(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス粉末と感光性有機成分を含むペーストを基板上に塗布し、露光し、現像することにより隔壁パターンを形成し、その後、基板および隔壁パターンを焼成することによって基板上に隔壁を形成したプラズマディスプレイであって、該隔壁の上面幅（Ｌｔ）、半値幅（Ｌｈ）、下面幅（Ｌｂ）の比が
Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１
Ｌｂ／Ｌｈ＝      １〜２
ただしＬｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合をのぞく
の範囲にあり、かつ、ピッチ（Ｐ）、半値幅（Ｌｈ）、高さ（Ｈ）が
Ｐ＝１００〜１４０μｍの時
Ｌｈ＝１５〜４０μｍ、Ｈ＝１００〜１４０μｍ
Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時
Ｌｈ＝２０〜５０μｍ、Ｈ＝１２０〜１７０μｍ
の関係にあるプラズマディスプレイ。
【請求項２】
ガラス粉末と感光性有機成分を含むペーストを基板上に塗布し、露光し、現像することにより隔壁パターンを形成し、その後、基板および隔壁パターンを焼成することによって基板上に隔壁を形成したプラズマディスプレイであって、該隔壁の９０％高さ幅（Ｌ９０）、半値幅（Ｌｈ）、１０％高さ幅（Ｌ１０）の比が
Ｌ９０／Ｌｈ＝０．６５〜１
Ｌ１０／Ｌｈ＝      １〜２
ただし、Ｌ９０＝Ｌｈ＝Ｌ１０の場合はのぞく。
の範囲にあり、かつ、ピッチ（Ｐ）、半値幅（Ｌｈ）、高さ（Ｈ）が
Ｐ＝１００〜１４０μｍの時
Ｌｈ＝１５〜４０μｍ、Ｈ＝１００〜１４０μｍ
Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時
Ｌｈ＝２０〜５０μｍ、Ｈ＝１２０〜１７０μｍ
の関係にあるプラズマディスプレイ。
【請求項３】
隔壁が高さ中央部から底面にかけて曲面形状を有する請求項１または２記載のプラズマディスプレイ。
【請求項４】
ガラス粉末がガラス転移点が４３０〜５００℃、軟化点が４７０〜５８０℃、かつ熱膨張係数（α５０〜４００）が５０〜９０×１０−７／Ｋであるガラス材料からなる請求項１または２記載のプラズマディスプレイ。
【請求項５】
ガラス粉末が下記組成のガラス材料からなる請求項１または２記載のプラズマディスプレイ。
酸化リチウム    ：  ２〜１５重量部
酸化珪素        ：１５〜５０重量部
酸化ホウ素      ：１５〜４０重量部
酸化バリウム    ：  ２〜１５重量部
酸化アルミニウム：  ６〜２５重量部
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイに関する。プラズマディスプレイは大型のテレビやコンピューターモニターに用いることができる。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装置などの分野に用いられている。また、高品位テレビジョンの分野などへの応用が非常に期待されている。
【０００３】
このような用途の拡大にともなって、繊細で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に備えられた放電空間内において対抗するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間内に設けた蛍光体にあてることにより表示を行うものである。ＡＣ方式ＰＤＰの簡単な構成図を図７に示す。この場合、放電の広がりを一定領域に押さえ、表示を規定のセル内で行わせ、かつ均一な放電空間を確保するために隔壁（障壁、リブともいう）が設けられている。ＡＣ方式ＰＤＰの場合、この隔壁はストライプ状に形成される。
【０００４】
上記の隔壁の形状は、およそ幅３０〜８０μｍ、高さ１００〜２００μｍである。通常、隔壁は前面ガラス基板もしくは背面ガラス基板にガラス粉末を含むペーストをスクリーン印刷法でストライプ状に印刷・乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜２０回繰り返して所定の高さにした後、焼成して形成している。しかしながら、スクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大型化した場合に、あらかじめ前面透明平面板上に形成された放電電極とガラスペーストの印刷場所との位置あわせが難しく、位置精度が得られ難いという問題がある。しかも１０〜２０回ガラスペーストの重ね合わせ印刷を行うため、隔壁の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないため、表示品質が悪くなる、作業性が悪い、歩留まりが低いという問題がある。特に、パターン幅が５０μｍ、ピッチが１００μｍ以下になると隔壁底部がペーストのチキソトロピー性により滲みやすく、シャープで残渣のない隔壁形成が難しくなるという問題がある。
【０００５】
ＰＤＰの大面積化、高解像度化にともない、このようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難となり、かつコスト的に不利になってきている。
【０００６】
これらの問題を改良する方法として、特開平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９５６７６号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案されている。しかしながら、これらの方法では、感光性ペーストのガラス含有量が少ないために焼成後に緻密な隔壁が得られなかったり、感光性ペーストの感度や解像度が低いという問題があった。このために感光性ペーストの塗布・露光・現像の工程を繰り返し行うことによって高アスペクト比の隔壁を得る必要があった。しかしながら、塗布・露光・現像を繰り返し行うので、位置あわせの問題が生じたり、低コスト化に限界があった。
【０００７】
特開平８−５０８１１号公報では、感光性ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方法が提案されている。しかしながら、この方法では線幅を細くしたパターンを形成すると、露光、現像後にパターンの蛇行、倒れ、はがれが発生したり、また形成されたパターンを焼成して隔壁を得る際に、断線、はがれが生じる問題があった。さらに隔壁の断面形状によっては、蛍光体の塗布の均一性が悪くなるという問題点があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、隔壁の強度、基板との密着性をあげ、隔壁の蛇行、倒れ、はがれ、断線の少ない高精細プラズマディスプレイを提供することを目的とする。また本発明は、蛍光体の塗布均一性がよく、輝度ムラの少ない高精細プラズマディスプレイを提供することを目的とする。さらに本発明は、発光特性の優れた高輝度、高精細のプラズマディスプレイを提供することを目的とする。なお、本発明におけるプラズマディスプレイとは、隔壁で区切られた放電空間内において放電することにより表示を行うディスプレイを指し、上記のＡＣ方式ＰＤＰ以外にも、プラズマアドレス液晶ディスプレイをはじめとする各種ディスプレイに用いることができる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、ガラス粉末と感光性有機成分を含むペーストを基板上に塗布し、露光し、現像することにより隔壁パターンを形成し、その後、基板および隔壁パターンを焼成することによって基板上に隔壁を形成したプラズマディスプレイであって、該隔壁の上面幅（Ｌｔ）、半値幅（Ｌｈ）、下面幅（Ｌｂ）の比が
Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１
Ｌｂ／Ｌｈ＝      １〜２
ただしＬｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合をのぞく
の範囲にあり、かつ、ピッチ（Ｐ）、半値幅（Ｌｈ）、高さ（Ｈ）が
Ｐ＝１００〜１４０μｍの時
Ｌｈ＝１５〜４０μｍ、Ｈ＝１００〜１４０μｍ
Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時
Ｌｈ＝２０〜５０μｍ、Ｈ＝１２０〜１７０μｍ
の関係にあるプラズマディスプレイによって達成される。
【００１１】
また、本発明の目的は、ガラス粉末と感光性有機成分を含むペーストを基板上に塗布し、露光し、現像することにより隔壁パターンを形成し、その後、基板および隔壁パターンを焼成することによって基板上に隔壁を形成したプラズマディスプレイであって、該隔壁の９０％高さ幅（Ｌ９０）、半値幅（Ｌｈ）、１０％高さ幅（Ｌ１０）の比が
Ｌ９０／Ｌｈ＝０．６５〜１
Ｌ１０／Ｌｈ＝      １〜２
ただし、Ｌ９０＝Ｌｈ＝Ｌ１０の場合はのぞく。
の範囲にあり、かつ、ピッチ（Ｐ）、半値幅（Ｌｈ）、高さ（Ｈ）が
Ｐ＝１００〜１４０μｍの時
Ｌｈ＝１５〜４０μｍ、Ｈ＝１００〜１４０μｍ
Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時
Ｌｈ＝２０〜５０μｍ、Ｈ＝１２０〜１７０μｍ
の関係にあるプラズマディスプレイによって達成される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
本発明のプラズマディスプレイにおいて、隔壁は側面にテーパー形状を有しているので、強度が高く、倒れが防止できる。
【００１４】
本発明のプラズマディスプレイ用隔壁は、下面幅をＬｂ、半値幅をＬｈ、上面幅をＬｔとしたとき、
Ｌｔ／Ｌｈ＝０．６５〜１
Ｌｂ／Ｌｈ＝      １〜２
の範囲にある。本発明の例を図１に示す。
【００１５】
なお、Ｌｂは隔壁底部の幅、Ｌｈは半値幅（隔壁高さを１００としたとき、底面から５０の高さの線幅）、Ｌｔは隔壁上部の幅を示す。
【００１６】
