(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）炭素数６から１０の脂肪アルコールの混合物が１００重量％を占める混合中鎖脂肪アルコール、または
（ｂ）上記混合中鎖脂肪アルコール（ａ）が８０重量％以上１００重量％未満を占める、炭素数６未満の脂肪アルコールおよび／または１０より多い炭素数を有する脂肪アルコールとの混合物より選ばれた脂肪アルコールと、
鎖中にエチレンオキシド単位３〜６個のオキシエチレンブロックおよびプロピレンオキシド単位０〜４個のオキシプロピレンブロックを有するポリオキシアルキレングリコールとのエーテルの２００〜５０００ｍｇ／Ｌの濃度水溶液よりなることを特徴とする工業用精密部品洗浄液。
【請求項２】
請求項１の２００〜５０００ｍｇ／Ｌの濃度水溶液と、汚染した工業用精密部品を接触させることよりなる工業用精密部品の洗浄方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明の背景
本発明は工業用精密部品を洗浄するための洗浄剤組成物および洗浄方法に関する。
【０００２】
電算機およびその周辺機器、家電機器、通信機器、ＯＡ機器、時計、光学機器、医療機器、玩具、液晶表示器、オーディオビデオ機器などの機器の精密部品、および磁気記録部品、水晶振動子の電極部品、光電変換部品などの精密部品は組立前にきれいに洗浄しなければならない。
【０００３】
洗浄によって除去すべき汚染物は通常部品それぞれの加工時に発生した素材由来の金属、樹脂、ガラスなどの微粉末や、ほこり、イオン性諸物質などがある。洗浄は普通ハロゲン化炭化水素、石油系炭化水素およびアルコールなどの有機溶剤、または界面活性剤を含む水系洗浄剤水溶液が使用される。有機溶剤は共通して環境問題とイオン性諸物質を効果的に除去できない問題があり、石油系炭化水素およびアルコールは引火し易い危険がある。
【０００４】
他方界面活性剤を含む水系洗浄液は実質上すべての汚染物を除去する能力を持ち、大気汚染の危険がなく、かつ取扱上安全であるが、その洗浄能力を十分に発揮し維持するためには洗浄剤濃度を概して１ｗ／ｖ％以上で洗浄しなければならない。また特に袋穴など狭い隙間にある汚染は除去し難い問題もある。高濃度に設定される洗浄剤はコストが嵩み、かつその廃液処理にもコストが嵩むので不利である。比較的低濃度で高い界面活性を有するフッ素系およびシリコーン系界面活性剤の使用も考えられるが、もし洗浄液残渣として残存した場合、界面活性剤由来のイオンが精密部品の信頼性を損ねる危険がある。
【０００５】
従って本発明の課題は、以上論じた欠点なしに低濃度の水溶液として精密部品の洗浄に使用できる洗浄剤組成物を提供することである。
【０００６】
本発明の開示
上記課題は、本発明にかかる、
炭素数６〜１０の脂肪アルコールが８０〜１００重量％を占める中鎖脂肪アルコールと、鎖中にエチレンオキシド単位３〜６個のオキシエチレンブロックおよびプロピレンオキシド単位０〜４個のオキシプロピレンブロックを有するポリオキシアルキレングリコールとのエーテルよりなる工業上精密部品洗浄剤組成物によって解決される。
【０００７】
本発明はまた、この洗浄剤組成物を使用する工業用精密部品を洗浄する方法を提供する。該方法は、本発明の洗浄剤組成物の２００〜５，０００ｍｇ／Ｌの濃度水溶液を汚染した工業用精密部品と接触させることよりなる。
【０００８】
詳細な議論
非イオン界面活性剤の一種としてポリオキシエチレンアルキルエーテル型活性剤が知られている。通常このタイプの非イオン界面活性剤は、疎水基として長鎖すなわち炭素数１２以上のアルキルと、親水基としてエチレンオキシド単位５〜２０個のポリオキシエチレン鎖を持っている。これら一般の界面活性剤は高濃度、例えば１ｗ／ｖ％以上の濃度で使用することが多く、そのため排水処理設備に余分の負荷を与えるほか、袋穴などの狭い空間にある汚染物の洗浄能力が十分でない。
【０００９】
本発明において使用する界面活性剤は疎水基として中鎖すなわち炭素数６〜１０のアルキルを持ち、親水基としてエチレンオキシド単位３〜６個を有するオキシエチレンブロックと、プロピレンオキシド単位０〜４個のオキシプロピレンブロックを持っているポリオキシアルキレン鎖を持っている。
【００１０】
このような化合物は常法に従い、開始剤として炭素数６〜１０の脂肪アルコールを用い、アルカリ触媒の存在下アルコール１モルあたりエチレンオキシド３〜６モルと、プロピレンオキシド０〜４モルを逐次付加重合して製造することができる。生成する付加重合体はプロピレンオキシド（ＰＯ）単位ゼロの場合はエチレンオキシド（ＥＯ）のホモポリマーであり、ＰＯ単位１〜４の場合はＥＯとＰＯのブロックコポリマーである。ＥＯおよびＰＯのどちらを最初に付加してもよく、従って末端はＰＯ単位およびＥＯ単位のどちらでもよい。
