(57)【要約】【課題】簡単な構成で、ワークとマスク間のギャップのばらつきに起因する露光パターンのサイズのばらつきを補正することができる近接露光用照明装置、及び近接露光装置及び近接露光方法を提供する。【解決手段】ランプユニット６０と、複数のレンズ素子６５ａを有するフライアイレンズ６５と、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａと同数に分割されてマトリクス状に配列され、それぞれ露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を持った複数のセル９１を有し、ランプユニット６０とフライアイレンズ６５との間に配置された光学フィルタ９０と、を備え、ギャップＧを介して近接配置されたワークＷ上に、マスクＭを介して露光光を照射して露光パターンを露光転写する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と、
複数のレンズ素子を有し、前記光源からの光を均一にして出射するフライアイレンズと、
前記フライアイレンズから出射された光の光路を変更する反射鏡と、
を備え、
露光パターンが形成されたマスクとワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワーク上に照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写するための近接露光用照明装置であって、
前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタを更に備え、
前記光学フィルタは、前記フライアイレンズのレンズ素子と同数のマトリクス状に分割された複数のセルを有し、
前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように前記露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を有することを特徴とする近接露光用照明装置。
【請求項２】
前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように、前記マスクと前記ワークとの間のギャップの分布に応じて、前記露光面での照度分布を変更可能な、それぞれ同一の光透過率分布を有することを特徴とする請求項１に記載の近接露光用照明装置。
【請求項３】
前記各セルは、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が低下する同一の光透過率分布を有することを特徴とする請求項２に記載の近接露光用照明装置。
【請求項４】
前記光学フィルタは、前記光の光軸に沿って移動可能であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の近接露光用照明装置。
【請求項５】
マスクを保持するマスク保持部と、
ワークを保持するワーク保持部と、
請求項１〜４のいずれか１項に記載の近接露光用照明装置と、
を備え、
前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする近接露光装置。
【請求項６】
請求項５に記載の近接露光装置を使用し、前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写する近接露光方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、近接露光用照明装置、近接露光装置及び近接露光方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
近接露光装置では、感光材が塗布されたワーク（被露光基板）に、露光パターンが形成されたマスクを１００μｍオーダーのギャップで近接配置し、照明装置からの露光光をマスクを介して照射して露光パターンを転写する。また、近接露光装置に適用される照明装置では、マスクに照射される光の照度の均一性を向上するため、フライアイレンズが使用されている。
【０００３】
従来、複数の光源部と、フライアイレンズと、反射鏡とを有する照明装置を備え、ギャップセンサにより測定されたマスクと基板とのギャップ分布に基づいて複数の光源部の照度をそれぞれ制御することで、ギャップ分布による露光面での照度のばらつきを小さくするようにした近接露光装置及び近接露光方法が開示されている（例えば、特許文献１参照。）。
【０００４】
また、特許文献２に記載の露光装置では、光学系の経時的な劣化に対応するため、複数の液晶セルを具備した照度分布補正フィルタを備え、各液晶セルを制御して照度分布補正フィルタの光透過率分布を補正し、フライアイレンズの複数のレンズ素子に照射される光の照度分布を迅速に更新し、レチクルに照射される光の照度分布を均一にすることが開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１３−９７３１０号公報