Ｌｔ／Ｌｈが１より大きいと、隔壁中央にくびれが生じる形状となり、隔壁のピッチに対する放電空間の割合、すなわち開口率が小さくなるため、輝度が低下する。また蛍光体形成時に塗布ムラすなわち厚みムラや不均一が生じる。また０．６５未満では上面が細くなりすぎ、パネル形成時にかかる大気圧に耐える強度が不足し、先端のつぶれが生じやすくなる。
【００１７】
Ｌｂ／Ｌｈが１未満では強度が低くなり、隔壁の倒れ、蛇行の原因になるため、好ましくない。また２より大きいと放電空間が減少することにより輝度が低下する。より好ましくは、Ｌｔ／Ｌｈ＝０．８〜１、Ｌｂ／Ｌｈ＝１〜１．５の範囲が、開口率の確保の点からすぐれているため、好ましい。ただし、Ｌｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合は、強度が弱くなり、倒れが生じやすくなることから、好ましくない。形状としては、隔壁下面にくびれなどない台形または矩形形状が強度の点から好ましい。
【００１８】
隔壁頂部が丸みを帯びていたり、または隔壁底部が裾引きしていたりして、隔壁の上面幅、下面幅の定義が困難な場合は、上面幅の代わりに９０％高さ幅（Ｌ９０）、下面幅の代わりに１０％高さ幅（Ｌ１０）を測定する。Ｌ１０、Ｌｈ、Ｌ９０は、
Ｌ９０／Ｌｈ＝０．６５〜１
Ｌ１０／Ｌｈ＝      １〜２
の範囲にある。本発明の例を図２に示す。
【００１９】
なお、Ｌ９０は隔壁高さを１００としたとき、底面から９０の高さの線幅、Ｌ１０は同様に、底面から１０の高さの線幅である。ただし、Ｌ９０＝Ｌｈ＝Ｌ１０の場合は、Ｌｔ＝Ｌｈ＝Ｌｂの場合と同じ理由により好ましくない。
【００２０】
本発明において、特にピッチ２３０μｍ以下、線幅５０μｍ以下の高精細の隔壁を３２インチ以上の大型パネルに形成する場合に、上記形状とすることにより焼成後の隔壁の蛇行、振れ、断線を防ぐことができる。また焼成前の隔壁パターンを上記形状とすることにより、特に基板ガラスや誘電体層との接触面積が広くなり、形状保持性や安定性が向上する。その結果、焼成後の剥がれ、断線が解消される。
【００２１】
隔壁線幅の測定方法は特に限定しないが、光学顕微鏡、走査電子顕微鏡、またはレーザ顕微鏡を用いて測定するのが好ましい。
【００２２】
たとえば、走査電子顕微鏡（たとえばＨＩＴＡＣＨＩ  Ｓ−２４００）を用いる場合は次のような方法が好ましい。隔壁断面が第２図のように正確にでるように切断し、観察が可能なサイズに加工する。その際、断面が斜めになっていると正確な評価ができないため、断面が隔壁のストライプ方向と直角になるようにする。測定倍率は、隔壁断面が２〜５個くらい視野にはいるところを選ぶ。たとえばピッチ１５０μｍの場合は、２００〜３００倍の倍率を用いる。そして隔壁線幅と同等の大きさの標準試料で縮尺を校正した後に写真を撮影し、縮尺から線幅を算出する。
【００２３】
また非破壊で測定を行いたい場合は、レーザフォーカス変位計（たとえば（株）キーエンス社製  ＬＴ−８０１０）を用いてもよい。この場合も同様に標準試料で校正を行った後、測定を行うのが好ましい。この際、レーザの測定面が隔壁のストライプ方向と直角になっていることを確認することが、正確な測定をするため好ましい。
【００２４】
傾斜面は、平面構造に限定せず、曲面形状をしていてもよい。特に、図３に例を示すように、隔壁高さ中央部から底面にかけて曲面形状を有すると、Ｌｂ／Ｌｈを大きくしても放電空間を大きくとることができ、輝度が低下しないので好ましい。曲面形状は、隔壁の曲面形状の曲率半径をＲ、半値幅をＬｈとしたとき、下記の様な関係にあることが、効果が高く特に好ましい。
【００２５】
Ｒ≦Ｌｈ／２
本発明における隔壁の線幅は１５〜５０μｍであることが高開口率、高輝度が得られることから好ましい。５０μｍより大きいと開口率が低くなることにより、十分な輝度が得られず、１５μｍより小さいと強度が不足し、封着時に隔壁が破壊されたりするため好ましくない。
【００２６】
さらに、隔壁のピッチは１００〜２５０μｍであることが好ましい。より好ましくは１００〜１６０μｍであることがよい。この範囲を満足することにより、高精細プラズマディスプレイが得られる。
【００２７】
また、隔壁の高さは６０〜１７０μｍであることが放電安定性、輝度の点で有利なことから好ましい。より好ましくは１００〜１７０μｍであることが良い。この範囲外では、誤放電が起きる、または輝度が低いなど不具合がでるため好ましくない。
【００２８】
本発明の隔壁各部の形状は、ピッチをＰ、半値幅をＬｈ、高さをＨとすると、次のような関係にあることが、パネルの輝度、放電寿命の点ですぐれていることから、より好ましい。
【００２９】
・Ｐ＝１００〜１４０μｍの時
Ｌｈ＝１５〜４０μｍ、Ｈ＝１００〜１４０μｍ
・Ｐ＝１４０〜１６０μｍの時
Ｌｈ＝２０〜５０μｍ、Ｈ＝１２０〜１７０μｍ
半値幅については、上記下限より小さいと、パターン形成時のはがれ、倒れ、また焼成後に断線、はがれが生じやすくなる。上記上限より大きいと開口率が小さくなることによる輝度の低下が起こり、好ましくない。高さについては、上記下限より小さいと、放電空間が狭くなり、プラズマ領域が蛍光体層に近くなり、蛍光体層がスパッタされるため、寿命の点で好ましくない。上記上限より大きいと放電により発生した紫外線が、蛍光体層に届くまでに吸収されてしまうために輝度が下がり、好ましくない。
【００３０】
本発明における隔壁の気孔率は、隔壁の倒れを防止し、基板との密着性に優れていることから、１０％以下が好ましく、３％以下がより好ましい。気孔率（Ｐ）は、隔壁材質の真比重をｄth、隔壁の実測密度をｄexとしたとき、
Ｐ＝(ｄth − ｄex)／ｄth×１００
と定義する。
【００３１】
隔壁材質の真比重は次の様ないわゆるアルキメデス法を用いて算出するのが好ましい。隔壁材質を乳鉢を用いて指頭に感じない程度、３２５メッシュ以下ぐらいまでに粉砕する。そしてＪＩＳ−Ｒ２２０５に記載のように真比重を求める。次に実測密度の測定は隔壁部分を形状を崩さないように削り取り、粉砕を行わないこと以外は上記と同様にしてアルキメデス法を用いて計測を行う。
【００３２】
気孔率が１０％より大きいと、密着強度が低下するのに加え、強度の不足、また放電時に気孔から排出されるガス、水分の吸着による輝度低下などの発光特性低下の原因になる。パネルの放電寿命、輝度安定性などの発光特性を考慮すると、さらに好ましくは１％以下がよい。
【００３３】
本発明の隔壁の作製方法は特に限定しないが、工程が少なく、微細なパターン形成が可能である感光性ペースト法で作製するのが好ましい。サンドブラスト法では、サンドを吹き付けて削ることにより隔壁パターンを形成するため、制御が難しく、削り不足で裾引きが大きくなったり、逆に削りすぎて下面の方が上面よりも細くなったりしやすい。また、スクリーン印刷法では印刷を１０〜２０回重ねるため、隔壁底部はつぶれ、隔壁上部は垂れ下がった形状になりやすい。
【００３４】
感光性ペースト法は、主としてガラス粉末からなる無機成分と感光性を持つ有機成分からなる感光性ペーストを用いて、フォトマスクのパターンを露光により、焼き付け、現像により、隔壁パターンを形成し、その後焼成して隔壁を得る方法である。
【００３５】
プラズマディスプレイやプラズマアドレス液晶ディスプレイの隔壁に用いる場合は、ガラス転移点、軟化点の低いガラス基板上にパターン形成するため、隔壁材質として、ガラス転移点が４３０〜５００℃、軟化点が４７０〜５８０℃のガラス材料を用いることが好ましい。ガラス転移点が５００℃、軟化点が５８０℃より高いと、高温で焼成しなければならず、焼成の際に基板に歪みが生じる。またガラス転移点が４３０℃、軟化点が４７０℃より低い材料は緻密な隔壁層が得られず、隔壁の剥がれ、断線、蛇行の原因となる。
【００３６】
ガラス転移点、軟化点の測定は次の様にするのが好ましい。示差熱分析（ＤＴＡ）法を用いて、ガラス試料約１００ｍｇを２０℃／分で空気中で加熱し、横軸に温度、縦軸に熱量をプロットし、ＤＴＡ曲線を描く。ＤＴＡ曲線より、ガラス転移点と軟化点を読みとる。
【００３７】
また、基板ガラスに用いられる一般的な高歪点ガラスの熱膨張係数が８０〜９０×１０-7であることから、基板のそり、パネル封着時の割れ防止のためには、５０〜４００℃の熱膨張係数（α50〜400）が５０〜９０×１０-7、さらには、６０〜９０×１０-7のガラス材料を用いることが好ましい。上記の特性を有するガラス材料を用いることによって、隔壁の剥がれや断線を防ぐことができる。
【００３８】
感光性ペースト法に用いるガラス粉末の量は、ガラス粉末と有機成分の和に対して６５〜８５重量％であるのが好ましい。６５重量％より小さいと、焼成時の収縮率が大きくなり、隔壁の断線、剥がれの原因となるため、好ましくない。また、ペーストとして乾燥が難しくなり、ベタ付きが生じ、印刷特性が低下する。さらにパターン太り、現像時の残膜の発生が起こりやすい。このため、Ｌｂ／Ｌｈが２より大きくなりやすい。８５重量％より大きいと、感光性成分が少ないことにより、隔壁パターン底部まで光硬化しない。このため、Ｌｂ／Ｌｈが１より小さくなりやすい。
【００３９】
隔壁材質の組成としては、酸化珪素はガラス中に、３〜６０重量％の範囲で配合することが好ましい。３重量％未満の場合はガラス層の緻密性、強度や安定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こりやすい。また６０重量％以下にすることによって、熱軟化点が低くなり、ガラス基板への焼き付けが可能になるなどの利点がある。
【００４０】
酸化ホウ素はガラス中に、５〜５０重量％の範囲で配合することによって、電気絶縁性、強度、熱膨張係数、絶縁層の緻密性などの電気、機械および熱的特性を向上することができる。５０重量％を越えるとガラスの安定性が低下する。
【００４１】
酸化ビスマス、酸化鉛、酸化亜鉛のうち少なくとも１種類をガラス中に、５〜５０重量％含むガラス粉末を用いることによって、ガラス基板上にパターン加工できる温度特性を有する感光性ペーストを得ることができる。５０重量％を越えるとガラスの耐熱温度が低くなり過ぎてガラス基板上への焼き付けが難しくなる。特に、酸化ビスマスを５〜５０重量％含有するガラスを用いることは、ペーストのポットライフが長いなどの利点がある。
