(57)【要約】【課題】データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供する。【解決手段】液晶表示装置は複数の矩形形状の画素１０を備え、各画素１０は第１電極２２及び第２電極を有しており、第１電極２２にはスリット領域及び凹凸部が形成されており、更に、制御回路を有しており、複数の画素は、第１画素群及び第２画素群から構成されており、第１電極２２に電圧を印加するための第１データ線４１，４２が、第１電極２２よりも第１基板側に設けられており、第１画素群を構成する各画素において、第２データ線４２から延在する第２データ線延在部４２Ａが第１データ線４１に隣接して配設されており、第２画素群を構成する各画素において、第１データ線４１から延在する第１データ線延在部４１Ａが、第２データ線４２に隣接して配設されている。【選択図】  図１
2016070954.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素は、奇数番目に位置する複数の画素から構成された第１画素群、及び、偶数番目に位置する複数の画素から構成された第２画素群から構成されており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するための第１データ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第３の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するための第２データ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
第１データ線及び第２データ線の上方にはスリット領域が配置されており、
第１画素群を構成する各画素において、第２データ線から延在する第２データ線延在部が、第１データ線に隣接して配設されており、
第２画素群を構成する各画素において、第１データ線から延在する第１データ線延在部が、第２データ線に隣接して配設されている液晶表示装置。
【請求項２】
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するためのデータ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
スリット領域全体の面積をＳ1、データ線の上方に位置する第１電極の部分に設けられたスリット領域の部分の面積をＳ2としたとき、
０＜Ｓ2／Ｓ1≦０．１
を満足する液晶表示装置。
【請求項３】
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するためのデータ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
データ線の上方に位置する第１電極の部分にはスリット領域が形成されていない液晶表示装置。
【請求項４】
各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって延び、画素中心から第３の辺に向かって延び、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項５】
各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、各画素において、凹凸部は、Ｘ軸上及びＹ軸上を延びる幹凸部、及び、幹凸部の側辺から画素の周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項６】
各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項７】
凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
【請求項８】
請求項１乃至請求項７のいずれか１項に記載の液晶表示装置における液晶分子へのプレチルト付与方法であって、
データ線から制御回路を介して第１電極に第１の所定の電圧を印加し、第２電極に第２の所定の電圧を印加することで、液晶分子に仮にプレチルトを付与した後、
データ線から制御回路を介しての第１電極への第１の所定の電圧の印加を中止し、且つ、第１電極の電位を第１の所定の電圧に保持した状態で、液晶分子のプレチルト状態を固定する液晶分子へのプレチルト付与方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本開示は、対向面に配向膜を有する一対の基板の間に液晶層が封止された液晶表示素子を備えた液晶表示装置、及び、液晶分子へのプレチルト付与方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近年、液晶テレビジョン受像機やノート型パーソナルコンピュータ、カーナビゲーション装置等の表示モニタとして、液晶ディスプレイ（ＬＣＤ；Liquid Crystal Display）が多く用いられている。この液晶ディスプレイは、基板間に挟持された液晶層中に含まれる液晶分子の分子配列（配向）によって様々な表示モード（方式）に分類される。表示モードとして、例えば、電圧をかけない状態で液晶分子が捩れて配向しているＴＮ（Twisted Nematic；捩れネマティック）モードがよく知られている。ＴＮモードでは、液晶分子は、正の誘電率異方性、即ち、液晶分子の長軸方向の誘電率が短軸方向に比べて大きい性質を有している。そのため、液晶分子は、基板面に対して平行な面内において、液晶分子の配向方位を順次回転させつつ、基板面に垂直な方向に整列させた構造となっている。
【０００３】
その一方で、電圧をかけない状態で液晶分子が基板面に対して垂直に配向しているＶＡ（Vertical Alignment）モードに対する注目が高まっている。ＶＡモードでは、液晶分子は、負の誘電率異方性、即ち、液晶分子の長軸方向の誘電率が短軸方向に比べて小さい性質を有しており、ＴＮモードに比べて広視野角を実現できる。このようなＶＡモードの液晶ディスプレイでは、電圧が印加されると、基板に対して垂直方向に配向していた液晶分子が、負の誘電率異方性により、基板に対して平行方向に倒れるように応答することによって、光を透過させる構成となっている。ところが、基板に対して垂直方向に配向した液晶分子の倒れる方向は任意であるため、電圧印加により液晶分子の配向が乱れ、よって、電圧に対する応答特性を悪化させる要因となっていた。
【０００４】
そこで、電圧印加時における液晶分子の配向を規制する手法として、これまでにも様々な提案がなされている。例えば、ＭＶＡ（Multi-domain Vertical Alignment）方式やＰＶＡ（Patterned Vertical Alignment）方式、あるいは、光配向膜を使用する手法が提案されている。ＭＶＡ方式では、スリットやリブ（突起）を用いることにより、配向制御を行いつつ、高視野角を実現する。最近では、この他にも、一方の基板に形成された電極（具体的には、画素電極）に複数の微細なスリットを設け、他方の基板に形成された電極（具体的には、対向電極）をスリットの無い、所謂ベタ電極とした構造（ファインスリット構造とも呼ばれる）が提案されている。しかしながら、ファインスリット構造にあっては、微小なライン・アンド・スペースから成るスリットにおいて電界の加わらない部分が存在し、更に、ラインのエッジ近傍において、電圧印加時、液晶分子の配向状態がツイスト構造を取るために、光透過率が低下するといった問題がある。
【０００５】
このような問題を解決するための技術が、即ち、画素電極（以下、『第１電極』と呼ぶ）に複数の微細なスリット及び凹凸部を形成する技術が、特開２０１４−０９５７８３号に開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００６】
【特許文献１】特開２０１４−０９５７８３号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００７】
第１電極に複数の微細なスリット及び凹凸部を形成する上記の特許公開公報に開示された技術は上述した問題を解決する優れた技術であるが、第１電極に電圧を印加するためのデータ線の配置状態に依っては、以下の問題が生じ得ることが判明した。即ち、図５０Ａ及び図５０Ｂに模式的な一部断面図を示すように、第１電極２２にスリット領域１２が設けられている直下にデータ線が設けられている領域（便宜上、『領域Ａ』と呼ぶ）と、第１電極２２の凹凸部１１が設けられている直下にデータ線が設けられている領域（便宜上、『領域Ｂ』と呼ぶ）とでは、データ線に電圧が印加されたとき生成する電場の影響によって、領域Ａを占める第１電極２２の部分に生成する電場と、領域Ｂを占める第１電極２２の部分に生成する電場との間に相違が生じる可能性がある。そして、その結果、領域Ａを占める液晶分子と領域Ｂを占める液晶分子の配向の状態に差異が生じ、例えば、画像の表示品質劣化が生じる虞がある。尚、図５０Ａ、図５０Ｂにおける参照番号の詳細は、実施例１の液晶表示装置の説明（特に図３に関する説明）を参照のこと。
【０００８】
従って、本開示の目的は、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置、及び、液晶分子へのプレチルト付与方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記の目的を達成するための本開示の第１の態様に係る液晶表示装置は、
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素は、奇数番目に位置する複数の画素から構成された第１画素群、及び、偶数番目に位置する複数の画素から構成された第２画素群から構成されており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するための第１データ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第３の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するための第２データ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
第１データ線及び第２データ線の上方にはスリット領域が配置されており、
第１画素群を構成する各画素において、第２データ線から延在する第２データ線延在部が、第１データ線に隣接して配設されており、
第２画素群を構成する各画素において、第１データ線から延在する第１データ線延在部が、第２データ線に隣接して配設されている。
【００１０】
第１の辺あるいは第３の辺に隣接したスリット領域の部分の長さをＬS-1、第１の方向に沿った画素の最大長さをＬPX-1としたとき、
０．０２≦ＬS-1／ＬPX-1≦０．５
を満足することが好ましい。
【００１１】
上記の目的を達成するための本開示の第２の態様あるいは第３の態様に係る液晶表示装置は、
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するためのデータ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられている。
【００１２】
そして、本開示の第２の態様に係る液晶表示装置にあっては、スリット領域全体の面積をＳ1、データ線の上方に位置する第１電極の部分に設けられたスリット領域の部分の面積をＳ2としたとき、
０＜Ｓ2／Ｓ1≦０．１
を満足する。後述するライン・アンド・スペース構成のスリット領域におけるスペース部の望ましい本数として、後述する第１象限、第２象限、第３象限、第４象限のそれぞれにおいて、３本以上、２０本以下を例示することができる。
【００１３】
また、本開示の第３の態様に係る液晶表示装置にあっては、データ線の上方に位置する第１電極の部分にはスリット領域が形成されていない。
【００１４】
本開示の第３の態様に係る液晶表示装置にあっては、データ線の上方に位置し、スリット領域が形成されていない第１電極の部分の第１の方向及び第２の方向に沿った長さを、それぞれ、ＬEl-1，ＬEl-2としたとき、
２×１０-5ｍ≦ＬEl-1≦３×１０-4ｍ
０≦ＬEl-2≦３×１０-4ｍ
好ましくは、
２×１０-5ｍ≦ＬEl-2≦３×１０-4ｍ
を満足することが好ましい。スリット領域が形成されていない第１電極の部分には、凹凸が形成されていてもよいし、平坦であってもよいが、透明導電材料層は形成されている。尚、透明導電材料層は第１電極も構成する。あるいは又、スリット領域が形成されていない第１電極の部分には透明導電材料層が形成されておらず、切欠部となっており、第１電極がその上に形成された下地層が露出している。切欠部は、第１の方向と平行に延びる第１電極の辺（具体的には、第１の辺に設けられており、あるいは又、第３の辺に設けられており、あるいは又、第１の辺及び第３の辺）に設けられている。
【００１５】
上記の目的を達成するための本開示の液晶分子へのプレチルト付与方法は、本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置における液晶分子へのプレチルト付与方法であって、
データ線から制御回路を介して第１電極に第１の所定の電圧を印加し、第２電極に第２の所定の電圧を印加することで、液晶分子に仮にプレチルトを付与した後、
データ線から制御回路を介しての第１電極への第１の所定の電圧の印加を中止し、且つ、第１電極の電位を第１の所定の電圧に保持した状態で、液晶分子のプレチルト状態を固定する。尚、第１電極への第１の所定の電圧の印加を中止し、次いで、第１電極へ第２の所定の電圧を印加することが好ましい。以上の工程で液晶分子のプレチルト状態が固定されるが、液晶表示装置の画像表示時、液晶分子は、第１電極と第２電極との間に生じる電場に依存して配向状態が変化することは云うまでもない。
【発明の効果】
【００１６】
本開示の第１の態様に係る液晶表示装置にあっては、第１画素群を構成する各画素において、第２データ線から延在する第２データ線延在部が第１データ線に隣接して配設されており、第２画素群を構成する各画素において、第１データ線から延在する第１データ線延在部が第２データ線に隣接して配設されている。このようにデータ線に隣接してデータ線延在部を配置することで、データ線に印加される電圧と異なる電圧をデータ線延在部に印加することができるので、データ線の上方にスリット領域が形成された構造の液晶表示装置にあっても、データ線によって生成される電場の液晶分子の配向に対する影響をデータ線延在部によって生成される電場によって緩和することができ、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００１７】
本開示の第２の態様に係る液晶表示装置にあっては、スリット領域全体の面積と、データ線の上方に位置する第１電極の部分に設けられたスリット領域の部分の面積との関係が規定されているので、データ線の上方にスリット領域が形成された構造の液晶表示装置にあっても、データ線によって生成される電場の液晶分子の配向に対する影響を抑制することができ、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００１８】
本開示の第３の態様に係る液晶表示装置にあっては、データ線の上方に位置する第１電極の部分にはスリット領域が形成されていないので、データ線によって生成される電場の液晶分子の配向に対する影響を抑制することができ、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００１９】
本開示の液晶分子へのプレチルト付与方法にあっては、先ず、データ線から制御回路を介して第１電極に第１の所定の電圧を印加し、第２電極に第２の所定の電圧を印加することで、液晶分子に仮にプレチルトを確実に付与することができる。次いで、第１電極へ電圧を印加するための制御回路をオフ状態にし、且つ、第１電極の電位を第１の所定の電圧に保持した状態で、液晶分子のプレチルト状態を固定するので、データ線によって生成する電界に起因した液晶分子のプレチルトの状態への悪影響が無く、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００２０】
尚、本明細書に記載された効果はあくまで例示であって限定されるものでは無く、また、付加的な効果があってもよい。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】図１は、実施例１の液晶表示装置において、４×４の１６画素と駆動回路とデータ線とデータ線延在部の配置状態を概念的に示す図である。
【図２】図２は、実施例１の液晶表示装置において、２×２の４画素と駆動回路とデータ線とデータ線延在部の配置状態を拡大して概念的に示す図である。
【図３】図３は、実施例１の液晶表示装置において、図２の矢印Ａ−Ａに沿った第１基板等の模式的な一部断面図である。
【図４】図４は、実施例１の液晶表示装置の模式的な一部断面図である。
【図５】図５は、実施例１の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図６】図６は、実施例１の液晶表示装置において、１画素を構成する第１電極のパターンを模式的に示す図である。
【図７】図７は、実施例１の液晶表示装置において、１画素を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に示す図である。
【図８】図８Ａ、図８Ｂ及び図８Ｃは、それぞれ、図５の矢印Ａ−Ａ、矢印Ｂ−Ｂ及び矢印Ｃ−Ｃに沿った第１電極の部分の模式的な端面図である。
【図９】図９Ａ及び図９Ｂは、ＴＦＴ等及び第１電極が形成された第１基板の模式的な一部端面図である。
【図１０】図１０Ａ及び図１０Ｂは、実施例１の液晶表示装置を組み立てる際の、第１電極等への電圧の印加状態を示すタイミングチャートである。
【図１１】図１１は、実施例２の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図１２】図１２は、実施例２の液晶表示装置において、１画素を構成する第１電極のパターンを模式的に示す図である。
【図１３】図１３は、実施例２の液晶表示装置において、１画素を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に示す図である。
【図１４】図１４は、実施例３の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図１５】図１５は、実施例３の液晶表示装置において、１画素を構成する第１電極のパターンを模式的に示す図である。
【図１６】図１６は、実施例３の液晶表示装置において、１画素を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に示す図である。
【図１７】図１７は、実施例３の液晶表示装置の変形例において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図１８】図１８は、実施例４の液晶表示装置において、４×４の１６画素と駆動回路とデータ線等の配置状態を概念的に示す図である。
【図１９】図１９は、実施例４の液晶表示装置において、２×２の４画素を構成する第１電極及び切欠部を上方より眺めた模式図である。
【図２０】図２０は、実施例４の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図２１】図２１は、実施例４の液晶表示装置において、１画素を構成する第１電極のパターンを模式的に示す図である。
【図２２】図２２は、実施例４の液晶表示装置において、１画素を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に示す図である。
【図２３】図２３は、実施例５の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図２４】図２４は、実施例５の液晶表示装置の変形例において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図２５】図２５は、実施例６の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図２６】図２６は、実施例６の液晶表示装置の変形例において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図２７】図２７Ａ及び図２７Ｂは、それぞれ、実施例６の液晶表示装置の変形例を構成する第１電極の一部分の模式的な平面図である。
【図２８】図２８Ａ及び図２８Ｂは、それぞれ、実施例６の液晶表示装置の別の変形例を構成する第１電極の一部分の模式的な平面図である。
【図２９】図２９は、実施例６の液晶表示装置の別の変形例において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図３０】図３０は、実施例６の液晶表示装置の別の変形例を構成する第１電極の一部分を拡大した概念的な平面図である。
【図３１】図３１Ａ及び図３１Ｂは、それぞれ、実施例６の液晶表示装置の別の変形例、及び、枝凸部にテーパーが付されていない液晶表示装置の枝凸部における液晶分子の挙動を説明するための模式図である。
【図３２】図３２は、実施例７の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図３３】図３３は、実施例８の液晶表示装置の変形例において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図３４】図３４は、実施例９の液晶表示装置の模式的な一部端面図である。
【図３５】図３５は、実施例９の液晶表示装置の変形例の模式的な一部端面図である。
【図３６】図３６Ａは、実施例１１の液晶表示装置を構成する１画素の中心領域における第１電極の一部分の模式的な平面図であり、図３６Ｂ及び図３６Ｃは、実施例１１の液晶表示装置を構成する１画素の中心領域における第１電極の一部分の模式的な一部断面図である。
【図３７】図３７Ａ及び図３７Ｂは、それぞれ、実施例１１の液晶表示装置を構成する１画素の中心領域における第１電極の一部分の模式的な平面図である。