【特許文献２】特開２００６−２１０５５３号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
ところで、近接露光装置の場合、露光結果である露光パターンのサイズは、露光光の照度と照射時間の積であるワーク上での露光量と、ワークとマスク間のギャップに依存して決定される。一枚のワークで考えた場合、ワークの各部での照射時間は一定であるので、露光パターンのサイズは、実質的に照度とギャップとによって決まり、照度が高くなると露光パターンのサイズは大きくなり、ワークとマスク間のギャップが狭くなると露光パターンのサイズは小さくなる。
【０００７】
１００μｍオーダーのギャップでワークに近接配置されたマスクは、自重によるたわみがあるため、ワークとの間のギャップは一様ではなく、マスクの中心部近傍でのギャップが狭くなる傾向がある。このため、露光パターンのサイズにばらつきが生じる問題点があった。特許文献１に記載の露光装置では、複数の光源部の照度をそれぞれ制御する必要があり、より簡潔な対策が求められていた。また、特許文献２に記載の露光装置は、近接露光装置に特化されたものでなく、上記課題についても記載されていない。
【０００８】
本発明は、前述した課題に鑑みてなされたものであり、その目的は、簡単な構成で、ワークとマスク間のギャップのばらつきに起因する露光パターンのサイズのばらつきを補正することができる近接露光用照明装置、及び近接露光装置及び近接露光方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明の上記目的は、下記の構成により達成される。
（１）  光源と、
複数のレンズ素子を有し、前記光源からの光を均一にして出射するフライアイレンズと、
前記フライアイレンズから出射された光の光路を変更する反射鏡と、
を備え、
露光パターンが形成されたマスクとワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワーク上に照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写するための近接露光用照明装置であって、
前記光源と前記フライアイレンズとの間に配置されて露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタを更に備え、
前記光学フィルタは、前記フライアイレンズのレンズ素子と同数のマトリクス状に分割された複数のセルを有し、
前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように前記露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を有することを特徴とする近接露光用照明装置。
（２）  前記各セルは、前記ワークの露光結果が均一化されるように、前記マスクと前記ワークとの間のギャップの分布に応じて、前記露光面での照度分布を変更可能な、それぞれ同一の光透過率分布を有することを特徴とする（１）に記載の近接露光用照明装置。
（３）  前記各セルは、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が低下する同一の光透過率分布を有することを特徴とする（２）に記載の近接露光用照明装置。
（４）  前記光学フィルタは、前記光の光軸に沿って移動可能であることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の近接露光用照明装置。
（５）  マスクを保持するマスク保持部と、
ワークを保持するワーク保持部と、
（１）〜（４）のいずれかに記載の近接露光用照明装置と、
を備え、
前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写することを特徴とする近接露光装置。
（６）  （５）に記載の近接露光装置を使用し、前記マスクと前記ワークとをギャップを介して近接配置し、前記マスクを介して前記光源からの露光光を前記ワークに照射して前記露光パターンを前記ワークに露光転写する近接露光方法。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の近接露光用照明装置によれば、光源と、複数のレンズ素子を有するフライアイレンズと、反射鏡と、フライアイレンズのレンズ素子と同数のマトリクス状に分割された複数のセルから構成されて、光源とフライアイレンズとの間に配置された光学フィルタと、を備える。そして、光学フィルタの各セルは、ワークの露光結果が均一化されるように露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を有する。したがって、ワーク上における照度を光学フィルタで補正することができ、これにより、ワークとマスク間のギャップのばらつきに起因する露光結果、即ち、露光パターンのサイズのばらつきを補正することができる。
