(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に当接して基板全面を傾斜姿勢で支持する基板支持部材と、
前記基板支持部材により傾斜支持された基板の上位位置側に配設され、当該基板の前記傾斜姿勢の方向と直交し、かつ水平な方向に前記基板を搬送する基板搬送手段と、
前記基板支持部材で傾斜支持された基板の上位位置側端縁に沿うように前記基板支持部材に配設され、前記基板搬送手段による前記基板の搬送中に、前記基板支持部材で傾斜支持された基板の上位位置側端縁に沿って、基板の表面に処理液を供給する処理液供給部材とを備えることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記基板支持部材は、前記基板を支持する基板支持ハンドが傾斜して基板全面を傾斜姿勢とすることを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項３】
前記基板支持部材は、前記基板に当接する部材の支持高さが異なることにより基板を傾斜支持することを特徴とする請求項１記載の基板搬送装置。
【請求項４】
前記基板支持部材は、前記基板を供給または取り込む場合の基板の水平姿勢と、基板を搬送する場合の基板の傾斜姿勢とを切り替える姿勢切り替え手段を有することを特徴とする請求項１又は２記載の基板搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板乾燥装置などの基板処理装置などに用いられ、例えばガラス基板やプリント基板などの基板類および半導体ウエハなどの板状部材の表面に処理液を供給しながらその基板類を搬送する基板搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、例えば薬液洗浄処理部などから乾燥処理部に角形基板を搬送する場合、この角形基板の表面が搬送途中で乾燥すると、前工程の薬液成分がその表面に残ってシミとなりパーティクルが発生する要因となるため、角形基板の表面に純水などのリンス液を供給して洗浄しながら基板搬送装置によって搬送していた。このように、薬液洗浄処理、水洗浄処理および乾燥処理の各工程のうちの水洗浄処理と基板搬送処理を同時にすることによって、処理工程の時間的な短縮と共に、薬液洗浄処理後の角形基板表面を乾かすことなく角形基板を搬送していた。
【０００３】
この基板搬送装置としては、例えば図９に示すように、角形基板７１の対向する２辺の各外周縁近くを一対の基板支持部材７２で支持すると共に、これらの２辺と直交する２辺の各外周縁近くを一対の基板支持部材７３で支持しながら搬送していた。このとき、基板搬送装置は、基板支持部材７２，７３で支持された角形基板７１の中央上部に配設されたノズル（図示せず）により、角形基板７１の表面に純水を供給して洗浄することになる。
【０００４】
また、基板搬送装置としては、例えば図１０に示すように、角形基板７１の互いに対向する両角部を一対の基板支持部材７４で挾み込んで支持しながら搬送していた。この場合にも、各基板支持部材７４で両角部が支持された角形基板７１の中央上部にノズル（図示せず）が配設されている。
【０００５】
さらに、基板搬送装置としては、例えば図１１に示すように、角形基板７１の対向する２辺の両外周縁下面側をその全長に亘って基板支持部材７５の支持ピン７６上に載置しながら搬送していた。この場合にも、各基板支持部材７５で支持された角形基板７１の中央上部にノズル（図示せず）が配設されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
近年の基板の大型化や薄型化に伴って基板の自重による撓みが生じ易くなっており、これに加えて、部分乾燥防止のために基板表面に純水などの処理液を供給しながら搬送する基板搬送装置では、基板表面に供給される処理液の液溜まりによる重量で、益々、基板の撓みが増長されて基板が破損してしまう虞があるという問題があった。例えば、図９の基板端部の６点支持の場合には角形基板７１の中央部が、また、図１０の基板端部の４点支持の場合には角形基板７１の中央対角線部が、さらに、図１１の基板裏面部の６点支持の場合には角形基板７１の中央線部が下方に撓むことになり、この撓みが大きい場合には破損する虞があった。また、基板搬送中に処理液を供給すると、基板搬送方向に加速度が働いて基板表面上の処理液の分布に片寄りが生じ、これによっても基板に不均一な撓みが生じ易くなる。
