(57)【要約】【課題】出力光の周波数確度が高いガスレーザと同一の出力波長を有し、かつハイパワーなレーザ光を出射する光源装置を提供する。【解決手段】光源装置は、第１の光を出力する第１波長可変レーザ１０と、第２の光を出力する第２波長可変レーザ１２と、第１の光と第２の光との和周波である第３の光を出力光として発生する和周波発生モジュール１６と、第１の光及び第２の光の一方と、第３の光と、に基づいて、第１波長可変レーザ１０の出力波長と、第２波長可変レーザ１２の出力波長とを安定化させる波長安定化装置２５と、を備えている。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の光を出力する第１の波長可変レーザと、
第２の光を出力する前記第１の波長可変レーザと異なる第２の波長可変レーザと、
前記第１の光と前記第２の光との和周波である第３の光を出力光として発生する和周波発生器と、
前記第１の光及び前記第２の光の一方と、前記第３の光と、に基づいて、前記第１の波長可変レーザの出力波長と、前記第２の波長可変レーザの出力波長とを安定化させる波長安定化装置と、を備える光源装置。
【請求項２】
前記波長安定化装置は、前記第１の波長可変レーザの出力波長の安定化と前記第２の波長可変レーザの出力波長の安定化とを、時間をずらせて交互に行なう請求項１に記載の光源装置。
【請求項３】
前記波長安定化装置は、
入射光として、前記一方の光と前記第３の光とを入射して、出射光を前記一方の光と前記第３の光とで切り換え可能な切り換え装置と、
前記切り換え装置を介して入射した光の周波数が、一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を出力する弁別信号発生装置と、
前記切り換え装置の切り換え動作に応じて前記和周波発生器からの出力光の周波数が、一定の周波数になるように前記第１の波長可変レーザ又は前記第２の波長可変レーザの出力波長を制御する制御装置と、を有する請求項２に記載の光源装置。
【請求項４】
前記切り換え装置は、さらに、前記一方の光として、前記第１の光と前記第２の光とを切り換え可能に構成され、
前記制御装置は、前記第１の光と前記第２の光の切り換えを行う請求項３に記載の光源装置。
【請求項５】
前記切り換え装置には、基準波長レーザからの基準波長レーザ光がさらに入射され、
前記切り換え装置は、前記第３の光が前記弁別信号発生装置に出力されるように切り換えられたとき、前記第３の光とともに前記基準波長レーザ光を前記弁別信号発生装置に出力し、
前記弁別信号発生装置は、前記切り換え装置を介して入射された前記第３の光と前記基準波長レーザ光との光ビート信号の周波数が一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を出力し、
前記制御装置は、光ビート信号の周波数が前記一定の周波数となるように、前記第１の光及び前記第２の光の他方に対応する前記第１又は第２の波長可変レーザの出力波長を制御する請求項３又は４に記載の光源装置。
【請求項６】
前記波長安定化装置は、
前記第１の光及び前記第２の光の一方が入射され、前記一方の光の周波数が、第１の所定周波数より高いか低いかの弁別信号を出力する第１の弁別信号発生装置と、
前記第３の光が入射され、前記第３の光の周波数が、第２の所定周波数より高いか低いかの弁別信号を出力する第２の弁別信号発生装置と、
前記第１の弁別信号発生装置からの前記弁別信号に基づいて、前記一方の光の周波数が前記第１の所定周波数となるように、前記一方の光に対応する一方の波長可変レーザの出力波長を制御するとともに、前記第２の弁別信号発生装置からの前記弁別信号に基づいて、前記第３の光の周波数が前記第２の所定周波数となるように、前記第１及び第２の波長可変レーザのうち、前記一方の波長可変レーザとは異なる他方の波長可変レーザの出力波長を制御する制御系と、を有する請求項１に記載の光源装置。
【請求項７】
前記第２の弁別信号発生装置には、前記基準波長レーザからの基準波長レーザ光がさらに入射され、
前記第２の弁別信号発生装置は、入射された前記第３の光と前記基準波長レーザ光との光ビート信号の周波数が一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を出力し、
前記制御系は、ビート信号の周波数が前記一定の周波数となるように、前記他方の波長可変レーザの出力波長を制御する請求項６に記載の光源装置。
【請求項８】
前記第１の波長可変レーザと前記第２の波長可変レーザとは、単一周波数ファイバレーザである請求項１〜７のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項９】
前記第１の波長可変レーザと前記第２の波長可変レーザの一方は、イッテルビウム・ドープ・ファイバレーザ又はネオジウム・ドープ・ファイバレーザであり、
前記第１の波長可変レーザと前記第２の波長可変レーザの他方は、エルビウム・ドープ・ファイバレーザであり、
前記第３の光の波長は、ヨウ素安定化ＨｅＮｅレーザと実質的に同一の波長である請求項１〜８のいずれか一項に記載の光源装置。
【請求項１０】
前記基準波長レーザは、波長安定化したＨｅＮｅレーザである請求項５又は７に記載の光源装置。
【請求項１１】
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光源装置からの出力光を、計測のための光として用いる計測装置。
【請求項１２】
一次元又は二次元の格子が形成されたスケールと、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の光源装置からの出力光を、前記スケールに照射する光学系を含むエンコーダヘッドと、を備えるエンコーダ装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光源装置、計測装置及びエンコーダ装置に係り、特に、波長変換により出力光を発生する光源装置、光源装置を光源として用いる計測装置及びエーコーダ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、半導体素子（集積回路等）、液晶表示素子等の電子デバイス（マイクロデバイス）を製造するに際し、リソグラフィ工程では、ステップ・アンド・リピート方式の縮小投影露光装置（いわゆるステッパ）、又はステップ・アンド・スキャン方式の縮小投影露光装置（いわゆるスキャニング・ステッパ（スキャナとも呼ばれる））などが比較的多く用いられている。
