(57)【要約】      （修正有）【課題】良好なサイズ精度を有し、且つ糊がブリードしない偏光板及びその製造方法を提供する。【解決手段】基台上面を含む基台と、固定装置と、研磨面、中心軸および中心軸の延伸方向に垂直する基準線を含み半径を有する研磨装置と、を備えた研磨設備を提供するステップと、偏光ユニットと、エッジと、研磨開始位置とを含む積層体を、基台の基台上面に設置するステップと、固定装置及び基台を用いて積層体を挟持するステップと、研磨面を用いて、研磨開始位置から積層体の少なくとも１つのエッジを研磨することで該積層体のエッジの一部を除去し、少なくとも１つの偏光板を得る研磨ステップと、を含み、積層体のエッジを予め設定された導入角で研磨することにより、偏光板を製造する。【選択図】図１
2016143054.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光板の製造方法であって、
基台上面を含む基台と、固定装置と、研磨面、中心軸および前記中心軸の延伸方向に垂直する基準線を含み半径を有する研磨装置と、を備えた研磨設備を提供するステップと、
偏光ユニットと、エッジと、研磨開始位置とを含む積層体を、前記基台の前記基台上面に設置するステップと、
前記固定装置及び前記基台を用いて前記積層体を挟持するステップと、
前記研磨面を用いて、前記研磨開始位置から前記積層体の少なくとも１つのエッジを研磨することで該積層体のエッジの一部を除去し、少なくとも１つの前記偏光板を得る研磨ステップと、を含み、
前記固定装置から前記基台上面までは、挟持距離が存在し、
前記挟持距離には、前記中心軸および前記基準線と同一平面内に位置する中点位置が存在し、
前記研磨開始位置と前記中心軸との連結線及び前記基準線により規定される角度は、下式（Ｉ）を満たす導入角θとして定義され、
【数３】
2016143054.tif 000006
式中、Ｄは前記挟持距離を示し、Ｒは前記研磨装置の前記半径を示す、偏光板の製造方法。
【請求項２】
前記導入角θは−７０°以上７０°以下である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項３】
前記積層体は前記挟持距離の値以下の第１高さを有する、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項４】
前記積層体は、前記エッジに隣接する上表面および下表面を含み、
前記研磨面は、前記積層体の前記上表面から前記積層体の前記下表面へ向かう方向に沿って前記エッジを研磨し、または、前記積層体の前記下表面から前記積層体の前記上表面へ向かう方向に沿って前記エッジを研磨する、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項５】
前記中心軸に対する半径の２倍と前記挟持距離との比率が１／１５以上１／３以下である、請求項１に記載の偏光板の製造方法。
【請求項６】
偏光板であって、
第１外縁部を有する光学膜と、
前記第１外縁部に一致している第２外縁部を有する離型層と、
第３外縁部及び第１厚みを有し、前記光学膜と前記離型層との間に設置された第１粘着膜と、を含み、
前記第１粘着膜の前記第３外縁部は、前記第１外縁部または前記第２外縁部よりも収縮しており、且つ、第１最大収縮距離を有し、
前記第１最大収縮距離と前記第１粘着膜の前記第１厚みとの比率が０よりも大きく、１.８を超えない、偏光板。
【請求項７】
前記第１粘着膜の前記第３外縁部は、不定形面、連続した曲面、アーチ状面、またはギザギザ状面となっており、曲面領域を含んでもよい、請求項６に記載の偏光板。
【請求項８】
第４外縁部及び第２厚みを有し、前記光学膜における前記第１粘着膜側の反対側に設置された第２粘着膜と、
