(57)【要約】【課題】高温下において、十分な反射率を維持できる光反射フィルムを提供することを目的とする。【解決手段】本発明の光反射フィルムは、ハードコート層、透光性樹脂層、反射層、および樹脂基材を有し、光入射面側の最外層より、ハードコート層、透光性樹脂層、および反射層が順次積層されてなる。そして、透光性樹脂層は、１００℃における貯蔵弾性率が、５０℃における貯蔵弾性率に対し、５０〜１００％であることを特徴とする。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ハードコート層、透光性樹脂層、反射層、および樹脂基材を有する光反射フィルムであって、
光入射面側の最外層より、前記ハードコート層、前記透光性樹脂層、および前記反射層が順次積層されてなり、
前記透光性樹脂層は、１００℃における貯蔵弾性率が、５０℃における貯蔵弾性率に対し、５０〜１００％である、光反射フィルム。
【請求項２】
前記透光性樹脂層は、シリコーン樹脂を主成分として含む、請求項１に記載の光反射フィルム。
【請求項３】
前記透光性樹脂層の厚さは、１０〜１５０μｍである、請求項１または２に記載の光反射フィルム。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の光反射フィルムが支持基材に貼付されてなる、光反射体。
【請求項５】
請求項４に記載の光反射体を有する、太陽光反射装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光反射フィルムならびにこれを有する光反射体および太陽光反射装置に関する。より詳細には、本発明は、高温下における光反射フィルムの反射率を維持するための技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、化石燃料の代替エネルギーとして、太陽光、風力、地熱などの自然エネルギーを利用した発電技術の開発が行われている。なかでも、太陽光は、安定性およびエネルギー量の豊富さから特に注目されている。
【０００３】
一方で、太陽光は、エネルギー密度が低く、エネルギーとしての貯蔵および移送が困難であるという性質を有する。そこで、現在、太陽光を電気エネルギーへと変換する技術（太陽熱発電、太陽電池）の研究・開発が盛んに行われている。
【０００４】
太陽熱発電は、太陽光を集光して熱源として利用する発電方式である。太陽熱発電は、太陽電池と比較して、蓄熱により昼夜を問わず発電が可能であることや、製造・保守のコストが低いという長所を有し、長期的視野で見れば、太陽電池よりも発電効率が高いと考えられている。そこで、年間を通して日照条件の良好な砂漠地帯に太陽熱発電施設を建設する計画が進められている。
【０００５】
太陽熱発電では、太陽光を光反射体（鏡）により反射させて一か所に集光する集光装置（太陽光反射装置）が用いられる。当該光反射体は、太陽光による紫外線や熱、風雨、砂嵐などに晒されるため、耐久性の観点から、従来はガラス製光反射体が用いられてきた。しかしながら、ガラス製光反射体は、重い、体積が大きい、輸送時コストがかかる、設置が困難、破損しやすいなどの問題点を有していた。
【０００６】
上記問題を解決するために、銀などの金属反射層を含む樹脂製光反射フィルムを、支持基材に貼付した光反射体が提案されている。例えば、特許文献１では、支持体と金属反射層とが積層されてなり、当該支持体が、カルボキシル末端基濃度が２５ｅｑ／ｔｏｎ以下である二軸延伸ポリエステルフィルムから構成されてなる光反射フィルム（フィルムミラー）が開示されている。当該特許文献１によると、上記構成を有する光反射フィルムによると、太陽光、太陽熱、風雨、砂塵等に晒される過酷な下で使用した場合においても十分な耐候性を有し、長期間高い反射率が維持できる、としている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開２０１４−１５３４９６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
近年、砂漠地帯での太陽熱発電において、ビニールハウスのような室内に集光装置を設置する発電システムが開発されている。通常、光反射体表面が汚染されることによる光反射率の低下を防ぐため、定期的に光反射体の表面を水などで洗浄する必要があるが、砂漠では水が貴重なために、光反射体の表面を洗浄するために莫大なコストがかかる。そこで、室内に集光装置を設置することで、反射体の汚染を防ぎ、洗浄回数を少なくしようというのである。
【０００９】
一方で、上記のような室内は、日中の室温が１００℃近くにまで達する。そこで、当該室内の集光装置に用いる光反射フィルムは、このような高温下でも高い反射率を維持できるものでなくてはならない。
【００１０】
しかしながら、特許文献１に記載の光反射フィルムを上記室内の集光装置に適用したところ、十分な反射率が維持できない場合があることが判明した。
【００１１】
そこで本発明は、高温下において、十分な反射率を維持できる光反射フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明の課題は、以下の構成により解決される。
１．ハードコート層、透光性樹脂層、反射層、および樹脂基材を有する光反射フィルムであって、
光入射面側の最外層より、前記ハードコート層、前記透光性樹脂層、および前記反射層が順次積層されてなり、
前記透光性樹脂層は、１００℃における貯蔵弾性率が、５０℃における貯蔵弾性率に対し、５０〜１００％である、光反射フィルム。
２．前記透光性樹脂層は、シリコーン樹脂を主成分として含む、前記１に記載の光反射フィルム。
３．前記透光性樹脂層の厚さは、１０〜１５０μｍである、前記１または２に記載の光反射フィルム。
４．前記１〜３のいずれかに記載の光反射フィルムが支持基材に貼付されてなる、光反射体。
５．前記４に記載の光反射体を有する、太陽光反射装置。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高温下において、十分な反射率を維持できる光反射フィルムを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本発明の一実施形態に係る光反射フィルムを表す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
以下、本発明の実施の形態について説明するが、本発明は以下の形態のみに制限されない。なお、本明細書において、範囲を示す「Ｘ〜Ｙ」は「Ｘ以上Ｙ以下」を意味する。また、特記しない限り、操作および物性などの測定は室温（２０〜２５℃）／相対湿度４０〜５０％ＲＨの条件で行う。
【００１６】
＜光反射フィルム＞
本発明の一形態に係る光反射フィルムは、ハードコート層、透光性樹脂層、反射層、および樹脂基材を有し、光入射面側の最外層より、ハードコート層、透光性樹脂層、および反射層が順次積層されてなる。そして、透光性樹脂層は１００℃における貯蔵弾性率が、５０℃における貯蔵弾性率に対し、５０〜１００％であることを特徴とする。
【００１７】
本発明の光反射フィルムは、上記構成を有することにより、高温下において十分な反射率を維持できる。本発明の光反射フィルムがこのような効果を奏するメカニズムは定かではないが、本発明者は以下のように推測している。ただし、本発明は以下のメカニズムによって何ら制限されるものではない。
【００１８】
まず、本発明者は特許文献１に記載の光反射フィルムをビニールハウスのような室内に設置される集光装置に適用した場合に、十分な光反射率が得られない理由について検討した。そして、高温下で光反射フィルムの表面を拭き取りによって清掃する際に加わる圧力が反射率を低下させる一つの原因となっていることを突き止めた。すなわち、高温条件下において光反射フィルムを構成する樹脂の貯蔵弾性率が低下すると、拭き取りの際に加わる圧力によって反射層や反射層以外の他の樹脂層の平滑性が低下し、反射率が低下することが判明したのである。室内に設置される集光装置は、屋外に設置される集光装置と比較して、風雨や砂塵等に曝されることは少ないが、室内の空気中に存在する塵や埃がフィルム表面に堆積すると反射率が低下しうる。そこで、集光装置を室内に設置した場合であっても、定期的にフィルム表面を布などで拭き取る清掃を行う必要があるのである。また、集光装置が設置される室内の気温は、日中は１００℃程度まで達するのに対し、夜間は２０℃程度まで低下する。したがって、ふきとりが行われる際の温度は通常５０〜１００℃、最大で２０〜１００℃の幅がある。
