(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を略水平姿勢で略水平方向に搬送する基板搬送手段と、
前記基板搬送手段による基板搬送方向の最も下流側に設けられ、前記基板搬送手段によって搬送されている基板に対して所定の洗浄処理を施す下流側洗浄処理部と、
前記下流側洗浄処理部に隣接して前記基板搬送手段による基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板搬送手段によって搬送されている基板に対して所定の洗浄処理を施す上流側洗浄処理部と、
を具備し、
前記下流側洗浄処理部は、
前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出ノズルと、
前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出ノズルと、
前記第１および第２の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第１の洗浄液回収手段と、
前記第１の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として新しい洗浄液を送液する新液供給手段と、
前記第２の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第１の送液ラインと、
を有し、
前記上流側洗浄処理部は、
前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第３の洗浄液吐出ノズルと、
前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第４の洗浄液吐出ノズルと、
前記第３および第４の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第２の洗浄液回収手段と、
前記第３の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第２の送液ラインと、
前記第４の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第２の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第３の送液ラインと、
を有し、
前記第１および前記第２の洗浄液回収手段はそれぞれ、
回収される所定の洗浄液を貯留する回収タンクと、
前記回収タンクに所定の洗浄液が回収される際に前記洗浄液を前記回収タンクの上部内壁に吐出して前記内壁を清掃するタンク洗浄ノズルと、
を有し、
前記第１および前記第２の送液ラインはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第２および前記第３の洗浄液吐出ノズルに送液し、前記第３の送液ラインは、前記第２の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第４の洗浄液吐出ノズルに送液するように構成され、
前記第１および前記第２の送液ラインにはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第１および第２のタンク洗浄ラインが分岐して設けられ、前記第３の送液ラインには、前記第２の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第３のタンク洗浄ラインが分岐して設けられていることを特徴とする洗浄処理装置。
【請求項２】
前記第２および／または第３の洗浄液吐出ノズルは、ガス圧によって所定の洗浄液を加速して吐出させるガス圧加速手段を具備することを特徴とする請求項１に記載の洗浄処理装置。
【請求項３】
前記第１および前記第２の送液ラインはそれぞれ、前記回収タンク内の洗浄液を排液するドレインをさらに有していることを特徴とする請求項１または請求項２に記載の洗浄処理装置。
【請求項４】
前記第１から第３の送液ラインは、所定の洗浄液の供給元となっている回収タンクに再び洗浄液を戻す洗浄液循環機構を有することを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の洗浄処理装置。
【請求項５】
前記新液供給手段は前記第１から第３の送液ラインに新しい洗浄液を供給可能な新液供給ラインを有することを特徴とする請求項１から請求項４のいずれか１項に記載の洗浄処理装置。
【請求項６】
前記上流側洗浄処理部に隣接して前記基板搬送方向の上流側に配列され、前記基板に対して所定の洗浄処理を施す予備洗浄処理部をさらに具備し、
前記予備洗浄処理部は、
前記基板に所定の洗浄液を吐出する第５の洗浄液吐出ノズルと、
前記第５の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第２の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第４の送液ラインと、
を有することを特徴とする請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の洗浄処理装置。
【請求項７】
前記第４の送液ラインは、所定の洗浄液の供給元となっている回収タンクに再び洗浄液を戻す洗浄液循環機構を有することを特徴とする請求項６に記載の洗浄処理装置。
【請求項８】
前記新液供給手段は前記第４の送液ラインに新しい洗浄液を供給可能な新液供給ラインを有することを特徴とする請求項６または請求項７に記載の洗浄処理装置。
【請求項９】
基板を略水平姿勢で略水平方向に搬送する基板搬送手段と、
前記基板搬送手段によって搬送される基板に対して現像液を塗布する現像液塗布処理部と、
前記基板搬送手段による基板搬送方向に沿って配列され、前記現像液塗布処理部において現像液が塗布されて前記基板搬送手段によって搬送されている基板に対して所定の洗浄処理を施す複数の洗浄処理部と、
を具備し、
前記複数の洗浄処理部として、
前記現像液塗布処理部の基板搬送方向下流側に設けられた第１の洗浄部と、
前記第１の洗浄部の基板搬送方向下流側に設けられた第２の洗浄部と、
を有し、
前記第２の洗浄部は、
前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出ノズルと、
前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出ノズルと、
前記第１および第２の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第１の洗浄液回収手段と、
前記第１の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として新しい洗浄液を送液する新液供給手段と、
前記第２の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第１の送液ラインと、
を有し、
前記第１の洗浄部は、
前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第３の洗浄液吐出ノズルと、
前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第４の洗浄液吐出ノズルと、
前記第３および第４の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第２の洗浄液回収手段と、
前記第３の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第２の送液ラインと、
前記第４の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第２の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第３の送液ラインと、
を有し、
前記第１および前記第２の洗浄液回収手段はそれぞれ、
回収される所定の洗浄液を貯留する回収タンクと、
前記回収タンクに所定の洗浄液が回収される際に前記洗浄液を前記回収タンクの上部内壁に吐出して前記内壁を清掃するタンク洗浄ノズルと、
を有し、
前記第１および前記第２の送液ラインはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第２および前記第３の洗浄液吐出ノズルに送液し、前記第３の送液ラインは、前記第２の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第４の洗浄液吐出ノズルに送液するように構成され、
前記第１および前記第２の送液ラインにはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第１および第２のタンク洗浄ラインが分岐して設けられ、前記第３の送液ラインには、前記第２の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第３のタンク洗浄ラインが分岐して設けられていることを特徴とする現像処理装置。
【請求項１０】
前記現像液塗布処理部は、
基板に現像液を塗布する現像液塗布部と、
現像液が塗布された基板から現像液を流し落とす現像液液切り部と、
を有し、
前記現像液液切り部は、
現像液が塗布された基板を傾斜させて基板上の現像液を流し落とす基板傾斜手段と、
前記基板傾斜手段によって傾斜姿勢に保持された基板に所定の洗浄液を吐出する第５の洗浄液吐出ノズルと、
前記第５の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第２の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第４の送液ラインと、
