(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持しつつ搬送しながら、処理手段によって基板の下面を処理する基板処理装置において、
前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域の１本もしくは２本以上の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法よりも大きくし、支持ローラ部の直径寸法が大きくされた搬送ローラの回転軸と基板の下面との間の空間に前記処理手段を配置したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域に複数本の搬送ローラが配置され、それら複数本の搬送ローラの、互いに隣接するもの同士において、回転軸間の距離が支持ローラ部の直径寸法よりも小さくされ、かつ、回転軸上における支持ローラ部の取付け位置が相互にずらされたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
請求項１または請求項２記載の基板処理装置において、
前記搬送ローラの回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を設けて固着され、
前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域に配置された搬送ローラにおいて、前記処理手段と干渉する支持ローラ部が回転軸から除かれたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持するとともに、前記搬送ローラの回転軸の上方にその回転軸と対向するように配置された上側回転軸に複数の押えローラ部を固着した押えローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた押えローラ群により、前記搬送ローラ群と協働して基板を挟みつつ、基板を搬送しながら、処理手段によって基板の上面を処理する基板処理装置において、
前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域の１本もしくは２本以上の押えローラの押えローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの押えローラ部の直径寸法よりも大きくし、押えローラ部の直径寸法が大きくされた押えローラの回転軸と基板の上面との間の空間に前記処理手段を配置したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項４記載の基板処理装置において、
前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域に複数本の押えローラが配置され、それら複数本の押えローラの、互いに隣接するもの同士において、上側回転軸間の距離が押えローラ部の直径寸法よりも小さくされ、かつ、上側回転軸上における押えローラ部の取付け位置が相互にずらされたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装において、
前記処理手段が、基板の幅方向全体にわたって液体または気体を供給する長尺状ノズルであって、その長尺状ノズルが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように配置されたことを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、
前記処理手段が、基板の幅方向全体にわたって当接するロール状ブラシであって、そのロール状ブラシが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように配置されたことを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハ、ＦＰＤ用のガラス基板、プリント基板等の基板を、その搬送路に沿って配列された複数本の搬送ローラによって水平姿勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送しながら、洗浄液等の処理液や乾燥用、除電用等の処理気体を基板の主面へ供給して処理したり、ロール状やディスク状のブラシを基板の主面に当接させて処理したりする基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の基板処理装置は、基板を水平姿勢または傾斜姿勢で支持しつつ搬送するために、例えば図１０に一部を平面図で示し図１１に図１０のXI−XI矢視断面図を示すような搬送機構を備えている。この搬送機構は、複数本の搬送ローラ１を、互いに平行にかつ基板Ｗの幅方向に配置し基板Ｗの搬送方向に沿って並列させるように設置することにより構成されている。搬送ローラ１は、回転自在に支持された回転軸２に、基板Ｗの下面に当接して基板Ｗを支持する支持ローラ部３を固着した構成を有する。支持ローラ部３は、詳細な構造を図示していないが、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方向へ移動するのを規制する顎部が形設された段付きローラなどで形成することができる。また、支持ローラ部３は、図示例では回転軸２の両端部に一対だけ固着されているが、回転軸２に３つ以上、間隔を設けて固着するようにしてもよい。複数本の搬送ローラ１のうちの一部は、その回転軸２にモータ４の回転軸が連結されて駆動ローラとされ、その駆動ローラをなす搬送ローラ１と被動ローラをなす他の搬送ローラ１とは、それぞれの回転軸２に固着されたプーリ５およびベルト６を介して動力的に連結されている。
