(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アモルファス相の酸化チタンを含有する排ガス処理用触媒において、前記酸化チタンが、可溶性チタン化合物水溶液とアンモニア水との中和反応によりチタン水酸化物を調製し３５０℃〜５５０℃で焼成することにより得るものであり、粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度が、基準物質である５重量％Ｖ２Ｏ５−９５重量％ＴｉＯ２（ミレニアム社製酸化チタンＤＴ−５１）の粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度の３０％以上、７５％以下であることを特徴とする排ガス処理用触媒。
【請求項２】
アモルファス相の酸化チタンを含有する排ガス処理用触媒において、前記酸化チタンが、可溶性チタン化合物水溶液とアンモニア水との中和反応によりチタン水酸化物を調製し３５０℃〜５５０℃で焼成することにより得るものであり、下記の条件で測定した粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度が３８５０カウント／秒以上、１００００カウント／秒以下であることを特徴とする排ガス処理用触媒。
機種                Ｒｉｇａｋｕ  ＲＥ−３００
Ｘ線源              ＣｕＫα１／５０ｋＶ／３００ｍＡ
カウンタ            シンチレーションカウンタ
フィルタ            なし
モノクロメータ      湾曲結晶モノクロメータ
発散スリット        １゜
散乱スリット        １゜
受光スリット        ０．３ｍｍ
スキャンスピード    ４゜／ｍｉｎ
【請求項３】
バナジウムの酸化物を５〜５０重量％の濃度で含有してなる、請求項１または２記載の排ガス処理用触媒。
【請求項４】
パラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、銀、金およびイリジウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種類の金属および／またはその金属酸化物を０．０１〜５重量％の濃度で含有してなる、請求項１〜３のいずれかに記載の排ガス処理用触媒。
【請求項５】
排ガスを、請求項１〜４のいずれかに記載の排ガス処理用触媒と接触させる、排ガス処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、排ガス処理用触媒および排ガス処理方法に関する。特に、排ガス中のダイオキシン類などの毒性有機ハロゲン化合物を除去する有機ハロゲン化合物除去用触媒、排ガス中の窒素酸化物（ＮＯｘ）を除去するための脱硝触媒、及び排ガス中のアンモニアを分解するためのアンモニア分解触媒として優れた排ガス処理用触媒および排ガス処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
産業廃棄物や都市廃棄物を処理する焼却施設から発生する排ガス中にはダイオキシン類、ＰＣＢ、クロロフェノールなどの極微量の毒性有機ハロゲン化合物が含まれており、特にダイオキシン類は微量であってもきわめて有毒であり、人体に重大な影響を及ぼすため、その除去技術が早急に求められている。一般に有機ハロゲン化合物は化学的にきわめて安定であり、特にダイオキシン類においては自然界では半永久的に残存するといわれているほど分解しにくい物質であるのに加え、排ガス中でのその含有量が非常に低いため、これを効率よく除去することは従来の排ガス処理触媒では困難である。これまでにバナジウム酸化物やタングステン酸化物を酸化チタンに担持した触媒や白金をはじめとする貴金属触媒が用いられているが、排ガス条件によっては充分な性能とはいえず、さらなる触媒性能の向上が望まれている。
【０００３】
また、現在実用化されている排ガス中の窒素酸化物除去方法としては、アンモニアまたは尿素などの固体還元剤を用いて排ガス中の窒素酸化物を脱硝触媒上で接触還元し、無害な窒素と水とに分解する選択的触媒還元（ＳＣＲ）法が一般的である。これに用いられる脱硝触媒としては、例えば特開平１０−２３５２０６号公報に記載のチタン−バナジウム系触媒などが知られているが、排ガス条件によっては充分な性能とはいえず、さらなる触媒性能の向上が望まれている。
