(57)【要約】【課題】サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる、表面処理剤の提供。【解決手段】ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を含む、サファイア基材用の表面処理剤、この表面処理剤と媒体とを含むコーティング剤、この表面処理剤およびこのコーティング剤から形成される表面層を有するサファイア基材。【選択図】なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を含む、サファイア基材用の表面処理剤。
【請求項２】
前記シラン化合物が下式（１）で表される化合物である、請求項１に記載の表面処理剤。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
【請求項３】
請求項１または２に記載の表面処理剤と媒体とを含む、コーティング剤。
【請求項４】
請求項１もしくは２に記載の表面処理剤または請求項３に記載のコーティング剤から形成される表面層を有するサファイア基材。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、ペルフルオロポリエーテル基および加水分解性シリル基を有するシラン化合物を含むサファイア基材用の表面処理剤、ならびに該表面処理剤から形成される表面層を有するサファイア基材に関する。
【背景技術】
【０００２】
光学物品、ディスプレイ、光記録媒体等のサファイア基材を有する物品に対しては、水や汚れ（指紋、皮脂、汗、化粧品、食品等）が表面に付着しにくく、汚れが表面に付着しても容易に除去できる特性、すなわち撥水撥油性や汚れ除去性を有することが要求される。例えば、メガネレンズの表面に汚れが付着すると、視界を妨げ、見栄えを悪くすることがある。光記録媒体の表面に汚れが付着すると、信号の記録および再生に障害が発生することがある。ディスプレイの表面に汚れが付着すると、視認性が低下し、タッチパネル付きディスプレイにおいては操作性に悪影響を及ぼすことがある。
【０００３】
酸化アルミニウム基材表面の改良技術として、１Ｈ，１Ｈ，２Ｈ，２Ｈ−ペルフルオロデシルジメチルクロロシラン等のペルフルオロアルキル基を有するシラン化合物から表面層を形成する技術が知られている（非特許文献１）。
【先行技術文献】
【非特許文献】
【０００４】
【非特許文献１】Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃ，２００７，１１１，３９５６−３９６２
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかしながら、本発明者らの知見によれば、非特許文献１に記載の表面層は、撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性が不充分である。
【０００６】
本発明は、サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる、表面処理剤の提供を目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明は、下記［１］〜［４］の構成を有する、サファイア基材用の表面処理剤、コーティング剤、表面層を有するサファイア基材を提供する。
［１］ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物を含む、サファイア基材用の表面処理剤。
［２］前記シラン化合物が下式（１）で表される化合物である、［１］の表面処理剤。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
［３］前記［１］または［２］の表面処理剤と媒体とを含む、コーティング剤。
［４］前記［１］もしくは［２］の表面処理剤または前記［３］のコーティング剤から形成される表面層を有するサファイア基材。
【発明の効果】
【０００８】
本発明によれば、サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる、表面処理剤が提供できる。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
［用語の定義］
本明細書において、式（１）で表される化合物を化合物（１）とも記す。他の式で表される化合物も同様に記す。
以下の用語の定義は、本明細書および特許請求の範囲にわたって適用される。
「エーテル性酸素原子」とは、炭素−炭素原子間においてエーテル結合（−Ｏ−）を形成する酸素原子を意味する。
「ペルフルオロアルキル基」とは、アルキル基の水素原子の全てがフッ素原子で置換された基を意味する。
「フルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の一部または全てがフッ素原子で置換された基を意味し、「ペルフルオロアルキレン基」とは、アルキレン基の水素原子の全てがフッ素原子で置換された基を意味する。なお、「フルオロアルキレン基」は、「ペルフルオロアルキレン基」を包含する。
「ペルフルオロポリエーテル基」は、２個以上のオキシペルフルオロアルキレン単位からなる基を意味する。ここで、オキシペルフルオロアルキレンの化学式は、その酸素原子をペルフルオロアルキレン基の右側に配置したものを表す。
「加水分解性シリル基」とは、加水分解反応することによって１個以上のシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）を形成し得るシリル基を意味する。例えば式（３）中の−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃである。
「有機基」は、炭素原子を１個以上有する基を意味する。
「表面層」は、本発明の表面処理剤で、サファイア基材を表面処理することによって、サファイア基材表面に形成される層を意味する。「表面層」は、サファイア基材表面に、優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与するために存在する。
【００１０】
［ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物］
本発明の表面処理剤（以下、「本表面処理剤」ともいう。）は、ペルフルオロポリエーテル基と加水分解性シリル基とを有するシラン化合物（以下、「本化合物」ともいう。）を含む。本表面処理剤に、本化合物の単一化合物が含まれていてもよく、本化合物の２種以上が含まれていてもよい。
【００１１】
本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基を有しているため、本化合物を含む本表面処理剤を用いることにより、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。ここで、ペルフルオロポリエーテル基を構成する、２個以上のオキシペルフルオロアルキレン単位は、同じであってもよく、異なっていてもよい。また、各オキシペルフルオロアルキレン単位は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。サファイア基材表面により優れた撥油性を付与できるため、直鎖状が好ましい。
【００１２】
本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物、およびペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物を包含する。ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端が自由端となって、サファイア基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できるため、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物が好ましい。なお、本表面処理剤における本化合物は、ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物と、ペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している化合物との混合物であってもよい。
