(57)【要約】【課題】視認性及び取扱性に優れた反射防止板を提供する。【解決手段】反射防止板１０は、第１反射防止フィルム２０ａと、接合層２５と、第２反射防止フィルム２０ｂと、をこの順で含む。各反射防止フィルム２０は、樹脂材料からなる基材層４１と、基材層４１の接合層２５とは反対側を向く面に積層された凹凸構造層３０と、を有する。凹凸構造層３０は、基材層４１とは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有する。【選択図】図３
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１反射防止フィルムと、第２反射防止フィルムと、前記第１反射防止フィルムと前記第２反射防止フィルムとの間に配置され、当該第１反射防止フィルムと当該第２反射防止フィルムとを接合する接合層と、
を備え、
前記第１反射防止フィルムは、樹脂材料からなる第１基材層と、前記第１基材層の前記接合層とは反対側を向く面に積層された第１凹凸構造層と、を有し、
前記第１凹凸構造層は、前記第１基材層とは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第１凹凸面を有し、
前記第２反射防止フィルムは、樹脂材料からなる第２基材層と、前記第２基材層の前記接合層とは反対側を向く面に積層された第２凹凸構造層と、を有し、
前記第２凹凸構造層は、前記第２基材層とは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第２凹凸面を有する、反射防止板。
【請求項２】
前記第１基材層は、ポリエステル樹脂を含み、
前記第２基材層は、ポリエステル樹脂を含む、請求項１に記載の反射防止板。
【請求項３】
前記第１反射防止フィルムは、前記第１凹凸構造層と前記第１基材層との間に配置された第１プライマー層を有し、
前記第２反射防止フィルムは、前記第２凹凸構造層と前記第２基材層との間に配置された第２プライマー層を有する、請求項１または２に記載の反射防止板。
【請求項４】
前記第１凹凸構造層の前記微小突起は、頂点が複数の多峰性微小突起と、頂点が一つの単峰性微小突起と、を含み、
前記第１凹凸構造層の前記微小突起の高さの度数分布が一つの頂部からなる分布であり、
前記第１凹凸構造層の前記多峰性微小突起は、前記分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布している、請求項１〜３のいずれか一項に記載の反射防止板。
【請求項５】
前記第１凹凸構造層の前記微小突起の高さＨの度数分布における高さＨの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、
Ｈ＜ｍ−σの領域を低高度領域とし、
ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、
ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、
各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍと、前記度数分布全体における前記微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔとの関係を満たす、請求項４に記載の反射防止板。
【請求項６】
前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸構造層の前記微小突起は、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔で設けられ、
前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸構造層の前記微小突起の高さは、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっていて、
前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸構造層の前記微小突起は、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔で設けられ、
前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸構造層の前記微小突起の高さは、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の反射防止板。
【請求項７】
前記第１凹凸面上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、
前記第１凹凸面上での５０°正反射による反射率が１．０％以下であり、
前記第２凹凸面上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、
前記第２凹凸面上での５０°正反射による反射率が１．０％以下である、請求項１〜６のいずれか一項に記載の反射防止板。
【請求項８】
情報を表示する情報表示本体と、
前記情報表示本体の前面に配置された請求項１〜７のいずれか一項に記載された反射防止板と、
前記情報表示本体及び前記反射防止板を保持するフレームと、
を備える、情報表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、反射防止板及びこの反射防止板を有した情報表示パネルに関する。
【背景技術】
【０００２】
特定の情報を表示する情報表示パネルが広く利用に供されている。典型的には、情報表示パネルは、多くの人々の目に触れる場所で宣伝広告の用途で用いられる。例えば、特許文献１には、画像を表示する表示面を有する情報表示板と、表示面に対向して配置された反射防止板と、を備える情報表示パネルが開示されている。情報表示板及び反射防止板は、その周囲を取り囲むフレームによって保持され、例えば駅構内のような公衆の出入りする施設に設置される。
【０００３】
このような公衆の利用に供される情報表示パネルには、長期間に渡って安定した視認性を確保する必要性に加えて、厳しい環境下での使用にも耐え得る耐久性も必要とされる。この点を考慮して、典型的な情報表示パネルの反射防止板は、透明性及び耐久性に優れたガラス板を含む。そして、ガラス板の映り込みを防止して優れた視認性を確保ために、ガラス板の表面を低屈折率層で覆って反射防止板を構成している（特許文献２参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−０５８７５３号公報
【特許文献２】特開２００８−０３７６６７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、ガラス板は、薄いと割れやすくなるため、相当な厚みを必要とする。このため、従来の情報表示パネルは、重さが相当になり、取扱性の点で不十分であった。また、情報表示パネルの設置場所によっては、日差し等の外光の影響を強く受ける。この場合、ガラス板の表面を低屈折率層で覆うだけでは、反射防止機能を十分に得ることができない。結果として、ガラス板の表面に映り込みが生じ、ガラス板を介した視認性が著しく低下してしまう。
【０００６】
本発明は、以上の点を考慮してなされたものであり、視認性及び取扱性に優れた反射防止板、並びに、この反射防止板を備えた情報表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明による反射防止板は、第１反射防止フィルムと、第２反射防止フィルムと、前記第１反射防止フィルムと前記第２反射防止フィルムとの間に配置され、当該第１反射防止フィルムと当該第２反射防止フィルムとを接合する接合層と、を備え、
前記第１反射防止フィルムは、樹脂材料からなる第１基材層と、前記第１基材層の前記接合層とは反対側を向く面に積層された第１凹凸構造層と、を有し、
前記第１凹凸構造層は、前記第１基材層とは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第１凹凸面を有し、
前記第２反射防止フィルムは、樹脂材料からなる第２基材層と、前記第２基材層の前記接合層とは反対側を向く面に積層された第２凹凸構造層と、を有し、
前記第２凹凸構造層は、前記第２基材層とは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第２凹凸面を有する。
【０００８】
本発明による反射防止板において、前記第１基材層は、ポリエステル樹脂を含み、前記第２基材層は、ポリエステル樹脂を含んでもよい。
【０００９】
本発明による反射防止板において、前記第１反射防止フィルムは、前記第１凹凸構造層と前記第１基材層との間に配置された第１プライマー層を有してもよい。
【００１０】
本発明による反射防止板において、前記第１凹凸構造層の前記微小突起は、頂点が複数の多峰性微小突起と、頂点が一つの単峰性微小突起と、を含み、前記第１凹凸構造層の前記微小突起の高さの度数分布が一つの頂部からなる分布であり、前記第１凹凸構造層の前記多峰性微小突起は、前記分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布していてもよい。
【００１１】
本発明による反射防止板において、前記第１凹凸構造層の前記微小突起の高さＨの度数分布における高さＨの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、
Ｈ＜ｍ−σの領域を低高度領域とし、
ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、
ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、
各領域内の前記多峰性微小突起の数Ｎｍと、前記度数分布全体における前記微小突起の総数Ｎｔとの比率が、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔと、
中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔとの関係を満たしてもよい。
【００１２】
本発明による反射防止板において、前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸構造層の前記微小突起は、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔で設けられ、前記第１反射防止フィルムの前記第１凹凸構造層の前記微小突起の高さは、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっていて、前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸構造層の前記微小突起は、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔で設けられ、前記第２反射防止フィルムの前記第２凹凸構造層の前記微小突起の高さは、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっていてもよい。
【００１３】
本発明による反射防止板において、前記第１凹凸面上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、前記第１凹凸面上での５０°正反射による反射率が１．０％以下であり、前記第２凹凸面上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、前記第２凹凸面上での５０°正反射による反射率が１．０％以下であってもよい。
【００１４】
本発明による情報表示パネルは、情報を表示する情報表示本体と、前記情報表示本体の前面に配置された前記いずれかの特徴をもつ反射防止板と、前記情報表示本体及び前記反射防止板を保持するフレームと、を備える。
【発明の効果】
【００１５】
本発明によれば、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起によって形成された第１凹凸面及び第２凹凸面が優れた反射防止機能を発揮し、当該反射防止板への映り込みを防止することができる。また、第１反射防止フィルムに含まれる第１基材層と第２反射防止フィルムに含まれる第２基材層とが、反射防止板としての使用に耐え得る剛性及び耐久性を当該反射防止板に付与する。このため、反射防止板がガラス板を含む必要がないため、軽量に構成され得る。これらのことから、本発明によれば、視認性及び取扱性に優れた反射防止板が提供される。
【図面の簡単な説明】
【００１６】
【図１】図１は、本発明の一実施の形態による反射防止板を備えた情報表示パネルを示す正面図ある。
【図２】図２は、図１のＩＩ−ＩＩ線に沿った情報表示パネルの断面図である。
【図３】図３は、反射防止板の層構成を示す断面図である。
【図４】図４は、図３の反射防止フィルムの凹凸構造層を示す断面図である。
【図５】図５は、図３の反射防止フィルムの凹凸構造層を示す斜視図である。
【図６】図６は、反射防止フィルムの製造方法の一例を示す概略図である。
【図７】図７は、凹凸構造層の凹凸面の一例を示す平面写真である。
【図８】図８は、図７の写真において、極大点を示している。
【図９】図９は、図７の写真において、ドロネー図を示している。
【図１０】図１０は、微小突起の隣接突起間距離の分布を示すグラフである。
【図１１】図１１は、微小突起の高さの分布を示すグラフである。
【図１２】図１２は、微小突起の高さの度数分布を示すグラフである。
【図１３】図１３は、ロール版の作製工程を示すフローチャーとである。
【図１４】図１４は、賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細穴を示す模式図である。
【図１５】図１５は、微小突起の高さ分布の制御に係る深さの異なる微細穴が形成される過程の説明に供する図である。
【図１６】図１６は、反射防止フィルムの微小突起の高さＨの度数分布を示す図である。
【図１７】図１７は、微小突起の説明に供する図である
【図１８】図１８は、多峰性の微小突起の写真である。
【図１９】図１９は、微小突起の形状を示す斜視図である。
【図２０】図２０は、図１９の平面図、正面図、側面図である。
【図２１】図２１は、微小突起の谷底の包絡面が凹凸谷底面（うねり）を呈する形態を示す概念断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１７】
以下、図面を参照して本発明の一実施の形態について説明する。なお、本件明細書に添付する写真以外の図面においては、図示と理解のしやすさの便宜上、適宜縮尺および縦横の寸法比等を、実物のそれらから変更し誇張してある。
【００１８】
なお、本明細書において、「板」、「シート」、「フィルム」の用語は、呼称の違いのみに基づいて、互いから区別されるものではない。例えば、「フィルム」は板やシートと呼ばれ得るような部材も含む概念であり、したがって、「反射防止フィルム」は、「反射防止板」や「反射防止シート」と呼ばれる部材と呼称の違いのみにおいて区別され得ない。
【００１９】
また、「フィルム面（板面、シート面）」とは、対象となるフィルム状（板状、シート状）の部材を全体的かつ大局的に見た場合において対象となるフィルム状部材（板状部材、シート状部材）の平面方向と一致する面のことを指す。
【００２０】
さらに、本明細書において用いる、形状や幾何学的条件並びにそれらの程度を特定する、例えば、「平行」、「直交」、「同一」等の用語や長さや角度の値等については、厳密な意味に縛られることなく、同様の機能を期待し得る程度の範囲を含めて解釈することとする。
【００２１】
≪情報表示パネル≫
図１は、本発明の一実施の形態による反射防止板１０を備えた情報表示パネル１を示す斜視図である。情報表示パネル１は、特定の情報を表示する情報表示媒体である。典型的には、情報表示パネル１は、多くの人々の目に触れる場所に設置され、宣伝広告の用途で用いられる。
【００２２】
図２に、情報表示パネル１の断面図を示す。図２に示すように、情報表示パネル１は、情報を表示する情報表示本体５０と、情報表示本体５０の前面に配置された反射防止板１０と、を備えている。このうち、情報表示本体５０は、特定の情報を表示するためのものである。情報表示本体５０から表示される情報の態様としては、静止画、動画あるいは立体像が挙げられる。本実施の形態の情報表示本体５０は、絵や文字のような静止画を印刷された表示面５１を含んでいる。ただし、情報表示本体５０は、表示面５１から映像を表示する表示機器や、彫刻のような立体物を保持した機器であってもよい。
【００２３】
反射防止板１０は、情報表示本体５０から表示される情報の視認性を確保すると共に、情報表示本体５０を保護するために設けられている。本実施の形態の反射防止板１０は、情報表示本体５０の表示面５１に対向して配置され、表示面５１を保護している。
【００２４】
図１及び図２に示すように、反射防止板１０及び情報表示本体５０を取り囲むように、フレーム６０が配置されている。フレーム６０は、反射防止板１０及び情報表示本体５０を保持している。本実施の形態のフレーム６０は、反射防止板１０及び情報表示本体５０の側面を覆うと共に、反射防止板１０の正面の周縁を覆っている。
【００２５】
