(57)【要約】【課題】水気や酸素に対してより高い遮断性能を有し、製品の信頼性を向上可能な表示パネルを提供する。【解決手段】表示パネルの第１基板は、表示領域と周辺領域とを有する。第１配線は、周辺領域に位置し、且つ第１方向に延びる。交差領域は、第２配線と第１配線とが交差することによって定義され、第２配線及び第１配線は、交差領域において互いに電気的に絶縁される。絶縁層は、第１配線及び第２配線上に設けられ、交差領域を露出させるために交差領域に対応して設けられる開孔領域を有している。スイッチ素子は、開孔領域に隣設し、能動層を有する。能動層は、第１方向に平行な第１の幅を有し、開孔領域と能動層との間の、第１方向に平行な最短距離が０より大きく第１の幅より小さい。【選択図】図１Ｃ
2016212367.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる表示媒体層と、
前記第１基板上に設けられるとともに前記周辺領域に位置し、且つ第１方向に延びる第１配線と、
前記第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように前記第１配線と交差し、且つ前記交差領域において前記第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、
前記第１配線及び前記第２配線上に設けられ、前記交差領域に対応して設けられるとともに前記交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、
前記第１基板上に設けられ、前記開孔領域に隣設し、能動層を有するスイッチ素子と、を含み、
前記能動層は、前記第１方向に平行な第１の幅を有しており、前記開孔領域と前記能動層との間の、前記第１方向に平行な最短距離は、０より大きく前記第１の幅より小さいことを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記開孔領域は、複数の前記交差領域を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記能動層の材料は、金属酸化物半導体であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記絶縁層は、複数の前記開孔領域を含み、
複数の前記開孔領域は、前記スイッチ素子の前記能動層に隣設していることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記交差領域は、前記第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、前記第１端から前記開孔領域のエッジに至る最短距離は、前記第２端から前記開孔領域のエッジに至る最短距離に等しくないことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記開孔領域は、前記第１配線の一部及び前記第２配線の一部を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第２配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記開孔領域は、前記第１配線及び前記第２配線を含まない領域を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第１配線及び前記第２配線を含まない前記領域に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項６に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記開孔領域に隣設され、前記第１方向に実質的に垂直な第２方向に第２の幅を有し、前記開孔領域との最短距離が、０より大きく前記第２の幅より小さい接続孔をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記絶縁層は、前記接続孔に隣設する複数の前記開孔領域を含むことを特徴とする請求項８に記載の表示パネル。
【請求項１０】
前記表示媒体層は、液晶層又は有機発光層であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１１】
表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる表示媒体層と、
前記第１基板上に設けられるとともに前記周辺領域に位置し、且つ第１方向に延びる第１配線と、
前記第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように前記第１配線と交差し、且つ前記交差領域において前記第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、
前記第１配線及び前記第２配線上に設けられ、前記交差領域に対応して設けられるとともに前記交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、
前記第１基板上に設けられ、前記交差領域に隣設し、前記開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下である能動層を有するスイッチ素子と、を含み、
前記能動層は、前記開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下であることを特徴とする表示パネル。
【請求項１２】
前記開孔領域は、複数の前記交差領域を含むことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１３】
前記能動層の材料は、金属酸化物半導体であることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１４】
前記絶縁層は、複数の前記開孔領域を含み、
複数の前記開孔領域は、前記スイッチ素子の前記能動層に隣設していることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１５】