【００１３】
本化合物は、加水分解性シリル基を有しているため、本化合物を含む本表面処理剤を用いることにより、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。すなわち、加水分解性シリル基の加水分解反応によって形成するシラノール基（Ｓｉ−ＯＨ）が、サファイア基材表面の水酸基（Ａｌ−ＯＨ）と脱水縮合反応して化学結合（Ａｌ−Ｏ−Ｓｉ）が形成される。
【００１４】
（化合物（１））
本化合物は、具体的には、式（１）で表される化合物が好ましい。
Ｂ１−（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１−Ａ１  ・・・（１）
［式中、
Ａ１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−であり、
ここで、ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
Ｄ１は、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
Ａ２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基であり、
ｍは１〜６の整数であり、
ｎ１は１〜２００の整数であり、ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。］
【００１５】
＜（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１＞
（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ペルフルオロポリエーテル基である。そのため、化合物（１）を用いることにより、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を充分に付与できる。
ｍは１〜６の整数である。（ＣｍＦ２ｍＯ）は、直鎖状であっても分岐状であってもよい。（ＣｍＦ２ｍＯ）としては、（ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２Ｏ）、（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）等が挙げられる。
【００１６】
ｎ１は、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、２以上の整数が好ましく、４以上の整数がさらに好ましく、５以上の整数が特に好ましい。本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、優れた相溶性を発現できる点から、ｎ１は、１００以下の整数が好ましく、８０以下の整数がより好ましく、６０以下の整数が特に好ましい。本表面処理剤に、化合物（１）の２種以上が含まれる場合、ｎ１は平均値である。この場合、ｎ１は整数でなくてもよい。
【００１７】
ｎ１が２以上の場合、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１は、ｍの異なる２種以上の（ＣｍＦ２ｍＯ）からなるものであってもよい。この場合、各（ＣｍＦ２ｍＯ）の結合順序は限定されない。例えば、（ＣＦ２Ｏ）（ｍが１である。）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）（ｍが２である。）の２種が存在する場合、（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）がランダムに配置されてもよく、（ＣＦ２Ｏ）と（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）が交互に配置されてもよく、複数の（ＣＦ２Ｏ）からなるブロックと複数の（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）からなるブロックが連結していてもよい。
【００１８】
好ましい（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１としては、以下の基が挙げられる。
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２（ただし、ｎ２×２＝ｎ１である。）、
（ＣＦ２Ｏ）ｎ３（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ４（ただし、ｎ３＋ｎ４＝ｎ１である。）、
（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１、
（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１。
【００１９】
＜Ａ１＞
Ａ１は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基である。Ａ１が加水分解性シリル基を有するため、化合物（１）を用いることにより、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる。
【００２０】
Ａ１が有する加水分解性シリル基の数は、１〜２０が好ましく、１〜１０がより好ましく、１〜３が特に好ましい。ここで、加水分解性シリル基の数は、加水分解によってシラノール基を形成できるケイ素原子の数に相当する。
【００２１】
好ましいＡ１としては、下式（３）で表される基が挙げられる。
−ＣａＦ２ａ−Ｅ−（−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ）ｄ  ・・・（３）
［式中、
ａは１〜２０の整数であり、
Ｅは、単結合、２価の連結基、または３価の連結基であり、
ｂは１〜１０の整数であり、
ｃは０〜３の整数であり、
Ｌ１は加水分解性基であり、
Ｒ１１は、水素原子、加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基、または加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基であり、
ｄは１または２であり、Ｅが単結合または２価の連結基の場合、ｄは１であり、Ｅが３価の連結基の場合、ｄは２であり、
ｄが２の場合、２つの−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃは、互いに同一であっても、異なっていてもよいが、
ただし、式（３）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。］
【００２２】
Ｅは、単結合、２価の連結基または３価の連結基である。連結基とは、該基を介して、原子または原子団を結合する基である。連結基は、炭素原子を１以上有する有機連結基であることが好ましく、−ＣｂＨ２ｂ−に連結する末端に窒素原子またはエーテル性酸素原子を有する有機連結基であることがより好ましい。
２価の連結基としては、−Ｏ−、−ＣｅＨ２ｅＯ−（ただし、ｅは１〜５の整数である。）、−ＣｆＨ２ｆＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−（ただし、ｆは１〜５の整数である。）または−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−が特に好ましい。ここで、−Ｏ−および−ＣｅＨ２ｅＯ−は、酸素原子に−ＣｃＨ２ｃ−ＳｉＬ１ｄＲ１１３−ｄで表される基が結合し、−ＣｆＨ２ｆＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−および−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−は、窒素原子に−ＣｃＨ２ｃ−ＳｉＬ１ｄＲ１１３−ｄで表される基が結合する。
３価の連結基として、−ＣｅＨ２ｅＯ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ＝または−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ＝が特に好ましい。ここで、Ｎからのびる「＝」は二重結合ではなく、２つの単結合であることを意味する。すなわち、３価の連結基において、窒素原子には、２つの−ＣｃＨ２ｃ−ＳｉＬ１ｄＲ１１３−ｄで表される基が結合する。