【００１１】
また、本発明の近接露光装置及び近接露光方法によれば、マスク支持部で支持されるマスクと、ワーク支持部で支持されるワークと、ワークとマスク間のギャップの分布に応じて、ワークの露光結果が均一化されるように露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタを有する近接露光用照明装置と、を備え、光学フィルタで補正された光源からの露光光を、マスクを介してワークに照射して露光パターンを露光転写するので、高精度な露光結果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【００１２】
【図１】本発明に係る露光装置の正面図である。
【図２】本発明に係る照明装置の構成を示す図である。
【図３】同一の光透過率分布を有し、マトリックス配置された複数のセルからなる光学フィルタの平面図である。
【図４】自重によりマスクが撓み、中心部のギャップが狭くなったマスクとワークを示す要部側面図である。
【図５】（ａ）は、光源部から出射した略均一な照度の光を光学フィルタにより補正してフライアイレンズの各レンズ素子に入射した場合の各レンズ素子から出射した光の露光面での照度を示す図であり、（ｂ）は、露光面での全体照度のイメージを示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明に係る近接露光装置の一実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図１に示すように、近接露光装置ＰＥは、被露光材としてのワークＷより小さいマスクＭを用い、マスクＭをマスクステージ（マスク保持部）１で保持すると共に、ワークＷをワークステージ（ワーク保持部）２で保持し、マスクＭとワークＷとを近接させて所定の露光ギャップで対向配置した状態で、照明装置３からパターン露光用の光をマスクＭに向けて照射することにより、マスクＭのパターンをワークＷ上に露光転写する。また、ワークステージ２をマスクＭに対してＸ軸方向とＹ軸方向の二軸方向にステップ移動させて、ステップ毎に露光転写が行われる。
【００１４】
ワークステージ２をＸ軸方向にステップ移動させるため、装置ベース４上には、Ｘ軸送り台５ａをＸ軸方向にステップ移動させるＸ軸ステージ送り機構５が設置されている。Ｘ軸ステージ送り機構５のＸ軸送り台５ａ上には、ワークステージ２をＹ軸方向にステップ移動させるため、Ｙ軸送り台６ａをＹ軸方向にステップ移動させるＹ軸ステージ送り機構６が設置されている。Ｙ軸ステージ送り機構６のＹ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２が設置されている。ワークステージ２の上面には、ワークＷがワークチャック等で真空吸引された状態で保持される。また、ワークステージ２の側部には、マスクＭの下面高さを測定するための基板側変位センサ１５が配設されている。従って、基板側変位センサ１５は、ワークステージ２と共にＸ、Ｙ軸方向に移動可能である。
【００１５】
装置ベース４上には、複数（図に示す実施形態では４本）のＸ軸リニアガイドのガイドレール５１がＸ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５１には、Ｘ軸送り台５ａの下面に固定されたスライダ５２が跨架されている。これにより、Ｘ軸送り台５ａは、Ｘ軸ステージ送り機構５の第１リニアモータ２０で駆動され、ガイドレール５１に沿ってＸ軸方向に往復移動可能である。また、Ｘ軸送り台５ａ上には、複数のＹ軸リニアガイドのガイドレール５３がＹ軸方向に配置され、それぞれのガイドレール５３には、Ｙ軸送り台６ａの下面に固定されたスライダ５４が跨架されている。これにより、Ｙ軸送り台６ａは、Ｙ軸ステージ送り機構６の第２リニアモータ２１で駆動され、ガイドレール５３に沿ってＹ軸方向に往復移動可能である。
【００１６】
Ｙ軸ステージ送り機構６とワークステージ２の間には、ワークステージ２を上下方向に移動させるため、比較的位置決め分解能は粗いが移動ストローク及び移動速度が大きな上下粗動装置７と、上下粗動装置７と比べて高分解能での位置決めが可能でワークステージ２を上下に微動させてマスクＭとワークＷとの対向面間のギャップを所定量に微調整する上下微動装置８が設置されている。
【００１７】
