(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子の製造方法において、
一方の基板の配向膜上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサを、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記配向膜に接するように形成する工程（ａ）と、
基材の、上記スペーサの台形の短い方の底に相当する上面とは接触しない部分を、接着剤をはじく材料からなる保護膜で覆った後、保護膜以外の部分に上記接着剤を塗布して版を作成する工程（ｂ）と、
上記スペーサの上面を上記版に圧接することにより、上記接着剤をスペーサの上記上面へ転写する工程（ｃ）と、
上記スペーサの上面へ転写された接着剤に他方の基板を接着する工程（ｄ）とを含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項２】
上記工程（ａ）において、台形の底角を、１０°ないし６５°の範囲とすることを特徴とする請求項１記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項３】
上記工程（ｂ）において作成される版が、平版、凹版、および凸版のいずれかであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項４】
上記基材が、平板であることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項５】
上記基材が、平板または円形の版胴に貼り付けられるフィルムであることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項６】
少なくとも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子の製造方法において、
一方の基板上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサを、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記基板表面に接するように形成する工程（ａ）と、
上記スペーサを覆うように配向膜を形成する工程（ｂ）と、
基材の、上記スペーサの台形の短い方の底に相当する上面とは接触しない部分を、接着剤をはじく材料からなる保護膜で覆った後、保護膜以外の部分に上記接着剤を塗布して版を作成する工程（ｃ）と、
上記スペーサの上面に形成された配向膜を上記版に圧接することにより、上記接着剤を上記上面に形成された配向膜へ転写する工程（ｄ）と、
上記配向膜へ転写された接着剤に他方の基板を接着する工程（ｅ）とを含むことを特徴とする液晶表示素子の製造方法。
【請求項７】
上記工程（ａ）において、台形の底角を、１０°ないし６５°の範囲とすることを特徴とする請求項６記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項８】
上記工程（ｃ）において作成される版が、平版、凹版、および凸版のいずれかであることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項９】
上記基材が、平板であることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【請求項１０】
上記基材が、平板または円形の版胴に貼り付けられるフィルムであることを特徴とする請求項６に記載の液晶表示素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に関し、特に、大画面でしかも高精細な液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
強誘電性液晶はメモリー性、高速応答性、広視野角といった優れた特長を有しており、単純マトリクス方式によって高精細大容量表示が可能である〔N. A. Clark and S. T. Lagerwall:Appl. Phys. Lett 36(1980)899. 参照〕。図１１に、強誘電性液晶表示装置の従来構造の一例を概略的な断面図で示す。
【０００３】
従来の強誘電性液晶表示装置は、２枚のガラス基板１２ａ・１２ｂを備えている。一方のガラス基板１２ａの表面にはインジウム錫酸化物（一般にＩＴＯと略称される）等からなる透明な信号電極１３ａが複数本互いに平行に配置され、その上にはＳｉＯ2 等からなる透明絶縁膜１４ａが形成される。
【０００４】
信号電極と対向するもう一方のガラス基板１２ｂの表面にはＩＴＯ等からなる透明な走査電極１３ｂが、信号電極１３ａと直交する向きに複数本互いに平行に配置されており、この走査電極１３ｂも、ＳｉＯ2 等からなる透明絶縁膜１４ｂで被覆される。
【０００５】
各透明絶縁膜１４ａ・１４ｂ上には、ラビング処理などの一軸配向処理が施された配向膜１５ａ・１５ｂが形成される。配向膜１５ａ・１５ｂとしては、ポリイミド膜、ナイロン膜、ポリビニルアルコール膜などの有機高分子膜や、ＳｉＯ斜方蒸着膜などが用いられる。配向膜１５ａ・１５ｂとして有機高分子膜を用いた場合は、通常、液晶分子が電極基板に対してほぼ平行に配向するように配向処理がなされる。
【０００６】
以下では、信号電極１３ａ、透明絶縁膜１４ａ、および配向膜１５ａが順次積層されたガラス基板１２ａを、電極基板１０と称する。同様に、走査電極１３ｂ、透明絶縁膜１４ｂ、および配向膜１５ｂが順次積層されたガラス基板１２ｂを、電極基板１１と称する。
【０００７】
電極基板１０および１１は、一部に注入口を残して封止剤１６で貼り合わされ、配向膜１５ａ・１５ｂの間に形成される間隙に、上記注入口から強誘電性液晶１７が導入される。その後、上記注入口は、封止剤３０で封止される。
【０００８】
このようにして貼り合わされた電極基板１０・１１は、偏光軸が互いに直交するように配置された２枚の偏光板１８ａ・１８ｂで挟まれる。表示面積が広い場合には、２枚の電極基板１０・１１が互いに平行に一定のセル厚で対向するように、球状のスペーサ１９が散布される。
【０００９】
強誘電性液晶の分子２０は、図１２に示すように、分子の長軸方向と直交する方向に自発分極２１を持つ。それゆえ、強誘電性液晶の分子２０は、信号電極１３ａと走査電極１３ｂとの間に印加される電圧から作られる電界と、自発分極２１とのベクトル積に比例した力を受け、円錐軌跡２２の表面上を運動する。
【００１０】
このため、観察者から見ると、強誘電性液晶の分子２０は、図１３に示すように、円錐軌跡２２の両軸の位置Ａ・Ｂの間をスイッチすることになる。このとき、例えば、偏光板１８ａ・１８ｂの一方の偏光軸が、分子２０が位置Ａにある場合の分子長軸の方向３８ａと一致するように、且つ他方の偏光軸が方向３８ｂと一致するように配置すれば、分子２０が位置Ａにスイッチしたときに暗視野が得られる。また、分子２０が位置Ｂにスイッチしたときに、複屈折によって生じた明視野が得られる。
【００１１】
また、位置Ａ・Ｂのそれぞれにおける強誘電性液晶の分子２０の配向状態は、弾性エネルギー的に等価である。これにより、信号電極１３ａおよび走査電極１３ｂによる電界が除去された後も、分子２０の配向状態すなわち光学状態が保持される。これが、いわゆる、強誘電性液晶のメモリー効果である。このメモリー効果は従来のネマティック液晶には無い特性であり、自発分極による高速応答性と併せて、強誘電性液晶を用いた表示装置が単純マトリクス方式で高精細大容量表示を行うことを可能としている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
一般的に、大型液晶表示装置では、基板自身の重みによる撓みや、衝撃等の外力によって、基板の変形が起こり易い。これを防止するために、液晶セル内部に球形スペーサを入れたり、スペーサに接着性を付与するというような試みが、従来から広く行われている。
【００１３】
また、液晶セルの内部に、壁状あるいは柱状のスペーサを形成することにより、液晶セルの基板変形と液晶の流動を防ぎ、これらに起因する表示不良を改善する試みもなされている。
【００１４】
さらに、基板同士の接着性が不十分であると、基板の圧縮や引っ張り変形に対してセル厚が変化し、表示不良が起こり易いという問題があるので、上述の壁状あるいは柱状のスペーサと基板とを接着剤によって接着した構成も従来知られている。ただし、このように接着剤を用いる場合、接着剤が画素部分へはみ出すと、はみ出した接着剤が液晶の配向に悪影響を与え、表示品位を低下させるという問題が生じる。
【００１５】
本発明は、上記した問題に鑑みなされたもので、接着剤のはみ出しを極力抑制することによって、画素部分の液晶の配向に影響を与えずに十分な基板強度を実現し、表示品位が向上された液晶表示素子を提供することを解決すべき課題としている。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明の液晶表示素子の第１の製造方法は、少なくとも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子の製造方法において、一方の基板の配向膜上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサを、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記配向膜に接するように形成する工程（ａ）と、基材の、上記スペーサの台形の短い方の底に相当する上面とは接触しない部分を、接着剤をはじく材料からなる保護膜で覆った後、保護膜以外の部分に上記接着剤を塗布して版を作成する工程（ｂ）と、上記スペーサの上面を上記版に圧接することにより、上記接着剤をスペーサの上記上面へ転写する工程（ｃ）と、上記スペーサの上面へ転写された接着剤に他方の基板を接着する工程（ｄ）とを含むことを特徴としている。
