(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高度の鏡像異性体純度の式（Ｉ）
【化１】
0003900254.tif 000012
［式中、
Ｒ1は、フェニル、ナフチル、炭素原子を４または５個有しかつ窒素、酸素および硫黄の群のヘテロ原子を１または２個有するヘテロアリール、またはシクロヘキシルであるが、これらは場合によりＲ’、ＯＲ’、ＮＯ2、ＮＨ2、ＮＨＲ’またはＮＲ’2（ここで、Ｒ’は各場合ともＣ1−Ｃ6−アルキルである）で置換されていてもよく、
Ｒ2は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシであり、
Ｒ3は、水素、フッ素、塩素または臭素であり、そして
Ｒ4およびＲ5は、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1−Ｃ6−アルキルまたはＣ1−Ｃ6−アルコキシである］
で表されるビス（ホスフィンオキサイド）の製造を、１番目の段階で、式
【化２】
0003900254.tif 000013
［式中、Ｒ2からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表される臭素化合物を選択的モノ金属化後に式（ＩＩ）
【化３】
0003900254.tif 000014
［式中、Ｒ1は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるホスフィン酸クロライドと反応させることで式（ＩＩＩ）
【化４】
0003900254.tif 000015
［式中、Ｒ1からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるホスフィンオキサイドを生じさせ、２番目の段階で、それの６位の所に金属化を受けさせそしてそれをヨウ素と反応させることで式（ＩＶ）
【化５】
0003900254.tif 000016
［式中、Ｒ1からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドを生じさせ、３番目の段階で、それを、銅を用いて転化させることでラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を生じさせ、そして４番目の段階で、前記ラセミ型の式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を鏡像異性体的に高純度のモノ−もしくはジカルボン酸と一緒に結晶化させてそれの鏡像異性体に分割することで行う方法であって、
前記１番目の段階で用いる溶媒がテトラヒドロフランと芳香族炭化水素の混合物でありそして前記式（ＩＩ）で表されるホスフィン酸クロライドを無溶媒で用いそして生じた式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドの単離を芳香族炭化水素中の溶液に飽和脂肪族炭化水素を添加することで行い、
前記２番目の段階で−２５℃以上の温度を用い、前記式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドの金属化物およびヨウ素の計量添加を少量のヨウ素が常に余分に存在するように同時に行いそして生じた２−ヨード−ホスフィンオキサイドをこれが芳香族炭化水素に溶解した形態で分離し、
前記３番目の段階で樹枝状銅および溶媒として芳香族炭化水素を用いそして生じたラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させ、そして
前記４番目の段階で高度の鏡像異性体純度のモノもしくはジカルボン酸を用い、芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させることで１番目の鏡像異性体を得そして加水分解に続いて芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させることで２番目の鏡像異性体を得る、
ことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、Ｏ＝Ｐ（フェニル）2（Ｃｌ）型の燐オキシクロライドと５−ブロモ−２−クロロアニソールから出発して表題に示したビス−ジフェニルホスフィンオキサイドを生じさせる改良方法に関する。
【０００２】
前記ビス−ジフェニルホスフィンオキサイドに還元を受けさせることで相当するビス−ジフェニルホスフィンを生じさせることができ、これは金属錯体の配位子として用いられる。そのような金属錯体は鏡像選択的水添（ｅｎａｎｔｉｏｓｅｌｅｃｔｉｖｅ  ｈｙｄｒｏｇｅｎａｔｉｏｎｓ）の触媒として重要な役割を果たす（ＤＥ−Ａ１−１９５  ２２  ２９３および相当する米国特許第５  ７１０  ３３９号および５  ８０１  ２６１号を参照）。
【０００３】