【００１９】
本発明者がさらに検討を重ねた結果、光反射フィルムを構成する層のうち、特に、ハードコート層と反射層との間に位置する透光性樹脂層を構成する材料の貯蔵弾性率の温度変化率を所定の範囲とすることにより、高温（１００℃）時であっても反射層等に掛かる圧力が、常温（５０℃）時と同様に緩和され、十分な反射率を維持できることを見出し、本発明を完成させるに至った。
【００２０】
すなわち、透光性樹脂層の１００℃における貯蔵弾性率を５０℃における貯蔵弾性率に対して５０〜１００％の範囲とすることにより、５０℃下で拭き取りを行った場合と比較して、１００℃の高温下で拭き取りを行った場合であっても反射層等に掛かる圧力が過度に大きくならないため、フィルム（特に反射層）の平滑性が維持され、十分な反射率を保つことができると考えられる。
【００２１】
以下、本形態の光反射フィルム全体の構成について、図面を参照しながら説明する。なお、図面の寸法比率は説明の都合上誇張されており、実際の比率とは異なる場合がある。
【００２２】
図１は、本発明の一実施形態に係る光反射フィルムを表す概略断面図である。図１の光反射フィルム１０は、ハードコート層１１、透光性樹脂層１３、反射層１５、および樹脂基材１７を有し、光入射面側の最外層より、ハードコート層１１、透光性樹脂層１３、および反射層１５がこの順で積層されてなる。図１の実施形態では、樹脂基材１７は、透光性樹脂層１３と反射層１５との間に配置されている。ただし、樹脂基材１７の位置は、特に制限されず、例えば、反射層１５の透光性樹脂層１３が配置されていない面側に配置されていてもよい。また、上記以外の機能層が任意の位置に配置されたものであってもよい。以下、本形態の光反射フィルムの各構成要素について、詳細に説明する。
【００２３】
［樹脂基材］
本形態の光反射フィルムは、樹脂基材を有する。樹脂基材は、反射層を支持し、光反射フィルム全体の機械的強度を保持する役割を有する。また、樹脂基材は、光反射フィルムを製造する際には、他の層を形成するための基板となる。
【００２４】
樹脂基材を構成する樹脂としては、例えば、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、変性ポリエステルなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セルロース、ジアセチルセルロース、トリアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレートなどのセルロースエステル、ポリ塩化ビニル（軟質ポリ塩化ビニル、硬質ポリ塩化ビニル）、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレン−ビニルアルコール共重合体、ポリスチレン、シンジオタクティックポリスチレン、スチレン・アクリロニトリル共重合体、ポリアセタール、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、シクロオレフィンポリマー、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、ポリイミド、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂、ポリメチル（メタ）アクリレートなどのアクリル樹脂などを挙げることができる。なかでも、耐熱性と寸法安定性の観点から、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリノルボルネン、セルロースエステル、アクリル樹脂が好ましく、ポリエステル、アクリル樹脂がより好ましく、ポリエステルがさらに好ましく、ポリエチレンテレフタレートが最も好ましい。なお、本明細書において、「アクリル樹脂」とは、アクリル酸エステルおよび／またはメタクリル酸エステルの（共）重合体を意味する。これらの樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【００２５】
本形態の樹脂基材の製造方法は特に制限されず、例えば、溶融流延製膜法、溶液流延製膜法などの方法で製造されたフィルムを適宜使用できる。また、樹脂基材は、未延伸フィルムでもよく、延伸フィルムでもよい。
【００２６】
樹脂基材の厚さは、特に制限されず、樹脂の種類および目的などに応じて適宜設定できるが、光反射フィルムの機械的強度およびフレキシブル性を両立させる観点から、好ましくは１０〜２５０μｍであり、より好ましくは２０〜２００μｍである。
【００２７】
［反射層］
本形態の光反射フィルムは、反射層を有する。反射層は、太陽光を反射する機能を有する金属等から構成される。当該反射層の表面反射率は、好ましくは８０％以上であり、より好ましくは９０％以上である。
【００２８】
反射層を構成する材料としては、アルミニウム（Ａｌ）、銀（Ａｇ）、クロム（Ｃｒ）、銅（Ｃｕ）、ニッケル（Ｎｉ）、チタン（Ｔｉ）、マグネシウム（Ｍｇ）、ロジウム（Ｒｈ）、白金（Ｐｔ）および金（Ａｕ）からなる元素群の中から選ばれる少なくとも１種の元素を含む金属が挙げられる。なかでも、反射率、耐食性などの観点からアルミニウム（Ａｌ）または銀（Ａｇ）を主成分としていることが好ましく、銀（Ａｇ）を主成分としていることがより好ましく、銀（Ａｇ）からなることがより好ましい。なお、上記「主成分」とは、反射層の構成成分のうち、５０質量％超であることを意味し、好ましくは８０質量％以上、より好ましくは９０％以上、さらに好ましくは９５％以上、特に好ましくは９８質量％以上、最も好ましくは１００質量％である。
【００２９】
反射層は、上記の金属からなる層（金属反射層）が１層または２層以上積層された構成であってもよい。また、金属反射層上にＳｉＯ２、ＴｉＯ２などの金属酸化物からなる層を設けてさらに反射率を向上させてもよい。
【００３０】
反射層の厚さは、反射率などの観点から、１０〜２００ｎｍが好ましく、３０〜１５０ｎｍがより好ましい。
【００３１】
金属反射層の形成方法は、特に制限されず、湿式法および乾式法のいずれの方法も用いることができる。湿式法とは、めっき法の総称であり、溶液から金属を析出させ膜を形成する方法である。具体例を挙げると銀鏡反応などがある。一方、乾式法とは、真空成膜法の総称であり、具体的には、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法などの真空蒸着法、スパッタ法などがある。なかでも、ロール・ツー・ロール方式による製膜が可能な乾式法（特に真空蒸着法）を用いることが好ましい。
【００３２】
［透光性樹脂層］
本形態の光反射フィルムは、１００℃における貯蔵弾性率が５０℃における貯蔵弾性率に対し５０〜１００％である透光性樹脂層をハードコート層と反射層との間に有することを特徴とする。当該５０℃における貯蔵弾性率に対する１００℃における貯蔵弾性率の割合の下限値は、好ましくは６０％以上であり、より好ましくは７０％以上であり、さらに好ましくは８０％であり、特に好ましくは８５％以上であり、最も好ましくは９０％以上である。一方、上限値は、特に制限されないが、拭き取りの圧力を十分に緩和できる材料であることを考慮すると、好ましくは９８％以下であり、より好ましくは９５％以下である。このように、貯蔵弾性率の温度変化率が所定の範囲内にある透光性樹脂層をハードコート層と反射層との間に配置することにより、常温下（５０℃）で拭き取りを行った場合と比較して、高温下（１００℃）で拭き取りを行った場合であっても反射層等に掛かる圧力が過度に大きくならないため、フィルム（特に反射層）の平滑性が維持され、十分な反射率を保つことができる。
【００３３】
また、透光性樹脂層の５０℃における貯蔵弾性率は、０．１〜１００ＭＰａであることが好ましく、１．０〜５０ＭＰａであることがより好ましい。なお、本明細書において、透光性樹脂層の各温度での貯蔵弾性率は、後述の実施例に記載の方法を用いて測定される値を採用するものとする。
【００３４】
