(57)【要約】【課題】本発明の課題は、折り曲げに対する電極の耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を提供することである。【解決手段】本発明の光治療用装置は、フレキシブル基材を有し、発光波長が４００〜２０００ｎｍの波長域にある有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備し、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備した光治療用装置であって、
前記面発光光源の発光波長が４００〜２０００ｎｍの波長域にあり、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とする光治療用装置。
【請求項２】
前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であることを特徴とする請求項１に記載の光治療用装置。
【請求項３】
前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム・スズ、アモルファス酸化インジウム・亜鉛、又はアモルファス酸化亜鉛であることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の光治療用装置。
【請求項４】
前記金属材料が、銀又はアルミニウムであることを特徴とする請求項１に記載の光治療用装置。
【請求項５】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、銀を主成分とする金属電極層と、当該金属電極層に隣接した位置に、銀と相互作用を有する物質を含有する下地層を有する構成であることを特徴とする請求項１又は請求項４に記載の光治療用装置。
【請求項６】
前記有機エレクトロルミネッセンス素子と共に、光化学療法剤を用いることを特徴とする請求項１から請求項５までのいずれか一項に記載の光治療用装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は光治療用装置に関し、更に詳しくは、低発熱で、フレキシブル性を有し、折り曲げ耐性が向上した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、特定の疾病に対し、光照射による治療、いわゆる光治療が有効であることが知られている。例えば、肩こりや腰痛などの疼痛緩和や薄毛治療には赤色光や赤外線の照射による治療が行われている。この赤外線、例えば、近赤外線光の照射で血管を拡張させることにより、組織内の血流を増加させたり、交感神経系の興奮を抑制したり、細胞組織を活性化して創傷治癒を促進したり、炎症性サイトカインや発痛物質に働きかけて抗炎症作用や鎮痛作用をもたらしたりすることはよく知られている。特に、水、ヘモグロビン、メラニンに対する吸収が少ない波長８００〜９００ｎｍ近傍の近赤外線領域は生体透過度に優れ、温熱効果とは異なる作用機序によって炎症抑制や疼痛緩和されることが明らかになってきた。一方、アトピー性皮膚炎の治療には青色光や紫外線の照射による治療が有効であると言われている。
【０００３】
このように様々な疾患に対する治療に対し光が用いられており、治療に対し単独で光照射を用いる方法を光線療法といい、光の照射と共に、光化学療法剤を併用する治療法を光線力学的療法（ＰＤＴ：Ｐｈｏｔｏ  Ｄｙｎａｍｉｃ  Ｔｈｅｒａｐｙ）という。このＰＤＴにおいては、光化学療法剤として知られる感光性治療剤が、身体の被処置領域に外部から又は内部から供給される。これらの療法を用いてさまざまな皮膚疾患および内部疾患の治療が可能となる。
【０００４】
以上のような光治療に用いられる光治療用装置としては、平面上に無機発光ダイオード（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ、以下、ＬＥＤと略記する。）を配列した複数の発光手段と、当該発光手段のそれぞれについて発光量や発光時間を制御する制御手段とを備え、近赤外線光により炎症性疼痛の緩解などの治療を行うための光治療用装置が提案されている（例えば、特許文献１参照。）。特許文献１で開示されている光治療用装置によれば、治療光の照射面における光強度分布や温度分布が均一化され、治療部位となる照射面全体に均一に治療光を照射して治療効果を高めることができるとされている。
【０００５】
しかしながら、光源として使用しているＬＥＤは、リジッドな拡散板等を有しており、フレキシブル性に乏しい発光素子であるため、例えば、治療対象である患部の曲面構造に対し、均一に光照射させようとする場合には、多くのＬＥＤを配置する必要があり、多数のＬＥＤの発光制御が複雑となり、かつＬＥＤ自身が発する熱等による影響も問題となっている。
【０００６】
上記の問題に対し、光源として有機発光ダイオード（以下、有機エレクトロルミネッセンス素子、ＯＬＥＤ又は有機ＥＬ素子という。）を用いた光治療用装置が提案されている。例えば、治療上又は美容上の処置で用いる移動式機器で、治療すべき領域に有機発光半導体として有機発光ダイオードを用いた光照射により治療する光治療用装置が開示されている（例えば、特許文献２参照。）。しかしながら、適用している電極材料がフレキシブル性に乏しいという問題がある。
【０００７】
また、治療用波長を発する有機エレクトロルミネッセンス素子と、当該有機エレクトロルミネッセンス素子の発光条件を制御する制御モジュールを有する光線治療器が開示されている（例えば、特許文献３参照。）。ここで開示されている方法によれば、複数のＯＬＥＤを選択、又は制御モジュールで発光を制御することにより、光照射システムとして、所望の波長を有する照射光に制御することができるとされている。
【０００８】
しかしながら、これら提案されているＯＬＥＤでは、基材としてはフレキシブル性を有する材料を用いているが、構成している電極、例えば、陽極や陰極はフレキシブル性に乏しく、ＯＬＥＤを患部形状に対応するための折り曲げを繰り返して行った際に、電極、特に光取出し側に位置している透明電極の破損・断線・短絡を起こしやすく、耐久性として不十分である。また、複数のＯＬＥＤから構成されている光治療用装置の光源部が、発光に伴い熱を発し、患部等へ熱による影響があるため、安全な治療また長時間の治療をする妨げとなっている。
【０００９】
また、有機エレクトロルミネッセンス素子を用いた光治療器具で、フレキシブル性基材を用い、フレキシブルな共形の医療用光源と、血液性状（例えば、ＣＯ、酸素、又はビリルビンのレベル）のモニタリングを目的とする関連診断デバイスと、乾癬及び幾つかの形態の癌などの動物の治療用光線療法デバイスが開示されている（例えば、特許文献４参照。）。
【００１０】
特許文献４には、構成する電極材料は、導電性ポリマーとして、ポリ（３，４−エチレンジオキシチオフェン）とポリスチレンスルホン酸（ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ）や、酸化インジウム・スズ（ＩＴＯ）を適用する記載があるが、ＩＴＯの結晶構造としては不明である。また、電極材料として、導電性ポリマーであるＰＥＤＯＴ／ＰＳＳを用いた場合には、ＯＬＥＤとして大面積化することが難しいことや、発光面の中心部を強く光らせようとすると発熱を生じる問題がある。また、結晶性の高い構造のＩＴＯを用いた場合には、電極の破損・断線・短絡を起こしやすい。また、ＰＥＤＯＴ／ＰＳＳのような有機材料は、一般的に熱伝導率が低いため、熱を貯めやすく、発熱しやすいという問題を抱えている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【００１１】
【特許文献１】特開２００９−０５５９６９号公報
【特許文献２】特表２００５−５２０５８３号公報
【特許文献３】特表２０１２−５１４４９８号公報
【特許文献４】特表２００７−５１８４６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１２】
本発明は、上記問題に鑑みてなされたものであり、その解決課題は、折り曲げに対する電極の耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明者は、上記課題に鑑み鋭意検討を進めた結果、フレキシブル基材を有し、構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した光治療用装置により、折り曲げに対する電極の耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を得ることができることを見出し、本発明に至った。
【００１４】
すなわち、本発明の上記課題は、下記の手段により解決される。
【００１５】
１．フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備した光治療用装置であって、
前記面発光光源の発光波長が４００〜２０００ｎｍの波長域にあり、
前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とする光治療用装置。
【００１６】
２．前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であることを特徴とする第１項に記載の光治療用装置。
【００１７】
３．前記金属酸化物材料が、アモルファス酸化インジウム・スズ、アモルファス酸化インジウム・亜鉛、又はアモルファス酸化亜鉛であることを特徴とする第１項又は第２項に記載の光治療用装置。
【００１８】
４．前記金属材料が、銀又はアルミニウムであることを特徴とする第１項に記載の光治療用装置。
【００１９】
５．前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、銀を主成分とする金属電極層と、当該金属電極層に隣接した位置に、銀と相互作用を有する物質を含有する下地層を有する構成であることを特徴とする第１項又は第４項に記載の光治療用装置。
【００２０】
６．前記有機エレクトロルミネッセンス素子と共に、光化学療法剤を用いることを特徴とする第１項から第５項までのいずれか一項に記載の光治療用装置。
【発明の効果】
【００２１】
本発明の上記手段により、折り曲げに対する電極耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を提供することができる。
【００２２】
本発明で規定する構成により、上記問題を解決することができたのは、以下の理由によるものと推測している。
【００２３】
一般に、熱伝導と電子伝導には相関があり、電流が流れやすいほど、熱も流れやすくなる。よって、電子起因の熱の流れやすさ、言い換えると放熱のしやすさの序列としては、金属材料＞アモルファス金属酸化物＞＞＞導電性ポリマーの順となる。
【００２４】
したがって、導電性ポリマー単独で透明電極を形成した場合には、熱伝導率が低いため、熱が籠りやすくなり、光治療時の有機エレクトロルミネッセンス素子が高温になる。これに対し、自由電子の多い金属材料やアモルファス金属酸化物では、光発光により生じた熱が拡散しやすくなり、光治療時に低温環境を維持することができる。
【００２５】
また、フレキブル性が要求される電子機器に使用される材料として、金属材料やアモルファス金属酸化物材料、高分子系材料が用いられている。
【００２６】
上記二つの事項から、透明電極に金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することで、発熱によるやけどを抑え、かつ破損・断線・短絡を防止することができる。
【００２７】
これらのことから、有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することで、形状対応性（フレキシビリティー）を有し、折り曲げ耐性に優れ、かつ発光時に発熱量が少なく高輝度の有機エレクトロルミネッセンス素子を具備した光治療用装置を実現することができた。
【図面の簡単な説明】
【００２８】
【図１】フレキシブルな有機ＥＬ素子を具備した光治療用装置を用いた光治療方法の一例を示す概略図
【図２】１つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の全体構成の一例（実施態様１）を示す概略断面図
【図３】実施態様１の有機ＥＬ素子の発光ユニットの具体的な構成の一例を示す概略断面図
【図４】１つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の他の一例（実施態様２）を示す概略断面図
【図５】２つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の一例（実施態様３）を示す概略断面図
【図６】２つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の他の構成の一例（実施態様４）を示す概略断面図
【図７】２つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の他の構成の一例（実施態様５）を示す概略断面図
【図８】３つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の一例（実施態様６）を示す概略断面図
【発明を実施するための形態】
【００２９】
本発明の光治療用装置は、フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備した光治療用装置であって、前記面発光光源の発光波長が４００〜２０００ｎｍの波長域にあり、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とし、折り曲げに対する電極耐久性に優れ、発光時の発熱を抑制し、治療時のやけどを防止した有機エレクトロルミネッセンス素子を具備する光治療用装置を実現することができる。この特徴は、請求項１から請求項６までの請求項に係る発明に共通する技術的特徴である。
【００３０】
本発明の実施態様としては、本発明の目的とする効果をより発現できる観点から、透明電極を構成するアモルファス構造を有する金属酸化物材料として、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であること、更に具体的には、アモルファス酸化インジウム・スズ（以下、ａ−ＩＴＯともいう。）、アモルファス酸化インジウム・亜鉛（以下、ａ−ＩＺＯともいう。）、又はアモルファス酸化亜鉛（以下、ａ−ＺｎＯともいう。）であることが、電極として優れた導電性を得ることができるとともに、フレキシブル性の高い電極を形成することができ、より優れた折り曲げ耐性を有する有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができ、患部の形状に対応し、安定な光治療効果を得ることができる。
【００３１】
また、透明電極を構成する金属材料としては、銀又はアルミニウムであることが、同じく、優れた電極特性とフレキシブル性を具備した電極を形成することができ、折り曲げ耐性に優れた有機エレクトロルミネッセンス素子を得ることができ、患部の形状に対応した安定な光治療効果を得ることができる。