【０００３】
このような搬送機構を備えた従来の基板処理装置において、基板Ｗの下面へ洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液等の処理液や乾燥用、除電用等の処理気体を供給して処理する各種ノズル、基板の下面に当接して処理するロール状やディスク状のブラシなどの処理ユニット、例えばシャワーノズル７は、図１１に示すように、搬送ローラ１の下方に配設される。このため、シャワーノズル７から基板Ｗの下面に向けて処理液を噴出させたときに、搬送ローラ１の回転軸２や支持ローラ部３に部分的に遮られ、基板Ｗの下面全体にわたって均一に処理液がかからない、といった問題点がある。また、基板Ｗの下面に近接して処理ユニット、例えば水切り用エアーナイフやブラシを設置する場合、それらは搬送ローラ１の回転軸２間に配置されることになる。このように、処理ユニットを配置する空間が限られるため、基板Ｗを効率良く処理することができるように処理ユニットを配置することができない、といった問題点がある。特に、長尺状のノズルやロール状のブラシなどを基板Ｗの搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置する、といったことはほとんど不可能であった。また搬送ローラの回転軸が邪魔になって処理ユニットのメンテナンス作業をやりにくい、といった問題点もある。
【０００４】
また、基板を安定に搬送できるようにするために、それぞれの搬送ローラの上方にそれと対向するように押えローラを配設し、その押えローラの押えローラ部と搬送ローラの支持ローラ部とで基板を上・下両面側から挟むようにしつつ、基板を搬送する搬送機構を備えることがある。このような搬送機構を備えた基板処理装置においても、基板の上面側に処理ユニットを設置しようとすると、上記と同様の問題点を生じる。
【０００５】
以上のような問題点を解決するための提案が、例えば実開平６−５９７９４号公報に開示されている。同号公報に開示された基板処理装置は、図１２に搬送機構の概略構成の一部を平面図で示すように、複数本の搬送ローラ１のうち、処理ユニットが配設される区域の搬送ローラを、短尺の回転軸２ａ、２ｂの端部に支持ローラ部３ａ、３ｂを固着した左右一対の搬送ローラ１ａ、１ｂで構成し、各搬送ローラ１ａ、１ｂの回転軸２ａ、２ｂを片持ち式に回転自在に支持した搬送機構を備えている。そして、回転軸２にモータ４の回転軸が連結されて駆動ローラとされた搬送ローラ１と被動ローラをなす左右一対の搬送ローラ１ａ、１ｂとは、それぞれの回転軸２；２ａ、２ｂに固着されたプーリ５；５ａ、５ｂおよびベルト６ａ、６ｂを介して動力的に連結されている。また、搬送ローラの上方に押えローラを配設する場合には、図示していないが同様に、処理ユニットが配設される区域の押えローラを、短尺の回転軸の端部に押えローラ部を固着した左右一対の押えローラで構成し、各押えローラの回転軸を片持ち式に支持するようにする。このような構成とすることにより、基板の下面側に（押えローラを設ける場合には上面側にも）処理ユニットを配置するための空間を確保して、長尺状ノズルやロール状ブラシなどを基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することもできるようにしている。
【０００６】
また、基板を水平面に対し傾斜させて搬送しつつ処理する場合には、図１３に示すように、基板Ｗの両端部を、水平面に対し傾斜した姿勢で片持ち式に回転自在に支持された回転軸８ａの端部に支持ローラ部８ｂを固着した左右一対の搬送ローラ８により支持するとともに、基板Ｗの下方側になった端辺を、軸線方向が搬送ローラ８の回転軸８ａと直交するように配置され回転自在に支持されたサイドローラ９によって支持しつつ、基板を搬送する搬送機構が用いられる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、図１２および図１３に示したように、端部に支持ローラ部３ａ、３ｂ；８ｂが固着された回転軸２ａ、２ｂ；８ａを片持ち式に支持した搬送ローラ１ａ、１ｂ；８や、端部に押えローラ部が固着された回転軸を片持ち式に支持した押えローラを有する搬送機構を備えた基板処理装置では、左右両側に配置された片持ち状態の搬送ローラのそれぞれに駆動機構あるいは動力伝達機構を設ける必要がある。このため、装置構成が複雑となり、また、部品点数が多くなって装置コストが高くなったり、基板の搬送高さ位置の調整などの作業が難しくなり、作業量も増えたりする、といった問題点がある。
