(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層をアルカリ金属の濃度が１０ｐｐｍ以下に管理された現像液を用いて現像する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記現像液が炭酸テトラメチルアンモニウム及び炭酸水素テトラメチルアンモニウムを０．０５〜１０ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含むことを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法。
【請求項２】
アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像液を用いて現像する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法に用いられる前記現像液が炭酸テトラメチルアンモニウム及び炭酸水素テトラメチルアンモニウムを０．０５〜１０ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含むことを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板形成用の現像液。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、アクティブマトリクス基板への樹脂層の形成方法及びこの方法に用いられる現像液に関する。更に詳しくは、多人数で見る携帯情報端末、パーソナルコンピューター、ワードプロセッサー、アミューズメント機器、テレビジョン装置などの平面ディスプレイ、シャッタ効果を利用した表示板、窓、扉、壁などに用いることができる液晶素子に用いられる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法とこの方法に用いられる現像液に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶素子は、従来、アクティブマトリクス基板とカラーフィルター付ガラス基板の間に液晶を封入して作成されてきたが、近年、高精細化時の開口率ＵＰ等の要求から、ガラス基板側に付与されていたカラーフィルターである着色層や透明層の一部または全て（本発明では樹脂層と呼ぶ事にする）をアクティブマトリクス基板側に形成しようとする試みが行われている。
アクティブマトリクス基板にはＴＦＴ等が形成されているため、アルカリ金属による基板の汚染を排除する必要がある。そのため、従来カラーフィルター形成時に一般的に用いられていた炭酸ナトリウム系の現像液を使用する事ができず、ＴＦＴ等の形成過程で用いられてきたテトラメチルアンモニウムヒドロキシドを用いて現像している。しかし、この方法では不良率が大きいことが解った。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第１の目的は、アクティブマトリクス基板への樹脂層形成時の不良率を低減することができる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は  樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法に使用するのに好適な現像液を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記した目的を達成するための本発明の樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法は、
＜１＞  アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層をアルカリ金属の濃度が１０ｐｐｍ以下に管理された現像液を用いて現像する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記現像液が炭酸テトラメチルアンモニウム及び炭酸水素テトラメチルアンモニウムを０．０５〜１０ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含むことを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法である。
また、上記した目的を達成するための本発明の樹脂層付アクティブマトリクス基板形成用の現像液は、
＜２＞  アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層を現像液を用いて現像する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法に用いられる前記現像液が炭酸テトラメチルアンモニウム及び炭酸水素テトラメチルアンモニウムを０．０５〜１０ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含むことを特徴とする樹脂層付アクティブマトリクス基板形成用の現像液である
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好ましい実施の形態について説明する。
（アクティブマトリクス基板）
本発明において「アクティブマトリクス基板」を「薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）、単結晶シリコントランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）、ダイオード等が形成されている、液晶素子の基板」と定義する。
【０００６】
