(57)【要約】 【課題】拭き取りにより放射線検出を行う際に、コストをかけることなく、また廃液を生じさせることなく、高精度に放射線の検出を行う。【解決手段】拭き取り装置１は、円筒形の芯材３と、芯材の外周面側に周状に配置される拭き取り材４と、芯材の外周面側に周状に拭き取り材を配置した状態で、芯材を回転させながら拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う拭き取り具５と、対象領域の拭き取り後に拭き取り材の外周面に着脱自在に密着配置されるプラスチックシンチレータの第１薄膜６と、を備える。【選択図】図１
2016109459.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
円筒形の芯材と、
前記芯材の外周面側に周状に配置される拭き取り材と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う拭き取り具と、
前記対象領域の拭き取り後に前記拭き取り材の外周面に着脱自在に密着配置されるプラスチックシンチレータの第１薄膜と、を備える拭き取り装置。
【請求項２】
前記第１薄膜は、周状に配置された前記拭き取り材の外周面の形状に準じた形状を記憶した形状記憶部材であり、
前記第１薄膜は、前記拭き取り材の外周面に嵌めこまれると、記憶した形状に従って、前記拭き取り材の外周面に密着配置される請求項１に記載の拭き取り装置。
【請求項３】
前記芯材は、中空または中実の円筒状樹脂またはガラス部材である請求項１または２に記載の拭き取り装置。
【請求項４】
前記第１薄膜の外周面側は粗面化されている請求項１乃至３のいずれかに記載の拭き取り装置。
【請求項５】
前記芯材の外周面の少なくとも一部は粗面化されている請求項１乃至４のいずれかに記載の拭き取り装置。
【請求項６】
前記芯材の外周面と前記拭き取り材との間に周状に配置されるプラスチックシンチレータの第２薄膜を備える請求項１乃至５のいずれかに記載の拭き取り装置。
【請求項７】
前記第２薄膜は、前記芯材の外周面の形状に準じた形状を記憶した形状記憶部材であり、
前記第２薄膜は、前記芯材の外周面に嵌めこまれると、記憶した形状に従って、前記芯材の外周面に密着配置される請求項６に記載の拭き取り装置。
【請求項８】
前記芯材の長手方向両端面側に配置され、前記プラスチックシンチレータで発生した蛍光を乱反射させる反射部材を備える請求項１乃至７のいずれかに記載の拭き取り装置。
【請求項９】
前記拭き取り具は、
前記芯材の回転軸方向と交差する方向に延在する柄と、
前記柄の一端部側に設けられ、前記対象領域の拭き取りを行う際に人間によって把持される把持部と、
前記柄の他端側に設けられ、前記芯材の両端面側を支持する２つの支持部と、
前記柄から延びる軸部材と前記２つの支持部とを接続する連結部と、
前記連結部と前記柄の他端部との間に設けられ、前記連結部の前記軸部材方向への移動に応じて伸縮する伸縮部材と、を有する請求項１乃至８のいずれかに記載の拭き取り装置。
【請求項１０】
円筒形の芯材と、
前記芯材の外周面側に配置される拭き取り材と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う拭き取り具と、
前記対象領域の拭き取り後に前記拭き取り材の外周面に着脱自在に密着配置されるプラスチックシンチレータの第１薄膜と、
前記第１薄膜を前記拭き取り材の外周面に密着配置させた前記芯材を収納する容器と、
前記容器内の前記第１薄膜から発光された蛍光を測定する光電子増倍管と、を備える放射線検出装置。
【請求項１１】
円筒形の芯材の外周面側に拭き取り材を配置する工程と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材の長手方向両端面を拭き取り具の支持部により回動自在に支持する工程と、
前記拭き取り具の把持部を把持して、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う工程と、
前記支持部から前記芯材を取り外して、前記拭き取り材の外周面に、プラスチックシンチレータの第１薄膜を密着配置する工程と、を備える拭き取り方法。
【請求項１２】
前記第１薄膜を密着配置する工程は、
前記拭き取り具による拭き取り後に、前記拭き取り具の一つの前記支持部と対向する前記芯材の端面との間に芯材置き台を挿入する工程と、
前記芯材置き台を下にした状態で、前記拭き取り具から前記芯材を取り外して、前記芯材置き台の上に前記芯材を縦置きする工程と、
外径が連続的に変化する三角コーン部材の頂部側に前記第１薄膜を差し込む工程と、
前記三角コーン部材を前記縦置きされた芯材の上方に配置して、前記三角コーン部材の底面側に前記第１薄膜を押し込んで、前記第１薄膜を前記芯材の外周面側に配置された前記拭き取り材の外周面に密着配置する工程と、を備える請求項１１に記載の拭き取り方法。
【請求項１３】
円筒形の芯材の外周面側に拭き取り材を配置する工程と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材の長手方向両端面を拭き取り具の支持部により回動自在に支持する工程と、
前記拭き取り具の把持部を把持して、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う工程と、
前記支持部から前記芯材を取り外して、前記拭き取り材の外周面に、プラスチックシンチレータの第１薄膜を密着配置する工程と、
前記第１薄膜を前記拭き取り材の外周面に密着配置させた前記芯材を容器の中に収納して密封する工程と、
前記容器内の前記第１薄膜から発光された蛍光を光電子増倍管にて測定する工程と、を備える放射線検出方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、放射線を検出するために対象領域を拭き取る拭き取り装置および拭き取り方法と、拭き取った後に放射線検出を行う放射線検出装置および放射線検出方法とに関する。
【背景技術】
【０００２】
