(57)【要約】【課題】可視光を発する発光体からの発熱を抑制することが可能な光源装置、画像表示装置、及び光学ユニットを提供すること。【解決手段】本技術の一形態に係る光源装置は、１以上の光源と、発光体と、遮光部とを具備する。前記１以上の光源は、励起光を出射する。前記発光体は、前記１以上の光源からの励起光が入射する入射面を有し、前記入射する励起光により励起されて可視光を発する。前記遮光部は、前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する。【選択図】図８
2016109811.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
励起光を出射する１以上の光源と、
前記１以上の光源からの励起光が入射する入射面を有し、前記入射する励起光により励起されて可視光を発する発光体と、
前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する遮光部と
を具備する光源装置。
【請求項２】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記１以上の光源は、複数の光源を有し、
前記光源装置は、さらに、前記複数の光源の各々からの励起光を前記入射面の所定のスポットに集光する光学系を具備し、
前記遮光部は、前記入射面の前記スポットを含む所定の大きさの領域を照射領域として、前記入射面の前記照射領域を除く領域を覆うように配置される第１の遮蔽部を有する
光源装置。
【請求項３】
請求項１に記載の光源装置であって、さらに、
前記発光体を支持する基体部と、前記基体部を回転させるモータとを具備し、
前記遮光部は、前記基体部に接続され前記基体部と一体的に回転する
光源装置。
【請求項４】
請求項３に記載の光源装置であって、
前記照射領域は、前記スポットに集光された前記励起光が前記基体部の回転により描く軌跡を含む
光源装置。
【請求項５】
請求項２に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記照射領域の一部を覆うように配置される第２の遮蔽部を有する
光源装置。
【請求項６】
請求項３に記載の光源装置であって、
前記基体部は、透明材料からなり、前記発光体の前記入射面を支持する第１の面と、前記第１の面の反対側の第２の面とを有し、
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に接続される
光源装置。
【請求項７】
請求項６に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に接着され光を遮蔽可能な板部材を有する
光源装置。
【請求項８】
請求項６に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に蒸着され光を遮蔽可能な膜を有する
光源装置。
【請求項９】
請求項３に記載の光源装置であって、
前記発光体は、前記入射面の反対側の面である当接面を有し、
前記基体部は、前記発光体の前記当接面を支持し、前記当接面から発せられる前記可視光を前記入射面に向けて反射する
光源装置。
【請求項１０】
請求項９に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記入射面側に配置された光を遮蔽可能な板部材からなる
光源装置。
【請求項１１】
請求項９に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、透明材料からなる基材と、前記基材に接着され光を遮蔽可能な板部材とを有し、前記入射面側に配置される
光源装置。
【請求項１２】
請求項９に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、透明材料からなる基材と、前記基材に蒸着され光を遮蔽可能な膜とを有し、前記入射面側に配置される
光源装置。
【請求項１３】
請求項５に記載の光源装置であって、
前記照射領域は、リング形状を有し、
前記第２の遮蔽部は、前記照射領域に対して等間隔に配置される
光源装置。
【請求項１４】
請求項５に記載の光源装置であって、
前記照射領域は、リング形状を有し、
前記第２の遮蔽部は、前記照射領域の半径方向とは異なる方向を延在方向として前記照射領域に対して配置される
光源装置。
【請求項１５】
請求項１に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記励起光を反射する
光源装置。
【請求項１６】
（ａ）励起光を出射する１以上の光源と、
前記１以上の光源からの励起光が入射する入射面を有し、前記入射する励起光により励起されて可視光を発する発光体と、
前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する遮光部と
前記発光体からの可視光を含む光を出射する出射面と
を有する光源装置と、
（ｂ）照射された光をもとに画像を生成する画像生成素子と、前記画像生成素子に前記光源装置からの光を照射する照明光学系とを有する画像生成システムと、
（ｃ）前記画像生成素子により生成された画像を投射する投射システムと
を具備する画像表示装置。
【請求項１７】
入射面を有し前記入射面に入射する励起光により励起されて可視光を発する発光体と、
前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する遮光部と
を具備する光学ユニット。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本技術は、プロジェクタ等の画像表示装置、これに適用可能な光源装置、及び光学ユニットに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来からプロジェクタ等の画像表示装置が広く用いられている。例えば光源からの光が液晶素子等の光変調素子により変調され、その変調光がスクリーン等に投影されることで画像が表示される。光源としては、水銀ランプ、キセノンランプ、ＬＥＤ（Light Emitting Diode）やＬＤ（Laser Diode）等が用いられる。このうちＬＥＤやＬＤ等の固体光源は寿命が長く従来のようなランプ交換が不要であり、また電源を入れて即時に点灯するといった利点を有する。
【０００３】
