(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法において、
第１の領域に隣接する第２の領域を露光する際に、前記第１の領域の露光に用いる第１のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、前記第２の領域の露光に用いる第２のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照し、前記第２の領域を露光するための露光条件を決定する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項２】
請求項１記載の露光方法において、
前記第１の領域と前記第２の領域の繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、前記第１の領域及び前記第２の領域においてほぼ等しくなるように前記第２の領域の露光条件を決定する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項３】
複数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法において、
複数のショット領域に隣接する一のショット領域を露光する際に、前記複数のショット領域の露光に用いるそれぞれのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、前記一のショット領域の露光に用いるレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照し、前記一のショット領域を露光するための露光条件を決定する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項４】
請求項３記載の露光方法において、
前記一のショット領域との繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、前記一のショット領域及び前記一のショット領域に隣接する他のショット領域においてほぼ等しくなる前記第一のショット領域の露光条件を、前記複数のショット領域のそれぞれについて求め、これらの露光条件を平均化して前記一のショット領域の露光条件を決定する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の露光方法において、
前記複数のショットに用いるすべてのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係を参照し、前記複数のショットの露光条件を最適化する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項６】
請求項１乃至５のいずれか１項に記載の露光方法において、
前記露光量とパターンサイズとの関係を参照する代わりに、前記レチクル上におけるパターンサイズを参照する
ことを特徴とする露光方法。
【請求項７】
請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光方法において、
前記一のレイヤの露光に必要とされる前記複数のショットは、前記複数のショットに用いるレチクル毎に順次行う
ことを特徴とする露光方法。
【請求項８】
露光量とパターンサイズとの関係を含む露光情報を格納する露光情報格納手段と、
前記露光情報格納手段から、前記露光量とパターンサイズとの関係を参照し、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の露光方法に基づいて各ショットの露光条件を決定する露光条件決定手段と、
前記露光条件に基づいて露光処理を行う露光手段と
を有することを特徴とする露光装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトリソグラフィーにおける露光方法に係り、特に、１レイヤの露光を複数のショットにより構成する露光方法及び装置、並びに、この露光方法を用いて製造した液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、アプリケーションの拡大等に伴い、大面積、高精細な液晶表示装置が主流になり始めている。このため、液晶表示装置の製造過程におけるリソグラフィー技術には、より精度の高いパターニングが要求されており、露光時のパターン寸法ムラなどを如何に抑えるかが今後の重要な課題となっている。
【０００３】
液晶表示装置では、その大面積化とともに、半導体装置のように一のショットで一つのデバイスパターンを露光することが困難となっており、複数のレチクルを用いて複数回のショットを行うことにより大面積のパターニングすることが行われている。この露光過程においては、一定の露光量で複数のショットを行い、一のレイヤの露光を行う方法が用いられていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この露光方法では一のレイヤの露光に複数のショットを用いるので、ショットとショットの間には必ず繋ぎ部が存在することになる。
しかしながら、従来の露光方法では繋ぎ部におけるパターン寸法については全く考慮されていなかったため、繋ぎ部においてパターン寸法が急激に変化することがあった。特に、表示部に繋ぎ部が存在した場合、そのパターン寸法が約０．５μｍ以上ずれると、その寸法差に起因する色ムラが人間の目に感知され得るほど大きくなるため、繋ぎ部における急激なパターン寸法変化が生じない露光方法が望まれていた。
【０００５】
本発明の目的は、１レイヤの露光を複数のショットにより構成する露光方法において、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止する露光方法及び装置を提供することにある。
