(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
大型ペリクル膜を展張して貼着支持する一対の長辺と一対の短辺とを有する大型ペリクル用枠体であって、
前記大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm２以上で構成され、且つ前記大型ペリクル膜が貼着される前記枠体の一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成すると共に、前記枠体の一対の長辺は、該枠体に貼着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移することを特徴とする大型ペリクル用枠体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ＩＣ（集積回路）、ＬＳＩ（大規模集積回路）、ＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等の半導体装置を製造する際のリソグラフィー工程で使用されるフォトマスクやレティクルに異物が付着することを防止するために用いられるペリクル用枠体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体回路パターン等の製造においては、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルと称する防塵手段を配置して該フォトマスクやレティクルへの異物の付着を防止することが行われている。
【０００３】
ペリクルはフォトマスクやレティクルの形状に合わせた形状を有する厚さ数ミリ程度の枠体の一方の縁面に厚さ１０μｍ以下のニトロセルロース或いはセルロース誘導体等の透明な高分子膜からなるペリクル膜を展張して接着し、且つ該枠体の他方の縁面に粘着材を介してフォトマスクやレティクルの表面に貼着される。
【０００４】
フォトマスクやレティクルの表面に異物が付着した場合、その異物が半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像して回路パターン欠陥の原因となるが、フォトマスクやレティクルの両面側にペリクルを配置した場合、ペリクルの表面に付着した異物はフォーカス位置のずれによって半導体ウェハ上に形成されたフォトレジスト上に結像することなく回路パターンに欠陥を生じさせないものである。
【０００５】
従来のペリクル膜を展張して貼着支持する枠体は、直径５インチ（１２７mm)の半導体ウェハに応じた大きさで方形状に形成されたものが一般である。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年では各種のマルチメディアの普及により高画質、高精細表示が可能な大型のカラーＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクルが要望されている。
【０００７】
大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）等のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクルの枠体としては、長辺と短辺を有する方形状のものが一般であるが、この枠体にペリクル膜を貼り付けると、該ペリクル膜の張力により特に長辺が枠体の内側に向かって撓み易く、この撓みによってフォトマスクやレティクルの有効露光領域が小さくなってしまうという問題があり、大型ペリクル膜の展張面積が大きくなるにつれてその現象が顕著になる。
【０００８】
本発明は前記課題を解決するものであり、その目的とするところは、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する一対の長辺と一対の短辺とを有する大型ペリクル用枠体であって、一対の長辺を枠体の外側に向かって突出するように形成したことで、該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来る大型ペリクル用枠体を提供せんとするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するための本発明に係る大型ペリクル用枠体は、大型ペリクル膜を展張して貼着支持する一対の長辺と一対の短辺とを有する大型ペリクル用枠体であって、前記大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm２以上で構成され、且つ前記大型ペリクル膜が貼着される前記枠体の一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成すると共に、前記枠体の一対の長辺は、該枠体に貼着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移することを特徴とする。
【００１０】
本発明は、上述の如く構成したので、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm２以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００１１】
また、枠体の一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来る。
【００１２】
また、前記枠体の一対の長辺が該枠体に貼着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移するように設定された場合には、大型ペリクル膜の張力がかかった状態で枠体の一対の長辺の突出がなくなるためフォトマスクやレティクルのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きくすることが出来る。
