(57)【要約】【課題】耐久性が改善された低熱貫流フィルム。【解決手段】第１および第２の表面を有するフィルム基材と、前記フィルム基材の前記第１の表面に配置され、少なくとも第１の層および第２の層を有し、前記第１の層は、前記第２の層よりも前記フィルム基材により近く、波長５５０ｎｍの光に対して、前記第２の層の屈折率よりも高い屈折率を有する、屈折率調整膜と、前記屈折率調整膜の上に配置されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を主体とする透明導電層と、前記透明導電層の上に配置され、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以下の上部層と、を有する、低熱貫流フィルム。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１および第２の表面を有するフィルム基材と、
前記フィルム基材の前記第１の表面に配置され、少なくとも第１の層および第２の層を有し、前記第１の層は、前記第２の層よりも前記フィルム基材により近く、波長５５０ｎｍの光に対して、前記第２の層の屈折率よりも高い屈折率を有する、屈折率調整膜と、
前記屈折率調整膜の上に配置されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を主体とする透明導電層と、
前記透明導電層の上に配置され、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以下の上部層と、
を有する、低熱貫流フィルム。
【請求項２】
前記透明導電層は、１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲の範囲の厚さを有する、請求項１に記載の低熱貫流フィルム。
【請求項３】
前記上部層は、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲の厚さを有する、請求項１または２に記載の低熱貫流フィルム。
【請求項４】
前記上部層は、ＳｉＯ２を主体とする、請求項１乃至３のいずれか一つに記載の低熱貫流フィルム。
【請求項５】
前記第１の層は、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、およびＺｒのうちの少なくとも一種を含む酸化物または酸窒化物で構成され、および／または
前記第２の層は、ＳｉＯ２を主体とする、請求項１乃至４のいずれか一つに記載の低熱貫流フィルム。
【請求項６】
前記フィルム基材の前記第２の表面には、粘着層が設置される、請求項１乃至５のいずれか一つに記載の低熱貫流フィルム。
【請求項７】
前記フィルム基材は、透明な樹脂で構成される、請求項１乃至６のいずれか一つに記載の低熱貫流フィルム。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、低熱貫流フィルムに関する。
【背景技術】
【０００２】
従来より、建物や車両などのガラス部材の内側に低熱貫流フィルムを貼り付けることにより、室内（車内）の温度低下を抑制し、室内（車内）の断熱効果を高め得ることが知られている。
【０００３】
一般的な低熱貫流フィルムは、樹脂製のフィルム基材に、薄い銀層を含む多層膜をフィルム基材の室内（車内）面側に配置することにより構成される。この薄い銀層が室内（車内）の赤外線等を反射する赤外線反射機能層として機能するため、低熱貫流フィルムを使用した際に、前述のような断熱効果を得ることができる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特許第５３３６７３９号明細書
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、従来の低熱貫流フィルムは、耐湿性、耐擦傷性、および耐指紋性などの点で問題がある銀層を有するため、あまり良好な耐久性を示さないという問題がある。例えば、従来の低熱貫流フィルムは、環境中の水分と反応したり、指で触った後に変色が生じたりするなど、容易に劣化してしまう傾向がある。
【０００６】
このため、より良好な耐久性を有する低熱貫流フィルムが要望されている。
【０００７】
本発明は、このような背景に鑑みなされたものであり、本発明では、従来に比べて耐久性が改善された低熱貫流フィルムを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明では、
第１および第２の表面を有するフィルム基材と、
前記フィルム基材の前記第１の表面に配置され、少なくとも第１の層および第２の層を有し、前記第１の層は、前記第２の層よりも前記フィルム基材により近く、波長５５０ｎｍの光に対して、前記第２の層の屈折率よりも高い屈折率を有する、屈折率調整膜と、
前記屈折率調整膜の上に配置されたインジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を主体とする透明導電層と、
前記透明導電層の上に配置され、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以下の上部層と、
を有する、低熱貫流フィルムが提供される。
【発明の効果】
【０００９】
本発明では、従来に比べて耐久性が改善された低熱貫流フィルムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムの構成を模式的に示した断面図である。
【図２】本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムの製造方法のフローの一例を模式的に示した図である。
【図３】サンプル１において、各入射角度で光を照射した際に生じる反射色を、色空間の色座標にプロットした図である。