【０００３】
この種の露光装置では、ウエハ又はガラスプレートなどの基板（以下、「ウエハ」と総称する）を保持するウエハステージ、及びマスク又はレチクルを保持するレチクルステージの位置計測には、従来、レーザ干渉計が一般的に用いられていた。しかるに、レーザ干渉計は光の波長という物理量を用いるために一般には装置に寄らない絶対長さを得ることが出来るが、反面、レーザ干渉計のビーム路上の雰囲気の温度変化、あるいは温度勾配の影響で発生する空気揺らぎなどによる計測誤差があり、ステージ位置決め精度を損なう。そこで、近年では、レーザ干渉計に代えて、エンコーダが用いられるようになってきた。エンコーダの光源としては、レーザ干渉計と同様、周波数安定度及び周波数確度が高いヘリウムネオン（ＨｅＮｅ）レーザ（波長６３３ｎｍ）が用いられている（例えば、特許文献１参照）。ＨｅＮｅレーザ（波長６３３ｎｍ）は、出力光（出射光）の周波数を、原子周波数標準器の周波数と比較することで、出力光の周波数確度を容易に高めることができる。
【０００４】
しかるに、エンコーダは、レーザ干渉計と異なり、エンコーダヘッドからスケールに照射され、スケールに形成された格子からの回折光を受光するものであるため、検出光の光量（光強度）がレーザ干渉計に比べて小さい。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１０-２５６１５０号公報
【発明の概要】
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様によれば、第１の光を出力する第１の波長可変レーザと、第２の光を出力する前記第１の波長可変レーザと異なる第２の波長可変レーザと、前記第１の光と前記第２の光との和周波である第３の光を出力光として発生する和周波発生器と、前記第１の光及び前記第２の光の一方と、前記第３の光と、に基づいて、前記第１の波長可変レーザの出力波長と、前記第２の波長可変レーザの出力波長とを安定化させる波長安定化装置と、を備える光源装置が、提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様によれば、第１の態様に係る光源装置からの出力光を、計測のための光として用いる計測装置が、提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様によれば、一次元又は二次元の格子が形成されたスケールと、第１の態様に係る光源装置からの出力光を、前記スケールに照射する光学系を含むエンコーダヘッドと、を備えるエンコーダ装置が、提供される。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】第１の実施形態に係る光源装置の構成を示すブロック図である。
【図２】図１の第２の波長安定化装置の構成の一例示す図である。
【図３】第１の実施形態の第１の変形例に係る光源装置の構成を示すブロック図である。
【図４】第１の実施形態の第２の変形例に係る光源装置の構成を示すブロック図である。
【図５】第２の実施形態に係る光源装置の構成を示すブロック図である。
【図６】第２の実施形態の変形例に係る光源装置の構成を示すブロック図である。
【図７】ＨｅＮｅレーザと同一波長のレーザ光を波長変換により発生する光源装置の他の一例を示すブロック図である。
【図８】第３の実施形態に係るステージ装置を一部破砕して示す図である。
【図９】図８の円Ｃ内の一部を拡大して示す図である。
【図１０】ヘッドのハウジング内部に収容された光学系の構成の一例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
《第１の実施形態》
以下、第１の実施形態について図１及び図２に基づいて説明する。
【００１１】
図１には、第１の実施形態に係る光源装置の構成がブロック図にて示されている。図１において、太い実線は、光伝送経路、例えば光ファイバの経路を示し、細い実線は、制御信号を示す。なお、本実施形態及び後に説明する各実施形態及びそれらの変形例においては、光ファイバ等の光伝送経路に関しては、特に必要な場合を除き説明を省略する。
【００１２】
光源装置１００は、第１波長可変レーザ１０、第２波長可変レーザ１２、光アイソレータ(optical isolator)１１Ａ、１１Ｂ、ＷＤＭカプラから成る合波器１４、非線形光学結晶、例えば周期的分極反転ニオブ酸リチウム（ＰＰＬＮ：periodically poled lithium niobate）を用いた和周波発生モジュール１６、ＴＡＰカプラから成る分波器１８を含み、これらが図示のように光伝送経路（たとえば光ファイバ）によって接続されている。なお、光伝送経路における矢印は、光の進行方向を示す。
【００１３】
光源装置１００は、この他、第１の波長安定化装置２０と、第２の波長安定化装置３０と、を備えている。
【００１４】
ここで、第１波長可変レーザ１０及び第２波長可変レーザ１２としては、単一周波数ファイバレーザが用いられ、そのうちの一方、例えば第１波長可変レーザ１０として、波長１０３０ｎｍ〜１１２０ｎｍで発振が可能なイッテルビウム・ドープ・ファイバーレーザ、又はネオジウム・ドープ・ファイバレーザが、目標発振波長をλ１＝１０６４ｎｍに設定して用いられ、他方の第２波長可変レーザ１２として、波長１５２０ｎｍ〜１５７０ｎｍで発振が可能なエルビウム・ドープ・ファイバレーザが、目標発振波長をλ２＝１５６３ｎｍに設定して用いられている。
【００１５】
