(57)【要約】【課題】正面輝度と白色戻しも達成できる配光制御シートとして使用可能な表面微細凹凸体を提供すること【解決手段】表面の少なくとも一部に微細凹凸が形成された表面微細凹凸体であって、前記微細凹凸が形成された面を通過する光を最も広く配光分布する方向Ｙおよび前記方向Ｙに対して略直交する方向Ｘの、それぞれの方向における表面微細凹凸体の微細凹凸の断面の高さプロファイルにおいて、所定の間隔で接線を引き、その各接点のスロープ角の平均値（平均スロープ角Yおよび平均スロープ角Ｘ）が下記式(a)〜(b)を満足する表面微細凹凸体。平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２≦４．７°・・・(a)平均スロープ角Ｙ≧２．４°・・・(b)【選択図】 図１３
2016167063.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面の少なくとも一部に微細凹凸が形成された表面微細凹凸体であって、
前記微細凹凸が形成された面を通過する光を最も広く配光分布する方向Ｙおよび前記方向Ｙに対して略直交する方向Ｘの、それぞれの方向における表面微細凹凸体の微細凹凸の断面の高さプロファイルにおいて、所定の間隔で接線を引き、その各接点のスロープ角の平均値（平均スロープ角Ｙおよび平均スロープ角Ｘ）が下記式(a)〜(b)を満足する表面微細凹凸体。
平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２≦４．７°・・・(a)
平均スロープ角Ｙ≧２．４°・・・(b)
【請求項２】
前記微細凹凸は、互いに蛇行する複数の凸条部と、前記複数の凸条部間の凹条部を有する波状の凹凸パターンを有する請求項１に記載の表面微細凹凸体。
【請求項３】
前記所定の間隔が2.0μm未満である請求項１または２記載の表面微細凹凸体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表面微細凹凸体に関し、特に配光制御機能を有する表面微細凹凸体に関する。
【背景技術】
【０００２】
主に微細な波状の凹凸から構成される凹凸パターンが表面に形成されたシート状の表面微細凹凸体は、その光学的特性から、配光制御シート等の配光制御体として使用されることが知られている。
【０００３】
配光制御シートの製造方法として、例えば特許文献１には、加熱収縮性フィルムからなる樹脂製の基材上に、樹脂製の硬質層を設けた積層シートを加熱し、加熱収縮性フィルムを収縮させることにより、硬質層を折り畳むように変形させて凹凸状にして、硬質層の表面に凹凸パターンを形成する方法が開示されている。
【０００４】
また、特許文献１には、加熱収縮性フィルムを収縮させた後、延伸を行うことにより、配向のばらつきが小さな凹凸パターンを形成できることが記載されている。このようなシートが配光制御シートと好適に使用される。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１１−２１３０５１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
テレビ、コンピューター、携帯電話、スマートフォン、車載用表示装置等に使用されるプロジェクターやディスプレイにおいては、白色ダイオードを使用し、白色ダイオードからの出射光を集光レンズにより集光する技術が用いられていることが多い。このような場合、集光レンズからの出射光を白い紙等に投影した際に、投影像の中心部と外周部で色合いが異なる現象が観察される。そのような投影位置による色合いの差違があるとディスプレイに白色以外の色が映るので、これを均一な白色に戻すことが必要である。本明細書ではこれを以降省略して「白色戻し」という。この白色戻しのために、表面微細凹凸体を配光制御シートとして集光系に組み合わせる際に、この配光制御シートのスロープ角と白色戻しに相関があることを本発明者等は見出した。なお、スロープ角の測定方法等は後に詳述する。
【０００７】
また、配光制御シートの特性はプロジェクターやディスプレイの正面輝度と相関が高い。
【０００８】
本発明では、以上のように、正面輝度と白色戻しの両方を満足できる配光制御シートとして使用可能な表面微細凹凸体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明は以下の態様を有する。
［１］表面の少なくとも一部に微細凹凸が形成された表面微細凹凸体であって、
前記微細凹凸が形成された面を通過する光を最も広く配光分布する方向Ｙおよび前記方向Ｙに対して略直交する方向Ｘの、それぞれの方向における表面微細凹凸体の微細凹凸の断面の高さプロファイルにおいて、所定の間隔で接線を引き、その各接点のスロープ角の平均値（平均スロープ角Ｙおよび平均スロープ角Ｘ）が下記式(a)〜(b)を満足する表面微細凹凸体。
平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２≦４．７°・・・(a)
平均スロープ角Ｙ≧２．４°・・・(b)
［２］前記微細凹凸は、互いに蛇行する複数の凸条部と、前記複数の凸条部間の凹条部を有する波状の凹凸パターンを有する［１］に記載の表面微細凹凸体。
［３］前記所定の間隔が2.0μm未満である［１］または［２］に記載の表面微細凹凸体。
【発明の効果】
【００１０】
本発明の表面微細凹凸体によれば、配光制御体として用いた場合に、正面輝度と白色戻しの両方を満足できる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の実施形態の一例である表面微細凹凸体の微細凹凸を観察した光学顕微鏡写真である。
【図２】本発明の実施形態の一例である表面微細凹凸体の微細凹凸を観察したその他のレーザー顕微鏡写真である。
【図３】図１の光学顕微鏡写真中のＩ−Ｉ’線に沿って切断した部分を模式的に示す拡大縦断面図である。
【図４】図１の表面微細凹凸体の光学顕微鏡写真からグレースケール画像を得て、前記画像をフーリエ変換したフーリエ変換画像である。
【図５】図４のフーリエ変換画像を模式的に示す模式図である。
【図６】図４の中心からＡ１の中で最大頻度となる点を通るように線Ｌ１−１を引き、線Ｌ１−１の頻度分布をプロットしたグラフである。
【図７】図４の中心からＬ１−１と直交する方向に線Ｌ１−２を引き、線Ｌ１−２の頻度分布をプロットしたグラフである。
【図８】図１の表面微細凹凸体の微細凹凸形成面を原子間力顕微鏡により観察し、その観察結果から得た、表面微細凹凸体の要部の縦断面図である。
【図９】凸部の平均高さを求める方法の説明図である。
【図１０】凸部の平均高さを求める方法の説明図である。
【００１２】
【図１１】図１の表面微細凹凸体を製造するための原版（表面微細凹凸体）の縦断面図である。
【図１２】図１１の原版（表面微細凹凸体）の製造方法を説明する断面図である。
【図１３】(a)本発明の実施形態の一例である表面微細凹凸体（配光制御シート）のサンプルのレーザー顕微鏡画像である。(b)は図（a）の線α（図１中のY方向と平行）に沿って図中横方向に切断した表面微細凹凸体断面の高さプロファイルを示している。
【図１４】(a)表面微細凹凸体断面の高さプロファイルの一部において、1.8μm間隔の各点において接線を引いた状態を示す図である。(b)は図(a)中の点Uを拡大して接線の傾きを説明するための拡大図である。
【図１５】FWHMY＝２０°、FWHMX＝１０°を示す配光制御シートのサンプルのY方向のスロープ角の頻度分布グラフ。
【図１６】FWHMY＝２０°、FWHMX＝１０°を示す配光制御シートのサンプルのX方向のスロープ角の頻度分布グラフ。
【図１７】配光制御シートのサンプルの（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２と相対正面輝度の関係を示すグラフ。
【図１８】配光制御シートのサンプルの平均スロープ角ＹとY方向の相対白色戻し指標の関係を示すグラフ。
【図１９】実施例２の配光制御シートのサンプルの表面微細凹凸のレーザー顕微鏡画像である。
【発明を実施するための形態】
【００１３】
以下、本発明を詳細に説明する。
＜表面微細凹凸体＞
図１は、本発明の表面微細凹凸体の一実施形態例である配光制御シート（配光制御体）の片面の光学顕微鏡写真（平面視；縦０．４ｍｍ×横０．５ｍｍの視野部分を示す）であり、図２は、実施例１の配光制御シートの微細凹凸をレーザー顕微鏡（キーエンス社製「ＶＫ−８５１０」）で観察したレーザー顕微鏡写真である。図２中の線αは、前記配光制御シートを線βに沿って図中横方向に切断した切断面における高さプロファイルを示している。なお、図１と図２とでは、倍率が異なる。
【００１４】
図３は、図１の光学顕微鏡写真中のＩ−Ｉ’線（後述する凸条部と凹条部とが繰り返される方向に沿う線）に沿って切断した部分を模式的に示す拡大縦断面図である。なお、図３は、配光制御シートの縦断面形状の理解しやすさの観点から、単純化して示している。
【００１５】
本明細書において、「表面微細凹凸体」とは、表面に微細な凹凸構造を有する物品のことを意味する。またさらに詳しく説明すると、「表面微細凹凸体」は後述する２次転写品のことを意味する。
【００１６】
この例の配光制御シート１０（表面微細凹凸体）は、図３に示すように、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を材料とする透明な基材１１と、前記基材１１の一方の面上に設けられた電離放射線硬化性樹脂の硬化物を材料とする透明な表面層１２との２層構造であり、表面層１２の露出している側の面に、波状の凹凸パターン１３と、前記凹凸パターン１３の上に形成された多数の凸部１４とから構成された微細凹凸が形成されている。凸部１４は、この例では、概略半球状に形成されている。また、この例では、基材１１の露出している面（表面層１２が設けられた方とは反対側の面）は、平滑面となっている。
【００１７】
微細凹凸における波状の凹凸パターン１３は、図１中では縦方向に延び、図３中では紙面に対して垂直な方向に延びる複数の筋状の凸条部１３ａと、前記複数の凸条部１３ａ間の凹条部１３ｂとが、一方向（図１および２中横方向）に交互に繰り返されたものである。
【００１８】
各凸条部１３ａの縦断面形状は、図３に示すように、それぞれが基端側から先端側に向かって細くなる先細り形状である。
【００１９】
複数の凸条部１３ａは、図１に示すとおり、それぞれが蛇行しており、かつ、互いに非平行であり、不規則に形成されている。すなわち、各凸条部１３ａにおいて、稜線が蛇行し、各凹条部１３ｂにおいて、谷線が蛇行している。また、隣接する凸条部１３ａの稜線の間隔が一定しておらず、隣接する凹条部１３ｂの谷線の間隔が一定していない。