【図４】サンプル２において、各入射角度で光を照射した際に生じる反射色を、色空間の色座標にプロットした図である。
【図５】サンプル３において、各入射角度で光を照射した際に生じる反射色を、色空間の色座標にプロットした図である。
【図６】サンプル４において、各入射角度で光を照射した際に生じる反射色を、色空間の色座標にプロットした図である。
【図７】サンプル７において、各入射角度で光を照射した際に生じる反射色を、色空間の色座標にプロットした図である。
【図８】サンプル８において、各入射角度で光を照射した際に生じる反射色を、色空間の色座標にプロットした図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の一実施形態について説明する。
【００１２】
（本発明の一実施形態による低熱貫流フィルム）
図１には、本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムの断面を模式的に示す。
【００１３】
図１に示すように、この低熱貫流フィルム１００は、フィルム基材１１０と、屈折率調整膜１２０と、透明導電層１３０と、上部層１５０とを有する。
【００１４】
フィルム基材１１０は、第１の表面１１２および第２の表面１１４を有する。
【００１５】
屈折率調整膜１２０は、フィルム基材１１０の第１の表面１１２に設置される。屈折率調整膜１２０は、該屈折率調整膜１２０に含まれる１または２以上の層の屈折率を制御することにより、低熱貫流フィルム１００の反射色の角度依存性を調節する役割を有する。
【００１６】
図１の例では、屈折率調整膜１２０は、フィルム基材１１０に近い側から、第１の層１２２と第２の層１２６の２層で構成される。この構成では、第１の層１２２は、波長５５０ｎｍの光に対して第２の層１２６よりも高い屈折率を有する。
【００１７】
ただし、これは単なる一例であって、屈折率調整膜１２０は、単層または３層以上で構成されても良い。
【００１８】
透明導電層１３０は、熱線反射機能を有する層として、屈折率調整膜１２０の上部に配置される。透明導電層１３０は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を主体とする材料で構成される。ここで、本願において、「Ａ材料を主体とする」とは、その部材が、Ａ材料を５０ｗｔ％以上含むことを意味する。また、本発明記載の「屈折率」とは、本発明記載の膜を積層時に加工したときと同じ条件で基材上に単層に加工し、屈折率を測定した場合の屈折率を意味する。
【００１９】
透明導電層１３０の波長５５０ｎｍの光に対する屈折率は、例えば、１．６〜２．５の範囲である。
【００２０】
上部層１５０は、透明導電層１３０の上に配置される。ここで、本願において、「上部層」の「上部」とは、フィルム基材１１０に対して透明導電層１３０よりも遠い側に配置されることを意味する。従って、「上部層」と言う表現は、上部層１５０が、必ずしも最上層であることを意味するものではない。
【００２１】
上部層１５０は、透明導電層１３０を保護するとともに、低熱貫流フィルム１００の耐久性を高める役割を有する。
【００２２】
なお、図１には示されていないが、透明導電層１３０と上部層１５０の間に、剥離防止層を設置しても良い。剥離防止層を設置した場合、透明導電層１３０と上部層１５０の間の界面で、両者が剥離する可能性を軽減できる。ただし、剥離防止層１４０の設置は任意であり、剥離防止層１４０は、省略しても良い。
【００２３】
このような構成を有する低熱貫流フィルム１００は、良好な断熱性を発揮する。例えば、低熱貫流フィルム１００の垂直放射率は、０．３以下である。従って、低熱貫流フィルム１００を、例えば、建物の窓ガラスおよび車両のガラス部材（以下、これらをまとめて、単に「ガラス部材」とも称する）等に適用した場合、室内（車内）の熱が外部に逸散することを、有意に抑制することが可能となる。
【００２４】
また、低熱貫流フィルム１００では、赤外反射機能層として、銀層の代わりに、ＩＴＯを主体とした透明導電層１３０が使用される。このため、この低熱貫流フィルム１００は、比較的良好な耐久性を有する。例えば、この低熱貫流フィルム１００では、従来のような、環境中の水分と反応したり、指で触った際の油脂により変色が生じたりして、容易に劣化してしまうという問題を有意に抑制することができる。
【００２５】
また、従来の低熱貫流フィルムでは、視認方向によって、低熱貫流フィルムの反射色に変化が生じる場合がある。このような反射色の角度依存性は、低熱貫流フィルムが貼付されたガラス部材を見た視認者に、違和感を与える可能性がある。
【００２６】
しかしながら、本発明の一実施形態による低熱貫流フィルム１００は、屈折率調整膜１２０を有する。この屈折率調整膜１２０においては、該屈折率調整膜１２０を構成する各層の屈折率が適正に調整されている。例えば、前述のように、屈折率調整膜１２０は、波長５５０ｎｍの光に対して相対的に高い屈折率を有する第１の層１２２と、相対的に低い屈折率を有する第２の層１２６とで構成される。
【００２７】
また、本低熱貫流フィルム１００では、屈折率調整膜１２０〜上部層１５０までの各層が、相互に反射色の角度依存性に悪影響を及ぼさないように構成されている。例えば、上部層１５０は、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．５５以下となるような材料で構成されている。
【００２８】
このような構成により、本低熱貫流フィルム１００では、反射色の角度依存性を有意に抑制することができる。
【００２９】
（本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムを構成する部材）
