(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
室温で液体でありかつ
ａ）次式Ｉ
0003940962.tif 000003
（式中、Ｒは−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨを表し、ｍは１ないし３の整数を表し、そしてｎは６ないし８の整数を表す。）で表されるスチレン−無水マレイン酸半エステルコポリマーをベースとするバインダーポリマー１８ないし２２重量％、
ｂ）少なくとも１種の光硬化性アクリレート化合物１０ないし１５重量％または１５．９重量％、
ｃ）光開始剤０．１ないし１０重量％、および
ｄ）プロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテル４５ないし７０重量％からなり、
成分ａ）ないしｄ）の合計が１００重量％である、感光性組成物。
【請求項２】
ｂ）少なくとも１種の光硬化性アクリレート化合物１１．５ないし１４．５重量％、ｃ）光開始剤１ないし５重量％、およびｄ）プロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテル５０ないし６８重量％を含む、請求項１記載の組成物。
【請求項３】
成分ｂ）は、脂肪族アクリレート、環式脂肪族アクリレートまたはウレタンアクリレートであるところの、請求項１記載の組成物。
【請求項４】
成分ｂ）は、異なるアクリレートの混合物であるところの、請求項３記載の組成物。
【請求項５】
成分ｃ）は、暴露で遊離ラジカルを形成する光開始剤であるところの、請求項１記載の組成物。
【請求項６】
成分ｃ）は、ベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタールまたは２−ベンジル−２，２−ジメチルアミノ−１−（４−Ｎ−モルホリノフェニル）ブタノ−１−オンであるところの、請求項１記載の組成物。
【請求項７】
光構造化物体の製造のための、請求項１記載の組成物の使用。
【請求項８】
テレホンカードの製造のための、請求項１記載の組成物の使用。
【請求項９】
金属シード化（ｍｅｔａｌ−ｓｅｅｄｅｄ）プラスチック表面からのテレホンカードの製造方法であって、請求項１記載の組成物を金属シードプラスチックシートに５ないし２０μｍの層厚で塗布すること、該組成物を所望の構造を提供するマスクを通して化学線に暴露すること、暴露されたプラスチックシートをアルカリ浴中で現像すること、およびその後、化学金属被覆浴中で、０．２ないし０．３μｍのニッケル層を現像の間に露出された金属シードに施すこと、およびその後、メッキ浴中で、５ないし２０μｍのＳｎ／Ｐｂ層をニッケル層に、現像後に残存する新規組成物の部分と構造化プラスチックシート上のＳｎ／Ｐｂ層の部分とが同じ層厚を有するように施すこと、および続いてコーティング層を構造化プラスチックシートに施すことからなる方法。
【請求項１０】
請求項９記載の方法によって得られるテレホンカード。
【発明の詳細な説明】
本発明は、室温で液体でありかつバインダーポリマー、少なくとも１種の光硬化性アクリレート化合物および溶媒としての１種のプロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテルからなる感光性組成物に、および光構造化物体、例えばクレジットカード、識別カードまたはテレホンカード、好ましくは金属シード化（metal-seeded）プラスチック表面をベースとするテレホンカードの製造のためのこの組成物の使用に関する。
現在、乾燥レジストフィルムが、テレホンカードの製造のために使用される。光構造化のためにソリッド光レジストを使用するとき、層厚は最小３８ないし７０μｍであることができる。液体レジストと比較して、これはもはや回路の微細な解像度を可能にしない４ないし１０倍厚い層厚である。
現在まで、液体レジストは、金属シード化プラスチック表面に施されＵＶ光に暴露された光レジスト層の現像後、シードを不活性化し、またカレント−フリー（current-free）金属施用の次の工程と干渉する残渣を生じた。
室温で液体でありかつスチレン−無水マレイン酸半エステルをベースとするバインダーポリマー、少なくとも１種の光硬化性アクリレート化合物および溶媒としてのプロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテルからなる感光性組成物の使用は、上記の欠点を生じず、即ち、プラスチック表面上に存在する金属シードは、現像後の続く金属被覆処理について、特にパラジウムシードが使用されたとき、十分活性であることが今や見いだされた。新規液体組成物の使用は、比較的薄い層厚で作業することを可能にするさらなる利点を有し、光レジスト層のＵＶ照射に続く現像処理は、それ故、商業的にかつ環境的により有利になる。
