(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１種以上の金属元素を含む窒化物，炭化物，炭窒化物からなり、これらの中から選ばれた化学組成の異なる２種以上が積層されて基板上に形成される硬質皮膜であって、
各層の厚さが０．４μｍ以上で、皮膜全体の厚さが０．８〜５０μｍであると共に、いずれの層も実質的に岩塩型結晶構造からなり、且つ各層の結晶組織が界面で実質的にエピタキシャル成長しており、
および、表面側最外層の組成が
（ＶuＴｉ1-u）（ＮvＣ1-v）
但し０．２５≦ｕ≦０．７５，０．６≦ｖ≦１
であると共に、
表面から２番目に層の組成が、
（ＡｌｘＴｉ1-ｘ）（ＮｙＣ1-ｙ）
但し０．５６≦ｘ≦０．６５，０．６≦ｙ≦１
であることを特徴とする耐摩耗性に優れた硬質皮膜。
【請求項２】
請求項１に記載の硬質皮膜が形成されてなる硬質皮膜被覆部材。
【請求項３】
請求項１に記載の硬質皮膜が２０μｍ以下の厚さで形成されてなる切削工具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フライス加工，切削加工，穿孔加工等の加工に使用される切削工具の表面被覆材、或は金型，軸受け，ダイス，ロールなど高硬度が要求される耐摩耗部材の表面被覆材、もしくは成形機用スクリューやシリンダ等の耐熱・耐食部材の表面被覆材として有用な硬質皮膜に関し、更には該硬質皮膜を被覆することによって優れた耐摩耗性を発揮する硬質皮膜被覆部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
高速度工具や超硬合金工具など高い耐摩耗性が要求される切削工具は、工具の基材表面にＴｉＮやＴｉＣＮ等の硬質皮膜を形成することにより耐摩耗性の向上が図られている。
【０００３】
またこれらの皮膜より一層優れた特性を示す皮膜材料として、Ｔｉと、Ｔｉ以外の４ａ，５ａ，６ａ族金属元素の複合（炭）窒化物が提案されている（例えば、特開昭６０−２４８８７９号公報，特開平４−２２１０５７号公報，特開平７−１７３６０８号公報）。具体的には、（Ｔｉ，Ｍ）（Ｎ，Ｃ）［但し、ＭはＺｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ］で示される硬質皮膜であり、これらの皮膜は耐摩耗性の上では非常に優れた特性を発揮するが、ＴｉＮやＴｉＣＮに比べると密着性が不十分であり、使用中に皮膜が剥離するという問題があった。
【０００４】
そこで、例えば特開平１０−１５８８６１号公報に示されている様に、ＴｉＮを中間層に用いることにより密着性の改善が試みられているが、十分な密着性は得られていなかった。特に、切削工具に使用した場合には、密着性が不十分であることに加えて、折角、高硬度の（Ｔｉ，Ｍ）（Ｎ，Ｃ）膜をコーティングしているにもかかわらず、中間層のＴｉＮの硬度が高くないために耐摩耗性が劣化するという問題があった。即ち、上記（Ｔｉ，Ｍ）（Ｎ，Ｃ）を切削工具用の耐摩耗コーティング材料に用いた場合は、耐摩耗特性で優れた性能を発揮することで最近注目されている（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜と比較すると、Ｓ５０Ｃ等の炭素鋼に代表される低硬度材の切削においては同程度の耐摩耗特性を示すものの、ＳＫＤ６１焼入れ鋼等に代表される高硬度材の切削に至っては、上記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜に比べ耐摩耗特性が劣ることが指摘されていた。
【０００５】
また皮膜の密着性を向上させる手段として、界面での結晶組織を連続的に成長させる方法が検討されている。例えば、特開平９−１７００６７号公報では（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ系硬質膜を基材に密着性良く積層させるために、被覆する硬質層と基材の結晶組織が界面で不連続にならないよう連続的にエピタキシャル成長させることが検討されており、六方晶である炭化タングステンを主体とした超硬基材の結晶面と立方晶である（Ｔｉ，Ａｌ）ＣＮ系硬質層の結晶面が特定の方向関係を維持してエピタキシャル成長させれば高い密着性が得られることが示されている。
【０００６】
