(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（イ）で表されるスルフェンアミド化合物で表されるＮ-アシルスルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）と下記一般式（ハ）で表される酸無水物を反応させることを特徴とするＮ-アシルスルフェンアミド化合物の製造方法。
【化１】
0003924611.tif 000010
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても、異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【化２】
0003924611.tif 000011
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
0003924611.tif 000012
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。） 
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規なＮ-アシルスルフェンアミド化合物の製造方法に関するものである。さらに詳しくは、スルフェンアミド化合物と酸無水物を反応させることによりＮ-アシルスルフェンアミド化合物を効率よく製造する方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
スルフェンアミド化合物は、従来からゴムの加硫化剤、殺菌剤、殺虫剤、除草剤としての機能を有するものがあることが知られており（Chem. Rev., 89, 689 (1989)）、特に、Ｎ-ベンゾイル-4-クロロベンゼンスルフェンアミドには、植物成長調整機能があることが報告されている（Fiziol. Akt. Veshch, 16, 47 (1984); Chem. Abstr., 103, 18314 (1985).）。
このように、一群のＮ-アシルスルフェンアミド化合物は、産業上重要な化合物であり、新たな化合物、また、より安全な製法の開発が必要とされている。
【０００３】
アミド化合物は一般的にはアミン化合物のアシル化によって製造されている。同様に２０世紀初頭の論文には、スルフェンアミドのアシル化によってＮ-アシルスルフェンアミド化合物が得られるとの報告があるが（Ann. 391, 55 (1912), Ann., 400, 1 (1913), Ann., 406, 103 (1914), Ber., 72, 663 (1939).），その後スルフェンアミド化合物に対するアシル化は、通常の方法である酸塩化物や酸無水物による反応では進行せず、ジスルフィド化合物やジスルフェニルアミン化合物が得られことが報告されている（J. Gen. Chem. USSR, 47, 1004 (1977); Zh. Obshch. Khim., 47, 1096 (1977).）。
したがって、Ｎ-アシルスルフェンアミド化合物を製造するためには、塩化スルフェニル化合物とアミド化合物の反応により製造されてきた（例えばBull. Chem. Soc. Jpn., 51, 3004 (1978).）。
しかしながら、塩化スルフェニル化合物は、従来、チオール化合物あるいはジスルフィド化合物と塩素ガスとの反応により製造しなければならなかったので、有毒な塩素ガスを気体で反応系に供給することが必要であり、その取り扱いに困難なことが多く、安全な製造方法が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、Ｎ-アシルスルフェンアミド化合物を製造するにあたり、有毒な塩素ガスを用いて合成されている塩化スルフェニル化合物を原料に用いるという欠点を克服し、Ｎ-アシルスルフェンアミド化合物を製造するための工業的に有利な方法を提供することである。 
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、Ｎ-アシルスルフェンアミド化合物及びその製造方法について鋭意研究を重ねた結果、スルフェンアミド化合物とペルフルオロカルボン酸無水物を反応させることにより、新規なＮ-アシルスルフェンアミド化合物を得ることができることにより、塩素ガスを用いることなく、安全かつ容易にＮ-アシルスルフェンアミド化合物が得られることを見い出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
【０００７】
本発明によれば、下記一般式（イ）で表されるＮ-アシルスルフェンアミド化合物を製造する方法において、下記一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表される酸無水物を反応させることを特徴とするＮ-アシルスルフェンアミド化合物の製造方法が提供される。
【化１】
0003924611.tif 000002
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【化２】
0003924611.tif 000003
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
0003924611.tif 000004
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明の方法で得られる、Ｎ-アシルスルフェンアミド化合物は、以下の一般式（イ）で示される化合物である。
【化１】
0003924611.tif 000005
式中、Ｒ１は、炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示す。