前記＜１＞の樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法においては、  アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層をアルカリ金属の濃度が１０ｐｐｍ以下に管理された現像液を用いて現像する工程とを有する樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法であって、前記現像液が炭酸テトラメチルアンモニウム及び炭酸水素テトラメチルアンモニウムを０．０５〜１０ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含む。
【０００７】
（アルカリ金属の濃度）
現像工程におけるアルカリ金属の濃度とはリチウム、ナトリウム、カりウム、および、これらのイオンの合計の濃度を意味する。この濃度は、ＩＣＰ（Inductively Coupled Plasma -Atomic Emission Spectrometer）により測定される。アクティブマトリクス基板上にＴＦＴを形成する半導体プロセスでは、該アルカリ金属の濃度が低い程、ＴＦＴの品質が高くなる事が知られており、５０ｐｐｂ程度に管理されている。ＴＦＴ形成後のアクティブマトリクス基板の処理では、ＴＦＴ上に無機保護膜等が形成されている事により該アルカリ金属の影響はやや小さくなる。本発明が対象とするアクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程でのアルカリ金属の濃度は、好ましくは１ｐｐｂ〜１０ｐｐｍ、より好ましくは２ｐｐｂ〜１ｐｐｍ、最も好ましくは１０ｐｐｂ〜１００ｐｐｂである。アルカリ金属の濃度が１０ｐｐｍを超えると、ＴＦＴの半導体特性が異常となり好ましくない。
【００１２】
（濃度）
上記化合物の濃度は、０．０５〜１０ｍｏｌｅ／Ｌ、好ましくは０．０８〜５ｍｏｌｅ／Ｌ、より好ましくは０．１〜３ｍｏｌｅ／Ｌである。上記化合物の濃度が０．０５ｍｏｌｅ／Ｌ未満では不良率が増大し、１０ｍｏｌｅ／Ｌを超えると不良率が増大し好ましくない。
【００１３】
(現像方式）
パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等である。これらの中で、複数の基板に対して同じ現像液を使用するシャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像等において、改善効果が大きい。
【００１４】
次に樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法においては、アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層をアルカリ金属イオン濃度が１０ｐｐｍ以下に管理された現像液を用いて液循環型現像装置で現像する工程とを有し、前記液循環型現像装置の外気流入係数が０．０００１〜１であることが好ましい。
以下、この製造方法を単に製造方法（A)とも言う。
【００１５】
（液循環型現像装置）
複数の基板に対して同じ現像液を使用するシャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディップ現像の装置である。
【００１６】
（外気流入係数）
本発明では「外気流入係数」を「該現像装置の現像液タンク容量をｘリットル、該現像装置の現像運転中に該装置へ流れ込む外気の１分当たりの量をｙリットルとして、ｙをｘで割った値」と定義する。
外気の流れ込み量は、該現像装置の開口部の面積と、該現像装置の運転中に開口部で測定される風速とから算出される。
また、外気の流れ込み量は、大気中のＣＯ2濃度を３００ｐｐｍと仮定して、希薄なテトラメチルアンモニウムヒドロキシド溶液のｐＨ測定から概略測定する事ができる。
＜タンク容量ａリットルの現像機での測定例＞
▲１▼ｐＨ＝１１のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液をａリットルを測定対象の現像装置タンクに作成する。
▲２▼該液のｐＨをモニターしながら該現像装置を運転しｐＨが１０になる時間ｚ分を測定する。
▲３▼［計算］
ｙ＝（0.0009×44÷2÷0.0003÷14.1×22.4）×ａ÷ｚ
【００１７】
（外気流入係数の好ましい範囲）
本発明において、外気流入係数は０．０００１〜１、好ましくは０．０００２〜０．５、より好ましくは０．０００５〜０．１である。外気流入係数が０．０００１は未満では、管理に手間がかかり生産性が低下し、１を超えると不良率が増大し、好ましくない。
【００１８】
（外気流入係数を小さくする手段）
本発明では現像装置への外気の流入量を減らすこと、または、該現像装置のタンク容量を増すことで外気流入係数を小さくすることができる。
タンク容量を増すには、現像機本体のタンク部分を大きくする他、外部に補助タンクを設け、ポンプで現像機本体との間を循環させてもよい。
外気の流入量を減らすには、基板入出口にクリアランスシール（基板の厚さ・幅より僅かに大きな開口部として外気の入出を制限する事）を設ける、基板入出口にシールロール（開口部分を閉塞するように配置された２本またはそれ以上の本数のローラーのこと。外気はローラーに阻まれて侵入できない。基板が通過する場合は、基板を上下のローラーで挟んだ形となり、搬送中も基板とローラーに阻まれて外気は侵入できない。）を設ける、基板入出口にシールすだれ（開口部を閉塞するようにすだれをもうけ、基板が通過する時は、すだれがしなやかに変形、または角度を変えて基板の厚味相当の隙間を生じる）を設ける、基板入出口にシャッター（開口部はシャッターで閉塞され、基板通過時にのみ開く）を設けるなどの手段がある。
【００１９】
次に樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法においては、アクティブマトリクス基板上に感光性樹脂層を形成する工程と、該感光性樹脂層をパターン露光する工程と、該感光性樹脂層をアルカリ金属イオン濃度が１００ｐｐｍ以下に管理された現像液を用いて液循環型現像装置で現像する工程を有し、前記液循環型現像装置内の現像液のｐＨを計測し、該ｐＨ値が設定値±０．５の範囲となるように現像液または現像液成分の一部を補充することが好ましい。
