(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明フィルム基材の表面に、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦１０）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成されている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が１．５〜２．７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電体膜は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／２（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５（１±０．１５）倍であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項２】
金属酸化物膜が、酸化インジウム、酸化錫、二酸化チタン、酸化セリウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化タンタル、五酸化ニオブ、硫化亜鉛よりなる群から選ばれる１又は２以上の化合物からなる薄膜である請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項３】
銀系透明導電体膜が、９０重量％以上の銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガン、カドニウムから選択された１つまたは２つ以上の元素により構成された薄膜である請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項４】
最外層の金属酸化物膜の表面に、ハードコート層が形成されている請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項５】
ハードコート層が、屈折率１．４５以下、厚さ０．０５〜１０μｍ、水接触角９０度以上の塗工膜である請求項４記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項６】
ハードコート層の上面に、厚さ０．００１〜１μｍの反射防止兼防汚染層がさらに形成されている請求項４記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項７】
最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせてなる請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項８】
透明フィルム基材の表面とその表面に設けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が１．５以下で厚さが０．０５〜１μｍのアンダーコート層が形成されている請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項９】
透明フィルム基材の裏面に、厚さ１０〜５００μｍの透明粘着剤層が形成されている請求項１記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項１０】
プラズマディスプレイパネルの前面表示ガラス部に、請求項９記載のフィルターを透明粘着剤層を介して貼り合わせてなるプラズマディスプレイパネル表示装置。
【請求項１１】
プラズマディスプレイパネルの前面側に空気層を介して設置される透明成形体のプラズマディスプレイパネル側と逆の面に、請求項９記載のフィルターを透明粘着剤層を介して貼り合わせてなるプラズマディスプレイパネル表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと称す）の前面に配置し、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線を同時にカットするＰＤＰ用フィルターおよびこのフィルターを貼り合わせてなるＰＤＰ表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰは、希ガス特にネオンを主体とするガスがパネル内に封入されている。ＰＤＰにおいて、陰極から放出された電子が加速されてガス分子と衝突し、励起したり電離したりして陽極へ進み、そこで生じた陽イオンも陰極と衝突して２次電子放出を起こし、放電が開始される。この際、ネオン原子の遷移過程に伴い電磁波および近赤外線が放出される。
