(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワークが載置されるワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台と上記各穴部に連通する減圧手段とを備え、該減圧手段を駆動して上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定装置において、
上記穴部に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、
上記ワークの種類に応じて、上記複数の穴部のうち上記圧力検出手段の検出結果によって検出された上記ワークで覆われない穴部を閉塞する閉塞手段を設けた、
ことを特徴とするワークの固定装置。
【請求項２】
上記閉塞手段がワーク支持面にセットされることを特徴とする請求項１記載のワークの固定装置。
【請求項３】
上記閉塞手段が、ワーク支持面にセットされ、駆動手段で駆動されることを特徴とする請求項１記載のワークの固定装置。
【請求項４】
ワークが載置されるワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台と上記各穴部に連通する減圧手段とを備え、該減圧手段を駆動して上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定装置において、
上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成するとともに、
上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、
上記減圧経路のうち少なくとも所定のものに、上記圧力検出手段の検出結果に応じて開閉するバルブ手段を設けた、
ことを特徴とするワークの固定装置。
【請求項５】
ワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台にワークを支持し、上記各穴部に連通する減圧手段を駆動し、上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定方法において、
上記穴部に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、
上記ワークの種類に応じて、上記複数の穴部のうち上記圧力検出手段の検出結果によって検出された上記ワークで覆われない穴部を閉塞手段にて閉塞する、
ことを特徴とするワークの固定方法。
【請求項６】
ワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台にワークを支持し、上記各穴部に連通する減圧手段を駆動し、上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定方法において、
上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成するとともに、
上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、
上記減圧経路のうち少なくとも所定のものを、上記圧力検出手段の検出結果に応じてバルブ手段にて開閉させるようにした、
ことを特徴とするワークの固定方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、ワーク支持面に設けた複数の開口穴の内部を減圧して支持面上のワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定装置および固定方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
周知のように、半導体製造プロセスなど半導体素子を取り扱うプロセスでは、当該半導体素子に所定の加工あるいは処理等を施すなどのために、半導体素子を特定の固定装置に固定することが必要な場合が種々生じる。例えば、半導体素子の電極部に突起電極を形成する工程では、該工程のステーションに設けられた専用の固定装置に半導体素子を固定した上で、突起電極の形成作業が行われる。
【０００３】
従来、かかる半導体素子の固定装置としては、例えば図７に示すように、半導体素子Ｗ'（ワーク）を載置させるワーク支持台５３の表面５３ｆ（ワーク支持面）の所定箇所に位置決めストッパ５４を固定して設ける一方、該ストッパ５４に対し進退動可能な可動爪５５を対向するように配置し、該可動爪５５と上記位置決めストッパ５４との間に半導体素子Ｗ'を位置させて可動爪５５を前進させることにより、可動爪５５と位置決めストッパ５４との間に半導体素子Ｗ'を挟み込んで固定するようにしたものが知られている。
【０００４】
また、他のタイプの固定装置として、例えば図８に示すように、ワークＷ'が載置されるワーク支持面６３ｆに開口する複数の穴部６５（吸着穴）を有するワーク支持台６３と、上記各吸着穴６５に連通する減圧手段（例えば真空ポンプ：不図示）とを備え、上記ワークＷ'（半導体素子）を位置決め部材６４によって位置決めした状態で、真空ポンプを駆動して上記各吸着穴６５内を減圧することにより、上記ワーク支持面６３ｆ上に載置されて吸着穴６５を覆うワークＷ'に吸着力を作用させるようにしたものが公知である。