【図３８】図３８は、実施例１２の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図である。
【図３９】図３９Ａ及び図３９Ｂは、それぞれ、図３８に示す第１電極の模式的な平面図において円形の領域で囲んだ第１電極の一部分を拡大した模式的な平面図である。
【図４０】図４０は、図３８の第１電極の模式的な平面図において円形の領域で囲んだ第１電極の一部分を拡大した模式的な平面図である。
【図４１】図４１は、実施例１３の液晶表示装置における第１電極等の模式的な一部断面図であり、図５の矢印Ａ−Ａに沿った第１電極等の模式的な一部断面図に相当する。
【図４２】図４２Ａ、図４２Ｂ、図４２Ｃ及び図４２Ｄは、実施例２の液晶表示装置におけるスリット領域の変形例を模式的に示す図である。
【図４３】図４３は、実施例２の液晶表示装置におけるスリット領域の変形例を模式的に示す図である。
【図４４】図４４Ａ、図４４Ｂ及び図４４Ｃは、実施例５の液晶表示装置におけるスリット領域の変形例を示す図である。
【図４５】図４５Ａ、図４５Ｂ及び図４５Ｃは、実施例５の液晶表示装置におけるスリット領域の別の変形例を示す図である。
【図４６】図４６Ａは、液晶分子のプレチルトを説明するための模式図であり、図４６Ｂ及び図４６Ｃは、実施例９の液晶表示装置における液晶分子の挙動を示す概念図である。
【図４７】図４７は、図１に示した液晶表示装置の回路構成図である。
【図４８】図４８は、枝凸部の形成ピッチ、枝凸部の幅、枝凸部の先端部の幅等を説明するための、枝凸部等の一部の模式的な平面図である。
【図４９】図４９は、枝凸部の形成ピッチ、枝凸部の幅、枝凸部の先端部の幅等を説明するための、枝凸部等の一部の模式的な平面図である。
【図５０】図５０は、従来の液晶表示装置における問題点を説明するための図である。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
以下、図面を参照して、実施例に基づき本開示を説明するが、本開示は実施例に限定されるものではなく、実施例における種々の数値や材料は例示である。尚、説明は、以下の順序で行う。
１．本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置、全般に関する説明
２．実施例１（本開示の第１の態様、具体的には、第１−Ａの態様に係る液晶表示装置）
３．実施例２（本開示の第２の態様、具体的には、第２−Ａの態様に係る液晶表示装置）
４．実施例３（本開示の第３の態様、具体的には、第３−Ａの態様に係る液晶表示装置）
５．実施例４（実施例３の変形）
６．実施例５（実施例１〜実施例４の変形、具体的には、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置、本開示の第１−Ｂ−３の態様、第２−Ｂ−３の態様、第３−Ｂ−３の態様に係る液晶表示装置）
７．実施例６（実施例１〜実施例４の変形、具体的には、本開示の第１−Ｂの態様、第２−Ｂの態様、第３−Ｂの態様に係る液晶表示装置）
８．実施例７（実施例６の変形、具体的には、本開示の第１−Ｂ−２の態様、第２−Ｂ−２の態様、第３−Ｂ−２の態様に係る液晶表示装置、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置）
９．実施例８（実施例６の変形、具体的には、本開示の第１−Ｂ−４の態様、第２−Ｂ−４の態様、第３−Ｂ−４の態様に係る液晶表示装置、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置）
１０．実施例９（実施例１〜実施例８の変形）
１１．実施例１０（実施例１〜実施例９の変形）
１２．実施例１１（実施例１〜実施例１０の変形、具体的には、本開示の第１−Ｄの態様、第２−Ｄの態様、第３−Ｄの態様に係る液晶表示装置）
１３．実施例１２（実施例１〜実施例１１の変形）
１４．実施例１３（実施例１〜実施例１２の変形）
１５．その他
【００２３】
〈本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置、全般に関する説明〉
第１データ線及び第２データ線又はデータ線の上方にはスリット領域が配置されているが、スリット領域は、第１データ線及び第２データ線又はデータ線の直上に配置されてはおらず、実際には、第１データ線及び第２データ線又はデータ線の斜め上に配置されている。即ち、第１基板への第１電極の射影像に、第１基板への第１データ線及び第２データ線又はデータ線の射影像は含まれていない。第１データ線延在部は第１データ線から延在するが、第１データ線延在部は、第２の方向に延びる第１の部分、及び、第１の部分から第１の方向に延びる第２の部分から構成されており、第２の部分が第２データ線に隣接して配設されている。第２データ線延在部は第２データ線から延在するが、第２データ線延在部は、第２の方向に延びる第１の部分、及び、第１の部分から第１の方向に延びる第２の部分から構成されており、第２の部分が第１データ線に隣接して配設されている。第１データ線延在部及び第２データ線延在部の平面形状は「Ｌ字」状である。第１基板への第２の部分の射影像は、第１基板への第１電極の射影像に含まれる。第１基板への第１の部分の射影像は、第１基板への第１電極の射影像に含まれていてもよいし、含まれていなくともよい。
【００２４】
本開示の第１の態様に係る液晶表示装置にあっては、第１データ線と第２データ線が設けられているが、また、場合によっては、本開示の第２の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置にあっても第１データ線と第２データ線が設けられている場合があり、これらの場合、第１データ線に印加する電圧（例えば、画像信号電圧）をＶD-1、第２データ線に印加する電圧（例えば、画像信号電圧）をＶD-2、第２電極に印加する電圧をＶ2としたとき、例えば、
ＶD-1−Ｖ2≧０（ボルト）
ＶD-2−Ｖ2≦０（ボルト）
となるように各電圧を設定すればよい。即ち、第１データ線に印加する電圧（例えば、画像信号電圧）ＶD-1と第２データ線に印加する電圧（例えば、画像信号電圧）ＶD-2とは、第２電極に印加する電圧Ｖ2を基準としたとき、一種、反転した状態にある。
【００２５】
本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置にあっては、各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって延び、画素中心から第３の辺に向かって延び、画素中心から第２の辺に向かって延び、画素中心から第４の辺に向かって延びている形態とすることができる。具体的には、各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって延び、画素中心から第３の辺に向かって延び、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている形態とすることができる。より具体的には、本開示の第１の態様あるいは第２の態様に係る液晶表示装置にあっては、各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって第１の辺まで延び、画素中心から第３の辺に向かって第３の辺まで延び、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている形態とすることができる。また、本開示の第３の態様に係る液晶表示装置にあっては、具体的には、各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって延び、画素中心から第３の辺に向かって第３の辺まで延び、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている形態とすることができる。更には、本開示の第３の態様に係る液晶表示装置の好ましい形態にあっては、スリット領域は、画素中心から、第１の方向に平行に延びる第１電極の辺（第１の辺、又は、第３の辺、又は、第１の辺及び第３の辺）に設けられた切欠部近傍まで延びており、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている形態とすることができる。
【００２６】
以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置において、各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、各画素において、凹凸部は、Ｘ軸上及びＹ軸上を延びる幹凸部、及び、幹凸部の側辺から画素の周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている構成とすることができる。尚、このような構成を、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ａの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ａの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ａの態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００２７】
そして、この場合、
第１象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている構成とすることができる。このような、枝凸部の配置状態はマルチドメイン電極構造と呼ばれており、１つの画素内に枝凸部の延びる方向の異なる領域が形成されるため、視野角特性の向上を図ることができる。以下の説明においても同様である。そして、第１象限を占める複数の枝凸部は、その軸線がＸ軸と４５度を成して延び、第２象限を占める複数の枝凸部は、その軸線がＸ軸と１３５度を成して延び、第３象限を占める複数の枝凸部は、その軸線がＸ軸と２２５度を成して延び、第４象限を占める複数の枝凸部は、その軸線がＸ軸と３１５度を成して延びる構成とすることが好ましいが、これらの値（角度）に限定するものではない。以下においても同様である。
【００２８】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置において、
各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている構成とすることができる。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｂの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｂの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｂの態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００２９】
このような構成にあっては、Ｘ軸と平行に延びる凸部の部分、あるいは、Ｙ軸と平行に延びる凸部の部分が存在しないか、存在しても、非常に短い長さである。従って、液晶分子の配向の方向を凸部の延びる方向に出来る限り一致させることができ、Ｘ軸及びＹ軸に対応した領域における暗線の発生を抑制することができる結果、一層均一な高い光透過率を実現することが可能な液晶表示装置を提供することができる。また、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することを可能とする構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００３０】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置において、凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている構成とすることができる。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｃの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｃの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００３１】
そして、この場合、
各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の枝凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている構成とすることができる。
【００３２】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の第１−Ｂの態様、第２−Ｂの態様、第３−Ｂの態様に係る液晶表示装置において、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部一部とは、繋がった状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、繋がった状態で形成されている構成とすることができる。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｂ−１の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｂ−１の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｂ−１の態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００３３】
本開示の第１−Ｂ−１の態様、第２−Ｂ−１の態様、本開示の第３−Ｂ−１の態様に係る液晶表示装置において、２つの凸部の接合部には、画素の周辺部方向に向かって延びる突出部が設けられている構成とすることができる。ここで、突出部は、複数の線分によって囲まれている構成とすることができるし、１本の曲線によって囲まれている構成とすることもできるし、複数の曲線によって囲まれている構成とすることもできるし、線分と曲線との組合せによって囲まれている構成とすることもできる。突出部の先端は、画素の周辺部方向において隣接する２つの凸部の接合部と接していてもよい。
【００３４】
そして、本開示の第１−Ｂ−１の態様、第２−Ｂ−１の態様、第３−Ｂ−１の態様に係る液晶表示装置において、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、ずれた状態で形成されている構成とすることができる。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｂ−２の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｂ−２の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｂ−２の態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００３５】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態を含む本開示の本開示の第１−Ｂの態様、第２−Ｂの態様、第３−Ｂの態様、第３−Ｂの態様に係る液晶表示装置において、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第１象限を占める凸部の残部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、接合されていない構成とすることができる。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｂ−３の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｂ−３の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｂ−３の態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００３６】
本開示の第１−Ｂ−３の態様、第２−Ｂ−３の態様、第３−Ｂ−３の態様に係る液晶表示装置において、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、ずれた状態で形成されている構成とすることができる。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｂ−４の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｂ−４の態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｂ−４の態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。
【００３７】
このように、凸部と凸部とを接合されていない状態で形成することで、あるいは又、ずれた状態で形成することで、画素の中心における第１電極によって生成された電場が画素の中心の近傍において所望の状態に歪み、液晶分子の倒れる方向が規定される。そして、これらの結果として、画素の中心の近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、画素の中心の近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。こうして、液晶表示装置の製造時、液晶分子にプレチルトを付与するために液晶層を所望の電場に所定の時間、暴露するが、所望の電場に暴露された液晶分子の配向が安定するまでに要する時間を短縮することができる。即ち、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することが可能となり、液晶表示装置の製造時間の短縮化を図ることができる。
【００３８】
本開示の第１−Ｂ−２の態様、第２−Ｂ−２の態様、第３−Ｂ−２の態様に係る液晶表示装置において、あるいは又、本開示の第１−Ｂ−４の態様、第２−Ｂ−４の態様、第３−Ｂ−４の態様に係る液晶表示装置において、Ｘ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰYとしたとき、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されている形態とすることが好ましい。
【００３９】
また、本開示の第１−Ｂ−１の態様、第２−Ｂ−１の態様、第３−Ｂ−１の態様、本開示の第１−Ｂ−２の態様、第２−Ｂ−２の態様、第３−Ｂ−２の態様、本開示の第１−Ｂ−３の態様、第２−Ｂ−３の態様、第３−Ｂ−３の態様、本開示の第１−Ｂ−４の態様、第２−Ｂ−４の態様、第３−Ｂ−４の態様に係る液晶表示装置においては、Ｘ軸と平行に延びる凸部の部分、あるいは、Ｙ軸と平行に延びる凸部の部分が存在しないか、存在しても、非常に短い長さである。従って、液晶分子の配向の方向を凸部の延びる方向に出来る限り一致させることができ、Ｘ軸及びＹ軸に対応した領域における暗線の発生を抑制することができる結果、一層均一な高い光透過率を実現することが可能な液晶表示装置を提供することができる。また、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することを可能とする構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００４０】
以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置（以下、これらを総称して、単に、『本開示の液晶表示装置等』と呼ぶ場合がある）において、凹凸部の段差は５×１０-8ｍ乃至３×１０-7ｍであることが好ましい。
【００４１】
スリット領域は、限定するものではないが、第１電極を構成する透明導電材料層が形成されたライン部、及び、透明導電材料層が形成されていないスペース部（スリット）から構成されたライン・アンド・スペース構成とすることが好ましい。スペース部においては、第１電極がその上に形成された下地層が露出している。スリット領域を構成するライン部（以下、単に、『ライン部』と呼ぶ場合がある）は、第１電極の凹凸部と導通している（繋がっている）。スリット領域を設けることで、第１電極によって生成された電場が、スリット領域を構成するスペース部（以下、単に、『スペース部』と呼ぶ場合がある）の近傍において歪み、液晶分子の倒れる方向が強く規定される。その結果、スリット領域近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、スペース部近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。スリット領域だけでなく、凹凸部も設けられているので、従来のファインスリット構造における問題点が発生することはない。ライン部の幅として、１μｍ乃至８μｍ、好ましくは、２μｍ乃至３μｍを例示することができる。また、スペース部の幅として、１μｍ乃至６μｍ、好ましくは、２μｍ乃至３μｍを例示することができる。以下におけるスリット領域の説明においても同様である。凹凸部には透明導電材料層が形成されている。
【００４２】
第１電極は下地層上に形成されている。例えば、下地層に凹凸を形成し、係る凹凸の上に透明導電材料層を形成することで、第１電極の凹凸部を得ることができる。また、下地層に平坦な凹部領域を形成し、係る凹部領域にスリット領域を形成してもよいが、下地層に平坦な凸部領域を形成し、係る凸部領域にスリット領域を形成することが好ましい。そして、このような構成において、スリット領域は、画素の中心領域（中央部分）を含む凸部領域に設けられている構成とすることができるし、あるいは又、画素の中心領域に向かって延びる凸部領域に形成されている構成とすることができるし、あるいは又、画素の中心領域に向かって延びる枝凸部とＹ軸とによって挟まれた領域に設けられた凸部領域に形成されている構成とすることができる。
【００４３】
