(57)【要約】【課題】作業者によるパターン画像の観察を適切に支援する。【解決手段】観察支援装置では、周期的に配列された多数の電極、および、電極間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像が準備される。パターン画像は、金属電極領域８２１、金属配線領域８２２、透明電極領域８１１および透明配線領域８１２を含む。続いて、当該パターン画像のパターンを示すパターン領域８０において、一の位置を指定位置として指定する入力が受け付けられ、パターン領域８０において当該指定位置に連続する領域が特定領域として特定される。そして、特定領域における一方のエッジに案内線Ｇ１を重ねて特定領域を識別可能としつつ、パターン画像が表示部に表示される。これにより、パターン領域８０において指定位置に連続する領域を、作業者に容易に認識させることができ、作業者によるパターン画像の観察を適切に支援することができる。【選択図】図８
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援する観察支援装置であって、
周期的に配列された多数の素子、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像を記憶する記憶部と、
画像を表示する表示部と、
前記パターン画像の前記パターンを示すパターン領域において、一の位置を指定位置として指定する入力を受け付ける入力受付部と、
前記パターン領域において前記指定位置に連続する領域を特定領域として特定する領域特定部と、
前記特定領域を識別可能としつつ前記パターン画像を前記表示部に表示させる表示制御部と、
を備えることを特徴とする観察支援装置。
【請求項２】
請求項１に記載の観察支援装置であって、
前記多数の素子が多数の電極であり、
前記多数の電極が、前記パターン画像において明るさが異なる複数の第１電極と複数の第２電極とを含み、
前記特定領域が、第１電極を示す領域と第２電極を示す領域とを含むことを特徴とする観察支援装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の観察支援装置であって、
前記指定位置が、前記パターンにおける欠陥の位置、または、前記欠陥と関連付けられた電極の位置を示すことを特徴とする観察支援装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の観察支援装置であって、
前記入力受付部において前記表示部に表示される前記パターン画像の拡大表示または縮小表示を指示する入力が受け付けられ、
前記表示制御部が、前記特定領域を識別可能としつつ、拡大または縮小された前記パターン画像を前記表示部に再表示させることを特徴とする観察支援装置。
【請求項５】
周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援する観察支援方法であって、
ａ）周期的に配列された多数の素子、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像を準備する工程と、
ｂ）前記パターン画像の前記パターンを示すパターン領域において、一の位置を指定位置として指定する入力を受け付ける工程と、
ｃ）前記パターン領域において前記指定位置に連続する領域を特定領域として特定する工程と、
ｄ）前記特定領域を識別可能としつつ前記パターン画像を表示部に表示させる工程と、
を備えることを特徴とする観察支援方法。
【請求項６】
請求項５に記載の観察支援方法であって、
前記多数の素子が多数の電極であり、
前記多数の電極が、前記パターン画像において明るさが異なる複数の第１電極と複数の第２電極とを含み、
前記特定領域が、第１電極を示す領域と第２電極を示す領域とを含むことを特徴とする観察支援方法。
【請求項７】
請求項５または６に記載の観察支援方法であって、
前記指定位置が、前記パターンにおける欠陥の位置、または、前記欠陥と関連付けられた電極の位置を示すことを特徴とする観察支援方法。
【請求項８】
請求項５ないし７のいずれかに記載の観察支援方法であって、
前記表示部に表示される前記パターン画像の拡大表示または縮小表示を指示する入力を受け付ける工程と、
前記特定領域を識別可能としつつ、拡大または縮小された前記パターン画像を前記表示部に再表示させる工程と、
をさらに備えることを特徴とする観察支援方法。
【請求項９】