前記第１外縁部に一致している第５外縁部を有し、前記第２粘着膜における前記光学膜側の反対側に設置された第２離型層とを、さらに含み、
前記第２粘着膜の第４外縁部は、前記第１外縁部または前記第５外縁部よりも収縮しており、且つ、第２最大収縮距離を有し、
前記第２最大収縮距離と前記第２粘着膜の前記第２厚みとの比率が０よりも大きく、１.８を超えない、請求項６に記載の偏光板。
【請求項９】
前記第１厚みと前記第２厚みとは異なる、請求項８に記載の偏光板。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は偏光板及びその製造方法に関し、特に、良好なサイズ精度を有し、且つ糊がブリードしない偏光板及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
表示ディスプレイにおける偏光板は、光線の偏光方向を変化させることにより表示ディスプレイの性能を向上させ、異なる表示技術、例えば三次元表示ディスプレイまたは液晶ディスプレイなどの表示技術を達成している。一般的に、偏光板は、偏光膜、接着糊層および離型層を含み、接着糊層が偏光膜と離型層との間に設けられることが従来から知られている。そして、偏光膜は、接着糊層を介して他の光学膜と貼り合わせることができる。また、離型層は、偏光板上の接着糊層が他の物体にくっ付くのを防ぐことができ、偏光板の輸送の利便性を向上させている。
【０００３】
量産化、および各種サイズの光学膜に対する需要を満たすためには、複数の偏光板を積層体として一旦積層してから、該積層体を適切なサイズに同時にカッティングすることが考えられる。
【０００４】
しかしながら、前記カッティング工程を行う際は、偏光板の可撓的な機械特性が原因で、カッティング時に加えられた圧力により積層体の各偏光板の位置が僅かにシフトすることがある。そのために、カッティング後のサイズ精度が低下し、ひいては後に製造された表示ディスプレイの性能まで低下してしまう。また、カッティング時に加えられた圧力により、カッティング後の偏光板上の接着糊層の糊が側面からブリードしやすくなるため、偏光板同士間の粘着、または他の物体との粘着が発生することがあり、偏光板の品質は低下する。
【０００５】
これに鑑み、従来の偏光板及びその製造方法の欠陥を改良する偏光板及びその製造方法を提供することが急務である。
【発明の概要】
【０００６】
したがって、本発明の一態様として、研磨設備を用いて積層体を研磨することにより、良好なサイズ精度を有し、且つ糊がブリードしない偏光板を製造する偏光板の製造方法を提供する。
【０００７】
本発明に係る偏光板の製造方法は、基台上面を含む基台と、固定装置と、研磨面、中心軸および中心軸の延伸方向に垂直する基準線を含み半径を有する研磨装置と、を備えた研磨設備を提供するステップと、偏光ユニットと、エッジと、研磨開始位置とを含む積層体を、基台の基台上面に設置するステップと、固定装置及び基台を用いて積層体を挟持するステップと、研磨面を用いて、研磨開始位置から積層体の少なくとも１つのエッジを研磨することで該積層体のエッのジ一部を除去し、少なくとも１つの偏光板を得る研磨ステップと、を含み、固定装置から基台上面までは最小挟持距離が存在し、最小挟持距離には、中心軸および基準線と同一平面内に位置する中点位置が存在する。
【図面の簡単な説明】
【０００８】
【図１】本発明の一実施例に係る偏光板の製造方法を示すフローチャートである。
【図２ａ】本発明の一実施例に係る研磨設備を示す立体図である。
【図２ｂ】本発明の一実施例に係る研磨設備を示す側面図である。
【図３ａ】本発明の一実施例において積層体を研磨設備の基台上に設置した状態を示す側面図である。
【図３ｂ】本発明の一実施例に係る偏光ユニットの局部を示す断面図である。
