(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
パターン形成用のマスクと露光対象基板とを露光光に対して走査することによって露光処理を行う露光装置において、
マスクを複数の支柱を介して保持するマスクホルダと、露光対象基板を保持し、該露光対象基板と該マスクとの間に所定のギャップを形成すると共に該露光対象基板と該マスクとの位置合わせを行うアライメントステージとを搭載する移動ベースと、
前記マスクと前記露光対象基板とを露光光に対して走査するように前記移動ベースを案内するための一対のガイドと、
前記一対のガイドの一方のガイドに対して前記移動ベースを両端部の２箇所で移動自在に支持する第１及び第２の支持部材、他方のガイドに対して前記移動ベースを中間部の１箇所で移動自在に支持する第３の支持部材、の合計３箇所の支持部材と
を具えた露光装置。
【請求項２】
各箇所の前記支持部材は、前記ガイドに接して移動するブロックを具備し、該ブロックは前記移動ベースを面接触で支持するものである請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
各箇所の前記支持部材は、前記ガイドに接して移動する第1の保持部材と、前記移動ベースの下面に設けられた第２の保持部材と、前記第1の保持部材の所定位置に設けられたほぼ半球状若しくは円錐状の凹み内にて転動可能に配置されてその球面のいずれかの箇所でその上部の前記第２の保持部材に当接して前記移動ベースを支持する鋼球とを具備し、前記３箇所の前記支持部材のうち、前記第1の支持部材の前記第２の保持部材には前記鋼球を保持するほぼ半球状若しくは円錐状の凹みが設けられ、前記第２の支持部材の前記第２の保持部材には前記鋼球を保持する凹みが前記ガイドの方向に沿った溝状に設けられており、前記第３の支持部材の前記第２の保持部材は平面で前記鋼球に当接することを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの製造工程において露光対象基板であるガラス基板やカラーフィルタ等の面上にパターンを形成する露光装置に係り、特に、フォトマスクと露光対象基板とを露光光に対して走査することによって当該露光対象基板の面上にパターンを形成するスキャンタイプの露光装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liqud Crystal Display ）は、ＣＲＴ（Cathode Ray Tube）に比べて薄型化、軽量化が可能であるため、ＣＴＶ（Color Television）やＯＡ機器等のディスプレイ装置として採用され、画面サイズも１０型以上の大型化が図られ、より一層の高精細化及びカラー化が押し進められている。
【０００３】
液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によりガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られる。露光装置は、フォトマスクの微細パターンをガラス基板上に投影・転写するものである。露光装置としては、マスクパターンをレンズまたはミラーを用いてガラス基板上に投影するプロジェクション方式と、フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けてマスクパターンをガラス基板上に転写するプロキシミティ方式とがある。プロキシミティ方式の露光装置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能が劣るものの、照射光学系が非常にシンプルであり、スループットが高く、装置コストから見たコストパフォーマンスも優れており、生産性の高い量産用装置に適したものである。
【０００４】
プロキシミティ方式の露光装置では、フォトマスクとガラス基板との間隔を所定の微小ギャップ（セパレーションギャップ）に設定するようにガラス基板の位置決め制御いわゆるプロキシミティギャップ制御が行われる。プロキシミティギャップ制御では、ギャップが高精度に設定されない場合、露光ぼけなどが生じるので、ギャップの高精度化がマスクパターン転写時の微細条件を決定する重要な要因となる。また、プロキシミティ方式の露光装置では、フォトマスクとガラス基板とを高精度に重ね合わせるアライメント制御が行われる。通常、ガラス基板面上にマスクパターンを転写する露光工程では、フォトマスクを複数枚用いてガラス基板に所定のマスクパターンを順次転写するため、アライメント制御によるフォトマスクとガラス基板との重ね合わせ精度が露光性能の重要な位置を占めることになる。
