(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気抵抗効果を示すグラニュラー構造膜の磁性膜からなる磁気記録層を有する磁気記録媒体と、
前記磁気抵抗効果を示す磁性膜の電気抵抗を測定することにより、前記磁気記録層に書き込まれた信号を再生する磁気ヘッドとを具備することを特徴する磁気記録再生装置。
【請求項２】
請求項１記載の磁気記録装置において、前記磁気ヘッドは、少なくとも 2つの電気端子を有し、そのうち少なくとも 1つの電気端子から前記磁性膜に電流を注入させ、他の少なくとも 1つの電気端子から電流を流出させて、前記磁性膜の電気抵抗を測定するよう構成されていることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項３】
請求項１記載の磁気記録装置において、前記磁気ヘッドは、第１の金属層／絶縁層／第２の金属層の 3層積層構造を有し、前記第１の金属層および第２の金属層が書き込み磁極となるよう構成されていることを特徴とする磁気記録再生装置。
【請求項４】
請求項３に記載の磁気記録再生装置において、前記第1の金属層及び前記第２の金属層はそれぞれ磁性体からなり、これら磁性体間の電気抵抗を測定することにより、前記磁気記録層に記録された信号を再生することを特徴とする磁気記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録層に磁気抵抗効果を利用した磁気記録装置および磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の磁気記録装置においては、磁気記録媒体に書き込まれた信号の再生は主に、 (1)磁気記録媒体からの漏れ磁束を測定する、 (2)光磁気記録媒体にスポット光を照射して反射光のカー回転角や透過光のファラデー回転角等を測定する、 (3)光磁気記録媒体にスポット光を照射して光の反射率を測定する、等により行われてきた。しかしながら、情報処理の高度化や高速化が急速に進むにつれて、磁気記録装置に対してはより一層記録密度の向上を図ることが求められており、また実際に磁気記録密度は急速に向上しているが、将来的には磁気記録密度の向上要求に対して、上記した方法では対応ができなくなることが予想される。
【０００３】
まず、 (1)の磁気記録媒体からの漏れ磁束を測定する方法では、磁気記録密度の向上に伴って、漏れ磁束の量自体が極めて小さくなってくるため、測定が極めて難しくなる。また、磁束は収束させることが難しく、ある程度空間で広がってしまうため、極微小な記録領域のビット値を測定することは困難となる。
【０００４】
また、上記した (2)および (3)の光を用いた方法、すなわち磁気光学特性等を利用した光磁気記録方式では、光のスポット径自体が最小の記録ビット面積を決定するが、その光のスポット径は光の波長以下に小さくすることはできない。このため、最小の記録ビット面積はサブミクロン程度に留まり、記録密度のさらなる向上は困難とされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、磁気記録装置に対しては、より一層の記録密度の向上を図ることが求められているが、従来の磁気記録再生方式のうち、漏れ磁束を測定する方式では、磁気記録密度の向上に伴って漏れ磁束の量自体がより小さくなると共に、磁束は収束させることが難しいため、記録領域をより極微小化していくと再生が困難となることが予想される。また、磁気光学特性等を利用した光磁気記録方式では、最小の記録ビット面積が光のスポット径により決定され、サブミクロン程度に留まるため、記録密度のさらなる向上は困難とされている。
【０００６】
このようなことから、磁気記録装置においては、将来的な磁気記録密度の向上に対応し得る磁気記録再生方式の開発が課題とされている。
【０００７】