さらに特開平７−１３３１１１号公報には、２層以上の異なる硬質層を積層させる多層硬質皮膜においても、結晶構造が六方晶であるＡｌＮと立方晶であるＴｉＮの各層の厚さを２０ｎｍ以下とすることにより、両者の結晶構造が同一の立方晶構造になるようにエピタキシャル成長させることができ、層間界面の密着性が高くなると共に、格子歪に誘起された高硬度が発現することが開示されている。
【０００７】
しかしながら、特開平７−１３３１１１号公報のように六方晶のＡｌＮと立方晶のＴｉＮを同じ立方晶構造としてエピタキシャル成長させるには各層の厚さを２０ｎｍ以下にする必要があり、厚さ数μｍの硬質膜を得る為には数百層もの積層を繰り返す必要がある。このため、エピタキシャル成長により界面密着性はある程度良いものの、生産工程が非常に煩雑になるという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事情に着目してなされたものであって、２層以上の異なる硬質層が積層された硬質皮膜であって、厚さ数μｍ以上であっても、優れた耐摩耗性及び密着性を発揮する硬質皮膜と、上記硬質皮膜が形成された硬質皮膜被覆部材を提供しようとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成した本発明に係る耐摩耗性に優れた硬質皮膜とは、１種以上の金属元素を含む窒化物，炭化物，炭窒化物からなり、これらの中から選ばれた化学組成の異なる２種以上が積層されて基板上に形成される硬質皮膜であって、各層の厚さが０．４μｍ以上で、皮膜全体の厚さが０．８〜５０μｍであると共に、いずれの層も実質的に岩塩型結晶構造からなり、且つ各層の結晶組織が界面で実質的にエピタキシャル成長しており、
および、表面側最外層の組成が
（ＶuＴｉ1-u）（ＮvＣ1-v）
但し０．２５≦ｕ≦０．７５，０．６≦ｖ≦１
であると共に、
表面から２番目に層の組成が、
（ＡｌｘＴｉ1-ｘ）（ＮｙＣ1-ｙ）
但し０．５６≦ｘ≦０．６５，０．６≦ｙ≦１
であることを要旨とするものである。
【００１１】
本発明に係る上記硬質皮膜を形成すれば、優れた耐摩耗性を発揮する硬質皮膜被覆部材を得ることができる。尚、切削工具の表面に本発明に係る硬質皮膜を形成する場合には、上記硬質皮膜の厚さを２０μｍ以下とすることが推奨される。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明において採用する硬質層は、１種以上の金属元素を含む窒化物，炭化物，炭窒化物からなり、且つ岩塩型（ＮａＣｌ型）構造を有するものであり、その例としては、従来より単層として使用実績があるＴｉＮ，ＴｉＣＮ，ＡｌＴｉＮなどがあり、これらを下地とし、その上に更に岩塩型（ＮａＣｌ型）結晶からなる硬質層を積層するものであり、特開平７−１３３１１１号公報に記載の技術のように硬質層の厚さが２０ｎｍ以上になるとエピタキシャル成長界面を形成できないという制約は受けず、層間界面は実質的にエピタキシャル成長構造であるにもかかわらず、一層の厚さをμｍオーダーまで厚くすることが可能である。従って、膜全体の強度と信頼性を向上させることができる。
【００１３】
こうして、耐摩耗性，耐酸化性，耐反応性などの目的とする表面特性を獲得しつつ、基材との密着性、硬質層相互の密着性を維持することができ、しかも多層膜全体としての強度も維持することができ、これまでの多層膜で生じていた種々の問題をすべて解決することができる。
【００１４】
また、本発明に係る硬質皮膜を高速度鋼基材や超硬合金基材の上に形成する場合には、これらの基材との密着性を優先して基材側の硬質膜を選定すればよい。
【００１５】
本発明に採用できる硬質層の組成としては、ＴｉＮ，ＴｉＣＮ，ＡｌＴｉＮ，ＴｉＶＮ，ＡｌＴｉＶＮ等が挙げられるが、高速度鋼や超硬基材との密着性を確保する下地層としてはＴｉＮ，ＴｉＣＮ，ＡｌＴｉＮ等を用い、その上に積層して耐摩耗性，耐酸化性，耐反応性などの表面機能を発現する層としては、ＴｉＶＮ，ＡｌＴｉＶＮ等を用いることが推奨される。
【００１６】
中でも、表面側に積層された最外層の組成は
（ＶuＴｉ1-u）（ＮvＣ1-v）
但し０．２５≦ｕ≦０．７５，０．６≦ｖ≦１
とすることが望ましい。
【００１７】