前記アルキル基の具体例を示すと、メチル基、エチル基、n-プロピル基、イソプロピル基、n-ブチル基、s-ブチル基、t-ブチル基、n-ペンチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、t-ペンチル基、n-ヘキシル基、イソヘキシル基、2-ヘキシル、3-ヘキシル基、n-ヘプチル基、2-ヘプチル基、3-ヘプチル基、4-ヘプチル基、n-オクチル基、2-オクチル基、3-オクチル基、4-オクチル基等が挙げられる。
前記シクロアルキル基具体例を示すと、シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロヘキシル基等が挙げられる。
前記アルコキシル基の具体例を示すと、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、イソプロポキシ基、ヘキシロキシ基等が挙げられる。
前記アルコキシカルボニル基の具体例を示すと、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、プロポキシカルボニル基、ヘキシロキシカルボニル基、ベンジロキシカルボニル基等が挙げられる。ｎは０または１〜４の整数を示す。
【０００９】
また、Ｒ２は、炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。前記ペルフルオロアルキル基の具体例を示すと、トリフルオロメチル基、ペンタフルオロエチル基、ペルフルオロプロピル基、ペルフルオロイソプロピル基、ペルフルオロブチル基、ペルフルオロイソブチル基、ペルフルオロ-s-ブチル基，ペルフルオロ-t-ブチル基、ペルフルオロヘキシル基等が挙げられる。
【００１０】
本発明のＮ-アシルスルフェンアミド化合物の具体的な化合物を挙げると、化合物（１）から（７）に示されるＮ−アシルスルフェンアミド化合物が挙げられる。これらの化合物は、ゴムの加硫化剤、殺菌剤、殺虫剤、除草剤の出発原料としての用途がある。
【化１０】
0003924611.tif 000006
【００１１】
前記一般式（イ）で表される本発明のＮ-アシルスルフェンアミド化合物
の製造方法は以下の通りである。
【化１１】
0003924611.tif 000007
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても、異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。Ｒ２は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【００１２】
原料物質である下記一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物と、下記一般式（ハ）で表される酸無水物を反応させる。
【化１２】
0003924611.tif 000008
（式中、Ｒ１は炭素数１〜８のアルキル基、炭素数３〜８のシクロアルキル基、炭素数１〜８のアルコキシル基、炭素数２〜８のアルコキシカルボニル基、ハロゲン原子、ニトロ基を示し、Ｒ１が複数ある場合は、各Ｒ１は互いに同一であっても異なっていてもよく、ｎは０または１〜４の整数である。）
【化１３】
0003924611.tif 000009
（式中、Ｒ２は炭素数１〜１２のペルフルオロアルキル基を示す。）
【００１３】
前記原料物質を、好ましくは溶剤に溶解させ、 塩基性物質の存在下に反応させる。
反応溶媒は、塩化メチレン、クロロホルム、1,2-ジクロロエタン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロベンゼン、ジクロロベンゼン、アニソール等の溶媒中で行われる。
また、これらの溶媒は単独または混合溶媒の形で使用される。
添加する塩基物質としては、第三級アミン類が用いられる。このアミン類として、ピリジン、メチルピリジン、ジメチルピリジン、トリエチルアミン、トリブチルアミン等が用いられる。
反応温度は、−７８℃から０℃、好ましくは、−３０℃から０℃の範囲である。この温度未満では、反応は遅く、反応の進行が困難となる。この範囲を超える場合には、副反応が生起し、好ましくない。
なお、前記原料物質である一般式（ロ）で表されるスルフェンアミド化合物は、チオール化合物とヒドロキシルアミン−Ｏ−スルホン酸を公知の方法で反応させて製造される。もう一方の原料物質である一般式（ハ）で表される酸無水物は、カルボン酸を脱水反応させることにより製造される。
反応時間は、５分から５時間である。反応終了後、溶剤を除去し、目的生成物を取り出す。
【００１４】
【実施例】
次に、本発明を実施例により詳細に説明する。なお、本発明の実施例は本発明の理解を容易にするために代表的な物をあげたものであり、本発明はこれだけに限定されるものではない。なお、下記実施例によって製造される新規なＮ−アシルスルフェンアミド化合物（１）〜（７）は、前記で示した化合物（１）〜（７）であり、各種スペクトルデータを主要な判定基準として同定した。他のＮ-アシルスルフェンアミド化合物は、既知のものについては融点および各種スペクトルデータを比較することより、未知のものについては各種スペクトルを主要な判定基準として同定した。
【００１５】
実施例１