コンピュータに、周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援させるプログラムであって、前記プログラムの前記コンピュータによる実行は、前記コンピュータに、
ａ）周期的に配列された多数の素子、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像を準備する工程と、
ｂ）前記パターン画像の前記パターンを示すパターン領域において、一の位置を指定位置として指定する入力を受け付ける工程と、
ｃ）前記パターン領域において前記指定位置に連続する領域を特定領域として特定する工程と、
ｄ）前記特定領域を識別可能としつつ前記パターン画像を表示部に表示させる工程と、
を実行させることを特徴とするプログラム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援する技術に関する。
【背景技術】
【０００２】
タッチパネルの製造では、透明電極に透明配線を介して接続される金属電極を利用して導通検査が行われている。導通検査により導通不良が確認された場合には、不良箇所を特定するために、作業者が、レーザ顕微鏡や光学顕微鏡を用いて、導通不良が確認された金属電極に連続する配線に沿って、当該配線および透明電極を観察することが行われる。
【０００３】
なお、特許文献１では、配線パターンにおいて規定ピッチで配列された複数の電極端子部のうち、配線パターンの配線位置を特定する際の指標となる特異な形状または長さを有する電極端子部を設けることにより、配線位置を容易に特定する手法が開示されている。また、特許文献２では、基材上に形成された透明電極のパターンの検査画像を取得する装置が提案されている。特許文献２の装置では、光照射部から撮像領域に至る光軸と基材の法線とのなす照射角の設定角度を求め、照射角を設定角度に設定し、撮像領域からラインセンサに至る光軸と法線とのなす検出角も当該設定角度に設定することにより、コントラストの高い検査画像が取得される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】国際公開第２００７／０１３５２８号
【特許文献２】特開２０１２−２５１８０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
ところで、レーザ顕微鏡や光学顕微鏡を用いる場合、配線および透明電極の観察を行う際における倍率では、観察視野は非常に狭いため、配線や透明電極が密集する領域では、どれが観察対象（すなわち、導通不良が確認されたもの）であるかが非常に判りにくくなる。特許文献１の手法を採用する場合でも、電極端子部から離れた領域では同様の問題が生じる。特許文献２の装置により、透明電極パターンを示す画像を取得することにより、当該画像において全体像を把握しつつ配線を観察することも考えられる。しかしながら、このような画像においても、配線や透明電極が密集する領域では、やはり観察対象を間違えやすくなる。
【０００６】
本発明は上記課題に鑑みなされたものであり、作業者によるパターン画像の観察を適切に支援することを目的としている。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
請求項１に記載の発明は、周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援する観察支援装置であって、周期的に配列された多数の素子、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像を記憶する記憶部と、画像を表示する表示部と、前記パターン画像の前記パターンを示すパターン領域において、一の位置を指定位置として指定する入力を受け付ける入力受付部と、前記パターン領域において前記指定位置に連続する領域を特定領域として特定する領域特定部と、前記特定領域を識別可能としつつ前記パターン画像を前記表示部に表示させる表示制御部とを備える。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の観察支援装置であって、前記多数の素子が多数の電極であり、前記多数の電極が、前記パターン画像において明るさが異なる複数の第１電極と複数の第２電極とを含み、前記特定領域が、第１電極を示す領域と第２電極を示す領域とを含む。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の観察支援装置であって、前記指定位置が、前記パターンにおける欠陥の位置、または、前記欠陥と関連付けられた電極の位置を示す。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１ないし３のいずれかに記載の観察支援装置であって、前記入力受付部において前記表示部に表示される前記パターン画像の拡大表示または縮小表示を指示する入力が受け付けられ、前記表示制御部が、前記特定領域を識別可能としつつ、拡大または縮小された前記パターン画像を前記表示部に再表示させる。
