(57)【要約】      （修正有）【課題】複雑な形状の十分に正確な装飾を得ることが可能な、装飾時計または宝飾品の部分のための装飾されたエレメントを作製する方法を提供する。【解決手段】この方法は、ベース基板をとる工程、およびこのベース基板上で、モールドまたは装飾性の区画７を、プログラムされたパターンでマイクロマシニングする工程、およびモールドまたは装飾性の区画７を、少なくとも１つの充填物５で充填して、装飾されたエレメントを得る工程と、を包含する。この充填物は、エナメルであってもよい。【選択図】図３
2016128799.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製するための方法であって、この方法は以下の工程：
−ベース基板（７’）をとり、該ベース基板上に、モールドまたは装飾性の区画（７）を、プログラムされたパターンでマイクロマシニングする工程と、
−該モールドまたは装飾性の区画を、少なくとも１つの充填物（５）で充填して、装飾されたエレメントを得る工程と、を包含し、
該モールドまたは装飾性の区画（７）は、レーザービーム（３）もしくは電子ビームを用いて、選択的な融解もしくは選択的な焼結装置中で、または金属、セラミックまたはセラモメタリック材料、例えば、サーメットの追加的な製造装置中で、作製されるべきパターンの記憶されたラインに沿って、ベース基板（７’）上での粉末（５）の選択的な融解または選択的な焼結によって得られるという点で特徴づけられる、方法。
【請求項２】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製する方法であって、該モールドまたは装飾性の区画（７）は、エナメル加工操作のためのガラス質の物質（５）で充填されており、この操作は該装飾されたエレメントを得るために炉内でガラス質の物質を焼成する工程を包含するという点で特徴づけられる、方法。
【請求項３】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法であって、前記モールドまたは装飾性の区画（７）は、該モールドの壁または該区画の壁に対して接着している凝固した充填物で一旦充填されれば、マシニングまたは選択的な溶解操作を行って、金属またはセラミックまたはセラモメタリック、例えば、サーメットである、ベース基板を取り除くという点で特徴づけられる、方法。
【請求項４】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法であって、前記ベース基板は、少なくとも１つの金属および／またはセラミックおよび／またはサーメット層を設けられて、レーザービーム（３）または電子ビームを用いて選択的な融解または選択的な焼結の間に、金属および／またはセラミックおよび／またはサーメット粉末に対するその接着を改善するという点で特徴付けられる、方法。
【請求項５】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法であって、前記モールドまたは装飾性の区画（７）は、粉末層の連続的な選択的なレーザービーム（３）または電子ビーム融解もしくは焼結によって、あるいは追加の製造装置中で、金属またはセラミックまたはサーメット層の重層によって得られる、という点で特徴付けられる、方法。
【請求項６】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法であって、１つ以上の追加的な選択的なレーザービーム（３）または電子ビーム融解もしくは焼結操作は、充填物上でもしくは中で、および／または区画もしくはモールドの上で行われて、二次元または三次元の装飾構造は得られるという点で特徴付けられる、方法。
【請求項７】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法であって、前記区画またはモールドは、貴金属または金属合金から構成されて、ホットエナメル加工操作の間の酸化を妨げるガルバニック層によって保護されるという点で特徴付けられる、方法。
【請求項８】
用いられる粉末は金属粉末であるという点で特徴付けられる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法。
【請求項９】