【００２０】
本明細書において、不規則であるとは、配光制御シート１０を基材に対して法線方向から見た際に、凸条部１３ａが蛇行し、かつ互いに非平行であること、各凸条部１３ａの稜線が蛇行し、各凹条部１３ｂの谷線が蛇行していること、また隣接する凸条部１３ａの稜線の間隔が一定せず、隣接する凹条部１３ｂの谷線の間隔が一定していないことを意味する。
【００２１】
また、各凸条部１３ａにおいて稜線の高さが一定しておらず、各凹条部１３ｂにおいて谷線の高さが一定していない。そのため、図３に示すように、各凸条部１３ａの縦断面形状は、それぞれ異なっており一律ではなく、不規則である。
【００２２】
微細凹凸は、このような波状の凹凸パターン１３と、ランダムに分布した多数の凸部１４とで、構成されている。
【００２３】
ここで、「凸条部１３ａ」の稜線とは、凸条部１３ａの頂部をつないで続く線のことを意味する。
【００２４】
凸条部１３ａの稜線の途中に、凸部１４が存在する場合は、凸部１４の頂部を通るように引かれた線のことを指す。
【００２５】
図３に記載の基材１１としては、機械的強度、寸法安定性に優れたＰＥＴの他、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、ポリエチレンアクリレート、ポリスチレンなどの樹脂およびガラスなど、透明性を有する材料を使用できる。基材１１の厚みは、例えば３０〜５００μｍである。
【００２６】
表面層１２としては、電離放射線硬化性樹脂の硬化物の他、熱硬化性樹脂の硬化物、熱可塑性樹脂等が挙げられる。電離放射線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂が挙げられる。表面層１２の厚みは、波状の凹凸パターン１３を形成するのに充分な厚みであればよく、最も厚い部分の厚みとして、１０〜２５μｍ程度であることが好ましい。また、表面層１２の厚みは、表面層１２を変形させる前の厚みのことを意味し、光学式非接触膜厚測定器を用いて測定することができる。
【００２７】
また、この例では、配光制御シート１０の微細凹凸は、波状の凹凸パターン１３と、多数の凸部１４とから構成されているが、本発明の表面微細凹凸体の微細凹凸は、波状の凹凸パターンと、多数の凹部とから構成されていてもよい。
【００２８】
なお、配光制御シート１０において、波状の凹凸パターン１３の繰り返し方向（図１中横方向）を方向Ｙ、前記方向Ｙと直交する方向（図１中縦方向）を方向Ｘという。
【００２９】
また本明細書では、このＸＹ直交座標系において、第１の方向はＹ軸方向として、第２の方向はＸ軸方向という。また、ＸＹ軸に直交する方向を、第３の方向、または表面微細凹凸体の基材の法線方向と言うこともある。
【００３０】
図示例の配光制御シート１０は、配光制御性能を発揮する観点から、波状の凹凸パターン１３の最頻ピッチが５〜５０μｍとされている。波状の凹凸パターン１３の最頻ピッチは、好ましくは１０〜４０μｍ、より好ましくは１５〜３０μｍである。ピッチとは、隣り合う凸条部の頂部間の距離である。
【００３１】
最頻ピッチが上記範囲内であると、前記配光制御シート１０に対して、微細凹凸が形成された面（以下、微細凹凸形成面という場合がある）または前記面と反対側の平滑面側から光を入射させた場合、入射面とは反対面からの出射光は、方向Ｙ（広配光分布方向）に良好に配光する。
【００３２】
そして、図示例の配光制御シート１０の微細凹凸は、上述のように広配光分布方向への配光を主に担う波状の凹凸パターン１３に加えて、ランダムに形成された多数の凸部１４を有している。そのため、波状の凹凸パターン１３の異方性が凸部１４により適度に弱められる。その結果、前記配光制御シート１０に対して、いずれか一方の面から光を入射させた場合、反対面からの出射光は、方向Ｘ（広配光分布方向に直交する方向）にも配光し、方向Ｙよりも小さい。
【００３３】
凸部１４の見かけの最頻径は、１〜１０μｍが好ましく、より好ましくは３〜６μｍ、さらに好ましくは４〜５μｍである。ここで「見かけの」と形容する理由は、これらの最頻径は、例えば図３中で言えば、上方（基材の法線方向）から配光制御シート１０を顕微鏡写真として観察して径として捉えているからである。
【００３４】
本明細書におけるFWHMは、配光特性測定装置（例えば、ＧＥＮＥＳＩＡ  ＧｏｎｉｏＦａｒ  Ｆｉｅｌｄ  Ｐｒｏｆｉｌｅｒ（ジェネシア社製））を用いて以下の方法により測定できる。  
【００３５】
まず、配光制御シート１０に対して微細凹凸形成面と反対側の平滑面側から光を照射、入射させる。その際に、入射面とは反対面側から垂直に出光する出射光（出光角度＝０°）の照度を基準値とし、方向Ｙに沿う出光角度−９０°〜＋９０°の範囲内の出射光の照度を、上記基準値に対する相対値として、例えば１°おきに測定する。そして、各方向Ｙの出光角度に対する照度の値をプロットして照度曲線を得る。
【００３６】
前記照度曲線における半値幅（全半値幅）を広配光分布方向（方向Ｙ）のFWHMという。また、方向Ｘに沿う出光角度−９０°〜＋９０°の範囲内の出射光の照度を上記基準値に対する相対値として、例えば１°おきに測定する。そして、各方向Ｘの出光角度に対する照度の値をプロットして照度曲線を得る。前記照度曲線における半値幅（全半値幅）を広配光分布方向に直交する方向（方向Ｘ）のFWHMとする。なお、本明細書では、上記の方向について図別する場合にＸ方向についてのFWHMは「FWHMＸ」と表示し、Ｙ方向についてのFWHMは「FWHMＹ」と表示する。
【００３７】
本明細書において、波状の凹凸パターン１３の最頻ピッチ、凸部１４の見かけの最頻径は、以下のように測定、定義される。
【００３８】
まず、表面微細凹凸体について、図１のような光学顕微鏡写真を得る。その際の観察視野は、縦０．４〜１．６ｍｍ、横０．５〜２ｍｍとする。この画像がｊｐｅｇ等の圧縮画像である場合は、これをグレースケールのＴｉｆ画像に変換する。そして、フーリエ変換を行い、図４のようなフーリエ変換画像を得る。
【００３９】
また、図４のフーリエ変換画像の模式図を図５として示す。
【００４０】
ここで、図４において符号Ａ１およびＡ２の白色部は、その形状に方向性があることから、波状の凹凸パターンのピッチの情報を含む。白色の輝度は頻度を示す（ただし中心点は除く）。一方、図４の白色円環Ｂは、その形状に方向性がないことから、多数の凸部の径の情報を含む。
【００４１】
そこで、図４の中心からＡ１の中で最大頻度となる点を通るように線Ｌ１−１を引き、線Ｌ１−１の頻度分布をプロットすると、図６のグラフが得られる。
【００４２】
また、図４の中心からＬ１−１と直交する方向に線Ｌ１−２を引き、線Ｌ１−２の頻度分布をプロットすると、図７のグラフが得られる。
【００４３】
図６において、頻度が高い１／ＸＡが、配光制御シート１０における、波状の凹凸パターンの最頻ピッチとなる。
【００４４】
また、図６および図７において、頻度が高い１／ＸＢ、１／ＹＢが、配光制御シート１０における、多数の凸部のそれぞれＬ１−１方向、Ｌ１−２方向の最頻径となる。すなわち、１／ＸＡは波状の凹凸パターンの最頻ピッチ、）（１／ＸＢ＋１／ＸＢ）／２は多数の凸部の見かけの最頻径である。
【００４５】
なお、図４のフーリエ変換画像において、中心からの方位は、図１に存在する周期構造（凹凸パターン１３）の方向を意味し、中心からの距離は、図１に存在する周期構造の周期の逆数を意味する。この例では、図１に示すように、波状の凹凸パターン１３が図中横方向に繰り返されているため、フーリエ変換画像において中心からの図中横方向に延びる線Ｌ１−１において、最頻ピッチの逆数に相当する部分の輝度（頻度）が高くなっている。
【００４６】
また、図５中、ＸＢは、線Ｌ１−１（図５では図示略）の円環を通る部分において、頻度が最大となる位置であり、また、図５中、ＹＢは、線Ｌ１−２（図５では図示略）の円環を通る部分において、頻度が最大となる位置である。
【００４７】
図示例のような光学顕微鏡写真を少なくとも５枚撮影し、それぞれの写真について上記のように求めた最頻ピッチの平均値を波状の凹凸パターン１３の「最頻ピッチ」と定義する。すなわち、「最頻ピッチ」とは、隣り合う凸条部の頂部間距離のうち、最も出現頻度が高い頂部間距離のことを指す。また、それぞれの写真について上記のように求めた見かけの最頻径の平均値を凸部１４の「見かけの最頻径」と定義する。すなわち、「見かけの最頻径」とは、凹凸パターンの上に形成された凸部の直径のうち、最も出現頻度の高い直径のことを指す。
【００４８】
なお、表面微細凹凸体の微細凹凸は、凸部の代わりに、凹部を有していてもよく、凹部の「見かけの最頻径」も凸部の「見かけの最頻径」と同じ方法で求められる。すなわち言い換えれば、見かけの最頻径とは、微細凹凸が形成された表面の光学顕微鏡写真からフーリエ変換画像を得て、該フーリエ変換画像から多数の凹部または凸部についての直交する２方向の径の頻度分布を得て、該頻度分布に基づいて得られた多数の凹部または凸部についての最頻径の平均値のことである。
【００４９】
波状の凹凸パターン１３を構成する凸条部１３ａの平均高さは、０．３〜１０μｍが好ましく、より好ましくは０．５〜５μｍであり、さらに好ましくは１〜３μｍである。凸条部１３ａの平均高さが上記範囲であると、配光制御性能が充分に得られる。
【００５０】
本明細書において、波状の凹凸パターン１３の凸条部１３ａの平均高さは、以下のように測定、定義される。
【００５１】
まず、配光制御シート１０の微細凹凸形成面を原子間力顕微鏡により観察し、その観察結果から、方向Ｙに沿って波状の凹凸パターン１３を切断した面について、図８のような縦断面図を得る。そして、凸部１４が存在していない部分の凸条部１３ａの断面図から、前記凸条部１３の高さＨを求める。具体的には、凸条部１３ａの高さＨは、前記凸条部１３ａの頂部Ｔと前記凸条部１３ａの一方側に位置する凹条部１３ｂの底部Ｂ１との垂直距離をＨ１とし、前記凸条部１３ａの頂部Ｔと前記凸条部１３ａの他方側に位置する凹条部１３ｂの底部Ｂ２との垂直距離をＨ２とした場合に、Ｈ＝（Ｈ１＋Ｈ２）／２で求められる。
【００５２】
このような計測を凸部１４が存在していない凸条部１３ａの５０箇所に対して行い、５０のデータの平均値を「凸条部の平均高さ」と定義する。
【００５３】
一方、凸部１４の平均高さは、０．５〜３μｍが好ましく、より好ましくは１〜２μｍ、さらに好ましくは１．１〜１．５μｍである。凸部１４の平均高さが上記範囲であると、波状の凹凸パターン１３の異方性を適度に弱めることができる。  
【００５４】
