(57)【要約】【課題】額縁の領域を小さくし、かつ、シール部の信頼性を向上させた液晶表示装置を実現する。【解決手段】表示領域と端子部を有し、有機パッシベーション膜が形成されたＴＦＴ基板と、対向基板が、シール部おいて接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、ＴＦＴ基板のシール部には、有機パッシベーション膜に、平面で視て、所定のピッチでホール１０が形成されており、ホール１０の平面形状で視た場合、ホール１０とホール１０の間の最短距離ｄ２は、４μｍ以上１２μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置。この構成によれば、基板の端部まで配向膜材料を形成しても、シール部のホール１０において配向膜が存在しないので基板の端部まで配向膜を形成することができる。【選択図】図３
2016109807.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と端子部とを有し、有機パッシベーション膜が形成されたＴＦＴ基板と、対向基板が、シール部おいて接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、
前記ＴＦＴ基板の前記シール部には、前記有機パッシベーション膜に、平面で視て、所定のピッチでホールが形成されており、
前記ホールの深さをｈ２としたとき、前記ホールの底面からｈ１＝０．９×ｈ２の高さにおいて、前記ホールを平面で視た場合、前記ホールと前記ホールの間の最短距離は、４μｍ以上１２μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記ホールの前記平面形状は正方形であり、前記前記正方形の辺の長さは、１μｍ以上で７μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記ホールの前記平面形状は円であり、前記前記円の直径は、１μｍ以上で７μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記ホールの前記平面形状は長径と短径を有し、前記長径は、１μｍ以上で７μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記ホールの深さｈ２は１μｍ以上であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記ホールの第１の方向のピッチをｐ１とし、第２の方向のピッチをｐ２とし、前記ホールの前記平面形状における長径をｄ１、短径をｄ１１とし、
前記シール部の前記液晶側を内側とし、前記液晶と反対側を外側とし、前記シール部の前記内側端部と前記外側端部の距離を前記シール部の幅とした場合、
前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値は、前記シール部の外側が前記シール部の内側よりも大きいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記シール部の幅方向の中心よりも内側においては、前記ホールは形成されていないことを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記ホールの第１の方向のピッチをｐ１とし、第２の方向のピッチをｐ２とし、前記ホールの前記平面形状における長径をｄ１、短径をｄ１１とし、
前記対向基板の前記端子部側の辺を第１の辺とし、前記第１の辺と対向する辺を第２の辺とした場合、前記第１の辺における前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値は、前記第２の辺における前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記ホールの第１の方向のピッチをｐ１とし、第２の方向のピッチをｐ２とし、前記ホールの前記平面形状における長径をｄ１、短径をｄ１１とし、
