(57)【要約】【課題】  塗工適性に優れた接着用光硬化性組成物及び接着性及び高温・高湿下における部材の寸法変化や反り等への追従性に優れる硬化物を提供する。【解決手段】    活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）を含有するラジカル開始剤（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基の平均官能基数が１以上２未満のポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）を含有する重合性物質（Ｄ）とを含有する接着用光硬化性組成物であって、前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）の含有量が前記ラジカル開始剤（Ａ）の重量に基づいて７０〜１００重量％であり、（メタ）アクリレート（Ｄ１）の下記計算式（１）で規定される３８℃でのチクソトロピーインデックスが０．８〜１．４であることを特徴とする光硬化性組成物。チクソトロピーインデックス＝（せん断速度０．０１／ｓにおける粘度）／（せん断速度１０／ｓにおける粘度）  （１）【選択図】  なし【特許請求の範囲】
【請求項１】
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）を含有するラジカル開始剤（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基の平均官能基数が１以上２未満のポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）を含有する重合性物質（Ｄ）とを含有する光硬化性組成物であって、前記ラジカル開始剤（Ａ１）の含有量がラジカル開始剤（Ａ）の重量に基づいて７０〜１００重量％であり、（メタ）アクリレート（Ｄ１）の下記計算式（１）で規定される３８℃でのチクソトロピーインデックスが０．８〜１．４であることを特徴とする光硬化性組成物。
チクソトロピーインデックス＝（せん断速度０．０１／ｓにおける３８℃での粘度）／（せん断速度１０／ｓにおける３８℃での粘度）  （１）
【請求項２】
前記ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）が、ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１）、ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２）及びポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）からなる群から選ばれる少なくとも１種の（メタ）アクリレートである請求項１に記載の光硬化性組成物。
【請求項３】
ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）の数平均分子量が、２，０００〜１００，０００である請求項１または２に記載の光硬化性組成物。
【請求項４】
ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）のウレタン基濃度が、０．０１〜０．２ｍｍｏｌ／ｇである請求項２または３に記載の光硬化組成物。
【請求項５】
ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）が、数平均分子量が１，０００〜１００，０００であるポリエーテルエステルジオール（Ｓ）と、炭素数６〜１５の有機ジイソシアネート（Ｐ）と、炭素数が４〜１００である活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）とを必須成分として反応されてなる（メタ）アクリレートである請求項２〜４のいずれか記載の光硬化性組成物。
【請求項６】
ポリエーテルエステルジオール（Ｓ）が、数平均分子量が２００〜１０，０００であるポリエーテルジオール（Ｓ１）と炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｓ２）とを必須成分として反応されてなるポリエーテルエステルジオールを含む請求項５に記載の光硬化性組成物。
【請求項７】
さらに、酸発生剤（Ｂ）及び／または塩基発生剤（Ｃ）を含有する請求項１〜６のいずれか記載の光硬化性組成物。
【請求項８】
ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、前記活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成し、前記新たな活性種（Ｉ）による前記重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行し、前記活性種（Ｈ）又は（Ｉ）が酸又は塩基である請求項７に記載の光硬化性組成物。
【請求項９】
ラジカル開始剤（Ａ）が、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）、又は酸及び／若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ２）であり、前記酸発生剤（Ｂ）が、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｂ２）であり、前記塩基発生剤（Ｃ）が、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）、又はラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ２）であって、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、又は（Ｃ２）を以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有する請求項７または８に記載の光硬化性組成物。
（１）（Ａ１）、並びに（Ｂ２）及び／又は（Ｃ２）を含有する。
（２）（Ｂ１）、（Ａ２）、及び必要により（Ｃ２）を含有する。
（３）（Ｃ１）、（Ａ２）、及び必要により（Ｂ２）を含有する。
（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。
【請求項１０】
さらに、非重合性ポリマー（Ｅ）を含有する請求項１〜９のいずれか記載の光硬化性組成物。
【請求項１１】
非重合性ポリマー（Ｅ）が、ポリイソプレンまたはポリブタジエンである請求項１０に記載の光硬化性組成物。
【請求項１２】
前記重合性物質（Ｄ）が、更に、前記（Ｄ１）以外の環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）を含有する請求項１〜１１のいずれか１項に記載の光硬化性組成物。
【請求項１３】
環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）が、フェノールエチレンオキサイド１〜１０モル付加物（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド１〜１０モル付加物（メタ）アクリレートおよびテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１種以上の（メタ）アクリレートである請求項１２に記載の光硬化性組成物。
【請求項１４】
（メタ）アクリレートオリゴマー（Ｄ１）の含有量が重合性物質（Ｄ）の重量に基づいて２０〜９９重量％であり、環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）の含有量が重合性物質（Ｄ）の重量に基づいて０．１〜７０重量％である請求項１２または１３に記載の光硬化性組成物。
【請求項１５】
酸発生剤（Ｂ）のアニオンが、パーフルオロ基を分子内に有するホスフェートアニオンまたはボレートアニオンである請求項７〜１４のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【請求項１６】
ラジカル開始剤（Ａ）の含有量が重合性物質（Ｄ）に基づいて０．１〜３０重量％であり、酸発生剤（Ｂ）と塩基発生剤（Ｃ）の合計の含有量が重合性物質（Ｄ）に基づいて０．０５〜３０重量％である請求項７〜１５のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【請求項１７】
表示パネルを構成する光学部材の貼り合わせに用いられる請求項１〜１６のいずれかに記載の光硬化性組成物。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、光硬化組成物に関する。詳しくは表示パネルを構成する光学部材の貼り合わせに用いられる接着力に優れた光硬化組成物に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、表示パネルにおいて、化粧板とタッチパネルとの貼り合わせや、アイコンシートとタッチパネルとの貼り合わせや、静電容量式タッチパネルにおける透明電極を形成した透明基板と透明板との貼り合わせを、シート状の両面粘着シートを用いて行うか、被着体の片面に粘着加工して行っていた。このような粘着材を使用する技術では、接着が不十分であったり、貼り合わせ面に気泡が混入するという問題があった。特に、貼り合わせ面に印刷加工がしてあると、印刷のあるところとないところの段差部分に気泡が残りやすいという問題があった。
【０００３】
また、近年ＬＣＤ等の表示パネルのガラスが薄くなってきている。ガラスが薄くなると外部応力でＬＣＤが変形しやすくなる。この薄いガラスのＬＣＤ等の表示パネルと、アクリル板やポリカーボネート板等の光学部材とを貼り合わせる場合、ガラスとアクリル等の線膨張の違いや、アクリル板やポリカーボネートなどのプラスチック成型材の成型時の歪みにより、高温環境下や高湿環境下において成形歪みの緩和や吸湿／乾燥がおこり、寸法変化や反りなどの面精度変化がおきる。
従来の接着剤（例えば、特許文献１）でこの変形を抑えようとした場合は、接着面が剥がれたり、ＬＣＤが割れたり、それに起因するＬＣＤの表示ムラが生じるという問題点があった。また、別の従来の接着剤（特許文献２）も、密着性が劣り、やはり、接着面が剥がれたり、ＬＣＤが割れたり、それに起因するＬＣＤの表示ムラが生じるという問題点を解決できていない。
【０００４】
また、光硬化性の接着剤は、貼り合わせ時に所定の膜厚を得るために、流れ出し等が起こらないように粘度の高い組成にする必要があるが、反応性オリゴマーのような高分子量成分を添加した場合、分子鎖の絡み合いや、極性基同士の相互作用によって擬塑性が生じ、シアのかかり方によって粘度が異なってくる。つまり、塗工中期は一定のシアがかかっているため粘度一定となるが、塗工初期および終期ではかかっているシアが小さくなるため粘度が高くなり、塗工適性が悪化する問題があった（特許文献３）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００４−７７８８７号公報
【特許文献２】国際公開第２０１０／０２７０４１号
【特許文献３】特開２０１３−０１５７６０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の目的は、塗工適性に優れた接着用光硬化性組成物及び接着性及び高温・高湿下における部材の寸法変化や反り等への追従性に優れる硬化物を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
本発明者らは、前記目的を達成するため鋭意検討した結果、本発明に到達した。
即ち本発明は、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）を含有するラジカル開始剤（Ａ）と、（メタ）アクリロイル基の平均官能基数が１以上２未満のポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）を含有する重合性物質（Ｄ）とを含有する接着用光硬化性組成物であって、前記活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）の含有量が前記ラジカル開始剤（Ａ）の重量に基づいて７０〜１００重量％であり、（メタ）アクリレート（Ｄ１）の下記計算式（１）で規定される３８℃でのチクソトロピーインデックスが０．８〜１．４であることを特徴とする光硬化性組成物。
チクソトロピーインデックス＝（せん断速度０．０１／ｓにおける３８℃での粘度）／（せん断速度１０／ｓにおける３８℃での粘度）  （１）；
並びにこの光硬化性組成物を用いて貼り合わされた光学部材を有する表示パネルである。
【発明の効果】
【０００８】
本発明の光硬化性組成物は塗工適性に優れ、この光硬化性組成物を硬化させて得られる硬化物は、接着性及び、高温・高湿下における部材の寸法変化や反り等への追従性に優れる。
本発明の光硬化性組成物は塗工適性に優れるため気泡の発生が抑制でき、またその硬化物は高温・高湿下における部材の寸法変化や反り等への追従性に優れるため、接着剤として使用した場合に接着面が剥がれることによる表示パネルの表示ムラが生じない。
【発明を実施するための形態】
【０００９】
本発明の光硬化性組成物は、ラジカル開始剤（Ａ）と重合性物質（Ｄ）とを必須成分として含有し、このラジカル開始剤（Ａ）は、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）を７０〜１００重量％含有する。また、この重合性物質（Ｄ）は（メタ）アクリロイル基の平均官能基数が１以上２未満のポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）を含有する。そして、この（メタ）アクリレート（Ｄ１）は後述する３８℃でのチクソトロピーインデックスが０．８〜１．４であることを必要とする。
【００１０】
本発明におけるラジカル開始剤（Ａ）とは、活性光線、酸及び塩基のうちの少なくとも１種によりラジカルを発生する化合物を意味し、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）、並びに酸及び／若しくは塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ２）等の公知の化合物を用いることができる。
