(57)【要約】【課題】  簡単に複数の層を除去する技術を提供する。【解決手段】  基体と、基体の上に設けられた第１層と、第１層の上に設けられた第２層と、を備え、第１層が第２層に重ならない部分を有する積層体を準備する工程と、第１層を重ならない部分から液体で溶解させることで、基体から第２層を剥離する工程と、を有する。【選択図】  図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基体と、前記基体の上に設けられた第１層と、前記第１層の上に設けられた第２層と、を備え、前記第１層が前記第２層に重ならない部分を有する積層体を準備する工程と、
前記第１層を前記重ならない部分から液体で溶解させることで、前記基体から前記第２層を剥離する工程と、を有することを特徴とする光学部品の製造方法。
【請求項２】
前記重ならない部分は前記第１層の縁を含むことを特徴とする請求項１に記載の光学部品の製造方法。
【請求項３】
前記基体は前記第１層に重ならない部分を有することを特徴とする請求項１または２に記載の光学部品の製造方法。
【請求項４】
前記第１層の上には、前記第２層と、前記第２層の上に設けられた第３層と、前記第３層の上に設けられた第４層と、を含む多層膜が設けられ、
前記第１層の前記重ならない部分が前記第３層および前記第４層に重ならないことを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項５】
前記第２層のうち前記第２層の縁から５００μｍ以内の部分に前記第４層が重なることを特徴とする請求項４に記載の光学部品の製造方法。
【請求項６】
前記第４層は前記第２層と同じ材料を含むこと、および／または、前記第３層は前記第１層と同じ材料を含むことを特徴とする請求項４または５に記載の光学部品の製造方法。
【請求項７】
前記基体はガラス板または水晶板であり、前記第１層は酸化シリコン層であり、前記第２層は金属化合物層であることを特徴とする請求項１乃至６のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項８】
前記液体はアルカリ性であることを特徴とする請求項１乃至７のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項９】
前記第１層の厚さは１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１乃至８のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１０】
前記剥離する工程の後に、
前記基体の上に膜を形成する工程を有することを特徴とする請求項１乃至９のいずれか１項に記載の光学部品の製造方法。
【請求項１１】
ガラスまたは水晶からなる基体と、
前記基体の上に設けられた酸化シリコンを含む第１層と、
前記第１層の上に設けられた金属化合物を含む第２層と、を備え、
前記第１層は前記第２層に重ならない部分を有することを特徴とする光学部品。
【請求項１２】
前記重ならない部分は前記第１層の縁を含むことを特徴とする請求項１１に記載の光学部品。
【請求項１３】
前記基体は前記第１層に重ならない部分を有することを特徴とする請求項１１または１２に記載の光学部品。
【請求項１４】
前記第１層の上には、前記第２層と、前記第２層の上に設けられた第３層と、前記第３層の上に設けられた第４層と、を含む多層膜が設けられ、
前記第１層の前記重ならない部分が前記第３層および前記第４層に重ならないことを特徴とする請求項１１乃至１３のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項１５】
前記第２層のうち前記第２層の縁から５００μｍ以内の部分に前記第４層が重なることを特徴とする請求項１４に記載の光学部品。
【請求項１６】
前記第３層は酸化シリコンを含み、前記第４層は金属化合物を含むことを特徴とする請求項１４または１５に記載の光学部品。
【請求項１７】
前記金属化合物は酸化チタンであることを特徴とする請求項１１乃至１６のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項１８】
前記第１層の厚さは１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１１乃至１７のいずれか１項に記載の光学部品。
【請求項１９】
請求項１１乃至１８のいずれか１項に記載の光学部品と、
前記光学部品に対向して配置された、表示または撮像を行う電子デバイスと、
を備える光学装置。
【請求項２０】
請求項１１乃至１８のいずれか１項に記載の光学部品と、
前記光学部品を保持する保持部品と、
前記光学部品と前記保持部品とを接着する接着部材と、を備え、
前記接着部材は前記基体に重なり、前記第２層に重ならないことを特徴とする光学装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光学部品において基体上に設けられた層に関する。
【背景技術】
【０００２】
基体の上に複数の層が設けられた光学部品が知られている。特許文献１には、水晶板の上に４層構造の反射防止膜が設けられたカバーが開示されている。反射防止膜を成膜し直す場合などに、反射防止膜を構成する複数の層を基体の上から除去するという要求がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２００８−３４５０２号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
基体の上に設けられ、それぞれが異なる材料で構成された複数の層を除去する場合、上層を除去した後に下層を除去する方法が考えられる。しかし、上層と下層とを別々に除去すると、製造工程が煩雑になるという課題がある。このような課題は、除去する層の数が大きくなればより顕著になる。
【０００５】
そこで、本発明は基体の上から複数の層を簡単に除去する技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するための手段は、光学部品の製造方法であって、基体と、前記基体の上に設けられた第１層と、前記第１層の上に設けられた第２層と、を備え、前記第１層が前記第２層に重ならない部分を有する積層体を準備する工程と、前記第１層を前記重ならない部分から液体で溶解させることで、前記基体から前記第２層を剥離する工程と、を有することを特徴とする。
【０００７】