例えば特許文献１には、複数のレーザ光源を用いた光源装置、及びこれを用いた画像表示装置について記載されている。特許文献１に記載の光源装置では、その図３に示すように、光源部から出射された青色レーザ光が、蛍光体ホイールに設けられた蛍光体上の所定のスポットに集められる。蛍光体は、青色レーザ光により励起されて黄色の蛍光を発生させる。また蛍光体は、青色レーザ光の一部を透過させる。これにより蛍光体ホイールから、青色レーザ光と黄色光とが合成された白色光が出射される（特許文献１の段落［００３５］−［００３９］等）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２０１４−０８５６２３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
特許文献１に記載のような固体光源を用いた光源装置において、プロジェクタの高輝度化を実現するためには、例えば固体光源の数の増加や固体光源自体の輝度の向上等が図られる。そうすると固体光源から出射された光を受ける蛍光体からの発熱量が増大し、蛍光体ホイールの信頼性が低下してしまう可能性がある。
【０００６】
以上のような事情に鑑み、本技術の目的は、可視光を発する発光体からの発熱を抑制することが可能な光源装置、画像表示装置、及び光学ユニットを提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記目的を達成するため、本技術の一形態に係る光源装置は、１以上の光源と、発光体と、遮光部とを具備する。
前記１以上の光源は、励起光を出射する。
前記発光体は、前記１以上の光源からの励起光が入射する入射面を有し、前記入射する励起光により励起されて可視光を発する。
前記遮光部は、前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する。
【０００８】
この光源装置では、発光体が有する入射面の一部の領域を覆うように遮光部が配置される。これにより入射面に入射する励起光を制限することが可能となり、発光体からの発熱を抑制することが可能となる。
【０００９】
前記１以上の光源は、複数の光源を有してもよい。この場合、前記光源装置は、さらに、前記複数の光源の各々からの励起光を前記入射面の所定のスポットに集光する光学系を具備してもよい。また前記遮光部は、前記入射面の前記スポットを含む所定の大きさの領域を照射領域として、前記入射面の前記照射領域を除く領域を覆うように配置される第１の遮蔽部を有してもよい。
この光源装置では、光学系により、複数の光源からの励起光が所定のスポットに集光される。遮光部により上記照射領域を除く領域が覆われることで、例えばスポットに集光されない不要光を十分に遮蔽することが可能となる。
【００１０】
前記光源装置は、さらに、前記発光体を支持する基体部と、前記基体部を回転させるモータとを具備してもよい。この場合、前記遮光部は、前記基体部に接続され前記基体部と一体的に回転してもよい。
これにより遮光部を簡単に構成させることができる。
【００１１】
前記照射領域は、前記スポットに集光された前記励起光が前記基体部の回転により描く軌跡を含んでもよい。
基体部が回転することで励起光が集光されるスポットの位置が相対的に移動する。これにより蛍光体の飽和や燃焼等を抑制することができる。
【００１２】
前記遮光部は、前記照射領域の一部を覆うように配置される第２の遮蔽部を有してもよい。
このように照射領域への励起光の入射が制限されてもよい。これにより発光体からの発熱を抑制することができる。
【００１３】
前記基体部は、透明材料からなり、前記発光体の前記入射面を支持する第１の面と、前記第１の面の反対側の第２の面とを有してもよい。この場合、前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に接続されてもよい。
この光源装置では、基体部を通って発光体の入射面に励起光が入射する。基体部の第２の面に遮光部を設けることで、簡単な構成で入射面に入射する励起光を制限することが可能となる。
【００１４】
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に接着され光を遮蔽可能な板部材を有してもよい。
このように基体部に板部材が接着されてもよい。これにより簡単に遮光部を実現することができる。
【００１５】
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に蒸着され光を遮蔽可能な膜を有してもよい。
このように基体部に膜が蒸着される場合でも、簡単に遮光部を実現することができる。
【００１６】
前記発光体は、前記入射面の反対側の面である当接面を有してもよい。この場合、前記基体部は、前記発光体の前記当接面を支持し、前記当接面から発せられる前記可視光を前記入射面に向けて反射してもよい。
このように発光体から発せられる可視光が基体部により入射面に向けて反射されてもよい。
【００１７】
前記遮光部は、前記入射面側に配置された光を遮蔽可能な板部材からなってもよい。
板部材を用いて簡単な構成で遮光部を実現することができる。
【００１８】
前記遮光部は、透明材料からなる基材と、前記基材に接着され光を遮蔽可能な板部材とを有し、前記入射面側に配置されてもよい。
このように透明な基材に板部材が接着されてもよい。この場合でも簡単に遮光部を実現することができる。
【００１９】
前記遮光部は、透明材料からなる基材と、前記基材に蒸着され光を遮蔽可能な膜とを有し、前記入射面側に配置されてもよい。
このように透明な基材に膜が蒸着されてもよい。この場合でも簡単に遮光部を実現することができる。
【００２０】
前記照射領域は、リング形状を有してもよい。この場合、前記第２の遮蔽部は、前記照射領域に対して等間隔に配置されてもよい。
これにより第２の遮光部による可視光の発生への影響を抑えることができる。
【００２１】
前記第２の遮蔽部は、前記照射領域の半径方向とは異なる方向を延在方向として前記照射領域に対して配置されてもよい。
これにより照射領域への励起光の入射を十分に制限することができ、また可視光の発生への影響を抑えることができる。
【００２２】
前記遮光部は、前記励起光を反射してもよい。
これにより遮光部の温度上昇を抑制することができる。
【００２３】
本技術の一形態に係る画像表示装置は、光源装置と、画像生成システムと、投射システムとを具備する。
前記光源装置は、前記１以上の光源と、前記発光体と、前記遮光部と、前記発光体からの可視光を含む光を出射する出射面とを有する。
