(57)【要約】【課題】光源からの発光が色分離されて入射する異なる波長の色光束を効率的に利用可能な電気光学装置及び該電気光学装置を備えた電子機器を提供すること。【解決手段】電気光学装置としての液晶装置１００は、画素Ｐごとに設けられ、赤色光束（Ｒ）と緑色光束（Ｇ）と青色光束（Ｂ）とが異なる入射角度で入射する集光素子としてのマイクロレンズＭＬと、サブ画素ＳＢ，ＳＧ，ＳＲのそれぞれを区分して、サブ画素ＳＧに対応する第１開口部１７ａとサブ画素ＳＲに対応する第２開口部１７ｂとサブ画素ＳＢに対応する第３開口部１７ｃとを構成する遮光部１７と、遮光部１７に対してマイクロレンズＭＬと反対に設けられ、マイクロレンズＭＬによって集光され第１開口部１７ａ及び第２開口部１７ｂ並びに第３開口部１７ｃを透過した色光束のうちの一部を射出側に反射させる反射部としてのプリズム６０と、を備えた。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源からの発光が互いに波長が異なる少なくとも第１色光束、第２色光束に色分離され、前記第１色光束が入射する第１サブ画素と、所定の方向において前記第１サブ画素に隣り合い、前記第２色光束が入射する第２サブ画素とを少なくとも含む画素を備えた電気光学装置であって、
前記画素ごとに設けられ、前記第１色光束と前記第２色光束とが異なる入射角度で入射する集光素子と、
前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素のそれぞれを区分して、前記第１サブ画素に対応する第１開口部と前記第２サブ画素に対応する第２開口部とを構成する遮光部と、
前記遮光部に対して前記集光素子と反対に設けられ、前記集光素子によって集光され前記第１開口部及び前記第２開口部を透過した色光束のうちの一部を射出側に反射させる反射部と、を備えた電気光学装置。
【請求項２】
前記遮光部は、透光性の基板上に設けられ、
前記反射部は、前記基板に設けられた断面が略Ｖ字形状の溝であって、
前記溝は、前記基板の厚み方向に対して１度〜８度の角度で傾斜した斜面を有していることを特徴とする請求項１に記載の電気光学装置。
【請求項３】
前記反射部は、前記第１開口部と前記第２開口部とを含む領域を囲んで前記画素ごとに設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項４】
前記反射部は、前記第１開口部及び前記第２開口部のそれぞれを囲んで設けられていることを特徴とする請求項１または２に記載の電気光学装置。
【請求項５】
前記集光素子には、前記第１色光束と、前記第２色光束と、前記第１色光束及び前記第２色光束と波長が異なる第３色光束とがそれぞれ異なる入射角度で入射し、
前記画素は、前記所定の方向において前記第１サブ画素に隣り合い、前記第３色光束が入射する第３サブ画素をさらに含んでいることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか一項に記載の電気光学装置。
【請求項６】
前記反射部は、前記第１開口部及び前記第２開口部並びに前記第３サブ画素の第３開口部のそれぞれを囲んで設けられていることを特徴とする請求項５に記載の電気光学装置。
【請求項７】
光源と、
前記光源からの発光を互いに波長が異なる少なくとも第１色光束と第２色光束とに分離する色分離素子と、
請求項１乃至６のいずれか一項に記載の電気光学装置と、を備えたことを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は電気光学装置及び電子機器に関する。
【背景技術】
【０００２】
電気光学装置として、例えば、特許文献１には、マイクロレンズを画素基板における複数の画素ごとに対向配置すると共に、予め色分解された各色光を共通のマイクロレンズに互いに異なる角度で入射させ、マイクロレンズからの色ごとの出射光を各色に対応して配置された画素電極に分配入射させる液晶表示装置が開示されている。
【０００３】
上記特許文献１の液晶表示装置では、マイクロレンズで集光された光が画素電極を透過して画素基板の内部で焦点を結ぶように、マイクロレンズの焦点距離が設定されている。また、画素基板において隣り合う画素電極間にはブラックマトリクス部が配置されている。したがって、マイクロレンズと画素電極との間の距離の設定の仕方によって、マイクロレンズで集光された光の一部がブラックマトリクス部に入射して遮光されるおそれがある。とりわけ、マイクロレンズで集光された光のうち画素電極に対して斜め方向から入射する光はブラックマトリクス部によって遮光され易い。
【０００４】
そこで、異なる角度で入射する光の利用効率を改善するため、例えば、特許文献２には、２次元に配列された複数の第１光屈折素子を有する第１光屈折素子アレイと、それぞれが第１の屈折率を有し、かつ、複数の第１光屈折素子と１：１で対応するように２次元に配列された第２光屈折素子を有する第２光屈折素子アレイと、第１の屈折率と異なる第２の屈折率を有する第３光屈折素子アレイと、を有し、第１光屈折素子アレイに互いに異なる角度で入射し、第１光屈折素子アレイによって集光された光束の主光線を、第２光屈折素子アレイと第３光屈折素子アレイとによって平行化する光屈折素子アレイ基板を具備した画像表示素子が開示されている。
【０００５】
上記特許文献１の液晶表示装置及び上記特許文献２の画像表示素子は、カラーフィルターを用いずにカラー表示を可能とするものである。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開平１０−１６１０９７号公報
【特許文献２】特開２００５−９９５９２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
上記特許文献２の画像表示素子では、光屈折素子アレイにおいて、第１光屈折素子により集光された主光線は、第２光屈折素子と第３光屈折素子とにより平行化されるものの、第１光屈折素子により集光された光のすべてが第２光屈折素子と第３光屈折素子との界面に一定の角度で入射するわけではない。したがって、第１光屈折素子により集光された光のすべてが第２光屈折素子と第３光屈折素子とにより平行化されるとは限らないので、集光された光の利用効率をさらに改善する必要があるという課題があった。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明は、上述の課題の少なくとも一部を解決するためになされたものであり、以下の形態または適用例として実現することが可能である。