次に、本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムを構成する各部材について、より詳しく説明する。なお、以下の説明では、各部材（層）を表す際に、明確化のため、図１に使用した参照符号を使用する。
【００３０】
（フィルム基材１１０）
低熱貫流フィルム１００のフィルム基材１１０は、他の層を支持する基材としての役割を有する。
【００３１】
フィルム基材１１０は、例えば、透明な樹脂で構成される。透明な樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート、ポリメタクリレート、およびポリカーボネート等が挙げられる。
【００３２】
フィルム基材１１０の厚さは、例えば、５μｍ〜２００μｍの範囲であっても良い。フィルム基材１１０の厚さを２００μｍ以下とすることにより、低熱貫流フィルム１００の全体の厚さを抑制することができる。また、フィルム基材１１０の厚さを５μｍ以上とすることにより、上部に積層される各層を支持することができる。
【００３３】
フィルム基材１１０の厚さは、３０μｍ〜１５０μｍの範囲が好ましく、４０μｍ〜１２０μｍの範囲がより好ましい。
【００３４】
（屈折率調整膜１２０）
屈折率調整膜１２０は、低熱貫流フィルム１００の反射色の角度依存性を調節する役割を有する。
【００３５】
前述のように、屈折率調整膜１２０は、少なくとも第１の層１２２と第２の層１２６とを含む、複数の層で構成されても良い。
【００３６】
この場合、フィルム基材１１０により近い第１の層１２２は、波長５５０ｎｍの光に対して、第２の層１２６よりも高い屈折率を有することが好ましい。例えば、第１の層１２２は、波長５５０ｎｍの光に対して、１．６〜２．５の範囲の屈折率を有する。屈折率は、１．７〜２．４の範囲であることが好ましく、１．７〜２．２の範囲であることがより好ましい。
【００３７】
一方、第２の層１２６は、例えば、波長５５０ｎｍの光に対して１．６以下の屈折率を有する。屈折率は、１．５５以下であることが好ましい。
【００３８】
第１の層１２２は、例えば、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、およびＺｒの少なくとも一種を含む酸化物または酸窒化物で構成される。特に、これらの中では、Ｎｂ、Ｚｎ、Ｉｎの少なくとも一種を含む酸化物または酸窒化物が好ましい。
【００３９】
なお、第１の層１２２を酸化スズで構成した場合、以降の加熱プロセスにおいて、第１の層１２２に割れが生じる可能性がある。このため、低熱貫流フィルム１００の製造過程に熱処理工程が含まれる場合、第１の層１２２を酸化スズで構成することは好ましくない。
【００４０】
第１の層１２２の厚さは、例えば１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲であり、１０ｎｍ〜３５ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００４１】
第２の層１２６は、例えば、ＳｉＯ２、ＳｉＯＮ、またはＭｇＦ２のいずれかを主体とする材料で構成されても良い。
【００４２】
第２の層１２６の厚さは、例えば５ｎｍ〜４５ｎｍの範囲であり、１０ｎｍ〜４０ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００４３】
屈折率調整膜１２０は、波長５５０ｎｍの光に対して１．６〜１．８の範囲の屈折率を有する、単一の層で構成されても良い。この層は、酸化アルミニウム、酸窒化珪素、酸化珪素、フッ化マグネシウムなどを含む物質で構成され、膜厚は３０ｎｍ〜９０ｎｍの範囲であっても良い。
【００４４】
（透明導電層１３０）
透明導電層１３０は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）を主体とする材料で構成される。ＩＴＯは、赤外線反射機能を有する。
【００４５】
ＩＴＯには、添加物が含有されても良い。そのような添加物は、例えば珪素、アルミニウム、マグネシウム、ニオビウム、ジルコニウム、ガリウム、タングステン、亜鉛、タンタル、チタニウム、および／またはカリウム等であっても良い。
【００４６】
ＩＴＯ中の酸化スズの割合は、全体の５ｗｔ％〜１２．５ｗｔ％の範囲であり、全体の６．５ｗｔ％〜１１ｗｔ％の範囲であることが好ましい。酸化スズの割合が１２．５ｗｔ％以下の場合、酸化スズの量が多いほど、抵抗が小さくなる傾向にある。
【００４７】
また、透明導電層１３０は、ＩＴＯの他に、最大５０ｗｔ％未満の他の材料を含んでも良い。そのような材料は、例えば、珪素、アルミニウム、マグネシウム、ニオビウム、ジルコニウム、ガリウム、タングステン、亜鉛、タンタル、チタニウム、および／またはカリウムなどであっても良い。
【００４８】
ＩＴＯには、赤外線の反射率を上げる効果がある。このため、透明導電層１３０が厚いほど、低熱貫流フィルム１００の放射率が低下する。透明導電層１３０の厚さは、例えば、１００ｎｍ〜２００ｎｍの範囲であり、１２０ｎｍ〜１７０ｎｍの範囲であることが好ましい。透明導電層１３０がＩＴＯで構成される場合、その厚さを１００ｎｍ以上とすることにより、０．２５程度の低い放射率を有する低熱貫流フィルム１００を得ることができる。ただし、ＩＴＯの厚さを２００ｎｍ以上とした場合、ＩＴＯの単位厚さあたりの放射率の低下量が少なくなる上、フィルムおよび積層膜に反り、シワおよびクラック等が生じ易くなる。
【００４９】
波長５５０ｎｍの光に対する透明導電層１３０の屈折率は、通常１．６〜２．５の範囲である。
【００５０】
（剥離防止層）
剥離防止層は、必要に応じて設置される。剥離防止層を設置することにより、透明導電層１３０と上部層１５０の間の剥離強度を高められる場合がある。ただし、剥離防止層の設置は任意である。
【００５１】
