(57)【要約】【課題】複数の微細空間を形成する液晶表示装置において開口率が向上した液晶表示装置を提供する。【解決手段】本発明による液晶表示装置は、複数の画素を含む基板と、前記基板の上に前記画素各々に対応して配置される薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上に配置される画素電極と、前記画素電極と対向して配置されるルーフ層と、前記画素電極と前記ルーフ層との間の複数の微細空間に液晶物質を含んで配置される液晶層と、を有し、前記複数の微細空間はそれぞれ少なくとも２つの画素を横断するよう延長され、１つの微細空間に対応する互いに隣接する画素間に位置する第１遮光部材の幅は、互いに隣接する微細空間の間に位置する第２遮光部材の幅とは異なる。【選択図】      図４
2016128908.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の画素を含む基板と、
前記基板の上に前記画素各々に対応して配置される薄膜トランジスタと、
前記薄膜トランジスタの上に配置される画素電極と、
前記画素電極と対向して配置されるルーフ層と、
前記画素電極と前記ルーフ層との間の複数の微細空間（Ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）に液晶物質を含んで配置される液晶層と、を有し、
前記複数の微細空間はそれぞれ少なくとも２つの画素を横断するよう延長され、
１つの微細空間に対応する互いに隣接する画素間に位置する第１遮光部材の幅は、互いに隣接する微細空間の間に位置する第２遮光部材の幅とは異なることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記複数の画素は、前記薄膜トランジスタに接続されたゲート線の方向に沿って互いに隣接する第１画素、第２画素、及び第３画素を含み、前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素を含む単位画素は、上下左右に反復配列され、
前記単位画素は、１つの微細空間に対応することを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
互いに隣接する前記微細空間の間に配置される隔壁部をさらに有することを特徴とする請求項２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素は、それぞれ赤色画素、緑色画素、及び青色画素であることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
前記複数の画素は、行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、
前記行列は、互いに隣接する第１行と第２行を含み、
前記第１行に位置する１つの微細空間の前記赤色画素、前記緑色画素、及び前記青色画素の配列順序と、前記第２行に位置する１つの微細空間の前記赤色画素、前記緑色画素、及び前記青色画素の配列順序とは互いに異なることを特徴とする請求項４に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記基板の上に配置されるカラーフィルタをさらに有し、
前記カラーフィルタは、前記赤色画素、前記緑色画素、及び前記青色画素それぞれに対応する赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタを含み、
１つの微細空間内の画素に対応するカラーフィルタの隣接するカラーフィルタ間に第１遮光部材が配置され、
隣接する前記微細空間の画素に対応するカラーフィルタ間に第２遮光部材が配置されることを特徴とする請求項５に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
前記隔壁部は、前記第２遮光部材と重なることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
前記複数の画素は、行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、
前記行列は、互いに隣接する第１行と第２行を含み、
前記第１行に位置する第１微細空間と前記第２行に位置する第２微細空間とは互いにずれるように配置されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項９】
前記行列の同一列には前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素の内の同一画素が配列されることを特徴とする請求項８に記載の液晶表示装置。
【請求項１０】
前記薄膜トランジスタに接続されたデータ線をさらに有し、
前記データ線は、１つの微細空間内の画素間に位置する第１データ線と、隣接する微細空間間に位置する第２データ線とを含み、
前記第１データ線は前記第１遮光部材と重なり、前記第２データ線は前記第２遮光部材と重なることを特徴とする請求項９に記載の液晶表示装置。
【請求項１１】
前記第２微細空間の配置は、前記第１微細空間の配置と、１画素幅ずれることを特徴とする請求項１０に記載の液晶表示装置。
【請求項１２】
前記第１行に位置する第２遮光部材と前記第２行に位置する第２遮光部材とは互いにずれるように配置されることを特徴とする請求項１１に記載の液晶表示装置。
【請求項１３】
