(57)【要約】【課題】カールの発生が抑制された波長変換部材、その製造方法、及びその製造のための波長変換部材製造装置、波長変換部材を備えたバックライトユニット並びに液晶表示装置を提供する。【解決手段】第１の基材１０の片面に量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜３０Ｍを形成し、塗膜３０Ｍに第２の基材２０を重ね合わせて第１の基材１０と第２の基材２０とで塗膜３０Ｍを挟持させ、塗膜３０Ｍの一方の面から活性エネルギー線Ｅ１を照射して塗膜を硬化させ、塗膜３０Ｍの他方の面から活性エネルギー線Ｅ２を照射して塗膜３０Ｍを硬化させて波長変換層３０を形成し、波長変換層３０の第１の基材１０側のインデーション硬さＮ１と第２の基材２０側のインデーション硬さＮ２を下式の関係にある波長変換部材１とする。｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ【選択図】図３
2016096276.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の基材と、第２の基材と、前記第１の基材と前記第２の基材との間に、前記第１の基材と一方の面が、前記第２の基材と他方の面がそれぞれ接して配置された、励起光により励起されて蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層とを備えた波長変換部材であって、
前記波長変換層が、前記量子ドットと重合性化合物を含む重合性組成物からなる塗膜に活性エネルギー線を照射して得られた硬化層であり、
前記波長変換層の前記第１の基材側のインデーション硬さＮ１と前記第２の基材側のインデーション硬さＮ２が下式の関係にある波長変換部材。
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
【請求項２】
前記重合性組成物は少なくとも１種のラジカル重合性化合物を含む請求項１に記載の波長変換部材。
【請求項３】
前記量子ドットが、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット、５２０ｎｍ〜５６０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット、及び４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドットからなる群から少なくとも一種選択される請求項１または２に記載の波長変換部材。
【請求項４】
請求項１から３のいずれか１項に記載の波長変換部材と前記励起光を発光する青色発光ダイオードまたは紫外線発光ダイオードからなる光源とを少なくとも含むバックライトユニット。
【請求項５】
請求項４に記載のバックライトユニットと液晶セルとを少なくとも含む液晶表示装置。
【請求項６】
励起光により励起されて蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
第１の基材の片面に前記量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜を形成し、
前記塗膜に第２の基材を重ね合わせて前記第１の基材と前記第２の基材とで前記塗膜を挟持させ、
前記塗膜の一方の面から活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させ、前記塗膜の他方の面から前記活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させて前記波長変換層を形成する波長変換部材の製造方法。
【請求項７】
前記塗膜を硬化させる工程において、前記塗膜に前記活性エネルギー線を照射した後、前記塗膜を加熱する請求項６に記載の製造方法。
【請求項８】
請求項６または７記載の波長変換部材の製造方法を実施するロール・トゥ・ロール方式の波長変換部材製造装置であって、
前記第１の基材の片面に前記量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜を形成する塗布部と、前記塗膜に第２の基材を重ね合わせて前記第１の基材と前記第２の基材とで前記塗膜を挟持させる貼付部と、前記塗膜の一方の面から活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させ、前記塗膜の他方の面から前記活性エネルギー線を照射して該塗膜を硬化させて前記波長変換層を形成する硬化処理部とを備え、
前記硬化処理部において、ワークとして搬送される前記第１の基材と前記第２の基材とによって挟持された前記塗膜の一方の面側に、前記活性エネルギー線を照射する第１の活性エネルギー線照射装置が配置され、前記塗膜の他方の面側に、前記活性エネルギー線を照射する第２の活性エネルギー線照射装置が配置され、
前記塗膜の一方の面及び他方の面に、同時にもしくは逐次に前記活性エネルギー線を照射する波長変換部材製造装置。
【請求項９】
前記第１の活性エネルギー線照射装置及び前記第２の活性エネルギー線照射装置の少なくとも一方の、前記塗膜を介して対向する位置にバックロールを備え、
前記塗膜の一方もしくは他方の面側の基材の非塗膜面を前記バックロールに接触させた状態で該バックロールに対向する位置に配置された前記第１もしくは前記第２の活性エネルギー線照射装置により前記活性エネルギー線を照射する請求項８記載の波長変換部材製造装置。
【請求項１０】
前記バックロールの直径が３００ｍｍ以上である請求項９に記載の波長変換部材製造装置。
【請求項１１】
前記硬化処理部において、前記塗膜を直線状に支持して搬送する領域に、前記第１の活性エネルギー線照射装置及び前記第２の活性エネルギー線照射装置の少なくとも一方が配置されており、
前記直線状に支持された前記塗膜に前記活性エネルギー線を照射する請求項８から１０いずれか１項に記載の波長変換部材製造装置。
【請求項１２】
前記硬化処理部の下流側に、前記塗膜を加熱する加熱部が備えられている請求項８から１１のいずれか１項に記載の波長変換部材製造装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、励起光照射により蛍光を発する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材及びそれを備えたバックライトユニット、液晶表示装置、並びに波長変換部材の製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置（以下、ＬＣＤとも言う）などのフラットパネルディスプレイは、消費電力が小さく、省スペースの画像表示装置として年々その用途が広がっている。液晶表示装置は、少なくともバックライトと液晶セルとから構成され、通常、更に、バックライト側偏光板、視認側偏光板などの部材が含まれる。
【０００３】
近年、ＬＣＤの色再現性の向上を目的として、バックライトユニットの波長変換部材に、量子ドット（Ｑｕａｎｔｕｍ Ｄｏｔ、ＱＤ、量子点とも呼ばれる。）を発光材料として含んだ波長変換層を備えた構成が注目されている（特許文献１参照）。波長変換部材は、光源部から入射された光の波長を変換して白色光として出射させる部材であり、上記量子ドットを発光材料として含んだ波長変換層では、発光特性の異なる２種又は３種の量子ドットが光源部から入射された光により励起されて発光する蛍光を利用して白色光を具現化することができる。
【０００４】
量子ドットによる蛍光は高輝度であり、しかも半値幅が小さいため、量子ドットを用いたＬＣＤは色再現性に優れる。このような量子ドットを用いた３波長光源化技術の進行により、色再現域は、現行のＴＶ規格（ＦＨＤ、ＮＴＳＣ（Ｎａｔｉｏｎａｌ Ｔｅｌｅｖｉｓｉｏｎ Ｓｙｓｔｅｍ  Ｃｏｍｍｉｔｔｅｅ）比７２％から１００％へと拡大している。
【０００５】
量子ドットには、酸素が接触すると光酸化反応により発光強度が低下するという問題がある。この点に関し、特許文献１には、量子ドットを酸素等から保護するために、量子ドットを含む波長変換層を酸素バリア性の高い基材（バリアフィルム）で挟み込む構成とすることが提案されている。
【０００６】
波長変換層を、基材で挟み込む方法として、基材に量子ドットを含有する重合性組成物の塗布液を塗布硬化して作製したシートに、粘着剤などを介してもう一方の基材を貼り付ける（ラミネート）方法が一般的である。
【０００７】
なお、本発明の分野とは全く異なる分野であるが、プラスチックをシート状に成形する方法として、感光性組成物を金属ロール面上に展延し、光を照射して硬化する感光性組成物の成形方法が許文献２〜４等に開示されている。また、プラスチックフィルムのラミネート方法は、特許文献５等に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】米国特許出願公開第２０１２／０１１３６７２号明細書
【特許文献２】特開平２−２１４６２２号公報
【特許文献３】特開平２−２２９０１１号公報
【特許文献４】特開平１−１２３７０９号公報
【特許文献５】特開平１−１７４４３５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
特許文献１に記載の方法を用いた、波長変換層を基材で挟み込む方法は、粘着剤を用いて基材を貼付（ラミネート）するため、粘着剤の分だけ厚みが大きくなってしまうため、比較的厚いシートしか作ることができないという問題がある。また、量子ドットのシートと基材を貼り付ける工程が、塗布工程とは別に必要であるため、コストが高く、工程数が多くなるほどゴミの付着等による欠陥が増えやすいという問題もある。
このような問題点を解決する新規な方法として、基材に量子ドットを含有する波長変換層を塗布し、その後にもう一方の基材を波長変換層の硬膜前に貼り合わせ、その後硬化をして作製する方法が考えられる。
【００１０】
本発明者らの鋭意研究により、上記のような作製方法を用いて波長変換部材を作製した場合に、波長変換部材にカールが生じる場合があるという問題が明らかになった。波長変換部材にカールがあるとその歪みによりに基材と波長変換層との層間で剥離が生じる場合がある。またカールした波長変換部材を液晶表示装置におけるバックライトユニットに組み込んだ際、他の部材との光学接触により、表示ムラが生じる恐れがある。
【００１１】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、カールの発生を抑制した波長変換部材及びその製造方法を提供することを目的とする。
