(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
切り欠きが形成されたステムを有しかつ複数の発光点からマルチレーザビームを出射可能なマルチビームレーザダイオードと前記マルチレーザビームを平行光束に変換するコリメートレンズとが設けられたベース部材を備え、前記切り欠きにより規定される仮想直線上に前記複数の発光点が存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点が配列されているとして走査光学系にセットされるように設計されたマルチビーム光源ユニットであって、
前記ベース部材には貫通孔を有して前記マルチビームレーザダイオードを回転可能に支持する取り付け座部が形成され、前記ステムには前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、前記取り付け座部には前記係合凹部と協働して前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に合致させる位置決め溝が形成され、該位置決め溝から挿入された治具の先端を前記係合凹部に係合させることによって前記係合凹部と前記位置決め溝とを合致させた位置決め状態で前記ステムの背面を押圧付勢する押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードが前記ベース部材に押圧固定されていることを特徴とするマルチビーム光源ユニット。
【請求項２】
前記ベース部材には前記貫通孔と同軸上に前記コリメートレンズを支持する嵌合筒が形成され、画像形成装置本体部の基準面に突き合わされる基準面と前記嵌合筒に嵌合する嵌合孔とを有して前記走査光学系の光軸を回転中心として前記ベース部材を回転可能に支持する取り付けブラケットが更に設けられていることを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム光源ユニット。
【請求項３】
前記ステムはその背面が前記取り付け座部から突出され、前記押圧板には前記係合凹部の前記取り付け座部から突出した箇所に係合される粗位置決め用突起が設けられていることを特徴とする請求項１に記載のマルチビーム光源ユニット。
【請求項４】
切り欠きが形成されたステムを有しかつ複数の発光点からマルチレーザビームを出射可能なマルチビームレーザダイオードと前記マルチレーザビームを平行光束に変換するコリメートレンズとが設けられたベース部材を備え、前記切り欠きにより規定される仮想直線上に前記複数の発光点が存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点が配列されているとして走査光学系にセットされるように設計されたマルチビーム光源ユニットの調整方法であって、
前記ベース部材には貫通孔を有して前記マルチビームレーザダイオードを回転可能に支持する取り付け座部が形成され、前記ステムには前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、前記取り付け座部には前記ステムを回転させて前記係合凹部と対向したときに該係合凹部と協働して前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に合致させる位置決め溝が形成され、この位置決め状態で前記ステムの背面を押圧付勢する押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードが前記ベース部材に押圧固定され、前記ベース部材には前記貫通孔と同軸上に前記コリメートレンズを支持する嵌合筒が形成され、画像形成装置本体部の基準面に突き合わされる基準面と前記嵌合筒に嵌合する嵌合孔とを有して前記走査光学系の光軸を回転中心として前記ベース部材を回転可能に支持した状態で前記画像形成装置本体部に取り付けられる取り付けブラケットを備え、
前記位置決め溝から治具を挿入すると共にその治具の先端を前記係合凹部に係合させることによって前記ベース部材に前記マルチビームレーザダイオードを位置決めした状態で前記押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードを前記ベース部材に固定した後、
前記ベース部材を前記取り付けブラケットに支持させた状態で設計基準直線に対する前記各発光点の実際の配列状態を画像記録面に対する像面上でのビームスポット位置に基づき測定すると共に、
その測定結果に基づいて前記取り付けブラケットに対して前記走査光学系の光軸回りに前記嵌合筒を中心として前記ベース部材を回転調整して前記発光点の実際の配列方向を前記設計基準直線の方向に揃えることを特徴とするマルチビーム光源ユニットの調整方法。
【請求項５】
前記発光点の配列方向が副走査方向と実質的に平行となるように調整することを特徴とする請求項４に記載のマルチビーム光源ユニットの調整方法。
【請求項６】
切り欠きが形成されたステムを有しかつ複数の発光点からマルチレーザビームを出射可能なマルチビームレーザダイオードと前記マルチレーザビームを平行光束に変換するコリメートレンズとが設けられたベース部材を備え、前記切り欠きにより規定される仮想直線上に前記複数の発光点が存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点が配列されているとして走査光学系にセットされるように設計されると共に、前記ベース部材には貫通孔を有して前記マルチビームレーザダイオードを回転可能に支持する取り付け座部が形成され、前記ステムには前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、前記取り付け座部には前記係合凹部と協働して前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に合致させる位置決め溝が形成され、該位置決め溝から挿入された治具の先端を前記係合凹部に係合させることによって前記係合凹部と前記位置決め溝とを合致させた位置決め状態で前記ステムの背面を押圧付勢する押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードが前記ベース部材に押圧固定されるマルチビーム光源ユニットをユニット化する際に用いられる治具であって、
前記治具は、前記係合凹部に密に係合する位置決め用先端部と、前記位置決め溝に案内される案内部とを備えていることを特徴とするマルチビーム光源ユニットの位置決め用治具。
【請求項７】
前記位置決め用先端部は、先端に向うほど先細りとされていることを特徴とする請求項６に記載のマルチビーム光源ユニットの位置決め用治具。
【請求項８】
