(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光(11)の通過する光路空間(21)を覆う光路カバー(13,14,22)と、光路カバー(13,14,22)に設けられたＯリング溝(24)と、Ｏリング溝(24)の内部に嵌挿されたＯリング(25)とを備え、真空紫外領域のレーザ光(11)を発振させる真空紫外レーザ(1)において、
前記Ｏリング溝(24)よりも外気側にトラップ収納部(41)を設け、
このトラップ収納部(41)の内部に、酸素及び水蒸気の少なくともいずれか一方を除去する不純物トラップ(42)を収納した
ことを特徴とする真空紫外レーザ(1)。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空紫外領域のレーザ光を発振する真空紫外レーザに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、真空紫外領域と呼ばれる約２０nm〜２００nm程度の波長を有する真空紫外光を発振させる真空紫外レーザが知られており、例えばＡｒＦレーザ（１９３nm）やＦ2レーザ（１５７nm）等がある。このような真空紫外レーザは、主としてレーザリソグラフィ等の精密加工に使用される。
【０００３】
図７は、従来技術に係るＦ2レーザの構成図を表しており、以下同図に基づいて従来技術を説明する。
同図において、Ｆ2レーザ１は、レーザガスを封入してその内部で放電を起こし、真空紫外領域のレーザ光１１を発振させるレーザチャンバ２と、このレーザチャンバ２から発振されるレーザ光１１を狭帯域化する（即ち、レーザ光１１の中心波長を安定させ、かつ波長のスペクトル幅を狭くする）狭帯域化ユニット１０と、狭帯域化されたレーザ光１１の波長特性（中心波長及びスペクトル幅）及びパワーを測定する波長測定装置３とを備えている。
【０００４】
レーザチャンバ２の内部には、レーザガスとして例えばフッ素（Ｆ2）とヘリウム（Ｈｅ）とが所定の圧力比で封入されており、その所定位置には１組の放電電極５，５が設置されている。この放電電極５，５間に図示しない高圧電源より高電圧を印加することにより、約１５７nmの波長を有するレーザ光１１を発振させている。
また、レーザチャンバ２は、その前端部（図中右端部）と後端部に、フロントウィンドウ７及びリアウィンドウ９（以後ウィンドウ７，９と総称する）を備えている。発振したレーザ光１１は、リアウィンドウ９を透過してレーザチャンバ２から出射し、レーザチャンバ２の外部後方（図中左方）に配置された狭帯域化ユニット１０に入射して狭帯域化される。狭帯域化されたレーザ光１１は、レーザチャンバ２を通過し、その一部が外部前方に設けられたフロントミラー８を部分透過して、加工機１５に入射する。
このとき、フロントミラー８から出射したレーザ光１１は、波長測定装置３でその一部をサンプリングされ、波長特性及びパワーを計測されている。
【０００５】
発振したレーザ光１１は真空紫外光であり、空気中の酸素や水蒸気に非常によく吸収されるため、空気中を通ることによってパワーが減衰する。また、酸素に真空紫外光が照射されることにより、オゾン（Ｏ3）が発生し、光学部品の汚損を招く。さらに、空気中に含まれる有機物が光路に混入すると、この有機物が光学部品に付着し、光学部品の汚損を招く。
このようなパワーの減衰や光学部品の汚損を防止するため、レーザ光１１の光路から空気を遮断し、酸素、水蒸気、有機物等の不純物が混入しないようにする技術が知られている。
即ち、同図に示すように、レーザ光１１の光路は、波長測定装置３を覆う波長ボックス１３、狭帯域化ユニット１０を覆う狭帯域化ボックス１４、及びこれらを接続するカバー２２，２２等からなる光路カバー１３，１４，２２で覆われている。また、これらの光路カバー１３，１４，２２の接続部にはＯリング溝２４が設けられ、その内部にはＯリング２５が嵌挿されて、光路カバー１３，１４，２２内部の光路空間２１を密封している。そして、光路カバー１３，１４，２２にはパージ配管３０が接続され、パージボンベ２６から例えばＮ2等の不活性ガスをパージして、光路空間２１への空気の混入を防止している。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前記従来技術には、次に述べるような問題点がある。