また、上記課題を解決するための手段は、光学部品であって、ガラスまたは水晶からなる基体と、前記基体の上に設けられた酸化シリコンを含む第１層と、前記第１層の上に設けられた金属化合物を含む第２層と、を備え、前記第１層は前記第２層に重ならない部分を有することを特徴とする。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、基体の上から複数の層を簡単に除去することができる。
【図面の簡単な説明】
【０００９】
【図１】光学部品の一例の説明図。
【図２】光学部品の製造方法の説明図。
【図３】光学部品の変形例の説明図。
【図４】光学機器の説明図。
【図５】光学部品の製造方法の説明図。
【発明を実施するための形態】
【００１０】
光学部品を再生する際に、基体の上に設けられた第１層と、第１層の上に設けられた第２層と、を別々に除去すると、工程が煩雑になる。本発明者は、第１層を液体で溶解させることで基体から第２層を剥離すれば、第１層と第２層を別々の液体に溶解させるよりも簡単に第１層と第２層を除去できるという着想を得た。しかし、検討過程において、第１層の全面が第２層で覆われていると、第１層の溶解が進行せずに、第１層と第２層を適切に除去できないということが分かった。そこで、第１層が第２層に重ならない部分を有するようにし、第１層をこの重ならない部分から液体で溶解させることで、第２層を適切に剥離できると考えて、本発明に至った。
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明を実施するための形態を説明する。なお、以下の説明および図面において、複数の図面に渡って共通の構成については共通の符号を付している。そのため、複数の図面を相互に参照して共通する構成を説明し、共通の符号を付した構成については適宜説明を省略する。
【００１２】
図１を用いて本実施形態に関連する光学部品の一例を説明する。図１（ａ）は光学部品１３０の斜視図であり、図１（ｂ）は図１（ａ）のＡ−Ｂ線に沿った、光学部品１３０のＸ−Ｚ方向における断面図である。図１（ｃ）は光学部品の１３０のＸ−Ｙ方向における平面図である。
【００１３】
図１（ａ）に示すように、光学部品１３０は、基体１００と、基体１００の上に設けられた第１膜１０と、第１膜１０の上に設けられた第２膜２０とを備えた積層体である。光学部品１３０はレンズ、ミラー、フィルタ、ウィンドウなどとして用いられる。なお、光学部品１３０の寸法に関して、図面では便宜的に、第１膜１０と第２膜２０のＺ方向における寸法を、基体１００のＸ、Ｙ、Ｚ方向における寸法と大差なく描いている。しかし、実際には、第１膜１０と第２膜２０のＺ方向における寸法（厚さ）は、基体１００のＺ方向における寸法（厚さ）よりも小さい（例えば１／１０以下）場合が多い。また、実際には、第１膜１０と第２膜２０のＺ方向における寸法（厚さ）は、第１膜１０と第２膜２０、基体１００のＸ、Ｙ方向における寸法（縦横長さ）よりも大幅に小さい（例えば１／１０００以下）場合が多い。
【００１４】
基体１００の表面のうち、第１膜１０および第２膜２０が設けられた面を主面と呼ぶ。光学部品を平面視することは、基体１００の主面の法線方向から光学部品を観察することを意味する。第１膜１０は主面に接する。基体１００の主面は、平面、凹面、凸面など、光学部品１３０の機能に応じた形状を有する。本例の基体１００は略直方体形状の板であり、表面は上面と下面と４つの側面とで構成され、このうちの上面が主面である。基体１００には非晶質材料、多結晶材料または単結晶材料が用いられる。非晶質材料としては石英ガラス、硼珪酸ガラス、ソーダ石灰ガラスなどのガラスあるいは樹脂が用いられる。多結晶材料としては金属やセラミックスなどが用いられる。単結晶材料としては水晶（ＳｉＯ２）、蛍石（ＣａＦ２）サファイア（Ａｌ２Ｏ３）、ダイヤモンド（Ｃ）、シリコン（Ｓｉ）などが用いられる。これらのうち、より高価な材料を用いるほど、本実施形態は好適である。とりわけ高価な硼珪酸ガラスとしては、次の３種類が挙げられる。１つ目は、ウラン元素やトリウム元素の含有を限りなく低減した高純度原材料を使用したα線対策ガラスである。２つ目は、カリウム元素の含有を限りなく低減した高純度原材料を使用したβ線対策ガラスである。３つ目は、アルカリ金属元素の含有を限りなく低減した無アルカリガラスである。単結晶材料の多くは一般的に高価であり、ガラスの中で石英ガラスと硼珪酸ガラスは高価である。
【００１５】
第１膜１０は、第２膜２０の除去を容易にする機能を有するもので、その材料と形状に特徴がある。第１膜１０は第１層１を有する単層膜あるいは多層膜（複層膜）である。本例の第１膜１０は第１層１のみを有する単層膜であり、第１層１が基体１００と第２膜２０の双方に接する。第１膜１０が多層膜である場合には、その最下層が基体１００に接し、最上層が第２膜２０に接する。第１膜１０の厚さは例えば１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。第１膜１０の材料および形状は、第２膜２０と基体１００の材料および形状を考慮して決定される。
【００１６】
第２膜２０は光学部品が光学的機能を発現するための光学的機能膜であり、例えば反射膜や反射防止膜、波長選択膜である。ダイクロイックミラーのように、複数の機能（ミラー機能とフィルタ機能）の両方の機能を有していてもよい。光学部品１３０が光透過部品である場合、基体１００、第１膜１０を構成する層、第２膜２０を構成する層はそれぞれ光透過性（透光性）を有する。
【００１７】
第２膜２０は第２層２を有する単層膜あるいは多層膜（複層膜）である。本例の第２膜２０は第２層２、第３層３、第４層４および第５層５を有する多層膜であり、第２層２が第１膜１０に接する最下層であり、最上層が第５層５である。典型的な第２膜２０は３層以上で構成される。第２膜２０の厚さは例えば１００ｎｍ以上１００００ｎｍ以下である。第２膜２０の各層の厚さは例えば１０ｎｍ以上１０００ｎｍ以下である。第２膜２０は第１膜１０よりも厚くすることができる。
【００１８】
典型的には第２膜２０の層は誘電体層または金属層である。例えば第２膜２０の層は、酸化シリコン層、窒化シリコン層、炭化シリコン層などのシリコン化合物層、あるいは、金属酸化物層、金属窒化物層、金属炭化物層などの金属化合物層である。第２膜２０の層は無機材料に限らず、有機材料であってもよい。各層は単一の材料からなる純物質であってもよいし、複数の材料からなる混合物あってもよく、適切な量の不純物を含んでいてもよい。
【００１９】