但し、組成物の硬化性の観点から、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）をラジカル開始剤（Ａ）の全重量に基づいて少なくとも７０重量％以上含むことが必須である。
【００１１】
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）としては、例えば、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）、α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）、ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）、α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）、ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）、オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）及びチタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）等は活性光線、酸及び塩基いずれによってもラジカルを発生させることが可能で（Ａ１）及び（Ａ２）のいずれとしても好ましく用いることができる。
【００１２】
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）としては、光硬化性の観点から、アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）及びα−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）であることが好ましい。
【００１３】
活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）と併用できるラジカル開始剤（Ａ）としては、酸及び／又は塩基によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ２）が挙げられ、有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）、アゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）及びその他のラジカル開始剤（Ａ２３）等は、酸及び／又は塩基によってラジカルを発生させることが可能である。
なお、（Ａ１２１）は、（Ａ１）及び（Ａ２）のいずれとしても適用できる化合物（Ａ１２）の１番目の例であることを示す。
【００１４】
アシルホスフィンオキサイド誘導体系重合開始剤（Ａ１２１）としては、２，４，６−トリメチルベンゾイル−ジフェニル−ホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＬＵＣＩＲＩＮＴＰＯ）］及びビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ８１９）］等が挙げられる。
【００１５】
α−アミノアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２２）としては、２−メチル−１−（４−メチルチオフェニル）−２−モルフォリノプロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７）］、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３６９）］及び１，２−（ジメチルアミノ）−２−［（４−メチルフェニル）メチル］−１−［４−（４−モルホリニル）フェニル］−１−ブタノン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ３７９）］等が挙げられる。
【００１６】
ベンジルケタール誘導体系重合開始剤（Ａ１２３）としては、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１）］等が挙げられる。
【００１７】
α−ヒドロキシアセトフェノン誘導体系重合開始剤（Ａ１２４）としては、１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １８４）］、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＤＡＲＯＣＵＲ（登録商標）  １１７３）］、１−［４−（２−ヒドロキシエトキシ）−フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ２９５９）］及び２−ヒロドキシ−１−｛４−［４−（２−ヒドロキシ−２−メチル−プロピオニル）−ベンジル］フェニル｝−２−メチル−プロパン−１−オン［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  １２７）］等が挙げられる。
【００１８】
ベンゾイン誘導体系重合開始剤（Ａ１２５）としては、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル及びベンゾインイソプロピルエーテル等が挙げられる。
【００１９】
オキシムエステル誘導体系重合開始剤（Ａ１２６）としては、１，２−オクタンジオン−１−（４−［フェニルチオ）−２−（Ｏ−ベンゾイルオキシム）］［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０１）］及びエタノン−１−（９−エチル−６−（２−メチルベンゾイル）−９Ｈ−カルバゾール−３−イル］−１−（Ｏ−アセチルオキシム）［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ＯＸＥ  ０２）］等が挙げられる。
【００２０】
チタノセン誘導体系重合開始剤（Ａ１２７）としては、ビス（η５−２，４−シクロペンタジエン−１−イル）−ビス（２，６−ジフルオロ−３−（１Ｈ−ピロール−１−イル）−フェニル）チタニウム［ＢＡＳＦジャパン（株）製（ＩＲＧＡＣＵＲＥ  ７８４）］等が挙げられる。
【００２１】
有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）としては、ベンゾイルパーオキサイド（ＢＰＯ）、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシアセテート、２，２−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ブタン、ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、ｎ−ブチル４，４−ジ−（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）バレレート、ジ−（２−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシイソプロピル）ベンゼン、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ヘキシルパーオキサイド、２，５，−ジメチル−２，５，−ジ（ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルクミルパーオキサイド、ジ−ｔｅｒｔ−ブチルパーオキサイド、ジイソプロピルベンゼンハイドロパーオキサイド、ｐ−メンタンハイドロパーオキサイド、１，１，３，３，−テトラメチルブチルハイドロパーオキサイド、クメンハイドロパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチルハイドロパーオキサイド及びｔｅｒｔ−ブチルトリメチルシリルパーオキサイド等が挙げられる。
【００２２】
アゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）としては、１−［（１−シアノ−１−メチルエチル）アゾ］ホルムアミド、２，２’−アゾビス（Ｎ−ブチル−２−メチルプロピオンアミド）、２，２’−アゾビス（Ｎ−シクロヘキシル−２−メチルプロピオンアミド）及び２，２’−アゾビス（２，４，４−トリメチルペンタン）等が挙げられる。
【００２３】
その他の重合開始剤（Ａ２３）としては、２，３−ジメチル−２，３−ジフェニルブタン等が挙げられる。
【００２４】
これらのラジカル開始剤（Ａ）の内、光硬化性組成物の貯蔵安定性の観点から、熱によってもラジカルが発生する有機過酸化物系重合開始剤（Ａ２１）やアゾ化合物系重合開始剤（Ａ２２）以外のもの、即ち活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）が好ましい。
【００２５】
本発明の接着用光硬化性組成物中のラジカル開始剤（Ａ）の含有量は、重合性物質（Ｄ）に対して、光硬化性の観点から、好ましくは０．１〜３０重量％、更に好ましくは１〜２０重量％である。
【００２６】
本発明における重合性物質（Ｄ）中には、３８℃でチクソトロピーインデックスが０．８〜１．４である平均官能基数１以上２未満のポリマー骨格を有するポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）を必須成分として含有する。
【００２７】
尚、上記及び以下において、「アクリレート」、「メタクリレート」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリレート」と、「アクリル」、「メタクリル」の双方又はいずれかを指す場合「（メタ）アクリル」と、それぞれ記載することがある。
【００２８】
ここで、本発明における３８℃でのチクソトロピーインデックスは下記計算式（１）で規定されるものである。
チクソトロピーインデックス＝（せん断速度０．０１／ｓにおける３８℃での粘度）／（せん断速度１０／ｓにおける３８℃での粘度）  （１）
【００２９】
本発明において、上記のチクソトロピーインデックスは、以下の測定条件で、粘度を測定し、チクソトロピーインデックスを算出する。
（１）（メタ）アクリレート（Ｄ１）を３８℃に温調する。
（２）レオメーターとコーンローター（例えば「２°×Ｒ６０」など）を用いて、まずせん断速度：０．０１／ｓでの粘度を測定する。
（３）５分間かけて等速でせん断速度を１０／ｓまで上昇させ、粘度を測定する。
（４）上記計算式（１）でチクソトロピーインデックスを算出する。
【００３０】
（メタ）アクリレート（Ｄ１）のチクソトロピーインデックスは０．８〜１．４であり、好ましくは０．９〜１．２、更に好ましくは０．９５〜１．０５である。
塗工の中期は一定のシアがかかっているため粘度一定となるが、チクソトロピーインデックスが０．８未満または１．４より大きい場合は、塗工の初期および終期ではかかっているシアが小さくなるため、粘度が大きく低下するか、または上昇して、塗工適性が悪化する。
【００３１】
（Ｄ１）のチクソトロピーインデックスは、重合性物質（Ｄ１）の数平均分子量（以下、Ｍｎと略記することがある。）や、（Ｄ）が後述の（Ｄ１３）を含有する場合はそのウレタン基濃度を適正な範囲にすることにより、上記範囲に調整することができる。
【００３２】
ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）は、高温・高湿下における部材への追従性の観点から、ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１）、ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２）及びポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）からなる群から選ばれる少なくとも１種の（メタ）アクリレートであることが好ましく、ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）を含有することが更に好ましい。
【００３３】
ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１）は、（メタ）アクリル変性ポリイソプレンとも呼ばれ、（Ｄ１１）のＭｎは、塗工適性の観点から、好ましくは２，０００〜１００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。ポリイソプレンは、１，２付加物であっても１，４付加物であっても特に区別なく使用できる。
（Ｄ１１）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００３４】
ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１）は、例えばポリイソプレンに無水マレイン酸を付加させ、更に後述の活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）を第３級アミン類等の触媒存在下で反応させることによって得ることができる。
【００３５】
ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２）は、（メタ）アクリル変性ポリブタジエンとも呼ばれ、（Ｄ１２）のＭｎは、塗工適性の観点から、好ましくは２，０００〜１００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。ポリブタジエンは、１，２付加物であっても１，４付加物であっても特に区別なく使用できる。
（Ｄ１２）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００３６】
ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）は、例えばポリブタジエンと無水マレイン酸をアゾ系触媒存在下で反応させ、更に後述の活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）を第３級アミン類などの触媒存在下で反応させることによって得ることができる。
