(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区分けされ、
前記カラーフィルタの前記光反射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開口部に前記第１画素電極と前記第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されており、
前記カラーフィルタと前記第１画素電極との間に絶縁膜を有し、
前記絶縁膜は、前記カラーフィルタの前記開口部内で、かつ、前記カラーフィルタの前記開口部の端部から離れた位置に、前記コンタクト部を構成するコンタクトホールが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記カラーフィルタの前記光反射領域に形成された前記開口は、１つの前記画素領域内に複数個形成されているとともに、該各開口のうち幾つかの開口内に前記コンタクト部が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
１つの前記画素領域内では、前記カラーフィルタの前記光反射領域に形成された前記開口の数よりも、前記コンタクト部の数が少ないことを特徴とする請求項１または２に記載の液晶表示装置。
【請求項４】
液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区分けされ、
前記カラーフィルタの前記光反射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開口部に前記第１画素電極と前記第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されており、
１つの前記画素領域内では、前記カラーフィルタの前記光反射領域に形成された前記開口の数よりも、前記コンタクト部の数が少ないことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
一方の基板の液晶側の面の画素領域は一対の並設されたゲート信号線と一対の並設されたドレイン信号線とで囲まれた領域からなり、この画素領域内には該ゲート信号線のうち一方のゲート信号線からの走査信号によって作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介して前記ドレイン信号線のうち一方のドレイン信号線からの映像信号が供給される前記第１画素電極および第２画素電極を備えていることを特徴とする請求項１ないし４のうちいずれかに記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置に係り、特に、部分透過型と称される液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
いわゆる部分透過型と称される液晶表示装置は、たとえば携帯電話用の小型液晶表示装置として用いられており、必要に応じて太陽の反射光あるいは内蔵するバックライトの光によって表示面の映像を認識できるようになっている。
【０００３】
すなわち、液晶を介して対向配置される各透明基板のうち、その一方の透明基板の液晶側の面には、ｘ方向に延在されｙ方向に並設されるゲート信号線とｙ方向に延在されｘ方向に並設されるドレイン信号線とで囲まれた領域を画素領域とし、これら各画素領域には一方のゲート信号線からの走査信号の供給により駆動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介して一方のドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電極とが形成されている。
【０００４】
この画素電極は、画素領域においてその一部に反射膜を兼ねて形成される第１画素電極と少なくとも前記一部以外の他の部分に形成される光透過性の第２画素電極からなり、他方の基板の液晶側の面に各画素領域に共通に形成された透光性の電極からなる対向電極との間に電界を発生せしめ、その電界によって画素領域内の液晶を挙動させるようになっている。
【０００５】
この場合、反射膜を兼ねる第１画素電極が形成された部分を光反射領域として用い、光透過性の第２画素電極が形成された部分を光透過領域として用いている。
また、このような構成の液晶表示装置において、第１画素電極および第２画素電極が形成された一方の基板側にカラーフィルタを形成したものが知られている。他方の基板側にカラーフィルタを形成したものと比べて各基板の合わせ裕度が大きくとれるからである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、このように構成された液晶表示装置は、その光反射領域における光の通過においてカラーフィルタを２回通過し、光透過領域において１回通過することとなって、光反射モードの場合と光透過モードの場合とで色のバランスがくずれるということが指摘されていた。