前記第１微細空間の配置は、３行ごとに反復されることを特徴とする請求項１２に記載の液晶表示装置。
【請求項１４】
前記複数の画素は、行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、
前記行列は、互いに隣接する第１行と第２行を含み、
前記第１行に位置する第１微細空間と前記第２行に位置する第２微細空間とは互いに平行に配置されることを特徴とする請求項３に記載の液晶表示装置。
【請求項１５】
前記行列の同一列には、前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素のうち互いに異なる画素を含んで配列されることを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１６】
前記薄膜トランジスタに接続されたデータ線をさらに有し、
前記データ線は、１つの微細空間内に位置して隣接する画素間に位置する第１データ線と、隣接する微細空間間に位置する第２データ線とを含み、
前記第１データ線は前記第１遮光部材と重なり、前記第２データ線は前記第２遮光部材と重なることを特徴とする請求項１５に記載の液晶表示装置。
【請求項１７】
前記第１行に位置する第２遮光部材と前記第２行に位置する第２遮光部材とは互いに平行に配置されることを特徴とする請求項１６に記載の液晶表示装置。
【請求項１８】
前記ルーフ層の下に配置され、前記微細空間を介して前記画素電極と対向する共通電極をさらに有することを特徴とする請求項１４に記載の液晶表示装置。
【請求項１９】
前記共通電極と前記ルーフ層との間に配置される下部絶縁層をさらに有することを特徴とする請求項１８に記載の液晶表示装置。
【請求項２０】
前記ルーフ層は、前記第１微細空間と前記第２微細空間との間に配置される前記隔壁部を含むことを特徴とする請求項１９に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は液晶表示装置に関し、特に、開口率が改善された液晶表示装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
液晶表示装置は、現在、最も幅広く使用されている平板表示装置の一つであって、画素電極、共通電極などの電界生成電極が形成されている二枚の表示板と、その間に挿入される液晶層とを含む。
電界生成電極に電圧を印加して液晶層に電界を生成し、これを通じて液晶層の液晶分子の配向を決定し、入射光の偏光を制御することによって画像を表示する。
【０００３】
液晶表示装置の一つであって、ピクセルに複数の微細空間（ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）を形成し、ここに液晶分子を満たしてディスプレイを実現する技術が開発されている。
従来の液晶表示装置では二枚の基板が使用されたが、この技術は、１つの基板の上に構成要素を形成することによって、装置の重量、厚さなどを減少させることができる。
【０００４】
複数の微細空間を形成するディスプレイ装置において、複数の微細空間を区分化するために隔壁が存在する。
このような隔壁部分で配向不良が発生し得るという問題がある。
このような問題を考慮して隔壁に対応する遮光部材の幅を広げることが可能である。
しかしながら、遮光部材の幅が広くなると、開口率が減少するという問題が起こる。
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、本発明は上記従来の微細空間を形成する表示装置における問題点に鑑みてなされたものであって、本発明の目的は、複数の微細空間を形成する液晶表示装置において開口率が向上した液晶表示装置を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記目的を達成するためになされた本発明による液晶表示装置は、複数の画素を含む基板と、前記基板の上に前記画素各々に対応して配置される薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上に配置される画素電極と、前記画素電極と対向して配置されるルーフ層と、前記画素電極と前記ルーフ層との間の複数の微細空間（Ｍｉｃｒｏｃａｖｉｔｙ）に液晶物質を含んで配置される液晶層と、を有し、前記複数の微細空間はそれぞれ少なくとも２つの画素を横断するよう延長され、１つの微細空間に対応する互いに隣接する画素間に位置する第１遮光部材の幅は、互いに隣接する微細空間の間に位置する第２遮光部材の幅とは異なることを特徴とする。
【０００７】
前記複数の画素は、前記薄膜トランジスタに接続されたゲート線の方向に沿って互いに隣接する第１画素、第２画素、及び第３画素を含み、前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素を含む単位画素は上下左右に反復配列され、前記単位画素は１つの微細空間に対応することが好ましい。
互いに隣接する前記微細空間の間に配置される隔壁部をさらに有することが好ましい。
前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素は、それぞれ赤色画素、緑色画素、及び青色画素であることが好ましい。
前記複数の画素は、行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、前記行列は、互いに隣接する第１行と第２行を含み、前記第１行に位置する１つの微細空間の前記赤色画素、前記緑色画素、及び前記青色画素の配列順序と、前記第２行に位置する１つの微細空間の前記赤色画素、前記緑色画素、及び前記青色画素の配列順序とは互いに異なることが好ましい。
