(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学材料により形成されたレンズをあおるレンズのあおり装置において、
前記レンズを支持する複数の梁と、
前記複数の梁に静電力を作用させる静電力印加手段と、
前記静電力印加手段によって前記複数の梁のうちの少なくとも一つの梁に静電力を作用させて前記梁に前記レンズの光軸方向の撓みを発生させ、前記レンズの光軸を変更する光軸変更手段と、
を備えることを特徴とするレンズのあおり装置。
【請求項２】
前記複数の梁は、３つ以上であることを特徴とする請求項１に記載のレンズのあおり装置。
【請求項３】
前記複数の梁は、螺旋状に形成されていることを特徴とする請求項１または請求項２に記載のレンズのあおり装置。
【請求項４】
前記複数の梁の幅は、前記レンズを支持する側が狭く形成されていることを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項５】
前記複数の梁の厚さは、前記レンズを支持する側が薄く形成されていることを特徴とする請求項１〜請求項４のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項６】
前記静電力印加手段は、
前記複数の梁に形成された第１の電極と、
前記複数の梁に空隙を介して各々対向する位置に形成された第２の電極と、
前記複数の梁に形成された第１の電極と前記第２の電極との間に電圧を印加して、前記複数の梁に静電力を作用させる電圧印加手段と、
を含むことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項７】
前記第1の電極と前記第２の電極は、当該電極間に前記レンズの光軸方向の静電気力を含む静電気力が発生するよう配置されること、を特徴とする請求項６に記載のあおり装置。
【請求項８】
前記空隙は、非平行な空隙であることを特徴とする請求項６または請求項７に記載のレンズのあおり装置。
【請求項９】
前記レンズと前記複数の梁は、同一の材料で形成されていることを特徴とする請求項１〜請求項８のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項１０】
前記レンズ、前記複数の梁、および前記第１の電極が形成された第１の基板と、前記第２の電極が形成された第２の基板とが接合されて形成されることを特徴とする請求項６〜請求項９のいずれか１つに記載のレンズのあおり装置。
【請求項１１】
前記第２の基板は半導体材料であることを特徴とする請求項１０に記載のレンズあおり装置。
【請求項１２】
前記第２の基板には、前記電圧印加手段が設けられていることを特徴とする請求項１０または請求項１１に記載のレンズのあおり装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，レンズのあおり装置に関し、詳細には、浮上型光ヘッド等に適したアクチュエータを用いたレンズのあおり装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクドライブのピックアップ部分のトラッキング調整用のあおり機構のアクチュエータとしては、ムービング・コイル、永久磁石および磁性体を用いたムービング・コイル型モータが主として使われている（ラジオ技術社刊「光ディスク技術」１２４頁）。
【０００３】
例えば、特許第２７１９９７４号では、磁気駆動装置を用いた光ピックアップが開示されている。同公報に示す光ピックアップの磁気駆動装置では、ばねによって変位自在に支持されているレンズホルダにマグネットが装備され、かつ、固定側には前記マグネットに対向する磁性体ヨークならびに駆動コイルが設けられている磁気駆動装置において、レンズホルダが変位する方向の幅寸法をａ、ヨークの縦寸法をｂ、マグネットとヨークのギャップ寸法をｇとし、レンズホルダがその可動必要範囲において変位したとき、レンズホルダに作用する磁気的な力が前記変位距離にほぼ比例するように、ｘ＝ｇ／（ｂ−ａ）の値が設定されているものである。