第１波長可変レーザ１０及び第２波長可変レーザ１２それぞれで発振され、それぞれから出力（出射）される波長λ１のレーザ光（以下、第１の光と呼ぶ）、波長λ２のレーザ光（以下、第２の光と呼ぶ）は、光ファイバ及び光アイソレータ１１Ａ、１１Ｂをそれぞれ介して合波器１４の２つの入力ポート（入射ポート）に個別に入射される。ここで、光アイソレータ１１Ａ、１１Ｂは光を一方向だけ通過させ、逆方向には光を切断する光学素子である。光源の不安定性および損傷の原因となる戻り光から光原を保護するために使用される。なお、第１波長可変レーザ１０から発振される第１の光の周波数はｆ１＝１／λ１であり、第２波長可変レーザ１２から発振される第２の光の周波数はｆ２＝１／λ２である。
【００１６】
合波器１４にそれぞれ入射された２つの光は、合波器１４によって同一の出力ポート（出射ポート）から出力（出射）され、合波された後、和周波発生モジュール１６に入射する。和周波発生モジュール１６では、ニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）単結晶が持つ高い光学的異方性（非線形性）を利用して、入射光の波長変換を行い、波長λ３、すなわち周波数１／λ３＝ｆ３＝ｆ１＋ｆ２の和周波を発生する。なお、和周波発生モジュール１６として、三菱電線工業時報101号（2004年4月発行)のｐ28-31に記載されている導波路型波長変換素子を用いることができる。
【００１７】
和周波発生モジュール１６で発生した和周波（波長λ３の第３の光）は、分波器１８に入射し、その大部分、例えば９０〜９９％は、光源装置１００の出力光として外部に出力される。和周波発生モジュール１６から出力される第３の光の残りの一部、例えば１〜１０％は、モニタリング用の光として、分波器１８から光ファイバ１９を介して第２の波長安定化装置３０に入射される。
【００１８】
第２の波長安定化装置３０は、種々の構成のものを用いることができるが、ここでは、一例として、干渉フィルタに波長をロックする装置が用いられている。図２には、第２の波長安定化装置３０の構成の一例が示されている。
【００１９】
第２の波長安定化装置３０は、弁別信号発生装置３１と、コントローラ３２とを備えている。このうち、弁別信号発生装置３１は、光分岐部３３と、弁別信号算出回路３４とを含む。
【００２０】
光分岐部３３は、カットフィルタ３５、干渉光フィルタ３６、フォトダイオードＰＤ１、フォトダイオードＰＤ２、及び干渉光フィルタ３６を駆動する駆動機構３７を含む。
【００２１】
カットフィルタ３５は、前述のモニタリング用の光が入射される光ファイバ１９の射出端に対向して配置されている。カットフィルタ３５は、入射光、ここではモニタリング用の光の一部を遮光する。カットフィルタ３５を通過した光は干渉光フィルタ３６に与えられる。この干渉光フィルタ３６は入射位置に応じて透過する波長が連続的に変化するように構成したものである。この干渉光フィルタ３６は、駆動機構３７によって、機械的に図２における上下方向に微小距離スライド駆動されることで、干渉光フィルタ３６を透過する光の波長を連続的に変化させることができる。なお、駆動機構３７として、干渉光フィルタ３６の傾き角を変化させる駆動機構を用いても良い。
【００２２】
干渉光フィルタ３６を通過する位置にフォトダイオードＰＤ１が配置され、干渉光フィルタ３６から反射された光を受光する位置にフォトダイオードＰＤ２が配置されている。これらのフォトダイオードＰＤ１，ＰＤ２の出力（光電変換信号）は弁別信号算出回路３４に与えられる。
【００２３】
弁別信号算出回路３４は、フォトダイオードＰＤ１，ＰＤ２の出力（光電変換信号）をそれぞれＩ／Ｖ変換する２つのＩ／Ｖ変換器と、この２つのＩ／Ｖ変換器の出力電圧の比（出力比）を算出する割算器と、割算器で算出された出力比と所定の基準値との差を算出し、その差の信号を弁別信号としてコントローラ３２に出力する比較回路とを含む。なお、２つのＩ／Ｖ変換器の出力電圧の差と、２つのＩ／Ｖ変換器の出力電圧の和との比を、割算器で算出する構成を採用しても良い。
【００２４】
コントローラ３２は、マイクロコンンピュータ（プロセッサ）を含み、弁別信号発生装置３１（弁別信号算出回路３４）から出力される弁別信号（前述の差の信号）に基いて、その差が零となるように、すなわち割算器で算出された出力比が所定の基準値となるように、第２波長可変レーザ１２の発振波長を制御する。コントローラ３２は、第２波長可変レーザ１２の駆動電流を変化させる、あるいは周囲温度を変化させることによって第２波長可変レーザ１２の発振波長を調整する。
【００２５】
第１の波長安定化装置２０は、第２の波長安定化装置３０と同様に構成され、第１波長可変レーザ１０からの発振波長を、前述と同様にして調整する。なお、第１の波長安定化装置２０及び第２の波長安定化装置３０と同様の波長安定化手段については、例えば特許第２９８９７７５号公報に詳細に開示されているので、詳細説明は省略する。
【００２６】
以上説明したように、本第１の実施形態に係る光源装置１００によると、ヨウ素安定化ＨｅＮｅレーザ（波長６３３ｎｍ）に比べて、それぞれの出力エネルギ（発光パワー）が大きい２種類の単一周波数ファイバレーザ、具体的には、発振波長λ１（＝１０６４ｎｍ）のイッテルビウム・ドープ・ファイバレーザ（又はネオジウム・ドープ・ファイバレーザ）と、発振波長λ２（＝１５６３ｎｍ）のエルビウム・ドープ・ ファイバレーザとからそれぞれ発振される周波数ｆ１＝１／λ１の第１の光と、周波数ｆ２＝１/λ２の第２の光との和周波として、ＨｅＮｅレーザとほぼ同一波長λ３＝λ１λ２／（λ１＋λ２）≒６３３ｎｍで、ＨｅＮｅレーザ光に比べて格段大きなエネルギを有する第３の光を出力光として得ることができる。また、光源装置１００では、出力光を得るための波長変換に用いられる第１の光、第２の光をそれぞれ発生する第１波長可変レーザ１０、第２波長可変レーザ１２（２種類の単一周波数ファイバレーザ）の出力波長の安定化が、２つの波長安定化装置２０、３０によって図られているので、出力光（第３の光）の波長安定性（周波数安定性）及び周波数確度がともに高くなる。
【００２７】
《第１の実施形態の第１の変形例》
図３には、第１の実施形態の変形例に係る光源装置１００Ａの構成がブロック図にて示されている。この図３を、図１と比較するとわかるように、本変形例に係る光源装置１００Ａでは、前述した光源装置１００の第２の波長安定化装置３０に代えて、波長安定化装置３０Ａが設けられている点が、光源装置１００Ａと異なる。その他の部分の構成は、光源装置１００と同様である。