【００２３】
Ｒ１１は、水素原子、加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基、または加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基である。
加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基としては、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アリール基等が挙げられる。加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基としては、製造容易な点から、炭素数が１〜６のアルキル基が好ましく、炭素数が１〜３のアルキル基がより好ましく、炭素数が１〜２のアルキル基が特に好ましい。
【００２４】
加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基は、下式（４）が好ましい。
−Ｚ１−ＳｉＬ２ｇＲ１２３−ｇ  ・・・（４）
［式中、ｇは０〜３の整数であり、
Ｌ２は加水分解性基であり、
Ｚ１は、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、または−フェニレン−（ＣＨ２）ｈ−（式中、ｈは、０〜６である。）で表される基であり、
Ｒ１２は、水素原子、加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基、または下式（５）：
−Ｚ２−ＳｉＬ３ｊＲ１３３−ｊ  ・・・（５）
（式中、ｊは０〜３の整数であり、
Ｌ３は加水分解性基であり、
Ｒ１３は水素原子または加水分解性シリル基を有さない１価の炭化水素基であり、
Ｚ２は、炭素数１〜２０のアルキレン基、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基、または−フェニレン−（ＣＨ２）ｋ−（式中、ｋは、０〜６である）で表される基である。）であるが、
ただし、式（４）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。]
【００２５】
Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、加水分解性基である。加水分解性基は、加水分解反応により水酸基となる基である。すなわち、式（１）の末端の−Ｓｉ−Ｌ１部分、式（４）の末端の−Ｓｉ−Ｌ２部分、式（５）の末端の−Ｓｉ−Ｌ３部分は、加水分解反応によりシラノール基（−Ｓｉ−ＯＨ）となる。
【００２６】
加水分解性基としては、アルコキシ基、ハロゲン原子、アシル基、アシルオキシ基、イソシアナト基等が挙げられる。アルコキシ基としては、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましい。アシル基としては、炭素数２〜５のアシル基が好ましい。アシルオキシ基としては、炭素数２〜５のアシルオキシ基が好ましい。ハロゲン原子としては、塩素原子が好ましい。加水分解性基としては、工業的な製造が容易な点から、炭素数１〜４のアルコキシ基、ハロゲン原子または炭素数２〜５のアシルオキシ基が好ましい。加水分解性基としては、塗布時のアウトガスが少なく、化合物（１）の保存安定性に優れる点から、炭素数１〜４のアルコキシ基が好ましく、化合物（１）の長期の保存安定性が必要な場合にはエトキシ基が特に好ましく、塗布後の反応時間を短時間とする場合にはメトキシ基が特に好ましい。
Ｌ１、Ｌ２およびＬ３は、互いに同じであっても、異なっていてもよい。
【００２７】
ａは１〜２０の整数であり、１〜５の整数が好ましい。ａが３以上の場合、ＣａＦ２ａは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。ＣａＦ２ａとしては、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与できる点から、−ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＦ２ＣＦ（ＣＦ３）−が特に好ましい。
【００２８】
ｂは１〜１０の整数であり、１〜６の整数が好ましく、３〜５が特に好ましい。ｂが３以上の場合、ＣｂＨ２ｂは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。ＣｂＨ２ｂとしては、−ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−が特に好ましい。
【００２９】
ｃは０〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬ１が複数存在することによって、Ｌ１の加水分解反応によって形成するシラノール基とサファイア基材表面の水酸基との脱水縮合反応による化学結合がより強固になる。ｃが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬ１は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、Ｌ１は互いに同じであることが好ましい。
【００３０】
ｄは１または２である。ｄが２の場合、２つの−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃは、互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、互いに同一であることが好ましい。
ｅは１〜５の整数であり、１〜３の整数が好ましい。ｄが３以上の場合、ＣｄＨ２ｄは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。−ＣｅＨ２ｅＯ−としては、−ＣＨ２Ｏ−が特に好ましい。
ｆは１〜５の整数であり、１〜３の整数が好ましい。ｅが３以上の場合、ＣｅＨ２ｅは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。−ＣｆＨ２ｆＯ−としては、−ＣＨ２Ｏ−が特に好ましい。
【００３１】
Ｚ１およびＺ２は、炭素数１〜２０のアルキレン基が好ましい。
ｇは０〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬ２が複数存在することによって、Ｌ２の加水分解反応によって形成するシラノール基とサファイア基材表面の水酸基との脱水縮合反応による化学結合がより強固になる。ｇが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬ２は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、Ｌ２は互いに同じであることが好ましい。
ｊは０〜３の整数であり、２または３が好ましく、３が特に好ましい。分子中にＬ３が複数存在することによって、Ｌ３の加水分解反応によって形成するシラノール基とサファイア基材表面の水酸基との脱水縮合反応による化学結合がより強固になる。ｊが２以上である場合、１分子中に存在する複数のＬ３は互いに同じであってもよく、異なっていてもよい。原料の入手容易性や製造が容易な点からは、Ｌ３は互いに同じであることが好ましい。
【００３２】
式（３）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。すなわち、式（３）で表される基において、ｃが１以上（すなわち、少なくとも１個のＬ１が存在する。）か、少なくとも１個のＲ１１が加水分解性シリル基を有する１価の炭化水素基である。
また、式（４）中、少なくとも１個の加水分解性基が存在する。すなわち、式（４）で表される基において、ｇが１以上（すなわち、少なくとも１個のＬ２が存在する。）か、少なくとも１個のＲ１２が、ｊが１以上である（すなわち、少なくとも１個のＬ３が存在する。）、式（５）で表される基である。
【００３３】
好ましい−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃとしては、以下の基が挙げられる。
−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、
−ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、
−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、
−ＳｉＣｌ３、
−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、
−Ｓｉ（ＮＣＯ）３、
−Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３）３、
−Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）３、
−Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３）２．２（ＯＣＨ３）０．８、
−Ｓｉ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２．２（ＯＣＨ３）０．８｝３、
−Ｓｉ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２ＳｉＣｌ３）２．５（ＯＣＨ３）０．５］３、
−Ｓｉ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２．５（ＯＣＨ３）０．５｝３。
【００３４】
−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃとしては、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３、−ＳｉＣＨ３（ＯＣＨ３）２、−Ｓｉ（ＯＣＨ２ＣＨ３）３、−ＳｉＣｌ３、−Ｓｉ（ＯＣＯＣＨ３）３、−Ｓｉ（ＮＣＯ）３がより好ましく、工業的な製造における取扱いやすさの点から、−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３が特に好ましい。
【００３５】
より好ましいＡ１としては、以下の基が挙げられる。
−ＣａＦ２ａ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣａＦ２ａ−Ｏ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣａＦ２ａ−ＣｅＨ２ｅＯ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣａＦ２ａ−ＣｆＨ２ｆＯ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣａＦ２ａ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣａＦ２ａ−ＣｅＨ２ｅＯ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ）２、
−ＣａＦ２ａ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ）２。
【００３６】
特に好ましいＡ１としては、以下の基が挙げられる。ここで、−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃは、前記の好ましい例が適用される。
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ、
−ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ）２、
−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ）２。
【００３７】
＜Ｂ１＞
Ｂ１は、ＲＦ１−Ｏ−、Ｄ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−またはＡ２−Ｏ−である。ペルフルオロポリエーテル基の一方の末端のみに、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している本化合物は、Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）であり、ペルフルオロポリエーテル基の両方の末端に、それぞれ、１個以上の加水分解性シリル基を有する有機基が結合している本化合物は、Ｂ１がＡ２−Ｏ−である化合物（１）である。
Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である場合、化合物（１）の一方の末端がＣＦ３−となる。そのため、サファイア基材表面に優れた指紋汚れ除去性を付与できる。
Ｂ１は、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性を付与できる点からは、ＲＦ１−Ｏ−が好ましい。
【００３８】
＜＜ＲＦ１＞＞
ＲＦ１は、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基である。ペルフルオロアルキル基は、直鎖状であってもよく、分岐状であってもよい。ＲＦ１の具体例としては、ＣＦ３−、ＣＦ３（ＣＦ２）２−、ＣＦ３（ＣＦ２）３−、ＣＦ３（ＣＦ２）４−、ＣＦ３（ＣＦ２）５−、ＣＦ３ＣＦ（ＣＦ３）−等が挙げられる。ＲＦ１としては、サファイア基材表面に優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性を付与できる点から、ＣＦ３−、ＣＦ３（ＣＦ２）２−、ＣＦ３（ＣＦ２）３−が好ましい。
【００３９】
＜＜Ｑ１＞＞
Ｑ１は、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基である。Ｑ１における水素原子の数は、１以上であり、２以上が好ましく、３以上が特に好ましい。
【００４０】
Ｑ１の具体例としては、下式（６−１）、下式（６−２）または下式（６−３）で表される基が挙げられる。
−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（６−１）
−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−  ・・・（６−２）
−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−  ・・・（６−３）
［式中、
ＲＦは、単結合、炭素数１〜１５のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１５のペルフルオロアルキレン基であり、
ＲＦは、前記Ｄ１に結合し、
ｚは１〜４の整数であり、
ただし、Ｄ１がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、ＲＦは単結合ではない。］
【００４１】
ＲＦは、サファイア基材表面により優れた指紋汚れ除去性、潤滑性を付与できる点から、炭素数１〜９のペルフルオロアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜１３のペルフルオロアルキレン基が好ましい。ここで、ペルフルオロアルキレン基は、直鎖状でも分岐状でもよい。ｚは１〜３の整数が好ましい。ｚが３または４の場合、ＣｚＨ２ｚは直鎖状であっても、分岐状であってもよく、直鎖状が好ましい。
【００４２】
Ｑ１が式（６−１）で表される基である場合のＤ１−Ｑ１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２ＯＣＦ（ＣＦ３）ＣＦ２−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−。
【００４３】
Ｑ１が式（６−２）で表される基である場合のＤ１−Ｑ１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨＦＣＦ２−。
【００４４】
Ｑ１が式（６−３）で表される基である場合のＤ１−Ｑ１−基の具体例としては、下記が挙げられる。
ＣＦ３−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−、
ＣＦ３−ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２ＣＦ２ＯＣＦ２−ＣＨ２−。
【００４５】
＜＜Ａ２＞＞
