(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材の少なくとも片面に筆記ボード用ペンによって筆記、消去可能な樹脂層を設けてなり、前記基材の厚みが10μｍ以上、100μｍ未満であって、前記樹脂層は基材側から施されたエンボス加工によって凹凸が形成され、表面の算術平均粗さ（JIS-B-0601）が1.0〜4.0μｍであり、隣接凸部間の平均山間隔（JIS-B-0601）が30〜300μｍであることを特徴とする筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【請求項２】
前記樹脂層は、隣接凸部間の平均山間隔（JIS-B-0601）が100〜280μｍであることを特徴とする請求項１に記載の筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【請求項３】
前記樹脂層は、主として電離放射線硬化型樹脂を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【請求項４】
前記電離放射線硬化型樹脂は、紫外線硬化型樹脂である請求項３記載の筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【請求項５】
前記樹脂層の厚さが、3〜15μｍの範囲であることを特徴とする請求項１ないし４いずれか１に記載の筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【請求項６】
前記基材は、プラスチックフィルムである請求項１ないし５いずれか１に記載の筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【請求項７】
前記基材は、前記樹脂層が形成された面と反対の面に粘着層または接着層を有することを特徴とする請求項１ないし６いずれか１に記載の筆記ボード／反射型スクリーン両用シート。
【発明の詳細な説明】
発明の技術的背景
この発明は、ホワイトボード等の白色或いは有色の筆記ボードとして、またＯＨＰ、スライド、映写機等のプロジェクター用反射型スクリーンとして、さらに筆記ボード及び反射型スクリーンの兼用ボードとして利用することができる筆記ボード／反射型スクリーン両用シートに関する。
従来の技術
反射型スクリーン及び黒板或いはホワイトボードの設置場所の省スペース化やプレゼンテーションの効率化等の要請から、両者の機能を備えたボードが各種提案され、実用化されている（例えば特開平６−２７５３２号、特開平９−２３０５０６号、特開平１０−２８７０９１号など）。
一般にホワイトボードのような筆記ボードは、水性ペンによる筆記と消去が可能であるために、その表面は平滑であることが求められる。一方、反射型スクリーンは光を反射し、しかも反射された光が像として見やすいために防眩性を備えていることが要求される。
このため従来の反射型スクリーン兼用筆記ボードは、芳香族ポリエステルやフッ素樹脂など、水性インクに対しぬれ性の少ない或いは易消去性の樹脂層を、基材上に設けることにより、水性インクによる筆記／消去性を付与するとともにボード表面の光沢度を抑え、防眩性を図っている。ボード表面の光沢度を抑えるために、通常、樹脂層中に顔料や光拡散剤が添加される。
しかし表面に顔料等を含む層を形成した場合、顔料と顔料との間にインクが染み込みやすく、一度染み込んでしまうと拭取ってもインクを消去できないという問題があった。また顔料を含有せしめた場合には、ボード表面の凹凸の微細な調整が困難であり、インク消去性と防眩性を両立させることができる表面の凹凸を形成することが困難であった。
特に最近の光強度の大きいプロジェクター用の反射型スクリーンでは、光の当る中心が光って画像が見えにくくなる現象（いわゆるホットスポット）が問題となっているが、従来の反射型スクリーン兼用筆記ボードでは、このホットスポットを完全に解消することができず、投影された画像が見にくいという問題があった。
そこで本発明は、反射型スクリーンとしても筆記ボードとしても優れた性能を有する筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを提供することを目的とする。即ち、筆記ボードとして用いたときに筆記性および消去性に優れ、また反射型スクリーンとして用いたときに、防眩性に優れ、ホットスポットがない筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを提供することを目的とする。
発明の開示
