(57)【要約】【課題】十分な殺菌と、異臭発生抑制及び良好な外観とを両立可能な殺菌カットキャベツの生産方法を提供する。【解決手段】カットキャベツをオゾン水に接触させることで前記カットキャベツを殺菌する殺菌工程Ｓ３と、殺菌工程Ｓ３において殺菌されたカットキャベツを、３０℃〜５０℃の温水に接触させて温水処理を行う温水処理工程Ｓ４と、を含むことを特徴とする、殺菌カットキャベツの生産方法とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
カットキャベツをオゾン水に接触させることで前記カットキャベツを殺菌する殺菌工程と、
前記殺菌工程において殺菌されたカットキャベツを、３０℃〜５０℃の温水に接触させて温水処理を行う温水処理工程と、を含むことを特徴とする、殺菌カットキャベツの生産方法。
【請求項２】
前記温水処理工程において、前記殺菌工程において殺菌されたカットキャベツは、０．２分〜１０分間、前記温水に接触されることを特徴とする、請求項１に記載の殺菌カットキャベツの生産方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、殺菌カットキャベツの生産方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
核家族化や共働きの増加を背景に、野菜を切ることなくそのまま調理したり食べたりすることができるカット野菜の需要が増している。カット野菜は、畑から収穫された野菜が切断されて生産されるが、収穫された野菜には、泥や塵等の汚れや生菌が付着している。そのため、畑から収穫された野菜を洗浄や殺菌した後、切断されてカット野菜を得ることが多い。そして、得られたカット野菜は、包装（袋詰め等）されて、製品として出荷される。
【０００３】
カット野菜の殺菌方法としては、大量調理施設衛生管理マニュアルに記載された、次亜塩素酸ナトリウム水溶液を用いた方法がある。具体的には、野菜が次亜塩素酸ナトリウム水溶液に所定時間浸漬されることで、野菜の殺菌が行われる。しかし、次亜塩素酸ナトリウム等の塩素系殺菌剤を用いると、野菜に塩素臭が残存することがある。また、有機塩素系の副生成物が生成することがあり、これにより、副生成物を除去するため、野菜を大量の水でリンスしなければならないことがある。
【０００４】
そこで、強い殺菌力を有するオゾン水が近年注目されている。オゾンは、触媒等により速やかに分解され、残存しにくいという利点もある。そこで、オゾンガスを水に溶解させたオゾン水を用いた殺菌方法が知られている。具体的には、例えば特許文献１には、洗浄した後の葉野菜に対して、オゾン水を用いて殺菌することが記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特許第４３８１３４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
オゾンは強い殺菌力を有する。そのため、オゾンを溶解させた水、即ちオゾン水を用いて野菜を殺菌すると、野菜へのダメージが大きすぎ、殺菌された野菜に褐変が生じることがある。また、オゾン水による殺菌処理により、野菜に付着した大部分の生菌は死滅するものの、一部の生菌は死滅せずに野菜に残存することが多い。これにより、カット野菜の保存性（即ち、日持ちの長さ）が低下することがある。
【０００７】
そこで、褐変の抑制及び保存性の向上について本発明者らが検討したところ、オゾン水によって殺菌された野菜に対し、例えば４０℃〜６０℃程度の温水を用いたヒートショック処理を行えばよいことが見出された。特に、このようなヒートショック処理により、オゾン水による殺菌処理で死滅せずに残存した生菌を、ヒートショック処理時に接触する温水によって積極的に洗い流せることが見出された。
【０００８】
しかし、カット野菜のなかでもカットキャベツの場合、本発明者らが検討したところ、カットキャベツについて前記の殺菌及びヒートショック処理を行うと、カットキャベツに異臭が発生することがあることがわかった。また、カットキャベツの場合、他のカット野菜と比べて、前記の殺菌及びヒートショック処理によって、外観上の「みずみずしさ」が失われる（「ハリ」がない、「萎れている」等ともいう）傾向にあることもわかった。
【０００９】
本発明は前記の課題に鑑みてなされたものであり、本発明が解決しようとする課題は、十分な殺菌と、異臭発生抑制及び良好な外観とを両立可能な殺菌カットキャベツの生産方法を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明者らは前記課題を解決するために鋭意検討した結果、以下の知見を見出した。即ち、本発明は、カットキャベツをオゾン水に接触させることで前記カットキャベツを殺菌する殺菌工程と、前記殺菌工程において殺菌されたカットキャベツを、３０℃〜５０℃の温水に接触させて温水処理を行う温水処理工程と、を含むことを特徴とする、殺菌カットキャベツの生産方法に関する。
【発明の効果】
【００１１】
本発明によれば、十分な殺菌と、異臭発生抑制及び良好な外観とを両立可能な殺菌カットキャベツの生産方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】第１実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図２】第１実施形態の殺菌システムにおいて実行される、殺菌カットキャベツの生産方法を説明するフローチャートである。
【図３】第２実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図４】第３実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図５】第４実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図６】第５実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図７】第６実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図８】第７実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図９】第８実施形態の殺菌システムの系統図である。