前記画像生成システムは、照射された光をもとに画像を生成する画像生成素子と、前記画像生成素子に前記光源装置からの光を照射する照明光学系とを有する。
前記投射システムは、前記画像生成素子により生成された画像を投射する。
【００２４】
本技術の一形態に係る光学ユニットは、発光体と、遮光部とを具備する。
前記発光体は、入射面を有し前記入射面に入射する励起光により励起されて可視光を発する。
前記遮光部は、前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する。
【発明の効果】
【００２５】
以上のように、本技術によれば、可視光を発する発光体からの発熱を抑制することが可能となる。なお、ここに記載された効果は必ずしも限定されるものではなく、本開示中に記載されたいずれかの効果であってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】第１の実施形態に係る画像表示装置の構成例を示す概略図である。
【図２】光源装置の構成例を示す斜視図である。
【図３】光源部の上面部分を取り外した状態の図である。
【図４】図３に示す光源部を上方から見た平面図である。
【図５】光源部による白色光の生成を説明するための図である。
【図６】蛍光体ユニットの具体的な構成例を示す斜視図である。
【図７】蛍光体ホイールを前方側及び後方側からそれぞれ見た図である。
【図８】蛍光体ホイールの一部を拡大して示す拡大図である。
【図９】第２の実施形態に係る蛍光体ホイールの背面図を示す図である。
【図１０】第３の実施形態に係る蛍光体ホイールを拡大して示す断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、本技術に係る実施形態を、図面を参照しながら説明する。
【００２８】
［画像表示装置］
図１は、本技術の一実施形態に係る画像表示装置の構成例を示す概略図である。画像表示装置５００は、例えばプレゼンテーション用、もしくはデジタルシネマ用のプロジェクタとして用いられる。その他の用途に用いられる画像表示装置にも、以下に説明する本技術は適用可能である。
【００２９】
画像表示装置５００は、光を出射可能な光源装置１００と、光源装置１００からの光をもとに画像を生成する画像生成システム２００と、画像生成システム２００により生成された画像を図示しないスクリーン等に投射する投射システム４００とを有する。
【００３０】
光源装置１００は、赤色光、緑色光、及び青色光を含む白色光Ｗを出射する。光源装置１００については後に詳しく説明する。
【００３１】
画像生成システム２００は、照射された光をもとに画像を生成する画像生成素子２１０と、画像生成素子２１０に光源装置１００からの出射光を照射する照明光学系２２０とを有する。また画像生成システム２００は、インテグレータ素子２３０と、偏光変換素子２４０と、集光レンズ２５０とを有する。
【００３２】
インテグレータ素子２３０は、二次元に配列された複数のマイクロレンズを有する第１のフライアイレンズ２３１、及び、その各マイクロレンズに１つずつ対応するように配列された複数のマイクロレンズを有する第２のフライアイレンズ２３２を含んでいる。
【００３３】
光源装置１００からインテグレータ素子２３０に入射する白色光Ｗは、第１のフライアイレンズ２３１のマイクロレンズによって複数の光束に分割され、第２のフライアイレンズ２３２における対応するマイクロレンズにそれぞれ結像される。第２のフライアイレンズ２３２のマイクロレンズのそれぞれが、二次光源として機能し、輝度が揃った複数の平行光を、偏光変換素子２４０に入射光として照射する。
【００３４】
インテグレータ素子２３０は、全体として、光源装置１００から偏光変換素子２４０に照射される入射光を、均一な輝度分布に整える機能を有する。
【００３５】
偏光変換素子２４０は、インテグレータ素子２３０等を介して入射する入射光の、偏光状態を揃える機能を有する。この偏光変換素子２４０は、例えば光源装置１００の出射側に配置された集光レンズ２５０等を介して、青色光Ｂ３、緑色光Ｇ３及び赤色光Ｒ３を含む白色光を出射する。
【００３６】
照明光学系２２０は、ダイクロイックミラー２６０及び２７０、ミラー２８０、２９０及び３００、リレーレンズ３１０及び３２０、フィールドレンズ３３０Ｒ、３３０Ｇ及び３３０Ｂ、画像生成素子としての液晶ライトバルブ２１０Ｒ、２１０Ｇ、及び２１０Ｂ、ダイクロイックプリズム３４０を含んでいる。
【００３７】
ダイクロイックミラー２６０及び２７０は、所定の波長域の色光を選択的に反射し、それ以外の波長域の光を透過させる性質を有する。図１を参照して、例えば、ダイクロイックミラー２６０が、緑色光Ｇ３及び青色光Ｂ３を選択的に反射する。ダイクロイックミラー２７０は、ダイクロイックミラー２６０により反射された緑色光Ｇ３及び青色光Ｂ３のうち、緑色光Ｇ３を選択的に反射する。残る青色光Ｂ３が、ダイクロイックミラー２７０を透過する。これにより、光源装置１００から出射された光が、異なる色の複数の色光に分離される。なお複数の色光に分離するための構成や、用いられるデバイス等は限定されない。
【００３８】
分離された赤色光Ｒ３は、ミラー２８０により反射され、フィールドレンズ３３０Ｒを通ることによって平行化された後、赤色光の変調用の液晶ライトバルブ２１０Ｒに入射する。緑色光Ｇ３は、フィールドレンズ３３０Ｇを通ることによって平行化された後、緑色光の変調用の液晶ライトバルブ２１０Ｇに入射する。青色光Ｂ３は、リレーレンズ３１０を通ってミラー２９０により反射され、さらにリレーレンズ３２０を通ってミラー３００により反射される。ミラー３００により反射された青色光Ｂ３は、フィールドレンズ３３０Ｂを通ることによって平行化された後、青色光の変調用の液晶ライトバルブ２１０Ｂに入射する。
【００３９】
液晶ライトバルブ２１０Ｒ、２１０Ｇ及び２１０Ｂは、画像情報を含んだ画像信号を供給する図示しない信号源（例えばＰＣ等）と電気的に接続されている。液晶ライトバルブ２１０Ｒ、２１０Ｇ及び２１０Ｂは、供給される各色の画像信号に基づき、入射光を画素毎に変調し、それぞれ赤色画像、緑色画像及び青色画像を生成する。変調された各色の光（形成された画像）は、ダイクロイックプリズム３４０に入射して合成される。ダイクロイックプリズム３４０は、３つの方向から入射した各色の光を重ね合わせて合成し、投射システム４００に向けて出射する。
【００４０】
投射システム４００は、画像生成素子２１０により生成された画像を投射する。投射システム４００は、複数のレンズ４１０等を有し、ダイクロイックプリズム３４０によって合成された光を図示しないスクリーン等に照射する。これによりフルカラーの画像が表示される。