【００４２】
酸化ビスマスを含むガラス組成としては、酸化物換算表記で
酸化ビスマス        １０〜４０重量部
酸化珪素              ３〜５０重量部
酸化ホウ素          １０〜４０重量部
酸化バリウム          ８〜２０重量部
酸化アルミニウム    １０〜３０重量部
の組成を含むものを５０重量％以上含有することが好ましい。
【００４３】
酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのうち少なくとも１種類を２〜２０重量％含むガラス粉末を用いることによっても、ガラス基板上にパターン加工できる温度特性を有する感光性ペーストを得ることができる。リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属の酸化物は添加量としては、２０重量％以下、好ましくは、１５重量％以下にすることによって、ペーストの安定性を向上することができる。
【００４４】
酸化リチウムを含むガラス組成としては、酸化物換算表記で
酸化リチウム         ２〜１５重量部
酸化珪素            １５〜５０重量部
酸化ホウ素          １５〜４０重量部
酸化バリウム          ２〜１５重量部
酸化アルミニウム      ６〜２５重量部
の組成を含むものを７０重量％以上含有することが好ましい。また、上記組成で、酸化リチウムの代わりに、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いても良いが、ペーストの安定性の点で、酸化リチウムが好ましい。
【００４５】
また、酸化鉛、酸化ビスマス、酸化亜鉛のような金属酸化物と酸化リチウム、酸化ナトリウム、酸化カリウムのようなアルカリ金属酸化物の両方を含有するガラスによって、より低いアルカリ含有量で軟化点や線熱膨張係数のコントロールが容易になる。
【００４６】
また、ガラス粉末中に、酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化カルシウム、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど、特に酸化アルミニウム、酸化バリウム、酸化亜鉛を添加することにより、高度や加工性を改良することができるが、軟化点、熱膨張係数、屈折率の制御の点からは、その含有量は４０重量％以下が好ましく、より好ましくは２５重量％以下である。
【００４７】
さらに、一般に絶縁体として用いられるガラスは、１．５〜１．９程度の屈折率を有しているが、感光性ペースト法を用いる場合、有機成分の平均屈折率がガラス粉末の平均屈折率と大きく異なる場合は、ガラス粉末と感光性有機成分の界面での反射・散乱が大きくなり、精細なパターンが得られない。一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７であるため、ガラス粉末と有機成分の屈折率を整合させるためには、ガラス粉末の平均屈折率を１．５〜１．７にすることが好ましい。さらにより好ましくは１．５〜１．６５にするのがよい。
【００４８】
酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリウム等のアルカリ金属の酸化物を合計で２〜２０重量％含有するガラスを用いることによって、軟化点、熱膨張係数のコントロールが容易になるだけでなく、ガラスの平均屈折率を低くすることができるため、有機物との屈折率差を小さくすることが容易になる。２％より小さい時は、軟化点の制御が難しくなる。２０％より大きい時は、放電時にアルカリ金属酸化物の蒸発によって輝度低下をもたらす。さらにアルカリ金属の酸化物の添加量はペーストの安定性を向上させるためにも、１０重量％より小さいことが好ましく、より好ましくは８重量％以下である。
【００４９】
特に、アルカリ金属の中では酸化リチウムを用いることが、比較的ペーストの安定性を高くすることができるから、好ましい。また、酸化カリウムを用いた場合は、比較的少量の添加でも屈折率を制御できる利点がある。この結果、ガラス基板上に焼き付け可能な軟化点を有し、平均屈折率を１．５〜１．７にすることができ、有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。
【００５０】
酸化ビスマスを含有するガラスは軟化点や耐水性向上の点から好ましいが、酸化ビスマスを１０重量％以上含むガラスは、屈折率が１．６以上になるものが多い。このため酸化ナトリウム、酸化リチウム、酸化カリウムなどのアルカリ金属の酸化物と酸化ビスマスを併用することによって、軟化点、熱膨張係数、耐水性、屈折率のコントロールが容易になる。
【００５１】
本発明におけるガラス材質の屈折率測定は、感光性ガラスペースト法で露光する光の波長で測定することが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。
【００５２】
本発明の隔壁はコントラストをあげる点で優れていることから、黒色に着色されていてもよい。種々の金属酸化物を添加することによって、焼成後の隔壁を着色することができる。例えば、感光性ペースト中に黒色の金属酸化物を１〜１０重量％含むことによって、黒色のパターンを形成することができる。
【００５３】
この際に用いる黒色の金属酸化物として、Ｃｒ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｃｕの酸化物の内、少なくとも１種、好ましくは３種以上を含むことによって、黒色化が可能になる。特に、ＦｅとＭｎの酸化物をそれぞれ０．５重量％以上含有することによって、黒色パターンを形成できる。
【００５４】
さらに、黒色以外に、赤、青、緑等に発色する無機顔料を添加したペーストを用いることによって、各色のパターンを形成できる。これらの着色パターンは、プラズマディスプレイのカラーフィルターなどに好適に用いることができる。
【００５５】
隔壁ガラス部材の誘電率はパネルの消費電力、放電寿命に優れている点から周波数１ＭＨｚ、温度２０℃の時に４〜１０であることが好ましい。４以下にするためには、誘電率が３．８程度である酸化珪素を多く含ませねばならず、ガラス転移点が高くなり、焼成温度が高くなることから、基板歪みの原因となり好ましくない。１０以上であると、帯電量の増加による電力のロスが生じ、消費電力の増加を引き起こすため好ましくない。
【００５６】
また、本発明の隔壁の比重は２〜３．３であることが好ましい。２以下にするためには、ガラス材料に酸化ナトリウムや酸化カリウムなどのアルカリ金属の酸化物を多く含ませなければならず、放電中に蒸発して放電特性を低下させる要因となるため、好ましくない。３．３以上になると、大画面化した時ディスプレイが重くなったり、自重で基板に歪みを生じたりするので好ましくない。
【００５７】
上記において使用されるガラス粉末粒子径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選ばれるが、５０体積％粒子径（平均粒子径Ｄ５０）が１〜６μｍ、最大粒子径サイズが３０μｍ以下、比表面積１．５〜４ｍ2／ｇであることが好ましい。より好ましくは１０体積％粒子径（Ｄ１０）０．４〜２μｍ、５０体積％粒子径（Ｄ５０）１．５〜６μｍ、９０体積％粒子径（Ｄ９０）：４〜１５μｍ、最大粒子径サイズが２５μｍ以下、比表面積１．５〜３．５ｍ2／ｇを有していることが好ましい。さらに好ましくはＤ５０が２〜３．５μｍ、比表面積１．５〜３ｍ2／ｇである。ここで、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それぞれ、粒径の小さいガラス粉末から１０体積％、５０体積％、９０体積％のガラスの粒子径である。
【００５８】
上記のような粒度分布をもったガラス粉末を用いることにより、粉末の充填性が向上し、感光性ペースト中の粉末比率を増加させても気泡を巻き込むことが少なくなり、余分な光散乱が小さいため好ましい隔壁パターン形状が形成できる。ガラス粉末の粒度が上記範囲より小さいと比表面積が増えるため、粉末の凝集性があがり、有機成分内への分散性が下がるため、気泡を巻き込みやすくなる。そのため光散乱が増え、隔壁中央部の太り、底部の硬化不足が生じ、Ｌｂ／Ｌｈが１より小さくなりやすい。またガラス粉末の粒度が上記範囲より大きくても、粉末のかさ密度が下がるため充填性がさがり、感光性有機成分の量が不足し気泡を巻き込みやすくなり、やはり光散乱を起こしやすくなる。さらに、ガラス粉末の粒度分布が上記範囲にあると、粉末充填比率が高いので焼成収縮率が低くなり、焼成時にパターン形状が崩れず、本発明の隔壁形状が安定して得られる。
【００５９】
粒子径の測定方法は特に限定しないが、レーザー回折・散乱法を用いるのが、簡便に測定できるので好ましい。たとえばマイクロトラック社製、粒度分布計ＨＲＡ９３２０−Ｘ１００を用いた場合の測定条件は下記の通りである。
【００６０】
試料量    ：１ｇ
分散条件  ：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液中で行う。
【００６１】
粒子屈折率：ガラス種類によって変更（リチウム系１．６、ビスマス系１．８８）
溶媒屈折率：１．３３
測定数    ：２回
本発明の隔壁に軟化点が５５０〜１２００℃、さらに好ましくは６５０〜８００℃であるフィラーを３〜６０重量％含ませてもよい。これにより、感光性ペースト法において、パターン形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、パターン形成が容易になり、焼成時の形状保持性が向上する。
【００６２】
フィラーとしては、チタニア、アルミナ、チタン酸バリウム、ジルコニアなどのセラミックスや酸化珪素、酸化アルミニウムを１５重量％以上含有する高融点ガラス粉末が好ましい。一例としては、以下の組成を含有するガラス粉末を用いることが好ましい。