非密封放射性物質取扱施設や原子力発電所などでは、施設の法定汚染検査を行う義務がある。このため、スメア濾紙を用いた拭き取り検査が行われており、スメア濾紙の汚染度を評価するための測定には、液体シンチレーションカウンタ（ＬＳＣ:Liquid Scintillation Counter）を使用するのが一般的である。この測定法は、すべての放射性核種に対して測定効率が優れているが、スメア濾紙に拭き取られた放射性汚染物質を溶かすために使用される液体シンチレータが測定後に放射性の有機廃液となり、廃棄処理にコストがかかるという問題がある。実際、放射能汚染が見つかる試料数は全検査試料の１割以下であり、無駄な廃液を多く発生させる結果となっていた。
【０００３】
また、液体シンチレータは、発がん性のある有機溶媒を用いており、放射線検出を行う作業者に健康被害を生じさせるおそれがある。このように、液体シンチレータを用いることは、環境負荷が大きく、また、その廃液処理には時間やコストがかかるという問題がある。
【０００４】
そこで、本発明者は、無駄な廃液を生じさせない手法として、プラスチックシンチレータを用いた放射線検出手法を提案した（非特許文献１、２参照）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００５】
【非特許文献１】２０１１年１０月７日  日本保健物理学会研究発表会講演要旨集、「新表面汚染拭き取り法の提案」
【非特許文献２】２００９年１２月２日  日本放射線安全管理学会学術大会講演予稿集、「プラスチックシンチレータを用いたスミア測定」
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
提案した手法によれば、プラスチックシンチレータを用いることで、廃液の発生が抑制されることに加えて、放射性核種の同定が可能であり、拭き取り効率の個人差も低減できた。
【０００７】
しかしながら、プラスチックシンチレータの材料および加工費が高いことから、この手法が普及されるまでには至っていないのが実状である。
【０００８】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、拭き取りにより放射線検出を行う際に、コストをかけることなく、また廃液を生じさせることなく、高精度に放射線の検出を行うことができる拭き取り装置、放射線検出装置、拭き取り方法および放射線検出方法を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の課題を解決するために、本発明の一態様では、円筒形の芯材と、
前記芯材の外周面側に周状に配置される拭き取り材と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う拭き取り具と、
前記対象領域の拭き取り後に前記拭き取り材の外周面に着脱自在に密着配置されるプラスチックシンチレータの第１薄膜と、を備える拭き取り装置が提供される。
【００１０】
前記第１薄膜は、周状に配置された前記拭き取り材の外周面の形状に準じた形状を記憶した形状記憶部材であり、
前記第１薄膜は、前記拭き取り材の外周面に嵌めこまれると、記憶した形状に従って、前記拭き取り材の外周面に密着配置されてもよい。
【００１１】
前記芯材は、中空または中実の円筒状樹脂またはガラス部材であってもよい。
【００１２】
前記第１薄膜の外周面側は粗面化されていてもよい。
【００１３】
前記芯材の外周面の少なくとも一部は粗面化されていてもよい。
【００１４】
前記芯材の外周面と前記拭き取り材との間に周状に配置されるプラスチックシンチレータの第２薄膜を備えていてもよい。
【００１５】
前記第２薄膜は、前記芯材の外周面の形状に準じた形状を記憶した形状記憶部材であり、
前記第２薄膜は、前記芯材の外周面に嵌めこまれると、記憶した形状に従って、前記芯材の外周面に密着配置されてもよい。
【００１６】
前記芯材の長手方向両端面側に配置され、前記プラスチックシンチレータで発生した蛍光を乱反射させる反射部材を備えてもよい。
【００１７】
前記拭き取り具は、
前記芯材の回転軸方向と交差する方向に延在する柄と、
前記柄の一端部側に設けられ、前記対象領域の拭き取りを行う際に人間によって把持される把持部と、
前記柄の他端側に設けられ、前記芯材の両端面側を支持する２つの支持部と、
前記柄から延びる軸部材と前記２つの支持部とを接続する連結部と、
前記連結部と前記柄の他端部との間に設けられ、前記連結部の前記軸部材方向への移動に応じて伸縮する伸縮部材と、を有していてもよい。
【００１８】
円筒形の芯材と、
前記芯材の外周面側に配置される拭き取り材と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う拭き取り具と、
前記対象領域の拭き取り後に前記拭き取り材の外周面に着脱自在に密着配置されるプラスチックシンチレータの第１薄膜と、
前記第１薄膜を前記拭き取り材の外周面に密着配置させた前記芯材を収納する容器と、
前記容器内の前記第１薄膜から発光された蛍光を測定する光電子増倍管と、を備える放射線検出装置が提供されてもよい。
【００１９】
円筒形の芯材の外周面側に拭き取り材を配置する工程と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材の長手方向両端面を拭き取り具の支持部により回動自在に支持する工程と、
前記拭き取り具の把持部を把持して、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う工程と、
前記支持部から前記芯材を取り外して、前記拭き取り材の外周面に、プラスチックシンチレータの第１薄膜を密着配置する工程と、を備える拭き取り方法が提供されてもよい。
【００２０】
前記第１薄膜を密着配置する工程は、
前記拭き取り具による拭き取り後に、前記拭き取り具の一つの前記支持部と対向する前記芯材の端面との間に芯材置き台を挿入する工程と、
前記芯材置き台を下にした状態で、前記拭き取り具から前記芯材を取り外して、前記芯材置き台の上に前記芯材を縦置きする工程と、
外径が連続的に変化する三角コーン部材の頂部側に前記第１薄膜を差し込む工程と、