本発明は、このような課題に対処するためになされたもので、従来の漏れ磁束による磁気記録方式や磁気光学特性等を利用した光磁気記録方式に比べて、より一層の高記録密度の達成を可能とした磁気記録装置および磁気記録媒体を提供することを目的としている。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の磁気記録再生装置は、請求項１に記載したように、磁気抵抗効果を示すグラニュラー構造膜の磁性膜からなる磁気記録層を有する磁気記録媒体と、前記磁気抵抗効果を示す磁性膜の電気抵抗を測定することにより、前記磁気記録層に書き込まれた信号を再生する磁気ヘッドとを具備することを特徴としている。
【０００９】
本発明の磁気記録再生装置は、特に請求項２に記載したように、前記磁気ヘッドは少なくとも 2つの電気端子を有し、そのうち少なくとも 1つの電気端子から前記磁性膜に電流を注入させ、他の少なくとも 1つの電気端子から電流を流出させて、前記磁性膜の電気抵抗を測定するよう構成されていること、さらには請求項３に記載したように、前記磁気ヘッドは第１の金属層／絶縁層／第２の金属層の3層積層構造を有し、前記第１の金属層および第２の金属層が書き込み磁極となるよう構成されていることを特徴としている。
【００１１】
本発明においては、磁気抵抗効果を示す磁性膜からなる磁気記録層を有する磁気記録媒体を用いているため、記録信号の“０”と“１”に対応する磁気記録層の磁気抵抗効果に基く電気抵抗の変化で、磁気記録を行うことが可能となる。従って、この磁気記録層の電気抵抗の変化を、例えば 2端子もしくは 4端子構造の磁気ヘッドで直接測定することによって、磁気記録層に書き込まれた信号を再生することができる。
【００１２】
このような電気抵抗の直接測定に基く信号再生によれば、磁気へッドの端子間隔を極めて狭くしても、再生信号の大きさ自体はほとんど低下させることがないため、記録ビットの面積をより小さくすることができる。このため、例えば従来の漏れ磁束の測定による再生に比べて、より微小な記録ビットの再生を感度よく行うことができ、高記録密度化が可能となる。また、従来の光を用いた方式に比べても、磁気ヘッドの端子間隔を狭くすることによって、記録ビットの面積を小さくすることができることから、高記録密度化を達成することが可能である。
【００１３】
また、磁気ヘッドに第１の金属層／絶縁層／第２の金属層の 3層積層構造を有する 2端子式触針へッドを適用することによって、第１の金属層と第２の金属層との間隔、すなわち中間の絶縁層の幅で端子間隔を正確に規定することができる。このように、微小な端子間隔を精度よく規定することを可能にすることによって、記録ビット面積の微小化を容易に達成することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を実施するための形態について説明する。
【００１５】
図１は、本発明の磁気記録装置および磁気記録媒体の一実施形態の概略構成を示す図である。図１に示す磁気記録装置は、磁気記録媒体１０と再生用の磁気ヘッド２０とから主として構成されている。
【００１６】
磁気記録媒体１０は、例えば表面に絶縁層を有する金属支持体や樹脂製支持体等の絶縁性支持基体１１上に設けられた、磁気抵抗効果を示す磁性膜（以下、磁気抵抗効果膜と記す）からなる磁気記録層１２を有している。この磁気抵抗効果膜からなる磁気記録層１２の表面は、再生用磁気ヘッド２０との接触面となるため、導電性を有する潤滑剤を塗布したり、あるいは潤滑性を有する導電性保護層を設けることが好ましい。
【００１７】
上記した磁気抵抗効果膜からなる磁気記録層１２には、通常の磁気記録と同様に、信号磁界を磁気ヘッドから印加し、磁気記録層１２の磁化を反転させることにより磁気記録が行われるが、具体的な磁気記録は磁気記録層１２の磁気抵抗効果に基く抵抗値変化によりなされており、記録信号の“０”と“１”に対応して磁気記録層１２の電気抵抗が磁気抵抗効果により変化している。すなわち、記録信号の“０”と“１”に対応して磁気記録層１２に磁界が記録されているが、この記録磁界は磁気記録層１２、言い換えると磁気抵抗効果膜が有する磁気抵抗効果によって、電気抵抗の変化として記録されている。
【００１８】
