(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中心に開口を有したディスク状の磁気記録媒体が載荷されるターンテーブルと、
前記ターンテーブルを回転させる回転駆動軸と、
前記ターンテーブル上の前記磁気記録媒体に重ね合されるマスクと、
前記マスクを通して前記磁気記録媒体にエネルギー線を照射するエネルギー線照射装置と、
前記磁気記録媒体に磁化パターン形成用の磁界を印加するための磁界発生装置とを有する磁気記録媒体の磁化パターン形成装置であって、
前記磁気記録媒体を負圧により前記ターンテーブルに固定する磁気記録媒体固定機構と、
前記マスクを負圧により前記ターンテーブルに固定するマスク固定機構とを備えており、
さらに、前記ターンテーブルの中央部に、前記磁気記録媒体の中心開口に内嵌するハブが設けられ、
前記ハブの上端外周縁は、下方ほど拡径するテーパ面となっており、前記磁気記録媒体の中心開口の下縁が前記テーパ面に当接することにより前記磁気記録媒体が前記ターンテーブルと同軸配置され、
前記マスクの中心部にマスク保持部材が固着されており、
前記ハブは、前記マスク保持部材を受け入れる受入穴を備えており、
前記受入穴内に負圧を導入して前記マスクを回転駆動軸に固定するための負圧通路が前記回転駆動軸に設けられており、
前記ターンテーブルの上面の外周側は内周側よりも高位となっていることを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成装置。
【請求項２】
請求項１において、前記ハブは上下動可能に設置されており、且つ付勢部材によって上方に付勢されていることを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成装置。
【請求項３】
請求項１又は２において、前記ターンテーブルの上面の内周側と外周側とが高位とされ、前記内周側と前記外周側との間が低位とされ、
前記内周側及び前記外周側の上面に臨むように前記磁気記録媒体の吸引用の負圧開口が設けられていることを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成装置。
【請求項４】
請求項１又は２において、前記ターンテーブルの上面の内周側と外周側との間が凹所とされ、
前記磁気記録媒体の固定機構として、前記凹所に臨むように前記磁気記録媒体の吸引用の負圧開口が設けられていることを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれか１項の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置により前記磁気記録媒体に磁化パターンを形成する方法であって、
前記磁気記録媒体固定機構に負圧を供給することにより、前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルに固定するステップと、
前記マスク固定機構に負圧を供給することにより前記マスクを前記ターンテーブルに固定すると共に、前記磁気記録媒体固定機構への負圧供給を停止し、前記マスクを介して前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルに固定するステップと、
前記磁界発生装置で前記磁気記録媒体に磁界を印加すると共に、前記磁気記録媒体の所定領域にエネルギー線を照射し、前記磁気記録媒体に磁化パターンを形成するステップとを備えたことを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。
【請求項６】
請求項５において、前記磁気記録媒体に前記磁化パターンを形成した後、前記磁気記録媒体固定機構に負圧を供給して前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルに固定するステップと、
前記マスク固定機構への負圧供給を停止して前記マスクを前記ターンテーブルから離反させるステップと、
前記磁気記録媒体固定機構への負圧供給を停止して前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルから離反させるステップとを備えたことを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。
【請求項７】
請求項１の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置により前記磁気記録媒体に磁化パターンを形成する方法であって、
前記磁気記録媒体固定機構に負圧を供給することにより、前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルに固定するステップと、
前記磁気記録媒体固定機構への負圧供給を継続した状態にて、前記マスク固定機構に負圧を供給することにより前記マスクを前記ターンテーブルに固定するステップと、
前記磁界発生装置で前記磁気記録媒体に磁界を印加すると共に、前記磁気記録媒体の所定領域にエネルギー線を照射し、前記磁気記録媒体に磁化パターンを形成するステップとを備えたことを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。
【請求項８】
請求項７において、前記磁気記録媒体に前記磁化パターンを形成した後、前記マスク固定機構への負圧供給を停止して前記マスクを前記ターンテーブルから離反させるステップと、
前記磁気記録媒体固定機構への負圧供給を停止して前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルから離反させるステップとを備えたことを特徴とする磁気記録媒体の磁化パターン形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスク状の磁気記録媒体の磁化パターン形成方法及び装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
磁気ディスク装置（ハードディスクドライブ）に代表される磁気記録装置はコンピュータなどの情報処理装置の外部記憶装置として広く用いられ、近年は動画像の録画装置やセットトップボックスのための記録装置としても使用されつつある。
【０００３】
一般に、磁気ディスクの各トラックには、磁気ヘッドを制御するための制御用磁化パターン、例えば磁気ヘッドの位置制御に用いる信号や同期制御に用いる信号が形成されている。この情報記録トラックの間隔を狭めてトラック数を増加させるためには、データ記録／再生用ヘッドの位置制御に用いる信号（以下、「サーボ信号」と言うことがある。）もそれに合わせてディスクの半径方向に対して密に、すなわちより多く設け、磁気ヘッドを精密に制御する必要がある。
【０００４】
また、データ記録に用いる以外の領域、即ちサーボ信号に用いる領域や該サーボ領域とデータ記録領域の間のギャップ部を小さくしてデータ記録領域を広くし、データ記録容量を上げる場合にも、サーボ信号の出力を上げたり同期信号の精度を上げる必要がある。
【０００５】
従来、磁気記録媒体のサーボ信号パターンの形成方法として、ドライブ（磁気記録装置）のヘッドアクチュエータ近傍に穴を開け、その部分にエンコーダ付きピンを挿入し、該ピンにアクチュエータを係合させ、ヘッドを正確な位置に駆動してサーボ信号を記録する方法がある。しかしながら、位置決め機構とアクチュエータの重心が異なる位置にあるため、この方法では高精度のトラック位置制御ができず、サーボ信号を正確に記録するのが困難であった。
【０００６】
一方、レーザビームを磁気ディスクに照射してディスク表面を局所的に変形させ物理的な凹凸を形成することにより凹凸サーボ信号を形成する方法も提案されている。しかしながら、この方法には、凹凸により浮上ヘッドが不安定となり記録再生に悪影響を及ぼす；凹凸を形成するために大きなパワーをもつレーザビームを用いる必要がありコストがかかる；凹凸を１ずつ形成するために時間がかかる；といった問題があった。
【０００７】
別のサーボ信号形成法として、媒体を予め一方向に磁化しておき、マスターディスクに高透磁率で低保磁力の軟磁性層をパターニングし、マスターディスクを媒体に密着させるとともに外部磁界をかける磁気転写方法がある。この軟磁性層がシールドとして働き、シールドされていない領域に磁化パターンが転写される。この磁気転写法では、マスターディスクを用い、強力な磁界によって磁化パターンを媒体に形成している。
【０００８】
さらに別の磁化パターン形成方法として、局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気記媒体に磁化パターンを形成する加熱磁気転写法がある。この方法では、例えば、媒体を予め一方向に磁化しておき、パターニングされたマスクを介してエネルギー線等を照射し局所的に加熱し、該加熱領域の保磁力を下げつつ外部磁界を印加し、加熱領域に外部磁界による記録を行い、磁化パターンを形成する。このマスクは、ディスク状磁気記録媒体とマスクとの間を真空吸引することにより磁気記録媒体に蒸着して固定される。
【０００９】
［先行技術］
本願出願人は、特願２００１−１５９２２０号にて、改良された磁気記録媒体の磁化パターン形成装置及び形成方法を提案している。次に、この磁気記録媒体の磁化パターン形成装置及び形成方法について説明する。