また、光反射領域における第１画素電極と光透過領域における第２画素電極は同電位に保たなければならないため、それらを電気的に接続しなければならず、そのためのコンタクト部をカラーフィルタ面に形成しなければならないという不都合があった。
カラーフィルタは他の層と比較して膜厚が大きく、該カラーフィルタに対して上層に形成する光透過性の第２画素電極に段切れが生じる可能性が大きくなるからである。
本発明は、このような事情に基づいてなされたものであり、その目的は、光反射モードおよび光透過モードの各場合に色のバランスを調整できる液晶表示装置を提供することにある。
また、本発明による他の目的は、反射膜を兼ねる画素電極と光透過性の画素電極との接続の信頼性を向上させた液晶表示装置を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
手段１．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区分けされ、
前記カラーフィルタの光反射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開口部に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されていることを特徴とするものである。
【０００８】
手段２．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層として一方の側の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光反射領域と他方の側の少なくとも前記一部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区分けされ、
前記カラーフィルタの光反射領域の一部に開口が形成されているとともに、該開口の一部に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されていることを特徴とするものである。
【０００９】
手段３．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶側の面の画素領域にカラーフィルタを備えるとともに、
該画素領域は前記カラーフィルタを間の層としてその下層の一部に反射膜を兼ねる第１画素電極が形成される光反射領域と上層の少なくとも前記一部以外の他の部分に光透過性の第２画素電極が形成される光透過領域とに区分けされ、
前記カラーフィルタの光反射領域の一部に複数個からなる開口が形成されているともに、該各開口のうち幾つかの開口内に前記第１画素電極と第２画素電極との接続を図るコンタクト部が形成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
手段４．
本発明による液晶表示装置は、たとえば、手段１ないし３のうちいずれかの構成を前提として、一方の基板の液晶側の面の画素領域は一対の並設されたゲート信号線と一対の並設されたドレイン信号線とで囲まれた領域からなり、この画素領域内には該ゲート信号線のうち一方のゲート信号線からの走査信号によって作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介して前記ドレイン信号線のうち一方のドレイン信号線からの映像信号が供給される前記第１画素電極および第２画素電極を備えていることを特徴とするものである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明による液晶表示装置の実施例を図面を用いて説明をする。
実施例１．
《全体構成》
図３は、本発明による液晶表示装置の一実施例を示す等価回路図である。同図は回路図ではあるが、実際の幾何学的配置に対応して描かれている。
同図において、透明基板ＳＵＢ１がある。この透明基板ＳＵＢ１は液晶を介して他の透明基板ＳＵＢ２と対向配置されるようになっている。
該液晶は透明基板ＳＵＢ２の周辺に形成されたシール材ＳＬによって封入され、また該シール材ＳＬは透明基板ＳＵＢ１に対する透明基板ＳＵＢ２の固着を兼ねるようになっている。
【００１２】
この透明基板ＳＵＢ１の液晶側の面の周辺を除く中央部には、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬ、およびｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬが形成され、これら各信号線で囲まれた領域によって画素領域が形成され、この画素領域はマトリクス状に多数配置されて液晶表示部ＡＲを構成するようになっている。
【００１３】
そして、ゲート信号線ＧＬとこれに隣接する他のゲート信号線ＧＬとの間にはｘ方向に延在する容量信号線ＣＬが延在して形成され、この容量信号線ＣＬは各画素領域において後述する容量素子Ｃａｄｄの一方の容量電極ＣＴに接続されるようになっている。
【００１４】
各画素領域には、一方のゲート信号線ＧＬからの走査信号の供給によって駆動される薄膜トランジスタＴＦＴと、この薄膜トランジスタＴＦＴを介して一方のドレイン信号線ＤＬからの映像信号が供給される画素電極ＰＸとを備え、また、この画素電極ＰＸと前記容量信号線ＣＬとの間には容量素子Ｃａｄｄが形成されている。