なお、この際の記録用磁気ヘッドについては、通常の磁気記録と同様な記録ヘッドを用いることも可能であるが、後に詳述するように、再生用磁気ヘッド２０の構造や構成材料等を適宜に選択することによって、この再生用磁気ヘッド２０を記録ヘッド兼用の磁気ヘッドとして用いることも可能である。
【００１９】
上述した磁気記録層１２として機能する磁気抵抗効果膜は、例えば3%以上の磁気抵抗変化率を有する磁性膜を用いることが好ましい。磁気抵抗効果膜の磁気抵抗変化率が3%未満であると、記録信号を磁気ヘッド２０で再生する際に、十分な再生出力を得ることが困難となるおそれがある。言い換えると、3%以上の磁気抵抗変化率を有する磁性膜は、記録信号の“０”に対応する記録ビットと“１”に対応する記録ビットとの電気抵抗の差を大きくすることができ、より良好な再生出力を得ることが可能となる。
【００２０】
このような磁気抵抗変化率を有する磁気抵抗効果膜としては、電流の方向と磁性膜の磁化モーメントの成す角度に依存して電気抵抗が変化する、Ｎｉ80Ｆｅ20等の強磁性体からなる異方性磁気抵抗効果膜や、磁性層／非磁性層／磁性層のサンドイッチ積層構造の磁性多層膜を有し、これら磁性層間の磁化の成す角度に依存して電気抵抗が変化するスピンバルブ膜、あるいは磁性層と非磁性層とを交互に多重積層した磁性多層膜を有する人工格子膜等が例示される。これらのうち、巨大磁気抵抗効果を示すスピンバルブ膜や人工格子膜を磁気記録層１２として用いることが望ましい。なお、後述する他の実施形態に示すように、磁気抵抗効果膜としてグラニュラー構造膜を使用することも可能である。
【００２１】
図２は、上記した各種の磁気抵抗効果膜のうち、巨大磁気抵抗効果を示すスピンバルブ膜１３を、磁気記録層１２に用いた磁気記録媒体の一構造例を示している。図２に示す磁気記録層１２は、第１の磁性層１４／非磁性層１５／第２の磁性層１６のサンドイッチ構造を有するスピンバルブ膜１３によって構成されている。スピンバルブ膜１３のうち、表面側の第１の磁性層１４は信号磁界の書込みにより磁化方向が反転し、一方絶縁性支持基体１１側の第２の磁性層１６は磁化方向が固着されており、信号磁界の書込みによっても磁化方向は変化しない。従って、第１の磁性層１４に記録された信号磁界の方向と第２の磁性層１６の磁化方向とに応じて、磁気抵抗効果により電気抵抗が変化している。このような電気抵抗の変化を、後に詳述するように再生用磁気ヘッド２０で測定することによって、信号の再生が行われる。
【００２２】
上記したスピンバルブ膜１３の第１および第２の磁性層１４、１６には、上述したような磁気抵抗効果の発現性（磁気抵抗効果特性）と磁気記録材料に必要な保磁力とを合せ持つ材料が使用される。このような磁性材料としては、例えば  ＣｏＰｔ、ＣｏＰｄ、ＣｏＮｉ等のＣｏ系硬磁性材料、ＣｕＮｉＦｅ等のＦｅ系硬磁性材料等が挙げられる。また、第２の磁性層１６には反強磁性材料等を適用することも可能である。これら第１および第２の磁性層１４、１６の膜厚は、例えば 1〜20nm程度とすることが好ましい。
【００２３】
ただし、第１の磁性層１４は信号磁界の書込みにより磁化方向を反転させる磁性層であるため、保磁力は 5×104 〜20×104 A/m 程度とすることが好ましく、一方第２の磁性層１６は信号磁界の書込み時に磁化方向が変化しないことが必要であるため、保磁力は10×104 A/m 以上であることが好ましい。第１の磁性層１４の保磁力が 5×104 A/m 未満であると磁気記録の保持性が損われ、一方20×104 A/m を超えると磁気記録が困難となるおそれがある。また、第２の磁性層１６の保磁力が10×104 A/m 未満であると、信号磁界の書込み時に磁化方向が変化して、磁気記録の再現性が低下するおそれがある。
【００２４】
中間の非磁性層１５には、例えばＣｕ、Ａｕ、Ａｇ、これらの合金等の非磁性金属材料が用いられる。このような非磁性金属材料からなる非磁性層１５の膜厚は、例えば 1〜10nm程度とすることが好ましい。
【００２５】
また、磁気記録層１２としては、図３に示すように、第１および第２の磁性層１４、１６を、それぞれ磁気抵抗効果特性に優れる磁性層（以下、磁気抵抗効果層と記す）１４ａ、１６ａと、磁気記録材料に必要な保磁力に優れる磁性層（以下、高保磁力層と記す）１４ｂ、１６ｂとの積層膜で構成したスピンバルブ膜１７を用いることもできる。