【００３２】
また、透明電極として、銀を主成分とする金属電極層と、金属電極層に隣接した位置に、銀と相互作用を有する物質を含有する下地層を形成する構成とすることにより、下地層上に銀薄膜電極層を形成する際に、銀原子の海島状の凝集体（モトル）の形成を防止することができ、その結果、高い光透過性及び均一性に優れた銀薄膜電極を形成することができる。
【００３３】
また、本発明の光治療用装置においては、有機エレクトロルミネッセンス素子による光治療と共に、光化学療法剤を用いることが、光治療効果をより高めることができる観点から好ましい。
【００３４】
以下、本発明とその構成要素、及び本発明を実施するための形態・態様について詳細な説明をする。なお、本発明において示す「〜」は、その前後に記載される数値を下限値及び上限値として含む意味で使用する。
【００３５】
《光治療用装置》
本発明の光治療用装置は、フレキシブル基材上に、有機エレクトロルミネッセンス素子を面発光光源として具備し、前記面発光光源の発光波長が４００〜２０００ｎｍの波長域にあり、前記有機エレクトロルミネッセンス素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有し、フレキシブル性を有することを特徴とする。
【００３６】
本発明でいう透明電極とは、発光層により発光された光線の透過率が、５０％以上であることをいい、好ましくは７０％以上であり、特に好ましくは８５％以上である。具体的には、透明電極とは、少なくとも光取出し側に配置されている電極であり、陽極側より光取出しを行う場合には、陽極や中間電極が、本発明でいう透明電極に相当する。多くの場合、光取出し側から最も離れた位置にある電極、例えば、陰極は、光不透過性の反射電極で構成されている場合が多い。
【００３７】
図１は、フレキシブル性を有する有機ＥＬ素子を具備した光治療用装置を、曲面の患部に当てた状態の一例を示す概略図である。
【００３８】
図１においては、本発明に係る有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、フレキシブル基材（１）上に、一対の電極で挟持された発光ユニット（１２）と、その上部に封止用接着層（１３）及びフレキシブル封止基材（１４）により構成されており、発光層ユニットは、発光量や発光時間を制御するための発光制御手段（不図示）に接続されている。
【００３９】
本発明に係る有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、図１に示すようにフレキシブルな部材より構成されているため、発光面の形状を自由に設定することができ、曲面を有する患部（２）に対し、安定して、光治療用の発光光（Ｌ）を照射することができ、安定した光治療を可能とする。
【００４０】
以下の説明において、少なくともフレキシブル基材上に、一対の電極で挟持された発光層を含む有機機能層ユニット及びフレキシブル封止部材を設けた構成を「有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）」と称し、陽極、発光層、有機機能層群、及び陰極によりなる構成を、「発光ユニット（１２）」、発光層及び有機機能層群により構成されるものを「有機機能層ユニット（４）」と称す。
【００４１】
《有機ＥＬ素子》
［１．有機ＥＬ素子の基本構成：実施態様１〕
図２は、１つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の全体構成の一例（実施態様１）を示す概略断面図である。
【００４２】
図２において、本発明に係る有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、フレキシブル基材（１）上に、一対の電極を構成する第１電極（３、陽極）と、その上に、有機機能層群１（２２）、発光層（２３）及び有機機能層群２（２４）で構成される有機機能層ユニット（４）を有している。図２では、便宜上、１つの有機機能層ユニット（４）のみ記載しているが、必要に応じて、２つ以上の有機機能層ユニット（４）を積層した構造であってもよい。この有機機能層ユニット（４）上には第２電極（６、陰極）が形成されて、第１電極（３）〜第２電極（６）までで、発光ユニット（１２）を構成している。第２電極（６）の上部には、少なくとも有機機能層ユニット（４）を被覆する形態で、封止用接着層（１３）及びフレキシブル封止基材（１４）が設けられて、有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を形成している。
【００４３】
図２に記載の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）においては、第１電極（３）である陽極を透明電極により構成することで、発光層（２３）の発光点（ｈ）で発光した発光光（Ｌ）は、透明電極である第１電極（３）側より外部に取り出される。この時、第２電極（６）である陰極は、図で示すように、光不透過性の反射電極となる。
【００４４】
本発明の光治療用装置に適用する有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、発光波長が４００〜２０００ｎｍの範囲内にあることを特徴とする。このような幅広い発光波長域を具備することにより、光治療に適した波長の光を随時選択することができる。このような発光波長のコントロールは、有機ＥＬ素子が構成する発光層で使用する発光性化合物の種類や２種以上の発光性化合物の組み合わせ、あるいは複数の発光層の形成により実現することができる。
【００４５】
また、本発明に係る有機ＥＬ素子が、２つ以上の有機機能層ユニットを積層する構成である場合、それぞれの有機機能層ユニットを、異なる発光極大波長（以下、発光ピーク波長ともいう。）を有する構成とすることが、治療対象に応じて、適切な波長の光を選択して照射することができ好ましい。また、２つ以上の有機機能層ユニットが、それぞれ同一の発光ピーク波長を有する構成とすることにより、発熱を伴うことなく高輝度の光を、治療対象である患部に、効率よく照射することができ好ましい。
【００４６】
図３は、図２で説明した実施態様１の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）の具体的な構成の一例を示す概略断面図である。
【００４７】
図３に示す構成の有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）では、フレキシブル基材（１）上に、透明電極として陽極（３）を配置し、その上に、正孔注入層（ＨＩＬ）及び正孔輸送層（ＨＴＬ）を積層して、第１の有機機能層群（２２）が形成されている。第１の有機機能層群（２２）上には、発光層（２３）を有している。この発光層（２３）上に、電子輸送層（ＥＴＬ）及び電子注入層（ＥＩＬ）を積層した第２の有機機能層群（２４）が形成され、最上層に反射電極として陰極（６）が設けられて、発光ユニット（１２）を構成している。最終的な有機ＥＬ素子を構成する場合には、図２で示すように、有機ＥＬ素子を封止部材で封止する構造をとるが、図３ではその記載は省略している。
【００４８】
図３に記載の構成では、透明な陽極（３）と陰極（６）の間に、電圧（Ｖ１）を印加することにより、発光層あるいは発光層界面で発光し、透明電極である陽極（３）側から発光光（Ｌ）が放射される。この時、第２電極（６）である陰極は、図２で示すように、入射してくる発光光（Ｌ）を、光不透過性の反射電極である陰極表面で反射し、透明電極である陽極（３）側に放射する。
【００４９】
一般に、有機ＥＬ素子の発光層は、詳細は後述する発光ドーパント（例えば、燐光発光性化合物や蛍光発光性化合物）とホスト化合物により形成されている。
【００５０】
［２．有機ＥＬ素子の代表的な構成］
本発明に係る有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、図２及び図３で説明したように、下から、フレキシブル基材（１）上に、第１電極である陽極（３）、次いで、例えば、正孔注入層、正孔輸送層等から構成される有機機能層群１（２２）、発光層（２３）、例えば、電子輸送層、電子注入層等から構成される有機機能層群２（２４）が積層されて、発光領域を構成する有機機能層ユニット（４）を有している。そして、上部には第２電極である陰極（６）、封止用接着層（１３）及び封止基材（１４）が設けられている。
【００５１】
本発明の光治療用装置に適用可能な有機ＥＬ素子の構成例については、本発明で規定する条件を満たせば、特に制限はなく、以下に示す構成（１）〜（６）を代表例として挙げることができる。ただし、本発明においては、これら例示する構成により限定されない。
【００５２】
以下に、本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の構成の代表例を示す。
【００５３】
（１）フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット〔有機機能層群１／発光層／有機機能層群２〕／陰極／封止部材（実施態様１、図２及び図３参照）
（２）フレキシブル基材／下地層／陽極（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット〔有機機能層群１／発光層／有機機能層群２〕／陰極／封止部材（実施態様２、図４参照）
（３）フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／中間電極／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／陰極／封止部材（実施態様３、図５参照）
（４）フレキシブル基材／下地層／陽極（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／中間電極／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／陰極／封止部材（実施態様４、図６参照）
（５）フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／下地層／中間電極（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／陰極／封止部材（実施態様５、図７参照）
（６）フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／下地層１／中間電極１（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／下地層２／中間電極２（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット３〔有機機能層群１Ｃ／発光層Ｃ／有機機能層群２Ｃ〕／陰極／封止部材（実施態様６、図８参照）
更に、複数の発光層を構成する場合には、発光層間に非発光性の中間層を有していてもよい。中間層は、電荷発生層であってもよく、マルチフォトンユニット構成であってもよい。
【００５４】
上記記載の（１）〜（６）の構成において、陽極側から光取出しを行う場合には、陽極や中間電極が本発明に係る透明電極に該当し、陰極が反射電極となる。
【００５５】
本発明に適用可能な有機ＥＬ素子の概要については、例えば、特開２０１３−１５７６３４号公報、特開２０１３−１６８５５２号公報、特開２０１３−１７７３６１号公報、特開２０１３−１８７２１１号公報、特開２０１３−１９１６４４号公報、特開２０１３−１９１８０４号公報、特開２０１３−２２５６７８号公報、特開２０１３−２３５９９４号公報、特開２０１３−２４３２３４号公報、特開２０１３−２４３２３６号公報、特開２０１３−２４２３６６号公報、特開２０１３−２４３３７１号公報、特開２０１３−２４５１７９号公報、特開２０１４−００３２４９号公報、特開２０１４−００３２９９号公報、特開２０１４−０１３９１０号公報、特開２０１４−０１７４９３号公報、特開２０１４−０１７４９４号公報等に記載されている構成を挙げることができる。
【００５６】
また、有機機能層ユニットを２つ以上積層した有機ＥＬ素子の具体例としては、例えば、米国特許第６３３７４９２号明細書、米国特許第７４２０２０３号明細書、米国特許第７４７３９２３号明細書、米国特許第６８７２４７２号明細書、米国特許第６１０７７３４号明細書、米国特許第６３３７４９２号明細書、特開２００６−２２８７１２号公報、特開２００６−２４７９１号公報、特開２００６−４９３９３号公報、特開２００６−４９３９４号公報、特開２００６−４９３９６号公報、特開２０１１−９６６７９号公報、特開２００５−３４０１８７号公報、特許第４７１１４２４号公報、特許第３４９６６８１号公報、特許第３８８４５６４号公報、特許第４２１３１６９号公報、特開２０１０−１９２７１９号公報、特開２００９−０７６９２９号公報、特開２００８−０７８４１４号公報、特開２００７−０５９８４８号公報、特開２００３−２７２８６０号公報、特開２００３−０４５６７６号公報、国際公開第２００５／００９０８７号、国際公開第２００５／０９４１３０号等に記載の素子構成や構成材料等が挙げられるが、本発明はこれらに限定されない。
【００５７】
［３．有機ＥＬ素子の構成要素］
〔３．１：電極構成〕
はじめに、本発明の構成上の特徴点である電極材料の詳細について説明する。
【００５８】
本発明に係る有機ＥＬ素子においては、有機ＥＬ素子を構成する透明電極が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有することを特徴とし、光治療時に患部の形態に対応して、折り曲げ等を行っても、高いフレキシブル性により電極の破壊・断線及び短絡の発生を抑制することができる。
【００５９】
本発明でいう透明電極の「透明」とは、発光層により発光された光線の透過率が、５０％以上であることをいい、好ましくは７０％以上であり、特に好ましくは８５％以上である。
【００６０】
例えば、陽極側から発光光を取り出す場合には、本発明に係る透明電極は、陽極及び中間電極が該当し、非発光面側に位置する陰極は、反射電極として機能し、本発明でいう透明電極には該当しない。例えば、陰極として、アルミニウムにより厚さ１００ｎｍ以上の電極を形成した場合、光不透過性の反射電極となる。
【００６１】
（電極の概要）
〈陽極〉
本発明に係る陽極としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以上）金属又は金属を主成分とする合金、アモルファス構造を有する金属酸化物材料を主成分として構成する。
【００６２】