透光性樹脂層を構成する材料は、上記特性を満たすものであれば特に制限されないが、下記一般式１で表されるようなシリコーン樹脂（ポリオルガノシロキサン）を主成分として含むものであることが好ましい。なお、本明細書では、上記「主成分」とは、透光性樹脂層を構成する材料の総質量に対し、シリコーン樹脂が６０質量％以上含まれることを意味する。なお、透光性樹脂層中のシリコーン樹脂の含有量は、より好ましくは７０質量％以上であり、さらに好ましくは８０質量％以上であり、特に好ましくは９０質量％以上であり、最も好ましくは９５質量％以上である。
【００３５】
【化１】
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【００３６】
式中、Ｒは、それぞれ独立して、メチル基、ビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基、メトキシ基を表す。ｎは、１以上の整数を表す。なお、当該シリコーン樹脂は、その一部が架橋された構造を有していても構わない。
【００３７】
上記一般式１で表されるシリコーン樹脂の中でも、式中のＲが、それぞれ独立して、メチル基、ビニル基、フェニル基、トリフルオロプロピル基、メトキシ基を表すシリコーン樹脂であることが好ましい。このような構造を有するシリコーン樹脂は、Ｓｉ−Ｏの結合エネルギーが高く、他の樹脂に比べ耐熱性が高いため、高温時の貯蔵弾性率の低下が低いという特徴がある。なお、以上のシリコーン樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。
【００３８】
シリコーン樹脂の分子量は、特に制限されないが、重量平均分子量が１００，０００〜５００，０００であることが好ましく、２００，０００〜４００，０００であることがより好ましい。重量平均分子量が上記範囲にあると、十分な凝集力を有し、拭き取ることで脆くなることはない。なお、本明細書において、「重量平均分子量」は、ポリスチレンを標準物質とするゲル浸透クロマトグラフィー（Ｇｅｌ  Ｐｅｒｍｅａｔｉｏｎ  Ｃｈｒｏｍａｔｏｇｒａｐｈｙ、ＧＰＣ）により測定した値を採用するものとする。
【００３９】
シリコーン樹脂は、市販品を用いても構わないし、公知の手法を参照して合成して得たものを使用しても構わない。市販品としては、例えば、高透明シリコーンゴムＫＥ１９３５Ａ／Ｂ、ＫＥ１９５０Ａ／Ｂ（信越化学社製）、モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン合同会社  ＴＳＥ３５４０Ａ／Ｂ  等が挙げられる。
【００４０】
また、本形態の透光性樹脂層は、上述のシリコーン樹脂以外の樹脂から構成されていても構わない。シリコーン樹脂以外の樹脂の種類は特に制限されず、形成した際に透明性を維持しうる、従来公知の種々の合成樹脂を用いることができる。例えば、エポキシ樹脂、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）などのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、およびセルロースジアセテート、セルローストリアセテート（ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレートなどのセルロースエステル類またはそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリスルホン類、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル樹脂あるいはポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）あるいはアペル（商品名、三井化学社製）といったシクロオレフィン系樹脂などを挙げられる。これらの樹脂は、１種のみを単独で使用してもよいし、２種以上を組み合わせて使用しても構わない。また、これらの樹脂のうちの１種以上と上述のシリコーン樹脂の１種以上とを組み合わせて使用することも可能である。
【００４１】
一般に、透光性樹脂層の貯蔵弾性率は、透光性樹脂層を構成する樹脂材料を適宜選択することによって当業者が容易に制御することができる。より詳細には、貯蔵弾性率は、使用する樹脂の種類、ガラス転移温度（Ｔｇ）、分子量、架橋度等に依存するため、これらの物性を適宜調整したり、異なる種類または物性を有する２種以上の樹脂を混合したりすることによって、所望の貯蔵弾性率に調整することができる。
【００４２】
ガラス転移温度は、通常、樹脂の種類によって異なるが、本発明のような温度変化によっても貯蔵弾性率の変化を小さくするためには、ガラス転移温度が高い樹脂を使用することが好ましい。
【００４３】
また、樹脂の分子量が大きいほど、樹脂自体の凝集力が大きくなるため貯蔵弾性率が高まる傾向がある。
【００４４】
また、樹脂の架橋密度を上げることで、貯蔵弾性率が高くなる傾向がある。樹脂の架橋密度は、架橋剤の種類、架橋剤の官能基数（官能基数が多いほど好ましい）、塗布後の加熱エージングにより調節することが可能である。
【００４５】
特に、本形態の透光性樹脂層のように、常温〜高温での貯蔵弾性率の変化を小さくするためには、樹脂自体の耐熱性が高いことも重要であり、ガラス転移温度が高く、架橋密度が高く、樹脂の主鎖の結合エネルギーが高い樹脂を使用することが好ましい。
【００４６】
また、透光性樹脂層は、下地になる樹脂基材の劣化を防止するため、紫外線吸収剤を含有していることが好ましい。かような紫外線吸収剤には特に制限はなく、例えばチアゾリドン系、ベンゾトリアゾール系（例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８（ＢＡＳＦ社製））、アクリロニトリル系、ベンゾフェノン系、アミノブタジエン系、トリアジン系（例えば、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７７、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９（ＢＡＳＦ社製））、サリチル酸フェニル系、ベンゾエート系などの有機系の紫外線吸収剤、あるいは酸化セリウム、酸化マグネシウムなどの微粉末系の紫外線遮断剤や酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄などなどがあり、特に有機系の紫外線吸収剤が好ましい。
【００４７】
有機系の紫外線吸収剤として、例えば特開昭４６−３３３５号、同５５−１５２７７６号、特開平５−１９７０７４号、同５−２３２６３０号、同５−３０７２３２号、同６−２１１８１３号、同８−５３４２７号、同８−２３４３６４号、同８−２３９３６８号、同９−３１０６７号、同１０−１１５８９８号、同１０−１４７５７７号、同１０−１８２６２１号各公報、独国特許第１９７３９７９７Ａ号、欧州特許第７１１８０４Ａ号各公報および特表平８−５０１２９１号公報、米国特許第１，０２３，８５９号、同第２，６８５，５１２号、同第２，７３９，８８８号、同第２，７８４，０８７号、同第２，７４８，０２１号、同第３，００４，８９６号、同第３，０５２，６３６号、同第３，２１５，５３０号、同第３，２５３，９２１号、同第３，５３３，７９４号、同第３，６９２，５２５号、同第３，７０５，８０５号、同第３，７０７，３７５号、同第３，７３８，８３７号、同第３，７５４，９１９号、英国特許第１，３２１，３５５号明細書などに記載されている化合物を用いることができる。
【００４８】
これら紫外線吸収剤の中でも、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、高沸点で揮発しにくく、高温成形時にも飛散しにくいため、比較的少量の添加で効果的に耐候性を改良することができる。また、分子量が４００以上の紫外線吸収剤は、薄い透光性樹脂層４から他の構成層への移行性も小さく、積層体の表面にも析出しにくいため、含有された紫外線吸収剤量が長時間維持され、耐候性改良効果の持続性に優れるなどの点から好ましい。
【００４９】
