(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式Ｑ+ Ａ- （式中、Ｑ+ は第４アンモニウム及び／または第４ホスホニウムであり、Ａ- はアニオンである）の少なくとも一つの第４アンモニウム塩及び／または第４ホスホニウム塩を含む、温度１５０℃以下で液状イオン特性を有する非水性溶媒を含む触媒組成物であって、さらに前記組成物は、８、９及び１０族の少なくとも一つの遷移金属の少なくとも一つの化合物を含み、上記アニオンは、テトラフルオロホウ素酸アニオン、テトラクロロホウ素酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ素酸アニオン、ジクロロ銅酸アニオン、テトラクロロアルミニウム酸アニオン、トリフルオロメチルスルホン酸アニオン、フルオロスルホン酸アニオン及びトリクロロ亜鉛酸アニオンからなる群から選ばれ、少なくとも一つのアニオンは、ヘプタクロロアルミニウム酸アニオン、デカクロロアルミニウム酸アニオン、トリクロロ銅酸アニオン及びテトラクロロ銅酸アニオンからなる群から選ばれる、不飽和化合物の炭素原子間の二重または三重結合の水素化用の触媒組成物。
【請求項２】
遷移金属は、ルテニウム、ロジウム、イリジウム、コバルト、白金及びパラジウムからなる群から選ばれる、請求項１による触媒組成物。
【請求項３】
遷移金属はニッケルであり、アニオンは、テトラフルオロホウ素酸アニオン、テトラクロロホウ素酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ素酸アニオン、ジクロロ銅酸アニオン、トリフルオロメチルスルホン酸アニオン、フルオロスルホン酸アニオン、トリクロロ亜鉛酸アニオン、トリクロロ銅酸アニオン及びテトラクロロ銅酸アニオンからなる群から選ばれる、請求項１による触媒組成物。
【請求項４】
第４アンモニウムカチオン及び／または第４ホスホニウムカチオンは、下記一般式：
Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｎ+
Ｒ1 Ｒ2 Ｎ＝ＣＲ3 Ｒ4 +
Ｒ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 Ｐ+
Ｒ1 Ｒ2 Ｐ＝ＣＲ3  Ｒ4 +
【化１】
0003906368.tif 000003
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、同一または異なって、ＮＨ４+ を除いて水素、炭素原子数１〜１２を有する炭化水素残基であり、環は原子数４〜１０から構成される）のカチオンからなる群から選ばれる、請求項１〜３のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項５】
第４アンモニウムカチオン及び／または第４ホスホニウムカチオンは、下記一般式：
Ｒ1 Ｒ2 + Ｎ＝ＣＲ3 - Ｒ5 - Ｒ3 Ｃ＝Ｎ+ Ｒ1 Ｒ2
Ｒ1 Ｒ2 + Ｐ＝ＣＲ3 - Ｒ5 - Ｒ3 Ｃ＝Ｐ+ Ｒ1 Ｒ2
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、同一または異なって、水素または炭素原子数１〜１２を有する炭化水素残基であり、Ｒ5 はアルキレンまたはフェニレン残基である）を有する、請求項１〜４のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項６】
第４アンモニウムカチオン及び／または第４ホスホニウムカチオンは、N-ブチルピリジニウム、N-エチルピリジニウム、3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、ジエチルピラゾリウム、3-エチル- 1-メチルイミダゾリウム、ピリジニウム、トリメチルフェニルアンモニウム及びテトラブチルホスホニウムからなる群から選ばれる、請求項１〜５のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項７】