また、本発明は、波長変換部材を備えたバックライト及び液晶表示装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１２】
本発明者らは、上記問題が量子ドットを含有する波長変換層に特有な構成に起因するものであることを見出した。量子ドットを含有する波長変換層を作製する場合には、量子ドット効果を効率的に得るために、光を散乱して光路を長くして効率を上げることを狙い、波長変換層を構成する重合性組成物中に散乱粒子を含有させたり、塗布膜に基材を貼り合わせる際の膜の均一性を損なわないために無機粒子等を添加して増粘効果を狙ったりする。さらに、基材として、各種プラスチックフィルムにバリア層を付与したバリアフィルムを用いたり、散乱層や滑り剤を付与した層を備えた積層フィルムを用いたりすることもある。これらの機能性粒子の添加や機能性層の付与が、紫外線などに代表される活性エネルギー線の照射による重合性組成物の硬膜効率（重合反応性）を著しく低下させることを見出した。従来の波長変換部材の製造装置においては、硬化工程は、塗膜の一方の面側からのみ活性エネルギー線を照射するよう構成されていたため、他方の面側において塗膜の未硬化部分が残留することにより、塗膜の表裏の硬膜率に差が生じて結果としてカールが生じていたことが分かった。
本発明は、上記知見に基づいてなされたものである。
【００１３】
なお、塗膜に未硬化部分が残留することによる問題は、波長変換部材にカールが生じることのみならず、波長変換層と基材との密着が低下する現象や、未硬化部分が存在することによる、各種の耐久性が低下する問題や内部で層の流動が発生して膜厚不均一が生じる、ひどい場合には膜の亀裂が発生するケースが見られるなど、波長変換層の膜安定性を低下させる要因となる。
【００１４】
本発明の波長変換部材は、第１の基材と、第２の基材と、第１の基材と第２の基材との間に、第１の基材と一方の面が、第２の基材と他方の面がそれぞれ接して配置された、励起光により励起されて蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層とを備えた波長変換部材であって、
波長変換層が、量子ドットと重合性化合物を含む重合性組成物からなる塗膜に活性エネルギー線を照射して得られた硬化層であり、
波長変換層の第１の基材側のインデーション硬さＮ１と第２の基材側のインデーション硬さＮ２が下式の関係にある波長変換部材である。
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
【００１５】
波長変換層の第１の基材側のインデーション硬さ、及び第２の基材側のインデーション硬さは、後記[発明を実施するための形態]の項に記載する測定方法により測定するものとする。なお、第１の基材側とは、波長変換層の厚み方向において、厚みの中心より第１の基材との界面に近い所定位置、第２の基材側とは、波長変換層の厚みの中心より第２の基材との界面に近い所定位置とし、インデーション硬さは、第１の基材との界面からの距離と第２の基材との界面からの距離が同一となる位置で測定するものとする。
【００１６】
波長変換層を構成するための重合性組成物は少なくとも１種のラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。
【００１７】
量子ドットは、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット、５２０ｎｍ〜５６０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット、及び４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有しする量子ドットからなる群から少なくとも一種選択されるものであることが好ましい。
量子ドットの発光ピークの半値幅は７０ｎｍ以下が好ましく、６０ｎｍ以下がより好ましく、５０ｎｍ以下が更に好ましい。
【００１８】
本明細書中、発光ピークの「半値幅」とは、ピーク高さ１／２でのピークの幅のことを言う。また、４３０〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を青色光と呼び、５００〜６００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を緑色光と呼び、６００〜６８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する光を赤色光と呼ぶ。
【００１９】
本発明のバックライトユニットは、本発明の波長変換部材と励起光を発光する青色発光ダイオードまたは紫外線発光ダイオードからなる光源とを少なくとも含む。
【００２０】
本発明の液晶表示装置は、本発明のバックライトユニットと液晶セルとを少なくとも含む。
【００２１】
本発明の波長変換部材の製造方法は、励起光により励起されて蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層を有する波長変換部材の製造方法であって、
第１の基材の片面に量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜を形成し、
塗膜に第２の基材を重ね合わせて第１の基材と第２の基材とで塗膜を挟持させ、
塗膜の一方の面から活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させ、塗膜の他方の面から活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させて波長変換層を形成する波長変換部材の製造方法である。
【００２２】
本発明の波長変換部材の製造方法によれば、上記本発明の波長変換部材を容易に製造することができる。
【００２３】
本発明の波長変換部材の製造方法においては、塗膜を硬化させる工程において、塗膜に活性エネルギー線を照射した後、塗膜を加熱してもよい。
【００２４】
本発明の波長変換部材製造装置は、上述の本発明の波長変換部材の製造方法を実施するロール・トゥ・ロール方式の波長変換部材製造装置であって、
第１の基材の片面に量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜を形成する塗布部と、塗膜に第２の基材を重ね合わせて第１の基材と第２の基材とで塗膜を挟持させる貼付部と、塗膜の一方の面から活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させ、塗膜の他方の面から活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させて波長変換層を形成する硬化処理部とを備え、
硬化処理部において、ワークとして搬送される第１の基材と第２の基材とによって挟持された塗膜の一方の面側に、活性エネルギー線を照射する第１の活性エネルギー線照射装置が配置され、塗膜の他方の面側に、活性エネルギー線を照射する第２の活性エネルギー線照射装置が配置され、
塗膜の一方の面及び他方の面に、同時にもしくは逐次に活性エネルギー線を照射する波長変換部材製造装置である。
【００２５】
本発明の波長変換部材製造装置においては、第１の活性エネルギー線照射装置及び第２の活性エネルギー線照射装置の少なくとも一方の、塗膜を介して対向する位置にバックロールを備え、
塗膜の一方もしくは他方の面側の基材の非塗膜面をバックロールに接触させた状態でバックロールに対向する位置に配置された第１もしくは第２の活性エネルギー線照射装置により活性エネルギー線を照射する構成としてもよい。
【００２６】
上記のバックロールの直径は３００ｍｍ以上であることが好ましい。
【００２７】
本発明の波長変換部材製造装置の硬化処理部においては、塗膜を直線状に支持して搬送する領域に、第１の活性エネルギー線照射装置及び第２の活性エネルギー線照射装置の少なくとも一方が配置されており、
直線状に支持された塗膜に活性エネルギー線を照射する構成としてもよい。
【００２８】
本発明の波長変換部材製造装置においては、硬化処理部の下流側に、塗膜を加熱する加熱部が備えられていてもよい。
【発明の効果】
【００２９】
本発明の波長変換部材は、第１の基材と、第２の基材と、第１の基材と第２の基材との間に、第１の基材と一方の面が、第２の基材と他方の面がそれぞれ接して配置された、励起光により励起されて蛍光を発光する量子ドットを含む波長変換層とを備えた波長変換部材であって、波長変換層が、量子ドットと重合性化合物を含む重合性組成物からなる塗膜に活性エネルギー線を照射して得られた硬化層であり、波長変換層の第１の基材側のインデーション硬さＮ１と第２の基材側のインデーション硬さＮ２が、
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
の関係を満たすものであり、波長変換層の第１の基材側と第２の基材側のインデーション硬さの差が小さいので、カールの発生を抑制することができる。カールの発生が抑制されているので、層間の剥離等のカールに起因する問題の発生を抑制することができる。
【図面の簡単な説明】
【００３０】
【図１】本発明の実施形態に係る波長変換部材の断面模式図である。
【図２】インデーション硬さの測定方法を説明するための模式図である。
【図３】他の形態の波長変換部材の断面模式図である。
【図４】図１に示す波長変換部材の製造工程を示す模式図である。
【図５】本発明の実施形態に係る波長変換部材製造装置の概略構成図である。
【図６Ａ】図１の波長変換部材製造装置の硬化処理部の拡大図である。
【図６Ｂ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その１）である。
【図６Ｃ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その２）である。
【図６Ｄ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その３）である。
【図６Ｅ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その４）である。
【図６Ｆ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その５）である。
【図６Ｇ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その６）である。
