(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成方法において、
前記基板の表面に展延した樹脂の一部を硬化させることにより、樹脂の展延を調整する調整部を形成し、
前記基板における前記調整部よりも内側若しくは前記調整部上に、樹脂を塗布し、
前記基板を回転させることを特徴とする樹脂層形成方法。
【請求項２】
前記調整部は、前記基板の表面に形成された段差部若しくは硬化部であることを特徴とする請求項１記載の樹脂層形成方法。
【請求項３】
基板の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成方法において、
前記基板の表面に樹脂を塗布し、
前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の樹脂層を形成し、
前記第一の樹脂層の一部を硬化させることにより、前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、
前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、樹脂を塗布し、
前記基板を回転させることにより、前記第一の樹脂層の上に第二の樹脂層を形成することを特徴とする樹脂層形成方法。
【請求項４】
前記樹脂は紫外線硬化樹脂であり、
前記硬化部は、前記基板の一部に、紫外線を照射することにより形成することを特徴とする請求項３記載の樹脂層形成方法。
【請求項５】
可動式紫外線照射部を用いて、前記基板の複数箇所に紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする請求項４記載の樹脂層形成方法。
【請求項６】
複数の紫外線照射部を用いて、紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする請求項４記載の樹脂層形成方法。
【請求項７】
照射範囲が可変の紫外線照射部を用いて、前記基板に紫外線を照射することにより、前記硬化部を形成することを特徴とする請求項４記載の樹脂層形成方法。
【請求項８】
前記第二の樹脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする請求項３記載の樹脂層形成方法。
【請求項９】
基板の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成方法において、
前記基板の表面に樹脂を塗布し、
前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の樹脂層を形成し、
前記第一の樹脂層の一部又は全部を硬化させることにより、前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、
前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、樹脂を塗布し、
前記基板を回転させることにより、前記第一の樹脂層の上に第二の樹脂層を形成し、
前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の全体を硬化させた第一の硬化層を形成し、
前記第一の硬化層よりも前記基板の回転中心側若しくは前記第一の硬化層上に、樹脂を塗布し、
前記基板を回転させることにより、第三の樹脂層を形成し、
前記第三の樹脂層の全体を硬化させた第二の硬化層を形成し、
前記第三の樹脂層及び前記第二の硬化層の形成工程を、複数回繰り返すことを特徴とする樹脂層形成方法。
【請求項１０】
前記第三の樹脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする請求項９記載の樹脂層形成方法。
【請求項１１】
加熱範囲が可変の加熱部を用いて、加熱することを特徴とする請求項８又は請求項１０記載の樹脂層形成方法。
【請求項１２】
一対の基板の一方若しくは双方の表面に、請求項１又は請求項３記載の樹脂層形成方法により樹脂層を形成し、
一対の前記基板を、前記樹脂層を介して貼り合せることを特徴とするディスク製造方法。
【請求項１３】
基板の表面に紫外線硬化型の樹脂を塗布する塗布部と、
前記基板を回転させることにより、樹脂層を基板の表面に形成する回転部と、
前記基板の回転中心の周囲に紫外線を照射することにより、樹脂の一部を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、
前記塗布部によって前記硬化部よりも内側若しくは前記硬化部上に塗布された樹脂を、前記回転部によって前記基板を回転させながら加熱する加熱部と、
を有することを特徴とする樹脂層形成装置。
【請求項１４】
前記紫外線照射部は、照射範囲が可変に構成されていることを特徴とする請求項１３記載の樹脂層形成装置。
【請求項１５】
前記加熱部は、加熱範囲が可変に構成されていることを特徴とする請求項１３記載の樹脂層形成装置。
【請求項１６】
紫外線硬化型の樹脂が塗布された基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の樹脂層を形成する第一の回転部と、
前記第一の樹脂層の一部に紫外線を照射することにより、前記基板の回転中心の周囲を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、
前記硬化部の内側若しくは前記硬化部上に紫外線硬化型の樹脂が塗布された前記基板を回転させることにより、前記第一の樹脂層の上に第二の樹脂層を形成する第二の回転部と、
を有することを特徴とする樹脂層形成装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、光ディスクのような平板状の記録媒体を製造する際に、基板を接着するため若しくはコーティングするために樹脂層を形成する方法に係り、特に、樹脂層の厚みの精度に改良を施した樹脂層形成方法及び樹脂層形成装置、ディスク及びディスク製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
光ディスクや光磁気ディスク等の光学読み取り式の円盤状記録媒体は、再生専用のものや、記録された情報の書き換えが可能なものなど、多種多様な規格のものが普及している。かかる記録媒体は、基板に形成された記録面を保護したり、記録面の多層化による高密度記録を実現するために、一対の基板を、接着層を介して貼り合せることによって製造されている場合が多い。
【０００３】