【００２６】
ここで、磁気抵抗効果層１４ａ、１６ａとしては、磁気抵抗効果特性に優れるＣｏ90Ｆｅ10のようなＣｏ系磁性合金、Ｆｅ系磁性合金等が好ましく用いられる。ただし、このような磁性材料からなる磁気抵抗効果層１４ａ、１６ａは、記録材料としての特性をもたないため、これら両層に対してそれぞれＣｏ系硬磁性材料、Ｆｅ系硬磁性材料等からなる高保磁力層１４ｂ、１６ｂを隣接配置し、これらを交換結合させて磁気的に一体とすることによって、より良好な磁気抵抗効果特性と記録保持特性とを両立させることができる。
【００２７】
上記したスピンバルブ膜１７からなる磁気記録層１２においては、信号磁界の書込みにより磁気抵抗効果層１４ａと高保磁力層１４ｂとの積層膜からなる第１の磁性層１４の磁化が共に反転し、また磁気抵抗効果層１６ａと高保磁力層１６ｂとの積層膜からなる第２の磁性層１６の磁化方向は共に固着されている。上記した磁気抵抗効果層１４ａ、１６ａの膜厚は、例えば 1〜10nm程度とすることが好ましく、また高保磁力層１４ｂ、１６ｂの膜厚は、例えば 5〜 100nm程度とすることが好ましい。
【００２８】
上述したスピンバルブ膜１３、１７等からなる磁気記録層１２を有する磁気記録媒体１０は、巨大磁気抵抗効果により大きな電気抵抗の変化が得られるだけでなく、図４や図５に示すように、 1つの磁性層１４への磁気記録で磁気抵抗効果に基く電気抵抗の変化を得ることができるため、磁気抵抗効果を利用した記録・再生を容易に実施することが可能であり、本発明に好適であるということができる。
【００２９】
上述したような磁気抵抗効果膜からなる磁気記録層１２に書き込まれた信号は、図１（ｂ）に示したように、磁気記録層１２と再生用磁気ヘッド２０とを相対的に移動させ、具体的には例えば再生用磁気ヘッド２０の相対的な移動方向が矢印Ｘ方向となるように磁気記録媒体１０を移動させ、再生用磁気ヘッド２０で磁気記録層１２の電気抵抗の変化を直接測定することにより再生される。磁気記録層１２と再生用磁気ヘッド２０との相対的な移動方向は、図１（ｃ）に示す方向であってもよい。
【００３０】
このように、再生用磁気ヘッド２０には、磁気記録層１２の電気抵抗の変化を直接測定することが可能な、 2端子または 4端子の触針式ヘッドが用いられる。ヘッド構造は 4端子法でも 2端子法でもよいが、 2端子法の方が構造が簡単となるためにより望ましい。
【００３１】
この実施形態の再生用磁気ヘッド２０は 2端子構造の触針式ヘッドであり、第１の金属層２１／絶縁層２２／第２の金属層２３の 3層積層構造を有している。すなわち、再生用磁気ヘッド２０は、例えばＡｌ2 Ｏ3 等の非磁性絶縁層２２を介して配置された、ＮｉＦｅ合金のような強磁性金属材料からなる 2つの金属端子２１、２３を有する触針式ヘッドである。この再生用磁気ヘッド２０は、第１の金属端子２１および第２の金属端子２３が磁気記録媒体１０と接触しており、例えば第１の金属端子２１から磁気記録層１２を介して第２の金属端子２３に電流を流す 2端子法によって、磁気記録層１２の抵抗値を直接測定する構成とされている。
【００３２】
なお、上記したように 2つの金属端子２１、２３を強磁性金属材料で構成すると共に、その上部に記録用コイルを巻回することによって、磁気ヘッド２０を記録ヘッド兼用の再生ヘッドとして使用することができる。すなわち、 2つの金属端子２１、２３を書き込み時の磁極として利用することができる。
【００３３】
そして、前述したように、磁気記録層１２は記録信号の“０”と“１”に対応して電気抵抗が磁気抵抗効果により変化しているため、このような磁気記録層１２の抵抗値の変化を再生用磁気ヘッド２０で直接測定することによって、磁気記録層１２に記録された信号を再生することができる。
【００３４】
この信号再生について、図２に示したスピンバルブ膜１３を磁気記録層１２に用いた磁気記録媒体１０を例として、より詳しく説明すると、図４（ａ）に示すように、第１の磁性層１４の磁化方向が第２の磁性層１６の磁化方向と同一の記録領域では、磁気抵抗効果（巨大磁気抵抗効果）により抵抗値が低下している。それに対して、図４（ｂ）に示すように、第１の磁性層１４の磁化方向が第２の磁性層１６の磁化方向と反平行の記録領域では、磁気抵抗効果（巨大磁気抵抗効果）により抵抗値が増加している。この磁気記録層１２の電気抵抗の差に基いて磁気記録層１２に書き込まれた信号の再生を行うことができる。