【００３７】
ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）は、（メタ）アクリル変性ポリウレタンとも呼ばれ、（Ｄ１３）のＭｎは、塗工適性の観点から、好ましくは２，０００〜１００，０００であり、更に好ましくは１０，０００〜５０，０００である。
【００３８】
尚、本発明におけるＭｎは、例えばゲルパーミエイションクロマトグラフィー（以下、ＧＰＣと略記することがある。）を用いて以下の条件で測定することができる。
＜ＧＰＣ測定条件＞
［１］装置    ：ＧＰＣ
型式「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、東ソー（株）製
［２］カラム  ：「ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ」２本＋「ＴＳＫｇｅｌ
Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＸＬ−Ｍ  」（いずれも製品名）、東ソー（株）製
［３］溶離液  ：テトラヒドロフラン
［４］基準物質：標準ポリスチレン
（ＴＳＫｓｔａｎｄａｒｄ  ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ）、
東ソー（株）製
［５］注入条件：サンプル濃度０．２５重量％、カラム温度４０℃
【００３９】
ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）としては、数平均分子量が２００〜１０，０００であるポリエーテルエステルジオール（Ｓ）と、炭素数６〜１５の有機ジイソシアネート（Ｐ）と、炭素数が４〜１００である活性水素を含む基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）を用いて反応されてなる化合物等が挙げられる。
【００４０】
（Ｓ）、（Ｐ）、（Ｑ）以外にさらに炭素数１〜１８の１価のアルコール（Ｒ）を用いて反応されて得られるポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレートがさらに好ましい。
【００４１】
（Ｄ１３）のうち、塗工適性の観点から、Ｍｎが１，０００〜１００，０００であるポリエーテルエステルジオール（Ｓ）、有機ジイソシアネート（Ｐ）及び活性水素を含む基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）を必須成分として反応されてなる化合物が好ましく、更に好ましくは（Ｓ）、（Ｐ）、（Ｑ）及び炭素数１〜１８の１価のアルコール（Ｒ）が必須成分として反応されてなる化合物が好ましい。
【００４２】
炭素数６〜１５の有機ジイソシアネート（Ｐ）としては、イソホロンジイソシアネート、２，４−トリレンジイソシアネート、２，６−トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、ジフェニルメタン−４，４’−ジイソシアネート（以下、ＭＤＩと略記）、水添ＭＤＩ、ポリメリックＭＤＩ、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシネート、トリジンジイソシアネート、キシリレンジイオシアネート（以下、ＸＤＩと略記）、水添ＸＤＩ、リジンジイソシアネート、トリフェニルメタントリイソシアネート、トリス（イソシアネートフェニル）チオフォスフェート、テトラメチルキシレンジイソシアネート及び１，６，１０−ウンデカントリイソシアネート等が挙げられる。
（Ｐ）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４３】
炭素数が４〜１００である活性水素を含む基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートや二価のアルコール（エチレングリコール、プロピレングリコール、１，３−プロパンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール及びポリエチレングリコール等）のモノ（メタ）アクリレート、三価のアルコール（トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン及びグリセリン等）のモノ（メタ）アクリレート又はジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ変性エポキシ（メタ）アクリレート等のエポキシ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（Ｑ）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４４】
炭素数が１〜１８である１価のアルコール（Ｒ）としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、ｎ−ペンタノール、イソペンタノール、ｔｅｒｔ−ペンタノール、ｎ−ヘキサノール、ｔｅｒｔ−ヘキサノール、ｎ−ヘプタノール、イソヘプタノール、ｔｅｒｔ−ヘプタノール、ｎ−オクタノール、２−エチル−１−ヘキサノール、ｔｅｒｔ−オクタノール、ｎ−ノニルアルコール、イソノニルアルコール、ｔｅｒｔ−ノニルアルコール、ｎ−デカノール、イソデカノール、ラウリルアルコール、ミリスチルアルコール、パルミチルアルコール、ステアリルアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル及びジプロピレングリコールモノブチルエーテル等が挙げられる。
（Ｒ）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４５】
Ｍｎが１，０００〜１００，０００であるポリエーテルエステルジオール（Ｓ）は、Ｍｎが２００〜１０，０００であるポリエーテルジオール（Ｓ１）と炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｓ２）とを必須成分として反応させて得られるポリエーテルエステルジオールが好ましい。
（Ｓ）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４６】
Ｍｎが２００〜１０，０００であるポリエーテルジオール（Ｓ１）のうち、塗工適性の観点から更に好ましいのは、ネオペンチルグリコール、３−メチルテトラヒドロフラン及び２，２−ジメチルオキセタンから選ばれる少なくとも１種とテトラヒドロフランとの共重合体であり、特に好ましいのはネオペンチルグリコールとテトラヒドロフランとの共重合体である。
（Ｓ１）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４７】
炭素数が２〜２０であるジカルボン酸（Ｓ２）としては、脂肪族ジカルボン酸（シュウ酸、マロン酸、ジプロピルマロン酸、コハク酸、２，２−ジメチルコハク酸、グルタル酸、２−メチルグルタル酸、２，２−ジメチルグルタル酸、２，４−ジメチルグルタル酸、３−メチルグルタル酸、３，３−ジメチルグルタル酸、３−エチル−３−メチルグルタル酸、アジピン酸、３−メチルアジピン酸、ピメリン酸、２，２，６，６−テトラメチルピメリン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ウンデカン二酸、ドデカン二酸、ペンタデカン二酸、テトラデカン二酸、ヘプタデカン二酸、オクタデカン二酸、ノナデカン二酸、エイコサン二酸及び１，４−シクロヘキサンジカルボン酸等）及び芳香族ジカルボン酸（テレフタル酸、イソフタル酸、２−メチルテレフタル酸、４，４−スチルベンジカルボン酸、ナフタレンジカルボン酸、４，４−ビフェニルジカルボン酸、オルトフタル酸、ジフェノキシエタンジカルボン酸、ジフェニルエーテルジカルボン酸及びジフェニルスルホンジカルボン酸等）等が挙げられる。
【００４８】
（Ｓ２）のうち、塗工適性の観点から好ましいものは、脂肪族ジカルボン酸であり、更に好ましくはジプロピルマロン酸、２，２−ジメチルコハク酸、グルタル酸、２−メチルグルタル酸、２，２−ジメチルグルタル酸、２，４−ジメチルグルタル酸、３−メチルグルタル酸、３，３−ジメチルグルタル酸、３−エチル−３−メチルグルタル酸、３−メチルアジピン酸、ピメリン酸及び２，２，６，６−テトラメチルピメリン酸である。
（Ｓ２）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００４９】
ポリエーテルエステルジオール（Ｓ）は、例えばポリエーテルジオール（Ｓ１）とジカルボン酸（Ｓ２）を、触媒（スズ系化合物等）存在下でエステル化することで得ることができる。
【００５０】
ポリウレタンを骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）のウレタン基濃度は、塗工適性の観点から、０．０１〜０．２ｍｍｏｌ／ｇが好ましく、更に好ましくは０．０２〜０．１８ｍｍｏｌ／ｇであり、特に好ましくは０．０４〜０．１５ｍｍｏｌ／ｇである。
【００５１】
（メタ）アクリレート（Ｄ１）の平均官能基数は、１以上２未満であり、好ましくは１．０５〜１．８であり、更に好ましくは１．１〜１．６である。平均官能基数が１未満の場合、硬化樹脂の耐熱性が低くなるため耐熱試験において剥がれが生じ、平均官能基数が２以上の場合は、硬化樹脂の貯蔵弾性率が大きくなり、硬化時に発生する応力を緩和できず、耐熱試験において剥がれが発生する。
【００５２】
ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）の平均官能基数は以下の方法で算出する。
（１）（Ｄ１）がポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１）の場合
１Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、ポリイソプレン骨格に由来する５．１ｐｐｍ付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する６．１ｐｐｍ、５．６ｐｐｍ付近のピーク面積の比及びＭｎから平均官能基数を算出した。
【００５３】
（２）（Ｄ１）がポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２）の場合
（１）と同様に１Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、ポリブタジエンの１，２付加体由来の５．６ｐｐｍ、４．９ｐｐｍ付近のピーク面積、１，４付加体由来の５．３〜５．４ｐｐｍ付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する６．１ｐｐｍ、５．６ｐｐｍ付近のピーク面積の比及びＭｎから平均官能基数を算出した。
【００５４】
（３）（Ｄ１）がポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３）の場合
平均官能基数は以下の計算式から算出できる。
平均官能基数＝[（Ｄ１）の（メタ）アクリロイル基濃度（ｍｏｌ／ｇ）]×Ｍｎ
ここで、（メタ）アクリロイル基濃度はポリウレタンの骨格に応じて、ヨウ素価から算出できる。
【００５５】
本発明の接着用光硬化性組成物は、密着性の点から、重合性物質（Ｄ）として、更に、（Ｄ１）以外の環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）を含有することが好ましい。
【００５６】
環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）としては、フェノールエチレンオキサイド１〜１０モル付加物（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド１〜１０モル付加物（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシエチル（メタ）アクリレート及びノルボネン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（Ｄ２１）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００５７】
（Ｄ２）としては、密着性の観点からフェノールエチレンオキサイド１〜１０モル付加物（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、ノニルフェノールエチレンオキサイド１〜１０モル付加物（メタ）アクリレート及びテトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレートからなる群から選ばれる１種の（メタ）アクリレートであることが好ましい。
【００５８】
本発明の接着用光硬化性組成物は、重合性物質（Ｄ）の相溶性が悪い場合あるいは粘度が高く作業性が悪い場合には、反応希釈剤として、環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）以外の一般的な（メタ）アクリレートモノマー（Ｄ３）を含有することができる。
一般的な（メタ）アクリレートモノマー（Ｄ３）としては、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）アクリレート、ｉｓｏ−ブチル（メタ）アクリレート、ｔｅｒｔ−ブチル（メタ）アクリレート、ラウリル（メタ）アクリレート、メトキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、１，３−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート及び１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
（Ｄ３）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【００５９】