【００６３】
酸化珪素        ：２５〜５０重量％
酸化ホウ素      ：  ５〜２０重量％
酸化アルミニウム：２５〜５０重量％
酸化バリウム    ：  ２〜１０重量％
高融点ガラス粉末をフィラーとして用いる際、母ガラス材料（低融点ガラス）との屈折率差が大きいと有機成分との整合が困難になり、パターン形成性が悪くなる。
【００６４】
そこで、低融点ガラス粉末の平均屈折率Ｎ１、高融点ガラス粉末の平均屈折率Ｎ２が、次の範囲にあることによって、有機成分との屈折率整合が容易になる。
【００６５】
−０．０５≦Ｎ１−Ｎ２≦０．０５
無機粉末の屈折率のばらつきが小さいことも光散乱低減には重要なことである。屈折率のばらつきが±０．０５である（無機粉末の９５体積％以上が平均屈折率Ｎ１±０．０５の範囲に入っている）ことが、光散乱低減には好ましい。
【００６６】
用いるフィラーの粒子径としては、平均粒子径１〜６μｍのものが好ましい。また、Ｄ１０（１０体積％粒子径）０．４〜２μｍ、Ｄ５０（５０体積％粒子径）：１〜３μｍ、Ｄ９０（９０体積％粒子径）：３〜８μｍ、最大粒子サイズ：１０μｍ以下の粒度分布を有するものを使用することがパターン形成を行う上で好ましい。さらにより好ましくはＤ９０は３〜５μｍ、最大粒子サイズ５μｍ以下が好ましい。Ｄ９０が３〜５μｍの細かい粉末であることが、焼成収縮率を低くすることができ、かつ気孔率が低い隔壁を作製する点で優れていることから好ましい。また隔壁上部の長手方向の凹凸を±２μｍ以下にすることが可能となる。フィラーに大きい粒径の粉末を用いると、気孔率が上昇するばかりでなく、隔壁上部の凹凸が大きくなり、誤放電を引き起こすことから好ましくない。
【００６７】
有機成分は、感光性モノマー、感光性オリゴマー、感光性ポリマーのうち少なくとも１種類から選ばれる感光性成分を含有し、さらに必要に応じて、バインダー、光重合開始剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、有機溶媒、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分を加えることも行われる。
【００６８】
感光性成分としては、光不溶化型のものと光可溶化型のものがあり、光不溶化型のものとして、
（Ａ）分子内に不飽和基などを１つ以上有する官能性のモノマー、オリゴマー、ポリマーを含有するもの
（Ｂ）芳香族ジアゾ化合物、芳香族アジド化合物、有機ハロゲン化合物などの感光性化合物を含有するもの
（Ｃ）ジアゾ系アミンとホルムアルデヒドとの縮合物などいわゆるジアゾ樹脂といわれるもの等がある。
【００６９】
また、光可溶型のものとしては、
（Ｄ）ジアゾ化合物の無機塩や有機酸とのコンプレックス、キノンジアゾ類を含有するもの
（Ｅ）キノンジアゾ類を適当なポリマーバインダーと結合させた、例えばフェノール、ノボラック樹脂のナフトキノン−１，２−ジアジド−５−スルフォン酸エステル等がある。
【００７０】
本発明において用いる感光性成分は、上記のすべてのものを用いることができる。感光性ペーストとして、無機微粒子と混合して簡便に用いることができる感光性成分は、（Ａ）のものが好ましい。
【００７１】
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデシルアクリレート、イソオクチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレート、フェニルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ベンジルアクリレート、１−ナフチルアクリレート、２−ナフチルアクリレート、ビスフェノールＡジアクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジアクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジアクリレート、チオフェノールアクリレート、ベンジルメルカプタンアクリレート等のアクリレート、また、これらの芳香環の水素原子のうち、１〜５個を塩素または臭素原子に置換したモノマー、もしくは、スチレン、ｐ−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、塩素化スチレン、臭素化スチレン、α−メチルスチレン、塩素化α−メチルスチレン、臭素化α−メチルスチレン、クロロメチルスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、カルボキシメチルスチレン、ビニルナフタレン、ビニルアントラセン、ビニルカルバゾール、および、上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドンなどが挙げられる。本発明ではこれらを１種または���種以上使用することができる。
【００７２】
これら以外に、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を加えることによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
【００７３】
これらモノマーの含有率は、ガラス粉末と感光性成分の和に対して、５〜３０重量％が好ましい。これ以外の範囲では、パターンの形成性の悪化、硬化後の硬度不足が発生するため好ましくない。
【００７４】
バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル−メタクリル酸エステル共重合体、α−メチルスチレン重合体、ブチルメタクリレート樹脂などがあげられる。
【００７５】
また、前述の炭素−炭素二重結合を有する化合物のうち少なくとも１種類を重合して得られたオリゴマーやポリマーを用いることができる。重合する際に、これら光反応性モノマーの含有率が、１０重量％以上、さらに好ましくは３５重量％以上になるように、他の感光性のモノマーと共重合することができる。
【００７６】
共重合するモノマーとしては、不飽和カルボン酸等の不飽和酸を共重合することによって、感光後の現像性を向上することができる。不飽和カルボン酸の具体的な例としては、アクリル酸、メタアクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸、またはこれらの酸無水物などがあげられる。
【００７７】
こうして得られた側鎖にカルボキシル基等の酸性基を有するポリマーもしくはオリゴマーの酸価（ＡＶ）は５０〜１８０、さらには７０〜１４０の範囲が好ましい。酸価が５０未満であると、未露光部の現像液に対する溶解性が低下するため現像液濃度を濃くすると露光部まで剥がれが発生し、高精細なパターンが得られにくい。また、酸価が１８０を現像許容幅が狭くなる。
【００７８】
現像性を不飽和酸等のモノマーで付与する場合は、ポリマーの酸価値は５０以下にすることによりガラス粉末とポリマーの反応によるゲル化を抑制できることから好ましい。
【００７９】
以上示した、ポリマーもしくはオリゴマーに対して、光反応性基を側鎖または分子末端に付加させることによって、感光性を持つ感光性ポリマーや感光性オリゴマーとして用いることができる。好ましい光反応性基は、エチレン性不飽和基を有するものである。エチレン性不飽和基としては、ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基などがあげられる。
【００８０】
このような側鎖をオリゴマーやポリマーに付加させる方法は、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させて作る方法がある。
【００８１】
グリシジル基を有するエチレン性不飽和化合物としては、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、アリルグリシジルエーテル、エチルアクリル酸グリシジル、クロトニルグリシジルエーテル、クロトン酸グリシジルエーテル、イソクロトン酸グリシジルエーテルなどがあげられる。
【００８２】
イソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物としては、（メタ）アクリロイルイソシアネート、（メタ）アクリロイルエチルイソシアネート等がある。
【００８３】
また、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドは、ポリマー中のメルカプト基、アミノ基、水酸基やカルボキシル基に対して０．０５〜１モル当量付加させることが好ましい。
【００８４】
感光性ガラスペースト中の感光性ポリマー、感光性オリゴマーおよびバインダーからなるポリマー成分の量としては、パターン形成性、焼成後の収縮率の点で優れていることから、ガラス粉末と感光性成分の和に対して、５〜３０重量％であることが好ましい。この範囲外では、パターン形成が不可能もしくは、パターンの太りがでるため好ましくない。
【００８５】
光重合開始剤としての具体的な例として、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジルメトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラーケトン、２−メチル−［４−（メチルチオ）フェニル］−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホスフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組合せなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。
【００８６】
光重合開始剤は、感光性成分に対し、０．０５〜３０重量％の範囲で添加され、より好ましくは、０．１〜２０重量％である。重合開始剤の量が少なすぎると、光感度が不良となり、光重合開始剤の量が多すぎれば、露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【００８７】