【００２８】
波長安定化装置３０Ａには、第３の光（出力光）とは別に、不図示の基準波長レーザからの光（基準波長レーザ光）が入射されている。基準波長レーザとしては、例えば波長安定化したＨｅＮｅレーザ（波長６３３ｎｍ）が用いられる。
【００２９】
波長安定化装置３０Ａは、例えば、互いに周波数がわずかに異なる基準波長レーザ光と第３の光（出力光）との光ビートを発生させ、光ビート信号（光ビートの光電変換信号）を生成し、その光ビート信号の周波数が一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を生成する、光ヘテロダイン干渉法を利用する弁別信号発生装置と、該装置からの弁別信号に基づいて、ビート周波数が一定の周波数に維持されるように、第２波長可変レーザ１２の出力波長を制御するマイクロコンピュータとを含む。弁別信号発生装置としては、例えばAppl. Phys. B 79,(2004)のｐ363-365に開示されている装置、その他の光ヘテロダイン干渉法を利用する装置を用いることができる。
【００３０】
本変形例に係る光源装置１００Ａによると、前述した第１の実施形態に係る光源装置１００と同等の効果を得ることができる。
【００３１】
《第１の実施形態の第２の変形例》
ところで、上記第１の実施形態（及び変形例）では、光源装置１００（及び１００Ａ）が第１波長可変レーザ１０及び第２波長可変レーザ１２それぞれの出力波長の安定化を行う第１の波長安定化装置２０及び第２の波長安定化装置３０を備えている場合について説明したが、これに限らず、波長安定化装置を１つのみ備えていても良い。
【００３２】
図４には、第１の実施形態に係る光源装置１００と等価で且つ波長安定化装置２５を１つのみ備える光源装置１００’の構成が示されている。この光源装置１００’は、光源装置１００において、第１の波長安定化装置２０と第２の波長安定化装置３０とを、１つの波長安定化装置２５に置き換えたものである。光源装置１００’は、その他の部分の構成は、光源装置１００と同様である。
【００３３】
波長安定化装置２５は、第１の光及び第２の光の一方、ここでは第１の光と、第３の光と、に基づいて、第１波長可変レーザ１０の出力波長と、第２波長可変レーザ１２の出力波長とを安定化させる装置である。
【００３４】
波長安定化装置２５は、第１の光が入射され、第１の光の周波数が、第１の所定周波数より高いか低いかの弁別信号を出力する前述の弁別信号発生装置３１と同様に構成された第１の弁別信号発生装置３１１と、第３の光が入射され、第３の光の周波数が、第２の所定周波数より高いか低いかの弁別信号を出力する前述の弁別信号発生装置３１と同様に構成された第２の弁別信号発生装置３１２と、を備えている。さらに、第１の弁別信号発生装置３１１からの弁別信号に基づいて、第１の光の周波数が第１の所定周波数となるように、第１波長可変レーザ１０の出力波長を制御するとともに、第２の弁別信号発生装置３１２からの弁別信号に基づいて、第３の光の周波数が第２の所定周波数となるように制御するコントローラ３２Ａと、を備えている。第１波長可変レーザ１０の出力波長及び第２波長可変レーザ１２の出力波長は、例えば、駆動電流を変化させること、あるいはレーザーの周囲温度を変化させることで制御することが可能である。
【００３５】
以上の説明から明らかなように、図４の光源装置１００’は、光源装置１００と等価であることから、光源装置１００と同等の効果を得ることができる。なお、光源装置１００Ａについても、同様に単一の波長安定化装置を備える等価な構成が可能である。
【００３６】
《第２の実施形態》
次に、第２の実施形態について、図５に基づいて説明する。図５には、第２の実施形態に係る光源装置２００の構成がブロック図にて示されている。図５においても、太い実線は、光伝送経路、例えば光ファイバの経路を示し、細い実線は、制御信号の経路を示す。
【００３７】
光源装置２００では、前述した第１の実施形態に係る光源装置１００の第１の波長安定化装置２０及び第２の波長安定化装置３０に代えて、波長安定化装置４０が設けられている。その他の部分の構成は、光源装置１００と同様である。光源装置２００は、図４の光源装置１００’をさらに発展させたもので、波長安定化装置４０内に弁別信号発生装置が１つのみ設けられている。
【００３８】
波長安定化装置４０は、光路切り換え装置４１、弁別信号発生装置４２、及びマイクロコンピュータ（プロセッサ）を含むコントローラ４３を備えている。
【００３９】
光路切り換え装置４１は、入射ポートＡ及びＢを含む複数の入射ポートと、１つの出射ポートＥとを有し、入射ポートＡに第１波長可変レーザ１０が光ファイバ１７を介して接続され、入射ポートＢに分波器１８の出射ポートが光ファイバ１９を介して接続されている。光路切り換え装置４１は、コントローラ４３からの切り換え信号に応じ、出射ポートＥの接続先を入射ポートＡ及び入射ポートＢの何れかに択一的に切り換える。したがって、光路切り換え装置４１から、第１の光と第３の光（出力光）とが択一的に、弁別信号発生装置４２に対して出力される。
【００４０】
弁別信号発生装置４２としては、例えば前述の弁別信号発生装置３１と同一構成の装置を用いることができる。弁別信号発生装置４２は、光路切り換え装置４１から第１の光及び第３の光のいずれが入射されても、入射光に対して、前述のフォトダイオードＰＤ１，ＰＤ２の出力比と所定の基準値との差の信号を弁別信号として、コントローラ４３に与える。なお、弁別信号発生装置４２内部の干渉光フィルタとしては、第１の光、第３の光の両者に対応可能なものが用いられ、切り換え信号に応じて駆動機構により駆動されるようになっている。これにより、弁別信号発生装置４２は、光路切り換え装置４１から第１の光が入射されたとき、前述した第１の波長安定化装置２０の弁別信号発生装置と同様の役割を果たし、光路切り換え装置４１から第３の光が入射されたとき、前述した第２の波長安定化装置３０の弁別信号発生装置３１と同様の役割を果たす。
【００４１】