このような貼り合わせ型ディスクの製造は、例えば、以下のように行われる。すなわち、２枚のポリカーボネート製の基板を射出成型し、スパッタ室においてスパッタリングによってレーザ反射用の金属膜（記録膜）を形成する。そして、２枚の基板の接合面に、紫外線硬化型の接着剤を塗布し、スピンコートによって接着剤を展延する。スピンコートとは、基板の中心の周囲に接着剤を塗布した後、基板を高速スピンさせることにより、基板上に接着剤による薄い膜（接着層）を形成するものである。
【０００４】
このように接着層を形成した一対の基板は、真空室に挿入され、真空中で互いの接着層が貼り合わされる。さらに、互いに貼り合わされた基板を真空室から大気圧に出し、全体に紫外線を照射することにより、接着剤を硬化させる。これにより、２枚の基板は強固に接着され、ディスクが完成する。
【０００５】
ところで、上記のように貼り合わされた基板は、情報の読み書きに用いられるレーザがディスクに照射されたときに、安定してスポットが形成されるように、反りや歪みのない平坦なものとする必要がある。従って、かかる光学式のディスクにおいては、貼り合せる際の接着層の膜厚が、できるだけ均一となっていることが望ましい。しかし、上述のようなスピンコートの場合、接着剤は遠心力によって展延していくため、内周部に対して外周部の膜厚が厚くなってしまい（例えば、１０μｍ程度）、基板全体で膜厚を均一化させることは困難である。
【０００６】
これに対処するため、特許文献１には、２枚の基板を貼り合わせ、回転させながら内周側にのみ紫外線を照射することによって先に硬化させた後、外周側の接着剤を展延させ、さらに全体に紫外線を照射して硬化させることにより、全体として均一化を図る技術が提案されている。また、特許文献２には、基板に接着剤を塗布後、回転させながら内周側にのみ紫外線を照射して粘度を部分的に上昇させた後、外周側の接着剤を展延させることにより、全体として均一化を図る技術が提案されている。
【０００７】
なお、特許文献３，４には、均一化の技術とは異なるが、遠心力を利用して接着剤を展延させる際に、内周側に凸部が形成されるようにして、完成したディスクを重ねたときにディスク同士の表面の接触が防止されるようにした従来技術が開示されている。
【０００８】
【特許文献１】
特開２００１−２０９９８０号公報
【特許文献２】
特開２００３−３４０３５９号公報
【特許文献３】
特開２００２−６３７３７号公報
【特許文献４】
特開２００４−３９０５０号公報
【発明の開示】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
しかしながら、特許文献１の技術は、基板を貼り合せた後に、紫外線の照射及び基板の回転を制御することにより接着層を均一化させるものであるため、そもそも貼り合せ前の基板上の接着剤の厚みが均一でない場合には、貼り合せ時に基板に反りや歪みが生じてしまい、その後の補正が困難となる。内周側を紫外線照射により先に硬化させるといっても、先に硬化して厚みが決定されてしまった内周部分と、未だ硬化していない部分との差異を生じさせないように、照射の範囲、照射時間、回転数等の最適値を設定することは、手間がかかる。現実には、特許文献１の実施の形態２に記載されているように、ロット毎に膜厚測定器で測定しながら調整する必要があり、非常に面倒である。
［００１０］
また、特許文献２は、貼り合わせのための接着剤塗布ではなく、表面のコーティング層を形成するためのものであるため、内周側への紫外線照射によって硬化が進行してしまうことになり、貼り合わせる技術に適用することはできない。また、特許文献１と同様に、照射の範囲、照射時間、回転数等の最適値を設定することは、手間がかかる。そして、特許文献３，４は、最終的にディスクの表面に凸部を残すものであるため、均一な塗布とは相容れない。
［００１１］
本発明は、上記のような従来技術の問題点を解決するために提案されたものであり、その目的は、簡易な手順によって、貼り合せ前の基板上若しくはコーティングされる基板上の樹脂層を均一化できる樹脂形成方法及び樹脂形成装置、ディスク及びディスク製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
［００１２］
上記のような目的を達成するため、本発明は、基板の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成方法において、前記基板の表面に展延した樹脂の一部を硬化させることにより、樹脂の展延を調整する調整部を形成し、前記基板における前記調整部よりも内側若しくは前記調整部上に、樹脂を塗布し、前記基板を回転させることを特徴とする。
［００１３］
以上のような本発明では、基板の回転時における遠心力で樹脂が展延する際に、調整部によって、内周側から外周側へ樹脂の展延が調整されるので、外周側が過度に膜厚となることが防止され、均一な樹脂層を形成できる。
［００１４］
好ましい態様では、前記調整部は、前記基板の表面に形成された段差部若しくは硬化部であることを特徴とする。
以上のような態様では、基板の回転時における遠心力で樹脂が展延する際に、あらかじめ形成された段差部若しくは硬化部によって、内周側から外周側へ樹脂が過度に流動することが抑制されるので、簡易な手順で、全体として均一な樹脂層を形成することができる。
［００１５］
好ましい態様では、基板の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成方法において、前記基板の表面に樹脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の樹脂層を形成し、前記第一の樹脂層の一部を硬化させることにより、
前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、樹脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記第一の樹脂層の上に第二の樹脂層を形成することを特徴とする。
以上のような態様では、第一の樹脂層の形成後に硬化部を形成し、さらに第二の樹脂層を形成するという簡易な手順によって、精度の高い均一化を実現することができる。
［００１６］
好ましい態様では、前記樹脂は紫外線硬化樹脂であり、前記硬化部は、前記基板の一部に、紫外線を照射することにより形成することを特徴とする。
以上のような態様では、貼り合せやコーティングに用いる樹脂と同じ材質によって硬化部を形成できるので、特別な材料を用いることなく、均一な樹脂層の形成が可能となる。
［００１７］
好ましい態様では、可動式紫外線照射部を用いて、前記基板の複数箇所に紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする。
