(57)【要約】【課題】２枚の板状体を当接させる転写装置および転写方法において、板状体の撓みに起因する位置ずれを抑えて、２つの板状体を位置精度よく当接させる。【解決手段】第１板状体ＳＢと第２板状体ＢＬとを当接させる。第２板状体ＢＬの下面に対し離当接可能に構成された支持部材４４１の上端を、第２板状体ＢＬの下面のうちローラ部材４３１が最初に当接する部分よりも第２板状体ＢＬの中心側の部分に当接させて、第２板状体ＢＬを下方から支持する。支持部材４４１が第２板状体ＢＬを支持した状態でローラ部材４３１が第２板状体ＢＬに当接して第２板状体ＢＬを第１板状体ＳＢに押し付け、ローラ部材４３１が、第２板状体ＢＬを第１板状体ＳＢに押し付けながら第２板状体ＢＬの下面に沿って移動する。【選択図】図８
2016132227.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１板状体を水平姿勢で保持する第１保持手段と、
第２板状体を、その周縁部を保持することで、前記第２板状体の上面が前記第１板状体の下面と近接対向するように、かつ前記第２板状体の下面のうち上面側が前記第１板状体と対向する下面中央部が開放された水平姿勢で保持する第２保持手段と、
前記第２板状体の下面に沿って延設されたローラ形状を有するローラ部材と、
前記第２板状体の下面に対し離当接可能に構成され、上端が前記第２板状体の下面に当接することで前記第２板状体を下方から支持する支持部材と
を備え、
前記ローラ部材が前記第２板状体から離間した状態で、前記第２板状体の下面のうち前記ローラ部材が最初に当接する部分よりも前記第２板状体の中心側の位置で、前記支持部材が前記第２板状体の下面に当接して前記第２板状体を支持し、
前記支持部材が前記第２板状体を支持した状態で、前記ローラ部材が前記第２板状体に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付け、前記ローラ部材が前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記第２板状体の下面に沿って移動する転写装置。
【請求項２】
前記第２保持手段は、上面が平坦で前記第２板状体の周縁部下面に当接して前記第２板状体を支持する支持面となって前記第２板状体の前記下面中央部に対応する中央部が開口する額縁状の支持ステージを有し、前記支持部材は、上面が前記支持ステージの前記支持面と同じ高さに位置して前記第２板状体を支持する請求項１に記載の転写装置。
【請求項３】
前記ローラ部材が前記第２板状体に当接し前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けた後、前記支持部材が前記第２板状体から離間し、その後に前記ローラ部材が前記第２板状体の下面に沿って移動する請求項１または２に記載の転写装置。
【請求項４】
前記支持部材は、前記ローラ部材の軸と平行な軸を有するローラ形状を有し、前記ローラ部材よりも下方位置で前記第２板状体の下面に当接しながら、前記支持部材と一体的に前記第２板状体の下面に沿って移動する請求項１または２に記載の転写装置。
【請求項５】
前記ローラ部材と前記支持部材とが一体的に前記第２板状体の下面に沿って移動する請求項１ないし３のいずれかに記載の転写装置。
【請求項６】
前記ローラ部材と前記支持部材とが、前記第２板状体の下面に沿って移動する同一の移動部材に取り付けられ、しかも、高さ方向における位置が互いに独立して変更可能である請求項４または５に記載の転写装置。
【請求項７】
前記支持部材は、前記ローラ部材の延設方向と平行な方向に延びる当接部位を上端に有する請求項１ないし３のいずれかに記載の転写装置。
【請求項８】
前記第２板状体の前記下面中央部に対して離当接自在に設けられた補助支持手段を備え、
前記補助支持手段は、前記ローラ部材の移動方向における前方位置で前記第２板状体の前記下面中央部に当接することで前記第２板状体を下方から支持し、前記ローラ部材の移動に伴って前記第２板状体から離間して前記ローラ部材を通過させる請求項１ないし７のいずれかに記載の転写装置。
【請求項９】
前記補助支持手段は、各々が前記第２板状体の下面に部分的に当接して前記第２板状体を支持する複数の補助支持部材を有する請求項８に記載の転写装置。
【請求項１０】
前記第１板状体と前記第２板状体との間のギャップ量を検出するギャップ検出手段を備え、前記支持部材の高さが、前記ギャップ検出手段により検出される前記ギャップ量に基づき設定される請求項１ないし９のいずれかに記載の転写装置。
【請求項１１】
前記第１保持手段は、前記第１板状体の上面に当接する平坦な当接面を有する請求項１ないし１０のいずれかに記載の転写装置。
【請求項１２】
水平方向における前記第１保持手段と前記第２保持手段との相対位置を変化させるアライメント手段を備える請求項１ないし１１のいずれかに記載の転写装置。
【請求項１３】
第１板状体を水平姿勢で保持するとともに、第２板状体の周縁部を保持して、前記第２板状体の上面が前記第１板状体の下面と近接対向するように、かつ前記第２板状体の下面のうち上面側が前記第１板状体と対向する下面中央部が開放された水平姿勢で前記第２板状体を保持する保持工程と、
前記第２板状体の下面に沿って延設されたローラ形状を有するローラ部材を、前記第２板状体から離間した位置に配置するローラ配置工程と、
前記第２板状体の下面に対し離当接可能に構成された支持部材の上端を、前記第２板状体の下面のうち前記ローラ部材が最初に当接する部分よりも前記第２板状体の中心側の部分に当接させて、前記第２板状体を下方から支持する支持工程と、
前記支持部材が前記第２板状体を支持した状態で前記ローラ部材が前記第２板状体に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付け、前記ローラ部材が、前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記第２板状体の下面に沿って移動する転写工程と
を備える転写方法。
【請求項１４】
前記転写工程では、前記ローラ部材が前記第２板状体に当接し前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けた後、前記支持部材が前記第２板状体から離間し、その後に前記ローラ部材が前記第２板状体の下面に沿って移動する請求項１３に記載の転写方法。
【請求項１５】
前記転写工程では、前記支持部材が前記ローラ部材と一体的に前記第２板状体の下面に沿って移動する請求項１３または１４に記載の転写方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、２枚の板状体を当接させて、一方の板状体から他方の板状体に被転写物を転写する転写装置および転写方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
ガラス基板や半導体基板などの板状体にパターンや薄膜を形成する技術として、２枚の板状体を互いに当接させて、一方の板状体の主面に担持されたパターンや薄膜等の被転写物を他方の板状体に転写するものがある。例えば本願出願人が先に開示した特許文献１に記載の技術では、表面にパターンを担持するブランケットと基板とを対向配置し、長尺のローラ部材によりブランケットを押し上げて基板に当接させる。そして、ブランケットを押し上げながらローラ部材がブランケットに沿って移動することにより、パターンがブランケットから基板に転写される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開２０１４−１４４６２８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
