(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
反射鏡の製造方法であって、
前記反射鏡の基体を成型する基体成型ステップと、
前記基体の表面に、光を反射する反射膜を形成する反射膜形成ステップと、
前記反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成する重合膜形成ステップと、
前記重合膜の表面を、アルゴンガスのプラズマを用いて親水化する親水化処理ステップと
を備え、
前記重合膜形成ステップおよび前記親水化処理ステップは同一のプラズマ反応部を用いて実施され、
前記反射膜形成ステップは、前記親水化処理ステップにおいて使用する前記アルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給された前記アルゴンガスを用いて、前記反射膜を前記基体の表面に蒸着する蒸着ステップを含む請求項１に記載の反射鏡製造方法。
【請求項２】
前記重合膜形成ステップは、ヘキサメチルシロキサンを重合することによって前記重合膜を形成することを特徴とする請求項１に記載の反射鏡製造方法。
【請求項３】
前記親水化された前記重合膜の表面に、着色された膜を形成する着色膜形成ステップを更に備えたことを特徴とする請求項１に記載の反射鏡製造方法。
【請求項４】
前記親水化処理ステップは、前記アルゴンガスのプラズマが前記重合膜の表面に接触することによって、前記重合膜の表面に含まれる疎水基を親水基に置換することを特徴とする請求項１に記載の反射鏡製造方法。
【請求項５】
反射鏡を製造する装置であって、
前記反射鏡の基体を成型する基体成型部と、
アルゴンガスを供給する第１の供給源と、
前記第１の供給源から供給された前記アルゴンガスを用いることによって、前記基体の表面に光を反射する反射膜を蒸着する蒸着部と、
高周波の電流を発生する高周波電源、前記高周波電源及び前記第１の供給源に接続され、前記高周波の電流を用いて前記第１の供給源から供給された前記アルゴンガスからプラズマを生成するプラズマ生成部、及び前記プラズマ生成部に接続され、前記基体を収容するチャンバを有するプラズマ反応部と、
撥水性のモノマーのガスを供給する第２の供給源と
備え、
前記プラズマ反応部は、前記プラズマ生成部を用いて前記第２の供給源から供給された前記撥水性のモノマーからプラズマを生成し、前記チャンバ内に収容された前記基体の表面に蒸着された前記反射膜の表面に、前記撥水性の重合体の膜を形成し、
前記プラズマ反応部は、前記プラズマ生成部を用いて前記第１の供給源から供給された前記アルゴンガスから前記チャンバ内にプラズマを生成し、前記アルゴンガスのプラズマを前記重合体の膜の表面に接触させることによって前記重合体の膜の表面を親水化することを特徴とする反射鏡製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置に関する。特に本発明は、反射鏡の非有効面の表面に親水性の層を安価かつ安全に形成する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１（Ａ）及び図１（Ｂ）は、従来の自動車用灯具等に使用される反射鏡の断面構造を示す。反射鏡は、基体３８、アンダーコート１５、反射膜１０、撥水性の重合膜４２を有する。基体３８は、合成樹脂及び金属等の材料を用いて反射鏡の形状に形成される。基体３８の表面にアンダーコート１５が形成される。アンダーコート１５は、基体３８及び反射膜１０とを接着する膜である。反射膜１０は、アルミニウム等の光を反射する材料で形成され、アンダーコート１５の表面に蒸着される。反射膜１０の表面には、反射膜１０を保護するために、重合体の膜である重合膜４２が形成される。図１（Ａ）及び（Ｂ）に示すように、重合膜４２がヘキサメチルシロキサン（ＨＭＤＳＯ）の重合体で形成される場合、重合膜４２の表面には、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で形成された層１２及びメチル基（ＣＨ３）で形成された層１４が形成される。