【００１０】
第６図はこの特願２００１−１５９２２０号に係る磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の縦断面図、第７図は第６図の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の上部の拡大図、第８図は磁気記録媒体及びマスクを装着した状態の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の上部の拡大図、第９図はこの磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の上部の模式的な斜視図である。
【００１１】
磁気記録媒体６０１は、中心孔６０１ａを有したディスク状のものである。磁気記録媒体の磁化パターン形成装置は、この磁気記録媒体６０１を載荷するためのターンテーブル６１０と、該ターンテーブル６１０を回転駆動するための回転駆動軸６１２と、該ターンテーブル６１０に磁気記録媒体６０１を固定するための固定片６１４と、該固定片６１４を拡開させる拡開機構と、磁気記録媒体６０１に重なるマスク６１６と、磁気記録媒体６０１に磁界を印加させる磁界印加装置としてのマグネット６１８と、磁気記録媒体６０１にエネルギー線を照射する照射装置（図示略）とを有する。
【００１２】
ターンテーブル６１０の上面には、その内周側と外周側とにそれぞれ凸段部６１０ａ，６１０ｂが設けられており、磁気記録媒体６０１はこの凸段部６１０ａ，６１０ｂにのみ接触する。即ち、凸段部６１０ａ，６１０ｂ間の凹所６１０ｃは磁気記録媒体６０１に接触しない。６１０ｄはターンテーブル６１０を上下に貫通する孔を示す。
【００１３】
第９図の如く、ターンテーブル６１０上に外部磁界によって予め周方向に一様に磁化された磁気記録媒体６０１を載荷して固定片６１４によって固定した後、該磁気記録媒体６０１にマスク６１６を重ね合わせる。ターンテーブル６１０を所定角度ずつ間欠的に回転させつつ、マグネット６１８によって上記外部磁界とは逆方向の磁界を磁気記録媒体６０１に印加すると共にエネルギー線照射領域Ｅにエネルギー線を照射し、磁気記録媒体６０１に磁化パターンを形成する。この所定角度は、例えば３°〜４５°程度に設定される。
【００１４】
例えば、１５°ずつターンテーブル６１０を回転させた後停止することを繰り返し、停止時にこの１５°分の領域Ｅにエネルギー線を照射する。
【００１５】
ターンテーブル６１０の下面中央部からは、筒状のボス部６２０が下方に突設され、このボス部６２０が回転駆動軸６１２の上端に固着されている。回転駆動軸６１２は、その最外周を構成する筒状のスピンドル６２２と、該スピンドル６２２内の上部に内嵌した軸継手６２４と、該スピンドル６２２及び軸継手６２４を上下方向に貫通したパイプ状のシャフト６２６とを有する。このパイプ状のシャフト６２６の内孔が負圧導入路６２６ａとなっている。
【００１６】
軸継手６２４の上部の外周面及びスピンドル６２２の上部内周面は上方ほど拡径するテーパ状となっており、両テーパ面が密着し、両者が正確に同軸に接続されている。そして、スピンドル６２２に径方向に螺着したボルト６２８（第６図）によって両者が固定されている。
【００１７】
この軸継手６２４の上部に前記ボス部６２０が外嵌し、ボルト（図示略）によって固定されている。シャフト６２６の上部外周面に雄ねじが刻設され、この雄ねじにカップ形状の進退部材６３４の中心孔が螺着され、ナット６３６によって固定されている。
【００１８】
この進退部材６３４は、マスク６１６の後述する凸軸部６８６を受け入れる空室６３８を有している。この空室６３８の入口部には、内周面が上方ほど拡径するテーパ面となった内向き鍔部６４０が設けられている。この内向き鍔部６４０よりも上側は、マスク６１６の後述するフランジ６８２の受入用凹陥部６４１となっている。
【００１９】
この進退部材６３４の上端部の外周面は、上方ほど拡径するテーパ面６３４ｔとなっている。このテーパ面６３４ｔは、該進退部材６３４が下降したときに前述の固定片６１４のテーパ面６１４ｔと重なり合い、該固定片６１４の上部を拡開させる。
【００２０】
この固定片６１４は、ターンテーブル６１０のボス部６２０の内周面と進退部材６３４の外周面との間に配置されている。この固定片６１４は、少なくともその上部に上下方向に複数のスリ割りを有し、拡径変形可能となっている。固定片６１４の上部内周面は前記の通り上方ほど拡径するテーパ面６１４ｔとなっている。固定片６１４の上部の外周は、外方に突出した鍔状となっている。この固定片６１４の上部外周とターンテーブル６１０との間には、固定片６１４の拡径を許容するクリアランスがあいている。固定片６１４の上端部は、ターンテーブル６１０の上面から、磁気記録媒体６０１の１枚分の厚さだけ上方に突出している。
【００２１】
進退部材６３４は、この固定片６１４の内周面に沿って上下方向に摺動可能とされている。この進退部材６３４に連結された前記シャフト６２６は、スピンドル６２２を貫通し、該スピンドル６２２の下端から下方に突出している。
【００２２】
このシャフト６２６の下端近傍にフランジ６４６が固定されていると共に、スピンドル６２２の下端面にフランジ６４８が固着されている。これらのフランジ６４６，６４８間に圧縮コイルスプリングよりなる押下スプリング６５０が介在されており、シャフト６２６は常に下方に押圧されている。
【００２３】
シャフト６２６の下端は接続フランジ６５２に摺動自在に挿入されている。このフランジ６５２には、該シャフト６２６の内孔よりなる負圧導入路６２６ａに負圧を伝達するための配管継手６５４が固着されている。このフランジ６５２には、また、連結部材６５６を介してエアシリンダ６５８のピストンロッド６５８ａが連結されている。このピストンロッド６５８ａは鉛直上方に延出しており、該エアシリンダ６５８がピストン突出動作すると、シャフト６２６が上方に押し上げられる。エアシリンダ６５８がピストン後退動作すると、押下スプリング６５０の押圧力にも助勢されてシャフト６２６が引き下げられる。
【００２４】
このシャフト６２６の上下動により、該シャフト６２６に固着された進退部材６３４も一体に上下動する。なお、進退部材６３４の固定用のナット６３６と前記軸継手６２４との間には、圧縮コイルスプリングよりなる押圧スプリング６６０が介在されている。これにより、進退部材６３４には常に上向きの押圧力が加えられている。
【００２５】
該シャフト６２６が内挿された前記スピンドル６２２は、ベアリング６６２，６６４を介して軸保持部材６６６に回転自在に支持されている。スピンドル６２２の下部にはプーリ６６８が固着されており、ベルト及び原動機（いずれも図示略）を介して該スピンドル６２２を含む回転駆動軸６１２が回転可能とされている。
【００２６】
軸保持部材６６６に対しブラケット６７０，６７２を介して前記エアシリンダ６５８が連結されている。
【００２７】
この軸保持部材６６６は、図示しない昇降装置に取り付けられており、ターンテーブル６１０、回転駆動軸６１２、エアシリンダ６５８を含めて第６図の機構が全体として昇降可能となっている。
【００２８】
前記マスク６１６は、ディスク状のマスク本体６７６と、該マスク本体６７６の中心部を保持するマスク保持部材６７８とを有する。このマスク保持部材６７８は、ナット６８４で狭圧された１対のフランジ６８０，６８２間にてマスク本体６７６の中心孔の縁部を挟持している。このマスク保持部材６７８の下面中央からは凸軸部６８６が下方に突設されている。このマスク６１６は、ターンテーブル６１０の上方に配置され、クランプ装置によって支持されている。
【００２９】
このように構成された磁気記録媒体の磁化パターン形成装置を用いて磁気記録媒体６０１を磁化する方法について次に説明する。
【００３０】
磁気記録媒体６０１は、外部磁界により予め周方向の一方向に均一に磁化されている。この磁気記録媒体６０１を搬送コンベヤ（図示略）によってターンテーブル６１０の上方に搬入する。次いで、昇降装置によって軸保持部材６６６が上昇され、第６図に示す機構全体が上方移動する。この上方移動の途中でターンテーブル６１０の上面に磁気記録媒体６０１が載る。
【００３１】
そこで、エアシリンダ６５８にロッド６５８ａの後退動作を行わせると、シャフト６２６がスピンドル６２２に対し相対的に下方に押し下げられる。そして、進退部材６３４が下方移動し、テーパ面６３４ｔが固定片６１４のテーパ面６１４ｔを押圧し、固定片６１４の上部が拡開する。これにより、磁気記録媒体６０１の中心孔６０１ａに固定片６１４が押し付けられ、磁気記録媒体６０１が固定片６１４を介してターンテーブル６１０に固定される。
【００３２】
この間にも第６図の機構全体が上昇し、やがて磁気記録媒体６０１がマスク本体６７６の下面に重なり合うと共に、凸軸部６８６が空室６３８に入り込む。そこで、マスククランプ装置をアンクランプとすると共に、配管継手６５４を介してシャフト６２６内の負圧導入路６２６ａに負圧を導入する。そうすると、進退部材６３４の空室６３８内に導入された負圧によってマスク６１６の凸軸部６８６が吸引され、マスク６１６が進退部材６３４に吸着され、第８図の状態となる。
【００３３】
また、これと併せて、ターンテーブル６１０の下側にマグネット６１８ｃ，６１８ｄ（６１８ｃは図示略）が進出する。
【００３４】
