(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（Ｉ）
【化１】
0003940786.tif 000030
（ＸはＳまたはＳｅを表し、Ｍは、金属元素を表す。Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、Ｘ1〜Ｘ10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基，シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表わす。）で表される有機金属錯体を含有することを特徴とする赤外線吸収フィルター。
【請求項２】
一般式（Ｉ）において、ＸがＳであることを特徴とする請求項１に記載の赤外線吸収フィルター。
【請求項３】
一般式（Ｉ）においてＭがＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＳｎまたはＣｕであることを特徴とする請求項１〜２に記載の赤外線吸収フィルター。
【請求項４】
一般式（Ｉ）において、ＭがＮｉであることを特徴とする請求項１〜２に記載の赤外線吸収フィルター。
【請求項５】
紫外線カット層が積層されていることを特徴とする請求項１〜４に記載の赤外線吸収フィルター。
【請求項６】
請求項１〜５に記載の赤外線吸収フィルターを用いることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項７】
電磁波カット層が積層されていることを特徴とする請求項６に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項８】
反射防止層が積層されていることを特徴とする請求項６〜７に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項９】
ぎらつき防止（ノングレア）層が積層されていることを特徴とする請求項６〜８に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項１０】
紫外線カット層が積層されていることを特徴とする請求項６〜９に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は赤外光域で吸収を示す赤外線吸収フィルターに関し、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能、耐光性に優れていることにより、赤外線を遮蔽するフィルター、具体的には、プラズマディスプレイパネル、デジカメ用赤外線フィルター等、画像表示装置のフィルター、熱線吸収フィルターなどに好適に使用することができる赤外線吸収フィルターである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、近赤外線吸収色素を含有した近赤外線吸収フィルターは、よく知られており、その用途としては、サングラス、溶接用眼鏡、ビルや自動車，電車、飛行機の窓、あるいは情報読み取りのための光学読み取り装置等が挙げられる。
また、最近では、大型薄型の壁掛けテレビとして注目されているプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」という）が、近赤外線を発生して、コードレスホン、近赤外線リモコンを使うビデオデッキ等、周辺にある電子機器に作用し誤動作を起こすことから、ＰＤＰ用フィルターとしても近赤外線を吸収する赤外吸収色素を含有したフィルターの要求がある。
【０００３】
この要求に対し、特公平６−３８１２５号公報においては、アントラキノン化合物あるいは、中心に金属原子を配位するナフタロシアニン系化合物のうちの少なくとも一種を含有する近赤外線吸収フィルムあるいは板が提案されている。特開平４−１７４４０２号公報においては、アルミニウム化合物を含有する合成樹脂組成物を更に重合、硬化させた赤外線吸収フィルターが提案されている。さらに、近年、プラズマディスプレー用フィルターとして、特開平９−２３０１３４号公報においてはジチオール系金属錯体を特開平１０−７８５０９号公報において、フタロシアニン色素を含有するプラズマディスプレー用フィルターが提案されている。
【０００４】
また、特開昭６３−１１２５９２号公報には、アミノチオフェノレート系金属錯体色素が開示されており、その用途として赤外線吸収フィルター用色素の記載がある。しかし、これらの色素においては、耐光性が劣ることや可視光線透過性能に問題があり、実用的に十分でない。
さらに、近年、アミノチオフェノレート系金属錯体として、久司らにより、Bull.Chem.Soc.Jpn.,70(7)(1997)1599-1606 に、Ｎ原子とＮ原子が炭素を介してつながったタイプの配位子を有する金属錯体を報告している。これらの色素は、近赤外領域に強い吸収を示しているが、溶液中でのＵＶ-Visスペクトルにおいては、可視領域に吸収を示す前駆体との間に平衡があり、近赤外部分と可視領域に吸収を示すため、溶媒を用いて製品への加工する際、可視領域に吸収を有し、可視領域の透過率が、低下するという問題点がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、近赤外光域に大きな吸収を有し、化学的に安定で、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能、耐光性および耐熱性に優れ、成膜性の良い赤外線吸収フィルターを提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を鑑み、高い可視透過率を有しながら、かつフタロシアニン系同様の高耐光性を兼ね備えたフィルターの開発をめざして鋭意検討した結果、アミノチオフェノレート系等の金属錯体の中でも、Ｎ原子とＮ原子を炭素を介してつながった特定構造の色素を用いることにより、耐光性の低下の原因となるＮ−Ｈ部位をなくしたことにより安定化されるために耐光性が向上し、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能、耐光性および、耐熱性に優れる赤外線吸収フィルターを提供することができることを見出し、本発明に到達した。
【０００７】
すなわち、本発明の要旨は、下記一般式（Ｉ）
【０００８】
【化２】
0003940786.tif 000002
【０００９】
（ＸはＳまたはＳｅを表し、Ｍは、金属元素を表す。Ｒ1〜Ｒ8はそれぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、Ｘ1〜Ｘ10はそれぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表わす。）で表される有機金属錯体を含有する赤外線吸収フィルターである。
また、本発明の別の要旨は、かかる赤外線吸収フィルターを用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本明細書中、Ｍｅはメチル基を、Ｅｔはエチル基を、Ｂｕはブチル基を、Ｐｒはプロピル基を、Ｈｅｘはヘキシル基を、Ｐｈはフェニル基を表し、ｉ−はイソをｎ−は直鎖、ｔ−はターシャリー、ｃ−はシクロ（環状）を表す。
