(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
常用の助剤および添加剤の他に、
（Ａ）中和した形で水溶性または水に分散性であり、０℃を越えるガラス転移温度を有する、カルボキシル基含有ポリマー                          ０.５〜１５重量％、
（Ｂ）次の構造：
【化１】
0003943229.tif 000009
[式中、基Ｒ１は同一または異なっていてよく、メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシル、オクタデシル、シクロヘキシル、フェニル、ナフチル、ベンジル、フェニルエチル、トルイルまたはキシリルを表し、
基Ｒ２は同一または異なっていてよく、式−（ＣＨ２）ｎ−Ｒ３の基を表し、ここで、nは０〜１０の整数であり、Ｒ３は式−Ｎ（Ｒ４）２の基であり、基Ｒ４は同一または異なっていてよく、−Ｈまたは炭素原子１〜２０個を有する脂肪族炭化水素を表し、
ｘおよびｙはポリシロキサンブロックの数平均分子量が３００〜３００００にあるような整数である]を有するポリシロキサン、
使用したポリマー（Ａ）に対して０.５〜３０重量％、
（Ｃ）低分子中和剤                                      ０〜５０％
を含有する毛髪セッティング剤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
髪型のセッティングにはすでにほぼ５０年にわたり合成ポリマーが成功のもとに使用されている。最初の頃は有利にビニルラクタム−ホモ−またはコポリマーを使用し、その後カルボキシレート基含有ポリマーが重要性を増した。所望の特性プロフィール、例えば高湿度における強力なセッティング、弾力性、毛髪からの洗い落とし性および常用の組成物成分との認容性は疎水性、弾性化およびカルボキシル基含有モノマーの組合せの共重合により達せられる（文献：Robert Y. Lochhead, Vol.103,December 1988,24ff.,Rolf-Dieter Reinhardt Cosmetics and Toiletries Manufacture World Wide 1955,189m ff.）。
【０００２】
【従来の技術】
前記要求は今日、種々異なるポリマータイプにより達成されているが、これらのポリマーでセッティングした髪型が不快につやがなく、かつ“不自然に”感じられるようにますますなってきている。組成物に添加することにより改良を達成する試みは、現在なお完全に十分な結果に導いていない：常用の可塑剤の添加は確かに手触りを改良するが、多くの場合、同時にセッティング作用を低下させる。しばしば使用されるポリシロキサンは極性のポリマーと認容性でなく、かつ概して組成物を製造するためにしばしば更なる添加物を必要とする。分離は、組成物を貯蔵する間にも、使用の間にも問題に導く（ＥＰＡ０４０８３１１、第１頁第２５行以降参照）。
【０００３】
従って、分離を阻止するために、ポリシロキサン基を強化ポリマーに共有結合で結合する試みが非常に多くなされている、例えばヨーロッパ特許出願第０４０８３１１号明細書は通常の親水性および疎水性モノマーとポリシロキサン基含有モノマーとからなる毛髪手入れ用ポリマーを記載している。ヨーロッパ特許出願ＥＰ０４１２７０４〜ＥＰ０４１２７０７号明細書においては、１０００〜５００００の分子量を有するマクロモノマーの形でポリシロキサン基を同様に疎水性および親水性モノマーと重合することが提案されている。
【０００４】
シロキサン基含有マクロモノマーの合成は著しく費用がかかる。このポリマーはその高い分子量のために、このポリマーから未反応のマクロモノマーおよびその非反応性の不純物を分離することはできない。このポリマーは毒性およびアレルギーの危険性を有し、かつ溶解性を悪化する。更に、得られたコポリマーは、良好な作用を達成するためにしばしば、例えば前記特許明細書中に記載されている、その他のポリマー、キャリヤーおよび更なる助剤との組合せにおいてのみ組成物に構成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の課題は前記欠点を有しない、ポリシロキサン含有毛髪セッティング組成物を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、常用の助剤および添加剤の他に、
0003943229.tif 000002
を含有する毛髪セッティング剤に関する。
【０００７】