を有することを特徴とする請求項９に記載の現像処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、例えば液晶表示装置（ＬＣＤ）に用いられるガラス基板等の基板に対して洗浄処理を施す洗浄処理装置および現像処理を施す現像処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ＬＣＤの製造においては、ＬＣＤガラス基板（以下「ＬＣＤ基板」という）にレジスト膜を形成した後に、回路パターンに対応してこのレジスト膜を露光し、さらにこれを現像処理するという、いわゆるフォトリソグラフィー技術を用いてＬＣＤ基板に所定の回路パターンを形成している。ここで、例えば、現像処理については、基板を水平姿勢で水平方向に搬送しながら、基板の表面に現像液を塗布し、基板上に現像液パドルを形成して所定時間保持することで現像反応を進行させ、その後に基板を傾斜姿勢に変換して現像液を流し落とし、続いてリンス液を基板に供給して現像液残渣を除去する洗浄（リンス）処理を行う方法が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＬＣＤ基板を水平姿勢で水平方向に搬送しながらＬＣＤ基板にリンス液を供給する洗浄処理を行う場合には、現像液を完全に洗い流すために必要とされる搬送距離が長くなり、これと共に使用するリンス液の量が非常に多くなるという問題がある。
【０００４】
本発明はかかる事情に鑑みてなされたものであり、洗浄液の使用量を低減することを可能とした洗浄処理装置と、このような洗浄処理装置を有する現像処理装置を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の観点によれば、基板を略水平姿勢で略水平方向に搬送する基板搬送手段と、前記基板搬送手段による基板搬送方向の最も下流側に設けられ、前記基板搬送手段によって搬送されている基板に対して所定の洗浄処理を施す下流側洗浄処理部と、前記下流側洗浄処理部に隣接して前記基板搬送手段による基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板搬送手段によって搬送されている基板に対して所定の洗浄処理を施す上流側洗浄処理部と、を具備し、
前記下流側洗浄処理部は、前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出ノズルと、前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出ノズルと、前記第１および第２の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第１の洗浄液回収手段と、前記第１の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として新しい洗浄液を送液する新液供給手段と、前記第２の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第１の送液ラインと、を有し、
前記上流側洗浄処理部は、前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第３の洗浄液吐出ノズルと、前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第４の洗浄液吐出ノズルと、前記第３および第４の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第２の洗浄液回収手段と、前記第３の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第２の送液ラインと、前記第４の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第２の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第３の送液ラインと、を有し、
前記第１および前記第２の洗浄液回収手段はそれぞれ、回収される所定の洗浄液を貯留する回収タンクと、前記回収タンクに所定の洗浄液が回収される際に前記洗浄液を前記回収タンクの上部内壁に吐出して前記内壁を清掃するタンク洗浄ノズルと、を有し、
前記第１および前記第２の送液ラインはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第２および前記第３の洗浄液吐出ノズルに送液し、前記第３の送液ラインは、前記第２の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第４の洗浄液吐出ノズルに送液するように構成され、
前記第１および前記第２の送液ラインにはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第１および第２のタンク洗浄ラインが分岐して設けられ、前記第３の送液ラインには、前記第２の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第３のタンク洗浄ラインが分岐して設けられていることを特徴とする洗浄処理装置が提供される。
【０００６】
本発明の第２の観点によれば、基板を略水平姿勢で略水平方向に搬送する基板搬送手段と、前記基板搬送手段によって搬送される基板に対して現像液を塗布する現像液塗布処理部と、前記基板搬送手段による基板搬送方向に沿って配列され、前記現像液塗布処理部において現像液が塗布されて前記基板搬送手段によって搬送されている基板に対して所定の洗浄処理を施す複数の洗浄処理部と、を具備し、
前記複数の洗浄処理部として、前記現像液塗布処理部の基板搬送方向下流側に設けられた第１の洗浄部と、前記第１の洗浄部の基板搬送方向下流側に設けられた第２の洗浄部と、を有し、
前記第２の洗浄部は、前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第１の洗浄液吐出ノズルと、前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第２の洗浄液吐出ノズルと、前記第１および第２の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第１の洗浄液回収手段と、前記第１の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として新しい洗浄液を送液する新液供給手段と、前記第２の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第１の送液ラインと、を有し、
前記第１の洗浄部は、前記基板搬送方向の下流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第３の洗浄液吐出ノズルと、前記基板搬送方向の上流側に設けられ、前記基板に所定の洗浄液を吐出する第４の洗浄液吐出ノズルと、前記第３および第４の洗浄液吐出ノズルから前記基板に吐出された洗浄液を回収する第２の洗浄液回収手段と、前記第３の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第１の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第２の送液ラインと、前記第４の洗浄液吐出ノズルに前記洗浄液として前記第２の洗浄液回収手段によって回収された洗浄液を送液する第３の送液ラインと、を有し、
前記第１および前記第２の洗浄液回収手段はそれぞれ、回収される所定の洗浄液を貯留する回収タンクと、前記回収タンクに所定の洗浄液が回収される際に前記洗浄液を前記回収タンクの上部内壁に吐出して前記内壁を清掃するタンク洗浄ノズルと、を有し、
前記第１および前記第２の送液ラインはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第２および前記第３の洗浄液吐出ノズルに送液し、前記第３の送液ラインは、前記第２の洗浄液回収手段の前記回収タンクに貯留された洗浄液を前記第４の洗浄液吐出ノズルに送液するように構成され、
前記第１および前記第２の送液ラインにはそれぞれ、前記第１の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第１および第２のタンク洗浄ラインが分岐して設けられ、前記第３の送液ラインには、前記第２の洗浄液回収手段において、前記洗浄タンクに貯留された洗浄液を前記タンク洗浄ノズルに送液する第３のタンク洗浄ラインが分岐して設けられていることを特徴とする現像処理装置が提供される。
【０００８】
このような洗浄処理装置と現像処理装置によれば、基板を一定方向に搬送しながら洗浄処理を行うに際して、新しい洗浄液を基板の洗浄工程の最後で使用し、その前段階では一度使用された洗浄液を再使用するため、新しい洗浄液の全体としての使用量を低減することができ、これによって生産コストを削減することが可能となる。また、基板搬送方向の上流側で使用回数の多い洗浄液を用い、下流側へ向かうに従って使用回数の少ない洗浄液を用い、さらに、最も下流の洗浄処理部で新しい洗浄液を用いることから、基板の洗浄品質を高く保持することができる。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について添付図面を参照して詳細に説明する。ここでは、ＬＣＤ基板に対してレジスト膜の形成から現像までの処理を連続して行うレジスト塗布・現像処理システムを例に説明することとする。図１はレジスト塗布・現像処理システム１００の概略構成を示す平面図である。
【００１０】
このレジスト塗布・現像処理システム１００は、複数のＬＣＤ基板Ｇを収容するカセットＣを載置するカセットステーション（搬入出部）１と、ＬＣＤ基板Ｇにレジスト塗布および現像を含む一連の処理を施すための複数の処理ユニットを備えた処理ステーション（処理部）２と、露光装置４との間でＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うためのインターフェイスステーション（インターフェイス部）３とを備えており、処理ステーション２の両端にそれぞれカセットステーション１およびインターフェイスステーション３が配置されている。なお、図１において、レジスト塗布・現像処理システム１００の長手方向をＸ方向、平面上においてＸ方向と直交する方向をＹ方向とする。