【図６Ｈ】波長変換部材製造装置の硬化処理部の構成バリエーション（その７）である。
【図７】図３に示す波長変換部材の製造工程を示す模式図である。
【図８】本発明の実施形態に係る波長変換部材製造装置の概略構成図である。
【図９】バックライトユニットの概略構成図である。
【図１０】液晶表示装置の概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００３１】
以下、図面を参照して、本発明の実施形態を説明する。本明細書の図面において、視認しやすくするために各部の縮尺を適宜変更して示してある。なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む範囲を意味する。
【００３２】
[波長変換部材]
図１は、本発明の第１実施形態に係る波長変換部材１の断面模式図である。
本実施形態の波長変換部材１は、第１の基材１０と、第２の基材２０と、第１の基材１０と第２の基材２０との間に、励起光により励起されて蛍光を発光する量子ドット３１を含む波長変換層３０とを備えている。
波長変換層３０は、量子ドット３１及び重合性化合物を含む重合性組成物からなる塗膜に活性エネルギー線を照射して得られた硬化層であり、重合性化合物が重合してなる有機マトリックス３２中に量子ドット３１が分散されてなる層である。そして、波長変換層３０の第１の基材１０側のインデーション硬さＮ１と第２の基材２０側のインデーション硬さＮ２が下式の関係にある。
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
【００３３】
ここで、第１の基材１０及び第２の基材２０は酸素バリア性を有することが好ましい。基材の詳細は後記する。
【００３４】
インデーション硬さＮ１、Ｎ２は、以下の方法で測定する。
まず、波長変換部材１の任意の位置をミクロトーム（例えば、ＬＥＩＣＡ社製ウルトラミクロトームＵＣ６）を用いて断面切削して積層方向に沿った切断面を主面とする、例えば図２に示すような薄片を作製する。光学顕微鏡により、切断面における第１の基材１０と波長変換層３０との界面１０Ｂ、第２の基材２０と波長変換層３０との界面２０Ｂを確認する。薄片の厚みは、５μｍとする。界面１０Ｂから波長変換層内側へ所定距離ｘの位置Ｐ１、界面２０Ｂから波長変換層内側へ所定距離ｘの位置Ｐ２について、インデンテーション硬さを測定する。第１の基材側の位置Ｐ１におけるインデーション硬さをＮ１、第２の基材側の位置Ｐ２におけるインデンテーション硬さをＮ２とする。インデーション硬さは、微小押込み試験機（例えば、ＴＩ９５０ Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ （ＨＹＳＩＴＲＯＮ社製））で、バーコビッチ圧子を使用して測定することができる。
波長変換層３０の一方の面側、他方の面側のインデーション硬さの測定位置Ｐ１、Ｐ２のそれぞれ基材との界面からの距離ｘは等しい。距離ｘは１〜５μｍが好ましく、３μｍ程度が特に好ましい。
【００３５】
インデーション硬さＮ１とＮ２の差は、２０ＭＰａ以下であれば小さいほど、カールの発生を抑制することができ、好ましい。
インデーション硬さＮ１、Ｎ２の範囲は１００〜７００ＭＰａが好ましく、２００〜６００ＭＰａがより好ましく、２５０〜５５０ＭＰａが特に好ましい。インデーション硬さＮ１、Ｎ２が低すぎると膜の凝集力が不足するため、基材との密着力に劣り、Ｎ１、Ｎ２が高すぎると膜が硬く脆くなるため、裁断時にクラックが発生するなどの故障が生じうる。上記範囲にあるとき、膜は十分に硬化されており、硬化膜は適切な凝集力と柔軟性を備えるため好ましい。
【００３６】
図３は、他の形態の波長変換部材１１の断面模式図である。
本実施形態の波長変換部材１１は、図１に示した第１の実施形態に係る波長変換部材１１において、第２の基材２０と波長変換層３０との間に粘着層２１を備えている点で異なるが、他の構成は第１の実施形態の波長変換部材１と同様である。
波長変換部材１１においても波長変換層３０の第１の基材１０側のインデーション硬さＮ１と第２の基材２０側のインデーション硬さＮ２が下式の関係にある。
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
なお、本実施形態の構成の場合、上記インデーション硬さの測定方法において、波長変換層３０における第２の基材側のインデーション硬さＮ２は、粘着層２１と波長変換層３０との界面から所定距離ｘの位置で測定するものとする。
【００３７】
以下に、波長変換部材１、１１を構成する各層について詳述する。
【００３８】
−波長変換層−
波長変換層３０は既に述べたように、重合性組成物に対して活性エネルギー線が照射して形成されてなる硬化層であり、有機マトリックス３２中に励起光を照射されて蛍光を生じる量子ドット３１が分散されてなる。波長変換層の形状は特に限定されるものではなく、任意の形状とすることができる。なお、図１において量子ドット３１は、視認しやすくするために大きく記載してあるが、実際は、例えば、波長変換層３０の厚み３０〜１００μｍに対し、量子ドット３１の直径は２〜１０ｎｍ程度である。
【００３９】
波長変換層３０の厚みは、好ましくは１〜５００μｍの範囲であり、より好ましくは１０〜２５０μｍの範囲であり、さらに好ましくは２０〜１５０μｍの範囲である。厚みが１μｍ以上であると、高い波長変換効果が得られるため、好ましい。また、厚みが５００μｍ以下であると、バックライトユニットに組み込んだ場合に、バックライトユニットを薄くすることができるため、好ましい。
【００４０】
（量子ドット）
量子ドット３１は、入射する励起光により励起され蛍光を発光するものである。公知の量子ドットには、６００ｎｍ〜６８０ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ａ）、５００ｎｍ〜６００ｎｍの範囲の波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｂ）、４００ｎｍ〜５００ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する量子ドット（Ｃ）があり、量子ドット（Ａ）は、励起光により励起され赤色光を発光し、量子ドット（Ｂ）は緑色光を、量子ドット（Ｃ）は青色光を発光する。
特に、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）は、発光ピークの半値幅が７０ｎｍ以下であることが好ましく、６０ｎｍ以下であることがより好ましく、５０ｎｍ以下であることが更に好ましい。
【００４１】
例えば、量子ドット（Ａ）と量子ドット（Ｂ）を含む波長変換部材へ励起光として青色光を入射させると、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光と、波長変換部材を透過した青色光により、白色光を具現化することができる。または、量子ドット（Ａ）、（Ｂ）、及び（Ｃ）を含む波長変換部材に励起光として紫外線を入射させることにより、量子ドット（Ａ）により発光される赤色光、量子ドット（Ｂ）により発光される緑色光、及び量子ドット（Ｃ）により発光される青色光により、白色光を具現化することができる。
【００４２】
量子ドットについては、例えば特開２０１２−１６９２７１号公報段落００６０〜００６６を参照することができるが、ここに記載のものに限定されるものではない。量子ドットとしては、市販品を何ら制限なく用いることができる。
【００４３】
量子ドットは、上記重合性組成物に粒子の状態で添加してもよく、溶媒に分散した分散液の状態で添加してもよい。分散液の状態で添加することが、量子ドットの粒子の凝集を抑制する観点から、好ましい。ここで使用される溶媒は、特に限定されるものではない。ただし、重合性組成物は実質揮発性の有機溶媒を含有しないことが好ましいため、量子ドットを溶媒に分散した分散液の状態で重合性組成物に添加した場合は、重合性組成物を第１の基材の上に塗布して塗膜を形成する前に、重合性組成物中の溶媒を乾燥させる工程を含むことが好ましい。溶媒を乾燥させる工程を減らす観点からは、量子ドットを、重合性組成物に粒子の状態で添加することも好ましい。
なお、揮発性の有機溶媒とは、沸点が１６０℃以下であり、重合性化合物と外部刺激により硬化しない２０℃で液状の化合物を言う。揮発性の有機溶媒の沸点は、１６０℃以下であり、１１５℃以下が更に好ましく、最も好ましくは３０℃以上１００℃以下である。
【００４４】
重合性組成物が実質揮発性の有機溶媒を含有しない場合、重合性組成物中、揮発性の有機溶媒の割合が１００００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１０００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。
量子ドットは、重合性組成物の全量１００質量部に対して、例えば０．０１〜１０質量部程度添加することができる。
【００４５】
（重合性化合物）
重合性化合物としては、活性線硬化型重合性化合物を含んでいる。活性線硬化型重合性化合物とは、活性エネルギー線を照射することで架橋反応、重合反応を経て硬化して樹脂となる化合物をいう。活性エネルギー線とは、紫外線、電子線、放射線（α線、β線、γ線等）などの電磁波をいう。活性線硬化型重合性化合物として、例えば、光（紫外線）、電子線、放射線硬化性の多官能モノマーや多官能オリゴマーの官能基を有する化合物が使用され、少なくとも１種のラジカル重合性化合物を含むことが好ましい。重合性化合物に含有される官能基としては、光重合性官能基が好ましい。光重合性官能基としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の不飽和の重合性官能基等が挙げられる。
【００４６】
（チキソトロピー剤）
重合性組成物には、チキソトロピー剤を添加することが好ましい。チキソトロピー剤は、無機化合物または有機化合物である。
無機物のチキソトロピー剤の場合は、アスペクト比１．２〜３００の無機粒子であることが好ましく、２〜２００の無機粒子であることがより好ましく、５〜２００の無機粒子であることが特に好ましく、５〜１００の無機粒子であることがより特に好ましく、５〜５０の無機粒子であることがさらにより特に好ましい。この範囲にすることで、併用する量子ドットの存在状態を制御でき、無機物のチキソ剤に起因する不要な内部散乱を低減でき、コントラスト向上に有効である。
無機物のチキソトロピー剤は、長軸長さが５ｎｍ以上１μｍ以下であることが好ましく、５ｎｍ以上３００ｎｍ以下であることがより好ましい。