本明細書において、凸部１４の平均高さは、以下のように測定、定義される。
【００５５】
まず、上述のようにして図８の断面図を得る。そして、図９に示すように、波状の凹凸パターン１３に由来する形状と、凸部１４に由来する形状とに波形分離する。なお、波形分離は、波状の凹凸パターン１３に由来する形状をサインカーブとして行う。ついで、図９の断面図から、波状の凹凸パターン１３に由来する形状を差し引き、図１０に示すように、凸部１４に由来する形状のみの断面図を得る。そして、図１０の断面図において、凸部１４の高さＨ’を、Ｈ’＝（Ｈ１’＋Ｈ２’）／２として求める。Ｈ１’は、図１０の断面図において、凸部１４の頂部Ｔ’と前記凸部１４の一方側のベースラインＬαとの垂直距離であり、Ｈ２’は、凸部１４の頂部Ｔ’と前記凸部１４の他方側のベースラインＬβとの垂直距離である。
【００５６】
このような計測を５０個の凸部１４に対して行い、５０のデータの平均値を「凸部の平均高さ」と定義する。
【００５７】
配光制御シート１０の微細凹凸における凸部１４の占有面積割合は、３０〜７０％が好ましく、より好ましくは４０〜６０％、さらに好ましくは４５〜５５％である。凸部１４の占有面積割合が上記範囲であると、波状の凹凸パターン１３の異方性を適度に弱めることができる。
【００５８】
本明細書において、配光制御シート１０における凸部１４の占有面積割合γ（％）は、以下のように測定、定義される。
【００５９】
まず、図１（ａ）のような光学顕微鏡写真を得て、視野全体の面積Ｓ２（例えば縦０．４〜１．６ｍｍ、横０．５〜２ｍｍ）中に認められる凸部１４の個数ｎを数え、視野全体において、ｎ個の凸部１４によって占有されている面積Ｓ１＝ｎｒ２πを求める。占有面積割合γ（％）は以下の式により求められる。
【００６０】
γ（％）＝Ｓ１×１００／Ｓ２（ただし、式中のｒは、凸部の見かけの最頻径の１／２（すなわち半径）である。）
【００６１】
このように図示例の配光制御シート１０は、その片面に、方向Ｙへの配光を主に担う特定の波状の凹凸パターン１３と、前記波状の凹凸パターン１３上に形成され、前記波状の凹凸パターン１３の異方性を適度に弱め、方向Ｘの配光を増加させる多数の凸部１４とから主に構成される微細凹凸を有している。
【００６２】
また、図示例の配光制御シート１０の波状の凹凸パターン１３を構成している凸条部１３ａは、互いに非平行で、かつ、それぞれが蛇行していて、規則性がない。そのため、凹凸パターン１３の異方性が適度に弱められていて、凸部１４が形成されていることによる効果とあいまって、方向ＸのFWHMを増加させる効果がより顕著に発現するものと考えられる。
【００６３】
方向ＸのFWHMを広げる方法としては、高屈折率粒子等を添加する方法も考えられる。
【００６４】
しかしながら、高屈折率粒子等の添加は、配光制御シートの光透過率を下げる傾向にある。これに対して、本発明のように微細凹凸を特定に制御することで方向ＸのFWHMを増加させる方法では、高屈折率粒子等を添加する必要がなく、また、添加する場合でも、その添加量を少量とできる。そのため、光透過率を高く維持できる。
【００６５】
このような図示例の配光制御シート１０は、例えば、プロジェクター用の配光制御部材；テレビ、モニター、ノート型パーソナルコンピュータ、タブレット型パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話等のバックライト用の配光制御部材；等としても好適に使用される。
【００６６】
また、前記配光制御シート１０は、コピー機等に使用される、ＬＥＤ光源を線状に配列したスキャナ光源において、導光部材の出射面を構成する配光制御部材等としても好適に使用される。
【００６７】
本発明の１つの態様は、前述の表面微細凹凸体の配光制御シート、または配光制御部材としての使用、もしくはその使用方法である。また、本発明の表面微細凹凸体を配光制御シート、または配光制御部材として用いる場合、その応用先としては、前述の通り、プロジェクター用や、パソコンや携帯電話等のバックライト用、または導光部材の出射面等の配光制御部材等が挙げられる。
【００６８】
＜表面微細凹凸体の製造方法＞
図示例の配光制御シート１０（表面微細凹凸体）は、微細凹凸を表面に有する配光制御シート形成用原版（配光制御体形成用原版）を型として用い、前記配光制御シート形成用原版（以下、「原版」ともいう）の微細凹凸を転写する転写工程を有する方法により製造できる。
【００６９】
本発明の１つの態様は、前記表面微細凹凸体の配光制御シートや、配光制御部材を製造するための原版としての使用である。
【００７０】
図示例の配光制御シート１０は、原版の微細凹凸を転写して１次転写品を得て、ついで、前記１次転写品の微細凹凸をさらに転写して得た２次転写品である。１次転写品の有する微細凹凸は、原版の微細凹凸の反転パターンであるが、２次転写品の微細凹凸は、原版の微細凹凸と同じパターンである。よって、この例では原版として、図示例の配光制御シート１０と同じ微細凹凸を有する表面微細凹凸体を製造し、これを転写の型として２次転写を行い、図示例の配光制御シート１０を製造している。
【００７１】
また、ｎ次転写品において、ｎが偶数である場合には、前記転写品の有する微細凹凸は原版の微細凹凸と同じパターンであるが、ｎが奇数である場合には、前記転写品の有する微細凹凸は原版の微細凹凸の反転パターンとなる。そして、ｎが奇数であるｎ次転写品であって、かつ、転写に用いた原版の微細凹凸が凸部を有するものである場合、そのｎ次転写品（ｎが奇数）の微細凹凸は、凸部が反転した凹部を有するものとなる。すでに述べたとおり、本発明の表面微細凹凸体の具備する微細凹凸は、凸部の代わりに凹部を有する形態であってもよい。よって、本発明の表面微細凹凸体には、上述の原版と、原版のｎ次転写品（ｎが偶数）だけでなく、原版のｎ次転写品（ｎが奇数）も含まれる。
【００７２】
以下、２次転写品である図示例の配光制御シート１０の製造方法について説明する。
【００７３】
［原版］
図示例の配光制御シート１０を製造するにあたっては、まず、図１１に示す表面微細凹凸体２０を製造し、これを原版として用いる。前記原版は、樹脂を材料とする基材２１と、前記基材２１の片面全体に設けられた硬質層２２とを有し、硬質層２２の露出した側の表面が、図示例の配光制御シート１０と同様の微細凹凸に形成されたものである。
【００７４】
硬質層２２は、この例では、マトリクス樹脂２２ａと前記マトリクス樹脂２２ａ中に分散した粒子２２ｂとからなり、折り畳まれたように変形しているとともに、硬質層２２の厚みｔ（粒子が存在しない部分の厚み）は粒子の粒径ｄよりも小さく設定されている。そのため、前記硬質層２２は、折り畳まれたように変形したことにより形成された波状の凹凸パターン１３’（凸条部１３ａ’および凹条部１３ｂ’）と、硬質層２２に分散した各粒子２２ｂが硬質層２２の表面側に突出することにより形成された凸部１４’とから構成される微細凹凸を有する。基材２１における硬質層２２との接触面は、折り畳まれたように変形した硬質層２２の形状に追従した凹凸状となっている。
【００７５】
なお、硬質層２２の厚みｔとは、表面微細凹凸体２０をその面方向に対して垂直に切った断面（縦断面）の顕微鏡写真から、硬質層２２のうち粒子２２ｂの存在しない部分を１０カ所以上無作為に抽出して各部分の厚さを法線方向に測定した際の、得られた各数値の平均値である。
【００７６】
また、粒子２２ｂの粒径ｄとは、均一に単分散している粒子について、レーザー回折・散乱式粒度分布分析装置で測定したモード径（最頻径）である。
【００７７】
このような図１１の表面微細凹凸体２０は、詳しくは後述するように、樹脂を材料とする基材フィルムの片面に、マトリクス樹脂中に粒子が分散した硬質層を設けて積層シートを形成する積層工程と、積層シートの少なくとも硬質層を折り畳むように変形させる変形工程とを有する方法により製造できる。この方法によれば、それぞれが蛇行し、互いに非平行で、不規則な凸条部１３ａ’を形成できる。また、各凸条部１３ａ’の縦断面は、基端側から先端側に向かって先細り形状になる。
【００７８】
図１の表面微細凹凸体２０においては、基材２１を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１（℃）よりも、マトリクス樹脂２２ａのガラス転移温度Ｔｇ２が、１０℃以上高いことが必要である。また、粒子２２ｂは、基材２１を構成する樹脂のガラス転移温度より１０℃高い温度未満の温度では、熱により粒子形状が変化しない材料から主に構成されることが必要である。言い換えれば、Ｔｘ＜Ｔｇ１＋１０の関係を満たすような温度Ｔｘでは熱により粒子形状が変化しない材料から主に構成されることが必要である。
【００７９】
ここで「粒子形状が変化しない」とは、加熱前後で粒子の形、及び粒子径が変化しないことを意味する。
【００８０】
すなわち、基材２１を構成する樹脂と、マトリクス樹脂２２ａとにおいては、これらのガラス転移温度の差（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上となるように選択されることが必要であり、前記差は２０℃以上が好ましく、３０℃以上がより好ましい。（Ｔｇ２−Ｔｇ１）が１０℃以上であると、Ｔｇ２とＴｇ１の間の温度で（即ち、加工温度をＴｘ（℃）としたとき、Ｔｇ１＜Ｔｘ＜Ｔｇ２の関係を満たす加工温度で）、容易に後述の変形工程において加熱収縮などの加工が行える。また、Ｔｇ２とＴｇ１の間の温度を加工温度Ｔｘとする（即ち、Ｔｇ１＜Ｔｘ＜Ｔｇ２の関係を満たす加工温度とする）と、基材のヤング率がマトリクス樹脂２２ａのヤング率より高くなる条件で加工でき、その結果、後述の変形工程において、硬質層２２に波状の凹凸パターン１３’を容易に形成できる。加工温度とは、変形工程で少なくとも硬質層２２を折り畳むように変形させる際の温度（例えば熱収縮時の加熱温度。）のことである。
【００８１】
また、Ｔｇ２が４００℃を超えるような樹脂を使用する必要性は経済面から乏しく、Ｔｇ１が−１５０℃より低い樹脂は存在しないことから、（Ｔｇ２−Ｔｇ１）は５５０℃以下であることが好ましく、２００℃以下であることがより好ましい。すなわち、本発明の１つの態様において、（Ｔｇ２−Ｔｇ１）は、１０〜５５０℃が好ましく、３０〜２００℃がより好ましい。なお、後述の変形工程の加工温度における基材２１とマトリクス樹脂２２ａとのヤング率の差は、波状の凹凸パターン１３’を容易に形成できることから、０．０１〜３００ＧＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａであることがより好ましい。
【００８２】
