(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル層Ａとその片面に積層されたポリエステル層Ｂからなり、ポリエステル層Ａを構成するポリエステルは、触媒残渣としてのチタン化合物をチタン元素量で５〜３０ｐｐｍおよびジエチレングリコール成分を０．１〜２．５重量％含有し、かつ、結晶化パラメータ（△Ｔｃｍ）が以下の一般式（Ｉ）を満足し、ポリエステル層Ａと接していないポリエステル層Ｂの表面の十点平均粗さ（ＷＲｚB）は３０〜３００ｎｍの範囲にあることを特徴とする積層ポリエステルフィルム。
【数１】
７０℃≦ΔＴｃm≦１８０℃  ・・・（Ｉ）
（ここで、式（Ｉ）中の△Ｔｃｍは、ポリエステルの融点（Ｔm）からポリエステルの溶融状態から降温した際の結晶化温度（Ｔｃ）を差し引いた温度である。）
【請求項２】
ポリエステル層Ｂと接していないポリエステル層Ａの表面の中心平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜２．５ｎｍである請求項１に記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項３】
ポリエステル層Ｂが、触媒残渣としてのチタン化合物をチタン元素量で５〜３０ｐｐｍ含有する請求項１記載の積層ポリエステルフイルム。
【請求項４】
ポリエステル層Ｂが、平均粒径５０〜１０００ｎｍの不活性粒子Bを０．００１〜１重量％含有する請求項１記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項５】
ポリエステル層Ｂが、炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスを０．００１〜１重量％含有する請求項１記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項６】
ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しないか、または、平均粒径３０〜４００ｎｍの範囲でかつ不活性粒子Ｂよりも平均粒径の小さい不活性粒子Ａを０．００１〜０．２重量％含有する請求項２記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項７】
ポリエステル層Ａのポリエステル層Bと接していない表面に皮膜層Ｃが積層されている請求項１〜６のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項８】
皮膜層Ｃが、平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３０重量％含有する請求項７に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項９】
厚さが２μｍ以上８μｍ未満である請求項１〜８のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項１０】
ポリエステル層Ａおよび層Ｂを構成するポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートである請求項１〜９のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項１１】
積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面に磁性層を設けて、磁気記録媒体の支持体として用いる請求項１〜１０のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１０のいずれかに記載された積層ポリエステルフィルムと、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面に設けられた磁性層とからなることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項１３】
磁性層が強磁性金属薄膜層である請求項１２に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は積層ポリエステルフィルムに関し、更に詳しくは電磁変換特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体、特にデジタル信号を記録・再生する強磁性金属薄膜型磁気記録媒体、例えばビデオカセットテープ、データストレージテープ等のベースフィルムとして有用な積層ポリエステルフィルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の高密度記録化の進歩はめざましく、例えば、強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により非磁性支持体上に形成させた磁気記録媒体の開発、実用化が進められている。具体的には、Ｃｏの蒸着テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）、Ｃｏ―Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７０６号公報）が知られている。
【０００３】
従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入させて非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は、記録密度が低く、記録波長も長いために、磁性層の厚みが２μm程度以上と厚い。これに対し、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体における金属薄膜（磁性層）は、厚みが０．２μm以下と非常に薄くなっている。
【０００４】
このため、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が磁性層の表面性に影響する程度は、金属薄膜の方が遥かに大きい。すなわち、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の場合、非磁性支持体の表面状態が、そのまま金属薄膜の表面凹凸として発現し、それが記録・再生信号の雑音の原因となる。従って、非磁性支持体の表面は、できるだけ平滑であることが望ましい。
【０００５】
一方、非磁性支持体の製膜、加工工程での搬送、巻取り、巻出しといったハンドリングの観点からは、フィルムが滑り性に優れることが好ましい。フィルム表面が平滑過ぎると、フィルムフィルム相互の滑り性が悪化し、かつまた表面に傷が生じ易くなり、製品歩留りの低下、ひいては製造コストの上昇をきたす。従って、製造コストという観点では、非磁性支持体の表面は、できるだけ粗いことが好ましい。
【０００６】
また、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にするため、通常、金属薄膜成形前にイオンボンバード処理と呼ばれる、ベースフィルム表面をイオンにより活性化する処理を行なう。そして、金属薄膜成形時には、フィルム表面にかなり高温の熱がかかるので、ベースフィルムが融解したり、機械特性などの物性が低下しないように、フィルムの背面を冷却する。この背面冷却には、通常、ドラム状冷却体にフィルムを巻き付ける方法が採用されるが、その際、ドラム表面に金属薄膜が形成されないようにベースフィルムの両端をマスキングする。
【０００７】
従って、上記蒸着工程を通過したフィルムロールの両端部には、このマスキングによって金属薄膜の形成されなかった部分が、イオンボンバード処理によって表面活性化された状態のままで、長手方向に連続的に存在する。そして、この部分は、ロール状に巻き上げられた状態では、反対面側と高い力で接触することになり、ブロッキングを引き起しやすくなる。金属薄膜型磁気記録媒体を製造する際には、金属薄膜を蒸着した後に、バックコート層および必要に応じてトップコート層を設けるが、これらの加工工程において上記ブロッキングが発生していると、ベースフィルムの切断やしわが発生しやすくなり、収率が大幅に低下するという問題が生じる。このブロッキングを防ぐためには、非磁性支持体の表面は粗い方が好ましい。
【０００８】
このように、非磁性支持体の表面は、電磁変換特性という観点からは平滑であることが要求され、ハンドリング性、製造コスト、ブロッキング防止の観点からは、粗いことが要求される。
【０００９】
上記のような相反する要求を満たすため、２つの層からなり、一方の層の表面よりも他方の層の表面を粗くした積層フィルム（例えば特公平１−２６３３８号）が提案されている。しかし、この積層フィルムは、粗面側の高い突起が平坦面側に転写したり、粗面側に添加した大きな粒子による平坦面側への突き上げ効果により、磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が悪化してしまうという問題を抱えている。
【００１０】