下記一般式（Ｉ）において、
【００１１】
【化３】
0003940786.tif 000003
【００１２】
ＸはＳまたはＳｅを表し、好ましくはＳであり、Ｍは、金属元素を表し、２〜３価の遷移金属が好適に用いられる。好ましくはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＳｎまたはＣｕ、さらに好ましくはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏが用いられ、Ｎｉである場合が最も好ましい。中でも、ＸがＳであり、ＭがＮｉである場合、性能的にも優れ、かつ経済的にも有利であることから好ましい。
Ｒ1〜Ｒ8  は、それぞれ独立に、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアン基を表し、さらに好ましくは、水素原子；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基；アリール基、ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基；フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基；ニトロ基；塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの置換アミノ基；またはシアノ基が挙げられる。特に好ましくは、Ｒ1〜Ｒ8が全て水素原子である場合である。
【００１３】
Ｘ1〜Ｘ10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。具体的には、水素原子、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基などの炭素数６〜１０のアリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基、メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基等の置換アルキル基、アリール基、ベンジル基、フェネチル基などのアラキル基が挙げられ、好ましくは、水素原子及びフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヒドロキシ基、メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基、トリクロロメチル基、トリフルオロメチル基、フェノキシ基、メチルフェノキシ基、ニトロ基、シアノ基等の電子吸引性基が挙げられる。中でもＸ1〜Ｘ10の少なくとも１つがフッ素原子、塩素原子、またはシアノ基であり、残りは水素原子であるのが望ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される有機金属錯体が左右対称である場合が、色素としての安定性や合成の容易さの面から好ましい。Ｘ1〜Ｘ5、及びＸ6〜Ｘ10のうちのそれぞれ１〜３個、さらに好ましくは１〜２個が、フッ素原子、塩素塩素原子、またはシアノ基であり、残りが水素原子であるのが望ましい。
本発明に用いられる一般式（Ｉ）で表される有機金属錯体として、例えば次に挙げる化合物が好適に用いられる。
【００１４】
【化４】
0003940786.tif 000004
【００１５】
【化５】
0003940786.tif 000005
【００１６】
【化６】
0003940786.tif 000006
【００１７】
【化７】
0003940786.tif 000007
【００１８】
【化８】
0003940786.tif 000008
【００１９】
本発明に用いられる有機金属錯体は、例えばＸがＳの場合、次のようにして製造することができる。
【００２０】
【化９】
0003940786.tif 000009
【００２１】
すなわち、O-アミノベンゼンチオール類に、ベンジルアルデヒドを作用させ、ベンゾチアゾリンを合成し、それに錯体ソースを反応させ錯体（A)を合成する。その後、錯体(A) を溶媒中で加熱することにより、容易に一般式（Ｉ）で表される化合物が合成できる。（式中、Ｒ1〜Ｒ4およびＸ1〜Ｘ5の定義は、一般式（Ｉ）と同じである。）
【００２２】
この反応で用いる錯体ソースの具体例としては、ＮｉＣｌ2、ＮｉＣｌ2・６Ｈ2Ｏ、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ3）2、Ｎｉ（ＯＣＯＣＨ3）2・４Ｈ2  Ｏ、ＮｉＳＯ4、ＰｄＣｌ2、ＰｄＳＯ4、ＰｔＣｌ4、Ｎａ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、Ｋ2ＰｔＣｌ6・６Ｈ2Ｏ、ＣｏＣｌ2、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2、Ｃｏ（ＯＣＯＣＨ3）2・４Ｈ2Ｏ、ＣｏＳＯ4、ＦｅＣｌ3、ＦｅＳＯ4、Ｆｅ2（ＳＯ4）3、ＴｉＣｌ3、ＴｉＣｌ4、Ｔｉ（ＳＯ4）2、Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ3）2、Ｓｎ（ＯＣＯＣＨ3）4、Ｓｎ（ＯＭｅ）4、Ｓｎ（ＯＥｔ）4、ＳｎＣｌ2、ＳｎＣｌ2・２Ｈ2Ｏ、ＳｎＣｌ4、ＳｎＳＯ4  、Ｔｉ（ＯＭｅ）4、Ｔｉ（ＯＥｔ）4、ＣｕＣｌ2、Ｃｕ（ＯＣＯＣＨ3）2、ＣｕＳＯ4、ＣｕＳＯ4・４Ｈ2Ｏ等が挙げられる。
【００２３】
上記の反応は、通常溶媒中で行われる。溶媒としては、例えば、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、アセトニトリル、プロパンニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類が用いられる。これらの溶媒の中で、エーテル系溶媒、アルコール系溶媒が好ましい。
また、反応温度は、室温もしくは、０℃〜１５０℃で円滑に実施できる。
このようにして得られた有機金属錯体は、近赤外領域に強い吸収を示し、通常ブルーの色調を示す。
本発明の赤外線吸収フィルターの製造方法としては、透明基板に有機金属錯体を含む塗工液をコーティングする方法、有機金属錯体を配合したフィルムなどを透明基板として用いる方法などが挙られる。
次に、透明基板に有機金属錯体を含む塗工液を塗布して赤外線吸収フィルターを製造する方法について説明する。
本発明の赤外線吸収フィルターを構成する透明基板としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない基板であれば、特に制限はなく用いることができる。その具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン系樹脂、非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が挙げられる。これらの中でも、特に非晶質ポリオレフィン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂が好ましい。
【００２４】