剥離防止層は、例えば、珪素、亜鉛、ジルコニウム、窒化珪素、窒化チタン、チタン、アルミニウム、および酸化セリウムなどの金属、金属窒化物および金属酸化物で構成されても良い。剥離防止層の厚さは、例えば、１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲である。
【００５２】
（上部層１５０）
上部層１５０は、その下側に存在する層、例えば、透明導電層１３０および／または剥離防止層を保護するために配置される。例えば、透明導電層１３０の上部に上部層１５０を設置することにより、透明導電層１３０の耐熱性を高めることができる。また、上部層１５０を設置することにより、耐擦傷性が高まり、透明導電層１３０に摩耗減肉や傷等が生じることを抑制することができる。
【００５３】
また、適正な上部層１５０を設置した場合、低熱貫流フィルム１００の可視光域の透過率を高めることができる。
【００５４】
上部層１５０は、波長５５０ｎｍの光に対する屈折率が１．６以下の材料で構成されることが好ましく、屈折率が１．５５以下の材料で構成されることがより好ましい。そのような材料として、例えば、シリカ（ＳｉＯ２）、ＳｉＯＮ、およびＭｇＦ２等が挙げられる。上部層１５０は、例えばシリカ（ＳｉＯ２）を主体とする層であっても良い。上層部１５０は、最大５０ｗｔ％未満の他の材料を含んでも良い。そのような材料は、アルミニウム、ジルコニウム、スズなどであっても良い。（これらの添加物により、摩擦に対する耐久性がさらに改善される。）この場合、透明導電層１３０の耐熱性を高めることができる。また、透明導電層１３０に摩耗減肉や傷等が生じることを抑制することができる。
【００５５】
上部層１５０の厚さは、例えば、１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲である。上部層１５０の厚さは、例えば、１０ｎｍ〜６０ｎｍの範囲であることが好ましい。
【００５６】
（粘着層）
この他、低熱貫流フィルム１００は、粘着層を有しても良い。粘着層は、通常、フィルム基材１１０の第２の表面１１４の側に配置される。粘着層を介して、低熱貫流フィルム１００をガラスなどの対象物に貼付することができる。
【００５７】
粘着層は、粘着剤のみで構成されたもの、あるいは粘着剤中に各種添加剤が添加されたものの、いずれも使用可能である。後者の場合、添加剤としては、例えば赤外線反射剤、赤外線吸収剤、および紫外線吸収剤等が挙げられる。
【００５８】
粘着剤としては、アクリル系材料、シリコーン系材料、ウレタン系材料、およびブタジエン系材料などが挙げられる。特に、アクリル系粘着剤が好ましい。アクリル系粘着剤は、主成分としてアクリル系単量体単位を含む重合体であっても良く、この場合、アクリル系単量体は、（メタ）アクリル酸、イタコン酸、（無水）マレイン酸、（無水）フマル酸、クロトン酸、およびこれらのアルキルエステルであっても良い。ここで、（メタ）アクリル酸とは、アクリル酸およびメタクリル酸の総称を意味する。
【００５９】
紫外線吸収剤としては、例えば、トリアジン系の材料が使用できる。
【００６０】
（低熱貫流フィルム１００）
低熱貫流フィルム１００は、０．１〜０．３の範囲の垂直放射率を有することが好ましい。このような放射率では、赤外および遠赤外の波長の光に対する熱貫流率を有意に低下させることができる。
【００６１】
低熱貫流フィルム１００は、入射角０゜で光が入射した際に生じる反射光のＣＩＥ１９７６  Ｌ＊ａ＊ｂ色空間におけるａ＊値とｂ＊値が、−１０≦ａ＊値≦３、および−１５≦ｂ＊値≦１０を満たすことが好ましい。さらに、光の入射角が６０゜のときの反射光における色座標（ａ＊，ｂ＊）は、光の入射角が５゜のときの反射光における色座標（ａ＊，ｂ＊）との距離が５以下であることが好ましい。この場合、反射光の角度依存性を有意に抑制することが可能となる。
【００６２】
低熱貫流フィルム１００は、例えば、ガラス部材等に貼付して使用される。そのようなガラス部材は、建物の窓ガラスおよび車両のガラス部材（例えばフロントガラス、リアガラス、サイドガラス、およびルーフガラス）等であっても良い。さらに、ガラス部材は、冷蔵装置、冷凍装置、およびショーケース等に使用されるものであっても良い。
【００６３】
（本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムの製造方法）
次に、図２を参照して、前述のような特徴を有する本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムの製造方法の一例について説明する。なお、ここでは、一例として、図１に示したような低熱貫流フィルム１００を例に、その製造方法について説明する。
【００６４】
図２には、本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムの製造方法のフローの一例を模式的に示す。
【００６５】
図２に示すように、この製造方法は、
第１および第２の表面を有するフィルム基体を準備するステップ（ステップＳ１１０）と、
前記フィルム基体の第１の表面に、屈折率調整膜を設置するステップ（ステップＳ１２０）と、
前記屈折率調整膜の上に透明導電層を設置するステップ（ステップＳ１３０）と、
前記透明導電層の上に剥離防止層を設置するステップ（ステップＳ１４０）と、
前記剥離防止層の上に上部層を設置するステップ（ステップＳ１５０）と、
を有する。なお、ステップＳ１４０、すなわち剥離防止層の設置は、省略しても良い。
【００６６】
以下、各ステップについて詳しく説明する。なお、以降の記載では、明確化のため、各部材を表す際に、図１に使用した参照符号を使用する。
【００６７】
（ステップＳ１１０）
まず、フィルム基材１１０が準備される。
【００６８】
前述のように、フィルム基材１１０は、例えば、透明な樹脂で構成されても良い。
【００６９】