【０００８】
この発明は、以上のような事情に鑑みてなされたものであり、装置構成を複雑にすることなく、また、部品点数が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難しくなり作業量が増えたりする、といったこともなく、処理ユニットを、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することも含めて自在に配置することができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持しつつ搬送しながら、処理手段によって基板の下面を処理する基板処理装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域の１本もしくは２本以上の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法よりも大きくし、支持ローラ部の直径寸法が大きくされた搬送ローラの回転軸と基板の下面との間の空間に前記処理手段を配置したことを特徴とする。
【００１０】
請求項２に係る発明は、請求項１記載の基板処理装置において、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域に複数本の搬送ローラが配置され、それら複数本の搬送ローラの、互いに隣接するもの同士において、回転軸間の距離が支持ローラ部の直径寸法よりも小さくされ、かつ、回転軸上における支持ローラ部の取付け位置が相互にずらされたことを特徴とする。
【００１１】
請求項３に係る発明は、請求項１または請求項２記載の基板処理装置において、前記搬送ローラの回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を設けて固着され、前記搬送ローラ群の、前記処理手段が配設される区域に配置された搬送ローラにおいて、前記処理手段と干渉する支持ローラ部が回転軸から除かれたことを特徴とする。
【００１２】
請求項４に係る発明は、回転軸に複数の支持ローラ部を固着した搬送ローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた搬送ローラ群により、基板を支持するとともに、前記搬送ローラの回転軸の上方にその回転軸と対向するように配置された上側回転軸に複数の押えローラ部を固着した押えローラを複数本、互いに平行に配置し基板の搬送方向に沿って並列させた押えローラ群により、前記搬送ローラ群と協働して基板を挟みつつ、基板を搬送しながら、処理手段によって基板の上面を処理する基板処理装置において、前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域の１本もしくは２本以上の押えローラの押えローラ部の直径寸法を、前記区域以外の搬送ローラの押えローラ部の直径寸法よりも大きくし、押えローラ部の直径寸法が大きくされた押えローラの回転軸と基板の上面との間の空間に前記処理手段を配置したことを特徴とする。
【００１３】
請求項５に係る発明は、請求項４記載の基板処理装置において、前記押えローラ群の、前記処理手段が配設される区域に複数本の押えローラが配置され、それら複数本の押えローラの、互いに隣接するもの同士において、上側回転軸間の距離が押えローラ部の直径寸法よりも小さくされ、かつ、上側回転軸上における押えローラ部の取付け位置が相互にずらされたことを特徴とする。
【００１４】
請求項６に係る発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理手段が、基板の幅方向全体にわたって液体または気体を供給する長尺状ノズルであって、その長尺状ノズルが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように配置されたことを特徴とする。
【００１５】
請求項７に係る発明は、請求項１ないし請求項５のいずれかに記載の基板処理装置において、前記処理手段が、基板の幅方向全体にわたって当接するロール状ブラシであって、そのロール状ブラシが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように配置されたことを特徴とする。
【００１６】
請求項１に係る発明の基板処理装置においては、搬送ローラ群の、処理手段が配設される区域では、搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法がその区域以外の搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法より大きくされていることにより、搬送ローラ群によって支持されつつ搬送される基板の下面と搬送ローラの回転軸との間の距離が大きくなる。このため、基板下面と搬送ローラの回転軸との間に、処理手段を配置するのに十分な空間が確保され、その空間に処理手段を、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することも可能である。
