(57)【要約】      （修正有）【課題】ＴＦＴ基板と対向基板のギャップが変動することを抑え、かつ、高温動作における表示むらの発生を防止する液晶表示装置を提供する。【解決手段】ＴＦＴ基板１００のシール部には、土手状突起１０が形成され、シール材２０にはフィラーが混入されており、フィラーの径の平均値＋分散σの値を前記フィラー最大径ｄｍａｘと定義し、土手状突起１０と対向基板２００との間隔をaとした場合、a>dｍａｘであり、フィラーの径の平均値−分散σの値をフィラー最小径ｄｍｉｎとし、土手状突起１０と対向基板に形成された土手状スペーサ２３０との、対向基板２００の主面と平行な方向の最小間隔をｃとした場合、c<dｍｉｎであることを特徴とする。土手状突起１０として水分調整材を用いれば、高温動作時の表示むらを抑えることができる。【選択図】図２
2016024268.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と端子部とを有し、有機パッシベーション膜が形成されたＴＦＴ基板と、シール部に土手状スペーサが形成された対向基板とが、前記表示領域を囲む前記シール部に形成されたシール材によって接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、
前記ＴＦＴ基板の前記シール部には、土手状突起が形成され、
前記シール材にはフィラーが混入されており、
前記フィラーの径の平均値＋分散σの値を前記フィラー最大径ｄｍａｘと定義し、
前記土手状突起と前記対向基板との間隔をaとした場合、
a>dｍａｘであり、
前記フィラーの径の平均値−分散σの値を前記フィラー最小径ｄｍｉｎと定義し、
前記土手状突起と前記対向基板に形成された前記土手状スペーサとの、前記対向基板の主面と平行な方向の最小間隔をｃとした場合、
c<dｍｉｎであることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記ｃは２μｍよりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記土手状突起は、多孔質の無機材料であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記多孔質の無機材料は、シリカゲルであることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記土手状突起は前記有機パッシベーション膜の溝状スルーホール内に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記土手状突起は前記有機パッシベーション膜の上に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記土手状突起は、表示領域を囲んで形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記土手状突起は、平面で見て、表示領域の周囲に島状に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に係り、周辺部における液晶の層厚むらを防止し、高温動作における輝度むらを防止した液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている構成となっている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
液晶表示装置では、外形を小さく保ったまま、表示領域を大きくしたいという要求が強い。そうすると、表示領域の端部から液晶表示パネルの端部までの幅が小さくなり、いわゆる狭額縁となる。狭額縁とするために、ＴＦＴ基板と対向基板とを接着しているシール部の構造として種々の構造が開発されている。
【０００４】
一方、中小型の液晶表示装置は、厚さを小さくしたいという要求が強い。これに応えて、ＴＦＴ基板および対向基板は研磨して０．２ｍｍ、あるいは、それ以下まで薄くすることが行われている。一方、液晶の充填スピードを上げるために、従来の真空注入に替えて、たとえばシール材２０を環状に形成した対向基板に液晶を滴下し、その後、ＴＦＴ基板と接着することによって液晶を封入する、滴下法（ＯＤＦ  One Drop Fill）が用いられている。
【０００５】
滴下法では、シール材が十分硬化する前に、シール材の内側に液晶を滴下するので、液晶とシール材との反応によって、液晶がシール材によって汚染される可能性がある。特許文献１には、シール材が硬化する前に、液晶がシール材に接触する時間を短くするために、シール材の内側のＴＦＴ基板に凹部を形成する構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１１−１５８５２５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