また、フィルム内部の触媒残渣（微粒子）によって表面平滑性が低下するのを防止する方策として、平滑な層の原料としてゲルマニウム化合物を重合触媒とし、特定量のゲルマニウムとリンを含有するポリエステルを使用した積層フィルム（例えば特開平１２−１５６９５号）が提案されている。ゲルマニウム化合物の使用は微粒子形成を抑制する点では有利であるが、ポリエステル製造時の副生成物であるジエチレングリコールを増加させ、フィルム製造時あるいは先述の金属薄膜加工工程における熱安定性を悪化させ、該層の平滑性を低下させてしまうという問題を抱えている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、平滑性、走行性、耐ブロッキング性、熱安定性、加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに優れた電磁変換特性、走行耐久性を奏する積層ポリエステルフィルムを提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、前述の通り、金属薄膜型磁気記録媒体を製造する際でも平坦性を保持しうる支持体を得ることにあり、これまでは蒸着工程における支持体の耐熱性の不足により、元々具備していた平坦性が蒸着工程で損なわれていた。従来から、ＤＥＧ（ジエチレングリコール）の含有量を減らすほどポリエステルフイルムの耐熱性が向上することは広く知られているが、一方、ＤＥＧの含有量を減らすと、フイルムとしたときの結晶性が進み、かえってフィルム自体の平坦性が低下することがあり、これらを両立する事は非常に困難であった。そして、本発明者らは、ＤＥＧの含有量を低く抑えつつ、フイルムの結晶性を特定の結晶化パラメータΔＴｃｍの範囲にすることで、耐熱性と平坦性を両立しうる支持体が得られることを見出し、本発明に到達した。
【００１３】
かくして本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステル層Ａとその片面に積層されたポリエステル層Ｂとからなり、ポリエステル層Ａを構成するポリエステルは、触媒残渣としてのチタン化合物をチタン元素量で５〜３０ｐｐｍ重量比およびジエチレングリコール成分を０．１〜２．５重量％含有し、かつ、結晶化パラメータ（△Ｔｃｍ）が以下の一般式（Ｉ）
【００１４】
【数２】
７０℃≦ΔＴｃm＝Ｔｍ−Ｔｃ≦１８０℃  ・・・（Ｉ）
（ここで、式（Ｉ）中の△Ｔｃｍは、ポリエステルの融点（Ｔm）からポリエステルの溶融状態から降温した際の結晶化温度（Ｔｃ）を差し引いた温度である。）
を満足し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａと接していない表面の十点平均粗さ（ＷＲｚB）は３０〜３００ｎｍの範囲にある積層ポリエステルフィルムによって達成される。
【００１５】
また、本発明によれば、本発明の好ましい態様として、本発明の積層ポリエステルフィルムに、ポリエステル層Ｂと接していないポリエステル層Ａの表面の中心平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜２．５ｎｍであること、ポリエステル層Ｂが、触媒残渣としてのチタン化合物をチタン元素量で５〜３０ｐｐｍ含有すること、ポリエステル層Ｂが、平均粒径が５０〜１０００ｎｍの不活性粒子Bを０．００１〜１重量％含有すること、ポリエステル層Ｂが、炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスを０．００１〜１重量％含有すること、ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しないか、または、平均粒径３０〜４００ｎｍの範囲でかつ不活性粒子Ｂよりも平均粒径の小さい不活性粒子Ａを０．００１〜０．２重量％含有すること、ポリエステル層Bと接していないポリエステル層Ａの表面に皮膜層Ｃが積層されていること、皮膜層Ｃが、平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子Ｃを０．５〜３０重量％含有すること、積層フィルム全体の厚さが２μｍ以上８μｍ未満であること、ポリエステル層Ａおよび層Ｂを構成するポリエステルが、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートであること、および、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面に磁性層を設けて、磁気記録媒体用の支持体として用いることのいずれか少なくとも１つを具備させた積層ポリエステルフィルムも提供される。
【００１６】
さらにまた、本発明によれば、前述の本発明の積層ポリエステルフィルムと、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面に設けられた磁性層とからなる磁気記録媒体，特に磁性層が強磁性金属薄膜層である磁気記録媒体も提供される。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂを積層した積層フィルムである。
【００１８】
前記ポリエステル層Ａ、層Ｂをそれぞれ構成するポリエステルＡ、Ｂは、芳香族ポリエステルが好ましく挙げられ、同じ種類でも、異なる種類であっても良い。
【００１９】
上記芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート）などを例示することができる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレートとポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましく、特により薄膜化が行えることから、ポリエチレン−２，６−ナフタレートが好ましい。
【００２０】
本発明で使用するポリエステルは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであっても良い。コポリエステルの場合、例えば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合成分としては、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコールなどの他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分などが挙げられる。これら共重合成分の量は、本発明の効果を損なわない限り、２０モル％以下、さらには１０モル％以下であることが好ましい。さらにトリメリット酸、ピロメリット酸、ペンタエリスリトールなどの３官能以上の多官能化合物を共重合させることも出来る。この場合、ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下で、共重合させるのが良い。
【００２１】
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルの場合の共重合成分についても、上記と同様に考えるとよい。
【００２２】
更に上記ポリエステルには本発明の効果を損なわない程度であれば、顔料、染料、酸化防止剤、帯電防止剤、光安定剤、遮光剤（例えばカーボンブラック、酸化チタン等）の如き添加剤を必要に応じて含有させることができる。
【００２３】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂが同じポリエステルからなるのが好ましいが、異なるポリエステルからなってもよい。例えば、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂが共にポリエチレンテレフタレート又はポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムが好ましいが、ポリエステル層Ａ（又はポリエステル層Ｂ）がポリエチレンテレフタレート、ポリエステル層Ｂ（又はポリエステル層Ａ）がポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムであっても良い。
【００２４】
本発明におけるポリエステル層Ａを構成するポリエステルＡは、その製造過程で副生成したまたは共重合成分として添加されたジエチレングリコール（以下、ＤＥＧと称することがある。）成分の含有量が０．１〜２．５重量％の範囲であることが必要であり、好ましいＤＥＧ成分の含有量は、０．２〜２．２重量％、特に０．３〜２．０重量％の範囲である。ＤＥＧ量が２．５重量％を超えると、金属薄膜型磁気記録媒体を製造する際に、金属薄膜を蒸着する工程において、支持体として用いる積層ポリエステルフィルムの耐熱性が不足してしまい、十分な平坦性を得ることができなくなる。一方、ポリエステルＡに含有されるＤＥＧ量を０．１重量％を未満にするには、ポリマーの生産性を著しく低下させるような過度の負担が必要なため、好ましくない。
【００２５】
本発明で使用するポリエステル中のジエチレングリコール量を２．５重量％以下にするには、重合触媒の選定、すなわち、ゲルマニウム化合物の代わりにチタン化合物を使用すること、エステル交換反応を経由して重縮合反応を行なうエステル交換法の場合、エステル交換反応が終了してから重縮合反応の減圧開始までの時間を例えば２０分以内にすること、また、高温反応下でのエチレングリコールの飛散速度を早めることが有効である。
【００２６】
前記ポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡはそれ自体公知の方法で製造することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートはテレフタル酸とエチレングリコールとをエステル化反応またはジメチルテレフタレートとエチレングリコールとをエステル交換反応せしめ、次いで反応生成物を重縮合せしめる方法で製造することができる。また、上記の方法（溶融重合）により得られたポリエステルは、必要に応じて固相状態での重合方法（固相重合）により、さらに重合度の高いポリマーとすることができる。
【００２７】