【０００３】
重合膜４２は、表面にメチル基の層１４を有するので、重合膜４２の表面は、撥水性が大きい。そのため、図１（Ａ）に示すように、水と重合膜４２との接触角が大きい。したがって、水分が重合膜４２に進入して結露した場合、水滴が玉状になり、反射鏡の表面に異物が付着しているように見える。更に、重合膜４２の表面上に着色された膜を塗装した場合、塗装１６が付着しない部分１８が発生する。この現象は、ハジキと呼ばれる。ハジキが発生すると反射鏡の外観が損われる。したがって、重合膜４２の表面は、適度に親水性であることが好ましい。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
図２は、重合膜４２の表面に親水性の膜が形成された従来の反射鏡の断面構造を示す。従来の反射鏡製造方法は、図２に示すように、重合膜４２の表面を親水性にするために、重合膜４２の表面に、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）等の親水性の膜２０を形成した。しかし、この親水性の膜２０は、重合膜４２とは別に新たに形成されるため、親水性材料として高価な原料が必要であった。
【０００５】
また、親水性の膜２０を形成する装置が、重合膜４２を形成する装置とは別に必要であるので、反射鏡製造装置全体の構成が複雑であった。更に、親水性の膜の材料として使用される酸化ケイ素は、タブレット又は粉状であるので、材料を供給する装置が複雑となり、反射鏡製造装置全体の構成が複雑であった。したがって、反射鏡を製造するための費用が増加した。
【０００６】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる反射鏡製造方法及び反射鏡製造装置を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第１の形態による反射鏡の製造方法は、反射鏡の基体を成型する基体成型ステップと、基体の表面に、光を反射する反射膜を形成する反射膜形成ステップと、反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成する重合膜形成ステップと、重合膜の表面を、アルゴンガスのプラズマを用いて親水化する親水化処理ステップとを備える。
【０００８】
反射膜形成ステップは、親水化処理ステップにおいて使用するアルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給されたアルゴンガスを用いて、反射膜を基体の表面に蒸着する蒸着ステップを含むことが好ましい。また、反射膜形成ステップは、アルミニウムの膜を基体の表面に蒸着することが好ましい。重合膜形成ステップは、ヘキサメチルシロキサンを重合することによって重合膜を形成してもよい。  反射鏡製造方法は、親水化された重合膜の表面に、着色された膜を形成する着色膜形成ステップを更に備えてもよい。親水化処理ステップは、アルゴンガスのプラズマが重合膜の表面に接触することによって、重合膜の表面に含まれる疎水基を親水基に置換することが好ましい。更に、親水化処理ステップは、疎水基を親水基に置換する量を、親水化処理の時間に基づいて制御することが好ましい。
【０００９】
本発明の第２の形態による反射鏡を製造する装置は、反射鏡の基体を成型する基体成型部と、アルゴンガスを供給する第１の供給源と、供給源から供給されたアルゴンガスを用いることによって、基体の表面に光を反射する反射膜を蒸着する蒸着部と、高周波の電流を発生する高周波電源、高周波電源及び供給源に接続され、高周波の電流を用いて供給源から供給されたアルゴンガスからプラズマを生成するプラズマ生成部、及びプラズマ生成部に接続され、基体を収容するチャンバを有するプラズマ反応部とを備える。