前記対向基板の前記端子部側の辺を第１の辺とし、前記第１の辺と対向する辺を第２の辺とし、前記第１の辺から見て左側の辺を第３の辺とした場合、前記第３の辺における前記第１の辺に近い側における前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値は、前記第３の辺における前記第２の辺に近い側における前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記ホールの第１の方向のピッチをｐ１とし、第２の方向のピッチをｐ２とし、前記ホールの前記平面形状における長径をｄ１、短径をｄ１１とし、
前記対向基板の前記端子部側の辺を第１の辺とし、前記第１の辺と対向する辺を第２の辺とし、前記第１の辺から見て右側の辺を第４の辺とした場合、前記第４の辺における前記第１の辺に近い側における前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値は、前記第４の辺における前記第２の辺に近い側における前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値よりも小さいことを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記ｄ１とｄ１１は等しいことを特徴とする請求項６乃至１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記対向基板の前記シール部には有機材料によるオーバーコート膜が形成されており、前記オーバーコート膜に、平面で視て、所定のピッチで第２のホールが形成されており、
前記第２のホールの深さをｈ２としたとき、前記第２のホールの底面からｈ１＝０．９×ｈ２の高さにおいて、前記第２のホールを平面で視た場合、前記第２のホールと前記第２のホールの間の最短距離は、４μｍ以上１２μｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至１１のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は表示装置に係り、画面周辺の額縁領域を小さくした液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置では画素電極および薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）等を有する画素がマトリクス状に形成されたＴＦＴ基板と、ＴＦＴ基板に対向して対向基板が配置され、ＴＦＴ基板と対向基板の間に液晶が挟持されている構成となっている。そして液晶分子による光の透過率を画素毎に制御することによって画像を形成している。
【０００３】
ＴＦＴ基板と対向基板は周辺のシール材によって接着し、内部に液晶が封入されている。また、基板と液晶との界面には液晶を初期配向させるために配向膜が使用される。しかし、配向膜とシール材との接着性は弱いので、シール部の信頼性を確保するためにシール部から配向膜を排除する必要がある。
【０００４】
特許文献１には、シール部から配向膜を排除するために、シール部と表示領域の間において、有機パッシベーション膜に基板の辺に沿って凹溝を形成し、かつ、有機パッシベーション膜の上にＩＴＯを形成することによって、配向膜材料の塗布時に、配向膜材料がシール部に到達しないようにする構成が記載されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００７−３２２６２７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
特に小型の液晶表示装置では、外形に対して画面サイズを大きくしたいという要求が強い。このためには、画面（表示領域）周辺の額縁の幅を小さくする必要がある。そうすると、シール部から配向膜を排除するような構成をシール部と表示領域の間に形成することは困難になる。
【０００７】
つまり、配向膜材料は、塗布時は液体であるから、基板の周辺のシール部から配向膜を排除するような構造をとることは、スペース的に困難になる。一方、配向膜を基板周辺まで塗布できればプロセス的にも、狭額縁とする上でも非常に有利である。しかし、この場合は、配向膜とシール材の接着強度が問題となる。
【０００８】
本発明の課題は、配向膜を基板周辺まで形成しても、配向膜とシール材の接着力を確保し、狭額縁で、かつ、信頼性の高い液晶表示装置を実現することである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は上記問題を克服するものであり、具体的な手段は次のとおりである。