【００１１】
請求項５に記載の発明は、周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援する観察支援方法であって、ａ）周期的に配列された多数の素子、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像を準備する工程と、ｂ）前記パターン画像の前記パターンを示すパターン領域において、一の位置を指定位置として指定する入力を受け付ける工程と、ｃ）前記パターン領域において前記指定位置に連続する領域を特定領域として特定する工程と、ｄ）前記特定領域を識別可能としつつ前記パターン画像を表示部に表示させる工程とを備える。
【００１２】
請求項６に記載の発明は、請求項５に記載の観察支援方法であって、前記多数の素子が多数の電極であり、前記多数の電極が、前記パターン画像において明るさが異なる複数の第１電極と複数の第２電極とを含み、前記特定領域が、第１電極を示す領域と第２電極を示す領域とを含む。
【００１３】
請求項７に記載の発明は、請求項５または６に記載の観察支援方法であって、前記指定位置が、前記パターンにおける欠陥の位置、または、前記欠陥と関連付けられた電極の位置を示す。
【００１４】
請求項８に記載の発明は、請求項５ないし７のいずれかに記載の観察支援方法であって、前記表示部に表示される前記パターン画像の拡大表示または縮小表示を指示する入力を受け付ける工程と、前記特定領域を識別可能としつつ、拡大または縮小された前記パターン画像を前記表示部に再表示させる工程とをさらに備える。
【００１５】
請求項９に記載の発明は、コンピュータに、周期性を有するパターンを示す画像の観察を支援させるプログラムであって、前記プログラムの前記コンピュータによる実行は、前記コンピュータに、ａ）周期的に配列された多数の素子、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示すパターン画像を準備する工程と、ｂ）前記パターン画像の前記パターンを示すパターン領域において、一の位置を指定位置として指定する入力を受け付ける工程と、ｃ）前記パターン領域において前記指定位置に連続する領域を特定領域として特定する工程と、ｄ）前記特定領域を識別可能としつつ前記パターン画像を表示部に表示させる工程とを実行させる。
【発明の効果】
【００１６】
本発明によれば、パターン領域において指定位置に連続する領域を、作業者に容易に認識させることができ、作業者によるパターン画像の観察を適切に支援することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】画像取得装置の構成を示す図である。
【図２】コンピュータの構成を示す図である。
【図３】コンピュータが実現する機能構成を示すブロック図である。
【図４】基材上のパターンを示す図である。
【図５】基材上のパターンの画像を取得する動作の流れを示す図である。
【図６】パターン画像を示す図である。
【図７】画像の観察を支援する動作の流れを示す図である。
【図８】ディスプレイに表示されたパターン画像を示す図である。
【図９】ディスプレイに表示されたパターン画像を示す図である。
【図１０】ディスプレイに表示されたパターン画像を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１８】
図１は、本発明の一の実施の形態に係る画像取得装置１の構成を示す図である。画像取得装置１は、基材９上に形成された薄膜パターンの画像を取得するとともに、作業者による当該画像の観察を支援する装置である。本実施の形態では、基材９はガラス基板または透明フィルムである。薄膜パターンは、例えば、透明導電膜や金属膜である。基材９上には、反射防止膜等の他の膜が設けられてもよい。以下の説明では、薄膜パターンを単に「パターン」と呼ぶ。基材９は、例えば静電容量型のタッチパネルの製造に用いられる。
【００１９】
