(57)【要約】【課題】フォトリソグラフィーによるパターニングによって、蛍光体の分子構造が変化することを防止した感光性組成物、３Ｄプリンター用インク、三次元造形物、波長変換基板、発光装置、表示装置、照明装置、電子機器を提供する。【解決手段】紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料と、前記塩基により可溶化または硬化する有機化合物と、前記紫外光以外の光によって励起されて発光する蛍光体と、を含む感光性組成物。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料と、前記塩基により可溶化または硬化する有機化合物と、前記紫外光以外の光によって励起されて発光する蛍光体と、を含む感光性組成物。
【請求項２】
前記有機化合物は、紫外光の照射により発生した塩基によって、重合あるいは架橋するモノマーもしくはオリゴマーである請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項３】
前記有機化合物は、紫外光の照射により発生した塩基によって、ポリマーもしくはオリゴマーの官能基と反応し、水に可溶化する請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項４】
前記蛍光体は、プロトン受容基を有し、プトロン供与により消光する蛍光体である請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項５】
前記蛍光体は、プロトン供与基を有し、塩基性雰囲気で発光する蛍光体である請求項１に記載の感光性組成物。
【請求項６】
請求項１に記載の感光性組成物を含む３Ｄプリンター用インク。
【請求項７】
請求項１に記載の感光性組成物によって形成された三次元造形物。
【請求項８】
金属と接触している請求項７に記載の三次元造形物。
【請求項９】
透明基板と、前記透明基板の一方の面に設けられた波長変換層と、を有し、
前記波長変換層は、請求項１に記載の感光性組成物を含み、前記感光性材料から生じた塩基が、前記波長変換層中に遊離もしくは、前記感光性材料を構成する樹脂材料と化学結合している波長変換基板。
【請求項１０】
前記波長変換層を構成する化合物のうちのいずれかの成分の溶液が、水に濡れたｐＨ試験紙またはｐＨ指示薬により、ｐＨ７以上を示す請求項９に記載の波長変換基板。
【請求項１１】
前記波長変換層は、金属と接している請求項９に記載の波長変換基板。
【請求項１２】
前記波長変換層の側面を取り囲む反射層を有し、前記反射層は金属を含む請求項９に記載の波長変換基板。
【請求項１３】
光源と、該光源に積層された波長変換基板と、を備え、
前記波長変換基板は、請求項９に記載の波長変換基板からなる発光装置。
【請求項１４】
請求項１３に記載の発光装置を備えた表示装置、照明装置、電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、感光性組成物、３Ｄプリンター用インク、三次元造形物、波長変換基板、発光装置、表示装置、照明装置、電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
波長変換方式の有機ＥＬ表示装置は、白色有機ＥＬ素子にカラーフィルタを組み合わせて、ＲＧＢを透過させる方式の有機ＥＬ表示装置と比較して、エネルギー消費量を削減し、かつ視野角を拡げることができると期待されている。波長変換方式の有機ＥＬ表示装置に用いられるバックライトは、青色（濃青色あるいは青緑色）光を発光する光源（発光装置）である。波長変換方式の有機ＥＬ表示装置では、光源から発光される青色光を、直接、青色光として用いている。また、波長変換方式の有機ＥＬ表示装置では、青色光に含まれる波長の一部を吸収して励起される緑色蛍光体、赤色蛍光体を波長変換層として用いて緑色光、赤色光を発光させる。波長変換方式の有機ＥＬ表示装置では、パターン形成された波長変換層を有する波長変換基板と、有機ＥＬ素子を有する有機ＥＬ素子基板とを一体化する必要がある。波長変換層をパターニングする方法としては、種々の方法が用いられる。パターニングする方法の中でも、フォトリソグラフィーは、微細加工が可能で、確立した、単純かつ効率的な方法である（例えば、特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特許第３８５８０７５号公報
【特許文献２】特開平９−２０８９４４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
しかしながら、蛍光体を含む従来のフォトレジスト（光酸発生剤（光を照射することによって酸を生じる物質）または光ラジカル発生剤（光を照射することによってラジカルを生じる物質））が、波長変換層をパターニングするために用いられる場合、以下のような問題がある。すなわち、光酸発生剤や光ラジカル発生剤の作用により、蛍光体の分子構造が変化することによって、蛍光体が蛍光を発光する機能が低下したり、蛍光体が発光する蛍光の波長がシフトしたりすることがあるという問題があった。
【０００５】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであって、フォトリソグラフィーによるパターニングによって、蛍光体の分子構造が変化することを防止した感光性組成物、３Ｄプリンター用インク、三次元造形物、波長変換基板、発光装置、表示装置、照明装置、電子機器を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の１つの態様の感光性組成物は、紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料と、前記塩基により可溶化または硬化する有機化合物と、前記紫外光以外の光によって励起されて発光する蛍光体と、を含む。
【０００７】
本発明の１つの態様の感光性組成物において、前記有機化合物は、紫外光の照射により発生した塩基によって、重合あるいは架橋するモノマーもしくはオリゴマーであってもよい。
【０００８】
本発明の１つの態様の感光性組成物において、前記有機化合物は、紫外光の照射により発生した塩基によって、ポリマーもしくはオリゴマーの官能基と反応し、水に可溶化するものであってもよい。
【０００９】
本発明の１つの態様の感光性組成物において、前記蛍光体は、プロトン受容基を有し、プトロン供与により消光する蛍光体であってもよい。
【００１０】
本発明の１つの態様の感光性組成物において、前記蛍光体は、プロトン供与基を有し、塩基性雰囲気で発光する蛍光体であってもよい。
【００１１】
本発明の１つの態様の３Ｄプリンター用インクは、本発明の１つの態様の感光性組成物を含む。
【００１２】
本発明の１つの態様の三次元造形物は、本発明の１つの態様の感光性組成物によって形成される。
【００１３】
本発明の１つの態様の三次元造形物は、金属と接触していてもよい。
【００１４】
本発明の１つの態様の波長変換基板は、透明基板と、前記透明基板の一方の面に設けられた波長変換層と、を有し、前記波長変換層は、本発明の１つの態様の感光性組成物を含み、前記感光性材料から生じた塩基が、前記波長変換層中に遊離もしくは、前記感光性材料を構成する樹脂材料と化学結合している。
【００１５】
本発明の１つの態様の波長変換基板において、前記波長変換層を構成する化合物のうちのいずれかの成分の溶液が、水に濡れたｐＨ試験紙またはｐＨ指示薬により、ｐＨ７以上を示してもよい。
【００１６】
本発明の１つの態様の波長変換基板において、前記波長変換層は、金属と接していてもよい。
【００１７】
本発明の１つの態様の波長変換基板において、前記波長変換層の側面を取り囲む反射層を有し、前記反射層は金属を含んでいてもよい。
【００１８】
本発明の１つの態様の発光装置は、光源と、該光源に積層された波長変換基板と、を備え、前記波長変換基板は、本発明の１つの態様の波長変換基板からなる。
【００１９】
本発明の１つの態様の表示装置、照明装置、電子機器は、本発明の１つの態様の発光装置を備える。
【発明の効果】
【００２０】
本発明によれば、フォトリソグラフィーによるパターニングによって、蛍光体の分子構造が変化することを防止した感光性組成物、３Ｄプリンター用インク、三次元造形物、波長変換基板、発光装置、表示装置、照明装置、電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（１）型として機能する場合を示す模式図である。
【図２】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（２）型として機能する場合を示す模式図である。
【図３】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（３）型として機能する場合を示す模式図である。
【図４】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（４）型として機能する場合を示す模式図である。
【図５】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（５）型として機能する場合を示す模式図である。
【図６】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（６）型として機能する場合を示す模式図である。
【図７】本発明の第１実施形態である感光性組成物において、感光性材料が（７）型として機能する場合を示す模式図である。
【図８】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第１の例を模式的に示す断面図である。
【図９】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第１の例を模式的に示す断面図である。
【図１０】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第１の例を模式的に示す断面図である。
【図１１】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第２の例を模式的に示す断面図である。
【図１２】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第２の例を模式的に示す断面図である。
【図１３】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第３の例を模式的に示す断面図である。
【図１４】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第３の例を模式的に示す断面図である。
【図１５】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第４の例を模式的に示す断面図である。
【図１６】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第４の例を模式的に示す断面図である。
【図１７】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第４の例を模式的に示す断面図である。
【図１８】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第５の例を模式的に示す断面図である。
【図１９】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第５の例を模式的に示す断面図である。
【図２０】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第５の例を模式的に示す断面図である。
【図２１】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第６の例を模式的に示す断面図である。
【図２２】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第６の例を模式的に示す断面図である。
【図２３】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第６の例を模式的に示す断面図である。
【図２４】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第７の例を模式的に示す断面図である。
【図２５】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第７の例を模式的に示す断面図である。
【図２６】本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜の形成方法の第７の例を模式的に示す断面図である。
【図２７】本発明の第４実施形態である波長変換基板を模式的に示す断面図である。
【図２８】本発明の第４実施形態である波長変換基板の製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図２９】本発明の第５実施形態である発光装置を模式的に示す断面図である。
【図３０】本発明の第５実施形態である発光装置の製造方法の一例を模式的に示す断面図である。
【図３１】本発明の第６実施形態である表示装置を示す概略斜視図である。
【図３２】本発明の第６実施形態である表示装置における１画素（サブ画素）の等価回路を示す回路図である。
【図３３】本発明の第７実施形態である照明装置を示す概略斜視図である。
【図３４】本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略正面図である。
【図３５】本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略正面図である。
【図３６】本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。
【図３７】本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。
【図３８】本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。
【図３９】本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の感光性組成物、３Ｄプリンター用インク、三次元造形物、波長変換基板、発光装置、表示装置、照明装置、電子機器の実施の形態について説明する。
なお、以下に示す実施形態は、発明の趣旨をよりよく理解させるために具体的に説明するものであり、特に指定のない限り、本発明を限定するものではない。
また、以下の説明で用いる図面は、本発明の特徴を分かりやすくするために、便宜上、要部となる部分を拡大して示している場合があり、各構成要素の寸法比率等が実際と同じであるとは限らない。