また、陽極は、これらの電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させ、フォトリソグラフィー法で所望の形状パターンを形成してもよく、又はパターン精度をあまり必要としない場合（１００μｍ以上程度）は、上記電極物質の蒸着やスパッタリング時に所望の形状のマスクを介してパターンを形成してもよい。また、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料と共に、有機導電性化合物のような塗布可能な物質を併用する場合には、印刷方式、コーティング方式等湿式成膜法を用いることもできる。陽極より発光を取り出す場合には、陽極として発光光の透過率を５０％より大きくすることが必要であり、好ましくは７０％以上である。また、陽極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。さらに膜厚は材料にもよるが、通常は、１０〜５００ｎｍの範囲であり、好ましくは１０〜２００ｎｍの範囲で選ばれる。
【００６３】
〈中間電極〉
本発明に係る有機ＥＬ素子においては、陽極と陰極との間に、有機機能層群と発光層から構成される有機機能層ユニットを二つ以上積層した構造を有することできるが、二つ以上の有機機能層ユニット間を、電気的接続を得るため、独立した接続端子を有する中間電極で分離した構造をとることが好ましい。
【００６４】
中間電極についても、上記説明した陽極の形成材料を同様に用いることができる。
【００６５】
〈陰極〉
本発明に係る陰極は、有機機能層群や発光層に正孔を供給するために機能する電極膜であり、主には、アルミニウム等の金属材料で、膜厚は通常１００ｎｍ〜５μｍ、好ましくは１００〜２００ｎｍの範囲で選ばれるため、光透過性を具備していない場合が多い。
【００６６】
陰極は電極物質を蒸着やスパッタリング等の方法により薄膜を形成させることにより、作製することができる。また、陰極としてのシート抵抗は数百Ω／□以下が好ましい。なお、陰極にアルミニウム等の金属を１〜２０ｎｍの膜厚で作製した後に、陽極に適用可能な導電性透明材料をその上に形成することで、透明または半透明の陰極を作製することができ、これを応用することで陽極と陰極の両方が透過性を有する有機ＥＬ素子を作製することができる。
【００６７】
次いで、各電極に適用する金属材料、アモルファス構造を有する金属酸化物材料について説明する。
【００６８】
（３．１．１：金属材料）
電極の形成に適用する電極材料としては、本発明の目的効果であるフレキシブル性を付与する観点から、優れた導電性を得ることができるとともに、延性及び展性に優れ、フレキシブル性の高い薄膜を形成することができる金属材料が好ましい。
【００６９】
金属材料としては、金属単体であっても、合金であってもよい。このような金属材料としては、金属としては、例えば、銀、金、アルミニウム等の金属を挙げることができる。また、金属を主成分とする合金としては、ナトリウム−カリウム合金、マグネシウム−銅混合物、マグネシウム−銀混合物、マグネシウム−アルミニウム混合物、マグネシウム−インジウム混合物、銀−銅（Ａｇ−Ｃｕ）、銀−パラジウム（Ａｇ−Ｐｄ）、銀−パラジウム−銅（Ａｇ−Ｐｄ−Ｃｕ）、銀−インジウム（Ａｇ−Ｉｎ）などが挙げられる。
【００７０】
本発明においては、金属材料が、銀又はアルミニウムであることが好ましく、さらに好ましくは銀である。
【００７１】
金属材料より構成される透明電極の厚さとしては、２〜４０ｎｍの範囲内にあることが好ましいが、更に好ましくは厚さが４〜２０ｎｍの範囲内である。厚さが２０ｎｍ以下であれば、透明陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。金属材料より構成される電極の厚さが４０ｎｍを超えると、光透過率が低下し、陰極側に適用する反射電極となる。
【００７２】
〈銀電極〉
本発明においては、特に、透明性が要求される陽極を構成する構成材料の中でも、本発明に係る有機ＥＬ素子を構成する陽極としては、銀を主成分として構成し、厚さが２〜４０ｎｍの範囲内にある透明陽極であることが好ましいが、更に好ましくは厚さが４〜２０ｎｍの範囲内である。厚さが４０ｎｍ以下であれば、透明陽極の吸収成分及び反射成分が低く抑えられ、高い光透過率が維持されるため好ましい。
【００７３】
本発明でいう銀を主成分として構成されている層とは、透明陽極中の銀の含有量が６０質量％以上であることをいい、好ましくは銀の含有量が８０質量％以上であり、より好ましくは銀の含有量が９０質量％以上であり、特に好ましくは銀の含有量が９８質量％以上である。また、本発明に係る透明陽極でいう「透明」とは、発光層により発光された光線の透過率が、５０％以上であることをいう。
【００７４】
透明陽極においては、銀を主成分として構成されている層が、必要に応じて複数の層に分けて積層された構成であっても良い。
【００７５】
〈下地層〉
また、本発明においては、電極を、銀を主成分として構成する場合には、形成する銀電極の均一性を高める観点から、その下部に、下地層を設けることが好ましい。下地層としては、特に制限はないが、窒素原子又は硫黄原子を有する有機化合物を含有する層であることが好ましく、当該下地層上に、透明な銀電極を形成する方法が好ましい態様である。
【００７６】
下地層としては、銀と相互作用する化合物を含有した層であれば良く、当該化合物としては、ルイス塩基、すなわち非共有電子対を持っている原子を含む化合物を用いて構成されていることが好ましい。このようなルイス塩基を有する化合物として、窒素含有化合物または硫黄含有化合物が例示される。窒素含有化合物は、窒素原子（Ｎ）を含んだ化合物であれば良いが、特に非共有電子対を有する窒素原子を含む有機化合物であり、次のような化合物であることが好ましい。すなわち、下地層を構成する窒素含有化合物は、化合物に含有される窒素原子のうち、特に金属電極層１１を構成する主材料である銀と安定的に結合する窒素原子の非共有電子対を［有効非共有電子対］とした場合、この［有効非共有電子対］の含有率が所定範囲であることが好ましい。
【００７７】
ここで［有効非共有電子対］とは、化合物に含有される窒素原子が有する非共有電子対のうち、芳香族性に関与せずかつ金属に配位していない非共有電子対であることとする。ここでの芳香族性とは、π電子を持つ原子が環状に並んだ不飽和環状構造を言い、いわゆる「ヒュッケル則」に従う芳香族性であって、環上のπ電子系に含まれる電子の数が「４ｎ＋２」(ｎ＝０、または自然数)個であることを条件としている。
【００７８】
本発明に係る下地層の詳細については、例えば、特開２０１５−０４６３６４号公報、特開２０１５−０６０７２８号公報等に記載の内容を参照することができる。
【００７９】
本発明に係る透明電極の構成材料としては、特に、上記説明した下地層上に薄膜銀層を形成した構成であることが好ましく、さらには、光取出し側の陽極に上記の下地層を有する銀薄膜電極を適用することが好ましい構成である。
【００８０】
〈グリッド電極〉
本発明に係る金属材料により形成する電極として、均一の薄膜電極の他に、細線により形成するグリッド電極の形態で適用することもできる。
【００８１】
グリッド電極は、導電性の金属細線から構成されている。グリッド電極の形状は、格子状に限らず、ストライプ状、ハニカム構造状、網目状等の様々な形状のグリッドを使用できる。位置によらず均一な導電性を得る観点からは、有機ＥＬ素子の全面に位置する周期的な形状のグリッドが好ましい。
【００８２】
グリッド電極を構成する金属細線の線幅は、１０〜２００μｍの範囲内であることが好ましく、細線の高さは、０．１〜１０．０μｍの範囲内にあることが好ましい。
【００８３】
グリッド電極の開口率は、透明性を高める観点から、８０％以上であることが好ましい。開口率とは、有機ＥＬ素子の発光面積のうち、グリッド電極を形成する金属細線が配置されていない領域が占める面積の割合である。例えば、線幅が１００μｍ、線間隔が１ｍｍの金属細線が、ストライプ状又は格子状に形成されたグリッド電極の開口率は、約９０％である。
【００８４】
グリッド電極を構成する金属細線に使用できる導電性の金属材料としては、例えば、金、銀、銅、鉄、コバルト、ニッケル、クロム、これらの合金等が挙げられる。低抵抗という観点からは、銀又は銅が好ましく、より好ましくは銀である。
【００８５】
グリッド電極は、金属材料を用いた金属ナノ粒子、金属錯体等を含有する塗布液を、凸版印刷法、凹版印刷法、孔版印刷法、スクリーン印刷法、インクジェット法、インクジェット平行線描画法等により所望の形状に塗布することにより、形成することができる。インクジェット平行線描画法は、塗布液を線状に塗布したときに線の中央部から端部へと塗布液が流動して端部の固形化がすすむコーヒーステイン現象を利用して、１本の線から２本の平行線を形成する方法である。
【００８６】
上記グリッド電極を形成した後、その上部には、本発明の目的効果を損なわない範囲で、導電性ポリマー層を形成することができる。導電性ポリマーとしては、ポリアニオンを含有するπ共役系導電性高分子を用いることができる。
【００８７】
使用できるπ共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等が挙げられる。なかでも、導電性、透明性、安定性等を高める観点から、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンがより好ましい。
【００８８】
また、グリッド電極表面に、メッキ処理を施すこともできる。
【００８９】
〈金属ナノ材料含有電極〉
金属ナノ材料含有電極の形成に用いることができる金属ナノ材料としては、サイズがナノスケールの金属材料であり、形状によってナノチューブ、ナノワイヤー、ナノファイバー等とも呼ばれる。金属の種類としては、銀（Ａｇ）、アルミニウム（Ａｌ）、銅（Ｃｕ）、金（Ａｕ）、タングステン（Ｗ）、モリブデン（Ｍｏ）、これらの合金等が挙げられる。なかでも、銀は低抵抗で導電性が高く、所望の形状に加工しやすいことから、好ましい。
【００９０】
金属ナノ材料含有電極は、金属ナノ材料を含有する塗布液を調製して塗布することにより、形成することができる。金属ナノ材料含有電極の形成用塗布液には、金属ナノ材料を保持するためのバインダーとして、例えば、ポリビニルピロリドン等を用いることができる。
【００９１】
また、金属ナノ材料含有電極を形成した後、その上部には、本発明の目的効果を損なわない範囲で、導電性ポリマー層を形成することができる。導電性ポリマーとしては、ポリアニオンを含有するπ共役系導電性高分子を用いることができる。
【００９２】
使用できるπ共役系導電性高分子としては、例えば、ポリチオフェン類、ポリピロール類、ポリインドール類、ポリカルバゾール類、ポリアニリン類、ポリアセチレン類、ポリフラン類、ポリパラフェニレンビニレン類、ポリアズレン類、ポリパラフェニレン類、ポリパラフェニレンサルファイド類、ポリイソチアナフテン類、ポリチアジル類等が挙げられる。なかでも、導電性、透明性、安定性等を高める観点から、ポリチオフェン類又はポリアニリン類が好ましく、ポリエチレンジオキシチオフェンがより好ましい。
【００９３】
（３．１．２：アモルファス構造を有する金属酸化物材料）
本発明に係る透明電極の形成において、アモルファス構造を有する金属酸化物材料を用いることを特徴の一つとする。
【００９４】
本発明に係る各電極の形成に、結晶系材料ではなく、非晶系のアモルファス構造を有する金属酸化物材料を用いることにより、電極にフレキシブル性を付与することができ、光治療時に患部の形態に合わせて折り曲げ操作を行っても、電極の破壊・断線及び短絡の発生を抑制することができる。
【００９５】
本発明に係るアモルファス構造を有する金属酸化物材料としては、アモルファス性を有する金属酸化物であれば特に制限はないが、好ましくは、アモルファス酸化インジウム系化合物、アモルファス酸化亜鉛系化合物、又はアモルファス酸化スズ系化合物であり、さらに好ましくは、アモルファス酸化インジウム・スズ（ａ−ＩＴＯ）、アモルファス酸化インジウム・亜鉛（ａ−ＩＺＯ）、又はアモルファス酸化亜鉛（ａ−ＺｎＯ）である。
【００９６】
本発明でいうアモルファスとは、形成した薄膜のＸＲＤ解析（Ｘ線回折法）を行った際に、固体を構成する原子や分子等として三次元的な規則性が少なく、測定されたＸ線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の物質であると定義する。
【００９７】
上記測定で用いることのできるＸＲＤ測定装置としては、例えば、島津製作所社製のＸ線回折装置  ＸＲＤ−７０００、ＸＲＤ−６１００、リガク社製Ｘ線回折装置（ＸＲＤ測定装置  ＲＩＮＴ２２００、ＲＩＮＴ−ＴＴＲ２、ＳＷＲＤ等）等を挙げることができる。
【００９８】
本発明に係る電極の形成に好適に用いることができるアモルファス構造を有する金属酸化物としては、例えば、アモルファス酸化インジウム・スズ（ａ−ＩＴＯ）、アモルファス酸化インジウム・亜鉛（ａ−ＩＺＯ）、アモルファス酸化インジウム・ガリウム・亜鉛（ａ−ＩＧＺＯ）、アモルファス酸化亜鉛（ａ−ＺｎＯ）等を挙げることができる。また、アモルファス酸化亜鉛・スズ（ａ−ＺＳｎＯ）も用いることができる。
【００９９】
本発明に係るアモルファス構造を有する金属酸化物材料により構成する電極においては、アモルファス性（非晶性）を維持できる範囲内において、その他の金属酸化物として誘電性材料又は酸化物半導体材料を用いることができる。
【０１００】
アモルファス層（５Ａ）は、蒸着法又はスパッタ法により形成することができる。本発明に適用可能な蒸着法としては、抵抗加熱蒸着法、電子線蒸着法、イオンプレーティング法、イオンビーム蒸着法等が含まれる。蒸着装置としては、例えば、シンクロン社製のＢＭＣ−８００Ｔ蒸着機等を用いることができる。
【０１０１】
本発明に係るスパッタ法には、２極スパッタ法、マグネトロンスパッタ法、ＤＣスパッタ法、ＤＣパルススパッタ法、ＲＦ（高周波）スパッタ法、デュアルマグネトロンスパッタ法、反応性スパッタ法、イオンビームスパッタ法、バイアススパッタ法、及び対向ターゲットスパッタ法などの、公知のスパッタ法を適宜用いることができる。また、有機導電性化合物のように塗布可能な物質、例えば、前述の導電性ポリマー等を併用する場合には、印刷方式、コーティング方式等の湿式成膜法を用いることもできる。
【０１０２】
（３．１．３：電極形成材料種による発光時の発熱性、放熱性）
一般に、熱伝導と電子伝導には相関があり、電流が流れやすいほど、熱も流れやすくなる。よって、電子起因の熱の流れやすさ（放熱のしやすさ）の序列としては、金属材料＞アモルファス金属酸化物＞＞＞導電性ポリマーとなる。導電性ポリマー単独で電極を形成した場合には、熱伝導率が低いため、熱が籠りやすくなり、光治療時に高温になる。これに対し、自由電子の多い金属材料やアモルファス金属酸化物では、光発光により生じた熱が飛散しやすくなり、光治療時に低温環境を維持することができる。
【０１０３】
次いで、上記説明した各電極を除く有機ＥＬ素子の各構成材料について、その詳細を説明する。
【０１０４】
〔３．２：フレキシブル基材〕
有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）に適用可能なフレキシブル基材（１）としては、特に制限はなく、例えば、ガラス、プラスチック等の種類を挙げることができる。本発明でいうフレキシブルとは、直径５ｍｍのＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル−ブタジエンースチレン共重合体樹脂）製の棒に１０回巻きつけと開放を繰り返した後、目視確認で基材に割れや欠け等の損傷がない特性をいう。