鏡像異性体的に高純度（ｅｎａｎｔｉｏｍｅｒｉｃａｌｌｙ  ｐｕｒｅ）の（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）を多段階で生じさせる方法も同様に前記文献から公知である。このような方法では、１番目の段階で、５−ブロモ−２−クロロアニソールを選択的モノ金属化（ｍｏｎｏｍｅｔａｌａｔｉｏｎ）経由でＯ＝Ｐ（フェニル）2（Ｃｌ）型の燐オキシクロライドと反応させて（４−クロロ−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを生じさせる。前記金属化をテトラヒドロフラン中でマグネシウムを用いて実施し、前記燐オキシクロライドをテトラヒドロフラン中の溶液として用い、そして塩化メチレン中の溶液を蒸発で濃縮しそしてそれをｔ−ブチルメチルエーテルと一緒に撹拌することを通して、生成物の単離を行う。これは７０％の収率でもたらされる。
【０００４】
２番目の段階で、前記（４−クロロ−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを相当する２−ヨード化合物に変化させる。この目的で、出発ホスフィンオキサイドをテトラヒドロフランに入れることで生じさせた−７０℃の溶液にリチウムジイソプロピルアミドをテトラヒドロフランに溶解させて添加し、この混合物を０℃に加熱し、−７６℃に冷却した後、この温度で、ヨウ素がテトラヒドロフランに入っている溶液を滴下する。亜硫酸ナトリウム水溶液を用いた処理に続く酢酸エチルを用いた抽出そしてその抽出溶媒を除去することによる処理を実施する。それによって生成物が８０％の収率でもたらされる。
【０００５】
３番目の段階で、前記（４−クロロ−２−ヨード−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドをジメチルホルムアミド中で銅粉と１６時間かけて反応させることでラセミ型の（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）を生じさせる。この後者の単離を、濾過に続いて濾液からジメチルホルムアミドを除去しそしてｔ−ブチルメチルエーテルと一緒に撹拌することで行う。
【０００６】
最後に、４番目の段階で、鏡像異性体的に高純度のモノ−もしくはジカルボン酸を用いて前記ラセミ型の（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）をこれの鏡像異性体に分割させる。この場合、両方の形態の鏡像異性体的に高純度のモノ−もしくはジカルボン酸を次々に用いる必要がありかつ実施する必要がある抽出および濾過は複雑である。
【０００７】
このような公知のビス−ジフェニルホスフィンオキサイド製造方法は全体として欠点を有し、相対的に大規模で用いるにはあまり適切でなくかつ経済的でない、と言うのは、生成物が満足される収率ではもたらされず、多くの場合、ある程度毒性を有する溶媒を用いる必要があり、工程工学の意味で非常に複雑であり、非常に低い温度（−７６℃に及ぶ）を用いる必要があり、反応時間が長くかつ溶媒および助剤を多量に用いる必要があるからである。
【０００８】
従って、前記ビス−ジフェニルホスフィンオキサイドをより簡潔かつより効率よくかつより費用効果的な様式で入手することを可能にしかつまた比較的大規模な生産を問題なしに実施することも可能にするビス−ジフェニルホスフィンオキサイド製造方法がまだ求められているままである。
【０００９】
我々は、高度の鏡像異性体純度の式（Ｉ）
【００１０】
【化６】
0003900254.tif 000002
【００１１】
［式中、
Ｒ1は、フェニル、ナフチル、炭素原子を４または５個有しかつ窒素、酸素および硫黄の群のヘテロ原子を１または２個有するヘテロアリール、またはシクロヘキシルであるが、これらは場合によりＲ’、ＯＲ’、ＮＯ2、ＮＨ2、ＮＨＲ’またはＮＲ’2（ここで、Ｒ’は各場合ともＣ1−Ｃ6−アルキルである）で置換されていてもよく、
Ｒ2は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシであり、
Ｒ3は、水素、フッ素、塩素または臭素であり、そして
Ｒ4およびＲ5は、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1−Ｃ6−アルキルまたはＣ1−Ｃ6−アルコキシである］
で表されるビス（ホスフィンオキサイド）の製造方法をここに見いだし、この製造方法では、１番目の段階で、式
【００１２】
【化７】
0003900254.tif 000003
【００１３】
［式中、Ｒ2からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表される臭素化合物を選択的モノ金属化後に式（ＩＩ）
【００１４】
【化８】
0003900254.tif 000004
【００１５】
［式中、Ｒ1は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるホスフィン酸クロライドと反応させることで式（ＩＩＩ）
【００１６】
【化９】
0003900254.tif 000005
【００１７】