情報表示パネル１は、公衆の利用の供に耐えうるよう、長期間に渡って安定した視認性を確保することに加えて、優れた取扱性を発揮することが期待されている。これを実現すべく、本実施の形態の情報表示パネル１では、反射防止板に優れた反射防止機能を付与し且つ反射防止板１０を軽量にする工夫がなされている。以下では、このような反射防止板１０について、図３〜図２１を参照して詳述していく。
【００２６】
＜＜＜反射防止板＞＞＞
図３は、反射防止板１０の層構成を示す断面図である。図３に示すように、反射防止板１０は、第１反射防止フィルム２０ａと、接合層２５と、第２反射防止フィルム２０ｂとを、この順で有している。接合層２５は、第１反射防止フィルム２０ａと第２反射防止フィルム２０ｂとに隣接して、これらを接合している。図３に示された例において、反射防止板１０の積層方向からみて、第１反射防止フィルム２０ａの輪郭と、第２反射防止フィルム２０ｂの輪郭とは、重なり合う。すなわち、反射防止板１０の積層方向からみて同一形状に形成された二枚の反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが、接合層２５を介して接合されている。
【００２７】
なお、反射防止板１０は、透明になっている。ここでいう「透明」とは、その部材を通して向こうの状態を良好に視認できることを意味する。反射防止板１０は全体的に着色していたり全体的に曇っていたりしていても視認は可能であるが、外光の映り込みはこれを著しく妨げるため、透過率の確保よりも映り込みを防ぐことの方が必要である。但し、一般的には反射防止板１０の透明性を損なわないよう、反射防止板１０の全光線透過率は８０％以上、好ましくは９５％以上のものが適している。
【００２８】
以下、反射防止板１０の構成要素である、接合層および反射防止フィルムについて順に説明していく。なお、第１反射防止フィルム２０ａ及び第２反射防止フィルム２０ｂは、同一に構成することができる。第１反射防止フィルム２０ａ及び第２反射防止フィルム２０ｂを区別して説明する必要がない場合には、反射防止フィルムに対して符号「２０」を用いて説明する。また、第１反射防止フィルム２０ａ及び第２反射防止フィルム２０ｂの構成要素に関する符号の使用方法も同様に取り扱う。
【００２９】
＜＜接合層＞＞
接合層２５は、第１反射防止フィルム２０ａと第２反射防止フィルム２０ｂとを貼合さるための層である。接合層２５は、接着剤からなる接着層として形成されていてもよい。接合層２５は、既知の種々の接着材料や粘着材料を用いて形成され得る。ただし、反射防止板１０の設置場所に依っては、接合層２５が耐水性を有した材料から形成されていることが好ましい。また、反射防止板１０を介した良好な視認性を確保する観点から、接合層２５の可視光透過率が８０％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。同様に、反射防止板１０を介した良好な視認性を確保する観点から、接合層２５にオレンジピール（ゆず肌状の厚みムラ）が生じていないことが好ましい。
【００３０】
＜＜反射防止フィルム＞＞
図４及び図５に、反射防止フィルム２０の断面図及び斜視図をそれぞれ示す。図４及び図５に示すように、反射防止フィルム２０は、凹凸面３１を有する凹凸構造層３０を含んでいる。凹凸構造層３０の凹凸面３１は、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列された微小突起３２によって形成されている。また、図４及び図５に示された反射防止フィルム２０は、凹凸構造層３０を支持する基材層４１を、さらに有している。反射防止フィルム２０は、凹凸面３１が基材層４１とは反対側を向くように配置されている。したがって、第１反射防止フィルム２０ａが設けられている領域において、反射防止板１０の表面は、第１反射防止フィルム２０ａの第１凹凸面３１ａによって形成されている。同様に、第２反射防止フィルム２０ｂが設けられている領域において、反射防止板１０の表面は、第２反射防止フィルム２０ｂの第２凹凸面３１ｂによって形成されている。なお、図１に示す例では、第１反射防止フィルム２０ａは、外方側を向き情報表示パネル１の観察側の面を形成している。その一方で、第２反射防止フィルム２０ｂは、情報表示本体５０の表示面５１と向き合っている。
【００３１】
反射防止フィルム２０では、凹凸構造層３０が、いわゆるモスアイ構造体として機能する。結果として、反射防止フィルム２０は、凹凸構造層３０の凹凸面３１において、極めて優れた反射防止機能を発揮することができる。とりわけ、反射防止板１０を介した良好な視認性を確保する観点から、反射防止フィルム２０の可視光透過率が７０％以上であることが好ましく、８０％以上であることがより好ましい。
【００３２】
以下、反射防止フィルム２０の基材層４１及び凹凸構造層３０について順に説明していく。
【００３３】
＜基材層＞
基材層４１としては、透明樹脂を適宜選択して用いることができる。例えば、基材層４１として、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリブチレンテレフタレート等のポリエステル系樹脂、ポリエチレンやポリメチルペンテン等のオレフィン系樹脂、ポリメチルメタクリレート等のアクリル系樹脂、ポリカーボネート等を挙げることができる。ただし、反射防止板１０を介した良好な視認性を確保する観点から、基材層４１の可視光透過率が８５％以上であることが好ましく、９０％以上であることがより好ましい。また、基材層４１と接合層２５との界面における反射を抑制する観点から、基材層４１と接合層２５との屈折率差が０．１５以下となっていることが好ましく、０．１以下となっていることがより好ましい。
【００３４】
基材層４１の厚みは、反射防止フィルム２０の用途に応じて適宜設定することができ、特に限定されないが、通常２０〜５０００μｍであり、基材層４１は、ロールの形で供給されるもの、巻き取れるほどには曲がらないが負荷をかけることによって湾曲するもの、完全に曲がらないもののいずれであってもよい。
【００３５】
基材層４１の構成は、単一の層からなる構成に限られるものではなく、複数の層が積層された構成を有していてもよい。複数の層が積層された構成を有する場合は、同一組成の層が積層されてもよく、また、異なった組成を有する複数の層が積層されてもよい。
【００３６】
＜プライマー層＞
基材層４１及び凹凸構造層３０をなす材料の組合せによっては、基材層４１と凹凸構造層３０との密着性が不十分な場合もある。そこで、本実施の形態の反射防止フィルム２０は、基材層４１と凹凸構造層３０との間に配置されたプライマー層４２を有する。本実施の形態のプライマー層４２は、基材層４１と凹凸構造層３０とに隣接して、基材層４１と凹凸構造層３０との密着性を向上させるように機能する。したがって、プライマー層４２は、基材層４１および凹凸構造層３０との双方に密着性が良好な材料からなることが好ましい。このようなプライマー層の材料としては、電離放射線硬化樹脂や熱硬化樹脂などを用いることができる。
【００３７】
とりわけ、基材層４１がポリエステル樹脂からなる場合、基材層４１と凹凸構造層３０との密着性の低下が大きい。したがって、基材層４１がポリエステル樹脂からなる場合、反射防止フィルム２０がプライマー層４２を含むことが好ましい。
【００３８】
＜凹凸構造層＞
図４及び図５に示すように、凹凸構造層３０は、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列された微小突起３２によって形成された凹凸面３１を有している。そして、ここで、微小突起３２の「微小」とは、可視光線帯域の最短波長以下の間隔で配列される程度に微小であることを意味している。また、可視光線帯域の最短波長は、反射防止フィルム２０を含む反射防止板１０が使用される環境下における可視光線帯域の最短波長を指している。したがって、反射防止板１０が使用される環境下に制限された光源からの光のみが存在する場合には、当該光源から射出される可視光の最短波長が、ここでいう可視光線帯域の最短波長となり、それ以外の場合には、一般的な可視光線帯域の最短波長として３８０ｎｍを、ここでいう可視光線帯域の最短波長として採用する。
【００３９】
凹凸構造層３０の凹凸面３１は、反射防止機能を発揮し反射防止板１０に対して良好な視認性を付与する。この観点から、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での５°正反射による反射率が、０％以上０．３％以下となっていることが好ましく、０．１％以下となっていることがより好ましい。同時に、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での水に対する接触角が、０°より大きく３０°以下となっていることが好ましく、２０°以下となっていることがより好ましく、９°以下となっていることが更に好ましく、６°以下であることが更により好ましい。そして、以下に説明するようにして凹凸構造層３０を形成すれば、このような特性を実現することができる。
【００４０】
なお、本明細書で言及する正反射の反射率は、(株)島津製作所製のUV-3100を用いてＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠して測定された値とする。
【００４１】
凹凸構造層３０は、樹脂を含有してなる層とすることができ、更に、樹脂組成物の硬化物からなる層とすることができる。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂組成物は、少なくとも樹脂を含み、必要に応じて重合開始剤等その他の成分を含有する。凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、例えば、アクリレート系、エポキシ系、ポリエステル系等の電離放射線硬化性樹脂、アクリレート系、ウレタン系、エポキシ系、ポリシロキサン系等の熱硬化性樹脂、アクリレート系、ポリエステル系、ポリカーボネート系、ポリエチレン系、ポリプロピレン系等の熱可塑性樹脂等の各種材料及び各種硬化形態の賦型用樹脂を、凹凸構造層３０の形成に用いることができる。
【００４２】
加えて、凹凸構造層３０が親水性の材料で形成されることにより、反射防止フィルム２０に極めて優れた防曇機能を付与することができる。反射防止フィルム２０の防曇機能は、凹凸面３１が超親水性を示すことに起因して発現されている。より具体的には、凹凸面３１に結露等により付着した水滴が、超親水性の凹凸面３１上で広く延び広がり、その後、凹凸面３１上にて均一且つ迅速な蒸発が促進されることから、防曇が実現される。このようにして反射防止フィルム２０の凹凸面３１上で、反射防止機能および防曇機能の両方が発現される。
【００４３】
なお、凹凸構造層３０に用いられる材料自体の親水性と比較し、当該親水性材料を用いて形成された凹凸構造層３０の凹凸面３１は、予想を超える超親水性を示すようになる。具体的には、水に対する接触角が５０°以上９０°以下となる材料を用いて凹凸構造層３０を形成した場合、凹凸面３１の水に対する接触角を２０°以下にまでも低下させることが可能となる。凹凸構造層３０の凹凸面３１が超親水性を発現するのは、凹凸構造層３０をなす材料自体の親水性が、凹凸構造層３０の微小突起３２によって形成された比表面積が大きい凹凸面３１によって、大幅に増強されること、に起因していると考えられる。
【００４４】
以上のことから、凹凸構造層３０が親水性材料を用いて構成される場合、凹凸構造層３０の超親水性機能により、凹凸面３１が水滴で曇ってしまうことを効果的に防止することができる。具体的には、凹凸面３１上に結露等によって水滴が付着したとしても、水滴は凹凸面３１上を薄く延び広がる。この結果、凹凸面３１上での水滴粒子による光の散乱が抑制され、防曇機能が発現される。また、表面に薄い水の膜ができることから、汚れが付着しにくく、自己クリーニング性も発現する。この防曇性能は界面活性剤等の添加による親水性付与によるものではなく、親水性樹脂材料と表面微細構造の相乗効果で発現するものであるため、経年で防曇性能が劣化しにくいという特徴もある。
【００４５】
したがって、このような背景からすれば、親水性材料を用いて形成された凹凸構造層３０を反射防止板１０へ適用することによって奏される作用効果は、技術水準から予測される範囲を超えた顕著なものと言える。或いは、親水性材料を用いて形成された凹凸構造層３０の反射防止板１０への適用は、モスアイ構造体としての凹凸構造層３０の反射防止機能とは異質または際だった作用効果であり且つ凹凸構造層３０をなす材料自体の親水性と比較して際だって優れた作用効果を奏することを可能にしていると言える。
【００４６】
なお、本件明細書において、「親水性」とは、水に対する接触角が９０°未満となることを意味している。また、本明細書で言及する接触角は、ＪＩＳＲ３２５７（１９９９）に準拠して測定された値とする。すなわち、明細書で言及する接触角は、θ／２法で測定される静的接触角のことであり、例えば協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いて測定され得る。また、材料自体の水に対する接触角は、実際の測定対象となる部位の表面の影響を排除するため、当該材料を用いて厚さ１０μｍの膜を形成して、当該膜の水に対する接触角をＪＩＳＲ３２５７（１９９９）に準拠して測定した値とする。
【００４７】
また、凹凸構造層３０に高い親水性を付与する観点からは、親水性の高い構造を持った樹脂、例えばエチレンオキシド基（ＥＯ基）やヒドロキシル基、カルボキシル基等を有する化合物を含む組成物を用いて、凹凸構造層３０が形成されていることが好ましい。凹凸構造層３０をなす樹脂材料自体の水に対する接触角度は、９０°以下となっていれば十分であり、６０°以下となっていればより好ましい。
【００４８】
また、凹凸構造層３０の形成に用いられる樹脂としては、微小突起３２の成形性及び機械的強度に優れる点から電離放射線硬化性樹脂が好ましい。電離放射線硬化性樹脂とは、分子中にラジカル重合性及び／又はカチオン重合性結合を有する単量体、低重合度の重合体、反応性重合体を適宜混合したものであり、重合開始剤によって硬化されるものである。なお、非反応性重合体を含有してもよい。なお、電離放射線とは、分子を重合させて硬化させ得るエネルギーを有する電磁波または荷電粒子を意味し、例えば、すべての紫外線（ＵＶ、ＵＶ−Ｂ、ＵＶ−Ｃ）、可視光線、ガンマー線、Ｘ線、電子線等が挙げられる。
【００４９】
樹脂組成物は、さらに必要に応じて、界面活性剤、重合開始剤、離型剤、光増感剤、酸化防止剤、重合禁止剤、架橋剤、赤外線吸収剤、帯電防止剤、粘度調整剤、密着性向上剤等を含有することもできる。とりわけ、樹脂組成物が、上述した親水性基を含む界面活性剤を含有するようにしてもよいが、樹脂組成物の主な親水性が界面活性剤により担持される場合には、経年での界面活性剤溶出による防曇性能低下が懸念されるため、樹脂骨格自体が親水性であることがより好ましい。
【００５０】
次に、凹凸構造層３０の寸法について説明する。モスアイ構造による反射防止機能では、モスアイ構造体とこれに隣接する媒質との界面における有効屈折率を、厚み方向に連続的に変化させて反射防止を図るものである。このため、凹凸構造層３０の凹凸面３１は、凹凸構造層３０のシート面に沿って可視光線帯域の最短波長以下の間隔ｄ（図５参照）で配列された微小突起３２によって形成されている。優れた反射防止機能を確保する観点から、隣接する微小突起３２の間隔ｄの最大値ｄｍａｘが、可視光線帯域の最短波長以下となっていることがより好ましい。ここで、この間隔ｄに係る隣接する微小突起３２とは、いわゆる隣り合う微小突起３２であり、基材層４１側の付け根部分である微小突起の裾の部分が接している二つの突起である。凹凸構造層３０では微小突起３２が密接して配置されることにより、微小突起３２間の谷の部位を順次辿るようにして線分を作成すると、平面視において各微小突起を囲む多角形状領域を多数連結してなる網目状の模様が作製されることになる。間隔ｄに係る隣接する微小突起３２は、この網目状の模様を構成する一部の線分を共有する突起である。また、間隔ｄは、図５に示すように、反射防止フィルム２０のフィルム面に沿った、隣接する二つの微小突起３２の頂部３３間の距離とすることができる。以下において、隣接する微小突起３２の間隔ｄを隣接突起間距離とも呼ぶ。
【００５１】
ただし、凹凸構造層３０に対して優れた反射防止機能および防曇機能を付与する観点からは、凹凸構造層３０をなす微小突起３２が次のように形成されていることがより好ましい。まず、凹凸構造層３０の微小突起３２は、反射防止フィルム２０のフィルム面に沿って、７０ｎｍ以上３００ｎｍ以下の間隔ｄで設けられていることが好ましく、７０ｎｍ以上１８０ｎｍ以下の間隔ｄで設けられていることがより好ましい。また、反射防止フィルム２０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿った微小突起３２の高さＨは、５０ｎｍ以上３００ｎｍ以下となっていることが好ましく、１００ｎｍ以上２５０ｎｍ以下となっていることがより好ましい。
【００５２】
また、凹凸構造層３０の凹凸面３１上における超親水性は、親水性の材料と凹凸面３１との組み合わせによって得られ、微小突起３２のアスペクト比および凹凸面３１の比表面積の影響を受ける。同様に、凹凸面３１での反射防止機能も、微小突起３２のアスペクト比の影響を受ける。アスペクト比は、微小突起３２の幅に対する微小突起３２の高さＨの比であり、凹凸構造層３０においては、微小突起３２の幅を微小突起３２間の間隔ｄと置き換えて取り扱うことが可能な指標である。凹凸構造層３０に対して優れた反射防止機能および防曇機能を付与する観点から、微小突起３２のアスペクト比は、０．１７以上４．２３以下となっていることが好ましく、１．８以上３．５７以下となっていることがより好ましい。一方、比表面積は、単位面積あたりの実効表面積である。上記微細突起構造により、比表面積が増大すると、凹凸構造を形成する材料の親水性が、より親水側に強調される。