以上のような態様では、複数の硬化部によって、外周への樹脂の展延が抑制されるので、全体として均一な樹脂層を形成できる。
［００１８］
好ましい態様では、複数の紫外線照射部を用いて、紫外線を照射することにより、複数の硬化部を形成することを特徴とする。
以上のような態様では、複数の硬化部を形成する際に、複数の紫外線照射部を用いるため、硬化部の形成時間を短縮できる。
［００１９］
好ましい態様では、照射範囲が可変の紫外線照射部を用いて、前記基板に紫外線を照射することにより、前記硬化部を形成することを特徴とする。
好ましい態様では、前記紫外線照射部は、照射範囲が可変に構成されていることを特徴とする。
以上のような態様では、種々の状況に応じて、均一な樹脂層が形成されるように、照射範囲を変更することができる。
［００２０］
好ましい態様では、基板の表面に樹脂層を形成する樹脂層形成方法において、前記基板の表面に樹脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の樹脂層を形成し、前記第一の樹脂層の一部又は全部を硬化させることにより、前記基板の回転中心の周囲に硬化部を形成し、前記硬化部よりも前記基板の回転中心側若しくは前記硬化部上に、樹脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、前記第一の樹脂層の上に第二の樹脂層を形成し、前記第一の樹脂層及び前記第二の樹脂層の全体を硬化させた第一の硬化層を形成し、前記第一の硬化層よりも前記基仮の回転中心側若しくは前記第一の硬化層上に、樹脂を塗布し、前記基板を回転させることにより、第三の樹脂層を形成し、前記第三の樹脂層の全体を硬化させた第二の硬化層を形成し、前記第三の樹指層及び前記第二の硬化層の形成工程を、複数回繰り返すことを特徴とする。
以上のような態様では、樹脂層の形成と硬化を多数回繰り返すことにより、所望の厚みの層を均一に形成することができる。
［００２１］
好ましい態様では、前記第二の樹脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする。好ましい態様では、前記第三の樹脂層を形成する際に、加熱することを特徴とする。
［００２２］
好ましい態様では、基板の表面に紫外線硬化型の樹脂を塗布する塗布部と、前記基板を回転させることにより、第一の樹脂層を基板の表面に形成する回転部と、前記基板の回転中心の局囲に紫外線を照射することにより、樹脂の一部を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、前記塗布部によって前記硬化部よりも内側若しくは前記硬化部上に塗布された樹脂を、前記回転部によって前記基板を回転させながら加熱する加熱部と、を有することを特徴とする。
以上のような態様では、樹脂層を形成する際に、加熱により粘度が低下するため、流動性が増して膜厚が薄くなり、全体として均一になる。
［００２３］
好ましい態様では、加熱範囲が可変の加熱部を用いて、加熱することを特徴とする。
好ましい態様では、前記加熱部は、加熱範囲が可変に構成されていることを特徴とする。
以上のような態様では、種々の状況に応じて、均一な樹脂層が形成されるように、加熱範囲を変更することができる。
【００２４】
好ましい態様では、一対の基板の一方若しくは双方の表面に、上記の樹脂層形成方法により樹脂層を形成し、一対の前記基板を、前記樹脂層を介して貼り合せることを特徴とする。
以上のような態様では、接着層となる樹脂層の展延が調整されて、均一となるので、中間層が均一で、反りの少ないディスクを製造できる。
［００２５］
好ましい態様では、紫外線硬化型の樹脂が塗布された基板を回転させることにより、前記基板の表面に第一の樹脂層を形成する第一の回転部と、前記第一の樹脂層の一部に紫外線を照射することにより、前記基板の回転中心の周囲を硬化させた硬化部を形成する紫外線照射部と、前記硬化部の内側若しくは前記硬化部上に紫外線硬化型の樹脂が塗布された前記基板を回転させることにより、前記第一の樹脂層の上に第二の樹脂層を形成する第二の回転部と、を有することを特徴とする。
以上のような態様では、一方の基板への第一の樹脂層の形成と、他方の基板への第二の樹脂層の形成とを、第一と第二の回転部において同時並行的に行うことができるので、製品を効率良く量産できる。
【発明の効果】
［００２６］
以上、説明したように、本発明によれば、簡易な手順によって、貼り合せ前の基板上若しくはコーティングされる基板上の樹脂層を均一化できる樹脂層形成方法及び樹脂層形成装置、ディスク及びディスク製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
［００２７］
［図１］本発明の第１の実施形態を実現する装置例を示す簡略構成図である。
［図２］図１の実施形態による接着層形成工程を示すフローチャートである。
［図３］図１の実施形態による第一の接着剤塗布工程を示す説明図である。
［図４］図１の実施形態における基板上の第一の接着剤層を示す縦断面図である。
［図５］図１の実施形態における紫外線照射部による段差部形成工程を示す説明図である。
【図６】図１の実施形態における基板上の段差部を示す縦断面図である。
【図７】図１の実施形態における第二の接着剤塗布工程を示す説明図である。
【図８】図１の実施形態における基板上の第一及び第二の接着剤層を示す縦断面図である。
【図９】図１の実施形態における貼り合わせ後の段差部の位置関係を示す説明図である。
【図１０】本発明と従来技術との接着層の均一性を測定した実験結果を示す説明図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態を実現する装置例を示す簡略構成図である。
【図１２】図１１の実施形態における第二の接着層の展延塗布工程を示す説明図である。
【図１３】図１１の実施形態における基板の貼り合せ工程を示す説明図である。
【図１４】接着層が厚い場合の基板の貼り合せ工程を示す説明図である。
【図１５】本発明の第３の実施形態を実現する装置例を示す簡略構成図である。
【図１６】図１５の実施形態における基板の貼り合せ工程を示す説明図である。
【図１７】本発明の第４の実施形態における段差部形成工程を示す説明図である。
【図１８】図１７の実施形態における第二の接着層の塗布工程を示す説明図である。
【図１９】図１７の実施形態における第二の接着層の展延工程を示す説明図である。
【図２０】図１７の実施形態における貼り合せ後の紫外線照射工程を示す説明図である。
