(57)【要約】      （修正有）【課題】高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる電子写真感光体ユニットを提供する。【解決手段】導電性支持体２上に、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上である下引層４と、特定電荷輸送材料６、並びに特定ポリカーボネート共重合体を含有する感光層３と、をこの順に有する電子写真感光体１と、接地される接地部材と、接地部材に接触し、接地部材と電子写真感光体における導電性支持体２とを電気的に接続する導電性部材と、を備え、電子写真感光体回転中の、導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗が２００Ω以下である電子写真感光体ユニット。【選択図】図１
2016070997.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性支持体上に、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上である下引層と、下記一般式（１）で表される化合物、並びに下記一般式（２）及び下記一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含有する感光層と、をこの順に有する電子写真感光体と、
接地される接地部材と、
前記接地部材に接触し、当該接地部材と前記電子写真感光体における導電性支持体とを電気的に接続する導電性部材と、
を備え、前記電子写真感光体回転中の、前記導電性部材と前記導電性支持体との接点における抵抗が２００Ω以下である電子写真感光体ユニット。
【化１】
2016070997.tif 000016
〔一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上３０以下のアリール基を表す。ｍ及びｎは、各々独立に、０又は１を表す。
一般式（２）及び一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。〕
【請求項２】
前記電子写真感光体における導電性支持体が円筒状であって、当該円筒状の導電性支持体の端部に挿入される絶縁性樹脂からなる挿入部材を更に有し、前記導電性部材が当該挿入部材に取り付けられた金属板である請求項１に記載の電子写真感光体ユニット。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体ユニットと、
前記電子写真感光体ユニットにおける電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置。
【請求項４】
前記帯電手段が、前記電子写真感光体の表面に接触し、直流電圧のみを利用して当該表面を帯電する帯電手段である請求項３に記載の画像形成装置。
【請求項５】
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体ユニットを少なくとも備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジ。
【請求項６】
更に、前記電子写真感光体における電子写真感光体の表面に接触し、直流電圧のみを利用して当該表面を帯電する帯電手段を備える請求項５に記載のプロセスカートリッジ。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、電子写真感光体ユニット、画像形成装置、及びプロセスカートリッジに関する。
【背景技術】
【０００２】
電子写真法による画像の形成は、感光体表面を全体に帯電させた後、この感光体表面に、画像情報に応じたレーザ光により露光して静電潜像を形成し、次いでこの静電潜像を、トナーを含む現像剤で現像してトナー像を形成し、最後にこのトナー像を記録媒体表面に転写及び定着することにより行われる。
【０００３】
電子写真法による画像形成装置に適用される感光体としては、例えば、特許文献１には、「電子写真感光体と該感光体に非接触近接配置された帯電用部材を有し、前記感光体に帯電用部材から直流電圧のみを印加することにより該感光体の表面を帯電させる電子写真装置用の電子写真感光体において、感光体の１ｃｍ２当りの静電容量Ｃが、９５ｐＦ以上であることを特徴とする電子写真感光体」が開示されている。
【０００４】
また、電子写真法による画像形成装置としては、特許文献２に、「導電性支持体と体積抵抗率が１．０×１０８Ωｃｍ以上で且つ膜厚３０μｍ以上である下引き層と感光層とをこの順に有し、最表面層として、結着樹脂と特定構造の電荷輸送材料を含んで構成された層を有する電子写真感光体と、前記電子写真感光体に接触して帯電させる帯電手段であって、直流帯電方式の帯電手段と、帯電された前記電子写真感光体を露光して静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体に形成された前記静電潜像を現像してトナー像を形成するトナー像形成手段と、前記電子写真感光体に形成された前記トナー像を被転写体に転写する転写手段と、を備えた画像形成装置。」が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平８−１６０６３９号公報
【特許文献２】特開２０１２−２０３０３３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明は、下引層及び感光層を備えた電子写真感光体と、接地される接地部材と、接地部材に接触し、接地部材と電子写真感光体における導電性支持体とを電気的に接続する導電性部材と、を備えた電子写真感光体ユニットにおいて生じる課題を解決するものである。
即ち、上記の構成の電子写真感光体ユニットにおいて、電子写真感光体の下引層の体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ未満であって導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを超える場合、電子写真感光体の感光層の電荷輸送材料としてＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンを用い、導電性部材と電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを超える場合に比べ、高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる電子写真感光体ユニットを提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題は、以下の手段により解決される。即ち、
請求項１に係る発明は、
導電性支持体上に、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上である下引層と、下記一般式（１）で表される化合物、並びに下記一般式（２）及び下記一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含有する感光層と、をこの順に有する電子写真感光体と、
接地される接地部材と、
前記接地部材に接触し、当該接地部材と前記電子写真感光体における導電性支持体とを電気的に接続する導電性部材と、
を備え、前記電子写真感光体回転中の、前記導電性部材と前記導電性支持体との接点における抵抗が２００Ω以下である電子写真感光体ユニットである。
【０００８】
【化１】
2016070997.tif 000003
【０００９】
上記一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上３０以下のアリール基を表す。ｍ及びｎは、各々独立に、０又は１を表す。
上記一般式（２）及び上記一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基、又はシクロアルキレン基を表す。
【００１０】
請求項２に係る発明は、
記電子写真感光体における導電性支持体が円筒状であって、当該円筒状の導電性支持体の端部に挿入される絶縁性樹脂からなる挿入部材を更に有し、前記導電性部材が当該挿入部材に取り付けられた金属板である請求項１に記載の電子写真感光体ユニットである。
【００１１】
請求項３に係る発明は、
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体ユニットと、
前記電子写真感光体ユニットにおける電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、
帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、
トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、
前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、
を備えた画像形成装置である。
請求項４に係る発明は、
前記帯電手段が、前記電子写真感光体の表面に接触し、直流電圧のみを利用して当該表面を帯電する帯電手段である請求項３に記載の画像形成装置である。
【００１２】
請求項５に係る発明は、
請求項１又は請求項２に記載の電子写真感光体ユニットを少なくとも備え、
画像形成装置に着脱するプロセスカートリッジである。
請求項６に係る発明は、
更に、前記電子写真感光体における電子写真感光体の表面に接触し、直流電圧のみを利用して当該表面を帯電する帯電手段を備える請求項５に記載のプロセスカートリッジである。
【発明の効果】
【００１３】
請求項１、２に係る発明によれば、電子写真感光体の下引層の体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ未満であって導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを超える場合、電子写真感光体の感光層の電荷輸送材料としてＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンを用い、導電性部材と電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを超える場合に比べ、高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる電子写真感光体ユニットが提供される。
【００１４】
請求項３、又は５に係る発明によれば、電子写真感光体の下引層の体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ未満であって導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを超える、電子写真感光体の感光層の電荷輸送材料としてＮ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンを用い、導電性部材と電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを超える電子写真感光体ユニットを備える場合に比べ、高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる画像形成装置、又はプロセスカートリッジが提供される。
請求項４、又は６に係る発明によれば、帯電手段が電子写真感光体の表面に接触し、直流電圧のみを利用して当該表面を帯電する帯電手段であっても、高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる画像形成装置、又はプロセスカートリッジが提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】本実施形態における電子写真感光体の一部の断面を示した概略図である。
【図２】本実施形態に係る電子写真感光体ユニットの構成の一例を示す概略構成図である。
【図３】電子写真感光体ユニットに用いられる導電性部材の例を説明するための構成図である。
【図４】電子写真感光体ユニットに用いられる導電性部材の例を説明するための構成図である。
【図５】本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、本発明の電子写真感光体ユニット、画像形成装置、及びプロセスカートリッジについて、一例である実施形態を示し詳細に説明する。
【００１７】
本実施形態に係る電子写真感光体ユニットは、導電性支持体上に、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上である下引層と、一般式（１）で表される化合物、並びに一般式（２）及び一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体を含有する感光層と、をこの順に有する電子写真感光体（以降、適宜、「特定感光体」と称することがある）と、接地される接地部材と、接地部材に接触し、接地部材と電子写真感光体における導電性支持体とを電気的に接続する導電性部材と、を備え、電子写真感光体回転中の、導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗が２００Ω以下である電子写真感光体ユニットである。
【００１８】
ここで、電子写真感光体回転中とは、本実施形態に係る電子写真感光体ユニットを画像形成装置に装着し、かかる画像形成装置内で電子写真感光体が回転している状態を指す。したがって、この電子写真感光体回転中には、画像形成指示を基に、画像形成装置内で電子写真感光体が回転し、帯電、露光、現像、及び転写の各プロセスを実施している状態、即ち画像形成動作中も含む。
