(57)【要約】      （修正有）【課題】消灯時にパネルを透かして見たときに、第２の電極層で生じるギラツキを抑制する有機エレクトロルミネッセンスパネルを提供する。【解決手段】光透過性を有する第１の電極層１６と、第１の電極層に積層された有機エレクトロルミネッセンス層１７と、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に有機エレクトロルミネッセンス層に積層されて光反射性を有する複数の反射電極部を含む第２の電極層１８と、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部の、有機エレクトロルミネッセンス層とは反対側に積層されて反射電極部での正反射を減らす複数の反射制御部を含む反射制御層２１と、を備える有機エレクトロルミネッセンスパネル１。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性を有する第１の電極層と；
前記第１の電極層に積層された有機エレクトロルミネッセンス層と；
面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に前記有機エレクトロルミネッセンス層に積層されて光反射性を有する複数の反射電極部を含む第２の電極層と；
面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に前記複数の反射電極部の、前記有機エレクトロルミネッセンス層側とは反対側に積層されて前記反射電極部での正反射を減らす複数の反射制御部を含む反射制御層と；
を具備する、有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項２】
前記第２の電極層は、前記複数の反射電極部の配列方向において、前記第２の電極層全体の寸法に対する前記複数の反射電極部の幅の総和の比率が、１５％以上、４５％以下である、請求項１に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項３】
前記第２の電極層は、前記複数の反射電極部の配列方向において、前記第２の電極層の幅が、１０μｍ以上、１０ｍｍ以下である、請求項１または２に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項４】
前記有機エレクトロルミネッセンス層は、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に前記複数の反射電極部にそれぞれ対向して配置された複数の有機部を含み、
前記第１の電極層は、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に前記複数の反射電極部にそれぞれ対向して配置された複数の透明電極部を含む、請求項１ないし３のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネル。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれか１項に記載の有機エレクトロルミネッセンスパネルを具備する照明装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、有機エレクトロルミネッセンスパネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ：Organic  Light  Emitting  Diode）を用いて、一方の発光面（表面）側から光を出射する片面発光型の有機エレクトロルミネッセンスパネルが知られている。この種の有機エレクトロルミネッセンスパネルとしては、消灯時に表面と裏面の一方側から他方側を透かして見ることが可能な透過型で片面発光型の有機エレクトロルミネッセンスパネルがある。
【０００３】
透過型で片面発光型の有機エレクトロルミネッセンスパネルは、発光層を含む有機エレクトロルミネッセンス層が、光透過性を有する透明電極層と、光反射性を有する反射電極層とによって挟まれてなる積層構造が、ガラス基板上に設けられて構成されている。そして、透過型で片面発光型の有機エレクトロルミネッセンスパネルでは、反射電極層を微細なストライプ状に形成することで、表面及び裏面に平行な面内方向に対して間隔をあけて配列された複数の反射電極部を有している。これにより、ストライプ状の各反射電極部の間隔が、有機エレクトロルミネッセンスパネルの表面と裏面との間の光透過部として機能するので、表面と裏面の一方側から他方側を透かして見ることが可能な透過性（透明性）が得られる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２０１０／０４６８３３号