放出される近赤外線は、波長が８５０〜１２００ｎｍである。一方、家電製品、カラオケ、音響映像機器等のリモートコントローラの受光感度は７００〜１３００ｎｍであることから、ＰＤＰから放出された近赤外線がリモートコントローラを誤作動させてしまうという問題が生じている。しかし、近赤外線はＰＤＰの原理上発生するものであり、ＰＤＰ自体では防止できない。
【０００３】
そのため、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線をカットするフィルターが検討されており、従来たとえば、低抵抗値の金属メッシュまたはエッチングメッシュを埋め込んだアクリル板と近赤外線を吸収する染料系の材料を混入させたアクリル板とを貼合わせたまたは熱融着させた板や、ガラス板に直接スパッタ法で銀系薄膜等を形成したものに近赤外線吸収材入りフィルムを貼合わせした板や、或いは、近赤外線を吸収する染料系の材料を混入させたアクリル板にスパッタ法で銀系薄膜等を形成したフィルムを貼合わせた板を、ＰＤＰの前面に空気層を介してセッティングするという方法が採用されている。
【０００４】
上記のメッシュタイプは、低抵抗値は得られるが、近赤外線カットフィルターが別に必要であり、ＰＤＰ表示パターン間隔によりモアレ現象を生じ表示品位を損なうという欠点がある。また、スパッタ法を代表とするドライプロセスで得られるフィルターはモアレ現象は見られないが、低抵抗値、可視光透過特性、８５０〜１２００ｎｍの近赤外線カット特性、可視光低反射特性の諸特性を同時に満足するものであって、しかも、比較的簡単な積層構成でなし得るフィルターは従来存在しなかった。さらに、ＰＤＰの前面に空気層を介してセッティングする方法である為、視認性が悪く、軽量、薄型と言うＰＤＰの特徴を損なうものであった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ＰＤＰが必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、薄型のＰＤＰ用フィルターを提供することを課題とする。また、本発明のさらなる課題は、このＰＤＰ用フィルターを備えたＰＤＰ表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明のＰＤＰ用フィルターは、上記の課題を解決するためになされたものであって、透明フィルム基材の表面に、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を１単位としてｎ単位（３≦ｎ≦１０）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が形成されている積層体であって、金属酸化物膜は屈折率が１．５〜２．７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電体膜は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／２（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５（１±０．１５）倍であることを特徴とする積層体により達成される。
【０００７】
また、本発明によれば、最外層の金属酸化物膜の表面に、ハードコート層が形成されており、ハードコート層の屈折率が１．４５を超える場合は、その層上に厚さ０．００１〜１μｍの反射防止兼防汚染層がさらに形成されている積層体により達成される。好ましくは、ハードコート層は屈折率１．４５以下、厚さ０．０５〜１０μｍ、水接触角９０度以上の塗工膜である。
他の態様として、最外層の金属酸化物膜の表面に、別の透明フィルム基材の片面にハードコート層、反射防止層、防汚染層を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層を介して貼合わせた積層体により達成される。
さらに、透明フィルム基材の表面とその表面に設けられる金属酸化物膜の間に、屈折率が１．５以下で厚みが０．０５〜１μｍのアンダーコート層が形成されている積層体であるのが好ましい。
【０００８】