従って、本発明は、室温で液体でありかつ
ａ）スチレン−無水マレイン酸半エステルコポリマーをベースとするバインダーポリマー１８ないし２２重量％、
ｂ）少なくとも１種の光硬化性アクリレート化合物１０ないし１５重量％、
ｃ）光開始剤０．１ないし１０重量％、および
ｄ）プロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテル４５ないし７０重量％からなり、
成分ａ）ないしｄ）の合計が１００重量％である、感光性組成物に関する。
本発明の組成物は、好ましくは、
ａ）スチレン−無水マレイン酸半エステルコポリマーをベースとするバインダーポリマー１８ないし２２重量％、
ｂ）少なくとも１種の光硬化性アクリレート化合物１１．５ないし１４．５重量％、
ｃ）光開始剤１ないし５重量％、および
ｄ）プロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテル５０ないし６８重量％を含む。
バインダーとして新規組成物中で使用されるスチレン−無水マレイン酸半エステルコポリマーは既知であり、そして、例えば登録商標スクリプセット（Scripset）５５０Ｅ（モンサント（Monsanto）製）の下で、市販で入手可能である。
スチレン−無水マレイン酸半エステルコポリマーは、好ましくは、次式Ｉ
0003940962.tif 000002
［式中、Ｒは−ＣＨ2ＯＨまたは−ＣＨ2−ＣＨ2−ＯＨを表し、ｍは１ないし３の整数を表し、そしてｎは６ないし８の整数を表す。］に対応する。
新規組成物は、好ましくは、バインダーポリマーとして、１００００ないし３００００の平均分子量を有する引用された式Ｉで表されるスチレン−無水マレイン酸半エステルコポリマーからなる。
本発明の組成物中の成分（ｂ）の光硬化性アクリレート化合物はまた既知であり、また、例えば登録商標サートマー（SARTOMER）およびエベクリル（EBECRYL）の下で、市販で入手可能である。
新規組成物中のアクリレート化合物は、少なくとも３の官能性を有する脂肪族、芳香族または環式脂肪族ジ（メタ）アクリレートまたはポリ（メタ）アクリレートであり得る。アクリレート化合物（ｂ）はまた、２ないし４の官能性を有するウレタン（メタ）アクリレートでもあり得る。
適したアクリレート化合物（ｂ）は、例えば、１，３−ブチレングリコール、１，４−ブタンジオール、ネオペンチルグリコール、１，６−ヘキサンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ポリエチレングリコール４００、ポリエチレングリコール６００、トリプロピレングリコール、エトキシ化もしくはプロポキシ化ネオペンチルグリコール、１，４−ジヒドロキシメチルシクロヘキサン、２，２−ビス（４−ヒドロキシ−シクロヘキシル）プロパンまたはビス（４−ヒドロキシシクロヘキシル）メタンのような脂肪族または環式脂肪族ジオールのジアクリレートエステルおよびジメタクリレートエステルである。
新規組成物中で使用され得る多官能性アクリレートは、例えば、１，１，１−トリメチルプロパントリアクリレートまたはトリメチルプロパンメタクリレート、エトキシ化１，１，１−トリメチロールプロパントリアクリレートまたは１，１，１−トリメチロールプロパンメタクリレート、ペンタエリトリトールテトラアクリレート、ペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレートまたはペンタエリトリトールモノヒドロキシメタクリレート、ジペンタエリトリトールモノヒドロキシトリアクリレートまたはジペンタエリトリトールモノヒドロキシメタクリレートである。そのような化合物は、例えば、製品名ＳＲ−２９５、ＳＲ−３５０、ＳＲ−３５１、ＳＲ−３６７、ＳＲ−３９９、ＳＲ−４４４およびＳＲ−４５４（サートマー・カンパニー（Sartomer Company）製）の下で、市販で入手可能である。