このように、水平姿勢に保持された２枚の板状体をローラ部材による押し付けにより当接させる技術では、ローラ部材を当接させるために、下側に位置する板状体の下面中央部を開放した状態で保持する必要がある。しかしながら、このような保持態様では、板状体が自重により下方へ撓むことで他方の板状体との間で位置ずれが生じ、被転写物の転写位置を精度よく制御することが困難である。特に近年、板状体のサイズの大型化に伴ってその自重も大きくなり、このような問題が顕著なものとなってきている。
【０００５】
この発明は上記課題に鑑みなされたものであり、２枚の板状体を当接させる転写装置および転写方法において、板状体の撓みに起因する位置ずれを抑えて、２つの板状体を位置精度よく当接させることのできる技術を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
この発明の一の態様は、上記目的を達成するため、第１板状体を水平姿勢で保持する第１保持手段と、第２板状体を、その周縁部を保持することで、前記第２板状体の上面が前記第１板状体の下面と近接対向するように、かつ前記第２板状体の下面のうち上面側が前記第１板状体と対向する下面中央部が開放された水平姿勢で保持する第２保持手段と、前記第２板状体の下面に沿って延設されたローラ形状を有するローラ部材と、前記第２板状体の下面に対し離当接可能に構成され、上端が前記第２板状体の下面に当接することで前記第２板状体を下方から支持する支持部材とを備え、前記ローラ部材が前記第２板状体から離間した状態で、前記第２板状体の下面のうち前記ローラ部材が最初に当接する部分よりも前記第２板状体の中心側の位置で、前記支持部材が前記第２板状体の下面に当接して前記第２板状体を支持し、前記支持部材が前記第２板状体を支持した状態で、前記ローラ部材が前記第２板状体に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付け、前記ローラ部材が前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記第２板状体の下面に沿って移動する転写装置である。
【０００７】
また、この発明の他の態様は、上記目的を達成するため、第１板状体を水平姿勢で保持するとともに、第２板状体の周縁部を保持して、前記第２板状体の上面が前記第１板状体の下面と近接対向するように、かつ前記第２板状体の下面のうち上面側が前記第１板状体と対向する下面中央部が開放された水平姿勢で前記第２板状体を保持する保持工程と、前記第２板状体の下面に沿って延設されたローラ形状を有するローラ部材を、前記第２板状体から離間した位置に配置するローラ配置工程と、前記第２板状体の下面に対し離当接可能に構成された支持部材の上端を、前記第２板状体の下面のうち前記ローラ部材が最初に当接する部分よりも前記第２板状体の中心側の部分に当接させて、前記第２板状体を下方から支持する支持工程と、前記支持部材が前記第２板状体を支持した状態で前記ローラ部材が前記第２板状体に当接して前記第２板状体を前記第１板状体に押し付け、前記ローラ部材が、前記第２板状体を前記第１板状体に押し付けながら前記第２板状体の下面に沿って移動する転写方法である。
【０００８】
上記のように構成された発明では、ローラ部材が第２板状体を第１板状体に押し付けながら移動することで、第１板状体と第２板状体とを密着させる。ここで、ローラ部材が第２板状体に当接するよりも前に、ローラ部材よりも第２板状体の中心に近い側で支持部材が第２板状体の下面に当接することで、第２板状体が支持される。この状態からローラ部材が第２板状体に当接してこれを第１板状体に押し付ける。
【０００９】
下面中央部が開放され周縁部が保持された第２板状体は、自重によりその中央部が下方に撓み込む。これにより、第２板状体各部の水平方向位置は、平坦な姿勢で保持されている状態に比べると第２板状体の中心側に向かってずれる傾向にある。このことが２つの板状体間の位置ずれを生じ、被転写物の転写位置がずれる原因となる。
【００１０】
本願発明者らの知見によれば、この転写位置のずれ量は第１板状体と第２板状体とが最初に当接する領域での位置ずれ量によってほぼ決まる。言い換えれば、第１板状体と第２板状体とが最初に当接する領域での位置ずれを十分小さく抑えることで、転写範囲全体で位置ずれを抑制することが可能となる。
【００１１】
そこで、本発明では、第２板状体へのローラ部材の当接よりも先に、ローラ部材よりも第２板状体の中心側で支持部材が第２板状体に当接することで、第２板状体を下方から支持する。したがって、支持部材と第２板状体の周縁部を支持する第２保持手段とにより、ローラ部材と最初に当接する位置を挟む両側で第２板状体を支持することとなる。このため、ローラ部材が最初に当接する位置では第２板状体の撓みが小さくなっており、水平方向への位置ずれも抑制される。この状態でローラ部材が第２板状体に当接し第１板状体に押し付け密着させることにより、以後のローラ部材の走行によっても、第１板状体と第２板状体との水平方向の位置ずれが増大することが抑えられる。結果として、転写範囲の全体において転写位置のずれが抑制される。
【発明の効果】
【００１２】
上記のように、本発明によれば、第２板状体のうち最初にローラ部材と当接する部分の両側を第２保持手段と支持部材とで支持することにより第２板状体の撓みが抑制される。こうして水平方向の位置ずれが抑えられた状態でローラ部材が第２板状体を第１板状体に押し付けることにより、以後のローラ部材の走行における位置ずれの増大も抑えられる。その結果、２つの板状体を位置精度よく当接させることができ、被転写物を所定の転写位置に精度よく転写することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】この発明にかかる転写装置の一実施形態を模式的に示す側面図である。
【図２】この転写装置の主要部の構成を示す図である。
【図３】転写ローラブロックを示す図である。
【図４】転写ローラブロックと昇降ハンドユニットとの位置関係を示す図である。
【図５】ブランケットの撓みの問題を説明するための図である。
【図６】ブランケットの撓みと転写位置ずれとの関係を示す図である。
【図７】この転写装置による転写処理を示すフローチャートである。
【図８】転写処理の過程における各部の位置を模式的に示す第１の図である。
【図９】転写処理の過程における各部の位置を模式的に示す第２の図である。
【図１０】リフタユニットの変形例を示す図である。
【図１１】リフタユニットの他の変形例を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図１はこの発明にかかる転写装置の一実施形態を模式的に示す側面図である。また、図２はこの転写装置の主要部の構成を示す図である。各図における方向を統一的に示すために、図１に示すようにＸＹＺ直交座標軸を設定する。ここでＸＹ平面が水平面、Ｚ軸が鉛直軸を表す。より詳しくは、（＋Ｚ）方向が鉛直上向き方向を表している。
【００１５】
この転写装置１は、図示しないメインフレームに上ステージブロック２、下ステージブロック３および転写ローラブロック４が取り付けられた構造を有している。また、転写装置１は上記以外に、予め記憶された処理プログラムに従い装置各部を制御して所定の動作を実行する制御ユニット９を有している。
【００１６】
最初に装置１の全体構成を説明する。なお、上ステージブロック２および下ステージブロック３の細部の構造については、例えば前記した特許文献１（特開２０１４−１４４６２８号公報）に記載されたものを用いることが可能であり、ここではその概要のみを説明する。
【００１７】
転写装置１は、下ステージブロック３により保持されたブランケットＢＬと、上ステージブロック２により保持された版ＰＰまたは基板ＳＢとを互いに当接させることでパターン形成を行う装置である。この装置１によるパターン形成プロセスは、より具体的には以下の通りである。まず、パターン形成材料が一様に塗布されたブランケットＢＬに対して、形成すべきパターンに対応して作成された版ＰＰを当接させることにより、ブランケットＢＬに担持された塗布層をパターニングする（パターニング処理）。そして、こうしてパターニングされたブランケットＢＬと基板ＳＢとを当接させることで、ブランケットＢＬに担持されたパターンを基板ＳＢに転写する（転写処理）。これにより、基板ＳＢに所望のパターンが形成される。