【図２１】従来例における内外周の接着剤のひけを示す説明図である。
【図２２】本発明の第５の実施形態における第二の接着層の展延工程を示す説明図である。
【図２３】本発明の第６の実施形態における硬化部の形成工程を示す説明図である。
【図２４】図２３の実施形態における第二の樹脂層の展延工程を示す説明図である。
【図２５】図２３の実施形態における第一及び第二の樹脂層の硬化工程を示す説明図である。
【図２６】図２３の実施形態における第三の樹脂層の展延工程を示す説明図である。
【図２７】図２３の実施形態と未加熱の例との樹脂層の均一性を測定した実験結果を示す説明図である。
【図２８】同心円状に段差部を形成した基板を示す平面図である。
【図２９】図２８の段差部を形成する紫外線照射部を示す簡略構成図である。
【図３０】図２８の段差部を示す縦断面図である。
【図３１】複数の段差部を形成する複数の紫外線照射部を示す簡略構成図である。
【図３２】複数の段差部を形成する複数の紫外線発光ＬＥＤを示す簡略構成図である。
【図３３】紫外線若しくは赤外線照射範囲変更用のスライド筒を示す説明図である。
【図３４】紫外線若しくは赤外線照射範囲変更用のシャッタを示す説明図である。
【図３５】紫外線若しくは赤外線照射範囲変更用のレンズを示す説明図である。
【図３６】接着剤展延前に段差部を形成した基板を示す縦断面図である。
【図３７】図３６の基板に接着剤を展延した状態を示す縦断面図である。
【符号の説明】
【００２８】
１…ターンテーブル
２…接着剤塗布部
３，３１…紫外線照射部
３１ａ…光源
３１ｂ…光ファイバ
３２…遮光板
４０…加熱部
Ａ…接着剤
ＡＬ１…第一の接着剤層
ＡＬ２…第二の接着剤層
Ｂ…接着層
Ｃ…空間
Ｇ…グラフ
Ｈ…段差部
Ｉ…硬化部
Ｋ１…スライド筒
Ｋ２…シャッタ
Ｋ３…レンズ
Ｐ…基板
ＱＬ１…第一の樹脂層
ＱＬ２…第二の樹脂層
ＱＬ３…第三の樹脂層
Ｒ…記録膜
Ｕ…スポット径
ＵＶ…紫外線
Ｖ…照射高
Ｗ…段差幅
Ｘ…段差高
Ｙ，Ｚ…距離
ｒ１〜ｒ３…半径
【発明を実施するための最良の形態】
【００２９】
次に、本発明の実施の形態について、図面を参照して具体的に説明する。
［第１の実施形態］
［装置の構成］
まず、第１の実施形態に使用する樹脂層形成装置（以下、本装置と呼ぶ）の構成を、図１を参照して説明する。なお、本装置は、ディスクの製造装置の一部を構成するものであり、本装置の上流工程に配設される基板の成型装置及び金属膜の形成装置、本装置の下流工程に配設される基板の貼合装置及び紫外線照射による硬化装置、さらに各装置間で基板を受け渡す機構等については、公知のあらゆる技術を適用可能であり、説明を省略する。
【００３０】
すなわち、本装置は、図１に示すように、ディスク用の基板Ｐが載置されるターンテーブル１と、基板Ｐ上に接着剤を塗布する接着剤塗布部２と、接着剤に紫外線を照射する紫外線照射部３とを有している。ターンテーブル１は、円板状の基板Ｐが一枚づつ載置されて装着され、回転する装置である。接着剤塗布部２は、図示しない接着剤タンクから供給される紫外線硬化型の接着剤を、基板Ｐの内周側に塗布するノズルである。この接着剤塗布部２は、基板Ｐ上の所望の位置に接着剤を塗布できるように、基板Ｐの径方向に走査可能に設けられている。紫外線照射部３は、基板Ｐ上に展延された接着剤の内周近傍に紫外線をスポット照射して、接着剤の一部を環状に硬化させる光源である。紫外線照射部３も、基板Ｐ上の所望の位置を照射できるように、基板Ｐの径方向に走査可能に設けられている。
【００３１】
なお、ターンテーブル１の回転及び速度調整、接着剤塗布部２の接着剤滴下及び移動、紫外線照射部３の発光及び移動等は、それぞれの駆動機構の動作タイミングを、制御装置によって制御することにより行われる。この制御装置は、例えば、専用の電子回路若しくは所定のプログラムで動作するコンピュータ等によって実現できる。従って、以下に説明する手順で本装置の動作を制御するためのコンピュータプログラム及びこれを記録した記録媒体も、本発明の一態様である。
【００３２】
［接着層の形成］
以上のような本装置によって、基板Ｐ上に接着層を形成する方法を、図２のフローチャート、図１、図３〜９の説明図を参照して説明する。すなわち、図１に示すように、前工程において記録膜Ｒが形成された基板Ｐは、その記録膜Ｒを上にして、ターンテーブル１上に載置され、装着される（ステップ２０１）。そして、ターンテーブル１を作動させることによって、基板Ｐを低速回転させる（ステップ２０２）。低速回転の速度は、例えば、２０〜４００ｒｐｍとすることが考えられるが、この値には限定されない。このように低速回転する基板Ｐにおける記録膜Ｒよりも内周側に、図３に示すように、接着剤塗布部２から接着剤Ａを滴下する（ステップ２０３）。これにより、基板Ｐの中心の周囲に、接着剤Ａが環状に塗布される。
【００３３】
このような接着剤Ａの塗布後に、ターンテーブル１によって基板Ｐを高速回転させる（ステップ２０４）。高速回転の速度は、例えば、３００〜１００００ｒｐｍとすることが考えられるが、この値には限定されない。この高速回転によって接着剤Ａが外周方向へ展延されて振り切られると、図４に示すように、記録膜Ｒを覆う第一の接着剤層ＡＬ１が形成される（ステップ２０５）。このとき、上述した従来技術と同様に、第一の接着剤層ＡＬ１は、その断面が内周側から外周側に行くに従って隆起した形状となる。
【００３４】
次に、図５に示すように、回転する基板Ｐにおける第一の接着剤層ＡＬ１の内周側（例えば、記録膜Ｒよりも内側）に、紫外線照射部３によって、紫外線をスポット照射する（ステップ２０６）。すると、図６に示すように、紫外線を照射した環状の部分のみが選択的に硬化して、その硬化部分が基板Ｐの表面から隆起した段差部Ｈが形成される（ステップ２０７）。このときの照射時間は、硬化に十分な時間であれば、第一の接着剤層ＡＬ１の厚み等に応じて自由に変更可能であるが、例えば、基板Ｐを一周若しくは数周回転させる間、照射することが考えられる。さらに、ターンテーブル１によって、基板Ｐを低速回転させる（ステップ２０８）。そして、図７に示すように、接着剤塗布部２によって、段差部Ｈよりも内側に接着剤を滴下することにより、基板Ｐの段差部Ｈの内周における第一の接着剤層ＡＬ１の上若しくは第一の接着剤層ＡＬ１の内周に、接着剤Ａが環状に塗布される（ステップ２０９）。
【００３５】
このような接着剤Ａの塗布後に、ターンテーブル１によって基板Ｐを高速回転させる。この高速回転によって接着剤Ａが外周方向へ展延されて振り切られると、図８に示すように、第一の接着剤層ＡＬ１の上に第二の接着剤層ＡＬ２が形成される（ステップ２１０）。このとき、未硬化の第一の接着剤層ＡＬ１と第二の接着剤層ＡＬ２とが一体化して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層Ｂが形成される（ステップ２１１）。