［式中、Ｒ1からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるホスフィンオキサイドを生じさせ、２番目の段階で、それの６位の所に金属化を受けさせ（ｍｅｔａｌａｔｅｄ）そしてそれをヨウ素と反応させることで式（ＩＶ）
【００１８】
【化１０】
0003900254.tif 000006
【００１９】
［式中、Ｒ1からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドを生じさせ、３番目の段階で、それを、銅を用いて転化させることでラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を生じさせ、そして４番目の段階で、前記ラセミ型の式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を高度の鏡像異性体純度のモノ−もしくはジカルボン酸と一緒に結晶化させてそれの鏡像異性体に分割させるが、
本方法は、
前記１番目の段階で用いる溶媒がテトラヒドロフランと芳香族炭化水素の混合物でありそして前記式（ＩＩ）で表されるホスフィン酸クロライドを無溶媒で用いそして生じた式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドの単離を芳香族炭化水素中の溶液に飽和脂肪族炭化水素を添加することで行い、
前記２番目の段階で−２５℃以上の温度を用い、前記式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドの金属化物およびヨウ素の計量添加を少量のヨウ素が常に余分に存在するように同時に行いそして生じた２−ヨード−ホスフィンオキサイドをこれが芳香族炭化水素に溶解した形態で分離し、
前記３番目の段階で樹枝状銅（ｄｅｎｄｒｉｔｉｃ  ｃｏｐｐｅｒ）および溶媒として芳香族炭化水素を用いそして生じたラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させ、そして
前記４番目の段階で高度の鏡像異性体純度のモノ−もしくはジカルボン酸を用い、芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させることで１番目の鏡像異性体を得そして加水分解に続いて芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させることで２番目の鏡像異性体を得る、
ことを特徴とする。
【００２０】
前記式（Ｉ）から（ＩＶ）中のＲ1は、好適には、未置換のフェニル、未置換のナフチル、炭素原子を４または５個有しかつ酸素および硫黄から成る群のヘテロ原子を１または２個有するヘテロアリール、または未置換のシクロヘキシルである。
【００２１】
前記式（Ｉ）、（ＩＩａ）、（ＩＩＩ）および（ＩＶ）において、
Ｒ2は、好適には、メトキシであり、
Ｒ3は、好適には、フッ素、塩素または臭素、特に塩素であり、そして
Ｒ4およびＲ5は、好適には、水素である。
【００２２】
前記芳香族炭化水素は例えばベンゼン、トルエンまたはキシレンである。トルエンが好適である。
【００２３】
前記飽和脂肪族炭化水素は、例えば沸点（大気圧における）が３０℃を超える炭化水素であり得る。直鎖もしくは分枝ペンタン、ヘキサン、ヘプタンおよびオクタンが好適である。
【００２４】
特にｎ−ペンタンが好適である。
【００２５】
前記１番目の段階で、例えばマグネシウムを用いて前記金属化を実施してもよく、必要ならば、例えばヨウ素を少量添加することなどでそれに活性化を受けさせてもよい。この金属化では、マグネシウムを前記式（ＩＩａ）で表される臭素化合物１モルを基準にして例えば１から１．５モル用いてもよい。用いる溶媒混合物は、例えば２０から実質的に１００体積％のテトラヒドロフランと追加的に１００体積％になる量の芳香族炭化水素から成っていてもよい。これは好適には４０から６０体積％、特に４５から５５体積％のテトラヒドロフランと追加的に１００体積％になる量の芳香族炭化水素から成る。
【００２６】
このような手順は、例えば、マグネシウム、少量のヨウ素および前記溶媒混合物を追加的に導入し、この混合物を３０から８０℃の範囲の温度に加熱した後、前記式（ＩＩａ）で表される臭素化合物を計量して同じ溶媒混合物に溶解させて３０から８０℃の範囲の温度で添加しそしてこの計量添加が終了した時点で適宜さらなる還流を例えば５から６０分間行うことなどで実施可能である。次に、前記式（ＩＩ）で表されるホスフィン酸クロライドを溶解形態でない形態、即ち希釈剤を用いないで例えば−１０から＋１５℃の範囲の温度に冷却しながら添加する。最後に、この混合物のさらなる後撹拌を０から３０℃の範囲の温度で例えば３０から２５０分間行ってもよい。
【００２７】
前記１番目の段階を実施した後に存在する反応混合物の処理は、例えば、それを氷水に注ぎ込み、有機相を分離し、水相を芳香族炭化水素で抽出し、前記有機相と抽出液を一緒にして希アルカリ水溶液そして水で洗浄した後に蒸発による濃縮を行うことなどで実施可能である。この目的は、有利には、生じた前記式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドが芳香族炭化水素にできるだけ高濃度で入っているが固体状成分が全く沈澱しない溶液が生じるようにすることにある。その後、本発明に従って飽和脂肪族炭化水素を添加し、生じた易濾過性沈澱物を例えば５から２０時間後に濾別し、そして場合により飽和脂肪族炭化水素を用いて後洗浄を行った後、乾燥を行う。