【００１０】
反射鏡製造装置は、撥水性の重合体を供給する第２の供給源を更に備え、プラズマ反応部は、プラズマ生成部を用いて第２の供給源から供給された撥水性の重合体からプラズマを生成し、チャンバ内に収容された基体の表面に蒸着された反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成することが好ましい。更に、プラズマ反応部は、プラズマ生成部を用いて第１の供給源から供給されたアルゴンガスからチャンバ内にプラズマを生成し、アルゴンガスのプラズマを重合体の膜の表面に接触させることによって重合体の膜の表面を親水化することが好ましい。
【００１１】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態はクレームにかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【００１３】
図３は、本発明の反射鏡製造方法の一実施形態のフローチャートを示す。まず、反射鏡の基体を成型する（Ｓ２０）。基本の成型の一例として、合成樹脂及び金属等の原料が反射鏡の形状に射出成型される。次に、基体を水で洗浄し（Ｓ２２）、乾燥する（Ｓ２４）。次に、洗浄された基体の表面上にアンダーコートを形成する（Ｓ２６）。アンダーコートは、基体上に塗装することによって形成されてもよい。
【００１４】
次に、アンダーコートが形成された基体の表面に、光を反射する反射膜を形成する（Ｓ２８）。反射膜の一例として、アルミニウム等の光を反射する材料で形成された膜が基体の表面に蒸着される。反射膜の形成時には、下記に説明する親水化処理ステップ（Ｓ３２）において使用するアルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給されたアルゴンガスを用いる。
【００１５】
次に、反射膜の表面に、撥水性の重合体の膜を形成する（Ｓ３０）。この重合体の膜は、アルミニウム等で形成された反射膜の酸化及び腐食を防止するための耐アルカリ性の保護膜として機能する。ヘキサメチルシロキサン（ＨＭＤＳ）等のシリコンを含むモノマーのプラズマを重合することによって重合膜を形成してもよい。
【００１６】
次に、重合膜の表面の一部を、アルゴンガスのプラズマを用いて親水化する（Ｓ３２）。ここで反射鏡は、光源の光を反射し、所望の配光パターンを形成する反射鏡としての機能を受け持つ有効反射面と、有効反射面以外の部分で、配光パターンの形成に直接寄与しない非有効反射面とを有する。親水化処理は、反射鏡の反射面全体に施されるが、重合膜が親水化されすぎると、重合膜の保護膜としての機能が失われ、反射膜が酸化及び腐食する可能性があるので、重合膜の親水化の度合いを適度に調整する必要がある。
【００１７】
また、特に反射鏡の非有効反射面においては、反射鏡全体の外観を向上する等の目的のために、着色された着色膜を、重合膜の表面に形成することがある。このとき、重合膜の表面が撥水性であると、着色膜を重合膜の表面に高い品質で形成することが困難である。従って、着色膜を重合膜の表面に高い品質で形成するためには、重合膜の表面を親水化することがより効果的である。
【００１８】
親水化処理ステップ（Ｓ３２）では、反射膜生成ステップ（Ｓ２８）において使用したアルゴンガスの供給源と同一の供給源から供給されたアルゴンガスを用いて親水化処理を行う。アルゴンガスのプラズマが重合膜の表面に接触することによって、重合膜の表面に含まれる疎水基が親水基に置換される。最後に、親水化された重合膜の表面に、着色膜を形成する（Ｓ３４）。着色膜を形成する方法としては、塗装等の方法が使用される。
【００１９】
図４は、図３に示す反射膜蒸着ステップ（Ｓ２８）における反射膜蒸着の様子を示す。基体成形ステップ（Ｓ２０）で成形された基体３８の表面に、アンダーコート形成ステップ（Ｓ２６）によってアンダーコート１５が形成される。更に、アンダーコート１５の表面に反射膜１０が蒸着される。真空中でアルミニウム等の金属が加熱されることにより金属が蒸発し、アンダーコート１５の表面に蒸発した金属が凝縮することにより、反射膜１０が形成される。
