(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
垂直に配置された平板ガラス部材の上端を保持し上側保持板を備える上側降下手段により降下される上側保持手段と、
平板ガラス部材の下端を保持し下側保持板を備える下側降下手段により降下される下側保持手段と、
この下側保持手段と上側降下手段間に配置され平板ガラス部材の水平方向全体を同時に加熱する加熱手段と、
上側降下手段および下側降下手段の作動を制御する制御手段とを有し、
前記上側降下手段は、前記下側保持板に設けた下側遊嵌孔を遊嵌する一対の上側ボールねじと、この上側ボールねじを回転させる上側ステッピングモータからなり、
前記上側保持手段は、前記上側保持板により平板ガラス部材の上端部を保持し、かつ前記上側保持板の両端部近傍に設けられた上側螺孔によって前記上側ボールねじと螺合し、上側ステッピングモータが作動して上側ボールねじを回転させることにより、上側保持板が水平状態を保って昇降可能になっており、
前記下側降下手段は、前記上側保持板に穿設されたねじ遊嵌孔を遊嵌する一対の下側ボールねじと、この下側ボールねじを回転させる下側ステッピングモータからなり、
前記下側保持手段は、前記下側保持板により平板ガラス部材の下端部を保持し、前記下側保持板の両端部近傍に設けられた下側螺孔によって下側降下手段の下側ボールねじと螺合し、下側ステッピングモータが作動して下側ボールねじを回転させることにより、下側保持板が水平状態を保って昇降可能になっており、
前記加熱手段は平板ガラス部材の両側に配された一対の火炎バーナであり、前記加熱手段により、平板ガラス部材の水平方向全体を同時に加熱しながら、前記下側保持手段の降下速度を前記上側保持手段の降下速度よりも速く制御して、平板ガラス部材を引き伸ばすことを特徴とするガラス部材の成形装置。
【請求項２】
前記加熱手段は保温枠に囲われ、かつ水平方向の往復動装置により往復動されることを特徴とする請求項１に記載のガラス部材の成形装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載のガラス部材の成形装置を用いて、平板ガラス部材を引き伸ばすことを特徴とするガラス部材の成形方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明はガラス部材の成形装置およびガラス部材の成形方法に係わり、特に大型フォトマスク用基板等の製造方法に適するガラス部材の成形装置およびガラス部材の成形方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
特にシリカガラスは高純度で耐熱性、光透過性、化学的安定性等に優れているため、半導体産業等において種々の部材として使用されている。このシリカガラスの製造には四塩化珪素を高温の酸水素火炎中で加水分解して製造する方法が多く用いられている。
【０００３】
このようにして製造されたシリカガラスインゴットは、成形体（成形インゴット）に成形されて用いられるが、従来用いられる成形方法は、上記のような酸水素火炎溶融で製造されたシリカガラスインゴットをカーボン製の成形型に入れ、電気溶融炉で溶融させて、成形体を製造し、この成形体は、スライス等の工程を経て、液晶用基板やフォトマスク用基板として用いられる。
【０００４】
しかしながら、近年の液晶用基板やフォトマスク用基板の大型化に伴ない成形体の大形化が要求されているが、従来の成形方法では、シリカガラスが成形型の隅部に十分に到達せず、正確な矩形平板形状の成形体を製造することができなかった。このため成形体をスライスして大形の液晶用基板やフォトマスク用基板を製造する場合、材料歩留が極めて悪かった。
【０００５】