その理由は、ｕの値が、０．２５以上０．７５以下の範囲において、（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）膜の硬度が高くなり、（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）膜を表面側に形成することによる優れた特性が発揮できるからであり、またＶを添加することによる潤滑性と耐溶着性の向上効果が十分に得られるからである。なお、ｕの値は、高い硬度を得る上で０．３０≦ｕ≦０．７０が望ましく、０．４０≦ｕ≦０．６０がより望ましい。またｖの値が０．６未満では、（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）膜の靭性が低下し、十分な密着力が得られなくなるので、０．６≦ｖ≦１であることが必要である。
【００１８】
更に、表面から第２番目の層の組成は、
（ＡｌxＴｉ1-x）（ＮyＣ1-y）
但し０．２５≦ｘ≦０．７５，０．６≦ｙ≦１
とすることが望ましい。ｘの範囲が０．２５以上０．７５以下であることが望ましい理由は、以下の通りである。ＴｉＣＮの結晶構造は、金属元素であるＴｉ原子と、非金属元素であるＣ原子またはＮ原子とが３次元的に交互に並んだ岩塩（ＮａＣｌ）型構造をとっている。このＴｉＣＮにＶを添加していくと、Ｖは岩塩型構造を組んでいるＴｉＣＮのＴｉのサイトに置換型で入ると考えられるが、ＶはＴｉよりも原子半径が小さいために、Ｖの添加量が増加すると共に（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の格子定数は小さくなる。一方、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）も岩塩型構造をとっており、Ａｌの添加量が増えると、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の格子定数は小さくなる。耐摩耗性で優れた性能を示す上記（ＶuＴｉ1-u）（Ｎ，Ｃ）の組成範囲（０．２５≦ｕ≦０．７５）における（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の格子定数と、ｘの範囲が０．２５以上０．７５以下の（ＡｌxＴｉ1-x）（Ｎ，Ｃ）の格子定数とが近い値を示すため、同じ岩塩型構造をとる（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）と（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の格子のミスマッチが小さくなり、（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）と（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）が実質的にエピタキシャル成長して優れた密着性を示すと考えられる。更にｘの範囲が０．２５以上０．７５以下では、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の硬度も最も高くなり、優れた耐摩耗性を示す。また、ｘの値が０．７５を超えると、（ＡｌxＴｉ1-x）（ＮyＣ1-y）の結晶構造が立方晶（岩塩型結晶構造）から第２層の（Ｖ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）と異なる六方晶に変化して、十分な密着力が得られなくなると共に、硬度も大幅に低下してしまう。なお、より高い密着性及び硬度を得る上で、ｘの範囲は０．４０≦ｘ≦０．７０が望ましく、０．５６≦ｘ≦０．６５であればより望ましい。
【００１９】
またｙの値は、０．６未満では、（ＡｌxＴｉ1-x）（ＮyＣ1-y）膜の靭性が低下し、十分な密着力が得られないので０．６≦ｙ≦１とすることが望ましい。
【００２０】
本発明に係る硬質皮膜の厚さは、薄過ぎると耐摩耗性が不十分となるので０．８μｍ以上とすることが必要であり、１．５μｍ以上であれば望ましい。一方厚過ぎると膜自体にクラックが入り易くなって強度が不十分となるので５０μｍ以下の厚さとすることが必要であり、３０μｍ以下であれば望ましい。尚、本発明の硬質皮膜は切削工具の表面に形成することにより非常に優れた効果を発揮するが、皮膜が厚過ぎると切れ味が低下しチッピング等が発生するので、特に高い密着性が要求される切削工具に適用する場合には、皮膜の厚さを２０μｍ以下とすることが望ましい。