新規組成物のための好ましい芳香族ジ（メタ）アクリレートは、ビスフェノールＡおよびビスフェノールＦをベースとするジ（メタ）アクリレートまたはアルコキシ化、好ましくはエトキシ化もしくはプロポキシ化、ビスフェノールＡもしくはビスフェノールＦのジ（メタ）アクリレートである。そのようなモノマー性またはオリゴマー性ジ（メタ）アクリレートはまた既知であり、またいくつかは、例えば、エトキシ化ビスフェノールＡジメタクリレートについての製品名ＳＲ−３４８およびエトキシ化ビスフェノールＡジアクリレートについての製品名ＳＲ−３４９（サートマー・カンパニー（Sartomer Company）製）の下で、市販で入手可能である。
新規組成物中に存在することができるウレタン（メタ）アクリレートはまた当業者に既知であり、そして既知の方法において、例えば、ヒドロキシル末端を有するポリウレタンとアクリル酸またはメタクリル酸とを対応するウレタン（メタ）アクリレートへと反応させることにより、またはイソシアネート末端を有するプレポリマーとヒドロキシアルキル（メタ）アクリレートとを対応するウレタン（メタ）アクリレートへと反応させることによって製造されることができる。そのような製造方法は、なかんずく、刊行されたＥＰ特許明細書第１１４９８２号および第１３３９０８号において開示される。
新規組成物中の成分ｂ）は、好ましくは、脂肪族アクリレート、環式脂肪族アクリレートまたはウレタンアクリレートである。
新規組成物中の成分ｂ）は、特に好ましくは、異なる好ましいアクリレートの混合物である。
適した光開始剤（ｃ）は、原則的には光重合のために慣用的に使用される開始剤であり、好ましくは暴露で遊離ラジカルを形成するものである。
既知の光開始剤の代表的な化合物は、例えば、ベンゾイン、ベンゾインエーテル、例えば、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテルおよびベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインフェニルエーテルおよびベンゾインアセテート、アセトフェノン、例えばアセトフェノン、２，２−ジメチルアセトフェノンおよび１，１−ジクロロアセトフェノン、ベンジル、ベンジルケタール、例えばベンジルジメチルケタールおよびベンジルジエチルケタールであって、登録商標イルガキュア（Irgacure）（チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）の下で市販で入手可能なもの、アントラキノン、例えば２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−第三ブチルアントラキノン、１−クロロアントラキノンおよび２−アミルアントラキノン、トリフェニルホスフィン、ベンゾイルホスフィンオキシド（ルジリン（Luzirin）ＴＰＯ）、ベンゾフェノン、例えばベンゾフェノンおよび４，４’−ビス（Ｎ，Ｎ’−ジメチルアミノ）ベンゾフェノン、チオキサントンおよびキサントン、アクリジン誘導体、フェナジン誘導体、キノキサリン誘導体または１−フェニル−１，２−プロパンジオン−２−Ｏ−ベンゾイルオキシム、１−アミノフェニルケトンまたは１−ヒドロキシフェニルケトン、例えば、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、フェニル−（１−ヒドロキシイソプロピル）ケトンおよび４−イソプロピルフェニル−（１−ヒドロキシイソプロピル）ケトン、および２−ベンジル−２，２−ジメチルアミノ−１−（４−Ｎ−モルホリノフェニル）ブタノ−１−オンであって、既知の化合物であり、また市販で入手可能なものである。
光開始剤（ｃ）として、登録商標イルガキュア（Irgacure）の下で市販で入手可能な光開始剤、例えばベンジルジメチルケタール、ベンジルジエチルケタールおよび２−ベンジル−２，２−ジメチルアミノ−１−（４−Ｎ−モルホリノフェニル）ブタノ−１−オンを使用することが特に好ましい。
既知のように、光開始剤は、組成物に有効な量、即ち、組成物の総量に基づいて０．１ないし１０重量％の量で添加される。
新規組成物はまた、異なる波長の輝線を有する光線への異なる放射線感度を有する異なる光開始剤をも含むことができる。例えば、異なる波長の輝線を照射するＵＶ／ＶＩＳ光源のより良い使用を為すことがそれ故可能となる。
成分（ｄ）として新規組成物中に使用されるプロピレングリコール半エステルまたはプロピレングリコール半エーテル、例えば１−プロポキシ−２−プロパノールはまた、市販で入手可能な既知の化合物である。
新規組成物中の成分（ｄ）は、好ましくは、プロピレングリコール半エーテルである。
所望により、慣用の添加剤が新規組成物に添加されることができ、例えば、安定剤、例えばＵＶ安定剤、重合阻害剤、分離剤、湿潤剤、流れ調節剤、増感剤、沈降防止剤、界面活性剤、着色剤、顔料または充填剤である。