【００１７】
上記の製造方法によれば、一対の基板が接着剤を用いて接着されているので、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。
【００１８】
なお、上記接着剤は、スペーサの上面のみに選択的に転写されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止される。さらに、万が一、接着剤が上記スペーサの上面から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、スペーサの上面からはみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供することが可能となる。
【００１９】
上記第１の製造方法において、好ましくは、工程（ａ）において、上記台形の底角を、１０°ないし６５°の範囲とすることにより、さらに良好な接着性を得ることが可能となる。
【００２０】
上記第１の製造方法において、上記工程（ｂ）において作成される版は、平版、凹版、および凸版のいずれかとすることが好ましい。
【００２１】
上記第１の製造方法において、上記基材として平板を用いることができる。あるいは、上記基材として、平板または円形の版胴に貼り付けられるフィルムを用いることも可能である。
【００２２】
また、上記第１の製造方法において、上記工程（ｂ）において、接着剤が塗布される領域を、上記工程（ｃ）においてスペーサの上面が圧接される位置に対応して選択的に設けているので、接着剤が不要な箇所へ転写されてしまうことを防止できる。このとき、工程（ｂ）において作成する版が平版である場合には、上記工程（ｂ）に先立って、基材において接着剤が塗布されない領域を、シリコン樹脂、フッ素樹脂、およびシリコンゴムのいずれかで覆っておくことが好ましい。
【００２３】
上記の課題を解決するために、本発明の液晶表示素子の第２の製造方法は、少なくとも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子の製造方法において、一方の基板上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサを、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記基板表面に接するように形成する工程（ａ）と、上記スペーサを覆うように配向膜を形成する工程（ｂ）と、基材の、上記スペーサの台形の短い方の底に相当する上面とは接触しない部分を、接着剤をはじく材料からなる保護膜で覆った後、保護膜以外の部分に上記接着剤を塗布して版を作成する工程（ｃ）と、上記スペーサの上面に形成された配向膜を上記版に圧接することにより、上記接着剤を上記上面に形成された配向膜へ転写する工程（ｄ）と、上記配向膜へ転写された接着剤に他方の基板を接着する工程（ｅ）とを含むことを特徴としている。
【００２４】
上記の製造方法によれば、一対の基板が接着剤を用いて接着されているので、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。また、スペーサを覆うように配向膜が形成されていることにより、上記した第１の製造方法と比較して、スペーサの周囲で液晶の配向が乱されるという問題がなく、良好な配向状態を得られるという利点がある。
【００２５】
なお、上記接着剤は、配向膜においてスペーサの上面に位置する部分にのみ選択的に転写されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止される。
【００２６】
さらに、万が一、接着剤が上記スペーサの上面を覆う配向膜上から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、はみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。
【００２７】
この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供できる。
【００２８】
また、上記第２の製造方法において、好ましくは、工程（ａ）において、上記台形の底角を１０°ないし６５°の範囲とすることにより、さらに良好な接着性を得ることが可能となる。
【００２９】
また、上記第２の製造方法において、工程（ｃ）において作成される版が、平版、凹版、および凸版のいずれかであることが好ましい。
【００３０】
また、上記第２の製造方法において、上記基材として、平板を用いることができる。あるいは、上記基材が、平板または円形の版胴に貼り付けられるフィルムであっても良い。
【００３１】
上記第２の製造方法において、工程（ｃ）において接着剤を塗布する領域を、上記工程（ｄ）において配向膜が圧接される位置に対応して選択的に設けているので、接着剤が、必要以外の箇所へ転写されることを防止できる。このとき、工程（ｃ）において作成する版が平版である場合には、上記工程（ｃ）に先立って、基材において接着剤が塗布されない領域を、シリコン樹脂、フッ素樹脂、およびシリコンゴムのいずれかで覆っておくことが好ましい。
【００３２】
上記の課題を解決するために、本発明の第１の液晶表示素子は、少なくとも電極と配向膜とをそれぞれ有する第１および第２の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子において、第１の基板の配向膜上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサが設けられ、上記スペーサが、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記第１の基板の配向膜に接し、且つ上記断面にて台形の短い方の底に相当する上面のみに塗布された接着剤にて第２の基板に接着されていることを特徴とする。
【００３３】
上記の構成によれば、第１および第２の基板が接着剤を用いて接着されているので、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。
【００３４】
なお、上記接着剤は、スペーサの上面のみに選択的に塗布されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止される。さらに、万が一、接着剤が上記スペーサの上面から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、スペーサの上面からはみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供することが可能となる。
【００３５】
上記の課題を解決するために、本発明の第２の液晶表示素子は、少なくとも電極と配向膜とをそれぞれ有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子において、一方の基板上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサと、上記スペーサを覆うように設けられた配向膜とを備え、上記配向膜の、上記スペーサの上記断面にて台形の短い方の底に相当する面を覆う箇所に、接着剤が設けられ、この接着剤に他方の基板が接着されていることを特徴とする。
【００３６】
上記の構成によれば、一対の基板が接着剤を用いて接着されているので、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。また、スペーサを覆うように配向膜が形成されていることにより、上記した第１の液晶表示素子と比較して、スペーサの周囲で液晶の配向が乱されるという問題がなく、良好な配向状態を得られるという利点がある。
【００３７】
なお、上記の接着剤は、スペーサの上面を覆う配向膜上にのみ選択的に転写されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止される。さらに、万が一、接着剤が上記スペーサの上面を覆う配向膜上から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、はみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供することが可能となる。
【００３８】
【発明の実施の形態】
〔参考の形態１〕
本発明の参考の形態について図１および図２に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００３９】
図１は、本参考の形態に係る液晶セルの構成を示す断面図である。この液晶セルは、二枚のガラス基板５０ａ・５０ｂを備えている。
【００４０】
ガラス基板５０ａの表面には、ストライプ状に形成された走査線５１ａ・５１ａ…（電極）、およびこの走査線５１ａ・５１ａ…の間隔を埋めるように形成されたブラックマトリクス５６・５６…が設けられている。上記走査線５１ａ…およびブラックマトリクス５６…の上層には、絶縁膜５２ａ、配向膜５３ａが順次積層されている。以下、ガラス基板５０ａ、走査線５１ａ…、ブラックマトリクス５６…、絶縁膜５２ａ、および配向膜５３ａからなる構成を、走査線基板５８ａ（基板）と称する。
【００４１】