【００１８】
このように、この転写装置１は基板ＳＢに所定のパターンを形成するパターン形成プロセスにおけるパターニング処理および転写処理の両方に使用することが可能であるが、これらの処理の一方のみを受け持つ態様で用いられてもよい。また、ブランケットＢＬに担持された薄膜を基板ＳＢに転写する目的にも使用可能である。以下、ブランケットＢＬ表面に形成されたパターンまたは薄膜を基板ＳＢに転写する転写処理を前提として装置の構成および動作について説明するが、基板ＳＢを版ＰＰに読み換えることにより、パターニング処理における動作も説明される。
【００１９】
上ステージブロック２は、下面が平坦な基板保持面２１ａとなった上ステージ２１を備えている。上ステージ２１は、Ｙ方向に延びる梁部材２２の下部に取り付けられて、梁部材２２により基板保持面２１ａが水平姿勢となるように保持されている。梁部材２２は、Ｙ方向に離隔して配置された１対のステージ昇降機構２３，２３により鉛直方向（Ｚ方向）に昇降自在に保持されている。これにより、上ステージ２１はＺ方向に移動可能となっている。
【００２０】
この実施形態では、ステージ昇降機構２３の一例としてボールねじ機構が用いられるが、これに限定されるものではない。ステージ昇降機構２３は、支持部材２３１，２３２によりメインフレームに対し回転自在に支持されたボールねじ２３３と、これを回転させるモータ２３４と、ボールねじ２３３に取り付けられたナット部２３５とを備えている。ボールねじ２３３とモータ２３４とはカップリング２３６を介して連結されている。モータ２３４は制御ユニット９に設けられたステージ昇降制御部９１によって制御され、ステージ昇降制御部９１からの制御信号に応じてモータ２３４が回転することで上ステージ２１が昇降する。
【００２１】
図には現れないが、上ステージ２１の下面（基板保持面）２１ａには吸着溝または吸着孔が設けられており、制御ユニット９に設けられた吸着制御部９２から負圧が必要に応じて供給される。これにより、上ステージ２１は、基板保持面２１ａに当接する基板ＳＢの上面を吸着保持することができる。基板保持面２１ａの平面サイズは保持すべき基板ＳＢのサイズより少し小さく形成されている。
【００２２】
このように構成された上ステージブロック２により、基板ＳＢが水平姿勢に保持される。基板ＳＢは、パターンまたは薄膜が転写されるべき被転写面が下向きとなるように装置１に搬入される。また、ステージ昇降機構２３が上ステージ２１を昇降させることにより、次に説明する下ステージに保持されるブランケットＢＬと基板ＳＢとの間のギャップが規定の値に調整される。
【００２３】
下ステージブロック３は、上ステージ２１の下方に配置され、中央部に開口部３１１が設けられ上面が平坦かつ水平なブランケット保持面３１ａとなった下ステージ３１を備えている。下ステージ３１は複数の支柱３２により支持されている。下ステージ３１の平面サイズは保持すべきブランケットＢＬのサイズより大きく、また開口部３１１の開口サイズは基板ＳＢの平面サイズより大きい。これにより、ブランケットＢＬはその周縁部のみが下ステージ３１に当接し、中央部は下面が開放された状態で、下ステージ３１に保持される。下ステージ３１の上面（ブランケット保持面）３１ａのうちブランケットＢＬと当接する領域に、吸着溝３１２が設けられている。吸着溝３１２には制御ユニット９の吸着制御部９２から負圧が必要に応じて供給される。これにより、ブランケットＢＬが下ステージ３１上に吸着保持される。ブランケットＢＬは、基板ＳＢに転写すべきパターンまたは薄膜を担持する担持面を上向きにして水平姿勢に保持される。
【００２４】
下ステージ３１を保持する支柱３２はアライメントステージ３６に取り付けられており、アライメントステージ３６は複数のアライメント機構３７を介してメインフレームに取り付けられている。アライメント機構３７は、例えばクロスローラベアリング機構を有し、制御ユニット９に設けられたアライメント制御部９４からの制御信号に応じてアライメントステージ３６を水平方向（ＸＹ方向）およびＺ軸周りのθ方向に移動させる。これにより、下ステージ３１が水平面（ＸＹ平面）内で移動し、上ステージ２１に保持された基板ＳＢと下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬとの水平方向における相対位置が最適化される。
【００２５】
下ステージブロック３はさらに、Ｘ方向に間隔を空けて向かい合うように設けられた１対の昇降ハンドユニット３３，３４を備えている。昇降ハンドユニット３３と昇降ハンドユニット３４とは、ＹＺ平面に対して互いに対称な形状を有しているが、これらの構造は基本的に同一である。
【００２６】
昇降ハンドユニット３３は、下ステージ３１の開口部３１１に臨んでＹ方向に沿って順に設けられた複数本（ここでは一例として４本）の昇降ハンド３３１，３３２，３３３，３３４と、これらの昇降ハンドを個別に昇降させる駆動部３３５とを備えている。同様に、昇降ハンドユニット３４は、下ステージ３１の開口部３１１に臨んでＹ方向に沿って順に設けられた昇降ハンド３４１，３４２，３４３，３４４と、これらの昇降ハンドを個別に昇降させる駆動部３４５とを備えている。駆動部３３５，３４５は制御ユニット９に設けられたハンド昇降制御部９３により制御されており、ハンド昇降制御部９３からの制御信号に応じて各昇降ハンドの鉛直方向位置を個別に制御する。
【００２７】
各昇降ハンドは、その上面が下ステージ３１の基板保持面３１ａと同一平面となる位置に位置決めされることで、下面が開放された状態で下ステージ３１に保持されるブランケットＢＬの中央部下面を補助的に支持する。これにより、ブランケットＢＬの撓みを抑えて平坦に支持することができる。また、必要に応じて下方に退避することで、次に説明する転写ローラの走行との干渉を回避する。
【００２８】
転写ローラブロック４は、ローラユニット４３およびリフタユニット４４を備えており、これらのユニット４３，４４はプレート部材４５の上面に取り付けられている。プレート部材４５は、ローラ走行駆動部５を介してメインフレームに取り付けられている。ローラ走行駆動部５は、下ステージ３１の下方でメインフレームに固定され、Ｙ方向に延びるガイドレール５１と、ガイドレール５１に沿って設けられたボールねじ機構５２とを備え、ボールねじ機構５２のナット部５２５にプレート部材４５が取り付けられている。
【００２９】
図３は転写ローラブロックを示す図である。より具体的には、図３（ａ）は転写ローラブロック４およびローラ走行駆動部５の構造を示す斜視図であり、図３（ｂ）は転写ローラブロック４とブランケットＢＬとの位置関係を示す図である。転写ローラブロック４を支持するローラ走行駆動部５では、ガイドレール５１に沿ってボールねじ機構５２が設けられている。より具体的には、ガイドレール５１の両端近傍に設けられた支持部材５２１，５２２によりボールねじ５２３が支持されており、ボールねじ５２３はカップリング５２６を介してモータ５２４により回転される。ボールねじ５２３にはナット部５２５が取り付けられている。モータ５２４が回転することにより、ナット部５２５がガイドレール５１に沿ってＹ方向に水平移動する。これに伴い、ナット部５２５により支持された転写ローラブロック４がＹ方向に水平移動する。
【００３０】
転写ローラブロック４に設けられたローラユニット４３は、Ｘ方向を長手方向とするローラ形状に形成された転写ローラ４３１を備えている。転写ローラ４３１は、支持部材４３２により、Ｘ方向と平行な回転軸周りに回転自在に支持されている。転写ローラ４３１の表面は弾性体、例えばゴム素材により形成されており、Ｘ方向における転写ローラ４３１の長さは基板ＳＢのＸ方向長さよりも長い。
【００３１】
