(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定波長の光で動作し、供試物を含む干渉計からの干渉縞パターンを光アドレス型位相液晶空間光変調器に書き込み、該書き込まれた干渉縞パターンを前記液晶空間光変調器の読み出し側の光軸の両側にほぼ等角度でほぼ対称に入射する光ビームの照射により２本の回折ビームを生成し、該２本の回折ビームを干渉計で合成して、所定の強度分布を持つ干渉縞パターンを得ることを特徴とする位相差増幅システム。
【請求項２】
請求項１記載の位相差増幅システムにおいて、前記液晶空間光変調器は平行配向液晶空間光変調器であることを特徴とする位相差増幅システム。
【請求項３】
請求項１又は２記載の位相差増幅システムにおいて、位相変調度を前記液晶空間光変調器の書き込み側における入射光強度の変更により調整可能にすることを特徴とする位相差増幅システム。
【請求項４】
請求項１又は２記載の位相差増幅システムにおいて、位相変調度を変調器駆動電圧及び周波数の変更により調整可能にすることを特徴とする位相差増幅システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶空間光変調器を用いたリアルタイム（実時間）位相差増幅システムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、このような分野の先行文献としては、以下に示すようなものが挙げられる。
【０００３】
（１）Ｋ．Ｃｒｅａｔｈ“Ｐｈａｓｅ  Ｍｅａｓｕｒｅｍｅｎｔ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ  ｔｅｃｈｎｉｑｕｅｓ”ｉｎ  Ｐｒｏｇｒｅｓｓ  ｉｎ  Ｏｐｔｉｃｓ  ０２６  ２４９，Ｅｌｓｅｖｉｅｒ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  Ｐｕｂｌｉｓｈｅｒｓ，Ａｍｓｔｅｒｄａｍ（１９８８）．
（２）Ｏ．Ｂｒｙｎｇｄａｈｌ  ａｎｄ  Ａ．Ｗ．Ｌｏｈｍａｎｎ“Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｇｒａｍｓ  ａｒｅ  ｉｍａｇｅ  ｈｏｌｏｇｒａｍｓ”Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ．Ａｍ．５８  １４１−１４２（１９６８）．
（３）Ｋ．Ｍａｔｓｕｍｏｔｏ  ａｎｄ  Ｍ．Ｔａｋａｓｈｉｍａ“Ｐｈａｓｅ  ｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ  ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｂｙ  ｎｏｎｌｉｎｅａｒ  ｈｏｌｏｇｒａｍｓ”Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ．Ａｍ．６０  ３０−３３（１９７０）．
（４）Ｏ．Ｂｒｙｎｇｄａｈｌ“Ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌｌｙ  ｒｅｖｅｒｓｅｄ  ｓｈｅａｒｉｎｇ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ”Ｊ．Ｏｐｔ．Ｓｏｃ．Ａｍ．５９  １４２−１４５  （１９６９）．
（５）Ｋ．Ｍａｔｓｕｄａ，Ｃ．Ｈ．Ｆｒｅｕｎｄ，ａｎｄ  Ｐ．Ｈａｒｉｈａｒａｎ“Ｐｈａｓｅ−ｄｉｆｆｅｒｅｎｃｅ  ａｍｐｌｉｆｉｃａｔｉｏｎ  ｕｓｉｎｇ  ｌｏｎｇｉｔｕｄｉｎａｌｌｙ  ｒｅｖｅｒｓｅｄ  ｓｈｅａｒｉｎｇ  ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｒｙ：  ａｎ  ｅｘｐｅｒｉｍｅｎｔａｌ  ｓｔｕｄｙ”Ａｐｐｌ．Ｏｐｔ．２０  ２７６３−２７６５（１９８１）．