【特許文献２】特開２０１１−２４９５４１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、上述した透過型で片面発光型の有機エレクトロルミネッセンスパネルでは、光反射性を有する反射電極部の表面に光沢があるので、反射電極部の表面に映り込みが生じる。この映り込みに起因して、有機エレクトロルミネッセンスパネルの外部から内部に入射した光が、反射電極部の表面で反射するので、消灯時に有機エレクトロルミネッセンスパネルを非発光面側から透かして見たときに、反射電極部の表面にギラツキが生じる問題がある。このように反射電極部の表面がギラギラ光ることにより、有機エレクトロルミネッセンスパネルの透過性（視認性）の低下を招くおそれがある。
【０００６】
そこで、本発明は、消灯時に有機エレクトロルミネッセンスパネルを透かして見たときに、第２の電極層で生じるギラツキを抑制することができる有機エレクトロルミネッセンスパネル及び照明装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルは、光透過性を有する第１の電極層と、前記第１の電極層に積層された有機エレクトロルミネッセンス層と、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に前記有機エレクトロルミネッセンス層に積層されて光反射性を有する複数の反射電極部を含む第２の電極層と、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に前記複数の反射電極部の、前記有機エレクトロルミネッセンス層とは反対側に積層されて前記反射電極部での正反射を減らす複数の反射制御部を含む反射制御層と、を備える。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、消灯時に有機エレクトロルミネッセンスパネルを透かして見たときに、第２の電極層で生じるギラツキを抑制することが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】図１は、第１の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルを模式的に示す断面図である。
【図２】図２は、第２の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルを模式的に示す断面図である。
【図３】図３は、第３の実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンスパネルを模式的に示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
以下で説明する実施形態に係る有機エレクトロルミネッセンス（以下、有機ＥＬと称する。）パネル１は、第１の電極層１６と、有機ＥＬ層１７と、第２の電極層１８と、反射制御層２１とを具備する。第１の電極層１６は、光透過性を有する。有機ＥＬ層１７は、第１の電極層１６に積層されている。第２の電極層１８は、光反射性を有する複数の反射電極部１８ａを含み、複数の反射電極部１８ａが、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に有機ＥＬ層１７に積層されている。反射制御層２１は、反射電極部１８ａでの正反射を減らす複数の反射制御部２１ａを含み、複数の反射制御部２１ａが、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部１８ａの、有機ＥＬ層１７側とは反対側に積層されている。
【００１１】
また、以下で説明する実施形態に係る有機ＥＬパネル１における第２の電極層１８は、複数の反射電極部１８ａの配列方向において、第２の電極層１８全体の寸法に対する複数の反射電極部１８ａの幅Ｗ１の総和の比率が、１０％以上、９０％以下である。
【００１２】