あるいは又、透明導電材料層が形成された凸部の頂部には、凸部と平行に延びるスペース部が形成されている構成とすることもできるし、透明導電材料層が形成された凹部の底部には、凹部と平行に延びるスペース部が形成されている構成とすることもでき、これらの構成によってもスリット領域が構成される。そして、これらの場合、凸部の長さ方向の全てに亙ってスペース部が形成されていてもよいし、凸部の長さ方向の一部にスペース部が形成されていてもよい。凸部の長さ方向の一部にスペース部を形成する場合、画素の中心領域（中央部分）及びその近傍の凸部にスペース部を形成することが望ましい。また、凹部の長さ方向の全てに亙ってスペース部が形成されていてもよいし、凹部の長さ方向の一部にスペース部が形成されていてもよい。凹部の長さ方向の一部にスペース部を形成する場合、画素の中心領域（中央部分）及びその近傍の凹部にスペース部を形成することが望ましい。あるいは又、凸部の頂部には凸部と平行に延びるスペース部が形成されており、凹部の底部には凹部と平行に延びるスペース部が形成されている構成とすることもでき、この場合、凸部の長さ方向の全てに亙ってスペース部が形成されていてもよいし、凸部の長さ方向の一部にスペース部が形成されていてもよい。また、凹部の長さ方向の全てに亙ってスペース部が形成されていてもよいし、凹部の長さ方向の一部にスペース部が形成されていてもよい。凸部の頂面のスペース部が設けられていない部分には透明導電材料層が形成されているし、凹部の底部のスペース部が設けられていない部分には透明導電材料層が形成されている。スペース部によって他の凸部から電気的に孤立した凸部が形成されないように、あるいは又、スペース部によって他の凹部から電気的に孤立した凹部が形成されないように、スペース部を形成する必要があるが、１つ画素が複数の領域に分割され、各領域が独立して駆動される、所謂マルチ画素駆動方式の表示装置にあっては、各領域内において、スペース部によって他の凸部から電気的に孤立した凸部が形成されないように、あるいは又、スペース部によって他の凹部から電気的に孤立した凹部が形成されないように、スペース部を形成すればよい。凸部の頂面にスペース部を設ける場合、凸部の幅とスペース部の幅として、
０．２≦（スペース部の幅／凸部の幅）≦０．８
を例示することができるし、凹部の底面にスペース部を設ける場合、凹部の幅とスペース部の幅として、
０．２≦（スペース部の幅／凹部の幅）≦０．８
を例示することができる。以下におけるスリット領域、スペース部の説明においても同様である。
【００４４】
以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、制御回路は、例えば、薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）から構成することができる。ＴＦＴの一方のソース／ドレイン電極は、データ線、第１データ線、第２データ線に接続されており、ＴＦＴの他方のソース／ドレイン電極は第１電極に接続されている。ＴＦＴのゲート電極は、第２の方向に延びるゲート線に接続されている。ゲート線は、第２の方向に配列された画素において共通とされている。一方、データ線、第１データ線、第２データ線は、第１の方向に配列された画素において共通とされている。ＴＦＴは、周知の構成、構造を有する。
【００４５】
本開示の液晶表示装置等において、第１データ線、第２データ線、データ線、第１データ線延在部、第２データ線延在部は、同一面内に形成されており、これらは、第１電極とは異なる面内に形成されている。第１データ線延在部の一部（第１の部分）、第２データ線延在部の一部（第１の部分）は、画素の外に位置していてもよく、この場合、これらは、ブラックマトリクスの下方に設けられていることが好ましい。また、データ線延在部の一部の領域、あるいは、データ線延在部全体が、所謂蓄積容量を構成する構造とすることもできる。
【００４６】
更には、以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、
ブラックマトリクスが設けられており、
画素と画素との間に位置する第１基板の部分の射影像及び画素周辺部の射影像と、ブラックマトリクスの射影像とが重なる形態とすることができる。
【００４７】
更には、以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、
第１電極を覆う第１配向膜、及び、第２電極を覆う第２配向膜を更に備えており、
液晶層に対して所定の電場を印加して、液晶分子に仮にプレチルトを付与した後、液晶層に対する電場の印加を中止した状態で、少なくとも第１配向膜を構成する重合性モノマー（感光基若しくは架橋性感光基を有する配向制御材料）を反応させることにより液晶分子にプレチルトが付与される（即ち、液晶分子のプレチルト状態が固定される）形態とすることができる。
【００４８】
あるいは又、以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、
第１電極を覆う第１配向膜、及び、第２電極を覆う第２配向膜を更に備えており、
液晶層に対して所定の電場を印加して、液晶分子に仮にプレチルトを付与した後、液晶層に対する電場の印加を中止した状態で、液晶層中に含まれる重合性モノマー（配向制御材料）を反応させることにより液晶分子にプレチルトが付与される（即ち、液晶分子のプレチルト状態が固定される）形態とすることができる。
【００４９】
以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、第１配向膜の平均膜厚をＴ1、第２配向膜の平均膜厚をＴ2としたとき、
０．５≦Ｔ2／Ｔ1≦１．５
望ましくは、
０．８≦Ｔ2／Ｔ1≦１．２
を満足することが好ましい。ここで、配向膜の平均膜厚とは、１画素（あるいは、１副画素）を占める配向膜の体積を、１画素（あるいは、１副画素）の面積で除した値である。このように、Ｔ2／Ｔ1の値を規定することで、即ち、第１配向膜の平均膜厚と第２配向膜の平均膜厚とを、等しく、あるいは又、概ね等しくすることで、焼付き等の発生を確実に防止することができる。
【００５０】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、画素と画素との間に位置する第１基板の部分から、画素周辺部に対応する第１基板の部分に亙り、凸構造が形成されており、凹凸部の周辺部は凸構造上に形成されている構成とすることができる。このように、凹凸部の周辺部を凸構造上に形成すれば、凹凸部の周辺部が平坦な場合と比べて、より一層強い電場が凹凸部の周辺部に生じる。その結果、凹凸部の周辺部における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、凹凸部の周辺部における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、良好な電圧応答特性を保持することができる。凸構造は、周知の材料から構成されたブラックマトリクスに基づき形成されている形態とすることができる。
【００５１】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、第１電極に設けられた枝凸部の幅は先端部に向かって狭くなっている構成とすることができる。このように、第１電極に設けられた枝凸部の幅を先端部に向かって狭くすることによって、暗線の発生を一層少なくすることができる。即ち、一層均一な高い光透過率を実現することができ、暗線の発生を抑制することができる。枝凸部の幅は、幹凸部と接合する枝凸部の部分が最も広く、幹凸部と接合する部分から先端部に向かって狭くなっている形態とすることができる。幹凸部と接合する部分から先端部までの枝凸部の対向する２つの辺を、便宜上、『側辺』と呼ぶ。
【００５２】
そして、枝凸部の幅は、幹凸部と接合する部分から先端部に向かって直線状に狭くなっている形態（枝凸部を構成する各側辺が１本の線分から構成され、幅の変化率が一定である形態）とすることができるが、これに限定するものではなく、曲線状に狭くなっている形態（枝凸部を構成する各側辺が１本の滑らかな曲線から構成され、幅の変化率が変化する形態）とすることもできるし、枝凸部を構成する各側辺が２本以上の線分あるいは曲線から構成されている形態とすることもできるし、階段状に狭くなっている形態（枝凸部を構成する各側辺が階段状である形態）とすることもできる。
【００５３】
あるいは又、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、画素の中心領域における第１電極には窪みが設けられている構成とすることができる。即ち、第１電極には、凹凸部、スリット領域及び窪みが形成されている。窪みには、第１電極を構成する透明導電材料層が形成されている。尚、このような構成を、便宜上、『本開示の第１−Ｄの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第２−Ｄの態様に係る液晶表示装置』、『本開示の第３−Ｄの態様に係る液晶表示装置』と呼ぶ場合がある。このように、窪みを設けることで、窪みの近傍に位置する液晶分子は画素の中心に向かって倒れる状態となる。ここで、窪みは第１基板に向かって窄まっている構成とすることができる。即ち、窪みは、所謂、順テーパーの斜面を有する構成とすることができる。但し、これに限定するものではなく、垂直面を有している構成とすることもできる。そして、窪みが第１基板に向かって窄まっている構成において、窪みの傾斜角は、５度乃至６０度、好ましくは２０度乃至３０度である構成とすることができる。窪みの外縁の形状を、円形とすることができるし、あるいは又、矩形とすることができる。後者の場合、矩形形状の窪みの外縁と凹凸部の延びる方向との成す角度（矩形形状の窪みの外縁と、この外縁と凹凸部の延長部が交わる凹凸部の延びる方向との成す角度）は、９０度であってもよいし、鋭角であってもよい。窪みの外縁の形状は、これらに限定されず、液晶分子を画素の中心に向けて倒せる構造であれば如何なる形状であってもよい。また、窪みの中心部はコンタクトホールの一部を構成する構成とすることができる。
【００５４】
枝凸部及び凹部の平均幅として、１μｍ乃至２０μｍ、好ましくは２μｍ乃至１０μｍを例示することができる。枝凸部及び凹部の平均幅が１μｍ未満では、枝凸部及び凹部の形成が困難となり、十分なる製造歩留りの確保できなくなる虞がある。一方、枝凸部及び凹部の平均幅が２０μｍを越えると、駆動電圧を第１電極及び第２電極に印加したとき、第１電極と第２電極との間に良好なる斜め電界が生じ難くなる虞がある。幹凸部の平均幅として、２×１０-6ｍ乃至２×１０-5ｍ、好ましくは４×１０-6ｍ乃至１．５×１０-5ｍを例示することができる。凹部から凸部までの平均高さとして、５×１０-8ｍ乃至１×１０-6ｍ、好ましくは５×１０-8ｍ乃至３×１０-7ｍ、より好ましくは１×１０-7ｍ乃至３×１０-7ｍを例示することができる。そして、これによって、良好な配向制御が可能となり、十分な製造歩留りを確保できると共に、光透過率の低下、プロセス時間の延長を防ぐことができる。
【００５５】
あるいは又、枝凸部及び凹部の最小幅及び最大幅として、１μｍ及び２５μｍ、好ましくは２μｍ及び２０μｍを例示することができる。枝凸部及び凹部の最小幅が１μｍ未満では、枝凸部及び凹部の形成が困難となり、十分なる製造歩留りの確保できなくなる虞がある。一方、枝凸部及び凹部の最大幅が２５μｍを越えると、駆動電圧を第１電極及び第２電極に印加したとき、第１電極と第２電極との間に良好なる斜め電界が生じ難くなる虞がある。幹凸部の幅として、２×１０-6ｍ乃至２×１０-5ｍ、好ましくは４×１０-6ｍ乃至１．５×１０-5ｍを例示することができる。凹部から凸部までの平均高さとして、５×１０-8ｍ乃至１×１０-6ｍ、好ましくは５×１０-8ｍ乃至３×１０-7ｍ、より好ましくは１×１０-7ｍ乃至３×１０-7ｍを例示することができる。そして、これによって、良好な配向制御が可能となり、十分な製造歩留りを確保できると共に、光透過率の低下、プロセス時間の延長を防ぐことができる。
【００５６】
構成、構造にも依るが、本開示の液晶表示装置等において、枝凸部は、Ｘ軸に対して線対称であり、Ｙ軸に対しても線対称であることが好ましく、あるいは又、本開示の液晶表示装置等において、枝凸部は、画素の中心に対して１８０度の回転対称（点対称）であることが好ましい。
【００５７】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等おいて、上述したとおり、枝凸部の幅は、幹凸部と接合する枝凸部の部分、あるいは又、Ｘ軸あるいはその近傍、Ｙ軸あるいはその近傍の枝凸部の部分（便宜上、『枝凸部の根元部』と呼ぶ）が最も広く、画素の周辺部に向かって、即ち、枝凸部の先端部に向かって狭くなっている形態とすることができる。ここで、枝凸部の形成ピッチを「Ｐ」、枝凸部の根元部の幅を「Ｗ1」、枝凸部の先端部の幅を「Ｗ2」とする。図４８及び図４９に示すように、幹凸部と枝凸部とが接合する幹凸部の縁部と、枝凸部の一方のエッジ部（側辺エッジ部）の成す角度（あるいは又、Ｘ軸あるいはＹ軸と、枝凸部の一方のエッジ部（側辺エッジ部）の成す角度）をα1、幹凸部と枝凸部とが接合する幹凸部の外縁と、枝凸部の他方の側辺エッジ部の成す角度（あるいは又、Ｘ軸あるいはＹ軸と、枝凸部の他方の側辺エッジ部の成す角度）をα2としたとき、幹凸部の外縁近傍における、枝凸部の軸線Ｌ0と幹凸部の外縁との成す角度（あるいは又、Ｘ軸あるいはＹ軸と枝凸部の軸線Ｌ0との成す角度）α0は、
α0＝｛α1＋（１８０−α2）｝／２
で表すことができる。但し、０＜α1≦９０度、９０≦α2＜１８０度とする。そして、このような場合、幹凸部の外縁と枝凸部の一方の側辺エッジ部の交点（あるいは又、Ｘ軸あるいはＹ軸と枝凸部の一方の側辺エッジ部の交点）をｗ11とし、Ｘ軸あるいはＹ軸と枝凸部の他方の側辺エッジ部の交点をｗ’11とし、交点ｗ11を通り、枝凸部の軸線Ｌ0と直交する直線Ｌ1が枝凸部の他方の側辺エッジ部と交わる点をｗ12としたとき、交点ｗ11から交点ｗ12までの距離を、枝凸部の根元部の幅Ｗ1と定義する。また、枝凸部の軸線Ｌ0と直交する直線であって、枝凸部の先端部と接する直線Ｌ2と、枝凸部の一方の側辺エッジ部との交点（あるいは枝凸部の一方の側辺エッジ部延長線との交点）をｗ21、直線Ｌ2と、枝凸部の他方の側辺エッジ部との交点（あるいは枝凸部の他方の側辺エッジ部延長線との交点）をｗ22としたとき、交点ｗ21から交点ｗ22までの距離を、枝凸部の先端部の幅をＷ2と定義する。尚、図４９において、側辺エッジ部延長線を一点鎖線で示す。更には、隣接する枝凸部の軸線Ｌ0の間の距離を、枝凸部の形成ピッチＰと定義する。また、交点ｗ’11を通り、直線Ｌ1と平行な直線Ｌ3が、枝凸部の他方の側辺エッジ部と対向する（隣接する）枝凸部の一方の側辺エッジ部と交わる点をｗ31とするとき、交点ｗ’11から交点ｗ31までの距離を、枝凸部の間の距離Ｗ3と定義する。枝凸部の全テーパー幅ＴＰは、
ＴＰ  ＝Ｗ1−Ｗ2
と定義することができる。また、枝凸部の平均幅Ｗave1、凹部の平均幅Ｗave2は、
Ｗave1＝（Ｗ1＋Ｗ2）／２
Ｗave2＝Ｐ−Ｗave1
で表すことができる。ここで、Ｗ3の値として、１μｍ乃至１０μｍ、好ましくは２μｍ乃至５μｍを挙げることができるし、Ｗ2の値として、１μｍ乃至１０μｍ、好ましくは２μｍ乃至５μｍを挙げることができるし、Ｐの値として、２μｍ乃至２０μｍ、好ましくは２μｍ乃至１０μｍを挙げることができる。また、ＴＰの値として、Ｗ3の０．１倍乃至１０倍を例示することができる。尚、これらの値は、長さの最も長い枝凸部に対して適用すればよい。
【００５８】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、構成、構造にも依るが、幹凸部と対応する第２電極の部分には配向規制部が形成されている形態とすることができる。幹凸部と対応する第２電極の部分に配向規制部を形成することで、第２電極によって生成された電場が配向規制部近傍において歪み、あるいは又、配向規制部近傍における液晶分子の倒れる方向が規定される。その結果、配向規制部近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、配向規制部近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、画像表示時、幹凸部に対応する画像の部分に暗線が発生するといった問題の発生を確実に抑制することができる。即ち、良好な電圧応答特性を保持しつつ、一層均一な高光透過率を実現することができる液晶表示装置を提供することができるし、バックライトを構成する光源のコスト低減、低消費電力化を図ることができ、また、ＴＦＴの信頼性の向上を図ることもできる。
【００５９】
ここで、配向規制部は、第２電極に設けられた第２電極スリット構造から成る形態とすることができるし、あるいは又、第２電極に設けられた第２電極突起部から成る形態とすることができるし、あるいは又、突起状になった第２電極の部分から構成することもできる。第２電極突起部は、例えば、レジスト材料から成り、その上には第２電極は形成されていない。突起状になった第２電極の部分を設けるためには第２電極の下側に凸部を形成すればよいし、あるいは又、第１電極における凸部形成方法と同様の方法で突起状になった第２電極の部分を設けることも可能である。第２電極スリット構造あるいは第２電極突起部、突起状になった第２電極の部分の幅は幹凸部の幅よりも狭いことが望ましい。
【００６０】
また、以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、構成、構造にも依るが、第１電極には、画素中心を通り、画素周辺部に平行な第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部が形成されている形態とすることができる。画素中心を通り、画素周辺部に平行な第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部を第１電極に形成することで、即ち、例えば、幹凸部に第１電極スリット構造や第１電極突起部を形成することで、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部が存在しない平坦な凹部が第１電極に形成されている場合と比較して、第１電極によって生成された電場が第１電極スリット構造近傍において歪み、あるいは又、第１電極突起部近傍における液晶分子の倒れる方向が規定される。その結果、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、画像表示時、幹凸部に対応する画像の部分に暗線が発生するといった問題の発生を確実に抑制することができる。即ち、良好な電圧応答特性を保持しつつ、一層均一な高光透過率を実現することができる液晶表示装置を提供することができるし、バックライトを構成する光源のコスト低減、低消費電力化を図ることができ、また、ＴＦＴの信頼性の向上を図ることもできる。
【００６１】
第１電極突起部は、例えば、レジスト材料から成り、その上には第１電極は形成されていない。あるいは又、第１電極には、画素中心を通る放射状（例えば、十文字状）の凸部が凹部に囲まれて形成されている形態とすることができる。このような放射状の凸部は、第１電極の下側に放射状の凸部を形成することで設けることができるし、あるいは又、第１電極における凸部の形成方法と同様の方法で設けることも可能である。あるいは又、第１電極スリット構造若しくは第１電極突起部（リブ）を設ける代わりに、画素中心を通る放射状（例えば、十文字状）の凹部を設けてもよい。
【００６２】
尚、第１電極スリット構造や第１電極突起部（リブ）と、配向規制部とを組み合わせることもできる。
【００６３】
以上に説明した好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、構成、構造にも依るが、枝凸部と接合していない幹凸部の側辺部分の延びる方向は、Ｘ軸とは平行でなく、且つ、Ｙ軸とは平行でない構成とすることができる。即ち、枝凸部と接合していない幹凸部の側辺部分の延びる方向は、Ｘ軸及びＹ軸と異なる方向である。このような構成を採用することで、Ｘ軸及びＹ軸に対応した領域における暗線の発生を抑制することができる結果、一層均一な高い光透過率を実現することが可能な液晶表示装置を提供することができる。また、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することを可能とする構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【００６４】
枝凸部と接合していない幹凸部の側辺部分は、直線状及び／又は曲線状である形態、即ち、直線状である形態、あるいは又、曲線状である形態、あるいは又、直線状と曲線状の組合せである形態とすることができる。あるいは又、枝凸部と接合していない幹凸部の部分の幅は、幹凸部の先端部に向かって狭くなっている形態とすることができる。
【００６５】
以上に説明した各種の好ましい形態、構成を含む本開示の液晶表示装置等において、液晶分子は負の誘電率異方性を有する形態とすることができるが、これに限定するものではなく、液晶表示装置の駆動方法に依っては、正の誘電率異方性を有する形態とすることもできる。
【００６６】
本開示の液晶表示装置等あるいは液晶表示素子は、
第１基板に第１電極を形成し、第２基板と対向する第１基板の対向面上、及び、第１電極上に、第１配向膜を形成する工程と、
第２基板に第２電極を形成し、第１基板と対向する第２基板の対向面上、及び、第２電極上に、第２配向膜を形成する工程と、
第１基板及び第２基板を、第１配向膜と第２配向膜とが対向するように配置し、第１配向膜と第２配向膜との間に液晶層を封止する工程と、
液晶層に対して所定の電場を印加して、液晶分子に仮にプレチルトを付与した後、液晶層に対する電場の印加を中止した状態で、液晶分子のプレチルト状態を固定し、液晶分子を配向させる工程、
とを具備する液晶表示装置あるいは液晶表示素子の製造方法によって得ることができる。
【００６７】
そして、この場合、液晶分子を一対の基板の少なくとも一方の基板の表面に対して斜め方向に配列させるように、電場を印加することが好ましい。尚、基本的に、プレチルトが付与されるときの液晶分子の方位角（偏角）は、電場の強さと方向によって規定され、極角（天頂角）は、電場の強さによって規定される。場合によっては、プレチルトが付与されるときの液晶分子の方位角（偏角）、極角（天頂角）は、更に、配向膜材料の分子構造によっても規定され得る。