【００５３】
なお、凹凸構造層３０の凹凸面３１及び微小突起３２に関する各種寸法及び形状は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて、特定することができる。
【００５４】
凹凸構造層３０の厚みは、特に限定されないが、一例として１０〜３００μｍとすることができる。なお、この場合の凹凸構造層３０の厚みとは、図３に示すように、凹凸構造層３０の基材層４１側の界面から、当該凹凸構造層３０の凹凸面３１をなす微小突起３２の頂部３３までの反射防止フィルム２０のフィルム面への法線方向ｎｄに沿った高さｔ１を意味する。
【００５５】
また、凹凸構造層３０をその法線方向ｎｄに対して傾斜した方向から観察した場合、凹凸構造層３０の凹凸面３１が白く濁ったように観察されることがあるが、これは凹凸のピッチが可視光の下限波長に近い場合に散乱が発生するという現象に基づく。これを回避するにはピッチを小さくしていけばよいが、斜めから見たときに見えにくくしたいという用途の場合にはあえてピッチを広くするという設計も可能である。
【００５６】
白い濁りが観察されるようになるメカニズムは、以下のことが要因であると推察される。まず、光の波長に対して小さく形成した微小突起３２を斜めから観察することにより、当該観察方向に沿った微小突起３２の断面形状が変化する。そして、凹凸構造層３０の法線方向から傾斜したある観察方向から観察する際、当該観察方向と平行になる断面での微小突起３２の外周長が、概ね、可視光の波長と等しくなることがある。この際、微小突起３２によってミー散乱が生じ、観察者はミー散乱した光を白く濁った光として観察しているものと推察される。ただし、本発明は、この推定に拘束されるものではない。
【００５７】
以上のような凹凸構造層３０では、反射防止板１０を介した良好な視認性を確保することを考慮すると、当該凹凸構造層３０単体での可視光透過率は９０％以上であることが好ましく、９５％以上であることがより好ましい。
【００５８】
ところで、図５に示された凹凸構造層３０において、微小突起３２は不規則的に配置されているが、微小突起３２の配列は、規則的でも不規則的でもよい。ただし、干渉模様の発生を防止する観点からは、微小突起３２の配列が不規則的であることが好ましい。したがって、図３に示すように、二枚の反射防止フィルム２０ａ，２０ｂが重なるように配置されている場合には、二枚の反射防止フィルム２０ａ，２０ｂの間で微小突起３２の配列に起因した干渉模様が生じてしまうことのないよう、少なくとも一方の反射防止フィルム２０の微小突起３２の配列が不規則となっていることが好ましい。
【００５９】
＜反射防止フィルムの製造方法＞
反射防止フィルム２０は、例えば、プライマー層４２を積層した基材層４１上に、凹凸構造層３０を構成するようになる凹凸構造層形成用樹脂組成物を塗布し、所望の微小突起形状と相補的な微細穴を有する凹凸構造層形成用原版を用いて、凹凸構造層形成用樹脂組成物の塗膜に賦型した後、該凹凸構造層形成用樹脂組成物を硬化させることにより凹凸構造層を形成し、凹凸構造層形成用原版から剥離する方法等が挙げられる。凹凸構造層形成用樹脂組成物を硬化させる方法は、該凹凸構造層形成用樹脂組成物の種類等に応じて適宜選択することができる。
【００６０】
凹凸構造層形成用原版としては、繰り返し使用した際に変形および摩耗するものでなければ、特に限定されるものではなく、金属製であっても良く、樹脂製であっても良いが、通常、金属製が好適に用いられる。耐変形性および耐摩耗性に優れているからである。凹凸構造層形成用原版の微細穴を有する面は、特に限定されないが、酸化されやすく、陽極酸化による加工が容易である点から、アルミニウムからなることが好ましい。凹凸構造層形成用原版は、具体的には、例えば、ステンレス、銅、アルミニウム等の金属製の母材の表面に、直接に又は各種の中間層を介して、スパッタリング等により純度の高いアルミニウム層が設けられ、当該アルミニウム層に微細穴を形成したものが挙げられる。前記母材は、前記アルミニウム層を設ける前に、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の表面を超鏡面化しても良い。
【００６１】
凹凸構造層形成用原版に微細穴を形成する方法としては、例えば、陽極酸化法によってアルミニウム層の表面に複数の微細な穴を形成する陽極酸化工程と、アルミニウム層をエッチングすることにより微細穴の開口部にテーパー形状を形成する第１エッチング工程と、アルミニウム層を第１エッチング工程のエッチングレートよりも高いエッチングレートでエッチングすることにより微細穴の穴径を拡大する第２エッチング工程とを順次繰り返し実施することによって形成することができる。微細な凹凸形状を形成する際には、アルミニウム層の純度(不純物量)や結晶粒径、陽極酸化処理及び／又はエッチング処理の諸条件を適宜調整することによって、所望の形状とすることができる。陽極酸化処理において、より具体的には、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な孔をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製することができる。
【００６２】
このようにして、凹凸構造層形成用原版は、深さ方向に徐々に穴径が小さくなる多数の微細穴が密に作製される。当該凹凸構造層形成用原版を用いて製造される凹凸構造層３０には、凹凸構造層形成用原版の微細穴に対応して、頂部に近付くに従って徐々に径が小さくなる複数の微小突起３２が密接して配置された凹凸構造層３０が形成され、すなわち、当該微小突起３２の深さ方向と直交する水平面で切断したと仮定したときの水平断面内における当該微小突起３２を形成する材料部分の断面積占有率が、当該微細突起３２の頂部から最深部方向に近づくに従い連続的に漸次増加する微小突起形状が形成される。
【００６３】
また、凹凸構造層形成用原版の形状としては、所望の形状を賦型することができるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、平板状であっても良く、ロール状であっても良いが、凹凸構造層形成用原版は、生産性向上の観点からは、ロール状の金型（以下、「ロール金型」と称する場合がある。）を用いることが好ましい。ロール金型としては、例えば、母材として、円筒形状の金属材料を用い、当該母材の周側面に、直接に又は各種の中間層を介して設けられたアルミニウム層に、上述したように、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにより、微細な凹凸形状が作製されたものが挙げられる。
【００６４】
図６に、凹凸構造層形成用樹脂組成物として光硬化性樹脂組成物を用い、凹凸構造層形成用原版としてロール金型を用いた場合に、基材層４１上に凹凸構造層３０を形成する方法の一例を示す。図６に示す方法では、樹脂供給工程において、ダイ３６により帯状フィルム形態の基材層４１に、未硬化で液状の光硬化性樹脂組成物を塗布し、微小突起形状を賦型するための受容層３５を形成する。なお光硬化性樹脂組成物の塗布については、ダイ３６による場合に限らず、各種の手法を適用することができる。続いて、押圧ローラ３８ａにより、第一の凹凸構造層形成用原版であるロール金型３７の周側面に基材層４１を加圧押圧し、これにより基材層４１に受容層３５を密着させると共に、ロール金型３７の周側面に作製された微細な凹凸形状の穴に、受容層３５を構成する光硬化性樹脂組成物を充分に充填する。この状態で、紫外線の照射により光硬化性樹脂組成物を硬化させ、これにより基材層４１の表面に凹凸構造層３０を作製する。続いて剥離ローラ３８ｂを介してロール金型３７から、硬化した凹凸構造層３０と一体に基材層４１を剥離する。必要に応じてこの基材層４１に粘着層等を作製した後、所望の大きさに切断して反射防止フィルム２０を作製する。これにより反射防止フィルム２０は、ロール材による長尺の基材層４１に、凹凸構造層形成用原版であるロール金型３７の周側面に作製された微小突起形状３２を順次賦型して、効率良く大量生産される。
【００６５】
また上述の実施形態では、ロール金型３７を使用した賦型処理によりフィルム形状の反射防止フィルム２０を生産する場合について述べたが、この例に限らず、反射防止フィルム２０の形状に係る基材層４１の形状に応じて、例えば平板、特定の曲面形状による賦型用金型を使用した枚葉の処理により反射防止フィルム２０を作成する場合等、賦型処理に係る工程、凹凸構造層形成用原版は、反射防止フィルム２０の形状に係る基材層４１の形状に応じて適宜変更することができる。
【００６６】
＜＜反射防止板の作用効果＞＞
以上のように、本実施の形態によれば、第１反射防止フィルム２０ａと、第２反射防止フィルム２０ｂと、第１反射防止フィルム２０ａと第２反射防止フィルム２０ｂとの間に配置され、２つの反射防止フィルム２０ａ、２０ｂを接合する接合層２５と、を備え、第１反射防止フィルム２０ａは、樹脂材料からなる第１基材層４１ａと、第１基材層４１ａの接合層２５とは反対側を向く面に積層された第１凹凸構造層３０ａと、を有し、第１凹凸構造層３０ａは、第１基材層４１ａとは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起３２によって形成された第１凹凸面３１ａを有し、第２反射防止フィルム２０ｂは、樹脂材料からなる第２基材層４１ｂと、第２基材層４１ｂの接合層２５とは反対側を向く面に積層された第２凹凸構造層３０ｂと、を有し、第２凹凸構造層３０ｂは、第２基材層４１ｂとは反対側を向くように配置され、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起３２によって形成された第２凹凸面３１ｂを有する。このような形態によれば、可視光線帯域の最短波長以下となる間隔で設けられた微小突起３２によって形成された第１凹凸面３１ａ及び第２凹凸面３１ｂが優れた反射防止機能を発揮し、当該反射防止板１０への映り込みを防止することができる。また、第１反射防止フィルム２０ａに含まれる第１基材層４１ａと第２反射防止フィルム２０ｂに含まれる第２基材層４１ｂとが、反射防止板１０としての使用に耐え得る剛性及び耐久性を当該反射防止板１０に付与する。このため、反射防止板１０がガラス板を含む必要がないため、軽量に構成され得る。これらのことから、本実施の形態によれば、視認性及び取扱性に優れた反射防止板１０が提供される。
【００６７】
また、従来のガラス板を含む反射防止板は、切断されると割れてしまい、寸法調整を容易に行うことができなかった。これに対して、本実施の形態の反射防止板１０は、ガラス板を含むことなく構成されるため、切断されても割れるおそれがなく寸法調整を容易に行うことができる。このことから、例えば、情報表示パネル１から、使用に伴い劣化した反射防止板１０と新たな反射防止板１０とを入れ換える場合に、新たな反射防止板１０の寸法調整をその場で行いながら、反射防止板１０の入れ換えを行うこともできる。すなわち、本実施の形態の反射防止板１０は、従来のガラス板を含む反射防止板よりも、設置作業及びメンテナンス作業を容易に行うことができる。
【００６８】
ここで、反射防止層が低屈折率層からなる従来の反射板での反射率は、スペクトル分布を持つ。具体的には、低屈折率層からなる反射防止膜は、低屈折率層の厚み及び観察方向に応じた特定波長の光に対して、他の波長域の光に対してよりも、優れた反射防止機能を及ぼす。結果として、観察方向に応じて低屈折率層に色味がついてしまい、反射防止板に適用した場合には、不都合が生じることも予想される。これに対して、低屈折率層からなる反射防止層とは異なり、凹凸構造層３０により反射防止機能を発現する反射防止板１０においては、反射防止板１０を観察した際に、観察方向に応じて変化する色味が生じることはない。
【００６９】
加えて、本実施の形態によれば、第１凹凸面３１ａ上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、第１凹凸面３１ａ上での５０°正反射による反射率が１．０％以下であり、第２凹凸面３１ｂ上での５°正反射による反射率が０．３％以下であり、第２凹凸面３１ｂ上での５０°正反射による反射率が１．０％以下である。このような反射率は、反射防止層が低屈折率層からなる従来の反射板では得られなかったものである、したがって、本実施の形態によれば、従来の反射板よりも極めて優れた視認性を発揮する。
【００７０】
また、本実施の形態によれば、第１基材層４１ａは、ポリエステル樹脂を含み、第２基材層４１ｂは、ポリエステル樹脂を含んでいる。ポリエステル樹脂は、寸法安定性に優れれ、反射防止板１０としての使用に耐え得る剛性及び耐久性を反射防止板１０に付与する点で優れている。その一方で、ポリエステル樹脂は、透明性の点でも優れているため、反射防止板１０の視認性を向上させる点でも好ましい。ただし、基材層４１がポリエステル樹脂を含む場合、基材層４１ａ、４１ｂと凹凸構造層３０ａ、３０ｂとの密着性が低下し易い。そこで、本実施の形態によれば、第１反射防止フィルム２０ａが、第１凹凸構造層３０ａと第１基材層４１ａとの間に配置された第１プライマー層４２ａを有し、第２反射防止フィルム２０ｂが、第２凹凸構造層３０ｂと第２基材層４１ｂとの間に配置された第２プライマー層４２ｂを有する。この形態によれば、従来実現が困難であった、ポリエステル樹脂を含む基材層４１ａ、４１ｂに凹凸構造層３０を積層することが可能となる。
【００７１】
また、本実施の形態の反射防止フィルム２０は、基材層４１上に、電離放射線硬化型樹脂を賦型してなる凹凸構造層３０を形成することにより作製され得る。そして、樹脂組成物の硬化物からなる凹凸構造層３０は、安定性の面で優れ、長期間安定して予定した機能を発揮し続けることができる。この点、化学的な手法によりロータス効果（はす効果）を発現するような構造と比較して、凹凸構造層３０の寿命は長く、しかも、安価で簡易に形成することができる。
【００７２】
＜＜凹凸構造層をなす樹脂材料＞＞
上述したように、凹凸構造層３０は、樹脂材料を用いて形成され得る。より具体的には、凹凸構造層３０は、樹脂組成物の硬化物からなり得る。ここでは、本件発明者らが、反射部材１０に組み込まれる凹凸構造層３０をなす樹脂材料について検討を行った結果について説明する。
【００７３】
本件発明者らが、鋭意検討を重ねた結果として、反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０が樹脂材料、とりわけ樹脂組成物の硬化物からなる場合、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）が、次の物性を有することが好ましいことを知見した。まず、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）が３００ＭＰａ以下であることが好ましい。次に、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）に対する損失弾性率（Ｅ１”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ１”／Ｅ１’））が０．２以下であることが好ましい。さらに、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の表面における、ｎ−ヘキサデカンの接触角（θ／２法による静的接触角）が３０°以下であること、或いは、当該樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の表面における、オレイン酸の接触角（θ／２法による静的接触角）が、２５°以下であることが好ましい。これらの場合、乾拭きで汚れが拭取りやすく、仮に表面に付着した指紋汚れ等の油性の汚れが完全に拭取れなかった場合であっても、微細凹凸層の表面に薄く広がるため、当該汚れが目立たなくなり、拭取り後の視認性が良好になる。そのため、反射防止フィルム２０を介した情報表示本体５０の視認性を向上させることができる。
【００７４】
従来のモスアイ構造体は、耐擦傷性の点から、微小突起３２の硬度が高いものが広く用いられてきた。硬度の高い微小突起は、拭取り時に圧力がかかってもほとんど変形しないため、乾拭きで汚れを拭き取ることは困難であった。一方、圧力により容易に変形可能な微小突起３２は、圧力により当該突起３２が潰れやすく、また隣り合う微小突起が接触した状態に維持される現象であるスティッキングが生じやすく、さらに拭いた箇所に拭き痕が残ってしまいやすかった。
【００７５】
その一方で、凹凸構造層３０をなす樹脂材料（樹脂組成物の硬化物）の貯蔵弾性率（Ｅ１’）が３００ＭＰａ以下、且つ、損失正接（ｔａｎδ）が０．２以下である場合、当該樹脂材料からなる凹凸構造層３０の微小突起３２は、拭取る程度の圧力で変形し、且つ、優れた弾性復元性を備えるようになる。そのため、乾拭きで汚れを拭取る際には、その圧力により微小突起３２が変形して、微小突起３２間に付着した汚れを機械的に掻き出し易くなり、その後、圧力が取り除かれると、塑性変形を生じることなく元の微小突起３２の形状に復元する。このようなことから、上記物性を有する凹凸構造層３０によれば、乾拭きであっても、反射防止性能を低下させることなく、汚れを拭取ることが可能となる。なお、拭取り時の圧力の大きさは、特に限定されるものではないが、通常、およそ２〜５ｋｇ／ｃｍ２程度の圧力である。