第１膜１０および第２膜２０の各層は、基体１００側に位置して基体１００の主面に対向する下面と、下面とは反対側に位置する上面と、を有する。層の縁は、光学部品１３０を平面視したときに、層の輪郭を成す部分である。層のうち層の縁から５００μｍ以内の範囲を層の端部と呼ぶ。つまり、層の端部は層の縁から層の内側へ向かって５００μｍの幅を持って広がり、層の縁に沿って延びる。層の縁に沿った方向を層の周方向と称する。端部には基体１００の主面に対する角度が上面とは急激に異なった側面が存在する場合があるし、端部において上面が縁に向かって緩やかに傾斜している場合もある。各層の上面と下面の少なくとも一方は、層の縁から広がっている。
【００２０】
概して層の端部では、層の厚さが極端に薄かったり、厚さが不均一であったりする場合が多く、所望の光学特性が得られないことが多い。図１（ｂ）に示すように、第１層１は下面１１と上面１２と縁１３と端部１４とを有し、第２層２は下面２１と上面２２と縁２３と端部２４とを有する。同様に、第３層３は下面３１と上面３２と縁３３と端部３４とを有し、第４層４は下面４１と上面４２と縁４３と端部４４とを有し、第５層５は下面５１と上面５２と縁５３と端部５４とを有する。第２層２の下面２１は第１層１の上面１２に接し、第３層３の下面３１は第２層２の上面２２に接し、第４層４の下面４１は第３層３の上面３２に接し、第５層５の下面５１は第４層４の上面４２に接する。本例では第５層５が最上層であり、第５層５の上面５２が露出している。
【００２１】
第１層１の一部は第２層２に重なるが、第１層１の一部は第２層２に重なっていない。ここで、第１層１と第２層２が重なることは、基体１００の主面の法線が第１層１と第２層２とを貫くことを意味する。第１層１のうちの第２層２に重ならない部分を非重複部１５と称する。非重複部１５を貫く基体１００の主面の法線は、第２層２を貫かない。本例では、第１層１の縁１３から第１層１の内側へ向かってある程度の範囲に位置する部分が、第２層２に重ならない非重複部１５である。このことは、非重複部１５が第１層１の縁１３を含んでいると言うことができるし、第１層１の縁１３が第２層２に重なっていないということもできる。非重複部１５は端部１４以外の部分を含んでいることが好ましい。つまり、縁１３から５００μｍを超えない範囲と縁１３から５００μｍを超える範囲の両方に渡って非重複部１５が位置していることが、好ましい。縁１３から少なくとも１０００μｍまでの範囲は、図１（ｃ）に示すように、縁１３の全周に渡って非重複部１５であることがより好ましい。このように、第１層１の端部１４以外の部分をも非重複部１５とすることが、第１層１を適切に溶解する上で有利となる。第１層１を適切に溶解する上では、非重複部１５が十分に大きい厚さを有することが好ましい。上述したように、層の端部では、層の厚さが極端に小さくなる場合があるため、非重複部１５が端部１４のみに位置していると、非重複部１５の厚さが極端に小さくなる可能性が高くなる。第１層１の非重複部１５を第１層１の端部１４以外の部分に設けることで、非重複部１５の厚さが極端に小さくなることを抑制できる。  さらに、第１層１の少なくとも一部は、第３層３にも、第４層４にも、第５層５にも重なっていない。第２膜２０がさらに多くの層を有している場合、第１層１の少なくとも一部は、第２膜２０の全ての層に重ならない部分を有することが好ましい。本例では、第１層１の縁１３の全周が、第２層２にも、第３層３にも、第４層４にも、第５層５にも重なっていない。第２膜２０がさらに多くの層を有している場合、第１層１の縁１３の全周が、第２膜２０の全ての層に重ならないことが好ましい。このようにすることが、第１層１を適切に溶解する上で有利である。
【００２２】
本例では、図１（ｂ）に示すように、第３層３、第４層４、第５層５が第２層２の端部２４に重なっている。より詳細には、第３層３の端部３４、第４層４の端部４４、第５層５の端部５４が第２層２の端部２４に重なっている。さらに、第３層３の端部３４、第４層４の端部４４、第５層５の端部５４が第２層２の縁２３に重なっている場合もある。第３層３、第４層４、第５層５についても同様で、上層がこれらの端部に重なっており、これらの縁に重なっている場合もある。第２膜２０がこのような形態を有する場合には、第２膜２０の各層の除去が困難になり得るので、第１膜１０を配置することで得られる効果は大きくなる。このように上層が下層の端部に重なった部分は、下層の縁の周方向の一部に存在し得るが、本例では全周に存在している。
【００２３】
第１層１は第２層２とは異なる材料を含む。本例では、第４層４は第２層２と同じ材料を含んでおり、第５層５は第３層３と同じ材料を含んでいる。すなわち、第２膜２０は第１材料からなる層と第２材料かなる層が交互に積層されている。なお、本例では第３層３が第１層１と同じ材料を含むが、第３層３が第１層１と異なる材料を含んでいてもよい。
【００２４】
基体１００の一部は第１層１に重なっていない。ここで、基体１００のうちの第１層１に重ならない部分を非重複部１１０と称する。本例では、光学部品１３０の平面視において第１層１の縁１３から外側に位置する部分が、第１層１に重ならない非重複部１１０である。このことは、縁１３が主面の縁から離れているということもできる。非重複部１１０は第１層１を含む第１膜１０のどの層にも重ならない部分でありうるし、第２層２を含む第２膜２０のどの層にも重ならない部分でありうる。非重複部１１０は基体１００のうち、層に覆われずに外部に露出した露出部であると云える。基体１００が非重複部１１０を有する場合には、基体１００が非重複部１１０を有さない場合に比べて、第１層１の端部１４（図１（ｂ）参照）は、第１層１の他の部分よりも薄くなりやすい。そのため、基体１００が非重複部１１０を有する様に第１層１が設けられている場合には、第２層２の縁２３および端部２４を、第１層１の縁１３および端部１４から離すのが良い。これにより第１層１の非重複部１５の厚さを十分に確保することができる。
【００２５】
図２を用いて光学部品の製造方法を説明する。図２（ａ）〜（ｄ）の各々は、図１（ｂ）に対応した断面を示している。
【００２６】
まず、図２（ａ）に示す準備工程では、図１で説明した光学部品１３０と同様に、基体１００と、第１層１ａと、第２層２ａと、を備える積層体である、第１の光学部品１３１を準備する。本例では、第１の光学部品１３１は第３層３ａ、第４層４ａおよび第５層５ａなどの他の層も含んでいる。第１の光学部品１３１は不良品であってもよいし、中古品であってもよいし、余剰在庫品であってもよい。
【００２７】
次に、図２（ｂ）に示す除去工程の第１段階では、この第１の光学部品１３１を液体３０に浸漬する。この液体３０は、第２層２ａよりも第１層１ａの溶解性（選択性）が高い性質を有する。液体３０に対する第１層１ａのエッチングレートをＥ１、第２層２ａのエッチングレートをＥ２として、Ｅ１＞Ｅ２である。つまり、第２層２ａに対する第１層１ａのエッチング選択比Ｅ１／Ｅ２は１より大きい。エッチング選択比Ｅ１／Ｅ２は１０以上であることが好ましい。また、この液体３０は、基体１００よりも第１層１ａの溶解性（選択性）が高い性質を有することが好ましい。液体３０に対する第１層１ａのエッチングレートをＥ１、基体１００のエッチングレートをＥ０として、Ｅ１＞Ｅ０である。つまり、基体１００に対する第１層１ａのエッチング選択比Ｅ１／Ｅ０は１より大きい。エッチング選択比Ｅ１／Ｅ０は１０以上であることが好ましい。