【００１５】
前記各ゲート信号線ＧＬは、その一端（図中左側）においてシール材ＳＬを越え透明基板ＳＵＢ１面に形成された走査駆動回路Ｖに接続され、この走査駆動回路Ｖから出力される走査信号が順次供給されるようになっている。
【００１６】
また、前記各ドレイン信号線ＤＬは、その一端（図中下側）においてシール材ＳＬを越え透明基板ＳＵＢ１面に形成された映像信号駆動回路Ｈｅに接続され、前記走査信号の供給のタイミングに合わせて映像信号が供給されるようになっている。
【００１７】
さらに、前記容量信号線ＣＬは、その一端（図中左側）において、端子Ｖｃｏｍに接続されるようになっている。
なお、この端子Ｖｃｏｍは透明基板ＳＵＢ２の液晶側の面に各画素領域に共通に形成される対向電極（図示せず）にも接続され、該対向電極は前記画素電極ＰＸとの間に電界を発生させるようになっている。
【００１８】
《画素構成》
図１は本発明による液晶表示装置の画素領域の一実施例を示す平面図であり、そのII−II線における断面を図２に示している。
図１は、図２に示した液晶表示部ＡＲを構成する各画素領域のうち一の画素領域の構成を示したものとなっている。
【００１９】
まず、透明基板ＳＵＢ１の表面の一部に、たとえばポリシリコン層からなる半導体層ＰＳが形成されている。この半導体層ＰＳはたとえばプラズマＣＶＤ装置によって成膜したアモルファスＳｉ膜をエキシマレーザによって多結晶化したものである。
この半導体層ＰＳは後述するゲート信号線ＧＬとほぼ平行に帯状をなすパターンで形成されている。
【００２０】
そして、このように半導体層ＰＳが形成された透明基板ＳＵＢ１の表面には、該半導体層ＰＳをも覆ってたとえばＳｉＯ２あるいはＳｉＮからなる絶縁膜ＧＩが形成されている。
この絶縁膜ＧＩは前記薄膜トランジスタＴＦＴのゲート絶縁膜として機能するとともに、後述するゲート信号線ＧＬとドレイン信号線ＤＬの層間絶縁膜の一つとして機能するようになっている。
【００２１】
そして、絶縁膜ＧＩの上面には、図中ｘ方向に延在しｙ方向に並設されるゲート信号線ＧＬが形成され、このゲート信号線ＧＬは後述するドレイン信号線ＤＬとともに矩形状の画素領域を画するようになっている。
なお、このゲート信号線ＧＬは耐熱性を有する導電膜であればよく、たとえばＡｌ、Ｃｒ、Ｔａ、ＴｉＷ等が選択される。
【００２２】
また、このゲート信号線ＧＬはその一部が画素領域内に延在され、前記半導体層ＰＳに交差するようにして重畳されている。このゲート信号線ＧＬの延在部は薄膜トランジスタＴＦＴのゲート電極ＧＴとして構成されている。
【００２３】
なお、このゲート信号線ＧＬの形成後は、絶縁膜ＧＩを介して不純物のイオン打ち込みをし、前記半導体層ＰＳにおいて前記ゲート電極ＧＴの直下を除く領域を導電化させることによって、薄膜トランジスタＴＦＴのソース領域およびドレイン領域が形成されるようになっている。
【００２４】
また、画素領域の中央における絶縁膜ＧＩの上面には図中ｘ方向に延在する容量信号線ＣＬが形成され、この容量信号線ＣＬは画素領域の図中上側の領域に延在する容量電極ＣＴと一体に形成されるようになっている。この容量信号線ＣＬ（容量電極ＣＴ）はたとえばゲート信号線ＧＬと同層でかつ同一の材料で形成されている。
【００２５】
そして、前記ゲート信号線ＧＬおよび容量信号線ＣＬ（容量電極ＣＴ）をも覆って前記絶縁膜ＧＩの上面には第１層間絶縁膜ＩＮ１がたとえばＳｉＯ２あるいはＳｉＮによって形成されている。
【００２６】
この第１層間絶縁膜ＩＮ１の上面には図中ｙ方向に延在しｘ方向に並設されるドレイン信号線ＤＬが形成されている。このドレイン信号線ＤＬの一部は前記第１層間絶縁膜ＩＮ１および絶縁膜ＧＩに予め形成されたコンタクトホールＣＨ１を通して前記薄膜トランジスタＴＦＴのドレイン領域と接続されるようになっている。
【００２７】
また、たとえば該ドレイン信号線ＤＬの形成の際に、画素領域の上側の領域を被うようにして光反射機能を有する画素電極ＰＸ（Ｒ）が形成され、この画素電極ＰＸ（Ｒ）の一部は前記第１層間絶縁膜ＩＮ１および絶縁膜ＧＩに予め形成されたコンタクトホールＣＨ２を通して前記薄膜トランジスタＴＦＴのソース領域と接続されるようになっている。
【００２８】
この画素電極ＰＸ（Ｒ）は、画素領域中にて光反射領域の画素電極を担当するものであり、その材料としてはＡｌあるいはその合金等のように光反射効率の良好なものが選定される。
【００２９】
なお、この画素電極ＰＸ（Ｒ）は前記容量電極ＣＴに重畳されて形成され、該容量素子ＣＴとの間に第１層間絶縁膜を誘電体膜とする容量素子Ｃａｄｄが形成されるようになっている。
この容量素子Ｃａｄｄは、たとえば、画素電極ＰＸに映像信号が供給された際にその信号を長く蓄積させるために設けられている。
【００３０】
そして、このように形成されたドレイン信号線ＤＬおよび画素電極ＰＸ（Ｒ）をも被って第２層間絶縁膜ＩＮ２が形成されている。この第２層間絶縁膜ＩＮ２はたとえばＳｉＯ２あるはＳｉＮ等から構成されている。
【００３１】