そして、ターンテーブル６１０を回転させながらマグネット６１８ａ，６１８ｂ間及びマグネット６１８ｃ，６１８ｄ間に磁界を発生させると共に、マグネット６１８ａ，６１８ｃ間のエネルギー線照射領域にレーザビーム等のエネルギー線を照射して加熱し、磁気記録媒体６０１に磁化パターンを形成する。
【００３５】
磁化パターンを形成した後は、ターンテーブル６１０を停止し、負圧導入路６２６ａへの負圧導入を停止する。また、ターンテーブル６１０の下側のマグネット６１８ｃ，６１８ｄを退避させた後、マスク６１６をクランプ装置でクランプする。そして、エアシリンダ６５８のロッド６５８ａを後退させ、固定片６１４による磁気記録媒体６０１の固定を解除する。次いで、昇降装置により第６図に示す機構の全体を下降させ、この途中で磁気記録媒体６０１をコンベヤ（図示略）に明け渡す。パターンを形成した磁気記録媒体を搬出した後、入れ替りにパターン未形成の磁気記録媒体６０１をターンテーブル６０１の上方に搬入し、上記と同一の手順を行う。
【００３６】
【発明が解決しようとする課題】
▲１▼  前記従来の磁気転写法や加熱磁気転写法によって磁化パターンを形成した磁気記録媒体において、形成された磁化パターンと媒体中心に偏心があると、該磁気記録媒体が記録再生装置（ドライブ）に装着されたときに、偏心をキャンセルする特別な機構が必要になる。
【００３７】
特に、磁化パターンが記録再生ヘッドの位置決めに用いるサーボパターンである場合は、記録再生装置（ドライブ）に装着された状態で、その装置の回転機構の回転中心とサーボパターンの中心とにズレがあると、振動が起こったり、消費電力の増大につながる。また、サーボパターンとのズレが大きい場合は、データの読み書きができなくなってしまう。
【００３８】
通常の場合サーボパターン形成装置には多数のディスクを抜き差しするので、サーボパターン形成装置のスピンドルと媒体の貫通穴は公差が大きく作られており、従って５０μｍ程度のズレが生じる。
【００３９】
▲２▼  上記の通り、従来の加熱磁気転写方法においては、磁気記録媒体とマスクの間を真空吸着して両者を固定するので、ディスク状磁気記録媒体にたわみが生じやすく、媒体とマスクの間の距離（スペーシング）が不安定となり、回折の影響で部分的にパターン転写がうまく行えず、形成された磁化パターンの再生信号のモジュレーションが悪化する。
【００４０】
▲３▼  この対策として、ディスク状磁気記録媒体とマスクの内周と外周を保持部材で押さえて固定する方法が考えられる。しかし、磁化パターン形成領域にエネルギー線を照射するので、外周保持部材と内周保持部材は一体にしにくい。外周保持部材を内周保持部材から独立させた場合、該外周保持部材のみを高精度で芯出しするのは困難であり、磁気記録媒体の外周では精密に位置決めできない。また、ディスク状磁気記録媒体の最内周、最外周には、これらの保持部材が存在するためのパターン形成できず、従って記録領域が制限されてしまい、容量を大きくできない。
【００４１】
▲４▼  なお、磁気記録媒体に外部磁界を印加し、及び／又は、該マスクを介してエネルギー線を照射し該磁性層を局所的に加熱して磁化パターンを形成する方法の一つの態様では、高保磁力の磁性層を持つマスターディスクにサーボパターンを形成し、マスターディスクを磁気記録媒体に密着させるとともに、外部から補助磁界をかけて磁化パターンを転写する。この磁気転写方法は米国特許ＵＳＰ５，９９１，１０４号に記載されている。
【００４２】
この磁化パターン形成方法の他の一つの態様では、媒体を予め一方向に磁化しておき、マスターディスクに高透磁率で低保磁力の軟磁性層をパターニングし、マスターディスクを媒体に密着させるとともに外部磁界をかける。軟磁性層がシールドとして働き、シールドされていない領域に磁化パターンが転写される。この磁気転写方法は、特開昭５０−６０２１２号公報（ＵＳＰ３、８６９、７１１号、特開平１０−４０５４４号公報（ＥＰ９１５４５６号）、Digest of InterMag 2000,GP-06、に記載されている。この磁気転写法によると、マスターディスクを用い、強力な磁界によって磁化パターンを媒体に形成することができる。
【００４３】
一般に磁界の強度は距離に依存するので、磁界によって磁化パターンを記録する際には、漏れ磁界によってパターン境界が不明瞭になりやすい。そこで、漏れ磁界を最小にするためにマスターディスクと媒体を密着させることが不可欠である。そしてパターンが微細になるほど、隙間なく完全に密着させる必要があり、通常、両者は真空吸着などにより圧着される。
【００４４】
また、媒体の保磁力が高くなるほど転写に用いる磁界も大きくなり、漏れ磁界も大きくなるため、更に完全に密着させる必要がある。
【００４５】
従って上記の磁気転写方法は、保磁力の低い磁気ディスクや圧着しやすい可撓性のフロッピーディスクには適用しやすいが、硬質基板を用いた、高密度記録用の保磁力が３０００Ｏｅ以上もあるような磁気ディスクへの適用が非常に難しい。
【００４６】
即ち、硬質基板の磁気ディスクは、密着の際に微小なゴミ等を挟み込み媒体に欠陥が生じたり、或いは高価なマスターディスクを痛めてしまう恐れがあった。特にガラス基板の場合、ゴミの挟み込みで密着が不十分になり磁気転写できなかったり、磁気記録媒体にクラックが発生したりするという問題があった。
【００４７】
また、特開昭５０−６０２１２号に記載されたような技術では、ディスクのトラック方向に対して斜めの角度を有したパターンは、記録は可能であるが信号強度の弱いパターンしか作れないという問題があった。保磁力が２０００〜２５００Ｏｅ以上の高保磁力の磁気記録媒体に対しては、転写の磁界強度を確保するために、マスターディスクのパターン用強磁性体（シールド材）は、パーマロイあるいはセンダスト等の飽和磁束密度の大きい軟磁性体を使わざるを得ない。
【００４８】
しかし、斜めのパターンでは、磁化反転の磁界はマスターディスクの強磁性層が作るギャップに垂直方向となってしまい所望の方向に磁化を傾けることができない。その結果、磁界の一部が強磁性層に逃げてしまい磁気転写の際に所望の部位に十分な磁界がかかりにくく、十分な磁化反転パターンを形成できず高い信号強度が得にくくなってしまう。こうした斜めの磁化パターンは、再生出力が、トラックに垂直のパターンに対してアジマスロス以上に大きく減ってしまう。
【００４９】
▲５▼  上記▲３▼のようにして、ディスク状磁気記録媒体とマスクとを固定する際に、保持部材の代りに負圧チャック方式を採用し、磁気記録媒体及びマスクの着脱を迅速化することが検討されている。
【００５０】
この場合、マスク及び磁気記録媒体の取り出し（リリース）を行うときには、マスクを固定するための負圧をブレークしてマスクをリリースし、次いで磁気記録媒体をリリースすることになるが、マスクと磁気記録媒体との間に負圧が残留し、磁気記録媒体がマスクにくっついたままマスクと共にリリースされてしまい、磁気記録媒体のみをリリースできなくなることがある。
【００５１】
これを防止するためにマスクと磁気記録媒体との間が十分に大気圧となるまで待機することが考えられるが、このようにすると生産効率が低下してしまう。
【００５２】
また、マスクと磁気記録媒体との間の負圧を急速にブレークするために空気を供給装置によって供給することが考えられるが、この空気供給装置によって空気を急激に供給した場合、マスク等に付着していた塵などの微粒子を巻き上げて磁気記録媒体に付着させ、磁気記録媒体に欠陥を生じさせるおそれがある。
【００５３】
▲６▼  上記第６図〜第９図に示す特願２００１−１５９２２０号の磁化パターン形成装置及び方法にあっては、磁気記録媒体の着脱時間の短縮になお若干の改善の余地があった。
【００５４】
本発明は、上記問題点を解決し、磁気記録媒体に磁化パターンを偏心なく、またきわめて効率よく形成することができる磁化パターン形成装置と、この装置を用いた磁化パターン形成方法を提供することを目的とする。
【００５５】
また、本発明は、上記した第６図〜第９図に示す特願２００１−１５９２２０号に比べてさらに磁気記録媒体の着脱を短時間で行うことができ、磁気記録媒体に磁化パターンを著しく効率よく形成することができる磁気記録媒体の磁化パターン形成装置及び形成方法を提供することを目的とする。
【００５６】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置は、中心に開口を有したディスク状の磁気記録媒体が載荷されるターンテーブルと、前記ターンテーブルを回転させる回転駆動軸と、前記ターンテーブル上の前記磁気記録媒体に重ね合されるマスクと、前記マスクを通して前記磁気記録媒体にエネルギー線を照射するエネルギー線照射装置と、前記磁気記録媒体に磁化パターン形成用の磁界を印加するための磁界発生装置とを有する磁気記録媒体の磁化パターン形成装置であって、前記磁気記録媒体を負圧により前記ターンテーブルに固定する磁気記録媒体固定機構と、前記マスクを負圧により前記ターンテーブルに固定するマスク固定機構とを備えており、さらに、前記ターンテーブルの中央部に、前記磁気記録媒体の中心開口に内嵌するハブが設けられ、前記ハブの上端外周縁は、下方ほど拡径するテーパ面となっており、前記磁気記録媒体の中心開口の下縁が前記テーパ面に当接することにより前記磁気記録媒体が前記ターンテーブルと同軸配置され、前記マスクの中心部にマスク保持部材が固着されており、前記ハブは、前記マスク保持部材を受け入れる受入穴を備えており、前記受入穴内に負圧を導入して前記マスクを回転駆動軸に固定するための負圧通路が前記回転駆動軸に設けられており、前記ターンテーブルの上面の外周側は内周側よりも高位となっていることを特徴とする。