【００２３】
［第１実施形態］
「感光性組成物」
本発明の第１実施形態である感光性組成物は、紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料と、その塩基により可溶化または硬化する有機化合物と、紫外光以外の光によって励起されて発光する蛍光体と、を含んでいる。
【００２４】
紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料としては、紫外光（波長１９０ｎｍ〜４００ｎｍの光）の照射により１級〜３級アミンを生じるものが好適に用いられる。
このような感光性材料としては、例えば、下記式（１）で表わされるカルバミン酸のエステル（カルバメート、ｃａｒｂａｍａｔｅ）、下記式（２）で表わされる化合物（Ｏ−ａｃｙｌｏｘｉｍｅｓ）、下記式（３）で表わされるアンモニウム塩、下記式（４）で表わされるホルムアミド（ｆｏｒｍａｍｉｄｅ）、下記式（５）で表わされるニフェジピン（ｎｉｆｅｄｉｐｉｎｅ）、下記式（６）で表わされる遷移金属錯体、下記式（７）で表わされるメタロセン（ｍｅｔａｌｌｏｃｅｎｅ）、下記式（８）で表わされるアミンイミド（ａｍｉｎｅｉｍｉｄｅ）、下記式（９）で表わされるα−アミノケトン（α−ａｍｉｎｏｋｅｔｏｎｅ）、下記式（１０）で表わされるアミジンの還元体（ｒｅｄｕｃｅｄ  ｆｏｒｍ  ｏｆ  ａｍｉｄｉｎｅｓ）等が挙げられる。
【００２５】
【化１】
2016206550.tif 000002
（式中、Ｒ１とＲ２は、それぞれ独立して、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の不飽和もしくは飽和炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基、もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子や、フッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表す。Ｒ１とＲ２は、２つ以上が結合して、窒素を介した環状構造を形成していてもよい。Ｒ３は、紫外光の波長領域（１９０ｎｍ〜４００ｎｍ）に吸収帯を有するπ共役系骨格を有する置換基を表わし、具体的には、ベンゼン、ビフェニル、インデン、ナフタレン、フルオレン、アントラセン、フェナントレン、キサントン、チオキサントンおよびアントラキノン等を表わす。Ｘは、炭素原子数０〜３の直鎖状の２価の不飽和もしくは飽和炭化水素基、もしくは、前記炭化水素基のの少なくとも１つの炭素原子または水素原子が、酸素、窒素、硫黄、リン等のヘテロ原子やフッ素、塩素、ヨウ素などのハロゲンに置換された基を表わす。）
【００２６】
【化２】
2016206550.tif 000003
（式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の不飽和もしくは飽和炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基、もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子や、フッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表す。Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、それらの２つ以上が結合して環を形成していてもよい。Ｒ２とＲ３は、同一であっても、異なっていてもよいが、Ｒ２およびＲ３の少なくとも１つは、紫外光の波長領域（１９０ｎｍ〜４００ｎｍ）に吸収帯を有するπ共役系骨格を有する置換基を表わす。）
【００２７】
【化３】
2016206550.tif 000004
（式中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基、もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子や、フッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表す。Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、同一であっても異なっていてもよいが、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４の少なくとも１つは、紫外光の波長領域（１９０ｎｍ〜４００ｎｍ）に吸収帯を有するπ共役系骨格を有する置換基を表わす。Ｙ−は、カウンターイオンであり、特に限定されないが、アミドアニオン、メチドアニオン、ボレートアニオン、ホスフェートアニオン、スルホネートアニオン、カルボキシレートアニオン等を表わす。）
【００２８】
【化４】
2016206550.tif 000005
（式中、Ｒ１は、紫外光の波長領域（１９０ｎｍ〜４００ｎｍ）に吸収帯を有するπ共役系骨格を有する置換基を表わす。）
【００２９】
【化５】
2016206550.tif 000006
（式中、Ｒ１は、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の不飽和もしくは飽和炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基、もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子や、フッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表す。）  
【００３０】
【化６】
2016206550.tif 000007
（式中、Ｍは、遷移金属を表わし、具体的には、コバルト、クロム、白金等を表わす。Ｌ１およびＬ２は、有機もしくは無機のリガンドを表し、具体的には、ヘキサアンモニアコバルト過塩素酸塩、ヘキサプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ヘキサメチルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタプロピルアミンコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタアンモニアコバルト過塩素酸塩、ブロモペンタメチルアミンコバルト過塩素酸塩等を表わす。）
【００３１】
【化７】
2016206550.tif 000008
（式中、Ｍは、遷移金属を表わし、具体的には、第８族の鉄、ルテニウム等を表わす。Ｘは、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の不飽和もしくは飽和炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基、もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子や、フッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表わす。）
【００３２】
【化８】
2016206550.tif 000009
（式中、Ｒ１は、紫外光の波長領域（１９０ｎｍ〜４００ｎｍ）に吸収帯を有するπ共役系骨格を有する置換基を表わす。Ｒ２、Ｒ３およびＲ４は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の不飽和もしくは飽和炭化水素基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０の芳香族炭化水素基もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子や、フッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表す。
【００３３】
【化９】
2016206550.tif 000010
【００３４】
【化１０】
2016206550.tif 000011
（式中、Ｒ１とＲ２は、それぞれ独立して、水素原子、炭素原子数１〜２０の直鎖状、分岐状もしくは環状の芳香族炭化水素基、炭素原子数６〜２０の芳香族炭化水素基もしくは、前記炭化水素基の少なくとも１つの水素原子または炭素原子が、窒素、酸素、硫黄、リン等のヘテロ原子やフッ素、塩素、ヨウ素等のハロゲンに置換された基を表すを表わす。ｎは、１〜３を表わす。）  
【００３５】
上記式（１）で表わされるカルバミン酸のエステルは、紫外光の照射により、下記式（１１）に示すように、１級アミンまたは２級アミンを生じる。
【００３６】
【化１１】
2016206550.tif 000012
【００３７】
上記式（２）で表わされる化合物（Ｏ−ａｃｙｌｏｘｉｍｅｓ）は、紫外光の照射により、下記式（１２）に示すように、１級アミンを生じる。
【００３８】
【化１２】
2016206550.tif 000013
【００３９】
上記式（３）で表わされるアンモニウム塩は、紫外光の照射により、下記式（１３）に示すように、２級アミン、３級アミン、２級アミドおよび３級アミドを生じる。
【００４０】
【化１３】
2016206550.tif 000014
【００４１】
上記式（４）で表わされるホルムアミドは、紫外光の照射により、下記式（１４）に示すように、１級アリルアミンを生じる。
【００４２】
【化１４】
2016206550.tif 000015
【００４３】
上記式（５）で表わされるニフェジピンは、紫外光の照射により、Ｒ１が水素原子以外の場合、水酸化物イオンを生じ、Ｒ１が水素原子の場合、ピリジン誘導体を生じる。
【００４４】
上記式（６）で表わされる遷移金属錯体は、紫外光の照射により、前記遷移金属錯体が開裂し、一部のリガンドからアニオン種を生じる。
【００４５】
上記式（７）で表わされるメタロセンは、紫外光の照射により、メタロセンが光吸収により電荷分離が起こり、その中の電子は周囲のビニル化合物等のモノマーに移動し、アニオン種を生じる。
【００４６】
上記式（８）で表わされるアミンイミドは、紫外光の照射により、３級アミンを生じる。
【００４７】
上記式（９）で表わされるα−アミノケトンは、紫外光の照射により、３級アミンを生じる。
【００４８】
上記式（１０）で表わされるアミジンの還元体は、紫外光の照射により、アミジンを生じる。
【００４９】
上記の感光性材料に紫外光を照射することによって生じる塩基により可溶化する有機化合物は、塩基により加水分解し、水酸基、カルボキシル基、アミノ基等の水との親和性が高い基を生じる基を有している。具体的には、９Ｈ−フルオレン−９−イルメチトキシアミド基、ターシャリーブトキシアミド基等が挙げられる。これらは、加水分解により水との親和性の高いアミノ基を生じ、その結果、水に可溶化する。
【００５０】
上記の感光性材料に紫外線を照射することによって生じる塩基により硬化する有機化合物は、塩基により重合もしくは架橋するモノマーもしくはオリゴマーであることが好ましい。すなわち、このような有機化合物は、塩基でアニオン重合が起こり得るモノマーもしくはオリゴマーである。もしくは、この有機化合物は、塩基を介して架橋する、もしくは、塩基を触媒として、架橋反応が起こり得るモノマーもしくはオリゴマーである。
【００５１】
塩基によりアニオン重合するモノマーもしくはオリゴマーとしては、例えば、アクリロニトリル、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、塩化ビニル、酢酸ビニル、スチレン等のビニルモノマーおよびこれら骨格を有するオリゴマー（ビニル化合物）、アセトアルデヒド、アセトン等のケトンモノマーおよびこれら骨格を有するオリゴマー（ケトン化合物）、アザブタジエン等の骨格を有するモノマーもしくはオリゴマー（イミン化合物）、チオアセトン等の骨格を有するモノマーもしくはオリゴマー（チオニルケトン化合物）、エポキシ等の骨格を有するモノマーもしくはオリゴマー（環状エーテル化合物）、ラクトン化合物、ラクタム化合物等が挙げられる。
【００５２】
塩基により架橋するモノマーもしくはオリゴマーとしては、上述の通り、塩基を介して架橋するものと、塩基が触媒として機能し架橋が進むものとが挙げられる。塩基を介して架橋するモノマーもしくはオリゴマーとしては、例えば、塩基がアミンであれば、エポキシ等の骨格を有するモノマーもしくはオリゴマーが挙げられ、生じたアミンのアミノ基を介して架橋する。また、アミノ基を有するモノマーもしくはオリゴマーについても、塩基がアミンの場合には、ヒドラジド（−ＮＨ−ＮＨ−）を介して架橋する。また、カルバメート基を有するモノマーもしくはオリゴマーについても、塩基がアミンの場合には、尿素結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）を介して架橋する。
【００５３】
塩基が触媒として機能し架橋するモノマーもしくはオリゴマーとしては、カルボキシル基と水酸基との組合せ等の脱水縮合を起こす基を単一もしくは複数のモノマーもしくはオリゴマーに有するものが挙げられる。
【００５４】
紫外光以外の光によって励起されて発光する蛍光体としては、大きく分類して、無機材料と有機材料が挙げられる。
無機材料としては、発光中心＋結晶母体型や、量子ドット等が挙げられる。発光中心＋結晶母体型としては、β−サイアロンやＣａＡｌＳｉＮ３：Ｅｕ２＋等のＥｕ２＋やＣｅ３＋を中心金属とし、シリコンやアルミニウムの酸化物、窒化物、酸窒化物、硫化物を母体結晶としたものが挙げられる。
量子ドットとしては、ＣｄＳｅ等のＩＩ−ＶＩ族、ＩｎＰ等のＩＩＩ−Ｖが挙げられる。
これら無機蛍光体は、光、酸素、水への耐久性が高いため好ましい。
【００５５】
有機材料としては、多環状芳香族炭化水素（ＰＡＨ）系、ポリメチン系、含ヘテロ元素環状芳香族系、錯体系等の低分子材料や、これら構造を主鎖や側鎖として含む高分子系材料が挙げられる。
ＰＡＨ系としては、アントラセン、ペリレン等や、その誘導体が挙げられる。
ポリメチン系としては、シアニン等の直線型ポリメチンや、ボロンピロメテン（ＢＯＤＩＰＹ）、ローダミン、フルオロセイン等の環状ポリメチンや、それらの誘導体が挙げられる。
含ヘテロ元素環状芳香族系としては、クマリン、オキサジアゾール、イミダゾールおよびその誘導体が挙げられる。
錯体系としては、Ｅｕ等の希土類やＩｒを中心金属とし、π共役系分子を配位子とした錯体が挙げられる。
高分子系材料としては、ポリフルオレンやポリビニルカルバゾールおよびその誘導体が挙げられる。
【００５６】
前記蛍光体の中で、特に好ましくは、プロトン受容基（アミノ基）を有し、プトロン供与により消光するクマリン系の蛍光体、プロトン供与基（フェノール基）を有し、塩基性雰囲気で発光するフルオロセイン系の蛍光体およびＲｈｏｄｏｌ系の蛍光体が挙げられる。