また、特開平１１−６０２６４号公報に記載のように、予め大口径のシリカガラス管を製造し、このシリカガラス管を開き、これを加熱して平板形状にする大形合成シリカガラス平板の製造方法がある。しかし、この公報記載の製造方法は、一旦大口径のシリカガラス管を製造するために大形製管設備を必要とし、製造コストが高価になる。
【０００６】
また、シリカガラスインゴットを円柱形状のシリカガラスブロックに製造し、これを加熱された金属棒により貫通孔を形成して中空形状の管母材を成形し、さらに、この管母材を加熱拡径してガラス管を製造管母材、このガラス管を用いて、上記公報記載と同様に開き、加熱して大形合成ガラス平板を製造する方法がある。しかし、この製造方法は、シリカガラス管成形のために加熱回数が増加し、シリカガラスの特性を劣化させ、また、シリカガラスが汚染されることが多かった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、材料歩留がよく、製造コストが安く、特性を劣化させることがないガラス部材の成形装置およびガラス部材の成形方法が要望されていた。本発明は上述した事情を考慮してなされたもので、材料歩留がよく、製造コストが安く、特性を劣化させることがないガラス部材の成形装置およびガラス部材の成形方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の１つの態様によれば、垂直に配置された平板ガラス部材の上端を保持し上側保持板を備える上側降下手段により降下される上側保持手段と、平板ガラス部材の下端を保持し下側保持板を備える下側降下手段により降下される下側保持手段と、この下側保持手段と上側降下手段間に配置され平板ガラス部材の水平方向全体を同時に加熱する加熱手段と、上側降下手段および下側降下手段の作動を制御する制御手段とを有し、前記上側降下手段は、前記下側保持板に設けた下側遊嵌孔を遊嵌する一対の上側ボールねじと、この上側ボールねじを回転させる上側ステッピングモータからなり、前記上側保持手段は、前記上側保持板により平板ガラス部材の上端部を保持し、かつ前記上側保持板の両端部近傍に設けられた上側螺孔によって前記上側ボールねじと螺合し、上側ステッピングモータが作動して上側ボールねじを回転させることにより、上側保持板が水平状態を保って昇降可能になっており、前記下側降下手段は、前記上側保持板に穿設されたねじ遊嵌孔を遊嵌する一対の下側ボールねじと、この下側ボールねじを回転させる下側ステッピングモータからなり、前記下側保持手段は、前記下側保持板により平板ガラス部材の下端部を保持し、前記下側保持板の両端部近傍に設けられた下側螺孔によって下側降下手段の下側ボールねじと螺合し、下側ステッピングモータが作動して下側ボールねじを回転させることにより、下側保持板が水平状態を保って昇降可能になっており、前記加熱手段は平板ガラス部材の両側に配された一対の火炎バーナであり、前記加熱手段により、平板ガラス部材の水平方向全体を同時に加熱しながら、前記下側保持手段の降下速度を前記上側保持手段の降下速度よりも速く制御して、平板ガラス部材を引き伸ばすことを特徴とするガラス部材の成形装置が提供される。これにより、材料歩留がよく、製造コストが安く、特性を劣化させることがなくガラスが成形される。
【０００９】
好適な一例では、前記加熱手段は保温枠に囲われ、かつ水平方向の往復動装置により往復動される。
【００１０】
また、上記目的を達成するため、本発明の他の態様によれば、請求項１または２に記載のガラス部材の成形装置を用いて、平板状ガラス部材を引き伸ばすことを特徴とするガラス部材の成形方法が提供される。これにより、材料歩留がよく、製造コストが安く、平板状ガラス部材の特性を劣化させることなく平板状ガラス部材を成形できる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係わるガラス部材の成形装置の実施形態について添付図面を参照して説明する。
【００１２】
図１は本発明に係わるガラス部材の成形装置の保温部材の一部を切欠して示す概念図である。