【図１０】第９実施形態の殺菌システムの系統図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、図面を適宜参照しながら、本発明実施するための形態（本実施形態）を説明する。
【００１４】
［１．第１実施形態］
図１は、本実施形態の殺菌システム１００の系統図である。殺菌システム１００は、予洗槽１と、殺菌槽２と、温水槽３と、すすぎ槽４とを備える。カットキャベツはこの順で各槽において処理されて、殺菌済みのカットキャベツが得られる。また、殺菌システム１００は、ほかにも、殺菌槽２に供給されるオゾン水を調製するための冷却装置５及びオゾン水調製槽６、回収されたオゾンガスを貯蔵する回収オゾンガスタンク７、温水循環ラインにおいて循環する温水を調製するための加熱装置８及び混合装置９、並びに、すすぎ槽４に供給される冷水を調製するための冷却装置１０を備えている。
【００１５】
給水源としては、水道水が用いられるほか、例えば殺菌処理が施された井戸水が殺菌システム１００に給水される。殺菌システム１００に給水された水は、そのまま予洗槽１に供給されるほか、冷却装置５や冷却装置１０で冷却された後にオゾン水調製槽６やすすぎ槽４に供給される。また、図示はしないが、給水された水の一部は加熱装置８にも供給され、加熱された後、温水槽３に供給されて、温水循環ラインを通流する。
【００１６】
また、排水としては、予洗槽１で使用された後の水、殺菌槽２で使用された後に溶存オゾンガスが回収された後の水、すすぎ槽４で使用された後の水が、適宜廃水処理され、外部に排出される。また、図示はしないが、温水循環ラインを通流する温水は、その汚れ度合等に応じて、外部に排出される。
【００１７】
なお、図１では、主要な装置を図示し、各液体の送液に用いられるポンプや流量調整弁、搬送装置、流量計や温度計等の各種センサ等は、図示の簡略化のために図示していない。
【００１８】
予洗槽１は、殺菌対象物であるカットキャベツを殺菌前の予備洗浄（以下、予洗という）をするものである。即ち、予洗槽１には、図示しない切断装置によって切断されたキャベツ（カットキャベツ）が供給される。予洗は、水を用いて行われる。予洗槽１においては、カットキャベツに付着している泥や埃等が洗浄される。そして、ある程度清浄なカットキャベツが、殺菌槽２に供給されることになる。
【００１９】
殺菌槽２は、泥等の汚れが除去されたカットキャベツに対して、殺菌処理を行うものである。具体的には、殺菌処理は、オゾンガスを溶解させた冷水（オゾン水）をカットキャベツに浸漬（接触）させることで行われる。浸漬時間は、オゾン水のオゾン含有量やカットキャベツの質量等に拠っても異なるが、例えば０．２分〜１５分程度であり、好ましくは０．２分〜５分程度である。
【００２０】
オゾン水の温度は、カットキャベツの鮮度を維持する観点から、例えば４℃〜２０℃程度とすることが好ましい。ただし、オゾン水の温度は、例えば常温に近い２０℃〜４０℃程度としてもよい。ここで、オゾンガスの水への溶解量は、水の温度が低ければ低いほど、多くなる。そのため、このような温度範囲のオゾン水とすることで、オゾン水の溶解量を増加させることができ、より強力な殺菌処理が可能となる。
【００２１】
また、用いるオゾン水中のオゾンガス含有量は、例えば１ｍｇ／Ｌ〜３０ｍｇ／Ｌである。従って、オゾン水調製槽６では、オゾンガスの含有量が例えばこの範囲になるように、オゾン水が調製される。ここで、殺菌槽２においてカットキャベツをオゾン水に浸漬させる際、オゾン水からオゾンが分離して、オゾンガスが発生することがある。そのため、殺菌槽２で発生した、オゾン水から発生したオゾンガスは、回収オゾンガスタンク７に回収されるようになっている。
【００２２】
温水槽３は、殺菌槽２で殺菌されたカットキャベツに対して、温水処理を施すものである。また、温水槽３では、カットキャベツが濯がれて、殺菌槽２で付着したオゾン水が除去される。カットキャベツは、殺菌槽２でのオゾン水による殺菌処理により、ダメージを受けている。そこで、このダメージを回復するとともに、付着した菌を洗い流すために、カットキャベツを温水に浸漬させてカットキャベツの温度を変えることで、温水処理が行われる。
【００２３】
浸漬時間は、カットキャベツの質量等によっても異なるが、例えば０．１分〜１５分程度である。ただし、異臭発生をより確実に抑制する観点からは０．１分〜１２分程度が好ましく、一方で、一般生菌数の増加をより抑制し、より十分な保存性を図る観点からは０．２分〜１５分程度が好ましい。よって、異臭発生抑制効果及び良好な保存性や外観をバランスよく達成するという観点からは、浸漬時間は０．２分〜１０分程度とすることが好ましい。これらのうち、より確実に、特に十分な異臭発生抑制及び保存性や外観を図る観点からは、浸漬時間としては、０．５分〜５分程度が特に好ましい。
【００２４】
温水の温度は、３０℃〜５０℃とし、好ましくは３５℃〜４５℃である。温水の温度範囲をこの範囲とすることで、カットキャベツからの異臭発生を抑制し、温水処理後のカットキャベツの外観を良好なものとすることができる。即ち、異臭の発生が抑制されるとともに、カットキャベツの外観がみずみずしいものとなり、生菌の増殖を抑制して保存性が向上する。
【００２５】
ここで、オゾン水による殺菌後に、３０℃〜５０℃の温水を用いて温水処理を行うことで得られる利点を説明する。前記のように、殺菌槽２で用いられるオゾン水の温度は例えば４℃〜２０℃程度であり、温水槽３で用いられる温水の温度は３０℃〜５０℃である。従って、省エネルギの観点からは、最終的なカットキャベツの製品が低温下で保存されることを考慮すると、まず温かい温水による温水処理を行って、その後に冷たいオゾン水による殺菌処理の順で行うことが好ましい。この殺菌処理は、温水処理により上昇したカットキャベツの温度を下げる冷却処理も兼ねることになる。
【００２６】
しかし、本実施形態では、前記のように、まずオゾン水による殺菌処理を行って、その後に温水処理が行われている。そして、詳細は後記するが、温水処理されたカットキャベツについて冷却が行われ、冷却後に製品としてカットキャベツが出荷されることになる。温水処理をオゾン水による殺菌処理の後に行うことで優れた効果が得られる理由について、本発明者らが検討したところによると、以下のように考えられる。