また、第２層間絶縁膜ＩＮ２の上面にはカラーフィルタＦＩＬが形成されている。このカラーフィルタＦＩＬはｙ方向に並設される各画素領域に共通の色を呈するフィルタから構成されている。
【００３２】
ｙ方向に並設される画素領域群のうちの一の画素領域群においてたとえば赤色のカラーフィルタが形成されている場合、その両隣の画素領域群のうち一方の画素領域群には緑色のカラーフィルタが、他方の画素領域群には青色のカラーフィルタが形成されている。
【００３３】
そして、このように構成されるカラーフィルタＦＩＬは、その画素領域のうち光反射領域の中央部にて開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成されている。
この開口部ＦＩＬ（ＨＬ）は、光透過領域において光がカラーフィルタＦＩＬを１回しか通過しないのに拘わらず、光反射領域においてはカラーフィルタＦＩＬを２回通過してしまうことによる色バランスの不均衡の調整を図るために設けられている。
【００３４】
そして、カラーフィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）を被うとともに画素領域の光透過領域に及んでたとえばＩＴＯ(Indium Tin Oxide)膜からなる画素電極ＰＸ（Ｔ）が形成されている。
【００３５】
この画素電極ＰＸ（Ｔ）は、前記カラーフィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内の一部において、前記第２層間絶縁膜ＩＮ２に予め形成されたコンタクトホールＣＨ３を通して前記画素電極ＰＸ（Ｒ）と電気的な接続がなされている。
この画素電極ＰＸ（Ｔ）は、画素領域中にて前記光反射領域を除いた領域、すなわち光透過領域の画素電極を担当するようになっている。
【００３６】
このように構成された液晶表示装置は、カラーフィルタＦＩＬにおいてその光反射領域の一部に開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成された構成となっている。
これは、上述したように光透過領域において光がカラーフィルタＦＩＬを１回しか通過しないのに拘わらず、光反射領域においてはカラーフィルタＦＩＬを２回通過してしまうことによる色バランスの不均衡の調整のためのもので、この調整によって該開口部ＦＩＬ（ＨＬ）の面積が概略定められるようになっている。
【００３７】
また、反射膜を兼ねる画素電極ＰＸ（Ｒ）と光透過性の画素電極ＰＸ（Ｔ）との接続を図るコンタクト部（コンタクトホールＣＨ３）は前記開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内に形成されたものとなっている。
【００３８】
この場合、カラーフィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）は比較的大きな面積を有することから、該コンタクト部も大きく形成でき、画素電極ＰＸ（Ｒ）と画素電極ＰＸ（Ｔ）との接続を信頼性あるものとすることができる。
【００３９】
そして、実施例で示したように、カラーフィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）の一部において層間絶縁膜ＩＮ２に形成されたコンタクトホールを通して該コンタクト部を形成している。このことは層間絶縁膜ＩＮ２とカラーフィルタＦＩＬとの段差をそれぞれ場所を異にして２つの段差に分けることができることを意味する。したがって、それぞれの段差を跨って形成される光透光性の画素電極ＰＸ（Ｔ）に該段差による段切れを生じさせ難くする効果を奏する。
【００４０】
このことから、本発明はカラーフィルタＦＩＬに形成される開口部ＦＩＬ（ＨＬ）を有効に利用してその内部に形成されるコンタクト部の信頼性の向上を図ったものとなっている。
【００４１】
なお、上述した画素領域の構成において、実際の製品における光反射領域、光透過領域、カラーフィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）、およびコンタクト部のそれぞれの概略の面積比率を図４に示している。
【００４２】
実施例２．
図５は本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図で、図４に対応した図となっている。
図４の場合と比較して異なる構成は、まず、カラーフィルタＦＩＬの光反射領域の一部に第１開口部ＦＩＬ（ＨＬ１）と第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）が形成され、該第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）は第１開口部ＦＩＬ（ＨＬ１）より面積が小さくなっているともに、コンタクト部は第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）側に設けられている。
ここで、カラーフィルタＦＩＬの第１開口部ＦＩＬ（ＨＬ１）および第２開口部ＦＩＬ（ＨＬ２）はいずれも色バランスの均衡の調整がなされる開口部となっている。
【００４３】
