(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子材料１００重量部に下記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物０．００１〜１０重量部を添加してなる高分子材料組成物。
【化１】
0004014184.tif 000015
【請求項２】
高分子材料がヘテロ原子を有する高分子材料である請求項１記載の高分子材料組成物。
【請求項３】
高分子材料が主鎖にヘテロ原子を有する高分子材料である請求項２記載の高分子材料組成物。
【請求項４】
高分子材料がポリカーボネート樹脂である請求項３記載の高分子材料組成物。
【請求項５】
高分子材料がポリ（メタ）アクリレート樹脂である請求項２記載の高分子材料組成物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、少なくとも１個の２−ヒドロキシフェニル基の４位に（メタ）アクリロイルオキシ基で置換されたアルキル基を有するアリール基を分子内に有するトリアリールトリアジン系化合物により耐候性および着色性の改善された高分子材料組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術及び問題点】
ポリエチレン、ポリプロピレン、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエステル等の高分子材料や有機顔料または染料は、光の作用により劣化し、変色あるいは機械的強度の低下等を引き起こして長期の使用に耐えない場合がある。
【０００３】
これら有機材料の劣化を防止したり、透過光の波長をコントロールするために、従来から種々の紫外線吸収剤が用いられ、これら紫外線吸収剤としては、ベンゾフェノン系、ベンゾトリアゾール系、２，４，６−トリアリールトリアジン系およびシアノアクリレート系の紫外線吸収剤が用いられている。
【０００４】
これら紫外線吸収剤は、その構造の違いに由来して各々異なる紫外線吸収スペクトルを示し、有機材料との相溶性や揮散性も異なるため、用途に応じて使い分けられている。特に保護層に用いられる薄膜状物においては、高度の紫外線遮蔽効果が要求されるため、紫外線吸収剤の添加量を多くする必要があり、基材層との相溶性に優れ、揮散性が小さく、吸光係数の大きな紫外線吸収剤が求められる。
【０００５】
しかし、２，４，６−トリアリールトリアジン系紫外線吸収剤は、吸光係数が高く耐熱性にも優れているが、高分子材料に添加した場合、加工時に樹脂を着色するものがあり、実用的でない場合がある。
【０００６】
また、（メタ）アクリロイル基を有する紫外線吸収剤は、その重合性を利用して高分子材料の骨格に組み込まれ、また、オリゴマー化されて高分子量の紫外線吸収剤とすることで保留性の高い紫外線吸収剤となることが、特公昭４２−２５３０３号公報および特開平４−１１７４１０号公報に開示されている。これらは、いずれもエチレン性不飽和結合を有する化合物と共重合されて、高分子材料中では（メタ）アクリロイル基が重合により失われているため、高分子材料中に（メタ）アクリロイル基を保持したまま添加されることで着色性が改善されることは全く予想されなかった。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記の現状に鑑み鋭意検討を重ねた結果、下記一般式（Ｉ）で表される特定の位置に置換基を有する（メタ）アクリロイル基を有するトリアジン系化合物が紫外線吸収効果を発揮し、当該トリアジン系化合物を配合した高分子材料組成物が、有機材料を着色することなく高度の耐候性を有し、耐熱性にも優れることを見い出し、本発明に到達した。
【０００８】
即ち、本発明は高分子材料１００重量部に下記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物０．００１〜１０重量部を添加してなる高分子材料組成物を提供するものである。以下、上記要旨をもってなる本発明について詳述する。
【０００９】
【化２】
0004014184.tif 000002
【００１０】
【発明の実施の形態】
上記式中、R1で表される（メタ）アクリロイルオキシ基で置換されるアルキル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、イソブチル、第二ブチル、第三ブチル、ペンチル、第二ペンチル、第三ペンチル、ヘキシル、イソヘキシル、ヘプチル、オクチル、イソオクチル、第二オクチル、第三オクチル、２−エチルヘキシルなどが挙げられる。置換基を有するアルキル基としては、２−アセトキシプロピル、２−ヒドロキシプロピル、２−ブトキシメチルエチルなどが挙げられる。酸素原子などで中断されたアルキル基の構成鎖としては、ポリオキシエチレンやポリオキシプロピレンなどが挙げられる。
【００１１】