【００１１】
カセットステーション１は、カセットＣをＹ方向に並べて載置できる載置台９と、処理ステーション２との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出を行うための搬送装置１１を備えており、この載置台９と外部との間でカセットＣの搬送が行われる。また、搬送装置１１は搬送アーム１１ａを有し、カセットＣの配列方向であるＹ方向に沿って設けられた搬送路１０上を移動可能であり、搬送アーム１１ａによりカセットＣと処理ステーション２との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出が行われる。
【００１２】
処理ステーション２は、基本的にＸ方向に伸びるＬＣＤ基板Ｇ搬送用の平行な２列の搬送ラインＡ・Ｂを有しており、搬送ラインＡに沿ってカセットステーション１側からインターフェイスステーション３に向けてスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１、第１の熱的処理ユニットセクション２６、レジスト処理ユニット２３および第２の熱的処理ユニットセクション２７が配列されている。また、搬送ラインＢに沿ってインターフェイスステーション３側からカセットステーション１に向けて第２の熱的処理ユニットセクション２７、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４、ｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５および第３の熱的処理ユニットセクション２８が配列されている。スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１の上の一部にはエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２２が設けられている。なお、エキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２２はスクラバ洗浄に先立ってＬＣＤ基板Ｇの有機物を除去するために設けられ、ｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５は現像の脱色処理を行うために設けられる。
【００１３】
上記スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１は、その中でＬＣＤ基板Ｇが略水平姿勢で搬送されつつ洗浄処理および乾燥処理が行われるようになっている。現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４も、後に詳細に説明するように、ＬＣＤ基板Ｇが略水平に搬送されつつ現像液塗布、現像後の洗浄処理および乾燥処理が行われるようになっている。これらスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１および現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４では、ＬＣＤ基板Ｇの搬送は、例えば、コロ搬送またはベルト搬送により行われ、ＬＣＤ基板Ｇの搬入口および搬出口は相対向する短辺に設けられている。また、ｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５へのＬＣＤ基板Ｇの搬送は、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の搬送機構と同様の機構により連続して行われる。
【００１４】
レジスト処理ユニット２３には、略水平に保持されたＬＣＤ基板Ｇにレジスト液を滴下させて、ＬＣＤ基板Ｇを所定の回転数で回転させることによってレジスト液をＬＣＤ基板Ｇ全体に拡げ、レジスト膜を形成するレジスト塗布処理装置（ＣＴ）２３ａと、ＬＣＤ基板Ｇ上に形成されたレジスト膜を減圧乾燥する減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂと、ＬＣＤ基板Ｇの四辺をスキャン可能な溶剤吐出ヘッドによりＬＣＤ基板Ｇの周縁に付着した余分なレジストを除去する周縁レジスト除去装置（ＥＲ）２３ｃとがその順に配置されている。レジスト処理ユニット２３内には、これらレジスト塗布処理装置（ＣＴ）２３ａ、減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂ、周縁レジスト除去装置（ＥＲ）２３ｃの間でＬＣＤ基板Ｇを搬送する搬送アームが設けられている。
【００１５】
図２は第１の熱的処理ユニットセクション２６の側面図であり、第１の熱的処理ユニットセクション２６は、ＬＣＤ基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１・３２を有している。熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１はスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１側に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２はレジスト処理ユニット２３側に設けられており、これら２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１・３２の間に第１の搬送装置３３が設けられている。
【００１６】
熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６１、ＬＣＤ基板Ｇに対して脱水ベーク処理を行う２つの脱水ベークユニット（ＤＨＰ）６２・６３、ＬＣＤ基板Ｇに対して疎水化処理を施すアドーヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６４が４段に積層された構成を有している。また、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６５、ＬＣＤ基板Ｇを冷却する２つのクーリングユニット（ＣＯＬ）６６・６７、ＬＣＤ基板Ｇに対して疎水化処理を施すアドーヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６８が４段に積層されて構成を有している。
【００１７】
第１の搬送装置３３は、パスユニット（ＰＡＳＳ）６１を介してのスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１からのＬＣＤ基板Ｇの受け取り、上記熱的処理ユニット間のＬＣＤ基板Ｇの搬入出、およびパスユニット（ＰＡＳＳ）６５を介してのレジスト処理ユニット２３へのＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行う。
【００１８】
第１の搬送装置３３は、上下に延びるガイドレール９１と、ガイドレールに沿って昇降する昇降部材９２と、昇降部材９２上を旋回可能に設けられたベース部材９３と、ベース部材９３上を前進後退可能に設けられ、ＬＣＤ基板Ｇを保持する基板保持アーム９４とを有している。そして、昇降部材９２の昇降はモーター９５によって行われ、ベース部材９３の旋回はモーター９６によって行われ、基板保持アーム９４の前後動はモーター９７によって行われる。このように第１の搬送装置３３は、上下動、前後動、旋回動可能であり、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１・３２のいずれのユニットにもアクセスすることができる。
【００１９】
第２の熱的処理ユニットセクション２７は、ＬＣＤ基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４・３５を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４はレジスト処理ユニット２３側に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４側に設けられている。そして、これら２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４・３５の間に第２の搬送装置３６が設けられている。
【００２０】
図３は第２の熱的処理ユニットセクション２７の側面図であり、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）６９とＬＣＤ基板Ｇに対してプリベーク処理を行う３つのプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７０・７１・７２が４段に積層された構成となっている。また、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５は、下から順にＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）７３、ＬＣＤ基板Ｇを冷却するクーリングユニット（ＣＯＬ）７４、ＬＣＤ基板Ｇに対してプリベーク処理を行う２つのプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７５・７６が４段に積層された構成となっている。
【００２１】
