(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を回転させることで、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置において、
カップと、
このカップの底部中心部に形成された通孔から内部へ挿通された回転駆動される駆動体と、
この駆動体に連結されて回転されるとともに上面に上記基板が保持される回転テ−ブルと、
この回転テーブルの下面側に設けられ周壁が上記カップの中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した第１の傾斜面に形成された上記通孔を覆うカバーと、
上記カップの内底部に設けられこのカップ内部を上記回転テーブルの下面側で、かつ上記カップの内底部付近の第１の空間部およびそれ以外の第２の空間部とに隔別するとともに上面が上記カップの径方向中心部に向かって低く傾斜し先端が上記第１の傾斜面に間隔を介して対向する第２の傾斜面に形成された仕切り体と、
上記カップの底部に上記第１の空間部と第２の空間部との両方にまたがって開口形成された排気口を有し、連通して設けられ上記回転テーブルの回転によって発生する空気流を排出する排出手段とを具備し、
上記排出手段は、上記排気口に接続された排気管を有し、この排気管内には上記第１の空間部あるいは第２の空間部に連通する制御管が収納され、この制御管には上記各空間部からの排気量を調整する制御弁が設けられていることを特徴とするスピン処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は回転テーブルによって基板を回転させて処理するスピン処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば液晶表示装置の製造過程においては、ワークとしてのガラス製の基板に回路パターンを形成するための成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスでは、上記基板の処理と洗浄とが繰り返し行われる。洗浄された基板を乾燥させたり、基板にレジストを均一に塗布するためには、上記基板を回転テーブルに保持し、この回転テーブルとともに回転させ、それによって生じる遠心力を利用する、スピン処理装置が用いられている。
【０００３】
一般に、スピン処理装置はカップを有する。このカップは上面が開放したお椀状に形成され、その底部中心部分には通孔が形成されている。
上記カップの底部に形成された通孔からそのカップの内部へはモータの駆動軸が挿通されている。この駆動軸の上端には十字状の回転テーブルが取付けられている。この回転テーブルの上面には支持ピンおよびガイドピンが設けられ、上記支持ピンには回転テーブルの上面に供給される、矩形状のガラス基板の下面四隅部が支持され、上記ガイドピンは上記ガラス基板の四隅部の外周面に係合してそのガラス基板が回転テーブル上で動くのを阻止している。
【０００４】
上記カップの底部には周方向に所定間隔で複数の排気口が形成され、各排気口には図示しない吸引ポンプに連通した排気管が接続されている。
このような構成のスピン処理装置によれば、上記ガラス基板をたとえば乾燥処理する場合、上記モータに通電し、その駆動軸に取付けられた回転テーブルを回転させる。
【０００５】
回転テーブルを回転させて遠心力を発生させれば、その遠心力によってガラス基板の上面に付着した洗浄液が飛散するから、そのガラス基板を乾燥処理することができる。
【０００６】
ところで、回転テーブルを回転させると、その回転によって遠心力が発生するだけでなく、カップ内には回転テーブルの回転にともない空気の流れが生じることが避けられない。その空気流はカップ内の径方向周辺部からその底部に設けられた排気口へ向かう円滑な流れだけでなく、カップの径方向内方で、上記回転テーブルの下面側において渦を巻く乱気流も発生する。
【０００７】
このような乱気流が発生すると、その気流によってガラス基板からカップの内底部に滴下する洗浄液が巻き込まれ、ミストとなって上記ガラス基板の下面に付着することがある。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来のスピン処理装置においては、回転テーブルの下面側において乱気流が発生すると、その乱気流によって上記回転テーブルに保持された基板の下面にミストが付着し、基板が汚染されるということがあった。