【００３５】
また、図３に示したスピンバルブ膜１７を磁気記録層１２に用いた磁気記録媒体１０についても同様であり、図５（ａ）に示すように、磁気抵抗効果層１４ａと高保磁力層１４ｂとからなる第１の磁性層１４の磁化方向と、磁気抵抗効果層１６ａと高保磁力層１６ｂとからなる第２の磁性層１６の磁化方向とが同一の記録領域では、磁気抵抗効果（巨大磁気抵抗効果）により抵抗値が低下している。それに対して、図５（ｂ）に示すように、第１の磁性層１４の磁化方向と第２の磁性層１６の磁化方向とが反平行の記録領域では、磁気抵抗効果（巨大磁気抵抗効果）により抵抗値が増加している。この磁気記録層１２の電気抵抗の差に基いて、磁気記録層１２に書き込まれた信号の再生を行うことができる。
【００３６】
上述したように、磁気抵抗効果膜からなる磁気記録層１２を有する磁気記録媒体を用いることによって、磁気記録層１２への磁気記録を磁気抵抗効果に基く電気抵抗の変化により行うことが可能となる。そして、この磁気記録層１２の電気抵抗の変化を、例えば 2端子構造の再生用磁気ヘッド２０で直接測定することによって、磁気記録層１２に書き込まれた信号を再生することができる。
【００３７】
このような磁気記録層１２の電気抵抗の変化を直接測定する再生方式においては、再生用磁気へッド２０の 2つの金属端子２１、２３間隔を極めて狭くしても再生信号の大きさ自体はほとんど低下しないため、記録領域（ビット）の面積をより小さくすることができる。このため、例えば従来の漏れ磁束の測定による再生に比べて、より微小な記録ビットの再生を感度よく行うことができ、高記録密度化が可能となる。また、従来の光を用いた方式に比べても、磁気ヘッド２０の 2つの金属端子２１、２３間隔を狭くすることによって、記録ビットの面積を小さくすることができることから、高記録密度化を達成することが可能である。
【００３８】
特に、上述した実施形態の再生用磁気ヘッド２０のように、第１の金属端子２１／絶縁層２２／第２の金属端子２３の 3層積層構造を有する 2端子式触針へッドを適用することにより、第１の金属端子２１と第２の金属端子２３との間隔、すなわち中間の絶縁層２２の幅で端子間隔を正確に規定することが可能となる。このように、微小な端子間隔を精度よく規定することによって、記録ビット面積の微小化をより容易に達成することが可能となる。また、第１および第２の金属端子２１、２３を強磁性金属材料で構成すると共に、その上部に記録コイルを巻回することで、再生用磁気ヘッド２０を記録ヘッド兼用の磁気ヘッドとして使用することができるため、装置の簡易化および小形化を図ることができると共に、オフトラック特性を高めることが可能となる。
【００３９】
上述した図２に示したスピンバルブ膜１３を磁気記録層１２に用いた磁気記録媒体１０を有する磁気記録装置の具体例として、Ｃｕ非磁性層１５（膜厚:3nm）を介して保磁力が約80kA/mのＣｏＰｔ合金からなる第１の磁性層（膜厚: 10nm）１４と保磁力が約 160kA/mのＣｏＰｔ合金からなる第２の磁性層（膜厚: 10nm）１６とを積層したスピンバルブ膜１３を、ガラス製の絶縁性支持基体１１上に配置した磁気記録媒体１０を作製し、上述した構成の磁気ヘッド２０を用いて、信号磁界の記録と再生を行ったところ、良好な再生特性が得られた。なお、第１の磁性層１４としてのＣｏＰｔ合金と第２の磁性層１６としてのＣｏＰｔ合金は、組成により保持力調整を行った。
【００４０】