ヤング率は、ＪＩＳ  Ｋ  ７１１３−１９９５に準拠して測定した値である。
【００８３】
Ｔｇ１は−１５０〜３００℃であることが好ましく、−１２０〜２００℃であることがより好ましい。Ｔｇ１が−１５０℃より低い樹脂は存在せず、Ｔｇ１が３００℃以下であれば、上述の加工温度まで、容易に昇温、加熱できる。
【００８４】
上述の加工温度における、基材２１を構成する樹脂のヤング率は０．０１〜１００ＭＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＭＰａであることがより好ましい。基材２１を構成する樹脂のヤング率が０．０１ＭＰａ以上であれば、基材として使用可能な硬さであり、１００ＭＰａ以下であれば、硬質層２２が変形する際に同時に追従して変形することが可能な軟らかさである。
【００８５】
粒子２２ｂを構成する材料には、基材２１を構成する樹脂のガラス転移温度より１０℃高い温度未満では、熱により粒子形状が変化しない材料の１種以上を用いることができる。言い換えれば、Ｔｘ＜Ｔｇ１＋１０の関係を満たすような温度Ｔｘでは、熱により粒子形状が変化しない材料の１種以上を用いることができる。
【００８６】
例えば、粒子２２ｂを構成する材料が、ガラス転移温度を有する樹脂およびガラス転移温度を有する無機材料からなる群から選ばれる１種以上である場合、そのガラス転移温度Ｔｇ３が、マトリクス樹脂のガラス転移温度Ｔｇ２と同様の条件を満たすこと、すなわち、（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が１０℃以上となるように選択されることが必要であり、（Ｔｇ３−Ｔｇ１）は２０℃以上がより好ましく、３０℃以上が更に好ましい。（Ｔｇ３−Ｔｇ１）が１０℃以上であると、上述の加工温度において、粒子２２ｂが変形した溶融したりせず、確実に凸部１４’を形成する。
【００８７】
粒子２２ｂを構成する材料が、ガラス転移温度を有さない材料、例えば内部架橋型樹脂などである場合には、そのビカット軟化温度（ＪＩＳ  Ｋ７２０６に規定）が、上述の条件を満たすこと、すなわち、基材２１を構成する樹脂のガラス転移温度より１０℃以上高いことが好ましく、２０℃以上高いことが好ましく、３０℃以上高いことがより好ましい。
【００８８】
なお、本明細書において、ガラス転移温度Ｔｇ３についての好ましい温度範囲などの記載は、粒子２２ｂがガラス転移温度を有さず、ビカット軟化温度を有する材料から主に構成される場合、そのビカット軟化温度にも該当するものとする。
【００８９】
さらに、粒子２２ｂを構成する材料としては、ガラス転移温度、ビカット軟化温度が測定できないものであっても、基材２１を構成する樹脂のガラス転移温度Ｔｇ１より１０℃高い温度未満において、熱により粒子形状が変化しない材料であれば、本発明において使用可能である。言い換えれば、Ｔｘ＜Ｔｇ１＋１０の関係を満たすような温度Ｔｘでは、熱により粒子形状が変化しない材料であれば、本発明において使用可能である。
【００９０】
Ｔｇ２およびＴｇ３は、４０〜４００℃であることが好ましく、８０〜２５０℃であることがより好ましい。Ｔｇ２およびＴｇ３が４０℃以上であれば、上述の加工温度を室温またはそれ以上にすることができて有用であり、Ｔｇ２が４００℃を超えるようなマトリクス樹脂２２ａやＴｇ３が４００℃を超えるような粒子２２ｂを使用することは、経済性の面から必要性に乏しい。
【００９１】
上述の加工温度におけるマトリクス樹脂２２ａのヤング率は０．０１〜３００ＧＰａであることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａであることがより好ましい。マトリクス樹脂２２ａのヤング率が０．０１ＧＰａ以上であれば、基材２１を構成する樹脂の加工温度におけるヤング率より充分な硬さが得られ、波状の凹凸パターン１３’が形成された後、前記凹凸パターン１３’を維持するのに充分な硬さである。ヤング率が３００ＧＰａを超えるような樹脂をマトリクス樹脂２２ａとして使用することは、経済性の面から必要性に乏しい。
【００９２】
基材２１を構成する樹脂としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル、ポリエチレンやポリプロピレン等のポリオレフィン、スチレン−ブタジエンブロック共重合体等のポリスチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリジメチルシロキサン等のシリコーン樹脂、フッ素樹脂、ＡＢＳ樹脂、ポリアミド、アクリル樹脂、ポリカーボネート、ポリシクロオレフィンなどの樹脂が挙げられる。
【００９３】
このうち、収縮後に所望の凹凸形状が得られやすいというから、ポリエステル、ポリカーボネートが好ましい。
【００９４】
また、前記樹脂としては、質量平均分子量が、１０００〜１００万のものがより好ましい。１万〜１０万のものがより好ましい。前記質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて、測定した値のことを指す。具体的な測定条件として、溶離液としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ヘキサフルオロイソプロパノール等から適宜選択したものを用いることできる。また、分子量の標準物質としては、既知の分子量のポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等から適宜選択したものを用いることができる。また、測定温度としては、３５〜５０℃の範囲で適宜選択できる。
【００９５】
マトリクス樹脂２２ａとしては、そのガラス転移温度Ｔｇ２が上述の条件を満たすように、基材２１の種類等に応じて選択され、例えば、ポリビニルアルコール、ポリスチレン、アクリル樹脂、スチレン−アクリル共重合体、スチレン−アクリロニトリル共重合体、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリカーボネート、ポリエーテルスルホン、フッ素樹脂などを使用することができる。
これらの中でも透明性の点では、アクリル樹脂が好ましい。
【００９６】
また、前記マトリクス樹脂としては、質量平均分子量が１０００〜１０００万のものが好ましく、１万〜２００万のものがより好ましい。前記質量平均分子量は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィーを用いて、測定した値のことを指す。具体的な測定条件として、溶離液としては、テトラヒドロフラン、クロロホルム、ヘキサフルオロイソプロパノール等から適宜選択したものを用いることができる。また、分子量の標準物質としては、既知の分子量のポリスチレン、ポリメチルメタクリレート等から適宜選択したものを用いることができる。また、測定温度としては、３５〜５０℃の範囲で適宜選択できる。
【００９７】
マトリクス樹脂２２ａは単独で使用してもよいが、波状の凹凸パターンの最頻ピッチ、平均高さおよび配向度を調整するなどの目的に応じて適宜併用してもよい。例えば、同種ではあるがガラス転移温度の異なる樹脂を併用したり、異なる種類の樹脂を併用したりできる。
【００９８】
粒子２２ｂを構成する樹脂としては、そのガラス転移温度Ｔｇ３（またはビカット軟化点）が上述の条件を満たすように、基材２１の種類等に応じて選択され、例えば、アクリル系熱可塑性樹脂粒子、ポリスチレン系熱可塑性樹脂粒子、アクリル系架橋型樹脂粒子、ポリスチレン系架橋型樹脂粒子などが挙げられる。また、無機材料としては、ガラスビーズなどが挙げられる。
【００９９】
基材２１の厚みは３０〜５００μｍであることが好ましい。基材の厚みが３０μｍ以上であれば、製造された原版が破れにくくなり、５００μｍ以下であれば、原版を容易に薄型化できる。なお、基材２１の厚みとは、図１１の表面微細凹凸体（原版）２０をシート面に対して垂直に切った断面（縦断面）の顕微鏡写真から、１０カ所以上無作為に抽出して基材２１の厚さを測定した際の、得られた各数値の平均値である。
【０１００】
また、基材２１を支持するために、厚さ５〜５００μｍの樹脂製の支持体を別途設けてもよい。
【０１０１】
硬質層２２の厚みｔは、０．１μｍを超え１０μｍ以下であることが好ましく、０．３〜５μｍであることがより好ましい。硬質層２２の厚みｔが０．１μｍを超え１０μｍ以下であれば、配光制御体として好適な波状の凹凸パターン１３’を形成できる。また、基材２１と硬質層２２との間には、密着性の向上やより微細な構造を形成することを目的として、プライマー層を形成してもよい。
【０１０２】
粒子２２ｂの粒径ｄは、硬質層２２の厚みｔより大きいことが必要であり、硬質層２２の厚みｔに応じて設定される。また、図１１の表面微細凹凸体２０を原版として用いて製造された図示例の配光制御シート１０の凸部１４の見かけの最頻径が、上述の好適な範囲となるように、適宜設定される。好ましい粒径ｄは、例えば、５〜１５μｍで、より好ましくは５〜８μｍである。
【０１０３】
なお、図１１の表面微細凹凸体２０は、原版ではなく配光制御体として使用することもできる。その場合には、前記表面微細凹凸体２０が配光制御体としての機能を充分に奏するように、基材２１、マトリクス樹脂２２ａ、粒子２２ｂに用いる材料に透明材料を用いる。
【０１０４】
［原版の製造方法］
図１１の表面微細凹凸体２０は、図１２のような積層シート３０、すなわち、樹脂を材料とする基材フィルム３１の片面（平坦な面）に、マトリクス樹脂、及び前記マトリクス樹脂中に分散した粒子２２ｂからなり、０．１μｍを超え１０μｍ以下の厚みを有する硬質層３２を設けた積層シート３０を形成する積層工程と、積層シート３０の少なくとも硬質層３２を折り畳むように変形させる変形工程とを有する方法により製造できる。ここで基材フィルム３１は、図１１の表面微細凹凸体２０の基材２１に相当する。また、ここで平坦とは、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に記載の中心線平均粗さ０．１μｍ以下の面である。
【０１０５】
（積層工程）
積層工程では、まず、マトリクス樹脂２２ａと粒子２２ｂと溶媒とを含む塗工液（分散液または溶液）を調製し、前記塗工液を基材フィルム３１の片面にスピンコーターやバーコーター等により塗工して乾燥させ、図１２のように、厚みｔ’が０．１μｍを超え、１０μｍ以下である硬質層３２を形成する。この時点での硬質層３２は、折り畳むように変形していない。
【０１０６】
硬質層３２は、このように塗工液を基材フィルム３１に直接塗工して設ける代わりに、あらかじめ作製した硬質層（マトリクス樹脂中に粒子が分散してなるフィルム）を基材フィルムに積層する方法で設けてもよい。