また、電子写真感光体回転中の導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗は、以下のようにして測定されたものを指す。
即ち、電子写真感光体ユニットを装着した画像形成装置を、２８℃８５ＲＨ％の高温高湿環境下、上記に定義した電子写真感光体回転動作を実施する。その際、デジタルマルチメーター（例えば、Ｆｌｕｋｅ１７０、フルーク社製）を用いて、電子写真感光体の導電性支持体の端部の下地層及び感光層の非形成領域と接地部材（シャフト）との両者に測定端子を接続し、安定化電源（例えば、ＰＭＣ１８、菊水電子工業社製)にて、一定の電圧（例えば、１０Ｖ）を印加しながら、電子写真感光体を回転させる。そして、電子写真感光体が回転している状態での導電性支持体と接地部材（シャフト）との間の電流値を測定し、抵抗値を算出する。
なお、電子写真感光体ユニットを装着する画像形成装置が電流検出素子を具備している場合には、この電流検出素子に流れた電流値と、帯電手段に印加された電圧値と、を用いて抵抗を測定してもよい。
【００１９】
このような構成の電子写真感光体ユニットは、高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる。この効果が得られる理由は以下のように推測される。
【００２０】
電子写真方式の画像形成装置における帯電手段は、電子写真感光体に直接接触して帯電させる接触帯電方式の帯電手段と、電子写真感光体とは接触せずにコロナ放電などにより帯電させる非接触帯電方式の帯電手段と、の２種類に大別される。
非接触帯電方式の帯電手段では、放電によって副次的に、オゾンや窒素酸化物などの物質が生成されることがあるため、このような点からは、接触帯電方式の帯電手段を用いることが望ましい。
なお、接触帯電方式の中でも、直流電圧のみを利用して電子写真感光体を帯電する、所謂ＤＣ帯電と、直流電圧に更に交流電圧を重畳させて電子写真感光体を帯電させる、所謂ＡＣ／ＤＣ帯電の２種類がある。後者の場合、その強い帯電電界のために電子写真感光体へ与える負荷が大きく、電子写真感光体を磨耗させてしまう傾向があり、長期使用の点においては、ＤＣ帯電の方が有利であることが知られている。
また、ＤＣ帯電の方がより消費電力が小さくすむため、維持費の観点からは、電子写真方式の画像形成装置にはＤＣ帯電方式を用いることが望ましい。
【００２１】
電子写真感光体に対し、ＤＣ帯電の接触帯電方式の帯電手段を適用した際、電子写真感光体の軸方向に局所的な帯電ムラが生じ、この帯電ムラに起因した色線が発生してしまうことがある。
電子写真感光体を備えた画像形成装置内は、高温高湿環境下（例えば、２８℃８５ＲＨ％）では、電子写真感光体の導電性支持体から画像形成装置の接地（アース）までの間に、水分やＮＯｘなどの放電生成物など、導電性を乱す要因が数多く存在することから、電気的に不安定となり易い。
この画像形成装置内の電気的な不安定さは、接触帯電方式の帯電手段と電子写真感光体の表面との接触部手前（プレニップ部）での電子写真感光体の表面からの放電が生じ難くなるといった影響を及ぼす。その結果、電子写真感光体の表面に生じた帯電ムラが放電により均され難くなり、多くの色線が発生することとなる。
【００２２】
そこで、上記の課題に対し、本発明者らは、前述した特定感光体と接地部材と導電性部材とを備えた電子写真感光体ユニットにおいて、電子写真感光体回転中（画像形成動作中も含む）の、導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗を２００Ω以下とすることで、電子写真感光体の表面に生じる帯電ムラを小さくし、その結果として、色線の発生をも抑制しうることを見出した。
【００２３】
具体的にいえば、特定感光体は、特定の体積抵抗率を有する下引層と、一般式（１）で表される化合物、並びに一般式（２）及び一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合を含有し、電荷輸送能に優れた感光層と、を備えるため、上記の帯電ムラが生じ難い構成であるといえる。
そこに加え、電子写真感光体回転中（画像形成動作中も含む）の、導電性部材と導電性支持体との接点における抵抗が２００Ωを上回らないとしたことで、画像形成装置内が電気的に不安定となり易い高温高湿環境下であっても、その影響を受け難く、接触帯電方式の帯電手段と電子写真感光体の表面との接触部手前（プレニップ部）において、電子写真感光体の表面からの放電が生じ、電子写真感光体の表面に生じた帯電ムラが均され易いと推測される。
これらの結果、本実施形態に係る電子写真感光体ユニットは、色線の発生を抑制しうる。
【００２４】
＜電子写真感光体ユニット＞
本実施形態に係る電子写真感光体ユニットは、前述したように、特定電子写真感光体と、接地部材と、導電性部材と、を備える。
まず、各部材について説明する。
【００２５】
〔感光体〕
本実施形態における感光体は、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上である下引層と、一般式（１）で表される化合物（以下、「特定電荷輸送材料」と称することがある）、並びに一般式（２）及び一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体（以下、「特定ポリカーボネート」と称することがある）を含有する感光層を有していればよい。
中でも、特定電荷輸送材料及び特定ポリカーボネートによる優れた電荷輸送能を効果的に発現させるため、感光層は電荷発生層と電荷輸送層とが別個に設けられた機能分離型の感光層であって、かかる電荷輸送層に上記の成分が含まれることが好ましい。
【００２６】
本実施形態における感光体は、具体的な構成例としては、導電性支持体上に、下引層と電荷発生層と表面層である電荷輸送層と、をこの順に有し、必要に応じて中間層等を有する構成が挙げられる。
以下、図１を参照して、本実施形態における電子写真感光体の構成について説明する。
ここで、図１は本実施形態における電子写真感光体の一部の断面を示した概略図である。
【００２７】
図１によれば、電子写真感光体１は、電荷発生層５と電荷輸送層６とが別個に設けられた機能分離型の感光層３を備えるもので、導電性支持体２上に、下引層４、電荷発生層５、及び電荷輸送層６がこの順序で積層された構造を有している。
図１では導電性支持体２上に下引層４を介して電荷発生層５を設けた態様を示したが、下引層４がない態様であってもよい。
【００２８】
本実施形態において、絶縁性とは、体積抵抗率で１０１２Ωｃｍ以上の範囲を意味する。一方、導電性とは、体積抵抗率で１０１０Ωｃｍ以下の範囲を意味する。
以下、電子写真感光体を構成する各要素について説明する。なお、符号は省略して説明する。
【００２９】
（導電性支持体）
導電性支持体としては、例えば、金属（アルミニウム、銅、亜鉛、クロム、ニッケル、モリブデン、バナジウム、インジウム、金、白金等）又は合金（ステンレス鋼等）を含む金属板、金属ドラム、及び金属ベルト等が挙げられる。
また、導電性支持体としては、例えば、導電性化合物（例えば導電性ポリマー、酸化インジウム等）、金属（例えばアルミニウム、パラジウム、金等）又は合金を塗布、蒸着又はラミネートした紙、樹脂フィルム、ベルト等も挙げられる。
【００３０】
導電性支持体の形状は、本実施形態に係る電子写真感光体ユニットの構成をとり得るならば、特に制限はなく、例えば、上記のように、ドラム状（円筒状）、ベルト状、板状（プレート状）などがある。
【００３１】
導電性支持体の表面は、電子写真感光体がレーザプリンタに使用される場合、レーザ光を照射する際に生じる干渉縞を抑制する目的で、中心線平均粗さＲａで０．０４μｍ以上０．５μｍ以下に粗面化されていることが好ましい。なお、非干渉光を光源に用いる場合、干渉縞防止の粗面化は、特に必要ないが、導電性支持体の表面の凹凸による欠陥の発生を抑制するため、より長寿命化に適する。
【００３２】
粗面化の方法としては、例えば、研磨剤を水に懸濁させて支持体に吹き付けることによって行う湿式ホーニング、回転する砥石に導電性支持体を圧接し、連続的に研削加工を行うセンタレス研削、陽極酸化処理等が挙げられる。
【００３３】
粗面化の方法としては、導電性支持体の表面を粗面化することなく、導電性又は半導電性粉体を樹脂中に分散させて、導電性支持体の表面上に層を形成し、その層中に分散させる粒子により粗面化する方法も挙げられる。
【００３４】
陽極酸化による粗面化処理は、金属製（例えばアルミニウム製）の導電性支持体を陽極とし電解質溶液中で陽極酸化することにより導電性支持体の表面に酸化膜を形成するものである。電解質溶液としては、例えば、硫酸溶液、シュウ酸溶液等が挙げられる。しかし、陽極酸化により形成された多孔質陽極酸化膜は、そのままの状態では化学的に活性であり、汚染され易く、環境による抵抗変動も大きい。そこで、多孔質陽極酸化膜に対して、酸化膜の微細孔を加圧水蒸気又は沸騰水中（ニッケル等の金属塩を加えてもよい）で水和反応による体積膨張でふさぎ、より安定な水和酸化物に変える封孔処理を行うことが好ましい。
【００３５】
陽極酸化膜の膜厚は、例えば、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。この膜厚が上記範囲内にあると、注入に対するバリア性が発揮される傾向があり、また繰り返し使用による残留電位の上昇が抑えられる傾向にある。
【００３６】
導電性支持体には、酸性処理液による処理又はベーマイト処理を施してもよい。
酸性処理液による処理は、例えば、以下のようにして実施される。先ず、リン酸、クロム酸及びフッ酸を含む酸性処理液を調製する。酸性処理液におけるリン酸、クロム酸及びフッ酸の配合割合は、例えば、リン酸が１０質量％以上１１質量％以下の範囲、クロム酸が３質量％以上５質量％以下の範囲、フッ酸が０．５質量％以上２質量％以下の範囲であって、これらの酸全体の濃度は１３．５質量％以上１８質量％以下の範囲がよい。処理温度は例えば４２℃以上４８℃以下が好ましい。被膜の膜厚は、０．３μｍ以上１５μｍ以下が好ましい。
【００３７】
ベーマイト処理は、例えば９０℃以上１００℃以下の純水中に５分から６０分間浸漬すること、又は９０℃以上１２０℃以下の加熱水蒸気に５分から６０分間接触させて行う。被膜の膜厚は、０．１μｍ以上５μｍ以下が好ましい。これを更にアジピン酸、硼酸、硼酸塩、燐酸塩、フタル酸塩、マレイン酸塩、安息香酸塩、酒石酸塩、クエン酸塩等の被膜溶解性の低い電解質溶液を用いて陽極酸化処理してもよい。
【００３８】
（下引層）
下引層は、体積抵抗率が１．０×１０８Ω・ｃｍ以上である層であって、例えば、無機粒子と結着樹脂とを含む層である。
下引層の体積抵抗率が１．０×１０８Ωｍ未満であると、色線の発生が低減されない。
下引層の体積抵抗率は、１．０×１０８Ωｍ以上９．０×１０８Ωｍ以下が好ましく、１．０×１０８Ωｍ以上４．０×１０８Ωｍ以下がより好ましい。
【００３９】
ここで、下引層の体積抵抗率に測定方法について説明する。
本実施形態では、下引層の体積抵抗率は、交流インピーダンス法により測定する。
−測定試料の準備−
電子写真感光体から、体積抵抗率測定用の下引層試料を作製する方法は、以下の通りである。例えば、下引層を被覆している電荷発生層、及び電荷輸送層等の塗膜をアセトン、テトラヒドロフラン、メタノール、エタノール等の溶媒を用いて除去し、露出された下引層上に真空蒸着法やスパッタ法等により金電極を装着することで、体積抵抗率測定用の下引層試料とする。
【００４０】
−体積抵抗率の測定方法−
続いて、交流インピーダンス法による体積抵抗率の測定には、電源としてＳＩ１２８７  ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍｉｃａｌ  ｉｎｔｅｒｆａｃｅ（東陽テクニカ製）、電流計としてＳＩ１２６０  ｉｎｐｅｄａｎｃｅ／ｇａｉｎ  ｐｈａｓｅ  ａｎａｌｙｚｅｒ（東陽テクニカ製）、電流アンプとして１２９６  ｄｉｅｌｅｃｔｒｉｃ  ｉｎｔｅｒｆａｃｅ（東陽テクニカ製）を用いる。
交流インピーダンス測定試料におけるアルミニウム基材を陰極、金電極を陽極として、１Ｖｐ−ｐの交流電圧を周波数１ＭＨｚから１ｍＨｚまでの範囲で高周波側から印加し、各試料の交流インピーダンスを測定し、この測定より得られたＣｏｌｅ−ＣｏｌｅプロットのグラフをＲＣ並列の等価回路にフィッティングすることで体積抵抗率を算出する。
【００４１】
下引層の体積抵抗率を上記範囲に調整する方法としては、例えば、後述する無機粒子の添加量や粒径を調整したり、下引層形成用塗布液中の無機粒子の分散方法を変更したりする方法が挙げられる。
無機粒子の粒径が大きくなるにつれ、下引層の体積抵抗率は低下する傾向にある。また、無機粒子の添加量を多くするにつれ、下引層の体積抵抗率は上昇する傾向にある。また、下引層形成用塗布液中の無機粒子の分散性を向上させると、下引層の体積抵抗率は上昇する傾向にある。具体的には、下引層形成用塗布液の分散処理時間を長くするにつれ、下引層の体積抵抗率は上昇する傾向にある。
【００４２】
無機粒子としては、例えば、粉体抵抗（体積抵抗率）１０２Ωｃｍ以上１０１１Ωｃｍ以下の無機粒子が挙げられる。
これらの中でも、上記抵抗値を有する無機粒子としては、例えば、酸化錫粒子、酸化チタン粒子、酸化亜鉛粒子、酸化ジルコニウム粒子等の金属酸化物粒子がよく、特に、酸化亜鉛粒子が好ましい。
【００４３】
無機粒子のＢＥＴ法による比表面積は、例えば、１０ｍ２／ｇ以上がよい。
無機粒子の体積平均粒径は、例えば、５０ｎｍ以上２０００ｎｍ以下（好ましくは６０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下）がよい。
【００４４】