また、以下で説明する実施形態に係る有機ＥＬパネル１における第２の電極層１８は、複数の反射電極部１８ａの配列方向において、第２の電極層１８幅Ｗ１が、１０μｍ以上、１０ｍｍ以下である。
【００１３】
また、以下で説明する実施形態に係る有機ＥＬパネル２における有機ＥＬ層２７は、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部２８ａにそれぞれ対向して配置された複数の有機部を含む。また、第１の電極層２６は、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部２８ａにそれぞれ対向して配置された複数の透明電極部２６ａを含む。
【００１４】
また、以下で説明する実施形態に係る照明装置は、実施形態に係る有機ＥＬパネル１を具備する。
【００１５】
（第１の実施形態）
以下、実施形態に係る有機ＥＬパネルについて、図面を参照して説明する。図１は、第１の実施形態に係る有機ＥＬパネルを模式的に示す断面図である。
【００１６】
本発明の実施形態に係る有機ＥＬパネルは、発光面である表面及び非発光面である裏面の一方側から他方側を透かして見ることが可能な光透過型で片面発光型の有機ＥＬパネルである。実施形態の有機ＥＬパネルは、例えば、展示装置における展示物の照明装置等に用いられて好適である。
【００１７】
（有機ＥＬパネルの構成）
図１に示すように、第１の実施形態の有機ＥＬパネル１は、光透過性を有する基板としてのガラス基板１１と、ガラス基板１１上に形成された有機ＥＬ素子１２と、封止ガラス１３と、を備える。ガラス基板１１及び封止ガラス１３は、非透湿性及び光透過性を有するソーダライムガラスによって形成されている。封止ガラス１３は、平皿状に形成されており、接着材１４によって外周縁部が、ガラス基板１１の外周縁部に接合されることで、内部が気密に封止されている。また、有機ＥＬ素子１２を構成する後述する各電極層１６，１８と電気的に接続された各配線（不図示）が、封止ガラス１３の外部に引き出されている。
【００１８】
（有機ＥＬ素子の構成）
図１に示すように、有機ＥＬ素子１２は、第１の電極層１６と、有機ＥＬ層１７と、第２の電極層１８と、反射制御層２１と、を備える。
【００１９】
第１の電極層１６は、光透過性を有しており、ガラス基板１１の上に積層されている。第１の電極層１６は、いわゆる透明電極層であり、例えばＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）等によって形成されている。また、第１の電極層１６の端部には、図示しないが、電極端子が設けられており、絶縁性を有する絶縁材によって電極端子が覆われ、電極端子は有機ＥＬパネル１の外部（不図示）と電気的に接続されている。
【００２０】
有機ＥＬ層１７は、第１の電極層１６の上に積層されている。有機ＥＬ層１７は、図示しないが、第１の電極層１６側に積層された正孔輸送層と、正孔輸送層に積層された発光層と、発光層に積層された電子輸送層と、を有する。発光層は、有機層であり、例えば、α−ＮＰＤ（ビス［Ｎ−（１−ナフチル）−Ｎ−フェニル］ベンジジン）及びＡｌｑ３（トリス（８−ヒドロキシキノリノラト）アルミニウム）等によって形成されている。また、図示しないが、有機ＥＬ層１７は、第１の電極層１６と正孔輸送層との間に積層される正孔注入層と、電子輸送層に積層される電子注入層と、を有する。
【００２１】
第２の電極層１８は、光反射性を有する材料、例えば、ＬｉＦ（フッ化リチウム）、Ａｌ（アルミニウム）やＡｇ（銀）、またはこれらの少なくとも一方を含む材料によって形成されており、有機ＥＬ層１７の上に積層されている。第２の電極層１８は、積層方向に直交する面内方向に対して所定の間隔をあけて配列された複数の反射電極部１８ａを含む。したがって、第２の電極層１８は、直線状の複数の反射電極部１８ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。なお、第２の電極層１８の形状は、ストライプ状には限定されず、千鳥格子状や、その他、非周期的な各種の配置パターンであってもよい。
【００２２】