【００２０】
図５は、図３に示すプラズマ重合膜生成ステップ（Ｓ３０）における重合膜の生成の様子を示す。反射膜蒸着ステップ（Ｓ２８）で形成された反射膜１０の表面に重合膜４２が形成される。図５に示す重合膜４２は、ヘキサメチルシロキサン（ＨＭＤＳＯ）の重合体によって形成される。ＨＭＤＳＯのモノマーガスのプラズマ３２が重合して反射膜１５の表面に吸着されることにより、重合膜４２は形成される。重合膜４２は、酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で形成された層及びメチル基（ＣＨ３）で形成された層を有する。重合膜４２は、表面にメチル基の層を有するので重合膜４２の表面は、撥水性を有する。重合膜４２の原料は、ＨＭＤＳＯに限られず、他の原料を用いてもよい。形成される重合膜４２の厚さは、例えば５００Åから６０００Åである。
【００２１】
図６は、図３に示す親水化処理ステップ（Ｓ３２）において、反射鏡の非有効面に位置する重合膜の表面で行われる置換反応を示す。プラズマ重合膜生成ステップ（Ｓ３０）によって形成された重合膜４２の表面は、撥水性を有するので、非有効面の重合膜の表面に存在するメチル基の層を親水化処理することによって非有効面の重合体の表面に着色膜を形成することを容易にする。
【００２２】
図６に示すように、アルゴンガスＡｒのプラズマＡｒ＋は、重合膜４２の表面に含まれるメチル基（ＣＨ３）等の疎水基に接触し、重合膜４２の表面に含まれるメチル基（ＣＨ３）等の疎水基を酸化ケイ素との結合から切り離す。この疎水基から切り離された酸化ケイ素に、雰囲気中に存在するヒドロキシ基（―ＯＨ）及びカルボキシ基（―ＣＯＯＨ）等の親水基が結合する。この反応により、疎水基が親水基に置換される。親水化処理ステップ（Ｓ３２）では、疎水基を親水基に置換する量を、親水化処理の時間に基づいて制御することができる。従って、重合膜４２の表面の親水化の度合いを親水化処理の時間に基づいて制御することができる。上記で説明したように、重合膜が親水化されすぎると、非有効面における重合膜の保護膜としての機能が失われ、反射膜が酸化及び腐食する可能性があるので、重合膜の親水化の度合いを適度に調整することが重要となる。親水化処理は、親水化された重合膜４２と水との接触角が５０°以下となるまで実施することが好ましい。
【００２３】
図７は、図３から図６に示した本実施形態の反射鏡製造方法によって形成された反射鏡の断面構造の概略を示す。反射鏡は、有効面に基体３８、アンダーコート１５、反射膜１０、及び撥水性の重合膜４２を有する。反射鏡は、非有効面に、有効面が有する要素に加えて、重合膜４２の表面を親水化処理した層４４及び着色膜４６を更に有する。図６に示す親水化処理によって非有効面の重合膜４２の表面が親水化され、親水化層４４が形成される。親水化層４４の表面に、着色膜４６が形成される。一例として、着色膜４６は、親水化層４４の表面に塗布されることにより形成されてもよい。親水化層４４は親水化されているので、親水化層４４と着色膜４６との間で撥水又はハジキ等の現象が発生することがない。したがって、重合膜４２の表面に着色膜４６を、優れた品質で形成することができる。また、図２で説明したような、重合膜４２の表面上に酸化ケイ素等の新たな膜を形成する必要がないので反射鏡を安価に製造することができる。
【００２４】
図８は、図３から図６に示した反射鏡製造方法を実現するための本発明の一実施形態である反射鏡製造装置の構成の概略を示す。反射鏡製造装置は、基体成型部９０、冷却部９４、洗浄機５０、乾燥炉５２、アンダーコート形成部５４、アンダーコート乾燥部５６、蒸着部９２、プラズマ反応部７０、第１の供給源３４、第２の供給源２６、及び静電除去装置６２を備える。
【００２５】