ところで、本発明におけるポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡは、触媒として添加された、すなわち、触媒残渣としてのチタン化合物をチタン元素（以下、Ｔｉと称することがある。）で５〜３０ｐｐｍ（重量比）含有することが必要である。ポリエステルＡに含有される触媒残渣としてのチタン元素（Ｔｉ）量が５ｐｐｍ以下であると、ポリエステルＡの重縮合速度が極端に低下してしまい、生産性の点で好ましくない。一方、触媒残渣としてのチタン元素（Ｔｉ）量が３０ｐｐｍより多くなると、ポリエステルの熱安定性が低下し、充分な強度のフィルムを得ることができなくなる。
【００２８】
前記ポリエステルＡに重合触媒としてチタン化合物を含有させる方法としては、チタン化合物を単独で使用しても良いし、チタン化合物（触媒）以外の他の金属化合物（触媒）と併用しても良いし、また、チタン化合物（触媒）単独で重合して得られるポリエステルとチタン化合物（触媒）以外の金属化合物（触媒）で重合して得られるポリエステルを適宜混合して、必要なチタン元素の含有量に調整しても良い。但し、他の金属化合物（触媒）と併用したり他の金属化合物（触媒）で重合されたポリエステルと混合したりする場合、ポリエステル層Ａの平滑性を得るために、ポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡは触媒残渣としてのアンチモン化合物をアンチモン元素量で高々５ｐｐｍしか含有しないこと、および触媒残渣としてのゲルマニウム化合物をゲルマニウム元素量で高々５ｐｐｍしか含有しないことが好ましく、特に好ましいのはアンチモン化合物およびゲルマニウム化合物を全く含有しないことである。
【００２９】
本発明で重合触媒として使用するチタン化合物としては、有機チタン化合物が好ましく、例えば特開平５−２９８６７０号に記載されているものを挙げることができる。詳しくは、チタンのアルコラートや有機酸塩、テトラアルキルチタネートと芳香族多価カルボン酸又はその無水物との反応物等を例示でき、好ましい具体例としてはチタンテトラブトキシド、チタンイソプロポキシド、蓚酸チタン、酢酸チタン、安息香酸チタン、トリメリット酸チタン、テトラブチルチタネートと無水トリメリット酸との反応物等を挙げることができる。
【００３０】
本発明におけるポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡは、下記式で定義される結晶化パラメータ（以下、ΔＴｃmと称することがある。）を有することが必要である。
【００３１】
【数３】
７０℃≦ΔＴｃm≦１８０℃  ・・・（Ｉ）
ここで、式（Ｉ）中の△Ｔｃｍは、ポリエステルの融点（Ｔm）からポリエステルの溶融状態から降温した際の結晶化温度（Ｔｃ）を差し引いた温度である。
【００３２】
上記式中のＴｍおよびＴｃは、ＤＳＣ測定用パンに１０ｍｇのサンプルを入れ、２９０℃加熱ステージ上で５分間加熱溶融後、すばやく試料パンを氷の上に敷いたアルミ箔上で急冷固化し、Ｄｕ  Ｐｏｎｔ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  ９１０  ＤＳＣを用い、昇温速度２０℃／分で融点を測定せしめ、更に３００℃の溶融状態まで到達した後、１０℃／分で降温し、結晶化温度を測定する方法による。
【００３３】
結晶化パラメータ（ΔＴｃｍ）はポリエステル層Ａの平滑性と密接な関係があり、１８０℃を超える場合は結晶化が製膜時の結晶化速度が微妙に速いために得られるポリエステル層Ａの平滑性が劣り、磁気記録媒体とした際に十分な電磁変換特性が得られない。他方、△Ｔｃｍが７０℃に満たない場合は、表面は十分に平滑にできるが、薄膜化した際のフイルムとしては十分な強度が得られない。
【００３４】
ΔＴｃｍを７０〜１８０℃の範囲に収めるには、重合触媒の選定、すなわちチタン触媒を用い、かつ触媒残渣としてのチタン化合物をチタン元素量として５〜３０ｐｐｍ以下になるようにすることと、触媒残渣としてのアンチモン化合物をアンチモン元素量として高々５ｐｐｍとすることが好ましく挙げられる。また、本結晶化パラメータは、理由は明らかではないが二軸延伸開始時のフイルム配向の出来方に影響されるため、二軸配向フイルムを得る際の延伸時の予熱温度を通常より高め、例えばＴｇ℃〜Ｔｇ＋１０℃で行うこと、熱固定の温度を通常より低め、例えば（Ｔｇ＋６０）〜（Ｔｍ−２０）℃で行うことなどが有効である。
【００３５】
本発明は、ポリエステル層Ａの平滑性と密接な関係がある結晶化パラメータΔＴｃｍを７０〜１８０℃の範囲とし、かつ、ポリエステル層ＡのＤＥＧ量を低減することと組み合わせることによって、ＤＥＧ量のみを低減する場合に比べて、更にポリエステル層Aの耐熱性を向上したものである。このメカニズムについては、まだよく分かっていないが、本発明の如くフイルム支持体上に金属薄膜を蒸着するような工程における耐熱性については、フイルム表面への熱負荷を如何に効率よく低減するかが重要であり、結晶化パラメータΔＴｃｍを本発明の範囲に収める事で蒸着されるフイルム表面の高い平坦性が蒸着時の熱負荷を均一にし、ポリマー固有の耐熱性（ＤＥＧ量）と相まって従来にない効果を発現したものと推定される。
【００３６】
本発明におけるポリエステル層Ａは、実質的に粒子を含有しないものでもよく、不活性粒子Ａを含有するものでもよい。ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しない場合、磁気記録媒体としたとき優れた電磁変換特性が得られ、電磁変換特性に悪影響を与えない範囲の粒子を含有させると、走行耐久性の向上を図ることができる。
【００３７】
ポリエステル層Ａに含有させる不活性粒子（以下、不活性粒子Ａと称することがある。）は、後述する体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、さらには０．２〜π／６、特に０．４〜π／６であることが好ましい。また、該不活性粒子Ａの平均粒径（ｄＡ）は３０〜４００ｎｍ、さらには４０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍであることが好ましい。この平均粒径（ｄＡ）が３０ｎｍ未満であると、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方４００ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため、好ましくない。
【００３８】
また、ポリエステル層Ａに不活性粒子Ａを含有させる場合の含有量は、ポリエステル層Ａに対し、好ましくは０．００１〜０．２重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．１重量％、特に好ましくは０．０２〜０．０６重量％である。この量が０．００１重量％未満であると、フィルムの滑り性向上効果が充分とは云えず、一方０．２重量％を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため、好ましくない。
【００３９】
好ましい不活性粒子Ａとしては、例えば、（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物粒子（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなどからなる粒子）、（３）金属の炭酸塩粒子（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなどからなる粒子）、（４）金属の硫酸塩粒子（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなどからなる粒子）、（５）炭素粒子（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイアモンドなどからなる粒子）、および（６）粘土鉱物粒子（例えば、カオリン、クレー、ベントナイトなどからなる粒子）が挙げられる。これらのうち、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、酸化アルミニウム（アルミナ）からなる粒子、二酸化チタンからなる粒子、二酸化ケイ素からなる粒子、酸化ジルコニウムからなる粒子、合成炭酸カルシウムからなる粒子、硫酸バリウムからなる粒子、ダイアモンドからなる粒子、またはカオリンからなる粒子が好ましい。さらに好ましい不活性粒子Ａは、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、酸化アルミニウム（アルミナ）からなる粒子、二酸化チタンからなる粒子、二酸化ケイ素からなる粒子、または炭酸カルシウムからなる粒子である。これら不活性粒子は１種または２種以上のものを混合して使用してもよい。
【００４０】
なお、前記不活性粒子Ａとして平均粒径の違う２種以上の粒子を用いる場合、小さい平均粒径の第２、第３の粒子（微細粒子）として、例えばコロイダルシリカや、α、γ、δ、θなどの結晶形態を有するアルミナなどの微粒子を用いるのが好ましい。また、不活性粒子Ａとして例示した粒子種のうち、平均粒径の小さい微細粒子も、第２、第３の粒子（微細粒子）として用いることができる。
【００４１】
本発明で使用するポリエステル層Ｂを形成するポリエステルＢは、ポリエステルＡと同様な方法で製造することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートはテレフタル酸とエチレングリコールとをエステル化反応またはジメチルテレフタレートとエチレングリコールとをエステル交換反応せしめ、次いで反応生成物を重縮合せしめる方法で製造できる。また、上記の方法（溶融重合）により得られたポリエステルは、必要に応じて固相状態での重合方法（固相重合）により、さらに重合度の高いポリマーとすることができる。