【０００９】
［適用例］本適用例に係る電気光学装置は、光源からの発光が互いに波長が異なる少なくとも第１色光束、第２色光束に色分離され、前記第１色光束が入射する第１サブ画素と、所定の方向において前記第１サブ画素に隣り合い、前記第２色光束が入射する第２サブ画素とを少なくとも含む画素を備えた電気光学装置であって、前記画素ごとに設けられ、前記第１色光束と前記第２色光束とが異なる入射角度で入射する集光素子と、前記第１サブ画素及び前記第２サブ画素のそれぞれを区分して、前記第１サブ画素に対応する第１開口部と前記第２サブ画素に対応する第２開口部とを構成する遮光部と、前記遮光部に対して前記集光素子と反対に設けられ、前記集光素子によって集光され前記第１開口部及び前記第２開口部を透過した色光束のうちの一部を射出側に反射させる反射部と、を備えたことを特徴とする。
【００１０】
本適用例によれば、反射部に入射した色光束の一部を射出側に反射させることから、遮光部の第１開口部及び第２開口部を透過した色光束が、隣り合う画素に漏れることを防ぎ、画素に入射する色光束の利用効率が向上する。したがって、カラーフィルターを用いずに明るいカラー表示が可能な電気光学装置を提供することができる。
【００１１】
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記遮光部は、透光性の基板上に設けられ、前記反射部は、前記基板に設けられた断面が略Ｖ字形状の溝であって、前記溝は、前記基板の厚み方向に対して１度〜８度の角度で傾斜した斜面を有していることを特徴とする。
この構成によれば、反射部としての溝の内部と基板との屈折率の差により、溝を構成する斜面に入射した光を反射させることができる。また、斜面の傾斜角度が１度〜８度の範囲であることから、斜面に入射した光を効率的に反射させることができる。
【００１２】
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記反射部は、前記第１開口部と前記第２開口部とを含む領域を囲んで前記画素ごとに設けられていることが好ましい。
この構成によれば、画素に入射する色光束の利用効率が改善される。
【００１３】
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記反射部は、前記第１開口部及び前記第２開口部のそれぞれを囲んで設けられていることが好ましい。
この構成によれば、画素に入射する色光束の利用効率がより改善される。
【００１４】
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記集光素子には、前記第１色光束と、前記第２色光束と、前記第１色光束及び前記第２色光束と波長が異なる第３色光束とがそれぞれ異なる入射角度で入射し、前記画素は、前記所定の方向において前記第１サブ画素に隣り合い、前記第３色光束が入射する第３サブ画素をさらに含んでいることを特徴とする。
この構成によれば、第１色光束、第２色光束、第３色光束を例えば波長が異なる緑色光束、赤色光束、青色光束とすれば、明るいフルカラー表示が可能な電気光学装置を提供できる。
【００１５】
上記適用例に記載の電気光学装置において、前記反射部は、前記第１開口部及び前記第２開口部並びに前記第３サブ画素の第３開口部のそれぞれを囲んで設けられていることが好ましい。
この構成によれば、より明るいフルカラー表示が可能な電気光学装置を提供できる。
【００１６】
［適用例］本適用例に係る電子機器は、光源と、前記光源からの発光を互いに波長が異なる少なくとも第１色光束と第２色光束とに分離する色分離素子と、上記適用例に記載の電気光学装置と、を備えたことを特徴とする。
本適用例によれば、明るいカラー表示が可能な電子機器を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図。
【図２】（ａ）は液晶装置の構成を示す概略平面図、（ｂ）は画素の構成を示す概略拡大平面図。
【図３】液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図。
【図４】（ａ）は対向基板におけるマイクロレンズの配置を示す概略平面図、（ｂ）は（ａ）のＡ−Ａ’線で切った対向基板におけるマイクロレンズアレイの構造を示す概略断面図。
【図５】画素におけるサブ画素の配置を示す平面図。
【図６】（ａ）及び（ｂ）は画素の構造を示す概略断面図。
【図７】画素における遮光部とプリズムの配置を示す概略平面図。
【図８】第２実施形態の電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図。
【図９】（ａ）及び（ｂ）は第２実施形態の液晶装置における画素の構成を示す概略平面図。
【図１０】プリズムの斜面の光軸に対する角度と投射レンズ透過率との関係を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明を具体化した実施形態について図面に従って説明する。なお、使用する図面は、説明する部分が認識可能な状態となるように、適宜拡大または縮小して表示している。
【００１９】
（第１実施形態）
＜電子機器＞
まず、本実施形態の電気光学装置が適用された電子機器として投射型表示装置を例に挙げ、図１を参照して説明する。図１は電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図である。
図１に示すように、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置（液晶プロジェクター）１０００は、システム光軸Ｌ0上に配置された、光源ユニット１００１と、偏光変換ユニット１００５と、色分離素子１０１０と、電気光学装置としての液晶装置１００と、投射光学系としての投射レンズ１０１４とを含んで構成されている。
光源ユニット１００１からの発光を偏光変換ユニット１００５により所定の径の偏光光束に変換して色分離素子１０１０に入射させる。色分離素子１０１０は、入射した偏光光束を、波長が異なる赤色光束（Ｒ）、緑色光束（Ｇ）、青色光束（Ｂ）に分離して液晶装置１００に向けてそれぞれ異なる角度で射出させる。
液晶装置１００は光変調装置であって、異なる角度で入射した赤色光束（Ｒ）、緑色光束（Ｇ）、青色光束（Ｂ）のそれぞれを画像情報に基づいて光学的に変調し表示光として射出させる。射出された表示光は投射レンズ１０１４によって、例えばスクリーン１１００などに拡大して投射される。