同様に、ガラス基板５０ｂの表面には、ストライプ状に形成された信号線５１ｂ・５１ｂ…（電極）、絶縁膜５２ｂ、配向膜５３ｂが順次積層されている。上記のガラス基板５０ｂ、信号線５１ｂ…、絶縁膜５２ｂ、および配向膜５３ｂからなる構成を、信号線基板５８ｂ（基板）と称する。
【００４２】
上記の走査線基板５８ａおよび信号線基板５８ｂは、配向膜５３ａ・５３ｂがそれぞれ形成された面を内側にし、且つ走査線５１ａ…および信号線５１ｂ…が互いに直交する向きに配置され、互いに貼り合わされている。
【００４３】
また、走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとの間には、走査線５１ａの長手方向に沿って、高分子壁５４（スペーサ）が形成されている。この高分子壁５４は、走査線５１ａの長手方向に垂直な断面における形状が台形である。上記高分子壁５４の上面（上記断面における台形の上底側）には、接着剤層５５が形成されている。この接着剤層５５によって、高分子壁５４と、信号線基板５８ｂの配向膜５３ｂとは互いに強固に接着されている。なお、図示しない液晶は、配向膜５３ａ・５３ｂの間に形成された空間に充填される。
【００４４】
次に、上述の液晶セルの製造方法について、図２（ａ）ないし（ｄ）を参照しながら説明する。
まず、ガラス基板５０ａの全面に、膜厚２００ｎｍのインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の膜を、スパッタ蒸着あるいはＥＢ蒸着によって形成する。次に、フォトレジストをスピンコーティングする。次に、ＩＴＯ電極形成用フォトマスクと紫外線露光装置とを用いたフォトリソグラフィによって上記フォトレジストをストライプパターンにした後、３５℃の４７重量％臭化水素水溶液に１０分間浸漬することで、走査線５１ａのエッチングを行う。
【００４５】
なお、上記フォトレジストとしては、例えば、東京応化工業株式会社製のＴＳＭＲ−８８００等を用いることができる。また、上記エッチング工程において、走査線５１ａの幅が３８５μｍ、画素部分の長さが１９２ｍｍ、隣合う走査線５１ａ・５１ａ間の幅が１５μｍとなるようにする。
【００４６】
次に、このように走査線５１ａ…を形成したガラス基板５０ａを純水で洗浄し、乾燥した後、樹脂やＳｉによりブラックマトリクス５６を形成する。その上に、酸化シリコンＳｉＯ2 や窒化シリコンＳｉＮなどからなる絶縁膜５２ａと、ポリイミドからなる配向膜５３ａとを順次形成し、配向膜５３ａにラビングによる一軸配向処理を施す。
【００４７】
以上の工程により、走査線基板５８ａが作製される。
【００４８】
引き続き、ネガ型感光性アクリル樹脂（Ｖ−２５９ＰＡ：新日鉄化学株式会社製）を配向膜５３ａ表面にスピンコーティングし、プロキシミティギャップ５０μｍのフォトリソグラフィーにより、高さ１．５μｍ、台形の下辺の幅１５μｍ、上辺１０μｍの高分子壁５４を形成する。
【００４９】
以上の工程によって、図２（ａ）に示すように、断面形状が台形の高分子壁５４が走査線基板５８ａの表面に形成される。この高分子壁５４は、材料的には光学的に等方性を持ち透明であるが、直交する二枚の偏光板間に挟まれることにより、遮光性を有する。
【００５０】
なお、上述のように高分子壁５４の断面形状を台形にするためには、台形の下辺より小さい解像度を持つ感光性高分子材料を用いて、プロキシミティ露光機のプロキシミティギャップを広めに設定したり、現像時間を長くしたりすることが有効である。
【００５１】
次に、図２（ｂ）ないし（ｄ）に示すプロセスによって、高分子壁５４の上面に接着剤層５５を形成する。まず、図２（ｂ）に示すように、接着剤を高分子壁５４へ転写するために用いられる平坦な転写基板５７（基材）に、溶媒で希釈した接着性樹脂膜を形成する。ここでは、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ２００ｎｍになるようにスピンコーティングで形成する。
【００５２】
あるいは、転写基板５７にポリイミドフィルムを形成した上に、上述の希釈した２液エポキシ接着剤をスプレイ法で噴霧することにより、同様の接着剤層５５を形成しても良い。
【００５３】
その後、接着剤層５５に含まれている溶媒を、８０℃で１８０秒間乾燥させた後、図２（ｃ）に示すように、走査線基板５８ａと転写基板５７とを、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。このとき、高分子壁５４の上面と、接着剤層５５とを接着させる。最後に、ゆっくりと走査線基板５８ａと転写基板５７とを引きはがす。この結果、図２（ｄ）に示すように、接着剤層５５が、転写基板５７から走査線基板５８ａ上の高分子壁５４の上面へ転写される。
【００５４】
なお、転写基板５７に要求される条件としては、接着性樹脂の溶媒による変質がないことと、接着性樹脂の転写に支障がないことである。
【００５５】
こうして作製した走査線基板５８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板５８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【００５６】
なお、高分子壁５４をその長手方向に垂直な平面で切断した断面に現れる台形の底角θは、高分子壁５４と配向膜５３ｂとの接着性の観点からは、１０°〜６５°とすることが好ましい。すなわち、上記台形の下辺が上辺よりも、高さの１倍〜１０倍長いことが好ましい。
【００５７】
以上のように、本参考形態に係る液晶セルは、その長手方向に垂直な平面における断面が台形状の高分子壁５４によって、走査線基板５８ａおよび信号線基板５８ｂの間隔が均一に保たれると共に、高分子壁５４と信号線基板５８ｂの配向膜５３ｂとが、高分子壁５４の上面に選択的に形成された接着剤層５５によって強固に接着された構成である。
【００５８】
このように、接着剤層５５によって走査線基板５８ａおよび信号線基板５８ｂが接着されていることにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【００５９】
また、接着剤層５５は、高分子壁５４の上面のみに選択的に形成されているので、接着剤が画素部の液晶の配向に与える影響が低減され、表示品位の低下が防止される。万が一、高分子壁５４と配向膜５３ｂとを圧着する際に、接着剤層５５を形成する接着剤が高分子壁５４の上面から僅かにはみ出したとしても、高分子壁５４が断面台形状であるので、はみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、高分子壁５４の下面の大きさ以上に広がることはない。
【００６０】
すなわち、従来のように均一な幅を有する壁状のスペーサの場合と比較して、本参考形態の液晶セルは、接着剤のはみ出しが液晶の配向に悪影響を与えず、十分な基板強度が実現される。この結果、表示品位が向上された液晶表示素子を提供できるという効果を奏する。
【００６１】
また、強誘電性液晶は、ネマティック液晶等に比較すると衝撃に弱いので、外力によって配向状態が一旦乱されると元の正常な状態に戻り難く、表示不良を生じ易いという欠点を持つが、本参考形態の液晶セルのように十分な基板強度を有するセル構造と強誘電性液晶とを組み合わせることにより、上記の欠点が解消され、高速応答性やメモリ性といった強誘電性液晶の優れた特性を活かした液晶セルを実現することが可能となるという利点もある。
【００６２】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの参考形態として、走査線５１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁５４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線５１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【００６３】
〔参考の形態２〕
本発明の参考に係る他の形態について図３および図４に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００６４】
図３は、本参考の形態に係る液晶セルの構成を示す断面図である。この液晶セルは、二枚のガラス基板６０ａ・６０ｂを備えている。
【００６５】
ガラス基板６０ａの表面には、ストライプ状に形成された走査線６１ａ・６１ａ…、およびこの走査線６１ａ・６１ａ…の間隔を埋めるように形成されたブラックマトリクス６６・６６…が設けられている。上記ブラックマトリクス６６…の上層には、ブラックマトリクス６６の長手方向に沿って、且つブラックマトリクス６６よりも小さい幅で、高分子壁６４が形成されている。この高分子壁６４は、上記長手方向に垂直な断面における形状が台形である。
【００６６】
さらに、走査線６１ａ・６１ａ…、ブラックマトリクス６６、および高分子壁６４を覆うように、絶縁膜６２ａ、配向膜６３ａが順次積層されている。以下、ガラス基板６０ａ、走査線６１ａ…、ブラックマトリクス６６…、高分子壁６４、絶縁膜６２ａ、および配向膜６３ａからなる構成を、走査線基板６８ａと称する。
【００６７】
同様に、ガラス基板６０ｂの表面には、ストライプ状に形成された信号線６１ｂ・６１ｂ…、絶縁膜６２ｂ、配向膜６３ｂが順次積層されている。上記のガラス基板６０ｂ、信号線６１ｂ…、絶縁膜６２ｂ、および配向膜６３ｂからなる構成を、信号線基板６８ｂと称する。
【００６８】
上記の走査線基板６８ａおよび信号線基板６８ｂは、走査線６１ａ…および信号線６１ｂ…が互いに直交する向きに配置され、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面部分の配向膜６３ａと、信号線基板６８ｂ側の配向膜６３ｂとが、接着剤層６５によって強固に接着されている。なお、図示しない液晶は、配向膜６３ａ・６３ｂの間に形成された空間に充填される。