反射制御層２１は、例えば、ＭｇＯ（酸化マグネシウム）、ＣａＯ（酸化カルシウム）、Ａｌ２Ｏ３（酸化アルミニウム）等によって白色に形成されている。白色の場合、反射制御層２１は、例えば、有機ＥＬパネル１の外部から内部に入射する光を乱反射させることで、反射電極部１８ａとは反対側、すなわち裏面Ｂ側に向かう反射光を抑制する拡散反射層として機能する。また、反射制御層２１は、例えば、Ｃ（カーボン）等によって黒色に形成されてもよい。黒色の場合、反射制御層２１は、例えば、有機ＥＬパネル１の外部から内部に入射する光を吸収することで、裏面Ｂ側に向かう反射光を抑制する光吸収層として機能する。なお、反射制御層２１は、第２の電極層１８の反射率よりも反射率が低い低反射材料によって形成されてもよい。したがって、反射制御層２１は、反射電極部１８ａの表面での正反射（鏡面反射）を減らすように機能する。
【００２３】
また、反射制御層２１は、積層方向に直交する面内方向に対して所定の間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部１８ａの、有機ＥＬ層１７とは反対側にそれぞれ積層された複数の反射制御部２１ａを含む。したがって、反射制御層２１は、直線状の複数の反射制御部２１ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。
【００２４】
なお、必要に応じて、反射制御層２１の表面に微細な凹凸が形成されてもよく、正反射を減らして乱反射を増やすことが可能になり、第２の電極層１８で生じるギラツキを更に抑制することができる。
【００２５】
（有機ＥＬパネルの製造工程）
以上のように構成された有機ＥＬパネル１の製造工程について説明する。まず、１００ｍｍ×１００ｍｍ程度の正方形状で厚さが０．７ｍｍ程度のガラス基板１１を用いて、ガラス基板１１の表面上に、光透過性を有する第１の電極層１６を、例えば、ＩＴＯを用いたスパッタリング法等によって厚さ１５０ｎｍ程度に成膜する。続いて、ガラス基板１１上に成膜した第１の電極層１６を、フォトリソグラフィ法によって所望の形状にパターニングする。次に、第１の電極層１６と、後工程で成膜する第２の電極層１８とを絶縁するために、第１の電極層１６上に、ポリイミドを用いたスピンコート法によって、絶縁材からなる絶縁層（不図示）を厚さ１．５μｍ程度に成膜する。続いて、上述と同様にフォトリソグラフィ法によって、絶縁層を、第１の電極層１６の外縁部を覆うように所望の形状にパターニングする。
【００２６】
次に、白色発光させる有機積層体である有機ＥＬ層１７を、第１の電極層１６の上に真空蒸着法等によって成膜する。このとき、有機ＥＬ層１７として、まず、α−ＮＰＤによって正孔輸送層を厚さ６０ｎｍ程度に成膜する。続いて、青色発光層を、ホストをα−ＮＰＤとし、ドーパントをペリレンとしてドーパントの濃度が１重量％となるように、厚さ２０ｎｍ程度に成膜する。引き続き、赤色発光層を、ホストをＡｌｑ３とし、ドーパントをＤＣＭ１としてドーパントの濃度が１重量％とになるように厚さ４０ｎｍに成膜する。最後に、Ａｌｑ３によって電子輸送層を厚さ２０ｎｍ程度に成膜する。
【００２７】
次に、有機ＥＬ層１７の上に、第２の電極層１８を、例えば、ＬｉＦ及びＡｌを用いた真空蒸着法によって、有機ＥＬ層１７の表面に沿って所定の間隔をあけて形成する。第２の電極層１８は、有機ＥＬパネル１の透過率を定めるものであり、本実施形態では、一例として透過率が８５％に設定されている。つまり、有機ＥＬ素子１２の、積層方向に直交する方向における全面積に対して、複数の光透過部２０が占める全領域が８５％に設定されている。蒸着用のメタルマスクとしては、メタルマスクが有する開口部全体の面積が、メタルマスク全体の面積（開口部を含めた全面積）の１５％になるように、開口部が等間隔に周期的に配列されたものを用いる。第２の電極層１８を、膜厚０．７ｎｍ程度のＬｉＦ膜と、膜厚１５０ｎｍ程度のＡｌ膜とによって、幅１５０μｍ程度、ピッチ４００μｍ程度のストライプパターン状に形成する。
【００２８】
続いて、第２の電極層１８の上に、反射制御層２１を、Ａｌ２Ｏ３を用いた真空蒸着法によって、第２の電極層１８と同様に、幅１５０μｍ程度、ピッチ４００μｍ程度のストライプパターン状の白色層として形成する。あるいは、反射制御層２１は、Ｃを用いた真空蒸着法によってストライプパターン状の黒色層として形成されてもよい。このとき、先に形成した第２の電極層１８のストライプパターンと、反射制御層２１のストライプパターンとが重なるようにアライメントを行って位置決めを行う。これにより、透過型で片面発光型の有機ＥＬパネル１が形成される。
【００２９】