【００１３】
図１に示すように、本発明に係わるガラス部材の成形装置１は、垂直方向に配置された平板状ガラス部材例えばシリカガラス平板Ｇの上端部Ｇｕを保持し上側降下手段２により降下される上側保持手段３と、シリカガラス部材Ｇの下端部Ｇｂを保持し下側降下手段４により降下される下側保持手段５とを有し、さらに、この下側保持手段５と上側降下手段２間に配置されシリカガラス平板Ｇの水平方向を均一に加熱する加熱手段６と、シリカガラス平板Ｇの厚さを測定する厚み計測手段７と、上側降下手段２および下側降下手段４の作動を制御する制御装置８とを有している。
【００１４】
上側降下手段２は、下側遊嵌孔５ｅを遊嵌する一対の上側ボールねじ２ａ、２ａと、この上側ボールねじ２ａ、２ａを回転させる上側ステッピングモータ２ｂ、２ｂからなる通常の回転移動機構によって形成されている。図２に示すように、この上側ステッピングモータ２ｂ、２ｂは上側ステッピングモータ制御器２ｂｃを介して制御装置８に接続され、その回転が制御されるようになっている。
【００１５】
上側保持手段３は、中央部近傍に上側保持用凹部３ａが設けられた上側保持板３ｂと、上側保持用凹部３ａに対向し上側保持ねじ３ｃ、３ｃによって上側保持板３ｂに着脱自在に螺着される上側保持部材３ｂ１を有し、この上側保持部材３ｂ１と上側保持用凹部３ａ間でシリカガラス平板Ｇの上端部Ｇｕで挟持するようになっており、さらに、上側保持板３ｂの両端部近傍に設けられた上側螺孔３ｄ、３ｄによって上側降下手段２の上側ボールねじ２ａ、２ａと螺合しており、上側ステッピングモータ２ｂ、２ｂを作動して上側ボールねじ２ａ、２ａを回転させることにより、上側保持板３ｂが水平状態を保って昇降可能になっている。
【００１６】
下側降下手段４も上記上側降下手段２と同様に、上側保持板３ｂに穿設されたねじ遊嵌孔３ｅ、３ｅを遊嵌する一対の下側ボールねじ４ａ、４ａと、この下側ボールねじ４ａ、４ａを回転させる下側ステッピングモータ４ｂ、４ｂからなり、図２に示すように、この下側ステッピングモータ４ｂ、４ｂは下側ステッピングモータ制御器４ｂｃを介して制御装置８に接続され、その回転が制御されるようになっている。
【００１７】
また、下側保持手段５も上保持手段３と同様に、中央部近傍に下側保持用凹部５ａが設けられた下側保持板５ｂと、下側保持用凹部５ａに対向し下側保持ねじ５ｃ、５ｃによって下側保持板５ｂに着脱自在に螺着される下側保持部材５ｂ１を有し、この下側保持部材５ｂ１と下側保持用凹部５ａ間でシリカガラス平板Ｇの下端部Ｇｂで挟持するようになっており、さらに、下側保持板５ｂの両端部近傍に設けられた下側螺孔５ｄ、５ｄによって下側降下手段４の下側ボールねじ４ａ、４ａと螺合しており、下側ステッピングモータ４ｂ、４ｂが作動して下側ボールねじ４ａ、４ａを回転させることにより、下側保持板５ｂが水平状態を保って昇降可能になっている。なお、この上側保持手段３および下側保持手段５の昇降は、連続的な降下により行うが、当初のシリカガラス平板Ｇの板厚あるいは引き伸ばされた後の厚さ等の条件によっては、加熱手段６の加熱部位を送りピッチとする間歇送りにしてもよい。
【００１８】
加熱手段６は、シリカガラス部材の成形装置１の高さのほぼ中央部近傍、例えば、シリカガラス平板Ｇが上側保持手段３と下側保持手段５間に保持された状態で、この両保持手段３、５間に配置され、シリカガラス平板Ｇの両面から加熱するように、一対の火炎バーナ６ａ、６ａからなっており、さらに、火炎バーナ６ａ、６ａは中空、長方形状の保温枠６ｂによって囲われ、シリカガラス平板Ｇがより均一に加熱されるようになっている。
【００１９】