これらの樹脂は、フェノール系、燐系などの酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等の公知の添加剤を配合していもよい。
透明基板は、これらの樹脂を射出成形、Ｔダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶解させてキャスティングする方法などの成形方法により、フィルム状に成形して用いる。フィルム状に成形された樹脂は延伸されていても未延伸でもよい。また、異なる材料からなるフィルムが積層されていても良い。
透明基材の厚みは、目的に応じて通常１０μｍ〜５ｍｍの範囲から選択される。
【００２５】
更に、透明基材は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施してもよい。
有機金属錯体を含む塗工液は、有機金属錯体をバインダー樹脂とともに溶剤中に溶解させることにより、調製することができる。このとき溶剤に溶解される有機金属錯体およびバインダー樹脂などの全固形分の濃度は、通常５〜５０重量％である。また、全固形分に対する有機金属錯体の濃度は、通常０．１〜８０重量％、好ましくは０．１〜５０重量％である。
また、有機金属錯体を必要に応じて分散剤を用いて、粒径を通常０．１〜３μｍに微粒子化し、バインダー樹脂とともに、溶剤に分散させて調整することもできる。このとき溶剤に分散される金属錯体化合物、分散剤、バインダー樹脂等の固形分の濃度は、５〜５０重量％である。また、全固形分に対する有機金属錯体の濃度は、通常１〜８０重量％、好ましくは５〜７０重量％である。用いられる分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、有機金属錯体に対して、通常０〜１００重量％好ましくは０〜７０重量％である。
【００２６】
バインダー樹脂としては、ポリメチルメタクレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、ポリエステル樹脂等が挙げられるが、塗布性やプラズマディスプレイパネル用フィルターとしての耐光性の面から、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエステル樹脂やポリカーボネート樹脂等が好ましい。中でも、ポリカーボネート樹脂が好ましく、ガラス転移点(Tg)が１６０℃以上であり、粘度平均分子量(Mv)が１００００〜９００００である樹脂が好ましい。このようなポリカーボネート樹脂として、次のような構成単位を有するポリカーボネート樹脂を用いることが特に望ましい。
【００２７】
【化１０】
0003940786.tif 000010
【００２８】
バインダー樹脂の使用量は、バインダー樹脂に対して有機金属錯体が、０．０１〜５０重量％、好ましくは０．１〜１０重量％である。
塗工液の溶剤としては、１，２，３−トリクロロプロパン、テトラクロルエチレン、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，２−ジクロロエタン等のハロゲン化脂肪族炭化水素類、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキサノール、オクタノール等のアルコール類、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン類、酢酸エチル、プロピオン酸メチル、エナント酸メチル、リノール酸メチル、ステアリン酸メチル等のエステル類シクロヘキサン、ヘキサン、オクタン等の脂肪族炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン、メシチレン、モノクロロベンゼン、ジクロロベンゼン、ニトロベンゼン、スクアラン等の芳香族炭化水素類、ジメチルスルホキシド、スルホラン等のスルホキシド類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラメチル尿素等のアミド類、テトラヒドロフラン（以下「ＴＨＦ」という）、ジエチレングリコールジメチルエーテル、トリエチレングリコールジメチルエーテル、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等のエーテル類あるいはこれらの混合物を用いることができる。
【００２９】
また、有機金属錯体を含む塗工液には、さらに他の近赤外線吸収剤を添加してもよい。他の近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクアリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン化合物、ナフタロシアニン化合物、トリアリルメタン系化合物、インモニウム系化合物、ジインモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物、あるいは、無機物であるカーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズ、周期律表４Ａ、５Ａまたは６Ａ族に属する金属の酸化物、もしくは炭化物、またはホウ化物などが挙げられる。
【００３０】
このように、本発明の有機金属錯体の他、必要であればさらに他の近赤外線吸収剤を併用しながら、波長領域８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が１５％以下となるように赤外線吸収フィルターを調製するのが好ましい。特に透明性と、赤外線吸収性能の面から、本発明の金属錯体とジインモニウム系化合物とを併用して用いることが好ましく、この場合には、相互作用による性能劣化の恐れがあるため、本発明の金属錯体とは別の層に含有させて用いた方が望ましい。
有機金属錯体を含む塗工液の透明基材へのコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法、エアーナイフコート法等の公知の塗工方法で行われる。
【００３１】
有機金属錯体を含む層は、乾燥後の膜厚が、通常０．１〜３０μｍ、好ましくは０．５〜１０μｍとなるように塗布される。
本発明の赤外線吸収フィルターは、さらに紫外線カット層を設けることにより、金属錯体との相乗効果によって、赤外線吸収フィルターの耐光性を著しく向上させることができる。紫外線カット層としては、４００ｎｍ以下の波長の紫外線を効率よくカットできるものであることが好ましい。紫外線カット層の種類については、特に制限されないが、好ましくは紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム（紫外線カットフィルム）が好ましい。
【００３２】