前記基板の上に配置されるカラーフィルタをさらに有し、前記カラーフィルタは、前記赤色画素、前記緑色画素、及び前記青色画素それぞれに対応する赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタを含み、１つの微細空間内の画素に対応するカラーフィルタの隣接するカラーフィルタ間に第１遮光部材が配置され、隣接する前記微細空間の画素に対応するカラーフィルタ間に第２遮光部材が配置されることが好ましい。
前記隔壁部は、前記第２遮光部材と重なることが好ましい。
【０００８】
前記複数の画素は、行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、前記行列は、互いに隣接する第１行と第２行を含み、前記第１行に位置する第１微細空間と前記第２行に位置する第２微細空間とは互いにずれるように配置されることが好ましい。
前記行列の同一列には前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素の内の同一画素が配列されることが好ましい。
前記薄膜トランジスタに接続されたデータ線をさらに有し、前記データ線は、１つの微細空間内の画素間に位置する第１データ線と、隣接する微細空間間に位置する第２データ線とを含み、前記第１データ線は前記第１遮光部材と重なり、前記第２データ線は前記第２遮光部材と重なることが好ましい。
前記第２微細空間の配置は、前記第１微細空間の配置と、１画素幅ずれることが好ましい。
前記第１行に位置する第２遮光部材と前記第２行に位置する第２遮光部材とは互いにずれるように配置されることが好ましい。
前記第１微細空間の配置は、３行ごとに反復されることが好ましい。
【０００９】
前記複数の画素は、行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、前記行列は、互いに隣接する第１行と第２行を含み、前記第１行に位置する第１微細空間と前記第２行に位置する第２微細空間とは互いに平行に配置されることが好ましい。
前記行列の同一列には、前記第１画素、前記第２画素、及び前記第３画素のうち互いに異なる画素を含んで配列されることが好ましい。
前記薄膜トランジスタに接続されたデータ線をさらに有し、前記データ線は、１つの微細空間内に位置して隣接する画素間に位置する第１データ線と、隣接する微細空間間に位置する第２データ線とを含み、前記第１データ線は前記第１遮光部材と重なり、前記第２データ線は前記第２遮光部材と重なることが好ましい。
前記第１行に位置する第２遮光部材と前記第２行に位置する第２遮光部材とは互いに平行に配置されることが好ましい。
前記ルーフ層の下に配置され、前記微細空間を介して前記画素電極と対向する共通電極をさらに有することが好ましい。
前記共通電極と前記ルーフ層との間に配置される下部絶縁層をさらに有することが好ましい。
前記ルーフ層は、前記第１微細空間と前記第２微細空間との間に配置される前記隔壁部を含むことが好ましい。
【発明の効果】
【００１０】
本発明に係る液晶表示装置によれば、複数の画素に対応する微細空間を形成して隔壁個数を減らすことができる。
従って、液晶表示装置の開口率を向上させることができるという効果がある。
また、画素が集まっている微細空間構造を各行ごとに画素単位ほどシフトするように形成するか、又は１つの微細空間構造内で各画素配置を各行ごとにシフトするように形成することによって、色均一度を向上させることができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。
【図２】図１の切断線ＩＩ−ＩＩに沿った断面図である。
【図３】図１の切断線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面図である。
【図４】本発明の一実施形態による微細空間構造を示す概略的な平面図である。
【図５Ａ】図４の切断線Ａ−Ａに沿った断面図である。
【図５Ｂ】図４の切断線Ｂ−Ｂに沿った断面図である。
【図５Ｃ】図４の切断線Ｃ−Ｃに沿った断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態による微細空間構造を示す概略的な平面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
次に、本発明に係る液晶表示装置を実施するための形態の具体例を図面を参照しながら説明する。
【００１３】
しかし、本発明はここで説明する実施形態に限定されず、他の形態に具体化することもできる。むしろ、ここで紹介する実施形態は、開示された内容が完全かつ十分なものとなるようにし、そして当業者に本発明の思想が十分に伝達されるように提供するものである。
図面において、層及び領域の厚さは明確性を期するために誇張して示した。また、層が他の層又は基板の「上」にあると表現される場合、それは他の層又は基板の上に直接形成されるか、又はそれらの間に第３の層が介されることもできる。明細書の全体にわたって同一の参照番号で表示された部分は同一の構成要素を意味する。
【００１４】
図１は、本発明の一実施形態による液晶表示装置を示す平面図である。
図２は、図１の切断線ＩＩ−ＩＩに沿った断面図であり、図３は、図１の切断線ＩＩＩ−ＩＩＩに沿った断面図である。