【００２８】
この液体３０を用いて、第２層２ａが第１層１ａの上に存在した状態で、第１層１ａを溶解させる。第１層１ａのうち、第２層２ａに重ならない部分から溶解が進行する。なお、第２層２ａが存在した状態とは、第１層１ａを溶解させる前に第２層２ａを除去してしまわないことを意味する。第２層２ａだけでなく、第３層３ａ、第４層４ａ、第５層５ａも存在した状態で、第１層１ａを溶解させることができる。液体３０は酸性、中性、アルカリ性、いずれでもよいが、環境負荷と処理効率の両立の観点からはアルカリ性の液体３０を用いることが好ましい。第１の光学部品１３１を液体３０に浸漬する代わりに、適量の液体３０を第１の光学部品１３１の主面上に滴下してもよい。
【００２９】
さらに、図２（ｃ）に示す除去工程の第２段階では、第１層１ａの内の第２層２に重なる部分（重複部）の溶解を進めて第１層１ａを除去する。第１層１ａの内の第２層２ａに重なる部分の溶解は、第１層１ａの非重複部１５からサイドエッチングが進行することにより生じる。このとき、第２層２ａと基体１００の間に液体３０を供給して第１層１ａのサイドエッチを迅速に進める上では、第１層１ａの内の第２層２ａに重ならない部分も重なる部分も十分な厚さを有することが好ましい。そして、第１層１ａの全体が溶解されて、第２層２ａと基体１００とを固定していた第１層１ａが除去されることで、第２層２ａが基体１００から剥離する。このようにして、基体１００の上から第１層１ａおよび第２層２ａを除去する。第２層２ａだけでなく、第３層３ａ、第４層４ａも第２層２ａと併せて基体１００から剥離させることができる。なお、本例のように、第５層５ａが第１層１ａと同じ材料からなる場合、第１層１ａの溶解に並行して第５層５ａも液体３０に溶解するため、第５層５ａは剥離ではなく溶解によって除去されることになる。一方、第３層３ａが第１層１ａと同じ材料からなる場合であっても、第３層３ａはほとんど液体３０に溶解しないか、第５層５ａほどには液体３０に溶解しない。これは、第３層３ａの端部を含むほぼ全体が、液体３０中で選択比の低い第４層４ａに重なっているために、第３層３ａの溶解も進まないのである。同様に、第２層２ａの端部を含むほぼ全体が、液体３０中で選択比の低い第４層４ａに重なっているために、第２層２ａの溶解も進まない。
【００３０】
その後、必要に応じて、基体１００を洗浄する洗浄工程や、基体１００を加工する加工工程を経る。基体１００に施される加工としては、切断、切削、研磨などが挙げられる。ただし、本実施形態は、第２層２の除去時の基体１００のダメージを小さくできるため、基体１００の研磨を行わなくてもよい。
【００３１】
次に、図２（ｄ）に示す成膜工程では、第１の光学部品１３１から複数の層が除去された基体１００の上に、光学的機能を有する膜を形成する。例えば、図１で説明した光学部品１３０と同様に、基体１００と、第１層１ｂと、第２層２ｂと、を備える第２の光学部品１３２を製造する。本例では、第２の光学部品１３２は第３層３ｂ、第４層４ｂおよび第５層５ｂなどの他の層も含んでいる。
【００３２】
このように、基体１００を再利用して、第１の光学部品１３１から第２の光学部品１３２を製造することができる。第２の光学部品１３２を再生品とみなすこともできる。基体１００を再利用することで廃棄物を抑制できるため、環境負荷を低減できる。また、高価な基体１００を用いる場合には、基体１００を再利用することで、新たな基体を用意する場合に比べて、コストを下げることができる。
【００３３】
そして、液体３０を用いて第１層１ａを溶解し第２層２ａを剥離することで、基体１００上の層の他の除去方法に比べて、簡単に第２層２ａを除去することができる。他の除去方法とは、例えば、第２層２ａを或る液体で溶解してから、第１層１ａを別の液体で溶解する方法である。この場合には、最低でも２種類の液体と２回の溶解処理が必要になる。実際には、上述した第３層３ａと第４層４ａの関係のように略全体が上層に重なった下層は上層が除去されないと溶解が進まない。そのため、互いに異なる材料からなる層が交互に積層されている場合には、層数と同じ回数の溶解を繰り返す必要がある。これを１回の第１層１ａの溶解で除去できるようにしたことは、第２膜２０ａに多層膜を用いた場合に大きな利点となる。また、図１（ｂ）、（ｃ）に示すように基体１００が第１層１ａおよび第２層２ａに重ならない非重複部１１０を有する場合、基体１００の非重複部１１０は、溶解液に晒されることになる。本実施形態によれば、基体１００上の複数の層を少ない工程で除去できるため、基体１００の露出部（非重複部１１０）のダメージを低減することができる。
【００３４】
また、他の除去方法としては、第１層２ａと第２層２ａを共に溶解できる液体を用いることも考えられるが、これには現実的には様々な問題がある。例えば、そのような液体は基体１００へのダメージが大きい場合があるし、環境負荷が大きい場合もある。第１層２ａと第２層２ａの材料選択の選択肢が狭まる場合もある。本実施形態では、第２膜２０の層構成に依らずに第２膜２０を簡単に除去できる。
【００３５】
ここでは、本実施形態に係る製造方法によって製造される第２の光学部品１３２として、除去工程の後に基体１００の上に膜を形成する場合を説明したが、これに限定されるものではない。例えば、除去工程の後に基体１００を加工することで新たな第２の光学部品１３２を得てもよい。また、基体１００のみを新たな第２の光学部品１３２として得ることもできる。そして、除去工程を経た基体１００のみを第２の光学部品１３２として製造や販売を行うことができる。さらに、この第２の光学部品１３２に成膜や加工を行うことにより、第３の光学部品として製造や販売を行うことも可能である。
【００３６】
図３を用いて光学部品における変形例を説明する。図３（ａ）、（ｂ）のように基体１００は互いに異なる複数の材料で構成されていてもよい。図３（ａ）の基体１００は、基部１０１と、基部１０１の上下面の片面あるいは両面に形成されたコーティング１０２と、で構成されている。このような基体１００は、コーティングが形成されたウエハを複数に分割して得ることができるし、基部１０１を成す板の一枚ごとにコーティングを成膜して得ることもできる。図３（ｂ）の基体１００は、板状の基部１０１と、基部１０１の上下面の両面に加えて側面にもコーティング１０２が形成されている。このような基体１００は基部１０１をコーティング材料にディッピングして得ることができる。