紫外線カット層に用いられる紫外線吸収剤としては、３００〜４００ｎｍの間に極大吸収を有し、その領域の光を効率よくカットする化合物であれば、有機系、無機系のいずれも特に限定なく用いることができる。例えば有機系紫外線吸収剤としては、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤、ベンゾフェノン系紫外線吸収剤、サリチル酸エステル系紫外線吸収剤、トリアジン系紫外線吸収剤、パラアミノ安息香酸系紫外線吸収剤、ケイ皮酸系紫外線吸収剤、アクリレート系紫外線吸収剤、ヒンダードアミン系紫外線吸収剤等が挙げられ、無機系紫外線級剤としては酸化チタン系紫外線吸収剤、酸化亜鉛系紫外線吸収剤、微粒子酸化鉄系紫外線吸収剤等が挙げられるが、無機系紫外線吸収剤の場合は紫外線カット層中で微粒子状態で存在しているため、赤外線吸収フィルターの効率を損なう恐れがあることから、有機系紫外線吸収剤が好ましい。
【００３３】
このような紫外線吸収剤としては、例えば、チバガイギー（株）のチヌビンＰ、チヌビン１２０、２１３、２３４、３２０、３２６、３２７、３２８、３２９、３８４、４００、５７１、住友化学（株）のスミソーブ２５０、３００、５７７、共同薬品（株）バイオソーブ５８２、５５０、５９１、城北化学（株）のＪＦー８６、７９、７８、８０、旭電化（株）のアデカスタブＬＡ−３２，ＬＡ−３６，ＬＡ−３４、シプロ化成（株）のシーソルブ１００、１０１、１０１Ｓ、１０２、１０３、５０１、２０１、２０２、６１２ＮＨ、大塚化学（株）のRUVA９３、３０Ｍ、３０Ｓ、ＢＡＳＦ（株）のユービナール３０３９等が挙げられる。
これらの紫外線吸収剤は、単独で用いても良いが、数種類組み合わせても良い。
【００３４】
また、紫外線を吸収して可視領域に波長変換するチバガイギー（株）のユービテックスＯＢ，ＯＢ−Ｐ等の蛍光増白剤も利用できる。
紫外線吸収剤を含有する樹脂フィルム（紫外線カットフィルム）は、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、ポリスチレン樹脂、ポリメタクレート樹脂、ポリアクリレート樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合体樹脂、エチレン−酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、メラミン樹脂、ポリウレタン樹脂等の樹脂をベースに上記の紫外線吸収剤を添加して作製できる。紫外線カットフィルムの作製方法は、溶融／押し出し、溶融／押し出し／延伸法、キャスト法、カレンダー法、コーティング法等、一般的な方法が利用できる。紫外線カットフィルムの厚みは、２μｍ〜１ｍｍ程度である。紫外線吸収剤の添加量は、樹脂の厚み、目的の吸収強度等によって異なるが、通常、フィルムの１０ｐｐｍ〜３０％である。
また、紫外線カットフィルムは、市販のＵＶカットフィルターを使用することもでき、例えば、富士フィルム（株）のＳＣ−３８、ＳＣ−３９、三菱レーヨン（株）のアクリプレン等が挙げられる。上記のＵＶカットフィルター、ＳＣ−３９、アクリプレンは、ともに３５０ｎｍの波長を９９％以上吸収する紫外線カットフィルムである。
【００３５】
本発明の赤外線吸収フィルターは、必要に応じて、電磁波カット層、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止層（ノングレア層）、紫外線カット層等を設け、ＰＤＰ用フィルターとして使用することができる。
ＰＤＰフィルターについては、特にその構成、製造等限定されるものではないが、例えば、本発明の赤外線吸収フィルターを粘着層を介して透明樹脂基板に貼り合わせ、その両面に反射防止層、あるいはノングレア層を設けた構成であり、さらに赤外線吸収フィルターのＰＤＰ側には紫外線カット層を有していたり、またＰＤＰフィルターの任意の層の間に電磁波カット層を設けていてもよい。ＰＤＰフィルターの層構成はこれに限定されるものではなく、必要に応じていずれかの層を省略したり、さらに別の層を加えたりして、ＰＤＰフィルターとしての性能が十分発揮できる範囲で適宜層構成を変えてもよい。
【００３６】
また、赤外線吸収フィルターにおいて、本発明の有機金属錯体と、他の近赤外吸収剤を併用して用いる場合、本発明の同一の層に用いてもよいが、それらの相互作用による耐光性などの性能劣化の恐れがある場合には、別々の層に分けて複数の層として積層されていてもよい。
電磁波カット層とは、ＰＤＰより放出される電磁波を遮蔽するために設けられる層であり、４００〜７００ｎｍの可視光線領域を７０％以上透過し、表面固有抵抗値が５０Ω／□以下であるのが好ましい。電磁波カット層を設けるには金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）が一般的であるが、誘導体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで１０００ｎｍ以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化アンチモンスズ、アルミニウム酸化亜鉛等の透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀−パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層より３層、５層、７層あるいは１１層程度積層する。基材としては、本発明の赤外線吸収フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリングして電磁波カット層を設けた後に、本発明の赤外線吸収フィルターと貼り合わせても良い。
【００３７】
反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、窒化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。また、ノングレア層も設けることもできる。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の微粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であれば、ハードコート層を設けることもできる。
更に、この赤外線吸収フィルターは単独に用いられることは勿論、さらに透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせて積層体として用いることができる。本発明により得られる赤外線吸収フィルターは、特にＰＤＰ用フィルターとして好適に用いられる他、ディスプレイ用フィルター、熱線遮断フィルム、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器など幅広い用途に使用することができる。
【００３８】
【実施例】
以下に、実施例により本発明を説明するが、本発明はこれにより何ら制限されるものではない。
【００３９】
実施例１（錯体Ｎｏ．１の合成）
メタノール約１００ｍｌにm-クロロベンズアルデヒド  ２２．７ｍｌ（０．２ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール２１．５ｍｌ（０．２０ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにメタノール２００ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  １９．８ｇ（０．０８ｍｏｌ）を加えると、茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、メタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶色錯体４２．７ｇ（０．０７７ｍｏｌ、収率９６．３％）を得た。