【図３ｃ】本発明の一実施例において研磨ステップを行う際の研磨設備を示す側面図である。
【図４ａ】本発明の別の実施例に係る固定装置及び基台が積層体を挟持した状態を示す側面図である。
【図４ｂ】本発明の更なる別の実施例に係る固定装置及び基台が積層体を挟持した状態を示す側面図である。
【図５ａ】本発明に係る製造方法により作製した偏光板の局部を示す断面図である。
【図５ｂ】本発明に係る製造方法により作製した別の偏光板の局部を示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
以下は、本発明の実施例に係る製造および使用について詳細に述べる。但し、実施例に提供される応用可能な発明思想は様々な特定の構成に適用可能であると理解できる。また、以下に述べる特定の実施例は、単に説明するためのものであり、本発明の範囲を限定するものではない。
【００１０】
図１、図２ａ及び図２ｂを同時に参照する。図１は本発明の一実施例に係る偏光板の製造方法を示すフローチャートである。図２ａおよび図２ｂのそれぞれは、本発明の一実施例に係る研磨設備を示す立体図、側面図である。一実施例における方法１００では、まず、ステップ１１０に示すように研磨設備２００を提供する。
【００１１】
上述した実施例において、この研磨設備２００は、基台２１０、固定装置２２０及び研磨装置２３０を含む。前記研磨装置２３０は、研磨面２３１、中心軸２３２、及び中心軸２３２の延伸方向２３２ａに垂直する基準線２３３を含む。一具体例として、研磨装置２３０はロール、ホイール、円盤、若しくはこれらの任意の組み合わせ、または適した他の研磨装置であってもよい。
【００１２】
図１および図３ａを同時に参照する。図３ａは本発明の一実施例において積層体を研磨設備の基台に設置した状態を示す側面図である。ステップ１１０の後に、ステップ１２０及び図３ａに示すように、少なくとも１つの偏光ユニット３１０を含む積層体３００を、基台２１０の基台上面２１０ａに設置する。次に、少なくとも１つの偏光ユニット３１０の延伸面を、基台上面２１０ａと平行にする。そして、ステップ１３０及び図３ａに示すように、固定装置２２０及び基台２１０を用いて積層体３００を挟持する。
【００１３】
図３ａを参照する。前記固定装置２２０から基台上面２１０ａまでは、最小の挟持距離Ｄを有し、積層体３００は、挟持距離Ｄ以下の第１高さＨ１を有する。一実施例においては、挟持距離Ｄの中点位置、すなわちＤ／２に相当する位置と、研磨装置２３０の中心軸２３２と、研磨装置２３０の基準線２３３とが、同一平面内に位置している。
【００１４】
一実施例において、前記研磨装置の中心軸２３２に対する半径の２倍である２Ｒと、挟持距離Ｄとは、１／１５以上１／３以下の範囲の比率を有する。
【００１５】
図３ａ及び図３ｂを参照する。図３ｂは、本発明の一実施例に係る偏光ユニットの局部を示す断面図である。一実施例では、積層体３００における偏光ユニット３１０のそれぞれが、少なくとも１つの光学膜３１０ａと、少なくとも１つの粘着膜３１０ｂと、少なくとも１つの離型層３１０ｃとを含んでもよい。粘着膜３１０ｂは、光学膜３１０ａと離型層３１０ｃとの間に設けられている。一実施例において、前記光学膜３１０ａおよび離型層３１０ｃのいずれか一方は、基台上面２１０ａおよび固定装置２２０のいずれか一方と接触する。別の実施例においては、偏光ユニットは、２層以上の粘着膜及び２層以上の離型層を含み、これらの粘着膜の各々が、光学膜と、離型層のうちの１つとの間に設けられていてもよい。別の実施例においては、偏光ユニットは２層以上の光学膜を含んでもよい。
【００１６】
一実施例において、固定装置２２０及び基台２１０が積層体３００を挟持しているときには、この挟持状態で生じた圧力により、積層体３００における偏光ユニット３１０内の粘着膜３１０ｂが僅かに押し出され、糊のブリードを引き起こすことがある。