無機粒子の含有量は、例えば、結着樹脂に対して、１０質量％以上８０質量％以下であることが好ましく、より好ましくは４０質量％以上８０質量％以下である。
【００４５】
無機粒子は、表面処理が施されていてもよい。無機粒子は、表面処理の異なるもの、又は、粒子径の異なるものを２種以上混合して用いてもよい。
【００４６】
表面処理剤としては、例えば、シランカップリング剤、チタネート系カップリング剤、アルミニウム系カップリング剤、界面活性剤等が挙げられる。特に、シランカップリング剤が好ましく、アミノ基を有するシランカップリング剤がより好ましい。
【００４７】
アミノ基を有するシランカップリング剤としては、例えば、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
シランカップリング剤は、２種以上混合して使用してもよい。例えば、アミノ基を有するシランカップリング剤と他のシランカップリング剤とを併用してもよい。この他のシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルジメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４９】
表面処理剤による表面処理方法は、公知の方法であればいかなる方法でもよく、乾式法又は湿式法のいずれでもよい。
【００５０】
表面処理剤の処理量は、例えば、無機粒子に対して０．５質量％以上１０質量％以下が好ましい。
【００５１】
ここで、下引層は、無機粒子と共に電子受容性化合物（アクセプター化合物）を含有することが、電気特性の長期安定性、キャリアブロック性が高まる観点からよい。
【００５２】
電子受容性化合物としては、例えば、クロラニル、ブロモアニル等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物；２−（４−ビフェニル）−５−（４−ｔ−ブチルフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ナフチル）−１，３，４−オキサジアゾール、２，５−ビス（４−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４オキサジアゾール等のオキサジアゾール系化合物；キサントン系化合物；チオフェン化合物；３，３’，５，５’テトラ−ｔ−ブチルジフェノキノン等のジフェノキノン化合物；等の電子輸送性物質等が挙げられる。
特に、電子受容性化合物としては、アントラキノン構造を有する化合物が好ましい。アントラキノン構造を有する化合物としては、例えば、ヒドロキシアントラキノン化合物、アミノアントラキノン化合物、アミノヒドロキシアントラキノン化合物等が好ましく、具体的には、例えば、アントラキノン、アリザリン、キニザリン、アントラルフィン、プルプリン等が好ましい。
【００５３】
電子受容性化合物は、下引層中に無機粒子と共に分散して含まれていてもよいし、無機粒子の表面に付着した状態で含まれていてもよい。
【００５４】
電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着させる方法としては、例えば、乾式法、又は、湿式法が挙げられる。
【００５５】
乾式法は、例えば、無機粒子をせん断力の大きなミキサ等で攪拌しながら、直接又は有機溶媒に溶解させた電子受容性化合物を滴下、乾燥空気や窒素ガスとともに噴霧させて、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。電子受容性化合物の滴下又は噴霧するときは、溶剤の沸点以下の温度で行うことがよい。電子受容性化合物を滴下又は噴霧した後、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に制限されない。
【００５６】
湿式法は、例えば、攪拌、超音波、サンドミル、アトライター、ボールミル等により、無機粒子を溶剤中に分散しつつ、電子受容性化合物を添加し、攪拌又は分散した後、溶剤除去して、電子受容性化合物を無機粒子の表面に付着する方法である。溶剤除去方法は、例えば、ろ過又は蒸留により留去される。溶剤除去後には、更に１００℃以上で焼き付けを行ってもよい。焼き付けは電子写真特性が得られる温度、時間であれば特に限定されない。湿式法においては、電子受容性化合物を添加する前に無機粒子の含有水分を除去してもよく、その例として溶剤中で攪拌加熱しながら除去する方法、溶剤と共沸させて除去する方法が挙げられる。
【００５７】
なお、電子受容性化合物の付着は、表面処理剤による表面処理を無機粒子に施す前又は後に行ってよく、電子受容性化合物の付着と表面処理剤による表面処理と同時に行ってもよい。
【００５８】
電子受容性化合物の含有量は、例えば、無機粒子に対して０．０１質量％以上２０質量％以下がよく、好ましくは０．０１質量％以上１０質量％以下である。
【００５９】
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の公知の高分子化合物；ジルコニウムキレート化合物；チタニウムキレート化合物；アルミニウムキレート化合物；チタニウムアルコキシド化合物；有機チタニウム化合物；シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。
下引層に用いる結着樹脂としては、例えば、電荷輸送性基を有する電荷輸送性樹脂、導電性樹脂（例えばポリアニリン等）等も挙げられる。
【００６０】
これらの中でも、下引層に用いる結着樹脂としては、上層の塗布溶剤に不溶な樹脂が好適であり、特に、尿素樹脂、フェノール樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂；ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリビニルアルコール樹脂及びポリビニルアセタール樹脂からなる群から選択される少なくとも１種の樹脂と硬化剤との反応により得られる樹脂が好適である。
これら結着樹脂を２種以上組み合わせて使用する場合には、その混合割合は、必要に応じて設定される。
【００６１】
下引層には、電気特性向上、環境安定性向上、画質向上のために種々の添加剤を含んでいてもよい。
添加剤としては、多環縮合系、アゾ系等の電子輸送性顔料、ジルコニウムキレート化合物、チタニウムキレート化合物、アルミニウムキレート化合物、チタニウムアルコキシド化合物、有機チタニウム化合物、シランカップリング剤等の公知の材料が挙げられる。シランカップリング剤は前述のように無機粒子の表面処理に用いられるが、添加剤として更に下引層に添加してもよい。
【００６２】
添加剤としてのシランカップリング剤としては、例えば、ビニルトリメトキシシラン、３−メタクリルオキシプロピル−トリス（２−メトキシエトキシ）シラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルトリメトキシシラン、Ｎ−２−（アミノエチル）−３−アミノプロピルメチルメトキシシラン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−ヒドロキシエチル）−３−アミノプロピルトリエトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。
【００６３】
ジルコニウムキレート化合物としては、例えば、ジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセト酢酸エチル、ジルコニウムトリエタノールアミン、アセチルアセトネートジルコニウムブトキシド、アセト酢酸エチルジルコニウムブトキシド、ジルコニウムアセテート、ジルコニウムオキサレート、ジルコニウムラクテート、ジルコニウムホスホネート、オクタン酸ジルコニウム、ナフテン酸ジルコニウム、ラウリン酸ジルコニウム、ステアリン酸ジルコニウム、イソステアリン酸ジルコニウム、メタクリレートジルコニウムブトキシド、ステアレートジルコニウムブトキシド、イソステアレートジルコニウムブトキシド等が挙げられる。
【００６４】
チタニウムキレート化合物としては、例えば、テトライソプロピルチタネート、テトラノルマルブチルチタネート、ブチルチタネートダイマー、テトラ（２−エチルヘキシル）チタネート、チタンアセチルアセトネート、ポリチタンアセチルアセトネート、チタンオクチレングリコレート、チタンラクテートアンモニウム塩、チタンラクテート、チタンラクテートエチルエステル、チタントリエタノールアミネート、ポリヒドロキシチタンステアレート等が挙げられる。
【００６５】
アルミニウムキレート化合物としては、例えば、アルミニウムイソプロピレート、モノブトキシアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムブチレート、ジエチルアセトアセテートアルミニウムジイソプロピレート、アルミニウムトリス（エチルアセトアセテート）等が挙げられる。
【００６６】
これらの添加剤は、単独で、又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００６７】
下引層は、ビッカース硬度が３５以上であることがよい。
下引層の表面粗さ（十点平均粗さ）は、モアレ像抑制のために、使用される露光用レーザ波長λの１／４ｎ（ｎは上層の屈折率）から１／２λまでに調整されていることがよい。
表面粗さ調整のために下引層中に樹脂粒子等を添加してもよい。樹脂粒子としてはシリコーン樹脂粒子、架橋型ポリメタクリル酸メチル樹脂粒子等が挙げられる。また、表面粗さ調整のために下引層の表面を研磨してもよい。研磨方法としては、バフ研磨、サンドブラスト処理、湿式ホーニング、研削処理等が挙げられる。
【００６８】
下引層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた下引層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。
【００６９】
下引層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、公知の有機溶剤、例えば、アルコール系溶剤、芳香族炭化水素溶剤、ハロゲン化炭化水素溶剤、ケトン系溶剤、ケトンアルコール系溶剤、エーテル系溶剤、エステル系溶剤等が挙げられる。
これらの溶剤として具体的には、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等の通常の有機溶剤が挙げられる。
【００７０】
下引層形成用塗布液を調製するときの無機粒子の分散方法としては、例えば、ロールミル、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、コロイドミル、ペイントシェーカー等の公知の方法が挙げられる。
【００７１】
下引層形成用塗布液を導電性支持体上に塗布する方法としては、例えば、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００７２】
下引層の膜厚は、例えば、好ましくは１５μｍ以上、より好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００７３】
（中間層）
図示は省略するが、下引層と感光層との間に中間層を更に設けてもよい。
中間層は、例えば、樹脂を含む層である。中間層に用いる樹脂としては、例えば、アセタール樹脂（例えばポリビニルブチラール等）、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、カゼイン樹脂、ポリアミド樹脂、セルロース樹脂、ゼラチン、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、メタクリル樹脂、アクリル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、シリコーン−アルキッド樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、メラミン樹脂等の高分子化合物が挙げられる。
中間層は、有機金属化合物を含む層であってもよい。中間層に用いる有機金属化合物としては、ジルコニウム、チタニウム、アルミニウム、マンガン、ケイ素等の金属原子を含有する有機金属化合物等が挙げられる。
これらの中間層に用いる化合物は、単独で又は複数の化合物の混合物若しくは重縮合物として用いてもよい。
【００７４】
これらの中でも、中間層は、ジルコニウム原子又はケイ素原子を含有する有機金属化合物を含む層であることが好ましい。
【００７５】
中間層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた中間層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
中間層を形成する塗布方法としては、浸漬塗布法、突き上げ塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、ブレード塗布法、ナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が用いられる。
【００７６】
中間層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上３μｍ以下の範囲に設定される。なお、中間層を下引層として使用してもよい。
【００７７】
（電荷発生層）
電荷発生層は、例えば、電荷発生材料と結着樹脂とを含む層である。また、電荷発生層は、電荷発生材料の蒸着層であってもよい。電荷発生材料の蒸着層は、ＬＥＤ（Ｌｉｇｈｔ  Ｅｍｉｔｔｉｎｇ  Ｄｉｏｄｅ）、有機ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）イメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合に好適である。