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のマルチビーム光源ユニットと、前記マルチビーム光源ユニットからの光束を偏向させ、該偏向された光束を被走査面上へ導く走査光学系とを備えることを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、デジタル複写機やレーザプリンタ等の画像形成装置に用いられるマルチビーム光源ユニットに関し、特に、マルチビーム光源ユニット及びその調整方法、位置決め用治具、並びに画像形成装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、デジタル複写機やレーザプリンタ等の画像形成装置には、レーザ走査光学装置を搭載したものが知られている。レーザ走査光学装置には、近時、書き込みの高精度化、書き込みの高速化の要求に伴って、マルチビームレーザダイオードを用いるものが主流となりつつある。
【０００３】
図１はそのレーザ走査光学装置の概略図である。図１において、１はマルチビーム光源ユニット、２はポリゴンミラー、３はｆθレンズ、４は感光体（画像記録媒体ともいう）である。マルチビーム光源ユニット１はマルチビームレーザダイオード５とコリメートレンズ６とから大略構成されている。マルチビームレーザダイオード５は複数の発光点からマルチレーザビームＰを出射する。そのマルチレーザビームＰはコリメートレンズ６によって平行光束に変換される。そのマルチレーザビームＰはポリゴンミラー２によって反射されて感光体４の表面（画像記録面ともいう）４ａに導かれる。
【０００４】
ポリゴンミラー２とｆθレンズ３とは走査光学系の一部を構成し、マルチレーザビームＰは、図２に示すように感光体４の表面４ａ上でその主走査方向Ｑ１と直交する副走査方向Ｑ２に所定ピッチＸ１を開けて主走査方向Ｑ１に走査され、この種のレーザ走査光学装置では、感光体４の表面４ａを多数行同時に走査して感光体４の表面４ａ上に書き込みが行われる。
【０００５】
レーザ走査光学装置には、書き込みの高精度化、書き込みの高速度化に関連して、各マルチレーザビームＰの感光体４の表面４ａ上でのビームスポット１１の径、コリメート性、隣接するビームスポット１１の副走査方向Ｑ２のピッチＸ１、主走査方向Ｑ１の書き込み開始位置の精度の向上が要求され、その精度は、画像品質の高精度化の要求のもとで益々厳しいものが要求されつつある。
【０００６】
ところで、マルチビームレーザダイオード５は、図３に示すように、その内部に発光部７を有する。発光部７には複数個の発光点、例えば、４個の発光点７ａ〜７ｄが設けられている。その発光点７ａ〜７ｄは本来的には設計的に予定された仮想直線Ｑ３上に間隔を開けて配列されるものである。その仮想直線Ｑ３は、マルチビームレーザダイオード５の金属製ステム８に形成されている鋭角状の一対の切り欠き９，１０の先鋭点９ａ，１０ａを結ぶことによって与えられる。
【０００７】
従来のこの種のマルチビームレーザダイオード５では、各発光点７ａ〜７ｄの間隔が広く、感光体４の表面４ａ上にマルチレーザビームを投影したときにそのビームスポット１１の副走査方向Ｑ２のピッチＸ１が大きくなって、画像品質が粗くなるという不都合があるため、図４に示すように感光体４の表面４ａ上で主走査方向Ｑ１に対してビームスポット１１の配列方向（直線）Ｑ３’が斜めになるように走査光学系（図示を略す）の光軸回りにマルチビームレーザダイオード５を回転調整することによって、副走査方向Ｑ２のピッチＸ１を調整し、副走査方向Ｑ２の書き込み密度（記録密度）を上げて画像品質の向上を図っている。
【０００８】
しかしながら、ビームスポット１１の配列方向（直線）Ｑ３’の方向が副走査方向Ｑ２に対して斜めにずれるようにマルチビームレーザダイオード５を回転調整して、書き込み密度を向上させることとすると、同時に各発光点７ａ〜７ｄを駆動して書き込みを行った場合に、感光体４の表面４ａ上でのビームスポット１１の主走査方向Ｑ１の書き込み開始位置がずれることになり、かえって、画像品質が劣化する。
【０００９】
そこで、この種のレーザ走査光学装置では、感光体４の表面４ａ上での書き込み開始位置を各ビームスポット毎に揃えるために、例えば、各レーザビームの走査位置を検出する検出センサ１２を各レーザビーム毎に対応させて配置し、各検出センサ１２の受光タイミングに基づいて各発光点７ａ〜７ｄの発光を制御するようにしている。
【００１０】
すなわち、時刻ｔ＝ｔ０で先頭のビームスポット１１を検出してから各ビームスポット１１の検出時点から時間ｔ０’後に各発光点７ａ〜７ｄの発光制御を行うことにより、感光体４の表面４ａへの主走査方向Ｑ１の書き込み開始位置を揃えている。
【００１１】
また、各発光点７ａ〜７ｄに対応させて検出センサ１２をそれぞれ設ける代わりに、図５（ａ）に示すように主走査方向Ｑ１に最も先行するビームスポット１１に対応させて検出センサ１２を設けると共に、各ビームスポット１１の時間的ズレｔ１，ｔ２，ｔ３を予め求め、図示を略す遅延制御回路により図５（ｂ）に示すように、その最も先行するビームスポット１１の検出センサ１２による検出時点から残余の発光点７ｂ〜７ｄの発光をその時間的ズレに対応させて遅らせることにより、図５（ａ）に示すように感光体４の表面４ａ上での書き込み開始位置でのビームスポット１１を副走査方向に揃えるようにしている。
【００１２】
しかしながら、この種の走査光学装置では、書き込み開始位置を揃えるための制御回路が複雑化し、コストアップとなるという不都合を招く。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、近時、従来に較べて発光点７ａ〜７ｄの間隔を狭くしたマルチビームレーザダイオード５が開発されつつある。この種のマルチビームレーザダイオード５を有するマルチビーム光源ユニットでは、発光点７ａ〜７ｄの位置のばらつきは小さいと考えられ、この種のマルチビーム光源ユニットでは、一対の切り欠き９，１０により規定される仮想直線Ｑ３上に発光点７ａ〜７ｄが存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点７ａ〜７ｄが配列されているものとして走査光学系にセットされるように設計し、画像形成装置本体部にそのまま取り付けることが考えられる。
【００１４】
しかしながら、それでも、このマルチビームレーザダイオード５はその製造工程上の誤差によって、発光点７ａ〜７ｄが誤差なく仮想直線Ｑ３上に乗っていることは希であり、図６（Ａ）に示すように、発光点７ａ〜７ｄを結ぶ配列方向（直線）Ｑ４が仮りに存在するとしても、その配列方向Ｑ４と仮想直線Ｑ３とは僅かながら傾いており、何らの調整を必要とすることなく発光点７ａ〜７ｄの配列方向を設計基準直線の方向に揃えることは困難である。なお、ここで、符号θはその傾き角度を示している。また、図６（Ｂ）は、理想的なビームスポット１１の配列であり、図６（Ｃ）は傾き角度θが大きい場合のビームスポット１１の配列である。
【００１５】