厚み計測手段７は、通常用いられるもので、被測定物であるシリカガラス平板Ｇの両側に配置された２個のレーザ変位計７ａ、７ａが用いられ、このレーザ変位計７ａ、７ａは、図３に示すように、発光素子ドライバー７ｂｃ、７ｂｃに制御され、レーザ光を発振する発光素子７ｂ、７ｂと、この発光素子７ｂ、７ｂの光軸上に設けられた投光レンズ７ｃ、７ｃと、上記光軸のシリカガラス平板Ｇに対する反射光軸上に設けられた結像レンズ７ｄ、７ｄと、反射光軸上のポジションセンサ７ｅ、７ｅと、このポジションセンサ７ｅ、７ｅからの位置情報を処理する信号処理装置７ｆ、７ｆとを有しており、図２に示すように、この信号処理装置７ｆ、７ｆは上記制御装置８に接続されている。なお、発光素子７ｂ、７ｂ、投光レンズ７ｃ、７ｃ、結像レンズ７ｄ、７ｄ、ポジションセンサ７ｅ、７ｅは、一体的にケーシングに収納されて検出ヘッド７ｇ、７ｇを形成している。
【００２０】
シリカガラス平板Ｇの測定部位の厚さ情報を基にして、制御装置８で測定部位の厚さを演算し、この演算結果により、上側ステッピングモータ制御器２ｂｃを介して、上側降下手段２の下降速度を制御して、上側保持手段３の下降速度を制御するようになっている。また、下側ステッピングモータ制御器４ｂｃを介して、下側降下手段４の下降速度を制御して、下側保持手段５の下降速度を制御するようになっている。
【００２１】
制御装置８は、通常のパソコンが用いられ、ガラス部材の成形装置１によるシリカガラス平板Ｇ引き伸ばし工程中、制御装置８による上側ステッピングモータ制御器２ｂｃ、下側ステッピングモータ制御器４ｂｃ、信号処理装置７ｆ、７ｆの制御は、事前に制御装置８にプログラムされた制御手順に従って行われ、また、必要に応じ制御装置８に設けられた入力手段（図示せず）からの入力により行われる。
【００２２】
次に本発明に係わるガラス部材の成形装置を用いたガラスの成形方法を図４に示す成形工程図に沿って説明する。
【００２３】
最初に通常の酸水素火炎溶融により製造されたシリカガラスインゴットＧを電気溶融炉に収納された成形型に入れて加熱し矩形ブロックに成形する（Ｓ１）。
【００２４】
この成形工程に用いられる電気溶融炉１１は、図５に示すような構造を有しており、収納物の出入れが可能に形成された炉本体１２と、この炉本体１２を加熱するヒータ１３と、載置台１４を有している。また、炉本体１２内の載置台１４には成形型１５が載置されており、この成形型１５は成形型本体１６と内張１７から構成されている。成形型本体１６は、多数の貫通孔１６ａが穿設された人造黒鉛質部材を嵌込み式で組立て形成されている。また、内張１７は、例えば密度が０．１〜０．５ｇ／ｃｍ２で、通気性を有するカーボン成形断熱材で形成されており、ガスは内張１７を通り、支障なく貫通孔１６ａから排出される。従って、シリカガラスインゴットＧを電気溶融炉１１に収納し、しかる後、ヒータ１３を付勢し、所定の炉内温度に加熱する。所定温度で所定時間キープし、キープ後は、自然放冷で降温する。炉内温度がシリカガラスの軟化点以上の温度にキープされることによりシリカガラスインゴットは成形型に従って矩形ブロックＧに成形される。
【００２５】
この矩形ブロックＧを切断装置によりスライスしてシリカガラス平板Ｇを製造する（Ｓ２）。
【００２６】
このスライス工程は、矩形ブロックＧが最終製品である液晶用基板やフォトマスク用基板の厚さに比べて厚く成形される場合には、液晶用基板やフォトマスク用基板に必要な厚さにスライスされる。矩形ブロックＧが液晶用基板やフォトマスク用基板に必要な厚さである場合には、このスライス工程は省略される。
【００２７】
スライスされたシリカガラス平板Ｇを上述した本発明に係わるガラス部材の成形装置１を用いて引き伸ばす（Ｓ３）。
【００２８】
図１に示すようなガラス部材の成形装置１を用いたシリカガラス平板Ｇの引き伸ばし方法は次のように行われる。
【００２９】
最上位に位置し、待機状態にある上側保持手段３の保持ねじ３ｃ、３ｃを外して上側保持部材３ｂ１を上側保持板３ｂから取り外し、シリカガラス平板Ｇの上端部Ｇｕを保持用凹部３ａに収納した後、保持ねじ３ｃ、３ｃを螺合させて、再び上側保持部材３ｂ１を取り付け、上側保持用凹部３ａと上側保持部材３ｂ１間に強固に上端部Ｇｕを挟持、保持させて、上側保持手段３に強固に保持させる。