【０００９】
この発明は、回転テーブルを回転させることで、この回転テーブルの下面側に乱気流が発生しても、その乱気流で基板の下面をミストなどによって汚染するのを防止できるようにしたスピン処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために請求項１の発明は、基板を回転させることで、この基板に所定の処理を行うスピン処理装置において、
カップと、
このカップの底部中心部に形成された通孔から内部へ挿通された回転駆動される駆動体と、
この駆動体に連結されて回転されるとともに上面に上記基板が保持される回転テ−ブルと、
この回転テーブルの下面側に設けられ周壁が上記カップの中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した第１の傾斜面に形成された上記通孔を覆うカバーと、
上記カップの内底部に設けられこのカップ内部を上記回転テーブルの下面側で、かつ上記カップの内底部付近の第１の空間部およびそれ以外の第２の空間部とに隔別するとともに上面が上記カップの径方向中心部に向かって低く傾斜し先端が上記第１の傾斜面に間隔を介して対向する第２の傾斜面に形成された仕切り体と、
上記カップの底部に上記第１の空間部と第２の空間部との両方にまたがって開口形成された排気口を有し、連通して設けられ上記回転テーブルの回転によって発生する空気流を排出する排出手段とを具備し、
上記排出手段は、上記排気口に接続された排気管を有し、この排気管内には上記第１の空間部あるいは第２の空間部に連通する制御管が収納され、この制御管には上記各空間部からの排気量を調整する制御弁が設けられていることを特徴とする。
【００１２】
請求項１の発明によれば、カップ内を第１の空間部と第２の空間部とに隔別する仕切り体の上面をカップの径方向中心部に向かって低く傾斜した第２の傾斜面に形成したことで、カップ内の回転テーブルの下面側に滴下する洗浄液を上記仕切り体の第２の傾斜面に沿って円滑に流すことができるから、その洗浄液が回転テーブルの下面側で発生する乱気流に巻き込まれてミストとなり、基板の下面に付着するのを防止することができ、また第１の空間部と第２の空間部とは、これらの両方に排気手段が連通して設けられているから、各空間部で発生するミストが確実に排出されるばかりか、２つの空間部を同時に排気できるため、別々に排気する場合に比べて構成を簡略化することができる。
【００１３】
しかも、第１の空間部と第２の空間部とに連通する排気管に、どちらか一方の空間部に連通する制御管を設け、その制御管に排気量を調整する制御弁を設けることで排気手段を構成したから、第１の空間部と第２の空間部とからの排気量を最適な割合になるよう調整することができる。
【００１４】
【実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図１と図２を参照して説明する。図１に示すスピン処理装置は、たとえば液晶表示装置のガラス製の基板１を乾燥処理するためのもので、その装置はベースＢ上に配置されたカップ２を備えている。このカップ２は下カップ２ａおよびこの下カップ２ａの上端に連結された上カップ２ｂによって上面が開放したお椀状に形成されている。
【００１５】
上記下カップ２ａの底壁中心部には通孔３が形成されている。この通孔３には、モータ４の回転軸５に連結された取付体６が挿通され、カップ２内に突出した上記取付体６の上端は平面形状がＴ字状をなした回転テーブル７の下面中心部分に連結されている。この回転テーブル７には、上記基板１の下面を支持する支持ピン７ａと、上記基板１の周辺部に係合する係合ピン７ｂとが突設されている。
【００１６】
なお、上記回転軸５と上記取付体６とでこの発明の駆動体を構成している。
上記通孔３は周壁がカップ２の中心部から径方向外方に向かって低く傾斜した第１の傾斜面９に形成された断面形状が円錐台状のカバー１１によって覆われている。このカバー１１は上記回転テーブル７の中心部の下面側をシールするシール部材１２に取付けられている。