【００１０】
（１）表示領域と端子部を有し、有機パッシベーション膜が形成されたＴＦＴ基板と、対向基板が、シール部おいて接着し、内部に液晶が封入された液晶表示装置であって、前記ＴＦＴ基板の前記シール部には、前記有機パッシベーション膜に、平面で視て、所定のピッチでホールが形成されており、前記ホールの深さをｈ２としたとき、前記ホールの底面からｈ１＝０．９×ｈ２の高さにおいて、前記ホールを平面で視た場合、前記ホールと前記ホールの間の最短距離は、４μｍ以上１２μｍ以下であることを特徴とする液晶表示装置。
【００１１】
（２）前記ホールの前記平面形状は正方形であり、前記前記正方形の辺の長さは、１μｍ以上で７μｍ以下であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００１２】
（３）前記ホールの前記平面形状は円であり、前記前記円の直径は、１μｍ以上で７μｍ以下であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００１３】
（４）前記ホールの前記平面形状は長径と短径を有し、前記長径は、１μｍ以上で７μｍ以下であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００１４】
（５）前記ホールの深さｈ２は１μｍ以上であることを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００１５】
（６）前記ホールの第１の方向のピッチをｐ１とし、第２の方向のピッチをｐ２とし、前記ホールの前記平面形状における長径をｄ１、短径をｄ１１とし、前記シール部の前記液晶側を内側とし、前記液晶と反対側を外側とし、前記シール部の前記内側端部と前記外側端部の距離を前記シール部の幅とした場合、前記ｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２の値は、前記シール部の外側が前記シール部の内側よりも大きいことを特徴とする（１）に記載の液晶表示装置。
【００１６】
（７）前記シール部の幅方向の中心よりも内側においては、前記ホールは形成されていないことを特徴とする（６）に記載の液晶表示装置。
【００１７】
（８）前記対向基板の前記シール部には有機材料によるオーバーコート膜が形成されており、前記オーバーコート膜に、平面で視て、所定のピッチで第２のホールが形成されており、前記第２のホールの深さをｈ２とし、前記第２のホールの底面からｈ１＝０．９×ｈ２の高さにおける前記第２のホールの平面形状で視た場合、前記第２のホールと前記第２のホールの間の最短距離は、４μｍ以上１２μｍ以下であることを特徴とする（１）乃至（７）のいずれかに記載の液晶表示装置。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】本発明の液晶表示装置の平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ断面図である。
【図３】有機パッシベーション膜に形成されたホールの平面図である。
【図４】ホールの詳細断面図である。
【図５】図３のＢ−Ｂ断面図である。
【図６】ホールの他の平面図である。
【図７】ホールのさらに他の平面図である。
【図８】ホールのさらに他の平面図である。
【図９】ホールの他の実施形態における詳細断面図である。
【図１０】実施例２の液晶表示装置の平面図である。
【図１１】実施例２の１形態を示すシール部の断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に実施例を用いて本発明の内容を詳細に説明する。
【実施例１】
【００２０】
図１は本発明が適用される液晶表示装置を構成する液晶表示パネルの平面図である。図１において、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００がシール材２０によって接着し、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間に液晶が挟持されている。ＴＦＴ基板１００は対向基板２００よりも大きく形成されており、ＴＦＴ基板１００が１枚となっている部分は端子部１５０となっている。端子部１５０には、液晶表示パネルを駆動するＩＣドライバ１６０が配置され、液晶表示パネルに、電源、映像信号、走査信号等を供給するためのフレキシブル配線基板を接続するための端子等が形成されている。