分子量が４００以上の紫外線吸収剤としては、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノールなどのベンゾトリアゾール系、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケートなどのヒンダードアミン系、さらには２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジンなどの分子内にヒンダードフェノールとヒンダードアミンの構造を共に有するハイブリッド系のものが挙げられ、これらは単独で、あるいは２種以上を併用して使用することができる。これらのうちでも、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２−ベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（１−メチル−１−フェニルエチル）−４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）フェノール、２，２−メチレンビス［４−（１，１，３，３−テトラブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール］が特に好ましい。
【００５０】
また、紫外線吸収剤としては上記した以外に、紫外線の保有するエネルギーを分子内で振動エネルギーに変換し、その振動エネルギーを熱エネルギーなどとして放出する機能を有する化合物を用いることもできる。さらに、酸化防止剤あるいは着色剤などとの併用により効果を発現するもの、あるいはクエンチャーと呼ばれる、光エネルギー変換剤的に作用する光安定剤なども併用することができる。ただし、上記の紫外線吸収剤を使用する場合は、紫外線吸収剤の光吸収波長が、光重合開始剤の有効波長と重ならないものを選択する必要がある。通常の紫外線吸収剤を使用する場合は、可視光でラジカルを発生する光重合開始剤を使用することが有効である。
【００５１】
なお、上記紫外線吸収剤はそれぞれ、必要に応じてそれらの２種以上を用いることもできる。また、必要により、上記紫外線吸収剤以外の紫外線吸収剤、例えば、サリチル酸誘導体、置換アクリロニトリル、ニッケル錯体などを含有させることもできる。
【００５２】
透光性樹脂層への紫外線吸収剤の含有量（固形分換算）は、特に制限されないが、透光性樹脂層に対して、０．１〜２５質量％であることが好ましく、より好ましくは０．５〜２０質量％、さらに好ましくは１〜１５質量％である。また、紫外線吸収剤の透光性樹脂層への含有量（フィルム単位面積当たりの含有量）もまた特に制限されないが、好ましくは０．１７〜２．２８ｇ／ｍ２、より好ましくは０．４〜２．２８ｇ／ｍ２である。紫外線吸収剤の含有量を上記の範囲にすることによって、耐候性能をより十分発揮しつつ、紫外線吸収剤のブリードアウトによるロールやフィルムの汚れを起こすこと（ひいては、ヘイズの上昇）をより有効に抑制・防止できる。
【００５３】
また、紫外線吸収基を含むポリマーを用いて透光性樹脂層を形成してもよい。紫外線吸収基を含むポリマーとしては、特に制限されないが、例えば、新中村化学社製のニューコートＵＶＡ−２０４Ｗ、日本触媒社製のＵＶ−Ｇ１３、一方社製ＵＬＳ−１９３５ＬＨなどが使用できる。
【００５４】
透光性樹脂層には、劣化を防止するために、酸化防止剤をさらに含有させてもよい。酸化防止剤としては、特に制限されないが、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤を使用することが好ましい。ここで、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤、ホスファイト系酸化防止剤としては、それぞれ、国際公開第２０１２／１６５４６０号などに記載される公知の酸化防止剤が使用できる。
【００５５】
透光性樹脂層の形成方法としては、例えば溶融流涎、押し出し成形による成膜方法や、塗布による方法を挙げることができる。溶融流涎や押し出し成形といった方法により製造される透光性樹脂層は、従来公知の樹脂フィルムとして市販されるものを使用することも可能である。塗布方式で透光性樹脂層となる塗膜を塗設する場合には、従来用いられる種々の塗布方法、例えば、スプレーコート、スピンコート、バーコート等の方法を用いることができる。そして、反射層の光入射側の面上、または反射層よりも光入射側に設けられた構成層（例えば、腐食防止層）の面上に、透光性樹脂層となる材料を直接塗布することによって、透光性樹脂層を形成することができる。こうした塗布方式で透光性樹脂層を形成することによって、透光性樹脂層の平滑性を高めることができる。具体的には、塗布方式で形成した透光性樹脂層の中心線平均粗さ（Ｒａ）を、３〜２０ｎｍにすることができる。なお、本明細書において、中心線平均粗さ（Ｒａ）は、ＪＩＳ  Ｂ０６０１−１９８２に基づく測定方法により得られた値を採用するものとする。
【００５６】
透光性樹脂層の厚さは、特に制限されないが、１０〜１５０μｍであることが好ましく、２０〜１００μｍであることがより好ましく、４０〜１００μｍであることがさらに好ましい。厚さを１０μｍ以上とすることにより拭き取りの際に掛かる圧力が透光性樹脂層によって十分に緩和されるため、拭き取り後の反射率をより一層高く維持することができる。一方、厚さが１５０μｍ以下であると、透光性樹脂層における光の散乱や吸収等が起こりにくいため、初期の反射率をより一層高くすることができる。
【００５７】
［ハードコート層］
本形態の光反射フィルムは、光入射側の最表層にハードコート層を有する。なお、本明細書において「ハードコート層」とは、ＪＩＳ  Ｋ  ５６００−５−４：１９９９に準じた鉛筆硬度がＨ以上の層を意味する。ハードコート層は、光学反射フィルムの耐擦過性を高めるための表面保護層として機能する。
【００５８】
ハードコート層を形成する材料は、透明性、耐候性、硬度、機械的強度などが得られるものであれば、特に限定されない。例えば、電子線や紫外線の照射により硬化する樹脂や熱硬化性の樹脂などを使用でき、特にアルコキシシラン系化合物の部分加水分解オリゴマーからなる熱硬化型シリコーン系ハードコート、熱硬化型のポリシロキサン樹脂からなるハードコート、不飽和基を有するアクリル系化合物からなる紫外線硬化型アクリル系ハードコート、熱硬化型無機材料であることが好ましい。また、ハードコート層には、酸化防止剤や、紫外線吸収剤を含有させることが好ましい。
【００５９】
ハードコート層に用いることができる具体的な材料としては、水性コロイダルシリカ含有アクリル樹脂（特開２００５−６６８２４号公報）、ポリウレタン系樹脂組成物（特開２００５−１１０９１８号公報）、水性シリコーン化合物をバインダーとして用いた樹脂膜（特開２００４−１４２１６１号公報）、酸化チタンなどの光触媒性酸化物含有シリカ膜もしくはアルミナ、アスペクト比の高い酸化チタンもしくは酸化ニオブなどの光触媒膜（特開２００９−６２２１６）、光触媒含有フッ素樹脂コーティング（ピアレックス・テクノロジーズ社製）、有機／無機ポリシラザン膜、有機／無機ポリシラザンに親水化促進剤（ＡＺエレクトロニクス社）を用いた膜などが使用できる。なかでも、本形態のハードコート層は、無機物から構成されることが好ましい。
【００６０】
熱硬化型シリコーン系ハードコートとしては、公知の方法によって合成したアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーを使用できる。その合成方法の一例は以下のとおりである。まず、アルコキシシラン化合物としてテトラメトキシシランまたはテトラエトキシシランを用い、これを塩酸、硝酸などの酸触媒の存在下、所定量の水を加えて、副生するアルコールを除去しながら室温から８０℃の範囲で反応させる。この反応によりアルコキシシランが加水分解し、さらに縮合反応することにより、一分子中にシラノール基またはアルコキシ基を２個以上有し、平均重合度４〜８のアルコキシシラン化合物の部分加水分解オリゴマーが得られる。次に、これに酢酸、マレイン酸などの硬化触媒を添加し、アルコール、グリコールエーテル系の有機溶媒に溶解させて熱硬化型シリコーン系ハードコート液が得られる。そしてこれを通常の塗布法（例えば、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法など）を用いて塗布し、８０〜１４０℃の範囲の温度で加熱硬化することによってハードコート層が形成させる。ただし、この場合、光反射フィルムの熱変形温度以下での硬化温度の設定が前提となる。なお、テトラアルコキシシランの代わりにジ（アルキルまたはアリール）ジアルコキシシランならびに／あるいはモノ（アルキルまたはアリール）トリアルコキシシランを使用することにより、同様にポリシロキサン系のハードコート層を製造することが可能である。
