(57)【要約】【課題】  高温高湿環境下の耐久性に優れる光学部品を提供することを目的とする。【解決手段】  ビニル共重合樹脂（Ａ）を含む樹脂組成物を成形してなる成形体（Ｂ）の表面の少なくとも一部に光学薄膜（Ｃ）が形成されてなる光学部品であって、前記ビニル共重合樹脂（Ａ）が、（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ）とビニル構成単位（ｂ）を含み、前記構成単位（ａ）と（ｂ）の合計に対する構成単位（ａ）の割合が６０〜８０モル％であるビニル共重合樹脂である光学部品。【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビニル共重合樹脂（Ａ）を含む樹脂組成物を成形してなる成形体（Ｂ）の表面の少なくとも一部に光学薄膜（Ｃ）が形成されてなる光学部品であって、ビニル共重合樹脂（Ａ）が、下記式（１）で表される構成単位（ａ）と、下記式（２）で表される構成単位（ｂ）を含むことを特徴とする光学部品。
【化１】
2016206466.tif 000007
（式（１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は炭化水素基を有する、炭素数１〜１６の基であり、ヒドロキシル基、アルコキシ基を有してもよい。構成単位（ａ）が複数存在する場合、複数存在するＲ１、Ｒ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい）
【化２】
2016206466.tif 000008
（式（２）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、Ｒ４は、炭素数１〜４の炭化水素基、ヒドロキシル基、アルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい、フェニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロヘキセニル基又はシクロヘキシル基であり、構成単位（ｂ）が複数存在する場合、複数存在するＲ３及びＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
【請求項２】
構成単位（ａ）と（ｂ）の合計に対する構成単位（ａ）の割合が６０〜８０モル％である、請求項１に記載の光学部品。
【請求項３】
光学薄膜（Ｃ）が、金属酸化物、酸化ケイ素、金属フッ化物、金属硫化物及びこれらの混合物から選ばれる単層膜又は積層膜である請求項１または２に記載の光学部品。
【請求項４】
光学薄膜（Ｃ）の一部若しくは全部が、電子銃加熱を使用した真空蒸着によって形成されたものである請求項１〜３のいずれかに記載の光学部品。
【請求項５】
光学薄膜（Ｃ）の一部若しくは全部が、反射電子を制御して形成されたものである請求項１〜４のいずれかに記載の光学部品。
【請求項６】
成形体（Ｂ）を６０〜１００℃に加熱した状態で光学薄膜（Ｃ）が形成されたものである請求項１〜５のいずれかに記載の光学部品。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光学部品に関する。
【背景技術】
【０００２】
透明熱可塑性樹脂は、ガラスに比べて軽量であり複雑な形状に成形しやすいことから、カメラ、ディスプレイ、プロジェクター、複写機、顕微鏡などの光学部品材料として用いられる。光学部品用途で使用される透明熱可塑性樹脂成形体の表面には、反射防止やミラー、ビームスプリッター、フィルターなどの光学的機能を付与するため、光学薄膜を形成することが多い。
ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）は、透明熱可塑性樹脂材料の中でも透明性や光学的等方性、表面硬度、耐候性、成形性に優れる。しかし、上記光学薄膜の形成において、広く普及している電子銃加熱による真空蒸着法を用いると、ＰＭＭＡ基板と光学薄膜の密着が不十分となり光学薄膜が容易に剥離するといった問題があった。抵抗加熱による真空蒸着法（特許文献１）や、電子銃加熱時に生じる反射電子が基板に到達することを抑制した成膜方法（特許文献２）などを用いると、ＰＭＭＡ基板と光学薄膜の初期密着は改善されるが、高温高湿環境下で光学薄膜にクラックや曇りが生じたり寸法や光学特性が変化したりし、用途によっては問題となることがあった。その結果、透明性や光学的等方性、表面硬度、耐候性、成形性に優れ、かつ高温高湿環境下の耐久性に優れた光学部品を得ることが困難であった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平７−６３９０３号公報