上下粗動装置７は後述の微動ステージ６ｂに設けられた適宜の駆動機構によりワークステージ２を微動ステージ６ｂに対して上下動させる。ワークステージ２の底面の４箇所に固定されたステージ粗動軸１４は、微動ステージ６ｂに固定された直動ベアリング１４ａに係合し、微動ステージ６ｂに対し上下方向に案内される。なお、上下粗動装置７は、分解能が低くても、繰り返し位置決め精度が高いことが望ましい。
【００１８】
上下微動装置８は、Ｙ軸送り台６ａに固定された固定台９と、固定台９にその内端側を斜め下方に傾斜させた状態で取り付けられたリニアガイドの案内レール１０とを備えており、該案内レール１０に跨架されたスライダ１１を介して案内レール１０に沿って往復移動するスライド体１２にボールねじのナット（図示せず）が連結されると共に、スライド体１２の上端面は微動ステージ６ｂに固定されたフランジ１２ａに対して水平方向に摺動自在に接している。
【００１９】
そして、固定台９に取り付けられたモータ１７によってボールねじのねじ軸を回転駆動させると、ナット、スライダ１１及びスライド体１２が一体となって案内レール１０に沿って斜め方向に移動し、これにより、フランジ１２ａが上下微動する。
なお、上下微動装置８は、モータ１７とボールねじによってスライド体１２を駆動する代わりに、リニアモータによってスライド体１２を駆動するようにしてもよい。
【００２０】
この上下微動装置８は、Ｚ軸送り台６ａのＹ軸方向の一端側（図１の左端側）に１台、他端側に２台、合計３台設置されてそれぞれが独立に駆動制御されるようになっている。これにより、上下微動装置８は、ギャップセンサ２７による複数箇所でのマスクＭとワークＷとのギャップ量の計測結果に基づき、３箇所のフランジ１２ａの高さを独立に微調整してワークステージ２の高さ及び傾きを微調整する。
なお、上下微動装置８によってワークステージ２の高さを十分に調整できる場合には、上下粗動装置７を省略してもよい。
【００２１】
また、Ｙ軸送り台６ａ上には、ワークステージ２のＹ方向の位置を検出するＹ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９と、ワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出するＸ軸レーザ干渉計に対向するバーミラー（共に図示せず）とが設置されている。Ｙ軸レーザ干渉計１８に対向するバーミラー１９は、Ｙ軸送り台６ａの一側でＸ軸方向に沿って配置されており、Ｘ軸レーザ干渉計に対向するバーミラーは、Ｙ軸送り台６ａの一端側でＹ軸方向に沿って配置されている。
【００２２】
Ｙ軸レーザ干渉計１８及びＸ軸レーザ干渉計は、それぞれ常に対応するバーミラーに対向するように配置されて装置ベース４に支持されている。なお、Ｙ軸レーザ干渉計１８は、Ｘ軸方向に離間して２台設置されている。２台のＹ軸レーザ干渉計１８により、バーミラー１９を介してＹ軸送り台６ａ、ひいてはワークステージ２のＹ軸方向の位置及びヨーイング誤差を検出する。また、Ｘ軸レーザ干渉計により、対向するバーミラーを介してＸ軸送り台５ａ、ひいてはワークステージ２のＸ軸方向の位置を検出する。
【００２３】
マスクステージ１は、略長方形状の枠体からなるマスク基枠２４と、該マスク基枠２４の中央部開口にギャップを介して挿入されてＸ，Ｙ，θ方向（Ｘ，Ｙ平面内）に移動可能に支持されたマスクフレーム２５とを備えており、マスク基枠２４は装置ベース４から突設された支柱４ａによってワークステージ２の上方の定位置に保持されている。
【００２４】
マスクフレーム２５の中央部開口の下面には、枠状のマスクホルダ２６が設けられている。即ち、マスクフレーム２５の下面には、図示しない真空式吸着装置に接続される複数のマスクホルダ吸着溝が設けられており、マスクホルダ２６が複数のマスクホルダ吸着溝を介してマスクフレーム２５に吸着保持される。
【００２５】
マスクホルダ２６の下面には、マスクＭのマスクパターンが描かれていない周縁部を吸着するための複数のマスク吸着溝（図示せず）が開設されており、マスクＭは、マスク吸着溝を介して図示しない真空式吸着装置によりマスクホルダ２６の下面に着脱自在に保持される。
【００２６】
図２に示すように、本実施形態の近接露光装置ＰＥの照明装置３は、紫外線照射用の光源である例えば高圧水銀ランプ６１、及びこの高圧水銀ランプ６１から照射された光を集光するリフレクタ６２をそれぞれ有する複数のランプユニット６０と、光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６３と、それぞれが同一の光透過率分布を有しマトリックス状に配列された複数のセル９１を備える光学フィルタ９０（図３参照）と、照射光路を開閉制御する露光制御用シャッターユニット６４と、露光制御用シャッターユニット６４の下流側に配置され、マトリックス状に配列された複数のレンズ素子６５ａを備えてリフレクタ６２で集光された光を照射領域においてできるだけ均一な照度分布となるようにして出射するフライアイレンズ６５と、フライアイレンズ６５から出射された光路ＥＬの向きを変えるための平面ミラー６６と、高圧水銀ランプ６１からの光を平行光として照射するコリメーションミラー６７と、該平行光をマスクＭに向けて照射する平面ミラー６８と、を備える。