【０００５】
近年、液晶ディスプレイのサイズがますます大版化する傾向にある。液晶ディスプレイのサイズが大版化するに伴い、ガラス基板のサイズが大版化し、これに伴いフォトマスクのサイズも大版化される。そこで、大版のフォトマスクを用いて大版のガラス基板にマスクパターンを転写する露光装置として、フォトマスクとガラス基板とをプロキシミティギャップ制御及びアライメント制御を完了した状態に保持し、該フォトマスクとガラス基板とを露光光に対して走査することによって、マスクパターンをガラス基板面上に露光するスキャンタイプの露光装置が採用されるようになってきた。
【０００６】
図３に、従来のスキャンタイプの露光装置の一例を示す。図３（ａ）において、フォトマスクＭは、移動ベース２１上に複数の支柱（図示例では、４つの支柱）２２ａ〜２２ｄを介して配置されたマスクホルダ２３によってほぼ水平に吸着保持される。各支柱２２ａ〜２２ｄは、移動ベース２１の上面に平行に立設され、マスクホルダ２３の四隅を支持する。一方、ガラス基板Ｐは、移動ベース２１上に設けられたアライメントステージ２４の露光チャック２４ａ上にほぼ水平に吸着保持される。アライメントステージ２４は、ガラス基板Ｐを吸着保持する露光チャック２４ａと、プロキシミティギャップ制御用のＺ軸テーブル２４ｂと、アライメント用のＸＹθテーブル２４ｃなどを含んで構成される。移動ベース２１は、図３（ａ）〜（ｃ）に示されるように、床Ｆに設置された装置基台２５上の一対の平行なガイドレール２６ａ及び２６ｂのそれぞれに複数の支持ブロック（図示例では、各ガイドレール２６ａ，２６ｂに対して３つの支持ブロック）２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ〜２７ｆを介して移動自在に載置されている。
【０００７】
上記のスキャン露光装置では、図３（ａ）に示されるように、移動ベース２１を露光光Ｌの照射位置から退避させ、その退避位置でアライメントステージ２４によってフォトマスクＭとガラス基板Ｐとのプロキシミティギャップ制御やアライメント制御などが行われる。すなわち、Ｚ軸テーブル２４ｂによって露光チャック２４ａを上昇させることにより、ガラス基板ＰとフォトマスクＭとの間に所定のプロキシミティギャップを設定する。また、ＸＹθテーブル２４ｃによって露光チャック２４ａをＸＹθ方向にそれぞれ位置決めすることにより、ガラス基板ＰとフォトマスクＭとを高精度に重ね合わせる。そして、プロキシミティギャップ制御やアライメント制御などが完了した後に、移動ベース２１を所定の駆動機構（図示せず）によって露光光Ｌの照射位置に向けて移動（矢印Ｑ方向へ移動）し、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとを光源（図示せず）から照射される露光光Ｌに対して移動することによって、該露光光Ｌの照射位置でフォトマスクＭのマスクパターンをガラス基板面上に転写する。ガラス基板Ｐへのマスクパターンの転写が完了すると、光源による露光光Ｌの照射を停止し、移動ベース２１を駆動機構によってマスクパターンの転写完了位置から矢印Ｒ方向へ移動して退避位置まで戻す。又、移動ベース２１をＲ方向へ移動する際にも露光光Ｌを照射すれば２倍の露光量を得ることができるので、スループットの向上を図れる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上記のスキャンタイプの露光装置においては、マスクホルダ２３やアライメントステージ２４の他に、大版のフォトマスクＭ及びガラス基板Ｐなどが移動ベース２１に搭載されることから、該移動ベース２１の重量は数トンにも及ぶ。このため、移動ベース２１が露光光Ｌの照射位置に向けて移動する移動中に、床Ｆの沈み込みなどに起因して、装置基台２５の各ガイドレール２６ａ，２６ｂに、例えば、図３（ａ）において一点鎖線で示されるようなうねり（或いは、撓み）２６ａ’２６ｂ’が生ずる。