投射型表示装置１０００は、上記各構成の配置によって、相互の構成の間に光束を導くための光学系を含んでいてもよい。例えば、偏光変換ユニット１００５と、色分離素子１０１０との間に、上記光学系の例としてリレーレンズやミラー（反射板）などが配置されるとしてもよい。なお、各構成の配置及び上記光学系は、これに限定されるものではない。また、色光束において波長が異なるとは代表波長（輝度のピーク波長）が異なることを指す。
【００２０】
光源ユニット１００１は、白色の発光が得られる光源１００２と、口径が異なる第１コリメーターレンズ１００３及び第２コリメーターレンズ１００４とを含んで構成されている。光源ユニット１００１は、光源１００２からの発光を２つのコリメーターレンズ（コリメーター光学系）を用いて拡大して所定の径の光束とするものである。
光源１００２は、点光源として扱える例えば発光ダイオード（ＬＥＤ）やレーザーが挙げられる。光源１００２は、赤色、緑色、青色の発光が得られるＬＥＤやレーザーを組み合わせて白色の発光を得る構成や、青色、黄色の発光が得られるＬＥＤやレーザーを組み合わせて白色の発光を得る構成としてもよい。
【００２１】
偏光変換ユニット１００５は、光源ユニット１００１から入射する所定の径の光束を偏光方向が揃った直線偏光に変換して射出するものであり、第１レンズアレイ１００６と、第２レンズアレイ１００７と、偏光変換素子１００８と、重畳レンズ１００９とを備えている。具体的には、第１レンズアレイ１００６及び第２レンズアレイ１００７は、それぞれシステム光軸Ｌ0と直交する面内においてマトリックス状に配置された複数の小レンズを有する。偏光変換ユニット１００５に入射した光束は、これらのレンズアレイを透過して小レンズを単位とした部分光束に分割される。部分光束は偏光変換素子１００８により直線偏光に変換され、重畳レンズ１００９によって重畳されて射出される。重畳レンズ１００９は、重畳された直線偏光の光束（偏光光束）が後述する液晶装置１００の表示領域に入射するように光学設計されている。
【００２２】
色分離素子１０１０は、例えばダイクロイックミラーを用いて構成することができる。具体的には、システム光軸Ｌ0に対して、それぞれ異なる角度で傾斜して配置された、２つのダイクロイックミラー１０１１，１０１２と反射ミラー１０１３とにより色分離素子１０１０が構成されている。システム光軸Ｌ0上において、偏光変換ユニット１００５側からダイクロイックミラー１０１１、ダイクロイックミラー１０１２、反射ミラー１０１３の順にだんだん傾斜角度が大きくなるように配置されている。ダイクロイックミラー１０１１は、システム光軸Ｌ0に対して最も小さな傾斜角度で配置され、システム光軸Ｌ0に沿って入射した偏光光束のうち波長が長い赤色光束（Ｒ）を反射し、赤色光束（Ｒ）よりも波長が短い緑色光束（Ｇ）及び青色光束（Ｂ）を透過する。ダイクロイックミラー１０１２は、中間の傾斜角度で配置され、緑色光束（Ｇ）を反射して、緑色光束（Ｇ）よりも波長が短い青色光束（Ｂ）を透過する。反射ミラー１０１３は、システム光軸Ｌ0に対して最も大きな傾斜角度で配置され、ダイクロイックミラー１０１２を透過した青色光束（Ｂ）を反射する。
【００２３】
ダイクロイックミラー１０１２により反射した緑色光束（Ｇ）は、液晶装置１００の光の入射面に対して法線方向から液晶装置１００に入射する。ダイクロイックミラー１０１１により反射した赤色光束（Ｒ）及び反射ミラー１０１３により反射した青色光束（Ｂ）は、液晶装置１００の入射面の法線方向に対して所定の角度をなして液晶装置１００に入射する。言い換えれば、光の入射面に対して法線方向から緑色光束（Ｇ）が入射し、法線方向に対して所定の角度をなして赤色光束（Ｒ）、青色光束（Ｂ）が液晶装置１００に入射するように、色分離素子１０１０と、液晶装置１００とが相対的に配置されている。
【００２４】
液晶装置１００は、カラーフィルターを用いずに、互いに異なる角度で入射した赤色光束（Ｒ）、緑色光束（Ｇ）、青色光束（Ｂ）のそれぞれを光学的に有効利用して明るい表示が行えるように、画素の構造が工夫されている。液晶装置１００の詳細については後述する。
【００２５】
このような投射型表示装置（液晶プロジェクター）１０００によれば、明るく見栄えのよい映像を投射可能である。
【００２６】
＜電気光学装置＞
次に、本実施形態の電気光学装置としての液晶装置１００について、図２〜図７を参照して説明する。図２（ａ）は液晶装置の構成を示す概略平面図、図２（ｂ）は画素の構成を示す概略拡大平面図、図３は液晶装置の電気的な構成を示す等価回路図、図４（ａ）は対向基板におけるマイクロレンズの配置を示す概略平面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ’線で切った対向基板におけるマイクロレンズアレイの構造を示す概略断面図である。図５は画素におけるサブ画素の配置を示す平面図、図６（ａ）及び（ｂ）は画素の構造を示す概略断面図、図７は画素における遮光部とプリズムの配置を示す概略平面図である。
【００２７】
図２（ａ）に示すように、本実施形態の電気光学装置としての液晶装置１００は、対向配置された素子基板１０及び対向基板２０と、これら一対の基板によって挟持された液晶層とを有する。素子基板１０の基板本体及び対向基板２０の基板本体は、それぞれ透明な例えば石英基板やガラス基板が用いられている。
【００２８】
素子基板１０は対向基板２０よりも大きく、両基板は、対向基板２０の外縁に沿って配置されたシール材４０を介して間隔を置いて貼り合わされている。シール材４０において途切れた部分が注入口４１となっており、真空注入法により注入口４１から上記間隔に正又は負の誘電異方性を有する液晶が注入され、封止材４２を用いて注入口４１が封入されている。なお、上記間隔に液晶を封入する方法は、真空注入法に限定されるものではなく、例えば、額縁状に配置されたシール材４０の内側に液晶を滴下して、減圧下で素子基板１０と対向基板２０とを貼り合わせるＯＤＦ（One  Drop  Fill）法を採用してもよい。
シール材４０は、例えば熱硬化性又は紫外線硬化性のエポキシ樹脂などの接着剤が採用されている。シール材４０には、一対の基板の上記間隔を一定に保持するためのスペーサー（図示省略）が混入されている。
【００２９】