R1で表される基は、より具体的には、アクリロイルオキシエチル、メタクリロイルオキシエチル、２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピル、２−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）エチル、２−ヒドロキシ−３−（２−メタクリロイルオキシエチルオキシ）プロピルなどの（メタ）アクリロイルオキシアルキル基などが挙げられる。
【００１２】
上記式中、R3、R4、R5及びR6で表されるアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル、デシル、ウンデシル、ドデシル等が挙げられる。アリールアルキル基としては、１−メチル−１−フェニルエチル、ベンジル、２−フェニルエチルなどが挙げられる。
【００１３】
R3、R4、R5およびR6で表される炭素原子数１〜１２のアルケニル基としては、直鎖および分岐のプロペニル、ブテニル、ペンテニル、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニルが不飽和結合の位置によらず挙げられる。
【００１４】
R3、R4、R5及びR6で表される炭素原子数１〜１２のアルコキシ基およびアルコキシカルボニル基としては、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチル、第二ブチル、第三ブチル、イソブチル、アミル、第三アミル、オクチル、第三オクチル、デシル、ウンデシル、ドデシルなどのアルキル基の誘導体が挙げられる。アリールアルキル基としては、例えば、クミル基、フェニルメチレン基などが挙げられる。ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子が挙げられる。
【００１５】
本発明で使用する上記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物としては、例えば、下記の化合物Ｎｏ．１〜Ｎｏ．６等の化合物が挙げられる。
【００１６】
【化３】
0004014184.tif 000003
【００１７】
【化４】
0004014184.tif 000004
【００１８】
【化５】
0004014184.tif 000005
【００１９】
【化６】
0004014184.tif 000006
【００２０】
【化７】
0004014184.tif 000007
【００２１】
【化８】
0004014184.tif 000008
【００２２】
本発明で使用される前記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物の合成方法は特に限定されるものではなく、通常用いられる合成方法のいずれでもよい。例えば、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリアジンとメタクリル酸グリシジルエステルを反応させ、２−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシ−３−メタクリロイルオキシプロピルオキシ）フェニル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリアジンを合成する方法、２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリアジンとアルキレンオキシドを反応させ、２−（２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシアルコキシ）フェニル）−４，６−ジアリール−ｓ−トリアジンを合成し、次いで（メタ）アクリル酸と反応させて２−（２−ヒドロキシ−４−（２−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシ）フェニル）−４，６−アリール−ｓ−トリアジンを合成する方法、ベンズアミジン塩酸塩とレゾルシン酸フェニルを反応させて２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジンを合成し、次いでアルキレンオキシドを反応させ、更に（メタ）アクリル酸と反応させて２−（２−ヒドロキシ−４−（２−（メタ）アクリロイルオキシアルコキシ）フェニル）−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジンを合成する方法等が挙げられる。
【００２３】
本発明で使用する高分子材料として、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、エラストマーなどが例示できる。