用いられる粉末は、結合剤が有無であるセラミック粉末であるという点で特徴付けられる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法。
【請求項１０】
用いられる粉末は、セラモメタリック粉末、例えば、サーメットであるという点で特徴付けられる、請求項１〜７のいずれか１項に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法。
【請求項１１】
請求項１に記載の装飾されたエレメントを作製するための方法であって、前記ベース基板をとった後に、以下の工程：
−前記ベース基板（７’）上にポジティブ型またはネガティブ型の感光性樹脂の層を配置する工程と、
−作成すべきパターンの等高線マスクを該感光性樹脂の上に配置する工程と、
−該マスクを通じて該樹脂を照射する工程と、
−該感光性樹脂がポジティブ型である場合、樹脂の該照射された部分を取り出除く工程、または、該感光性樹脂がネガティブ型である場合、樹脂の照射されてない部分を取り出除く工程と、
−該樹脂の取り除かれた部分を、金属で充填して、前記金属の区画またはモールド（７）を形成する工程と、
−全ての樹脂を取り除く工程と、
−該モールドまたは装飾性の区画を、少なくとも１つの充填物（５）で充填して、装飾されたエレメントを得る工程と、
を包含するという点で特徴付けられる、方法。
【請求項１２】
請求項１１に記載の装飾された構成要素を作製するための方法であって、前記ベース基板（７’）は金属材料からできているか、または導電性表面層を備え、前記モールドまたは区画（７）は、ベース基板（７’）の表面からの樹脂の開放部分中の電気めっきまたは電着の操作によって少なくとも１つの金属材料の成長によって作製されるという点で特徴付けられる、方法。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項に記載の作製法によって得られる装飾されたエレメントであって、プログラムされたパターンでマイクロマシニングされたモールドまたは装飾性の壁（７）の区画に保持された充填物（５）を備えるという点で特徴付けられる、装飾されたエレメント。
【請求項１４】
請求項１３に記載の装飾されたエレメントであって、前記モールドまたは装飾性の区画（７）は、金属からできているという点で、ならびに前記充填物（５）は、着色されたエナメルであり、これが１つの区画から次へ異なってもよいという点で特徴付けられる、装飾されたエレメント。
【請求項１５】
請求項１３に記載の装飾されたエレメントであって、前記モールドまたは装飾性の区画（７）は、金属からできているという点で、ならびに前記充填物（５）は、１つの区画から次へ種々の色の熱硬化性ポリマー、金属、金属合金、セラミックまたはサーメットであるという点で特徴付けられる、装飾されたエレメント。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、時計または宝飾品の部品のための少なくとも１つの装飾されたエレメントを作製する方法に関する。
【０００２】
本発明はまた、この作製法によって得られた装飾されたエレメントにも関する。
【背景技術】
【０００３】
時計または宝飾品の部品のエレメントまたは構成要素を装飾するために、特に、あるセットのセルまたは区画を、そのエレメント上で、または構成要素上で、制作した後、ホットエナメル加工の技術を用いてもよい。この従来の技術は「七宝焼（の）（ｃｌｏｉｓｏｎｎｅ）」として公知であり、多くのエナメル加工技術のうちの１つであり、これには、主な技術のうちでもとりわけ：「グリサイル（ｇｒｉｓａｉｌｌｅ）」、ドライアップリケ（ｄｒｙ  ａｐｐｌｉｑｕｅ）、エナメル上のペインティング、「シャンプリーヴェ（ｃｈａｍｐｌｅｖｅｕ）」、「バスタイユ（ｂａｓｓｅ−ｔａｉｌｌｅ）」、「プリアージュ（ｐｌｉｑｕｅ−ａ−ｊｏｕｒ）」、レリーフエナメル加工（ｒｅｌｉｅｆ  ｅｎａｍｅｌｌｉｎｇ）、「パピヨネ（ｐａｉｌｌｏｎｎｅ）」が挙げられる。この伝統的な装飾性の技術の原理は、金属ワイヤ区画から形成されるデザインを手技的に作製する工程、次いでその区画の壁を金属またはセラミック支持体上の透明または不透明なエナメルの連続層で充填する工程からなる。エナメルとして公知のガラス質の物質の原料は、主に、エナメルにその色をもたらす金属化合物と会合した、シリカ、（極めて純粋な砂の形態で）、長石、ペグマタイト、チョーク、石灰および時にはカオリンである。ある構成要素の表面上に被覆されたこの物質は、それが融合して、金属またはセラミック構成要素と接着するまで焼成される。種々の手技的な工程による装飾を作成するプロセスは長く、かつ１つの構成要素から次まで同一の方式では再生できず、これは欠点である。