基体成型部９０は、合成樹脂又は金属等の原料を射出成型等により反射鏡の形状に成型することによって、基体３８を形成する。冷却部９４は、成型された基体３８を冷却する。洗浄機５０は、冷却された基体３８を洗浄する。乾燥炉５２は、洗浄された基体３８を乾燥する。アンダーコート形成部５４は、乾燥した基体３８の表面にアンダーコート１５を形成する。アンダーコート乾燥部５６は、形成されたアンダーコート１５を乾燥する。蒸着部９２は、第１の供給源３４から供給されたアルゴンガスを用いることによって、アンダーコート１５の表面に反射膜１０を蒸着する。
【００２６】
プラズマ反応部７０は、撥水性の重合膜４２を反射膜１０の表面に形成する。更に、プラズマ反応部７０は、図６で説明した原理を用いることによって非有効面の重合膜４２の表面を親水化する。本実施形態は、重合膜４２を形成する工程と、重合膜４２を親水化する工程を、同一のプラズマ反応部７０を用いて実施することができるので、反射鏡製造装置の構成を簡略化することができる。従って、重合膜４２の表面に新たな親水性の膜を形成するための装置が不要であるので、反射鏡を安価に製造することができる。
【００２７】
プラズマ反応部７０は、アルゴンガスを供給する第１の供給源３４及びモノマーのガスを供給する第２の供給源２６に接続される。また、この第１の供給源３４は、分岐して蒸着部９２にもそれぞれ接続される。すなわち、プラズマ反応不７０が行う重合膜４２の親水化処理において使用されるアルゴンガスの供給源３４は、蒸着部９２が行う反射膜１０の形成において使用されるアルゴンガスの供給源３４と同一である。従って、反射鏡製造装置の構成を簡略化することができる。更に、本実施形態は、アルゴンガスを用いて重合膜４２の表面を親水化するので、酸素を用いて重合膜４２の表面を親水化する場合と比較して安全に重合膜４２を親水化することができる。
【００２８】
同一のプラズマ反応部７０を用いて、次のように重合膜４２を形成する工程及び重合膜４２を親水化する工程が実施される。まず、第２の供給源２６の弁９６が開かれ、第２の供給源２６からモノマーのガスがプラズマ反応部７０に供給される。プラズマ反応部７０は、モノマーのプラズマを発生し、反射膜１０上でモノマーを重合させることにより、重合膜４２を反射膜１０の表面に形成する。重合膜４２を形成している間、第１の供給源３４の弁９８は、閉じられる。重合膜４２の形成が終了した後、第２の供給源２６の弁９６が閉じられ、プラズマ反応部７０のチャンバ２２内からモノマーのガスの雰囲気が除去される。次に、第１の供給源３４を開き、アルゴンガスをプラズマ反応部７０に供給する。プラズマ反応部７０は、プラズマ生成部２４を用いてアルゴンガスのプラズマを生成し、重合膜４２の表面を親水化する。
【００２９】
従って、プラズマ反応部７０に供給するガスを、第２の供給源２６から供給されるモノマーのガスから第１の供給源３４から供給されるアルゴンガスに切り替えること、又はアルゴンガスをモノマーのガスへ切り替えることによって、重合膜４２を形成する工程及び重合膜４２を親水化する工程を連続的に実施することができる。更に、プラズマ反応部７０のチャンバ２２内の真空度及びプラズマ生成部２４の出力等の処理条件は、重合膜４２を形成する工程と、重合膜４２の表面を親水化する工程とで同一であるので、処理条件を変える時間が不要である。したがって、反射鏡を短時間に製造することができる。
【００３０】
図９（Ａ）及び（Ｂ）は、図８に示したプラズマ反応部７０の構成の詳細を示す。図９（Ａ）は、プラズマ反応部７０を、プラズマ重合膜生成ステップ（Ｓ３０）において用いた場合を示し、図９（Ｂ）は、プラズマ反応部７０を、親水化処理ステップ（Ｓ３２）において用いた場合を示す。
【００３１】
プラズマ反応部７０は、高周波電源２８、プラズマ生成部２４、及びチャンバ２２を有する。高周波電源２８は、高周波の電流を発生する。プラズマ生成部２４は、第１の供給源３４及び第２の供給源２６に接続される。
【００３２】