重合性物質（Ｄ）中のポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）の含有量は、好ましくは２０〜１００重量％であり、更に好ましくは２０〜９９重量％であり、特に好ましくは０〜９０重量％であり、最も好ましくは４０〜７０重量％である。
また、重合性物質（Ｄ）中の環状骨格を有する単官能（メタ）アクリレート（Ｄ２）の含有量は、好ましくは０〜７０重量％であり、更に好ましくは０．１〜７０重量％であり、特に好ましくは５〜６０重量％であり、最も好ましくは１０〜５５重量％である。
（Ｄ１）及び（Ｄ２）の含有量がこの範囲であれば、密着性に優れ、接着面が剥がれにくくなる。
【００６０】
本発明の接着用光硬化性組成物は、硬化性の観点から、更に酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）を含有することが好ましい。
【００６１】
本発明において酸発生剤（Ｂ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により酸を発生する化合物を意味し、活性光線により酸を発生する酸発生剤（Ｂ１）、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により酸を発生する酸発生剤（Ｂ２）等の公知の化合物が挙げられる。
例えば、スルホニウム塩誘導体及びヨードニウム塩誘導体等は活性光線又はラジカルによって酸を発生させることが可能で、（Ｂ１）又は（Ｂ２）として適用できる。
また、スルホン酸エステル誘導体、酢酸エステル誘導体及びホスホン酸エステル等は酸及び／又は塩基によって酸を発生させることが可能で、（Ｂ２）として適用できる。
（Ｂ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００６２】
本発明におけるスルホニウム塩誘導体としては、下記一般式（１）又は下記一般式（２）で示される化合物等が挙げられる。
【００６３】
【化１】
2016060912.tif 000002
【００６４】
一般式（１）又は（２）において、Ａ１は下記一般式（３）〜（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ１〜Ａｒ７はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であってＡｒ１〜Ａｒ４、Ａｒ６及びＡｒ７は１価の基、Ａｒ５は２価の基であり、（Ｘ１）−及び（Ｘ２）−は陰イオンを表し、ａは０〜２の整数、ｂは１〜３の整数で、かつａ＋ｂは２又は３でＡ１の価数と同じ整数である。
【００６５】
【化２】
2016060912.tif 000003
【００６６】
一般式（５）〜（８）におけるＲ１〜Ｒ７は、それぞれ独立に水素原子、炭素数１〜２０のアルキル基、又は、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の原子又は置換基で置換されていてもよいフェニル基を表し、Ｒ１とＲ２、Ｒ４とＲ５、及びＲ６とＲ７は互いに結合して環構造を形成していてもよい。
【００６７】
一般式（２）におけるＡ１として、酸発生効率の観点から好ましいのは、一般式（５）及び一般式（７）〜（１０）で表される基であり、一般式（５）及び（８）〜（１０）で表される基が更に好ましい。
【００６８】
一般式（１）及び一般式（２）におけるＡｒ１〜Ａｒ７は、一般式（１）又は一般式（２）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ａｒ１〜Ａｒ７におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４である。
ベンゼン環骨格を１個有する場合の例としては、例えばベンゼン、又はベンゾフラン、ベンゾチオフェン、インドール、キノリン、クマリン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を２個有する場合の例としては、例えばナフタレン、ビフェニル、フルオレン、又はジベンゾフラン、ジベンゾチオフェン、キサントン、キサンテン、チオキサントン、アクリジン、フェノチアジン及びチアントレン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を３個有する場合の例としては、例えば、アントラセン、フェナントレン、ターフェニル、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）ベンゼン及びナフトベンゾチオフェン等の複素環化合物から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
ベンゼン環骨格を４個有する場合の例としては、例えばナフタセン、ピレン、ベンゾアントラセン及びトリフェニレン等から水素原子を１個又は２個除いた残基が挙げられる。
【００６９】
ハロゲン原子としては、フッ素、塩素、臭素及びヨウ素が挙げられ、フッ素及び塩素が好ましい。
【００７０】
炭素数１〜２０のアシル基としては、ホルミル基、アセチル基、プロピオニル基、イソブチリル基、バレリル基及びシクロヘキシルカルボニル基等が挙げられる。
【００７１】
炭素数１〜２０のアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピル基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基及びオクチル基等が挙げられる。
【００７２】
炭素数１〜２０のアルコキシ基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブトキシ基、ｎ−、ｉｓｏ−、又はｎｅｏ−ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基及びオクチルオキシ基等が挙げられる。
【００７３】
炭素数１〜２０のアルキルチオ基としては、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−又はｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−、ｓｅｃ−又はｔｅｒｔ−ブチルチオ基、ｎ−、ｉｓｏ−又はｎｅｏ−ペンチルチオ基、ヘキシルチオ基、ヘプチルチオ基及びオクチルチオ基等が挙げられる。
【００７４】
炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、トリメチルシリル基及びトリイソプロピルシリル基等のトリアルキルシリル基等が挙げられる。ここでアルキルは直鎖構造でも分岐構造でもよい。
【００７５】
Ａｒ１〜Ａｒ７の置換する原子又は置換基として、酸発生効率の観点から好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基、フェニルチオ基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアシル基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基、炭素数１〜１５のアルキルチオ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基、炭素数１〜１０のアルキルチオ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【００７６】
Ａｒ１〜Ａｒ４、Ａｒ６及びＡｒ７として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニル基、ｐ−メチルフェニル基、ｐ−メトキシフェニル基、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、２，４，６−トリメチルフェニル基、ｐ−（チオキサンチルメルカプト）フェニル基及びｍ−クロロフェニル基である。
【００７７】
Ａｒ５として、酸発生効率の観点から好ましいのは、フェニレン基、２−又は３−メチルフェニレン基、２−又は３−メトキシフェニレン基、２−又は３−ブチルフェニレン基及び２−又は３−クロロフェニレン基である。
【００７８】
一般式（１）又は（２）において（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−で表される陰イオンとしては、ハロゲン化物アニオン、水酸化物アニオン、チオシアナートアニオン、炭素数１〜４のジアルキルジチオカルバメートアニオン、炭酸アニオン、炭酸水素アニオン、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族カルボキシアニオン（安息香酸アニオン、トリフルオロ酢酸アニオン、パーフルオロアルキル酢酸アニオン、及びフェニルグリオキシル酸アニオン等）、ハロゲンで置換されていてもよい脂肪族又は芳香族スルホキシアニオン（トリフルオロメタンスルホン酸アニオン等）、ヘキサフルオロアンチモネートアニオン（ＳｂＦ６−）、リンアニオン［ヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ６−）及びトリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン（ＰＦ３（Ｃ２Ｆ５）３−）等］及びボレートアニオン（テトラフェニルボレート及びブチルトリフェニルボレートアニオン、テトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオン等）等が挙げられ、酸発生効率の観点から、リンアニオン、ハロゲンで置換された脂肪族スルホキシアニオン及びボレートアニオンが好ましく、更にヘキサフルオロホスフェートアニオン（ＰＦ６−）、トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェートアニオン（ＰＦ３（Ｃ２Ｆ５）３−）、テトラキス（パーフルオロフェニル）ボレートアニオン）が特に好ましい。
【００７９】
本発明におけるヨードニウム塩誘導体としては、下記一般式（１１）又は下記一般式（１２）で示される化合物等が挙げられる。
【００８０】
【化３】
2016060912.tif 000004
【００８１】
式中、Ａ２は前記一般式（３）〜（１０）のいずれかで表される２価又は３価の基であり、Ａｒ８〜Ａｒ１２はそれぞれ独立にベンゼン環骨格を少なくとも１個有し、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、フェノキシ基及びフェニルチオ基からなる群から選ばれる少なくとも１種の置換基で置換されていてもよい芳香族炭化水素基又は複素環基であって、Ａｒ８〜Ａｒ１０及びＡｒ１２は１価の基、Ａｒ１１は２価の基であり、（Ｘ３）−及び（Ｘ４）−は陰イオンを表し、ｃは０〜２の整数、ｄは１〜３の整数で、かつｃ＋ｄは２又は３でＡ２の価数と同じ整数である。
【００８２】
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【００８３】
一般式（１２）におけるＡ２として、酸を発生する効率の観点から好ましいのは、前記一般式（５）及び一般式（７）〜（１０）で表される基であり、一般式（５）及び（８）〜（１０）で表される基が更に好ましい。
【００８４】
一般式（１１）又は一般式（１２）におけるＡｒ８〜Ａｒ１２は、一般式（１１）又は一般式（１２）で表される化合物が紫外〜可視光領域に吸収をもつようになる基である。
Ａｒ８〜Ａｒ１２におけるベンゼン環骨格の数は、好ましくは１〜５、更に好ましくは１〜４であり、Ａｒ８〜Ａｒ１２の具体例としては、一般式（１）又は一般式（２）のＡｒ１〜Ａｒ７として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００８５】
（Ｘ３）−及び（Ｘ４）−としては、一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００８６】
ヨードニウム塩誘導体として、酸発生効率の観点から好ましいのは、（４−メチルフェニル）｛４−（２−メチルプロピル）フェニル｝ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）］ヨードニウムカチオン、［ビス（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）］トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ヨードニウムカチオン及び［ビス（４−メトキシフェニル）］ヨードニウムカチオンをカチオン骨格として有する化合物、並びにこれら以外の下記一般式（１３）〜（１６）で示される化合物であり、更に好ましいのは下記一般式（１３）〜（１６）で示される化合物（例示した化合物を含む）である。
【００８７】
【化４】
2016060912.tif 000005
【００８８】
一般式（１３）〜（１６）において、Ｒ８〜Ｒ１３は水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基であり、（Ｘ５）−〜（Ｘ８）−は陰イオンを表す。
【００８９】
ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【００９０】
Ｒ８〜Ｒ１３として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアシル基及び炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【００９１】
一般式（１３）〜（１６）における（Ｘ５）−〜（Ｘ８）−としては一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられ、好ましいものも同様である。
【００９２】
スルホン酸エステル誘導体としては、メタンスルホン酸シクロヘキシルエステル、エタンスルホン酸イソプロピルエステル、ベンゼンスルホン酸−ｔｅｒｔ−ブチルエステル、ｐ−トルエンスルホン酸シクロヘキシルエステル及びナフタレンスルホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００９３】
