(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
清浄装置において使用される，雰囲気中のガス状有機不純物を除去するためのフィルタであって，雰囲気中のガス状有機不純物を除去するための含有重量比ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が２０以上の疎水性のゼオライトを，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつ該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物をバインダとして用いて造粒したペレットを，側面に多数の通気口を有する二重円筒形状のケーシング内に充填し，処理空気がケーシングの内側円筒から流入して，ケーシング内のペレットの充填層を透過した後，ケーシングの外側円筒と外筒に挟まれた空間を通過するように構成し，
前記ゼオライトの有効細孔径が７オングストローム以上であり，かつ前記ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する前記無機物において，１５〜３００オングストロームの範囲に分布する細孔の総容積が該無機物重量当たり０．２ｃｃ／ｇ以上であるか，または該無機物の細孔の比表面積が１００ｍ２／ｇ以上であることを特徴とするフィルタ。
【請求項２】
前記無機物が無機系固着補助剤を含み，該無機系固着補助剤が珪酸ソーダ，シリカ又はアルミナの少なくとも一つを含むことを特徴とする請求項１に記載のフィルタ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，例えばクリーンルームやクリーンベンチなどといった清浄装置において使用される，雰囲気中のガス状有機不純物を除去するためのフィルタに関する。
【０００２】
【従来の技術】
今日，ＬＳＩやＬＣＤの製造などに清浄装置が広く利用されている。これらの製造過程において例えばウェハに有機物が付着した場合には，絶縁酸化膜（ＳｉＯ２）の絶縁耐圧低下，レジスト膜の密着性低下に伴う露光・エッチング不良，ウェハの表面抵抗率の上昇による帯電及び帯電に伴うパーティクルの更なる静電吸着などといった種々の不都合を引き起こしてしまう。また，有機物がＬＣＤ基板であるガラス基板に付着した場合は，その表面上に薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）用のアモルファスシリコン（ａ−Ｓｉ）を成膜する際に，ＬＣＤ基板とａ−Ｓｉ膜の密着不良を生じてしまう。このように，清浄装置雰囲気由来の有機物は，半導体やＬＣＤの製造に悪影響を及ぼす。
【０００３】
一方，基板の表面に付着した有機物を，例えば紫外線／オゾン洗浄などの洗浄技術によって除去することも可能である。しかし，基板一枚当たりの洗浄時間は数分間も要し，頻繁に洗浄することは生産性の低下を招く。このように，特に最近では，金属不純物やパーティクルによる基板の汚染に加えて，清浄装置雰囲気中に存在する有機不純物が半導体製造に及ぼす影響が問題視されている。例えば，米国のＳＥＭＡＴＥＣＨが１９９５年５月３１日に発表したＴｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｔｒａｎｓｆｅｒ  ＃９５０５２８１２Ａ−ＴＲ「Ｆｏｒｅｃａｓｔ  ｏｆ  Ａｉｒｂｏｒｎｅ  Ｍｏｌｅｃｕｌａｒ  Ｃｏｎｔａｍｉｎａｔｉｏｎ  Ｌｉｍｉｔｓ  ｆｏｒ  ｔｈｅ  ０．２５  Ｍｉｃｒｏｎ  Ｈｉｇｈ  Ｐｅｒｆｏｒｍａｎｃｅ  Ｌｏｇｉｃ  Ｐｒｏｃｅｓｓ」の記載によると，１９９８年には，半導体製造におけるシリコンウェハ表面に許容される有機物汚染量が，前工程では５×１０１３炭素原子個数／ｃｍ２，後工程では１×１０１５炭素原子個数／ｃｍ２となるように，清浄装置雰囲気中のガス状有機不純物濃度の制御が必要となる。
【０００４】
そこで従来より，清浄装置雰囲気中に含まれるガス状有機不純物を除去するための手段として，活性炭を用いてガス状の有機不純物を吸着して除去するケミカルフィルタが使用されている。そして，活性炭を用いたケミカルフィルタの最も簡素な形式として，所定のケースなどに粒状活性炭を詰め込んだ構成の充填筒が知られている。また，その他の形式として，繊維状活性炭を低融点ポリエステルやポリエステル不織布の有機系バインダと複合してフェルト形状にした構成のケミカルフィルタや，粒状活性炭をウレタンフォームや不織布に接着剤で強固に付着させたブロック形状およびシート形状のケミカルフィルタも知られている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
例えば，天井面が清浄空気の吹き出し面となっているクリーンルームの場合についていえば，天井に取り付けられている粒子除去用フィルタの上流側にケミカルフィルタを配置することが，クリーンルームの空気雰囲気中のガス状有機不純物を除去するために極めて有効な手段である。しかし，活性炭は消防法において指定された可燃物であり，火気には厳重な注意が必要である。このため，防災上の観点から，活性炭を使用したケミカルフィルタは天井に配置し難い。
【０００６】
また，半導体やＬＣＤの製造に利用される清浄装置は，通常，温度２３〜２５℃，相対湿度４０〜５５％の雰囲気に保たれる。しかし，活性炭はガス状有機不純物のみならず空気中の水分も相当に吸着する。このため，清浄装置への給気側に活性炭を使用したケミカルフィルタを取り付けた場合は，ケミカルフィルタの上流側においてせっかく所定の湿度に調節しても，ケミカルフィルタに使用されている活性炭が空気中の水分を吸着するので，清浄装置内の湿度が所定の値よりも低くなってしまう。湿度の低下は静電気の発生を容易にし，半導体やＬＣＤの製造に支障をきたす。
【０００７】
そして，充填筒形式の従来のケミカルフィルタは，有機物の吸着効率は高いが，圧力損失（通気抵抗）が高いという欠点を有する。一方，フェルト形状やシート形状のケミカルフィルタは通気性に優れ，吸着効率も充填筒とさほど劣らないが，濾材構成材料（例えば，不織布，有機系バインダなど）や，活性炭をシートに付着させている接着剤（例えば，ネオプレン系樹脂，ウレタン系樹脂，エポキシ系樹脂，シリコン系樹脂など）や，濾材を周囲のフレームに固着するために用いるシール材（例えばネオプレンゴムやシリコンゴム等）などから発生したガス状有機不純物がケミカルフィルタ通過後の空気中に含まれてしまい，半導体の製造に悪影響を与える可能性がある。さらに，これらフェルト形状やシート形状のケミカルフィルタは，クリーンルーム雰囲気中に含まれるｐｐｂオーダの極微量有機不純物を一旦は除去しておきながら，再びケミカルフィルタ自身から発生したガス状有機不純物を通過空気中に混入させてしまう。
【０００８】
この種のフィルタとして特開昭６１−１０３５１８号や特開平３−９８６１１号に示されるものがある。前者は粉末活性炭とエマルジョン型固着補助剤と固体酸を含む水溶液をウレタンフォームからなる基材に含浸させた後に乾燥させたフィルタであるが，エマルジョン型接着剤として示される合成ゴムラテックスやその他の水分散系の有機接着剤から，また基材であるウレタンフォーム自体からもガス状有機物の脱離が生じる。また，後者では吸着剤にバインダを併用することを必須要件とするが，このバインダとしてポリエチレンその他の有機物が示され，フィルタ自身からのガス状有機物の脱離が免れない。
【０００９】
従って本発明の目的は，防災に優れ，かつ湿度の低下が無く，さらにフィルタ自身からのガス状有機不純物の脱離がなく，しかも処理対象空気中に含まれる微量のガス状有機不純物を除去して同有機物による基板などの表面汚染を防止できるフィルタを提供することにある。更に，本発明はそのような清浄装置を提供する。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
以上の課題を解決するために，本発明にあっては，清浄装置において使用される，雰囲気中のガス状有機不純物を除去するためのフィルタであって，雰囲気中のガス状有機不純物を除去するための含有重量比ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が２０以上の疎水性のゼオライトを，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつ該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物をバインダとして用いて造粒したペレットを，側面に多数の通気口を有する二重円筒形状のケーシング内に充填し，処理空気がケーシングの内側円筒から流入して，ケーシング内のペレットの充填層を透過した後，ケーシングの外側円筒と外筒に挟まれた空間を通過するように構成し，前記ゼオライトの有効細孔径が７オングストローム以上であり，かつ前記ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する前記無機物において，１５〜３００オングストロームの範囲に分布する細孔の総容積が該無機物重量当たり０．２ｃｃ／ｇ以上であるか，または該無機物の細孔の比表面積が１００ｍ２／ｇ以上であることを特徴とするフィルタである。
【００１１】