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミド（９１．５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５ｍｌに溶かし、無水トリフルオロ酢酸（２１０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）とピリジン（８０μｌ）を加えた。０℃で３０分撹拌させた後、溶媒を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン）で精製することにより、化合物（１）のＮ−アシルスルフェンアミドを収量１０２ｍｇ、収率７３％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：127-128 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 8.04 (dd, J = 7.6, 1.2 Hz, 1H), 7.54 (ddd, J = 8.6, 7.3, 1.5 Hz, 1H), 7.50 (s, 1H), 7.27 (ddd, J = 7.0, 7.0, 1.3 Hz, 1H), 7.17 (dd, J = 8.0, 0.6 Hz, 1H), 3.96 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 167.4, 159.2 (q, JCF = 37.0 Hz, C=O), 142.4, 133.6, 131.3, 125.5, 124.5, 121.5, 115.7 (q, JCF = 287.4 Hz, CF3), 52.8; IR (KBr): 3223, 3090, 2959, 1713, 1696, 1468, 1441, 1319, 1206, 1163, 747 cm-1; 高分解能マス：計算値 C10H8F3NO3S:279.0177, 実測値 279.0141.
【００１６】
実施例２
実施例１において、2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに、2-ブロモベンゼンスルフェンアミド（１０２ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（２）のＮ−アシルスルフェンアミドを収率１４４ｍｇ、収率８０％で得た。
融点：89-90 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 7.56 (s, 1H), 7.54 (dd, J = 8.6, 1.6 Hz, 1H), 7.33 (ddd, J = 8.6, 7.3, 1.2 Hz, 1H), 7.16-7.13 (m, 2H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 159.0 (q, JCF = 38.1 Hz, C=O), 136.1, 133.2, 128.8, 128.3, 126.3, 119.9, 115.5 (q, JCF = 288.4 Hz, CF3); IR (KBr): 3225, 1723, 1468, 1447, 1211, 1167, 1150, 741 cm-1; 高分解能マス：計算値 C8H5BrF3NOS: 298.9227, 300.9207, 実測値298.9210, 300.9216.
【００１７】
実施例３
実施例１において、2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに、4-ニトロベンゼンスルフェンアミド（８５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン）で精製することにより、化合物（３）のＮ−アシルスルフェンアミドを収率９０ｍｇ、収率８２％で得た。
融点：111-113 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 8.22 (ddd, J = 9.2, 2.5, 2.5 Hz, 2H ), 7.74 (s, 1H), 7.34 (ddd, J = 9.2, 2.5, 2.5 Hz, 2H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 159.0 (q, JCF = 39.1 Hz, C=O), 146.8, 144.8, 124.6, 124.4, 115.4 (q, JCF = 288.4 Hz, CF3); IR (KBr): 3274, 1726, 1580, 1522, 1458, 1341, 1211, 1169, 1132 cm-1; 高分解能マス：計算値 C8H5F3N2O3S: 265.9973, 実測値265.9953.
【００１８】
実施例４
実施例１において、2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに、ベンゼンスルフェンアミド（６３ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用い、同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン：ヘキサン２：１）で精製することにより、化合物（４）のＮ−アシルスルフェンアミドを収率８６ｍｇ、収率７８％で得た。
融点：70-72 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 7.53 (s, 1H), 7.46-7.43 (m, 2H), 7.39-7.32 (m, 3H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 159.1 (q, JCF = 37.1 Hz, C=O), 135.5, 129.5, 129.1, 129.0, 115.6 (q, JCF = 287.4 Hz, CF3); IR (KBr): 3245, 1717, 1441, 1321, 1186, 740, 689 cm-1; 高分解能マス：計算値C8H6F3NOS: 221.0122, 実測値 221.0145.
