(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基体（Ａ）の一方の主面上に、少なくとも、調光フィルム（Ｂ）が貼り合わされたディスプレイ用フィルターにして、該調光フィルム（Ｂ）が、透明高分子フィルム（Ｃ）の一方の主面上に、少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、（Ｄ）／（Ｅ）を繰り返し単位として４回以上繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄ）が積層され、さらに、その上に透明樹脂層（Ｆ）が形成されてなる、可視光線透過率５０％以上であり、波長８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの光に対する光線透過率が１０％以下であることを特徴とするフィルムであって、該金属薄膜層（Ｅ）が、銀または銀を主体とする合金であり、該透明樹脂層（Ｆ）が、トリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂からなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター。
【請求項２】
高屈折率透明薄膜層（Ｄ）が、主として酸化インジウムで構成されることを特徴とする請求項１記載のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項３】
請求項１記載の光学フィルターの少なくとも１つの主面にアンチニュートンリングフィルムをさらに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートン層を形成した構成のディスプレイ用光学フィルター。
【請求項４】
プラズマディスプレイに好適に使用しうる請求項１〜３のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ用光学フィルターに関し、さらに詳しくはプラズマディスプレイから発生する、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する赤外線漏洩防止性に優れ、さらに、耐候性・耐環境性に優れた光学フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
社会が高度に情報化されてくるにしたがって、光エレクトロニクス関連部品、機器は著しく進歩、普及している。そのなかでディスプレイはテレビジョン用、パーソナルコンピューター用等として著しく普及し、また、その薄型化、大型薄型化が進んでいる。
【０００３】
近年、大型の薄型テレビ、薄型ディスプレイ用途等に、プラズマディスプレイが注目され、すでに市場に出始めている。しかしながら、プラズマディスプレイは、その構造原理上、強度の漏洩電磁界が発生するため、近年の漏洩電磁界の人体や他の機器に与える影響が取り沙汰されるようになった中で、そのＶＣＣＩ、ＦＣＣといった安全基準をクリアする必要がある。さらに、また、プラズマディスプレイにおいては、そのプラズマ中の励起原子から放出される近赤外線光が、コードレスフォン等の周辺電子機器に作用して誤動作を引き起こすという問題が生じている。特に問題になる波長として、リモコンや伝送系光通信に使用されている８２０ｎｍと８８０ｎｍ、９８０ｎｍが挙げられる。そのため、近赤外領域である８２０〜１０００ｎｍの波長領域の光をカットする必要がある。
【０００４】
一方、可視光線の透過率が低いと、画像の鮮明さが低下するため、フィルターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも４０％以上、好ましくは５０％以上必要である。
【０００５】
静電防止能については、ディスプレイ表面に導電膜を直接形成するか、導電膜を有する部材をディスプレイ表面に張り付け、導電膜をアースすることにより解決できる。この場合に、導電膜は、面抵抗で１０8 Ω／□程度以下であれば良い。ただし、また、ディスプレイ画面の透明性や解像度を損なうものであってはならない。
【０００６】
これに対し、漏洩電磁界（電磁波）を遮蔽するには、ディスプレイ表面を導電性のさらに高い導電物でおおう必要がある。一般にアースした金属メッシュまたは、合成樹脂または金属繊維のメッシュに金属被覆したもの用いるが、これらの方法は、ディスプレイから発する光を透過しない部分が生じたり、モワレ発生、歩留りの悪さによるコスト高などが問題となる。
【０００７】
そこでＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）に代表される透明導電膜を電磁波シールド層に用いるのであるが、その場合通常要求されるその導電性は面抵抗１０5 Ω／□以下、好ましくは１０3 Ω／□以下である。透明導電膜としては、金、銀、銅、白金、パラジウムなどの金属薄膜、酸化インジウム、酸化第２スズ、酸化亜鉛等の酸化物半導体薄膜または金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜がある。この中で、金属薄膜は、導電性は得られるが、広い波長領域にわたる金属の反射及び吸収により可視光線透過率の高いものは得られない。また、酸化物半導体薄膜は金属薄膜に比べ透明性に優れるが導電性に劣り、また近赤外線の反射能はない。これらに対し、金属薄膜と高屈折率透明薄膜を積層した多層薄膜は、銀などの金属の持つ導電性及び光学的特性と、高屈折率透明薄膜の、ある波長領域における金属による反射の防止により、導電性、近赤外線カット能、可視光線透過率のいずれにおいても好ましい特性を有している。
【０００８】
すなわち、我々は、銀を主体として金属層と、透明高屈折率層、例えば、酸化インジウムや酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫とを交互に重ねることにより、透明性と上記調光性を兼ね備えたフィルムを得ることができることを見いだしたのである。しかしながら、銀層は湿環境において不安定であるという欠点を持っており、我々の検討によると実際に銀層と高屈折率層を交互に重ねた光学フィルターを６０℃、相対湿度９０％の環境において５００時間程度保持すると、光線透過率等の性能が著しく損なわれることが判明した。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、上記従来技術に鑑み、プラズマディスプレイから発生する、周辺電子機器の誤操作をまねく近赤外線を遮断する近赤外線防止性に優れ、アンチニュートンリング性を兼ね備え、かつ耐環境性に優れたディスプレイ用フィルターを提供することである。すなわち、銀を主体とした金属層と、透明高屈折率層、例えば、酸化インジウムや酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫とを交互に重ねることにより、透明性と上記調光性を兼ね備えたフィルムを用いた、光学フィルターにおいて、上記薄膜多層積層面上に、トリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂からなる樹脂を塗布することにより、耐環境性を改善されることを見いだし本発明に到達した。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、（１）透明基体（Ａ）の一方の主面上に、少なくとも、調光フィルム（Ｂ）が貼り合わされたディスプレイ用フィルターにして、該調光フィルム（Ｂ）が、透明高分子フィルム（Ｃ）の一方の主面上に、少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、（Ｄ）／（Ｅ）を繰り返し単位として４回以上繰り返し積層され、さらにその上に少なくとも高屈折率透明薄膜層（Ｄ）が積層され、さらに、その上に透明樹脂層（Ｆ）が形成されてなる、可視光線透過率５０％以上であり、波長８２０ｎｍ〜１０００ｎｍの光に対する光線透過率が１０％以下であることを特徴とするフィルムであって、該金属薄膜層（Ｅ）が、銀または銀を主体とする合金であり、該透明樹脂層（Ｆ）が、トリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂からなることを特徴とするディスプレイ用光学フィルター、
（２）高屈折率透明薄膜層（Ｄ）が、主として酸化インジウムで構成されることを特徴とする（１）記載のディスプレイ用光学フィルター、
（３） （１）記載の光学フィルターの少なくとも１つの主面にアンチニュートンリングフィルムをさらに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートン層を形成した構成のディスプレイ用光学フィルター、
（４）プラズマディスプレイに好適に使用しうる（１）〜（３）のいずれかに記載のディスプレイ用光学フィルターである。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明は、〔図１〕、〔図２〕に示すように、透明基体２０の一方の主面上に、粘着剤層または接着剤層７０により、調光フィルム１０が貼り合わされたディスプレー用フィルターであり、調光フィルム１０は透明高分子フィルム３０の一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層５０、金属薄膜層４０が繰り返し積層され、さらにその上に透明樹脂層６０が形成されている。