以下、この製造方法を単に製造方法（B)とも言う。
【００２０】
（ｐＨの計測）
ｐＨの計測はガラス電極を用いたｐＨメーターにより行われる。
【００２１】
（ｐＨ値の範囲）
補充により制御されるｐＨの範囲は、設定値±０．５、好ましくは設定値±０．３、より好ましくは設定値±０．２である。
【００２２】
（設定値）
ｐＨ値の設定値とは感光性樹脂層を現像するのに最適なｐＨ値を意味する。この設定値は、樹脂組成により特異的に決まっている。例えば、炭酸ナトリウム系の現像液用に設計された樹脂組成の場合、設定値は１０〜１０．５の範囲にある。
【００２３】
（補充量の制御方法）
ｐＨが予め決めておいた下限値に達したら現像液または現像液成分の一部の補充を開始し上限値に達したら補充を停止するというＯＮ−ＯＦＦ法、マイコンを使って上限下限の間のハンチングを極力抑えたＰＩＤ制御法等がある。
【００２４】
（補充する液）
現像液、現像液を濃縮した液、現像液のうちのアルカリ成分のみの液などを補充する。
【００２５】
上記した各樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法における感光性樹脂層は次の通りである。
＜感光性樹脂層＞
本発明における感光性樹脂層は、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーかなる感光性樹脂層、光重合性組成物、アジド化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合開始剤、光重合性モノマーおよびバインダーを基本構成要素として含む感光性樹脂である。
本発明の感光性樹脂層の素材としては公知の、例えば特願平２−８２２６２に記載されている感光性樹脂がすべて使用できる。
該感光性樹脂層には、アルカリ水溶液により現像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知られているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からアルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。
【００２６】
該感光性樹脂層には、特開平１１−１３３６００号公報記載の「重合性化合物Ｂ」「重合開始剤Ｃ」「界面活性剤」「接着助剤」や、その他の組成物が利用できる。
光を照射した部分が溶解性を帯び現像で除去されるタイプの感光性樹脂層をポジ型感光性樹脂層と呼ぶ。 本発明の感光性樹脂層にはポジ型感光性樹脂層を用いることができる。該ポジ型感光性樹脂層にはノボラック系の樹脂が用いられる。本発明では特開平７−４３８９９号公報記載のアルカリ可溶性ノボラック樹脂系を使用することができる。また、特開平６−１４８８８８号公報記載の、ポジ型感光性樹脂層、即ち、該公報記載のアルカリ可溶性樹脂と感光剤として１，２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステルと該公報記載の熱硬化剤の混合物を含む感光性樹脂層を用いる事ができる。また特開平５−２６２８５０号公報記載の組成物も活用可能である。
【００２７】
該感光性樹脂層には、染料、顔料、紫外線吸収剤を必要により添加する。該顔料は感光性樹脂層中に均一に分散されており、好ましくは５μｍ以下の粒径、特に好ましくは１μｍ以下の粒径を有していなければならない。
好ましい染料ないし顔料の例は次の通りである。ビクトリア・ピュアーブルーＢＯ（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、オーラミン（Ｃ．Ｉ．４１０００）、ファット・ブラックＨＢ（Ｃ．Ｉ．２６１５０）、モノライト・エローＧＴ（Ｃ．Ｉ．ピグメントエロー１２）、パーマネント・エローＧＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー１７）、パーマネント・エローＨＲ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・エロー８３）、パーマネント・カーミンＦＢＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４６）、ホスターバームレッドＥＳＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・バイオレット１９）、パーマネント・ルビーＦＢＨ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１１）ファステル・ピンクＢスプラ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド８１）モナストラル・ファースト・ブルー（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５）、モノライト・ファースト・ブラックＢ（Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブラック１）及びカーボン。