【００２１】
図１において、表示領域５００には走査線３０が横方向に延在し、縦方向に配列している。また、映像信号線４０が縦方向に延在し、横方向に配列している。走査線３０と映像信号線４０とで囲まれた領域が画素３５となっている。狭額縁では、表示領域５００の端部から液晶表示パネルの端部までの距離ｗは１ｍｍ程度にまで小さくなっている。そうすると、シール材の幅も小さくなる。
【００２２】
液晶表示装置では、液晶を初期配向させるために配向膜を用いているが、配向膜とシール材の接着力は弱いので、配向膜はシール部には形成しないことが望まれる。しかし、図１に示すような狭額縁の構成では、配向膜をシール部から除くことは困難である。本発明では、以下に示す構成によって、配向膜を基板の端部にまで形成しても、シール部の信頼性を確保することができる。
【００２３】
図２は、図１のＡ−Ａ断面に相当するシール部の詳細断面図である。図２に示すシール部において、シール材２０によってＴＦＴ基板１００と対向基板２００が接着している。図２において、シール材２０の内側には液晶３００が充填されている。
【００２４】
図２において、ガラスで形成されたＴＦＴ基板１００に第１の絶縁膜１０１が形成されている。第１の絶縁膜１０１は、例えば、ガラスからの不純物がＴＦＴの半導体層を汚染することを防止するために形成されるアンダーコート膜である場合もある。第１の絶縁膜１０１の上に第２の絶縁膜１０２が形成されている。第２の絶縁膜１０２は、ＴＦＴにおけるゲート絶縁膜である場合もある。第２の絶縁膜１０２の上に走査線引出し線１０３が形成されている。矩形の走査線引き出し線１０３は、図１における、図面の上側からの走査線引き出し線１０３の断面である。
【００２５】
なお、製品によっては、シール材２０の下側に、走査線引き出し線１０３ではなく、走査線駆動回路が形成されている場合もある。図２は、このような走査線駆動回路の場合も、走査線引き出し線１０３で代表して表している。
【００２６】
走査線引き出し線１０３を覆って有機パッシベーション膜１０４が形成されている。有機パッシベーション膜１０４は２乃至４μｍと、厚く形成され、平坦化膜としての役割も有している。有機パッシベーション膜１０４は感光性樹脂で形成され、パターニングにフォトレジストを必要としない。
【００２７】
有機パッシベーション膜１０４は、アクリル等の樹脂によって形成されている。このような膜は水分を吸収しやすいので、外部から侵入した水分等の影響により液晶の比抵抗が低下する等の問題を生ずる。このような現象を防止するために、ＳｉＮ等による無機絶縁膜１０５が有機パッシベーション膜１０４を覆うように形成されている。なお、無機絶縁膜１０５は層間絶縁膜１０５と呼ぶこともある。
【００２８】
層間絶縁膜１０５は、ＩＰＳ方式の液晶表示装置の表示領域において、平面状に形成された下層電極と線状電極を有する上層電極との層間の絶縁膜である。下層電極がコモン電極で、上層電極が画素電極である場合もあるし、その逆の場合もあるが、下層電極も上層電極もＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）で代表される透明酸化物導電膜で形成されている。
【００２９】
有機パッシベーション膜１０４は、水分を透過しやすいので、液晶表示パネル端部から有機パッシベーション膜１０４を透過してくる水分を遮断するために、有機パッシベーション膜１０４に溝状スルーホール１０４１が形成されている。この溝状スルーホール１０４１は、シール部内に表示領域を囲むように、ＴＦＴ基板１００の全周に形成される。
【００３０】
本発明の特徴は、ＴＦＴ基板１００の端部まで配向膜１０６を形成できることである。つまり、本発明では、シール部において、有機パッシベーション膜１０４に所定の形状でかつ所定のピッチで多数のホール１０を形成し、このホー１０ルの部分には、配向膜１０６が入り込まないような構成としている。すなわち、配向膜材料は液体ではあるが、所定の表面張力を有しているので、ホール１０の径が小さく、かつ、所定のピッチ以下であると、配向膜材料がこのホール１０に入り込まない。