図１は、複数の微細空間３０５のそれぞれに対応する複数の画素の一部分である“３＊３”画素の一部分を示し、本発明の一実施形態による液晶表示装置は、このような画素が上下左右に反復配列される。
【００１５】
図１〜図３を参照すると、透明なガラス又はプラスチックなどからなる基板１１０の上にゲート線１２１及び維持電極線１３１が形成される。
ゲート線１２１は、ゲート電極１２４を含む。
維持電極線１３１は、主に横方向に延在しており、共通電圧Ｖｃｏｍなどの定められた電圧を伝達する。
維持電極線１３１は、ゲート線１２１と実質的に垂直に延在した一対の縦部１３５ａと、一対の縦部１３５ａの終端を互いに接続する横部１３５ｂとを含む。
維持電極の縦部１３５ａと横部１３５ｂは、画素電極１９１を取り囲む構造を有する。
【００１６】
ゲート線１２１及び維持電極線１３１の上にゲート絶縁膜１４０が形成される。
ゲート絶縁膜１４０の上にはデータ線１７１の下部に位置する半導体層１５１、ソース／ドレイン電極の下部及び薄膜トランジスタＱのチャネル部分に位置する半導体層１５４が形成される。
各半導体層１５１、１５４の上部であり、データ線１７１、ソース／ドレイン電極の間には複数のオーミックコンタクト部材を形成してもよいが、本図面では省略している。
【００１７】
本実施形態で、データ線１７１は第１データ線１７１ａ及び第２データ線１７１ｂを含む。
第１データ線１７１ａは、後述する１つの微細空間３０５内で互いに隣接するカラーフィルタ２３０の間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１と重なり、第２データ線１７１ｂは、互いに隣接する微細空間３０５の間の隔壁部ＰＷＰと対応する第２遮光部材２２０ｂ２と重なる。
【００１８】
各半導体層１５１、１５４及びゲート絶縁膜１４０の上に、ソース電極１７３、ソース電極１７３と接続するデータ線１７１、及びドレイン電極１７５を含むデータ導電体（１７１、１７３、１７５）が形成される。
ゲート電極１２４、ソース電極１７３、及びドレイン電極１７５は、半導体層１５４と共に薄膜トランジスタＱを形成し、薄膜トランジスタＱのチャネル（ｃｈａｎｎｅｌ）は、ソース電極１７３とドレイン電極１７５の間の半導体層１５４部分に形成される。
【００１９】
データ導電体（１７１、１７３、１７５）及び露出した半導体層１５４部分の上には第１層間絶縁膜１８０ａが形成される。
第１層間絶縁膜１８０ａは、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）と酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）などの無機絶縁物又は有機絶縁物を含むことができる。
第１層間絶縁膜１８０ａの上にはカラーフィルタ２３０及び遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）が形成される。
【００２０】
先ず、遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）は、画像を表示する領域に対応する開口部を有する格子構造になっており、光が透過できない物質で形成される。
遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）の開口部にはカラーフィルタ２３０が形成される。
遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）は、ゲート線１２１と平行な方向に沿って形成される横遮光部材２２０ａと、データ線１７１と平行な方向に沿って形成される縦遮光部材２２０ｂとを含む。
【００２１】
カラーフィルタ２３０は、赤色、緑色、及び青色の三原色などの原色（ｐｒｉｍａｒｙ  ｃｏｌｏｒ）のうちの１つを表示する。
しかし、赤色、緑色、及び青色の三原色に限定されず、青緑色（ｃｙａｎ）、紫紅色（ｍａｇｅｎｔａ）、イエロー（ｙｅｌｌｏｗ）、ホワイト系の色のうちの１つを表示することもできる。
カラーフィルタ２３０は、隣接する画素ごとに互いに異なる色を表示する物質で形成され得る。
【００２２】
カラーフィルタ２３０及び遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）の上にはこれを覆う第２層間絶縁膜１８０ｂが形成される。
第２層間絶縁膜１８０ｂは、ケイ素窒化物（ＳｉＮｘ）とケイ素酸化物（ＳｉＯｘ）などの無機絶縁物又は有機絶縁物を含んでもよい。
カラーフィルタ２３０と遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）の厚さの差によって段差が発生した場合には、第２層間絶縁膜１８０ｂを有機絶縁物で形成して段差を減らしたり除去することができる。
【００２３】
カラーフィルタ２３０、遮光部材（２２０ａ、２２０ｂ）、第１層間絶縁膜１８０ａ、及び第２層間絶縁膜１８０ｂには、ドレイン電極１７５を露出するコンタクトホール１８５が形成される。
第２層間絶縁膜１８０ｂの上には画素電極１９１が形成される。
画素電極１９１は、ＩＴＯ又はＩＺＯなどの透明な導電物質で形成される。
【００２４】
画素電極１９１は、全体的な形状が四角形であり、横幹部１９１ａ及びこれと交差する縦幹部１９１ｂからなる十字型幹部を含む。
また、横幹部１９１ａと縦幹部１９１ｂによって四つの副領域に分かれ、各副領域は複数の微細枝部１９１ｃを含む。
また、本実施形態で画素電極１９１の左右の外郭において、微細枝部１９１ｃを接続する外郭幹部１９１ｄをさらに含んでもよい。