【００２７】
オゾン水を用いることで、その強い殺菌力により、短時間での処理や低温での処理でも、十分な殺菌が可能となる。また、オゾンは、分解されると酸素となるため、副生成物や残留物が少ないという利点もある。しかし、オゾンは酸化力が強いため、カットキャベツをオゾン水に接触させることで、カットキャベツの表面や切断面は、前記のようにダメージを受けてしまう。その結果、ミクロ的には、カットキャベツの細胞そのものがダメージを受けることになる。
【００２８】
ここで、カットキャベツの細胞内には、ミロシナーゼという酵素が局在している。しかし、オゾン水による細胞へのダメージにより、この局在性が失われる。そうすると、同じく細胞内に存在するシニグリン（配糖体）がこのミロシナーゼに接触し、シニグリンの酵素反応が生じる。その結果、糖度由来成分であるシニグリンが、辛味成分であるアリルイソチオシアネート（ＡＩＴＣ）に変化する。また、カットキャベツの保存状態や処理時の状態等によっては、ＡＩＴＣからの代謝物質として、ジメチルジスルフィド（ＤＭＤＳ）やジメチルスルフィド（ＤＭＳ）といった異臭（沢庵臭や腐敗臭）を有する硫黄化合物が生成することもある。
【００２９】
そこで、本実施形態では、その後に、比較的温和な温度の温水を用いて温水処理を行うことで、カットキャベツの表面に存在し得る蝋成分（例えばペクチン等）が熱によって溶け出し、ダメージを受けた部分を覆うように作用する。これにより、カットキャベツのダメージを受けた部分が回復して、ミロシナーゼの局在性を回復することができる。これにより、ＡＩＴＣの生成が抑制され、異臭の発生が防止される。
【００３０】
また、比較的温和な温度の温水を用いることで、細胞へのダメージを抑制しつつ、カットキャベツの細胞から漏出したシニグリンやＡＩＴＣを洗い流すことができる。これにより、ＡＩＴＣからの代謝により異臭発生が抑制される。そして、カットキャベツでは、切断面のほか、洗浄中に装置内壁に擦れた部分で、生菌増殖の要因となりうる養分の漏出が生じ易い。従って、洗い流しによる効果は特に大きく、異臭の発生が十分に抑制される。
【００３１】
さらに、３０℃〜５０℃という温度の温水を用いることで、生体反応である代謝を抑制し、ＡＩＴＣからＤＭＤＳやＤＭＳへの変化を抑制することができる。これにより、異臭の原因物質となる硫黄化合物の生成を抑制することができる。さらには、３０℃〜５０℃という温度の温水を用いることで、細胞へのダメージを低下させて、細胞破壊によるシニグリンの新たな漏出を防止し、この点でも異臭の発生を抑制することができる。
【００３２】
このように、オゾン水による殺菌後、３０℃〜５０℃の温水による温水処理を行うことで、カットキャベツの異臭発生を抑制することができる。従って、従来よりも強い酸化力を有するオゾン水、即ち、オゾン含有量が多いオゾン水を用いて殺菌しても、温水処理によりダメージが回復されるため、異臭発生を抑制することができる。そのため、オゾン水を用いた殺菌を従来よりも十分に行うことができ、オゾンの有する強い殺菌力をより十分に活かすことができる。そして、従来よりも、より確実に殺菌を行うことができるため、カットキャベツの保存性を向上させたり、外観や風味、食感等を良好に維持したりすることができる。
【００３３】
さらに、本発明者らの検討により、オゾン水によりダメージを受けたカットキャベツでも、温水処理により、カットキャベツが水分を吸収し、カットキャベツにハリがでることが見出された。そのため、温水処理によって、ハリが出て、保存性が良好になると考えられる。
【００３４】
また、オゾン水は前記のように残留物が少ないという利点があり、殺菌後のカットキャベツには殺菌性を有する成分が残存しないことになる。一方で、殺菌性を有する成分が残存しなければ、カットキャベツを殺菌後に、生菌が増殖し始めた場合に、増殖速度が早くなることになる。しかしながら、本実施形態のように、残留物の少ないオゾン水を用いて殺菌を行い、その後に温水処理を行った場合、温水処理後のカットキャベツにおける生菌の増殖が抑えられることがわかった。その理由は明らかではないが、本発明者らの検討によると、以下のように考えられる。
【００３５】
本実施形態で行われる温水処理は、通常は、殺菌力を十分に発揮できる条件で行われるものではない。従って、温水処理による殺菌効果というよりは、温水と接触させることでの生菌（蝋状物質に絡みついている菌を含む）の洗い流し効果が大きくなると考えられる。これにより、温水処理後のカットキャベツに残存する生菌数を減少させることができ、カットキャベツの出荷後に、生菌数が所定の基準値に到達するまでの時間を遅らせることができると考えられる。
【００３６】
また、温水と接触させることで、カットキャベツの表面から、生菌の養分となる物質（切断面やオゾン水によるダメージを受けた部分から漏出するキャベツの細胞液等）を除去することができると考えられる。よって、生菌が増殖するための栄養分が減少し、これにより、生菌の増殖を効果的に抑制することができると考えられる。
【００３７】
また、カットキャベツの洗浄後の温水には、菌体が含まれていることになる。そして、この菌体は、前記のように温水処理に通常用いられる温度や時間程度では死滅しない。そこで、本実施形態では、再利用する温水について、オゾンガスを用いた殺菌が行われている。また、使用済みの温水を例えば７５℃以上に加熱して１分以上処理したり、細菌が透過できない孔径の濾過膜を用いて除去したりすることも考えられる（これらの点は後記する）。そして、これらのような殺菌や除菌を行うことにより、使用済みの温水を再利用することができるようになる。
【００３８】
前記のように、温水槽３は、殺菌槽２で殺菌されたカットキャベツに対して温水処理を行うものである。そして、温水処理は、カットキャベツを温水に浸漬させることで行われる。ここで、オゾン水による殺菌処理と、温水による温水処理とは、通常は、カットキャベツの生産工場等において連続して行われることになる。このような工場では、生鮮食品であるカットキャベツを扱うため、工場内は低温で管理されることが多い。そのため、工場内に熱源が無いことがあり、温水の調製には多大なエネルギが必要となることがある。ここで、熱交換器を用いて排出された温水の熱を回収し、その熱を再利用することも可能である。しかし、熱を完全に回収することは不可能であるし、熱交換器のコストやメンテナンスがかかる。