【００４０】
【化１１】
0003940786.tif 000011
【００４１】
上記錯体５．０ｇにテトラヒドロフラン（以下、ＴＨＦという）５００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた（約１時間）。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物を結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記構造の錯体Ｎｏ．１を４．８５ｇ（収率９７．０％）得た。
【００４２】
【化１２】
0003940786.tif 000012
【００４３】
【表１】
構造解析
（１）1Ｈ−ＮＭＲ（δ,ppm）
7.73(d,2H)、7.38(S,2H)、7.02-7.30(m,12H)、6.27(s,2H)．
（２）ＩＲ(KBr：ν, cm-1)
3047、1569、1516、1421、1311、1144、1050、792 、794 、653 、601 ．
（３）元素分析（C26H18Cl2N2NiS2  ）
実測値：C,55.97 ；H,3.10；N,5.01；Cl,12.10
計算値：C,56.56 ；H,3.29；N,5.07；Cl,12.84
（４）マススペクトル：m/z ．５５２（マスパターンがC26H18Cl2N ２NiS2  でシュミレーションしたものと一致した。）
この錯体は、ＴＨＦ中で、近赤外領域である８３０ｎｍにε＝３４０００の強い吸収を示した。
【００４４】
実施例２（錯体Ｎｏ．２の合成）
エタノール約１０ｍｌに3,4-ジクロロベンズアルデヒド３．５０ｇ（０．０２ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール２．１ｍｌ（０．０２ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ２．１０ｇ（０．００８５ｍｏｌ）を加えると、赤茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶色の錯体４．２５ｇ（０．００６８ｍｏｌ、収率８０．５％）を得た。
【００４５】
【化１３】
0003940786.tif 000013
【００４６】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物が結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記構造の錯体Ｎｏ．２を０．８９ｇ（収率８９．０％）得た。
【００４７】
【化１４】
0003940786.tif 000014
【００４８】
【表２】
構造解析
（１）1Ｈ−ＮＭＲ（δ,ppm）
7.75(d,2H)、7.46(s,2H)、7.00-7.30(m,10H)、6.22(s,2H)
（２）IR(KBr：ν, cm-1)
3046、2882、1571、1518、1465、1425、1314、1244、1143、1049、931 、819 、  752 、714 、645 、597
（３）元素分析（C26H16Cl4N2NiS2）
実測値：C,50.75 ；H,2.47；N,4.41；Cl,22.52
計算値：C,50.29 ；H,2.60；N,4.51；Cl,22.83
（４）マススペクトル：m/z ．６２０（マスパターンがC26H16Cl4N2NiS2でシュミレーションしたものと一致した。）
この錯体はＴＨＦ中で、近赤外領域である８３０ｎｍにε＝３３０００の強い吸収を示した。
【００４９】
実施例３（錯体Ｎｏ．３の合成）
エタノール約１０ｍｌに3,4-ジフルオロベンズアルデヒド  ２．１７ｍｌ（０．０２ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール２．１ｍｌ（０．０２ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ２．１０ｇ（０．００８５ｍｏｌ）を加えると、赤茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶色の錯体４．２５ｇ（０．００７２ｍｏｌ、収率８５．２％）を得た。
【００５０】
【化１５】
0003940786.tif 000015
【００５１】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物が結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記構造の錯体Ｎｏ．３を０．８５ｇ（収率８５．０％）得た。
【００５２】
【化１６】
0003940786.tif 000016
【００５３】
【表３】
構造解析
（１）1H-NMR（δ,ppm）
7.75(d,2H)、7.16-7.40(m,4H) 、7.00-7.16(m,8H) 、6.24(s,2H)．
（２）19F-NMR （δ,ppm）
-136.5、-138.5．
（３）IR(KBr：ν, cm-1)
3046、1606、1514、1423、1314、1278、1147、1048、754 、617 ．
（４）元素分析（C26H16F4N2NiS2）
実測値：C,56.54 ；H,2.59；N,5.04；F,13.73
計算値：C,56.25 ；H,2.90；N,5.05；F,13.69
（５）マススペクトル：m/z ．５５４（マスパターンがC26H16F4N2NiS2でシュミレーションしたものと一致した。）
この錯体はＴＨＦ中で、近赤外領域である８３０ｎｍにε＝３１０００の強い吸収を示した。
【００５４】
実施例４（錯体Ｎｏ．４の合成）
エタノール約１０ｍｌに2,3-ジクロロベンズアルデヒド  ３．５０ｇ（０．０２ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール２．１ｍｌ（０．０２ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ２．１０ｇ（０．００８５ｍｏｌ）を加えると、茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶色の茶色の錯体４．３８ｇ（０．００７１ｍｏｌ、収率８３．０％）を得た。
【００５５】
【化１７】
0003940786.tif 000017
【００５６】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物が結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記構造の錯体Ｎｏ．４を０．６５ｇ（収率６５．０％）得た。
【００５７】
【化１８】
0003940786.tif 000018
【００５８】
【表４】
構造解析
（１）1Ｈ−ＮＭＲ（300MHz，inCDCl3 ：δ,ppm）