本発明の第２の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置は、中心に開口を有したディスク状の磁気記録媒体が載荷されるターンテーブルと、前記ターンテーブルを回転させる回転駆動軸と、前記ターンテーブル上の前記磁気記録媒体に重ね合されるマスクと、前記マスクを通して前記磁気記録媒体にエネルギー線を照射するエネルギー線照射装置と、前記磁気記録媒体に磁化パターン形成用の磁界を印加するための磁界発生装置とを有する磁気記録媒体の磁化パターン形成装置であって、前記磁気記録媒体を負圧により前記ターンテーブルに固定する磁気記録媒体固定機構と、前記マスクを負圧により前記ターンテーブルに固定するマスク固定機構と、前記磁気記録媒体固定機構へ供給する負圧と前記マスク固定機構へ供給する負圧を切り替える負圧切替機構とを備えたことを特徴とする。
【００５７】
また、本発明の磁気記録媒体の磁化パターン形成方法は、かかる本発明装置を用い、磁気記録媒体に磁化パターンを形成する方法であって、前記磁気記録媒体固定機構に負圧を供給することにより、前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルに固定するステップと、前記マスク固定機構に負圧を供給することにより前記マスクを前記ターンテーブルに固定すると共に、前記磁気記録媒体固定機構への負圧供給を停止し、前記マスクを介して前記磁気記録媒体を前記ターンテーブルに固定するステップと、前記磁界発生装置で前記磁気記録媒体に磁界を印加すると共に、前記磁気記録媒体の所定領域にエネルギー線を照射し、前記磁気記録媒体に磁化パターンを形成するステップとを備えたことを特徴とする。
【００５８】
かかる本発明の第１の装置及びこれを用いた方法によると、磁気記録媒体及びマスクをいずれも位置決め部材によりターンテーブルと同軸に配置するので、磁化パターンを偏心なく形成することができる。
【００５９】
本発明では、磁気記録媒体及びマスクを負圧チャック方式にてターンテーブルに固定するので磁気記録媒体及びマスクの着脱が迅速化される。
【００６０】
本発明では、磁気記録媒体の固定機構とマスクの固定機構とを別個に設けているので、磁気記録媒体をターンテーブルに載荷した後、磁気記録媒体固定機構により磁気記録媒体をターンテーブルに固定し、この状態で磁気記録媒体上に重なるようにターンテーブル上にマスクを載せるようにすることにより、マスク載荷時にマスクが磁気記録媒体に当っても磁気記録媒体が位置ずれすることが防止される。
【００６１】
本発明の第２の装置は、前記磁気記録媒体固定機構へ供給する負圧と前記マスク固定機構へ供給する負圧を切り替える負圧切替機構とを備えている。また、本発明の方法の一態様では、このマスクを磁気記録媒体上に重ね、マスクをマスク固定機構によって、ターンテーブルに固定すると共に、磁気記録媒体用固定機構への負圧供給を停止し、磁気記録媒体の固定を解除し、マスクのみをマスク固定機構によってターンテーブルに固定し、前記マスクとターンテーブルとの間で磁気記録媒体を挟持して固定する。このようにすれば磁気記録媒体の固定機構とマスクの固定機構とに対し同一の負圧源からの負圧を切り替えて供給するように構成することが可能となり、負圧供給機構が簡易となる。また、マスクとターンテーブルとで磁気記録媒体を挟むようにした場合には、前記マスク及びターンテーブルのいずれも磁気記録媒体より剛性が高いので、磁気記録媒体に生じることがある反りを矯正することができる。これにより、磁気記録媒体とマスクとの間隔が均一になり、パターン転写が均一に行え、モジュレーションの良好な再生信号が得られる。
【００６２】
本発明の別の態様では、磁気記録媒体をターンテーブルに載せ、磁気記録媒体固定機構に負圧を供給し、磁気記録媒体をターンテーブルに固定する。そして、この磁気記録媒体固定機構への負圧供給を継続した状態にて、マスクを磁気記録媒体上に重ね、マスクをマスク固定機構によって、ターンテーブルに固定する。
【００６３】
かかる別態様によれば、マスク固定機構によって固定されたマスクが強く磁気記録媒体に押し重ねられることが解消される。このため、マスクと磁気記録媒体との間に微小異物が介在した場合であっても微小異物が磁気記録媒体に押し付けられることがなく、磁気記録媒体表面に圧痕等のデント（凹陥変形）が生じることが防止される。
【００６４】
即ち、先の一態様のように、磁気記録媒体をターンテーブルに載せ、磁気記録媒体固定機構によって固定した後マスクをマスク固定機構で固定し、その後、磁気記録媒体用固定機構への負圧供給を停止し、磁気記録媒体の固定を解除し、マスクのみをマスク固定機構によってターンテーブルに固定し、該マスクとターンテーブルとの間で磁気記録媒体を挟持して固定した場合には、マスク固定機構のシール性が不十分なときに、マスクと磁気記録媒体との間に負圧が漏れ込み、磁気記録媒体がマスク側に吸い付けられ、磁気記録媒体がマスクに接触するおそれがある。そして、この場合において、例えばマスクの下面に異物が付着していたときには、この異物がマスクによって磁気記録媒体に強く押し付けられ、磁気記録媒体表面にデントが生じることになる。マスク固定機構に負圧を供給するときに磁気記録媒体固定機構に負圧を供給したままにしておくと、磁気記録媒体がターンテーブルに引き付けられた状態となるので、マスクが磁気記録媒体に強く押し付けられるように重なり合うことがなく、マスクと磁気記録媒体との間に異物が介在していても磁気記録媒体にデントが生じることが防止されるので好ましい。
【００６５】
本発明では、磁気記録媒体の最内周と最外周とをターンテーブルで支持するのが好ましいが、磁化パターン形成領域では磁気記録媒体はターンテーブルと接触しないのが好ましい。これは、磁気記録媒体の磁化パターン形成領域を傷つけないためである。
【００６６】
このためには、ターンテーブルの上面（磁気記録媒体載荷面）の内周側と外周側とを高位とし、この高位の部分に吸引用の負圧開口を設け、磁気記録媒体は、その内周縁と外周縁のみが該高位の部分に当接してターンテーブルに保持される構成とすればよい。
【００６７】
なお、前記一態様に従って、磁気記録媒体の反りを矯正し保持する場合には、磁気記録媒体と当接する内周側及び外周側の高位の部分は平面度を２μｍ以内とするのが好ましい。即ち、高さの差の最大値を２μｍ以内とすることが好ましい。
【００６８】
また、磁気記録媒体の磁化パターン形成領域をターンテーブルと接触させないようにするためには、ターンテーブルの上面の内周側と外周側との間を凹所とし、この凹所に磁気記録媒体吸引用の負圧開口を設けてもよい。この場合も、磁気記録媒体はその内周縁と外周縁のみがターンテーブル内周側と外周側とに接して該ターンテーブルに保持される。
【００６９】
本発明の第１の装置では、磁気記録媒体をターンテーブルに同軸状に配置するための位置決め部材として、前記ターンテーブルの中央部に前記磁気記録媒体の中心開口に内嵌するハブが設けられ、前記ハブの上端外周縁は、下方ほど拡径するテーパ面となっており、前記磁気記録媒体の中心開口の下縁が該テーパ面に当接することにより磁気記録媒体がターンテーブルと同軸配置されており、本発明の第２の装置ではこの構成とすることが好ましく、特にハブは上下動可能に設置されており、且つ付勢部材によって上方に付勢されていることが好ましい。
【００７０】
この構成によれば、ハブのテーパ面に磁気記録媒体の中心開口の下縁が係合することにより、磁気記録媒体がターンテーブルに対し高精度にて同軸的に配置される。特にハブを上下動可能とし、付勢部材によって上方に付勢した構成とした場合には、ハブのテーパ面に磁気記録媒体の中心開口の下縁が係合した状態で磁気記録媒体の内周側がターンテーブル上面に重なり得るようになり、マスクの内周側とターンテーブルとの間で磁気記録媒体の内周側を隙間なく挟持することが可能となる。
【００７１】
本発明第１の装置では、マスクの中心部にマスク保持部材が固着されており、ハブは前記マスク保持部材を受け入れる受入穴を備えており、前記受入穴内に負圧を導入してマスクを回転駆動軸に固定するための負圧導入路が設けられている構成としており、本発明の第２の装置ではこの構成とすることが好ましい。かかる構成によれば、負圧導入路に負圧を導入することによりマスクをターンテーブルに容易に固定することができる。また、負圧導入路への負圧導入を停止することにより、マスクの固定解除も容易に行うことができる。
【００７２】
本発明では、マスクを介してエネルギー線を照射する局所加熱と外部磁界印加を組み合わせて磁気記録媒体に磁化パターンを形成する加熱磁気転写方法を採用する。例えば、媒体を予め一方向に磁化しておき、パターニングされたマスクを介してエネルギー線等を照射し局所的に加熱し、該加熱領域の保磁力を下げつつ外部磁界を印加し、加熱領域に外部磁界による記録を行い、磁化パターンを形成する。
【００７３】
この加熱磁気転写方法によれば、加熱により保磁力を下げて外部磁界を印加するので、外部磁界が媒体の保磁力より高い必要はなく、弱い磁界で記録できる。そして、記録される領域が加熱領域に限定され、加熱領域以外には磁界が印加されても記録されないので、媒体にマスク等を密着させなくても明瞭な磁化パターンが記録できる。このため圧着によって媒体やマスクを傷つけることなく、媒体の欠陥を増加させることもない。