【０００７】
また、基板表面には処理液が供給されているが、基板が撓んだり基板の撓みが不均一であったりすると、従来は、基板中央部から処理液を供給していたため、撓んだ基板の上位両端部などに処理液がかからない部分が生じるばかりか、支持の位置などによっては基板が撓んで不均一に傾斜するなどして供給される処理液に片寄った流れが発生して、基板表面で処理液が接触している部分とそうでない部分とが生じ、基板表面への処理液の供給にムラが生じていた。このように、処理液が基板表面全体に均一に供給されず、基板表面が部分的に乾燥し、この乾燥した部分に前洗浄工程の薬液成分などがその表面に残って、後で洗浄しても容易には取れないシミとなりこれがパーティクルの原因になるという問題を有していた。この搬送される基板が疎水性基板であれば、このような乾燥ムラは顕著に生じることになる。
【０００８】
このような基板の撓み過ぎを防止するためには、基板の裏面中央部付近にも基板支持部材を配設することが考えられるが、この場合、基板の裏面中央部を汚染させてしまうと共に、ロボットアームである基板支持部材の機構も複雑なものになってしまうという問題を有していた。また、上記シミ対策として処理液供給ノズルの数を基板全表面上方に分散させて複数配設することも考えられるが、この場合には、処理液の吐出量が大幅に多くなってしまい、処理液の自重により基板の撓みがさらに増加して基板がより破損し易くなるという問題を有していた。
【０００９】
本発明は、上記問題を解決するもので、基板の撓みを抑制することができると共に、基板表面の乾燥ムラを防止してパーティクルの発生を抑えることができる基板搬送装置を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
また、本発明の基板搬送装置は、基板に当接して基板全面を傾斜姿勢で支持する基板支持部材と、前記基板支持部材により傾斜支持された基板の上位位置側に配設され、当該基板の前記傾斜姿勢の方向と直交し、かつ水平な方向に前記基板を搬送する基板搬送手段と、前記基板支持部材で傾斜支持された基板の上位位置側端縁に沿うように前記基板支持部材に配設され、前記基板搬送手段による前記基板の搬送中に、前記基板支持部材で傾斜支持された基板の上位位置側端縁に沿って、基板の表面に処理液を供給する処理液供給部材とを備えることを特徴とするものである。
【００１３】
この構成により、基板全面を傾斜させることで撓み方向の水平成分が短縮化されると共に、処理液が途中で液溜まりをつくるようなこともなくより均等に流れるので、基板表面は薄い液膜で覆われることになり基板への処理液の自重が軽減されて基板の撓みが抑制され、その分、基板の撓み過ぎによる破損も抑制される。また、基板全面を所定の傾斜姿勢で支持するので、処理液の供給による更なる撓み変化が生じにくく、基板表面の傾斜面状態がより安定化し、供給された処理液は基板表面の上位端縁側から下位端縁側に片寄らず均一に流れることになる。これによって、基板表面全面に満遍なく均一な処理液の供給が可能となるので、処理液の供給量をより低減化することが可能となると共に、部分的な処理液の供給不足などによる従来のような部分乾燥に伴ったパーティクルの発生も防止可能となる。特に、処理液に純水を用いた場合には、効率よく液置換が行われるため、常に清浄性を保つことができる。
【００１４】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板支持部材は、基板を支持する基板支持ハンドが傾斜して基板全面を傾斜姿勢とする。また、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板支持部材は、基板を供給または取り込む場合の基板の水平姿勢と、基板を搬送する場合の基板の傾斜姿勢とを切り替える姿勢切り替え手段を有している。
【００１５】
この構成により、基板支持ハンドで基板を水平姿勢で供給または取り込みが容易であり、基板を傾斜姿勢で搬送して上記基板撓み抑制効果および部分乾燥防止効果が得られることになる。
【００１６】
さらに、好ましくは、本発明の基板搬送装置における基板支持部材は、基板に当接する部材の支持高さが異なることにより基板を傾斜支持する。
