(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂層を少なくとも有し、該エポキシ樹脂層におけるビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が３〜６０重量％であることを特徴とする樹脂シート。
【請求項２】
エポキシ樹脂層が脂環式エポキシ樹脂を含むことを特徴とする請求項１に記載の樹脂シート。
【請求項３】
請求項１または２に記載の樹脂シートにハードコート層が積層されていることを特徴とする樹脂シート。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の樹脂シートにガスバリア層が積層されていることを特徴とする樹脂シート。
【請求項５】
ガラス転移温度（Ｔｇ）が１７０℃以上であることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の樹脂シート。
【請求項６】
光透過率が８８％以上であることを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の樹脂シート。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂シートからなることを特徴とする液晶セル基板。
【請求項８】
請求項７の液晶セル基板を用いたことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項９】
請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂シートからなることを特徴とするエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板。
【請求項１０】
請求項９のエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたことを特徴とするエレクトロルミネッセンス表示装置。
【請求項１１】
請求項１〜６のいずれかに記載の樹脂シートからなることを特徴とする太陽電池用基板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂層を少なくとも有することを特徴とする樹脂シートや上記樹脂シートからなる液晶セル基板や上記液晶セル基板を用いた液晶表示装置に関するものである。また本発明は上記樹脂シートからなるエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板および上記エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置やエレクトロルミネッセンス表示装置の大型化に伴い、ガラス系の基板は重くて嵩高いことから、薄型軽量化などを目的にエポキシ系樹脂等からなる樹脂シートが基板として提案され開発されている。しかしこのようなエポキシ樹脂等からなる樹脂シートの強度は使用に耐えうるレベルではあるが、運搬時や液晶表示装置の組み立て時に破断する場合があり、より強度のある樹脂シートの開発が要求されてきた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は強靭性が高く、割れにくい樹脂シートや上記樹脂シートを用いた液晶セル基板や液晶表示装置を提供することを課題とする。また本発明は上記樹脂シートを用いたエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板および上記エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置を提供することを課題とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂層を少なくとも有することを特徴とする樹脂シートを提供するものである。また上記樹脂シートは脂環式エポキシ樹脂を含むことが好ましく、エポキシ樹脂層におけるビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が３〜６０重量％であることが好ましい。
上記樹脂シートにはハードコート層やガスバリア層が積層されていることが好ましく、上記樹脂シートのガラス転移温度（Ｔｇ）は１７０℃以上であることが好ましく、光透過率は８８％以上であることが好ましい。
また上記樹脂シートは、＃２０００のペーパーで裏面に深さ約１μｍの傷をつけた樹脂シートを表面無垢平板と２０ｍｍφの穴を有する平板の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を固定した後、正面垂直方向から樹脂シートが露出した２０ｍｍφのエリアの中心部分に１０ｍｍφのステンレス球を有する棒で荷重を加えていった時の破断強度が６０Ｎ以上であることが好ましい。
