(57)【要約】      （修正有）【課題】簡便に製造でき、光透過性が高く、平坦性に優れる、ハードコート層を有する導電性フィルムの提供。【解決手段】波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）が−６０〜６０ｎｍである支持体２０と、支持体の少なくとも片面上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含み、厚みが１０μｍ未満である導電層１８Ａ、１８Ｂと、導電層上に隣接して配置されたハードコート層１６Ａ、１６Ｂと、を有する導電性フィルム２６。支持体２０が、セルロースアシレート系樹脂、（メタ）アクリル樹脂及びシクロオレフィン系樹脂から選択される少なくとも一種を含み、厚みが１０〜６０μｍである導電フィルム２６。シート抵抗値が１０〜１５０Ω／□である導電性フィルム２６。【選択図】図１
2016024913.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）が−６０〜６０ｎｍである支持体と、
前記支持体の少なくとも片面上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含み、厚みが１０μｍ未満である導電層と、
前記導電層上に隣接して配置されたハードコート層と、を有する導電性フィルム。
【請求項２】
シート抵抗値が１０〜１５０Ω／□である、請求項１に記載の導電性フィルム。
【請求項３】
前記支持体の厚みが１０〜６０μｍである、請求項１または２に記載の導電性フィルム。
【請求項４】
前記支持体が、セルロースアシレート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、および、シクロオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電性フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
【請求項６】
タッチパネルに用いられる、請求項１〜４のいずれか１項に記載の導電性フィルム。
【請求項７】
請求項６に記載の導電性フィルムを有する、タッチパネル付き表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、導電性フィルム、および、タッチパネル付き表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
基板上に導電層が形成された導電性フィルムは、太陽電池、無機ＥＬ素子、有機ＥＬ素子などの各種電子デバイスの透明電極、各種表示装置の電磁波シールド、タッチパネル、透明面状発熱体などに幅広く利用されている。特に、近年、携帯電話や携帯ゲーム機器等へのタッチパネルの搭載率が上昇しており、タッチパネル用の導電性フィルムの需要が急速に拡大している。
タッチパネル用の導電性フィルムの支持体としては、透明性の高さおよび価格などの点から、ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート）フィルムが汎用されており、かつ、導電層としては、真空蒸着やスパッタリング等のドライプロセスによって形成されるＩＴＯ（インジウムスズオキサイド）層が汎用されている（特許文献１）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１２−１６４０７９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
一方、近年、タッチパネルの視認性向上の点から、タッチパネルに使用される各種部材の透明性のより一層の向上が求められている。しかしながら、一般的に使用されているＰＥＴフィルムは昨今求められるレベルの透明性を有していない。また、干渉ムラが発生しやすく、ＰＥＴフィルムを使用したタッチパネル付表示装置の表示品位は充分ではなかった。
【０００５】
また、上述したように、導電性フィルムの透明導電材料として汎用されているＩＴＯは、一般的に高温条件を伴うドライプロセスにて製造されるため、導電性フィルム中の支持体の耐熱性が必要になる。また、ドライプロセスでは真空化することが必要であり、導電性フィルム中に含まれる分子量の小さい成分や、高機能化目的で加えられた添加剤が揮散し、プロセス汚染や面状故障を起こす問題があった。また、加工速度が遅く生産性が低いという欠点もある。そのため、他の代替材料の開発が望まれている。
【０００６】
さらに、導電層の耐衝撃性や取扱い容易性等を向上させるため、この導電層の表面にハードコート層を配置することがある。一般的に、ハードコート層は、硬化性組成物を硬化させることにより形成される場合が多く、ハードコート層形成時に硬化収縮が生じやすい。
昨今、タッチパネルを含む表示装置の薄型化の点から、使用される部材の厚みが薄くなっており、薄い支持体の上部にハードコート層を配置する場合、上述した硬化収縮によって、導電性フィルム全体にシワが発生しやすく、平坦性が損なわれるという問題もあった。
【０００７】
本発明は、上記実情に鑑みて、簡便に製造でき、光透過性が高く、平坦性にも優れる、ハードコート層を有する導電性フィルムを提供することを課題とする。
また、本発明は、上記導電性フィルムを含むタッチパネル付き表示装置を提供することも課題とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明者らは、従来技術の問題点について鋭意検討を行ったところ、所定の光学特性を示す支持体と、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層とを使用することにより、上記課題を解決できることを見出した。
つまり、本発明者らは、以下の構成により上記課題が解決できることを見出した。
【０００９】
（１）  波長５５０ｎｍにおける面内レタデーションＲｅ（５５０）が１０ｎｍ以下であり、波長５５０ｎｍにおける厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）が−６０〜６０ｎｍである支持体と、
支持体の少なくとも片面上に配置された、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含み、厚みが１０μｍ未満である導電層と、
導電層上に隣接して配置されたハードコート層と、を有する導電性フィルム。
（２）  シート抵抗値が１０〜１５０Ω／□である、（１）に記載の導電性フィルム。
（３）  支持体の厚みが１０〜６０μｍである、（１）または（２）に記載の導電性フィルム。
（４）  支持体が、セルロースアシレート系樹脂、（メタ）アクリル系樹脂、および、シクロオレフィン系樹脂からなる群から選択される少なくとも１種を含む、（１）〜（３）のいずれかに記載の導電性フィルム。
（５）  （１）〜（４）のいずれかに記載の導電性フィルムと、偏光子とを含む偏光板。
（６）  タッチパネルに用いられる、（１）〜（４）のいずれかに記載の導電性フィルム。
（７）  （６）に記載の導電性フィルムを有する、タッチパネル付き表示装置。
【発明の効果】
【００１０】
本発明によれば、簡便に製造でき、光透過性が高く、平坦性にも優れる、ハードコート層を有する導電性フィルムを提供することができる。
また、本発明によれば、上記導電性フィルムを含むタッチパネル付き表示装置を提供することもできる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明のタッチパネル付き表示装置の第１の実施態様を示す概略断面図である。
【図２】導電性フィルムの平面図である。
【図３】図２中の切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。
【図４】本発明のタッチパネル付き表示装置の第２の実施態様を示す概略断面図である。
【図５】導電性フィルムの平面図である。
【図６】図５中の切断線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
以下に、本発明の導電性フィルム、および、タッチパネル付き表示装置について詳述する。
なお、本明細書において「〜」を用いて表される数値範囲は、「〜」の前後に記載される数値を下限値および上限値として含む範囲を意味する。また、本発明における図は模式図であり、各層の厚みの関係や位置関係などは必ずしも実際のものとは一致しない。
【００１３】
Ｒｅ（λ）、Ｒｔｈ（λ）は、各々、波長λにおける面内のレタデーション、および、厚さ方向のレタデーションを表す。Ｒｅ（λ）はＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲ（王子計測機器（株）製）において、波長λｎｍの光をフィルム法線方向に入射させて測定される。測定波長λｎｍの選択にあたっては、波長選択フィルターをマニュアルで交換するか、または測定値をプログラム等で変換して測定することができる。測定されるフィルムが、１軸または２軸の屈折率楕円体で表されるものである場合には、以下の方法によりＲｔｈ（λ）が算出される。なお、この測定方法は、液晶化合物の平均チルト角、その反対側の平均チルト角の測定においても一部利用される。
Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）のフィルム法線方向に対して法線方向から片側５０°まで１０度ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて全部で６点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。上記において、法線方向から面内の遅相軸を回転軸として、ある傾斜角度にレタデーションの値がゼロとなる方向をもつフィルムの場合には、その傾斜角度より大きい傾斜角度でのレタデーション値はその符号を負に変更した後、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲが算出する。なお、遅相軸を傾斜軸（回転軸）として（遅相軸がない場合には、フィルム面内の任意の方向を回転軸とする）、任意の傾斜した２方向からレタデーション値を測定し、その値と平均屈折率の仮定値、および入力された膜厚値を基に、以下の式（Ａ）、および式（Ｂ）よりＲｔｈを算出することもできる。
【００１４】
【数１】
2016024913.tif 000003
【００１５】
なお、上記のＲｅ（θ）は法線方向から角度θ傾斜した方向におけるレタデーション値を表す。また、式（Ａ）におけるｎｘは、面内における遅相軸方向の屈折率を表し、ｎｙは、面内においてｎｘに直交する方向の屈折率を表し、ｎｚは、ｎｘおよびｎｙに直交する方向の屈折率を表す。ｄは測定フィルムの厚みを示す。
Ｒｔｈ＝（（ｎｘ＋ｎｙ）／２−ｎｚ）×ｄ・・・・・・・・・・・式（Ｂ）
【００１６】
測定されるフィルムが、１軸や２軸の屈折率楕円体で表現できないもの、いわゆる光学軸（ｏｐｔｉｃ  ａｘｉｓ）がないフィルムの場合には、以下の方法により、Ｒｔｈ（λ）は算出される。Ｒｔｈ（λ）は、上記Ｒｅ（λ）を、面内の遅相軸（ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨ、またはＷＲにより判断される）を傾斜軸（回転軸）として、フィルム法線方向に対して−５０°から＋５０°まで１０°ステップで各々その傾斜した方向から波長λｎｍの光を入射させて１１点測定し、その測定されたレタデーション値と平均屈折率の仮定値および入力された膜厚値を基にＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲが算出する。また、上記の測定において、平均屈折率の仮定値は、ポリマーハンドブック（ＪＯＨＮ  ＷＩＬＥＹ＆ＳＯＮＳ，ＩＮＣ）、各種光学フィルムのカタログの値を使用することができる。平均屈折率の値が既知でないものについては、アッベ屈折計で測定することができる。主な光学フィルムの平均屈折率の値を以下に例示する：セルロースアシレート（１．４８）、シクロオレフィンポリマー（１．５２）、ポリカーボネート（１．５９）、ポリメチルメタクリレート（１．４９）、ポリスチレン（１．５９）である。これら平均屈折率の仮定値と膜厚を入力することで、ＫＯＢＲＡ  ２１ＡＤＨまたはＷＲはｎｘ、ｎｙ、ｎｚを算出する。
【００１７】
本発明の導電性フィルムの特徴点の一つとしては、まず、所定の光学特性を示す支持体を使用している点が挙げられる。つまり、本発明においては、面内レタデーションおよび厚み方向のレタデーションが低い支持体（低位相差フィルム）を使用することにより、光透過率の向上、ＰＥＴフィルムで発生しやすい干渉ムラ解消が図られている。
なお、上述したように、導電層として汎用されているＩＴＯ層は、通常、高温条件を伴うドライプロセスによって製造されるが、上記低位相差フィルムは一般的にＰＥＴフィルムと比較して耐熱性や機械的強度に劣るため、ドライプロセス中に分解などが生じやすく、そもそも適用が難しい。
それに対して、本発明の導電性フィルムの他の特徴点として、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を使用している点が挙げられる。後段にて詳述するように、フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、カーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含む。フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、カーボンナノチューブ由来の機械的な柔軟性に加え、フラーレン官能基を加えた効果としてカーボンナノチューブよりも高い導電性を示す材料である。導電層中においては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブ同士が絡まりながらネットワーク構造を形成しやすく、更にフラーレン官能基が隣接するフラーレン官能基化カーボンナノチューブと接触し、結果として優れた導電特性を示す導電層となる。また、後述するように、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を作製する際には、高温真空条件を必要としない。そのため、ドライプロセスによりＩＴＯ膜を作製する場合と比較して、支持体の性能劣化を抑制することができる。
【００１８】
さらに、本発明の導電性フィルムにおいては、ハードコート層由来のシワなどが生じにくい。その理由の詳細は不明だが、以下のように推測される。まず、上述したように、導電層においては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブ同士が絡まりながらネットワーク構造を形成しているため、導電層にかかる応力を緩和しやすい。そのため、ハードコート層に隣接して配置される導電層がいわゆる応力緩和層としても機能し、導電性フィルム全体のシワが生じることを抑制していると推測される。
【００１９】
本発明の導電性フィルムは、所定の光学特性を示す支持体と、支持体上に配置されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層と、支持体上に隣接して配置されたハードコート層とを少なくとも有する。
以下、導電性フィルムに含まれる部材（支持体、導電層、ハードコート層など）について詳述する。
【００２０】
＜支持体＞
支持体は、導電層を支持する基材である。
波長５５０ｎｍにおける支持体の面内レタデーションＲｅ（５５０）は１０ｎｍ以下であり、導電性フィルムの光学特性がより優れる点で、７ｎｍ以下が好ましく、５ｎｍ以下がより好ましい。下限は特に制限されないが、０ｎｍである。
波長５５０ｎｍにおける支持体の厚み方向のレタデーションＲｔｈ（５５０）は−６０〜６０ｎｍであり、導電性フィルムの光学特性がより優れる点で、−４５〜４５ｎｍが好ましく、−３５〜３５ｎｍ以下がより好ましい。
【００２１】
支持体の厚みは特に制限されないが、表示装置の薄型化の点で、１０〜８０μｍが好ましく、１０〜６０μｍがより好ましい。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の１０点の支持体の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。
【００２２】
支持体としては上述した光学特性を満たすものであれば特に制限されず、公知の透明支持体を使用することができるが、例えば、透明支持体を形成する材料としては、トリアセチルセルロースに代表される、セルロースアシレート系樹脂や、シクロオレフィン系樹脂（日本ゼオン（株）製のゼオネックス、ゼオノア、ＪＳＲ（株）製のアートン等）や、（メタ）アクリル系樹脂や、ポリエステル系樹脂などが挙げられる。
【００２３】
支持体の好適態様の一つとしては、セルロールエステルフィルムを使用できる。
（セルロースエステル）
セルロースエステルフィルムは、セルロースエステルを含んでなる。
本発明においては、たとえば、粉末、粒子状、またはペレット化されたセルロースエステルを用いてフィルムを作製することでセルロースエステルフィルムとすることができる。
セルロースエステルフィルムは、１種類のセルロースエステルから構成してもよいし、２種類以上のセルロースエステルから構成してもよい。
セルロースエステルとしては、セルロースアシレートが好ましい。
【００２４】
本発明に用いられるセルロースアシレートは、特に限定されない。アシレート原料のセルロースとしては、綿花リンタや木材パルプ（広葉樹パルプ、針葉樹パルプ）などがあり、何れの原料セルロースから得られるセルロースアシレートでも使用でき、場合により混合して使用してもよい。これらの原料セルロースについての詳細な記載は、例えば、丸澤、宇田著、「プラスチック材料講座（１７）繊維素系樹脂」日刊工業新聞社（１９７０年発行）や発明協会公開技報公技番号２００１−１７４５号（７頁〜８頁）に記載のセルロースを用いることができる。
【００２５】
本発明に好ましく用いられるセルロースアシレートについて簡単に記載する。セルロースを構成するβ−１，４結合しているグルコース単位は、２位、３位および６位に遊離の水酸基を有している。セルロースアシレートは、これらの水酸基の一部または全部を炭素数２以上のアシル基によりエステル化した重合体（ポリマー）である。アシル置換度は、２位、３位および６位に位置するセルロースの水酸基がエステル化している割合（１００％のエステル化は置換度１）を意味する。