【００６９】
次に、上述の液晶セルの製造方法について、図４（ａ）ないし（ｄ）を参照しながら説明する。
まず、ガラス基板６０ａの全面に、膜厚２００ｎｍのインジウム錫酸化物（ＩＴＯ）の膜を、スパッタ蒸着あるいはＥＢ蒸着によって形成する。次に、フォトレジストをスピンコーティングする。次に、ＩＴＯ電極形成用フォトマスクと紫外線露光装置とを用いたフォトリソグラフィーによって上記フォトレジストをストライプパターンにした後、３５℃の４７重量％臭化水素水溶液に１０分間浸漬することで、走査線６１ａのエッチングを行う。
【００７０】
なお、上記フォトレジストとしては、例えば、東京応化工業株式会社製のＴＳＭＲ−８８００等を用いることができる。また、上記エッチング工程において、走査線６１ａの幅が３８５μｍ、画素部分の長さが１９２ｍｍ、隣合う走査線６１ａ・６１ａ間の幅が１５μｍとなるようにする。
【００７１】
次に、このように走査線６１ａ…を形成したガラス基板６０ａを純水で洗浄し、乾燥した後、樹脂やＳｉによりブラックマトリクス６６を形成する。
【００７２】
引き続き、ネガ型感光性アクリル樹脂（Ｖ−２５９ＰＡ：新日鉄化学株式会社製）をスピンコーティングし、プロキシミティギャップ５０μｍのフォトリソグラフィーにより、高さ１．５μｍ、台形の下辺の幅１５μｍ、上辺１０μｍの高分子壁６４を形成する。この高分子壁６４は、材料的には光学的に等方性を持ち、透明であるが、直交する二枚の偏光板間に挟まれることにより、遮光性を有する。
【００７３】
その上に、酸化シリコンＳｉＯ2や窒化シリコンＳｉＮなどからなる絶縁膜６２ａと、ポリイミドからなる配向膜６３ａとを順次形成し、配向膜６３ａにラビングによる一軸配向処理を施す。
【００７４】
以上の工程によって、図４（ａ）に示すように、走査線基板６８ａが作製される。
【００７５】
次に、図４（ｂ）ないし（ｄ）に示すプロセスによって、高分子壁６４上面の配向膜６３ａ表面に接着剤層６５を形成する。まず、図４（ｂ）に示すように、接着剤を高分子壁６４上面の配向膜６３ａへ転写するために用いられる平坦な転写基板６７（基材）に、溶媒で希釈した接着性樹脂膜を形成する。ここでは、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ２００ｎｍになるようにスピンコーティングで形成する。
【００７６】
あるいは、転写基板６７にポリイミドフィルムを形成した上に、上述の希釈した２液エポキシ接着剤をスプレイ法で噴霧することにより、同様の接着剤層６５を形成しても良い。
【００７７】
その後、接着剤層６５に含まれている溶媒を、８０℃で１８０秒間乾燥させた後、図４（ｃ）に示すように、走査線基板６８ａと転写基板６７とを、両基板が平坦な状態で、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、一旦接着させる。このときに、高分子壁６４上面の配向膜６３ａと、接着剤層６５とを接着させる。最後に、ゆっくりと走査線基板６８ａと転写基板６７とを引きはがす。この結果、図４（ｄ）に示すように、接着剤層６５が、転写基板６７から走査線基板６８ａの高分子壁６４上面の配向膜６３ａへ転写される。
【００７８】
なお、転写基板６７に要求される条件としては、接着性樹脂の溶媒による変質がないことと、接着性樹脂の転写に支障がないことである。
【００７９】
こうして作製した走査線基板６８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板６８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【００８０】
以上のように、本参考形態に係る液晶セルは、その長手方向に垂直な平面における断面が台形状の高分子壁６４によって、走査線基板６８ａおよび信号線基板６８ｂの間隔が均一に保たれると共に、高分子壁６４を覆う配向膜６３ａと信号線基板６８ｂの配向膜６３ｂとが、高分子壁６４の上面の配向膜６３ａに選択的に形成された接着剤層６５によって強固に接着された構成である。
【００８１】
これにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【００８２】
また、接着剤層６５は、配向膜６３ａにおいて高分子壁６４の上面を覆う部分のみに選択的に形成されているので、接着剤が画素部へはみ出すことによる表示品位の低下が防止される。万が一、配向膜６３ａと配向膜６３ｂとを圧着する際に、接着剤層６５を形成する接着剤が高分子壁６４の上面を覆う部分から僅かにはみ出したとしても、高分子壁６４が断面台形状であるので、はみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、高分子壁６４の下辺の大きさ以上に広がることはない。この結果、表示品位の向上された液晶セルが実現される。
【００８３】
さらに、高分子壁６４が配向膜６３ａにより覆われていることにより、前記した参考の形態１で説明した構成と比較して、高分子壁６４が液晶と直接接触することがないので、高分子壁によって液晶の配向が乱されることがない。この結果、表示品位がさらに向上された液晶セルを提供することが可能となる。
【００８４】
〔実施の形態１〕
本発明の実施の形態について主に図５に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【００８５】
本実施の形態に係る液晶セルは、前記した実施の形態１に係る液晶セルと同様の構成を持つが、製造工程において、走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとを接着する接着剤層５５を、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面に形成する際の手順が、参考の形態１に係る液晶セルとは異なっている。
【００８６】
説明を簡略化するために、この実施の形態１では、参考の形態１と異なる部分、すなわち、上記高分子壁５４の上面に接着剤層５５を形成する手順についてのみ説明を行うこととする。
【００８７】
本実施形態では、参考の形態１で説明した手順によって、図５（ａ）に示すように走査線基板５８ａの配向膜５３ａ上に断面台形状の高分子壁５４を形成する一方、図５（ｂ）に示すように、転写基板５７（基材）に接着剤層５５（接着剤）を形成することにより、上記高分子壁５４の上面へ接着剤を塗布するための平版を作成する。
【００８８】
このとき、図５（ｂ）に示すように、後述する転写工程（転写基板５７から走査線基板５８ａへ接着剤層５５を転写する工程）において高分子壁５４の上面と接触しない部分を、厚さ５０〜５００ｎｍのシリコン樹脂からなる保護膜５９で予め覆った後、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ５０〜５００ｎｍになるように、スピンコーティングもしくはローラー印刷機で塗布することにより、上記保護膜５９以外の部分に接着剤層５５を形成する。
【００８９】
保護膜５９は、接着剤をはじくことにより、接着剤が余分な領域に塗布されることを防止するためのものであり、その材料としては、上記のシリコン樹脂以外に、シリコンゴムやフッ素樹脂等を用いることができる。
【００９０】
なお、上記の保護膜５９を用いずに、参考の形態１で参照した図２（ｂ）に示すように、転写基板５７の表面全体を接着剤層５５で覆っても良いが、上述のように転写基板５７に保護膜５９を設ければ、走査線基板５８ａにおいて接着剤層５５を転写すべき領域（すなわち、高分子壁５４の上面）以外の部分に、接着剤層５５が転写されてしまうことを防止できるので有利である。
【００９１】
接着剤層５５の厚さが５０ｎｍより薄い場合、走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとの間で十分な接着強度が保たれず、５００ｎｍより厚い場合は、転写基板５７への転写工程、あるいは走査線基板５８ａおよび信号線基板５８ｂの基板の貼り合わせ工程の際に、接着剤が高分子壁５４の巾よりも大幅にはみ出てしまうので、接着剤層５５の厚さは、上述のように５０〜５００ｎｍとすることが好ましい。
【００９２】
また、上記のように、接着剤を溶媒で希釈してから転写基板５７へ塗布することにより、接着剤層５５を均一な膜厚で形成することができる。
【００９３】
次に、図５（ｃ）に示すように、走査線基板５８ａと転写基板５７とを、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面が、転写基板５７の接着剤層５５に対応するように位置合わせして、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。
【００９４】
その後、ゆっくりと走査線基板５８ａと転写基板５７とを引き剥がし、接着剤層５５に含まれる接着剤の溶媒を８０℃で１８０秒乾燥させると、図５（ｄ）に示すように、接着剤層５５が、転写基板５７から走査線基板５８ａ上の高分子壁５４の上面へ転写される。
【００９５】
転写基板５７に要求される条件としては、接着剤の溶媒による変質がないことと、接着剤の転写に支障がないことであり、材料としては、ガラスのみならず、ポリエチレンフィルム等のフィルムを用いることもできる。
【００９６】
なお、フィルムを用いる場合には、版の形状は上述のような平板に限定されず、例えば、円形の版胴（円胴）にフィルムを巻き付けてローラ状とすることも可能である。円形の版胴にフィルムを巻き付けたものを版として用いる場合には、接着剤層５５を走査線基板５８ａの配向膜５３ａ表面に転写する際に、円形の版胴に約５Ｋｇの圧力をかけることが好ましい。