前記蛍光体が、従来のフォトレジスト（光酸発生剤を含むもの）に分散された感光性組成物では、顕著に消光や変色を起こすが、本実施形態の感光性組成物においては、前記蛍光体の高い発光機能を保持もしくは発現することができる。詳しく説明すると、前記蛍光体の中でもクマリン系の蛍光体については、プロトン受容基を有しているため、従来のフォトレジスト中の光酸発生剤により生じた酸により、容易にプロトンを受容し、分子構造の変化が起こり、消光や変色が起きる。すなわち、本実施形態の感光性組成物において発光機能が保持される。また、前記蛍光体の中でもフルオロセイン系やＲｈｏｄｏｌ系の蛍光体は、プロトン供与基を有し、かつプロトン供与による分子構造の変化を伴い発光を示す蛍光体である。そのため、本実施形態の感光性組成物においては前記感光性材料から生じた塩基が、前記蛍光体からのプロトン供与を促進させる。すなわち、本実施形態の感光性組成物において高い発光機能を発現させることができる。
【００５７】
クマリン系の蛍光体としては、例えば、下記式（１５）で表わされるＣｏｕｍａｒｉｎ  ５４５Ｔ（励起波長：４７６ｎｍ、発光波長：５３２ｎｍ）、下記式（１６）で表わされるＣｏｕｍａｒｉｎ  ６（励起波長：４４５ｎｍ、発光波長：５３０ｎｍ）、下記式（１７）で表わされるＣｏｕｍａｒｉｎ  ７（励起波長：４３６ｎｍ、発光波長：５０５ｎｍ）、下記式（１８）で表わされるＣｏｕｍａｒｉｎ  ５０４（励起波長：４３７ｎｍ、発光波長：４８０ｎｍ）、下記式（１９）で表わされるＭａｃｒｏｌｅｘ  Ｒｅｄ（励起波長：５３５ｎｍ、発光波長：５８４ｎｍ）、下記式（２０）で表わされるＭａｃｒｏｌｅｘ  Ｙｅｌｌｏｗ  １０ＧＮ（励起波長：４５２ｎｍ、発光波長：４８４ｎｍ）等が挙げられる。
【００５８】
【化１５】
2016206550.tif 000016
【００５９】
【化１６】
2016206550.tif 000017
【００６０】
【化１７】
2016206550.tif 000018
【００６１】
【化１８】
2016206550.tif 000019
【００６２】
【化１９】
2016206550.tif 000020
【００６３】
【化２０】
2016206550.tif 000021
【００６４】
フルオロセイン系の蛍光体としては、例えば、下記式（２１）で表わされる化合物が挙げられる。この蛍光体は、ｐＨに応じて、（ａ）の構造または（ｂ）の構造をなす。（ａ）の構造の場合、発光強度が弱くほとんど観察されず、ｐＨが８以上の（ｂ）の構造の場合、強く発光する（強発光、励起波長：４９１ｎｍ、発光波長：５１７ｎｍ）。
【００６５】
【化２１】
2016206550.tif 000022
【００６６】
Ｒｈｏｄｏｌ系の蛍光体としては、例えば、下記式（２２）で表わされるＯｒｅｇｏｎ  Ｇｒｅｅｎ  ５１４（励起波長：５０６ｎｍ、発光波長：５２９ｎｍ）、下記式（２３）で表わされるＣＤＣＦ（励起波長：５０４ｎｍ、発光波長：５２５ｎｍ）、下記式（２４）で表わされる５−Ｃａｒｂｏｘｙｒｈｏｄｏｌ（励起波長：４９４ｎｍ、発光波長：５２０ｎｍ）等が挙げられる。
【００６７】
【化２２】
2016206550.tif 000023
【００６８】
【化２３】
2016206550.tif 000024
【００６９】
【化２４】
2016206550.tif 000025
【００７０】
本実施形態の感光性組成物は、上記の感光性材料、有機化合物、蛍光体以外に、溶媒、分散剤、界面活性剤等を含んでいてもよい。
【００７１】
溶媒としては、上記の感光性材料、有機化合物および蛍光体を溶解または分散可能なものであれば特に限定されず、例えば、ジクロロメタン；１，２−ジクロロエタン；クロロホルム；アセトン；シクロヘキサノン；トルエン；ベンゼン；キシレン；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド；Ｎ−メチルピロリドン；１，２−ジメトキシエタン；１，２−ジエトキシエタン；エチレングリコールモノメチルエーテル（メチルセロソルブ）；エチレングリコールモノエチルエーテル（エチルセロソルブ）；エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート（エチルセロソルブアセテート）等が挙げられる。これらの溶媒は、単独で用いてもよく、２種以上を混合して用いてもよい。
【００７２】
本実施形態の感光性組成物からなる塗膜（後述する波長変換層）の形成方法としては、上記の感光性組成物を基板等の対象物上に、スピンコート法、ロールコート法、バーコート法、キャスティング法、ディッピング法等の方法で塗布した後、加熱するかあるいは室温で乾燥する方法が挙げられる。
【００７３】
次に、本実施形態の感光性組成物における感光性材料の作用について説明する。この感光性材料は、ネガ型フォトレジストの架橋剤、ネガ型フォトレジストの触媒またはポジ型フォトレジストの触媒として機能する。
感光性材料がネガ型フォトレジストの架橋剤として機能する場合、感光性材料は、以下の（１）型〜（３）型のように機能する。
【００７４】
図１は、感光性材料が（１）型として機能する場合を示す模式図である。
図１において、Ｃはエポキシ基等の架橋性の官能基を示し、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｄは架橋性の官能基Ｃを有する有機化合物（モノマーまたはオリゴマー）を示す。
図１に示すように、感光性材料が（１）型として機能する場合、有機化合物Ｄと、感光性材料ＰＢＧとを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂが、２つの有機化合物Ｄそれぞれの官能基Ｃに結合する。その結果、２つの有機化合物Ｄが、感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂを介して、架橋する。
【００７５】
図２は、感光性材料が（２）型として機能する場合を示す模式図である。
図２において、Ｃはエポキシ基等の架橋性の官能基を示し、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｄは架橋性の官能基Ｃを有し、感光性材料ＰＢＧが結合した有機化合物（モノマーまたはオリゴマー）を示す。
図２に示すように、感光性材料が（２）型として機能する場合、官能基Ｃを有し、感光性材料ＰＢＧが結合した有機化合物Ｄを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂが、他の有機化合物Ｄの官能基Ｃに結合する。その結果、２つの有機化合物Ｄが、感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂを介して、架橋する。
【００７６】
図３は、感光性材料が（３）型として機能する場合を示す模式図である。
図３において、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｄは感光性材料ＰＢＧが結合した有機化合物（モノマーまたはオリゴマー）を示す。
図３に示すように、感光性材料が（３）型として機能する場合、感光性材料ＰＢＧが結合した有機化合物Ｄを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、２つの有機化合物Ｄが、それぞれに結合している感光性材料ＰＢＧで重合する。その結果、２つの有機化合物Ｄが、２つの感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂを介して、架橋する。
【００７７】
感光性材料がネガ型フォトレジストの触媒として機能する場合、感光性材料は、以下の（４）型〜（６）型のように機能する。
図４は、感光性材料が（４）型として機能する場合を示す模式図である。
図４において、Ｃ１、Ｃ２はエポキシ基等の架橋性の官能基を示し、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｄ１は架橋性の官能基Ｃ１を有する有機化合物（モノマーまたはオリゴマー）、Ｄ２は架橋性の２つの官能基Ｃ２を有する有機化合物（モノマーまたはオリゴマー）を示す。
図４に示すように、感光性材料が（４）型として機能する場合、有機化合物Ｄ１と、有機化合物Ｄ２と、感光性材料ＰＢＧとを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂが触媒として機能し、有機化合物Ｄ２の２つの官能基Ｃ２のそれぞれが、２つの有機化合物Ｄ１それぞれの官能基Ｃ１に結合する。その結果、２つの有機化合物Ｄ１が、有機化合物Ｄ２を介して、架橋する。
【００７８】
図５は、感光性材料が（５）型として機能する場合を示す模式図である。
図５において、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｍは有機化合物（モノマー）を示し、Ｐは有機化合物（ポリマー）を示す。
図５に示すように、感光性材料が（５）型として機能する場合、モノマーＭと、感光性材料ＰＢＧとを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、感光性材料ＰＢＧが触媒として機能し、モノマーＭが重合して、ポリマーＰとなる。
【００７９】
図６は、感光性材料が（６）型として機能する場合を示す模式図である。
図６において、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｍ１は有機化合物（モノマー）を示し、Ｍ２は有機化合物（モノマー）を示し、ＣＰは有機化合物（コポリマー）を示す。
図６に示すように、感光性材料が（６）型として機能する場合、モノマーＭ１と、モノマーＭ２と、感光性材料ＰＢＧとを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、感光性材料ＰＢＧが触媒として機能し、モノマーＭ１とモノマーＭ２が共重合して、コポリマーＣＰとなる。
【００８０】
感光性材料がポジ型フォトレジストの触媒として機能する場合、感光性材料は、以下の（７）型のように機能する。
図７は、感光性材料が（７）型として機能する場合を示す模式図である。
図７において、ＰＢＧは感光性材料を示し、Ｂはアミン等の感光性材料ＰＢＧの基本構造を示し、Ｄ１は水への親和性の低い基（疎水性の官能基）ＢＡを有する有機化合物（モノマーまたはオリゴマーもしくはポリマー）、Ｄ２は親水性の高い基（親水性の官能基）Ｂを有する有機化合物（モノマーまたはオリゴマー）を示す。
図７に示すように、感光性材料が（７）型として機能する場合、有機化合物Ｄ１と、感光性材料ＰＢＧとを含む感光性組成物に、紫外光（ＵＶ）を照射すると、感光性材料ＰＢＧの基本構造Ｂが触媒として機能し、疎水性の官能基ＢＡが親水性の官能基Ｂとなる。その結果、有機化合物Ｄ２は、水に可溶性となる。
【００８１】
「感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）の形成方法」
（１）第１の例
感光性材料が（１）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜の形成方法の具体例について説明する。
非特許文献１（Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，３３４．）に従って、ペンダントエポキシ基を有する、下記式（２５）で表わされるメタクリレートオリゴマーを得る。
【００８２】
【化２５】
2016206550.tif 000026
【００８３】
次いで、上記のメタクリレートオリゴマーと、下記式（２６）で表わされるＰａＡｎＯ、感光性材料（ＰＢＧ）と、下記式（２７）で表わされるクマリン６とを、シクロヘキサノンに投入して、撹拌する。これにより、これらの物質をシクロヘキサノンに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物におけるメタクリレートオリゴマーの濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物におけるＰａＡｎＯの含有率を、例えば、メタクリレートオリゴマーの全質量を１００質量部とした場合、１０質量部とする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、メタクリレートオリゴマーの全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【００８４】
【化２６】
2016206550.tif 000027
【００８５】
【化２７】
2016206550.tif 000028
【００８６】
次いで、図８に示すように、基板１１の一方の面１１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板１１を１５００ｒｐｍで、６０秒間回転させて、基板１１の一方の面１１ａに上記の感光性組成物１２を塗布する。基板１１としては、例えば、ガラス基板が用いられる。
【００８７】
次いで、図９に示すように、感光性組成物１２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク２０を配置する。
次いで、このフォトマスク２０を介して、感光性組成物１２に、紫外光（例えば、波長２５４ｎｍ、照射線量３００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、感光性組成物１２を露光する。
次いで、例えば、１５０℃で１０分間、ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）を行い、下記式（２８）に示すように、上記式（２５）で表わされるメタクリレートオリゴマーを、ＰａＡｎＯから生じるベンジル基を有する一級アミン（ベンジルアミン）を介して、エポキシ基が開環付加することで架橋する。このような付加反応は、縮合反応とは異なり体積収縮が少ない為、得られるパターンの精度が高い。
ここで、光によって生じたアミン（塩基）の大半は３級アミンとして光硬化した樹脂中のポリマーと化学結合して取り込まれ、一部は、遊離したアミン（塩基）を生じる。前記化学結合した３級アミンや遊離したアミンが光硬化後の樹脂中に含まれていることは、例えば、ＮＭＲ（核磁気共鳴）、ＦＴ−ＩＲ（フーリエ変換赤外分光法）、ＭＳ（質量分析）、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）等の既存の化学構造同定手法より確認することができる。
また、上述のようなアミンが光硬化した樹脂に含まれることで、必然的に塩基性を示す。さらに、光硬化後の樹脂が塩基性であることは、光硬化後の樹脂を有機溶媒（例えば、ＮＭＰやＤＭＦ）に溶解させ、Ｏｒｅｇｏｎ  Ｇｒｅｅｎ  ４８８  ｄｙｅｓやｐＨ  ｒｏｄｏ  ｄｙｅ（共にライフテクノロジー社製）等のｐＨ試験剤を前記溶液に添加することや、水で濡らしたｐＨ試験紙に当該溶液を滴下し、ｐＨが７以上を示すことにより確認することができる。
【００８８】
【化２８】
2016206550.tif 000029
【００８９】