【００２８】
このようにして、純度が９２％を超える前記式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドを白色粉末の形態で８０％を超える収率で得ることができる。前記式（ＩＩ）で表されるホスフィン酸クロライドを溶媒に入れないで添加することから処理全体で用いる溶媒の量をより少なくすることができ、従って溶媒を節約することができかつより高い空間−時間収率を達成することが可能になる。
【００２９】
前記２番目の段階で用いる金属化剤（ｍｅｔａｌａｔｉｎｇ  ａｇｅｎｔ）は、例えばブチルリチウムまたはリチウムジイソプロピルアミドなどであり得る。後者が好適である。
【００３０】
この手順は、例えば、最初に式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドを溶媒、例えばテトラヒドロフランなどに入れて導入し、それを例えば−２５℃から０℃に冷却し、そしてこの温度で前記金属化剤を例えば炭化水素を含有させたテトラヒドロフランに溶解させて、温度が冷却で−２５から０℃の範囲に維持され得るような様式で計量添加することを伴い得る。それによって溶液Ａが生じる。個別に、ヨウ素が例えばテトラヒドロフランに入っている溶液を生じさせ、これもまた例えば−２５℃から０℃に冷却する。それによって溶液Ｂが生じる。次に、反応槽に溶媒、例えばテトラヒドロフランなどを少量仕込んで、例えば−２５℃から０℃にし、そして次に例えば−２５℃から０℃で溶液Ａと溶液Ｂを少量のヨウ素が常に余分に存在するように同時に計量添加する。これは、反応混合物の色から容易に検査可能である。色が暗色であることはヨウ素が余分に存在することを示す。この反応中の温度を好適には−２５℃から−１０℃に維持する。この反応を完了させる目的で、溶液ＡとＢの計量添加に続いて、適宜、後撹拌を例えば−１０から＋１０℃で例えば更に１０から１５０分間行ってもよい。その後、例えば希チオ硫酸ナトリウム水溶液を添加することなどで、まだ存在する余分なヨウ素を適切に除去する。
【００３１】
前記２番目の段階を実施した後に存在する反応混合物の処理は、例えば、最初に有機相を分離し、残りの水相を抽出溶媒、例えば芳香族炭化水素で抽出し、適宜、前記有機相と抽出液を一緒にして水で洗浄した後、蒸発による濃縮を行うことなどで実施可能である。このようにして、前記式（ＩＶ）で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドをこれが芳香族炭化水素に例えば１５から３０重量％の濃度で入っている溶液の形態で９０％を超える収率で得ることができる。前記溶液を３番目の工程段階で直接用いることができる。
【００３２】
本発明に従って実施する２番目の工程段階は、使用する温度をほとんど技術的出費なしに維持することができることと、計量添加時間が短いことと、収率が高いことと、任意選択の処理が簡潔なことを特徴とする。
【００３３】
前記３番目の段階で、好適には、Ｇｌｏｓｓａｒｙ  ｏｆ  Ｔｅｒｍｓ  Ｒｅｌａｔｉｎｇ  ｔｏ  Ｐａｒｔｉｃｌｅ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ、第１版（１９９６年５月）に記述されている如き樹枝状銅を用いる。前記銅の平均粒子サイズは例えば１から１００μｍ、好適には３０から５０μｍで表面積は例えば０．０４から１ｍ2／ｇ、好適には０．０７から０．５ｍ2／ｇで純度は９９．５％を超え、好適には９９．７％を超え得る。本発明に従って用いる樹枝状銅は商業的に入手可能である。
【００３４】
この手順は、例えば、最初に樹枝状銅を芳香族溶媒と一緒に導入しそして前記２番目の段階で得た前記式（ＩＶ）で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドの溶液を例えば７０から１４０℃の温度で計量添加することを伴い得る。樹枝状銅を前記式（ＩＶ）で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイド１モル当たり例えば１から１０モル、好適には２から８モル用いてもよい。この計量添加が終了した時点で、必要ならば、後撹拌を７０から１４０℃で更に１から５時間行ってもよい。前記計量添加および後撹拌の時間は一緒にして例えば３から８時間であってもよい。処理では、例えば熱反応溶液を濾過し、そのフィルターケーキを溶媒、例えば塩素置換炭化水素などで洗浄し、その洗浄溶液を蒸発乾固させ、得た固体を前記濾液に添加しそしてこの混合物を還流温度にまで加熱してもよい。また、例えば７０から１４０℃に加熱しておいた芳香族炭化水素で前記フィルターケーキを後洗浄し、この洗浄溶液を１番目の濾液に加えそしてこの混合物を還流温度に加熱することも可能である。適宜、前記芳香族炭化水素のいくらかを例えば蒸留などで除去することも可能である。次に、生じたラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を例えば０から２５℃に冷却して析出させ、これを例えば濾過などで得た後、乾燥を必要ならば真空下高温で行ってもよい。