【００１２】
本発明における透明基体（Ａ）としては、ガラス、石英等の無機化合物成形物と透明な有機高分子成形物があげられるが、高分子成形物は軽く割れにくいため、より好適に使用できる。高分子成形物は可視波長領域において透明であればよく、その種類を具体的に挙げれば、ポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭＡ）をはじめとするアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、透明ＡＢＳ樹脂等が使用できるが、これらの樹脂に限定されるものではない。特にＰＭＭＡはその広い波長領域での高透明性と機械的強度の高さから好適に使用できる。プラスチック板の厚みは十分な機械的強度と、たわまずに平面性を維持する剛性が得られればよく、特に限定されるものではないが、通常１ｍｍ〜１０ｍｍ程度である。
【００１３】
本発明でいうところの調光フィルム（Ｂ）とは、光の透過や反射を制御するフィルムの総称であり、例えば、本発明においては、可視光が透過し易く、赤外線を反射するフィルムのことを言う。本発明における調光フィルムは、本質的に透明な高分子フィルム（Ｃ）の少なくとも一方の主面に薄膜の多層膜を形成して得る。調光フィルムの基材としての透明高分子フィルム（Ｃ）は、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、ポリメチルメタクリレート等があげられるが、適当な耐熱性をもつことから、ポリエチレンテレフタレートが好適に用いられる。基材がフィルムであるから、高屈折率透明薄膜層及び金属薄膜層をロール・ツー・ロール法で連続的に形成することができる。これを使用した場合には、効率よく生産できることや、基材がフィルムであるから、調光フィルムをディスプレイのガラスに貼り付けることによりガラス破損時の飛散防止になることから、これもまた好適に使用できる。この場合、フィルムの厚さは通常１０〜２５０μｍのものが用いられる。フィルムの厚さがあまりに薄いと基材としての機械的強度に不足し、あまり厚いと可撓性が不足するためフィルムをロールで巻きとって利用するのに適さないのである。
【００１４】
これらの基材としての透明高分子フィルムは、その表面に予めグロー放電処理、コロナ処理、火炎処理、紫外線照射、電子線照射などのエッチング処理や、下塗り処理を施してこの上に形成される高屈折率透明薄膜層の上記基材に対する密着性を向上させる処理を施してもよい。さらに、電磁波シールド用透明積層体の耐屈曲性などを向上させ、透明高分子フィルムと高屈折率透明薄膜層との密着力をより増強させるため、その間に無機物層を形成してもよい。具体的な材料としては、ニッケル、クロム、金、銀、白金、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ、パラジウム等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられるが、特にこれらに限定されるものではない。その厚さは、透明性を損なわない程度の厚さであればよく、好ましくは０．０２ｎｍ〜１０ｎｍ程度である。厚さがあまり薄いと密着力向上の十分な効果が得られず、逆に厚すぎると透明性が損なわれる。高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、該無機物の金属の一部または全部は、実際には金属酸化物となっているがその効果に問題はない。また、高屈折率透明薄膜層を成膜する前に、必要に応じて溶剤洗浄や超音波洗浄などの防塵処理を施してもよい。
【００１５】
本発明においては、かかる透明高分子フィルムの一方の主面上に、高屈折率透明薄膜層及び金属薄膜層を形成する。プラズマディスプレイは、強度の近赤外線を発するため、近赤外領域である８００〜１０００ｎｍの波長領域の光をカットする必要がある。例えば、少なくとも８２０ｎｍにおける光線透過率を１０％以下、さらに好ましくは５％以下にすることが好ましい。
【００１６】