【特許文献２】特許第５２８０１４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
本発明は、以上のような状況から、高温高湿環境下の耐久性に優れる光学部品を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００５】
本発明者らは、上記の課題を解決するため研究を重ねた結果、特定の構造を有するビニル共重合樹脂を含む樹脂組成物からなる成形体の表面の少なくとも一部に光学薄膜が形成されてなる光学部品が、高温高湿環境下の耐久性に優れることを見出した。すなわち、本発明は以下の通りである。
【０００６】
１．ビニル共重合樹脂（Ａ）を含む樹脂組成物を成形してなる成形体（Ｂ）の表面の少なくとも一部に光学薄膜（Ｃ）が形成されてなる光学部品であって、
ビニル共重合樹脂（Ａ）が、下記式（１）で表される構成単位（ａ）と、下記式（２）で表される構成単位（ｂ）を含むことを特徴とする光学部品。
【０００７】
【化１】
2016206466.tif 000002
（式（１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は炭化水素基を有する、炭素数１〜１６の基であり、ヒドロキシル基、アルコキシ基を有してもよい。構成単位（ａ）が複数存在する場合、複数存在するＲ１、Ｒ２はそれぞれ同一であっても異なっていてもよい）
【０００８】
【化２】
2016206466.tif 000003
（式（２）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、Ｒ４は、炭素数１〜４の炭化水素基、ヒドロキシル基、アルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい、フェニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロヘキセニル基又はシクロヘキシル基であり、構成単位（ｂ）が複数存在する場合、複数存在するＲ３及びＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
【０００９】
２．構成単位（ａ）と（ｂ）の合計に対する構成単位（ａ）の割合が６０〜８０モル％である、上記１に記載の光学部品。
３．光学薄膜（Ｃ）が、金属酸化物、酸化ケイ素、金属フッ化物、金属硫化物及びこれらの混合物から選ばれる単層膜又は積層膜である上記１または２に記載の光学部品。
４．光学薄膜（Ｃ）の一部若しくは全部が、電子銃加熱を使用した真空蒸着によって形成されたものである上記１〜３のいずれかに記載の光学部品。
５．光学薄膜（Ｃ）の一部若しくは全部が、反射電子を制御して形成されたものである上記１〜４のいずれかに記載の光学部品。
６．成形体（Ｂ）を６０〜１００℃に加熱した状態で光学薄膜（Ｃ）が形成されたものである上記１〜５のいずれかに記載の光学部品。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、高温高湿環境下の耐久性に優れた光学部品が提供され、例えば、カメラ、ディスプレイ、プロジェクター、複写機、顕微鏡などのレンズ、導光体、プリズム、ミラー、ビームスプリッター、フィルターなどに好適に用いることができる。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
本発明の光学部品は、特定の構造を有するビニル共重合樹脂（Ａ）を含む樹脂組成物を、成形してなる成形体（Ｂ）の少なくとも一部に光学薄膜（Ｃ）が形成される。
【００１２】
ビニル共重合樹脂（Ａ）は、下記式（１）で表される（メタ）アクリル酸エステル構成単位（ａ）と、下記式（２）で表される構成単位（ｂ）を含む。