また本発明は上記樹脂シートからなる液晶セル基板や上記液晶セル基板を用いた液晶表示装置を提供するものである。
また本発明は、上記樹脂シートからなるエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や、上記エレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板を用いたエレクトロルミネッセンス表示装置を提供するものである。
また本発明は上記樹脂シートからなる太陽電池用基板を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明における樹脂シートはビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含むエポキシ樹脂層を少なくとも有することを特徴とする。ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の構造は（化１）の化学式で例示されるものが代表的なものである。またビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂としては、エポキシ当量２００〜４００（ｇ／ｅｑ）、融点６０〜９０℃のものを用いるのが好ましく、より好ましくはエポキシ当量２５０〜３５０（ｇ／ｅｑ）、融点７０〜８５℃のものがよい。
【化１】
0003920688.tif 000002
【０００６】
本発明においてエポキシ樹脂層は、ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含むことが必要であるが、他のエポキシ樹脂を適宜混合してエポキシ樹脂層を形成してもよい。
【０００７】
他のエポキシ系樹脂としては、例えば、ビスフェノールＡ型やビスフェノールＦ型やそれらの水添加の如きビスフェノール型、フェノールノボラック型やクレゾールノボラック型の如きノボラック型、トリグリシジルイソシアヌレート型やヒダントイン型の如き含窒素環型、脂環式型や脂肪族型、ナフタレン型の如き芳香族型やグリシジルエーテル型、ビフェニル型の如き低吸水率タイプやジシクロ型、エステル型やエーテルエステル型、それらの変成型などが挙げられる。
【０００８】
上記エポキシ樹脂の中では、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂と組み合わせて、耐熱性と強靭性の良好なバランスを有する樹脂シート得るためには、脂環式エポキシ樹脂が好ましく用いられる。
【０００９】
脂環式エポキシ樹脂としては、３，４−エポキシシクロヘキシルルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、２，２−ビス（ヒドロキシルメチル）−１−ブタノールの１，２−エポキシ−４−（２−オキシラニル）シクロヘキサン付加物等を例示することができ、塗工液の流動性や硬化後の耐熱性の点で３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレートが好ましく用いられる。
【００１０】
エポキシ樹脂層中におけるビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率は３〜６０重量％であることが好ましく、より好ましくは５〜４０重量％がよく、更に好ましくは１５〜３５重量％がよい。ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が３％よりも小さい場合は、十分な強靭性を有する樹脂シートを得ることができず、運搬時や液晶表示装置の組み立て時に破断する場合がある。ビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂の比率が６０％よりも大きい場合は、エポキシ樹脂層を形成する場合、塗工液の粘度が高くなるため、流動性が悪くなり塗工が困難になる。また硬化後の樹脂シートの耐熱性が低下する。
【００１１】
上記エポキシ系樹脂は、硬化剤、硬化促進剤、および必要に応じて従来から用いられている老化防止剤、変成剤、界面活性剤、染料、顔料、変色防止剤、紫外線吸収剤等の従来公知の各種添加物を適宜に配合することができる。
【００１２】
前記、硬化剤についても特に限定はなく、エポキシ系樹脂に応じた適宜な硬化剤を１種または２種以上用いることができる。ちなみにその例としては、テトラヒドロフタル酸やメチルテトラヒドロフタル酸、ヘキサヒドロフタル酸やメチルヘキサヒドロフタル酸の如き有機酸系化合物類、エチレンジアミンやプロピレンジアミン、ジエチレントリアミンやトリエチレンテトラミン、それらのアミンアダクトやメタフェニレンジアミン、ジアミノジフェニルメタンやジアミノジフェニルスルホンの如きアミン系化合物類が挙げられる。