本実施形態で外郭幹部１９１ｄは、画素電極１９１の左右の外郭に位置するが、画素電極１９１の上部又は下部まで延長されて位置してもよい。
【００２５】
画素電極１９１の微細枝部１９１ｃは、ゲート線１２１又は横幹部とほぼ４０°〜４５°の角をなす。
また、隣接する２つの副領域の微細枝部は互いに直交してもよい。
また、微細枝部の幅は次第に広くなるか、又は微細枝部１９１ｃ間の間隔が異なってもよい。
画素電極１９１は、縦幹部１９１ｂの下端で接続され、縦幹部１９１ｂより広い面積を有する延長部１９７を含み、延長部１９７でコンタクトホール１８５を通じてドレイン電極１７５と物理的、電気的に接続されており、ドレイン電極１７５からデータ電圧の印加を受ける。
【００２６】
上述した薄膜トランジスタＱ及び画素電極１９１は一つの例示である。
従って、薄膜トランジスタ構造及び画素電極デザインは本実施形態で説明した構造に限定されず、側面視認性を向上させるために薄膜トランジスタ構造及び画素電極デザインを変形して本発明の一実施形態による内容を適用させることができる。
【００２７】
画素電極１９１の上には下部配向膜１１が形成され、下部配向膜１１は垂直配向膜であり得る。
下部配向膜１１は、ポリアミド酸（Ｐｏｌｙａｍｉｃ  ａｃｉｄ）、ポリシロキサン（Ｐｏｌｙｓｉｌｏｘａｎｅ）、又はポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ）などの液晶配向膜であって、一般に使用される物質のうちの少なくとも１つを含んで形成することができる。
【００２８】
下部配向膜１１と対向する部分に上部配向膜２１が形成され、下部配向膜１１と上部配向膜２１の間には微細空間３０５が形成される。
微細空間３０５には液晶分子を含む液晶物質３１０が注入されて液晶層を形成する。
微細空間３０５は、入口部３０７を有する。
微細空間３０５は、画素電極１９１の列方向、つまり、縦方向に沿って複数個形成されてもよい。
本実施形態で下部配向膜１１、上部配向膜２１を形成する配向物質と液晶分子を含む液晶物質３１０は毛細管力（ｃａｐｉｌｌａｒｙ  ｆｏｒｃｅ）を利用して微細空間３０５に注入することができる。
本実施形態で、下部配向膜１１と上部配向膜２１は位置によって区別されるものに過ぎず、図３に示した通り互いに接続されてもよい。
下部配向膜１１と上部配向膜２１は同時に形成されてもよい。
【００２９】
微細空間３０５は、ゲート線１２１と重なる部分に位置する複数のトレンチ３０７ＦＰにより縦方向に分かれることによって複数の微細空間３０５を形成し、複数の微細空間３０５は画素電極１９１の列方向、つまり、縦方向に沿って形成される。
また、後述する隔壁部ＰＷＰにより微細空間３０５が横方向に分かれることによって複数の微細空間３０５を形成し、複数の微細空間３０５は画素電極１９１の行方向、つまり、ゲート線１２１が延在している横方向に沿って形成されてもよい。
【００３０】
本実施形態で、複数個形成された微細空間３０５それぞれは２つ以上の画素に対応しており、画素はゲート線１２１及びデータ線１７１によって定義される領域であり得るが、必ずしもこれに限定されるものではない。
画素は、画面を構成している最小単位の明暗の点に対応することができる。
本実施形態で１つの微細空間３０５は、赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂそれぞれに対応する赤色カラーフィルタ、緑色カラーフィルタ、及び青色カラーフィルタに対応する。
【００３１】
上部配向膜２１の上には共通電極２７０、下部絶縁層３５０が形成される。
共通電極２７０は、共通電圧の印加を受け、データ電圧が印加された画素電極１９１と共に電界を生成して、２つの電極間の微細空間３０５に位置する液晶物質３１０が傾く方向を決定する。
共通電極２７０は、画素電極１９１とキャパシタを形成して、薄膜トランジスタがターンオフ（ｔｕｒｎ−ｏｆｆ）された後にも印加された電圧を維持する。
下部絶縁層３５０は、窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）又は酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で形成される。
本実施形態では、共通電極２７０が微細空間３０５の上部に形成されるものと説明しているが、他の実施形態として共通電極２７０が微細空間３０５下部に形成されて、水平電界モードによる液晶駆動も可能である。
【００３２】
下部絶縁層３５０の上にルーフ層（Ｒｏｏｆ  Ｌａｙｅｒ）３６０が形成される。
ルーフ層３６０は、画素電極１９１と共通電極２７０の間の空間である微細空間３０５が形成されるように支持する役割を果たす。
ルーフ層３６０は、フォトレジスト又はその他の有機物質を含み得る。
ルーフ層３６０の上に上部絶縁層３７０が形成される。
上部絶縁層３７０はルーフ層３６０の上部面と接触してもよい。上部絶縁層３７０は窒化ケイ素（ＳｉＮｘ）又は酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で形成してもよい。
【００３３】
図２に示した通り、上部絶縁層３７０は、ルーフ層３６０の側面部を覆ってもよく、実施形態の変形例として下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０、及び上部絶縁層３７０の側壁が実質的に同一に整列されるように形成してもよい。
【００３４】
上部絶縁層３７０の上にキャッピング層３９０が形成される。