ここで、コントローラ４３は、自らが、光路切り換え装置４１に対して切り換え信号を送出するので、弁別信号発生装置４２からの弁別信号が、第１の光と第３の光のいずれに対応する弁別信号であるかを常に認識している。したがって、コントローラ４３は、第１の光の弁別信号を受信したときは、第１波長可変レーザ１０の出力波長の安定化のための制御を行い、第３の光（出力光）の弁別信号を受信したときは、第２波長可変レーザ１２の出力波長の安定化のための制御を行う。本第２の実施形態では、コントローラ４３は、光路切り換え装置４１の切り換え、及び切り換え状態に応じた第１波長可変レーザ１０及び第２波長可変レーザ１２の出力波長の安定化のための制御を、時分割処理（マルチタスク処理）にて実行する。
【００４２】
以上説明した本第２の実施形態に係る光源装置２００によると、前述した第１の実施形態に係る光源装置１００と同等の効果を得られる他、波長安定化装置及びその内部の弁別信号発生装置を、１つ設ければ良くなり、構成が簡略化される。
【００４３】
《第２の実施形態の変形例》
図６には、第２の実施形態の変形例に係る光源装置２００Ａの構成がブロック図にて示されている。
【００４４】
この図６を、図５と比較するとわかるように、本変形例に係る光源装置２００Ａでは、前述した光源装置２００の波長安定化装置４０に代えて、波長安定化装置４０Ａが設けられるとともに、光ファイバから成る光伝送経路が、光源装置２００と相違している。光源装置２００Ａのその他の部分の構成は、光源装置２００と同様になっている。
【００４５】
波長安定化装置４０Ａは、光路切り換え装置４１Ａと、弁別信号発生装置４２Ａと、コントローラ４３Ａと、を有している。
【００４６】
光路切り換え装置４１Ａは、入射ポートＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄを含む複数の入射ポートと１つの出射ポートＥとを有する。入射ポートＡ、Ｂには、前述と同様、第１波長可変レーザ１０及び分波器１８が、それぞれ光ファイバ１７、１９を介して接続されている。光路切り換え装置４１Ａでは、さらに入射ポートＣ、Ｄに、それぞれ第２波長可変レーザ１２及び不図示の基準波長レーザが、光ファイバを介して接続されている。
【００４７】
光路切り換え装置４１Ａは、コントローラ４３Ａからの切り換え信号に応じ、出射ポートＥの接続先を入射ポートＡ、Ｂ、Ｃ及びＤの少なくとも１つに切り換える。したがって、光路切り換え装置４１Ａから、第１の光、第２の光、第３の光（出力光）、及び基準波長レーザからの光（基準波長レーザ光）の少なくとも１つが、弁別信号発生装置４２Ａに出力される。具体的には、コントローラ４３Ａからの切り換え信号に応じ、光路切り換え装置４１Ａが、出射ポートＥを入射ポートＡ、Ｃ、Ｂ、Ｄにそれぞれ接続した場合には、光路切り換え装置４１Ａから第１の光、第２の光、出力光、及び基準レーザ光がそれぞれ出力される。また、コントローラ４３Ａからの切り換え信号に応じ、光路切り換え装置４１Ａが、出射ポートＥを入射ポートＢ及びＤに接続した場合には、第３の光（出力光）と基準波長レーザ光との合成光が光路切り換え装置４１Ａの出射ポートＥから出力される。本変形例では、２つの入射ポートが出射ポートに同時に接続されるのは、この場合のみである。
【００４８】
弁別信号発生装置４２Ａとしては、例えば前述したAppl. Phys. B 79,(2004)のｐ363-365に開示されている装置、その他の光ヘテロダイン干渉法を利用する装置であって、互いに周波数が僅かに異なる２種類のレーザ光の合成光ないしは干渉光から、光ビートの光電変換信号である光ビート信号を生成し、その光ビート信号の周波数が一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を発生する弁別信号発生装置を用いることができる。但し、この弁別信号発生装置４２Ａは、互いに周波数が僅かに異なる２種類のレーザ光の合成光ないしは干渉光ではなく、単一周波数レーザ光が入射した場合には、その周波数が一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を生成する機能を有する。すなわち、この弁別信号発生装置４２Ａは、前述した弁別信号発生装置３１及び弁別信号発生装置４２の機能を併せ持つ。
【００４９】
コントローラ４３Ａは、光路切り換え装置４１Ａに対して送出する切り換え信号に応じて、次のような制御動作を行う。
【００５０】
例えば、コントローラ４３Ａは、光路切り換え装置４１Ａに対して切り換え信号を送出し、入射ポートＡを出射ポートＥに接続させることで、弁別信号発生装置４２Ａから第１の光の弁別信号を受信したときは、第１波長可変レーザ１０の出力波長の安定化のための制御を行う。この場合において、コントローラ４３Ａは、光路切り換え装置４１に対して切り換え信号を送出し、入射ポートＢを出射ポートＥに接続させることで、弁別信号発生装置４２Ａから第３の光（出力光）の弁別信号を受信したときは、第２波長可変レーザ１２の出力波長の安定化のための制御を行う。本変形例においても、コントローラ４３Ａは、光路切り換え装置４１Ａの切り換え、及び切り換え状態に応じた第１波長可変レーザ１０の出力波長の安定化及び第２波長可変レーザ１２の出力波長の安定化という２つの制御を、時間的にずらせて交互に行なう時分割処理（マルチタスク処理）にて実行することができる。
【００５１】
以上のコントローラ４３Ａの制御により、上記第２の実施形態と同様に、弁別信号発生装置４２Ａに、前述した第２の波長安定化装置３０の弁別信号発生装置と同様の役割、及び前述した第１の波長安定化装置２０の弁別信号発生装置と同様の役割を果たさせることができる。
【００５２】
コントローラ４３Ａは、上述のように、弁別信号発生装置４２Ａから第１の光の弁別信号を受信したときに、第１波長可変レーザ１０の出力波長の安定化のための制御を行う場合において、光路切り換え装置４１Ａに対し、入射ポートＢ及びＤを、出射ポートＥに接続させる切り換え信号を送出することで、結果的に弁別信号発生装置４２Ａから、第３の光（出力光）と基準レーザ光との光ビート信号の周波数が一定の周波数より高いか低いかの弁別信号を発生させ、その弁別信号に基いて光ビート信号の周波数が一定の周波数となるように、第２波長可変レーザ１２の出力波長を制御することとしても良い。