7.72(d,2H)、7.38(d,2H)、7.05-7.30(m,6H) 、7.04(d,2H)、6.89(dd,2H) 、6.74  (s,2H)．
（２）IR(KBr：ν, cm-1)
3071、3047、1566、1520、1417、1315、1243、1159、1143、1072、1046、792 、744 、713 、654 、621 、572.．
（３）元素分析（C26H16Cl4N2NiS2）
実測値：C,50.78 ；H,2.22；N,4.49；Cl,21.93
計算値：C,50.29 ；H,2.60；N,4.51；Cl,21.83
（４）マススペクトル：m/z ．６２０（マスパターンがC26H16Cl4N2NiS2でシュミレーションしたものと一致した。）
この錯体はＴＨＦ中で、近赤外領域である８３０ｎｍにε＝３２５００の強い吸収を示した。
【００５９】
実施例５（錯体Ｎｏ．５の合成）
エタノール約１０ｍｌに3-シアノベンズアルデヒド  ０．６６．５０ｇ（０．００５ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール０．５３ｍｌ（０．００５ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ０．５２ｇ（０．００２１ｍｏｌ）を加えると、茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶褐色錯体１．０３ｇ（０．００１９ｍｏｌ、収率９２．１％）を得た。
【００６０】
【化１９】
0003940786.tif 000019
【００６１】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物が結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記生成物０．９５ｇ（収率９５．０％）を得た。マススペクトルを測定したところ、m/z ．５３２であり、下記構造で表される錯体Ｎｏ．５であることを確認された。
【００６２】
【化２０】
0003940786.tif 000020
【００６３】
この錯体はＴＨＦ中で、近赤外領域である８３５ｎｍにε＝３５０００の強い吸収を示した。
【００６４】
実施例６（錯体Ｎｏ．６の合成）
エタノール約１０ｍｌに3-ニトロベンズアルデヒド  ０．７５ｇ（０．００５ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール０．５３ｍｌ（０．００５ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ０．５２ｇ（０．００２１ｍｏｌ）を加えると、茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶褐色の錯体１．１０ｇ（０．００１９ｍｏｌ、収率９０．５％）を得た。
【００６５】
【化２１】
0003940786.tif 000021
【００６６】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物が結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記生成物０．９１ｇ（収率９１．０％）を得た。マススペクトルを測定したところ、m/z ．５７２であり、下記構造の錯体Ｎｏ．６であることが確認された。
【００６７】
【化２２】
0003940786.tif 000022
【００６８】
この錯体はＴＨＦ中で、近赤外領域である８３５ｎｍにε＝２４０００の強い吸収を示した。
【００６９】
実施例７（錯体Ｎｏ．７の合成）
エタノール約１０ｍｌに3-トリフルオロベンズアルデヒド  ０．８７ｇ（０．００５ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール０．５３ｍｌ（０．００５ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間、リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ０．５２ｇ（０．００２１ｍｏｌ）を加えると、濃茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶色の錯体を１．１１ｇ（０．００１９ｍｏｌ、収率８６．７％）得た。
【００７０】
【化２３】
0003940786.tif 000023
【００７１】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物が結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、下記生成物０．９６ｇ（収率９６．０％）を得た。マススペクトルを測定したところ、m/z ．６１８であり、下記構造の錯体Ｎｏ．７であることを確認した。
【００７２】
【化２４】
0003940786.tif 000024
【００７３】
この錯体はＴＨＦ中で、近赤外領域である８３５ｎｍにε＝２２０００の強い吸収を示した。
実施例８（錯体Ｎｏ．８の合成）
エタノール約１０ｍｌにベンズアルデヒド  ０．５３ｇ（０．００５ｍｏｌ）を溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール０．５３ｍｌ（０．００５ｍｏｌ）を室温で、撹拌しながら加え、０．５時間リフラックスさせた。その溶液にさらにエタノール２０ｍｌ、Ni(AcO)2・4H2O  ０．５２ｇ（０．００２１ｍｏｌ）を加えると、茶色の固体が析出した。さらに１時間リフラックス後、減圧ろ過、エタノール懸洗数回後、ろ過物を６０℃で真空乾燥し、下式に示す茶褐色錯体１．０３ｇ（０．００１８ｍｏｌ：収率８５．７％）を得た。
【００７４】
【化２５】
0003940786.tif 000025
【００７５】
上記錯体１．０ｇにＴＨＦ１００ｍｌを加え、反応液が、濃紺色に変化するまで、リフラックスさせた。その後、減圧ろ過により、ろ過物を除去後、ろ液を濃縮することにより、生成物を結晶化させた。その後、結晶を減圧ろ過、６０℃で、真空乾燥させ、錯体Ｎｏ．８を０．７９ｇ（収率７９．０％）を得た。マススペクトルを測定したところ、m/z ．４８２であり、下記構造に矛盾しなかった。
【化２６】
0003940786.tif 000026
【００７６】
この錯体は、テトラヒドロフラン中で、近赤外領域である８３０ｎｍにε＝３４０００の強い吸収を示した。
実施例９（錯体Ｎｏ．１を用いた赤外線吸収フィルターの調製）
実施例１で得られた錯体Ｎｏ．１の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８３５ｎｍであった。
このフィルムに、富士写真フィルム（株）製ＵＶカットフィルター(SC-39) を装着し、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率（照射前の強度÷照射後の強×１００）は、９４．８％であり、耐光性が高いことを確認した。
ＵＶカットフィルターを装着しないで上記キセノンロングライフフェードメーターにより、それぞれ８０時間、４００時間照射したときの８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、それぞれ９７．０％、３１．８％であった。