【００１７】
請求項２に係る発明の基板処理装置では、互いに隣接する搬送ローラの両回転軸間の距離が支持ローラ部の直径寸法よりも小さくされていることにより、複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔が狭くなる。このため、基板の下面側に処理手段を配置するのに十分な空間を確保しつつ、基板の搬送方向における撓みの発生を防止することができる。そして、互いに隣接する搬送ローラの両回転軸上における支持ローラ部の取付け位置が相互にずらされているので、隣接する搬送ローラのそれぞれの支持ローラ部同士が接触することがない。
【００１８】
請求項３に係る発明の基板処理装置では、搬送ローラの回転軸に３つ以上の支持ローラ部が間隔を設けて固着されているので、搬送ローラの複数の支持ローラ部による基板の幅方向（基板の搬送方向と直交する方向）における支持間隔が狭くなる。また、搬送ローラの複数の支持ローラ部のうち処理手段と干渉する支持ローラ部は回転軸から除かれているので、基板の幅方向における撓みの発生を防止しつつ、基板下面と搬送ローラの回転軸との間の空間に処理手段を配置することが可能になる。
【００１９】
請求項４に係る発明の基板処理装置においては、押えローラ群の、処理手段が配設される区域では、押えローラの押えローラ部の直径寸法がその区域以外の押えローラの押えローラ部の直径寸法より大きくされていることにより、搬送ローラ群によって支持されるとともに押えローラ群と搬送ローラ群との協働によって挟まれつつ搬送される基板の上面と押えローラの上側回転軸との間の距離が大きくなる。このため、基板上面と押えローラの上側回転軸との間に、処理手段を配置するのに十分な空間が確保され、その空間に処理手段を、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することも可能である。
【００２０】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、互いに隣接する押えローラの両上側回転軸間の距離が押えローラ部の直径寸法よりも小さくされていることにより、複数本の押えローラと基板との、基板の搬送方向における当接間隔を狭くすることが可能になる。このため、基板の搬送方向における撓みの発生を防止するために複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔を狭くした場合でも、基板の上面側に処理手段を配置するのに十分な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラに対応して押えローラを配置することが可能になる。そして、互いに隣接する押えローラの両上側回転軸上における押えローラ部の取付け位置が相互にずらされているので、隣接する押えローラのそれぞれの押えローラ部同士が接触することがない。
【００２１】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、基板の幅方向全体にわたって液体または気体を供給する長尺状ノズルが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように配置されることにより、基板の処理効果を高めることが可能になる。
【００２２】
請求項７に係る発明の基板処理装置では、基板の幅方向全体にわたって当接するロール状ブラシが、基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜するように配置されることにより、基板の洗浄効果を高めることが可能になる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の好適な実施形態について図１ないし図９を参照しながら説明する。
【００２４】
図１および図２は、この発明の実施形態の１例を示し、図１は、基板処理装置の一部の概略構成を示す平面図であり、図２は、図１のII−II矢視断面図である。この基板処理装置において、基板Ｗは、搬送ローラ群により、水平姿勢あるいは基板Ｗの幅方向（基板Ｗの搬送方向と直交する方向）において傾斜した姿勢（図示例のものは水平姿勢）で支持されつつ搬送されながら、処理区域Ａを通過する間に下面が処理される。
【００２５】
処理区域Ａの前・後には、それぞれ複数本の搬送ローラ１０が、互いに平行にかつ基板Ｗの幅方向に配置され基板Ｗの搬送方向に沿って並列するように設置されている。搬送ローラ１０は、従来装置と同様に、回転自在に支持された回転軸１２の両端部に、基板Ｗの側端部下面に当接して基板Ｗを支持する一対の支持ローラ部１４を固着した構成を有する。なお、支持ローラ部１４を、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方向へ移動するのを規制する顎部が形設された段付きローラなどとすることができる。また、支持ローラ部１４は、回転軸１２の３個所以上に、軸線方向に間隔をあけて複数固着するようにしてもよい。複数本の搬送ローラ１０のうちの一部は、その回転軸１２にモータ１６の回転軸が連結されて駆動ローラとされ、その駆動ローラをなす搬送ローラ１０と被動ローラをなす他の搬送ローラ１０とは、それぞれの回転軸１２に固着されたプーリ１８およびベルト２０を介して動力的に連結されている。
