(57)【要約】      （修正有）【課題】環境温度や受光素子への受光状態に左右されることなく安定して傾斜及び水平を検出可能な傾斜検出装置を提供する。【解決手段】パターンを投影する為の光源２と、自由液面を有しパターンを自由液面で裏面反射させる液体部材９と、裏面反射されたパターンの反射像を受光する受光素子１３と、演算処理部１６とを具備し、演算処理部１６は受光素子１３の受光面の所定範囲を所要回数スキャンして検出された受光信号を平均化処理し、平均化処理した信号に基づきパターンの重心位置を演算する。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターンを投影する為の光源と、自由液面を有し前記パターンを前記自由液面で裏面反射させる液体部材と、裏面反射された前記パターンの反射像を受光する受光素子と、演算処理部とを具備し、該演算処理部は前記受光素子の受光面の所定範囲を所要回数スキャンして検出された受光信号を平均化処理し、平均化処理した信号に基づき前記パターンの重心位置を演算することを特徴とする傾斜検出装置。
【請求項２】
前記演算処理部は、前記受光素子上の予め設定された点を中心に円状にスキャンする請求項１の傾斜検出装置。
【請求項３】
前記演算処理部は、演算により得られた重心を中心として、異なった径でそれぞれ所要回数スキャンを行う請求項２の傾斜検出装置。
【請求項４】
前記パターンは、該パターンの重心に対して点対称に配置された少なくとも２つの小パターンにより構成される請求項１〜請求項３のうちいずれかの傾斜検出装置。
【請求項５】
前記演算処理部は、平均化処理により２つの前記小パターンの幅中心をそれぞれ求め、２つの該小パターンの幅中心を結ぶ直線に基づき前記パターンの重心位置を演算する請求項４の傾斜検出装置。
【請求項６】
前記演算処理部は、点対称に配置された２つの前記小パターン２組について、各組毎に該小パターンの幅中心を求め、各組毎に２つの該小パターンの幅中心を結ぶ直線を演算すると共に、２つの直線の交点を重心位置として演算する請求項４の傾斜検出装置。
【請求項７】
前記パターンは、少なくとも１つの小パターンにより構成され、該小パターンの中心は前記パターンの重心に対して既知の位置にあり、スキャン時の受光信号を基に前記小パターンの中心位置を演算し、該小パターンの中心位置を基に前記パターンの重心位置を演算する請求項１〜請求項３のうちいずれかの傾斜検出装置。
【請求項８】
前記演算処理部は、前記受光素子上をＸ軸方向或はＹ軸方向にスキャンし、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の各列の画素分の受光信号を取得して前記パターンを検出し、該パターンの重心位置を演算する請求項１の傾斜検出装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、安定して傾斜及び水平を検出可能な傾斜検出装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
水平及び傾斜を検出する装置として、例えばチルトセンサがあり、従来のチルトセンサとしては、以下の２つが挙げられる。
【０００３】
１つ目は、自由液面を形成する様液体を容器に封入し、液体の液面にテレセントリック光学系によりアブソリュートパターンを照射し、液体に裏面反射させたアブソリュートパターンの反射像を受光素子に投影させるものである。
【０００４】
上記センサの場合、液体の液面が常に水平であることから、センサが傾いていた場合には受光素子に投影される反射像が移動する為、反射像の移動量を検出することでセンサの傾きを検出している。
【０００５】
容器に封入される液体としては、アブソリュートパターンの認識が振動下でも正常に行える様、粘性を有するオイル等を使用し、オイルのダンピングによりアブソリュートパターンを安定して認識できる様にしている。然し乍ら、オイルは低温下で粘度が上昇する為、低温環境で傾斜を検出する場合には、追従性が悪化するという問題がある。
【０００６】
又、２つ目は、透過式円形気泡管の像を４分割した素子に投影し、光量の変化からセンサの傾きを検出するものである。２つ目のセンサの場合、気泡の影による光量差を見ることから、振動による変位は平均化により処理可能であり、気泡管に封入される液体は粘性の低いアルコール等が使用される。