さらに、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド９７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１４９、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１６８、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１７７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１８０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド１９２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・レッド２１５、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン７、Ｃ．Ｉ．ピグメント・グリーン３６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：１、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：４、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー１５：６、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー２２、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６０、Ｃ．Ｉ．ピグメント・ブルー６４を挙げることができる。
【００２８】
好ましい紫外線吸収剤は、サリシレート系、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、シアノアクリレート系、ニッケルキレート系、ヒンダードアミン系などが挙げられる。
具体的には、フェニルサリシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−４’−ヒドロキシベンゾエート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、２，４−ジ−ヒドロキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクトキシベンゾフェノン、２−（２’−ヒドロキシ−５’−メチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’−ｔ−ブチル−５’−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、エチル−２−シアノ−３，３−ジ−フェニルアクリレート、２，２’−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、ニッケルジブチルジチオカーバメート、ビス（２，２，６，６−テトラメトル−４−ピリジン）−セバケート、４−ｔ−ブチルフェニルサリシレート、サルチル酸フェニル、４−ヒドロキシ−２，２，６，６−テトラメチルピペリジン縮合物、コハク酸−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリデニル）−エステル、２−［２−ヒドロキシ−３，５−ビス（α，α−ジメチルベンジル）フェニル］−２Ｈ−ベンゾトリアゾール、７−｛［４−クロロ−６−（ジエチルアミノ）−５−トリアジン−２−イル］アミノ｝−３−フェニルクマリン等が挙げられる。
【００２９】
＜酸素遮断膜＞
本発明では感光性樹脂層の上にさらに酸素遮断膜を形成して露光することが好ましい。該酸素遮断膜としては、低い酸素透過性を示し、水またはアルカリ水溶液に分散または溶解するものが好ましく、公知のものの中から適宜選択することができる。これらの内、特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリビニルピロリドンの組み合わせである。（詳細は特開平５−７２７２４号公報参照。）
【００３０】
＜パターン露光＞
本発明において、パターン露光とは、画像パターンが形成されたシャドウマスクを介して感光性樹脂層にパターン化された光を照射することである。
【００３１】
＜現像液＞
前記製造方法（A）、（B）の樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法の場合には、ｐＫａ＝７〜１３の化合物、好ましくは、炭酸テトラメチルアンモニウム及び炭酸水素テトラメチルアンモニウムを０．０５〜５ｍｏｌｅ／Ｌの濃度含む現像液が好ましいが、さらに水と混和性を有す有機溶剤を少量添加しても良い。現像液のｐＨは８〜１３が好ましい。水と混和性を有する有機溶剤は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノｎ−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチルピロリドン等がある。該有機溶剤の濃度は０．１重量％〜３０重量％である。さらに公知の界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の濃度は０．０１重量％〜１０重量％が好ましい。現像方式は、パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等である。
【００３２】
感光性樹脂層の未硬化部分を除去するには現像液中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法を組み合わせることができる。現像液の液温度は２０℃〜４０℃が好ましい。該現像処理の後に蒸留水、イオン交換水、超純粋等による水洗工程を入れることが好ましい。
【００３３】
＜感光性樹脂層を一体型フィルムを用いて形成する方法＞
本発明の感光性樹脂層は特開平５−７２７２４号公報に記述されている感光性転写材料、すなわち一体型となったフイルムを用いて形成する事が好ましい。該一体型フイルムの構成の一例は支持体／熱可塑性樹脂層／酸素遮断膜／感光性樹脂層／保護フイルムである。（詳細は特開平５−７２７２４号公報を参照）
【００３４】
【実施例】