【００１７】
この構成により、基板支持ハンドが傾斜する場合に比べて基板支持ハンドを傾斜させる手段が不要で基板支持ハンドの構成が簡略化する。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る基板搬送装置の実施形態について図面を参照して説明する。
【００１９】
（実施形態１）
図１は本発明の実施形態１における基板搬送装置を含む基板乾燥装置の正面図であり、図２は図１の基板乾燥装置における基板水平姿勢状態を示すＡＡ′断面図である。
【００２０】
図１および図２において、平行に配設された上下一対の案内レール１，１および、これらの間に配設されたロッドレスシリンダ２を介して支持フレーム３が左右水平方向に往復移動可能に設けられている。この支持フレーム３には、左右水平方向に所定間隔置いて基板搬送用の支持体４，４がそれぞれ配設されている。これらの基板搬送用の支持体４，４はそれぞれ、上下方向に平行に配設された左右一対の第２の案内レール５，５および、これらの間に配設された昇降用のエアーシリンダ６を介して昇降自在に構成されている。また、基板搬送用の支持体４，４はそれぞれ水平姿勢または傾斜姿勢可能に構成されており、これらの水平姿勢と傾斜姿勢を切り替えるエアーシリンダ７が、第２の案内レール５に案内されるガイド８上に配設されている。
【００２１】
図３は図１の基板乾燥装置の平面図であり、図４は図３の要部Ｂの拡大図であり、図５は図２の基板搬送装置の要部Ｃの拡大図であり、図６は図５の要部Ｃの側面図である。
【００２２】
図３〜図６において、これらの基板搬送用の支持体４，４上にはそれぞれ、対向して設けられた一対の第１の支持アーム９，９と、これらの支持アーム９，９の一方端部がそれぞれ、第１の連結アーム１０，１０をそれぞれ介してそれぞれ連結された各第１のエアーシリンダ１１，１１とがそれぞれ配設されており、これらの個別の第１のエアーシリンダ１１，１１の駆動によって一対の第１の支持アーム９，９が基板搬送方向Ｄの互いに反対方向に移動して接近または退避自在に構成されている。これらの一対の第１の支持アーム９，９にはそれぞれ、下方に延びる状態で一対の第１の基板支持部材１２がそれぞれ配設されていると共に、これらの一対の第１の基板支持部材１２の下端部にはそれぞれ角形基板１３の側端縁付近を裏面から受ける支持鍔１４がそれぞれ配設されている。これらの第１の基板支持部材１２，１２は、角形基板１１の対向する２辺を両側から挾み込むと共に、これらの２辺の側端縁付近を裏面から各支持鍔１４で受けるように支持する構成である。
【００２３】
また、基板搬送用の支持体４，４上にはそれぞれ、平行に設けられ長さの異なる一組みの第２の支持アーム１５，１６と、これらの第２の支持アーム１５，１６の一方端部がそれぞれ、第２の連結アーム１７，１８をそれぞれ介して連結された各第２のエアーシリンダ１９とが配設されており、この第２のエアーシリンダ１９の駆動によって一組みの第２の支持アーム１５，１６の各他方端部が基板搬送方向Ｄと直交する方向で互いに反対方向に移動して接近または退避自在に構成されている。これらの一組みの第２の支持アーム１５，１６の他方端部にはそれぞれ、下方に延びる状態で第２の基板支持部材２０が配設されていると共に、この第２の基板支持部材２０の下端部にはそれぞれ、基板支持部材１２，１２で支持した角形基板１３の側端縁と直交する２辺の側端縁中央付近を裏面から受ける支持鍔２０がそれぞれ配設されている。これらの第２の基板支持部材２０，２０は角形基板１３の対向する２辺を挾み込むと共に、これらの２辺の側端縁中央付近を裏面から各支持鍔２１で受けるように支持する構成である。
【００２４】
さらに、姿勢制御用のエアーシリンダ７は、昇降案内部材としてのガイド８に固定されて配設されており、このエアーシリンダ７のロッド先端は支持体４に連結され、姿勢制御用のエアーシリンダ７を駆動させることにより支持体４と共に角形基板１３を水平状態または傾斜状態に自在に切り替えすることができる。このように、角形基板１３を傾斜させる場合は基板搬送の場合であり、角形基板１３を水平状態とする場合は基板を供給または取り込みする場合である。また、このようなエアーシリンダ７はその制御回路と共に姿勢切り替え手段を構成しており、角形基板１３の傾斜姿勢と水平姿勢とを切り替え制御している。この場合の基板傾斜角度θは大きいほど基板表面が乾きやすくなるので、処理液の流れる方向が規定される程度の傾きがあればよい。本実施形態１の場合、好ましい基板傾斜角度θとして３度〜４度程度に設定した。