【００３１】
一方、シール材２０は、表面張力が配向膜材料とは異なり、かつ、層間絶縁膜１０５との濡れ性も配向膜１０６よりも良いのでこのようなホール内にも侵入する。したがって、このホール１０において、シール材２０は配向膜１０６を介さず、層間絶縁膜１０５と直接接するので、シール部におけるシール材２０の接着力を確保することができる。配向膜１０６を基板の端部まで形成してもよければ、配向膜１０６の塗布プロセスの自由度を上げ、また、プロセスを簡略化することができる。特にＴＦＴ基板１００と対向基板２００とのシール材２０での固着を減圧下で行う場合、シール材２０はよりホール内に侵入し易くなる。
【００３２】
図２のシール部において、ホール１０以外の部分では、層間絶縁膜１０５の上に配向膜１０６が形成されている。また、配向膜１０６は、ＴＦＴ基板１００の端部にまで形成されている。配向膜１０６を基板端部にまで形成して良ければ、配向膜材料に対し、フレキソ印刷ばかりでなく、インクジェット、スピナー等種々の塗布プロセスを用いることができる。
【００３３】
図２において、対向基板２００側にはブラックマトリクス２０１が形成されている。図２におけるブラックマトリクス２０１はシール部からの光漏れを防止するために設けられている。ブラックマトリクス２０１は樹脂で形成された遮光膜なので、樹脂を浸透してくる水分を遮断するためにブラックマトリクス溝２０１１が形成されている。ブラックマトリクス２０１の上には、カラーフィルタ２０２が紙面垂直方向にストライプ状に形成されている。シール部において、カラーフィルタ２０２はオーバーコート膜２０３の上に形成される第１柱状スペーサ２１０に対応して形成されている。
【００３４】
カラーフィルタ２０２の上に有機材料によるオーバーコート膜２０３が形成されている。オーバーコート膜２０３には、カラーフィルタ２０２の部分に対応して凸部が形成されている。この凸部に対応して、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を規定する第１柱状スペーサ２１０が形成されている。ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔を表示領域と同様に規定するためである。
【００３５】
図２において、対向基板２００には、対向基板２００の表面からの高さが第１柱状スペーサ２１０よりも低い第２柱状スペーサ２２０が形成されている。第２柱状スペーサ２２０は対向基板２００に外部から圧力が加わった場合、ＴＦＴ基板１００と対向基板２００の間隔が過度に小さくなることを防止する役割を有する。
【００３６】
第１柱状スペーサ２１０の外側には壁状スペーサ２５０が形成されている。この壁状スペーサは、対向基板における配向膜１０６に対するストッパーとなっている。壁状スペーサ２５０は２段形成されている。オーバーコート膜２０３を覆って配向膜１０５が形成されている。この配向膜は、壁状スペーサ２５０によって外形が区切られている。尚、壁状スペーサ２５０は、第１柱状スペーサの内側に形成されていても良い。
【００３７】
対向基板２００側においては、配向膜ストッパーとなる壁状スペーサ２５０は柱状スペーサ２１０を形成する時に同時に形成することができる。したがって、配向膜の範囲を容易に規定することができるので、ＴＦＴ基板１００側とは異なった構成となっている。しかし、配向膜塗プロセスをＴＦＴ基板１００と合わせるために、ＴＦＴ基板１００側と同じように、オーバーコート膜２０３に対してホールを形成しも良い。したがって、以下に述べるホール１０の構成は、ＴＦＴ基板１００側の有機パッシベーション膜１０４のみでなく、対向基板２００側のオーバーコート膜２０３に対しても適用することができる。
【００３８】
シール部の端部には土手状スペーサ２３０が形成されている。液晶表示パネルは個々に製造すると効率が悪いので、マザー基板に複数の液晶表示パネルを形成し、複数の液晶表示パネルを一括して製造する。液晶表示パネルが複数形成されたマザー基板において、土手状スペーサ２３０は隣接する液晶表示パネルの境界に配置され、土手状スペーサ２３０の中心に沿ってスクライビングをいれ、その後、破断することによって個々の液晶表示パネルを分離する。土手状スペーサ２３０が無い場合、この部分はシール材２０となるが、シール材２０が存在すると、スクライビングを入れても破断が出来ない。