また、走査光学系を搭載する装置本体部にマルチビームレーザダイオード５を取り付ける場合に取り付け誤差が存在するため、副走査方向Ｑ２に対して配列方向Ｑ４が所定角度となるようにマルチビームレーザダイオード５を光軸回りに回転調整して取り付けることができるようにすることが望ましい。
【００１６】
本発明は、上記の事情に鑑みて為されたもので、その目的とするところは、走査光学系の主走査方向に対するマルチビームレーザダイオードの発光点の配列方向を設計的に予定された設計基準直線方向に揃えることのできるマルチビーム光源ユニット及びその調整方法、位置決め用治具、並びに画像形成装置を提供することにあり、ことに、マルチビームレーザダイオードの配列方向を走査光学系の副走査方向に容易にかつ設計上の要求精度に支障を生じることなく調整することのできるマルチビーム光源ユニット及びその調整方法、位置決め用治具、並びに画像形成装置を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、切り欠きが形成されたステムを有しかつ複数の発光点からマルチレーザビームを出射可能なマルチビームレーザダイオードと前記マルチレーザビームを平行光束に変換するコリメートレンズとが設けられたベース部材を備え、前記切り欠きにより規定される仮想直線上に前記複数の発光点が存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点が配列されているとして走査光学系にセットされるように設計されたマルチビーム光源ユニットであって、前記ベース部材には貫通孔を有して前記マルチビームレーザダイオードを回転可能に支持する取り付け座部が形成され、前記ステムには前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、前記取り付け座部には前記係合凹部と協働して前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に合致させる位置決め溝が形成され、該位置決め溝から挿入された治具の先端を前記係合凹部に係合させることによって前記係合凹部と前記位置決め溝とを合致させた位置決め状態で前記ステムの背面を押圧付勢する押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードが前記ベース部材に押圧固定されていることを特徴とする。
【００１８】
請求項１に記載の発明によれば、治具を用いて係合凹部と位置決め溝とを合致させるだけで容易にマルチビームレーザーダイオードがベース部材に位置決めされる。また、マルチビーム光源ユニットを画像形成装置本体部に組み込む前に単体で調整することができるので、画像形成装置本体部への組み付け作業の簡略化を図ることができる。
【００１９】
請求項２に記載の発明は、前記ベース部材には前記貫通孔と同軸上に前記コリメートレンズを支持する嵌合筒が形成され、画像形成装置本体部の基準面に突き合わされる基準面と前記嵌合筒に嵌合する嵌合孔とを有して前記走査光学系の光軸を回転中心として前記ベース部材を回転可能に支持する取り付けブラケットが更に設けられていることを特徴とする。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、画像形成装置本体部に組み込む前に単体で調整済みのマルチビーム光源ユニットを用いていることから、その発光点の配列方向を設計基準直線の方向に容易に揃えることができる。
【００２１】
請求項３に記載の発明は、前記ステムはその背面が前記取り付け座部から突出され、前記押圧板には前記係合凹部の前記取り付け座部から突出した個所に係合される粗位置決め用突起が設けられていることを特徴とする。
【００２２】
請求項３に記載の発明によれば、押圧板に設けられた粗位置決め用突起を係合凹部に係合させることによってマルチビームレーザダイオードのベース部材へのおよその位置決めがなされ、このおよその位置決め後に治具を用いることによって一層容易に位置決めすることができる。
【００２３】
請求項４に記載の発明は、切り欠きが形成されたステムを有しかつ複数の発光点からマルチレーザビームを出射可能なマルチビームレーザダイオードと前記マルチレーザビームを平行光束に変換するコリメートレンズとが設けられたベース部材を備え、前記切り欠きにより規定される仮想直線上に前記複数の発光点が存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点が配列されているとして走査光学系にセットされるように設計されたマルチビーム光源ユニットの調整方法であって、前記ベース部材には貫通孔を有して前記マルチビームレーザダイオードを回転可能に支持する取り付け座部が形成され、前記ステムには前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、前記取り付け座部には前記ステムを回転させて前記係合凹部と対向したときに該係合凹部と協働して前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に合致させる位置決め溝が形成され、この位置決め状態で前記ステムの背面を押圧付勢する押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードが前記ベース部材に押圧固定され、前記ベース部材には前記貫通孔と同軸上に前記コリメートレンズを支持する嵌合筒が形成され、画像形成装置本体部の基準面に突き合わされる基準面と前記嵌合筒に嵌合する嵌合孔とを有して前記走査光学系の光軸を回転中心として前記ベース部材を回転可能に支持した状態で前記画像形成装置本体部に取り付けられる取り付けブラケットを備え、前記位置決め溝から治具を挿入すると共にその治具の先端を前記係合凹部に係合させることによって前記ベース部材に前記マルチビームレーザダイオードを位置決めした状態で前記押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードを前記ベース部材に固定した後、前記ベース部材を前記取り付けブラケットに支持させた状態で設計基準直線に対する前記各発光点の実際の配列状態を画像記録面に対する像面上でのビームスポット位置に基づき測定すると共に、その測定結果に基づいて前記取り付けブラケットに対して前記走査光学系の光軸回りに前記嵌合筒を中心として前記ベース部材を回転調整して前記発光点の実際の配列方向を前記設計基準直線の方向に揃えることを特徴とする。
【００２４】
請求項４に記載の発明によれば、設計基準直線に対する発光点の配列状態を画像記録面に対応する像面上でのビームスポットに基づき測定して、光学系の光軸回りにマルチビームレーザダイオードを回転調整することにしたので、その発光点の配列方向を設計基準直線の方向に容易に揃えることができる。
【００２５】
請求項５に記載の発明は、前記発光点の配列方向が副走査方向と実質的に平行となるように調整することを特徴とする。
【００２６】