【０００４】
また、特許第２７５７５３９号では、浮上型光ヘッドのトラッキング調整方法としてリレーレンズを用いた方法が開示されている。同公報の浮遊型光ヘッドは、レーザービームを光ディスクに収束させるための対物レンズと、この対物レンズを動圧空気軸受効果により光ディスクの表面から浮上させて、対物レンズと光ディスクとの距離をほぼ一定に保持するためのスライダーとを有し、駆動手段によって光ディスクの半径方向に沿って駆動される可動部と、上記レーザービームの光源と、フォーカシングおよびトラッキングのずれ量を検出する検出手段と、この検出手段からの検出信号に基づいてフォーカシング制御を行うフォーカシング制御手段とを有する固定部とからなる浮上型光ヘッドにおいて、上記固定部に、レーザービームの微細なトラッキング制御を光学的に行う複数枚のレンズを組み合わせたレンズからなるトラッキング制御手段と、前記検出手段から出力されるトラッキングのずれ量に対応した信号を、高周波側の信号と低周波側の信号に分離する信号分離回路と、この信号分離回路によって分離された低周波側の信号に基づいて、前記駆動手段の駆動を制御する第１の駆動制御回路と、上記信号分離回路によって分離された高周波側の信号に基づいて、前記トラッキング制御手段におけるリレーレンズの一方を光軸と直交する方向へ移動させる駆動を制御する第２の駆動制御回路とを備えている。
【０００５】
また、特開平５−９４６２８号公報では、浮上型光ヘッドのトラッキング調整用アクチュエータとしてリニアモータを用いる方法が開示されている。同公報の光学的記録再生装置では、レーザービームを光ディスクに収束させるための対物レンズと、この対物レンズを動圧空気軸受効果により光ディスクの表面から浮上させて、対物レンズと光ディスクとの距離をほぼ一定に保持するためのスライダーとを有し、駆動手段によって光ディスクの半径方向に沿って駆動される可動部と、上記レーザービームの光源と、フォーカシングおよびトラッキングのずれ量を検出する検出手段と、この検出手段からの検出信号に基づいてフォーカシング制御を行うフォーカシング制御手段と、上記検出手段からの検出信号に基づいてトラッキング制御を行うトラッキング制御手段とを有する固定部とからなる浮上型光ヘッドにおいて、上記固定部に設けられたトラッキング制御手段が、レンズを光軸方向と直交する方向に移動することによってトラッキングの制御を行うレンズを備え、このトラッキング制御用のレンズを、高剛性の弾性支持部材によって支持して光軸方向と直交する方向に移動可能としたものである。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のムービングコイル型アクチュエータ方式、リレーレンズ方式、およびリニアモータ方式では、いずれも重量が重く、浮上型光ヘッドには不向きである。また、かかる方式では、重量が重いために、慣性が大きく高速のトラッキング補正を行うためのレンズのあおり調整が高速で行えないという問題がある。さらに、かかる方式は、アクチュエータ自体も構造が複雑なため、ヘッドの実装組立が複雑になるという問題がある。
【０００７】
本発明は、上記に鑑みてなされたものであり、浮上型光ヘッドに適した、軽量でかつ簡単な構造のアクチュエータを用いたレンズのあおり装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【解決を解決するための手段】
上記課題を解決するために、請求項１にかかる発明は、光学材料により形成されたレンズをあおるレンズのあおり装置において、前記レンズを支持する複数の梁と、前記複数の梁に静電力を作用させる静電力印加手段と、前記静電力印加手段によって前記複数の梁のうちの少なくとも一つの梁に静電力を作用させて前記梁に前記レンズの光軸方向の撓みを発生させ、前記レンズの光軸を変更する光軸変更手段と、を備えるものである。上記発明によれば、複数の梁はレンズを支持し、静電力印加手段は複数の梁に静電力を作用させ、複数の梁に作用する静電力によりレンズをあおり、レンズの角度を変更する。