支持部材４３２のＸ方向における中央部から下方に向けてアーム４３３が延びている。アーム４３３は、転写ローラ４３１を昇降させるローラ昇降機構４３４に取り付けられている。ローラ昇降機構４３４の構造は特に限定されないが、例えばエアシリンダ、ソレノイドやボールねじ機構などを用いることができる。ローラ昇降機構４３４は制御ユニット９に設けられたローラ昇降制御部９５により制御されており、ローラ昇降制御部９５からの制御信号に応じてローラ昇降機構４３４が作動することにより、転写ローラ４３１がプレート部材４５に対し鉛直方向（Ｚ方向）に昇降する。
【００３２】
図３（ｂ）に示すように、転写ローラ４３１は、ローラ昇降機構４３４の作動により、下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬの下方に退避しローラ上端がブランケットＢＬから離間した、実線で示す退避位置と、ローラ上端がブランケットＢＬ下面に当接して押し上げる、点線で示す押圧位置との間を昇降移動可能となっている。
【００３３】
リフタユニット４４は、ＸＺ平面に平行でＸ方向を長手方向として延びる平板状のリフタブレード４４１を備えている。リフタブレード４４１はその上面４４１ａが平坦に仕上げられており、プレート部材４５に取り付けられたリフタ昇降機構により昇降自在に支持されている。具体的には、プレート部材４５に立設されたフレーム４４２にボールねじ４４３が取り付けられており、ボールねじ４４３に取り付けられたナット部４４４にリフタブレード４４１が固定されている。ボールねじ４４３はカップリング４４７を介して連結されたモータ４４５の作動により回転し、これによりナット部４４４が鉛直方向（Ｚ方向）に昇降して、リフタブレード４４１を昇降させる。
【００３４】
モータ４４５は制御ユニット９に設けられたリフタ昇降制御部９６により制御されている。リフタ昇降制御部９６からの制御信号に応じてモータ４４５が回転することで、リフタブレード４４１が昇降移動する。このように、フレーム４４２、ボールねじ４４３、ナット部４４４、モータ４４５およびカップリング４４７がボールねじ機構を構成しており、該ボールねじ機構がリフタ昇降機構として機能している。なおリフタ昇降機構としてはこのようなボールねじ機構によるものに限定されず、各種方式の駆動機構を用いることができる。
【００３５】
図３（ｂ）に示すように、リフタブレード４４１は、リフタ昇降機構の作動により、下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬの下方に退避しブランケットＢＬから離間した、実線で示す退避位置と、上面４４１ａがブランケットＢＬ下面に当接する、点線で示す当接位置との間を昇降移動可能となっている。リフタブレード４４１は転写ローラ４３１とは独立して昇降可能である。当接位置においては、リフタブレード４４１の上面４４１ａは下ステージ３１の上面３１ａとほぼ同じＺ方向高さに位置決めされる。したがって、リフタブレード４４１が当接位置にあるとき、リフタブレード４４１の上面４４１ａと下ステージ３１の上面３１ａとは同一水平面内に位置することになる。これにより、下ステージ３１とリフタブレード４４１とが下面に当接するブランケットＢＬは水平姿勢に支持される。
【００３６】
リフタブレード４４１の側面のＸ方向における中央付近に、ギャップセンサ４４６が取り付けられている。ギャップセンサ４４６は基板ＳＢの下面とブランケットＢＬの上面との間のギャップを測定するものであり、例えば光干渉式の距離検出器を用いることができる。なお、この例ではギャップセンサ４４６はリフタブレード４４１とともに昇降するがこのことは必須でなく、転写ローラ４３１の近傍で基板ＳＢの下面とブランケットＢＬの上面との間のギャップを測定することができれば足りる。したがって、例えばプレート部材４５やフレーム４４２にギャップセンサが取り付けられてもよく、また上ステージ２１に設けられてもよい。
【００３７】
このような構成を有するローラユニット４３およびリフタユニット４４は共にプレート部材４５に取り付けられて、モータ５２４の回転により一体的にＹ方向に移動する。モータ５２４は制御ユニット９に設けられたローラ走行制御部９７により制御されている。ローラ走行制御部９７からの制御信号に応じてモータ５２４が回転すると、ボールねじ機構５２のナット部５２５がガイドレール５１に沿ってＹ方向に移動し、ナット部５２５の移動に伴ってローラユニット４３およびリフタユニット４４が移動する。その結果、ローラユニット４３に設けられた転写ローラ４３１が、ブランケットＢＬ下面に沿ってＹ方向に走行する。このように、ガイドレール５１およびボールねじ機構５２は、転写ローラ４３１をＹ方向に走行させるローラ走行機構としての機能を有する。なお、後述するように、転写ローラブロック４がＹ方向に移動するとき、転写ローラ４３１はブランケットＢＬの下面に当接する一方、リフタブレード４４１はブランケットＢＬの下面から離間している。
【００３８】
このように、転写ローラ４３１は、ローラ昇降機構によるＺ方向の昇降動作と、ローラ走行機構によるＹ方向の走行動作とが可能となっている。また、リフタブレード４４１は、リフタ昇降機構によるＺ方向の昇降動作と、ローラ走行機構によるＹ方向の走行動作とが可能となっている。転写ローラ４３１（ローラユニット４３）およびリフタブレード４４１（リフタユニット４４）がＹ方向に走行するとき、昇降ハンドユニット３３，３４に設けられた各昇降ハンド３３１等とローラユニット４３、リフタユニット４４との干渉は以下のようにして回避されている。なお、以下では昇降ハンドユニット３３，３４に設けられた１対の昇降ハンド３３１，３４１とローラユニット４３との位置関係を例として説明するが、他の昇降ハンドについても同様である。
【００３９】
図４は転写ローラブロックと昇降ハンドユニットとの位置関係を示す図である。より具体的には、図４（ａ）および図４（ｂ）はそれぞれ、転写ローラブロック４および昇降ハンドユニット３３，３４をＹ方向およびＸ方向に見た図である。図に示すように、ローラユニット４３およびリフタユニット４４は、転写ローラ４３１が下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬの下面に沿うように、Ｙ方向に移動する。Ｘ方向において、対向配置された昇降ハンド３３１，３４１の先端同士は離隔しており、これらの間隙を通ってローラユニット４３のアーム４３３、ローラ昇降機構４３４およびリフタユニット４４のリフタ昇降機構（フレーム４４２、ボールねじ４４３、ナット部４４４、モータ４４５およびカップリング４４７）が走行する。したがって、ローラ昇降機構と昇降ハンド３３１，３４１との干渉は構造的に回避されている。
【００４０】
一方、昇降ハンド３３１，３４１がブランケットＢＬ下面に当接または近接した状態では、これらの昇降ハンド３３１，３４１と、転写ローラ４３１、支持部材４３２およびリフタブレード４４１との接触が生じ得る。この問題に対しては、昇降ハンド３３１，３４１が一体的に、その上面がリフタブレード４４１および支持部材４３２の下面よりも下方位置となるまで下降することにより対応する。すなわち、ローラユニット４３のＹ方向への走行に同期して、昇降ハンドユニット３３，３４が各昇降ハンド３３１（３４１），３３２（３４２）等を順次下方へ退避させる。これにより、転写ローラ４３１、支持部材４３２およびリフタブレード４４１は昇降ハンド３３１等の上部を通過することとなり、ローラユニット４３およびリフタユニット４４と昇降ハンド３３１等との干渉が回避される。
【００４１】
従来技術（特開２０１４−１４４６２８号公報）の転写装置と比較すると、本実施形態ではリフタユニット４４が新設されている。このような構成とした理由は、次に説明するように、転写ローラ４３１が最初にブランケットＢＬに当接するときのブランケットＢＬの撓みを抑制することで、パターン等の転写位置を精度よく制御するためである。
【００４２】