熱可塑性樹脂としては、高密度、低密度または直鎖状低密度ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−３−メチルペンテン等のα−オレフィン重合体またはエチレン−酢酸ビニル共重合体、エチレン−プロピレン共重合体等のポリオレフィン及びこれらの共重合体、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチレン、塩素化ポリプロピレン、ポリフッ化ビニリデン、塩化ゴム、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−エチレン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン−酢酸ビニル三元共重合体、塩化ビニル−アクリル酸エステル共重合体、塩化ビニル−マレイン酸エステル共重合体、塩化ビニル−シクロヘキシルマレイミド共重合体等の含ハロゲン樹脂、石油樹脂、クマロン樹脂、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、アクリル樹脂、スチレン及び／又はα−メチルスチレンと他の単量体（例えば、無水マレイン酸、フェニルマレイミド、メタクリル酸メチル、ブタジエン、アクリロニトリル等）との共重合体（例えば、ＡＳ樹脂、ＡＢＳ樹脂、ＭＢＳ樹脂、耐熱ＡＢＳ樹脂等）、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルアルコール、ポリビニルホルマール、ポリビニルブチラール、ポリエチレンテレフタレート及びポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリフェニレンオキサイド、ポリカプロラクタム及びポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート、ポリアセタール、ポリフェニレンサルファイド、ポリウレタン、繊維素系樹脂等の熱可塑性合成樹脂及びこれらのブレンド物が例示できる。
熱硬化性樹脂としては、フェノール樹脂、ユリア樹脂、メラミン樹脂、エポキシ樹脂、不飽和ポリカステル樹脂等の熱硬化性樹脂が例示できる。
更にエラストマーとしては、イソプレンゴム、ブタジエンゴム、アクリロニトリル−ブタジエン共重合ゴム、スチレン−ブタジエン共重合ゴム等が例示できる。
【００２４】
上記高分子材料の中で、ヘテロ原子を有する高分子材料は、一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物との相溶性に優れるので特に好ましい。ヘテロ原子を有する高分子材料としては、例えば、ポリカーボネート、分岐ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレートおよびポリテトラメチレンテレフタレート等の直鎖ポリエステル、ポリカプロラクトンおよびポリヘキサメチレンアジパミド等のポリアミド、ポリフェニレンオキサイド、ポリフェニレンサルファイド、ポリ（メタ）アクリル酸メチルおよびポリ（メタ）アクリル酸ブチルなどのポリ（メタ）アクリル酸エステルが挙げられる。これらの中で、ポリカーボネート、ポリエチレンテレフタレート、ポリフェニレンオキサイド等の主鎖上にヘテロ原子または芳香環を有する高分子材料が特に好ましい。
【００２５】
これら高分子材料は、単独の他、２種以上を組み合わせて用いることができる。組み合わせとしては、ポリカーボネート／ＡＢＳ、ポリカーボネート／ポリエステルなどの複合化や、ポリカーボネートのフィルムに本発明で使用する上記一般式（Ｉ）で表される特定のトリアジン系化合物を添加したポリカーボネートまたはポリ（メタ）アクリル酸エステルをラミネートして、積層フィルム等として用いることができる。
【００２６】
本発明の高分子材料組成物は、高分子材料１００重量部に対し、上記一般式（Ｉ）で表されるトリアジン系化合物を０．００１〜１０重量部、特には０．００５〜１０重量部添加したものであることが好ましい。この範囲で、十分に耐候性が改善され、かつ着色性が改善されるからである。
【００２７】
本発明で使用するトリアジン系化合物の高分子材料への適用方法は特に限定されるものではなく、添加する際の形態は粉末でもエマルジョンやサスペンジョンなどの水分散体でもよく、有機溶剤により溶液としてもよい。ただし、重合時に添加したり、加工時の温度などにより（メタ）アクリロイル基が反応する条件での添加は、得られる高分子材料組成物の加工時の着色が大きくなるので実用的でない。
【００２８】
本発明の紫外線吸収剤は、必要に応じて他の汎用の酸化防止剤、安定剤等の添加剤を併用することができる。
これらの添加剤として特に好ましいものとしては、フェノール系、硫黄系、ホスファイト系等の酸化防止剤、ヒンダードアミン系の光安定剤が挙げられ、特に、２，２，６，６−テトラメチルピペリジン化合物に代表されるヒンダードアミン系の光安定剤は、本発明で使用するトリアジン系化合物と相乗効果を奏するので好ましい。
【００２９】