【００３７】
図３（ｃ）のように第１膜１０は下層１１１と上層１１２の積層膜であってもよい。この場合、下層１１１と上層１１２の両方が、剥離される第２層（不図示）よりも液体３０に対して高い溶解性を有する。例えば、下層１１１と上層１１２は両方とも同じ材料であるが、下層１１１の密度と上層１１２の密度とを異ならせることができる。あるいは、下層１１１を上層１１２の密着層とすることもできる。
【００３８】
図３（ｄ）ように第１膜１０は基体１００の主面の全面を覆うこともできる。図３（ｅ）のように、第１層１の縁１３の周方向の一部において、第１層１の端部１４が第２層２で覆われていてもよい。図３（ｆ）のように、第１層１の縁１３の周方向の一部において、第１層１の縁１３が第２層２で覆われていてもよい。図３（ｇ）のように、第１層１の非重複部１５を第１層１の端部１４以外の部分に設けてもよい。その場合、第１層１の端部１４の全体が第２層２で覆われていてもよい。図３（ｈ）のように、第１層１の全体が第１層１と同じ材料や、第１層１よりも液体３０に溶解し易い材料からなる保護層９で覆われていてもよい。なぜなら、このような保護層９を有する光学部品を液体３０に浸漬させれば、一旦保護層９が除去されれば、保護層９が当初から存在しないのとほとんど同じ状況を作り出せるからである。仮に保護層９が第１層１よりも液体３０に溶解し難い層であったとしても、一旦、液体３０以外の液体に浸漬して保護層９を除去しさえすれば、後は液体３０を用いて第１層１から第５層５までを、保護層９が当初から存在しない場合と同様に除去することができる。複数の保護層を設けると各保護層毎に保護層を除去する必要が生じ得るため、保護層は１層のみにするのがよい。
【実施例】
【００３９】
＜光学装置について＞
以下、電子デバイスを備える光学機器に用いられる光学部品を実施例として、より詳細に説明する。図４（ａ）、（ｂ）は、光学機器に搭載される光学装置５００（撮像装置や表示装置）の断面模式図である。光学装置５００は光学部品１３０と、光学部品１３０に対向して配置された、表示または撮像を行う電子デバイス２００と、を備える。光学部品１３０は、撮像または表示を行う電子デバイス２００に対して、光学ウィンドウとして機能する。このような光学部品１３０においては、基体１００上に、電子デバイスで扱う光（例えば可視光）の透過率を高めるための反射防止膜や、不要な波長の光（例えば紫外光や赤外光）をカットするための波長選択膜が第２膜２０として設けられる。このような撮像装置を備えた光学機器としてはカメラが代表的であり、表示装置を備えた光学機器としてはプロジェクタが代表的である。第２膜２０と基体１００との間には第１膜１０が配されている。図１で説明したように、第１膜１０は第１層１を有し、第２膜２０は第２層２を有する。第１膜１０と第２膜２０の厚さは、基体１００の厚さの１／１０００〜１／１００程度である。基体１００の主面の縦横の長さは、電子デバイス２００の大きさに応じて、５〜１００ｍｍの範囲に設定されうる。
【００４０】
光学装置５００は、電子デバイス２００および光学部品１３０を保持する保持部品３００を備える。保持部品３００は内部端子３１０と外部端子３２０を有する。電子デバイス２００は接着部材４１０を介して保持部品３００に接着されている。電子デバイス２００の表示部あるいは撮像部２１０の周辺の電極部２２０が導電部材４２０を介して、保持部品３００の内部端子３１０に接続されている。光学部品１３０は基体１００に重なる接着部材４３０を介して保持部品３００に接着されている。光学部品１３０は光学装置５００において電子デバイス２００を保護するための蓋体としても機能する。そのため、光学部品１３０の基体１００の厚さは機械的強度を得るために０．２〜２．０ｍｍの範囲に設定されうる。図４（ａ）は第１膜１０および第２膜２０が基体１００に対して電子デバイス２００とは反対側に配されている例である。図４（ｂ）は第１膜１０および第２膜２０が基体１００に対して電子デバイス２００側に配されている例である。図４（ａ）、（ｂ）では、接着部材４３０は第２膜２０に重ならないように配されている。これは、接着部材４３０の前駆体である光硬化性樹脂を硬化させる際に、第２膜２０が紫外線の透過を妨げないようにするためである。図４（ｂ）では、第１膜１０が接着部材４３０に重ならないように配されている。つまり、接着部材４３０は、基体１００の内の第１膜１０に重ならない部分（非重複部）に重なる。第１膜１０が基体１００と接着部材４３０に存在すると、接着性が低下する。これに対して、接着部材４３０が第１膜１０を介さずに基体１００に接することで接着性を向上している。ここでは反射防止膜を基体１００の上下面の片面に形成した例を示したが、両面に形成することもできる。また、片面に波長選択膜を形成して、もう片面に反射防止膜を形成することもできる。
【００４１】
図４（ｃ）に撮像装置ＩＳを用いて構築された撮像システムＳＹＳの構成の一例を示す。撮像システムＳＹＳは、カメラや撮影機能を有する情報端末である。撮像装置ＩＳは撮像デバイスＩＣを収容するパッケージＰＫＧをさらに備えることもできる。パッケージＰＫＧは、図４（ａ）、（ｂ）に示した保持部品３００と光学部品１３０で構成され、撮像デバイスＩＣは電子デバイス２００で構成される。
【００４２】
撮像システムＳＹＳは、撮像装置ＩＳに結像する光学系ＯＵを備え得る。また、撮像システムＳＹＳは、撮像装置ＩＳを制御する制御装置ＣＵ、撮像装置ＩＳから出力された信号を処理する処理装置ＰＵ、撮像装置ＩＳで得られた画像を表示する表示装置ＤＵ、および、撮像装置ＩＳで得られた画像を記憶する記憶装置ＭＵの少なくともいずれかを備え得る。
【００４３】
このような光学機器に用いられる光学部品１３０の基体１００の材料としてはガラスまたは水晶が好適である。
【００４４】
＜再生について＞
光学部品１３０の基体１００として水晶を用いる場合、その製造工程は人工水晶育成、外形加工、多層膜形成、検査の主に４工程からなる。このうち、水晶育成および外形加工では工期・工数が多く、多層膜の成膜工程での歩留まりが水晶製の光学部品の価格に大きく影響を及ぼす。一方で、撮像デバイスの画素数増加による画素サイズ縮小化のため、多層膜の規格は撮像デバイス技術の進歩とともにより厳しい方向へと向かっている。そのため、膜抜け不良等による歩留り低下が、大きな問題となっている。従って、撮像デバイスの画素数の増加は光学部品の価格を更に上昇させる要因となっている。
【００４５】