【００７６】
以下、凹凸構造層３０が樹脂組成物の硬化物として形成される例において、凹凸構造層の形成に用いられる凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の好適な物性を説明し、次いで、この物性を実現するための凹凸構造層形成用樹脂組成物の好適な組成について説明する。
【００７７】
上述したように、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）は３００ＭＰａ以下であることが好ましい。Ｅ１’を３００ＭＰａ以下とすることにより、拭取り時の圧力によって微小突起が変形し、微小突起間の隙間に入り込んだ汚れを、乾拭きで除去することが可能となる。この観点から、中でも貯蔵弾性率（Ｅ１’）が、１〜２５０ＭＰａであることが好ましく、１〜１００ＭＰａであることがより好ましい。
【００７８】
同様に上述したように、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の２５℃における貯蔵弾性率（Ｅ１’）に対する損失弾性率（Ｅ１”）の比（ｔａｎδ（＝Ｅ１”／Ｅ１’）損失正接）が０．２以下であることが好ましい。損失正接を０．２以下とすることにより、拭取り時に変形した微小突起が、弾性復元され、元の形状に戻りやすい。これにより、突起の塑性変形やスティッキングが抑制され、反射防止性能を低下することなく、乾拭きで汚れを拭取ることが可能になる。中でも、ｔａｎδが０．１８以下であることが好ましい。
【００７９】
なお、本明細書で言及する貯蔵弾性率及び損失弾性率は、ＪＩＳ  Ｋ７２４４に準拠して、以下の方法により測定される。まず、凹凸構造層形成用樹脂組成物を、２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分以上照射することにより十分に硬化させて、基材及び微小突起形状を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの単膜とする。次いで、２５℃下、上記凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、Ｅ’、Ｅ”が求められる。測定装置としては、例えば、ＵＢＭ製  Ｒｈｅｏｇｅｌ  Ｅ４００を用いることができる。
【００８０】
また、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物は、当該硬化物の表面において、ｎ−ヘキサデカンの接触角（θ／２法での静的接触角）が３０°以下であるか、或いは、オレイン酸の接触角（θ／２法での静的接触角）が、２５°以下となることが好ましい。凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の表面が上記のような親油性を有することにより、凹凸構造層３０の表面をなす凹凸面３１に付着した油性の汚れが完全に拭取れなかった場合であっても、凹凸構造層３０の凹凸面３１に薄く広がるため、当該汚れが目立たなくなり、拭取り後の視認性が良好になる。
【００８１】
なお、本件明細書で言及する凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の接触角（すなわち、θ／２法での静的接触角）は、凹凸構造層３０の凹凸面３１上での接触角とは異なる。凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の接触角は、基材上に凹凸構造層形成用樹脂組成物を塗布して硬化させることによって形成された硬化物の、微小突起形状３２を有しない平坦な面上に、測定される接触角である。ここで平坦な面とは、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１（１９９４）に準拠して測定される十点平均粗さＲｚが１０ｎｍ以下となる面である。具体的な方法として、凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の平坦な表面に接触角を測定しようとする溶剤（ｎ−ヘキサデカン、オレイン酸、又は純水）の１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１秒後に、滴下した液滴の左右端点と頂点を結ぶ直線の、固体表面に対する角度から接触角を算出するθ／２法に従って測定した値を、接触角の値とすることができる。測定装置としては、例えば、協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いることができる。
【００８２】
反射防止フィルム２０において、凹凸構造層３０の凹凸面３１の弾性率は、柔軟性に優れる点から、２００〜５００ＭＰａであることが好ましく、２２０〜４００ＭＰａであることが好ましい。凹凸構造層３０の凹凸面３１の最大押し込み深さは、変形し易く、拭取り性に優れる点から、１．０〜２．０μｍであることが好ましく、１．２〜１．８μｍであることがより好ましい。また、凹凸構造層凹凸構造層３０の凹凸面３１の弾性復元率は、塑性変形が少なく、拭き痕が生じにくい点から、８０％以上であることが好ましく、８５〜９８％であることがより好ましい。
【００８３】
本明細書で言及する弾性率、最大押し込み深さ、及び弾性復元率は、以下のようにして測定される。すなわち、反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の凹凸面３１に、次の特定の条件で圧子を押し込んで、フィルム表面の弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率を測定することができる。測定装置は、例えば、フィッシャーインストルメンツ社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＥＲ  ＨＭ−５００を用いることができる。
＜測定条件＞
・荷重速度  １ｍＮ／１０秒
・保持時間  １０秒
・荷重除荷速度  １ｍＮ／１０秒
・圧子  ビッカース
・測定温度  ２５℃
【００８４】
次に、凹凸構造層３０の形成凹凸構造層形成用樹脂組成物の組成について説明する。
【００８５】
凹凸構造層形成用樹脂組成物は、熱硬化性成分及び／又は光硬化性成分を含み、硬化後に上記物性が得られるものが用いられる。中でも、光硬化性成分を含む光硬化性樹脂組成物であることが好ましい。上記光硬化性成分としては、エチレン性不飽和結合を有する化合物を含む組成物であることが好ましく、（メタ）アクリレートを含む組成物であることがより好ましい。光硬化性樹脂組成物は、少なくとも上記光硬化性成分を含有していればよく、必要に応じて、更に他の成分を含有してもよい。また、上記凹凸構造層形成用樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましい。以下、光硬化性成分として好ましく用いられる（メタ）アクリレートを含む組成物中の各成分について順に説明する。
【００８６】
（１）（メタ）アクリレート
（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイル基を１分子中に１個有する単官能（メタ）アクリレートであっても、（メタ）アクリロイル基を１分子中に２個以上有する多官能アクリレートであってもよく、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用するものであってもよい。中でも、硬化物が上記物性を満たし、微小突起が柔軟性と弾性復元性を両立する点から、単官能（メタ）アクリレートと多官能（メタ）アクリレートとを併用することが好ましい。
【００８７】
単官能（メタ）アクリレートの具体例としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、ヘキシル（メタ）アクリレート、デシル（メタ）アクリレート、アリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、ブトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、グリセロール（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、イソボニル（メタ）アクリレート、イソデキシル（メタ）アクリレート、イソオクチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ステアリル（メタ）アクリレート、ドデシル（メタ）アクリレート、トリデシル（メタ）アクリレート、ビフェニロキシエチルアクリレート、ビスフェノールＡジグリシジル（メタ）アクリレート、ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビフェニリロキシエチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートが好ましく、中でも、炭素数１２以上であることがより好ましく、トリデシル（メタ）アクリレート、及びドデシル（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。これらの単官能（メタ）アクリル酸エステルは、１種単独で、又は２種以上を組み合わせて用いることができる。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する単官能（メタ）アクリレートを用いる場合、後述する炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の特性を兼ね備える。
【００８８】
単官能（メタ）アクリレートの含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜４０質量％であることが好ましく、１０〜３０質量％であることがより好ましい。
【００８９】
また、多官能アクリレートの具体例としては、例えば、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレンジ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳジ（メタ）アクリレート、ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、フタル酸ジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、ウレタントリ（メタ）アクリレート、エステルトリ（メタ）アクリレート、ウレタンヘキサ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等が挙げられる。中でも、微小突起が柔軟性及び復元性に優れる点から、アルキレンオキサイドを含む多官能（メタ）アクリレートを用いることが好ましく、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートを用いることがより好ましく、エチレンオキサイド変性ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、エチレンオキサイド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、及び、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレートの少なくとも１種を含むことが更により好ましい。
【００９０】
上記多官能（メタ）アクリレートの含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、１０〜９５質量％であることが好ましく、１５〜９０質量％であることがより好ましい。
【００９１】
（２）炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物
凹凸構造層形成用樹脂組成物は、硬化物表面の親油性が向上し、微小突起が柔軟性に優れる点から、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することが好ましく、炭素数１２以上の長鎖アルキル基を有する化合物を含有することがより好ましい。炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物の具体例としては、例えば、デカン、ドデカン、トリデカン、テトラデカン、ペンタデカン、ヘキサデカンを有する化合物等が挙げられる。また、本発明の効果を損なわない限り、更に置換基を有していてもよい。置換基の具体例としては、フッ素、塩素、臭素等のハロゲン原子、水酸基、カルボキシ基、アミノ基、スルホ基の他、ビニル基、（メタ）アクリロイル基等のエチレン性不飽和二重結合を有する基等が挙げられる。中でも、光硬化性を備える点から、エチレン性不飽和二重結合を有することが好ましく、（メタ）アクリロイル基を有することがより好ましい。なお、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物が（メタ）アクリロイル基を有する場合、当該化合物は、前記（メタ）アクリレートにも該当し得る。
【００９２】
炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する化合物を用いる場合、当該化合物の含有量は、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して、５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２０質量％であることがより好ましい。
【００９３】
凹凸構造層形成用樹脂組成物として好ましく用いられる光硬化性樹脂組成物は、硬化物の貯蔵弾性率、損失正接を上記所定の範囲に調整しやすく、且つ親油性に調整しやすく、優れた乾拭き取り性を得ることができる点から、少なくとも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートと、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレートとを含有することが特に好ましい。中でも、炭素数１０以上の長鎖アルキル基を有する（メタ）アクリレートの含有割合が、エチレンオキサイド変性多官能（メタ）アクリレート１００質量部に対して、５〜３０質量部であることが好ましく、１０〜１５質量部であることがより好ましい。
【００９４】
（３）光重合開始剤
上記（メタ）アクリレートの硬化反応を開始又は促進させるために、必要に応じて光重合開始剤を適宜選択して用いても良い。光重合開始剤の具体例としては、例えば、ビスアシルフォスフィノキサイド、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタノン−１、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−ケトン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド、フェニルビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フォスフィンオキサイド、フェニル（２，４，６−トリメチルベンゾイル）ホスフィン酸エチル等が挙げられる。これらは、単独あるいは２種以上を組み合わせて用いることができる。
【００９５】
光重合開始剤を用いる場合、当該光重合開始剤の含有量は、通常、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して０．８〜２０質量％であり、０．９〜１０質量％であることが好ましい。
【００９６】
（４）帯電防止剤
凹凸構造層形成用樹脂組成物中に帯電防止剤を含有することが好ましい。帯電防止剤を含有することにより、凹凸構造層３０の凹凸面３１に汚れが付着することを抑制することができ、また、拭取り時に汚れが落ちやすい。帯電防止剤は、従来公知のもの中から適宜選択して用いることができる。帯電防止剤の具体例としては、例えば、４級アンモニウム塩、ピリジニウム塩、１級〜３級アミノ基等のカチオン性基を有する各種のカチオン性化合物、スルホン酸塩基、硫酸エステル塩基、リン酸エステル塩基、ホスホン酸塩基等のアニオン性基を有するアニオン性化合物、アミノ酸系、アミノ硫酸エステル系等の両性化合物、アミノアルコール系、グリセリン系、ポリエチレングリコール系等のノニオン性化合物、スズおよびチタンのアルコキシドのような有機金属化合物およびそれらのアセチルアセトナート塩のような金属キレート化合物等が挙げられる。中でも、カチオン性化合物が好ましく、３級アミノ基を有するカチオン性化合物がより好ましく、Ｎ，Ｎ−ジオクチル−１−オクタンアミン等のトリアルキルアミンであることが更により好ましい。
【００９７】
帯電防止剤を用いる場合、当該帯電防止剤の含有量は、通常、光硬化性樹脂組成物の全固形分に対して１〜２０質量％であり、２〜１０質量％であることが好ましい。
【００９８】
（５）溶剤