【００３９】
そこで、殺菌システム１００では、温水槽３で温水処理に用いられる温水は、使用後にそのまま排水するのではなく、再び使用されるようになっている。ただし、いったん使用された温水には、殺菌槽２で完全に死滅しなかった生菌が含まれていることがある。そこで、温水槽３から排出された温水は、オゾンガスとの混合装置９で殺菌が行われた後、加熱装置８により再加熱されて、処理温水として、再び温水槽３に供給されるようになっている。加熱装置８での加熱量は、温水槽３にカットキャベツを浸漬したときに低下する熱量と等量とすることが好ましい。このように、殺菌システム１００では、温水槽３、混合装置９及び加熱装置８により、温水循環ラインが形成されていることになる。
【００４０】
温水槽３から排出された温水に対する殺菌処理は、殺菌システム１００内で生じた、余剰のオゾンガスを用いて行われる。具体的には、オゾン水調製槽６において冷水に溶解しなかった余剰のオゾンガス、殺菌槽２でカットキャベツを処理するときに用いたオゾン水から発生したオゾンガス、及び、殺菌槽２から排出された使用済みオゾン水中の溶存オゾンガスが用いられる。即ち、まず、これらのオゾンガスが、回収オゾンガスタンク７に回収される。ここで、例えば溶存オゾンガスは、使用済みオゾン水に対して散気管を用いて空気を散気することで、溶存オゾンガスを回収することができる。そして、その回収されたオゾンガスが、混合装置９で温水槽３からの使用済み温水に接触（混合）されることで、使用済み温水が殺菌される。
【００４１】
従来、系内の余剰のオゾンガスや使用済みオゾン水中の溶存オゾンガスは、触媒等を用いて分解した後、酸素ガスとして大気中に放出していた。しかし、オゾンガスの製造は、手間やコストがかかる。また、外部に排出するために何らかの処理が必要となることがあり、手間やコストが必要となることがある。従って、そのような手間やコストをかけて製造したオゾンガスは、できるだけ系内で消費することで排出量を極力減らし、手間やコストをかけないようにすることが好ましい。そこで、殺菌システム１００では、前記の回収したオゾンガスを用いて、温水槽３から排出される温水の殺菌が行われている。これにより、製造したオゾンガスを無駄にすることなく、利用することができる。しかも、前記のような、温水からの熱を回収するための熱交換器を別途用いるよりも、熱損失や手間を省くことができる。
【００４２】
また、本発明者らの検討によれば、オゾンによる殺菌効果は、固体に付着している菌体に対する殺菌効果よりも、液体中に存在する菌体に対する殺菌効果の方が大きいことが見出された。従って、系内で回収されたオゾンガスが少量である場合でも、回収したオゾンガスを使用済みの温水に接触（具体的には散気等）させることで、使用済み温水の殺菌を十分に行うことができる。これにより、温水を循環させて繰り返し使用することができる。
【００４３】
図１に戻って、殺菌システム１００の構成の説明を引き続き行う。
すすぎ槽４は、温水槽３において温水処理が施されたカットキャベツに対して、冷水を用いたすすぎを行うものである。すすぎ槽４は、温水処理が施されたカットキャベツを冷却するものでもある。これにより、カットキャベツの温度が低下させられる。この後は、カットキャベツは、生菌の増殖やカットキャベツの鮮度の維持を図るため、低温下（例えば７℃以下）で取り扱われることになる。なお、前記の殺菌槽２において殺菌されたカットキャベツが、すすぎ槽としての役割もある温水槽３に供給されることで、すすぎ槽４でのすすぎ時間が短縮される。
【００４４】
すすぎ槽４において冷却されたカットキャベツは、その後、図示しない遠心脱水機により脱水される。そして、脱水後のカットキャベツは、袋詰めされて適宜保管された後、殺菌カットキャベツとして出荷される。
【００４５】
図２は、第１実施形態の殺菌システム１００において実行される、殺菌カットキャベツの生産方法を説明するフローチャートである。まず、工場に搬送された未切断のキャベツは、表面の汚れが除去された後、図示しない切断装置により切断されてカットキャベツとなる（ステップＳ１）。そして、得られたカットキャベツについて、図１に示した殺菌システム１００を用いて殺菌が行われる。
【００４６】
まず、カットキャベツは、予洗槽１（図１参照、以下、他の装置において同様）において予洗される。これにより、未切断の状態では除去し切れなかった泥や汚れが除去される。次いで、予洗後のカットキャベツは、殺菌槽２において、オゾン水によって殺菌される（ステップＳ３、殺菌工程）。これによって、カットキャベツ表面に付着した菌体の殺菌が行われる。特に、本実施形態では、前記のように温水を用いた温水処理が行われるため、従来よりも高濃度のオゾン水を用いて殺菌することができ、より十分な殺菌が可能である。
【００４７】
殺菌されたカットキャベツに対しては、温水槽３において、温水を用いた温水処理が行われる（ステップＳ４、温水処理工程）。これにより、前記のオゾン水殺菌に伴って生じうる異臭発生等を抑制することができる。温水処理後、カットキャベツは、すすぎ槽４において、すすぎ水によって濯がれるとともに、冷却される（ステップＳ５、冷却工程）。冷却後、カットキャベツは遠心脱水の後に袋詰めされて、低温下で適宜保管された後、製品として出荷される（ステップＳ６）。
【００４８】
なお、図２では図示していないが、本実施形態では、温水槽３での温水処理に使用された使用済み温水は、システム１００内で回収されたオゾンガスを用いて、殺菌される（温水処理工程）。そして、温水処理工程を経て得られた温水は、再び温水槽３に供給される。
【００４９】
以上の殺菌システム１００によれば、温水処理によってダメージを受けたカットキャベツを回復できるため、従来よりも高濃度のオゾン水を用いて殺菌することができる。そのため、従来よりも、より確実に殺菌することができ、殺菌カットキャベツの保存性が向上する。これにより、外観や食感等が向上する。また、異臭発生を抑制することができるため、例えば風味が良好なものとなる。
【００５０】
［２．第２実施形態］
次に、図３を参照しながら、第２実施形態の殺菌システム２００を説明する。殺菌システム２００では、前記の殺菌システム１００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。