更には、上記両タイプを組み合わせて、機械的に挟み込む力と減圧による吸着力とを併用するものも知られている。
【０００５】
ところで、周知のように、半導体素子の基板は、通常、例えばシリコン（Ｓｉ）など、比較的脆くて強度・剛性も余り高くない材料を基材として構成されているので、上記のような固定装置を用いて固定する場合、その固定力によって半導体素子の機能や形状等が損なわれないように、十分な配慮を払う必要がある。
このような固定に伴う不具合発生を回避する観点からは、固定する際に、機械的に挟み込む力をできるだけ小さくし、できればかかる挟み込む固定力を無くすることが好ましい。そして、減圧による吸着力で固定する方法の採用が一般に推奨されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、減圧による吸着力によって半導体素子を固定するタイプの固定装置では、ワーク支持面に設けられた複数の吸着穴が全て半導体素子で覆われるように、吸着穴の数および配置を半導体素子の基板のサイズや形状に適応させる（つまり、ワークの広さに対応する領域においてできるだけ偏りなく、かつ、全ての吸着穴が半導体素子で覆われるように設定する）必要がある。すなわち、取り扱う半導体素子の種類が変わってその基板サイズが小さくなり、半導体素子から外れた（つまり半導体素子で覆われない）吸着穴が生じた場合には、真空ポンプを駆動して減圧を行った際に、半導体素子で覆われていない吸着穴から大気圧のエアが減圧経路に流入して真空ポンプの減圧作用が阻害され、必要な吸着力が得られないからである。
このため、取り扱う半導体素子の種類が変わる毎に、その基板のサイズや形状に適応するように、固定装置のワーク支持台を当該種類専用のものに取り替える必要があり、時間と手間が掛かるという問題があった。
【０００７】
この発明は、上記技術的課題を解消するためになされたもので、ワークの種類が変わった場合でも、ワーク支持台を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができるワークの固定装置および固定方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
このため、本願発明に係るワークの固定装置は、ワークが載置されるワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台と上記各穴部に連通する減圧手段とを備え、該減圧手段を駆動して上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定装置において、上記穴部に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、上記ワークの種類に応じて、上記複数の穴部のうち上記圧力検出手段の検出結果によって検出された上記ワークで覆われない穴部を閉塞する閉塞手段を設けたものである。
この場合、上記閉塞手段はワーク支持面にセットされることが好ましい。また、上記閉塞手段が、ワーク支持面にセットされ、駆動手段で駆動されることがより好ましい。
【０００９】
また、本願の他の発明に係るワークの固定装置は、ワークが載置されるワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台と上記各穴部に連通する減圧手段とを備え、該減圧手段を駆動して上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定装置において、上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成するとともに、上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、上記減圧経路のうち少なくとも所定のものに、上記圧力検出手段の検出結果に応じて開閉するバルブ手段を設けたものである。
【００１０】
また、本願発明に係るワークの固定方法は、ワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台にワークを支持し、上記各穴部に連通する減圧手段を駆動し、上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定方法において、上記穴部に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、上記ワークの種類に応じて、上記複数の穴部のうち上記圧力検出手段の検出結果によって検出された上記ワークで覆われない穴部を閉塞手段にて閉塞するようにしたものである。
更に、本願の他の発明に係るワークの固定方法は、ワーク支持面に開口する複数の穴部を有するワーク支持台にワークを支持し、上記各穴部に連通する減圧手段を駆動し、上記各穴部内を減圧することにより、上記ワーク支持面上に載置されて上記穴部を覆うワークに吸着力を作用させるようにしたワークの固定方法において、上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成するとともに、上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出し、上記減圧経路のうち少なくとも所定のものを、上記圧力検出手段の検出結果に応じてバルブ手段にて開閉させるようにしたものである。