【００２５】
さらに、基板傾斜時に上位側になる第２の基板支持部材２０には、処理液供給部材２２が、この第２の基板支持部材２０で支持する角形基板１３の側端縁の長手方向に沿って配設されている。この処理液供給部材２２は、筒状体で構成されその両端部が封止され、処理液が吐出される吐出口が長手方向の所定間隔（例えば４ｍｍ）毎に複数設けられている。これらの各吐出口は角形基板１３の端縁部側に向けて処理液が吐出するように開口しており、処理液供給部材２２の中央部で連結された処理液供給管２２ａを介して角形基板１３の上位端縁部に満遍なく処理液を供給するようになっている。さらに、この処理液供給部材２２は、この第２の基板支持部材２０に支持されて固定されており、第２の基板支持部材２０が移動可能なように処理液供給管２２ａに余裕を持たせて処理液供給部材２２と連結している。
【００２６】
さらに、これらの基板支持部材１２，２０による角形基板１３の搬送経路の所定位置には、図３および図４に示すような基板保持手段２３が設けられており、角形基板１３を基板保持手段２３上で載置して固定し、角形基板１３を回転させると共に、角形基板１３の中央部にガスノズル２４から窒素ガスを噴出させることで、角形基板１３上の処理液を遠心力で振り切って乾燥させる構成である。このとき、エアーシリンダ２５を駆動させることによりガスノズル２４の噴出口を角形基板１３側に対向させるようにガスノズル２４を回動させる構成となっている。
【００２７】
この基板保持手段２３の基板固定機構は、十字状に構成された基板載置アーム２６が配設され、この基板載置アーム２６の各先端部に角形基板１３の角部裏面側をそれぞれ支持する基板支持ピン２７が配設され、かつ、角形基板１３の４角部をそれぞれ２個のピンで位置決めする位置決めピン２８が配設されている。また、基板載置アーム２６の中央部裏側には回転軸が設けられており、この回転軸が図２に示す電動モータ２９の駆動軸に連結されている。
【００２８】
以上のロッドレスシリンダ２、昇降用のシリンダ６、姿勢制御用のシリンダ７、第１のエアーシリンダ１１、第２のエアーシリンダ１９、第１の基板支持部材１２および第２の基板支持部材２０などに処理液供給部材２２を加えて基板搬送装置が構成されており、例えば薬液洗浄処理部などから乾燥処理部に角形基板１３を、その表面に純水などのリンス液を供給して洗浄しながら搬送するものである。
【００２９】
上記構成により、まず、例えば薬液洗浄処理を済ませた未乾燥の角形基板１３を、対向する２辺それぞれの２個所づつを第１の基板支持部材１２の支持鍔１４で支持すると共に、それらの２辺に直交する２辺それぞれを第２の基板支持部材２０の支持鍔２１で支持することで、基板全体として４方から挾み込むように６点で支持した後、姿勢制御用のエアーシリンダ７のロッドを短縮させて基板搬送用の支持体４と共に角形基板１３を水平姿勢から所定の傾斜姿勢に切り替える。さらに、昇降用のエアーシリンダ６のロッドを伸長させて基板搬送用の支持体４と共に角形基板１３を所定の高さまで上昇させる。このとき同時に、処理液供給部材２２の吐出口から処理液を角形基板１３の端縁の長手方向に亘って満遍なく吐出させる。また、このとき、角形基板１３は均一に傾斜しており、その適度な傾斜面に沿って処理液が片寄ることなく下端部まで流れることになる。なお、このときの傾斜姿勢に切り替えるタイミングはエアーシリンダ６による上昇制御の前で行ったが、上昇制御の後で搬送前に行ってもよい。要は、角形基板１３が大面積で板厚が薄い場合のように撓みやすい場合には、本実施形態１のように、傾斜姿勢に切り替えるタイミングはエアーシリンダ６による上昇制御の前で行う方がよい。
【００３０】