【００４２】
本発明で使用するポリエステルＢは、その製造の際に使用する触媒として、それ自体公知の触媒を使用でき、溶融重合でのエステル交換触媒としてはマンガン、カルシウム、マグネシウムおよびチタンの酸化物、塩化物、炭酸塩、カルボン酸塩等を好ましく使用でき、特に酢酸塩即ち、酢酸マンガン、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム、酢酸チタンを好ましく使用できる。これらの中でもチタン化合物が平滑性の観点から好ましい。
【００４３】
また、重縮合触媒としては、アンチモン化合物、チタン化合物、ゲルマニウム化合物を挙げることができ、これもチタン化合物が十分な平滑性を得られることから特に好ましい。
【００４４】
前記アンチモン化合物としては、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酢酸アンチモン等が好ましく挙げられる。
【００４５】
また、前記チタン化合物としては、有機チタン化合物が好ましく挙げられ、例えば特開平５−２９８６７０号に記載されているものを挙げることができる。更に説明すると、チタンのアルコラートや有機酸塩、テトラアルキルチタネートと芳香族多価カルボン酸又はその無水物との反応物等を例示でき、好ましい具体例としてチタンテトラブトキシド、チタンイソプロポキシド、蓚酸チタン、酢酸チタン、安息香酸チタン、トリメリット酸チタン、テトラブチルチタネートと無水トリメリット酸との反応物等を挙げることができる。但し、ポリエステルＢにおいても、後述する不活性粒子Ｂとの親和性を保ち、磁気記録媒体としたときの電磁変換特性を保持するため、触媒としてチタン化合物をチタン元素量で５〜３０ｐｐｍ含有させたものがもっとも好ましい。
【００４６】
さらにまた、前記ゲルマニウム化合物としては、例えば特許２７９２０６８号に記載されているものを挙げることができる。更に説明すると、（イ）無定形酸化ゲルマニウム、（ロ）結晶性ゲルマニウム、（ハ）酸化ゲルマニウムをアルカリ金属又はアルカリ土類金属もしくはそれらの化合物の存在下にグリコールに溶解した溶液、および（ニ）酸化ゲルマニウムを水に溶解し、これにグリコールを加え水を留去して調整した酸化ゲルマニウムのグリコール溶液、等を挙げることができる。
【００４７】
ところで、ポリエステルＢは熱安定性を維持するために、従来ポリエステルの製造工程で添加されるリン化合物を含有することが好ましい。このリン化合物は特に限定されないが、正リン酸、亜リン酸、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ-ｎ-ブチルホスフェートが好ましく挙げられる。
【００４８】
本発明におけるポリエステル層Ｂは、ポリエステル層Ａと接していない表面の十点平均粗さ（ＷＲｚB）が３０〜３００ｎｍの範囲にあることが必要である。好ましい十点平均粗さ（ＷＲｚB）は４０〜２５０ｎｍ、特に５０〜２００ｎｍである。このＷＲｚＢが３０ｎｍ未満では、ハンドリング性が悪く、十分な生産性をあげることができず、かつまた、ブロッキング改良効果も不十分となる。一方、ＷＲｚＢが３００ｎｍを超えると、反対側の磁性層を設ける側の面への突起の形状転写が大きくなり、電磁変換特性が損なわれる。また、該ポリエステル層Ｂの表面粗さ（ＷＲａＢ）は２〜１０ｎｍであることが必要なハンドリング性および耐ブロッキング性を維持しつつ反対側の磁性層を設ける側の面への突起の形状転写を抑えて優れた電磁変換特性を得られることから好ましい。さらに後述する積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面、すなわち、ポリエステル層Ｂの反対側の表面粗さ（ＷＲａＡ）に比べて、表面粗さ（ＷＲａB）が２ｎｍ以上大きいことが、ハンドリング性および耐ブロッキング性と電磁変換特性とをより高いレベルで具備させることができるので好ましい。
【００４９】
ポリエステル層Ｂに上述の表面特性を付与させるには、平均粒径（ｄＢ）は５０〜１，０００ｎｍ、より１００〜８００ｎｍ、さらに１５０〜７００ｎｍ、特に２００〜６００ｎｍの不活性粒子（以下、不活性粒子Ｂと称することがある。）を、ポリエステル層Ｂの重量を基準として、０．００１〜１重量％、より０．００５〜０．８重量％、さらに０．０１〜０．６重量％、特に０．０１〜０．２重量％の範囲で含有させることが好ましい。
【００５０】
上記不活性粒子Ｂの平均粒径が５０ｎｍ未満または含有量が０．００１重量％未満であると、フィルムの巻取り性、耐ブロッキング性が不良となりやすい。一方、平均粒径が１，０００ｎｍを超えるか、または含有量が１重量％を超えると、反対面への突起の形状転写や、層Ａの下からの突起の突き上げによって電磁変換特性を悪化させやすい。また、不活性粒子Ｂは、ポリエステル層Ａが不活性粒子Ａを含有する場合、該不活性粒子Ａよりも平均粒径が大きいことが好ましい。不活性粒子Ｂの平均粒径が不活性粒子Ａよりも小さい場合、フィルム製造工程及び金属薄膜成形工程でのブロッキング等の問題が生じやすい。
【００５１】
好ましい不活性粒子Ｂとしては、上記不活性粒子Ａと同様の粒子が挙げられ、不活性粒子Ａと同様１種または２種以上のものを混合して使用してもよい。また、ポリエステル層Ｂは、不活性粒子B以外に該不活性粒子Bよりも平均粒径が小さい、第２、第３の粒子（微細粒子）を含有してもよい。この微細粒子の平均粒径は、好ましくは５〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４００ｎｍ、特に好ましくは３０〜３５０ｎｍである。また、第２、第３の粒子（微細粒子）の含有量は、層Ｂに対し、好ましくは０．００５〜１重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．７重量％、特に好ましくは０．０２〜０．５重量％である。
【００５２】
本発明におけるポリエステル層Ｂは、さらに、炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスを０．００１〜１重量％含有するのが好ましい。ここで、（部分ケン化）エステルワックスとは、エステルワックスと部分ケン化エステルワックスとを包含するものである。
【００５３】
上記脂肪族モノカルボン酸の炭素数は８個以上、好ましくは８〜３４個である。この炭素数が８個未満であると、得られた（部分ケン化）エステルワックスの耐熱性が不充分で、ポリエステルに分散させる際の加熱条件で、該（部分ケン化）エステルワックスが容易に分解されてしまうため、不適切である。
【００５４】
炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸としては、ペラルゴン酸、カプリン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ペヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、モンタン酸、メリシン酸、ヘントリアコンタン酸、ペトロセリン酸、オレイン酸、エルカ酸、リノール酸およびこれらを含む混合物などが挙げられる。
【００５５】
上記（部分ケン化）エステルワックスのアルコール成分は、水酸基を２個以上有する多価アルコールである。さらに耐熱性の観点から、水酸基を３個以上有する多価アルコールであることが好ましい。モノアルコールを用いたのでは、生成した（部分ケン化）エステルワックスの耐熱性が不足する。
【００５６】
上記水酸基を２個有する多価アルコールとしては、例えばエチレングリコール、プロピレングリコール、トリメチレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，７−ヘプタンジオール、１，８−オクタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、ポリエチレングリコールなどが好ましく挙げられる。水酸基を３個以上有する多価アルコールとしては、例えばグリセリン、エリスリット、トレイット、ペンタエリスリット、アラビット、キシリット、タリット、ソルビット、マンニットなどが好ましく挙げられる。
【００５７】
上記脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールから得られるエステルワックスとしては、多価アルコールの水酸基の数にもよるが、モノエステル、ジエステル、トリエステルなどが挙げられる。これらの中、耐熱性の観点から、モノエステルよりもジエステルが、ジエステルよりもトリエステルが好ましい。好ましいエステルワックスとしては、具体的にはソルビタントリステアレート、ペンタエリスリットトリペヘネート、グリセリントリパルミテート、ポリオキシエチレンジステアレートなどが挙げられる。
【００５８】
上記脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる部分ケン化エステルワックスは、多価アルコールを炭素数８個以上の脂肪族モノカルボン酸で部分エステル化したのち、２価以上の金属水酸化物でケン化することにより得られる。具体的には、例えばモンタン酸ジオールエステルを水酸化カルシウムでケン化した、ワックスＥ、ワックスＯＰ、ワックスＯ、ワックスＯＭ、ワックスＦＬ（全て、ヘキスト（株）社製商品名）などが挙げられる。かかる（部分ケン化）エステルワックスは１種単独で使用してもよいし、２種以上を使用してもよい。
【００５９】