請求項５に記載のマルチビーム光源ユニットの調整方法によれば、各発光点の配列方向を画像形成装置本体部に取り付ける前に予め副走査方向に揃えることができるので、画像形成装置本体部にマルチビーム光源ユニットを取り付けてから副走査方向のビームスポットのピッチを調整するという調整操作、ビームスポットのピッチ調整により主走査方向にずれた書き込み開始位置を補償するために、画像形成装置本体部に各レーザビームの走査位置を検出する検出センサを各レーザビーム毎に設けて、各レーザビーム毎に書き込み開始位置を制御するという複雑な構成、各レーザビームの主走査方向の時間的遅延を測定して遅延回路によりレーザビームの駆動制御を行うという複雑な構成を避けることができ、部品点数の低減、画像形成装置本体部への取り付けに要する組立時間の短縮、低コスト化を図ることができる。また、ソフトウエアによる制御の簡単化も図ることができる。
【００２７】
請求項６に記載の発明は、切り欠きが形成されたステムを有しかつ複数の発光点からマルチレーザビームを出射可能なマルチビームレーザダイオードと前記マルチレーザビームを平行光束に変換するコリメートレンズとが設けられたベース部材を備え、前記切り欠きにより規定される仮想直線上に前記複数の発光点が存在しているときに設計的に予定された設計基準直線の方向に発光点が配列されているとして走査光学系にセットされるように設計されると共に、前記ベース部材には貫通孔を有して前記マルチビームレーザダイオードを回転可能に支持する取り付け座部が形成され、前記ステムには前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、前記取り付け座部には前記係合凹部と協働して前記仮想直線の方向を前記設計基準直線の方向に合致させる位置決め溝が形成され、該位置決め溝から挿入された治具の先端を前記係合凹部に係合させることによって前記係合凹部と前記位置決め溝とを合致させた位置決め状態で前記ステムの背面を押圧付勢する押圧板によって前記マルチビームレーザダイオードが前記ベース部材に押圧固定されるマルチビーム光源ユニットをユニット化する際に用いられる治具であって、前記治具は、前記係合凹部に密に係合する位置決め用先端部と、前記位置決め溝に案内される案内部とを備えていることを特徴とする。
【００２８】
請求項６に記載の発明によれば、位置決め溝から治具を挿入してその位置決め用先端部を係合凹部に密に係合すればマルチビームレーザダイオードがベース部材に位置決めされ、その位置決め終了後には治具を単に引き抜くだけで良いことから、安価且つ再利用可能な治具とすることができる。
【００２９】
請求項７に記載の発明は、前記位置決め用先端部は、先端に向うほど先細りとされていることを特徴とする。
【００３０】
請求項７に記載の発明によれば、位置決め溝と係合凹部とがおよその位置決め状態にあれば、治具を単に挿入するだけで確実な位置決めとなる。
【００３３】
請求項８に記載の発明は、請求項１乃至３のいずれか一項に記載のマルチビーム光源ユニットと、前記マルチビーム光源ユニットからの光束を偏向させ、該偏向された光束を被走査面上へ導く走査光学系とを備えることを特徴とする。
【００３４】
請求項８に記載の発明によれば、調整済みのマルチビーム光源ユニットを画像形成装置本体部に取り付ける際に、走査光学系に対する位置調整作業の簡略化を図ることができる。
【００３５】
【発明の実施の形態】
[マルチビーム光源ユニット及びその調整方法の発明の実施の形態１]
図７は本発明に係わるマルチビーム光源ユニット１９の分解斜視図である。図７において、２０は取り付けブラケットである。この取り付けブラケット２０は底壁部２１と起立壁部２２と側壁部２３，２３とを有する。その底壁部２１には一対の位置決め孔２１ａ，２１ａとネジ挿通孔２１ｂ，２１ｂとが形成されている。
【００３６】
その底壁部２１の底面には図８（Ａ）に示すように位置決め基準部２４が形成されている。この位置決め基準部２４は後述する画像形成装置本体部としてのハウジングに形成された位置決め基準部に突き合わされる。
【００３７】
起立壁２２には円形貫通孔２５が設けられている。その起立壁部２２の背面には、図８（Ｂ），図８（Ｃ）に示すように、一対の位置決め基準部２６，２６が貫通孔２５を挟んでその両側に設けられている。この位置決め基準部２６，２６の基準面（副走査方向を規定する基準面）は位置決め基準部２４の基準面（主走査方向を規定する基準面）に対して実質的に垂直に形成されている。また、この一対の位置決め基準部２６，２６にはネジ挿通孔２７，２７がそれぞれ設けられている。
【００３８】
起立壁部２２の背面側には円形貫通孔２５と同心に円形状嵌合筒２８が形成され、円形状嵌合筒２８と一方の位置決め基準部２６との間に回動規制ピン２９が突設されている。
【００３９】
その起立壁部２２の背面側にはベース部材３０が取り付けられる。このベース部材３０はマルチビームレーザダイオード３１を保持する。このベース部材３０は、図９に拡大して示すように、その正面側に円形状嵌合筒２８に嵌合される円形状嵌合筒３２を有する。
【００４０】
円形状嵌合筒２８の内径と円形貫通孔２５の孔径とは同径であり、円形貫通孔２５の中心を中心にして円形状嵌合筒３２が回転可能な程度に、円形状嵌合筒３２の外径は円形貫通孔２５の孔径よりも若干小さく形成されている。
【００４１】
円形状嵌合筒３２にはコリメートレンズ３３を支持する円弧状支持部３４が形成されている。このコリメートレンズ３３はマルチビームレーザダイオード３１から出射されたマルチレーザビームを平行光束に変換する役割を果たしている。なお、コリメートレンズ３３の円弧状支持部３４への取り付けの詳細については後述する。
【００４２】
その円形状嵌合筒３２はその中央に開口３５を有する。マルチレーザビームはこの開口３５を通じてコリメートレンズ３３に向けて出射される。円形状嵌合筒３２にはマルチレーザビームを整形するアパーチャ部材３６が装着される。円形状嵌合筒３２には一対の切り欠き３２ａ、３２ａが開口３５を挟んで形成されている。このアパーチャ部材３６には水平方向に長く延びるスリット開口３６ａと一対の切り欠き３２ａ、３２ａに係合する一対の係合片３６ｂ、３６ｂとが形成されている。
【００４３】
そのベース部材３０の両側には一対の位置決め基準部２６，２６に対応する箇所に一対の位置決め基準部３７，３７が形成されている。その位置決め基準部３７，３７にはネジ孔３８，３８がそれぞれ形成されている。その一方の位置決め基準部３７と円筒状嵌合筒３２との間には回動規制ピン２９が遊挿される遊挿孔３９が形成されている。
【００４４】
ベース部材３０の背面側には、図１０に拡大して示すように、押圧板４０を取り付けるための取り付け座部としての押圧板取り付け部４１が形成されている。押圧板４０はその中央に４個の押圧バネ片４０ａと一対の貫通孔４０ｃ，４０ｃとを有する。
【００４５】