第４アンモニウム塩及び／または第４ホスホニウム塩は、ヘキサフルオロリン酸N-ブチルピリジニウム、テトラフルオロホウ素酸N-エチルピリジニウム、テトラフルオロホウ素酸テトラブチルホスホニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、ヘキサフルオロリン酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、トリフルオロメチルスルホン酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、フルオロスルホン酸ピリジニウム、ヘキサフルオロリン酸トリメチルフェニルアンモニウム、テトラクロロアルミニウム酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、ヘプタクロロアルミニウム酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、塩化トリメチルフェニルアンモニウム、塩化3-エチル- 1-メチルイミダゾリウム、臭化テトラブチルホスホニウム、塩化N-ブチルピリジニウム、臭化N-エチルピリジニウム、塩化3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、塩化ジエチルピラゾリウム及び塩酸ピリジニウムからなる群から選ばれる、請求項１〜６のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項８】
遷移金属化合物は遷移金属錯体である、請求項１〜７のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項９】
錯体中の遷移金属はイオン性または中性配位子と結合している、請求項１、２または８のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項１０】
８、９及び１０族の金属化合物は塩化物、臭化物またはヨウ化物である、請求項１または２による触媒組成物。
【請求項１１】
８及び９族の金属錯体は、ＲｕＨ4 （ＰＰｈ3 ）2 、
ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）2 ］+ [ ＰＦ6 ］- 、
ＩｒＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 、
ＨＲｈ（ＣＯ）（ＰＰｈ3 ）3 、
（Ｃ5 Ｈ5 ）ＲｈＣｌ2 、ＩｒＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ3 ）2 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）（Ｐｈ2 ＰＣＨ2 ＣＯＰｈ）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ビスジフェニルホスフィノエタン）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ビスジフェニルアルシノエタン(bisdiphenylarsinoethane) ）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｕ（ノルボルナジエン）（Ｃ5 Ｍｅ5 ）］+ ［ＢＦ4 ］- 、
［（Ｃ6 Ｍｅ6 ）ＲｕＣｌ2 ］2 、
［（Ｃ6 Ｈ6 ）ＲｕＣｌ3 Ｒｕ（Ｃ6 Ｈ6 ）］+ ＰＦ6 - からなる群から選ばれる、請求項８または９による触媒組成物。
【請求項１２】
アンモニウム塩及び／またはホスホニウム塩に対する、８〜１０族の遷移金属錯体の濃度は、１リットル当り１〜５００ミリモルである、請求項１〜１１のいずれか１項による触媒組成物。
【請求項１３】
請求項１〜１２のいずれか１項による触媒組成物によって含浸された、有機または無機細孔質担体をベースとする触媒。
【請求項１４】
請求項１〜１２の少なくとも１項による触媒組成物の存在下での不飽和化合物の炭素原子間の二重または三重結合の水素化方法。
【請求項１５】
触媒組成物は有機または無機細孔質担体上に含浸されていた、請求項１４による方法。
【請求項１６】
不飽和化合物はモノオレフィンである、請求項１４または１５による方法。
【請求項１７】
不飽和化合物はジオレフィンまたはアセチレン系化合物である、請求項１４または１５による方法。
【請求項１８】
ジオレフィンまたはアセチレン系化合物は選択的に水素化されてモノオレフィンになる、請求項１７による方法。
【請求項１９】
不飽和化合物は多核芳香族化合物である、請求項１４または１５による方法。
【請求項２０】
多核芳香族化合物はアントラセンである、請求項１９による方法。
【請求項２１】
水素化は異性化に伴われる、請求項１４または１５による方法。
【請求項２２】
炭化水素相は極性相から分離され、触媒の少なくとも一部を含む前記極性相は、少なくとも一部が水素化反応器に再循環される、請求項１４〜２１のいずれか１項による方法。