【００５１】
前記の殺菌システム１００では、殺菌槽２に供給される冷水を調製するための冷却装置５と、すすぎ槽４に供給される冷水を調製するための冷却装置１０とが備えられていた。また、温水循環ラインの途中に、温水の温度を維持するための加熱装置８が備えられていた。しかし、殺菌システム２００では、これらが備えられない代わりに、給水源から給水された水の有する熱が温水槽３からの使用済み温水に対して供給される、ヒートポンプ１１が備えられている。
【００５２】
即ち、殺菌システム２００では、温水槽３からの使用済み温水は、温水循環ラインの途中に備えられたヒートポンプ１１に供給される。そして、ヒートポンプ１１に供給された温水は、給水源から給水された水を冷水の温度まで冷却する際に回収される熱を用いて、加熱されるようになっている。この加熱された温水は、温水循環ライン（より具体的には、ヒートポンプ１１と温水槽３との間に形成された温水供給ライン）を経由して、再び温水槽３に供給される。このように、ヒートポンプ１１を用いることで、冷却装置５，１０を用いずとも冷水が得られ、また、加熱装置８を用いずとも温水が得られるようになっている。これにより、よりいっそうの省エネルギ化を図ることができる。なお、給水源には、温水槽３から持ち込まれる加温されたカットキャベツを冷やすためにすすぎ槽４で使われ、温度が上昇した冷水を転用し、すすぎ水の再利用を図ってもよい。
【００５３】
［３．第３実施形態］
次に、図４を参照しながら、第３実施形態の殺菌システム３００を説明する。殺菌システム３００では、前記の殺菌システム１００，２００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図４では、図３に示した殺菌システム２００に対する変形例を示している。
【００５４】
前記の殺菌システム１００，２００では、殺菌槽２から排出されたオゾン水のうちのオゾン除去後の冷水や、すすぎ槽４から排出された冷水は、外部にそのまま排水されていた。しかし、殺菌システム３００では、これらの冷水をそのまま排水するのではなく、それらの冷水が有する冷熱を利用している。具体的には、殺菌システム３００には、給水源から給水された水を、それらの冷水が有する冷熱によって冷却するための熱交換器１２が備えられている。
【００５５】
即ち、ヒートポンプ１１により冷却された後にすすぎ槽４に供給された冷水や、冷水を用いてオゾン水調製槽６で調製されたオゾン水は、殺菌槽２及びすすぎ槽４で使用された後でも、依然として十分に低温状態である。そこで、使用済みのオゾン水や冷水は、必要に応じて含まれるオゾンが回収された後、熱交換器１２に供給されるようになっている。そして、熱交換器１２では、供給された冷水によって、給水源から給水された水が冷却され、その冷却された水が、ヒートポンプ１１及びオゾン水調製槽６に供給されるようになっている。
【００５６】
即ち、殺菌システム３００では、熱交換器１２及びヒートポンプ１１により冷却された水を用いて、オゾン水調製槽６でオゾン水が調製される。そして、その調製されたオゾン水が、オゾン水調製槽６と殺菌槽２とを接続するオゾン水供給ラインを経由して、殺菌槽２に供給されるようになっている。このようにすることで、殺菌システム３００での熱エネルギをより無駄なく利用することができ、消費エネルギをより一層削減することができる。
【００５７】
［４．第４実施形態］
次に、図５を参照しながら、第４実施形態の殺菌システム４００を説明する。殺菌システム４００では、前記の殺菌システム１００〜３００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図５では、図４に示した殺菌システム３００に対する変形例を示している。
【００５８】
前記の殺菌システム１００〜３００では、温水槽３からのカット済みキャベツは、すすぎ槽４で冷水により濯がれ、冷却されていた。しかし、殺菌システム４００では、冷水による冷却ではなく、空冷により冷却する空冷槽１３が備えられている。
【００５９】
即ち、殺菌システム４００では、すすぎ槽４は備えられていない。そして、ヒートポンプ１１により得られた冷水は、オゾン水調製槽６にのみ供給されて、殺菌槽２でのみ使用される。一方で、温水槽３で温水処理が行われたカットキャベツは、空冷槽１３において、空気（冷風等）によって冷却される。従って、例えば高原地域や冬期間等、涼しい環境で殺菌システム４００を運転する場合には、冷水を用いずとも、例えば外気等の比較的温度の低い空気によってカットキャベツを冷却することができる。また、すすぎ槽４に冷水を供給する必要が無く、殺菌槽２のみに冷水を供給すればよい。そのため、殺菌槽２に対して、十分な量の冷水をより確実に供給することができる。
【００６０】
［５．第５実施形態］
次に、図６を参照しながら、第５実施形態の殺菌システム５００の説明をする。殺菌システム５００では、前記の殺菌システム１００〜４００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図６では、図１に示した殺菌システム１００に対する変形例を示している。
【００６１】
前記の殺菌システム１００では、システム内のオゾンガスが回収され、そのオゾンガスを用いて、温水槽３から排出された使用済み温水が殺菌されていた。しかし、図６に示す殺菌システム５００では、使用済みの温水を加熱して殺菌する加熱殺菌装置１４が備えられている。そして、加熱殺菌装置１４が使用済み温水の一部又は全部を十分に加熱して殺菌し、その殺菌後の温水が温水槽３に再び供給されるようになっている。
【００６２】
加熱殺菌装置１４での加熱温度は、例えば６０℃〜１５０℃である。また、加熱時間は、加熱温度によっても異なるが、加熱殺菌装置１４での滞留時間として、例えば１秒〜３０分とすることができる。加熱殺菌装置１４での加熱は、蒸気や熱水を加熱源とした熱交換器を用いて行うことができる。また、電気ヒータによる加熱、マイクロ波加熱、誘電加熱も適用可能である。
【００６３】