押圧板取り付け部４１には開口３５と同心の貫通孔としての嵌合孔４２が形成されている。この嵌合孔４２にはステム３１Ｂの取り付け基準孔４２ａとステム３１Ｂの突き当て基準面４２ｂとが形成されている。押圧板取り付け部４１には嵌合孔４２に通じる位置決め溝４１Ａが形成されている。位置決め基準孔４１Ａはベース部材３０にマルチビームレーザダイオード３１を固定する際の位置決め基準の一方として用いられる。
【００４６】
取り付け基準孔４２ａの孔径はステム３１Ｂの直径よりも若干大きく形成されると共に、図１１に示すように、取り付け基準孔４２ａの深さはステム３１Ｂを突き当て基準面４２ｂに押し付けたときにそのステム３１Ｂの背面が押圧板取り付け部４１の背面から突出する程度とされている。
【００４７】
この嵌合孔４２にはマルチビームレーザダイオード３１の円筒状本体部３１Ａが嵌合される。押圧板取り付け部４１には嵌合孔４２を挟んでその両側に、押圧板４０の貫通孔４０ｃ，４０ｃに対向してネジ孔４１ａ，４１ａが形成されている。この貫通孔４０ｃ，４０ｃの孔径は後述するスプリングワッシャ付きのネジ４３の軸部より若干大径である。
【００４８】
その押圧板４０はマルチビームレーザダイオード３１の円筒状本体部３１Ａを嵌合孔４２に嵌合させ、押圧バネ片４０ａをマルチビームレーザダイオード３１のステム３１Ｂの背面に当てがって、ネジ４３，４３をネジ孔４１ａ，４１ａに螺合させることによって押圧板取り付け部４１に押圧固定される。
[マルチビームレーザダイオード３１の構成]
マルチビームレーザダイオード３１の円筒状本体部３１Ａの内部には、図１２に示すように、台座４４が設けられ、この台座４４には長方形状の発光チップ部（発光部）４５が設けられている。この発光チップ部４５にはここでは４個の発光点４５ａ〜４５ｄが設けられている。ステム３１Ｂには鋭角形状の一対の切り欠き４６，４６が形成されている。円筒状本体部３１Ａの中心は発光点４５ａ〜４５ｄの配列方向の中心と略一致している。
【００４９】
その発光点４５ａ〜４５ｄは本来的には仮想直線Ｑ３上に間隔を開けて配列されるものであるが、マルチビームレーザダイオード３１の製造上の誤差によって発光点４５ａ〜４５ｄを結ぶ配列方向Ｑ４はその仮想直線Ｑ３に対して傾いている。その仮想直線Ｑ３はその一対の切り欠き４６，４６の先鋭点４６ａ，４６ａを結ぶことによって与えられる。そのステム３１Ｂには仮想直線Ｑ３と直交する位置に係合凹部としての切り欠き４７が形成されている。
【００５０】
この切り欠き４７はベース部材３０にマルチビームレーザダイオード３１を固定する際の位置決め基準の他方として用いられる。このマルチビームレーザダイオード３１は、図１３に示すように、切り欠き４７と位置決め溝４１Ａとを合致させることによりベース部材３０に対して位置決めされて、そのベース部材３０にネジ４３により固定される。この際、切り欠き４７と位置決め溝４１Ａとは治具７０によって合致される。この治具７０は、図１４（Ａ）〜図１４（Ｃ）に示すように、位置決め溝４１Ａに案内される案内部７０ａと、案内部７０ａの先端に設けられて切り欠き４７と密に係合される位置決め用先端部７０ｂとを備えている。この位置決め用先端部７０ｂは先端に向うほど先細りとなっている。
【００５１】
従って、図１４（Ａ）に示すように、位置決め溝４１Ａに対して切り欠き４７にずれが生じていたとしても、図１４（Ｂ）に示すように、位置決め用先端部７０ｂの先端が切り欠き４７内に挿入できる程度のずれであれば、案内部７０ａを位置決め溝４１Ａに案内させつつ位置決め用先端部７０ｂをさらに切り欠き４７に進入させれば、位置決め用先端部７０ｂの先端形状に切り欠き４７が押され、それに伴ってステム３１Ｂが取り付け基準孔４２ａ内で回転し、図１４（Ｃ）に示すように、位置決め溝４１Ａと切り欠き４７とが合致した状態となる。
【００５２】
ところで、この治具７０の抜き差しは、図１１で示したように、押圧板４０によってステム３１Ｂの背面を押圧板取り付け部４１に向けて（取り付け基準孔４２ａに向けて）押圧した状態で行われる。この際、押圧板４０を押圧板取り付け部４１に対して仮止め状態としておけば、ステム３１Ｂの位置決めのための回転を容易とし且つ治具７０を抜いた後の位置決め後のステム３１Ｂの不測な回転を防止することができる。
【００５３】
ベース部材３０は、図１５に示すように、スプリングワッシャ付きのネジ４７により起立壁部２２に仮止め固定され、これによって、光源ユニット１９が組み立てられる。
[マルチビーム光源ユニットの角度調整方法]
図１６はそのマルチビームレーザダイオードの調整方法に用いる調整装置の模式図である。この調整装置は、集光レンズ（結像レンズ）４８と撮像素子４９とを有する。その調整装置は基準取り付け部５０を有し、光源ユニット１９はその位置決め基準部２４の基準面が基準取り付け部５０の基準面に突き合わされた状態で調整装置にセットされる。
【００５４】
この調整装置に光源ユニット１９をセットした状態で、光硬化型接着剤（紫外線硬化型接着剤）が塗布された円弧状支持部３４にコリメータレンズ３３を配置する。そのコリメータレンズ３３は図示を略すコリメータレンズ把持アームに把持されて円弧状支持部３４上の設計上予定された初期位置に配置される。そのコリメータレンズ把持アームは３軸方向に独立制御可能な３軸移動ステージに設けられている。
【００５５】
そのベース部材３０の上端面でかつ回動規制ピン２９が存在する部分よりも外側位置にはマイクロメータの先端５１が当てがわれる。この状態で、マルチビームレーザダイオード３１の各端子３１ｃに駆動電圧を同時に印加する。これにより、各発光点４５ａ〜４５ｄが発光されて画像記録面４ａに相当する撮像面４９ａ上に、図１７に示すように各発光点４５ａ〜４５ｄに対応するビームスポット５２〜５５が形成される。
【００５６】
ここでは、仮想直線Ｑ３は設計上の取り付け誤差がないとしたときに副走査方向Ｑ２、すなわち、設計基準直線に一致している。各発光点４５ａ〜４５ｄは製造上の誤差によってばらついており、各ビームスポット５２〜５５の撮像面４９ａ上での主走査方向Ｑ１の位置、副走査方向Ｑ２の間隔は一定ではないと考えられ、必ずしも、各ビームスポット５２〜５５の配列状態としての配列方向Ｑ４が存在するとは限らない。
【００５７】
そこで、ここでは、発光点４５ａ〜４５ｄのうちの最も遠く離れている二個の発光点４５ａ，４５ｄを結んで得られる（ビームスポット５２、５５を結んで得られる）直線を配列方向Ｑ４とみなして、この配列方向Ｑ４の仮想直線Ｑ３に対する角度θを測定する。
【００５８】
すなわち、ビームスポット５２とビームスポット５３との副走査方向の間隔をｘ２、ビームスポット５２とビームスポット５４との副走査方向の間隔をｘ３、ビームスポット５２とビームスポット５５との副走査方向の間隔をｘ４とし、ビームスポット５２とビームスポット５３との主走査方向の間隔をｙ２、ビームスポット５２とビームスポット５４との主走査方向の間隔をｙ３、ビームスポット５２とビームスポット５５との主走査方向の間隔をｙ４とすると、角度θは以下の式に基づいて求められる。
【００５９】
θ＝ｔａｎ−１（ｙ４／ｘ４）
