(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反応室内に設けられたカソードの少なくとも一部を自動車用プラスチック部品の表面形状と一致した形状としたプラズマ化学蒸着装置を用い、前記カソードに前記プラスチック部品を取り付け、
前記反応室内に、酸素ガスと、ヘリウムキャリアガスをジエチル亜鉛液中に吹き込むことによりヘリウムキャリアガスと混合させたジエチル亜鉛ガスを導入するとともに、反応室とカソード間に高周波電力を供給し、５０〜８０℃でプラズマ化学蒸着を行って、前記プラスチック部品の表面に酸化亜鉛を主成分とする保護膜を形成し、この後、
前記反応室内に、酸素ガスと、ヘリウムキャリアガスを有機シリコン液中に吹き込むことによりヘリウムキャリアガスと混合させた有機シリコンガスを導入するとともに、反応室とカソード間に高周波電力を供給してプラズマ化学蒸着を行って、
前記酸化亜鉛を主成分とする保護膜の表面に二酸化珪素を主成分とする保護膜を形成することを特徴とする自動車用プラスチック部品の保護膜形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、耐擦傷性と紫外線カット特性を有する保護膜を表面に形成した自動車用プラスチック部品に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の自動車部品等は、軽量化及び地球環境保護の観点から、リサイクルしやすい熱可塑性プラスチック材料が現在広く採用されている。たとえば、自動車用ヘッドランプのレンズ材料には、軽量化のため及び衝撃強度が高いことから、ポリカーボネート樹脂（以下、ＰＣ樹脂という。）が主に使用されている。ところで、この様なＰＣ樹脂をそのまま自動車の外装用部品に使用する場合、材料自身の表面硬度が低くて傷が付き易く、太陽から発せられる紫外線と熱により劣化し、変色、変形、強度低下を起こし易いといった弱点がある。
【０００３】
これらの弱点を補うため、従来は、主として、ＰＣ樹脂表面にアクリル系塗料をスプレーして、耐擦傷性と紫外線カット特性を有する保護膜（ハードコート膜）を形成していた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、自動車に使用されているプラスチック部品の形状は、多種多様で複雑な三次元形状になっており、このような部品に対して塗料をスプレーする表面被覆処理では、均一な厚さの保護膜を形成するのが困難であるばかりでなく、プラスチック表面への塗着効率が低く、有機溶剤の多くを大気中に無駄に放出したり、望まない面に塗料を付着させることもあった。
【０００５】
このため、多種多様で複雑な三次元形状のプラスチック部品に対して、有機溶剤等を無駄に大気中に放出せず、地球環境保護に貢献できるようにしながら、耐擦傷性、紫外線カット特性等を有する均一な膜厚で良質な保護膜を形成することが求められている。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を達成するために、請求項１に係る発明では、反応室内に設けられたカソードの少なくとも一部を自動車用プラスチック部品の表面形状と一致した形状としたプラズマ化学蒸着装置を用い、前記カソードに前記プラスチック部品を取り付け、前記反応室内に、酸素ガスと、ヘリウムキャリアガスをジエチル亜鉛液中に吹き込むことによりヘリウムキャリアガスと混合させたジエチル亜鉛ガスを導入するとともに、反応室とカソード間に高周波電力を供給し、５０〜８０℃でプラズマ化学蒸着を行って、前記プラスチック部品の表面に酸化亜鉛を主成分とする保護膜を形成し、この後、前記反応室内に、酸素ガスと、ヘリウムキャリアガスを有機シリコン液中に吹き込むことによりヘリウムキャリアガスと混合させた有機シリコンガスを導入するとともに、反応室とカソード間に高周波電力を供給してプラズマ化学蒸着を行って、前記酸化亜鉛を主成分とする保護膜の表面に二酸化珪素を主成分とする保護膜を形成した。