加熱殺菌装置１４が備えられることで、加熱装置８に供給される温水は、十分に高い温度になっている。そのため、加熱装置８で与える熱量を低減することができる。また、加熱装置８において加熱しなくても十分に温度の高い温水を温水槽３に供給することができる場合には、加熱装置８の設置を省略することもできる。従って、加熱殺菌装置１４が備えられることで、使用済み温水の殺菌を行うことができるともに、新たな加熱を行わずに（又は供給熱量を低減させて）、温水槽３に適温の温水を供給することができる。
【００６４】
［６．第６実施形態］
次に、図７を参照しながら、第６実施形態の殺菌システム６００の説明をする。殺菌システム６００では、前記の殺菌システム１００〜５００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図７では、図６に示した殺菌システム５００に対する変形例を示している。
【００６５】
前記の殺菌システム５００では、使用済み温水を加熱殺菌する加熱殺菌装置１４が備えられていた。しかし、図７に示す殺菌システム６００では、使用済み温水から菌体（生菌や死菌の双方を含む）や夾雑物を濾過して除去する濾過装置１５が備えられている。これにより、使用済み温水は、濾過装置１５で菌体や夾雑物が除去されて、濾過液となる。そして、この濾過液が、加熱装置８で加熱された後、再び温水槽３に供給されるようになっている。一方で、濾過装置１５で透過されなかった水は、図示しない配管等を経由して、外部に排水されるようになっている。
【００６６】
濾過装置１５は、例えば濾過膜等を備えて構成されている。具体的には、濾過装置１５は、いずれも図示しないが、温水槽３からの使用済み温水を貯水する水槽や、濾過膜とハウジングとを備えて構成される濾過ユニット等を備えて構成されている。なお、必要に応じて、孔径の異なる複数の濾過膜が設けられるようにしてもよい。また、濾過装置１５は、同じくいずれも図示しないが、水槽と濾過ユニットとを結ぶ配管、濾過ユニットに使用済み温水を送る送水ポンプ、送水量を測る流量計、送水圧力を測る圧力計等を備えて構成されている。
【００６７】
使用する濾過膜としては、例えば精密濾過膜、限外濾過膜、逆浸透膜が適用可能である。また、濾過膜の孔径は、例えば精密濾過膜を用いる場合には、０．１μｍ以下が好ましい。濾過方式は、デッドエンド濾過方式、クロスフロー濾過方式の何れを選択してもよく、クロスフロー濾過方式の場合、濾過ユニットで濾過されなかった供給液の一部を水槽に戻す配管で結ぶ循環ラインが構築される。
【００６８】
濾過装置１５が備えられることで、使用済み温水に対して、殺菌のほか、夾雑物の除去を行うことができる。そのため、より清澄な温水を、温水槽３に供給することができる。
【００６９】
［７．第７実施形態］
次に、図８を参照しながら、第７実施形態の殺菌システム７００の説明をする。殺菌システム７００では、前記の殺菌システム１００〜６００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図８では、図６に示した殺菌システム５００に対する変形例を示している。
【００７０】
前記の殺菌システム５００では、使用済み温水を加熱殺菌する加熱殺菌装置１４が備えられていた。しかし、図８に示す殺菌システム７００では、紫外線を用いて殺菌する紫外線殺菌装置１６が備えられている。これにより、温水槽３からの使用済み温水は、紫外線が照射されることで、殺菌される。そして、この殺菌後の温水が、加熱装置８で加熱された後、再び温水槽３に供給されるようになっている。
【００７１】
紫外線照射装置１６では、例えば２５３．７ｎｍの波長の光が使用済み温水に照射される。この紫外線により、温水中の生菌のＤＮＡが切断され、殺菌が行われる。
【００７２】
紫外線照射装置１６が備えられることで、処理対象となる使用済み温水が大量であっても、効率よく殺菌処理を行うことができる。
【００７３】
［８．第８実施形態］
次に、図９を参照しながら、第８実施形態の殺菌システム８００の説明をする。殺菌システム８００では、前記の殺菌システム１００〜７００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図９では、図６に示した殺菌システム５００に対する変形例を示している。
【００７４】
前記の殺菌システム５００では、使用済み温水を加熱殺菌する加熱殺菌装置１４が備えられていた。しかし、図９に示す殺菌システム８００では、薬剤を用いて使用済み温水を殺菌する薬剤殺菌装置１７が備えられている。薬剤殺菌装置１７には薬剤槽１８が接続されており、薬剤槽１８に貯留している薬剤が薬剤殺菌槽１７に添加されるようになっている。これにより、温水槽３からの使用済み温水が殺菌され、殺菌後の温水が、加熱装置８で加熱された後、再び温水槽３に供給されるようになっている。
【００７５】
添加される薬剤としては、例えば、過酸化水素溶液、エタノール、過酢酸溶液等が挙げられる。これらは適宜混合して用いられてもよい。また、薬剤として例えば過酢酸溶液を用いる場合、添加された過酢酸溶液が除去された後の温水が温水槽３に供給されることが好ましい。
【００７６】
薬剤殺菌装置１７が備えられることで、より大量の使用済み温水に対して、より確実な殺菌処理を行うことができる。
【００７７】
なお、図示はしないが、薬剤殺菌装置１７で殺菌した後、殺菌後の温水に対して紫外線を照射することもできる。このようにすることで、紫外線照射によって未反応の薬剤が活性化される。そのため、生菌への殺菌作用が促進され、より強力な殺菌を行うことができる。
【００７８】
また、同じく図示はしないが、薬剤殺菌装置１７で殺菌した後、殺菌後の温水を加熱することができる。このようにすることで、前記の紫外線照射と同様、加熱によって薬剤が活性化され、より強力な殺菌を行うことができる。さらに、添加した薬剤が揮発性の場合、加熱することによって、温水中の未反応の薬剤を気化させることができ、温水槽３に供給される温水の残留薬剤を容易に低減することができる。
【００７９】
［９．第９実施形態］
次に、図１０を参照しながら、第９実施形態の殺菌システム９００の説明をする。殺菌システム９００では、前記の殺菌システム１００〜８００と同様のものについては同様の符号を付すものとし、その詳細な説明は省略する。なお、図１０では、図１に示した殺菌システム１００に対する変形例を示している。
【００８０】