ここで「（メタ）アクリル酸」とは「メタクリル酸及び／又はアクリル酸」を意味する。
【００１３】
【化３】
2016206466.tif 000004
（式（１）中、Ｒ１は水素原子又はメチル基であり、Ｒ２は炭化水素基を有する、炭素数１〜１６の基であり、ヒドロキシル基、アルコキシ基を有してもよい。）
【００１４】
【化４】
2016206466.tif 000005
（式（２）中、Ｒ３は水素原子又はメチル基であり、Ｒ４は、炭素数１〜４の炭化水素基、ヒドロキシル基、アルコキシ基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも一種の置換基を有していてもよい、フェニル基、シクロヘキサジエニル基、シクロヘキセニル基又はシクロヘキシル基であり、構成単位（ｂ）が複数存在する場合、複数存在するＲ３及びＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。）
【００１５】
構成単位（ａ）は後述する（メタ）アクリル酸エステルモノマー由来の構成単位であり、Ｒ１は水素原子又はメチル基である。又、Ｒ２は炭化水素基を有する、炭素数１〜１６の基であり、ヒドロキシル基、アルコキシ基を有してもよい。具体的にはメチル基、エチル基、ブチル基、ラウリル基、ステアリル基、シクロヘキシル基、イソボルニル基などのアルキル基；２-ヒドロキシエチル基、２−ヒドロキシプロピル基、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル基などのヒドロキシアルキル基；２−メトキシエチル基、２−エトキシエチル基などのアルコキシアルキル基；ベンジル基、フェニル基などのアリール基などが挙げられる。ビニル共重合樹脂（Ａ）における複数のＲ１、Ｒ２はそれぞれ同一でも異なっていてもよい。
構成単位（ａ）として好ましいのはＲ２がメチル基及び／又はエチル基の（メタ）アクリル酸エステル構成単位であり、さらに好ましいのはＲ１がメチル基、Ｒ２がメチル基のメタクリル酸メチル構成単位である。
【００１６】
構成単位（ｂ）は上記式（２）で表される。構成単位（ｂ）においてＲ４がフェニル基以外の６員環を有するものは、後述するビニル共重合樹脂（Ａ）の製造方法すなわち、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと後述する芳香族ビニルモノマーとを共重合した後に該芳香族ビニルモノマーにおけるベンゼン環を水素化してビニル共重合樹脂（Ａ）を製造する場合において得られる。前記ベンゼン環を水素化した場合、完全に水素化が進行するとベンゼン環はシクロヘキシル基となり、水素化の進行が一部であるとベンゼン環はシクロヘキセニル基やシクロヘキサジエニル基となる。また、中には水素化が起こらず、ベンゼン環、つまりフェニル基のまま残存するものもあると考えられる。前記炭素数１〜４の炭化水素基としてはメチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基、イソブチル基及びｔｅｒｔ−ブチル基等が挙げられ、前記アルコキシ基の炭素数は通常１〜１４であり、その具体例としてはメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ブトキシ基、イソブトキシ基及びｔｅｒｔ−ブトキシ基等が挙げられ、また前記ハロゲン原子としてはＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩが挙げられる。ビニル共重合樹脂（Ａ）において、構成単位（ｂ）は通常複数存在するが、このとき複数存在するＲ３及びＲ４はそれぞれ同じであっても異なっていてもよい。
【００１７】
また、構成単位（ｂ）は後述する脂肪族ビニルモノマー由来の構成単位であってもよい。すなわち、後述するように（メタ）アクリル酸エステルモノマーと脂肪族ビニルモノマーとを共重合することによりビニル共重合樹脂（Ａ）と製造する場合において、構成単位（ｂ）は該脂肪族ビニルモノマー由来の構成単位となる。
【００１８】