前記三角コーン部材を前記縦置きされた芯材の上方に配置して、前記三角コーン部材の底面側に前記第１薄膜を押し込んで、前記第１薄膜を前記芯材の外周面側に配置された前記拭き取り材の外周面に密着配置する工程と、を備えていてもよい。
【００２１】
円筒形の芯材の外周面側に拭き取り材を配置する工程と、
前記芯材の外周面側に周状に前記拭き取り材を配置した状態で、前記芯材の長手方向両端面を拭き取り具の支持部により回動自在に支持する工程と、
前記拭き取り具の把持部を把持して、前記芯材を回転させながら前記拭き取り材にて対象領域の拭き取りを行う工程と、
前記支持部から前記芯材を取り外して、前記拭き取り材の外周面に、プラスチックシンチレータの第１薄膜を密着配置する工程と、
前記第１薄膜を前記拭き取り材の外周面に密着配置させた前記芯材を容器の中に収納して密封する工程と、
前記容器内の前記第１薄膜から発光された蛍光を光電子増倍管にて測定する工程と、を備える放射線検出方法が提供されてもよい。
【発明の効果】
【００２２】
本発明によれば、拭き取りにより放射線検出を行う際に、コストをかけることなく、また廃液を生じさせることなく、高精度に放射線の検出を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【００２３】
【図１】本発明の一実施形態による拭き取り装置の分解斜視図。
【図２】拭き取り装置の斜視図。
【図３】プラスチックシンチレータの第１薄膜の斜視図。
【図４】図１の拭き取り装置を用いた放射線検出装置２を示す図。
【図５】図１の拭き取り装置を用いた放射線検出方法の手順を説明するフローチャート。
【図６】拭き取り具から芯材を取り外して放射線検出装置２で放射線検出を行うまでの手順を模式的に示す図。
【図７】（ａ）と（ｂ）は芯材に反射部材を配置しない場合の蛍光の進行方向を示す図。
【図８】芯材の両端面に反射部材を配置する例を示す図。
【図９】（ａ）と（ｂ）は芯材に反射部材を配置する場合の蛍光の進行方向を示す図。
【図１０】反射部材の断面構造の一例を示す断面図。
【図１１】第１薄膜、拭き取り材および第２薄膜の取付手順を示す図。
【図１２】図１１（ｃ）の短手方向断面図。
【図１３】第１薄膜と第２薄膜の形状記憶加工処理の一例を示すフローチャート。
【図１４】（ａ）と（ｂ）はプラスチックシンチレータ薄膜の製造工程を示す図。
【図１５】拭き取り具の要部の構造を示す図。
【図１６】図１の拭き取り装置を用いた放射線検出方法の手順の変形例を示すフローチャート。
【図１７】図１６の手順を図式化した図。
【図１８】（ａ）と（ｂ）は核種同定性能を比較した実験結果を示す図。
【図１９】（ａ）〜（ｄ）は拭き取り具による拭き取り性能を示す実験結果を示す図。
【発明を実施するための形態】
【００２４】
以下、図面を参照して本発明の実施形態を説明する。以下の実施形態では、拭き取り装置、放射線検出装置、拭き取り方法および放射線検出方法についての特徴的な構成および動作を中心に説明するが、拭き取り装置、放射線検出装置、拭き取り方法および放射線検出方法には以下の説明で省略した構成および動作が存在しうる。ただし、これらの省略した構成および動作も本実施形態の範囲に含まれるものである。
【００２５】
（拭き取り装置の構成）
図１は本発明の一実施形態による拭き取り装置１の分解斜視図、図２は拭き取り装置１の斜視図、図３はプラスチックシンチレータの第１薄膜６の斜視図、図４は図１の拭き取り装置１を用いた放射線検出装置２を示す図である。
【００２６】
図１の拭き取り装置１は、芯材３と、拭き取り材４と、拭き取り具５と、プラスチックシンチレータの第１薄膜６とを備えている。
【００２７】
芯材３は、ガラスまたは樹脂を円筒形状に加工したものである。芯材３は、中空構造でもよいし、内部が詰まった中実構造でもよい。芯材３は、プラスチックシンチレータで発生された蛍光をできるだけ損失なく透過させることが可能な材料で形成されている。芯材３の具体的な材料の一例は、アクリル樹脂であり、可視光透過率が高いものほど望ましい。アクリル樹脂は、安価に入手できる透明基材であり、放射能検出精度を落とさずに、部材コストの削減を図ることができる。
【００２８】
拭き取り材４は、芯材３の外周面側に周状に配置されるものである。例えば、芯材３の外周面と拭き取り材４の表面との少なくとも一方に接着剤を付着させて、芯材３の外周面に拭き取り材４を周状に接着する。拭き取り材４の一具体例は、濾紙である。例えば、１０ｃｍ四方の対象領域１０を拭き取る場合には、５ｃｍ四方の濾紙を用意し、対象領域１０を５ｃｍ幅で２回に分けて拭き取れば、短時間で対象領域１０の拭き取りを行うことができる。本実施形態では、対象領域１０を拭き取り材４で拭き取って放射線検出を行う、いわゆるスミア法を実施することを念頭に置いており、拭き取り材４として用いられる濾紙は、スミア濾紙とも呼ばれている。
【００２９】
後述するように、拭き取り材４は、必ずしも芯材３の外周面に接着されるとは限らないが、少なくとも拭き取り材４は、芯材３の外周面側に配置されている。
【００３０】
拭き取り材４は、必ずしも濾紙に限定されるわけではなく、放射性物質を拭き取れる材料であれば具体的な材料は問わない。例えば、拭き取り材４として、市販されている両面テープを用いてもよい。この場合、芯材３の外周面に直接両面テープを貼り付ければよい。
【００３１】
拭き取り具５は、芯材３の外周面側に拭き取り材４を配置した状態で、芯材３を回転させながら拭き取り材４にて対象領域１０の拭き取りを行う。拭き取り具５の詳細構造とその使い方については、後述する。
【００３２】
プラスチックシンチレータの第１薄膜６は、対象領域１０の拭き取り後に拭き取り材４の外周面に着脱自在に密着配置される。第１薄膜６は、後述するように、周状に配置された拭き取り材４の外周面の形状に準じた形状を記憶している。第１薄膜６は、拭き取り材４の外周面に嵌めこまれると、記憶した形状に従って、拭き取り材４の外周面に密着配置される。
【００３３】
このように、図１の拭き取り装置１は、まず芯材３の外周面に拭き取り材４を接着し、拭き取り材４が接着された芯材３を拭き取り具５により回動自在に支持した状態で、拭き取り具５を対象領域１０内で移動させる。これにより、拭き取り材４が対象領域１０に面接触ながら回転し、対象領域１０内の拭き取りが行われる。対象領域１０の拭き取りが終了すると、拭き取り材４が接着された芯材３を拭き取り具５から取り外して、拭き取り材４の外周面に第１薄膜６を密着配置する。