【００２６】
処理区域Ａには、回転自在に支持された回転軸２４の両端部に固着された一対の支持ローラ部２６の直径寸法が、処理区域Ａ以外の搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の直径寸法よりも大きくされた大径搬送ローラ２２が複数本、図示例では３本、互いに平行にかつ搬送ローラ１０と平行に配置され基板Ｗの搬送方向に沿って並列するように設置されている。大径搬送ローラ２２は、図２に示すように、その支持ローラ部２６の最上位置が搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の最上位置と同一高さとなるように支持され、複数本の大径搬送ローラ２２と複数本の搬送ローラ１０とで１つの水平搬送面が形成されるようになっている。また、大径搬送ローラ２２の一対の支持ローラ部２６は、基板Ｗの側端部下面に当接して基板Ｗを支持する。なお、大径搬送ローラ２２の支持ローラ部２６を、基板Ｗの側辺に当接して基板Ｗが幅方向へ移動するのを規制する顎部が形設された段付きローラなどとしてもよい。また、回転軸２４にその軸線方向に間隔をあけて３つ以上の支持ローラ部２６を固着して大径搬送ローラ２２を構成するようにしてもよい。３本の大径搬送ローラ２２のうちの１本の大径搬送ローラ２２は、その回転軸２４にモータ２８の回転軸を連結して駆動ローラとされる。駆動ローラをなす大径搬送ローラ２２および被動ローラとなる残りの２本の大径搬送ローラ２２には、それぞれの回転軸２４にプーリ３０が固着され、各プーリ３０間にベルト３２が掛け回されていて、３本の大径搬送ローラ２２は一体的に回転駆動される。
【００２７】
上記したように、処理区域Ａに設置された大径搬送ローラ２２の支持ローラ部２６の直径寸法は、処理区域Ａ以外に設置された搬送ローラ１０の支持ローラ部１４の直径寸法より大きくされているので、処理区域Ａにおいては、大径搬送ローラ２２によって支持されつつ搬送される基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の回転軸２４との間の距離が大きくなる。このため、基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の回転軸２４との間に大きな空間が確保され、その空間に処理ユニット、例えば、基板Ｗの下面へ洗浄液、現像液、エッチング液、剥離液等の処理液を供給して処理するシャワーノズルやナイフ型ノズル、基板Ｗの下面へ空気を層状に吹き付けて水切りや乾燥処理を行うのナイフ型ノズル、基板Ｗの下面へイオン化された気体を供給して静電気除去処理を行うイオナイザノズル、基板Ｗの下面に当接して洗浄処理するロール状やディスク状のブラシなどが配設される。図２に示した例では、基板Ｗの下面と大径搬送ローラ２２の回転軸２４との間の空間に複数のシャワーノズル３４を配設している。
【００２８】
次に、図３に処理区域の平面図を示した基板処理装置では、複数本の大径搬送ローラの、互いに隣接する大径搬送ローラ２２ａと大径搬送ローラ２２ｂとにおいて、回転軸２４ａ、２４ｂ間の距離ｌが支持ローラ部２６ａ、２６ｂの直径寸法Ｄよりも小さくされている。そして、互いに隣接する大径搬送ローラ２２ａと大径搬送ローラ２２ｂとで、それぞれの支持ローラ部２６ａ、２６ｂ同士が接触しないように、回転軸２４ａ、２４ｂ上における支持ローラ部２６ａ、２６ｂの取付け位置が相互にずらされている。
【００２９】
処理区域の搬送機構を図３に示したような構成とすることにより、複数本の大径搬送ローラ２２ａ、２２ｂによる基板Ｗの支持間隔が狭くなる。このため、基板Ｗの下面側に処理ユニットを配置するのに十分な空間を確保しつつ、基板Ｗの搬送方向における撓みの発生を防止することができる。
【００３０】
図４および図５に処理区域の平面図および正面図をそれぞれ示した基板処理装置では、シャワーノズルやナイフ型ノズル、ロール状ブラシ、イオナイザノズル等の長尺状の処理ユニット３６を、基板Ｗの搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置している。このように、大径搬送ローラ２２を用いて処理区域の搬送機構を構成することにより、搬送ローラによる設置スペース上の制約を受けずに、処理ユニット３６を基板Ｗの下面側に自在に配置することができ、基板Ｗの処理効果を高めることが可能になる。
【００３１】