前記の殺菌システム１００では、オゾンガスの再利用や、温水の再利用（循環）が行われていた。しかし、図１０に示す殺菌システム１００では、これらは行われていない。即ち、オゾン水調製槽９等からの余剰のオゾンガス等は、触媒等を用いて分解された後に排出される。また、温水槽３において用いられた温水は、数回使用された後には外部にそのまま排出される。
【００８１】
即ち、殺菌システム１００では、カットキャベツがオゾン水により殺菌された後、温水で処理され、その後、殺菌済みのカットキャベツは袋詰め及び出荷される。このようにして殺菌したカットキャベツであっても、十分な殺菌効果が得られ、また、異臭の発生が十分に抑制されているとともに保存性も十分なカットキャベツが得られる。
【００８２】
［１０．変形例］
以上、本実施形態を９つの実施形態を挙げて具体的に説明したが、本実施形態は前記の例に何ら限定されるものではない。即ち、本発明は、前記の実施形態に適宜変更を加えて、また、前記の実施形態を適宜組み合わせて実施することができる。
【００８３】
例えば、使用するオゾン水の温度は、通常は前記のように温水の温度（３０℃〜５０℃）よりも低くなるが、温水の温度と同じ温度のオゾン水の温度が用いられるようにしてもよい。同じ温度であっても、オゾン水による殺菌後に温水による温水処理を行うことで、例えば前記のような例えば洗い流し効果が期待できる。
【００８４】
さらに、生産システム１００〜９００の装置構成に関して、例えば、オゾン水調製槽６では、オゾンガスを冷水に供給してオゾンガスが調製されているが、オゾン水を調製する方法はこれに限られない。従って、オゾン水は、例えばいわゆる電解オゾン水方式により調製されてもよい。電解オゾン水方式とは、オゾン水調製槽６内の水に電極を作用させて、水から直接オゾン水が生成される方式である。この場合には、生成したオゾン水からの余剰オゾンガスは無視できるほど少量である、殺菌槽２からの排気ガスである余剰ガスや流出液からのオゾンガスを回収オゾンガスタンク７に回収すればよい。
【００８５】
また、温水槽３からの使用済み温水を殺菌する方法として、第１実施形態〜第４実施形態では、オゾンガスが混合装置９で混合されている。さらに、第５実施形態では加熱殺菌装置１４が、第６実施形態では濾過装置１５が、第７実施形態では紫外線殺菌装置１６が、第８実施形態では薬剤殺菌装置１７が用いられている。従って、これらの各装置は、いずれも、使用済み温水を殺菌又は除菌する温水処理装置である。しかし、温水処理装置はこれらに限られず、使用済み温水に対して殺菌及び除菌のうちの少なくとも一方を行って、殺菌等を行った使用済み温水（即ち処理温水）を得ることができる装置であれば、どのようなものでもよい。
【００８６】
さらに、オゾン水調製槽６で調製されたオゾン水の一部を混合装置９に供給するようにしてもよい。この場合、オゾン水調製槽６内のオゾン水に溶解したオゾンガスの一部が、混合装置９において、温水循環ラインの循環する温水に接触したと考えることができる。即ち、殺菌槽２においてカットキャベツを殺菌するために用いられるオゾン水（溶存するオゾンガスを含む）が、オゾン水を送液（回収）する送液ポンプ（オゾンガス回収装置）により混合装置９に送液されることで、そのオゾン水中のオゾンガスが温水と接触することになる。
【００８７】
また、殺菌槽２において、オゾン水を用いてカットキャベツを殺菌するときのオゾン水の使用形態は、前記のような浸漬に限られない。即ち、例えば、オゾン水をカットキャベツに対して噴霧することで、カットキャベツの殺菌が行われるようにしてもよい。同様に、温水槽３での温水処理も、温水にカットキャベツを浸漬させる形態に限られず、例えば温水をカットキャベツに対して噴霧することで、カットキャベツに温水処理が行われるようにしてもよい。さらに、同様に、混合装置９での温水の殺菌の形態も、前記のような混合に限られず、回収したオゾンガスを循環する温水に接触させて殺菌できれば、どのような形態にしてもよい。
【００８８】
すすぎ槽４における冷却方法も同様であり、冷水を接触させる形態として、冷水に浸漬させる方法に限定されず、例えば冷水を噴霧する方法等も挙げられる。さらに、オゾン水調製槽６を設ける代わりに、外部から供給されるオゾン水を利用するようにしてもよい。
【００８９】
さらに、前記の実施形態では、オゾンガス回収装置として回収オゾンガスタンク７を備えているが、オゾンガスを回収可能な装置であれば、タンクの形態に限られない。また、オゾンガスを回収するために必要な装置を、適宜設けることもできる。
【００９０】
また、例えば、前記の実施形態では、予洗槽１やすすぎ槽４等が備えられているが、これらの装置は備えられて無くてもよい。さらに、前記の実施形態では、オゾン水調製槽６に供給する冷水と、すすぎ槽４に供給する冷水とは、別個の冷却装置５，１０により調製されている。しかし、これらを一つに纏めて、一つの冷却装置により調整された冷水が分岐してこれらに供給されるようにしてもよい。また、前記の実施形態では、予洗槽１や殺菌槽２、すすぎ槽４からの排水は、必要に応じて冷熱が回収された後に外部に放出されている。しかし、この水を例えば給水源まで戻して、再利用するようにしてもよい。
【実施例】
【００９１】
以下、実施例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。
【００９２】
＜評価方法＞
〔実施例１〕
千切り（幅１．５ｍｍ）にしたカットキャベツをオゾン水（オゾン濃度５ｍｇ／Ｌ（５ｐｐｍ））に１分間浸漬した後、３０℃の温水に１分間浸漬することで温水処理を行った。温水処理後のカットキャベツは７℃で３日間保存した。そして、保存後のカットキャベツについて、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【００９３】
一般生菌数の測定は、ストマッカー処理により抽出した千切りキャベツの抽出液を滅菌生理食塩水により適宜希釈したものをサンプルとし、混釈法により実施した。培地は標準寒天培地を使用し、培養条件は３５℃±１℃、４８時間±３時間に設定した。測定の結果、カットキャベツ１ｇあたりの一般生菌数が１０５（ｃｆｕ／ｇ）以下であれば「○」、１０５〜１０６（ｃｆｕ／ｇ）であれば「△」、１０６（ｃｆｕ／ｇ）以上であれば「×」として評価した。
【００９４】
においの判定は、同一の官能試験官（３名）により行った。判定の結果、異臭が無ければ「○」、異臭が殆ど無ければ「△」、異臭がはっきりとあれば「×」として評価した。