【００１９】
実施例５
実施例１において、2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに、4-メチルベンゼンスルフェンアミド（７０ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン：ヘキサン＝２：１）で精製することにより、化合物（５）のＮ−アシルスルフェンアミドを収率７４ｍｇ、収率６３％で得た。
融点：84-86 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 7.53 (s, 1H), 7.43 (d, J = 8.3 Hz, 2H), 7.18 (d, J = 8.0Hz, 2H), 2.36 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 159.1 (q, JCF = 38.1 Hz, C=O), 140.1, 131.9, 130.9, 130.2, 115.6 (q, JCF = 287.4 Hz, CF3), 21.3; IR (KBr): 3289, 3239, 2926, 1725, 1468, 1321, 1163, 804 cm-1; 高分解能マス：計算値C9H8F3NOS: 235.0279, 実測値235.0291.
【００２０】
実施例６
内容積３０ｍｌのガラス製容器中に2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミド（９１．５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を塩化メチレン５ｍｌに溶かし、無水ペンタフルオロプロピオン酸（３１０ｍｇ，１．０ｍｍｏｌ）とピリジン（８０μｌ，１．０ｍｍｏｌ）を加えた。０℃で１５分撹拌させた後、溶媒を減圧下留去させ、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン）で精製することにより、化合物（６）のＮ−アシルスルフェンアミドを収量１４８ｍｇ、収率９０％で得た。この化合物は塩化メチレン−ヘキサンを用いて再結晶することによりさらに精製することができた。
融点：117-118 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 8.04 (dd, J = 8.0, 1.6 Hz, 1H), 7.55-7.52 (m, 2H), 7.26 (ddd, J = 7.3, 7.3, 1.2 Hz, 1H), 7.14 (dd, J = 8.2, 0.6 Hz, 1H), 3.96 (s, 3H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 167.4, 159.8 (t, JCF = 26.8 Hz, C=O), 142.4, 133.6, 131.8, 125.5, 124.5, 121.5, 117.7 (qt, JCF = 285.4, 34.0 Hz, CF3), 107.1 (tq, JCF = 266.8, 39.3 Hz, CF2), 52.8; IR (KBr): 3252, 1707, 1443, 1319, 1213, 1148, 1032, 747 cm-1; 高分解能マス：計算値C11H8F5NO3S: 329.0145, 実測値329.0094.
【００２１】
実施例７
実施例６において、2-メトキシカルボニルベンゼンスルフェンアミドの代わりに、4-ニトロベンゼンスルフェンアミド（８５ｍｇ，０．５ｍｍｏｌ）を用いて同様な反応を行い、粗生成物をシリカゲルクロマトグラフィー（溶出溶媒  塩化メチレン）で精製することにより、化合物（７）のＮ−アシルスルフェンアミドを収率１１９ｍｇ、収率８５％で得た。
融点：88-89 °C. 1H NMR (500 MHz, CDCl3): d 8.24 (ddd, J = 9.2, 2.5, 2.5 Hz, 2H ), 7.67 (s, 1H), 7.34 (ddd, J = 9.2, 2.5, 2.5 Hz, 2H); 13C NMR (125 MHz, CDCl3): d 159.8 (t, JCF = 26.8 Hz, C=O), 146.8, 144.7, 124.6, 124.4, 117.5 (qt, JCF = 285.4, 34.0 Hz, CF3), 107.0 (tq, JCF = 266.8, 40.3 Hz, CF2); IR (KBr): 3260, 1721, 1512, 1451, 1346, 1208, 1181, 1157, 1030, 855 cm-1; 高分解能マス：計算値C9H5F5N2O3S: 315.9941, 実測値315.9930.
【００２２】
【発明の効果】
本発明によれば、スルフェンアミド化合物と酸無水物を反応させることにより、新規なＮ-アシルスルフェンアミド化合物を収率よく製造することができる。しかも、有毒な塩素ガスを用いることなく安全に製造できるので、工業的なＮ-アシルスルフェンアミド化合物の合成法として最適である。