【０００９】
また、請求項２にかかる発明は、請求項１にかかる発明において、前記複数の梁は、３つ以上であることとした。上記発明によれば、３つ以上の梁を形成する。
【００１０】
また、請求項３にかかる発明によれば、請求項１または請求項２にかかる発明において、前記複数の梁は、螺旋状に形成されていることとした。上記発明によれば、複数の梁を螺旋状に形成する。
【００１１】
また、請求項４にかかる発明によれば、請求項１〜請求項３のいずれか１つにかかる発明において、前記複数の梁の幅は、前記レンズを支持する側が狭く形成されているものである。上記発明によれば、複数の梁の幅をレンズを支持する側を狭く形成する。
【００１２】
また、請求項５にかかる発明によれば、請求項１〜請求項４のいずれか１つにかかる発明において、前記複数の梁の厚さはレンズを支持する側が薄く形成されているものである。上記発明によれば、複数の梁の厚さをレンズを支持する側を薄く形成する。
【００１３】
また、請求項６にかかる発明は、請求項１〜請求項５のいずれか１つにかかる発明において、前記静電力印加手段は、前記複数の梁に形成された第１の電極と、前記複数の梁に空隙を介して各々対向するように形成された第２の電極と、前記複数の梁に形成された第１の電極と前記第２の電極との間に電圧を印加して、前記複数の梁に静電力を作用させる電圧印加手段と、を含むものである。上記発明によれば、静電力印加手段では、電圧印加手段は、複数の梁に形成された第１の電極と、前記複数の梁に空隙を介して各々対向するように形成された第２の電極間に電圧を印加して、複数の梁に静電力を作用させる。
【００１４】
また、請求項７にかかる発明は、請求項６にかかる発明において、前記第1の電極と前記第２の電極は、当該電極間に前記レンズの光軸方向の静電気力を含む静電気力が発生するよう配置される。
【００１５】
また、請求項８にかかる発明は、請求項６または請求項７にかかる発明において、前記空隙は、非平行な空隙であることとした。上記発明によれば、空隙を非平行に形成する。
【００１６】
また、請求項９にかかる発明は、請求項１〜請求項８のいずれか１つにかかる発明において、前記レンズと前記複数の梁は、同一の材料で形成されていることとした。上記発明によれば、レンズと複数の梁を同一の材料で形成する。
【００１７】
また、請求項１０にかかる発明は、請求項６〜請求項９のいずれか１つにかかる発明において、前記レンズ、前記複数の梁、および前記第１の電極が形成された第１の基板と、前記第２の電極が形成された第２の基板とが接合されて形成されることとした。上記発明によれば、レンズ、複数の梁、および第１の電極が形成された第１の基板と、第２の電極が形成された第２の基板とを接合してレンズのあおり装置を形成する。
【００１８】
また、請求項１１にかかる発明は、請求項１０にかかる発明において、前記第２の基板は半導体材料であることとした。上記発明によれば、第２の基板を半導体材料で形成する。
【００１９】
また、請求項１２にかかる発明は、請求項１０または請求項１１にかかる発明において、前記第２の基板には、前記電圧印加手段が設けられていることとした。上記発明によれば、電圧印加手段を第２の基板に形成する。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して、本発明にかかるレンズのあおり装置の好適な実施の形態を、（実施の形態１）、（実施の形態２）の順に詳細に説明する。
【００２１】
（実施の形態１）
図１は実施の形態１にかかるレンズのあおり装置の概略構成を示しており、（ａ）はレンズのあおり装置の平面図、（ｂ）は、（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。
【００２２】