また、アンモニアを含有する排ガスの浄化においては、Ｐｔ−Ａｌ2Ｏ3触媒などの貴金属触媒や、Ｎｉ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｆｅ等の金属酸化物系触媒が一般的であるが、アンモニア分解活性が高くなると、反応生成物として窒素、水の他にＮＯｘが生成するという問題も残されており、これらの解決が望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、排ガス中のダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物の除去性能、脱硝性能、アンモニア分解性能に優れた触媒、および、この触媒を用いた排ガス処理方法を提供することである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、酸化チタンを含有する触媒が基本的には有効であることを確認した上で、一般的に有機ハロゲン化合物の除去、脱硝、アンモニア分解において高活性であるとされてきたアナタース構造の割合の高い酸化チタンに代えて、アモルファス構造の割合のより高い酸化チタンを用いることにより、排ガス中の微量の有害物質（有機ハロゲン化合物、窒素酸化物、アンモニア）に対する吸着力および排ガスの触媒に対する接触効率を向上させ、排ガス中に含まれる極微量の有害物質の分解反応を促進するよう触媒設計したものである。
【０００６】
すなわち、本発明にかかる排ガス処理用触媒は、アモルファス相の酸化チタンを含有する有機ハロゲン化合物除去用触媒において、前記酸化チタンが、可溶性チタン化合物水溶液とアンモニア水との中和反応によりチタン水酸化物を調製し３５０℃〜５５０℃で焼成することにより得るものであり、粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度が、基準物質である５重量％Ｖ２Ｏ５−９５重量％ＴｉＯ２（ミレニアム社製酸化チタンＤＴ−５１）の粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度の３０％以上、７５％以下であることを特徴とする。
また、下記の条件で測定した粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度が３８５０カウント／秒以上、１００００カウント／秒以下であることを特徴とする。
【０００７】
機種              Ｒｉｇａｋｕ  ＲＥ−３００
Ｘ線源            ＣｕＫα１／５０ｋＶ／３００ｍＡ
カウンタ          シンチレーションカウンタ
フィルタ          なし
モノクロメータ    湾曲結晶モノクロメータ
発散スリット      １゜
散乱スリット      １゜
受光スリット      ０．３ｍｍ
スキャンスピード  ４゜／ｍｉｎ
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の触媒はその構成成分としてアモルファス相の酸化チタンを一定量以上含有すること、すなわち、粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度が、基準物質の粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度の７５％以下であることを特徴とし、好ましくは５０％以下である。言い換えれば、上記基準物質について下記の条件で測定した粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度が約１３０２７カウント／秒であるため、本発明の触媒はその７５％の値である約１００００カウント／秒以下であることを特徴とし、好ましくは６５００カウント／秒以下である。
【０００９】
機種              Ｒｉｇａｋｕ  ＲＥ−３００
Ｘ線源            ＣｕＫα１／５０ｋＶ／３００ｍＡ
カウンタ          シンチレーションカウンタ