【００３９】
図３はＴＦＴ基板１００のシール部における有機パッシベーション膜１０４に形成されたホール１０の形状とピッチを表している。なお、ホール１０の形状は有機パッシベーション膜に形成したホールの形状を表している。有機パッシベーション膜１０４の上にＳｉＮで形成された層間絶縁膜１０５が形成されているが、この層間絶縁膜１０５は、有機パッシベーション膜１０４に比べて膜厚が小さく、有機パッシベーション膜１０４の形状に沿って形成されているだけなので、有機パッシベーション膜１０４のホール形状で、ＴＦＴ基板１００に形成されたホール形状を表している。尚、層間絶縁膜１０５は、全てのホール１０上に形成される必要はなく、一部のホールに形成するものであってもよく、全てのホールに層間絶縁膜１０が形成されない構成であってもよい。
【００４０】
図３において、ホール１０の平面形状は、１辺がｄ１の正方形であり、ホール間隔はｄ２である。なお、ホール間隔は、ホール間の最小距離で表している。また、ｘ方向のピッチはｐ１でｙ方向のピッチはｐ２である。図４は、ホール１０の詳細断面図である。ホール１０は、ハーフ露光で形成するので、ホール１０の端部がくっきりとしておらず、なだらかに変化する。本明細書では、ホール１０の径は、ホール１０の深さをｈ２とした場合、ホール１０の底からｈ２の９０％の高さすなわちｈ１における径をホール径と称する。また、ホール１０の間隔もこの位置における間隔をいう。
【００４１】
図４に示すように、ホール１０が形成された有機パッシベーション膜１０４の上に層間絶縁膜１０５が形成されている。配向膜１０６はホール内には入り込んでいない。しかし、シール材２０は、入り込んでいる。そしてこのホール１０において、シール材２０と層間絶縁膜１０５は強く接着している。  図５は図３のＢ−Ｂ断面図である。図５では、層間絶縁膜１０５、配向膜１０６、シール材２０等も記載している。図５に示すように、有機パッシベーション膜１０４に形成されたホール１０の径、ホール間の距離は、ホール１０の底からｈ１の高さにおける位置を基準にしている。ここで、ホールの深さをｈ２とした場合、ｈ１/ｈ２＝０．９である。また、配向膜１０６は、ホール１０内には入り込んでいないが、シール材２０は入り込んでいる。図５において、ホール１０の部分は、スルーホールではなく、ハーフホールとなっている。ホール１０の下に形成された、走査線引き出し線１０３あるいは走査線駆動回路を保護するためである。
【００４２】
ここで、配向膜材料を塗布したとき、配向膜材料がホール内に入り込まないためには、ホール１０の形状、ホール間隔等が重要なファクターになる。もっとも重要なファクターはホール間隔ｄ２である。ホール１０から配向膜材料をはじけさせるためには、ホール間の間隔は小さいほうがよく、１２μｍ以下とする必要がある。一方、ホール間隔ｄ２が４μｍ以下となると、必要なホール１０を独立して形成することが困難になる。したがって、ホール間隔は４μｍ以上、１２μｍ以下であることが望ましい。
【００４３】
ホール径があまり大きいとホール１０の効果がなくなる。配向膜材料をはじくホール１０の役割を持たせるためには、ホール径ｄ１は７μｍ以下である必要がある。一方、ホール径が小さすぎると、ホール１０としての深さを確保することができなくなるので、ホール径ｄ１は１μｍ以上である必要がある。
【００４４】
ホール１０の深さｈ２は、ホールとしての、形状を確保するために、１μｍ以上必要である。ただし、スルーホールとしてしまうと、有機パッシベーション膜１０４の下に形成された走査線引き出し線１０３あるいは走査線駆動回路を保護することが難しくなるので、ハーフ穴であることが望ましい。
【００４５】
以上の説明では、ホール１０の平面形状が正方形の場合について説明した。しかし、本発明は、これに限らず、ホール１０の平面形状が他の形状であっても適用することができる。図６はホール１０の平面形状が長方形の場合である。この場合は、図３において説明したホール１０の径ｄ１は長径ｄ１である。図６においてホール１０の短径はｄ１１である。ホール間の距離ｄ２は、図３と同様に、ホール間で最も短い距離をいう。図６におけるｘ方向のピッチはｐ１、ｙ方向のピッチはｐ２である。