【０１０５】
本発明において、光放射面側（光取出し面）に配置されるフレキシブル基材（１）は、有機ＥＬ素子により照射される光を、治療する患部に照射するため、４００〜２０００ｎｍの波長域で光透過性を有していることが必要である。本発明でいう光透過性とは、フレキシブル基材（１）としては、４００〜２０００ｎｍの波長域における透過率が５０％以上であることをいい、好ましくは７０％以上、さらに好ましくは８０％以上、特に好ましくは９０％以上である。
【０１０６】
すなわち、本発明においては、各図で示すように、フレキシブル基材（１）側から光（Ｌ）を取り出す構成では、フレキシブル基材（１）は透明材料であることが必要となり、好ましく用いられる透明なフレキシブル基材（１）としては、ガラス、石英、樹脂基材を挙げることができる。更に好ましくは、有機ＥＬ素子にフレキシブル性を付与することができ、かつ安全性の観点から樹脂基材である。
【０１０７】
本発明に適用可能な樹脂基材としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）等のポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、セロファン、セルロースジアセテート、セルローストリアセテート（略称：ＴＡＣ）、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオネート（略称：ＣＡＰ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースナイトレート等のセルロースエステル類及びそれらの誘導体、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエチレンビニルアルコール、シンジオタクティックポリスチレン、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）、ノルボルネン樹脂、ポリメチルペンテン、ポリエーテルケトン、ポリイミド、ポリエーテルスルホン（略称：ＰＥＳ）、ポリフェニレンスルフィド、ポリスルホン類、ポリエーテルイミド、ポリエーテルケトンイミド、ポリアミド、フッ素樹脂、ナイロン、ポリメチルメタクリレート、アクリル及びポリアリレート類、アートン（商品名、ＪＳＲ社製）及びアペル（商品名、三井化学社製）等のシクロオレフィン系樹脂等を挙げることができる。
【０１０８】
これら樹脂基材のうち、コストや入手の容易性の点では、ポリエチレンテレフタレート（略称：ＰＥＴ）、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート（略称：ＰＥＮ）、ポリカーボネート（略称：ＰＣ）等のフィルムが可撓性の樹脂基材として好ましく用いられる。
【０１０９】
また、フレキシブル基材は、必要に応じて、表面活性化処理が施されていてもよいし、下地層、ガスバリアー層、ハードコート層等の各機能層が設けられていてもよい。
【０１１０】
表面活性化処理としては、コロナ放電処理、火炎処理、紫外線処理、高周波処理、グロー放電処理、活性プラズマ処理、レーザー処理等が挙げられる。
【０１１１】
また、ガスバリアー層としては、従来公知の方法により形成することができる。例えば、繰り返し構造中にケイ素と酸素（Ｓｉ−Ｏ）、ケイ素と窒素（Ｓｉ−Ｎ）等の結合を有するケイ素含有ポリマーの膜を改質処理することによって形成する方法や、ハーヒドロポリシラザン等を用い、プラズマＣＶＤ法等により形成する方法を挙げることができる。
【０１１２】
下地層及びハードコート層の材料としては、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、ビニル系共重合体、ブタジエン系共重合体、アクリル系共重合体、ビニリデン系共重合体、エポキシ系共重合体等が挙げられ、なかでも紫外線硬化型樹脂を好ましく使用できる。下地層は単層でもよいが、多層構造であると密着性がより向上する。
【０１１３】
樹脂基材の厚さとしては、１０〜５００μｍの範囲内にある薄膜の樹脂基材であることが好ましいが、より好ましくは３０〜４００μｍの範囲内であり、特に好ましくは、５０〜３００μｍの範囲内である。厚さが１０μｍであれば、有機ＥＬ素子を安定して保持することができ、厚さが５００μｍ以下であれば、光治療時に発生する熱エネルギーを効率的に拡散させることができ、また、患者が衣服を着用したままでも肌に密着させることができる。
【０１１４】
また、本発明に係るフレキシブル基材（１）として適用可能な薄板フレキシブルガラスは、湾曲できるほど薄くしたガラス板である。薄板フレキシブルガラスの厚さは、薄板フレキシブルガラスがフレキシブル性を示す範囲で適宜設定できる。
【０１１５】
薄板フレキシブルガラスとしては、ソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。薄板フレキシブルガラスの厚さとしては、例えば、１０〜５００μｍの範囲であり、好ましくは５０〜３００μｍの範囲である。
【０１１６】
〔３．３：発光層〕
有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）を構成する発光層（２３）は、発光材料としてリン光発光化合物、あるいは蛍光性化合物を用いることができるが、本発明においては、特に、発光材料としてリン光発光化合物が含有されている構成が好ましい。
【０１１７】
この発光層は、電極又は電子輸送層から注入された電子と、正孔輸送層から注入された正孔とが再結合して発光する層であり、発光する部分は発光層の層内であっても発光層と隣接する層との界面であってもよい。
【０１１８】
このような発光層としては、含まれる発光材料が発光要件を満たしていれば、その構成には特に制限はない。また、同一の発光スペクトルや発光極大波長を有する層が複数層あってもよい。この場合、各発光層間には非発光性の中間層を有していることが好ましい。
【０１１９】
発光層の厚さの総和は、１〜１００ｎｍの範囲内にあることが好ましく、より低い駆動電圧を得ることができることから１〜３０ｎｍの範囲内がさらに好ましい。なお、発光層の厚さの総和とは、発光層間に非発光性の中間層が存在する場合には、当該中間層も含む厚さである。
【０１２０】
以上のような発光層は、後述する発光材料やホスト化合物を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、ＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）及びインクジェット法等の公知の方法により形成することができる。
【０１２１】
また、発光層は、複数の発光材料を混合してもよく、リン光発光材料と蛍光発光材料（蛍光ドーパント、蛍光性化合物ともいう）とを同一発光層中に混合して用いてもよい。発光層の構成としては、ホスト化合物（発光ホスト等ともいう）及び発光材料（発光ドーパント化合物ともいう。）を含有し、発光材料より発光させることが好ましい。
【０１２２】
（３．３．１：ホスト化合物）
発光層に含有されるホスト化合物としては、室温（２５℃）におけるリン光発光のリン光量子収率が０．１未満の化合物が好ましい。さらにリン光量子収率が０．０１未満であることが好ましい。また、発光層に含有される化合物の中で、その層中での体積比が５０％以上であることが好ましい。
【０１２３】
ホスト化合物としては、公知のホスト化合物を単独で用いてもよく、あるいは、複数種のホスト化合物を用いてもよい。ホスト化合物を複数種用いることで、電荷の移動を調整することが可能であり、有機電界発光素子を高効率化することができる。また、後述する発光材料を複数種用いることで、異なる発光を混ぜることが可能となり、これにより任意の発光色を得ることができる。
【０１２４】
発光層に用いられるホスト化合物としては、従来公知の低分子化合物でも、繰り返し単位をもつ高分子化合物でもよく、ビニル基やエポキシ基のような重合性基を有する低分子化合物（蒸着重合性発光ホスト）でもよい。
【０１２５】
本発明に適用可能なホスト化合物としては、例えば、特開２００１−２５７０７６号公報、同２００１−３５７９７７号公報、同２００２−８８６０号公報、同２００２−４３０５６号公報、同２００２−１０５４４５号公報、同２００２−３５２９５７号公報、同２００２−２３１４５３号公報、同２００２−２３４８８８号公報、同２００２−２６０８６１号公報、同２００２−３０５０８３号公報、米国特許出願公開第２００５／０１１２４０７号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３０２０２号明細書、国際公開第２００１／０３９２３４号、国際公開第２００８／０５６７４６号、国際公開第２００５／０８９０２５号、国際公開第２００７／０６３７５４号、国際公開第２００５／０３０９００号、国際公開第２００９／０８６０２８号、国際公開第２０１２／０２３９４７号、特開２００７−２５４２９７号公報、欧州特許第２０３４５３８号明細書等に記載されている化合物を挙げることができる。
【０１２６】
（３．３．２：発光材料）
本発明で用いることのできる発光材料としては、リン光発光性化合物（リン光性化合物、リン光発光材料又はリン光発光ドーパントともいう。）及び蛍光発光性化合物（蛍光性化合物又は蛍光発光材料ともいう。）が挙げられるが、特に、リン光発光性化合物を用いることが、高い発光効率を得ることができる観点から好ましい。
【０１２７】
〈リン光発光性化合物〉
リン光発光性化合物とは、励起三重項からの発光が観測される化合物であり、具体的には室温（２５℃）にてリン光発光する化合物であり、リン光量子収率が２５℃において０．０１以上の化合物であると定義されるが、好ましいリン光量子収率は０．１以上である。
【０１２８】
上記リン光量子収率は、第４版実験化学講座７の分光IIの３９８頁（１９９２年版、丸善）に記載の方法により測定できる。溶液中でのリン光量子収率は、種々の溶媒を用いて測定できるが、本発明においてリン光発光性化合物を用いる場合、任意の溶媒のいずれかにおいて、上記リン光量子収率として０．０１以上が達成されればよい。
【０１２９】
リン光発光性化合物は、一般的な有機ＥＬ素子の発光層に使用される公知のものの中から適宜選択して用いることができるが、好ましくは元素の周期表で８〜１０族の金属を含有する錯体系化合物であり、さらに好ましくはイリジウム化合物、オスミウム化合物、白金化合物（白金錯体系化合物）又は希土類錯体であり、中でも最も好ましいのはイリジウム化合物である。
【０１３０】
本発明においては、少なくとも一つの発光層が、二種以上のリン光発光性化合物が含有されていてもよく、発光層におけるリン光発光性化合物の濃度比が発光層の厚さ方向で変化している態様であってもよい。
【０１３１】
本発明に使用できる公知のリン光発光性化合物の具体例としては、以下の文献に記載されている化合物等が挙げられる。
【０１３２】
Ｎａｔｕｒｅ  ３９５，１５１（１９９８）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７８，  １６２２（２００１）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１９，７３９（２００７）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１７，３５３２（２００５）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１７，１０５９（２００５）、国際公開第２００９／１００９９１号、国際公開第２００８／１０１８４２号、国際公開第２００３／０４０２５７号、米国特許出願公開第２００６／８３５４６９号明細書、米国特許出願公開第２００６／０２０２１９４号明細書、米国特許出願公開第２００７／００８７３２１号明細書、米国特許出願公開第２００５／０２４４６７３号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１３３】
また、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４０，１７０４（２００１）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１６，２４８０（２００４）、Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．１６，２００３（２００４）、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．２００６，４５，７８００、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．８６，１５３５０５（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｌｅｔｔ．３４，５９２（２００５）、Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．２９０６（２００５）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４２，１２４８（２００３）、国際公開第２００９／０５０２９０号、国際公開第２００９／０００６７３号、米国特許第７３３２２３２号明細書、米国特許出願公開第２００９／００３９７７６号、米国特許第６６８７２６６号明細書、米国特許出願公開第２００６／０００８６７０号明細書、米国特許出願公開第２００８／００１５３５５号明細書、米国特許第７３９６５９８号明細書、米国特許出願公開第２００３／０１３８６５７号明細書、米国特許第７０９０９２８号明細書等に記載の化合物を挙げることができる。
【０１３４】
また、Ａｎｇｅｗ．Ｃｈｅｍ．ｌｎｔ．Ｅｄ．４７，１（２００８）、Ｃｈｅｍ．Ｍａｔｅｒ．１８，５１１９（２００６）、Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．４６，４３０８（２００７）、Ｏｒｇａｎｏｍｅｔａｌｌｉｃｓ  ２３，３７４５（２００４）、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７４，１３６１（１９９９）、国際公開第２００６／０５６４１８号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００５／１２３８７３号、国際公開第２００６／０８２７４２号、米国特許出願公開第２００５／０２６０４４１号明細書、米国特許第７５３４５０５号明細書、米国特許出願公開第２００７／０１９０３５９号明細書、米国特許第７３３８７２２号明細書、米国特許第７２７９７０４号明細書、米国特許出願公開第２００６／１０３８７４号明細書等に記載の化合物も挙げることができる。
【０１３５】