【０００８】
本発明では、反応室内でプラズマＣＶＤにより保護膜を形成しているから、プラスチックを変質させることなく、有機溶剤等を大気中に無駄に放出することもなく、プラスチック部品の表面に保護膜を形成できる。また、カソード周囲においては、電子の速度はイオンの速度に比較して非常に早いために、電子のみがカソードに速やかに流入して、カソードが負に帯電してわずかに負のセルフバイアス電位となるとともに、カソード周辺にイオンが集中したイオンシースができるので、プラスチック部品をイオンシース内に置くと、イオンシース内のイオンが、カソ−ドに向かって均一にゆっくりと吸引されていき、プラスチック部品表面にほぼ均一な厚さに堆積されていき、複雑な三次元形状のプラスチック部品表面にほぼ均一な膜厚の良質な保護膜を形成することができる。
【０００９】
さらに、ジエチル亜鉛ガスは、ヘリウムキャリアガスをジエチル亜鉛液中に吹き込むことにより、ヘリウムキャリアガスと混合して前記反応室内に導入されるようにしたから、常温で蒸気圧の低いジエチル亜鉛ガスでも、ヘリウムキャリアガス混合することにより、充分に反応室内に導入することができる。
【００１０】
さらに、プラスチック部品の表面に酸化亜鉛を主成分とする保護膜を形成した後、反応室内に酸素ガスと有機シリコンガスを導入するとともに、反応室とカソード間に高周波電力を供給してプラズマ化学蒸着を行って、前記酸化亜鉛を主成分とする保護膜の表面に二酸化珪素を主成分とする保護膜を形成したから、プラスチック部品の表面に、紫外線カット性のよい酸化亜鉛を主成分とする保護膜と、硬くて耐擦傷性のある二酸化珪素を主成分とする保護膜とを、同じプラズマ化学蒸着装置でもって連続して形成するので、いっそう紫外線カット性と耐擦傷性を向上させたプラスチック部品の保護膜を効率的に形成することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明は、ＰＣ樹脂のようなプラスチック材料へ耐擦傷性、耐紫外線特性等を付与するために、プラズマ化学蒸着（以下プラズマＣＶＤという。）によるカソード堆積法を用いて、酸化亜鉛（以下、ＺｎＯという。）を主成分とする保護膜を自動車用プラスチック部品の表面へ形成するものである。保護膜の原料としては、酸素ガスとジエチル亜鉛（Ｈ５Ｃ２−Ｚｎ−Ｃ２Ｈ５、以下、ＤＥＺという。）を用いる。
【００１２】
以下、本発明の好ましい実施の形態につき、添付図面を参照して詳細に説明する。
【００１３】
本発明に用いるプラズマＣＶＤ装置を図１に示す。このプラズマＣＶＤ装置は、真空ポンプに接続された真空排気管５に接続されていて高真空にされる反応室１を備えている。反応室１は、上部にカソード２を配置している。このカソード２は、少なくとも一部の表面形状をプラスチック部品の表面形状と一致した形状とし、このカソード２にプラスチック部品を取り付けることができるようになっている。たとえば、図２に断面図を示したように、プラスチック部品が自動車用ヘッドランプのレンズ１０である場合には、カソード２の表面の一部にもレンズ１０表面に沿った形状を形成し、両者の形状の一致する表面が互いに接する状態で両者を結合できるようになっている。カソード２においてプラスチック部品が取り付けられていない部分は、保護膜成分の堆積を防ぐため、反応室１にアースされたシールド部材８で覆われ、かつ、シールド部材８とカソード２間には絶縁フィルム９が挟まれている。
【００１４】
カソード２と反応室１の間には高周波電源装置６から高周波電力（１３．５６ＭＨｚ、以下、ＲＦ出力という）を供給するようになっている。ここで、カソード２と高周波電源装置６の間にはバイアスコンデンサ７が配置されている。また、反応室１内には、反応室１内の温度を調整するためのヒータ２２を備えている。
【００１５】