【００７７】
実施例１０
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりに三菱レーヨン（株）製ＵＶカットフィルター（アクリプレン）を使用した以外は、実施例８と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９４．２％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００７８】
実施例１１
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにＳＣ３９とアクリプレンを重ねて使用したところ、使用した以外は、実施例９と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９４．５％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００７９】
実施例１２
実施例１で合成した錯体Ｎｏ．１の５．０％ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）溶液０．１ｇ、下記構造単位からなるポリカーボネート樹脂
【００８０】
【化２７】
0003940786.tif 000027
【００８１】
（Mｖ（粘度平均分子量）=４００００,  Tg（ガラス転移点）＝１８２℃）の１４．３％溶液（ＤＭＥ／ジオキサン＝１／１(vol比)）３．５ｇを混合溶解し、バーコーター＃２４でポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製PET フィルム「T １００E 」、厚み１００μm ）に塗工し、乾燥して、近赤外線吸収フィルターを得た。このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８４６ｎｍであった。
更にこのフィルムに、三菱レーヨン製ＵＶカットフィルター(アクリプレン)をかぶせ、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、２８０時間照射し、８４６ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、照射後の強度は、照射前の強度の９０．９％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８２】
実施例１３
実施例１２の近赤外線吸収フィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９６．６％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
実施例１４（錯体Ｎｏ．２を用いた赤外線吸収フィルターの調製）
実施例２で得られた錯体色素の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８３５ｎｍであった。
更にこのフィルムに、富士写真フィル製ＵＶカットフィルター(SC-39) をかぶせ、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、８９．８％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８３】
実施例１５
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにアクリプレンを使用した以外は、実施例１４と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９０．４％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８４】
実施例１６
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにＳＣ３９とアクリプレンを重ねて使用したところ、使用した以外は、実施例１４と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９５．０％であり、耐光性が高いことを確認した。
実施例１７（錯体Ｎｏ．３を用いた赤外線吸収フィルターの調製）
実施例３で得られた錯体Ｎｏ．３の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８３５ｎｍであった。
更にこのフィルムに、富士写真フィル製ＵＶカットフィルター(SC-39) をかぶせ、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９３．１％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８５】
実施例１８
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにアクリプレンを使用した以外は、実施例１７と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９１．５％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８６】
実施例１９
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにＳＣ３とアクリプレンを重ねて使用したところ、使用した以外は、実施例１７と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９５．４％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８７】
実施例２０（錯体Ｎｏ．４を用いた赤外線吸収フィルターの調製）
実施例４で得られた錯体色素の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８３５ｎｍであった。
更にこのフィルムに、富士写真フィル製ＵＶカットフィルター(SC-39) をかぶせ、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９０．３％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８８】
実施例２１
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにアクリプレンを使用した以外は、実施例２０と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９０．０％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００８９】
実施例２２
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにＳＣ３とアクリプレンを重ねて使用したところ、使用した以外は、実施例２０と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は９２．０％であり、耐光性が高いことを確認した。