【００３５】
本発明に従って実施する３番目の反応段階は、使用する溶媒が費用効果的で低毒であること、処理が簡潔なこと、そして反応時間が短いことを特徴とする。
【００３６】
前記４番目の段階で、例えば塩素置換炭化水素に溶解させた前記ラセミ型の式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を例えばエステルに入れたジベンゾイル酒石酸の高純度鏡像異性体の溶液と高温で反応させそしてこの反応混合物を例えば２から６時間かけてゆっくり１０から２５℃に冷却してもよい。この過程で析出して来た塩を例えば濾過などで分離してもよい。
【００３７】
前記塩のさらなる処理を、例えば、それを芳香族炭化水素で取り上げ、それを希酸水溶液そして希塩基水溶液で洗浄した後、有機相を沸騰にまで加熱しそして実質的に飽和状態の溶液が高温で存在するように芳香族炭化水素を蒸発させるか或はそれにちょうど足りる量で添加してもよい。冷却、例えば１０から３０℃に冷却すると、一方の鏡像異性体的に高純度の形態の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）が析出し、これを分離することができる。それによって、一般に、ｅｅが９９％を超えると言った鏡像異性体過剰度を示す生成物が得られる。
【００３８】
ジベンゾイル酒石酸の高純度鏡像異性体との反応に続く処理で得た濾液の処理は、最初に前記塩を同様な様式で芳香族炭化水素で取り上げ、それを例えば希酸で直接洗浄しそして次に希塩基水溶液で洗浄することなどで実施可能である。前記溶媒を例えば芳香族炭化水素に交換し、蒸発による濃縮および冷却を行うことで、ラセミ型の供給材料である固体を得ることができる。このラセミ型の供給材料を分離した後に得られる濾液を蒸発で更に濃縮した後、冷却することで、前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）の２番目の鏡像異性体を一般に９９％を超える鏡像異性体過剰度ｅｅで得ることができる。
【００３９】
本発明に従う４番目の工程段階は、鏡像異性体的に高純度のモノ−もしくはジカルボン酸を約５０％節約することができかつ処理が簡潔なことを特徴とする。
【００４０】
本発明に従って生じさせた高度の鏡像異性体純度の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）に還元を受けさせて相当するビスホスフィンを生じさせる必要がある場合、これは、序論に示した文献に従う本質的に公知の様式で例えばトリクロロシランなどを還元剤として用いて達成可能である。
【００４１】
【実施例】
実施例１
（４−クロロ−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドの製造
アルゴン下、テトラヒドロフランが１００ｍｌでトルエンが１００ｍｌの混合物にＭｇ削り片を１モルとヨウ素をスパチュラ先端量（ｓｐａｔｕｌａ  ｔｉｐ）で入れて６０℃に加熱した。２００ｇの５−ブロモ−２−クロロアニソールをテトラヒドロフランが２００ｍｌでトルエンが２００ｍｌの混合物に入れて１０分かけて滴下した。この滴下中の内部温度を冷却で６０℃に維持した。前記滴下が終了した時点で反応混合物を還流温度に加熱して、この温度で後撹拌を３０分間行った。次に、この混合物を０℃に冷却した後、２３６．８ｇのジフェニルホスフィン酸クロライドを４５分かけて滴下した。この操作を行っている間の内部温度を０から５℃の範囲に維持した。この反応混合物の後撹拌を０℃で５分間行い、冷却のスイッチを切った後、この混合物を更に２時間撹拌した。処理では、反応混合物を１．６  ｌの氷水に注ぎ込み、有機相を分離した後、水相を２ｘ４００ｍｌのトルエンで再洗浄した。有機相を一緒にして４００ｍｌの２．５重量％濃度ソーダ水溶液に続いて４００ｍｌの水で洗浄した後、ロータリーエバポレーターで体積が２００ｍｌになるまで濃縮した。次に、撹拌を行いながらｎ−ペンタンを３００ｍｌ滴下した。一晩かけて析出して来た固体を吸引を伴わせて濾別し、ｎ−ペンタンで洗浄した後、乾燥させた。それによって白色固体を２０３．５ｇ得た。収率は８２％で純度は９４％であった。
実施例２
（４−クロロ−２−ヨード−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドの製造
反応を保護ガス雰囲気下で実施しそしてパーオキサイドを含まないテトラヒドロフランを用いた。
【００４２】
反応槽内で３００ｍｌのテトラヒドロフランに（４−クロロ−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを５１．４ｇ入れて溶解させて−２０℃に冷却した。この溶液に、リチウムジイソプロピルアミドをこれがテトラヒドロフランとエチルベンゼンとヘキサンの混合物に入っている２モル規定の溶液の形態で９０ｍｌ滴下した。この滴下を内部温度が−１５℃に維持され得るように調節して行った。