第２の搬送装置３６は、パスユニット（ＰＡＳＳ）６９を介してのレジスト処理ユニット２３からのＬＣＤ基板Ｇの受け取り、上記熱的処理ユニット間のＬＣＤ基板Ｇの搬入出、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３を介しての現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４へのＬＣＤ基板Ｇの受け渡し、および後述するインターフェイスステーション３の基板受け渡し部であるエクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４に対するＬＣＤ基板Ｇの受け渡しおよび受け取りを行う。なお、第２の搬送装置３６は、第１の搬送装置３３と同じ構造を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４・３５のいずれのユニットにもアクセス可能である。
【００２２】
第３の熱的処理ユニットセクション２８は、ＬＣＤ基板Ｇに熱的処理を施す熱的処理ユニットが積層して構成された２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７・３８を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４側に設けられ、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８はカセットステーション１側に設けられている。そして、これら２つの熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７・３８の間に第３の搬送装置３９が設けられている。
【００２３】
図４は第３の熱的処理ユニットセクション２８の側面図であり、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７は、下から順に、ＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行うパスユニット（ＰＡＳＳ）７７、ＬＣＤ基板Ｇに対してポストベーク処理を行う３つのポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）７８・７９・８０が４段に積層された構成を有している。また、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８は、下から順に、ポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）８１、ＬＣＤ基板Ｇの受け渡しおよび冷却を行うパス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）８２、ＬＣＤ基板Ｇに対してポストベーク処理を行う２つのポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）８３・８４が４段に積層された構成を有している。
【００２４】
第３の搬送装置３９は、パスユニット（ＰＡＳＳ）７７を介してのｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５からのＬＣＤ基板Ｇの受け取り、上記熱的処理ユニット間のＬＣＤ基板Ｇの搬入出、パス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）８２を介してのカセットステーション１へのＬＣＤ基板Ｇの受け渡しを行う。なお、第３の搬送装置３９も第１の搬送装置３３と同じ構造を有しており、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７・３８のいずれのユニットにもアクセス可能である。
【００２５】
処理ステーション２では、以上のように２列の搬送ラインＡ・Ｂを構成するように、かつ基本的に処理の順になるように各処理ユニットおよび搬送装置が配置されており、これら搬送ラインＡ・Ｂ間には空間４０が設けられている。そして、この空間４０を往復動可能にシャトル（基板載置部材）４１が設けられている。このシャトル４１はＬＣＤ基板Ｇを保持可能に構成されており、シャトル４１を介して搬送ラインＡ・Ｂ間でＬＣＤ基板Ｇの受け渡しが行われる。シャトル４１に対するＬＣＤ基板Ｇの受け渡しは、上記第１から第３の搬送装置３３・３６・３９によって行われる。
【００２６】
インターフェイスステーション３は、処理ステーション２と露光装置４との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出を行う搬送装置４２と、バッファーカセットを配置するバッファーステージ（ＢＵＦ）４３と、冷却機能を備えた基板受け渡し部であるエクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４とを有しており、タイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）と周辺露光装置（ＥＥ）とが上下に積層された外部装置ブロック４５が搬送装置４２に隣接して設けられている。搬送装置４２は搬送アーム４２ａを備え、この搬送アーム４２ａにより処理ステーション２と露光装置４との間でＬＣＤ基板Ｇの搬入出が行われる。
【００２７】
このように構成されたレジスト塗布・現像処理システム１００においては、まず、カセットステーション１の載置台９に配置されたカセットＣ内のＬＣＤ基板Ｇが、搬送装置１１により処理ステーション２のエキシマＵＶ照射ユニット（ｅ−ＵＶ）２２に直接搬入され、スクラブ前処理が行われる。次いで、搬送装置１１により、ＬＣＤ基板Ｇがスクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１に搬入され、スクラブ洗浄される。スクラブ洗浄処理後、ＬＣＤ基板Ｇは例えばコロ搬送により第１の熱的処理ユニットセクション２６に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１のパスユニット（ＰＡＳＳ）６１に搬出される。
【００２８】
パスユニット（ＰＡＳＳ）６１に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、最初に、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１の脱水ベークユニット（ＤＨＰ）６２・６３のいずれかに搬送されて加熱処理され、次いで熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のクーリングユニット（ＣＯＬ）６６・６７のいずれかに搬送されて冷却された後、レジストの定着性を高めるために熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３１のアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６４、および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のアドヒージョン処理ユニット（ＡＤ）６８のいずれかに搬送され、そこでＨＭＤＳによりアドヒージョン処理（疎水化処理）される。その後、ＬＣＤ基板Ｇは、クーリングユニット（ＣＯＬ）６６・６７のいずれかに搬送されて冷却され、さらに熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３２のパスユニット（ＰＡＳＳ）６５に搬送される。このような一連の処理を行う際のＬＣＤ基板Ｇの搬送処理は、全て第１の搬送装置３３によって行われる。
【００２９】
パスユニット（ＰＡＳＳ）６５に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、レジスト処理ユニット２３の搬送アームによりレジスト処理ユニット２３内へ搬入される。ＬＣＤ基板Ｇは、レジスト塗布処理装置（ＣＴ）２３ａにおいてレジスト液がスピン塗布された後に減圧乾燥装置（ＶＤ）２３ｂに搬送されて減圧乾燥され、さらに周縁レジスト除去装置（ＥＲ）２３ｃに搬送されてＬＣＤ基板Ｇ周縁の余分なレジストが除去される。そして、周縁レジスト除去終了後、ＬＣＤ基板Ｇは搬送アームによりレジスト処理ユニット２３から、第２の熱的処理ユニットセクション２７に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４のパスユニット（ＰＡＳＳ）６９に受け渡される。
【００３０】
パスユニット（ＰＡＳＳ）６９に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、第２の搬送装置３６により、熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３４のプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７０・７１・７２および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のプリベークユニット（ＰＲＥＢＡＫＥ）７５・７６のいずれかに搬送されてプリベーク処理され、その後熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のクーリングユニット（ＣＯＬ）７４に搬送されて所定温度に冷却される。そして、第２の搬送装置３６により、さらに熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のパスユニット（ＰＡＳＳ）７３に搬送される。
【００３１】
その後、ＬＣＤ基板Ｇは第２の搬送装置３６によりインターフェイスステーション３のエクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４へ搬送され、インターフェイスステーション３の搬送装置４２により外部装置ブロック４５の周辺露光装置（ＥＥ）に搬送されて周辺レジスト除去のための露光が行われ、次いで搬送装置４２により露光装置４に搬送されてそこでＬＣＤ基板Ｇ上のレジスト膜が露光されて所定のパターンが形成される。場合によってはバッファーステージ（ＢＵＦ）４３上のバッファカセットにＬＣＤ基板Ｇを収容してから露光装置４に搬送される。
【００３２】