Ａ２は、末端に１個以上の加水分解性シリル基を有する１価の有機基である。Ａ２の例示は、好ましい例も含め、Ａ１に関する記載が適用される。
【００４６】
＜化合物（１）の好ましい態様＞
【００４７】
好ましい化合物（１）としては、下記の化合物（１ａ−１）〜（１ａ−１８）が挙げられる。
【００４８】
国際公開第２００９／００８３８０号および特開２０１２−１３１６８３号公報に記載の化合物（１ａ−１）〜（１ａ−３）。なお、ｎ５は１〜２００の整数である。
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５−ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３・・・（１ａ−１）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３・・・（１ａ−２）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ５−ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）Ｎ（ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３）２・・・（１ａ−３）
【００４９】
国際公開第２０１３／１２１９８６号に記載の化合物（１ａ−４）〜（１ａ−１４）。なお、ｎ６は１〜９９の整数であり、ｎ７＋ｎ８は２〜２００の整数である。
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−４）
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−５）
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−６）
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−７）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−Ｃ（＝Ｏ）ＮＨ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−８）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−９）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１０）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ７（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１１）
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ７（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ８−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１２）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１３）
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ６−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１４）
【００５０】
特開２０１１−１１６９４７号公報に記載の化合物（１ａ−１５）および（１ａ−１６）。なお、ｎ９は０〜８０の整数であり、ｎ１０は１〜８０の整数であり、ｎ９＋ｎ１０は１〜１００の整数である。
ＣＦ３Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ９（ＣＦ２Ｏ）ｎ１０−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１５）
（ＣＨ３Ｏ）３Ｓｉ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−ＯＣＨ２−ＣＦ２−Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ９（ＣＦ２Ｏ）ｎ１０−ＣＦ２ＣＨ２ＯＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１６）
【００５１】
国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載の化合物（１ａ−１７）。なお、ｎ１１は１〜２００の整数である。
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１１−ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ｛ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ［ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＯＣＨ３）３］２．５（ＯＣＨ３）０．５｝３  ・・・（１ａ−１７）
【００５２】
ＣＦ３ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ｛（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３｝−ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−１８）
なお、ｎ１２＋ｎ１３は２〜２００の整数である。
【００５３】
本化合物の数平均分子量（Ｍｎ）は、２，０００〜１０，０００が好ましく、２，５００〜８，０００がより好ましく、３，０００〜６，０００が特に好ましい。上記範囲内であれば、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性および潤滑性を付与でき、また、本表面処理剤に他の成分を配合した場合に、他の成分との相溶性に優れる。
本化合物の数平均分子量は、ＮＭＲ分析法を用い、下記の方法で算出される。
１Ｈ−ＮＭＲまたは１９Ｆ−ＮＭＲによって、末端基を基準にしてオキシペルフルオロアルキレン基の数（平均値）を求めることによって算出される。末端基は、例えば式（１）中のＡ１である。
【００５４】
［化合物（１）の製造方法］
Ｂ１がＲＦ１−Ｏ−またはＡ２−Ｏ−である化合物（１）は、公知の方法により製造することができる。例えば、化合物（１ａ−１）〜（１ａ−３）は、国際公開第２００９／００８３８０号に記載された方法により製造できる。化合物（１ａ−４）〜(１ａ−１４)は、国際公開第２０１３／１２１９８６号に記載された方法により製造できる。化合物（１ａ−１５）および（１ａ−１６）は、特開２０１１−１１６９４７号公報に記載された方法により製造できる。化合物（１ａ−１７）は、国際公開第２０１４／０６９５９２号に記載された方法により製造できる。
【００５５】
Ｂ１がＤ１−Ｑ１−Ｏ−ＣＨ２−である化合物（１）の製造方法について、式（１１１）で表される化合物を例に説明する。
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬｃＲ３−ｃ  ・・・（１１１）
【００５６】
（化合物（１１１）の製造方法）
＜方法ｉ＞化合物（１１１）は、ｂが３以上の場合、下記のようにして製造できる。
塩基性化合物の存在下、化合物（１０）にＤ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＦ＝ＣＦ２を反応させて、化合物（１１）、化合物（２１）および未反応の化合物（１０）の混合物を得る。化合物（１０）は、市販品としてＦＬＵＯＲＯＬＩＮＫ  Ｄ４０００（ソルベイソレクシス社製）が挙げられる。
ＨＯ−ＣＨ２ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］ＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１０）
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−ＯＨ  ・・・（１１）
