(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に描画パターンを描画する露光装置に設けられ、前記基板と当接する面に絶縁層を有する本体と、
前記絶縁層から垂直に延びる垂直板部と、この垂直板部の上端面から前記基板に向かって突出するように湾曲して延びる湾曲板部とを有する金具と、
この金具に連結され前記金具に流れる静電気を放電する放電手段とを備え、
前記湾曲板部の最も突出した部位は、前記基板の外縁が前記絶縁層に載置されるときに形成する軌跡よりも前記基板側に突出し、
前記湾曲板部は弾性力を有し、前記本体への前記基板の着脱時に前記基板の外縁に接触することを特徴とする描画テーブル。
【請求項２】
前記金具が前記本体に固定されることを特徴とする請求項１に記載の描画テーブル。
【請求項３】
前記絶縁層が樹脂層を備えることを特徴とする請求項１に記載の描画テーブル。
【請求項４】
前記露光装置において、レーザビームによって前記基板が描画されることにより露光が行われることを特徴とする請求項１に記載の描画テーブル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えばプリント基板等の製作のための露光装置に設けられる描画テーブルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年プリント基板等の製作工程は自動化が進んでおり、例えばフォトレジスト層を備えた基板上に所定の回路パターン（以下、描画パターンという）を描画する露光、この露光後に行われる現像およびエッチングの一連の処理は、基板をベルトコンベア等で搬送しながら順に行われる。基板上に描画パターンを描画する装置としてレーザ描画装置が挙げられるが、このレーザ描画装置には導電性の鉄やアルミ等から成り、基板を所定位置に設置するための描画テーブルが設けられており、基板はこの描画テーブル上に搬送され、所定位置においてレーザビームにより描画パターンが描画される。
【０００３】
基板は搬送時における摩擦などにより静電気を発生するが、この基板上の静電気（描画面側の銅箔に溜まった正電荷または負電荷）は導電性の描画テーブルとの間に放電を起こす際に、描画パターンの乱れを引き起こす原因となる。この対策として、静電除去ブローや静電除去ブラシなどにより静電気を基板から除去していた。静電除去ブローは、イオン発生器により発生させたイオンをファンなどにより基板表面へ吹き付け、正電荷または負電荷のイオンによって静電気を電気的に中和させる装置である。静電除去ブラシは、基板着脱時において、基板表面を摺動することによって基板から静電気を取り除く装置である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、静電除去ブローの描画時における送風はレーザビームのゆらぎを引き起こし、基板に描画される描画パターンが乱れるおそれがある。また静電除去ブラシはブラシの抜けが避けられず、特にクリーンルーム内における使用には問題がある。
【０００５】
本発明は、この様な点に鑑みてなされたものであり、描画パターンが乱れずに基板から静電気除去ができる描画テーブルを提供することが目的である。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明による描画テーブルは、基板に描画パターンを描画する露光装置に設けられ、基板と当接する面に絶縁層を有する本体と、この本体への基板の着脱時に基板の外縁に接触可能な金具と、この金具に連結され金具に流れる静電気を放電する放電手段とを備えることを特徴としている。
【０００７】
描画テーブルにおいて、好ましくは金具が本体に固定される。
【０００８】
描画テーブルにおいて、好ましくは金具が所定の弾性力を有する湾曲板部を備える。
【０００９】
描画テーブルにおいて、好ましくは絶縁層が樹脂層を備える。
【００１０】
描画テーブルにおいて、好ましくは、露光装置においてレーザビームによって基板が描画されることにより露光が行われる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による描画テーブルの実施形態について添付図面を参照して説明する。
【００１２】
図１には第１実施形態である描画テーブルが基板とともに示される。図２は描画テーブルの部分断面図である。
描画テーブル１０は、露光装置の床面上に据え付けられた基台（図示しない）に設けられ、この基台に対し所定の方向に移動可能である。基板５０は図示しない適当なクランプ手段によって描画テーブル１０のほぼ中央（図１に示す破線の位置）に下面５４が密着するように固定される。この状態で、基板５０の上面である描画面５６のフォトレジスト層に所定の回路パターン、即ち描画パターンなどが描画される。基板５０は、例えば銅箔の上にフォトレジスト層が形成されたガラス基板である。
【００１３】
この描画テーブル１０は、鉄やアルミニウムなどの金属からなる本体１２を備え、この本体１２の上層に樹脂などからなる絶縁層２０が全面に設けられている。絶縁層２０は、本体１２と基板５０の上面である描画面５６との間に放電が生じるのを防止する。この絶縁層２０は、基板５０が当接する中央部即ち図１に示す破線より内側において薄く、その外縁部即ち破線の外側において厚く設けられている。薄い絶縁層を第１の絶縁層２２とし、厚い絶縁層を第２の絶縁層２４とする。
【００１４】
第２の絶縁層２４の上には、静電気除去金具３０が３個所に設けられ、この静電気除去金具３０はそれぞれボルト３４によって描画テーブル１０に固定される。静電気除去金具３０は１枚の金属板から形成され、ボルト３４によって固定される固定板部３２と、この固定板部３２の描画テーブル中央側端面３２ａから垂直に延びる垂直板部３６と、この垂直板部３６の上端面３６ａから湾曲して延びる湾曲板部３８とを備える。湾曲板部３８は描画テーブル１０の内側に向かって突出し、弾性力を有する。