画像取得装置１は、基材９を移動する移動機構１１、撮像ユニット１３およびコンピュータ３を備える。移動機構１１は、基材９を上面上に保持するステージ２１、ステージ２１を基材９の主面に平行な図１中のＸ方向へと移動するＸ方向移動部２２、並びに、基材９の主面に平行、かつ、Ｘ方向に垂直なＹ方向へとＸ方向移動部２２を移動するＹ方向移動部２３を備える。移動機構１１は基材９を後述の撮像領域９０に対して相対的に移動する機構である。なお、Ｘ方向およびＹ方向に垂直な図１中のＺ方向にステージ２１を移動する機構や、Ｚ方向に平行な軸を中心としてステージ２１を回動する機構が、移動機構１１に追加されてもよい。画像取得装置１では、コンピュータ３が、画像取得装置１の全体制御を担う全体制御部としての役割を果たす。
【００２０】
撮像ユニット１３は、基材９上の撮像領域９０に向かって光を出射する光照射部１３１、撮像領域９０からの反射光を受光するラインセンサ１３２、並びに、光照射部１３１による光の照射角およびラインセンサ１３２による検出角を変更する角度変更機構１３３を備える。ここで、照射角とは、光照射部１３１から撮像領域９０に至る光軸Ｊ１と基材９の法線Ｎとのなす角θ１である。検出角とは、撮像領域９０からラインセンサ１３２に至る光軸Ｊ２と法線Ｎとのなす角θ２である。
【００２１】
光照射部１３１は、透明導電膜に対して透過性を有する波長の光を出射する。光は、少なくとも線状の撮像領域９０に照射される。光照射部１３１は、Ｘ方向に配列された複数のＬＥＤ、および、ＬＥＤからの光を均一化して、Ｘ方向に伸びる撮像領域９０へと導く光学系を備える。ラインセンサ１３２は、１次元の撮像素子、および、撮像領域９０と撮像素子の受光面とを光学的に共役とする光学系を備える。なお、光照射部１３１、ラインセンサ１３２および角度変更機構１３３を基材９の法線Ｎの方向に一体的に移動するオートフォーカス機構が撮像ユニット１３に設けられてもよい。
【００２２】
後述する撮像画像の取得時には、基材９は、移動機構１１により、撮像領域９０と交差する方向に移動する。すなわち、移動機構１１は基材９を撮像領域９０に対して相対的に移動する機構である。基材９の移動に並行して、ラインセンサ１３２により、線状の撮像領域９０のライン画像が高速に繰り返し取得され、２次元の撮像画像が取得される。本実施の形態では、基材９は撮像領域９０に対して垂直なＹ方向に移動するが、撮像領域９０は移動方向に対して傾斜してもよい。
【００２３】
角度変更機構１３３は、照射角θ１と検出角θ２とを等しく維持しつつ照射角θ１および検出角θ２を変更する。したがって、以下の説明における検出角の大きさは照射角の大きさでもあり、照射角の大きさは検出角の大きさでもある。光照射部１３１およびラインセンサ１３２は、角度変更機構１３３を介して、ベース壁１３４に支持される。ベース壁１３４は、Ｙ方向およびＺ方向に平行な板部材である。
【００２４】
ベース壁１３４には、撮像領域９０を中心とする円弧状の第１開口２０１および第２開口２０２が設けられる。角度変更機構１３３は、第１開口２０１に沿って光照射部１３１を移動させるためのモータ１３５、並びに、ガイド部、ラックおよびピニオン（図示省略）を有し、第２開口２０２に沿ってラインセンサ１３２を移動させるためのモータ１３６、並びに、ガイド部、ラックおよびピニオン（図示省略）をさらに有する。
【００２５】
図２は、コンピュータ３の構成を示す図である。コンピュータ３は各種演算処理を行うＣＰＵ３１、基本プログラムを記憶するＲＯＭ３２および各種情報を記憶するＲＡＭ３３を含む一般的なコンピュータシステムの構成となっている。コンピュータ３は、情報記憶を行う固定ディスク３４、画像等の各種情報の表示を行う表示部であるディスプレイ３５、作業者からの入力を受け付けるキーボード３６ａおよびマウス３６ｂ（以下、「入力部３６」と総称する。）、光ディスク、磁気ディスク、光磁気ディスク等のコンピュータ読み取り可能な記録媒体３０から情報の読み取りを行う読取装置３７、並びに、画像取得装置１の他の構成との間で信号を送受信する通信部３８をさらに含む。
【００２６】
コンピュータ３では、事前に読取装置３７を介して記録媒体３０からプログラム３００が読み出されて固定ディスク３４に記憶されている。ＣＰＵ３１は、プログラム３００に従ってＲＡＭ３３や固定ディスク３４を利用しつつ演算処理を実行し、後述の機能を実現する。
【００２７】