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＲＦ−Ｄ１  ・・・（２１）
【００５７】
混合物から化合物（１１）を単離し、塩基性化合物の存在下、化合物（１１）にＸ−Ｃｂ−２Ｈ２（ｂ−２）−ＣＨ＝ＣＨ２を反応させて、化合物（１２）を得る。Ｘは、脱離基であり、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ等である。
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃｂ−２Ｈ２（ｂ−２）−ＣＨ＝ＣＨ２  ・・・（１２）
【００５８】
化合物（１２）とＨＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃとをヒドロシリル化反応させて、化合物（１１１ａ）、または化合物（１１１ａ）および化合物（１１１ｂ）の混合物を得る。ヒドロシリル化反応は、白金等の遷移金属触媒または有機過酸化物等のラジカル発生剤を用いて行うことが好ましい。
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃｂ−２Ｈ２（ｂ−２）−ＣＨ２ＣＨ２−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ  ・・・（１１１ａ）
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−Ｃｂ−２Ｈ２（ｂ−２）−ＣＨ（ＣＨ３）−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ  ・・・（１１１ｂ）
【００５９】
＜方法ｉｉ＞化合物（１１１）は、ｂが１以上の場合、下記のようにして製造できる。
塩基性化合物の存在下、化合物（１１）にＸ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃを反応させて、化合物（１１１）を得る。Ｘは、脱離基であり、Ｉ、Ｂｒ、Ｃｌ等である。
Ｄ１−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２−ＣＦ２Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１２−１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ１３］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣｂＨ２ｂ−ＳｉＬ１ｃＲ１１３−ｃ  ・・・（１１１）
【００６０】
［表面処理剤］
本表面処理剤は、本化合物を含む。本表面処理剤は、本化合物のみからなっていてもよい。本表面処理剤には、本化合物の製造上、不可避的に混入する化合物（以下、「不純物」ともいう。）が含まれていてもよい。本表面処理剤は、本化合物と不純物以外の他の成分を含んでいてもよい。
【００６１】
（他の成分）
他の成分としては、例えば、加水分解性シリル基を有さないペルフルオロポリエーテル化合物（以下、「含フッ素エーテル化合物」ともいう。）および触媒等が挙げられる。本表面処理剤における、含フッ素エーテル化合物および触媒以外の他の成分の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【００６２】
＜含フッ素エーテル化合物＞
含フッ素エーテル化合物としては、化合物（１）の製造過程で副生する化合物および化合物（１）と同様の用途に使用される公知の（特に市販の）化合物等が挙げられる。含フッ素エーテル化合物としては、下記化合物（７）および化合物（８）が好ましい。
【００６３】
＜＜化合物（７）＞＞
化合物（７）は、下式（７）で表される含フッ素エーテル化合物である。
ＲＦ２−Ｏ−（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１４−ＲＦ３  ・・・（７）
［式中、
ＲＦ２およびＲＦ３は、それぞれ独立に、炭素数１〜６のペルフルオロアルキル基であり、
ｑは１〜６の整数であり、
ｎ１４は１〜２００の整数であり、ｎ１４が２以上のとき、（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１４は、ｑの異なる２種以上の（ＣｑＦ２ｑＯ）からなるものであってもよい。］
【００６４】
ＲＦ２およびＲＦ３の例示は、好ましい例も含め、ＲＦ１に関する記載が適用される。
（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１４の例示は、好ましい例も含め、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１に関する記載が適用される。（ＣｑＦ２ｑＯ）ｎ１４は、化合物（１）の製造過程で副生する化合物を有効に利用できる点から、式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１と同じであることが好ましい。たとえば、化合物（１）が［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２］を有する化合物である場合は、化合物（７）も［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２］を有する化合物であることが特に好ましい。
【００６５】
化合物（７）は、市販品を用いることができる。市販品としては、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｍ、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｙ、ＦＯＭＢＬＩＮ  Ｚ（以上、ソルベイソレクシス社製）、Ｋｒｙｔｏｘ（デュポン社製）、デムナム（ダイキン工業社製）等が挙げられる。
【００６６】
＜＜化合物（８）＞＞
化合物（８）は、下式（８）で表される含フッ素エーテル化合物である。
Ｄ２−Ｑ２−Ｏ−ＣＨ２−（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ１５−ＣｔＦ２ｔ−ＣＨ２−Ｏ−Ｑ３−Ｄ３  ・・・（８）
［式中、
Ｄ２およびＤ３は、それぞれ独立に、ＣＦ３−またはＣＦ３−Ｏ−であり、
Ｑ２およびＱ３は、それぞれ独立に、水素原子を１個以上含む炭素数１〜２０のフルオロアルキレン基、水素原子を１個以上含み、炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のフルオロアルキレン基、炭素数１〜２０のアルキレン基、または炭素−炭素原子間にエーテル性酸素原子を有する炭素数２〜２０のアルキレン基であり、
ｔは１〜５の整数であり、
ｒは１〜６の整数であり、
ｎ１５は１〜２００の整数であり、ｎ１５が２以上のとき、（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ１５は、ｒの異なる２種以上の（ＣｒＦ２ｒＯ）からなるものであってもよい。］
【００６７】
Ｑ２およびＱ３の例示は、好ましい例も含め、Ｑ１に関する記載が適用される。Ｑ２およびＱ３が、式（６−１）、式（６−２）または式（６−３）で表される基の場合、Ｑ２においては、ＲＦはＤ２に結合し、Ｑ３においては、ＲＦはＤ３に結合する。ただし、Ｄ２がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、ＱＦ２は単結合ではない。また、Ｄ３がＣＦ３−Ｏ−であるとき、式（６−１）および式（６−２）において、ＱＦ２は単結合ではない。
【００６８】
（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ１５の例示は、好ましい例も含め、（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１に関する記載が適用される。（ＣｒＦ２ｒＯ）ｎ１５は、化合物（１）の製造過程で副生する化合物（例えば、化合物（２１））を有効に利用できる点から、式（１）における（ＣｍＦ２ｍＯ）ｎ１と同じであることが好ましい。
【００６９】
化合物（８）の具体例としては、下式で表される化合物が挙げられる。なお、式中の２つのＲＦ基の種類は同じでも異なっていてもよい。