また、本発明の他の目的は、上記露光方法を用いることにより、色ムラがなく、大面積、高精細の液晶表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、複数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法において、第１の領域に隣接する第２の領域を露光する際に、前記第１の領域の露光に用いる第１のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、前記第２の領域の露光に用いる第２のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照し、前記第２の領域を露光するための露光条件を決定することを特徴とする露光方法によって達成される。このようにして露光することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止することができる。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【０００７】
また、上記の露光方法において、前記第１の領域と前記第２の領域の繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、前記第１の領域及び前記第２の領域においてほぼ等しくなるように前記第２の領域の露光条件を決定することが望ましい。繋ぎ部近傍におけるパターン寸法を考慮することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を更に低減することができる。
【０００８】
また、上記目的は、複数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法において、複数のショット領域に隣接する一のショット領域を露光する際に、前記複数のショット領域の露光に用いるそれぞれのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、前記一のショット領域の露光に用いるレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照し、前記一のショット領域を露光するための露光条件を決定することを特徴とする露光方法によっても達成される。このようにして露光することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止することができる。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【０００９】
また、上記の露光方法において、前記一のショット領域との繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、前記一のショット領域及び前記一のショット領域に隣接する他のショット領域においてほぼ等しくなる前記第一のショット領域の露光条件を、前記複数のショット領域のそれぞれについて求め、これらの露光条件を平均化して前記一のショット領域の露光条件を決定することが望ましい。繋ぎ部近傍におけるパターン寸法を考慮することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を更に低減することができる。
【００１０】
また、上記の露光方法において、前記複数のショットに用いるすべてのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係を参照し、前記複数のショットの露光条件を最適化することが望ましい。このようにして露光条件を設定すれば、すべての繋ぎ部における露光条件を最適化しつつ一のレイヤを露光することができる。
また、上記の露光方法において、前記露光量とパターンサイズとの関係を参照する代わりに、前記レチクル上におけるパターンサイズを参照することが望ましい。
【００１１】
また、上記の露光方法において、前記一のレイヤの露光に必要とされる前記複数のショットは、前記複数のショットに用いるレチクル毎に順次行うことが望ましい。このようにすることにより、一レイヤの露光に必要なＴＡＴを短縮することができる。
また、上記目的は、露光量とパターンサイズとの関係を含む露光情報を格納する露光情報格納手段と、前記露光情報格納手段から、前記露光量とパターンサイズとの関係を参照し、上記の露光方法に基づいて各ショットの露光条件を決定する露光条件決定手段と、前記露光条件に基づいて露光処理を行う露光手段とを有することを特徴とする露光装置によっても達成される。このようにして露光装置を構成することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止しつつ露光することができる。したがって、このような露光装置を液晶表示装置の製造プロセスに適用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
［第１実施形態］
本発明の一実施形態による露光方法及び装置について図１乃至図３を用いて説明する。
図１は本実施形態による露光方法を説明するためのパターンレイアウトを示す図、図２は本実施形態による露光方法を説明するためのレチクルを示す図、図３は本実施形態におけるパターンサイズと露光量との関係の一例を示すグラフである。
【００１４】
上述したように、一のレイヤの露光に複数のショットを用いる露光方法ではショットとショットの間に必ず繋ぎ部が存在することとなる。従来の露光方法により生ずるパターンサイズの急激な変化は、主として、レチクル内におけるパターンサイズのばらつきや露光装置のディストーションに起因するものである。