ビニル共重合樹脂（Ａ）において、構成単位（ｂ）中のベンゼン環の水素化の割合は８０％以上であることが好ましい。上記水素化の割合が８０％未満であると透明性が低下する場合がある。より好ましくは９０％以上であり、さらに好ましくは９５％以上である。構成単位（ｂ）中のベンゼン環の水素化の割合は８０％以上とは、構成単位（ｂ）中の全てのＲ４のうち、置換基を有していてもよいシクロヘキサジエニル基、シクロヘキセニル基又はシクロヘキシル基であるＲ４の個数が占める割合が８０％以上ということである。個数の割合が８０％以上であるとは、例えば構成単位（ｂ）が１００個存在する場合に、１００個のＲ４のうち８０個以上がシクロヘキサジエニル基、シクロヘキセニル基又はシクロヘキシル基であるという意味である。
【００１９】
なお、水素化の割合は、水素化反応前後の樹脂のＵＶスペクトル測定における、２６０ｎｍの吸光度（ベンゼン環の吸収に対応）の減少率により求めることができる。
【００２０】
ビニル共重合樹脂（Ａ）は、主として構成単位（ａ）と構成単位（ｂ）とからなる。構成単位（ａ）の割合は、構成単位（ａ）及び構成単位（ｂ）の合計に対して６０〜８０モル％の範囲であることが好ましい。構成単位（ａ）及び構成単位（ｂ）の合計に対する構成単位（ａ）の割合が６０モル％未満であると、表面硬度が下がったりハードコート塗料との密着性が下がったりして実用的でない場合がある。又８０モル％を超える範囲であると、高温高湿環境下で光学薄膜（Ｃ）にクラックや曇りが生じたり、寸法や光学特性が変化したりして実用的でない場合がある。
【００２１】
ビニル共重合樹脂（Ａ）は、特に限定されず、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと芳香族ビニルモノマーを共重合した後、芳香族ビニルモノマー由来の芳香族二重結合を水素化して得られたものや、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと脂肪族ビニルモノマーを共重合したものが好適であり、前者が特に好適である。
【００２２】
この際に使用される前記（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては、炭素数が４〜２０のものであることが好ましい。炭素数４〜２０の（メタ）アクリル酸エステルモノマーとしては特に限定されないが、具体的に（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ラウリル、（メタ）アクリル酸ステアリル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸（２−ヒドロキシエチル）、（メタ）アクリル酸（２−ヒドロキシプロピル）、（メタ）アクリル酸（２−ヒドロキシ−２−メチルプロピル）、（メタ）アクリル酸（２−メトキシエチル）、（メタ）アクリル酸（２−エトキシエチル）、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、２−（メタ）アクリロイルオキシエチルホスホリルコリンなどが挙げられる。これらの中でもメタクリル酸メチルが好ましい。
【００２３】
前記芳香族ビニルモノマーとしては、具体的にスチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、アルコキシスチレン、クロロスチレン、及びそれらの誘導体が挙げられる。これらの中でもスチレン、α−メチルスチレンが好ましい。
【００２４】
前記脂肪族ビニルモノマーとしては、具体的にビニルシクロヘキサン、イソプロペニルシクロヘキサン、１−イソプロペニル−２−メチルシクロヘキサンなどが挙げられる。これらの中でもビニルシクロヘキサンが好ましい。
【００２５】
以下に、（メタ）アクリル酸エステルモノマーと芳香族ビニルモノマーを共重合した後、芳香族ビニルモノマー由来の芳香族二重結合を水素化する方法について説明する。（メタ）アクリル酸エステルモノマーと芳香族ビニルモノマーの重合には、公知の方法を用いることができ、例えば、塊状重合法、懸濁重合法、溶液重合法によりビニル共重合樹脂（Ａ）を製造することができる。溶液重合法では、モノマー、連鎖移動剤、及び重合開始剤を含むモノマー組成物を完全混合槽に連続的に供給し、１００〜１８０℃で連続重合する方法などにより行われる。