【０１０７】
基材フィルム３１は、樹脂を材料とする一軸方向加熱収縮性フィルムであることが好ましい。前記一軸方向加熱収縮性フィルムを用いると、次の変形工程において積層シート３０を加熱することにより、容易に、硬質層３２を折り畳むように変形し、波状の凹凸パターン１３’を形成できる。また、この方法によれば、それぞれが蛇行し、互いに非平行となる不規則な凸条部１３ａ’を形成できる。
【０１０８】
一軸方向加熱収縮性フィルムを構成する樹脂としては、基材２１を構成する樹脂としてすでに例示したとおりである。具体的には、ポリエチレンテレフタレート系シュリンクフィルム、ポリスチレン系シュリンクフィルム、ポリオレフィン系シュリンクフィルム、ポリ塩化ビニル系シュリンクフィルムなどのシュリンクフィルムが好ましく使用できる。
【０１０９】
これらのシュリンクフィルムの中でも、一軸方向において、２０〜７０％収縮するものが好ましい。２０〜７０％収縮するシュリンクフィルムを用いれば、変形率を２０％以上にでき、その結果、好適な最頻ピッチ、凸条部１３ａ’の高さの波状の凹凸パターン１３’を形成できる。
【０１１０】
ここで、変形率とは、（変形前の長さ−変形後の長さ）×１００／（変形前の長さ）（％）のことである。あるいは、（変形した長さ）×１００／（変形前の長さ）（％）のことである。
【０１１１】
また、このように基材フィルム３１として一軸方向加熱収縮性フィルムを用い、次の変形工程でこれを熱収縮させる場合には、より容易に凹凸パターン１３’を形成できることから、マトリクス樹脂２２ａのヤング率を０．０１〜３００ＧＰａにすることが好ましく、０．１〜１０ＧＰａにすることがより好ましい。
【０１１２】
塗工液に用いるマトリクス樹脂２２ａおよび粒子２２ｂを構成する樹脂としては、それぞれすでに例示したものを使用できるが、マトリクス樹脂２２ａのガラス転移温度Ｔｇ２と、粒子２２ｂのガラス転移温度Ｔｇ３とが、基材フィルム３１のガラス転移温度Ｔｇ１よりも１０℃以上高くなるように各材質を選択し、組み合わせることが重要である。このようにそれぞれの材質を選択したうえで、厚みｔ’が０．１μｍを超え１０μｍ以下である硬質層３２を一軸方向加熱収縮性フィルム（基材フィルム３１）の片面に設けた積層シート３０を用いると、次の変形工程を経ることにより、最頻ピッチが５〜５０μｍであり、凸条部１３ａ’の平均高さが０．３〜１０μｍである波状の凹凸パターン１３’が形成されやすい。
【０１１３】
塗工液に用いる溶媒としては、特に限定されないが、マトリクス樹脂２２ａの種類にもよる。マトリクス樹脂２２ａが例えばアクリル系樹脂の場合、トルエン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、アセトン、酢酸エチルなどのうちの１種以上を好ましく使用できる。
【０１１４】
塗工液中のマトリクス樹脂２２ａの濃度は、正味量（固形分量）として、５〜１０質量％であることが塗工性の点で好ましい。また、粒子２２ｂの量は、マトリクス樹脂２２ａの正味量１００質量部に対して、１０〜５０質量部であることが好ましく、２０〜３０質量部であることがより好ましい。このような範囲であると、形成される微細凹凸における凸部１４ａ’または凹部の占有面積割合を上述の好適な範囲内に制御することができる。
【０１１５】
ここで正味量（固形分量）とは、塗工液の質量（１００質量％）に対して、前記塗工液中の溶媒が揮発した後に残る固形分の質量の比率のことをいう。
【０１１６】
なお、積層工程で形成される硬質層３２の厚みｔ’は、０．１μｍを超え１０μｍ以下の範囲内であれば、連続的に変化していても構わない。その場合、変形工程により形成される凹凸パターンのピッチおよび深さが連続的に変化するようになる。硬質層３２の厚みｔ’は、次の変形工程を経てもほとんど変化せず、ｔ’＝ｔと考えることができる。
【０１１７】
（変形工程）
上述のようにして得られた積層シート３０を加熱して、積層シート３０の基材フィルム３１を熱収縮させることにより、図１１の表面微細凹凸体２０が得られる。なお、変形工程としては、例えば、日本国特許第４６８３０１１号公報等に開示の公知の方法を採用できる。また、本発明では熱収縮後、積層シート３０を、一軸方向加熱収縮性フィルムの軸方向と略並行の同一方向またはそれと略直交する方向を加えた二方向に延伸し、配向のばらつきが小さな凹凸パターンを形成することがより好ましい。
【０１１８】
加熱方法としては、熱風、蒸気、熱水または遠赤外線中に通す方法等が挙げられ、中でも、均一に収縮させることができることから、熱風または遠赤外線に通す方法が好ましい。
【０１１９】
基材フィルム３１を熱収縮させる際の加熱温度（加工温度）Ｔｘは、Ｔｇ２とＴｇ１の間の温度（即ち、Ｔｇ１＜Ｔｘ＜Ｔｇ２）とすることが好ましく、具体的には、使用する基材フィルム３１の種類および目的とする凹凸パターン１３’のピッチ、凸条部１３ａ’の高さ等に応じて適宜選択することが好ましい。
【０１２０】
延伸方法としては、例えば、積層シートの一端部とその反対側の端部とを、引っ張って延伸する方法などが挙げられる。延伸させる際の加熱温度（加工温度）は、収縮時の温度と同じにすることが好ましく、具体的には、目的とする延伸倍率に応じて適宜選択することが好ましい。
【０１２１】
この製造方法では、硬質層２２の厚さが薄いほど、また、硬質層２２のヤング率が低いほど、凹凸パターン１３’の最頻ピッチが小さくなり、また、基材フィルム３１の変形率が高いほど、凸条部１３ａ’の高さが大きくなる。したがって、凹凸パターン１３’の最頻ピッチおよび凸条部１３ａ’の高さを所望の値にするためには、前記条件を適宜選択する必要がある。
【０１２２】
なお、図１１のような構成の表面微細凹凸体２０は、下記（１）〜（４）の方法で製造することもできる。
（１）平坦な基材フィルムの片面の全部に、未変形の硬質層を設けて積層シートを形成し、積層シート全体を表面に沿った一方向に圧縮する方法。
【０１２３】
基材フィルムのガラス転移温度が室温未満の場合、積層シートの圧縮は室温で行い、基材フィルムのガラス転移温度が室温以上の場合、積層シートの圧縮は、基材のガラス転移温度以上、硬質層のガラス転移温度未満で行う。
（２）平坦な基材フィルムの片面の全部に、未変形の硬質層を設けて積層シートを形成し、積層シートを一方向に延伸し、延伸方向に対する直交方向を収縮させて、硬質層を表面に沿った一方向に圧縮する方法。
【０１２４】
基材フィルムのガラス転移温度が室温未満の場合、積層シートの延伸は室温で行い、基材フィルムのガラス転移温度が室温以上の場合、積層シートの延伸は、基材フィルムのガラス転移温度以上、硬質層のガラス転移温度未満で行う。
（３）未硬化の電離放射線硬化性樹脂により形成された平坦な基材フィルムに、未変形の硬質層を積層して積層シートを形成し、電離放射線を照射して基材フィルムを硬化させることにより収縮させて、基材フィルムに積層された硬質層を表面に沿った少なくとも一方向に圧縮する方法。
（４）溶媒を膨潤させて膨張させた平坦な基材フィルムに、未変形の硬質層を積層して積層シートを形成し、基材フィルム中の溶媒を乾燥し、除去することにより収縮させて、基材フィルムに積層された硬質層を表面に沿った少なくとも一方向に圧縮する方法。
【０１２５】
（１）の方法において、積層シートを形成する方法としては、例えば、平坦な基材フィルムの片面に、粒子を含む樹脂の溶液または分散液をスピンコーターやバーコーター等により塗工し、溶媒を乾燥させる方法、平坦な基材フィルムの片面に、あらかじめ作製した硬質層を積層する方法などが挙げられる。積層シート全体を表面に沿った一方向に圧縮する方法としては、例えば、積層シートの一端部とその反対側の端部とを、万力等により挟んで圧縮する方法などが挙げられる。
【０１２６】
（２）の方法において、積層シートを一方向に延伸する方法としては、例えば、積層シートの一端部とその反対側の端部とを、引っ張って延伸する方法などが挙げられる。
【０１２７】
（３）の方法において、電離放射線硬化性樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂などが挙げられる。
【０１２８】
（４）の方法において、溶媒は基材フィルムを構成する樹脂の種類に応じて適宜選択される。溶媒の乾燥温度は溶媒の種類に応じて適宜選択される。
【０１２９】
（２）〜（４）の方法における硬質層においても、（１）の方法で用いるものと同様の成分を用いることができ、同様の厚さとすることができる。また、積層シートの形成方法は、（１）の方法と同様に、基材フィルムの片面に塗工液を塗工し、溶媒を乾燥させる方法、基材フィルムの片面に、あらかじめ作製した硬質層を積層する方法を適用できる。
【０１３０】
また、一軸方向加熱収縮性フィルムの代わりに、二軸方向加熱収縮性フィルムを用いて表面微細凹凸体の原版を製造してもよい。先に説明した積層工程で使用する一軸方向加熱収縮性フィルムの代わりに二軸方向加熱収縮性フィルムを使用すれば、工程的には同様にして製造することができる。二軸方向加熱収縮性フィルムを用いて得た表面微細凹凸体の凹凸パターンは、特定の方向に沿わない凹凸パターンとなる。二軸方向加熱収縮性フィルムを用いた場合、得られる表面微細凹凸体は、表面微細凹凸が形成された面を通過する光を最も広く配光分布する方向Ｙに対して、略直交する方向Xにもある程度のFWHMを有するため、必ずしも硬質層への粒子（参照：図１１中の粒子２２ｂ）の添加を必要としない。このように粒子を添加しない場合は、先に説明した積層工程において、粒子（２２ｂ）を含まない塗工液を使用すれば、工程的には同様にして製造することができる。このように二軸方向加熱収縮性フィルムを使用して、粒子の添加をしない表面微細凹凸体の原版製造方法を簡単に以後「二軸方向加熱収縮性フィルムと粒子無添加の製造方法」と略していう。また、この二軸方向加熱収縮性フィルムと粒子無添加の製造方法を使用した場合も、熱収縮後、積層シート３０を、二軸方向加熱収縮性フィルムの軸方向と略並行の同一方向に延伸することが好ましい。この延伸方向は二軸のいずれか一方の方向と略同一であっても良いし、二軸の両方向であっても良い。これらの軸方向の収縮率と延伸倍率を適宜組み合わせて、配向のばらつきが小さな凹凸パターンを形成することがより好ましい。なお、一軸方向加熱収縮性フィルムを用いた場合でも、収縮率と延伸倍率を適宜組み合わることにより、所望の凹凸パターンを形成でき、必ずしも硬質層への粒子の添加を必要としない。
【０１３１】
［原版を用いた転写による表面微細凹凸体の製法］