【００３６】
以上のような工程を経て、それぞれ接着層Ｂが形成された一対の基板Ｐは、図９に示すように、貼合装置においてその接着層Ｂを挟んで貼り合わされ、硬化装置において全面に紫外線が照射されることにより、接着層Ｂが硬化される。これにより、内部に２層の記録膜Ｒを有するディスクが形成される。なお、一対の基板Ｐの段差部Ｈの位置は貼り合わせ時に対向しないように、紫外線照射部３の位置を調整することが望ましい。また、張り合わせる一対の基板Ｐは、双方に接着層Ｂが形成されていても、一方にのみ接着層Ｂが形成されていてもよい。
【００３７】
［実施例］
以上のような本発明の実施形態による実験結果を、図５、図６、図９及び１０に従って説明する。本実験は、例えば、少なくとも半透明層と反射層の２層の記録膜を有するＤＶＤ等のための貼り合せ基板を製作したものであり、半透明層を形成した基板と全反射層を形成した基板を貼り合せ、その接着層の厚みを測定したものである。
【００３８】
まず、上記のように、記録膜Ｒを形成した基板Ｐに第一の接着剤層ＡＬ１を展延した後、図５に示すように、紫外線照射によって段差部Ｈを形成した。段差部Ｈの形成のための紫外線照射の条件は、以下の通りである。すなわち、照射時の基板Ｐの回転数を６０ｒｐｍとし、紫外線照射部３の照射口付近での照度を約１０００ｍＷ／ｃｍ２、照射する波長を３６５ｍｍ、照射時間を１ｓ（一周分）とした。また、紫外線照射部３のスポット径Ｕは約５ｍｍ、照射高Ｖは約５ｍｍとした。このような紫外線照射により、図６に示すように、段差幅Ｗが約５ｍｍ、段差高Ｘが約１０μｍの段差部Ｈを形成した。そして、上記のように第二の接着剤層ＡＬ２を展延することにより、接着層Ｂを形成した。
【００３９】
同様の条件で、中心からの距離が異なる位置に段差部Ｈを形成し、接着層Ｂを形成した基板Ｐを製作し、図９に示すように、両基板Ｐを、その接着層Ｂ同士が合わさるように貼り合せた。なお、図中の上側の記録膜Ｒが半透明層、下側の記録膜Ｒが全反射層であり、上側の段差部Ｈは中心からの距離Ｙが３１ｍｍ、下側の段差部Ｈは中心からの距離Ｚが２２ｍｍである。
【００４０】
このような貼り合せ硬化後のディスクにおける接着層の厚みを測定した結果が、図１０である。比較例として用いたものは、段差部を形成せず、従来の高速スピンによる展延のみで接着層を形成し、貼り合せたものである。図１０の横軸はディスクの中心からの距離、縦軸は２０ミクロンを０とした場合の接着層の厚みの差を示す。この測定結果によれば、段差部を設けた場合には、記録面を包含する２４ｍｍ〜５５ｍｍの間の膜厚の範囲は約１９〜２１μｍとなり、その格差はほぼ２μｍ（±１）に収まっている。これに対して、段差部のない従来の方法による場合には、記録面を包含する２４ｍｍ〜５５ｍｍの間の膜厚の範囲は約１７〜２１μになり、その格差は約４（−３〜＋１）μｍという広がりを有している。
【００４１】
［効果］
以上のような本実施形態によれば、第一の接着剤層ＡＬ１の内周部に硬化した段差部Ｈを形成した上で、第二の接着剤層ＡＬ２を形成することにより、基板Ｐの高速回転時における遠心力で、内周側から外周側へ接着剤が過度に流動することが抑制される。従って、簡単な手順で、貼り合せ前の基板Ｐに接着層Ｂを均一に展延させることができるとともに、基板Ｐを貼り合せた後には、特別の工程を経なくとも、ディスクの厚みを均一化させることができ、反りや歪みのない製品を短時間で量産できる。
【００４２】
特に、紫外線照射は、段差部Ｈの形成のためのスポット照射、貼り合せ後の全体照射のみで済むので、貼り合せ後の基板Ｐに対する紫外線照射によって内周側から外周側にかけて段階的に硬化させたり、粘度を変化させるといった手間や時間がかからず、一定の品質の製品を効率よく量産できる。さらに、紫外線照射部３のスポット径や照射時間を変更すれば、段差部Ｈの高さ、幅、位置、数、硬化の程度等が変化するので、これにより接着層Ｂの厚みを調整することもでき、生産ロット毎のディスクの品質を容易に変更、補正等できる。
【００４３】
［第２の実施形態］
［装置の構成］
第２の実施形態に使用する樹脂層形成装置（以下、本装置と呼ぶ）の構成を、図１１を参照して説明する。なお、本装置は、基本的には、上記の第１の実施形態と同様の構成であるが、紫外線照射部３１が、光源３１ａから光ファイバ３１ｂを介して導かれた紫外線ＵＶを、比較的広範囲で照射できるように、基板Ｐの搬送の邪魔にならない程度の高さ（例えば、５０〜２００ｍｍ程度）に配置されている。これにより、紫外線ＵＶが広がり、基板Ｐの中心から径方向に０〜３５ｍｍ程度の間の範囲が照射範囲となる。なお、照射範囲は、径方向に５０ｍｍ以内に抑えることが望ましいが、必ずしもこの値には限定されず、固定とせずに可変とすることも可能である。また、図１１の上部に示したグラフＧは、紫外線ＵＶの強度分布であり、横軸は水平方向の照射位置、縦軸が紫外線強度を示す。なお、１ａはターンテーブル１を回転させる駆動部である。
【００４４】
［接着層の形成］
以上のような本装置によって、基板Ｐ上に接着層を形成する方法を、図１１〜１３の説明図を参照して説明する。なお、上記の第１の実施形態と同様の手順は、説明を簡略化する。すなわち、図１１に示すように、前工程において記録膜Ｒが形成された基板Ｐは、ターンテーブル１上に載置され、第一の接着剤層ＡＬ１が形成される。次に、紫外線照射部３１によって、第一の接着剤層ＡＬ１の内周側から比較的広い範囲に、紫外線ＵＶを照射する。
【００４５】
すると、紫外線ＵＶを照射した部分のみが選択的に硬化して、その硬化部分が基板Ｐの表面から隆起した段差部Ｈが、比較的広範に形成される。基板Ｐ上での照射強度は、照射光中心が強く、外周にいくにつれて、強度は弱まる。強度が強い部分では、完全に硬化されるが、外周に行くにつれて、接着剤Ａの酸素阻害の影響を受け、表面が固まらず、内部が固まる。このため、外周に向かって、内部がだんだん硬化しなくなるので、段差部Ｈは緩やかな傾斜がついて形成される。
【００４６】
そして、図１２に示すように、接着剤塗布部２によって、段差部Ｈの上に接着剤Ａを滴下しながら、ターンテーブル１を低速回転させることにより、基板Ｐの段差部Ｈの内周における第一の接着剤層ＡＬ１の上に、接着剤Ａが環状に塗布される。このような接着剤Ａの塗布後に、ターンテーブル１によって基板Ｐを高速回転させる。この高速回転によって、接着剤Ａが外周方向へ展延されて振り切られると、第一の接着剤層ＡＬ１の上に第二の接着剤層ＡＬ２が形成される。
【００４７】