【００４３】
別の反応槽にテトラヒドロフランを１５０ｍｌ入れて−２０℃に冷却した。これに、１番目の反応槽に入っている内容物および４３．９ｇのヨウ素が１５０ｍｌのテトラヒドロフランに入っている溶液を内部温度が−１５℃に維持され得るような様式で同時に滴下した。目で見た検査を行うことで、反応混合物中にヨウ素が常に若干余分に存在することを確かめた。
【００４４】
前記２つの溶液の全体を滴下した後、反応槽の内部温度を０℃に持って行って、この混合物の後撹拌を前記温度で１時間行った。次に、この反応混合物を、６０ｇのチオ硫酸ナトリウムを５００ｍｌの水に入れることで生じさせて同様に０℃に冷却しておいた溶液に添加した後、追加的に２５０ｍｌの水を添加した。
【００４５】
有機相を分離しそして水相を２ｘ１２５ｍｌのトルエンで抽出した。有機相を一緒にして１２５ｍｌの水で洗浄した後、ロータリーエバポレーターで体積が２５０ｍｌになるまで濃縮した。その結果として得た溶液の（４−クロロ−２−ヨード−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイド含有量は２４重量％であり、このことは収率が９３．５％であることに相当する。
実施例３
ラセミ型（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）の製造
５００ｍｌのトルエンに平均粒子サイズが３６μｍで表面積が０．１３ｍ2の樹枝状銅粉を３１．７ｇ導入して還流温度にまで加熱した。０．１２８モルの（４−クロロ−２−ヨード−３−メトキシフェニル）−ジフェニルホスフィンオキサイドを２５０ｍｌのトルエンに入れることで生じさせた溶液を１時間かけて滴下した。この反応混合物を３時間還流させた後、１００℃でＣｅｌｉｔｅ（商標）に通して濾過した後、その濾液をとっておいた。そのフィルターケーキを３ｘ１００ｍｌのジクロロメタンで洗浄し、その洗浄溶液をロータリーエバポレーターで蒸発乾固させた後、残存する固体を前記混合物の濾液に加えた。次に、結果として生じた懸濁液を還流にまで加熱したが、この間に、存在する固体の全部が再び溶解した。次に、この混合物を撹拌しながらゆっくり室温に冷却した。次に、存在する固体を吸引を伴わせて濾別した後、２ｘ５０ｍｌの冷トルエンで洗浄した。次に、この固体を真空下５０℃で乾燥させた。生成物の含有量が８３重量％の白色固体を３５．７ｇ単離した。これは収率が６８％であることに相当する。
実施例４
ラセミ型（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）からそれの鏡像異性体への分割
３６０ｍｌの塩化メチレンに実施例３で得た生成物を０．０６モル溶解させて還流温度にまで加熱した。次に、１０．８ｇの（＋）−無水ジベンゾイル酒石酸を１９５ｍｌの酢酸エチルに入れることで生じさせた溶液を滴下したが、この滴下を、その混合物を還流温度に維持しながら行った。全部を滴下し終わった後、その混合物を低速撹拌しながら室温に冷却したままにしそして後撹拌を更に１時間行った（全体で４時間）。析出して来た塩を濾別した後、塩化メチレン／酢酸エチルが２：１の混合物を２ｘ３０ｍｌ用いて洗浄した。
【００４６】
前記塩を最初に１００ｍｌのトルエンで取り上げた後にそれに１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を２ｘ２００ｍｌ用いた抽出を受けさせることを通して、それの処理を行った。短時間温めると有機相中に存在していた固体が溶液になった。次に、１Ｎの塩酸水溶液、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液および水を各場合とも２００ｍｌ用いて前記有機相の洗浄を行った。次に、ロータリーエバポレーターでトルエンを６４．５ｇ留出させた。結果として生じた懸濁液を還流にまで加熱した後、トルエンを存在する固体の全部が溶解するに必要なほどの量で添加した。次に、この溶液を室温に冷却して析出して来た生成物を濾別した後、乾燥させた。それによって、鏡像異性体純度が９９．２％の（＋）−（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）を３２％の収率で得た。
【００４７】
前記（＋）−ジベンゾイル酒石酸との反応で生じた前記塩を除去した後に得た濾液の洗浄を１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液を２ｘ２００ｍｌ用いて行った。次に、１Ｎの塩酸水溶液、１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液および水を各場合とも２００ｍｌ用いて前記有機相の洗浄を行った。この混合物を蒸発による濃縮で２５０ｇの量にした後、トルエンを１８０ｇ加えて、その混合物を再び蒸発による濃縮で１２５ｇの量にした。次に、存在する溶液を室温に冷却して析出して来た生成物を濾過した。これを乾燥させることで、ラセミ型の供給材料を２８重量％回収した。