【００１３】
またジシアンジアミドやポリアミドの如きアミド系化合物類、ジヒドラジットの如きヒドラジド系化合物類、メチルイミダゾールや２−エチル−４−メチルイミダゾール、エチルイミダゾールやイソプロピルイミダゾール、２,４−ジメチルイミダゾールやフェニルイミダゾール、ウンデシルイミダゾールやヘプタデシルイミダゾール、２−フェニル−４−メチルイミダゾールの如きイミダゾール系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
【００１４】
さらに、メチルイミダゾリンや２−エチル−４−メチルイミダゾリン、エチルイミダゾリンやイソプロピルイミダゾリン、２，４−ジメチルイミダゾリンやフェニルイミダゾリン、ウンデシルイミダゾリンやヘプタデシルイミダゾリン、２−フェニル−４−メチルイミダゾリンの如きイミダゾリン系化合物、その他、フェノール系化合物やユリア系化合物類、ポリスルフィド系化合物類も前記硬化剤の例として挙げられる。
【００１５】
加えて、酸無水物系化合物類なども前記硬化剤の例として挙げられ、変色防止性などの点より、かかる酸無水物硬化剤が好ましく用いうる。その例としては無水フタル酸や無水マレイン酸、無水トリメリット酸や無水ピロメリット酸、無水ナジック酸や無水グルタル酸、テトラヒドロフタル酸無水物やメチルテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物、メチルナジック酸無水物やドデセニルコハク酸無水物、ジクロロコハク酸無水物やベンゾフェノンテトラカルボン酸無水物やクロレンディック酸無水物などが挙げられる。
【００１６】
特に、無水フタル酸やテトラヒドロフタル酸無水物、ヘキサヒドロフタル酸無水物やメチルヘキサヒドロフタル酸無水物の如く無色系ないし淡黄色系で、分子量が約１４０〜約２００の酸無水物系硬化剤が好ましく用いうる。
【００１７】
前記エポキシ系樹脂と硬化剤の配合割合は、硬化剤として酸無水物系硬化剤を用いる場合、エポキシ系樹脂のエポキシ基１当量に対して酸無水物当量を０．５〜１．５当量となるように配合することが好ましく、さらに好ましくは０．７〜１．２当量がよい。酸無水物が０．５当量未満では、硬化後の色相が悪くなり、１．５当量を超えると、耐湿性が低下する傾向がみられる。なお他の硬化剤を単独で又は２種以上を併用して使用する場合にも、その使用量は前記の当量比に準じうる。
【００１８】
前記硬化促進剤としては、第三級アミン類、イミダゾール類、第四級アンモニウム塩類、有機金属塩類、リン化合物類、尿素系化合物類等が挙げられるが、特にリン化合物類を用いることが好ましい。これらは単独であるいは併用して使用することができる。
【００１９】
前記硬化促進剤の配合量は、エポキシ系樹脂１００重量部に対して０．０５〜７．０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３．０重量部がよい。硬化促進剤の配合量が０．０５重量部未満では、充分な硬化促進効果が得られず、７．０重量部を超えると硬化体が変色するおそれがある。
【００２０】
前記老化防止剤としては、フェノール系化合物、アミン系化合物、有機硫黄系化合物、ホスフィン系化合物等の従来公知のものが挙げられる。
【００２１】
前記変成剤としては、グリコール類、シリコーン類、アルコール類等従来公知のものが挙げられる。
【００２２】
前記界面活性剤は、エポキシ系樹脂シートを流延法等によりエポキシ樹脂を空気に触れながら硬化する場合に、シートの表面を平滑にするために添加される。界面活性剤としてはシリコーン系、アクリル系、フッ素系等が挙げられるが、とくにシリコーン系が好ましい。
【００２３】
本発明の樹脂にはハードコート層やガスバリア層が積層されていることが好ましい。
【００２４】
本願発明においてハードコート層を形成する材料としては、ウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂、ポリビニルアルコールやエチレン・ビニルアルコール共重合体の如きポリビニルアルコール系樹脂、塩化ビニル系樹脂や塩化ビニリデン系樹脂が挙げられる。
【００２５】
また、ポリアリレート系樹脂、スルホン系樹脂、アミド系樹脂、イミド系樹脂、ポリエーテルスルホン系樹脂、ポリエーテルイミド系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂、ポリオレフィン系樹脂、スチレン系樹脂、ビニルピロリドン系樹脂、セルロース系樹脂やアクリロニトリル系樹脂なども樹脂層の形成に用いることができる。これらの樹脂の中ではウレタン系樹脂が好ましく、ウレタンアクリレートが特に好ましく用いられる。なお樹脂層の形成には、適宜な樹脂の２種以上のブレンド物なども用いることができる。
【００２６】