【０００７】
即ち、前述したように、レーザ光１１は不純物に吸収されるため、パージされる不活性ガスの中に不純物が混入していると、譬えその量が微量であっても、パワーが減衰する。これを防ぐためには、パージボンベ２６に充填される不活性ガスの純度を高くしなければならない。光路空間２１への不純物の混入を避けるためには、常に一定量の不活性ガスをパージし続けなければならず、不活性ガスの消費に伴い、ランニングコストが上昇するという問題がある。
【０００８】
また、従来技術においては、パージ配管３０の内部やパージ配管３０を接続する継手（図示せず）に水分や有機物等の不純物が付着していたとしても、これらの不純物の不活性ガス中への混入を防止するすべがないという問題がある。
【０００９】
また、Ｏリング２５は、材質が高分子材料であるため、微量の酸素や水蒸気を透過する。光路空間２１内に微量の酸素や水蒸気が混入すると、前述したパワー減衰や光学部品の汚損の原因になるという問題がある。
【００１０】
本発明は、上記の問題点に着目してなされたものであり、発振したレーザ光の減衰及び光学部品の汚損を防止する真空紫外レーザを提供することを目的としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段、作用及び効果】
上記の目的を達成するために、第１発明は、レーザ光の通過する光路空間を覆う光路カバーと、光路カバーに設けられたＯリング溝と、Ｏリング溝の内部に嵌挿されたＯリングとを備え、真空紫外領域のレーザ光を発振させる真空紫外レーザにおいて、前記Ｏリング溝よりも外気側にトラップ収納部を設け、このトラップ収納部の内部に、酸素及び水蒸気の少なくともいずれか一方を除去する不純物トラップを収納している。
【００１２】
第１発明によれば、Ｏリング溝よりも外気側に不純物トラップを備え、空気がＯリングに接触する前に、不純物トラップによって空気から酸素及び水蒸気の少なくともいずれか一方の不純物を除去している。これにより、Ｏリングに接触する空気に含まれる酸素及び水蒸気の少なくともいずれか一方の不純物が少なくなるので、酸素又は水蒸気がＯリングを通過して、光路空間やレーザチャンバの内部に混入することが少なくなる。従って、酸素又は水蒸気によるパワーの減衰や光学部品の汚損が起きにくく、真空紫外レーザを長期にわたって、安定に稼働させることが可能である。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図を参照しながら、本発明に係る実施形態を詳細に説明する。尚、各実施形態において、前記従来技術の説明に使用した図、及びその実施形態よりも前出の実施形態の説明に使用した図と同一の要素には同一符号を付し、重複説明は省略する。
【００１６】
以下の実施形態では、真空紫外レーザの一例として、Ｆ2レーザを例にとって説明する。
まず、図１に基づいて、第１実施形態を説明する。図１は、本実施形態に係るＦ2レーザの構成断面図を示している。同図において、Ｆ2レーザ１は、レーザガスを封入し、その内部で放電を起こして真空紫外領域のレーザ光１１を発振させるレーザチャンバ２と、このレーザチャンバ２から発振されるレーザ光１１を狭帯域化する狭帯域化ユニット１０と、狭帯域化されたレーザ光１１の波長特性及びパワーを測定する波長測定装置３とを備えている。
【００１７】
レーザチャンバ２は、その前端部と後端部に、略円筒形のウィンドウホルダ６，６をそれぞれ備え、それらの先端に、それぞれ所定の角度でフロントウィンドウ７及びリアウィンドウ９を固定している。
レーザチャンバ２の内部には、レーザガスとして例えばフッ素（Ｆ2）とヘリウム（Ｈｅ）とが所定の圧力比で封入されており、所定位置には１組の放電電極５，５が設置されている。この放電電極５，５間に、図示しない高圧電源から高電圧を印加することにより、放電によってレーザガスを励起し、約１５７nmの波長を有するレーザ光１１を発振させている。
尚、一般にこのようなＦ2レーザ１において、高電圧はパルス状に印加され、レーザ光１１はパルス発振する。
【００１８】
レーザチャンバ２で発振したレーザ光１１は、リアウィンドウ９を透過して、レーザチャンバ２の外部後方に設けられた狭帯域化ユニット１０に入射する。