前記交差領域は、前記第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、前記第１端から前記開孔領域のエッジまでの最短距離と、前記第２端から前記開孔領域のエッジまでの最短距離は、互いに等しくないことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１６】
前記開孔領域は、前記第１配線の一部及び前記第２配線の一部を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第２配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１７】
前記開孔領域は、前記第１配線及び前記第２配線を含まない領域を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第１配線及び前記第２配線を含まない前記領域に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項１６に記載の表示パネル。
【請求項１８】
前記開孔領域に隣設され、前記第１方向に実質的に垂直な第２方向に第２の幅を有し、前記開孔領域との最短距離が、０より大きく前記第２の幅より小さい接続孔をさらに含むことを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【請求項１９】
前記絶縁層は、前記接続孔に隣設する複数の前記開孔領域を含むことを特徴とする請求項１８に記載の表示パネル。
【請求項２０】
前記表示媒体層は、液晶層又は有機発光層であることを特徴とする請求項１１に記載の表示パネル。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、表示パネルに関し、特に、高信頼性を有する表示パネルに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
技術が進むに伴い、フラット表示パネルは、様々な分野に幅広く使用されるようになっている。特に、軽薄性，低消費電力性，非放射性などの優れた特性を有するため、従来の陰極線管表示装置の代わりに、例えば、携帯電話、携帯型マルチメディア装置、ノートパソコン、液晶テレビ、及び液晶スクリーンなどの様々な電子製品に使われるようになっている。
【０００３】
液晶表示パネルを例とし、従来の液晶表示パネルは、互いに対向配置された薄膜トランジスタ基板と、カラーフィルタ基板と、その２つの基板に介在する液晶層とを含み、カラーフィルタ基板及び薄膜トランジスタ基板と液晶層とによって、複数の画素セルが形成される。また、基板上に配置され、各画素に対応する薄膜トランジスタ及び画素電極を有する。走査線によって走査信号が画素に対応する薄膜トランジスタのゲートに入力される際、データ線のデータ電圧がソース及びドレインを経由して画素電極に入力されるように薄膜トランジスタを制御することによって、液晶の回転が制御されて画像を表示することができる。
【０００４】
市場競争の激化に伴い、表示パネルのサイズ及び色飽和度に対する要求も急速に高まるとともに、薄膜トランジスタの電気特性及び安定性に対する要求も増加している。そのうち、金属酸化物（Ｍｅｔａｌ  ｏｘｉｄｅ−ｂａｓｅｄ，ＭＯＳｓ）薄膜トランジスタは、室温で作製することができ、良好な電流出力特性、低リーク電流、及びアモルファスシリコン薄膜トランジスタ（ａｍｏｒｐｈｏｕｓ  ｓｉｌｉｃｏｎ  ｔｈｉｎ  ｆｉｌｍ  ｔｒａｎｓｉｓｔｏｒ，ａ−Ｓｉ  ＴＦＴ）より１０倍以上の電子移動度を有するとともに、表示パネルの消費電力を低減させ、動作周波数の表示パネルを向上させることができるため、表示パネルにおける駆動素子の主流となっている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】米国特許公報第８，８８４，２７２号
【特許文献２】米国特許公開公報第２０１４／０３４６４４５号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
しかし、金属酸化物薄膜トランジスタは、良い電気特性を有しているが、その電気特性が外気による水気や酸素で変質しやすいため、表示パネルの信頼性低下につながる。そのため、製品の信頼性を向上させるためには、水気や酸素に対してより高い遮断性能を有する表示パネルを提供することが重要な課題の１つとなっている。
【０００７】
本発明は、上記の点に鑑みてなされたものであって、水気や酸素に対してより高い遮断性能を有し、製品の信頼性を向上可能な表示パネルを提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上述した目的を達成するために、本発明の一実施形態に係る表示パネルは、表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられる表示媒体層と、第１基板上に設けられるとともに周辺領域に位置し、且つ第１方向に延びる第１配線と、第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように第１配線と交差し、且つ交差領域において第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、第１配線及び第２配線上に設けられ、交差領域に対応して設けられるとともに交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、第１基板上に設けられ、開孔領域に隣設し、能動層を有するスイッチ素子と、を含む。能動層は、第１方向に平行な第１の幅を有しており、開孔領域と能動層との間の、第１方向に平行な最短距離は、０より大きく第１の幅より小さい。
【０００９】