【００３４】
図３（ａ）に示すように、プラスチックシンチレータの第１薄膜６は、芯材３の外周形状を記憶している形状記憶部材である。第１薄膜６は、丸まっていない平板状の薄膜に対して、後述する加工処理を施すことで、周状に配置された拭き取り材４の外周面の形状に準じた中空の円筒形状を記憶している。この形状を記憶している第１薄膜６は、その長手方向に沿って両端部が配置されており、この両端部を人間の手で掴んで外側に広げることで、図３（ｂ）に示すように人間の手で容易に両端部間の隙間を広げることができる。人間が手を離すと、図３（ａ）に示す元の形状記憶した形状に復帰する。元の形状では、薄膜の両端部の間には隙間ができないように、薄膜の一部が重なるように配置されている。
【００３５】
本実施形態では、芯材３の外周面に拭き取り材４を接着させた状態で、拭き取り具５にて対象領域１０の拭き取りを行った後、拭き取り材４が接着された芯材３を拭き取り具５から取り外す。そして、芯材３の外周形状を記憶している第１薄膜６の両端部間を少し広げて、その内部に、拭き取り材４が接着された芯材３を嵌めこむ。第１薄膜６は、芯材３の外周形状を記憶しているため、自動的に両端部の隙間が閉じられて、第１薄膜６と拭き取り材４とは密着されることになる。このはめ込み作業は、手慣れていない作業者でも容易に行うことができる。
【００３６】
プラスチックシンチレータの第１薄膜６は、対象領域１０を拭き取った後の拭き取り材４の外周面に嵌めこむだけで、第１薄膜６と拭き取り材４との隙間をほとんどなくして、両者を密着配置することができる。例えば、放射線としてトリチウムのβ線を検出する場合、このβ線のエネルギーは元々低いため、プラスチックシンチレータと拭き取り材４との隙間が少し開いているだけでも、検出できなくなるおそれがあるが、本実施形態の第１薄膜６は、隙間がほとんど無い状態で拭き取り材４に密着配置できるため、トリチウムのβ線であっても、検出可能である。
【００３７】
（放射線検出装置２の構成）
図４の放射線検出装置２は、バイアル１１と、２つの光電子増倍管（ＰＭＴ：Photomultiplier Tube、フォトマル）１２と、同時計数回路１３とを有する。
【００３８】
バイアル１１は、ガラスまたはプラスチックで形成された蓋付きの容器であり、蓋１１ａを開けて、第１薄膜６が拭き取り材４に密着配置された芯材３を容器の内部に収納した後、蓋１１ａが閉じられる。芯材３は、その長手方向をバイアル１１の上下に配置した状態で、バイアル１１の内部に収納される。
【００３９】
２つの光電子増倍管１２は、バイアル１１を間に挟んでその両側に配置される。これら光電子増倍管１２は、バイアル１１から出射された蛍光の量に応じた電気パルス信号を生成する。電気パルス信号は、蛍光の光量に応じた振幅と、蛍光の発光時間に応じたパルス幅と、蛍光の数に応じたパルス数を有する。
【００４０】
同時計数回路１３は、２つの光電子増倍管１２が共通して検出した電気パルス信号を抽出する。同時計数回路１３を設けることで、２つの光電子増倍管１２のノイズを相殺して、真の蛍光の量を検出可能となる。
【００４１】
（放射線検出方法の手順）
図５は図１の拭き取り装置１を用いた放射線検出方法の手順を説明するフローチャート、図６は拭き取り具５から芯材３を取り外して放射線検出装置２で放射線検出を行うまでの手順を模式的に示す図である。
【００４２】
まず、芯材３の外周面に拭き取り材４を接着する（ステップＳ１）。次に、拭き取り材４が接着された芯材３の長手方向両端面を回動自在に拭き取り具５に支持する。すなわち、芯材３を拭き取り具５に装着する（ステップＳ２）。そして、拭き取り具５の把持部５ａを作業者が把持して、対象領域１０に拭き取り材４を接触させながら、芯材３を回転移動させて、対象領域１０の拭き取りを行う（ステップＳ３）。
【００４３】
対象領域１０の拭き取りが終了すると、作業者は、図６（ａ）に示すように、拭き取り材４が接着された芯材３を拭き取り具５から取り外す（ステップＳ４）。続いて、作業者は、図６（ｂ）に示すように、拭き取り材４の外周面に第１薄膜６を被せて、拭き取り材４と第１薄膜６とを密着配置させる（ステップＳ５）。次に、作業者は、図６（ｃ）に示すように、第１薄膜６で外表面が覆われた拭き取り材４および芯材３を、バイアル１１の内部に収納し、収納後に図６（ｄ）に示すようにバイアル１１の蓋１１ａを閉じる（ステップＳ６）。その後、バイアル１１を２つの光電子増倍管１２の間に配置して、同時計数回路１３にて、拭き取り材４に付着した放射線の検出を行う（ステップＳ７）。
【００４４】
（芯材３の構造）
図１に示すように、円筒状の芯材３の長手方向両端面３ａには、その中央部に孔部３ｂが設けられている。この孔部３ｂには、拭き取り具５の突起部５ｇを嵌めこむことができる。突起部５ｇが孔部３ｂに嵌めこまれた状態で、芯材３は突起部５ｇの周りを回転することができる。このように、芯材３は、拭き取り具５に回動自在に支持されている。
【００４５】
なお、芯材３の長手方向両端面３ａには、光学プリズムなどの反射部材を対向配置するのが望ましい。その理由は、拭き取り材４に付着したβ線などの放射線は、プラスチックシンチレータの第１薄膜６内で蛍光を生じさせるが、蛍光の一部は、拭き取り材４を通過して、芯材３の内部に入り込む。芯材３の内部に入り込んだ蛍光のうち、臨界角度未満の角度で芯材３の外周面の裏面側に入射された蛍光は、図７（ａ）に示すように、芯材３の外周面を通過せずに反射されて、芯材３の長手方向両端面３ａの方向に進行する。両端面３ａに達した蛍光は、両端面３ａに反射部材がない場合は、そのまま両端面３ａを通過して外側に抜けてしまう。光電子増倍管１２は、図４に示すように芯材３の側方に配置されるため、芯材３の両端面３ａから抜けた光は光電子増倍管１２では検出できず、検出可能な蛍光が減ってしまい、放射線の検出精度が低下してしまう。
【００４６】