上記（部分ケン化）エステルワックスの層Ｂへの添加量は、０．００１〜１重量％、好ましくは０．００３〜０．５重量％、さらに好ましくは０．００５〜０．５重量％、特に好ましくは０．０１〜０．３重量％含有する。この（部分ケン化）エステルワックスの添加量が０．００１重量％未満であると、フィルム巻取り性の向上が不十分であり、ブロッキング改良効果も得られない。一方、１重量％を超えると、フィルム製造工程で、ロール上に巻き上げたときに接する反対側の面に、ブリードアウトによってワックス成分が多量に転写され、そのため、例えば金属蒸着層とベースフィルムの接着性を妨げるなどの弊害を生じる。
【００６０】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、磁気テープとした場合の諸特性向上のため、磁性層を設ける側の面、すなわち、ポリエステル層Ａの、ポリエステル層Ｂと接していない表面に、皮膜層Ｃを設けることが好ましい。
【００６１】
前記皮膜層Ｃは、平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子（以下、不活性粒子Ｃと称することがある。）Ｃを０．５〜３０重量％含有していることが好ましい。
【００６２】
前記皮膜層Ｃを形成する樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。
【００６３】
この水性ポリエステル樹脂としては、酸成分が、例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−スルホイソフタル酸ナトリウム、２−スルホテレフタル酸カリウム、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸などの多価カルボン酸の１種以上よりなり、グリコール成分が、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコール、ジメチロールプロパン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物などの多価ヒドロキシ化合物の１種以上より主としてなるポリエステル樹脂が好ましく用いられる。また、ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマーまたはブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ（相互侵入高分子網目）型、コアシェル型など）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂であってもよい。この水性ポリエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることができるが、水に乳化、微分散するタイプのものが好ましい。また、これらは親水性を付与するため、分子内に例えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位などが導入されていてもよい。
【００６４】
前記皮膜層Ｃに含有される不活性粒子Ｃとしては、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステルなどの有機粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウムなどからなる粒子が好ましく挙げられる。なかでも、架橋シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリカ粒子、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が特に好ましく挙げられる。
【００６５】
前記不活性粒子Ｃの平均粒径（ｄＣ）は１０〜５０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜４０ｎｍである。この平均粒径が１０ｎｍ未満であると、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方、５０ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。
【００６６】
前記不活性粒子Ｃの形状は後述の体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、好ましくは０．２〜π／６、さらに好ましくは０．４〜π／６であるものである。
【００６７】
なお、体積形状係数（ｆ）がπ／６である粒子の形状は、球（真球）である。すなわち、体積形状係数（ｆ）が０．４〜π／６のものは、実質的に球ないしは真球、ラグビーボールのような楕円球を含むものであり、不活性粒子Ｃとして好ましい。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子では、走行耐久性が低下してしまうので好ましくない。
【００６８】
前記不活性粒子Ｃの含有量は、皮膜層Ｃ（塗液の固形分）に対し、０．５〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％、さらに好ましくは３〜１０重量％である。この含有量が０．５重量％未満であると、フィルムの滑り性が不良となることがあり、一方、３０重量％を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため、好ましくない。
【００６９】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接しない側の表面（皮膜層Ｃを設ける場合は皮膜層Ｃの表面）の表面粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜２．５ｎｍ、好ましくは０．２〜２．２ｎｍ、さらに好ましくは０．３〜１．８ｎｍ、特に好ましくは０．４〜１．５ｎｍである。このＷＲａＡが０．１ｎｍ未満であると、滑り性が悪くフィルムの製造が極めて困難であり、一方ＷＲａＡが２．５ｎｍを超えると、高密度化に対応した電磁変換特性が悪化するので好ましくない。
【００７０】
この表面粗さ（ＷＲａＡ）は、ポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡにチタン元素を５〜３０ｐｐｍの範囲で含有すること、および、皮膜層Ｃに含有させる不活性粒子Ｃの粒径と量、および／またはポリエステル層Ａに含有させる不活性粒子Ａの粒径と量によって調整することができる。
【００７１】
本発明における積層ポリエステルフィルムの全厚みは、２μｍ以上８μｍ未満、好ましくは２．５〜７．５μｍである。ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚み構成は、好ましくはポリエステル層Bの厚みが積層フィルムの全厚みの１／５０〜１／２、さらに好ましくは１／３０〜１／３、特に好ましくは１／２０〜１／４である。皮膜層Ｃの厚みは、通常１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、さらに好ましくは３〜１０ｎｍ、特に好ましくは３〜８ｎｍである。
【００７２】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、従来から知られている、または当業界に蓄積されている方法に準じて製造することができる。そのうち、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとの積層構造は、共押出し法により製造するのが好ましく、皮膜層Ｃの積層は塗布法により行うのが好ましい。
【００７３】
例えば、二軸配向ポリエステルフィルムで説明すると、押出し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で、上記（部分ケン化）エステルワックス及び不活性粒子Ｂを微分散、含有させたポリエステルＢと、必要に応じて不活性粒子Ａを含有させたポリエステルＡとを、それぞれさらに高精度ろ過したのち、溶融状態にて積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造となし、次いで口金より融点（Ｔｍ）〜（Ｔｍ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｍ：ポリエステルの融点）でフィルム状に共押出ししたのち、４０〜９０℃の冷却ロールで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、上記未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直角方向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）に（Ｔｇ−１０℃）〜（Ｔｇ＋１０℃）の温度でフイルムを予熱後、（Ｔｇ＋１５）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、３段、４段あるいは多段の延伸を行うとよい。全延伸倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１２〜３０倍である。
【００７４】
さらに、前記二軸配向フィルムは（Ｔｇ＋６０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、１７０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。
【００７５】
なお、積層ポリエステルフィルムの製造に際し、ポリエステルＡ、Ｂに所望により上記不活性粒子以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤などを添加含有させることができる。
【００７６】
本発明におけるポリエステル層Ａへの皮膜層Ｃの積層は、水性塗液を塗布する方法で行うのが好ましい。