フィルタ          なし
モノクロメータ    湾曲結晶モノクロメータ
発散スリット      １゜
散乱スリット      １゜
受光スリット      ０．３ｍｍ
スキャンスピード  ４゜／ｍｉｎ
酸化チタンのアナタース結晶は粉末Ｘ線回折の２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間にピークを示すが、アモルファス相の酸化チタンは結晶ピークを示さない。したがって、上記ピークの強度が小さければ小さいほど、アナタース型の酸化チタンの割合が少なく、アモルファス相の酸化チタンの割合が多い傾向がある。本発明で用いる基準物質は、５重量％Ｖ2Ｏ5−９５重量％ＴｉＯ2（ミレニアム社製酸化チタンＤＴ−５１）であり、その製法は、後述の実施例に示すとおりである。基準物質中の酸化チタンはアナタース型の割合が非常に高いものである。
【００１０】
本発明の触媒を調製する際に使用するチタン源の種類については特に制限はなく、酸化チタンの他、焼成してチタン酸化物を生成するものであればよい。例えば、四塩化チタン、硫酸チタンなどの無機チタン化合物、及びシュウ酸チタン、テトライソプロピルチタネート等の有機チタン化合物を用いることができるが、可溶性チタン化合物またはチタンアルコキシドを用いることが好ましい。
本発明の触媒は、構成成分として、バナジウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、タンタル、ランタンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種類の酸化物を含有することが好ましく、これらの中でも特にバナジウムの酸化物が好ましい。これらの酸化物の含有量は０．１〜５０重量％であることが好ましく、より好ましくは５〜２０重量％である。
【００１１】
これらの金属酸化物を含有する場合にも、それぞれの元素の出発原料について特に制限はない。これらの酸化物の他、焼成後にその酸化物を生じる水酸化物、アンモニウム塩、シュウ酸塩、ハロゲン化物、硫酸塩、硝酸塩などのいずれも使用することができる。
本発明の触媒は、構成成分として、さらにパラジウム、白金、ロジウム、ルテニウム、銀、金およびイリジウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種類の金属および／またはその金属酸化物を含有することが好ましく、これらの中でも特に白金が好ましい。これらの金属および／またはその金属酸化物の含有量は０．０１〜５重量％であることが好ましく、より好ましくは０．０５〜０．５重量％である。
【００１２】
本発明の触媒を調製するには、可溶性チタン化合物の中和またはチタンアルコキシドの加水分解によりチタン水酸化物を調製し、これを３５０℃〜５５０℃で、好ましくは４００℃〜５００℃で焼成して酸化チタンを得ることが好ましい。焼成温度が３５０℃未満では、反応中に触媒が熱劣化をおこす可能性が高い。焼成温度が５５０℃を超えると、アナタース型の酸化チタンの割合が多くなる。
具体的には、例えば以下の手順によって調製されることが好ましい。（Ａ）塩化チタン等の可溶性チタン化合物の水溶液を攪拌しながら、これにアンモニアなどの塩基を滴下し、チタンの水酸化物沈殿を得る。最終的にｐＨが６〜９となったところで沈殿が完了したものとする。酸化チタンの結晶核の生成を抑えるため塩基物質を滴下中は水溶液の温度を５０℃以下に保持することが好ましい。沈殿を熟成し、よく洗浄後、上記温度範囲で焼成をおこなう。（Ｂ）蒸留水を攪拌しながら、チタンのアルコキシドを滴下し、チタンの水酸化物沈殿を得る。沈殿を完了させるため、少量のアンモニアを添加する。沈殿をよく洗浄後、上記温度範囲で焼成をおこなう。また、（Ａ）、（Ｂ）のチタンの水酸化物沈殿にケイ素、イットリウム、セリウム、硫黄などの酸化物または塩類を添加したのち焼成することによって、あるいは（Ａ）、（Ｂ）のチタンの水酸化物沈殿時にケイ素、イットリウム、セリウム、硫黄などの酸化物または塩類を同時に共沈させたのち焼成することによって、酸化チタンのアナタース結晶化およびルチル結晶化を抑制し、４００℃以上の焼成温度においても酸化チタンのアモルファス構造を維持させることができる。