紫外線吸収剤を添加することも有効である。紫外線吸収効果の高い化合物を添加することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸収剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高ＵＶ吸収係数を有する有機系染料が好ましく用いられる。具体的には、アゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アミノケトン系染料、アントラキノン系、ベンゾフェノン系、ジフェニルシアノアクリレート系、トリアジン系、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。有機系染料は吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないで吸光剤による絶縁膜特性の低下を少なくできるので好ましい。これらの中でもアゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。
【００８８】
有機染料の添加量はガラス粉末に対して０．０５〜１重量％が好ましい。０．０５重量％以下では紫外線吸光剤の添加効果が低く、１重量％を越えると光感度が不良になったり、焼成後の絶縁膜特性が低下するので好ましくない。より好ましくは０．１〜０．１８重量％である。
【００８９】
有機染料からなる紫外線吸光剤の添加方法の一例を上げる。有機染料を予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する。あるいは、該有機染料溶液中にガラス微粒子を混合後、乾燥する方法もある。この方法によってガラス微粒子の個々の粒子表面に有機染料の膜をコートしたいわゆるカプセル状の微粒子が作製できる。
【００９０】
本発明において、無機微粒子に含まれるＰｂ、Ｆｅ、Ｃｄ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｍｇなどの金属および酸化物がペースト中に含有する感光性成分と反応してペーストが短時間でゲル化し、塗布できなくなる場合がある。このような反応を防止するために安定化剤を添加してゲル化を防止することが好ましい。用いる安定化剤としては、トリアゾール化合物が好ましく用いられる。トリアゾール化合物としては、ベンゾトリアゾール誘導体が好ましく用いられる。この中でも特にベンゾトリアゾールが有効に作用する。本発明において使用されるベンゾトリアゾールによるガラス微粒子の表面処理の一例を上げると、無機微粒子に対して所定の量のベンゾトリアゾールを酢酸メチル、酢酸エチル、エチルアルコール、メチルアルコールなどの有機溶媒に溶解した後、これら微粒子が十分に浸すことができるように溶液中に１〜２４時間浸積する。浸積後、好ましくは２０〜３０℃で自然乾燥して溶媒を蒸発させてトリアゾール処理を行った微粒子を作製する。使用される安定化剤の割合（安定化剤／無機微粒子）は０．０５〜５重量％が好ましい。
【００９１】
増感剤は、感度を向上させるために添加される。増感剤の具体例としては、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，３−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）シクロペンタノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）シクロヘキサノン、２，６−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）−４−メチルシクロヘキサノン、ミヒラーケトン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）−ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジメチルアミノ）カルコン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）カルコン、ｐ−ジメチルアミノシンナミリデンインダノン、ｐ−ジメチルアミノベンジリデンインダノン、２−（ｐ−ジメチルアミノフェニルビニレン）−イソナフトチアゾール、１，３−ビス（４−ジメチルアミノベンザル）アセトン、１，３−カルボニル−ビス（４−ジエチルアミノベンザル）アセトン、３，３−カルボニル−ビス（７−ジエチルアミノクマリン）、Ｎ−フェニル−Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、Ｎ−トリルジエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、ジメチルアミノ安息香酸イソアミル、ジエチルアミノ安息香酸イソアミル、３−フェニル−５−ベンゾイルチオテトラゾール、１−フェニル−５−エトキシカルボニルチオテトラゾールなどがあげられる。本発明ではこれらを１種または２種以上使用することができる。なお、増感剤の中には光重合開始剤としても使用できるものがある。増感剤を本発明の感光性ペーストに添加する場合、その添加量は感光性成分に対して通常０．０５〜３０重量％、より好ましくは０．１〜２０重量％である。増感剤の量が少なすぎれば光感度を向上させる効果が発揮されず、増感剤の量が多すぎれば露光部の残存率が小さくなりすぎるおそれがある。
【００９２】
また、増感剤は、露光波長に吸収を有しているものが用いられる、この場合、吸収波長近傍では屈折率が極端に高くなるため、増感剤を多量に添加することによって、有機成分の屈折率を向上することができる。この場合の増感剤の添加量は３〜１０重量％添加することができる。
【００９３】
重合禁止剤は、保存時の熱安定性を向上させるために添加される。重合禁止剤の具体的な例としては、ヒドロキノン、ヒドロキノンのモノエステル化物、Ｎ−ニトロソジフェニルアミン、フェノチアジン、ｐ−ｔ−ブチルカテコール、Ｎ−フェニルナフチルアミン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−メチルフェノール、クロラニール、ピロガロールなどが挙げられる。重合禁止剤を添加する場合、その添加量は、感光性ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
【００９４】
可塑剤の具体的な例としては、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレート、ポリエチレングリコール、グリセリンなどがあげられる。
【００９５】
酸化防止剤は、保存時におけるアクリル系共重合体の酸化を防ぐために添加される。酸化防止剤の具体的な例として２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ブチル化ヒドロキシアニソール、２，６−ジ−ｔ−４−エチルフェノール、２，２−メチレン−ビス−（４−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、２，２−メチレン−ビス−（４−エチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、４，４−ビス−（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、１，１，３−トリス−（２−メチル−４−ヒドロキシ−ｔ−ブチルフェニル）ブタン、ビス［３，３−ビス−（４−ヒドロキシ−３−ｔ−ブチルフェニル）ブチリックアシッド］グリコールエステル、ジラウリルチオジプロピオナート、トリフェニルホスファイトなどが挙げられる。酸化防止剤を添加する場合、その添加量は通常、添加量は、ペースト中に、通常、０．００１〜１重量％である。
【００９６】
本発明の感光性ペーストには、溶液の粘度を調整したい場合、有機溶媒を加えてもよい。このとき使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００９７】
有機成分の屈折率とは、露光により感光性成分を感光させる時点におけるペースト中の有機成分の屈折率のことである。つまり、ペーストを塗布し、乾燥工程後に露光を行う場合は、乾燥工程後のペースト中の有機成分の屈折率のことである。例えば、ペーストをガラス基板上に塗布した後、５０〜１００℃で１〜３０分乾燥して屈折率を測定する方法などがある。
【００９８】
本発明における屈折率の測定は、一般的に行われるエリプソメトリー法やＶブロック法が好ましく、測定は露光する光の波長で行うことが効果を確認する上で正確である。特に、３５０〜６５０ｎｍの範囲中の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。
【００９９】
また、有機成分が光照射によって重合した後の屈折率を測定するためには、ペースト中に対して光照射する場合と同様の光を有機成分のみに照射することによって測定できる。
【０１００】
感光性ペーストは、通常、無機微粒子、紫外線吸光剤、感光性ポリマー、感光性モノマー、光重合開始剤、ガラスフリットおよび溶媒等の各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散し作製する。
【０１０１】
ペーストの粘度は無機微粒子、増粘剤、有機溶媒、可塑剤および沈殿防止剤などの添加割合によって適宜調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えばガラス基板への塗布をスピンコート法で行う場合は、２００〜５０００ｃｐｓが好ましい。スクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには、５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。
【０１０２】