【００３０】
また、下側保持手段５の下側保持ねじ５ｃ、５ｃを外して下側保持板５ｂから下側保持部材５ｂ１を取り外し、制御装置８、下側ステッピングモータ制御器４ｂｃを介して、下側ボールねじ４ａ、４ａを回転させて下側保持板４ｂを上昇させ、下側保持用凹部５ａにシリカガラス平板Ｇの下端部Ｇｂ収納し、下側保持部材５ｂ１を押し当て、下側螺孔５ｄ、５ｄを貫通する下側保持ねじ５ｃ、５ｃを用いて、強固に下端部Ｇｂを下側保持用凹部５ａと下側保持部材５ｂ１に挟持する。
【００３１】
しかる後、一対の火炎バーナ６ａ、６ａを点火して、シリカガラス平板Ｇの両面から同時に加熱して、シリカガラス平板Ｇを水平方向において均一に加熱する。このとき、火炎バーナ６ａ、６ａは中空、長方形状の保温枠６ｂによって囲われているので、シリカガラス平板Ｇがより均一に加熱される。この加熱を継続しながら、制御装置８により下側ステッピングモータ制御器４ｂｃを介して、下側ステッピングモータ４ｂ、４ｂを作動して下側ボールねじ４ａ、４ａを回転させ、下側保持手段５を降下させる。このとき、上保持手段３は停止状態にあり、当初の位置を保つので、下側保持手段５の降下速度（Ｖｂ１）と上保持手段３の降下速度（Ｖｕ１＝０）の差（ΔＶ）によって、シリカガラス平板Ｇに引張り応力が作用し、加熱されたシリカガラス平板Ｇは引き伸ばされて板厚は薄くなる。さらに、引き伸ばし工程が継続し、制御装置８により上側ステッピングモータ制御器２ｂｃを介して、上側ステッピングモータ５ｂ、５ｂが作動して上側ボールねじ２ａ、２ａを回転させ、上側保持手段３を降下させる。上保持手段３が降下速度（Ｖｕ２）で降下することにより、シリカガラス平板Ｇ全体が降下するため、加熱手段６によるシリカガラス平板Ｇに対する相対的加熱位置は上昇する。下側保持手段５は引続き降下を継続しているが、制御装置８により下側ステッピングモータ制御器４ｂｃを介して、下側ステッピングモータ４ｂ、４ｂの回転数を増加させ、下側ボールねじ４ａ、４ａの回転も増加させて、下側保持手段５の降下速度（Ｖｂ２）も増加させる。この場合、速度差（ΔＶ）は一定を保つように両降下速度、Ｖｂ２、Ｖｕ２は調整される。このようにしてシリカガラス平板Ｇは引き伸ばされるが、加熱手段６の下方に設けられた厚み計測手段７により引き伸ばされてシリカガラス平板Ｇの厚さが計測される。
【００３２】
このシリカガラス平板Ｇの厚さの計測は、次のように行われる。
【００３３】
図３に示すように、発光素子７ｂ、７ｂから出射された光を投光レンズ７ｃ、７ｃを介してシリカガラス平板Ｇに照射し、シリカガラス平板Ｇから反射してくる光を結像レンズ７ｄ、７ｄで結像させてポジションセンサ７ｅ、７ｅにより検出し、この検出ヘッド７ｇ、７ｇ毎に制御装置８により演算処理してシリカガラス平板Ｇの測定部位の厚さが計測される。下側保持手段５の降下速度（Ｖｂ）と上保持手段３の降下速度（Ｖｕ１）の差（ΔＶ）は一定になるように制御されているので、シリカガラス平板Ｇには常に一定の応力が作用し、シリカガラス平板Ｇも一定になる。しかしながら、当初のシリカガラス平板Ｇの厚さの誤差などにより、厚み計測手段７が所定の厚みに対して差異を検知した場合、例えば、所定の厚さよりも厚い場合には、下側保持手段５の降下速度（Ｖｂ）を増加させ、一定に保たれている速度差（ΔＶ）を増加させて、シリカガラス平板Ｇに作用する応力を増加させ、引張り量を増加させ、シリカガラス平板Ｇの厚さを薄くし、所定の厚さにする。所定の厚さよりも薄い場合には、下側保持手段５の降下速度（Ｖｂ）を減少させ、一定に保たれている速度差（ΔＶ）を減少させて、シリカガラス平板Ｇに作用する応力を減少させ、引張り量を減少させ、シリカガラス平板Ｇの厚さを厚くし、所定の厚さにする。このように、シリカガラス平板Ｇの厚さを測定し、これに基づきシリカガラス平板Ｇに作用する応力を制御して、厚さを制御するので、シリカガラス平板Ｇを所定の厚さに引き伸ばすことができる。