物体の変形、形状等の測定には、従来光干渉法が用いられている。しかし、この方法では、どのような場合においても透過物体の場合は波長毎の等高線、反射物体の場合は２分の１波長毎の等高線となる。
【０００４】
これに対して、位相差増幅法は、波長の数分の１、あるいは数十分の１毎の等高線を描かせる技術であり、ナノメーター領域及びサブナノメーター領域の計測に重要な役割を果たすことができる。
【０００５】
しかしながら、位相差増幅法は、これまで写真乾板の白黒の振幅変調によって生じる非線形を利用したホログラフィ技術を用いて行われてきたが、写真乾板の現像・定着に時間がかかりすぎ、実用的な視点からは程遠い技術であった。
【０００６】
これに競合する技術としては、フリンジステッピング法がある。この方法は、π／２，π，３π／２の少なくとも３回位相をずらしてそれぞれの干渉縞を得た後、これらの干渉縞をコンピュータ処理して高精度な干渉パターンをつくり出す技術である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記したように従来の方法は、技術的に満足のいくものではなかった。
【０００８】
本発明は、上記状況に鑑みて、ＬＣＳＬＭ（液晶空間光変調器）を用いて、ほぼ実時間で位相差増幅法を実現することができる位相差増幅システムを提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために、
〔１〕位相差増幅システムにおいて、所定波長の光で動作し、供試物を含む干渉計からの干渉縞パターンを光アドレス型位相液晶空間光変調器に書き込み、この書き込まれた干渉縞パターンを前記液晶空間光変調器の読み出し側の光軸の両側にほぼ等角度でほぼ対称に入射する光ビームの照射により２本の回折ビームを生成し、これらの２本の回折ビームを干渉計で合成して、所定の強度分布を持つ干渉縞パターンを得ることを特徴とする。
【００１０】
〔２〕上記〔１〕記載の位相差増幅システムにおいて、前記液晶空間光変調器は平行配向液晶空間光変調器であることを特徴とする。
【００１１】
〔３〕上記〔１〕又は〔２〕記載の位相差増幅システムにおいて、位相変調度を前記液晶空間光変調器の書き込み側における入射光強度の変更により調整可能にすることを特徴とする。
【００１２】
〔４〕上記〔１〕又は〔２〕記載の位相差増幅システムにおいて、位相変調度を変調器駆動電圧及び周波数の変更により調整可能とすることを特徴とする。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について詳細に説明する。
【００１４】
本発明では、液晶空間光変調器（ＬＣＳＬＭ）上にホログラムを直接書き込むようにした、ほぼリアルタイムで動作する位相差増幅システムについて述べる。
【００１５】
平行に配置された位相変調器を使用すると、より高次の回折ビームを生じさせる主の非線形性が現れる。なぜなら、元の干渉縞の強度分布はホログラムへの入射光が回折する位相分布に変換されるからである。位相変調が余弦波的（ｃｏｓｉｎｕｓｏｉｄａｌ）に変化する場合、異なる回折次数の各々の強度が通常の通信位相変調理論に出てくるベッセル関数により求められる。そして、その強度は、変調器への入力書き込み強度及び駆動電圧を変化させることにより制御できる。位相差増幅システムでのニアリアルタイム動作が実証されたのはこれが初めてである。
【００１６】
図１は本発明の実施例を示す光アドレス型位相ＬＣＳＬＭを用いる位相差増幅の原理を示す概要図である。
【００１７】