【００２６】
この際に用いられる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒；酢酸エチル、イソ酪酸メチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒；メタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。
【００２７】
前記（メタ）アクリル酸エステルモノマーと前記芳香族ビニルモノマーを重合した後の芳香族二重結合の水素化反応は溶媒中で行われることが好ましい。この水素化反応に用いられる溶媒は前記の重合溶媒と同じであっても異なっていても良い。例えば、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサンなどの炭化水素系溶媒；酢酸エチル、イソ酪酸メチルなどのエステル系溶媒；アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒；テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒；メタノール、イソプロパノールなどのアルコール系溶媒などが挙げられる。
【００２８】
水素化の方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、水素圧力３〜３０ＭＰａ、反応温度６０〜２５０℃でバッチ式あるいは連続流通式で行うことができる。温度を６０℃以上とすることにより反応時間がかかり過ぎることがなく、又２５０℃以下とすることにより分子鎖の切断やエステル部位の水素化を起すことが少ない。
【００２９】
水素化反応に用いられる触媒としては、例えば、ニッケル、パラジウム、白金、コバルト、ルテニウム、ロジウムなどの金属又はそれら金属の酸化物、塩若しくは錯体化合物を、カーボン、アルミナ、シリカ、シリカ・アルミナ、ジルコニア、珪藻土などの多孔性担体に担持した固体触媒などが挙げられる。
【００３０】
また、前記（メタ）アクリル酸エステルモノマーと前記脂肪族ビニルモノマーの重合は、公知の方法、例えば、特開昭６３−３０１１号公報、特開昭６３−１７０４７５号公報に記載の方法により実施できる。
【００３１】
本発明のビニル共重合樹脂（Ａ）を含む樹脂組成物は、透明性を損なわない範囲で他の樹脂を含んでもよい。樹脂組成物中に含んでよい他の樹脂としては、例えば、メタクリル酸メチル／スチレン共重合樹脂、メタクリル酸メチル／スチレン／無水マレイン酸共重合樹脂、スチレン／メタクリル酸共重合樹脂、スチレン／無水マレイン酸共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ノルボルネン系樹脂、ポリカーボネートなどが挙げられる。
【００３２】
ビニル共重合樹脂（Ａ）には各種添加剤を混合して使用することができる。添加剤としては、例えば、紫外線吸収剤や抗酸化剤、抗着色剤、抗帯電剤、離型剤、滑剤、染料、顔料、耐衝撃剤などが挙げられる。混合の方法は特に限定されず、全量コンパウンドする方法、マスターバッチをドライブレンドする方法、全量ドライブレンドする方法などを用いることができる。
【００３３】
本発明の成形体（Ｂ）は、どのような方法で成形して得てもよい。成形方法としては、例えば、射出成形、押出成形、熱プレス、溶剤キャスト、インフレーションなどの公知の方法により成形することができる。
【００３４】
本発明の光学薄膜（Ｃ）は、金属酸化物、酸化ケイ素、金属フッ化物、金属硫化物及びこれらの混合物から選ばれる単層又は積層膜である。金属酸化物としては、具体的に酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化ビスマス、酸化クロム、酸化鉄、酸化ハフニウム、酸化タリウム、五酸化タンタル、酸化イリジウム、酸化タングステン、酸化モリブデン、酸化ランタン、酸化マグネシウム、酸化サマリウム、酸化アンチモン、酸化スカンジウム、酸化スズ、酸化イットリウム、酸化ユーロピウム、酸化亜鉛などが挙げられる。金属フッ化物としては、具体的にフッ化アルミニウム、フッ化マグネシウム、フッ化バリウム、フッ化セリウム、フッ化カルシウム、フッ化ランタン、フッ化リチウム、フッ化ネオジウム、フッ化ナトリウム、フッ化鉛、フッ化ストロンチウムクリオライト、チオライトなどが挙げられる。金属硫化物としては、具体的に硫化亜鉛、硫化ロジウムなどを挙げることができる。