全アシル置換度、即ち、ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６は１．５〜３．０であることが、好ましく、２．０〜３．０であることがより好ましく、２．５〜３．０であることが更にまた好ましく、２．７〜３．０であることが更に好ましく、２．７０〜２．９８であることが特に好ましい。また、製膜性の観点からは、場合により、２．８０〜２．９５であることが好ましく、２．８５〜２．９０であることが特にまた好ましい。ここで、ＤＳ２はグルコース単位の２位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「２位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ３は３位の水酸基のアシル基による置換度（以下、「３位のアシル置換度」とも言う）であり、ＤＳ６は６位の水酸基のアシル基による置換度である（以下、「６位のアシル置換度」とも言う）。また、ＤＳ６／（ＤＳ２＋ＤＳ３＋ＤＳ６）は全アシル置換度に対する６位のアシル置換度の割合であり、以下「６位のアシル置換率」とも言う。
【００２６】
セルロースアシレートの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で４００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものがより好ましい。本発明で用いられるセルロースアシレートはＭｗ／Ｍｎ比が４．０以下であることが好ましく、より好ましくは１．４〜２．３である。
本発明において、セルロースアシレート等の平均分子量および分子量分布は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(ＧＰＣ)を用いて数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、国際公開ＷＯ２００８−１２６５３５号公報に記載の方法により、その比を計算することができる。
【００２７】
セルロースアシレートのアシル基の種類については、特に制限はないが、炭素数２〜１０のものが好ましく、炭素数２〜６のものがより好ましく、炭素数２〜４のものがさらに好ましい。具体的には、セルロースアシレートのアシル基はアセチル基またはプロピオニル基であることが好ましく、特にアセチル基であることが好ましい。即ち、セルロースアシレートは、セルロースアセテートであることが好ましい。
【００２８】
使用するセルロースアシレートは本発明の請求を逸脱しない範囲で可塑剤やＵＶ吸収剤等の添加剤を１種類以上含有してもよい。添加量は特に制約はないが、透明性やブリードアウトの観点から３０重量％以下が望ましく、３〜２５重量％が更に好ましく、３〜２０重量％が最も望ましい。
【００２９】
使用する添加剤は特に制約はないが、例えば、芳香族ジカルボン酸を含有するエステルオリゴマー（芳香族エステルオリゴマー）を使用することができる。芳香族ジカルボン酸含有エステルオリゴマーはジカルボン酸由来の繰り返し単位とジオール由来の繰り返し単位を有し、ジカルボン酸由来の繰り返し単位中、脂肪族ジカルボン酸由来の繰り返し単位のモル比をｍ、芳香族ジカルボン酸由来の繰り返し単位のモル比をｎとしたときｍ：ｎが０：１０〜３：７であることが好ましい。また、分子量としては、数平均分子量（Ｍｎ）が、６００〜３０００であることが好ましく、６００〜２０００がより好ましく、６００〜１５００がさらに好ましい。
【００３０】
使用される芳香族エステルオリゴマーは、炭素数２〜１０のジオールと炭素数４〜１０のジカルボン酸とから合成することが好ましい。合成方法としては、ジカルボン酸とジオールの脱水縮合反応、または、グリコールへの無水ジカルボン酸の付加および脱水縮合反応などの公知の方法を利用することができる。芳香族エステルオリゴマーは、ジカルボン酸である芳香族ジカルボン酸とジオールとの合成により得られるポリエステル系オリゴマーであることが好ましい。
【００３１】
また、本発明に使用するアシレートフィルムの添加剤に関しては、例えば、特開２０１３−１１７００９の段落番号００３９〜００６３、００６８〜００９５の記載を参考にすることができる。
【００３２】
（セルロースアシレートフィルムの製造方法）
セルロースアシレートフィルムを製造する方法は、特に制限はなく、公知の方法を用いて製膜することができる。例えば、溶液流延製膜法および溶融製膜法のいずれを利用して製膜してもよいが、フィルムの平滑性の観点からは溶液流延製膜法を利用して製造するのが好ましい。以下、溶液流延製膜法を用いる場合を例に説明するが、本発明は溶液流延製膜法に限定されるものではない。なお、溶融製膜法を用いる場合については、公知の方法を用いることができる。
【００３３】
−ポリマー溶液−
溶液流延製膜方法では、セルロースアシレート、および、必要に応じて各種添加剤を含有するポリマー溶液（セルロースアシレート溶液）を用いてウェブを形成する。以下において、溶液流延製膜方法に用いることができるポリマー溶液（以下、適宜セルロースアシレート溶液と称する場合もある）について説明する。
【００３４】
−溶媒−
本発明で用いられるセルロースアシレートは溶媒に溶解させてドープを形成し、これを基材上に流延しフィルムを形成させる。この際に、押し出し、または、流延後に溶媒を蒸発させる必要性があるため、揮発性の溶媒を用いることが好ましい。
さらに、反応性金属化合物や触媒等と反応せず、かつ、流延用基材を溶解しないものである。また、２種以上の溶媒を混合して用いてもよい。
また、セルロースアシレートと加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を各々別の溶媒に溶解し後に混合してもよい。
ここで、上記セルロースアシレートに対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。
【００３５】
良溶媒の例としては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ぎ酸メチル、ぎ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチルおよび塩化メチレンが好ましい。
【００３６】
ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。
これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることでウェブ（金属支持体上にセルロースアシレートのドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）をゲル化させ、金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロースアシレートの溶解を促進したりする役割もあり、反応性金属化合物のゲル化、析出、粘度上昇を抑える役割もある。
【００３７】
炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることができる。
これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、且つ毒性がないこと等からメタノール、エタノールが好ましい。エタノールがもっとも好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロースアシレートに対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。
【００３８】
セルロースアシレートの原料であるセルロースアシレートは、水酸基やエステル、ケトン等の水素結合性の官能基を含むため、全溶媒中に５〜３０質量％、より好ましくは５〜２５質量％、さらに好ましくは８〜２０質量％のアルコールを含有することが流延支持体からの剥離の観点から望ましい。
また、水を少量含有させることも溶液粘度や乾燥時のウェットフィルム状態の膜強度を高めたり、ドラム法流延時のドープ強度を高めたりするのに有効であり、例えば溶液全体に対して０．１〜５質量％含有させてもよく、より好ましくは０．１〜３質量％含有させてもよく、特には０．２〜２質量％含有させてもよい。
【００３９】
本発明におけるポリマー溶液の溶媒として好ましく用いられる有機溶媒の組み合せの例については、例えば、特開２００９−２６２５５１号公報に挙げられている。
また、必要に応じて、非ハロゲン系有機溶媒を主溶媒とすることもでき、詳細な記載は発明協会公開技報（公技番号２００１−１７４５、２００１年３月１５日発行、発明協会）に記載がある。
【００４０】
ポリマー溶液中のセルロースアシレート濃度は、５〜４０質量％が好ましく、１０〜３０質量％がより好ましく、１５〜３０質量％がさらに好ましい。
セルロースアシレート濃度は、セルロースアシレートを溶媒に溶解する段階で所定の濃度になるように調整することができる。また予め低濃度（例えば４〜１４質量％）の溶液を調製した後に、溶媒を蒸発させる等によって濃縮してもよい。さらに、予め高濃度の溶液を調製後に、希釈してもよい。また、添加剤を添加することで、セルロースアシレートの濃度を低下させることもできる。
【００４１】
添加剤を添加する時期は、添加剤の種類に応じて適宜決定することができる。例えば、芳香族エステルオリゴマーやＵＶ吸収剤は、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコールやメチレンクロライド、酢酸メチル、アセトン、ジオキソラン等の有機溶媒或いはこれらの混合溶媒に紫外線吸収剤を溶解してからドープに添加するか、または、直接ドープ組成中に添加してもよい。無機粉体のように有機溶剤に溶解しないものは、有機溶剤とセルロースアシレート中にデゾルバーやサンドミルを使用し、分散してからドープに添加する。
【００４２】
このような条件を満たし好ましい高分子化合物であるセルロースアシレートを高濃度に溶解する溶剤として最も好ましい溶剤は塩化メチレン:エチルアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。あるいは、酢酸メチル:エチルアルコール６０：４０〜９５：５の混合溶媒も好ましく用いられる。
【００４３】
（１）溶解工程
セルロースアシレートに対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中でセルロースアシレート、添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、あるいはセルロースアシレート溶液に添加剤溶液を混合してドープを形成する工程である。
セルロースアシレートの溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、または特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることができるが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。
ドープ中のセルロースアシレートの濃度は１０〜３５質量%が好ましい。溶解中または後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送ることが好ましい。
【００４４】
（２）流延工程
ドープを、送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、あるいは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。
ダイの口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、何れも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。あるいは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造のフィルムを得ることも好ましい。
【００４５】
（３）溶媒蒸発工程
ウェブ（セルロースアシレートフィルムの完成品となる前の状態であって、まだ溶媒を多く含むものをこう呼ぶ）を金属支持体上で加熱し、金属支持体からウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。
溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び/または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が、乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。
【００４６】
（４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。なお、剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させ過ぎてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
ここで、製膜速度を上げる方法（残留溶媒量ができるだけ多いうちに剥離することで製膜速度を上げることができる）としてゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。例えば、ドープ中にセルロースアシレートに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。金属支持体上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め、製膜速度を上げることができる。
金属支持体上でのウェブの剥離時残留溶媒量は、乾燥の条件の強弱、金属支持体の長さ等により５〜１５０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。本発明においては、該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。
【００４７】
また、剥離位置におけるウェブの残留溶媒量を１０〜１５０質量％とすることが好ましく、更に１０〜１２０質量％とすることが好ましい。
残留溶媒量は下記の式で表すことができる。
残留溶媒量（質量％）＝[(Ｍ−Ｎ)／Ｎ]×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、Ｎは質量Ｍのものを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。
【００４８】
（５）乾燥または熱処理工程、延伸工程
上記剥離工程後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、および／またはクリップでウェブの両端をクリップして搬送するテンター装置を用いて、ウェブを乾燥することが好ましい。
【００４９】
熱処理をする場合、熱処理温度はＴｇ−５℃未満であり、Ｔｇ−２０℃以上Ｔｇ−５℃未満であることが好ましく、Ｔｇ−１５℃以上Ｔｇ−５℃未満であることがより好ましい。
また、熱処理温度は、３０分以下であることが好ましく、２０分以下であることがより好ましく、１０分程度であることが特に好ましい。
【００５０】
乾燥および熱処理の手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。使用する溶媒によって、温度、風量及び時間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて条件を適宜選べばよい。
【００５１】
延伸処理は、ＭＤおよびＴＤのいずれか一方向に行ってもよいし、双方の方向に２軸延伸してもよい。寸法安定性の観点からは２軸延伸が好ましい。延伸は１段で実施しても、多段で実施してもよい。また、引張り弾性率は、使用するセルロースアシレートの種類やアシル置換度を調整したり、添加剤の種類を選択することで、又はその割合を調整したりすることで、上記範囲に調整することができる。
【００５２】
フィルム搬送方向ＭＤへの延伸における延伸倍率は、０〜２０％であることが好ましく、０〜１５％であることがより好ましく、０〜１０％であることが特に好ましい。延伸の際のウェブの延伸倍率（伸び）は、金属支持体速度と剥ぎ取り速度（剥ぎ取りロールドロー）との周速差により達成することができる。例えば、２つのニップロールを有する装置を用いた場合、入口側のニップロールの回転速度よりも、出口側のニップロールの回転速度を速くすることにより、搬送方向（縦方向）にフィルムを好ましく延伸することができる。このような延伸が施されることによって、ＭＤの引張り弾性率を調整できる。
なお、ここでいう「延伸倍率（％）」とは、以下の式により求められるものを意味する。
延伸倍率（％）＝１００×｛（延伸後の長さ）−（延伸前の長さ）｝／延伸前の長さ
【００５３】
フィルム搬送方向に直交する方向ＴＤへの延伸における延伸倍率は、０〜３０％であることが好ましく、１〜２０％であることがより好ましく、２０〜１５％であることが特に好ましい。
なお、本発明においては、フィルム搬送方向に直交する方向ＴＤに延伸する方法として、テンター装置を用いて延伸することが好ましい。
【００５４】
２軸延伸の際に縦方向に、例えば、０．８〜１．０倍に緩和させて所望のリターデーション値を得ることもできる。延伸倍率は目的の光学特性に応じて設定される。セルロースアシレートフィルムを製造する場合、長尺方向に一軸延伸することもできる。
【００５５】
延伸の際の温度が、Ｔｇ以下であると、延伸方向の引張り弾性率が上昇するので好ましい。延伸温度は、Ｔｇ−５０℃〜Ｔｇであることが好ましく、Ｔｇ−３０℃〜Ｔｇ−５℃であることがより好ましい。一方、上記温度条件で延伸すると、延伸方向の引張り弾性率が上昇する一方で、それに直交する方向の引張り弾性率は低下する傾向がある。従って、延伸によりＭＤ及びＴＤの双方の方向の引張り弾性率を上昇するためには、上記温度範囲で、双方の方向に延伸処理する、即ち２軸延伸処理するのが好ましい。
【００５６】
なお、延伸工程後に乾燥してもよい。延伸工程後に乾燥する場合、使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組合せに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。本発明では、延伸工程後の乾燥温度は、延伸工程の延伸温度よりも低い方が、フィルムを液晶表示装置に組み込んだときの正面コントラストを上昇させる観点から好ましい。
【００５７】
（６）巻き取り