Ｄ２−ＲＦ−Ｏ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−Ｏ−ＲＦ−Ｄ３、
Ｄ２−ＲＦ−ＣＨＦＣＦ２−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣＦ２ＣＨＦ−ＲＦ−Ｄ３、
Ｄ２−ＲＦ−ＣｚＨ２ｚ−Ｏ−ＣＨ２ＣＦ２−Ｏ［（ＣＦ２Ｏ）ｎ１（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ２］−ＣＦ２ＣＨ２−Ｏ−ＣｚＨ２ｚ−ＲＦ−Ｄ３。
【００７０】
本表面処理剤における、含フッ素エーテル化合物の含有量は、３０質量％以下が好ましく、２０質量％以下が特に好ましい。
【００７１】
＜触媒＞
触媒としては、本化合物の加水分解性シリル基の加水分解と脱水縮合反応を促進する酸触媒や塩基性触媒が挙げられる。酸触媒としては、塩酸、硝酸、酢酸、硫酸、リン酸、スルホン酸、メタンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸等が挙げられる。塩基性触媒としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、アンモニア等が挙げられる。
本表面処理剤における、触媒の含有量は、１０質量％以下が好ましく、１質量％以下が特に好ましい。
【００７２】
［コーティング液］
本発明におけるコーティング液（以下、「本コーティング液」ともいう。）は、本表面処理剤と媒体とを含む。本コーティング液は、液状であれば特に限定されず、溶液であってもよく、分散液であってもよい。
【００７３】
本コーティング液における固形分濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．０１〜１質量％が特に好ましい。本コーティング液の固形分濃度は、加熱前の本表面処理剤の質量と、１２０℃の対流式乾燥機にて４時間加熱した後の質量とから算出する値である。
本コーティング液における本化合物の濃度は、０．００１〜１０質量％が好ましく、０．１〜１質量％が特に好ましい。
【００７４】
（媒体）
媒体としては、液状媒体が挙げられ、有機溶媒が好ましい。有機溶媒は、フッ素系有機溶媒であっても、非フッ素系有機溶媒であってもよく、両方の溶媒を併用してもよい。媒体の量は、本コーティング液中、９０〜９９．９９９質量％が好ましく、９９〜９９．９質量％が特に好ましい。
【００７５】
フッ素系有機溶媒は、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、フッ素化アルキルアミン、フルオロアルコール等が挙げられ、本化合物の溶解性の点から、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテルが好ましく、フルオロアルキルエーテルが特に好ましい。
【００７６】
フッ素化アルカンとしては、炭素数４〜８の化合物が挙げられる。市販品としては、例えばＣ６Ｆ１３Ｈ（ＡＣ−２０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ６Ｆ１３Ｃ２Ｈ５（ＡＣ−６０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ２Ｆ５ＣＨＦＣＨＦＣＦ３（バートレル：製品名、デュポン社製）等が挙げられる。
フッ素化芳香族化合物としては、例えばヘキサフルオロベンゼン、トリフルオロメチルベンゼン、ペルフルオロトルエン、ビス（トリフルオロメチル）ベンゼン等が挙げられる。
フルオロアルキルエーテルとしては、炭素数４〜１２の化合物が挙げられる。市販品としては、例えばＣＦ３ＣＨ２ＯＣＦ２ＣＦ２Ｈ（ＡＥ−３０００：製品名、旭硝子社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣＨ３（ノベック−７１００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）、Ｃ６Ｆ１３ＯＣＨ３（ノベック−７３００：製品名、３Ｍ社製）等が挙げられる。
フッ素化アルキルアミンとしては、例えばペルフルオロトリプロピルアミン、ペルフルオロトリブチルアミン等が挙げられる。
フルオロアルコールとしては、例えば２，２，３，３−テトラフルオロプロパノール、２，２，２−トリフルオロエタノール、ヘキサフルオロイソプロパノール等が挙げられる。
【００７７】
非フッ素系有機溶媒は、水素原子と炭素原子のみからなる化合物、水素原子と炭素原子と酸素原子のみからなる化合物が挙げられ、炭化水素系有機溶媒、アルコール系有機溶媒、ケトン系有機溶媒、エーテル系有機溶媒、エステル系有機溶媒が好ましく、本化合物の溶解性の点から、ケトン系有機溶媒が特に好ましい。
【００７８】
炭化水素系有機溶媒としては、ヘキサン、へプタン、シクロヘキサン等が好ましい。
アルコール系有機溶媒としては、メタノール、エタノール、１−プロパノール、２−プロパノール等が好ましい。
ケトン系有機溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等が好ましい。
エーテル系有機溶媒としては、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、テトラエチレングリコールジメチルエーテル等が好ましい。
エステル系有機溶媒としては、酢酸エチル、酢酸ブチル等が好ましい。
【００７９】
媒体としては、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物、フルオロアルキルエーテル、水素原子と炭素原子のみからなる化合物、および水素原子と炭素原子と酸素原子のみからなる化合物からなる群より選択される少なくとも１種の有機溶媒が好ましい。特に、フッ素化アルカン、フッ素化芳香族化合物およびフルオロアルキルエーテルからなる群より選択される少なくとも１種のフッ素系有機溶媒が好ましい。本化合物の溶解性向上の点から、これらの溶媒の量は、媒体全体中、９０質量％以上であることが好ましい。
【００８０】
［サファイア基材］
サファイア基材は、サファイアからなる基材である。サファイアのみからなってもよく、サファイアの有する優れた特性に影響を及ぼさない範囲でサファイア以外の化合物を含んでいてもよい。機械的強度や光透過性に優れる点からは、サファイアのみからなることが好ましい。
【００８１】
サファイアは、コランダム構造を有する、α型アルミナ（六方晶）単結晶材料である。サファイアの結晶方位面は、以下の面が挙げられる。
【数１】
2016060792.tif 000002
高い強度を有することから、サファイアの結晶方位面はａ面が好ましい。なお、サファイア基材自体に所望の高度および光透過性を付与するために、アモルファスアルミナ、透明アルミナ、他のサファイア様材料、多結晶型化合物等を組み合わせてもよい。サファイアの製造方法としては、ベルヌーイ（Verneuil）法、チョクラルスキ（Czochralski）法、ＥＰＧ（Edge-defined film-fed Growth）法が挙げられる。
【００８２】
サファイア基材は、光透過性を有することが好ましい。「光透過性」とは、ＪＩＳ  Ｒ１３０６に準じた垂直入射型可視光透過率が２５％以上であることを意味し、５０%以上であることが好ましい。
【００８３】
（表面層）
本発明の表面処理剤をサファイア基材表面に適用することによって、表面層が形成される。表面層の厚さは、１〜１００ｎｍが好ましく、１〜５０ｎｍが特に好ましい。表面層の厚さが前記範囲の下限値以上であれば、表面層の存在により、サファイア基材表面により優れた撥水撥油性、指紋汚れ除去性を付与できる。前記範囲の上限値以下であれば、コストを低減でき、かつ表面層を有するサファイア基材の光透過率が高くなる。
なお、表面層の厚さは、例えば薄膜解析用Ｘ線回折計ＡＴＸ−Ｇ（ＲＩＧＡＫＵ社製）を用いて、Ｘ線反射率法によって反射Ｘ線の干渉パターンを得て、該干渉パターンの振動周期から算出できる。
【００８４】
（製造方法）
表面層を有するサファイア基材の製造方法は、本発明の本表面処理剤またはコーティング液を用いて、サファイア基材表面を処理する工程を有する。処理の方法としては、ドライコーティング法またはウェットコーティング法が挙げられる。
【００８５】
＜ドライコーティング法＞
ドライコーティング法による表面層を有するサファイア基材の製造方法は、表面処理剤をサファイア基材表面にドライコーティングする工程を含む。