【０００７】
然し乍ら、上記のセンサの場合、気泡の動きがガラス内面の精度に直接依存する為、気泡の動きが前記センサの傾きに感度よく追従する範囲が限定される。又、温度変化による気泡の変形による影響も受け易く、０点のオフセットも困難であるという問題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平１１−５１６５２号公報
【特許文献２】特開２０００−２６６５４５号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
本発明は斯かる実情に鑑み、環境温度や受光素子への受光状態に左右されることなく安定して傾斜及び水平を検出可能な傾斜検出装置を提供するものである。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
本発明は、パターンを投影する為の光源と、自由液面を有し前記パターンを前記自由液面で裏面反射させる液体部材と、裏面反射された前記パターンの反射像を受光する受光素子と、演算処理部とを具備し、該演算処理部は前記受光素子の受光面の所定範囲を所要回数スキャンして検出された受光信号を平均化処理し、平均化処理した信号に基づき前記パターンの重心位置を演算する傾斜検出装置に係るものである。
【００１１】
又本発明は、前記演算処理部は、前記受光素子上の予め設定された点を中心に円状にスキャンする傾斜検出装置に係るものである。
【００１２】
又本発明は、前記演算処理部は、演算により得られた重心を中心として、異なった径でそれぞれ所要回数スキャンを行う傾斜検出装置に係るものである。
【００１３】
又本発明は、前記パターンは、該パターンの重心に対して点対称に配置された少なくとも２つの小パターンにより構成される傾斜検出装置に係るものである。
【００１４】
又本発明は、前記演算処理部は、平均化処理により２つの前記小パターンの幅中心をそれぞれ求め、２つの該小パターンの幅中心を結ぶ直線に基づき前記パターンの重心位置を演算する傾斜検出装置に係るものである。
【００１５】
又本発明は、前記演算処理部は、点対称に配置された２つの前記小パターン２組について、各組毎に該小パターンの幅中心を求め、各組毎に２つの該小パターンの幅中心を結ぶ直線を演算すると共に、２つの直線の交点を重心位置として演算する傾斜検出装置に係るものである。
【００１６】
又本発明は、前記パターンは、少なくとも１つの小パターンにより構成され、該小パターンの中心は前記パターンの重心に対して既知の位置にあり、スキャン時の受光信号を基に前記小パターンの中心位置を演算し、該小パターンの中心位置を基に前記パターンの重心位置を演算する傾斜検出装置に係るものである。
【００１７】
更に又本発明は、前記演算処理部は、前記受光素子上をＸ軸方向或はＹ軸方向にスキャンし、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の各列の画素分の受光信号を取得して前記パターンを検出し、該パターンの重心位置を演算する傾斜検出装置に係るものである。
【発明の効果】
【００１８】
本発明によれば、パターンを投影する為の光源と、自由液面を有し前記パターンを前記自由液面で裏面反射させる液体部材と、裏面反射された前記パターンの反射像を受光する受光素子と、演算処理部とを具備し、該演算処理部は前記受光素子の受光面の所定範囲を所要回数スキャンして検出された受光信号を平均化処理し、平均化処理した信号に基づき前記パターンの重心位置を演算するので、前記液体部材として、低温環境下でも追従性が悪化しない様に温度に対する粘度依存性の低い比較的低粘度の液体であるアルコール等を用いることができ、環境温度や前記受光素子への投影状態に左右されることなく安定して傾斜及び水平を検出することができる。
【００１９】
又本発明によれば、前記演算処理部は、前記受光素子上の予め設定された点を中心に円状にスキャンするので、前記パターンの重心の概略位置を演算することができる。
【００２０】
又本発明によれば、前記演算処理部は、演算により得られた重心を中心として、異なった径でそれぞれ所要回数スキャンを行うので、前記受光素子の各画素の応答性等に個体差がある場合であっても、個体差による誤差を抑制でき、前記パターンの重心位置の演算精度を向上させることができる。