以上のようにして得られた、フィルムの長さは、１ロール当たり１００〜１００００ｍで巻き取るのが好ましく、より好ましくは５００〜７０００ｍであり、さらに好ましくは１０００〜６０００ｍである。フィルムの幅は、０．５〜５．０ｍが好ましく、より好ましくは１．０〜３．０ｍであり、さらに好ましくは１．０〜２．５ｍである。巻き取る際、少なくとも片端にナーリングを付与するのが好ましく、ナーリングの幅は３〜５０ｍｍが好ましく、より好ましくは５〜３０ｍｍ、高さは０．５〜５００μｍが好ましく、より好ましくは１〜２００μｍである。これは片押しであっても両押しであってもよい。
【００５８】
このようにして得られたウェブを巻き取り、セルロースアシレートフィルムを得ることができる。
【００５９】
（ロール状セルロースアシレートフィルム）
セルロースアシレートフィルムとしては、長尺状のセルロースアシレートフィルムをロール状に巻いてなるロール状セルロースアシレートフィルムを用いてもよい。ロール状のフィルムの長さや幅に制約はないが、長さは１３００ｍ〜１０４００ｍが望ましく、２６００ｍ〜１０４００ｍが更に望ましく、３９００ｍ〜９８００ｍが最も望ましい。生産効率の観点からは長尺の方が望ましいが、長すぎるとフィルムの重量による変形やハンドリングの懸念がある。幅は１０００ｍｍ〜３０００ｍｍが望ましく、１１５０ｍｍ〜２８００ｍｍが更に望ましく、１３００ｍｍ〜２５００ｍｍが最も望ましい。
【００６０】
（層構成）
セルロースアシレートフィルムは単層フィルムであっても、２層以上の積層構造を有していてもよい。例えば、コア層と外層（表層、スキン層と呼ばれることもある）の２層からなる積層構造であることや、外層、コア層、外層の３層からなる積層構造であることも好ましく、これらの積層構造を共流延によって製膜された態様であることも好ましい。
セルロースアシレートフィルムが２層以上の積層構造を有している場合、外層には、さらにマット剤を添加することが好ましい。マット剤としては、例えば特開２０１１−１２７０４５号公報に記載のものなどを用いることができ、例えば平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子などを用いることができる。
【００６１】
＜導電層＞
導電層には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。フラーレン官能基化カーボンナノチューブに関しては、後段で詳述する。
導電層の厚みは１０μｍ未満であり、導電性フィルムの光透過性がより優れる点で、９μｍ以下が好ましく、８μｍ以下がより好ましく、７μｍ以下がさらに好ましい。下限は特に制限されないが、導電性フィルムの導電性の点で、１μｍ以上が好ましく、２μｍ以上がより好ましく、３μｍ以上がさらに好ましい。
導電層の厚みを１０μｍ未満に調整することにより、フラーレン官能基化カーボンナノチューブによる光吸収の程度を小さくできる。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の１０点の導電層の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。
【００６２】
導電層中におけるフラーレン官能基化カーボンナノチューブの含有量は特に制限されないが、導電性フィルムの平坦性がより優れる点（以後、単に「本発明の効果がより優れる点」とも称する）、および／または、導電層の導電性がより優れる点で、導電層全質量に対して、６０質量％が好ましく、８０質量％以上がより好ましく、９０質量％以上がさらに好ましい。上限は特に制限されないが、１００質量％が挙げられる。
なお、導電層中にはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ以外の添加剤が含まれていてもよく、その含有量は特に制限されないが、本発明の効果がより優れる点、および／または、導電層の導電性がより優れる点で、導電層全質量に対して、０．０１〜４０質量％が好ましく、０．１〜２０質量％がより好ましく、０．１〜１０質量％以上がさらに好ましい。
【００６３】
導電層は、少なくとも支持体の片面上に配置され、支持体の両面に配置されていてもよい。導電層が支持体の両面に配置される場合、後述するハードコート層も支持体両面に配置された導電層それぞれの上に隣接して配置される。
導電層は、支持体表面（主面）の全面に配置されていても、支持体表面の一部の領域に配置されていてもよい。特に、後述するように、タッチパネルに適用する場合は、導電層は所定のパターン状に配置されることが好ましい。
【００６４】
導電層の作製方法としては、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層が作製できれば特に制限されず、例えば、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを溶媒中に分散させて支持体上に塗布して、必要に応じて、乾燥処理を実施する方法や、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを含むエアロゾルを支持体に吹き付ける方法が挙げられる。
なお、支持体上に直接導電層を作製する以外にも、一旦、仮支持体上でフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を作製して、支持体上に転写する方法も挙げられる。
【００６５】
上述したように、導電層は所定のパターン状に配置してもよい。
導電層を所定のパターンに形成する方法としては特に制限されないが、例えば、支持体上に所定のパターンにマスクしたものに対して、支持体上にフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を堆積させた後、マスクを除去することにより所定パターンの導電層を得る方法、導電層上に所定のパターンのレジストを用意し、強酸、酸化性または腐食性の大きな薬剤、強アルカリ等のウェットプロセスでエッチングを行う方法、スクリーン印刷によるパターニング方法などが挙げられるが、本発明においては、ドライエッチングプロセスでパターニングを行うことが好ましい。
以下にその例を示すが、本発明はこれに限定されない。
導電層上に、マスクとなるアルミニウム膜を形成し、続いて、アルミニウム膜上にパターン形成するためにレジストを塗布する。続いて、上記レジストをパターンと合わせて露光・現像を行なう。続いて上記パターニングされたレジストをマスクに、アルミニウム膜をエッチングする。続いてレジストを剥離する。続いてドライエッチング装置、たとえば、Ｏ２プラズマアッシング装置を用いて、表面に露出している導電層を燃焼させることによって除去する。ここで燃焼とは、試料温度を上げる場合ばかりでなく、基板温度を上げずに活性化したＯ２プラズマおよびラジカルで酸化させる方法、つまり、アッシングも含む。最後に、導電層上のアルミニウム膜を燐酸、特に加熱した燐酸によりウェットエッチングにより除去することで、導電層をパターニングできる。
なお、上記ではＯ２プラズマアッシングを用いて説明したが、他のドライエッチング方法、たとえば、スパッタエッチング、化学エッチング、反応性エッチング、反応性スパッタエッチング、イオンビームエッチング、反応性イオンビームエッチングによるエッチングが可能である。
【００６６】
ガスエッチングまたはラジカル含有のエッチングは化学エッチングまたは反応性エッチングで、炭素と反応除去できる酸素、水素等の反応性ガスを用いて、フラーレン官能基化カーボンナノチューブまたはカーボンを主とするナノパーティクルを除去できる。フラーレン官能基化カーボンナノチューブまたはカーボンナノパーティクル、触媒金属表面を被うアモルファスカーボンのカーボン結合は６員環または５員環より構成されるが、フラーレン官能基化カーボンナノチューブに比較してカーボンナノパーティクル、触媒金属表面被うアモルファスカーボンの結合は不完全で５員環が多く、反応性ガスに対して反応しやすい。
従って、カーボンナノパーティクル、触媒金属表面を被うアモルファスカーボンを含むフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層をパターンニングする場合には、ガスエッチングまたはラジカルを含むエッチングがより効果的である。さらに、ガスエッチングまたはラジカルを含むエッチングでは等方性のエッチングであることより、パターニングするナノチューブの表面ばかりでなく、反応性ガスが表面近傍のナノチューブ、ナノパーティクルの側壁や裏面にも回りこみ、選択的に炭素と反応し、触媒金属以外をすばやく除去できる。さらに、触媒金属のみを除去する工程を追加することにより、ナノパーティクルを含有するフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層をパターニングすることができる。反応生成物は、例えば、酸素の場合、ＣＯやＣＯ２などのガスとなるため支持体への再付着がなく、表面汚染の問題がない。特に酸素をもちいた燃焼は簡便であり、好ましい。
【００６７】
次に、イオン性のスパッタ効果を用いた場合を検討する。パターニングする時に残したい導電層に、例えば、スパッタや蒸着を用いてアルミニウムを被覆するが、導電層の表面は凹凸が大きい場合には、特に凹の内部では十分にアルミニウムを被うことができない場合がある。反応性ガスを用いた場合には、ガスの回り込みがあり、エッチング時間が長時間の場合、保護膜が十分に被覆していない部分より、導電層がエッチングされる。一方、イオン性のスパッタエッチングを用いた場合、イオン種の直進性が強く、上面よりイオン種が進入するため、厚い被覆膜の下部に位置する導電層に対してダメージを与えにくい。さらに、異方性のエッチングであるため、マスクパターンに忠実にしかも垂直にエッチングできる。したがって、ナノパーティクルのうち特に触媒金属の含有がないフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を除去するのに好ましく、また微細なパターニング形成に好ましい。
【００６８】
イオンビームエッチング、反応性イオンビームエッチングではマスクがなく、エッチングすることが可能であるが、ビームを変調する必要があり、面積当たりのプロセス時間が必要である。大面積ディスプレイよりは小型のディスプレイに適している。
【００６９】
また、上記Ｏ２プラズマアッシング時のマスクとしてアルミニウム膜を使用した例を示したが、除去する際に導電層にダメージを与えない金属、例えば、チタン、金、モリブデン、タングステン、銀などを使用してもよい。チタンでは硝酸、金では王水、モリブデンでは熱濃硫酸または王水、タングステンではフッ化水素酸と硝酸の混合液により速やかに除去できる。しかし、長時間の処理では硝酸、硫酸、フッ化水素では導電層が徐々にではあるが劣化するため、ダメージを受けない条件、特に温度、濃度と所定の時間内で処理する必要がある。室温では硝酸６５％、硫酸９０％、フッ化水素４５％およびそれらの混合物で１時間以内の処理でダメージなく処理することができる。アルミニウムは他の金属に比べ安価であり、また、導電層の被覆状態、特にアルミニウムの結晶粒が密で被覆率が高く、しかもエッチング液である燐酸に対して導電層の劣化が見られず、他の金属よりも好ましい。
【００７０】
一方、原子量の大きい金属はイオンによるスパッタ率が小さく、スパッタ効果が主なドライエッチングの場合にマスク材として相応しい。特に金、タングステン、モリブデンはアルミニウム、チタンよりスパッタに対する耐性が２倍以上あり、マスク直下でのダメージを受けにくく、したがって、ナノパーティクルのうち特に触媒金属の含有がないフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を除去するのに好ましく、また微細なパターニング形成に好ましい。
また、金属以外でも、Ｏ２プラズマアッシングでのダメージを受けず、除去する際に導電層にダメージを与えない物質、たとえば二酸化珪素、酸化アルミニウムなどであれば、使用することが可能である。
【００７１】
（フラーレン官能基化カーボンナノチューブ）
フラーレン官能基化カーボンナノチューブ（本明細書では、ＣＢＦＦＣＮＴとも呼ぶ）は、カーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含む。つまり、ＣＢＦＦＣＮＴは、フラーレンおよびフラーレン系分子からなる群から選択される１種または複数種が共有結合を介して導入されたカーボンナノチューブである。
【００７２】
カーボンナノチューブとは、炭素原子によって作られる六員環ネットワーク（グラフェンシート）が単層または多層の同軸管状になった物質である。カーボンナノチューブは、炭素原子のみから構成されていてもよく、炭素原子と１種または複数種の他の原子（例えば、ヘテロ原子）を含んでいてもよい。カーボンナノチューブは、末端が開放および／または閉鎖された、円筒形または管状の構造を有することができる。また、他のカーボンナノチューブ構造も可能である。
【００７３】
フラーレンとは、炭素原子を含み、かつ、その構造が実質的に球形、楕円形またはボール状である分子である。フラーレンは、表面が閉鎖された中空の構造を有していてもよく、または、完全に閉鎖されるのではなく、１つまたは複数の開結合（ｏｐｅｎ ｂｏｎｄｓ）を有する実質的に球形の構造を有していてもよい。フラーレンは、例えば、実質的に半球体のような形状および／または任意の他の球のような形状を有することもできる。
フラーレン系分子とは、上述のフラーレンのいずれかであって、分子内の１つまたは複数の炭素原子が、１つまたは複数の、例えば、炭素原子以外の原子（例えば、ヘテロ原子）、分子、基および／または化合物で置換されている分子や、上述のフラーレン分子のいずれかであって、１つまたは複数の追加の原子（例えば、ヘテロ原子）、分子、基および／または化合物がフラーレン内に組み込まれている分子や、上述のフラーレンのいずれかであって、１つまたは複数の追加の原子（例えば、ヘテロ原子）、分子、基および／または化合物がフラーレンの表面にくっ付いている分子を意味する。
なお、１種または複数種の他のフラーレンをカーボンナノチューブ表面にくっ付けることができるという点について触れておくことができるが、これは単なる１つの非限定例である。
【００７４】
１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、カーボンナノチューブの外面および／または内面、好ましくは外面に共有結合させることができる。フラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、２０〜１０００個の原子を含むことができる。フラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、１種または複数種の架橋原子団を介してカーボンナノチューブに共有結合させてもよいし、カーボンナノチューブに直接共有結合させてもよい。
架橋原子団とは、カーボンナノチューブへの共有結合を可能にするのに用いられる任意の原子、元素、分子、基および／または化合物を意味する。好適な架橋原子団は、例えば、元素周期表の第ＩＶ族、第Ｖ族、第ＶＩ族の任意の元素を含むことができる。好適な架橋原子団は、例えば、酸素、水素、窒素、硫黄、アミノ基、チオール基、エーテル基、エステル基および／またはカルボン酸基および／または他の任意の好適な基および／またはそれらの誘導体を含むことができる。好適な架橋原子団は、炭素含有基を含むことができる。
また、上述したように、もう一つの選択肢として、またはこれに加えて、フラーレンおよび／またはフラーレン系分子はカーボンナノチューブへ直接共有結合してもよい。例えば、フラーレンおよび／またはフラーレン系分子は、１つまたは複数の炭素結合を介して直接共有結合してもよい。
【００７５】
カーボンナノチューブは、単一壁、二重壁、若しくは多重壁のカーボンナノチューブ、または、複合カーボンナノチューブを含むことができる。カーボンナノチューブは、気体、液体および／または固体の分散体、固体構造体、粉末、ペーストおよび／またはコロイド懸濁液の中で配合することができ、および／または、表面上で析出させ、および／または、合成することができる。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、１つまたは複数のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を介して、１つまたは複数のカーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブに結合させることができる。言い換えれば、例えば、共通のフラーレン分子を介して、２つのフラーレン官能基化カーボンナノチューブを互いに付着することができる。
【００７６】
（フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造方法）
１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造方法としては、１種または複数種の触媒粒子、炭素源および／または試薬を互いに接触させ、反応器内で加熱して、１種または複数種のカーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含む１種または複数種のカーボンナノチューブを製造することを含む。
１種または複数種の触媒粒子、炭素源および／または試薬を互いに接触させるステップは、例えば、それらを互いに接触させる任意の好適な方法（例えば、混合）により実施できる。この方法は、反応器内で実施されることが好ましい。このようにして、１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブは製造される。
【００７７】
フラーレン官能基化カーボンナノチューブは、エアロゾルのような気相中で、および／または、基材上で製造できる。さらに、この方法は、連続流れであるか、バッチプロセスであるか、または、バッチサブプロセスと連続サブプロセスの組み合わせにすることができる。
フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造においては、種々の炭素含有物質を炭素源として使用できる。また、炭素源を形成する炭素含有前駆物質も使用できる。炭素源は、１種または複数種のアルカン、アルケン、アルキン、アルコール、芳香族炭化水素および任意の他の好適なグループ、化合物または材料からなる群より選択できる。また、炭素源は、例えば、気体の炭素化合物（メタン、エタン、プロパン、エチレン、アセチレン、一酸化炭素など）、液体の揮発性炭素源（ベンゼン、トルエン、キシレン、トリメチルベンゼン、メタノール、エタノール、およびオクタノールなど）および他の任意の好適な化合物と、それらの誘導体からなる群より選択できる。チオフェンも炭素源として使用できる。なかでも、一酸化炭素ガスが、炭素源として好ましい。