【００７８】
電荷発生材料としては、ビスアゾ、トリスアゾ等のアゾ顔料；ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；ペリレン顔料；ピロロピロール顔料；フタロシアニン顔料；酸化亜鉛；三方晶系セレン等が挙げられる。
【００７９】
これらの中でも、近赤外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、金属フタロシアニン顔料、又は無金属フタロシアニン顔料を用いることが好ましい。具体的には、例えば、特開平５−２６３００７号公報、特開平５−２７９５９１号公報等に開示されたヒドロキシガリウムフタロシアニン；特開平５−９８１８１号公報等に開示されたクロロガリウムフタロシアニン；特開平５−１４０４７２号公報、特開平５−１４０４７３号公報等に開示されたジクロロスズフタロシアニン；特開平４−１８９８７３号公報等に開示されたチタニルフタロシアニンがより好ましい。
【００８０】
一方、近紫外域のレーザ露光に対応させるためには、電荷発生材料としては、ジブロモアントアントロン等の縮環芳香族顔料；チオインジゴ系顔料；ポルフィラジン化合物；酸化亜鉛；三方晶系セレン；特開２００４−７８１４７号公報、特開２００５−１８１９９２号公報に開示されたビスアゾ顔料等が好ましい。
【００８１】
４５０ｎｍ以上７８０ｎｍ以下に発光の中心波長があるＬＥＤ，有機ＥＬイメージアレー等の非干渉性光源を用いる場合にも、上記電荷発生材料を用いてもよいが、解像度の観点より、感光層を２０μｍ以下の薄膜で用いるときには、感光層中の電界強度が高くなり、基材からの電荷注入による帯電低下、いわゆる黒点と呼ばれる画像欠陥を生じやすくなる。これは、三方晶系セレン、フタロシアニン顔料等のｐ−型半導体で暗電流を生じやすい電荷発生材料を用いたときに顕著となる。
【００８２】
これに対し、電荷発生材料として、縮環芳香族顔料、ペリレン顔料、アゾ顔料等のｎ−型半導体を用いた場合、暗電流を生じ難く、薄膜にしても黒点と呼ばれる画像欠陥を抑制し得る。ｎ−型の電荷発生材料としては、例えば、特開２０１２−１５５２８２号公報の段落［０２８８］〜［０２９１］に記載された化合物（ＣＧ−１）〜（ＣＧ−２７）が挙げられるがこれに限られるものではない。
なお、ｎ−型の判定は、通常使用されるタイムオブフライト法を用い、流れる光電流の極性によって判定され、正孔よりも電子をキャリアとして流しやすいものをｎ−型とする。
【００８３】
電荷発生層に用いる結着樹脂としては、広範な絶縁性樹脂から選択され、また、結着樹脂としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン、ポリシラン等の有機光導電性ポリマーから選択してもよい。
結着樹脂としては、例えば、ポリビニルブチラール樹脂、ポリアリレート樹脂（ビスフェノール類と芳香族２価カルボン酸の重縮合体等）、ポリカーボネート樹脂、ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、ポリアミド樹脂、アクリル樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリビニルピリジン樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂、カゼイン、ポリビニルアルコール樹脂、ポリビニルピロリドン樹脂等が挙げられる。ここで、「絶縁性」とは、体積抵抗率が１０１３Ωｃｍ以上であることをいう。
これらの結着樹脂は１種を単独で又は２種以上を混合して用いられる。
【００８４】
なお、電荷発生材料と結着樹脂の配合比は、質量比で１０：１から１：１０までの範囲内であることが好ましい。
【００８５】
電荷発生層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
【００８６】
電荷発生層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷発生層形成用塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥し、必要に応じて加熱することで行う。なお、電荷発生層の形成は、電荷発生材料の蒸着により行ってもよい。電荷発生層の蒸着による形成は、特に、電荷発生材料として縮環芳香族顔料、ペリレン顔料を利用する場合に好適である。
【００８７】
電荷発生層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ベンジルアルコール、メチルセルソルブ、エチルセルソルブ、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、酢酸メチル、酢酸ｎ−ブチル、ジオキサン、テトラヒドロフラン、メチレンクロライド、クロロホルム、クロロベンゼン、トルエン等が挙げられる。これら溶剤は、１種を単独で又は２種以上を混合して用いる。
【００８８】
電荷発生層形成用塗布液中に粒子（例えば電荷発生材料）を分散させる方法としては、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル、横型サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー等のメディアレス分散機が利用される。高圧ホモジナイザーとしては、例えば、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で流路を貫通させて分散する貫通方式等が挙げられる。
なお、この分散の際、電荷発生層形成用塗布液中の電荷発生材料の平均粒径を０．５μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以下、更に好ましくは０．１５μｍ以下にすることが有効である。
【００８９】
電荷発生層形成用塗布液を下引層上（又は中間層上）に塗布する方法としては、例えばブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【００９０】
電荷発生層の膜厚は、例えば、好ましくは０．１μｍ以上５．０μｍ以下、より好ましくは０．２μｍ以上２．０μｍ以下の範囲内に設定される。
【００９１】
（電荷輸送層）
本実施形態における感光体は、表面層として、一般式（１）で表される化合物（特定電荷輸送材料）、並びに、一般式（２）及び一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体（特定ポリカーボネート）を含む電荷輸送層を有する。
かかる電荷輸送層は、特定ポリカーボネートを含む結着樹脂中に特定電荷輸送材料を含む電荷輸送材料が分散してなる層である。
【００９２】
−特定電荷輸送材料−
本実施形態では、電荷輸送材料として下記一般式（１）で表されるブタジエン構造を有する化合物を用いる。この特定電荷輸送材料を用いることで、感光体の感度を向上させ、高画質化を目的とした電荷輸送能向上が図られる。
【００９３】
【化２】
2016070997.tif 000004
【００９４】
一般式（１）中、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上２０以下のアルキル基、炭素数１以上２０以下のアルコキシ基、又は炭素数６以上３０以下のアリール基を表す。ｍ及びｎは、各々独立に、０又は１を表す。
【００９５】
前記ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素、ヨウ素などが挙げられ、これらの中でもフッ素、塩素が望ましい。
前記アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、オクチル基、オクタデシル基などの直鎖のものや、イソプロピル基、ｔ−ブチル基などの分岐鎖が挙げられ、これらの中でもメチル基、エチル基、イソプロピル基が望ましい。
前記アルコキシ基としては、例えばメトキシ基、エトキシ基などが挙げられ、これらの中でもメトキシ基が望ましい。
前記アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、フェナントリル基、ビフェニリル基などが挙げられ、これらの中でもフェニル基、ナフチル基が望ましい。
【００９６】
また、前記アルキル基、アルコキシ基、及びアリール基は、それぞれ置換基を有していてもよい。かかる置換基としては、例えば、上記に例示したハロゲン原子、アルコキシ基、アルキル基、アリール基が挙げられる。
【００９７】
なお、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６の置換位置としては、ｐ位又はｍ位が好ましい。
【００９８】
一般式（１）において、Ｒ１１、Ｒ１２、Ｒ１３、Ｒ１４、Ｒ１５、及びＲ１６としては、上記の中でも、水素原子、アルキル基、又は、アルコキシル基が好ましく、水素原子、炭素数１以上３以下のアルキル基、又は炭素数１以上３以下のアルコキシル基がより好ましく、水素原子、メチル基、メトキシ基が更に好ましい。
【００９９】
ｍ及びｎは、各々独立に、０又は１を表すが、ｍは０又は１が好ましく、ｎは０が好ましい。特に、ｍ及びｎが共に１であることが好ましい。
【０１００】
ここで、一般式（１）で表される化合物における各基の好ましい具体例として、例示化合物１−１乃至１−２０を以下に示すが、実施形態はこれら化合物に限定されるものではない。
下記の表記中、置換基に記載されている数値は置換位置を表し、即ち「４−Ｍｅ」とはメチル基が４位に置換していることを表す。
【０１０１】
【化３】
2016070997.tif 000005
【０１０２】
一般式（１）で表される化合物は、電荷輸送層の全固形分に対する含有比率が２０質量％以上８０質量％以下であることがよく、好ましくは４０質量％以上６０質量％以下である。
【０１０３】
電荷輸送層には、一般式（１）で表される化合物（特定電荷輸送材料）以外にも、他の電荷輸送材料を併用してもよい。また、他の電荷輸送材料として高分子電荷輸送材料を併用してもよい。以下、他の電荷輸送材料について説明する。
【０１０４】
−他の電荷輸送材料−
他の電荷輸送材料としては、ｐ−ベンゾキノン、クロラニル、ブロマニル、アントラキノン等のキノン系化合物；テトラシアノキノジメタン系化合物；２，４，７−トリニトロフルオレノン等のフルオレノン化合物；キサントン系化合物；ベンゾフェノン系化合物；シアノビニル系化合物；エチレン系化合物等の電子輸送性化合物が挙げられる。
また、トリアリールアミン系化合物、ベンジジン系化合物、アリールアルカン系化合物、アリール置換エチレン系化合物、スチルベン系化合物、アントラセン系化合物、ヒドラゾン系化合物等の正孔輸送性化合物も挙げられる。
これらの電荷輸送材料は１種を単独で用いてもよいし、２種以上で用いてもよい。
【０１０５】
他の電荷輸送材料としては、電荷移動度の観点から、下記構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び下記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体が好ましい。
【０１０６】
【化４】
2016070997.tif 000006
【０１０７】
構造式（ａ−１）中、ＡｒＴ１、ＡｒＴ２、及びＡｒＴ３は、各々独立に置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ６Ｈ４−Ｃ（ＲＴ４）＝Ｃ（ＲＴ５）（ＲＴ６）、又は−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）を示す。ＲＴ４、ＲＴ５、ＲＴ６、ＲＴ７、及びＲＴ８は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１０８】
【化５】
2016070997.tif 000007
【０１０９】
構造式（ａ−２）中、ＲＴ９１及びＲＴ９２は各々独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、又は炭素数１以上５以下のアルコキシ基を示す。ＲＴ１０１、ＲＴ１０２、ＲＴ１１１及びＲＴ１１２は各々独立に、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基、炭素数１以上２以下のアルキル基で置換されたアミノ基、置換若しくは無置換のアリール基、−Ｃ（ＲＴ１２）＝Ｃ（ＲＴ１３）（ＲＴ１４）、又は−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）を示し、ＲＴ１２、ＲＴ１３、ＲＴ１４、ＲＴ１５、及びＲＴ１６は各々独立に水素原子、置換若しくは無置換のアルキル基、又は置換若しくは無置換のアリール基を表す。Ｔｍ１、Ｔｍ２、Ｔｎ１及びＴｎ２は各々独立に０以上２以下の整数を示す。
上記各基の置換基としては、ハロゲン原子、炭素数１以上５以下のアルキル基、炭素数１以上５以下のアルコキシ基が挙げられる。また、上記各基の置換基としては、炭素数１以上３以下のアルキル基で置換された置換アミノ基も挙げられる。
【０１１０】
ここで、構造式（ａ−１）で示されるトリアリールアミン誘導体、及び前記構造式（ａ−２）で示されるベンジジン誘導体のうち、特に、「−Ｃ６Ｈ４−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ７）（ＲＴ８）」を有するトリアリールアミン誘導体、及び「−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ＝Ｃ（ＲＴ１５）（ＲＴ１６）」を有するベンジジン誘導体が、電荷移動度の観点で好ましい。