キャッピング層３９０は、有機物質又は無機物質を含む。
本実施形態で、キャッピング層３９０は上部絶縁層３７０上部だけでなく、トレンチ３０７ＦＰにも形成され得る。
このとき、キャッピング層３９０はトレンチ３０７ＦＰによって露出した微細空間３０５の入口部３０７を覆うことができる。
本実施形態ではトレンチ３０７ＦＰで液晶物質が除去されたことと示したが、微細空間３０５に注入された後、残った液晶物質がトレンチ３０７ＦＰに残存することもある。
【００３５】
本実施形態では図３に示したように、横方向に隣接する微細空間３０５の間に隔壁部ＰＷＰが形成される。
隔壁部ＰＷＰは、データ線１７１が延在している方向に沿って形成されて、ルーフ層３６０によって覆われる。
隔壁部ＰＷＰには共通電極２７０、下部絶縁層３５０、ルーフ層３６０、及び上部絶縁層３７０が埋められるが、このような構造物が隔壁（Ｐａｒｔｉｔｉｏｎ  Ｗａｌｌ）を形成することによって微細空間３０５を区画化又は定義することができる。
本実施形態では、微細空間３０５の間に隔壁部ＰＷＰのような隔壁構造があるので、基板１１０が曲がっても発生するストレスが少なく、セルギャップ（Ｃｅｌｌ  Ｇａｐ）が変更する程度を減少させることができる。
【００３６】
本実施形態で、隔壁部ＰＷＰは横方向に３つの画素ごとに形成することができる。
そのために微細空間３０５は３つの画素に対応する。
例えば、複数の画素は、赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂを含む。
本実施形態で、赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂは単位画素を構成し、このような単位画素は、上下左右に反復配列される。
つまり、単位画素は、１つの微細空間に対応する。
このとき、互いに隣接する赤色画素Ｒと青色画素Ｂの間に隔壁部ＰＷＰが形成される。
【００３７】
本実施形態で、縦遮光部材２２０ｂは、第１遮光部材２２０ｂ１と第２遮光部材２２０ｂ２を含む。
１つの微細空間３０５内に位置する３つの画素間に第１遮光部材２２０ｂ１が形成され、互いに隣接する微細空間３０５の間に第２遮光部材２２０ｂ２が形成される。
互いに隣接する微細空間３０５の間に隔壁部ＰＷＰが形成されているため、隔壁部ＰＷＰは第２遮光部材２２０ｂ２と重なり得る。
【００３８】
本実施形態で、第１遮光部材２２０ｂ１の第１幅（ｄ１）は第２遮光部材２２０ｂ２の第２幅（ｄ２）と異なる。
第２遮光部材２２０ｂ２は、隔壁部ＰＷＰによって発生する光漏れを防止するために、第１遮光部材２２０ｂ１より相対的にさらに広い幅を有するように形成する。
本実施形態のように２つ以上の画素に対応するように微細空間３０５が占める領域を広げれば、従来の各画素ごとに形成されていた隔壁部ＰＷＰを一部除去することができる。
従って、開口率を向上させることができる。
図に示していないが、基板１１０及びキャッピング層３９０それぞれの外表面部に偏光子が形成され得る。
【００３９】
図４は、本発明の一実施形態による微細空間構造を示す概略的な平面図であり、図５Ａは、図４の切断線Ａ−Ａに沿った断面図であり、図５Ｂは、図４の切断線Ｂ−Ｂに沿った断面図であり、図５Ｃは、図４の切断線Ｃ−Ｃに沿った断面図である。
【００４０】
図４を参照すると、本実施形態による液晶表示装置は、ゲート線が延在している方向に形成される横遮光部材２２０ａと、横遮光部材２２０ａと交差してデータ線が延在している方向に形成される縦遮光部材２２０ｂとを含む。
複数の画素が行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、縦遮光部材２２０ｂ間に赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂが配置される。
行列において縦方向に互いに隣接する二行をそれぞれ第１行及び第２行とするとき、第１行及び第２行において赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂが順次に反復配列される。
本実施形態で１つの微細空間３０５は３つの画素に対応することができる。
このとき、第１行に位置する１つの微細空間において、赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂの配列順序は、第２行に位置する１つの微細空間の画素の配列順序と相違してもよい。
【００４１】
図４に示した行列の中で、一番目の行を第１行、二番目の行を第２行、三番目の行を第３行と仮定するとき、第１行に位置する１つの微細空間３０５ａには赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂの順で配列されており、第２行に位置する１つの微細空間３０５ｂには緑色画素Ｇ、青色画素Ｂ、及び赤色画素Ｒの順で配列されており、第３行に位置する１つの微細空間３０５ｃには青色画素Ｂ、赤色画素Ｒ、及び緑色画素Ｇの順で配列されている。
【００４２】
本実施形態では行列の同一列には同一画素が配列されており、第１行に位置する第１微細空間３０５ａ、第２行に位置する第２微細空間３０５ｂ、及び第３行に位置する第３微細空間３０５ｃは互いにずれるように配置される。
具体的には、第１微細空間３０５ａと第２微細空間３０５ｂは１つの画素間隔ほどずれるように配置され、第２微細空間３０５ｂと第３微細空間３０５ｃも１つの画素間隔ほどずれるように配置される。
各行における微細空間の配置及び画素の配置は３行ごとに反復される。