次に、感光性ペーストを用いてパターン加工を行う一例について説明するが、本発明はこれに限定されない。
【０１０３】
ガラス基板やセラミックスの基板、もしくは、ポリマー製フィルムの上に、感光性ペーストを全面塗布、もしくは部分的に塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、ブレードコーター等の方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーンのメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【０１０４】
ここでペーストを基板上に塗布する場合、基板と塗布膜との密着性を高めるために基板の表面処理を行うことができる。表面処理液としてはシランカップリング剤、例えばビニルトリクロロシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、トリス−（２−メトキシエトキシ）ビニルシラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、γ−（メタクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、γ（２−アミノエチル）アミノプロピルトリメトキシシラン、γ−クロロプロピルトリメトキシシラン、γ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、γ−アミノプロピルトリエトキシシランなどあるいは有機金属例えば有機チタン、有機アルミニウム、有機ジルコニウムなどである。シランカップリング剤あるいは有機金属を有機溶媒、例えばエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、メチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、ブチルアルコールなどで０．１〜５％の濃度に希釈したものを用いる。次にこの表面処理液をスピナーなどで基板上に均一に塗布した後に８０〜１４０℃で１０〜６０分間乾燥することによって表面処理ができる。
【０１０５】
また、フィルム上に塗布した場合、フィルム上で乾燥を行った後、次の露光工程を行う場合と、ガラスやセラミックの基板上に張り付けた後、露光工程を行う方法がある。
【０１０６】
塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィーで行われるように、フォトマスクを用いてマスク露光する方法が一般的である。用いるマスクは、感光性有機成分の種類によって、ネガ型もしくはポジ型のどちらかを選定する。また、フォトマスクを用いずに、赤色や青色のレーザー光などで直接描画する方法を用いても良い。
【０１０７】
露光装置としては、ステッパー露光機、プロキシミティ露光機等を用いることができる。また、大面積の露光を行う場合は、ガラス基板などの基板上に感光性ペーストを塗布した後に、搬送しながら露光を行うことによって、小さな露光面積の露光機で、大きな面積を露光することができる。
【０１０８】
この際使用される活性光源は、たとえば、可視光線、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線、レーザー光などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としてはたとえば低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらのなかでも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ／ｃｍ2 の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒〜３０分間露光を行なう。
【０１０９】
塗布した感光性ペースト表面に酸素遮蔽膜を設けることによって、パターン形状を向上することができる。酸素遮蔽膜の一例としては、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）やセルロースなどの膜、あるいは、ポリエステルなどのフィルムが上げられる。
【０１１０】
ＰＶＡ膜を形成するには濃度が０．５〜５重量％のＰＶＡ水溶液をスピナーなどの方法で基板上に均一に塗布した後に７０〜９０℃で１０〜６０分間乾燥することによって水分を蒸発させて行う。また水溶液中にアルコールを少量添加すると絶縁膜との塗れ性が良くなり蒸発が容易になるので好ましい。さらに好ましいＰＶＡの溶液濃度は、１〜３重量％である。この範囲にあると感度が一層向上する。ＰＶＡ塗布によって感度が向上するのは次の理由が推定される。すなわち感光性成分が光反応する際に、空気中の酸素があると光硬化の感度を妨害すると考えられるが、ＰＶＡの膜があると余分な酸素を遮断できるので露光時に感度が向上すると考えられる。ポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等の透明なフィルムを用いる場合は、塗布後の感光性ペーストの上に、これらのフィルムを張り付けて用いる方法もある。
【０１１１】
露光後、感光部分と非感光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行なうが、この場合、浸漬法、シャワー法、スプレー法、ブラシ法で行なう。用いる現像液は、感光性ペースト中の有機成分が溶解可能である有機溶媒を使用できる。また該有機溶媒にその溶解力が失われない範囲で水を添加してもよい。感光性ペースト中にカルボキシル基等の酸性基を持つ化合物が存在する場合、アルカリ水溶液で現像できる。アルカリ水溶液として水酸化ナトリウムや炭酸ナトリウム、水酸化カルシウム水溶液などのような金属アルカリ水溶液を使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去しやすいので好ましい。
【０１１２】
有機アルカリとしては、アミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は通常０．０１〜１０重量％、より好ましくは０．１〜５重量％である。アルカリ濃度が低すぎると可溶部が除去されず、アルカリ濃度が高すぎると、パターン部を剥離させ、また非可溶部を腐食させるおそれがあり好ましくない。また、現像時の現像温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【０１１３】
次に焼成炉にて焼成を行う。焼成雰囲気や、温度はペーストや基板の種類によって異なるが、空気中、窒素、水素等の雰囲気中で焼成する。焼成炉としては、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続型焼成炉を用いることができる。
【０１１４】
ガラス基板上にパターン加工する場合は、昇温速度２００〜４００℃／時間で５４０〜６１０℃の温度で１０〜６０分間保持して焼成を行う。なお焼成温度は用いるガラス粉末によって決まるが、パターン形成後の形が崩れず、かつガラス粉末の形状が残らない適正な温度で焼成するのが好ましい。適正温度より低いと、気孔率、隔壁上部の凹凸が大きくなり、放電寿命が短くなったり、誤放電を起こしやすくなったりするため好ましくない。また適正温度より高いとパターン形成時の形状が崩れ、隔壁上部が丸くなったり、極端に高さが低くなり、所望の高さが得られないため、好ましくない。
【０１１５】
また、以上の塗布や露光、現像、焼成の各工程中に、乾燥、予備反応の目的で、５０〜３００℃加熱工程を導入しても良い。
【０１１６】
【実施例】
以下に、本発明を実施例を用いて、具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定はされない。なお、実施例、比較例中の濃度（％）は特にことわらない限り重量％である。
【０１１７】
本発明の実施例に使用した材料を以下に示す。
（隔壁用ガラス粉末）
ガラス(1) ；
組成    ：Ｌｉ2Ｏ  ９％、ＳｉＯ2 ２０％、Ｂ2Ｏ3  ３１％、ＢａＯ ４％、Ａｌ2Ｏ3  ２４％、ＺｎＯ  ２％、ＭｇＯ  ６％、ＣａＯ  ４％
熱物性  ：ガラス転移点４７４℃、軟化点５１５℃、熱膨張係数８３×１０-7／Ｋ
粒径    ：Ｄ１０  ０．９μｍ、Ｄ５０  ２．５μｍ、Ｄ９０  ６．５μｍ、最大粒径  １８．５μｍ
比表面積：２．５６ｍ2／ｇ
屈折率  ：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）
比重    ：２．５５
ガラス(2) ；
組成、熱物性、屈折率、比重はガラス(1) と同じ
粒径    ：Ｄ１０  ０．７μｍ、Ｄ５０  １．６μｍ、Ｄ９０  ２．４μｍ、最大粒径  ５．２μｍ
比表面積：５．８ｍ2／ｇ
ガラス(3) ；
組成    ：Ｌｉ2Ｏ  ７％、ＳｉＯ2 ２２％、Ｂ2Ｏ3  ３２％、ＢａＯ ４％、Ａｌ2Ｏ3  ２２％、ＺｎＯ  ２％、ＭｇＯ  ６％、ＣａＯ  ４％
熱物性  ：ガラス転移点４９１℃、軟化点５２８℃、熱膨張係数７４×１０-7／Ｋ
粒径    ：Ｄ１０  ０．９μｍ、Ｄ５０  ２．６μｍ、Ｄ９０  ７．５μｍ、最大粒径  ２２．０μｍ
比表面積：１．９２ｍ2／ｇ
屈折率  ：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）
比重    ：２．５４
ガラス(4) ；
組成、熱物性はガラス(3) と同じ
粒径    ：Ｄ１０  ０．８μｍ、Ｄ５０  １．５μｍ、Ｄ９０  ２．５μｍ、最大粒径  ４．６μｍ
比表面積：５．９ｍ2／ｇ
屈折率  ：１．５９（ｇ線４３６ｎｍ）
比重    ：２．５４
ガラス(5) ；
組成    ：Ｌｉ2Ｏ  ４％、Ｋ2Ｏ ５％、ＳｉＯ2 １５％、Ｂ2Ｏ3  ３３％、ＢａＯ ４％、Ａｌ2Ｏ3  ２０％、ＺｎＯ  １３％、ＭｇＯ  １％、ＣａＯ５％
熱物性  ：ガラス転移点４７０℃、軟化点５１１℃、熱膨張係数７６×１０-7／Ｋ