次に、基板保持手段２３上方まで角形基板１３を傾斜させた状態で搬送する。その後、姿勢制御用のエアーシリンダ７のロッドを伸長させて基板搬送用の支持体４と共に角形基板１３を傾斜方向から水平方向に切り替える。さらに、昇降用のエアーシリンダ６のロッドを短縮させて基板搬送用の支持体４と共に角形基板１３を下降させると共に、処理液供給部材２２の吐出口からの処理液の供給を停止して、支持ピン２７上に角形基板１３を載置させる。その後、各エアーシリンダ１１，１９をそれぞれ駆動させて基板支持部材１２，２０を角形基板１３の各側端縁側から退避させてた状態で、昇降用のエアーシリンダ６を伸長させて基板搬送用の支持体４を所定の位置まで上昇させる。さらに、シリンダ２５を駆動させることにより、ガスノズル２４の噴出口を角形基板１３側に対向させるように直立させると共に、角形基板１３を回転させながらガスノズル２４の噴出口から角形基板１３の表面側に窒素ガスを噴出させることで角形基板１３の乾燥がなされることになっている。このような乾燥処理後においては、前述の場合とは逆の動作によって、基板保持手段２３から角形基板１３を取り出して後処理工程に搬送することになる。
【００３１】
したがって、角形基板１３の搬送に際して、第１の基板支持部材１２および第２の基板支持部材２０で角形基板１３全面を所定の傾斜姿勢で支持するため、撓み方向の水平成分が短縮化されて角形基板１３の撓みが抑制され、その分、角形基板１３の撓み過ぎによる破損を抑制することができる。このような均一傾斜姿勢の角形基板１３の上位側の端縁部に沿って処理液供給部材２２を配設し、この処理液供給部材２２から処理液を角形基板１３の上位端縁部に供給するため、処理液が途中で液溜まりとなるようなこともなく傾斜姿勢の下位端縁部から排出されるので、角形基板１３への処理液の自重が軽減されて角形基板１３の撓みが抑制され、その分、角形基板１３の撓み過ぎによる破損も抑制することができる。また、このように、角形基板１３全面を一方向に傾斜支持させることで撓みが抑制されるため、処理液が供給される角形基板１３の表面の傾斜面状態がより安定化し、処理液を供給しながら角形基板１３の搬送を行う場合、撓み変化がない分、処理液が途中で液溜まりをつくるようなこともなく傾斜姿勢の上位一端縁部から下位他端縁部に均等に流れることになる。これによって、角形基板１３の表面に処理液を満遍なく供給することが可能となり部分乾燥などの問題も解消することができる。したがって、処理液の供給量を低減することができると共に、処理液が当たりにくいことなどによる乾燥ムラに伴ったパーティクルの発生を抑えることができる。
【００３２】
（実施形態２）
上記実施形態１では、ロボットアームとしての第１の基板支持部材１２および第２の基板支持部材２０で角形基板１３の４辺の端縁部をそれぞれ６点支持して角形基板１３を水平に保持した後、所定の傾斜姿勢になるようにロボットアームと共に角形基板１３を傾けるようにしたが、本実施形態２では、図７ｂの模式図に示すように、角形基板１３の対向する２辺の両外周縁下面側をその全長に亘ってそれぞれ、ロボットアームとしての基板支持部材４１の高さ同一の支持ピン４２で前後の端部とその中央部の３点でそれぞれ載置しながら角形基板１３を水平に保持した後、姿勢制御用のエアーシリンダ４３のロッドを伸長させるように駆動させて、図７ａの模式図に示すようにロボットアームと共に角形基板１３を所定の傾斜姿勢になるように軸支部４４を中心として回動させる。このとき、角形基板１３全面は傾斜しており、基板ずれ防止用側面支持機構として係止部材４５が基板支持部材４１上に設けられている。さらに、昇降用のエアーシリンダ６のロッドを伸長させるように駆動させてロボットアームと共に角形基板１３を上昇させ、角形基板１３の最上位端縁部に亘って処理液供給部材２２から処理液を供給しつつ傾斜姿勢の角形基板１３を搬送するように構成する。この場合にも、上記実施形態１と同様に、撓み抑制効果および乾燥ムラ防止効果を奏することができる。なお、他の部材およびその作用は上記実施形態１と同様に構成することができる。
【００３３】
（実施形態３）
上記実施形態１では、ロボットアームとしての第１の基板支持部材１２および第２の基板支持部材２０で角形基板１３の４辺の端縁部をそれぞれ６点支持して角形基板１３を水平に保持した後、所定の傾斜姿勢になるようにロボットアームと共に角形基板１３を傾けるようにしたが、本実施形態３では、図８ｂの模式図に示すように、角形基板１３の対向する２辺の両外周縁下面側にロボットアームとしての基板支持部材５１を位置させる。このとき、基板支持部材５１上には、角形基板１３の対向する２辺の両外周縁にそれぞれ対向するように、先端側ほど低い高さの異なる複数の支持ピン５２（本実施形態３では各３個）が配設されている。