【００６１】
紫外線硬化型アクリル系ハードコートとしては、不飽和基を有するアクリル系化合物として、例えば、ウレタンアクリレート、ペンタエリスリトールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、テトラメチロールテトラ（メタ）アクリレートなどの多官能（メタ）アクリレート混合物などを使用することができ、これにベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾフェノンなどの光重合開始剤を配合して用いる。そしてこれを上記と同様の通常の塗布法を用いて塗布し、紫外線硬化することによってハードコート層が形成される。
【００６２】
ハードコート層が乾式法で形成した無機物からなる場合、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、酸化ランタン、窒化ランタンなどを、真空製膜法により製膜することで形成できる。真空製膜法としては、例えば、抵抗加熱式真空蒸着法、電子ビーム加熱式真空蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト真空蒸着法、スパッタ法などがある。
【００６３】
また、ハードコート層が湿式法で形成した無機物からなる場合、ポリシラザンを塗布製膜し、加熱硬化した膜からなることが好ましい。ハードコートの前駆体が、ポリシラザンを含有する場合は、例えば、下記の一般式（１）で表されるポリシラザンおよび有機溶媒に必要に応じて触媒を加えた溶液を塗布した後、溶媒を蒸発させて除去し、それによって光反射フィルム表面に０．０５〜３．０μｍ厚さのポリシラザン層を形成する。そして、水蒸気を含む雰囲気中で、酸素、活性酸素、場合によっては窒素の存在下で、上記のポリシラザン層を局所的加熱することによって、光反射フィルム表面にガラス様の透明なハードコートの被膜を形成する。
【００６４】
【化２】
2016080948.tif 000004
【００６５】
一般式（１）中、Ｒ１、Ｒ２、およびＲ３は、互いに独立して、水素原子、置換されたまたは無置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。なかでも、水素原子、メチル、エチル、プロピル、ｉｓｏ−プロピル、ブチル、ｉｓｏ−ブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、フェニル、ビニル、３−（トリエトキシシリル）プロピル、３−（トリメトキシシリル）プロピルからなる群から選択される基であることが好ましい。この際、ｎは整数であり、ｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【００６６】
触媒としては、好ましくは、塩基性触媒、特にＮ，Ｎ−ジエチルエタノールアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルエタノールアミン、トリエタノールアミン、トリエチルアミン、３−モルホリノプロピルアミン、Ｎ−複素環式化合物が使用される。触媒濃度は、ポリシラザンを基準にして通常０．１〜１０モル％であり、好ましくは０．５〜７モル％である。
【００６７】
なお、好ましい態様の一つでは、一般式（１）中のＲ１、Ｒ２およびＲ３の全てが水素原子であるパーヒドロポリシラザンを含む溶液が使用される。
【００６８】
また、別の好ましい態様の一つでは、下記の一般式（２）で表される少なくとも一種のポリシラザンが使用される。
【００６９】
【化３】
2016080948.tif 000005
【００７０】
一般式（２）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、互いに独立して、水素原子、置換されたまたは無置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎおよびｐは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【００７１】
なかでも、Ｒ１、Ｒ３およびＲ６が水素原子であり、Ｒ２、Ｒ４およびＲ５がメチルである化合物；Ｒ１、Ｒ３およびＲ６が水素原子であり、そしてＲ２、Ｒ４がメチルであり、Ｒ５がビニルである化合物；Ｒ１、Ｒ３、Ｒ４およびＲ６が水素原子であり、Ｒ２およびＲ５がメチルである化合物；が好ましい。
【００７２】
さらに、別の好ましい態様の一つでは、下記の一般式（３）で表される少なくとも一種のポリシラザンが使用される。
【００７３】
【化４】
2016080948.tif 000006
【００７４】
一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、Ｒ６、Ｒ７、Ｒ８およびＲ９は、互いに独立して、水素原子、置換されたまたは無置換のアルキル基、アリール基、ビニル基、（トリアルコキシシリル）アルキル基を表す。この際、ｎ、ｐおよびｑは整数であり、特にｎは、ポリシラザンが１５０〜１５０，０００ｇ／モルの範囲の数平均分子量を有するように定められる。
【００７５】
なかでも、Ｒ１、Ｒ３およびＲ６が水素原子であり、Ｒ２、Ｒ４、Ｒ５およびＲ８がメチルであり、Ｒ９が（トリエトキシシリル）プロピルであり、そしてＲ７がアルキルまたは水素である化合物が好ましい。
【００７６】
ポリシラザン溶液中のポリシラザンの濃度は、一般的には１〜８０質量％であり、好ましくは５〜５０質量％であり、より好ましくは１０〜４０質量％である。
【００７７】
ポリシラザン溶液に使用される溶媒としては、水または反応性基（例えばヒドロキシ基またはアミン基）を含まず、ポリシラザンに対して不活性の有機溶媒（非プロトン性有機溶媒）が好適である。このような有機溶媒としては、例えば、脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン炭化水素、エステル（例えば、酢酸エチル、酢酸ブチル）、ケトン（例えば、アセトン、メチルエチルケトン）、エーテル（例えば、テトラヒドロフラン、ジブチルエーテル、モノ−またはポリアルキレングリコールジアルキルエーテル（ジグライム類）、または、これらの混合溶媒が挙げられる。
【００７８】
上記ポリシラザン溶液には、公知のバインダーを含有させてもよい。バインダーとしては、例えば、セルロースエーテル、セルロースエステル（例えば、エチルセルロース、ニトロセルロース、セルロースアセテート、セルロースアセトブチレート）、天然樹脂、（例えば、ゴム、ロジン樹脂）、合成樹脂（例えば、重合樹脂、縮合樹脂）などが挙げられる。上記合成樹脂としては、例えばアミノプラスト（特に尿素樹脂、メラミンホルムアルデヒド樹脂）、アルキド樹脂、アクリル樹脂、ポリエステルもしくは変性ポリエステル、エポキシド、ポリイソシアネートもしくはブロック化ポリイソシアネート、またはポリシロキサンなどが挙げられる。
【００７９】
また、上記ポリシラザン溶液には、溶液の粘度、下地の濡れ、成膜性、潤滑作用、排気性を制御するための添加剤、あるいは無機ナノ粒子、例えばＳｉＯ２、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＺｒＯ２またはＡｌ２Ｏ３を添加してもよい。
【００８０】
本形態において、ハードコート層の厚さは、１０ｎｍ〜１０μｍの範囲内にすることが好ましい。なお、ポリシラザンのハードコート層は、酸素・水蒸気バリア層としても用いることができる。
【００８１】
ハードコート層は、屈曲性があり、反りが生じないことが好ましい。ハードコート層の表面では、密な架橋構造を形成する場合があり、その際、フィルムが反り曲がることや、屈曲性がなくクラックが入りやすいようなことがあり、取り扱いが困難になる。このような場合、組成中の無機物の量を調整するなどで、柔軟性があり、平面性が得られるようにハードコート層を設計することが好ましい。