近赤外線カットには、金属の自由電子による反射を用いることができるが、金属薄膜層を厚くすると前述したように可視光線透過率も低くなり、あまり薄くすると近赤外線の反射が弱くなる。そこで、ある厚さの金属薄膜層を高屈折率透明薄膜層で挟み込んだ積層構造を１段以上重ねることにより、可視光線透過率を高くし、かつ全体的な金属薄膜層の厚さを増やすことができる。また、それぞれの層の厚さを制御することにより可視光線透過率、近赤外線の透過率、色目をある範囲で変化させることができる。可視光線透過率が低いと、ディスプレイ設置時に画像の鮮明さが低下するため、フィルターの可視光線透過率は高い程良く、少なくとも５０％以上、好ましくは５５％以上必要である。
【００１７】
光学フィルターの色目は、ディスプレイのコントラスト等に大きく影響する。本発明の用途の光学フィルターにおいては、赤紫不透過による緑色は不適であり、ニュートラルグレー、または、赤黄不透過によるブルーであることが要求される。このための色目や、可視光線透過率、近赤外線の透過率の制御は、一般に多層積層である方が光学的に設計しやすい。
【００１８】
すなわち、調光フィルム（Ｂ）が、透明高分子フィルム（Ｃ）の一方の主面上に高屈折率透明薄膜層（Ｄ）、金属薄膜層（Ｅ）が順次、繰り返し積層され、上記の効果が得られるのである。繰り返し積層数は、４回以上、好ましくは４回〜６回である。つまり、透明高分子フィルム／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、透明高分子フィルム／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層、または、透明高分子フィルム／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層／金属薄膜層／高屈折率透明薄膜層である。
【００１９】
繰り返しが３回以下だと、電磁波の反射界面が少ないことや、要求される光学特性に達成するに困難であることが問題となり、多数繰り返すことにより光学特性はより厳密に設計できる。ただし、７回以上だと、安定生産の困難さの問題が大きくなる。
【００２０】
高屈折率透明薄膜層および金属薄膜層の多層積層で、可視光線透過率、近赤外線光の透過率、色目を制御するには、透明高分子フィルムおよび薄膜材料の屈折率、消衰係数を用いたベクトル法、アドミッタンス図を用いる方法等を使った光学設計を行い、各層の薄膜材料及び、層数、膜厚等を決定する。また、光学特性を観察しながら、層数、膜厚等を制御して成膜を行うこともできる。
【００２１】
金属薄膜層の厚さは導電性、光学特性等から光学設計的かつ実験的に求められ、要求特性を持てば特に限定されるものではない。ただし、導電性等から薄膜が島状構造ではなく連続状態であることが好ましいので、４ｎｍ以上であることが望ましい。一方、金属薄膜層があまり厚すぎると透明性が問題になるので、３０ｎｍ以下が望ましい。金属薄膜の具体的な材料としては、銀、金、白金、パラジウム、ニッケル、クロム、亜鉛、ジルコニウム、チタン、タングステン、スズ等、あるいはこれらの材料の２種類以上からなる合金があげられる。なかでも銀は、導電性、赤外線反射性および多層積層したときの可視光線透過性に優れるため好適に使用できる。しかしながら、銀は化学的、物理的安定性には必ずしも優れていないので、環境中の汚染物質、熱、光等によって劣化するため、銀に金、白金、パラジウム、インジウム、スズ等の環境に安定な金属を一種以上含んだ銀を主体とする合金も好適に使用される。しかして、銀に他の金属を添加すると、その優れた導電性を阻害するので、可能であれば、少なくとも多層のうち１つの層は銀を合金にしないで用いることが好ましい。
【００２２】
隣接する高屈折率透明薄膜層が酸化物であると、該金属薄膜層の金属の一部は、実際には金属酸化物となっていることがあるが、非常に薄い領域であるため光学設計及び成膜上、特に問題はない。また、金属薄膜第１層、第２層、第３層、・・・第ｎ層（ｎ≧４）は、同じ厚さとは限らず、同じ金属あるいは合金でなくともよい。金属薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、真空蒸着、メッキ等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００２３】