露光終了後、ＬＣＤ基板Ｇはインターフェイスステーション３の搬送装置４２により外部装置ブロック４５の上段のタイトラー（ＴＩＴＬＥＲ）に搬入されてＬＣＤ基板Ｇに所定の情報が記された後、エクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４に載置される。ＬＣＤ基板Ｇは、第２の搬送装置３６により、エクステンション・クーリングステージ（ＥＸＴ・ＣＯＬ）４４から第２の熱的処理ユニットセクション２７に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のパスユニット（ＰＡＳＳ）７３へ搬送される。
【００３３】
パスユニット（ＰＡＳＳ）７３から現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４まで延長されている例えばコロ搬送機構を作用させることにより、ＬＣＤ基板Ｇはパスユニット（ＰＡＳＳ）７３から現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４へ搬入され、そこで現像処理が施される。この現像処理工程については後に詳細に説明することとする。
【００３４】
現像処理終了後、ＬＣＤ基板Ｇは現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４から連続する搬送機構、例えばコロ搬送によりｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に搬送され、ＬＣＤ基板Ｇに対して脱色処理が施される。その後、ＬＣＤ基板Ｇはｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５内のコロ搬送機構により第３の熱的処理ユニットセクション２８に属する熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７のパスユニット（ＰＡＳＳ）７７に搬出される。
【００３５】
パスユニット（ＰＡＳＳ）７７に配置されたＬＣＤ基板Ｇは、第３の搬送装置３９により熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３７のポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）７８・７９・８０および熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８のポストベークユニット（ＰＯＢＡＫＥ）８１・８３・８４のいずれかに搬送されてポストベーク処理され、その後熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３８のパス・クーリングユニット（ＰＡＳＳ・ＣＯＬ）８２に搬送されて所定温度に冷却された後、カセットステーション１の搬送装置１１によって、カセットステーション１に配置されている所定のカセットＣに収容される。
【００３６】
次に、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の構造について詳細に説明する。図５は現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の概略構造を示す側面図であり、図６は概略平面図である。現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４は、導入ゾーン２４ａ、第１の現像液供給ゾーン２４ｂ、第２の現像液供給ゾーン２４ｃ、液切り／リンスゾーン２４ｄ、第１リンスゾーン２４ｅ、第２リンスゾーン２４ｆ、乾燥ゾーン２４ｇから構成されており、導入ゾーン２４ａは熱的処理ユニットブロック（ＴＢ）３５のパスユニット（ＰＡＳＳ）７３に隣接し、乾燥ゾーン２４ｇはｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に隣接している。
【００３７】
パスユニット（ＰＡＳＳ）７３とｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５の間には、モータ等を駆動してコロ１７を回転させることによってコロ１７上のＬＣＤ基板Ｇを所定方向へ搬送するコロ搬送機構１４が設けられている。このコロ搬送機構１４を動作させることによって、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３から現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４の内部を通ってｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に向けてＬＣＤ基板Ｇを搬送することができるようになっている。コロ１７はＬＣＤ基板Ｇに撓み等が生じ難いように、ＬＣＤ基板Ｇの搬送方向およびこの搬送方向に垂直な方向に所定数設けられる。
【００３８】
なお、図６にはコロ搬送機構１４は図示していない。現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４では、コロ搬送機構１４を、ＬＣＤ基板Ｇの搬送速度が異なる領域に分割して設け、その領域ごとに独立して駆動してもよい。例えば、ＬＣＤ基板Ｇは、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３と導入ゾーン２４ａでは第１のモータの駆動によって搬送され、第１の現像液供給ゾーン２４ｂと液切り／リンスゾーン２４ｄの間では第２のモータの駆動によって搬送され、第１リンスゾーン２４ｅから乾燥ゾーン２４ｇの間では第３のモータの駆動によって搬送されるようにすることができる。このようなコロ搬送機構１４の分割駆動は、例えば、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４を構成するゾーンごとに行うこともできる。
【００３９】
パスユニット（ＰＡＳＳ）７３は昇降自在な昇降ピン１６を具備している。ＬＣＤ基板Ｇを保持した第２の搬送装置３６の基板保持アーム９４がパスユニット（ＰＡＳＳ）７３内に進入した状態で昇降ピン１６を上昇させると、ＬＣＤ基板Ｇは基板保持アーム９４から昇降ピン１６に受け渡される。続いて、基板保持アーム９４をパスユニット（ＰＡＳＳ）７３から退出させた後に昇降ピン１６を降下させると、ＬＣＤ基板Ｇはパスユニット（ＰＡＳＳ）７３内のコロ１７上に載置される。コロ搬送機構１４を動作させることによって、ＬＣＤ基板Ｇはパスユニット（ＰＡＳＳ）７３から導入ゾーン２４ａへ搬出される。
【００４０】
導入ゾーン２４ａは、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３と第１の現像液供給ゾーン２４ｂとの間の緩衝領域として設けられているものであり、この導入ゾーン２４ａは、第１の現像液供給ゾーン２４ｂからパスユニット（ＰＡＳＳ）７３へ現像液が飛散する等して、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３が汚染されるのを防止する。
【００４１】
第１の現像液供給ゾーン２４ｂは、導入ゾーン２４ａから搬送されてきたＬＣＤ基板Ｇに最初の現像液の液盛り（パドル形成）を行うゾーンであり、ＬＣＤ基板Ｇに対して現像液を塗布する主現像液吐出ノズル５１ａと副現像液吐出ノズル５１ｂ（以下「現像ノズル５１ａ・５１ｂ」という）の２本のノズルと、Ｘ方向に延在するガイドレール５９と、ガイドレール５９と嵌合しているスライドアーム５８と、スライドアーム５８をガイドレール５９に沿ってＸ方向へ移動させる図示しない駆動機構と、スライドアーム５８に取り付けられた図示しない昇降機構とを有しており、現像ノズル５１ａ・５１ｂはこの昇降機構に取り付けられて昇降自在となっている。
【００４２】
現像ノズル５１ａ・５１ｂには図示しない現像液供給源から現像液が供給されるようになっており、例えば、昇降機構によって現像ノズル５１ａ・５１ｂとＬＣＤ基板Ｇとの間隔を調整した後に、ＬＣＤ基板Ｇの搬送方向とは逆の方向に現像ノズル５１ａ・５１ｂを移動させながら現像ノズル５１ａ・５１ｂから現像液をＬＣＤ基板Ｇに吐出することで、ＬＣＤ基板Ｇに現像液を塗布することができる。このとき、ＬＣＤ基板Ｇ上に現像液のパドルを安定して形成するためには、ＬＣＤ基板Ｇはコロ搬送機構１４の動作を停止して静止させた状態とすることが好ましい。
【００４３】
現像ノズル５１ａ・５１ｂとしては、ＬＣＤ基板Ｇの幅方向（Ｙ方向）に長く（図６参照）、その下端には長手方向に沿ってスリット状の吐出口が形成され、そのスリット状の吐出口から略帯状に現像液を吐出することができる構造のものが好適に用いられる。現像ノズル５１ａ・５１ｂには、スリット状の吐出口に代えて複数の円形吐出口が所定間隔で複数形成されているものを用いることもできる。
【００４４】
第１の現像液供給ゾーン２４ｂで現像液が液盛りされたＬＣＤ基板Ｇを液切り／リンスゾーン２４ｄへ搬送する間に、ＬＣＤ基板Ｇ上から現像液がこぼれ落ちる場合がある。第２の現像液供給ゾーン２４ｃでは、こうしてＬＣＤ基板の搬送途中にＬＣＤ基板Ｇからこぼれ落ちる現像液によって現像反応が進まなくなることを防止するために、新たにＬＣＤ基板Ｇに現像液を補充するように現像液を塗布する。
【００４５】
第２の現像液供給ゾーン２４ｃには、現像ノズル５１ａ・５１ｂと同様の構造を有する現像液補充ノズル５１ｃが、その長手方向がＹ方向となるとなるように固定して設けられている。現像液補充ノズル５１ｃからは、コロ搬送機構１４によって搬送されるＬＣＤ基板Ｇ上に所定量の現像液が略帯状に吐出される。なお、この第２の現像液供給ゾーン２４ｃは必須なものではない。
【００４６】
ＬＣＤ基板Ｇにおける現像反応は、第１の現像液供給ゾーン２４ｂから液切り／リンスゾーン２４ｄに搬送される間に行われる。逆に言えば、現像反応に要する時間を考慮して第１の現像液供給ゾーン２４ｂから液切り／リンスゾーン２４ｄへのＬＣＤ基板Ｇの搬送速度を決定する。
【００４７】