【００１１】
【作用】
本願発明に係るワークの固定装置では、上記閉塞手段を設けたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部を閉塞して、この穴部から減圧経路に大気圧のエアが流入することを防止でき、減圧手段による減圧作用が阻害されることは無くなる。特に、上記穴部に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。
【００１２】
また、本願の他の発明に係るワークの固定装置では、上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成し、これら減圧経路のうち少なくとも所定のものにバルブ手段を設けたことにより、取り扱うワークの種類に応じて、そのサイズや形状に適応する各穴部に連通する減圧経路を除く他の減圧経路については、上記バルブ手段を閉じるように設定することができる。これにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部に連通する減圧経路を遮断することができ、減圧手段による減圧作用が阻害されることは無くなる。特に、上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。
【００１３】
また、本願発明に係るワークの固定方法では、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部を上記閉塞手段にて閉塞することで、この穴部から減圧経路に大気圧のエアが流入することを防止でき、減圧手段による減圧作用が阻害されることは無くなる。特に、上記穴部に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。
更に、本願の他の発明に係るワークの固定方法では、上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成し、これら減圧経路のうち少なくとも所定のものをバルブ手段にて開閉させるようにしたことで、取り扱うワークの種類に応じて、そのサイズや形状に適応する各穴部に連通する減圧経路を除く他の減圧経路については、上記バルブ手段を閉じるように設定することができる。これにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部に連通する減圧経路を遮断することができ、減圧手段による減圧作用が阻害されることは無くなる。特に、上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、例えば、半導体素子の電極部に突起電極を形成する工程に用いられる固定装置に適用した場合を例にとって、添付図面を参照しながら詳細に説明する。
図１および図２は、本発明の第１の実施の形態に係る半導体素子の固定装置１の斜視図および縦断面説明図である。
これらの図に示すように、上記固定装置１では、固定されるべき半導体素子Ｗ１（ワーク）が載置されるワーク支持面３ｆを備えたワーク支持台３が基台２の上側に取り付けられている。尚、具体的には図示しなかったが、この基台２には、ワークＷ１の電極部に突起電極を形成する本工程に必要とされる所定温度範囲への加熱を行うための加熱装置が組み込まれている。
【００１５】
上記ワーク支持台３には、ワークＷ１をワーク支持面３ｆ上において位置決めするための位置決め部材４が固定して設けられるとともに、該位置決め部材４の側方（例えば図１及び図２における左方）に、ワーク支持面３に開口する複数の穴部５（吸着穴）が設けられている。図１及び図２の例では、例えば縦横３個ずつ計９個の吸着穴５（位置決め部材４に近い側から順に５ａ,５ｂ,５ｃ）が設けられている。
これら吸着穴５は、全て、基台２の上面部（ワーク支持台３の裏面側）に形成されたチャンバ部６（減圧チャンバ）に連通しており、該減圧チャンバ６は、真空配管７を介して、減圧手段としての真空ポンプ８に連通している。尚、上記減圧チャンバ６と真空配管７とが、複数の穴部（吸着穴５）と減圧手段（真空ポンプ８）とを連通させる減圧経路を構成している。
【００１６】
上記複数の吸着穴５は、ワークＷ１が位置決め部材４によってワーク支持面３ｆ上において位置決めされた状態で、ワークＷ１の基板のサイズや形状に適応するように、つまり、ワークＷ１の広さに対応する領域においてできるだけ偏りなく、かつ、全ての吸着穴５がワークＷ１で覆われるように設定されている。
そして、ワークＷ１がこのようにワーク支持面３ｆ上で位置決めされた状態で、真空ポンプ８を駆動して上記各吸着穴５の内部を所定の真空度まで減圧することにより、これら吸着穴５からワークＷ１に吸着力を作用させ、該ワークＷ１をワーク支持面３ｆ上に固定することができるようになっている。
【００１７】
本実施の形態では、取り扱うワーク（半導体素子）の種類が、上記ワークＷ１からサイズの小さいワークＷ２（図２における破線参照）に変わった場合でも、ワーク支持台３を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができるように、ワークの種類に応じて、上記複数の吸着穴５のうちワークＷ２で覆われない吸着穴５ｃを閉塞する閉塞手段として、図３に示すようなシャッタ部材９が設けられている。