高屈折率透明薄膜層を形成する透明薄膜としては、可視域において透明性を有し、金属薄膜層における可視域における光線反射を防止する効果を有するものであれば、特に材質が限定されるものではない。好ましくは、可視光線に対する屈折率が１．６以上、より好ましくは１．７以上の屈折率の高い材料が用いられる。このような透明薄膜を形成する具体的な材料としては、インジウム、チタン、ジルコニウム、ビスマス、スズ、亜鉛、アンチモン、タンタル、セリウム、ネオジウム、ランタン、トリウム、マグネシウム、ガリウム等の酸化物、または、これら酸化物の混合物や、硫化亜鉛などが挙げられる。これら酸化物あるいは硫化物は、金属と酸素あるいは硫黄と化学量論的な組成にズレがあっても、光学特性を大きく変えない範囲であるならば差し支えない。なかでも、酸化インジウムや酸化インジウムと酸化スズの混合物（ＩＴＯ）は、透明性、屈折率に加えて、成膜速度が速く金属薄膜層との密着性等が良好であることから好適に使用できる。また、ＩＴＯのごとき比較的高い導電性を持つ酸化物半導体薄膜を用いることによって、電磁波の吸収層を増やし、また電磁波シールド体の導電性を上げることができる。
【００２４】
高屈折率透明薄膜層の厚さは、透明高分子フィルムの光学特性、金属薄膜層の厚さ、光学特性、および、透明薄膜層の屈折率等から光学設計的かつ実験的に求められ、特に限定されるものではないが、５ｎｍ以上２００ｎｍ以下であることが好ましく、より好ましくは１０ｎｍ以上１００ｎｍ以下である。また、高屈折率透明薄膜第１層、第２層、第３層、・・・第ｎ層（ｎ≧５）は、同じ厚さとは限らず、同じ透明薄膜材料でなくともよい。高屈折率透明薄膜層の形成には、スパッタリング、イオンプレーティング、イオンビームアシスト、真空蒸着、湿式塗工等、従来公知の方法のいずれでも採用できる。
【００２５】
なかでもスパッタリングは、膜厚制御、多層積層には好適であり、金属薄膜層と高屈折率透明薄膜層を容易に繰り返し連続的に成膜できる。具体例として実施例において後述するが、主として酸化インジウムで構成される高屈折率透明薄膜層と銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層を、スパッタリング法により連続成膜する。主として酸化インジウムで構成される高屈折率透明薄膜層の形成には、インジウムを主成分とする金属ターゲットまたは酸化インジウムを主成分とする焼結体ターゲットを用いた反応性スパッタリングを行う。反応性スパッタリング法においては、スパッタガスにはアルゴン等の不活性ガス、反応性ガスには酸素を用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法等が利用できる。酸素ガス流量は、得られる成膜速度等から実験的に求められ、所望の透明性を持つ薄膜が得られるように制御する。
【００２６】
銀または銀を含む合金からなる金属薄膜層の形成には、銀または銀を含む合金をターゲットとしたスパッタリングを行う。スパッタガスにはアルゴン等の不活性ガスを用い、通常圧力０．１〜２０ｍＴｏｒｒ、直流（ＤＣ）あるいは高周波（ＲＦ）マグネトロンスパッタリング法等が利用できる。
【００２７】
上記の方法により形成した高屈折率透明薄膜層および金属薄膜層の原子組成は、オージェ電子分光法（ＡＥＳ）、誘導結合プラズマ法（ＩＣＰ）、ラザフォード後方散乱法（ＲＢＳ）等により測定できる。また、これらの層構成および膜厚は、オージェ電子分光の深さ方向観察、透過型電子顕微鏡による断面観察等により測定できる。また膜厚は、成膜条件と成膜速度の関係をあらかじめ明らかにした上で成膜を行うことや水晶振動子等を用いた成膜中の膜厚モニタリングにより、制御される。
【００２８】
さらに、上記で述べたように、銀薄膜層を含む調光フィルムの薄膜形成面には、透明樹脂層（Ｆ）を設け、ディスプレイから発せられる熱や、使用環境中の熱、酸素、水蒸気等のガスによる薄膜の劣化を防ぐことが好ましい。透明樹脂層としては、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、フッ素系樹脂等が挙げられる。特に好ましくは紫外線硬化型の樹脂が好ましく用いられる。透明樹脂層の形成には、用いる樹脂によって、印刷、塗工する方法など従来公知の方法を選定して用いることができ、その厚さは、これもまた特に限定されるものではないが、１μｍ〜５０μｍ程度である。透明樹脂層は、単層であっても複数の樹脂層からなるものでも良い。
【００２９】
さらに、銀薄膜層を含む調光フィルムの薄膜層の安定性を向上させるために、透明樹脂が、トリアジンアミン系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂からなることが好ましいのである。なお、金属層が銀合金であっても当該処理が耐環境性を向上させるのに有効であることは言うまでもない。
【００３０】
紫外線硬化樹脂としては、アクリル系の紫外線硬化樹脂を用いるのが好適である。これに、トリアジンアミン系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種類の化合物を０．００１〜０．１重量％、好ましくは０．０１〜０．０５重量％の割合で溶かし込み、光反射層上にスピンコートやスクリーン印刷等の手法によりコートする。