図１において、１００はレンズ１０１や４つの梁１０２ａ〜１０２ｄが形成された第１の基板を示している。１０１は第１の基板の略中央部に形成されたレンズを示している。１０２ａ〜１０２ｄは、レンズ１０１を第１の基板１００の所定円Ｃに沿って４方向から支持する４つの梁を示している。また、４つの梁１０２ａ〜１０２ｄには、各々不図示の電極（第１の電極）が形成されている。
【００２３】
２００は電極等が形成された第２の基板を示している。第１の基板１００の下面と第２の基板２００の上面は接合されている。この第２の基板２００には、レンズ１０１の円周と略同じ大きさの円形の開口部２０１が形成されている。この開口部２０１を介してレンズ１０１に光が入射する。また、第２の基板２００には、開口部２０１に沿ってリング状の凹部２０２が形成されている。このリング状の凹部２０２の外周の大きさは所定円Ｃと略同じ大きさとなっている。第１の基板１００の４つの梁１０２ａ〜１０２ｄと第２の基板２００のリング状の凹部２０２間にはそれぞれ空隙２０４が形成されている。
【００２４】
そして、リング状の凹部２０２には、第１の基板１００の４つの梁１０２ａ〜１０２ｄに空隙２０４を介して各々対向する位置に、４つの電極（第２の電極）２０３ａ〜２０３ｄ（２０３ａ、２０３ｃは図６参照）が形成されている。２５０は、４つの梁１０２ａ〜１０２ｄに形成された電極と、第２の基板２００の４つの電極２０３ａ〜２０３ｄ間に電圧を印加して、４つの梁１０２ａ〜１０２ｄに静電力を作用させる電圧制御回路を示している。電圧制御回路２５０により、梁１０２ａ〜１０２ｄに形成された電極と電極２０３ａ〜２０３ｄ間に電圧が印加されると、梁１０２ａ〜１０２ｄには静電力により撓みが発生する。梁１０２ａ〜１０２ｄを独立に撓ませれば、力学的な関係からレンズ１０１のあおり方向を任意に制御できることになる。電圧制御回路２５０は、梁１０２ａ〜１０２ｄを独立に撓ませて、レンズ１０１のあおり方向を任意の方向に制御する。なお、電圧制御回路２５０は第２の基板２００に設けることにしても良い。
【００２５】
つぎに、図１および図２を参照して梁を撓ませてレンズ１０１のあおり方向を変更する場合を説明する。図２は、梁を撓ませてレンズ１０１のあおり方向を変更する場合を説明するための説明図である。
【００２６】
図１は、梁１０２ａ〜１０２ｄのいずれにも静電力が作用していない場合を示しており、レンズ１０１の光軸は第１の基板１００に対して垂直となっている。ここで、電圧制御回路２５０は、例えば、梁１０２ｄの電極と、梁１０２ｄに対して空隙２０４を介して対向する位置に配された電極２０３ｄ間に電圧を印加すると、梁（電極を含む）１０２ｄと電極２０３ｄ間に静電力が作用し、図２に示す如く、梁１０２ｄは電極２０３ｄに引きつけられるように撓むことになる。これにより、レンズ１０１のあおり方向が同図に示す如くとなり、レンズ１０１の光軸も変更されることになる。すなわち、レンズ１０１を固定している４つの梁１０２ａ〜１０２ｄのうち１つの梁が撓むことにより、レンズ１０１の光軸が撓んだ梁１０２ｄの方向にあおられる。このように、レンズ１０１を固定している梁１０２ａ〜１０２ｄに静電力を作用させることにより、レンズの光軸を任意の方向にあおることが可能となる。
【００２７】
つぎに、図１のレンズのあおり装置の各部の材料および形成方法等について説明する。レンズ１０１としては、凸レンズ、凹レンズ、および非球面レンズ等の種々のレンズを使用することができる。また、レンズ１０１、梁１０２ａ〜１０２ｄ、および第１の基板１００は、図１に示したように、同じ材料で一体的に形成することにしても良いし、レンズ１０１、梁１０２ａ〜１０２ｄ、および第１の基板１００を別々に形成した後に組み立てて一体構造とすることにしても良い。特に、レンズの径が小さい微小レンズ（マイクロレンズ）の場合には、マイクロマシニングの手法を用い、前者の如く一体的に形成するほうが望ましい。
【００２８】