【００６８】
液晶分子を配向させる工程は、液晶分子と重合性モノマー（配向制御材料）とを含む液晶層において、配向制御材料を反応させることで、液晶分子のプレチルト状態を固定する工程を含む。このような液晶表示装置の製造方式は、ＰＳＡ方式（Polymer Stabilized Alignment方式）と呼ばれる。あるいは又、液晶分子を配向させる工程は、少なくとも一方の基板の対向面及び電極上に重合性モノマー（感光基若しくは架橋性感光基を有する配向制御材料）を含む配向膜を形成し、配向制御材料を反応させることで、液晶分子のプレチルト状態を固定する工程を含む。このような液晶表示装置の製造方式は、ＦＰＡ方式（Field-induced Photo-reactive Alignment方式）と呼ばれる。
【００６９】
一対の基板は、画素電極を有する基板、及び、対向電極を有する基板から構成されているが、例えば、第１基板を画素電極を有する基板とし、第２基板を対向電極を有する基板とすればよい。対向電極を有する基板（第２基板）側にカラーフィルター層が形成されており、あるいは又、画素電極を有する基板（第１基板）側にカラーフィルター層が形成されている。画素電極を有する基板（第１基板）には、画素を制御、駆動するためのＴＦＴ等から成る制御回路が設けられている。尚、画素を駆動するためのＴＦＴ等から成る制御回路を含む層を、『ＴＦＴ層』と呼ぶ場合がある。対向電極を有する基板（第２基板）側にカラーフィルター層が形成されている場合、ＴＦＴ層の上には下地層に相当する平滑化膜が形成されており、平滑化膜上に第１電極が形成されている。一方、画素電極を有する基板（第１基板）側にカラーフィルター層が形成されている場合、ＴＦＴ層の上にはカラーフィルター層が形成されており、カラーフィルター層（下地層に相当する）上に、あるいは又、カラーフィルター層の上の形成されたオーバーコート層（下地層に相当する）の上に、若しくは、無機材料から成るパシベーション膜（下地層に相当する）の上に、第１電極が形成されている。液晶表示装置において、画素が複数の副画素から構成される場合、画素を副画素と読み替えればよい。第１電極及び第２電極は、例えば、ＩＴＯ（インジウム錫酸化物）やＩＺＯ、ＺｎＯ、ＳｎＯ等の透明性を有する透明導電材料から構成すればよい。また、第２電極は、所謂ベタ電極（パターニングされていない電極）とすることができる。例えば、第１基板の外面に第１の偏光板を貼り付け、第２基板の外面に第２の偏光板を貼り付ける。第１の偏光板と第２の偏光板とは、それぞれの吸収軸が直交するように配置する。第１の偏光板の吸収軸は、Ｘ軸あるいはＹ軸と平行であり、第２の偏光板の吸収軸は、Ｙ軸あるいはＸ軸と平行である形態とすることが好ましいが、これに限定するものではない。
【００７０】
液晶表示装置は、周知の面状光源装置（バックライト）によって照明される。面状光源装置は、直下型の面状光源装置としてもよいし、エッジライト型（サイドライト型とも呼ばれる）の面状光源装置とすることもできる。ここで、直下型の面状光源装置は、例えば、筐体内に配置された光源と、光源の下方に位置する筐体の部分に配置され、光源からの出射光を上方に反射する反射部材と、光源の上方に位置する筐体開口部に取り付けられ、光源からの出射光及び反射部材からの反射光を拡散させながら通過させる拡散板とから構成されている。一方、エッジライト型の面状光源装置は、例えば、導光板と、導光板の側面に配置された光源から構成されている。導光板の下方には反射部材が配置されており、導光板の上方には拡散シート及びプリズムシートが配置されている。光源は、例えば冷陰極線型の蛍光ランプから成り、白色光を出射する。あるいは又、例えば、ＬＥＤや半導体レーザ素子といった発光素子から成る。面状光源装置（バックライト）からの光の通過を液晶表示装置によって制御することで、液晶表示装置において画像を表示することができる。
【００７１】
尚、液晶分子の配向状態によっては、面状光源装置からの光が液晶層を抜け、画像のコントラスト（液晶層における光透過率）が不均一になる画素の部分が生じる場合がある。このような場合には、画素の係る部分に光が入射しないように遮光領域を設けることが好ましい。場合によっては、配線層が遮光領域を兼ねる形態とすることもできる。
【００７２】
以上に説明した各種の好ましい形態、構成は、本開示の液晶分子へのプレチルト付与方法における本開示の第１の態様〜第３の態様に係る液晶表示装置に適用することができることは云うまでもない。
【実施例１】
【００７３】
実施例１は、本開示の第１の態様に係る液晶表示装置、具体的には、本開示の第１−Ａの態様に係る液晶表示装置に関する。実施例１の液晶表示装置において、４×４の１６画素と駆動回路とデータ線とデータ線延在部の配置状態を概念的に図１に示し、２×２の４画素と駆動回路とデータ線とデータ線延在部の配置状態を拡大して模式的に図２に示し、図２の矢印Ａ−Ａに沿った第１基板等の模式的な一部断面図を図３に示す。また、実施例１の液晶表示装置の模式的な一部断面図を図４に示し、第１基板における１画素１０1を上方より眺めた模式図を図５に示し、１画素１０1を構成する第１電極２２（透明導電材料層）のパターンを模式的に図６に示し、１画素１０1を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に図７に示す。更には、図８Ａ、図８Ｂ及び図８Ｃには、図５の矢印Ａ−Ａ、矢印Ｂ−Ｂ、及び、矢印Ｃ−Ｃに沿った第１電極の部分の模式的な端面図を示す。また、駆動回路等及び第１電極が形成された第１基板の模式的な一部端面図を図９Ａ及び図９Ｂに示す。図５において、データ線を一点鎖線で示す。
【００７４】
実施例１の液晶表示装置あるいは後述する実施例２〜実施例１３の液晶表示装置は、
第１基板２０及び第２基板５０を有し、
複数の画素１０が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板２０と第２基板５０との間に配置されており、
各画素１０は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺１０ａ、第１の辺１０ａと対向した第３の辺１０ｃ、第２の方向に沿って延びる第２の辺１０ｂ、第２の辺１０ｂと対向した第４の辺１０ｄを有する矩形形状を有し、更に、
第２基板５０と対向する第１基板２０の対向面に形成された第１電極（画素電極）２２、
第１電極２２及び第１基板２０の対向面を覆う第１配向膜２１、
第１基板２０と対向する第２基板５０の対向面に形成された第２電極（対向電極）５２、
第２電極５２及び第２基板５０の対向面を覆う第２配向膜５１、並びに、
第１配向膜２１及び第２配向膜５１の間に設けられ、液晶分子６１，６１Ａ，６１Ｂ，６１Ｃを含む液晶層６０、
を有している。
【００７５】
そして、実施例１の液晶表示装置あるいは後述する実施例２〜実施例１３の液晶表示装置にあっては、各画素１０において、
液晶分子６１にはプレチルトが付与されており、
第１電極２２にはスリット領域１２が形成されており、スリット領域１２が形成されていない第１電極２２の領域には凹凸部１１が形成されており、
各画素は、更に、第１基板２０上に、第１電極２２への電圧の印加を制御する制御回路（具体的には、薄膜トランジスタ、ＴＦＴ３０）を有している。
【００７６】
ここで、液晶分子６１は、少なくとも第１電極２２の側にプレチルトが付与されており、負の誘電率異方性を有する。第１電極２２は、凹凸部を有する下地層１５０、及び、透明導電材料層２３から成る。具体的には、下地層１５０の凹凸部には透明導電材料層２３が形成されている。参照番号２０Ａは、画素と画素との間に位置する第１基板２０の部分である。画素内において、全ての透明導電材料層２３は、いずれかの透明導電材料層２３に繋がっている。参照番号１５１は凸部頂面を示し、参照番号１５２は凹部底面を示す。
【００７７】
そして、実施例１の液晶表示装置において、
第１の方向に沿って配列された複数の画素は、奇数番目に位置する複数の画素１０R（赤色を出射），１０G（緑色を出射），１０B（青色を出射）から構成された第１画素群ＰＧ1、及び、偶数番目に位置する複数の画素１０R’（赤色を出射），１０G’（緑色を出射），１０B’（青色を出射）から構成された第２画素群ＰＧ2から構成されており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺１０ａの近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極２２に電圧を印加するための第１データ線４１が、第１電極２２よりも第１基板側に設けられており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第３の辺１０ｃの近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極２２に電圧を印加するための第２データ線４２が、第１電極２２よりも第１基板側に設けられており、
第１データ線４１及び第２データ線４２の上方にはスリット領域１２が配置されている。そして、
第１画素群ＰＧ1を構成する各画素において、第２データ線４２から延在する第２データ線延在部４２Ａが、第１データ線４１に隣接して配設されており、
第２画素群ＰＧ2を構成する各画素において、第１データ線４１から延在する第１データ線延在部４１Ａが、第２データ線４２に隣接して配設されている。
【００７８】
ここで、
０．０２≦ＬS-1／ＬPX-1≦０．５
を満足することが好ましく、具体的には、
ＬS-1／ＬPX-1＝０．３８
とした。
【００７９】
第１基板２０への第１電極２２の射影像に、第１基板２０への第１データ線４１及び第２データ線４２の射影像（あるいは、後述するデータ線４３の射影像）は含まれていない。即ち、第１データ線４１及び第２データ線４２（あるいは、後述するデータ線４３）は、ブラックマトリクスの射影像と重なっている。第１データ線延在部４１Ａは、第１データ線４１から延在するが、第２の方向に延びる第１の部分、及び、第１の部分から第１の方向に延びる第２の部分から構成されており、第２の部分が第２データ線４２に隣接して配設されている。第２データ線延在部４２Ａは、第２データ線４２から延在するが、第２の方向に延びる第１の部分、及び、第１の部分から第１の方向に延びる第２の部分から構成されており、第２の部分が第１データ線４１に隣接して配設されている。第１データ線延在部４１Ａ及び第２データ線延在部４２Ａの平面形状は「Ｌ字」状である。第１基板２０への第２の部分の射影像は、第１基板２０への第１電極２２の射影像に含まれる。また、実施例１にあっては、第１基板２０への第１の部分の射影像は、第１基板２０への第１電極２２の射影像に含まれていていない。即ち、第１の部分は、ブラックマトリクスの射影像と重なっている。
【００８０】
そして、実施例１の液晶表示装置あるいは後述する実施例２〜実施例１３の液晶表示装置にあっては、各画素において、スリット領域１２は、画素中心１０ｅから第１の辺１０ａに向かって延び、画素中心１０ｅから第３の辺１０ｃに向かって延び、画素中心１０ｅから第２の辺１０ｂに向かって延び、画素中心１０ｅから第４の辺１０ｄに向かって延びている。
【００８１】
具体的には、実施例１の液晶表示装置あるいは後述する実施例２〜実施例１３の液晶表示装置にあっては、各画素１０において、スリット領域１２は、画素中心１０ｅから第１の辺１０ａに向かって延び（場合によっては、第１の辺１０ａまで延び）、画素中心１０ｅから第３の辺１０ｃに向かって延び（場合によっては、第３の辺１０ｃまで延び）、画素中心１０ｅから第２の辺１０ｂに向かって第２の辺１０ｂに至る途中まで延び、画素中心１０ｅから第４の辺１０ｄに向かって第４の辺１０ｄに至る途中まで延びている。
【００８２】
実施例１の液晶表示装置にあっては、スリット領域１２の平面形状は概ね２つの二等辺三角形が並置された形状である。具体的には、２つの二等辺三角形の頂角が、概ね、画素中心１０ｅを占め、２つの二等辺三角形の底辺のそれぞれが第１の辺１０ａ及び第３の辺１０ｃと重なるような形状を、スリット領域１２は有する。後述する実施例３、実施例４においても同様である。また、スリット領域１２は、下地層１５０の凸部領域に形成されている。以下の実施例においても同様である。
【００８３】
更には、実施例１の液晶表示装置にあっては、各画素１０の画素中心１０ｅを通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、各画素１０において、凹凸部１１は、Ｘ軸上及びＹ軸上を延びる幹凸部（主凸部）１３１、及び、幹凸部１３１の側辺から画素の周辺部に向かって延びる複数の枝凸部（副凸部）１３２から構成されている。
【００８４】
尚、第１基板２０における１画素を上方より眺めた模式図において、凸部１３１，１３２と凹部１３３を明確に峻別するために、凹部に細い縦のハッチング線を付した。また、スリット領域１２において、ライン部１２Ａとライン部１２Ａの間等に位置するスペース部１２Ｂを明確に峻別するために、スペース部１２Ｂに細い横のハッチング線を付した。以下においても同様である。スペース部１２Ｂにおいては、後述する下地層１５０が露出している。
【００８５】
実施例１の液晶表示装置において、
各画素１０の画素中心１０ｅを通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の枝凸部１３２は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の枝凸部１３２は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の枝凸部１３２は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の枝凸部１３２は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びる。このようなマルチドメイン電極構造を採用することで、１つの画素内に枝凸部の延びる方向の異なる領域が形成されるため、視野角特性の向上を図ることができる。
【００８６】
尚、限定するものではないが、第１象限を占める複数の枝凸部１３２は、その軸線がＸ軸と４５度を成して延び、第２象限を占める複数の枝凸部１３２は、その軸線がＸ軸と１３５度を成して延び、第３象限を占める複数の枝凸部１３２は、その軸線がＸ軸と２２５度を成して延び、第４象限を占める複数の枝凸部１３２は、その軸線がＸ軸と３１５度を成して延びる。
【００８７】
図示した例では、枝凸部１３２の先端部分は、隣接する枝凸部１３２の先端部分と繋がっていないが、画素の周辺部で、枝凸部１３２の先端部分は隣接する枝凸部１３２の先端部分と繋がっていてもよい。また、枝凸部１３２の幅は、先端部分に向かって細くなる構成とすることもできる。
【００８８】
第１データ線４１、第２データ線４２、第１データ線延在部４１Ａ及び第２データ線延在部４２Ａは、ＴＦＴ層３０’に形成されており、ＴＦＴ３０の一方のソース／ドレイン電極３４Ａの延在部から構成されている。尚、ＴＦＴ３０の他方のソース／ドレイン電極３４Ｂは、接続孔３５を介して第１電極２２に接続されている。ＴＦＴ３０のゲート電極３１はゲート線に接続されている。実施例１の液晶表示装置において、第１データ線４１に印加する電圧（例えば、画像信号電圧）ＶD-1、第２データ線４２に印加する電圧（例えば、画像信号電圧）ＶD-2、第２電極５２に印加する電圧Ｖ2との間には、例えば、
ＶD-1−Ｖ2≧０（ボルト）
ＶD-2−Ｖ2≦０（ボルト）
となるように各電圧が設定されている。即ち、第１データ線４１に印加する電圧と第２データ線４２に印加する電圧とは、第２電極５２に印加する電圧Ｖ2を基準としたとき、一種、反転した状態にある。第１画素群ＰＧ1を構成する画素と第２画素群ＰＧ2を構成する画素とが隣接しており、しかも、これらの２つの画素が同じ輝度の画像を表示する場合、例えば、
ＶD-1＝１８（ボルト）
ＶD-2＝  ２（ボルト）
Ｖ2  ＝１０（ボルト）
といった関係を例示することができる。例えば、第２の方向に配列された複数の画素をゲート線を介して同時に駆動し、その後、第２の方向に隣接し、第１の方向に配列された複数の画素をゲート線を介して同時に駆動すればよい。
【００８９】
液晶分子６１は、第１配向膜２１との界面近傍において第１配向膜２１に保持された（固定された）液晶分子６１Ａと、第２配向膜５１との界面近傍において第２配向膜５１に保持された液晶分子６１Ｂと、それら以外の液晶分子６１Ｃとに分類することができる。液晶分子６１Ｃは、液晶層６０の厚み方向における中間領域に位置し、駆動電圧がオフの状態において液晶分子６１Ｃの長軸方向（ダイレクタ）が第１基板２０及び第２基板５０に対してほぼ垂直になるように配列されている。ここで、駆動電圧がオンになると、液晶分子６１Ｃのダイレクタが第１基板２０及び第２基板５０に対して平行になるように傾いて配向する。このような挙動は、液晶分子６１Ｃにおいて、長軸方向の誘電率が短軸方向よりも小さいという性質を有することに起因している。液晶分子６１Ａ，６１Ｂも同様の性質を有することから、駆動電圧のオン・オフの状態変化に応じて、基本的には、液晶分子６１Ｃと同様の挙動を示す。但し、駆動電圧がオフの状態において、液晶分子６１Ａは第１配向膜２１によってプレチルトθ1が付与され、あるいは又、液晶中に予め混入された重合性モノマーによってプレチルトθ1が付与され、そのダイレクタが第１基板２０及び第２基板５０の法線方向から傾斜した姿勢となる。同様に、液晶分子６１Ｂは、第２配向膜５１によってプレチルトθ2が付与され、あるいは又、液晶中に予め混入された重合性モノマーによってプレチルトθ2が付与され、そのダイレクタが第１基板２０及び第２基板５０の法線方向から傾斜した姿勢となる。尚、ここで、「保持される（固定される）」とは、配向膜２１，５１と液晶分子６１Ａ，６１Ｂとが固着せずに、液晶分子６１の配向を規制していることを表している。また、「プレチルトθ（θ1，θ2）」とは、図４６Ａに示すように、第１基板２０及び第２基板５０の表面に垂直な方向（法線方向）をＺとした場合に、駆動電圧がオフの状態で、Ｚ方向に対する液晶分子６１（６１Ａ，６１Ｂ）のダイレクタＤの傾斜角度を指す。以下に説明する種々の実施例においても同様である。
【００９０】
液晶層６０では、プレチルトθ1，θ2の双方が０度よりも大きな値を有している。液晶層６０では、プレチルトθ1，θ2は、同じ角度（θ1＝θ2）であってもよいし、異なる角度（θ1≠θ2）であってもよいが、中でも、プレチルトθ1，θ2は、異なる角度であることが好ましい。これにより、プレチルトθ1，θ2の双方が０度である場合よりも駆動電圧の印加に対する応答速度が向上すると共に、プレチルトθ1，θ2の双方が０度である場合とほぼ同等のコントラストを得ることができる。よって、応答特性を向上させつつ、黒表示の際の光の透過量を低減することができ、コントラストを向上させることができる。プレチルトθ1，θ2を異なる角度とする場合、プレチルトθ1，θ2のうちの大きい方のプレチルトθは、１度以上、４度以下であることがより望ましい。大きい方のプレチルトθを上記した範囲内にすることにより、特に、高い効果が得られる。以下に説明する種々の実施例においても同様である。
【００９１】
第１基板２０の上には、ＴＦＴ層３０’（詳細は後述する）が形成されており、ＴＦＴ層３０’上に、下地層１５０が形成されており、下地層１５０上に第１電極２２が形成されている。下地層１５０は、例えば、ＳｉＯ2やＳｉＮ、ＳｉＯＮ等の無機絶縁材料から構成されており、あるいは又、感光性のポリイミド樹脂やアクリル樹脂等の有機絶縁材料から構成されており、平滑化膜としても機能する。以下に説明する種々の実施例においても同様とすることができる。
【００９２】
凹凸部は、例えば、
（ａ）下地層である平滑化膜（あるいはカラーフィルター層）の上におけるレジスト材料層の形成（平滑化膜及びカラーフィルター層を総称して、『平滑化膜等』と呼ぶ）
（ｂ）露光・現像によるレジスト材料層における凹凸部の形成
（ｃ）レジスト材料層及び平滑化膜等（下地層）のエッチバックによる、平滑化膜等（下地層）における凹凸部の形成
（ｄ）平滑化膜等（下地層）の上における透明導電材料層の形成及びパターニング
によって得ることができる。
【００９３】
あるいは又、凹凸部は、例えば、
（ａ）平滑化膜等の上に形成された下地層の上におけるレジスト材料層の形成
（ｂ）露光・現像によるレジスト材料層における凹凸部の形成
（ｃ）レジスト材料層及び下地層のエッチバックによる、下地層における凹凸部の形成
（ｄ）下地層の上における透明導電材料層の形成及びパターニング
によって得ることができる。
【００９４】
あるいは又、凹凸部は、例えば、
（ａ）平滑化膜等の上における絶縁材料層の形成
（ｂ）絶縁材料層の上におけるレジスト材料層の形成及びレジスト材料層のパターニング
（ｃ）レジスト材料層をエッチング用マスクとして用いた絶縁材料層のパターニングによる、凹凸部を有する下地層の形成（凹部底面は平滑化膜等から構成され、凸部は絶縁材料層から構成され、下地層は平滑化膜等及び絶縁材料層から構成される）
（ｄ）下地層の上における透明導電材料層の形成及びパターニング
によって得ることができる。
【００９５】
あるいは又、凹凸部は、例えば、平滑化膜の厚さの最適化を図ることで、第１基板の上、あるいは、第１基板の上方に形成された液晶表示装置構成要素（例えば、各種信号線や補助容量電極、ゲート電極、ソース／ドレイン電極、各種配線）の厚さの影響で平滑化膜に凸部を形成することで得ることもできる。あるいは又、ゲート絶縁層に凹部及び凸部を形成することで、凹凸部を形成することもできる。
【００９６】
以上の凹凸部に関する説明は、以下に説明する種々の実施例に適用することができる。尚、凸部、幹凸部あるいは枝凸部の側面（側壁）は、垂直な面であってもよいし、順テーパーが付されていてもよいし、逆テーパーが付されていてもよい。
【００９７】
第１基板２０の外面には第１の偏光板（図示せず）が貼り付けられており、第２基板５０の外面には第２の偏光板（図示せず）が貼り付けられている。第１の偏光板と第２の偏光板とは、それぞれの吸収軸が直交するように配置する。第１の偏光板の吸収軸は、Ｘ軸あるいはＹ軸と平行であり、第２の偏光板の吸収軸は、Ｙ軸あるいはＸ軸と平行である。以下の実施例においても同様である。