【００５３】
この他、コントローラ４３Ａは、例えば光路切り換え装置４１Ａに対して入射ポートＣを出射ポートＥに接続させる切り換え信号を送出することで、結果的に弁別信号発生装置４２Ａから第２の光の弁別信号を発生させ、その弁別信号に基いて第２波長可変レーザ１２の出力波長の安定化のための制御を行うとともに、光路切り換え装置４１Ａに対して入射ポートＢを出射ポートＥに接続させる切り換え信号を送出することで、結果的に弁別信号発生装置４２Ａから第３の光（出力光）の弁別信号を発生させ、その弁別信号に基いて第１波長可変レーザ１０の出力波長の安定化のための制御を行うこととしても良い。この場合も、コントローラ４３Ａは、光路切り換え装置４１Ａの切り換え、及び切り換え状態に応じた第１波長可変レーザ１０及び第２波長可変レーザ１２の出力波長の安定化のための制御を、時分割処理（マルチタスク処理）にて実行することができる。
【００５４】
以上のように構成され、機能する光源装置２００Ａによると、上記第２の実施形態と同等の作用効果を奏することができる。
【００５５】
なお、上記第１の実施形態の変形例、及び第２の実施形態の変形例のように、基準波長レーザを用いる場合には、波長安定化装置として、基準波長レーザと制御対象である波長可変レーザの波長を切り換えて交互に測定し、制御信号を生成する装置を用いても良い。
【００５６】
説明は前後したが、これまでに説明した第１、第２の各実施形態及びこれらの変形例に係る各光源装置において、第１波長可変レーザ１０と第２波長可変レーザ１２とを入れ替えても、各光源装置は前述と同一の作用効果を奏する。詳細説明は省略する。
【００５７】
なお、単一周波数ファイバレーザを用いて、ＨｅＮｅレーザと同一波長のレーザ光を波長変換により発生する光源装置として、図７に示されるような構成も考えられる。
【００５８】
この図７に示される光源装置３００は、１つの波長可変レーザ１３、合波器１４と同様のＷＤＭカプラから成る分波器４５と、分波器４５の一方の出力ポートに光ファイバを介して接続された第２高調波発生モジュール４６と、分波器４５の他方の出力ポートに光ファイバを介して接続された可変減衰器４８と、第２高調波発生モジュール４６及び可変減衰器４８に２つの入射ポートがそれぞれ光ファイバを介して接続された合波器１４と、和周波発生モジュール１６Ａ、分波器１８及び波長安定化装置５０とを備えている。
【００５９】
波長可変レーザ１３としては、１８００ｎｍ〜２１００ｎｍで発振が可能なツリウム・ドープ・ファイバーレーザが、目標発振波長を１８９９ｎｍに設定して用いられている。
【００６０】
第２高調波発生モジュール４６は、例えば周期的分極反転ニオブ酸リチウム（ＰＰＬＮ）を含みニオブ酸リチウム（ＬｉＮｂＯ３）単結晶が持つ高い光学的異方性（非線形性）を利用して、入射光の波長変換を行い、波長可変レーザ１３で発振されるレーザ光（以下、適宜、基本波と呼ぶ）の周波数ｆ０の２倍の周波数２ｆ０を有する２倍高調波を発生する。２倍高調波の波長は、基本波の波長をλ０＝１／ｆ０としてλ０／２＝１／ｆ０／２となる。
【００６１】
そして、この２倍高調波（周波数２ｆ０）が、可変減衰器４８を通過した基本波（周波数ｆ０）とともに、合波器１４に入射し、合波された後、和周波発生モジュール１６Ａに入射する。和周波発生モジュール１６Ａでは、ニオブ酸リチウム単結晶が持つ高い光学的異方性（非線形性）を利用して、入射光の波長変換を行い、波長λ０／３、すなわち周波数ｆ０＋２ｆ０＝３ｆ０の３倍高調波を、和周波として発生する。この３倍高調波の波長は、λ０／３≒６３３ｎｍとなる。光源装置３００では、波長安定化装置５０として、前述の第１の実施形態における第２波長安定化装置３０と同様の構成の波長安定化装置を用いることができる。
【００６２】
《第３の実施形態》
次に、第３の実施形態について説明する。図８には、第３の実施形態に係るステージ装置１０００の構成が示されている。このステージ装置１０００は、ステップ・アンド・スキャン方式の走査型投影露光装置（いわゆるスキャナ）の一部を構成する。
【００６３】
ステージ装置１０００は、床面上に複数（例えば３つ又は４つ）の防振機構（図示省略）によってほぼ水平に支持されたステージベース５２、該ステージベース５２上に配置されたウエハステージＷＳＴ、該ウエハステージＷＳＴを駆動する平面モータから成るウエハステージ駆動系（不図示）、及びウエハステージＷＳＴ（ウエハテーブルＷＴＢ）の位置情報を計測する計測系を備えている。計測系は、エンコーダ装置を含む。なお、図８において、Ｙ軸方向は、ウエハＷの走査露光時に、不図示のレチクルステージとウエハステージＷＳＴとが不図示の投影光学系に対して相対走査される走査方向（スキャン方向）を示し、Ｚ軸方向は、不図示の投影光学系の光軸に平行な方向を示し、Ｘ軸方向は、Ｙ軸及びＺ軸に直交する方向を示す。
【００６４】
ウエハステージＷＳＴは、図８に示されるように、ステージ本体９１と、該ステージ本体９１の上方に配置され、不図示のＺ・チルト駆動機構によって、ステージ本体９１に対して非接触で支持されたウエハテーブルＷＴＢとを有している。この場合、ウエハテーブルＷＴＢは、Ｚ・チルト駆動機構によって、電磁力等の上向きの力（斥力）と、自重を含む下向きの力（引力）との釣り合いを３点で調整することで、非接触で支持されるとともに、Ｚ軸方向、Ｘ軸周りの回転方向（θｘ方向）、及びＹ軸周りの回転方向（θｙ方向）の３自由度方向に微小駆動される。ウエハステージＷＳＴは、複数のエアベアリングによってステージベース５２上に所定のクリアランス（隙間、ギャップ）、例えば数μｍ程度のクリアランスを介して浮上支持され、ウエハステージ駆動系（平面モータ）によって、Ｘ軸方向、Ｙ軸方向及びＺ軸回りの回転方向（θｚ方向）に駆動される。従って、ウエハテーブルＷＴＢ（ウエハＷ）は、ステージベース５２に対して、６自由度方向に移動可能である。なお、平面モータによってウエハステージＷＳＴを６自由度方向に駆動しても良い。
【００６５】
ウエハテーブルＷＴＢ上には、不図示のウエハホルダを介してウエハＷが載置され、不図示のチャック機構によって例えば真空吸着（又は静電吸着）され、固定されている。