【００２１】
又本発明によれば、前記パターンは、該パターンの重心に対して点対称に配置された少なくとも２つの小パターンにより構成されるので、容易に前記パターンの重心位置を演算することができる。
【００２２】
又本発明によれば、前記演算処理部は、平均化処理により２つの前記小パターンの幅中心をそれぞれ求め、２つの該小パターンの幅中心を結ぶ直線に基づき前記パターンの重心位置を演算するので、外部からの振動がある様な場合であっても、精度よく前記パターンの重心位置を演算することができる。
【００２３】
又本発明によれば、前記演算処理部は、点対称に配置された２つの前記小パターン２組について、各組毎に該小パターンの幅中心を求め、各組毎に２つの該小パターンの幅中心を結ぶ直線を演算すると共に、２つの直線の交点を重心位置として演算するので、外部からの振動がある様な場合であっても、より精度よく前記パターンの重心位置を演算することができる。
【００２４】
又本発明によれば、前記パターンは、少なくとも１つの小パターンにより構成され、該小パターンの中心は前記パターンの重心に対して既知の位置にあり、スキャン時の受光信号を基に前記小パターンの中心位置を演算し、該小パターンの中心位置を基に前記パターンの重心位置を演算するので、１つの前記小パターンをスキャンするだけで、前記パターンの重心位置を演算することができる。
【００２５】
更に又本発明によれば、前記演算処理部は、前記受光素子上をＸ軸方向或はＹ軸方向にスキャンし、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の各列の画素分の受光信号を取得して前記パターンを検出し、該パターンの重心位置を演算するので、前記パターンの形状に拘わらず該パターンの重心を演算することができるという優れた効果を発揮する。
【図面の簡単な説明】
【００２６】
【図１】本発明の実施例に係る傾斜検出装置を示す構成図である。
【図２】（Ａ）は受光素子に投影されたパターンの重心が前記受光素子の中心と一致している場合を示す図であり、（Ｂ）は前記パターンの重心が前記受光素子の中心からずれている場合を示す図である。
【図３】小パターンへのスキャン状態を説明する説明図である。
【図４】（Ａ）〜（Ｃ）は各スキャンライン上をスキャンして得られた矩形波を示す図である。
【図５】受光素子への受光状態の変化による矩形波の幅やピッチの変化を示す説明図である。
【図６】（Ａ）、（Ｂ）は小パターンの他の例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００２７】
以下、図面を参照しつつ本発明の実施例を説明する。
【００２８】
先ず、図１に於いて、本発明の実施例に係る傾斜検出装置１について説明する。
【００２９】
水平方向に光線を発する光源２、例えばＬＥＤが設けられ、該光源２の投光光軸３上に第１コンデンサレンズ４、パターン部５、第２コンデンサレンズ６、ビームスプリッタ７が配設されている。
【００３０】
該ビームスプリッタ７の反射光軸８上には液体部材９が配設され、該液体部材９は自由液面を形成する様に容器１０に入れられている。前記液体部材９の材質としては、低温下でも粘性の変化が比較的小さい液体、例えばアルコールが使用される。尚、前記光源２と前記液体部材９の自由液面とは共役な位置に配置することもできる。
【００３１】
前記パターン部５は、透明な基板に不透明なパターンを形成するか、或は不透明な基板にパターンを打抜いたものである。本実施例では、円周方向に所定角度ピッチで円形の孔を打抜くことで、図２（Ａ）、図２（Ｂ）に示される様な、所定角度ピッチで配置された複数の円形の小パターン１４からなるパターン１５が形成される。
【００３２】
前記小パターン１４は、前記パターン１５の重心Ｇに関して点対称な位置に配置された少なくとも２つ（１組）あればよいが、前記小パターン１４は前記パターン１５の重心Ｇに関して点対称な位置に配置された４つ（２組）以上とするのが好ましい。尚、前記小パターン１４の配置は種々考えられるが、図示では同一円周上に所定角度ピッチで配置された場合を示している。
【００３３】
前記光源２、前記第１コンデンサレンズ４、前記パターン部５、前記第２コンデンサレンズ６、前記ビームスプリッタ７等は自由液面投光光学系を構成する。
【００３４】