【００４１】
［光源装置］
図２は、光源装置１００の構成例を示す斜視図である。光源装置１００は、白色光を出射する光源部１１０と、光源部１１０に取り付けられるヒートシンク１２０とを有する。白色光が出射される側を前方側５とし、その反対側を後方側６とすると、ヒートシンク１２０は光源部１１０の後方側６に取り付けられる。
【００４２】
光源部１１０は、底部に設けられたベース部１と、ベース部１に支持される筐体部３とを有する。ベース部１は、一方向に延びる細長い形状を有する。ベース部１の細長く延びる長手方向が光源装置１００の左右方向（ｘ軸方向）となり、長手方向に直交する短手方向が前後方向（ｙ軸方向）となる。また長手方向及び短手方向のいずれにも直交する方向が、光源装置１００の高さ方向（ｚ軸方向）となる。
【００４３】
ベース部１には、１以上の固体光源を有する光源ユニット３０と、光源ユニット３０の光を受けて白色光を生成して出射する蛍光体ユニット４０とが装着される。筐体部３の内部において、１以上の固体光源から出射されたレーザ光が蛍光体ユニット４０に導かれる。そして蛍光体ユニット４０により白色光が生成され、その白色光が光軸Ｌに沿って出射される。
【００４４】
図３−５を参照して、光源部１１０の内部の構成例及び白色光の生成例について説明する。図３は、光源部１１０の上面部分を取り外した状態の図である。図４は、図３に示す光源部１１０を上方から見た平面図である。
【００４５】
図３及び図４に示すように、ベース部１の後方側６に、長手方向に並ぶように２つの光源ユニット３０が配置される。各光源ユニット３０は、実装基板３１に実装された複数のレーザ光源（レーザダイオード）３１を有する。複数のレーザ光源３２は、前後方向を光軸方向として、前方側５に向けて光を出射可能に配置される。
【００４６】
本実施形態では、複数のレーザ光源３２は、例えば４００ｎｍ−５００ｎｍの波長範囲内に発光強度のピーク波長を有する青色レーザ光Ｂ１を発振可能な青色レーザ光源である。レーザ光源に代えて、ＬＥＤ等の他の固体光源が用いられてもよい。また固体光源に代えて、水銀ランプ、キセノンランプ等が用いられる場合でも、本技術は適用可能である。
【００４７】
２つの光源ユニット３０の前方には、それぞれ集光光学系３４が配置される。集光光学系３４は、複数のレーザ光源３２からの青色レーザ光Ｂ１を蛍光体ユニット４０の所定のスポットＳに集光させる。なお図３では、光源ユニット３０と集光光学系３４とを１つのユニットとして支持するフレーム３３が図示されている。図４では、集光光学系３４が見えるように、フレーム３３の図示が省略されている。
【００４８】
図４に示すように集光光学系３４は、非球面反射面３５と、平面反射部３６とを有する。非球面反射面３５は、複数のレーザ光源３２からの出射光を反射して集光する。平面反射部３６は、非球面反射面３５により反射された光を蛍光体層上の所定のスポットＳに集光させる。
【００４９】
図４に示すように、白色光の光軸Ｌの方向と、複数のレーザ光源３２からの青色レーザ光Ｂ１の光軸方向とは、互いに同じ方向に設定されている。これにより光源部１１０の後方側６に、ヒートシンク１２０を配置するためのスペースを容易に確保することができる。そして後方側６から複数のレーザ光源３２を効率的に冷却することが可能となる。
【００５０】
図５は、光源部１１０による白色光の生成を説明するための図である。図５では、蛍光体ユニット４０の内部に設けられた蛍光体ホイール及びモータが模式的に図示されている。
なお本技術に係る蛍光体ホイールには遮光部が設けられるが、図５ではその図示が省略されている。当該遮光部については、後に詳しく説明する。
【００５１】
蛍光体ホイール４２は、青色レーザ光Ｂ１を透過させる円盤形状の基板４３と、その基板４３上に設けられた蛍光体層４１とを有している。基板４３としては、例えば水晶やサファイア等の結晶性部材が用いられる。その他、基板４３として、青色レーザ光Ｂ１を透過可能な任意の透明材料が用いられてよい。なお本開示では、青色レーザ光Ｂ１を透過可能な材料であれば、半透明な材料も透明材料に含まれるものとする。
【００５２】
基板４３の中心には、蛍光体ホイール４２を駆動するモータ４５が接続される。モータ４５が動作することで、蛍光体ホイール４２は、回転軸４６を中心に回転する。回転軸４６は、蛍光体層４１の所定のスポットＳが、図２に示す光軸Ｌ上に位置するように配置される。
【００５３】
蛍光体層４１は、青色レーザ光Ｂ１によって励起されて蛍光を発する蛍光物質を含んでいる。そして蛍光体層４１は、複数のレーザ光源３２が出射する青色レーザ光Ｂ１の一部を、赤色波長域から緑色波長域までを含む波長域の光（すなわち黄色光）に変換して出射する。本開示では、励起により生成された可視光を蛍光光ＧＲと記載する。
【００５４】
蛍光体層４１に含まれる蛍光物質としては、例えばＹＡＧ（イットリウム・アルミニウム・ガーネット）系蛍光体が用いられる。なお、蛍光物質の種類、励起光の波長域、及び励起により発生される可視光の波長域は限定されない。
【００５５】
また蛍光体層４１は、励起光である青色レーザ光Ｂ１の一部を透過させて出射することも可能である。従って蛍光体層４１から出射される光は、蛍光体層４１を透過した青色の透過光Ｂと、蛍光体層４１からの可視光である黄色の蛍光光ＧＲとを含む白色光Ｗとなる。
【００５６】
モータ４５により基板４３が回転されている状態で、レーザ光源３２から青色レーザ光Ｂ１が出射される。青色レーザ光Ｂ１は、基板４３の回転に合わせて、相対的に円を描くように蛍光体層４１に照射される。すなわち蛍光体層４１における励起光が集光されるスポットＳの位置が相対的に移動する。この結果、蛍光体の飽和や燃焼等を抑制することが可能となる。
【００５７】
本実施形態では、蛍光体層４１が発光体に相当し、励起光の照射により発熱する熱源となる。また基板４３は、基体部に相当する。なお光源部１１０の構成は限定されず適宜設計されてよい。
【００５８】
［蛍光体ユニット］
図６は、本実施形態に係る蛍光体ユニット４０の具体的な構成例を示す斜視図である。蛍光体ユニット４０は、ホイール部５１と、レンズ部５２と、ホイール部５１及びレンズ部５２を１つのユニットとして支持すホルダー部５３とを有する。
【００５９】
ホイール部５１は、蛍光体ホイール４２と、モータ４５とを有する。蛍光体ホイール４２は基板４３を有し、基板４３は第１の面４３ａ及びこれと反対側の第２の面４３ｂを有する。本実施形態では、第１の面４３ａが前方側５の面となり、第２の面４３ｂが後方側６の面となる。