このうねり２６ａ’２６ｂ’は、移動ベース２１の移動方向において、移動ベース２１のほぼ中央に配置された２つの支持ブロック２７ｂ及び２７ｅ部分で最大となり、該移動ベース２１の両端部に配置された４つの支持ブロック２７ａ，２７ｃ及び２７ｄ，２７ｆ部分に近くなるに従って徐々に小さくなる。このように、各ガイドレール２６ａ，２６ｂにうねり２６ａ’２６ｂ’が生じると、支持ブロック２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ〜２７ｆは、移動ベース２１の移動中に、各ガイドレール２６ａ，２６ｂのうねり量に応じた量だけ変位する。これによって、移動ベース２１は、それぞれの支持ブロック２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ〜２７ｆを通じて各ガイドレール２６ａ，２６ｂのうねり量を受けることになるから、支柱２２ａ〜２２ｄ側の面状態（平坦度）が各支持ブロック２７ａ〜２７ｃ，２７ｄ〜２７ｆの変位量に応じて変化することとなる。その結果、各支柱２２ａ〜２２ｄが変位して、当該各支柱２２ａ〜２２ｄによるマスクホルダ２３の支持バランスが崩れ、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとのギャップや重ね合わせにズレが生じるという問題があった。
【０００９】
そこで、上述の問題を解消するため、マスクホルダの上方にセンサを配置し、該センサによって移動ベースの移動中におけるフォトマスクとガラス基板とのギャップやアライメントのズレ量を検出し、その検出結果に基づきＺ軸テーブルやＸＹθテーブルを制御しながら露光処理を行うことが考えられる。この場合、マスクホルダの上方に配置したセンサが露光光の影になって露光処理の障害となるという問題が生ずる。また、一対のガイドレールのうねりなどを防止するため、装置基台の剛性を高めることによって、各支持ブロックに対するガイドレールの面精度をアップすることが考えられるが、この場合、装置自体の重量が更に増大するという問題が生ずる。
【００１０】
本発明は、上述の点に鑑みて為されたもので、移動ベースの移動中においてガイドにうねりなどが生じても、パターン形成用のマスクと露光対象基板とのギャップや重ね合わせにズレが生じないようにした露光装置を提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る露光装置は、パターン形成用のマスクと露光対象基板とを露光光に対して走査することによって露光処理を行う露光装置において、マスクを複数の支柱を介して保持するマスクホルダと、露光対象基板を保持し、該露光対象基板と該マスクとの間に所定のギャップを形成すると共に該露光対象基板と該マスクとの位置合わせを行うアライメントステージとを搭載する移動ベースと、前記マスクと前記露光対象基板とを露光光に対して走査するように前記移動ベースを案内するための一対のガイドと、前記一対のガイドの一方のガイドに対して前記移動ベースを両端部の２箇所で移動自在に支持する第１及び第２の支持部材、他方のガイドに対して前記移動ベースを中間部の１箇所で移動自在に支持する第３の支持部材、の合計３箇所の支持部材とを具えたものである。これによれば、移動ベースが一対のガイドの内一方に対して２箇所で支持され、他方に対して１箇所で支持されるよう、合計３箇所で支持部材によって移動自在に支持されるので、移動ベースの移動中に一対のガイドにうねりが生じても、移動ベースは、１箇所の支持部材と残りの２箇所の支持部材とのうねり量の差分量だけ単純に傾くことになることから、支柱側の面状態（平坦度）が一対のガイドのうねりに応じて変化する（面がゆがむ）ことがない。これによって、各支柱のゆがみが防止されるので、当該各支柱によるマスクホルダの支持バランスが安定し、マスクと露光対象基板とのギャップや重ね合わせにズレが生じるようなことがなくなる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る露光装置の一実施の形態を添付図面に従って説明する。
図１は、本実施の形態に係る露光装置の概略構成を示し、（ａ）は露光装置の概略構成図、（ｂ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベース３と装置基台４上のガイドレール６ａ〜６ｃとの配置態様を示す図、（ｃ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベース３と装置基台４上のガイドレール６ａ〜６ｃとの結合態様を示す図である。