【００２７】
図３も参照して、光学フィルタ９０は、光路ＥＬに直交してフライアイレンズ６５のランプユニット６０側に配置されている。光学フィルタ９０は、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａと同数に分割された複数のセル９１を有し、マトリックス状に配列されている。光学フィルタ９０のセル９１の大きさは、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａの大きさと略同じ大きさとなっている。マトリックス状に配列された光学フィルタ９０のセル９１は、それぞれマトリックス状に配列されたフライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａに対向して配置されている。
【００２８】
即ち、本実施形態の光学フィルタ９０のセル９１は、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａと同じく３行×３列に配列されている。また、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａと光学フィルタ９０のセル９１とは、互いの行と列の方向がそれぞれ一致するように配置されている。
【００２９】
光学フィルタ９０の複数のセル９１は、それぞれ中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が低くなる同一の光透過率分布を有している。中心部から周辺部に向かう光透過率の変化は、線形的変化、正弦波的変化、指数関数的変化など、任意に設定可能である。光透過率分布は、光学フィルタ９０の石英基板にクロムのドットパターンを蒸着するものや、蒸着多層膜により中心から放射状に透過率が変化する光学フィルタなどによって設けることができる。光透過率は、ドットパターンの大きさや密度を変えることで任意に設定することができる。
【００３０】
なお、光学フィルタ９０は、不図示の切換え機構により他の光透過率分布を有する光学フィルタ９０に変更可能としてもよく、或いは光学フィルタ９０を光路ＥＬから外して不使用状態としてもよい。また、必要に応じて、不図示のノズルから冷却空気を吹き付けて光学フィルタ９０を冷却することもできる。
【００３１】
その他、照明装置３では、高圧水銀ランプ６１は、単一のランプであってもよく、或いは、ＬＥＤによって構成されてもよい。また、光学フィルタ９０と露光制御用シャッターユニット６４の設置順は、逆であってもよい。さらに、フライアイレンズ６５と露光面との間には、ＤＵＶカットフィルタ、偏光フィルタ、バンドパスフィルタが配置されてもよい。
【００３２】
このように構成された近接露光装置ＰＥでは、照明装置３において、露光時に露光制御用シャッターユニット６４が開制御されると、高圧水銀ランプ６１から照射された光が、平面ミラー６３で反射され、光学フィルタ９０で各セル９１が有する光透過率分布に従って照度分布が補正された後、フライアイレンズ６５の入射面に入射される。そして、フライアイレンズ６５の出射面から発せられた光は、平面ミラー６６、コリメーションミラー６７、及び平面ミラー６８によってその進行方向が変えられるとともに平行光に変換される。そして、この平行光は、マスクステージ１に保持されるマスクＭ、さらにはワークステージ２に保持されるワークＷの表面に対して略垂直にパターン露光用の光として照射され、マスクＭのパターンがワークＷ上に露光転写される。
【００３３】
図４に示すように、パターンが描かれていない周縁部が、マスクホルダ２６の下面に着脱自在に吸着保持されたマスクＭは、マスクＭの自重によりその中心部が下方に撓んでおり、マスクＭの下面とワークＷの上面の間のギャップＧは、マスクＭの中央部分が小さくなっている。このような状態にあるマスクＭを介してワークＷに照度分布が均一の露光光を照射して露光転写すると、ギャップＧが狭い部分では露光結果であるパターンの線幅が狭くなり、ギャップＧが広い部分ではパターンの線幅が広くなる。従って、マスクＭの中央部分に対応する線幅は、周辺部分の線幅と比較して狭くなる。
【００３４】
一方、パターンの線幅は、ワークＷ上における露光光の照度によっても変化し、照度が高いと線幅が広くなり、照度が低いと線幅が狭くなる。従って、マスクＭとワークＷ間のギャップＧの差に起因する露光結果の差、具体的には、露光転写された線幅の差は、露光面における照度を調節することで補正可能である。即ち、線幅が広い周辺部分の照度を、線幅が狭い中央部分の照度より低下させることで、線幅を補正してワークＷの全面で均等にすることができる。