【００３５】
光学薄膜（Ｃ）の厚さは特に限定するものではないが、成形体（Ｂ）と光学薄膜（Ｃ）の密着性の点から全体として１０〜５００ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００３６】
光学薄膜（Ｃ）を成形体（Ｂ）上に形成する方法は特に限定されず、公知の方法を用いることができる。例えば、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、イオンビームアシスト法、プラズマアシスト法などが挙げられる。光学薄膜が複数の層からなる積層膜である場合には、これらの方法を組み合わせて形成してもよい。これらの中でも膜原料を電子銃により加熱する真空蒸着法は、光学特性の再現性や制御性、生産効率の点から広く普及している。電子銃加熱による真空蒸着法を用いる場合、成形体（Ｂ）と光学薄膜（Ｃ）の密着性を上げるため、反射電子を基板に当てないようにすることが好ましい。反射電子を基板に当てないようにする方法は特に限定されず、公知の方法、例えば特許第５２８０１４９号公報や特開２００３−１９３２２１号公報に記載の方法を用いることができる。又、成形体（Ｂ）と光学薄膜（Ｃ）との密着性の観点から、成形体（Ｂ）を６０〜１００℃に加熱した状態で成膜することが好ましい。さらに、成形体（Ｂ）を７０〜９０℃に加熱した状態で成膜することがより好ましい。
【００３７】
光学薄膜（Ｃ）は、成形体（Ｂ）に直接形成してもよいし、ハードコート処理や帯電防止処理などを施した上で形成されてもよい。又、光学薄膜（Ｃ）の上に撥水や防汚などの機能付与を目的とした薄膜を形成してもよい。
【００３８】
上記のようにして得られる光学部品は高温高湿環境下の耐久性に優れ、例えば、カメラ、ディスプレイ、プロジェクター、複写機、顕微鏡などのレンズ、導光体、プリズム、ミラー、ビームスプリッター、フィルターなどに好適に用いることができる。
【実施例】
【００３９】
以下、実施例により本発明を具体的に説明する。ただし、本発明はこれらの実施例により何ら制限されるものではない。
実施例及び比較例で得られた光学部品の評価は以下のように行った。
【００４０】
＜初期密着性評価＞
成形体の片面に反射防止膜が形成された試料を温度２３℃、相対湿度５０％の環境下に２４時間以上放置し状態調整した。セロハンテープ（ニチバン社製ＣＴ−２４）を反射防止膜面に指で擦りつけて貼り、セロハンテープを直角に素早く剥がした。膜が剥離しなかったものを合格とした。
【００４１】
＜耐久性評価＞
成形体の片面に反射防止膜が形成された試料を温度２３℃、相対湿度５０％の環境下に２４時間以上放置し状態調整した。温度８５℃、相対湿度８５％に設定した恒温恒湿槽の中に１０００時間置いた後、恒温恒湿槽から試料を取り出し、温度２３℃、相対湿度５０％の環境下に２４時間置き調整した。光学顕微鏡にて１００倍の倍率で試料表面を観察しクラック等の外観異常がなく、かつ上記評価と同様のテープテストで剥離しなかったものを合格とした。
【００４２】
＜総合判定＞
上記の初期密着性評価と耐久性評価がともに合格であったものを総合判定として合格、どちらか一つでも不合格があれば総合判定として不合格とした。
【００４３】
合成例１〔ビニル共重合樹脂（Ａ１）の製造〕
メタクリル酸メチル６３モル％とスチレン３７モル％の共重合樹脂（Ａ１’）をイソ酪酸メチルに溶解し、１０重量％イソ酪酸メチル溶液を調整した。１０００ｍＬオートクレーブ装置に（Ａ１’）の１０重量％イソ酪酸メチル溶液を５００重量部、１０重量％Ｐｄ／Ｃを１重量部仕込み、水素圧９ＭＰａ、２００℃で１５時間保持してベンゼン環部位を水素化した。フィルターにより触媒を除去し、脱溶剤装置に導入してペレット状のビニル共重合樹脂（Ａ１）を得た。１Ｈ−ＮＭＲによる測定の結果、メタクリル酸メチル構成単位の割合は６３モル％であり、又波長２６０ｎｍにおける吸光度測定の結果、ベンゼン環部位の水素化反応率は９９％であった。
【００４４】
合成例２〔ビニル共重合樹脂（Ａ２）の製造〕