梁１０２ａ〜１０２ｄの材料および寸法は、梁で固定するレンズの寸法、重量、およびあおりの範囲、ならびに静電力を発生させるために印加する電圧の大きさ等の要素から決定される。梁の数は、あおりの範囲により決めることができるが、少なくとも３本以上必要である。梁に形成する電極は、梁毎に個別に形成しても良いが、梁側の電極をグランドとして使用する場合には、各々の梁に共通の電極を形成することにしても良い。
【００２９】
梁１０２ａ〜１０２ｄに形成される電極としては、広く金属材料を用いることができる。また、梁１０２ａ〜１０２ｄを半導体材料で形成する場合には、不純物を注入／拡散して低抵抗化し、梁自体を電極とすることにしても良い。
【００３０】
また、電極２０３ａ〜２０３ｄの材料としては、ガラス、金属、半導体など種々の材料を用いることができる。電極の材料としては梁に形成する場合と同様に金属材料を広く使用することができるが、第２の基板２００にシリコンなどの半導体材料を用いる場合には伝導型の異なる不純物を拡散し、ｐｎ接合による電極を形成することにしても良い。
【００３１】
つぎに、図１のレンズのあおり装置の製造方法を図３〜図８を参照して説明する。図３（ａ）はレンズ１０１および梁１０２ａ〜１０２ｄを形成する第１の基板１００の平面図、図３（ｂ）は図３（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。図４（ａ）はレンズ１０１および梁１０２ａ〜１０２ｄが形成された第１の基板１００の平面図、図４（ｂ）は図４（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。
【００３２】
図３において、１００は、レンズ１０１および梁１０２ａ〜１０２ｄを一体的に形成するための第１の基板を示している。第１の基板１００の材料としては、紫外〜可視領域のレンズ１０１を使用する場合には、光学ガラスや石英ガラス等を使用し、赤外領域のレンズ１０１を使用する場合には、半導体材料を使用する。
【００３３】
図３の第１の基板１００に、フォトリソグラフィーおよびドライエッチングの手法を使用して加工を行い、図４に示すように、レンズ１０１と梁１０２ａ〜１０２ｄを形成する。ここで、面積階調のパターンを形成したフォトマスクまたはレジスト材料の熱変形手法などを使用すると、レンズ形状、貫通した梁形状や厚さの変化した梁（図９参照）を形成することができる。また、梁１０２ａ〜１０２ｄには、電圧を印加できるように不図示の電極を形成する。梁１０２ａ〜１０２ｄを導電性材料または半導体材料で形成して、梁自体を電極として用いることも可能である。
【００３４】
図５（ａ）は、開口部２０１や電極２０３ａ〜２０３ｄ等が形成される第２の基板２００の平面図、図５（ｂ）は、図５（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。図６（ａ）は、開口部２０１や電極２０３ａ〜２０３ｄ等が形成された第２の基板２００の平面図、図６（ｂ）は、図６（ａ）のＡ−Ａ断面図を示している。
【００３５】
図５において、２００は、開口部２０１や電極２０３ａ〜２０３ｄ等を形成するための第２の基板を示している。第２の基板２００の材料としては、透光性のガラス、シリコンなどの半導体材料や、セラミック材料等を使用することができる。
【００３６】
図５の第２の基板２００に対して、図６に示すような、レンズ１０１への光路となる円形状の開口部２０１を形成する。開口部２０１は、ドライエッチングの手法で形成でき、基板がシリコンの場合には水酸化カリウム溶液などによる異方性エッチングの手法を用いることもできる。そして、フォトリソグラフィーおよびドライエッチングの手法を用いて、開口部２０１の周囲にリング状の凹部２０２を形成する。このリング状の凹部２０２は、梁１０２ａ〜１０２ｄとの間に空隙２０４を形成するためのものである。なお、面積階調のパターンを形成したフォトマスクあるいはレジスト材料の熱変形手法などを使用すると、基板に形成された梁に対して非平行な凹部（図９参照）を形成することができる。
【００３７】