【請求項２３】
圧力０．１ＭＰａ〜２０ＭＰａ、温度−１０〜２００℃で操作を行なう、請求項１４〜２２のいずれか１項による方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明の対象は、新規触媒組成物並びに不飽和化合物の水素化及び異性化へのその使用であり、前記組成物は、後で“溶融塩”と称する、反応温度での液状有機−無機塩と８、９及び１０族の遷移金属の錯体との相互作用により生じる。
【０００２】
【従来技術及び解決すべき課題】
不飽和化合物の水素化に触媒作用を及ぼし得る、８及び９族の遷移金属の錯体であり、共存する有機溶媒中、すなわち反応体中及び水素化から生じた生成物中において可溶性である錯体の非常に多数が知られている。これらの触媒は、米国、Mill Valley 、University Science Booksの、J.P.Collman による“Principle and Applications of Organotransition Metal Chemistry”中の論文の対象になっていた。
【０００３】
米国特許US3 565 823 には、スズまたはゲルマニウム塩及び第４アンモニウムまたは第４ホスホニウム塩中の、特に遷移金属の化合物で構成される分散体からなる組成物が記載されていた。米国特許US3 657 368 には、オレフィンの水素化方法が記載され、米国特許US3 919 271 には、ニトリルの水素化方法が記載されており、これらの二つの方法のいずれにも先行組成物が使用されていた。米国特許US3 832 391 には、同じ組成物によるオレフィンのカルボニル化方法が特許請求されていた。
【０００４】
前述の組成物は、比較的高い融点を有する不都合を示し、この場合、水素化反応は、例えば１５０℃で行なわれる。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
今や、８及び９族の遷移金属の錯体、特に、低温で液状有機−無機塩に結合される、ルテニウム、ロジウム及びイリジウム錯体が不飽和化合物の水素化を可能にすることが見出された。
本発明は、一般式Ｑ+ Ａ- （式中、Ｑ+ は第４アンモニウム及び／または第４ホスホニウムであり、Ａ- はアニオンである）の少なくとも一つの第４アンモニウム塩及び／または第４ホスホニウム塩を含む、温度１５０℃以下で液状イオン特性を有する非水性溶媒を含む触媒組成物であって、さらに前記組成物は、８、９及び１０族の少なくとも一つの遷移金属の少なくとも一つの化合物を含み、上記アニオンは、テトラフルオロホウ素酸アニオン、テトラクロロホウ素酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ素酸アニオン、ジクロロ銅酸アニオン、テトラクロロアルミニウム酸アニオン、トリフルオロメチルスルホン酸アニオン、フルオロスルホン酸アニオン及びトリクロロ亜鉛酸アニオンからなる群から選ばれ、少なくとも一つのアニオンは、ヘプタクロロアルミニウム酸アニオン、デカクロロアルミニウム酸アニオン、トリクロロ銅酸アニオン及びテトラクロロ銅酸アニオンからなる群から選ばれる、不飽和化合物の炭素原子間の二重または三重結合の水素化用の触媒組成物である。
本発明の対象は、特に、ルテニウム、ロジウム及びイリジウム錯体である、８及び９族の遷移金属の少なくとも一つの化合物と、少なくとも一つの第４アンモニウム塩及び／または第４ホスホニウム塩とを含む触媒組成物であり、前記組成物は、“溶融塩”中での遷移金属化合物の少なくとも一部の溶解により生じる。
【０００６】
本発明の別の対象は、不飽和化合物の炭素間の二重または三重結合の水素化方法であり、一つまたは複数の不飽和化合物が８及び９族の遷移金属、特にルテニウム、ロジウム及びイリジウムの錯体との接触に付され、前記化合物が“溶融塩”中で少なくとも一部溶解される方法である。前記“溶融塩”媒質は、有機カチオン及び無機アニオンで構成される。水素化から生じた生成物は、触媒組成物中ではほとんど可溶性ではないか、あるいは非溶性である。
【０００７】