以下、本発明を実施例を用いて更に詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。
本実施例に記述したサンプル作成工程は、すべて、次の環境で行った。
0004023968.tif 000002
【００３５】
［実施例１］
厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタレートフィルム仮支持体（塗布面とは反対側に導電性微粒子（特開平５−１７３３２０号公報の００４６段落記載の導電性資料（９））を０．１８μｍの厚さに塗布して導電性を持たせたもの）を速度５０ｍ／分で搬送しながら、該仮支持体の上に下記の処方Ｈ１からなる塗布液を、エクストロージョン型ギーサーで塗り付け、温度５０℃〜１２０℃の乾燥ゾーンを順次通過させて乾燥させ、次に下記処方Ｂ１から成る塗布液を、エクストロージョン型ギーサーで塗り付け、温度５０℃〜１２０℃の乾燥ゾーンを順次通過させて乾燥させ、さらに下記感光性樹脂層溶液Ｋ１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１をエクストロージョン型ギーサーで塗り付け、温度５０℃〜１２０℃の乾燥ゾーンを順次通過させて乾燥させ、該仮支持体の上に乾燥膜厚が１４．６μｍの熱可塑性樹脂層と乾燥膜厚が１．６μｍの酸素遮断膜と乾燥膜厚が２μｍ感光層を設け、保護フイルム（商品名：アルファンＥ−５０１  王子製紙製 厚さ１２μｍポリプロピレンフィルム）をニップローラーで圧着し、その後巻き取った。
こうして仮支持体と熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜と感光層が一体となったフイルムを作成し、それぞれのサンプル名を、使用した感光性樹脂層溶液の記号Ｋ１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１を用いて、一体型フイルムＫ１、Ｒ１、Ｇ１、Ｂ１とした。
【００３６】
0004023968.tif 000003
【００３７】
0004023968.tif 000004
【００３８】
0004023968.tif 000005
【００３９】
0004023968.tif 000006
【００４０】
0004023968.tif 000007
【００４１】
0004023968.tif 000008
【００４２】
［アクティブマトリクス基板への樹脂層の形成］
＜アクティブマトリクス基板の洗浄＞
縦３２０ｍｍ横４００ｍｍのアクティブマトリクス基板を、室温の超純水中で超音波洗浄１分後、エアーブローで水切り後、乾燥した。
＜樹脂層（カラーフィルター層）の形成＞
前記一体型フイルムＫ１の保護フイルムを剥離後、温度１３０℃線圧１００Ｎ／ｃｍ搬送速度１．０ｍ／分でラミネートした。
超高圧水銀灯で２０ｍＪ／ｃｍ2のパターン露光後、下記組成の現像液Ｐ１にて３８℃３５秒シャワー現像（タンク容量２５リットルのシャワー現像機使用）し熱可塑性樹脂層と酸素遮断膜を除去した。
現像液Ｐ１の組成
・ 超純水                                    ９７重量部
・トリエタノールアミン                         ３重量部
（アルカリ金属濃度          ５０ｐｐｂ）
【００４３】
引き続き下記組成の現像液Ｃ１で３３℃２６秒シャワー現像（タンク容量２５リットルのシャワー現像機使用、外気流入係数＝１１）し感光性樹脂層を現像し、パターニング画像を得た。
現像液Ｃ１
・炭酸テトラメチルアンモニウム            ０．１ｍｏｌｅ／Ｌ
・炭酸水素テトラメチルアンモニウム        ０．１ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、炭酸のｐＫａは１０．２５、炭酸の濃度０．２ｍｏｌｅ／Ｌ）
その後両面から５００mJ/cm2ポスト露光を行い、引き続き２２０℃２５分ポストベーク処理を実施し、黒画素を得た。同様にして、一体型フイルムＲ１、Ｇ１、Ｂ１を順次用い、黒、赤、緑、青の画像からなる樹脂層付アクティブマトリクス基板Ｃ１（使用した感光性樹脂層用現像液の名前で銘々）を形成した。これらの工程は、各色の形成を１日ずつ、計４日かけて行った。
【００４４】
〔対照例１〕
現像液Ｃ１の代わりに下記組成の現像液Ｃ２〜Ｃ１０を用いた他は上記と同様にして、樹脂層付アクティブマトリクス基板Ｃ２〜Ｃ１０を作製した。
現像液Ｃ２
・トリエタノールアミン ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、トリエタノールアミンのｐＫａは７．７６）
現像液Ｃ３
・ジエタノールアミン ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、ジエタノールアミンのｐＫａは８．９）
現像液Ｃ４
・モノエタノールアミン ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｃ５
・モノエタノールアミン ０．０８ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｃ６
・モノエタノールアミン ０．０５ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｃ７
・モノエタノールアミン ５．０ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｃ８
・モノエタノールアミン １０．０ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｃ９
・ピロリジン ０．１ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、ピロリジンのｐＫａは１１．２）
現像液Ｃ１０
・りん酸    ０．１ｍｏｌｅ／Ｌ