図７（ａ）では、芯材３の外周面側に配置された拭き取り材４の中の一点（図示の左側中央部）Ｐで放射線が発生した例を示している。バイアル１１の左側の光電子増倍管１２には、図７（ａ）の矢印線で示すように、比較的多くの蛍光が検出されるが、蛍光の一部は、芯材３の両端面３ａ方向に進行して、両端面３ａから外部に抜けてしまうため、右側の光電子増倍管１２で検出される蛍光の量は少なくなる。
【００４７】
この結果、図７（ｂ）に示すように、左側の光電子増倍管１２から出力される電気パルス信号はディスクリ値（検査閾値）を超えるのに、右側の光電子増倍管１２から出力される電気パルス信号はディスクリ値（検査閾値）を超えない場合が生じ、同時計数回路１３で計数される放射線の数が減ってしまう。
【００４８】
そこで、図８に示すように、拭き取りが終わって、拭き取り具５から芯材３を取り外した後に、芯材３の両端面３ａに、反射部材８を取り付けてもよい。反射部材８は、例えばプリズムシートであり、このシートのプリズム面を水で濡らして芯材３の両端面３ａに接触させると、特に接着剤を用いなくても、プリズムシートを芯材３の両端面３ａに接着できる。あるいは、反射特性に影響を与えないように、薄く接着剤を塗布して反射部材８を芯材３の両端面３ａに接着してもよい。
【００４９】
プリズムシートのような反射部材８を芯材３の長手方向両端面３ａ側に配置することで、芯材３の内面で反射しながら両端面３ａに到達した蛍光は、図９（ａ）に示すように両端面３ａで反射されるため、芯材３の外周面（側面）を再度貫通して、光電子増倍管１２にて検出される蛍光の割合を増やすことができる。
【００５０】
例えば、図９（ａ）の例では、図７（ａ）と同様に、拭き取り材４の左側中央部の一点Ｐで蛍光が発生した例を示している。芯材３の両端面３ａの方向に進行した蛍光は、反射部材８で乱反射されるため、左側の光電子増倍管１２だけでなく、右側の光電子増倍管１２にも、入射される。
【００５１】
この結果、図９（ｂ）に示すように、２つの光電子増倍管１２から出力される電気パルス信号は、同じようにディスクリ値を超える結果となり、同時計数回路１３で計数される放射線の量を増やすことができる。
【００５２】
なお、反射部材８は、鏡面反射を生じさせるものではなく、乱反射を生じさせるものが望ましい。その理由は、芯材３の一端面で鏡面反射した蛍光は、芯材３の外周面を通り抜けずに、他端面の方向に進行し、両端面３ａ間で反射を繰り返すだけで、芯材３の外周面を通り抜ける蛍光が増えないおそれがあるためである。一方、両端面３ａに達した蛍光が乱反射されると、芯材３の外周面を通り抜ける蛍光を増やすことができ、光電子増倍管１２により検出される蛍光の量を増やすことができる。
【００５３】
乱反射を生じさせる反射部材８は、例えばプリズムシートである。また、ガラスビーズ等を用いることで、乱反射を生じさせてもよい。
【００５４】
図１０は反射部材８の断面構造の一例を示す断面図である。図１０の反射部材８は、剥離層２１と、芯材３の両端面に接着される接着層２２と、膠着層２３と、反射膜２４と、蜂の巣状の空気層２５の間に配置されるガラスビーズ２６と、透明プラスチックフィルム２７とを有する。反射膜２４とガラスビーズ２６により、入射光を乱反射するようにしている。図１０の反射部材８は一例であり、乱反射を生じさせる反射部材８であれば、その構造は問わない。
【００５５】
（プラスチックシンチレータ薄膜の多層化）
上述した例では、プラスチックシンチレータの第１薄膜６を、拭き取り材４の外側に被せているが、これに加えて、芯材３と拭き取り材４との間にも、別のプラスチックシンチレータ薄膜を配置してもよい。以下では、芯材３と拭き取り材４との間に配置されるプラスチックシンチレータ薄膜を第２薄膜７と呼ぶ。
【００５６】
第２薄膜７も、第１薄膜６と同様に、芯材３の外周面の形状に準じた形状に加工された形状記憶部材である。第２薄膜７は、第１薄膜６よりも内側に配置されるため、第２薄膜７の形状記憶された径は、第１薄膜６の形状記憶された径よりも小さい。一例として、第２薄膜７の径は第１薄膜６の径よりも約２ｍｍ小さく設定される。
【００５７】
図１１は、第１薄膜６、拭き取り材４および第２薄膜７の取付手順を示す図である。また、図１２は図１１（ｃ）の短手方向断面図である。まず、図１１（ａ）に示すように、芯材３に第２薄膜７を接着する。上述したように、第２薄膜７は、芯材３の外周面に準じた形状に予め加工されているため、第２薄膜７の両端部を少し広げるだけで、容易に第２薄膜７に被せることができ、被せた状態では、第２薄膜７は芯材３に密着配置される。第２薄膜７と芯材３の外周面との少なくとも一方には、予め接着剤を付着しておけば、芯材３の外周面に第２薄膜７を被せるだけで、芯材３と第２薄膜７とを接着することができる。
【００５８】
第２薄膜７は、拭き取り材４に付着された放射線による汚染を受ける可能性があり、その場合には、第２薄膜７を除染または交換しなければならない。そこで、第２薄膜７と芯材３との接着力は、あまり強くない方が望ましい。
【００５９】
次に、図１１（ｂ）に示すように、第２薄膜７の外周面に拭き取り材４を接着する。その後、図１１（ｃ）に示すように、第１薄膜６が拭き取り材４の外周面に沿って嵌めこまれる。
【００６０】
芯材３と拭き取り材４との間に、プラスチックシンチレータの第２薄膜７を配置することで、拭き取り材４から芯材３側に放射する放射線により、第２薄膜７で蛍光を生じさせることができる。すなわち、拭き取り材４から外周側に放射する放射線は第１薄膜６で蛍光を生じさせ、拭き取り材４から内周側に放射する放射線は第２薄膜７で蛍光を生じさせることができるため、第１薄膜６だけを設けた場合よりも、より多くの蛍光を生じさせることができ、放射線の検出精度を向上できる。
【００６１】
第２薄膜７は、拭き取り材４の内側に配置されており、拭き取り具５で対象領域１０を拭き取る際に拭き取り材４に付着した放射線は、拭き取り材４の外表面側に存在するため、拭き取り材４の内側の第２薄膜７が放射線による汚染を受けるおそれは少ないと考えられる。よって、第２薄膜７は、拭き取り材４を交換するたびに交換する必要はなく、再利用が可能である。
【００６２】
（プラスチックシンチレータ薄膜の粗面化）