シール材４０の内側には、マトリックス状に配列した複数の画素Ｐを含む表示領域Ｅが設けられている。また、シール材４０と表示領域Ｅとの間に表示領域Ｅを取り囲んで見切り部２４が設けられている。見切り部２４は、例えば遮光性の金属あるいは金属酸化物などを用いて形成された遮光膜からなる。見切り部２４は、光束が入射する対向基板２０側に設けられている。
【００３０】
素子基板１０には、複数の外部接続用端子１０４が配列した端子部が設けられている。該端子部に沿った第１の辺部とシール材４０との間にデータ線駆動回路１０１が設けられている。また、第１の辺部に対向する第２の辺部に沿ったシール材４０と表示領域Ｅとの間に検査回路１０３が設けられている。さらに、第１の辺部と直交し互いに対向する第３及び第４の辺部に沿ったシール材４０と表示領域Ｅとの間に走査線駆動回路１０２が設けられている。第２の辺部のシール材４０と検査回路１０３との間に、２つの走査線駆動回路１０２を繋ぐ複数の配線１０５が設けられている。
【００３１】
これらデータ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０２に繋がる配線は、第１の辺部に沿って配列した複数の外部接続用端子１０４に接続されている。なお、検査回路１０３の配置はこれに限定されず、データ線駆動回路１０１と表示領域Ｅとの間のシール材４０の内側に沿った位置に設けてもよい。
以降、第１の辺部に沿った方向をＸ方向とし、第３の辺部に沿った方向をＹ方向として説明する。また、対向基板２０側から素子基板１０側に向かう方向に沿って見ることを「平面視」または「平面的に」と言う。
【００３２】
図２（ｂ）に示すように、画素Ｐは、Ｘ方向において中央に配置されたサブ画素ＳＧと、Ｘ方向においてサブ画素ＳＧに隣り合って配置された、サブ画素ＳＲと、サブ画素ＳＢとを有している。画素Ｐは平面視で正方形であり、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢのそれぞれは平面視で矩形状である。サブ画素ＳＧには、緑色光束（Ｇ）を透過させるための第１開口部１７ａが設けられている。サブ画素ＳＢには、青色光束（Ｂ）を透過させるための第２開口部１７ｂが設けられている。サブ画素ＳＲには、赤色光束（Ｒ）を透過させるための第３開口部１７ｃが設けられている。これらの第１開口部１７ａ、第２開口部１７ｂ、第３開口部１７ｃのそれぞれを囲む遮光部１７が設けられている。言い換えれば、これらの第１開口部１７ａ、第２開口部１７ｂ、第３開口部１７ｃは、遮光部１７に設けられている。これらの開口部もまた平面視で矩形状である。なお、矩形状とは長方形を指すが、角部は必ずしも直角でなく円弧であってもよい。
【００３３】
本実施形態では、緑色光束（Ｇ）が本発明における第１色光束に相当するものであり、青色光束（Ｂ）が本発明における第２色光束に相当するものであり、赤色光束（Ｒ）が本発明における第３色光束に相当するものである。また、サブ画素ＳＧが本発明における第１サブ画素に相当するものであり、サブ画素ＳＢが本発明における第２サブ画素に相当するものであり、サブ画素ＳＲが本発明における第３サブ画素に相当するものである。なお、各色光束と、サブ画素との関係は、これに限定されるものではなく、例えば、第１色光束が青色光束（Ｂ）であり、サブ画素ＳＢがＸ方向において画素Ｐの中央に位置する第１サブ画素であってもよい。
【００３４】
図３に示すように、液晶装置１００は、少なくとも表示領域Ｅにおいて互いに絶縁されて直交する信号配線としての複数の走査線３ａ及び複数のデータ線６ａと、データ線６ａに沿って平行に配置された容量線３ｂとを有する。走査線３ａが延在する方向がＸ方向であり、データ線６ａが延在する方向がＹ方向である。
【００３５】
走査線３ａ、データ線６ａ及び容量線３ｂと、これらの信号線類により区分された領域に、画素電極１５Ｒと、ＴＦＴ３０と、蓄積容量１６とが設けられ、これらがサブ画素ＳＲの画素回路を構成している。他のサブ画素ＳＧ、サブ画素ＳＢも同様である。したがって、画素電極１５Ｒ，１５Ｇ，１５Ｂを総称して画素電極１５と呼ぶこともある。また、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢを総称して単にサブ画素と呼ぶこともある。
【００３６】
走査線３ａはＴＦＴ３０のゲートに電気的に接続され、データ線６ａはＴＦＴ３０のソースに電気的に接続されている。画素電極１５はＴＦＴ３０のドレインに電気的に接続されている。
【００３７】
データ線６ａはデータ線駆動回路１０１（図２参照）に接続されており、データ線駆動回路１０１から供給される画像信号Ｄ１，Ｄ２，Ｄ３，…，Ｄｎをサブ画素に供給する。走査線３ａは走査線駆動回路１０２（図２参照）に接続されており、走査線駆動回路１０２から供給される走査信号ＳＣ１，ＳＣ２，…，ＳＣｍを各サブ画素に供給する。
【００３８】
データ線駆動回路１０１からデータ線６ａに供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、この順に線順次で供給してもよく、互いに隣り合う複数のデータ線６ａ同士に対してグループごとに供給してもよい。走査線駆動回路１０２は、走査線３ａに対して、走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍを所定のタイミングでパルス的に線順次で供給する。
【００３９】
液晶装置１００は、スイッチング素子であるＴＦＴ３０が走査信号ＳＣ１〜ＳＣｍの入力により一定期間だけオン状態とされることで、データ線６ａから供給される画像信号Ｄ１〜Ｄｎが所定のタイミングで画素電極１５に書き込まれる構成となっている。そして、画素電極１５を介して液晶層５０に書き込まれた所定レベルの画像信号Ｄ１〜Ｄｎは、画素電極１５と液晶層５０を介して対向配置された共通電極である対向電極２５との間で一定期間保持される。画像信号Ｄ１〜Ｄｎの周波数は例えば６０Ｈｚである。
【００４０】
保持された画像信号Ｄ１〜Ｄｎがリークするのを防止するため、画素電極１５と対向電極２５との間に形成される液晶容量と並列に蓄積容量１６が接続されている。蓄積容量１６は、ＴＦＴ３０のドレインと容量線３ｂとの間に設けられている。
【００４１】
なお、図２（ａ）に示した検査回路１０３には、データ線６ａが接続されており、液晶装置１００の製造過程において、上記画像信号を検出することで液晶装置１００の動作欠陥などを確認できる構成となっているが、図３の等価回路では図示を省略している。
【００４２】