【００１３】
【発明の実施の形態】
図により本発明に係る大型ペリクル用枠体の一実施形態を具体的に説明する。図１は本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す斜視図、図２は本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す平面図、図３は枠体に大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略直線状に遷移した様子を示す図である。
【００１４】
図１〜図３において、１は厚さ１０μｍ以下のニトロセルロースやセルロース誘導体等の透明な高分子膜で構成される大型ペリクル膜（以下、単に「ペリクル膜」という）２を展張して貼着支持するアルミニウムやその合金、或いは鉄や鉄系合金等により構成される大型ペリクル用枠体（以下、単に「枠体」という）である。
【００１５】
枠体１は一対の長辺１ａと一対の短辺１ｂとを有しており、長辺１ａ及び短辺１ｂは所定の幅寸法と、互いに等しい所定の高さ寸法と、互いに異なる所定の長さ寸法とを夫々有して構成されている。枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの一方の面には該枠体１の全体に亘って平坦面で構成され、ペリクル膜２を貼着するための貼着面1a1，1b1が形成されている。
【００１６】
枠体１のペリクル膜２を展張する面積は１０００cm２以上で構成され、該枠体１の一対の長辺１ａは枠体１の外側に向かって突出するように形成されている。本実施形態では、枠体１の一対の長辺１ａは所定の曲率を有して外側に向かって湾曲突出したものであるが、楕円形状や放物線形状、或いは他の各種形状で突出させても良い。
【００１７】
このように大型ペリクル膜２を展張する面積が１０００cm２以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００１８】
図３に示すように、枠体１の長辺１ａ及び短辺１ｂの貼着面1a1，1b1には接着剤が塗布されてペリクル膜２が展張して貼着される。枠体１の貼着面1a1，1b1に貼着されたペリクル膜２の張力は、特に長辺１ａが枠体１の内側に向かって撓みが発生するように作用するが、枠体１の一対の長辺１ａを該枠体１の外側に向かって突出するように形成したことで、該長辺１ａの枠体１の内側に向かう撓みを抑制して上記大型ペリクルが取り付けられる図示しないフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来る。
【００１９】
また、図３に示すように、枠体１の外側に向かって突出するように形成された一対の長辺１ａが該枠体１の貼着面1a1，1b1に貼着されたペリクル膜２の張力により略直線状に遷移するように設定された場合には、ペリクル膜２の張力がかかった状態で枠体１の一対の長辺１ａの突出がなくなるためフォトマスクやレティクルのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きくすることが出来る。
【００２０】
枠体１の外側に向かって突出するように形成された一対の長辺１ａがペリクル膜２の張力により略直線状に遷移する一例として、枠体１の材質としてアルミニウム合金を使用し、長辺１ａ及び短辺１ｂの断面形状が幅７mm、高さ４．３mmの方形状で、一対の短辺１ｂの長さが３４８mm、一対の長辺１ａの長さが５８２mm、該長辺１ａの中央部の突出量を１mmとし、ペリクル膜２の材質としてセルロース系ポリマーを使用し、その膜厚を４μｍとした場合、枠体１の貼着面1a1，1b1にペリクル膜２を貼着した後の該ペリクル膜２の張力により略直線状に遷移した長辺１ａの中央部の最大突出量が０．１〜０．２mmであった。
【００２１】
【発明の効果】
本発明は、上述の如き構成と作用とを有するので、大型ペリクル膜を展張する面積が１０００cm２以上であることから大型のＴＦＴＬＣＤ（薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ）のフォトリソグラフィ工程で使用される大型のフォトマスクやレティクルに適用出来る大型ペリクルとして利用することが出来る。
【００２２】
また、枠体の一対の長辺を該枠体の外側に向かって突出するように形成したことで、大型ペリクル膜の張力による該長辺の枠体の内側に向かう撓みを抑制してフォトマスクやレティクル等の有効露光領域を確保することが出来る。
【００２３】
また、前記枠体の一対の長辺が該枠体に貼着された大型ペリクル膜の張力により略直線状に遷移するように設定された場合には、大型ペリクル膜の張力がかかった状態で枠体の一対の長辺の突出がなくなるためフォトマスクやレティクルのサイズを大きくせずに有効露光面積を大きく出来る。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す斜視図である。
【図２】  本発明に係る大型ペリクル用枠体の構成を示す平面図である。
【図３】  枠体に大型ペリクル膜が貼着されて長辺が略直線状に遷移した様子を示す図である。
【符号の説明】
１…枠体
１ａ…長辺
１ｂ…短辺
1a1，1b1…貼着面
２…ペリクル膜
【図１】
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【図２】
0004004188.tif 000003
【図３】
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