新規組成物は、化学線での、例えば２８０ないし６５０ｎｍの波長範囲にある光を都合よく使用する電子線またはＸ線、ＵＶまたはＶＩＳ光線による照射によって硬化されることができる。
従って、本発明はまた、光構造化物体、例えばクレジットカード、識別カードまたはテレホンカードの製造、特にテレホンカードの製造のための光レジストとしての新規液体感光性組成物の使用にも関する。
最初に説明したように、新規組成物は、比較的薄層において塗布され得ることおよび暴露されたプラスチックシートのアルカリ現像において、暴露された範囲が残渣を全く残さずに除去され、露出された金属シードが続く金属被覆について活性であることができることの利点を有する。その薄い層厚のために、新規組成物は、テレホンカードの保護における永久レジストとしてさらに使用されることができるので、慣用の剥離処理は省かれ、残存する光レジストおよび構造化金属層を含むプラスチックシートは、金属被覆処理の直後に表面塗布されることができる。
本発明の他の好ましい目的は、従って、金属シード化（metal-seeded）プラスチック表面、特にパラジウムシード化プラスチック表面をベースとするテレホンカードの製造方法であって、該方法は、新規組成物を金属シード化プラスチックシートに５ないし２０μｍ、好ましくは約１０μｍの層厚で塗布すること、該組成物を所望の構造を提供するマスクを通して化学線に暴露すること、暴露されたプラスチックシートをアルカリ浴中で現像すること、およびその後、化学金属被覆浴中で、０．２ないし０．３μｍのニッケル層を現像の間に露出された金属シードに施すこと、およびその後、メッキ浴中で、５ないし２０μｍのＳｎ／Ｐｂ層をニッケル層に、現像後に残存する新規組成物の部分と構造化プラスチックシート上のＳｎ／Ｐｂ層の部分とが同じ層厚を有するように施すこと、および続いてコーティング層を構造化プラスチックシートに施すことからなる。
パラジウムシード化プラスチック表面からなるシートまたは板は既知であり、また例えばプラスチックシートをアトテック（Atotech）の作業説明書に従って、例えばパラジウム含有活性剤ネオガント（Neoganth）８３４の特別な溶液を使用する浴中で処理しそしてその後、十分な洗浄後、それらをさらに、例えばレダクター（reductor）・ネオガント（Neoganth）で処理し、続く金属被覆のために必要とされる金属シードを得ることによって製造されることができる。
金属シード化プラスチック表面へのニッケル層の化学金属被覆およびニッケル層への、例えばＳｎ／Ｐｂ層の、メッキ金属被覆はまた、その後既知の方法において行われる。所望のニッケル層は、例えば金属シード化プラスチックシートを、２０ないし３０％のニッケル塩溶液を含む金属被覆浴中に単に置くことによって得られる。
Ｓｎ／Ｐｂ層のニッケル層上での製造はまた既知の方法において行われ、約６０％の錫および４０％の鉛からなる合金が、メッキ浴によって、例えば鉛／錫溶液から、２２ないし２８℃および１ないし３ボルトで、１ないし８Ａ／ｄｍ2のカソード電流密度を使用して分離される。
構造化プラスチックシート上でのコーティング層の製造は、慣用の方法において、例えば硬化性表面コーティング層を、好ましくは噴霧処理によって施すことにより行われる。
本発明はまた、従って、上記の方法によって得られるテレホンカードにも関する。
液体感光性組成物についての一般製造説明書
ベンドラウリック（Pendraulic）攪拌機（分当り７００ないし１０００回転）を備えた２００リットルステンレス鋼反応釜中で、以下の成分を１０分間にわたり、１−プロポキシ−２−プロパノール５０ないし６８ｋｇ中に最初に溶解した：
アクリレート・サートマー（Sartomer）ＳＲ４５４（エトキシ化トリメチルプロパントリアクリレート、サートマー・カンパニー（Sartomer Company）製）８ないし９ｋｇ、
アクリレート・エベクリル（Ebecryl）２２０（オリゴマー性ウレタンアクリレート、ラドキュア・ユーシービー（Radcure UCB）製）３ないし４ｋｇ、
アクリレート・ＮＫ  ＯＬＩＧＯ  ＵＡ−９Ｐ（ウレタンアクリレート６０ないし６３重量％、ペンタエリトリトールテトラアクリレート１２ないし１５重量％およびプロピレングリコールモノエチルエーテル２５重量％からなる混合物、シン−ナカムラ・ケミカル（Shin-Nakamura Chemical）製）０．５ないし１．５ｋｇ、および
消泡剤・アイレックス（Airex）９００（石英粉末で充填されたポリシロキサン、テゴ（Tego）製）０．１ないし０．２ｋｇ。