炭素源としては、１種または複数種を使用できる。
炭素前駆物質を使用する場合、炭素前駆物質は、例えば、加熱されたフィラメントまたはプラズマを用いて、反応器中の所望の場所で活性化させることができる。
【００７８】
１つの実施態様では、１種または複数種の炭素源は、１種または複数種の触媒粒子源、試薬、試薬前駆物質および／または追加の試薬としても機能する。
炭素源は、５〜１００００ｃｃｍ、好ましくは５０〜１０００ｃｃｍ、例えば約３００ｃｃｍの割合で反応器に導入することができる。この方法で用いる種々の材料（例えば、炭素源）の圧力は、０．１〜１０００Ｐａ、好ましくは１〜５００Ｐａにすることができる。
１種または複数種の試薬を、フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造において使用できる。試薬はエッチング剤であってよい。試薬は、水素、窒素、水、二酸化炭素、亜酸化窒素、二酸化窒素および酸素よりなる群から選択できる。さらに、試薬は、例えば、有機および／または無機の酸素含有化合物（オゾン（Ｏ3）など）および種々の水素化物から選択できる。この方法に用いる１種または複数種の試薬は、一酸化炭素、オクタノールおよび／またはチオフェンから選択できる。
好ましい試薬（１種または複数種）は、水蒸気および／または二酸化炭素である。また他の任意の好適な試薬も、本発明による方法に用いることができる。他の試薬および／または試薬前駆物質を炭素源として用いることもでき、その逆も同様である。そのような試薬の例は、例えば、ケトン、アルデヒド、アルコール、エステルおよび／またはエーテルおよび／または他の任意の好適な化合物である。
【００７９】
これら１種または複数種の試薬、および／または、試薬前駆物質を、例えば、炭素源と一緒かまたは別個に反応器に導入できる。１種または複数種の試薬／試薬前駆物質は、１〜１２０００ｐｐｍ、好ましくは１００〜２０００ｐｐｍの濃度で反応器に導入できる。
【００８０】
カーボンナノチューブに共有結合する１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子の濃度は調整できる。この調整は、使用する１種または複数種の試薬の量（例えば、濃度）を調整することにより、加熱温度を調整することにより、さらに／または滞留時間を調整することにより、行うことができる。調整は合成方法に応じて行われる。加熱は、２５０〜２５００℃、好ましくは６００〜１０００℃の温度で行うことができる。例えば、Ｈ２ＯおよびＣＯ２を試薬として用いる場合、試薬の濃度は、水の場合には４５〜２４５ｐｐｍの間、好ましくは１２５〜１８５ｐｐｍの間にし、ＣＯ２の場合には２０００〜６０００ｐｐｍの間、好ましくは約２５００ｐｐｍにすることができる。このようにして１フラーレン／ｎｍより高いフラーレン密度にすることができる。１種または複数種の試薬の特定濃度でも、加熱温度に最適範囲があることを見出すことができる。
【００８１】
炭素源の分解／不均化の過程を触媒する種々の触媒材料（触媒粒子）を使用できる。
用いる触媒粒子は、例えば、種々の金属および／または非金属の材料を含んでよい。好ましい触媒粒子は、１種類の金属、好ましくは１種類の遷移金属および／または金属（複数種）および／または遷移金属（複数種）の組み合わせを含む。触媒粒子は、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、モリブデン、パラジウムおよび／または他の任意の類似元素を含むことが好ましい。触媒粒子は、化学前駆物質（例えば、フェロセン）から、例えば、フェロセン蒸気の熱分解によって形成させることができる。触媒粒子は、金属または金属含有物質を加熱することにより製造できる。
【００８２】
触媒粒子／触媒前駆物質は、１０〜１００００ｃｃｍ、好ましくは５０〜１０００ｃｃｍ（例えば、約１００ｃｃｍ）の割合で反応器に導入できる。
本発明による方法に用いる触媒粒子は、種々の方法で製造できる。そのような方法の例としては、例えば、触媒前駆物質の化学蒸気分解（ｃｈｅｍｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｄｅｃｏｍｐｏｓｉｔｉｏｎ）、物理的蒸気核形成（ｐｈｙｓｉｃａｌ ｖａｐｏｒ ｎｕｃｌｅａｔｉｏｎ）がある。また、他の方法としては、触媒粒子は、例えば、エレクトロスプレー、超音波噴霧、空気噴霧などによって、例えば、金属塩溶液並びにコロイド状金属ナノ粒子溶液から作られる液滴から製造できるか、あるいは、熱乾燥および分解および／または任意の他の適用可能な方法および／またはプロセスおよび／または材料を使用して製造できる。粒子を製造するための他の任意の手順、例えば、ノズル内での断熱膨張、アーク放電および／またはエレクトロスプレーシステムも、触媒粒子の形成に使用できる。熱ワイヤー式発生器（ｈｏｔ ｗｉｒｅ ｇｅｎｅｒａｔｏｒ）を触媒粒子の製造に使用することもできる。本発明によれば、金属蒸気を発生させるために金属を含有した塊を加熱および／または蒸発させる他の手段も可能である。
【００８３】
触媒粒子はあらかじめ合成しておくこともでき、それから反応器に導入することができる。しかし、一般に、ＣＢＦＦＣＮＴの製造に必要な粒度範囲の粒子は、取り扱いおよび／または貯蔵が困難なので、製造プロセスにおける統合ステップとして反応器の近くで粒子を製造することが好ましい。
エアロゾルおよび／または表面担持の触媒粒子を、フラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造に使用できる。触媒粒子前駆物質を触媒粒子の製造に使用できる。
基材担持のフラーレン官能基化カーボンナノチューブの製造の場合、触媒粒子は基材上で直接製造することができ、および／または、拡散、熱泳動（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｓｉｓ）、電気泳動、慣性衝突および／または他の任意の手段によって気相から析出させることができる。
触媒粒子の化学的製造方法の場合、金属有機化合物、有機金属化合物および／または無機化合物、例えば、メタロセン化合物、カルボニル化合物、キレート化合物および／または他の任意の好適な化合物を、触媒前駆物質として使用できる。
【００８４】
触媒粒子の物理的製造方法の場合、例えば、純金属またはその金属の合金を、抵抗加熱、誘導加熱、プラズマ加熱、伝導加熱もしくは放射加熱、または、化学反応などの種々のエネルギー源を用いて蒸発させ（ここで、生成された触媒蒸気の濃度は、放出の場所での核形成に必要なレベルより低い）、その後で過飽和蒸気から核形成、凝縮、および／または凝結させることができる。物理的方法において触媒粒子の形成につながる過飽和蒸気の生成手段としては、例えば、抵抗加熱されたワイヤーの回りでの対流熱伝達、伝導性熱伝達および／または放射熱伝達および／または（例えば、ノズル内の）断熱膨張による気体冷却がある。
【００８５】
触媒粒子の熱分解製造方法の場合、例えば、種々の金属および／または他の任意の好適な物質の硝酸塩、炭酸塩、塩化物および／またはフッ化物などの、無機塩を使用できる。
本発明の方法は、１種または複数種の追加試薬を導入するステップをさらに含むことができる。追加試薬は、カーボンナノチューブの形成を促進するため、炭素源の分解速度を変化させるため、カーボンナノチューブの製造中および／または製造後の無定形炭素と反応させるため、および／または（例えば、カーボンナノチューブの精製、ドーピングおよび／またはさらなる官能基化のために）カーボンナノチューブと反応させるために使用できる。触媒粒子前駆物質、触媒粒子、炭素源、無定形炭素および／またはカーボンナノチューブ（１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子が共有結合しているもの）との化学反応に関与させるための追加試薬を、本発明に従って使用できる。１種または複数種の追加試薬は、炭素源と一緒または別個に導入できる。
【００８６】
本発明によるＣＢＦＦＣＮＴ形成用の促進剤（すなわち、追加試薬）として、硫黄、リンおよび／または窒素元素および／またはそれらの化合物（チオフェン、ＰＨ３、ＮＨ３など）などの追加試薬を使用できる。追加の促進剤試薬は、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２、ＮＯおよび／または任意の他の好適な元素および／または化合物から選択できる。
精製工程では、場合によっては、例えば、望ましくない無定形炭素コーティングおよび／またはＣＢＦＦＣＮＴ内に封入された触媒粒子を除去する必要がありうる。本発明では、１つまたは複数の加熱される別個の反応器／反応器セクションを設けることが可能であり、１つの反応器または反応器の１つのセクションはＣＢＦＦＣＮＴを製造するのに使用し、残りのもの（１つまたは複数）は、例えば、さらなる精製、さらなる官能基化および／またはドーピングに使用する。上記のステップを組み合わせることも可能である。
無定形炭素を除去するための化学物質として、任意の化合物、その化合物の誘導体および／またはその化合物の分解生成物（反応器中においてその場で形成される）を使用できるが、それは好ましくは、黒鉛化炭素とではなく無定形炭素と反応する。そのような試薬の例として、１種または複数種のアルコール、ケトン、有機酸および／または無機酸を使用できる。さらに、Ｈ２Ｏ、ＣＯ２および／またはＮＯなどの酸化剤を使用できる。本発明によれば、他の追加試薬も可能である。
【００８７】
１つの実施態様では、ＣＢＦＦＣＮＴをさらに官能基化するために１種または複数種の追加試薬を使用できる。ＣＢＦＦＣＮＴに付着する化学基および／またはナノ粒子により、製造されるＣＢＦＦＣＮＴの性質が変わる。例として、ホウ素、窒素、リチウム、ナトリウム、および／またはカリウム元素によってＣＢＦＦＣＮＴをドーピングすると、ＣＢＦＦＣＮＴの伝導率が変化する。すなわち、超伝導性を有するＣＢＦＦＣＮＴが得られる。フラーレンによってカーボンナノチューブを官能基化すると、付着したフラーレンによってカーボンナノチューブのさらなる官能基化が可能になる。本発明では、ＣＢＦＦＣＮＴの形成前、その形成中、および／またはその形成の後に適切な試薬を導入することにより、その場で官能基化および／またはドーピングを行うことができる。
【００８８】
１つの実施態様では、１種または複数種の追加試薬は、炭素源、キャリヤーガスおよび／または触媒粒子源としても振る舞うことができる。
１つの実施態様では、この方法は、１種または複数種の添加剤を反応器に導入してフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料を製造するステップをさらに含む。例えば、製造されたＣＢＦＦＣＮＴをコーティングし、および／または、ＣＢＦＦＣＮＴと混合して、ＣＢＦＦＣＮＴ複合材を作るために、１種または複数種の添加剤を使用できる。添加剤の目的は、例えば、マトリックスに付着したＣＢＦＦＣＮＴの触媒効率を増大させること、および／または、マトリックスの性質（硬さ、剛性、化学反応性、光学特性および／または熱伝導率および／または電気伝導率および／または膨張係数など）を制御することである。ＣＢＦＦＣＮＴ複合材料用のコーティングまたはエアロゾル化粒子添加剤として、好ましくは１種または複数種の金属含有材料および／または有機材料（ポリマーなど）および／またはセラミック、溶剤および／またはそれらのエアロゾルを使用できる。本発明によれば、他の任意の好適な添加剤も使用できる。
得られた複合材は、例えば、直接回収し、マトリックスに付着させ、および／または表面上に付着させることができる。これは、電気力、熱泳動（ｔｈｅｒｍｏｐｈｏｒｅｔｉｃ）力、慣性力、拡散力、乱流移動（ｔｕｒｂｏｐｈｏｒｅｔｉｃ）力、重力および／または他の好適な力によって行って、例えば、厚膜または薄膜、糸、構造体および／または層状材料を形成させることができる。ＣＢＦＦＣＮＴは、１種または複数種の添加する固体または液体および／または固体または液体粒子によってコーティングして、ＣＢＦＦＣＮＴ複合材を構成することができる。
【００８９】
添加剤は、例えば、過飽和蒸気の凝縮、すでに付着している層との化学反応、ドープ剤および／または官能基により、および／または他の手段によって、あるいは添加剤が粒子である場合、気相中で混合および凝集させて、ＣＢＦＦＣＮＴ上に表面コーティングとして付着させることができる。さらに、ＣＢＦＦＣＮＴへの気体および粒子の付着を組み合わせることができる。
【００９０】
１つの実施態様では、反応器へ上記の物質を導入するのに、必要に応じて１種または複数種のキャリヤーガスを使用することができる。キャリヤーガスは、所望される場合には、炭素源、触媒粒子源、試薬源および／または追加試薬源として機能することもできる。
１つの実施態様では、この方法は、固体、液体または気体の分散体（ｄｉｓｐｅｒｓｉｏｎ）、固体構造体、粉末、ペースト、コロイド懸濁液として、および／または表面付着物として、製造された１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料を回収するステップをさらに含む。
１つの実施態様では、この方法は、製造されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料の分散体、例えば、気体分散体を、表面上および／またはマトリックスおよび／または層状構造体および／またはデバイスの中に付着させるステップをさらに含む。
種々の手段（慣性衝突、熱泳動および／または電界内での移動が含まれるが、これらに限定されない）により、合成された材料の付着の制御を行って、電気伝導率および／または熱伝導率、不透明度および／または機械的強度、硬さおよび／または延性などの所望の性質を有する、所望の形状（例えば、糸、点、膜または三次元構造体）に形成させることができる。合成された材料の付着の制御を行う手段として、電気伝導率および／または熱伝導率、不透明度および／または機械的強度、硬さおよび／または延性などの所望の性質を有する所望の形状（例えば、糸、点または膜）を形成させる、重力沈降、ファイバーおよびバリヤー濾過、慣性衝突、熱泳動および／または電界内での移動がさらにあるが、これらに限定されない。
【００９１】
以下、１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブを製造するための装置について述べる。その装置は、１種または複数種の触媒粒子、炭素源および／または試薬を加熱するための反応器を具備し、その加熱は、１種または複数種のカーボンナノチューブに共有結合した１種または複数種のフラーレンおよび／またはフラーレン系分子を含んだ１種または複数種のカーボンナノチューブを製造するために行われる。
かかる装置は、触媒粒子の製造手段；１種または複数種の触媒粒子の導入手段；１種または複数種の触媒粒子前駆物質の導入手段；１種または複数種の炭素源の導入手段；１種または複数種の炭素源前駆物質の導入手段；１種または複数種の試薬の導入手段；１種または複数種の試薬前駆物質の導入手段；１種または複数種の追加試薬の導入手段；１種または複数種の添加剤の導入手段；製造された１種または複数種のフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはフラーレン官能基化カーボンナノチューブ複合材料の回収手段；製造されたフラーレン官能基化カーボンナノチューブおよび／またはカーボンナノチューブ複合材料の分散体（例えば、気体分散体）を付着させる手段；触媒粒子の製造手段および／または反応器へエネルギーを供給する手段の、１つまたはそれ以上をさらに具備することができる。上記の種々の材料を、例えば、反応器および／または装置の他の任意の部分へ導入するのに使用される手段は、例えば、１つの同じ手段または種々の手段を具備することができる。例えば、本発明の１つの実施態様では、１種または複数種の炭素源および試薬は、１つの同じ手段を用いて反応器に導入することができる。さらに、必要に応じて，装置は反応器内に混合手段を具備することができる。
【００９２】
装置は、１つまたは複数の反応器を具備することができ、それによって、ＣＢＦＦＣＮＴ、さらに官能基化されたＣＢＦＦＣＮＴ、ドーピングされたＣＢＦＦＣＮＴおよび／またはそれらのＣＢＦＦＣＮＴの複合材料の連続製造および／またはバッチ製造が可能である。反応器の構成は、直列および／または並列にして、種々の最終組成物を得ることができる。さらに、反応器は、完全なバッチ手順または部分的なバッチ手順で操作することができる。
【００９３】
反応器は、例えば管、例えば、セラミック材料、鉄、ステンレス鋼および／または任意の他の好適な材料を含む管を具備することができる。本発明の１つの実施態様では、反応器の表面は、反応器に（例えば、上流で）導入される１種または複数種の試薬前駆物質から、ＣＢＦＦＣＮＴの製造に必要な１種または複数種の試薬を触媒的に製造する材料を含んでなることができる。
【００９４】
１つの実施態様では、管の内径は、例えば、０．１〜２００ｃｍ、好ましくは１．５〜３ｃｍにすることができ、管の長さは、例えば、１〜２０００ｃｍ、好ましくは２５〜２００ｃｍにすることができる。任意の他の寸法（例えば、工業的用途におけるもの）も適用できる。
【００９５】
本発明による装置を使用する場合、反応器内の作業圧力は、例えば、０．１〜１０気圧，好ましくは０．５〜２気圧（例えば、約１気圧）にすることができる。さらに、反応器内の温度は、２５０〜２５００℃、例えば、６００〜１０００℃にすることができる。
【００９６】
触媒粒子の製造手段は、例えば、予備反応器（ｐｒｅ‐ｒｅａｃｔｏｒ）を具備することができる。この手段は、例えば、熱ワイヤー式発生器を具備することができる。装置は、触媒粒子を製造するための他の任意の好適な手段をさらに具備することができる。この手段は、反応器とは間隔をあけて分離することができる。あるいは、反応器に組み込まれた一部にすることもできる。本発明による装置を使用する場合、触媒粒子の製造手段は、例えば、反応器温度が２５０〜２５００℃、好ましくは３５０〜９００℃となる場所に置くことができる。
【００９７】
１つの好ましい実施態様では、例えば、予備反応器（例えば、熱ワイヤー式発生器）を通過する流れは、好ましくは水素と窒素の混合物であり、ここで水素の率は好ましくは１％から９９％の間、より好ましくは５から５０％の間、もっとも好ましくはおよそ７％である。流量、例えば、熱ワイヤー式発生器中を通過する流量は、１〜１００００ｃｃｍ、好ましくは２５０〜６００ｃｃｍにすることができる。
【００９８】