また、本発明によれば、透明フィルム基材の裏面に、厚さ１０〜５００μｍの透明粘着剤層が形成されている積層体により、ＰＤＰの前面表示ガラス部に本積層体を透明粘着剤層を介して貼り合わせたり、ＰＤＰの前面側に空気層を介して設置される透明成形体のＰＤＰ側と逆の面に、本積層体を透明粘着剤層を介して貼り合わせることができ、比較的簡単な積層構成で、ＰＤＰが必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可視光低反射特性の所期の目的を達成することが出来る。
しかも、視認性が良く、軽量、薄型のＰＤＰ用前面フィルターを備えたＰＤＰ表示装置も提供することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下において、図１〜２を使用して本発明のＰＤＰ用フィルターを具体的に説明する。
図１において、透明フィルム基材１の表面には、金属酸化物膜および銀系透明導電体膜を１単位として、金属酸化物膜（２Ａ、２Ｂ、２Ｃ）および銀系透明導電体膜（３Ａ、３Ｂ、３Ｃ）が順次繰り返し積層され（図１は３単位の例を示す）、その最外層に金属酸化物膜２Ｄが形成されている。
上記の金属酸化物膜は屈折率が１．５〜２．７の光学的透明性を有する膜であり、銀系透明導電体膜は厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の値に設定されており、且つ該基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／２（１±０．１５）倍であり、それ以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５（１±０．１５）倍となるように設計されている。
図１には、最外層の金属酸化物膜２Ｄの表面に、さらにハードコート層４および反射防止兼防汚染層５が形成され、透明フィルム基材１の裏面には透明粘着剤層が形成されている例を示している。
【００１０】
他の態様である図２（図１と同符号は同一の構成要素を示す）は、透明フィルム基材１の表面とその表面に設けられる金属酸化物膜２Ａの間に、屈折率が１．５以下で厚みが０．０５〜１μｍのアンダーコート層９が形成されており、一方、最外層の金属酸化物膜２Ｄの表面には、別の透明フィルム基材１１の片面にハードコート層４、反射防止層７、防汚染層８を順次形成したフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層６１を介して貼合わせてなるＰＤＰ用フィルターの例を示している。
【００１１】
本発明において使用する透明フィルム基材としては、可視光領域における透明性を有するもので、ある程度表面が平滑であれば使用できる。例えば、ポリエチレンテレフタレート、トリアセチルセルロース、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリエーテルエーテルケトン等が好ましい。フィルム基材厚さは、ドライプロセスで熱ジワなどの問題が発生しなければ制限はないが、通常厚さ１０〜２５０μｍのものが使用される。
また、フィルム基材として高分子フィルムそのものでも良いが、片面または両面に耐擦傷性を付与するためのハードコート処理を行っても良い。ＵＶ硬化タイプでも熱硬化タイプでも良く、厚さは１〜１０μｍが適当である。１μｍより薄いと耐擦傷性効果が低下するし、１０μｍ以上ではクラックの発生が起こりやすい。さらに、可視光の色調整のための色素をフィルム基材中に混入させてもよく、フィルム基材に塗布してもよい。
【００１２】
透明成形体としては、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ＡＢＳ樹脂などの透明プラスチック板やガラス板が挙げられるが、透明であって、ある程度の機械的強度、耐熱性があれば特に限定されない。その厚さは１〜１０ｍｍ、好ましくは２〜５ｍｍである。
また、透明成形体の内部又は表面に、可視光の色調整のための色素を混入又は塗布してもよく、さらに透明成形体のＰＤＰ側の面には、ハードコート層、反射防止層、アンチグレア層などを直接形成してもよく、これらの層を一旦透明フィルム基材に形成したものを貼り合わせてもよい。
【００１３】
金属酸化物膜の材料としては、高屈折率の光学膜材料ならある程度使用できるが、薄膜の屈折率が１．５〜２．７の範囲が好ましい。屈折率１．５以下の場合、金属酸化物膜の厚さを厚くする必要があり、多層にした場合クラックが入りやすくなる。また、屈折率２．７を超えると、最外層の金属酸化物膜と空気との屈折率差が大きくなりすぎ、可視光反射率を低くおさえることが難しくなる。また、単一の金属酸化物でも複数の金属酸化物を混合した材料を用いてもよい。さらに、銀のマイグレーション防止効果や水、酸素のバリア効果がある材料ならさらに好ましい。