反応室１内には、保護膜の原料として、高純度の酸素（Ｏ２）ガスとＤＥＺガスを導入できるようになっている。保護膜の原料としては、所定の硬さと紫外線カット特性を付与できる成分を含めば、どのようなものでもよいが、本実施例では、ＺｎＯを生成し易いＤＥＺと酸素ガスを用いた。ＺｎＯは、３．１−３．３ｅＶのバンドギャップを有し、紫外線カット特性に優れているので、特に紫外線による劣化防止に効果のある保護膜を得ることができる。
【００１６】
酸素ガスは、流量制御器１２で流量制御された後に、酸素導入管３により反応室１内へ導入され、酸素ラジカルの働きにより、ＤＥＺのガス分子と反応して  ＺｎＯを生成させるものである。酸素ガスを用いたプラズマＣＶＤでは、ＤＥＺは、酸素ラジカルと反応して、ＤＥＺのＺｎ−Ｃ結合、Ｃ−Ｈ結合が切断され、ＺｎＯｘ、Ｚｎ（ＯＨ）ｘのような前駆体が生じ、この前駆体がプラスチック部品（レンズ１０）の表面に堆積していくことにより、図２に示したように、ＺｎＯを主成分とする保護膜１２が形成されていくと考えられる。
【００１７】
ＤＥＺは、常温では液体で蒸気圧が低いため、ヘリウムキャリアガス（以下、Ｈｅガスという。）と混合させて反応室１内に運ばれる。まず、ＤＥＺを入れたＤＥＺ容器１５を水槽１６内で水浴させ、温度制御装置２０で水槽１６内の水温を４０°Ｃに調節して、ＤＥＺの蒸気圧を高めている。ここで、流量制御器１２により流量制御されたＨｅガスをヘリウム導入管１８によってＤＥＺ液中に吹き込み、ＤＥＺ液をバブリング（泡立て）して、ＤＥＺとＨｅの混合ガスを得る。この混合ガスは、圧力制御弁１３と圧力制御器１４を経て圧力制御された後に、原料導入管４により反応室１内に導入されるようになっている。こうして、常温での蒸気圧の低いＤＥＺでも、Ｈｅガスと混合することにより、充分に反応室内に導入できるようにしている。
【００１８】
このプラズマＣＶＤ装置を用いて、プラスチック部品の表面にＺｎＯを主成分とする保護膜を形成するには、まず、カソード２にレンズ１０等のプラスチック部品を取り付け、次に、反応室内１の空気を真空ポンプで排気して反応室１を高真空とした後に、反応室１内に酸素ガスと、ＨｅガスとＤＥＺガスの混合ガスを導入するとともに、ＲＦ出力をカソード２と反応室１間に供給する。すると、カソード２と反応室１間にグロー放電が生じ、反応室１内のガスがプラズマ化され、酸素ラジカルと原料ガスのＤＥＺとが反応して、ＤＥＺのＺｎ−Ｃ結合、Ｃ−Ｈ結合が切断され、ＺｎＯｘ、Ｚｎ（ＯＨ）ｘのような前駆体が生じる。しだいに、これらの前駆体がプラスチック部品の表面に堆積していくことにより、プラスチック部品の表面にＺｎＯを主成分とする保護膜が１２形成されていく。
【００１９】
このように、反応室１内でプラズマＣＶＤにより保護膜１２を形成しているから、有機溶剤等を大気中に無駄に放出することもなく、この保護膜１２形成は低温で行えるので、プラスチック部品が保護膜１２形成時に熱による変形や劣化を受けることもない。
【００２０】
ところで、カソード２周囲においては、電子の速度はイオンの速度に比較して非常に早いために、電子のみがカソード２に速やかに流入して、カソードが負に帯電してわずかに負のセルフバイアス電位となる一方、カソード２周囲全体にカソードに到達できないイオンが集中したイオンシース（イオンさや）が均一に形成される。カソード２が負バイアス電位になると、カソード２と高周波電源装置６の間に配置されたバイアスコンデンサ７が、カソード２の負バイアス電位を保持する。そして、イオンシース内は、ＤＥＺが解離しさらに電離したイオンが高密度に存在し、これらのイオンが、カソード２のわずかな負バイアス電位によってカソ−ド２に向かって均一にゆっくりと吸引され、プラスチック部品表面にほぼ均一な厚さに堆積することにより、保護膜１２が形成されると考えられる。
【００２１】
図１に示したようなプラズマ化学ＣＶＤ装置を用い、保護膜形成の実験をしてみた。カソードの面積は２１６ｃｍ２で、カソード表面に試験片を取り付け、ＤＥＺガスを試験片より８ｃｍ下の原料導入管から反応室へ導入した。
【００２２】