図３は、コンピュータ３が実現する機能構成を示すブロック図である。図３の演算部４０および記憶部４９が、コンピュータ３のＣＰＵ３１、ＲＯＭ３２、ＲＡＭ３３、固定ディスク３４等により実現される機能構成である。演算部４０は、入力受付部４１、領域特定部４２および表示制御部４３を有する。記憶部４９は、後述の処理にて取得されるパターン画像データ４９１を記憶する。画像取得装置１では、入力受付部４１、領域特定部４２、表示制御部４３、記憶部４９、ディスプレイ３５および入力部３６により、画像の観察を支援する観察支援装置４が実現される。観察支援装置４の詳細については後述する。なお、演算部４０の機能は専用の電気回路により構築されてもよく、部分的に専用の電気回路が利用されてもよい。
【００２８】
図４は、基材９の主面上のパターンを示す図である。基材９は、静電容量型のタッチパネルの製造に利用されるものであり、主面上には透明導電膜にて形成された多数の同形状の電極９１１（以下、「透明電極９１１」という。）が二次元に周期的に配列される。透明電極９１１間は、透明導電膜にて形成されるとともに、透明電極９１１に比べて細い配線９１２（以下、「透明配線９１２」という。）により接続される。図４の例では、４個の透明電極９１１が１個の透明配線９１２により接続される。透明電極９１１は、タッチパネルにおいて静電容量の変化を検出するための素子である。
【００２９】
また、主面上において多数の透明電極９１１が配列される領域の外側には、金属膜にて形成された多数の同形状の電極９２１（以下、「金属電極９２１」という。）が、例えば一列に周期的に配列される。各金属電極９２１には、金属膜にて形成されるとともに、金属電極９２１に比べて細い配線９２２（以下、「金属配線９２２」という。）の一端が接続される。金属配線９２２の他端は、透明配線９１２に接続される。実際には、一対の金属電極９２１の間に、複数の透明電極９１１が金属配線９２２および透明配線９１２を介して電気的に接続される。このように、金属電極９２１は、複数の透明電極９１１に対して金属配線９２２および透明配線９１２を介して電気を供給するための素子である。多数の透明電極９１１が配置される領域（図４中にて符号Ａ１を付す破線の矩形領域）の周囲には、可視光を透過させない材料の膜が必要に応じて形成される。当該膜により、基材９の一方の主面側から、金属電極９２１および金属配線９２２が視認不能となる。図４では、基材９上のパターンを簡略化して示しているが、実際には、多数の電極および多数の配線が設けられる（以下同様）。
【００３０】
既述のように、画像取得装置１により、基材９上のパターンの画像が取得され、その後、作業者が当該画像を観察する際に、画像の観察が支援される。以下、パターンの画像の取得について説明し、その後、画像の観察の支援について説明する。
【００３１】
図５は、基材９上のパターンの画像を取得する動作の流れを示す図である。まず、画像を取得すべき基材９が準備され、図１のステージ２１上に載置される（ステップＳ１１）。画像を取得すべき基材９は、例えば、導通検査において導通不良が確認された一対の金属電極９２１（抵抗値が所定の閾値よりも高い一対の金属電極）を含む。
【００３２】
画像取得装置１では、撮像画像において透明導電膜のパターン（すなわち、透明電極９１１および透明配線９１２）を示す領域（以下、「透明パターン領域」という。）のコントラストを高くすることが可能な照射角および検出角の角度が、基材９上の膜構造（膜の種類と厚さとの組合せ）毎に予め求められている。透明パターン領域および金属膜のパターンを示す領域を除く領域を背景領域として、透明パターン領域のコントラストは、撮像画像における透明パターン領域と背景領域との間の明るさの差（階調値の差の絶対値）である。コンピュータ３では、ステージ２１上の基材９の膜構造に合わせて、照射角および検出角の設定すべき角度（以下、「設定角度」という。）が特定され、角度変更機構１３３を制御することにより、照射角および検出角が当該設定角度となる（ステップＳ１２）。
【００３３】
続いて、光照射部１３１からの光の出射が開始され、基材９上の撮像すべき位置が撮像領域９０を通過するように、移動機構１１により基材９がＹ方向に連続的に移動する。基材９の移動に並行して、ラインセンサ１３２では、線状の撮像領域９０のライン画像が高速に繰り返し取得される。これにより、基材９上のパターンを示す２次元の撮像画像（以下、「パターン画像」という。）が取得され、図３の記憶部４９にてパターン画像データ４９１として記憶される（ステップＳ１３）。以上のように、図５のステップＳ１１〜Ｓ１３の処理により、作業者により観察されるパターン画像が準備される。
【００３４】