本発明によれば、種々のエネルギー源を用いて、例えば、化学反応および／またはＣＢＦＦＣＮＴ合成を、例えば、促進し、および／または妨げることができる。例として、抵抗、伝導、放射および／または原子力および／または化学反応で加熱された反応器および／または予備反応器があるが、これらに限定されない。その他のエネルギー源を反応器および／または予備反応器に使用することもできる。例えば、高周波、マイクロ波、音、レーザーによる誘導加熱および／またはその他の何らかのエネルギー源（化学反応など）を使用できる。
【００９９】
＜ハードコート層＞
ハードコート層は、上記導電層に隣接して配置される層であり、導電層の傷付きを防止する機能を有する。ハードコート層は、上記導電層上に隣接して配置される。つまり、ハードコート層と導電層とは接している。
ハードコート層を形成することで導電性フィルムの鉛筆硬度が上昇する。実用的には、ハードコート層積層後の鉛筆硬度（ＪＩＳ  Ｋ５４００）はＨ以上が好ましく、更に好ましくは２Ｈ以上であり、最も好ましくは３Ｈ以上である。
ハードコート層の厚みは、０．４〜３５μｍが好ましく、１〜３０μｍがより好ましく、１．５〜２０μｍがさらに好ましい。
ハードコート層は１層でも複数でもかまわない。ハードコート層が複数層の場合、全てのハードコート層の膜厚の合計が上位範囲であることが好ましい。
また、必要に応じて、表面凹凸や内部散乱付与のためにハードコート層に透光性粒子を含有させることもできる。
【０１００】
ハードコート層の形成方法は特に制限されず、公知の方法が採用されるが、一般的には、所定の成分を含むハードコート層形成用組成物を導電層上に塗布して、必要に応じて、硬化処理（例えば、加熱処理および／または光照射処理）を実施する方法が挙げられる。
ハードコート層形成用組成物の態様においては、後段にて詳述する。
塗布方法としては、公知の塗布方法を採用し得る。例えば、グラビアコート、ロールコート、リバースコート、ナイフコート、ダイコート、リップコート、ドクターコート、エクストルージョンコート、スライドコート、ワイヤーバーコート、カーテンコート、押出コート、スピナーコート等が挙げられる。
【０１０１】
ハードコート層形成用組成物を塗布した後、必要に応じて、溶媒を除去するために、組成物の塗布層に対して乾燥処理を施してしてもよい。乾燥処理の方法は特に制限されず、風乾処理や、加熱処理などが挙げられる。
【０１０２】
上記塗布により得られた組成物の塗布層を重合硬化させる方法は特に制限されず、加熱処理または光照射処理などが挙げられる。
加熱処理の条件は使用される材料により異なるが、反応効率がより優れる点で、４０〜２００℃（好ましくは５０〜１５０℃）で０．５分〜１０分（好ましくは１分〜５分）処理することが好ましい。
【０１０３】
光照射処理の条件は特に制限されず、紫外線を発生させて照射して光硬化させるという紫外線照射法が好ましい。このような方法に用いる紫外線ランプとして、例えば、メタルハライドランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ランプ、パルス型キセノンランプ、キセノン／水銀混合ランプ、低圧殺菌ランプ、無電極ランプが挙げられる。これらの紫外線ランプの中でも、メタルハライドランプまたは高圧水銀ランプを用いることが好ましい。
また、照射条件はそれぞれのランプの条件によって異なるが、通常、照射露光量は２０〜１００００ｍＪ／ｃｍ2の範囲であればよく、１００〜３０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲であることが好ましい。
なお、前述の好ましい条件の範囲内で、条件を変更しつつ、段階的な加熱処理や光照射を行なってもよい。また、シワが発生しにくいフィルム温度を制御する目的でＵＶ照射時に接触するロールの温度を制御してもよい。
【０１０４】
以下、ハードコート層を形成するために使用されるハードコート層形成用組成物の好適実施態様について詳述する。
【０１０５】
［ハードコート層形成用組成物（その１）］
本発明において、ハードコート層は、不飽和二重結合を有する化合物、重合開始剤、必要に応じて、透光性粒子、含フッ素またはシリコーン系化合物、溶剤を含有する組成物を、導電層上に直接または他の層を介して塗布・乾燥・硬化することにより形成することができる。
以下、ハードコート層形成用組成物（その１）に含まれる各成分について説明する。
【０１０６】
（不飽和二重結合を有する化合物）
ハードコート層形成用組成物には不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。不飽和二重結合を有する化合物はバインダーとして機能することができ、重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーであることが好ましい。重合性不飽和基を２つ以上有する多官能モノマーは、硬化剤として機能することができ、塗膜の強度や耐擦傷性を向上させることが可能となる。重合性不飽和基は３つ以上であることがより好ましい。これらモノマーは、１または２官能のモノマーと３官能以上のモノマーを併用して用いることもできる。
【０１０７】
不飽和二重結合を有する化合物としては、（メタ）アクリロイル基、ビニル基、スチリル基、アリル基等の重合性官能基を有する化合物が挙げられ、中でも、（メタ）アクリロイル基およびＣ（Ｏ）ＯＣＨ＝ＣＨ２が好ましい。特に好ましくは下記の１分子内に３つ以上の（メタ）アクリロイル基を含有する化合物を用いることができる。
【０１０８】
重合性の不飽和結合を有する化合物の具体例としては、アルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、ポリオキシアルキレングリコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、多価アルコールの（メタ）アクリル酸ジエステル類、エチレンオキシドあるいはプロピレンオキシド付加物の（メタ）アクリル酸ジエステル類、エポキシ（メタ）アクリレート類、ウレタン（メタ）アクリレート類、ポリエステル（メタ）アクリレート類等を挙げることができる。
【０１０９】
中でも、多価アルコールと（メタ）アクリル酸とのエステル類が好ましい。例えば、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＰＯ変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ＥＯ変性リン酸トリ（メタ）アクリレート、トリメチロールエタントリ（メタ）アクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、１，２，３−シクロヘキサンテトラメタクリレート、ポリウレタンポリアクリレート、ポリエステルポリアクリレート、カプロラクトン変性トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート等が挙げられる。
【０１１０】
（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレート系化合物類は市販されているものを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫエステル  Ａ−ＴＭＭＴ、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＤＰＨＡ等を挙げることができる。多官能モノマーについては、特開２００９−９８６５８号公報の段落［０１１４］〜［０１２２］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１１１】
不飽和二重結合を有する化合物としては、水素結合性の置換基を有する化合物であることが、導電層との密着性、低カール、後述する含フッ素またはシリコーン系化合物の固定性の点から好ましい。水素結合性の置換基とは、窒素、酸素、硫黄、ハロゲンなどの電気陰性度が大きな原子と水素結合とが共有結合で結びついた置換基を指し、具体的にはＯＨ−、ＳＨ−、−ＮＨ−、ＣＨＯ−、ＣＨＮ−などが挙げられ、ウレタン（メタ）アクリレート類や水酸基を有する（メタ）アクリレート類が好ましい。市販されている（メタ）アクリロイル基を有する多官能アクリレートを用いることもでき、新中村化学工業（株）社製ＮＫオリゴ  Ｕ４ＨＡ、同ＮＫエステルＡ−ＴＭＭ−３、日本化薬（株）製ＫＡＹＡＲＡＤ  ＰＥＴ−３０等を挙げることができる。
【０１１２】
ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の無機成分を除いた全固形分に対して、５０質量％以上が好ましく、６０〜９９質量％がより好ましく、７０〜９９質量％が更に好ましく、８０〜９９質量％が特に好ましい。
【０１１３】
ハードコート層形成用組成物に、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を用いることも好ましい。このような化合物を用いることで、ハードコート層に低透湿性を付与することができる。ハードコート性を高めるために、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を２以上有する化合物を用いることがより好ましい。
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物はハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物中、１〜９０質量％が好ましく、２〜８０質量％がより好ましく、５〜７０質量％がさらに好ましい。
【０１１４】
ハードコート層形成用組成物が分子内に環状脂肪族炭化水素と不飽和二重結合を有する化合物を含有する場合、更に５官能以上の（メタ）アクリレートを含有することが好ましい。
ハードコート層形成用組成物が更に、５官能以上の（メタ）アクリレートを含有する場合、５官能以上の（メタ）アクリレートは、ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物中、１〜７０質量％が好ましく、２〜６０質量％がより好ましく、５〜５０質量％が特に好ましい。
【０１１５】
（透光性粒子）
ハードコート層に透光性粒子を含有させることで、ハードコート層表面に凹凸形状を付与したり、内部ヘイズを付与したりすることもできる。
ハードコート層に用いることができる透光性粒子としては、ポリメチルメタクリレート粒子（屈折率１．４９）、架橋ポリ（アクリル−スチレン）共重合体粒子（屈折率１．５４）、メラミン樹脂粒子（屈折率１．５７）、ポリカーボネート粒子（屈折率１．５７）、ポリスチレン粒子（屈折率１．６０）、架橋ポリスチレン粒子（屈折率１．６１）、ポリ塩化ビニル粒子（屈折率１．６０）、ベンゾグアナミン−メラミンホルムアルデヒド粒子（屈折率１．６８）、シリカ粒子（屈折率１．４６）、アルミナ粒子（屈折率１．６３）、ジルコニア粒子、チタニア粒子、または中空や細孔を有する粒子等が挙げられる。
なかでも、架橋ポリ（（メタ）アクリレート）粒子、架橋ポリ（アクリル−スチレン）粒子が好ましく用いられ、これらの粒子の中から選ばれた各透光性粒子の屈折率にあわせてバインダーの屈折率を調整することにより、ハードコート層に好適な表面凹凸、表面ヘイズ、内部ヘイズ、全ヘイズを達成することができる。バインダー（透光性樹脂）の屈折率は、１．４５〜１．７０が好ましく、１．４８〜１．６５がより好ましい。
また、透光性粒子と、ハードコート層のバインダーとの屈折率の差（「透光性粒子の屈折率」−「透光性粒子を除くハードコート層の屈折率」）は、絶対値として、好ましくは０．０５未満であり、より好ましくは０．００１〜０．０３０、更に好ましくは０．００１〜０．０２０である。ハードコート層中の透光性粒子とバインダーとの屈折率の差を０．０５未満にすると、透光性粒子による光の屈折角度が小さくなり、散乱光が広角まで広がらず、悪化作用が無く好ましい。
【０１１６】
上記の粒子とバインダーの屈折率差を実現するためには、透光性粒子の屈折率を調節しても、バインダーの屈折率を調節してもよい。
好ましい第１の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダー（硬化後の屈折率が１．５０〜１．５３）とアクリル含率５０〜１００質量パーセントである架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子を組み合わせて用いることが好ましい。低屈折率であるアクリル成分と高屈折率であるスチレン成分の組成比を調節することで、透光性粒子とバインダーとの屈折率差を０．０５未満にすることが容易である。アクリル成分とスチレン成分の比率は質量比で５０／５０〜１００／０が好ましく、更に好ましくは６０／４０〜１００／０であり、最も好ましくは６５／３５〜９０／１０である。架橋ポリ（メタ）アクリレート／スチレン重合体からなる透光性粒子の屈折率としては、１．４９〜１．５５が好ましく、更に好ましくは１．５０〜１．５４であり、最も好ましくは１．５１〜１．５３である。
好ましい第２の態様としては、３官能以上の（メタ）アクリレートモノマーを主成分としたバインダーに対して、１〜１００ｎｍの平均粒子サイズの無機微粒子を併用することで、モノマーと無機微粒子からなるバインダーの屈折率を調節し、既存の透光性粒子との屈折率差を調節するものである。無機粒子としては、珪素、ジルコニウム、チタン、アルミニウム、インジウム、亜鉛、錫、アンチモンのうちより選ばれる少なくとも一つの金属の酸化物、具体例としては、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、ＴｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３、Ｉｎ２Ｏ３、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、Ｓｂ２Ｏ３、ＩＴＯ等が挙げられる。好ましくは、ＳｉＯ２、ＺｒＯ２、Ａｌ２Ｏ３などが挙げられる。これら無機粒子は、モノマーの総量に対して１〜９０質量％の範囲で混合して用いることができ、好ましくは５〜６５質量％である。
ここで、透光性粒子を除くハードコート層の屈折率は、アッベ屈折計で直接測定するか、分光反射スペクトルや分光エリプソメトリーを測定するなどして定量評価できる。透光性粒子の屈折率は、屈折率の異なる２種類の溶媒の混合比を変化させて屈折率を変化させた溶媒中に透光性粒子を等量分散して濁度を測定し、濁度が極小になった時の溶媒の屈折率をアッベ屈折計で測定することで測定される。
【０１１７】
透光性粒子の平均粒径は、１．０〜１２μｍが好ましく、より好ましくは３．０〜１２μｍ、更に好ましくは４．０〜１０．０μｍ、最も好ましくは４．５〜８μｍである。屈折率差および粒子サイズを上記範囲に設定することで、光の散乱角度分布が広角にまで広がらず、ディスプレイの文字ボケ、コントラスト低下を引き起こしにくい。添加する層の膜厚を厚くする必要がなく、カールやコスト上昇といった問題が生じにくい点で、１２μｍ以下が好ましい。更に上記範囲内にすることは、塗工時の塗布量を抑えられ、乾燥が速く、乾燥ムラ等の面状欠陥を生じにくい点でも好ましい。
透光性粒子の平均粒径の測定方法は、粒子の平均粒径を測る測定方法であれば、任意の測定方法が適用できるが、好ましくは透過型電子顕微鏡（倍率５０万〜２００万倍）で粒子の観察を行い、粒子１００個を観察し、その平均値をもって平均粒子径とできる。
【０１１８】
透光性粒子の形状は特に限定されないが、真球状粒子の他に、異形粒子（例えば、非真球状粒子）といった形状の異なる透光性粒子を併用して用いてもよい。特に非真球状粒子の短軸をハードコート層の法線方向にそろえると、真球粒子に比べ、粒子径が小さなものが使用できるようになる。
【０１１９】
透光性粒子は、ハードコート層全固形分中に０．１〜４０質量％含有されるように配合されることが好ましい。より好ましくは１〜３０質量％、更に好ましくは１〜２０質量％、である。透光性粒子の配合比を上記範囲にすることで内部ヘイズを好ましい範囲に制御することができる。
また、透光性粒子の塗布量は、好ましくは１０〜２５００ｍｇ／ｍ２、より好ましくは３０〜２０００ｍｇ／ｍ２、更に好ましくは１００〜１５００ｍｇ／ｍ２である。
【０１２０】
透光性粒子の製造法は、懸濁重合法、乳化重合法、ソープフリー乳化重合法、分散重合法、シード重合法等を挙げることができ、いずれの方法で製造されてもよい。これらの製造法は、例えば「高分子合成の実験法」（大津隆行、木下雅悦共著、化学同人社）１３０頁および１４６頁から１４７頁の記載、「合成高分子」１巻、ｐ．２４６〜２９０、同３巻、ｐ．１〜１０８等に記載の方法、および特許第２５４３５０３号明細書、同第３５０８３０４号明細書、同第２７４６２７５号明細書、同第３５２１５６０号明細書、同第３５８０３２０号明細書、特開平１０−１５６１号公報、特開平７−２９０８号公報、特開平５−２９７５０６号公報、特開２００２−１４５９１９号公報等に記載の方法を参考にすることができる。
【０１２１】
透光性粒子の粒度分布はヘイズ値と拡散性の制御、塗布面状の均質性から単分散性粒子が好ましい。粒子径の均一さを表すＣＶ値は１５％以下が好ましく、より好ましくは１３％以下、更に好ましくは１０％以下である。更に平均粒子径よりも２０％以上粒子径が大きな粒子を粗大粒子と規定した場合、この粗大粒子の割合は全粒子数の１％以下であることが好ましく、より好ましくは０．１％以下であり、更に好ましくは０．０１％以下である。このような粒度分布を持つ粒子は、調製または合成反応後に、分級することも有力な手段であり、分級の回数を上げることやその程度を強くすることで、望ましい分布の粒子を得ることができる。
分級には風力分級法、遠心分級法、沈降分級法、濾過分級法、静電分級法等の方法を用いることが好ましい。
【０１２２】
（光重合開始剤）
ハードコート層形成用組成物には光重合開始剤を含有させることが好ましい。
ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１２３】
（紫外線吸収剤）
導電性フィルムは、タッチパネル付き表示装置の部材などに使用されるが、液晶等の劣化防止の観点から、ＵＶ硬化を阻害しない範囲でハードコート層に紫外線吸収剤を含有させることで、導電性フィルムに紫外線吸収性を付与することもできる。
【０１２４】
（溶剤）