このフィルタにあっては，例えば有効細孔径が８オングストロームのゼオライトを利用する場合，雰囲気中に含まれる例えばＢＨＴやシロキサンなどといったゼオライトでは吸着できない分子径が８オングストロームよりも大きいようなガス状有機不純物は，８オングストロームよりも大きな有効細孔径を有する無機物により除去し，例えばＤＯＰやＤＢＰなどといった分子径が８オングストロームよりも小さいガス状有機不純物はゼオライトにより除去することができるようになる。また，空気流路の形状・面積，フィルタの設置条件に応じて，ケーシングの形状・大きさ，ペレットの充填量を適宜選択し得るという設計上の融通性が得られる。
【００１２】
ここで，前記ゼオライトは疎水性である。疎水性ゼオライトは，空気中の水分吸着量が親水性ゼオライトに比べて少ないため，ゼオライト多孔質構造が有する本来の吸着容量が水分吸着によって目減りすることがない。したがって，フィルタの寿命は親水性ゼオライトよりも長いといった利点がある。
【００１３】
また，前記ゼオライトの有効細孔径が７オングストローム以上であり，かつガス状有機不純物を吸着する性質を有し，該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する前記無機物において，１５〜３００オングストロームの範囲に分布する細孔の総容積が該無機物重量当たり０．２ｃｃ／ｇ以上であるか，または該無機物の細孔の比表面積が１００ｍ２／ｇ以上であることが好ましい。そのような前記ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する前記無機物の主成分は，具体的には，多孔性粘土鉱物，けいそう土，シリカ，アルミナ，シリカとアルミナの混合物，活性アルミナ，珪酸アルミニウム，多孔質ガラスのいずれかもしくはそれらの混合物である。そして，前記多孔性粘土鉱物は，セピオライトやパリゴルスカイト等のリボン状構造の含水珪酸マグネシウム質粘土鉱物，活性白土，酸性白土，活性ベントナイト，アルミノ珪酸金属塩の微結晶とシリカ微粒子の複合物のいずれかもしくはそれらの混合物であるのが良い。いずれにせよ，前記ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有するバインダとして用いた前記無機物は，前記ゼオライトの粉末を支持体表面に機械的に担持する能力または前記ゼオライトをペレットに造粒する際の結合剤としての能力と，前記ゼオライトでは吸着不可能な前記ゼオライトの有効細孔径よりも大きな分子径を有するガス状有機不純物を吸着する能力を合わせ持つ。なお，前記フィルタを，ガス状有機不純物を発生しない素材のみから構成し，前記フィルタを，可燃物を含まない素材のみで構成することが好ましい。
【００１４】
前記無機物には無機系固着補助剤を含んでいてもよい。その場合，無機系固着補助剤は珪酸ソーダ，シリカ又はアルミナの少なくとも一つを含むことが好ましい。
【００１６】
また本発明にあっては，湿度が調節された空気を循環させる機構を備えた清浄装置において，前記空気の循環経路に，前記フィルタと，該フィルタの下流側に配された粒子状不純物を除去する粒子除去フィルタを設けたことを特徴とする。この清浄装置によれば，清浄装置内において循環している空気中のガス状有機不純物を，湿度を低下させることなく除去することが可能となる。この清浄装置は，可燃物である活性炭を使用していないので防災に優れており，従って，前記フィルタと粒子除去フィルタを，清浄装置の天井部に配置することができるようになる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下，添付図面を参照しながら本発明にかかるフィルタの好ましい実施の形態について詳細に説明する。
【００１８】
図１は，フィルタ１の概略的な分解組立図である。図示のように，隣接する波形シート１０の間に，凹凸のない薄板シート１１を挟んだ構造のハニカム構造体１２の表面全体に，粉末状のゼオライトを該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物をバインダとして用いて固着させた構成になっている。即ち，図示のようにフィルタ１は，処理空気の流通方向（図中，白抜き矢印１３で示す方向）に開口するようにアルミニウム製の外枠１５ａ，１５ｂ，１５ｃ，１５ｄを組み立て，その内部空間に粉末状のゼオライトを前記無機物をバインダとして用いて表面に固着した波形シート１０と薄板シート１１を，空気流通方向１３に略平行に交互に積層することにより構成される。フィルタ１の外形や寸法などは，設置空間に合わせて任意に設計することができる。
【００１９】
ここで，フィルタ１の製造方法の一例を説明する。先ず，無機繊維(セラミック繊維，ガラス繊維，シリカ繊維，アルミナ繊維等)と有機材料（パルプ，溶融ビニロンの混合物）と珪酸カルシウムの３つの材料を１：１：１の等重量で配合し，湿式抄紙法により約０.３ｍｍの厚みに抄造する。なお，珪酸カルシウムの代わりに，珪酸マグネシウムを主成分とするセピオライト，パリゴルスカイト等の繊維状結晶の粘土鉱物を使用してもよい。この抄造シートをコルゲータによって波形加工し，出来上がった波形シート１０を，同様の材料を薄板形状に抄造した薄板シート１１に接着剤で接着し，図１に示すようなハニカム構造体１２を得る。このハニカム構造体１２を，電気炉に入れて約４００℃で１時間程度の熱処理を行い，有機質成分がすべて除去される。有機質成分が除去された後のハニカム構造体の表面には無数のミクロンサイズの陥没穴が残るので，この陥没穴を孔とする多孔性のハニカム構造体１２を製造することができる。後にこの陥没穴に吸着剤やバインダの微粒子がはまり込むことになる。次に，ゼオライトの粉末と，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有するバインダとして用いる無機物，例えば粘土鉱物，けいそう土，シリカ，アルミナ，シリカとアルミナの混合物，珪酸アルミニウム，活性アルミナ，多孔質ガラス等を分散させた懸濁液に，このハニカム構造体１２を数分間浸した後引き上げ，約３００℃で１時間程度の熱処理で乾燥して，図２に示すように，ハニカム構造体１２を構成する波形シート１０及び薄板シート１１の表面にゼオライトの粉末をバインダとして用いた無機物で固着させて吸着層２０を形成することにより，フィルタ１を得ることができる。前記懸濁液には無機系固着補助剤，例えば珪酸ソーダ又はシリカゾル又はアルミナゾルを少なくとも一つ含んでいてもよい。無機系固着補助剤の役割は，ゼオライトの粉末とバインダとして用いる無機物が，ハニカム構造体１２の表面（ハニカム構造体１２の要素となるセルの内表面を含む（以下同様））に強固に固着するための補助剤として機能する。こうして得られたフィルタ１は，構成材料に可燃物を含まないし，フィルタが熱処理される際に構成材料に含まれていた表面汚染の原因となるガス状有機不純物成分がすべて脱離・除去されるため，フィルタ１自身からガス状有機不純物を発生することもない。
【００２０】
また，フィルタ１の別の製造方法を説明する。ハニカム構造体１２を製作するまでは，前述の製造方法と同じであるので省略する。この製造方法では，ハニカム構造体１２の表面に，ゼオライトの粉末を造粒して製造したペレットを接着剤で付着させることを特徴とする。ゼオライト粉末を造粒する際には，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物をゼオライト同士のバインダとしてゼオライト粉末に混合した。ゼオライトの粉末とバインダとして用いた無機物を，適量の水と無機系固着補助剤を含んだ状態で混合すると粘土状の粘性と可塑性を示すようになり，造粒が可能となる。バインダとして用いる無機物や無機系固着補助剤の種類は先に説明した製造方法と同様である。
【００２１】
さらに，フィルタ１の別の製造方法を説明する。ハニカム構造体１２を製作するまでは，前述の製造方法と同じであるので省略する。この製造方法でも，ハニカム構造体１２の表面に，ゼオライトの粉末を無機物のバインダと混合して造粒して製造したペレットを，接着剤で付着させることを特徴とする。ただし，無機物のバインダは，前述の製造法のように「ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する」ことを必ずしも必要としない。前述の製造法と全く異なる点は，ペレットの表面の構造である。ペレットの表面には，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物がコーティングされている。
【００２２】
図３は，無機物をバインダとして用いてゼオライトを造粒したペレット２１をハニカム構造体１２を構成する波形シート１０及び薄板シート１１の表面に固着させた構成のフィルタ１の断面部分拡大図である。波形のシート１０と薄板シート１１の表面全体に隅なく，ゼオライトを無機物をバインダとして用いて造粒したペレット２１を不燃性接着剤で固着する。処理空気は，この実施の形態では，疑似半月形の断面形状をした細い筒部１７を通過することになる。そして，このようにペレット２１を固着したハニカム構造体１２を，電気炉に入れて接着剤の耐熱温度以下の約１００℃で２時間程度の熱処理を行い，接着剤に含まれる表面汚染の原因となるガス状有機不純物成分をすべて脱離・除去することにより，フィルタ１を製造することができる。
【００２３】
このようにして製造されるフィルタ１は，構成材料に可燃物を含まないため，フィルタ１を天井面に取り付けた場合，可燃物である活性炭をベースとした従来のケミカルフィルタを天井面に取り付けた場合と比較して，防災上の安全性は著しく高まる。なお，処理空気を通過させる空間の断面形状は，以上のような半月形状に限らず，任意の形状とすることができる。