また、光学部品１３０の基体１００としてガラスを用いる場合においても撮像デバイスの画素数の増加とともにα線およびβ線への対策が必要となるため、画素数の増加は光学部品１３０の価格を上昇させている。そのためガラス製の基体１００を有する光学部品１３０においても、多層膜の成膜工程での低歩留りはコスト上昇の要因となっている。従って、多層膜の形成工程で規格外となった多層膜を基体１００より剥離し、基体１００を再生利用することが価格の面からも資源有効利用の面からも望ましい。
【００４６】
光学部品１３０の基体１００からの多層膜の剥離の最も単純な方法は基体１００主面上を研磨することにより物理的に多層膜を除去することである。しかし、多層膜のみを斑なく研磨により除去することは困難であり、厚さや平坦性等、基体の寸法を再現できない等多くの問題を有する。そのため、多層膜を化学的方法で選択的に基体１００から剥離する工程・工法の実用化が望まれている。多層膜に用いられる誘電体の多くは金属酸化物である。
【００４７】
フッ化水素酸やフッ化水素酸化合物の水溶液を剥離液に用いた場合は比較的短時間で多層膜の除去は可能であるという優位性を有するものの、様々な課題を有し得る。第一には、剥離液組成の管理が困難であり、フッ化水素酸やフッ化水素酸化合物の水溶液への溶解性が高い水晶やガラスから、多層膜の剥離条件を安定して維持・管理することが困難な点である。第二には、フッ化水素酸やフッ化水素酸化合物は蒸気化しやすく、その取り扱いには注意を要する点である。第三には、フッ化水素酸やフッ化水素酸化合物の水溶液を用いて安定した工程・工法を構築するためには製造設備等にも高額な費用が必要となる点である。そのために、フッ化水素酸やフッ化水素酸化合物の水溶液を用いた基体の再生方法でコストを低減することは困難である。
【００４８】
本実施例では、水晶やガラスからなる基体１００上の多層膜に問題ある場合に発生する、高価な基体１００の損失の問題を解消できる多層膜の構成、および基体１００を再生するための工法を提供することができる。
【００４９】
＜基体について＞
基体１００は、アルカリ性溶液に容易に溶解せず、波長選択機能や反射防止機能を付与するための第２膜２０の形成条件に対する耐性を併せ持つことが求められる。具体的には、水晶、硼珪酸ガラス、石英ガラス、サファイヤガラスなどがあげられる。特に硼珪酸ガラスとしては、α線対策ガラス、β線対策ガラス、無アルカリガラスなどがあげられる。また、基体１００とは、上記材料にアルカリ性溶液に溶解しない、または溶解性の低い材料をコーティングしたものを含むものである。
【００５０】
＜第１膜について＞
基体１００の主面上に接して形成される第１膜１０の性質には、第１膜１０を液体３０で溶解可能であることが求められる。第１膜１０が、その上に形成される第２膜２０の光学的な機能を阻害しないことも求められる。両者の性質を併せ持つ材料としては酸化シリコンが適している。
【００５１】
まず、アルカリ性溶液への溶解性について説明する。図１で示すように基体１００と波長選択機能や反射防止機能を持つ第２膜２０との間にアルカリ性溶液に可溶な第１膜１０を配した構造にしている。このようにすれば、仮に第２膜２０を構成する第２層２や第４層４等にアルカリ性溶液に不溶な層が配置されていたとしても、第１膜１０を溶解させることで、第２膜２０を剥離によって除去できる。
【００５２】
次に、波長選択機能や反射防止機能を光学的に阻害しない性質について説明する。波長選択機能や反射防止機能を光学的に阻害しない性質の観点から、第１膜１０の屈折率は基体１００の屈折率に近いものが選ばれることが好ましい。基体１００の屈折率と第１膜１０の厚さによる光学的影響を鑑みると、第１膜１０の材料には屈折率が１．４０〜１．５５程度の材料が好適である。事情を勘案すると、第１膜１０の材料には酸化シリコンが適している。
【００５３】
第１膜１０の形成方法としては成膜後の屈折率や膜厚に斑が発生しにくい物理蒸着（ＰＶＤ）法が好ましい。具体的には電子線加熱蒸着、抵抗加熱蒸着、イオンプレーティング法などの真空蒸着法や、マグネトロン・スパッタリング、イオンビーム・スパッタリング、電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）スパッタリング、反応性スパッタリングなどのスパッタ法があげられる。真空蒸着法ではイオンアシストやプラズマアシストなどにより膜密度を緻密にしたものであっても良い。その他、化学蒸着（ＣＶＤ）法などで形成された第１膜１０も好適である。
【００５４】
一方で、有機シリコーン材料溶液をディッピングによりコーティングして酸化シリコンに転化させる方法は好ましくない。それは有機シリコーン材料溶液を酸化シリコンに転化させた被膜は物理蒸着法や化学蒸着法と比べ、屈折率や膜厚に分布が生じやすい。それは、ディッピング法に好適な膜厚が数ミクロンオーダーであるため、僅かな屈折率斑や膜厚斑が発生しても少なからず干渉色によるムラが発生してしまうためである。撮像装置では光学部品１３０と撮像デバイス（電子デバイス２００）との距離が０．１〜１ｍｍ程度であるため、この干渉色によるムラの影響が無視できない。そのため、有機シリコーン材料の溶液をディッピングによりコーティングして転化させた酸化シリコン層ではその品質レベルを満足することは困難である場合がある。そのため屈折率や膜厚ムラの制御性が高い物理蒸着法や化学蒸着法などの気相成長法が好適である。
【００５５】
但し、物理蒸着法による酸化シリコン層の成膜は成膜レートの関係上、余り厚く設定すると成膜時間を要するために生産性の観点から好ましくない。従って、第１膜１０としての酸化シリコン層の厚さは１μｍ以下であることが好適である。
【００５６】
ガラスや水晶もまた酸化シリコンを主成分とするが、１０μｍ以下、特に１μｍ以下の厚さで形成された酸化シリコン層はガラスや水晶に比べて空隙率が高く、疎な構造を有する。そのため、酸化シリコン層はガラスや水晶に比べて液体３０に溶解しやすい性質を有する。このことは、角砂糖と氷砂糖では、同じ砂糖であっても角砂糖の方が水に溶けやすいことと同様の現象として理解できよう。
【００５７】
＜第２膜について＞
本実施例に係る波長選択機能や反射防止機能を付与する多層膜は、複数の無機誘電体層を積層した第２膜２０である。第２膜２０が３層以上の多層膜である場合に、顕著な効果を得ることができる。可視光に対する反射防止膜は２〜１０層の誘電体多層膜で構成されうる。ＵＶカットフィルタやＩＲカットフィルタは１０〜３０層の誘電体多層膜で構成されうる。
【００５８】
第２膜２０に用いられる無機誘電体材料には電子デバイス２００を保護する光学部品１３０としての使用に耐えうる特性を有する材料が好適である。特にアルカリ性溶液に溶解しない、または、溶解しづらい材料が、第２層２から最上層（例えば第５層５）までに少なくとも１種類以上が用いられている場合に本実施例の構成は効果的に機能する。
【００５９】