【００９８】
また、第２基板５０には、カラーフィルター層（図示せず）及びブラックマトリクス（図示せず）が形成されており、これらの上に、所謂ベタ電極の第２電極５２が形成されており、第２電極５２の上に第２配向膜５１が形成されている。そして、画素１０1と画素１０1との間に位置する第１基板２０の部分の射影像及び画素周辺部の射影像と、ブラックマトリクスの射影像とは重なっている。後述する種々の実施例においても同様とすることができる。
【００９９】
図４７には、図１に示した液晶表示装置、あるいは、後述する種々の実施例の液晶表示装置における回路構成を示す。
【０１００】
図４７に示すように、液晶表示装置は、表示領域８０内に設けられた複数の画素１０を有する液晶表示素子を含んで構成されている。この液晶表示装置では、表示領域８０の周囲には、ソースドライバ８１及びゲートドライバ８２と、ソースドライバ８１及びゲートドライバ８２を制御するタイミングコントローラ８３と、ソースドライバ８１及びゲートドライバ８２に電力を供給する電源回路８４とが設けられている。
【０１０１】
表示領域８０は、画像が表示される領域であり、複数の画素１０がマトリクス状に配列されることにより画像を表示可能に構成された領域である。尚、図４７では、複数の画素１０を含む表示領域８０を示しているほか、４つの画素１０に対応する領域を別途拡大して示している。
【０１０２】
表示領域８０では、列方向（第１の方向）に複数のソース線９１（データ線４１，４２）が配列されていると共に、行方向（第２の方向）に複数のゲート線９２が配列されており、ソース線９１及びゲート線９２が互いに交差する位置に画素１０がそれぞれ配置されている。各画素１０は、第１電極２２及び液晶層６０と共に、ＴＦＴ３０及びキャパシタ９３を含んで構成されている。各ＴＦＴ３０では、ソース電極がソース線９１に接続され、ゲート電極がゲート線９２に接続され、ドレイン電極がキャパシタ９３及び第１電極２２に接続されている。各ソース線９１は、ソースドライバ８１に接続されており、ソースドライバ８１から画像信号が供給される。各ゲート線９２は、ゲートドライバ８２に接続されており、ゲートドライバ８２から走査信号が順次供給される。
【０１０３】
ソースドライバ８１及びゲートドライバ８２は、複数の画素１０の中から特定の画素１０を選択する。
【０１０４】
タイミングコントローラ８３は、例えば、画像信号（例えば、赤、緑、青に対応するＲＧＢの各画像信号）と、ソースドライバ８１の動作を制御するためのソースドライバ制御信号とを、ソースドライバ８１に出力する。また、タイミングコントローラ８３は、例えば、ゲートドライバ８２の動作を制御するためのゲートドライバ制御信号をゲートドライバ８２に出力する。ソースドライバ制御信号として、例えば、水平同期信号、スタートパルス信号あるいはソースドライバ用のクロック信号等が挙げられる。ゲートドライバ制御信号として、例えば、垂直同期信号や、ゲートドライバ用のクロック信号等が挙げられる。
【０１０５】
実施例１の液晶表示装置の製造にあっては、先ず、以下に説明する方法に基づきＴＦＴを形成し、更に、下地層１５０が形成された第１基板２０の対向面上にＩＴＯから成る透明導電材料層２３を形成する。第１基板２０は、厚さ０．７ｍｍのガラス基板から成る。
【０１０６】
即ち、図９Ａに示すように、ＴＦＴ３０を形成するために、第１基板２０の上にゲート電極３１及びゲート線（図示せず）を形成し、ゲート電極３１、ゲート線及び第１基板２０の上にゲート絶縁層３２を形成する。ゲート絶縁層３２は、例えば、ＳｉＯ2やＳｉＮ、ＳｉＯＮ、金属酸化物から成る。次いで、ゲート絶縁層３２上にチャネル形成領域となる半導体層３３を形成した後、半導体層３３のパターニングを行い、チャネル形成領域を形成する。そして、半導体層３３及びゲート絶縁層３２の上にソース／ドレイン電極３４Ａ，３４Ｂを形成し、併せて、データ線４１，４２を形成する。データ線４１，４２は、ソース／ドレイン電極３４Ａの延在部から構成されている。半導体層３３は、例えば、ポリシリコンやアモルファスシリコンから成り、ソース／ドレイン電極３４Ａ，３４Ｂ、データ線４１，４２は、例えば、チタン、クロム、アルミニウム、モリブデン、タンタル、タングステン、銅等の金属膜や、これらの合金膜又は積層膜から成る。その後、全面に層間絶縁層３０”を形成する。こうして、ＴＦＴ層３０’を得ることができる。以上のＴＦＴ層３０’の形成は、周知の方法に基づき行うことができる。尚、ＴＦＴ３０は、このような所謂ボトムゲート／トップコンタクト型に限定されず、ボトムゲート／ボトムコンタクト型とすることもできるし、トップゲート／トップコンタクト型とすることもできるし、トップゲート／ボトムコンタクト型とすることもできる。あるいは又、半導体層３３及びゲート絶縁層３２の上にソース／ドレイン電極３４Ａ，３４Ｂを形成し、併せて、データ線４１，４２を形成する代わりに、半導体層３３の上にソース／ドレイン電極３４Ａ，３４Ｂを形成し、ゲート絶縁層３２の上にデータ線４１，４２を形成してもよく、この場合には、データ線４１，４２は、半導体層３３と金属膜等の積層構造から構成される。第１基板２０へのソース／ドレイン電極３４Ａ，３４Ｂの射影像と第１基板２０へのゲート電極３１の射影像には重複領域が存在する。
【０１０７】
その後、全面に下地層１５０を形成した後、他方のソース／ドレイン電極３４Ｂの上方の下地層１５０に接続孔３５を形成する。接続孔３５の底部には、他方のソース／ドレイン電極３４Ｂが露出している。次いで、下地層１５０上にレジスト材料層を形成した後、露光・現像を行うことで、レジスト材料層に、所定の深さを有する凹凸部を形成する。そして、レジスト材料層及び下地層１５０のエッチバックを行うことで、下地層１５０に凹凸部、スリット領域を形成することができる。
【０１０８】
あるいは又、次いで、全面に平滑化膜（下地層に該当する）を形成した後、他方のソース／ドレイン電極３４Ｂの上方の平滑化膜に接続孔３５を形成する。接続孔３５の底部には、他方のソース／ドレイン電極３４Ｂが露出している。そして、接続孔３５内を含む平滑化膜の上に絶縁材料層を形成し、更に、絶縁材料層上にレジスト材料層を形成する。凹凸部を形成するためのレジスト材料層は接続孔３５内を延びている。その後、レジスト材料層の露光・現像を行うことで、レジスト材料層をパターニングする。そして、レジスト材料層をエッチング用マスクとして用いて絶縁材料層のエッチングを行い、レジスト材料層を除去することで、凹凸部、スリット領域を形成することができる。凹部底面は平滑化膜から構成され、凸部は絶縁材料層から構成され、下地層１５０は、平滑化膜及び絶縁材料層から構成される。下地層１５０の凹凸部１１は、接続孔３５内を延び、接続孔３５の底部に露出した他方のソース／ドレイン電極３４Ｂの上にまで形成されている。
【０１０９】
その後、全面に、所定の厚さを有するＩＴＯから成る透明導電材料層２３を形成することで、スリット領域１２及び凹凸部１１を得ることができる。透明導電材料層２３は接続孔３５の底部に露出した他方のソース／ドレイン電極３４Ｂまで延びている。そして、周知の方法に基づき透明導電材料層２３をパターニングすることで、第１電極２２をマトリクス状に設けることができる。凹凸部１１等の仕様を以下の表１のとおりとした。
【０１１０】
一方、第２基板５０にあっては、厚さ０．７ｍｍのガラス基板から成る第２基板５０にカラーフィルター層（図示せず）を形成し、カラーフィルター層上に、所謂ベタ電極の第２電極５２を形成する。
【０１１１】
［表１］
幹凸部の平均高さ      ：  ０．３μｍ
枝凸部の平均高さ      ：  ０．３μｍ
枝凸部の形成ピッチ    ：  ５．０μｍ
幹凸部の幅            ：１２．０μｍ
枝凸部の幅            ：  ２．５μｍ
凹部の幅              ：  ２．５μｍ
透明導電材料層の厚さ  ：  ０．１μｍ
枝凸部の側面の傾斜角度：８８度
ライン部の幅          ：  ２．５μｍ
スペース部の幅        ：  ２．５μｍ
第１配向膜の平均膜厚  ：  ０．１μｍ
第２配向膜の平均膜厚  ：  ０．１μｍ
Ｔ2／Ｔ1              ：１
データ線から第１電極までの距離：１μｍ
【０１１２】
その後、第１電極２２上に第１配向膜２１を形成し、第２電極５２の上に第２配向膜５１を形成する。具体的には、配向膜材料を、第１電極２２及び第２電極５２のそれぞれの上に塗布あるいは印刷した後、加熱処理をする。配向膜材料として、垂直配向膜材料であるＪＳＲ株式会社製ＪＡＬＳ２１３１−Ｒ６を使用した。加熱処理の温度は８０゜Ｃ以上が好ましく、１５０゜Ｃ以上、２００゜Ｃ以下とすることがより好ましい。また、加熱処理は、加熱温度を段階的に変化させてもよい。これにより、塗布あるいは印刷された配向膜材料に含まれる溶剤が蒸発し、高分子化合物を含む配向膜２１，５１が形成される。その後、必要に応じて、ラビング等の処理を施してもよい。より具体的には、第１配向膜２１及び第２配向膜５１として、垂直配向膜材料を第１電極２２及び第２電極５２の上に塗布する。そして、ホットプレート上で８０゜Ｃ、８０秒の乾燥工程を行った後、窒素雰囲気のクリーンオーブン内で、２００゜Ｃ、６０分間のベーキングを行い、第１配向膜２１及び第２配向膜５１を得た。
【０１１３】
次に、第１基板２０と第２基板５０とを配向膜２１と配向膜５１とが対向するように配置し、配向膜２１と配向膜５１との間に、液晶分子６１を含む液晶層６０を封止する。具体的には、第１基板２０あるいは第２基板５０のどちらか一方の、配向膜２１，５１の形成されている面に対して、セルギャップを確保するための柱状突起物を形成する一方、例えば、スクリーン印刷法により、第２基板５０上の外縁に、粒径３．５μｍのシリカ粒子を含む紫外線硬化樹脂を塗布することによりシール部を形成する。そして、シール部に囲まれた部分に、ネガ型液晶に配向制御材料である重合性モノマー（具体的には、アクリルモノマーであり、新中村化学工業株式会社製Ａ−ＢＰ−２Ｅ）を０．３質量％混入した液晶材料を滴下注入する。このような液晶表示装置の製造方式は、ＰＳＡ方式と呼ばれる。その後、第１基板２０と第２基板５０とを貼り合わせ、１２０゜Ｃ、１時間といった条件で、シール部を硬化させる。これにより、液晶層６０が封止される。
【０１１４】
次いで、第１電極２２と第２電極５２との間に、電圧を印加する。即ち、データ線４１，４２から制御回路（ＴＦＴ３０）を介して第１電極２２に第１の所定の電圧ＶPD-1を印加し、第２電極５２に第２の所定の電圧ＰPD-2を印加することで、液晶分子６１に仮にプレチルトを付与する。具体的には、第１電極等への電圧の印加状態を示すタイミングチャートを図１０Ａに示すように、第１データ線４１、第２データ線４２に、同時に第１の所定の電圧ＶPD-1を印加する。一方、第２電極に第２の所定の電圧ＶPD-2（例えば、０ボルト）を印加する。その後、ゲート線を介してＴＦＴ３０のゲート電極３１に電圧ＶGを印加することで、ＴＦＴ３０を導通状態とする。その結果、第１電極２２には、第１の所定の電圧ＶPD-1が印加される。
【０１１５】
尚、第１電極等への電圧の印加状態を示すタイミングチャートを図１０Ｂに示すように、第２電極に第２の所定の電圧ＶPD-2（例えば、０ボルト）を印加した状態で、ゲート線を介してＴＦＴ３０のゲート電極３１に電圧ＶGを印加することで、ＴＦＴ３０を導通状態とした後、データ線４１，４２から制御回路（ＴＦＴ３０）を介して第１電極２２に第１の所定の電圧ＶPD-1を印加してもよい。この場合、第１の所定の電圧ＶPD-1を、例えば、０．１ボルト／秒の割合で徐々に印加してもよい。
【０１１６】
これにより、第１基板２０及び第２基板５０の表面に対して所定の角度を成す方向の電場（電界）が生じ、液晶分子６１が、第１基板２０及び第２基板５０の垂直方向から所定方向に傾いて配向する。即ち、液晶分子６１に仮にプレチルトを付与することができる。
【０１１７】
その後、第１電極２２への第１の所定の電圧ＶPD-1の印加を中止し、且つ、第１電極２２の電位を第１の所定の電圧ＶPD-1に保持した状態で、液晶分子６１のプレチルト状態を固定する。尚、第２電極５２に第２の所定の電圧ＰPD-2を印加したままとする。具体的には、ゲート電極３１への電圧の印加を中止し、更に、第１データ線４１、第２データ線４２への第１の所定の電圧ＶPD-1の印加を中止する。この状態では、第１電極２２は、電気的に、一種、フロート状態となり、第１電極２２の電位は第１の所定の電圧ＶPD-1に保持される。そして、第１データ線４１、第２データ線４２へは、例えば、第２の所定の電圧ＶPD-2を印加する。あるいは又、第１データ線４１、第２データ線４２を配向規制力を高める電位とする。即ち、第１データ線４１及び第２データ線４２から制御回路を介しての第１電極２２への第１の所定の電圧ＶPD-1の印加を中止し、且つ、第１電極２２の電位を第１の所定の電圧ＶPD-1に保持した状態で、第１データ線４１及び第２データ線４２の電位と第２の所定の電圧ＰPD-2とを、
｜（第１データ線及び第２データ線の電位）−第２の所定の電圧）｜≧５ボルト
に保持する。このように、例えば、第１電極２２と第２電極５２とを同電位にすることで第１データ線４１、第２データ線４２によって生成する電界に起因した、液晶分子６１のプレチルトの状態へ悪影響が生じることが無い。
【０１１８】
そして、この状態で、重合性モノマーを反応させるために、使用する重合性モノマーに依るが、加熱処理を施し、あるいは又、紫外線を照射する（例えば、１０Ｊ（波長３６０ｎｍでの測定）の均一な紫外線）。これによって、液晶分子６１のプレチルト状態を固定することができる。液晶分子６１の配向状態は良好であり、また、黒輝度品位も優れていた。
【０１１９】
以上の工程において、液晶分子６１の方位角（偏角）は、電場の強さと方向、及び、液晶中に混入した重合性モノマーによって規定され、極角（天頂角）は、電場の強さ、及び、液晶中に混入した重合性モノマーによって規定される。従って、第１の所定の電圧ＶPD-1の値を適宜調節することにより、液晶分子６１Ａ，６１Ｂのプレチルトθ1，θ2の値を制御することが可能である。第１電極２２に形成された凹凸部１１によって、第１基板２０と第２基板５０との間に斜め電界が加わる。また、液晶中に混入した重合性モノマーの反応によって、基板の対向面近傍に高分子の層が形成される。そして、こうして形成された高分子の層により液晶分子６１の応答すべき方向が規定され、第１基板２０及び第２基板５０の近傍の液晶分子６１のプレチルト状態が、重合性モノマーの反応生成物によって固定される。以上により、液晶セルを完成させることができる。
【０１２０】
試験のために、第２電極５２に第２の所定の電圧ＰPD-2を印加し、第１電極２２への第１の所定の電圧ＶPD-1を印加したまま、液晶分子６１のプレチルト状態を固定した。その結果、液晶分子６１の配向状態はやや不良であり、また、黒輝度品位もやや不良であった。
【０１２１】
一方、プレチルトを記憶する機能を有する配向膜を少なくとも一方の電極上に塗布、形成した後、ネガ型液晶を注入封止するＦＰＡ方式においては、シール部を形成した後、シール部に囲まれた部分に、ネガ型液晶から成る液晶材料を滴下注入する。そして、第１基板２０と第２基板５０とを貼り合わせ、波長４１０ｎｍの紫外線を用いてシール部を硬化させる。
【０１２２】
次いで、上述したと同様に、データ線４１，４２から制御回路（ＴＦＴ３０）を介して第１電極２２に第１の所定の電圧ＶPD-1を印加し、第２電極５２に第２の所定の電圧ＰPD-2を印加することで、液晶分子６１に仮にプレチルトを付与する。即ち、第１基板２０及び第２基板５０の表面に対して所定の角度をなす方向の電場（電界）が生じ、液晶分子６１が、第１基板２０及び第２基板５０の垂直方向から所定方向に傾いて配向する。このときの液晶分子６１の方位角（偏角）は、電場の強さと方向、及び、配向膜材料の分子構造によって規定され、極角（天頂角）は、電場の強さ、及び、配向膜材料の分子構造によって規定される。従って、第１の所定の電圧ＶPD-1の値を適宜調節することにより、液晶分子６１Ａ，６１Ｂのプレチルトθ1，θ2の値を制御することが可能である。
【０１２３】
その後、上述したと同様に、第２電極５２に第２の所定の電圧ＰPD-2を印加したままとする。具体的には、ゲート電極３１への電圧の印加を中止し、更に、第１データ線４１、第２データ線４２への第１の所定の電圧ＶPD-1の印加を中止する。この状態では、第１電極２２は、電気的に、一種、フロート状態となり、第１電極２２の電位は第１の所定の電圧ＶPD-1に保持される。そして、第１データ線４１、第２データ線４２へは、例えば、第２の所定の電圧ＶPD-2を印加する。あるいは又、前述したと同様に、第１データ線４１、第２データ線４２を配向規制力を高める電位とする。このように、例えば、第１電極２２と第２電極５２とを同電位にすることで第１データ線４１、第２データ線４２によって生成する電界に起因した、液晶分子６１のプレチルトの状態へ悪影響が生じることが無い。そして、エネルギー線（具体的には紫外線ＵＶ）、例えば、１０Ｊ（波長３６０ｎｍでの測定）の均一な紫外線を、例えば、第１基板２０の外側から配向膜２１，５１に対して照射する。即ち、液晶分子６１を一対の基板２０，５０の表面に対して斜め方向に配列させるように、電場又は磁場を印加しながら紫外線を照射する。これによって、配向膜２１，５１中の重合性モノマー（配向制御材料）が有する架橋性官能基又は重合性官能基を反応させ、架橋させる。こうして、液晶分子６１のプレチルト状態が固定される。液晶分子６１の配向状態は良好であり、また、黒輝度品位も優れていた。
【０１２４】
重合性モノマーを重合させることで得られた高分子化合物により液晶分子６１の応答すべき方向が記憶され、配向膜２１，５１近傍の液晶分子６１にプレチルトが付与される。そして、この結果、非駆動状態において、液晶層６０における配向膜２１，５１との界面近傍に位置する液晶分子６１Ａ，６１Ｂにプレチルトθ1，θ2が付与される（固定される）。紫外線ＵＶとして、波長２９５ｎｍから波長３６５ｎｍ程度の光成分を多く含む紫外線が好ましい。これよりも短波長域の光成分を多く含む紫外線を用いると、液晶分子６１が光分解し、劣化する虞があるからである。尚、ここでは、紫外線ＵＶを第１基板２０の外側から照射したが、第２基板５０の外側から照射してもよく、第１基板２０及び第２基板５０の双方の基板の外側から照射してもよい。この場合、光透過率が高い方の基板側から紫外線ＵＶを照射することが好ましい。また、第２基板５０の外側から紫外線ＵＶを照射した場合、紫外線ＵＶの波長域に依っては、カラーフィルター層に吸収されて架橋反応し難くなる虞がある。そのため、第１基板２０の外側（画素電極を有する基板側）から照射することが好ましい。
【０１２５】
試験のために、第２電極５２に第２の所定の電圧ＰPD-2を印加し、第１電極２２への第１の所定の電圧ＶPD-1を印加したまま、液晶分子６１のプレチルト状態を固定した。その結果、液晶分子６１の配向状態はやや不良であり、また、黒輝度品位もやや不良であった。
【０１２６】
以上のように、液晶層６０に対して所定の電場を印加し、その後、少なくとも第１配向膜２１を構成する重合性モノマー（配向制御材料）を反応させることにより液晶分子６１にプレチルトが付与される（ＦＰＡ方式）。あるいは又、液晶層６０に対して所定の電場を印加した後、液晶層６０中に含まれる重合性モノマー（配向制御材料）を反応させることにより液晶分子６１にプレチルトが付与される（ＰＳＡ方式）。
【０１２７】
第１配向膜２１の平均膜厚をＴ1、第２配向膜５１の平均膜厚をＴ2としたとき、
０．５≦Ｔ2／Ｔ1≦１．５
望ましくは、
０．８≦Ｔ2／Ｔ1≦１．２
を満足することが好ましい。このように、Ｔ2／Ｔ1の値を規定することで、即ち、第１配向膜２１の平均膜厚と第２配向膜５１の平均膜厚とを、等しく、あるいは又、概ね等しくすることで、焼付き等の発生を確実に防止することができる。
【０１２８】
以上の工程により、第１基板２０及び第２基板５０側の液晶分子６１Ａがプレチルトをなす図４に示した液晶表示装置（液晶表示素子）を完成させることができる。最後に、液晶表示装置の外側に、吸収軸が直交するように一対の偏光板（図示せず）を貼り付ける。尚、以下に説明する各種の実施例における液晶表示装置も、概ね同様の方法で製造することができる。
【０１２９】
液晶表示装置（液晶表示素子）の動作において、選択された画素１０では、駆動電圧が印加されると、液晶層６０に含まれる液晶分子６１の配向状態が、第１電極２２と第２電極５２との間の電位差に応じて変化する。具体的には、液晶層６０では、図４に示した駆動電圧の印加前の状態から、駆動電圧が印加されることにより、配向膜２１、５１の近傍に位置する液晶分子６１Ａ、６１Ｂが自らの傾き方向に、回転しながら倒れ、且つ、その動作がその他の液晶分子６１Ｃに伝播する。その結果、液晶分子６１は、第１基板２０及び第２基板５０に対してほぼ水平（平行）となる姿勢をとるように応答する。これにより、液晶層６０の光学的特性が変化し、液晶表示素子への入射光が変調された出射光となり、この出射光に基づいて階調表現されることで、画像が表示される。
【０１３０】
この液晶表示装置では、以下の要領で第１電極（画素電極）２２と第２電極（対向電極）５２との間に駆動電圧を印加することにより、画像が表示される。具体的には、ソースドライバ８１が、タイミングコントローラ８３からのソースドライバ制御信号の入力により、同じくタイミングコントローラ８３から入力された画像信号に基づいて所定のソース線９１（データ線４１，４２）に個別の画像信号を供給する。これと共に、ゲートドライバ８２が、タイミングコントローラ８３からのゲートドライバ制御信号の入力により所定のタイミングでゲート線９２に走査信号を順次供給する。これにより、画像信号が供給されたソース線９１と走査信号が供給されたゲート線９２との交差点に位置する画素１０が選択され、画素１０に駆動電圧が印加される。
【０１３１】
第１基板２０にカラーフィルター層を形成してもよい。具体的には、上述したとおり、第１基板２０にＴＦＴ層３０’を形成した後、周知の方法に基づき、ＴＦＴ層３０’の上にカラーフィルター層２４を形成する。こうして、ＣＯＡ（Color Filter On Array）構造を得ることができる。そして、他方のソース／ドレイン電極３４Ｂの上方のカラーフィルター層２４に接続孔３５を形成した後、接続孔３５を含むカラーフィルター層２４に凹凸部、スリット領域を形成し、更に、第１電極２２（透明導電材料層２３）を形成すればよい（図９Ｂ参照）。