【００２４】
半導体基板やガラス基板の製造を行う様々な清浄装置，例えばクリーンルーム，クリーンベンチ，クリーンチャンバ，清浄な製品を保管するための各種ストッカなど様々な規模の清浄装置や，ミニエンバイロメントと称する局所的な清浄装置においては，種々のガス状有機不純物が発生する。しかし，基板表面汚染の原因となるのは高沸点・高分子の有機化合物に限られる。例えば，クリーンルームのシーラントから発生する有機物シロキサン，建材中の難燃剤から発生するリン酸エステル，建材中の可塑剤から発生するフタレート，レジスト密着剤から発生するＨＭＤＳ，カセット酸化防止剤から発生するＢＨＴなどである。ゼオライト，とりわけモレキュラーシーブと呼ばれる合成ゼオライトは均一な有効細孔径を有し，その有効細孔径よりも大きなガス分子を吸着することは不可能である。例えば，有効細孔径が８オングストロームのゼオライトで基板表面汚染の原因となるＤＯＰやＤＢＰを吸着することは可能である（なぜならば，ＤＯＰやＤＢＰはその大きさが８オングストロームよりも小さいからである。）。しかし，有効細孔径が８オングストロームのゼオライトで基板表面汚染の原因となるＢＨＴやシロキサンを吸着することは不可能である（なぜならば，ＢＨＴやシロキサンはその大きさが８オングストロームよりもかなり大きいからである）。図示のフィルタ１では，このようにゼオライトでは吸着できないＢＨＴやシロキサンなどを，ゼオライトのバインダとして用いる無機物の吸着作用で吸着除去することが可能となる。
【００２５】
また，ゼオライト結晶には自己結合性がないため，ゼオライトの粉末をペレットに成型したり，ハニカム構造体１２の表面に層状に固着させるためには，バインダを添加しなければならない。従来このバインダには，タルク，カオリン鉱物，ベントナイトのような粘土鉱物が一般に利用されてきた。これら従来の各バインダの１５〜３００オングストロームの範囲に分布する細孔の総容積（各バインダ重量当たり）はそれぞれ０．０７ｃｃ／ｇ，０．０６ｃｃ／ｇ，０．０３ｃｃ／ｇであり，各バインダの細孔の比表面積はそれぞれ２８ｍ２／ｇ，２１m２／ｇ，２３ｍ２／ｇに過ぎない。
【００２６】
従来使用されてきたこれらのバインダは通気性を重視し，隣接したバインダ微粒子同士または隣接したバインダ微粒子とゼオライト微粒子の間隙部分に形成される通気孔の主要な大きさは５００オングストローム以上であった。つまり，通気孔は通気性は極めて良くても物理吸着を起こしにくいマクロ孔であった。また，タルク，カオリン鉱物，ベントナイトといったバインダ微粒子自体の表面にも物理吸着を起こしやすい細孔はあまり存在しなかった。これは，バインダは単にゼオライトの粉末を支持体表面に機械的に担持するために利用するべきもので，吸着能力を高めるにはゼオライトの担持量を出来得る限り多くし，バインダのゼオライトに対する含有割合は出来得る限り少ない方がよいという考えによる。つまり，バインダには，ゼオライト粉末の担持能力と，担持されたゼオライトの粉末表面に処理対象ガスが到達しやすいよう優れた通気能力が要求されており，吸着能力は要求されていなかった。
【００２７】
これに対して，図示のフィルタ１は，隣接したバインダ微粒子同士または隣接したバインダ微粒子とゼオライト微粒子の間隙部分に形成される通気孔は従来のバインダと変わらないが，バインダ微粒子自体の表面に物理吸着を起こしやすい細孔，つまり孔径が２０オングストローム以下の大きさの細孔であるミクロ孔や，孔径が２０オングストローム以上５００オングストローム以下の大きさの細孔であるメソ孔が存在するため，ゼオライトでは吸着できないＢＨＴやシロキサンはバインダ微粒子自体の表面で吸着除去される。しかもゼオライトの粉末表面に処理対象ガスが到達しやすいよう優れた通気性も有るため，ゼオライトの選択吸着特性，つまりゼオライトの細孔径よりも大きな分子は吸着しないが細孔径よりも小さな分子は吸着してその吸着性能も極めて優れているという特性は従来と同様に発揮される。なお，ガス状分子の物理吸着のしやすさは，ミクロ孔，メソ孔，マクロ孔の順であり，マクロ孔はほとんど物理吸着に関与しないといわれている。図４は，ゼオライトの粉末を無機物のバインダ微粒子で支持体表面に担持した吸着層について示した吸着層断面の部分拡大図である。処理対象ガスは，吸着層の表面(処理対象ガスとの接触面)から，ゼオライト微粒子とバインダ微粒子との間に形成される通気孔をかいくぐるように，吸着層内部に入り込んだり，逆に吸着層内部から外部に出て行ったりする。その際，ゼオライト微粒子とバインダ微粒子のそれぞれの表面に存在する細孔にガス状有機不純物の分子が入り込んで吸着除去される。
【００２８】
ゼオライトの有効細孔径よりも大きな主としてメソ孔領域又はミクロ孔領域の細孔を有する無機物をバインダとして用いてゼオライトの粉末をハニカム構造体１２に吸着層２０として固着させてフィルタ１を構成したり，同様の前記無機物のバインダによりゼオライトの粉末をペレット２１に成型してこのペレット２１をハニカム構造体１２の表面に固着させてフィルタ１を構成する。また図５にＡ−Ａ断面，Ｂ−Ｂ断面を示すように，ゼオライトの有効細孔径よりも大きな主としてメソ孔領域又はミクロ孔領域の細孔を有する無機物のバインダによりゼオライトの粉末をペレット２１に成型し，このペレット２１を側面に多数の通気口２３を有する二重円筒形状のケーシング２２内に充填してフィルタ１’を構成することによって，本発明の目的を達成できる。処理空気はケーシング２２の内側円筒から流入し，ケーシング２２内のペレット２１の充填層を透過した後，ケーシング２２の外側円筒と外筒２４に挟まれた空間を通過して出ていく。処理空気の流通方向は矢印１３で示した。
【００２９】
例えば，大きさが数μｍの粉末状の細孔径８オングストロームの合成ゼオライトを，数μｍの粉末状の酸処理モンモリナイト(活性白土)のバインダと混合してハニカム構造体１２の表面に固着するか，この混合物をペレット２０に成型してハニカム構造体１２の表面に固着するか，ケーシング内に充填して，本発明のフィルタ１や１’を製作することができる。なお，モンモリナイトとはフランスのモンモリオンで産出したＡｌ４Ｓｉ８（ＯＨ）４・ｎＨ２Ｏなる化学組成の粘土鉱物に付けられた名称であり，モンモリナイトを酸処理すると，細孔径が１５〜３００オングストロームの細孔容積が約０．３７ｃｃ／ｇ，比表面積が約３００ｍ２／ｇ程度となる。細孔容積全体に占める細孔径が４０オングストローム〜６００オングストロームの範囲の細孔容積の割合は２２％もあり，酸処理モンモリナイト(活性白土)を細孔径８オングストロームの合成ゼオライトのバインダとして利用することで，ゼオライトでは吸着できない分子の大きさが８オングストロームよりも大きいＢＨＴやシロキサンを該バインダの細孔内に物理吸着することができる。
【００３０】
粉末状ゼオライトのバインダとして従来使用されてきたタルクやカオリナイトは結晶子サイズが大きく，マクロ孔域の容積は大きいが，ミクロ孔域やメソ孔域の内部表面積や容積は小さく，物理吸着能力も小さい。また，粉末状ゼオライトのバインダとして従来使用されてきたベントナイトもマクロ孔域の容積は大きいが，ミクロ孔域やメソ孔域の内部表面積や容積は小さく，物理吸着能力も小さい。一方，繊維状の多孔性粘土鉱物であるセピオライトの細孔は１０オングストロームのミクロ孔と２００オングストロームのメソ孔から成り，ミクロ孔域やメソ孔域の内部表面積や容積は大きく物理吸着能力も大きい。酸処理モンモリナイト(活性白土)や，合成スチブンサイトや，合成アメサイトや，合成フライポンタイトや，合成フライポンタイトのようなアルミノ珪酸金属塩の微結晶とシリカ微粒子の複合物，などの多孔性粘土鉱物も，セピオライトと同様，物理吸着能力が大きい。これらの多孔性粘土鉱物はいずれも，１５オングストローム〜３００オングストロームの範囲に分布する単位重量当たりの細孔容積が０．２ｃｃ／ｇ以上であり，また比表面積は１００ｍ２／ｇ以上である。繊維状の多孔性粘土鉱物であるセピオライトやパリゴルスカイト，酸処理モンモリナイト(活性白土)，多孔性の各種合成粘土等は，後述するように第２の吸着層として好適に利用できる。
【００３１】
ここで，清浄装置内の基板表面から検出される有機汚染物のうちで最も量が多い種類はＤＯＰとＤＢＰである。これらは塩化ビニル素材に大量に含まれており，分子径は６オングストローム〜８オングストロームの範囲にある。したがって，ゼオライトの細孔径を７オングストローム以上にすれば，基板表面有機汚染の原因となるガス状有機物のうちで最も量が多い種類のＤＯＰとＤＢＰはゼオライトで除去される。一方，ゼオライトの有効細孔径よりも大きな分子径のガス状有機不純物は，該ゼオライトのバインダとして，該ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物を用いることにより，除去される。
【００３２】
また，ゼオライト結晶の水や極性物質に対する強い吸着力は，骨格中のアルミニウム原子数に対応するカチオンの静電気力に依存する。結晶中のシリカ（ＳｉＯ２)とアルミナ(Ａｌ２Ｏ３)の含有重量比ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が大きくなるに従い結晶中のカチオンの数は減少し，疎水性が増大する。ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が２〜５程度では親水性を示すのに対して，ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が２０以上無限大までのゼオライトでは親水性は減少し，疎水性が勝ってくる。