液切り／リンスゾーン２４ｄにおいては、ＬＣＤ基板Ｇを傾斜姿勢に変換してＬＣＤ基板Ｇ上の現像液を流し落とし、さらに傾斜姿勢に保持されたＬＣＤ基板Ｇの表面に純水等のリンス液を吐出して、ＬＣＤ基板Ｇ上の現像液を洗い流す。このような処理を行うために、液切り／リンスゾーン２４ｄは、ＬＣＤ基板Ｇを傾斜姿勢に変換することによってＬＣＤ基板Ｇに塗布された現像液を液切りする図示しない基板傾斜機構と、傾斜姿勢に保持されたＬＣＤ基板の表面に現像液を洗い流すリンス液（純水）を供給するリンスノズル５２と、リンスノズル５２を保持するリンスノズルアーム８７と、リンスノズルアーム８７と嵌合し、ＬＣＤ基板Ｇの搬送方向に延在するように設けられたガイドレール８６と、ガイドレール８６に沿ってリンスノズルアーム８７を移動させる駆動機構８８とを有している。
【００４８】
基板傾斜機構によって傾斜姿勢に保持されたＬＣＤ基板Ｇの表面に沿ってリンスノズル５２をＬＣＤ基板Ｇの上方端から下方端へと移動させながら、リンスノズル５２からリンス液をＬＣＤ基板Ｇに吐出することによって、ＬＣＤ基板Ｇに残っている現像液を洗い流す。リンスノズル５２の移動は高速、例えば、５００ｍｍ／秒で行うことができ、こうしてＬＣＤ基板Ｇの現像液除去を短時間で行うことができる。
【００４９】
リンスノズル５２の１回の移動でＬＣＤ基板Ｇ全体にリンス液が行き渡るように、リンスノズル５２はＬＣＤ基板Ｇの幅方向（Ｙ方向）に長く、略帯状にリンス液を吐出するものを用いることが好ましい。リンスノズル５２からはスプレー状にリンス液を吐出させてもよい。
【００５０】
液切り／リンスゾーン２４ｄにおける現像液の除去処理では現像液の除去は完全ではなく、このために第１リンスゾーン２４ｅと第２リンスゾーン２４ｆにおいて、ＬＣＤ基板Ｇを搬送しながらさらにＬＣＤ基板Ｇにリンス液を供給して徹底的に現像液を除去する。
【００５１】
第１リンスゾーン２４ｅには２組のリンスノズル５３ａ・５３ｂが設けられ、第２リンスゾーンにも２組のリンスノズル５３ｃ・５３ｄが設けられている。リンスノズル５３ａ〜５３ｄは、それぞれＬＣＤ基板Ｇの表面側に２本設けられ、裏面側に１本設けられている。リンスノズル５３ａ〜５３ｄとしては、搬送されるＬＣＤ基板Ｇ全体にリンス液を吐出できるように、ＬＣＤ基板Ｇの幅方向（Ｙ方向）に長く、略帯状にリンス液を吐出するものを用いることが好ましい。
【００５２】
なお、第１リンスゾーン２４ｅと第２リンスゾーン２４ｆは、１箇所のリンスゾーンとして構成することが可能である。しかしながら、本実施形態では後に図７を参照しながら説明するように、リンスノズル５３ａ〜５３ｄから吐出されるリンス液の回収形態に対応させて、便宜上、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４は第１リンスゾーン２４ｅと第２リンスゾーン２４ｆの２箇所のリンスゾーンを有するものとして説明する。
【００５３】
第２リンスゾーン２４ｆを通過したＬＣＤ基板Ｇが搬送される乾燥ゾーン２４ｇには、所定の風圧で窒素ガス等の乾燥ガスを噴射するエアーノズル（エアーナイフ）５４が設けられている。乾燥ゾーン２４ｇにおいては、ＬＣＤ基板Ｇを所定速度で搬送しながらＬＣＤ基板Ｇの表面と裏面に乾燥ガスを噴射して、ＬＣＤ基板Ｇに付着したリンス液を吹き飛ばしてＬＣＤ基板Ｇを乾燥する。なお、エアーノズル５４は、ＬＣＤ基板Ｇの幅よりも長い形状を有しており、ＬＣＤ基板Ｇの幅方向全体に乾燥ガスを吐出することができるようになっている。乾燥処理が終了したＬＣＤ基板Ｇは、コロ搬送機構１４によりｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に搬送される。
【００５４】
続いて、液切り／リンスゾーン２４ｄ、第１リンスゾーン２４ｅ、第２リンスゾーン２４ｆにおける構成とリンス液の供給・回収形態についてより詳細に説明する。図７は液切り／リンスゾーン２４ｄと第１リンスゾーン２４ｅと第２リンスゾーン２４ｆにおける構成とリンス液の供給・回収形態を示す説明図である。
【００５５】
液切り／リンスゾーン２４ｄは、前述した基板傾斜機構やリンスノズル５２等の他に、ＬＣＤ基板Ｇを傾斜姿勢に変換した際にＬＣＤ基板Ｇから流れ落ちる現像液を回収する現像液回収トレー５９と、現像液回収トレー５９を閉塞可能な蓋体５９ａと、リンスノズル５２からＬＣＤ基板Ｇに吐出されたリンス液を受ける第１回収トレー５５ａとを有している。
【００５６】
現像液が液盛りされたＬＣＤ基板Ｇを傾斜姿勢に変換した際に、ＬＣＤ基板Ｇから流れ落ちて現像液回収トレー５９に回収された現像液は再利用に供することができる。リンスノズル５２からＬＣＤ基板Ｇに吐出されたリンス液は、ＬＣＤ基板Ｇに残っている現像液を洗い出しながら第１回収トレー５５ａへ流れ落ちてドレインを通じて廃棄される。
【００５７】
第１リンスゾーン２４ｅは、前述したリンスノズル５３ａ・５３ｂに加えて、リンスノズル５３ａ・５３ｂから吐出されるリンス液を受ける第２回収トレー５５ｂと、第２回収トレー５５ｂに流れ落ちたリンス液を回収して貯留する第１回収タンク５６ａと、第１回収タンク５６ａに貯留されたリンス液をリンスノズル５２に送液する第１送液ライン１１０と、第１回収タンク５６ａに貯留されたリンス液をリンスノズル５３ａに送液する第２送液ライン１１１とを有している。
【００５８】
リンスノズル５３ｂには、所定圧力のガスを供給することができるようになっており、このガス圧を利用してリンス液を高速吐出することが可能となっている。これにより、現像処理によって形成された現像パターンの凹凸のエッジ部等に残る現像生成物を除去して、明瞭な凹凸を有する現像パターンを形成することが可能となる。なお、リンスノズル５３ａにもガス供給を行ってもよい。
【００５９】
第１送液ライン１１０は、送液ポンプ５８ａと、第１回収タンク５６ａ内に回収された一定量のリンス液を循環させる循環ライン１１０ａとを有しており、同様に第２送液ライン１１１は、送液ポンプ５８ｂと、第１回収タンク５６ａ内に回収された一定量のリンス液を循環させる循環ライン１１１ａとを有している。
【００６０】
送液ポンプ５８ａ・５８ｂは、例えば、インバータ制御によって送液流量を変化させることができるようになっている。これにより、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４におけるＬＣＤ基板Ｇの搬送状態、例えば、ＬＣＤ基板Ｇが所定間隔で連続的に搬送されている状態やロットの間のように一時的にＬＣＤ基板Ｇが搬送されてこない状態等に合わせて、リンスノズル５２・５３ａからのリンス液の吐出量を変えるように制御することができる。また、循環ライン１１０ａ・１１１ａを動作させることで第１回収タンク５６ａ内のリンス液を撹拌して組成等が不均一となることを防止することができるようになっている。
【００６１】
第１回収タンク５６ａはその内壁表面を洗浄するための洗浄ノズル５７ａを有している。この洗浄ノズル５７ａには、第１送液ライン１１０および第２送液ライン１１１からそれぞれ分岐して設けられたタンク洗浄ライン１１０ｂ・１１１ｂを通じて第１回収タンク５６ａに回収されたリンス液が供給されるようになっている。
【００６２】
第１回収タンク５６ａには、第１回収タンク５６ａ内のリンス液の量が一定となるように、オーバーフロードレイン１１５ａが設けられている。後述するように、第１回収タンク５６ａ内へ送液されるリンス液の量つまりリンスノズル５３ｂへ送液されるリンス液の量が、第１回収タンク５６ａから外部へ送液されるリンス液の量つまりリンスノズル５２へ送液されるリンス液の量よりも多いために、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４を連続運転すると、第１回収タンク５６ａからリンス液がオーバーフローする事態を招くこととなるが、オーバーフロードレイン１１５ａによってこのオーバーフローが防止される。また、第２送液ライン１１１によって第１回収タンク５６ａ内の一定量のリンス液は循環利用されるために、一定量のリンス液をオーバーフローさせて廃棄することによって、第１回収タンク５６ａ内のリンス液の汚れがひどくなるのを防止することができる。
【００６３】
第１回収タンク５６ａには、内部に貯留されているリンス液量を検出するセンサ等を設けて、所定量のリンス液が貯留されていない場合には警報を発し、また、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４での処理が行われないようにインターロックをかける構成とすることも好ましい。
【００６４】
第１送液ライン１１０から循環ライン１１０ａとタンク洗浄ライン１１０ｂへ送液を行うか否かは、例えば、三方弁４６ａ・４６ｂの動作を制御することによって行うことができ、第２送液ライン１１１から循環ライン１１１ａとタンク洗浄ライン１１１ｂへの送液も、例えば、三方弁４７ａ・４７ｂの動作を制御することによって行うことができる。
【００６５】
図８は洗浄ノズル５７ａの一実施形態と洗浄ノズル５７ａからのリンス液の吐出形態の例を示す説明図である。例えば、洗浄ノズル５７ａとしては、中空リング状の形状を有し、リンス液を吐出する吐出口６０が所定間隔で形成されたものを用いることができる。この吐出口６０からは、例えば、略扇形または略円錐型に拡がるようにリンス液が吐出されて、第１回収タンク５６ａの内壁上部が一様にリンス液で濡れるようにすることが好ましい。こうして第１回収タンク５６ａ内に汚れが付くことが抑制される。洗浄ノズル５７ａの内部にリンス液を濾過するフィルタ等を内蔵させる等、洗浄ノズル５７ａにはリンス液を浄化する機構を設けることも好ましい。洗浄ノズル５７ａから吐出されたリンス液は第１回収タンク５６ａの内壁上部にあたった後に下方へ落下して第１回収タンク５６ａ内に貯留される。
【００６６】