前記光源２から射出され、前記ビームスプリッタ７で反射されたレーザ光線は、前記液体部材９の自由液面で反射され、前記ビームスプリッタ７を透過する様になっている。該ビームスプリッタ７の透過光軸１１上には、第３コンデンサレンズ１２、受光素子１３が配設される。該受光素子１３は、例えば画素の集合体であるプロファイルセンサが用いられる。該プロファイルセンサは、全画素の情報を取得することなくＸ方向、Ｙ方向の各列の画素分の情報のみにより、プロファイルセンサ内での対象物の位置を検出することができる。尚、前記受光素子１３として、ＣＣＤ、ＣＭＯＳセンサを用いてもよい。
【００３５】
前記ビームスプリッタ７、前記第３コンデンサレンズ１２、前記受光素子１３は受光光学系を構成する。
【００３６】
又、前記傾斜検出装置１は演算処理部１６を有している。前記透過光軸１１は、前記液体部材９の自由液面で反射された反射光の光軸であり、前記自由液面投光光学系が傾斜していた場合には、前記液体部材９の自由液面は前記自由液面投光光学系に対して相対的に傾斜する。その結果、前記反射光軸８は前記ビームスプリッタ７に対して傾斜し、更に該ビームスプリッタ７での反射光（前記透過光軸１１）は前記反射光軸８に対して偏角する。
【００３７】
この為、自由液面投光光学系の前記受光素子１３に対する投影位置が変化する。該受光素子１３に於ける投影位置の変化を基に、前記自由液面投光光学系の傾斜を検出することができる。前記演算処理部１６は、前記受光素子１３から受光された入力信号を基に前記液体部材９の自由液面の傾き、傾きの方向を演算する様になっている。
【００３８】
前記光源２から射出されたレーザ光線は、前記第１コンデンサレンズ４、前記パターン部５、前記第２コンデンサレンズ６、前記ビームスプリッタ７を経て前記液体部材９に入射され、自由液面によって反射される。反射光は前記ビームスプリッタ７、前記第３コンデンサレンズ１２を経て前記受光素子１３に投影される。即ち、前記パターン１５が前記受光素子１３に投影される。
【００３９】
前記傾斜検出装置１が水平な状態では、前記パターン１５の重心Ｇの位置と、前記受光素子１３の中心、或は予めオフセットした原点とが一致している。本実施例では、図２（Ａ）に示される様に、前記パターン１５の重心Ｇと前記受光素子１３の中心（即ちスキャンの中心）とが合致している。
【００４０】
又、前記傾斜検出装置１が傾いた場合には、前記液体部材９の自由液面は水平を保つので、傾斜角度に比例して前記液体部材９上の前記パターン１５像が移動し、図２（Ｂ）に示される様に、該パターン１５の重心Ｇの位置が前記受光素子１３の中心から離れた位置に投影される。
【００４１】
又、前記傾斜検出装置１が振動した場合には、振動により前記液体部材９の自由液面の状態が変化し、前記受光素子１３上の前記パターン１５像の位置や形状が変化する。
【００４２】
本実施例に於いて、前記傾斜検出装置１による傾斜検出を行なう際には、粗傾斜検出工程と精密傾斜検出工程の２工程が実行される。
【００４３】
粗傾斜検出工程では、先ずスキャン中心の検出が行われる。粗傾斜検出工程では、先ず前記演算処理部１６が予め設定された点、例えば前記受光素子１３の中心をセンターパターン（スキャン中心）として円状にスキャンを行う。尚、粗傾斜検出工程では、スキャン半径は前記パターン１５の半径と同一とし、又複数回のスキャンに止める。
【００４４】
前記傾斜検出装置１が水平であった場合には、粗傾斜検出の結果、一周のスキャンで検出信号は等間隔、等信号幅で検出される。従って、一周のスキャンで現れる全信号の重心は、センターパターンと一致する。即ち、検出信号から得られる前記パターン１５の重心Ｇとセンターパターンとが一致する。ここで、全信号の重心は、スキャンの軌跡であるスキャンライン１７（図３参照）上の検出信号の位置に基づいて求められる。
【００４５】
又、前記傾斜検出装置１が傾斜していた場合には図２（Ｂ）に示される様に、前記パターン１５は前記受光素子１３に対して相対移動し、前記パターン１５の重心ＧはセンターパターンからΔｄだけ変位する。
【００４６】
この状態で、センターパターンを中心としてスキャンを行うと、前記スキャンライン１７は前記パターン１５の一部の小パターン１４を通過するのみとなる。例えば、図２（Ｂ）の状態で、前記受光素子１３の中心をセンターパターンとしてスキャンすると、前記スキャンライン１７は図中右下部分は前記小パターン１４を通過するが、左上部分は該小パターン１４を通過しない。