【００４７】
無機物のチキソトロピー剤で上記アスペクト比を満たすものは特に制限無く用いることができるが、たとえば針状化合物、鎖状化合物、扁平状化合物、層状化合物を好ましく用いることができる。なかでも、層状化合物であることが好ましい。
【００４８】
層状化合物としては特に制限はないが、タルク、雲母、長石、カオリナイト（カオリンクレー）、パイロフィライト（ろう石クレー）、セリサイト（絹雲母）、ベントナイト、スメクタイト・バーミキュライト類（モンモリロナイト、バイデライト、ノントロナイト、サポナイトなど）、有機ベントナイト、有機スメクタイトなどが挙げられる。
【００４９】
また、無機物のチキソトロピー剤として、そのアスペクト比に関係なく、シリカ、アルミナ、窒化珪素、二酸化チタン、炭酸カルシウム、酸化亜鉛などを用いることができる。これらの化合物は必要に応じて、表面に親水性又は疎水性を調節する処理を行うこともできる。
【００５０】
有機物のチキソトロピー剤としては、酸化ポリオレフィン、変性ウレア等が挙げられる。
【００５１】
チキソトロピー剤の含有量は、重合性組成物中、硬化性化合物１００質量部に対して０．１〜２０質量部であることが好ましく、０．２〜１０質量部であることがより好ましく、０．２〜８質量部であることが特に好ましい。特に無機物のチキソトロピー剤の場合、硬化性化合物１００質量部に対して２０質量以下であると、脆性が良化方向にある。
【００５２】
（重合開始剤）
本発明に用いられる重合性組成物には、重合開始剤として、公知の光重合開始剤を含むことができる。重合開始剤については、例えば、特開２０１３−０４３３８２号公報段落００３７を参照できる。重合開始剤は、重合性組成物に含まれる重合性化合物の全量の０．１モル％以上であることが好ましく、０．５〜２モル％であることがより好ましい。また、揮発性有機溶媒を除いた全重合性組成物中に対して、０．１質量％〜１０質量％含むことが好ましく、更に好ましくは０．２質量％〜８質量％である。
【００５３】
（シランカップリング剤）
シランカップリング剤を含む重合性組成物から形成された波長変換層は、シランカップリング剤により隣接する層との密着性が強固なものとなるため、優れた耐光性を示すことができる。これは主に、波長変換層に含まれるシランカップリング剤が、加水分解反応や縮合反応により、隣接する層の表面やこの波長変換層の構成成分と共有結合を形成することによるものである。また、シランカップリング剤がラジカル重合性基等の反応性官能基を有する場合、波長変換層を構成するモノマー成分と架橋構造を形成することも、波長変換層と隣接する層との密着性向上に寄与し得る。
シランカップリング剤としては、公知のシランカップリング剤を、何ら制限なく使用することができる。密着性の観点から好ましいシランカップリング剤としては、特開２０１３−４３３８２号公報に記載の下記一般式（１）で表されるシランカップリング剤を挙げることができる。
【００５４】
【化１】
2016096276.tif 000003
一般式（１）
（一般式（１）中、Ｒ1〜Ｒ6は、それぞれ独立に、置換もしくは無置換のアルキル基またはアリール基である。但し、Ｒ1〜Ｒ6のうち少なくとも１つは、ラジカル重合性の炭素−炭素二重結合を含む置換基である。）
【００５５】
−第１の基材、第２の基材−
第１の基材１０及び第２の基材２０は、波長変換層用の塗膜を支持できるものであれば、単層であっても複数層からなる積層体であってもよいが、波長変換層を酸素から保護するためにバリア層を含む構成であることが特に好ましい。
本発明の波長変換部材の製造方法では、上記第１の基材と上記第２の基材は、少なくとも一方が可とう性のフィルムであることが好ましい。
バリア機能を有する可とう性のフィルムとしては、可とう性支持体の少なくとも片面にバリア層を備えてなるバリアフィルムを使用することが好ましい。
【００５６】
第１の基材１０及び第２の基材２０の厚さは１０〜１００μｍであることが好ましい。第１の基材１０及び第２の基材２０の厚さは、適用される製品の厚さ低減の要求とシワ防止との観点から、１５μｍ〜６０μｍであることが、さらに好ましい。また、第１の基材１０及び第２の基材２０は、例えば、３００〜１５００ｍｍの幅を有する。第１の基材１０及び第２の基材２０のそれぞれの厚さ、及び幅は適用される製品によって適宜選択される。
なお、上記第１の基材と上記第２の基材の幅（基材幅）よりも狭い幅で、重合性組成物を塗工することが好ましい。重合性組成物の塗工幅は、上記第１の基材と上記第２の基材の幅（基材幅）よりも１０〜２００ｍｍ狭くすることが好ましい。
【００５７】
バリアフィルムについては、特に限定されるものではないが、一般的にセルロースアシレート、環状オレフィン、アクリル系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂、及びポリカーボネート樹脂等の可とう性の支持体の少なくとも片面に酸素や水分に対するバリア性を有する無機層を１層以上含むバリア層を備えた構成が一般的である。
バリアフィルムは、可とう性支持体の少なくとも上記の無機層１層と少なくとも１層の有機層を含む積層構造のバリア層を含むものであってもよい。このように複数の層を積層することは、より一層バリア性を高めることができるため、耐候性向上の観点からは好ましい。他方、積層する層の数が増えるほど、波長変換部材の光透過率は低下する傾向があるため、良好な光透過率を維持し得る範囲で、積層数を増やすことが望ましい。具体的には、バリアフィルムは、可視光領域における全光線透過率が好ましくは８０％以上であり、かつ、酸素透過度が５．００ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であることが好ましい。全光線透過率とは、可視光領域にわたる光透過率の平均値を示す。
バリアフィルムの酸素透過度は、より好ましくは１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下、特に好ましくは０．１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下であり、より特に好ましいのは０．０１ｃｍ3／（ｍ2・ｄａｙ・ａｔｍ）以下である
【００５８】
バリア層を構成する無機層及び有機層について説明する。
ここで、「無機層」とは、無機材料を主成分とする層であり、好ましくは無機材料のみから形成される層である。これに対し、「有機層」とは、有機材料を主成分とする層であって、好ましくは有機材料が５０質量％以上、更には８０質量％以上、特に９０質量％以上を占める層を言うものとする。
【００５９】
（無機層）
無機層を構成する無機材料としては、特に限定されるものではなく、例えば、金属、または無機酸化物、窒化物、酸化窒化物等の各種無機化合物を用いることができる。無機材料を構成する元素としては、ケイ素、アルミニウム、マグネシウム、チタン、スズ、インジウム及びセリウムが好ましく、これらを一種または二種以上含んでいてもよい。無機化合物の具体例としては、酸化ケイ素、酸化窒化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化チタン、酸化スズ、酸化インジウム合金、窒化ケイ素、窒化アルミニウム、窒化チタンを挙げることができる。また、無機層として、金属膜、例えば、アルミニウム膜、銀膜、錫膜、クロム膜、ニッケル膜、チタン膜を設けてもよい。また無機層に隣接して有機層が併設されていても良い。有機層はアクリレートを主成分とするものが主に用いられるが限定されるものではなく、無機層を保護するものであれば他の素材でも良い。
【００６０】
上記の材料の中でも、上記バリア性を有する無機層が窒化珪素、酸化窒化珪素、酸化珪素、酸化アルミニウムから選ばれる少なくとも一種の化合物を含む無機層であることが特に好ましい。これらの材料からなる無機層は、有機層との密着性が良好であることから、無機層にピンホールがある場合でも、有機層がピンホールを効果的に埋めることができ、破断を抑制できるとともに、更に無機層を積層したケースにおいても極めて良好な無機層膜形成ができ、バリア性をより一層高くすることができるからである。
【００６１】
無機層の形成方法としては、特に限定されず、例えば成膜材料を蒸発ないし飛散させ被蒸着面に堆積させることができる各種成膜方法を用いることができる。
【００６２】
無機層の形成方法の例としては、無機酸化物、無機窒化物、無機酸化窒化物、金属等の無機材料を、加熱して蒸着させる真空蒸着法；無機材料を原料として用い、酸素ガスを導入することにより酸化させて、蒸着させる酸化反応蒸着法；無機材料をターゲット原料として用い、アルゴンガス、酸素ガスを導入して、スパッタリングすることにより、蒸着させるスパッタリング法；無機材料にプラズマガンで発生させたプラズマビームにより加熱させて、蒸着させるイオンプレーティング法等の物理気相成長法（Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）、酸化ケイ素又は窒化ケイ素の蒸着膜を成膜させる場合は、有機ケイ素化合物を原料とするプラズマ化学気相成長法（Ｃｈｅｍｉｃａｌ  Ｖａｐｏｒ  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ法）等が挙げられる。
【００６３】
また、酸化ケイ素膜は、有機ケイ素化合物を原料として、低温プラズマ化学気相成長法を用いて形成することもできる。この有機ケイ素化合物としては、具体的には、１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン、ヘキサメチルジシロキサン、ビニルトリメチルシラン、ヘキサメチルジシラン、メチルシラン、ジメチルシラン、トリメチルシラン、ジエチルシラン、プロピルシラン、フェニルシラン、ビニルトリエトキシシラン、テトラメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、オクタメチルシクロテトラシロキサン等が挙げられる。また、上記有機ケイ素化合物の中でも、テトラメトキシシラン（ＴＭＯＳ）、ヘキサメチルジシロキサン（ＨＭＤＳＯ）を用いることが好ましい。これらは、取り扱い性や蒸着膜の特性に優れるからである。
【００６４】
無機層の厚さは、１０ｎｍ〜５００ｎｍ、中でも１０ｎｍ〜３００ｎｍ、特に１０ｎｍ〜１５０ｎｍの範囲内であることが好ましい。無機層の膜厚が、上述した範囲内であることにより、良好なバリア性を実現しつつ、無機層における反射を抑制することができ、光透過率がより高い光変換部材を提供することができるからである。