まず、膜特性を詳しく調べるために、カソード上に、１００Ωｃｍ以上の高抵抗の単結晶シリコンＳｉ（ミラー指数１００）基板からなる試験片を取り付け、これに対して保護膜を堆積させ、以下に述べるような種々の実験を行った。ＺｎＯ保護膜を堆積させるのに適した条件は、Ｈｅ流量が５ｃｃ／分、酸素流量が１０ｃｃ／分、ＤＥＺ流量が０．５ｃｃ／分、反応室内圧力が０．１Ｔｏｏｒ、ＲＦ出力が１００Ｗであった。
【００２３】
まず、試験片温度を室温にして、単結晶シリコン基板上に膜厚が０．２〜０．３ミクロンの保護膜を形成し（日本真空技術製の表面荒さ計ＤＥＫＴＡＫ３０３０で測定）、この保護膜の紫外線吸収スペクトル特性を測定した。このスペクトル特性は、図３に示すように、この保護膜には、波数４５０ｃｍ−１にＺｎ−Ｏ結合による吸収が顕著に認められる。波数３３００ｃｍ−１に−ＯＨによる吸収も認められるが、試験片や反応室内に付着した水が脱離せずに反応して、保護膜内に取り込まれたからと考えられる。したがって、この吸収は、試験片の温度を１２０°Ｃに上げることにより取り除くことができた。
【００２４】
次に、保護膜のＸＰＳスペクトル特性を図４及び図５に示す。結合エネルギーが１０２１ｅＶの位置に強いＺｎの２ｐ３電子によるシングルスペクトルが認められるので、ＺｎＯの化学構造に近い成分を含む保護膜が形成されていることが分かる。また、２８５ｅＶにＣの１ｓピーク、５３１ｅｖにＯの１ｓピークが存在し、保護膜中には、Ｃ−Ｃ結合、Ｃ−Ｈ結合以外に、Ｃ−Ｏ結合、ＣＯＯ−等の官能基成分も含まれることが分かる。
【００２５】
図６に、プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度と保護膜の堆積速度との関係を示す。保護膜の堆積速度は、温度が高いほど遅くなることが分かる。このことは、温度が高くなるほど、試験片表面での脱離反応が促進されるからと思われる。
【００２６】
図７に、プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度による堆積膜の組成変化を示す。試験片の温度が変化してもＺｎとＯの組成比に顕著な変化は認められなかったが、７５°Ｃ以上にするとＣがほとんど含まれなくなり、保護膜の品質向上が見られた。これは、温度上昇に伴って、保護膜中のＣの脱離反応が促進されたからと思われる。
【００２７】
図８に、Ｘ線のブラッグ反射から求めた保護膜の結晶性とプラズマＣＶＤ中の試験片温度の関係を示す。室温では保護膜に結晶性はほとんど生じないが、高温になるにつれ、ＺｎＯ（ミラー指数１００）の結晶性がいくらか確認できた。
【００２８】
図９にＲＦ出力による保護膜の堆積速度の変化を示す。ＲＦ出力が３０−１００Ｗの範囲では、出力上昇に伴って保護膜の堆積速度も大きく上昇していくが、これ以上にＲＦ出力を上昇させると、逆に保護膜の堆積速度は減少した。これは、ＲＦ出力が１００Ｗまでは、プラズマ中の酸素ラジカルが増加してＤＥＺとの反応が促進されて、保護膜の堆積速度が上昇するのに対して、ＲＦ出力が１００Ｗを超えると、試験片に衝突する荷電粒子やイオンが増加するため、これらが保護膜を削るエッチング現象によって堆積速度が低下するものと考えられる。
【００２９】
次に、石英ガラス基板表面に堆積した厚さ０．３ミクロンのＺｎＯを主成分とする保護膜の分光透過率曲線を図１０に示す。図１０では、プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度による分光透過率曲線の変化も示している。保護膜の透過率は、保護膜と石英ガラス全体の透過率曲線から石英ガラスの吸収曲線を差し引くことによって求めた。図１０から分かるように、保護膜は、可視光線をほとんど透過させるが、波長が約４００ｎｍ以下の紫外線になるとカットし始め、短波長ほどよく紫外線をカットし、波長が３００ｎｍ以下ではほとんどカットしている。そして、紫外線カット性能は、試験片温度が上昇するほど向上している。これは、図８から分かるように、試験片温度が上昇するとＺｎＯの結晶性が増すからであると思われる。この実験から、ＺｎＯを主成分とする保護膜は紫外線をカットする保護膜として充分に期待できることが分かった。