【００１７】
図１を参照する。ステップ１３０の後は、ステップ１４０に示すように、前記積層体３００の第１高さＨ１が挟持距離Ｄに等しい否かを判断する。第１高さＨ１が挟持距離Ｄに等しい場合には、ステップ１５０に示すように研磨ステップを行う。
【００１８】
ステップ１４０において前記第１高さＨ１が挟持距離Ｄ未満であると判断された場合、固定装置２２０及び基台２１０が積層体３００を効果的に挟持できないため、方法１００において後の研磨ステップ１５０を行うためには、さらにステップ１４０ａを行う必要がある。
【００１９】
図１、図４ａ及び図４ｂを同時に参照する。図４ａ及び図４ｂは、それぞれ、本発明の一実施例及び別の実施例に係る固定装置及び基台が積層体を挟持した状態を示す側面図である。ステップ１４０において前記第１高さＨ１が挟持距離Ｄ未満であると判断された場合、ステップ１４０ａに示すように、積み材４００を、図４ａのように積層体３００の上表面３００ａに、または図４ｂのように積層体３００の下表面３００ｂに設置することにより、積み材４００の第２高さＨ２と第１高さＨ１との合計が挟持距離Ｄに等しくなるようにしてもよい。これにより、固定装置２２０及び基台２１０が積み材４００を介して積層体３００を効果的に挟持することができ、後の研磨ステップ１５０を行うことができる。
【００２０】
図１及び図３ｃを参照する。図３ｃは、本発明の一実施例において研磨ステップを行う際の研磨設備を示す側面図である。研磨ステップ１５０を行う際、ユーザは、偏光板の所望のサイズに応じて、挟持距離Ｄの中点位置、すなわちＤ／２に相当する位置と、研磨装置２３０の中心軸２３２と、研磨装置２３０の基準線２３３とが同一平面内に位置するように、固定装置２２０、および／または基台２１０、および／または研磨装置２３０の水平方向若しくは垂直方向における移動距離を調整し、これと連動的に積層体３００の位置を移動させることができる。次に、積層体３００の被研磨量を調整するために予め設定された導入角θにて、研磨装置２３０の研磨面２３１を用いて積層体３００のエッジ３００ｃを研磨し、積層体３００のエッジ３００ｃの一部を除去する。
【００２１】
前記導入角θとは、研磨装置２３０の研磨面２３１が積層体を研磨し始める開始位置ＣまたはＣ’と研磨装置２３０の中心軸２３２とを結ぶ連結線、及び基準線２３３により規定される角度を指す。上述した定義によれば、積層体の開始位置ＣまたはＣ’が基準線２３３に一致した場合、導入角θは０°である。
【００２２】
前記開始位置がＣである場合、研磨装置２３０の研磨面２３１は、第１回転方向２３０ａに沿って積層体３００のエッジ３００ｃを研磨する。第１回転方向２３０ａは、積層体３００の上表面３００ａから下表面３００ｂへ向かう方向であり、導入角θを正の値として定義する。
【００２３】
また、別の実施形態において、前記開始位置がＣ’である場合、研磨装置２３０の研磨面２３１は、第２回転方向２３０ｂに沿って積層体３００のエッジ３００ｃを研磨する。第２回転方向２３０ｂは、積層体３００の下表面３００ｂから上表面３００ａへ向かう方向であり、導入角θを負の値として定義する。
【００２４】
前記導入角は、下式（Ｉ）を満たすものである。
【数１】
2016143054.tif 000003
式(Ｉ)中、θは導入角を示し、Ｄは挟持距離を示し、Ｒは研磨装置の半径を示す。本実施例では、導入角θは−７０°以上７０°以下の範囲である。
【００２５】