酢酸エステル誘導体としては、ジクロロ酢酸シクロヘキシルエステル及びトリクロロ酢酸イソプロピルエステル等が挙げられる。
【００９４】
ホスホン酸エステルとしては、トリフェニルホスホン酸シクロヘキシルエステル等が挙げられる。
【００９５】
本発明において塩基発生剤（Ｃ）とは、活性光線、ラジカル、酸及び塩基のうちの少なくとも１種により塩基を発生する化合物を意味し、活性光線により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ１）、並びにラジカル、酸及び塩基からなる群から選ばれる少なくとも１種により塩基を発生する塩基発生剤（Ｃ２）等の公知の化合物を用いることができる。
例えば、オキシム誘導体、４級アンモニウム塩誘導体及び４級アミジン塩誘導体等は活性光線又はラジカルによって塩基を発生させることが可能で、（Ｃ１）又は（Ｃ２）として適用できる。
また、カルバメート誘導体は塩基によって塩基を発生させることが可能で、（Ｃ２）として適用できる。
（Ｃ）は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を併用してもよい。
【００９６】
オキシム誘導体としては、例えばＯ−アシロキシム等が挙げられる。
【００９７】
カルバメート誘導体としては、１−Ｚ−４−ピペリドン、１−Ｆｍｏｃ−４−ピペリドン及びｏ−ニトロベンゾイルカルバメート等が挙げられる。
【００９８】
４級アンモニウム塩誘導体及び４級アミジン塩誘導体としては、例えば下記一般式（１７）〜（１９）のいずれかで示される化合物が挙げられる。
【００９９】
【化５】
2016060912.tif 000006
【０１００】
一般式（１７）〜（１９）におけるＲ１４〜Ｒ４１は、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、アミノ基、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、一般式（２０）で表される置換基及び一般式（２１）で表される置換基からなる群から選ばれる原子又は置換基であって、Ｒ１４〜Ｒ２３のいずれか１つは一般式（２０）又は一般式（２１）で表される置換基であり、Ｒ２４〜Ｒ３１のいずれか１つは一般式（２０）又は一般式（２１）で表される置換基であり、Ｒ３２〜Ｒ４１のいずれか１つは一般式（２０）又は一般式（２１）で表される置換基である。
【０１０１】
【化６】
2016060912.tif 000007
【０１０２】
一般式（２０）及び（２１）におけるＲ４２〜Ｒ４５は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基であり、Ｒ４６〜Ｒ４８は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基であり、（Ｘ９）−及び（Ｘ１０）−は、陰イオンを表し、ｅは２〜４の整数である。
一般式（１７）〜（１９）におけるハロゲン原子、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基及び炭素数１〜２０のアルキルシリル基としては、一般式（１）及び一般式（２）の説明で記載したものと同様のものが例示される。
【０１０３】
一般式（１７）で示される化合物はアントラセン骨格、一般式（１８）で示される化合物はチオキサントン骨格、一般式（１９）で示される化合物はベンゾフェノン骨格を有する化合物である。Ｒ１４〜Ｒ２３は吸収波長の調整、感度の調整、熱安定性、反応性、分解性等を考慮して変性させるものであり、水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜２０のアルコキシ基、ニトロ基、カルボキシル基、水酸基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルシリル基、炭素数１〜２０のアシル基、アミノ基、シアノ基、炭素数１〜２０のアルキル基、フェニル基、ナフチル基からなる群から選ばれる原子又は置換基で目的に応じて変性される。但し、Ｒ１４〜Ｒ２３のいずれか１つは一般式（２０）又は一般式（２１）で表される置換基である。
【０１０４】
Ｒ１４〜Ｒ２３として好ましいのは、ハロゲン原子、シアノ基、フェニル基、ナフチル基、炭素数１〜２０のアルキル基、炭素数１〜２０のアシル基及び炭素数１〜２０のアルコキシ基であり、更に好ましいのは、シアノ基、フェニル基、炭素数１〜１５のアルキル基、炭素数１〜１５のアルコキシ基及び炭素数１〜１５のアシル基、特に好ましいのは、炭素数１〜１０のアルキル基、炭素数１〜１０のアルコキシ基及び炭素数１〜１０のアシル基である。尚、上記のアルキル部分は直鎖でも分岐でも環状でもよい。
【０１０５】
上記のＲ１４〜Ｒ２３の具体例としては、一般式（１３）〜（１５）のＲ８〜Ｒ１３の説明で記載した化合物が例示される。
【０１０６】
一般式（２０）で示される置換基はカチオン化したアミジン骨格を有する置換基であり、ｅは２〜４の整数である。この置換基としては、ｅが４である１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセンがカチオン化した構造を有する置換基及びｅが２である１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネンがカチオン化した構造を有する置換基が好ましい。Ｒ４２とＲ４３は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましいのは水素原子及び炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましいのは水素原子及び炭素数１〜５のアルキル基である。
【０１０７】
一般式（２１）は４級アンモニウム構造を有しており、Ｒ４４とＲ４５は水素原子又は炭素数１〜２０のアルキル基を表し、好ましくは水素原子又は炭素数１〜１０のアルキル基、更に好ましくは水素原子又は炭素数１〜５のアルキル基である。また、Ｒ４６〜Ｒ４８は水酸基で置換されていてもよい炭素数１〜２０のアルキル基を表し、直鎖でも分岐でも環状でもよい。Ｒ４６〜Ｒ４８は好ましくは炭素数１〜１０のアルキル基、特に好ましくは炭素数１〜５のアルキル基である。
【０１０８】
一般式（２０）及び（２１）における（Ｘ９）−及び（Ｘ１０）−は陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
【０１０９】
一般式（２０）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ４２とＲ４３が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂してアミジン骨格を有する塩基性化合物を生成し、一般式（２１）で示される化合物は活性光線の照射により、Ｒ４４とＲ４５が結合した炭素と窒素の間の結合が解裂して３級アミンが生成する。
【０１１０】
これらの塩基発生剤（Ｃ）の内、光分解性の観点から、下記一般式（２２）で示される化合物が好ましい。
【０１１１】
【化７】
2016060912.tif 000008
【０１１２】
一般式（２２）における（Ｘ１１）−は、陰イオンを表し、具体的には一般式（１）又は（２）における（Ｘ１）−又は（Ｘ２）−として例示したものと同様のものが挙げられる。これらの内、光分解性の観点から、脂肪族又は芳香族カルボキシイオン及びボレートアニオンが好ましい。
【０１１３】
本発明の接着用光硬化性組成物中に、酸発生剤（Ｂ）と塩基発生剤（Ｃ）のいずれを用いても、密着性に優れた硬化物が得られるが、硬化物の耐黄変性の観点からは、酸発生剤（Ｂ）を用いるのが好ましい。
【０１１４】
本発明の接着用光硬化性組成物中の酸発生剤（Ｂ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）の含有量〔（Ｂ）と（Ｃ）の合計〕は、光硬化性の観点から、重合性物質（Ｄ）の重量に対して、好ましくは０〜３０重量％、更に好ましくは０．０５〜３０重量％、特に好ましくは０．５〜１０重量％である。
【０１１５】
本発明の接着用光硬化性組成物においては、ラジカル開始剤（Ａ）、酸発生剤（Ｂ）及び塩基発生剤（Ｃ）の内の少なくとも１つが活性光線の照射により活性種（Ｈ）を発生し、活性種（Ｈ）がラジカル開始剤（Ｂ）、酸発生剤（Ｃ）及び／又は塩基発生剤（Ｃ）と反応して新たな活性種（Ｉ）を生成して、新たな活性種（Ｉ）による重合性物質（Ｄ）の重合反応が進行するのが好ましい。ここで、活性種（Ｈ）及び（Ｉ）としては、ラジカル、酸及び塩基等が挙げられるが、上記反応において、活性種（Ｈ）又は（Ｉ）は酸又は塩基であることが好ましい。活性種（Ｈ）が拡散することにより硬化がより促進され、硬化性が向上する。また、得られる硬化物の密着性が向上する。活性種（Ｈ）が容易に拡散するためには、重合性物質（Ｄ）として、活性種（Ｈ）と反応しないものを使用することが好ましい。
【０１１６】
本発明においては、（Ａ１）、（Ａ２）、（Ｂ１）、（Ｂ２）、（Ｃ１）、又は（Ｃ２）を、以下の（１）〜（４）のいずれかの組合せで含有することが好ましい。
（１）（Ａ１）、並びに（Ｂ２）及び／又は（Ｃ２）を含有する。
（２）（Ｂ１）、（Ａ２）、及び必要により（Ｃ２）を含有する。
（３）（Ｃ１）、（Ａ２）、及び必要により（Ｂ２）を含有する。
（４）上記（１）〜（３）の２種類以上の組合せ。
【０１１７】
上記（１）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）としてラジカルが発生し、活性種（Ｉ）として酸及び／又は塩基が発生する。
上記（２）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として酸が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカル及び必要により塩基が発生する。
上記（３）においては、活性光線の照射により活性種（Ｈ）として塩基が発生し、活性種（Ｉ）としてラジカル及び必要により酸が発生する。
【０１１８】
本発明の接着用光硬化性組成物は、密着性の観点から非重合性ポリマー（Ｅ）を含有することが好ましい。非重合性ポリマー（Ｅ）は、光硬化性のような反応性のポリマーではなく、デッドポリマーである。
（Ｅ）は、１種を単独で用いても、２種以上を併用してもよい。
【０１１９】
非重合性ポリマー（Ｅ）としては、ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）と相溶するポリマー及びオリゴマー等が挙げられ、ポリイソプレン系又はポリブタジエン系のオリゴマー又はポリマー及びポリエーテル等が挙げられる。
【０１２０】
ポリイソプレン系又はポリブタジエン系のオリゴマー又はポリマーは、（株）クラレからＬＩＲシリーズ、デグッサ社からポリオイルシリーズとして市販されている。
【０１２１】
ポリエーテルとしては、テトラヒドロフランとネオペンチルグリコールとの共重合体、テトラヒドロフランと３−メチルテトラヒドロフランとの共重合体、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール及びポリテトラメチレングリコール等が挙げられる。
【０１２２】
非重合性ポリマー（Ｅ）の内、組成物の硬化性の観点から好ましいのはポリエーテルである。
【０１２３】
非重合性ポリマー（Ｅ）のＭｎは、塗工適性の観点から１，０００〜１００，０００が好ましい。
【０１２４】
非重合性ポリマー（Ｅ）の含有量は、本発明の接着用光硬化性組成物中に、重合性物質（Ｄ）に対して０〜５００重量％含有することが好ましく、更に好ましくは３０〜４００重量％、特に好ましくは５０〜３００重量％である。
【０１２５】
本発明の接着用光硬化性組成物は、更に、酸化防止剤（Ｆ）を含有することができる。
酸化防止剤（Ｆ）としては、ＢＨＴ、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、２，２−チオ−ジエチレンビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、トリエチレングリコール−ビス［３−（３−ｔｅｒｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、１，６−ヘキサンジオール−ビス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ’−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレート、オクチル化ジフェニルアミン、２，４，−ビス［（オクチルチオ）メチル］−Ｏ−クレゾール、イソオクチル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート及びジブチルヒドロキシトルエン等が挙げられる。
これらの酸化防止剤（Ｆ）は１種類又は２種類以上で使用できる。
【０１２６】
酸化防止剤（Ｆ）の含有量は、重合性物質（Ｄ）に基づいて、好ましくは０〜１０重量％、更に好ましくは０．０１〜８重量％、特に好ましくは０．５〜５重量％である
【０１２７】
本発明の接着用光硬化性組成物は、必要に応じて他の添加剤（可塑剤、シランカップリング剤、接着性付与剤、粘着性付与剤、保存安定剤及び紫外線吸収剤等）を含有してもよい。
【０１２８】
本発明の接着用光硬化性組成物は、ラジカル開始剤（Ａ）、重合性物質（Ｄ）及び必要により使用する成分を自転公転式攪拌装置、ボールミル又は３本ロールミル等で混練することで得られる。混練温度は好ましくは１０℃〜４０℃、更に好ましくは２０℃〜３０℃である。
【０１２９】
本発明の接着用光硬化性組成物を硬化するのに用いる活性光線としては、可視光線及び紫外線等が挙げられる。
本発明の接着用光硬化性組成物は、３６０ｎｍ〜８３０ｎｍの活性光線の照射で光硬化できるため、一般的に使用されている高圧水銀灯の他、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ及びハイパワーメタルハライドランプ等（ＵＶ・ＥＢ硬化技術の最新動向、ラドテック研究会編、シーエムシー出版、１３８頁、２００６）が使用できる。また、ＬＥＤ光源を使用した照射装置も好適に使用できる。更に、太陽光、低圧水銀灯及び半導体レーザー等も使用できる。