さらには、国際公開第２００５／０７６３８０号、国際公開第２００８／１４０１１５号、国際公開第２０１１／１３４０１３号、国際公開第２０１０／０８６０８９号、国際公開第２０１２／０２０３２７号、国際公開第２０１１／０５１４０４号、国際公開第２０１１／０７３１４９号、特開２００９−１１４０８６号公報、特開２００３−８１９８８号公報、特開２００２−３６３５５２号公報等に記載の化合物も挙げることができる。
【０１３６】
本発明においては、好ましいリン光発光性化合物としてはＩｒを中心金属に有する有機金属錯体が挙げられる。さらに好ましくは、金属−炭素結合、金属−窒素結合、金属−酸素結合、金属−硫黄結合の少なくとも１つの配位様式を含む錯体が好ましい。
【０１３７】
上記説明したリン光発光性化合物（リン光発光性金属錯体ともいう）は、例えば、Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｌｅｔｔｅｒ誌、ｖｏｌ３、Ｎｏ．１６、２５７９〜２５８１頁（２００１）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第３０巻、第８号、１６８５〜１６８７頁（１９９１年）、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１２３巻、４３０４頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４０巻、第７号、１７０４〜１７１１頁（２００１年）、Ｉｎｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４１巻、第１２号、３０５５〜３０６６頁（２００２年）、Ｎｅｗ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ．，第２６巻、１１７１頁（２００２年）、Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｏｒｇａｎｉｃ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，第４巻、６９５〜７０９頁（２００４年）、さらにこれらの文献中に記載されている参考文献等に開示されている方法を適用することにより合成することができる。
【０１３８】
〈蛍光発光性化合物〉
蛍光発光性化合物としては、クマリン系色素、ピラン系色素、シアニン系色素、クロコニウム系色素、スクアリウム系色素、オキソベンツアントラセン系色素、フルオレセイン系色素、ローダミン系色素、ピリリウム系色素、ペリレン系色素、スチルベン系色素、ポリチオフェン系色素又は希土類錯体系蛍光体等が挙げられる。
【０１３９】
〔３．４：有機機能層〕
次いで、有機機能層ユニットを構成する各層について、電荷注入層、正孔輸送層、電子輸送層及び阻止層の順に説明する。
【０１４０】
（３．４．１：電荷注入層）
電荷注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、電極と発光層の間に設けられる層のことで、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）にその詳細が記載されており、正孔注入層（ＨＩＬ）と電子注入層（ＥＩＬ）とがある。
【０１４１】
電荷注入層としては、一般には、正孔注入層であれば、陽極と発光層又は正孔輸送層との間、電子注入層であれば陰極と発光層又は電子輸送層との間に存在させることができるが、本発明においては、透明電極に隣接して電荷注入層を配置させることを特徴とする。また、中間電極で用いられる場合は、隣接する電子注入層及び正孔注入層の少なくとも一方が、本発明の要件を満たしていれば良い。
【０１４２】
正孔注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、透明電極である陽極に隣接して配置される層であり、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０１４３】
正孔注入層は、特開平９−４５４７９号公報、同９−２６００６２号公報、同８−２８８０６９号公報等にもその詳細が記載されており、それらの化合物を正孔注入層に用いることができる。
【０１４４】
また、特表２００３−５１９４３２号公報や特開２００６−１３５１４５号公報等に記載されているようなヘキサアザトリフェニレン誘導体も同様に正孔輸送材料として用いることができる。
【０１４５】
電子注入層は、駆動電圧低下や発光輝度向上のために、陰極と発光層との間に設けられる層のことであり、陰極が本発明に係る透明電極で構成されている場合には、当該透明電極に隣接して設けられ、「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の第２編第２章「電極材料」（１２３〜１６６頁）に詳細に記載されている。
【０１４６】
電子注入層は、特開平６−３２５８７１号公報、同９−１７５７４号公報、同１０−７４５８６号公報等にもその詳細が記載されており、これらに記載されている材料を、電子注入層に好ましく用いることができる。電子注入層はごく薄い膜であることが望ましく、構成材料にもよるが、その層厚は１ｎｍ〜１０μｍの範囲が好ましい。
【０１４７】
（３．４．２：正孔輸送層）
正孔輸送層（ＨＴＬ）とは、正孔を輸送する機能を有する正孔輸送材料からなり、広い意味で正孔注入層及び電子阻止層も正孔輸送層の機能を有する。正孔輸送層は単層又は複数層設けることができる。
【０１４８】
正孔輸送材料としては、正孔の注入又は輸送、電子の障壁性のいずれかを有するものであり、有機物、無機物のいずれであってもよい。
【０１４９】
正孔輸送材料としては、上記のものを使用することができるが、ポルフィリン化合物、芳香族第３級アミン化合物及びスチリルアミン化合物を用いることができ、特に芳香族第３級アミン化合物を用いることが好ましい。
【０１５０】
正孔輸送層は、上記正孔輸送材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びＬＢ法（ラングミュア・ブロジェット、Ｌａｎｇｍｕｉｒ  Ｂｌｏｄｇｅｔｔ法）等の公知の方法により、薄膜化することにより形成することができる。正孔輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲である。この正孔輸送層は、上記材料の一種又は二種以上からなる一層構造であってもよい。
【０１５１】
また、正孔輸送層の材料に不純物をドープすることにより、ｐ性を高くすることもできる。その例としては、特開平４−２９７０７６号公報、特開２０００−１９６１４０号公報、同２００１−１０２１７５号公報及びＪ．Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．，９５，５７７３（２００４）等に記載されたものが挙げられる。
【０１５２】
このように、正孔輸送層のｐ性を高くすると、より低消費電力の素子を作製することができるため好ましい。
【０１５３】
（３．４．３：電子輸送層）
電子輸送層（ＥＴＬ）は、電子を輸送する機能を有する材料から構成され、広い意味で電子注入層、正孔阻止層も電子輸送層に含まれる。電子輸送層は、単層構造又は複数層の積層構造として設けることができる。
【０１５４】
単層構造の電子輸送層及び積層構造の電子輸送層において、発光層に隣接する層部分を構成する電子輸送材料（正孔阻止材料を兼ねる）としては、カソードより注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれば良い。このような材料としては、従来公知の化合物の中から任意のものを選択して用いることができる。例えば、ニトロ置換フルオレン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキシド誘導体、カルボジイミド、フレオレニリデンメタン誘導体、アントラキノジメタン、アントロン誘導体及びオキサジアゾール誘導体等が挙げられる。さらに、上記オキサジアゾール誘導体において、オキサジアゾール環の酸素原子を硫黄原子に置換したチアジアゾール誘導体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有するキノキサリン誘導体も、電子輸送層の材料として用いることができる。さらにこれらの材料を高分子鎖に導入した高分子材料又はこれらの材料を高分子の主鎖とした高分子材料を用いることもできる。
【０１５５】
また、８−キノリノール誘導体の金属錯体、例えば、トリス（８−キノリノール）アルミニウム（略称：Ａｌｑ３）、トリス（５，７−ジクロロ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５，７−ジブロモ−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（２−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、トリス（５−メチル−８−キノリノール）アルミニウム、ビス（８−キノリノール）亜鉛（略称：Ｚｎｑ）等及びこれらの金属錯体の中心金属がＩｎ、Ｍｇ、Ｃｕ、Ｃａ、Ｓｎ、Ｇａ又はＰｂに置き替わった金属錯体も、電子輸送層の材料として用いることができる。
【０１５６】
電子輸送層は、上記材料を、例えば、真空蒸着法、スピンコート法、キャスト法、インクジェット法を含む印刷法及びＬＢ法等の公知の方法により、薄膜化することで形成することができる。電子輸送層の層厚については特に制限はないが、通常は５ｎｍ〜５μｍ程度、好ましくは５〜２００ｎｍの範囲内である。電子輸送層は上記材料の一種又は二種以上からなる単一構造であってもよい。
【０１５７】
（３．４．４：阻止層）
阻止層としては、正孔阻止層及び電子阻止層が挙げられ、上記説明した有機機能層ユニット３の各構成層の他に、必要に応じて設けられる層である。例えば、特開平１１−２０４２５８号公報、同１１−２０４３５９号公報、及び「有機ＥＬ素子とその工業化最前線（１９９８年１１月３０日エヌ・ティー・エス社発行）」の２３７頁等に記載されている正孔阻止（ホールブロック）層等を挙げることができる。
【０１５８】
正孔阻止層とは、広い意味では、電子輸送層の機能を有する。正孔阻止層は、電子を輸送する機能を有しつつ正孔を輸送する能力が著しく小さい正孔阻止材料からなり、電子を輸送しつつ正孔を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、電子輸送層の構成を必要に応じて、正孔阻止層として用いることができる。正孔阻止層は、発光層に隣接して設けられていることが好ましい。
【０１５９】
一方、電子阻止層とは、広い意味では、正孔輸送層の機能を有する。電子阻止層は、正孔を輸送する機能を有しつつ、電子を輸送する能力が著しく小さい材料からなり、正孔を輸送しつつ電子を阻止することで電子と正孔の再結合確率を向上させることができる。また、正孔輸送層の構成を必要に応じて電子阻止層として用いることができる。本発明に適用する正孔阻止層の層厚としては、好ましくは３〜１００ｎｍの範囲であり、さらに好ましくは５〜３０ｎｍの範囲である。
【０１６０】
〔３．５：封止部材〕
有機ＥＬ素子を封止するのに用いられる封止手段としては、例えば、フレキシブル封止部材と、陰極及び透明基材とを封止用接着剤で接着する方法を挙げることができる。
【０１６１】
封止部材としては、有機ＥＬ素子の表示領域を覆うように配置されていればよく、凹板状でも、平板状でもよい。また透明性及び電気絶縁性は特に限定されない。
【０１６２】
具体的には、フレキシブル性を備えた薄膜ガラス板、ポリマー板、フィルム、金属フィルム（金属箔）等が挙げられる。ガラス板としては、特にソーダ石灰ガラス、バリウム・ストロンチウム含有ガラス、鉛ガラス、アルミノケイ酸ガラス、ホウケイ酸ガラス、バリウムホウケイ酸ガラス、石英等を挙げることができる。また、ポリマー板としては、ポリカーボネート、アクリル、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルファイド、ポリサルフォン等を挙げることができる。金属フィルムとしては、ステンレス、鉄、銅、アルミニウム、マグネシウム、ニッケル、亜鉛、クロム、チタン、モリブテン、シリコン、ゲルマニウム及びタンタルからなる群から選ばれる一種以上の金属又は合金が挙げられる。
【０１６３】
本発明においては、封止部材としては、有機ＥＬ素子を薄膜化することできる観点から、ポリマーフィルム及び金属フィルムを好ましく使用することができる。さらに、ポリマーフィルムは、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２９−１９９２に準拠した方法で測定された温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましく、さらには、ＪＩＳ  Ｋ  ７１２６−１９８７に準拠した方法で測定された酸素透過度が、１×１０−３ｍｌ／ｍ２・２４ｈ・ａｔｍ（１ａｔｍは、１．０１３２５×１０５Ｐａである）以下であって、温度２５±０．５℃、相対湿度９０±２％ＲＨにおける水蒸気透過度が、１×１０−３ｇ／ｍ２・２４ｈ以下であることが好ましい。
【０１６４】
封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域（発光領域）との間隙には、気相及び液相では窒素、アルゴン等の不活性気体やフッ化炭化水素、シリコンオイルのような不活性液体を注入することもできる。また、封止部材と有機ＥＬ素子の表示領域との間隙を真空とすることや、間隙に吸湿性化合物を封入することもできる。
【０１６５】
また、有機ＥＬ素子における発光機能層ユニットを完全に覆い、かつ有機ＥＬ素子における第１電極である陽極（３）と、第２電極である陰極（６）の端子部分を露出させる状態で、透明基材上に封止膜を設けることもできる。
【０１６６】
以上のような封止材は、有機ＥＬ素子における第１電極である陽極（３）と、第２電極である陰極（６）の端子部分を露出させると共に、少なくとも発光機能層を覆う状態で設けられている。
【０１６７】
［４．有機ＥＬ素子の構成例］
次いで、本発明に係る有機ＥＬ素子の構成例について、先に図２及び図３を用いて説明した実施態様１を除く構成について、図を交えて説明する。
【０１６８】
〔４．１：有機ＥＬ素子の構成例２（実施態様２）〕
図４は、１つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の他の一例（実施態様２）を示す概略断面図で、前記「２．有機ＥＬ素子の代表的な構成」に記載の構成（２）として例示した、フレキシブル基材／下地層／陽極（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット〔有機機能層群１／発光層／有機機能層群２〕／陰極／封止部材の構成を示してある。
【０１６９】
図４で示す有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）では、前記図２で説明した構成に対し、透明電極である陽極（３）を銀薄膜電極で形成し、その下部に、銀原子を均一に配置するための下地層（７）を設けた構成である。