本発明におけるガスバリア層の材料としてはポリビニルアルコール及びその部分ケン化物、エチレン・ビニルアルコール共重合体等のビニルアルコール系ポリマーや、ポリアクリロニトリル、ポリ塩化ビニリデン等の酸素透過が小さい材料が用いられるが、高ガスバリア性の点よりビニルアルコール系ポリマーが特に好ましい。
【００２７】
上記有機ガスバリア層の厚みは２〜１０μｍが好ましく、さらに好ましくは３〜５μｍがよい。有機ガスバリア層の厚みが２μｍ未満であると十分なガスバリア機能を付与することができず、１０μｍを超えると樹脂シートの黄色度指数（ＹＩ値）が大きくなる。
【００２８】
本発明におけるガスバリア層としては無機ガスバリア層を積層させてもよい。無機ガスバリア層を形成する材料としては、珪素酸化物、マグネシウム酸化物、アルミニウム酸化物や亜鉛酸化物等の透明なガスバリア材料が知られているが、ガスバリア性や基材層への密着性等から珪素酸化物が好ましく用いられる。
【００２９】
珪素酸化物としては珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５〜２．０であることが無機ガスバリア層のガスバリア性、透明性、表面平坦性、屈曲性、膜応力、コスト等の点から好ましい。珪素原子数に対する酸素原子数の割合が１．５よりも小さくなると屈曲性や透明性が悪くなる。珪素酸化物においては、珪素原子数に対する酸素原子数の割合の最大値が２．０となる。
【００３０】
また無機ガスバリア層を形成する材料としては、珪素窒化物も好ましく用いられ、珪素原子数に対する窒素原子数の割合が１．０〜４／３のものが好ましく用いられる。
【００３１】
また本発明における無機ガスバリア層の厚みは５〜２００ｎｍであることが好ましい。無機ガスバリア層の厚みが５ｎｍより薄くなると良好なガスバリア性が得られず、無機ガスバリア層の厚みが２００ｎｍより厚くなると透明性、屈曲性、膜応力、コストの点で問題がある。
【００３２】
本発明の樹脂シートのガラス転移温度（Ｔｇ）は１７０℃以上であることが好ましく、より好ましくは１９０℃以上がよく、更に好ましくは２００℃以上がよい。樹脂シートのガラス転移温度（Ｔｇ）は１７０℃より小さい場合は、無機ガスバリア層の積層時に反りや変形するという問題が生じる。
【００３３】
本発明における樹脂シートの光透過率は８８％以上であることが好ましく、より好ましくは９０％以上がよく、更に好ましくは９１％以上がよい。光透過率が８８％未満であると、この樹脂シートを用いて液晶表示装置等の画像表示装置を組み立てた時の表示が暗くなり、表示品位が低下する。光透過率の測定方法は、高速分光光度計を用いてλ＝５５０ｎｍの透過率を測定する。
【００３４】
本発明においては、＃２０００のペーパーで裏面に深さ約１μｍの傷をつけた樹脂シートを表面無垢平板と２０ｍｍφの穴を有する平板の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を固定した後、正面垂直方向から樹脂シートが露出した２０ｍｍφのエリアの中心部分に１０ｍｍφのステンレス球を有する棒で荷重を加えていった時の樹脂シートの破断強度が６０Ｎ以上であることが好ましい。
【００３５】
破断強度の測定方法については、図１に基づいて説明する。まず約３０ｍｍ×３０ｍｍの大きさの樹脂シートを準備し、下方の表面無垢平板５と上方の２０ｍｍφの穴を有する平板４の間に挟んで水平方向に設置し、四隅を止め具３で固定する。表面無垢平板や２０ｍｍφの穴を有する平板の厚みは特に限定されないが、５ｍｍ〜３０ｍｍ程度のものを好ましく用いることができる。測定条件については、１０ｍｍφのステンレスよりなる球１を２０ｍｍφの穴の中央部に１００ｍｍ／ｍｉｎの速度で押し当てるように設定を行う。破断強度とは樹脂シートが破断した時の力のことである。
【００３６】
破断強度測定時の断面図を図２に例示する。樹脂シートを図１に例示の装置にセッティングする前に樹脂シートの下方面つまり表面無垢平面と接触する側を、＃２０００のペーパーで擦る必要がある。具体的には図３に例示のように約１５ｍｍ×１５ｍｍの範囲を＃２０００のペーパーで擦ることで、深さ約１μｍの傷をつけることができる。破断強度の測定は、傷の深さを表面粗さ計等で確認後、測定する必要がある。
【００３７】
本発明の樹脂シートは各種の用途に用いることができ、液晶セル基板やエレクトロルミネッセンスディスプレイ用基板や太陽電池用基板としても好ましく用いられる。
【００３８】
液晶表示装置は一般に、偏光板、液晶セル、反射板又はバックライト、及び必要に応じての光学部品等の構成部品を適宜に組み立てて駆動回路を組み込むことなどにより形成される。本発明においては、上記した樹脂シートを用いる点を除いて特に限定はなく、従来に準じて形成することができる。従って、本発明における液晶表示装置の形成に際しては、例えば視認側の偏光板の上に設ける光拡散板、アンンチグレア層、反射防止膜、保護層、保護板、あるいは液晶セルと視認側の偏光板の間に設ける補償用位相差板などの適宜な光学部品を前記樹脂シートに適宜に組み合わせることができる。