【０１１１】
高分子電荷輸送材料としては、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール、ポリシラン等の電荷輸送性を有する公知のものが用いられる。特に、特開平８−１７６２９３号公報、特開平８−２０８８２０号公報等に開示されているポリエステル系の高分子電荷輸送材は特に好ましい。
【０１１２】
他の電荷輸送材料の具体例としては、例えば、２，５−ビス（ｐ−ジエチルアミノフェニル）−１，３，４−オキサジアゾール等のオキサジアゾール誘導体、１，３，５−トリフェニル−ピラゾリン、１−［ピリジル−（２）］−３−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）−５−（ｐ−ジエチルアミノスチリル）ピラゾリン等のピラゾリン誘導体、トリフェニルアミン、Ｎ，Ｎ’−ビス（３，４−ジメチルフェニル）ビフェニル−４−アミン、トリ（ｐ−メチルフェニル）アミニル−４−アミン、ジベンジルアニリン等の芳香族第３級アミノ化合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン等の芳香族第３級ジアミノ化合物、３−（４’−ジメチルアミノフェニル）−５，６−ジ−（４’−メトキシフェニル）−１，２，４−トリアジン等の１，２，４−トリアジン誘導体、４−ジエチルアミノベンズアルデヒド−１，１−ジフェニルヒドラゾン等のヒドラゾン誘導体、２−フェニル−４−スチリル−キナゾリン等のキナゾリン誘導体、６−ヒドロキシ−２，３−ジ（ｐ−メトキシフェニル）ベンゾフラン等のベンゾフラン誘導体、ｐ−（２，２−ジフェニルビニル）−Ｎ，Ｎ−ジフェニルアニリン等のα−スチルベン誘導体、エナミン誘導体、Ｎ−エチルカルバゾール等のカルバゾール誘導体、ポリ−Ｎ−ビニルカルバゾール及びその誘導体などの正孔輸送物質、クロラニル、ブロモアントラキノン等のキノン系化合物、テトラシアノキノンジメタン系化合物、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロ−９−フルオレノン等のフルオレノン化合物、キサントン系化合物、チオフェン化合物等の電子輸送物質、及び上記した化合物からなる基を主鎖又は側鎖に有する重合体などが挙げられる。
【０１１３】
一般式（１）で表される化合物（特定電荷輸送材料）と他の電荷輸送材料とを併用する場合の、一般式（１）で表される化合物（特定電荷輸送材料）と他の電荷輸送材料との質量比としては、例えば、１：５から５：１の範囲が挙げられる。
【０１１４】
電荷輸送層中における結着樹脂と電荷輸送材料との質量比としては、例えば、２：８から８：２の範囲がよい。
また、電荷輸送層全体に対する電荷輸送材料の含有量としては、例えば、２０質量％以上８０質量％以下の範囲が挙げられ、４０質量％以上６０質量％以下の範囲であってもよい。
【０１１５】
−特定ポリカーボネート−
電荷輸送層は、結着樹脂として、下記一般式（２）及び下記一般式（３）で表される構造単位を有するポリカーボネート共重合体（特定ポリカーボネート）を含む。
【０１１６】
【化６】
2016070997.tif 000008
【０１１７】
一般式（２）及び一般式（３）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４は、各々独立に、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、炭素数５以上７以下のシクロアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。Ｘは、フェニレン基、ビフェニレン基、ナフチレン基、直鎖若しくは分岐アルキレン基（好ましくは炭素数１以上１２以下）、又はシクロアルキレン基（好ましくは炭素数３以上１２以下）を表す。
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、及びＲ４としては、水素原子、炭素数１以上６以下のアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基が好ましく、水素原子、メチル基、又はフェニル基が更に好ましい。
また、Ｘで表される直鎖若しくは分岐アルキレン基としては、−ＣＲ５Ｒ６−基（但し、Ｒ５及びＲ６は、各々独立に、水素原子、トリフルオロメチル基、炭素数１以上６以下のアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基を表す。）が好ましい。
【０１１８】
一般式（２）においては、Ｒ１及びＲ２が、共に水素原子である、共に炭素数１以上６以下のアルキル基である、又は共に炭素数６以上１２以下のアリール基であることが好ましく、中でも、Ｒ１及びＲ２が、共に水素原子である、共にメチル基である、又は共にフェニル基であることがより好ましい。
【０１１９】
一般式（２）で表される構造単位として、具体的には、下記構造式（２−１）で表される構造単位であることが望ましい。
【０１２０】
【化７】
2016070997.tif 000009
【０１２１】
一般式（３）においては、Ｒ２及びＲ４が、共に水素原子である、共に炭素数１以上６以下のアルキル基である、又は共に炭素数６以上１２以下のアリール基であることが好ましく、中でも、Ｒ２及びＲ４が、共に水素原子である、共にメチル基である、又は共にフェニル基であることがより好ましい。
【０１２２】
一般式（３）において、Ｘは、−ＣＲ５Ｒ６−基、炭素数５以上１１以下の１，１−シクロアルキレン基、炭素数２以上１０以下のα，ω−アルキレン基であることが好ましく、−ＣＲ５Ｒ６−基、炭素数５以上１１以下の１，１−シクロアルキレン基がより好ましく、−ＣＲ５Ｒ６−基が更に望ましい。
【０１２３】
また、−ＣＲ５Ｒ６−基中のＲ５及びＲ６は、各々独立に、炭素数１以上６以下のアルキル基、又は炭素数６以上１２以下のアリール基が望ましく、その中でもメチル基、又はフェニル基がより望ましく、メチル基が特に望ましい。
【０１２４】
一般式（３）で表される構造単位として、具体的には、下記構造式（３−１）〜（３−３）で表される構造単位であることが望ましい。
【０１２５】
【化８】
2016070997.tif 000010
【０１２６】
ここで、一般式（２）で表される構造単位と、一般式（３）で表される構造単位と、を含む共重合体であるポリカーボネート樹脂は、例えば、下記一般式（２Ａ）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物、及び下記一般式（３Ａ）で表されるビスフェノール化合物を原料として用い、ホスゲン等の炭酸エステル形成性化合物との重縮合又はビスアリールカーボネートとのエステル交換反応等の方法によって得られる。
【０１２７】
【化９】
2016070997.tif 000011
【０１２８】
一般式（２Ａ）及び（３Ａ）中、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、及びＸは、一般式（Ａ）及び一般式（Ｂ）中のものと同義である。
【０１２９】
ここで、一般式（２Ａ）で表される４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物として具体的には、４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−２，２’−ジメチルビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジシクロヘキシルビフェニル、３，３’−ジフルオロ−４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４，４’−ジヒドロキシ−３，３’−ジフェニルビフェニル等が挙げられる。これら４，４’−ジヒドロキシビフェニル化合物は、１種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。
【０１３０】
一方、一般式（３Ａ）で表されるビスフェノール化合物として具体的には、ビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、１，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）オクタン、４，４−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１，１−ジフェニルメタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルメタン、ビス（４−ヒドロキシフェニル）エーテル、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（４−ヒドロキシフェニル）スルホン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロペンタン、１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）−２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−フェニルエタン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルフィド、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）スルホン、ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、１，１−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン、２，２−ビス（２−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−３−メチルフェニル）エタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロパン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）イソブタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ヘプタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）−１−フェニルメタン、１，１−ビス（２−ｔｅｒｔ−アミル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）ブタン、ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３−クロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジフルオロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２，２−ビス（３−ブロモ−４−ヒドロキシ−５−クロロフェニル）プロパン、２，２−ビス（３，５−ジクロロ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、２，２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）ブタン、１−フェニル−１，１−ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エタン、ビス（３−フルオロ−４−ヒドロキシフェニル）エーテル、１，１−ビス（３−シクロヘキシル−４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサン等が挙げられる。これらビスフェノール化合物は、１種単独で用いてもよいし、複数併用してもよい。
【０１３１】
特定ポリカーボネートにおいて、一般式（２）で表される構造単位の共重合比は、特定ポリカーボネートを構成する全構造単位に対して５モル％以上９５モル％以下の範囲がよく、望ましくは５モル％以上５０モル％以下の範囲、更に望ましくは１５モル％以上２５モル％以下の範囲である。
【０１３２】
また、特定ポリカーボネートにおいて、一般式（２）で表される構造単位と一般式（３）で表される構造単位との共重合モル比（下記例示化合物におけるｍ：ｎ比に相当）は、例えば、一般式（Ａ）：一般式（Ｂ）＝９５：５以上５：９５以下の範囲がよく、望ましくは５０：５０以上５：９５以下の範囲、更に望ましくは３０：７０以上１０：９０以下の範囲である。
また、特定ポリカーボネートは、一般式（２）で表される構造単位及び一般式（３）で表される構造単位のみで構成されていてもよいが、その他の構造単位を含んでいてもよい。
【０１３３】
特定ポリカーボネートの具体例としては、例えば、以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、例示化合物中、ｍ、ｎは共重合モル比を示す。
【０１３４】
【化１０】
2016070997.tif 000012
【０１３５】
特定ポリカーボネートの粘度平均分子量としては、２００００以上１２０００００以下の範囲が望ましく、４００００以上１０００００以下の範囲がより望ましく、６００００以上８００００以下の範囲が更に望ましい。
【０１３６】
尚、特定ポリカーボネートの粘度平均分子量の測定は、以下の方法で行われる。
即ち、樹脂１ｇをメチレンクロライド１００ｃｍ３に溶解し、２５℃の測定環境下でウベローデ粘度計にて、その比粘度ηｓｐを測定し、ηｓｐ／ｃ＝〔η〕＋０．４５〔η〕２ｃの関係式（ただしｃは濃度（ｇ／ｃｍ３）より極限粘度〔η〕（ｃｍ３／ｇ）を求め、Ｈ．Ｓｃｈｎｅｌｌによって与えられている式、〔η〕＝１．２３×１０−４Ｍｖ０．８３の関係式より粘度平均分子量Ｍｖをもとめる一点測定法が用いられる。