【０１３２】
尚、凹凸部１１における凸部１３１，１３２の高さを０．０３μｍ、０．５０μｍ、０．１μｍ、０．２μｍ、０．５μｍとしたところ、高さ０．５０μｍ、０．１μｍ、０．２μｍでは、液晶分子６１の配向状態は良好であり、また、黒輝度品位も優れていた。一方、高さを０．０３μｍとしたところ、液晶分子６１の配向状態は不良であり、また、黒輝度品位はやや不良であった。また、高さを０．５μｍとしたところ、液晶分子６１の配向状態は良好であったが、また、黒輝度品位は不良であった。
【０１３３】
実施例１の液晶表示装置にあっては、第１画素群を構成する各画素において、第２データ線から延在する第２データ線延在部が第１データ線に隣接して配設されており、第２画素群を構成する各画素において、第１データ線から延在する第１データ線延在部が第２データ線に隣接して配設されている。このようにデータ線に隣接してデータ線延在部を配置することで、データ線に印加される電圧と異なる電圧をデータ線延在部に印加することができるので、データ線の上方にスリット領域が形成された構造の液晶表示装置にあっても、データ線によって生成される電場の液晶分子の配向に対する影響をデータ線延在部によって生成される電場によって緩和することができ、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【実施例２】
【０１３４】
実施例２は、本開示の第２の態様に係る液晶表示装置、具体的には、本開示の第２−Ａの態様に係る液晶表示装置に関する。実施例２の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図を図１１に示し、１画素を構成する第１電極２２（透明導電材料層）のパターンを模式的に図１２に示し、１画素を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に図１３に示す。尚、実施例２の液晶表示装置の模式的な一部断面図は、図４に示したと同様である。
【０１３５】
そして、実施例２の液晶表示装置にあっては、第１の方向に沿って配列された複数の画素１０2における第１の辺１０ａの近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極２２に電圧を印加するためのデータ線４３（図１１においては、一点鎖線で示す）が、第１電極２２よりも第１基板側に設けられている。そして、スリット領域１２の全体の面積をＳ1、データ線４３の上方に位置する第１電極２２の部分に設けられたスリット領域１２の部分の面積をＳ2としたとき、
０＜Ｓ2／Ｓ1≦０．１
を満足する。
【０１３６】
更には、実施例２の液晶表示装置にあっては、具体的には、各画素１０2において、スリット領域１２は、画素中心１０ｅから第１の辺１０ａに向かって第１の辺１０ａまで延び、画素中心１０ｅから第３の辺１０ｃに向かって第３の辺１０ｃまで延び、画素中心１０ｅから第２の辺１０ｂに向かって第２の辺１０ｂに至る途中まで延び、画素中心１０ｅから第４の辺１０ｄに向かって第４の辺１０ｄに至る途中まで延びている。スリット領域１２の平面形状は、実施例１と異なり、概ね菱形であり、対角線はＸ軸及びＹ軸と平行に延びる。Ｘ軸に沿った対角線の長さは、Ｙ軸に沿った対角線の長さよりも短い。
【０１３７】
具体的には、実施例２にあっては、スリット領域１２を構成するライン部１２Ａの幅を２．５μｍ、スペース部１２Ｂの幅を２．５μｍ、データ線４３の上方に位置する第１電極２２の部分に設けられたスリット領域１２の部分のデータ線４３に沿った長さ（図１１の第１の方向に延びる矢印を参照）を２４μｍとし、データ線４３の幅を１０μｍとした。そして、データ線４３に沿ったスペース部１２Ｂの本数を、以下の表２のとおりとした液晶表示装置を試作し、配向状態を調べた。その結果を以下の表２に示すが、Ｓ2／Ｓ1の値を０．１以下とすることで優れた配向状態を得ることができるし、Ｓ2／Ｓ1の値が同程度の場合、スペース部の本数が多い方が優位であることが判った。
【０１３８】
［表２］
スペース部本数    Ｓ2／Ｓ1        配向状態
１              ０．０９４      良好
３              ０．０９６      極めて良好
８              ０．１７２      やや不良
【０１３９】
以上の点を除き，実施例２の液晶表示装置の構成、構造は、実施例１の液晶表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。また、実施例１と同様に、第１データ線４１、第２データ線４２を備える構成とすることもできる。更には、実施例２の液晶表示装置と実施例１の液晶表示装置を組み合わせることができる。
【０１４０】
実施例２の液晶表示装置にあっては、スリット領域全体の面積と、データ線の上方に位置する第１電極の部分に設けられたスリット領域の部分の面積との関係が規定されているので、データ線の上方にスリット領域が形成された構造の液晶表示装置にあっても、データ線によって生成される電場の液晶分子の配向に対する影響を抑制することができ、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【実施例３】
【０１４１】
実施例３は、本開示の第３の態様に係る液晶表示装置、具体的には、本開示の第３−Ａの態様に係る液晶表示装置に関する。実施例３の液晶表示装置において、第１基板における１画素を上方より眺めた模式図を図１４に示し、１画素を構成する第１電極２２（透明導電材料層）のパターンを模式的に図１５に示し、１画素を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に図１６に示す。
【０１４２】
実施例３の液晶表示装置にあっては、第１の方向に沿って配列された複数の画素１０3における第１の辺１０ａの近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極２２に電圧を印加するためのデータ線４１，４２が、第１電極２２よりも第１基板側に設けられている。具体的には、第１の方向に沿って配列された複数の画素１０3における第１の辺１０ａ、第３の辺１０ｃの近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極２２に電圧を印加するための第１のデータ線４１、第２のデータ線４２（図１４においては、これらのデータ線４１，４２を一点鎖線で示す）が、第１電極２２よりも第１基板側に設けられている。そして、データ線４１，４２の上方に位置する第１電極２２の部分にはスリット領域１２が形成されていない。スリット領域１２が形成されていない第１電極２２の部分１２Ｃには、凹凸が形成されていてもよいし、平坦であってもよいが、透明導電材料層２３は形成されている。
【０１４３】
データ線４１，４２の上方に位置し、スリット領域１２が形成されていない第１電極２２の部分の第１の方向及び第２の方向に沿った長さを、それぞれ、ＬEl-1，ＬEl-2としたとき、
２×１０-5ｍ≦ＬEl-1≦３×１０-4ｍ
０≦ＬEl-2≦３×１０-4ｍ
好ましくは、
２×１０-5ｍ≦ＬEl-2≦３×１０-4ｍ
を満足する。具体的には、
ＬEl-1＝１３４μｍ
ＬEl-2＝０μｍ
とした。
【０１４４】
図１４に示した例ではデータ線を２本としたが、図１７に示すように、データ線４３を１本とすることもできる。
【０１４５】
以上の点を除き，実施例３の液晶表示装置の構成、構造は、実施例１の液晶表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。尚、実施例３の液晶表示装置と実施例１の液晶表示装置を組み合わせることができるし、実施例３の液晶表示装置と実施例２の液晶表示装置を組み合わせることができるし、実施例３の液晶表示装置と実施例２の液晶表示装置と実施例１の液晶表示装置を組み合わせることができる。
【０１４６】
実施例３の液晶表示装置にあっては、データ線の上方に位置する第１電極の部分にはスリット領域が形成されていないので、データ線によって生成される電場の液晶分子の配向に対する影響を抑制することができ、データ線の配置によって画像品質が劣化することの無い構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【実施例４】
【０１４７】
実施例４は、実施例３の変形である。実施例４の液晶表示装置における画素と駆動回路とデータ線等の配置状態を概念的に図１８に示し、１画素を構成する第１電極及び切欠部を上方より眺めた模式図を図１９に示す。また、第１基板における１画素１０4を上方より眺めた模式図を図２０に示し、１画素１０4を構成する第１電極２２（透明導電材料層）のパターンを模式的に図２１に示し、１画素１０4を構成する下地層の凹凸形成状態を模式的に図２２に示す。尚、実施例４の液晶表示装置の模式的な一部断面図は、図４に示したと同様である。
【０１４８】
実施例４の液晶表示装置にあっても、データ線４１，４２の上方に位置する第１電極２２の部分にはスリット領域が形成されていないが、具体的には、スリット領域が形成されていない第１電極２２の部分は、切欠部４４が設けられている。切欠部４４は、第１の方向に平行に延びる第１電極の辺（具体的には、第１の辺１０ａ及び第３の辺１０ｃ）に設けられている。より具体的には、第１電極２２に電圧を印加するデータ線（データ線４１あるいはデータ線４２）の上方に位置する第１電極２２の部分に切欠部４４が設けられている。例えば、図１８に示す例にあっては、画素１０Rの第１の辺１０ａ及び第３の辺１０ｃに沿って、２本のデータ線４１，４２が設けられているが、画素１０Rの第１電極２２に電圧を印加するデータ線は、データ線４１であるので、データ線４１の上方に位置する第１電極２２の部分、即ち、第１の辺１０ａに沿って切欠部４４が設けられている。一方、画素１０R’の第１の辺１０ａ及び第３の辺１０ｃに沿っても、２本のデータ線４１，４２が設けられているが、画素１０R’の第１電極２２に電圧を印加するデータ線は、データ線４２であるので、データ線４２の上方に位置する第１電極２２の部分、即ち、第３の辺１０ｃに沿って切欠部４４が設けられている。
【０１４９】
実施例４にあっても、データ線４１，４２の上方に位置し、スリット領域１２が形成されていない第１電極２２の部分（切欠部４４）の第１の方向及び第２の方向に沿った長さを、それぞれ、ＬEl-1，ＬEl-2としたとき、
２×１０-5ｍ≦ＬEl-1≦３×１０-4ｍ
０≦ＬEl-2≦３×１０-4ｍ
好ましくは、
２×１０-5ｍ≦ＬEl-2≦３×１０-4ｍ
を満足する。具体的には、
ＬEl-1＝１３４μｍ
ＬEl-2＝０μｍ
とした。
【実施例５】
【０１５０】
実施例５は、実施例１〜実施例４の変形であり、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置に関し、且つ、本開示の第１−Ｂ−３の態様、第２−Ｂ−３の態様、第３−Ｂ−３の態様に係る液晶表示装置に関する。実施例５の液晶表示装置を構成する第１基板２０における１画素１０5を上方より眺めた模式図を図２３、図２４に示す。実施例５の液晶表示装置の模式的な一部断面図は、図４に示したと同様である。
【０１５１】
実施例５の液晶表示装置において、凹凸部１１は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部１４１、及び、幹凸部１４１から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部１４２から構成されている。
【０１５２】
ここで、
各画素１０5の画素中心１０ｅを通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の枝凸部１４２（凸部１４２でもある。以下においても同様）は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の枝凸部１４２は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の枝凸部１４２は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の枝凸部１４２は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている。
【０１５３】
枝凸部１４２は画素の中央側では繋がっていない。即ち、実施例５の液晶表示装置にあっては、
第１象限を占める凸部１４２の一部と、第４象限を占める凸部１４２の一部とは、接合されておらず、
第１象限を占める凸部１４２の残部の残部と、第２象限を占める凸部１４２の一部とは、接合されておらず、
第２象限を占める凸部１４２の残部と、第３象限を占める凸部１４２の一部とは、接合されておらず、
第３象限を占める凸部１４２の残部と、第４象限を占める凸部１４２の残部とは、接合されていない。
【０１５４】
図２３に示す例では、幹凹部１４４がＸ軸上及びＹ軸上を延びており、枝凸部１４２の幅は一定である。一方、図２４に示す例では、幹凸部は設けられておらず、凸部１４２の幅は画素中心に向かって狭くなっている。
【０１５５】
図２４に示す例にあっては、凸部１４２のそれぞれは、接合していないが、接した状態にあってもよい。ここで、「接合」しているとは、凸部のそれぞれが或る長さで交わっている状態を指し、「接して」いるとは、凸部のそれぞれが非常に短い長さで（一種、点状で）交わっている状態を指す。このように、凸部１４２と凸部１４２とを接合されていない状態で形成することで、画素の中心における第１電極２２によって生成された電場が画素の中心の近傍において所望の状態に歪み、液晶分子の倒れる方向が規定される。その結果、画素の中心の近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、画素の中心の近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、液晶表示装置の製造時、液晶分子にプレチルトを付与するために液晶層を所望の電場に所定の時間、暴露するが、所望の電場に暴露された液晶分子の配向が安定するまでに要する時間の短縮化を図ることができる。即ち、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することが可能となり、液晶表示装置の製造時間の短縮化を図ることが可能となる。
【０１５６】
このような構成にすることによって、Ｘ軸と平行に延びる凸部の部分、あるいは、Ｙ軸と平行に延びる凸部の部分が存在しない。あるいは、存在したとしても、長さは短い。従って、後述する実施例７において説明すると同様の効果を得ることができる。
【０１５７】
以上の点を除き、実施例５の液晶表示装置は、実施例１〜実施例４の液晶表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【実施例６】
【０１５８】
実施例６も、実施例１〜実施例４の変形であり、本開示の第１−Ｂの態様、第２−Ｂの態様、第３−Ｂの態様、具体的には、本開示の第１−Ｂ−１の態様、第２−Ｂ−１の態様、第３−Ｂ−１の態様に係る液晶表示装置に関する。実施例６の液晶表示装置において、第１基板２０における１画素１０6を上方より眺めた模式図を図２５に示す。実施例６の液晶表示装置の模式的な一部断面図は、図４に示したと同様である。
【０１５９】
実施例６の液晶表示装置において、
各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の凸部１３４は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の凸部１３４は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の凸部１３４は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の凸部１３４は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている。
【０１６０】
そして、第１象限を占める凸部１３４の一部と、第４象限を占める凸部１３４の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第１象限を占める凸部１３４の残部と、第２象限を占める凸部１３４一部とは、繋がった状態で形成されており、
第２象限を占める凸部１３４の残部と、第３象限を占める凸部１３４の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第３象限を占める凸部１３４の残部と、第４象限を占める凸部１３４の残部とは、繋がった状態で形成されている。凸部１３４の平面形状は「Ｖ」字形状である。
【０１６１】
実施例６の液晶表示装置にあっては、幹凸部１３１が設けられていない点が、実施例１〜実施例４の液晶表示装置と異なる。以上の点を除き、実施例６の液晶表示装置は、実施例１〜実施例４の液晶表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【０１６２】
図２５に示した実施例６の液晶表示装置の変形例を図２６に示す。図２６に示す液晶表示装置において、凸部１３４の幅は、画素中心に近づくほど、狭くなっている。また、凸部１３４は、画素の外周部で、隣接する凸部１３４と繋がっている。即ち、図２６に示した実施例６の液晶表示装置の変形例は、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る実施例５の液晶表示装置の変形例にも相当する。
【０１６３】
図２５、図２６に示した液晶表示装置にあっては、Ｘ軸と平行に延びる凸部の部分、あるいは、Ｙ軸と平行に延びる凸部の部分が、凸部１３４の根元部を除き、存在しない。ここで、第１の偏光板の吸収軸は、Ｘ軸あるいはＹ軸と平行であり、第２の偏光板の吸収軸は、Ｙ軸あるいはＸ軸と平行である。従って、暗線の発生を一層少なくすることができる。即ち、一層均一な高い光透過率を実現することができるし、一層良好な電圧応答特性を得ることができる。また、初期配向が改善されるため、液晶分子にプレチルトを付与するための時間の短縮を図ることができる。更には、配向欠陥の減少が見込めるため、歩留りが向上し、液晶表示装置の生産コストの低減が可能となる。更には、光透過率の向上を図れるが故に、バックライトの低消費電力、ＴＦＴ信頼性の向上を図ることができる。
【０１６４】
実施例６の液晶表示装置の変形例を構成する第１電極の一部分を拡大した模式的な平面図を、図２７Ａ、図２７Ｂ、図２８Ａ、図２８Ｂに示す。図２７Ａ、図２７Ｂ、図２８Ａ、図２８Ｂは、図２６の第１電極の模式的な平面図において円形の領域で囲んだ第１電極の部分を拡大した模式的な平面図である。実施例６の液晶表示装置の変形例において、２つの凸部１３４の接合部１３４ａには、画素１０6の周辺部方向に向かって延びる突出部１３４ｂが設けられている。突出部１３４ｂは、図２７Ａ及び図２７Ｂに示すように、複数の線分（図示した例では２本の線分）によって囲まれている構成とすることができるし、図２８Ａに示すように、１本の曲線によって囲まれている構成とすることもできるし、図２８Ｂに示すように、複数の曲線（図示した例では２本の曲線）によって囲まれている構成とすることもできるし、線分と曲線との組合せによって囲まれている構成とすることもできる。図２７Ａに示す例において、突出部１３４ｂの先端は、画素の周辺部方向において隣接する２つの枝凸部の接合部と接していない。一方、図２７Ｂに示す例において、突出部１３４ｂの先端は、画素の周辺部方向において隣接する２つの枝凸部の接合部と接している。
【０１６５】
このような構成とすることによっても、Ｘ軸と平行に延びる凸部の部分、あるいは、Ｙ軸と平行に延びる凸部の部分が存在しないか、存在しても極めて僅かな長さである。しかも、凸部の「Ｖ」字形状の底部の内側の部分には、突出部１３４ｂが設けられているので、凸部の「Ｖ」字形状の底部の部分に突出部１３４ｂが設けられていない場合よりも、凸部の「Ｖ」字形状の底部の内側の近傍に位置する液晶分子の配向状態を、一層、所望の状態とすることができる。
【０１６６】
図２９に実施例６の液晶表示装置の別の変形例を示す。実施例６の液晶表示装置のこの変形例において、凹部１３３の幅は、凹部１３３が幹凸部１３１から延び出す部分（図２９においては、円形で囲んだ領域で示す）で最も狭くなっているが、これを云い換えると、枝凸部１３２の幅は、幹凸部１３１と接合する枝凸部の部分１３２ａが最も広く、幹凸部１３１と接合する部分１３２ａから先端部１３２ｂに向かって狭くなっている（具体的には、直線状に狭くなっている）と云える。図３０に実施例６の液晶表示装置の別の変形例を構成する第１電極の一部分を拡大した概念的な平面図を示す。
【０１６７】
液晶表示装置の製造時、電極に電圧を印加した状態で液晶分子にプレチルトを付与する。このとき、図３１Ａ、図３１Ｂに示すように、先端エッジ部ａあるいはその近傍（便宜上、『先端領域』と呼ぶ）に位置する液晶分子Ａは、その長軸方向（ダイレクタ）が幹凸部に向かって傾く。そして、液晶層において、この液晶分子Ａを含む厚さ方向の領域を想定した場合、液晶分子Ａの動きが、構造に起因した局所電場の影響を受ける枝凸部のエッジ部を除いた１画素全体の液晶分子（便宜上、『液晶分子Ａ’』と呼ぶ）に伝わり、液晶分子Ａ’のダイレクタが幹凸部に向かって傾いていく。ここで、図３１Ｂに示すような枝凸部にテーパーが付されていない液晶表示装置よりも、図３１Ａに示すような枝凸部にテーパーが付されている液晶表示装置の方が、液晶分子Ａの動きが液晶分子Ａ’に伝わり易く、あるいは又、液晶分子Ａの動きが液晶分子Ａ’に一層短い時間で伝わる。
【０１６８】