このとき、図１３に示すように、未硬化の第一の接着剤層ＡＬ１と第二の接着剤層ＡＬ２とが一体化して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層Ｂが形成される。このように均一となる要因は、接着剤Ａが展延されるときに、段差部Ｈ上の表面が流動性を低下させることによる。つまり、接着剤Ａが硬化している段差部Ｈの部分は、表面の硬化ムラによって、流動性が低下することが、均一な膜厚に寄与しているのである。また、接着剤Ａが硬化反応中には、この表面に付着された接着剤Ａにも硬化反応を及ぼすことも、流動性が低下する要因となる。そして、段差部Ｈは傾斜が緩いため、基板Ｐ上の位置による接着層Ｂの厚みの格差は少なくなる。さらに、段差部Ｈの厚みが確保されていることは、内周の薄い部分を嵩上げする効果もあり、これらの要因が相俟って均一性が実現できる。
【００４８】
以上のような工程を経て、それぞれ接着層Ｂが形成された一対の基板Ｐは、図１３に示すように、貼合装置においてその接着層Ｂを挟んで、真空中で貼り合わされる。接着層Ｂの厚みの格差が少ないため、貼り合せ時に生じる空間Ｃは非常に薄くなり、大気圧に戻すと、接着層Ｂの流動によって圧縮、消泡される。
【００４９】
［効果］
以上のような本実施形態によれば、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られるとともに、接着層Ｂが厚くなる場合でも、気泡の残存を抑えて、歩留まりを向上させることができる。例えば、図１４に示すように、段差部Ｈの傾斜が急であり、接着層Ｂが厚くなる場合には、接着層Ｂの厚みの格差Ｓが大きくなり、貼り合せ時に生じる空間Ｃが大きくなるので、圧縮、消泡に時間がかかるが、本実施形態では、この時間が短縮される。
【００５０】
また、基板Ｐを回転させずに、段差部Ｈを形成できるので、手順が簡単となる。さらに、紫外線をスポット照射するために基板Ｐに近づけるための機構や動作が不要となるため、装置が簡略化され、コストを低減できる。
【００５１】
［第３の実施形態］
［装置の構成］
第３の実施形態に使用する樹脂層形成装置（以下、本装置と呼ぶ）の構成を、図１５を参照して説明する。なお、本装置は、基本的には、上記の第２の実施形態と同様の構成であるが、紫外線照射部３１の近傍に、遮光板３２が配設されている。この遮光板３２は、基板Ｐの径方向の１５ｍｍ以内への紫外線ＵＶの照射を遮断するものであり、これにより、照射範囲が、径方向に１５〜５０ｍｍとなるように設定されている（この範囲には必ずしも限定されない）。また、図１５の上部に示したグラフは、図１１と同様に、紫外線ＵＶの強度分布である。
【００５２】
［接着層の形成］
以上のような本装置によって、基板Ｐ上に接着層を形成する方法を、図１５及び図１６の説明図を参照して説明する。なお、上記の第２の実施形態と同様の手順は、説明を省略する。すなわち、図１５に示すように、紫外線照射部３１によって、第一の接着剤層ＡＬ１に対して、紫外線ＵＶを照射すると、遮光板３２によって、径方向の１５ｍｍ以内への照射が遮られるので、１５〜５０ｍｍの部分のみが選択的に硬化した段差部Ｈが形成される。この段差部Ｈの外周側は、第２の実施形態と同様に、緩やかな傾斜がついて形成される。
【００５３】
そして、接着剤塗布部２によって、段差部Ｈよりも内側に接着剤Ａを滴下して環状に塗布した後に、高速回転によって、接着剤が外周方向へ展延されて振り切られると、図１６に示すように、第一の接着剤層ＡＬ１の上に第二の接着剤層が形成され、これが一体化して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層Ｂが形成される。このように均一となる要因は、上記の第１の実施形態と第２の実施形態の要因と同様である。
【００５４】
以上のような工程を経て、それぞれ接着層Ｂが形成された一対の基板Ｐは、図１６に示すように、貼合装置においてその接着層Ｂを挟んで、真空中で貼り合わされる。接着層Ｂの厚みの格差が少ないため、貼り合せ時に生じる空間Ｃは非常に薄くなり、大気圧に戻すと、接着層Ｂの流動によって圧縮、消泡される。
【００５５】
［効果］
以上のような本実施形態によれば、上記の第２の実施形態と同様の効果が得られるとともに、段差部Ｈの内側への接着剤の塗布によって、外周への流動がさらに抑制されるので、膜厚の均一化が実現しやすくなる。
【００５６】
［第４の実施形態］
［装置の構成］
第４の実施形態に使用する樹脂層形成装置（以下、本装置と呼ぶ）の構成を、図１７、１９を参照して説明する。なお、本装置は、基本的には、上記の第１の実施形態と同様の構成であるが、図１７に示すように、紫外線照射部３が、基板Ｐの径方向にあらかじめ多数配設されている。また、基板Ｐの外周側には、図１９に示すように、ヒータ若しくは赤外線照射装置等の加熱部４０が配設されている。
【００５７】
［接着層の形成］
以上のような本装置によって、基板Ｐ上に接着層を形成する方法を、図１７〜２０の説明図を参照して説明する。なお、上記の第１の実施形態と同様の手順は、説明を簡略化する。すなわち、図１７に示すように、前工程において記録膜Ｒが形成された基板Ｐは、ターンテーブル上に載置され、第一の接着剤層ＡＬ１が形成される。次に、基板Ｐを回転させながら、複数の紫外線照射部３から、紫外線を同時に照射することにより、環状の段差部Ｈを同心円上に複数形成する。
【００５８】
そして、図１８に示すように、接着剤塗布部２によって、段差部Ｈの上に接着剤Ａを滴下することにより、基板Ｐの段差部Ｈの内周における第一の接着剤層ＡＬ１の上に、接着剤Ａが環状に塗布される。このような接着剤Ａの塗布後に、ターンテーブル１によって基板Ｐを高速回転させる。このとき、図１９に示すように、加熱部４０によって基板Ｐの外周部を加熱する。すると、高速回転によって、接着剤Ａが外周方向へ展延されて振り切られ、第一の接着剤層ＡＬ１の上に第二の接着剤層ＡＬ２が形成される。同時に、外周部が加熱されて接着剤Ａの粘度が低下するため、流動性が増して、膜厚が薄くなる。
【００５９】
これにより、図２０に示すように、未硬化の第一の接着剤層ＡＬ１と第二の接着剤層ＡＬ２とが一体化して、内周から外周にかけて均一な膜厚の接着層Ｂが形成され、それぞれ接着層Ｂが形成された一対の基板Ｐが、貼合装置においてその接着層Ｂを挟んで、真空中で貼り合わされる。そして、紫外線ＵＶの全面照射によって、接着層Ｂが硬化される。
【００６０】
［効果］
以上のような本実施形態によれば、上記の第１の実施形態と同様の効果が得られるとともに、複数の段差部Ｈを形成することにより、外周側への接着剤Ａの流動をより一層抑制することができる。さらに、外周側を加熱することにより、外周側の膜圧を薄くすることができるので、均一化を実現しやすくなる。