次いで、基板１１をメタノール中に、例えば、１０分間浸漬した後、基板１１を水で洗浄することにより、基板１１の一方の面１１ａ上の不要な感光性組成物１２を除去することで現像する。これにより、図１０に示すように、基板１１の一方の面１１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）１３を得る。
【００９０】
（２）第２の例
感光性材料が（２）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜のパターニング方法の具体例について説明する。
非特許文献１（Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，３３４．）、非特許文献２（Ｃａｎ．Ｊ．Ｃｈｅｍ．，１９９５，７３，１９２４）、非特許文献３（Ｊ．Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２００５，１８，２２１）に従って、（光アミン発生基（光を照射することによってアミンを生じる基）およびペンダントエポキシ基を側鎖に有する、下記式（２９）で表わされるメタクリレートコオリゴマーを得る。
【００９１】
【化２９】
2016206550.tif 000030
【００９２】
次いで、上記のメタクリレートコオリゴマーと、上記式（２７）で表わされるクマリン６とを、シクロヘキサノンに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物におけるメタクリレートコオリゴマーの濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、メタクリレートコオリゴマーの全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【００９３】
次いで、基板３１の一方の面３１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板３１を１０００ｒｐｍで、３０秒間回転させて、基板３１の一方の面３１ａに上記の感光性組成物３２を塗布する（図１１参照）。基板３１としては、例えば、ガラス基板が用いられる。
【００９４】
次いで、図１１に示すように、感光性組成物３２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク４０を配置する。
次いで、このフォトマスク４０を介して、感光性組成物３２に、紫外光（例えば、波長２５４ｎｍ、照射線量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、感光性組成物３２を露光する。
次いで、例えば、１６０℃で、ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）を行い、下記式（３０）に示すように、上記式（２９）で表わされるメタクリレートコオリゴマーの一方におけるアミノ基と、上記式（２９）で表わされるメタクリレートコオリゴマーの他方におけるエポキシ基とを結合させ、２つのメタクリレートコオリゴマーを、メタクリレートコオリゴマーの基本構造（アミン）を介して、架橋する。このような、光アミン発生基を側鎖に有する形態では、光アミン発生剤を添加する形態に比べ、コオリゴマー間で一段階での架橋反応が起こるため、架橋反応速度が速い。また、光によって生じたアミノ基が最大で２つのエポキシ基との付加反応が可能なため、硬度の高い膜が得られる。
ここで、光によって生じたアミン（塩基）の大半は、３級アミンとして光硬化した樹脂中のポリマーに化学結合して取り込まれ、一部は、樹脂中ポリマーの側鎖に化学結合したアミノ基として残存する。このような樹脂中のポリマーと化学結合しているアミンや、側鎖のアミノ基については、上述の化学構造同定手法により確認することができる。また、光硬化後の樹脂が塩基性であることについても、上述のｐＨ試験剤やｐＨ試験紙より確認することができる。
【００９５】
【化３０】
2016206550.tif 000031
【００９６】
次いで、基板３１をテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）中に、例えば、１０分間浸漬した後、基板３１を水で洗浄することにより、基板３１の一方の面３１ａ上の不要な感光性組成物３２を除去することで現像する。これにより、図１２に示すように、基板３１の一方の面３１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）３３を得る。
【００９７】
（３）第３の例
感光性材料が（３）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜のパターニング方法の具体例について説明する。
非特許文献４（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ：Ｐａｒｔ  Ａ：Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，２００４，４２，９７５−９８６）に従って、下記式（３１）に示すように、感光性の側鎖を有する下記式（３１−１）で表わされるメタクリレートコオリゴマーを得る。
【００９８】
【化３１】
2016206550.tif 000032
【００９９】
次いで、上記式（３１−１）で表わされるメタクリレートコオリゴマーと、上記式（２７）で表わされるクマリン６とを、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）に投入して、撹拌する。これにより、これらの物質をＮ−メチル−２−ピロリドンに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物におけるメタクリレートコオリゴマーの濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、メタクリレートコオリゴマーの全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【０１００】
次いで、基板５１の一方の面５１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板５１を２０００ｒｐｍで、６０秒間回転させて、基板５１の一方の面５１ａに上記の感光性組成物５２を塗布する（図１３参照）。基板５１としては、例えば、ガラス基板が用いられる。
【０１０１】
次いで、図１３に示すように、感光性組成物５２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク６０を配置する。
次いで、このフォトマスク６０を介して、感光性組成物５２に、紫外光（例えば、波長３１０ｎｍ、照射線量１０ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、感光性組成物５２を露光する。
次いで、例えば、１１０℃で８分間、ポストエクスポージャーベーク（ＰＥＢ）を行い、下記式（３２）に示すように、上記式（３１−１）で表わされるメタクリレートコオリゴマーの一方における感光性の側鎖と、上記式（３１−１）で表わされるメタクリレートコオリゴマーの他方における感光性の側鎖とを重合させ、２つのメタクリレートコオリゴマーを、２つの感光性の側鎖を介して、架橋する。
【０１０２】
【化３２】
2016206550.tif 000033
【０１０３】
次いで、基板５１をクロロホルム中に、例えば、３０秒間浸漬した後、基板５１を水で洗浄することにより、基板５１の一方の面５１ａ上の不要な感光性組成物５２を除去することで現像する。さらに、基板５１を、例えば、５０℃で２時間乾燥する。これにより、図１４に示すように、基板５１の一方の面５１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）５３を得る。ここで、光によって生じた、メタクリレートコオリゴマーの側鎖に付与するアミノ基は、その大半は（３２−１）のようにヒドラジド結合（−ＮＨ−ＮＨ−）や尿素結合（−ＮＨ−ＣＯ−ＮＨ−）を生じ、コオリゴマーを架橋する形で化学結合する。しかし、全てのアミノ基が架橋しないため、未反応のアミノ基も存在する（図示せず）。このような樹脂中のポリマー間を化学結合により架橋しているヒドラジド結合や尿素結合や未反応のアミノ基については、上述の化学構造同定手法により確認することができる。また、光硬化後の樹脂が塩基性であることについても、上述のｐＨ試験剤やｐＨ試験紙より確認することができる。
【０１０４】
（４）第４の例
感光性材料が（４）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜のパターニング方法の具体例について説明する。
非特許文献５（Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２００９，４２，１０２４−１０３０）に従って、下記式（３３）で表わされる架橋剤であるＢＮＰＳ（スベリン酸ビス（４−ニトロフェニル））と、下記式（３４）で表わされるＰＨＡとを得る。
【０１０５】
【化３３】
2016206550.tif 000034
【０１０６】
【化３４】
2016206550.tif 000035
【０１０７】
次いで、上記式（３３）で表わされるＢＮＰＳと、上記式（３４）で表わされるＰＨＡと、下記式（３５）で表わされる感光性材料であるＤＮＣＤＰと、上記式（２７）で表わされるクマリン６とを、シクロヘキサノンに投入して、撹拌する。これにより、これらの物質をシクロヘキサノンに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物におけるＰＨＡの濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物におけるＢＮＰＳの含有率を、例えば、ＰＨＡの全質量を１００質量部とした場合、４質量部とする。
感光性組成物におけるＤＮＣＤＰの含有率を、例えば、ＰＨＡの全質量を１００質量部とした場合、１５質量部とする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、ＰＨＡの全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【０１０８】
【化３５】
2016206550.tif 000036
【０１０９】
次いで、図１５に示すように、基板７１の一方の面７１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板７１を２０００ｒｐｍで、６０秒間回転させて、基板７１の一方の面７１ａに上記の感光性組成物７２を塗布する。基板７１としては、例えば、シリコン基板が用いられる。
次いで、大気雰囲気下、ホットプレート上にて、基板７１を、例えば、８０℃で６０秒間、加熱する。
【０１１０】
次いで、図１６に示すように、感光性組成物７２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク８０を配置する。
次いで、このフォトマスク８０を介して、感光性組成物７２に、紫外光（例えば、波長３６５ｎｍ、照射線量３７５ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、感光性組成物７２を露光する。すると、下記式（３６）に示すように、上記式（３５）で表わされるＤＮＣＤＰが分解して、下記式（３６−１）で表わされるアミンが生成する。また、下記式（３７）に示すように、下記式（３６−１）で表わされるアミンを触媒として、上記式（３３）で表わされるＢＮＰＳの２つの官能基のそれぞれが、上記式（３４）で表わされる２つのＰＨＡそれぞれの官能基に結合する。その結果、上記式（３４）で表わされる２つのＰＨＡが、上記式（３３）で表わされるＢＮＰＳを介して、架橋し、下記式（３７−１）で表わされる架橋ＰＨＡを得る。
【０１１１】
【化３６】
2016206550.tif 000037
【０１１２】
【化３７】
2016206550.tif 000038
【０１１３】
次いで、基板７１を、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の含有率が２．３８質量％の水溶液中に、例えば、４分間浸漬した後、基板７１を水で洗浄する。
次いで、基板７１を、例えば、水酸化テトラメチルアンモニウム（ＴＭＡＨ）の含有率が２．３８質量％、２−プロパノールの含有率が５質量％の水溶液中に、例えば、１６０秒間浸漬した後、基板７１を水で洗浄することにより、基板７１の一方の面７１ａ上の不要な感光性組成物７２を除去することで現像する。
【０１１４】
次いで、例えば、１３０℃で、ポストベークを行い、図１７に示すように、基板７１の一方の面７１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）７３を得る。ここで、光によって生じた、上記式（３６−１）で表わされるアミンは触媒として働くため、その極めて少量は消費されるが、殆どは残存し、光硬化後の樹脂中に遊離している。この遊離したアミンについては、上述の化学構造同定手法により確認することができる。また、光硬化後の樹脂が塩基性であることについても、上述のｐＨ試験剤やｐＨ試験紙より確認することができる。得られた塗膜７３は、下記式（３８）で表わされる化合物（ポリベンゾオキサゾール）から構成される。ポリベンゾオキサゾールは、一般的に機械的強度および耐熱性を有するため、機械的、熱的に安定な塗膜（波長変換層）を得ることができる。
【０１１５】
【化３８】
2016206550.tif 000039
【０１１６】
（５）第５の例
感光性材料が（５）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜のパターニング方法の具体例について説明する。
下記式（３９）で表わされる化合物（モノマー）（商品名：Ｅｐｏｘ  Ｅｐａｌｌｏｙ  ５００、ＣＶＣ  Ｔｈｅｒｍｏｓｅｔ  Ｓｐｅｃｉａｌｉｔｉｅｓ社製）を用意する。
下記式（４０）で表わされるグリコールジ−３−メルカプトプロピオネート（ＧＤＭＰ、ブルーノ・ボック社製）を用意する。
非特許文献６（Ｊ．Ｐｈｏｔｏｐｏｌ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２００９，２２，６６３）、非特許文献７（Ｊ．Ｐｈｏｔｏｐｏｌ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２０１０，２３，１３５）に従って、下記式（４１）で表わされるアンモニウム塩を得る。
【０１１７】
【化３９】
2016206550.tif 000040
【０１１８】
【化４０】
2016206550.tif 000041
【０１１９】
【化４１】
2016206550.tif 000042
【０１２０】