【００２１】
また本発明に係る硬質皮膜の各層の厚みは、十分な耐摩耗性を発揮させる上で０．４μｍ以上であることが必要である。硬質皮膜の積層数は、２層以上であれば特に制限はないが、積層数が多くなるにしたがって生産工程数が増えコスト上昇につながるので８層以下とすることが推奨される。
【００２２】
本発明に係る硬質皮膜を形成する方法としては、アークイオンプレーティング法を採用することが推奨される。その理由は、イオン化効率を高くすることや反応性を高めること、又は基板にバイアス電圧を印加することなどによって一層密着性の優れた皮膜を得ることができるからである。またカソードとして目的とする組成比の合金ターゲットを用いれば、皮膜組成のコントロールが容易であり推奨される。
【００２３】
本発明は硬質皮膜を被覆する基材の材質を限定するものではないが、基材表面に密着性よく被覆して優れた耐摩耗性を発揮させるためには、超硬合金，高速度工具鋼，ダイス鋼，サーメットまたはセラミック等の硬質物質が適している。
【００２４】
特に切削工具に使用する場合には、本発明皮膜の優れた密着性により、低硬度材の切削においては従来例よりも優れた耐摩耗性が得られると共に、高硬度材の切削においても十分な耐摩耗性が得られ、低硬度材から高硬度材まで切削が可能な切削工具とすることができる。
【００２５】
以下、実施例について説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではなく、前・後記の趣旨に基づいて適宜変更することは本発明の技術的範囲に含まれるものである。
【００２６】
【実施例】
実施例１
超硬チップをアークイオンプレーティング装置内に置き、真空排気を行い、ヒータによって炉内雰囲気温度を約４００℃で６０分間保持した。その後、ワークに−１５０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、炉内に高純度Ｎ2ガスを０．９３Ｐａとなるまで導入し、種々の組成を有するＴｉＡｌカソードを用いてアーク放電を行い、表１に示す組成の第１層を成膜した。その後、種々の組成を有するＴｉＶカソード及びＡｌカソードを用いてアーク放電を行い、表１に示す組成の第２層を成膜した。尚、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜と（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜はいずれも岩塩型（ＮａＣｌ型）の結晶構造であり、Ａｌ，Ｔｉ，Ｖの組成を変化させることにより格子定数を制御することができる。第１層と第２層の格子定数が近くなると両層の界面がエピタキシャル成長するが、両層の格子定数の差が大きくなると第１層と第２層の界面が不連続になる。このことを利用として、各種組成の第１層と第２層を積層させることにより岩塩型結晶構造であり異なる界面構造を有する２層系硬質層を作製した。また、比較のため、Ａｌカソードにより六方晶構造であるＡｌＮを第２層として積層したサンプルも作製した。これらの皮膜の組成は、電子プローブＸ線マイクロアナリシス及びオージェ電子分光法により確認した。
【００２７】
得られた試験片の第１層と第２層の界面を透過電子顕微鏡（ＴＥＭ）により断面観察を行い、界面の結晶構造が連続（エピタキシャル成長）であるか、不連続であるかを調べた。またスクラッチ試験器を用いて、膜損傷時の発生音波（ＡＥ信号）の変化とテスト後の光学顕微鏡観察によって皮膜が剥離したときの荷重を調べ、第１層と第２層の界面構造と密着性の関係を調べた。結果は表１に併記する。尚、表１において「第１層と第２層の結晶の連続性」の欄の○×の評価は、界面の結晶構造においてエピタキシャル成長している部分が８０％以上の場合を○、エピタキシャル成長している部分が８０％未満の場合を×とした。
【００２８】
【表１】
0003872244.tif 000002
【００２９】