実施例２３（錯体Ｎｏ．５を用いた赤外線吸収フィルターの調製）
実施例５で得られた錯体Ｎｏ．５の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８４５ｎｍであった。
このフィルムをキセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、８０時間照射したときの８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、８０．０％であった。
【００９０】
実施例２４（錯体Ｎｏ．８を用いた赤外線吸収フィルターの調製）
実施例８で得られた錯体Ｎｏ．８の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でＯＨＰフィルムに塗工し、乾燥することにより、近赤外吸収フィルムを得た。塗布膜厚は、約６μｍであった。
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λmaxは、８３５ｎｍであった。
【００９１】
このフィルムに、富士写真フィルム製ＵＶカットフィルター（ＳＣ−３９）をかぶせ、キセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機械社製品）により、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９５．８％であり、耐光性が高いことを確認した。
ＵＶカットフィルターを装着しないで上記キセノンロングライフフェードメーターにより、それぞれ８０時間、４００時間照射したときの８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、それぞれ９５．０％、２４．８％であった。
【００９２】
実施例２５
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにアクリプレンを使用した以外は、実施例２４と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９４．２％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００９３】
実施例２６
ＵＶカットフィルターとして、ＳＣ３９のかわりにＳＣ３とアクリプレンを重ねて使用したところ、使用した以外は、実施例２４と同様の操作を行ない、耐光性を調べたところ、４００時間照射し、８３５ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、９３．２％であり、耐光性が高いことを確認した。
【００９４】
実施例２７（錯体Ｎｏ．１を用いたプラズマディスプレイパネル用フィルターの調製）
実施例１で得られた錯体Ｎｏ．１の０．５重量％メチルエチルケトン溶液、０．８重量部に、ポリメチルメタクリレート樹脂（三菱レイヨン株式会社製品ダイヤナールＢＲ−８０）のメチルエチルケトン／トルエン（＝１／１）溶液（２０重量％溶液）１重量部、トルエン  ０．２重量部を添加した塗工液を、５０μｍの厚みのポリエチレンテレフタレートフィルムに、厚み２μｍになるようコーティングした。上記フィルムに、表面固有抵抗５Ω／□の銀・インジウム酸化錫（ＩＴＯ）の多層蒸着フィルムを貼り合わせた。
更に、厚み４ｍｍのポリカーボネート板と貼り合わせた後、両面にフッ素系樹脂からなる反射防止剤を１００ｎｍの厚みにコーティングして、プラズマディスプレイパネル用フィルターを得た。
得られたプラズマディスプレイパネル用フィルターは、８００〜８８０ｎｍの光線透過率が２０％以下で、更に可視光線透過率が６５％以上であった。特に４００〜５００ｎｍの透過率が７５％以上と高く、黄色味が少ないため、ディスプレイ前面に設置した場合に、画質を悪化させず、フィルターとして良好であった。
【００９５】
比較例１
エタノール約２０ｍｌにＫＯＨ０．００４ｍｏｌを溶かし、その溶液にｏ−アミノベンゼンチオール０．５０ｇ（０．００４ｍｏｌ）のエタノール溶液１０ｍｌを撹拌しながら加え、リガンド溶液とした。
一方、エタノール１０ｍｌにニッケル（II）クロリド・６水和物０．４８ｇ（０．００２ｍｏｌ）を溶解させ、上記リガンド溶液に撹拌しながら、滴下したところ溶液は、濃紺〜濃緑に変化した。
この状態で、約１時間撹拌した後、エタノール１０ｍｌにテトラブチルアンモニウムブロミド０．００２ｍｏｌを溶解した溶液を加え、さらに１時間撹拌した。
生成した沈殿を濾別し、エタノールで洗浄し、乾燥すると収量０．６１ｇ（収率５６％）で下式で示されるテトラブチルアンモニウムビス（アミノベンゼンチオール）ニッケレートが得られた。
【００９６】
【化２８】
0003940786.tif 000028
【００９７】
この錯体は、メタノール溶液中で、８０７ｎｍにε＝２４０００の吸収を示した。
得られた色素を実施例１と同様の方法でフィルム化したところ、λｍａｘは、８２４ｎｍであった。
更にキセノンロングライフフェードメーター（ＦＡＬ−２５ＡＸ−ＨＣＢ−ＥＣ）（スガ試験機社製品）により、それぞれ８０時間、２００時間照射し、８２４ｎｍにおける照射前後の吸収強度を測定したところ、色素残存率は、それぞれ６９．８％、５０．８％であった。
【００９８】
比較例２
近赤外線吸収色素として知られているフタロシアニン色素（日本触媒社製  ＩＲ−３）  の１重量％ＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液  ０．８重量部に、ポリメチルメタクリレート樹脂（三菱レイヨン株式会社製品ダイヤナールＢＲ−８０）のＭＥＫ／トルエン（＝１／１）溶液（２０重量％溶液）  １重量部、ＭＥＫ  ０．１重量部、トルエン  ０．１重量部を添加した塗工液を、５０μｍの厚みのポリエチレンテレフタレートフィルムに、厚み２μｍになるようコーティングした。
実施例２７と同様に、上記フィルムに銀・ＩＴＯ多層蒸着フィルムを貼り合わせ、更にポリカーボネート板と貼り合わせた後、両面に反射防止剤をコーティングし、プラズマディスプレイパネル用フィルターを得た。
得られたプラズマディスプレイパネル用フィルターは、８００〜８８０ｎｍの光線透過率が２０％以下であったが、可視光線透過率は４５％以上、４００〜５００ｎｍの透過率は５８％以下であり、ディスプレイ前面に設置した場合に、画面が暗くなり、フィルターとしては好ましくなかった。
【００９９】
実施例９〜１２、１４〜２６および比較例１の耐光性評価結果を下記の表−１に示す。
【０１００】
【表５】
0003940786.tif 000029
【０１０１】
【発明の効果】
本発明の金属錯体色素を含有する赤外線吸収層を設けた赤外線吸収フィルターは、近赤外領域に強い吸収を示す色素をことにより、近赤外線吸収性能、熱線吸収能、可視光線透過性能および耐光性に優れた赤外線吸収フィルターを得ることができる。さらに紫外線カット層を設けることで、飛躍的に耐光性が向上し、長時間でも光劣化、熱劣化の少ない実用的に極めて優れた近赤外線吸収フィルターが実現できる。