【０００４】
「七宝焼（の）」または区画化された技術の場合、一般には、装飾されたエレメントを作製するために少なくとも９つの工程が必要である。第一の工程では、パターンの描画は、紙の上に直接、またはコンピューター上に、その描画の実物大の印刷で作成されなければならない。第二の工程では、装飾のパターンは、ベースとして用いられる描画の上に金属ワイヤによって手で作製される。第三の工程では、この描画は、金属またはセラミック支持体上に、特に手の彫刻、機械の彫刻またはフリーハンドの彫刻によって再現される。第四の工程では、この金属またはセラミックの支持体は、透明なエナメルの第一の層でエナメル加工される。第五の工程では、この装飾のパターンは、エナメル加工されたセラミックまたは金属支持体上に配置され、「七宝焼（の）」または区画化されたパターンを形成する。第六の工程では、この装飾パターンは、金属またはセラミック支持体上に接着されて、その区画を保持する。第六の補完的な工程では、セラミックまたは金属支持体に固定されたこの装飾パターンは、水平にされる。第七の工程は、このエナメル加工された支持体を接着された区画とともに焼成して、エナメルが融合して固体および硬化した区画が得られるにつれ、それらの区画をエナメル中にトラップする工程からなる。第八の工程では、このエナメル加工操作は、いくつかの配置段階および焼成段階で行われる。この第九の工程は、エナメル加工された部分を石化する工程および研磨する工程からなる。これは、装飾されたエレメントを作製するこのような方法のために極めて多数の工程を構成し、これは欠点である。
【０００５】
装飾されたエレメントを作製するための上述の技術に関しては、いくつかの問題が残っていることも注記されるべきである。これらの問題は、一方では、装飾の手技的作製、および幾何形状、それらの配置および保持である。装飾は、単純な幾何形状に曲げられた金属ワイヤまたは金属ストリップである。このワイヤまたはストリップは、接着剤によって一緒に保持されるが、この接着剤は、剛性でも不浸透性でもないという欠点を有する。
【０００６】
特許文献１は、刺しゅうで修飾された時計のダイアルを製造する方法を記載している。まず第一に、デカールエッチ（ｄｅｃａｌ  ｅｔｃｈ）を布のキャンバスまたは刺しゅうに行う。オーバーレイまたはコピーシートが一旦所望のデザインで穿通されれば、そのオーバーレイの上に粉末を広げる。次いでそのデザインをキャンバスの上にプリントして、刺しゅうの作業のためのデザインを明示し、その後にこのプリンティング工程が続く。一旦刺しゅうが仕上がれば、装飾されたキャンバスを、時計のダイアルのような支持体に結合させる。この方法はまた、時計のダイアルを装飾するために極めて多数の工程を包含し、これは欠点である。さらに、この方法によって複雑な形状の装飾を製作するのは不可能である。
【０００７】
特許文献２は、時計または宝飾品の部品およびこれらを製造する方法を記述している。この部品は、金属のベース構造を備え、これはレリーフ装飾と、接着層によって構造の表面上に被覆されたエラストマー層とを設けられている。この装飾性のデザインは、フライス加工または化学的エッチングまたはレーザーもしくはスタンピングによって得られるが、これでは、複雑な形状の十分に正確な装飾を作製することはできず、これは欠点である。
【０００８】
特許文献３は、着色されたダイアルまたはディスプレイなどの時計の構成要素の作成を記載している。これを達成するために、不透明なシリコンウェハを、ベースとして用いる（その上に窒化ケイ素の第一の薄層が被覆されている）。感光性樹脂マスクを、フォトリソグラフィー操作のためにこの第一のフィルム上に配置する。樹脂の照射された部分を取り出して、第一のフィルムをエッチングする。その後、金属またはセラミック層を被覆する。しかし、複雑な形状の十分に正確な装飾を得ることは困難であり、これは欠点である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】スイス国特許出願第７０７５３３号（Ａ２）明細書