最後に、上述のように製造された有機ＥＬ素子１２は、外気の水分に対して非常に脆弱であるので、非透湿性の保護部材を用いて有機ＥＬ素子１２を覆うことで、気密に封止する。また、本実施形態の有機ＥＬパネル１は、透過性を確保する必要があるので、透過性の保護部材を用いて有機ＥＬ素子１２が覆われる。このため、保護部材である封止ガラス１３として、ソーダライムガラスを用いる。そして、ドライ窒素雰囲気下において、接着材１４としてＵＶ（紫外線）硬化型の接着剤を用いて、ガラス基板１１の外周縁部と封止ガラス１３の外周縁部とを貼り合わせる。貼り合わせ後、有機ＥＬ素子１２にＵＶが照射されないように遮光した状態で、接着剤の塗布部にＵＶを照射して接着剤を硬化させることで、有機ＥＬパネル１の内部を気密に封止する。封止構造としては、例えば、封止ガラス１３の内部に樹脂材を充填するダム・フィル封止構造や、封止ガラス１３の内部を中空にする中空封止構造が適用される。
【００３０】
（有機ＥＬパネルにおける光の振る舞い）
次に、第１の実施形態の有機ＥＬパネル１において、表面Ａ側及び裏面Ｂ側にそれぞれ出射される光の振る舞いについて説明する。まず、有機ＥＬパネル１では、有機ＥＬ層１７において、正孔注入層を介して正孔輸送層から供給されるホールと、電子注入層を介して電子輸送層から供給される電子とが発光層で結合することに伴って、発光層が光を発する。このとき、第１の電極層１６と、第２の電極層１８の反射電極部１８ａとの間に挟まれた発光層の領域が光を発する。発光層が発した光のうち、ガラス基板１１側に向かって進む光は、第１の電極層１６、ガラス基板１１を通過して、発光面である表面Ａ側から出射される。また、発光層が発した光のうち、反射電極部１８ａ側に向かって進む光は、反射電極部１８ａで反射されることで、第１の電極層１６、ガラス基板１１を通過して、表面Ａ側から出射される。
【００３１】
そして、有機ＥＬパネル１の消灯時、有機ＥＬパネル１の外部から、例えば、反射電極部１８ａに対向する裏面Ｂ側から内部に入射する光は、反射制御層２１によって反射電極部１８ａでの正反射が抑えられるので、裏面Ｂ側に向かって反射されることが抑制される。反射制御層２１が白色である場合には、反射制御層２１によって、有機ＥＬパネル１の外部から内部に入射する光の乱反射が増える。また、反射制御層２１が黒色である場合には、反射制御層２１によって、有機ＥＬパネル１の外部から内部に入射する光の吸収が増える。このため、消灯時に有機ＥＬパネル１を裏面Ｂ側から透かして見たときに、第２の反射層１８で生じるギラツキが抑制される。また、反射制御層２１が第２の電極層１８と同様にストライプ状に形成されているので、複数の光透過部２０を介した透過性が良好に確保される。
【００３２】
また、第１の実施形態における第２の電極層１８は、複数の反射電極部１８ａの配列方向において、第２の電極層１８全体の寸法に対する複数の反射電極部の幅Ｗ１の総和の比率が、１０％以上、９０％以下に設定されている。言い換えると、有機ＥＬ素子１２の、積層方向に直交する方向に対する全面積に対して、複数の反射電極部１８ａの領域が占める面積の比率が、１０％以上、９０％以下に設定されている。すなわち、この比率が１０％である場合、上述の有機ＥＬ素子１２の全面積に対して、複数の光透過部２０の領域が占める全面積の比率が９０％となる。なお、第２の電極層１８の各反射電極部１８ａの幅Ｗ１は、１０μｍ〜１０ｍｍ程度に形成されている。
【００３３】
上述の比率が９０％を超える場合には、複数の光透過部２０全体の領域が少なくなり、透過性を適正に確保することができないので、透過型の有機ＥＬパネルとして使用する上で好ましくない。また、第２の電極層１８の各反射電極部１８ａの幅Ｗ１が、１０ｍｍ以上になる場合は、個々の第２の電極層１８による遮光性が高くなり、透過性を適正に確保することができないので、透過型の有機ＥＬパネルとして使用する上で好ましくない。一方、比率が１０％未満の場合には、有機ＥＬ層１２全体の領域が少なくなり、光量が乏しく、適正に確保することができないので、有機ＥＬパネルとして使用する上で好ましくない。また、第２の電極層１８の各反射電極部１８ａの幅Ｗ１が、１０μｍ未満になる場合は、反射電極部１８ａのパターンを適正に形成することが困難になるので、製造工程上、好ましくない。具体的には、ストライプ状の第２の電極層１８は、蒸着法においてメタルマスクを用いて形成している。このため、比率が１５％未満の場合、メタルマスクがねじれることなく強度を適正に保つことが困難になり、第２の電極層１８をストライプ状に形成することが難しくなる。