本実施形態における画素回路を駆動制御する周辺回路は、データ線駆動回路１０１、走査線駆動回路１０２、検査回路１０３を含んでいる。また、周辺回路は、上記画像信号をサンプリングしてデータ線６ａに供給するサンプリング回路、データ線６ａに所定電圧レベルのプリチャージ信号を上記画像信号に先行して供給するプリチャージ回路を含むものとしてもよい。
【００４３】
このような液晶装置１００はアクティブ駆動型であって、電圧無印加状態でサブ画素の透過率が最大となるノーマリーホワイトモードや、電圧無印加状態でサブ画素の透過率が最小となるノーマリーブラックモードの光学設計が採用される。液晶装置１００の光の入射側と射出側とにそれぞれ偏光素子が光学設計に応じて配置されて用いられる。なお、図１では、偏光素子の記載を省略している。
【００４４】
本実施形態の液晶装置１００は、前述したように、色分離素子１０１０から互いに異なる角度で入射した赤色光束（Ｒ）、緑色光束（Ｇ）、青色光束（Ｂ）を対応するサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢに入射させるために集光素子としてのマイクロレンズを備えている。マイクロレンズは色光束が入射する対向基板２０側において画素Ｐごとに設けられている。図４を参照して対向基板２０におけるマイクロレンズの平面的な配置について説明する。
【００４５】
図４（ａ）に示すように、対向基板２０におけるマイクロレンズＭＬは、平面視で正方形の画素Ｐの配列に対応して、Ｘ方向とＹ方向とにマトリックス状に配置されている。また、図４（ｂ）に示すように、対向基板２０は、基板本体２１に形成された凹部２１ｂをレンズ材料で埋めてなる複数のマイクロレンズＭＬを含むマイクロレンズアレイ２２を有している。凹部２１ｂすなわちレンズ面は、その底部に向かって先細りとなる半球面状に形成されている。したがって、凹部２１ｂの底部の位置すなわちマイクロレンズＭＬの中心Ｃ１は、画素Ｐの平面的な中心と一致する。画素ＰのＸ方向及びＹ方向の配置ピッチをＰ１とすると、画素ＰのＸ方向及びＹ方向の長さもＰ１であり、マイクロレンズＭＬのＸ方向及びＹ方向における配置ピッチもＰ１である。
【００４６】
本実施形態では、画素Ｐにおいてより多くの光を取り込めるように、平面視で円形のマイクロレンズＭＬがＸ方向とＹ方向とにおいて一部が重なり合うように配置されている。このため、Ｘ方向とＹ方向とに隣り合うマイクロレンズＭＬの境界において直線となる陵を有している。
本実施形態におけるマイクロレンズＭＬの直径（半径ｒの２倍の値）は、画素Ｐの対角線の長さよりも大きく設定されている。なお、マイクロレンズＭＬの直径を画素Ｐの対角線の長さに対して同じまたは小さくなるように設定してもよい。また、マイクロレンズＭＬは、凹部２１ｂ（レンズ面）の形状が半球面状であることに限定されず、直線的な側面と半球面とが組み合わされた非球面レンズであってもよい。
【００４７】
次に、図５を参照して画素Ｐにおけるサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの配置について説明する。
【００４８】
図５に示すように、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢは、Ｘ方向において等間隔に配置されている。画素ＰのＸ方向における配置ピッチをＰ１とすると、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの配置ピッチＰ２は、Ｐ１の１／３である。中央のサブ画素ＳＧには第１開口部１７ａが設けられ、サブ画素ＳＧに対して右側に隣り合うサブ画素ＳＢには第２開口部１７ｂが設けられ、サブ画素ＳＧに対して左側に隣り合うサブ画素ＳＲには第３開口部１７ｃが設けられている。各開口部は平面視で矩形状であり、大きさは同じである。遮光部１７は、各開口部をそれぞれ区画するように設けられている。第１開口部１７ａにおけるＸ方向の幅をＬ１とすると、他の開口部におけるＸ方向の幅もＬ１である。Ｘ方向において隣り合う第１開口部１７ａと第２開口部１７ｂとの間の遮光部１７の幅をＬ２とすると、同じくＸ方向に隣り合う第１開口部１７ａと第３開口部１７ｃとの間の遮光部１７の幅もＬ２である。また、Ｘ方向に隣り合う画素Ｐ間における第２開口部１７ｂと第３開口部１７ｃとの間の遮光部１７の幅もＬ２である。なお、図示していないがＹ方向における同じ色同士のサブ画素の開口部の配置ピッチは一定であり、Ｙ方向における開口部の間の遮光部１７の幅も同じである。
【００４９】
続いて、図６を参照して本実施形態の液晶装置１００における画素の構造を説明すると共に、各サブ画素における色光束の透過率について説明する。図６に示すように、液晶装置１００は、液晶層５０を介して対向配置された素子基板１０と対向基板２０とを有している。
【００５０】
図６（ａ）に示すように、素子基板１０の基板本体１１上には、例えば高融点金属やその合金などからなる配線層１１ａが形成される。配線層１１ａは前述した等価回路において例えば走査線３ａを構成するものである。配線層１１ａを覆う第１層間絶縁膜１２が形成され、第１層間絶縁膜１２上に各サブ画素ＳＢ，ＳＧ，ＳＲに対応してＴＦＴ３０が形成される。ＴＦＴ３０を覆う第２層間絶縁膜１３が形成され、第２層間絶縁膜１３上に配線層１３ａが形成される。配線層１３ａは前述した等価回路において例えば容量線３ｂやデータ線６ａを構成するものである。配線層１３ａを覆う第３層間絶縁膜１４が形成され、第３層間絶縁膜１４上に、各サブ画素ＳＢ，ＳＧ，ＳＲに対応して例えばＩＴＯなどの透明導電膜を成膜してパターニングすることにより、透光性の画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒがそれぞれ形成される。そして、画素電極１５Ｂ，１５Ｇ，１５Ｒを覆う配向膜１８が形成される。
【００５１】
配線層１１ａ及び配線層１３ａは、平面視でＴＦＴ３０と重なるように形成され、ＴＦＴ３０に入射する光を遮光する遮光部１７として機能するものである。当該遮光部１７において、画素電極１５Ｇを有するサブ画素ＳＧに対応した第１開口部１７ａが形成され、画素電極１５Ｂを有するサブ画素ＳＢに対応した第２開口部１７ｂが形成され、画素電極１５Ｒを有するサブ画素ＳＲに対応した第３開口部１７ｃが形成される。
【００５２】