図６は、パターン画像を示す図である。図６では、各領域に付す平行斜線の幅が狭いほど、当該領域の明るさ（輝度値の平均値）が低いことを示す。パターン画像では、金属電極９２１を示す領域８２１（以下、「金属電極領域８２１」という。）、および、金属配線９２２を示す領域８２２（以下、「金属配線領域８２２」という。）の明るさが最も高い。透明電極９１１を示す領域８１１（以下、「透明電極領域８１１」という。）、および、透明配線９１２を示す領域８１２（以下、「透明配線領域８１２」という。）の明るさは、金属電極領域８２１および金属配線領域８２２の明るさよりも低く、非パターン領域である背景領域の明るさよりも高い。以下の説明では、パターン画像において金属電極領域８２１、金属配線領域８２２、透明電極領域８１１および透明配線領域８１２を示す領域、すなわち、パターンを示す領域を「パターン領域８０」と総称する。
【００３５】
図７は、観察支援装置４が画像の観察を支援する動作の流れを示す図である。まず、観察支援装置４において、作業者が観察するためのパターン画像が準備される（ステップＳ２０）。本実施の形態では、図５の動作により、パターン画像が予め取得されて、パターン画像データ４９１として記憶部４９に記憶されている。パターン画像は、表示制御部４３により、ディスプレイ３５に表示される（ステップＳ２１）。
【００３６】
既述のように、導通検査では、導通不良の一対の金属電極９２１が特定されており、ディスプレイ３５に表示されるパターン画像において当該一対の金属電極９２１の一方の位置（金属電極領域８２１）が、例えば、作業者によるマウス３６ｂのクリックにより指定される。入力受付部４１では、パターン領域８０において当該位置を指定位置として指定する入力が受け付けられる（ステップＳ２２）。
【００３７】
一方、領域特定部４２では、パターン画像に対して所定のエッジ検出処理（例えば、一次微分フィルタや二次微分フィルタによるエッジ検出処理）が施される。これにより、それぞれが互いに連続する金属電極領域８２１および金属配線領域８２２により構成される複数の部分領域、および、それぞれが互いに連続する複数の透明電極領域８１１および透明配線領域８１２により構成される複数の部分領域が抽出される。また、金属電極領域８２１および金属配線領域８２２を含む部分領域と、透明電極領域８１１および透明配線領域８１２を含む部分領域とが連続する場合には、これらの部分領域は結合されて、１つの部分領域となる。以上の処理により、パターン領域８０において、複数の部分領域が取得される。そして、上記指定位置を含む部分領域が、特定領域として特定される（ステップＳ２３）。特定領域は、パターン領域８０において指定位置に連続する領域である。
【００３８】
表示制御部４３は、特定領域を識別可能としつつパターン画像をディスプレイ３５に再表示させる（ステップＳ２４）。図８の例では、符号８２１ａを付す金属電極領域が指定位置として指定され、当該金属電極領域８２１ａを含む部分領域が特定領域として特定される。また、特定領域における一方のエッジ（特定領域が伸びる方向に沿う一方のエッジ）に太い破線Ｇ１（以下、「案内線Ｇ１」という。）を重ねることにより、特定領域が識別可能である。作業者は、他の部分領域と間違えることなく、案内線Ｇ１に沿って特定領域に含まれる金属配線領域８２２、透明配線領域８１２および透明電極領域８１１を観察することが可能となる。好ましい案内線は、ディスプレイ３５に表示されるパターン画像に含まれない所定の色の線である。すなわち、案内線は、パターン画像と色分けして表示されることが好ましい。
【００３９】
図９に示すように、金属配線領域８２２の断線が欠陥Ｋ１として生じている場合には、金属配線領域８２２において欠陥Ｋ１を境界とする一方にのみ案内線Ｇ１が付され、他方には案内線Ｇ１が付されない。したがって、作業者は、案内線Ｇ１を参照することにより、断線位置を容易に特定することができる。領域特定部４２では、基材９上における断線位置の座標値等の位置情報を表示、または、位置情報のデータを保存することも可能である。なお、特定領域の周囲を所定の色の線で囲む、特定領域を所定の色で塗る、特定領域に一定の間隔で所定のマークを重ねる等により、特定領域が識別可能とされてよい。
【００４０】