上述した目的を達成するために、本発明の他の実施形態に係る表示パネルは、表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられる表示媒体層と、第１基板上に設けられるとともに周辺領域に位置し、且つ第１方向に延びる第１配線と、第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように第１配線と交差し、且つ交差領域において第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、第１配線及び第２配線上に設けられ、交差領域に対応して設けられるとともに交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、第１基板上に設けられ、交差領域に隣設し、開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下である能動層を有するスイッチ素子と、を含む。能動層は、開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下である。
【００１０】
一実施例において、開孔領域は、複数の交差領域を含む。
【００１１】
一実施例において、能動層の材料は、金属酸化物半導体である。
【００１２】
一実施例において、絶縁層は、複数の開孔領域を含み、複数の開孔領域は、スイッチ素子の能動層に隣設している。
【００１３】
一実施例において、交差領域は、第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、第１端から開孔領域のエッジに至る最短距離は、第２端から開孔領域のエッジに至る最短距離に等しくない。
【００１４】
一実施例において、開孔領域は、第１配線の一部及び第２配線の一部を露出させ、第１配線の一部に対応する絶縁層のエッジ勾配と、第２配線の一部に対応する絶縁層のエッジ勾配が異なっている。
【００１５】
一実施例において、開孔領域は、第１配線及び第２配線を含まない領域を露出させ、第１配線の一部に対応する絶縁層のエッジ勾配と、第１配線及び第２配線を含まない領域に対応する絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっている。
【００１６】
一実施例において、表示パネルは、開孔領域に隣設され、第１方向に実質的に垂直な第２方向に第２の幅を有し、開孔領域との最短距離が、０より大きく第２の幅より小さい接続孔をさらに含む。
【００１７】
一実施例において、絶縁層は、接続孔に隣設する複数の開孔領域を含む。
【００１８】
一実施例において、表示媒体層は、液晶層又は有機発光層である。
【発明の効果】
【００１９】
本発明によれば、表示パネルにおいて、周辺領域に位置する第１配線及び第２配線が交差して配置されることで交差領域が形成され、且つ、絶縁層は、交差領域に対応して設けられるとともに交差領域を露出させる開孔領域を有する。また、スイッチ素子は、開孔領域に隣設し、能動層を有し、且つ、開孔領域と能動層との間の最短距離は、０より大きく、能動層の第１方向に平行な第１の幅より小さい。スイッチ素子の能動層には水気や酸素による浸食が起こる恐れがあるため、本発明は、上記構成によって、能動層に隣設する第３絶縁層を刳り貫いて開孔領域が形成されることにより、水気や酸素の進入経路を遮断し、水気や酸素に対してより高い遮断性能を有し、製品の信頼性を向上可能な表示パネルを提供することができる。さらに、本発明は、周辺領域の絶縁層に開孔領域が形成されることにより、不純物（イオン）が開孔領域に制限され、不純物イオンによる表示媒体層への影響を低減させ、不純物による表示パネルの表示効果への影響を回避することができる。
【図面の簡単な説明】
【００２０】
【図１Ａ】本発明の好ましい実施例に係る表示パネルを示す概略断面図である。
【図１Ｂ】図１Ａに示した表示パネルの概略平面図である。
【図１Ｃ】図１Ｂに示した表示パネルの一実施例による第１基板の周辺領域の概略レイアウト図である。
【図１Ｄ】図１ＣのＰ−Ｐ’線の概略断面図である。
【図１Ｅ】図１ＣのＱ−Ｑ’線の概略断面図である。
【図１Ｆ】図１ＣのＲ−Ｒ’線の概略断面図である。
【図２】本発明の好ましい実施例に係る表示装置を示す概略図である。
【図３】本発明の一実施例に係る表示装置を示す概略斜視図である。
【発明を実施するための形態】
【００２１】
図面を参照しながら、以下に本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。また、図面において、同一なものには、同一な符号を付して説明する。
【００２２】
図１Ａ〜図１Ｆを併せて参照する。図１Ａは、本発明の好ましい実施例に係る表示パネル１を示す概略断面図である。図１Ｂは、図１Ａに示した表示パネル１の概略平面図である。図１Ｃは、図１Ｂに示した表示パネル１の一実施例による第１基板１１の周辺領域ＰＡの概略レイアウト図である。図１Ｄは、図１ＣのＰ−Ｐ’線の概略断面図である。図１Ｅは、図１ＣのＱ−Ｑ’線の概略断面図である。図１Ｆは、図１ＣのＲ−Ｒ’線の概略断面図である。
【００２３】
表示パネル１は、液晶表示パネル又は有機ＥＬ表示パネルであってよい。本実施例は、フリンジフィールドスイッチング（Ｆｒｉｎｇｅ  Ｆｉｅｌｄ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＦＦＳ）型、インプレーンスイッチング（Ｉｎ−Ｐｌａｎｅ  Ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ，ＩＰＳ）型、ねじれネマチック（Ｔｗｉｓｔｅｄ  Ｎｅｍａｔｉｃ，ＴＮ）型や垂直配向型液晶（Ｖｅｒｔｉｃａｌ  Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ  Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ，ＶＡ）型の液晶表示パネルを例示しているが、これに限定されない。また、図には、第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２、及び第３方向Ｄ３が示されている。第１方向Ｄ１、第２方向Ｄ２及び第３方向Ｄ３は、各一対が実質的に互いに直交するようになっている。第１の方向Ｄ１は、走査線の延伸方向に対して実質的に平行であり、第２方向Ｄ２は、データ線の延伸方向に対して実質的に平行であり、第３方向Ｄ３は、それぞれ第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に対して実質的に垂直である。他の実施例において、第１の方向Ｄ１は、データ線の延伸方向に対して実質的に平行であり、第２方向Ｄ２は、走査線の延伸方向に対して実質的に平行であり、第３方向Ｄ３は、それぞれ第１方向Ｄ１及び第２方向Ｄ２に対して実質的に垂直であってもよいが、これに限定されない。また、図１ＣのＰ−Ｐ’線は、第１方向Ｄ１に対して平行である。