液晶表示パネルを個々に製造したのでは、効率が悪いので、複数の液晶表示パネルが形成されたマザー基板を形成し、これを、スクライビング法等によって分離する方法が用いられている。スクライビング線を入れる部分には、シール材が存在すると、スクライビング後に衝撃で個々の液晶表示パネルを分離するときに、ガラスの破断が出来なくなるので、シール部にはシール材を形成しない場合が多い。狭額縁になると、スクライビング線を入れる領域を十分にとることが出来ない。
【０００８】
そこで、スクライビング線の部分に土手状スペーサを形成し、土手状スペーサの部分において分離することが行われている。すなわち、スクライビングの部分に予め土手状スペーサを形成しておけば、その部分のシール材を排除できるからである。また、土手状スペーサはフォトリソグラフィで形成されるので、幅も制御しやすい。
【０００９】
図１３は、マザー基板におけるマザー対向基板において、個々の液晶表示パネルの境界部であるシール部を示す平面図である。各液晶表示パネルの境界部には土手状スペーサ２３０が形成されている。図１３に点線で示すスクライビング線４００は土手状スペーサ２３０が形成されている部分に形成されている。土手状スペーサ２３０の内側にディスペンサ等によって、シール材２０を塗布する。
【００１０】
その後液晶を滴下し、マザーＴＦＴ基板と貼り合わせる。マザー対向基板とマザーＴＦＴ基板とを貼り合わせるとき、シール材２０がつぶれて矢印のように広がり、シール材２０は土手状スペーサ２３０の壁まで充填されることになる。図１４は、個々の液晶表示パネルに分離された後の液晶表示パネルのシール部の断面図である。詳細は後で説明するが、シール材２０が広がる際、対向基板に形成された土手状スペーサ２３０の下にシール材２０がもぐりこんでいる。
【００１１】
シール材２０には、粘度調整等の目的のために、フィラーが混入している。このフィラーが土手状スペーサ２３０の下に入り込むと、図１５および図１６に示すように、シール部において、ＴＦＴ基板と対向基板の間隔不良が生ずる。図１５はシール部の詳細断面図であり、対向基板側の土手状スペーサ２３０と、ＴＦＴ基板側の有機パッシベーション膜あるいは絶縁膜等の最上層膜との間にフィラー２５０が入り込んだ状態を示している。
【００１２】
対向基板側の土手状スペーサ２３０とＴＦＴ基板側の最上層膜とが所定の間隔をもって配置されている状態において、ＴＦＴ基板と対向基板との間隔が正規の間隔となるように規定されている。したがって、この部分にフィラー２５０が入り込むと、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との間隔が本来の設計よりも大きくなる。図１６はこの様子を模式的に示す断面図である。
【００１３】
図１６はシール部付近の断面図である。図１６において、対向基板２００の土手状スペーサ２３０とＴＦＴ基板１００側の有機パッシベーション膜１０４との間にフィラー２５０が入り込んでおり、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔（以後ギャップとも言う）を、規定値よりも大きくしている。本来は、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔は第１柱状スペーサ２１０によって規定されているが、図１５においては、第１柱状スペーサとＴＦＴ基板側の有機パッシベーション膜１０４との間には間隔が存在している。
【００１４】
図１６に示すように、シール部において、ギャップが大きくなると、その影響が表示領域５００にまでおよび、表示領域における液晶層の層厚を大きくしている。そうすると、液晶の透過特性を変化させ、表示むらを生じさせる。
【００１５】
一方、液晶表示装置を高温状態（例えば、７０℃）で通電すると、表示むらが生ずる。このような表示むらは、高温高湿（例えば、７０℃、８０％）等の条件下では生じない。これは、高温通電下においては、液晶表示パネル内の水分が極端に低下するためと考えることができる。つまり、液晶表示パネル中には、原理的には水分は無いほうがよいと考えられてきたが、極端な脱水状態は、液晶表示パネル内における表示メカニズムに影響を与えると考えられる。
【００１６】
本発明の課題は、スクライビング線４００付近において、土手状スペーサ２３０の下にシール材２０およびフィラー２５０が入り込んで、ＴＦＴ基板と対向基板とのギャップむらが生ずることを防止し、高温通電における表示むらを解消した液晶表示装置を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【００１７】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