また、本実施形態では、サブ画素ＳＢ，ＳＧ，ＳＲごとの配線層１１ａ（遮光部１７）に対応して基板本体１１に断面視で略Ｖ字形状の溝６０が設けられている。溝６０は、例えばシリコンの酸化物を主体とする基板本体１１をドライエッチングして形成される。溝６０の開口は封止部６３により塞がれている。封止部６３は、基板本体１１の表面に形成された溝６０の開口を塞ぐように例えばシリコンの酸化物などを堆積させ、堆積させた後の表面に例えばＣＭＰ処理などの平坦化処理を施すことで形成される。これにより、溝６０の内部に空間６２が形成される。空間６２は、温度変化によって変形しないように、真空あるいは減圧された状態であることが好ましい。空間６２における光の屈折率は、基板本体１１の光の屈折率よりも小さくなることから、溝６０において基板本体１１の厚み方向（光軸）に対して傾斜した斜面６１は、光の屈折率が異なる境界面となる。これにより、斜面６１の法線方向に対して特定の角度以下で入射した光は全反射される。溝６０は、本発明における反射部の一例であって、その機能から以降、プリズム６０と呼ぶ。
【００５３】
対向基板２０において、基板本体２１に形成された複数の半球面状の凹部２１ｂをレンズ材料で埋めて複数のマイクロレンズＭＬを有するマイクロレンズアレイ２２が形成される。マイクロレンズアレイ２２の液晶層５０側の面に平坦化処理を施した後に透光性のパス層２３が形成される。パス層２３を覆うように例えばＩＴＯなどの透明導電膜を成膜して対向電極２５が形成される。また、対向電極２５を覆う配向膜２６が形成される。液晶層５０に接する配向膜１８，２６は、液晶装置１００の光学設計に基づいて選択された液晶に対応して、正の誘電異方性を有する液晶（液晶分子）を略水平配向させることが可能な例えばポリイミドなどの有機樹脂材料や、負の誘電異方性を有する液晶（液晶分子）を略垂直配向させることが可能な例えば酸化シリコンなどの無機材料が用いられて形成される。
【００５４】
図６（ａ）に示すように、対向基板２０の入射面２１ａに対して互いに異なる入射角度で赤色光束（Ｒ）、緑色光束（Ｇ）、青色光束（Ｂ）が入射する。画素Ｐごとに設けられたマイクロレンズＭＬに対して、緑色光束（Ｇ）は入射面２１ａの法線方向から入射する。マイクロレンズＭＬによって集光された緑色光束（Ｇ）は、液晶層５０を透過して、素子基板１０側においてサブ画素ＳＧの第１開口部１７ａ内に焦点を結ぶ。対向基板２０の入射面２１ａの法線方向に対して斜め方向から入射しマイクロレンズＭＬによって集光された青色光束（Ｂ）は、液晶層５０を透過して、素子基板１０側においてサブ画素ＳＢの第２開口部１７ｂ内に焦点を結ぶ。同様に、対向基板２０の入射面２１ａの法線方向に対して斜め方向から入射しマイクロレンズＭＬによって集光された赤色光束（Ｒ）は、液晶層５０を透過して、素子基板１０側においてサブ画素ＳＲの第３開口部１７ｃ内に焦点を結ぶ。言い換えれば、対向基板２０の入射面２１ａに対して互いに異なる入射角度で入射した各色光束がマイクロレンズＭＬによって集光され、素子基板１０において対応する開口部内に焦点を結ぶように、マイクロレンズＭＬ及びパス層２３が光学的に設計されている。
【００５５】
画素Ｐの各開口部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを透過した色光束は、基本的に素子基板１０の基板本体１１から射出される。特に、各開口部１７ａ，１７ｂ，１７ｃの法線方向に対して角度を有して斜め方向から各開口部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを透過して、プリズム６０の斜面６１に入射した光は、斜面６１で反射して基板本体１１から射出される。つまり、画素Ｐの各開口部１７ａ，１７ｂ，１７ｃを透過した色光束は、基板本体１１からほぼ射出方向（システム光軸Ｌ0に沿った方向）に向かって射出される。したがって、画素Ｐにおいて異なる角度で入射した波長の異なる色光束同士が混ざって射出されたり、隣り合う画素Ｐを透過した色光束同士が混ざって射出されたりすることが低減される。
【００５６】
次に、図７を参照して、画素Ｐにおける遮光部１７とプリズム６０の平面的な配置について説明する。なお、図７は素子基板１０側における画素Ｐを示すものである。図７に示すように、画素Ｐのサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢのそれぞれは、Ｘ方向とＹ方向とにそれぞれ延在する遮光部１７によって区画されている。遮光部１７のＸ方向に延在する部分とＹ方向に延在する部分との交差部は、他の延在する部分に比べて幅が広くなっている。各サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの画素電極１５をスイッチング制御するＴＦＴ３０は、遮光部１７の交差部と重なる部分において素子基板１０に設けられている。したがって、対向基板２０側から素子基板１０の遮光部１７に入射する光は遮光され、ＴＦＴ３０の光誤動作が生じ難くなっている。
プリズム６０は、遮光部１７のＸ方向とＹ方向とに延在する部分と重なるように基板本体１１に形成されている。つまり、プリズム６０もまた遮光部１７と同様にサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの開口部１７ａ，１７ｂ，１７ｃをそれぞれ区画するように形成されている。
【００５７】
上記第１実施形態によれば、以下の効果が得られる。
（１）サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの各開口部を透過した各色光束の一部は、基板本体１１に設けられたプリズム６０に入射し、プリズム６０の斜面６１によって射出側に反射される。したがって、液晶装置１００から射出された各色光束は、プリズム６０が無い場合に比べて、投射レンズ１０１４に飲み込まれ易くなる。また、画素Ｐにおいて異なる角度で入射した波長が異なる色光束同士が混ざって射出されたり、隣り合う画素Ｐを透過した色光束同士が混ざって射出されたりすることが低減される。このような液晶装置１００を光変調装置として用いることにより、色光束の利用効率が改善され明るく見栄えがよい表示が可能な投射型表示装置１０００を実現できる。
（２）プリズム６０は、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢのそれぞれの開口部を区画するように基板本体１１に設けられているので、開口部を透過する色光束の利用効率を確実に改善することができる。