図１１の表面微細凹凸体２０を原版として用いて、図示例の配光制御シート１０を製造する場合には、前記表面微細凹凸体（原版）２０の微細凹凸を他の材料に転写する転写工程を行う。この例では、前記表面微細凹凸体（原版）２０の硬質層２２の表面に形成された微細凹凸を他の材料に転写し、原版の微細凹凸の反転パターンを表面に有する１次転写品を得て、次いで、前記１次転写品の反転パターンを他の材料に転写し、２次転写品である図示例の配光制御シート１０を得る。転写工程としては、例えば、日本国特許第４６８３０１１号公報等に開示の公知の方法を採用できる。
【０１３２】
本発明の１つの態様は、前述の表面微細凹凸体を原版として用いた、表面微細凹凸体の製造方法である。
【０１３３】
具体的には、原版である図１１の表面微細凹凸体２０の微細凹凸に対して、離型剤を含む未硬化の電離放射線硬化性樹脂を例えば３〜３０μｍの厚さに収まるように、Ｔダイコーター、ロールコーター、バーコーターなどのコーターで塗布し、電離放射線を照射して硬化させた後、原版を剥離して、１次転写品を得る。１次転写品は、原版の微細凹凸の反転パターンを有する。一方、ＰＥＴを材料とする透明な基材１１を用意し、その片面に、未硬化の電離放射線硬化性樹脂を微細凹凸を充分に覆う厚さで塗布する。そして、塗布された未硬化の電離放射線硬化性樹脂の層に対して、先に得られた１次転写品の反転パターンを有する面を押し当て、電離放射線を照射して硬化させた後、１次転写品を剥離する。電離放射線の照射は、１次転写品側、透明なＰＥＴ基材側のうち、電離放射線透過性を有するいずれか一方側から行えばよい。これにより、ＰＥＴを材料とする透明な基材１１と、その片面上に形成された電離放射線硬化性樹脂硬化物の表面層１２とからなり、表面層１２の表面に微細凹凸が形成された図１および図３に示す配光制御シート（２次転写品）１０が得られる。
【０１３４】
電離放射線硬化性樹脂としては、紫外線硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂などが挙げられる。照射する電離放射線の種類は、樹脂の種類に応じて適宜選択する。電離放射線としては、一般には紫外線および電子線を意味することが多いが、本明細書においては、可視光線、Ｘ線、イオン線等も含む。
【０１３５】
未硬化の電離放射線硬化性樹脂としては、エポキシアクリレート、エポキシ化油アクリレート、ウレタンアクリレート、不飽和ポリエステル、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート、ビニル／アクリレート、ポリエン／アクリレート、シリコンアクリレート、ポリブタジエン、ポリスチリルメチルメタクリレート等のプレポリマー、脂肪族アクリレート、脂環式アクリレート、芳香族アクリレート、水酸基含有アクリレート、アリル基含有アクリレート、グリシジル基含有アクリレート、カルボキシ基含有アクリレート、ハロゲン含有アクリレート等のモノマーの中から選ばれる１種類以上の成分を含有するものが挙げられる。未硬化の電離放射線硬化性樹脂は溶媒等で希釈することが好ましい。未硬化の電離放射線硬化性樹脂には、フッ素樹脂、シリコーン樹脂等を添加してもよい。また、未硬化の電離放射線硬化性樹脂が紫外線硬化性である場合には、未硬化の電離放射線硬化性樹脂にアセトフェノン類、ベンゾフェノン類等の光重合開始剤を添加することが好ましい。
【０１３６】
また、電離放射線硬化性樹脂の代わりに、例えば、未硬化のメラミン樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等の熱硬化性樹脂や、アクリル樹脂、ポリオレフィン、ポリエステル等の熱可塑性樹脂を用いて転写を行ってもよく、微細凹凸が転写できる限り、その具体的方法、転写する材料に制限はない。
【０１３７】
熱硬化性樹脂を用いる場合には、例えば液状の未硬化の熱硬化性樹脂を微細凹凸に塗布し、加熱により硬化させる方法が挙げられ、熱可塑性樹脂を用いる場合には、熱可塑性樹脂のシートを用い、微細凹凸に押し当てながら加熱して軟化させた後、冷却する方法が挙げられる。
【０１３８】
また、上述のように、２次転写品を製造する場合には、例えば日本国特許第４６８３０１１号公報などに記載されている、めっきロールを用いる方法も挙げられる。具体的には、まず、原版として長尺なシート状物を製造し、前記原版を丸めて円筒の内側に貼り付け、前記円筒の内側にロールを挿入した状態でめっきを行い、円筒からロールを取り出してめっきロール（１次転写品）を得る。ついで、前記めっきロールの微細凹凸を転写することにより、配光制御シート（２次転写品）を得る。
【０１３９】
原版としては、枚葉タイプのものもウェブタイプのものも用いることができる。ウェブタイプの原版を用いると、ウェブタイプの１次転写品および２次転写品を得ることができる。枚葉タイプにおいては、前記枚葉タイプの原版を平板状の型として使用するスタンプ法、枚葉タイプの原版をロールに巻きつけて円筒状の型として使用するロールインプリント法等を適用できる。また、射出成形機の型の内側に枚葉タイプの原版を配置させてもよい。ただし、これら枚葉タイプの原版を用いる方法において、図示例のような光拡性散シートを大量生産するためには、転写を多数回繰り返す必要がある。転写性（離型性）が低い場合には、転写すべき微細凹凸に目詰まりが生じ、微細凹凸の転写が不完全になる場合がある。これに対して、原版をウェブタイプとすると、大面積で連続的に微細凹凸を転写でき、転写を多数繰り返さなくても、必要な量の配光制御シートを短時間に製造できる。
【０１４０】
［原版の製造方法および原版を用いた転写による表面微細凹凸体の製法の変形例］
上述の［原版の製造方法］の積層工程においては、マトリクス樹脂２２ａと粒子２２ｂと溶媒とを含む塗工液を用いた。しかしながら、粒子を含まず、マトリクス樹脂と溶媒とを含む塗工液を用いて硬質層を形成し、変形工程により波状の凹凸パターンとし、その後に、前記凹凸パターン上に、多数の凹部または凸部を形成してもよい。硬質層の形成方法は、粒子を用いない以外は、上述の方法と同様に行える。変形工程も、上述の方法と同様に行える。ついで行われる、形成された凹凸パターン上に、多数の凹部または凸部を形成する方法としては、後述の（５）〜（８）の方法が挙げられる。
（５）回転式精密切削加工機により切削加工する方法。
（６）凹部または凸部と同様な大きさ、径を有する突起物を前記波状の凹凸パターン上に押し付けて凹みを形成する方法。
（７）樹脂又は無機物の溶融物を微粒子化したものを前記波状の凹凸パターン上に付着させた後、冷却固化して前記樹脂又は無機物によって形成された凸部を形成する方法。
（８）樹脂又は無機物を分散媒に分散した液を前記波状の凹凸パターン上に付着させた後、分散媒を蒸発させて前記樹脂又は無機物によって形成された凸部を形成する方法。
【０１４１】
なお、上記（７）又は（８）の方法においてインクジェット印刷方式を応用することにより、高精度で波状の凹凸パターン上に多数の凹部または凸部を形成することができる。
【０１４２】
また、粒子を含まず、マトリクス樹脂と溶媒とを含む塗工液を用いて硬質層を形成し、変形工程により波状の凹凸パターンとしたもの（多数の凹部または凸部は未だ形成されていないもの）を原版として転写品を得て、前記転写品に対して、上記（５）〜（８）の方法により、凹凸パターン上に多数の凹部または凸部を形成してもよい。そして、これを原版として転写することにより、表面微細凹凸体を製造することもできる。
【０１４３】
＜その他の形態について＞
以上の説明においては、積層工程と変形工程により製造された表面微細凹凸体を原版とし、前記表面微細凹凸体の微細凹凸を転写した１次転写品を得て、ついで、前記１次転写品の微細凹凸（原版の反転パターン）を転写した２次転写品を配光制御シート１０とした。
【０１４４】
しかしながら、本発明は、以上の形態に限定されない。
【０１４５】
すなわち、上述の積層工程と変形工程により製造された図１１のような表面微細凹凸体２０そのものを配光制御シートとして使用することもできる。また、積層工程と変形工程により製造された表面微細凹凸体２０を原版として得られた１次転写品や、ｎ次転写品（ｎは３以上の整数。）を配光制御シートとして使用することもでき、転写品であれば、２次転写品に限定されない。
【０１４６】
また、原版を用いて、曲面を有する成形体の前記曲面に、微細凹凸を転写してもよい。
【０１４７】
また、積層工程と変形工程により製造された表面微細凹凸体やそのｎ次転写品を原版として用いて、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の透明な熱可塑性樹脂を射出成形し、微細凹凸が表面の少なくとも一部に形成された射出成形品を製造してもよい。
【０１４８】
なお、先に具体的に示した積層工程と変形工程により製造された表面微細凹凸体２０を原版として得られたｎ次転写品において、ｎが奇数の場合には、微細凹凸として、特定の波状の凹凸パターン上に、凸部ではなく、凹部が形成されている。これは、ｎが奇数であるｎ次転写品においては、粒子に基づいて形成される凸部の反転パターン、すなわち、凹部が形成されるためである。このように微細凹凸として、特定の波状の凹凸パターンとともに凹部を有する表面微細凹凸体であっても、波状の凹凸パターンによる異方性が凹部により弱められているため、方向Ｙに充分なFWHMを有し、かつ、方向Ｘにもある程度のFWHMを示す。よって、ｎが奇数であるｎ次転写品であっても、ｎが偶数であるｎ次転写品と同等の配光制御性能を示す。
【０１４９】
また、硬質層の形成に用いる粒子としては、樹脂粒子、無機粒子が使用でき、変形工程や、微細凹凸を転写する工程において、溶融したり変形したりしない限り、どのような材料を使用するものであってもよい。ただし、上述のとおり、図１１のように粒子そのものを備えた表面微細凹凸体２０を配光制御シートとして使用する場合には、粒子として、透明粒子、好適にはアクリル系架橋型樹脂粒子、ガラスビーズ、ポリスチレン系架橋型樹脂粒子などを用いることが好適である。
【０１５０】
また、以上の例では、表面微細凹凸体、配光制御シートとして、シート状物を例示したが、シート状物に限定されず、立体成形体であってもよい。
【０１５１】
また、微細凹凸は、表面微細凹凸体の表面の少なくとも一部であれば、目的に応じて、いかなる部分に形成されていてもよい。例えば、表面微細凹凸体がシート状物である場合、一方の面のみに形成されていても、両面に形成されていても、各面において一部のみに形成されていてもよいし、シート状物の周面（端面）の少なくとも一部に形成されていてもよい。
【０１５２】