【００３０】
そして、自動車用ランプのレンズに最も多用されているＰＣ樹脂の試験片に、プラズマＣＶＤによりＺｎＯを主成分とする保護膜を形成し、保護膜の剥離強度を実験した。この実験結果を図１１に示す。図１１には、プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度による保護膜の剥離強度の変化を示している。剥離強度は温度が高いほど低くなる傾向がある。これは、前述したように温度が高いほど、ＺｎＯが結晶性をもち、無機物に近くなるため、有機物のＰＣ樹脂との接合が弱くなるからと思える。また、この実験から、室温からプラスチックが耐えられる１２０°Ｃまでの範囲では、保護膜の剥離強度に実用上問題がないこともわかった。
【００３１】
また、無色透明なＰＣ樹脂のみの試験片と、同じＰＣ樹脂の表面にＺｎＯを主成分とする保護膜を形成した試験片を作り、耐光試験を行った。耐光試験前の保護膜の無い試験片表面の電子顕微鏡写真を図１２に、耐光試験前の保護膜を形成した試験片表面の電子顕微鏡写真を図１３に夫々示す。耐光試験は、キセノンアークランプ（出力３．５ｋＷ）の照射光を、紫外線カットフィルタを用いて紫外線を適当にカットして太陽光線に近い状態にし、照射率１００Ｗ／ｍ２、ブラックパネル温度８９±３°Ｃ、湿度５０±１０％の環境下に置かれた試験片に１０００時間連続照射した。耐光試験後の保護膜の無い試験片表面の電子顕微鏡写真を図１４に、ＰＣ樹脂表面に保護膜を形成した試験片表面の電子顕微鏡写真を図１５に夫々示す。これから、保護膜の無い試験片表面には凹凸がはっきりと認められるのに対して、保護膜を形成した試験片表面には凹凸が見られなかった。したがって、ＺｎＯを主成分とする保護膜が完全に紫外線劣化を防止していることが分かる。このような紫外線劣化防止性が向上すると、意匠性や耐衝撃性を向上させることができる。
【００３２】
同じく耐光実験において時間経過による可視光線透過率の変化を図１６に示す。ＺｎＯを主成分とする保護膜を形成した試験片では、時間が経過しても可視光線透過率がほとんど変化しないが、保護膜の無い試験片では、時間とともに可視光線透過率が大きく減少している。
【００３３】
同じく耐光試験において時間経過によるＨａｚｅ値（曇価）の変化を図１７に示す。ＺｎＯを主成分とする保護膜を形成した試験片は、保護膜の無い試験片よりもＨａｚｅ値の増加が少なく、紫外線による光劣化が抑制されていることが分かる。
【００３４】
同じく耐光試験において時間経過による黄色度の変化を図１８に示す。ＺｎＯを主成分とする保護膜を形成した試験片は、保護膜の無い試験片よりも黄色度の増加が少ない。
【００３５】
以上の実験結果から、本実施例により、プラズマＣＶＤによるカソード堆積法により得られたＺｎＯを主成分とする保護膜は、耐擦傷性と紫外線カット特性を有することが分かる。また、プラズマＣＶＤは、室温からプラスチックが耐えられる温度の１３５°Ｃまでの範囲で行えることも分かったが、保護膜の堆積速度、組成、剥離強度、紫外線カット等から総合的に判断すると、５０−８０°Ｃ程度が望ましいことも分かった。
【００３６】
さらに、本実施例では、プラスチック部品の表面にＺｎＯを主成分とする保護膜を形成した後に、ＺｎＯを主成分とする保護膜の上に二酸化珪素（以下、ＳｉＯ２という。）の保護膜を形成する。ＳｉＯ２は硬いので、さらに耐擦傷性を向上させることができる。ＳｉＯ２を主成分とする保護膜を形成するには、ＺｎＯを主成分とする保護膜を形成した後に、同じ反応室内に、酸素ガスとともに、ＤＥＺガスに代えてＳｉを含むガス、例えば有機シリコン等（モノシラン（ＳｉＨ４）、ヘキサメチルジシラン（Ｓｉ２（ＣＨ３）６）等）の原料ガスを導入して、プラズマＣＶＤを行えばよい。原料ガスは、前述のＤＥＺと同様に、原料液中にＨｅガスをバブリングすることにより、Ｈｅガスと混合させて反応室に導入する。