（ステップＳ１２０）
次に、フィルム基材１１０の第１の表面１１２に、屈折率調整膜１２０が設置される。
【００７０】
前述のように、屈折率調整膜１２０は、第１の層１２２および第２の層１２６を含む複数の層で形成されても良い。このうち、フィルム基材１１０により近い第１の層１２２は、例えば、Ｔｉ、Ｎｂ、Ｔａ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｉｎ、およびＺｒの少なくとも一種を含む酸化物または酸窒化物を主体とする材料で構成される。第１の層１２２は、例えば、亜鉛スズ酸化物を主体とする層であっても良い。一方、第２の層１２６は、シリカを主体とする層であっても良い。
【００７１】
第１および第２の層１２２、１２６は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成膜法、または湿式成膜法等により形成される。第１および第２の層１２２、１２６は、特に、スパッタリング法により形成されることが好ましい。スパッタリング法は、環境負荷が少なく、スパッタリング法で得られた層は、厚さが比較的均一になるからである。
【００７２】
スパッタリング法としては、ＤＣスパッタリング法、ＡＣスパッタリング法、ＤＣパルススパッタリング法、高周波スパッタリング法、および高周波重畳ＤＣスパッタリング法等が挙げられる。スパッタリング法としては、マグネトロンスパッタリング法を採用しても良い。
【００７３】
第１の層１２２は、例えば、１０ｎｍ〜４０ｎｍの厚さで成膜され、第２の層１２６は、例えば、５ｎｍ〜４５ｎｍの厚さで成膜される。
【００７４】
（ステップＳ１３０）
次に、屈折率調整膜１２０の上に、ＩＴＯを主体とする透明導電層１３０が設置される。
【００７５】
透明導電層１３０は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成膜法、または湿式成膜法等により形成される。前述のように、スパッタリング法としては、ＤＣスパッタリング法、ＡＣスパッタリング法、ＤＣパルススパッタリング法、高周波スパッタリング法、および高周波重畳ＤＣスパッタリング法等が挙げられる。スパッタリング法としては、マグネトロンスパッタリング法を採用しても良い。
【００７６】
透明導電層１３０は、例えば、１００ｎｍ〜２００ｎｍの厚さで成膜される。
【００７７】
なお、透明導電層１３０をスパッタリング法で成膜する場合、フィルム基材１１０の成膜温度は、特に問われない。ただし、成膜温度は、フィルムに対する熱負荷によるシワが発生しない程度に抑制されることが好ましい。例えば、スパッタリング法による透明導電層１３０の成膜中のフィルム基材１１０の温度は、１７０℃以下であることが好ましい。
【００７８】
透明導電層１３０は、例えば、屈折率調整膜１２０上にアモルファス状のＩＴＯ層を成膜し、その後結晶化させることにより形成しても良い。結晶化のため熱処理温度は、例えば、５０℃〜１８０℃の範囲である。この方法では、低垂直放射率のＩＴＯ層を得ることができる。
【００７９】
なお、この熱処理（以下、「結晶化熱処理」という）は、次の剥離防止層１４０の形成工程（ステップＳ１４０）以降に実施しても良い。例えば、結晶化熱処理は、全ての層の成膜後に実施しても良い。
【００８０】
（ステップＳ１４０）
次に、透明導電層１３０の上に、剥離防止層が設置される。
【００８１】
剥離防止層は、例えば、酸化セリウムなどの金属酸化物で構成され、スパッタリング法により成膜されても良い。
【００８２】
剥離防止層は、例えば、１ｎｍ〜１０ｎｍの範囲である。
【００８３】
ただし、このステップは、省略しても良い。
【００８４】
（ステップＳ１５０）
次に、剥離防止層（剥離防止層が存在しない場合は、透明導電層１３０）の上に、上部層１５０が配置される。上部層１５０は、シリカ（ＳｉＯ２）を主体とする材料で構成されても良い。
【００８５】
上部層１５０は、例えば、スパッタリング法、真空蒸着法、イオンプレーティング法、化学気相成膜法、または湿式成膜法等により形成される。前述のように、スパッタリング法としては、ＤＣスパッタリング法、ＡＣスパッタリング法、ＤＣパルススパッタリング法、高周波スパッタリング法、および高周波重畳ＤＣスパッタリング法等が挙げられる。スパッタリング法としては、マグネトロンスパッタリング法を採用しても良い。
【００８６】
上部層１５０は、例えば、１０ｎｍ〜１００ｎｍの厚さで成膜される。
【００８７】
その後、必要な場合、フィルム基材１１０の第２の表面１１４の側に、粘着層が設置される。なお、粘着層の設置方法は、当業者には明らかであるため、ここでは説明しない。
【００８８】
以上の工程により、本発明の一実施形態による低熱貫流フィルム１００を製造することができる。
【００８９】
なお、上記製造方法は、単なる一例であって、本発明の一実施形態による低熱貫流フィルムは、その他の製造方法を用いても製造され得ることは当業者には明らかである。
【実施例】
【００９０】
次に、本発明の実施例について説明する。
【００９１】
（実施例１）
以下の方法で、低熱貫流率フィルムを製造した。
【００９２】
まず、一方の表面（第２の表面）に粘着層を有するＰＥＴフィルム（厚さ１００μｍ）を準備した。次に、このＰＥＴフィルムの他方の表面（第１の表面）に対して、イオンビームを用いて乾式洗浄処理を行った。
【００９３】
乾式洗浄処理は、イオンビーム形成装置内に酸素ガスとアルゴンガスの混合ガス（酸素ガス量：約３０ｖｏｌ％）を導入し、イオンビームでイオン化されたアルゴンイオンおよび酸素イオンを、ＰＥＴフィルムの第１の表面に照射することにより実施した。
【００９４】
次に、ＰＥＴフィルムの洗浄後の第１の表面に、屈折率調整膜を成膜した。屈折率調整膜は、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）層（第１の層）と、シリカ（ＳｉＯ２）層と（第２の相）の２層構造とした。