図５はブランケットの撓みの問題を説明するための図である。より具体的には、図５（ａ）は下ステージ３１および昇降ハンド３３１等により支持されるブランケットＢＬを示す上面図であり、図５（ｂ）はブランケットＢＬの撓み量を模式的に示す図である。図５（ａ）に示すように、この転写装置１では、中央部が基板ＳＢに対応する開口部３１１となった額縁状の下ステージ３１の上面３１ａにブランケットＢＬが載置される。ブランケットＢＬの周縁部が下ステージ３１の上面３１ａに当接し、吸着保持される。
【００４３】
そして、周縁部より内側の中央部の下面が開放状態となったブランケットＢＬに対し、昇降ハンド３３１〜３３４，３４１〜３４４が下面から当接することにより、ブランケットＢＬが水平姿勢に支持される。しかしながら、ブランケットＢＬの中央部は支持ハンド３３１等により部分的に支持されているにすぎないため、支持されていない部分の下方への撓みが不可避的に発生する。特に、大判の基板に対応する平面サイズの大きなブランケットＢＬにおいて、このような問題が顕著となる。転写処理の原理上、平面サイズが増大してもブランケットＢＬの厚さを増加させることは難しいからである。
【００４４】
本願発明者は、下ステージ３１および昇降ハンド３３１等により支持されるブランケットＢＬの鉛直方向（Ｚ方向）の変位量を、Ｙ方向の種々の位置において計測した。その結果、昇降ハンド３３１〜３３４による支持を受ける直線Ｌ１上では、図５（ｂ）に実線で示すように、昇降ハンド３３１等の位置では変位が見られないが、昇降ハンド３３１等から離れた位置で変位が大きくなり、ブランケットＢＬが下方へ撓んでいることが示されている。ただし変位量は小さい。
【００４５】
一方、Ｘ方向におけるブランケットＢＬのほぼ中心を通る直線Ｌ２上では、ブランケットＢＬの中央部に向かって撓み量が大きくなっている。このとき、転写ローラ４３１が最初に当接するブランケットＢＬの領域Ｒ１に対応する位置Ｙ１における撓み量Ｚ１は比較的小さいが、中央部分において撓み量Ｚ２が特に大きくなる。
【００４６】
実験的に、Ｘ方向に並べられて対をなす昇降ハンド３３１，３４１等をそれぞれ一体形成してＸ方向に連続するハンドで支持するようにして直線Ｌ２上で撓みを計測したケースでは、図５（ｂ）に点線で示すように、撓み量が大きく低減された。
【００４７】
このとき、直線Ｌ１上での計測結果より変位量が大きくなっている。これは、直線Ｌ１の位置は下ステージ３１の（＋Ｘ）側の辺に近いため、ブランケットＢＬは昇降ハンド３３１〜３３４による支持と下ステージ３１（の１辺）による支持とを受けることができるのに対し、ブランケットＢＬ中央部では下ステージ３１による支持が及んでいないためと推定される。
【００４８】
このように、各々がブランケットＢＬの下面に部分的に当接する複数の昇降ハンド３３１等を設けた場合でも、このような部材による支持を受けていない部分ではブランケットＢＬの撓みが生じる。特に、転写ローラ４３１を当接させるためにブランケットＢＬ下面を開放しておく必要があることから、転写ローラ４３１の直上位置を支持することができず、この部分での撓みを低減することが難しい。
【００４９】
図６はブランケットの撓みと転写位置ずれとの関係を示す図である。この転写装置１では、図６（ａ）に示すように、基板ＳＢとブランケットＢＬとを平行に近接対向させた状態で転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押し上げ基板ＳＢに押し付けることで、ブランケットＢＬ上のパターンＰＴを基板ＳＢに転写する。基板ＳＢへのパターン転写位置を適正に保つために、アライメント機構３７によるアライメント動作が実行される。
【００５０】
しかしながら、ブランケットＢＬが下方へ撓んでいるとき、図６（ｂ）に示すように、ブランケットＢＬの周縁部は中央部に向かって引き込まれるように変位している。これに起因して、ブランケットＢＬ表面のある一点Ｐは、図６（ｂ）に点線で示す撓みのない状態と比べてＹ方向にΔＹだけ変位した位置にある。転写ローラ４３１はブランケットＢＬを真上へ押し上げるため、点Ｐは本来の位置よりΔＹだけずれた状態で基板ＳＢと当接することになる。本願発明者の知見によれば、基板ＳＢとブランケットＢＬとがいったん当接すると両者がパターンＰＴを介して強く密着するため、転写ローラ４３１が水平方向に移動しても基板ＳＢとブランケットＢＬとの水平方向の相対位置はほとんど変化しない。
【００５１】
したがって、転写位置のずれ量、つまりブランケットＢＬの撓みに起因する基板ＳＢとの間の位置ずれ量は、転写ローラ４３１が最初に当接する位置におけるブランケットＢＬの位置ずれ量によってほぼ決まるということができる。言い換えれば、転写ローラ４３１が最初に当接するときのブランケットＢＬの位置ずれを抑え込むことができれば、基板ＳＢ全体における転写位置ずれを抑制することができる。転写ローラ４３１が最初に当接することになる、転写ローラ４３１の直上位置におけるブランケットＢＬの撓み量ΔＺを小さくすることにより、水平方向における位置ずれも小さくすることができる。
【００５２】
前記したように、ブランケットＢＬの中央部における支持態様により撓み量は変化する。そこで、この実施形態では、図６（ｃ）に示すように、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接するのに先立って、転写ローラ４３１よりもブランケットＢＬの中央部に近い（＋Ｙ）側の位置でリフタブレード４４１をブランケットＢＬ下面に当接させる。これにより下方に撓むブランケットＢＬを押し上げて水平姿勢に維持するようにしている。こうすることで、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに当接する時のブランケットＢＬの撓みを小さくして、基板ＳＢとブランケットＢＬとの当接位置のＹ方向へのずれを小さくすることができる。
【００５３】
リフタブレード４４１によりブランケットＢＬを支持した状態で転写ローラ４３１をブランケットＢＬに当接させることで、リフタユニット４４を設けない従来技術に比べて、基板ＳＢにおけるパターンＰＴの転写位置ずれを半分以下に抑えることができた。
【００５４】
リフタブレード４４１は下方へ撓んだブランケットＢＬを水平状態に戻すためのものであり、それ以上にブランケットＢＬを上昇させるものではない。したがって、リフタブレード４４１は、ブランケットＢＬを支持する際、その上面４４１ａが下ステージ３１の上面３１ａとほぼ同一水平面となってブランケットＢＬ下面に当接する当接位置に位置決めされる。
【００５５】
鉛直方向におけるリフタブレード４４１の位置決め制御については、機械的な突き当てや事前のティーチング作業等により上面４４１ａが下ステージ３１の上面３１ａと同一高さとなるように位置出しを行ってもよい。また、上ステージ２１と下ステージ３１とは基板ＳＢとブランケットＢＬとが所定ギャップを隔てて対向するように間隔調整される。このことから、ギャップセンサ４４６により検出される転写ローラ４３１近傍位置での基板ＳＢとブランケットＢＬとのギャップが所定ギャップ量となるようにリフタ昇降制御部９６がリフタブレード４４１の高さを制御することにより、間接的にリフタブレード４４１と下ステージ３１との高さ方向における位置合わせを行うことも可能である。以下に説明する動作ではギャップセンサ４４６の出力が用いられるものとする。
【００５６】
次に、上記のように構成された転写装置１による転写処理について説明する。前述の通り、ここではブランケットＢＬから基板ＳＢにパターンまたは薄膜を転写する転写処理について説明するが、基板ＳＢを版ＰＰに読み換えることにより、パターニング処理における動作も説明される。
【００５７】
図７はこの転写装置による転写処理を示すフローチャートである。また、図８および図９は転写処理の過程における各部の位置を模式的に示す図である。転写処理では、最初に、パターンまたは薄膜を転写されるべき基板ＳＢが装置に搬入され、上ステージ２１にセットされる（ステップＳ１０１）。上ステージ２１は、パターンまたは薄膜が転写される被転写面を下向きにして基板ＳＢを吸着保持する。続いて、基板ＳＢに転写すべきパターンまたは薄膜を担持するブランケットＢＬが装置に搬入され、下ステージ３１にセットされる（ステップＳ１０２）。下ステージ３１は、パターンまたは薄膜を担持する担持面を上向きにしてブランケットＢＬを吸着保持する。