【００１８】
（１）表示領域と端子部とを有し、有機パッシベーション膜が形成されたＴＦＴ基板と、シール部に土手状スペーサが形成された対向基板とが、前記表示領域を囲む前記シール部に形成されたシール材によって接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記ＴＦＴ基板の前記シール部には、土手状突起が形成され、前記シール材にはフィラーが混入されており、前記フィラーの径の平均値＋分散σの値を前記フィラー最大径ｄｍａｘと定義し、前記土手状突起と前記対向基板との間隔をaとした場合、a>dｍａｘであり、前記フィラーの径の平均値−分散σの値を前記フィラー最小径ｄｍｉｎと定義し、前記土手状突起と前記対向基板に形成された前記土手状スペーサとの、前記対向基板の主面と平行な方向の最小間隔をｃとした場合、c<dｍｉｎであることを特徴とする液晶表示装置。
【００１９】
（２）前記ｃは２μｍよりも大きいことを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００２０】
（３）前記土手状突起は、多孔質の無機材料であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００２１】
（４）前記多孔質の無機材料は、シリカゲルであることを特徴とする（３）に記載の液晶表示装置。
【００２２】
（５）前記土手状突起は前記有機パッシベーション膜の溝状スルーホール内に形成されていることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００２３】
（６）前記土手状突起は前記有機パッシベーション膜の上に形成されていることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００２４】
（７）前記土手状突起は、表示領域を囲んで形成されていることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００２５】
（８）前記土手状突起は、平面で見て、表示領域の周囲に島状に形成されていることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の液晶表示装置の平面図である。
【図２】実施例１における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】図２に対応する拡大平面図である。
【図４】図２のシール部の拡大断面図である。
【図５】図２のシール部の拡大断面図の他の例である。
【図６】本発明を示す平面模式図である。
【図７】本発明の他の例を示す平面模式図である。
【図８】本発明のさらに他の例を示す平面模式図である。
【図９】本発明のさらに他の例を示す平面模式図である。
【図１０】本発明のさらに他の例を示す平面模式図である。
【図１１】本発明のさらに他の例を示す平面模式図である。
【図１２】実施例２における図１のＡ−Ａ断面図である。
【図１３】マザー基板の平面図である。
【図１４】従来例によるシール部の断面図である。
【図１５】従来例の問題点を示す拡大断面図である。
【図１６】従来例の問題点を示す模式断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。
【実施例１】
【００２８】
図１は本発明が適用される液晶表示パネルの平面図である。図１において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００とがシール材２０によって接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００との間に液晶が挟持されている。ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成されており、ＴＦＴ基板１００が１枚となっている部分は端子部１５０となっている。端子部１５０には、液晶表示パネルを駆動するＩＣドライバ１６０、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための端子等が形成されている。
【００２９】
図１において、表示領域５００には走査線３０が横方向に延在し、縦方向に配列している。また、映像信号線４０が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線３０と映像信号線４０とで囲まれた領域が画素３５となっている。狭額縁では、表示領域５００の端部と液晶表示装置の端部の距離ｗは１ｍｍ程度にまで小さくなっている。そうすると、シール部においてギャップが大きくなると、その影響が表示領域５００にまでおよび、液晶層の層厚を大きくし、表示むらの原因となる。