好適な金属酸化物材料としては、酸化インジウムを主成分とし二酸化チタンや、酸化錫、酸化セリウムを少量含有させたもの、二酸化チタン、酸化ジルコニウム、硫化亜鉛、酸化ビスマス、五酸化ニオブ、酸化亜鉛などが挙げられる。これらの薄膜層は、スパッタリング、真空蒸着、イオンプレーティング等の真空ドライプロセスで設けることができる。金属酸化物膜の膜厚は、１８〜１００ｎｍが適当であり、その屈折率、銀系透明導電体膜の厚さ、全層数などにより、光学特性を最適にする膜厚が決定される。
【００１４】
銀系透明導電体膜の材料としては、９０重量％以上の銀と、金、銅、パラジュウム、白金、マンガン、カドニウムから選択された１つまたは２つ以上の元素により構成されるが、９０〜９９重量％の銀と上記金属１〜１０重量％を固溶させた材料であるのが好ましい。特に銀中に１〜１０重量％の金を固溶させたものは、銀の劣化防止の観点から好ましい。金を１０重量％以上混入すると比抵抗が上昇し低抵抗値が得られ難く、また１重量％以下では銀の劣化が起こりやすい。銀系透明導電体膜を形成する手段としては、スパッタ法などの真空ドライプロセスが用いられる。銀系透明導電体膜の厚さは、５〜２０ｎｍが適当であるが、さらに好ましくは、９〜１７ｎｍである。
【００１５】
本発明者らは、ＰＤＰから発生する電磁波と近赤外線を同時にカットするＰＤＰフィルターとしての備えるべき特性の目標値を、次の表１の通り設定して研究開発を鋭意進めた。
【００１６】
【表１】
0003898357.tif 000002
【００１７】
これに対して、従来の技術の項で説明した様に、色々な材料の複合体が従来検討されてはいるが、可視光透過率が低い物や反射特性が悪いもの、クラックなどの発生や、信頼性がないものが多い。また、要求特性を満たすため構成を複雑にすると高価格となることを避けられない。
本発明者らは、かかる要求特性を、透明フィルム基材上にドライプロセス法にて、比較的簡単な積層構成で満足する手段について鋭意検討を重ねた結果、透明フィルム基材側から、金属酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化物膜の順に交互に多層に積層してなる積層体、即ち、透明フィルム基材／（金属酸化物膜／銀系透明導電体膜）ｎ／金属酸化物膜、の式で表わされる積層体において、次の条件を満足する場合には驚くべきことに、低抵抗値でありながら、ＩＲ吸収剤が不要で、光学特性も良好なフィルターを比較的簡単な積層構成で達し得ることを見出したものである。
▲１▼  金属酸化物膜は、屈折率が１．５〜２．７以下の光学的透明性を有する膜とする。
▲２▼  銀系透明導電体膜は、厚さ５〜２０ｎｍの範囲内で略一定の厚さに設定する。
▲３▼  ３≦ｎ≦１０の範囲でｎ（正数）を選択する。
▲４▼  該フィルム基材表面の金属酸化物膜と最外層の金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５／２（１±０．１５）倍となるように設定する。
▲５▼  上記▲４▼以外の中間に位置する金属酸化物膜の各厚さが、銀系透明導電体膜の厚さの５（１±０．１５）倍となるように設定する。
【００１８】
例えば、ｎ＝３の場合（図１参照）、透明フィルム基材１／金属酸化物膜２Ａ／銀系透明導電体膜３Ａ／同２Ｂ／同３Ｂ／同２Ｃ／同３Ｃ／金属酸化物膜２Ｄの積層体であり、この場合、銀系透明導電体膜（３Ａ、３Ｂおよび３Ｃ）を厚さ１３ｎｍに設定すると、金属酸化物膜（２Ａおよび２Ｄ）の厚さは３２．５ｎｍであり、金属酸化物膜（２Ｂおよび２Ｃ）の厚さは６５ｎｍとなり、表１の光学特性を満足することが出来る。
また、ｎ＝４の場合、同様に１／２Ａ／３Ａ／２Ｂ／３Ｂ／２Ｃ／３Ｃ／２Ｄ／３Ｄ／２Ｅの積層体となるが、この場合、銀系透明導電体膜（３Ａ、３Ｂ、３Ｃおよび３Ｄ）を厚さ１２ｎｍに設定すると、金属酸化物膜（２Ａおよび２Ｅ）の厚さは３０ｎｍであり、金属酸化物膜（２Ｂ、２Ｃおよび２Ｄ）の厚さは６０ｎｍとなる。
さらに、ｎ＝５の場合も同様に、銀系透明導電体膜（３Ａ〜３Ｅ）を厚さ１１ｎｍに設定すると、金属酸化物膜（２Ａおよび２Ｆ）の厚さは２７．５ｎｍ、金属酸化物膜（２Ｂ、２Ｃ、２Ｄおよび２Ｅ）の厚さは５５ｎｍとなる。
上記において、金属酸化物膜の厚さの設定条件である５／２倍および５倍の公差±１５％は、金属酸化物の屈折率により決定される。
【００１９】