そして、第２の基板２００のリング状の凹部２０２に、第１の基板１００の４つの梁１０２ａ〜１０２ｄに夫々対向する位置に、図６に示すような、電極２０３ａ〜２０３ｄを形成する。電極２０３ａ〜２０３ｄの材料としては、金属を広く使用できるが、第２の基板２００がシリコンなどの半導体材料の場合には伝導型の異なる不純物を注入／拡散しｐｎ接合を形成し電極領域を形成することにしても良い。
【００３８】
最後に、図７に示すように、図４に示すレンズ１０１および梁１０２ａ〜１０２ｄを形成した第１の基板１００の下面と図６に示す開口部２０１や電極２０３ａ〜２０３ｄ等が形成される第２の基板２００の上面とを接着剤等を用いて接合する。なお、接着層の介在しない直接接合や陽極接合法等を使用することにしても良い。図８は、完成したレンズあおり装置を示している。
【００３９】
以上説明したように、実施の形態１によれば、静電力により撓む梁１０２ａ〜１０２ｄによりレンズ１０１の光軸を移動させることとしたので、少ない部品で軽量のレンズのあおり装置を提供することが可能となる。
【００４０】
また、実施の形態１では、静電力により撓む梁を少なくとも３以上有しているので、精度の高いレンズのあおり装置を提供することが可能となる。
【００４１】
また、実施の形態１では、梁に作用する静電力は、電極と空隙により形成されるので、部品の少ないあおり装置とすることができる。
【００４２】
また、実施の形態１では、レンズ、梁を同一の材料で形成することとしたので、製造工程を短くすることが可能となる。
【００４３】
また、実施の形態１では、レンズ、梁、第１の電極が形成された第１の基板と第２の電極が形成された第２の基板とを接着／接合して形成することとしたので、製造工程を短くすることが可能となる。
【００４４】
また、実施の形態１では、第２の基板を半導体材料としたので、異方性エッチング工法を用いることができ、製造コストを低くすることが可能となる。
【００４５】
（実施の形態２）
図９は実施の形態２にかかるレンズのあおり装置の概略構成を示しており、同図（ａ）は、実施の形態２にかかるレンズのあおり装置の平面図、同図（ｂ）は、実施の形態２にかかるレンズのあおり装置の断面図を示している。実施の形態２にかかるレンズのあおり装置は、梁を３つとして、その形状を螺旋形としたものである。
【００４６】
図９において、３００はレンズ３０１や梁３０２ａ〜３０２ｃが形成された第１の基板を示している。３０１は第１の基板３００の略中央部に形成されたレンズを示している。３０２ａ〜３０２ｃは、レンズ３０１を第１の基板３００の所定円に沿って、３方向から支持する３つの梁を示している。この３つの梁３０２ａ〜３０２ｃはレンズ３０１に沿って螺旋状に形成されている。３つの梁３０２ａ〜３０２ｃの厚さは、第１の基板３００側（外側）では厚く、レンズ３０１側に近づくに従って厚さが薄く形成されている。また、３つの梁３０２ａ〜３０２ｃの幅は、第１の基板３００側（外側）では大きく、レンズ３０１側に近づくに従って小さく形成されている。この３つの梁３０２ａ〜３０２ｃには、各々不図示の電極（第１の電極）が形成されている。
【００４７】
４００は電極４１２ａ〜４１２ｃ等が形成される第２の基板を示している。この第２の基板４００には、半円錐状の開口部４０１が形成されている。４１０は、第２の基板４００上に形成された熱酸化膜を示している。熱酸化膜４１０は、円形の開口部を有しており、この開口部の円周に沿って、上方に傾斜部４１１が形成されている。そして、第１の基板３００の下面と熱酸化膜４１０の上面は接着剤等で接合されている。第１の基板３００の梁３０２ａ〜３０２ｃと熱酸化膜４１０の傾斜部４１１の間には、非平行の空隙４０２が形成されている。
【００４８】