【００３３】
図６に，含有重量比ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３とゼオライト１００g当たりの水の吸着量（ｃｃ/１００ｇ）の関係を示す。ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が２０以上で水の吸着量は低下し，８０以上ではほとんど吸着しない。さらに，ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が４０の疎水性ゼオライトについて，水の等温吸着線図を図７に示す。比較のため，椰子殻を原料とした活性炭についても水の等温吸着線図を図７に示す。相対湿度５０％において，活性炭(ｇ)への水分吸着量(ｃｃ)は０.１１ｃｃ／ｇ，疎水性ゼオライト(ｇ)への水分吸着量(ｃｃ)は０.０３ｃｃ／ｇであった。ゼオライトが水を吸着すると，ゼオライトのガス状有機物に対する吸着容量は，吸着水がない場合と比較して，吸着水の容積分だけ減ってしまうため，吸着能力が持続する時間，つまり吸着剤としての寿命がそれだけ短くなる。つまり，通常の相対湿度３０〜６０%の清浄装置内でガス状有機物を吸着除去するために使用するゼオライトは疎水性であることが望ましい。
【００３４】
一方，本発明では親水性ゼオライトを使用しても良い。クリーンルームやクリーンベンチの空気雰囲気中においてハンドリングされるシリコンウェハには多少の差はあっても表面に自然酸化膜が形成されており，したがってそのウェハ表面は親水性である。また，同空気雰囲気中においてハンドリングされるガラス基板もガラス自体の物性により親水性であることはよく知られている。このような自然酸化膜が形成されたシリコンウェハやガラス基板の親水性表面を汚染する空気雰囲気由来の有機物は，親水性表面とよく馴染む親水基を有している。つまり，先に説明した表面汚染の原因となる有機物は，炭素の二重結合やベンゼン環の化学構造を有する高沸点・高分子の疎水性有機物であり，当然疎水基を有している。しかし，これらの有機物は表面汚染の原因となる親水基も同時に有している。このようにシリコンウェハなどの電子材料が親水性であり，また，吸着すべき有機物が親水基を有することから，親水性ゼオライトも利用可能となる。
【００３５】
親水性ゼオライトではシリカ／アルミナ比は２〜５程度であり，疎水性ゼオライトではシリカ／アルミナ比は２０から無限大である。疎水性ゼオライトは親水性ゼオライトよりも有機物の吸着素材としての寿命が長いが，疎水性ゼオライトは親水性ゼオライトを原料として酸処理による脱アルミニウム処理とその後の加熱乾燥という工程を経て製造されるため，親水性ゼオライトよりも価格が高い。親水性ゼオライトには量産によるコストダウンが容易であるのに対して，疎水性ゼオライトのコストダウンは難しい。
【００３６】
また，ゼオライトと，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつ該ゼオライトの有効細孔径よりも大きなメソ孔領域またはミクロ孔領域の有効細孔径を有する無機物をバインダとして用いて該ゼオライトの粉末を造粒したペレットを支持体に固着するために用意しておく態様では，該ゼオライトと該無機物の両者の粉末に例えば市水を混ぜて粘土状とし，０．３〜０．８ｍｍ程度のペレットに造粒機にて造粒する。これを予め無機系かつ不燃性の接着剤を付着させた支持体に高速空気を利用して吹き付けることで図３に示したようなフィルタを製作できる。支持体としては必ずしもハニカム構造に限らず，ロックウール等の三次元網目構造体を例示できる。後者では被処理空気が網目構造体を横切って通過するため，空気抵抗は大きいが，吸着剤との接触機会はハニカム構造体よりもむしろ多くなる。
【００３７】
次に，図８は，他のフィルタ３１の概略的な分解組立図である。なお，このフィルタ３１において，ハニカム構造体１２自体の構成は先に図１で説明した空調用ィルタ１の構成と同様であるため，同じ構成要素については図８において図１と同じ符号を付することにより詳細な説明は省略する。
【００３８】
このフィルタ３１では，図９に示すように，波形シート１０と薄板シート１１を積層したハニカム構造体１２の表面に，ガス状有機不純物を吸着する性質を有し，かつゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有する無機物をバインダとして用いてゼオライトを固着させて第１の吸着層２５を形成し，更にその表面に同様の無機物を固着させて第２の吸着層２６を形成した構成になっている。なお，フィルタ３１の外形や寸法などは，設置空間に合わせて任意に設計することができる。ただし，第１の吸着層２５を形成する際に使用するバインダとしての無機物は，第２の吸着層２６を形成する際に使用する無機物とは異なり，必ずしもガス状有機不純物を吸着する能力を必要とはしない。また，ゼオライトの有効細孔径よりも小さな有効細孔径を有してもよい。例えば，従来使用されてきた物理吸着に関与する細孔をほとんど有さないタルク，カオリン鉱物，ベントナイトのような粘土鉱物であってもよい。また，珪酸ソーダ，シリカゾル，アルミナゾルのような無機系固着補助剤そのものであってもかまわない。図１０は，第１の吸着層と第２の吸着層からなる複合吸着層断面の部分拡大図である。
【００３９】
ここで，フィルタ３１の製造方法の一例を説明する。先ず，多孔性のハニカム構造体１２を製造する。吸着層を形成する前までは先に説明した方法と同様であり省略する。つぎにゼオライトの粉末と，従来使用されてきたタルク，カオリン鉱物，ベントナイトのような粘土鉱物のバインダを分散させた懸濁液に，ハニカム構造体１２を数分間浸した後，約３００℃で１時間程度の熱処理で乾燥して，第１の吸着層２５を形成する。つぎにゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有し，かつガス状有機不純物を吸着する性質を有する無機物，例えば多孔性粘土鉱物，けいそう土，シリカ，アルミナ，シリカとアルミナの混合物，珪酸アルミニウム，活性アルミナ，多孔質ガラス等の微粒子をバインダとして分散させた懸濁液に，第１の吸着層を形成した後のハニカム構造体１２を数分間浸した後，約３００℃で１時間程度の熱処理で乾燥して，第２の吸着層２６を形成する。前記多孔性粘土鉱物としては，セピオライトやパリゴルスカイト等のリボン状構造の含水珪酸マグネシウム質粘土鉱物，活性白土，酸性白土，活性ベントナイト，アルミノ珪酸金属塩の微結晶とシリカ微粒子の複合物等がある。こうして第１の吸着層２５の上に第２の吸着層２６をコーティングしたハニカム構造体１２を得ることができる。第１の吸着層２５と第２の吸着層２６を形成する際に使用される無機物は無機系固着補助剤，例えば珪酸ソーダまたはシリカゾルまたはアルミナゾルを少なくとも一つ含んでいてもよい。無機系固着補助剤の役割は，第１の吸着層２５を形成しているゼオライトの粉末や無機バインダが，ハニカム構造体１２の孔などに強固に固着するための補助剤として機能したり，さらに第２の吸着層２６を形成している無機物が第１の吸着層２５に強固に固着をするための補助剤として機能する。こうして得られたハニカム構造体１２は，構成材料に可燃物を含まないし，ハニカム構造体１２が熱処理される際に構成材料に含まれていた表面汚染の原因となるガス状有機不純物成分がすべて脱離・除去されるため，ハニカム構造体１２自身からガス状有機不純物を発生することもない。さらに，図８に示された外枠１５の素材にはアルミニウムのようなガス状有機物を発生せずかつ可燃物を含まない素材を使用することが好ましい。また，ハニカム構造体１２を外枠１５に固定する目的やハニカム構造体１２と外枠１５との間隙部分を塞ぐ目的に使用する接着剤やシール剤も，ガス状有機物を発生せずかつ可燃物を含まない特性を有するものであることが好ましい。この場合例えば，ハニカム構造体１２に外枠１５を取り付けて組み立てを完了したフィルタ３１全体に熱処理を施して，フィルタ３１の構成材料である不燃性の接着剤やシール剤から表面汚染の原因となるガス状有機不純物成分をすべて脱離・除去してもよい。こうして，フィルタ３１全体を，可燃物を含まない素材のみで構成したり，ガス状有機不純物を発生しない素材のみから構成したりすることができる。
【００４０】
また，フィルタ３１の別の製造方法を説明する。前述の製造方法で製作されるハニカム構造体やロックウールなどの三次元網目構造体を支持体として利用する。そしてこの製造方法例では，支持体の表面に，粒状のゼオライトを接着剤で付着させる。粒状のゼオライトについては，ゼオライトの粉末に無機物をバインダとして混合し，成型してペレット形状とする。該ペレットの周囲に，ゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径を有し，ガス状有機不純物を吸着する性質を有する無機物をコーティングして被覆層を形成した被覆層付きゼオライトペレットを予め準備しておく。このペレットの製作の仕方は，無機物の被覆層を形成するため，コーティング用の無機物を分散した懸濁液にペレット形状に成型したゼオライトを浸した後，引き上げ・乾燥して行われる。被覆層の機械的強度を増すため，該懸濁液にはコーティング用の無機物とともにゾル状の無機系固着補助剤を分散させて，ペレットにコーティングされた該無機物に無機系固着補助剤が含まれるようにしてもよい。コーティングされた該無機物や無機系固着補助剤の種類は前述したとおりである。