本発明による“溶融塩”は、イオン特性を有する、非水性であり、一般式Ｑ+ Ａ- （式中、Ｑ+ は第４アンモニウム及び／または第４ホスホニウムであり、Ａ- は低温、すなわち、１５０℃以下、有利には高くとも８０℃、好ましくは５０℃以下で、イオン、テトラフルオロホウ素酸アニオン、テトラクロロホウ素酸アニオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロアンチモン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ素酸アニオン、トリフルオロメチルスルホン酸アニオン、フルオロスルホン酸アニオン、テトラクロロアルミニウム酸アニオン、ジクロロ銅酸アニオン、トリクロロ亜鉛酸アニオンのような、液状塩を形成し得る公知のあらゆるアニオンである）を有する。さらに、トリクロロ銅酸アニオン、テトラクロロ銅酸アニオン、ヘプタクロロアルミニウム酸アニオン、デカクロロアルミニウム酸アニオンからなる群から選ばれるアニオンが使用されてもよい。特別な触媒組成物（Ｎｉ）は、アルミニウム酸アニオンを含まない。ハライドアニオン及びヒドロキシアニオンは本発明から除外される。第４アンモニウム及び／または第４ホスホニウムは、好ましくは一般式ＮＲ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 + 及びＰＲ1 Ｒ2 Ｒ3 Ｒ4 + 、あるいは一般式Ｒ1 Ｒ2 Ｎ＝ＣＲ3 Ｒ4 + 及びＲ1 Ｒ2 Ｐ＝ＣＲ3 Ｒ4 + （式中、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 は、同一または異なって、ＮＨ4 + カチオンを除いて水素であり、好ましくは１つの置換基が水素であり、あるいは炭素原子数１〜１２を有する炭化水素残基、例えば炭素原子数１〜１２を有する、飽和または不飽和アルキル基、シクロアルキルまたは芳香族基、アリールまたはアラルキル基である）に一致する。さらにアンモニウム及び／またはホスホニウムは、下記一般式：
【０００８】
【化２】
0003906368.tif 000002
【０００９】
（式中、環は原子数４〜１０、好ましくは原子数５〜６であり、Ｒ1 及びＲ2 は前述のように定義される）を有する、窒素及び／またはリンの原子数１、２または３を有する窒素含有またはリン含有複素環に由来する。
【００１０】
さらに第４アンモニウムまたは第４ホスホニウムは、下記式：
Ｒ1 Ｒ2 + Ｎ＝ＣＲ3 - Ｒ5 - Ｒ3 Ｃ＝Ｎ+ Ｒ1 Ｒ2 
Ｒ1 Ｒ2 + Ｐ＝ＣＲ3 - Ｒ5 - Ｒ3 Ｃ＝Ｐ+ Ｒ1 Ｒ2 
（式中、Ｒ1 、Ｒ2 及びＲ3 は、同一または異なって、前述のように定義され、Ｒ5 はアルキレンまたはフェニレン残基である）のカチオンである。Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 及びＲ4 基として、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、アミル、メチレン、エチリデン、フェニルまたはベンジル基が挙げられる。Ｒ5 はメチレン、エチレン、プロピレンまたはフェニレン基である。アンモニウム及び／またはホスホニウムカチオンは、好ましくはN-ブチルピリジニウム、N-エチルピリジニウム、3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、ジエチルピラゾリウム、3-エチル- 1-メチルイミダゾリウム、ピリジニウム、トリメチルフェニルアンモニウム及びテトラブチルホスホニウムからなる群から選ばれる。本発明によって使用可能な塩の例として、ヘキサフルオロリン酸N-ブチルピリジニウム、テトラフルオロホウ素酸N-エチルピリジニウム、テトラフルオロホウ素酸テトラブチルホスホニウム、ヘキサフルオロアンチモン酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、ヘキサフルオロリン酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、トリフルオロメチルスルホン酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、フルオロスルホン酸ピリジニウム、ヘキサフルオロリン酸トリメチルフェニルアンモニウム、テトラクロロアルミニウム酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、ヘプタクロロアルミニウム酸3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、塩化トリメチルフェニルアンモニウム、塩化3-エチル- 1-メチルイミダゾリウム、臭化テトラブチルホスホニウム、塩化N-ブチルピリジニウム、臭化N-エチルピリジニウム、塩化3-ブチル- 1-メチルイミダゾリウム、塩化ジエチルピラゾリウム及び塩酸ピリジニウムが挙げられる。これらの塩は、単独または混合物状で使用されてよい。該塩は溶媒作用を有する。従って、触媒組成物の溶媒は、大半は前記塩を含む。他の溶媒が存在する場合には、それらの本質的な作用は、遷移金属の化合物が塩と混合される前に、該遷移金属の化合物を溶液状に付すことを可能にする。