【００６５】
（有機層）
有機層としては、特開２００７−２９０３６９号公報段落００２０〜００４２、特開２００５−０９６１０８号公報段落００７４〜０１０５を参照できる。なお有機層は、カルドポリマーを含むことが好ましい。これにより、有機層と隣接する層との密着性、特に、無機層とも密着性が良好になり、より一層優れたガスバリア性を実現することができるからである。カルドポリマーの詳細については、上述の特開２００５−０９６１０８号公報段落００８５〜００９５を参照できる。有機層の膜厚は、０．０５μｍ〜１０μｍの範囲内であることが好ましく、中でも０．５〜１０μｍの範囲内であることが好ましい。有機層がウェットコーティング法により形成される場合には、有機層の膜厚は、０．５〜１０μｍの範囲内、中でも１μｍ〜５μｍの範囲内であることが好ましい。また、ドライコーティング法により形成される場合には、０．０５μｍ〜５μｍの範囲内、中でも０．０５μｍ〜１μｍの範囲内であることが好ましい。ウェットコーティング法またはドライコーティング法により形成される有機層の膜厚が上述した範囲内であることにより、無機層との密着性をより良好なものとすることができるからである。
【００６６】
無機層、有機層のその他詳細については、上述の特開２００７−２９０３６９号公報、特開２００５−０９６１０８号公報、更にＵＳ２０１２／０１１３６７２Ａ１の記載を参照できる。
【００６７】
またバリアフィルムには必要により、基材を挟んで上述の無機層、有機層からなるバリア層とは反対の面に散乱層、滑り性付与層、ニュートンリング防止層、また各種の光反射層、光吸収層、光選択反射層等を設けてよい。散乱層については、有機、無機の粒子を各種のバインダーに担持させた層であることが望ましい。また滑り性付与層は、有機、無機の粒子を各種のバインダーに担持させたものか、フッ素やシリコンを含有したバインダー層であってよい。また光反射層、光吸収層、光選択反射層は、無機、有機粒子による散乱、反射の機能を付与するもの、微細ナノ構造による吸収、反射機能を持たせるもの、液晶の配列構造による反射機能を持たせるもので構成されてよい。
尚、上記の散乱層、滑り性付与層、ニュートンリング防止層、また各種の光反射層、光吸収層、光選択反射層等は、必要により、バリア層と同じ面に形成されることがあっても良い。
【００６８】
「波長変換部材の製造方法及び製造装置」
以下、本発明の波長変換部材の製造方法及び製造装置の実施形態を説明する。
図４は、図１に示す断面を有する波長変換部材１の製造工程を示す概略図である。図４に示すように、本実施形態の波長変換部材の製造方法によれば、第１の基材１０の片面に量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜３０Ｍを形成して第１の積層フィルム１３を形成し（塗布工程）、塗膜３０Ｍに第２の基材２０を重ね合わせて第１の基材１０と第２の基材２０とで塗膜３０Ｍを挟持させて第２の積層フィルム１４を形成し（貼付工程）、塗膜３０Ｍの一方の面（一方の基材側）から活性エネルギー線Ｅ１を照射して塗膜３０Ｍを硬化させ、塗膜の他方の面（他方の基材側）から活性エネルギー線Ｅ２を照射して塗膜３０Ｍを硬化させて波長変換層３０を形成し（硬化工程）、波長変換部材１を製造する。
活性エネルギー線Ｅ１、Ｅ２の照射は同時であってもよいし、逐次であってもよい。
【００６９】
本発明の製造方法においては、硬化工程で塗膜３０Ｍに対して、両面から活性エネルギー線を照射するので、塗膜中への散乱粒子が添加されていたり、基材に光散乱層等の機能性層が含まれていたりして、活性エネルギー線の照射による硬膜効率を低減する要因を含んでいても、重合性組成物の塗膜を十分に硬化させることができ、第１の基材１０側のインデーション硬さＮ１と第２の基材２０側のインデーション硬さＮ２を下式の関係を有する波長変換層３０を得ることができる。
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
【００７０】
図５は、図１に示す断面を有する波長変換部材１を製造するための波長変換部材製造装置１００の一例の概略構成図である。
波長変換部材製造装置１００は、第１の基材１０をロール状態にて支持し、繰り出す送出機６０と、フィルム状のワークを搬送するための複数の搬送ロール６１と、各処理工程を経て形成された波長変換部材１をロール状に巻き取る巻取機６５を備えたロール・トゥ・ロール方式の製造装置であり、送出機６０と巻取機６５との間に、第１の基材１０の一面に重合性組成物塗布液を塗布して塗膜３０Ｍを形成する塗布部７０と、第１の基材１０上に塗膜３０Ｍが形成された積層フィルム１３の塗膜３０Ｍ上に、塗膜３０を第１の基材１０と共に挟持する第２の基材２０を貼付する貼付部（ラミネート）８０と、第１の基材１０と第２の基材２０との間に塗膜３０Ｍが挟持されてなる積層フィルム１４に、活性エネルギー線ＥとしてＵＶ光を照射して塗膜３０Ｍを硬化する硬化処理部９０とを備えている。さらに、本実施形態においては送り出し機６０と塗布部７０との間に第１の基材１０の塗布面から塵埃を除去する除塵機１０２を備えている。なお、硬化処理部９０の下流側、すなわち、硬化処理部９０と巻取機６５との間に、硬化処理部９０で硬化させた膜を加熱する加熱部を備えていてもよい。
【００７１】
図６Ａは、図１に示す波長変換部材製造装置１００の硬化処理部９０を拡大して示した図である。硬化処理部９０、すなわち、塗膜を硬化させる工程を実施する処理領域において、ワークとして搬送される、第１の基材１０と第２の基材２０とによって挟持された塗膜３０Ｍからなる積層フィルム１４の塗膜３０Ｍの一方の面側（本例においては第２の基材２０側）に、紫外線を照射する第１の活性エネルギー線照射装置９０Ａ（以下において第１の光照射装置９０Ａとする。）が配置され、塗膜３０Ｍの他方の面側（本例においては第１の基材１０側）に、紫外線を照射する第２の活性エネルギー線照射装置９０Ｂ（以下において第２の光照射装置９０Ｂとする。）が配置されている。ここで紫外線とは、波長２８０〜４００ｎｍの光をいうものとする。紫外線を発生する光源として、例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることができる。
【００７２】
図５に示す例において、第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂに対向する位置にはバックアップロール９１Ａ，９１Ｂが設けられており、積層フィルム１４は、バックアップロール９１Ａと第１の光照射装置９０Ａとの間、バックアップロール９１Ｂと第２の光照射装置９０Ｂとの間を連続搬送され、第１の光照射装置９０Ａにより積層フィルム１４の一方の面、第２の光照射装置９０Ｂにより積層フィルム１４の他方の面からそれぞれ塗膜３０Ｍに向けて紫外線が照射される。
【００７３】
図５を参照して、波長変換部材製造装置１００を用いた、本実施形態の波長変換部材の製造方法の一実施形態を工程毎に順に説明する。
【００７４】
(塗布工程）
製造装置１００の塗布部７０における塗布工程の具体的態様を説明する。
まず、第１の基材１０は送出し機６６から塗布部７０へ１〜５０ｍ／分の搬送速度で連続搬送される。但し、この搬送速度に限定されない。送出される際、例えば、第１の基材１０には、２０〜１５０Ｎ／ｍの張力、好ましくは３０〜１００Ｎ／ｍの張力が加えられる。その後必要により基材の表面、裏面に各種の塗布前処理が実施されてもよい。塗布前処理とは基材のシワや伸びを矯正するための熱処理工程、プレス工程、また表面の濡れ性を改善するための、各種の放電処理や火炎処理工程、また同様に濡れ性を改善するためのプライマリー塗工などを指す。またその他、基材に保護シートが接着されている場合には該保護シートを剥離、除電する工程も前処理に含まれる。本例においては、除塵機１０２により、第１の基材１０の塗布面から塵埃を除去した上で、第１の基材１０を塗布部７０へ搬送する。
【００７５】
塗布部７０では、連続搬送される第１の基材１０の表面に重合性組成物塗布液（以下、「塗布液」とも記載する。）が塗布され、塗膜３０Ｍ（図３参照）が形成される。
塗布液は、図５では図示されない送液装置を用いて塗布部７０のダイコーター７４に接続された配管を通して供給する。送液装置では重合性組成物の濾過を行って、粗大粒子を取り除くことが好ましい。濾過精度としては特に制限はないが、濾過精度１〜２００μｍのフィルタを用いることができ、濾過精度５〜１５０μｍのフィルタを用いることが好ましい。フィルタとしては、例えば濾過精度１００μｍのＰＡＬＬ製  プロファイルＩＩを用いることができる。
【００７６】
塗布部７０では、例えば、ダイコーター７４と、ダイコーター７４に対向配置されたバックアップロール７６とが設置されている。第１の基材１０の塗膜３０Ｍが形成される表面と反対の表面をバックアップロール７６に巻きかけて、連続搬送される第１の基材１０の表面にダイコーター７４の吐出口から塗布液が塗布され、塗膜３０Ｍが形成される。ダイコーター７４には減圧チャンバー７８が設置されており、ダイコーター７４とバックアップロール７６に巻きかけられている基材１０との間で架橋している塗布薄膜（ビードと称する）が基材１０の搬送により引かれて不安定になることを抑制するために負圧にすることができる。負圧は塗布速度、塗布厚み及び塗布液の粘度により適宜調整される。
【００７７】
本実施の形態では、塗布装置としてエクストルージョンコーティング法を適用したダイコーター７４を示したが、これに限定されない。例えば、カーテンコーティング法、ロッドコーティング法またはロールコーティング法等、種々の方法を適用した塗布装置を用いることができる。
【００７８】
（貼付工程）
製造装置１００の貼付部８０における貼付工程の具体的態様を説明する。
塗布部７０を通過し、第１の基材１０上に塗膜３０Ｍが形成された積層フィルム１３は、貼付部８０に連続搬送される。貼付部８０では、塗膜３０Ｍの上に、連続搬送される第２の基材２０がラミネートされ、第１の基材１０と第２の基材２０とで塗膜３０Ｍが挟持される。
【００７９】
貼付部８０には、ラミネートロール８２と、ラミネートロール８２を囲う図示しない温調チャンバーとが設置されている。
【００８０】