第１の基板４００の傾斜部４１１には、第１の基板３００の３つの梁３０２ａ〜３０２ｃに各々空隙４０２を介して対向する位置に電極（第２の電極）４１２ａ〜４１２ｃが形成されている。不図示の電源制御回路は、第１の基板３００の３つの梁３０２ａ〜３０２ｃに形成された電極（３０２ｂは不図示）と、第２の基板４００の３つの電極４１２ａ〜４１２ｃ間に電圧を印加して、３つの梁３０２ａ〜３０２ｃに静電力を作用させる。電圧制御回路により、梁３０２ａ〜３０２ｃに形成された電極と電極４１２ａ〜４１２ｃ間に電圧が印加されると、梁３０２ａ〜３０２ｃは静電力により撓みが発生する。梁３０２ａ〜３０２ｃを独立に撓ませれば、力学的な関係からレンズ３０１のあおり方向を任意に制御できることになる。不図示の電圧制御回路は、梁３０２ａ〜３０２ｃを独立に撓ませて、レンズ３０１のあおり方向を任意の方向に制御する。なお、電圧制御回路は第２の基板４００に設けることにしても良い。
【００４９】
上記構造のレンズのあおり装置では、梁３０２ａ〜３０２ｃと電極４１２ａ〜４１２ｃとの間の空隙４０２を非平行になるように形成したので、電極４１２ａ〜４１２ｃと梁３０２ａ〜３０２ｃ（電極を含む）の間に電圧を印加すると、梁は空隙の狭い部分から撓みを開始するため、より低い電圧で梁３０２ａ〜３０２ｃの撓みを得ることができる。
【００５０】
また、梁３０２ａ〜３０２ｃをレンズ３０１に沿って螺旋状に形成したので、直線上に形成した場合に比して、梁の長さを長くできて梁の可動範囲を広くすることができ、レンズ３０１のあおり範囲を広くすることが可能となる。また、梁４１２ａ〜４１２ｃの厚さを、第１の基板３００側（外側）では厚くし、レンズ３０１側に近づくに従って薄く形成したので、梁の厚さが薄い所では静電力の作用による撓み量を大きくすることができ、レンズのあおり範囲を広くすることが可能となる。さらに、梁３０２ａ〜３０２ｃの幅をレンズ３０１側で狭く、第１の基板３００側（外側）で広く形成したので、低電圧でレンズ３０１をあおることが可能となる。
【００５１】
なお、本発明は、上記した実施の形態に限定されるものではなく、発明の要旨を変更しない範囲で適宜変形可能である。例えば、上述の実施の形態１および実施の形態２のあおり装置およびその製造方法は光学部分がレンズの場合について説明したが、これに限定されるものではなく、ミラー、プリズム等のあおり装置が必要な種々の光学部品に適用可能である。
【００５２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１にかかる発明によれば、レンズを支持する複数の梁と、複数の梁に静電力を作用させる静電力印加手段と、静電力印加手段によって複数の梁のうちの少なくとも一つの梁に作用する静電力によりレンズの光軸を変更する光軸変更手段と、を備えることとしたので、簡単な構造でかつ軽量のレンズのあおり装置を提供することが可能となる。
【００５３】
また、請求項２にかかる発明によれば、請求項１にかかる発明において、３つ以上の梁を形成することとしたので、請求項１にかかる発明の効果に加えて、精度の高いあおり装置を提供することが可能となる。
【００５４】
また、請求項３にかかる発明によれば、請求項１または請求項２にかかる発明において、複数の梁を螺旋状に形成したので、請求項１または請求項２にかかる発明の効果に加えて、梁の長さを長くでき、あおり範囲を広くすることが可能となる。
【００５５】
また、請求項４にかかる発明によれば、請求項１〜請求項３のいずれか１つにかかる発明において、複数の梁の幅をレンズを支持する側を狭く形成することとしたので、請求項１〜請求項３のいずれか１つにかかる発明の効果に加えて、低電圧でレンズをあおることが可能となる。
【００５６】
また、請求項５にかかる発明によれば、請求項１〜請求項４のいずれか１つにかかる発明において、複数の梁の厚さをレンズを支持する側を薄く形成することとしたので、請求項１〜請求項４のいずれか１つにかかる発明の効果に加えて、より低電圧でレンズをあおることが可能となる。
【００５７】
また、請求項６にかかる発明によれば、請求項１〜請求項５のいずれか１つにかかる発明において、静電力印加手段では、電圧印加手段は、複数の梁に形成された第１の電極と、複数の梁に空隙を介して各々対向するように形成された第２の電極間に電圧を印加して、複数の梁に静電力を作用させることとしたので、請求項１〜請求項５のいずれか１つにかかる発明の効果に加えて、梁に作用する静電力を電極と空隙により形成でき、少ない部品でレンズのあおり装置を実現することが可能となる。