【００９７】
このようにして作製した走査線基板５８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板５８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【００９８】
以上のように、本実施形態に係る液晶セルは、平版印刷法により、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面のみに接着剤層５５を塗布することを特徴としている。
【００９９】
このように、接着剤層５５によって走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとが接着されていることにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【０１００】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの実施形態として、走査線５１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁５４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線５１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【０１０１】
〔実施の形態２〕
本発明の実施に係るさらに他の形態について主に図６に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【０１０２】
本実施の形態に係る液晶セルは、前記した参考の形態２に係る液晶セルと同様の構成を持つが、製造工程において、走査線基板６８ａと信号線基板６８ｂとを接着する接着剤層６５を、走査線基板６８ａの配向膜６３ａ上に形成する際の手順が、参考の形態２に係る液晶セルとは異なっている。
【０１０３】
説明を簡略化するために、この実施の形態２では、参考の形態２とは異なる部分、すなわち、走査線基板６８ａの配向膜６３ａ上に接着剤層６５を形成する手順についてのみ説明を行うこととする。
【０１０４】
本実施形態では、参考の形態２で説明した手順によって、図６（ａ）に示すようにガラス基板６０ａ上に、走査線６１ａ…、ブラックマトリクス６６…、高分子壁６４、絶縁膜６２ａ、および配向膜６３ａを順次形成することにより、走査線基板６８ａを形成する一方、図６（ｂ）に示すように、転写基板６７（基材）に接着剤層６５（接着剤）を形成することにより、高分子壁６４の上面に位置する配向膜６３ａ上に接着剤を塗布するための平版を作成する。
【０１０５】
このとき、図６（ｂ）に示すように、後述する転写工程（転写基板６７から走査線基板６８ａへ接着剤層６５を転写する工程）において走査線基板６８ａと接触しない部分を、厚さ５０〜５００ｎｍのシリコン樹脂からなる保護膜６９で予め覆った後、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ５０〜５００ｎｍになるように、スピンコーティングもしくはローラー印刷機で塗布することにより、上記保護膜６９以外の部分に接着剤層６５を形成する。
【０１０６】
なお、保護膜６９の材料としては、上記のシリコン樹脂以外に、シリコンゴムやフッ素樹脂等を用いることができる。また、上記の保護膜６９を用いずに、実施の形態２で参照した図４（ｂ）に示すように、転写基板６７の表面全体を接着剤層６５で覆っても良いが、上述のように転写基板６７に保護膜６９を設ければ、走査線基板６８ａにおいて接着剤層６５を転写すべき領域（すなわち、配向膜６３ａにおいて高分子壁６４の上面に位置する部分）以外の部分に、接着剤層６５が転写されてしまうことを防止できるので有利である。
【０１０７】
次に、図６（ｃ）に示すように、走査線基板６８ａと転写基板６７とを、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面に位置する配向膜６３ａに接着剤層６５が転写されるように位置合わせして、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。
【０１０８】
その後、ゆっくりと走査線基板６８ａと転写基板６７とを引き剥がし、接着剤層６５に含まれる接着剤の溶媒を８０℃で１８０秒乾燥させると、図６（ｄ）に示すように、接着剤層６５が、転写基板６７から走査線基板６８ａ上の高分子壁６４の上面へ転写される。
【０１０９】
転写基板６７に要求される条件としては、接着剤の溶媒による変質がないことと、接着剤の転写に支障がないことであり、材料としては、ガラスのみならず、ポリエチレンフィルム等のフィルムを用いることもできる。
【０１１０】
なお、フィルムを用いる場合には、版の形状は上述のような平板に限定されず、例えば、円形の版胴にフィルムを巻き付けてローラ状とすることも可能である。円形の版胴にフィルムを巻き付けたものを版として用いる場合には、接着剤層６５を走査線基板６８ａの配向膜６３ａ表面に転写する際に、円形の版胴に約５Ｋｇの圧力をかけることが好ましい。
【０１１１】
このようにして作製した走査線基板６８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板６８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【０１１２】
以上のように、本実施形態に係る液晶セルは、平版印刷法により、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面のみに接着剤層６５を塗布することを特徴としている。
【０１１３】
これにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【０１１４】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの実施形態として、走査線６１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁６４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線６１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【０１１５】
〔参考の形態３〕
本発明の参考に係るさらに他の形態について主に図７に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【０１１６】
本参考の形態に係る液晶セルは、前記した参考の形態１に係る液晶セルと同様の構成を持つが、製造工程において、走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとを接着する接着剤層５５を、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面に形成する際の手順が、参考の形態１に係る液晶セルとは異なっている。
【０１１７】
説明を簡略化するために、この参考の形態３では、参考の形態１と異なる部分、すなわち、上記高分子壁５４の上面に接着剤層５５を形成する手順についてのみ説明を行うこととする。
【０１１８】
本参考形態では、参考の形態１で説明した手順によって、図７（ａ）に示すように走査線基板５８ａの配向膜５３ａ上に断面台形状の高分子壁５４を形成する一方、図７（ｂ）に示すように、転写基板５７に接着剤層５５を形成することにより、上記高分子壁５４の上面へ接着剤を塗布するための凹版を作成する。
【０１１９】
まず、図７（ｂ）に示すように、転写基板５７において、後述する転写工程（転写基板５７から走査線基板５８ａへ接着剤層５５を転写する工程）にて高分子壁５４の上面と接触する部分に、深さ５０〜５００ｎｍの凹部を形成した後、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ５０〜５００ｎｍになるように、スピンコーティングもしくはローラー印刷機で塗布する。
【０１２０】
次に、ドクター４１で、転写基板５７表面の接着剤を掻き取ることにより、上記凹部のみに接着剤層５５を有する凹版が形成される。
【０１２１】
なお、参考の形態１で参照した図２（ｂ）に示すように、転写基板５７の表面全体に接着剤層５５を形成しても良いが、上述のように、転写基板５７において、転写工程にて走査線基板５８ａと接触する部分である上記凹部のみに接着剤層５５を形成すれば、高分子壁５４の上面以外の部分に、接着剤層５５が転写されてしまうことを防止できる点で有利である。
【０１２２】
次に、図７（ｃ）に示すように、走査線基板５８ａと転写基板５７とを、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面が、転写基板５７の接着剤層５５に対応するように位置合わせして、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。
【０１２３】
その後、ゆっくりと走査線基板５８ａと転写基板５７とを引き剥がし、接着剤層５５に含まれる接着剤の溶媒を８０℃で１８０秒乾燥させると、図７（ｄ）に示すように、接着剤層５５が、転写基板５７から走査線基板５８ａ上の高分子壁５４の上面へ転写される。
【０１２４】
転写基板５７に要求される条件としては、接着剤の溶媒による変質がないことと、接着剤の転写に支障がないことであり、材料としては、ガラスのみならず、ポリエチレンフィルム等のフィルムを用いることもできる。