【００６１】
［第５の実施形態］
第５の実施形態は、接着剤と基板との端部の界面に生じるひけ（部分的な剥がれ）を防止するものである。すなわち、図２１に示すように、スピンコートによって基板Ｐ上に接着層Ｂを形成すると、矢印に示すように、基板Ｐや記録膜Ｒの材質によっては、接着層Ｂの収縮等により、内外周にひけが生じやすくなる。かかるひけは、接着層Ｂの不均一（膜厚ムラ）や、気泡発生などの問題を生じさせる。
【００６２】
そこで、本実施形態では、図２２に示すように、接着層を形成する。すなわち、スピンコートによって第一の接着剤層ＡＬ１を形成した後、全面若しくは内外周部に紫外線ＵＶを照射する。すると、第一の接着剤層ＡＬ１の一部が硬化した硬化部Ｉとなる。なお、第一の接着剤層ＡＬ１の硬化は、その底面部（基板Ｐとの接触面側）から硬化する。これは、空気に触れている表面に近い部分は、酸素が存在し、紫外線硬化を阻害するからである。
【００６３】
このように、硬化部Ｉを形成した第一の接着剤層ＡＬ１の上部に、再度接着剤を塗布し、スピンコートによって第二の接着剤層ＡＬ２を形成する。このような接着剤塗布と硬化を複数回繰り返すことにより、均一な接着層Ｂが形成された基板を貼り合せ、紫外線を照射することにより、ディスクを完成させる。
【００６４】
以上のような本実施形態によれば、あらかじめ基板Ｐに展延させた接着剤を硬化させるので、基板Ｐと接着剤とが乖離せず、ひけを防止できる。そして、ある程度だけ硬化した接着剤の表面に、重ねて接着剤を展延させるので、接着剤同士の親和性が大きく、その後のひけも生じない。また、展延時の外周への流動も抑制されるので、膜圧の均一化が実現しやすくなる。
【００６５】
［第６の実施形態］
上記の実施形態は、一対の基板を貼り合せる接着層（中間層）の形成に関するものであるが、これを、基板の表面のカバー層（コーティング層、保護層）の均一化に用いてもよい。つまり、上記の各実施形態において、基板に２度若しくはそれ以上（ｎ層）重ねて樹脂を展延させて硬化させることにより、均一なカバー層を形成することができる。
【００６６】
そこで、かかる複数回の樹脂の展延によってカバー層を形成する実施形態を、以下に説明する。なお、本実施形態は、カバー層の均一化の精度を高めるために、赤外線照射による加熱も行う。
［工程α］
まず、最初の工程αについて説明する。すなわち、図２３に示すように、低速回転する基板Ｐに対して樹脂を滴下塗布して、高速回転のスピンコートによって第一の樹脂層ＱＬ１を形成する。使用樹脂は、例えば、粘度４３０ｃｐである（以下同様）。樹脂の滴下と回転条件は、例えば、０．２ＭＰａ×０．１５ｓ、４００ｒｐｍ×１回転とする。スピンコートの回転条件は、例えば、１００００ｒｐｍ×２ｓとする。
【００６７】
その後、内周部に紫外線ＵＶを部分照射することにより、一部を硬化させる（図中黒色部分）。条件としては、例えば、基板Ｐの回転数が３００ｒｐｍ、紫外線照射部３１の位置が基板Ｐの中心からの半径ｒ１＝約１５ｍｍ、高さｈ＝約５０ｍｍ、照射条件は１５００ｍＷ／ｃｍ２×１ｓ、照射範囲の外周は半径ｒ２＝約２３ｍｍとする。
【００６８】
さらに、図２４に示すように、低速回転する基板Ｐに対して樹脂を滴下塗布して、高速回転のスピンコートによって第二の樹脂層ＱＬ２を形成する。樹脂の滴下と回転条件は、例えば、０．２ＭＰａ×０．５ｓ、１２０ｒｐｍ×１回転とする。スピンコートの回転条件は、例えば、１００００ｒｐｍ×１ｓとする。そして、図２５に示すように、Ｎ２パージし、全面に紫外線を照射できる位置に紫外線照射部３１を移動させて（若しくは基板Ｐを全面照射可能な別場所に移動させて）、紫外線を照射することにより、全体を硬化させる。照射条件としては、例えば、５０ｍＷ／ｃｍ２×５ｓとする。このように、工程αでは、２度塗りによって、例えば、１５μｍ程度の層が形成される。
【００６９】
［工程β］
次に、上記の工程αに続いて、繰り返し行われる工程βについて説明する。すなわち、図２６に示すように、工程αにおいて硬化した層が形成された基板Ｐに対して、低速回転させて樹脂を滴下塗布し、高速回転のスピンコートによって第三の樹脂層ＱＬ３を形成する。このとき、赤外線照射装置である加熱部４０によって、加熱しながら樹脂を展延させる。樹脂の滴下と回転条件は、例えば、０．２ＭＰａ×０．５ｓ、１２０ｒｐｍ×１回転とする。スピンコートの回転条件は、例えば、９０００ｒｐｍ×１ｓとする。加熱部４０は、例えば、３５０Ｗ、９００〜３０００ｎｍの仕様の赤外線照射装置を用いる。照射条件は、高さｈ＝約５０ｍｍから、基板Ｐの中心からの半径ｒ３＝約４０ｍｍの位置から、ｒ４＝約１２ｍｍ以内の範囲で行うものとする。
【００７０】
そして、図２５と同様に、Ｎ２パージし、紫外線照射部３１によって全面に紫外線を照射することにより、全体を硬化させる。照射条件としては、例えば、５０ｍＷ／ｃｍ２×５ｓとする。これにより、例えば、約１５μｍ程度の層が形成される。このような工程βを６回繰り返すことにより、前工程αの約１５μｍｍの層と合わせて、最終的に、約１００μｍ程度のカバー層が形成される。
【００７１】
［効果］
以上のような本実施形態によれば、工程αと、繰り返し行われる工程βとによって、全体として均一なカバー層を、所望の厚みに形成することができる。特に、工程βにおいて、加熱工程を含むことは、加熱を行なわない場合に比べて、ディスクの半径方向の厚みの相違幅を著しく小さくすることができる。これは、上記のような条件設定で、工程α×１回と工程β×６回を行ったカバー層と、工程α×１回と工程β（加熱を行わない）×６回を行ったカバー層との比較データである図２７に示すように明らかである。すなわち、図２７では、加熱を行ったものに関しては（▲を結ぶ実線で示す）、ディスクの半径方向の位置２３〜５８ｍｍの間において、基準値からの厚みの相違が約±２μｍに収まっているが、加熱を行わなかったものに関しては（点線で示す）、約−４μｍ〜＋１２μｍ以上という大きな相違が生じている。
【００７２】
［他の実施形態］
本発明は、上記のような実施形態に限定されるものではない。特に、具体的な数値は例示であり、所望の作用効果を得るために比較的適したものではあるが、これらの値に限定されるものではない。
【００７３】
また、第４の実施形態において、貼り合わされる基板のどちらに紫外線の一部照射、加熱を行うかは自由である。例えば、基板の両方に一部照射及び加熱を行ってもよいし、両方に一部照射、片方に加熱を行ってもよいし、片方に一部照射、両方に加熱を行ってもよいし、片方のみに一部照射及び加熱を行ってもよい。また、上記の各実施形態のいずれかを組み合わせることも可能である。例えば、第４の実施形態における加熱部を、その他の実施形態に用いてもよい。