【特許文献２】欧州特許出願公開第２３１６２９９号（Ａ１）明細書
【特許文献３】欧州特許出願公開第２８０６３１５号（Ａ２）明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明の要旨
従って、本発明の目的は、上述の先行技術の欠点を克服する時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製する方法を提案して、このような装飾されたエレメントの製造、およびそれらの再現性を容易にすることである。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
この目的を達成するために、本発明は、時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製するための方法であって、独立した請求項１に言及される特徴を包含する方法に関する。
【００１２】
装飾されたエレメントを製作するための方法の特別な工程は、独立した請求項２〜１２に定義される。
【００１３】
装飾されたエレメントを製作するための方法の１つの利点は、複雑な形状の三次元装飾を作製可能であると言う事実にある。この装飾は直接、金属、セラミックまたはセラモメタリック（ｃｅｒａｍｏ−ｍｅｔａｌｌｉｃ）物体、例えば、サーメットで、および産業規模で行われてもよい。装飾に対する接着を改善するために、その物体を、その装飾の材料と同じファミリー由来の金属またはセラミックまたはサーメット層で処理してもよい。この装飾は、コンピューター上で事前に描画されるか、または事前にプログラムされ、これによって、極めて複雑であってかつ再現性のボリュームを作成することが可能になる。これによって、このような装飾されたエレメントを作製するための工程の数を減らすことが可能になる。「七宝焼」技術の場合、わずか５つの製造工程にすることが可能になり、かつ作製される区画が不浸透性である。
【００１４】
装飾されたエレメントを作製するための方法の１つの利点は、例えば、少なくとも１つの金属またはセラミックまたはセラモメタリック粉末、例えば、サーメットで行われる、選択的なレーザーまたは電子ビーム焼結もしくは融解技術によって、ベース基板上で区画または壁またはモールドを得ることが可能であると言う事実にある。「融解」という用語は、金属粉末と関連するが、「焼結」という用語は、セラミックまたはセラモメタリック粉末と関連する。金属またはセラミックまたはセラモメタリック粉末区画が一旦、ベース基板上で作製されれば、エナメルのような充填物が、エナメル加工操作のための区画に挿入される。コールドエナメル加工（ｃｏｌｄ  ｅｎａｍｅｌｌｉｎｇ）技術に使用される特定の適用に関しては、熱硬化性ポリマー（着色色素を含む）を用いることが可能である。この種のポリマーは、エポキシ型の樹脂であってもよい。
【００１５】
有利には、金属または半導体基板、例えば、ケイ素上でＬＩＧＡ型法を用いて、充填物（これは、エナメルであっても、ポリマーであっても、金属であっても、セラミック合金であっても、またはサーメットであってもよい）を挿入する前にベース基板上に、壁または区画またはモールドを作製することも可能である。その後、ベース基板を取り出して、装飾されたエレメント（これは、区画およびこの区画の間に配置された着色された充填物のみを含む）を得てもよい。
【００１６】
有利には、一旦、充填物が部分的にまたは全体的に、その区画またはモールドに挿入されれば、１回以上の追加的な選択的な焼結、または選択的な融解の操作を粉末で行って、三次元装飾（これは、充填物の内側にトラップされてもされなくてもよい）を得てもよい。
【００１７】
この目的を達成するために、本発明はまた、独立した請求項１３に言及される特徴を含む、装飾されたエレメントを作製するための方法によって得られる装飾されたエレメントにも関する。
【００１８】
装飾されたエレメントの特定の実施形態は、独立した請求項１４および１５に定義される。
【００１９】
時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを製作するための方法、および得られた装飾されたエレメントの目的、利点および特徴は、図面を参照すれば以下の説明でさらに明らかになる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１】図１は、本発明による、時計の構成要素または宝飾品の部品のエレメント上で壁または区画を作製するための選択的な焼結または選択的な融解装置の単純化された図を示す。