【００３０】
図２は、図１のＡ−Ａ断面に相当するシール部の詳細断面図である。図２において、ガラスで形成されたＴＦＴ基板１００に第１の絶縁膜１０１が形成されている。第１の絶縁膜１０１はガラスからの不純物がＴＦＴの半導体層を汚染することを防止するために形成されるアンダーコート膜である場合もある。第１の絶縁膜１０１の上に第２の絶縁膜１０２が形成されている。第２の絶縁膜１０２は、ＴＦＴにおけるゲート絶縁膜である場合もある。第２の絶縁膜１０２の上に走査線引き出し線１０３が形成されている。矩形の走査線引き出し線１０３は、図１における、図面の下側からの走査線引き出し線１０３の断面である。
【００３１】
走査線引き出し線１０３を覆って有機パッシベーション膜１０４が形成されている。有機パッシベーション膜１０４は２乃至３μｍと、厚く形成され、平坦化膜としての役割も有している。有機パッシベーション膜１０４は感光性樹脂で形成され、パターニングにフォトレジストを必要としない。
【００３２】
有機パッシベーション膜１０４の上にＳｉＮで形成された層間絶縁膜１０５が形成されている。この層間絶縁膜１０５は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置の表示領域において、平面状に形成された下層電極とスリットを有する上層電極との間に設けられる層間絶縁膜である。下層電極がコモン電極で、上層電極が画素電極である場合もあるし、その逆の場合もあるが、下層電極も上層電極もＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）で代表される透明導電膜で形成されている。
【００３３】
図２において、層間絶縁膜１０５の上に配向膜１０６が形成されている。配向膜１０６は、当初液体である配向膜材料を、フレキソ印刷、インクジェット等によって塗布するが、配向膜材料がシール部の外側端部にまで達しないように、ストッパーとして、有機パッシベーション膜１０４に凹部が３箇所形成されている。そして、凹部のさらに外側に形成されている溝状スルーホール１０４１も配向膜材料に対するストッパーの役割を有する。図２においては、配向膜材料は３個ある凹部を乗り越えて、最後の溝状スルーホール１０４１において止まっている。但し、シール部の強度が保たれる場合は、配向膜をシール部の外側端部を超えて形成してもよい。
【００３４】
図２において、対向基板２００側にはブラックマトリクス２０１が形成されている。図２におけるブラックマトリクス２０１はシール部からの光漏れを防止するために設けられている。ブラックマトリクス２０１は樹脂で形成されているので、樹脂を浸透してくる水分を遮断するためにブラックマトリクス溝２０１１が形成されている。ブラックマトリクス２０１の上には、カラーフィルタ２０２が紙面垂直方向にストライプ状に形成されている。特に制限されないが、カラーフィルタ２０２はオーバーコート膜２０３の上に形成される第１柱状スペーサ２１０に対応して形成されている。
【００３５】
カラーフィルタ２０２の上にオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３には、カラーフィルタ２０２の部分に対応して凸部が形成されている。この凸部は、配向膜材料を塗布した時に配向膜材料が基板外側方向に広がろうとするのを防止する役割を有する。オーバーコート膜２０３の上には第１柱状スペーサ２１０が形成されている。第１柱状スペーサ２１０はシール部における対向基板２００とＴＦＴ基板１００との間隔を規定する役割を有する。第１柱状スペーサ２１０と第１柱状スペーサ２１０の間には、第１柱状スペーサ２１０よりも高さが低い第２柱状スペーサ２２０が形成されている。第２柱状スペーサ２２０は対向基板２００に外部から圧力が加わった場合、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔が過度に小さくなることを防止する役割を有する。
【００３６】
オーバーコート膜２０３を覆って配向膜１０６が形成されている。シール部の端部には土手状スペーサ２３０が形成されている。土手状スペーサ２３０の平面形状は図１３に示したとおりである。土手状スペーサ２３０は、液晶表示パネルが複数形成されたマザー基板において、隣接する液晶表示パネルの境界に配置され、土手状スペーサ２３０の中心に沿ってスクライビングをいれ、その後、破断することによって個々の液晶表示パネルを分離する。土手状スペーサ２３０が無い場合、この部分はシール材２０となるが、シール材２０が存在すると、スクライビングを入れても破断が出来ない。
【００３７】