ラミネートロール８２に対向する位置には、バックアップロール６２が配置されている。塗膜３０Ｍと第１の基材１０との積層フィルム１３は、塗膜３０Ｍの形成面とは反対の面（すなわち第１の基材１０側）がバックアップロール６２に巻きかけられ、ラミネート位置へと連続搬送される。ラミネート位置は第２の基材２０と塗膜３０Ｍとの接触が開始する位置を意味する。第１の基材１０はラミネート位置に到達する前にバックアップロール６２に巻きかけられることが好ましい。仮に第１の基材１０にシワが発生した場合でも、バックアップロール６２によりシワがラミネート位置に達するまでに矯正され、除去できるからである。
【００８１】
第２の基材２０をロール状に巻き付けて、貼付部８０へ送り出す第２の基材用の送出機８１から送出された第２の基材２０は、搬送ロール８３を経てラミネートロール８２に巻きかけられ、ラミネートロール８２とバックアップロール６２との間に連続搬送される。第２の基材２０は、ラミネート位置で、第１の基材１０に形成された塗膜３０Ｍの上にラミネートされる。これにより、第１の基材１０と第２の基材２０とにより塗膜３０Ｍが挟持される。
【００８２】
ラミネートロール８２とバックアップロール６２の回転精度は、ラジアル振れで０．０５ｍｍ以下、好ましくは０．０１ｍｍ以下である。ラジアル振れが小さいほど、塗膜３０Ｍの厚み分布を小さくすることができる。
【００８３】
バックアップロール６２は、円柱状の形状の本体と、本体の両端部に配置された回転軸とを備えている。バックアップロール６２の直径には制限はないが、通常は１００〜１０００ｍｍの直径を有している。なお、基材に対する後に述べる硬化時における曲げ応力の抑制、カール等の変形抑制のためにはバックアップロールの直径は３００ｍｍ以上が好ましい。より好ましくは４５０ｍｍ以上であるが、より直径が大きい場合には、設置のスペース、費用及びロール精度との制約により上限が決まる。それゆえ波長変換部材のカール変形と、設備コストと、回転精度とを考慮すると直径３００〜８５０ｍｍであることが好ましい。
またバックアップロール６２の本体に温度調節器を取り付けることにより、バックアップロール６２の温度を調整することができる。
【００８４】
第１の基材１０と第２の基材２０とで塗膜３０Ｍを挟持した後の熱変形を抑制するため、バックアップロール６２の温度と第１の基材１０の温度との差、及びバックアップロール６２の温度と第２の基材５０の温度との差は３０℃以下であることが好ましく、より好ましくは１５℃以下、最も好ましくは同じである。
【００８５】
バックアップロール６２の温度との差を小さくするため、第１の基材１０、及び第２の基材２０を温調チャンバー内で加熱または冷却することが好ましい。例えば、温調チャンバーは、熱風発生装置や冷風発生装置により温調された風が供給され、第１の基材１０、及び第２の基材２０を温度調整するように構成することができる。
【００８６】
第１の基材１０が、温度調整されたバックアップロール６２に巻きかけられることにより、バックアップロール６２によって第１の基材１０を加熱してもよい。
一方、第２の基材２０については、ラミネートロール８２をヒートロールとすることにより、第２の基材２０をラミネートロール８２で温度調整することができる。その他搬送ロール８３を用いて温度調整することも可能である。
ただし、温調チャンバー、及びヒートロールは必須ではなく、必要に応じで設けることができる。
【００８７】
（硬化工程）
製造装置１００の硬化処理部９０における硬化工程の具体的態様を説明する。
ここでは紫外線照射による硬化方法を示すが、各種の活性線を用いてもよい。
上記貼付工程によりラミネートされた、第１の基材１０と第２の基材２０とにより塗膜３０Ｍが挟持されてなる積層フィルム１４（図６Ａ参照）が、硬化処理部９０に連続搬送される。
【００８８】
まず、第１のバックアップロール９１Ａと第１の光照射装置９０Ａとの間に積層フィルム１４が搬送され、積層フィルム１４は、第１の基板１０側が第１のバックアップロール９１Ａに巻きかけられて搬送されつつ、第２の基板２０側から塗膜３０Ｍに紫外線が照射される。その後、積層フィルム１４は、第２のバックアップロール９１Ｂと第２の光照射装置９０Ｂとの間に搬送され、積層フィルム１４は、第２の基板２０側が第２のバックアップロール９１Ｂに巻きかけられて搬送されつつ、第１の基板１０側から塗膜３０Ｍに紫外線が照射される。すなわち、第２の光照射装置は、積層フィルム１４に対し、第１の光照射装置により光照射した面とは反対側の面に対して光照射を行うものである。
第１及び第２の光照射装置による紫外線の照射により、塗膜３０Ｍ中の重合性化合物の重合反応が進み硬膜化して波長変換層３０となる。
【００８９】
バックアップロール９１Ａ，９１Ｂに積層フィルム１４を巻きかけるとは、第１の基材１０及び第２の基材２０の何れかが、あるラップ角でバックアップロール９１Ａ、９２Ｂの表面に接触している状態をいう。したがって、連続搬送される間、第１の基材１０及び第２の基材２０はバックアップロール９１Ａ、９１Ｂの回転と同期して移動する。
【００９０】
各光照射装置により照射される光の照射量は塗膜の重合反応を進行させ得る範囲に設定すればよく、例えば、一例として１００〜１００００ｍＪ／ｃｍ２の照射量の紫外線を塗膜３０Ｍに向けて照射することができ、１００〜２０００ｍＪ／ｃｍ２とすることが好ましく、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２とすることがより好ましい。塗膜への光照射強度（照度）は、一例として３０〜２０００ｍＷ／ｃｍ２とすることができ、５０〜１０００ｍＷ／ｃｍ２とすることが好ましく、１００〜５００ｍＷ／ｃｍ２とすることがより好ましい。
【００９１】
第１及び第２のバックアップロール９１Ａ，９１Ｂの温度は、光照射時の発熱と、塗膜３０Ｍの硬化効率と、第１の基材１０と第２の基材２０のバックアップロール９１Ａ，９１Ｂ上でのシワ変形の発生とを考慮して、決定することができる。バックアップロール９１Ａ，９１Ｂは、例えば、１０〜９５℃の温度範囲に設定することが好ましく、１５〜８５℃であることがより好ましい。ここでロールの温度とは、ロールの表面温度をいうものとする。
【００９２】
上記硬化工程において、塗膜３０Ｍを硬化させることにより、第１の基材１０と硬化層からなる波長変換層３０と第２の基材２０との積層体からなる波長変換部材１が製造される。波長変換部材１は、必要により後工程において熱処理などが実施されて巻取機６５に連続搬送され、巻取機６５によりロール状に巻き取られる。
【００９３】
以上の工程により、カールの発生を抑制した波長変換部材１を得ることができる。
【００９４】
上記波長変換部材の製造装置１００の硬化処理部９０における第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂの配置構成及び、紫外線照射時の塗膜の形態は図５に示したものに限らず、種々の態様を採用することができる。上記実施形態においては、第２の基材側からの紫外線照射を先に行い、その後、第１の基材側からの紫外線照射を照射するものとしたが、第１の基材側から紫外線照射を先に行い、第２の基材側からの紫外線照射を後に行ってもよいし、第１の基材側からの紫外線照射と第２の基材側からの紫外線照射とを同時に行ってもよい。
【００９５】
図６Ｂ〜図６Ｈは、製造装置１００の硬化処理部９０の構成のバリエーションを示す模式図である。
【００９６】
図６Ｂに示すように、硬化処理部９０には、第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂをそれぞれ複数備えていてもよい。
また、図６Ｃに示すように、第１の光照射装置９０Ａ、第２の光照射装置９０Ｂは、それぞれ第１のバックロール９１Ａ、第２のバックロール９１Ｂに対向する位置ではなく、それらの前後の積層フィルム１４が直線状に支持された状態でその一方の面または他方の面に活性エネルギー線を照射するように配置されていてもよい。
【００９７】
図６Ｄに示すように、第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂをそれぞれ複数備え、１つは積層フィルムが直線状に支持搬送される領域で活性エネルギー線を照射するように、１つはバックロールに巻きかけられて回転搬送される領域で活性エネルギー線を照射するように配置されていてもよい。
【００９８】
図６Ｅに示すように、硬化処理部９０においてバックロール９１を一つだけ備え、第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂのうちの一方（図示の例では第１の光照射装置９０Ａ）が積層フィルム１４を挟んでバックロール９１に対向する位置に配置され、他方（図示の例では第２の光照射装置９０Ｂ）が、積層フィルム１４が直線状に支持搬送される領域に配置されていてもよい。
【００９９】
図６Ｆに示すように、バックロール９１を複数備え、第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂをそれぞれ複数備え、複数の第１の光照射装置９０Ａが複数のバックロール９１に１：１で対応させて、積層フィルム１４を挟んで対向する位置に配置され、複数の第２の光照射装置９０Ｂが、積層フィルム１４が直線状に支持搬送される領域に配置されていてもよい。
【０１００】
図６Ｇに示すように、硬化処理部９０においてバックロール９１を一つだけ備え、第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂのいずれも、積層フィルム１４が直線状に支持搬送される領域に配置されていてもよい。
【０１０１】
さらには、図６Ｈに示すように、硬化処理部９０においてバックロール９１を一つだけ備え、複数の第１及び第２の光照射装置９０Ａ，９０Ｂを備え、いずれか１つの光照射装置（図示の例では、第１の光照射装置９０Ａの一つ）が積層フィルム１４を挟んでバックロール９１に対向する位置に配置され、残りの光照射装置が、積層フィルム１４が直線状に支持搬送される領域にそれぞれ配置されていてもよい。
【０１０２】
以上の通り、硬化処理部９０においては、積層フィルム１４に対して、一方の面及び他方の面（表裏面）から活性エネルギー線を照射できる構成であればよい。
【０１０３】
次に、図３に示した他の構成の波長変換部材１１の製造方法を説明する。図７は、図３に示す断面を有する波長変換部材１１の製造工程を示す概略図である。図７に示す、他の波長変換部材の製造方法によれば、第１の基材１０の片面に量子ドットを含む重合性組成物を塗布して塗膜３０Ｍを形成し（塗布工程）、塗膜に第２の基材を張り合わせる前に、塗膜３０Ｍの一方の面（一方の基材側）から活性エネルギー線を照射して塗膜３０Ｍを硬化させ、塗膜の他方の面（他方の基材側）から活性エネルギー線を照射して塗膜を硬化させて波長変換層３０を形成し（硬化工程）、波長変換層３０上に、粘着層２１を備えた第２の基材２０を、その粘着層２１が波長変換層３０と接するように重ね合わせて第１の基材１０と第２の基材２０とで波長変換層３０を挟持させ（貼付工程）、波長変換部材１１を製造する。