次いで、上記式（３９）で表わされる化合物と、上記式（４０）で表わされるグリコールジ−３−メルカプトプロピオネートと、上記式（４１）で表わされるアンモニウム塩と、上記式（２７）で表わされるクマリン６とを、シクロヘキサノンに投入して、撹拌する。これにより、これらの物質をシクロヘキサノンに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物における上記式（３９）で表わされる化合物の濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物におけるグリコールジ−３−メルカプトプロピオネートの含有率を、例えば、上記式（３９）で表わされる化合物の全質量を１００質量部とした場合、１質量部とする。
感光性組成物におけるアンモニウム塩の含有率を、例えば、上記式（３９）で表わされる化合物の全質量を１００質量部とした場合、１質量部とする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、上記式（３９）で表わされる化合物の全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【０１２１】
次いで、図１８に示すように、基板８１の一方の面８１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板８１を１０００ｒｐｍで、３０秒間回転させて、基板８１の一方の面８１ａに上記の感光性組成物８２を塗布する。基板８１としては、例えば、ガラス基板が用いられる。
次いで、大気雰囲気下、ホットプレート上にて、基板８１を、例えば、８０℃で３分間、加熱する。
【０１２２】
次いで、図１９に示すように、感光性組成物８２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク９０を配置する。
次いで、このフォトマスク９０を介して、感光性組成物８２に、紫外光（例えば、波長２５４ｎｍ、照射線量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、感光性組成物８２を露光する。すると、下記式（４２）に示すように、上記式（４１）で表わされるアンモニウム塩が分解して、下記式（４２−１）で表わされるアミンが生成する。また、下記式（４３）に示すように、下記式（４２−１）で表わされるアミンと、上記式（４０）で表わされるグリコールジ−３−メルカプトプロピオネートとが触媒として機能し、上記式（３９）で表わされる化合物（モノマー）がアニオン重合して、下記式（４３−１）で表わされるポリマーとなる。
【０１２３】
【化４２】
2016206550.tif 000043
【０１２４】
【化４３】
2016206550.tif 000044
【０１２５】
次いで、基板８１をクロロホルム中に、例えば、１分間浸漬した後、基板８１を水で洗浄することにより、基板８１の一方の面８１ａ上の不要な感光性組成物８２を除去することで現像する。これにより、図２０に示すように、基板８１の一方の面８１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）８３を得る。ここで、光によって生じた、上記式（４２−１）で表わされるアミンは、エポキシのアニオン重合の触媒として働くため、そのうち極めて少量が消費されるが、ほとんどは残存し、光硬化後の樹脂中に遊離している。光硬化後の樹脂中に遊離する。このようなアミンが存在することは、上述の化学構造同定手法により確認することができる。また、光硬化後の樹脂が塩基性であることについても、上述のｐＨ試験剤やｐＨ試験紙より確認することができる。
【０１２６】
（６）第６の例
感光性材料が（６）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜のパターニング方法の具体例について説明する。
非特許文献８（Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．２０１３，２５，４４６１−４４６３）に従って、下記式（４４）で表わされるエポキシモノマー、下記式（４５）で表わされるチオールモノマー、下記式（４６）で表わされるアンモニウム塩を得る。
【０１２７】
【化４４】
2016206550.tif 000045
【０１２８】
【化４５】
2016206550.tif 000046
【０１２９】
【化４６】
2016206550.tif 000047
【０１３０】
次いで、上記式（４４）で表わされるエポキシモノマーと、上記式（４５）で表わされるチオールモノマーと、上記式（４６）で表わされるアンモニウム塩と、上記式（２７）で表わされるクマリン６とを、シクロヘキサノンに投入して、撹拌する。これにより、これらの物質をシクロヘキサノンに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物における上記式（４４）で表わされるエポキシモノマーと上記式（４５）で表わされるチオールモノマーの合計濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物におけるアンモニウム塩の含有率を、例えば、上記式（４４）で表わされるエポキシモノマーと上記式（４５）で表わされるチオールモノマーの全質量を１００質量部とした場合、１質量部とする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、上記式（４４）で表わされるエポキシモノマーと上記式（４５）で表わされるチオールモノマーの全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【０１３１】
次いで、図２１に示すように、基板１０１の一方の面１０１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板１０１を１０００ｒｐｍで、３０秒間回転させて、基板１０１の一方の面１０１ａに上記の感光性組成物１０２を塗布する。基板１０１としては、例えば、ガラス基板が用いられる。
次いで、大気雰囲気下、ホットプレート上にて、基板１０１を、例えば、８０℃で３分間、加熱する。
【０１３２】
次いで、図２２に示すように、感光性組成物１０２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク１１０を配置する。
次いで、このフォトマスク１１０を介して、感光性組成物１０２に、紫外光（例えば、波長３６５ｎｍ、照射線量５００ｍＪ／ｃｍ２）を照射して、感光性組成物１０２を露光する。すると、下記式（４７）に示すように、上記式（４６）で表わされるアンモニウム塩が分解して、下記式（４７−１）で表わされるアミンが生成する。また、下記式（４８）に示すように、下記式（４７−１）で表わされるアミンが触媒として機能し、上記式（４４）で表わされるエポキシモノマーと、上記式（４５）で表わされるチオールモノマーとが共重合して、コポリマーとなる。
【０１３３】
【化４７】
2016206550.tif 000048
【０１３４】
【化４８】
2016206550.tif 000049
【０１３５】
次いで、基板１０１をクロロホルム中に、例えば、１分間浸漬した後、基板１０１を水で洗浄することにより、基板１０１の一方の面１０１ａ上の不要な感光性組成物１０２を除去することで現像する。これにより、図２３に示すように、基板１０１の一方の面１０１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）１０３を得る。
ここで、光によって生じた、上記式（４７−１）で表わされるアミンは、エポキシとチオールとの共重合の触媒として働くため、そのうち極めて少量が消費されるが、殆どは残存し、光硬化後の樹脂中に遊離する。このようなアミンが存在することは、上述の化学構造同定手法により確認することができる。また、光硬化後の樹脂が塩基性であることについても、上述のｐＨ試験剤やｐＨ試験紙より確認することができる。
なお、上述の第１〜第６の例は、紫外線照射により硬化する、いわゆるネガ型フォトレジストに相当する。光硬化により得られる塗膜（波長変換層）は、多くの有機溶媒に対して難溶性となるため、塗膜（波長変換層）形成後の溶液プロセスに対する耐久性が高い。特に、後述する波長変換基板の赤色変換層と緑色変換層を形成する場合に当該形態を用いることが好ましい。具体的には、両方の色変換層は順にパターニング形成することが好ましいが、先に上述の第１〜第６の例の感光性組成物を用いて片方の色変換層を形成することで、もう一方の色変換層を形成する際の溶液プロセス（感光性組成物の塗布や現像）を行ったとしても、先に形成された波長変換層が溶解・剥離するおそれがない。
【０１３６】
（７）第７の例
感光性材料が（７）型として機能する場合、本実施形態の感光性組成物を用いた塗膜のパターニング方法の具体例について説明する。
非特許文献９（Ｊ．Ｍａｔｅｒ．Ｃｈｅｍ．，２００４，１４，３３６）、非特許文献１０（Ｊ．Ｐｈｏｔｏｐｏｌｙｍ．Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈｎｏｌ．，２００５，１８，４１９）に従って、下記式（４９）で表わされるコポリマーを得る。
【０１３７】
【化４９】
2016206550.tif 000050
【０１３８】
次いで、上記式（４９）で表わされるコポリマーと、下記式（５０）で表わされる１，３−ビス［（２−ニトロベンジル）オキシカルボニル−４−ピペリジル］プロパンと、上記式（２７）で表わされるクマリン６とを、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノールに投入して、撹拌する。これにより、これらの物質を１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノールに溶解し、これらの物質を含む感光性組成物（溶液）を調製する。
感光性組成物における上記式（４９）で表わされるコポリマー（ｍ：ｎ＝３：１）の濃度（含有率）を、例えば、０．１ｇ／ｍＬとする。
感光性組成物における下記式（５０）で表わされる１，３−ビス［（２−ニトロベンジル）オキシカルボニル−４−ピペリジル］プロパンの含有率を、例えば、上記式（４９）で表わされるコポリマーの全質量を１００質量部とした場合、１０質量部とする。
感光性組成物におけるクマリン６の含有率を、例えば、上記式（４９）で表わされるコポリマーの全質量を１００質量部とした場合、２質量部とする。
【０１３９】
【化５０】
2016206550.tif 000051
【０１４０】
次いで、図２４に示すように、基板１２１の一方の面１２１ａに上記の感光性組成物を滴下した後、例えば、基板１２１を２０００ｒｐｍで、６０秒間回転させて、基板１２１の一方の面１２１ａに上記の感光性組成物１２２を塗布する。基板１２１としては、例えば、ガラス基板が用いられる。
次いで、大気雰囲気下、ホットプレート上にて、基板１２１を、例えば、１１０℃で６０秒間、加熱する。
【０１４１】
次いで、図２５に示すように、感光性組成物１２２上に、例えば、ライン／スペース＝４μｍ／１０μｍのパターンを有するフォトマスク１３０を配置する。
次いで、このフォトマスク１３０を介して、水銀−キセノンランプ（例えば、照射線量１０ｍＪ／ｃｍ２）を用いて、感光性組成物１２２を露光する。すると、下記式（５１）に示すように、上記式（５０）で表わされる１，３−ビス［（２−ニトロベンジル）オキシカルボニル−４−ピペリジル］プロパンが触媒として機能し、上記式（４９）で表わされるコポリマーの疎水性の官能基が親水性の官能基となる。その結果、感光性組成物１２２のうち、露光した部分が可溶性となる。
次いで、感光性組成物１２２を１１０℃に加熱する。
【０１４２】
【化５１】
2016206550.tif 000052
【０１４３】
次いで、基板１２１を水中に、浸漬することにより、基板１２１の一方の面１２１ａ上の不要な感光性組成物１２２を除去することで現像する。
次いで、感光性組成物１２２を乾燥することにより、図２６に示すように、基板１２１の一方の面１２１ａに、所定の形状にパターニングされた、感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）１２３を得る。
ここで、残存する膜には、上記式（４９）で示すコポリマーと、上記式（５０）で示す光塩基発生剤が存在する。本来であれば、非露光部であり、アミンを生じないが、波長変換層として使用する際の可視光により、僅かながらに感光し、上記式（５０）よりアミンを生じる。このようなアミンについても、上述の化学構造同定手法により存在を確認することができる。また、その僅かに生じたアミンにより光硬化後の樹脂は塩基性を示す。これについても上述のｐＨ試験剤やｐＨ試験紙より確認することができる。
なお、第７例では、紫外線照射により可溶化する、いわゆるポジ型レジストに相当する。形成される塗膜（波長変換層）には紫外線が照射されないため、蛍光体の光化学反応により化学構造の変化がなく、蛍光体が有する本来の発光効率を発揮することができる。さらに、波長変換層として使用する際の可視光（蛍光体の励起光）により、僅かにアミン等の塩基を発生した場合にも、波長変換層を取り囲む金属からなる反射層の腐食がないため、好ましい。また、後述する波長変換基板において、赤色変換層と緑色変換層を形成する際に、順に形成することが好ましいが、後に形成する波長変換層に当該第７の例のような紫外線照射により可溶化する感光性組成物を用いることが好ましい。
【０１４４】
本実施形態の感光性組成物によれば、紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料と、塩基により可溶化または硬化する有機化合物と、紫外光以外の光によって励起されて発光する蛍光体と、を含むため、フォトリソグラフィーによるパターニングに用いた場合、蛍光体の分子構造が変化することを防止すことができる。すなわち、蛍光体の分子構造が変化しないため、本実施形態の感光性組成物を用いて作製した上述の塗膜等は、蛍光の変色や消光がない。また、本実施形態の感光性組成物によれば、ラジカル重合を用いないため、大気雰囲気下でも硬化することから、上述の塗膜の作製に好適に用いられる。さらに、本実施形態の感光性組成物によれば、酸による硬化を用いないため、金属基板上において、金属基板を腐蝕することなく、上述の塗膜等を作製することができる。
【０１４５】
［第２実施形態］
「３Ｄプリンター用インク」
本発明の第２実施形態である３Ｄプリンター用インクは、本発明の第１実施形態である感光性組成物を含むインクである。
【０１４６】
本実施形態の３Ｄプリンター用インクは、上述の感光性組成物以外に、顔料や染料等の着色剤、重合禁止剤、レベリング剤、界面活性剤、消泡剤、増粘剤、酸化防止剤や紫外線吸収剤等の安定剤、充填剤（架橋ポリマー粒子、シリカ、ガラス粉、セラミックス粉、金属粉等）、改質用樹脂、可塑剤、シランカップリング剤、有機粒子または無機粒子等の添加剤、連鎖移動剤、溶剤等を適量含んでいてもよい。