【００３４】
この引き伸ばし工程では、スライスされたシリカガラス平板Ｇを加熱しながら、上側保持手段３と下側保持手段５との降下速度差により生じる応力によってシリカガラス平板Ｇを引き伸ばして、所定の厚さ、大きさにするので、大形製管設備を必要とせず、安価に製造でき、また、シリカガラス管を用いる必要がなく、シリカガラスの加熱回数が減少し、シリカガラスの特性を劣化させることがなく、さらに、シリカガラスが汚染されることがない。また、比較的小さな矩形ブロックないしシリカガラス平板から大きなシリカガラス平板に引き伸ばすことができるので、従来ほど大きな矩形ブロックを用いる必要がないので、隅部までシリカガラスが行き届いた矩形ブロックを用いることが可能となり、材料歩留が向上する。
【００３５】
なお、引き伸ばし工程では、当初のシリカガラス平板Ｇの板厚あるいは引き伸ばされた後の厚さ等の条件によっては、加熱手段の加熱部位を送りピッチとする間歇送りにしてもよい。
【００３６】
この所定の厚さに引き伸ばされたシリカガラス平板Ｇをアニールする（Ｓ４）。
【００３７】
所定の厚さに引き伸ばされたシリカガラス平板Ｇは、上端部Ｇｕ、下端部Ｇｂを切除する等の整形を行った後、アニール炉を用いてアニールを行い歪を除去する。
【００３８】
アニールは比較的長時間要するので、大量にアニールを行う場合には、アニール炉を用いて多数のシリカガラス平板Ｇを同時にアニールするのが好ましい。アニールするシリカガラス平板Ｇが少ない場合には、前工程Ｓ３で引き伸ばしが終了したシリカガラス平板Ｇを、上側保持手段３および下側保持手段５から取り外さず、取り付けられた状態のまま、加熱手段６の発熱量を低下させ、上側保持手段３および下側保持手段５をシリカガラス平板Ｇに応力がかからないように同上昇速度で上昇させ、アニールを行うようにしてもよい。アニール炉の操炉作業を省略できる。
【００３９】
このアニールされたシリカガラス平板Ｇは研磨する（Ｓ５）。
【００４０】
この研磨には通常の研磨装置が用いられ、所定の平坦度になるように研磨される。
【００４１】
次に本発明に係わるガラス部材の成形装置の他の実施形態について説明する。
【００４２】
本実施形態は、上記実施形態の加熱手段に発熱量を制御する手段を付加したものである。
【００４３】
例えば、図６および図７に示すように、加熱手段６Ａは保温枠６Ａｂで囲われた火炎バーナ６Ａａと、この火炎バーナ６Ａａにガス管６Ａｄを介して接続され、電磁絞り構造の加熱手段制御器６Ａａｃを有しており、加熱手段制御器６Ａａｃは制御装置８Ａに接続されている。これにより、厚み計測手段による測定結果に基づき、制御装置８Ａにより加熱手段制御器６Ａａｃを介して加熱手段６Ａを制御するようになっている。この加熱手段６Ａには、応答性のよいカーボンヒータを用いるのが好ましい。他の構成は図１および図２に示す成形装置と異ならないので、同一符号を付して説明は省略する。
【００４４】
従って、当初のシリカガラス平板Ｇの厚さの誤差などにより、厚み計測手段が所定の厚みに対して差異を検知した場合、例えば、所定の厚さよりも厚い場合には、制御装置８Ａにより加熱手段制御器６Ａａｃを介して加熱手段６Ａの発熱量を増加させるように制御し、引き伸ばし量を増加させ、シリカガラス平板Ｇの厚さを薄くし、所定の厚さにする。所定の厚さよりも薄い場合には、加熱手段６Ａの発熱量を減少させる引き伸ばし量を減少させ、シリカガラス平板Ｇの厚さを薄くし、所定の厚さにする。この加熱手段６Ａの制御によるシリカガラス平板Ｇの板厚の制御は、単独で行ってもよいが、上記実施形態に示すように、上側保持手段の降下速度と下側保持手段の降下速度と速度差を利用した板厚制御方法と組み合わせて用いることにより、木目細かい板厚制御ができて好ましい。
【００４５】