【００２４】
図１Ａ及び図１Ｂに示すように、表示パネル１は、第１基板１１、第２基板１２及び表示媒体層１３を含む。
【００２５】
第１基板１１は、表示領域ＡＡ（ａｃｔｉｖｅ  ａｒｅａ）と、表示領域ＡＡの外周に設けられる周辺領域ＰＡ（ｐｅｒｉｐｈｅｒａｌ  ａｒｅａ）を有する。表示領域ＡＡは、複数の光線が第１基板１１を透過できる領域（画像を表示する領域）であり、周辺領域ＰＡは、周辺駆動（スイッチ）素子及び配線が配置される領域であり、例えば、ゲート駆動回路が配置される領域（Ｇａｔｅ  ｏｎ  Ｐａｎｅ，ＧＯＰ）である。本実施例において、周辺領域ＰＡは、表示領域ＡＡを取り囲むようにその外周に設けられる領域を例とする。他の実施例において、周辺領域ＰＡは、表示領域ＡＡを取り囲まなくてもよい。
【００２６】
第１基板１１及び第２基板１２は、互いに対向して設けられ、表示媒体層１３が第１基板１１と第２基板１２との間に挟設されている。第１基板１１及び第２基板１２は、光透過性材料により製造され、例えば、ガラス基板、石英基板又はプラスチック基板であってもよいが、これに限定されない。本実施例において、第１基板１１は、薄膜トランジスタ基板であってもよく、第２基板１２は、カラーフィルタ基板であってもよい。また、本実施例において、表示媒体層１３が複数の液晶分子（図示せず）を有する液晶層であるため、表示パネル１は、液晶表示パネルになる。他の実施例において、仮に表示パネル１が有機ＥＬ表示パネルである場合、表示媒体層１３は、有機発光層になる。一実施例において、仮に有機発光層が白色光を発する場合、第２基板１２は、カラーフィルタ基板であってもよい。他の実施例において、仮に有機発光層が赤色光、緑色光、青色光を発する場合、第２基板１２は、有機発光層を外気からの水気又は異物による汚染を防止するための保護基板（Ｃｏｖｅｒ  ｐｌａｔｅ）又は保護層（Ｂａｒｒｉｅｒ  ｆｉｌｍ）であってもよい。
【００２７】
図１Ｃ及び図１Ｄに示すように、本実施例において、表示パネル１の周辺領域ＰＡは、第１配線１４、第１絶縁層１５、第２配線１６、第２絶縁層１７、第３絶縁層１８（又は絶縁層１８と称する）、少なくとも１つのスイッチ素子、配向層１９、及び電極層Ｅをさらに含んでもよい。図１Ｃには、簡単に説明するため、第１配線１４、第２配線１６、及び３つのスイッチ素子のＴ１，Ｔ２，Ｔ３のみが示されているが、他の膜層が示されていない。また、本実施例において、第３絶縁層１８は、２つの開孔領域（ｏｐｅｎｉｎｇ  ｒｅｇｉｏｎ）１８１，１８２を有している。「開孔領域１８１，１８２」とは、第３絶縁層１８が削除されて存在しない領域のことである。また、他の実施例において、開孔領域は、需要に応じて配置されてよく、その数量及び形状が限定されず、不規則形状であってもよい。
【００２８】
第１配線１４は、第１基板１１上に設けられるとともに、周辺領域ＰＡに位置している。ここで、図１Ｃに示すように、開孔領域１８１において、第１配線１４は、第２方向Ｄ２に延びている。ただし、周辺領域ＰＡの他の位置において、第１配線１４は、第１方向Ｄ１又は斜め方向に延びていてもよいが、限定されない。第１配線１４は、導電層によって形成され、その材料がアルミニウム、モリブデン、銅、銀などの金属、又はこれらの合金の単一層または多重層などとすることができる。また、第１配線１４は、薄膜トランジスタ（例えば、スイッチＴ１，Ｔ２，Ｔ３）のゲート（参照符号なし）及び走査線として用いられることができる。
【００２９】
第１絶縁層１５は、第１配線１４及び第１基板１１上に設けられている。第１絶縁層１５は、例えば有機シリコーン化合物などの有機材料、又は、例えば窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ハフニウムなどの無機材料を用いてもよく、或は上記材料の多層構造とすることができる。本実施例において、第１絶縁層１５は、少なくとも第１配線１４の一部を覆うとともに、第１基板１１の一部又は全部を選択的に覆うことができる。
【００３０】
第２配線１６は、第１基板１１及び第１配線１４を覆うように配置されている。開孔領域１８１において、第１配線１４と第２配線１６が交差することによって、少なくとも１つの交差領域Ｘが定義され、且つ交差領域Ｘにおける第１配線１４及び第２配線１６は、互いに電気的に絶縁されている。第２配線１６は、導電層であってもよく、その材料がアルミニウム、モリブデン、銅、銀などの金属、又はこれらの合金の単一層または多重層とすることができる。また、第２配線１６は、薄膜トランジスタ（例えば、スイッチＴ１，Ｔ２，Ｔ３）のドレイン又はソース（参照符号なし）及びデータ線として用いられることができる。第１配線１４と第２配線１６は、導電材料で異なる層であり、両者の間に第１絶縁層１５を有することによって、互いに電気的に絶縁されることができる。
【００３１】
第２絶縁層１７は、第２配線１６を覆うように配置されている。第２絶縁層１７は、例えば有機シリコーン化合物などの有機材料、又は、例えば窒化ケイ素、酸化ケイ素、酸窒化ケイ素、炭化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化ハフニウムなどの無機材料を用いてもよく、或は上記材料の多層構造とすることができる。
【００３２】