【０１２５】
なお、フィルムを用いる場合には、版の形状は上述のような平板に限定されず、例えば、円形の版胴にフィルムを巻き付けてローラ状とすることも可能である。円形の版胴にフィルムを巻き付けたものを版として用いる場合には、接着剤層５５を走査線基板５８ａの配向膜５３ａ表面に転写する際に、円形の版胴に約５Ｋｇの圧力をかけることが好ましい。
【０１２６】
このようにして作製した走査線基板５８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板５８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【０１２７】
以上のように、本参考形態に係る液晶セルは、凹版印刷法により、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面のみに接着剤層５５を塗布することを特徴としている。
【０１２８】
このように、接着剤層５５によって走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとが接着されていることにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【０１２９】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの参考形態として、走査線５１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁５４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線５１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【０１３０】
〔参考の形態４〕
本発明の参考に係るさらに他の形態について主に図８に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【０１３１】
本参考の形態に係る液晶セルは、前記した参考の形態２に係る液晶セルと同様の構成を持つが、製造工程において、走査線基板６８ａと信号線基板６８ｂとを接着する接着剤層６５を、走査線基板６８ａの配向膜６３ａ上に形成する際の手順が、参考の形態２に係る液晶セルとは異なっている。
【０１３２】
説明を簡略化するために、この参考の形態４では、参考の形態２とは異なる部分、すなわち、走査線基板６８ａの配向膜６３ａ上に接着剤層６５を形成する手順についてのみ説明を行うこととする。
【０１３３】
本参考形態では、参考の形態２で説明した手順によって、図８（ａ）に示すようにガラス基板６０ａ上に、走査線６１ａ…、ブラックマトリクス６６…、高分子壁６４、絶縁膜６２ａ、および配向膜６３ａを順次形成することにより、走査線基板６８ａを形成する一方、図８（ｂ）に示すように、転写基板６７に接着剤層６５を形成することにより、高分子壁６４の上面に位置する配向膜６３ａ上に接着剤を塗布するための凹版を作成する。
【０１３４】
このとき、図８（ｂ）に示すように、転写基板６７において、後述する転写工程（転写基板６７から走査線基板６８ａへ接着剤層６５を転写する工程）にて走査線基板６８ａと接触する部分に、深さ５０〜５００ｎｍの凹部を形成した後、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ５０〜５００ｎｍになるように、スピンコーティングもしくはローラー印刷機で塗布する。
【０１３５】
次に、ドクター４１で、転写基板６７表面の接着剤を掻き取ることにより、上記凹部のみに接着剤層６５を有する凹版が形成される。
【０１３６】
なお、参考の形態２で参照した図４（ｂ）に示すように、転写基板６７の表面全体に接着剤層６５を形成しても良いが、上述のように、転写基板６７において、転写工程にて走査線基板６８ａと接触する上記凹部のみに接着剤層６５を形成すれば、走査線基板６８ａにおいて接着剤層６５を転写すべき領域（すなわち、配向膜６３ａにおいて高分子壁６４の上面に位置する部分）以外の部分に、接着剤層６５が転写されてしまうことを防止できるので有利である。
【０１３７】
次に、図８（ｃ）に示すように、走査線基板６８ａと転写基板６７とを、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面に位置する配向膜６３ａに接着剤層６５が転写されるように位置合わせして、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。
【０１３８】
その後、ゆっくりと走査線基板６８ａと転写基板６７とを引き剥がし、接着剤層６５に含まれる接着剤の溶媒を８０℃で１８０秒乾燥させると、図８（ｄ）に示すように、接着剤層６５が、転写基板６７から走査線基板６８ａ上の高分子壁６４の上面へ転写される。
【０１３９】
転写基板６７に要求される条件としては、接着剤の溶媒による変質がないことと、接着剤の転写に支障がないことであり、材料としては、ガラスのみならず、ポリエチレンフィルム等のフィルムを用いることもできる。
【０１４０】
なお、フィルムを用いる場合には、版の形状は上述のような平板に限定されず、例えば、円形の版胴にフィルムを巻き付けてローラ状とすることも可能である。円形の版胴にフィルムを巻き付けたものを版として用いる場合には、接着剤層６５を走査線基板６８ａの配向膜６３ａ表面に転写する際に、円形の版胴に約５Ｋｇの圧力をかけることが好ましい。
【０１４１】
このようにして作製した走査線基板６８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板６８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【０１４２】
以上のように、本参考形態に係る液晶セルは、凹版印刷法により、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面のみに接着剤層６５を塗布することを特徴としている。
【０１４３】
これにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【０１４４】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの参考形態として、走査線６１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁６４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線６１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【０１４５】
〔参考の形態５〕
本発明の参考に係るさらに他の形態について主に図９に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【０１４６】
本参考の形態に係る液晶セルは、前記した参考の形態１に係る液晶セルと同様の構成を持つが、製造工程において、走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとを接着する接着剤層５５を、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面に形成する際の手順が、参考の形態１に係る液晶セルとは異なっている。
【０１４７】
説明を簡略化するために、ここでは、参考の形態１と異なる部分、すなわち、上記高分子壁５４の上面に接着剤層５５を形成する手順についてのみ説明を行うこととする。
【０１４８】
本参考形態では、参考の形態１で説明した手順によって、図９（ａ）に示すように走査線基板５８ａの配向膜５３ａ上に断面台形状の高分子壁５４を形成する一方、図９（ｂ）に示すように、転写基板５７に接着剤層５５を形成することにより、上記高分子壁５４の上面へ接着剤を塗布するための凸版を作成する。
【０１４９】
まず、図９（ｂ）に示すように、転写基板５７において、後述する転写工程（転写基板５７から走査線基板５８ａへ接着剤層５５を転写する工程）にて高分子壁５４の上面と接触する部分に、高さ５００ｎｍの凸部４３を形成した後、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ５０〜５００ｎｍになるように、ローラー印刷機４２で塗布する。
【０１５０】
上記凸部４３を有する凸版としての転写基板５７としては、Ｎｉ等の金属版、あるいは、ゴムまたはＡＰＲ樹脂等からなる樹脂版を用いることができる。
【０１５１】
なお、参考の形態１で参照した図２（ｂ）に示すように、転写基板５７の表面全体に接着剤層５５を形成しても良いが、図９（ｂ）に示すように、凸部４３の上面にのみ接着剤が着くように版を作成すれば、高分子壁５４の上面以外の部分に、接着剤層５５が転写されてしまうことを防止できる点で有利である。
【０１５２】
次に、図９（ｃ）に示すように、走査線基板５８ａと転写基板５７とを、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面が、転写基板５７の接着剤層５５に対応するように位置合わせして、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。
【０１５３】
その後、ゆっくりと走査線基板５８ａと転写基板５７とを引き剥がし、接着剤層５５に含まれる接着剤の溶媒を８０℃で１８０秒乾燥させると、図９（ｄ）に示すように、接着剤層５５が、転写基板５７から走査線基板５８ａ上の高分子壁５４の上面へ転写される。