この発光点４５ａ〜４５ｄのうち最も遠く離れている二個の４５ａ，４５ｄを結んで得られる直線（ビームスポット５２、５５を結んで得られる直線）を配列方向Ｑ４とみなす代わりに、最小２乗法により近似直線を求めて、この最小２乗法により得られた近似直線を配列方向Ｑ４として用いて、配列方向Ｑ４の仮想直線Ｑ３に対する角度θを求めても良い。
θ＝（Σ（ｘ’ｉ×ｙ‘ｉ）−Σ（ｘ’ｉ×ｙ‘ｉ）／Ｎ）
／（Σｘ’ｉ２−（Σｘ’ｉ）２／Ｎ）
符号Ｎは発光点の個数（ここでは、Ｎ＝４）であり、ｘ’ｉ，ｙ‘ｉは各発光点のＸ方向、Ｙ方向の位置であり、ｉ＝１からＮである。
【００６０】
次に、このようにして求められた角度θに基づいて、マイクロメータを手動操作して、ベース部材３０を角度θだけ回動させ、副走査方向Ｑ２に配列方向Ｑ４が一致するように調整する。
【００６１】
次に、回転中心に対してコリメートレンズ３３の光軸を一致させるためにコリメートレンズ３３のｘ方向位置調整、ｙ方向位置調整を行うと共に、コリメートレンズ３３のｚ方向位置（光軸方向位置）の調整を行う。このコリメートレンズ３３の光軸方向位置調整は各発光点４５ａ〜４５ｄをコリメートレンズ３３の焦点位置（焦点面）に合わせて、コリメート性を高めるために行うものである。これらの位置調整は既述の三軸移動ステージを用いて行う。
【００６２】
このコリメートレンズ３３の位置調整は、各発光点４５ａ〜４５ｄごとに行ってその最適位置を求め、この最適位置の平均値を代表特性として用いるものであり、コリメートレンズ３３はその平均値に位置される。
【００６３】
このコリメートレンズ３３の位置調整後、図示を略す紫外線照射装置により、紫外線（ＵＶ光）をコリメートレンズ３３に照射して紫外線硬化型樹脂を硬化させ、コリメートレンズ３３を円弧状支持部３４に接着固定する。次に、コリメートレンズ把持アームによるコリメートレンズ３３の把持を解除して、ビームスポット５２〜５５の配列状態、すなわち、ビームスポット５２〜５５の主走査方向Ｑ１の間隔ｙ２〜ｙ４が規格σ内にあるか否かを測定する。
【００６４】
ビームスポット５２〜５５の主走査方向Ｑ１の間隔ｙ２〜ｙ４が規格σ外である場合、すなわち、ビームスポットの配列状態が適正でない場合には、再度ベース部材３０の角度調整を行うと共にコリメートレンズ３３の位置調整を行う。この調整作業終了後、スプリングワッシャ付きのネジ４７，４７を増し締めし、ベース部材３０を取り付けブラケット２０に回動不能に固定する。そして、各レーザビームの光学特性、配列状態を計測し、マルチビームレーザダイオード３１を消灯し、調整作業を終了する。
【００６５】
これらの調整作業によって、図１８に示すように、ビームスポット５２〜５５が実質的に副走査方向Ｑ２に一直線に並び、画像記録面４ａ上での書き込み開始位置が揃えられることになる。このものによれば、ビームスポット５２〜５５の書き込み開始位置が揃えられるので、画像形成装置本体部の制御回路、駆動回路の構成の簡単化を図ることができる。
【００６６】
すなわち、マルチビーム光源ユニット組立調整工程では、マルチビームレーザダイオード３１の発光点の配列状態を測定する測定と、発光点の配列状態の測定に基づき設計基準方向に発光点の配列方向が一致するようにマルチビームレーザダイオード３１を回転調整する回転調整と、マルチビームレーザダイオード３１の回転調整後にコリメートレンズ３３の位置調整を行ってマルチビームレーザダイオード３１に対するコリメートレンズ３３の位置決めを行う位置決め調整とが行われる。なお、アパーチャ部材３６はこの調整後に組み付けられる。
【００６７】
ここでは、配列状態としての配列方向Ｑ４を評価することとしたが、ベース部材３０を所定角度毎回転させて、主走査方向Ｑ１の間隔（偏差）ｙ２，ｙ３，ｙ４をそれぞれ求め、この偏差ｙ２，ｙ３，ｙ４のうちの最大偏差が最小となる角度θを発光点４５ａ〜４５ｄの配列方向Ｑ４とみなして、これによって、この方向にマルチビームレーザダイオード３１を回転調整して、ビームスポット５２〜５５の書き込み開始位置を揃える構成とすることもできる。
[画像形成装置本体部の概略構成]
図１９，図２０は画像形成装置本体部のハウジングの概略構成を示し、図１９は光源ユニット１９をハウジング５６に取り付ける前の状態を示し、図２０は光源ユニット１９をハウジング５６に取り付けた状態を示す。
【００６８】
このハウジング５６には走査光学系５７が搭載されている。その走査光学系５７はポリゴンミラー５８とｆθレンズ５９とから概略構成されている。そのハウジング５６の底壁には位置決め基準部６０が設けられている。この位置決め基準部６０には一対の位置決めピン６１，６１と一対のネジ孔６２，６２とが図１９に示すように形成されている。光源ユニット１９は図２０に示すようにその位置決め基準部２４の基準面が位置決め基準部６０の基準面に突き合わされ、かつ、位置決めピン６１，６１により位置決めされて、ネジ６３により位置決め基準部６０に固定される。
【００６９】
そのハウジング５６の一側壁には主走査方向Ｑ１に沿う方向に延びる開口６４が形成され、マルチビームレーザダイオード３１を駆動して同時に各発光点４５ａ〜４５ｄを発光させると、マルチレーザビームがポリゴンミラー５８により主走査方向Ｑ１に偏向されてｆθレンズ５９、開口６４を透過して記録媒体としての感光体ドラム６５の感光面６５ａに照射され、その感光面６５ａに４個のビームスポット１１が形成される。この４個のビームスポット１１は、マルチビームレーザダイオード３１の各発光点４５ａ〜４５ｄが副走査方向Ｑ２に調整されているので、感光面６５上で副走査方向Ｑ２に実質的に揃っている。
[マルチビーム光源ユニットの調整装置の詳細説明]
図２１はその調整装置の光学系を模式的に示している。ここで、ｆｃｏはコリメートレンズ３３の後側焦点距離、ｆｃｏ’はコリメートレンズ３３の前側焦点距離、ｆ１は集光レンズ４８の前側焦点距離、ｆ１’は集光レンズ４８の後側焦点距離である。
【００７０】
撮像素子４９の撮像面（エリア型受像面）４９ａは集光レンズ４８の後側焦点距離ｆ１に位置されている。その集光レンズ４８の前側焦点位置はコリメートレンズ３３の後側焦点位置に実質的に一致されている。
【００７１】
このように、光学系を配置すると、マルチビームレーザダイオード３１の各発光点４５ａ〜４５ｄから出射されたマルチビームレーザはコリメートレンズ３３によって実質的に平行光束に変換され、全ての発光点４５ａ〜４５ｄから出射された各レーザビームが集光レンズ４８によって撮像面４９ａに実質的に拡大して集光結像される。従って、各ビームスポットの位置を高精度で測定することが可能となる。
【００７２】
図２２はその撮像面４９ａに形成されたビームスポット５２の拡大図を示している。その各ビームスポットの位置は重心位置を演算することによって求められる。そのビームスポット１１の重心位置の演算の一例を以下に説明する。
【００７３】