なお、前記挟持距離Ｄの中点位置と、中心軸２３２と、基準線２３３とが同一平面内に位置していないと、研磨装置２３０の中心軸２３２が挟持距離Ｄの中点位置に対して高くまたは低くなる。中心軸２３２が挟持距離Ｄの中点位置よりも高くなった場合、積層体３００の上部側の偏光ユニット３１０に関する導入角θは７０°未満となり、積層体３００の下部側の偏光ユニット３１０に関する導入角θは７０°よりも大きくなる。そして、上述したような移動距離に起因して、積層体３００の上部側及び下部側の偏光ユニット３１０には被研磨量が異なる部位が生じ、すなわち、上部側の偏光ユニット３１０と下部側の偏光ユニット３１０とで異なる研磨量が生じる。したがって、研磨して得られた偏光板のサイズ精度が低下し、製造した偏光板にも糊がブリードするといった欠陥が残る。
【００２６】
前記積層体３００の上部側の偏光ユニット３１０とは、積み位置が挟持距離Ｄの中点位置よりも高い偏光ユニット３１０を指す。逆に、積層体３００の下部側の偏光ユニット３１０とは、積み位置が挟持距離Ｄの中点位置よりも低い偏光ユニット３１０を指す。
【００２７】
一方、中心軸２３２が挟持距離Ｄの中点位置よりも低くなった場合、積層体３００の上部側の偏光ユニット３１０に関する導入角θの角度は７０°よりも大きくなり、積層体３００の下部側の偏光ユニット３１０に関する導入角θの角度は７０°未満となる。そのため、研磨して得られた偏光板は、サイズ精度が低く、糊がブリードするといった欠陥がある。
【００２８】
また、積層体３００の第１高さＨ１が挟持距離Ｄよりも大きくなると、積層体３００が固定装置２２０及び基台２１０に挟持され難くなるという欠点のほか、積層体３００における偏光ユニット３１０内の粘着膜が完全に押し出されることもあるため、作製された偏光板は、粘着膜が無くなり、使用不能となる。
【００２９】
さらに、第１高さＨ１が挟持距離Ｄよりも大きくなると、研磨面２３１がより大きな導入角θ、例えば７０°よりも大きい角度で積層体３００の少なくとも１つのエッジ３００ｃを研磨することになるため、作製された偏光板はサイズ精度が低下する。
【００３０】
図１を参照する。研磨ステップ１５０の後、ステップ１６０及びステップ１７０に示すように研磨設備２００及び固定装置２２０を取り外し、少なくとも１つの偏光板を得る。このように、本発明は、研磨ステップにおいて、積層体における各偏光ユニット３１０を研磨し、研磨された偏光ユニット３１０を偏光板として形成する。
【００３１】
図５ａを参照する。図５ａは本発明に係る製造方法により作製した偏光板の局部を示す断面図である。偏光板５００ａは、光学膜５１０、離型層５２０、および粘着膜５３０を含む。この離型層５２０の２つの外縁部５２０ａおよび５２０ｂは、それぞれ光学膜５１０の２つの外縁部５１０ａおよび５１０ｂに一致している。粘着膜５３０は光学膜５１０と離型層５２０との間に設置されている。
【００３２】
前記固定装置２２０を取り外した後、粘着膜５３０は、挟持圧力の解放及び自身の凝集力の影響で、その外縁部５３０ａまたは５３０ｂが、光学膜５１０の２つの外縁部５１０ａまたは５１０ｂよりも内側へ収縮している。
【００３３】
また、研磨装置の研磨面の粗さ及び前記凝集力の影響で、粘着膜５３０が収縮する際は、粘着膜５３０の研磨された外縁部５３０ａまたは５３０ｂが不定形面となり得る。一実施例において、前記不定形面は連続した曲面であってもよい。一実施例において、前記不定形面は曲面領域を含んでもよい。また、別の実施例において、粘着膜５３０の外縁部５３０ａまたは５３０ｂは、アーチ状面またはギザギザ状面であってもよい。一実施例においては、前記不定形面は連続した曲面であってもよい。
【００３４】
光学膜５１０の２つの外縁部５１０ａまたは５１０ｂを起点として、粘着膜５３０の２つの外縁部５３０ａまたは５３０ｂの不定形面は、最大収縮距離ｄ１またはｄ２を有してもよい。前記最大収縮距離ｄ１とは、粘着膜５３０の最大収縮の箇所から、光学膜５１０の一方側の外縁部５１０ａと離型層５２０の同一側の外縁部５２０ａとの連結線までの、垂直測定距離である。なお、最大収縮距離ｄ２の測定方法は、上記最大収縮距離ｄ１と同様であり、その説明を省略する。