【図２】図２は、本発明によってつくられる壁または区画を有する時計の構成要素または宝飾品の部品のエレメントを示す。
【図３】図３は、本発明によるエナメル加工操作の後の時計の構成要素または宝飾品の部品のエレメントを示す。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
発明の詳細な説明
以下の説明では、当該分野の最先端技術で周知の時計または宝飾品エレメントのための装飾性のパターンを作製するための任意の技術は、単純化された方式においてのみ言及される。この装飾性のパターンは、マイクロマシニング技術として定義された技術によってベース基板上に被覆された壁または区画またはモールドに関する。
【００２２】
好ましくは、本発明は特に、「七宝焼（の）」および「プリアージュ」技術の特定の工程に対する大量生産プロセスの適用に関する。これらの２つの技術を考慮すれば、例えば、メタルワイヤまたはストリップを用いて最初に区画を作成することによって、ボリュームパターンをエナメル加工することが可能である。これらの区画は好ましくは、下に示される金属であってもまたは別の材料であってもよい、ベース基板上に配置される。
【００２３】
時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製するための方法は、マイクロマシニング技術によって、ベース基板上に、区画または壁またはモールドを作成する第一の必須の工程を包含する。このベース基板は、結晶性または非結晶質の金属材料であっても、セラミックであっても、半導体であっても、サーメットであっても、または任意の他の材料であってもよい。セラミックに関して、これは、アルミナ、ジルコニア、酸化マグネシウム、窒化ホウ素、窒化ケイ素、炭化ケイ素、チタン酸アルミニウムおよび硝酸アルミニウム、または他の種のセラミックに関する。石英、ガラス、サファイア、コランダムまたは別の種類の宝石からできているベース基板を有することも可能である。モールドまたは区画の材料は、ベース基板のものと同じであってもよい。エナメル加工操作が、第一の工程の後に続く場合、ベース基板に用いられる材料および区画の材料は、エナメル加工の間に炉内で焼成に耐えることができなければならない。
【００２４】
この区画によって定義される装飾性のパターンは、コンピューター中で最初に描画されるか、またはプログラムされて、記憶された図またはパターンのデータは、マイクロマシニング装置に移されて、このような区画が作製される。その後、別の操作を行って、この区画に充填物を充填するが、この充填物は、熱硬化性ポリマーであっても、金属合金であっても、セラミックであっても、サーメットであっても、または好ましくはエナメル含有着色色素であってもよい。このエナメルは、被覆されても、保護されても（ホットまたはコールド）よい。エナメル加工操作の場合には、この操作は簡略に下に説明される。
【００２５】
図１は、時計または宝飾品の部品のためのエレメントのベース基板上に壁、区画またはモールドを作成するための技術の１つを示す。この技術は、ベース基板上の、粉末、特には、金属、セラミックまたはセラモメタリック粉末の選択的なレーザー焼結または選択的なレーザー融解である。この金属粉末は、鋼であっても、ニッケルであっても、ニッケル−クロムであっても、ニッケル−クロム−モリブデンであっても、チタンであっても、銅であっても、金であっても、または別の金属もしくは金属合金であってもよい。エナメル化操作を引き続き行う場合、この種の金属材料は、正常にはエナメルのものよりも高い融点を有さなければならない。
【００２６】
選択的な融解または選択的な焼結装置１は、レーザービーム３を生成してプレート８（その上にベース基板７’が最初に配置されている）上に配置された金属、セラミックまたはセラモメタリック粉末５に差し向けるために、原則的にレーザーユニットおよびスキャナー２を備えている。レーザービーム３は、作成されるべきパターンの記憶されたラインにそって粉末に差し向けられる。エネルギー源としてレーザービーム３による加熱の結果として、金属粉末の一部は、融解して、凝集するかまたは凝固して、ベース基板７’上で作成されるべきパターンの構造部分７を形成する。