【００７７】
塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステル層Ａの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ないし途中で皮膜は乾燥される。その中で、塗布は、未延伸積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えば、ロールコート法、ダイコート法などが挙げられる。
【００７８】
前記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．５〜４重量％であることが好ましい。そして、水性塗液には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤などを添加することができる。
【００７９】
本発明においては、磁気記録媒体としてのヘッドタッチ、走行耐久性をはじめとする各種性能を向上させ、同時に薄膜化を達成するには、積層フィルムのヤング率を、縦方向および横方向でそれぞれ、通常４５００Ｎ／ｍｍ2以上および６０００Ｎ／ｍｍ2以上、好ましくは４８００Ｎ／ｍｍ2以上および６８００Ｎ／ｍｍ2以上、さらに好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ2以上および８０００Ｎ／ｍｍ2以上、特に好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ2以上および１０，０００Ｎ／ｍｍ2以上とする。
【００８０】
また、ポリエステル層Ａ、Ｂの結晶化度は、ポリエステルがポリエチレンテレフタレートの場合は３０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合は２８〜３８％であることが望ましい。いずれも下限を下回ると、熱収縮率が大きくなるし、一方上限を上回るとフィルムの耐摩耗性が悪化し、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。
【００８１】
本発明によれば、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂが積層されてなる積層ポリエステルフィルム、および、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接していない表面に皮膜層Ｃが積層されている積層ポリエステルフィルムのそれぞれをベースフィルムとする磁気記録媒体が同様に提供される。
【００８２】
本発明の積層ポリエステルフィルムから磁気記録媒体を製造する実施態様は、下記のとおりである。
【００８３】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティング等の方法により、鉄、コバルト、ニッケル、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層を形成する磁気記録媒体用ポリエステルフィルムとして特に有用である。金属薄膜層の厚さは１００〜３００ｎｍであるものが好ましい。
【００８４】
また、前記磁気記録媒体用ポリエステルフィルムは更に強磁性金属薄膜層の表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに必要により、ポリエステル層Ｂの表面に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体として使用することが好ましい。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ用磁気テープ媒体として極めて有用であり、特にデジタルビデオテープ用途に使用すると優れた結果を得ることができ、好適である。またデータストレージテープ用途にしても優れた結果を得ることができ、好適である。
【００８５】
本発明における磁気記録媒体は、ポリエステル層Ｂの表面に固体微粒子及び結合剤からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布することにより形成されるバックコート層を設けてもよい。固体微粒子、結合剤、添加剤は公知のものを使用でき、特に限定されないが、バックコート層の厚さは０．３〜１．５μｍであることが好ましい。
【００８６】
また、本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面に、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、さらに必要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることもできる。また、必要に応じてポリエステル層Ａまたは皮膜層Ｃの表面に、上記メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸなど用磁気テープ媒体として極めて有用である。
【００８７】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、また、ポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｃの表面に、酸化鉄または酸化クロムなどの針状微細磁性粉、またはバリウムフェライトなどの板状微細磁性粉をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、さらに必要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎ等の電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体とすることもできる。また、必要に応じて、ポリエステル層Ａまたは皮膜層Ｃの表面に、上記酸化物粉末含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー用ＱＩＣなどの高密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。
【００８８】
上述のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤＴＶ信号記録用として適用可能なものである。それゆえ、本発明の積層ポリエステルフィルムは、これらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うことができる。
【００８９】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断らない限り重量部および重量％である。また、本発明における物性値および特性は、それぞれ下記の方法で測定し、かつ定義されるものである。
（１）Ｔｍ（融点）およびＴｃ（降温結晶化温度）
ポリエステル層ＡからポリエステルＡを削り出し、ＤＳＣ測定用パンに１０ｍｇのサンプルを入れ、２９０℃加熱ステージ上で５分間加熱溶融後、すばやく試料パンを氷の上に敷いたアルミ箔上で急冷固化し、Ｄｕ  Ｐｏｎｔ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  ９１０  ＤＳＣを用い、昇温速度２０℃／分で融点を測定せしめ、更に３００℃の溶融状態まで到達した後、１０℃／分で降温し、結晶化温度を測定する方法による。
【００９０】
（２）ジエチレングリコール量
ポリエステル層ＡからポリエステルＡを削り出し、ＣＤＣｌ3／ＣＦ3ＣＯＯＤ混合溶媒にて溶解し、1Ｈ−ＮＭＲにて測定する。
【００９１】
（３）チタン元素量
ポリエステル層Ａまたはポリエステル層ＢからポリエステルＡまたはポリエステルＢを削り出し、硝酸と硫酸の１：１混合液によって湿式分解した後、高周波プラズマ発光分光分析装置（ジャーレルアッシュ製 Atom Comp Series 800）を用いてチタン元素量を定量する。
【００９２】
（４）粒子の平均粒径（Ｉ）（平均粒径：６０ｎｍ以上）
株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグル  パーティクル  サイズ  アナライザー（Centrifugal Particle Size Analyzer）」を用いて測定した。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径（ｎｍ）とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、頁２４２〜２４７）。
【００９３】
（５）粒子の平均粒径（II）（平均粒径：６０ｎｍ未満）
小突起を形成する平均粒径６０ｎｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。詳しくは、ニコンプインストゥルメント株式会社（Nicomp Instruments Inc.）製の商品名「NICOMP MODEL 270 SUBMICRON PARTICLE SIZER」により求められる全粒子の５０％の点にある粒子の「等価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）とする。
【００９４】
（６）体積形状係数（ｆ）
走査型電子顕微鏡により、用いたサイズに応じた倍率にて各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス５００（日本レギュレーター社製）を用い、投影面最大径を粒子の平均粒径（Ｄ）（μｍ）として求め、また粒子の体積（Ｖ）（μｍ3）を算出し、下式（I）により計算する。
【００９５】