レチクル面内におけるパターンサイズのばらつきは、遮光膜パターニングの際にスピンコートするフォトレジスト膜厚のばらつきや、このフォトレジスト膜をマスクとして遮光膜をドライエッチングする際の面内ばらつきなどに起因する。一方、露光装置自体に起因するばらつきは装置固有のものであり、長期間の使用による変動を考慮しなければほぼ一定と考えることができる。
【００１５】
したがって、特定のレチクルを用いてパターンを転写した場合、転写されるパターンサイズのばらつきは、主としてレジスト上の寸法ばらつきを反映しており、露光量に対してほぼ一定の関係にあると考えられる。よって、転写されるパターンの所定領域のパターンサイズが判れば、パターンサイズのばらつき分布から特定の領域のパターンサイズを見積もることが可能となる。
【００１６】
本発明は、係る観点からショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止する露光方法を提供するものである。
以下、具体的な例を挙げながら本発明を詳述する。
いま、図１に示すように、８回のショットにより一のレイヤの露光を行う液晶表示装置を考える。図１は、パターンＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆの６種類のパターンを適宜配列し、ガラス基板１０上にパネル形成領域１２を２つ設けた場合を示したものである。
【００１７】
ここで、このレイヤの露光には、４枚のレチクルａ、ｂ、ｃ、ｄを用いるものとし、レチクルａにはパターンＡが、レチクルｂにはパターンＢが、レチクルｃにはパターンＣ及びＤが、レチクルｄにはパターンＥ及びＦが、それぞれ描画されているものとする（図２（ａ）〜（ｄ）参照）。
まず、露光処理に先立ち、これら４枚のレチクルａ、ｂ、ｃ、ｄについて、繋ぎ部が発生する領域における露光量とパターンサイズとの関係を測定する。
【００１８】
例えば、レチクルａの場合には、パターンＡに対する繋ぎ部は、パターンＡの上端、下端、右端、左端においてそれぞれ存在することとなるので、それぞれのばらつきの関係を測定しておく。すなわち、パターンサイズと露光量との関係をそれぞれの端部について測定しておき、所定の露光量のときにそれぞれの端部が概略どの位の寸法で出来上がるかを見積もることができるようにしておく。
【００１９】
レチクルｃの場合には、パターンＣ及びＤが含まれるので、それぞれのパターンを露光することによって発生する繋ぎ部を考慮して上記のデータを測定しておく。すなわち、レチクルｃ上では、パターンＣとＤとの境界が存在するが、境界近傍領域のパターンＣはパターンＡの左端と接続され、パターンＤはパターンＡの右端と接続されるので、この領域についてもパターンサイズと露光量との関係を測定しておく。
【００２０】
このようにしてパターンサイズと露光量との関係を測定しておけば、所定の領域のサイズを合わせ込むようにパターン露光を行った場合に、このときの露光量から繋ぎ部の発生する領域におけるパターンサイズを見積もることが可能となる。出来上がりのパターンサイズと露光量との関係を測定するのは、出来上がりのパターンサイズにはディストーションなどの露光装置自体のばらつきをも含まれるため、装置自体のばらつきをも考慮してパターンサイズを見積もることができるからである。
【００２１】
なお、転写されるパターンのばらつき分布は主としてレチクル上のばらつきを反映したものであるので、同一のレチクルを用いる限り面内における寸法ばらつきの経時変化はないと考えられる。したがって、パターンサイズと露光量との関係を求める上記の測定は、露光処理ごとに必要とされるものではない。
また、このように測定したデータをデータベース化しておけば、後述する露光処理を円滑に、且つ迅速に進めることが容易となる。
【００２２】
次に、このように測定したデータを参照しつつ、レチクルａ〜ｄを露光する。
まず、基準となる一のショットを、出来上がり寸法が設計値となるように露光量を設定して露光する。例えば、パターンＣを基準とする場合には、例えば繋ぎ部が発生するパターンＣの右端の領域が設計値通りに出来上がるように露光量を決定して露光する。
【００２３】
次いで、上記の基準ショットに隣接するショットを、基準ショットの露光量に応じた所定の露光量で露光する。例えば、パターンＣを基準ショットとする場合には、これに隣接するパターンＡを露光する。パターンＡを露光する際の露光量は、例えば以下のように決定する。
予め測定しておいたパターンＡにおけるパターンサイズと露光量との関係が、例えば図３に示すようであったとする。すなわち、同じ露光量で同一サイズとなるべきパターン露光した際に、右端領域のパターンサイズが、左端領域におけるパターンサイズよりも太かったとする。また、パターンＣの露光量ＥCと同じ露光量でパターンＡを露光すると、パターンＡの左端領域のパターンサイズＷA0が、パターンＣの右端領域のパターンサイズＷCよりも太くなるものとする。
【００２４】
このような場合、パターンＡをパターンＣと同じ露光量Ｅcで露光すると、パターンＡとパターンＣとの間の繋ぎ部においてパターンサイズが急激に変化することとなる。
そこで、パターンＡの露光時には、パターンＡの左端領域のパターンサイズが、パターンＣの右端領域のパターンサイズとほぼ等しくなるように、パターンＡの露光量を設定する。具体的には、図３のグラフにおいて、出来上がり線幅がパターンＣの右端領域のパターンサイズＷCと同じになるパターンＡの左端領域の露光量ＥA1を求めればよい。
【００２５】
このようにしてパターンＡの露光量を設定することにより、パターンＣとパターンＡとの間の繋ぎ部におけるパターンサイズはともにＷCとなり、パターンサイズの急峻な変化を抑えることができる。
続いて、このように露光したパターンＡ（以下、区別のためパターンＡ１と表す）に隣接するパターンＡ（以下、区別のためパターンＡ２と表す）を露光する場合には、パターンＡ１を基準ショットとして、上述した方法と同様にパターンＡ２の露光量を決定する。すなわち、パターンＡ２の左側領域のパターンサイズが、露光量ＥA1で露光した際のパターンＡ１の右側領域のパターンサイズＷA1と同じになるように、図３の関係から露光量ＥA2を求めればよい。