また、銀系透明導電体膜の厚さを５〜１１ｎｍ未満に設定する場合は、ｎ＝６〜１０となるように多層化するばよく、銀系透明導電体膜の厚さを１４〜２０ｎｍに設定する場合は、ｎ≧３の条件で金属酸化物膜の最適屈折率および厚さが設定される。
ｎ＜３の場合、銀系透明導電体膜の厚さを増すことで表面抵抗値は下げられるが、光学特性を満足できなくなる。また、ｎ＞１０の場合、表１の特性を満足する組み合わせはあるが、構成自体が複雑になり、目的とする比較的簡単な構成では達成できなくなる。
【００２０】
ハードコート層４に関しては、ＰＤＰ前面表示部に直接貼る積層体であるので、人が触れる可能性が高く、積層体の傷防止の目的で形成する。ハードコート層の屈折率が１．４５以下の場合、最内層の金属酸化物膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反射特性を損なわず表面ハードコート性を付与出来る。また、水接触角９０度以上の物が防汚染性もあり好ましい。適当な膜厚は、０．０５〜１０μｍであるが、より好ましくは０．１〜６μｍである。
【００２１】
屈折率が１．４５以下のハードコート材料としては、熱硬化型のＳｉＯ2 系の材料、ＵＶ硬化型のフッ素系ポリマー材料等が硬度的に好ましいが限定するものではない。この場合、さらに反射防止兼防汚染層５を形成しても、しなくても良い。
また、屈折率が１．４５を超えるハードコート層の場合、最内層の金属酸化物膜から最外層の金属酸化物膜までの光学特性、特に反射特性を損なうが、表面硬度の向上には、屈折率の高い材料が適している。出来るだけ、反射特性を損なわず表面硬度を得るためには、適当な厚さは０．０５〜１０μｍであるが、より好ましくは０．１〜６μｍである。反射特性を改善させる為にこの面上に反射防止兼防汚染層５を形成しても構わない。反射防止兼防汚染材料は、低屈折率のフッ素系樹脂、ＭｇＦ2 、 ＣａＦ2 等の光学膜を、塗工法やスパッタ法等のドライプロセスにより形成することができる。その厚さは０．００１〜１μｍ程度が好ましい。
【００２２】
また、最外層の金属酸化物膜の面上にハードコート層を直接形成する代わりに、図２の如く、別の透明フィルム基材１１の片面にハードコート層４、反射防止層７および防汚染層８を形成したフィルムを用意し、そのフィルムを他面に形成した透明粘着剤層６１を介して貼合わせてよい。
この場合、透明フィルム基材１１には、透明フィルム基材１に使われるものなら制約はないが、通常ポリエステルフィルム、トリアセチルセルロースフィルムが用いられる。ハードコート層には、高硬度のハードコート剤が一般に使われ、ＵＶ硬化型のアクリルウレタン系、熱硬化型のシロキサン系などの材料で、厚さは１〜１０μｍ程度が好適である。反射防止層と防汚染層は上述の反射防止性と防汚染性の両特性を有する材料により１層で兼備させてもよく、スパッタ蒸着等の方法で作成された高屈折膜と低屈折膜との多層膜による反射防止層上に、撥水性のフッ素系樹脂、ＭｏＳ2 等の材料を薄層塗工、スパッタ法などのドライプロセスにて防汚染層を形成してもよい。
【００２３】
また、透明フィルム基材の表面と最内層の金属酸化物膜の間に、屈折率が１．５以下で厚さが０．０５〜１μｍのアンダーコート層９を形成させると、金属酸化物膜とフィルム基材との密着力を向上出来るという効果と、積層体全体の可視光反射率をさらに低下させる効果がある。  アンダーコート層の材料としては、ＵＶ硬化型低屈折フッ素系ポリマーであってポリマー中に官能基を導入することにより密着性を向上させたものや、ＵＶ硬化型低屈折無機コート材等が使用される。
【００２４】
透明粘着剤層６は、弾性係数が１×１０Ｅ5 〜１×１０Ｅ7 dyn/cm2 が好ましく、厚さは１０〜５００μｍ、さらに好ましくは２５〜３００μｍである。その材料としてはアクリル系、ゴム系、ポリエステル系などがあり、特にアクリル系粘着剤を用いるのが好ましい。アクリル系粘着剤は、粘着剤としての適度の濡れ性、柔軟性を付与するための主単量体として、ポリマー化した際のガラス転移点が−１０℃以下の（メタ）アクリル酸アルキルエステルを１種もしくは２種以上と、必要によりアクリル酸、メタアクリル酸、２−ヒドロキシエチルアクリレート等の官能基含有単量体およびその他の共重合性単量体とを、適宜の重合触媒を用いて溶液重合法、乳化重合法、塊状重合法（特に紫外線による重合法）、懸濁重合法などの方法で重合して得られるアクリル系ポリマーに、架橋剤等の各種添加剤を添加したものが用いられる。熱架橋タイプ、光（紫外線、電子線）架橋タイプなどであってもよい。
【００２５】