【０１７０】
このような構成においては、透明電極である陽極（３）が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成であり、陰極は光不透過性の材料で構成されている。すなわち、光取出し側である陽極（３）が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。
【０１７１】
〔４．２：有機ＥＬ素子の構成例３（実施態様３）〕
図５は、２つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の一例（実施態様３）を示す概略断面図で、前記「２．有機ＥＬ素子の代表的な構成」で記載の構成（３）として例示した、フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／中間電極／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／陰極／封止部材の構成を示してある。
【０１７２】
図５においては、有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）は、フレキシブル基板（１）上に、対向する位置で第１電極（３）と第２電極（６）が配置されている。図５に記載の構成では、第１電極（３）が透明電極である陽極であり、第２電極（６）が陰極のケースを示してある。
【０１７３】
第１電極（３、陽極）と、第２電極（６、陰極）との間には、発光層を含む有機機能層から構成される第１の有機機能層ユニット（４−Ａ）と第２の有機機能層ユニット（４−Ｂ）とが挟持され、各有機機能層ユニット間に、独立した接続端子（不図示）を有している中間電極（５）が配置されている。
【０１７４】
それぞれ、陽極（３）と中間電極（５）間は、リード線（１１−Ａ）で配線され、それぞれの接続端子に駆動電圧Ｖ１として２〜４０Ｖ程度を印加することにより、第１の有機機能層ユニット（４−Ａ）が発光する。同様に、中間電極（５）と陰極（６）間も、リード線（１１−Ｂ）で配線され、それぞれの接続端子に駆動電圧Ｖ２として２〜４０Ｖ程度を印加することにより、有機機能層ユニット（４−Ｂ）が発光する。
【０１７５】
具体的には、有機ＥＬ素子（ＯＬＥＤ）の駆動に際し、陽極（３）と中間電極（５）間に印加する駆動電圧Ｖ１、中間電極（５）と陰極（６）間に印加する駆動電圧Ｖ２は、直流電圧を印加する場合には、陽極（３）を＋の極性とし、陰極（６）を−の極性として、電圧２〜４０Ｖの範囲内で印加し、さらに中間電極（５）に対しては陽極と陰極との中間電圧を印加する。
【０１７６】
それぞれの有機機能層ユニットの発光点（ｈ）で発光した発光光（Ｌ）は、透明電極である陽極（３）側より、外部に取り出される。また、陰極（６）側に発光した光は、反射電極である陰極（６）面で反射し、同様に陽極（３）側より取り出される構成である。
【０１７７】
このような構成においては、陽極（３）又は中間電極（５）が、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であり、全ての電極が上記材料で構成されている構成が好ましい。すなわち、光取出し側である陽極（３）と中間電極（５）が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成である透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。
【０１７８】
このような図５に記載の発光層を含む有機機能層ユニットが２つ積層された積層構成を有し、高い発光効率の有機ＥＬ素子を、本発明の有機ＥＬ治療装置に適用することにより、フレキシブル基材（１）面の発光面側から、４００〜２０００ｎｍの範囲内で選択される特定の波長域の光（Ｌ）が放出される。この結果、広い範囲の治療部位に対して、光照射による発熱の影響が少なく、均一で、治療効果の高い特定の狭帯域波長の発光光（Ｌ）を照射することが可能であるため、広範囲の治療部位に対して高い治療効果の達成を期待することができる。
【０１７９】
〔４．３：有機ＥＬ素子の構成例４（実施態様４）〕
図６は、２つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の他の一例（実施態様４）を示す概略断面図で、前記「２．有機ＥＬ素子の代表的な構成」で記載の構成（４）で例示した、フレキシブル基材／下地層／陽極（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／中間電極／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／陰極／封止部材の構成を示してある。
【０１８０】
図７に示す構成は、前記図５に対し、フレキシブル基材（１）と陽極（３）との間に、下地層（７）を形成した構成である。このような構成においては、陽極（３）は、薄銀薄膜により形成されている。
【０１８１】
このような構成においては、陽極（３）及び中間電極（５）の少なくとも一つが、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であり、陽極（３）及び中間電極（５）の全ての電極が上記材料で構成されていていることが好ましい。すなわち、光取出し側である陽極（３）と中間電極（５）が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。
【０１８２】
〔有機ＥＬ素子の構成例５：実施態様５〕
図７は、２つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の他の一例（実施態様５）を示す概略断面図で、前記「２．有機ＥＬ素子の代表的な構成」で記載の構成（５）で例示した、フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／下地層／中間電極（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／陰極／封止部材の構成を示してある。
【０１８３】
図７に示す構成は、前記図５に対し、中間電極（５）と下部に下地層（７）を形成した構成である。このような構成においては、少なくとも中間電極（５）は、薄銀薄膜により形成されている。
【０１８４】
このような構成においては、陽極（３）及び中間電極（５）の少なくとも一つが、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であり、陽極（３）及び中間電極（５）の全ての電極が上記材料で構成されていていることが好ましい。すなわち、光取出し側である陽極（３）と中間電極（５）が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成の透明電極であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。
【０１８５】
〔有機ＥＬ素子の構成例６：実施態様６〕
図８は、３つの有機機能層ユニットを有する有機ＥＬ素子の構成の一例（実施態様６）を示す概略断面図で、前記「２．有機ＥＬ素子の代表的な構成」で記載の構成（６）で例示した、フレキシブル基材／陽極／有機機能層ユニット１〔有機機能層群１Ａ／発光層Ａ／有機機能層群２Ａ〕／下地層１／中間電極１（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット２〔有機機能層群１Ｂ／発光層Ｂ／有機機能層群２Ｂ〕／下地層２／中間電極２（例えば、銀薄膜電極）／有機機能層ユニット３〔有機機能層群１Ｃ／発光層Ｃ／有機機能層群２Ｃ〕／陰極の構成を示してある。
【０１８６】
図８に示す構成は、前記図７に対し、３つの有機機能層ユニットを積層した構成であり、それぞれの中間電極（５−１、５−２）と下部に、下地層（７−１、７−２）を形成した構成である。このような構成においては、少なくとも中間電極（５）は、薄銀薄膜により形成されている。
【０１８７】
このような構成においては、陽極（３）及び中間電極（５−１、５−２）の少なくとも一つが、金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成であり、陽極（３）及び中間電極（５−１、５−２）の全ての電極が上記材料で構成されていることが好ましい。すなわち、光取出し側である陽極（３）と中間電極（５−１、５−２）が金属材料又はアモルファス構造を有する金属酸化物材料を含有する構成であることが、高い光透過性と電極の優れたフレキシブル性を得ることができる観点から好ましい。
【０１８８】
《光治療法》
〔光治療法の概要〕
次いで、本発明の光治療用装置を用いる光治療法（以下、本発明に係る光治療法ともいう。）の概要について説明する。
【０１８９】
本発明でいう光治療法、あるいは光線療法とは、前述のとおり、特定の疾病に対し、光照射による治療、いわゆる光治療を行う方法であり、本発明の光治療用装置とは、上記説明した本発明に係る有機ＥＬ素子を装備した光治療に有効な光線を照射する装置である。
【０１９０】
例えば、肩こりや腰痛などの疼痛緩和や薄毛治療には、赤色光や赤外線の照射による治療が行われている。この赤外線による治療は、例えば、患部に近赤外線光の照射を行うことにより、血管を拡張させることにより組織血流を増加させ、交感神経系の興奮を抑制したり、細胞組織を活性化して創傷治癒を促進したり、炎症性サイトカインや発痛物質に働きかけて抗炎症作用や鎮痛作用をもたらしたりする。特に、水、ヘモグロビン、メラニンに対する吸収が少ない波長８００〜９００ｎｍ近傍の近赤外線領域は生体透過度に優れ、温熱効果とは異なる作用機序によって炎症抑制や疼痛緩和されることができ、また、アトピー性皮膚炎の治療には青色や紫外線の照射による治療が行われている。
【０１９１】
このように、様々な疾患の治療に対し、光を用いる方法を光線療法といい、光の照射と共に、光化学療法剤を併用する治療法を光線力学的療法（ＰＤＴ）という。このＰＤＴにおいては、光化学療法剤として知られる感光性治療剤が、身体の被処置領域に外部から又は内部から供給される。
【０１９２】
本発明に係る光治療法は、任意の病気、症候群、疾患、症状、又は光治療に反応する様々な病気の治療や美容的症状に適用することができる。
【０１９３】
光治療法を適用することが可能な治療的疾患及び美容的症状としては、例えば、皮膚疾患、並びに、皮膚の老化及びセルライトを含む皮膚に関連する症状、肥大した毛穴、油性肌、毛嚢炎、前癌状態の日光性角化症、皮膚損傷、老化、皺の多い皮膚及び太陽で傷んだ皮膚、目じりの皺、皮膚潰瘍（糖尿病性、褥瘡、静脈うっ滞）、酒さ性座瘡、セルライト；脂腺及び周辺組織の光調整、皺とり、ニキビの痕及びニキビの細菌、炎症、痛み、外傷、精神的及び神経系に関連する疾患及び症状、面皰、浮腫、パジェット病、原発腫瘍及び転移性腫瘍、結合組織病、コラーゲン処置、線維芽細胞、及び哺乳類の組織における線維芽細胞由来の細胞レベル、網膜照射、腫瘍性疾患、新生血管疾患及び肥大性疾患、炎症反応及びアレルギー反応、汗、エクリン汗腺（汗腺）又はアポクリン腺からの汗かき及び過剰な発汗（ｈｙｐｅｒ−ｈｙｄｒｏｓｉｓ）、黄疸、白斑、眼球新生血管疾患、神経性大食症、疱疹、季節性情動障害、憂うつ、睡眠障害、皮膚癌、クリーグラー・ナジャー病、アトピー性皮膚炎、糖尿病性皮膚潰瘍、褥瘡、膀胱感染症、筋肉痛の軽減、痛み、関節のこわばり、細菌の低減、歯肉炎、歯のホワイトニング、歯及び口中の組織の治療、創傷治癒が含まれる。
【０１９４】
美容的症状としては、ニキビ、肌の若返り並びに皮膚の皺、セルライト、及び、白斑、乾癬（軽度、軽度から重度、及び、重度）から選択される。
【０１９５】
〔光治療法に適用する波長〕
本発明の光治療用装置においては、有機ＥＬ素子の発光波長が４００〜２０００ｎｍの波長域にあることを特徴とする。
【０１９６】
更に、有機ＥＬ素子の発光波長としては、好ましくは４００〜１０００ｎｍ、より好ましくは４００〜９５０ｎｍ、特に好ましくは４００〜９００ｎｍの範囲である。
【０１９７】
光治療法の主たる効果の一つは、皮膚面に対し様々な波長の光を照射することにより、例えば、コリや痛みを緩和することができることが知られている。すなわち、ミトコンドリアにおける代謝の刺激である。光治療法を施した後、細胞は代謝が増大して伝達がより向上し、よいストレス等に対する耐性が向上する。
【０１９８】
本発明に係る有機ＥＬ素子は、細胞刺激のために使用することができる。細胞刺激のための好ましい波長又は波長の範囲は６００〜９００ｎｍであり、より好ましくは６２０〜８８０ｎｍであり、特に好ましくは６５０〜８７０ｎｍである。細胞刺激のための特に好ましい波長の例は、６８３．７ｎｍ、６６７．５ｎｍ、７７２．３ｎｍ、７５０．７ｎｍ、８４６ｎｍ、及び８１２．５ｎｍである。
【０１９９】
また、スキンケア及び皮膚修復のために適用される波長又は波長の範囲としては４００〜８００ｎｍの範囲が好ましく、より好ましくは４５０〜７５０ｎｍの範囲であり、更に好ましくは５００〜７００ｎｍの範囲であり、特に好ましくは５８０〜６４０ｎｍの範囲である。
【０２００】
また、ニキビの治療に用いられる有機ＥＬ素子としては、赤色光と青色光の組み合わせが特に好ましい。上記赤色光は、好ましくは５９０〜７５０ｎｍ、より好ましくは６００〜７２０ｎｍ、更に好ましくは６２０〜７００ｎｍの範囲内から選択される。ニキビの治療に好ましい２つの更なる波長は、６３３ｎｍ及び６６０ｎｍである。
【０２０１】
又、面皰の場合には、５００ｎｍの波長、又は５００〜７００ｎｍの範囲の波長を有する光を放射する有機ＥＬ素子を適用することが特に好ましい。
【０２０２】
また、セルライト（皮下脂肪）の治療又は予防のための波長は、４００〜１０００ｎｍの範囲であり、好ましくは４００〜９００ｎｍの範囲であり、より好ましくは４５０〜９００ｎｍであり、特に好ましくは５００〜８５０ｎｍである。
【０２０３】
また、皮膚の老化の治療や防止や、しわの形成を減少あるいは予防するための波長としては、４００〜９５０ｎｍの範囲である。この波長は、好ましくは５５０〜９００ｎｍの範囲であり、より好ましくは５５０〜８６０ｎｍの範囲である。
【０２０４】
また、皮膚の若返りに対して適用する有機ＥＬ素子は、７００〜１０００ｎｍの範囲、好ましくは７５０〜９００ｎｍの範囲、より好ましくは７５０〜８６０ｎｍの範囲、特に好ましくは８００〜８５０ｎｍの範囲の光を放出する有機ＥＬ素子である。
【０２０５】
また、皮膚の赤みの治療や予防のための波長は、４６０〜６６０ｎｍの範囲である。波長は、好ましくは５００〜６２０ｎｍの範囲であり、より好ましくは５４０〜５８０ｎｍの範囲である。この目的のための１つの特に好ましい波長は、５６０ｎｍである。
【０２０６】
また、皮膚炎の治療や予防のための波長は、４７０〜６７０ｎｍの範囲である。波長は、好ましくは４９０〜６５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは５３０〜６１０ｎｍの範囲である。この目的のための２つの特に好ましい波長は、５５０ｎｍと５９０ｎｍである。
【０２０７】