さらに、表面微細凹凸体が立体成形体である場合にも、全表面の全面に形成されていても、一部のみに形成されていてもよい。なお、表面微細凹凸体が立体成形体である場合、前記立体成形体は、配光制御シートについて例示した用途と同様の用途に使用できる。すなわち、プロジェクター用の配光制御部材；テレビ、モニター、ノート型パーソナルコンピュータ、タブレット型パーソナルコンピュータ、スマートフォン、携帯電話等のバックライト用の配光制御部材、コピー機等に使用される、ＬＥＤ光源を線状に配列したスキャナ光源において、導光部材の少なくとも出射面を構成する配光制御部材；等として好適に使用できる。
【０１５３】
本発明者等は以上に説明した方法で作製した種々のFWHMを有する、それぞれの配光制御シート（２次転写品）サンプルを使用して、正面輝度や白色戻しを測定した。
【０１５４】
正面輝度の大小については、以下に示す相対正面輝度を用いて評価した。
【０１５５】
ディスプレイに種々の配光制御シートを使用したときの、正面方向の輝度を輝度計（ＴＯＰＣＯＮ社製ＵＡ-１０００）を用いて測定し、ディスプレイ面内における最大輝度を求めた。相対正面輝度は、求めた最大輝度とディスプレイに必要な最低輝度との比として算出した。すなわち、相対正面輝度が１より小さければ、十分な輝度が得られないことになり、相対正面輝度が１またはそれよりも大きければ、十分な輝度が得られることになる。なお、ディスプレイに必要な最低輝度は透過度80％の汎用光拡散板を配光制御シートとして使用したときの輝度とした。また、測定に用いたディスプレイは、光源としてＬＥＤを有し、配光制御シートに加えて、種々の光学層、例えばプリズムシート等を有する一般的な仕様のものを用いた。  白色戻しの効果の大小については、以下に示す白色戻し指標を用いて評価した。
【０１５６】
配光制御シートを使用したディスプレイのバックライトからの出射光を白い紙に投影し、投影像の中心部の色彩：CS1と投影部の外周部の色彩GS1との差を求め、中心部の色彩と外周部の色彩との差Δ：｜CS1-GS1|/CS1  が20%であるものの色彩差を白色戻し指標の標準の色彩差とした。なお、｜CS1-GS1|/CS1  が20%以内であれば、人間の目には不快な色彩差として認識されないと本発明者等は考える。種々の配光制御シートを使用したディスプレイの相対白色戻し指標は、「対象サンプルの色彩差／白色戻し指標の標準の色彩差」として算出した。すなわち相対白色戻し指標が１より大きければ、ディスプレイとして十分な白色戻し効果がないことになり、相対白色戻し指標が１またはそれより小さければ、ディスプレイとして十分な白色戻し効果があることになる。なお、色彩は輝度計（ＴＯＰＣＯＮ社製ＵＡ-１０００）を用いて測定した。また、本発明における色彩とは、輝度計（ＴＯＰＣＯＮ社製ＵＡ-１０００）で測定した場合、クロマテイシテイのことを指す。
【０１５７】
ＸおよびＹ方向の白色戻し効果の増減は、配光制御シートの配光制御機能の大小によるが、その配光制御のメカニズムは主に光の屈折の原理に従うと本発明者等は考えている。光の屈折は、配光制御シートの微細凹凸形状に依存するので、本発明者等は種々のFWHMを有する配光制御シートサンプルについて、下記の方法で凹凸形状の解析を行った。
【０１５８】
本発明者等は、種々の配光制御シートサンプルの凹凸形状をレーザー顕微鏡を用いて詳細に観察した。図１３（a）（配光制御シートのレーザー顕微鏡画像）は配光制御シートサンプルの微細凹凸をレーザー顕微鏡（キーエンス社製「VK-X110」）で観察したレーザー顕微鏡写真である（横；  780μm、縦；  570μm）。図１３（b）（配光制御シートサンプルの高さプロファイル）は図１３（a）の線αに沿って図中横方向に切断した高さプロファイルを示している。図１３（b）の高さプロファイルにおいて1.8μm間隔の各点において接線を引く、その状況を図１４(a)に示した。図１４(a)は表面微細凹凸体断面の高さプロファイルの一部において、1.8μm間隔の各点（接点）において接線を引いた例の状態を示す。図(a)中の点Uにおける接線の傾きを、その部分を拡大した図(b)について説明する。点Uでの接線の傾きAU（＝高さ/1.8）からU地点でのスロープ角θUを下式（２）により定義する（図１４(b)）(スロープ角θUの算出方法)。式（２）；  AU＝tanθU
【０１５９】
観察対象サンプルが、微細凹凸体の最頻ピッチが５〜５０μm、最頻高さが０．３〜10μmである配光制御シートの場合、接線Iを1.8μm間隔で引くことが適切であった。接線Iを1.8μmより大きい間隔、例えば2.0μm以上で引いた場合、微細凹凸体を正確に解析できないため好ましくない。また逆に1.7μm以下の小さい間隔で接線を引いた場合、より精密に解析できる方向になるはずであるが、本発明者等の試行によれば数値的な影響は殆どなかった。なお、最頻ピッチが５μmを下回るときは、接線Iの間隔を1.8μm以下にすることが好ましい。例えば、接線Iの間隔を最頻ピッチの１／４倍以下程度に設定することが好ましい。なお、接線の傾きAが負の値のときは、正の値に返してからスロープ角θUを求める。
【０１６０】
以降の計算は、図１３(a) （配光制御シートのレーザー顕微鏡画像）の線αに平行に0.13μm間隔でとった線毎に高さプロファイルをとり、各高さプロファイルについて1.8μm間隔でスロープ角を算出して、図１３（a）（配光制御シートのレーザー顕微鏡画像）の視野内の全てのスロープ角を算出してその頻度(Aの値の頻度)を求めるためのデータを蓄積した。
なお、図１３（a）では、配光制御シートの微細凹凸は、互いに蛇行する複数の凸条部と、前記複数の凸条部間の凹条部を有する波状の凹凸パターンに、一見、見えない虞がある。図上、平らな形状を有するように見える領域も、レーザー顕微鏡により、高さプロファイルをとると、平らな形状は少なく、微細凹凸形状を呈しており、互いに蛇行する複数の凸条部と、前記複数の凸条部間の凹条部を有する波状の凹凸パターンを形成していることが確かめられている。
【０１６１】
図１５および図１６にＦＷＨＭＹ＝２０°およびＦＷＨＭＸ＝１０°を示す配光制御シートのサンプルのスロープ角の頻度分布グラフの一例を示す。図１５は上記配光制御シートのY方向について、上記方法で解析したときの接線のスロープ角の頻度分布グラフであり図１６は上記配光制御シートのＸ方向について、上記方法で解析したときの接線のスロープ角の頻度分布グラフである。
図１５（FWHMＹ＝２０°のスロープ角の頻度分布グラフ）及び図１６（FWHMＸ＝１０°のスロープ角の頻度分布グラフ）より、FWHMが広いと、スロープ角の大きい地点の頻度が高くなり（図１５参照）、FWHMが狭いと、スロープ角の小さい地点の頻度が高くなることを見出した（図１６参照）。
【０１６２】
本発明者等は種々のFWHMを有する配光制御シートのX方向およびY方向について、それぞれスロープ角を測定し、X方向およびY方向のスロープ角の平均値がそれぞれ相対正面輝度と負の相関関係を有することを見出した。すなわち、平均スロープ角ｘが小さいと相対正面輝度が上昇し、平均スロープ角ｘが大きいと相対正面輝度が低下する。また、平均スロープ角ｙが小さいと相対正面輝度が上昇し、平均スロープ角ｙが大きいと相対正面輝度が低下する。ところが、さらに種々のFWHMを有する配光制御シートについて、平均スロープ角ｘと相対正面輝度、または平均スロープ角ｙと相対正面輝度の相関関係を調べたところ、平均スロープ角ｘまたは平均スロープ角ｙから予想される相対正面輝度より、顕著に相対正面輝度の小さい配光制御シートを見出した。
【０１６３】
本発明者等は、顕著に相対正面輝度の小さい配光制御シートについて、さらに詳細に解析したところ、相対正面輝度の小さい配光制御シートは、平均スロープ角ｘあるいは平均スロープ角ｙのいずれか一方が極端に大きいことがわかった。例えば、平均スロープ角ｘから予想される相対正面輝度より、顕著に相対正面輝度が小さい配光制御シートは、平均スロープ角ｙが極端に大きいことがわかった。そこで、本発明者等は平均スロープ角ｘと平均スロープ角ｙの平均値と相対正面輝度の相関関係を調べたところ、両者の間に負の相関関係があることを見出した。
【０１６４】
図１７に種々の配光制御シートサンプルの（平均スロープ角ｘ＋平均スロープ角ｙ）／２と相対正面輝度との関係を示した。図１７から（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２と相対正面輝度が負の相関関係を有することがわかる。すなわち、（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２が広くなると、相対正面輝度が低下し、逆に（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２が狭くなると、相対正面輝度が上昇することが分かった。さらに、（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２が４．７°以下であれば、十分な相対正面輝度（１以上）が得られることが分かった。また、十分な相対正面輝度を得るためには、（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２が４°以下であることが好ましく、より良い相対正面輝度を得るためには（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２が３°以下であることがより好ましい。
【０１６５】
図１８に種々の配光制御シートサンプルとＹ方向の相対白色戻し指標との関係を示した。本発明者等は図１８から平均スロープ角ＹとＹ方向の相対白色戻し指標が負の相関関係を有し、かつ平均スロープ角Ｙが２．４°以上であれば、十分なＹ方向の相対白色戻し指標（１以下）が得られることを見出した。なお、平均スロープ角ＸとＸ方向の相対白色戻し指標についても負の相関関係を示すが、平均スロープ角Ｘが何度であっても（つまり０°以上であれば）、十分なＸ方向の相対白色戻し指標（１以下）が得られることが分かった。なお、平均スロープ角Ｙの上限値については、７°以下がより好ましく、６．５°以下がさらに好ましく、５°以下が特段好ましい。また、平均スロープ角ｘの上限値については、３°以下がより好ましく、２．５°以下がさらに好ましく、２°以下が特段好ましい。
【０１６６】
一般的にディスプレイはディスプレイの長手方向、例えば方向Ｙおよび前記方向Ｙに対して略直交する方向Ｘにおいて同等の視野角を必要とする場合が少ない。そのため、ディスプレイを構成する、配光制御シート以外の光学制御部材においても各種光学特性は方向性を有することが多い。そのため、本発明において配光制御シートのＸ方向の平均スロープ角は何度であっても、十分なＸ方向の相対白色戻し指標が得られたと本発明者等は考える。