ハードコート層形成用組成物は、溶剤を含有することができる。溶剤としては、モノマーの溶解性、透光性粒子の分散性、塗工時の乾燥性等を考慮し、各種溶剤を用いることができる。有機溶剤としては、例えば、ジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、炭酸ジメチル、炭酸メチルエチル、炭酸ジエチル、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、γ−プチロラクトン、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン、ジアセトンアルコール、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル等メチルアルコール、エチルアルコール、イソプロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、酢酸イソブチル、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
ハードコート層形成用組成物の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、更に好ましくは４０〜７０質量％である。
【０１２５】
［ハードコート層形成用組成物（その２）］
次に、帯電防止反射防止フィルムに用いる（帯電防止性）ハードコート層形成用組成物について説明する。
以下、ハードコート層形成用組成物（その２）に含まれる各種成分について詳述する。
【０１２６】
（４級アンモニウム塩基を有する化合物）
本ハードコート層形成用組成物は、４級アンモニウム塩基を有する化合物を含有する。
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、低分子型または高分子型のいずれを用いることもできるが、ブリードアウト等による帯電防止性の変動がないことから高分子型のカチオン化合物がより好ましく用いられる。
高分子型の４級アンモニウム塩基を有するカチオン化合物としては、公知化合物の中から適宜選択して用いることができるが、イオン伝導性が高い観点から、４級アンモニウム塩基含有ポリマーであることが好ましく、下記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位の少なくとも１つの単位を有するポリマーが好ましい。
【０１２７】
【化１】
2016024913.tif 000004
【０１２８】
一般式（Ｉ）中、Ｒ１は水素原子、アルキル基、ハロゲン原子またはＣＨ２ＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｙは水素原子またはＣＯＯ−Ｍ＋を表す。Ｍ＋はプロトンまたはカチオンを表す。Ｌは−ＣＯＮＨ−、−ＣＯＯ−、−ＣＯ−またはＯ−を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、またはこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｑは下記群Ａから選ばれる基を表す。
【０１２９】
【化２】
2016024913.tif 000005
【０１３０】
式中、Ｒ２、Ｒ２’およびＲ２’’は、それぞれ独立に、アルキル基を表す。Ｊはアルキレン基、アリーレン基、またはこれらを組み合わせてなる基を表す。Ｘ−はアニオンを表す。ｐおよびｑは、それぞれ独立に、０または１を表す。
【０１３１】
【化３】
2016024913.tif 000006
【０１３２】
【化４】
2016024913.tif 000007
【０１３３】
一般式（ＩＩ）中、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、それぞれ独立に、アルキル基を表し、Ｒ３とＲ４およびＲ５とＲ６はそれぞれ互いに結合して含窒素複素環を形成してもよい。
一般式（ＩＩ）中のＡおよびＢ、並びに、一般式（ＩＩＩ）中のＤは、それぞれ独立に、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−または−Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−を表す。
一般式（ＩＩＩ）中のＥは、単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基、−Ｒ７ＣＯＲ８−、−Ｒ９ＣＯＯＲ１０ＯＣＯＲ１１−、−Ｒ１２ＯＣＲ１３ＣＯＯＲ１４−、−Ｒ１５−（ＯＲ１６）ｍ−、−Ｒ１７ＣＯＮＨＲ１８ＮＨＣＯＲ１９−、−Ｒ２０ＯＣＯＮＨＲ２１ＮＨＣＯＲ２２−、−Ｒ２３ＮＨＣＯＮＨＲ２４ＮＨＣＯＮＨＲ２５−または−ＮＨＣＯＲ２６ＣＯＮＨ−を表す。Ｒ７、Ｒ８、Ｒ９、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１４、Ｒ１５、Ｒ１６、Ｒ１７、Ｒ１９、Ｒ２０、Ｒ２２、Ｒ２３、Ｒ２５およびＲ２６はアルキレン基を表す。Ｒ１０、Ｒ１３、Ｒ１８、Ｒ２１およびＲ２４は、それぞれ独立に、アルキレン基、アルケニレン基、アリーレン基、アリーレンアルキレン基およびアルキレンアリーレン基から選ばれる連結基を表す。ｍは１〜４の正の整数を表す。
Ｘ‐はアニオンを表す。
Ｚ１、Ｚ２は−Ｎ＝Ｃ−基と共に５員または６員環を形成するのに必要な非金属原子群を表し、≡Ｎ＋［Ｘ−］−なる４級塩の形でＥに連結してもよい。
ｎは５〜３００の整数を表す。
【０１３４】
一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）の基について説明する。
ハロゲン原子は、塩素原子、臭素原子が挙げられ、塩素原子が好ましい。
アルキル基は、炭素数１〜４の分岐または直鎖のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基、プロピル基がより好ましい。
アルキレン基は、炭素数１〜１２のアルキレン基が好ましく、メチレン基、エチレン基、プロピレン基がより好ましく、エチレン基が特に好ましい。
アリーレン基は、炭素数６〜１５のアリーレン基が好ましく、フェニレン、ジフェニレン、フェニルメチレン基、フェニルジメチレン基、ナフチレン基がより好ましく、フェニルメチレン基が特に好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
アルケニレン基は、炭素数２〜１０のアルキレン基が好ましく、アリーレンアルキレン基は、炭素数６〜１２のアリーレンアルキレン基が好ましい、これらの基は置換基を有していてもよい。
各基に置換してもよい置換基としては、メチル基、エチル基、プロピル基等が挙げられる。
【０１３５】
一般式（Ｉ）において、Ｒ１は水素原子またはメチル基が好ましい。
Ｙは、好ましくは水素原子である。
Ｌは、好ましくは−ＣＯＯ−である。
Ｊは、好ましくはフェニルメチレン基、メチレン基、エチレン基、プロピレン基である。
Ｑは、下記一般式（ＶＩ）で表される基であり、Ｒ２、Ｒ２’およびＲ２’’は各々メチル基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
ｐおよびｑは、好ましくは０または１であり、より好ましくはｐ＝１、ｑ＝１である。
【０１３６】
【化５】
2016024913.tif 000008
【０１３７】
一般式（ＩＩ）において、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５およびＲ６は、好ましくは炭素数１〜４の置換または無置換のアルキル基が好ましく、メチル基、エチル基がより好ましく、メチル基が特に好ましい。
一般式（ＩＩ）中のＡおよびＢ、並びに、一般式（ＩＩＩ）中のＤは、好ましくはそれぞれ独立に、炭素数２〜１０の置換または無置換のアルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表し、好ましくはフェニルジメチレン基である。
Ｘ−は、ハロゲンイオン、スルホン酸アニオン、カルボン酸アニオンなどが挙げられ、好ましくはハロゲンイオンであり、より好ましくは塩素イオンである。
Ｅは、好ましくは単結合、アルキレン基、アリーレン基、アルケニレン基、アリーレンアルキレン基を表す。
Ｚ１、Ｚ２が、−Ｎ＝Ｃ−基と共に形成する５員または６員環としては、ジアゾニアビシクロオクタン環等を例示することができる。
【０１３８】
以下に、一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位を有する化合物の具体例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるわけではない。なお、下記の具体例における添え字（ｍ、ｘ、ｙ、ｒおよび実際の数値）の内、ｍは各ユニットの繰り返し単位数を表し、ｘ、ｙ、ｒは各々のユニットのモル比を表す。
【０１３９】
【化６】
2016024913.tif 000009
【０１４０】
【化７】
2016024913.tif 000010
【０１４１】
【化８】
2016024913.tif 000011
【０１４２】
【化９】
2016024913.tif 000012
【０１４３】
【化１０】
2016024913.tif 000013
【０１４４】
上記で例示した導電性化合物は、単独で用いてもよいし、２種以上の化合物を併用して用いることもできる。また、帯電防止剤の分子内に重合性基を有する帯電防止化合物は、帯電防止層の耐擦傷性（膜強度）も高めることができるので、より好ましい。
【０１４５】
４級アンモニウム塩基を有する化合物としては、市販品を用いることもでき、例えば製品名「ライトエステルＤＱ−１００」（共栄社化学（株）製）、製品名「リオデュラスＬＡＳ−１２１１」（東洋インキ製造（株）製）、製品名「紫光ＵＶ−ＡＳ−１０２」（日本合成化薬（株）製）、「ＮＫオリゴＵ−６０１、２０１」（新中村化学（株）製）などが挙げられる。
【０１４６】
４級アンモニウム塩基含有ポリマーは、上記一般式（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位（イオン性構造単位）の他に、他の構造単位（繰り返し単位）を有していてもよい。４級アンモニウム塩基を有する化合物がイオン性構造単位以外の構造単位を持つことにより、組成物を作製する際に溶媒への溶解性、不飽和二重結合を有する化合物や光重合開始剤との相溶性を高めることができる。
【０１４７】
上記（Ｉ）〜（ＩＩＩ）で表される構造単位以外の構造単位を導入するために使用される重合性化合物としては特に限定されないが、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（エチレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリ（プロピレングリコール−テトラメチレングリコール）モノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノメチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノブチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクチルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノベンジルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノフェニルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノドデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノテトラデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノヘキサデシルエーテル、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレートモノオクタデシルエーテルポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクチルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートオクタデシルエーテル、ポリ（エチレングリコール−プロピレングリコール）モノ（メタ）アクリレートノニルフェニルエーテル等のアルキレンオキサイド鎖を有する化合物；メチル（メタ）アクリレート、エチル（メタ）アクリレート、プロピル（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、オクタデシル（メタ）アクリレート等のアルキル（メタ）アクリレート；ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート等のヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート；ベンジル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、イソボルニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート、エトキシエチル（メタ）アクリレート、エチルカルビトール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、シアノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート等の各種（メタ）アクリレートや、スチレン、メチルスチレン等から選ばれる重合性化合物およびその組み合わせが挙げられる。
【０１４８】
ハードコート層形成用組成物中の４級アンモニウム塩基を有する化合物の含有量は、帯電防止性を付与するのに十分な量でかつ膜硬度を減損しにくいという観点から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して１〜３０質量％が好ましく、３〜２０質量％がより好ましく、５〜１５質量％が更に好ましい。
【０１４９】
（不飽和二重結合を有する化合物）
ハードコート層形成用組成物には、不飽和二重結合を有する化合物を含有することができる。不飽和二重結合を有する化合物としては、上述した［ハードコート層形成用組成物（その１）］にて説明した化合物と同義である。
ハードコート層形成用組成物中の不飽和二重結合を有する化合物の含有量は、十分な重合率を与えて硬度などを付与するため、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、４０〜９８質量％が好ましく、６０〜９５質量％がより好ましい。
【０１５０】
（光重合開始剤）
ハードコート層形成用組成物は、光重合開始剤を含有することができる。
光重合開始剤としては、アセトフェノン類、ベンゾイン類、ベンゾフェノン類、ホスフィンオキシド類、ケタール類、アントラキノン類、チオキサントン類、アゾ化合物、過酸化物類、２，３−ジアルキルジオン化合物類、ジスルフィド化合物類、フルオロアミン化合物類、芳香族スルホニウム類、ロフィンダイマー類、オニウム塩類、ボレート塩類、活性エステル類、活性ハロゲン類、無機錯体、クマリン類などが挙げられる。光重合開始剤の具体例、および好ましい態様、市販品などは、特開２００９−０９８６５８号公報の段落［０１３３］〜［０１５１］に記載されており、本発明においても同様に好適に用いることができる。
「最新ＵＶ硬化技術」｛（株）技術情報協会｝（１９９１年）、ｐ．１５９、および、「紫外線硬化システム」加藤清視著（平成元年、総合技術センター発行）、ｐ．６５〜１４８にも種々の例が記載されており本発明に有用である。
【０１５１】
ハードコート層形成用組成物中の光重合開始剤の含有量は、ハードコート層形成用組成物に含まれる重合可能な化合物を重合させるのに十分多く、かつ開始点が増えすぎないよう十分少ない量に設定するという理由から、ハードコート層形成用組成物中の全固形分に対して、０．５〜８質量％が好ましく、１〜５質量％がより好ましい。
【０１５２】
（溶剤）
ハードコート層形成用組成物は種々の有機溶剤を含有してもよい。
本発明においては、イオン伝導性化合物との相溶性得る観点で、親水性溶媒を含んでいることが好ましい。親水性溶媒としては、アルコール系溶媒、カーボネート系溶媒、エステル系溶媒などが挙げられ、例えばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ｎ−ブチルアルコール、シクロヘキシルアルコール、２−エチル−１−ヘキサノール、２−メチル−１ヘキサノール、２−メトキシエタノール、２−プロポキシエタノール、２−ブトキシエタノール、ジアセトンアルコール、ジメチルカーボーネート、ジエチルカーボネート、ジイソプロピルカーボネート、メチルエチルカーボネート、メチルｎ−プロピルカーボネート、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ペンチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、２−エトキシプロピオン酸エチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、２−メトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸メチル、２−エトキシ酢酸エチル、アセトン、１，２−ジアセトキシアセトン、アセチルアセトン等が挙げられ、１種単独または２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１５３】
また、上記以外の溶剤を用いてもよい。例えば、エーテル系溶媒、ケトン系溶媒、脂肪族炭化水素系溶媒、芳香族炭化水素系溶媒などが挙げられる。例えばジブチルエーテル、ジメトキシエタン、ジエトキシエタン、プロピレンオキシド、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，３，５−トリオキサン、テトラヒドロフラン、アニソール、フェネトール、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、ジエチルケトン、ジプロピルケトン、ジイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、メチルシクロヘキサノン、メチルイソブチルケトン、２−オクタノン、２−ペンタノン、２−ヘキサノン、エチレングリコールエチルエーテル、エチレングリコールイソプロピルエーテル、エチレングリコールブチルエーテル、プロピレングリコールメチルエーテル、エチルカルビトール、ブチルカルビトール、ヘキサン、ヘプタン、オクタン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン等が挙げられ、１種単独であるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【０１５４】
ハードコート層形成用組成物中の固形分の濃度は２０〜８０質量％の範囲となるように溶媒を用いるのが好ましく、より好ましくは３０〜７５質量％であり、最も好ましくは４０〜７０質量％である。