図８のような反射部材８を芯材３の長手方向両端面３ａ側に設ける場合、芯材３の長手方向両端面３ａに向かって進行する蛍光は、芯材３の内部に入り込んだ蛍光である。芯材３の内部に入り込む蛍光を減らすことができれば、芯材３の長手方向両端面３ａから外側に向ける蛍光の量も低減できると考えられる。そこで、プラスチックシンチレータの第１薄膜６の外周面側を粗面化してもよい。第１薄膜６の外周面側を粗面化することで、第１薄膜６の内部で生じた蛍光が、粗面化された外周面で外側に散乱されやすくなり、結果として、光電子増倍管１２に入射される蛍光を増やせるとともに、芯材３の方向に伝搬する蛍光の量を減らすことができる。
【００６３】
第１薄膜６の外周面の粗面化は、紙やすりなどの凹凸部材で外周面をこすればよい。あるいは、エッチング液等の化学的手法により粗面化してもよい。
【００６４】
なお、第１薄膜６の内周面は粗面化せずに、平坦な状態を維持していた方がよい。その理由は、第１薄膜６の内周面は、拭き取り材４が接する面であり、この面が粗面化されていると、拭き取り材４に付着した放射線により、第１薄膜６が汚染するおそれがあるためである。
【００６５】
なお、芯材３と拭き取り材４との間に第２薄膜７を設ける場合、第２薄膜７を粗面化する必要はない。
【００６６】
一方、芯材３の外表面を粗面化してもよい。特に、芯材３の外表面に拭き取り材４を周状に配置する際、芯材３の両端面に近い側の外表面は、拭き取り材４が配置されずに露出することが考えられる。この露出部から蛍光を側方に散乱させることができるように、この露出部は少なくとも粗面化するのが望ましい。
【００６７】
（プラスチックシンチレータ薄膜の形状記憶化）
上述したように、プラスチックシンチレータの第１薄膜６と第２薄膜７は、芯材３の外周面に準じた形状に加工されており、この形状を変形させても、元の形状に復帰するようにしている。以下では、第１薄膜６と第２薄膜７の形状記憶加工について説明する。
【００６８】
図１３は第１薄膜６と第２薄膜７の形状記憶加工処理の一例を示すフローチャートである。まず、例えばポリビニールトルエンを基材として、所定の波長変換材と所定の溶媒とを混合させる（ステップＳ１１）。
【００６９】
これら３つの材料を混合すると、混合物の中に空気による泡が生じるため、窒素雰囲気で真空脱泡するなどの泡抜き処理を行った上で、プラスチックシンチレータ薄膜の型に流し込んで、加熱する（ステップＳ１２）。これにより、モノマーからポリマーへの変換が徐々に進行する。
【００７０】
この変換処理は、条件にもよるが、数日から数週間程度を要する。ポリマーへの変換率が悪いと、第１薄膜６と第２薄膜７のプラスチックシンチレータとしての性能が徐々に劣化するため、最終的には完全にポリマー化するのが望ましい。ところが、ポリマー化すると、硬くなって加工性が悪くなるため、完全にポリマー化する前に、型から取り出す（ステップＳ１３）。
【００７１】
型から取り出した状態では、まだ完全には硬化しておらず、柔軟性を有した平板状の薄膜シンチレータである。ここで、サンドブラスタなどで、薄膜シンチレータの表面に細かな傷を付けて粗面化する（ステップＳ１４）。次に、粗面化した薄膜シンチレータを、図１４（ａ）に示すように、第１薄膜６と第２薄膜７のサイズに合わせて切り出す（ステップＳ１５）。
【００７２】
そして、切り出した薄膜シンチレータを、図１４（ｂ）に示すように、芯材３の径よりも大きな径の円筒１５の外周面に貼り付けて、所定の温度に加熱して、薄膜シンチレータを円筒１５の外周面の形状に加工する（ステップＳ１６）。ここでは、径の異なる円筒１５を複数個用意し、径の大きい円筒１５から順に用いて、円筒１５の形状を記憶させる処理を繰り返して、最終的には、芯材３の外径に準じた形状まで加工する。
【００７３】
上述したように、第２薄膜７は、第１薄膜６よりも数ｍｍ径が小さいため、第１薄膜６と第２薄膜７を形成する際には、少なくとも最終的に用いられる円筒の径サイズを相違させて、それぞれ所望の径サイズに丸められた形状に加工する。
【００７４】
最後に、第１薄膜６と第２薄膜７用の薄膜シンチレータを完全にポリマー化するために、高温乾燥器に入れて硬化させて、第１薄膜６と第２薄膜７が形成される（ステップＳ１７）。
【００７５】
第１薄膜６と第２薄膜７の膜厚は、型を変えることで、任意に調整可能である。よって、本実施形態によれば、第１薄膜６と第２薄膜７の膜厚を、検出すべき放射線のエネルギーに応じた最適な膜厚に設定可能である。
【００７６】
従来の液体シンチレーションカウンタでは、バイアル１１の中で試料と液体シンチレータを混和させて放射線の検出を行うため、クエンチング現象と呼ばれる消光現象が起こって、放射性核種の同定ができないという問題がある。これに対して、本実施形態のように、プラスチックシンチレータ薄膜を用いた場合には、原理的にクエンチング現象が起きず、放射性核種の同定が可能である。
【００７７】
なお、市販されている０．５ｍｍ厚のプラスチックシンチレータ板には、製造時に細かな空気粒が混入しており、透明性が若干劣っており、クエンチング現象が起きないとは言い切れない。これに対して、本実施形態が第１薄膜６と第２薄膜７の材料として使用するプラスチックシンチレータ薄膜では、空気粒が残存しないように真空脱泡以外の処理も合わせて行って、完全に空気泡を抜くため、プラスチックシンチレータ薄膜の透明性を十分に高くでき、クエンチング現象の発生を抑制できる。
【００７８】
（拭き取り具５の構造）
図１５は拭き取り具５の要部の構造を示す図である。拭き取り具５は、図１５（ａ）に示すように、柄５ａの一端側に設けられる把持部５ｂ（図１参照）と、柄５ａの他端側に設けられる２つの支持部５ｃと、柄５ａから延びる軸部材５ｈと２つの支持部５ｃとを接続する連結部５ｅと、連結部５ｅの移動に応じて伸縮する伸縮部材５ｆとを有する。
【００７９】
伸縮部材５ｆは、柄５ａから延びる軸部材５ｈに巻回されており、軸部材５ｈは連結部５ｅに皿ネジ５ｉにより固定されている。
【００８０】
把持部５ｂは、拭き取り具５にて対象領域１０の拭き取りを行う際に作業者によって把持される。作業者が把持部５ｂを把持して柄５ａを前後に動かすことで、拭き取り材４が接着された芯材３が回転して、拭き取り材４は対象領域の拭き取りを行うことができる。
【００８１】