この溶液に、攪拌しながら、１５分にわたって、
バインダーコポリマー・スクリプセット（Scripset）５５０Ｅ（スチレン−無水マレイン酸コポリマー、モンサント（Monsanto）製）１８ないし２２ｋｇをその後添加し、そしてその中に溶解した。
この溶液に、
２，６−ジー第三ブチル−ｐ−クレゾール、シェル（Shell）製、０．０２ないし０．０４ｋｇ、
ＤＥＡＢＰ（テトラエチル−４，４−ジアミノベンゾフェノン、ＢＡＳＦ製）０．３ないし０．８ｋｇ、
光触媒・イルガキュア（Irgacure）３６９（２−ベンジル−２，２−ジメチルアミノ−４’−モルホリノブチロフェノン、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）１ないし１．８ｋｇ、
トリアリルメタン・ペルガスクリプト・ブルー（Pergascript Blue）Ｓ−ＲＢ着色剤（ビスアクリルカルバゾイルメタン化合物、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）０．３ないし０．４ｋｇ、
トリアジンＡ（［４−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン］、ＰＡＣＳ製）０．２ないし０．３ｋｇ、および
オラソルブラウ（Orasolblau）ＧＮ（銅フタロシアニンイソプロピル−３−スルホンアミド、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）０．１ないし０．５ｋｇ
をその後添加した。
そうして得られた混合物を、６０分間攪拌で均一化し、混合物の温度は３５℃より下に保った。
実施例１：
以下の物質を、一般製造説明書に類似して使用し：
アクリレート・サートマー（Sartomer）ＳＲ４５４（エトキシ化トリメチルプロパントリアクリレート、サートマー・カンパニー（Sartomer Company）製）６．９３４ｋｇ、
アクリレート・エベクリル（Ebecryl）２２０（ポリマー性ウレタンアクリレート、ラドキュア・ユーシービー（Radcure UCB）製）６．８９２ｋｇ、
アクリレート・ＮＫ  ＯＬＩＧＯ  ＵＡ−９Ｐ（ウレタンアクリレート６０ないし６３重量％、ペンタエリトリトールテトラアクリレート１２ないし１５重量％およびプロピレングリコールモノエチルエーテル２５重量％からなる混合物、シン−ナカムラ・ケミカル（Shin-Nakamura Chemical）製）２．１００ｋｇ、および
消泡剤・アイレックス（Airex）９００（ケイ酸で充填されたポリシロキサン、テゴ（Tego）製）０．３１０ｋｇ、
そして、攪拌しながら、１０分間にわたり１−プロポキシ−２−プロパノール６０．７４３ｋｇ中に溶解した。
この溶液に、攪拌しながら、約１５分にわたって、
バインダーコポリマー・スクリプセット（Scripset）５５０Ｅ（スチレン−無水マレイン酸コポリマー、モンサント（Monsanto）製）１７．５６２ｋｇ、を徐々に添加した。続いて、
２，６−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾール０．０２９ｋｇ、
テトラエチル−４，４−ジアミノベンゾフェノン（ＤＥＡＢＰ、ＢＡＳＦ製）０．７４０ｋｇ、
光触媒・イルガキュア（Irgacure）３６９（２−ベンジル−２，２−ジメチルアミノ−４’−モルホリノブチロフェノン、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）１．７８０ｋｇ、
トリアリルメタン・ペルガスクリプト・ブルー（Pergascript Blue）Ｓ−ＲＢ着色剤（ビスアクリルカルバゾイルメタン化合物、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）０．４００ｋｇ、
４−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン０．３００ｋｇ、および
銅フタロシアニンイソプロピル−３−スルホンアミド（オラソルブラウ（Orasolblau）ＧＮ、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）０．４００ｋｇ
を添加した。
そうして得られた混合物を、攪拌で６０分間均一化し、混合物の温度は３５℃より下に保った。
２５℃での粘度                ＝０．２８５Ｐａ・ｓ
暴露                          ＝１２０ｍＪ／ｃｍ2
１．０％Ｎａ2ＣＯ3水溶液中で３０℃で３０秒間の現像