また、アトピー性湿疹の治療や予防のための波長は、４７０〜６７０ｎｍの範囲である。波長は、好ましくは４９０〜６５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは５３０〜６１０ｎｍの範囲である。
【０２０８】
また、浮腫の治療に使用される波長としては、好ましくは、７６０〜９４０ｎｍの範囲、より好ましくは７８０〜９２０ｎｍの範囲、更に好ましくは８００〜９００ｎｍの範囲、特に好ましくは８２０〜８８０ｎｍの範囲である。
【０２０９】
また、本発明の光治療用装置は、創傷を治療するための使用することができる。光線療法による創傷の治療に好ましい波長は、６００〜９５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは６５０〜９００ｎｍの範囲であい、特に好ましい波長は、６６０、７２０、８８０ｎｍである。
【０２１０】
また、特表２００２−５１９１６号公報に記載されているように、１９１７ｎｍの赤外線を照射することにより、免疫システムに刺激を与えることにより、正常な細胞に害を及ぼすことなしに、細胞レベルでの治療を行うことができる。
【０２１１】
また、神経系及び精神的疾患、症状の治療及び予防のための波長は、３５０〜６００ｎｍの範囲である。波長は、好ましくは４００〜５５０ｎｍの範囲であり、より好ましくは４４０〜５００ｎｍの範囲である。この目的のための好ましい２つの波長は４６０ｎｍと４８０ｎｍである。
【０２１２】
〔光線力学的療法（ＰＤＴ）〕
本発明の光治療用装置を用いる光治療法においては、有機ＥＬ素子による光照射と共に、光化学療法剤を併用する光線力学的療法（ＰＤＴ）を適用することが好ましい態様である。
【０２１３】
ＰＤＴは、治療されるべき体の領域に、光化学療法剤（ｐｈｏｔｏｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌ）として公知の感光性の療法用剤を外用または内用として与える。次に、その領域に、本発明の光治療用装置により適切な波長及び強度の光に放射して、光化学療法剤を活性化させる方法である。例えば、光化学療法剤として光増感性の物質を腫瘍細胞に取り込ませ、光を照射することにより、細胞を死滅させる腫瘍の治療方法である。より具体的には、腫瘍細胞又は腫瘍組織内の新生血管の内皮細胞内に、光増感性蛍光タンパク質等を導入し、適当な光を照射することにより、活性酸素を発生させる。この活性酸素により、腫瘍細胞又は腫瘍組織が傷害され、腫瘍が消失する方法である。
【０２１４】
上記光線力学的療法（ＰＤＴ）に適用される光化学療法剤（光増感性化合物ともいう。）としては、光活性化する光線の照射を受けて、細胞毒性の形態に変換されるか、細胞毒性種を生じさせる光増感性の物質を含有する製剤をいう。
【０２１５】
光化学療法剤は、全身投与または局所投与（例：腸管、頬、舌下、歯肉、口蓋、鼻、肺、膣、直腸あるいは眼球への送達による）いずれにも用いることができる。また、光力学療法製剤を、経口または非経口投与に適した剤形で提供することもできる。このうち局所投与する場合の光線力学療法製剤として、ゲル剤、クリーム剤、軟膏剤、スプレー剤、ローション剤、ロウ膏剤、スティック剤、石鹸剤、散剤、錠剤、フィルム剤、膣座薬、エアゾル剤、滴剤、溶液剤および当業界での従来型医薬品形態のいずれかで製剤される。局所投与または経口投与の場合、必要に応じて潤滑剤、保湿剤、乳化剤、懸濁化剤、保存剤、甘味剤、香味剤、表面浸透助剤などといった吸収促進剤をさらに含んでいてもよい。
【０２１６】
光化学療法剤としては、例えば、５−アミノレブリン酸塩酸塩（クロフォード・ファーマスーティカルズ（Ｃｒａｗｆｏｒｄ  Ｐｈａｒｍａｃｅｕｔｉｃａｌｓ））、メチルアミノレブリン酸（メトフィックス（登録商標）（Ｍｅｔｆｉｘ（登録商標））、フォトキュア（Ｐｈｏｔｏｃｕｒｅ））等の局所用剤がある。また、たとえばフォトフィン（登録商標）（Ｐｈｏｔｏｆｉｎ（登録商標））（アクスカン（Ａｘｃａｎ）から）およびフォスカン（登録商標）（Ｆｏｓｃａｎ（登録商標））（バイオリテック・リミテッド（Ｂｉｏｌｉｔｅｃｈ  Ｌｔｄ）から）など、内部の悪性疾患に対して主に用いられる注射用薬剤がある。薬剤は、不活性な形態で適用されることが多く、この薬剤は、感光性の光化学療法剤へと代謝される。
【０２１７】
〔光治療用装置のその他の機能〕
本発明の光治療用装置には、上記説明した有機ＥＬ素子と共に、必要に応じ様々な機能を付与させることができる。
【０２１８】
例えば、
１）過度の光照射を防止するための「やりすぎ防止タイマー」を設置し、有機ＥＬ素子の発熱あるいは過熱時に自動的に装置をオフにする機能を付与する方法、
２）有機ＥＬ素子の患部と対面する側に粘着層を設け、患部への貼り付け機能の付与や、粘着層に、治療剤、シップ薬であるメントール、発熱を利用するアロマ、お灸剤等を含有させる方法、
３）患部のムレ等を防止するため、患部に接する面側に、細かな穴を有するシートを、有機ＥＬ素子とやや間隔をあけて設置るする方法。この際、形成した穴部にの光照射効果を付与するためには、光取出しフィルムや内部散乱層を有する構成であることが好ましい、
４）光治療の完了を通知するため、設定時間になったら有機ＥＬ素子の発光色を変化させる調色機能を有していること、
５）放射光の色調を変えずに、光照射強度の切り替えができる機能、
６）水を使用する環境でも安全に使用することができる防水機能の付与、
７）有機ＥＬ素子として、広い発光面積を有し、かつ発光均一性が高いこと（この機能に対しては、グリッド電極を適用することが有効）、
等を挙げることができる。
【実施例】
【０２１９】
以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。なお、実施例において「％」の表示を用いるが、特に断りがない限り「質量％」を表す。
【０２２０】
実施例１
《有機ＥＬ素子の作製》
〔有機ＥＬ素子１の作製〕
下記の方法に従って、図２及び図３に記載の構成の有機ＥＬ素子１を作製した。
【０２２１】
（ガスバリアー層付フレキシブル基材の準備）
フレキシブル性基材として、ポリエチレンナフタレートフィルム（帝人デュポン社製フィルム、以下、ＰＥＮと略記する）を用い、第１電極（透明電極、陽極）を形成する側の全面に、特開２００４−６８１４３号公報に記載の構成よりなる大気圧プラズマ放電処理装置を用いて、連続してフレキシブル性基材（ＰＥＮ）上に、ＳｉＯxより構成される無機ガスバリアー層を、厚さ５００ｎｍとなるように形成し、ガスバリアー層付フレキシブル基材を作製した。
【０２２２】
（陽極１の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のＬ−４３０Ｓ−ＦＨＳスパッタ装置に装着し、Ａｒ  ２０ｓｃｃｍ、Ｏ２  ２ｓｃｃｍ、スパッタ圧０．２５Ｐａ、基材温度１５０℃、形成速度５ｎｍ／秒で、層厚が１５０ｎｍとなるようＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）をＤＣパルススパッタし、ＩＴＯより構成される透明電極である陽極１を作製した。ターゲット−基板間距離は、８６ｍｍであった。
【０２２３】
上記形成したＩＴＯより構成される陽極１を、島津製作所社製のＸ線回折装置  ＸＲＤ−７０００を用い、ＸＲＤ解析（Ｘ線回折法）を行った結果、結晶性を示す特定の回折線ピークが認められ、結晶性ＩＴＯ膜であることを確認した。
【０２２４】
（有機機能層ユニットの形成）
上記作製したフレキシブル基材の陽極１上に、下記に示す手順に従って、有機機能層ユニットを形成した。なお、フレキシブル基材は、露点−８０℃以下、酸素濃度１ｐｐｍ以下のグローブボックスにおいて乾燥させた後、グローブボックスから大気にさらすことなく有機機能層ユニットを形成する真空蒸着装置内に設置した。
【０２２５】
真空蒸着装置内の蒸着用るつぼの各々に、各層の構成材料を、各々素子作製に最適の量を充填した。蒸着用るつぼはモリブデン製又はタングステン製の抵抗加熱用材料で作製されたものを用いた。
【０２２６】
真空度１×１０−４Ｐａまで減圧した後、化合物Ｍ−２の入った蒸着用るつぼに通電して加熱し、蒸着速度０．１ｎｍ／秒でフレキシブル基材の透明電極である陽極上に蒸着し、厚さ４０ｎｍの正孔注入輸送層を形成した。
【０２２７】
次いで、化合物ＢＤ−１及び化合物Ｈ−１を、化合物ＢＤ−１が体積比で５％の濃度になるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１５ｎｍの青色発光を呈する蛍光発光層を形成した。
【０２２８】
次いで、化合物ＧＤ−１、ＲＤ−１及び化合物Ｈ−２を、化合物ＧＤ−１が体積比で１７％、ＲＤ−１が体積比で０．８％の濃度になるように蒸着速度０．１ｎｍ／秒で共蒸着し、厚さ１５ｎｍの黄色を呈するリン光発光層を形成した。
【０２２９】
その後、化合物Ｅ−１を蒸着速度０．１ｎｍ／秒で蒸着し、厚さ３０ｎｍの電子輸送層を形成した。
【０２３０】
さらに、ＬｉＦを厚さ１．５ｎｍにて形成した後に、アルミニウムを厚さ１１０ｎｍで蒸着して陰極（反射電極、光不透過性）を形成した。
【０２３１】
上記化合物Ｍ−２、ＢＤ−１、Ｈ−１、ＧＤ−１、ＲＤ−１及びＨ−２は、下記構造を有する化合物である。
【０２３２】
【化１】
2016207522.tif 000003
【０２３３】
（封止構造の作製）
形成した陽極から陰極までを被覆するように封止フィルムを貼り合わせて封止し、有機ＥＬ素子３０１を製造した。
【０２３４】
厚さ０．７ｍｍの無アルカリガラス基板に接着剤を塗布して、１２０℃で２分間乾燥し、厚さ２０μｍの接着層を形成した。この接着層に、厚さ１００μｍのアルミニウム箔を貼り合わせた、厚さ５０μｍのポリエチレンテレフタレートを貼り合わせて、封止フィルムとした。この封止フィルムを、窒素雰囲気下に２４時間以上放置した後、剥離シートを除去し、８０℃に加熱した真空ラミネーターにより、導電性フィルムの導電層を被覆するように貼り合わせた。さらに、１２０℃で３０分間加熱して封止して、有機ＥＬ素子１を作製した。
【０２３５】
〔有機ＥＬ素子２の作製〕
上記有機ＥＬ素子１の作製において、陽極１に代えて、下記の方法で形成した陽極２を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子２を作製した。
【０２３６】
（陽極２の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材上に、下記組成の陽極２形成用塗布液をダイコーターにより塗布した後、乾燥処理を施して、厚さ１００ｎｍの導電性ポリマーから構成される陽極２を形成した。乾燥処理時、赤外線ヒーターを用いた輻射伝熱乾燥を５分間行った。
【０２３７】
〈陽極２形成用塗布液の調製〉
Ｃｌｅｖｉｏｓ  ＰＨ１０００（へレウス社製のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、固形分濃度１．２％）                                                              ７０質量部
エチレングリコール                                                １５質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                                ８質量部
純水                                                                ７質量部
〔有機ＥＬ素子３の作製〕
上記有機ＥＬ素子１の作製において、陽極１に代えて、下記の方法で形成した陽極３を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子３を作製した。
【０２３８】
（陽極３の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材を真空槽の装着し、４×１０-4Ｐａまで減圧した後、銀の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で膜厚７ｎｍの銀からなる陽極３を形成した。
【０２３９】
〔有機ＥＬ素子４の作製〕
上記有機ＥＬ素子３の作製において、フレキシブル基材のガスバリアー層と陽極３との間に、下記の下地層１を形成した以外は同様にして、有機ＥＬ素子４を作製した。
【０２４０】
（下地層１の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材を真空槽の装着し、４×１０-4Ｐａまで減圧した後、窒素含有化合物である下記化合物１の入った加熱ボートを通電して加熱した。これにより、蒸着速度０．１ｎｍ／秒〜０．２ｎｍ／秒で膜厚が３ｎｍの下地層を形成した。
【０２４１】
【化２】
2016207522.tif 000004
【０２４２】
〔有機ＥＬ素子５の作製〕
上記有機ＥＬ素子３の作製において、陽極形成用の金属化合物として、銀に代えて、厚さ７ｎｍのアルミニウムを用いて、陽極５を形成した以外は同様にして有機ＥＬ素子５を作製した。
【０２４３】
〔有機ＥＬ素子６の作製〕
上記有機ＥＬ素子１の作製において、陽極１（結晶性ＩＴＯ）に代えて、下記の方法でアモルファスＩＴＯ（ａ−ＩＴＯ）により形成した陽極６を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子６を作製した。
【０２４４】
（陽極６の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のＬ−４３０Ｓ−ＦＨＳスパッタ装置に装着し、Ａｒ  ２０ｓｃｃｍ、Ｏ２  ２ｓｃｃｍ、スパッタ圧０．２５Ｐａ、室温（２５℃）下、形成速度５ｎｍ／秒で、層厚が１５０ｎｍとなるようＩＴＯ（酸化インジウム・スズ）をＤＣパルススパッタし、アモルファスＩＴＯ（ａ−ＩＴＯ）より構成される透明電極である陽極６を作製した。ターゲット−基板間距離は、８６ｍｍであった。
【０２４５】
上記形成したａ−ＩＴＯより構成される陽極６を、島津製作所社製のＸ線回折装置  ＸＲＤ−７０００を用い、ＸＲＤ解析（Ｘ線回折法）を行った結果、測定されたＸ線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の非晶性構造（アモルファス構造）であることを確認した。
【０２４６】
〔有機ＥＬ素子７の作製〕
上記有機ＥＬ素子６の作製において、陽極の形成を、アモルファスＩＴＯ（ａ−ＩＴＯ）に代えて、下記の方法で作製したアモルファスＩＺＯ（ａ−ＩＺＯ）により形成した透明電極である陽極７を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子７を作製した。
【０２４７】
（陽極７の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のＬ−４３０Ｓ−ＦＨＳスパッタ装置に装着し、Ａｒ  ２０ｓｃｃｍ、Ｏ２  ２ｓｃｃｍ、スパッタ圧０．２５Ｐａ、室温（２５℃）下、形成速度５ｎｍ／秒で、層厚が１５０ｎｍとなるようＩＺＯ（酸化インジウム・亜鉛）をＤＣパルススパッタし、アモルファスＩＺＯ（ａ−ＩＺＯ）より構成される透明電極である陽極７を作製した。ターゲット−基板間距離は、８６ｍｍであった。