【００８６】
ドライコーティング法としては、真空蒸着、ＣＶＤ、スパッタリング等の手法が挙げられる。本化合物の分解を抑える点、および装置の簡便な点から、真空蒸着法が好ましい。真空蒸着法は、抵抗加熱法、電子ビーム加熱法、高周波誘導加熱法、反応性蒸着、分子線エピタキシー法、ホットウォール蒸着法、イオンプレーティング法、クラスターイオンビーム法等に細分することができるが、いずれの方法も適用できる。本化合物の分解を抑制する点、および装置の簡便さの点から、抵抗加熱法が好適に利用できる。真空蒸着装置は特に制限なく、公知の装置が利用できる。
【００８７】
真空蒸着法を用いる場合の成膜条件は、適用する真空蒸着法の種類によって異なるが、抵抗加熱法の場合、蒸着前真空度は１×１０−２Ｐａ以下が好ましく、１×１０−３Ｐａ以下が特に好ましい。蒸着源の加熱温度は、３０〜４００℃が好ましく、５０〜３００℃が特に好ましい。加熱温度が前記範囲の下限値以上であれば、成膜速度に優れる。前記範囲の上限値以下であれば、本化合物の分解が生じることなく、サファイア基材表面に撥水撥油性、潤滑性、指紋汚れ除去性を付与できる。真空蒸着時、サファイア基材の温度は室温（２０〜２５℃）から２００℃までの範囲であることが好ましい。サファイア基材の温度が２００℃以下であれば、成膜速度に優れる。サファイア基材の温度の上限値は１５０℃以下がより好ましく、１００℃以下が特に好ましい。
【００８８】
＜ウェットコーティング法＞
ウェットコーティング法による表面層を有するサファイア基材の製造方法は、本発明の表面処理剤またはコーティング液をサファイア基材表面に塗布する工程を含む。コーティング液を使用する場合には、媒体を除去する工程をさらに含む。
塗布方法としては、スピンコート法、ワイプコート法、スプレーコート法、スキージーコート法、ディップコート法、ダイコート法、インクジェット法、フローコート法、ロールコート法、キャスト法、ラングミュア・ブロジェット法またはグラビアコート法が好ましい。
媒体を除去する方法としては、加熱、真空、加熱および真空が挙げられる。乾燥温度は１０〜３００℃が好ましく、２０〜２００℃が特に好ましい。
【００８９】
＜後処理＞
サファイア基材に表面層を形成した後に、必要に応じて、本化合物とサファイア基材との反応を促進するための操作を行ってもよい。該操作としては、加熱、加湿等が挙げられる。例えば、水分を有する大気中で表面層が形成されたサファイア基材を加熱して、サファイア基材表面に存在する水酸基等と加水分解性シリル基の加水分解反応によって形成するシラノール基が有する水酸基との反応等の反応を促進することができる。表面処理後、表面層中の化合物であって他の化合物やサファイア基材と化学結合していない化合物は、必要に応じて除去してもよい。具体的な方法としては、例えば、表面層に溶媒をかけ流す方法や、溶媒をしみ込ませた布でふき取る方法が挙げられる。
【実施例】
【００９０】
以下、実施例を用いて本発明をさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものではない。以下において「％」は特に断りのない限り「質量％」である。なお、例１は実施例、例２は比較例である。
【００９１】
［評価方法］
（測定・評価）
＜水接触角およびｎ−ヘキサデカン接触角の測定方法＞
サファイア基材の表面層の表面に置いた、約２μＬの蒸留水またはｎ−ヘキサデカンの接触角を、接触角測定装置ＤＭ−５００（協和界面科学社製）を用いて測定した。サファイア基材の表面層の表面における異なる５箇所で測定を行い、その平均値を算出した。接触角の算出には２θ法を用いた。
【００９２】
＜指紋汚れ除去性＞
人工指紋液（オレイン酸とスクアレンとからなる液）を、シリコンゴム栓の平坦面に付着させた後、余分な油分を不織布（ベンコットＭ−３：製品名、旭化成社製）にて拭き取ることによって、指紋のスタンプを準備した。該指紋スタンプを、表面層を有するサファイア基材の表面層上に乗せ、１ｋｇの荷重にて１０秒間押しつける方法で、指紋をサファイア基材の表面層の全面に付着させた。次に、表面層に付着した指紋を、ティッシュペーパを取り付けた、往復式トラバース試験機（ケイエヌテー社製）を用い、荷重５００ｇにて拭き取った。拭き取り一往復毎にヘーズの値を測定し、１０往復拭き取るまでの間に、ヘーズが０．５以下に達したら合格、０．５以下に達しなかったら不合格とした。
【００９３】
＜動摩擦係数＞
表面層を有するサファイア基材の人工皮膚（ＰＢＺ１３００１、出光テクノファイン社製）に対する動摩擦係数を、荷重変動型摩擦摩耗試験システムＨＨＳ２０００（新東科学社製）を用い、接触面積３ｃｍ×３ｃｍ、荷重１００ｇの条件で測定した。
動摩擦係数が小さいほど潤滑性に優れる。
【００９４】
［例１］
国際公開第２０１３／１２１９８６号の例３に記載の化合物（１ａ−４）（ただし、ｎの平均値は７）と化合物（１ａ−５）（ただし、ｎの平均値は７）との混合物（１）、媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。サファイア基材（人工サファイア、結晶方位面ｃ面、信光社製）を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、サファイア基材を引き上げた。サファイア基材を２００℃で３０分間乾燥させ、アサヒクリンＡＫ−２２５（旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面層を有するサファイア基材を得た。表面層の膜厚は１０ｎｍであった。
表面層の水接触角、ｎ−ヘキサデカン接触角、指紋汚れ除去性および動摩擦係数の評価結果を表１に示す。
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−４）
ＣＦ３ＣＦ２Ｏ−（ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２Ｏ）ｎ−ＣＦ２ＣＦ２Ｏ−ＣＦ２ＣＦ２ＣＦ２−ＣＨ２Ｏ−ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）−Ｓｉ（ＯＣＨ３）３  ・・・（１ａ−５）
【００９５】
［例２］
非特許文献Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．Ｃ，２００７，１１１，３９５６−３９６２に記載の化合物（２）と媒体としてのＣ４Ｆ９ＯＣ２Ｈ５（ノベック−７２００：製品名、３Ｍ社製）とを混合して、固形分濃度０．０５％のコーティング液を調製した。サファイア基材（人工サファイア、結晶方位面ｃ面、信光社製）を該コーティング液にディッピングし（ディップコート法）、３０分間放置後、サファイア基材を引き上げた。サファイア基材を２００℃で３０分間乾燥させ、アサヒクリンＡＫ−２２５（旭硝子社製）にて洗浄することにより、表面層を有するサファイア基材を得た。表面層の膜厚は１０ｎｍであった。
表面層の水接触角、ｎ−ヘキサデカン接触角、指紋汚れ除去性および動摩擦係数の評価結果を表１に示す。
ＣＦ３（ＣＦ２）７ＣＨ２ＣＨ２Ｓｉ（ＣＨ３）２Ｃｌ・・・（２）
【００９６】
【表１】
2016060792.tif 000003
【００９７】
表１の結果より、本化合物を用いた例１は、表面層の撥水撥油性が高く、指紋汚れ除去性、潤滑性に優れる。一方、ペルフルオロポリエーテル基を有さない化合物を用いた例２は、特に、指紋汚れ除去性、潤滑性に劣る。
【産業上の利用可能性】
【００９８】
本表面処理剤を用いて形成される表面層を有するサファイア基材は、電子材料および光学材料（例えば、内視鏡レンズ、移動通信デバイス、指紋読取装置、自動送金機、ゴーグル、カメラ、赤外線撮像システム、レンズ、タッチパネルまたは窓等）に用いることができ、タッチパネルを構成する部材として好適である。タッチパネルとは、指等による接触によってその接触位置情報を入力する装置と表示装置とを組み合わせた入力／表示装置（タッチパネル装置）の、入力装置である。タッチパネルは、サファイア基材と、入力検出方式に応じて、透明導電膜、電極、配線、ＩＣ等とから構成されている。サファイア基材の表面層を有する面をタッチパネルの入力面とすることによって、優れた指紋汚れ除去性および潤滑性を有するタッチパネルが得られる。潤滑性が優れると、タッチパネルのタッチ感が優れ、操作性が向上する。本表面処理剤は、タッチパネルのサファイア基材の表面処理に好適に用いることができる。