【００３１】
本発明においては、透明基体（Ａ）の一方の主面上に、上記した調光フィルム（Ｂ）を貼り合わせるが、この貼り合わせには、任意の粘着材または接着剤を使用できる。粘着剤または接着剤は、実用上の接着強度があればシート上のものでも液状のものでもよく、粘着シート貼り付けた後、または接着材塗布後に、各部材をラミネートすることによって貼り合わせを行う。液状のものは塗布、貼り合わせ後に、室温放置または加熱により硬化する接着剤であり、塗布方法としては、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等が挙げられる。どれを採用するかは、接着剤の種類、粘度、塗布量等を考慮して、選定される。粘着材もしくは接着剤層の厚みは、特に限定されるものではないが、０．５μｍ〜５０μｍ、好ましくは１μｍ〜３０μｍである。
【００３２】
本発明においては、〔図３〕、〔図４〕に示すように、上記のように製作した光学フィルターの少なくとも１つの主面にアンチニュートンリングフィルムをさらに張り合わせるか、もしくは、アンチニュートンリング層を形成してもよい。本発明でいうところのアンチニュートンリングフィルムとは、透明高分子フィルムの表面に０．１〜１０μｍ程度の微小な凹凸を付けることにより、当該フィルムが剛性の高い基板、例えばガラス板上に接触した場合にフィルムと基板の間でニュートンリングの発生を防止することができるフィルムである。上記目的に用いることができる透明高分子フィルムとしてはやはり、ポリエチレンテレフタレート、ポリエーテルサルフォン、ポリスチレン、ポリエチレンナフタレート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリプロピレン、ポリイミド、トリアセチルセルロース、ポリメチルメタクリレート等があげられるが、適当な耐熱性をもつことからポリエチレンテレフタレートが好適に用いられる。
【００３３】
表面に微小な凹凸をつける方法としては、機械的に表面に凹凸を付ける方法や、適当な粒径をもつフィラー（粒子）を樹脂と共に塗布する方法があるが、要は適当な凹凸をつけることが重要であり、かならずしも上記方法に限定されるものではない。なお、アンチニュートンリングフィルムの厚みとしては作業上および工程上の限定があるだけであり、原理的な限定があるわけではない。作業上は、２５〜２００μｍが適当である。具体的には、アクリル系樹脂、シリコン系樹脂、メラミン系樹脂、ウレタン系樹脂、アルキド系樹脂等の熱硬化型又は光硬化型樹脂に、シリカ、メラミン、アクリル等の無機化合物または有機化合物の粒子を分散させたインキ化したものを、バーコート法、リバースコート法、グラビアコート法、ダイコート法、ロールコート法等によって基体上に塗布、硬化させる。粒子の平均粒径は、１〜４０μｍであり、ノングレア層またはアンチニュートンリング層のヘイズは０．５％以上５％以下であり、好ましくは０．５％以上３％以下である。ヘイズが小さすぎるとアンチニュートンリング能が不十分であり、ヘイズが大きすぎると、平行光線透過率が低くなり、ディスプレイの視認性が悪くなる恐れがある。
【００３４】
さらに、アンチニュートンリングフィルムはディスプレーの面への外光の写り込みを防止する効果もあり、アンチニュートンリングの能力と防眩性能の両方を期待できるのである。
【００３５】
かくして、本発明におけるディスプレー用の光学フィルターの構成としては、〔図２〕に示すような透明基体（Ａ）２０／調光フィルム（Ｂ）１０、アンチニュートンリングフィルム／透明基体（Ａ）／調光フィルム（Ｂ）、透明基体（Ａ）／調光フィルム（Ｂ）／アンチニュートンリングフィルム、〔図３〕に示すようなアンチニュートンリングフィルム８０／透明基体（Ａ）２０／調光フィルム（Ｂ）１０／アンチニュートンリングフィルム８０、等を得ることができる。なお、透明基体と調光フィルムやアンチニュートンリングフィルムは、粘着剤や接着剤で貼り合わせることで光学フィルターを構成することができるが、アンチニュートンリングフィルムを貼り合わせる代わりに、〔図４〕に示すように基体表面や調光フィルム表面に塗布法によりアンチニュートンリング層８０を形成することも可能である。この場合のアンチニュートンリング層とは上記したアンチニュートンリングフィルムと同様の作用効果を奏する層である。
【００３６】