【００１７】
上記カップ２の内底部には仕切り体１５が支持柱１６によって保持されている。この仕切り体１５は環状の周壁１７およびこの周壁１７の上端に折曲形成された上部壁１８とから形成されている。この上部壁１８の上面はカップ２の径方向中心に向かって低く傾斜した第２の傾斜面１９となっており、その先端は上記第１の傾斜面９とわずかな隙間を介して対向している。
【００１８】
上記仕切り体１５によってカップ２内の空間部は、上記仕切り体１５の内面側、
つまり上記回転テーブル７の下面側で、カップ２の内底部の部分となる第１の空間部２１と、それ以外の部分である第２の空間部２２とに隔別している。第２の空間部２２は上記カップ２の上面開口に連通している。
【００１９】
上記カップ２の底部には周方向に所定間隔、この実施の形態では９０度間隔で４つの排気口２３（２つのみ図示）が形成されている。各排気口２３は上記第１の空間部２１と第２の空間部２２との両方にまたがって開口形成されている。つまり、仕切り体１５の側壁１７の下端が上記排気口２３を分割する状態で位置している。
【００２０】
上記排気口２３には排気管２４の一端が取付板３１を介して接続されている。この排気管２４は上記取付板３１を介して上記第1 の空間部２１に連通している。この取付板３１には図２に示すように上記排気口２３と対応する通孔３１ａが形成されている。
【００２１】
上記排気管２４内には、上記第１の空間部２１に連通する短管状の制御管２５が図示しない支持部材によって支持されている。この制御管２５には上記排気管２４の外部から角度調整可能な制御弁２６が設けられている。
【００２２】
上記排気管２４の他端には排気ホース２７の一端が接続され、この排気ホース２７の他端は図示しない排気ポンプに連通している。したがって、上記排気ポンプが作動すれば、上記排気管２４を介して上記第１の空間部２１と第２の空間部２２とに吸引力を作用させ、これら空間部内の雰囲気を排出できるようになっている。その際、上記制御弁２６の開き角度を変えることで、第１の空間部２１と第２の空間部２２からの排気量を制御できるようになっている。
【００２３】
つぎに、上記構成のスピン処理装置によって洗浄後の基板１を乾燥処理する場合について説明する。回転テーブル７に洗浄液によって洗浄処理されて濡れた状態にある基板１が供給されると、モータ４に通電されて上記回転テーブル７が回転駆動される。それによって、基板２０に付着した洗浄液に遠心力が作用し、その遠心力で洗浄液が飛散し、基板１が乾燥処理される。
【００２４】
上記回転テーブル７を回転させる場合には、排気ホース２７に接続された排気ポンプを作動させてカップ２内の雰囲気を排気する。つまり、回転テーブル７を回転させることでカップ２内に気流が生じるとともに、基板１に付着した洗浄液が回転にともなう遠心力でカップ２の内面に衝突することでミストが発生するから、ミストを含む第２の空間部２２内の雰囲気が排気管２４を通じて上記排気ホース２７から排出されることになる。
【００２５】
上記カップ２内は仕切り体１５によって第１の空間部２１と第２の空間部２２とに隔別されている。上記仕切り体１５の上記第１の空間部２１を覆う上部壁１８はカップ２の径方向内方に向かって低く傾斜した第２の傾斜面１９に形成されている。
【００２６】
そのため、回転テーブル７に保持された基板１からその下面側に滴下する洗浄液は上記仕切り体１５の第２の傾斜面１９に沿って円滑に流れ、この第２の傾斜面１９からカバー１１の第１の傾斜面９を伝わって第１の空間部２１へ滴下し、この第１の空間部２１から排気管２４へ排出されることになる。
【００２７】
そのため、回転テーブル７が回転駆動されることで、この回転テーブル７の下面側に乱気流が発生しても、回転テーブル７の下面側に滴下する洗浄液は、仕切り体１５によって覆われた第１の空間部２１に円滑に流入するから、第1 の空間部２１へ流入した洗浄液が上記乱気流によってミスト化されて基板１の下面に付着するのを防止することができる。
【００２８】
つまり、第１の空間部２１は仕切り体１５によって覆われているため、その第１の空間部２１に滴下した洗浄液が仕切り体１５の上面側で発生する乱気流によってミスト化されるということがほとんどない。