【数４】
ｆ＝Ｖ／Ｄ3        ・・・・・（I）
【００９６】
（７）ポリエステル層Ａ、Ｂの厚み、およびフィルム全体の厚み
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。ポリエステル層Ａ、Ｂの層厚については、薄いポリエステル層の層厚みを下記に述べる方法にて測定し、厚いポリエステル層の層厚みは、全厚みより皮膜層および薄いポリエステル層の層厚を引き算して求める。すなわち、二次イオン質量分析装置（ＳＩＭＳ）を用いて、被覆層を除いた表層から深さ５，０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ+）とポリエステルの炭化水素（Ｃ+）の濃度比（Ｍ+／Ｃ+）を粒子濃度とし、表面から深さ５，０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になったのち、上昇して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、薄いポリエステル層の厚み（μｍ）とする。
測定条件は、以下のとおりである。
【００９７】
（ａ）測定装置
二次イオン質量分析装置（SIMS）；パーキン・エルマー株式会社
（PERKIN ELMER INC.）製、「６３００」
（ｂ）測定条件
一次イオン種：Ｏ2+
一次イオン加速電圧：１２ＫＶ
一次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域：４００μｍ□
分析領域：ゲート３０％
測定真空度：６．０×１０-9Ｔｏｒｒ
Ｅ−GUNN：０．５ＫＶ−３．０Ａ
なお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最も多く存在する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらＦＴ−ＩＲ（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電分光法）などで上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚（μｍ）を求める。
【００９８】
（８）皮膜層Ｃの厚み
フィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロトームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成した。この試料を透過型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製：Ｈ−８００型）にて観察し、皮膜層Ｃの境界面を探して皮膜層の厚み（ｎｍ）を求める。
【００９９】
（９）表面粗さ
▲１▼  ＷＲａ
WYKO株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「TOPO−3D」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ2）の条件にて測定を行い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデータ）を得た。上記粗さ計内蔵ソフトによる表面解析により、下式によって定義される中心面平均粗さ（ＷＲａ）を得る。
【０１００】
【数５】
0004014392.tif 000002
【０１０１】
また、Ｚjkは、測定方向（２４２μｍ）、それと直行する方向（２３９μｍ）を、それぞれＭ分割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置における三次元粗さチャート上の高さである。
【０１０２】
▲２▼  十点平均粗さＷＲｚ
上述の▲１▼と同じ測定器を用い、同じ条件で測定して得られたデーターから、同粗さ計内臓のソフトによる表面解析により、ピーク（Ｈｐ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低い方から５点をとった平均値を求めＷＲｚとする。
【０１０３】
【数６】
0004014392.tif 000003
【０１０４】
（１０）ヤング率
東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内において、長さ３００ｎｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて下式（II）によって計算する。
【０１０５】
【数７】
Ｅ＝Δσ／Δε      ・・・・・（II）
ここで、Ｅはヤング率、Δσは直線上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差である。
【０１０６】
（１１）巻き取り性
スリット時の巻き取り条件を最適化したのち、幅６００ｍｍ×１２，０００ｍのサイズで、３０ロールを速度１００ｍ／分でスリットし、スリット後のフィルム表面に、ブツ状、突起やシワのないロールを良品として、以下の基準にて巻き取り性を評価する。
◎：良品ロールの本数２８本以上
○：良品ロールの本数２５〜２７本
×：良品ロールの本数２４本以下
【０１０７】
（１２）磁気テープの製造および特性（表面欠点異常および電磁変換特性）評価積層ポリエステルフィルムの皮膜層Ｃの表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成する。
【０１０８】
コバルト蒸着したフイルム表面（10000ｃｍ2）を目視でチェックし、蒸着時の耐熱性不良による表面欠点異常（膨らみ、へこみ、蒸着抜け等）もしくは穴明き等がないか評価する。（耐熱性評価）
◎ ：蒸着後ロールに表面欠点異常が一つも見られない
○：蒸着後ロールに表面欠点異常が１〜２個認められる
△ ：蒸着後ロールに表面欠点異常が3〜10個認められる
× ：蒸着後ロールに表面欠点異常が10個以上認められるか、穴明きがある
形成した強磁性薄膜の表面にダイヤモンドライクカーボン（ＤＬＣ）膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらにポリエステル層Ａの表面に、公知の方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディングする。次いで、下記の市販の機器を用いてテープの特性（Ｃ／Ｎ）を測定する。
【０１０９】
（ａ）使用機器：８ｍｍビデオテープレコーダー（ソニー株式会社製、商品名「ＥＤＶ−６０００」）およびノイズメーター（株式会社シバソク製）
（ｂ）測定方法：記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で評価する。
【０１１０】
（１３）（部分ケン化）エステルワックス
炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスとしてソルビタントリステアレート（融点５５℃）を使用する。
【０１１１】
［実施例１］
２，６ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００部とエチレングリコール７０部の混合物に、エステル交換触媒としてエチレングリコール２．５部中で無水トリメリット酸０．８部とテトラブチルチタネート０．６５部を反応せしめた液（チタン含有率は１１重量％）０．０１１部を添加し、内温を１５０℃から徐々に上げながらエステル交換反応を行った。エステル交換反応が９５％となった時点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹拌した後、さらに滑剤（不活性粒子Ａ）として平均粒径６０ｎｍの球状シリカ（体積形状係数０．５）を０．０３％（ポリマーに対し）添加して充分撹拌した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．６０のポリエステルＡ用のポリエチレンナフタレート（樹脂A１）を得た。樹脂Ａ１のＤＥＧ量は１．５重量％であった。なお、
さらに、上記と同様の方法で、エステル交換反応を行い、エステル交換反応が９５％となった時点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹拌した後、三酸化アンチモンを０．０３８部添加した。系内に混入した水を充分留出させた後、滑剤（不活性粒子Ｂ）として、平均粒径３００ｎｍのシリコーン樹脂粒子および平均粒径１００ｎｍのθ型アルミナを、樹脂中にそれぞれ０．０５％および０．２％添加して充分撹拌した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．６０のポリエチレンナフタレートを得た。なお、エステル交換反応終了後、真空反応開始までの時間は１５分間で、このポリマー中のチタン元素残存量は１０ｐｐｍであった。
【０１１２】
得られたポリエチレンナフタレート９９．７％に、炭素数が８個以上の脂肪族モノカルボン酸および多価アルコールからなる（部分ケン化）エステルワックスとしてソルビタントリステアレート（融点５５℃）の粉末０．１５％をまぶし、ベント付き二軸ルーダーにて練り込み、固有粘度０．５９のポリエステル層Ｂ用のポリエチレンナフタレート（樹脂Ｂ１）を得た。なお、エステル交換反応終了後、真空反応開始までの時間は１５分間であった。
【０１１３】
得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ１７０℃で６時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、層Ａの片面に層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層ポリエステルフィルムを得た。