本実施の形態に係る露光装置は、図１に示されるように、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとを露光光Ｌに対して走査することによって露光処理を行うスキャンタイプの装置である。図１において、露光装置は、マスクホルダ１と、アライメントステージ２と、該マスクホルダ１及びアライメントステージ２などを搭載する移動ベース３と、該移動ベース３を移動自在に載置する装置基台４と、該装置基台４に対して移動ベース３を移動させるための任意の駆動機構（図示せず）と、露光光照射用の光源（図示せず）などを含んで構成される。アライメントステージ２や駆動機構などは、ＭＰＵ、ＲＯＭ、ＲＡＭなどを含むマイクロコンピュータから構成されてなる制御部（図示せず）によって駆動制御される。マスクホルダ１は、露光光導入用の空間部１ａを中央に有する枠形形状に形成されてなり、移動ベース３の上面に平行に立設された複数の支柱（図示例では、４本）５ａ〜５ｄによって四隅が支持されている。このマスクホルダ１は、空間部１ａの外周部分でフォトマスクＭをほぼ水平に吸着保持する。アライメントステージ２は、マスクホルダ１と対向する位置で移動ベース３上に配置されている。このアライメントステージ２は、ガラス基板Ｐを吸着保持する露光チャック２ａと、プロキシミティギャップ制御用のＺ軸テーブル２ｂと、アライメント制御用のＸＹθテーブル２ｃなどを含んで構成される。露光チャック２ａは、基板搬入ユニット（図示せず）から搬入されるガラス基板Ｐをほぼ水平に吸着保持する。移動ベース３は、床Ｆに設置固定された装置基台４上に平行に設けられた一対のガイドレール６ａ及び６ｂに面接触するように形成されてなる３つの支持ブロック７ａ〜７ｃを介して移動自在に支持されている。すなわち、移動ベース３は、図１（ｂ）に示されるように、その長手方向において、ほぼ中央に設けられた１つの支持ブロック７ａによって一方のガイドレール６ａに摺動自在に支持され、両端部近傍に設けられた２つの支持ブロック７ｂ及び７ｃによって他方のガイドレール６ｂに摺動自在に支持されている。
【００１３】
本例に示される露光装置では、図１（ａ）に示されるように、移動ベース３を露光光Ｌの照射位置から退避させ、その退避位置でアライメントステージ２によってフォトマスクＭとガラス基板Ｐとのプリアライメント制御、プロキシミティギャップ制御及びアライメント制御などが行われる。プリアライメント制御では、例えば、エッジ検出センサ（図示せず）を用いてガラス基板Ｐのエッジを非接触で検出し、その検出位置に基づき制御部によってガラス基板Ｐの搬入ずれを求め、その搬入ずれに基づいて該制御部がＸＹθテーブル２ｃをＸＹθ方向に駆動することによって、該搬入ずれを補正する。また、プロキシミティギャップ制御では、例えば、４つのギャップ検出センサ（図示せず）によりフォトマスクＭとガラス基板Ｐとの間のギャップ量を検出し、そのギャップ量に応じて制御部がＺ軸テーブル２ｂを駆動して露光チャック２ａを上昇させることにより、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとの間に所定のプロキシミティギャップを設定する。また、アライメント制御では、例えば、フォトマスクＭ及びガラス基板Ｐの所定の位置に設けられたアライメントマークをＣＣＤなどを用いて検出し、その検出結果からアライメントマークのずれ量を求め、そのずれ量に基づき制御部がＸＹθテーブル２ｃをＸＹθ方向に駆動することによって、該ずれ量を補正してフォトマスクＭとガラス基板Ｐとを高精度に重ね合わせる。
【００１４】