【００４８】
前記ラセミ型供給材料の除去で得た濾液からトルエンをロータリーエバポレーターで６０ｇ留出させた。それによって懸濁液が生じ、これを還流にまで加熱した後、トルエンを固体の全部が再びちょうど溶解するに必要なほどの量で加えた。この溶液を再び室温に冷却しそしてこの操作を行っている間に析出して来た生成物を濾別した後、乾燥させた。このようにして、鏡像異性体純度が９９．８％の（−）−（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）を２６％の収率で単離した。
【００４９】
従って、使用したラセミ型出発材料からの回収率は全体で８６％であった。
実施例５（本発明に従わない）
実施例４で得た（＋）−（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）に還元を受けさせて相当するホスフィンを生じさせる
１３．５ミリモルの（＋）−（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィンオキサイド）を１００ｍｌのキシレン（精製を受けさせた異性体混合物）に入れることで生じさせた溶液にトリブチルアミンを３２ｍｌ加えた後、この混合物をアルゴン雰囲気下で１１０℃に加熱し、そしてこの温度で、１３．６ｇのトリクロロシランを５０ｍｌのキシレン（精製を受けさせた異性体混合物）に入れることで生じさせた溶液を３０分かけて滴下した。この混合物を３時間還流させた。次に、この溶液を室温に冷却し、塩化メチレンを２９０ｍｌ添加した後、この混合物を０℃に冷却し、そしてこの温度で、１０重量％濃度の水酸化ナトリウム水溶液を１０のｐＨを達成するに充分な量で加えた。結果として生じた懸濁液を保護ガス下で５ｇの酸化アルミニウムを充填しておいたフリット（ｆｒｉｔ）に通して濾過した。有機相を２番目のフラスコに移しそして水相を２９０ｍｌの塩化メチレンで抽出した。塩化メチレン相を一緒にしてアルゴン下で２５０ｍｌの水で２回洗浄した。次に、有機相を体積が１００ｍｌの体積になるまで真空下の蒸発で濃縮した。生成物が結晶化し始めたのは濃縮後である。この懸濁液を５℃で一晩貯蔵した後、吸引を伴わせて濾過し、そして固体状の生成物を真空下で乾燥させた。（＋）−（５，５’−ジクロロ−６，６’−ジメトキシビフェニル−２，２’−ジイル）−ビス−（ジフェニルホスフィン）の含有量が９５．５％の淡黄色固体を７．４ｇ得た。これは収率が８９％であることに相当する。
【００５０】
本発明の特徴および態様は以下のとうりである。
１．  高度の鏡像異性体純度の式（Ｉ）
【００５１】
【化１１】
0003900254.tif 000007
【００５２】
［式中、
Ｒ1は、フェニル、ナフチル、炭素原子を４または５個有しかつ窒素、酸素および硫黄の群のヘテロ原子を１または２個有するヘテロアリール、またはシクロヘキシルであるが、これらは場合によりＲ’、ＯＲ’、ＮＯ2、ＮＨ2、ＮＨＲ’またはＮＲ’2（ここで、Ｒ’は各場合ともＣ1−Ｃ6−アルキルである）で置換されていてもよく、
Ｒ2は、Ｃ1−Ｃ4−アルコキシであり、
Ｒ3は、水素、フッ素、塩素または臭素であり、そして
Ｒ4およびＲ5は、互いに独立して、水素、フッ素、塩素、臭素、Ｃ1−Ｃ6−アルキルまたはＣ1−Ｃ6−アルコキシである］
で表されるビス（ホスフィンオキサイド）の製造を、１番目の段階で、式
【００５３】
【化１２】
0003900254.tif 000008
【００５４】
［式中、Ｒ2からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表される臭素化合物を選択的モノ金属化後に式（ＩＩ）
【００５５】
【化１３】
0003900254.tif 000009
【００５６】
［式中、Ｒ1は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるホスフィン酸クロライドと反応させることで式（ＩＩＩ）
【００５７】
【化１４】
0003900254.tif 000010
【００５８】
［式中、Ｒ1からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表されるホスフィンオキサイドを生じさせ、２番目の段階で、それの６位の所に金属化を受けさせそしてそれをヨウ素と反応させることで式（ＩＶ）
【００５９】
【化１５】
0003900254.tif 000011
【００６０】
［式中、Ｒ1からＲ5は、式（Ｉ）で与えた意味を有する］
で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドを生じさせ、３番目の段階で、それを、銅を用いて転化させることでラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を生じさせ、そして４番目の段階で、前記ラセミ型の式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を鏡像異性体的に高純度のモノ−もしくはジカルボン酸と一緒に結晶化させてそれの鏡像異性体に分割させることで行う方法であって、