上記フェノール系酸化防止剤としては、例えば、２，６−ジ第三ブチル−ｐ−クレゾール、２，６−ジフェニル−４−オクタデシロキシフェノール、ステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ジステアリル（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ホスホネート、チオジエチレングリコールビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサメチレンビス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸アミド〕、４，４’−チオビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール)、２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−第三ブチルフェノール）、２，２’−メチレンビス（４−エチル−６−第三ブチルフェノール）、ビス〔３，３−ビス（４−ヒドロキシ−３−第三ブチルフェニル）ブチリックアシッド〕グリコールエステル、４，４’−ブチリデンビス（６−第三ブチル−ｍ−クレゾール）、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェノール）、２，２’−エチリデンビス（４−第二ブチル−６−第三ブチルフェノール)、１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタン、ビス〔２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−ヒドロキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル）フェニル〕テレフタレート、１，３，５−トリス（２，６−ジメチル−３−ヒドロキシ−４−第三ブチルベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドルキシベンジル）イソシアヌレート、１，３，５−トリス（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−２，４，６−トリメチルベンゼン、１，３，５−トリス〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕イソシアヌレート、テトラキス〔メチレン−３−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕メタン、２−第三ブチル−４−メチル−６−（２−アクリロイルオキシ−３−第三ブチル−５−メチルベンジル)フェノール、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５.５〕ウンデカン、トリエチレングリコールビス〔（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニル）プロピオネート〕等が挙げられる。
【００３０】
また、上記硫黄系酸化防止剤としては、例えば、チオジプロピオン酸ジラウリル、ジミリスチル、ジステアリル等のジアルキルチオジプロピオネート類及びペンタエリスリトールテトラ（β−ドデシルメルカプトプロピオネート）等のポリオールのβ−アルキルメルカプトプロピオン酸エステル類が挙げられる。
【００３１】
また、上記ホスファイト系酸化防止剤としては、例えば、トリスノニルフェニルホスファイト、トリス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ホスファイト、トリス〔２−第三ブチル−４−（３−第三ブチル−４−ヒドロキシ−５−メチルフェニルチオ）−５−メチルフェニル〕ホスファイト、トリデシルホスファイト、オクチルジフェニルホスファイト、ジ（デシル）モノフェニルホスファイト、ジ（トリデシル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ジステアリルペンタエリスリトールジホスファイト、ジ(ノニルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，６−ジ第三ブチル−４−メチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、ビス（２，４，６−トリ第三ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイト、テトラ（トリデシル）ビスフェノールＡジホスファイト、テトラ（トリデシル）イソプロピリデンジフェノールジホスファイト、テトラ（トリデシル）−４，４’−ｎ−ブチリデンビス（２−第三ブチル−５−メチルフェノール)ジホスファイト、ヘキサ（トリデシル）−１，１，３−トリス（２−メチル−４−ヒドロキシ−５−第三ブチルフェニル）ブタントリホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）−２−エチルヘキシルホスファイト、２，２’−メチレンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）オクタデシルホスファイト、２，２’−エチリデンビス（４，６−ジ第三ブチルフェニル）フルオロホスファイト、テトラキス（２，４−ジ第三ブチルフェニル）ビフェニレンジホスホナイト、９，１０−ジハイドロ−９−オキサ−１０−ホスファフェナンスレン−１０−オキサイド、トリス（２−〔（２，４，８，１０−テトラキス第三ブチルジベンゾ〔ｄ，ｆ〕〔１，３，２〕ジオキサホスフェピン−６−イル）オキシ〕エチル）アミン、２−エチル−２−ブチルプロピレングリコールと２，４，６−トリ第三ブチルフェノールのホスファイトなどが挙げられる。