撮像面４９ａの各画素を符号Ｚｉｊによって定義する。Ｚ１ｊ、Ｚ２ｊ、…、Ｚｉｊ、…、Ｚｎｊは主走査方向Ｑ１に配列された画素を意味し、Ｚｉ１、Ｚｉ２、…、Ｚｉｊ、…、Ｚｉｍは副走査方向Ｑ２に配列された画素を意味し、符号ｉ（１からｎまでの整数）は左側から数えてｉ番目を意味し、符号ｊ（１からｍまでの整数）は下から数えてｊ番目であることを意味している。
【００７４】
そこで、主走査方向Ｑ１に配列されている各画素Ｚ１ｊ、Ｚ２ｊ、…、Ｚｉｊから出力された出力信号の総和Ｗｊ（Ｗｊ＝Ｚ１ｊ＋Ｚ２ｊ＋…＋Ｚｉｊ＋…＋Ｚｎｊ）を副走査方向Ｑ２についてｊ＝１からｊ＝ｍまで順次求めると、副走査方向Ｑ２の光ビーム強度分布曲線Ｂ１を求めることができる。また、副走査方向Ｑ２に配列されている各画素Ｚｉ１、Ｚｉ２、…、Ｚｉｊ、…、Ｚｉｍから出力された出力信号の総和Ｗｉ（Ｗｉ＝Ｚｉ１＋Ｚｉ２＋…＋Ｚｉｊ＋…＋Ｚｉｍ）を主走査方向Ｑ１についてｉ＝１からｉ＝ｎまで順次求めると、主走査方向Ｑ１の光ビーム強度分布曲線Ｂ２を求めることができる。図２３はこのビーム強度分布曲線Ｂ２に対して閾値Ｐ１ｈを設定し、この閾値Ｐ１ｈを横切る強度に対応する主走査方向Ｑ１の画素の番地Ｘ１、Ｘ２を特定し、この番地Ｘ１と番地Ｘ２との和の平均値に相当する画素の番地Ｘｉｍを求める。これにより、ビームスポット１１の主走査方向の重心位置（中心位置）Ｏ１が求められる。同様の処理をビーム強度分布曲線Ｂ１について行うことにより、副走査方向の重心位置（中心位置）Ｏ１’が求められる。なお、その閾値Ｐ１ｈはピークＰｍａｘからｅ（自然対数）の２乗分の１のところに設定する。
【００７５】
このように、撮像面４９ａに結像されたビームスポット１１の全体のビーム形状に基づいて、その重心位置を演算しているので、その演算精度を高めるために、撮像面４９ａ上での各ビームスポットの結像面積が画素の面積の十倍以上となるように光学系を構成することが望ましい。
【００７６】
すなわち、図２４に示すように、撮像面４９ａ上でのビームスポットの主走査方向のビーム径をＷｍ、撮像面４９ａ上でのビームスポット１１の副走査方向のビーム径をＷｓ、スリット開口３６ａを通過後のレーザビームの主走査方向のビーム径をＤｍ’、同じく副走査方向のビーム径をＤｓ’、マルチビームレーザダイオード３１の発振波長をλとしたとき、
Ｗｍ＝（ｆ×λ）／（π×Ｄｍ’）
Ｗｓ＝（ｆ×λ）／（π×Ｄｓ’）
の式に基づいて主走査方向と副走査方向のビーム径Ｗｍ，Ｗｓを演算し、
π×Ｗｍ×Ｗｓ＞画素の面積×１０
となるように調整装置の光学系を設計する。
【００７７】
また、最も離れた発光点４５ａと発光点４５ｄとの主走査方向のピッチずれ量をＰＬＤＡｍ、発光点４５ａと発光点４５ｄとの副走査方向のピッチずれ量をＰＬＤＡｓ、撮像面４９ａ上での発光点４５ａのビームスポット５２と発光点４５ｄのビームスポット５５との主走査方向のピッチをＰｃｃｄｍ、撮像面４９ａ上での発光点４５ａのビームスポット５２と発光点４５ｄのビームスポット５５との副走査方向のピッチをＰｃｃｄｓとし、Ｐｃｃｄｍ＝（ｆ１／ｆｃｏ）×ＰＬＤＡｍ、Ｐｃｃｄｓ＝（ｆ１／ｆｃｏ）×ＰＬＤＡｓの式に基づき、ピッチずれ量を演算して、発光点４５ａのビームスポット５２と発光点４５ｄのビームスポット５５とが撮像面４９ａからはみでないように、以下の関係式を満足するように、光学系の倍率を設定する。
Ｐｃｃｄｍ×（Ｎ−１）＋Ｗｍ＜Ｌｍ
Ｐｃｃｄｓ×（Ｎ−１）＋Ｗｓ＜Ｌｓ
ここで、Ｌｍは横方向（主走査方向）の撮像面４９ａの全長、Ｌｓは縦方向（副走査方向）の撮像面４９ａの全長、Ｎは発光点の個数であり、ここでは、Ｎ＝４である。
【００７８】
このように光学系の倍率を設定すると、１個の撮像素子４９で４個の発光点４５ａ〜４５ｄの評価を同時に行うことができることになり、効率的である。
【００７９】
また、発光点４５ａ〜４５ｄを同時に点灯させる場合、各発光点４５ａ〜４５ｄの発光出力が実質的に等しくなるように以下に説明する制御を行う。まず、各発光点４５ａ〜４５ｄの任意の１個を点灯させて、その点灯された発光点に基づく撮像素子４９の出力を検出して基準出力Ｐ１として記憶する。次に、そのすでに点灯されている発光点をそのままの状態として、残りの発光点のうちの１個を点灯させて撮像素子４９の出力がその基準出力Ｐ１の２倍となるようにようにレーザ駆動制御回路を調整する。この制御調整を４個の発光点４５ａ〜４５ｄについて順次行い、基準出力Ｐ１の４倍となるように、レーザ駆動制御回路を調整する。一般に、Ｎ個の発光点がある場合には、図２５に示すように基準出力Ｐ１のＮ倍となるようにレーザ駆動制御回路を設定する。
【００８０】
このようにレーザ駆動制御回路を設定すれば、撮像面４９ａ上での各ビームスポットの強度を一定にすることができ、その各ビームスポット５２〜５５の位置の評価を正確に行うことができることになる。
[マルチビーム光源ユニット及びその調整方法の発明の実施の形態２]
図２６〜図２８は、マルチビーム光源ユニット１９の発明の実施の形態２を示し、発明の実施の形態１において説明したビーム光源ユニット１９と同一構成要素については同一符号を付して、その詳細な説明を省略することとし、異なる部分についてのみ説明することとする。
【００８１】
ここでは、押圧板４０には係合片４０ｂが設けられている。この係合片４０ｂは、切り欠き４７の幅よりも狭く設定され、押圧板４０を押圧板取り付け部４１に仮止めした際、押圧板取り付け部４１の背面から突出したステム３１Ｂの切り欠き４７と係合し、これにより、押圧板取り付け部４１に対するステム３１Ｂの粗位置決め（図１４（Ａ）に示した状態と同程度）とすることができる。
【００８２】
これにより、治具７０を挿入する前の組み付け時に押圧板４０を押圧板取り付け部４１に仮止めした時点で粗位置決め状態となることから、治具７０を用いての位置決めが一層容易となる。また、治具７０を用いずに、係合片４０ｂによって粗位置決めしたままでよい他のマルチビーム光源ユニットとの押圧板４０の共用化を実現することができる。
【００８３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のマルチビーム光源ユニットによれば、
マルチビームレーザーダイオードを回転可能に支持する取り付け座部に位置決め溝が形成され、ステムに仮想直線の方向を設計基準線の方向に位置決めするための係合凹部が形成され、位置決め溝から挿入された治具の先端を係合凹部に係合させることによって係合凹部と位置決め溝とが合致した位置決め状態となることから、治具を用いて係合凹部と位置決め溝とを合致マルチビームレーザーダイオードがベース部材に容易に位置決めされる。また、マルチビーム光源ユニットを画像形成装置本体部に組み込む前に単体で調整することができるので、画像形成装置本体部への組み付け作業の簡略化を図ることができる。
【００８４】
本発明のマルチビーム光源ユニットの調整方法によれば、設計基準直線に対する発光点の配列状態を画像記録面に対応する像面上でのビームスポットに基づき測定して、光学系の光軸回りにマルチビームレーザダイオードを回転調整することにしたので、その発光点の配列方向を設計基準直線の方向に容易に揃えることができる。