第２リンスゾーン２４ｆは、前述したリンスノズル５３ｃ・５３ｄに加えて、リンスノズル５３ｃ・５３ｄから吐出されるリンス液を受ける第３回収トレー５５ｃと、第３回収トレー５５ｃに流れ落ちたリンス液を回収して貯留する第２回収タンク５６ｂと、第２回収タンク５６ｂに貯留されたリンス液をリンスノズル５３ｂに送液する第３送液ライン１１２と、第２回収タンク５６ｂに貯留されたリンス液をリンスノズル５３ｃに送液する第４送液ライン１１３と、リンスノズル５３ｄに新しいリンス液（未使用のリンス液）を供給する新液供給ライン１１４と、を有している。リンスノズル５３ｃには、回収タンク５６ｂと同様に所定圧のガスを供給することができるようになっている。
【００６７】
第２回収タンク５６ｂは第１回収タンク５６ａと同様の構造を有しており、洗浄ノズル５７ａと同様の構造を有する洗浄ノズル５７ｂと、オーバーフロードレイン１１５ｂとを有している。また、第３送液ライン１１２は、送液ポンプ５８ｃと、第２回収タンク５６ｂ内に回収された一定量のリンス液を循環させる循環ライン１１２ａと、洗浄ノズル５７ｂへ一定量のリンス液を送液するタンク洗浄ライン１１２ｂとを有しており、第４送液ライン１１３は、送液ポンプ５８ｄと、第２回収タンク５６ｂ内に回収された一定量のリンス液を循環させる循環ライン１１３ａと、洗浄ノズル５７ｂへ一定量のリンス液を送液するタンク洗浄ライン１１３ｂとを有している。
【００６８】
送液ポンプ５８ｃ・５８ｄは送液ポンプ５８ａ・５８ｂと同様にインバータ制御等によってそれぞれ第３送液ライン１１２と第４送液ライン１１３におけるリンス液を流量を制御可能となっている。第３送液ライン１１２から循環ライン１１２ａとタンク洗浄ライン１１２ｂへ送液は三方弁４８ａ・４８ｂの動作を制御することによって行われ、第４送液ライン１１３から循環ライン１１３ａとタンク洗浄ライン１１３ｂへの送液もまた三方弁４９ａ・４９ｂの動作を制御することによって行われる。
【００６９】
新液供給ライン１１４には、新しいリンス液を循環ライン（１１０ａ・１１１ａ）・（１１２ａ・１１３ａ）にそれぞれ供給するための新液分岐供給ライン１１４ａ・１１４ｂが設けられている。この新液分岐供給ライン１１４ａ・１１４ｂを用いれば、リンスノズル５２とリンスノズル５３ａ〜５３ｃから新しいリンス液を吐出させることも可能であるが、新液分岐供給ライン１１４ａ・１１４ｂは、例えば、リンスノズル５２等それ自体の内部洗浄処理や、第１回収タンク５６ａと第２回収タンク５６ｂが空の場合に第１回収タンク５６ａと第２回収タンク５６ｂ内へリンス液を貯留させるために用いられる。
【００７０】
液切り／リンスゾーン２４ｄと第１リンスゾーン２４ｅと第２リンスゾーン２４ｆが上述した構造を有する場合においては、第２リンスゾーン２４ｆでは、リンスノズル５３ｄからＬＣＤ基板Ｇに吐出された新しいリンス液は第３回収トレー５５ｃを介して第２回収タンク５６ｂに回収される。また、第２回収タンク５６ｂに回収された使用済みのリンス液には、第４送液ライン１１３によって第２回収タンク５６ｂからリンスノズル５３ｃに送液されてＬＣＤ基板Ｇに吐出され、その後に回収されたリンス液が含まれる。さらに、第２回収タンク５６ｂに回収されたリンス液は第３送液ライン１１２によって第１リンスゾーン２４ｅへ送液される。
【００７１】
つまり、第２リンスゾーン２４ｆでは、新しいリンス液がＬＣＤ基板Ｇのリンス処理に用いられながら、一部のリンス液は第２リンスゾーン２４ｆ内で循環されてリンス処理に再利用され、別の一部のリンス液は第１リンスゾーン２４ｅへ送液されている。このようにＬＣＤ基板Ｇが搬送される方向（基板搬送方向）の上流側ではリンス液を再利用したリンス処理を行い、基板搬送方向の下流側で新しいリンス液を用いたリンス処理を行うことで、例えば、リンスノズル５３ｃ・５３ｄの両方で新しいリンス液を用いる場合と比較すると、新しいリンス液の使用量を低減しながら最終的なＬＣＤ基板Ｇの洗浄品質を高く維持することが可能となる。
【００７２】
また、第１リンスゾーン２４ｅでは、基板搬送方向の下流側に位置するリンスノズル５３ｂからは第２リンスゾーン２４ｆに設けられた第２回収タンク５６ｂに回収されたリンス液がＬＣＤ基板Ｇに吐出され、リンスノズル５３ｂから吐出されたリンス液は第２回収トレー５５ｂを介して第１回収タンク５６ａに回収される。第１回収タンク５６ａに回収された使用済みのリンス液には、第２送液ライン１１１によって第１回収タンク５６ａからリンスノズル５３ａに送液されてＬＣＤ基板Ｇに吐出され、その後に回収されたリンス液が含まれる。さらに、第１回収タンク５６ａに回収されたリンス液は第１送液ライン１１０によって液切り／リンスゾーン２４ｄに設けられたリンスノズル５２へ送液される。第１リンスゾーン２４ｅにおいて第１回収タンク５６ａに回収されたリンス液の一部は、液切り／リンスゾーン２４ｄに設けられたリンスノズル５２に送液されて、傾斜姿勢に保持されたＬＣＤ基板Ｇに吐出される。こうして使用されたリンス液は比較的多くの現像液を含んでいることから、再利用せずにドレインから廃棄する。
【００７３】
このように、第１リンスゾーン２４ｅでは、第２リンスゾーン２４ｆで回収された使用済みのリンス液がＬＣＤ基板Ｇのリンス処理に供給されながら、一部のリンス液は第１リンスゾーン２４ｅ内で循環されてリンス処理に再利用され、別の一部のリンス液は液切り／リンスゾーン２４ｄへ送液されている。第１リンスゾーン２４ｅでは新しいリンス液を用いないために新しいリンス液の使用量を低減することができる。
【００７４】
現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４におけるＬＣＤ基板Ｇのリンス処理においては、殆どの現像液は液切り／リンスゾーン２４ｄにおいて除去され、ＬＣＤ基板Ｇから除去される現像液の量は、液切り／リンスゾーン２４ｄ、第１リンスゾーン２４ｅ、第２リンスゾーン２４ｆの順番で少なくなるために、第１リンスゾーン２４ｅにおいて第２リンスゾーン２４ｆで使用されたリンス液を再利用しても、それによって現像特性が悪化することはない。同様に、液切り／リンスゾーン２４ｄにおいて第１リンスゾーン２４ｅで使用されたリンス液を再利用しても、それによって現像特性が悪化することもない。
【００７５】
次に、現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４における現像処理工程について説明する。図９は現像処理工程の概略を示す説明図（フローチャート）である。現像処理を開始するにあたって、先ず、全てのリンスノズル５２・５３ａ〜５３ｄから所定量のリンス液が吐出可能な状態となるように、第１回収タンク５６ａと第２回収タンク５６ｂに所定量のリンス液を貯留させる必要がある。厳密には、ＬＣＤ基板Ｇが液切り／リンスゾーン２４ｄまで搬送されてきた時点で、第１リンスゾーン２４ｄと第２リンスゾーン２４ｆにおいてリンス処理を行うことができる状態になっているようにする必要がある。
【００７６】
このため、例えば、定期清掃等のメンテナンス後であって、第１回収タンク５６ａと第２回収タンク５６ｂ内にリンス液が貯留されていない場合には、最初に第１回収タンク５６ａと第２回収タンク５６ｂへのリンス液の貯留作業から開始する（ステップ１）。第２回収タンク５６ｂへのリンス液の貯留は、新液供給ライン１１４からリンスノズル５３ｄへ新しいリンス液を供給し、リンスノズル５３ｄから吐出されるリンス液を回収することによって行われる。この間に、送液ポンプ５８ｃ・５８ｄは動作を停止させた状態とする（ステップ１−１）。
【００７７】
次に、第２回収タンク５６ｂ内に所定量のリンス液が貯留されたら、リンスノズル５３ｄへの新しいリンス液の供給を続けながら、送液ポンプ５８ｃ・５８ｄを動作させる。こうして、リンスノズル５３ｃからのリンス液の吐出が開始され、また、第２回収タンク５６ｂからリンスノズル５３ｂへリンス液が供給されて、第１回収タンク５６ａへのリンス液の貯留が開始される（ステップ１−２）。このとき送液ポンプ５８ａ・５８ｂの動作は停止させた状態とする。第１回収タンク５６ａ内に所定量のリンス液が貯留されたら、送液ポンプ５８ａ・５８ｂを動作させてリンスノズル５２・５３ａへの送液を開始する（ステップ１−３）。こうして全てのリンスノズル５２・５３ａ〜５３ｄから所定のリンス液が吐出されている状態となり、現像液塗布後のリンス処理を行うことが可能となる。
【００７８】
なお、新液分岐供給ライン１１４ａ・１１４ｂと循環ライン１１０ａ・１１１ａ・１１２ａ・１１３ａを利用して、第１回収タンク５６ａと第２回収タンク５６ｂへのリンス液の貯留動作を行うことも可能である。
【００７９】
第１リンスゾーン２４ｅと第２リンスゾーン２４ｆにおいてリンス処理を行うことができる状態となった時点で現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４にＬＣＤ基板Ｇが搬入された場合には、先ず、パスユニット（ＰＡＳＳ）７３に搬入されたＬＣＤ基板Ｇを、コロ搬送機構１４によって導入ゾーン２４ａを通過させて第１の現像液供給ゾーン２４ｂに搬入する（ステップ２）。このパスユニット（ＰＡＳＳ）７３から第１の現像液供給ゾーン２４ｂへのＬＣＤ基板Ｇの搬送速度は、例えば６５ｍｍ／秒とする。
【００８０】
第１の現像液供給ゾーン２４ｂにおいては、ＬＣＤ基板Ｇを所定位置で停止させた状態として（ステップ３）、現像ノズル５１ａ・５１ｂを、例えば、２４０ｍｍ／秒という高速で、基板搬送方向の前方から後方へ向けて移動させながらＬＣＤ基板Ｇの表面に現像液を塗布する（ステップ４）。ＬＣＤ基板Ｇを停止させた状態とすることで、現像ノズル５１ａ・５１ｂの駆動制御が容易となる。また、安定して現像液をＬＣＤ基板上に液盛りすることができる。
【００８１】
第１の現像液供給ゾーン２４ｂにおける液盛りが終了したＬＣＤ基板Ｇを、コロ搬送機構１４を動作させて、例えば、４６ｍｍ／秒の搬送速度で第２の現像液供給ゾーン２４ｃへ搬送する（ステップ５）。ＬＣＤ基板Ｇが第２の現像液供給ゾーン２４ｃを通過する際には、現像液補充ノズル５１ｃからＬＣＤ基板Ｇ上に現像液が補充され、ＬＣＤ基板Ｇの搬送時にＬＣＤ基板Ｇからこぼれ落ちる現像液が補充される（ステップ６）。
【００８２】