【００３２】
また、上記ヒンダードアミン系光安定剤としては、例えば、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルベンゾエート、Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ドデシルコハク酸イミド、１−〔（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニルオキシエチル〕−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）セバケート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）−２−ブチル−２−（３，５−ジ第三ブチル−４−ヒドロキシベンジル）マロネート、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン、テトラ（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、テトラ（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、ビス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジル）・ジ（トリデシル）ブタンテトラカルボキシレート、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、３，９−ビス〔１，１−ジメチル−２−｛トリス（１，２，２，６，６−ペンタメチル−４−ピペリジルオキシカルボニルオキシ）ブチルカルボニルオキシ｝エチル〕−２，４，８，１０−テトラオキサスピロ〔５．５〕ウンデカン、１，５，８，１２−テトラキス〔４，６−ビス｛Ｎ−（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ブチルアミノ｝−１，３，５−トリアジン−２−イル〕−１，５，８，１２−テトラアザドデカン、１−（２−ヒドロキシエチル）−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジノール／コハク酸ジメチル縮合物、２−第三オクチルアミノ−４，６−ジクロロ−ｓ−トリアジン／Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン縮合物、Ｎ，Ｎ’−ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル）ヘキサメチレンジアミン／ジブロモエタン縮合物、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１−オキシム、ビス（２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−１−オキシム）セバケート、２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジル−Ｎ−オキシムベンゾエート等が挙げられる。
【００３３】
その他必要に応じて、本発明の高分子材料組成物には、重金属不活性化剤、造核剤、金属石けん、有機錫化合物、可塑剤、エポキシ化合物、発泡剤、帯電防止剤、難燃剤、滑剤、加工助剤等を配合することができる。
【００３４】
これら高分子材料組成物の用途としては、特に制限されるものではないが、特に、薄膜状物が有効であり、薄膜状のものであれば、合成樹脂フィルム、シート、塗料の他、不織布や織物などに用いられる繊維であってもよい。
【００３５】
【実施例】
次に本発明を実施例によって具体的に説明するが、本発明は以下の実施例によりなんら制限されるものではない。なお「％」は、特に示す場合を除くほか「重量％」を示す。
【００３６】
合成例：化合物Ｎｏ．６の合成
ベンズアミジン塩酸塩４７ｇ（０．３モル）、レゾルシン酸フェニル３３ｇ（０．１４モル）をエタノール１９５ｇに溶解し、ナトリウムメチラート２８％溶液５８ｇ（０．３モル）を添加し、攪拌しながらこの反応混合物を７８℃に加熱し、メタノールを留去した。脱メタノール終了後７８℃で２０時間攪拌し、５℃に冷却してろ過して固形分を得た。得られた固形分をメタノール、水で洗浄して淡黄色結晶１８．４ｇ（収率３７．７％）を得た。
【００３７】