【００４６】
図７は、ホール１０の平面形状が円の場合である。この場合、ホール１０の径ｄ１は円の直径であり、ホール間の距離ｄ２は、図３と同様に、ホール間で最も短い距離をいう。図７におけるｘ方向のピッチはｐ１、ｙ方向のピッチはｐ２である。
【００４７】
図８は、ホール１０の平面形状が楕円の場合である。この場合、図３において説明したホール１０の径ｄ１は楕円の長径ｄ１であり、ホール間の距離ｄ２は、図３と同様に、ホール間で最も短い距離をいう。図８においてホールの短径はｄ１１である。図８におけるｘ方向のピッチはｐ１、ｙ方向のピッチはｐ２である。
【００４８】
なお、ホール１０の平面形状が図６乃至８の場合であっても、ホールの断面形状は図４および図５において説明したのと同様である。
【００４９】
図９は、本発明におけるホール１０の他の形状を示す断面図である。図９が図５と異なる点は、有機パッシベーション膜１０４の上に形成された層間絶縁膜１０５の上にＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）１０７が形成されていることである。ただし、このＩＴＯ１０７はホール１０の上側付近およびホール１０の側壁に形成されているが、ホール１０の底には形成されていない。ホール１０の底にＩＴＯを形成しないのは、有機パッシベーション膜１０４の下に形成された走査線引き出し線１０３あるいは走査線駆動回路がＩＴＯによってショートされる危険を除くためである。ＩＴＯ１０７は、配向膜材料との濡れ性が悪いために、ホールの入り口にＩＴＯを形成すれば、配向膜材料が、よりホール１０内に入り込みにくくなる。
【００５０】
以上のように、本実施例によれば、シール部における有機パッシベーション膜１０４にホール１０を形成することによって、ホール１０に配向膜１０６が形成されることを防止し、このホール部分において、シール材２０の接着強度を向上させることができる。したがって、狭額縁でかつシール部の信頼性の高い液晶表示装置を実現することができる。
【実施例２】
【００５１】
実施例１で説明したホール１０は、シール部に一様に形成してもよいし、一様に形成されなくともよい。場合によっては、ホール１０はシール部に一様に形成できない場合もあるが、この場合も本発明の効果を得ることができる。図１０は本実施例において、ホール１０の形成領域を説明する平面図である。図１０において、Ｓ１は端子部側の辺であり、Ｓ２は、Ｓ１と対向する辺であり、Ｓ３はＳ１から見て左側の辺であり、Ｓ４はＳ１から見て右側の辺である。
【００５２】
Ｓ３１は辺Ｓ３において、Ｓ１に近い側であり、Ｓ３２は辺Ｓ３において、Ｓ１から遠い側である。また、Ｓ４１は辺Ｓ４において、Ｓ１に近い側であり、Ｓ４２は辺Ｓ４において、Ｓ１から遠い側である。図１０のその他の構成は図１で説明したのと同様である。
【００５３】
図１１は、図１０のＣ−Ｃに対応する断面の例である。図１０において、有機パッシベーション膜１０４に形成されたホール１０は、シール部の外側半分にのみ形成されている。ここで、シール部の外側とは、表示領域から遠い側であり、シール部の内側とは、表示領域に近い側である。図１１において、シール材２０の幅をｓｗとした場合、シール部の内側端部からｓｗ／２の領域にはホール１０が形成されていないが、それより外側の領域にはホール１０が形成されている。シール部における応力は、外側ほど大きいので、シール部全体にホール１０を形成できない事情がある場合は、シール部の外側にのみホール１０を形成することによってシール部の信頼性を確保することができる。
【００５４】
また、ホール１０の密度が大きいほど、配向膜１０６の形成範囲が小さくなるので、シール材２０の接着強度を向上させることができる。したがって、シール部において、単位面積あたりの応力が大きいところほど、ホール１０の密度を大きくすることによって、本発明の効果をより向上させることができる。
【００５５】
ここで、ホール１０の密度とは、ホール１０のピッチとホール径によって定義することができる。例えば図６において、ホールの面積はｄ１×ｄ１１であり、ｘ方向ピッチｐ１とｙ方向ピッチｐ２で定義される面積はｐ１×ｐ２である。そこで、ホール密度をｄ１×ｄ１１／ｐ１×ｐ２と定義することができる。ここで、図３あるいは図７の場合は、ｄ１＝ｄ１１である。
【００５６】