なお、本発明において、色目や色度の調整や近赤外線の吸収のため有機もしくは無機の色素を導入することが、性能向上に有効であることは当業者には容易に理解できるであろう。その際、色素を導入する方法としてはフィルムへの練り込みや塗布樹脂に含有させ透明基体に塗ることができるのは言うまでもない。
【００３７】
また、アンチニュートンリング処理や、アンチグレア処理の代わりに、もしくは、併用して反射防止処理を施すことや、また、表面に疎水性の防汚処理を施すことができること、さらに、静電気防止のために導電層を適宜設けることは当業者の設計の範囲内であろう。
【００３８】
【実施例】
つぎに、本発明を実施例により具体的に説明する。本発明はこれらによりなんら制限されるものではない。なお、以下の実施例および比較例で示す薄膜の厚さは、成膜条件から求めた値であり、実際に測定した膜厚ではない。
【００３９】
［実施例１］
透明高分子フィルムをしてのポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ターゲットにインジウムを、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧８０ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１２ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１２ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜３０ｎｍの順に積層し、さらに、多層膜積層面に透明樹脂層として、ベンゾイミダゾールを０．０２重量％含有させたアクリル系樹脂をスクリーン印刷にて２０μｍ形成し、上記樹脂を紫外線で硬化させることにより本発明の調光フィルムを作製した。次に、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（両面フラット）に、透明樹脂層が外側になるように上記調光フィルムを貼り合わせ本発明のディスプレイ用光学フィルターを作製した。
【００４０】
［実施例２］
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ターゲットに酸化インジウムを、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧３ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッタリング法により酸化インジウム薄膜、銀薄膜をマグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜６０ｎｍ、銀薄膜８ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１２ｎｍ、酸化インジウム薄膜２０ｎｍの順に積層し、さらに、多層膜積層面に保護樹脂層として、メルカプトベンゾイミダゾールを０．０２重量％含有させたアクリル系樹脂をスクリーン印刷にて２０μｍ形成し、紫外線で上記樹脂を硬化させることにより、本発明の調光フィルムを作製した。次に、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（両面フラット）に、透明樹脂が外側になるように上記調光フィルムを貼り合わせ本発明のディスプレイ用光学フィルターを作製した。
【００４１】
［実施例３］
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、ターゲットに酸化インジウム（５重量％酸化錫含有）を、スパッタガスにアルゴン・酸素混合ガス（全圧２６６ｍＰａ：酸素分圧４ｍＰａ）を用いて、酸化インジウム薄膜を、ターゲットに銀を、スパッタガスにアルゴンガス（全圧２６６ｍＰａ）を用いて銀薄膜を、マグネトロンＤＣスパッタリング法により酸化インジウム薄膜、銀薄膜をマグネトロンＤＣスパッタリング法により、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜７０ｎｍ、銀薄膜１０ｎｍ、酸化インジウム薄膜６０ｎｍ、銀薄膜６ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜６ｎｍ、酸化インジウム薄膜４０ｎｍ、銀薄膜６ｎｍ、酸化インジウム薄膜２０ｎｍの順に積層し、さらに、多層膜積層面に保護樹脂層として、ベンゾトリアゾールを０．０２重量％含有させたアクリル系樹脂をスクリーン印刷にて２０μｍ形成し、紫外線で上記樹脂を硬化させた。次に、厚さ２ｍｍのＰＭＭＡ板（両面フラット）に貼り合わせた。
【００４２】