【００８５】
特に、各発光点の配列方向を画像形成装置本体部に取り付ける前に予め副走査方向に揃えることにすれば、画像形成装置本体部にマルチビーム光源ユニットを取り付けてから副走査方向のビームスポットのピッチを調整するという調整操作、ビームスポットのピッチ調整により主走査方向にずれた書き込み開始位置を補償するために、画像形成装置本体部に各レーザビームの走査位置を検出する検出センサを各レーザビーム毎に設けて、各レーザビーム毎に書き込み開始位置を制御するという複雑な構成、各レーザビームの主走査方向の時間的遅延を測定して遅延回路によりレーザビームの駆動制御を行うという複雑な構成を避けることができ、部品点数の低減、画像形成装置本体部への取り付けに要する組立時間の短縮、低コスト化を図ることができる。また、ソフトウエアによる制御の簡単化も図ることができる。
【００８６】
本発明のマルチビーム光源ユニットの位置決め用治具は、係合凹部に密に係合する位置決め用先端部と、位置決め溝に係合する案内部とを備えているので、位置決め溝から治具を挿入してその位置決め用先端部を係合凹部に密に係合すればマルチビームレーザダイオードがベース部材に位置決めされ、その位置決め終了後には治具を単に引き抜くだけで良いことから、安価且つ再利用可能な治具とすることができる。
【００８８】
本発明の画像形成装置によれば、調整済みのマルチビーム光源ユニットを画像形成装置本体部に取り付ける際に、走査光学系に対する位置調整作業の簡略化を図ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  走査光学系の概略構成を示す模式図である。
【図２】  画像記録面上でのビームスポットの配列状態を示す模式図である。
【図３】  マルチビームレーザダイオードの発光点の配列状態を説明するための模式図である。
【図４】  画像記録面上での書き込み開始位置の制御の一例を説明するための説明図である。
【図５】  画像記録面上での書き込み開始位置の制御の他の例を説明するための説明図であり、（ａ）はビームスポットの配列方向と書き込み開始位置との関係を示す図であり、（ｂ）はその発光点の発光タイミングを説明するためのタイミング図である。
【図６】  （Ａ）はマルチビームレーザダイオードの発光点の配列方向と設計基準方向との傾きを説明するための図、（Ｂ）はビームスポットが理想状態で配列された説明図、（Ｃ）はビームスポットがずれた状態の説明図である。
【図７】  本発明の実施の形態１に係わるビーム光源ユニットの分解斜視図である。
【図８】  （Ａ）は図７に示す取り付けブラケットの正面図、（Ｂ）は図７に示す取り付けブラケットの背面図、（Ｃ）は図７に示す取り付けブラケットの平面図である。
【図９】  図７に示す光源ユニットを正面側から目視したときの要部拡大図である。
【図１０】  図７に示す光源ユニットを背面側から目視したときの要部拡大図である。
【図１１】  図７に示す光源ユニットの一部を省略した要部の断面図である。
【図１２】  図７に示すマルチビームレーザダイオードの拡大平面図である。
【図１３】  図７に示す光源ユニットの背面図である。
【図１４】  （Ａ）は位置決め溝と切り欠きとがずれている位置決め前の要部の説明図、（Ｂ）は位置決め溝と切り欠きとがずれている位置決め途中の要部の説明図、（Ｃ）は位置決め溝と切り欠きとが合致している位置決め状態の要部の説明図である。
【図１５】  図７に示す光源ユニットの正面図である。
【図１６】  図７に示す光源ユニットの調整装置の概略図である。
【図１７】  図７に示す撮像面に結像されたビームスポットの配列状態を示す説明図である。
【図１８】  図１６に示す調整装置によって調整されたビームスポットの配列状態を示す説明図である。
【図１９】  図７に示す光源ユニットが取り付けられる画像形成装置本体部の概略構成を示す斜視図である。
【図２０】  図７に示す光源ユニットが取り付けられた画像形成装置本体部の概略構成を示す斜視図である。
【図２１】  図１６に示す調整装置の光学系の模式図である。
【図２２】  図１６に示す撮像面に形成されたビームスポットの一例を示す模式図である。
【図２３】  図２２に示す光ビーム分布曲線から重心位置を求めるための一例を示す説明図である。
【図２４】  ビームスポットと撮像面の大きさとの関係を説明するための模式図である。
【図２５】  各発光点の出力を揃えるための一例をグラフ化して示した図である。
【図２６】  本発明の実施の形態２に係わるビーム光源ユニットを正面側から目視した分解斜視図である。
【図２７】  本発明の実施の形態２に係わるビーム光源ユニットを背面側から目視した分解斜視図である。
【図２８】  本発明の実施の形態２に係わるビーム光源ユニットの調整方法の一例を示す光源ユニットの一部を省略した要部の断面図である。
【符号の説明】
３０  ベース部材
３１  マルチビームレーザダイオード
３１Ｂ  ステム
３３  コリメートレンズ
４１  押圧板取り付け部（取り付け座部）
４１Ａ  位置決め溝
４２  嵌合孔（貫通孔）
４６  切り欠き
４７  切り欠き（係合凹部）
７０  治具
【図１】
0003929664.tif 000002
【図２】
0003929664.tif 000003
【図３】
0003929664.tif 000004
【図４】
0003929664.tif 000005
【図５】
0003929664.tif 000006
【図６】
0003929664.tif 000007
【図７】
0003929664.tif 000008
【図８】
0003929664.tif 000009
【図９】
0003929664.tif 000010
【図１０】
0003929664.tif 000011
【図１１】
0003929664.tif 000012
【図１２】
0003929664.tif 000013
【図１３】
0003929664.tif 000014
【図１４】
0003929664.tif 000015
【図１５】
0003929664.tif 000016
【図１６】
0003929664.tif 000017
【図１７】
0003929664.tif 000018
【図１８】
0003929664.tif 000019
【図１９】
0003929664.tif 000020
【図２０】
0003929664.tif 000021
【図２１】
0003929664.tif 000022
【図２２】
0003929664.tif 000023
【図２３】
0003929664.tif 000024
【図２４】
0003929664.tif 000025
【図２５】
0003929664.tif 000026
【図２６】
0003929664.tif 000027
【図２７】
0003929664.tif 000028
【図２８】
0003929664.tif 000029