更に、プラズマ生成部２４は、高周波電源２８に接続される。プラズマ生成部２４は、高周波電源２８から供給された高周波の電流を用いて、第２の供給源２６から供給されたモノマーのガスからモノマーのプラズマ３２を生成するか、又は第１の供給源３４から供給されたアルゴンガスからアルゴンのプラズマ３６を生成する。チャンバ２２は、プラズマ生成部２４に接続され、基体３８を収容する。
【００３３】
プラズマ反応部７０を用いて重合膜４２を形成する場合、プラズマ生成部２４によってモノマーのプラズマが生成され、チャンバ２２内に収容された基体３８上の反射膜１０の表面に、撥水性の重合体の膜が形成される。一方、プラズマ反応部７０を用いて親水化処理する場合、プラズマ生成部２４によってアルゴンのプラズマが生成され、チャンバ２２内に収容された基体３８上の重合膜４２の表面に、アルゴンのプラズマが接触することによって重合膜４２の表面が親水化される。
【００３４】
図１０は、プラズマ反応部７０のチャンバ２２内の詳細を示す。プラズマ反応部７０は、複数のプラズマ生成部２４を有する。図１０に示すプラズマ反応部７０は、６個のプラズマ生成部２４を有する。しかし、プラズマ反応部７０が有するプラズマ生成部２４の個数は、６個に限られない。カート４８上に設置された複数の基体３８が、矢印に示す方向からプラズマ反応部７０内に搬入され、プラズマ生成部２４の上部に配置される。
【００３５】
重合膜４２を生成する場合、プラズマ生成部２４は、カート上に開口面が下向きとなるように配置された基体３８に向けてモノマーガスを噴霧し、基体３８の表面にプラズマ重合膜４２を形成する。一方、重合膜４２を親水化処理する場合、プラズマ生成部２４は、アルゴンガスを基体３８に向けて噴霧し、重合膜４２の表面を親水化する。
【００３６】
カート４８上に設置された基体３８の表面に重合膜４２が形成され、重合膜４２の表面が親水化されると、カート４８は、図５中の矢印で示されるようにプラズマ反応部７０の外部へと搬出される。
【００３７】
上記に説明したように、本実施形態の反射鏡製造方法及び製造装置によれば、反射鏡を安価かつ短時間に製造することができる。
【００３８】
【実施例】
表１は、各種の親水化処理方法によって製造された反射鏡の品質を試験した結果を示す。実施例１では、本実施形態のアルゴンプラズマを用いた方法を使用して重合膜４２の表面を親水化した。実施例１において、親水化される重合膜の膜厚は、５５０Åとした。更に、実施例１では、親水化処理条件として圧力を１．３Ｐａに、高周波出力を２０００Ｗに、親水化時間を１０秒に設定した。
【００３９】
比較例１では酸素プラズマを用いた方法で親水化処理を実施した。比較例１の場合において、親水化される重合膜の膜厚は、実施例１と同じく、５５０Åとした。更に、比較例１では、親水化処理条件として圧力を０．５Ｐａに、高周波出力を５００Ｗに、親水化時間を１秒に設定した。また、比較例２では、酸素ガスを用いた方法で親水化処理を実施した。比較例２の場合において、親水化される重合膜の膜厚は、実施例１と同じく、５５０Åとした。更に、比較例２では、親水化処理条件として圧力を２０Ｐａに、親水化時間を５秒に設定した。比較例２では、プラズマを使用しないので、高周波出力は設定しなかった。
【００４０】
表１に示す各親水化処理条件で重合膜４２を親水化したところ、実施例１のアルゴンプラズマを用いた方法は、比較例１の酸素プラズマを用いる方法及び比較例２の酸素ガスを用いる方法に比べ、耐アルカリ性が高かった。すなわち、疎水性が高かった。
【００４１】
また、親水化層４４と水との接触角を５０°よりも小さくする必要があるが、実施例１の方法による接触角は、他の方法による接触角よりも低い、良好な値を示した。比較例２の酸素ガスを用いる方法では、親水化層４４と水との接触角が５０°より大きい９０°となり、基準を満たさなかった。
【００４２】