【０１３７】
−その他の結着樹脂−
電荷輸送層は、結着樹脂として、前記した特定ポリカーボネート以外にも、公知の樹脂を使用してもよい。
その他の結着樹脂としては、例えば、特定ポリカーボネート以外の例えばビスフェノールＡタイプ或いはビスフェノールＺタイプ等のポリカーボネート樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、アクリロニトリル−スチレン共重合体樹脂、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体樹脂、ポリビニルアセテート樹脂、ポリビニルホルマール樹脂、ポリスルホン樹脂、スチレン−ブタジエン共重合体樹脂、塩化ビニリデン−アクリルニトリル共重合体樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル−無水マレイン酸樹脂、シリコーン樹脂、フェノール−ホルムアルデヒド樹脂、ポリアクリルアミド樹脂、ポリアミド樹脂、塩素ゴム等の絶縁性樹脂、及びポリビニルカルバゾール、ポリビニルアントラセン、ポリビニルピレン等の有機光導電性ポリマー等が挙げられる。
【０１３８】
電荷輸送層に含まれる全結着樹脂のうち、特定ポリカーボネートの含有割合は、全結着樹脂に対して、５０質量％以上１００質量％以下の範囲がよく、好ましくは８０質量％以上１００質量％以下の範囲であり、より好ましくは９２質量％以上１００質量％以下の範囲である。
電荷輸送層に含まれる結着樹脂は、特定ポリカーボネートをはじめ、単独で用いてもよいし、２種以上混合して用いてもよい。
【０１３９】
−添加剤−
電荷輸送層には、その他、周知の添加剤が含まれていてもよい。
電荷輸送層は、例えば、フッ素粒子を含んでもよい。
フッ素粒子としては、例えば、フッ素樹脂の粒子が挙げられ、フッ素樹脂としては、フッ化エチレン樹脂、３フッ化塩化エチレン樹脂、６フッ化プロピレン樹脂、フッ化ビニル樹脂、フッ化ビニリデン樹脂、２フッ化２塩化エチレン樹脂及びそれらの共重合体等が挙げられる。これらの中でも特に、４フッ化エチレン樹脂、フッ化ビニリデン樹脂が好ましい。
【０１４０】
フッ素粒子の一次粒径としては、例えば、０．０５μｍ以上１μｍ以下の範囲が挙げられ、好ましくは０．１μｍ以上０．５μｍ以下の範囲である。
【０１４１】
電荷輸送層中におけるフッ素粒子の含有量としては、例えば、２質量％以上１５質量％以下の範囲がよい。
【０１４２】
−電荷輸送層の形成−
電荷輸送層の形成は、特に制限はなく、周知の形成方法が利用されるが、例えば、上記成分を溶剤に加えた電荷輸送層形成用塗布液を調製し、この塗布液の塗膜を形成し、当該塗膜を乾燥、必要に応じて加熱することで行う。
【０１４３】
電荷輸送層形成用塗布液を調製するための溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素類；アセトン、２−ブタノン等のケトン類；塩化メチレン、クロロホルム、塩化エチレン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類；テトラヒドロフラン、エチルエーテル等の環状又は直鎖状のエーテル類等の通常の有機溶剤が挙げられる。これら溶剤は、単独で又は２種以上混合して用いる。
【０１４４】
電荷輸送層形成用塗布液中にフッ素粒子を含有させる場合、例えば、ボールミル、振動ボールミル、アトライター、サンドミル等のメディア分散機や、攪拌、超音波分散機、ロールミル、高圧ホモジナイザー、ナノマイザー等のメディアレス分散機を利用して、弗素粒子を分散させる方法が用いられる。
更に、高圧ホモジナイザーとして、高圧状態で分散液を液−液衝突や液−壁衝突させて分散する衝突方式や、高圧状態で微細な流路を貫通させて分散する貫通方式などが採用されてもよい。
【０１４５】
また、電荷輸送層形成用塗布液は、フッ素粒子の分散安定剤として、例えば、フッ素系界面活性剤や、フッ素系グラフトポリマーを含有していてもよい。フッ素系グラフトポリマーとしては、例えば、アクリル酸エステル化合物、メタクリル酸エステル化合物、スチレン化合物等からなるマクロモノマー及びパーフルオロアルキルエチルメタクリレートよりグラフト重合された樹脂等が挙げられる。
フッ素系界面活性剤やフッ素系グラフトポリマーの添加量としては、例えば、フッ素粒子の質量に対して１質量％以上５質量％以下の質量が挙げられる。
【０１４６】
電荷輸送層形成用塗布液を、下層である電荷発生層上に塗布する際の塗布方法としては、ブレード塗布法、ワイヤーバー塗布法、スプレー塗布法、浸漬塗布法、ビード塗布法、エアーナイフ塗布法、カーテン塗布法等の通常の方法が挙げられる。
【０１４７】
電荷輸送層の膜厚は、例えば、好ましくは２０μｍ以上５０μｍ以下、より好ましくは２０μｍ以上４０μｍ以下の範囲内に設定される。
【０１４８】
（感光層への添加剤）
前述した電荷発生層及び電荷輸送層からなる感光層に対しては、画像形成装置中で発生するオゾンや酸化性ガス、或いは光、熱による感光体の劣化を防止する目的で、酸化防止剤、光安定剤、熱安定剤などの添加剤を添加してもよい。
【０１４９】
酸化防止剤としては、例えば、ヒンダードフェノール、ヒンダードアミン、パラフェニレンジアミン、アリールアルカン、ハイドロキノン、スピロクロマン、スピロインダノン及びそれらの誘導体、有機硫黄化合物、有機燐化合物などが挙げられる。
【０１５０】
酸化防止剤の具体的な化合物例として、フェノール系酸化防止剤では、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、スチレン化フェノール、ｎ−オクタデシル−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシフェニル）−プロピオネート、２，２’−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２−ｔ−ブチル−６−（３’−ｔ−ブチル−５’−メチル−２’−ヒドロキシベンジル）−４−メチルフェニルアクリレート、４，４’−ブチリデン−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチル−フェノール）、４，４’−チオ−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，３，５−トリス（４−ｔ−ブチル−３−ヒドロキシ−２，６−ジメチルベンジル）イソシアヌレート、テトラキス−［メチレン−３−（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシ−フェニル）プロピオネート］−メタン、３，９−ビス［２−［３−（３−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ］−１，１−ジメチルエチル］−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ［５，５］ウンデカンなどが挙げられる。
ヒンダードアミン系化合物では、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、１−［２−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］エチル］−４−［３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシ］−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、８−ベンジル−７，７，９，９−テトラメチル−３−オクチル−１，３，８−トリアザスピロ［４，５］ウンデカン−２，４−ジオン、４−ベンゾイルオキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン、コハク酸ジメチル−１−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン重縮合物、ポリ［｛６−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）イミノ−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイミル｝｛（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝ヘキサメチレン｛（２，３，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）イミノ｝］、２−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２−ｎ−ブチルマロン酸ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−アミノプロピル）エチレンジアミン−２，４−ビス［Ｎ−ブチル−Ｎ−（１，２，２，６，６，−ペンタメチル−４ピペリジル）アミノ］−６−クロロ−１，３，５−トリアジン縮合物などが挙げられる。
有機硫黄系酸化防止剤としては、ジラウリル−３，３’−チオジプロピオネート、ジミリスチル−３，３’−チオジプロピオネート、ジステアリル−３，３’−チオジプロピオネート、ペンタエリスリトール−テトラキス−（β−ラウリル−チオプロピオネート）、ジトリデシル−３，３’−チオジプロピオネート、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが挙げられる。
有機燐系酸化防止剤としては、トリスノニルフェニルフォスフィート、トリフェニルフォスフィート、トリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）−フォスフィートなどが挙げられる。
【０１５１】
有機硫黄系及び有機燐系酸化防止剤は２次酸化防止剤と言われ、フェノール系或いはアミン系などの１次酸化防止剤と併用することにより相乗効果が得られる。
【０１５２】
光安定剤としては、例えば、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、ジチオカルバメート系、テトラメチルピペリジン系などの誘導体が挙げられる。
【０１５３】
光安定剤の具体的な化合物例として、ベンゾフェノン系光安定剤では、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−オクトキシベンゾフェノン、２，２’−ジ−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノンなどが挙げられる。
ベンゾトリアゾール系光安定剤としては、２−（−２’−ヒドロキシ−５’メチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−［２’−ヒドロキシ−３’−（３’’，４’’，５’’，６’’−テトラ−ヒドロフタルイミド−メチル）−５’−メチルフェニル］−ベンゾトリアゾール、２−（−２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル−）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ｔ−ブチルフェニル−）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−オクチルフェニル）−ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−アミルフェニル−）−ベンゾトリアゾールなどが挙げられる。
その他の化合物としては、２，４，ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾエート、ニッケルジブチル−ジチオカルバメート等がある。
【０１５４】
また、電子受容性物質を感光層に含有させてもよい。
電子受容性物質としては、例えば、無水琥珀酸、無水マレイン酸、ジブロム無水マレイン酸、無水フタル酸、テトラブロム無水フタル酸、テトラシアノエチレン、テトラシアノキノジメタン、ｏ−ジニトロベンゼン、ｍ−ジニトロベンゼン、クロラニル、ジニトロアントラキノン、トリニトロフルオレノン、ピクリン酸、ｏ−ニトロ安息香酸、ｐ−ニトロ安息香酸、フタル酸などが挙げられる。これらのうち、フルオレノン系、キノン系や、Ｃｌ、ＣＮ、ＮＯ２等の電子吸引性置換基を有するベンゼン誘導体が特によい。
【０１５５】
また、電荷輸送層及び電荷発生層を形成する際に用いる塗布液には、塗膜の平滑性向上のためのレベリング剤としてシリコーンオイルを添加してもよい。
【０１５６】
〔接地部材及び導電性部材〕
続いて、本実施形態における接地部材及び導電性部材について、図２乃至図４を参照して説明する。
図２は、本実施形態に係る電子写真感光体ユニットの構成の一例を示す概略構成図である。また、図３及び図４は、電子写真感光体ユニットに用いられる導電性部材の例を説明するための構成図である。
なお、図２では、電気的な接続を説明するため、電子写真感光体１の導電性支持体２のみを示している。
【０１５７】
図２によれば、電子写真感光体ユニット１００は、電子写真感光体１における円筒状の導電性支持体２と、シャフト（接地部材）１１０と、樹脂フランジ（絶縁性樹脂からなる挿入部材）１２０と、蓋部材１３０と、導電性部材１４０と、を有する。
円筒状の導電性支持体２の中心には、円柱形状のシャフト１１０が貫通している。
また、導電性支持体２の端部には、導電性支持体２の一方の開口を覆うように、円柱状の樹脂フランジ１２０が挿入され、また、導電性支持体２の図２の他方の開口を覆うように、円板状の蓋部材１３０が嵌め込まれている。そして、これらの樹脂フランジ１２０及び蓋部材１３０により、シャフト１１０が導電性支持体２を保持するようになっている。