図２において、対向基板２００側の配向膜１０６はオーバーコート膜２０３に形成された凸部を乗り越えて土手状スペーサ２３０において、止まっている。対向基板２００側では、配向膜１０６はオーバーコート膜２０３の上に形成されている。
【００３８】
シール部において、シール材２０によってＴＦＴ基板１００と対向基板２００とが接着している。図２において、シール材２０の内側には液晶３００が充填されている。図２においては、ＴＦＴ基板側の有機パッシベーション膜１０４に形成された溝状スルーホール１０４１に配置された突起１０によって、シール材２０、特に、シール材２０に含まれるフィラー２５０が外側に侵入するのを防止している。突起１０付近のディメンジョンについては、後で説明する。
【００３９】
なお、土手状スペーサ２３０とＴＦＴ基板との間には、フィラー２５０が入り込まなければ、僅かなギャップにシール材２０が入り込んでも、破断作業に影響を与えず、表示領域のギャップにも影響を与えなければ問題にはならない。フィラー２５０は、例えば、シール材２０の粘度を調整するためにシール材２０に混入させている。本発明では、ＴＦＴ基板と対向基板間のギャップは柱状スペーサによって規定しているが、品種によっては、シール部におけるギャップはシール材２０に混入しているフィラーによって規定している場合もある。このように、シール材には、シール材の粘度を調整するためのフィラー２５０や、ギャップを規定するためのフィラー等、数種類のフィラーが混入されている場合がある。本明細書では、土手状スペーサ２３０とＴＦＴ基板との間に入り込むことで表示領域のギャップに影響を与えるものとして、粘度を調整するためのフィラー２５０を中心に記載しているが、他の目的のフィラーや他のサイズのフィラーに対して適用するものであってもよい。また、数種類のフィラーが混入されている場合、各フィラーの混入密度やサイズ等によって問題となる１種類又は数種類のフィラーに限定して適用することも可能である。
【００４０】
図３は図２に対応する部分の、主に対向基板２００側の平面図である。図３において、土手状スペーサ２３０の内側にシール材２０が形成されている。図３において、カラーフィルタ２０２がストライプ状に形成され、カラーフィルタ２０２に対応する部分に第１柱状スペーサ２１０が配置している。図３では、カラーフィルタ２０２と第１柱状スペーサ２１０とは２列分記載されている。第１柱状スペーサ２１０と第１柱状スペーサ２１０との間には第２柱状スペーサ２２０が配置している。シール材２０は第１柱状スペーサ２１０および第２柱状スペーサ２２０の間を通り抜け、土手状突起１０と対向基板２００側のオーバーコート膜２０３との間も通り抜けて、土手状スペーサ２３０まで広がっている。
【００４１】
土手状スペーサ２３０とカラーフィルタ２０２の間に、土手状突起１０が形成されている。この突起１０は、シール材２０中のフィラー２５０が土手状スペーサ２３０側に入り込まないようにする役割を有している。さらに、土手状突起１０を水分調整が可能な材料で形成することによって、液晶表示パネル内の、水分量の変化による表示むらを防止することができる。
【００４２】
すなわち、高温通電時のように、液晶表示パネル内に水分が過少になった場合には、この水分調整材料１０から水分が供給され、通常の状態となったときに、過剰水分を水分調整材が吸収する。これによって、液晶表示パネル内の水分の量を一定に保つことができる。また、外部から侵入する水分をこの水分調整材料１０によって吸収することができる。
【００４３】
この水分調整材料１０としては、多孔質である無機材料を用いることができる。水分調整材料１０としては、例えば、シリカゲルを用いることができる。水分調整材料１０は、塗布で形成することもできるし、スパッタリングあるいは蒸着等によって形成することもできる。しかし、後で述べるように、水分調整材料で構成される突起１０は、有機パッシベーション膜１０４よりも厚く形成されるので、塗布が最も適している。
【００４４】
図４は、図２における土手状突起１０の部分を拡大した断面図である。図４において、有機パッシベーション膜１０４の溝状スルーホール１０４１の部分に突起１０が形成されている。この突起１０と対向基板２００側のオーバーコート膜２０３上の配向間１０６との間隔aはシール材２０に混入しているフィラー２５０の径よりも大きい。シール材２０がオーバーコート膜２０３と突起１０の間に侵入してきても、フィラー２５０がＴＦＴ基板と対向基板のギャップに影響を及ぼさないようにするためである。
【００４５】
しかし、突起１０と土手状スペーサ２３０との間の間隔ｃはフィラー２５０の径よりも小さい。これは、フィラー２５０を含むシール材２０が土手状スペーサ２３０と突起の間から侵入した場合、フィラー２５０が土手状スペーサ２３０とＴＦＴ基板１００側の有機パッシベーション膜１０４あるいは層間絶縁膜１０５の間に入りこんでＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップを変動させることを防止するためである。