【００１３】
酸化チタン（以下、「Ａ成分」という）にバナジウム、モリブデン、タングステン、マンガン、コバルト、ニッケル、亜鉛、ジルコニウム、ニオブ、スズ、タンタル、ランタンおよびセリウムよりなる群から選ばれる少なくとも１種類の酸化物（以下、「Ｂ成分」という）を添加する方法としては、例えばＡ成分の粉体又はスラリーにＢ成分の塩類もしくはその溶液を添加する方法や、また、Ａ成分の成型体にＢ成分の塩類の溶液を含浸担持させる方法などが挙げられる。すなわち本発明の触媒の成型体は、上記Ａ成分とＢ成分又はその塩類とからなる粉体やスラリーなどから成型して用いてもよく、また上記Ａ成分よりなる成型体にＢ成分を担持して用いることもできる。
【００１４】
また、本発明の触媒は、板状、波板状、網状、ハニカム状、円柱状、円筒状などの形状に成型して用いても良いし、アルミナ、シリカ、コーディライト、チタニア、ステンレス金属などよりなる板状、波板状、網状、ハニカム状、円柱状、円筒状などの形状の担体に担持して使用しても良い。
本発明の触媒を用いることにより、排ガス中の微量の有害物質に対する吸着力および排ガスの触媒に対する接触効率が向上するだけでなく、アナタース型酸化チタンやルチル型酸化チタンを用いた場合に比べてバナジウム酸化物などの活性成分含有量を著しく増加させることができる。
【００１５】
本発明の触媒は、各種排ガスの処理に用いられる。排ガスの組成については特に制限はないが、本発明の触媒は、有機ハロゲン化合物除去用触媒、脱硝触媒、アンモニア分解触媒として非常に有用である。
本発明の触媒を有機ハロゲン化合物除去用触媒として用いる場合、本発明の触媒を用いて処理する排ガスの組成については、有機ハロゲン化合物を含むものであれば特に制限はないが、本発明の触媒は特にダイオキシン類やＰＣＢを含む排ガスの処理に好適である。本発明の触媒を用いて有機ハロゲン化合物を除去するには、排ガスを１３０〜３５０℃の温度、好ましくは１５０〜２５０℃の温度で、本発明の触媒と接触させることが望ましい。
【００１６】
本発明の触媒を脱硝触媒として用いる場合、本発明の触媒をアンモニアや尿素などの還元剤の存在下、排ガスと接触させ、排ガス中の窒素酸化物を還元除去する。この際の条件については、特に制限がなく、この種の反応に一般的に用いられている条件で実施することができる。具体的には、排ガスの種類、性状、要求される窒素酸化物の分解率などを考慮して適宜決定すればよいが、温度は、１３０〜５５０℃であることが好ましい。排ガス温度が１３０℃より低いと脱硝効率が低下し、５５０℃を超えると活性成分のシンタリングなどの問題が起こる。
本発明の触媒をアンモニア分解触媒として用いる場合、条件については特に制限がなく、この種の反応に一般的に用いられている条件で実施することができる。排ガス処理温度については１３０〜５５０℃であることが好ましい。１３０℃未満では分解効率が低くなるからであり、５５０℃を超える場合は活性成分のシンタリングおよびＮＯｘの生成がおこるからである。
【００１７】
本発明の触媒を用いた排ガスの処理条件については、排ガスの種類、性状、要求されるダイオキシン類などの有機ハロゲン化合物の分解率などにより異なるので一概に特定できないが、実施に際しては、これらの条件を考慮して適宜決定すればよい。処理対象ガスの本発明の触媒に対する空間速度は、１００〜１０００００Hr-1、好ましくは２００〜５００００Hr-1の範囲にあるのがよい。１００Hr-1未満の場合は、処理装置が大きくなりすぎ非効率であり、１０００００Hr-1を超える場合は、分解効率が低下するためである。
【００１８】
【実施例】
以下に実施例を用いて本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はこれら実施例のみに限定されるものではない。
なお、粉末Ｘ線回折は下記条件にて測定した。
機種              Ｒｉｇａｋｕ  ＲＥ−３００
Ｘ線源            ＣｕＫα１／５０ｋＶ／３００ｍＡ
カウンタ          シンチレーションカウンタ
フィルタ          なし
モノクロメータ    湾曲結晶モノクロメータ
発散スリット      １゜
散乱スリット      １゜
受光スリット      ０．３ｍｍ