【００３５】
最大収縮距離ｄ１またはｄ２と、粘着膜５３０の厚みＴと比率は、１.８以下である。一実施例において、最大収縮距離ｄ１またはｄ２と、粘着膜５３０の厚みＴと比率は、０.２５〜１.８の範囲である。
【００３６】
前記最大収縮距離ｄ１またはｄ２と、厚みＴとの比率が１.８を超える場合、作製された偏光板の粘着膜５３０の粘着面積が少なくなるため、偏光板を他の光学シートに貼り合わせ難くなり、または液晶表示モジュールの光漏れを引き起こし、ひいてはその応用に影響する虞がある。
【００３７】
光学膜５１０上の粘着膜５３０の厚みは特に制限されないが、一実施例において、粘着膜５３０の厚みは例えば５μｍ〜５０μｍであってもよい。
【００３８】
一実施例において、光学膜５１０としては、例えば偏光変換素子、反射板や半透過板、位相差板、視角補償膜、輝度向上膜、保護膜、配向液晶層、接着容易化処理層、硬塗層、反射抑制層、粘着防止層、拡散層、眩暈防止層など、各種の表面処理層が挙げられる。一実施例において、光学膜５１０は、上記から選択される層の組み合せである複数層の構造であってもよい。
【００３９】
一実施例において、離型層５２０の材料としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリジエチルテレフタレートなどの合成樹脂膜や、ゴム片、紙、布、不織布、網状物、発泡材、金属箔、及びこれらの積層体の最適な薄層体から選択され得る。
【００４０】
一実施例において、粘着膜５３０の材料としては、アクリル酸系重合体にアクリル酸オリゴマーやシランカップリング剤を配合して得られたもの、アクリル酸系重合体に光重合開始剤を添加し紫外線（ＵＶ）照射して得られたもの、または、アクリル酸系重合体に抗静電気成分を添加した化合物から、選択され得る。
【００４１】
図５ｂを参照する。図５ｂは、本発明に係る製造方法により作製した別の偏光板の局部を示す断面図である。偏光板５００ｂは、１つの光学膜５１０と、２つの離型層５２０と、第１粘着膜５３１および第２粘着膜５３３とを含む。２つの離型層５２０の２つの外縁部５２０ａおよび５２０ｂのそれぞれが、光学膜５１０の２つの外縁部５１０ａおよび５１０ｂに一致している。また、２つの離型層５２０は、それぞれ光学膜５１０の両側に配置されている。第１粘着膜５３１および第２粘着膜５３３は、それぞれ、光学膜５１０と、２つの離型層５２０との間に設置されている。
【００４２】
同様に、凝集力の影響で、第１粘着膜５３１の外縁部５３１ａまたは５３１ｂ、およに、第２粘着膜５３３の外縁部５３３ａまたは５３３ｂのいずれも、光学膜５１０の２つの外縁部５１０ａまたは５１０ｂよりも内側へ収縮している。また、第１粘着膜５３１および第２粘着膜５３３の外縁部５３１ａ、５３１ｂ、５３３ａまたは５３３ｂは、不定形面となり得る。一実施例において、前記不定形面は、少なくとも曲面領域を含んでもよい。一実施例において、前記不定形面は連続した曲面であってもよい。また、別の一実施例において、第１粘着膜５３１および第２粘着膜５３３の外縁部５３１ａ、５３１ｂ、５３３ａまたは５３３ｂは、アーチ状面またはギザギザ状面であってもよい。
【００４３】
光学膜５１０の２つの外縁部５１０ａまたは５１０ｂを起点として、第１粘着膜５３１および第２粘着膜５３３の外縁部５３１ａ、５３１ｂ、５３３ａまたは５３３ｂの不定形面は、最大収縮距離ｄ１、ｄ２、ｄ１’またはｄ２’を有してもよい。なお、最大収縮距離ｄ１、ｄ２、ｄ１’及びｄ２’の測定方法は、上述のとおりであり、その説明を省略する。
【００４４】