【００２７】
粉末の選択的な融解は、正常には、層の中で生じるので、一旦レーザービーム３が、定義されたラインにそって粉末５の表面全体をスキャンすれば、プレート８は、ノッチを下って移動し得る。別の層の金属粉末５は、ローラー６またはスクレーパー（プレート８の上）のような、粉末供給装置または粉末分配装置によって粉末リザーバーの別のプレート４から押し出されてもよい。レーザービーム３は再度、新しい粉末をスキャンして、先行する構造部分７上で粉末５の一部を凝集する。他のプレート４はまた、ノッチを上がって、粉末リザーバーの外側に粉末５の別の部分をもってきて、その結果、連続工程中で粉末供給装置によって押されてもよい。
【００２８】
当然ながら、レーザービームを用いる代わりに、選択的な電子ビーム融解（ｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｎ  ｂｅａｍ  ｍｅｌｔｉｎｇ）（ＳＬＭ）操作または選択的な電子ビーム焼結操作を行うことを想定することも可能である。追加的な製造装置を用いて、金属および／またはセラミックおよび／またはセラモメタリック層の１つの層または重層を形成して、金属またはセラミックまたはセラモメタリック（例えば、サーメット）のサンドイッチ層を作成することも可能である。
【００２９】
金属粉末５の場合には、これは、薄層の形態で、通常は、プレート８上にエレメントのベース基板７’上に５０μｍ程度で被覆されることが注記されるべきである。これらの連続層は、所望のパターンの複雑な金属区画を形成するために交互に選択的に融解される。選択的なレーザーまたは電子ビーム融解の正確性は、用いられる粒子サイズおよび選択的な融解条件、すなわち、レーザーまたは電子ビーム３の走査速度およびエネルギー次第で、０．１ｍｍ〜０．０２ｍｍの範囲である。これによって、そのエレメントの極めて正確な装飾を作成することが可能になる。
【００３０】
ベース基板上の選択的な焼結はまた、例えば、セラミックまたはサーメット粉末でも行われてもよいことが注記されるべきである。イットリア安定化ジルコニア型のセラミック粉末では、例えば、選択的なレーザー焼結が可能である。このような選択的な焼結のためには、セラミック粉末は、結合剤（ポリマー材料であってもよい）を含んでもよいし、または含まなくてもよい。結合剤の１つの種は、メチルポリメタクリレート、ポリビニルブチラール、メチルエチルケトン「ＭＥＫ」であってもよい。金属粉末に関しては、用いられる結合剤はない。なぜなら、照射された粉末は融解し、その後に凝固するからである。
【００３１】
原則として、ベース基板上で粉末の選択的な融解または選択的な焼結を達成するために、少なくとも１つの中間層をまた、このようなベース基板上で作成して、ベース基板の材料に対する溶融または焼結した粉末の良好な結合を保証してもよい。最初に、第一の、例えば、白色または透明なエナメル層を、ベースの金属基板上で作成してもよく、この金属基板上には、セラミックまたはセラモメタリック粉末の選択的なレーザーまたは電子ビーム焼結が行われて、モールドまたは装飾区画が得られている。１つ以上のＰＶＤまたはガルバニック金属層もまた被覆されてもよく、これはまた、ガルバニック成長のための導電性ベース層として機能もし得る。低温はんだはまた、例えば、金属粉末の選択的なレーザーまたは電子ビーム融解操作の前に、ベース基板の表面で融解されてもよい。一旦、区画またはモールドが形成され、充填物が挿入されれば、追加的な金属またはセラミックまたはセラモメタリック型の層が追加されて、三次元パターンが作成され得る。
【００３２】
一旦、パターン７が仕上がれば、このパターンを有するエレメントは、選択的な融解または選択的な焼結装置１から、パターン構造の周囲の全ての非固化金属粉末を除去することによって取り外され得る。このエレメントは、例えば、時計のダイアルの形態で、図２の三次元図で、そのパターンが示される。好ましくは、ホットエナメル加工を用いる構成要素について、ホットエナメル加工の間に酸化を防ぐために、この区画またはモールド上にガルバリック層を被覆することを想定することが可能である。このガルバニック層は、貴金属または金属合金、例えば、２４カラットの金、微細なプラチナ、微細なロジウム、微細なパラジウム、または任意の他の高価な金属または金属合金から構成される。