第２の現像液供給ゾーン２４ｃに搬送されたＬＣＤ基板Ｇはさらに液切り／リンスゾーン２４ｄに搬送され（ステップ７）、そこでＬＣＤ基板Ｇを傾斜姿勢に変換してＬＣＤ基板Ｇ上の現像液を流し落とす（ステップ８）。こうしてＬＣＤ基板Ｇから流し落とされた現像液は、現像液回収トレー５９に回収されて所定の回収ラインへ送液される。
【００８３】
ＬＣＤ基板Ｇが所定の傾斜角度に到達するとほぼ同時に、リンスノズル５２から所定のリンス液を、例えば全体で２０ｄｍ３／分の吐出量でＬＣＤ基板Ｇに向けて吐出させながら、リンスノズルアーム８７をＬＣＤ基板Ｇの表面に沿って、例えば５００ｍｍ／秒の速度で移動させる（ステップ９）。この場合には、１本のリンスノズル５２から１０ｄｍ３／分のリンス液が吐出されることとなるため、第１送液ライン１１０における全送液量を２５ｄｍ３／分として、残りの５ｄｍ３／分の流量のリンス液をタンク洗浄ライン１１０ｂへ送液する。ステップ９の処理においては、現像液回収トレー５９にリンス液が混入しないように、現像液回収トレー５９の開口部を蓋体５９ａによって閉塞しておく。
【００８４】
続いて、ＬＣＤ基板Ｇを、例えば４６ｍｍ／秒の搬送速度で第１リンスゾーン２４ｅに搬送し（ステップ１０）、そこでＬＣＤ基板Ｇをこの搬送速度で搬送しながらＬＣＤ基板Ｇの表面と裏面にリンス液を吐出して、ＬＣＤ基板Ｇに付着している現像液の除去を行う（ステップ１１）。ステップ１１においても、１本のリンスノズル５３ａの吐出量が１０ｄｍ３／分となるように、かつ、タンク洗浄ライン１１１ｂへ５ｄｍ３／分のリンス液を送液できるように、第２送液ライン１１１におけるリンス液の全流量を３５ｄｍ３とする。
【００８５】
また、リンスノズル５３ｂへのリンス液の送液量はリンスノズル５３ａへのリンス液の送液量と同量とすることができる。この場合には、第２回収タンク５６ｂからリンスノズル５３ｂに送液されて第１回収タンク５６ａへ回収されるリンス液の量が３０ｄｍ３／分となるのに対し、第１回収タンク５６ａから液切り／リンスゾーン２４ｄに設けられたリンスノズル５２へ送液されるリンス液の量は２０ｄｍ３／分となるために、この差に相当する１０ｄｍ３／分のリンス液がオーバーフロードレイン１１５ａから廃棄される。
【００８６】
第１リンスゾーン２４ｅを通過したＬＣＤ基板Ｇは第２リンスゾーン２４ｆに搬入される（ステップ１２）。第２リンスゾーン２４ｆにおいては、例えば、１本のリンスノズル５３ｃのリンス液吐出量が１０ｄｍ３／分となるように、かつ、タンク洗浄ライン１１３ｂへ５ｄｍ３／分のリンス液を送液できるように、第４送液ライン１１３におけるリンス液の全流量を３５ｄｍ３とする。また、例えば、新液供給ライン１１４からリンスノズル５３ｄに送液されるリンス液の全流量を４０ｄｍ３／分として、より高い清浄度が要求されるＬＣＤ基板Ｇの表面にリンス液を吐出する２本のリンスノズル５３ｄには各１５ｄｍ３／分の流量でリンス液を供給し、ＬＣＤ基板Ｇの裏面にリンス液を吐出する１本のリンスノズル５３ｄには１０ｄｍ３／分の流量のリンス液を供給して、ＬＣＤ基板Ｇに対してリンス処理を施す（ステップ１３）。
【００８７】
このステップ１３においては、ＬＣＤ基板Ｇの搬送速度を、例えば、３６ｍｍ／秒と、先の第１リンスゾーン２４ｅにおける搬送速度よりも遅くして、より精密なリンス処理を行うことが好ましい。
【００８８】
第２回収タンク５６ｂにおいても、新液供給ライン１１４からリンスノズル５３ｄに送液されて第２回収タンク５６ｂへ回収されるリンス液の量が４０ｄｍ３／分であるのに対して、第２回収タンク５６ｂから第１リンスゾーン２４ｄへ送液されるリンス液の量は３０ｄｍ３／分であるために、この差に相当する１０ｄｍ３／分のリンス液がオーバーフロードレイン１１５ｂから廃棄される。
【００８９】
第２リンスゾーン２４ｆを通過したＬＣＤ基板Ｇは乾燥ゾーン２４ｇに搬入される（ステップ１４）。乾燥ゾーン２４ｇでは、例えば４６ｍｍ／秒の搬送速度でＬＣＤ基板Ｇを搬送しながら、エアーノズル５４による乾燥処理が行われる（ステップ１５）。乾燥処理が終了したＬＣＤ基板Ｇは、コロ搬送機構１４により、ｉ線ＵＶ照射ユニット（ｉ−ＵＶ）２５に搬送され（ステップ１６）、そこで所定の紫外線照射処理が施される。
【００９０】
所定枚数のＬＣＤ基板Ｇの現像処理が終了したら、次の所定枚数のＬＣＤ基板Ｇの処理開始までは、リンス液の流量を少なくして待機状態とする（ステップ１７）。例えば、新液供給ライン１１４からリンスノズル５３ｄへのリンス液の送液量を６ｄｍ３／分、第１送液ライン１１０〜第４送液ライン１１３におけるリンス液の送液量を３ｄｍ３／分、タンク洗浄ライン１１０ｂ〜タンク洗浄ライン１１３ｂにおけるリンス液の送液量を２ｄｍ３／分、循環ライン１１０ａ〜１１３ａにおけるリンス液の送液量を１ｄｍ３／分として、一定量のリンス液を液切り／リンスゾーン２４ｄと第２リンスゾーン２４ｆの間で流し、死水の発生を防止する。
【００９１】
また、一定時間が経過する度に、リンスノズル５２・５３ａ〜５３ｄから所定量のリンス液を吐出させて、リンスノズル５２・５３ａ〜５３ｄ内での死水の発生を防止することが好ましい。
【００９２】
以上、本発明の実施の形態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではない。例えば、上記実施の形態では、リンスゾーンを２箇所設けた場合について説明したが、例えば、リンスゾーンは３箇所以上設けても構わない。
【００９３】
また、例えば、第１リンスゾーン２４ｅにおいては、リンスノズル５３ａから吐出されるリンス液を主に回収するタンク（タンクＡとする）と、リンスノズル５３ｂから吐出されるリンス液を主に回収するタンク（タンクＢとする）とを設け、第２リンスゾーン２４ｆにおいては、リンスノズル５３ｃから吐出されるリンス液を主に回収するタンク（タンクＣとする）と、リンスノズル５３ｄから吐出される新しいリンス液を主に回収するタンク（タンクＤとする）とを別個に設けて、タンクＤに回収されたリンス液をリンスノズル５３ｃへ送液し、タンクＣに回収されたリンス液をリンスノズル５３ｂへ送液し、タンクＢに回収されたリンス液をリンスノズル５３ａへ送液し、タンクＡに回収されたリンス液をリンスノズル５２に送液する構成とすることも可能である。
【００９４】
さらに、スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１においては、上流から下流にＬＣＤ基板Ｇを流しながら所定の洗浄処理が行われる。例えば、スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１では、上流で洗浄液（純水）を流しつつブラシを使って大きなゴミを除去し、中流で高圧ジェットノズルや超音波洗浄ノズルから洗浄液（純水）を供給して中程度の大きさのゴミを除去し、下流でリンスノズルから洗浄液（純水）を供給して微小ゴミを除去している。ここで、スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１を上流、中流、下流の３つのゾーンに分けて、スクラブ洗浄処理ユニット（ＳＣＲ）２１でも、先に説明した現像処理ユニット（ＤＥＶ）２４と同様に、下流側から上流側に洗浄液（純水）を再利用することができる。
【００９５】
なお、本発明はＬＣＤ基板Ｇに限定して適用されるものではなく、ＬＣＤ以外の他の用途に用いられるガラス基板や、半導体ウエハ、その他のセラミックス基板等の液処理にも適用できる。
【００９６】
【発明の効果】
上述の通り、本発明によれば、新しい洗浄液を基板の洗浄工程の最後で使用し、その前段階では一度使用された洗浄液を再使用するため、新しい洗浄液の全体としての使用量を低減することができ、これによって生産コストを削減することが可能となるという効果が得られる。また、基板搬送方向の上流側で使用回数の多い洗浄液を用い、下流へ向かうに従って使用回数の少ない洗浄液を用い、さらに、最も下流の洗浄処理部で新しい洗浄液を用いることから、基板の洗浄品質を高く保持することができる。さらに、再利用する洗浄液の一定量を廃棄する構成とした場合には、洗浄液の汚れがひどくなって基板へ悪影響を与えることを回避することも容易である。さらにまた、一部の洗浄液を循環させて、この洗浄液によって、例えば、タンク等の洗浄液を貯留する部分を洗浄させる構造とすることで、メンテナンスの負荷を低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の液処理装置の一実施形態である現像処理ユニットを具備するレジスト塗布・現像処理システムの概略平面図。
【図２】図１に示したレジスト塗布・現像処理システムの第１の熱的処理ユニットセクションを示す側面図。
【図３】図１に示したレジスト塗布・現像処理システムの第２の熱的処理ユニットセクションを示す側面図。
【図４】図１に示したレジスト塗布・現像処理システムの第３の熱的処理ユニットセクションを示す側面図。
【図５】本発明の一実施形態である現像処理ユニットの概略構造を示す側面図。
【図６】本発明の一実施形態である現像処理ユニットの概略構造を示す平面図。
【図７】リンス液の供給・回収形態を示す説明図。
【図８】回収タンクに設けられた洗浄ノズルの一実施形態と洗浄ノズルからのリンス液の吐出形態の例を示す説明図。
【図９】現像処理工程の概略を示す説明図（フローチャート）。
【符号の説明】
１；カセットステーション
２；処理ステーション
３；インターフェイスステーション
２４；現像処理ユニット（ＤＥＶ）
２４ａ；導入ゾーン
２４ｂ；第１の現像液供給ゾーン
２４ｃ；第２の現像液供給ゾーン
２４ｄ；液切り／リンスゾーン
２４ｅ；第１リンスゾーン
２４ｆ；第２リンスゾーン
２４ｇ；乾燥ゾーン
５２・５３ａ〜５３ｄ；リンスノズル
５５ｂ；第２回収トレー
５５ｃ；第３回収トレー
５６ａ；第１回収タンク
５６ｂ；第２回収タンク
５８ａ〜５８ｄ；送液ポンプ
１００；レジスト塗布・現像処理システム（処理装置）
１１０〜１１３；第１〜第４送液ライン
１１４；新液供給ライン
Ｇ……ＬＣＤ基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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