【００７４】
また、この加熱磁気転写方法によると、マスターディスクの軟磁性体によって外部磁界をシールドする必要がないので、斜めの磁化パターンも良好に形成することができる。
【００７５】
本発明の磁化パターン形成方法は、サーボパターンの形成に適用するのに好適であるが、他の磁化パターンの形成にも適用できる。
【００７６】
本発明の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置及び形成方法によると、後述の実施例１及び比較例１から明らかな通り、特願２００１−１５９２２０号よりも磁気記録媒体の着脱を短時間で行うことができる。
【００７７】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して実施の形態について説明する。第１図は実施の形態（特に請求項２，４〜７の態様）に係る磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の縦断面図、第２図は第１図の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の上部の拡大図、第３図は磁気記録媒体及びマスクを装着した状態の磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の上部の拡大図、第４図はこの磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の上部の模式的な斜視図である。
【００７８】
磁気記録媒体１は、中心孔１ａを有したディスク状のものである。磁気記録媒体の磁化パターン形成装置は、この磁気記録媒体１を載荷するためのターンテーブル１０と、該ターンテーブル１０を回転駆動するための回転駆動軸１２と、該ターンテーブル１０に磁気記録媒体１を固定するための吸引口１４，１６と、磁気記録媒体１に重なるマスク５０と、磁気記録媒体１に磁界を印加させる磁界印加装置としてのマグネット６０（第４図）と、磁気記録媒体１にエネルギー線を照射する照射装置（図示略）とを有する。
【００７９】
ターンテーブル１０の上面には、その内周側１０ａと外周側１０ｂとがそれぞれ高位部となっており、磁気記録媒体１はこの内周側１０ａ及び外周側１０ｂにのみ接触する。即ち、内周側１０ａ及び外周側１０ｂ間の凹所１０ｃは磁気記録媒体１に接触しない。このため、磁気記録媒体１の磁化パターン形成領域に傷が付くことが防止される。なお、以下、この内周側１０ａを内周側高位部１０ａといい、外周側１０ｂを外周側高位部１０ｂということがある。
【００８０】
この内周側高位部１０ａに吸引口１４が設けられ、外周側高位部１０ｂに吸引口１６が設けられている。
【００８１】
これらの吸引口１４，１６はそれぞれターンテーブル１０と同心状の円環状凹溝として形成されている。これらの吸引口１４，１６は、ターンテーブル１０内に設けられた複数本の放射方向孔（負圧通路）１８によって連通されている。
【００８２】
この実施の形態では、外周側高位部１０ｂは内周側高位部１０ａよりも好ましくは１〜１０μｍ例えば約４μｍ高いものとなっている。内周側高位部１０ａにあっては、吸引口１４よりも外周側の方が内周側に比べて約９μｍ低くなっている。外周側高位部１０ｂにあっては吸引口１６よりも内周側の方が外周側に比べて約９μｍ低くなっている。凹所１０ｃの深さは約１０００μｍである。
【００８３】
回転駆動軸１２の下部には、該回転駆動軸１２の軸心線方向に沿って延在する負圧通路２０が設けられている。この負圧通路２０に連なる負圧通路２２，２６を介して内周側の吸引口１４に負圧が伝達可能とされている。
【００８４】
この負圧通路２２に負圧切替弁２４が設けられている。この負圧切替弁２４には、負圧連通孔２４ａと大気連通孔２４ｂとが設けられている。第１，２図のように負圧切替弁２４を右方に位置させると、吸引口１４，１６に負圧が供給される。なお、この状態では、後述の負圧通路４０ｃが大気連通孔２４ｂを介して大気に連通している。負圧切替弁２４を第３図の如く左方に移動させると、負圧通路４０ｃに負圧が供給される。
【００８５】
第２図に拡大して示すように、回転駆動軸１２の軸心部には、ターンテーブル上面から凹陥するハブ収容穴２８が設けられており、このハブ収容穴２８内にハブ３０が上下動可能に挿入されている。ハブ３０の側周面には下向きの段部３０ｃが設けられており、この段部３０ｃとハブ収容穴２８の底面との間にコイルバネ３４が介在されている。このバネ３４によりハブ３０は上方に付勢されている。
【００８６】
該ハブ３０の上端部はターンテーブル１０の上面から若干突出しており、この上端部外周縁には、下方ほど拡径するテーパ面３０ａが設けられている。このテーパ面３０ａに磁気記録媒体１の中心開口１ａの下縁が当接可能となっている。
【００８７】
ハブ３０の上部は拡大したヘッド部３０Ｈとなっており、このヘッド部３０Ｈの下面は、下方ほど縮径するテーパ面３０ｂとなっている。ハブ収容穴２８の上部は、このテーパ面３０ｂと重なるテーパ面となっている。これらのテーパ面同士が重なることにより、ハブ３０がターンテーブル１０と同軸状に配置される。
【００８８】
ハブ収容穴２８の底面からはシャフト挿入孔３８が回転駆動軸１２の軸心に沿って延設されており、ハブ３０の軸心位置には該シャフト挿入孔３８と等径のシャフト挿入孔３６が貫設されている。これらのシャフト挿入孔３６，３８にシャフト４０が挿入されている。
【００８９】
前記ヘッド部３０Ｈの上面からは略円錐形の凹部４２が設けられており、シャフト４０の上部は該凹部４２内に配置されている。図示はしないが、この凹部４２内と前記ハブ収容穴２８内とを連通する通気孔がハブ３０に穿設されている。
【００９０】
上記シャフト４０の上部は後述のマスク保持部材５２の底座穴５２ａ（第１図）内に挿入可能とされている。シャフト４０の上部側面からは放射方向に２本のピン４０ａが突設されている。該ピン４０ａが係合するピン係合溝５２ｂがマスク保持部材５２の底面に設けられている。
【００９１】
シャフト４０の上部には、該ピン４０ａよりも若干下位の箇所にフランジ４０ｂ（第２図）が設けられている。シャフト４０の軸心部には、該シャフト４０の底端面から該フランジ４０ｂの高さまで延在し、次いで放射方向に延在して該フランジ４０ｂの外周面に開口する負圧通路４０ｃが設けられている。
【００９２】
上記のマスク保持部材５２は、下方ほど縮径する略円錐台形状であり、上記の底座穴５２ａが底面中央に設けられ、該底座穴５２ａから直径方向にピン係合溝５２ｂが延在されている。
【００９３】
該マスク保持部材５２の上面中央から上方に突軸５２ｃが突設され、該突軸５２ｃの外周面に雄ねじが刻設されている。
【００９４】
ウレタンゴム等の円環状パッキン５４及び座金５６が該突軸５２ｃに嵌挿され、ナット５８が該突軸５２ｃに螺着されることにより、マスク保持部材５２とマスク５０とが同軸状に一体化される。
【００９５】
このように構成された磁気記録媒体の磁化パターン形成装置を用いて磁気記録媒体１を磁化するには、外部磁界によって予め周方向に一様に磁化された磁気記録媒体１を第４図の如く、ターンテーブル１０上に固定した後、該磁気記録媒体１にマスク５０を重ね合わせる。ターンテーブル１０を所定角度ずつ間欠的に回転させつつ、マグネット６０によって上記外部磁界とは逆方向の磁界を磁気記録媒体１に印加すると共にエネルギー線照射領域Ｅにエネルギー線を照射し、磁気記録媒体１に磁化パターンを形成する。この所定角度は、好ましくは３°〜４５°程度に設定される。具体的には、例えば、ターンテーブル１０を定速で回転させ、これと同期をとりながら１５°分の領域Ｅに一定周期でエネルギー線を照射する。
【００９６】
以下、この磁化パターン形成方法を詳細に説明する。
【００９７】
磁気記録媒体１は、外部磁界により予め周方向の一方向に均一に磁化されている。この磁気記録媒体１を搬送コンベヤ（図示略）によってターンテーブル１０の上方に搬入する。次いで、昇降装置（図示略）によって回転駆動軸１２及びターンテーブルが上昇され、第１図に示す機構全体が上方移動する。この上方移動の途中でターンテーブル１０の上面に磁気記録媒体１が載る。このとき、前記の通り、磁気記録媒体１の中心開口１ａの下縁がハブ３０のテーパ面３０ａと係合し、磁気記録媒体１がターンテーブル１に対し同軸的に配置される。
【００９８】
そこで、負圧切替弁２４を第１，２図の状態にし、負圧通路２０から負圧通路２２，２６を介して吸引口１４，１６に負圧を供給する。これにより、磁気記録媒体１の内周側及び外周側がそれぞれターンテーブル１０の内周側高位部１０ａ及び外周側高位部１０ｂに吸い付けられ、磁気記録媒体１がターンテーブル１０に固定される。この際、前記の通り、内周側高位部１０ａの方が外周側高位部１０ｂよりも約４μｍ低位であるため、磁気記録媒体１はその中心側が約４μｍ程度外周側よりも低くなるように弾性的に変形する。
【００９９】
この間にも第１図の機構全体が上昇し、やがて磁気記録媒体１に対しマスク５０が重なり合うと共に、マスク保持部材５２が凹部４２内に入り込む。このとき、磁気記録媒体１はターンテーブル１０に対し吸引保持されているので、マスク５０が磁気記録媒体１に当っても磁気記録媒体１が位置ずれしない。
【０１００】