凹凸構造層形成用樹脂組成物は、塗工性などを付与する点から溶剤を用いてもよい。溶剤を用いる場合、当該溶剤は、組成物中の各成分とは反応せず、当該各成分を溶解乃至分散可能な溶剤の中から適宜選択して用いることができる。このような溶剤の具体的としては、例えば、ベンゼン、ヘキサン等の炭化水素系溶剤、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、プロピレングリコールモノエチルエーテル（ＰＧＭＥ）等のエーテル系溶剤、クロロホルム、ジクロロメタン等のハロゲン化アルキル系溶剤、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート等のエステル系溶剤、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等のアミド系溶剤、およびジメチルスルホキシド等のスルホキシド系溶剤、シクロヘキサン等のアノン系溶剤、メタノール、エタノール、およびプロパノール等のアルコール系溶剤を例示することができるが、これらに限られるものではない。また、凹凸構造層形成用樹脂組成物に用いられる溶剤は、１種類単独で用いてもよく、２種類以上の溶剤の混合溶剤でもよい。
【００９９】
凹凸構造層形成用樹脂組成物全量に対する、固形分の割合は２０〜７０質量％であることが好ましく、３０〜６０質量％であることがより好ましい。なお、本明細書で言及する固形分とは、樹脂組成物中の溶剤以外のすべての成分を表す。
【０１００】
（６）その他の成分
反射防止フィルム２０に用いられる凹凸構造層形成用樹脂組成物は、本発明の効果を損なわない範囲で、更にその他の成分を含有してもよい。その他の成分としては、例えば、濡れ性調整のための界面活性剤、密着性向上のためのシランカップリング剤、安定化剤、消泡剤、ハジキ防止剤、酸化防止剤、凝集防止剤、粘度調製剤、離型剤等が挙げられる。
【０１０１】
ここで、本件発明者らが実際に反射防止フィルム２０を作製し、作製された反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の指紋拭き取り性および耐擦傷性について調査した結果を説明する。
【０１０２】
（製造例１−１：反射防止フィルム用金型１−１の製造）
純度９９．５０％の圧延されたアルミニウム板を、その表面が、十点平均粗さＲｚ３０ｎｍ、且つ周期１μｍの凹凸形状となるように研磨後、０．０２Ｍシュウ酸水溶液の電解液中で、化成電圧４０Ｖ、２０℃の条件にて１２０秒間、陽極酸化を実施した。次に、第一エッチング処理として、陽極酸化後の電解液で６０秒間エッチング処理を行った。続いて、第二エッチング処理として、１．０Ｍリン酸水溶液で１５０秒間孔径処理を行った。さらに、上記処理を繰り返し、これらを合計５回追加実施した。これにより、アルミニウム基板上に微細な凹凸形状が形成された陽極酸化アルミニウム層が形成された。最後に、フッ素系離型剤を塗布し、余分な離型剤を洗浄することで、反射防止フィルム用金型１−１を得た。なお、アルミニウム層に形成された微細な凹凸形状は、平均隣接微細孔間距離が１００ｎｍ、平均深さが２００ｎｍで、深さ方向に徐々に孔径が小さくなる多数の微細孔が密に形成された形状であった。
【０１０３】
（製造例１−２：凹凸構造層用樹脂組成物Ａの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の凹凸構造層用樹脂組成物Ａを調製した。
＜樹脂組成物Ａの組成＞
・エチレンオキサイド変性（ＥＯ変性）ビスフェノールＡジアクリレート  ５５質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ３５質量部
・トリデシルアクリレート  ５質量部
・ドデシルアクリレート  ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【０１０４】
（製造例１−３：凹凸構造層用樹脂組成物Ｂの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の凹凸構造層用樹脂組成物Ｂを調製した。
＜樹脂組成物Ｂの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ５０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ３０質量部
・トリデシルアクリレート  ５質量部
・ドデシルアクリレート  ５質量部
・メチルメタクリレート  ５質量部
・ヘキシルメタクリレート  ５質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【０１０５】
（比較製造例１−４：比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｃの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｃを調製した。
＜樹脂組成物Ｃの組成＞
・ＥＯ変性ビスフェノールＡジアクリレート  ３０質量部
・ＥＯ変性トリメチロールプロパントリアクリレート  ２０質量部
・ドデシルアクリレート  ５０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【０１０６】
（比較製造例１−５：比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｄの製造）
以下の各成分を混合し、希釈溶剤として、メチルエチルケトン及びメチルイソブチルケトンを用いて、固形分４５質量％の比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｄを調製した。
＜樹脂組成物Ｄの組成＞
・ペンタエリスリトールトリアクリレート  １５質量部
・２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート  １５質量部
・ポリエチレングリコールジアクリレート  ７０質量部
・ジフェニル（２，４，６−トリメトキシベンゾイル）ホスフィンオキシド（ルシリンＴＰＯ）  １質量部
【０１０７】
（製造例１−６：反射防止フィルムＡの製造）
製造例１−２で得られた凹凸構造層用樹脂組成物Ａを、製造例１−１で得られた反射防止フィルム用金型１−１の微細凹凸面が覆われ、硬化後の凹凸構造層の厚さが２０μｍとなるように塗布、充填し、その上に基材層として厚さ８０μｍのトリアセチルセルロースフィルム（ＴＡＣ）（富士フィルム社製）を斜めから貼り合わせた後、貼り合わせられた貼合体をゴムローラーで１０Ｎ／ｃｍ２の加重で圧着した。金型全体に均一な組成物が塗布されたことを確認し、基材層側から２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーで紫外線を照射して凹凸構造層用樹脂組成物Ａを硬化させた。その後、金型より剥離し、反射防止フィルムＡを得た。
【０１０８】
（製造例１−７：反射防止フィルムＢの製造）
製造例１−６において、凹凸構造層用樹脂組成物Ａの代わりに、製造例１−３で得られた凹凸構造層用樹脂組成物Ｂを用いた以外は、製造例１−６と同様にして反射防止フィルムＢを得た。
【０１０９】
（比較製造例１−８：比較反射防止フィルムＣの製造）
製造例１−６において、凹凸構造層用樹脂組成物Ａの代わりに、比較製造例１−４で得られた比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｃを用いた以外は、製造例１−６と同様にして比較反射防止フィルムＣを得た。
【０１１０】
（比較製造例１−９：比較反射防止フィルムＤの製造）
製造例１−６において、凹凸構造層用樹脂組成物Ａの代わりに、比較製造例１−５で得られた比較凹凸構造層用樹脂組成物Ｄを用いた以外は、製造例１−６と同様にして比較反射防止フィルムＤを得た。
【０１１１】
＜凹凸構造層用樹脂組成物及び反射防止フィルムの物性＞
（貯蔵弾性率（Ｅ’）及びｔａｎδの測定）
製造例１−２〜１−５で得られた凹凸構造層用樹脂組成物Ａ〜Ｄをそれぞれ２０００ｍＪ／ｃｍ２のエネルギーの紫外線を１分間照射することにより十分に硬化させて、基材及び微小突起を有しない、厚さ１ｍｍ、幅５ｍｍ、長さ３０ｍｍの試験用単膜Ａ〜Ｄをそれぞれ得た。次いで、ＪＩＳ  Ｋ７２４４に準拠し、２５℃下、上記試験用単膜Ａ〜Ｄの長さ方向に１０Ｈｚで２５ｇの周期的外力を加え、動的粘弾性を測定することにより、２５℃における、貯蔵弾性率Ｅ’、及び損失弾性率Ｅ”を求めた。また、当該Ｅ’及びＥ”の結果からｔａｎδを算出した。測定装置はＵＢＭ製  Ｒｈｅｏｇｅｌ  Ｅ４００を用いた。結果を表１に示す。
【０１１２】
（接触角の測定）
トリアセチルセルロースフィルム上に凹凸構造層用樹脂組成物Ａ〜Ｄを塗布して硬化させて、微細凹凸形状を有しない塗膜を形成した。当該塗膜側表面を上面にして、粘着層つきの黒アクリル板に貼り付けたものの上に、水１．０μＬの液滴を滴下し、着滴５秒後の水の接触角を計測した。水の代わりに、ｎ−ヘキサデカン及びオレイン酸をそれぞれ用いて、各溶媒の接触角をそれぞれ計測した。結果を表１に示す。測定装置は協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いた。
【０１１３】
【表１】
2016109979.tif 000003
【０１１４】
（弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率の測定）
製造例１−６〜１−９で得られた反射防止フィルムＡ〜Ｂ及び比較反射防止フィルムＣ〜Ｄの凹凸構造層の凹凸面に、下記特定の条件で圧子を押し込んで、凹凸構造層の凹凸面の弾性率、最大押し込み深さ、弾性復元率を測定した。測定装置は、フィッシャーインストルメンツ社製ＰＩＣＯＤＥＮＴＥＲ  ＨＭ−５００を用いた。結果を表２に示す。
○測定条件
・荷重速度  １ｍＮ／１０秒
・保持時間  １０秒
・荷重除荷速度  １ｍＮ／１０秒
・圧子  ビッカース
・測定温度  ２５℃
【０１１５】
反射防止フィルムの凹凸面に、純水（液クロマトグラフィー用蒸留水（純正化学（株）製））１．０μＬの液滴を滴下し、着滴１秒後、協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いて接触角を測定した。接触角は、測定装置は協和界面科学社製  接触角計ＤＭ  ５００を用いて測定した。結果を表２に示す。
【０１１６】
【表２】
2016109979.tif 000004
【０１１７】
＜指紋拭き取り試験評価＞
製造例１−６〜１−９で得られた反射防止フィルムＡ〜Ｂ及び比較反射防止フィルムＣ〜Ｄの凹凸構造層の凹凸面に、指を押し付けて指紋を付着させた。その後、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて指紋を乾拭きした。乾拭きは３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復行い、拭取り後の外観を評価した。結果を表３に示す。
（指紋拭き取り試験評価基準）
Ａ：指紋汚れが視認できない。
Ｂ：指紋付着跡に若干の色味の変化が視認される。
Ｃ：指紋がほぼ拭取られない。
【０１１８】
＜耐擦傷性試験＞
製造例１−６〜１−９で得られた反射防止フィルムＡ〜Ｂ及び比較反射防止フィルムＣ〜Ｄの凹凸構造層の凹凸面に、ザヴィーナミニマックス（富士ケミカル製）にて３ｋｇ／ｃｍ２程度の力で１０往復擦った。擦過１分後の視認性の評価を下記基準で行った。結果を表３に示す。
（摺動性試験評価基準）
Ａ：擦り痕が視認されない。
Ｂ：擦り痕に若干色味の変化がある。
Ｃ：擦り痕が明らかに白濁する。
【０１１９】
【表３】
2016109979.tif 000005
【０１２０】
２５℃において、貯蔵弾性率（Ｅ’）が３００ＭＰａ以下であり、且つ、ｔａｎδが０．２以下である凹凸構造層用樹脂組成物の硬化物を用いて形成された凹凸構造層を有する反射防止フィルムＡ及びＢは、乾拭きであっても指紋を拭取ることが可能で、拭取り跡が確認されなかった。ｔａｎδが０．６９の比較反射防止フィルムＣは、拭取り時の圧力により微細突起が塑性変形を生じたり、スティッキングが発生したものと推定される。貯蔵弾性率Ｅ’が３３０ＭＰａの比較反射防止フィルムＤは、微小突起が変形しにくく、乾拭きでは十分に指紋汚れを落とすことができなかった。
【０１２１】
＜＜微小突起の構成＞＞
本件発明者らは、凹凸構造層３０の耐擦傷性をさらに向上させるための検討を行った。そして、本件発明者らは、上述した凹凸構造層形成用樹脂組成物の硬化物の物性や凹凸面３１での接触角特性とは別途に、凹凸面３１をなす微小突起３２の構成に工夫を加えることによっても、凹凸構造層３０の耐擦傷性を向上させ得ることを知見した。
【０１２２】
すなわち、本発明者らは、鋭意研究を重ねた結果として、頂点を複数有する微小突起（多峰性の微小突起と呼ぶ）３２を所定の分布で設けることにより、凹凸構造層３０の耐擦傷性を向上させ得ることを知見した。なお以下において、多峰性の微小突起との対比により、頂点が１つのみの微小突起を単峰性の微小突起と呼ぶ。また多峰性の微小突起、単峰性の微小突起に係る各頂点を形成する各凸部を、適宜、峰と呼ぶ。
【０１２３】
本件発明者らが検討を重ねたところ、次の構成（ａ）を有する反射防止フィルム２０が、優れた耐擦傷性を発揮した。また、構成（ａ）に加えて構成（ｂ）を有する反射防止フィルム２０は、優れた耐擦傷性をより安定して有するようになる。
【０１２４】
構成（ａ）：微小突起３２は、頂点が複数の多峰性微小突起と、頂点が一つの単峰性微小突起とから構成され、微小突起の高さの度数分布が一つの頂部からなる分布であり、多峰性微小突起は、分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布している。
【０１２５】
構成（ａ）によれば、凹凸構造層３０は、微小突起（単に微小突起と呼稱する場合は単峰性微小突起及び多峰性微小突起の両方を包含する）３２の高さの度数分布が一つの頂部からなる分布から構成され、多峰性微小突起が分布の裾野部よりも頂部近傍に多く分布しているので、反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０による反射防止機能の広帯域化を図るとともに、斜め方向からの光学特性を限定して視野角特性を制限することができる。このような形状による多峰性微小突起は、賦型処理後の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起とは異なり、対応する形状を備えている賦型処理用の金型により作製されることにより、設計通りの高さの分布を設定して均一かつ高い量産性を確保することができる。またさらに、充填不良による場合に比して突起間の間隔を広く設定することにより、十分に耐擦傷性を向上することができ、さらには光学特性を向上することができる。
【０１２６】
また、単峰性の微小突起に比して機械的強度が優れた微小突起３２が設けられることにより、衝撃力が加わった場合、単峰性の微小突起のみの場合に比して、突起が損傷しないようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができ、これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。
【０１２７】
構成（ｂ）：微小突起３２の高さＨの度数分布における高さＨの平均値をｍとし、標準偏差をσとし、Ｈ＜ｍ−σの領域を低高度領域とし、ｍ−σ≦Ｈ≦ｍ＋σの領域を中高度領域とし、ｍ＋σ＜Ｈの領域を高高度領域とした場合に、各領域内の多峰性微小突起の数Ｎｍと、度数分布全体における微小突起３２の総数Ｎｔとの比率が、中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔと、中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔとの関係を満たす。
【０１２８】
構成（ｂ）によれば、反射防止フィルム２０は、中高度領域の多峰性の微小突起の数（Ｎｍ）と、度数分布全体における微小突起の総数（Ｎｔ）との比（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域や高高度領域の多峰性の微小突起の数と、度数分布全体における微小突起の総数（Ｎｔ）との比（Ｎｍ／Ｎｔ）よりも大きいので、反射防止機能の広帯域化及び視野角特性の制限をより具体的に図ることができる。
【０１２９】
以下、以上の点の詳細について説明する。
【０１３０】
上述したように、凹凸構造層３０の凹凸面３１及び微小突起３２に関する各種寸法及び形状は、原子間力顕微鏡（Atomic Force Microscope;AFM）又は走査型電子顕微鏡（Scanning Electron Microscope:SEM）を用いて、特定することができる。すなわち、隣接する微小突起３２の間隔（隣接突起間隔）ｄおよび微小突起３２の高さＨは、原子間力顕微鏡や走査型電子顕微鏡を用いて測定することができる。まず、微小突起３２に関する各種寸法及び形状の特定方法について詳述する。
【０１３１】
（１）すなわち先ず、原子間力顕微鏡（Atomic  Force  Microscope（以下、AFMと呼ぶ））又は走査型電子顕微鏡（Scanning  Electron  Microscope（以下、SEMと呼ぶ））を用いて微小突起３２の面内配列（突起配列の平面視形状）を検出する。なお図７〜図９は、実際に原子間力顕微鏡により求められた拡大写真である。ＡＦＭのデータには微小突起群の高さの面内分布データを付随する為、此の写真は輝度により高さの面内分布を示す写真であると言える。図７〜図９において、単峰性の微小突起は符号３２Ａで示され、多峰性の微小突起は符号３２Ｂで示されている。
【０１３２】