【００４１】
なお，ゼオライト等の吸着剤を固着させる支持体の構成は，先に図１，８で説明したようなハニカム構造体１２に限られないことはもちろんである。例えば，図１，８では薄板シート１１を挟んで配置した波形シート１０の稜線の方向を処理空気の流通方向（矢印１３の方向）と平行に配置しているが，波形シート１０の稜線の方向を処理空気の流通方向（矢印１３の方向）と適当な角度を持って配置しても良い。また，図１，８では隣接する波形シート１０の稜線の方向を互いに平行になるように配置しているが，隣接する波形シート１０の稜線の方向が互いに交差するように配置させることもできる。その場合は，隣接する波形シート１０同士の稜線がぶつかって隣接する波形シート１０同士が密接する心配がなくなるので，薄板シート１１を省略することもできる。なお，このように図１，８で説明したようなハニカム構造体１２と異なる支持体を構成した場合でも，先と同様の方法によってその表面にゼオライトを固着することが可能である。
【００４２】
図１１は，本発明の実施の形態にかかる清浄装置１０１の構成を概略的に示す説明図である。この清浄装置１０１は，具体的には，例えばクリーンルームやクリーンベンチなどである。清浄装置１０１は，例えばＬＳＩやＬＣＤなどの製造を行うための処理空間１０２と，この処理空間１０２の上下に位置する天井部（サプライプレナム）１０３及び床下部（レタンプレナム）１０４と，処理空間１０２の側方に位置するレタン通路１０５から構成される。
【００４３】
天井部１０３には，ファンユニット１１０と，先に説明したフィルタ１もしくはフィルタ３１のいずれかと，フィルタ１，３１の下流側に配された粒子状不純物を除去する粒子除去フィルタ１１２を有するクリーンファンユニット１１３が配置されている。処理空間１０２には，熱発生源となる例えば半導体の製造装置１１４が設置されている。床下部１０４は多数の孔が穿孔されたグレーチング１１５で仕切られている。また，床下部１０４には，半導体製造装置１１４の熱負荷を処理するためのドライコイル１１６が設置されている。ドライコイル１１６は，熱交換表面に結露を生じさせない条件で空気を冷却する空気冷却器を意味する。レタン通路１０５に温度センサ１１７が設置されており，この温度センサ１１７で検出される温度が所定の設定値となるように，ドライコイル１１６の冷媒圧調整弁１１８が制御される。
【００４４】
そして，クリーンファンユニット１１３のファンユニット１１０が稼働することによって，適宜気流速度が調整されながら，清浄装置１０１内部の空気は，天井部１０３→処理空間１０２→床下部１０４→レタン通路１０５→天井部１０３の順に流れて循環するように構成されている。またこの循環中に，ドライコイル１１６によって冷却され，クリーンファンユニット１１３内のフィルタ１もしくはフィルタ３１のいずれかと，粒子除去フィルタ１１２によって空気中のガス状有機不純物と粒子状不純物が除去されて，適温で清浄な空気が処理空間１０２内に供給されるようになっている。
【００４５】
粒子除去フィルタ１１２はフィルタ１，３１の下流側に配されており，この粒子除去フィルタ１１２は粒子状不純物を除去することが可能な機能を有している。また粒子除去フィルタ１１２は，ガス状有機不純物を発生しない素材のみで構成されている
【００４６】
また，清浄装置１０１の床下部１０４内には，取り入れ外気が回路１２０を経て適宜供給される。この回路１２０には，取り入れ外気からガス状有機物を除去するための，親水性ゼオライトを備えたフィルタ１２１が配されており，フィルタ１２１の上流側には，取り入れ外気の除塵・調温・調湿を行うユニット型空調機１２２が設けられている。また，回路１２０には湿度センサ１２７が配置されており，この湿度センサ１２７で検出される湿度が所定の設定値となるように，ユニット型空調機１２２の調湿部の給水圧調整弁１２９が制御される。一方，処理空間１０２内には湿度センサ１２８が設置されており，この湿度センサ１２８で処理空間１０２内の雰囲気の湿度が検出される。
【００４７】
回路１２０から清浄装置１０１の床下部１０４に供給された取り入れ外気は，レタン通路１０５及び天井部１０３を経由して，処理空間１０２に導入される。そして，この取り入れ外気に見合った空気量が，排気口１２５から排気ガラリ１２６を介して室外に排気される。
【００４８】
粒子除去フィルタ１１２は，通常の中性能フィルタやＨＥＰＡフィルタ，ＵＬＰＡフィルタでは，濾材に揮発性有機物を含むバインダを使用しているのでバインダからの脱ガスがある。したがってバインダを使用しない濾材を用い，あるいはバインダを使用していても焼きだしなどの処理により揮発性有機物を除去した濾材を用い，さらに濾材をフレームに固定する手段であるシール材にも脱ガスの発生のない種類を選択したり，あるいは濾材を脱ガスのない素材で物理的に圧着してフレームに固定することが望ましい。
【００４９】
次に，本発明の他の実施の形態にかかる清浄装置１０１’を図１２に示した。この図１２に示す清浄装置１０１’は，先に説明したフィルタ１もしくはフィルタ３１を清浄装置１０１’の天井部１０３全面に取り付けるのではなく，所々間引いて設置している。本例では，図１１と比較してフィルタ１，３１の設置台数を半分にした。その他の点は，先に図１１において説明した清浄装置１０１と同様の構成である。従って，図１２に示す清浄装置１０１’おいて，先に図１１で説明した清浄装置１０１と同じ構成要素については同じ符号を付することにより，詳細な説明は省略する。
【００５０】
半導体の製造などを行う清浄装置において発生する，基板表面汚染の原因となる有機物は，シーラントから発生する有機物シロキサン，建材中の難燃剤から発生するリン酸エステル，建材中の可塑剤から発生するフタレート，レジスト密着剤から発生するＨＭＤＳ，カセット酸化防止剤から発生するＢＨＴなどの高沸点・高分子の有機化合物に限られる。これらの有機物の発生源はクリーンルームなどといった清浄装置の構成部材もしくは清浄装置内部に存在する製造に利用する種々の物品であり，取り入れ外気に由来するものはあまりない。したがって，フィルタ１，３１の役割は，主として清浄装置内部で発生する表面汚染の原因となる高沸点・高分子の有機化合物を循環空気中から除去し，清浄装置内部のこれら有機物濃度を低減することである。フィルタ１，３１を備えた清浄装置を稼働すると，稼働初期に清浄装置内部の有機物濃度は最も高く，稼働時間の経過とともに，循環空気中からこれら有機物が逐一除去されて，濃度は低下していき，遂には清浄装置内部の発生量と平衡する濃度で安定化する。空気が１回循環する際に除去される有機物量は，天井全面に取り付けた図１１の清浄装置１と，フィルタ１，３１を間引いた図１２の清浄装置１０１’を比較すると，２：１の関係がある。つまり，稼働初期の最高濃度から，清浄装置内部の発生量と平衡する濃度まで達するまでの時間は，間引いた図１２の清浄装置１０１’の場合は天井全面に取り付けた図１１の清浄装置１０１の場合よりも相当に長くなる。また，最終的に到達する平衡濃度も，間引いた場合は天井全面に取り付けた場合よりも少し高くなる。つまり，間引くと濃度の低減に時間がかかり，低減後の平衡濃度も間引かない場合よりも少し高くなるという短所はあるが，フィルタ１，３１のイニシャルコストや定期的交換に伴うランニングコストを安くしたいという経済的要望から，この図１２に示す例の構成とすることもできる。
【００５１】
【実施例】
次に，以上に説明した本発明の実施の形態にかかるフィルタの作用効果を説明する。まず，クリーンルーム中において，粒状活性炭と繊維状活性炭をそれぞれ使用した市販のケミカルフィルタ２種とイオン交換繊維を使用したケミカルフィルタのそれぞれにより処理したクリーンルームエアと，参考例のフィルタにより処理したクリーンルームエアの計４つの雰囲気中で，酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角の経時変化を測定した。その結果を図１３に示した。参考例にかかるフィルタはつぎのようにして製作した。吸着剤としての有効細孔径が８オングストロームでＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３が４０の疎水性ゼオライトの４μｍの粉末を，前記無機物としてのカオリナイトの３μｍの粉末と混合し，無機系固着補助剤としてのシリカゾルと共に分散させたスラリーに前述の多孔性ハニカム構造体を浸した後，乾燥して第１の吸着層を形成した。つぎに，ガス状有機不純物を吸着する性質を有する無機物として有効細孔径が主として２０オングストローム〜１０００オングストロームに分布した活性白土の３μｍの粉末を，無機系固着補助剤としてのシリカゾルと共に分散させたスラリーに，第１の吸着層が形成された前述のハニカム構造体を再度浸した後，乾燥して第２の吸着層を形成した。
【００５２】
図１３に示す接触角は，基板の表面に超純水を滴下して測定した。この接触角は，基板表面の有機物汚染の程度を簡便に評価する指標である。洗浄直後の有機物汚染のない酸化膜付きシリコンウェハやガラスの表面は水に馴染みやすい性質，つまり親水性であり，接触角は小さい。ところが，有機物で汚染されたそれらの表面は水をはじく性質，つまり疎水性であり，接触角は大きくなる。例えば，クリーンルーム雰囲気中に放置されたガラス基板表面を対象に，超純水滴下による接触角の測定値と，Ｘ線光電子分光法(ＸＰＳ：Ｘ−ｒａｙ  Ｐｈｏｔｏｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｓｐｅｃｔｒｏｓｃｏｐｙ）により測定した有機物表面汚染は，図１４に示すような相関関係があることが知られている。酸化膜付きシリコンウェハの表面についても，接触角と有機物表面汚染の間にはほぼ同様の相関関係がある。このように，基板表面における水の接触角の大きさと有機物表面汚染の間には極めて強い相関がある。