液晶表示装置における画像の表示時、電極に電圧を印加すると、液晶層全体において、液晶分子は、ダイレクタが第１基板及び第２基板に対して平行となるように変化する。図３１Ａ及び図３１Ｂにおいて、側辺エッジ部における電場の方向を白抜きの矢印で示している。ここで、側辺エッジ部ｂあるいはその近傍（便宜上、『側辺領域』と呼ぶ）に位置する液晶分子Ｂを含む液晶層において、厚さ方向に柱状領域を想定した場合、この柱状領域中の厚さ方向に並んだ液晶分子には回転が生じる。即ち、側辺領域に位置する液晶分子Ｂのダイレクタの方向と、液晶分子Ｂを含む柱状領域中の厚さ方向に並んだ液晶分子（便宜上、『液晶分子Ｂ’』と呼ぶ）のダイレクタの方向とは異なる状態となる。これらの液晶分子Ｂのダイレクタと液晶分子Ｂ’のダイレクタとの成す角度をβとする。ここで、図３１Ｂに示すように、枝凸部にテーパーが付されていない液晶表示装置にあっては、液晶分子の回転角度の範囲が広いので（即ち、角度βが大きいので）、Ｘ軸方向あるいはＹ軸方向にリタデーションを持つ液晶分子の割合が少ない場合がある。一方、図３１Ａに示すように、枝凸部にテーパーが付されている液晶表示装置にあっては、液晶分子の回転角度範囲が狭いので（即ち、角度βが小さいので）、Ｘ軸方向あるいはＹ軸方向にリタデーションを持つ液晶分子の割合が多い。それ故、枝凸部における光透過率の不均一化を招くことがなく、暗線の発生を一層確実に抑制することができる。
【０１６９】
従来のファインスリット構造では、電極が設けられていないスペース部においては、電場は液晶分子に対して殆ど影響を与えることができず、液晶分子が所望の方向に配向し難い（倒れ難い）。それ故、スペース部に対応して暗線が生じ、光透過率の低下を招く。実施例６の液晶表示装置の別の変形例にあっては、液晶分子は画素内の全領域において電場の影響を受けるので、ファインスリット構造における暗線の発生といった現象は生じない。また、従来のファインスリット構造では、電極とスペース部の面積比が光透過率に大きく影響する。一方、実施例６にあっては、そもそも、スペース部が存在しないので、このような問題は生じない。
【０１７０】
以上のとおり、実施例６の液晶表示装置の別の変形例にあっては、第１電極には複数の凹凸部が形成されており、この第１電極に設けられた枝凸部の幅は、先端部に向かって狭くなっている。それ故、暗線の発生を一層少なくすることができる。即ち、一層均一な高い光透過率を実現することができるし、一層良好な電圧応答特性を得ることができる。また、初期配向の改善を見込むことができるため、前述したように、液晶セルに対して矩形波の交流電界を印加した状態で均一な紫外線を照射して、液晶分子にプレチルトを付与するとき、液晶分子にプレチルトを付与するための時間の短縮を図ることができる。また、配向欠陥の減少が見込めるため、歩留りが向上し、液晶表示装置の生産コストの低減が可能となる。更には、光透過率の向上を図れるが故に、バックライトの低消費電力、ＴＦＴ信頼性の向上を図ることができる。
【実施例７】
【０１７１】
実施例７は、実施例６の変形であり、本開示の第１−Ｂ−２の態様、第２−Ｂ−２の態様、第３−Ｂ−２の態様に関し、且つ、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置に関する。実施例７の液晶表示装置において、第１基板２０における１画素１０7を上方より眺めた模式図を図３２に示す。実施例７の液晶表示装置の模式的な一部端面図は、実質的に、図４と同じである。
【０１７２】
実施例７の液晶表示装置において、凹凸部１１は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部１４１、及び、幹凸部１４１から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部１４２から構成されている。そして、
第１象限を占める凸部１４２の一部と、第４象限を占める凸部１４２の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第１象限を占める凸部１４２の残部と、第２象限を占める凸部１４２一部とは、繋がった状態で形成されており、
第２象限を占める凸部１４２の残部と、第３象限を占める凸部１４２の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第３象限を占める凸部１４２の残部と、第４象限を占める凸部１４２の残部とは、繋がった状態で形成されている。
【０１７３】
そして、Ｘ軸上及びＹ軸上を第２幹凸部１４５が延びており、凸部１４２の先端部は第２幹凸部１４５に繋がっている。
【０１７４】
更には、第１象限を占める凸部１４２の一部と、第４象限を占める凸部１４２の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部１４２の残部と、第２象限を占める凸部１４２の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部１４２の残部と、第３象限を占める凸部１４２の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部１４２の残部と、第４象限を占める凸部１４２の残部とは、ずれた状態で形成されている。
【０１７５】
尚、Ｘ軸に沿った凸部１４２の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部１４２の形成ピッチをＰY（＝ＰX）としたとき、凸部１４２の幅を（ＰY／２＝ＰX／２）とし、凹部１３３の幅を（ＰY／２＝ＰX／２）とした。即ち、図３２に示した液晶表示装置にあっては、
第１象限を占める凸部１４２の一部と、第４象限を占める凸部１４２の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部１４２の残部と、第２象限を占める凸部１４２の一部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部１４２の残部と、第３象限を占める凸部１４２の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部１４２の残部と、第４象限を占める凸部１４２の残部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されている。凸部１４２は、Ｘ軸及びＹ軸に対して線対称ではなく、画素の中心に対して１８０度の回転対称（点対称）である。
【０１７６】
このように、凸部１４２と凸部１４２とを、相互に半ピッチずつ、ずれた状態で形成することで、画素の中心における第１電極２２によって生成された電場が画素の中心の近傍において歪み、液晶分子の倒れる方向が規定される。その結果、画素の中心の近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、画素の中心の近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、液晶表示装置の製造時、液晶分子にプレチルトを付与するために液晶層を所望の電場に所定の時間、暴露するが、所望の電場に暴露された液晶分子の配向が安定するまでに要する時間の短縮化を図ることができる。即ち、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することが可能となり、液晶表示装置の製造時間の短縮化を図ることが可能となる。
【０１７７】
以上の点を除き、実施例７の液晶表示装置は、実施例１〜実施例５の液晶表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【実施例８】
【０１７８】
実施例８も、実施例６の変形であり、本開示の第１−Ｂ−４の態様、第２−Ｂ−４の態様、第３−Ｂ−４の態様に関し、且つ、本開示の第１−Ｃの態様、第２−Ｃの態様、第３−Ｃの態様、第３−Ｃの態様に係る液晶表示装置に関する。実施例８の液晶表示装置において、第１基板２０における１画素１０8を上方より眺めた模式図を図３３に示す。実施例８の液晶表示装置の模式的な一部端面図は、実質的に、図４と同じである。
【０１７９】
実施例８の液晶表示装置において、凹凸部１１は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部１４１、及び、幹凸部１４１から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部１４２から構成されている。そして、
第１象限を占める凸部１４２の一部と、第４象限を占める凸部１４２の一部とは、接合されておらず、
第１象限を占める凸部１４２の残部の残部と、第２象限を占める凸部１４２の一部とは、接合されておらず、
第２象限を占める凸部１４２の残部と、第３象限を占める凸部１４２の一部とは、接合されておらず、
第３象限を占める凸部１４２の残部と、第４象限を占める凸部１４２の残部とは、接合されていない。
【０１８０】
更には、第１象限を占める凸部１４２の一部と、第４象限を占める凸部１４２の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部１４２の残部と、第２象限を占める凸部１４２の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部１４２の残部と、第３象限を占める凸部１４２の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部１４２の残部と、第４象限を占める凸部１４２の残部とは、ずれた状態で形成されている。
【０１８１】
尚、実施例７と同様に、Ｘ軸に沿った凸部１４２の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部１４２の形成ピッチをＰY（＝ＰX）としたとき、凸部１４２の幅を（ＰY／２＝ＰX／２）とし、凹部１３３の幅を（ＰY／２＝ＰX／２）とした。
【０１８２】
以上の点を除き、実施例８の液晶表示装置は、実施例１〜実施例５の液晶表示装置の構成、構造と同様とすることができるので、詳細な説明は省略する。
【実施例９】
【０１８３】
実施例９は、実施例１〜実施例８の液晶表示装置の変形である。実施例９の液晶表示装置の模式的な一部端面図を図３４あるいは図３５に示す。また、実施例９の液晶表示装置における液晶分子の挙動を示す概念図を図４６Ｂ及び図４６Ｃに示す。
【０１８４】
実施例９の液晶表示装置にあっては、Ｘ軸及びＹ軸と対応する第２電極５２の部分には、配向規制部５３が形成されている。
【０１８５】
ここで、配向規制部５３は、具体的には、第２電極５２に設けられた４．０μｍの第２電極スリット構造５４から成り（図３４及び図４６Ｂ参照）、あるいは又、第２電極５２に設けられた第２電極突起部（リブ）５５から成る（図３５及び図４６Ｃ参照）。第２電極突起部５５は、より具体的には、ネガ型フォトレジスト材料（ＪＳＲ株式会社製：オプトマーＡＬ）から成り、幅１．４μｍ、高さ１．２μｍである。第２電極スリット構造５４あるいは第２電極突起部（リブ）５５の平面形状は放射状（例えば、十文字状であり、例えば、Ｘ軸及びＹ軸と平行に延びる）であり、第２電極突起部５５の断面形状は二等辺三角形である。第２電極スリット構造５４あるいは第２電極突起部５５の上には第２電極５２は形成されていない。
【０１８６】
実施例９の液晶表示装置において、Ｘ軸及びＹ軸と対応する第２電極５２の部分には第２電極スリット構造５４から成る配向規制部５３が形成されているので、第２電極５２によって生成された電場が、配向規制部５３の近傍において歪む。あるいは又、第２電極突起部（リブ）５５から成る配向規制部５３が形成されているので、第２電極突起部５５近傍における液晶分子の倒れる方向が規定される。その結果、配向規制部５３の近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、配向規制部５３の近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、画像表示時、幹凸部に対応する画像の部分に暗線が発生するといった問題の発生を確実に抑制することができる。即ち、良好な電圧応答特性を保持しつつ、一層均一な高光透過率を実現することができる液晶表示装置を提供することができるし、バックライトを構成する光源のコスト低減、低消費電力化を図ることができ、また、ＴＦＴの信頼性の向上を図ることもできる。配向規制部５３を、突起状になった第２電極５２の部分から構成することもできる。
【実施例１０】
【０１８７】
実施例１０は、実施例１〜実施例９の液晶表示装置の変形である。実施例１０の液晶表示装置において、第１電極には、画素中心を通り、画素周辺部に平行な第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部（リブ）が形成されている。即ち、画素の中央部に設けられた放射状（例えば、十文字状）の幹凹部に、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部が形成されている。第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部の平面形状は放射状（例えば、十文字状であり、例えば、Ｘ軸及びＹ軸と平行に延びる）である。第１電極スリット構造の幅を４．０μｍとした。また、ネガ型フォトレジスト材料（ＪＳＲ株式会社製：オプトマーＡＬ）から成る第１電極突起部の幅を１．４μｍ、高さを１．２μｍとした。第１電極突起部の断面形状は二等辺三角形である。第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部の上には第１電極は形成されていない。
【０１８８】
実施例１０の液晶表示装置において、第１電極には、画素中心を通り、画素周辺部に平行な第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部が形成されているので、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部が存在しない平坦な凸部あるいは凹部が第１電極に形成されている場合と比較して、第１電極によって生成された電場が、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部近傍において歪み（第１電極スリット構造を形成した場合）、あるいは又、液晶分子の倒れる方向が規定される（第１電極突起部を形成した場合）。その結果、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部近傍における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、第１電極スリット構造あるいは第１電極突起部近傍における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、画像表示時、幹凸部や第２幹凸部あるいは幹凹部に対応する画像の部分に暗線が発生するといった問題の発生を確実に抑制することができる。即ち、良好な電圧応答特性を保持しつつ、一層均一な高光透過率を実現することができる液晶表示装置を提供することができるし、バックライトを構成する光源のコスト低減、低消費電力化を図ることができ、また、ＴＦＴの信頼性の向上を図ることもできる。第１電極突起部を、画素中心を通る放射状（例えば、十文字状であり、例えば、Ｘ軸及びＹ軸と平行に延びる）の凸部が凹部に囲まれて形成されている形態とすることができる。このような放射状の凸部は、第１電極の下側に放射状の凸部を形成することで設けることができるし、あるいは又、第１電極における凹凸部の形成方法と同様の方法で設けることも可能である。あるいは又、第１電極スリット構造若しくは第１電極突起部（リブ）を設ける代わりに、画素中心を通る放射状の凹部を設けてもよい。
【実施例１１】
【０１８９】
実施例１１は、実施例１〜実施例１０の変形であり、本開示の第１−Ｄの態様、第２−Ｄの態様に係る液晶表示装置に関する。実施例１１の液晶表示装置を構成する１画素の中心領域における第１電極の部分の模式的な平面図を図３６Ａ、図３７Ａ、図３７Ｂに示し、模式的な一部断面図を図３６Ｂに示すように、画素の中心領域における第１電極２２には窪み１３５が設けられている。尚、図３６Ａの矢印Ｂ−Ｂに沿った模式的な一部断面図を図３６Ｂ及び図３６Ｃに示す。
【０１９０】
ここで、図３６Ｂに示すように、窪み１３５は第１基板に向かって窄まっている。即ち、窪み１３５は、所謂、順テーパーの斜面を有する。窪み１３５の傾斜角は、５度乃至６０度、好ましくは２０度乃至３０度であることが望ましい。このような傾斜角は、下地層１５０に傾斜が付くように、例えば、エッチバック法に基づき下地層１５０をエッチングすることで得ることができる。そして、窪み１３５の外縁１３５Ａの形状を、図３６Ａに示すように、円形（直径は、例えば、１５μｍあるいは７μｍ）とすることができるし、あるいは又、図３７Ａ、図３７Ｂに示すように、矩形（例えば、一辺の長さが１２μｍの正方形）とすることができる。矩形形状の窪み１３５の外縁１３５Ａと幹凸部１３１の延びる方向との成す角度（矩形形状の窪み１３５の外縁１３５Ａと、この外縁１３５Ａと幹凸部１３１の延長部が交わる幹凸部１３１の延びる方向との成す角度）は、９０度であってもよいし（図３７Ａ参照）、鋭角、例えば、６０度であってもよい（図３７Ｂ参照）。
【０１９１】
このように、実施例１１の液晶表示装置にあっては、画素の中心領域における第１電極２２には窪み１３５が設けられているので、窪み１３５の近傍に位置する液晶分子は、画素の中心に向かって倒れる状態となる。それ故、液晶表示装置の製造時、液晶分子にプレチルトを付与するために液晶層を所望の電場に所定の時間、暴露するが、所望の電場に暴露された液晶分子の配向が安定するまでに要する時間の短縮化を図ることができる。即ち、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することが可能となり、液晶表示装置の製造時間の短縮化を図ることが可能となる。
【０１９２】
尚、図３６Ｃに示すように、窪み１３５の中心部はコンタクトホール（接続孔３５）の一部を構成する構成とすることもできる。
【実施例１２】
【０１９３】
実施例１２は、実施例１〜実施例１１の変形に関する。図３８に、実施例１２の液晶表示装置において、第１基板における１画素１０12を上方より眺めた模式図を示し、図３９Ａ、図３９Ｂ及び図４０に、図３８の第１電極の模式的な平面図において円形の領域で囲んだ第１電極の部分を拡大した模式的な平面図を示す。
【０１９４】
実施例１２の液晶表示装置の各画素１０12において、枝凸部１４２と接合していない第２幹凸部１４５の側辺部分１４５ｂの延びる方向は、Ｘ軸とは平行でなく、且つ、Ｙ軸とは平行でない。即ち、枝凸部１４２と接合していない第２幹凸部１４５の側辺部分１４５ｂの延びる方向は、Ｘ軸と異なる方向であり、且つ、Ｘ軸と異なる方向である。尚、第２幹凸部１４５は、Ｘ軸に対して線対称であり、Ｙ軸に対しても線対称であるし、また、画素の中心に対して１８０度の回転対称（点対称）である。あるいは又、実施例１等の液晶表示装置において、枝凸部１３２，１４２と接合していない幹凸部１３１，１４１の側辺部分の延びる方向は、Ｘ軸とは平行でなく、且つ、Ｙ軸とは平行でない構成とすることができる。即ち、枝凸部と接合していない幹凸部あるいは第２幹凸部の側辺部分の延びる方向は、Ｘ軸及びＹ軸と異なる方向である。このような構成を採用することで、Ｘ軸及びＹ軸に対応した領域における暗線の発生を抑制することができる結果、一層均一な高い光透過率を実現することが可能な液晶表示装置を提供することができる。また、短時間にて液晶分子６１にプレチルトを付与することを可能とする構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【０１９５】
具体的には、枝凸部１４２と接合していない第２幹凸部１４５の側辺部分１４５ｂは、図３８及び図３９Ａに示すように、直線状であり、あるいは又、図３９Ｂ、図４０に示すように、曲線状である。そして、図３８、図３９Ａ、図３９Ｂ、図４０に示すように、枝凸部１４２と接合していない第２幹凸部１４５の部分１４５ａの幅は、第２幹凸部１４５の先端部に向かって狭くなっている。
【０１９６】
このように、実施例１２の液晶表示装置にあっては、Ｘ軸と平行に延びる幹凸部の部分、あるいは、Ｙ軸と平行に延びる幹凸部の部分が存在しない。従って、一層均一な高い光透過率を実現することが可能な液晶表示装置を提供することができるし、また、短時間にて液晶分子にプレチルトを付与することを可能とする構成、構造を有する液晶表示装置を提供することができる。
【実施例１３】
【０１９７】
実施例１３は、実施例１〜実施例１２において説明した液晶表示装置の変形である。実施例１３の液晶表示装置における第１電極等の模式的な一部断面図を図４１に示すが、図４１に示す例は、実施例１の変形であり、図５の矢印Ａ−Ａに沿った第１電極等の模式的な一部断面図に相当する。
【０１９８】
実施例１３の液晶表示装置にあっては、画素１０13と画素１０13との間に位置する第１基板の部分２０Ａから、画素周辺部に対応する第１基板２０の部分２０Ｂに亙り、凸構造１３が形成されており、凹凸部１１の周辺部は凸構造１３上に形成されている。ここで、凸構造１３は、具体的には、ブラックマトリクスに基づき形成されている。ブラックマトリクスは、カーボンが添加された光硬化性樹脂から構成されている。実施例１３の液晶表示装置において、凹凸部１１の周辺部が凸構造１３上に形成されているので、凹凸部１１の周辺部が平坦な場合と比べて、より一層強い電場が凹凸部の周辺部に生じる。その結果、凹凸部１１の周辺部における液晶分子に対する配向規制力を強くすることができ、凹凸部１１の周辺部における液晶分子のチルト状態を確実に規定することができる。それ故、良好な電圧応答特性を保持することができる。
【０１９９】
尚、凸構造は、ブラックマトリクスに基づき形成される形態に限定するものではなく、第１基板２０の上、あるいは、第１基板２０の上方に形成された液晶表示装置構成要素、例えば、各種信号線や補助容量電極、ゲート電極、ソース／ドレイン電極、各種配線から構成することもできる。そして、この場合、下地層１５０の厚さの最適化を図ることで、液晶表示装置構成要素の厚さの影響で下地層１５０に凸構造を形成することができる。
【０２００】
以上、本開示を好ましい実施例に基づき説明したが、本開示はこれらの実施例に限定するものではなく、種々の変形が可能である。凸部や幹凸部、枝凸部、凹部、幹凹部の平面形状は、実施例において説明した形状、例えばＶ字状に限定されず、例えばストライプ状や梯子状等、凸部や枝凸部が複数の方位に向かって延びる様々なパターンを採用することができる。凸部や枝凸部を全体として見た場合、凸部や枝凸部の端部の平面形状は、直線状であってもよいし、階段状とすることもできる。更には、各凸部や枝凸部の端部の平面形状は、直線状であってもよいし、線分の組合せから構成されていてもよいし、円弧等の曲線を描いていてもよい。