【００５８】
次に、装置各部が所定の初期位置に位置決めされる（ステップＳ１０３）。図８（ａ）は各部の初期位置を示している。上ステージ２１および下ステージ３１は、基板ＳＢとブランケットＢＬとが所定のギャップを隔てて平行に対向するよう互いに近接対向される。また、昇降ハンド３３１等はその上面が下ステージ３１の上面と同一平面となる位置まで上昇し、ブランケットＢＬの下面に当接してブランケットＢＬを水平姿勢に支持する。転写ローラ４３１は、Ｙ方向における基板ＳＢの一方端部の直下位置で、かつブランケットＢＬの下面から下方へ離間した退避位置に位置決めされる。リフタブレード４４１も、転写ローラ４３１の（＋Ｙ）側隣接位置で、ブランケットＢＬ下面から離間した退避位置にある。続いて、基板ＳＢとブランケットＢＬとの水平方向位置を調整するアライメント処理が行われる（ステップＳ１０４）。すなわち、水平方向においてブランケットＢＬに担持されたパターンＰＴまたは薄膜と基板ＳＢとが予め定められた位置関係となるように、アライメント機構３７が必要に応じアライメントステージ３６を水平面内で移動させる。
【００５９】
この状態から、図８（ｂ）に示すように、リフタブレード４４１が当接位置まで上昇し、ブランケットＢＬの下面に当接してこれを支持する（ステップＳ１０５）。続いて、転写ローラ４３１が上昇してブランケットＢＬ下面に当接した後さらに上昇してブランケットＢＬを上向きに押圧する（ステップＳ１０６）。リフタブレード４４１によりブランケットＢＬを支持した状態で転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押圧することにより、基板ＳＢとの水平方向における位置ずれが小さく抑えられる。
【００６０】
転写ローラ４３１がブランケットＢＬ下面に当接した後も上昇を続けることにより、図８（ｃ）に示すように、ブランケットＢＬが転写ローラ４３１により押し上げられ、最終的にはブランケットＢＬ上面が基板ＳＢの下面に当接する。これにより、ブランケットＢＬ上面に担持されたパターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢに密着する。さらに転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押し上げることで、パターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢに押し付けられる。こうしてパターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢに転写される。リフタブレード４４１の支持によりブランケットＢＬの水平方向の位置ずれが抑えられているので、パターンまたは薄膜ＰＴが基板ＳＢの所定位置に適正に転写される。
【００６１】
転写ローラ４３１の押圧により基板ＳＢとブランケットＢＬとが当接すると、図８（ｄ）に示すように、リフタブレード４４１が下方へ移動してブランケットＢＬから離間する（ステップＳ１０７）。そして、転写ローラ４３１が（＋Ｙ）方向への走行を開始する（ステップＳ１０８）。図９（ａ）および図９（ｂ）に示すように、転写ローラ４３１がブランケットＢＬを基板ＳＢに押し付けながらＹ方向に移動することで、パターンまたは薄膜ＰＴを介してブランケットＢＬと基板ＳＢとが密着する領域がＹ方向に広がってゆく。こうしてパターンまたは薄膜ＰＴが順次基板ＳＢに転写される（転写処理）。転写ローラ４３１は、ブランケットＢＬを一定の押圧力で押圧することのできる押圧位置まで上昇し、この状態でＹ方向に走行する。
【００６２】
このとき、昇降ハンド機構３３，３４は、走行するローラユニット４３との干渉を避けるために、昇降ハンド３３１（３４１），３３２（３４２），３３３（３４３），３３４（３４４）をローラユニット４３の移動に伴って順次下降させてゆく。また、リフタユニット４４はローラユニット４３とともにＹ方向へ走行するので、ローラユニット４３と干渉することはない。
【００６３】
転写ローラ４３１が基板ＳＢの他方端部直下の終了位置に到達するまで（ステップＳ１０９）、ローラユニット４３の走行が継続される。これにより、基板ＳＢ全体がブランケットＢＬに当接し、基板ＳＢへのパターンまたは薄膜ＰＴの転写が完了する。この時点でローラユニット４３の移動が停止され、図８（ｄ）に示すように、ローラユニット４３がブランケットＢＬから離間して下方へ退避する（ステップＳ１１０）。こうして密着されたブランケットＢＬと基板ＳＢとが一体的に搬出されて（ステップＳ１１１）、この転写装置１における転写処理は終了する。
【００６４】
以上のように、この実施形態の転写装置１では、転写ローラ４３１によりブランケットＢＬを押し上げて基板ＳＢに当接させながら、転写ローラ４３１がＹ方向に走行することで、ブランケットＢＬ上のパターンまたは薄膜ＰＴを基板ＳＢに転写する。このとき、転写ローラ４３１がブランケットＢＬに最初に当接する前に、転写ローラ４３１よりもブランケットＢＬの中央寄り位置でリフタブレード４４１がブランケットＢＬ下面に当接することで、ブランケットＢＬの撓みを補正し水平姿勢に近づけている。このため、転写ローラ４３１が最初にブランケットＢＬに当接する際の基板ＳＢとの位置ずれが抑えられ、基板ＳＢへのパターン転写位置精度を良好に維持することができる。
【００６５】
以上説明したように、上記実施形態においては、基板ＳＢが本発明の「第１板状体」に相当し、ブランケットＢＬが本発明の「第２板状体」に相当している。また、上記実施形態では、上ステージ２１が本発明の「第１保持手段」として機能しており、その下面２１ａが本発明の「当接面」に相当している。また、下ステージ３１が本発明の「第２保持手段」および「支持ステージ」として機能し、下ステージ３１の上面３１ａが本発明の「支持面」に相当する。
【００６６】
また、転写ローラ４３１が本発明の「ローラ部材」として機能し、リフタブレード４４１が本発明の「支持部材」として機能している。そして、リフタブレード４４１の上面４４１ａが本発明の「当接部位」に相当している。また、プレート部材４５が本発明の「移動部材」として機能し、ギャップセンサ４４６が本発明の「ギャップ検出手段」として機能している。
【００６７】
また、上記実施形態においては、昇降ハンドユニット３３，３４が本発明の「補助支持手段」として機能しており、昇降ハンド３３１〜３３４，３４１〜３４４の各々が、本発明の「補助支持部材」として機能している。また、アライメント制御部９４およびアライメント機構３７が一体として、本発明の「アライメント手段」として機能している。
【００６８】
なお、本発明は上記した実施形態に限定されるものではなく、その趣旨を逸脱しない限りにおいて上述したもの以外に種々の変更を行うことが可能である。例えば、上記実施形態の転写装置１ではリフタユニット４４がローラユニット４３と一体的に走行する。しかしながら、リフタユニット４４は転写ローラ４３１がブランケットＢＬに最初に当接する際のブランケットＢＬの撓みを補正するものであり、ブランケットＢＬが基板ＳＢに当接した後には特段の作用を奏しない。この意味では、リフタユニットがローラユニット４３を一体的に走行する必要はない。例えば次のような構成とすることもできる。
【００６９】
図１０はリフタユニットの変形例を示す図である。より具体的には、図１０（ａ）は変形例のリフタユニットを含む転写ローラブロックをＸ方向から見た図であり、図１０（ｂ）はＹ方向から見た図である。図１０においては、上記実施形態と実質的に同一の構成には同一符号を付して説明を省略する。この変形例のリフタユニット４６は、Ｘ方向に位置を異ならせて２組、互いに向かい合うように配置されている。各リフタユニット４６は、Ｘ方向長さが転写ローラ４３１の約半分でＸ方向に延設されたリフタブレード４６１と、リフタブレード４６１から斜め下向きに延びるアーム４６２と、アーム４６２を斜め方向に昇降させるリフタ昇降機構４６３とを備えている。リフタ昇降機構４６３はメインフレームに固定されており、ローラユニット４３と共に走行しない。