【０１５５】
（界面活性剤）
ハードコート層形成用組成物には各種の界面活性剤を使用することも好適である。一般的に界面活性剤は乾燥風の局所的な分布による乾燥バラツキに起因する膜厚ムラ等を抑制したり、帯電防止層の表面凹凸や塗布物のハジキを改良できることがある。更には、帯電防止化合物の分散性を向上させることで、より安定で高い導電性を発現できる場合があり好適である。
界面活性剤としては、具体的には、フッ素系界面活性剤、または、シリコーン系界面活性剤が好ましい。また、界面活性剤は、低分子化合物よりもオリゴマーやポリマーであることが好ましい。
【０１５６】
界面活性剤を添加すると、塗布された液膜の表面に界面活性剤が速やかに移動して偏在化し、膜乾燥後も界面活性剤がそのまま表面に偏在することになるので、界面活性剤を添加したハードコート層の表面エネルギーは、界面活性剤によって低下する。ハードコート層の膜厚不均一性やハジキ、ムラを防止するという観点からは、膜の表面エネルギーが低いことが好ましい。
【０１５７】
フッ素系界面活性剤としては、特に、ハジキ、ムラ等による点欠陥を防止する観点から、下記一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーに由来する繰り返し単位と、下記一般式（Ｆ２）で表されるフルオロ脂肪族基を含有しないモノマーに由来する繰り返し単位とを含むフルオロ脂肪族基含有共重合体が好ましい。
一般式（Ｆ１）
【０１５８】
【化１１】
2016024913.tif 000014
【０１５９】
（式中、Ｒ０は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。Ｌは２価の連結基を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。）
一般式（Ｆ２）
【０１６０】
【化１２】
2016024913.tif 000015
【０１６１】
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。Ｌ１は２価の連結基を表す。Ｙは置換基を有してもよい炭素数１〜２０の直鎖、分岐、若しくは環状のアルキル基、または置換基を有していてもよい芳香族基を表す。）
【０１６２】
一般式（Ｆ１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーは、下記一般式（Ｆ１−１）で表されるフルオロ脂肪族基を含有するモノマーであることも好ましい。
一般式（Ｆ１−１）
【０１６３】
【化１３】
2016024913.tif 000016
【０１６４】
（式中、Ｒ１は水素原子、ハロゲン原子、またはメチル基を表す。Ｘは酸素原子、硫黄原、または−Ｎ（Ｒ２）−を表す。ｍは１以上６以下の整数を表す。ｎは１以上１８以下の整数を表す。Ｒ２は水素原子または置換基を有してもよい炭素数１〜８のアルキル基を表す。）
【０１６５】
上記フルオロ脂肪族基含有共重合体の好ましい態様、および具体例は、特開２００７−１０２２０６号公報の段落番号［００２３］〜［００８０］に記載されており、本発明においても同様である。
【０１６６】
シリコーン系界面活性剤の好ましい例としては、ジメチルシリルオキシ単位を繰り返し単位として複数個含む、化合物鎖の末端および／または側鎖に置換基を有するものが挙げられる。ジメチルシリルオキシを繰り返し単位として含む化合物鎖中にはジメチルシリルオキシ以外の構造単位を含んでもよい。置換基は同一であっても異なっていてもよく、複数個あることが好ましい。好ましい置換基の例としてはポリエーテル基、アルキル基、アリール基、アリールオキシ基、アリール基、シンナモイル基、オキセタニル基、フルオロアルキル基、ポリオキシアルキレン基、などを含む基が挙げられる。
【０１６７】
分子量に特に制限はないが、１０万以下であることが好ましく、５万以下であることがより好ましく、１０００〜３００００であることが特に好ましく、１０００〜２００００であることが最も好ましい。
【０１６８】
好ましいシリコーン系化合物の例としては、信越化学工業（株）製の“Ｘ−２２−１７４ＤＸ”、“Ｘ−２２−２４２６”、““Ｘ２２−１６４Ｃ”、“Ｘ−２２−１７６Ｄ”、（以上商品名）；チッソ（株）製の、“ＦＭ−７７２５”、“ＦＭ−５５２１”、“ＦＭ−６６２１”、（以上商品名）；Ｇｅｌｅｓｔ製の“ＤＭＳ−Ｕ２２”、“ＲＭＳ−０３３”（以上商品名）；東レ・ダウコーニング（株）製の“ＳＨ２００”、“ＤＣ１１ＰＡ”、 “ＳＴ８０ＰＡ”、 “Ｌ７６０４”、“ＦＺ−２１０５”、 “Ｌ−７６０４”、“Ｙ−７００６”、“ＳＳ−２８０１”、（以上商品名）；モメンティブ・パフォーマンス・マテリアルズ・ジャパン製の“ＴＳＦ４００” （商品名）；などが挙げられるがこれらに限定されるものではない。
界面活性剤は、ハードコート層形成用組成物の全固形分中に０．０１〜０．５質量％含有されることが好ましく、０．０１〜０．３質量％がより好ましい。
【０１６９】
なお、上述したハードコート層形成用組成物（その１）およびハードコート層形成用組成物（その２）以外にも、例えば、特開２０１２−７８５２８号公報の感光性組成物を上記ハードコート層形成用組成物として使用してもよい。
【０１７０】
＜導電性フィルムおよびその用途＞
本発明の導電性フィルムは、上述した、支持体、導電層、および、ハードコート層を有する。
導電性フィルムのシート抵抗値は特に制限されないが、導電性がより優れる点で、１０〜１５０Ω／□が好ましく、１０〜１００Ω／□がより好ましい。
シート抵抗値は、三菱ケミカルコーポレーションＬｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、四探針法によりＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に準拠して測定した値とする。
【０１７１】
なお、上述したように、導電性フィルムにはシワは存在しないことが望ましい。ハードコート層を形成後の導電性フィルムを透過光、反射光の環境下で目視観察し、視認できないレベルであれば実用上は問題とならない。実用上問題ない範囲を定量的に示す事は難しいが、例えば、非接触式のレーザー変位計（キーエンス社製ＬＫ−Ｇ５０００）を用いて、表裏の膜厚測定を行う方法が挙げられる。即ち、任意の定点から導電性フィルムの幅方向に１００ｍｍ以上の長さで表と裏の両方を個別に測定し、凹凸の平均的な周期（例えば、凹部間の距離）を求める。周期が１００μ以下であることが望ましく、５０μ以下が更に望ましく、１０μｍ以下である事が最も望ましい。
導電性フィルムは、種々の用途に適用することができ、例えば、タッチパネル用（または、タッチパネルセンサー用）などが挙げられる。
【０１７２】
なお、上述した導電性フィルムは、偏光子を組み合わせて、偏光板として用いることができる。偏光子との貼合面は特に制約はなく、導電層側でもよいし、支持体側でもよい。また、接着に適した表面エネルギーに制御する目的で、コロナ処理等の公知の表面処理を行なってから接着してもよい。例えば、支持体としてセルロースアシレートを用いて、支持体側と偏光子を接着する場合にはセルロースアシレートの表面をけん化処理した後、接着してもよい。
以下、使用される偏光子について詳述する。
偏光子は、光を特定の直線偏光に変換する機能を有する部材であればよく、吸収型偏光子および反射型偏光子を利用することができる。
吸収型偏光子としては、ヨウ素系偏光子、二色性染料を利用した染料系偏光子、およびポリエン系偏光子などが用いられる。ヨウ素系偏光子および染料系偏光子には、塗布型偏光子と延伸型偏光子があり、いずれも適用できるが、ポリビニルアルコールにヨウ素または二色性染料を吸着させ、延伸して作製される偏光子が好ましい。
また、基材上にポリビニルアルコール層を形成した積層フィルムの状態で延伸および染色を施すことで偏光子を得る方法として、特許第５０４８１２０号公報、特許第５１４３９１８号公報、特許第５０４８１２０号公報、特許第４６９１２０５号公報、特許第４７５１４８１号公報、特許第４７５１４８６号公報を挙げることができ、これらの偏光子に関する公知の技術も好ましく利用することができる。
反射型偏光子としては、複屈折の異なる薄膜を積層した偏光子、ワイヤーグリッド型偏光子、選択反射域を有するコレステリック液晶と１／４波長板とを組み合わせた偏光子などが用いられる。
なかでも、後述する導電層との密着性がより優れる点で、ポリビニルアルコール系樹脂（特に、ポリビニルアルコールおよびエチレン−ビニルアルコール共重合体からなる群から選択される少なくとも１つ）を含む偏光子であることが好ましい。
【０１７３】
偏光子の厚みは特に制限されないが、表示装置の薄型化の点から、３５μｍ以下が好ましく、３〜３０μｍがより好ましく、５〜３０μｍがさらに好ましい。
なお、上記厚みは平均値であり、任意の１０点の偏光子の厚みを測定して、それらを算術平均した値である。
【０１７４】
（タッチパネル用途）
以下、導電性フィルムをタッチパネルに適用した場合の好適態様について詳述する。
上述した導電性フィルムは、タッチパネル（好ましくは、静電容量式タッチパネル）に好適に使用できる。より具体的には、タッチパネルを構成する部材として適用することができ、導電層は、静電容量の変化を感知する検出電極（センサー電極）や、検出電極に電圧を印加するため引き出し配線（周辺配線）などに好適に適用できる。
【０１７５】
（第１の実施態様）
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き表示装置の第１の実施態様について、図１を参照して説明する。図１は、本発明のタッチパネル付き表示装置の一例を示す概略断面図である。なお、図１は、タッチパネル付き表示装置の層構成に対する理解を容易にするために模式的に表したものであり、各層の配置を正確に表した図面ではない。
【０１７６】
図１に例示するように、本発明のタッチパネル付き表示装置１０は、保護基板１２と、上部粘着層１４と、第１ハードコート層１６Ａと、第１タッチパネル用導電層１８Ａと、支持体２０と、第２タッチパネル用導電層１８Ｂと、第２ハードコート層１６Ｂと、下部粘着層２２と、表示装置２４とをこの順で有する。第１ハードコート層１６Ａ、第１タッチパネル用導電層１８Ａ、支持体２０、第２タッチパネル用導電層１８Ｂ、および、第２ハードコート層１６Ｂは、導電性フィルム２６を構成する。また、保護基板１２と、上部粘着層１４と、導電性フィルム２６と、下部粘着層２２とは、静電容量式タッチパネル２８を構成する。後述するように、第１タッチパネル用導電層１８Ａおよび第２タッチパネル用導電層１８Ｂには、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層が含まれる。つまり、上記導電性フィルム２６は、本発明の導電性フィルムに該当する。
なお、このタッチパネル付き表示装置１０においては、保護基板１２表面（タッチ面）に指が近接、接触すると、指と導電性フィルム２６中の検出電極との静電容量が変化する。ここで、図示しない位置検出ドライバは、指と検出電極との間の静電容量の変化を常に検出している。この位置検出ドライバは、所定値以上の静電容量の変化を検出すると、静電容量の変化が検出された位置を入力位置として検出する。このようにして、タッチパネル付き表示装置１０は、入力位置を検出することができる。
以下、タッチパネルに含まれる各部材について詳述する。まず、導電性フィルム２６について詳述する。
【０１７７】
図２に、導電性フィルム２６の平面図を示す。図３は、図２中の切断線Ａ−Ａに沿って切断した断面図である。
導電性フィルム２６は、支持体２０と、支持体２０の一方の主面上（表面上）に配置された第１タッチパネル用導電層１８Ａと、第１ハードコート層１６Ａと、支持体２０の他方の主面上（裏面上）に配置される第２タッチパネル用導電層１８Ｂと、第２ハードコート層１６Ｂと、さらに、フレキシブルプリント配線板３８とを有し、タッチパネルセンサーとして機能する。第１タッチパネル用導電層１８Ａは第１検出電極３０および第１引き出し配線３２を有し、第２タッチパネル用導電層１８Ｂは第２検出電極３４および第２引き出し配線３６を有する。
第１検出電極３０、第１引き出し配線３２、第２検出電極３４、および、第２引き出し配線３６には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。つまり、第１検出電極３０、第１引き出し配線３２、第２検出電極３４、および、第２引き出し配線３６が、上述した導電層に該当する。なお、本発明はこの態様に限定されず、第１検出電極３０および第２検出電極３４のみが、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層であってもよい。
また、第１ハードコート層１６Ａおよび第２ハードコート層１６Ｂは、本発明の導電性フィルムに含まれるハードコート層に該当し、その態様は上述の通りである。
なお、第１検出電極３０および第２検出電極３４がある領域は、操作者によって入力操作が可能な入力領域ＥI（物体の接触を検知可能な入力領域（センシング部））を構成し、入力領域ＥIの外側に位置する外側領域ＥOには第１引き出し配線３２、第２引き出し配線３６およびフレキシブルプリント配線板３８が配置される。
【０１７８】
第１検出電極３０および第２検出電極３４は、静電容量の変化を感知するセンシング電極であり、感知部（センシング部）を構成する。つまり、指先をタッチパネルに接触させると、第１検出電極３０および第２検出電極３４の間の相互静電容量が変化し、この変化量に基づいて指先の位置をＩＣ回路によって演算する。
第１検出電極３０は、入力領域ＥIに接近した操作者の指のＸ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第１検出電極３０は、第１方向（Ｘ方向）に延び、第１方向と直交する第２方向（Ｙ方向）に所定の間隔をあけて配列された電極である。
第２検出電極３４は、入力領域ＥIに接近した操作者の指のＹ方向における入力位置の検出を行う役割を有するものであり、指との間に静電容量を発生する機能を有している。第２検出電極３４は、第２方向（Ｙ方向）に延び、第１方向（Ｘ方向）に所定の間隔をあけて配列された電極である。図２においては、第１検出電極３０は５つ、第２検出電極３４は５つ設けられているが、その数は特に制限されず複数あればよい。
【０１７９】
第１引き出し配線３２および第２引き出し配線３６は、それぞれ第１検出電極３０および第２検出電極３４に電圧を印加するための役割を担う部材である。
第１引き出し配線３２は、外側領域ＥOの支持体２０上に配置され、その一端が対応する第１検出電極３０に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板３８に電気的に接続される。
第２引き出し配線３６は、外側領域ＥOの支持体２０上に配置され、その一端が対応する第２検出電極３４に電気的に接続され、その他端はフレキシブルプリント配線板３８に電気的に接続される。
なお、図２においては、第１引き出し配線３２は５本、第２引き出し配線３６は５本記載されているが、その数は特に制限されず、通常、検出電極の数に応じて複数配置される。
【０１８０】
フレキシブルプリント配線板３８は、基板上に複数の配線および端子が設けられた板であり、第１引き出し配線３２のそれぞれの他端および第２引き出し配線３６のそれぞれの他端に接続され、導電性フィルム２６と外部の装置（例えば、表示装置）とを接続する役割を果たす。
【０１８１】
保護基板１２は、上部粘着層１４上に配置される基板であり、外部環境から後述する導電性フィルム２６や表示装置２４を保護する役割を果たすと共に、その主面はタッチ面を構成する。保護基板として、透明基板であることが好ましく、プラスチック板（プラスチックフィルム）、ガラス板などが用いられる。基板の厚みはそれぞれの用途に応じて適宜選択することが望ましい。
また、保護基板１２としては、偏光板、円偏光板などを用いてもよいし、複数の基板（例えば、ガラス板と偏光板）を組み合わせて使用してもよい。
【０１８２】
表示装置２４は、画像を表示する表示面を有する装置であり、表示画面側に各部材（例えば、下部粘着層２２）が配置される。なお、表示装置中には、装置を構成する各種部材（例えば、偏光板、カラーフィルタ、液晶セル、ＴＦＴＢａｃｋｐｌｅｎｅ、バックライトなど）が含まれる。
表示装置２４の種類は特に制限されず、公知の表示装置を使用することができる。例えば、陰極線管（ＣＲＴ）表示装置、液晶表示装置（ＬＣＤ）、有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）表示装置、真空蛍光ディスプレイ（ＶＦＤ）、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）、表面電界ディスプレイ（ＳＥＤ）、電界放出ディスプレイ（ＦＥＤ）または電子ペーパー（Ｅ−Ｐａｐｅｒ）などが挙げられる。
【０１８３】
上部粘着層１４および下部粘着層２２は、各部材間を接続する層であり、公知の粘着層を使用することができる。
【０１８４】
（第２の実施態様）
以下、本発明の導電性フィルムを適用したタッチパネル付き表示装置の第２の実施態様について、図４を参照して説明する。
図４に例示するように、本発明のタッチパネル付き表示装置１１０は、保護基板１２と、上部粘着層１４と、第１ハードコート層１６Ａと、第３タッチパネル用導電層１８Ｃと、支持体２０と、下部粘着層２２と、表示装置２４とをこの順で有する。第１ハードコート層１６Ａ、第３タッチパネル用導電層１８Ｃ、および、支持体２０は、導電性フィルム１２６を構成する。また、保護基板１２と、上部粘着層１４と、導電性フィルム１２６と、下部粘着層２２とは、静電容量式タッチパネル１２８を構成する。後述するように、第３タッチパネル用導電層１８Ｃには、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層が含まれる。つまり、上記導電性フィルム１２６は、本発明の導電性フィルムに該当する。
図４に示すタッチパネル付き表示装置１１０は、第３タッチパネル用導電層１８Ｃの点を除いて、図１に示すタッチパネル付き表示装置１０と同様の構成を有するものであるので、同一の構成要素には同一の参照符号を付し、その説明を省略し、以下、主に、第３タッチパネル用導電層１８Ｃについて詳述する。
【０１８５】
図５に、導電性フィルム１２６の平面図を示す。図６は、図５中の切断線Ｂ−Ｂに沿って切断した断面図である。