次に、図８ａの模式図に示すように、昇降用のエアーシリンダ６のロッドを伸長させるように駆動させてロボットアームと共に角形基板１３を上昇させて、角形基板１３の対向する２辺の両外周縁下面側の全長に亘ってそれぞれ、高さの異なる支持ピン５２で前後の端部とその中央部の３点でそれぞれ載置しながら角形基板１３を所定の傾斜姿勢に保持しつつ、所定の高さまでロボットアームと共に角形基板１３を上昇させる。このとき、角形基板１３全面は傾斜しており、基板ずれ防止用側面支持機構として係止部材５５が基板支持部材５１に設けられている。さらに、角形基板１３の最上位端縁部に亘って処理液供給部材２２から処理液を供給しつつ傾斜姿勢の角形基板１３を搬送するように構成する。この場合にも、上記実施形態１と同様に、撓み抑制効果および乾燥ムラ防止効果を奏することとができる。なお、他の部材およびその作用は上記実施形態１と同様に構成することができる。
【００３４】
【発明の効果】
以上のように本発明によれば、基板全面を所定の傾斜姿勢で支持して搬送するため、基板上に存在する処理液量が少なくなると共に、傾斜姿勢により撓み方向の水平成分が短縮化されて基板の撓み量を大幅に低減させることができて、基板の撓み過ぎによる割れなどの破損を防止することができる。
【００３５】
また、このように、基板の撓み量を大幅に低減させると共に、傾斜姿勢の基板の上位端縁部に沿って処理液を供給するため、基板の搬送や処理液供給によって基板の反り状態に変化が起こりにくいことから、基板表面に処理液を満遍なく均一に供給することができ、処理液の供給量を抑えつつ、かつ処理液が滞留することなくフレッシュな処理液を基板表面全面に亘って供給することができる。これによって、基板表面の乾燥ムラを防止することができてパーティクルの発生を抑えることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１における基板搬送装置を含む基板乾燥装置の正面図である。
【図２】図１の基板乾燥装置における基板水平姿勢状態を示すＡＡ′断面図である。
【図３】図１の基板乾燥装置の平面図である。
【図４】図３の要部Ｂの拡大図である。
【図５】図２の要部Ｃの拡大図である。
【図６】図５の基板乾燥装置の要部Ｃの側面図である。
【図７】ａは本発明の実施形態２における基板搬送装置のロボットアーム全体を傾斜させて角形基板を傾斜姿勢にした状態を示す模式図、ｂはａのロボットアーム全体を水平にして角形基板を水平姿勢にした状態を示す模式図である。
【図８】ａは本発明の実施形態３における基板搬送装置のロボットアーム上の角形基板の傾斜状態を示す模式図、ｂはａのロボットアーム上に角形基板を載置する前の状態を示す模式図である。
【図９】従来の角形基板の基板支持部材による６点支持状態を示す斜視図である。
【図１０】従来の角形基板の基板支持部材による４点支持状態を示す斜視図である。
【図１１】従来の角形基板の他の基板支持部材による６点支持状態を示す斜視図である。
【符号の説明】
２    ロッドレスシリンダ
６    昇降用のエアーシリンダ
７，４３    姿勢制御用のエアーシリンダ
９    第１の支持アーム
１０    第１の連結アーム
１１    第１のエアーシリンダ
１２    第１の基板支持部材
１３    角形基板
１４，２１    支持鍔
１５，１６    第２の支持アーム
１７，１８    第２の連結アーム
１９    第２のエアーシリンダ
２０    第２の基板支持部材
２２    処理液供給部材
２２ａ    処理液供給管
４１，５１    基板支持部材
４２，５２    支持ピン
４４    軸支部
４５，５５    係止部
【図１】
0003907745.tif 000002
【図２】
0003907745.tif 000003
【図３】
0003907745.tif 000004
【図４】
0003907745.tif 000005
【図５】
0003907745.tif 000006
【図６】
0003907745.tif 000007
【図７】
0003907745.tif 000008
【図８】
0003907745.tif 000009
【図９】
0003907745.tif 000010
【図１０】
0003907745.tif 000011
【図１１】
0003907745.tif 000012