【００７０】
図１０に実線で示すように、リフタ昇降機構４６３によりリフタブレード４６１が下位置に位置決めされた状態では、リフタブレード４６１の上端が転写ローラ４３１の支持部材４３２の下面よりも下方に位置しており、またＸ方向において両リフタブレード４６１，４６１間が比較的大きく離間している。このため、リフタユニット４６がローラユニット４３の走行に干渉することはない。
【００７１】
一方、リフタ昇降機構４６３が作動すると、図１０に点線で示すようにリフタブレード４６１がＸ方向成分およびＺ方向成分を有する斜め上向きに上昇し、最終的に上端がブランケットＢＬの下面に当接する。このとき両リフタブレード４６１，４６１の上端の高さは同一とされ、またＸ方向において両リフタブレード４６１，４６１間の間隔が極めて小さくなるように、リフタブレード４６１，４６１の形状が設定される。これにより、転写ローラ４３１が当接する前のブランケットＢＬを下ステージ３１とリフタブレード４６１，４６１とにより支持し、ブランケットＢＬの撓みを抑制することができる。このように、転写ローラ４３１と共に走行しないリフタユニットを用いても、上記と同様の効果を得ることが可能である。
【００７２】
また、上記実施形態のリフタユニット４６は、上面が当接面となったブレード状部材であるリフタブレード４６１を有し、リフタブレード４６１がブランケットＢＬを下方から支持した状態で転写ローラ４３１によるブランケットＢＬの押し上げが実行される。リフタブレード４６１がブランケットＢＬ下面を摺擦することを回避するため、転写ローラ４３１によるブランケットＢＬの押し上げ後、リフタブレード４６１はブランケットＢＬから離間する。これに代えて、以下のような構成としてもよい。
【００７３】
図１１はリフタユニットの他の変形例を示す図である。より具体的には、図１１（ａ）はこの変形例のリフタユニットを含む転写ローラブロックをＸ方向から見た図であり、図１１（ｂ）および図１１（ｃ）はこの変形例における転写ローラブロックの動作を示す図である。なお、この変形例の説明においては、上記実施形態と同一の構成については同一の符号を付し、その説明を省略する。
【００７４】
この変形例のリフタユニット４７は、図１１（ａ）に示すように、ＸＺ平面に平行でＸ方向を長手方向として延びる円筒ローラ形状のリフタローラ４７１を備えている。リフタローラ４７１は、支持フレーム４７４によりＸ方向と平行な回転軸周りに回転自在に支持されており、プレート部材４５に取り付けられたリフタ昇降機構により昇降自在に支持されている。具体的には、プレート部材４５に立設されたフレーム４７２にボールねじ４７３が取り付けられており、ボールねじ４７３に取り付けられたナット部が支持フレーム４７４と一体化されている。ボールねじ４７３はカップリング４７７を介して連結されたモータ４７５の作動により回転し、これにより支持フレーム４７４が鉛直方向（Ｚ方向）に昇降して、リフタローラ４７１を昇降させる。
【００７５】
モータ４７５は制御ユニット９に設けられたリフタ昇降制御部９６により制御される。リフタ昇降制御部９６からの制御信号に応じてモータ４７５が回転することで、リフタローラ４７１が昇降移動する。このように、フレーム４７２、ボールねじ４７３、支持フレーム４７４、モータ４７５およびカップリング４７７がボールねじ機構を構成しており、該ボールねじ機構がリフタ昇降機構として機能している。なおリフタ昇降機構としてはこのようなボールねじ機構によるものに限定されず、各種方式の駆動機構を用いることができる。
【００７６】
上記実施形態におけるリフタブレード４４１と同様に、リフタ昇降機構の作動により、リフタローラ４７１は下ステージ３１に保持されたブランケットＢＬの下方に退避しブランケットＢＬから離間した退避位置と、上端部がブランケットＢＬ下面に当接する当接位置との間を昇降移動可能となっている。リフタローラ４７１は転写ローラ４３１とは独立して昇降可能である。当接位置においては、リフタローラ４７１の上端部が下ステージ３１の上面３１ａとほぼ同じＺ方向高さに位置決めされる。したがって、リフタローラ４７１が当接位置にあるとき、リフタローラ４７１の上端部と下ステージ３１の上面３１ａとは同一水平面内に位置することになる。これにより、下ステージ３１とリフタローラ４７１とが下面に当接するブランケットＢＬは水平姿勢に支持される。
【００７７】
図１１（ｂ）に示すように、この変形例では、リフタローラ４７１がブランケットＢＬ下面に当接した状態で、転写ローラ４３１がブランケットＢＬの押し上げを実行する。リフタローラ４７１は、上記実施形態におけるリフタブレード４４１と同様に、転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押し上げる際にブランケットＢＬを水平姿勢に保持する作用を奏し、これによりブランケットＢＬの位置ずれが防止される。
【００７８】
上記実施形態と同様に、転写ローラ４３１がブランケットＢＬを押し上げて基板ＳＢに押し付けた後、転写ローラ４３１はＹ方向に走行する。このとき、転写ローラ４３１と同一のプレート部材４５により支持されたリフタローラ４７１も転写ローラ４３１と一体的にＹ方向へ走行する。走行に先立ってリフタローラ４７１をブランケットＢＬから離間させた場合には、リフタローラ４７１はブランケットＢＬへの当接部位の形状が異なるだけで、その作用は上記実施形態におけるリフタブレード４４１の作用と何ら変わりない。
【００７９】
一方、この変形例では、図１１（ｃ）に示すように、リフタローラ４７１がブランケットＢＬの下面に当接したままＹ方向へ走行することが可能である。リフタローラ４７１が回転することでブランケットＢＬに対する摺擦が防止される。また、リフタローラ４７１がブランケットＢＬを支持することで、ローラ走行のために昇降ハンド３３１等が下方へ退避した後においてもブランケットＢＬの撓みを抑えその姿勢を保持しておくことが可能となる。リフタローラ４７１の上端部の高さを下ステージ３１の上面３１ａと同一高さに維持しながら走行させるようにすれば、ブランケットＢＬの水平姿勢をより安定的に維持することが可能である。
【００８０】
リフタローラ４７１の上端部が下ステージ３１の上面３１ａよりも若干上方に突出しても構わないが、転写を良好に行わせるためには、リフタローラ４７１による押し上げによってブランケットＢＬが基板ＳＢに当接することは避けるのが望ましい。したがって、リフタローラ４７１の上端部は少なくとも、ブランケットＢＬを押し上げた状態の転写ローラ４３１の上端部よりは下方にあり、リフタローラ４７１が転写ローラ４３１よりも下方位置でブランケットＢＬに当接することが好ましい。
【００８１】
このように、本発明の「支持部材」としては、ブレード状のもの以外に、例えばローラ状のものを用いることが可能である。このようなローラ状の支持部材を設けた場合、支持部材をブランケットＢＬ下面に当接させた後、さらに昇降させる必要はない。このことから、支持部材を単独で昇降させる機構は必ずしも必要ない。したがって、例えばプレート部材４５を昇降させることにより、転写ローラ４３１とリフタローラ４７１とを一体的に昇降させるための機構と、プレート部材４５およびリフタローラ４７１に対して転写ローラ４３１を昇降させる機構との組み合わせにより、転写ローラブロックを構成することも可能である。
【００８２】
また、上記実施形態ではローラユニット４３およびリフタユニット４４（またはリフタユニット４７）が、単一のプレート部材４５上に設けられたローラ昇降機構およびリフタ昇降機構によりそれぞれ昇降自在に支持され、これにより転写ローラ４３１とリフタブレード４４１（またはリフタローラ４７１）とが独立して昇降可能となっている。これに代えて、例えばローラユニットとリフト昇降機構を有していないリフタブレード（またはリフタローラ）とが昇降移動可能なプレート部材に取り付けられ、所定のＺ方向範囲では転写ローラ４３１とリフタブレード４４１（またはリフタローラ４７１）とが一体的に昇降する構成であってもよい。