一実施例において、第１粘着膜５３１の厚みＴと、第２粘着膜５３３の厚みＴ’とは異なる。一実施例において、第１粘着膜５３１の厚みＴは５０μｍ〜２５０μｍ程度であり、第２粘着膜５３３の厚みＴ’は５μｍ〜５０μｍ程度である。
【００４５】
最大収縮距離ｄ１またはｄ２と、第１粘着膜５３１の厚みＴとの比率は、１.８未満である。また、収縮距離ｄ１’またはｄ２’と、第２粘着膜５３３の厚みＴ’との比率は、１.８未満である。一実施例において、収縮距離ｄ１およびｄ２のうち最大である収縮距離と、厚みＴとの比率が０.２５〜１.８であってもよく、収縮距離ｄ１’およびｄ２’のうち最大である収縮距離と、厚みＴ’との比率が０.２５〜１.８であってもよい。
【００４６】
同様に、第１粘着膜５３１または第２粘着膜５３３の収縮距離と、厚みＴまたはＴ’との比率が１.８を超える場合、作製された偏光板５００ｂにおける第１粘着膜５３１または第２粘着膜５３３の接着糊の粘着面積が少なくなるため、偏光板を他の光学シートと貼り合わせ難くなり、または液晶表示モジュールの光漏れを引き起こし、ひいてはその応用に影響する虞がある。
【００４７】
以下、実施例を用いて本発明の応用を説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、当業者が本発明の精神および範囲を超えない範囲で様々な変更および改修を実施し得る。
＜偏光板の作製＞
（実施例１）
【００４８】
図３ａ〜図３ｃを同時に参照する。複数の偏光ユニット３１０を含む積層体３００を基台２１０上に設置しておき、固定装置２２０及び基台２１０を用いて該積層体３００を挟持する。これらの偏光ユニット３１０の各々は、光学膜３１０ａと離型層３１０ｃとの間に設置された少なくとも１層の粘着膜３１０ｂを含む。本実施例では、積層体３００の第１高さＨ１が、固定装置２２０および基台２１０による挟持距離Ｄに等しい。
【００４９】
次に、研磨装置２３０の研磨面２３１を用いて、７０°の導入角θで、積層体３００を研磨する。研磨ステップを行った後、図５ａに示す構成の実施例１の偏光板が得られる。得られた偏光板は、下記の評価形式で評価した。評価結果は表１に示す。なお、研磨品質及び収縮の程度についての測定方法は後述する。
【００５０】
（実施例２〜実施例６及び比較例１〜比較例４）
実施例２〜実施例６及び比較例１〜比較例４は、実施例１と同様の方法を用いて偏光板を作製した。但し、実施例２〜実施例６及び比較例１〜比較例４は、異なる構造の積層体３００を異なる導入角で研磨した点で、実施例１とは異なる。また、偏光ユニット３１０に２層の粘着膜が含まれている場合、この２層の粘着膜の各々は、光学膜の両側に設置されており、且つ該粘着膜の、光学膜を離れる側には、離型層が設置されている。この場合に作製した完成後の構造は、図５ｂに示すとおりである。実施例２〜実施例６及び比較例１〜比較例４の条件及び評価結果は、表１に示すとおりであり、その説明を省略する。
＜評価形式＞
１.研磨品質
【００５１】
前記実施例１〜実施例６及び比較例１〜比較例４で作製した偏光板は、研磨後のサイズ精度及び糊のブリード状況に基づき、偏光板の研磨品質を評価することができる。
【００５２】
具体的には、偏光板のサイズ精度は、実施例１〜実施例６及び比較例１〜比較例４で作製した偏光板をそれぞれ水平台に設置して平ら状態にし、該偏光板のサイズをノギスで測定し、測定値と所望のサイズとの誤差値を算出した。算出したサイズ誤差値は、下記の基準に基づいて評価した。
◎：サイズ誤差値≦±０.１ｍｍ
○：±０.１ｍｍ＜サイズ誤差値≦±０.２ｍｍ
×：±０.２ｍｍ＜サイズ誤差値。
【００５３】
前記糊のブリード状況の評価形式としては、目視で偏光板における粘着膜のブリード有無を判断した。
２.収縮の程度
【００５４】