【００４６】
ここで、突起１０と土手状スペーサ２３０との間の間隔ｃは、対向基板２００の主面と平行な方向における最小距離ということができる。また、フィラー２５０の径は所定のばらつきをもっている。ここでいうフィラー２５０の径は、間隔ａと比較する場合は、フィラー２５０の径の平均値＋分散σであり、間隔ｃと比較する場合はフィラー２５０の径の平均値−分散σである。
【００４７】
一方、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００を貼り合わせるときに、合わせずれが生ずるが、突起１０と土手状スペーサ２３０との間の間隔ｃはこの合わせずれよりも大きくすることが望ましい。突起１０と土手状スペーサ２３０が合わさると、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップ変動を生ずるからである。現時点におけるＴＦＴ基板１００と対向基板２００のあわせずれの下限は、２μｍ程度である。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の合わせ精度を２μｍとし、フィラー２５０の径が２．５μｍであるとすると、突起１０と土手状スペーサ２３０との間の間隔ｃは、２μｍ＜ｃ＜２．５μｍである。
【００４８】
突起１０の幅ｂは、シール材２０中のフィラー２５０を止めることが出来ればどの程度でもよいが、突起１０に水分調整作用を持たせる場合は、ある程度の体積が必要になるので、５０乃至１５０μｍ程度が望ましい。したがって、有機パッシベーション膜１０４に形成した溝状スルーホール１０４１の幅は、この突起の幅よりも大きい。
【００４９】
図５は図４において、突起１０および土手状スペーサ２３０の断面がテーパを有している場合の例である。図５におけるaは図４で説明したのと同じである。図５のｃは、テーパを有する突起１０の側面と土手状スペーサ２３０の側面の間隔において、対向基板２００の主面と平行な方向における最も小さい部分をとればよい。土手状スペーサ２３０の側面と突起１０の側面とは平行であってもよいが、図５のように平行でなくてもよい。図５のｃは、突起１０の側面の最上部と土手状スペーサ２３０までの距離となる。図５の構造とすることで、仮にフィラー２５０が突起１０と土手状スペーサ２３０との間に入ったとしても、フィラー２５０を留めおく十分な空間を確保することができる。また、図５とは異なり、突起１０と土手状スペーサ２３０との間隙を図中下に向かう程狭くする構成であってもよい。この場合、フィラー２５０が突起１０と土手状スペーサ２３０との間に介在した場合、フィラー２５０を表示領域方向に押し出す効果が期待できる。
【００５０】
図６は本発明の液晶表示パネルのＴＦＴ基板１００の模式平面図である。図６においおいて、端子部１５０を除く領域の周辺には層間絶縁膜１０５が形成されている。層間絶縁膜１０５の内側には、有機パッシベーション膜１０４の溝状スルーホール１０４１が形成され、この溝状スルーホール１０４１の内部に土手状突起１０が形成されている。土手状突起１０の内側には、表示領域を含んで、配向膜１０６が形成されている。
【００５１】
図６の構成では、土手状突起１０は表示領域を囲む全周に形成されているので、シール部周辺にわたって、フィラー２５０が土手状スペーサ２３０とＴＦＴ基板側の有機パッシベーション膜１０４との間に入り込まないようにすることができる。また、土手状突起１０を水分調整材として使用する場合も、体積が大きいので、水分調整性能も大きい。
【００５２】
図７は、土手状突起１０を表示領域５００の辺部に沿って形成し、コーナー部においては突起１０が形成されていない箇所が存在している例である。コーナーにおける、シール材２０のフィラー２５０の影響が無い場合において、このような形状にすることができる。その他の構成は図６と同じである。図８は、図７とは逆に、コーナー部において、シール材２０のフィラー２５０の影響によるギャップ変動が大きい場合、或いは、辺部においてフィラー２５０の影響によるギャップの変動が小さい場合に本発明を適用する例である。この構成の場合、土手状突起１０を水分調整材として使用する場合の水分調整作用も、表示領域コーナー部において、特に効果が大きい。
【００５３】