ここで、樹脂フランジ１２０及び蓋部材１３０は、共に絶縁性である。
【０１５８】
導電性支持体２の内部には、樹脂フランジ１２０に取り付けられた円板状金属板からなる導電性部材１４０が設けられている。導電性部材１４０は、その中央側（シャフト１１０側）にてシャフト１１０に接触し、その外周側（導電性支持体２側）にて導電性支持体２の内周部に接触する。
この構成により、導電性支持体２とシャフト１１０とが導電性部材１４０を通じて電気的に接続される。
なお、シャフト１１０は、画像形成装置本体のアースにつながるアース接点部（図示せず）に電気的に接続している。これにより、導電性支持体２は、画像形成装置本体を通じて接地されることとなる。
【０１５９】
続いて、図３及び図４を参照して、電子写真感光体ユニットに用いられる導電性部材の例を説明する。
図３（Ａ）中の導電性部材１４０Ａは、図２中の導電性部材１４０に相当する。
図３（Ａ）に示す導電性部材１４０Ａは、樹脂フランジ１２０への取り付け部Ｂにて樹脂フランジ１２０に取り付けられている。
また、導電性部材１４０の中央側（シャフト１１０側）には、シャフト１１０に接触する部位の接触部Ａがあり、導電性部材１４０の外周側（導電性支持体２側）には、導電性支持体２の内周部に接触する接触部Ｃがある。
図４（Ａ）は、図３（Ａ）に示す導電性部材１４０Ａを矢印方向から見た図である。
図４（Ａ）に示すように、導電性部材１４０Ａは、２つ矩形状の接触部Ａにてシャフト１１０に接触し、２つの矩形状の接触部Ｃにて導電性支持体２の内周部に接触する形態を有する。
ここで、接触部Ａとシャフト１１０との接触形態、及び接触部Ｃと導電性支持体２の内周部との接触形態は、特に限定されず、図４（Ａ）に示すように、周方向において何か所かが接触していてもよいし、シャフト１１０及び導電性支持体２の内周部の全周に亘って接触していてもよい。
【０１６０】
本実施形態では、導電性部材１４０の接触部Ａとシャフト１１０との接点における抵抗が２００Ω以下である。
このような抵抗とするためには、図３（Ａ）に示すように円板状金属板からなる導電性部材１５０であれば、シャフト１１０に接する導電性部材１４０の押圧を大きくし、電子写真感光体回転中（画像形成動作中も含む）においてもシャフト１１０と導電性部材１４０との接触面積を確保するといった手段が用いられる。
【０１６１】
図３（Ｂ）に示す導電性部材１４０Ｂは、図３（Ａ）に示す導電性部材１４０Ａの構成に加え、シャフト１１０に接触する部位の接触部Ａに、導電性樹脂によるチップ１５０が設けられた構成である。
この構成では、チップ１５０を介して、導電性部材１４０とシャフト１１０とが接触し、電気的に接続されることとなる。
このように、樹脂製のチップ１５０が設けられることで、チップ１５０とシャフト１１０との接点では、シャフト１１０の回転と共にチップ１５０が摩耗することで、抵抗が上がり難く、その結果、チップ１５０とシャフト１１０との接点における抵抗が２００Ω以下となる。
図４（Ｂ）は、図３（Ｂ）に示す導電性部材１４０Ｂを矢印方向から見た図である。
図４（Ｂ）に示すように、導電性部材１４０Ｂは、２つ矩形状の接触部Ａに設けられたチップ１５０がシャフト１１０に接触し、２つの矩形状の接触部Ｃにて導電性支持体２の内周部に接触する形態を有する。
ここで、接触部Ａ（チップ１５０）とシャフト１１０との接触形態、及び接触部Ｃと導電性支持体２の内周部との接触形態は、特に限定されず、図４（Ｂ）に示すように、周方向において何か所かが接触していてもよいし、シャフト１１０及び導電性支持体２の内周部の全周に亘って接触していてもよい。
ここで、チップ１５０に用いる導電性樹脂としては、例えば、アセタール樹脂、フィラー分散ポリアミド樹脂、フィラー分散ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）樹脂等が挙げられる
【０１６２】
図３（Ｃ）では、樹脂フランジ１３０に導電性部材が取り付けられていない例を示している。
このような場合は、例えば、シャフト１１０と導電性支持体２とを導電性支持体の端部（下地層及び感光層の非形成領域）や外周側で電気的に接続する構成が採用される。例えば、図示されない導電性部材の一端を、導電性支持体の感光層が設けられていない端部に接触させ、更に、他端をシャフト（接地部材）の端部に接触させる方法である。
この構成では、図示しない導電性部材によりとシャフト１１０と導電性支持体２とが、導電性支持体２の外側にて電気的に接続されることとなる。
この構成であると、導通確保のためには、導電性部材を長く、大きくする必要があるため、導電性部材自身の抵抗の影響を受けてしまう。更には、特にＡＣ帯電を印加する装置では、導電性部材中に誘導電流が発生し、抵抗がより不安定となり、シャフト（接地部材）と導電性部材との接点における抵抗が２００Ωを超えてしまうことが多い。
【０１６３】
本実施形態において、導電性支持体とシャフト（接地部材）との導電性部材による電気的な接続形態は、上記の例に限定されない。
例えば、シャフトは回転せず、導電性支持体がかかる導電性支持体に固定された導電性部材と共に回転する構成であってもよい。
また、シャフトは、導電性支持体を貫通していなくともよい。
【０１６４】
＜画像形成装置＞
本実施形態に係る画像形成装置は、前述の本実施形態に係る電子写真感光体ユニットと、前記電子写真感光体ユニットにおける電子写真感光体の表面を帯電する帯電手段と、帯電した前記電子写真感光体の表面に静電潜像を形成する静電潜像形成手段と、トナーを含む現像剤により、前記電子写真感光体の表面に形成された静電潜像を現像してトナー像を形成する現像手段と、前記トナー像を記録媒体の表面に転写する転写手段と、を備えた画像形成装置である。
このような構成とすることで、高温高湿環境下での色線の発生を抑制しうる画像形成装置となる。
【０１６５】
本実施形態に係る画像形成装置は、記録媒体の表面に転写されたトナー像を定着する定着手段を備える装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を直接記録媒体に転写する直接転写方式の装置；電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写し、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する中間転写方式の装置；トナー像の転写後、帯電前に像保持体の表面に除電光を照射して除電する除電手段を備える装置；電子写真感光体の温度を上昇させ、相対温度を低減させるための電子写真感光体加熱部材を備える装置等の周知の画像形成装置が適用される。
【０１６６】
中間転写方式の装置の場合、転写手段は、例えば、表面にトナー像が転写される中間転写体と、電子写真感光体の表面に形成されたトナー像を中間転写体の表面に一次転写する一次転写手段と、中間転写体の表面に転写されたトナー像を記録媒体の表面に二次転写する二次転写手段と、を有する構成が適用される。
【０１６７】
本実施形態に係る画像形成装置は、乾式現像方式の画像形成装置、湿式現像方式（液体現像剤を利用した現像方式）の画像形成装置のいずれであってもよい。
【０１６８】
なお、本実施形態に係る画像形成装置において、例えば、電子写真感光体を備える部分が、画像形成装置に対して脱着されるカートリッジ構造（プロセスカートリッジ）であってもよい。プロセスカートリッジとしては、例えば、前述の本実施形態に係る電子写真感光体ユニットを備えるプロセスカートリッジ（本実施形態に係るプロセスカートリッジ）が好適に用いられる。なお、このプロセスカートリッジには、電子写真感光体ユニット以外に、例えば、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段からなる群から選択される少なくとも１つの手段を備えてもよい。
【０１６９】
以下、図５を参照して、本実施形態に係る画像形成装置の一例を具体的に説明する。
ここで、図５は、本実施形態に係る画像形成装置の一例を示す概略構成図である。なお、図に示す主要部を説明し、その他はその説明を省略する。
【０１７０】
図５に示す画像形成装置２００は中間転写方式の画像形成装置であり、ハウジング４００内において４つの感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄが中間転写ベルト４０９に沿って相互に並列に配置されている。例えば、感光体１ａがイエロー、感光体１ｂがマゼンタ、感光体１ｃがシアン、感光体１ｄがブラックの色からなる画像をそれぞれ形成する。
【０１７１】
ここで、画像形成装置２００に搭載されている感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄは、それぞれ、前述の本実施形態に係る電子写真感光体ユニットにおける電子写真感光体である。  画像形成装置２００において、電子写真感光体ユニットにおける接地部材は、画像形成装置本体のアースにつながるアース接点部（図示せず）に電気的に接続し、接地した状態となっている。
【０１７２】
感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄは、それぞれ一方向（紙面上は反時計回り）に回転し、その回転方向に沿って帯電ロール（帯電手段）４０２ａ，４０２ｂ，４０２ｃ，４０２ｄ、現像装置（現像手段）４０４ａ，４０４ｂ，４０４ｃ，４０４ｄ、一次転写ロール（転写手段）４１０ａ，４１０ｂ，４１０ｃ，４１０ｄ、クリーニング手段４１８ａ，４１８ｂ，４１８ｃ，４１８ｄが配置されている。
また、一次転写ロール４１０ａ，４１０ｂ，４１０ｃ，４１０ｄはそれぞれ中間転写ベルト４０９を介して電子写真感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄに接している。
【０１７３】
図５に示すように、ハウジング４００内には、更に、トナーカートリッジ４０５ａ，４０５ｂ，４０５ｃ，４０５ｄ、及びレーザ光源（静電潜像形成手段）４０３が設置されている。
トナーカートリッジ４０５ａ，４０５ｂ，４０５ｃ，４０５ｄはそれぞれブラック、イエロー、マゼンタ、シアンの４色のトナーを収容しており、この４色のトナーは現像装置４０４ａ，４０４ｂ，４０４ｃ，４０４ｄにより、感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄのそれぞれに対し供給される。
また、レーザ光源４０３から出射されたレーザ光は、帯電後の感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの表面を照射する。
【０１７４】
画像形成装置２００では、感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄの回転に伴い、帯電、露光（静電潜像形成）、現像、一次転写、クリーニング（トナー等の異物、残留物の除去）の各工程が順次行われる。
この各工程が、感光体１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄのそれぞれで行われることで、各色のトナー像が中間転写ベルト４０９上に重ねて転写される。
ここで、中間転写ベルト４０９は、駆動ロール４０６、背面ロール４０８及び支持ロール４０７によって張力をもって支持されており、これらのロールの回転によりたわみを生じることなく回転する。
【０１７５】
図５に示すように、ハウジング４００内には、加えて、記録媒体Ｐを収容する容器４１１、記録媒体Ｐを移送する移送ロール４１２、二次転写ロール４１３、及び定着ロール対４１４が設置されている。
容器４１１内に収容されている紙などの記録媒体Ｐは、移送ロール４１２により中間転写ベルト４０９と二次転写ロール４１３との間、更には相互に接する２個ロールからなる定着ロール対４１４の間に順次移送された後、ハウジング４００の外部に排出される。
【０１７６】
二次転写ロール４１３は、中間転写ベルト４０９を介して背面ロール４０８と接するように配置されている。
背面ロール４０８と二次転写ロール４１３との間を通った中間転写ベルト４０９は、例えば、駆動ロール４０６の近傍に配置されたクリーニングブレード４１６により清浄面化された後、次の画像形成プロセスに繰り返し供される。
【０１７７】
続いて、画像形成装置における主な構成部材である、電子写真感光体以外の、帯電手段、静電潜像形成手段、現像手段、転写手段、中間転写体、及びクリーニング手段についてより具体的に説明する。
なお、符号は省略して説明する。
【０１７８】
〔帯電手段〕
帯電手段としては、図５に示すように、画像形成装置２００においては、帯電ロール４０２ａ，４０２ｂ，４０２ｃ，４０２ｄを用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
帯電手段の他の例としては、例えば、帯電ブラシ、帯電フィルム、帯電ゴムブレード、帯電チューブ等を用いた接触型帯電器が使用されてもよい。
また、非接触方式のローラ帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン帯電器やコロトロン帯電器等のそれ自体公知の帯電器等が用いられてもよい。
【０１７９】
本実施形態においては、色線が発生し易い接触型帯電手段を用い、直流電流を印加のみを印加する帯電方式と、前述の本実施形態に係る電子写真感光体ユニットとを組み合わせることで、色線の発生を抑制する効果がより効果的に得られる。
接触型帯電手段としては、帯電特性・汎用性の点から、図５に示す帯電ロールを用いる構成が好ましい。
ここで、帯電ロールとしては、例えば、導電性支持体上に、導電性弾性層と、必要に応じて、表面層とが順次形成されたものである。