この図において、１は光アドレス型位相液晶空間光変調器（ＬＣＳＬＭ）、Ａは書き込み側、３はビームスプリッタ、４は供試物（位相物体）、５，６は反射ミラー、７はイメージングレンズ、Ｂは読み出し側、１１は読み出しビームｅｘｐ（ｊβｘ）、１２は読み出しビームｅｘｐ（−ｊβｘ）、１３はｎ次回折ビーム、１４は−ｎ次回折ビームである。
【００１８】
図１において、書き込み側Ａでは、波長λの光２をビームスプリッタ３に照射して、供試物（位相物体）４による信号光と、ビームスプリッタ３を通り、反射ミラー５から反射されて、ビームスプリッタ３で反射される参照光とが、イメージングレンズ７を介して、ＬＣＳＬＭ１に書き込まれる。
【００１９】
一方、読み出し側Ｂでは、読み出しビームｅｘｐ（ｊβｘ）１１と読み出しビームｅｘｐ（−ｊβｘ）１２のＬＣＳＬＭ１への照射により、ｎ次回折ビーム１３，−ｎ次回折ビーム１４として、読み出すことができる。
【００２０】
このように、波長λの光２で動作し、供試物４を含む干渉計（試験干渉計）からの干渉縞パターンＩ（ｘ，ｙ）は、ＬＣＳＬＭ１の書き込み側Ａに投射される。干渉縞コントラストを１と仮定すると、干渉縞パターンの強度分布は次式で表される。
【００２１】
Ｉ（ｘ，ｙ）＝２Ａ2 〔１＋ｃｏｓψ（ｘ，ｙ）〕              …（１）
ここで、試験干渉計からの２本の干渉ビームの電界強度はＡ、位相差はψ（ｘ，ｙ）である。ψ（ｘ，ｙ）は２つの成分から成ると仮定する。
【００２２】
ψ（ｘ，ｙ）＝φ（ｘ，ｙ）＋αｘ                            …（２）
ここで、φ（ｘ，ｙ）は供試物４から生じる位相分布（つまり、測定すべき位相分布）であり、αは試験干渉計において干渉する波面間に導入される傾斜を示し、これによりキャリア干渉縞を生成する。
【００２３】
位相ＬＣＳＬＭは書き込み側Ａの強度分布を位相分布に変換する。この位相分布はデバイスの読み出し側Ｂで反射する読み出しビーム１１，１２に反映される。これらの読み出しビーム１１，１２は光軸の両側に等角度でＬＣＳＬＭ１に入射するので、読み出し側Ｂでのこれらのビームの位相分布は±βｘである。反射振幅（ｒｅｆｌｅｃｔｅｄ  ａｍｐｌｉｔｕｄｅ）を１と仮定すると、反射ビーム１３，１４の電界分布は次の２式で示される。
【００２４】
Ｅ1 （ｘ，ｙ）＝ｅｘｐ（ｊβｘ）ｅｘｐ｛ｊ２Ａ2 Ｋ
[ １＋ｃｏｓ〔φ（ｘ，ｙ）＋αｘ〕] ｝      …（３）
Ｅ2 （ｘ，ｙ）＝ｅｘｐ（−ｊβｘ）ｅｘｐ｛ｊ２Ａ2 Ｋ
[ １＋ｃｏｓ〔φ（ｘ，ｙ）＋αｘ〕] ｝      …（４）
通信理論において行われる通常の位相変調の解析に従い、各式の２番目の指数関数の項をベッセル関数により次式のように展開する。
【００２５】
【数１】
0003933856.tif 000002
【００２６】
反射ビームの電界分布は各々次式のようになる。
【００２７】
【数２】
0003933856.tif 000003
【００２８】
これらの各式において、ｎ次のベッセル関数はＬＣＳＬＭ１に書きこまれたキャリア干渉縞のｎ次の回折ビームに相当する。ＬＣＳＬＭ１から出射する各回折ビームはシステムの光軸に対し異なる角度で進行する。入射ビームの角度を光軸について対称になるように調整することにより、一方の入射ビームについてｎ＝−β／α〔式（６）において〕、他方の入射ビームについてｎ＝β／α〔式（７）において〕とすることができる。２本の回折ビーム〔式（６）から得られる−ｎ次ビーム及び式（７）から得られるｎ次ビーム〕は光軸に沿って進み、次式のように表すことができる。
Ｅ1 （ｘ，ｙ）＝Ｊn （２Ａ2 Ｋ）ｅｘｐ[ −ｊｎ〔φ（ｘ，ｙ）＋π／２〕]
…（８）
Ｅ2 （ｘ，ｙ）＝Ｊn （２Ａ2 Ｋ）ｅｘｐ[ ｊｎ〔φ（ｘ，ｙ）＋π／２〕]
…（９）
これらの２本のビームは干渉計で合成されて、次式で示される強度分布を持つ干渉縞パターンを生成する。
【００２９】
ＩOut ＝｜Ｅ1 ＋Ｅ2 ｜2 