第３絶縁層１８は、第１配線１４及び第２配線１６上に設けられている。本実施例において、第３絶縁層１８は、第２絶縁層１７上に配置されるとともに、２つの開孔領域１８１，１８２を有している。開孔領域１８１は、第１配線１４と第２配線１６によって定義された３つの交差領域Ｘを露出させるように、その３つの交差領域Ｘに対応して配置されている。また、開孔領域１８２において、第１配線１４と第２配線１６が交差することによって、２つの交差領域（参照符号なし）を定義することができる。本実施例において、開孔領域１８１は、３つの交差領域Ｘを露出させるほかに、第１配線１４の一部及び第２配線１６の一部をさらに露出させる。第３絶縁層１８の材料としては、例えばポリフルオロアルコキシ（Ｐｏｌｙｆｌｕｏｒｏａｌｋｏｘｙ，ＰＦＡ）であってもよい。さらに、本実施例において、開孔領域１８１，１８２は、第３絶縁層１８の周縁の底部から底部までに形成される領域である。言い換えれば、開孔領域１８１，１８２において、第３絶縁層１８が刳り貫かれて存在せず、開孔領域１８１，１８２の範囲は、第３絶縁層１８の周縁の底部から底部までに形成される領域である。他の実施例において、開孔領域内の交差領域の数量は、限定されずに需要に応じて変更されることが可能である。
【００３３】
また、交差領域Ｘは、第１方向Ｄ１に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、第１端から開孔領域のエッジまでの最短距離は、第２端から開孔領域のエッジまでの最短距離に等しくない。開孔領域１８１を例とすると、図１Ｄに示すように、第１方向Ｄ１において、左側にある第１配線１４の底部のエッジから開孔領域１８１のエッジ（即ち、第３絶縁層１８の底部のエッジ）までの最短距離ｄ１と、右側にある第１配線１４の底部のエッジから開孔領域１８１のエッジまでの最短距離ｄ２は等しくない（ｄ１≠ｄ２）。
【００３４】
次に、図１Ｅに示すように、第３絶縁層１８は、第１配線１４の一部に対応するエッジ勾配と、第２配線１６の一部に対応するエッジ勾配が互いに異なっている。言い換えれば、開孔領域において、第３絶縁層１８の第１配線１４上のエッジと第２配線１６上のエッジが互いに異なっている。具体的には、開孔領域１８２を例として、左側にある配向層１９のエッジ勾配と、右側にある配向層１９のエッジ勾配が互いに異なり（即ち、角度θ１≠角度θ２）、且つ左側にある第３絶縁層１８のエッジの角度と、右側にある第３絶縁層１８のエッジの角度も互いに異なっている（即ち、角度θ３≠角度θ４）。また、図１Ｆに示すように、開孔領域１８２は、第１配線１４及び第２配線１６を含まない領域をさらに露出させる。開孔領域１８２を例として、左側にある配向層１９のエッジ勾配と、右側にある配向層１９のエッジ勾配が互いに異なっている（即ち、角度θ５≠角度θ２）。また、左側にある第３絶縁層１８のエッジの角度と、右側にある第３絶縁層１８のエッジの角度も互いに異なっている（即ち、角度θ６≠角度θ４）。言い換えれば、第３絶縁層１８は、開孔領域１８２において、例えば、第１配線１４上におけるエッジ勾配と第１配線１４以外の箇所上におけるエッジ勾配が異なっている。他の実施例では、開孔領域１８２において、第１配線１４上に第３絶縁層１８のエッジの第１側辺が設けられ、第１配線１４及び第２配線１６を含まない領域（参照符号なし）上に第３絶縁層１８のエッジの第２側辺が設けられ、配向層１９は、第１側辺及び第２側辺上に位置し、両側辺のエッジ勾配が互いに異なっている（即ち、角度θ１≠角度θ５）。第３絶縁層１８は、第１側辺のエッジの角度と第２側辺のエッジの角度が互いに異なっている（即ち、角度θ３≠角度θ６）。
【００３５】
本実施例では、第３絶縁層１８を刳り貫いて開孔領域１８２を形成することにより、水気や酸素が第３絶縁層１８に沿ってパネルに進入する経路を適切に遮断、減少や延長することができる。これにより、表示パネル１は、水気や酸素に対してより高い遮断性能を有し、製品の信頼性を向上させることができる。また、本実施例では、周辺領域ＰＡの第３絶縁層１８に開孔領域１８１，１８２を形成することにより、不純物イオンは、配線交差領域の電気的影響を受けることで、周辺領域における開孔領域１８１，１８２（トラップ）に制限され、表示領域ＡＡにおける表示媒体層１３への不純物イオンによる影響を低減でき、さらに不純物イオンによる表示パネル１の表示効果への影響を回避することができる。なお、本実施例では、これらの配線交差領域を露出させ、第３絶縁層１８に設けられた開孔領域１８１，１８２は、電気的なテスト又は配線の修復（ｒｅｐａｉｒ）にも用いることができる。
【００３６】
図１Ｃを再び参照する。スイッチ素子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、スイッチング駆動素子であってもよく、周辺領域ＰＡ及び表示領域ＡＡにおける素子を電気的に接続する制御スイッチとして用いられることもできる。ここで、スイッチ素子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３は、それぞれ、薄膜トランジスタであり、第１基板１１上に配置されてもよい。本実施例において、図１Ｃに示すように、異なる位置に設けられた能動層ＡＬ１，ＡＬ２，ＡＬ３は、異なる位置に形成された第１配線１４と第２配線１６との間に挟まれて配置されている。また、異なる位置に形成された第２配線１６は、それぞれ、能動層ＡＬ１，ＡＬ２，ＡＬ３に接することによって、第１配線１４、第２配線１６及び能動層ＡＬ１，ＡＬ２，ＡＬ３は、スイッチ素子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３を形成することができる。能動層ＡＬ１，ＡＬ２，ＡＬ３の材料としては、例えば酸化物半導体であってよい。酸化物半導体は酸化物を含み、その酸化物は、インジウム、ガリウム、亜鉛及びスズのうち１つを含んでよく、例えば、酸化インジウムガリウム亜鉛（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｇａｌｌｉｕｍ  Ｚｉｎｃ  Ｏｘｉｄｅ，ＩＧＺＯ）が挙げられる。他の実施例において、能動層ＡＬ１，ＡＬ２，ＡＬ３の材料は、アモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）であってよい。