【０１１４】
得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて３．６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで縦延伸フィルムの層Ａ側に下記に示す組成（固形分換算）の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコート法により乾燥後の皮膜層Ｃの厚みが８ｎｍとなるように塗布した。
【０１１５】
塗液の固形分組成（皮膜層Ｃ用）
・バインダー：アクリル変性ポリエステル（高松油脂株式会社製ＩＮ−１７０−６）６０％
・不活性粒子Ｃ：コアシェルフィラー（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレート、平均粒径：３０ｎｍ、体積形状係数：０．４５、製造：ジェイエスアール株式会社、商品名：「ＳＸ８７２１」）７％
・界面活性剤Ｘ：ノニオンＮＳ−２０８．５（日本油脂株式会社製）３％
・界面活性剤Ｙ：ノニオンＮＳ−２４０（日本油脂株式会社製）３０％
続いてステンターに供給し、１２０℃でフイルムを予熱後、１５５℃にて横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．４μｍ、層Ｂの厚み０．６μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。ポリエステル層ＡのΔＴｃｍは１４４℃であった。このフィルムのポリエステル層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。このフィルムの塗膜層Ｃ側の表面から測定した表面粗さＷＲａは、１．３ｎｍ、このフィルムのヤング率は縦方向５５００Ｎ／ｍｍ2、横方向１０，５００Ｎ／ｍｍ2であった。この積層フィルムのその他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１１６】
［実施例２］
樹脂Ａ１を製造する際にチタン元素残存量が２０ｐｐｍになるようにチタン系触媒量を増加させ、滑剤（不活性粒子Ａ）を含有させない以外は実施例1と同様に樹脂Ａ２を得た。この樹脂Ａ２のＤＥＧ量は１．８重量％であった。そして、ポリエステル層Ａを構成するポリエステルＡをこの樹脂Ａ２に変更した以外は実施例１と同様にして、積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。ポリエステル層ＡのΔＴｃｍは１４２℃であった。得られたフィルムの特性およびそのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１１７】
［実施例３］
ポリエステル層Ａを構成するポリエステルとして、不活性粒子を含有させなかった樹脂Ａ１（以下、樹脂Ａ３と称する。）を用い、ポリエステル層Ｂに含有させる触媒の種類、不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に示すとおり変更した樹脂（以下、樹脂Ｂ３と称する。）を用いる以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムの特性、およびそのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１１８】
［実施例４］
ポリエステル層Ａおよびポリエステル層Ｂを構成するポリエステルＡおよびＢの原料として用いた２，６−ナフタレンジカルボン酸メチルをジメチルテレフタレートに同モル量になるように変更した以外は、実施例３と同様にしてポリエステル層ＡおよびＢ用のポリエチレンテレフタレート（以下、ＰＥＴと称することがある。）樹脂（ポリエステル層Ａ用：樹脂Ａ４、ポリエステル層Ｂ用：樹脂Ｂ４）を得た。固有粘度は樹脂Ａ４、Ｂ４共に０．６０であった。また樹脂Ａ４のＤＥＧ量は１．５重量％であった。
【０１１９】
この樹脂Ａ４、Ｂ４を、得られた樹脂Ａ１、樹脂Ｂ１を、それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、層Ａの片面に層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層ポリエステルフィルムを得た。
【０１２０】
得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで縦延伸フィルムの層Ａ側に不活性粒子Ｃをアクリルフィラー（平均粒径３０ｎｍ、体積形状係数０．４０、日本触媒株式会社製、商品名「エポスター」）に変更した以外は実施例１と同じ組成の水性塗液（全固形分濃度１．０％）を実施例１と同様に塗布した。
【０１２１】
続いてステンターに供給し、８０℃でフイルムを予熱後、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを、２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４μｍで、ポリエステル層Ｂの厚み１．０μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。ポリエステル層ＡのΔＴｃｍは９５℃であった。このフィルムのポリエステル層Ａ、Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。このフィルムの皮膜層Ｃ側の表面から測定した表面粗さＷＲａは１．６ｎｍ、このフィルムのヤング率は縦方向５０００Ｎ／ｍｍ2、横方向７０００Ｎ／ｍｍ2であった。この積層フィルムのその他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１２２】
［比較例１］
ポリエステル層Ａを形成する樹脂Ａにアンチモン元素が３０ｐｐｍ含有されている以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは金属薄膜蒸着工程で層Ａの平滑性が低下し、磁気テープにしたときの十分な電磁変換特性を得ることができなかった。その他の特性およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１２３】
［比較例２］
ポリエステル層Ａを形成する樹脂Ａのチタン触媒量を残存量が３５ｐｐｍになるように調整した以外は実施例1と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは金属薄膜蒸着工程で層Ａの平滑性が低下し、磁気テープにしたときの十分な電磁変換特性を得ることができなかった。その他の特性およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１２４】
［比較例３］
ポリエステル層Ａを形成する樹脂Ａを重合する際に、エステル交換反応終了後、真空反応開始までの時間を４０分間にした結果、ＤＥＧ量３．０重量％の樹脂Ａ５を得た。固有粘度は０．６０であった。それ以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフイルムを得た。ΔＴｃｍは１３５℃であった。得られたフイルムは金属薄膜蒸着工程で耐熱性がやや不足し、表面異常欠点が２個発生した。また、磁気テープにしたときの十分な電磁変換特性を得る事ができなかった。その他の特性およびフイルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１２５】
［比較例４］
ポリエステル層Ａを形成する樹脂Ａのチタン触媒量を残存量が３０ｐｐｍになるように調整し、更に二軸延伸フイルムの熱固定温度を２２０℃に変更した以外は、実施例４と同様にして積層ポリエステルフイルムを得た。ΔＴｃｍは１８５℃であった。得られたフィルムは金属薄膜蒸着工程で層Ａの平坦性が低下し、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す
［比較例５］
ポリエステル層Ｂに含有させる不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に示すようにした以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは、層Bからブリードアウトしたオリゴマーが反対面へ転写することは問題なく良好であったが、層Ｂ側の突起の反対面への形状転写の程度が強く、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。その他の特性、およびこのフィルムを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１２６】
【表１】
0004014392.tif 000004
【０１２７】
ここで、表１中の、ＰＥＮはポリエチレンー２，６−ナフタレート（ポリエチレンー２，６−ナフタレンジカルボキシレート）、ＰＥＴはポリエチレンテレフタレート、Ｔｉはチタン化合物、Ｓｂはアンチモン化合物を示す。
【０１２８】
表１から明らかなように、本発明の積層ポリエステルフィルムは、耐熱性が良好なために片面が非常に平坦で、反対面からの突起の脱落物転写も少なく、優れた電磁変換特性を示すとともに、巻き取り性が極めて良好である。一方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時に満足できない。
【０１２９】
【発明の効果】
本発明によれば、耐熱性、加工適性に優れ、特に電磁変換特性に優れた金属薄膜型磁気記録媒体に有用な積層ポリエステルフィルムを提供することができる。