【０１０４】
上記製造方法であっても、硬化工程で塗膜３０Ｍに対して、両面から活性エネルギー線を照射するので、塗膜中への散乱粒子が添加されていたり、基材に光散乱層等の機能性層が含まれていたりして、活性エネルギー線の照射による硬膜効率を低減する要因を含んでいても、重合性組成物の塗膜を十分に硬化させることができ、波長変換層３０の第１の基材１０側のインデーション硬さＮ１と第２の基材２０側のインデーション硬さＮ２を下式の関係とすることができる。
｜Ｎ１−Ｎ２｜≦２０ＭＰａ
【０１０５】
図８は、図３に示す断面を有する波長変換部材１１を製造するための波長変換部材製造装置１１０の一例の概略構成図である。
波長変換部材製造装置１１０は、第１の基材１０をロール状態にて支持し、繰り出す送出機６０と、フィルム状のワークを搬送するための複数の搬送ロール６１と、各処理工程を経て形成された波長変換部材１をロール状に巻き取る巻取機６５を備えたロール・トゥ・ロール方式の製造装置であり、送出機６０と巻取機６５との間に、第１の基材１０の一面に重合性組成物塗布液を塗布して塗膜３０Ｍを形成する塗布部７０と、第１の基材１０と第２の基材２０との間に塗膜３０Ｍが挟持されてなる積層フィルム１４に、活性エネルギー線ＥとしてＵＶ光を照射して塗膜３０Ｍを硬化する硬化処理部９０と、第１の基材１０上に塗膜３０Ｍが形成された積層フィルム１３の塗膜３０Ｍ上に、塗膜３０を第１の基材１０と共に挟持する第２の基材２０を貼付する貼付部（ラミネート）８０とをこの順に備えている。さらに、送り出し機６０と塗布部７０との間に第１の基材１０の塗布面から塵埃を除去する除塵機１０２を、塗布部７０と硬化処理部９０との間の硬化処理部９０側に重合性組成物中に含有される揮発成分を揮発させるための乾燥装置１０３を、貼付部８０と巻取機６５との間に乾燥、アニール処理を行うアニール部１０４とを備えている。
【０１０６】
図８の製造装置において、図６に記載の製造装置における要素と同一の機能を有する要素には同一符号を付している。
本製造装置は、塗膜３０Ｍに対して、第２の基材２０を貼付する前に、硬化処理部９０において塗膜３０Ｍの露出面に対して第１の光照射装置９０Ａにより紫外線を照射し、続いて、塗膜３０Ｍの露出面の反対面となる第１の基材１０から第２の光照射装置９０Ｂにより紫外線を照射するように構成されている。硬化処理部９０において塗膜３０Ｍは硬化されて波長変換層３０となり、第１の基材１０上に波長変換層３０が形成されてなる積層フィルム１５が、貼付部８０に搬送される。貼付部８０では、片面に粘着剤２１が塗布された第２の基材２０が、その粘着剤２１を介して波長変換層３０にラミネートされる。
【０１０７】
製造方法としては、上記形態の他、塗布工程において第１の基材１０上に塗膜３０Ｍを形成後、第１の硬化工程として、第１の活性エネルギー線照射装置により、塗膜３０Ｍの一方の面から活性エネルギー線を照射し、その後、貼付工程として、活性エネルギー線の照射により硬化された塗膜３０Ｍの表面に粘着剤を介して第２の基材をラミネートし、その後に第２の硬化工程として、第２の活性エネルギー線照射装置により、第１の硬化工程における活性エネルギー線照射面と反対の面から活性エネルギー線を照射して塗膜３０Ｍをさらに硬化させて波長変換層３０とすることも可能である。
【０１０８】
［バックライトユニット］
本発明の一態様にかかるバックライトユニットは、本発明の波長変換部材と、光源と、を少なくとも含む。波長変換部材の詳細は、先に記載した通りである。
【０１０９】
図９は、本発明の一態様にかかる波長変換部材１を含むバックライトユニット２の一例の概略構成断面図である。
図９に示されるように、バックライトユニット２は、励起光としての青色光ＬＢを面発光する面状光源部１Ｃと、面状光源部１Ｃから発せられた青色光ＬＢが入射され、青色光ＬＢの一部を緑色光ＬＧ及び赤色光ＬＲに変換させ、青色光ＬＢの一部を透過するシート型波長変換部材１と、波長変換部材１を挟んで後述の導光板１Ｂと対向配置される再帰反射性部材群２Ｂと、導光板１Ｂを挟んで波長変換部材１と対向配置される反射板２Ａとを備えてなる。
面状光源部１Ｃは、シート状の導光板１Ｂと、導光板１Ｂのエッジから励起光を入射させるように導光板１Ｂのエッジ部に配置された、青色光を発光する光源１Ａとから構成されている。
ここで、波長変換部材１は、その波長変換層３０に量子ドット３１として、青色光ＬＢの照射により赤色光ＬＲを発光する量子ドット、及び緑色光ＬＧを発光する量子ドットと含むものである。
【０１１０】
図９のバックライトユニット２において、面状光源部１Ｃから出射された一次光ＬＢが波長変換部材１に入射され、波長変換部材１において、一次光ＬＢの少なくとも一部を励起光して赤色光及び緑色光からなる二次光を発光し、波長変換部材１から出射されたＬＢ，ＬＧ，ＬＲは、再帰反射性部材２Ｂに入射し、入射した各光は、再帰反射性部材２Ｂと反射板２Ａとの間で反射を繰り返し、複数回波長変換部材１を通過する。その結果、波長変換部材１では十分な量の励起光（青色光ＬＢ）が量子ドット３１によって吸収され、必要な量の蛍光（ＬＧ，ＬＲ）が発光し、再帰反射性部材２Ｂから、すなわちバックライトユニット２から白色光ＬＷが具現化されて出射される。
【０１１１】
光源１Ａとしては、４３０ｎｍ〜４８０ｎｍの波長帯域に発光中心波長を有する青色光を発光する発光ダイオードやレーザー光源等を使用することができる。
なお、光源１Ａとしては、紫外線を発光する発光ダイオードを用いることもでき、その場合には、波長変換部材１の波長変換層３０中の量子ドット３１として、紫外線により青色光ＬＢを発光する量子ドット、赤色光ＬＲを発光する量子ドット、及び緑色光ＬＧを発光する量子ドットを含むものとすればよい。
【０１１２】
面状光源部１Ｃは、図９に示すように、光源１Ａと光源１Ａから出射された一次光を導光させて出射させる導光板１Ｂとからなる光源部であっても良いし、光源１Ａが波長変換層１Ｄと平行な平面状に並べて配置され、導光板１Ｂに替えて拡散板１Ｅを備えた光源部であっても良い。前者の面状光源部は一般にエッジライト方式、後者の面状光源部は一般に直下型方式と呼ばれている。
【０１１３】
また、反射板２Ａとしては、特に制限は無く、公知のものを用いることができ、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０１１４】
再帰反射性部材２Ｂは、公知の拡散板や拡散シート、プリズムシート（例えば、住友スリーエム社製ＢＥＦシリーズなど）、導光器等から構成されていてもよい。再帰反射性部材２Ｂの構成については、特許３４１６３０２号、特許３３６３５６５号、特許４０９１９７８号、特許３４４８６２６号などに記載されており、これらの公報の内容は本発明に組み込まれる。
【０１１５】
「液晶表示装置」
上述のバックライトユニット２は液晶表示装置に応用することができる。図１０に示されるように、液晶表示装置５０は上記実施形態のバックライトユニット２とバックライトユニット２の再帰反射性部材側に対向配置された液晶ユニット６とを備えてなる。
【０１１６】
液晶セルユニット６は、図１０に示されるように、液晶セル５を偏光板３と４とで挟持した構成としており、偏光板３，４は、それぞれ、偏光子３２，４２の両主面を偏光板保護フィルム３１と３３、４１と４３で保護された構成としている。
【０１１７】
液晶表示装置５０を構成する液晶セル５、偏光板３，４及びその構成要素については特に限定はなく、公知の方法で作製されるものや市販品を、何ら制限なく用いることができる。また、各層の間に、接着層等の公知の中間層を設けることも、もちろん可能である。
【０１１８】
液晶セル５の駆動モードについては特に制限はなく、ツイステットネマチック（ＴＮ）、スーパーツイステットネマチック（ＳＴＮ）、バーティカルアライメント（ＶＡ）、インプレインスイッチング（ＩＰＳ）、オプティカリーコンペンセイテットベンドセル（ＯＣＢ）等の種々のモードを利用することができる。液晶セルは、ＶＡモード、ＯＣＢモード、ＩＰＳモード、またはＴＮモードであることが好ましいが、これらに限定されるものではない。ＶＡモードの液晶表示装置の構成としては、特開２００８−２６２１６１号公報の図２に示す構成が一例として挙げられる。ただし、液晶表示装置の具体的構成には特に制限はなく、公知の構成を採用することができる。
【０１１９】
液晶表示装置５０には、さらに必要に応じて光学補償を行う光学補償部材、接着層などの付随する機能性層を有する。また、カラーフィルター基板、薄層トランジスタ基板、レンズフィルム、拡散シート、ハードコート層、反射防止層、低反射層、アンチグレア層等とともに（またはそれに替えて）、前方散乱層、プライマー層、帯電防止層、下塗り層等の表面層が配置されていてもよい。
【０１２０】
以上説明した本発明の一態様にかかる液晶表示装置は、本発明のカールが抑制された波長変換部材を含むバックライトユニットを備えるため、高輝度かつ高い色再現性を高い安定性を持って実現することができるものである。
【実施例】
【０１２１】
以下、本発明の実施例及び比較例の波長変換部材及びその製造方法について説明する。
【０１２２】
（バリアフィルムの作製）
支持体としてポリエチレンテレフタレートフィルム（ＰＥＴフィルム、東洋紡社製、商品名：コスモシャイン（登録商標）Ａ４３００、厚さ５０μｍ）を用いて、支持体の片面側に以下の手順で有機層及び無機層を順次形成した。
【０１２３】
トリメチロールプロパントリアクリレート（ダイセルサイテック社製ＴＭＰＴＡ）及び光重合開始剤（ランベルティ社製、ＥＳＡＣＵＲＥ  ＫＴＯ４６）を用意し、質量比率として９５：５となるように秤量し、これらをメチルエチルケトンに溶解させ、固形分濃度１５％の塗布液とした。この塗布液を、ダイコーターを用いてロールトウロールにて上記ＰＥＴフィルム上に塗布し、５０℃の乾燥ゾーンを３分間通過させた。その後、窒素雰囲気下で紫外線を照射（積算照射量約６００ｍＪ／ｃｍ２）し、紫外線硬化にて硬化させ、巻き取った。支持体上に形成された第一有機層の厚さは、１μｍであった。
【０１２４】
次に、ロール・トゥ・ロールのＣＶＤ装置を用いて、上記有機層の表面に無機層（窒化ケイ素層）を形成した。原料ガスとして、シランガス（流量１６０ｓｃｃｍ）、アンモニアガス（流量３７０ｓｃｃｍ）、水素ガス（流量５９０ｓｃｃｍ）、及び窒素ガス（流量２４０ｓｃｃｍ）を用いた。電源として、周波数１３．５６ＭＨｚの高周波電源を用いた。製膜圧力は４０Ｐａ、到達膜厚は５０ｎｍであった。