【００６６】
エンコーダ装置は、ウエハステージＷＳＴのＸＹ平面内の位置情報（θｚ回転量の情報を含む）を計測する。ここで、エンコーダ装置の構成等について説明する。
【００６７】
ウエハテーブルＷＴＢには、上面の４隅にそれぞれエンコーダヘッド（以下、適宜、ヘッドと略述する）６０が取り付けられている。これらの４つのヘッド６０は、図８及び図９にそのうちの１つのヘッド６０が代表的に採り上げて示されるように、ウエハテーブルＷＴＢにそれぞれ形成されたＺ軸方向の貫通孔５４の内部に収容されている。
【００６８】
ウエハテーブルＷＴＢ上面の一方の対角線上に位置する一対のヘッド６０は、Ｙ軸方向を計測方向とするヘッドである。また、ウエハテーブルＷＴＢ上面のもう一方の対角線上に位置する一対のヘッド６０は、Ｘ軸方向を計測方向とするヘッドである。ヘッド６０としては、例えば米国特許第７，２３８，９３１号明細書、及び国際公開第２００７／０８３７５８号などに開示されるヘッド（エンコーダ）と同様の構成のものが用いられている。ただし、本実施形態では、光源及び光検出器は各ヘッドの外部に設けられ、光学系のみが各ヘッドの内部に設けられている。そして、光源及び光検出器と、光学系とは、光ファイバを介して光学的に接続されている。また、各ヘッド６０の光源として、前述した光源装置２００が、用いられているものとする。なお、光源装置２００に代えて、光源装置１００、１００Ａ、２００Ａのいずれかを用いても勿論良い。光源装置３００を用いることも可能である。
【００６９】
一方の対角線上に位置する一対のヘッド６０は、図８に示されるスケール板５６に計測ビーム（計測光）を照射し、スケール板５６表面（下面）に形成されたＹ軸方向を周期方向とする格子からの回折ビームを受光して、ウエハステージＷＳＴのＹ軸方向の位置を計測するＹリニアエンコーダ７０Ｙをそれぞれ構成する。また、もう一方の対角線上に位置する一対のヘッド６０は、スケール板５６に計測ビームを照射し、スケール板５６表面に形成されたＸ軸方向を周期方向とする格子からの回折ビームを受光して、ウエハステージＷＳＴのＸ軸方向の位置を計測するＸリニアエンコーダをそれぞれ構成する。スケール板５６は、不図示ではあるが、実際には、露光装置が備える投影光学系の鏡筒の−Ｚ側端部の周囲に、例えば鏡筒の下端面とほぼ同一面となる高さで、ＸＹ平面に平行に配置されている。スケール板５６は、本実施形態では、この一部に鏡筒の−Ｚ側端部が挿入される円形の開口を有する矩形のプレートから成り、不図示のボディの一部に吊り下げ支持されている。スケール板５６の下面（−Ｚ側の面）には、Ｙ軸方向を周期方向とする所定ピッチ、例えば１μｍの格子と、Ｘ軸方向を周期方向とする所定ピッチ、例えば１μｍの格子とから成る反射型の２次元回折格子（以下、回折格子と略記する）ＲＧが形成されている。この回折格子ＲＧは、ウエハステージＷＳＴの移動範囲をカバーしている。
【００７０】
本実施形態では、図８の円Ｃ内の一部を拡大した図９に示されるように、ヘッド６０は、幅及び奥行きに比べて高さが低い四角柱状（すなわち直方体状）の光学系収容部６２ａと、該光学系収容部６２ａの下方にＹ軸方向に延設された所定長さの四角柱状のファイバ収容部６２ｂとの２部分を有するハウジング６２を有している。光学系収容部６２ａは、ファイバ収容部６２ｂより外側に周囲全体に渡り一部が張り出している。前述の貫通孔５４は、図９に示されるように、ハウジング６２の形状に応じた形状に形成されている。そして、ハウジング６２は、上記張り出し部の下面が、貫通孔５４の段部に当接する状態で、ウエハテーブルＷＴＢに取り付けられている。この場合、ハウジング６２の貫通孔５４内部への挿入を容易にするため、貫通孔５４の内壁面とハウジング６２の外周面との間には、所定のクリアランスが形成される程度に、両者の寸法が設定されている。
【００７１】
ハウジング６２には、光ファイバ６４ａ，６４ｂの一端部が、それぞれ接続されている。光ファイバ６４ａ，６４ｂは、ファイバ収容部６２ｂの下端、すなわちウエハテーブルＷＴＢの下面の近傍で、ステージ本体９１の上端部に突設されたファイバ保持部６６によって、ウエハテーブルＷＴＢがステージ本体９１に対して微小駆動されても、それらに応力が加わらないように、保持されている。
【００７２】
光ファイバ６４ａは送光用ファイバであり、その他端はステージ本体９１に設けられた光源装置２００（図８〜図１０では不図示、図５参照）の分波器１８の一方の出力ポート（出力光の９０〜９９％が射出される方の出力ポート）に光学的に接続されている。また、光ファイバ６４ｂは受光用ファイバであり、その他端はステージ本体９１に設けられた受光系（不図示）に光学的に接続されている。受光系は、偏光子（検光子）及び光検出器、例えばフォトマルチプライヤ・チューブなどを含む。
【００７３】
次に、ヘッド６０のハウジング６２内部に収容された光学系の構成などについて、図１０に基づいて説明する。
【００７４】
光学系収容部６２ａの内部には、図１０に示されるように、例えば、その分離面がＸＺ平面と平行である偏光ビームスプリッタＰＢＳ、一対の反射ミラーＲ１ａ，Ｒ１ｂ、レンズＬ２ａ，Ｌ２ｂ、四分の一波長板（以下、λ／４板と表記する）ＷＰ１ａ，ＷＰ１ｂ、及び反射ミラーＲ２ａ，Ｒ２ｂ等が、所定の位置関係で、不図示の支持部材などを介して、ハウジング６２に固定されて成る光学系８０が、収容されている。
【００７５】
光ファイバ６４ａは、図１０に示されるように、ハウジング６２の内部に配置され、不図示の支持部材を介してハウジング６２に固定されている。
【００７６】
光学系８０の偏光ビームスプリッタＰＢＳの入射面に対向して光ファイバ６４ａの一端側の端面が配置され、偏光ビームスプリッタＰＢＳの射出面に対向して光ファイバ６４ｂの一端側の端面が配置されている。
【００７７】