【００８２】
また、ハードコート層は、紫外線吸収剤や酸化防止剤を含有してもよい。紫外線吸収剤や酸化防止剤としては、上述の透光性樹脂層で用いられる紫外線吸収剤や酸化防止剤を用いることができる。ハードコート層に用いられる酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤、チオール系酸化防止剤およびホスファイト系酸化防止剤など、有機系酸化防止剤を使用することが好ましい。有機系酸化防止剤をハードコート層に含有させることでも、転落角を低下させうる。酸化防止剤と光安定剤を併用してもよい。ここで、光反射層の酸化防止剤および併用する場合には光安定剤は、特に制限されないが、上記透光性樹脂層の項で記載されたものと同様のものが使用できるため、ここでは説明を省略する。
【００８３】
［腐食防止層］
本形態の光反射フィルムは、反射層を金属から構成する場合、当該金属反射層の腐食を防止する目的で、金属反射層に隣接するように腐食防止層を有していてもよい。腐食防止層は、腐食防止剤およびバインダーを含みうる。
【００８４】
腐食防止層は、１層のみからなっていてもよいし、複数層からなっていてもよい。腐食防止層の厚さは、好ましくは３０〜２００ｎｍ、より好ましくは２０ｎｍ〜１００ｎｍである。
【００８５】
腐食防止層のバインダーとしては、例えば、セルロースエステル、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート、ポリノルボルネン、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、またはアクリル樹脂などを挙げることができる。なかでも、アクリル樹脂が好ましい。さらに、腐食防止層は、２．４−トリレンジイソシアネートなどの硬化剤を含んでもよい。
【００８６】
腐食防止剤としては、金属反射層を構成する金属に対する吸着性基を有することが好ましい。ここで、「腐食」とは、金属がそれをとり囲む環境物質によって、化学的もしくは電気化学的に浸食されるかまたは材質的に劣化する現象をいう（ＪＩＳ  Ｚ０１０３：２００４参照）。なお、腐食防止剤の含有量は、使用する化合物によって最適量は異なるが、一般的には０．１〜１．０ｇ／ｍ２の範囲内であることが好ましい。
【００８７】
金属に対する吸着性基を有する腐食防止剤としては、例えば、アミン類およびその誘導体、ピロール環を有する化合物、ベンゾトリアゾールなどトリアゾール環を有する化合物、ピラゾール環を有する化合物、チアゾール環を有する化合物、イミダゾール環を有する化合物、インダゾール環を有する化合物、銅キレート化合物類、チオ尿素類、メルカプト基を有する化合物、ナフタレン系化合物の少なくとも１種またはこれらの２種以上の混合物から選ばれることが好ましい。ベンゾトリアゾールなどの化合物においては、紫外線吸収剤が腐食防止剤を兼ねる場合もある。また、シリコーン変性樹脂を用いることも可能である。さらに具体的には、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「００６３」〜「００７２」に記載の腐食防止剤を使用することができる。
【００８８】
［ガスバリア層］
本形態の光反射フィルムは、反射層よりも光入射側にガスバリア層を有していてもよい。ガスバリア層は、湿度の変動、特に高湿度による樹脂基材および樹脂基材に支持される各構成層などの劣化を防止するためのものであるが、特別の機能・用途を持たせたものであってもよく、上記劣化防止機能を有する限りにおいて、種々の態様のガスバリア層を設けることができる。好ましい態様の一つでは、上述のハードコート層がガスバリア層として機能してもよい。
【００８９】
ガスバリア層の防湿性としては、４０℃、９０％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることが好ましく、０．５ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがより好ましく、０．２ｇ／ｍ２・ｄａｙ以下であることがさらに好ましい。また、ガスバリア層の酸素透過度としては、測定温度２３℃、９０％ＲＨの条件下で、０．６ｍｌ／ｍ２／ｄａｙ／ａｔｍ以下であることが好ましい。
【００９０】
ガスバリア層の形成方法は、真空蒸着法、スパッタリング、イオンビームアシスト、化学気相成長法などの方法により無機酸化物を形成する方法が挙げられるが、ゾル−ゲル法による無機酸化物の前駆体を塗布した後に、その塗布膜に加熱処理および／または紫外線照射処理を施して、無機酸化物膜を形成する方法も好ましく用いられる。
【００９１】
無機酸化物は、有機金属化合物を原料とするゾルから局所的加熱により形成されたものである。例えば、有機金属化合物に含有されているケイ素（Ｓｉ）、アルミニウム（Ａｌ）、ジルコニウム（Ｚｒ）、チタン（Ｔｉ）、タンタル（Ｔａ）、亜鉛（Ｚｎ）、バリウム（Ｂａ）、インジウム（Ｉｎ）、スズ（Ｓｎ）、ニオブ（Ｎｂ）などの元素の酸化物であり、例えば、酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウムなどである。これらのうち、好ましくは酸化ケイ素である。
【００９２】
無機酸化物を形成する方法としては、いわゆるゾル−ゲル法またはポリシラザン法を用いることが好ましい。ゾル−ゲル法は無機酸化物の前駆体である有機金属化合物から無機酸化物を形成する方法であり、ポリシラザン法は無機酸化物の前駆体であるポリシラザンから無機酸化物を形成する方法である。ゾル−ゲル法に用いられる化合物や詳細については、特開２０１２−２３２５３８号公報の段落「０１７４」〜「０１９１」に記載の化合物や方法を適宜採用することができる。
【００９３】
［アンカー層］
アンカー層は樹脂からなり、各種の樹脂を含む層と反射層との間（例えば、樹脂基材と反射層との間）を密着させるために設けられる層である。したがって、アンカー層は、樹脂基材と反射層とを密着させる密着性、反射層を真空蒸着法などで形成する時の熱にも耐え得る耐熱性、および反射層が本来有する高い反射性能を引き出すための平滑性を有することが好ましい。
【００９４】
アンカー層に使用する樹脂は、上記の密着性、耐熱性、および平滑性の条件を満足するものであれば特に制限はなく、例えば、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、アクリル樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、ポリアミド樹脂、ポリ塩化ビニル、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂などの単独またはこれらの混合樹脂などが使用できる。耐候性の点からポリエステル樹脂とメラミン樹脂との混合樹脂またはポリエステル樹脂とウレタン樹脂との混合樹脂が好ましく、さらにイソシアネート、エポキシなどの硬化剤を混合した熱硬化型樹脂とすればより好ましい。
【００９５】
また、アンカー層に、上述の「腐食防止層」の項に記載の腐食防止剤を含有させ腐食防止層としての機能も兼ね備えた層とすることができる。
【００９６】
アンカー層の厚さは、好ましくは０．０１〜３μｍ、より好ましくは０．１〜２μｍである。この範囲を満たすことにより、密着性を保ちつつ、樹脂基材表面の凹凸を覆い隠すことができ、平滑性を良好にでき、アンカー層の硬化も十分に行えるため、結果として光反射フィルムの反射率を高めることが可能となる。
【００９７】
アンカー層の形成方法は、グラビアコート法、リバースコート法、ダイコート法など、従来公知のコーティング方法が使用できる。
【００９８】
［粘着層］
本形態の光反射フィルムは、後述の支持基材に接合するための粘着層を有することが好ましい。粘着層を構成する粘着剤としては、特に制限されず、例えば、アクリル系粘着剤、シリコーン系粘着剤、ウレタン系粘着剤、ポリビニルブチラール系粘着剤、エチレン−酢酸ビニル系粘着剤等を例示することができる。
【００９９】