実施例３．
実施例１および２では、画素領域における光反射領域と光透過領域とが該画素領域のほぼ中央をｘ方向に横切る仮想の線を境界として区分されたものであるが、この実施例では、図６に示すように、画素領域をｙ方向に横切る２本の仮想の線で３区分され、その真中の領域を光反射領域とし、両脇の各領域を光透過領域として構成されたものである。
【００４４】
実施例１に示した図１の場合と比較して異なる部分は、反射膜を兼ねる画素電極ＰＸ（Ｒ）は前記光反射領域に及んで、また光透光性の画素電極ＰＸ（Ｔ）は前記光反射領域と光透過領域に及んで形成されていることにある。
【００４５】
この場合においても、カラーフィルタＦＩＬは前記光反射領域の一部に開口部ＦＩＬ（ＨＬ）が形成され、この開口部ＦＩＬ（ＨＬ）内の一部において該光透過性の画素電極ＰＸ（Ｔ）が反射膜を兼ねる画素電極ＰＸ（Ｒ）と電気的接続がなされるコンタクトホールＣＨ３が形成されている。
【００４６】
なお、図６のVII−VII線における断面図を図７に示している。
このように構成された液晶表示装置においても、実施例１で説明した効果を奏するようになる。
なお、上述した画素領域の構成において、実際の製品における光反射領域、光透過領域、カラーフィルタＦＩＬの開口部ＦＩＬ（ＨＬ）、およびコンタクト部のそれぞれの概略の面積比率を図８に示している。
【００４７】
実施例４．
図９は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図で、図８に対応した図となっている。
この実施例は、図８と同様、画素領域内の光反射領域が図中ｙ方向へ細長く形成され、その両脇に光透過領域が同様ｙ方向へ細長く形成されている。
そして、カラーフィルタＦＩＬに形成される開口部ＦＩＬ（ＨＬ）は、前記光反射領域の一端側において比較的面積は小さいが複数個たとえばマトリクス状に配置されて形成されている。
また、画素電極ＰＸ（Ｔ）のコンタクト部ＣＨは、複数の前記開口部のうち幾つかの開口部の領域に複数個設けられて形成されている。
コンタクト部ＣＨは、その面積が上述した実施例と比較して小さくなるが、複数個設けられていることによってその信頼性を確保している。
【００４８】
実施例５．
図１０は、本発明による液晶表示装置の他の実施例を示す構成図で、図８に対応した図となっている。なお、図１０のXI−XI線における断面図を図１１に示している。
この実施例は、図８と同様、画素領域内の光反射領域が図中ｙ方向へ細長く形成され、その両脇に光透過領域が同様ｙ方向へ細長く形成されている。
そして、カラーフィルタＦＩＬに形成される開口部ＦＩＬ（ＨＬ）は、前記光反射領域の長手方向に沿ってほぼ等間隔に並設された複数のそれからなり、各開口部ＦＩＬ（ＨＬ）は図中ｘ方向に延在された長方形状をなしている。
また、このように構成されるカラーフィルタＦＩＬはその表面に凹凸の度合いがはげしくなることから、該カラーフィルタＦＩＬの上面に平坦化膜ＯＣが形成されている。
【００４９】
【発明の効果】
以上説明したことから明らかなように、本発明による液晶表示装置によれば、光反射モードおよび光透過モードの各場合の色のバランスを調整できるようになる。
また、反射膜を兼ねる画素電極と光透過性の画素電極との接続の信頼性を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を示す平面図である。
【図２】  図１のII−II線における断面図である。
【図３】  本発明による液晶表示装置の一実施例を示す等価回路図である。
【図４】  本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を示す面積比率を概ね考慮した平面図である。
【図５】  本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。
【図６】  本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。
【図７】  図６のVII−VII線における断面図である。
【図８】  本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す面積比率を概ね考慮した平面図である。
【図９】  本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。
【図１０】  本発明による液晶表示装置の画素の他の実施例を示す平面図である。
【図１１】  図１０のXI−XI線における断面図である。
【符号の説明】
ＳＵＢ１…透明基板、ＧＬ…ゲート信号線、ＤＬ…ドレイン信号線、ＣＬ…容量信号線、ＴＦＴ…薄膜トランジスタ、Ｃａｄｄ…容量素子、ＰＸ（Ｒ）…反射膜を兼ねる画素電極、ＰＸ（Ｔ）…光透光性の画素電極、ＦＩＬ…カラーフィルタ、ＦＩＬ（ＨＬ）…開口部、ＣＨ３…コンタクトホール（コンタクト部）。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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