【０１８０】
〔静電潜像形成手段〕
露光手段としては、例えば、電子写真感光体の表面に、定められた像様の静電潜像を形成しうる光学系機器等が挙げられる。
図５に示すように、画像形成装置２００においては、レーザ光源４０３を静電潜像形成手段として用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
静電潜像形成手段としては、半導体レーザ光、ＬＥＤ光、液晶シャッタ光等の露光光源が用いられる。
光源の波長は、電子写真感光体の分光感度領域内とする。
半導体レーザ光の波長としては、７８０ｎｍ付近に発振波長を有する近赤外が主流である。しかし、この波長に限定されず、６００ｎｍ台の発振波長レーザや青色レーザとして４００ｎｍ以上４５０ｎｍ以下に発振波長を有するレーザも利用してもよい。また、カラー画像形成のためにはマルチビームを出力し得るタイプの面発光型のレーザ光源も有効である。
【０１８１】
〔現像手段〕
現像手段としては、例えば、現像剤を接触又は非接触させて現像する一般的な現像装置が挙げられる。
現像装置としては、上述の機能を有している限り特に制限はなく、目的に応じて選択される。例えば、一成分系現像剤又は二成分系現像剤をブラシ、ローラ等を用いて電子写真感光体に付着させる機能を有する公知の現像器等が挙げられる。中でも、現像剤を表面に保持した現像ローラを用いるものが好ましい。
【０１８２】
ここで、現像手段（現像装置）に使用される現像剤は、トナー単独の一成分系現像剤であってもよいし、トナーとキャリアとを含む二成分系現像剤であってもよい。また、現像剤は、磁性であってもよいし、非磁性であってもよい。これら現像剤は、周知のものが適用される。
【０１８３】
〔転写手段〕
転写手段としては、図５に示すように、画像形成装置２００においては、中間転写体を用いた中間転写方式が採用され、１次転写ロール４１０ａ，４１０ｂ，４１０ｃ，４１０ｄ、及び、二次転写ロール４１３を用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
転写手段の他の例としては、例えば、転写コロトロンや転写ロール等を用いた直接転写方式、記録媒体を静電的に吸着して搬送し感光体上のトナー像を転写する転写ベルト方式を利用した転写手段などが挙げられる。
転写手段には、例えば、ロールの他、ベルト、フィルム、ゴムブレード等を用いた接触型転写帯電器、コロナ放電を利用したスコロトロン転写帯電器やコロトロン転写帯電器等のそれ自体公知の転写帯電器が使用される。
【０１８４】
〔中間転写体〕
中間転写体としては、図５に示すように、画像形成装置２００においては、中間転写ベルト４０９を用いているが、実施形態はこれに限定されるものではない。
中間転写ベルトとしては、半導電性を付与した、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエステル、ゴム等を含むものが使用される。
また、中間転写体の形態としては、ベルト状に限定されず、ドラム状のものを用いてもよい。
【０１８５】
〔クリーニング手段〕
クリーニング手段としては、電子写真感光体の表面から接触して当該電子写真感光体の表面の残留物を除去するものである。
図５に示すように、画像形成装置２００では、筐体内にクリーニングブレードを含んで構成の、クリーニング手段４１８ａ，４１８ｂ，４１８ｃ，４１８ｄを用いているが、実施形態はこれに限定されるものではなく、公知のクリーニング手段が用いられる。
【０１８６】
以上、図面を参照して、本実施形態に係る画像形成装置について一例を挙げて説明したが、実施形態はこれに限定されるものではない。
【実施例】
【０１８７】
以下、実施例を挙げて本実施形態を具体的に説明するが、本実施形態は以下に示す実施例にのみ限定されるものではない。なお、実施例中において「部」及び「％」は、特に断りのない限り「質量部」及び「質量％」を意味する。
【０１８８】
＜感光体の作製＞
〔感光体Ａの作製〕
酸化亜鉛（平均粒子径：７０ｎｍ、テイカ社製、比表面積値：１５ｍ２／ｇ）１００質量部をメタノール５００質量部と攪拌混合し、シランカップリング剤として、ＫＢＭ６０３（信越化学工業社製）０．７５質量部を添加し、２時間攪拌した。その後、メタノールを減圧蒸留にて留去し、１２０℃で３時間焼き付けを行い、シランカップリング剤表面処理酸化亜鉛粒子を得た。
【０１８９】
前記表面処理を施した酸化亜鉛粒子６０質量部と、反応性アクセプター物質としてヒドロキシアントラキノンを１．２質量部と、硬化剤としてブロック化イソシアネート（スミジュール３１７３、住友バイエルンウレタン社製）１３．５質量部と、ブチラール樹脂（エスレックＢＭ−１、積水化学工業社製）１５質量部とを、メチルエチルケトン８５質量部に溶解した溶液３８質量部と、メチルエチルケトン２５質量部とを混合し、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間の分散を行い、分散液を得た。得られた分散液に、触媒としてジオクチルスズジラウレート０．００５質量部と、シリコーン樹脂粒子（トスパール１４５、ＧＥ東芝シリコーン社製）４．０質量部とを添加し、下引層形成用塗布液を得た。下引層形成用塗布液の塗布温度（２４℃）における粘度は２３５ｍＰａ・ｓであった。
この塗布液を、浸漬塗布法にて塗布速度２２０ｍｍ／ｍｉｎで直径３０ｍｍのアルミニウム基材上に塗布し、１８０℃、４０分の乾燥硬化を行い厚さ２５μｍの下引層を得た。
【０１９０】
次に、電荷発生材料として、ＣｕＫα特性Ｘ線に対するブラッグ角（２θ±０．２゜）の少なくとも７．５゜、９．９゜、１２．５゜、１６．３゜、１８．６゜、２５．１゜及び２８．３゜に強い回折ピークを有するヒドロキシガリウムフタロシアニン結晶１５質量部、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体樹脂（ＶＭＣＨ、日本ユニオンカーバイト社製）１０質量部及びｎ−ブチルアルコール３００質量部からなる混合物を、直径１ｍｍのガラスビーズを用いてサンドミルにて４時間分散して電荷発生層形成用塗布液を得た。電荷発生層形成用塗布液の塗布温度（２４℃）における粘度は１．８ｍＰａ・ｓであった。この塗布液を前記下引層上に浸漬塗布法にて塗布速度６５ｍｍ／ｍｉｎで浸漬塗布し、１５０℃で１０分間乾燥して電荷発生層を得た。
【０１９１】
次に、４フッ化エチレン樹脂粒子８質量部（平均粒径：０．２μｍ）と、フッ化アルキル基含有メタクリルコポリマー（重量平均分子量３００００）０．０１質量部とを、テトラヒドロフラン４質量部、トルエン１質量部とともに２０℃の液温に保ち、４８時間攪拌混合し、４フッ化エチレン樹脂粒子懸濁液Ａを得た。
次に、電荷輸送物質として、下記構造式１を示す化合物（一般式（１）において、ｎ＝１、ｍ＝１、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４、Ｒ５、及びＲ６が全てＨのもの、トリス［４−（４，４−ジフェニル−１，３−ブタジエニル）フェニル］アミン）を１．６質量部、Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジンを３質量部、結着樹脂として、下記構造式２の構造単位及び下記構造式３の構造単位からなるポリカーボネート共重合体（粘度平均分子量５３０００）６質量部、酸化防止剤として２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール０．１質量部を混合して、テトラヒドロフラン２４質量部及びトルエン１１質量部を混合溶解して、混合溶解液Ｂを得た。
このＢ液に前記Ａ液を加えて攪拌混合した後、微細な流路を持つ貫通式チャンバーを装着した高圧ホモジナイザー（吉田機械興行株式会社製）を用いて、５００ｋｇｆ／ｃｍ２まで昇圧しての分散処理を６回繰り返した液に、エーテル変性シリコーンオイル（商品名：ＫＰ３４０、信越化学工業社製）を５ｐｐｍ添加し、十分に撹拌して電荷輸送層形成用塗布液を得た。この塗布液を電荷発生層上に４０μｍの厚さで塗布して１４５℃で２５分間乾燥して電荷輸送層を形成し、目的の電子写真感光体を得た。このようにして得た電子写真感光体を感光体１とした。
【０１９２】
【化１１】
2016070997.tif 000013
【０１９３】
【化１２】
2016070997.tif 000014
【０１９４】
〔感光体Ｂの作製〕
感光体Ａの作製において、下引層形成時の乾燥硬化温度を１７０℃とした以外は、感光体Ａと同様にして感光体Ｂを作製した。
【０１９５】
〔感光体Ｃの作製〕
感光体Ａの作製において、下引層形成用塗布液中の時の反応性アクセプター物質であるヒドロキシアントラキノンの量を１．０質量部とした以外は、感光体Ａと同様にして感光体Ｃを作製した。
【０１９６】
〔感光体Ｄの作製〕
感光体Ａの作製において、下引層形成時の乾燥硬化温度を１９５℃とした以外は、感光体Ａと同様にして感光体Ｄを作製した。
【０１９７】
〔感光体Ｅ〕
感光体Ａの作製において、電荷輸送層形成用塗布液に用いる電荷輸送材料を、「構造式１で表される化合物（１．６質量部）」から「Ｎ，Ｎ’−ビス（３−メチルフェニル）−Ｎ，Ｎ’−ジフェニルベンジジン（表中ではベンジジン化合物と表記）４．６質量部」に代えた以外は、感光体Ａと同様にして感光体Ｅを作製した。
【０１９８】
〔感光体Ｆの作製〕
感光体Ａの作製において、電荷輸送層形成用塗布液に用いる結着樹脂を、「構造式２の構造単位及び下記構造式３の構造単位からなるポリカーボネート共重合体（粘度平均分子量５３０００）」から「ビスフェノールＺ型ポリカーボネート樹脂（粘度平均分子量４００００、表中では「ｂｉｓＺＰＣ」と表記）」に代えた以外は、感光体Ａと同様にして感光体Ｆを作製した。
【０１９９】
〔電子写真感光体ユニットの作製〕
下記表１に従って、上記のようにして得られた各感光体を、接地部材（シャフト）、及び、図３（Ａ）〜（Ｃ）及び図４（Ａ）及び（Ｂ）に示すような導電性部材と組み合わせて、以下のようにして、電子写真感光体ユニットを作製した。
まず、シャフトとしては、長さ４００ｍｍ、外径８ｍｍのＳＵＳ３０４製のシャフトを用意した。
そして、図３（Ａ）及び図４（Ａ）に示す導電性部材１４０Ａが取り付けられた樹脂フランジ１３０と、上記のシャフトと、をそれぞれ感光体に挿入し、電子写真感光体ユニットを作製した。
また、図３（Ｂ）及び図４（Ｂ）に示す導電性部材１４０Ｂ及び導電性樹脂によるチップ１５０が取り付けられた樹脂フランジ１３０と、上記のシャフトと、をそれぞれ感光体に挿入し、電子写真感光体ユニットを作製した。
更に、図３（Ｃ）に示す導電性部材が取り付けられていない樹脂フランジ１３０と、上記のシャフトと、をそれぞれ感光体に挿入し、電子写真感光体ユニットを作製した。なお、図３（Ｃ）に示す樹脂フランジ１３０を用いた場合は、銅製の板バネにて、シャフトと導電性支持体とを導電性支持体の端部（下地層及び感光層の非形成領域）で電気的に接続し、電子写真感光体ユニットとした。
なお、図３（Ａ）〜（Ｃ）における樹脂フランジ１３０は全てＡＢＳ樹脂（アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン共重合体樹脂）からなり、図３（Ａ）及び（Ｂ）における導電性部材１４０Ａ及び１４０Ｂは、リン青銅からなる円板状金属板である。
【０２００】
＜画像形成装置＞
上記のようにして得られた電子写真感光体ユニットを、ＤｏｃｕＣｅｎｔｒｅ−ＩＶ  Ｃ２２６３（富士ゼロックス社製）改造機（直流電圧のみを利用して帯電を行う接触型帯電手段（帯電ロール）を備えたもの）に搭載し、電子写真感光体ユニット中のシャフトを接地させた。
【０２０１】
〔抵抗の測定〕
上記の改造機を用いて、２８℃８５ＲＨ％の高温高湿環境下、デジタルマルチメーターＦｌｕｋｅ１７０（フルーク社製）を用いて導電性支持体の端部の下地層及び感光層の非形成領域とシャフトとの両者に測定端子を接続し、安定化電源ＰＭＣ１８(菊水電子工業社製)にて、一定の電圧（例えば１０Ｖ）を印加しながら、電子写真感光体を１００回、回転させた。その際の導電性支持体とシャフトとの間の電流値を測定し、抵抗値（最大値）を算出した。
結果を表１に示す。なお、表中は、「接点の抵抗」と表記した。
【０２０２】
〔色線の評価〕
上記の改造機を用いて、２８℃８５ＲＨ％の高温高湿環境下、画像密度３０％のＡ４ハーフトーン画像を出力し、得られたサンプル画像の左上から縦９４ｍｍ、横２００ｍｍの領域に発生した色線（色筋）の発生数を以下の基準で評価した。
評価基準は以下の通りである。
−評価基準−
Ｇ１：未発生
Ｇ２：３本以下の色線発生
Ｇ３：３本を超え１０本以下の色線発生
Ｇ４：１０本を超えた色線発生
結果を表１に示す。
【０２０３】
【表１】
2016070997.tif 000015
【０２０４】
上記結果から、実施例の電子写真感光体ユニットは、比較例に比べ、色線の発生が少ないことが分かる。
【符号の説明】
【０２０５】
１，１ａ，１ｂ，１ｃ，１ｄ  電子写真感光体、２  導電性支持体、３  感光層、４  下引層、５  電荷発生層、６  電荷輸送層、クリーニングブレード１００ａ，１００ｂ，１００ｃ，１００ｄ、１１０  支持部材、１２０  下地層、１３０  接触層、１４０  弾性層、２００  画像形成装置、３００  ４０２ａ，４０２ｂ，４０２ｃ，４０２ｄ  帯電ロール（帯電手段）、４０３  レーザ光源（静電潜像形成手段）、４０４ａ，４０４ｂ，４０４ｃ，４０４ｄ  現像装置（現像手段）、４０５ａ，４０５ｂ，４０５ｃ，４０５ｄ  トナーカートリッジ、４０９  中間転写ベルト、４１４  定着ロール対
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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