【００５３】
図１３の結果からつぎのことが分かる。イオン交換繊維は本来水溶性無機不純物を吸着除去するためのものであり，有機物を吸着できず，逆にガス状有機物を発生する。１日放置で約１０゜の接触角の増加が見られる。本来有機物表面汚染を防止するはずの活性炭フィルタ２種は，１日放置で約１０゜の接触角の増加となり，表面汚染防止効果はほとんどない結果を示した。活性炭を利用した２種のケミカルフィルタに効果が見られない理由は，バインダ，固着補助剤，シール剤等の表面有機汚染物質がケミカルフィルタの構成部材に含まれるため，折角の活性炭吸着効果が自身の構成部材脱ガスにより打ち消されてしまったためである。一方，参考例のフィルタでは，吸着濾材自身からガス状有機不純物を発生することはないので，有機物表面汚染は発生せず，接触角も増加しない。
【００５４】
つぎに細孔径６オングストロームの疎水性ゼオライト，細孔径８オングストロームの疎水性ゼオライト，椰子殻を出発原料とする天然物系活性炭，石油ピッチを出発原料とする合成物系活性炭の４種の吸着剤を対象に，クリーンルーム雰囲気中(２３℃，４０％ＲＨ)に含まれる表面汚染の原因となる微量有機物の吸着性能を比較した。クリーンルームエア中に含まれる表面汚染の原因となる微量有機物は主として塩化ビニル素材に起因するＤＯＰやＤＢＰである。それぞれの吸着剤０.０４ｇを断面積０.１５ｃｍ２のカラムに充填し，クリーンルームエアを３リットル／ｍｉｎ通気した。実験条件を表１に示す。
【００５５】
【表１】
0004014909.tif 000002
【００５６】
洗浄直後の有機物汚染のない酸化膜付きシリコンウェハを，吸着剤に通気する前のクリーンルームエアに曝した場合４０と，吸着剤に通気後のクリーンルームエアに曝した場合(４１：６オングストローム疎水性ゼオライト,４２：８オングストローム疎水性ゼオライト,４３：天然物系活性炭,４４：合成物系活性炭)の接触角の変化を図１５に示す。図中の接触角は，洗浄直後のウェハ表面を対象となるエアに２０時間暴露した後のそのウェハ表面に対する測定値である。なお，洗浄直後のウェハ表面に対する接触角の測定値は３°であった。図１５からつぎのようなことがわかる。吸着性能は，４２＞４３＞４１＞４４の順である。特に４４：合成物系活性炭が悪い。４１：６オングストローム疎水性ゼオライトと４３：天然物系活性炭は，通気時間が５０時間を越えるあたりから吸着性能の低下が始まる。４２：８オングストローム疎水性ゼオライトと４４：合成物系活性炭は，通気時間が２００時間まで吸着性能は低下しない。吸着性能が低下しない使用初期において，４１：６オングストローム疎水性ゼオライトと４２：８オングストローム疎水性ゼオライトを比較すると，６オングストロームが３゜→６．４゜の変化に対して，８オングストロームは３゜→３．１゜の変化であった。８オングストローム疎水性ゼオライトはクリーンルーム雰囲気中に含まれる表面汚染の原因となる微量有機物をほぼ完全に吸着除去できるのに対して，６オングストローム疎水性ゼオライトは吸着除去できずに通過してしまう表面汚染の原因となる微量有機物があるということがわかる。４２：８オングストローム疎水性ゼオライトおよび４３：天然物系活性炭の吸着性能は，４１：６オングストローム疎水性ゼオライトおよび４４：合成物系活性炭の吸着性能よりもはるかに良い。ゼオライトは，細孔径よりも大きな分子を吸着することはできない。従って，４２：８オングストローム疎水性ゼオライトでクリーンルーム雰囲気中に含まれる表面汚染の原因となるＤＯＰやＤＢＰの微量有機物をほぼ完全に吸着除去できたということは，表面汚染の原因となるこれら微量有機物の分子サイズが８オングストローム以下であるということで理解できる。一方，４１：６オングストローム疎水性ゼオライトは４４：合成物系活性炭と比較するとほぼ満足できる吸着性能があるものの，わずかに吸着除去できずに通過する表面汚染の原因となる微量有機物があるということは，この通過した微量有機物の分子サイズが６オングストローム以上８オングストローム以下であるということを示す。
【００５７】
次に，支持体の表面に疎水性ゼオライトを第１の吸着層とし，活性白土を第２の吸着層として固着させたハニカム構造体のフィルタに，ＤＯＰ，ＤＢＰ，ＢＨＴ，５量体のシロキサン（Ｄ5）をそれぞれ数百ｐｐｔから数ｐｐｂ含むクリーンルームエアを通気させた場合のフィルタの上流側と下流側のそれぞれの雰囲気中に設置したシリコンウェハ表面の有機物汚染量をガスクロマトグラフィ−マススペクトロメトリ（ＧＣ−ＭＳ）により測定して比較し，表面汚染防止効果を評価した。その結果を表２に示す。
【００５８】
【表２】
0004014909.tif 000003
【００５９】
評価には，４インチのｐ型シリコンウェハを用いた。洗浄後のウェハをフィルタの上流側と下流側でそれぞれ曝露し，表面汚染を測定した。ウェハ表面に付着した有機物の分析・測定には，昇温ガス脱離装置とガスクロマトグラフ質量分析装置を組み合わせて用いた。また，ガスクロマトグラフに基づいて次のようにして表面汚染防止率を求めた。
【００６０】
表面汚染防止率  ＝  （１−（Ｂ／Ａ））×１００  （％）
Ａ  ：上流側のウェハ表面から検出された汚染有機物質のピークの面積
Ｂ  ：下流側のウェハ表面から検出された汚染有機物質のピークの面積
【００６１】
フィルタは，図１，８に示したように，隣接する波形シートの間に凹凸のない薄板シートを挟んだ構造を有する。フィルタの通気方向の厚みは１０ｃｍ，通気風速は０．６ｍ／ｓ，フィルタに通気する処理空気が接触するフィルタ単位体積当たりのシート総表面積は３０００ｍ2／ｍ3であった。参考例のフィルタは，細孔径が８オングストローム，大きさが３〜４μｍの疎水性ゼオライトの粉末に３μｍのカオリナイト(カオリン鉱物の一種)の粉末をバインダとして混合して，シリカゾルを無機系固着補助剤として共に分散させたスラリーに，前述の多孔性ハニカム構造体を浸した後乾燥して，ハニカム構造体に疎水性ゼオライトを第１の吸着層として固着させた。さらに数μｍの粉末状の酸処理モンモリナイト（活性白土）のバインダを無機系固着補助剤であるシリカゾルと共に分散させたスラリーに，第１の吸着層が形成された多孔性ハニカム構造体を浸した後乾燥して，第２の吸着層として固着させた。第１の吸着層の厚みは１００μｍ，その重量組成比は，疎水性ゼオライト：カオリナイト：シリカ＝７０％：２５％：５％，さらに第２の吸着層の厚みは１０μｍで，その重量組成比は，酸処理モンモリナイト：シリカ＝８７％：１３％であった。フィルタ全体の密度は２３０ｇ／リットル，そのうち吸着層が占める密度は９０ｇ／リットル(フィルタ全体の３９％)であった。なお，表２中には比較のため，前述の有効細孔径が８オングストロームの疎水性ゼオライトの粉末に３μｍのカオリナイトの粉末をバインダとして混合して，シリカゾルを無機系固着補助剤として共に分散させたスラリーに前述の多孔性ハニカム構造体を浸した後，乾燥して製作した従来のフィルタに関する測定結果も併せて示す。カオリナイトは通気孔の主要な大きさが１０００オングストローム以上であり，物理吸着の能力はほとんどない。一方，活性白土は有効細孔径が主として２０オングストローム〜１０００オングストロームに分布しており，物理吸着能は活性炭と比較して遜色ない。この従来のフィルタのハニカム構造体の形状，通気条件等は表２に示した参考例のフィルタと全く同じであり，異なる点はハニカム構造体の表面に固着されるのが参考例と全く同様の第１の吸着層であるが，参考例の第２の吸着層(活性白土の層)に相当するものを有していないという点である。表２から明かなことは，清浄装置内の基板表面から検出される有機汚染物のうちで最も量が多い種類のＤＯＰとＤＢＰは，その分子サイズが８オングストロームよりも小さいため，バインダに物理吸着能力があまりなくても疎水性ゼオライトの吸着能力のみで吸着除去される。しかし，ＢＨＴや５量体のシロキサン(Ｄ5)については，その分子サイズは８オングストロームよりも大きいため，疎水性ゼオライトでは除去できず，その吸着除去は物理吸着能力を有する第２の吸着層に依らざるを得ない。
【００６２】
次に，種々のタイプの参考例のフィルタと，従来例のフィルタと，第１の吸着層と第２の吸着層の支持体への固着の順序を入れ替えた参考例とは異なる構成の２種の比較例のフィルタについて比較を行った。その結果を表３に示す。
【００６３】
【表３】
0004014909.tif 000004
【００６４】
表３において，参考例Ａは第１の吸着層がゼオライト，第２の吸着層が酸処理モンモリナイトのバインダから成るハニカム構造のフィルタである。参考例Ｂはハニカム構造体の表面にゼオライトと酸処理モンモリナイトのバインダに無機系固着補助剤であるアルミナゾルを混合させて吸着層を形成したフィルタである。参考例Ｃは，参考例Ｂのフィルタ表面に，更に酸処理モンモリナイトのバインダを第２の吸着層として形成したフィルタである。従来例のフィルタは，ハニカム構造体の表面にゼオライトの吸着層のみを形成した。比較例Ｄは，参考例Ａの第１の吸着層と第２の吸着層の支持体への固着の順序を入れ替えたフィルタであり，第１の吸着層が酸処理モンモリナイトのバインダ，第２の吸着層がゼオライトから成るハニカム構造のフィルタである。比較例Ｅは，参考例Ｃの第１の吸着層と第２の吸着層の支持体への固着の順序を入れ替えたフィルタであり，第１の吸着層が酸処理モンモリナイトのバインダ，第２の吸着層がゼオライトと酸処理モンモリナイトのバインダから成るハニカム構造のフィルタである。