図６は、この発明の別の実施形態を示し、基板処理装置の搬送ローラ群の一部を示す平面図である。この装置では、処理区域の前・後に配置される搬送ローラ３８が、回転軸４０に３つ以上、図示例では５つの支持ローラ部４２を等間隔で固着した構成を有する。また、処理区域に配置される大径搬送ローラ４４も、回転軸４６に、搬送ローラ３８の支持ローラ部４２と同一ピッチで支持ローラ部４８を固着して構成されているが、５つの支持ローラ部４８のうちの一部のものが回転軸４６から除かれている。そして、大径搬送ローラ４４の回転軸４６から一部の支持ローラ部４８を除いて出来た空間に、処理ユニット５０を、基板搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置している。
【００３２】
搬送ローラ群を図６に示したような構成にすると、搬送ローラ３８および大径搬送ローラ４４の複数の支持ローラ部４２、４８による基板の幅方向（基板搬送方向と直交する方向）における支持間隔が狭くなるので、基板の幅方向における撓みの発生を防止することができるとともに、大径搬送ローラ４４の支持ローラ部４８と干渉することなく処理ユニット５０を基板下面と大径搬送ローラ４４の回転軸４６との間の空間に配置することができる。
【００３３】
次に、図７ないし図９は、基板を安定に搬送できるようにするため基板の上面側に押えローラ群を配設した搬送機構を備えた基板処理装置の概略構成を断面図でそれぞれ示す。
【００３４】
図７に示した基板処理装置では、基板Ｗの搬送路の下側に、図１および図２に示した装置と同様の搬送ローラ１０および大径搬送ローラ２２ならびにシャワーノズル３４（処理ユニット）が配設されている。そして、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域以外には、各搬送ローラ１０と対向するように、上側回転軸５４に複数の押えローラ部５６が固着された押えローラ５２がそれぞれ配設されており、その押えローラ５２の押えローラ部５６と搬送ローラ１０の支持ローラ部１４とで基板Ｗを上・下両面側から挟むようにしつつ搬送する。また、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域には、各大径搬送ローラ２２と対向するように、上側回転軸６０に複数の、押えローラ５２の押えローラ部５６の直径寸法より大きい直径寸法を有する押えローラ部６２が固着された大径押えローラ５８がそれぞれ配設されており、その大径押えローラ５８の押えローラ部６２と大径搬送ローラ２２の支持ローラ部２６とで基板Ｗを上・下両面側から挟むようにしつつ基板Ｗを搬送する。また、処理区域には、基板Ｗの上面と大径押えローラ５８の上側回転軸６０との間にシャワーノズル３４（処理ユニット）が配設される。
【００３５】
図７に示した装置構成とすることにより、大径搬送ローラ２２によって支持されつつ搬送される基板Ｗの上面と大径押えローラ５８の上側回転軸６０との間の距離が大きくなり、基板Ｗの上面と大径押えローラ２２の上側回転軸６０との間に大きな空間が確保される。このため、基板Ｗの下面側と同様に、基板Ｗの上面側にも処理ユニットを自在に配置することができることとなる。
【００３６】
図８に示した基板処理装置は、基板Ｗの搬送路の下側に処理ユニットを配設しないで、処理区域にも通常の搬送ローラ１０を設置し、基板Ｗの搬送路の上側に、図７に示した装置と同様の押えローラ５２および大径押えローラ５８ならびにシャワーノズル３４（処理ユニット）を配設した構成を備えている。この装置では、処理区域において、全ての搬送ローラ１０に対応するように大径押えローラ５８を設置する構成とはなっていない。
【００３７】
図９に示した基板処理装置でも、図８に示した装置と同様に、基板Ｗの搬送路の下側に処理ユニットを配設しないで処理区域に通常の搬送ローラ１０を設置している。そして、基板Ｗの搬送路の上側の処理区域に配設される複数本の大径押えローラの、互いに隣接する大径押えローラ５８ａと大径押えローラ５８ｂとにおいて、上側回転軸６０ａ、６０ｂ間の距離が押えローラ部６２ａ、６２ｂの直径寸法よりも小さくされている。また、互いに隣接する大径押えローラ５８ａと大径押えローラ５８ｂとで、それぞれの押えローラ部６２ａ、６２ｂ同士が接触しないように、回転軸６０ａ、６０ｂ上における押えローラ部６２ａ、６２ｂの取付け位置が相互にずらされている。なお、図では表現されていないが、処理区域に配設される複数本の搬送ローラの、互いに隣接する搬送ローラ１０同士では、各大径押えローラ５８ａ、５８ｂに対応するように回転軸１２上における支持ローラ部１４の取付け位置が相互にずらされている。
【００３８】
図９に示した構成によれば、複数本の大径押えローラ５８ａ、５８ｂと基板Ｗとの、基板搬送方向における当接間隔を狭くすることが可能になる。このため、基板Ｗの搬送方向における撓みの発生を防止するために複数本の搬送ローラ１０による基板Ｗの支持間隔を狭くした場合でも、基板Ｗの上面側に処理ユニットを配置するのに十分な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラ１０に対応して大径押えローラ５８ａ、５８ｂを配置することが可能になる。
【００３９】
なお、処理区域内であっても、処理ユニットの設置や処理操作に支障が無い部分には、通常の搬送ローラを設置しても構わない。また、大径搬送ローラ間に、片持ち式に支持された補助ローラを配設するようにしてもよい。さらに、基板をその幅方向において傾斜した姿勢で支持しつつ搬送するような場合には、基板の側辺に当接して支持するサイドローラを設置することもできる。