本発明で作製される偏光板における粘着膜の収縮の程度は、下式(ＩＩ)で算出した。なお、式中の粘着膜の最大収縮距離は光学顕微鏡で測定した。また、粘着膜の最大収縮距離の測定方法は、前記の実施例で説明したとおりであり、その説明を省略する。
【数２】
2016143054.tif 000004
【００５５】
表１に示す結果から、研磨装置の研磨面が７０°以上−７０°以下の導入角θで積層体を研磨する場合に作製された偏光板は、良好なサイズ精度を有し、偏光板における粘着膜がブリードし難いことが分かる。そのため、接着糊による汚染を減らし、偏光板と他の光学シートとの粘着の発生を減らすことができ、偏光板の製造工程の良品率及び偏光板の品質が向上する。
【００５６】
さらに、前記７０°以上−７０°以下の導入角θで積層体を研磨する場合に作製された偏光板は、その粘着膜の収縮の程度、すなわち粘着膜の収縮距離と厚みとの比率が０よりも大きく、１.８を超えないものであり、偏光板と他の光学シートとの有效な貼り合わせが確保されている。
【００５７】
また、導入角θが７０°以上−７０°以下ではない場合に作製された偏光板は、サイズ精度が低く、且つ、偏光板における粘着膜が収縮しなかった。そのため、偏光板における粘着膜の糊がブリードし易く、偏光板の品質は低下する。
【００５８】
以上、上記の実施形態により本発明を開示したが、本発明はこれに限定されるものではなく、当業者が本発明の精神および範囲を超えない範囲で様々な変更および改修を実施し得る。したがって、本発明の保護範囲は、添付された特許請求の範囲により定義されるべきである。
【表１】
2016143054.tif 000005
【符号の説明】
【００５９】
１００  方法
１１０  研磨設備を提供するステップ
１２０  積層体を基台上面に設置し、積層体の偏光ユニットを基台上面と平行にするステップ
１３０  固定装置及び基台を用いて積層体を挟持するステップ
１４０  積層体の第１高さが挟持距離と同様であるか否かを判断するステップ
１４０ａ  積み材の第２高さと第１高さとの合計が挟持距離に等しくなるように、
積み材を積層体の上表面または下表面に設置するステップ
１５０  研磨を行うステップ
１６０  固定装置を取り外すステップ
１７０  偏光板を得るステップ
２００  研磨設備
２１０  基台
２１０ａ  基台上面
２２０  固定装置
２３０  研磨装置
２３０ａ  第１回転方向
２３０ｂ  第２回転方向
２３１  研磨面
２３２  中心軸
２３２ａ  延伸方向
２３３  基準線
３００  積層体
３００ａ  上表面
３００ｂ  下表面
３００ｃ  エッジ
３１０  偏光ユニット
３１０ａ  光学膜
３１０ｂ  粘着膜
３１０ｃ  離型層
４００  積み材
５００ａ、５００ｂ  偏光板
５１０  光学膜
５１０ａ、５１０ｂ  外縁部
５２０  離型層
５２０ａ、５２０ｂ  外縁部
５３０  粘着膜
５３０ａ、５３０ｂ  外縁部
５３１  第１粘着膜
５３１ａ、５３１ｂ  外縁部
５３３  第２粘着膜
５３３ａ、５３３ｂ  外縁部
θ  導入角
Ｄ  挟持距離
Ｈ１  第１高さ
Ｈ２  第２高さ
Ｃ、Ｃ’  開始位置
Ｔ、Ｔ’  厚み
ｄ１、ｄ１’、ｄ２、ｄ２’  収縮距離
【図１】
2016143054.tif 000007
【図２ａ】
2016143054.tif 000008
【図２ｂ】
2016143054.tif 000009
【図３ａ】
2016143054.tif 000010
【図３ｂ】
2016143054.tif 000011
【図３ｃ】
2016143054.tif 000012
【図４ａ】
2016143054.tif 000013
【図４ｂ】
2016143054.tif 000014
【図５ａ】
2016143054.tif 000015
【図５ｂ】
2016143054.tif 000016