好適なカルボキシル基含有ポリマー（Ａ）は、例えばクロトン酸とビニルエステル、（メタ）アクリル酸／（メタ）アクリル酸エステルと、場合により更なる窒素含有コモノマーとのコポリマー、およびマレイン酸のビニルエーテルとのコポリマーの半エステルであり、これらは例えば通常毛髪セッティングスプレー、ムースおよびゲルに使用される（参照：Robert Y. Lochhead, Vol.103,December 1988,24ff.,Rolf-Dieter Reinhardt Cosmetics and Toiletries Manufacture World Wide 1955,189m ff.）。
【０００８】
更に好適であるのは、例えばドイツ特許ＤＥ４２２５０４５号明細書中に記載されているカルボキシル基を含有するポリウレタンである。しかしながら、特に毛髪セッティング剤として本発明に使用することが決められたポリマーを使用することもできる。この際、カルボキシレート基の割合を高めることにより洗い落とし性を改良するか、または疎水性モノマーの割合を変えることによりセッティングに影響を与えることもできる。
【０００９】
このポリマーが中和した形で０℃を越えるガラス転移温度、有利には１０℃を越え、特に２０℃を越えるガラス転移温度を有することは、重要である。
【００１０】
本発明による毛髪セッティング剤はポリマー（Ａ）を０.５〜１５、有利に２〜１０重量％含有する。
【００１１】
好適なアミノ基含有シロキサン（Ｂ）は特に次の構造：
【００１２】
【化１】
0003943229.tif 000003
【００１３】
のものであり、式中、基Ｒ1は同一または異なっていてよく、一般式−（ＣＨ2）n−Ｒ3（ここでnは０〜１０の整数であってよい）の基を表す。
【００１４】
ｘおよびｙはポリシロキサンブロックの分子量が３００〜３００００にあるような整数である。
【００１５】
特に、基Ｒ1は次の基から選択することができる：メチル、エチル、プロピル、ブチル、イソブチル、ペンチル、イソペンチル、ヘキシル、オクチル、デシル、ドデシルおよびオクタデシル、脂環式基、特にシクロヘキシル、芳香族基、特にフェニルまたはナフチル、混合した芳香族−脂肪族基、例えばベンジルまたはフェニルエチルならびにトルイルおよびキシリル。
【００１６】
基Ｒ2は同一または異なっていてよく、この際Ｒ2は一般式−（ＣＨ2）n−Ｒ3（ここでnは０〜１０の整数である）であってよい。Ｒ3は−Ｈ、または炭素原子１〜２０個を有する脂肪族炭化水素または芳香族基の群から選択されたものであってよい。更に有利であるのは、少なくとも１つの基Ｒ3が−Ｎ（Ｒ4）2である化合物であり、この際Ｒ4が同時に−Ｈ、または炭素原子１〜２０個を有する脂肪族炭化水素、芳香族基または炭素原子１〜１２個を有するアミノアルキル基であってよい。
【００１７】
基Ｒ4は同一または異なっていてよい。
【００１８】
特に好適であるのは次の一般的構造を有するものである：
【００１９】
【化２】
0003943229.tif 000004
【００２０】
好適な中和剤（Ｃ）は、一方では無機塩基、例えば炭酸ナトリウムまたは炭酸カリウムならびにアンモニアであり、他方では有機塩基、例えばアミノアルコール、特に２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（ＡＭＰ）、トリエタノールアミン、トリイソプロパノールアミン（ＴＩＰＡ）、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリ（２−ヒドロキシ−１−プロピル）アミン、２−アミノ−２−メチル−１,３−プロパンジオール（ＡＭＰＤ）または２−アミノ−２−ヒドロキシメチル−１,３−プロパンジオールならびにジアミン、例えばリシンである。
【００２１】
本発明による毛髪セッティング剤中に使用するためのコポリマーのカルボキシル基は、有利に５〜１００％まで、有利に３０〜９５％までが中和されている。
【００２２】
本発明による混合物は、例えば毛髪用ゲル、液体毛髪セッティング剤、毛髪ムースおよび特にスプレー調合物の形の髪型セッティング剤としての使用である。
【００２３】
多くの場合、有利に、付加的に更なるポリマーを組成物に対して０.１〜１５重量％、有利に１〜５重量％使用する。
【００２４】
好適な添加ポリマーは特に、Ｎ−ビニルラクタムおよびビニル−アミド、例えばビニルピロリドン、ビニルカプロラクタム、ビニルホルムアミドおよびビニル（メタ）アセトアミド、のポリマーおよびコポリマーである。更に、付加的なポリマーとしてスルホ基含有ポリアミド、ポリウレタンおよびポリエステルを考慮することができ、例えばこれらは特許明細書ＥＰ ０６９６６０７、もしくはＤＥ ４２２５０４５もしくはＵＳ ３７７９９９３中に記載されている。
【００２５】
【実施例】
実施例
【００２６】
【表１】
0003943229.tif 000005
【００２７】