解像度                        ＝１２μｍ線およびギャップ
ストッファー（Stouffer）段階  ＝７（最大２１）
実施例２：
以下の物質を、一般製造説明書に類似して使用し：
アクリレート・サートマー（Sartomer）ＳＲ４５４（エトキシ化トリメチルプロパントリアクリレート、サートマー・カンパニー（Sartomer Company）製）４．１２３ｋｇ、
アクリレート・エベクリル（Ebecryl）２２０（ポリマー性ウレタンアクリレート、ラドキュア・ユーシービー（Radcure UCB）製）８．６７２ｋｇ、
アクリレート・ＮＫ  ＯＬＩＧＯ  ＵＡ−９Ｐ（ウレタンアクリレート６０ないし６３重量％、ペンタエリトリトールテトラアクリレート１２ないし１５重量％およびプロピレングリコールモノエチルエーテル２５重量％からなる混合物、シン−ナカムラ・ケミカル（Shin-Nakamura Chemical）製）１．１００ｋｇ、および
消泡剤・アイレックス（Airex）９００（ケイ酸で充填されたポリシロキサン、テゴ（Tego）製）０．３１０ｋｇ、
そして、攪拌しながら、１０分間にわたり１−プロポキシ−２−プロパノール６２．５５３ｋｇ中に溶解した。
この溶液に、攪拌しながら、約１５分にわたって、
バインダーコポリマー・スクリプセット（Scripset）５５０Ｅ（スチレン−無水マレイン酸コポリマー、モンサント（Monsanto）製）１９．２７２ｋｇ、を徐々に添加した。続いて、
２，６−ジ−第三ブチル−ｐ−クレゾール０．０２９ｋｇ、
テトラエチル−４，４−ジアミノベンゾフェノン（ＤＥＡＢＰ、ＢＡＳＦ製）０．７４０ｋｇ、
光触媒・イルガキュア（Irgacure）３６９（２−ベンジル−２，２−ジメチルアミノ−４’−モルホリノブチロフェノン、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）１．７８０ｋｇ、
トリアリルメタン・ペルガスクリプト・ブルー（Pergascript Blue）Ｓ−ＲＢ着色剤（ビスアクリルカルバゾイルメタン化合物、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）０．４００ｋｇ、
４−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジン０．３００ｋｇ、および
銅フタロシアニンイソプロピル−３−スルホンアミド（オラソルブラウ（Orasolblau）ＧＮ、チバ・スペチアリターテンヘミ（Ciba Spezialitatenchemie）製）０．４００ｋｇ
を添加した。
そうして得られた混合物を、攪拌で６０分間均一化し、混合物の温度は３５℃より下に保った。
２５℃での粘度                ＝０．２３４Ｐａ・ｓ
暴露                          ＝１２０ｍＪ／ｃｍ2
１．０％Ｎａ2ＣＯ3水溶液中で３０℃で３０秒間の現像
解像度                        ＝１５μｍ線およびギャップ
ストッファー（Stouffer）段階  ＝７（最大２１）
使用実施例：テレホンカードの製造
両面ロールコーターを使用して、実施例１において製造し溶解した組成物を、アトテック（ATOTECH）の作業説明書に従い活性剤・ネオガント（Neoganth）８３４およびレダクター（reductor）・ネオガント（Neoganth）を使用して製造したパラジウムシード化ＡＢＳシート上に塗布した。組成物をオーブン中で８０℃で４分間乾燥した後、そうして得たフィルムは１０μｍの層厚を有していた。
乾燥したフィルムシートをその後、像形成マスクを通して、１５０ないし２５０ｍＪ／ｃｍ2の放射エネルギーを使用してＵＶ線に暴露した。暴露したシートをその後、０．６６ないし０．８６％ＮａＣＯ3水溶液中で４０ないし６０秒間２５℃で現像した。２０ないし３０％のＮｉＣｌ2溶液を含む化学金属被覆浴中で、０．２ないし０．３μｍニッケル層をその後、露出されたパラジウムシードに２分間施し、そしてその後、アトテック（ATOTECH）の錫溶液・スルフォリト（Sulfolyt）および鉛溶液・スルフォリト（Sulfolyt）を含むメッキ浴中かつ１ないし８Ａ／ｄｍ2の電流密度、１ないし３ボルトおよび２２ないし２８℃で、１０μｍ・Ｓｎ／Ｐｂ層をニッケル層へ施し、ＡＢＳシートは、レジスト層の除去のための剥離処理が省かれ得るような、等しい厚さのレジストおよび金属層を有していた。この方法において構造化したＡＢＳシートをその後表面塗布し、最終テレホンカードを得た。