【００２９】
さらに、回転テーブル７の回転によって周囲に飛散する洗浄液はカップ２の内周面に衝突してミスト化するものの、上記カップ２内の周辺部、つまり第２の空間部２２には排気ポンプの吸引力が確実に作用する。
【００３０】
そのため、カップ２の内周部で発生するミストが回転テーブル７の下面側に回り込むのが阻止されるばかりか、仕切り体１５の周壁１７によっても回転テーブル７の下面側に回り込むのが阻止されるから、基板１から飛散する洗浄液がカップ２の内周面に衝突することでミストが発生しても、そのミストが回転テーブル７に保持された基板１の下面側に回り込んで付着するということも防止される。
【００３１】
カップ２の底部に接続された排気管２４は、第１の空間部２１と第２の空間部２２との両方に連通している。そのため、カップ２内を仕切り体１５によって２つの空間部２１，２２に分けても、各空間部２１，２２を排気するために別々に排気管を接続するということをせずにすむから、その分、排気管２４や排気ホース２７の数を少なくし、構成の簡略化を計ることができる。
【００３２】
上記第１の空間部２１に連通した制御管２５には制御弁２６が設けられ、この制御弁２６の開度を調整することで、上記制御管２５からの排気量、つまり第１の空間部２１の排気量を制御することができる。
【００３３】
上記第１の空間部２１は仕切り体１５によって覆われた閉塞空間であり、第２の空間部２２はカップ２の上面開口に連通した開放空間であるから、第１の空間部２１からの排気量が第２の空間部２２からの排気量よりも少なくなるよう上記制御管２５の制御弁２６の開度を制御することで、各空間部２１，２２からの排気度合（各空間部の雰囲気の置換度合）が同じようになるよう制御できる。また、第１の空間部２１と第２の空間部２２におけるミストの発生度合に応じて制御弁２６の開度を設定し、それによって各空間部からの排気度合を設定することもできる。
【００３４】
この発明は上記一実施の形態に限定されず、種々変形可能である。たとえば、上記一実施の形態では制御管を第１の空間部に連通させて設けたが、第２の空間部に連通させて設けてもよく、要は第１の空間部と第２の空間部からの排気量を制御できる構成であればよい。
【００３５】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、カップ内を第１の空間部と第２の空間部とに隔別する仕切り体の上面をカップの径方向中心部に向かって低く傾斜した第２の傾斜面に形成した。
【００３６】
そのため、カップ内の回転テーブルの下面側に滴下する洗浄液を上記仕切り体の第２の傾斜面に沿って上記仕切り体で覆われた第１の空間部へ円滑に流すことができるから、回転テーブルの下面側で乱気流が発生しても、その乱気流によって回転テーブルの下方の第１の空間部に流入した洗浄液がミスト化されて基板の下面に付着するのを防止することができる。
【００３７】
また、第１の空間部と第２の空間部とには、これらの両方にわたる排気手段が連通して設けられているから、各空間部で発生するミストが確実に排出されるばかりか、２つの空間部を同時に排気できるため、別々に排気する場合に比べて構成を簡略化することができる。
【００３８】
しかも、第１の空間部と第２の空間部とに連通する排気管およびどちらか一方の空間部に連通する制御管、さらにその制御管に排気量を調整する制御弁を設けることで排気手段を構成した。
【００３９】
そのため、上記制御弁の開度を制御することで、第１の空間部と第２の空間部とからの排気量が最適な割合になるよう制御できるから、それぞれの空間部にミストを含む雰囲気が滞留するのを防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施の形態を示す装置の縦断面図。
【図２】同じく排気管の拡大断面図。
【符号の説明】
１…基板
２…カップ
５…回転軸（駆動体）
６…取付体（駆動体）
７…回転テーブ
１５…仕切り体
１９…第２の傾斜面
２１…第１の空間部
２２…第２の空間部
２３…排気口（排出手段）
２４…排気管（排出手段）
２５…制御管（排出手段）
２６…制御弁（排出手段）
【図１】
0004025414.tif 000002
【図２】
0004025414.tif 000003