【００２６】
この後、同様の手順を繰り返し、パターンＤ、Ｅ、Ｂ、Ｆを順次露光していけばよい。
ところで、パターンＢは、パターンＥ及びパターンＡとの間に繋ぎ部を構成する。このように複数のパターンとの間に繋ぎ部を構成するパターンを露光する際には、それぞれのパターン間において最適な露光量を決定したうえで、これら露光量の平均値を求めるなどによってパターンＢの露光量を決定すればよい。こうすることにより、パターンＥ及びパターンＡとの繋ぎ部におけるパターンサイズの変化量を最適化した状態でパターンＢを露光することができる。
【００２７】
このように、本実施形態によれば、複数のショットにより一のレイヤの露光を行う際に、それぞれのショットの露光量を、隣接するショットの露光データを参照して決定することにより、ショットの繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変動を防止することができる。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【００２８】
なお、上記実施形態では、図１において、左上の領域に位置するパターンＣを最初の基準ショットとして選択したが、何れのショットを基準ショットとして選択してもよい。また、最初の基準ショットは一つには限られず、複数の基準ショットを設定してもよい。
また、上記実施形態では、露光量とパターンサイズとの関係を予め測定したが、ディストーションなどの露光装置自体に起因するばらつきの影響を無視できる場合には、レチクル上のパターンサイズのみを参照することによっても露光条件を最適化することができる。この場合、繋ぎ部におけるレチクル寸法のズレを求め、このズレ量から露光条件を補正する補正量を算出すればよい。補正量は、フォトレジストや露光装置の特性から容易に求めることができる。
【００２９】
［第２実施形態］
本発明の第２実施形態による露光方法及び装置について図１を参照して説明する。なお、図１又は図２に示す第１実施形態による露光方法及び装置と同一の構成には同一の符号を付し、説明を省略又は簡略にする。
第１実施形態では、図１に示す液晶表示装置のレイアウトにおいて、左上のショットから右下方向に順次露光量を決定しながら露光する方法を示した。しかしながら、第１実施形態による露光方法によれば、必ずしもこのように露光する必要はない。
【００３０】
一方、複数のレチクルを用いた露光方法では、レチクルを交換する際の処理時間等を短縮することもＴＡＴを短縮するうえで重要である。このため、一般的に、一枚のレチクルで複数のショットを行う場合には、そのショットを連続して行い、レチクル交換時間を短縮することが行われる。
本実施形態では、これらの点を考慮して、一レイヤの露光に要するＴＡＴを短縮しうる露光方法を示す。
【００３１】
まず、レチクルｃを用い、パターンＣを露光する。パターンＣの露光量は、所定の領域が設計値通りに出来上がるように設定すればよい。
次いで、レチクルを変更せず、レチクルｃのパターンＤを露光する。パターンＤの露光量は、パターンＣの場合と同様に、所定の領域が設計値通りに出来上がるように設定すればよい。
【００３２】
続いて、レチクルｃをレチクルａに変更し、パターンＡを露光する。この際、パターンＣに隣接するパターンＡ（パターンＡ１）は、パターンＣを基準ショットとして露光量を決定し、パターンＤに隣接するパターンＡ（パターンＡ２）は、パターンＡ１と、パターンＤを基準ショットとして露光量を決定すればよい。
この後、レチクルａをレチクルｄに変更し、パターンＥを露光する。この際、パターンＣに隣接するパターンＥは、パターンＣを基準ショットとして露光量を決定すればよい。
【００３３】
次いで、レチクルを変更せず、レチクルｄのパターンＦを露光する。この際、パターンＤに隣接するパターンＥは、パターンＤを基準ショットとして露光量を決定すればよい。
続いて、レチクルｄをレチクルｂに変更し、パターンＢを露光する。この際、パターンＥに隣接するパターンＢ（パターンＢ１）は、パターンＡ１及びパターンＥを基準ショットとして露光量を決定し、パターンＦに隣接するパターンＢ（パターンＢ２）は、パターンＢ１と、パターンＡ２と、パターンＦとを基準ショットとして露光量を決定すればよい。
【００３４】
このようにして一レイヤをショットすることにより、レチクルの交換を最小限に抑えることができるので、一レイヤの露光に要するＴＡＴを短縮することができる。
このように、本実施形態によれば、一のレチクルに必要なショットをレチクルを交換せずに連続して行うので、露光処理に要するＴＡＴを短縮することができる。
【００３５】
［第３実施形態］
本発明の第３実施形態による露光方法及び装置について説明する。
第１及び第２実施形態による露光方法では、隣り合うショットのみを考慮して各ショットの露光量を設定する方法を示した。  しかし、上述した露光量の設定方法では、少なくとも一のショットの露光量をオペレータが設定する他は、残りのショットの露光量は、隣接するショットとの関係のみによって計算で求められる。
【００３６】
したがって、各ショットにおけるパターンサイズと露光量との関係を互いに関連づけておけば、少なくとも一のショットの露光量を与えるだけで、すべての繋ぎ部におけるパターンサイズの変化を最適化した露光量を、すべてのショットについて求めることもできる。また、どのショットを基準とすればすべての繋ぎ部におけるパターンサイズの変化を最適化できるかをも見積もることができる。
【００３７】
このようにしてすべてのショットの露光量を予め設定すれば、パターンサイズの変化を面内で最適化するとともに、第２実施形態で示したようにＴＡＴを考慮しつつ任意の順番で各ショットを露光することができる。