上記目的を達成する本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートは、基材の少なくとも片面に筆記ボード用ペンによって筆記、消去可能な樹脂層を設けてなり、樹脂層はエンボス加工によって凹凸が形成されていることを特徴とする。尚、本発明において、「シート」は、可撓性の有無を問わず、フィルム状のものから薄板状のものまで含むものとして用いる。
本発明のシートは、エンボス加工によって凹凸を形成することにより、顔料を用いた場合と異なり、樹脂層内にインクが染み込むことがなく、しかも所望の光拡散性を備えた表面とすることができ、これによって反射型スクリーンとしても筆記ボードとしても優れた性能を備えることができる。またシートの表面に急勾配で深い窪みがある場合には消去性が劣るが、エンボスで形成することにより、このような急勾配で深い窪みをなくすことができる。
エンボス加工は、基材側からも樹脂層側からも行うことができるが、特に基材層側からエンボス加工することが好ましい。樹脂層側からエンボス加工した場合には、樹脂層表面にはエンボスロール或いはエンボス板の凸部に対応する凹部が形成されるのに対し、基材側からエンボス加工した場合には、エンボスロール或いはエンボス板の凸部に対応する凸部が形成される。この凸部に付着したインクは凹部に付着した場合に比べ極めて容易に拭き取ることができ、消去性が向上する。また反射型スクリーンとして用いた場合、平坦部にあたった外光の一部を凸部が散乱することによって防眩性も向上させることができる。
本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートにおいて、樹脂層に形成される凹凸は、好適には、算術平均粗さＲａ（ＪＩＳ−Ｂ−０６０１）が１．０〜４．０μｍであり、隣接凸部間の平均山間隔Ｓｍ（ＪＩＳ−Ｂ−０６０１）が３０〜３００μｍである。
また本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートにおいて、好適には、樹脂層は、主として電離放射線硬化型樹脂を含む。電離放射線硬化型樹脂としては、例えば紫外線硬化型樹脂が用いられる。
本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートの一態様において、基材は、プラスチックフィルムである。
更に本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートの他の態様において、基材は、樹脂層が形成された面と反対の面に粘着層または接着層を有する。これにより、本発明のシートを、金属板、白色ボード、マグネットシート、壁等の任意のものに貼付して筆記ボード及び／または反射型スクリーンとして利用できる。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の筆記ボード／反射型スクリーンの詳細を説明する。
本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートは、基本的な構造として基材と、基材上に形成された樹脂層とを備えている。本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートは、そのまま筆記ボード或いは反射型スクリーンとして用いてもよく、或いは他の材料に貼着して用いてもよい。
基材としては、プラスチック製のシート、金属板等を用いることができるが、樹脂層の凹凸を基材側からのエンボス加工によって施す場合には、エンボス加工可能な材料であることが好ましい。このような材料として、例えばメタクリル酸メチル、アクリル酸メチル等の（メタ）アクリル酸エステルの単独若しくは共重合体、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリスチレン、フッ素樹脂等の樹脂シートを用いることができる。
また本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートをそのまま筆記ボード或いは反射型スクリーンとして用いる場合には、基材として少なくとも樹脂層が形成される表面が高反射率、例えば反射率９０％以上のフィルムまたはシートを用いる。このような基材として、上述した樹脂シートやその他のシート等の表面にアルミニウム等金属を蒸着するかアルミニウムペースト等の反射層を形成したもの、或いは白色顔料を練り込んだ樹脂シートを用いることができる。特に、ホットスポットの発生を抑え且つ反射特性を高めるために白色顔料を練り込んだ樹脂シートが好ましい。