【００９５】
外観の判定は、同一の官能試験官(３名)による目視観察により行った。判定の結果、変色や離水が無ければ「○」、変色や離水が殆ど無ければ「△」、変色や離水がはっきりと認められれば「×」として評価した。
【００９６】
〔実施例２〕
温水の温度を３５℃に変更したこと以外は実施例１と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【００９７】
〔実施例３〕
温水の温度を４０℃とし、温水への浸漬時間を０．１分に変更したこと以外は実施例１と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【００９８】
〔実施例４〕
温水への浸漬時間を０．２分に変更したこと以外は実施例３と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【００９９】
〔実施例５〕
温水への浸漬時間を０．５分に変更したこと以外は実施例３と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１００】
〔実施例６〕
温水への浸漬時間を３分に変更したこと以外は実施例３と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０１】
〔実施例７〕
温水への浸漬時間を５分に変更したこと以外は実施例３と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０２】
〔実施例８〕
温水への浸漬時間を１０分に変更したこと以外は実施例３と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０３】
〔実施例９〕
温水への浸漬時間を１５分に変更したこと以外は実施例３と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０４】
〔実施例１０〕
温水の温度を４５℃に変更したこと以外は実施例１と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０５】
〔実施例１１〕
温水の温度を５０℃に変更したこと以外は実施例１と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０６】
〔比較例１〕
温水の温度を２５℃に変更したこと以外は実施例１と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０７】
〔比較例２〕
温水の温度を５５℃に変更したこと以外は実施例１と同様にして、一般生菌数、におい、及び外観を評価した。
【０１０８】
＜評価結果＞
以上の評価の結果を、以下の表１に示す。
【表１】
2016086720.tif 000003
【０１０９】
実施例１〜１１に示すように、３０℃〜５０℃の温水を用いて温水処理を行ったカットキャベツでは、「一般生菌数」、「におい」及び「外観」のいずれも良好な結果が得られた。即ち、３０℃〜５０℃の温水を用いた実施例１〜１１では「○」又は「△」の評価が得られ、一般生菌数の著しい増加やはっきりとわかる異臭の発生は無かった。従って、本発明の殺菌カットキャベツの生産方法によれば、十分な殺菌が可能であり、良好な外観を呈するとともに、異臭の発生が抑制されたカットキャベツが得られることが示された。
【０１１０】
一方で、２５℃の温水を用いた場合（比較例１）では、「一般生菌数」の評価が悪かった。この理由としては、温水の温度が低すぎるため、オゾン水によってダメージを受けたカットキャベツの細胞の回復や、付着した菌の洗い流し効果が不十分であったためと考えられる。即ち、例えば回復が不十分であるため、カットキャベツの細胞から養分が過剰に漏出し続けた結果、養分が豊富となり、菌体が生育し易い環境となったため、一般生菌数が著しく増殖したものと考えられる。
【０１１１】
また、５５℃の温水を用いた場合（比較例２）では、「におい」の評価が悪かった。この理由としては、５５℃という高温の温水を用いたため、細胞へのダメージが大きくなり、カットキャベツの細胞からシニグリン等が新たに漏出したためと考えられる。即ち、シニグリン等が漏出してカットキャベツの表面で酵素反応が進行し、その結果、異臭の原因となるＡＩＴＣや硫黄化合物が生成したものと考えられる。
【０１１２】
良好な結果が得られた実施例１〜１１のうち、浸漬時間が同程度であれば、３５℃〜４５℃の温度の温水を用いることで、特に良好な結果が得られることが分かった。具体的には、温度が３５℃で時間が１分の実施例２、温度が４０℃で時間が０．５分の実施例５、温度が４０℃で時間が３分の実施例６、温度が４５℃で時間が１分の実施例１０では、いずれも、全ての評価項目で「○」となった。一方で、温度が３０℃の実施例１で「一般生菌数」が「△」であり、温度が５０℃の実施例１１で「におい」及び「外観」が「△」であることから、３５℃〜４５℃の温度の温水とすることで、「一般生菌数」、「におい」及び「外観」をバランスよく良好にすることができると考えられる。
【０１１３】
また、温度が同じ場合（４０℃、実施例３〜９）、浸漬時間が短くなると、「一般生菌数」や「外観」が「△」になった（実施例３）。一方で、浸漬時間が長くなると、「におい」や「外観」が「△」になった（実施例９）。従って、温水処理に用いる温水の温度が同程度である場合には、浸漬時間を０．２分〜１０分とすることで、「一般生菌数」、「におい」及び「外観」を特にバランスよく良好にすることができると考えられる。特には、浸漬時間を０．５分〜５分とすることで、これらをバランスよく、より確実に良好にすることができると考えられる。
【符号の説明】
【０１１４】
２  殺菌槽
３  温水槽
６  オゾン水調製槽
１００〜９００  殺菌システム
【図１】
2016086720.tif 000004
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
2016086720.tif 000010
【図８】
2016086720.tif 000011
【図９】
2016086720.tif 000012
【図１０】
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