【０１４７】
本実施形態の３Ｄプリンター用インクは、上述の感光性組成物の含有率が３０質量％〜９９質量％であることが好ましく、５０質量％〜９０質量％であることがより好ましい。
【０１４８】
本実施形態の３Ｄプリンター用インクの粘度は、５ｍＰａ・ｓ〜３０ｍＰａ・ｓであることが好ましい。
３Ｄプリンター用インクの粘度が５ｍＰａ・ｓ未満では、粘度が低過ぎるため、３Ｄプリンター用インクを用いて、三次元造形装置（三次元プリンター）で三次元造形物を形成することが難しい。一方、３Ｄプリンター用インクの粘度が３０ｍＰａ・ｓを超えると、粘度が高過ぎるため、三次元造形装置（三次元プリンター）から所定量の３Ｄプリンター用インクを吐出することが難しくなる。
【０１４９】
本実施形態の３Ｄプリンター用インクによれば、上述の感光性組成物を含んでいるため、蛍光の変色や消光がない三次元造形物を作製することができる。また、本実施形態の３Ｄプリンター用インクによれば、上述の感光性組成物が紫外光の照射により塩基を生じる感光性材料と、その塩基により可溶化または硬化する有機化合物とを含んでいるため、ラジカル重合を用いることなく、大気雰囲気下でも硬化することから、三次元造形物の作製に好適に用いられる。さらに、本実施形態の３Ｄプリンター用インクによれば、酸による硬化を用いないため、金属基板上において、金属基板を腐蝕したり、金属製のプリンターノズルを腐食したりすることなく、三次元造形物を作製することができる。
【０１５０】
［第３実施形態］
「三次元造形物」
本発明の第３実施形態である三次元造形物は、本発明の第１実施形態である感光性組成物によって形成された造形物である。
【０１５１】
本実施形態の三次元造形物によれば、上述の感光性組成物によって形成されているため、蛍光の変色や消光がない。
【０１５２】
［第４実施形態］
「波長変換基板」
本発明の第４実施形態である波長変換基板は、透明基板と、透明基板の一方の面に設けられた波長変換層と、を有し、波長変換層は、本発明の第１実施形態である感光性組成物を含み、感光性材料から遊離した塩基を含有する。
【０１５３】
図２７は、本発明の第４実施形態である波長変換基板を模式的に示す断面図である。
本実施形態の波長変換基板２００は、基板２１１の一方の面２１１ａにブラックマトリックス２１２を介してバンク２１３が設けられ、基板２１１の一方の面２１１ａの所定の領域が、バンク２１３で区画され、サブピクセルを形成している。基板２１１の一方の面２１１ａのこの区画された領域内において、赤色波長変換層２１４ｂは赤色カラーフィルタ２１４ａ上に設けられ、緑色波長変換層２１５ｂは緑色カラーフィルタ２１５ａ上に設けられている。また、青色カラーフィルタ２１６ａ上には青色光を散乱させるための光散乱層２１６ｂが設けられている。赤色カラーフィルタ２１４ａおよび赤色波長変換層２１４ｂは赤色画素２１４を構成し、緑色カラーフィルタ２１５ａおよび緑色波長変換層２１５ｂは緑色画素２１５を構成し、青色カラーフィルタ２１６ａおよび光散乱層２１６ｂは青色画素２１６を構成する。
【０１５４】
基板２１１としては、光の透過率が９０％以上の基板、例えば、ガラス、石英等からなる無機材料基板；ポリエチレンテレフタレート、ポリカルバゾール、ポリイミド等からなるプラスチック基板；前記プラスチック基板の表面を無機材料でコーティングした基板；アルミナ等からなるセラミックス基板等の絶縁性基板が挙げられるが、これらに限定されない。これらのなかでも、ストレスなく湾曲部、折り曲げ部を形成できる点においては、前記プラスチック基板が好ましく、前記プラスチック基板に無機材料をコーティングした基板がより好ましい。例えば、有機ＥＬ素子は、微量の水分や酸素によっても劣化することが知られており、プラスチック基板を用いた有機ＥＬ素子では、この基板における水分および酸素の透過による劣化が大きな問題となる。これに対して、上記のプラスチック基板に無機材料をコーティングした基板は水分および酸素の透過を抑制する効果が高く、かかる基板を有機ＥＬ素子に適用した場合、水分および酸素による有機ＥＬ素子の劣化を高度に抑制できる。
【０１５５】
基板２１１の厚さは、１０μｍ〜２０００μｍであることが好ましく、１００μｍ〜１０００μｍであることがより好ましい。
【０１５６】
波長変換基板２００は、ブラックマトリックス２１２を備えていることが好ましい。ブラックマトリックス２１２は光吸収性の黒色隔壁であり、これを備えることで、各画素間のコントラストがより向上する。
ブラックマトリックス２１２は、公知の材質のものでよく、好ましいものとしては、黒色顔料を含む樹脂からなる遮光性のものが例示できる。
ブラックマトリックス２１２の厚さ（基板２１１との接触面（一方の面２１１ａ）に対して垂直な方向の高さ）は、１００ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、５００ｎｍ〜２μｍであることがより好ましい。
【０１５７】
バンク２１３は、光反射性または光散乱性を有し、これを備えることで、波長変換層からの等方発光のうち、側面方向への発光（波長変換層を通しての導波成分）の、目的とするもの以外の画素への漏れによる色純度の低下を防止できる。さらに、光を画素内で反射させることにより、発光を有効利用でき、消費電力を低下させることができる。
【０１５８】
バンク２１３は、公知の材質のものでよく、好ましいものとしては、金、銀、アルミニウム等の金属粒子を含む樹脂からなる光反射性のもの；酸化チタン等の光散乱粒子を含む樹脂からなる光散乱性のものが例示できる。ここで、前記樹脂としては、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、シリコン樹脂等が例示できる。また、エポキシ樹脂、アクリル樹脂またはシリコン樹脂等のベース樹脂の表面に、前記金属粒子または光散乱粒子等を、蒸着法またはスパッタ法により、１０ｎｍ〜１０００ｎｍの厚さとなるように積層したものも、バンク２１３として好ましい。さらに、本実施形態の蛍光体層を構成する感光性材料によれば、酸による硬化もしくは可溶化を用いないため、金属粒子の反射積層と接する場合、金属層を腐蝕することなく、蛍光体基板を作製することができる。
バンク２１３の高さ（ブラックマトリックス２１２との接触面に対して垂直な方向の高さ）は、波長変換層の膜厚よりも厚いことが好ましく、このようにすることで、上記の効果がより顕著に得られる。
【０１５９】
波長変換基板２００は、赤色カラーフィルタ２１４ａおよび緑色カラーフィルタ２１５ａを備えていることが好ましい。これらを備えることで、赤色波長変換層２１４ｂまたは緑色波長変換層２１５ｂにより吸収されずに透過してしまう励起光の外部への漏れを防止でき、赤色波長変換層２１４ｂまたは緑色波長変換層２１５ｂからの発光と励起光との混色による発光の色純度の低下を防止できる。さらに、各画素の色純度を高めることで、有機ＥＬ素子の色再現範囲をより拡大できる。また、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂ中の発光物質を励起する可能性がある外光を吸収することで、外光による赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂでの発光を抑制でき、コントラストの低下を抑制できる。
【０１６０】
そして、波長変換基板２００は、青色カラーフィルタ２１６ａを備えていてもよい。これを備えることで、光散乱層２１６ｂでの外光の散乱を抑制でき、コントラストの低下を抑制できる。ただし、光散乱層２１６ｂは、光源である有機ＥＬ素子からの光の透過率を低下させるため、不要な場合もある。
赤色カラーフィルタ２１４ａ、緑色カラーフィルタ２１５ａおよび青色カラーフィルタ２１６ａとしては、公知の材質のものが適宜使用できる。
赤色カラーフィルタ２１４ａ、緑色カラーフィルタ２１５ａおよび青色カラーフィルタ２１６ａの膜厚は０．５μｍ〜１０μｍであることが好ましく、１μｍ〜３μｍであることがより好ましい。
【０１６１】
なお、ここでは、波長変換層として赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂを備えた波長変換基板を示しているが、本発明に係る波長変換基板は、これら以外にシアン変換層、イエロー変換層等の他の波長変換層を備えたものでもよく、この場合には、それぞれの色に対応したカラーフィルタを設けてもよい。
【０１６２】
赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂの材質（構成成分）は、本発明の第１実施形態である感光性組成物を含む。
また、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂは、感光性組成物を構成する感光性材料から遊離した塩基を含有し、もしくは、構成する感光性材料中に化学結合して取り込まれる。そして、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂは、ｐＨが７〜１４であることが好ましく、さらに、８〜１２であることがより好ましい。赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂのｐＨが８〜１２であるということは、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂが、本発明の感光性組成物を含むことが分かる。
赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂのｐＨの測定方法としては、光硬化後の樹脂を有機溶媒（例えば、ＮＭＰやＤＭＦ）に溶解させ、Ｏｒｅｇｏｎ  Ｇｒｅｅｎ  ４８８  ｄｙｅｓやｐＨｒｏｄｏ  ｄｙｅ（共にライフテクノロジー社製）等のｐＨ試験剤の添加や水で濡らしたｐＨ試験紙に当該溶液を滴下して、ｐＨが７以上であることを確認する方法が用いられる。
【０１６３】
赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂの膜厚は、１００ｎｍ〜１００μｍであることが好ましく、１μｍ〜２０μｍであることがより好ましい。膜厚が前記下限値以上であることで、励起光源からの励起光を十分に吸収でき、発光効率が向上して、必要とする色に目的外の励起光源からの光が混合されることによる、色純度の悪化が抑制される。また、膜厚が前記上限値以下であることで、過剰な膜厚となることが避けられ、コストを低減できる。
【０１６４】
波長変換基板２００は、励起光からの発光を直接利用する青色画素２１６と、青色画素２１６とは配光特性が異なり、波長変換層からの発光を利用する赤色画素２１４および緑色画素２１５とを備えているが、光散乱層２１６ｂは、配光特性が異なるこれら画素間で、視野角による配光特性のずれに伴う輝度および色の変化を低減する。
光散乱層２１６ｂは、例えば、光散乱粒子およびバインダー樹脂が配合されてなる硬化性組成物（光散乱層形成用組成物）を用いて、バインダー樹脂を硬化させることで形成できる。
【０１６５】
前記光散乱粒子は、有機材料および無機材料のいずれからなるものでもよい。
前記有機材料としては、ポリメタクリル酸メチル（屈折率１．４９）、アクリル樹脂（屈折率１．５０）、アクリル−スチレン共重合体（屈折率１．５４）、メラミン樹脂（屈折率１．５７）、高屈折率メラミン樹脂（屈折率１．６５）、ポリカーボネート（屈折率１．５７）、ポリスチレン（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド樹脂（屈折率１．６８）、シリコーン（屈折率１．５０）等が例示できる。
【０１６６】
前記無機材料としては、ケイ素、チタン、ジルコニウム、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫およびアンチモンからなる群から選ばれる１種または２種以上の金属の酸化物が例示できる。これらの中でも好ましいものとしては、シリカ（屈折率１．４４）、アルミナ（屈折率１．６３）、酸化チタン（屈折率２．５０（アナタース型）、２．７０（ルチル型））、二酸化ジルコニウム（屈折率２．０５）、酸化亜鉛（屈折率２．００）、チタン酸バリウム（ＢａＴｉＯ３）（屈折率２.４）等が例示できる。
【０１６７】
これらの中でも、前記光散乱粒子は、無機材料からなるものが好ましい。無機材料からなる光散乱粒子を用いることにより、外部（例えば、発光素子）からの指向性を有する光を、より等方的に効果的に拡散または散乱させることができる。また、光散乱層２１６ｂの光および熱に対する安定性を向上させることができる。
【０１６８】
前記光散乱粒子は、透明度が高いものが好ましく、低屈折率の母材中にこの母材よりも高屈折率の微粒子が分散されてなるものが好ましい。
また、光散乱粒子の粒径は、１００ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましい。このような範囲であることで、光散乱層２１６ｂにおいて青色光がミー散乱によってより効果的に散乱される。
【０１６９】
前記バインダー樹脂は、透光性を有することが好ましい。
前記バインダー樹脂の材質としては、アクリル樹脂（屈折率１．４９）、メラミン樹脂（屈折率１．５７）、ナイロン（屈折率１．５３）、ポリスチレン（屈折率１．６０）、ポリカーボネート（屈折率１．５７）、ポリ塩化ビニル（屈折率１．６０）、ポリ塩化ビニリデン（屈折率１．６１）、ポリ酢酸ビニル（屈折率１．４６）、ポリエチレン（屈折率１．５３）、ポリメタクリル酸メチル（屈折率１．４９）、ポリＭＢＳ（屈折率１．５４）、中密度ポリエチレン（屈折率１．５３）、高密度ポリエチレン（屈折率１．５４）、ポリ三フッ化塩化エチレン（屈折率１．４２）、ポリテトラフルオロエチレン（屈折率１．３５）等が例示できる。
【０１７０】
光散乱層２１６ｂの膜厚は、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂの膜厚と同様である。
【０１７１】
波長変換基板２００は、カラーフィルタ（赤色カラーフィルタ２１４ａおよび緑色カラーフィルタ２１５ａ）と波長変換層（赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂ）との間に、また、カラーフィルタを設けない場合には、基板２１１と波長変換層（赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂ）との間に、基板２１１と波長変換層よりも屈折率が低い低屈折率層を設けてもよい。
同様に、波長変換基板２００は、青色カラーフィルタ２１６ａと光散乱層２１６ｂとの間に、また、青色カラーフィルタ２１６ａを設けない場合には、基板２００と光散乱層２１６ｂとの間に、基板２１１と光散乱層２１６ｂよりも屈折率が低い低屈折率層を設けてもよい。
【０１７２】