また、図３に示したスピンバルブ膜１７を磁気記録層１２に用いた磁気記録媒体１０を有する磁気記録装置の具体例として、膜厚10nmのＣｏＰｔ合金層（保磁力：約80kA/m）１４ｂ／膜厚 3nmのＣｏ90Ｆｅ10合金層１４ａ／膜厚 3nmのＣｕ非磁性層１５／膜厚 3nmのＣｏ90Ｆｅ10合金層１６ａ／膜厚10nmのＣｏＰｔ合金層（保磁力：約 160kA/m）１６ｂ構造のスピンバルブ膜１７を、ガラス製の絶縁性支持基体１１上に配置した磁気記録媒体１０を作製した。この具体例の磁気記録媒体２０は、スピンバルブ膜１７の磁気抵抗変化率を上述した第１の具体例のスピンバルブ膜１３の約 2倍とすることができた。この第２の具体例の磁気記録媒体２０の信号磁界の記録・再生を、上述した構成の磁気ヘッド２０を用いて行ったところ、第１の具体例に比べて再生出力を約 2倍とすることができた。
【００４１】
次に、本発明の磁気記録装置および磁気記録媒体の他の実施形態について、図６を参照して説明する。
【００４２】
この第２の実施形態における磁気記録媒体３０は、前述した実施形態と同様な構成の絶縁性支持基体１１上に、磁気記録層として機能する磁気抵抗効果を示す磁性膜（磁気抵抗効果膜）として、グラニュラー構造膜３１を有している。なお再生用磁気ヘッド２０の構成は、前述した実施形態と同様である。
【００４３】
磁気記録層としてのグラニュラー構造膜３１は、磁性領域と非磁性領域とに相分離した膜であり、磁性領域としては例えばＣｏ、Ｎｉ、Ｆｅ等を主成分とする磁性微粒子が用いられ、非磁性領域としてはＡｌ2 Ｏ3 等の非磁性絶縁材料、あるいはＣｕ、Ａｕ、Ａｇおよびその合金等の非磁性金属材料が用いられる。
【００４４】
例えば、非磁性領域にＡｌ2 Ｏ3 等の非磁性絶縁材料を用いたグラニュラー構造膜では、電気伝導は各磁性微粒子間のトンネリングによるホッピング伝導により起こっているが、そのトンネリング抵抗は各磁性微粒子の磁化の成す角によって変化する。
【００４５】
ここで、図６（ａ）に示すように、信号磁界が書き込まれている 1ビットの記録領域内に再生用磁気ヘッド２０の両端子２１、２３が位置している場合を考えると、この位置では全ての磁性微粒子の磁化は揃っている。従って、磁気抵抗効果に基くトンネリング抵抗は小さく、測定される抵抗値は小さい。一方、図６（ｂ）に示すように、信号磁界が書き込まれている 2つの記録ビットの遷移領域に再生用磁気ヘッド２０が位置する場合には、磁化の方向が変化しているため、測定される抵抗値は増大する。
【００４６】
このように、グラニュラー構造膜３１を磁気抵抗効果膜として用いた磁気記録媒体３０によっても、磁気遷移領域のセンシングにより磁気記録層に書き込まれた信号を再生することができる。また、記録ビットの面積縮小は、前述した実施形態と同様に実施することができるため、磁気記録装置の高記録密度化を達成することが可能となる。
【００４７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の磁気記録装置によれば、将来的な磁気記録密度の向上に対応し得る、より一層の高記録密度化を達成することができる。また、本発明の磁気記録媒体によれば、そのような高記録密度の磁気記録システムを提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の磁気記録装置および磁気記録媒体の一実施形態の概略構成を示す断面図である。
【図２】  図１に示す磁気記録媒体の一具体例を示す断面図である。
【図３】  図２に示す磁気記録媒体の変形例を示す断面図である。
【図４】  図２に示す磁気記録媒体を用いた磁気記録装置による信号再生の状態を説明するための図である。
【図５】  図３に示す磁気記録媒体を用いた磁気記録装置による信号再生の状態を説明するための図である。
【図６】  本発明の磁気記録装置および磁気記録媒体の他の実施形態の概略構成を示す断面図である。
【符号の説明】
１０、３０……磁気記録媒体
１２……磁気記録層
１３、１７……スピンバルブ膜
２０……再生用磁気ヘッド
２１、２３……金属端子
２２……絶縁層
３１……グラニュラー構造膜
【図１】
0003999832.tif 000002
【図２】
0003999832.tif 000003
【図３】
0003999832.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
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