上記特性の透明粘着剤層を使用すると、ＰＤＰ前面表示ガラスに直接貼合わせた際に、ＰＤＰガラス表面のウネリを吸収し、貼合わせが良好となる。また、貼合わせた後、外部からの異物が衝突しても、この範囲であると、粘着剤層のクッション効果により、フィルム表面に傷が付きにくいばかりか、糊厚が瞬間的には薄くなるが、すぐに自己復活して、何もなかったかの如く元どおりの平滑面になるという特性が得られる。
【００２６】
【実施例】
次に、本発明を実施例により具体的に説明するが、本発明はかかる実施例のみに限定するものではない。
実施例１
厚さ１２５μｍの透明ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルムの片面に、厚さ５μｍのＵＶ硬化型ハードコート樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名ユニデック１７−８１３を主成分とする）を形成して耐擦傷性を付与した透明フィルム基材を用い、ハードコート（ＨＣ）側に順次、ＤＣマグネトロンスパッタ法で金属酸化物膜、銀系透明導電体膜、金属酸化物膜の順序で薄膜を形成した。
ＨＣ付き透明フィルム基材の可視光透過率at550nm は、８９％であった。金属酸化物膜を形成するターゲット材料には、Ｉｎ2 Ｏ3 ―１２．６重量％ＴｉＯ2 を使用し、銀系透明導電体膜を形成するターゲット材料には、Ａｇ―５重量％Ａｕを使用した。膜厚の測定は、厚膜に付けた膜の表面粗さ計（ＤＥＫＴＡＫ３）による製膜速度の検量線と透過型電子顕微鏡による精密測定により行った。抵抗値の測定は、三菱油化製（ＬｏｒｅｓｔｅｒＳＰ）を用いた。また、光学特性は、日立製作所製Ｕ−３４１０を用いて測定した。
上記透明フィルム基材のＨＣ上に、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を１単位として、下記の厚さでｎ単位（ｎ＝３、４、５）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が積層された３種類の積層体サンプル▲１▼、▲２▼、▲３▼を作製した。
▲１▼  32.5/13/65/13/65/13/32.5（ｎｍ）
▲２▼  28.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/57.5/11.5/28.5（ｎｍ）
▲３▼  26.0/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/52.5/10.5/26.0（ｎｍ）
作製したサンプルのフィルター特性を表２に示した。
【００２７】
【表２】
0003898357.tif 000003
【００２８】
また、作製したフィルターのサンプル▲１▼について、光学測定チャートを図３〜４に示した。図３によると、可視光線領域で高い透過率が得られ、８００ｎｍ以上の近赤外線を殆どカットしている。また、図４によると、可視光線領域全体にわたり反射率が低いことが判る。
上記の表２および図３〜４より明らかなように、ｎ＝３、計７層のスパッタ積層膜という簡単な構成で、低抵抗値とＩＲカット等の良好な光学特性を持つフィルターを得ることが出来た。ｎ＝４および５の場合には、積層数は増加するが特性面では改良が見られた。
【００２９】
比較例１
実施例１と各材料および製作方法は同様であるが、金属酸化物膜の厚さを本発明の範囲から外れる下記の数値に設定して、２種類の積層体サンプル▲４▼、▲５▼を作製し、実施例１と同様の評価を行った。
▲４▼  37.5/13/75/13/75/13/37.5（ｎｍ）
▲５▼  32.5/13/75/13/75/13/32.5（ｎｍ）
作製したサンプルのフィルター特性を表３に示した。
【００３０】
【表３】
0003898357.tif 000004
【００３１】
また、作製したサンプル▲４▼について、光学測定チャートを図５〜６に示した。図５によると、青色光の透過率が悪く、８００ｎｍ以上の近赤外線のカットも不十分である。また、図６によると、青色の反射が大きいことが判る。
上記の表３および図５〜６より明らかなように、本発明の範囲から外れる数値に設定した金属酸化物膜の厚さバランスでは、７層程度の簡単な積層構成で、抵抗値と光学特性の両方を満足するものは得られなかった。
【００３２】
実施例２
実施例１と同様の厚さ１２５μｍの透明ＰＥＴフィルムのＨＣ上に、ＵＶ硬化型低屈折フッ素系ポリマー（日本合成ゴム社製、商品名ＪＭ５０１０）をグラビア塗工にて塗布し、３００ｍＪ／ｃｍ2 で３分間紫外線照射して硬化させ、厚さ０．１５μｍのアンダーコート層を形成した。この層の屈折率は１．４１であり、透明フィルム基材のＨＣとその上に形成される金属酸化物膜との密着性を向上させるように、滑り性を持たない材料を使用した。