柄５ａは、作業者が立ったままでも拭き取り作業ができる程度の高さにすることができ、しゃがんだままで拭き取り作業を行う場合よりも、格段に作業性がよくなる。また、柄５ａを前後に動かすだけで拭き取り作業を行えるため、拭き取り効率のばらつきを軽減できる。よって、手慣れた作業者でなくても、拭き取り作業を行うことができ、例えば、多くの作業員を必要とする広範囲の放射線検出でも、放射能検出精度のばらつきが起きにくくなる。
【００８２】
２つの支持部５ｃは、その一端側に突起部５ｇ（図１参照）を有し、これら突起部５ｇを芯材３の長手方向両端面３ａの孔部３ｂに嵌めこんで、芯材３を回動自在に支持する。２つの支持部５ｃの他端側には連結部５ｅが接続されている。２つの支持部５ｃの他端側を人間の指で同時に押しつけることで、支持部５ｃを孔部３ｂから分離させることができ、これにより、芯材３を直接指で触らなくても、拭き取り具５から取り外すことができる。
【００８３】
伸縮部材５ｆは、連結部５ｅと柄５ａの他端部との間に設けられており、芯材３の傾斜角度に応じて連結部５ｅが移動すると、その移動に合わせて伸縮し、連結部５ｅと柄５ａの他端部との間の距離を調整する。
【００８４】
傾斜面や若干の段差がある箇所を拭き取り材４で拭き取る場合には、図１５（ｂ）に示すように、芯材３の回転軸方向に直交する方向が柄５ａの延在方向から傾斜してしまう。この場合、芯材３の傾斜角度に応じて、連結部５ｅが弾性部材を伸縮させ、柄５ａを前後左右に若干移動させる。これにより、傾斜面や若干の段差がある箇所でも、作業者は柄５ａに無理な力をかけることなく、拭き取りが可能となる。
【００８５】
（検出可能な放射線の種類）
上述した例では、主にβ線を検出する場合について説明したが、プラスチックシンチレータ薄膜（第１薄膜６や第２薄膜７）にＺｎＳ（Ａｇ）を塗布することでα線も検出可能となる。塗布する面は拭き取り材４に対向する面である。例えば塗布厚さ５〜１０ｍｇ／ｃｍ２程度とすることで、α線だけでなくβ線も検出可能となる。ＺｎＳ（Ａｇ）シンチレータは、α線により励起されることによってシンチレータ光を発するものであり、ＺｎＳに微量のＡｇを活性体として添加した結晶（粉末）であり、粉末を接着材に混ぜて塗布する。
【００８６】
なお、トリチウムのような弱いβ線エネルギーはＺｎＳで遮蔽され測定できなくなるため、３Ｈ，１４Ｃ，３５Ｓなどのβ線を検出したい場合はＺｎＳの塗布は望ましくない。一方、１３７Ｃｓ，９０Ｓｒ−９０Ｙなどの核種はプラスチックシンチレータ薄膜にＺｎＳを塗布することで、α線とβ線をともに測定可能となる。
【００８７】
プラスチックシンチレータ薄膜を例えば１ｍｍ厚程度まで厚くすることで、γ線に対する効率が向上し、γ線も測定可能となる。今回は原料からプラスチックシンチレータ薄膜を作製しているため、その厚みを０．２〜１．０ｍｍ厚等の範囲で任意に調整可能であり、測定核種のγエネルギーに応じて、最適な膜厚のプラスチックシンチレータ薄膜を作製できる。
【００８８】
ただし、プラスチックシンチレータ薄膜の膜厚を厚くすると、モノマーからポリマーへの変換時間及び湾曲加工に時間を要し、コスト面で課題が出るため、測定核種を予め決めてプラスチックシンチレータ薄膜を選択することが望ましい。
【００８９】
上述した拭き取り具５では、拭き取り後に２つの支持部５ｃの端部を同時に指で押し込むことで、指で触ることなく、拭き取り材４付きの芯材３を取り外すことができるが、その後に、プラスチックシンチレータの第１薄膜６を拭き取り材４に被せるときに、指が拭き取り材４に触れて、放射能に汚染されてしまうおそれがある。また、第１薄膜６を拭き取り材４に被せる際には、図３（ｂ）に示すように、丸まった第１薄膜６の両端部を広げて隙間を開けなければならないが、その際に無理な力が加わると、第１薄膜６が破断するおそれがある。
【００９０】
このような放射能汚染と第１薄膜６の破断を防止するには、例えば図１６および図１７に示すような手法が考えられる。図１６は図１の拭き取り装置１を用いた放射線検出方法の手順の変形例を示すフローチャート、図１７は図１６の手順を図式化したものである。
【００９１】
図１６のステップＳ２１〜Ｓ２３は、図５のステップＳ１〜Ｓ３と同様である。拭き取り具５による対象領域１０の拭き取りが終了すると、一方の支持部５ｃの端部を押し込んで、その支持部５ｃと芯材３の端面との間に隙間を作り、この隙間に芯材置き台３１を挿入する（ステップＳ２４、図１７（ａ））。そして、拭き取り具５を約１８０度回転させて、芯材置き台３１を下にして、その上に拭き取り材４付きの芯材３を縦置きする（ステップＳ２５、図１７（ｂ））。図１７の例では、芯材置き台３１の端部を湾曲させているが、これは、この湾曲部分を手で掴んで芯材置き台３１を動かせるようにするためである。これは一例であり、芯材置き台３１の形状は種々に変更して構わない。
【００９２】
ステップＳ２４〜Ｓ２５の処理に前後して、外径が連続的に変化している三角コーン部材３２の頂部側から、丸まった第１薄膜６を差し込む（ステップＳ２６、図１７（ｃ））。なお、三角コーン部材３２の底面の外径は、芯材３に巻かれた拭き取り材４の外径よりも少し大きめにしておく必要がある。
【００９３】
次に、三角コーン部材３２を縦置きした芯材の上に配置して、第１薄膜６を三角コーン部材３２の底面側すなわち芯材３側に押し込む（ステップＳ２７、図１７（ｄ））。これにより、第１薄膜６の内径は徐々に広がって、その両端部の間に隙間ができ、芯材３に巻かれた拭き取り材４の表面に密着配置される（ステップＳ２８、図１７（ｅ））。その後は、図５のステップＳ６〜Ｓ７と同様の処理を行う（ステップＳ２９、Ｓ３０、図１７（ｇ）、図１７（ｈ））。
【００９４】
ステップＳ２７の処理を行う際には、三角コーン部材３２の頂部側を指で掴んで第１薄膜６を押し込めばよいため、拭き取り材４に指を触れることなく、第１薄膜６を拭き取り材４に被せることができ、放射能汚染を防止できる。また、三角コーン部材３２の外周面に沿って、徐々に第１薄膜６の内径を広げるため、第１薄膜６に無理な力が加わることがなく、第１薄膜６の破断を防止できる。
【００９５】