【００３９】
一般に、エレクトロルミネセンス表示装置は、透明基板上に透明電極と有機発光層と金属電極とを順に積層して発光体（有機エレクトロルミネセンス発光体）を形成している。ここで、有機発光層は、種々の有機薄膜の積層体であり、例えばトリフェニルアミン誘導体等からなる正孔注入層と、アントラセン等の蛍光性の有機固体からなる発光層との積層体や、あるいはこのような発光層とペリレン誘導体等からなる電子注入層の積層体や、またあるいはこれらの正孔注入層，発光層，および電子注入層の積層体等、種々の組み合わせをもった構成が知られている。
有機エレクトロルミネセンス装置は、透明電極と金属電極とに電圧を印加することによって、有機発光層に正孔と電子とが注入され、これら正孔と電子との再結合によって生じるエネルギーが蛍光物質を励起し、励起された蛍光物質が基底状態に戻るときに光を放射する、という原理で発光する。途中の再結合というメカニズムは、一般のダイオードと同様であり、このことからも予想できるように、電流と発光強度は印加電圧に対して整流性を伴う強い非線形性を示す。
有機エレクトロルミネセンス装置においては、有機発光層での発光を取り出すために、少なくとも一方の電極が透明でなくてはならず、通常酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）などの透明導電体で形成した透明電極を陽極として用いている。一方、電子注入を容易にして発光効率を上げるには、陰極に仕事関数の小さな物質を用いることが重要で、通常Ｍｇ−Ａｇ、Ａｌ−Ｌｉなどの金属電極を用いている。
このような構成の有機エレクトロルミネセンス装置において、有機発光層は、厚さ１０ｎｍ程度ときわめて薄い膜で形成されている。このため、有機発光層も透明電極と同様、光をほぼ完全に透過する。その結果、非発光時に透明基板の表面から入射し、透明電極と有機発光層とを透過して金属電極で反射した光が、再び透明基板の表面側へと出るため、外部から視認したとき、有機エレクトロルミネセンス装置の表示面が鏡面のように見える。
電圧の印加によって発光する有機発光層の表面側に透明電極を備えるとともに、有機発光層の裏面側に金属電極を備えてなる有機エレクトロルミネセンス発光体を含む有機ＥＬ装置において、透明電極の表面側に偏光板を設けるとともに、これら透明電極と偏光板との間に位相板を設けることができる。
位相板および偏光板は、外部から入射して金属電極で反射してきた光を偏光さる作用を有するため、その偏光作用によって金属電極の鏡面を外部から視認させないという効果がある。特に、位相板を１／４波長板で構成し、かつ偏光板と位相板との偏光方向のなす角をπ／４に調整すれば、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
すなわち、この有機エレクトロルミネセンス装置に入射する外部光は、偏光板により直線偏光成分のみが透過する。この直線偏光は位相板により一般に楕円偏光となるが、とくに位相板が１／４波長板でしかも偏光板と位相板との偏光方向のなす角がπ／４のときには円偏光となる。
この円偏光は、透明基板、透明電極、有機薄膜を透過し、金属電極で反射して、再び有機薄膜、透明電極、透明基板を透過して、位相板に再び直線偏光となる。そして、この直線偏光は、偏光板の偏光方向と直交しているので、偏光板を透過できない。その結果、金属電極の鏡面を完全に遮蔽することができる。
【００４０】
【実施例】
以下に実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例になんら限定されるものではない。
【００４１】
実施例１：（化２）の化学式で示される３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート２６．６部（重量部、以下同じ）、（化１）の化学式で示されるビスフェノールＳ型エポキシ樹脂２６．６部、（化３）の化学式で示されるメチルヘキサヒドロフタル酸無水物４５．８部、（化４）の化学式で示されるテトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエート１．０部を攪拌混合しエポキシ樹脂液を調整した。
【化２】
0003920688.tif 000003
【化３】
0003920688.tif 000004
【化４】
0003920688.tif 000005
【００４２】
流延法の製造工程に従い、まず（化５）の化学式で示されるウレタンアクリレートの１７重量％のトルエン溶液を、ダイよりステンレス製エンドレスベルトに走行速度０．５ｍ／分で流延塗布し、風乾してトルエンを揮発させた後、ＵＶ硬化装置を用いて硬化し、膜厚２．０μｍのハードコート層を形成した。続いて、前記エポキシ系樹脂液をダイよりハードコート層の上に０．３ｍ／分で流延塗布し、加熱装置を用いて硬化させ、膜厚４００μｍのエポキシ系樹脂層を形成した。