アルカリ性溶液に不溶または難溶の材料としては、具体的にはフッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化マグネシウム、酸化ガリウム、フッ化イットリウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、酸化アルミニウム、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸化チタンと酸化ジルコニウムの複合酸化物、酸化チタンと酸化ランタンの複合酸化物、酸化ジルコニウムと酸化イットリウムの複合酸化物などがあげられる。
【００６０】
無機誘電体材料の屈折率に関しては、無機誘電体膜形成後の屈折率が１．６よりも低いものを低屈折率材料、屈折率が１．７よりも高いものを高屈折率材料と大まかに分類できる。多層膜を形成する材料の組み合わせによりその境目は上下する場合がある。
【００６１】
第２層２や第４層４に用いられるアルカリ溶液に不溶または難溶の高屈折率材料としては、次の材料が挙げられる。それは、酸化イットリウム、酸化ランタン、酸化ハフニウム、酸化ジルコニウム、酸化セリウム、酸化チタン、酸化チタンと酸化ジルコニウムの複合酸化物、酸化チタンと酸化ランタンの複合酸化物、酸化ジルコニウムと酸化イットリウムの複合酸化物である。
【００６２】
酸化チタンは酸化チタン（ＴｉＯ２）材料を蒸着源としたもののほか、一酸化チタン（ＴｉＯ）や五酸化チタン（Ｔｉ３Ｏ５）を出発材料としたものであっても良い。
【００６３】
また、第２層２や第４層４に用いられるアルカリ溶液に易溶の高屈折率材料としては、次の材料が挙げられる。それは、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化タンタル、酸化タングステン、酸化ニオブである。
【００６４】
また、第３層３および第５層５に用いられる低屈折率材料としては、次の材料が挙げられる。それは、フッ化カルシウム、フッ化リチウム、フッ化ナトリウム、フッ化マグネシウム、酸化シリコン、酸化ガリウム、フッ化イットリウム、フッ化セリウム、フッ化ランタン、酸化アルミニウムである。
【００６５】
第２膜２０の形成方法としては第１膜１０の成膜方法と同様に成膜後の屈折率や膜厚に斑が発生しにくい物理蒸着（ＰＶＤ）法が最も好ましい。具体的には電子線加熱蒸着、抵抗加熱蒸着、イオンプレーティング法などの真空蒸着法や、マグネトロン・スパッタリング、イオンビーム・スパッタリング、電子サイクロトロン共鳴（ＥＣＲ）スパッタリング、反応性スパッタリングなどのスパッタ法があげられる。真空蒸着法ではイオンアシストやプラズマアシストなどにより膜密度を緻密にしたものであっても良い。その他、化学蒸着（ＣＶＤ）法などで形成された第２膜２０も好適である。その他、化学蒸着（ＣＶＤ）法などで形成された第２膜２０も好適である。
【００６６】
第１膜１０および第２膜２０の成膜法としては、電子線加熱蒸着が好適である。実際の蒸着設備において小片の基体１００上に第１膜１０と第２膜２０を成膜する場合には、図５（ａ）、（ｂ）に示すように基体１００はホルダー６０の開口部に落とし込んで固定される。この際、基体１００とホルダー６０の間には、基体１００の主面における成膜領域を画定する開口を有する治具が配置される。第１膜１０を成膜する際には、図５（ａ）に示すように、第１の治具６１が設けられる。第１の治具６１は基体１００を支持する支持部６２と、第１膜１０の成膜領域を画定する開口６３とを有する。第１の治具６１の支持部６２と基体１００との重なりにより、基体１００の成膜面である主面には第１膜１０が形成されない領域が生じる。第２膜２０を成膜する際には、図５（ｂ）に示すように、第１の治具６１は別の第２の治具６４に交換される。第２の治具６４は基体１００を支持する支持部６５と、第２膜２０の成膜領域を画定する開口６６とを有する。第２の治具６４の支持部６５と基体１００との重なりにより、基体１００の成膜面である主面には第２膜２０が形成されない領域が生じる。さらに、開口６６は開口６３に比べて小さく形成されているため、第１膜１０上には第２膜２０が形成されない領域が生じる。これにより、第１膜１０に、第２膜２０と重ならない部分を形成することができる。第１膜１０の縁の全周が第２膜２０に重ならないようにすることがより好ましい。
【００６７】
このように電子線加熱蒸着法で小片の基体に無機誘電体材料の多層膜である第２膜２０を連続成膜する際に、図１に示すように上層の材料が下層の端部に堆積し、さらには上層の材料が下層の縁の外側に回り込み、下層の端部や縁が上層で被覆され得る。
【００６８】
波長選択膜や反射防止膜は一般的に、２種の材料層を繰り返し積層した構成を有することが多い。第２層２および第４層４などに用いられる高屈折率材料で最も一般的に使用される材料は酸化チタンや酸化チタンと酸化ランタンの複合酸化物である。第３層３および第５層５などに用いられる低屈折率体材料で最も一般的に使用される材料は酸化シリコンである。酸化シリコン層はアルカリ性溶液に対して易溶であるが、酸化チタン層や酸化チタンと酸化ランタンの複合酸化物層はアルカリ性溶液には難溶である。そのため、アルカリ性溶液で波長選択膜や反射防止膜を取り除こうとしても、最上層である第５層５の酸化シリコン層は溶解させることができるが、それよりも基体１００側に配置された難溶な下層は容易に溶解されない。特に連続成膜の場合は酸化チタンや酸化チタンと酸化ランタンの複合酸化物で下層の全体が被覆されてしまうと、下層はアルカリ性溶液にはほとんど溶解しなくなってしまう。そこで、アルカリ性溶液に溶解性を有する酸化シリコンで第１膜１０を形成し、第１膜１０を犠牲膜として第２膜２０を剥離する。これにより、基体１００上の波長選択膜や反射防止膜に問題がある光学部品から基体１００を再生することができる。
【００６９】
＜除去工程について＞
本実施例における基体１００の再生は、酸化シリコン層から成る第１膜１０と多層膜である第２膜２０とが成膜された基体１００を備える光学部品を用意する。そして、この光学部品を液体３０に浸漬し、基体１００から第１膜１０と第２膜２０とを除去した後、水洗によるアルカリ分の除去と乾燥を行うことにより基体１００を再利用可能な状態にするものである。
【００７０】
アルカリ性溶液はたんぱく質を変性させうるが、適切な防護器具を装備すればフッ化水素酸やフッ化水素酸化合物よりも容易に取り扱うことが可能である。また、アルカリ性溶液であれば基体１００の再生設備として既成の洗浄装置等を使用することが可能などの生産性の上でも優位性がある。
【００７１】