また、本発明に係わるガラス部材の成形装置に用いられる加熱手段の変形例を説明する。
【００４６】
本変形例は、上記実施形態の加熱手段に往復動装置を付加したものである。
【００４７】
例えば、図８に示すように、加熱手段としての火炎バーナ６Ｂには往復動装置６Ｂｄが設けられており、この往復動装置６Ｂｄは保温枠６Ｂｂに水平方向に往復動自在に設けられた火炎バーナ６Ｂに連結されたコネクティングロッド６Ｂｄ１と、クランクウェブ６Ｂｄ２と、このクランクウェブ６Ｂｄ２を回転させてクランクピン６Ｂｄ３、コネクティングロッド６Ｂｄ１を介して往復動させるモータ６Ｂｄ４からなっている。また、火炎バーナ６Ｂには燃料ガス供給用の可撓性ガス管６Ｂｅが接続されている。
【００４８】
上記往復動のストロークは火炎バーナ６Ｂのノズルピッチの１／２になるようになっている。従って、火炎バーナ６Ｂのシリカガラス平板Ｇと平行な進退運動によって、両ノズル６Ｂｆ間の部位であっても均一に加熱されるため、シリカガラス平板Ｇは均一に加熱される。
【００４９】
【発明の効果】
本発明に係わるガラス部材の成形方法によれば、材料歩留がよく、製造コストが安く、特性を劣化させることがないガラス部材の成形方法を提供することができる。
【００５０】
また、本発明に係わるガラス部材の成形装置によれば、材料歩留がよく、製造コストが安く、特性を劣化させることなくガラス部材を成形できるガラス部材の成形装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係わるガラス部材の成形装置の保温部材の一部を切欠して示す概念図。
【図２】  本発明に係わるガラス部材の成形装置の制御回路図。
【図３】  本発明に係わるガラス部材の成形装置に用いられる厚み計測手段の概念図。
【図４】  本発明に係わるガラス部材の成形装置を用いたガラスの成形方法の成形工程図。
【図５】  本発明に係わるガラス部材の成形装置を用いたガラスの成形方法に用いられる電気溶融炉の概念図。
【図６】  本発明に係わるガラス部材の成形装置の他の実施形態の概念図。
【図７】  本発明に係わるガラス部材の成形装置の他の実施形態の制御回路図。
【図８】  本発明に係わるガラス部材の成形装置の実施形態の加熱手段の変形例を示す概念図。
【符号の説明】
１  ガラス部材の成形装置
２  上側降下手段
２ａ  上側ボールねじ
２ｂ  上側ステッピングモータ
２ｂｃ  上側ステッピングモータ制御器
３  上側保持手段
３ａ  上側保持用凹部
３ｂ  上側保持板
３ｂ１  上側保持部材
３ｃ  上側保持ねじ
３ｄ  上側螺孔
３ｅ  上側遊嵌孔
４  下側降下手段
４ａ  下側ボールねじ
４ｂ  下側ステッピングモータ
４ｂｃ  下側ステッピングモータ制御器
５  下側保持手段
５ａ  下側保持用凹部
５ｂ  下側保持板
５ｂ１  下側保持部材
５ｃ  下側保持ねじ
５ｄ  下側螺孔
５ｅ  下側遊嵌孔
６  加熱手段
６ａ  火炎バーナ
６ｂ  保温枠
７  厚み計測手段
７ａ  レーザ変位計
７ｂ  発光素子
７ｂｃ  発光素子ドライバー
７ｃ  投光レンズ
７ｄ  結像レンズ
７ｅ  ポジションセンサ
７ｆ  信号処理装置
７ｇ  検出ヘッド
８  制御装置
Ｇ  ガラス平板
Ｇｕ  上端部
Ｇｂ  下端部
【図１】
0004000349.tif 000002
【図２】
0004000349.tif 000003
【図３】
0004000349.tif 000004
【図４】
0004000349.tif 000005
【図５】
0004000349.tif 000006
【図６】
0004000349.tif 000007
【図７】
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【図８】
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