【００１５】
水平方向に関して、垂直板部３６は、第１の絶縁層２２と第２の絶縁層２４との境界線Ｌ１より描画テーブル１０の外側にある。また、鎖線Ｌ２で示す湾曲板部３８の曲面３８ａの最も突出した面が境界線Ｌ１より内側に位置する。基板５０の外縁５２は図１に示す破線の位置にあり、厳密には外縁５２の位置は鎖線Ｌ３で示すように境界線Ｌ１より内側にある。
【００１６】
固定板部３２は鋼合金などから成る導線４０の一端が接続され、その他端は露光装置のグラウンドに接続される。従って静電気除去金具３０に流れる電流は、導線４０を介してグラウンドに放電される。
【００１７】
図３〜図５を参照して、描画テーブル１０の静電気除去動作を説明する。
図３に示すように基板５０は、描画テーブル１０の上方にベルトコンベア等（図示しない）によって搬送され、上方から載置される。上方からの下降中、図４に示すように基板５０の外縁５２は静電気除去金具３０の湾曲板部３８と接触する。湾曲板部３８の曲面に外縁５２が当接すると、湾曲板部３８はその弾性により外側（図の右側）に向かって撓み、確実に基板５０と接触する。このとき、基板５０の搬送時の摩擦などによって生じた静電気が静電気除去金具３０、導線４０を通じてグラウンドに向かって流れ、基板５０から除去される。静電気が除去された基板５０が、図５に示すように描画テーブル１０の第１の絶縁層２２の上に載置され、静電気のない状態で描画動作が行われる。
【００１８】
図５に示す状態において描画動作が行われた後、適当な移動手段（図示しない）によって描画テーブル１０から基板５０が持ち上げられ、再び図４に示す状態になる。即ち基板５０の外縁５２が静電気除去金具３０の湾曲板部３８と接触し、基板５０の静電気がグラウンドに向かって流れ、基板５０から静電気が除去される。その後静電気が除去された基板５０が図３に示す状態までさらに持ち上げられた後、ベルトコンベアにより次の処理、例えば現像を行う装置（図示しない）に搬送される。
【００１９】
このように、第１実施形態の描画テーブル１０では、基板５０の着脱時に静電気が除去されるので、描画時および描画後において静電気による描画パターンの乱れを防止できる。また着脱時の接触時に行われるので、静電気除去のための構成あるいは動作が必要なく、簡単に静電気除去が行える。静電気除去金具３０が弾性を有し基板５０の外縁５２より内側に突出する湾曲板部３８を備えているので、静電気除去金具３０と基板５０とは確実に接触でき、静電気除去が確実に行える。さらに、静電気除去金具３０は基板５０の描画される面５６とは異なる外縁５２に接触するので、描画面５６に描画される描画パターンに干渉することなく静電気除去ができ、描画パターンの乱れを防止できる。
【００２０】
また、描画テーブル１０には絶縁層２０が設けられており、基板５０と描画テーブル１０の金属の本体１２との間で放電を起こすおそれがなくなる。例えば裏面５４にすでに描画パターンが描画されている場合でも、裏面５４の描画パターンが乱れることがなくなる。
【００２１】
第１実施形態では隣り合う２辺に静電気除去金具３０を３つ設ける構成であるが、この静電気除去金具３０の数、大きさ、および位置は特に限定されない。静電気除去金具は幅が大きくなり基板との接触面積が増加するほど、多くの静電気が放電される。
【００２２】
図６は、描画テーブルの第２実施形態を示す図である。第２実施形態は、垂直板部の長さが異なること以外は第１実施形態と同じ構成であり、対応する構成には同符号を付している。同じ構成については説明を省略する。
【００２３】
図６は第１実施形態の図５と対応しており、基板５０が描画テーブル１０の第１の絶縁層２２の上に載置された状態を示す。第２実施形態では、静電気除去金具３０の垂直板部１３６の鉛直方向の長さが基板５０の板厚とほぼ等しく、基板５０は描画テーブル１０に載置され描画動作が行われる際にも静電気除去金具３０の湾曲板部３８と接触しており、常に静電気を帯びることがない。
【００２４】
第２実施形態も第１実施形態と同様、基板５０の着脱時に静電気が放電され、描画時における描画パターンの乱れを防止できる。さらに、描画動作が行われる際にも基板５０は静電気除去金具３０と接触しているので、描画中における静電気による描画パターンの乱れの防止効果がさらに向上する。
【００２５】
【発明の効果】
本発明によると描画パターンが乱れずに基板から静電気除去ができる描画テーブルが得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による描画テーブルの第１実施形態を基板とともに示す斜視図である。
【図２】図１に示す描画テーブルの部分断面図である。
【図３】図１に示す描画テーブルから基板が外れた状態を示す部分断面図である。
【図４】図１に示す描画テーブルに基板が接触している状態を示す部分断面図である。
【図５】図１に示す描画テーブルに基板が設置された状態を示す部分断面図である。
【図６】本発明の第２実施形態である描画テーブルに基板が設置された状態を示す部分断面図である。
【符号の説明】
１０  描画テーブル
１２  本体
２０  絶縁層
２２  第１の絶縁層
２４  第２の絶縁層
３０  静電気除去金具
３８  湾曲板部
４０  導線
５０  基板
５２  外縁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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