【００３５】
露光面（ワークＷ上）の照度は、光学フィルタ９０の各セル９１の光透過率分布により変更することができる。図５は、中心部から周辺部に向かって次第に光透過率が低くなる、同一の光透過率分布を有する複数のセル９１からなる光学フィルタ９０（図３参照）が、ランプユニット６０から照射される光を補正するイメージ図である。ランプユニット６０から出た光は、光学フィルタ９０を通り、光透過率が低い部分（周辺部）の照度が低下してフライアイレンズ６５に入射し、フライアイレンズ６５の各レンズ素子６５ａを通って重なり合うことで露光面での照度分布が変化して、露光面における周辺部の照度が低下する（図５（ｂ））。
【００３６】
このような光透過率分布を備える光学フィルタ９０をフライアイレンズ６５の手前に配置することで、マスクＭとワークＷ間のギャップＧが広い周辺部の照度を低下させて周辺部におけるパターンの線幅を狭め、ワークＷの全面で線幅を均等にし、露光精度のばらつきを補正することができる。
なお、必要に応じて、光学フィルタ９０を光路ＥＬに沿って移動させることで露光光の全体強度を調節可能であり、光学フィルタ９０によって照度低下量を調節することもできる。
【００３７】
また、光学フィルタ９０の製作は、光学フィルタ９０を用いずに照度分布が均一の露光光でテスト露光転写し、その結果得られるワークＷ上の線幅に基づいて光透過率分布を設定することが好ましい。
【００３８】
以上説明したように、本実施形態の照明装置３によれば、ランプユニット６０と、複数のレンズ素子６５ａを有するフライアイレンズ６５と、フライアイレンズ６５のレンズ素子６５ａと同数のマトリクス状に分割され、それぞれ露光面での照度分布を変更可能な光透過率分布を持った複数のセル９１を有し、ランプユニット６０とフライアイレンズ６５との間に配置された光学フィルタ９０と、を備える。そして、各セル９１は、マスクＭとワークＷとの間のギャップＧの分布に応じて、ワークＷの露光結果が均一化されるように露光面での照度分布を変更可能な、それぞれ同一の光透過率分布を有するので、ワークＷとマスクＭ間のギャップＧのばらつきに起因する露光パターンのサイズのばらつきを補正することができる。
【００３９】
また、各セル９１は、中心部から周辺部に向かって、次第に光透過率が低下する同一の光透過率分布を有するので、中心部と比較してギャップＧが広く、露光パターンのサイズが大きくなる周辺部の照度を低下させて露光パターンのサイズを小さくし、ワークＷ上の露光パターンのサイズを均一にすることができる。
【００４０】
光学フィルタ９０は、光路ＥＬに沿って移動可能であるので、光学フィルタ９０の効果の強さを調節することができる。
【００４１】
更に、本実施形態の近接露光装置ＰＥ及び近接露光方法によれば、マスクステージ１で支持されるマスクＭと、ワークステージ２で支持されるワークＷと、ワークＷとマスクＭ間のギャップＧの分布に応じて、ワークＷの露光結果が均一化されるように露光面での照度分布を変更可能な光学フィルタ９０を有する照明装置３と、を備え、光学フィルタ９０で補正されたランプユニット６０からの露光光を、マスクＭを介してワークＷに照射して露光パターンを露光転写するので、高精度な露光結果が得られる。
【００４２】
尚、本発明は、前述した実施形態に限定されるものではなく、適宜、変形、改良、等が可能である。
例えば、上記実施形態では、マスクの中心部のギャップが最も狭くなるとして説明したが、マスクとワークとの間のギャップの最小値は、マスクの中心部である必要はなく、ギャップの最小値がマスクの中心部からずれている場合は、光学フィルタの各セルの光透過率分布を、光透過率の高い部分が、ギャップが最小となる位置に対応するように設定すればよい。
【符号の説明】
【００４３】
１      マスクステージ（マスク保持部）
２      ワークステージ（ワーク保持部）
３      近接露光用照明装置
６０    ランプユニット（光源）
６３，６６，６８    平面ミラー（反射鏡）
６５    フライアイレンズ
６５ａ        レンズ素子
６７    コリメーションミラー（反射鏡）
９０    光学フィルタ
９１    セル
ＥＬ    光路
Ｇ      ギャップ
Ｍ      マスク
ＰＥ    近接露光装置
Ｗ      ワーク
【図１】
2016218381.tif 000003
【図２】
2016218381.tif 000004
【図４】
2016218381.tif 000005
【図５】
2016218381.tif 000006
【図３】
2016218381.tif 000007