本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを金属板など他の材料に貼着して用いる場合には、基材自体は反射性を備えている必要はなく、透明な基材を用いることができる。透明な基材としては上述した樹脂シートを用いることができ、可撓性のある樹脂シートが好適である。但し、本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを貼着する材料が、高反射率の材料ではない場合には、基材自体が高反射率の表面を有することが好ましい。
基材の厚さは特に限定されないが、本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを金属板など他の材料に貼着して用いる場合には、貼着の作業性、コスト等の点から好ましくは１０〜３００μｍ、より好ましくは２０〜２００μｍの範囲とする。特に基材側からエンボス加工を行う場合には、好ましくは１５０μｍ未満、より好ましくは１００μｍ未満とする。
樹脂層は、筆記ボード用ペンによって筆記、消去可能な樹脂からなる。このような樹脂として、紫外線硬化型樹脂、電子線硬化型樹脂等の電離放射線硬化型樹脂、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂などの熱硬化型樹脂やフッ素樹脂等が挙げられる。
これらのうち、特に耐擦性が高く、水性ペン等の筆記ペンに対して優れた筆記性および消去性を有するため、電離放射線硬化型樹脂が好適である。このような効果を得るために電離放射線硬化型樹脂の含有量は、樹脂層を構成する樹脂の９０重量％以上であることが好ましい。
電離放射線硬化型樹脂は、電離放射線（紫外線または電子線）の照射によって架橋硬化する樹脂で、エポキシ系アクリレート、ポリエステル系アクリレート、ポリウレタン系アクリレート、多価アルコール系アクリレート等のアクリル基を有する樹脂、ポリチオールポリエン樹脂等の光重合性プレポリマーを用いることができる。
これらは単独でも使用可能であるが、架橋硬化膜の硬度を向上させるために、光重合性モノマーを加えることが好ましい。光重合性モノマーとしては、２−エチルヘキシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー、１、６−ヘキサンジオールアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールアクリレート等の２官能アクリルモノマー、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、トリメチルプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート等の多官能アクリルモノマー等の１種若しくは２種以上が使用される。
電離放射線硬化型樹脂層は、上述した光重合性プレポリマーおよび光重合性モノマーの他、紫外線照射により硬化させる場合には、光重合開始剤や紫外線増感剤等を添加することが好ましい。光重合開始剤としては、ベンゾインエーテル系、ケタール系、アセトフェノン系、チオキサントン系等のラジカル型光重合開始剤、ジアゾニウム塩、ジアリールヨードニウム塩、トリアリールスルホニウム塩、トリアリールビリリウム塩、ベンジルピリジニウムチオシアネート、ジアルキルフェナシルスルホニウム塩、ジアルキルヒドロキシフェニルスルホニウム塩、ジアルキルヒドロキシフェニルホスホニウム塩等や複合系のカチオン型光重合開始剤等を用いることができる。
また、エンボスによる凹凸形成時の加工性をよくするために、電離放射線硬化型樹脂の効果を阻害しない範囲で、可撓性に優れた非反応性樹脂を混合して硬度を調節することもできる。このような非反応性樹脂としては、熱硬化性あるいは熱可塑性のアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、エポキシ樹脂等を使用することができる。
樹脂層にエンボスによって凹凸を形成するには上述した電離放射線硬化型樹脂の未硬化塗料を基材表面に塗布し、電子線あるいは紫外線を照射して硬化させた後、所定の凹凸模様が形成されたエンボスロール或いはエンボス板を圧接させて樹脂層表面に凹凸を形成する。圧接の際、必要に応じて加熱する。或いは未硬化の電離放射線硬化型樹脂を所定の凹凸が形成された賦型材で型付けした状態で電子線あるいは紫外線を照射して硬化させ、その後、賦型材から剥離することにより樹脂層表面に凹凸を形成してもよい。