【００１１】
中鎖すなわち炭素数６〜１０の脂肪アルコールは、ヤシ油脂肪酸のような中鎖脂肪酸を多く含んでいる脂肪酸を還元して製造することができる。原料は天然物であるヤシ油であるからこれから得られる脂肪アルコールは異なる炭素数のアルコールを種々の割合で含んでいる混合物である。開始剤として用いる脂肪アルコールは、このような混合物から炭素数が６未満および１０より多い成分を除去したり、所望炭素数の脂肪アルコールを単離して用いることもできるが、炭素数６〜１０の脂肪アルコールを８０重量％以上含んでいる限り混合物を用いることができる。
【００１２】
このような疎水基および親水基の選択により、低濃度で素材由来の微粉末や、ほこり、イオン性諸物質に対し洗浄能力の高い工業用精密部品洗浄剤組成物を提供することができる。
【００１３】
本発明の洗浄剤組成物は水、好ましくは純水に溶解して水溶液の形で洗浄に使用される。この場合洗浄剤が十分にその洗浄能力を発揮するためには水溶液は洗浄剤を少なくとも２００ｍｇ／Ｌの濃度で含むことが必要であり、また５０００ｍｇ／Ｌをこえる濃度は経済的および排水対策上不利である上にすすぎ操作に余分て負荷を与えるから望ましくない。
【００１４】
洗浄はこのように調整した洗浄液に部品を浸漬することによって実施される。その場合超音波、噴霧、ブラシ掛け等の物理的操作を併用するのが好ましい。洗浄後は水でよくすすぎ、乾燥して部品の洗浄を終了する。
【００１５】
〔実施例〕
その１．洗浄剤組成物
表１および表２に示す組成の洗浄剤組成物を用意した。表中「ＰＯ／ＥＯ」はＰＯブロックが脂肪アルコールに直結し、ＥＯブロックが末端であることを示し、「ＰＯ／ＥＯ」はその反対の形態であることを示している。なお組成物Ｎｏ．１０〜１８は比較用である。
【００１６】
【表１】
0003899445.tif 000002
【００１７】
【表２】
0003899445.tif 000003
【００１８】
その２．洗浄試験
（１）アルミＨＤＤ（ハードディスクドライブ）モデル部品洗浄試験
水溶性切削油を使って切削処理したアルミＨＤＤ部品を入手準備し、それぞれ表３に示した濃度で各洗浄剤組成物を含んでいる水溶液中５０℃で３分間超音波洗浄（６００Ｗ，４０ＫＨｚ）し、次いで３０℃で２分間純水浸漬超音波すすぎ操作を行い、さらに純水仕上げすすぎ操作を行った後乾燥し、評価検体とした。
【００１９】
この検体を常温にした後塩化メチレン槽に１検体につき１０個を浸漬し、３０Ｗ・４ＫＨｚの超音波処理をそれぞれ１０分間行い、検体を取出した後耐溶剤性の０．１μｍメンブレンフィルターにより塩化メチレンを濾過し、洗浄後残っている切粉および塵埃の重量を精密天秤により測定し、以下の基準に洗浄性を評価した。結果を表３に示す。
【００２０】
評価基準：残存切粉・塵埃重量／１０個
◎：１．０ｍｇ未満
〇：１．０ｍｇ以上〜２．０ｍｇ未満
△：２．０ｍｇ以上〜５．０ｍｇ未満
×：５．０ｍｇ以上
【００２１】
（２）付着洗浄剤すすぎ性試験
清浄にしたポリカーボーネート製円筒形（直径５ｍｍ×長さ８ｍｍ）部品１００個を治具に入れ、それぞれ表３の洗浄液（常温）に５分間浸漬した後、常温の純水すすぎ操作を３回繰り返し、常温乾燥して評価検体とした。
【００２２】
４８時間放置乾燥後、検体を分析用四塩化炭素に浸漬し、残存する洗浄剤を抽出し、赤外線分光光度計で四塩化炭素中の洗浄剤濃度を測定し、その値から部品１００個に付着していた洗浄剤の重量を求めた。これを以下の基準により評価した。
【００２３】
評価基準：残存洗浄剤重量／１００個
◎：０．５ｍｇ未満
〇：０．５ｍｇ以上〜１．０ｍｇ未満
△：１．０ｍｇ以上〜５．０ｍｇ未満
×：５．０ｍｇ以上
【００２４】
３．隙間部洗浄試験
パラフィン系カッティングオイルに浸漬したガラス板を取出し、５枚を重ね合わせた後垂直に立て掛け、２４時間放置して過剰のオイルを取り除いた後洗浄検体とした。それぞれの洗浄液に治具に入れた上記検体を浸漬し、４０℃で１０分間静置浸漬後３００Ｗ・４０ＫＨｚの超音波洗浄を１０分間行い、次いで３０℃の純水超音波すすぎを洗浄と同じ条件で１０分間２回繰り返し、純水流水仕上げすすぎを行った後乾燥し評価検体とした。
【００２５】
常温とした検体を分析用四塩化炭素に浸漬して残存するオイルを抽出し、赤外分光光度計で四塩化炭素中のオイル濃度を測定し、その値から５枚のガラス板に付着し残っていたオイルの重量を求め、以下の基準に従って評価した。
【００２６】
評価基準：残存オイル重量／ガラス板５枚
◎：０．５ｍｇ未満
〇：０．５ｍｇ以上〜１．０ｍｇ未満
△：１．０ｍｇ以上〜５．０ｍｇ未満
×：５．０ｍｇ以上
【００２７】
【表３】
0003899445.tif 000004