【０１６７】
本発明者等は検討の結果、（平均スロープ角Ｙ−平均スロープ角Ｘ）が小さい場合、Ｙ方向の相対白色戻し指標に対してＸ方向の相対白色戻し指標が大きくなることを見出した。Ｘ方向とＹ方向で相対白色戻し指標に０．１５以上の差がある場合、ディスプレイをＹ方向に対して斜めに傾けて見た場合とＸ方向に対して斜めに傾けて見た場合に色彩の変化が異なることになり、ディスプレイとしては好ましくない。プロジェクター用の配光制御部材や液晶ディスプレイのバックライト用の配光制御部材として使用するためには（平均スロープ角Ｙ−平均スロープ角Ｘ）は０．５°以上であることが好ましく、１°以上であることがより好ましい。
【０１６８】
以上のことから、（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２≦４．７°、平均スロープ角Ｙ≧２．４°を同時に満たすことが、プロジェクター用の配光制御部材や液晶ディスプレイのバックライト用の配光制御部材として好適であることが分かった。また、（平均スロープ角Ｘ＋平均スロープ角Ｙ）／２≦４．７°、平均スロープ角Ｙ≧２．４°を同時に満たしつつ、さらに（平均スロープ角Ｙ−平均スロープ角Ｘ）≧０．５°を同時に満たすことがプロジェクター用の配光制御部材や液晶ディスプレイのバックライト用の配光制御部材としてより好適であることが分かった。
【０１６９】
（各サンプル）
以上の説明したように、本発明では種々のFWHMを有する配光制御シートサンプルを作製して試行を繰り返したが、配光制御シートのFWHMは先に説明した実施例における硬質層の厚み加熱収縮フィルムの収縮率、延伸率等を変化させることにより任意に変化させて、各種サンプルを作製した。
【実施例】
【０１７０】
以下、本発明について、実施例を例示して具体的に説明する。
【０１７１】
（実施例１）
下記塗工液（１）をポリエチレンテレフタレート二軸方向加熱収縮性フィルム（三菱樹脂株式会社製「PX-４０S」）、厚さ：２５μｍ、ガラス転移温度Ｔｇ１＝７５℃）の片面に、 塗工乾燥後の硬質層の厚みｔ’が４μｍになるようにバーコーター （メイヤーバー♯２２）により塗工し、積層シートを得た。
【０１７２】
（塗工液（１））
アクリル樹脂Ａ（ガラス転移温度Ｔｇ２＝１００℃）、トルエンに加え、固形分濃度１０質量％の塗工液（１）を得た（つまり、アクリル樹脂Ａを固形分とし、トルエンを溶媒分とする、固形分濃度１０質量％の塗工液（１）を得た）。なお、上記アクリル樹脂Aは固形分濃度２３質量％であるが、本例での質量比および濃度は、正味量（固形分量）で計算した値である。以下の例についても、正味量で計算している。
次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて１１０℃で０．５分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート二軸方向加熱収縮性フィルムを一方向において、加熱前の長さの７５％に熱収縮させ（変形率として２５％）、一方向に略直交する他方向において、加熱前の長さの８５％に熱収縮させ（変形率として１５％）、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された表面微細凹凸シート（原版）を得た。また、形成された凸条部は、それぞれが蛇行して、不規則に形成されていた。
得られた表面微細凹凸シート（原版）の微細凹凸形成面に、離型剤を含む未硬化の紫外線硬化性樹脂Ａ（綜研化学社製）を厚さ２０μｍとなるように塗布し、紫外線を照射して硬化させ、硬化後、剥離して、表面微細凹凸シートの微細凹凸の反転パターンを有する１次転写品を得た。ついで、透明ＰＥＴ基材（東洋紡株式会社製「Ａ４３００」、厚さ：１８８μｍ）の片面に未硬化の紫外線硬化性樹脂Ｂ（ソニーケミカル社製）を厚さ２０μｍとなるように塗布し、塗布された紫外線硬化性樹脂Ｂに対して、１次転写品の上記反転パターンを有する面を押し当て、紫外線を照射して硬化させ、硬化後、１次転写品を剥離して、透明ＰＥＴ基材上に、紫外線硬化性樹脂の硬化物を材料とする表面層が形成され、該表面層の表面に、上記の表面微細凹凸シート（原版）と同じ微細凹凸が形成された配光制御シート（２次転写品）を得た。
【０１７３】
（実施例２）
下記塗工液（２）をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム（東洋紡株式会社製「ＳＣ８０７」、厚さ：３０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇ３＝８０℃）の片面に、塗工乾燥後の硬質層の厚みｔ’が０．７μｍになるようにバーコーター（メイヤーバー＃８）により塗工し、積層シートを得た。
【０１７４】
（塗工液（２））
アクリル樹脂Ｂ（ガラス転移温度Ｔｇ４＝１２８℃）、トルエンに加え、固形分濃度８質量％の塗工液（２）を得た（つまり、アクリル樹脂Ｂを固形分とし、トルエンを溶媒分とする、固形分濃度８質量％の塗工液（２）を得た）。
次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて１８０℃で０．５分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルムを、加熱前の長さの５０％に熱収縮させ（変形率として５０％）、硬質層を折り畳むように変形させた。次に、１８０℃で１分間加熱することにより、一軸方向において収縮方向と反対方向に加熱前の長さの１００％まで延伸した（変形率として０％）。さらに、１８０℃で１分間加熱することにより、一方向に略直交する他方向において、加熱前の長さの１６０％まで延伸した（変形率として−６０％）。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された表面微細凹凸シート（原版）を得た。得られた表面微細凹凸シート（原版）について、以下実施例（１）と同様にして、上記の表面微細凹凸シート（原版）と同じ微細凹凸が形成された配光制御シート（２次転写品）を得た。
【０１７５】
（実施例３）
下記塗工液（３）をポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルム（東洋紡株式会社製「ＳＰ-８０９」）、厚さ：３０μｍ、ガラス転移温度Ｔｇ５＝７５℃）の片面に、 塗工乾燥後の硬質層の厚みｔ’が５．５μｍになるようにバーコーター （メイヤーバー♯３２）により塗工し、積層シートを得た。
【０１７６】
（塗工液（３））
アクリル樹脂Ｂ（ガラス転移温度Ｔｇ４＝１２８℃）、トルエンに加え、固形分濃度１２質量％の塗工液（３）を得た（つまり、アクリル樹脂Ｂを固形分とし、トルエンを溶媒分とする、固形分濃度１２質量％の塗工液（３）を得た）。なお、上記アクリル樹脂Bは固形分濃度２３質量％であるが、本例での質量比および濃度は、正味量（固形分量）で計算した値である。以下の例についても、正味量で計算している。
次いで、該積層シートを熱風式オーブンを用いて１８０℃で０．５分間加熱することにより、ポリエチレンテレフタレート一軸方向加熱収縮性フィルムを、加熱前の長さの６３％に熱収縮させ（変形率として３７％）、硬質層を折り畳むように変形させた。これにより、波状の凹凸パターンが層の表面に形成された表面微細凹凸シート（原版）を得た。得られた表面微細凹凸シート（原版）について、以下実施例（１）と同様にして、上記の表面微細凹凸シート（原版）と同じ微細凹凸が形成された配光制御シート（２次転写品）を得た。
【０１７７】
（実施例４）
実施例３において、６３％の熱収縮工程に変えて、７０％（変形率として３０％）の熱収縮を行った以外は、実施例３と同様にして、配光制御シートを得た。
【０１７８】
（実施例５）
実施例３において、６３％の熱収縮工程に変えて、６７％（変形率として３３％）の熱収縮を行った以外は、実施例３と同様にして、配光制御シートを得た。
【０１７９】
（実施例６）
実施例２において、１００％の延伸工程に変えて、９３％（変形率として７％）までの延伸を行った以外は、実施例２と同様にして、配光制御シートを得た。
【０１８０】
（比較例１）
実施例２において、５０％の収縮工程に変えて、６０％（変形率として４０％）の熱収縮を行った点と、一方向に略直交する他方向における１６０％までの延伸工程を省略した点以外は、実施例２と同様にして、配光制御シートを得た。
【０１８１】
（比較例２）
実施例３において、６３％の熱収縮工程に変えて、８０％（変形率として２０％）の熱収縮を行った以外は、実施例３と同様にして、配光制御シートを得た。
【０１８２】
（評価）
上記の各例で得られた配光制御シートについて、FWHM、スロープ角の平均値、相対正面輝度、相対白色戻し指標を上述した方法で測定した。相対正面輝度が１以上を○、１未満を×、Y方向の相対白色戻し指標が１未満を○、１以上を×として判定を行った。
その結果を表１に示す。
【０１８３】
【表１】
2016167063.tif 000003
【符号の説明】
【０１８４】
１０：配光制御シート、１３：波状の凹凸パターン、１３ａ：凸条部、１３ｂ：凹条部、１４：凸部、２０：表面微細凹凸体（原版）、２１：基材、２２：硬質層、２２ａ：マトリクス樹脂、２２ｂ：粒子、３１：基材フィルム、３２：硬質層（未変形）
【図３】
2016167063.tif 000004
【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
2016167063.tif 000009
【図１１】
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【図１２】
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【図１４】
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【図１９】
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【図１】
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【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図１３】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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