【０１２５】
上述の手順により支持体の片面に有機層、無機層が順に積層されたバリアフィルムを作製した。以下において、このバリアフィルムを第１の基材、第２の基材として用いた。
【０１２６】
（重合性組成物塗布液）
下記の成分の重合性組成物を調製し、孔径０．２μｍのポリプロピレン製フィルタでろ過した後、３０分間減圧乾燥して塗布液として用いた。
[重合性組成物]
量子ドット１のトルエン分散液（発光極大：５２０ｎｍ）                １０質量部
量子ドット２のトルエン分散液（発光極大：６３０ｎｍ）                  １質量部
脂環式エポキシ化合物：セロキサイド２０２１Ｐ（ダイセル（株）製）    ６０質量部
単官能アクリレート化合物：ＡＭＰ−１０Ｇ（新中村化学工業（株）製）  ４０質量部
光カチオン重合開始剤ＣＰＩ-１１０Ｐ（サンアプロ（株）製）             ３質量部
光重合開始剤イルガキュア８１９（ＢＡＳＦ社製）                        ３質量部
粘度調整剤：ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２（日本アエロジル（株）製）        ３質量部
（上記において、量子ドット１、２のトルエン分散液の量子ドット濃度は１質量％である。）
【０１２７】
[実施例１]
図５を参照して説明した製造工程により波長変換部材を作製した。以下、各工程順に具体的な製造方法を述べる。
【０１２８】
＜塗布工程＞
上述の重合性組成物塗布液をダイヤフラムポンプにて、配管長約２．５ｍで使用して送液し、途中で濾過部材の高さ１インチ、濾過精度が１００μｍのフィルタ（ＰＡＬＬ製１００μｍ  プロファイルＩＩ）を用いて粗大粒子を取り除き、ダイコーター（図５符号７４）へ送液した。塗布液を、送出機（図５中６０）から繰り出された上述の第１の基材１０であるバリアフィルム（厚み計５０μｍ、基材幅７００ｍｍ）に塗布幅６００ｍｍで塗布して塗膜を形成した。
ここで、ダイコーターから押し出された塗布液の粘度は、調製時の撹拌、超音波処理、及びダイコーターのリップクリアランスを適切な範囲に調整して、３〜１００ｍＰａ・ｓに維持調整した。
塗布速度は随時調整変更して作製しているが、ここでは３ｍ／ｍｉｎで実施した。なお、塗布膜の厚みは５０μｍに調整して作製した。
【０１２９】
＜貼付（ラミネート）工程＞
塗布工程の後、第２の基材（図５中の符号２０）として上記第１の基材と同じ基材幅７００ｍｍのバリアフィルム（厚み計５０μｍ）を第２の基材用の送出機（図５中、符号８１）から繰り出し、塗膜の上に第２の基材を積層した。具体的には、波長変換層を形成するＵＶ硬化工程の直前において、金属製ロール（直径φ２００ｍｍ、図５中のバックアップロール６２）と天然ゴム製ニップロール（直径φ２００ｍｍ、硬度７５度、図５中のラミネートロール８２）を用いて金属製ロールと天然ゴム製ニップロールの最小の間隙を３ｍｍに設定して、塗膜の上に第２の基材であるバリアフィルムを密着させた。このとき、バックアップロール６２の周速度の、バックアップロール８２の周速度に対する割合が１００．０％±１％となるように２つのロールの周速度を制御した。
また、塗膜の上に第２の基材を積層する直前から塗膜を硬化する直前までの領域において、第１の基材の温度は５０℃となるように制御し、第２の基材の温度は６０℃となるように制御した。また第１の基材の貼付部直前の基材テンションは６０Ｎ／幅に設定し、第２の基材の貼付部直前の基材テンションは６０Ｎ／幅に設定した。
【０１３０】
＜硬化工程＞
貼付工程の後、ＵＶ照射用の第１のバックアップロール（図５中の符号９１Ａ）に第１の基材側が接触し、第１のバックアップロールの回転に伴って搬送移動されている状態で第１の基材及び第２の基材に挟まれた塗膜に、第２の基材側から第１の活性エネルギー線照射装置により、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２、照度３００ｍＷ／ｃｍ２の条件でＵＶ光を照射し、次いで、第２の基材側が第２のバックアップロールに接触し、第２のバックアップロールの回転に伴って搬送移動されている状態で第１の基材側から第２の活性エネルギー線照射装置により、照射量３００ｍＪ／ｃｍ２、照度３００ｍＷ／ｃｍ２の条件でＵＶ光を照射して塗膜を硬化させて波長変換層を形成し、図１に示す断面を有する、実施例１の波長変換部材を作製した。なお、ＵＶ光照射時のバックアップロールのロール径３００ｍｍ、バックアップロール温度３０℃とした。
【０１３１】
[実施例２〜４、比較例１]
硬化工程におけるＵＶ照射条件を表１に記載の通りとした以外は、実施例１と同様の方法で実施例２〜５及び比較例１の波長変換部材を作製した。なお比較例１は、塗膜面の同じ面側から第１のＵＶ光と第２のＵＶ光を照射した。
【０１３２】
[実施例５]
硬化工程において、第１の基材及び第２の基材に挟まれた塗膜を支持するバックアップロールのロール径を６００ｍｍとしたこと以外は、実施例２と同様の方法で実施例５の波長変換部材を作製した。
【０１３３】
[実施例６]
硬化工程において第１の基材及び第２の基材に挟まれた塗膜が直線状に（フラットに）支持された状態で、第２の活性エネルギー線照射装置によるＵＶ光照射を行ったこと以外は実施例２と同様の方法で実施例６の波長変換部材を作製した。
【０１３４】
[実施例７]
硬化工程において第２の活性エネルギー線照射装置におけるＵＶ光照射を行った後に、巻取りまでの搬送途中において金属製ケーシングを設け、内部に６０℃に調整された加熱風を５ｍ3／分で供給した装置内を１分間かけて通過させたこと以外は実施例２と同様の方法で実施例７の波長変換部材を作製した。
【０１３５】
[比較例２]
硬化工程において、第１の活性エネルギー線照射装置により、照射量１０００ｍＪ／ｃｍ２、照度３００ｍＷ／ｃｍ２の条件でＵＶ光を照射し、第２の活性エネルギー線照射装置による照射を行わなかったこと以外は実施例１と同様の方法で比較例２の波長変換部材を作製した。
【０１３６】
上記のようにして作製した実施例１〜７及び比較例１、２について、以下の評価を行った。
【０１３７】
（インデーション硬さの測定）
各実施例及び比較例の波長変換部材のインデンテーション硬さを下記手順で測定した。
まず、作製した波長変換部材の任意の位置をミクロトーム（ＬＥＩＣＡ社製ウルトラミクロトームＵＣ６）を用いて断面切削し、切断面を主面とする薄片を切り出し、光学顕微鏡により、第１の基材、波長変換層、第２の基材界面を確認した。そして各界面から波長変換層側に約３μｍの位置について、ＴＩ９５０  Ｔｒｉｂｏｉｎｄｅｎｔｅｒ（ＨＹＳＩＴＲＯＮ社製）でバーコビッチ圧子を使用し、５０μＮ荷重で押込み測定し、インデーション硬さＮ１及びＮ２を算出した。得られたＮ１及びＮ２から求めた、差｜Ｎ１−Ｎ２｜を表１に示す。
【０１３８】
（カールの測定）
各実施例及び比較例で作製した波長変換部材のカールを以下の手順で測定した。
まず、作製した波長変換部材の幅方向（ロール・トゥ・ロールの製造装置における搬送方向に垂直な方向）の中央部を２１０ｍｍ×１５０ｍｍ四方に裁断し、２５℃相対湿度６０％環境下で平らなガラステーブル上に２４時間平置き状態で調湿した。そして波長変換部材の４隅の浮きをノギスで測定した。
表１に、４隅の浮きの平均値を示す。
【０１３９】
表１の総合評価では、実施例１〜７及び比較例１についてカールが３ｍｍ以下であれば、良好ＶＧ（Very Good）、３ｍｍ超え７ｍｍ未満であれば可Ｇ（Good）、７以上であれば不良ＮＧ（No Good）と評価した。
【０１４０】
【表１】
2016096276.tif 000004
【０１４１】
表１に示すように、第１の基材及び第２の基材に挟まれた塗膜に対し、表裏からＵＶ光を照射して波長変換層を形成した実施例１〜７の波長変換部材においては、カールが４ｍｍ以下と非常に小さかったのに対して、比較例１、２の波長変換部材においては、カールが４ｍｍ超と大きかった。波長変換層の表裏におけるインデーション硬さの差が２０ＭＰａ以下である実施例１〜７では、いずれもカールは４ｍｍ以下であった。インデーション硬さの差が１６ＭＰａ以下でカールが４ｍｍ以下、インデーション硬さの差が１０ＭＰａ以下でカールが３ｍｍ以下、インデーション硬さの差が５ＭＰａ以下でカールが２ｍｍであり、最も好ましいものが得られた。
【符号の説明】
【０１４２】
１      波長変換部材
１Ａ    光源
１Ｂ    導光板
１Ｃ    面状光源部
２      バックライトユニット
２Ａ    反射板
２Ｂ    再帰反射性部材
１０    第１の基材
２０    第２の基材
３０    波長変換層
３０Ｍ    塗膜
５０    液晶表示装置
６１    搬送ロール
７０    塗布部
７４    ダイコーター
７６    バックアップロール
７８    減圧チャンバー
８０    貼付部
８２    ラミネートロール
９０    硬化処理部
９０Ａ、９０Ｂ    活性エネルギー線照射装置
９１Ａ、９１Ｂ    バックアップロール
１００    波長変換部材製造装置
【図１】
2016096276.tif 000005
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６Ａ】
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【図６Ｂ】
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【図６Ｃ】
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【図６Ｄ】
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【図６Ｅ】
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【図６Ｆ】
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【図６Ｇ】
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【図６Ｈ】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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