マスク５０が磁気記録媒体１に重なった後、負圧切替弁を第３図の如く左方に移動させ、負圧通路２０内の負圧を負圧通路４０ｃから凹部４２内に供給する。これにより、マスク保持部材５２が吸引され、マスク５０が磁気記録媒体１に吸い付けられ、マスク５０がターンテーブル１０に固定されると共に、磁気記録媒体１がマスク５０とターンテーブル１０との間に挟持される。なお、負圧通路２２，２６や吸引口１４，１６内には、周囲から大気が徐々に流入するが、上記のマスク保持部材５２が吸引され続けるので、磁気記録媒体１はマスク５０とターンテーブル１０との間にしっかりと挟持される。
【０１０１】
このように磁気記録媒体１及びマスク５０が装着されたターンテーブル１０の下側にマグネット６０ｃ，６０ｄ（６０ｃは図示略）が進出する。そして、ターンテーブル１０を回転させながらマグネット６０ａ，６０ｂ間及びマグネット６０ｃ，６０ｄ間に磁界を発生させると共に、マグネット６０ａ，６０ｃ間のエネルギー線照射領域にレーザビーム等のエネルギー線を照射して加熱し、磁気記録媒体１に磁化パターンを形成する。
【０１０２】
なお、シャフト４０のピン４０ａとマスク保持部材５２の溝５２ａとが係合するので、回転中もマスク５０が位置ずれすることがない。
【０１０３】
磁化パターンを形成した後は、ターンテーブル１０を停止し、負圧切替弁２４を第１，２図の状態に切り替える。これにより、凹部４２内に大気連通孔２４ｂを介して大気が導入され、マスク５０がアンクランプ状態となる。これと入れ替わりに、負圧通路２０内の負圧が吸引口１４，１６に供給され、磁気記録媒体１が再びターンテーブル１０に吸引保持される。
【０１０４】
またこのとき、負圧通路４０ｃに大気がもれこみ、マスク５０がはがれやすくなる。
【０１０５】
そこで、ターンテーブル１０の下側のマグネット６０ｃ，６０ｄを退避させた後、マスク５０をクランプ装置（図示略）でクランプし、次いでターンテーブル１０及び回転駆動軸１２を下降させ、まずマスク５０を離反させる。その後、負圧切替弁２４を左方に移動させ、吸引口１４，１６への負圧供給を停止する。吸引口１４，１６及び負圧通路２６へは大気が漏れ込み、磁気記録媒体１の吸引保持も解除される。また、内周側が低くなるように弾性的に変形していた磁気記録媒体１は、その弾性により平坦な元の形状に復元する。
【０１０６】
この間もターンテーブル１０及び回転駆動軸１２は下降を続けており、この下降の途中で磁気記録媒体１がコンベヤ（図示略）に明け渡される。パターンを形成した磁気記録媒体を搬出した後、入れ替りにパターン未形成の磁気記録媒体１をターンテーブル１０の上方に搬入し、上記と同一の手順を行う。
【０１０７】
この実施の形態に係る磁気記録媒体の磁化パターン形成装置及び方法にあっては、マスク保持用のパッキン５４によってマスク５０の中心側のみを保持し外周部を押さえないので、磁気記録媒体１の外周ぎりぎりまで磁化パターンを形成できる。また、磁気記録媒体１の中心開口１ａの内周面の下部をハブ３０のテーパ面３０ａに押し当てて磁気記録媒体１を固定するようにしており、磁気記録媒体１の偏心が防止される。
【０１０８】
また、マスク５０とターンテーブル１０とで磁気記録媒体１を挟むようにしており、該マスク５０及びターンテーブル１０のいずれも磁気記録媒体１より剛性が高いので、磁気記録媒体１に生じることがある反り（周方向のうねり）を矯正することができる。これにより、磁気記録媒体１とマスク５０との間隔が均一になり、パターン転写が均一に行え、モジュレーションの良好な再生信号が得られる。
【０１０９】
この実施の形態にあっては、負圧切替弁２４を切替操作して負圧通路４０ｃから凹部４２内に負圧を導入することによりマスク５０を回転駆動軸１２に容易に固定することができる。また、該凹部４２内に大気圧を導入することにより、マスク５０の固定解除も容易に行うことができる。
【０１１０】
そして、マスク５０を磁気記録媒体１から引き離して相対的に上昇させる場合には、磁気記録媒体１がターンテーブル１０に吸引保持されているので、磁気記録媒体１がマスク５０にくっついたままとなることがなく、マスク５０と磁気記録媒体１とを確実に離反させ、磁気記録媒体１をターンテーブル１０上に残置させることができる。従って、マスク５０の着脱を迅速に行い、効率良く磁気記録媒体１に磁化パターンを形成することができる。
【０１１１】
なお、マスク５０を回転駆動軸１２と正確に同軸とするために、次の微調整を行うのが好ましい。即ち、ナット５８を緩めた状態でマスク保持部材５２を凹部４２内に挿入する。そして、磁化パターン領域の最外周／最内周境界部をカメラなどで観察し、マスクを回転させると、偏心があれば境界部が動く。境界部が動かないようにマスク５０を位置合わせする。この位置合わせの後、ナット５８を締め込む。
【０１１２】
なお、この第１図〜第４図の実施の形態では、ターンテーブル１０の上面の内周側と外周側にそれぞれ吸引口１４，１６が設けられているが、後述の第１１図のターンテーブル１０’のように、内周側１０ａと外周側１０ｂとの間の全域が凹所９０とされ、負圧通路２６がこの凹所９０に連通された構造のターンテーブルを採用してもよい。
【０１１３】
上記第１図〜第４図の実施の形態では、負圧切替弁２４によって吸引口１４，１６と凹部４２への負圧位置を切り替えるようにしているが、第１０図のように、三方弁９２ａ，９４ａ付きの負圧配管９２，９４を介して負圧通路２６，４０ｃを真空ポンプ９６等の負圧源に連通させ、この三方弁９２ａ，９４ａの切替操作によって吸引口１４，１６と凹部４２への負圧伝達を切り替えるようにしてもよい。
【０１１４】
即ち、この実施の形態にあっては、第１図の負圧切替弁２４は省略され、負圧通路２６は三方弁９２ａを有した負圧配管９２を介して真空ポンプ９６等の負圧源に連通し、負圧通路４０ｃは三方弁９４ａを有した負圧配管９４を介して真空ポンプ９６等の負圧源に連通している。
【０１１５】
三方弁９２ａ，９４ａは、それぞれ負圧通路２６，４０ｃと負圧源との連通、遮断を行うと共に、三方弁９２ａ，９４ａよりも負圧通路２６，４０ｃ側の負圧配管９２，９４内を大気に連通させる流路選択が可能となっている。
【０１１６】
第１０図の磁化パターン形成装置のその他の構成は上記実施の形態の磁化パターン形成装置と同一であり、同一符号は同一部分を示している。
【０１１７】
この第１０図の磁化パターン形成装置を用いて磁気記録媒体１を磁化する方法の一例にあっては、負圧切替弁２４の代りに三方弁９２ａ，９４ａを操作すること以外は上記第１図〜第４図の場合と同じにする。
【０１１８】
第１０図の磁化パターン形成装置による、この磁化パターン形成方法の別の例（請求項１２の方法）について次に詳細に説明する。
【０１１９】
磁気記録媒体１をターンテーブル１０に載せる前にあっては、三方弁９２ａ，９４ａはいずれも負圧を負圧通路２６，４０ｃに伝達しない状態となっている。この磁気記録媒体１を搬送コンベヤ（図示略）によってターンテーブル１０の上方に搬入する。次いで、昇降装置（図示略）によって回転駆動軸１２及びターンテーブル１０が上昇する。この上方移動の途中でターンテーブル１０の上面に磁気記録媒体１が載る。このとき、前記の通り、磁気記録媒体１の中心開口１ａの下縁がハブ３０のテーパ面３０ａと係合し、磁気記録媒体１がターンテーブル１０に対し同軸的に配置される。
【０１２０】
そこで、三方弁９２ａを切替え、負圧通路２６を介して吸引口１４，１６内に負圧を供給する。これにより、磁気記録媒体１の内周側及び外周側がそれぞれターンテーブル１０の内周側及び外周側の高位部１０ａ，１０ｂに吸い付けられ、磁気記録媒体１がターンテーブル１０に固定される。この際、前記の通り、内周側の高位部１０ａの方が外周側の高位部１０ｂよりも約４μｍ低位であるため、磁気記録媒体１はその中心側が約４μｍ程度外周側よりも低くなるように弾性的に変形する。
【０１２１】
この間にも回転駆動軸１２及びターンテーブル１０が上昇し、やがて磁気記録媒体１に対しマスク５０が重なり合うと共に、マスク保持部材５２が凹部４２内に入り込む。このとき、磁気記録媒体１はターンテーブル１０に対し吸引保持されているので、マスク５０が磁気記録媒体１に当っても磁気記録媒体１が位置ずれしない。
【０１２２】
マスク５０が磁気記録媒体１に重なった後、三方弁９２ａはそのままとしておき、三方弁９４ａを切り替え、負圧を負圧通路４０ｃから凹部４２内に供給する。これにより、マスク保持部材５２が吸引され、マスク５０が磁気記録媒体１に吸い付けられ、マスク５０がターンテーブル１０に固定されると共に、磁気記録媒体１がマスク５０とターンテーブル１０との間に挟持される。
【０１２３】
このように磁気記録媒体１及びマスク５０が装着されたターンテーブル１０の下側に前記第４図の如くマグネット６０ｃ，６０ｄ（６０ｃは図示略）が進出する。そして、ターンテーブル１０を回転させながらマグネット６０ａ，６０ｂ間及びマグネット６０ｃ，６０ｄ間に磁界を発生させると共に、マグネット６０ａ，６０ｃ間のエネルギー線照射領域にレーザビーム等のエネルギー線を照射して加熱し、磁気記録媒体１に磁化パターンを形成する。
【０１２４】
磁化パターンを形成した後は、ターンテーブル１０を停止し、三方弁９４ａのみを切替操作し、三方弁９４ａから配管９４、負圧通路４０ｃを介して凹部４２内に大気を導入し、マスク５０をアンクランプ状態とする。三方弁９２ａはそのままとし、吸引口１４，１６に負圧を伝えておくことにより磁気記録媒体１はターンテーブル１０に吸引保持されたままとする。
【０１２５】