・テトラメチルアンモニウムヒドロキシド    ０．２５ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度 ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、リん酸のｐＫａは１２．３）
パドル現像、シャワー現像、シャワー＆スピン現像、ディプ現像等である。
【００４５】
［比較例１］
実施例１で現像液Ｃ１を用いて現像する代わりに、下記現像液Ｄ１〜Ｄ５を用いて現像し、アクティブマトリクス基板Ｄ１〜Ｄ５を作製した。
現像液Ｄ１
・テトラメチルアンモニウムヒドロキシド  ０．０１０ ｍｏｌｅ／Ｌ
・ジエタノールアミン                    ０．０１０ ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、ジエタノールアミンのｐＫａは８．９）
現像液Ｄ２
・モノエタノールアミン                      １０ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｄ３
・モノエタノールアミン                   ０．０１ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、モノエタノールアミンのｐＫａは９．５２）
現像液Ｄ４
・テトラメチルアンモニウムヒドロキシド    ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水）
現像液Ｄ５
・２−アミノピリジン                      ０．２ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、２−アミノピリジンのｐＫａは６．０６）
【００４６】
［対照例２］
実施例１で現像液Ｃ１を用いて現像する代わりに、タンク容量２５リットルの現像機の基板入出口にシールロール（開口部分を閉塞するように２本のローラーを配置、該ローラーは基板通過時のみ回転し、他の時は停止している）を設け（外気流入係数は０．１２）この中に現像液Ｄ１を２５リットル入れ、現像した。他は実施例１と同様に行って、アクティブマトリクス基板Ｅ２を作製した。
【００４７】
［対照例３］
実施例１で現像液Ｃ１を用いて現像する代わりに、タンク容量２５リットルの現像機の基板入出口にシールロール（開口部分を閉塞するように２本のローラーを配置、該ローラーは基板通過時のみ回転し、他の時は停止している）を２重に設け（外気流入係数は０．０５）この中に現像液Ｄ１を２５リットル入れ、現像した。他は実施例１と同様に行って、アクティブマトリクス基板Ｅ３を作製した。
【００４８】
［対照例４］
実施例１で現像液Ｃ１を用いて現像する代わりに、タンク容量２５リットルの現像機の基板入出口にシールすだれ（開口部を閉塞するように厚さ２００μｍのポリエチレンシートでできたすだれを設け、基板が通過する時は、該すだれがしなやかに変形して基板の厚さ相当の隙間を生じる）を設け（外気流入係数は０．９）この中に現像液Ｄ１を２５リットル入れ、現像した。他は実施例１と同様に行って、アクティブマトリクス基板Ｅ４を作製した。
【００４９】
［対照例５］
比較例１で現像液Ｄ１を用いて現像する代わりに、タンク容量２５リットルの現像機に液補充装置（ｐＨ電極の測定値をＰＩＤ制御ユニットに入力し設定値±０．２のｐＨとなるよう、補汁液のポンプ流量を制御する装置）を装着し、現像液Ｄ１を２５リットル入れ、補充液として下記組成の補充液Ｄ６を用い、設定値を１０．８として現像した他は実施例１と同様に行って、アクティブマトリクス基板Ｅ５を作製した。
【００５０】
補充液Ｄ６
・テトラメチルアンモニウムヒドロキシド  ０．０５０ ｍｏｌｅ／Ｌ
・ジエタノールアミン                    ０．０５０ ｍｏｌｅ／Ｌ
・アルカリ金属濃度                          ５０ｐｐｂ
（溶媒は水、ジエタノールアミンのｐＫａは８．９）
【００５１】
［評価］
上記アクティブマトリクス基板に形成された樹脂層（カラーフィルター画像）を評価した。
この評価では、強制的条件として、通常なら実用上問題無い範囲の僅かな画素の乱れもＮＧとしてカウントする事とし、１００画素を微分干渉型光学顕微鏡によって詳細に観察した。以下に、各アクティブマトリクス基板上の画素のＮＧ数を示す。評価結果を表１及び表２に示す。
【００５２】
【表１】
0004023968.tif 000009
【００５３】
【表２】
0004023968.tif 000010
【００５４】
［液晶素子の作成］
実施例１のアクティブマトリクス基板Ｃ１を検査し、洗浄及び再度のベーク処理を施した。さらにこの上にポジ型液体フォトレジストを２μｍ厚さに塗布し、乾燥後、ステッパーで５０ｍＪ／ｃｍ2パターン露光した。その後０．９％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液（アルカリ金属濃度５０ｐｐｂ）で現像して、コンタクトホールを形成し、２２０℃６０分ベーク処理した。その後、ＵＶアッシャーにて表層を僅かにエッチング後、ＩＴＯ膜をスパッタ法によって形成し、このＩＴＯ膜をパターニングして画素電極を形成した。この上に一体型フィルムを用いてスペーサーを形成し、配向膜形成、ラビング処理後、該アクティブマトリクス基板及び対向基板を対向配置し、これらの間に液晶を注入し、液晶素子を完成した。
こうして作製された液晶素子は、表示欠陥が認められなかった。
【００５５】
【発明の効果】
本発明の樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法によれば、不良率を大幅に低減することができる。
また、本発明の現像液によれば、不良率を大幅に低減することができる樹脂層付アクティブマトリクス基板の製造方法に有効に使用することができる。