【００４０】
【発明の効果】
請求項１に係る発明の基板処理装置を使用すると、基板の下面側に処理ユニットを、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することも含めて自在に配置することができ、装置構成を複雑にすることもなく、また、部品点数が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難しくなり作業量が増えたりする、といったこともない。
【００４１】
請求項２に係る発明の基板処理装置では、基板の下面側に処理手段を配置するのに十分な空間を確保しつつ、基板の搬送方向における撓みの発生を防止することができる。
【００４２】
請求項３に係る発明の基板処理装置では、基板の幅方向における撓みの発生を防止しつつ、基板下面と搬送ローラの回転軸との間の空間に処理手段を配置することができる。
【００４３】
請求項４に係る発明の基板処理装置を使用すると、基板の上面側に処理ユニットを、長手方向が基板の搬送方向と直交する方向に対して平面視で傾斜させるように配置することも含めて自在に配置することができ、装置構成を複雑にすることもなく、また、部品点数が多くなって装置コストが高くなったり調整作業が難しくなり作業量が増えたりする、といったこともない。
【００４４】
請求項５に係る発明の基板処理装置では、基板の搬送方向における撓みの発生を防止するために複数本の搬送ローラによる基板の支持間隔を狭くした場合でも、基板の上面側に処理手段を配置するのに十分な空間を確保しつつ、それぞれの搬送ローラに対応して押えローラを配置することができる。
【００４５】
請求項６に係る発明の基板処理装置では、基板の処理効果を高めることができる。
【００４６】
請求項７に係る発明の基板処理装置では、基板の洗浄効果を高めることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の一部の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のII−II矢視断面図である。
【図３】この発明の別の実施形態を示し、基板処理装置の処理区域における搬送機構の平面図である。
【図４】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処理装置の処理区域における搬送機構の平面図である。
【図５】図４に示した搬送機構の正面図である。
【図６】この発明のさらに別の実施形態を示し、基板処理装置の搬送ローラ群の一部を示す平面図である。
【図７】図１ないし図６に係る発明とは異なる発明の実施形態の１例を示し、基板処理装置の一部の概略構成を示す断面図である。
【図８】同じく異なる発明の別の実施形態を示し、基板処理装置の一部の概略構成を示す断面図である。
【図９】同じく異なる発明のさらに別の実施形態を示し、基板処理装置の一部の概略構成を示す断面図である。
【図１０】従来の基板処理装置における搬送機構の概略構成の１例を示す一部平面図である。
【図１１】図１０のXI−XI矢視断面図である。
【図１２】従来の基板処理装置における搬送機構の概略構成の別の例を示す一部平面図である。
【図１３】従来の基板処理装置における搬送機構の概略構成のさらに別の例を示す部分拡大正面図である。
【符号の説明】
１０、３８  搬送ローラ
１２、４０  搬送ローラの回転軸
１４、４２  搬送ローラの支持ローラ部
１６、２８  モータ
１８、３０  プーリ
２０、３２  ベルト
２２、２２ａ、２２ｂ、４４  大径搬送ローラ
２４、２４ａ、２４ｂ、４６  大径搬送ローラの回転軸
２６、２６ａ、２６ｂ、４８  大径搬送ローラの支持ローラ部
３４  シャワーノズル（処理ユニット）
３６、５０  処理ユニット
５２  押えローラ
５４  押えローラの上側回転軸
５６  押えローラの押えローラ部
５８、５８ａ、５８ｂ  大径押えローラ
６０、６０ａ、６０ｂ  大径押えローラの上側回転軸
６２、６２ａ、６２ｂ  大径押えローラの押えローラ部
Ｗ  基板
Ａ  処理区域
ｌ  大径搬送ローラの回転軸間の距離
Ｄ  大径搬送ローラの支持ローラ部の直径寸法
【図１】
0003926593.tif 000002
【図２】
0003926593.tif 000003
【図３】
0003926593.tif 000004
【図４】
0003926593.tif 000005
【図５】
0003926593.tif 000006
【図６】
0003926593.tif 000007
【図７】
0003926593.tif 000008
【図８】
0003926593.tif 000009
【図９】
0003926593.tif 000010
【図１０】
0003926593.tif 000011
【図１１】
0003926593.tif 000012
【図１２】
0003926593.tif 000013
【図１３】
0003926593.tif 000014