このアンダーコート層の上に実施例１と同様な材料および作製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を１単位として、下記の厚さでｎ単位（ｎ＝３）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作製した。
各膜の厚さ：32.5/13/65/13/65/13/32.5（ｎｍ）
次に、ハードコート層として、屈折率が１．３６のＳｉＯ2 系ハードコート材（日産化学社製、商品名ＬＲ２０１）を、上記の最外層の金属酸化物膜上にグラビア塗工にて形成後、１５０℃５分硬化させた。得られたハードコート層の厚さは５μｍであり、水接触角は１０４度であった。
さらに、上記透明フィルム基材の裏面に、固形分２０重量％のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ厚さ５０μｍ、弾性率１．８×１０Ｅ6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サンプル▲６▼を作製した。
このサンプル▲６▼および、サンプル▲６▼をロールラミネーターにてＰＤＰ前面表示ガラス部に貼合わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、表４に示した。表４から明らかなように、サンプル▲６▼は電磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射特性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が良好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたたＰＤＰ用前面フィルターを得ることが出来た。
【００３３】
実施例３
厚さ１２５μｍの透明ＰＥＴフィルムの片面に、実施例２と同様の厚さ０．１５μｍのアンダーコート層を形成した。このアンダーコート層の上に、金属酸化物膜を形成するターゲット材料として、Ｉｎ2 Ｏ3 ―１０重量％ＳｎＯ2 を用い、銀系透明導電体膜を形成するターゲット材料としてＡｇ―３重量％Ａｕを使用した他は実施例１と同様の方法により積層体を得た。なお、Ｉｎ2 Ｏ3 ―１０重量％ＳｎＯ2 の屈折率は、２．０であった。
上記アンダーコート層の上に形成される積層体を構成する各膜厚は、銀系透明導電体膜の各厚さ１２ｎｍ、最内層と最外層の金属酸化物膜の厚さ３４．４ｎｍ、また、中間に位置する金属酸化物膜の厚さ６８．８ｎｍに設定した（ｎ＝３）。  次に、最外層の金属酸化物膜の面上に、屈折率が１．５５のＵＶ硬化型ハードコート（大日本インキ化学工業社製、商品名ユニデック１７−８１３を主成分とする）を、ファンテンリバース法にて塗工し、３００ｍＪ／ｃｍ2 で３分間紫外線照射して硬化させ、厚さ５μｍのハードコート層を形成した。さらに、その上に有機フッ素系の反射防止兼防汚染材料（日本合成ゴム社製、商品名ＪＭ５０２５）をグラビア塗工し、３００ｍＪ／ｃｍ2 で３分間紫外線照射して厚さ０．１５μｍの反射防止兼防汚染層を形成した。
一方、上記透明フィルム基材の裏面に、固形分２０重量％のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ厚さ１００μｍ、弾性率１．０×１０Ｅ6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サンプル▲７▼を作製した。
このサンプル▲７▼および、サンプル▲７▼をロールラミネーターにてＰＤＰ前面表示ガラス部に貼合わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、表４に示した。  表４から明らかなように、サンプル▲７▼は電磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射特性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が良好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたたＰＤＰ用前面フィルターを得ることが出来た。
【００３４】
【表４】