（２）続いてこの求められた面内配列から各突起の高さの極大点（以下、単に極大点と呼ぶ）を検出する。極大点とは、高さが、其の近傍周辺の何れの点と比べても大（極大値）となる点を意味する。なお極大点を求める方法としては、平面視形状と対応する断面形状の拡大写真とを逐次対比して極大点を求める方法、平面視拡大写真の画像処理によって極大点を求める方法等、種々の手法を適用することができる。図８は、図７に示した拡大写真に係る画像データの処理による極大点の検出結果を示す図であり、この図において黒点により示す個所がそれぞれ各突起の極大点である。なおこの処理では４．５×４．５画素のガウシアン特性によるローパスフィルタにより事前に画像データを処理し、これによりノイズによる極大点の誤検出を防止した。また８画素×８画素による最大値検出用のフィルタを順次スキャンすることにより１ｎｍ（＝１画素）単位で極大点を求めた。
【０１３３】
（３）次に検出した極大点を母点とするドロネー図（Ｄｅｌａｕｎａｒｙ  Ｄｉａｇｒａｍ）を作成する。ここでドロネー図とは、各極大点を母点としてボロノイ分割を行った場合に、ボロノイ領域が隣接する母点同士を隣接母点と定義し、各隣接母点同士を線分で結んで得られる３角形の集合体からなる網状図形である。各３角形は、ドロネー３角形と呼ばれ、各３角形の辺（隣接母点同士を結ぶ線分）は、ドロネー線と呼ばれる。図９は、図８から求められるドロネー図（白色の線分により表される図である）を図８による原画像と重ね合わせた図である。ドロネー図は、ボロノイ図（Ｖｏｒｏｎｏｉ  ｄｉａｇｒａｍ）と双対の関係に有る。またボロノイ分割とは、各隣接母点間を結ぶ線分（ドロネー線）の垂直２等分線同士によって画成される閉多角形の集合体からなる網状図形で平面を分割することを言う。ボロノイ分割により得られる網状図形がボロノイ図であり、各閉領域がボロノイ領域である。
【０１３４】
（４）次に、各ドロネー線の線分長の度数分布、すなわち隣接する極大点間の距離（以下、隣接突起間距離と呼ぶ）の度数分布を求める。図１０は、図９のドロネー図から作成した度数分布のヒストグラムである。なお図７、図１７に示すように、突起の頂部に溝状等の凹部が存在したり、あるいは頂部が複数の峰に分裂している場合は、求めた度数分布から、このような突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している微細構造に起因するデータを除去し、突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を作成する。
【０１３５】
具体的には、突起の頂部に凹部が存在する微細構造、頂部が複数の峰に分裂している多峰性の微小突起に係る微細構造においては、このような微細構造を備えていない単峰性の微小突起の場合の数値範囲から、隣接極大点間距離が明らかに大きく異なることになる。これによりこの特徴を利用して対応するデータを除去することにより突起本体自体のデータのみを選別して度数分布を検出する。より具体的には、例えば図７に示すような微小突起（群）の平面視の拡大写真から、５〜２０個程度の互いに隣接する単峰性微小突起を選んで、その隣接極大点間距離の値を標本抽出し、この標本抽出して求められる数値範囲から明らかに小さい方向に外れる値（通常、標本抽出して求められる隣接極大点間距離平均値に対して、値が１／２以下のデータ）を除外して度数分布を検出する。図１０の例では、隣接極大点間距離が５６ｎｍ以下のデータ（矢印Ａにより示す左端の小山）を除外する。なお図１０は、このような除外する処理を行う前の度数分布を示すものである。因みに上述の極大点検用のフィルタの設定により、このような除外する処理を実行してもよい。
【０１３６】
（５）このようにして求めた隣接突起間距離ｄの度数分布から平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求める。ここでこのようにして得られる度数分布を正規分布とみなして平均値ｄＡＶＧ及び標準偏差σを求めると、図１０の例では、平均値ｄＡＶＧ＝１５８ｎｍ、標準偏差σ＝３８ｎｍとなった。これにより隣接突起間距離ｄの最大値を、ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σとし、この例ではｄｍａｘ＝２３４ｎｍとすることができる。
【０１３７】
なお同様の手法を適用して突起の高さを定義する。この場合、上述の（２）により求められる極大点から、特定の基準位置からの各極大点位置の相対的な高さの差を取得してヒストグラム化する。図１１は、このようにして求められる突起付け根位置を基準（高さ０）とした突起高さＨの度数分布のヒストグラムを示す図である。このヒストグラムによる度数分布から突起高さの平均値ＨＡＶＧ、標準偏差σを求める。ここでこの図１１の例では、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍ、標準偏差σ＝３０ｎｍである。これによりこの例では、突起の高さは、平均値ＨＡＶＧ＝１７８ｎｍとなる。なお図１１に示す突起高さＨのヒストグラムにおいて、多峰性の微小突起の場合は、頂点を複数有していることにより、１つの突起に対してこれら複数のデータが混在することになる。そこでこの場合は麓部が同一の微小突起に属するそれぞれ複数の頂点の中から高さの最も高い頂点を、当該微小突起の突起高さとして採用して度数分布を求める。
【０１３８】
なお上述した突起の高さを測る際の基準位置は、隣接する微小突起の間の谷底（高さの極小点）を高さ０の基準とする。但し、係る谷底の高さ自体が場所によって異なる場合（例えば、図２１について後述するように、谷底の高さが微小突起の隣接突起間距離に比べて大きな周期でウネリを有する場合等）は、（１）先ず、基材２の表面又は裏面から測った各谷底の高さの平均値を、該平均値が收束するに足る面積の中で算出する。（２）次いで、該平均値の高さを持ち、基材２の表面又は裏面と平行な面を基準面として考える。（３）その後、該基準面を改めて高さ０として、該基準面からの各微小突起の高さを算出する。
【０１３９】
突起が不規則に配置されている場合には、このようにして求められる隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘ＝ｄＡＶＧ＋２σ、突起の高さの平均値ＨＡＶＧが、規則正しく配置されている場合の上述の条件を満足することがより好ましいことが判った。具体的には、反射防止効果を発現する微小突起間距離の条件は、ｄｍａｘ≦Λｍｉｎとなることが好ましい。最低限、可視光線帯域の最長波長において反射防止効果を奏し得る必要最短限の条件は、Λｍｉｎ＝λｍａｘであるため、ｄｍａｘ≦λｍａｘとなることが好ましく、可視光線帯域の全波長に対して反射防止効果を奏し得る必要十分の条件は、Λｍｉｎ＝λｍｉｎであるため、ｄｍａｘ≦λｍｉｎとなることが好ましい。そして、可視光線帯域の全波長に対する反射防止効果をより確実に奏し得る好ましい条件は、ｄｍａｘ≦３００ｎｍであり、更に好ましい条件は、ｄｍａｘ≦１８０ｎｍである。しかしながら実用上十分な程度に反射防止機能を確保する観点からは、平均突起間距離ｄａｖｅを、ｄａｖｅ≦λｍｉｎとしても良い。
【０１４０】
因みに、図７〜図１１の例により説明するとｄｍａｘ＝２３４ｎｍ≦λｍａｘ＝７８０ｎｍとなり、ｄｍａｘ≦λｍａｘの条件を満足して十分に反射防止効果を奏し得ることが判る。また可視光線帯域の最短波長λｍｉｎが３８０ｎｍであることから、可視光線の全波長帯域において反射防止効果を発現する十分条件ｄｍａｘ≦λｍｉｎも満たすことが判る。またｄａｖｅ≦ｄｍａｘであることから、ｄａｖｅ≦λｍｉｎの条件も満足していることが判る。また平均突起高さＨＡＶＧ＝１７８ｎｍであることにより、平均突起高さＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとなり（可視光波長帯域の最長波長λｍax＝７８０ｎｍとして）、十分な反射防止効果を実現するための突起の高さに関する条件（ＨＡＶＧ≧０．２×λｍａｘ）も満足していることが判る。なお標準偏差σ＝３０ｎｍであることから、ＨＡＶＧ−σ＝１４８ｎｍ＜０．２×λｍａｘ＝１５６ｎｍとの関係式が成立することから、統計学上、全突起の５０％以上、８４％以下が、突起の高さに係る条件（１７８ｎｍ以上）の条件を満足していることが判る。なおＡＦＭ及びＳＥＭによる観察結果、並びに微小突起の高さ分布の解析結果から、多峰性の微小突起は相対的に高さの低い微小突起よりも高さの高い微小突起でより多く生じる傾向にあることが判明した。
【０１４１】
このように単峰性の微小突起３２Ａと多峰性の微小突起３２Ｂとを混在させる場合には、アスペクト比の異なる単峰性の微小突起を混在させた場合と同様に、広い波長帯域で低い反射率を確保することができる。尚、アスペクト比とは、微小突起の高さＨを谷底に於ける径Ｗ（幅乃至太さと言う事も出来る）で除した比、Ｈ／Ｗとして定義される。此処で、谷底に於ける径とは、微小突起の谷底近傍の形状が円柱であれば、該円柱の（底面の）直径と一致する。微小突起の谷底近傍形状が円柱では無く、谷底を連ねた仮想的平面と微小突起とが交叉して得られる底面の径の大きさが面内方向によって異なる場合は、其の最大値を該微小突起の径とする。例えば、微小突起の底面形状が楕円の場合は、径は其の長径となる。又、微小突起の底面形状が多角形の場合は、径は其の最大の対角線長となる。又、谷底部（高さの極小点からなる領域）の幅が径に比べて小さく２割以下の場合には、各微小突起のアスペクト比Ｈ／Ｗの平均値（Ｈ／Ｗ）ａｖｅは、設計上は実質、Ｈａｖｅ／ｄａｖｅと見做すことが出來る。
【０１４２】
反射防止フィルム２０の反射防止機能は、微小突起の間隔だけでなく、アスペクト比にも依存し、アスペクト比が一定である場合、例えば可視光域では十分に小さな反射率を確保できる場合でも、紫外線域では可視光域に比して反射率が増大して反射防止機能が不足する。なお隣接突起間距離を一段と小さくして紫外線域で十分な反射防止機能を確保できるように設定すると、今度は、赤外線域で反射防止機能が低下することになる。
【０１４３】
しかしながら多峰性の微小突起を含む微小突起群では、同一微小突起の頂部近傍に存在する峰間距離が隣接突起間距離（通常１００〜２００ｎｍ程度）よりも小さい（通常１０〜５０ｎｍ程度）。斯かる峰間距離の寄与によって、同一隣接突起間距離の単峰性微小突起のみからなる微小突起群に比べて、実効的な隣接突起間間隔を低下させた反射防止機能を確保することができ、これにより多峰性微小突起と単峰性微小突起との混在により広い波長帯域で低い反射率を確保することができる。なお可視光域を中心にした広い波長帯域で十分に小さな反射率を確保する場合、可視光域に係る波長４８０〜６６０ｎｍ帯域の光に対応する反射防止性能に寄与する隣接突起間間隔、即わち、ｄ≦４００ｎｍ、好ましくはｄ≦３００ｎｍとなる微小突起において、多峰性の微小突起と単峰性の微小突起とを混在させることが望ましい。
【０１４４】
なお、上述したように、凹凸構造層３０の微小突起３２が、単峰性の微小突起とともに多峰性の微小突起を有する場合には、耐擦傷性を向上させる観点から、上述した構成（ａ）、または、構成（ａ）及び（ｂ）の両方を有することが好ましい。なお、図１２は、凹凸構造層３０に形成される微小突起の高さＨの度数分布の例を示す図である。この度数分布で、頂部（極大値）が一つだけ存在している。
【０１４５】
上述したように、反射防止フィルム２０は、ロール版３７を用いて基材層４１上に凹凸構造層３０を賦型することにより作製され得る（図６参照）。また、ロール版３７は、陽極酸化処理及びエッチングにより、微小突起３２を形成するための微細孔を作製され得る。次にここでは、単峰性の微小突起３２Ａに加えて多峰性の微小突起３２Ｂを有する凹凸構造層３０を賦型するためのロール版３７の製造方法について説明する。
【０１４６】
〔陽極酸化処理、エッチング処理〕
図１３は、ロール版３７の製造工程を示す図である。この製造工程は、電解溶出作用と、砥粒による擦過作用の複合による電解複合研磨法によって母材の周側面を超鏡面化する（電解研磨）。続いてこの工程は、アルミニウム層形成工程において、母材の周側面にアルミニウムをスパッタリングし、純度の高いアルミニウム層を作製する。続いてこの工程は、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮ、エッチング工程Ｅ１、…、ＥＮを交互に繰り返して母材を処理し、ロール版３７を作製する。
【０１４７】
この製造工程において、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮでは、陽極酸化法により母材の周側面に微細な穴を作製し、さらにこの作製した微細な穴を掘り進める。ここで陽極酸化工程では、例えば負極に炭素棒、ステンレス板材等を使用する場合のように、アルミニウムの陽極酸化に適用される各種の手法を広く適用することができる。また溶解液についても、中性、酸性の各種溶解液を使用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ（蓚）酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。この製造工程Ａ１、…、ＡＮは、液温、印加する電圧、陽極酸化に供する時間等の管理により、微細な穴をそれぞれ目的とする深さ及び微小突起形状に対応する形状に作製する。
【０１４８】
続くエッチング工程Ｅ１、…、ＥＮは、金型をエッチング液に浸漬し、陽極酸化工程Ａ１、…、ＡＮにより作製、掘り進めた微細な穴の穴径をエッチングにより拡大し、深さ方向に向かって滑らか、かつ徐々に穴径が小さくなるように、これら微細な穴を整形する。なおエッチング液については、この種の処理に適用される各種エッチング液を広く適用することができ、より具体的には、例えば硫酸水溶液、シュウ酸水溶液、リン酸水溶液等を使用することができる。なお陽極酸化処理に用いる溶解液と同じ液を、電圧印加無しで用いることにより、溶解液をエッチング液としても兼用してもよい。これらによりこの製造工程では、陽極酸化処理とエッチング処理とを交互にそれぞれ複数回実行することにより、賦型に供する微細穴を母材の周側面に作製する。
【０１４９】
〔微小突起を形成する微細穴の形成過程〕
次に、多峰性の微小突起３２Ｂを形成し、また、微小突起３２の高さＨの分布が制御された微細な穴が形成される方法について説明する。上述したように、賦型用金型（ロール版）に形成される微細穴は、陽極酸化処理及びエッチング処理の交互の繰り返しによって形成されるが、この繰り返しの陽極酸化処理における印加電圧を可変することによって、微細穴の深さ（微小突起の高さ分布）を制御することができる。ここで、陽極酸化処理における印加電圧と、形成される微細穴の間隔（ピッチ）とは、比例する関係にあるため、陽極酸化処理、エッチング処理の繰り返しにおいて、陽極酸化処理の印加電圧を可変すれば、深さ方向に掘り進める時間が相違する微細穴を混在させてその比率を制御することができる。
【０１５０】
また、このように陽極酸化処理における印加電圧を可変する場合にあっては、太さ（径）の太い微細穴の底面に、複数の微細穴を作成して多峰性の微小突起３２Ｂに係る微細穴とすることができる。この太さの太い微細穴の高さの制御等により、多峰性の微小突起３２Ｂについても、高さ分布を制御することができる。
【０１５１】
図１４は、このような高さの分布の制御の説明に供する模式図であり、賦型用金型の製造工程における陽極酸化工程とエッチング工程とにより作製される微細穴を示す図である。上述したように、陽極酸化処理における印加電圧と、微細穴のピッチとの関係は比例関係であるが、実際上、処理に供するアルミニウムの粒界等により微細穴のピッチにはばらつきが生じる。しかし、図１４においては、このばらつきが存在しないものとして、微細穴が規則正しい配列により作製されるものとして説明する。なお、図１４（ａ）〜図１４（ｅ）において、左側の図は、ロール版３７の表面の拡大図を示し、右側の図は、左側の図におけるａ−ａ断面図を示す。
【０１５２】
（第１の工程）
図１４（ａ）に示すように、まず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
【０１５３】
（第２の工程）
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図１４（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細穴ｆ１を更に掘り下げる。図示された例では、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細穴ｆ１を二つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、二つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細穴ｆ２が形成され、ロール版３７の表面には、微細穴ｆ１と微細穴ｆ２とが混在する状態となる。
【０１５４】
（第３の工程）
続いて、電圧Ｖ２よりも高い電圧Ｖ３（Ｖ３＞Ｖ２）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ２から電圧Ｖ３へ徐々に上昇させ、この印加電圧の上昇を離散的（段階的）に実行すると、微小突起３２の高さ分布（微細穴の深さ分布）を離散的に作製することができ、この印加電圧の上昇を連続的に実行すると、微小突起３２の高さ分布を正規分布に設定することができる。そのため、本実施形態では、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程、第２の工程よりも長く設定することにより、図１４（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細穴ｆ１が二つ、一つに纏まるように広くかつ深く掘り進められ、また、その一つに纏められた微細穴ｆ３の底面が略平坦に形成される（平坦微細穴形成工程）。ここで、略平坦とは、微細穴の底面が平坦な状態だけでなく、その底面が大きい曲率半径で湾曲している状態をも含む状態をいう。