【化５】
0003920688.tif 000006
【００４３】
次にハードコート層、エポキシ系樹脂層からなる積層体をエンドレスベルトから剥離し、窒素置換により酸素濃度が０．５％の雰囲気下でガラス板上に１８０℃×０．５時間放置しアフターキュアを行った。
【００４４】
実施例２〜８、比較例１：エポキシ樹脂液を調製する過程において、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、３，４−エポキシシクロヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカルボキシレート、メチルヘキサヒドロフタル酸無水物、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムｏ，ｏ−ジエチルホスホロジチオエートの比率を表１のように変えた以外は実施例１と同様に樹脂シートを作成した。
【表１】
0003920688.tif 000007
【００４５】
評価試験：ガラス転移温度（℃）、光透過率（％）、破断強度（Ｎ）
ガラス転移温度（Ｔｇ）はレオメトリックサイエンティフィック社製  Ａｒｅｓを用いて測定し、ｔａｎδのピーク値をＴｇとした。
光透過率は高速分光光度計（村上色差ＤＯＴ−３）を用いてλ＝５５０ｎｍの透過率を測定した。
強度は島津製作所製  オートグラフを用いて、図１に例示の方法で樹脂シートが破断した時の力を測定した。表面無垢平板、２０ｍｍφの穴を有する平板の厚みはいずれも３０ｍｍであり、材質はいずれもステンレスであった。また♯２０００のペーパーで擦った後の裏面の傷の深さはランダムに５点粗さ計で測定したところいずれも１．０μｍであった。
塗工性については以下の判断基準で評価した。
○：４００ｍｍ×４００ｍｍの樹脂シートに塗工した時、４００μｍのシート厚みに対し、±１０％以内の厚みばらつきがみられる
△ ：４００ｍｍ×４００ｍｍの樹脂シートに塗工した時、４００μｍのシート厚みに対し、±１０％〜±２０％の厚みばらつきがみられる
×：４００ｍｍ×４００ｍｍの樹脂シートに塗工した時、４００μｍのシート厚みに対し、±２０％を超える厚みばらつきがみられる
【００４６】
前記の結果を表２に示した。
【表２】
0003920688.tif 000008
【００４７】
実施例１〜６においてエポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂を含み、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂の比率が３〜６０重量％の場合は、光透過率が高く、ガラス転移温度が高く、耐熱性と強靭性のバランスの良好である樹脂シートを得ることができた。
実施例７ではエポキシ樹脂層を塗工する時、塗工液の粘度が高く、塗工が困難であった。形成された樹脂シートは、ガラス転移温度が１７７℃であり、使用に耐えうるレベルではあるが若干低い値となった。
実施例８は光透過率とガラス転移温度は良好であったが、強度が３０Ｎと低く、強靭性の点で問題があった。
比較例１においてエポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含まない場合は、光透過率とガラス転移温度は良好であったが、強度が低く、運搬時や液晶表示装置組み立て時に樹脂シートが割れるという問題が生じた。
【００４８】
【発明の効果】
本発明の樹脂シートはエポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型骨格を有するエポキシ樹脂を含有しているため強度が高く、運搬時や液晶表示装置等の画像表示装置を組み立てる際に割れることがなく、生産効率を向上させることができる。またエポキシ樹脂層がビスフェノールＳ型エポキシ樹脂と脂環式エポキシ樹脂を同時に含有する場合は、耐熱性と強度の良好なバランスがとれており、しかも光透過率が高いので各種画像表示装置に好ましく用いられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】強度測定装置の斜視図
【図２】強度測定時の断面図
【図３】強度測定方法の説明図
【符号の説明】
１：１０ｍｍφのステンレス球
２：支持棒
３：止め具
４：２０ｍｍφの穴を有する平板
５：表面無垢平板
６：サンプル（樹脂シート）
７：ステンレス球が接触する部位
８：裏面に約１μｍの傷を有する部位
【図１】
0003920688.tif 000009
【図２】
0003920688.tif 000010
【図３】
0003920688.tif 000011