【００９５】
最初の第１の層は、スズ酸化物を１０ｗｔ％含むＩＴＯターゲットを用いたＡＣマグネトロンスパッタリング法により成膜した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．８Ｐａの圧力で実施した。これにより、厚さ２５ｎｍのＩＴＯ層が形成された（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝１．８３）。
【００９６】
なお、実施例１における各層の膜厚は、スパッタリング時の成膜速度とスパッタ時間の関係から求めた値である（以下の実施例および比較例においても同様）。
【００９７】
次の第２の層は、多結晶ケイ素からなるターゲットを用いたＡＣマグネトロンスパッタリング法により成膜した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．３Ｐａの圧力で実施した。これにより、厚さ３０ｎｍのシリカ層が形成された（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝１．４７）。
【００９８】
次に、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、屈折率調整膜の上に、透明導電層としてＩＴＯ層を成膜した。
【００９９】
ターゲットには、スズ酸化物を１０ｗｔ％含むＩＴＯターゲットを用いた。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．８Ｐａの圧力で成膜を実施した。これにより、厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ層が形成された（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝１．８３）。
【０１００】
次に、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、透明導電層の上に、上部層としてシリカ層を成膜した。
【０１０１】
ターゲットには、多結晶ケイ素からなるターゲットを使用した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．３Ｐａの圧力で実施した。これにより、厚さ２５ｎｍのシリカ層が形成された（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝１．４７）。
【０１０２】
以上の工程により、低熱貫流率フィルム（「実施例１に係るフィルム」と称する）が得られた。
【０１０３】
さらに、得られた実施例１に係るフィルムを所定の寸法に切り出した後、このフィルムを、粘着層を介してソーダライムガラス板（厚さ３ｍｍ）の一方の表面に貼り付けることにより、試験用のサンプル（以下、「サンプル１」と称する）を製造した。
【０１０４】
（実施例２）
実施例１と同様の方法により、実施例２に係るフィルムを製造した。ただし、この実施例２では、屈折率調整膜の第１の層（ＩＴＯ）の厚さは１９ｎｍとし、第２の層（シリカ層）の厚さは３０ｎｍとし、上部層であるシリカ層の膜厚は６０ｎｍとした。その他の条件は、実施例１の場合と同様である。
【０１０５】
また、実施例１と同様の方法により、実施例２に係るフィルムを用いて、試験用のサンプル（以下、「サンプル２」と称する）を製造した。
【０１０６】
（実施例３）
実施例１と同様の方法により、実施例３に係るフィルムを製造した。ただし、この実施例３では、屈折率調整膜の第１の層（ＩＴＯ）の厚さは２４ｎｍとし、第２の層（シリカ層）の厚さは３３ｎｍとし、上部層であるシリカ層の膜厚は９０ｎｍとした。その他の条件は、実施例１の場合と同様である。
【０１０７】
また、実施例１と同様の方法により、実施例３に係るフィルムを用いて、試験用のサンプル（以下、「サンプル３」と称する）を製造した。
【０１０８】
以下の表１には、実施例１〜３に係るフィルムの層構成をまとめて示す。
【０１０９】
【表１】
2016212275.tif 000003
（比較例１）
以下の方法で、低熱貫流率フィルムを製造した。
【０１１０】
まず、実施例１と同様の方法で、第１の表面が乾式洗浄処理されたＰＥＴフィルムを準備した。
【０１１１】
次に、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、ＰＥＴフィルムの第１の表面に、第１の層として、亜鉛とスズの酸化物層を成膜した。
【０１１２】
ターゲットには、亜鉛を３０ｍｏｌ％含むスズターゲットを用いた。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．３Ｐａの圧力で成膜を実施した。これにより、厚さ４０ｎｍの亜鉛とスズの酸化物層が形成された。
【０１１３】
次に、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、第１の層の上に、第２の層として、銀合金層を成膜した。
【０１１４】
ターゲットには、パラジウムを４ｍｏｌ％含む銀ターゲットを用いた。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．４Ｐａの圧力で成膜を実施した。これにより、厚さ１２ｎｍの銀合金層が形成された。
【０１１５】
次に、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、第２の層の上に、第３の層として、亜鉛とスズの酸化物層を成膜した。
【０１１６】
第３の層の成膜条件は、第１の層の場合と同様である。これにより、厚さ４０ｎｍの亜鉛とスズの酸化物層が形成された。
【０１１７】