このような計算は、各ショットにおけるパターンサイズと露光量との関係をデータベース化しておくことにより、数値解析によって容易に求めることができる。これらデータ処理を行う演算処理手段を露光装置に設ければ、ショットの繋ぎ目におけるパターンサイズの急激な変動を抑えた本発明の露光方法を容易に実現することができる。
【００３８】
このように、本実施形態によれば、各ショットのパターンサイズと露光量との関係から、レイヤ全体のショット条件を露光前に最適化するので、ショットの繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変動を効果的に防止することができる。
［変形実施形態］
上記第１乃至第３実施形態では、本発明による露光方法を液晶表示装置の製造方法に適用する場合を例に説明したが、液晶表示装置の製造方法に限られるものではない。本発明は、複数のショットにより一レイヤを構成することが必要なデバイスに広く適用することができる。
【００３９】
また、図１に示す液晶表示装置のレイアウトは本発明を説明するにあたって例示したものであり、ショットの分割方法その他の構成は、この図面に記載した液晶表示装置に限られるものではない。
【００４０】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によれば、複数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法において、第１の領域に隣接する第２の領域を露光する際に、第１の領域の露光に用いる第１のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、第２の領域の露光に用いる第２のレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照し、第２の領域を露光するための露光条件を決定するので、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止することができる。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【００４１】
また、上記の露光方法において、第１の領域と第２の領域の繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、第１の領域及び第２の領域においてほぼ等しくなるように第２の領域の露光条件を決定すれば、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を更に低減することができる。
また、複数のショットにより一のレイヤを露光する露光方法において、複数のショット領域に隣接する一のショット領域を露光する際に、複数のショット領域の露光に用いるそれぞれのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係と、一のショット領域の露光に用いるレチクルの露光量とパターンサイズとの関係とを参照し、一のショット領域を露光するための露光条件を決定するので、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止することができる。したがって、この露光方法を液晶表示装置の製造過程におけるパターニング工程に採用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【００４２】
また、上記の露光方法において、一のショット領域との繋ぎ部近傍において、同じ寸法に形成されるべきパターンの寸法が、一のショット領域及び一のショット領域に隣接する他のショット領域においてほぼ等しくなる第一のショット領域の露光条件を、複数のショット領域のそれぞれについて求め、これらの露光条件を平均化して一のショット領域の露光条件を決定するので、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を更に低減することができる。
【００４３】
また、上記の露光方法において、複数のショットに用いるすべてのレチクルの露光量とパターンサイズとの関係を参照し、複数のショットの露光条件を最適化するので、すべての繋ぎ部における露光条件を最適化しつつ一のレイヤを露光することができる。
また、上記の露光方法では、露光量とパターンサイズとの関係を参照する代わりに、レチクル上におけるパターンサイズを参照することができる。
【００４４】
また、上記の露光方法において、一のレイヤの露光に必要とされる複数のショットを、複数のショットに用いるレチクル毎に順次行えば、一レイヤの露光に必要なＴＡＴを短縮することができる。
また、露光量とパターンサイズとの関係を含む露光情報を格納する露光情報格納手段と、露光情報格納手段から、露光量とパターンサイズとの関係を参照し、上記の露光方法に基づいて各ショットの露光条件を決定する露光条件決定手段と、露光条件に基づいて露光処理を行う露光手段とにより露光装置することにより、ショット間の繋ぎ部におけるパターン寸法の急激な変化を防止しつつ露光することができる。したがって、このような露光装置を液晶表示装置の製造プロセスに適用すれば、色ムラの発生を抑えて大画面の高精細な液晶表示装置を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態による露光方法を説明するためのパターンレイアウトを示す図である。
【図２】本発明の第１実施形態による露光方法を説明するためのレチクルを示す図である。
【図３】パターンサイズと露光量との関係の一例を示すグラフである。
【符号の説明】
ａ、ｂ、ｃ、ｄ…レチクル
Ａ、Ａ１、Ａ２、Ｂ、Ｂ１、Ｂ２、Ｃ、Ｄ、Ｅ、Ｆ…パターン
ＥC、ＥA1、ＥA2…露光量
ＷA0、ＷA1、ＷA2…パターン幅
１０…ガラス基板
１２…パネル形成領域
【図１】
0004014694.tif 000002
【図２】
0004014694.tif 000003
【図３】
0004014694.tif 000004