【００６５】
これら各フィルタ吸着層の構造を図１６〜２１に拡大して斜視図（ａ）と断面図（ｂ）として示した。これらの図は図４または図１０に示した吸着層を，吸着層の厚みを高さとする円筒状に部分的に切り出し，その円筒内に存在する吸着に関与する細孔であるミクロ孔やメソ孔の分布の様子を概念的に模式図として示したものである。なお，これら各図１６〜２１では支持体は省略して示している。参考例Ａは，図１６に示すように，第１の吸着層５１にはゼオライトの約８オングストローム程度の細孔が形成され，第２の吸着層５２には酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成されている。従来例は，図１７に示すように，吸着層５３にゼオライトの約８オングストローム程度の細孔が形成されている。参考例Ｂは，図１８に示すように，吸着層５４にゼオライトの約８オングストローム程度の細孔と酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成されている。参考例Ｃは，図１９に示すように，第１の吸着層５５にはゼオライトの約８オングストローム程度の細孔と酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成され，第２の吸着層５６には酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成されている。一方，比較例Ｄは，図２０に示すように，第１の吸着層６０には酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成され，第２の吸着層６１にはゼオライトの約８オングストローム程度の細孔が形成されている。比較例Ｅは，図２１に示すように，第１の吸着層６２には酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成され，第２の吸着層６３にはゼオライトの約８オングストローム程度の細孔と酸処理モンモリナイトの約１５〜３００オングストローム程度の細孔が形成されている。
【００６６】
これら各フィルタについて，先と同様に表面汚染防止率を調べた結果，参考例のフィルタは，何れも従来例のフィルタに比べてＢＨＴとＤ5の吸着に優れていた。なお，参考例の中では，Ｃ，Ａ，Ｂの順で吸着性が優れていた。比較例のＤのフィルタの吸着性能は従来例のフィルタと同等であり，比較例Ｅのフィルタ吸着性能は参考例Ｂのフィルタと同等であった。表３の結果から理解できるように，ＢＨＴやＤ５のようなゼオライトの有効細孔径よりも大きいな分子径のガス状不純物の吸着性能は，処理対象ガスと直接接触する吸着層との接触面に如何に多くのゼオライトの有効細孔径よりも大きな有効細孔径の細孔が分布するか，言い換えるとその面積密度が如何に大きいかによって決定される。従って，吸着層が第１の吸着層と第２の吸着層の異なる２層からなる場合，ＢＨＴやＤ５のような分子径の大きなガス状不純物の吸着に適した細孔の面積密度が相対的に小さく，その結果吸着性能が劣る吸着層と，それら分子径の大きなガス状不純物の吸着に適した細孔の面積密度が相対的に大きく，その結果吸着性能が優れた吸着層を支持体に固着させる順は，吸着性能が劣る吸着層を支持体と直接接する第１の吸着層とし，この第１の吸着層の上に重ねて，吸着性能が優れた吸着層を処理対象ガスと直接接する第２の吸着層として形成して，吸着性能に優れたフィルタが得られるわけで，支持体に固着させる順を逆にすれば，ＢＨＴやＤ５のような分子径の大きなガス状不純物の吸着性能は劣るので注意が必要である。
【００６７】
また，ＤＯＰやＤＢＰのようなゼオライトの有効細孔径よりも小さな分子径のガス状不純物の吸着性能でも，処理対象ガスと直接接する吸着層との接触面に如何に多くの物理吸着に関与するミクロ孔やメソ孔が分布するか，言い換えると，その面積密度が如何に大きいかによって決定される。従って，支持体と直接接する第１の吸着層の吸着性能は関与しない。それでは，処理対象ガスと直接接触する第２の吸着層の吸着性能さえ優れておれば，支持体と直接接する第１の吸着層の構成はどうでもよいというとそうではない。表３で測定された吸着性能とは，フィルタを長時間使用して処理対象ガス中に含まれるガス状不純物で吸着飽和してその除去効率が低下する以前の表面汚染防止率を意味し，フィルタの性能仕様には，この吸着性能のみなず，ガス状不純物で吸着飽和に達するまでの時間，つまり吸着性能が持続する寿命も含まれる。寿命を決定するのは，吸着層全体の物理吸着に関与するミクロ孔やメソ孔の総細孔容積や，それら細孔面積であるから，処理対象ガスと直接接触する第２の吸着層のみならず，支持体と直接接する第１の吸着層も，前記細孔容積や細孔面積が大きくなるような構成を選択することで寿命の長いフィルタを得ることができる。
【００６８】
次に，先に図１１で説明した本発明の清浄装置を実際に製作し，処理空間に洗浄直後の有機物汚染のない酸化膜付きシリコンウェハ基板を放置した。処理空間の天井部には，ファンユニット，本発明のフィルタ，粒子除去フィルタを有するクリーンファンユニットを配置した。本発明のフィルタには親水性ゼオライトを用いた。そして洗浄直後と３日間放置後の接触角をそれぞれ測定し，３日間放置による接触角の増加を調べた。３日間放置による接触角の増加の測定（洗浄→接触角測定→３日間放置→接触角測定）を同じようにして１５日ごとに繰り返し，本発明のフィルタの吸着性能の経時劣化を測定した。清浄装置内の循環空気流量を５０００ｍ３／ｍｉｎとし，この循環空気を処理するために使用した親水性ゼオライト使用量は５０００ｋｇとした。外気取り入れ量は，循環空気流量の４％の２００ｍ３／ｍｉｎとした。クリーンルーム全体の内容積は３１２０ｍ３であり，１時間当たりの換気回数は１００回であった。
【００６９】
また比較のため，ゼオライトを備えたフィルタを，繊維状活性炭を低融点ポリエステルやポリエステル不織布のバインダと複合してフェルト形状にした従来の構成のケミカルフィルタに交換し，酸化膜付きシリコンウェハ基板を洗浄後３日間放置したことによる接触角の増加の測定を１５日ごとに繰り返した。この場合も１ｍ３／ｍｉｎの通気量当たりの活性炭使用量は１ｋｇとした。さらに，ゼオライトを備えたフィルタや従来の構成によるケミカルフィルタを一切設けない場合，即ち，清浄装置雰囲気中に含まれるガス状有機不純物が除去されない場合についても同様の測定を行った。
【００７０】
なお，洗浄直後の酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角は３°であった。３日間曝された酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角が６°以下に保たれていることがガス状有機不純物汚染によるデバイスの品質低下を防止するための清浄装置雰囲気に求められる必要条件であると仮定する。
【００７１】
図２２に測定結果を示す。本発明の清浄装置雰囲気と，従来の構成によるケミカルフィルタを設けた清浄装置雰囲気と，ガス状有機不純物が除去されない清浄装置雰囲気のそれぞれに曝された酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角の経時変化を比較したものである。ガス状有機不純物が除去されない清浄装置雰囲気に曝された酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角は，３日間放置によって２６°〜３０°も増加する。本発明の清浄装置については，使用開始直後の状態において，３日間放置後の酸化膜付きシリコンウェハの接触角は４°以下に保たれた。しかし，通気時間の増加と共に親水性ゼオライトの吸着性能は低下し，フィルタ通過後の空気中に含まれるガス状有機物の濃度も増加する。つまり，親水性ゼオライトへの通気時間の増加と共に，下流側の処理済み空気に一定時間曝された酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角も増加することになる。フィルタ通過後の空気に３日間曝された酸化膜付きシリコンウェハ表面の接触角が６°に達するまでの本発明のフィルタの使用時間は約３ヶ月であることがわかる。一方，従来のケミカルフィルタについては，使用開始直後の状態においてすら３日間放置酸化膜付きシリコンウェハの接触角は１２°に達した。この理由は繊維状活性炭を担持するために使用される低融点ポリエステルやポリエステル不織布のバインダからの脱ガスがケミカルフィルタをそのまま素通りしてしまい，下流側に放置されたシリコンウェハの表面を汚染してしまったためである。従来のケミカルフィルタにおいても，通気時間の増加と共に活性炭の吸着性能は低下し，６ヶ月間使用後においては２０°に達した。
【００７２】