さらに基材表面に電離放射線硬化型樹脂を含む塗料を塗布、硬化させて樹脂層を形成した後、基材側にエンボスロール或いはエンボス板を圧接させて樹脂層表面に凹凸を形成するようにしてもよい。
凹凸は、好適には算術平均粗さ（Ｒａ）が１．０〜４．０μｍの範囲、より好適には１．５〜３．０μｍの範囲とし、隣接する凸部間の距離の平均値（平均山間隔）は、好適には３０〜３００μｍの範囲、より好適には１００〜２８０μｍの範囲とする。凹凸の形状は、比較的勾配がゆるやかで深い窪みがないようにすることが好ましい。
このような範囲とすることにより、反射型スクリーンとして用いた場合に効果的にホットスポットをなくすことができ、しかもペンで筆記した場合に優れた消去性が得られる。また凹凸をエンボスによって形成しているので、樹脂層内にインクが染み込むことがなく、筆記部分を拭取るだけでインクが凹凸に残ることなく完全に消去できる。硬化後にエンボス加工した場合には、特に消去性に優れた表面とすることができる。また基材側からエンボス加工した場合には、エンボスロール或いはエンボス板の凸部に対応する凸部が形成されるので、インクの消去性がさらに向上し、また反射型スクリーンとして用いた場合、平坦部にあたった外光の一部を凸部が散乱することによって防眩性も向上させることができる。
樹脂層の厚さは、特に限定されないが、３〜１５μｍの範囲が好適である。樹脂層が３μｍより薄い場合には、樹脂層の硬度が不十分であるため、耐久性および消去性が低下する。また樹脂層が厚すぎるとエンボス加工時に層にクラックが生じる可能性がある。
本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートは、基材として樹脂層が形成される面に反射性をもたせた材料を用いる場合には、そのまま筆記ボード／反射型スクリーンとして利用しても、他の平坦な材料に接着剤等で貼着したものを筆記ボード／反射型スクリーンとして利用してもよい。
また本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートは、基材の樹脂層が形成された面と反対の面に予め粘着層或いは接着層を形成した構造とすることができる。その場合には粘着層或いは接着層を介して、鉄、アルミニウム等の金属板やボード等に貼着したものを筆記ボード／反射型スクリーンとして利用する。
粘着層或いは接着層は、感圧型接着剤または感熱型接着剤などの公知の接着剤を塗工することにより形成する。
感圧型接着剤は、一般に粘着剤と呼ばれるものであり、エラストマー粘着剤、シリコーン系、エポキシ系、ウレタン系、シアノアクリレート系等の合成樹脂粘着剤、エマルジョン系粘着剤等の公知の粘着剤が使用できる。また感圧型接着剤は、一般にホットメルト接着剤と呼ばれるものであり、エチレン／酢酸ビニル共重合体樹脂、エチレン／アクリル共重合体樹脂、ポリウレタン樹脂、熱可塑性エラストマー樹脂等の公知の熱溶融性樹脂が使用できる。
粘着層或いは接着層の厚さは特に限定されないが通常１０〜３００μｍ程度とする。
この構造の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを貼着する材料は、平坦なものであれば何でもよいが、基材が透明な場合には鉄板、アルミニウム板等の高反射率の金属板或いは白色或いは灰色に着色された板であることが好ましい。
以上のように構成される本発明の筆記ボード／反射型スクリーン両用シートは、樹脂層に顔料を含まず特定の凹凸が形成されているので、筆記ボードとして用いた場合、筆記ペンによる筆記性に優れ、また筆記されたものはフェルト等で拭取るだけで容易に消去できる。反射型スクリーンとして用いた場合には、樹脂層の凹凸によって光を散乱し、映写画像が見やすく、また効果的にホットスポットをなくすことができる。
実施例
以下、本発明の実施例を示す。尚、以下の実施例において、算術平均粗さおよび平均山間隔はそれぞれＪＩＳ−Ｂ−０６０１により測定した値を示す。
［実施例１］
厚さ５０μｍのポリエステルフィルム（ルミラーＥ２０：東レ社）の一方の面に、紫外線硬化型樹脂（アデカオプトマーＫＲ５６６：旭電化工業社）塗料を塗布し、紫外線照射により硬化させて厚さ９μｍの樹脂層を形成した。この樹脂層の表面に、エンボスロールを加熱・圧接させて、算術平均粗さＲａ２．０μｍ、平均山間隔Ｓｍ１５０μｍの凹凸を形成し、筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを得た。