【００３３】
その後、作成されたパターンの区画またはモールドを有するエレメント上でエナメル加工操作を行うことが可能である。これを達成するために、区画の間の空間は、ガラス質の物質で充填される。これらのガラス質の物質の原料は主に、エナメルにその色をもたらす金属化合物と会合した、シリカ、長石、ペグマタイト、チョーク、石灰および時にはカオリンである。エレメントのパターンの区画が一旦、ガラス質の物質で充填されれば、焼成を炉の中で、例えば、金属物体に対して融合するエナメルについては８００℃に近い温度で行う。ダイアルの形態で装飾されたエレメントを図３に示す。
【００３４】
エナメル加工操作が一旦仕上がれば、ベース基板（これは、例えば、金属もしくはセラミックもしくはセラモメタリックであるか、またはさらに半導体材料から、マシニングもしくは選択的な溶解操作によってできている）を取り除くことを想定することも可能である。従って、この方法の後に得られた装飾されたエレメントは、パターン構造によって囲まれるエナメルの部分を含んでもよい。
【００３５】
当然ながら、選択的な融解または選択的な焼結操作後にベース基板上でパターン７が一旦仕上がれば、エナメル以外の充填物で作成された区画を充填することを想定することが可能である。充填物として、具体的には、熱硬化性ポリマー（エポキシ樹脂型）、金属、セラミックまたは他の物質（凝固または硬化または重合化の操作の前に粉末型または液体型で区画内に配置される）を用いることが可能である。異なる色の充填物７を選択して、区画を充填し、装飾されたエレメントを作成してもよい。
【００３６】
時計または宝飾品の部品のためのエレメントのベース基板上で壁、区画またはモールドを作成するための別の技術もまた、想定できる。本発明によれば、ＬＩＧＡ（ドイツの専門用語Ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｉｅ，Ｇａｌｖａｎｏｆｏｍｕｎｇ  ｕｎｄ  Ａｂｆｏｒｍｕｎｇ）法を用いて、ベース基板上の壁または区画またはモールドを作成してもよい。その場合、そのベース基板は好ましくは、半導体基板、例えば、ケイ素、またはさらにはガリウムヒ素であり、これは、電鋳操作のための導電性の上層を有してもよい。しかし、ベース基板の表面上に導電性層を作製する必要性を省くことができる、通常は銅からできている、金属のベース基板をとることも可能である。
【００３７】
感光性樹脂は、その上部の上に導電性層を有するベース基板上に被覆される。この感光性樹脂は、ポリイミドＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）ベースの樹脂または八官能性のエポキシ化ノボラック樹脂（参照ＳＵ−８のもとでＳｈｅｌｌ  Ｃｈｅｍｉｃａｌから入手可能）およびトリアリルスルホニウム塩のなかから選択される光開始剤であってもよい。この樹脂は、紫外線（ＵＶ）照射によって光重合されてもよい。しかし、シンクロトロンによって生じるＸ線に感受性である樹脂を有することも想定可能であるが、この操作は、ベース基板上にモールドまたは区画を生成するためには高価すぎる。
【００３８】
そのエレメントのベース基板上で作成されるべきパターンの等高線（ｃｏｎｔｏｕｒ）マスクがその樹脂上に配置される。このマスクは、ガラスプレートであってもよく、その上に、製作されるべきパターンによって不透明および透明な部分を用いてマスキング層が形成されている。例えば、紫外線型の光照射が、樹脂のマスクされていない部分を照射するためにマスク上に指し向けられる。ネガティブ型光感受性樹脂である、この種の樹脂を用いる場合、非照射部分は、物理的方法によって除去されても、または化学的方法によって除去されてもよい。これによって、樹脂の除去された部分において区画またはモールドの形状を規定することが可能になる。
【００３９】
作製されるべきパターンに応じて不透明および透明部分を備えるマスキング層を有するマスクとともに、ポジティブ型の感光性樹脂を用いてもよいことが注記されるべきである。このマスクは、ネガティブ型樹脂とともに用いられるマスクの反対である。この場合、これは、除去される樹脂の照射部分である。
【００４０】