図１１において説明したように、シール部の応力は、シール部の外側、すなわち、表示領域から遠い側においてより大きいので、シール部の外側におけるホール１０の密度をシール部の内側、すなわち、表示領域に近い側よりも大きくすることによって、発明の効果をより上げることができる。
【００５７】
図１０において、端子側の辺Ｓ１はシール部の幅を他の辺よりも大きくとることができる。したがって、シール部の単位面積当たりの応力は、Ｓ１においては、他の辺よりも小さい。つまり、辺Ｓ１においては、他の辺よりもホール密度を小さくすることができる。より具体的には、Ｓ１におけるホール１０の密度をＳ２におけるホールの密度よりも小さくすることができる。
【００５８】
また、辺Ｓ３においても、シール部に係る応力は、辺Ｓ１に近い方が小さい。したがって、ホール１０の密度を辺Ｓ３内でみた場合、Ｓ１に近い側Ｓ３１のホール１０の密度を辺Ｓ２に近い側のＳ３２のホール１０の密度より小さくすることができる。辺Ｓ４についても同様である。すなわち、ホールの密度を辺Ｓ４内でみた場合、Ｓ１に近い側Ｓ４１のホールの密度を辺Ｓ２に近い側のＳ４２のホールの密度より小さくすることができる。
【００５９】
以上の説明ではシール部におけるホールはＴＦＴ基板側に形成されるとして説明した。しかし、本発明は、対向基板側のシール部にも適用することができる。この場合は、オーバーコート膜に有機パッシベーション膜に対応するホールを形成することになる。この場合、オーバーコート膜の下に配線等は設けられていないため、オーバーコート膜と対向基板との間に設けられるカラーフィルタやブラックマトリクスまでオーバーコート膜を除去することが可能である。更には、カラーフィルタやブラックマトリクスにまでホールを形成することも可能である。尚、配向膜の粘性やホールのテーパ形状などの要因によって、配向膜１０６の一部がホール内に入り込んでしまう場合も、ホール内のすべてがシール材で充填されない場合もあり得る。その場合であっても、ホール内で配向膜が形成されていない部分にシール材が接触することによりシールの強度を高めることが出来る。
【００６０】
また、以上の説明では、本発明をＩＰＳ方式の液晶表示装置に準じて説明したが、本発明は、ＩＰＳに限らず、他の方式の液晶表示装置にも適用することが出来る。
【００６１】
さらに、以上の説明では、カラーフィルタが対向基板側に形成されている構成に準じて説明したが、本発明は、カラーフィルタがＴＦＴ基板側に形成されている場合にも適用することが出来る。この場合、カラーフィルタが有機パッシベーション膜の下層に形成されていれば、以上で説明した構成をそのまま適用することが出来る。カラーフィルタが有機パッシベーション膜の上層に形成されている場合や、カラーフィルタを有機パッシベーション膜に代えて用いる場合、上記説明におけるホールをカラーフィルタに形成すればよい。
【００６２】
以上のように、本実施例によれば、シール部における有機パッシベーション膜にホールを形成することによるシール部の接着力の向上の効果をより効率的に得ることができる。
【符号の説明】
【００６３】
１０…ホール、  ２０…シール材、  ３０…走査線、  ４０…映像信号線、  ３５…画素、  １００…ＴＦＴ基板、  １０１…第１の絶縁膜、  １０２…第２の絶縁膜、  １０３…走査線引出し線、  １０４…有機パッシベーション膜、  １０５…無機絶縁膜、層間絶縁膜、  １０６…配向膜、  １０７…ＩＴＯ、  １５０…端子部、  １６０…ＩＣドライバ、  ２００…対向基板、  ２０１…ブラックマトリクス、  ２０２…カラーフィルタ、  ２０３…オーバーコート膜、  ２１０…第１柱状スペーサ、  ２２０…第２柱状スペーサ、  ２３０…土手状スペーサ、  ２５０…壁状スペーサ、  ３００…液晶、  ４００…スクライビング線、  ５００…表示領域、  １０４１…溝状スルーホール、  ２０１１…ブラックマトリクス溝、  ｄ１…ホール長径、  ｄ２…ホール間距離、  ｈ１…ホールの深さの９０％、  ｐ２…ホールの深さ、  ｐ１…ホールの第１方向ピッチ、  ｐ２…ホールの第２方向ピッチ、
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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