【００６０】
基板４３の第１の面４３ａにより、蛍光体層４１が支持される。基板４３の第２の面４３ｂには、遮光部７０が設けられる。蛍光体ホイール４２は、本実施形態において、光学ユニットに相当する。
【００６１】
モータ４５は、アウターロータ型のモータであり、ステータ（固定子）４７と、ステータ４７を覆うように設けられるロータ（回転子）４８とを有する。モータ４５に電力が供給されると、ステータ４７に対してロータ４８が回転する。なおモータ４５の具体的な構成は限定されず、インナーロータ型のモータが用いられてもよい。
【００６２】
レンズ部５２は、ホイール部５１より出射された白色光を集光する１以上のレンズと、集光された白色光を出射する出射面５４（図２等参照）とを有する。例えば１以上のレンズは、出射面５４を構成する出射レンズ５５を有する。なおレンズの数や、大きさ、レンズの種類等は限定されない。
【００６３】
ホルダー部５３は、レンズを保持するレンズ保持部５６と、ホイール部５１を保持するホイール保持部５７とを有する。レンズ保持部５６は、後方側６に延在する略円筒形状でなり、内部にレンズを収容する。
【００６４】
ホイール保持部５７は、レンズ保持部５６の後方側６に連結される。ホイール保持部５７はｚ軸方向に沿って下方に延在し、その先端には、ビス５８を介して板金５９が取り付けられる。当該板金５９に、ビス６０を介してモータ４５のステータ４７が取り付けられる。モータ４５がホイール保持部５７に取り付けられる際には、蛍光体ホイール４２は、レンズ保持部５６の後方側の面と、ホイール保持部５７との間に形成された間隔６１内に挿入される。
【００６５】
図６に示すように、ホイール保持部５７には、開口６２が形成される。レーザ光源３２から出射された青色レーザ光Ｂ１は、開口６２を介して、蛍光体層４１の所定のスポットＳに集光される。図６では見えないが、レンズ保持部５６の後方側の面にも開口が形成されており、この開口を介して、蛍光体ホイール４２からレンズ部５２へ白色光が出射される。
【００６６】
本実施形態では、蛍光体ユニット４０が１つのユニットとして構成され、ベース部１に固定される。これにより蛍光体ユニット４０内にて、集光のためのレンズと、発光体を有するホイールとの位置合わせを、簡単に高い精度で実現することが可能となる。また本実施形態では、ホイール保持部５７により上方から蛍光体ホイール４２の中心が保持される。これにより光源装置１００内において、蛍光体ホイール４２の露出部分を多くとることが可能となる。この結果、蛍光体層４１から熱を、冷却風等により効果的に冷却することが可能となる。
【００６７】
［蛍光体ホイール］
図７は、蛍光体ホイール４２を前方側及び後方側からそれぞれ見た図である。図７Ａが正面図となり、図７Ｂが背面図となる。図８は、蛍光体ホイール４２の一部を拡大して示す拡大図である。図８Ａは、蛍光体ホイール４２の中心を通る線（直径に沿った線）における断面図であり、蛍光体層４１が形成された部分の図である。図８Ｂは、図７Ｂの背面図を拡大した図であり、青色レーザ光Ｂ１が集められるスポットＳの近傍の図である。
【００６８】
図７Ａ及びＢに示すように、基板４３の中央には挿入孔４９が形成されている。この挿入孔４９には、モータ４５のロータ４８の先端に設けられた図示しない凸部が挿入される。これにより蛍光体ホイール４２とモータ４５とが互いに接続される。
【００６９】
図７Ａに示すように、基板４３の第１の面４３ａの周縁部（周縁付近の内側の領域）に、蛍光体層４１がリング状に形成される。図８Ａの断面図に示すように、蛍光体層４１は、励起光である青色レーザ光Ｂ１が入射する入射面４１ａと、透過光Ｂ及び蛍光光ＧＲを出射する出射面４１ｂとを有する。基板４３の第１の面４３ａは、蛍光体層４１の入射面４１ａを支持する。従って本実施形態では、透明材料からなる基板４３を介して、蛍光体層４１の入射面４１ａに青色レーザ光Ｂ１が入射する。
【００７０】
図７Ｂ及び図８に示すように、基板４３の第２の面４３ｂには、遮光部７０が設けられる。遮光部７０は、入射面４１ａの一部の領域を覆うように配置され、青色レーザ光Ｂ１の当該一部の領域への入射を遮蔽する。
【００７１】
図７Ｂ及び図８Ｂでは、第１の面４３ａに形成された蛍光体層４１が破線で図示されている。当該破線で囲まれた領域が入射面４１ａに相当し、入射面４１ａの所定の位置にスポットＳが設定される。本実施形態では、ｚ軸方向に延在する直径と入射面４１ａとが交差する上下の部分のうち、上方の部分の略中央（幅方向における略中央の位置）にスポットＳが設定される。
【００７２】
上記したように蛍光体ホイール４２は回転するので、入射面４１ａ上のスポットＳの位置は相対的に移動する。すなわち図７Ｂに示すように、スポットＳに集光された青色レーザ光Ｂ１の軌跡Ｆは、入射面４１ａの幅方向の略中央にて円を描く。
【００７３】
本実施形態では、青色レーザ光Ｂ１が集められるスポットＳ及びこの軌跡Ｆを含む所定の大きさの領域が照射領域６５として設定される。図８Ａに示すように本実施形態では、入射面４１ａ上の幅方向における略中央に設定されたスポットＳを中心に、入射面４１ａの外周６６ａ側及び内周６６ｂ側にそれぞれ広がる領域が、照射領域６５として設定される。
【００７４】
照射領域６５の大きさｔ１は、スポットＳの大きさ（軌跡Ｆの大きさ）ｔ２よりも大きく、入射面４１ａの幅方向における大きさｔ３よりも小さい。遮光部７０は、入射面４１ａの照射領域６５を除く非照射領域６７ａ及び６７ｂを覆うように、基板４３の第２の面４３ｂに形成される。
【００７５】
例えば蛍光体層４１の大きさｔ３は約５ｍｍとなり、スポットＳの大きさ（スポット径ともいう）ｔ２は約１．５ｍｍとなる。そして照射領域６５の大きさｔ１は、約４ｍｍに設定される。これらの具体的な大きさは限定されず、適宜設計されてよい。
【００７６】
図７Ｂ及び図８Ｂに示すように、遮光部７０は、第１の遮蔽部として機能する外側部７０ａ及び内側部７０ｂを有する。外側部７０ａは、幅の小さいリング状に、基板４３の周縁に沿って形成される。外側部７０ａは、蛍光体層４１の入射面４１ａの外周６６ａを含む非照射領域６７ａを覆うように形成される。
【００７７】
内側部７０ｂは、基板４３の挿入孔４９から入射面４１ａの照射領域６５までの部分にわたって形成される。内側部７０ｂは、蛍光体層４１の入射面４１ａの内周６６ｂを含む非照射領域６７ｂを覆うように形成される。外側部７０ａ及び内側部７０ｂは、各非照射領域６７ａ及び６７ｂへの青色レーザ光Ｂ１の入射を遮蔽することが可能であるのならば、その形状は限定されない。特に内側部６７ｂが、幅の小さいリング状に形成されてもよい。