【００３４】
（第１の実施形態の効果）
第１の実施形態は、面内方向に対して間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部１８ａの、有機ＥＬ層１７側とは反対側に積層されて反射電極部１８ａでの正反射を減らす複数の反射制御部２１ａを含む反射制御層２１を備える。これにより、有機ＥＬパネル１の消灯時に、非発光面（裏面Ｂ）側から発光面（表面Ａ）側を透かして見たときに、第２の電極層１８で生じるギラツキを抑制することが可能になる。その結果、有機ＥＬパネル１における裏面Ｂ側からの透過性（視認性）の低下を防ぐことが可能になる。
【００３５】
以下、他の実施形態の有機ＥＬパネルについて図面を参照して説明する。なお、他の実施形態において、第１の実施形態と同一の構成部材には、第１の実施形態と同一符号を付して説明を省略する。
【００３６】
（第２の実施形態）
図２は、第２の実施形態に係る有機ＥＬパネルを模式的に示す断面図である。第２の実施形態は、第１の実施形態と比べて、第１の電極層から反射制御層までの積層構造が逆の配置で積層された点が、第１の実施形態と異なる。
【００３７】
図２に示すように、第２の実施形態の有機ＥＬパネル２が有する有機ＥＬ素子２２は、裏面Ｂ側が発光面とし、表面Ａ側が非発光面として構成されている。有機ＥＬ素子２２は、第１の電極層２６と、有機ＥＬ層２７と、第２の電極層２８と、反射制御層２５と、を備える。
【００３８】
反射制御層２５は、第１の実施形態における反射制御層層２１と同様に、例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ａｌ２Ｏ３等によって白色層、またはＣ等によって黒色層として形成されている。反射制御層２５は、ガラス基板１１の上に、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列された複数の反射制御部２５ａを含む。したがって、反射制御層２５は、直線状の複数の反射制御部２５ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。反射制御層２５は、第２の電極層２８で反射されて、後述する反射電極部２８ａとは反対側、すなわち表面Ａ側に向かう反射光を抑制する。
【００３９】
第２の電極層２８は、光反射性を有する材料、例えば、アルミニウムや銀、またはこれらの少なくとも一方を含む材料によって形成されており、反射制御層２５の上に積層されている。第２の電極層２８は、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列されると共に複数の反射制御部２５ａにそれぞれ積層された複数の反射電極部２８ａを含む。したがって、第２の電極層２８は、直線状の複数の反射電極部２８ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。
【００４０】
有機ＥＬ層２７は、第１の実施形態における有機ＥＬ層１７と同様に、例えば、α−ＮＰＤ、Ａｌｑ３等によって形成されており、第２の電極層２８の上に積層されている。有機ＥＬ層２７は、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部２８ａにそれぞれ積層された複数の有機部２７ａを含む。したがって、有機ＥＬ層２７は、直線状の複数の有機部２７ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。
【００４１】
第１の電極層２６は、光透過性を有しており、有機ＥＬ層２７の上に積層されている。第１の電極層２６は、第１の実施形態における第１の電極層１６と同様に透明電極層であり、例えばＩＴＯ等によって形成されている。第１の電極層２６は、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列されると共に複数の有機部２７ａにそれぞれ積層された複数の透明電極部２６ａを含む。したがって、第１の電極層２６は、直線状の複数の透明電極部２６ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。
【００４２】