【０１５５】
（第４の工程）
続いて、電圧Ｖ３よりも高い電圧Ｖ４（Ｖ４＞Ｖ３）を印加して陽極酸化工程Ａ４を実行した後に、エッチング工程Ｅ４を実行する。この工程では、目的とする突起間間隔によるピッチにより微細穴を作成する。この陽極酸化工程Ａ４においても、印加電圧は、電圧Ｖ３から電圧Ｖ４へ徐々に上昇させる。これにより、上記第３の工程により掘り進められた微細穴ｆ３の一部が更に掘り進められ、その結果、図１４（ｄ）に示すように、微細穴ｆ４となり、この微細穴ｆ４が高さの高い単峰性の微小突起を形成する。
【０１５６】
（第５の工程）
続いて、印加電圧を上記第１の工程における電圧Ｖ１に変更して陽極酸化工程Ａ５を実行した後に、エッチング工程Ｅ５を実行する。この工程では、陽極酸化工程Ａ３において形成された微細穴ｆ３であって、第４の工程の陽極酸化工程Ａ４の影響を受けていない微細穴ｆ３の底面に、図１４（ｅ）に示すように、微細穴を複数個形成し、多峰性の微小突起に対応する微細穴ｆ５を形成する（多峰突起用微細穴形成工程）。ここで、印加する電圧Ｖ１の大きさを調整することによって、微細穴ｆ５の底面に形成される微細穴の数を増減したり、その微細穴の間隔を調整したりすることができる。
【０１５７】
以上より、賦型用金型の表面には、高さの異なる微小突起を形成する微細穴ｆ１、ｆ２、ｆ４や、多峰性の微小突起を形成する微細穴ｆ５が形成される。ここで、この一連の工程では、第１の工程及び第２の工程により作製された深さの異なる微細穴ｆ１、ｆ２を、第３の工程で掘り進めて底面の略平坦な微細穴ｆ３を作製し、第４の工程において、この微細穴ｆ３を掘り進めて単峰性の微小突起に係る微細穴ｆ４を作製し、また、第５の工程において、この微細穴ｆ３の底面を加工して多峰性の微小突起に係る微細穴ｆ５を作製している。ここで、第１の工程から第４の工程に係る陽極酸化工程の印加時間、処理時間、エッチング工程の処理時間等を制御して、各工程で作製される微細穴の深さを制御することにより、微小突起の高さの分布や、多峰性の微小突起の高さの分布を制御することができる。なお、上述の第１の工程〜第５の工程は、必要に応じて回数を省略したり、繰り返したり、工程を一体化したりすることができる。
【０１５８】
図１５は、図１４との対比により、微小突起の高さ分布の制御に係る深さの異なる微細穴が形成される過程の説明に供する図である。
【０１５９】
（第１の工程）
ここで図１５（ａ）に示すように、第１の工程において、先ず、賦型用金型の表面のアルミニウム層に、電圧Ｖ１を印加して陽極酸化工程Ａ１を実行した後に、エッチング工程Ｅ１を実行し、微細な穴ｆ１を形成する。ここで、陽極酸化工程Ａ１は、アルミニウムのフラット面に後続する陽極酸化処理のきっかけを作製するものである。なお、この場合、エッチング工程を適宜省略してもよい。
【０１６０】
（第２の工程）
次に、電圧Ｖ１よりも高い電圧Ｖ２（Ｖ２＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ２を実行した後に、エッチング工程Ｅ２を実行する。これにより、陽極酸化工程Ａ２では、図１５（ｂ）に示すように、先の陽極酸化工程Ａ１により形成された微細な穴ｆ１のうち、陽極酸化工程Ａ２に対応する間隔の微細な穴ｆ１を更に掘り下げる。
【０１６１】
ここで印加電圧Ｖ２をＶ２＝２×Ｖ１に設定すると、陽極酸化工程Ａ２によって、先の陽極酸化工程Ａ１で形成された微細な穴ｆ１を一つ置きに掘り進める処理が行われる。従って、賦型用金型の表面には、一つ置きに広くかつ深く掘り下げられた微細な穴ｆ２が形成され、成形型の表面には、微細な穴ｆ１と微細な穴２とが混在する状態となる。
【０１６２】
（第３の工程）
続いて、電圧Ｖ１と電圧Ｖ２の間の電圧Ｖ３（Ｖ２＞Ｖ３＞Ｖ１）を印加して陽極酸化工程Ａ３を実行した後に、エッチング工程Ｅ３を実行する。この工程では、ピッチの異なる微細な穴を作製する。具体的には、印加する電圧を、電圧Ｖ３として、縦横に面内に配列した微細な穴ｆ２の間に存在する図示の如くの特定の微細な穴ｆ１を一つ置きに広く且つ深く掘り下げる。ここで印加電圧Ｖ３をＶ３＝（Ｖ１）１／２に設定すると、陽極酸化工程Ａ３における印加電圧の印加時間、エッチング工程の処理時間を上述の第１の工程よりも長く設定することにより、図１５（ｃ）に示すように、最初の陽極酸化工程Ａ１において形成された微細な穴ｆ１のうち、４個の微細な穴ｆ２で囲まれる最小の四角形の中心に位置する微細な穴ｆ１が選択的に深く掘り下げられる。且つ同時に、第２の陽極酸化工程Ａ２形成された微細な穴ｆ２のうちで図１５（ｃ）で図示される位置関係に有る一部のものが更に掘り下げられ、微細な穴ｆ３となる。
【０１６３】
その結果、図１５（ｃ）に示すように、微細な穴ｆ１（これが最も高さの低い微小突起に対応する穴となる）の周囲をｆ１よりも深い微細な穴ｆ２及びｆ３（それぞれ中程度及び高程度の高さの微小突起に対応する穴となる）によって周囲を包囲された穴群が面内に配列した表面構造を有する成形型が得られる。
【０１６４】
このように複数回の陽極酸化処理における印加電圧の切り替えにより掘り進める微細穴が異なることにより、微細穴の深さを大きく異ならせることができ、これにより意図する分布により微小突起の高さを制御することができる。
【０１６５】
次に、上述の方法により作製された賦型用金型によって、実際に、凹凸構造層３０を作製した例について説明する。
【０１６６】
〔実施例〕
図１６は、実施例の反射防止フィルム２０の微小突起の高さＨの度数分布を示す図である。実施例の反射防止フィルム２０を製造する賦型用金型は、上述の第２工程、第３工程、第４工程で陽極酸化処理の印加電圧を連続的に変化させたものであり、また第４工程では、第３工程の印加電圧から電圧を低下させたものである。より具体的にこの図１６の例では、第１工程における印加電圧Ｖ１に対して第２工程における印加電圧Ｖ２をＶ２＝３×Ｖ１に設定し、また第３工程における印加電圧Ｖ３をＶ３＝４×Ｖ１に設定し、第４工程の印加電圧Ｖ４をＶ４＜Ｖ３とした例である。
【０１６７】
また、図１６の例は、陽極酸化工程とエッチング工程とを５回繰り返した場合であり、第１回目の陽極酸化工程の印加電圧をＶ１（１５Ｖ〜３５Ｖの範囲の一定電圧である）とした場合に、第２回目、第３回目、第４回目、第５回目の陽極酸化工程の印加電圧をそれぞれ２Ｖ１、３．５Ｖ１、５Ｖ１、Ｖ１とした例である。なお陽極酸化処理は、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を使用して１００秒実施した。エッチング工程は、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を使用して４５秒間エッチング処理した後、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液を使用して１１０秒間エッチング処理した。
【０１６８】
この賦型用金型によって製造された反射防止フィルム２０は、微小突起の高さ分布が一つの頂部からなる分布である正規分布を示しており、微小突起が作製されてなる面の鉛直線を中心とした比較的狭い範囲で、良好な反射防止機能を確保することができる。またこのときこのような高さ分布において、多峰性の微小突起（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができ、これにより効率良く多峰性の微小突起の耐擦傷性の機能、光学特性の向上機能を発揮させることができる。
【０１６９】
上述の方法により製造された実施例の反射防止フィルム２０は、図１６に示すように、微小突起の高さの平均値がｍ＝１４５．７ｎｍであり、その標準偏差がσ＝２２．１ｎｍである。ここで、微小突起の高さＨの度数分布において、低高度領域は、Ｈ＜ｍ−σ＝１２３．６ｎｍとなり、中高度領域は、ｍ−σ＝１２３．６ｎｍ≦Ｈ≦ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなり、高高度領域は、Ｈ＞ｍ＋σ＝１６７．８ｎｍとなる。度数分布全体の微小突起の総数Ｎｔは、２６３個である。また、中高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、２３個であるので、中高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０８７となる。低高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、２個であるので、低高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．００８となる。高高度領域の多峰性の微小突起の数Ｎｍは、５個であるので、高高度領域のＮｍ／Ｎｔは、０．０１９となる。
【０１７０】
従って、本実施例の反射防止フィルム２０は、次の（ｉ）、（ｉｉ）の関係、すなわち、
（ｉ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞低高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．００８
（ｉｉ）中高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０８７＞高高度領域のＮｍ／Ｎｔ＝０．０１９
を満足する。
【０１７１】
以上より、実施例の反射防止フィルム２０は、中高度領域における多峰性の微小突起の数（Ｎｍ）と度数分布における微小突起の総数（Ｎｔ）との比率（Ｎｍ／Ｎｔ）が、低高度領域及び高高度領域の比率よりも大きくなるように多峰性の微小突起が形成されているので、可視光域に係る入射光に対する反射率を低減することができ、反射防止フィルム２０の反射防止機能の広帯域化を図ることができる。
【０１７２】
また、この２０は、このような高さ分布において、多峰性の微小突起（頂点数が２つ及び３つのものをそれぞれ二峰、三峰により示す）についても、ほぼ高さの平均値が一致した正規分布とすることができるので、視野角特性を制限することができる。また、効率良く多峰性の微小突起の耐擦傷性を向上させることができる。
【０１７３】
更に、上述の構成にすることによって、反射防止フィルム２０は、高さが高い（１８０ｎｍ以上）微小突起に分布する多峰性の微小突起の比率が小さく、単峰性の微小突起の比率が多いので、他の物体が微小突起に摩擦接触したとしても、高さの高い単峰性の微小突起が先に接触することとなり、反射防止機能を主に向上させる多峰性の微小突起に接触してしまうのを抑制することができる。
【０１７４】
なお、これら多峰性の微小突起３２Ｂの特徴は、賦型用金型の対応する形状を備えた微細穴により作製される多峰性の微小突起の固有の特徴であり、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起によっては得ることができない特徴である。すなわち樹脂の充填不良による多峰性の微小突起は、本来、単峰性の微小突起として作製される微細穴に十分に樹脂が充填されないことにより作製されるものであるので、頂点間の間隔が極めて微小であり、これにより耐擦傷性を十分に向上することが困難であり、また上述したような光学特性の向上も困難である。
【０１７５】
また、充填不良による多峰性の微小突起にあっては、再現性が乏しく、これにより均一な製品を量産できない欠点もあり、これに対して、この実施形態に係る多峰性の微小突起は、いわゆる金型により高い再現性を確保することができる。また、上述の実施例について詳述するように、多峰性の微小突起の高さ分布について制御できるのに対し、充填不良の多峰性の微小突起については、このような制御が困難である。
【０１７６】
〔耐擦傷性の向上〕
単峰性の微小突起３２Ａだけでなく多峰性の微小突起３２Ｂを含む凹凸構造層３０は、上述したように、耐擦傷性に優れる。このように耐擦傷性が改善された反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の表面形状をＡＦＭ（Atomic  Force  Microscope：原子間力顕微鏡）及びＳＥＭ（Scanning  Electron  Microscope：走査型電子顕微鏡）により観察したところ、多峰性微小突起３２Ｂは、単に頂点を複数有するだけでなく、微小突起を先端側より平面視覚した場合に、ほぼ中央より外方に向かって形成された溝により複数の領域に分割され、この複数の領域の各領域が、それぞれ各頂点に係る峰であるように形成されていた。またこの多峰性の微小突起は、対応する形状を備えた微細穴の賦型処理により作製され、このような多峰性の微小突起に係る微細穴は、陽極酸化処理とエッチング処理との繰り返しにおいて、極めて近接して作製された微細穴が、エッチング処理により、一体化して作製される。これにより多峰性の微小突起は、微小突起を先端側より平面視覚した場合の周囲長が、単峰性の微小突起に比して長く形成されている。この点については、後述する図１９により見て取ることができる。なおこれら多峰性微小突起の形状は、特開２０１２−０３７６７０号公報に開示の賦型処理時の樹脂の充填不良により生じる多峰性微小突起とは異なる特徴である。
【０１７７】
このような頂点を複数有する多峰性の微小突起３２Ｂは、単峰性の微小突起３２Ａに比して、頂点近傍の寸法に対する裾の部分の太さが相対的に太くなる。これにより、多峰性の微小突起３２Ｂは、単峰性の微小突起３２Ａに比して機械的強度が優れていると言える。これにより頂点を複数有する多峰性の微小突起３２Ｂが存在する場合、反射防止フィルム２０では、単峰性の微小突起３２Ａのみによる場合に比して耐擦傷性が向上するものと考えられる。さらに、具体的に反射防止フィルム２０に外力が加わった場合、単峰性の微小突起３２Ａのみの場合に比して、外力をより多くの頂点で分散して受ける為、各頂点に加わる外力を低減し、微小突起３２が損傷し難いようにすることができ、これにより反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。また仮に微小突起３２が損傷した場合でも、その損傷個所の面積を低減することができる。更に、多峰性の微小突起３２Ｂの半分程度は、最高峰高さ（麓が同じ微小突起に属する最も高い峰の高さ）が突起高さの平均値ＨＡＶＧ以上の微小突起に生じる為、外力を先ず各峰部分が受止めて犠牲的に損傷することによって、該微小突起の峰より低い本体部分、及び該多峰性の微小突起よりも高さの低い微小突起の損耗を防ぐ。これによっても反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらに外観不良の発生を低減することができる。上述した図１７に示す度数分布では、隣接突起間距離ｄ（横軸の値）について、１４６ｎｍに１つの極大値が存在しており、このような損耗防止機能がより効果的に発揮され得る。
【０１７８】
なお多峰性の微小突起３２Ｂは、その存在により耐擦傷性を向上できるものの、充分に存在しない場合には、この耐擦傷性を向上する効果を十分に発揮できないことは言うまでもない。係る観点より、全微小突起中における多峰性の微小突起の個数の比率は１０％以上であることが好ましい。特に多峰性の微小突起３２Ｂによる耐擦傷性を向上する効果を十分に奏する為には、該多峰性の微小突起の比率は３０％以上、好ましくは５０％以上とする。又、多峰性微小突起の比率を増やすに伴い製造工程の管理の難度が増す為、当該比率は好ましくは９０％以下、より好ましくは８０％以下とすることが好ましい。
【０１７９】
さらにこのような多峰性の微小突起３２Ｂを含む微小突起群を有する反射防止フィルム２０には、上述したように高さが制御された微小突起３２が形成され、また、高さの異なる微小突起３２が分布している。なおここで各微小突起３２の高さＨとは、上述したように、麓（付け根）部を共有するある特定の微小突起について、その頂部に存在する最高高さを有する峰（最高峰）の高さを言う。図１７（ａ）の微小突起３２Ａの如くの単峰性の微小突起の場合は、頂部における唯一の峰（極大点）の高さが該微小突起の突起高さＨとなる。また図１７（ａ）の微小突起３２Ｂのような多峰性の微小突起の場合は、頂部に在る麓部を共有する複数の峰のうちの最高峰の高さをもって該微小突起の高さとする（麓部を共有する全峰が同一高さの場合は、其の同一の高さを以って該微小突起の高さとする）。このように微小突起３２の高さＨが種々に異なる場合には、例えば物体の接触により高さの高い微小突起の形状が損なわれた場合でも、高さの低い微小突起においては、形状が維持されることになる。これによっても反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０では、反射防止機能の局所的な劣化を低減し、さらには外観不良の発生を低減することができ、その結果、耐擦傷性を向上することができる。
【０１８０】
また反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の微小突起群と物体との間に塵埃が付着すると、当該物品が凹凸構造層３０に対して相対的に摺動した際に、該塵埃が研磨剤として機能して微小突起（群）の磨耗、損傷が促進されることになる。この場合に、微小突起群を構成する各微小突起間に高低差が有ると、塵埃は高さの高い微小突起に強く接触し、これを損傷させる。一方で低高さの微小突起との接触は弱まり、高さの低い微小突起については損傷が軽減され、無傷ないしは軽微な傷で残存した高さの低い微小突起によって反射防止性能が維持される。