得られた２−（２，４−ジヒドロキシフェニル）−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン１７．０ｇ（０．０５モル）に２−ブロモエタノール９４．８ｇ（０．７５モル）とジメチルホルムアミドを加え、８５℃で４８％ＮａＯＨ水溶液２９．２ｇ（０．３５モル）を滴下、８５℃で１０時間反応後、冷却して濃塩酸で中和して析出物をろ別、水洗、乾燥して、２−ヒドロキシ−４−（２−ヒドロキシエチルオキシ）フェニル−４，６−ジフェニル−ｓ−トリアジン（以下、ＨＥＴｒ）１５．４ｇ（収率８０％）を得た。得られたＨＥＴｒ１５ｇ（０．０３９モル）にメタクリル酸１０ｇ（０．１１６モル）、キシレン、ｐ−トルエンスルホン酸０．６ｇを加え、１４０℃で１０時間還流した。水洗後、キシレン／メタノール（１／１）溶媒から再結晶して融点１９５℃の白色固体１５．０ｇ（収率８５％）を得た。
【００３８】
得られた化合物の1Ｈ−ＮＭＲの化学シフト（プロトン数、帰属）は、1.8-2.1(3H,-CH3)、4.2-4.7(4H,-OCH2CH2O-)、5.5-6.2(2H,C=CH2)、6.5-6.8(2H,Ar-H(Ar-Oに隣接))、7.4-7.8(6H,Ar-H(Ar-Hに隣接))、8.4-8.8(5H,Ar-H(Ar-Tに隣接:Tはトリアジン環))であった。
また赤外吸収スペクトルは、3300-3500cm-1、1710cm-1、1630cm-1、1590cm-1、1530cm-1、1510cm-1、1440cm-1、1410cm-1、1360cm-1、1320cm-1、1280cm-1、1160cm-1に吸収ピークを示した。
【００３９】
実施例−１
極限粘度０．５７（ジオキサン中、３０℃）のビスフェノールＡポリカーボネート１００重量部と表−１に試料化合物として記載の紫外線吸収剤１０重量部とを配合した厚さ４０μｍの保護層と、紫外線吸収剤を添加していないポリカーボネートからなる基材層とを２８０℃×８０ｒｐｍで共押し出しにより積層してシートを得、このシートの黄色度を測定し着色性を評価した。また、得られたシートを高圧水銀灯で２週間照射し、照射前後の色差により耐候性を評価した。
【００４０】
また、各試料化合物の加工後の高分子材料組成物中の残存量を測定した。即ち、上記により得たシートをテトラヒドロフランに溶解し、液体クロマトグラフィーで低分子量物を回収し、紫外線吸収スペクトルの３５０ｎｍの吸収強度から添加量に対する１００分率で算出した。結果を表−１に示す。
【００４１】
【表１】
0004014184.tif 000009
【００４２】
【化９】
0004014184.tif 000010
【００４３】
【化１０】
0004014184.tif 000011
【００４４】
【化１１】
0004014184.tif 000012
【００４５】
実施例−２
極限粘度０．５７（ジオキサン中、３０℃）のビスフェノールＡポリカーボネートの厚さ１０ｍｍのシートに、ポリメチルメタクリレート１００重量部に表−２に試料化合物として記載の紫外線吸収剤８重量部を配合した厚さ５０μｍの保護層を積層してシートを得、このシートの黄色度を測定した。また、得られたシートを高圧水銀灯で２週間照射し、照射前後の色差により耐候性を評価した。
【００４６】
また、実施例−１と同様に操作して、各試料化合物の加工後の高分子材料組成物中での残存量を測定した。結果を表−２に示す。
【００４７】
【表２】
0004014184.tif 000013
【００４８】
実施例−３
ポリエチレンテレフタレート１００重量部に、表−３に試料化合物として記載の紫外線吸収剤０．３重量部を添加して高分子材料組成物を得、これを２６０℃で射出成形し、厚さ１ｍｍのシートを得、このシートの黄色度を測定した。また、得られたシートを高圧水銀灯で２週間照射し、照射前後の色差により耐候性を評価した。
【００４９】
また、実施例−１と同様に操作して、各試料化合物の加工後の高分子材料組成物中の残存量を測定した。結果を表−３に示す。
【００５０】
【表３】
0004014184.tif 000014
【００５１】
比較例１−２と比較例１−３の比較、比較例２−２と比較例２−３の比較および比較例３−２と比較例３−３の比較から、エステル結合を有するトリアリールトリアジン化合物は、加工時の保留性に優れていた。
【００５２】
比較例１−３と実施例１−１の比較、比較例２−３と実施例２−１の比較および比較例３−３と実施例３−１の比較から、（メタ）アクリロイル基を有するトリアリールトリアジン化合物は、加工時の保留性が高く、着色性および耐候性においても優れていた。
【００５３】
比較例１−１と実施例１−１の比較、比較例２−１と実施例２−１の比較および比較例３−１と実施例３−１の比較から、（メタ）アクリロイルオキシ基を有するトリアリールトリアジン化合物は、重合によりアクリロイルオキシ基がプロピオニルオキシ基になると、高分子材料中への保留性には優れるものの、着色性および耐候性が低下し、アクリロイルオキシ基を構造中に保持することで、着色性および耐候性が改善されていることは明らかであった。
【００５４】
【発明の効果】
上記各実施例の結果から、本発明で使用する（メタ）アクリロイル基を有する特定構造の紫外線吸収剤であるトリアジン系化合物を（メタ）アクリロイル基を反応させずに高分子材料に添加すると、従来知られていたトリアジン系紫外線吸収剤を用いた場合と比較して、加工時の着色が小さく、耐候性に優れた高分子材料組成物が提供できる。