【００７８】
遮光部７０としては、励起光である青色レーザ光Ｂ１を遮蔽可能な材料が用いられる。そのような材料としては、典型的には、銅やアルミニウム等の金属材料が挙げられるが、これに限定されるわけではない。
【００７９】
基板４３に遮光部７０を形成する方法は限定されず、例えば金属材料からなる板部材が接着剤等を介して基板４３の第２の面４３ｂに取り付けられる。あるいは蒸着等により、金属薄膜等が基板４３の第２の面４３ｂに形成されてもよい。その他、遮光部７０を形成する方法として、任意の方法が用いられてよい。いずれにせよ複雑な工程を経ることなく、簡単に遮光部７０を実現することができる。
【００８０】
また遮光部７０として、青色レーザ光Ｂ１を遮蔽し、かつ青色レーザ光Ｂ１を反射可能な材料が用いられてもよい。青色レーザ光Ｂ１を反射可能とすることで、遮光部７０の温度上昇を抑制することができる。この結果、蛍光体ホイール４２の温度上昇を抑制し、信頼性の低下を防止することが可能となる。
【００８１】
また遮光部７０として、熱伝導性を有する材料が用いられてもよい。これにより蛍光体層４１から生じる熱を、遮光部７０を介して空気中に放熱したり、所定の冷却デバイス等に導くことができる。この結果、蛍光体ホイール４２の温度上昇を抑制することができ、信頼性を高く維持することができる。
【００８２】
以上、本実施形態に係る光源装置１００では、蛍光体層４１が有する入射面４１ａの一部の領域を覆うように遮光部７０が配置される。これにより入射面４１ａに入射する青色レーザ光Ｂ１を制限することが可能となり、蛍光体層４１ａからの発熱を抑制することが可能となる。
【００８３】
今後プロジェクタの高輝度化及び小型化がより一層求められ、青色レーザ光源からの集光光束を励起光とした光源ブロックの高密度化が進むと考えられる。そうすると可視光を発光する蛍光体層への熱負荷がより一層厳しくなり、光学的観点での温度低減技術が必要となってくる。例えば蛍光体ホイールにフィンやファン等を設けることが考えられるが、この場合構造が複雑になり、また装置の小型化を実現することが非常に難しい。
【００８４】
上記したように本実施形態に係る蛍光体ホイール４２では、蛍光体層４１を支持する基板４３に遮光部７０が形成される。そして遮光部７０により、例えば集光光学系３４によりスポットＳに集光されない不要光を十分に遮蔽することが可能となる。これにより蛍光体層４１への熱負荷を低減させるとともに、光源装置１００の小型化を実現することができる。
【００８５】
本実施形態で説明した遮光部７０は、蛍光体層４１への不要光の入射を遮蔽する遮光機構ともいえるし、適正な位置に開口が形成されたアパーチャ機構ともいえる。
【００８６】
＜第２の実施形態＞
本技術の第２の実施形態に係る蛍光体ホイールについて説明する。これ以降の説明では、上記の実施形態で説明した蛍光体ホイール４２における構成及び作用と同様な部分については、その説明を省略又は簡略化する。
【００８７】
図９は、本実施形態に係る蛍光体ホイールの背面図をそれぞれ示す図である。図９Ａ及びＢに示す蛍光体ホイール８０は、それぞれ遮光部８１を有する。遮光部８１は、第１の実施形態で説明した第１の遮蔽部として機能する外側部８１ａ及び内側部８１ｂを有する。
【００８８】
また遮光部８１は、蛍光体層４１の入射面４１ａに設定された照射領域６５の一部を覆うように配置され、その一部の領域への青色レーザ光Ｂ１の入射を遮蔽する、遮蔽グリッド（第２の遮蔽部）８５をそれぞれ有する。図９Ａ及びＢに示すように、遮蔽グリッド８５は、外側部８１ａ及び内側部８１ｂの間に、これらと連結するように形成される。
【００８９】
図９Ａに示す遮蔽グリッド８５ａは、リング形状を有する照射領域６５に対して等間隔に配置される。本実施形態では、約９０度ごとに４つの遮蔽グリッド８５ａが配置される。図９Ａでは、ｚ軸方向及びｘ軸方向にそれぞれ対向する４つの位置に遮蔽グリッド８５ａが図示されている。これら遮蔽グリッド８５ａの位置は、蛍光体ホイール８０の回転に応じて移動する。
【００９０】
また遮蔽グリッド８５ａは、照射領域６５の半径方向を延在方向として形成される。照射領域６５の半径方向は、基板４３の半径方向に相当し、回転半径と同じ方向となる。遮蔽グリッド８５ａの延在方向に直交する方向の大きさを、遮蔽グリッド８５ａの幅とする。そうすると遮蔽グリッド８５ａの幅は、具体的な数値は限定されないが小さく設定される。
【００９１】
遮蔽グリッド８５ａが形成されると照射領域６５への励起光の入射が規制されるので、光源装置から出射される白色光Ｗの輝度や、投射される画像（映像）の品質に影響を与え得る。あまり遮蔽グリッド８５ａの幅が大きいと、白色光の輝度の不足や、投射される画像にちらつき等が発生してしまう可能性がある。このような影響が発生しない又は許容される範囲にて、遮蔽グリッド８５ａの幅は適宜設計されればよい。
【００９２】
例えば蛍光体ホイール８０の回転速度や励起光の輝度等も、遮蔽グリッド８５ａの幅を設計する際には、重要な要素となり得る。なお遮蔽グリッド８５ａの幅を適正に設計することで、問題のない画像表示は実現可能である。
【００９３】
図９Ｂに示す遮蔽グリッド８５ｂも、リング形状を有する照射領域６５に対して等間隔に配置される。本実施形態では、約４５度ごとに８つの遮蔽グリッド８５ｂが配置される。遮蔽グリッド８５ｂは、照射領域６５の半径方向とは異なる方向を延在方向として形成される。すなわち遮蔽グリッド８５ｂは、半径方向に対して所定の角度を有する斜め方向に延在するように形成される。延在方向を半径方向に対してどの角度に設定するかは限定されない。
【００９４】
このように照射領域６５の半径方向に対して一定の角度を持たせた渦巻状構造とすることにより、輝度や画質への影響を抑えつつ、蛍光体層４１への青色レーザ光の入射を十分に制限することができる。また遮蔽グリッド８５ｂの幅（延在方向に直交する方向における大きさ）は、上記で説明したように適宜設計されればよい。
【００９５】
遮蔽グリッド８５を基板４３に形成する方法は限定されず、例えば金属材料からなる薄板を接着する方法や、蒸着等により金属薄膜を形成する方法が用いられる。典型的には、遮蔽グリッド８５は、外側部８１ａ及び内側部８１ｂとともに形成される。遮蔽グリッド８５の材料も、外側部８１ａ及び内側部８１ｂと同様なものが用いられればよい。
【００９６】