図９は、土手状突起１０を短辺に沿って島状に形成した例である。この場合は、短辺側において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップ変動がある場合に有効である。逆に図１０は、土手状突起１０を長辺に沿って島状に形成した例である。この場合は、長辺側において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００のギャップ変動がある場合に有効である。図１１は、土手状突起１０を長辺、短辺、コーナー部に各々島状に形成した例である。この場合は、ギャップ変動に特に影響が大きい場所に土手状突起１０を配置したものである。いずれの例においても、土手状突起１０を水分調整材として使用する場合の水分調整作用は、島状土手状突起１０の形成された部分に対応する表示領域において、特に影響が大きい。
【実施例２】
【００５４】
図１２は本発明の第２の実施例を示す断面図である。図１２も図１のＡ−Ａ断面に相当する断面図である。図１２が図２と異なるところは、土手状突起１０が形成された部分である。図１２において、有機パッシベーション膜１０４の溝状スルーホール１０４１には、土手状に有機パッシベーション膜１０４が残されており、その上に土手状突起１０が形成されている。
【００５５】
図２の特徴は、土手状突起１０は、有機パッシベーション膜１０４の上に形成されているので、土手状突起１０の厚さを小さくすることができるということである。したがって、本実施例における土手状突起１０は、塗布に限らず、スパッタリングあるいは蒸着等によっても容易に形成することができる。図２では、土手状突起１０は有機パッシベーション膜１０４の上に直接形成されているが、この部分の有機パッシベーション膜１０４の上に層間絶縁膜１０５を残し、この層間絶縁膜１０５の上に土手状突起１０を形成してもよい。
【００５６】
図１２において、対向基板２００側のオーバーコート膜２０３と土手状突起１０の間隔aと、シール材２０に含まれるフィラー２５０の径との関係は、実施例１の図４で説明したのと同様である。また、土手状突起１０と対向基板２００側の土手状スペーサ２３０の間隔ｃと、シール材２０に含まれるフィラー２５０の径との関係も、実施例１の図４で説明したのと同様である。
【００５７】
図１２は、有機パッシベーション膜１０４の溝状スルーホール１０４１内に土手状に有機パッシベーション膜１０４を残す構造である。したがって、有機パッシベーション膜１０４の溝状スルーホール１０４１は土手状突起１０の内側および外側に１個ずつ存在する構成である。しかし、製品によっては、溝状スルーホール１０４１を１個とし溝状スルーホール１０４１の内側あるいは外側に土手状突起１０を形成することもできる。さらには、有機パッシベーション膜１０４の溝状スルーホール１０４１が必要無い場合は、有機パッシベーション膜１０４の上に土手状突起１０を形成すればよい。
【００５８】
実施例２は、土手状突起１０を水分調整材として使用する場合は、実施例１の場合に比べて、体積が小さい分、水分調整作用の効果は小さいが、実施例１を使用するか実施例２を使用するかは、製品仕様を勘案して決めればよい。
【００５９】
実施例１も実施例２もＩＰＳ方式の液晶表示装置を前提として説明したが、本発明はＩＰＳ方式の液晶表示装置に限らず、ＶＡ、ＴＮ等の他の方式の液晶表示装置についても適用することができる。また、土手状突起１０を対向基板側に設け、土手状スペーサをＴＦＴ基板に設けることも可能である。
【００６０】
本発明によれば、シール部におけるギャップのばらつきを抑えることができるので、シール部のギャップの変動に影響されて表示領域のギャップが変動する現象を防止でき、これによる輝度むらを抑制することができる。
【００６１】
また、本発明によれば、水分調整材を用いることによって、液晶表示パネル内の水分の量を一定に保つことができるので、水分の変動による輝度むらを防止することができる。
【符号の説明】
【００６２】
１０…土手状突起、水分調整層、  ２０…シール材  ２０…走査線、  ４０…映像信号線、  ３５…画素、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…第１の絶縁膜、  １０２…第２の絶縁膜、  １０３…走査線引出し線、  １０４…有機パッシベーション膜、  １０５…層間絶縁膜、  １０６…配向膜、  １５０…端子部、  １６０…ＩＣドライバ、  ２００…対向基板、  ２０１…ブラックマトリクス、  ２０２…カラーフィルタ、  ２０３…オーバーコート膜、  ２１０…第１柱状スペーサ、  ２２０…第２柱状スペーサ、  ２３０…土手状スペーサ、  ２５０…フィラー、  ３００…液晶、  ４００…スクライビング線、  ５００…表示領域、  １０４１…溝状スルーホール、  ２０１１…ブラックマトリクス溝
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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