【０２４８】
上記形成したａ−ＩＺＯより構成される陽極７を、島津製作所社製のＸ線回折装置  ＸＲＤ−７０００を用い、ＸＲＤ解析（Ｘ線回折法）を行った結果、測定されたＸ線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の非晶性構造（アモルファス構造）であることを確認した。
【０２４９】
〔有機ＥＬ素子８の作製〕
上記有機ＥＬ素子６の作製において、陽極の形成を、アモルファスＩＴＯ（ａ−ＩＴＯ）に代えて、下記の方法で作製したアモルファスＺｎＯ（ａ−ＺｎＯ）により形成した透明電極である陽極８を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子８を作製した。
【０２５０】
（陽極８の形成）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材をアネルバ社のＬ−４３０Ｓ−ＦＨＳスパッタ装置に装着し、Ａｒ  ２０ｓｃｃｍ、Ｏ２  ２ｓｃｃｍ、スパッタ圧０．２５Ｐａ、室温（２５℃）下、形成速度５ｎｍ／秒で、層厚が１５０ｎｍとなるようＺｎＯ（酸化亜鉛）をＤＣパルススパッタし、アモルファスＺｎＯ（ａ−ＺｎＯ）より構成される透明電極である陽極８を作製した。ターゲット−基板間距離は、８６ｍｍであった。
【０２５１】
上記形成したａ−ＺｎＯより構成される陽極８を、島津製作所社製のＸ線回折装置  ＸＲＤ−７０００を用い、ＸＲＤ解析（Ｘ線回折法）を行った結果、測定されたＸ線回折スペクトラムにおいて、ハローパターンのみが観測され、結晶性を示す特定の回折線ピークを示さない状態の非晶性構造（アモルファス構造）であることを確認した。
【０２５２】
〔有機ＥＬ素子９の作製〕
上記有機ＥＬ素子１の作製において、陽極１に代えて、下記の方法で形成した陽極９を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子９を作製した。
【０２５３】
（陽極９の形成：グリッド形状電極）
陽極９を形成するグリッドは、下記のインクジェット法により形成した。
【０２５４】
銀ナノ粒子を含有する塗布液として、インクジェット用ナノペーストＮＰＳ−ＪＬ（ハリマ化成製）を用い、ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材上に、線幅が５０μｍ、間隔が１ｍｍの金属細線をストライプ状に形成した。十分な高さが得られるように塗布液を重ねて塗布した。塗布には、コニカミノルタ社製のインクジェットヘッドＫＭ５１２ＳＨＸを取り付けた卓上型ロボット  ＳＨＯＴＭＡＳＴＥＲ３００（武蔵エンジニアリング社製）を用い、これをインクジェット評価装置ＥＢ１５０（コニカミノルタ社製）により制御した。
【０２５５】
Ｎｏｖａ  Ｃｅｎｔｒｉｘ社製のＰｕｌｓｅ  Ｆｏｒｇｅ  １３００を用いてキセノン光を照射して焼成を行い、グリッドを形成した。キセノン光は、５００μｓ周期で、２５０μｓのパルス発光により照射し、付与するエネルギーが１５００ｍＪ／ｃｍ２となるように照射量を調整した。
【０２５６】
形成したグリッドの金属細線のサイズを、高輝度非接触３次元表面形状粗さ計ＷＹＫＯ  ＮＴ９１００（日本ビーコ社製）で位置を変えて複数回測定したところ、線幅の平均値は５０μｍ、高さの平均値は１．０μｍであった。
【０２５７】
次いで、形成したグリッド上に、下記組成の導電性ポリマー層形成用塗布液をダイコーターにより塗布した後、乾燥処理を施して、厚さ１００ｎｍの導電性ポリマー層を被覆して陽極９を形成した。乾燥処理時、赤外線ヒーターを用いた輻射伝熱乾燥を５分間行った。
【０２５８】
〈導電性ポリマー層形成用塗布液の調製〉
Ｃｌｅｖｉｏｓ  ＰＨ１０００（へレウス社製のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、固形分濃度１．２％）                                                              ７０質量部
エチレングリコール                                                １５質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                                ８質量部
純水                                                                ７質量部
〔有機ＥＬ素子１０の作製〕
上記有機ＥＬ素子９の陽極９の作製において、グリッド形状電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機ＥＬ素子６の形成に用いたアモルファスＩＴＯ層（ａ−ＩＴＯ、電極６）に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１０を作製した。
【０２５９】
〔有機ＥＬ素子１１の作製〕
上記有機ＥＬ素子９の陽極９の作製において、グリッド形状電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機ＥＬ素子７の形成に用いたアモルファスＩＺＯ層（ａ−ＩＺＯ、電極７）に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１１を作製した。
【０２６０】
〔有機ＥＬ素子１２の作製〕
上記有機ＥＬ素子９の陽極９の作製において、グリッド形状電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機ＥＬ素子８の形成に用いたアモルファスＺｎＯ層（ａ−ＺｎＯ、電極８）に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１２を作製した。
【０２６１】
〔有機ＥＬ素子１３の作製〕
上記有機ＥＬ素子１の作製において、陽極１に代えて、下記の方法で形成した陽極１３を用いた以外は同様にして、有機ＥＬ素子９を作製した。
【０２６２】
（陽極１３の形成：銀ナノワイヤー電極）
ガスバリアー層を形成したフレキシブル基材上に、銀ナノワイヤーの分散液を塗布して乾燥し、銀ナノワイヤー電極を形成した。塗布は、銀ナノワイヤーの分布が０．２５ｇ／ｍ２となるように、ダイコーターを用いて行った。
【０２６３】
銀ナノワイヤーの分散液は、文献「Ａｄｖ．Ｍａｔｅｒ．，２００２，１４，８３３−８３７」に記載の方法を参考に調製した。還元剤としてエチレングリコール（関東化学社製）を使用し、形態制御剤及び保護コロイド剤としてポリビニルピロリドン（アルドリッチ社製、平均分子量１３０万）を使用して、銀の核形成と粒子形成の工程を分離して、銀ナノワイヤーを形成した。銀ナノワイヤーを形成した反応液に、分画分子量０．２μｍの限外濾過膜を用いて脱塩水洗処理を施した後、溶媒をトルエンに置換して、銀ナノワイヤーのトルエン分散液を得た。
【０２６４】
形成した銀ナノワイヤー電極上に、下記組成の導電性ポリマー層形成用塗布液をダイコーターにより塗布した後、乾燥処理を施して、厚さ１００ｎｍの導電性ポリマー層を被覆して銀ナノワイヤーを含む陽極１３を形成した。乾燥処理時、赤外線ヒーターを用いた輻射伝熱乾燥を５分間行った。
【０２６５】
〈導電性ポリマー層形成用塗布液の調製〉
Ｃｌｅｖｉｏｓ  ＰＨ１０００（へレウス社製のＰＥＤＯＴ／ＰＳＳ、固形分濃度１．２％）                                                              ７０質量部
エチレングリコール                                                １５質量部
エチレングリコールモノブチルエーテル                                ８質量部
純水                                                                ７質量部
〔有機ＥＬ素子１４の作製〕
上記有機ＥＬ素子１３の陽極１３の作製において、銀ナノワイヤー電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機ＥＬ素子６の形成に用いたアモルファスＩＴＯ層（ａ−ＩＴＯ、電極６）に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１４を作製した。
【０２６６】
〔有機ＥＬ素子１５の作製〕
上記有機ＥＬ素子１３の陽極１３の作製において、銀ナノワイヤー電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機ＥＬ素子７の形成に用いたアモルファスＩＺＯ層（ａ−ＩＺＯ、電極７）に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１５を作製した。
【０２６７】
〔有機ＥＬ素子１６の作製〕
上記有機ＥＬ素子１３の陽極１３の作製において、銀ナノワイヤー電極上に形成する導電性層を、導電性ポリマー層に代えて、有機ＥＬ素子８の形成に用いたアモルファスＺｎＯ層（ａ−ＺｎＯ、電極８）に変更した以外は同様にして、有機ＥＬ素子１６を作製した。
【０２６８】
《陽極及び有機ＥＬ素子の評価》
〔発熱抑制性の評価〕
上記作製した各有機ＥＬ素子に配線を施し、２５℃、５０％ＲＨの環境下で、５０Ａ／ｍ２の定電流を連続３０分間通電し、発光面の表面温度を非接触赤外線表面温度計（株式会社キーエンス製、超小型・小スポット赤外放射温度計ＩＴ２−５０）で測定し、通電前の表面温度をＴ１、３０分通電後の表面温度をＴ２とした時、温度上昇幅ΔＴ（Ｔ２−Ｔ１）を求め、下記の基準に従って発熱抑制性を評価した。
【０２６９】
◎：温度上昇幅ΔＴが、１０℃未満である
○：温度上昇幅ΔＴが、１０℃以上、２０℃未満である
△：温度上昇幅ΔＴが、２０℃以上、３０℃未満である
×：温度上昇幅ΔＴが、３０℃以上である
〔断線耐性の評価〕
上記作製した各有機ＥＬ素子に配線を施した後、下記の折り曲げ試験を行った。
【０２７０】
〈折り曲げ試験〉
・試験環境  ２５℃、５０％ＲＨ
・曲げ角度  Ｒ＝１０ｍｍ
・曲げ回数  １００回
・曲げ方向  光発光面側が外側及び内側になる２条件を、曲げ回数１とした
・曲げ速度  ６０回／分
〈断線の確認〉
２５℃、５０％ＲＨの環境下で、５０Ａ／ｍ２の定電流を通電し、折り曲げ試験前の電圧Ｖ１と、折り曲げ試験後の電圧Ｖ２を測定し、電圧差ΔＶ（Ｖ２−Ｖ１）を求め、下記の基準に従って断熱耐性を評価した。
【０２７１】
◎：電圧差ΔＶが、０．５Ｖ未満である
○：電圧差ΔＶが、０．５Ｖ以上、１．０Ｖ未満である
△：電圧差ΔＶが、１．０Ｖ以上、２．０Ｖ未満である
×：電圧差ΔＶが２．０Ｖ以上、又は断線している
〔導電性の評価〕
上記各有機ＥＬ素子の作製において、陽極まで形成した試料の陽極表面のシート抵抗値（Ω／□）を、抵抗率計（三菱化学アナリテック社製  ＭＣＰ−Ｔ６１０）を用い、ＪＩＳ−Ｋ７１９４に準拠して４端子４探針法定電流印加方式で測定し、下記の基準に従って導電性を評価した。
【０２７２】
◎：シート抵抗値が、３０Ω／□未満である
○：シート抵抗値が、３０Ω／□以上、１００Ω／□未満である
△：シート抵抗値が、１００Ω／□以上、２００Ω／□未満である
×：シート抵抗値が、２００Ω／□以上である
以上により得られた結果を、表１に示す。
【０２７３】
【表１】
2016207522.tif 000005
【０２７４】
表１に記載の結果より明らかなように、本発明で規定する条件を満たす透明電極を具備した有機ＥＬ素子は、比較例に対し、光発光時の放射表面の温度上昇幅小さく、折り曲げ等に対し、電圧上昇や断線がなく、かつ優れた導電性を有し、光治療用装置用の面発光光源として有効であることが分かる。
【０２７５】
上記作製した各有機ＥＬ素子を治療用の面発光光源として具備した光治療用装置を用いて、患者の頭部、首、肩、手首、腕、腹部、太もも、ひざ、足首、足の甲等、様々な形状を有する患部に対する光治療効果を検証した結果、本発明の光治療用装置は、その優れたフレキシブル性により、形状の患部の形状に正確にフィットさせることができ、高い光治療効果を得ることができると共に、光治療時の発熱が少なく、やけど等の心配のない安全で、かつ安定して高い治療効果を得ることができる光治療用装置であることを確認することができた。
【０２７６】
実施例２
実施例１における有機ＥＬ素子の構成において、図２及び図３で示す構成を、図５及び図６に示す２つの有機機能層ユニットを、中間電極を介した構成に変更した以外は同様にして、各有機ＥＬ素子２１〜３６を作製した。
【０２７７】
実施例１に記載の有機ＥＬ素子１〜３、５〜１６については、図５に記載の構成とし、陽極（３）と中間電極（５）をそれぞれ実施例１に記載の電極で構成して、有機ＥＬ素子２１〜２３、２５〜３６を作製した。
【０２７８】
また、実施例１に記載の有機ＥＬ素子４については、図６に記載の構成とし、中間電極（５）を銀薄膜電極で形成した。有機機能層ユニット４−Ａ及び４−Ｂは、実施例１に記載の有機機能層ユニットを、２つ中間電極を挟んで積層して、有機ＥＬ素子２４を作製した。
【０２７９】
上記作製した有機ＥＬ素子２１〜３６について、実施例１に記載の方法と評価を行った結果、本発明で規定する条件を満たす有機ＥＬ素子は、実施例１に対し、より高い光照射効果を得ることができ、かつ、実施例１と同様に、発熱抑制性及び断線耐性に優れ、高い導電性を有し、これを光治療用装置に具備することにより、その優れたフレキシブル性により、形状の患部の形状に正確にフィットさせることができ、高い光治療効果を得ることができると共に、光治療時の発熱が少なく、やけど等の心配のない安全で、かつ安定して高い治療効果を得ることができる光治療用装置であることを確認することができた。
【符号の説明】
【０２８０】
１  フレキシブル基材
２  患部
３  陽極（第１電極）
４、４−Ａ、４−Ｂ  有機機能層ユニット
５、５−１、５−２  中間電極
６  陰極（第２電極）
７、７−１、７−２  下地層
１１、１１−Ａ、１１−Ｂ、１１−Ｃ  リード線
１２  発光ユニット
１３  封止用接着層
１４  フレキシブル封止基材
２２  有機機能層群１
２３  発光層
２４  有機機能層群２
ＯＬＥＤ  有機ＥＬ素子
ＥＩＬ  電子注入層
ＥＴＬ  電子輸送層
ＨＩＬ  正孔注入層
ＨＴＬ  正孔輸送層
ｈ  発光点
Ｌ  発光光
Ｖ１、Ｖ２、Ｖ３  電圧
【図１】
2016207522.tif 000006
【図２】
2016207522.tif 000007
【図３】
2016207522.tif 000008
【図４】
2016207522.tif 000009
【図５】
2016207522.tif 000010
【図６】
2016207522.tif 000011
【図７】
2016207522.tif 000012
【図８】
2016207522.tif 000013