【００３７】
また、スイッチ素子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３において、第１配線１４及び第２配線１６は、それぞれ櫛状であり、スイッチ素子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３における第１配線１４は、複数の薄膜トランジスタのゲートとして用いられてもよく、スイッチ素子Ｔ１，Ｔ２，Ｔ３における第２配線１６は、複数の薄膜トランジスタのソース及びドレインとして用いられてもよい。本実施例において、スイッチ素子Ｔ１は、開孔領域１８２に隣設している。また、能動層は、一方向に平行な第１の幅を有しており、且つ、開孔領域１８２と能動層ＡＬ１との間の、この方向に平行な最短距離は、０より大きく第１の幅より小さい（０＜最短距離＜第１の幅）。本実施例において、開孔領域１８２と能動層ＡＬ１との間の、第１方向Ｄ１に平行な最短距離は、開孔領域１８２のエッジ（ｅｄｇｅ）から能動層ＡＬ１のエッジまでの最短距離Ｓ１である。能動層ＡＬ１は、第１方向Ｄ１に平行な第１の幅ｗ１を有しており、且つ最短距離Ｓ１は、０より大きく第１の幅ｗ１より小さい（０＜最短距離Ｓ１＜第１の幅ｗ１）。ここで、「開孔領域１８２のエッジ」とは、第３絶縁層１８の底部のエッジを指し、「能動層ＡＬ１のエッジ」とは、能動層ＡＬ１の底部のエッジを指している。
【００３８】
一実施例において、能動層ＡＬ１と開孔領域１８２との間の、第１方向Ｄ１に平行な最短距離Ｓ１は、１μｍより大きく２０μｍ以下（１μｍ＜最短距離Ｓ１≦２０μｍ）であってもよい。他の実施例において、能動層ＡＬ１と開孔領域１８２との間の、第２方向Ｄ２に平行な最短距離（参照符号なし）は、１μｍより大きく２０μｍ以下（１μｍ＜最短距離Ｓ１≦２０μｍ）であってもよい。また、本実施例において、開孔領域１８２だけではなく、開孔領域１８１は、スイッチ素子Ｔ１の能動層ＡＬ１に隣設するとともに、スイッチ素子Ｔ２の能動層ＡＬ２に隣設している。
【００３９】
そして、表示パネル１は、周辺領域ＰＡにおいて、少なくとも１つの接続孔Ｈ１をさらに含み、且つ第１配線１４及び第２配線１６は、接続孔Ｈ１によって互いに電気的に接続されている。本実施例には、５つの接続孔Ｈ１〜Ｈ５が例示されている。また、開孔領域１８１が接続孔Ｈ１に隣設し、開孔領域１８２が接続孔Ｈ２に隣設する。接続孔Ｈ１は、一方向に沿う第２の幅を有しており、且つ、開孔領域１８１と接続孔Ｈ１との最短距離が０より大きく第２の幅より小さい。本実施例において、接続孔Ｈ１は、第２方向Ｄ２に沿う第２の幅ｗ２を有しており、且つ、開孔領域１８１と接続孔Ｈ１との最短距離Ｓ２が０より大きく第２の幅ｗ２より小さい（０＜最短距離Ｓ２＜第２の幅ｗ２）。他の実施例において、接続孔Ｈ１は、第１方向Ｄ１に沿う第２の幅（参照符号なし）を有しており、且つ、開孔領域１８１と接続孔Ｈ１との最短距離が０より大きく第２の幅より小さい。
【００４０】
開孔領域と能動層又は接続孔との最短距離が上記設計値の範囲内にある場合には、水気が絶縁層に沿って表示パネルに進入する際、能動層又は接続孔との間に少なくとも開孔領域の距離を置いてあるため、この開孔領域は、水気による能動層又は接続孔の電気特性又は信頼性への影響を回避することができる。
【００４１】
図１Ｄを再び参照する。電極層Ｅは、第３絶縁層１８上に配置され、配向層１９は、第２絶縁層１７、第３絶縁層１８及び電極層Ｅ上に配置されている。電極層Ｅの材料は、例えば、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、インジウム亜鉛酸化物（ＩＺＯ）、アルミニウム亜鉛酸化物（ＡＺＯ）、カドミウム錫酸化物（ＣＴＯ）、酸化スズ（ＳｎＯ２）、又は酸化亜鉛（ＺｎＯ）などの透明導電材料であってもよいが、特に限定されない。また、配向層１９の材料は、例えば、ポリイミド（ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ，ＰＩ）であってもよいが、これに限定されない。
【００４２】
本実施例において、表示パネル１の周辺領域ＰＡにおける第１配線１４と第２配線１６が交差することによって、少なくとも１つの交差領域Ｘが定義される。第３絶縁層１８は、第１配線１４及び第２配線１６上に配置されており、交差領域Ｘを露出させるように、交差領域Ｘに対応して配置された開孔領域１８２を有している。また、スイッチ素子Ｔ１は、開孔領域１８２に隣設し、能動層ＡＬ１を有し、且つ、開孔領域１８２と能動層ＡＬ１との間の最短距離は、０より大きく、能動層ＡＬ１の第１方向Ｄ１に平行な第１の幅ｗ１より小さい。スイッチ素子の能動層には水気や酸素による浸食が起こる恐れがあるため、本実施例において、能動層ＡＬ１に隣設する第３絶縁層１８を刳り貫いて開孔領域１８２が形成されることにより、水気や酸素が第３絶縁層１８に沿って進入する経路を遮断することができる。これにより、表示パネル１は、水気や酸素に対してより高い遮断性能を有し、製品の信頼性を向上させることができる。また、本実施例において、第３絶縁層１８に開孔領域１８１，１８２を形成することにより、不純物イオンが開孔領域１８１，１８２（トラップ）に制限され、表示媒体層１３への不純物イオンによる影響を低減でき、さらに不純物イオンによる表示パネル１の表示効果への影響を回避することができる。なお、本実施例では、第３絶縁層１８に設けられた開孔領域１８１，１８２は、電気的なテスト又は配線の修復（ｒｅｐａｉｒ）にも用いることができる。
【００４３】
そして、図２及び図３を参照する。図２は、本発明の好ましい実施例に係る表示装置２を示す概略図である。図３は、本発明の一実施例に係る表示装置２を示す概略斜視図である。
【００４４】