特に、表示における明るさを改善するために、色光束が入射するマイクロレンズＭＬの集光能力を上げる方法が考えられる。マイクロレンズＭＬの集光能力を上げると、マイクロレンズＭＬにより集光された色光束の開口部に対する入射角度範囲は大きくなるので、プリズム６０が無い場合は、開口部を透過した色光束を投射レンズ１０１４によって十分に飲み込むことができなくなるおそれがある。言い換えれば、プリズム６０を設けることでマイクロレンズＭＬの集光能力を上げてより明るい表示を実現することができる。
【００５８】
（第２実施形態）
＜電子機器＞
次に、第２実施形態の電気光学装置が適用された電子機器として投射型表示装置を例に挙げ、図８及び図９を参照して説明する。図８は第２実施形態の電子機器としての投射型表示装置の構成を示す概略図、図９（ａ）及び（ｂ）は第２実施形態の液晶装置における画素の構成を示す概略平面図である。なお、上記第１実施形態の投射型表示装置１０００と同じ構成には同じ符号を付して詳細な説明は省略する。
【００５９】
図８に示すように、本実施形態の電子機器としての投射型表示装置（液晶プロジェクター）２０００は、システム光軸Ｌ0上に配置された、光源ユニット１００１と、偏光変換ユニット１００５と、色分離素子２０１０と、２つの液晶装置２１０，２２０と、合成光学系としてのダイクロイックプリズム２０１６と、投射光学系としての投射レンズ２０１７とを含んで構成されている。
【００６０】
偏光変換ユニット１００５から射出された偏光光束は、色分離素子２０１０によって、赤色光束（Ｒ）、緑色光束（Ｇ）、青色光束（Ｂ）に分離される。色分離素子２０１０は、赤色光束（Ｒ）と青色光束（Ｂ）とを反射して、緑色光束（Ｇ）を透過させるダイクロイックミラー２０１１と、赤色光束（Ｒ）を反射して青色光束（Ｂ）を透過させるダイクロイックミラー２０１２と、２つの反射ミラー２０１３，２０１４とを含んで構成されている。ダイクロイックミラー２０１１を透過した緑色光束（Ｇ）は反射ミラー２０１４によって反射して、フィールドレンズ２０１５を介して液晶装置２１０に入射する。フィールドレンズ２０１５は反射ミラー２０１４で反射した緑色光束（Ｇ）を液晶装置２１０の入射面に対して法線方向から液晶装置２１０の表示領域に入射させる。
一方、ダイクロイックミラー２０１１で反射した赤色光束（Ｒ）と青色光束（Ｂ）は、ダイクロイックミラー２０１２に入射する。ダイクロイックミラー２０１２は、赤色光束（Ｒ）を反射して液晶装置２２０に入射させ、青色光束（Ｂ）を透過する。ダイクロイックミラー２０１２を透過した青色光束（Ｂ）は反射ミラー２０１３で反射して再びダイクロイックミラー２０１２を透過して液晶装置２２０に入射する。赤色光束（Ｒ）と青色光束（Ｂ）とは液晶装置２２０の入射面に対して互いに異なる角度で液晶装置２２０の表示領域に入射する。
【００６１】
液晶装置２１０及び液晶装置２２０の基本的な構成は、上記第１実施形態の液晶装置１００と同様に素子基板１０と対向基板２０との間に液晶層５０が挟持されている。また、液晶装置２１０及び液晶装置２２０において素子基板１０の基板本体１１にはプリズム６０が形成されている。液晶装置１００に対して、液晶装置２１０及び液晶装置２２０は、画素Ｐの構成が異なっている。
【００６２】
具体的には、図９（ａ）に示すように、液晶装置２１０の画素Ｐは、平面視で正方形の開口部１７ｄを有している。開口部１７ｄは遮光部１７に設けられている。開口部１７ｄを囲むようにしてプリズム６０が設けられている。開口部１７ｄには緑色光束（Ｇ）が入射する。つまり、開口部１７ｄを透過した緑色光束（Ｇ）のうちの一部はプリズム６０によって反射され射出される。したがって、隣り合う開口部１７ｄを透過した緑色光束（Ｇ）同士が混ざり合って射出され難い。
【００６３】
図９（ｂ）に示すように、液晶装置２２０の画素Ｐは、サブ画素ＳＲとサブ画素ＳＢとを有している。サブ画素ＳＲには平面視で矩形状の開口部１７ｅが設けられ、サブ画素ＳＢには平面視で同じく矩形状の開口部１７ｆが設けられている。開口部１７ｅ，１７ｆは遮光部１７において隣り合って設けられている。開口部１７ｅ，１７ｆのそれぞれを囲むようにプリズム６０が設けられている。開口部１７ｅには赤色光束（Ｒ）が入射し、開口部１７ｆには青色光束（Ｂ）が入射する。つまり、開口部１７ｅを透過した赤色光束（Ｒ）のうちの一部、及び開口部１７ｆを透過した青色光束（Ｂ）のうちの一部はそれぞれプリズム６０によって反射され射出される。したがって、開口部１７ｅを透過した赤色光束（Ｒ）と、開口部１７ｆを透過した青色光束（Ｂ）とが混ざり合って射出され難い。
【００６４】
液晶装置２１０における画素Ｐの大きさと液晶装置２２０における画素Ｐの大きさは同じである。したがって、緑色光束（Ｇ）が入射する開口部１７ｄの大きさは、赤色光束（Ｒ）が入射する開口部１７ｅや青色光束（Ｂ）が入射する開口部１７ｆの大きさのほぼ倍である。
【００６５】
異なる波長の色光束が異なる角度で入射する画素Ｐの構成は、上記第１実施形態の液晶装置１００のように３つのサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢで構成されることに限定されず、本実施形態の液晶装置２２０の画素Ｐのように２つのサブ画素ＳＲ，ＳＢで構成されるとしてもよい。なお、液晶装置２１０に入射させる色光束は、緑色光束（Ｇ）に限定されず、他の色光束であってもよい。言い換えれば、液晶装置２２０に入射させる色光束は、赤色光束（Ｒ）と青色光束（Ｂ）とに限定されない。
【００６６】
上記第２実施形態によれば、以下の効果が得られる。
液晶装置２１０，２２０のそれぞれにおける画素Ｐの開口部は、上記第１実施形態の液晶装置１００に比べて大きい。言い換えれば、１つの液晶装置１００によって異なる角度で入射する波長が異なる色光束を変調する場合に比べて、２つの液晶装置２１０，２２０を用いて変調するので、より明るい表示が可能な投射型表示装置（液晶プロジェクター）２０００を実現できる。
【００６７】
＜プリズムの斜面の角度＞
次に、基板本体１１に設けられるプリズム６０の斜面６１の角度について、図６及び図１０を参照して説明する。図１０はプリズムの斜面の光軸に対する角度と投射レンズ透過率との関係を示すグラフである。なお、図１０のグラフは光学的なシミュレーションによって得られたものである。中央サブ画素は、画素Ｐにおいて中央に位置するサブ画素を指し、サイド（３サブ画素）は、３つのサブ画素のうち中央サブ画素に隣り合うサブ画素を指し、サイド（２サブ画素）は、画素Ｐが２つのサブ画素からなる場合を指すものである。
【００６８】