【０１３０】
本発明の接着用光硬化性組成物は、表示パネルを構成する光学部材の張り合わせに用いることができ、本発明の接着用光硬化性組成物を用いて製造された表示パネルは、テレビ、デジカメ、携帯電話、パソコン及びモニター等の電子機器の部材として使用することができる。
【０１３１】
光学部材としては、板、シート、タッチパネル及び透明電極が形成してある透明基板等が挙げられる。
シートとしては、アイコンシート、保護シート及び化粧シート等が挙げられ、その材質は、ポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと略記）、ポリカーボネート（以下、ＰＣと略記）、シクロオレフィンコポリマー（以下、ＣＯＣと略記）及びシクロオレフィンポリマー（以下、ＣＯＰと略記）等が挙げられる。
板としては、透明板、化粧板及び保護板等が挙げられ、その材質は、ＰＥＴ、ガラス、ＰＣ、アクリル（以下、ＰＭＭＡと略記）、ＰＣとＰＭＭＡの複合体、ＣＯＣ及びＣＯＰ等が挙げられる。
【実施例】
【０１３２】
以下、実施例により本発明を更に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。以下、特に規定しない限り、％は重量％、部は重量部を示す。
【０１３３】
［酸発生剤（Ｂ）の製造］
製造例１
［酸発生剤（Ｂ−１）｛化学式（２３）で表される化合物｝の合成］
【０１３４】
【化８】
2016060912.tif 000009
【０１３５】
（１）２−（フェニルチオ）チオキサントン［中間体（ｂ−１）］の合成：
２−クロロチオキサントン１１．０部、チオフェノール４．９部、水酸化カリウム２．５部及びＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド１６２部を均一混合し、１３０℃で９時間反応さ
せた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：トルエン／ヘキサン＝１／１：容量比）で精製し、中間体（ｂ−１）（黄色固体）３．１部を得た。
【０１３６】
（２）２−［（フェニル）スルフィニル］チオキサントン［中間体（ｂ−２）］の合成：
中間体（ｂ−１）１１．２部、アセトニトリル２１５部及び硫酸０．０２部を４０℃で撹拌しながら、これに３０％過酸化水素水溶液４．０部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１４時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水２００部中に投入し、生成物を析出させた。これをろ過し、残渣を水で濾液のｐＨが中性になるまで洗浄した後、残渣を減圧乾燥させ、黄色粉末状の生成物を得た。カラムクロマトグラフィー（溶離液：酢酸エチル／トルエン＝１／３：容量比）にて生成物を精製して、中間体（ｂ−２）（黄色固体）１３．２部を得た。
【０１３７】
（３）酸発生剤の合成：
中間体（ｂ−２）４．３部、無水酢酸４．１部及びアセトニトリル１１０部を４０℃で撹拌しながら、これにトリフルオロメタンスルホン酸２．４部を徐々に滴下し、４０〜４５℃で１時間反応させた後、反応溶液を室温（約２５℃）まで冷却し、蒸留水１５０部中に投入し、クロロホルムで抽出し、水相のｐＨが中性になるまで水で洗浄した。クロロホルム相をロータリーエバポレーターに移して溶媒を留去した後、トルエン５０部を加えて超音波洗浄器でトルエン中に分散し約１５分間静置してから上澄みを除く操作を３回繰り返して、生成した固体を洗浄した後、残渣を減圧乾燥した。この残渣をジクロロメタン２１２部に溶かし、１０％トリス（ペンタフルオロエチル）トリフルオロリン酸カリウム水溶液６５部中に投入してから、室温（約２５℃）で２時間撹拌し、ジクロロメタン層を分液操作にて水で３回洗浄した後、有機溶媒を減圧留去することにより、酸発生剤（Ｂ−１）（黄色固体）５．５部を得た。
【０１３８】
製造例２
［酸発生剤（Ｂ−２）｛化学式（２４）で表される化合物｝の合成］
【０１３９】
【化９】
2016060912.tif 000010
【０１４０】
反応容器にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ８１９［ＢＡＳＦジャパン社製］４．２部、ｐ−トリルスルホキシド［東京化成工業（株）製］２．８部、ノナフルオロ−１−ブタンスルホン酸カリウム［東京化成工業（株）製］４．１部、硫酸［和光純薬工業（株）製］１．２部及びアセトニトリル１００部を仕込んで溶解させ、６０℃で６時間攪拌した。ジクロロメタン２００部を加え、イオン交換水２００部で３回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤（Ｂ−２）（黄色固体）６．７部を得た。
【０１４１】
製造例３
［酸発生剤（Ｂ−３）｛化学式（２５）で表される化合物｝の合成］
【０１４２】
【化１０】
2016060912.tif 000011
【０１４３】
反応容器にＬＵＣＩＲＩＮ  ＴＰＯ［ＢＡＳＦジャパン社製］３．５部、ジフェニルスルホキシド［東京化成工業（株）製］２．４部、ヘキサフルオロりん酸カリウム［東京化成工業（株）製］２．２部、硫酸［和光純薬工業（株）製］１．２部及びアセトニトリル１００部を仕込んで溶解させ、６０℃で６時間攪拌した。ジクロロメタン２００部を加え、イオン交換水２００部で３回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤（Ｂ−３）（黄色固体）５．４部を得た。
【０１４４】
製造例４
［酸発生剤（Ｂ−４）｛化学式（２６）で表される化合物｝の合成］
【０１４５】
【化１１】
2016060912.tif 000012
【０１４６】
反応容器にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ９０７［ＢＡＳＦジャパン社製］２．８部、ブロモベンゼン［東京化成工業（株）製］１．７部、テトラフルオロホウ酸銀［東京化成工業（株）製］２．３部及びテトラヒドロフラン１００部を仕込んで溶解させ、６０℃で６時間攪拌した。ジクロロメタン２００部を加え、イオン交換水２００部で３回有機層を洗浄し、有機層から溶剤を減圧留去することで酸発生剤（Ｂ−４）（淡黄色固体）３．３部を得た。
【０１４７】
製造例５
［酸発生剤（Ｂ−５）｛化学式（２７）で表される化合物｝の合成］
【０１４８】
【化１２】
2016060912.tif 000013
【０１４９】
ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン［東京化成工業（株）製］８．１部、ヨウ化カリウム［東京化成工
業（株）製］５．３５部及び無水酢酸２０部を酢酸７０部に溶解させ、１０℃まで冷却し、温度を１０±２℃に保ちながら、濃硫酸１２部と酢酸１５部の混合溶液を１時間かけて滴下した。２５℃まで昇温し、２４時間攪拌した。その後、反応溶液にジエチルエーテル５０部を加え、水で３回洗浄し、ジエチルエーテルを減圧留去した。残渣にカリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部を水１００部に溶解させた水溶液を加え、２５℃で２０時間攪拌した。その後、反応溶液に酢酸エチル５００部を加え、水で３回洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで目的とする酸発生剤（Ｂ−５）（淡黄色液体）１４．０部を得た。
【０１５０】
製造例６
［酸発生剤（Ｂ−６）｛化学式（２８）で表される化合物｝の合成］
【０１５１】
【化１３】
2016060912.tif 000014
【０１５２】
「ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン８．１部」を「メトキシベンゼン［東京化成工業（株）製］７．５部」に、「カリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部」を「カリウムヘキサフルオロホスフェート［東京化成工業（株）製］８０部」に変更した以外、製造例５と同様にして酸発生剤（Ｂ−６）（淡黄色液体）１２．１部を得た。
【０１５３】
製造例７
［酸発生剤（Ｂ−７）｛化学式（２９）で表される化合物｝の合成］
【０１５４】
【化１４】
2016060912.tif 000015
【０１５５】
「ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン８．１部」を「フェノキシ酢酸メチル［東京化成工業（株）製］９．２部」、「カリウム｛トリフルオロ［トリス（パーフルオロエチル）］ホスフェート｝１１８部」を「カリウムテトラキス（パーフルオロフェニル）ボレート［東京化成工業（株）製］１４０部」に変更した以外、製造例５と同様にして酸発生剤（Ｂ−７）（淡黄色液体）１３．３部を得た。
【０１５６】
製造例８
［酸発生剤（Ｂ−８）｛化学式（３０）で表される化合物｝の合成］
【０１５７】
【化１５】
2016060912.tif 000016
【０１５８】
反応容器にＩＲＧＡＣＵＲＥ  ６５１［ＢＡＳＦジャパン社製］２．４部、ヨウ化カリウム［東京化成工業（株）製］４．０部、ヘキサフルオロアンチモン酸銀［東京化成工業（株）製］８．２部、硫酸［和光純薬工業（株）製］２．４部、ベンゼン５．０部及びアセトニトリル１００部を仕込んで溶解させ、６０℃で６時間攪拌した。ジクロロメタン２００部を加え、イオン交換水２００部で３回有機層を洗浄し、有機溶剤を減圧留去することで酸発生剤（Ｂ−８）１０．７部（淡黄色固体）を得た。
【０１５９】
製造例９
［酸発生剤（Ｂ−９）｛化学式（３１）で表される化合物｝の合成］
【０１６０】
【化１６】
2016060912.tif 000017
【０１６１】
「ｔｅｒｔ−ブチルベンゼン８．１部」を「トルエン［東京化成工業（株）製］６．５部」及び「イソプロピルベンゼン［東京化成工業（株）製］８．１部」に変更した以外、製造例５と同様にして酸発生剤（Ｂ−９）（淡黄色液体）５．０部を得た。
【０１６２】
［塩基発生剤（Ｃ）の製造］
製造例１０
［塩基発生剤（Ｃ−１）｛化学式（３２）で表される化合物｝の合成］
【０１６３】
【化１７】
2016060912.tif 000018
【０１６４】
９−クロロメチルアントラセン（アルドリッチ社製）２．０部をクロロホルムに溶解させ、そこへ、トリオクチルアミン［和光純薬工業（株）製］３．１部を少量ずつ加え（添加後若干の発熱が見られた。）、このまま室温（約２５℃）で１時間攪拌して反応液を得た。ナトリウムテトラフェニルボレート塩４．０部及び水４０部からなる水溶液に、反応液を少しずつ滴下し、更に１時間室温（約２５℃）で攪拌した後、水層を分液操作により除き、有機層を水で３回洗浄した。有機溶剤を減圧留去することで、白色固体７．１部を得た。この白色固体をアセトニトリルで再結晶させて、塩基発生剤（Ｃ−１）（白色固体）６．２部を得た。
【０１６５】
製造例１１
［塩基発生剤（Ｃ−２）｛化学式（３３）で表される化合物｝の合成］
【０１６６】
【化１８】
2016060912.tif 000019
【０１６７】
（１）メチルチオキサントン［中間体（ｃ−１）］の合成：
ジチオサリチル酸［和光純薬工業（株）製］１０部を硫酸１３９部に溶解させ、１時間室温（約２５℃）で攪拌した後、氷浴にて冷却して冷却溶液を得た。ついで、この冷却溶液の液温を２０℃以下に保ちながら、トルエン２５部を少しずつ滴下した後、室温（約２５℃）にもどし、更に２時間攪拌して反応液を得た。水８１５部に反応液を少しずつ加えた後、析出した黄色固体を濾別した。この黄色固体をジクロロメタン２６０部に溶解させ、水１５０部を加え、更に２４％ＫＯＨ水溶液６．７部を加えて水層をアルカリ性とし、１時間攪拌した後、分液操作にて水層を除去し、有機層を１３０部の水で３回洗浄した。ついで有機層を無水硫酸ナトリウムにて乾燥した後、有機溶剤を減圧留去して、中間体（ｃ−１）（黄色固体）８．７部を得た。尚、中間体（ｃ−１）は、２−メチルチオキサントンと３−メチルチオキサントンの混合物である。
【０１６８】
（２）２−ブロモメチルチオキサントン［中間体（ｃ−２）］の合成：
中間体（ｃ−１）２．１部をシクロヘキサン１２０部に溶解させ、これにＮ−ブロモスクシンイミド［和光純薬工業（株）製］８．３部及び過酸化ベンゾイル［和光純薬工業（株）製］０．１部を加え、還流下で４時間反応させた後（３−メチルチオキサントンは反応しない）、溶剤（シクロヘキサン）を留去し、そこへクロロホルム５０部を加えて残渣を再溶解させてクロロホルム溶液を得た。クロロホルム溶液を３０部の水で３回洗浄し、分液操作により水層を除去した後、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体１．７部を得た。これを酢酸エチルで再結晶させて（３−メチルチオキサントンはここで除かれる）、中間体（ｃ−２）（黄色固体）１．５部を得た。
【０１６９】
（３）Ｎ−（９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イル）メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ−トリス（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムブロマイド［中間体（ｃ−３）］の合成：
中間体（Ｃ１２２−２−２）（２−ブロモメチルチオキサントン）１．０部をジクロロメタン８５ｇに溶解し、これにトリエタノールアミン［和光純薬工業（株）製］０．５部を滴下した後（滴下後発熱した）、室温（約２５℃）下、１時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、白色固体２．２部を得た。この白色固体をテトラヒドロフラン／ジクロロメタン混合溶液で再結晶させて、中間体（ｃ−３）（褐色固体）１．０部を得た。
【０１７０】
（４）塩基発生剤（Ｃ−２）の合成：