すなわち、例えば、上記ワークＷ２が、ワークＷ１に比べて、図２及び図３に示すように、左右方向の長さについてのみ所定長さだけ短く設定されている場合を想定すると、ワークの種類が上記ワークＷ１からサイズの小さいワークＷ２に変わることにより、吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）のうち、位置決め部材４から最も離れた列の各吸着穴５ｃがワークＷ２の基板から外れる（ワークＷ２で覆われなくなる）ことになる。
【００１８】
このように取り扱うワークの種類が上記ワークＷ１からサイズの小さいワークＷ２に変わった場合には、図３に示されるように、上記シャッタ部材９を吸着穴５ｃに対応するワーク支持面３ｆ上の所定部位に配置することにより、該吸着穴５ｃをシャッタ部材９で覆って閉塞するようにしている。このとき、シャッタ部材９は当該吸着穴５ｃからの吸着力によってワーク支持面３ｆ上に固定されるので、簡単に位置ずれが生じることはない。
上記シャッタ部材９は、より好ましくは、例えばロボット装置等の駆動手段（不図示）により、ワーク支持面３ｆ上の前記所定部位にセットされる。
【００１９】
したがって、真空ポンプ８を駆動しても、上記吸着穴５ｃから減圧チャンバ６内に大気圧のエアが流入することが防止され、真空ポンプ８による減圧作用が阻害されることは無い。そして、ワークＷ２で覆われた右２列の吸着穴５ａ,５ｂから吸着力を作用させて、ワークＷ２をワーク支持面３ｆ上に固定することができるのである。
尚、逆に、ワークの種類が上記ワークＷ２からサイズの大きいワークＷ１に変わった場合には、上記シャッタ部材９の使用を止めれば良いだけである。
【００２０】
すなわち、本実施の形態によれば、取り扱うワーク（半導体素子）の種類が変わった場合でも、ワーク支持台３を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができるのである。
尚、上記シャッタ部材９としては、ワーク支持台３の表面３ｆに開口する吸着穴５を閉塞し得るものであれば、如何なる形状および材質のものであっても良い。本実施の形態の場合には、上記固定装置１は半導体素子（ワーク）の電極部に突起電極を形成する工程に用いられるものであり、ワークＷ２はその工程中に所定温度に加熱されるので、上記シャッタ部材９は、その加熱温度に耐え得るように、例えば金属製とした。
【００２１】
図４は、上記第１の実施の形態に係る固定装置１の変形例を示している。尚、以下の説明において、図１〜図３に示した第１の実施の形態における場合と同じものには同一の符号を付し、それ以上の説明は省略する。
この変形例では、各吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）の内部に、圧力検出手段として、真空度を検出し得る圧力センサ１１ａ,１１ｂ,１１ｃがそれぞれ設けられ、これら各圧力センサ１１ａ,１１ｂ,１１ｃは、固定装置の作動を制御するコントローラ１５に信号授受可能にそれぞれ接続されている。
【００２２】
取り扱うワークの種類が、上記ワークＷ１からサイズの小さいワークＷ２に変わった場合には、上述のように、吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）のうち、位置決め部材４から最も離れた列の各吸着穴５ｃがワークＷ２の基板から外れて覆われなくなり、真空ポンプ８を駆動して各吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）内を減圧する際には、上記ワークＷ２から外れた吸着穴５ｃは、大気圧のエアが流入するので、他の（ワークＷ２で覆われた）各吸着穴５ａ,５ｂに比して真空度が非常に低く（圧力が高く）なる。
すなわち、ワークＷ２で覆われていない吸着穴５ｃの圧力センサ１１ｃは、ワークＷ２で覆われた他の吸着穴５ａ,５ｂの圧力センサ１１ａ,１１ｂに比して非常に高い圧力値を示すので、各圧力センサ１１ａ,１１ｂ,１１ｃの出力値をモニタすることにより、取り扱うワークの種類が変わったこと、及び、それに伴って吸着力を作用させる必要がなくなった吸着穴５ｃを自動的に検出することができる。そして、このワークの変更に応じて、上記コントローラ１５から、シャッタ部材９の駆動手段１４（例えばロボット装置等）に対して制御信号が出力され、上記シャッタ部材９を自動的にワーク支持面３ｆ上の所定部位にセットすることができるようになっている。
【００２３】
次に、本発明の第２の実施の形態について説明する。
この第２の実施の形態に係る固定装置では、図５に示すように、複数の吸着穴５と真空ポンプ８とを連通させる減圧経路が、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成されている。
すなわち、基台２２の上面部（ワーク支持台３の裏面側）には、吸着穴５ａ及び５ｂに対応する第１減圧チャンバ２６ａｂと、吸着穴５ｃに対応する第２減圧チャンバ２６ｃとが、互いに分離独立して形成されている。両減圧チャンバ２６ａｂ,２６ｃは、仕切壁２２ｗで仕切られている。上記第１減圧チャンバ２６ａｂは第１真空配管２７ａｂを介して真空ポンプ８と連通し、また、第２減圧チャンバ２６ｃは第２真空配管２７ｃを介して真空ポンプ８と連通している。そして、この第２真空配管２７ｃの途中部には、例えば電磁ソレノイド式の開閉バルブ２４が介設されている。