Ｎｏ．１〜４は、硬質膜と基材間の剥離密着性を調べた試験結果である。Ｎｏ．１〜３に示すように、超硬基材と（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜の界面の剥離臨界荷重は、膜組成に係らず全て９０Ｎ以上となっており、十分良い密着性を示している。しかし、Ｎｏ．４に示すように、超硬基材と（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜の界面の剥離荷重は２２Ｎと低く、（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ単層では実用に耐える密着性が得られず、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜を下地（第１層）とするなどの工夫が必要であることが分かる。
【００３０】
Ｎｏ．５〜２５は第１層と第２層の間の密着性を調べた試験結果である。まずＮｏ．５〜１７では、第１層と第２層の厚さを各々２μｍとし、膜組成を変化させて密着性を調べた。（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜と（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜の結晶構造は共に岩塩型構造であり、格子定数も近いので、ほとんどの組成において第１層と第２層の界面が実質的にエピタキシャル成長構造になっている。但し、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜のＡｌ量と、（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜のＶ量が多すぎるか、少なすぎる場合には、実質的にエピタキシャル成長構造となっていない。本発明例としてＮｏ．８のサンプルの第１層と第２層の界面の写真を図１に、比較例としてＮｏ．１１のサンプルの第１層と第２層の界面の写真を図２に示す。図１では、界面のほとんどの結晶が連続的につながっているが、図２では、界面の結晶構造が不連続になっている部分が多く確認できる。
【００３１】
界面構造がエピタキシャル成長の場合は剥離臨界荷重が９０Ｎ前後となっており、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜と超硬基材の界面の密着性に近い実用に耐えうる値となっている。しかし、Ｎｏ．５，１１，１２，１７の様に（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜のＡｌ量と、（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜のＶ量が多すぎるか、少なすぎる場合には、第１層と第２層の界面が不連続となっており、界面の剥離臨界荷重は３０Ｎ前後まで低くなってしまった。また、Ｎｏ．１８は第２層を岩塩型構造ではないＡｌＮ（六方晶）とした例である。この場合も第１層と第２層の界面が不連続となる為、剥離臨界荷重は３２Ｎと低くなっている。
【００３２】
以上の様に、（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜の下地として（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜を用いると超硬基材との密着性を確保することができ、しかも第１層と第２層の界面を実質的にエピタキシャル成長させることにより、硬質層間界面も優れた密着性を得ることができ、全体として実用に耐え得る密着性が得られることが分かる。
【００３３】
Ｎｏ．１９〜２５は第１層と第２層の厚さを変えた場合の試験結果である。いずれの界面も実質的にエピタキシャル成長している。しかし、膜厚の合計が２０μｍを超える付近から両層の剥離臨界荷重が低下し始め、膜厚の合計が５０μｍを超えると両層の剥離臨界荷重が極端に低下することが分かる。
【００３４】
実施例２
実施例１に示した各硬質膜の耐摩耗性の評価を目的として、ボールオンディスク試験を実施した。ボールとしては、鏡面仕上げをした直径１０ｍｍの超硬球の表面に実施例１と同様の方法により表２に示す組成及び層を有する皮膜を形成した超硬球を用い、Ｓ５５Ｃ製のディスクに対し、荷重１０Ｎ、摺動速度１ｍ／sec、温度５００℃、摺動距離５００ｍの条件で摺動試験を行い、摩耗量と摩擦係数を測定した。なお摩耗量は超硬球に生じた摺動痕の幅をとった。結果は表２に示す。
【００３５】
【表２】
0003872244.tif 000003
【００３６】