さらに，親水性ゼオライトの水の吸着特性について説明する。細孔径が１０オングストロームの親水性ゼオライトと石炭を原料とする活性炭について，２５℃の雰囲気において測定した水の吸着等温線図を図２３に示した。活性炭に関しては，相対湿度が少し増加するだけで空気中の水分吸着飽和量も急激に増加する。例えば，水分をほとんど吸着していない未使用の活性炭添着ケミカルフィルタを相対湿度２０％の雰囲気の容器内に保管しておき，このケミカルフィルタを使用するため保管容器から取り出して，いきなり相対湿度５０％のクリーンルーム雰囲気に曝されると，活性炭が吸着飽和に達するまで空気中の水分を多量に吸着することになってしまう。相対湿度２０％（水分吸着飽和量０．００４ｃｃ／ｇ)と５０％(水分吸着飽和量０．１１４ｃｃ／ｇ）における活性炭の水分吸着飽和量の差は０．１１ｃｃ／ｇにもなる。一方，細孔径が１０オングストロームの親水性ゼオライトでは，相対湿度２０％の水分吸着飽和量は２６．２ｃｃ／ｇとかなり多いが，相対湿度が２０％から５０％に変化しても，水分吸着飽和量の増加はわずか０．０２ｃｃ／ｇに過ぎない。図２３からも理解できるように，相対湿度が１０％以下の雰囲気で保管されていた未使用の１０オングストロームの親水性ゼオライトを備えたフィルタを相対湿度５０％のクリーンルーム雰囲気において使用を開始した場合，その上流側において所定の相対湿度に調節しても，このフィルタに使用されている親水性ゼオライトが空気中の水分をほとんど吸着しないので，清浄装置内の相対湿度が所定の値よりも低くなるという不具合はない。
【００７３】
活性炭を添着したケミカルフィルタのように，使用先の雰囲気の温湿度を出荷前に調査し，その温湿度に見合った水分をわざとケミカルフィルタの活性炭に吸着させて密封梱包の上出荷するという面倒な作業は必要ない。なぜなら，相対湿度が１０％以下の雰囲気は通常の作業環境ではありえない超乾燥状態であり，通常の作業環境では数１０％が普通であるから，親水性ゼオライトを備えたフィルタには，活性炭を添着したケミカルフィルタのように水分をわざわざ出荷前に吸着する必要はなく，そのまま梱包して出荷できる。
【００７４】
また，細孔径６オングストロームと細孔径８オングストロームのそれぞれの親水性ゼオライトの吸着性能を，疎水性ゼオライトと同様に調べた。その結果を図１５中に合わせて示した。図１５において，曲線４１’は，細孔径６オングストロームの親水性ゼオライトを備えた吸着剤に通気後のクリーンルームエアに曝した場合であり，曲線４２’は，細孔径８オングストロームの親水性ゼオライトを備えた吸着剤に通気後のクリーンルームエアに曝した場合である。吸着性能は，４２＞４２’＞４３＞４１＞４１’＞４４の順となった。
【００７５】
次に，親水性ゼオライトのフィルタを備えた本発明にかかる清浄装置の湿度制御性を，ケミカルフィルタを備えた従来の清浄装置と比較して調べた。除塵・調温・調湿を行うユニット型空調機とフィルタを通過後の外気取り入れ回路に設けた湿度センサの信号により，ユニット型空調機内に設けた調湿機の給水弁を調節した。湿度制御性の良否を判定するため，本発明に従う清浄装置と従来の清浄装置の内部にも湿度センサをそれぞれ設けた。また，循環空気量５０００ｍ３／ｍｉｎに対して，外気取り入れ量はわずか２００ｍ３／ｍｉｎとした。
【００７６】
図２４に測定結果を示す。従来の構成のケミカルフィルタを備えた清浄装置では，ケミカルフィルタは通過空気中の水分を吸着しやすいため，ケミカルフィルタの取り付け後，活性炭が水分を吸着して平衡状態に達するまでの約２週間の間は清浄装置内部の相対湿度は設定値５０％よりも５％も低い４５％で推移する。一方，本発明に従う清浄装置内部では，通過空気中の水分はほとんど吸着しないため，相対湿度は設定値の５０％に維持された。ＬＳＩやＬＣＤの製造工程においては，湿度が設定値よりも低下してしまうと，ウェハやガラス基板に静電気が発生しやすくなって，それら製品表面の微粒子汚染や素子の静電破壊が起きて歩留まりが低下する。従来の構成のケミカルフィルタを備えた清浄装置では，フィルタの取り付け後約２週間にわたって製品の歩留まりが低下した。しかし，本発明に従うフィルタを備えた清浄装置内部では，フィルタの取り付け直後から相対湿度は設定値に保たれ，製品の歩留まり低下は見られなかった。
【００７７】
以上，本発明の好適な例について，ＬＳＩやＬＣＤの製造プロセス全般などに好適に利用される清浄装置（いわゆるクリーンルーム）に関して説明したが，本発明はかかる例に限定されない。ミニエンバイロメントと称する局所的な清浄装置やクリーンベンチやクリーンチャンバや清浄な製品を保管するための各種ストッカなど様々な規模の清浄装置，本発明のフィルタの処理可能風量，循環風量と外気取り入れ空気量の割合，清浄装置内部からのガス状有機不純物の発生の有無などの処理環境に応じて多様な適用が考えられる。また，本発明のフィルタが処理の対象とするのは空気のみに限定されず，窒素やアルゴンのような不活性ガスを処理しても同様に半導体やＬＣＤの製造などに好適な不活性ガスを作り出すことができるのは言うまでもない。
【００７８】
【発明の効果】
本発明によれば，以下のような効果を奏する。
（１）．清浄装置で取り扱う基板表面の有機物汚染を防止するにあたり，雰囲気中に含まれる基板表面汚染の原因となるガス状有機物について，例えばＤＯＰやＤＢＰなどといった分子径が８オングストロームよりも小さいガス状有機不純物と，例えばＢＨＴやシロキサンなどといった分子径が８オングストロームよりも大きいガス状有機不純物の両方を吸着・除去したことによって，
Ａ．半導体やＬＣＤの製造などに好適な基板表面の有機物汚染の原因となるガス状有機物が除去された清浄空気を作り出すことができた。
Ｂ．半導体やＬＣＤの製造において，清浄空気を，基板表面が暴露される清浄装置の雰囲気として利用することで，基板表面の有機物汚染を防止することができた。
（２）．（１）において，分子径が８オングストロームよりも小さいガス状有機不純物を吸着・除去するための吸着剤としてゼオライトを，また分子径が８オングストロームよりも大きいガス状有機不純物を吸着・除去するための吸着剤として各種無機物を適宜に選択し，組み合わせることによって，
Ａ．構成材料に可燃物を含まないフィルタを提供することができ，このフィルタを用いて構築された清浄装置は，従来の活性炭吸着剤のフィルタを用いて構築された清浄装置に比べて防災上，優れていた。
Ｂ．基板表面汚染の原因となるガス状有機物を発生しない素材のみから構成されるフィルタを提供することができ，このフィルタを用いて構築された清浄装置は，従来の活性炭吸着剤のフィルタを用いて構築された清浄装置に比べて，基板表面の有機物汚染をより完全に防止することができた。
Ｃ．従来の活性炭吸着剤のフィルタと比較して，空気中の水分をより吸着しにくく，ガス状有機不純物の吸着能力が持続する時間もより長いフィルタを提供することができ，このフィルタを用いて構築された清浄装置では，従来の活性炭吸着剤のフィルタを用いて構築された清浄装置に比べて，清浄装置内の湿度制御がより簡便に行え，かつより長期にわたって雰囲気中に含まれるガス状有機不純物の吸着・除去を行えた。
【００７９】
また，親水性ゼオライトを備えたフィルタを用いれば，消防法において可燃物に指定された活性炭を含む従来のケミカルフィルタと比較して，防災上極めて安全である。また，フィルタの上流側に空気の調湿装置を設けても，親水性ゼオライトは吸湿しないため，湿度コントロールが容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】フィルタの概略的な分解組立図である。
【図２】表面に吸着層を形成したフィルタの拡大断面図である。
【図３】表面にペレットを固着したフィルタの拡大断面図である。
【図４】吸着層断面の部分拡大図である。
【図５】本発明の他の実施の形態にかかるフィルタの概略的な分解組立図である。
【図６】含有重量比ＳｉＯ２／Ａｌ２Ｏ３とゼオライト１００ｇ当たりの水分吸着量（２５℃，相対湿度５０％）の関係を示すグラフである。
【図７】疎水性ゼオライトと活性炭への２５℃における水の吸着等温線図である。
【図８】フィルタの概略的な分解組立図である。
【図９】表面に第１の吸着層と第２の吸着層を形成したフィルタの拡大断面図である。
【図１０】第１の吸着層と第２の吸着層からなる複合吸着層断面の部分拡大図である。
【図１１】本発明の実施の形態にかかる清浄装置の構成を概略的に示す説明図である。
【図１２】本発明の他の実施の形態にかかる清浄装置の構成を概略的に示す説明図である。
【図１３】ケミカルフィルタによる処理空気に曝されたウェハ表面の接触角の経時変化を示すグラフである。
【図１４】接触角と炭素付着量の関係を示すグラフである。
【図１５】各種の吸着剤の表面汚染の原因となる微量有機物の吸着性能を比較したグラフである。
【図１６】参考例Ａの第１の吸着層と第２の吸着層の拡大図である。
【図１７】従来例の吸着層の拡大図である。
【図１８】参考例Ｂの吸着層の拡大図である。
【図１９】参考例Ｃの第１の吸着層と第２の吸着層の拡大図である。
【図２０】比較例Ｄの第１の吸着層と第２の吸着層の拡大図である。
【図２１】比較例Ｅの第１の吸着層と第２の吸着層の拡大図である。
【図２２】洗浄直後の酸化膜付きシリコンウェハを３日間各種雰囲気に曝した場合の接触角の経時変化を示すグラフである。
【図２３】親水性ゼオライトと活性炭への水の吸着等温線図である。
【図２４】親水性ゼオライトを用いた吸着層を備えた清浄装置と従来のケミカルフィルタを備えた清浄装置のそれぞれの相対湿度の変化を示すグラフである。
【符号の説明】
１    フィルタ
１２  支持体
２５  第１の吸着層
２６  第２の吸着層
１０１  清浄装置
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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