【００３７】
また、以上に述べた保護膜は、自動車用ヘッドランプのアウターレンズ表面に形成するばかりでなく、インナーレンズ表面に形成してもよく、さらに、自動車用灯具のレンズ表面、又は、紫外線や外傷を受け易い自動車用プラスチック部品表面等にも形成できるものである。そして、保護膜は、ＰＣのみに限らず、ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）、ＡＳ（アクリロニトリル・スチレン樹脂）等の透明な熱可塑性プラスチック樹脂にも形成可能である。
【００４０】
【発明の効果】
請求項１に係る発明では、５０〜８０℃でプラズマＣＶＤにより、ＺｎＯを主成分とする保護膜を形成するから、複雑な三次元形状のプラスチック部品の表面に対しても、ほぼ均一な膜厚で良質な保護膜を低温で容易に形成でき、プラスチック部品を変形又は劣化させることなく、プラスチック部品表面に耐擦傷性と耐紫外線特性を与える保護膜を形成できる。
【００４１】
また、常温で蒸気圧の低いＤＥＺや有機シリコンガスでも、ヘリウムキャリアガスと混合することにより、充分に反応室内に導入できるので、効率的に保護膜を形成できる。
【００４２】
さらに、紫外線カット性のよいＺｎＯを主成分とする保護膜の上に、硬くて耐擦傷性のあるＳｉＯ２を主成分とする保護膜を、同じプラズマＣＶＤ装置でもって連続的に形成するので、いっそう耐擦傷性を向上させたプラスチック部品の保護膜を効率的に形成することができる。さらに、有機溶剤等を大気中に無駄に放出することもないので、地球環境保護に貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のプラズマＣＶＤ装置を示す図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線に沿う断面図である。
【図３】ＺｎＯを主成分とする保護膜の紫外線吸収スペクトル特性を示す図である。
【図４】前記保護膜のＸＰＳスペクトル特性を示す図である。
【図５】同じく前記保護膜のＸＰＳスペクトル特性を示す図である。
【図６】プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度と保護膜の堆積速度との関係を示す図である。
【図７】プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度による保護膜の組成変化を示す図である。
【図８】プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度による保護膜の結晶性の変化を示す図である。
【図９】プラズマＣＶＤにおいて、ＲＦ出力による保護膜の堆積速度の変化を示す図である。
【図１０】前記保護膜の分光透過率曲線を示す図である。
【図１１】プラズマＣＶＤにおいて、試験片温度による保護膜の剥離強度の変化を示す図である。
【図１２】耐光試験前の保護膜の無い試験片表面の電子顕微鏡写真である。
【図１３】耐光試験前の保護膜を形成した試験片表面の電子顕微鏡写真である。
【図１４】耐光試験後の保護膜の無い試験片表面の電子顕微鏡写真である。
【図１５】耐光試験後の保護膜を形成した試験片表面の電子顕微鏡写真である。
【図１６】耐光実験において、時間経過による可視光線透過率の変化を示す図である。
【図１７】耐光試験において、時間経過によるＨａｚｅ値の変化を示す図である。
【図１８】耐光試験において、時間経過による黄色度の変化を示す図である。
【符号の説明】
１    反応室
２    カソード
３    酸素導入管
４    原料導入管
５    真空排気管
６    高周波電源装置
１０    ヘッドランプレンズ（プラスチック部品）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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