スキャンスピード  ４゜／ｍｉｎ
［調製例（基準物質の合成）］
酸化チタン（ミレニアム社製ＤＴ−５１）２０ｋｇにメタバナジン酸アンモニウム１．４ｋｇ、シュウ酸１．７ｋｇ、モノエタノールアミン０．４ｋｇを水５リットルに溶解させた薬液を加え、均一になるまで充分に混合した。次いで、８０℃で乾燥後、４５０℃で５時間空気雰囲気下で焼成し、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2重量比＝５：９５の組成をもつ基準物質を得た。
【００１９】
得られた基準物質の粉末Ｘ線回折スペクトルを図１に示す。２θ＝２４．７゜〜２５．７゜の間に存在するアナタース結晶を示すピークの強度は１３０２７カウント／秒であった。
［実施例１］
酸化チタンを以下に述べる方法で調製した。１０重量％アンモニア水７００リットルに硫酸チタニルの硫酸溶液（ＴｉＯ2として１２５ｇ／リットル、硫酸濃度５５０ｇ／リットル）３４０リットルを撹拌しながら徐々に滴下した。得られたゲルを３時間放置後、濾過水洗し、続いて１００℃で１０時間乾燥した。次いで４００℃で焼成した。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は３８５０カウント／秒であり、基準物質の３０％であった。
【００２０】
次に、上記酸化チタン２０ｋｇにメタバナジン酸アンモニウム１．４ｋｇ、シュウ酸１．７ｋｇ、モノエタノールアミン０．４ｋｇを水５リットルに溶解させた薬液を加え、さらにフェノール樹脂１ｋｇと成形助剤として澱粉を加えて混合しニーダーで混練りした後、押し出し成型機で外形８０ｍｍ角、目開き４．０ｍｍ、肉厚１．０ｍｍ、長さ５００ｍｍのハニカム状に成形した。次いで８０℃で乾燥後、３８０℃で５時間空気雰囲気下で焼成し、触媒（Ａ）を得た。こうして得られた触媒（Ａ）の組成は、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2＝５：９５（重量比）であった。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は４６８８カウント／秒であり、基準物質の３６％であった。
【００２１】
触媒（Ａ）の粉末Ｘ線回折スペクトルを図２に示す。
［実施例２］
実施例１に述べた方法と同様の調製法で、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2＝３：９７（重量比）の組成をもつ触媒（Ｂ）を調製した。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は４３２６カウント／秒であり、基準物質の３３％であった。
［実施例３］
実施例１に述べた方法と同様の調製法で、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2＝１０：９０（重量比）の組成をもつ触媒（Ｃ）を調製した。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は４７９６カウント／秒であり、基準物質の３７％であった。
【００２２】
［実施例４］
実施例１で調製された触媒（Ａ）を、０．０１Ｍ硝酸パラジウム水溶液に含浸した後、１２０℃で乾燥、３５０℃で焼成し、触媒（Ｄ）を得た。酸化パラジウムの担持量は０．０６重量％であった。
［比較例１］
実施例１に述べた方法で調製された酸化チタンをさらに５５０℃で焼成し、アナタース結晶度の高い酸化チタンを得た。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は１０３４３カウント／秒であり、基準物質の７９％であった。このアナタース結晶度の高い酸化チタン２０ｋｇにメタバナジン酸アンモニウム１．４ｋｇ、シュウ酸１．７ｋｇ、モノエタノールアミン０．４ｋｇを水５リットルに溶解させた薬液を加え、さらにフェノール樹脂１ｋｇと成形助剤として澱粉を加えて混合しニーダーで混練りした後、押し出し成型機で外形８０ｍｍ角、目開き４．０ｍｍ、肉厚１．０ｍｍ、長さ５００ｍｍのハニカム状に成形した。次いで８０℃で乾燥後、４５０℃で５時間空気雰囲気下で焼成し、触媒（Ａ′）を得た。こうして得られた触媒（Ａ′）の組成は、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2＝５：９５（重量比）であった。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は１１７２６カウント／秒であり、基準物質の９０％であった。