上述のような、プリアライメント制御、プロキシミティギャップ制御及びアライメント制御などが完了した後に、移動ベース３は駆動機構によって露光光Ｌの照射位置に向けて移動（矢印Ｐ方向へ移動）される。移動ベース３の移動中において、床Ｆの沈み込みなどに起因して、装置基台４の一対のガイドレール６ａ及び６ｂに、例えば、一点鎖線で示されるようなうねり（或いは、撓み）すなわち移動ベース３のほぼ中央の支持ブロック７ａ部分で最大となり、移動ベース３の両端部の２つ支持ブロック７ｂ，７ｃ部分に近くなるに従って徐々に小さくなるうねり（或いは、撓み）６ａ’，６ｂ’が生じた場合、各支持ブロック７ａ〜７ｃは、各ガイドレール６ａ，６ｂのうねり量に応じた量だけ変位する。このとき、３つの支持ブロック７ａ〜７ｃのうち、１つの支持ブロック７ａは移動ベース３をそのほぼ中央で一方のガイドレール６ａに摺動自在に支持し、残りの２つの支持ブロック７ｂ及び７ｃは移動ベース３をその両端部で他方のガイドレール６ｂに摺動自在に支持するので、該移動ベース３をほぼ中央で支持する１つの支持ブロック７ａの変位量が最も大きくなるが、該移動ベース３を両端部で支持する残りの２つの支持ブロック７ｂ及び７ｃの変位量は該１つの支持ブロック７ａの変位量よりも小さくなる。従って、移動ベース３は、移動中において、図１（ｃ）に一点鎖線で示されるように、１つの支持ブロック７ａの変位量と、残りの２つの支持ブロック７ｂ及び７ｃの変位量との差分量だけ、該１つの摺動ブロック７ａ側に傾くことから、移動ベース３の上面の面状態（平坦度）が各ガイドレール６ａ，６ｂのうねり６ａ’，６ｂ’に応じて変化することがない。これによって、各支柱５ａ〜５ｄの変位を防止できるので、当該各支柱５ａ〜５ｄによるマスクホルダ１の支持バランスが安定し、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとのギャップや重ね合わせにズレが生じるようなことがなくなる。
【００１５】
上記の移動ベース３は、図１（ａ）において、一点鎖線で示される位置から更に露光光Ｌの照射位置に向けて移動される。これにより、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとが露光光Ｌに対して走査され、該露光光Ｌがその照射位置でマスクホルダ１の空間部１ａからフォトマスクＭを照射することによって、当該フォトマスクＭのマスクパターンをガラス基板面上に転写する露光処理が行われる。この際に、フォトマスクＭとガラス基板Ｐとのギャップや重ね合わせにズレが生じていないので、マスクパターンをガラス基板面上に高精度に転写することができる。ガラス基板Ｐへのマスクパターンの転写が完了すると、光源による露光光Ｌの照射を停止し、移動ベース３を駆動機構によってマスクパターンの転写完了位置から矢印Ｒ方向へ移動して退避位置まで戻す。
【００１６】
上述の実施例に示される露光装置では、装置基台４上のガイドレール６ａ，６ｂに面接触する３つの摺動ブロック７ａ〜７ｃを用いて移動ベース３を移動自在に支持したが、追って説明する鋼球を具備してなる３つの支持ブロック８ａ〜８ｃを用いてガイドレール６ａ，６ｂに移動ベース３を移動自在に支持するようにしてもよい。図２に、鋼球を具備してなる３つの支持ブロック８ａ〜８ｃを一例を示す。図２において、（ａ）は、移動ベース３をそのほぼ中央でガイドレール６ａに支持する支持ブロック８ａの概略構成図、（ｂ）は、移動ベース３をその一端でガイドレール６ｂに支持する支持ブロック８ｂの概略構成図、（ｃ）は、移動ベース３をその他端でガイドレール６ｂに支持する支持ブロック８ｃの概略構成図である。
【００１７】
図２（ａ）（ｂ）（ｃ）のそれぞれにおいて、中央の図が各支持ブロック８ａ，８ｂ，８ｃの側面断面図、上の図が移動ベース３の下面に固着された保持部材８ａ１，８ｂ１，８ｃ１の底面図、下の図がガイドレール６ａ又は６ｂに摺動する保持部材８ａ２，８ｂ２，８ｃ２の上面図、である。図２（ａ）において、支持ブロック８ａは、移動ベース３の下面に固着された鋼球保持用の保持部材８ａ１と、ガイドレール６ａの上面に摺動自在に配置された鋼球保持用の保持部材８ａ２と、該各保持部材８ａ１，８ａ２間に介在された鋼球８ａ３などを有する。鋼球８ａ３は、ガイドレール６ａ側の保持部材８ａ２に設けられたほぼ半球状の凹部８ａ２’内に転動可能に収納され、その球面の上部が移動ベース３側の保持部材８ａ１の平坦面８ａ１’に接して、これを点接触状態で支持する。図２（ｂ）において、支持ブロック８ｂは、移動ベース３の下面に固着された鋼球保持用の保持部材８ｂ１と、ガイドレール６ｂの上面に摺動自在に配置された鋼球保持用の保持部材８ｂ２と、該各保持部材８ｂ１，８ｂ２間に介在された鋼球８ｂ３などを有する。