【００２４】
この開閉バルブ２４は、取り扱うワークがサイズが大きいワークＷ１である場合には開弁状態に保持され、第２減圧チャンバ２６ｃと真空ポンプ８とが連通状態に維持されている。一方、上記第１減圧チャンバ２７ａｂは、常時、真空ポンプ８に連通している。
したがって、取り扱うワークがサイズが大きいワークＷ１である場合には、真空ポンプ８の駆動により、第１及び第２の両減圧チャンバ２６ａｂ,２６ｃが共に減圧されるので、全ての吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）が吸着作用を行う。
【００２５】
一方、取り扱うワークの種類が、上記ワークＷ１からサイズの小さいワークＷ２に変わった場合には、上述のように、吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）のうち、位置決め部材４から最も離れた列の各吸着穴５ｃがワークＷ２の基板から外れて覆われなくなるので、上記開閉バルブ２４は閉じられ、第２減圧チャンバ２６ｃと真空ポンプ８との連通が遮断される。
したがって、この場合には、真空ポンプ８を駆動しても、上記吸着穴５ｃから減圧チャンバ６内に大気圧のエアが流入することが防止され、真空ポンプ８による減圧作用が阻害されることは無い。そして、ワークＷ２で覆われた右２列の吸着穴５ａ,５ｂから吸着力を作用させて、ワークＷ２をワーク支持面３ｆ上に固定することができる。
すなわち、本実施の形態によれば、取り扱うワーク（半導体素子）の種類が変わった場合でも、ワーク支持台３を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができるのである。
【００２６】
図６は、上記第２の実施の形態に係る固定装置２０の変形例を示している。
この変形例では、互いに分離独立して形成された第１及び第２の減圧チャンバ２６ａｂ,２６ｃの内部に、真空度を検出し得る圧力センサ３１ａｂ,３１ｃ（圧力検出手段）がそれぞれ設けられ、各圧力センサ３１ａｂ,３１ｃは、固定装置の作動を制御するコントローラ２５に信号授受可能に接続されている。
取り扱うワークの種類が、上記ワークＷ１からサイズの小さいワークＷ２に変わった場合には、上述のように、吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）のうち、位置決め部材４から最も離れた列の各吸着穴５ｃがワークＷ２の基板から外れて覆われなくなり、真空ポンプ８を駆動して各吸着穴５（５ａ,５ｂ,５ｃ）内を減圧する際には、上記ワークＷ２から外れた吸着穴５ｃには大気圧のエアが流入するので、第２減圧チャンバ２６ｃの圧力センサ３１ｃは、第１減圧チャンバ２６ａｂの圧力センサ３１ａｂに比して非常に高い圧力値を示すことになる。
【００２７】
したがって、両圧力センサ３１ａｂ,３１ｃの出力値をモニタすることにより、取り扱うワークの種類が変わったこと、及び、それに伴って吸着力を作用させる必要がなくなった吸着穴５ｃを自動的に検出することができる。そして、このワークの変更に応じて、上記コントローラ２５から、開閉バルブ２４に対して制御信号が出力され、自動的に該バルブ２４が閉じられて第２減圧チャンバ２６ｃと真空ポンプ８との連通が遮断されるようになっている。
尚、この変形例においては、第１及び第２の減圧チャンバ２６ａｂ,２６ｃの内部に圧力センサ３１ａｂ,３１ｃが設けられていたが、この代わりに、図４の場合と同様に、各吸着穴５ａ,５ｂ,５ｃに圧力センサをそれぞれ設けるようにしても良い。
【００２８】
なお、以上の実施の態様およびその変形例では、いずれも、吸着穴からの吸着力のみによってワークＷ１,Ｗ２を固定するようにしていたが、この代わりに、図７で説明したような機械的に挟み込む固定力と併用するようにしても良い。
このように、本発明は、以上の実施態様に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲において、種々の改良あるいは設計上の変更が可能であることは言うまでもない。
【００２９】
【発明の効果】
本願発明に係るワークの固定装置によれば、上記閉塞手段を設けたので、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部を閉塞して、この穴部から減圧経路に大気圧のエアが流入することを防止でき、減圧手段による減圧作用が阻害されることは無くなる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わった場合でも、ワーク支持台を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができる。
特に、上記穴部に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わったこと及びその種類のサイズや形状を自動的に検出することができ、その種類の変化に応じた上記閉塞手段の駆動の自動化を図ることが可能になる。
【００３０】