＝２〔Ｊn （２Ａ2 Ｋ）〕2 [ １＋ｃｏｓ〔２ｎψ（ｘ，ｙ）〕 ]
…（１０）
これは、当初、供試物４から発生した位相分布の２ｎ倍の位相分布に相当する干渉縞パターンである。この干渉縞パターンは、試験干渉計を波長がλではなくλ／２ｎである光を用いて動作させた場合に生成される干渉縞パターンと同じであると考えることができる。
【００３０】
得られる結果は、乾板に書かれたホログラムを用いた従来の位相差増幅システムで得られる結果と同じである。写真乾板を用いた場合も干渉縞の輪郭が経路差間隔λ／２ｎで現れる。ただし、本発明では位相ＬＣＳＬＭの使用によりシステムのリアルタイム動作が可能となる。さらに、位相変調度は変調器の書き込み側における入射光強度の変更により調整できる（また、変調器駆動電圧及び周波数の調整によっても位相変調度は調整できる）ので、回折次数間の強度のバランスは、ある特定の次数の回折（ｎ）及び位相増幅率でのシステムの動作を最適にするように調整が可能である。
【００３１】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００３２】
図２は本発明の実施例を示す液晶空間光変調器を用いた実時間位相差増幅システムを示す図である。
【００３３】
この図において、２１はＨｅＮｅレーザー（レーザー１）、２２は空間フィルタ、２３はビームスプリッタ（ＢＳ1 ）、２４は供試物（位相物体）、２５は反射ミラー（Ｍ1 ）、２６は反射ミラー（Ｍ2 ）、２７は干渉縞を投射するイメージングレンズ（Ｌ2 ）、２８は平行配向液晶空間光変調器（ＬＣＳＬＭ）、３１はレーザー（レーザー２）、３２は空間フィルタ、３３はビームスプリッタ（ＢＳ2 ）、３４は反射ミラー（Ｍ3 ）、３５は反射ミラー（Ｍ4 ）、３６は反射ミラー（Ｍ5 ）、３７はビームスプリッタ（ＢＳ3 ）、３８はフーリエ変換レンズ（Ｌ4 ）、３９は反射ミラー（Ｍ6 ）、４０はピンホール、４１はレンズ（Ｌ5 ）、４２はＣＣＤカメラ、４３はコンピュータである。
【００３４】
図２に示されるシステムを用いて、光アドレス型位相ＬＣＳＬＭに書き込まれたホログラムを用いた位相差増幅を実証した。
【００３５】
本システムは、ＬＣＳＬＭに書き込まれる元の干渉縞パターンを生成するための試験干渉計と、位相増幅した最終的な干渉縞を生成する読み出し干渉計との２つの干渉計を有する。
【００３６】
試験干渉計はＨｅＮｅレーザー（レーザー１）２１により駆動されるマイケルソン干渉計で、ビームスプリッター（ＢＳ1 ）２３、ミラー（Ｍ1 ）２５及びミラー（Ｍ2 ）２６、ＬＣＳＬＭの書き込み側Ａに干渉縞を投射するイメージングレンズ（Ｌ2 ）２７を有する。透明なガラス板で構成された供試物２４を用いて既知の位相分布を干渉計に入力した。このガラス板は高精度の平面を持ち、既知の厚さのＳｉＯ2 のストライプパターンが蒸着されている。ストライプは幅３ｍｍ、隙間３ｍｍである。高さはＴａｌｙｓｔｅｐで計測され、５０ｎｍであった（結果を図３に示す）。供試物２４は、ＬＣＳＬＭ２８の書き込み側Ａと〔レンズ（Ｌ2 ）２７を介し〕共役の関係にある（ｃｏｎｊｕｇａｔｅ）平面上で、一方のマイケルソンミラーの前に設置される。キャリア干渉縞を生成するようにマイケルソンミラーの内の一方を傾けた〔式（３）及び（４）に必要な位相勾配αに相当する〕。
【００３７】