１）シリコーン、Tegomer A-Si 2320およびTegomer A-Si 2120はゴールドシュミット社（Goldschmidt AG）で購入でき；Silikonoel IM 11はワッカー社（Fa. Wacker）で購入できる。シロキサンTegomer A-Si 2320およびTegomer A-Si 2120は次の一般構造を有し、その際 n は約１０（A-Si 2120）もしくは約３０（A-Si 2320）である。
【００２８】
【化３】
0003943229.tif 000006
【００２９】
ワッカー社のシロキサンIM 11は次の一般構造（n は約１１）を有する：
【００３０】
【化４】
0003943229.tif 000007
【００３１】
２）酸含有ポリマーに対する重量％
３）被膜の平滑性はガラスプレート上にナイフ塗布し、会社の官能テストで決定した。この際表面の荒さならびに摩擦特性を試験した。
【００３２】
実施例１（比較例）：
エタノール中のｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート／メタクリル酸ターポリマー（BASF-AG,Ludwigshafenから入手可能なLuvimer 100 PＴＭ）の１０％溶液を２−アミノ−２−メチル−１−プロパノール（ＡＭＰ）でｐＨ−値９.５に調節する。この組成物は透明で、水中に再分散性の被膜を生じる。
【００３３】
実施例２〜４（例４は比較例）：
実施例１と同様にして、シロキサンであるTegomer A-Si 2120、Tegomer A-Si 2320およびSilikon IM 11 １０重量％を含有する、次の組成物を製造した：
エタノール                                              １００ｍｌ
ｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート／メタクリル酸ターポリマー（BASF-AG,Ludwigshafenから入手可能なLuvimerＴＭ）       １０ｇ
相応するシロキサン                                      １ｇ
ＡＭＰを添加しｐＨ９.５にする。
【００３４】
実施例５〜７（例７は比較例）：
実施例１と同様にして、シロキサンであるTegomer A-Si 2120、Tegomer A-Si 2320およびSilikon IM 11 ５重量％を含有する、次の組成物を製造した：
エタノール                                              １００ｍｌ
ｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート／メタクリル酸ターポリマー（BASF-AG,Ludwigshafenから入手可能なLuvimer 100 PＴＭ）       １０ｇ
シロキサン                                              ０.５ｇ
ＡＭＰを添加しｐＨ９.５にする。
【００３５】
実施例８〜１０（例１０は比較例）：
実施例１と同様にして、シロキサンであるTegomer A-Si 2120、Tegomer A-Si 2320およびSilikon IM 11 ２重量％を含有する、次の組成物を製造した：
エタノール                                              １００ｍｌ
ｔ−ブチルアクリレート／エチルアクリレート／メタクリル酸ターポリマー（BASF-AG,Ludwigshafenから入手可能なLuvimer 100 PＴＭ）       １０ｇ
シロキサン                                              ０.２ｇ
ＡＭＰを添加しｐＨ９.５にする。
【００３６】
実施例１１：
次の成分からなる組成物：
0003943229.tif 000008
ＡＭＰを添加しｐＨ７.０にする。
【００３７】
実施例１２（比較例）：
次の成分からなる組成物：
エタノール                                              １００ｍｌ
オクチルアクリルアミド／アクリレート／ブチルアミノエチルメタクリレート  コポリマー（National Starch社から入手可能なAmphomerＴＭ）  １０ｇ
ＡＭＰを添加しｐＨ７.０にする。
【００３８】
実施例１３、１４（例１４は比較例）：
ビニルアセテート／ビニルプロピオネート／クロトン酸ターポリマー（BASF-AG社から入手可能なLuvisetＴＭ CAP）を用いて、実施例１１および１２と同じ組成物。
【００３９】
実施例１５、１６（例１６は比較例）：
アクリル酸／エチルアクリレート／Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミドターポリマー（BASF-AGから入手可能なUltraholdＴＭ 8）を用いて、実施例１１および１２と同じ組成物。