アクリル系粘着剤としては、溶剤系およびエマルジョン系どちらでも良いが、粘着力等を高め易いことから、溶剤系粘着剤が好ましく、その中でも溶液重合で得られたものが好ましい。このような溶剤系アクリル系粘着剤を溶液重合で製造する場合の原料としては、例えば、骨格となる主モノマーとして、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、オクリルアクリレート等のアクリル酸エステル、凝集力を向上させるためのコモノマーとして、酢酸ビニル、アクリルニトリル、スチレン、メチルメタクリレート等、さらに架橋を促進し、安定した粘着力を付与させ、また水の存在下でもある程度の粘着力を保持するために官能基含有モノマーとして、メタクリル酸、アクリル酸、イタコン酸、ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート等が挙げられる。該積層フィルムの粘着剤層には、主ポリマーとして、特に高タック性を要するため、ブチルアクリレート等のような低いガラス転移温度（Ｔｇ）を有するものが特に有用である。
【０１００】
この粘着層には、添加剤として、例えば安定剤、界面活性剤、紫外線吸収剤、難燃剤、帯電防止剤、抗酸化剤、熱安定剤、滑剤、充填剤、着色、接着調整剤等を含有させることもできる。
【０１０１】
粘着層の厚さは１μｍ〜１００μｍが好ましく、より好ましくは３〜５０μｍである。１μｍ以上であれば粘着性が向上する傾向にあり、十分な粘着力が得られる。逆に１００μｍ以下であれば光学フィルムの透明性が向上しうる。
【０１０２】
［剥離層］
本形態の光反射フィルムは、光入射側とは反対側の最表層に剥離層を有していてもよい。例えば、光反射フィルムの出荷時には剥離層が粘着層に張り付いた状態で出荷し、剥離層から粘着層を有する光反射フィルムを剥離し、支持基材に貼り合わせて太陽光反射装置などの光反射体として用いられる。
【０１０３】
剥離層としては、反射層の保護性を付与できるものであればよく、例えば、アクリルフィルムもしくはシート、ポリカーボネートフィルムもしくはシート、ポリアリレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンナフタレートフィルムもしくはシート、ポリエチレンテレフタレートフィルムもしくはシート、フッ素樹脂フィルムなどのプラスチックフィルムもしくはシート、または酸化チタン、シリカ、アルミニウム粉、銅粉などを練り込んだ樹脂フィルムもしくはシート、これらを練り込んだ樹脂をコーティングしたりアルミニウムなどの金属を金属蒸着などの表面加工を施したりした樹脂フィルムもしくはシートが用いられる。
【０１０４】
剥離層の厚さは、特に制限はないが通常１２〜２５０μｍの範囲であることが好ましい。
【０１０５】
さらに、本形態の光反射フィルムは、使用される環境や用途に応じて、導電性層、帯電防止層、ガスバリア層、易接着層（接着層）、防汚層、消臭層、流滴層、易滑層、ハードコート層、耐摩耗性層、反射防止層、電磁波シールド層、紫外線吸収層、赤外線吸収層、印刷層、蛍光発光層、ホログラム層、剥離層、粘着層、接着層、上記高屈折率層および低屈折率層以外の赤外線カット層（金属層、液晶層）、着色層（可視光線吸収層）、合わせガラスに利用される中間膜層などの機能層の１つ以上を有していてもよい。
【０１０６】
＜光反射体＞
本発明の他の一形態によると、上述の光反射フィルムが支持基材に貼付されてなる光反射体が提供される。光反射体は、光反射フィルムが粘着層を介して自己支持性の基材（支持基材）に接合されてなる構造を有する。ここで、「自己支持性の基材」という場合の、「自己支持性」とは、光反射体の基材として用いられる大きさに断裁された場合において、その対向する端縁部分を支持することで、基材を担持することが可能な程度の剛性を有することを表す。光反射体の基材が自己支持性を有することで、後述の太陽光反射装置に設置する際に取り扱い性に優れるとともに、光反射体を保持するための保持部材を簡素な構成とすることが可能となるため、太陽光反射装置を軽量化することが可能となり、例えば、太陽熱発電の太陽光反射装置として用いた際、太陽追尾の際の消費電力を抑制することが可能となる。
【０１０７】
当該基材は、単層であってもよく、複数の層を積層させた形状であってもよい。また、単一構造であってもよく、複数に分割されていてもよい。基材の形状としては、凹面状の形状を有するまたは凹面状の形状になり得ることが好ましい。そのために、平板状から凹面状の形状に可変である基材を用いてもよいし、凹面状の形状に固定されている基材を用いてもよい。凹面状の形状に可変である基材は、基材の曲率を調整することで、接合されているフィルムミラーの曲率も任意に調整することが可能となるため、反射効率を調整し高い正反射率を得ることができるため好ましい。凹面状の形状が固定されている基材は曲率を調整する必要がなくなるため、調整費用の観点から好ましい。
【０１０８】
基材の素材としては、鋼板、銅板、アルミニウム板、アルミニウムめっき鋼板、アルミニウム系合金めっき鋼板、銅めっき鋼板、錫めっき鋼板、クロムめっき鋼板、ステンレス鋼板などの金属板、ベニヤ板（好ましくは防水処理がされたもの）などの木板、繊維強化プラスチック（ＦＲＰ）板、樹脂板、などが挙げられる。前記材料の中でも金属板を用いることが、熱伝導率が高いという観点から好ましい。さらに好ましくは、高い熱伝導率だけでなく耐腐食性の良好なめっき鋼板、ステンレス鋼板、アルミニウム板などにすることである。最も好ましくは、樹脂と金属板を組み合わせた鋼板を用いることである。
【０１０９】
表面層としての樹脂フィルムの材料としては、従来公知の種々の樹脂フィルムを用いることができる。例えば、ポリカーボネート系フィルム、ポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルム、ノルボルネン系樹脂フィルム、およびセルロースエステル系フィルム、アクリルフィルムが好ましく、特にポリエチレンテレフタレートなどのポリエステル系フィルムまたはアクリルフィルムを用いることが好ましい。この樹脂フィルムの厚さは、樹脂の種類および目的などに応じて適切な厚さにすることが好ましい。例えば、一般的には、１０〜２５０μｍであり、好ましくは２０〜２００μｍである。
【０１１０】
＜太陽光反射装置＞
本発明の他の一形態によれば、光反射体を有する、太陽光反射装置が提供される。本形態の太陽光反射装置は、太陽熱発電において太陽光を集光に好適に用いられる。本形態の太陽光反射装置は、光反射体および光反射体を保持する保持部材を有する。
【０１１１】
好ましい形態としては、当該太陽光反射装置を太陽熱発電用として場合、内部に流体を有する筒状部材を集熱部としてフィルムミラーの近傍に設け、筒状部材に太陽光を反射させることで内部の流体を加熱し、その熱エネルギーを変換して発電する、一般的にトラフ型と呼ばれる形態が挙げられる。また、その他の形態として、タワー型と呼ばれる形態も挙げられる。タワー型の形態は、少なくとも一つの集熱部と、太陽光を反射して集熱部に照射するための少なくとも一つの太陽熱発電用太陽光反射装置を有しており、集熱部に集められた熱を用いて液体を加熱しタービンを回して発電するものがある。なお、集熱部の周囲に、太陽熱発電用太陽光反射装置が複数配置されていることが好ましい。また、それぞれの太陽熱発電用太陽光反射装置が同心円状や、同心の扇状に複数配置されていることが好ましい。また、支持タワーの周囲に設置された太陽光反射用ミラーにより、太陽光が集光鏡へと反射され、その後、集光鏡によりさらに反射し、集熱部へと送られ熱交換施設へ送られる。本形態の太陽光反射装置はトラフ型、タワー型のどちらにも用いることができる。もちろん、それ以外の種々の太陽熱発電に用いることができる。
【０１１２】
太陽光反射装置は、光反射体を保持する保持部材を有する。保持部材は、光反射体が太陽を追尾可能な状態で保持する事が好ましい。保持部材の形態としては、特に制限はないが、例えば、光反射体が所望の形状を保持できるように、複数個所を棒状の保持部材により、保持する形態が好ましい。保持部材は太陽を追尾可能な状態で光反射体を保持する構成を有することが好ましいが、太陽追尾に際しては、手動で駆動させてもよいし、別途駆動装置を設けて自動的に太陽を追尾する構成としてもよい。
【実施例】
【０１１３】
以下、実施例により本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１１４】
＜光反射フィルムの作製＞
［実施例１］