使用したＬＣＳＬＭ２８は平行配向液晶空間光変調器（ＰＡＬ−ＳＬＭ、Ｘ５６４１シリーズ、浜松フォトニクス株式会社製）で、アモルファスシリコンの感光性層を有する。この感光性層は、多層誘電体ミラーの前に配置された平行配向液晶層のＡＣ電界振幅を制御するために使用される。ＡＣ電界は、αシリコン、ミラー、及び液晶から成る層の外側に配置された透明電極から生じる。ＬＣＳＬＭデバイスへの書き込み光はアモルファス層に入り、その局部伝導率を減少させる。これにより、液晶層中の電界の増大が引き起こされ、液晶分子の配向及び屈折率が変化する。読み出し光はＬＣ層に入り、誘電体ミラーで反射しＬＣ層を再び通過してＬＣＳＬＭデバイスから出て行く。変調層を２回通過することにより、ＬＣディレクタ（ＬＣ  ｄｉｒｅｃｔｏｒ）に平行な出射光ビームの偏光成分（ｐｏｌａｒｉｚａｔｉｏｎ  ｃｏｍｐｏｎｅｎｔ）に空間位相変調が現れる。ＬＣＳＬＭデバイスは１８×１８ｍｍの正方形の開口全体に亘って３０ｌｐ／ｍｍの空間解像度を持ち、最大位相変調度は波長６３３ｎｍで１．５λである。
【００３８】
ＬＣＳＬＭ２８に対する読み出し干渉計は、ＨｅＮｅレーザー（レーザー２）、ビームスプリッタ（ＢＳ2 ）３３、ミラー（Ｍ3 ）３４、（Ｍ4 ）３５、（Ｍ5 ）３６から構成された、サニャック干渉計によく似たシステムで発生させた。反射ミラー（Ｍ4 ）３５を垂直軸の回りで傾けることにより、システムの２本の出射ビームは光軸の両側に等角度でＬＣＳＬＭ２８の読み出し側に向かって進行し、位相増幅率の選択に必要な位相勾配−βとβが与えられる〔式（６）、（７）〕。
【００３９】
サニャックシステムからの出射ビームは、ＬＣＳＬＭ２８での反射（回折）後、３番目のビームスプリッタ３７（ＢＳ3 ）で分けられ、フーリエ変換レンズ３８（Ｌ4 ）を通過する。２本のサニャックビームによる異なる回折次数に対応する一連のスポット（ｓｐｏｔ）がレンズ３８（Ｌ4 ）の焦点面に現れる。光軸に最も近い場所に現れる２つの次数のみを選択するためにピンホールを使用した。レンズ４１（Ｌ5 ）は、レンズ３８（Ｌ4 ）とともに無限焦点イメージングシステムを形成し、ＬＣＳＭＬ３８の出力面をＣＣＤカメラ４２上に映した。ＣＣＤカメラ４２には位相増幅された出力干渉縞が現れる。ＣＣＤカメラ４２の前に２つの偏光子を設けて強度を適当なレベルに調整し、これによって過負荷を避けた。
【００４０】
図４はマイケルソン干渉計から直接得られたＬＣＳＬＭの書き込み側Ａの干渉縞を示す。ストライプによる光路差はかなり小さく、約４８ｎｍ、即ちλ／１３であり（ＳｉＯ2の反射率を１．４８と仮定し、マイケルソン干渉計内のサンプルを２回通過するものとする）、ストライプのエッジにおける干渉縞偏差もかなり小さい。
【００４１】
図５はＣＣＤカメラで得られた干渉縞を示す。複数の異なる位相増幅率を生成するために、異なる次数の回折がピンホールを通過するように、反射ミラー３５（Ｍ4 ）の角度を調整した。ＬＣＳＭＬ２８への入射強度とその駆動電圧は、強度−位相変換特性の線形部分で動作するように調整した。図５（ａ）はピンホールを通過した両方の読み出しビームの０次について得られる結果である。予期したように、位相増幅率は零で、干渉縞偏差は無かった。図５（ｂ）、図５（ｃ）、図５（ｄ）、図５（ｅ）は、各々±１次、±２次、±３次、±４次成分がＣＣＤカメラ４８で干渉するように反射ミラー３５（Ｍ4 ）を調整した場合に得られた結果である。±４次成分については、ＬＣＳＬＭ２８からの回折光の強度は非常に低く、識別可能な干渉縞は得られなかった。
【００４２】
位相変調度、非線形性、つまり高次回折ビームの強度を増加するために、ＬＣＳＬＭ２８の書き込み側Ａにおける強度を増加し、図６に示す結果を得た。図６（ａ）、図６（ｂ）、図６（ｃ）、図６（ｄ）はＣＣＤカメラ４２での±３、±４、±５、±６次の回折の干渉の結果を示す。この図から明らかなように、このシステムで可能な最大増幅率は±５次の干渉で得られ１０倍である。
【００４３】
上記した図５及び図６に示された結果は、明らかに本発明のシステムの位相増幅能力を実証するものであるが、マイケルソン干渉計に位相物体（供試物）を置かずに得られた干渉縞を詳細に調査し、いくつかの興味深い影響を発見した。
【００４４】