波長変換基板では、通常、波長変換層からの発光が光取出し側の基板を導波し、基板の側面に導波して発光損失を生じることがある。しかし、このように低屈折率層を設けることで、屈折率差を利用して、光取出し側の基板から空気層へ取出すことができない臨界角以上の光を、波長変換層および低屈折率層間の屈折率差を利用して反射させ、光取出し側に対して反対側に形成されている反射部材（波長変換層および励起光源間の励起光は透過させ、波長変換層からの発光を反射させる反射部材、例えば、誘電体多層膜、バンドパスフィルター、金属の超薄膜等）、または有機ＥＬ部に設けられた半透明電極若しくは反射電極）で反射させ、再度光取出し側に出射させることにより、上記の発光損失を低減でき、有機ＥＬ素子等の消費電力を低減し、輝度を向上させることができる。
【０１７３】
前記低屈折率層の材質としては、ポリ（１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピルアクリレート）（屈折率１．３７５）、ポリ（２，２，３，３，４，４，４−ヘプタフルオロブチルメタクリレート）（屈折率１．３８３）、ポリ（２，２，３，３，３−ペンタフルオロプロピルメタクリレート）（屈折率１．３９５）、ポリ（２，２，２−トリフルオロエチルメタクリレート）（屈折率１．４１８）等のフッ素系樹脂（フッ素原子を有する樹脂）；メソポーラスシリカ（屈折率１．２）；エアロゲル（屈折率１．０５）等が例示できる。また、乾燥空気若しくは窒素ガス等の気体が充填された空隙部、または減圧された空隙部で、前記低屈折率層を構成してもよい。
【０１７４】
波長変換基板２００は、赤色波長変換層２１４ｂ、緑色波長変換層２１５ｂおよび光散乱層２１６ｂ上に、それぞれ封止膜を備えていることが好ましい。このように封止膜を備えることで、これら波長変換層および光散乱層への外部からの酸素および水分の混入を高度に抑制でき、これら波長変換層および光散乱層の劣化を高度に抑制できる。そして、波長変換基板２００を表示装置等へ適用した場合、これら波長変換層および光散乱層から、例えば、有機ＥＬ層への酸素および水分の混入も抑制でき、有機ＥＬ素子の劣化も高度に抑制できる。
波長変換基板２００は、さらに、前記封止膜上に平坦化膜を備えていることが好ましい。このように平坦化膜を備えることで、後述する励起光源と組み合わせたときに、空乏の発生を防止できるともに、励起光源と波長変換基板２００との密着性を向上させることができる。
前記封止膜および平坦化膜は、公知のものでよい。
【０１７５】
「波長変換基板の製造方法」
図２８を参照して、波長変換基板２００の製造方法の一例を説明する。なお、図２８に示す構成要素のうち、図２７に示すものと同じものには、図２７の場合と同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。
【０１７６】
まず、図２８（ａ）に示すように、基板２１１の一方の面２１１ａにブラックマトリックス２１２を形成する。
ブラックマトリックス２１２は、フォトリソグラフィー法で形成できる。例えば、モノマー、光重合開始剤、黒色顔料、バインダーおよび溶媒が配合されてなる硬化性組成物（ブラックマトリックス形成用組成物）を基板２１１の一方の面２１１ａに塗工し、塗膜を形成する。次いで、得られた塗膜に対してフォトマスクを介して光を照射（露光）することにより、塗膜の所望の箇所を硬化させる。次いで、現像液を用いて、塗膜を現像し、パターニングすることにより、ブラックマトリックス２１２が得られる。
【０１７７】
硬化性組成物の塗工は、例えば、スピンコート法等の塗布法で行うことができる。
また、必要に応じてプリベーク、ポストベーク等を行ってもよい。
基板２１１は、必要に応じて、水、有機溶媒等で洗浄してから使用する。
【０１７８】
次いで、図２８（ｂ）に示すように、ブラックマトリックス２１２上にバンク２１３を形成する。
バンク２１３は、例えば、硬化性組成物として、モノマー、光重合開始剤、光反射粒子または光散乱粒子、バインダーおよび溶媒が配合されてなるバンク形成用のもの（バンク形成用組成物）を用いる点以外は、上記のブラックマトリックス２１２の場合と同様のフォトリソグラフィー法で形成できる。
フォトマスクとしては、ブラックマトリックス２１２上にバンク２１３を積層できるようなパターンのものを用いればよい。
【０１７９】
また、バンク２１３は、その全体または表面（端面２１３ａ、側面２１３ｂ）が光反射性の材料からなることが好ましい。バンク２１３全体または表面に光反射性の材料を備えることで、波長変換層の側面を反射性材料によって取り囲むことができる。これにより、波長変換層で発光した基板水平方向の光が反射され、効率的に観察者側へ取出すことができる。
【０１８０】
光反射性の材料としては、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、銀（Ａｇ）等の金属が挙げられる。金属は高い反射性を示すため好ましい。しかし、従来の波長変換層のパターニング手法では、多くが化学増幅型のレジスト材料を用いていたため、金属を用いることが難しかった。詳しく説明すると、化学増幅型のレジスト材料を用いた場合には、露光により酸を生じる。その酸により金属が錆び、変色することで充分な反射性が得られない。また、従来の波長変換層のパターニング手法として、ラジカル重合による光硬化型も挙げられる。しかし、この手法では、酸素によりラジカル重合が阻害されるため、酸素濃度を低減する装置やプロセスが必要であり、煩雑であった。したがって、本発明は、反射性の高い金属を光反射層として用いることのできる波長変換層における最良のレジスト材料である。
【０１８１】
バンク２１３の表面が光反射性の材料からなる場合、バンク２１３の表面に、光反射性の材料からなる薄膜を設ける。
バンク２１３の表面に光反射性の材料からなる薄膜を形成する方法としては、上記の光反射性の材料を用い、例えば、化学気相成長（ＣＶＤ）法、真空蒸着法等のドライプロセス、スピンコート法等のウエットプロセスが挙げられる。
【０１８２】
次いで、図２８（ｃ）に示すように、バンク２１３で区画された各サブピクセル領域に、赤色カラーフィルタ２１４ａ、緑色カラーフィルタ２１５ａおよび青色カラーフィルタ２１６ａを形成する。
赤色カラーフィルタ２１４ａ、緑色カラーフィルタ２１５ａおよび青色カラーフィルタ２１６ａは、これらを形成可能な硬化性組成物を用いる点以外は、上記のブラックマトリックス２１２の場合と同様のフォトリソグラフィー法で形成できる。
フォトマスクとしては、各サブピクセル領域に目的とするカラーフィルタを形成できるようなパターンのものを用いればよい。
【０１８３】
次いで、図２８（ｄ）に示すように、赤色カラーフィルタ２１４ａ上に赤色波長変換層２１４ｂを形成し、緑色カラーフィルタ２１５ａ上に緑色波長変換層２１５ｂを形成し、青色カラーフィルタ２１６ａ上に光散乱層２１６ｂを形成する。
【０１８４】
赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂの形成方法としては、上述した本発明の第１実施形態である感光性組成物からなる塗膜（波長変換層）の形成方法が用いられる。
また、光散乱層２１６ｂは、例えば、硬化性組成物として、上述した光散乱層形成用のもの（光散乱層形成用組成物）を用いる点以外は、上記のブラックマトリックス２１２の場合と同様のフォトリソグラフィー法で形成できる。
【０１８５】
フォトマスクとしては、赤色カラーフィルタ２１４ａ上に赤色波長変換層２１４ｂを、緑色カラーフィルタ２１５ａ上に緑色波長変換層２１５ｂを、青色カラーフィルタ２１６ａ上に光散乱層２１６ｂを、それぞれ積層できるようなパターンのものを用いればよい。
赤色波長変換層２１４ｂ、緑色波長変換層２１５ｂおよび光散乱層２１６ｂは、それぞれ同じ種類のものを同時に形成する（例えば、複数の赤色波長変換層２１４ｂを同時に形成する）ことが好ましく、各層の形成順序は特に限定されない。
【０１８６】
以上により、波長変換基板２００が得られるが、波長変換基板２００に前記低屈折率層を設ける場合には、赤色カラーフィルタ２１４ａ、緑色カラーフィルタ２１５ａおよび青色カラーフィルタ２１６ａの形成後、赤色波長変換層２１４ｂ、緑色波長変換層２１５ｂおよび光散乱層２１６ｂの形成前に、これらカラーフィルタ上に低屈折率層を形成すればよい。
【０１８７】
また、前記封止膜は、例えば、赤色波長変換層２１４ｂ、緑色波長変換層２１５ｂおよび光散乱層２１６ｂ上に、スピンコート法、ＯＤＦ法、ラミネート法等により樹脂を塗布することによって形成できる。また、前記封止膜は、例えば、プラズマＣＶＤ法、イオンプレーティング法、イオンビーム法、スパッタ法等により、ＳｉＯ、ＳｉＯＮ、ＳｉＮ等の無機膜を形成した後、さらにこの無機膜上に、スピンコート法、ＯＤＦ法、ラミネート法等により樹脂を塗布するか、または樹脂膜を貼合することによっても形成できる。
【０１８８】
本実施形態の波長変換基板２００によれば、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂが、上述の感光性組成物を含む。そのため、赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂは、フォトリソグラフィーによるパターニングで形成されても、蛍光体の分子構造が変化することなく、蛍光の変色や消光がない。
【０１８９】
［第５実施形態］
「発光装置」
本発明の第５実施形態である発光装置は、光源と、光源に積層された波長変換基板と、を備え、波長変換基板は、本発明の第４実施形態である波長変換基板からなる装置である。
【０１９０】
図２９は、本発明の第５実施形態である発光装置を模式的に示す断面図である。
本実施形態の発光装置４００は、有機ＥＬ基板３００と、図２８に示す波長変換基板２００とが貼り合わされてなるものである。ただし、ここでは、波長変換基板２００における波長（色）変換の様子を分かり易く説明するために、波長変換基板２００と有機ＥＬ基板３００とを離間して示している。
【０１９１】
有機ＥＬ基板３００は、基板３１１の一方の面３１１ａに薄膜トランジスタ３１２が設けられ、薄膜トランジスタ３１２上に層間絶縁層３１３が設けられている。
薄膜トランジスタ３１２は、ソース電極３１２ａ、ドレイン電極３１２ｂ、半導体層３１２ｃ、ゲート電極３１２ｄおよびゲート絶縁層３１２ｅを備えて構成されている。
層間絶縁層３１３には、ソース電極３１２ａ上の部位にコンタクトホール３１４が設けられている。このコンタクトホール３１４を介して、層間絶縁層３１３上に設けられた陽極（画素電極）３１５がソース電極３１２ａと電気的に接続されている。陽極３１５上に有機ＥＬ層３１６が設けられている。有機ＥＬ層３１６上に陰極３１７が設けられている。
【０１９２】
なお、ここでは紙面の都合上、サブピクセル毎に１個の薄膜トランジスタ３１２を図示しているが、有機ＥＬ層３１６を安定的および効率的に駆動するためには、サブピクセル毎に複数個の薄膜トランジスタ３１２を備えていてもよい。
【０１９３】
基板３１１としては、例えば、ガラス、石英等からなる無機材料基板が挙げられる。
基板３１１の厚さは１００〜１０００μｍであることが好ましい。
【０１９４】
半導体層３１２ｃとしては、アモルファスシリコン；多結晶シリコン；ペンタセン、ポリチオフェン、フラーレンＣ６０等の有機半導体；インジウム−ガリウム−亜鉛酸化物（ＩＧＺＯ）等の無機酸化物からなるものが挙げられる。
半導体層３１２ｃとの厚さは、２０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましい。
【０１９５】
ソース電極３１２ａ、ドレイン電極３１２ｂとしては、半導体層３１２ｃにリン等の不純物元素をドーピングしたもの；金、銀、銅またはアルミニウム等の金属からなるものが挙げられる。
ソース電極３１２ａの厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍであることが好ましい。
【０１９６】
ゲート電極３１２ｄとしては、金、白金、銀、銅、アルミニウム、タンタル、ドープシリコン等の金属；３，４−ポリエチレンジオキシチオフェン（ＰＥＤＯＴ）／ポリスチレンサルフォネイト（ＰＳＳ）等の有機化合物からなるものが挙げられる。
ゲート電極３１２ｄの厚さは、２０ｎｍ〜２００ｎｍであることが好ましい。
【０１９７】
ゲート絶縁層３１２ｅとしては、窒化シリコン、酸化シリコン等の無機化合物；シクロテン、サイトップ、パリレン等の有機化合物からなるものが挙げられる。
ゲート絶縁層３１２ｅの厚さは、５０ｎｍ〜３００ｎｍであることが好ましい。
【０１９８】
層間絶縁層３１３としては、窒化シリコン、酸化シリコン等の無機化合物；シクロテン、サイトップ、パリレン等の有機化合物からなるものが挙げられる。
層間絶縁層３１３の厚さは、１００ｎｍ〜２０００ｎｍであることが好ましい。
【０１９９】
陽極３１５としては、銀やアルミニウム等からなる反射電極と、酸化インジウム−酸化亜鉛（ＩＺＯ）等からなる透明電極とが積層されたものが挙げられる。陽極３１５の反射電極は、基板３１１側に設けられる。
反射電極の厚さは、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。透明電極の厚さは、１０ｎｍ〜１００ｎｍであることが好ましい。
【０２００】
有機ＥＬ層３１６としては、ホール注入層、ホール輸送層、青色発光層、ホールブロック層、電子輸送層、電子注入層等が必要とされるものだけ適宜積層されてなるものが挙げられる。各層の厚さは、０．５ｎｍ〜２００ｎｍの範囲で任意に選択されることが好ましい。
【０２０１】
陰極３１７としては、マグネシウム銀、アルミニウムリチウム等の合金；銀、アルミニウム等の単体金属からなるものが挙げられる。陰極３１７は、単層および複数層のいずれからなるものでもよい。
陰極３１７の厚さは、１０ｎｍ〜１０００ｎｍであることが好ましい。
【０２０２】
発光装置４００は、有機ＥＬ基板３００からの励起光（青色光）Ｌ１が波長変換基板２００に入射し、この励起光Ｌ１が、赤色波長変換層２１４ｂによって赤色光Ｌ１１に変換され、緑色波長変換層２１５ｂによって緑色光Ｌ１２に変換され、光散乱層２１６ｂを透過した青色光Ｌ１３と共に、これら赤色光Ｌ１１および緑色光Ｌ１２が波長変換基板２００の基板２１１側から出射される。
【０２０３】
「発光装置の製造方法」
図３０を参照して、発光装置４００の製造方法の一例を説明する。なお、図３０に示す構成要素のうち、図２７および図２９に示すものと同じものには、図２７および図２９の場合と同じ符号を付し、その詳細な説明は省略する。
発光装置４００は、波長変換基板２００を用いる点以外は、従来の有機ＥＬ発光装置と同様の方法で製造できる。
【０２０４】
まず、有機ＥＬ基板３００を作製する。
図３０（ａ）に示すように、基板３１１の一方の面３１１ａに既存の半導体プロセスにより、薄膜トランジスタ３１２を形成する。
さらに、薄膜トランジスタ３１２を覆うように、基板３１１の一方の面３１１ａに、スパッタ法、真空蒸着法、スピンコート法等、またはインクジェット法等の印刷法により層間絶縁層３１３を形成する。
そして、層間絶縁層３１３のソース電極３１２ａ上の部位に、コンタクトホール３１４を形成し、アクティブマトリックスＴＦＴ基板とする。