粒径    ：Ｄ１０  ０．９μｍ、Ｄ５０  ２．７μｍ、Ｄ９０  ６．０μｍ、最大粒径  １３．１μｍ
比表面積：２．２９ｍ2／ｇ
屈折率  ：１．５８（ｇ線４３６ｎｍ）
比重    ：２．６７
ガラス(6) ；
組成    ：Ｂｉ2Ｏ3  ２７％、ＳｉＯ2 １４％、Ｂ2Ｏ3  １８％、Ｎａ2Ｏ  ２％、ＢａＯ  １４％、Ａｌ2Ｏ3  ４％、ＺｎＯ  ２１％
熱物性  ：ガラス転移点４８３℃、軟化点５２３℃、熱膨張係数７９×１０-7／Ｋ
粒径    ：Ｄ１０  １．４μｍ、Ｄ５０  ３．４μｍ、Ｄ９０  ７．４μｍ、最大粒径  ２２．０μｍ
比表面積：３．２６ｍ2／ｇ
屈折率  ：１．７３（ｇ線４３６ｎｍ）
比重    ：４．１３
（ポリマー）
ポリマー(1)   ：４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタアクリレート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量４３０００、酸価９５の感光性ポリマーの４０％γ−ブチロラクトン溶液
ポリマー(2)   ：構造はポリマー(1) と同一で重量平均分子量が１８０００、酸価が１００の感光性ポリマーの４０％γ−ブチロラクトン溶液
ポリマー(3)   ：４０％のメタアクリル酸（ＭＡＡ）、３０％のメチルメタアクリレート（ＭＭＡ）および３０％のスチレン（Ｓｔ）からなる共重合体のカルボキシル基に対して０．８当量のグリシジルメタアクリレート（ＧＭＡ）を付加反応させた重量平均分子量３００００、酸価５０の感光性ポリマーの４０％γ−ブチロラクトン溶液
（モノマー）
0003956889.tif 000002
（光重合開始剤）
ＩＣ−３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイギー製品）；２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
（増感剤）
ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントン
（有機染料）
スダン  ；アゾ系有機染料、化学式Ｃ24Ｈ20Ｎ4Ｏ、分子量３８０．４５
（実施例１）
表１に示すような組成からなる隔壁用感光性ペーストを作製した。ガラス粉末（ガラス(1) ）７０重量部に対して、有機染料（スダン）０．０８重量部の割合で秤量した。スダンをアセトンに溶解させ、分散剤を加えてホモジナイザで均質に攪拌した。この溶液中にガラス粉末を添加して均質に分散・混合後、ロータリーエバポレータを用いて、１００℃の温度で乾燥し、アセトンを蒸発させた。こうして有機染料の膜でガラス粉末の表面が均質にコーティングされた粉末を作製した。
【０１１８】
ポリマー、モノマー、光重合開始剤、増感剤を表１に示す割合で混合し、均質に溶解させた。その後、この溶液を４００メッシュのフィルターを用いて濾過し、有機ビヒクルを作製した。
【０１１９】
上記有機ビヒクルと上記ガラス粉末を表１に示す組成になるように添加し、３本ローラで混合・分散して、隔壁形成用の感光性ペーストを調整した。有機成分の屈折率は１．５９、ガラス粉末のそれは１．５９であった。
【０１２０】
電極、誘電体層をあらかじめ形成したＡ４サイズの旭ガラス社製ＰＤ−２００基板上に、前記隔壁用感光性ペーストを３２５メッシュのスクリーンを用いてスクリーン印刷により、均一に塗布した。塗布膜にピンホールなどの発生を回避するために塗布・乾燥を数回以上繰り返し行い、膜厚みの調整を行った。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。その後、８０℃で１時間保持して乾燥した。乾燥後の厚みは１７０μｍであった。続いて、１４０μｍピッチのネガ型のクロムマスクを通して、上面から５０ｍＪ／ｃｍ2出力の超高圧水銀灯で紫外線照射した。露光量は０．７Ｊ／ｃｍ2であった。
【０１２１】
次に、３５℃に保持したモノエタノールアミンの０．２重量％の水溶液をシャワーで１７０秒間かけることにより現像し、その後シャワースプレーを用いて水洗浄した。これにより、光硬化していない部分が除去され、ガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンが形成された。このようにして隔壁パターンが形成されたガラス基板を、空気中で５６０℃で１５分間焼成し、隔壁を形成した。
【０１２２】
隔壁を形成したガラス基板の隔壁内の所定の溝に感光性ペースト法で蛍光体層を形成した。すなわち、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の３種類の感光性蛍光体ペーストを作製し、１種ずつ印刷、乾燥、フォトマスクによる露光、現像を繰り返すことにより、所定の箇所に蛍光体パターンを形成した。この操作を各色について行った後、５００℃で２０分間一括焼成して蛍光体層を形成した。これにより、ＰＤＰ用背面板が得られた。
【０１２３】
形成した隔壁の断面形状を、走査型電子顕微鏡（ＨＩＴＡＣＨＩ製  Ｓ−２４００）で観察した。図１、図３、図４、図５のような形状の場合は上面幅、半値幅、下面幅を、図２および図６のように上面部、下面部の測定の困難な場合は上面幅、下面幅の代わりにＬ９０、Ｌ１０を測定した。また、図２のように底面にアール形状を持つ場合は曲率半径も測定した。各値は、３サンプルの平均値により算出した。本実施例の形状は図３であった。
【０１２４】
隔壁および蛍光体層の欠陥については、(1)焼成前の隔壁の倒れ、剥がれの有無、(2)焼成後の隔壁の剥がれ、断線の有無、(3)蛍光体層の塗布均一性を評価した。それぞれ欠陥のない場合は○とした。さらに、各隔壁の開口率を１−（半値幅／ピッチ）と定義し、算出した。結果を表６に示す。焼成前後ともに剥がれ、倒れ、断線がなく、また蛍光体の塗布均一性も良好である優れたものであった。
【０１２５】
次に、電極、誘電体、保護層を前もって配した前面板と前記背面板にシール剤となる低融点ガラスペーストを設け、所定の配置になるよう位置あわせして対向配置し、４５０℃、３０分間処理して封止した。その後、表示領域内部を排気し、Ｈｅ９９％、Ｘｅ１％の混合ガスの封入を行ってプラズマディスプレイパネルを完成させ、発光特性を調べた。輝度ムラ、輝度に問題のない場合は○とした。結果を表６に示す。輝度ムラが少なく、高輝度で優れた特性を有していた。
実施例２
隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、露光量を１Ｊ／ｃｍ2に変えた以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。
実施例３
隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、露光量を１Ｊ／ｃｍ2に変えた以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。
実施例４
隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、露光量を０．３Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１５０秒に変えた以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。
実施例５
隔壁用ペーストの組成を表１に示すように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、露光量を１．５Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１５０秒にした以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。
実施例６
隔壁用ペーストの組成を表１のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、露光量を１．２Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１５０秒にした以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表６に示す。
実施例７
隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１９０μｍにし、現像時間を２００秒にし、焼成温度を５８０℃にした以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。
実施例８
隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁パターンの焼成温度を５８０℃にした以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。
実施例９
隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、現像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は、実施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。
実施例１０
隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１４０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を１．２Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１５０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。
実施例１１
隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．５Ｊ／ｃｍ2、現像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。