狭帯域化ユニット１０は、例えば２個のプリズム３２，３２と、波長選択素子であるグレーティング３３とを備えている。プリズム３２，３２によって拡大されたレーザ光１１のうち、グレーティング３３によって所定の波長特性のレーザ光１１のみが入射光と同じ方向に折り返され、狭帯域化される。
狭帯域化されたレーザ光１１は、狭帯域化ユニット１０から出射してレーザチャンバ２を通過し、フロントウィンドウ７を透過する。フロントウィンドウ７を透過したレーザ光１１の一部は、レーザチャンバ２の外部前方に設けられたフロントミラー８で部分反射されてレーザチャンバ２内に戻る。また、残りのレーザ光１１は、フロントミラー８を部分透過して波長測定装置３に入射する。
【００１９】
波長測定装置３は、入射したレーザ光１１の光軸上に、ビームスプリッタ１２を有している。レーザ光１１は、このビームスプリッタ１２によって一部を図中下方に反射され、サンプル光１１Ａとなる。また、ビームスプリッタ１２を透過したレーザ光１１は、加工機１５に入射し、その内部で精密加工を行なうための光源となる。
ビームスプリッタ１２で下方に反射されたサンプル光１１Ａの一部は、第２のビームスプリッタ３４で反射され、例えばフォトダイオード等を備えたパワー検出器３５に入射してそのパワーを検出される。また、第２のビームスプリッタ３４を透過したサンプル光１１Ａは、例えばエタロン等の分光手段を備えた波長検出器３６に入射し、その波長特性を検出される。
狭帯域化ユニット１０及び波長測定装置３は、それぞれ狭帯域化ボックス１４及び波長ボックス１３の内部に収納されている。狭帯域化ボックス１４及び波長ボックス１３は、それぞれレーザ光１１の出入りする開口部１４Ａ，１３Ａを除いては密封構造となっている。
【００２０】
以下の説明は、Ｆ2レーザ１の後方側（狭帯域化ボックス１４側）のみについて行なうが、前方側（波長ボックス１３側）もほぼ同様である。
狭帯域化ボックス１４の一側面には、円筒状のカバー２２の一端部に形成されたフランジ２２Ａが、図示しないボルトで固定されている。フランジ２２Ａの端面には、開口部１４Ａの外周に全周にわたってＯリング溝２４が形成されており、その内部にはＯリング２５が嵌挿されている。そして、このＯリング２５と狭帯域化ボックス１４の一側面とが当接して光路空間２１を密封している。
【００２１】
また、レーザチャンバ２は、放電電極５，５間の放電から発生した熱によって、レーザ光１１の光軸方向（図中左右方向）に膨張する。この膨張によって、狭帯域化ユニット１０が押されて光軸がずれるのを避けるため、ウィンドウホルダ６は、狭帯域化ボックス１４に固定されたカバー２２に対して、光路空間２１の密封を保ちながら光軸方向に摺動自在になっている。
即ち、略円筒状のウィンドウホルダ６の外周面上には、全周にわたってＯリング溝２４が設けられ、Ｏリング溝２４の内部にはＯリング２５が嵌挿されている。ウィンドウホルダ６の外周には、略円筒状のカバー２２が光軸方向に摺動自在に挿着され、このカバー２２の内周面とＯリング２５との間で光路空間２１を密封している。
【００２２】
図２に、図１におけるＰ部の詳細断面図を示す。同図に示すように、Ｏリング溝２４の外周部には、全周にわたってトラップ収納溝４１が設けられている。このトラップ収納溝４１の内部には、空気中の不純物を吸着する不純物トラップ４２が収納されている。
【００２３】
Ｆ2レーザ１のパワーを減衰させたり光路空間２１内部の光学部品を汚損したりする不純物のうち、酸素及び水蒸気はＯリング２５を透過することがあり、このような不純物を含んだ空気がＯリング２５に触れないようにする必要がある。そのため、不純物トラップ４２としては、１）酸素を吸着するジルコニア系合金やニッケル系触媒、２）水蒸気を吸着するゼオライト（例えばモレキュラーシーブ）等が有効である。
即ち、酸素又は水蒸気のうち、少なくともいずれか１種類を吸着する不純物トラップ４２を、Ｏリング溝２４より外気側に設けたトラップ収納溝４１の内部に収納する。これにより、Ｏリング溝２４内のＯリング２５に触れる空気中に含まれる不純物が、吸着されて除去される。従って、不純物がＯリング２５に触れることが少なくなり、Ｏリング２５を透過して光路空間２１内部に混入する不純物の量が少なくなる。
尚、酸素及び水蒸気の双方を除去するように、少なくとも２種類以上の不純物トラップ４２，４２をトラップ収納溝４１の内部に収納するのが望ましい。
【００２４】