また、本願の他の発明に係るワークの固定装置によれば、上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成し、これら減圧経路のうち少なくとも所定のものにバルブ手段を設けたので、取り扱うワークの種類に応じて、そのサイズや形状に適応する各穴部に連通する減圧経路を除く他の減圧経路については、上記バルブ手段を閉じるように設定することができる。これにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部に連通する減圧経路を遮断することができ、減圧手段による減圧作用が阻害されることを防止できる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わった場合でも、ワーク支持台を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができる。
特に、上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に圧力検出手段を設け、その検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わったこと及びその種類のサイズや形状を自動的に検出することができ、その種類の変化に応じた上記バルブ手段の駆動の自動化を図ることが可能になる。
【００３１】
また、本願発明に係るワークの固定方法によれば、上記閉塞手段を設けたので、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部を上記閉塞手段にて閉塞することで、この穴部から減圧経路に大気圧のエアが流入することを防止でき、減圧手段による減圧作用が阻害されることは無くなる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わった場合でも、ワーク支持台を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができる。
特に、上記穴部に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わったこと及びその種類のサイズや形状を自動的に検出することができ、その種類の変化に応じた上記閉塞手段の駆動の自動化を図ることが可能になる。
更に、本願の他の発明に係るワークの固定方法によれば、上記複数の穴部と上記減圧手段とを連通させる減圧経路を、相互に独立した複数の減圧経路に分離して構成し、これら減圧経路のうち少なくとも所定のものをバルブ手段にて開閉するようにしたので、取り扱うワークの種類に応じて、そのサイズや形状に適応する各穴部に連通する減圧経路を除く他の減圧経路については、上記バルブ手段を閉じるように設定することができる。これにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、ワークで覆われない穴部に連通する減圧経路を遮断することができ、減圧手段による減圧作用が阻害されることを防止できる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わった場合でも、ワーク支持台を取り替える必要なしに、所要の吸着力を得ることができる。
特に、上記各穴部および上記分離した各減圧経路の何れか一方に設けた圧力検出手段の検出結果によって上記ワークに覆われない穴部を検出するようにしたことにより、取り扱うワークの種類が変わってワークから外れる（つまりワークで覆われない）穴部が生じた場合には、このワークの種類に応じて、吸着力を作用させる必要のない穴部を自動的に検出することができる。すなわち、取り扱うワークの種類が変わったこと及びその種類のサイズや形状を自動的に検出することができ、その種類の変化に応じた上記バルブ手段の駆動の自動化を図ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の第１の実施の形態に係る半導体素子の固定装置の斜視図である。
【図２】  図１におけるII−II線に沿った縦断面説明図である。
【図３】  上記第１の実施の形態に係る固定装置のワーク変更時における縦断面説明図である。
【図４】  第１の実施の形態の変形例に係る固定装置を示す縦断面説明図である。
【図５】  本発明の第２の実施の形態に係る半導体素子の固定装置のワーク変更時における縦断面説明図である。
【図６】  上記第２の実施の形態の変形例に係る固定装置を示す縦断面説明図である。
【図７】  従来例に係る半導体素子の固定装置の斜視図である。
【図８】  他の従来例に係る半導体素子の固定装置の斜視図である。
【符号の説明】
１,２０…半導体素子の固定装置
３…ワーク支持台
３ｆ…ワーク支持面
５（５ａ,５ｂ,５ｃ）…吸着穴
８…真空ポンプ（減圧手段）
９…シャッタ部材（閉塞手段）
１１ａ,１１ｂ,１１ｃ,３１ａｂ,３１ｃ…圧力センサ
２４…開閉バルブ
２６ａｂ…第１減圧チャンバ
２６ｃ…第２減圧チャンバ
２７ａｂ…第１真空配管
２７ｃ…第２真空配管
Ｗ１,Ｗ２…ワーク（半導体素子）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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