このように本実施形態に係る蛍光体ホイール８０では、照射領域６５の一部を覆うように遮蔽グリッド８５が配置される。これにより照射領域６５への励起光の入射を制限することが可能となり、蛍光体層４１からの発熱を抑制することができる。また照射領域６５に対して等間隔に遮蔽グリッド８５を配置することで、周期的に励起光をカットすることが可能となる。これにより輝度や画質への影響を抑えつつ、蛍光体層４１からの発熱を抑制することができる。
【００９７】
なお遮光グリッド８５の数、大きさ、形状は任意に設計されてよい。照射領域６５に対して等間隔に遮蔽グリッドが配置されない構成でも、蛍光体層４１からの発熱を抑制可能である。また互いに異なる形状を有する遮蔽グリッド８５がそれぞれ配置されてもよい。遮蔽グリッド８５は、遮光部８１内において、外側部８１ａ及び内側部８１ｂを連結するスポーク機構ともいえる。
【００９８】
＜第３の実施形態＞
本技術の第３の実施形態に係る蛍光体ホイールについて説明する。上記の第１及び第２の実施形態では、入射面４１ａに入射する励起光により励起して、入射面４１ａの反対側の出射面４１ｂから蛍光光を出射する透過型の蛍光体ホイールを例として説明をした。一方で、本技術は、反射型の蛍光体ホイールに対しても適用可能である。
【００９９】
図１０は、本実施形態に係る蛍光体ホイールを拡大して示す断面図である。図１０Ａ−Ｃの蛍光体ホイール９０は、反射型の蛍光体ホイールであり、基板９１と、蛍光体層９２と、遮光部９３を有する。基板９１は、蛍光体層９２を支持する支持面９１ａを有する。
【０１００】
蛍光体層９２は、励起光である青色レーザ光Ｂ１が入射する入射面９２ａと、入射面９２ａの反対側の面である当接面９２ｂとを有する。蛍光体層９２の当接面９２ｂが、基板９１の支持面９１ａに支持される。
【０１０１】
光源装置の動作時には、入射面９２ａに青色レーザ光Ｂ１が入射し、励起により蛍光光ＧＲが生成される。基板９１の支持面９１ａは、当接面９２ｂから発せられる蛍光光ＧＲを入射面９２ａに向けて反射する。従って反射型の蛍光体ホイール９０では、青色レーザ光Ｂ１が入射される入射面９２ａが、蛍光光ＧＲを出射する出射面としても機能する。
【０１０２】
白色光の生成としては、例えば青色レーザ光Ｂ１の一部が支持面９１ａより入射面９２ａへ反射される。そして入射面９２ａから蛍光光ＧＲと青色レーザ光Ｂ１とが出射されることで、この合成光である白色光が生成される。あるいは蛍光体ホイール９０から出射される蛍光光ＧＲが、図示しない他の光路により青色光と合成されて白色光が生成されてもよい。
【０１０３】
遮光部９３は、青色レーザ光Ｂ１の入射面９２ａへの入射を制限する。図１０Ａに示す遮光部９３ａは、光を遮蔽可能な板部材９４からなり、入射面９２ａ側に配置される。板部材９４の材料や形状等については、第１の実施形態で説明した構成が用いられてよい。
【０１０４】
すなわち例えば図７Ｂに示す外側部７０ａ及び内側部７０ｂと略同様な形状を有する、第１の板部材９４ａ及び第２の板部材９４ｂが、入射面９２ａ側に配置される。第１及び第２の板部材９４ａ及び９４ｂは、接続部材９５により基板９１にそれぞれ接続される。従って基板９１が回転すると、第１及び第２の板部材９４ａ及び９４ｂもともに回転する。なお第１及び第２の板部材９４ａ及び９４ｂを基板９１に接続する方法は限定されず、接続部材９５が取り付けられる位置等も任意に設計されてよい。
【０１０５】
上記の実施形態と同様に、照射領域６５の大きさｔ１は、スポットＳ（軌跡Ｆ）の大きさｔ２よりも大きく、入射面９２ａの幅ｔ３よりも小さい。本実施形態では、入射面９２ａが出射面としても機能するので、励起により生成される蛍光光ＧＲが適正に出射されるように、照射領域の大きさｔ１が適宜設定される。
【０１０６】
例えば入射面９２ａの蛍光光ＧＲを出射する有効範囲の大きさや、蛍光光ＧＲの出射角度等をもとに、照射領域６５の大きさｔ１が設定される。あるいは入射面７２ａから出射された蛍光光ＧＲを受ける光学系の光学条件（レンズの有効径等）をもとに、照射領域６５の大きさｔ１が設定される。照射領域の大きさｔ１の設定は、図１０Ｂ及びＣに示す遮光部９３ｂ及び９３ｃに対しても適用される。
【０１０７】
また第２の実施形態で説明した遮光グリッド８５（図９参照）と同様の構成を有する板部材（以下グリッド部材と記載する）が、入射面９２ａ側に配置されてもよい。この場合、グリッド部材は、第１及び第２の板部材９４ａ及び９４ｂを連結するように形成されてもよい。グリッド部材の数、形状、大きさ等は任意に設計されてよい。図１０Ａに示すように、板部材を用いることで、簡単に遮光部９３を実現させることができる。
【０１０８】
図１０Ｂ及びＣに示す遮光部９３ｂ及び９３ｃは、透明材料からなる基材９６と、基材９６に形成された遮光層（第１の遮光部）９７とを有する。基材９６の材料は限定されず、例えば基板９１と同様に水晶やサファイア等の結晶性部材が用いられてもよい。もちろんその他の透明材料が用いられてもよい。
【０１０９】
遮光層９７は、励起光である青色レーザ光Ｂ１を遮蔽可能な材料である。例えば図７Ｂ等に示す、基板４３に外側部７０ａ及び内側部７０ｂが形成される構成と同様に、基材９６に外側遮光層９７ａ及び内側遮光層９７ｂが形成される。その形成方法としては、金属材料からなる板部材が接着材等を介して基材９６に接着されてもよいし、蒸着等により金属薄膜が基材９６に形成されてもよい。
【０１１０】
その他、上記で説明した外側図７０ａ及び内側部７０ｂに関する特徴部分は、そのまま図１０Ｂ及びＣに示す外側遮光層９７ａ及び内側遮光層９７ｂに適用可能である。このように透明な基材９６に遮光層９７を形成することでも、簡単に遮光部９３を実現することができる。また第２の実施形態で説明した遮光グリッド８５（図９参照）が、遮光層９７とともに基材９６に形成されてもよい。
【０１１１】
図１０Ｂでは、遮光層９７が入射面９２ａと対向するように、基材９６が配置される。図１０Ｃでは、遮光層９７が形成された面の反対側の面９８が入射面９２ａと対向するように、基材９６が配置される。このように基材９６の向きは任意に設定されてよい。また基材９６の両側の面に遮光層９７がそれぞれ形成されてもよい。なお基材９６は、図示しない接続部材等により基板９１に接続される。
【０１１２】
以上図１０Ａ−Ｃに示す遮光部９３においても、入射面９２ａに入射する青色レーザ光Ｂ１を制限することが可能となり、蛍光体層９２からの発熱を抑制することが可能となる。
【０１１３】
＜その他の実施形態＞
本技術は、以上説明した実施形態に限定されず、他の種々の実施形態を実現することができる。
【０１１４】