要するに、第２の実施形態においても、反射制御層２５は、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列されると共に複数の反射電極部２８ａの、有機ＥＬ層２７とは反対側にそれぞれ積層された複数の反射制御部２５ａを含むと言い換えることが可能である。
【００４３】
以上のように構成された有機ＥＬパネル２の製造工程では、有機ＥＬ素子２２を形成する各工程が、第１の実施形態における有機ＥＬ素子１２を形成する各工程の順序とは逆に行われる。また、有機ＥＬ層２７を形成する工程では、第２の電極層２８の上に、有機ＥＬ層２７をストライプパターン状に形成する。続いて、第１の電極層２６を形成する工程では、有機ＥＬ層２７の上に、光透過性を有する第１の電極層２６をストライプパターン状に形成する。このとき、先に形成した有機ＥＬ層２７のストライプパターンと、第１の電極層２６のストライプパターンとが重なるようにアライメントを行って位置決めを行う。
【００４４】
（第２の実施形態における光の振る舞い）
第２の実施形態では、表面Ａ側が発光する第１の実施形態とは異なり、裏面Ｂ側が発光する。すなわち、有機ＥＬ層２７が発した光のうち、裏面Ｂ側に向かって進む光は、第１の電極層２６、封止ガラス１３を通過して、発光面となる裏面Ｂ側から出射される。また、有機ＥＬ層２７が発した光のうち、反射電極部２８ａ側に向かって進む光は、反射電極部２８ａで反射されることで、第１の電極層２６、封止ガラス１３を通過して、裏面Ｂ側から出射される。
【００４５】
そして、有機ＥＬパネル２の消灯時、有機ＥＬパネル２の外部から、例えば、反射電極部２８ａに対向するガラス基板１１側（表面Ａ側）から内部に入射する光は、反射制御層２５によって反射電極部２８ａでの正反射が抑えられるので、表面Ａ側に向かって反射されることが抑制される。このため、消灯時に有機ＥＬパネル２を表面Ａ側から透かして見たときに、第２の反射層２８で生じるギラツキが抑制される。また、反射制御層２５が第２の電極層２８と同様にストライプ状に形成されると共に、光透過部２０が空隙で構成されているので、複数の光透過部２０を介した透過性が更に良好に確保される。
【００４６】
（第２の実施形態の効果）
第２の実施形態においても、第１の実施形態と同様に、有機ＥＬパネル２の消灯時に、非発光面（表面Ａ）側から発光面（裏面Ｂ）側を透かして見たときに、第２の電極層２８で生じるギラツキを抑制することが可能になる。その結果、有機ＥＬパネル２における表面Ａ側からの透過性の低下を防ぐことが可能になる。
【００４７】
加えて、第２の実施形態では、反射制御部２５ａ、反射電極部２８ａ、有機部２７ａ、透明電極部２６ａが積層されたストライプ状の各部分の間に、光透過部２０が構成されるので、光透過部２０が空隙によって構成されることになり、光透過部２０の透過性を高めることができる。
【００４８】
（第３の実施形態）
図３は、第３の実施形態に係る有機ＥＬパネルを模式的に示す断面図である。第３の実施形態は、ガラス基板１１と第１の電極層との間に反射制御層が配置された点が、第１の実施形態と異なる。
【００４９】
図３に示すように、第３の実施形態の有機ＥＬパネル３が有する有機ＥＬ素子３２は、消灯時に発光面（表面Ａ）側から透かして見たときのギラツキを抑えるように、反射制御層３１を配置した構成である。有機ＥＬ素子３２は、第１の電極層３６と、有機ＥＬ層３７と、第２の電極層３８と、反射制御層３１と、を備える。
【００５０】
反射制御層３１は、有機ＥＬ層３７からの発光を通過させつつ、消灯時に発光面（表面Ａ）側から透かして見たときのギラツキを抑える必要がある。そのため第１の実施形態、第２の実施形態における反射制御層２１とは異なり、例えば、ＭｇＯ、ＣａＯ、Ａｌ２Ｏ３等の微粒子を含んだポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン等の樹脂層によって白色層として形成されている。反射制御層３１は、ガラス基板１１の上に、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列された複数の反射制御部３１ａを含む。したがって、反射制御層３１は、直線状の複数の反射制御部３１ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。反射制御層３１は、第２の電極層３８で反射されて、表面Ａ側に向かう反射光を抑制する。
【００５１】