【００４７】
従って、前記スキャンライン１７上の検出信号の重心を求めると、前記受光素子１３の中心から右下方向に移動した位置となる。次に、検出信号から得られた重心位置をセンターパターンとして再設定して、上記と同様に粗傾斜検出工程が実行される。
【００４８】
粗傾斜検出工程を繰返し実行することで、センターパターンを前記パターン１５の重心Ｇに略一致させることができる。センターパターンを前記パターン１５の重心Ｇに略一致させることで、前記スキャンライン１７上に全ての前記小パターン１４を検出した信号が現れる。
【００４９】
全ての該小パターン１４が検出された状態が得られると、次に精密傾斜検出が実行される。
【００５０】
精密傾斜検出工程では、粗傾斜検出工程で得られた前記パターン１５の重心Ｇをセンターパターンとして、前記受光素子１３を円状にスキャンし、前記スキャンライン１７上の画素からの受光信号を検出する。更に、スキャンは一周毎に半径（図３中ｒ１、ｒ２、ｒ３）を変え、同心円状にスキャンを行う。スキャンを行う半径方向の範囲は、前記小パターン１４が完全にスキャン範囲に含まれる迄とする。又、１周毎の半径の変更量は、前記受光素子１３の一画素単位、或は所要画素単位とされる。
【００５１】
前記スキャンライン１７が前記小パターン１４を通過することで、該小パターン１４と同等の幅の前記検出信号１８を有する矩形波が検出される。尚、本実施例では、例えば１秒間に４０回〜５０回程度スキャンが行われる様になっている。
【００５２】
本実施例では、図３に示される様に、前記スキャンライン１７の径を変更し、所要箇所（図３中では３箇所）をスキャンしている。前記小パターン１４は円形であるので、前記演算処理部１６に検出される矩形波は、図４（Ａ）〜図４（Ｃ）に示される様に、それぞれ異なる幅の前記検出信号１８ａ〜１８ｃを有する矩形波となる。
【００５３】
尚、図３中、スキャンライン１７ａにより検出されるのは図４（Ａ）に示される矩形波であり、スキャンライン１７ｂにより検出されるのは図４（Ｂ）に示される矩形波であり、スキャンライン１７ｃにより検出されるのは図４（Ｃ）に示される矩形波である。前記演算処理部１６は、各スキャンライン１７ａ〜１７ｃ上を、それぞれ所要回数スキャンする様になっている。
【００５４】
前記液体部材９は粘性の低いアルコール等の液体となっているので、外部からの振動により前記傾斜検出装置１が振動した場合には、前記液体部材９が振動して自由液面の状態が変化し、前記受光素子１３に投影される前記パターン１５の反射像の位置や形状が変化する。
【００５５】
該パターン１５の反射像の位置や形状が変化した場合には、図５に示される様に、前記演算処理部１６により検出される前記検出信号１８の幅がＰ１、Ｐ２、Ｐ３等に変化し、矩形波の幅が変化する。
【００５６】
各スキャンライン１７ａ〜１７ｃ上を、それぞれ所要回数スキャンが行われているので、前記演算処理部１６により検出された矩形波をそれぞれ平均化処理することで、前記液体部材９の振動等による変化が相殺され、各矩形波の幅の中心Ｏを求めることができる。
【００５７】
又、前記演算処理部１６は、隣接する各矩形波の幅の中心Ｏ間のピッチを求め、平均化処理することで検出された前記小パターン１４間のピッチを求めることができる。更に、求めた各小パターン１４間のピッチが等ピッチとなる点を求めることで、前記パターン１５の重心Ｇを求めることができる。
【００５８】
尚、平均化処理により求められた各矩形波の幅の中心Ｏは、前記小パターン１４の中心と前記パターン１５の重心Ｇとを通る直線上に位置する。従って、前記小パターン１４及び該小パターン１４と点対称の位置にある小パターン１４の幅の中心Ｏを求め、同一走査線上の検出信号を基に幅の中心Ｏ同士を結んだ線の中点を求めることで、前記パターン１５の重心Ｇの位置を求めてもよい。
【００５９】
又、前記パターン１５の重心Ｇに関して点対称な前記小パターン１４が２組以上ある場合には、点対称な位置にある前記小パターン１４の幅の中心Ｏ同士を結んだ線の交点を求めることで、前記パターン１５の重心Ｇの位置を求めてもよい。更に、スキャンライン１７上の矩形波の位置、矩形波の幅に基づき、図形上から重心を求めてもよい。
【００６０】