【００８３】
また、上記実施形態にはギャップセンサ４４６が設けられているが、前記した通り、リフタブレード４４１の位置決めは機械的な突き当てや事前のティーチング作業によっても制御可能であり、この場合ギャップセンサ４４６は省かれてもよい。
【００８４】
また上記実施形態のリフタブレード４４１はＸ方向長さが転写ローラ４３１とほぼ同じとされた平板状部材であり、Ｘ方向における下ステージ３１の開口長さの大部分をカバーするものである。しかしながら、ブランケットＢＬの撓みが大きいのはブランケットＢＬのＸ方向における中央部分であるため、少なくともこの部分が支持されれば足りる。したがって、リフタブレード４４１のＸ方向長さは転写ローラ４３１より短くてもよい。ただし、対向する１対の昇降ハンド３３１，３４１間での撓みを防止する観点からは、昇降ハンド３３１，３４１間のＸ方向における間隔よりは、リフタブレード４４１の長さの方が大きくなるようにすることが好ましい。
【００８５】
また、上記実施形態はブランケットＢＬに担持されたパターン等の被転写物を基板ＳＢに転写する転写装置であるが、本発明の技術思想は、このようなパターン等を転写する転写装置に限定されず、例えばパターン等を介さず２枚の板状体を貼り合わせる技術にも適用可能である。
【００８６】
以上、具体的な実施形態を例示して説明してきたように、この発明においては、例えば、第２保持手段は、上面が平坦で第２板状体の周縁部下面に当接して第２板状体を支持する支持面となって第２板状体の下面中央部に対応する中央部が開口する額縁状の支持ステージを有し、支持部材は、上面が支持ステージの支持面と同じ高さに位置して第２板状体を支持する構成であってもよい。このような構成によれば、ローラ部材が最初に当接する部位を挟む両側で第２板状体が同一高さに支持されるため、この間で第２板状体の水平姿勢が保たれ撓みを最小化することができる。
【００８７】
また例えば、ローラ部材が第２板状体に当接し第２板状体を第１板状体に押し付けた後、支持部材が第２板状体から離間し、その後にローラ部材が第２板状体の下面に沿って移動する構成であってもよい。支持部材はローラ部材が第２板状体に当接する際に第２板状体の姿勢を維持するものであり、ローラ部材が第２板状体に当接した後にも第２板状体に当接している必要は必ずしもない。支持部材が第２板状体から離間した後にローラ部材が移動するようにすることで、支持部材をローラ部材と干渉しない位置に退避させることができる。
【００８８】
また例えば、ローラ部材と支持部材とが一体的に移動する構成であってもよい。ローラ部材の移動方向においてローラ部材の前方に位置する支持部材は、ローラ部材の走行時には障害物となり得る。支持部材がローラ部材と一体的に移動することで、このような問題は生じなくなる。このとき支持部材が第２板状体から離間していれば、支持部材が第２板状体の表面を摺擦することが避けられる。
【００８９】
あるいは例えば、支持部材は、ローラ部材の軸と平行な軸を有するローラ形状を有し、ローラ部材よりも下方位置で第２板状体の下面に当接しながら、支持部材と一体的に第２板状体の下面に沿って移動する構成であってもよい。このような構成では、ローラ部材が転動することで第２板状体の摺擦が回避される。また、ローラ部材の移動中においても支持部材が第２板状体を支持することで、第２板状体の姿勢をより安定的に維持することができる。
【００９０】
これらの場合、例えば、ローラ部材と支持部材とが、同一の移動部材に取り付けられ、しかも、高さ方向における位置が互いに独立して変更可能であってもよい。このような構成によれば、単一の移動部材を移動させることでローラ部材と支持部材とをともに移動させることができ、また両者の高さ方向位置が互いに独立して変更することで、上記した順序での当接・離間が可能となる。
【００９１】
また例えば、本発明において、支持部材は、ローラ部材の延設方向と平行な方向に延びる当接部位を上端に有するものであってもよい。このような構成によれば、ローラ部材の延設方向に沿った撓みを効果的に抑制することができ、位置精度をより向上させることができる。
【００９２】
また例えば、第２板状体の下面中央部に対して離当接自在に設けられた補助支持手段を備え、補助支持手段は、ローラ部材の移動方向における位置で第２板状体の下面中央部に当接することで第２板状体を下方から支持し、ローラ部材の移動に伴って第２板状体から離間してローラ部材を通過させる構成であってもよい。このような構成によれば、第２板状体の姿勢を維持する作用がさらに高められるので、第２板状体の撓みに起因する位置ずれをより効果的に抑制することができる。
【００９３】
この場合さらに、補助支持手段は、各々が第２板状体の下面に部分的に当接して第２板状体を支持する複数の補助支持部材を有していてもよい。このように補助支持部材を配置することで第２板状体の全体としての姿勢を維持することが可能であるが、支持を受けていない部分ではいくらかの撓みが避けられない。このような場合に本発明を適用することで、第２板状体の撓みを低減させることが可能である。
【００９４】
また例えば、第１板状体と第２板状体との間のギャップ量を検出するギャップ検出手段がさらに設けられ、支持部材の高さが、ギャップ検出手段により検出されるギャップ量に基づき設定される構成であってもよい。第１板状体と第２板状体との間のギャップ量が実測され、その結果に基づいて支持部材の高さが設定されることで、第２板状体の姿勢の維持をより確実なものとすることができる。
【００９５】
また例えば、第１保持手段は、第１板状体の上面に当接する平坦な当接面を有する構成であってもよい。第１板状体は第２板状体を介してローラ部材から押圧を受ける。第１板状体を平坦面に当接させておくことにより、ローラ部材からの押圧によって第１板状体が撓むのを防止して、転写を良好に進行させることができる。
【００９６】
また例えば、水平方向における第１保持手段と第２保持手段との相対位置を変化させるアライメント手段がさらに設けられてもよい。このようなアライメント手段を設けることで、第１板状体と第２板状体との水平位置を調整することが可能である。ただし、アライメントが行われた状態から実際に第１板状体と第２板状体とが当接するまでに新たな位置ずれが生じるとその効果が減殺される。このような構成に本発明を適用することで、転写位置をより精度よく制御することが可能となる。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
この発明は、ガラス基板や半導体基板などの各種基板にパターンや薄膜等の被転写物を転写する処理に対して好適に適用可能である。また、パターン等を介さず２枚の板状体を直接当接させる場合にも、本発明の技術思想を適用可能である。
【符号の説明】
【００９８】
１  転写装置
２１  上ステージ（第１保持手段）
２１ａ  （上ステージの）下面（当接面）
３１  下ステージ（第２保持手段、支持ステージ）
３１ａ  （下ステージの）上面（支持面）
３３，３４  昇降ハンドユニット（補助支持手段）
３７  アライメント機構（アライメント手段）
４５  プレート部材（移動部材）
９４  アライメント制御部（アライメント手段）
３３１〜３３４，３４１〜３４４  昇降ハンド（補助支持部材）
４３１  転写ローラ（ローラ部材）
４４１  リフタブレード（支持部材）
４４１ａ（リフタブレードの）上面（当接部位）
４４６  ギャップセンサ（ギャップ検出手段）
４７１  リフタローラ（支持部材）
ＢＬ  ブランケット（第２板状体）
ＳＢ  基板（第１板状体）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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