ナトリウムテトラフェニルボレート塩［ナカライテスク（株）製］０．８部を水１７部で溶解させた水溶液に、あらかじめクロロホルム５０部に中間体（ｃ−３）１．０部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、１時間室温（約２５℃）で攪拌し、水層を分液操作により除き、有機層を３０部の水で３回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、黄色固体を得た。この黄色固体をアセトニトリル／エーテル混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤（Ｃ−２）（微黄色粉末）１．３部を得た。
【０１７１】
製造例１２
［塩基発生剤（Ｃ−３）｛化学式（３４）で表される化合物｝の合成］
【０１７２】
【化１９】
2016060912.tif 000020
【０１７３】
（１）Ｎ−（９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イル）メチル−Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）アンモニウムブロマイド［中間体（ｃ−４）］の合成：
「トリエタノールアミン［和光純薬工業（株）製］０．５部」を「ジメチルエタノールアミン［和光純薬工業（株）製］０．３部」に変更した以外、製造例１１の（１）〜（３）と同様にして中間体（ｃ−４）（褐色固体）０．８部を得た。
【０１７４】
（２）塩基発生剤（Ｃ−３）の合成：
「中間体（ｃ−３）１．０部」を「中間体（ｃ−４）０．８部」に変更した以外、製造例１１の（４）と同様にして塩基発生剤（Ｃ−３）（白色粉末）１．０部を得た。
【０１７５】
製造例１３
［塩基発生剤（Ｃ−４）｛化学式（３５）で表される化合物｝の合成］
【０１７６】
【化２０】
2016060912.tif 000021
【０１７７】
「トリオクチルアミン［和光純薬工業（株）製］３．１部」を「１−アザビシクロ［２．２．２］オクタン１．０部」に変更したこと以外、製造例１０と同様にして、塩基発生剤（Ｃ−４）（白色固体）４．４部を得た。
【０１７８】
製造例１４
［塩基発生剤（Ｃ−５）｛化学式（３６）で表される化合物｝の合成］
【０１７９】
【化２１】
2016060912.tif 000022
【０１８０】
「トリオクチルアミン［和光純薬工業（株）製］３．１部」を「１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン［サンアプロ（株）製「ＤＢＵ」］１．３部」に変更したこと以外、製造例１０と同様にして、塩基発生剤（Ｃ−５）（白色固体）４．７部を得た。
【０１８１】
製造例１５
［塩基発生剤（Ｃ−６）｛化学式（３７）で表される化合物｝の合成］
【０１８２】
【化２２】
2016060912.tif 000023
【０１８３】
「トリオクチルアミン［和光純薬工業（株）製］３．１部」を「１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］−５−ノネン［サンアプロ（株）製「ＤＢＮ」］１．１部」に変更したこと以外、製造例１０と同様にして、塩基発生剤（Ｃ−６）（白色固体）４．６部を得た。
【０１８４】
製造例１６
［塩基発生剤（Ｃ−７）｛化学式（３８）で表される化合物｝の合成］
【０１８５】
【化２３】
2016060912.tif 000024
【０１８６】
（１）フェニルグリオキシル酸銀の調製：
フェニルグリオキシル酸（アルドリッチ社製）３．９部をメタノール２０部に溶解させ、そこへ水酸化ナトリウム［和光純薬工業（株）製］０．９部を少しずつ加え（中和による発熱がみられた）、１時間攪拌し、そこへ１ｍｏｌ／Ｌ硝酸銀水溶液［和光純薬工業（株）製］１０．４部を加えた後、析出した灰色固体を濾別し、メタノールで洗浄し、乾燥して、フェニルグリオキシル酸銀（灰色固体）４．４部を得た。
【０１８７】
（２）塩基発生剤（Ｃ−７）の合成：
９−クロロメチルアントラセン（アルドリッチ社製）２．０部をメタノール４０ｇに溶解させ、そこへ１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン［サンア株）製「ＤＢＵ」］１．３部を少量ずつ加え（添加後若干の発熱が見られた。）、このまま室温（約２５℃）で１時間攪拌して反応液を得た。フェニルグリオキシル酸銀３．０部及びメタノール２０部からなる分散液に、反応液を少しずつ滴下し、更に１時間室温（約２５℃）で攪拌した後、生じた灰色固体を濾過により除いた濾液を減圧留去して、褐色固体４．５部を得た。この褐色固体をエーテル／ヘキサン混合溶液で再結晶させて、塩基発生剤（Ｃ−７）（黄色固体）２．６部を得た。
【０１８８】
製造例１７
［塩基発生剤（Ｃ−８）｛化学式（３９）で表される化合物｝の合成］
【０１８９】
【化２４】
2016060912.tif 000025
【０１９０】
（１）８−（９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−２−イル）メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムブロマイド［中間体（ｃ−５）］の合成：
「トリエタノールアミン［和光純薬工業（株）製］」を「１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン［サンアプロ（株）製「ＤＢＵ」］」に変更した以外、製造例１１の（１）〜（３）と同様にして中間体（ｃ−５）（白色固体）２．２部を得た。
【０１９１】
（２）塩基発生剤（Ｃ−８）の合成：
「中間体（ｃ−３）」を「中間体（ｃ−５）」に変更した以外、製造例１１（４）と同様にして塩基発生剤（Ｃ−８）（淡黄白色粉末）１．３部を得た。
【０１９２】
製造例１８
［塩基発生剤（Ｃ−９）｛化学式（４０）で表される化合物｝の合成］
【０１９３】
【化２５】
2016060912.tif 000026
【０１９４】
（１）２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−７−メチルチオキサントン［中間体（ｃ−６）］の合成：
中間体（ｃ−１）２．１部をジクロロメタン８５部に溶解させ、これに塩化アルミニウム（ＩＩＩ）［和光純薬工業（株）製］０．５部と２−クロロ−２−メチルプロパン［和光純薬工業（株）製］１．９部を加え、２３時間室温（約２５℃）で攪拌した。水層を分液操作により除き、有機層を３０部の水で３回洗浄した。有機溶剤を減圧留去して、淡黄色固体を得た。この淡黄色固体を酢酸エチル／ヘキサン混合溶液にて再結晶させて、中間体（ｃ−６）（黄色粉末）０．５部を得た。
【０１９５】
（２）２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−７−ブロモメチルチオキサントン［中間体（ｃ−７）］の合成：
「中間体（ｃ−１）２．１部」を「中間体（ｃ−６）１．０部」に変更した以外、製造例１１の（２）と同様にして中間体（ｃ−７）（黄色粉末）１．２部を得た。
【０１９６】
（３）８−（２，４−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−９−オキソ−９Ｈ−チオキサンテン−７−イル）メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムブロマイド［中間体（ｃ−８）］の合成：
「中間体（ｃ−２）」を「中間体（ｃ−７）」に変更した以外、製造例１１の（３）と同様にして中間体（ｃ−８）（微黄色粉末）１．３部を得た。
【０１９７】
（４）塩基発生剤（Ｃ−９）の合成：
「中間体（ｃ−３）１．０部」を「中間体（ｃ−８）０．８部」に変更した以外、製造例１１の（４）と同様にして塩基発生剤（Ｃ−９）（微黄色粉末）１．０部を得た。
【０１９８】
製造例１９
［塩基発生剤（Ｃ−１０）｛化学式（４１）で表される化合物｝の合成］
【０１９９】
【化２６】
2016060912.tif 000027
【０２００】
（１）４−ブロモメチルベンゾフェノン［中間体（ｃ−９）］の合成：
４−メチルベンゾフェノン（アルドリッチ社製）２５．１部、Ｎ−ブロモスクシンイミド［和光純薬工業（株）製］２２．８部、過酸化ベンゾイル［２０％含水：和光純薬工業（株）製］０．５４部及びアセトニトリル８０部を加え、８０℃まで加熱し、還流下２時間反応させ、冷却した後、有機溶剤を減圧留去して、メタノール１６０部で再結晶させて、中間体（ｃ−９）（白色結晶）２６部を得た。
【０２０１】
（２）８−（４−ベンゾイルフェニル）メチル−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムブロマイド［中間体（ｃ−１０）］の合成：
中間体（ｃ−１０）２５．８部をアセトニトリル１００部に溶解させ、これに１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセン［サンアプロ（株）製「ＤＢＵ」］１４．６部を滴下した後（滴下後発熱した。）、室温（約２５℃）下、１８時間攪拌し、有機溶剤を減圧留去して、褐色固体を得た。この褐色固体をアセトニトリルで再結晶を行い、中間体（ｃ−１０）（白色固体）２８．２部を得た。
【０２０２】
（３）塩基発生剤（Ｃ−１０）の合成：
ナトリウムテトラフェニルボレート塩［ナカライテスク（株）製］０．８部を水１７部に溶解させ、あらかじめクロロホルム５０部に中間体（ｃ−１０）６．８部を溶解させた溶液を少しずつ滴下した後、２時間室温（約２５℃）で攪拌して反応液を得た。反応液を濾過し、濾液を減圧留去して得た黄色液体をアセトニトリルに溶解して再結晶して、塩基発生剤（Ｃ−１０）（白色固体）７．６部を得た。
【０２０３】
製造例２０
［塩基発生剤（Ｃ−１１）｛化学式（４２）で表される化合物｝の合成］
【０２０４】
【化２７】
2016060912.tif 000028
【０２０５】
（１）８−（９−ナフタリルメチル）−１，８−ジアザビシクロ［５．４．０］−７−ウンデセニウムブロマイド［中間体（ｃ−１１）］の合成：
「中間体（ｃ−１０）２５．８部」を「２−ブロモメチルナフタレン［東京化成工業（株）製］１．１部」に変更した以外、製造例１９（２）と同様にして中間体（ｃ−１１）（白色粉末）１．３部を得た。
【０２０６】
（２）塩基発生剤（Ｃ−１１）の合成：
「中間体（ｃ−１０）６．８部」を「中間体（ｃ−１２）０．８部」に変更した以外、製造例１９の（３）と同様にして塩基発生剤（Ｃ−１１）（微黄色粉末）１．３部を得た。
【０２０７】
［（メタ）アクリレート（Ｄ１）の製造］
製造例２１
［ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１−１）の合成］
攪拌機、コンデンサー、滴下装置及び温度計を備えた反応容器に、ポリイソプレン［（株）クラレ製「ＬＩＲ−３０」：Ｍｎ２８，０００、ガラス転移点−６３℃］１００部に無水マレイン酸０．５部を加え、１８０℃で１５時間反応させることにより、１分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数が１．５個である無水マレイン酸変性ポリイソプレンを得た。次に、この無水マレイン酸変性ポリイソプレン１００部に０．６７部のメタクリル酸２−ヒドロキシエチル［日本触媒（株）製「ＨＥＭＡ」］を加え、遮光した後に１２０℃で８時間反応させることにより、ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１−１）を得た。得られた（Ｄ１１−１）のチクソトロピーインデックスは１．００２、（メタ）アクリロイル基の平均官能基数は１．５、Ｍｎは３０，１００であった。
【０２０８】
製造例２２
［ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２−１）の合成］
攪拌機、コンデンサー、滴下装置及び温度計を備えた反応容器に、ポリブタジエン［クレーバレー社製「Ｒｉｃｏｎ１３４」：Ｍｎ１６，０００、融点２５℃以下］９７部、無水マレイン酸１．５部、トルエン９１部を加えた後、１１５±２℃に加温した。別途作製した触媒溶液｛２，２’−アゾビス（２，４−ジメチルバレロニトリル）（和光純薬（株）製「Ｖ−６５」：１０時間半減期温度５１℃、１時間半減期温度６８℃）１．７部及びトルエン７．０部の混合溶液｝を滴下ポンプにて反応容器へ滴下し、７５±２℃に保ちながら、４時間撹拌した。２５℃まで冷却した後、反応溶液をアセトン１０００部に加え、沈殿液体を分液回収し、８０℃で１時間減圧乾燥し、１分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数が１．３個である無水マレイン酸変性ポリブタジエンを得た。次に、この得られた無水マレイン酸変性ポリブタジエン５０部に、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル［日本触媒（株）製「ＨＥＭＡ」］０．７１部、トルエン５０部、ベンジルジメチルアミン（和光純薬製）０．２４部を一括で投入し、空気をバブリングしつつ、温度を１００±５度に保ちながら６時間反応した。２５℃まで冷却した後、反応溶液をアセトン５００部に加え、沈殿溶液を分液回収し、８０℃で１時間減圧乾燥し、ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２−１）（淡黄色粘調液体）４０部を得た。得られた（Ｄ１２−１）のチクソトロピーインデックスは１．００１、（メタ）アクリロイル基の平均官能基数は１．３、Ｍｎは２０，１００であった。
【０２０９】
＜無水マレイン酸変性ポリオレフィン（無水マレイン酸変性ポリイソプレン及び無水マレイン酸変性ポリブタジエン）１分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数＞
製造例２１及び製造例２２で得た無水マレイン酸変性ポリオレフィンの１分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数は、フーリエ変換赤外分光光度計［島津製作所製、「ＦＴＩＲ−８４００」］により、ポリオレフィン由来の吸収ピーク（波数３１００〜２８００ｃｍ−１）の面積値とマレイン酸無水物の吸収ピーク（波数１７００〜１８００ｃｍ−１）の面積値を用いて、数式（１）より算出した。
【０２１０】
Ｍａ＝Ｍｂ×（Ｎａ／Ｎｂ）×（Ｐａ／Ｐｂ）      （１）
【０２１１】
数式（１）中の記号は以下の通りである。