【００４３】
図４及び図５Ａを参照すれば、第１行において第１微細空間３０５ａは赤色カラーフィルタ２３０Ｒ、緑色カラーフィルタ２３０Ｇ、及び青色カラーフィルタ２３０Ｂに対応し、第１微細空間３０５ａの内壁には配向膜１１、２１が形成される。
赤色カラーフィルタ２３０Ｒと緑色カラーフィルタ２３０Ｇの間、及び緑色カラーフィルタ２３０Ｇと青色カラーフィルタ２３０Ｂの間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１の幅は、互いに隣接する２つの第１微細空間３０５ａの間の隔壁部ＰＷＰに対応する第２遮光部材２２０ｂ２の幅より小さい。
第１遮光部材２２０ｂ１は、緑色カラーフィルタ２３０Ｇの左右に配置される。
従って、第１行では隔壁部ＰＷＰから離れて位置する緑色カラーフィルタ２３０Ｇに対応する緑色画素Ｇで透過率を相対的に極大化することができる。
【００４４】
図４及び図５Ｂを参照すると、第２行において第２微細空間３０５ｂは緑色カラーフィルタ２３０Ｇ、青色カラーフィルタ２３０Ｂ、及び赤色カラーフィルタ２３０Ｒに対応し、第２微細空間３０５ｂ内壁には配向膜１１、２１が形成される。
緑色カラーフィルタ２３０Ｇと青色カラーフィルタ２３０Ｂの間及び青色カラーフィルタ２３０Ｂと赤色カラーフィルタ２３０Ｒの間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１の幅は、互いに隣接する２つの第２微細空間３０５ｂの間の隔壁部ＰＷＰに対応する第２遮光部材２２０ｂ２の幅より小さい。
従って、第２行では隔壁部ＰＷＰから離れて位置する青色カラーフィルタ２３０Ｂに対応する青色画素Ｂで透過率を相対的に極大化することができる。
【００４５】
図４及び図５Ｃを参照すると、第３行において第３微細空間３０５ｃは青色カラーフィルタ２３０Ｂ、赤色カラーフィルタ２３０Ｒ、及び緑色カラーフィルタ２３０Ｇに対応し、第３微細空間３０５ｃの内壁には配向膜１１、２１が形成される。
青色カラーフィルタ２３０Ｂと赤色カラーフィルタ２３０Ｂの間及び赤色カラーフィルタ２３０Ｒと緑色カラーフィルタ２３０Ｇの間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１の幅は、互いに隣接する２つの微細空間３０５ｃの間の隔壁部ＰＷＰに対応する第２遮光部材２２０ｂ２の幅より小さい。
従って、第３行では隔壁部ＰＷＰから離れて位置する赤色カラーフィルタ２３０Ｒに対応する赤色画素Ｒで透過率を相対的に極大化することができる。
【００４６】
このように、本実施形態による液晶表示装置は、一行で３つの画素を集めて１つの微細空間３０５を形成することによって、開口率を減少させる隔壁部ＰＷＰの個数を減らすことができる。
それだけでなく、各行ごとに１つの画素間隔ほど微細空間３０５をシフトさせて、緑色画素Ｇ、青色画素Ｂ、及び赤色画素Ｒの相対透過率を反復的に極大化させる。
従って、液晶表示装置の全体において赤色、緑色及び青色の色特性を均一に維持することができる。
【００４７】
図１及び図３で説明した通り、縦遮光部材２２０ｂに含まれる第１遮光部材２２０ｂ１と第２遮光部材２２０ｂ２は、それぞれ第１データ線１７１ａ及び第２データ線１７１ｂと重なってもよい。
本実施形態で、１つの縦遮光部材２２０ｂは、第１行の第２遮光部材２２０ｂ２、第２行の第１遮光部材２２０ｂ１、及び第３行の第１遮光部材２２０ｂ１が順次に配列され、これが反復される。
言い換えると、第１行に位置する第２遮光部材２２０ｂ２、第２行に位置する第２遮光部材２２０ｂ２、及び第３行に位置する第２遮光部材２２０ｂ２は、互いにずれるように配置される。
【００４８】
図６は、本発明の他の実施形態による微細空間構造を示す概略的な平面図である。
図６を参照すると、本実施形態による液晶表示装置は、ゲート線が延在している方向に形成される横遮光部材２２０ａと、横遮光部材２２０ａと交差して、データ線が延在している方向に形成される縦遮光部材２２０ｂとを含む。
【００４９】
複数の画素が行列（ｍａｔｒｉｘ）に配列され、縦遮光部材２２０ｂ間に赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂが配置される。
行列において縦方向に互いに隣接する二行をそれぞれ第１行及び第２行とするとき、第１行及び第２行において赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂが順次に反復配列される。
本実施形態で１つの微細空間３０５は、３つの画素に対応する。
このとき、第１行に位置する１つの微細空間で赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂの配列順序は、第２行に位置する１つの微細空間の画素の配列順序と相異する。
【００５０】
図６に示した行列の中で、一番目の行を第１行、二番目の行を第２行、三番目の行を第３行と仮定するとき、第１行に位置する１つの微細空間３０５ａには赤色画素Ｒ、緑色画素Ｇ、及び青色画素Ｂの順に配列され、第２行に位置する１つの微細空間３０５ｂには緑色画素Ｇ、青色画素Ｂ、及び赤色画素Ｒの順に配列され、第３行に位置する１つの微細空間３０５ｃには青色画素Ｂ、赤色画素Ｒ、及び緑色画素Ｇの順に配列される。
【００５１】
本実施形態では行列の同一列には互いに異なる画素が配列され、第１行に位置する第１微細空間３０５ａ、第２行に位置する第２微細空間３０５ｂ、及び第３行に位置する第３微細空間３０５ｃは互いに平行に配置されている。