次に、ＡＣマグネトロンスパッタリング法により、第３の層の上に、第４の層として、シリカ層を成膜した。
【０１１８】
ターゲットには、多結晶ケイ素からなるターゲットを使用した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．３Ｐａの圧力で実施した。これにより、厚さ４０ｎｍのシリカ層が形成された。
【０１１９】
以上の工程により、低熱貫流率フィルム（「比較例１に係るフィルム」と称する）が得られた。
【０１２０】
さらに、得られた比較例１に係るフィルムを所定の寸法に切り出した後、このフィルムを、粘着層を介してソーダライムガラス板の一方の表面に貼り付けることにより、試験用のサンプル（以下、「サンプル４」と称する）を製造した。
【０１２１】
（比較例２）
比較例１と同様の方法により、比較例２に係るフィルムを製造した。ただし、この比較例２では、第２の層である銀合金層の成膜用のターゲットとして、パラジウムを８ｍｏｌ％含む銀ターゲットを使用した。その他の条件は、比較例１の場合と同様である。
【０１２２】
また、比較例１と同様の方法により、比較例２に係るフィルムを用いて、試験用のサンプル（以下、「サンプル５」と称する）を製造した。
【０１２３】
（比較例３）
比較例１と同様の方法により、比較例３に係るフィルムを製造した。ただし、この比較例３では、第１の層および第３の層用の成膜用のターゲットとして、亜鉛を５０ｍｏｌ％含むスズターゲットを用いた。その他の条件は、比較例１の場合と同様である。
【０１２４】
また、比較例１と同様の方法により、比較例３に係るフィルムを用いて、試験用のサンプル（以下、「サンプル６」と称する）を製造した。
【０１２５】
以下の表２には、比較例１〜３に係るフィルムの層構成をまとめて示す。
【０１２６】
【表２】
2016212275.tif 000004
（評価）
次に、各サンプル１〜６を用いて、以下の特性評価を実施した。
【０１２７】
（熱貫流率の評価）
以下の方法で、５０ｍｍ×５０ｍｍの寸法の各サンプル１〜６を用いて、熱貫流率の評価を行った。
【０１２８】
まず、フーリエ変換赤外分光光度計（ＦＴ／ＩＲ−４２０：日本分光株式会社製）を用いて、各サンプル１〜６の垂直放射率を測定する。垂直放射率の測定は、ＪＩＳ  Ｒ３１０６に準拠して実施した。
【０１２９】
次に、得られた垂直放射率から、ＪＩＳ  Ａ５７５９に記載の方法で、熱貫流率を求めた。
【０１３０】
評価の際には、得られた熱貫流率が４．５以下であるサンプルを、低熱貫流サンプルとし、熱貫流率が４．５を超えるものを、非低熱貫流サンプルと判断した。
【０１３１】
その結果、サンプル１〜６は、いずれも低熱貫流サンプルであることがわかった。
【０１３２】
（耐擦傷性の評価）
以下の方法で、１００ｍｍ×１００ｍｍの寸法の各サンプル１〜６を用いて、耐擦傷性の評価を行った。
【０１３３】
まず、サンプルを、フィルムの上部層が上側となるようにして、摺動試験機に水平に設置する。摺動試験機は、水平台の上部に、水平表面を有する押し付け部材を有する。押し付け部材の水平表面には、白フェルトが設置されている。
【０１３４】
次に、上部層に所定の薬液を、該薬液が直径約２０ｍｍの寸法で広がるように滴下する。次に、摺動試験機の押し付け部材の水平表面を、サンプル上部層に接触させ、上から５００ｇの荷重を加える。
【０１３５】
次に、この状態で、押し付け部材の水平表面を、サンプルに対して水平方向に往復移動させる。水平方向の移動距離は、５０ｍｍとし、水平表面を往路方向に５０ｍｍ進行させた後、逆方向（復路方向）に同距離だけ移動させる。この操作を、１２往復／分の速度で、２０００回繰り返す。
【０１３６】
摺動操作後、サンプルの摺動面を目視で観察し、傷の有無を評価する。傷が認められないサンプルを、耐擦傷性が良好であると判断し、傷が認められるサンプルを、耐擦傷性が良好ではないと判断した。
【０１３７】
なお、薬液として、中性洗剤、アルカリ性洗剤、エタノール、および純水を使用した。
【０１３８】
以下の表３には、各サンプル１〜６において得られた結果をまとめて示した。
【０１３９】
【表３】
2016212275.tif 000005
表において、○は、サンプルの上部層に傷が認められなかったことを示しており、×は、サンプルの上部層に傷が認められたことを示している。なお、表３の「薬液」の欄において、「なし」とは、薬液を滴下せずに（すなわち乾燥状態で）、上記試験を行った際の結果である。ただし、この場合、押し付け部材の往復回数は、５０００回とした。
【０１４０】
耐擦傷性の評価結果から、実施例１〜実施例３に係るフィルムを使用したサンプル１〜サンプル３では、薬液の種類によらず、何れの試験でも良好な耐擦傷性が得られることがわかった。また、サンプル１〜サンプル３では、薬液を使用しない「乾燥」状態においても、良好な耐擦傷性が得られることがわかった。
【０１４１】
一方、比較例１〜比較例３に係るフィルムを使用したサンプル４〜サンプル６では、薬液の種類によっては、あまり良好な耐擦傷性が得られないことがわかった。
【０１４２】
（反射色の角度依存性）
次に、サンプル１を用いて、以下の方法により、反射色の角度依存性を評価した。
【０１４３】
サンプル１に対して、ＪＩＳＫ５６０２に準じ、分光光度計（Ｕ４１００：日立ハイテクノロジー社製）で、上部層の側から所定の角度（５゜〜６０゜）で可視光（波長３４０ｎｍ〜８４０ｎｍ）を照射し、得られる反射色を測定した。
【０１４４】
得られた反射色は、ＣＩＥ１９７６  Ｌ＊ａ＊ｂ＊色空間で表した（Ｄ６５光源、１０゜視野）。
【０１４５】
図３〜図６には、それぞれ、サンプル１〜サンプル４において、各入射角度で光を照射した際に生じた反射色を、色空間の色座標にプロットした図を示す。
【０１４６】
図３〜図６では、各サンプルにおいて、光の入射角度が５゜〜６０゜まで変化した際に生じる反射色の変化を定量的に把握することができる。