鋼球８ｂ３は、ガイドレール６ｂ側の保持部材８ｂ２に設けられたほぼ半球状の凹部８ｂ２’内に転動可能に収納され、その球面の上部が移動ベース３側の保持部材８ｂ１の半球状若しくは円錐状の凹部８ｂ１’内に収納されて保持される。図２（ｃ）において、支持ブロック８ｃは、移動ベース３の下面に固着された鋼球保持用の保持部材８ｃ１と、ガイドレール６ｂの上面に摺動自在に配置された鋼球保持用の保持部材８ｃ２と、該各保持部材８ｃ１，８ｃ２間に介在された鋼球８ｃ３などを有する。鋼球８ｃ３は、ガイドレール６ｂ側の保持部材８ｃ２に設けられたほぼ半球状の凹部８ｃ２’内に転動可能に収納され、その球面の上部が移動ベース３側の保持部材８ｃ１に設けられたほぼＶ字形状の溝８ｃ１’内に収納されて保持される。Ｖ字形状の溝８ｃ１’は、ガイドレール６ｂの長手方向に延びている。これによって、一対のガイドレール６ａ及び６ｂにうねり６ａ’，６ｂ’が生じた場合に、該各ガイドレール６ａ，６ｂのうねり６ａ’，６ｂ’に追従して鋼球８ｃ３をガイドレール６ｂの長手方向へ移動できるようしている。すなわち、支持ブロック８ｂの凹部８ｂ１’と鋼球８ｂ３の係合箇所を支点にして、支持ブロック８ｃの溝８ｃ１’と鋼球８ｃ３の係合箇所がガイド長手方向に逃され、支持ブロック８ａの平坦面８ａ１’と鋼球８ａ３の当接箇所がガイド長手方向又は横方向などいずれの方向にも逃されるようになっている。勿論、各鋼球８ｃ１〜８ｃ３は、その中心が床Ｆから同一高さとなるようにガイドレール６ａ，６ｂ側の保持部材８ａ２〜８ｃ２に保持されている。なお、図２（ａ）〜（ｃ）に示される支持ブロック８ａ〜８ｃは、移動ベース３において、上記の支持位置に限られるものでなく、任意の支持位置に適宜適用してよい。
【００１８】
このように、装置基台４上の一対のガイドレール６ａ及び６ｂに移動ベース３を３つの支持ブロック８ａ〜８ｃの鋼球８ａ３〜８ｃ３によってその球面を介して支持するようにすれば、上述した支持ブロック７ａ〜７ｃの場合に比べて各ガイドレール６ａ，６ｂに対する接触面積を小さくすることができるので、各ガイドレール６ａ，６ｂのうねり６ａ’，６ｂ’による支持ブロック８ａ〜８ｃの変位量を更に小さくすることができる。これによって、各ガイドレール６ａ，６ｂのうねり６ａ’，６ｂ’による移動ベース３の傾き量が更に小さくなり、各支柱５ａ〜５ｄによるマスクホルダ１の支持バランスがより安定する。
【００１９】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明に係る露光装置によれば、移動ベースを一対のガイドに当該ガイドの長手方向の異なる３箇所で支持部材によって移動自在に支持するようにしたので、移動ベースの移動中においてガイドにうねりなどが生じても、各支柱が変位することがないので、当該各支柱によるマスクホルダの支持バランスが安定し、よって、マスクと露光対象基板とのギャップや重ね合わせにズレが生じるようなことを防止できる、という優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る露光装置の一実施例の概略構成を示し、（ａ）は露光装置の概略構成図、（ｂ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベースとガイドレールとの配置態様図、（ｃ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベースとガイドレールとの結合態様図。
【図２】  ガイドレールと移動ベースとを点接触で支持する支持ブロックの一例を示す概略構成図。
【図３】  従来の露光装置の概略構成を示し、（ａ）は露光装置の概略構成図、（ｂ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベースとガイドレールとの配置態様図、（ｃ）は（ａ）に示される露光装置の移動ベースとガイドレールとの結合態様図。
【符号の説明】
１  マスクホルダ
２  アライメントステージ
３  移動ベース
４  装置基台
５ａ〜５ｄ  支柱
６ａ，６ｂ  ガイドレール
７ａ〜７ｃ  支持ブロック
８ａ〜８ｃ  支持ブロック
８ａ３〜８ｃ３  鋼球
Ｌ  露光光
Ｍ  フォトマスク
Ｐ  ガラス基板
【図１】
0003920605.tif 000002
【図２】
0003920605.tif 000003
【図３】
0003920605.tif 000004