本実施形態における上記光学的なシミュレーションの条件は、以下の通りである。
画素Ｐの１辺の長さすなわち配置ピッチＰ１を１０μｍとした。基板本体１１，２１は石英ガラスであって屈折率は１．４６である。マイクロレンズＭＬの屈折率はおよそ１．７２、凹部２１ｂ（レンズ面）の半径ｒは７．５μｍ、マイクロレンズアレイ２２の厚みは８．０μｍである。マイクロレンズＭＬとパス層２３との境界から遮光部１７（具体的には、配線層１３ａ）までの距離はおよそ２６．４μｍである（図６参照）。また、光源１００２の発光領域の大きさを1辺が０．３ｍｍの正方形（□）とした（図１参照）。サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢにおける各開口部のＸ方向の長さを３μｍとし、Ｙ方向の長さを６μｍとした。また、投射レンズ１０１４のＦ値を１．６とした。
【００６９】
図６（ｂ）に示すように、プリズム６０の斜面６１の光軸に対する角度θは、プリズム６０の開口における幅Ｌ３と、深さＬ４とによって規定することができる。つまり、幅Ｌ３を一定とすれば、深さＬ４が大きい（深い）ほど角度θは小さくなる。プリズム６０の斜面６１によって全反射可能な光の入射角度は、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢの各開口部に入射する色光束の入射角度に寄る。斜面６１に入射した光を光軸に沿った方向に全反射させることにより、各開口部を透過した色光束を投射レンズ１０１４によって飲み込み易くできる。図１０に示す投射レンズ透過率は投射レンズ１０１４による色光束の飲み込み易さを示すものである。
【００７０】
図６（ａ）に示すように、画素Ｐにおいて中央に位置するサブ画素ＳＧに入射する色光束（Ｇ）の入射角度は、他のサブ画素ＳＲ，ＳＢに比べて小さくなる。したがって、図１０に示すように、サブ画素ＳＧでは、プリズム６０の斜面６１の角度θにあまり依存せずに投射レンズ透過率において９５％以上の高い値を示す。上記第１実施形態のように、画素Ｐが３つのサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢを有する場合、画素Ｐの中央に位置するサブ画素ＳＧに隣り合うサブ画素ＳＲ，ＳＢでは、プリズム６０の斜面６１の角度θが１°未満になると、色光束（Ｒ），（Ｂ）の投射レンズ透過率が９５％から急激に低下してしまう。また、プリズム６０の斜面６１の角度θが８°以上になると同じく投射レンズ透過率が９５％より低下してしまう。言い換えれば、画素Ｐが３つのサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢで構成される場合は、プリズム６０の斜面６１の光軸に対する角度θは、およそ１．５度〜７．５度程度が好ましい。斜面６１の角度θが１．５度より小さいあるいは７度より大きくなるようにプリズム６０を形成すると、画素Ｐの中央に位置するサブ画素ＳＧと、サブ画素ＳＧに隣り合うサブ画素ＳＲ，ＳＢとでは投射レンズ透過率に差が生ずるので明るさや色バランスにおいて好ましくない。
【００７１】
これに対して、上記第２実施形態に示した液晶装置２２０のように、画素Ｐが２つのサブ画素ＳＲ，ＳＢによって構成される場合、３つのサブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢで構成される場合に比べて、色光束（Ｒ）、色光束（Ｂ）のマイクロレンズＭＬに対する入射角度を小さくすることができる。したがって、図１０に示すように、投射レンズ透過率が９５％以上となるプリズム６０の斜面６１における好ましい角度θの範囲は、１度〜８度程度に広がる。画素Ｐのサブ画素の構成によらず、投射レンズ透過率が１００％近い値を示すプリズム６０の斜面６１における好ましい角度θの範囲は、およそ３度〜６度の範囲である。例えば、角度θの範囲を３度〜６度とし、プリズム６０の開口の幅Ｌ３を１．５μｍとすると、プリズム６０の深さＬ４は、およそ１４μｍ〜２２μｍの範囲となる。前述したように、プリズム６０は基板本体１１にドライエッチングを施して形成することから、断面が略Ｖ字形状の溝を安定して形成するためには、深さＬ４が３０μｍ以下であることが好ましい。
【００７２】
本発明は、上記した実施形態に限られるものではなく、請求の範囲および明細書全体から読み取れる発明の要旨あるいは思想に反しない範囲で適宜変更可能であり、そのような変更を伴う電気光学装置および該電気光学装置を適用する電子機器もまた本発明の技術的範囲に含まれるものである。上記実施形態以外にも様々な変形例が考えられる。以下、変形例を挙げて説明する。
【００７３】
（変形例１）上記第１実施形態の液晶装置１００において、プリズム６０は、サブ画素ＳＲ，ＳＧ，ＳＢのそれぞれの開口部を区画するように基板本体１１に設けられていたが、これに限定されない。例えば、画素Ｐにおいて複数のサブ画素を含む領域を囲むように、画素Ｐごとに設けられていてもよい。
【００７４】
（変形例２）光変調装置として機能する電気光学装置は、液晶装置であることに限定されない。例えば、プリズム６０が形成された透光性の基板を用いた透過型のＭＥＭＳ（Micro  Electro  Mechanical  System）ディスプレイであってもよい。
【００７５】
（変形例３）サブ画素の開口部を透過した色光束の一部を反射させる反射部は、プリズム６０に限定されない。例えば、屈折率が異なる部材を組み合わせて形成されたライトトンネルを用いてもよい。
【００７６】
（変形例４）上記第１実施形態の液晶装置１００が適用される電子機器は、投射型表示装置１０００に限定されない。例えば、ＨＵＤ（ヘッドアップディスプレイ）やＨＭＤ（ヘッドマウントディスプレイ）の光変調装置として好適に用いることができる。なお、上記第２実施形態の液晶装置２２０も同様である。
【符号の説明】
【００７７】
１１…透光性の基板としての基板本体、１７…遮光部、１７ａ…第１開口部、１７ｂ…第２開口部、１７ｃ…第３開口部、６０…反射部としてのプリズム，６１…斜面、１００…液晶装置、１０００…電子機器としての投射型表示装置、１００２…光源、１０１０…色分離素子、Ｐ…画素、ＭＬ…マイクロレンズ、ＳＲ，ＳＧ，ＳＢ…サブ画素。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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