酸素プラズマ及び酸素ガスを用いて重合膜４２を親水化処理した場合、酸素の疎水基を親水基に置換する速度が大きいので重合膜４２の親水化の度合いを調整することが困難である。そのため、重合膜４２が親水化の度合いが過大となり、重合膜４２の疎水性が減少して保護膜としての機能が失われ、耐アルカリ性が低下する。
【００４３】
一方、アルゴンガスを用いて重合膜４２を親水化処理した場合、酸素に比べてアルゴンの疎水基を親水基に置換する速度は小さいので、疎水基を親水基に置換する量を、親水化処理の時間に基づいて制御することが容易である。従って、アルゴンガスを用いる本実施形態の方法は、高い耐アルカリ性を維持しつつ、水との接触角が５０°より小さくなるように、重合膜４２の親水化の度合いを制御することができる。
【００４４】
したがって、総合的に見て本実施形態の製造方法及び製造装置によって親水化された重合膜４２は、他の方法で親水化された重合膜よりも優れた品質を有する。また、反射鏡の製造費用を従来の方法及び装置よりも減少することができる。更に、比較例１及び比較例２で使用される酸素ガスは、アルゴンガスに比べ危険であるので、アルゴンガスを使用する方法は、他の方法に比べ安全である。
【００４５】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることができる。そのような変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【００４６】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば反射鏡の非有効面の表面に親水性の層を安価かつ安全に形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の自動車用灯具等に使用される反射鏡の断面構造を示す。
【図２】親水性膜２０が形成された従来の反射鏡の断面構造を示す。
【図３】本発明の反射鏡製造方法の一実施形態のフローチャートを示す。
【図４】反射膜蒸着ステップ（Ｓ２８）における反射膜蒸着の様子を示す。
【図５】プラズマ重合膜生成ステップ（Ｓ３０）における重合膜の生成の様子を示す。
【図６】親水化処理ステップ（Ｓ３２）において重合膜の表面で行われる置換反応を示す。
【図７】本発明の反射鏡製造方法によって形成される反射鏡の断面構造の概略を示す。
【図８】発明の一実施形態である反射鏡製造装置の構成の概略を示す。
【図９】図８に示したプラズマ反応部７０の構成の概略を示す。
【図１０】プラズマ反応部７０のチャンバ２２内の詳細を示す。
【表１】各種の親水化処理方法によって製造された反射鏡の品質を試験した結果を示す。
【符号の説明】
１０・・・反射膜、１２・・・酸化ケイ素（ＳｉＯ２）で形成された層１２、１４・・・メチル基（ＣＨ３）で形成された層１４、１５・・・アンダーコート、１６・・・塗装、１８・・・ハジキ、２０・・・親水性の膜、２２・・・チャンバ、２４・・・プラズマ生成部、２６・・・第２の供給源、２８・・・高周波電源、３２・・・プラズマ、３４・・・第１の供給源、３６・・・アルゴンガスのプラズマ、３８・・・基体、４２・・・重合膜、４４・・・親水化層、４６・・・着色膜、４８・・・カート、５０・・・洗浄機、５２・・・乾燥炉、５４・・・アンダーコート形成部、５６・・・アンダーコート乾燥部、６２・・・静電除去装置、７０・・・プラズマ反応部、９０・・・基体成型部、９２・・・蒸着部、９４・・・冷却部、９６、９８・・・弁、Ｓ２０・・・基体成型ステップ、Ｓ２２・・・水洗浄ステップ、Ｓ２４・・・乾燥ステップ、Ｓ２６・・・アンダーコート形成ステップ、Ｓ２８・・・反射膜蒸着ステップ、Ｓ３０・・・プラズマ重合膜生成ステップ、Ｓ３２・・・親水化処理ステップ、Ｓ３４・・・着色膜形成ステップ
【図１】
0003908036.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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