樹脂基材として、２軸延伸ポリエステルフィルム（ポリエチレンテレフタレートフィルム  厚さ２５μｍ）を用いた。高透明シリコーンゴム（信越化学社製  ＫＥ１９３５Ａ、ＫＥ１９３５Ｂ、固形分比率１：１）を、固形分濃度５０％となるようにトルエンで希釈し、透光性樹脂層用塗布液を調製した。上記ポリエステルフィルムの一方の面に当該塗布液をアプリケーター  バーコーター法にてコーティングして、塗布乾燥後の厚さ２５μｍの透光性樹脂層を形成した。その後、上記ポリエステルフィルムの他方の面に、真空蒸着法にて厚さ１００ｎｍの銀からなる反射層を形成した。次に、シリコーン系ハードコート（動研社製、サーコートＢ１６Ｎ、固形分濃度４５％）を、固形分濃度３０％となるようにメチルエチルケトンで希釈し、ハードコート層用塗布液を調製した。上記透光性樹脂層の表面に当該塗布液をマイヤーバーにてコーティングして、厚さ３μｍのハードコート層を形成し、光反射フィルムを作製した。
【０１１５】
［実施例２］
高透明シリコーンゴム（信越化学社製、ＫＥ１９３５Ａ、ＫＥ１９３５Ｂ、固形分比率１：１）を、固形分濃度５０％となるようにトルエンで希釈し、混合液Ａを調製した。また、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）樹脂（三菱レイヨン社製、ＥＭＢ４５７）を、固形分濃度２５％となるようにメチルエチルケトン（ＭＥＫ）で希釈し、混合液Ｂを調製した。そして、上記混合液Ａを７０質量部と、上記混合液Ｂを４２質量部とを混合し、透光性樹脂層用塗布液を調製した。
【０１１６】
当該透光性樹脂層用塗布液を用いて厚さ２５μｍの透光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１１７】
［実施例３］
透光性樹脂層の厚さを１００μｍとしたこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１１８】
［実施例４］
液状エポキシ樹脂（ジャパンエポキシレジン社製、ビスフェノールＡタイプエポキシ樹脂  グレード名「８２８」、エポキシ当量：標準値１８４〜１９４ｇ／ｅｑ、１ｇ中の水酸基数：０ｍｏｌ／ｇ）１００重量部に、純水２．４重量部、ジブチル錫ジウラレート１．０重量部を混合して混合液Ａを調製した。当該混合液Ａに、硬化剤として、フェノール樹脂（昭和高分子社製、イオルソノボラック系フェノール樹脂  ＮＣＲ−１８９）を、混合液Ａ１００重量部に対して４０重量部加え、透光性樹脂層用塗布液を調製した。
【０１１９】
当該透光性樹脂層用塗布液を用いて厚さ２５μｍの透光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２０】
［実施例５］
透光性樹脂層の厚さを７μｍとしたこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２１】
［実施例６］
透光性樹脂層の厚さを１６０μｍとしたこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２２】
［実施例７］
透光性樹脂層の厚さを７μｍとしたこと以外は、実施例４と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２３】
［比較例１］
ＰＭＭＡ樹脂（三菱レイヨン社製、ＥＭＢ４５７）、アクリルゴム（旭化成ケミカルズ社製、ＳＲＢ２１５）、トリアジン系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ４７９）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（ＢＡＳＦ社製、Ｔｉｎｕｖｉｎ９２８）を、混合比が１７：３：０．６８：０．４３（固形分比率）、固形分濃度が２１重量％となるように、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）中で混合し、透光性樹脂層用塗布液を調製した。
【０１２４】
当該透光性樹脂層用塗布液を用いて厚さ２５μｍの透光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２５】
［比較例２］
熱可塑性不飽和共重合ポリエステル樹脂（ユニチカ社製、製品名「エリーテル  ＵＥ３２４０」、ガラス転移温度（Ｔｇ）：４０℃）を、固形分濃度５０％となるように２−ブタノンで希釈し、透光性樹脂層用塗布液を調製した。
【０１２６】
当該透光性樹脂層用塗布液を用いて厚さ２５μｍの透光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２７】
［比較例３］
高透明シリコーンゴム（信越化学社製  ＫＥ１９３５Ａ）を、固形分濃度５０％となるようにトルエンで希釈し、透光性樹脂層用塗布液を調製した。
【０１２８】
当該透光性樹脂層用塗布液を用いて厚さ７μｍの透光性樹脂層を形成したこと以外は、実施例１と同様の方法で光反射フィルムを作製した。
【０１２９】
＜透光性樹脂層の貯蔵弾性率（Ｇ’）の測定＞
透光性樹脂層部分のみを１．５ｍｍ厚さで形成し、動的粘弾性スペクトル測定器（レオメトリックサイエンティフィック社製、商品名「ＡＲＥＳ」）を用いて、周波数１０Ｈｚ、昇温速度２℃／分で−５０℃〜１５０℃の範囲での貯蔵弾性率を測定した。そして、５０℃における貯蔵弾性率に対する、１００℃における貯蔵弾性率の割合を百分率（％）で算出した。結果を表１に示す。
【０１３０】
＜光反射フィルムの評価＞
［初期の正反射率］
ガラス板に２０ｍｍ×２０ｍｍ角にカットした光反射フィルム試料を貼り付け、分光光度計Ｕ−４１００（島津製作所社製）を使用し、反射面の法線に対して、入射角５°となるように調整し、反射角５°の正反射率を測定した。波長２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの平均正反射率（％）を表１に示す。
【０１３１】
［耐光性試験後の正反射率］
上記［初期の正反射率］測定後、ガラス板に貼り付けた試料に、スーパーキセノンウェザーメーターＳＸ２Ｄ−７５（スガ試験機社製）を使用し、出力１８ｍＷ／ｃｍ２で５１０時間光を照射した。その後、［初期の正反射率］の測定と同様の方法で、正反射率を測定した。波長２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの平均正反射率（％）を表１に示す。
【０１３２】
［表面拭き取り後の正反射率］
ガラス板に５０ｍｍ×５０ｍｍ角にカットした光反射フィルム試料を貼り付け、これを塵埃試験機ＤＴ−１Ｆ（スガ試験機社製）内に設置し、粒径４μｍの炭酸カルシウムを風速１０ｍ／分で試料表面にふきつけた。その後、試料を取り出し、各温度下（０℃、５０℃、１００℃）に２４時間保管後、ＤｏｏｄｌｅＤｕｓｔｅｒ（登録商標、３Ｍ社製）を用いて、５００ｇ／１００ｃｍ２の力で試料表面を一往復拭いた。その後、［初期の正反射率］の測定と同様の方法で、正反射率を測定した。波長２５０ｎｍ〜２５００ｎｍの平均正反射率（％）を表１に示す。
【０１３３】
【表１】
2016080948.tif 000007
【０１３４】
表１の結果より、１００℃における貯蔵弾性率が、５０℃における貯蔵弾性率に対し、５０〜１００％である透光性樹脂層を有する実施例１〜７は、比較例１〜３と比較して、１００℃において拭き取りを行った後であっても高い反射率が維持されることが示された。
【０１３５】
また、透光性樹脂層がシリコーン樹脂を含む実施例１および２は、エポキシ樹脂からなる透光性樹脂層を有する実施例４と比較して、耐光性に優れることが分かった。
【０１３６】
さらに、透光性樹脂層の厚さが１０μｍ以上である実施例１は、当該厚さが１０μｍ未満である実施例５と比較して、１００℃での拭き取り後の正反射率がより一層高いことが分かった。また、透光性樹脂層の厚さが１５０μｍ以下である実施例１は、当該厚さが１５０μｍ超である実施例６と比較して、初期の正反射率が高いことが分かった。
【符号の説明】
【０１３７】
１０  光反射フィルム、
１１  ハードコート層、
１３  透光性樹脂層、
１５  反射層、
１７  樹脂基材。
【図１】
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