【００２３】
［比較例２］
比較例１に述べた方法と同様の調製法で、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2＝３：９７（重量比）の組成をもつ触媒（Ｂ′）を調製した。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は１１６６５カウント／秒であり、基準物質の９０％であった。
［比較例３］
比較例１に述べた方法と同様の調製法で、Ｖ2Ｏ5：ＴｉＯ2＝１０：９０（重量比）の組成をもつ触媒（Ｃ′）を調製した。アナタース結晶を示すＸ線回折ピークの強度は１１７９６カウント／秒であり、基準物質の９１％であった。
【００２４】
［比較例４］
比較例１で調製された触媒（Ａ′）を、０．０１Ｍ硝酸パラジウム水溶液に含浸した後、１２０℃で乾燥、３５０℃で焼成し、触媒（Ｄ′）を得た。酸化パラジウムの担持量は０．０６重量％であった。
［実施例５］
実施例１〜４および比較例１〜４で調製した触媒（Ａ）〜（Ｄ）、（Ａ′）〜（Ｄ′）を用いて有機塩素化合物分解試験を行った。処理対象となる有機塩素化合物としてクロロフェノール（以下、ＣＰと略す）を用い、以下の条件で反応を行った。
【００２５】
結果を表１に示す。ＣＰ分解率すなわちＣＰ除去率は下記式により求めた。
（試験条件）
処理ガス組成
ＣＰ：３０ｐｐｍ，Ｏ2：１０％，Ｈ2Ｏ：１５％，Ｎ2：Balance
ガス温度：１６０℃
空間速度（ＳＶ）：４０００Ｈｒ-1
（式）
ＣＰ分解率（％）＝［（反応器入口ＣＰ濃度）−（反応器出口ＣＰ濃度）］／（反応器入口ＣＰ濃度）×１００
【００２６】
【表１】
0003924418.tif 000002
【００２７】
表１に見るように、比較例の触媒では、バナジウム酸化物含有量の増加に伴い、有機ハロゲン化合物除去率は増大するものの５％以上では増大がほとんど認められない。一方、実施例のアモルファス酸化チタンを多く含む触媒の場合、バナジウム酸化物含有量の増加に伴い、有機ハロゲン化合物除去率は増大し、１０％においては従来の触媒に比べて遥かに高い有機ハロゲン化合物除去率を示す。
［実施例６］
実施例１および比較例１で調製した触媒（Ａ）、（Ａ′）を用いて以下の条件で脱硝反応を行った。脱硝率を下記式により求めたところ、触媒（Ａ）については９９％であり、触媒（Ａ′）については９４％であった。
【００２８】
（試験条件）
処理ガス組成
ＮＯ：１９０ｐｐｍ，ＮＨ3：１９０ｐｐｍ，Ｏ2：９％，
Ｈ2Ｏ：１７％，：Ｎ2：Balance
ガス温度：２５０℃
空間速度（ＳＶ）：４０００Ｈｒ-1
（式）
脱硝率（％）＝［（反応器入口ＮＯｘ濃度）−（反応器出口ＮＯｘ濃度）］／（反応器入口ＮＯｘ濃度）×１００
［実施例７］
実施例４および比較例４で調製した触媒（Ｄ）、（Ｄ′）を用いて以下の条件でアンモニア分解反応を行った。アンモニア分解率を下記式により求めたところ、触媒（Ｄ）については９８％であり、触媒（Ｄ′）については９３％であった。
【００２９】
（試験条件）
処理ガス組成
ＮＨ3：３０ｐｐｍ，Ｏ2：２％，Ｈ2Ｏ：１０％，：Ｎ2：Balance
ガス温度：３３０℃
空間速度（ＳＶ）：４０００Ｈｒ-1
（式）
アンモニア分解率（％）＝［（反応器入口アンモニア濃度）−（反応器出口アンモニア濃度）］／（反応器入口アンモニア濃度）×１００
【００３０】
【発明の効果】
本発明の触媒は、ダイオキシン類などの毒性有機ハロゲン化合物の分解活性やアンモニア分解活性に優れる。また、脱硝性能にも優れ、窒素酸化物とダイオキシン類などの毒性有機ハロゲン化合物の同時除去触媒として有用である。
【図面の簡単な説明】
【図１】  調製例で調製した基準物質の粉末Ｘ線回折スペクトル
【図２】  実施例１で調製した触媒（Ａ）の粉末Ｘ線回折スペクトル
【図１】
0003924418.tif 000003
【図２】
0003924418.tif 000004