ヘッド６０において、ステージ本体９１に設けられた光源装置２００（図８〜図１０では不図示、図５参照）からレーザビームＬＢ（前述の波長６３３ｎｍの第３の光（出力光））が射出され、光ファイバ６４ａを介して偏光ビームスプリッタＰＢＳに入射し、偏光分離により２つの計測ビームＬＢ1，ＬＢ2となる。偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過した計測ビームＬＢ1は反射ミラーＲ１ａを介してスケール板５６に到達し、偏光ビームスプリッタＰＢＳで反射された計測ビームＬＢ2は反射ミラーＲ１ｂを介してスケール板５６に到達する。なお、ここで「偏光分離」とは、入射ビームをＰ偏光成分とＳ偏光成分に分離することを意味する。
【００７８】
計測ビームＬＢ1，ＬＢ2の照射によって回折格子ＲＧから発生する所定次数の回折ビーム、例えば１次回折ビームは、それぞれレンズＬ２ａ，Ｌ２ｂを介して、λ／４板ＷＰ１ａ，ＷＰ１ｂにより円偏光に変換された後、反射ミラーＲ２ａ，Ｒ２ｂにより反射されて再度λ／４板ＷＰ１ａ，ＷＰ１ｂを通り、往路と同じ光路を逆方向に辿って偏光ビームスプリッタＰＢＳに達する。
【００７９】
偏光ビームスプリッタＰＢＳに達した２つの１次回折ビームは、各々この偏光方向が元の方向に対して９０度回転している。このため、先に偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過した計測ビームＬＢ1の１次回折ビームは、偏光ビームスプリッタＰＢＳで反射される。先に偏光ビームスプリッタＰＢＳで反射された計測ビームＬＢ2の１次回折ビームは、偏光ビームスプリッタＰＢＳを透過する。そして、計測ビームＬＢ1，ＬＢ2それぞれの１次回折ビームは同軸上に合成され、合成ビームＬＢ12として、光ファイバ６４ｂに入射する。合成ビームＬＢ12は、光ファイバ６４ｂを介して、ステージ本体９１に設けられた受光系（不図示）に送光される。
【００８０】
受光系（不図示）の内部では、合成ビームＬＢ12として合成されたビームＬＢ1，ＬＢ2の１次回折ビームが例えば検光子によって偏光方向が揃えられ、相互に干渉して干渉光となり、この干渉光が光検出器によって検出され、干渉光の強度に応じた電気信号に変換される。ここで、計測方向（Ｙ軸方向又はＸ軸方向）に関する、ウエハステージＷＳＴの移動によるヘッド６０とスケール板５４との相対移動によって２つのビーム間の位相差が変化して干渉光の強度が変化する。この干渉光の強度の変化が、受光系（不図示）によって検出され、この強度変化に応じた位置情報がＹ軸リニアエンコーダ７０Ｙ（又はＸ軸リニアエンコーダ）の計測値として制御装置（不図示）に出力される。
【００８１】
上の説明からわかるように、エンコーダ（エンコーダヘッド）では、ビームＬＢ1，ＬＢ2の空気中での光路長が極短いため、空気揺らぎの影響が殆ど無視できる。
【００８２】
以上説明したように、本第３の実施形態に係るステージ装置１０００では、光源として、前述した光源装置２００（又は光源装置１００，１００Ａ、２００Ａのいずれか）を有する４つのリニアエンコーダ（エンコーダヘッド）を備えているので、従来のＨｅＮｅレーザを光源とするエンコーダに比べて、計測対象となる移動体（本実施形態ではウエハテーブルＷＴＢ）の位置情報をより高精度に計測することが可能になる。
【００８３】
なお、上記第３の実施形態では、ウエハテーブルＷＴＢ上にエンコーダヘッド６０が設けられ、スケール板５６（格子部）がウエハステージＷＳＴの外部に設けられる場合について説明したが、これに限らず、格子部が移動体に設けられ、エンコーダヘッドが移動体の外部に設けられる、例えば国際公開第２０１３/０７０８７１、米国特許第８，７６０，６２２号明細書などに開示されるタイプのエンコーダシステムを構成する各エンコーダヘッドの光源としても、上記各第１、第２の実施形態及びそれらの変形例に係る光源装置は、好適に用いることができる。
【００８４】
なお、シングルパス方式のエンコーダに限らず、例えば国際公開第２０１３/０７０８７１、米国特許第８，７６０，６２２号明細書などに開示されている、ダブルパス方式のエンコーダの光源として、上記第１、第２の実施形態及びそれらの変形例に係る光源装置を用いても良い。ダブルパス方式のエンコーダは、複数回、回折した回折光を用いて位置検出（計測）を行うので、シングルパス方式に比べて検出光の光量（光強度）低下がより顕著である。したがって、検出光の光量（光強度）を増加させることができる上記第１、第２の実施形態及びそれらの変形例に係る光源装置を、光源として用いることのメリットはより大きいと言える。同様に理由から、例えば米国特許第８，３９０，７８０号明細書などに開示される３格子干渉エンコーダシステムにも、上記第１、第２の実施形態及びそれらの変形例に係る光源装置を好適に適用できる。また、上記第１、第２の実施形態及びそれらの変形例に係る光源装置は、直交２方向を計測方向とするエンコーダヘッド（上記実施形態において、ＸＹ平面内の直交２方向、又はＺ軸方向とＸ軸方向又はＹ軸方向を計測方向とするエンコーダヘッド）、直交３軸方向を計測方向とする３次元ヘッドの光源としても好適である。ヘッドからビームが照射されるスケールには、２次元格子に限らず、１次元格子が形成されていても良い。
【００８５】
この他、エンコーダシステム（エンコーダ装置）以外の計測装置、例えば干渉計システムの光源として、上記各第１、第２の実施形態及びそれらの変形例に係る光源装置を用いることもできる。
【産業上の利用可能性】
【００８６】
以上説明したように、本発明の光源装置は、エンコーダ装置等の計測装置の光源に適している。また、本発明のエンコーダ装置は、ステージ等の位置計測装置として適している。
【符号の説明】
【００８７】
１０…第１波長可変レーザ、１２…第２波長可変レーザ、１６…和周波発生モジュール、２０…第１の波長安定化装置、３０…第２の波長安定化装置、３１…弁別信号発生装置、３２…コントローラ、４０…波長安定化装置、４１…光路切り換え装置、４１Ａ…光路切り換え装置、４２…弁別信号発生装置、４３…コントローラ、４３Ａ…コントローラ、５６…スケール板、７０…光学系、６０…ヘッド、７０Ｙ…Ｙリニアエンコーダ、１００…光源装置、１００Ａ…光源装置、２００…光源装置、２００Ａ…光源装置。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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