また、図８中に符号Ｇ２を付す二点鎖線の矩形の領域の拡大表示を指示する入力が作業者により行われ、当該入力が入力受付部４１にて受け付けられると（ステップＳ２５）、表示制御部４３は、図１０に示すように、拡大されたパターン画像をディスプレイ３５に再表示させる（ステップＳ２６）。このとき、表示されるパターン画像において、特定領域におけるエッジには、案内線Ｇ１が重ねられており、特定領域が識別可能な状態が維持される。したがって、作業者が、拡大されたパターン画像においても、特定領域を他の部分領域と間違えることはない。ステップＳ２５では、ディスプレイ３５に表示されるパターン画像の縮小表示を指示する入力が入力受付部４１にて受け付けられてもよく、この場合、特定領域を識別可能としつつ縮小されたパターン画像が再表示される。
【００４１】
上記ステップＳ２２〜Ｓ２６は、必要に応じて繰り返され、作業者によるパターン画像の観察が支援される。このとき、ステップＳ２２にて指定される指定位置は、導通不良により欠陥と関連付けられた金属電極９２１の位置に限定されず、任意の位置であってよい。観察支援装置４では、任意の指定位置が、一対の金属電極領域８２１の双方に接続しているか否か（画像上の導通の有無）も確認することが可能である。
【００４２】
以上に説明したように、観察支援装置４では、パターン領域８０における一の位置を指定位置として指定する入力が受け付けられると、当該パターン領域８０において指定位置に連続する領域が特定領域として特定される。そして、特定領域を識別可能としつつパターン画像がディスプレイ３５に表示される。これにより、パターン領域８０において指定位置に連続する領域を、作業者に容易に認識させることができ、作業者によるパターン画像の観察を適切に支援することができる。
【００４３】
また、基材９上のパターンが、パターン画像において明るさが異なる複数の透明電極９１１と複数の金属電極９２１とを含む場合であっても、領域特定部４２では、特定領域が、透明電極９１１を示す透明電極領域８１１と金属電極９２１を示す金属電極領域８２１とを含むように、領域が抽出される。これにより、透明電極９１１と金属電極９２１との接続状態を容易に認識することができる。
【００４４】
例えば、導通検査の前に、画像取得装置１においてパターン画像を取得し、当該パターン画像とＣＡＤデータ等の設計データとを比較すること（線幅比較や差分比較等）により検査が行われてもよい。このようなパターン画像に基づく検査においてパターンにおける欠陥が検出された場合に、作業者によりパターン画像が観察される。パターン画像の観察では、当該欠陥の位置が指定位置として指定され、指定位置に連続するとともに欠陥を含む特定領域を識別可能としつつパターン画像がディスプレイ３５に表示される。これにより、欠陥に関連する特定領域を作業者に容易に認識させることができ、導通検査において導通不良となる可能性が高い金属電極９２１を予測することが可能となる。この場合、パターン画像に基づく検査にて欠陥が検出された位置に接続する金属電極９２１のみに対して導通検査を行うことも可能である。
【００４５】
上記画像取得装置１および観察支援装置４では様々な変形が可能である。
【００４６】
外部のパターン検査装置、または、画像取得装置１が実現するパターン検査部から、パターン画像に基づく検査結果が観察支援装置４に入力されてもよい。この場合、欠陥の位置を示す当該検査結果が、指定位置の入力として入力受付部４１にて受け付けられる。このように、指定位置の入力は、必ずしも作業者により行われる必要はない。
【００４７】
観察支援装置４は、電極パターン以外の周期性を有するパターンを示す画像の観察の支援に利用されてよい。すなわち、観察支援装置４は、周期的に配列された多数の様々な素子（メモリセル、受光素子等）、および、素子間を接続する多数の配線を有する基材上のパターンを示す画像の観察の支援に利用することが可能である。
【００４８】
上記実施の形態および各変形例における構成は、相互に矛盾しない限り適宜組み合わされてよい。
【符号の説明】
【００４９】
３    コンピュータ
４    観察支援装置
９    基材
３５    ディスプレイ
４１    入力受付部
４２    領域特定部
４３    表示制御部
４９    記憶部
８０    パターン領域
３００    プログラム
４９１    パターン画像データ
８１１    透明電極領域
８２１，８２１ａ    金属電極領域
９１１    透明電極
９１２    透明配線
９２１    金属電極
９２２    金属配線
Ｇ１    案内線
Ｓ１１〜Ｓ１３，Ｓ２０〜Ｓ２６    ステップ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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