合成例１で使用した（Ａ１’）の代わりに、メタクリル酸メチル７５モル％とスチレン２５モル％の共重合樹脂（Ａ２’）としたことの他は合成例１と同様にしてビニル共重合樹脂（Ａ２）を得た。１Ｈ−ＮＭＲによる測定の結果、メタクリル酸メチル構成単位の割合は７５モル％であり、又波長２６０ｎｍにおける吸光度測定の結果、ベンゼン環部位の水素化反応率は９９％であった。
【００４５】
実施例１
合成例１で得られたビニル共重合樹脂（Ａ１）を射出成形し、平板形状（幅３８ｍｍ、長さ２７ｍｍ、厚み２ｍｍ）の成形体（Ｂ１）を作製した。Ｂ１の片面に、Ｂ１側から第１層目を約１０ｎｍ厚のＴｉＯ２、第２層目を約２７ｎｍ厚のＳｉＯ２、第３層目を約１０２ｎｍ厚のＴｉＯ２、第４層目を約７６ｎｍ厚のＳｉＯ２とする反射防止膜（Ｃ１）を真空蒸着により形成した。成膜は、開始時の真空度が２×１０−３Ｐａ、成形体（Ｂ１）の温度が８０℃の条件下で行った。膜原料の加熱には電子銃を使用し、生じる反射電子は基板に到達しないよう磁界により偏向させ捕捉しながら成膜した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は合格であり、総合判定は合格であった。
【００４６】
実施例２
実施例１の反射防止膜（Ｃ１）の代わりに、成形体（Ｂ１）に接する第１層目を約１５１ｎｍ厚のＳｉＯ２、第１層目の上の第２層目を約１１ｎｍ厚のＴｉＯ２、第３層目を約２７ｎｍ厚のＳｉＯ２、第４層目を約１０２ｎｍ厚のＴｉＯ２、第５層目を約７６ｎｍ厚のＳｉＯ２からなる反射防止膜（Ｃ２）としたことの他は実施例１と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は合格であり、総合判定は合格であった。
【００４７】
実施例３
実施例２で使用したビニル共重合樹脂（Ａ１）の代わりに、合成例２で得られたビニル共重合樹脂（Ａ２）を使用したことの他は実施例２と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は合格であり、総合判定は合格であった。
【００４８】
比較例１
実施例１で行った反射電子の制御をしないで成膜したことの他は実施例１と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は不合格、耐久性評価は不合格であり、総合判定は不合格であった。
【００４９】
比較例２
実施例１で成形体の温度を４０℃としたことの他は実施例１と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は不合格であり、総合判定は不合格であった。
【００５０】
比較例３
実施例１で成形体の温度を１１０℃としたことの他は実施例１と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は不合格であり、総合判定は不合格であった。
【００５１】
比較例４
比較例１で使用したビニル共重合樹脂（Ａ１）の代わりに、ポリメタクリル酸メチル（Ａ３）（三菱レイヨン社製「アクリペットＶＨ００１」（登録商標））を使用したことの他は比較例１と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は不合格、耐久性評価は不合格であり、総合判定は不合格であった。
【００５２】
比較例５
実施例１で使用したビニル共重合樹脂（Ａ１）の代わりに、ポリメタクリル酸メチル（Ａ３）（三菱レイヨン社製「アクリペットＶＨ００１」（登録商標））を使用したことの他は実施例１と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は不合格であり、総合判定は不合格であった。
【００５３】
比較例６
実施例２で使用したビニル共重合樹脂（Ａ１）の代わりにポリメタクリル酸メチル（Ａ３）（三菱レイヨン社製「アクリペットＶＨ００１」（登録商標））を使用した以外は実施例２と同様にして試料を作製した。初期密着性評価は合格、耐久性評価は不合格であり、総合判定は不合格であった。
【００５４】
表１より、本発明の光学部品は、高温高湿環境下の耐久性に優れる。
【００５５】
【表１】
2016206466.tif 000006