前記１番目の段階で用いる溶媒がテトラヒドロフランと芳香族炭化水素の混合物でありそして前記式（ＩＩ）で表されるホスフィン酸クロライドを無溶媒で用いそして生じた式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドの単離を芳香族炭化水素中の溶液に飽和脂肪族炭化水素を添加することで行い、
前記２番目の段階で−２５℃以上の温度を用い、前記式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドの金属化物およびヨウ素の計量添加を少量のヨウ素が常に余分に存在するように同時に行いそして生じた２−ヨード−ホスフィンオキサイドをこれが芳香族炭化水素に溶解した形態で分離し、
前記３番目の段階で樹枝状銅および溶媒として芳香族炭化水素を用いそして生じたラセミ型の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させ、そして
前記４番目の段階で高度の鏡像異性体純度のモノ−もしくはジカルボン酸を用い、芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させることで１番目の鏡像異性体を得そして加水分解に続いて芳香族炭化水素中の溶液から結晶化させることで２番目の鏡像異性体を得る、
ことを特徴とする方法。
２．  式（Ｉ）から（ＩＶ）中のＲ1が未置換のフェニル、未置換のナフチル、炭素原子を４または５個有しかつ酸素または硫黄から成る群のヘテロ原子を１または２個有するヘテロアリール、または未置換のシクロヘキシルであり、そして式（Ｉ）、（ＩＩａ）、（ＩＩＩ）および（ＩＶ）中のＲ2がメトキシで、Ｒ3がフッ素または塩素で、Ｒ4およびＲ5が水素であることを特徴とする第１項記載の方法。
３．  前記芳香族炭化水素がベンゼン、トルエンまたはキシレンであることを特徴とする第１または２項記載の方法。
４．  前記飽和脂肪族炭化水素が直鎖もしくは分枝ペンタン、ヘキサンまたはオクタンであることを特徴とする第１から３項記載の方法。
５．  前記１番目の段階でマグネシウムを前記式（ＩＩａ）で表される臭素化合物１モルを基準にして１から１．５モル用い、そして用いる溶媒が２０から実質的に１００体積％のテトラヒドロフランと追加的に１００体積％になる量の芳香族炭化水素から成る混合物であり、そして前記飽和脂肪族炭化水素を添加して５から２０時間後にその生じた沈澱物を濾別することを特徴とする第１から４項記載の方法。
６．  前記２番目の段階で前記式（ＩＩＩ）で表されるホスフィンオキサイドに金属化を−２５℃から０℃のテトラヒドロフラン中で受けさせ、ヨウ素がテトラヒドロフランに入っている溶液を個別に生じさせ、この２つの溶液をテトラヒドロフランの初期仕込み物に−２５℃から０℃でヨウ素が常に若干余分に存在するように計量して添加し、次に、余分なヨウ素を除去し、そして前記式（ＩＶ）で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドを芳香族炭化水素中１５から３０重量％濃度の溶液の形態で分離することを特徴とする第１から５項記載の方法。
７．  前記３番目の段階で平均粒子サイズが１から１００μｍで表面積が０．０４から１ｍ2／ｇで純度が９９．５％を超える樹枝状銅を用い、この樹枝状銅を最初に芳香族溶媒と一緒に導入し、そして前記２番目の段階で得た前記式（ＩＶ）で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイドの溶液を７０から１４０℃で添加し、樹枝状銅を前記式（ＩＶ）で表される２−ヨード−ホスフィンオキサイド１モル当たり１から１０モル用い、全体で３から８時間の計量添加および後撹拌期間を用いそして０から２５℃に冷却することで前記ラセミ型の式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を結晶化させることを特徴とする第１から６項記載の方法。
８．  前記４番目の段階で塩素置換(chlorinated)炭化水素に溶解させた前記ラセミ型の式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）をエステルに溶解させた高度の鏡像異性体純度のジベンゾイル酒石酸と高温で反応させそして芳香族炭化水素中の溶液を０℃から３０℃に冷却することで一方の高度の鏡像異性体純度の形態の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を得ることを特徴とする第１から７項記載の方法。
９．  高度の鏡像異性体純度のジベンゾイル酒石酸との反応に続く処理で得た濾液から芳香族炭化水素中の溶液を生じさせ、それの蒸発による濃縮そして冷却を行うことで、最初にラセミ型の供給材料を得、そして蒸発によるさらなる濃縮そして冷却を行うことで、もう一方の高度の鏡像異性体純度の形態の前記式（Ｉ）で表されるビス（ホスフィンオキサイド）を得ることを特徴とする第８項記載の方法。