そこで、ターンテーブル１０の下側のマグネット６０ｃ，６０ｄを退避させた後、マスク５０をクランプ装置（図示略）でクランプし、次いでターンテーブル１０及び回転駆動軸１２を下降させ、まずマスク５０を離反させる。その後、三方弁９４ａを切り替え操作し、該三方弁９４ａ、配管９４、負圧通路２６を介して吸引口１４，１６内に大気を導入し、磁気記録媒体１の吸引保持を解除する。また、内周側が低くなるように弾性的に変形していた磁気記録媒体１は、その弾性により平坦な元の形状に復元する。
【０１２６】
この間もターンテーブル１０及び回転駆動軸１２は下降を続けており、この下降の途中で磁気記録媒体１がコンベヤ（図示略）に明け渡される。パターンを形成した磁気記録媒体を搬出した後、入れ替りにパターン未形成の磁気記録媒体１をターンテーブル１０の上方に搬入し、上記と同一の手順を行う。
【０１２７】
このように、この第１０図の実施の形態によっても、磁気記録媒体１に効率よく磁化パターンを形成することができる。
【０１２８】
第１１図は本発明の別の実施の形態（特に請求項３〜７の態様）に係る磁気記録媒体の磁化パターン形成装置の縦断面図であり、前記第１図と同様部分の断面を示している。
【０１２９】
この実施の形態にあっては、ターンテーブル１０’の上面は、その内周側１０ａと外周側１０ｂとの間の全域が凹所９０となっており、前記負圧通路２６はこの凹所９０に連通している。従って、前記吸引口１４，１６は設けられていない。この凹所９０の平面視形状はターンテーブル１０’と同軸の環形である。
【０１３０】
また、この実施の形態にあっては、第１図の負圧切替弁２４は省略され、負圧通路２６は三方弁９２ａを有した負圧配管９２を介して真空ポンプ９６等の負圧源に連通し、負圧通路４０ｃは三方弁９４ａを有した負圧配管９４を介して真空ポンプ９６等の負圧源に連通している。
【０１３１】
三方弁９２ａ，９４ａは、それぞれ負圧通路２６，４０ｃと負圧源との連通、遮断を行うと共に、三方弁９２ａ，９４ａよりも負圧通路２６，４０ｃ側の負圧配管９２，９４内を大気に連通させる流路選択が可能となっている。
【０１３２】
第１１図の磁化パターン形成装置のその他の構成は上記実施の形態の磁化パターン形成装置と同一であり、同一符号は同一部分を示している。なお、この実施の形態でも、ターンテーブル１０’の上面の外周側１０ｂは内周側１０ａよりも若干高位となっている。
【０１３３】
この第１１図の磁化パターン形成装置を用いて磁気記録媒体１を磁化するには、前記実施の形態と同じく、外部磁界によって予め周方向に一様に磁化された磁気記録媒体１を、ターンテーブル１０’上に固定した後、該磁気記録媒体１にマスク５０を重ね合わせる。ターンテーブル１０’を所定角度ずつ間欠的に回転させつつ、マグネット６０によって上記外部磁界とは逆方向の磁界を磁気記録媒体１に印加すると共にエネルギー線照射領域Ｅにエネルギー線を照射し、磁気記録媒体１に磁化パターンを形成する。この所定角度は、好ましくは３°〜４５°程度に設定される。具体的には、例えば、ターンテーブル１０’を定速で回転させ、これと同期をとりながら１５°分の領域Ｅに一定周期でエネルギー線を照射する。
【０１３４】
以下、この磁化パターン形成方法を詳細に説明する。なお、この方法は請求項１２に係る方法である。
【０１３５】
磁気記録媒体１をターンテーブル１０’に載せる前にあっては、三方弁９２ａ，９４ａはいずれも負圧を負圧通路２６，４０ｃに伝達しない状態となっている。この磁気記録媒体１を搬送コンベヤ（図示略）によってターンテーブル１０’の上方に搬入する。次いで、昇降装置（図示略）によって回転駆動軸１２及びターンテーブル１０’が上昇する。この上方移動の途中でターンテーブル１０’の上面に磁気記録媒体１が載る。このとき、前記の通り、磁気記録媒体１の中心開口１ａの下縁がハブ３０のテーパ面３０ａと係合し、磁気記録媒体１がターンテーブル１０’に対し同軸的に配置される。
【０１３６】
そこで、三方弁９２ａを切替え、負圧通路２６を介して凹所９０内に負圧を供給する。これにより、磁気記録媒体１の内周側及び外周側がそれぞれターンテーブル１０’の内周側１０ａ及び外周側１０ｂに吸い付けられ、磁気記録媒体１がターンテーブル１０’に固定される。この際、前記の通り、内周側１０ａの方が外周側よりも約４μｍ低位であるため、磁気記録媒体１はその中心側が約４μｍ程度外周側よりも低くなるように弾性的に変形する。
【０１３７】
この間にも回転駆動軸１２及びターンテーブル１０’が上昇し、やがて磁気記録媒体１に対しマスク５０が重なり合うと共に、マスク保持部材５２が凹部４２内に入り込む。このとき、磁気記録媒体１はターンテーブル１０’に対し吸引保持されているので、マスク５０が磁気記録媒体１に当っても磁気記録媒体１が位置ずれしない。
【０１３８】
マスク５０が磁気記録媒体１に重なった後、三方弁９２ａはそのままとしておき、三方弁９４ａを切り替え、負圧を負圧通路４０ｃから凹部４２内に供給する。これにより、マスク保持部材５２が吸引され、マスク５０が磁気記録媒体１に吸い付けられ、マスク５０がターンテーブル１０’に固定される。
【０１３９】
このようにマスク５０がターンテーブル１０’上に固定される場合、凹部４２内の負圧がマスク５０と磁気記録媒体１との間の間隙部に伝達され、磁気記録媒体１が上方に引き付けられようとする。ところが、この実施の形態にあっては、磁気記録媒体１はその下面の大部分が凹所９０に対面し、凹所９０内の負圧によりしっかりとターンテーブル１０’に吸い付けられている。このため、凹所４２からの負圧が磁気記録媒体１の上面に作用しても、磁気記録媒体１は上方へ吸い上げられることはなく、磁気記録媒体１の上面がマスク５０の下面に強く押し付けられることはない。
【０１４０】
従って、仮にマスク５０の下面に微粒子等の異物が付着していても、異物が磁気記録媒体１に強く押し付けられることはない。この結果、磁気記録媒体１の上面にデントが生じることが解消される。
【０１４１】
なお、ターンテーブル１０’の上面の内周側１０ａが外周側１０ｂよりも低位となっているので、磁気記録媒体１の上面とマスク５０との間に間隙が形成され、これによっても、磁気記録媒体１の上面にデントが生じることが防止される。
【０１４２】
このように磁気記録媒体１及びマスク５０が装着されたターンテーブル１０’の下側に前記第４図の如くマグネット６０ｃ，６０ｄ（６０ｃは図示略）が進出する。そして、ターンテーブル１０’を回転させながらマグネット６０ａ，６０ｂ間及びマグネット６０ｃ，６０ｄ間に磁界を発生させると共に、マグネット６０ａ，６０ｃ間のエネルギー線照射領域にレーザビーム等のエネルギー線を照射して加熱し、磁気記録媒体１に磁化パターンを形成する。
【０１４３】
磁化パターンを形成した後は、ターンテーブル１０’を停止し、三方弁９４ａのみを切替操作し、三方弁９４ａから配管９４、負圧通路４０ｃを介して凹部４２内に大気を導入し、マスク５０をアンクランプ状態とする。三方弁９２ａはそのままとし、凹所９０内に負圧を伝えておくことにより磁気記録媒体１はターンテーブル１０’に吸引保持されたままとする。
【０１４４】
そこで、ターンテーブル１０’の下側のマグネット６０ｃ，６０ｄを退避させた後、マスク５０をクランプ装置（図示略）でクランプし、次いでターンテーブル１０’及び回転駆動軸１２を下降させ、まずマスク５０を離反させる。その後、三方弁９４ａを切り替え操作し、該三方弁９４ａ、配管９４、負圧通路２６を介して凹所９０内に大気を導入し、磁気記録媒体１の吸引保持を解除する。また、内周側が低くなるように弾性的に変形していた磁気記録媒体１は、その弾性により平坦な元の形状に復元する。
【０１４５】
この間もターンテーブル１０’及び回転駆動軸１２は下降を続けており、この下降の途中で磁気記録媒体１がコンベヤ（図示略）に明け渡される。パターンを形成した磁気記録媒体を搬出した後、入れ替りにパターン未形成の磁気記録媒体１をターンテーブル１０’の上方に搬入し、上記と同一の手順を行う。
【０１４６】
このように、この第１０図の実施の形態によっても、磁気記録媒体１に効率よく磁化パターンを形成することができる。また、この実施の形態によれば、上記の通り、磁気記録媒体１にデントが生じることが防止される。
【０１４７】
本発明の装置は、磁化パターン形成に際し、例えば数千ガウスの強力なマグネットで磁化するので、ターンテーブル１０，１０’、マスク保持部材５２は、銅、チタン、セラミックス等の非磁性体又はステンレス等の常磁性体からなるのがよい。また、これら部材（特にターンテーブル１０，１０’）は剛性が高い材料からなるのが好ましい。この点において、ステンレスは、加工精度が良く平坦度が出やすいと共に、剛性も高く、安価なので最も好ましい。
【０１４８】
本発明では、マスクと磁気記録媒体の内周側及び外周側の間にスペーサを介在させてもよい。このスペーサはマスクの下面にマスクと一体に設けられていても良く、ステンレス、銅、ポリイミドなどからなる別個のものでもよい。
【０１４９】
マスクと一体に設けるスペーサとしては、ポリイミド、クロム／酸化クロム、ガラス等よりなる突起などが例示される。
【０１５０】
スペーサの高さは、マスクと磁気記録媒体のパターン形成領域での間隔を狭くし回折による入射エネルギーの拡散を防ぎ、磁気記録媒体及びマスク面からの再反射光と入射光との干渉縞の生成を抑えるためには低いほどよく、高さが１０μｍ以下であるのが好ましい。より好ましくは７μｍ以下であり、更に好ましくは５μｍ以下である。