【００７４】
また、図２８、２９に示すように、第一の接着剤層ＡＬ１を展延した後、紫外線照射部３の位置を、ディスクの径方向にシフトしながら、所定のタイミングで照射することにより、図３０に示すように、環状の段差部Ｈを同心円上に複数形成することもできる。この後、上記と同様に、内周側に接着剤Ａを塗布し、高速回転させることにより、第二の接着剤層ＡＬ２を展延する。かかる場合にも、均一な接着層Ｂが形成される。
【００７５】
なお、図３１に示すように、第４の実施形態と同様に、複数の光源から成る紫外線照射部３を、基板Ｐの径方向にあらかじめ多数配設しておき、これらの全部若しくは一部を同時に照射させることにより、短時間に多数の段差部Ｈを形成できるようにした方が、タクトタイムを短縮することができる。また、紫外線照射部３に備える複数の光源として、図３２に示すように、多数の紫外線発光ＬＥＤを用いることにより、消費電力の節約と光源の長寿命化によるコスト低減を図ることもできる。光源をマスクして、所定の位置に単数若しくは複数形成されたスリットやスポット穴から照射させることもできるし、かかるスリットやスポット穴を開閉することにより、所望の時間に所望の位置に照射させることもできる。
【００７６】
また、紫外線や赤外線の照射範囲については、対象の一部にするか全体にするか等は自由であるが、種々の状況に応じて、最適の効果を得るために、可変可能な構造とすることが好ましい。このための構成例としては、種々のものが考えられる。単純な方法としては、可動の遮光板を用いる方法が考えられる。また、図３３に示すように、スライド筒Ｋ１によるもの、図３４に示すように、シャッタＫ２によるもの、図３５に示すように、移動するレンズＫ３によるもの等、種々のものが考えられる。第３の実施形態で例示したような遮光板に加えて、照射範囲の外周を決める遮光板を使用することも考えられる。
【００７７】
また、図３６及び図３７に示すように、あらかじめ内周部に低速回転により樹脂を塗布して、紫外線照射により硬化させて段差部Ｈを形成した後、さらにその内周側に塗布した樹脂を、高速スピンによって展延させてもよい。この場合にも、段差部Ｈによって、内周側から外周側へ樹脂が過度に流動することが抑制されるので、均一な樹脂層ＱＬ１を形成することができる。この樹脂層ＱＬ１の上に、上記の実施形態と同様に、第二の樹脂層を形成することにより、さらに均一化を図ってもよい。
【００７８】
また、請求項１に記載の調整部（段差部若しくは硬質部を含む）は、樹脂の硬化によって形成するものには限定されない。図６等に示した段差部Ｈを、液体、流動体、半流動体や固体等であって展延し難い材料によって形成し、その内周側に塗布した樹脂を、高速回転によって展延させることにより、外周側への樹脂の過度の流動を抑えて、均一な樹脂層を形成することができる。このように形成した樹脂層の上に、上記の実施形態と同様に、第二の樹脂層を形成することにより、さらに均一化を図ってもよい。また、例えば、版印刷、インクジェットによる印刷により段差を形成してもよい。レーザマーカ等により、内周側の一部に凹凸を形成することにより、段差部を構成してもよいし、既に形成されている段差部を加工修正してもよい。
【００７９】
また、調整部（段差部若しくは硬質部を含む）の形状、高さ、幅、位置、数等は、自由に変更可能である。例えば、断面の角が丸みを帯びていてもよいし、上面に傾斜を有していてもよい。連続していない断続的な環状としてもよい。樹脂の硬化により形成する場合には、記録膜の表面に散点的に設けられていてもよい。
【００８０】
また、樹脂層形成装置の各構成部を複数設けて、処理を同時並行的に行うことにより、製品を効率よく量産できるようにしてもよい。例えば、基板を載置して回転する回転部であるターンテーブルを２台独立して備え、一方のターンテーブルにおいて、樹脂塗布及び高速スピンによる樹脂展延を行って第一の樹脂層を形成し、紫外線照射部により段差部を形成した後、他方のターンテーブルに移載して樹脂塗布、高速スピンによる樹脂展延を行って第二の樹脂層を形成してもよい。つまり、上記の実施形態のように、単一の回転部において第一の樹脂層、段差部及び第二の樹脂層の形成を全て行ってもよいし、２つの回転部の一方において第一の樹脂層、段差部の形成を行い、他方において第二の樹脂層の形成を行ってもよい。２つの回転部の一方において、第一の樹脂層の形成を行い、他方において段差部、第二の樹脂層の形成を行ってもよい。３つの回転部を設け、それぞれにおいて第一の樹脂層、段差部及び第二の樹脂層の形成を行ってもよい。紫外線照射部を、複数の回転部毎に設けたり、複数の回転部間を移動可能に設けることにより、同一の装置において、上記のような異なる態様を切り換えて実現できるようにしてもよい。
【００８１】
また、本発明の製造対象となるディスクは、その大きさ、形状、材質、記録膜の数等は自由であり、既存のＣＤやＤＶＤ等の規格に限定されず、将来において採用されるあらゆる規格に適用可能である。さらに、本発明は、情報記録用のディスクのみならず、樹脂を用いて貼り合わされるあらゆる基板に適用することができる。つまり、基板の材質や形状、接着剤となる樹脂の種類も、上記の実施形態で例示したものには限定されない。例えば、基板の材質としては一般的なポリカーボネートの他、アクリル、エポキシ等の樹脂が考えられるが、これには限定されない。
【００８２】
上記の通り、本発明は、接着層のみならずカバー層へ適用してもよい。典型例としては、基板の貼り合わせ型ディスクのいわゆる接着層、表面に樹脂でスタンプ部を形成した基板を接着したいわゆる中間層が挙げられる。また、例えば、ブルーレイディスク（ＢＤ）の表面のフィルムと基板とのいわゆる接着層や、フィルムの代わりにＢＤの表面をコーティングするいわゆるカバー層として適している。特に、ＢＤは、対物レンズのＮＡが大きく、表面のカバー層（１００μｍ程度）について高い厚み精度が要求されるので、本発明が適している。
【００８３】
また、接着やコーティングに用いられる樹脂としても、回転により展延できるものであれば、現在又は将来において利用可能なあらゆる材質のものが適用可能である。放射線硬化型の樹脂のように、外部から広義の電磁波を照射したり、熱硬化型の樹脂のように、温度変化を加えることによって硬化するものも適用可能である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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【図３７】
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