図３に、Ｏリングに触れる不純物を減少させる手段の他の例として、図１のＰ部詳細断面図を示す。同図に示すように、Ｏリング溝２４の外周部には、第２のＯリング溝４５が全周にわたって設けられ、その内部には第２のＯリング４６が嵌挿されている。これにより、Ｏリング２５と第２のＯリング４６との間に閉じ込められた空気のみが、Ｏリング２５に触れることになる。従って、不純物がＯリング２５に触れることが少なくなり、Ｏリング２５を透過して光路空間２１内部に混入する不純物の量が少なくなる。
【００２５】
図４に、Ｏリング溝２４近傍のトラップ収納溝４１の他の例として、図１のＰ部詳細断面図を示す。同図に示すように、Ｏリング溝２４の外周部には、不純物トラップ４２を収納したトラップ収納溝４１が設けられている。そして、このトラップ収納溝４１の外周部には、第２のＯリング溝４５が全周に設けられ、その内部には第２のＯリング４６が嵌挿されている。
このように、不純物トラップ４２の外周側を第２のＯリング４６で封止しているので、不純物トラップ４２が、Ｏリング２５と第２のＯリング４６との間に閉じ込められた空気から不純物を吸着すれば、新たに不純物を含んだ空気がＯリング２５に触れることがない。従って、不純物トラップ４２が除去しなければならない不純物の量が、第２のＯリング４６が存在しない場合に比べて少なく、不純物トラップ４２の不純物吸着能力が長期間にわたって保たれる。その結果、不純物トラップ４２を交換する等のメンテナンスの間隔を延ばすことが可能となる。
【００２６】
図５に、図１のＱ部詳細断面図を示す。同図において、カバー２２の外周面上には、Ｏリング溝２４が全周にわたって設けられ、その内部にはＯリング２５が嵌挿されている。そして、Ｏリング溝２４の外気側（図中右側）には、トラップ収納溝４１が全周にわたって設けられ、その内部には不純物トラップ４２が収納されている。
このように、カバー２２とウィンドウホルダ６との接続部に設けられたＯリング溝２４の外気側にも、不純物を除去する不純物トラップ４２を備えており、ここから光路空間２１に不純物が混入するのを防止している。
【００２７】
さらには、このような不純物トラップ４２の配置は、カバー２２，２２と、狭帯域化ボックス１４及びウィンドウホルダ６との接続部をそれぞれ密封するＯリング２５，２５の外気側のみに限られるものではない。即ち、光路カバー１３，１４，２２を封止する、図示しない他のＯリングに関しても同様に、その外気側に不純物トラップ４２を配置するのがよい。これにより、光路空間２１への不純物の混入が防止されるので、不純物によるパワーの減衰や光学部品の汚損が起きにくく、真空紫外レーザを長期にわたって安定に稼働させることが可能である。
【００２８】
また、図１において、光路空間２１には、窒素（Ｎ2）等の不活性ガスが充填されたパージボンベ２６と、パージバルブ２７と、パージ配管３０とを有するパージ手段が、パージ口３９を介して接続されている。
このパージ配管３０のパージ口３９近傍には、不純物を除去するトラップ装置４７が接続されている。不活性ガスは、このトラップ装置４７を通過して光路空間２１内に導入されるので、不純物が除去された清浄な不活性ガスをパージできる。
【００２９】
上述したように、酸素、水蒸気又は有機物等の不純物が光路空間２１に混入すると、パワー減衰や光学部品の汚損の原因となる。そのため、トラップ装置４７としては、上記の１）酸素を吸着するジルコニア系合金やニッケル系触媒、２）水蒸気を吸着するゼオライトに加え、３）有機物を吸着する活性炭等の不純物トラップ４２を密閉容器内に収納したものが有効である。
また、これらのトラップ装置４７に加え、水蒸気を除去するトラップ装置として、４）低温トラップ装置も有効である。低温トラップ装置は液体窒素等で冷却する低温槽を備えており、特に水蒸気を凍らせて効率的に吸着することができる。また、低温槽の温度を上げることにより、吸着した水蒸気を外気に排出することができるので、長期間にわたって水蒸気の吸着能力を保つことが可能である。
【００３０】
これらのトラップ装置４７のうち、少なくともいずれか１種類をパージ配管３０に接続することにより、パージ配管３０やパージボンベ２６中の不活性ガスに含まれる不純物が、光路空間２１の内部に混入するのを防止できる。尚、酸素、水蒸気及び有機物をすべて除去できるように、上記１）〜３）の不純物トラップ４２を同一の密閉容器内に収納するか、又は酸素、水蒸気及び有機物をそれぞれ除去可能な各トラップ装置４７を直列に接続するのが最も好ましい。