表示装置２は、表示パネル３及びバックライトモジュール４（Ｂａｃｋｌｉｇｈｔ  Ｍｏｄｕｌｅ）を含み、表示パネル３及びバックライトモジュール４は、互いに対向して配置されている。ここで、表示装置２は、液晶表示装置であり、表示パネル３は、上述した表示パネル１又はその変化態様であってもよい。具体的な技術内容について上述した説明を参照し、ここで説明を省略する。バックライトモジュール４からの光線Ｌが表示パネル３を通過し、表示パネル３における各画素セルにより色を表示することによって、画像を形成することができる。
【００４５】
上述したように、本発明の表示パネルにおいて、周辺領域に位置する第１配線及び第２配線が交差して配置されることで交差領域が形成され、且つ、絶縁層は、交差領域に対応して設けられるとともに交差領域を露出させる開孔領域を有する。また、スイッチ素子は、開孔領域に隣設し、能動層を有し、且つ、開孔領域と能動層との間の最短距離は、０より大きく、能動層の第１方向に平行な第１の幅より小さい。スイッチ素子の能動層には水気や酸素による浸食が起こる恐れがあるため、本発明は、上記構成によって、能動層に隣設する第３絶縁層を刳り貫いて開孔領域が形成されることにより、水気や酸素の進入経路を遮断し、水気や酸素に対してより高い遮断性能を有し、製品の信頼性を向上可能な表示パネルを提供することができる。さらに、本発明は、周辺領域の絶縁層に開孔領域が形成されることにより、不純物（イオン）が周辺領域の開孔領域に制限され、不純物イオンによる表示媒体層への影響を低減させ、不純物による表示パネルの表示効果への影響を回避することができる。なお、本実施例では、これらの配線交差領域を露出させるための開孔領域は、電気的なテスト又は配線の修復（ｒｅｐａｉｒ）にも用いることができる。
【００４６】
以上は本発明の好ましい具体的な実施例であるが、本発明の特許請求の範囲を限定するものではなく、本発明の内容を利用して変更した等価なものはいずれも本発明の範囲内に含まれる。
【符号の説明】
【００４７】
１、３：表示パネル
１１：第１基板
１２：第２基板
１３：表示媒体層
１４：第１配線
１５：第１絶縁層
１６：第２配線
１７：第２絶縁層
１８：第３絶縁層（絶縁層）
１８１、１８２：開孔領域
１９：配向層
２：表示装置
４：バックライトモジュール
ＡＡ：表示領域
ＡＬ１〜ＡＬ３：能動層
Ｄ１：第１方向
Ｄ２：第２方向
Ｄ３：第３方向
Ｅ：電極層
Ｈ１〜Ｈ５：接続孔
Ｌ：光線
Ｔ１〜Ｔ３：スイッチ素子
ＰＡ：周辺領域
Ｓ１、Ｓ２：最短距離
ｗ１：第１の幅
ｗ２：第２の幅
Ｘ：交差領域
θ１〜θ６：角度
【図１Ａ】
2016212367.tif 000003
【図１Ｂ】
2016212367.tif 000004
【図１Ｃ】
2016212367.tif 000005
【図１Ｄ】
2016212367.tif 000006
【図１Ｅ】
2016212367.tif 000007
【図１Ｆ】
2016212367.tif 000008
【図２】
2016212367.tif 000009
【図３】
2016212367.tif 000010
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月15日(2016.9.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる表示媒体層と、
前記第１基板上に設けられるとともに前記周辺領域に位置し、且つ第２方向に延びる第１配線と、
前記第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように前記第１配線と交差し、且つ前記交差領域において前記第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、
前記第１配線及び前記第２配線上に設けられ、前記交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、
前記第１基板上に設けられ、前記開孔領域に隣設し、能動層を有するスイッチ素子と、を含み、
前記能動層は、前記第２方向に実質的に垂直な第１方向に平行な第１の幅を有しており、前記開孔領域と前記能動層との間の、前記第１方向に平行な最短距離は、０より大きく前記第１の幅より小さく、
前記交差領域は、前記第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、前記第１端から前記開孔領域のエッジに至る最短距離は、前記第２端から前記開孔領域のエッジに至る最短距離とは異なることを特徴とする表示パネル。
【請求項２】
前記開孔領域は、複数の前記交差領域を含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項３】
前記能動層の材料は、金属酸化物半導体であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項４】
前記絶縁層は、複数の前記開孔領域を含み、
複数の前記開孔領域は、前記スイッチ素子の前記能動層に隣設していることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項５】
前記開孔領域は、前記第１配線の一部及び前記第２配線の一部を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第２配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項６】
前記開孔領域は、前記第１配線及び前記第２配線を含まない領域を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第１配線及び前記第２配線を含まない前記領域に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項５に記載の表示パネル。
【請求項７】
前記開孔領域に隣設され、前記第２方向に第２の幅を有し、前記開孔領域との最短距離が、０より大きく前記第２の幅より小さい接続孔をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項８】
前記絶縁層は、前記接続孔に隣設する複数の前記開孔領域を含むことを特徴とする請求項７に記載の表示パネル。
【請求項９】