【０１８１】
またこれに加えて、各微小突起の高さに分布（高低差）の有る微小突起群は、反射防止性能が広帯域化され、白色光のような多波長の混在する光、あるいは広帯域スペクトルを持つ光に対して、全スペクトル帯域で低反射率を実現するのに有利である。これは、かかる微小突起群によって良好な反射防止性能を発現し得る波長帯域が、隣接突起間距離ｄの他に、突起高さＨにも依存する為である。
【０１８２】
またこの場合には、多数の微小突起のうちの高さの高い微小突起３２のみが、例えば反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０と対向するように配置された各種の部材表面と接触することになる。これにより高さが同一の微小突起のみによる場合に比して格段的に滑りを良くすることができ、製造工程等における反射防止フィルム２０の取り扱いを容易とすることができる。なおこのように滑りを良くする観点から、ばらつきは、標準偏差により規定した場合に、１０ｎｍ以上必要であるものの、５０ｎｍより大きくなると、このばらつきによる表面のざらつき感が感じられるようになる。従ってこの高さのばらつきは、１０ｎｍ以上、５０ｎｍ以下であることが好ましい。
【０１８３】
またこのように多峰性の微小突起３２Ｂが混在する場合には、単峰性の微小突起のみによる場合に比して反射防止の性能を向上することができる。すなわち図７、図１７、及び図１８等に示すような多峰性の微小突起３２Ｂ等は、隣接突起間距離が同じ場合であっても、また突起高さが同じ場合であっても、単峰性の微小突起と比べて、より光の反射率が低減することになる。その理由は、多峰性の微小突起３２Ｂは、頂部より下（中腹及び麓）の形状が同じ単峰性の微小突起よりも、頂部近傍における有効屈折率の高さ方向の変化率が小さくなる為である。
【０１８４】
すなわち図１７において、ｚ＝０を高さＨ＝０とおき、高さ方向（Ｚ軸方向）に直交する仮想的切断面Ｚ＝ｚで微小突起３２Ｂを切断したと仮定した場合の面Ｚ＝ｚにおける微小突起と周辺の媒質（通常は空気）との屈折率の平均値として得られる有効屈折率ｎｅｆは、切断面Ｚ＝ｚにおける周辺媒質（ここでは空気とする）の屈折率をｎＡ＝１、微小突起３２Ｂの構成材料の屈折率をｎＭ＞１とし、又周辺媒質（空気）の断面積の合計値をＳＡ（ｚ）、微小突起３２Ｂの断面積の合計値をＳＭ（ｚ）としたとき、
ｎｅｆ（ｚ）＝１×ＳＡ(z)／(ＳＡ(z)＋ＳＭ(z))＋ｎＡ×ＳＭ(z)／(ＳＡ(z)＋ＳＭ(z))（式１）
で表される。これは、周辺媒質の屈折率ｎＡ及び微小突起構成材料の屈折率ｎＭを、各々周辺媒質の合計断面積ＳＡ（ｚ）及び微小突起の合計断面積の合計値ＳＭ（ｚ）の比で比例配分した値となる。
【０１８５】
ここで、単峰性の微小突起３２を基準にして考えたときに、多峰性の微小突起３２Ｂは、頂部近傍が複数の峰に分裂している。そのため、頂部近傍を切断する仮想的切断面Ｚ＝ｚにおいて、多峰性の微小突起３２Ｂは、単峰性の微小突起３２Ａに比べて相対的に低屈折率である周辺媒質の合計断面積ＳＡ（ｚ）の比率が、相対的に高屈折率である微小突起の合計断面積ＳＭ（ｚ）の比率に比べて、より増大することになる。
【０１８６】
その結果、仮想的切断面Ｚ＝ｚにおける有効屈折率ｎｅｆ（ｚ）は、多峰性の微小突起３２Ｂの方が単峰性の微小突起３２Ａに比べて、より周辺媒質の屈折率ｎＡに近くなる。面Ｚ＝ｚにおける多峰性の微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｕｌｔｉ、単峰性の微小突起の有効屈折率と周辺媒質の屈折率との差を｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｏｎｏとすると、
｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｕｌｔｉ＜｜ｎｅｆ（ｚ）−ｎＡ（ｚ）｜ｍｏｎｏ（式２）
となる。ここでｎＡ（ｚ）＝１とすると、
｜ｎｅｆ（ｚ）−１｜ｍｕｌｔｉ＜｜ｎｅｆ（ｚ）−１｜ｍｏｎｏ（式２Ａ）
となる。
【０１８７】
これにより頂部近傍において、多峰性の微小突起３２Ｂを含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性の微小突起３２Ａのみからなる突起群に比べて、その有効屈折率と周辺媒質（空気）の屈折率との差、より詳細に言えば、微小突起の高さ方向の単位距離当たりの屈折率の変化率をより低減化すること、換言すれば、屈折率の高さ方向変化の連続性をより高めること）が可能になることが判る。
【０１８８】
一般に、隣接する屈折率ｎ０の媒質と屈折率ｎ１の媒質との界面に光が入射する場合に、該界面における光の反射率Ｒは、入射角＝０として、
Ｒ＝（ｎ１−ｎ０）２／（ｎ１＋ｎ０）２（式３）
となる。この式より界面両側の媒質の屈折率差ｎ１−ｎ０が小さいほど界面での光の反射率Ｒは減少し、（ｎ１−ｎ０）が値０に近づけばＲも値０に近づくことになる。
【０１８９】
（式２）、（式２Ａ）及び（式３）より、多峰性の微小突起３２Ｂを含む微小突起群（各微小突起間に周辺媒質を含む）については、単峰性の微小突起３２Ａのみからなる突起群に比べて光の反射率が低減する。
【０１９０】
なお単峰性の微小突起３２Ａのみからなる微小突起群を用いても、隣接突起間距離の最大値ｄｍａｘを反射防止を図る電磁波の波長帯域の最短波長λｍｉｎ以下の十分小さな値にすることによって、十分な反射防止効果を発現することは可能である。但し、その場合、隣接峰間の距離と隣接微小突起間距離とが同一となる為、隣接微小突起間が接触、一体複合化する現象（いわゆるスティッキング）が発生し易くなる。スティッキングを生じると、実質上の隣接突起間距離ｄは一体複合化した微小突起数の分だけ増加する。
【０１９１】
例えば、ｄ＝２００ｎｍの微小突起が４個スティッキングすると、実質上、スティッキングして一体化した突起の大きさは、ｄ＝４×２００ｎｍ＝８００ｎｍ＞可視光線帯域の最長波長（７８０ｎｍ）となり、これにより局所的に反射防止効果を損なうことになる。
【０１９２】
一方、多峰性の微小突起３２Ｂからなる微小突起群の場合、頂部近傍の各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫは、麓から中腹にかけての微小突起本体部の隣接突起間距離ｄＢＡＳＥよりも小さくなり（ｄＰＥＡＫ＜ｄＢＡＳＥ）、通常、ｄＰＥＡＫ＝ｄＢＡＳＥ／４〜ｄＢＡＳＥ／２程度である。その為、各峰間の隣接突起間距離ｄＰＥＡＫ≪λｍｉｎとすることで十分な反射防止性能を得ることができる。但し、多峰性の微小突起３２Ｂの各峰部は、麓部の幅に対する峰部の高さの比が小さく、単峰性の微小突起３２Ａの麓部の幅に対する頂点の高さの比の１／２〜１／１０程度である。従って、同じ外力に対して、多峰性微小突起の峰部は単峰性の微小突起に比べての変形し難い。且つ、多峰性微小突起の本体部自体は峰部よりも隣接突起間距離は大であり、且つ強度も大である。その為、結局、多峰性の微小突起からなる微小突起群は、単峰性の微小突起からなる突起群に比べて、スティッキングの生じ難さと低反射率とを容易に両立させることができる。
【０１９３】
なお可視光の反射防止用途の他の用途であっても、又は可視光環境下であっても、当該反射防止材料が設置、使用される環境条件に応じて、想定する反射防止波長に応じたモスアイ構造を形成し、高さ分布を持たせる事により、前記の通り、従来のものより耐擦性があり、かつ、プロセス要件などで低硬度の材料を使用した場合においても互いのスティッキングを防止し、光学的必要性能を合わせ持つ反射防止材料を作製する事が可能となる。例えば、３８０ｎｍ前後の紫外領域について反射防止性能を得たい場合はモスアイの高さが約５０ｎｍでも可能であり、同様に７００ｎｍ前後の赤外領域については約１５０ｎｍ〜実用上を考慮し４００ｎｍであれば可能である。なお、前記の通りモスアイの配置ピッチについては高さについて飽和するような製作条件を見出し、モスアイの反射率を効果的に操作する事が可能である。さらに、モスアイの頂部構造についても、従来の単峰から改良を加える事で高さと反射率を両立し、かつ物理的にスティッキングを起こしにくく、効果的に反射率を低減する事が可能となっている。
【０１９４】
図１８は、頂点が複数の微小突起を示す写真であり、図１８（ａ）は本実施形態のものとは異なる微小突起の例ではあるが、ＡＦＭによるものであり、図１８（ｂ）及び（ｃ）は本実施形態の微小突起の例で、ＳＥＭによるものである。図１８（ａ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図１８（ｂ）では、溝ｇ及び４つの頂点を有する微小突起、及び溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができ、図１８（ｃ）では、溝ｇ及び３つの頂点を有する微小突起、溝ｇ及び２つの頂点を有する微小突起を見て取ることができる。なおこの図１８（ｂ）及び（ｃ）は、第１工程において水温２０℃、濃度０．０２Ｍのシュウ酸水溶液を適用し、印加電圧４０Ｖにより１２０秒、陽極酸化処理を実行したものである。またエッチング処理には、第１工程に同上陽極酸化液、第２工程に水温２０℃、濃度１．０Ｍのリン酸水溶液を適用した。そして、陽極酸化処理においては、上述したように、前記第１工程から第４工程まで印加電圧を漸次連続的に増加し、第５工程において再び第１工程と同様の印加電圧で実施したものである。陽極酸化処理とエッチング処理との回数は、それぞれ５回である。
【０１９５】
図１９及び図２０は、図１３〜図１５を参照して説明した製造方法にて作製されたロール版３７を用いて実際に作製された反射防止フィルム２０の微小突起３２の形状を示す斜視図（図１９）、平面図（図２０（ａ））、正面図（図２０（ｂ））及び側面図（図２０（ｃ））である。これら図１９及び図２０は、等高線図である。上述したように、複数回の陽極酸化処理における印加電圧を切り替えることにより、この図１９及び図２０による微小突起においては、高さの大きく異なる３つの峰が合体して１つの微小突起が形成されており、ほぼ中央より外方に向かって形成された３本の放射状の溝（沢状の極小部）によりこの３つの峰に係る領域に分割されて微小突起が作製されていることが判る。なおこの図１９及び図２０は、ＡＦＭによる計測結果によるデータを部分的に選択して詳細に示したものである。またこの図１９及び図２０における数字の単位は〔ｎｍ〕である。Ｘ座標及びＹ座標は、所定の基準位置からの座標値である。
【０１９６】
〔耐擦傷性の評価〕
表４は、耐擦傷性の評価結果を示している。図１６の例による反射防止フィルム２０を、単峰性微小突起のみによる同様の突起高さ分布による反射防止フィルムとの比較によるものである。なお単峰性微小突起３２Ａのみの反射防止フィルムは、繰り返しの陽極酸化処理の印加電圧を第２の工程以下に於いても第１の工程と同一定電圧として作製した。
【０１９７】
【表４】
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【０１９８】
この表４において、スチールウールの欄は、押し付け力１００ｇ及び２００ｇによりスチールウールを押し付けて往復させた後の表面の変化を目視により確認した結果である。二重丸の印は、目視上傷、濁りは見られないとの評価が得られたものであり、×の印は、目視上、６本以上の傷が観察されるものである。なお評価の範囲は、１辺５ｃｍの矩形の領域である。これにより多峰性微小突起により充分に耐擦傷性が向上していることが判る。
【０１９９】
また乾拭きの欄は、指紋を付着させた後、不織布を用いて溶剤を含まない乾いた状態での拭きを５０往復させた時の、５°正反射率ΔＹ（％）である。指紋を付着させた状態で、５°正反射率が４％となるように設定した。なお不織布は、ＫＢセーレン社製、ザヴィーナミニマックス（登録商標）１５０ｍｍ□を使用した。また何ら指紋による汚れを付着させない状態における５°正反射率の初期値は、０．５％であった。この検討結果によれば、多峰性微小突起により付着した汚れがふき取り易くなって反射防止性能を指紋付着前に近い状態にまで回復していることが判り、このことは多峰性微小突起を設けた場合には、微小突起の付け根側に汚れが深くもぐり込まないことによるものと考えられる。
【０２００】
以上の構成によれば、頂点が複数からなる多峰性の微小突起と頂点が１つの単峰性の微小突起とを混在させることにより、従来に比して耐擦傷性を向上することができる。また指紋に対する耐汚染性（易拭取り性）にも向上が見られる。
【０２０１】
またさらに微小突起の高さに分布を持たせることにより、滑り性を向上することができる。
【０２０２】
ところで、上述の説明では、図１７（ａ）に示すように、各隣接微小突起間の谷底（高さの極小点）を連ねた面は高さが一定な平面であったが、この例に限らず、図２１に示すように、各微小突起間の谷底を連ねた包絡面が、可視光線帯域の最長波長λｍａｘ以上の周期Ｄ（すなわちＤ＞λｍａｘである）でうねった構成としてもよい。又該周期的なうねりは、基材層４１の表裏面に平行なＸＹ平面（図１７、図２１参照）における１方向（例えばＸ方向）のみでこれと直交する方向（例えばＹ方向）には一定高さであっても良いし、或いはＸＹ平面における２方向（Ｘ方向及びＹ方向）共にうねりを有していても良い。Ｄ＞λｍａｘを満たす周期Ｄでうねった凹凸谷底面３３が多数の微小突起からなる微小突起群に重畳することによって、微小突起群で完全に反射防止し切れずに残った反射光を散乱し、殘留反射光、とくに鏡面反射光を更に視認し難くし、以って、反射防止効果を一段と向上させることができる。
【０２０３】
尚、係る凹凸谷底面３３の周期Ｄが全面に亙って一定では無く分布を有する場合は、該凹凸谷底面３３について凸部間距離の度数分布を求め、その平均値をＤＡＶＧ、標準偏差をΣとしたときの、
ＤＭＩＮ＝ＤＡＶＧ―２Σ
として定義する最小隣接突起間距離を以って周期Ｄの代わりとして設計する。即ち、微小突起群の殘留反射光の散乱効果を十分奏し得る条件は、
ＤＭＩＮ＞λｍａｘ
又、該凹凸の高低差に相当するＪＩＳ  Ｂ０６０１（１９９４年）規定のＲｚ値（１０点平均粗さ）は、
Ｒｚ≧λｍｉｎ
である。通常、Ｄ又はＤＭＩＮは１〜６００μｍ、好ましくは１０〜３１１００μｍとされる。又、通常、Ｒｚは０．４〜５μｍとされる。各微小突起の谷底を連ねた包絡面形が、Ｄ（又はＤＭＩＮ）＞λｍａｘ、なる凹凸谷底面３３を呈する樣な微小突起群を形成する具体的な製造方法の一例を挙げると以下の通りである。即ち、ロール版３７の製造工程において、円筒（又は円柱）形状の母材の表面にサンドブラスト又はマット（つや消し）メッキによって凹凸谷底面３３の凹凸形状に対応する凹凸形状を賦形する。次いで、該凹凸形状の面上に、直接或いは必要に応じて適宜の中間層を形成した後、アルミニウム層を積層する。その後、該凹凸形状表面に対応した表面形状を賦形されたアルミニウム層に上述の実施形態と同様にして陽極酸化処理及びエッチング処理を施して微小突起３２を含む微小突起群を形成する。
【０２０４】
＜＜追加、変形、その他＞＞
なお、上述した例に対して様々な追加や変更を加えることが可能である。以下、変形の一例について説明する。
【０２０５】
上述した例では、反射防止フィルムが、基材層４１と凹凸構造層３０との二層を含むように形成されていた。このような反射防止フィルムは、基材層４１上に、電離放射線硬化型樹脂を賦型してなる凹凸構造層３０を形成することにより作製され得る。その一方で、反射防止フィルムが、三層の積層構造であってもよいし、或いは、単層品でもよい。また、反射防止フィルム２０は、熱可塑性樹脂を押し出し成型することによっても作製され得る。
【０２０６】
また、上述した例において、第１反射防止フィルム２０ａ及び第２反射防止フィルム２０ｂが同一に構成されている例を示したが、これに限られない。例えば、第１反射防止フィルム２０ａと第２反射防止フィルム２０ｂとの間で、凹凸面３１上での５°正反射による反射率が互いに異なるようにしてもよい。
【０２０７】
さらに、互いに対向する二つの反射防止フィルムの一方の反射防止フィルム２０の凹凸構造層３０の凹凸面３１が、耐擦傷性を向上させるためのハードコート層として形成されていてもよい。このハードコート層は、薄膜として形成されていてもよい。或いは、耐擦傷性の改善を図る観点から、凹凸構造層３０が、スリップ剤を含有するようにしてもよい。さらに、紫外線による劣化を防止する観点から、反射防止板または反射防止板のいずれかの構成要素が、紫外線吸収剤を含有するようにしてもよい。
【０２０８】
なお、以上において上述した例に対するいくつかの変形例を説明してきたが、当然に、複数の変形例を適宜組み合わせて適用することも可能である。
【符号の説明】
【０２０９】
１    情報表示パネル
１０  反射防止板
２０ａ、２０ｂ  第１、第２反射防止フィルム
２５  接合層
３０ａ、３０ｂ  第１、第２凹凸構造層
３１ａ、３１ｂ  第１、第２凹凸面
３２  微小突起
３３  頂部
４１ａ、４１ｂ  第１、第２基材層
４２ａ、４２ｂ  第１、第２プライマー層
５０  情報表示本体
５１  表示面
６０  フレーム
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１８】
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