上記では、蛍光体ホイールを回転した状態で、蛍光体層に励起光が照射された。しかしながらこれに限定されず、保持部等に固定された蛍光体層に励起光が照射される場合にも、本技術は適用可能である。すなわち蛍光体層の入射面の一部を覆うように遮光部を配置することで、蛍光体層からの発熱を抑制することができる。
【０１１５】
上記では、蛍光体層を支持する基板に遮光部が接続された。これに限定されず光源装置内において、基板とは別に遮光部が適宜配置されてもよい。この場合、遮光部は回転せず所定の位置に固定されていてもよい。このような構成の場合、遮光部は、蛍光体ホイールを構成する新規な要素ではなく、光源装置内に配置される新規な構成となる。
【０１１６】
図１に示す画像表示装置５００では、画像生成素子として、透過型液晶パネルが用いられた。これに代えて、反射型液晶パネルや、デジタルマイクロミラーデバイス（ＤＭＤ）等が用いられてもよい。その他、画像表示装置の構成は適宜設定されてよい。
【０１１７】
本技術は、プロジェクタ以外の、例えばディスプレイ装置等の他の画像表示装置にも適用可能である。また画像表示装置ではない装置に本技術に係る光源装置が用いられてもよい。
【０１１８】
以上説明した本技術に係る特徴部分のうち、少なくとも２つの特徴部分を組み合わせることも可能である。すなわち各実施形態で説明した種々の特徴部分は、各実施形態の区別なく、任意に組み合わされてもよい。また上記で記載した種々の効果は、あくまで例示であって限定されるものではなく、また他の効果が発揮されてもよい。
【０１１９】
なお、本技術は以下のような構成も採ることができる。
（１）励起光を出射する１以上の光源と、
前記１以上の光源からの励起光が入射する入射面を有し、前記入射する励起光により励起されて可視光を発する発光体と、
前記入射面の一部の領域を覆うように配置され、前記励起光の前記一部の領域への入射を遮蔽する遮光部と
を具備する光源装置。
（２）（１）に記載の光源装置であって、
前記１以上の光源は、複数の光源を有し、
前記光源装置は、さらに、前記複数の光源の各々からの励起光を前記入射面の所定のスポットに集光する光学系を具備し、
前記遮光部は、前記入射面の前記スポットを含む所定の大きさの領域を照射領域として、前記入射面の前記照射領域を除く領域を覆うように配置される第１の遮蔽部を有する
光源装置。
（３）（１）又は（２）に記載の光源装置であって、さらに、
前記発光体を支持する基体部と、前記基体部を回転させるモータとを具備し、
前記遮光部は、前記基体部に接続され前記基体部と一体的に回転する
光源装置。
（４）（３）に記載の光源装置であって、
前記照射領域は、前記スポットに集光された前記励起光が前記基体部の回転により描く軌跡を含む
光源装置。
（５）（２）から（４）のうちいずれか１つに記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記照射領域の一部を覆うように配置される第２の遮蔽部を有する
光源装置。
（６）（３）から（５）のうちいずれか１つに記載の光源装置であって、
前記基体部は、透明材料からなり、前記発光体の前記入射面を支持する第１の面と、前記第１の面の反対側の第２の面とを有し、
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に接続される
光源装置。
（７）（６）に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に接着され光を遮蔽可能な板部材を有する
光源装置。
（８）（６）に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記基体部の前記第２の面に蒸着され光を遮蔽可能な膜を有する
光源装置。
（９）（３）から（５）のうちいずれか１つに記載の光源装置であって、
前記発光体は、前記入射面の反対側の面である当接面を有し、
前記基体部は、前記発光体の前記当接面を支持し、前記当接面から発せられる前記可視光を前記入射面に向けて反射する
光源装置。
（１０）（９）に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記入射面側に配置された光を遮蔽可能な板部材からなる
光源装置。
（１１）（９）に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、透明材料からなる基材と、前記基材に接着され光を遮蔽可能な板部材とを有し、前記入射面側に配置される
光源装置。
（１２）（９）に記載の光源装置であって、
前記遮光部は、透明材料からなる基材と、前記基材に蒸着され光を遮蔽可能な膜とを有し、前記入射面側に配置される
光源装置。
（１３）（５）から（１２）のうちいずれか１つに記載の光源装置であって、
前記照射領域は、リング形状を有し、
前記第２の遮蔽部は、前記照射領域に対して等間隔に配置される
光源装置。
（１４）（５）から（１３）のうちいずれか１つに記載の光源装置であって、
前記照射領域は、リング形状を有し、
前記第２の遮蔽部は、前記照射領域の半径方向とは異なる方向を延在方向として前記照射領域に対して配置される
光源装置。
（１５）（１）から（１４）のうちいずれか１つに記載の光源装置であって、
前記遮光部は、前記励起光を反射する
光源装置。
【符号の説明】
【０１２０】
Ｂ１…青色レーザ光
ＧＲ…蛍光光
Ｓ…スポット
Ｗ…白色光
３２…レーザ光源
３４…集光光学系
４１、９２…蛍光体層
４１ａ、９２ａ…入射面
４２、８０、９０…蛍光体ホイール
４３、９１…基板
４３ａ…第１の面
４３ｂ…第２の面
４５…モータ
５４…出射面
６５…照射領域
６７ａ、６７ｂ…非照射領域
７０、８１、９３…遮光部
８５…遮蔽グリッド
９２ｂ…当接面
９４…板部材
９６…基材
９７…遮光層
１００…光源装置
２００…画像生成システム
２１０…画像生成素子
４００…投射システム
５００…画像表示装置
【図１】
2016109811.tif 000003
【図２】
2016109811.tif 000004
【図３】
2016109811.tif 000005
【図４】
2016109811.tif 000006
【図５】
2016109811.tif 000007
【図６】
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【図９】
2016109811.tif 000009
【図１０】
2016109811.tif 000010
【図７】
2016109811.tif 000011
【図８】
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