溝
１８、３２  間隙
２０  可動枠体
２２  支持枠体
２４  外側梁部としての第１の蛇行状梁部
２６  外側梁部としての第２の蛇行状梁部
３６  光偏向器
３８  パッケージ
４２  反射防止手段としての反射防止層
４８  反射防止手段としての多層膜
５０  ２次元画像表示装置としてのプロジェクタ
５２、５４、５６  光源としてのレーザ光源
６０  光路合成手段
６２  投影面としてのスクリーン
８４  光源としてのレーザ素子
１０２  像担持体としての感光体ドラム
１０６  現像手段
１０８  転写手段
【先行技術文献】
【特許文献】
【００４１】
【特許文献１】特開２０１１−１１２８０６号公報
【図１】
2016085442.tif 000003
【図２】
2016085442.tif 000004
【図３】
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【図４】
2016085442.tif 000006
【図５】
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【図６】
2016085442.tif 000008
【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2016085442.tif 000012