【０２０１】
実施例ではＶＡモードの液晶表示装置（液晶表示素子）について説明したが、本開示は必ずしもこれに限定されず、ＥＣＢモード（水平配向でポジ液晶のモード；ツイスト無し）、ＩＰＳ（In Plane Switching ）モード、ＦＦＳ（Fringe Field Switching）モードあるいはＯＣＢ（Optically Compensated Bend）モード等の、他の表示モードにも適用可能である。この場合においても同様の効果が得られる。但し、本開示では、プレチルト処理が施されていないものと比較すると、ＶＡモードにおいて、ＩＰＳモードやＦＦＳモードよりも、特に高い応答特性の改善効果を発揮することができる。また、実施例では、専ら透過型の液晶表示装置（液晶表示素子）について説明したが、必ずしも透過型に限られず、例えば、反射型としてもよい。反射型とした場合には、画素電極がアルミニウム等の光反射性を有する電極材料により構成される。
【０２０２】
実施例２の液晶表示装置におけるスリット領域１２の変形例を図４２Ａ、図４２Ｂ、図４２Ｃ、図４２Ｄ、図４３に示す。尚、これらの図面においては、スリット領域１２に斜線を付した。
【０２０３】
図４２Ａに示すスリット領域１２の平面形状は、概ね２つの二等辺三角形が並置された形状である。即ち、２つの二等辺三角形の頂角が、概ね、画素中心を占め、２つの二等辺三角形の底辺のそれぞれが第１の辺及び第３の辺と重なり、頂角は４５度未満である形状である。図４２Ｂに示すスリット領域１２の平面形状は、概ね２つの二等辺三角形が並置された形状である。即ち、２つの二等辺三角形の頂角が、概ね、画素中心を占め、２つの二等辺三角形の底辺のそれぞれが第２の辺及び第４の辺と平行である。図４２Ｃに示すスリット領域１２の平面形状は、六角形であり、６つの辺の内、対向する２つの辺のそれぞれが第１の辺及び第３の辺と重なる形状である。図４２Ｄに示すスリット領域１２の平面形状は、Ｎ個（図示した例では、４つ）の多角形（図示した例では、三角形）が配列され、Ｎ個の多角形の頂角が、概ね、画素中心を占めている形状である。（Ｎ／２）個の多角形は、残りの多角形と１８０度の回転対称（点対称）の関係にある。図４３に示すスリット領域１２の平面形状は、Ｎ個（図示した例では、２つ）の多角形（図示した例では、五角形）が配列され、Ｎ個の多角形の頂角が、概ね、画素中心を占めている形状である。（Ｎ／２）個の多角形は、残りの多角形と１８０度の回転対称（点対称）の関係にある。
【０２０４】
実施例６の液晶表示装置におけるスリット領域１２の変形例を図４４Ａ、図４４Ｂ、図４４Ｃ、図４５Ａ、図４５Ｂ、図４５Ｃに示す。図４４Ａ、図４４Ｂ、図４４Ｃに示すように、スリット領域１２は、各象限において、画素の中心領域（中央部分）に向かって延びる１つの凸部領域１２Ｄ（具体的には、１本の枝凸部１３２上）に形成されている。尚、凹凸部１１、凸部領域１２Ｄの配置状態を図４４Ａに模式的に示し、第１電極２２に設けられたスペース部１２Ｂの配置状態を図４４Ｂに模式的に示し、凹凸部１１とスリット領域１２を重ね合わせた図を図４４Ｃに示す。あるいは又、図４５Ａ、図４５Ｂ、図４５Ｃに示すように、スリット領域１２は、各象限において、画素の中心領域（中央部分）に向かって延びる凸部領域１２Ｄに形成されている。尚、凸部領域１２Ｄ、凹凸部１１の配置状態を図４５Ａに模式的に示し、第１電極２２に設けられたライン部１２Ａ、スペース部１２Ｂの配置状態を図４５Ｂに模式的に示し、凹凸部１１とスリット領域１２を重ね合わせた図を図４５Ｃに示す。尚、このような変形を他の実施例において説明した液晶表示装置にも適用することができる。
【０２０５】
尚、本開示は、以下のような構成を取ることもできる。
［Ａ０１］《液晶表示装置：第１の態様》
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素は、奇数番目に位置する複数の画素から構成された第１画素群、及び、偶数番目に位置する複数の画素から構成された第２画素群から構成されており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するための第１データ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第３の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するための第２データ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
第１データ線及び第２データ線の上方にはスリット領域が配置されており、
第１画素群を構成する各画素において、第２データ線から延在する第２データ線延在部が、第１データ線に隣接して配設されており、
第２画素群を構成する各画素において、第１データ線から延在する第１データ線延在部が、第２データ線に隣接して配設されている液晶表示装置。
［Ａ０２］各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって延び、画素中心から第３の辺に向かって延び、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている［Ａ０１］に記載の液晶表示装置。
［Ａ０３］第１データ線に印加する電圧をＶD-1、第２データ線に印加する電圧をＶD-2、第２電極に印加する電圧をＶ2としたとき、
ＶD-1−Ｖ2≧０（ボルト）
ＶD-2−Ｖ2≦０（ボルト）
となるように各電圧は設定されている［Ａ０１］又は［Ａ０２］に記載の液晶表示装置。
［Ａ０４］各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、各画素において、凹凸部は、Ｘ軸上及びＹ軸上を延びる幹凸部、及び、幹凸部の側辺から画素の周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている［Ａ０１］乃至［Ａ０３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ａ０５］各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている［Ａ０１］乃至［Ａ０３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ａ０６］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部一部とは、繋がった状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、繋がった状態で形成されている［Ａ０５］に記載の液晶表示装置。
［Ａ０７］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、ずれた状態で形成されている［Ａ０６］に記載の液晶表示装置。
［Ａ０８］Ｘ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰYとしたとき、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されている［Ａ０７］に記載の液晶表示装置。
［Ａ０９］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第１象限を占める凸部の残部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、接合されていない［Ａ０５］に記載の液晶表示装置。
［Ａ１０］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、ずれた状態で形成されている［Ａ０９］に記載の液晶表示装置。
［Ａ１１］Ｘ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰYとしたとき、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されている［Ａ１０］に記載の液晶表示装置。
［Ａ１２］凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている［Ａ０１］乃至［Ａ０３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ａ１３］凹凸部の段差は５×１０-8ｍ乃至３×１０-7ｍである［Ａ０１］乃至［Ａ１２］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ａ１４］スリット領域は、第１電極を構成する透明導電材料層が形成されたライン部、及び、透明導電材料層が形成されていないスペース部から構成されたライン・アンド・スペース構造を有する［Ａ０１］乃至［Ａ１３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０１］《液晶表示装置：第２の態様》
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するためのデータ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
スリット領域全体の面積をＳ1、データ線の上方に位置する第１電極の部分に設けられたスリット領域の部分の面積をＳ2としたとき、
０＜Ｓ2／Ｓ1≦０．１
を満足する液晶表示装置。
［Ｂ０２］《液晶表示装置：第３の態様》
第１基板及び第２基板を有し、
複数の画素が、第１の方向、及び、第１の方向と直交する方向に延びる第２の方向に２次元マトリクス状に、且つ、第１基板と第２基板との間に配置されており、
各画素は、
第１の方向に沿って延びる第１の辺、第１の辺と対向した第３の辺、第２の方向に沿って延びる第２の辺、第２の辺と対向した第４の辺を有する矩形形状を有し、更に、
第２基板と対向する第１基板の対向面に形成された第１電極、
第１電極及び第１基板の対向面を覆う第１配向膜、
第１基板と対向する第２基板の対向面に形成された第２電極、
第２電極及び第２基板の対向面を覆う第２配向膜、並びに、
第１配向膜及び第２配向膜の間に設けられ、液晶分子を含む液晶層、
を有しており、
各画素において、
液晶分子にはプレチルトが付与されており、
第１電極にはスリット領域が形成されており、スリット領域が形成されていない第１電極の領域には凹凸部が形成されており、
各画素は、更に、第１基板上に、第１電極への電圧の印加を制御する制御回路を有しており、
第１の方向に沿って配列された複数の画素における第１の辺の近傍には、第１の方向に沿って延び、制御回路を介して第１電極に電圧を印加するためのデータ線が、第１電極よりも第１基板側に設けられており、
データ線の上方に位置する第１電極の部分にはスリット領域が形成されていない液晶表示装置。
［Ｂ０３］各画素において、スリット領域は、画素中心から第１の辺に向かって延び、画素中心から第３の辺に向かって延び、画素中心から第２の辺に向かって第２の辺に至る途中まで延び、画素中心から第４の辺に向かって第４の辺に至る途中まで延びている［Ｂ０１］又は［Ｂ０２］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０４］各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、各画素において、凹凸部は、Ｘ軸上及びＹ軸上を延びる幹凸部、及び、幹凸部の側辺から画素の周辺部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている［Ｂ０１］乃至［Ｂ０３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０５］各画素の画素中心を通り、第１の方向と平行に延びる軸線をＸ軸、第２の方向と平行に延びる軸線をＹ軸としたとき、
第１象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第２象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が増加する方向に平行に延びており、
第３象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が減少したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びており、
第４象限を占める複数の凸部は、Ｘ座標の値が増加したときＹ座標の値が減少する方向に平行に延びている［Ｂ０１］乃至［Ｂ０３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０６］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部一部とは、繋がった状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、繋がった状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、繋がった状態で形成されている［Ｂ０５］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０７］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、ずれた状態で形成されている［Ｂ０６］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０８］Ｘ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰYとしたとき、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されている［Ｂ０７］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ０９］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第１象限を占める凸部の残部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、接合されておらず、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、接合されていない［Ｂ０５］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ１０］第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、ずれた状態で形成されている［Ｂ０９］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ１１］Ｘ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰXとし、Ｙ軸に沿った凸部の形成ピッチをＰYとしたとき、
第１象限を占める凸部の一部と、第４象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第１象限を占める凸部の残部と、第２象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されており、
第２象限を占める凸部の残部と、第３象限を占める凸部の一部とは、相互に（ＰX／２）ずれた状態で形成されており、
第３象限を占める凸部の残部と、第４象限を占める凸部の残部とは、相互に（ＰY／２）ずれた状態で形成されている［Ｂ１０］に記載の液晶表示装置。
［Ｂ１２］凹凸部は、画素周辺部に額縁状に形成された幹凸部、及び、幹凸部から画素内部に向かって延びる複数の枝凸部から構成されている［Ｂ０１］乃至［Ｂ０３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ｂ１３］凹凸部の段差は５×１０-8ｍ乃至３×１０-7ｍである［Ｂ０１］乃至［Ｂ１２］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ｂ１４］スリット領域は、第１電極を構成する透明導電材料層が形成されたライン部、及び、透明導電材料層が形成されていないスペース部から構成されたライン・アンド・スペース構造を有する［Ｂ０１］乃至［Ｂ１３］のいずれか１項に記載の液晶表示装置。
［Ｃ０１］《液晶分子へのプレチルト付与方法》
［Ａ０１］乃至［Ｂ１４］のいずれか１項に記載の液晶表示装置における液晶分子へのプレチルト付与方法であって、
データ線から制御回路を介して第１電極に第１の所定の電圧を印加し、第２電極に第２の所定の電圧を印加することで、液晶分子に仮にプレチルトを付与した後、
データ線から制御回路を介しての第１電極への第１の所定の電圧の印加を中止し、且つ、第１電極の電位を第１の所定の電圧に保持した状態で、液晶分子のプレチルト状態を固定する液晶分子へのプレチルト付与方法。
【符号の説明】
【０２０６】
１０，１０Ａ，１０Ｂ，１０Ｃ，１０R，１０G，１０B，１０R’，１０G’，１０B’，１０1，１０5，１０6，１０7，１０8，１０12，１０13・・・画素、１１・・・凹凸部、１２・・・スリット領域、１２Ａ・・・ライン部、１２Ｂ・・・スペース部、１２Ｃ・・・スリット領域が形成されていない第１電極の部分、１２Ｄ・・・凸部領域、１３・・・凸構造、２０・・・第１基板、２０Ａ・・・画素と画素との間に位置する第１基板の部分、２０Ｂ・・・画素周辺部に対応する第１基板の部分、２１・・・第１配向膜、２２・・・第１電極（画素電極）、２３・・・透明導電材料層、２４・・・カラーフィルター層、３０・・・ＴＦＴ、３０’・・・ＴＦＴ層、３０”・・・層間絶縁層、３１・・・ゲート電極、３２・・・ゲート絶縁層、３３・・・半導体層（チャネル形成領域）、３４Ａ，３４Ｂ・・・ソース／ドレイン電極、３５・・・接続孔（コンタクトホール）、４１・・・第１データ線、４１Ａ・・・第１データ線延在部、４２・・・第２データ線、４２Ａ・・・第２データ線延在部、４３・・・データ線、４４・・・切欠部、５０・・・第２基板、５１・・・第２配向膜、５２・・・第２電極（対向電極）、６０・・・液晶層、６１，６１Ａ，６１Ｂ，６１Ｃ・・・液晶分子、８０・・・表示領域、８１・・・ソースドライバ、８２・・・ゲートドライバ、８３・・・タイミングコントローラ、８４・・・電源回路、９１・・・ソース線、９２・・・ゲート線、９３・・・キャパシタ、１３１・・・幹凸部、１３２・・・枝凸部、１３２ａ・・・幹凸部と接合する枝凸部の部分、１３２ｂ・・・枝凸部の先端部、１３３，１４３・・・凹部、１３４・・・凸部、１３４ａ・・・凸部の接合部、１３４ｂ・・・突出部、１３５・・・窪み、１３５Ａ・・・窪みの外縁、１４１・・・幹凸部、１４２・・・凸部（枝凸部）、１４４・・・幹凹部、１４５・・・第２幹凸部、１４５ａ・・・凸部と接合していない第２幹凸部の部分、１４５ｂ・・・第２幹凸部の側辺部分、１５０・・・下地層、１５１・・・下地層の凸部頂面、１５２・・・下地層の凹部底面、ＰＧ1・・・第１画素群、ＰＧ2・・・第２画素群
【図１】
2016070954.tif 000003
【図２】
2016070954.tif 000004
【図３】
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【図４】
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【図５】
2016070954.tif 000007
【図６】
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【図７】
2016070954.tif 000009
【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
2016070954.tif 000021
【図２０】
2016070954.tif 000022
【図２１】
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【図２２】
2016070954.tif 000024
【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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【図３８】
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【図３９】
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【図４０】
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【図４１】
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【図４２】
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【図４３】
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【図４４】
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【図４５】
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【図４７】
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【図４８】
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【図４９】
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【図５０】
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【図４６】
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