各行における微細空間の配置及び画素の配置は３行ごとに反復される。
【００５２】
図６の切断線Ａ−Ａ、Ｂ−Ｂ、及びＣ−Ｃに沿ったそれぞれの断面図は、上記にて説明した図５Ａ、図５Ｂ、及び図５Ｃと同一である。
図６及び図５Ａを参照すると、第１行において第１微細空間３０５ａは、赤色カラーフィルタ２３０Ｒ、緑色カラーフィルタ２３０Ｇ、及び青色カラーフィルタ２３０Ｂに対応し、第１微細空間３０５ａの内壁には配向膜１１、２１が形成される。
赤色カラーフィルタ２３０Ｒと緑色カラーフィルタ２３０Ｇの間及び緑色カラーフィルタ２３０Ｇと青色カラーフィルタ２３０Ｂの間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１の幅は、互いに隣接する２つの第１微細空間３０５ａの間の隔壁部ＰＷＰに対応する第２遮光部材２２０ｂ２の幅より小さい。
従って、第１行では隔壁部ＰＷＰから離れて位置する緑色カラーフィルタ２３０Ｇに対応する緑色画素Ｇで透過率を相対的に極大化することができる。
【００５３】
図６及び図５Ｂを参照すると、第２行において第２微細空間３０５ｂは、緑色カラーフィルタ２３０Ｇ、青色カラーフィルタ２３０Ｂ、及び赤色カラーフィルタ２３０Ｒに対応し、第２微細空間３０５ｂの内壁には配向膜１１、２１が形成される。
緑色カラーフィルタ２３０Ｇと青色カラーフィルタ２３０Ｂの間及び青色カラーフィルタ２３０Ｂと赤色カラーフィルタ２３０Ｒの間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１の幅は、互いに隣接する２つの第２微細空間３０５ｂの間の隔壁部ＰＷＰに対応する第２遮光部材２２０ｂ２の幅より小さい。
従って、第２行では隔壁部ＰＷＰから離れて位置する青色カラーフィルタ２３０Ｂに対応する青色画素Ｂで透過率を相対的に極大化することができる。
【００５４】
図６及び図５Ｃを参照すると、第３行において第３微細空間３０５ｃは、青色カラーフィルタ２３０Ｂ、赤色カラーフィルタ２３０Ｒ、及び緑色カラーフィルタ２３０Ｇに対応し、第３微細空間３０５ｃの内壁には配向膜１１、２１が形成される。
青色カラーフィルタ２３０Ｂと赤色カラーフィルタ２３０Ｂの間及び赤色カラーフィルタ２３０Ｒと緑色カラーフィルタ２３０Ｇの間に位置する第１遮光部材２２０ｂ１の幅は、互いに隣接する２つの微細空間３０５ａの間の隔壁部ＰＷＰに対応する第２遮光部材２２０ｂ２の幅より小さい。
従って、第３行では隔壁部ＰＷＰから離れて位置する赤色カラーフィルタ２３０Ｒに対応する赤色画素Ｒで透過率を相対的に極大化することができる。
【００５５】
このように、本実施形態による液晶表示装置は、一行で３つの画素を集めて１つの微細空間３０５を形成することによって、開口率を減少させる隔壁部ＰＷＰの個数を減らすことができる。
それだけでなく、１つの微細空間構造内で各画素配置を各行ごとにシフトするように形成することによって、緑色画素Ｇ、青色画素Ｂ、及び赤色画素Ｒの相対透過率を反復的に極大化させる。
従って、液晶表示装置の全体において赤色、緑色及び青色の色特性を均一に維持することができる。
【００５６】
図１及び図３で説明した通り、縦遮光部材２２０ｂに含まれる第１遮光部材２２０ｂ１と第２遮光部材２２０ｂ２は、それぞれ第１データ線１７１ａ及び第２データ線１７１ｂと重なってもよい。
本実施形態で、１つの縦遮光部材２２０ｂは、第１遮光部材２２０ｂ１又は第２遮光部材２２０ｂ２であり得る。
言い換えると、第１行に位置する第２遮光部材２２０ｂ２、第２行に位置する第２遮光部材２２０ｂ２、及び第３行に位置する第２遮光部材２２０ｂ２は互いに平行に配置される。
【００５７】
尚、本発明は、上述の実施携帯に限られるものではない。本発明の技術的範囲から逸脱しない範囲内で多様に変更実施することが可能である。
【符号の説明】
【００５８】
１１、２１    （下部、上部）配向膜
１１０    基板
１２１    ゲート線
１２４    ゲート電極
１３１    維持電極線
１３５ａ    縦部
１３５ｂ    横部
１４０    ゲート絶縁膜
１５１、１５４    半導体層
１７１    データ線
１７１（ａ、ｂ）    （第１、第２）データ線
１７３    ソース電極
１７５    ドレイン電極
１８０ａ    第１層間絶縁膜
１８０ｂ    第２層間絶縁膜
１８５    コンタクトホール
１９１    画素電極
１９１ａ    横幹部
１９１ｂ    縦幹部
１９１ｃ    微細枝部
１９１ｄ    外郭幹部
１９７    延長部
２２０（ａ、ｂ）    （横、縦）遮光部材
２２０（ｂ１、ｂ２）    （第１、第２）遮光部材
２３０    カラーフィルタ
２３０（Ｒ、Ｇ、Ｂ）    （赤色、緑色、青色）カラーフィルタ
２７０    共通電極
３０５    微細空間
３０７    入口部
３０７ＦＰ    トレンチ
３１０    液晶物質
３５０  下部絶縁層
３６０  ルーフ層
３７０  上部絶縁層
３９０  キャッピング層
ＰＷＰ    隔壁部
【図１】
2016128908.tif 000003
【図２】
2016128908.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５Ａ】
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【図５Ｂ】
2016128908.tif 000008
【図５Ｃ】
2016128908.tif 000009
【図６】
2016128908.tif 000010