Ｎｏ．１〜４は、単層の硬質膜の耐摩耗性を調べた試験結果である。Ｎｏ．１〜３に示すように、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ系膜が単層の場合は、ボールの摩耗量が０．６ｍｍ前後で、摩擦係数が０．５前後となっている。また（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系膜が単層であるＮｏ．４の場合には、実施例１でも示したように超硬基材との密着性が不足しており、摩耗試験においても膜が剥離してしまい、摩耗量及び摩擦係数の測定はできなかった。
【００３７】
Ｎｏ．５〜１７は第１層と第２層の膜厚を各々２μｍずつとし、両層の組成を変化させたときの影響を調べた試験結果である。Ｎｏ．５，１１，１２，１７の様に、ＡｌとＴｉの組成比及びＶとＴｉの組成比が本発明に係る範囲から外れている場合は、第１層と第２層の界面が不連続なので、摩耗試験時に両層の界面が剥離して膜損傷が発生し、表面凹凸により摩擦係数が０．８前後まで上昇する。これに対して、ＡｌとＴｉの組成比及びＶとＴｉの組成比が本発明に係る範囲の場合（Ｎｏ．６〜１０、Ｎｏ．１３〜１６）は両層の界面が実質的にエピタキシャル構造となって密着性が向上するため、摩耗試験時に両層の界面が剥離することなく、実用的な耐久性が得られた。また、摩耗量は０．２ｍｍ前後で、摩擦係数は０．２〜０．３程度であって、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎ単層よりも小さな値となっており、最表面が（Ｖ，Ｔｉ）Ｎ系になることにより優れた耐摩耗特性が得られることが分かる。
【００３８】
Ｎｏ．１８の様に、第２層が六方晶のＡｌＮである場合も、摩耗試験時に両層の界面剥離により膜損傷が発生し、摩擦係数が０．８程度まで高くなった。
【００３９】
Ｎｏ．１９〜２５は、第１層と第２層のＡｌとＴｉの組成比、ＶとＴｉの組成比を各々５０原子％とし、各層の膜厚を変化させたときの影響を調べたものである。Ｎｏ．１９のように全体の膜厚が０．４μｍと薄い場合は、摩耗量が０．８ｍｍ程度まで大きくなっているが、Ｎｏ．２０の様に全体の膜厚が０．８μｍになると摩耗量が０．２５ｍｍと小さくなっており、Ｎｏ．６〜１０及びＮｏ．２１〜２３などの様に、全体の膜厚が４μｍ以上になると摩耗量が０．２０前後まで小さくなる。このことから、本発明においては皮膜全体の膜厚を０．８μｍ以上に設定した。但し、Ｎｏ．２５のように全体の膜厚が５０μｍを超えると膜中の残留応力が増大して膜が剥離するため、摩耗量及び摩擦係数の測定は不可能であった。従って、皮膜全体厚さの上限は５０μｍに設定した。
【００４０】
実施例３
超硬合金製ボールエンドミル（径５Ｒ）に対し、実施例１と同様の方法により表３に組成及び膜厚を示す硬質皮膜を形成し、切削試験を行った。切削試験に用いた被削材はＳ５５Ｃであり、切削速度は９８ｍ／ｍｉｎ、送りは１刃あたり０．０５ｍｍ、切り込み量はピックフィード０．５ｍｍ、軸方向切り込みは４．０ｍｍで、エアブローしながらダウンカットにて切削を行い、切削長５０ｍを加工した後の先端部と境界部の摩耗量を測定した。結果は表３に示す。
【００４１】
【表３】
0003872244.tif 000004
【００４２】
Ｎｏ．１〜４とＮｏ．１８は従来例であり、Ｎｏ．５，１１，１２，１７，１９，２５は比較例、Ｎｏ．６〜１０，Ｎｏ．１３〜１６，Ｎｏ．２０〜２４は本発明例である。本発明例は、先端部と境界部のいずれにおいても比較例及び従来例と比べて摩耗量が非常に小さく、優れた耐摩耗性を発揮することが分かる。
【００４３】
【発明の効果】
本発明は以上の様に構成されているので、２層以上の異なる硬質層が積層された硬質皮膜であって、厚さ数μｍ以上であっても、優れた耐摩耗性及び密着性を発揮する硬質皮膜と、上記硬質皮膜が形成された硬質皮膜被覆部材が提供できることとなった。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明例（実施例１のＮｏ．８）の層界面を透過型電子顕微鏡で撮像した写真の複写である。
【図２】比較例（実施例１のＮｏ．１１）の層界面を透過型電子顕微鏡で撮像した写真の複写である。
【図１】
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【図２】
0003872244.tif 000006