【００３１】
以上説明したように、光路カバー（本実施形態によれば、波長ボックス１３、狭帯域化ボックス１４、及びカバー２２）で覆われた光路空間２１は、Ｏリング２５で密封されている。そして、本実施形態によれば、このＯリング２５が嵌挿されたＯリング溝２４の外気側にトラップ収納溝４１を設け、このトラップ収納溝４１の内部に空気中の不純物（実施形態によれば、酸素又は水蒸気の少なくともいずれか１つ）を除去する不純物トラップ４２（実施形態によれば、ジルコニア系合金、ニッケル系触媒、又はゼオライト）を収納している。
これにより、Ｏリング２５に接触する空気から酸素又は水蒸気を除去しているので、これらがＯリング２５を透過して光路空間２１の内部に混入することが少ない。従って、不純物によるパワーの減衰や光路空間２１内の光学部品の汚損が起きにくい。
さらに、酸素及び水蒸気の双方を吸着する不純物トラップ４２，４２を、不純物収納溝４１の内部に収納しているので、パワーの減衰や光学部品の汚損を招く不純物が光路空間２１内に殆んど混入せず、真空紫外レーザを長期にわたって安定に稼働させることができる。
【００３２】
また、Ｏリング２５，４６を二重にしているので、Ｏリング２５と第２のＯリング４６との間に閉じ込められた空気のみが、Ｏリング２５に触れることになり、Ｏリング２５に触れる不純物の量が少なくなる。従って、Ｏリング２５を透過する不純物が少なくなり、光路空間２１内に不純物が混入するのを防止することができる。
【００３３】
また、Ｏリング２５，４６を二重にして、その間に不純物トラップ４２を配置しているので、Ｏリング２５と第２のＯリング４６との間に閉じ込められた空気のみが、Ｏリング２５に触れることになる。不純物トラップ４２は、この閉じ込められた空気から不純物を吸着すれば、新たに不純物を含んだ空気がＯリング２５に触れることがない。従って、除去しなければならない不純物の量が、第２のＯリング４６が存在しない場合に比べて少なく、不純物トラップ４２が、長期間にわたって不純物吸着能力を保つことが可能である。その結果、不純物トラップ４２を交換する必要がなく、メンテナンス間隔を延ばすことが可能となる。
【００３４】
また、トラップ装置４７により、光路空間２１内にパージする不活性ガスから、不純物を除去している。これにより、パージ配管３０の内部に付着したり、パージボンベ２６に混入したりしている不純物が、光路空間２１内に混入することが少なくなる。従って、不純物によるパワーの減衰や光学部品の汚損が起きにくく、真空紫外レーザを長期にわたって、安定に稼働させることが可能である。
また、パージボンベ２６中の不活性ガスの純度を上げることなしに、清浄な不活性ガスを光路空間２１内に導入可能であり、パージ時の不活性ガスの消費コストが低減される。
さらには、トラップ装置４７をパージ口３９近傍に配置しているので、トラップ装置４７と光路空間２１との距離が短い。そのため、トラップ装置４７と光路空間２１との間のパージ配管３０中に付着している不純物が少なく、この不純物が光路空間２１内に混入する量を少なくすることができる。
【００３５】
また、レーザ光１１のパワーの減衰や光学部品の汚損の原因として最も大きな影響を及ぼす不純物である、酸素、水蒸気、又は有機物の少なくともいずれか１つを不活性ガスから除去するようにしている。これにより、パワーの減衰や光学部品の汚損を効率的に防止できる。さらに、これらの不純物すべてを除去することにより、真空紫外レーザを長期にわたって安定に稼働させることが可能である。
尚、以上の説明では、不純物トラップ４２を収納するトラップ収納部として、トラップ収納溝４１を例にとって説明したが、このようなトラップ収納部は、必ずしも溝の形状を有している必要はない。また、トラップ収納部が、Ｏリング２５の外気側を全周にわたって取り巻いている必要はない。
【００３６】
次に、第２実施形態を説明する。第２実施形態に係るＦ2レーザ１の外観は、図７に示したものと同様であり、重複する説明は省略する。
【００３７】