アルカリ性の液体３０のアルカリ源としては無機アルカリ性化合物や有機アルカリ性化合物があげられる。無機アルカリ性化合物は具体的には、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム、メタケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム、燐酸ナトリウム、燐酸カリウム、燐酸水素ナトリウム、燐酸水素カリウム、燐酸二水素ナトリウム、燐酸二水素カリウムなどがあげられる。有機アルカリ性化合物は具体的には、水酸化アンモニウム、モノメチルアミン、モノエチルアミン、ｎ−プロピルアミン、モノイソプロピルアミン、ｎ−ブチルアミン、ジメチルアミン、ジエチルアミン、ジ−イソプロピルアミン、ジ−ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリメチルアミン、メチルジエチルアミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジメチルエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、トリイソプロパノールアミン、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化テトラエチルアンモニウムなどがあげられるがこれらに限定されるものではない。
【００７２】
除去される第１膜１０と第２膜２０の選択比はアルカリ性溶液の濃度や温度により調整が可能であり、特定の条件に限定されるものではない。また、処理時間は第２膜２０の構成材料の種類や組み合わせ、成膜面積、膜厚などでも変わるため、アルカリ性溶液の濃度や温度は実験的に定められる。さらに第２膜２０を除去する際、アルカリ性溶液の撹拌循環や超音波印加、さらに電圧の印加（電気分解）により処理時間の短縮を図ることが可能である。
【００７３】
所定の条件下でアルカリ性溶液に浸漬された光学部品は、アルカリ性溶液浸漬後に十分な市水等でアルカリ分が除去され、最終的には純水処理にてイオン性残渣等を除去できる。その後、エアブロー等で水滴除去を行った後にクリーンオーブン等の清浄な環境下で乾燥させることにより基体１００の再生処理を行う。
【００７４】
このような再生処理により得られた基体１００から第２膜２０が適切に取り除かれているかの確認は、可視分光光度計を用いた分光透過率評価により行うことができる。第２膜２０が適切に取り除かれていれば、基体１００の分光透過率とほぼ同じ分光特性が得られる。
【００７５】
また、第１膜１０は基体１００に光学的に影響を与えない材料が選ばれるため、分光透過率評価だけでは十分に取り除かれているのかの確認はとれない場合がある。そのため、アルカリ性溶液のアルカリ源、濃度、温度などの条件や浸漬時間を定める実験の際には、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）等による成膜面の断面観察などを行う。これにより、第１膜１０が十分に取り除かれる条件であるかの確認を行う必要がある。さらに、第１膜１０が適切に取り除かれた基体１００は表面のキズや曇りなどを入念に検査して再生のための成膜工程に投入される。
【００７６】
上記のように、適切に第１膜１０と第２膜２０が取り除かれたことが確認された基体は再び第１膜１０と第２膜２０とを形成することにより光学部品として再利用することができる。これにより、環境負荷や製造コストを低減することが可能になる。
【００７７】
＜具体例＞
基体１００の上に第１膜１０として第１層１を、第２膜２０として第２層２、第３層３、第４層４および第５層５を積層した光学部品について、条件を異ならせたサンプル０１〜１２を液体３０に浸漬した際の処理状況の評価結果を示している。
【００７８】
基体１００として、１辺が４ｃｍの正方形、厚さ０．５ｍｍの水晶板Ｑまたは硼珪酸ガラス板Ｂを用いる。その上に、厚さ３０〜３００ｎｍの第１層１を、１辺が３ｃｍの正方形の形状Ｙあるいは１辺が２ｃｍの正方形の形状Ｎで、電子線加熱蒸着法により形成する。さらに第１層１の上に、厚さ１０〜２００ｎｍの第２層２、第３層３、第４層４および第５層５を１辺が２ｃｍの正方形の形状で、電子線加熱蒸着法によりこの順で連続的に形成する。第２層２、第３層３、第４層４および第５層５の中心が第１層１の中心に一致し、第２層２、第３層３、第４層４および第５層５の各辺が第１層１の各辺と平行になるように形成する。
【００７９】
第１層１、第２層２、第３層３、第４層４および第５層５のそれぞれは、酸化シリコン層Ｓ、酸化チタン層Ｔ、酸化ジルコニウム層Ｚ、酸化チタンと酸化ランタンの複合酸化物層ＴＬ、フッ化マグネシウム層Ｍ、酸化ガリウム層Ｇの何れかである。液温２５〜６０℃の１規定水酸化カリウム水溶液（１Ｎ−ＫＯＨａｑ）を液体３０として用い、光学部品１３０のサンプルを３〜６時間、液体３０に浸漬する。酸化シリコン層Ｓは液体３０に易溶であり、酸化チタン層Ｔおよび複合酸化物層ＴＬ、ＺＬは液体３０に難溶であり、酸化ガリウム層Ｇは液体３０には不溶である。また、フッ化マグネシウム層Ｍは液体３０と反応して水に可溶性のフッ化カリウムと水に難溶性の水酸化マグネシウムを生じ得る。また、水晶板Ｑまたは硼珪酸ガラス板Ｂは液体３０に難溶である。
【００８０】
複数層の除去後の基体１００について、分光透過率測定およびＳＥＭによる断面観察を行い、層の剥離状況の評価を行う。評価結果は表１のようになる。
【００８１】
サンプル０１〜０６については、除去処理後の基体１００は、５層の形成前の基体１００と同等の分光透過率を示し、また、表面のキズや曇りなどの発生もなく、５層が適切に除去できている（評価：ＯＫ）ことが確認できる。サンプル０７〜１２については、除去処理後の基体１００は、５層の形成前の基体１００よりも低い分光透過率を示し、５層が適切に除去できていない（評価：ＮＧ）ことが確認できる。
【００８２】
サンプル０７〜９の評価がＮＧなのは、第１層の形状が、第２〜４層の形状と一致していて、第１層の全体が第２〜４層と重なっているからである。サンプル１０〜１２の評価がＮＧなのは、第１層の溶解性が第２層に比べて低いからである。
【００８３】
【表１】
2016195185.tif 000003
【００８４】
本発明は以上説明した形態に限られるものではなく、目的、状態、用途、機能、およびその他の仕様変更が適宜可能であり、他の実施形態によっても実施されうることは言うまでもない。
【符号の説明】
【００８５】
１  第１層
２  第２層
３０  液体
１００  基体
１３０  光学部品
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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