前記表示媒体層は、液晶層又は有機発光層であることを特徴とする請求項１に記載の表示パネル。
【請求項１０】
表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、
第２基板と、
前記第１基板と前記第２基板との間に設けられる表示媒体層と、
前記第１基板上に設けられ、且つ第２方向に延びる第１配線と、
前記第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように前記第１配線と交差し、且つ前記交差領域において前記第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、
前記第１配線及び前記第２配線上に設けられ、前記周辺領域に位置するとともに前記交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、
前記第１基板上に設けられ、前記交差領域に隣設し、前記開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下である能動層を有するスイッチ素子と、を含み、
前記能動層は、前記開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下であり、
前記交差領域は、前記第２方向に実質的に垂直な第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、前記第１端から前記開孔領域のエッジまでの最短距離と、前記第２端から前記開孔領域のエッジまでの最短距離は、互いに異なることを特徴とする表示パネル。
【請求項１１】
前記開孔領域は、複数の前記交差領域を含むことを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１２】
前記能動層の材料は、金属酸化物半導体であることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１３】
前記絶縁層は、複数の前記開孔領域を含み、
複数の前記開孔領域は、前記スイッチ素子の前記能動層に隣設していることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１４】
前記開孔領域は、前記第１配線の一部及び前記第２配線の一部を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第２配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１５】
前記開孔領域は、前記第１配線及び前記第２配線を含まない領域を露出させ、
前記第１配線の前記一部に対応する前記絶縁層のエッジ勾配と、前記第１配線及び前記第２配線を含まない前記領域に対応する前記絶縁層のエッジ勾配が互いに異なっていることを特徴とする請求項１４に記載の表示パネル。
【請求項１６】
前記開孔領域に隣設され、前記第２方向に第２の幅を有し、前記開孔領域との最短距離が、０より大きく前記第２の幅より小さい接続孔をさらに含むことを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【請求項１７】
前記絶縁層は、前記接続孔に隣設する複数の前記開孔領域を含むことを特徴とする請求項１６に記載の表示パネル。
【請求項１８】
前記表示媒体層は、液晶層又は有機発光層であることを特徴とする請求項１０に記載の表示パネル。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００８】
上述した目的を達成するために、本発明の一実施形態に係る表示パネルは、表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられる表示媒体層と、第１基板上に設けられるとともに周辺領域に位置し、且つ第２方向に延びる第１配線と、第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように第１配線と交差し、且つ交差領域において第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、第１配線及び第２配線上に設けられ、交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、第１基板上に設けられ、開孔領域に隣設し、能動層を有するスイッチ素子と、を含む。能動層は、第２方向に実質的に垂直な第１方向に平行な第１の幅を有しており、開孔領域と能動層との間の、第１方向に平行な最短距離は、０より大きく第１の幅より小さい。交差領域は、第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、第１端から開孔領域のエッジに至る最短距離は、第２端から開孔領域のエッジに至る最短距離とは異なる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００９】
上述した目的を達成するために、本発明の他の実施形態に係る表示パネルは、表示領域と当該表示領域の外周に設けられる周辺領域とを有する第１基板と、第２基板と、第１基板と第２基板との間に設けられる表示媒体層と、第１基板上に設けられ、且つ第２方向に延びる第１配線と、第１基板上に設けられるとともに、交差領域を定義するように第１配線と交差し、且つ交差領域において第１配線と電気的に絶縁される第２配線と、第１配線及び第２配線上に設けられ、周辺領域に位置するとともに交差領域を露出させる開孔領域を有する絶縁層と、第１基板上に設けられ、交差領域に隣設し、開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下である能動層を有するスイッチ素子と、を含む。能動層は、開孔領域との最短距離が１μｍより大きく２０μｍ以下である。交差領域は、第２方向に実質的に垂直な第１方向に平行して互いに対向する第１端と第２端とを有し、第１端から開孔領域のエッジまでの最短距離と、第２端から開孔領域のエッジまでの最短距離は、互いに異なる。