このように作製した筆記ボード／反射型スクリーン両用シートに、ホワイトボード用マーカー黒（サクラ社）を用いて一本のラインを引いた後、市販のホワイトボード用マーカー字消しでそのラインを消去し、消去性を評価した。その結果を表１に示す。尚、消去性の評価は、マーカー字消しで１回拭き取るだけでマーカーの残りがなかったものを「◎」、１回では若干残るがもう一度拭き取ることにより消去できたものを「○」、３〜５回拭き取ることにより消去できたものを「△」、何度拭き取っても消去できなかったものを「×」とした。
またこの筆記ボード／反射型スクリーン両用シートに、液晶プロジェクター（ＥＬＰ−３５００：エプソン社）を用いて投影し、ホットスポットを観察し防眩性を評価した。結果を併せて表１に示す。表中、○はホットスポットが見えなかったものを示し、×は見えたものを示す。
［実施例２〜１１及び比較例１〜５］
樹脂層に形成する凹凸の算術平均粗さＲａおよび平均山間隔Ｓｍを変えて、それ以外は実施例１と同様にして基材上に樹脂層を形成したシートを作製した。これらシートについても実施例１と同様にマーカー筆記後の消去性およびプロジェクター投影時のホットスポットの有無（防眩性）を評価した。結果を表１に示す。
［実施例１２］
厚さ５０μｍのポリエステルフィルム（ルミラーＥ２０：東レ社）の一方の面に、実施例１と同じ紫外線硬化型樹脂塗料を塗布し、紫外線照射により硬化させて厚さ９μｍの樹脂層を形成した後、ポリエステルフィルムの樹脂層と反対の面に、エンボスロールを加熱・圧接させて、樹脂層に算術平均粗さＲａ２．０μｍ、平均山間隔Ｓｍ１５０μｍの凹凸を形成し、筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを得た。
このシートについても実施例１と同様にマーカー筆記後の消去性およびプロジェクター投影時のホットスポットの有無（防眩性）を評価した。結果を表１に示す。
［比較例６］
実施例１と同じポリエステルフィルムの一方の面に、実施例１と同じ紫外線硬化型樹脂中に顔料を含有せしめた塗料を塗布後、紫外線照射によって硬化させて表面に凹凸を有する樹脂層を形成した。顔料は、平均粒径３μｍのシリコーン樹脂粒子（トスパール１３０：東芝シリコーン社）を樹脂１００重量部に対し１５重量部用いた。このように作製したシート表面の凹凸は、算術平均粗さＲａが２．０μｍ、平均山間隔Ｓｍが１５０μｍであり、実施例１の凹凸とほぼ同様であった。
このシートについても実施例１と同様にマーカー筆記後の消去性およびプロジェクター投影時のホットスポットの有無（防眩性）を評価した。結果を表１に示す。
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表１の結果から分るように、算術平均粗さおよび平均山間隔をそれぞれ所定の範囲とすることにより、消去性および防眩性の両者について優れた性能を示した。これに対し、算術平均粗さおよび平均山間隔のいずれか一方のみが所定範囲であり、他方が所定範囲外の場合（比較例１〜３）には、算術平均粗さおよび平均山間隔が所定の範囲であっても、消去性および防眩性の両方の性能を満たすシートは得られなかった。また平均山間隔が小さく且つ算術平均粗さが比較的大きい場合には（実施例５）、やや消去性が劣るが、平均山間隔が小さくても算術平均粗さを小さくすることにより消去性を改善することができた（実施例６）。またエンボス加工を基材側から行った場合には（実施例１２）、非常に優れたインクの消去性が得られた。またホットスポットも全く見られず、優れた防眩性を示した。
一方、ケミカルマットによって凹凸を形成した場合には（比較例６）、算術平均粗さおよび平均山間隔が実施例１と同じであっても、顔料と顔料との間にインクが染み込んでしまい、拭取ることができなかったのに対し、エンボス加工によって形成した場合にはインクが樹脂層中に入り込んで消去できなくなるという欠点はなく、消去性に優れていることが示された。
以上の実施例からも明らかなように、本発明によれば、基材上にエンボス加工によって凹凸を形成した樹脂層を設けることにより、筆記ボードとして用いた場合に筆記／消去性に優れ、しかも反射型スクリーンとして用いた場合に防眩性に優れ、ホットスポットのない筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを提供することができる。特にエンボス加工を基材側から行った場合には、インクの消去性、防眩性ともに非常に優れた筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを得ることができる。
また本発明によれば、基材の樹脂層が設けられた面とは反対の面に粘着層または接着層を設けることにより金属板や白色ボード等に貼着して利用することができる筆記ボード／反射型スクリーン両用シートを提供することができる。