導電性フィルム１２６は、支持体２０と、支持体２０上に配置された第３タッチパネル用導電層１８Ｃと、第３タッチパネル用導電層１８Ｃ上に配置された第１ハードコート層１６Ａと、さらに、フレキシブルプリント配線板３８とを有し、タッチパネルセンサーとして機能する。第３タッチパネル用導電層１８Ｃは、第１の電極４０、第２の電極４２、第１の接続部４４、第２の接続部４６、絶縁層４８、および、引き出し配線５０を有する。
第１の電極４０、第２の電極４２および引き出し配線５０には、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれる。つまり、第１の電極４０、第２の電極４２および引き出し配線５０が、上述した導電層に該当する。なお、本発明はこの態様に限定されず、第３タッチパネル用導電層１８Ｃが、上述したフラーレン官能基化カーボンナノチューブを含む導電層を有していればよく、第１の電極４０、第２の電極４２および引き出し配線５０以外の第１の接続部４４、および、第２の接続部４６にも、フラーレン官能基化カーボンナノチューブが含まれていてもよい。
なお、以下に、第３タッチパネル用導電層１８Ｃに含まれる各部材について詳述する。
【０１８６】
詳述すると、複数（図５では４個）の第１の電極４０がｘ方向（図５では横方向）に直線状に並べられ、それぞれが第１の接続部４４で連結され、第１の電極列をなしている。そして、この第１の電極列が支持体２０上に平行に複数（図５では４列）並べられている。この第１の電極列は、いわゆる検出電極に該当する。
また、複数（図５では４個）の第２の電極４２がｘ方向に直交するｙ方向（図５では縦方向）に直線状に並べられ、それぞれが第２の接続部４６で連結され、第２の電極列をなしている。そして、この第２の電極列が支持体２０上に平行に複数（図５では４列）並べられている。この第２の電極列は、いわゆる検出電極に該当する。
さらに、第１の接続部４４と第２の接続部４６とが重なるように上記第１の電極列と上記第２の電極列とが交差して配されているので、第１の電極４０と第２の電極４２とは支持体２０上に格子状に配置されている。
さらに、第１の接続部４４と第２の接続部４６とが重なっているので、第１の接続部４４と直交する第２の接続部４６の導通を防止し絶縁するために、第１の接続部４４と第２の接続部４６との間に絶縁層４８が介装されている。
さらに、第１の電極列と第２の電極列にそれぞれ接続する引き出し配線５０が、支持体２０上に配置されていて、これらの第１の電極４０および第２の電極４２とフレキシブルプリント配線板３８とが引き出し配線５０により接続されている。
なお、第１の電極４０および第２の電極４２がある領域は、操作者によって入力操作が可能な入力領域ＥI（物体の接触を検知可能な入力領域（センシング部））を構成し、入力領域ＥIの外側に位置する外側領域ＥOには引き出し配線５０、および、フレキシブルプリント配線板３８が配置される。
【０１８７】
タッチパネル付き表示装置に含まれる導電性フィルムの態様は、上記態様に限定されず、他の態様であってもよい。
例えば、上述した第１の実施態様で述べた、支持体２０と、支持体２０の一方の主面上（表面上）に配置された第１タッチパネル用導電層１８Ａと、第１ハードコート層１６Ａとを備える片面導電層付き導電性フィルムを２枚用意して、第１タッチパネル用導電層１８Ａ中の第１検出電極３０同士が直交する位置で、第１タッチパネル用導電層１８Ａ同士が対向するように、２枚の片面導電層付き導電性フィルムを粘着層にて貼り合せて得られる積層型導電性フィルムも、タッチパネルに好適に適用できる。
なお、２枚の片面導電層付き導電性フィルムを貼り合せる際には、一方の片面導電層付き導電性フィルムの第１タッチパネル用導電層１８Ａと、他方の片面導電層付き導電性フィルムの支持体２０とが対向するように、２枚の片面導電層付き導電性フィルムを粘着層にて貼り合せてもよい。
【実施例】
【０１８８】
以下、実施例により、本発明についてさらに詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【０１８９】
＜実施例１＞
（フラーレン官能基化カーボンナノチューブ（ＣＢＦＦＣＮＴ）の合成）
触媒粒子源としてフェロセン、試薬（１種または複数種）として水蒸気および／または二酸化炭素を用い、炭素源としての一酸化炭素からのＣＢＦＦＣＮＴの合成を行った。以下に、その条件を詳述する。
炭素源：ＣＯ。触媒粒子源：フェロセン（反応器内の蒸気分圧は０．７Ｐａ）。使用炉温：８００、１０００、および、１１５０℃。使用流量：３００ｃｃｍのＣＯの内部流（フェロセン蒸気を含む）および１００ｃｃｍのＣＯの外部流。試薬：水蒸気（１５０および２７０ｐｐｍ）および／または二酸化炭素（１５００〜１２０００ｐｐｍ）。
この合成は、特表２００９−５１５８０４の図３（ａ）に示す態様で実施した。この実施態様では、触媒粒子はその場でフェロセン蒸気分解によって成長した。室温のＣＯを、ガスボンベ（２）から（３００ｃｃｍの流量で）フェロセン粉末を満たしたカートリッジ（４）を通過させることにより、前駆物質を蒸発させた。その後、フェロセン蒸気を含んだ流れを、水冷プローブ（５）を通してセラミック管反応器の高温ゾーンに導入し、１００ｃｃｍの流量の追加のＣＯ流れ（１）と混合した。
次に、酸化エッチング剤（例えば、水および／または二酸化炭素）を、炭素源と一緒に導入した。さらに、反応器内のフェロセンの蒸気分圧を０．７Ｐａに維持した。その後、反応器の壁の設定温度は、８００℃から１１５０℃まで変化させた。
エアロゾル生成物は、銀円板フィルターまたは透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）のグリッドのいずれかによって反応器の下流で回収した。これらエアロゾル生成物中に、カーボンナノチューブとフラーレンが共有結合したＣＢＦＦＣＮＴがあることが確認された。
【０１９０】
得られたエアロゾルを直径２．４５ｃｍのニトロセルロースのフィルターを用いて、フィルタリングすることで、フィルター上にＣＢＦＦＣＮＴを含む導電層を作製した。なお、フィルタリングする際のフィルター表面の温度は４５℃であった。
次に、フィルター上に配置された導電層を、支持体（市販のセルロールアシレートフィルムＴＤ６０ＵＬ（富士フイルム（株）製）、厚み：６０μｍ）上に転写して、支持体上に導電層（厚み：９μｍ）を配置した。
【０１９１】
次に、得られた導電層上に、以下に記載の方法によりハードコート層（厚み：6μｍ）を作製し、導電性フィルムを得た。
（ハードコート層作製手順）
イルガキュア１８４（光重合開始剤、ＢＡＳＦジャパン社製）４質量部を、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）／メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）の混合溶剤中に添加して攪拌し溶解させて、最終固形分が４０質量％の溶液を調製した。この溶液に、樹脂成分として、ペンタエリスリトールトリアクリレート（ＰＥＴＡ）とＵ−４ＨＡ（４官能ウレタンオリゴマー、重量平均分子量６００、新中村化学社製）とＵ−１５ＨＡ（１５官能ウレタンオリゴマー、重量平均分子量２３００、新中村化学社製）とポリマー（７９７５−Ｄ４１、アクリル二重結合当量２５０、重量平均分子量１５０００、日立化成工業社製）を、固形分比で、２５質量部：２５質量部：４０質量部：１０質量部となるように添加して攪拌した。この溶液に、レベリング剤（製品名：メガファックＦ−４７７、ＤＩＣ社製）を固形分比で０．２質量部添加して撹拌し、ハードコート層形成用組成物を調製した。
このハードコート層形成用組成物を、導電層上に、スリットリバースコートにより塗布して塗膜を形成した。得られた塗膜を７０℃で１分間乾燥させた後、紫外線照射量１５０ｍＪ／ｃｍ２で紫外線を照射して塗膜を硬化させ、厚み６μｍのハードコート層を形成した。
【０１９２】
＜実施例２〜１１および比較例２＞
実施例１にして使用した支持体の種類を変更した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
【０１９３】
＜比較例１＞
支持体としてＰＥＴ（東洋紡（株）社製コスモシャイン）基板を使用し、かつ、ＣＢＦＦＣＮＴを含む導電層を作製する代わりに、以下の手順に従って、ＩＴＯ層を作製した以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
【０１９４】
（ＩＴＯ層作製）
ＰＥＴ（東洋紡（株）社製コスモシャイン）基板にＡｒ流量３００ｓｃｃｍ、出力７００Ｖ／０．０５Ａにてプラズマ処理を施し、スパッタリング装置内に配置し、真空排気を行いながらローラーを１４０℃に加熱し、圧力を２×１０-1Ｐａに保持し、アルゴンガスおよび酸素ガス流入下で、ターゲットとして質量比Ｉｎ2Ｏ3／ＳｎＯ3＝９０／１０の酸化物混合体を用いたスパッタリングにより、ＰＥＴ基板のプラズマ処理を施した面に、ＩＴＯからなる透明導電層を厚さ２００オングストロームで積層して、導電層を得た。
【０１９５】
＜比較例３＞
支持体としてＴ２５ＵＬ（セルロースアシレートフィルム、富士フイルム（株）社製、膜厚２５μｍ）を使用し、かつ、ＣＢＦＦＣＮＴを含む導電層を作製しなかった以外は、実施例１と同様の手順に従って、導電性フィルムを得た。
【０１９６】
上記で得られた各実施例および比較例の導電性フィルムを用いて、以下の評価を実施した。なお、得られた結果は表１にまとめて示す。
【０１９７】
＜平坦性評価＞
作製した導電性フィルム（実施例１〜１１、比較例３）を、ハードコート層を上（空気側）にして平滑な机上にセットした。上部から白色光を当てて反射法でフィルム面状を観察し、目視によりシワの有無を判別した。シワがなく、平坦性に優れる場合を「Ａ」、シワが確認でき、平坦性に劣る場合を「Ｂ」とした。
【０１９８】
＜光透過率測定（全光線透過率測定）＞
光透過率は、ヘイズメーター（ＮＤＨ２０００、日本電色工業（株）製）を用いて測定した。
【０１９９】
＜シート抵抗値測定＞
作製した導電性フィルムから８０ｍｍ×５０ｍｍのサンプルを切り出し、三菱ケミカルコーポレーションＬｏｒｅｓｔａ−ＧＰ（ＭＣＰ−Ｔ６００）を用いて、四探針法によりＪＩＳ  Ｋ  ７１９４に準拠して、シート抵抗値を測定した。
【０２００】
表１中、「ＣＮＢ」とは、フラーレン官能基化カーボンナノチューブを用いて導電層を作製したことを意図し、「ＩＴＯ」とは、酸化インジウムスズを用いて導電層を作製したことを意図する。
【０２０１】
【表１】
2016024913.tif 000017
【０２０２】
表１中の「支持体」欄に記載の各記号で表される支持体の種類を以下に示す。
・ＴＤ４０：セルロースアシレートフィルム（フジタックＴＤ４０ＵＣ、富士フイルム（株）製）
・Ｔ２５：セルロースアシレートフィルム（Ｔ２５ＵＬ，富士フイルム(株)製）
・ＴＧ４０：セルロースアシレートフィルム（フジタックＴＧ４０ＵＬ、富士フイルム（株）製）
・ＴＪ２５：セルロースアシレートフィルム（フジタックＴＪ２５ＵＬ、富士フイルム（株）製）
・ＺＲＤ４０：セルロースアシレートフィルム（フジタックＺＲＤ４０、富士フイルム（株）製）
・アクリル：アクリルフィルム（テクノロイＳ００１Ｇ，住友化学（株）製）
・シクロオレフィン：シクロオレフィンフィルム（ＺＦ１４，日本ゼオン（株）製）
・ＰＥＴ：ポリエチレンテレフタレートフィルム（東洋紡（株）製コスモシャイン）
【０２０３】
（サンプルＡの作製方法）
（コア層セルロースアシレートドープの作製）
下記の組成物をミキシングタンクに投入し攪拌して、各成分を溶解し、セルロースアセテート溶液を調製した。
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アセチル置換度２．８８のセルロースアセテート    １００質量部
エステルオリゴマーＡ                              １０質量部
下記の添加剤Ｂ                                      ４質量部
紫外線吸収剤Ｃ                                      ２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                  ４３０質量部
メタノール（第２溶媒）                            ６４質量部
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【０２０４】
（エステルオリゴマーＡ）
芳香族ジカルボン酸（アジピン酸：フタル酸比率３：７）とジオール（エチレングリコール）の共重合体（末端はアセチル基）。分子量１０００
【０２０５】
（添加剤Ｂ）
【化１】
2016024913.tif 000018
【０２０６】
（紫外線吸収剤Ｃ）
【化１】
2016024913.tif 000019
【０２０７】
（外層セルロースアシレートドープの作製）
上記のコア層セルロースアシレートドープ９０質量部に下記のマット剤溶液を１０質量部加え、外層セルロースアセテート溶液を調製した。
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平均粒子サイズ２０ｎｍのシリカ粒子
（ＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、日本アエロジル（株）製）
２質量部
メチレンクロライド（第１溶媒）                    ７６質量部
メタノール（第２溶媒）                            １１質量部
コア層セルロースアシレートドープ                    １質量部
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【０２０８】
（セルロースアシレートフィルムの作製）
コア層セルロースアシレートドープとその両側に外層セルロースアシレートドープとを３層同時に流延口から２０℃のドラム上に流延した。溶剤含有率略２０質量％の状態で剥ぎ取り、フィルムの幅方向の両端をテンタークリップで固定し、残留溶剤が３〜１５％の状態で、横方向に１．１倍延伸しつつ乾燥した。その後、熱処理装置のロール間を搬送することにより、さらに乾燥し、厚さ４０μｍのセルロースアシレートフィルム（サンプルＡ）を作製した。
【０２０９】
（サンプルＢ）
膜厚を１５μｍに調整したこと以外はサンプルＡと同様に製膜し、サンプルＢを作製した。
【０２１０】
（サンプルＣ）
下記の素材を使用し、フィルム作製を行なった。
ペレット状のアートン（ＪＳＲ製、Ｔｇ  １２０℃）          ２０質量部
添加剤１（スミライザーＧＰ（住友化学製））              ０．１質量％
マット剤１（二酸化ケイ素微粒子（粒子サイズ２０ｎｍ））  ０．０２質量％
なお、上記「質量％」は、添加剤１（または、マット剤１）のアートン全質量に対する、割合（質量％）を表す。
【０２１１】
（フィルムの作製）
混練押出し機で、２６０℃で溶融し、ギアポンプから押し出された溶融樹脂は、ろ過精度５μｍのリーフディスクフィルターでろ過した。続いて、スリット間隔１．０ｍｍ、２６０℃のハンガーコートダイから、ガラス転移温度Ｔｇに設定したキャストロール（ＣＲ）上に溶融樹脂を押出し、クラウン形状のタッチロールを接触させた。なお、タッチロールは特開平１１−２３５７４７号公報の実施例１に記載のもの（二重抑えロールと記載のあるもの）を用い、Ｔｇ−５℃に調温した（但し、薄肉金属外筒厚みは３ｍｍとした）。この後、続けてＴｇ＋５℃、Ｔｇ−１０℃に温度を設定したキャストロールを通過させた。
続いて、一対のニップロールを有する延伸ゾーンで搬送方向に延伸し、さらにＴｇ＋４０℃で熱緩和した後、両端（全幅の各５％）をトリミングして、所望のフィルムを得た。なお、レタデーションは延伸温度を調整して制御した。
【０２１２】
表１に示すように、本発明の導電性フィルムは、平坦性に優れると共に、光透過性にも優れていた。
一方、所定の支持体を使用していない比較例１および２においては光透過性が劣っており、所定の導電層を用いていない比較例３においては平坦性に劣っていた。
【０２１３】
＜実施例１３：タッチパネルの作製＞
実施例１の手順に従って、支持体の両面に導電層を配置した。その後、後述する手順に従って、図２に示すような、第１検出電極、第１引き出し配線、第２検出電極、および、第２引き出し配線に位置する部分の導電層のみを残して、他の導電層をエッチングにより除去した。その後、実施例１の手順に従って、パターン状の導電層上にハードコート層をそれぞれ配置して、導電性フィルムを得た。
なお、第１検出電極の長さは１７０ｍｍであり、本数は３２本であり、第２検出電極の長さは３００ｍｍであり、本数は５６本であった。
次に、得られた導電性フィルムと共に、保護基板、上部粘着層、導電性フィルム、下部粘着層、および、液晶表示装置を用いて、図１に示すような積層順にて貼り合せて、タッチパネル付き表示装置を得た。
【０２１４】
（導電層のエッチング方法）
支持体上に配置された導電層に対して、紫外線レーザーを用いたレーザーエッチング法（例えば、ＷＯ２０１３／１７６１５５参照）で、所望のパターンを形成した。
【０２１５】
なお、上記では、支持体上に導電層を配置してエッチング処理を施し、その後、パターン状の導電層上にハードコート層を配置したが、それ以外にも、支持体上に導電層およびハードコート層を配置した後、上記エッチング方法にて所定のパターン状の導電層を作製して、上記手順に従って、タッチパネル付き表示装置を作製した。
【０２１６】
また、支持体の一方の面上に導電層は配置して、上記導電層のエッチングパターンを変えて、図５に示す、第３タッチパネル用導電層１８Ｃに示すパターンに変更した以外は、上記手順に従って、図４に示すタッチパネル付き表示装置を得た。
【符号の説明】
【０２１７】
１０，１１０    タッチパネル付き表示装置
１２    保護基板
１４    上部粘着層
１６Ａ，１６Ｂ    ハードコート層
１８Ａ，１８Ｂ，１８Ｃ    タッチパネル用導電層
２０    支持体
２２    下部粘着層
２４    表示装置
２６，１２６    導電性フィルム  
２８，１２８    タッチパネル
３０    第１検出電極
３２    第１引き出し配線
３４    第２検出電極
３６    第２引き出し配線
３８    フレキシブルプリント配線板
４０    第１の電極
４２    第２の電極
４４    第１の接続部
４６    第２の接続部
４８    絶縁層
５０    引き出し配線
【図１】
2016024913.tif 000020
【図２】
2016024913.tif 000021
【図３】
2016024913.tif 000022
【図４】
2016024913.tif 000023
【図５】
2016024913.tif 000024
【図６】
2016024913.tif 000025