第１の電極層３６は、光透過性を有しており、反射制御層３１の上に積層されている。第１の電極層３６は、第１の実施形態における第１の電極層１６と同様に透明電極層であり、例えばＩＴＯ等によって形成されている。第１の電極層３６は、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列されると共に複数の反射制御部３１ａにそれぞれ積層された複数の透明電極部３６ａを含む。したがって、第１の電極層３６は、直線状の複数の透明電極部３６ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。
【００５２】
有機ＥＬ層３７は、第１の実施形態における有機ＥＬ層１７と同様に、例えば、α−ＮＰＤ、Ａｌｑ３等によって形成されている。有機ＥＬ層３７は、各反射制御部３１ａ、透明電極部３６ａを覆うように第１の電極層３６の上に積層されている。
【００５３】
第２の電極層３８は、光反射性を有する材料、例えば、アルミニウムや銀、またはこれらの少なくとも一方を含む材料によって形成されており、有機ＥＬ層３７の上に積層されている。第２の電極層３８は、面内方向に対して所定の間隔をあけて配列された複数の反射電極部３８ａを含む。したがって、第２の電極層３８は、直線状の複数の反射電極部３８ａが間隔をあけて配列されることで、ストライプ状に形成されている。
【００５４】
以上のように構成された有機ＥＬパネル３の製造工程では、反射制御層３１を形成する工程と、第１の電極層３６を形成する工程とを除き、第１の実施形態における各工程がほぼ同様に行われる。反射制御層３１を形成する工程では、ガラス基板１１の上に、反射制御層３１をストライプパターン状に形成する。続いて、第１の電極層３６を形成する工程では、反射制御層３１の上に、光透過性を有する第１の電極層３６をストライプパターン状に形成する。このとき、先に形成した反射制御層３１のストライプパターンと、第１の電極層３６のストライプパターンとが重なるようにアライメントを行って位置決めを行う。以降、第１の実施形態と同様に、有機ＥＬ層３７、第２の電極層３８を順にそれぞれ形成する各工程を行う。
【００５５】
（第３の実施形態における光の振る舞い）
第３の実施形態では、第１の実施形態と同様に、表面Ａ側が発光する。そして、有機ＥＬパネル３の消灯時、有機ＥＬパネル３の外部から、例えば、ガラス基板１１側（表面Ａ側）から内部に入射する光は、反射制御層３１によって遮られるので、第２の電極層３８で反射することが抑制される。また、第２の電極層３８で正反射された光に関しても、反射制御層３１によって遮られる。このため、有機ＥＬパネル３の外部から内部に入射した光が、第２の電極層３８から表面Ａ側に向かって反射されることを防げる。このため、消灯時に有機ＥＬパネル３を表面Ａ側から透かして見たときに、第２の反射層３８で生じるギラツキが抑制される。また、反射制御層３１が第２の電極層３８と同様にストライプ状に形成されているので、複数の光透過部２０を介した透過性が良好に確保される。
【００５６】
（第３の実施形態の効果）
第３の実施形態は、第１及び第２の実施形態と同様に、有機ＥＬパネル３の消灯時に、発光面（表面Ａ）側から非発光面（裏面Ｂ）側を透かして見たときに、第２の電極層３８で生じるギラツキを抑制することが可能になる。その結果、有機ＥＬパネル３における表面Ａ側からの透過性の低下を防ぐことが可能になる。
【００５７】
本発明の実施形態を説明したが、実施形態は、例として提示したものであり、本発明の範囲を限定することを意図していない。実施形態は、その他の様々な形態で実施することが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。実施形態やその変形は、本発明の範囲や要旨に含まれると同様に、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれるものである。
【符号の説明】
【００５８】
１  有機エレクトロルミネッセンスパネル
１１  ガラス基板
１２  有機エレクトロルミネッセンス素子
１３  封止ガラス
１４  接着材
１６  第１の電極層
１７  有機エレクトロルミネッセンス層
１８  第２の電極層
１８ａ  反射電極部
２０  光透過部
２１  反射制御層
２１ａ  反射制御部
【図１】
2016177967.tif 000003
【図２】
2016177967.tif 000004
【図３】
2016177967.tif 000005