【０２０５】
次いで、図３０（ｂ）に示すように、スパッタ法等により、層間絶縁層３１３上とコンタクトホール３１４中に、陽極３１５を形成する。
次いで、図３０（ｃ）に示すように、真空蒸着法等により、陽極３１５を覆うように、層間絶縁層３１３上に有機ＥＬ層３１６を形成する。
次いで、図３０（ｄ）に示すように、真空蒸着法等により、有機ＥＬ層３１６上に陰極３１７を形成する。
以上により、有機ＥＬ基板３００が得られる。
【０２０６】
次いで、図３０（ｅ）に示すように、得られた有機ＥＬ基板３００の陰極３１７と、上記の波長変換基板２００の赤色波長変換層２１４ｂ、緑色波長変換層２１５ｂおよび光散乱層２１６ｂとが対向するように、有機ＥＬ基板３００および波長変換基板２００を配置して、これらを貼り合わせて固定する。
以上により、発光装置４００が得られる。
【０２０７】
本実施形態の発光装置４００によれば、上述の波長変換基板２００を備えるため、波長変換基板２００を構成する赤色波長変換層２１４ｂおよび緑色波長変換層２１５ｂに含まれる蛍光体の分子構造が変化することなく、蛍光の変色や消光がない。
【０２０８】
［第６実施形態］
＜表示装置＞
本発明に係る表示装置は、上述の本発明に係る発光装置を備えたものである。
図３１は、本発明の第６実施形態である表示装置を示す概略正面図である。
ここに示す表示装置２０００は、有機ＥＬ基板２００１および有機ＥＬ基板２００１に対向配置された波長変換基板２００２を備えた有機ＥＬ発光装置２０１０と、有機ＥＬ基板２００１および波長変換基板２００２が対向する領域に設けられた画素部２００３と、画素部２００３に駆動信号を供給するゲート信号側駆動回路２００４、データ信号側駆動回路２００５、信号配線２００６および電流供給線２００７と、有機ＥＬ基板２００１に接続されたフレキシブルプリント配線板（ＦＰＣ）２００８と、外部駆動回路２００９とを備えて、構成されている。
表示装置２０００は、画素部２００３等を曲面状に曲げることが可能なフレキシブル表示装置とすることが可能である。
【０２０９】
有機ＥＬ発光装置２０１０としては、上述の本発明に係る発光装置を用いることができる。有機ＥＬ基板２００１は、陽極、有機ＥＬ層および陰極を含む発光部を駆動するために走査線電極回路、データ信号電極回路および電源回路等を含む外部駆動回路２００９に、ＦＰＣ２００８を介して電気的に接続されている。本実施形態の場合、ＴＦＴ等のスイッチング回路が画素部２００３内に配置され、ＴＦＴ等が接続されるデータ線、ゲート線等の配線に発光部を駆動するためのデータ信号側駆動回路２００５およびゲート信号側駆動回路２００４がそれぞれ接続され、これら駆動回路に信号配線２００６を介して外部駆動回路２００９が接続されている。画素部２００３内には、複数のゲート線および複数のデータ線が配置され、ゲート線とデータ線との交差部にＴＦＴが配置されている。
【０２１０】
図３２は、前記表示装置における１画素（サブ画素）の等価回路を示す回路図である。
発光部は、電圧駆動デジタル階調方式によって駆動が行われ、画素毎にスイッチング用ＴＦＴおよび駆動用ＴＦＴの２つのＴＦＴが配置され、駆動用ＴＦＴと発光部の陽極とが、コンタクトホールを介して電気的に接続されている。また、一つの画素内には駆動用ＴＦＴのゲート電位を定電位にするためのコンデンサーが、駆動用ＴＦＴのゲート電極に接続されるように配置されている。しかし、本実施形態では、特にこれらに限定されず、駆動方式は、上述の電圧駆動デジタル階調方式であってもよいし、電流駆動アナログ階調方式であってもよい。また、ＴＦＴの数も特に限定されず、上述のように２つのＴＦＴにより発光部を駆動してもよいし、ＴＦＴの特性（移動度、閾値電圧）バラツキを防止する目的で、画素内に補償回路を内蔵した２個以上のＴＦＴを用いて発光部を駆動してもよい。
【０２１１】
［第７実施形態］
＜照明装置＞
本発明に係る照明装置は、上述の本発明に係る発光装置を備えたものである。
図３３は、本発明の第７実施形態である照明装置を示す概略斜視図である。ここに示す照明装置は、照明スタンドである。
ここに示す照明スタンド２１００は、照明部２１０１、スタンド２１０２、電源スイッチ２１０３および電源コード２１０４等を備え、さらに照明部２１０１に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
照明スタンド２１００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低い。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【０２１２】
［第８実施形態］
＜電子機器＞
本発明に係る電子機器は、上述の本発明に係る発光装置を備えたものである。
図３４は、本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略正面図である。ここに示す電子機器は、テレビ受信装置である。
ここに示すテレビ受信装置２２００は、表示部２２０１、スピーカ２２０２、キャビネット２２０３およびスタンド２２０４等を備え、さらに表示部２２０１に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
テレビ受信装置２２００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低く、高精細な表示が可能となっている。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【０２１３】
図３５は、本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略正面図である。ここに示す電子機器は、携帯型ゲーム機である。
ここに示す携帯型ゲーム機２３００は、操作ボタン２３０１、赤外線ポート２３０２、ＬＥＤランプ２３０３、表示部２３０４並びに筐体２３０５等を備え、さらに表示部２３０４に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
携帯型ゲーム機２３００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低く、高精細な表示が可能となっている。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【０２１４】
図３６は、本発明の第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。ここに示す電子機器は、ノートパソコンである。
ここに示すノートパソコン２４００は、表示部２４０１、キーボード２４０２、ポインティングデバイス２４０３、電源スイッチ２４０４、カメラ２４０５、外部接続ポート２４０６および筐体２４０７等を備え、さらに表示部２４０１に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
ノートパソコン２４００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低く、高精細な表示が可能となっている。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【０２１５】
図３７は、本発明に係る第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。ここに示す電子機器は、スマートフォン（タブレット端末）である。
ここに示すスマートフォン２５００は、音声入力部２５０１、音声出力部２５０２、操作スイッチ２５０３、表示部２５０４、タッチパネル２５０５および筐体２５０６等を備え、さらに表示部２５０４に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
スマートフォン２５００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低く、高精細な表示が可能となっている。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【０２１６】
図３８は、本発明に係る第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。ここに示す電子機器は、腕時計型ディスプレイ（ウエアラブルコンピュータ）である。
ここに示す腕時計型ディスプレイ２６００は、電源スイッチ２６０１、表示部２６０２および固定バンド２６０３等を備え、さらに表示部２６０２に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
腕時計型ディスプレイ２６００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低く、高精細な表示が可能となっている。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【０２１７】
図３９は、本発明に係る第８実施形態である電子機器の一例を示す概略斜視図である。ここに示す電子機器は、ヘッドマウントディスプレイ（ウエアラブルコンピュータ）である。
ここに示すヘッドマウントディスプレイ２７００は、電源スイッチ２７０１、表示部２７０２、固定バンド２７０３およびフレーム２７０４等を備え、さらに表示部２７０２に上述の本発明に係る発光装置を備えて構成されている。
ヘッドマウントディスプレイ２７００は、前記発光装置を備えていることで、光の取り出し効率が高くて消費電力が低く、高精細な表示が可能となっている。また、前記発光装置の隔壁において、光透過抑制層の密着性を特に高くすることで、信頼性がさらに高くなる。
【産業上の利用可能性】
【０２１８】
本発明は、有機ＥＬ表示装置、照明装置、電子機器に適用することができる。
【符号の説明】
【０２１９】
１１，３１，５１，７１，８１，１０１，１２１・・・基板、１２，３２，５２，７２，８２，１０２，１２２・・・感光性組成物、１３，３３，５３，７３，８３，１０３，１２３・・・塗膜（波長変換層）、２０，４０，６０，８０，９０，１１０，１３０・・・フォトマスク、２００・・・波長変換基板、２１１・・・基板、２１２・・・ブラックマトリックス、２１３・・・バンク、２１４・・・赤色画素、２１４ａ・・・赤色カラーフィルタ、２１４ｂ・・・赤色波長変換層、２１５・・・緑色画素、２１５ａ・・・緑色カラーフィルタ、２１５ｂ・・・緑色波長変換層、２１６・・・青色画素、２１６ａ・・・青色カラーフィルタ、２１６ｂ・・・光散乱層、３００・・・有機ＥＬ基板、３１１・・・基板、３１２・・・薄膜トランジスタ、３１２ａ・・・ソース電極、３１２ｂ・・・ドレイン電極、３１２ｃ・・・半導体層、３１２ｄ・・・ゲート電極、３１２ｅ・・・ゲート絶縁層、３１３・・・層間絶縁層、３１４・・・コンタクトホール、３１５・・・陽極、３１６・・・有機ＥＬ層、３１７・・・陰極、４００・・・発光装置、２０００・・・表示装置、２００１・・・有機ＥＬ基板、２００２・・・波長変換基板、２００３・・・画素部、２００４・・・ゲート信号側駆動回路、２００５・・・データ信号側駆動回路、２００６・・・信号配線、２００７・・・電流供給線、２００８・・・フレキシブルプリント配線板、２００９・・・外部駆動回路、２０１０・・・有機ＥＬ発光装置、２１００・・・照明スタンド、２１０１・・・照明部、２１０２・・・スタンド、２１０３・・・電源スイッチ、２１０４・・・電源コード、２２００・・・テレビ受信装置、２２０１・・・表示部、２２０２・・・スピーカ、２２０３・・・キャビネット、２２０４・・・スタンド、２３００・・・携帯型ゲーム機、２３０１・・・操作ボタン、２３０２・・・赤外線ポート、２３０３・・・ＬＥＤランプ、２３０４・・・表示部、２３０５・・・筐体、２４００・・・ノートパソコン、２４０１・・・表示部、２４０２・・・キーボード、２４０３・・・デバイス、２４０４・・・電源スイッチ、２４０５・・・カメラ、２４０６・・・外部接続ポート、２４０７・・・筐体、２５００・・・スマートフォン、２５０１・・・音声入力部、２５０２・・・音声出力部、２５０３・・・操作スイッチ、２５０４・・・表示部、２５０５・・・タッチパネル、２５０６・・・筐体、２６００・・・腕時計型ディスプレイ、２６０１・・・電源スイッチ、２６０２・・・表示部、２６０３・・・固定バンド、２７００・・・ヘッドマウントディスプレイ、２７０１・・・電源スイッチ、２７０２・・・表示部、２７０３・・・固定バンド、２７０４・・・フレーム。
【図１】
2016206550.tif 000053
【図２】
2016206550.tif 000054
【図３】
2016206550.tif 000055
【図４】
2016206550.tif 000056
【図５】
2016206550.tif 000057
【図６】
2016206550.tif 000058
【図７】
2016206550.tif 000059
【図８】
2016206550.tif 000060
【図９】
2016206550.tif 000061
【図１０】
2016206550.tif 000062
【図１１】
2016206550.tif 000063
【図１２】
2016206550.tif 000064
【図１３】
2016206550.tif 000065
【図１４】
2016206550.tif 000066
【図１５】
2016206550.tif 000067
【図１６】
2016206550.tif 000068
【図１７】
2016206550.tif 000069
【図１８】
2016206550.tif 000070
【図１９】
2016206550.tif 000071
【図２０】
2016206550.tif 000072
【図２１】
2016206550.tif 000073
【図２２】
2016206550.tif 000074
【図２３】
2016206550.tif 000075
【図２４】
2016206550.tif 000076
【図２５】
2016206550.tif 000077
【図２６】
2016206550.tif 000078
【図２７】
2016206550.tif 000079
【図２８】
2016206550.tif 000080
【図２９】
2016206550.tif 000081
【図３０】
2016206550.tif 000082
【図３１】
2016206550.tif 000083
【図３２】
2016206550.tif 000084
【図３３】
2016206550.tif 000085
【図３４】
2016206550.tif 000086
【図３５】
2016206550.tif 000087
【図３６】
2016206550.tif 000088
【図３７】
2016206550.tif 000089
【図３８】
2016206550.tif 000090
【図３９】
2016206550.tif 000091