【０１５４】
転写基板５７に要求される条件としては、接着剤の溶媒による変質がないことと、接着剤の転写に支障がないことであり、材料としては、ガラスのみならず、ポリエチレンフィルム等のフィルムを用いることもできる。
【０１５５】
なお、フィルムを用いる場合には、版の形状は上述のような平板に限定されず、例えば、円形の版胴にフィルムを巻き付けてローラ状とすることも可能である。円形の版胴にフィルムを巻き付けたものを版として用いる場合には、接着剤層５５を走査線基板５８ａの配向膜５３ａ表面に転写する際に、円形の版胴に約５Ｋｇの圧力をかけることが好ましい。
【０１５６】
このようにして作製した走査線基板５８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板５８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【０１５７】
以上のように、本参考形態に係る液晶セルは、凸版印刷法により、走査線基板５８ａの高分子壁５４の上面のみに接着剤層５５を塗布することを特徴としている。
【０１５８】
このように、接着剤層５５によって走査線基板５８ａと信号線基板５８ｂとが接着されていることにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【０１５９】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの参考形態として、走査線５１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁５４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線５１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【０１６０】
〔参考の形態６〕
本発明の参考に係るさらに他の形態について主に図１０に基づいて説明すれば、以下のとおりである。
【０１６１】
本参考の形態に係る液晶セルは、前記した参考の形態２に係る液晶セルと同様の構成を持つが、製造工程において、走査線基板６８ａと信号線基板６８ｂとを接着する接着剤層６５を、走査線基板６８ａの配向膜６３ａ上に形成する際の手順が、参考の形態２に係る液晶セルとは異なっている。
【０１６２】
説明を簡略化するために、この参考の形態６では、参考の形態２とは異なる部分、すなわち、走査線基板６８ａの配向膜６３ａ上に接着剤層６５を形成する手順についてのみ説明を行うこととする。
【０１６３】
本参考形態では、参考の形態２で説明した手順によって、図１０（ａ）に示すようにガラス基板６０ａ上に、走査線６１ａ…、ブラックマトリクス６６…、高分子壁６４、絶縁膜６２ａ、および配向膜６３ａを順次形成することにより、走査線基板６８ａを形成する一方、図１０（ｂ）に示すように、転写基板６７に接着剤層６５を形成して、高分子壁６４の上面に位置する配向膜６３ａ上に接着剤を塗布するための凸版を作成する。
【０１６４】
このとき、図１０（ｂ）に示すように、転写基板６７において、後述する転写工程（転写基板６７から走査線基板６８ａへ接着剤層６５を転写する工程）にて走査線基板６８ａと接触する部分に、高さ５００ｎｍの凸部４３を形成した後、２５ｃｃのｎ−ブチルセロソルブで希釈した２液エポキシ接着剤（主剤１ｇ、硬化剤１ｇ：コニシ社製、商品名「ボンドＥ」）を、厚さ５０〜５００ｎｍになるように、ローラー印刷機４２で塗布する。
【０１６５】
なお、参考の形態２で参照した図４（ｂ）に示すように、転写基板６７の表面全体に接着剤層６５を形成しても良いが、図１０（ｂ）に示すように、凸部４３の上面にのみ接着剤層５５が形成されるようにすれば、走査線基板６８ａにおいて接着剤層６５を転写すべき領域（すなわち、配向膜６３ａにおいて高分子壁６４の上面に位置する部分）以外の部分に、接着剤層６５が転写されてしまうことを防止できるので有利である。
【０１６６】
次に、図１０（ｃ）に示すように、走査線基板６８ａと転写基板６７とを、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面に位置する配向膜６３ａに接着剤層６５が転写されるように位置合わせして、圧力１．５Ｋｇｆ／ｃｍ2 で空気プレスすることにより、両基板が平坦な状態で、一旦接着させる。
【０１６７】
その後、ゆっくりと走査線基板６８ａと転写基板６７とを引き剥がし、接着剤層６５に含まれる接着剤の溶媒を８０℃で１８０秒乾燥させると、図１０（ｄ）に示すように、接着剤層６５が、転写基板６７から走査線基板６８ａ上の高分子壁６４の上面へ転写される。
【０１６８】
転写基板６７に要求される条件としては、接着剤の溶媒による変質がないことと、接着剤の転写に支障がないことであり、材料としては、ガラスのみならず、ポリエチレンフィルム等のフィルムを用いることもできる。
【０１６９】
なお、フィルムを用いる場合には、版の形状は上述のような平板に限定されず、例えば、円形の版胴にフィルムを巻き付けてローラ状とすることも可能である。円形の版胴にフィルムを巻き付けたものを版として用いる場合には、接着剤層６５を走査線基板６８ａの配向膜６３ａ表面に転写する際に、円形の版胴に約５Ｋｇの圧力をかけることが好ましい。
【０１７０】
このようにして作製した走査線基板６８ａと、同様に作製したもう一枚の信号線基板６８ｂとを対向させ、真空引きして接着させた間隙に強誘電性液晶を注入することにより、液晶セルが作製される。
【０１７１】
以上のように、本参考形態に係る液晶セルは、凸版印刷法により、走査線基板６８ａの高分子壁６４の上面のみに接着剤層６５を塗布することを特徴としている。
【０１７２】
これにより、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、基板変形が生じ難い液晶セルが実現される。この結果、セル厚が均一に保たれ、表示不良のない液晶セルを提供することが可能となる。
【０１７３】
なお、上記では、本発明に係るスペーサの参考形態として、走査線６１ａの長手方向に沿って連続した壁状に形成された高分子壁６４を例示したが、スペーサの形状はこれに限定されるものではなく、例えば、走査線６１ａの長手方向に沿って配列された複数の柱であっても良い。
【０１７４】
なお、上記した各参考の形態は、本発明を限定するものではなく、発明の範囲内で種々の変更が可能であることは言うまでもない。例えば、上述した接着剤層５５および６５の材料や、上述した各種の膜厚や圧着強度等の条件は、あくまでも一例であり、これに限定されるものではない。
【０１７５】
【発明の効果】
以上のように、本発明に係る液晶表示素子の製造方法は、少なくとも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子の製造方法において、一方の基板の配向膜上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサを、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記配向膜に接するように形成する工程（ａ）と、基材の、上記スペーサの台形の短い方の底に相当する上面とは接触しない部分を、接着剤をはじく材料からなる保護膜で覆った後、保護膜以外の部分に上記接着剤を塗布して版を作成する工程（ｂ）と、上記スペーサの上面を上記版に圧接することにより、上記接着剤をスペーサの上記上面へ転写する工程（ｃ）と、上記スペーサの上面へ転写された接着剤に他方の基板を接着する工程（ｄ）とを含む方法である。
【０１７６】
上記の製造方法によれば、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。なお、上記接着剤は、スペーサの上面のみに選択的に転写されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止され、万が一、接着剤が上記スペーサの上面から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、スペーサの上面からはみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供できるという効果を奏する。
【０１７７】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記工程（ａ）において、上記台形の底角を、１０°ないし６５°の範囲とする方法である。これにより、一対の基板間の接着性をさらに向上させることができるという効果を奏する。
【０１７８】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記工程（ｂ）において作成される版が、平版、凹版、および凸版のいずれかである方法である。このような版を用いることにより、スペーサの上面のみに選択的に、接着剤を効率的に転写できるという効果を奏する。
【０１７９】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記基材として平板を用いる方法である。
【０１８０】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記基材が、平板または円形の版胴に貼り付けられるフィルムである方法である。
【０１８１】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記工程（ｂ）において、接着剤を塗布する領域を、上記工程（ｃ）においてスペーサの上面が圧接される位置に対応して選択的に設ける方法である。これによって、不要な箇所に接着剤が転写されることを防止できるという効果を奏する。