【００５８】
また、請求項７にかかる発明によれば、請求項６にかかる発明において、第1の電極と前記第２の電極は、当該電極間に前記レンズの光軸方向の静電気力を含む静電気力が発生するよう配置されることとしたので、請求項６にかかる発明の効果に加えて、的確にレンズの光軸を変更することが可能となる。
【００５９】
また、請求項８にかかる発明によれば、請求項６または請求項７にかかる発明において、空隙を非平行に形成することとしたので、請求項６または請求項７にかかる発明の効果に加えて、低電圧で梁を撓ませることが可能となる。
【００６０】
また、請求項９にかかる発明によれば、請求項１〜請求項８のいずれか１つにかかる発明において、レンズと複数の梁を同一の材料で形成することとしたので、請求項１〜請求項８のいずれか１つにかかる発明の効果に加えて、製造工程を簡略化でき製造工程を短くすることが可能となる。
【００６１】
また、請求項１０にかかる発明によれば、請求項６〜請求項９のいずれか１つにかかる発明において、レンズ、複数の梁、および第１の電極が形成された第１の基板と、第２の電極が形成された第２の基板とを接合してレンズのあおり装置を形成することとしたので、請求項６〜請求項９のいずれか１つにかかる発明の効果に加えて、より製造工程を短くすることが可能となる。
【００６２】
また、請求項１１にかかる発明によれば、請求項１０にかかる発明において、第２の基板を半導体材料で形成することとしたので、請求項１０にかかる発明の効果に加えて、第２の基板を異方性エッチング工法を用いて加工することができ、製造コストを低減することが可能となる。
【００６３】
また、請求項１２にかかる発明によれば、請求項１０または請求項１１にかかる発明において、電圧印加手段を第２の基板に形成することとしたので、請求項１０または請求項１１にかかる発明の効果に加えて、レンズのあおり装置をよりコンパクトにできるとともに、電圧印加手段から電極に印加される電圧の信号遅延を低減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施の形態１にかかるレンズのあおり装置の概略構成を示す図である。
【図２】  梁を撓ませてレンズのあおり方向を変更する場合を説明するための説明図である。
【図３】  レンズおよび梁を形成する第１の基板を示す図である。
【図４】  レンズおよび梁が形成された第１の基板を示す図である。
【図５】  開口部や電極等が形成する第２の基板を示す図である。
【図６】  開口部や電極等が形成された第２の基板を示す図である。
【図７】  第１の基板と第２の基板を接合する場合を説明するための図である。
【図８】  完成したレンズのあおり装置を示す図である。
【図９】  実施の形態２にかかるレンズのあおり装置の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
１００  第１の基板
１０１  レンズ
１０２ａ〜１０２ｄ  梁
２００  第２の基板
２０１  開口部
２０２  凹部
２０３ａ〜２０３ｄ  電極
２０４  空隙
２５０  電圧制御回路
３００  第１の基板
３０１  レンズ
３０２ａ〜３０２ｃ  梁
４００  第２の基板
４０１  開口部
４０２  空隙
４１０  熱酸化膜
４１１  傾斜部
４１２ａ〜４１２ｃ  電極
【図１】
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【図２】
0003898438.tif 000003
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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