このように、本実施形態では、プラスチックシンチレータの第１薄膜６を、芯材３の外周面の形状に準じた形状に加工し、対象領域１０を拭き取った拭き取り材４の外表面に第１薄膜６を被せるため、拭き取り材４の外表面に第１薄膜６を密着配置することができる。その後、拭き取り材４が接着された芯材３に第１薄膜６を被せたままでバイアル１１の中に入れて、液体シンチレーションカウンタにて放射線検出を行うため、拭き取り材４から放射された放射線に応じた蛍光を効率よく第１薄膜６で生じさせることができ、放射線の検出精度を向上できる。
【００９６】
また、芯材３と拭き取り材４との間にも、プラスチックシンチレータの第２薄膜７を設けることで、より多くの蛍光を発光させることができ、放射線の検出精度をより向上できる。
【００９７】
さらに、プラスチックシンチレータの第１薄膜６や第２薄膜７にＺｎＳ等の材料を塗布することで、β線だけでなく、α線の検出も可能となる。
【００９８】
また、本実施形態では、高価なプラスチックシンチレータを薄膜化した第１薄膜６や第２薄膜７を用いるため、プラスチックシンチレータの芯材を使用する従来例と比べて、プラスチックシンチレータの使用量を格段に減らすことができ、放射線検出に要するコストを低減できる。さらに、第１薄膜６と第２薄膜７は、予め、芯材３の形状に準じた形状に加工しておくため、第１薄膜６と拭き取り材４とを容易に密着配置でき、同様に、第２薄膜７と芯材３とも容易に密着配置でき、トリチウムのβ線などの微弱な放射線でも精度よく検出可能となる。
【００９９】
さらに、図１６および図１７に示すように、人間の指が触れないように第１薄膜６を拭き取り材４に被せることもできるため、作業者が放射能に汚染するおそれを防止でき、また第１薄膜６の破断も防止できる。
【実施例】
【０１００】
図１８は、芯材３をプラスチックシンチレータにして第１薄膜６を持たない一比較例と、芯材３をアクリル棒にして第１薄膜６を有する一実施例とについて、核種同定性能を比較した実験結果を示す図である。図１８の横軸はβ線のエネルギー、縦軸は蛍光のカウント数を示している。
【０１０１】
この実験では、複数の放射線を含む汚染物を対象領域に滴下して、この対象領域を拭き取り具５に取り付けた拭き取り材４で拭き取って、その後に図４に示すようなバイアル１１に入れて、光電子増倍管１２にて蛍光のカウント数を計測した。
【０１０２】
図１８（ａ）は一比較例の実験結果を示し、図１８（ｂ）は一実施例の実験結果を示している。一比較例の場合、１４Ｃの最大エネルギーは１５６ｋｅＶであるのに対し、１２０ｋｅＶ程度にまで減衰している。これは、クエンチング現象によるものと思われる。これに対して、一実施例の場合、ほとんど最大エネルギーの減衰は起きていないことがわかる。また、トリチウム（３Ｈ）の場合も、同様に、一実施形態では、ほとんど最大エネルギーの減衰が起きておらず、放射線物質の核種同定性能が優れていることがわかる。これに対して、一比較例の場合、最大エネルギーが１６７ｋｅＶの３５Ｓの場合も、同様にかなりの最大エネルギーの減衰が生じており、正確な核種同定が困難となる。
【０１０３】
以上より、芯材３をプラスチックシンチレータにするよりも、安価なアクリル棒からなる芯材３とプラスチックシンチレータの第１薄膜３を用いる方が、核種同定性能が優れていることがわかる。
【０１０４】
図１９は図２の拭き取り具５による拭き取り性能を示す実験結果である。図１９（ａ）〜図１９（ｄ）は、対象領域の中央に放射性物質を滴下した状態で、拭き取り材にて対象領域を拭き取った後の、対象領域内の放射性物質の広がりを画像化した図である。
【０１０５】
図１９（ａ）は拭き取り具５を用いずに手拭きをした例を示しているが、手拭きの場合は、熟練者であっても、一定の押圧力で一定の方向に拭き取りを行うことは困難であるため、図示のように、放射性物質が対象領域内にランダムに広がってしまい、汚染範囲を広げる結果となる。
【０１０６】
これに対して、図１９（ｂ）〜図１９（ｄ）は、図２に示す拭き取り具５を用いて拭き取った例を示しており、図１９（ｂ）はスリーエムジャパン（株）製の両面テープを拭き取り材４として用いた例、図１９（ｃ）は同社製のＨＣＰスコッチパッドを拭き取り材４として用いた例、図１９（ｄ）はトリコン販売（株）製のＳＰ−１００マスキングテープを拭き取り材４として用いた例をそれぞれ示している。
【０１０７】
図１９（ｂ）〜図１９（ｄ）のいずれにおいても、拭き取り具５の移動方向（図示の上下左右方向）に沿って、放射性物質が拡散しているものの、それ以外の方向への拡散はほとんどなく、手拭きの場合と比べて、放射性物質の汚染範囲を狭めることができることがわかる。
【０１０８】
図１９の実験結果を見ても、図１および図２に示す拭き取り具５が対象領域の拭き取りに優れていることがわかる。
【０１０９】
本発明の態様は、上述した個々の実施形態に限定されるものではなく、当業者が想到しうる種々の変形も含むものであり、本発明の効果も上述した内容に限定されない。すなわち、特許請求の範囲に規定された内容およびその均等物から導き出される本発明の概念的な思想と趣旨を逸脱しない範囲で種々の追加、変更および部分的削除が可能である。
【符号の説明】
【０１１０】
１  拭き取り装置、２  放射線検出装置、３  芯材、４  拭き取り材、５  拭き取り具、６  第１薄膜、７  第２薄膜、８  反射部材、１０  対象領域、１１  バイアル、１２  光電子増倍管、１３  同時計数回路、２１  剥離層、２２  接着層、２３  膠着層、２４  反射膜、２５  空気層、２６  ガラスビーズ、２７  透明プラスチックフィルム、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１８】
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【図１４】
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【図１７】
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【図１９】
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