【００１１】
本発明による使用可能な遷移金属の化合物は、一般には当業者に周知である、全ての遷移金属錯体である。これらは、ゼロ価、一価、二価または三価の化合物であり、該化合物中で、Ｆｅ、Ｒｕ、Ｏｓ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｎｉ、Ｐｄ及びＰｔからなる群、有利には、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｏ、Ｐｔ及びＰｄ、好ましくはＲｕ、Ｒｈ及びＩｒからなる群から選ばれた金属は、例えばハライドイオン、ヘキサフルオロリン酸アニオン、ヘキサフルオロヒ素酸アニオン、テトラフルオロホウ素酸アニオン、テトラクロロホウ素酸アニオン等、ハイドライド、及び例えばシクロペンタジエニル及び置換シクロペンタジエニル、アセチルアセトネート及び置換アセチルアセトネートのような炭化水素配位子と結合されるか、あるいはさらに例えば第三ホスフィン、ジ第三ジホスフィン、ホスファイト、オレフィン、酸化炭素及びニトリルのような中性配位子と結合される。本発明によるこれらの錯体は、中性またはイオン性単核または多核である。該錯体は不斉配位子を含みうる。本発明による使用可能な錯体として、例として、ＲｕＨ4 （ＰＰｈ3 ）2 、
ＲｈＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）2 ］+ [ ＰＦ6 ］- 、
ＩｒＣｌ（ＰＰｈ3 ）3 、
ＨＲｈ（ＣＯ）（ＰＰｈ3 ）3 、
（Ｃ5 Ｈ5 ）ＲｈＣｌ2 、
Ｒｈ（Ｃ5 Ｍｅ5 ）Ｃｌ2 （Ｐｈ2 ＰＣＨ2 ＣＯＰｈ）、
ＩｒＣｌ（ＣＯ）（ＰＰｈ3 ）2 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）（Ｐｈ2 ＰＣＨ2 ＣＯＰｈ）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ビスジフェニルホスフィノエタン）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ビスジフェニルアルシノエタン）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＤＩＯＰ）］+ ［ＰＦ6 ］- 、
［Ｒｕ（ノルボルナジエン）（Ｃ5 Ｍｅ5 ）］+ ［ＢＦ4 ］- 、
［（Ｃ6 Ｍｅ6 ）ＲｕＣｌ2 ］2 、
［（Ｃ6 Ｈ6 ）ＲｕＣｌ3 Ｒｕ（Ｃ6 Ｈ6 ）］ＰＦ6 、
［ＲｈＣｌ（シクロオクテン）2 ］が挙げられる。
【００１２】
これらの錯体は、反応媒質の現場外で調製されて、反応の際に該反応媒質中に導入されてよい。さらに該錯体は、それらの形成に必要な成分を導入することによって、反応媒質中で現場で（in situ ）形成されてもよい。遷移金属の他の化合物は、例えば無機塩、酸化物、水酸化物、有機塩のように使用可能である。
【００１３】
一般には、触媒組成物は、芳香族炭化水素または炭化水素化合物のような有機溶媒を含んでよいが、該有機溶媒は、溶融塩の量よりも少ない量である。触媒組成物は水を含まない。
【００１４】
“溶融塩”中の遷移金属錯体の化合物の濃度は、有利には“溶融塩”１リットル当り錯体１ミリモル〜１リットル当り５００ミリモル、好ましくは１リットル当り２〜２００ミリモル、さらには２〜１００ミリモル、その上には２〜５０ミリモルである。
【００１５】
本発明による組成物中に入る化合物は、任意の順序で温度−２０℃以上で、一般には−２０℃〜高くとも１５０℃、好ましくは−２０℃〜１４０℃、有利には０℃〜１２０℃、その上には０〜８０℃あるいは０〜５０℃で混合されてよい。
本発明の別の対象は、前述の触媒組成物で含浸された担体をベースとする触媒である。
【００１６】
担体は、一般には比表面積０．０１〜１５００ｍ2 ／ｇ、好ましくは０．０１〜１５０ｍ2 ／ｇ、あるいはより良くは０．０１〜５０ｍ2 ／ｇである。その総細孔容積は、一般には０．００５〜１．５ｃｍ3 ／ｇ、好ましくは０．００５〜１ｃｍ3 ／ｇ、あるいはより良くは０．００５〜０．８ｃｍ3 ／ｇである。
【００１７】