【０１４７】
図３から、サンプル１では、入射角度が５゜〜６０゜まで変化しても、反射光の色座標があまり変化していないことがわかる。同様に、図４および図５から、サンプル２、３では、入射角度が５゜〜６０゜まで変化しても、反射光の色座標があまり変化していないことがわかる。
【０１４８】
これに対して、図６に示すように、サンプル４の場合は、入射角度が５゜〜６０゜まで変化すると、反射光の色座標が大きく変化することがわかった。
【０１４９】
このように、サンプル１〜サンプル３では、サンプルからの反射色の角度依存性が有意に抑制されていることが確認された。
【０１５０】
（実施例４）
前述の実施例１と同様の方法により、実施例４に係るフィルムを製造した。ただし、この実施例４では、屈折率調整膜として、第１の層〜第３の層で構成された３層構造のものを使用した。
【０１５１】
第１の層は、アルミナ（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝１．７１）とし、厚さは、２０ｎｍとした。第２の層は、チタニア（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝２．４１）とし、厚さは、６ｎｍとした。また、第３の層は、シリカ（波長５５０ｎｍにおける屈折率＝１．４７）とし、厚さは、２０ｎｍとした。
【０１５２】
第１の層は、アルミニウムターゲットを用いたＡＣマグネトロンスパッタリング法により成膜した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．４Ｐａの圧力で実施した。
【０１５３】
第２の層は、チタンターゲットを用いたＡＣマグネトロンスパッタリング法により成膜した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．４Ｐａの圧力で実施した。
【０１５４】
第３の層は、多結晶ケイ素からなるターゲットを用いたＡＣマグネトロンスパッタリング法により成膜した。成膜雰囲気は、アルゴンガスと酸素ガスの混合ガス雰囲気とし、０．３Ｐａの圧力で実施した。
【０１５５】
屈折率調整膜の上には、透明導電層として厚さ１５０ｎｍのＩＴＯ層を成膜した。また、透明導電層の上には、上部層として厚さ２５ｎｍのシリカ層を成膜した。これらの層の成膜条件は、実施例１の場合と同様である。
【０１５６】
その後、実施例１と同様の方法により、実施例４に係るフィルムを用いて、試験用のサンプル（以下、「サンプル７」と称する）を製造した。
【０１５７】
（実施例５）
実施例４と同様の方法により、実施例５に係るフィルムを製造した。ただし、この実施例５では、屈折率調整膜の第１の層として、厚さが７ｎｍのチタニアを使用した。また、屈折率調整膜の第２の層として、厚さが１３ｎｍのアルミナを使用した。さらに、屈折率調整膜の第３の層として、厚さが２６ｎｍのシリカを使用した。
【０１５８】
その他の条件は、実施例４の場合と同様である。
【０１５９】
実施例１と同様の方法により、実施例５に係るフィルムを用いて、試験用のサンプル（以下、「サンプル８」と称する）を製造した。
【０１６０】
以下の表４には、実施例４〜５に係るフィルムの層構成をまとめて示す。
【０１６１】
【表４】
2016212275.tif 000006
（熱貫流率の評価および耐擦傷性の評価）
サンプル７およびサンプル８を用いて、前述のような熱貫流率の評価、および耐擦傷性の評価を行った。
【０１６２】
熱貫流率の評価の結果、サンプル７およびサンプル８は、いずれも低熱貫流サンプルであることがわかった。また、耐擦傷性の評価の結果、サンプル７およびサンプル８では、薬液の種類によらず、何れの試験でも良好な耐擦傷性が得られることがわかった。また、サンプル７およびサンプル８では、薬液を使用しない「乾燥」状態においても、良好な耐擦傷性が得られることがわかった。
【０１６３】
（反射色の角度依存性の評価）
次に、サンプル７およびサンプル８を用いて、前述の方法により、反射色の角度依存性を評価した。
【０１６４】
図７および図８には、それぞれ、サンプル７およびサンプル８において、各入射角度で光を照射した際に生じた反射色を、色空間の色座標にプロットした図を示す。
【０１６５】
図７および図８では、各サンプルにおいて、光の入射角度が５゜〜６０゜まで変化した際に生じる反射色の変化を定量的に把握することができる。
【０１６６】
図７から、サンプル７では、入射角度が５゜〜６０゜まで変化しても、反射光の色座標があまり変化していないことがわかる。同様に、図８から、サンプル８では、入射角度が５゜〜６０゜まで変化しても、反射光の色座標があまり変化していないことがわかる。このことから、サンプル７およびサンプル８では、サンプルからの反射色の角度依存性が有意に抑制されることが確認された。
【産業上の利用可能性】
【０１６７】
本発明は、各種ガラス部材の表面に貼付されるフィルム等に利用することができる。
【符号の説明】
【０１６８】
１００      低熱貫流フィルム
１１０      フィルム基材
１１２      第１の表面
１１４      第２の表面
１２０      屈折率調整膜
１２２      第１の層
１２６      第２の層
１３０      透明導電層
１５０      上部層
【図１】
2016212275.tif 000007
【図２】
2016212275.tif 000008
【図３】
2016212275.tif 000009
【図４】
2016212275.tif 000010
【図５】
2016212275.tif 000011
【図６】
2016212275.tif 000012
【図７】
2016212275.tif 000013
【図８】
2016212275.tif 000014