【０１８２】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、少なくとも電極と配向膜とを有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子の製造方法において、一方の基板上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサを、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記基板表面に接するように形成する工程（ａ）と、上記スペーサを覆うように配向膜を形成する工程（ｂ）と、基材の、上記スペーサの台形の短い方の底に相当する上面とは接触しない部分を、接着剤をはじく材料からなる保護膜で覆った後、保護膜以外の部分に上記接着剤を塗布して版を作成する工程（ｃ）と、上記スペーサの上面に形成された配向膜を上記版に圧接することにより、上記接着剤を上記上面に形成された配向膜へ転写する工程（ｄ）と、上記配向膜へ転写された接着剤に他方の基板を接着する工程（ｅ）とを含む方法である。
【０１８３】
上記の製造方法によれば、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。また、スペーサを覆うように配向膜が形成されていることにより、上記した第１の製造方法と比較して、スペーサの周囲で液晶の配向が乱されるという問題がなく、良好な配向状態を得られるという利点がある。
【０１８４】
なお、上記接着剤は、スペーサの上面を覆う配向膜上にのみ選択的に転写されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止され、万が一、接着剤が上記スペーサの上面を覆う配向膜上から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、はみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供できるという効果を奏する。
【０１８５】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記工程（ａ）において、台形の底角を、１０°ないし６５°の範囲とする方法である。これにより、基板間の接着性をさらに向上させることができるという効果を奏する。
【０１８６】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記工程（ｃ）において作成される版が、平版、凹版、および凸版のいずれかである方法である。このような版を用いることにより、スペーサの上面のみに選択的に、接着剤を効率的に転写できるという効果を奏する。
【０１８７】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記基材として平板を用いる方法である。
【０１８８】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記基材が、平板または円形の版胴に貼り付けられるフィルムである方法である。
【０１８９】
本発明の液晶表示素子の製造方法は、上記工程（ｃ）において、接着剤を塗布する領域を、上記工程（ｄ）において配向膜が圧接される位置に対応して選択的に設ける方法である。これによって、不要な箇所に接着剤が転写されることを防止できるという効果を奏する。
【０１９０】
本発明により製造される液晶表示素子は、少なくとも電極と配向膜とをそれぞれ有する第１および第２の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子において、第１の基板の配向膜上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサが設けられ、上記スペーサが、上記断面にて台形の長い方の底に相当する下面が上記第１の基板の配向膜に接し、且つ上記断面にて台形の短い方の底に相当する上面のみに塗布された接着剤にて第２の基板に接着されている構成である。
【０１９１】
上記の構成によれば、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。
【０１９２】
なお、上記接着剤は、スペーサの上面のみに選択的に塗布されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止され、万が一、接着剤が上記スペーサの上面から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、スペーサの上面からはみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供できるという効果を奏する。
【０１９３】
本発明により製造される液晶表示素子は、少なくとも電極と配向膜とをそれぞれ有する一対の基板間に液晶を挟持した液晶表示素子において、一方の基板上に、上記電極の長手方向に垂直な平面における断面が台形状のスペーサと、上記スペーサを覆うように設けられた配向膜とを備え、上記配向膜の、上記スペーサの上記断面にて台形の短い方の底に相当する面を覆う箇所に、接着剤が設けられ、この接着剤に他方の基板が接着されている構成である。
【０１９４】
上記の構成によれば、圧縮や引っ張り等の外力に対する基板強度が向上し、セル厚の変化に伴う表示品位の低下などの従来の問題が解決される。また、スペーサを覆うように配向膜が形成されていることにより、上記した第１の液晶表示素子と比較して、スペーサの周囲で液晶の配向が乱されるという問題がなく、良好な配向状態を得られるという利点がある。
【０１９５】
なお、上記接着剤は、スペーサの上面を覆う配向膜上にのみ選択的に転写されているので、接着剤が画素部分の液晶の配向に悪影響を与えることが防止され、万が一、接着剤が上記スペーサの上面を覆う配向膜上から僅かにはみ出したとしても、スペーサが断面台形状であるので、はみ出した接着剤が液晶の配向に与える悪影響は、スペーサの下面の範囲以上に広がることはない。この結果、液晶の配向を乱すことなく基板強度を向上させることができ、優れた表示品位を実現する液晶表示素子を提供できるという効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の参考の形態としての液晶セルの概略構成を示す断面図である。
【図２】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、上記液晶セルの製造工程の一例を説明する断面図である。
【図３】  本発明の他の参考の形態に係る液晶セルの概略構成を示す断面図である。
【図４】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、図３に示す液晶セルの製造工程の一例を説明する断面図である。
【図５】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、本発明の一形態として、平版印刷法によって接着剤の転写を行う方法を説明する断面図である。
【図６】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、本発明の他の形態として、平版印刷法によって接着剤の転写を行う方法を説明する断面図である。
【図７】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、図１に示す液晶セルの製造工程の他の例として、凹版印刷法によって接着剤の転写を行う方法を説明する断面図である。
【図８】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、図３に示す液晶セルの製造工程の他の例として、凹版印刷法によって接着剤の転写を行う方法を説明する断面図である。
【図９】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、図１に示す液晶セルの製造工程の他の例として、凸版印刷法によって接着剤の転写を行う方法を説明する断面図である。
【図１０】  同図（ａ）ないし（ｄ）は、図３に示す液晶セルの製造工程の他の例として、凸版印刷法によって接着剤の転写を行う方法を説明する断面図である。
【図１１】  従来の強誘電性液晶表示装置の一例の概略構成を示す断面図である。
【図１２】  強誘電性液晶分子の電界応答を説明する模式図である。
【図１３】  強誘電性液晶分子のスイッチングの様子を説明する模式図である。
【符号の説明】
５０ａ・５０ｂ  ガラス基板
５１ａ          走査線（電極）
５１ｂ          信号線（電極）
５２ａ・５２ｂ  絶縁膜
５３ａ・５３ｂ  配向膜
５４            高分子壁（スペーサ）
５５            接着剤層
５６            ブラックマトリクス
５７            転写基板（基材）
５８ａ          走査線基板（基板）
５８ｂ          信号線基板（基板）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
0004004623.tif 000010
【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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