該担体は、有機または無機担体、例えば巨大網状樹脂、過フッ素化樹脂、木炭、ＳｉＯ2 、ＺｒＯ2 、ＴｉＯ2 、ＳｎＯ2 、Ａｌ2 Ｏ3 、Ｆｅ2 Ｏ3 もしくはＨｆＯ2 酸化物、あるいはこれらの酸化物のあらゆる組合わせから選ばれる。
【００１８】
触媒の調製方法は、好ましい温度２００〜６００℃での担体の少なくとも一つの焼成工程と、その後に続く、当業者に周知のあらゆる方法に従った触媒溶液による含浸工程とを備える。
【００１９】
さらに本発明は、先に定義された触媒組成物または触媒を用いる、不飽和化合物の水素化方法も対象とする。
【００２０】
本発明によって水素化され得る不飽和化合物は、単純オレフィン、ジオレフィン、特に結合されたジオレフィン、アセチレン化合物及び特に多核である芳香族炭化水素である。該化合物は、特に不飽和である、一つまたは複数のヘテロ原子、例えばケトンあるいはカルボキシル官能基を含み得る。例として、ブテンからブタンへの、ペンテンからペンタンへの、1,3-ブタジエンからブテンへの、ビニルアセチレンからブタジエンへの、イソプレンから2-メチルブテンへの、1,5-シクロオクタジエンからシクロオクテンへの、1,5,9-シクロドデカトリエンからシクロドデセンへの、アントラセンからテトラヒドロアントラセンへの水素化が挙げられる。水素化は、例えばジオレフィンからモノオレフィンへの全体的または選択的であってよい。水素化は、例えば1-ブテンから2-ブテンへの、1-ペンテンから2-ペンテンへの異性化を伴い得る。
【００２１】
水素化方法では、不飽和化合物は、純粋であるいは炭化水素の種々の精製方法から生じた“留分”中に見出だされるものである飽和または不飽和炭化水素、例えばブタン及び／またはブタジエンを伴うブテンによって希釈されて使用され得る。
【００２２】
水素化が行なわれる温度は、−１０〜２００℃であり、有利には温度は１５０℃以下、好ましくは＋１０〜１５０℃以下である。水素の全圧または分圧は、常圧または常圧より低い圧力〜２０ＭＰａ、好ましくは常圧〜１０ＭＰａである。
【００２３】
不飽和化合物の水素化触媒反応は、閉鎖装置で、半開装置で、あるいは反応の一つまたは複数の段階を伴って連続して実施されてよい。反応器の出口において、反応生成物を含む有機相は、有利には簡単なデカンテーションによって、“溶融塩”と触媒の大部分とを含む触媒極性相から分離される。触媒の少なくとも一部を含む極性相は、少なくとも一部、反応器に返送されて、他の部分は触媒残渣を除去するために処理される。
【００２４】
有利には、本方法が適用される不飽和化合物は、例えばブテン、ペンテン、ブタジエン、イソプレン、ピペリレン及び1,5-シクロオクタジエンである。
【００２５】
【実施例】
次の実施例は、本発明を例証するが、その範囲を限定するものではない。
【００２６】
［実施例１］
空気及び湿気をパージし、かつ水素の常圧下に配置した、二重ジャケットを有する５０ｍｌ容量のガラス製反応器内に、ヘキサフルオロリン酸ブチルメチルイミダゾリウム４ｍｌと、アセトン２ｍｌ及び1-ペンテン２ｍｌ中に溶融した［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）2 ］+ ＰＦ6 - 錯体の４３．２ｍｇ（０．０５ミリモル）とを導入した。二液相の存在を認めた。澄明な下部相は褐色に着色され、炭化水素相は無色であった。水素の圧力を０．１ＭＰａに、温度を３０℃に維持して、攪拌を開始した。２時間後、攪拌を停止し、混合物を放置してデカンテーションで分離した。残存する炭化水素相を抜き取った。1-ペンテンの転換率は９９％以上であった。ペンタンは生成物の３５％であり、2-ペンテンは６５％であった。1-ペンテンの新規仕込原料を導入した。反応の２時間後、1-ペンテンの転換率は９９％以上であった。ロジウムの同じ錯体を含む同じ塩を使用して、反応を３回繰り返し、ロジウムの見かけの損失を伴わないで同じ結果を得た。
【００２７】
［実施例２］
ロジウムの錯体を含む先行実施例の塩を再び用いて、減圧下に戻して揮発性有機化合物を除去した。水素雰囲気下に、1-ペンテン２ｍｌを導入し、次いで同実施例の条件下に操作を行なった。同じ結果を得て、試験を３回繰り返すことができた。
【００２８】
［実施例３］
アセトンを導入しなかった点を別にすれば、実施例１でのように操作を行なった。極性相は褐色に着色され、炭化水素相は無色であった。転換率は９５％であった。ペンタンは生成物の５６％であった。試験を３回繰り返して、同じ結果を得た。
【００２９】
［実施例４］