このように、本発明によれば、供試物を含むマイケルソン干渉計により生成され、光アドレス型位相空間光変調器に書かれたホログラムを用いたほぼリアルタイムで動作する位相差増幅を実証した。光アドレス型位相空間光変調器からの読み出しは、サニャック干渉計に似た装置から発生させる２本のビームを用いて行った。また、フーリエフィルタリングテクニックを用いてホログラムから所望の干渉次数を選択し、位相増幅率を決定する。本発明を用いて、１０倍までの位相増幅を実証することができた。
【００４５】
本発明は、従来の位相ステッピングやヘテロダイン干渉計を用いて計測を行う時間が容認されない製造／検査の場面で精度及び解像度を大幅に向上させることができる有意義なものである。
【００４６】
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づいて種々の変形が可能であり、これらを本発明の範囲から排除するものではない。
【００４７】
【発明の効果】
以上、詳細に説明したように、本発明によれば、ＬＣＳＬＭ（液晶空間光変調素子）を用いてほぼ実時間で位相差増幅法を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例を示す光アドレス型位相ＬＣＳＬＭを用いる位相差増幅の原理を示す概要図である。
【図２】  本発明の実施例を示す液晶空間光変調器を用いた実時間位相差増幅システムを示す図である。
【図３】  Ｔａｌｙｓｔｅｐによる供試物のステップ高の測定結果を示す図である。ステップ高は約５０ｎｍであり、マイケルソン干渉計において４８ｎｍの光路差を生じる（変調器を２回通過、ＳｉＯ2の反射率は１．４８）。
【図４】  位相対象物（供試物）を設置したマイケルソン干渉計によって生成される干渉縞を示す図である。
【図５】  ＣＣＤカメラで得られた異なる位相増幅率の干渉縞を示す図である。
【図６】  ＬＣＳＬＭへの入射強度を増加させ、非線形性を大きくした場合にＣＣＤカメラで得られた干渉縞を示す図である。図６（ａ）は増幅率＝６（±３次）、図６（ｂ）は増幅率＝８（±４次）、図６（ｃ）は増幅率＝１０（±５次）、図６（ｄ）ｈ増幅率＝１２（±６次）を示している。
【符号の説明】
１    光アドレス型位相液晶空間光変調器（ＬＣＳＬＭ）
２    波長λの光
３    ビームスプリッタ
４，２４    供試物（位相物体）
５，６    反射ミラー
７    イメージングレンズ
Ａ    書き込み側
Ｂ    読み出し側
１１    読み出しビームｅｘｐ（ｊβｘ）
１２    読み出しビームｅｘｐ（−ｊβｘ）
１３    ｎ次回折ビーム
１４    −ｎ次回折ビーム
２１    ＨｅＮｅレーザー（レーザー１）
２２    空間フィルタ
２３    ビームスプリッタ（ＢＳ1 ）
２５    反射ミラー（Ｍ1 ）
２６    反射ミラー（Ｍ2 ）
２７    干渉縞を投射するイメージングレンズ（Ｌ2 ）
２８    平行配向液晶空間光変調器（ＬＣＳＬＭ）
３１    レーザー（レーザー２）
３２    空間フィルタ
３３    ビームスプリッタ（ＢＳ2 ）
３４    反射ミラー（Ｍ3 ）
３５    反射ミラー（Ｍ4 ）
３６    反射ミラー（Ｍ5 ）
３７    ビームスプリッタ（ＢＳ3 ）
３８    フーリエ変換レンズ（Ｌ4 ）
３９    反射ミラー（Ｍ6 ）
４０    ピンホール
４１    レンズ（Ｌ5 ）
４２    ＣＣＤカメラ
４３    コンピュータ
【図１】
0003933856.tif 000004
【図２】
0003933856.tif 000005
【図３】
0003933856.tif 000006
【図４】
0003933856.tif 000007
【図５】
0003933856.tif 000008
【図６】
0003933856.tif 000009