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【００３５】
実施例４
厚さ１２５μｍの透明ＰＥＴフィルムの片面に、実施例２と同様の厚さ０．１５μｍのアンダーコート層を形成した。
このアンダーコート層の上に、実施例１同様な作製方法で、金属酸化物膜と銀系透明導電体膜を１単位として、下記の厚さでｎ単位（ｎ＝３）が順次積層され、最外層に金属酸化物膜が積層された積層体を作製した。
各膜の厚さ：32.5/13/65/13/65/13/32.5（ｎｍ）
次に、厚さ８０μｍのトリアセチルセルロース（ＴＡＣ）フィルム基材を用意し、片面に厚さ５μｍのＵＶ硬化型ＨＣ樹脂（大日本インキ化学工業社製、商品名ユニデック１５−８２９を主成分とする）を形成した後、その上へ反射防止特性と防汚染特性を兼ね備えた屈折率１．３６のシリコーン系樹脂層（日産化学社製、商品名ＬＲ２０１）を厚さ０．２μｍに形成した。この反射防止兼防汚染層の水接触角は１０４度であった。
上記片面処理ＴＡＣフィルムの裏面に、厚さ２３μｍの透明粘着剤層を形成して、積層体の最外層の金属酸化物膜の表面に貼合わせた。さらに、上記ＰＥＴ基材の裏面に、固形分２０重量％のアクリル系の粘着剤溶液を塗布し、１５０℃で５分間乾燥させ厚さ１００μｍ、弾性率１．０×１０Ｅ6 dyn/cm2 の透明粘着剤層を形成して積層体サンプル▲８▼を作製した。
このサンプル▲８▼および、サンプル▲８▼をロールラミネーターにてＰＤＰ前面表示ガラス部に貼合わせたものとを評価用サンプルとした。評価結果を、表５に示した。表５から明らかなように、サンプル▲８▼は電磁波シールド特性、近赤外線カット性、可視光低反射特性において良好な結果が得られ、しかも、耐擦傷性が良好で視認性が良く、薄さ、軽さも兼ね備えたＰＤＰ用前面フィルターを得ることが出来た。
【００３６】
【表５】
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【００３７】
実施例５
実施例３で作製した積層体サンプル▲７▼を、厚さ３ｍｍの透明アクリル板（三菱レイヨン社製、商品名アクリライト）の片面に貼り、その反対面に３％ヘイズをを持つアンチグレア層を塗工した厚さ１２５μｍのＰＥＴフィルム裏面を透明粘着剤で貼り合わせて、ＰＤＰ用前面フィルター板の評価用サンプルとした。
上記評価用サンプルの評価結果を表６に示した。表６から明らかなように、積層体サンプルを透明アクリル板に貼り合わせても、耐擦傷性が良好で、低抵抗で光学特性良好なＰＤＰ用前面フィルター板を得ることが出来た。
【００３８】
【表６】
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【００３９】
【発明の効果】
本発明のＰＤＰ用フィルターは、積層体を構成する金属酸化物膜と銀系透明導電体膜との相互の厚さ関係を特定の数値に設定することにより、ＰＤＰが必要とする電磁波シールド特性、近赤外線カット特性、可視光低反射特性等の諸特性を、比較的簡単な積層構成で同時に満足させると共に、しかも視認性が良く、軽量、薄型のフィルターを提供することができる。また、本発明は、このＰＤＰ用フィルターを備えた光学特性の優れたＰＤＰ表示装置を提供することができる。
【００４０】
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターの一実施態様の概略を示す断面図である。
【図２】図２は、本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターの他の実施態様の概略を示す断面図である。
【図３】図３は、本発明の実施例１で得られたフィルターの光透過率を示す光学測定チャートである。
【図４】図４は、本発明の実施例１で得られたフィルターの光反射率を示す光学測定チャートである。
【図５】図５は、比較例１で得られたフィルターの光透過率を示す光学測定チャートである。
【図６】図６は、比較例１で得られたフィルターの光反射率を示す光学測定チャートである。
【符号の説明】
１，１１：透明フィルム基材
２Ａ，２Ｂ，２Ｃ，２Ｄ：金属酸化物膜
３Ａ，３Ｂ，３Ｃ：銀系透明導電体膜
４：ハードコート層
５：反射防止兼防汚染層
６，６１：透明粘着剤層
７：反射防止層
８：防汚染層
９：アンダーコート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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