ロジウムの錯体を含む先行実施例の塩を再び用いて、減圧下に戻して該塩から揮発性有機化合物を除去した。水素雰囲気下に、ヘプタン５ｍｌ及び1-ペンテン２ｍｌを導入し、次いで同実施例の条件下に操作を行なった。有機相は無色であった。転換率は９９％以上であった。ペンタンは生成物の６２％であった。
【００３０】
［実施例５］
ロジウムの錯体を含む先行実施例の塩を再び用いて、減圧下に戻して該塩から揮発性有機化合物を除去した。水素雰囲気下に、1,3-シクロヘキサジエン１８．４ミリモルを導入した。実施例１の条件下で、シクロヘキサジエンの転換率は９２．３％であった。シクロヘキセンは生成物の９０％であった。
【００３１】
［実施例６］
ヘキサフルオロリン酸ブチルメチルイミダゾリウム４ｍｌをヘキサフルオロアンチモン酸ブチルメチルイミダゾリウム４ｍｌに代えた点を別にすれば、実施例３でのように操作を行なった。極性相は赤褐色に着色され、有機相は無色であった。転換率は９６％であった。ペンタンは生成物の８３％であり、2-ペンテンは１７％であった。同じ“溶融塩”及び同じロジウム錯体を用いて、試験を３回繰り返して、同じ結果を得た。
【００３２】
［実施例７］
［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）2 ］+ ＰＦ6 - 錯体を［（ノルボルナジエン）Ｒｈ（Ｐｈ2 ＰＣＨ2 ＣＯＰｈ）（ＰＰｈ3 ）］+ ［ＰＦ6 ］- 錯体０．０５ミリモルに代えた点を別にすれば、実施例１でのように操作を行なった。下部相はオレンジ色に着色され、炭化水素相は無色であった。２時間の攪拌後、媒質をデカンテーションで分離して、炭化水素相を抜き取った。1-ペンテンの転換率は９８％であった。減圧下に戻して、揮発性有機化合物を除去した後、次いで別の機会に、ヘプタン５ｍｌを導入して操作を繰り返した。結果は当初試験の結果と同一であった。
【００３３】
［実施例８］
空気及び湿気をパージし、かつ水素の常圧下に配置した、二重ジャケットを有する５０ｍｌ容量のガラス製反応器内に、ヘキサフルオロアンチモン酸ブチルメチルイミダゾリウム４ｍｌ、［（ノルボルナジエン）Ｒｈ（Ｐｈ2 ＰＣＨ2 ＣＯＰｈ）（ＰＰｈ3 ）］+ ［ＰＦ6 ］- 錯体０．０５ミリモル及び1-ペンテン２ｍｌを導入した。二液相の存在を認めた。澄明な下部相は褐色に着色され、炭化水素相は無色であった。圧力を０．１ＭＰａに、温度を３０℃に維持して、攪拌を開始した。２時間後、攪拌を停止し、混合物を放置してデカンテーションで分離した。残存する炭化水素相を抜き取った。1-ペンテンの転換率は８１％であった。ペンタンは生成物の２７％であり、2-ペンテンは７３％であった。ロジウムの同じ錯体を含む同じ塩を使用して、反応を２回繰り返し、ロジウムの見かけの損失を伴わないで同じ結果を得た。
【００３４】
［実施例９］
空気及び湿気をパージし、かつ水素の常圧下に配置した５０ｍｌ容量のガラス製耐圧反応器内に、実施例５で使用しており、かつロジウムの錯体を含む塩４ｍｌを導入し、減圧に戻して、該塩から揮発性有機化合物を除去した。水素雰囲気下に、ベンゼン５ｍｌ中に溶解したアントラセン８１．５ｍｇを導入した。二液相の存在を認めた。澄明な下部相はオレンジ−褐色に着色され、炭化水素相は無色であった。水素の圧力を０．５ＭＰａに、温度を６０℃に維持して、攪拌を開始した。１５時間後、攪拌を停止し、混合物を放置してデカンテーションで分離した。残存する炭化水素相を抜き取った。アントラセンの転換率は７４％であった。テトラヒドロアントラセンで７０％を構成し、ジヒドロアントラセンで残部を構成した。
【００３５】
［実施例１０］
空気及び湿気をパージし、かつ水素の常圧下に配置した５０ｍｌ容量のガラス製耐圧反応器内に、ヘキサフルオロアンチモン酸ブチルメチルイミダゾリウム４ｍｌ及び［Ｒｈ（ノルボルナジエン）（ＰＰｈ3 ）2 ］+ ＰＦ6 - 錯体０．０５ミリモルの混合物を導入した。該混合物は予め1-ペンテンの水素化に使用していたものであり、該混合物から、減圧下に戻して、揮発性有機化合物を除去していた。水素雰囲気下に、ベンゼン５ｍｌ中に溶融したアントラセン８１．５ｍｇを導入した。二液相の存在を認めた。澄明な下部相はオレンジ−褐色に着色され、炭化水素相は無色であった。水素の圧力を０．５ＭＰａに、温度を６０℃に維持して、攪拌を開始した。２１時間後、攪拌を停止し、混合物を放置してデカンテーションで分離した。残存する炭化水素相を抜き取った。アントラセンの転換率は５４％であった。テトラヒドロアントラセンで８８％を構成し、ジヒドロアントラセンで残部を構成した。