第２実施形態では、図７に示したＦ2レーザ１において、光路空間２１を密封するためのＯリング２５に代えて、光路カバー１３，１４，２２に設けられたＯリング溝２４の内部に金属ガスケット４３を嵌挿している。図６に、図１におけるＰ部と略同一箇所の詳細断面図を示す。金属ガスケット４３は、例えばアルミニウムや銅等の軟らかな金属で構成されている。同図に示すように、この金属ガスケット４３を、Ｏリング溝２４と狭帯域化ボックス１４の側面との間で圧迫することによって潰し、光路空間２１を密封している。
【００３８】
即ち、本実施形態によれば、光路空間２１を覆う光路カバー１３，１４，２２を、金属ガスケット４３で密封している。この金属ガスケット４３は、酸素、水蒸気、或いは有機物等の不純物を透過することが少ないので、光路空間２１にこれらの不純物が混入することが少ない。従って、不純物によるパワーの減衰や光学部品の汚損が起きにくく、真空紫外レーザを長期にわたって、安定に稼働させることが可能である。
【００３９】
以上説明したように、本発明によれば、光路空間２１を覆う光路カバー１３，１４，２２を密封するＯリング２５に、空気中の不純物が触れるのを防止している。これにより、Ｏリング２５を空気中の不純物が透過することが少なくなるため、光路空間２１内への不純物の混入を防止できる。従って、レーザ光１１のパワーの減衰が少なく、また、光路空間２１内の光学部品の汚損も少ない。
また、光路空間２１をパージするパージ配管３０の途中にトラップ装置４７を設け、不活性ガス中の不純物を除去している。これにより、常に清浄な不活性ガスが光路空間２１にパージされるので、光路空間２１内の不純物を減少させることができる。従って、レーザ光１１のパワーの減衰が少なく、また、光路空間２１内の光学部品の汚損も少ない。
【００４０】
また、光路空間２１を覆う光路カバー１３，１４，２２を、金属ガスケット４３で密封しているので、不純物がこの金属ガスケット４３を透過することが少なく、光路空間２１に混入する量も少ない。従って、レーザ光１１のパワーの減衰が少なく、また、光路空間２１内の光学部品の汚損も少ない。
【００４１】
尚、各実施形態では、真空紫外レーザとしてグレーティング３３によって狭帯域化されたＦ2レーザを例にとって説明したが、狭帯域化のための波長選択素子は、グレーティング３３に限らず、例えばエタロンや分散プリズムでもよい。さらに、狭帯域化されたレーザに限られるものではなく、狭帯域化ユニット１０に代えてリアミラー等を配置してもよい。
また、本発明はＦ2レーザに限らず、前述したＡｒＦエキシマレーザ等の真空紫外光を発振する真空紫外レーザすべてにおいて適用可能である。即ち、放電以外の手段（例えばレーザビーム等）によって励起されるガスレーザや、ガスレーザ以外の真空紫外レーザに対しても適用可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１実施形態に係るＦ2レーザの構成断面図。
【図２】図１のＰ部詳細断面図。
【図３】図１のＰ部詳細断面図。
【図４】図１のＰ部詳細断面図。
【図５】図１のＱ部詳細断面図。
【図６】第２実施形態に係る金属ガスケットの詳細断面図。
【図７】従来技術に係るＦ2レーザの構成断面図。
【符号の説明】
１：Ｆ2レーザ、２：レーザチャンバ、３：波長測定装置、４：レーザコントローラ、５，５：放電電極、６：ウィンドウホルダ、７：フロントウィンドウ、８：フロントミラー、９：リアウィンドウ、１０：狭帯域化ユニット、１１Ａ：サンプル光、１１：レーザ光、１２：ビームスプリッタ、１３：波長ボックス、１４：狭帯域化ボックス、１５：加工機、２１：光路空間、２２：カバー、２３：パージコントローラ、２４：Ｏリング溝、２５：Ｏリング、２６：パージボンベ、２８：真空ポンプ、２９：真空バルブ、３０：パージ配管、３１：真空配管、３２：プリズム、３３：グレーティング、３４：ビームスプリッタ、３５：パワー検出器、３６：波長検出器、４１：トラップ収納溝、４２：不純物トラップ、４３：金属ガスケット、４５：第２のＯリング溝、４６：第２のＯリング、４７：トラップ装置。
【図１】
0004007708.tif 000002
【図２】
0004007708.tif 000003
【図３】
0004007708.tif 000004
【図４】
0004007708.tif 000005
【図５】
0004007708.tif 000006
【図６】
0004007708.tif 000007
【図７】
0004007708.tif 000008