Ｍａ：試料１分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数
Ｍｂ：基準物質１分子あたりの無水マレイン酸の平均付加数
Ｐａ：試料のマレイン酸無水物由来の吸収ピーク面積値／ポリオレフィン由来の吸収ピーク面積値
Ｐｂ：基準物質のマレイン酸無水物由来の吸収ピーク面積値／ポリオレフィン由来の吸収ピーク面積値
Ｎａ：試料１分子中のオレフィンの繰返し数
Ｎｂ：基準物質１分子中のオレフィンの繰返し数
【０２１２】
尚、基準物質のＮｂ、Ｍｂは以下の通りである。
・無水マレイン酸変性ポリイソプレン（Ｎｂ＝４９５、Ｍｂ＝３）［「クラプレンＬＩＲ−４０３」、（株）クラレ製］
・無水マレイン酸変性ポリブタジエン（Ｎｂ＝９４、Ｍｂ＝８）［「Ｒｉｃｏｎ１３０ＭＡ８」、クレイバレー社製］
【０２１３】
製造例２３〜３０及び比較製造例１〜４
［ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３−１）〜（Ｄ１３−８）及び（Ｄ１３’−１）〜（Ｄ１３’−４）の合成］
攪拌機、コンデンサー、温度計及びエアーコンプレッサーを備えたフラスコに、エステル化触媒（日東化成製「ネオスタンＵ−６００」）０．０３部と、表１に記載の配合部数のポリエーテルジオール（Ｓ１）及びジカルボン酸（Ｓ２）を一括で投入し、温度を２３０±５℃に保ちながら、２４時間攪拌した。１００℃まで降温させ、エチルメチルケトン１，０００部と、表１に記載の配合部数の有機ジイソシアネート（Ｐ）を一括で投入し、温度を１００±５℃に保ちながら、２４時間攪拌し、プレポリマーを得た。その後７０℃まで降温させ、エアーコンプレッサーを始動させ、フラスコ内の溶液中へのエアレーションを開始した後、表１に記載の配合部数の活性水素含有基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）及び１価のアルコール（Ｒ）を一括で投入し、温度を７０±５℃に保ちながら、１０時間攪拌した。有機溶剤を４０℃で減圧留去することで目的とするポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３−１）〜（Ｄ１３−８）、及び比較用のポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３’−１）〜（Ｄ１３’−４）を得た。
【０２１４】
尚、製造例２１〜３０及び比較製造例１〜４で得られたポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１−１）、（Ｄ１２−１）、（Ｄ１３−１）〜（Ｄ１３−８）及び（Ｄ１３’−１）〜（Ｄ１３’−４）の物性として、数平均分子量（Ｍｎ）、チクソトロピーインデックス、平均官能基数を、以下の（１）〜（３）の方法を用いて測定した。
【０２１５】
＜ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）の物性評価＞
（１）Ｍｎ
装置      ：ＧＰＣ
「ＨＬＣ−８１２０ＧＰＣ」、東ソー（株）製
カラム    ：「ＴＳＫｇｅｌ  ＧＭＨＸＬ」２本＋「ＴＳＫｇｅｌ
Ｍｕｌｔｉｐｏｒｅ  ＨＸＬ−Ｍ  」、東ソー（株）製
溶離液    ：テトラヒドロフラン
基準物質  ：標準ポリスチレン（ＴＳＫｓｔａｎｄａｒｄ  ＰＯＬＹＳＴＹＲＥＮＥ）、
東ソー（株）製
注入条件  ：サンプル濃度０．２５重量％、カラム温度４０℃
【０２１６】
（２）チクソトロピーインデックス
以下の測定条件で、チクソトロピーインデックスを測定した。
［１］装置：レオメーター［ＴＡ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ製「ＡＲ−２０００」］
［２］コーンローター：２°×Ｒ６０
［３］ギャップ：５０μｍ
［４］温度：３８℃
［５］せん断速度：０．０１／ｓ〜１０／ｓ（１分間静置後、等速で５分間かけて速度上昇）
【０２１７】
（３）ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）の平均官能基数
（３−１）ポリイソプレン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１１−１）の平均官能基数
１Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、ポリイソプレン骨格に由来する５．１ｐｐｍ付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する６．１ｐｐｍ、５．６ｐｐｍ付近のピーク面積の比及びＭｎから平均官能基数を算出した。
【０２１８】
（３−２）ポリブタジエン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１２−１）の平均官能基数
（３−１）と同様に１Ｈ−ＮＭＲ分析を行い、ポリブタジエンの１，２付加体由来の５．６ｐｐｍ、４．９ｐｐｍ付近のピーク面積、１，４付加体由来の５．３〜５．４ｐｐｍ付近のピーク面積、メタクリロイル基に由来する６．１ｐｐｍ、５．６ｐｐｍ付近のピーク面積の比及びＭｎから平均官能基数を算出した。
【０２１９】
（３−３）ポリウレタン骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１３−１）〜（Ｄ１３−８）及び（Ｄ１３’−１）〜（Ｄ１３’−４）の平均官能基数
（３−３−１）プレポリマーのイソシアネート基含有量
プレポリマーを、ジ−ｎ−ブチルアミンの０．１ｗｔ％ジメチルホルムアミド溶液に溶解させ、プレポリマー中に残存しているイソシアネート基と反応させた後、指示薬としてブロモフェノールブルーのジメチルホルムアミド溶液を滴下した試料溶液を、１／１００Ｎの塩酸のメタノール溶液で滴定した。また、プレポリマーを含有しない以外は同様にしてブランク溶液も滴定した。これらの滴定量から、数式（２）によりイソシアネート基含有量を算出した。
【０２２０】
イソシアネート基含有量［ｗｔ％］＝０．０４２×ｆ×（Ｚｂ−Ｚｐ）／Ｗ    （２）
【０２２１】
数式（２）中の記号は以下の通りである。
ｆ：滴定液の力価
Ｚｐ：試料溶液を測定したときの滴定量（ｍｌ）
Ｚｂ：ブランク溶液を測定したときの滴定量（ｍｌ）
Ｗ：試料溶液中のプレポリマーの重量（ｇ）
【０２２２】
（３−３−２）平均官能基数
ポリエステルポリオール（Ｓ）と有機ジイソシアネート（Ｐ）を反応させて得たプレポリマーのイソシアネート基含有量を用いて、数式（３）から平均官能基数を算出した。
【０２２３】
平均官能基数＝｛（プレポリマーのイソシアネート基含有量［ｗｔ％］）／１００｝×｛（Ｍｐ）／４２｝×Ｙ      （３）
【０２２４】
数式（３）中の記号は以下の通りである。  
Ｍｐ：プレポリマーのＭｎ
Ｙ：活性水素基を有する（メタ）アクリレート（Ｑ）と１価のアルコール（Ｒ）の合計重量に対する（Ｑ）のモル比率［（Ｑ）のモル数／（（Ｑ）と（Ｒ）の合計モル数）］
【０２２５】
表１に、Ｍｎ、ウレタン基濃度、チクソトロピーインデックス、平均官能基数を記載した。
【０２２６】
【表１】
2016060912.tif 000029
【０２２７】
なお、表１中の使用する原料の記号が示す内容は以下のとおりである。
（Ｓ１−１）テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体（Ｍｎ＝１，８００）［「ＰＴＸ−Ｇ  １８００」、旭化成せんい（株）製］
（Ｓ１−２）テトラヒドロフランとネオペンチルグリコ−ルの共重合体（Ｍｎ＝１，０００）［「ＰＴＸ−Ｇ  １０００」、旭化成せんい（株）製］
（Ｓ２−１）ピメリン酸［東京化成製］
（Ｐ−１）２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート［「ＴＭＤＩ」、エボニック社製］
（Ｐ−２）イソホロンジイソシアネート［「デスモジュールＩ」、住友バイエルウレタン製］
（Ｑ−１）ペンタエリスリトールのジアクリレート及びトリアクリレートの混合物［「ライトアクリレートＰＥ３Ａ」、共栄社化学社製］
（Ｑ−２）２−ヒドロキシエチルアクリレート［「ＢＨＥＡ」、日本触媒（株）製］
【０２２８】
［実施例１〜４３、比較例１〜６］
表２〜５に記載の（Ａ）、（Ｄ）〜（Ｆ）、並びに（Ｂ）、（Ｃ）を、室温（２０℃）でプレナリーミキサーを用いて配合して、実施例１〜４３及び比較例１〜６の光硬化性組成物を得た。
【０２２９】
【表２】
2016060912.tif 000030
【０２３０】
【表３】
2016060912.tif 000031
【０２３１】
【表４】
2016060912.tif 000032
【０２３２】
【表５】
2016060912.tif 000033
【０２３３】
表２〜４中の記号が示す内容は以下のとおりである。
（Ｄ２−１）ジシクロペンテニルオキシエチルメタクリレート、商品名「ＱＭ６５７」、ローム・アンド・ハースジャパン社製
（Ｄ２−２）シクロヘキシルメタクリレート、商品名「ＣＨ」、共栄社化学（株）製
（Ｄ２−３）フェノキシエチルメタクリレート、商品名「ＰＯ」、共栄社化学（株）製
（Ｄ２−４）フェノキシポリエチレングリコールアクリレート、商品名「ＡＭＰ−２０ＧＹ」、新中村化学工業（株）製
（Ｄ２−５）２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート、商品名「７０２Ａ」、新中村化学工業（株）製
（Ｄ２−６）テトラヒドロフルフリルメタクリレート、商品名「ＴＨＦ」、共栄社化学（株）製
【０２３４】
（Ａ１２１−１）２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、商品名「ルシリンＴＰＯ」、ＢＡＳＦジャパン社製
（Ａ１２４−１）１−ヒドロキシ−シクロヘキシル−フェニル−ケトン、商品名「イルガキュア１８４」、ＢＡＳＦジャパン社製
（Ａ２１−１）ｔｅｒｔ−ブチルパーオキシベンゾエート、商品名「パーブチルＺ」、日本油脂（株）製
【０２３５】
（Ｅ−１）液状ポリブタジエン、商品名「ＬＢＲ−３０７」、（株）クラレ製、Ｍｎ８，０００
（Ｅ−２）液状ポリイソプレン、商品名「ＬＩＲ−５０」、（株）クラレ製、Ｍｎ５４，０００
【０２３６】
（Ｆ−１）  ペンタエリスリチル・テトラキス［３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート］、商品名「イルガノックス１０１０」、ＢＡＳＦジャパン社製
【０２３７】
実施例１〜４３及び比較例１〜６で得られた光硬化性組成物を以下の方法を用いて評価し、その結果を表６に示した。
【０２３８】
＜光硬化性組成物の評価＞
（１）試験片の作製
０．８ｍｍ厚のアクリル板〔三菱レイヨン（株）製、「ＭＲ−２００」〕に、実施例１〜４３及び比較例１〜６で得られた光硬化性組成物を約１００μｍになるように塗布後、０．８ｍｍ厚のガラス板（３０ｍｍ×４０ｍｍ）を張り合わせ、ＵＶ照射装置［ウシオ電機（株）製、「ＵＶＣ−０２５１６Ｓ１ＡＡ０１」］を用いて光源：メタルハライドランプ、２００ｍＷ／ｃｍ２（ＵＶ−Ａ）、４０００ｍＪ／ｃｍ２（ＵＶ−Ａ）で硬化させ、硬化膜厚さ１００μｍのガラス／アクリル試験片を得た。
また同様にして、０．８ｍｍ厚のガラス板と０．７ｍｍ厚のガラス板（３０×４０ｍｍ）とを貼り合わせたガラス／ガラス試験片を得た。ガラス／ガラス試験片及びガラス／アクリル試験片による試験で、表示パネルと光学部材の接着特性を評価することができる。
【０２３９】
（２）ヒートショック試験
（１）で得たガラス／アクリル試験片とガラス／ガラス試験片を−４０℃と８５℃に、各６０分で１０００サイクル行い、試験後目視にて剥がれ及び気泡の有無を確認した。
（３）耐熱試験
（１）で得たガラス／アクリル試験片とガラス／ガラス試験片を９５℃オーブン中にて１０００時間保持し、試験後目視にて剥がれ及び気泡の有無を確認した。
（４）耐湿試験
（１）で得たガラス／アクリル試験片とガラス／ガラス試験片を６５℃／９０％の恒温恒湿中にて１０００時間保持し、試験後目視にて剥がれ及び気泡の有無を確認した。
尚、ヒートショック試験、耐熱試験及び耐湿試験の剥がれの評価基準は、下記のとおりである。
◎：剥がれなし
○：若干剥がれがあるが実用上問題なし
×：剥がれがあり
【０２４０】
実施例は、ヒートショック試験、耐熱試験とも剥がれが少なく、良好な結果を示すことがわかる。また、光学部材との密着性が良好であることから、表示パネルのガラスが割れたりする恐れがないと考えられる。
一方、ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレート（Ｄ１）を含有しない比較例１は、架橋成分もないため、硬化不十分で接着強度が不足し、ヒートショック試験、耐熱試験、耐湿熱試験で剥れが発生した。ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレートの平均官能基数が２以上の比較例２と３は、硬化樹脂の貯蔵弾性率が大きくなり、硬化時に発生する応力を緩和できず、耐熱試験において剥がれが発生した。
ポリマー骨格を有する（メタ）アクリレートのチクソトロピーインデックスが１．４よりも大きい比較例４、およびチクソトロピーインデックスが１．０よりも小さい比較例５は、塗工適性が低下し、貼り合わせ面に印刷加工がしてあると、印刷のあるところとないところの段差部分に気泡が発生した。また、活性光線によりラジカルを発生するラジカル開始剤（Ａ１）を含有しない比較例６は、活性光線を照射しても硬化不良で接着強度が不足し、ヒートショック試験、耐熱試験、耐湿熱試験で剥れ及び気泡が発生した。
【０２４１】
【表６】
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【産業上の利用可能性】
【０２４２】
本発明の接着用光硬化性組成物は、塗工適性に優れることから、表示パネルを構成する光学部材（静電容量式タッチパネルにおいて透明電極が形成してある透明基板と透明板や、化粧板とタッチパネルや、アイコンシートとタッチパネル等）の貼り合わせにおいて、気泡を含まずに貼り合わせることができる。また、本発明の接着用光硬化性組成物を用いて貼り合わされた光学部材は、接着性、耐熱性及び耐湿性に優れることから、接着面が剥がれることがないため、光学部材を有する表示パネルの製造に極めて有用である。