実施例１２
隔壁用ペーストの組成を表２のように変え、隔壁用フォトマスクのピッチを１００μｍ、露光波長をｇ線（４３６ｎｍ）のみで露光量を０．８Ｊ／ｃｍ2、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表７に示す。
実施例１３
隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを２００μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．７Ｊ／ｃｍ2、現像時間を２００秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。
実施例１４
隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを２３０μｍ、露光量を１．２Ｊ／ｃｍ2、現像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。
実施例１５
隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを２１０μｍにし、隔壁用パターンの露光量を０．９Ｊ／ｃｍ2、現像時間を２００秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。
実施例１６
隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用パターンの露光量を０．７Ｊ／ｃｍ2、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。
実施例１７
隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを２３０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを２３０μｍ、露光量を１．３Ｊ／ｃｍ2、現像時間を２３０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。
実施例１８
隔壁用ペーストの組成を表３のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１５０秒、焼成温度を５６０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表８に示す。
比較例１
隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１５０秒、焼成温度を５６０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。隔壁用ガラス粉末の粒度が小さかったため、隔壁底部まで露光せず、Ｌｔ／Ｌｈ＞１、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れ、剥がれが著しかった。
比較例２
隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１９０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．１Ｊ／ｃｍ2、現像時間を２００秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。この組成の隔壁用ペーストでは、Ｌ９０／Ｌｈ＞１、Ｌ１０／Ｌｈ＞２の隔壁しか得られず、隔壁の蛇行も大きく、輝度ムラが大きかった。
比較例３
隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１３０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．２Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１２０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。有機染料の添加量を少なくしたところ、Ｌｂ／Ｌｈ＞２となり、発光輝度が低くなった。
比較例４
隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１５０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、現像時間を１６０秒にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。隔壁用ペースト中のガラス粉末の含量が多かったため、隔壁底部まで露光せず、Ｌｔ／Ｌｈ＜０．６５、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れが起こり、輝度が低くなった。
比較例５
隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを７５μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ2、現像時間を５０秒にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。隔壁用ペースト中のガラス粉末の含量が少なかったため、Ｌ１０／Ｌｈ＞２となり、輝度が低くなった。
比較例６
隔壁用ペーストの組成を表４のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを９０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ2、現像時間を７０秒、焼成温度を５７０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表９に示す。隔壁用ペースト中のガラス粉末の屈折率が１．７３、有機成分の屈折率が１．５９であり、屈折率の整合が悪くて露光がうまく行かず、Ｌｔ／Ｌｈ＞１の隔壁しか得られず、隔壁の蛇行も大きく、輝度ムラが大きかった。
比較例７
隔壁用ペーストの組成を表５のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１００μｍにし、露光量を０．６Ｊ／ｃｍ2、現像時間を９０秒にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表１０に示す。隔壁用ガラス粉末の粒度が小さかったため、隔壁底部まで露光せず、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れ、剥がれが著しかった。
比較例８
隔壁用ペーストの組成を表５のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１００μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを１５０μｍ、露光量を３Ｊ／ｃｍ2、現像時間を１００秒、焼成温度を５７０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表１０に示す。有機染料の添加量を多くしたところ、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れが起こり、輝度が低くなった。
比較例９
隔壁用ペーストの組成を表５のように変え、隔壁用ペーストの塗布厚みを１８０μｍにし、隔壁用フォトマスクのピッチを２３０μｍ、現像時間を１９０秒、焼成温度を５８０℃にした以外は実施例１と同様にして検討を行った。結果を表１０に示す。光重合開始剤、増感剤の添加量を減らしたため、露光がうまく行かず、Ｌｔ／Ｌｈ＜０．６５、Ｌｂ／Ｌｈ＜１となり、隔壁の倒れが起こり、輝度ムラが大きかった。
【０１２６】
【表１】
0003956889.tif 000003
【０１２７】
【表２】
0003956889.tif 000004
【０１２８】
【表３】
0003956889.tif 000005
【０１２９】
【表４】
0003956889.tif 000006
【０１３０】
【表５】
0003956889.tif 000007
【０１３１】
【表６】
0003956889.tif 000008
【０１３２】
【表７】
0003956889.tif 000009
【０１３３】
【表８】
0003956889.tif 000010
【０１３４】
【表９】
0003956889.tif 000011
【０１３５】
【表１０】
0003956889.tif 000012
【０１３６】
【発明の効果】
特定形状を有する隔壁を用いることにより、強度、基板との密着性をあげ、隔壁の蛇行、倒れ、はがれ、断線の少ない高精細プラズマディスプレイが得られた。また、蛍光体の塗布均一性がよく、輝度ムラの少ない高精細プラズマディスプレイが得られた。さらには、発光特性の優れた高輝度、高精細のプラズマディスプレイが得られた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図である。
【図２】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図である。
【図３】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図である。
【図４】本発明の隔壁形状を示す簡単な隔壁断面図である。
【図５】本発明の比較例に挙げた隔壁形状の簡単な断面図である。
【図６】本発明の比較例に挙げた隔壁形状の簡単な断面図である。
【図７】プラズマディスプレイの簡単な構成図である。
【図１】
0003956889.tif 000013
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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