その後、電鋳または電気めっきが行われる。少なくとも１つの金属材料が、ベース基板の表面で形成される導電性層由来の樹脂の開放部分で成長する。一旦、被覆された金属層の厚みが、所望の装飾のパターンを規定するのに十分になれば、その樹脂は除去されてもよい。エナメル加工操作は、規定の区画中にガラス質の物質（単数または複数）を挿入すること、およびそれらを炉内で焼成することによって、その後直ちに行われてもよい。しかし、その区画はまた、上記のように、異なる種類の充填物で充填されてもよい。
【００４１】
ＬＩＧＡプロセスによって被覆される金属材料は、ニッケルであっても、またはニッケル−リン合金であっても、または銅ベースの合金、金、またはさらには鋼であってもよいことが注記されるべきである。原則的に、任意の金属もしくは金属合金、または非晶質金属さえ用いることが可能であり、これらは、電気めっき法によって被覆されてもよい。
【００４２】
ＬＩＧＡ法に関連して記載される技術と全く同様の技術によって、樹脂中で作成される区画中での電気めっきまたは電着の操作の代わりに低温はんだを用いることも想定可能である。はんだは、ベース基板に（そのベース基板が金属材料からできている場合）、または導電性層に、金属層のようなそのベース基板の表面で直接固定されることが有利であり得る。
【００４３】
好ましくは、エレメント上に装飾性のパターンを作成するための異なる技術によって、時計のダイアルなどの装飾されたエレメントを作成することが求められる。時計のダイアル装飾のために、充填物が、作成されるモールドまたは区画中に挿入されてもよい。この充填物は、熱硬化性ポリマーであっても、金属合金であっても、セラミックであっても、サーメットであっても、または任意の他の種類の着色された充填物であってもよい。この種類の充填物は、この区画中において、周囲温度またはその区画の材料およびベース基板の融点よりも低くなければならない温度で、固定されてもよい。充填物がエナメルである場合、その区画中にガラス質の物質が配置されているダイアルはまた、炉の中で、かなり高温で焼成されなければならない。
【００４４】
中間の接着層は、作製法の各々の工程に、例えば、区画またはモールドを作成するためにベース基板上に、追加されてもよいことにも注意すべきである。その後、別の接着層が、充填物を用いてその区画または装飾されたエレメントに追加されて、上述の技術のうちの１つによって１つ以上のさらなる装飾性の層が追加されてもよい。装飾性の層は、エナメル加工構造で、１つ以上の二次元または三次元のパターンを形成するために、透明または透明ではないエナメル上で粉末の選択的なレーザーまたは電子ビームの焼結または融解によって得られる、金属、セラミックおよび／またはセラモメタリック層であってもよい。このベース基板はまた、区画の間の充填物の機械的接着を改善するために中空であってもよい。
【００４５】
選択的な焼結または選択的な融解の操作の間、金属粉末およびセラミックまたはセラモメタリック粉末を組み合わせることが想定され得る。最初に、金属粉末による第一の選択的な融解操作があってもよく、その後に、充填物質での充填の操作後、セラミックまたはセラモメタリック粉末での第二の選択的な焼結操作が続いてもよい。エレメントの先行する層上で粉末の選択的な融解または選択的な焼結の１つ以上のさらなる操作を行って、サンドイッチ構造を作成してもよい。従って、二次元または三次元のパターンは、充填物上で作成されても、または区画もしくはモールド上で、一連の融合されるかもしくは焼結された粉末層によって作成されてもよい。当然ながら、第一の操作ではセラミック粉末またはセラモメタリック粉末を、および第二の操作では金属粉末を用いることが可能である。
【００４６】
ちょうど示してきた詳細な説明から、時計または宝飾品の部品のための装飾されたエレメントを作製するための方法のいくつかの改変法は、特許請求の範囲によって定義される本発明の範囲から逸脱することなく当業者には考案され得る。この装飾されたエレメントはまた、時計のダイアルであっても、時計のハンド（針）であっても、または日付ディスクであっても、または時計の別の構成要素、例えば、四番車（セカンドホイール）（ｓｅｃｏｎｄｓ  ｗｈｅｅｌ）、ローター（回転式錘）（ｏｓｃｉｌｌａｔｉｎｇ  ｗｅｉｇｈｔ）、または時計ケースの裏カバーであってもよい。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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