さらに、ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ：５０μｍ）の一方の主面に、大日本インキ化学工業（株）製熱硬化ニス（ＳＦ−Ｃ−３３５）３ｇをトルエン／メチルケトン（１０：１）の混合溶媒１００ｇに溶解して、塗布、自然乾燥後、１５０℃で２０秒間硬化させて１μｍ厚のアンチニュートンリング層を形成し、アンチニュートンリングフィルムを作製し、これを貼り合わせることにより、アンチニュートンリングフィルム／アクリル板／調光フィルム／アンチニュートンリングフィルムの構成になる光学フィルターを作製した。
【００４３】
［実施例４］
ベンゾイミダゾールの代わりに、トリアジンアミン系化合物を用いた以外は実施例１と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを作製した。
【００４４】
〔実施例５］
ベンゾイミダゾールの代わりにチオカルバミン酸塩を用いた以外は実施例１と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを作製した。
【００４５】
［比較例１］
紫外線硬化のアクリル樹脂にとくに何も添加しなかったのを除いて、実施例１と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを製作した。
【００４６】
［比較例２］
紫外線硬化のアクリル樹脂にとくに何も添加しなかったのを除いて、実施例２と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを製作した。
【００４７】
［比較例３］
紫外線硬化のアクリル樹脂にとくに何も添加しなかったのを除いて、実施例３と同様の手順でディスプレイ用光学フィルターを製作した。
【００４８】
▲１▼可視光線透過率（Ｔvis ）及び近赤外線透過率
（株）日立製作所製分光光度計（Ｕ−３４００）により３００〜１０００ｎｍの平行光線透過率を測定した。ここで求めた透過率からＴvis を計算した。近赤外線透過率は８２０ｍｎ、８５０ｎｍ、１０００ｎｍで評価を行った。以上の結果を〔表１〕に掲げる。
【００４９】
【表１】
0003877356.tif 000002
〔表１〕から明らかなように、実施例１〜５及び比較例１〜３とも、大きな赤外線抑止能を有している。
【００５０】
▲２▼湿熱試験
次に実施例１〜５および比較例１〜３で作製した光学フィルターを６０℃、相対湿度９０％の湿熱槽に５００時間放置し、取り出して、光学特性を調べた。その結果を〔表２〕に示す。
【００５１】
【表２】
0003877356.tif 000003
【００５２】
上記実施例１〜５および比較例１〜３より、本発明のディスプレイ用光学フィルターは、優れた近赤外線遮断能力を持つばかりでなく、優れた耐環境性を兼ね備えたものであることがわかる。
【００５３】
【発明の効果】
以上のごとく本発明によれば、透明樹脂層にトリアジンアミン系化合物、メルカプトベンゾイミダゾール系化合物、チオジプロピオン酸エステル系化合物、ベンゾイミダゾール系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物およびチオカルバミン酸塩よりなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物を含有する紫外線硬化樹脂を使用することにより、耐環境性に優れ、かつ、近赤外線遮断能に優れた光学フィルターを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のディスプレイ用光学フィルターに用いる調光フィルムの構成の一例を示す断面図
【図２】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成の一例を示す断面図
【図３】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成の一例を示す断面図
【図４】本発明のディスプレイ用光学フィルターの構成の一例を示す断面図
【符号の説明】
１０  調光フィルム
２０  透明基体
３０  透明高分子フィルム
４０  金属薄膜層（銀もしくは銀を主体とする合金の薄膜層）
５０  高屈折率透明薄膜層
６０  透明樹脂層
７０  粘着剤層または接着剤層
８０  アンチニュートンリングフィルムもしくはアンチニュートンリング層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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