前記パターン１５の重心Ｇの位置を求めた後、前記演算処理部１６が前記受光素子１３の中心に対する前記パターン１５の重心Ｇの移動量と移動方向、即ち前記受光素子１３での受光位置の変化を演算し、受光位置の変化を基に前記傾斜検出装置１の傾斜を検出し、水平出しを行うことができる。
【００６１】
上述の様に、本実施例では、前記受光素子１３に投影された前記パターン１５の反射像に対し、円状に所要回数スキャンし、得られた矩形波を平均化処理することで、前記小パターン１４の幅の中心Ｏを求め、該小パターン１４の幅中心Ｏから前記パターン１５の重心Ｇの位置を求めている。
【００６２】
この為、外部からの振動により前記傾斜検出装置１が振動し、前記受光素子１３の受光状態が絶えず変化している様な場合であっても、スキャン回数を適切に選択することで、状況変化に起因する変化分を相殺することができ、正確な前記小パターン１４の幅中心Ｏ、前記パターン１５の重心Ｇの位置を求めることができる。
【００６３】
従って、前記液体部材９として、粘性の変化が比較的小さいアルコール等の液体を用いることができるので、低温環境下でも前記液体部材９の追従性が悪化することがなく、環境温度に左右されることなく安定して前記傾斜検出装置１の傾斜及び水平を検出することができる。
【００６４】
又、該傾斜検出装置１は、前記液体部材９による液体裏面反射により前記受光素子１３に前記パターン１５の反射像を投影させるので、ガラスの加工精度による前記液体部材９の追従性の悪化を抑制することができる。
【００６５】
又、径が異なる所要箇所の前記スキャンライン１７上をスキャンさせているので、前記受光素子１３の各画素の応答性等に個体差がある場合であっても、平均化処理により個体差による誤差を抑制することができ、前記小パターン１４の幅中心Ｏ及び前記パターン１５の重心Ｇの演算精度を向上させ、真値に近づけることができる。
【００６６】
又、複数の前記スキャンライン１７をスキャンさせることで、前記小パターン１４のどの位置をスキャンしているのかを容易に判断することができる。
【００６７】
尚、本実施例では、前記受光素子１３に対する前記パターン１５の投影位置を円状にスキャンしているが、前記受光素子１３上の所要範囲をＸ軸方向或はＹ軸方向にスキャンし、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向の各列の画素分の情報を取得し、前記小パターン１４を検出することで、前記パターン１５の重心Ｇの位置を求めてもよい。
【００６８】
又、本実施例では、前記小パターン１４の形状を円形状としているが、図６（Ａ）に示される様な楕円形状の小パターン１４′、図６（Ｂ）に示される様な６角形状の小パターン１４′′等、点対称に配置できる形状であれば前記小パターン１４を他の形状としてもよい。
【００６９】
又、本実施例では、前記小パターン１４を円周方向に所定角度ピッチで配置することで、前記パターン１５を形成しているが、楕円形や偶数多角形状等、前記小パターン１４を点対称に配置できる形状であれば前記パターン１５を他の形状としてもよい。
【００７０】
更に、本実施例では、前記パターン１５の重心Ｇの位置を演算するのに、点対称な位置に配置された少なくとも２つの小パターン１４を用いているが、該小パターン１４の中心を前記パターン１５の重心に対して既知の位置に配置することで、スキャン時に前記小パターン１４の中心に対して前記パターン１５の重心Ｇがどの位置にあるかを判別可能とすれば、該小パターン１４は１つであってもよい。
【符号の説明】
【００７１】
１              傾斜検出装置
２              光源
５              パターン部
７              ビームスプリッタ
９              液体部材
１３            受光素子
１４            小パターン
１５            パターン
１６            演算処理部
【図１】
2016109602.tif 000003
【図２】
2016109602.tif 000004
【図３】
2016109602.tif 000005
【図４】
2016109602.tif 000006
【図５】
2016109602.tif 000007
【図６】
2016109602.tif 000008