【０１５１】
形成するパターンの線幅（パターンの最小幅）が１μｍよりも狭くなると、特に光の回折の影響を多く受けるようになり干渉縞が生成しやすくなるため、線幅が狭いほど突起の高さをより低くするのが望ましい。
【０１５２】
ただし、あまり低いと磁気記録媒体のうねり部分と接触するおそれがあるため、高さは０．０１μｍ以上とりわけ０．１μｍ以上であることが好ましい。
【０１５３】
なお、上記のパターンの最小幅とは、パターン中の最も狭い長さを言う。四角形のパターンであれば短辺、円形ならば直径、楕円形ならば短径である。
【０１５４】
マスク保持部材５２及びパッキン５４の外径は、大きいほど、マスク５０の固定効果が高いので好ましい。なお、この実施の形態では、パッキン５４の外径がマスク保持部材５２の外径よりも大となっている。パッキン５４の外周縁とマスク５０のパターン領域の最内周との距離は、あまり近いとパターン転写のエネルギー線を妨害しやすいので、０．２ｍｍ以上が好ましい。
【０１５５】
上記のマスク５０は、形成すべき磁化パターンに応じてエネルギー線の濃淡を生じさせるマスクパターンを有しており、これを通して磁気記録媒体１の磁性層上に好ましくはレーザビームが照射される。ビーム径を大径又は横に細長い楕円形等として、複数トラック分又は複数セクター分の磁化パターンを一括して照射すれば、記録効率が一段と上がり、これからの容量の伸びに伴いサーボ記録時間が増大するといった問題も改善され非常に好ましい。
【０１５６】
マスク５０は、形成すべき磁化パターンに応じてエネルギー線の濃淡を生じさせるマスクパターンを有しているマスクであれば、エネルギー線の透過部と非透過部からなるマスクパターンを有するマスク、エネルギー線を拡散させるマスクパターンを有するマスク、ホログラムマスクなど何れの方式のマスクも使用可能である。
【０１５７】
例えば、石英ガラス、ソーダライムガラス等の透明原盤上にＣｒ等の金属をスパッタリングにより形成し、その上にフォトレジストを塗布し、エッチング等によって、所望の透過部と非透過部を作成する。この場合は原盤上にＣｒ層を有する部分がエネルギー線非透過部、原盤のみの部分が透過部となる。
【０１５８】
このようなマスクは、通常凹凸を有しており、凸部を媒体に近接させ、或いは略接触させて使用する。或いはまた、このようなマスクを形成した後に凹部にエネルギー線に透明である材料を埋め込み、媒体との略接触面を平坦にして使用することもできる。
【０１５９】
本発明においては、局所加熱と外部磁界印加の組み合わせは様々考えられるが、好ましくは、外部磁界を印加し磁性層を予め所望の方向に均一に磁化したのち、磁性層を局所的に加熱すると同時に外部磁界を印加し加熱部を該所望の方向とは逆方向に磁化して磁化パターンを形成する。これによれば、互いに逆向きの磁区が明瞭に形成されるので、信号強度が強くＣ／Ｎ及びＳ／Ｎが良好な磁化パターンが得られる。
【０１６０】
なお、加熱や外部磁界の印加は、磁性層に直接行ってもよいし、磁性層上に保護層など他の層を設けたのち、行ってもよい。
【０１６１】
次に、本発明において用いるのに好適なレーザ光などのエネルギー線について説明する。
【０１６２】
エネルギー線は連続照射よりもパルス状にして加熱部位の制御や加熱温度の制御を行うのが好ましい。
【０１６３】
特にパルスレーザ光源の使用が好適である。パルスレーザ光源はレーザをパルス状に断続的に発振するものであり、連続レーザを音響光学素子（ＡＯ）や電気光学素子（ＥＯ）などの光学部品で断続させパルス化するのに比して、パワー尖頭値の高いレーザをごく短時間に照射することができ熱の蓄積が起こりにくく非常に好ましい。
【０１６４】
連続レーザを光学部品によりパルス化した場合、パルス内ではそのパルス幅に亘ってほぼ同じパワーを持つ。一方パルスレーザ光源は、例えば光源内で共振によりエネルギーをためて、パルスとしてレーザを一度に放出するため、パルス内では尖頭のパワーが非常に大きく、その後小さくなっていく。本発明では、コントラストが高く精度の高い磁化パターンを形成するために、ごく短時間に急激に加熱しその後急冷させるのが好ましいため、パルスレーザ光源の使用が適している。
【０１６５】
磁化パターンが形成される媒体面は、パルス状エネルギー線の照射時と非照射時で温度差が大きい方が、パターンのコントラストを上げ、或いは記録密度を上げるために好ましい。従ってパルス状エネルギー線の非照射時には室温以下程度になっているのが好ましい。室温とは２５℃程度である。
【０１６６】
エネルギー線の波長は、１１００ｎｍ以下であることが好ましい。これより波長が短いと回折作用が小さく分解能が上がるため、微細な磁化パターンを形成しやすい。更に好ましくは、６００ｎｍ以下の波長である。高分解能であるだけでなく、回折が小さいため間隙によるマスクと磁気記録媒体のスペーシングも広くとれハンドリングがしやすく、磁化パターン形成装置が構成しやすくなるという利点が生まれる。また、波長は１５０ｎｍ以上であるのが好ましい。１５０ｎｍ未満では、マスクに用いる合成石英の吸収が大きくなり、加熱が不十分となりやすい。波長を３５０ｎｍ以上とすれば、光学ガラスをマスクとして使用することもできる。
【０１６７】
具体的には、エキシマレーザ（１５７，１９３，２４８，３０８，３５１ｎｍ）、ＹＡＧのＱスイッチレーザ（１０６４ｎｍ）の２倍波（５３２ｎｍ）、３倍波（３５５ｎｍ）、或いは４倍波（２６６ｎｍ）、Ａｒレーザ（４８８ｎｍ、５１４ｎｍ）、ルビーレーザ（６９４ｎｍ）などである。
【０１６８】
パルス状エネルギー線の１パルス当たりのパワーは１０００ｍＪ／ｃｍ2以下とすることが好ましい。これより大きなパワーをかけると、パルス状エネルギー線によって該磁気記録媒体表面が損傷を受け変形を起こす可能性がある。変形により粗度Ｒａが３ｎｍ以上やうねりＷａが５ｎｍ以上に大きくなると、浮上型／接触型ヘッドの走行に支障を来すおそれがある。
【０１６９】
より好ましくは５００ｍＪ／ｃｍ2以下であり、更に好ましくは２００ｍＪ／ｃｍ2以下である。この領域であると比較的熱拡散の大きな基板を用いた場合でも分解能の高い磁化パターンが形成しやすい。また、パワーは１０ｍＪ／ｃｍ2以上とするのが好ましい。これより小さいと、磁性層の温度が上がりにくく磁気転写が起こりにくい。
【０１７０】
なお、パターン幅が狭いほど必要なパワーは増加する傾向にある。また、エネルギー線の波長が短いほど照射可能なパワーは低下する傾向にある。
【０１７１】
また、エネルギー線による磁性層、保護層、潤滑層の損傷が心配される場合は、パルス状エネルギー線のパワーを小さくして、該パルス状エネルギー線と同時に印加される磁界強度を上げるといった手段を取ることもできる。
【０１７２】
なお、保護層と潤滑層を介してパルス状エネルギー線を照射するにあたり、潤滑剤の受けるダメージ（分解、重合）等も考慮し、照射後に再塗布するなどの必要がある場合がある。
【０１７３】
パルス状エネルギー線のパルス幅は、１μｓｅｃ以下であることが望ましい。これよりパルス幅が広いと該磁気記録媒体にパルス状エネルギー線にて与えたエネルギーによる発熱が分散して、分解能が低下しやすい。１パルス当たりのパワーが同じである場合、パルス幅を短くし一度に強いエネルギーを照射した方が、熱拡散が小さく磁化パターンの分解能が高くなる傾向にある。より好ましくは１００ｎｓｅｃ以下である。この領域であるとＡｌなど金属の比較的熱拡散の大きな基板を用いた場合でも分解能の高い磁化パターンが形成しやすい。特に最小幅２μｍ以下の磁化パターンを形成する際には、２５ｎｓｅｃ以下とするのが好ましい。即ち、分解能を重視すれば、パルス幅は短いほど良い。また、パルス幅は１ｎｓｅｃ以上であるのが好ましい。磁性層の磁化反転が完了するまでの時間、加熱を保持しておくのが好ましいからである。
【０１７４】
なお、パルス状レーザの一種として、モードロックレーザのようにピコ秒、フェムト秒レベルの超短パルスを高周波で発生できるレーザがある。超短パルスを高周波で照射している期間においては、各々の超短パルス間のごく短い時間はレーザが照射されないが非常に短い時間であるため加熱部はほとんど冷却されない。すなわち、一旦キュリー温度以上に昇温された領域はキュリー温度以上に保たれる。
【０１７５】
従ってこのような場合、連続照射期間（超短パルス間のレーザが照射されない時間も含めた連続照射期間）を１パルスとする。また連続照射期間の照射エネルギー量の積分値を１パルス当たりのパワー（ｍＪ／ｃｍ2）とする。
【０１７６】
好ましくは、エネルギー照射領域におけるエネルギー線の強度分布を１５％以内とする。照射した領域の加熱状態の分布を小さく抑えることができ、磁化パターンの磁気的強さの分布を小さく抑えることができる。従って、磁気ヘッドを使用して信号強度を読み取る際に、信号強度の均一性の高い磁化パターンを形成することができる。
【０１７７】
レーザなどのエネルギー線は、一般にビームスポット内で強度分布（エネルギー密度分布）を有しており、エネルギー線を照射して局部加熱した場合もエネルギー密度による温度上昇の違いが生じる。このため加熱ムラにより局部的に転写の強度の違いが起こる。通常、エキシマレーザやＹＡＧ−Ｑスイッチレーザなどのパルスレーザを用いると、ビームスポット内の強度分布は３０％程度ある。
【０１７８】
そこで例えば、強度分布の小さいエネルギー線源を使用したり、エネルギー線の強度分布の小さい部分だけを遮光板等で透過したのち必要に応じて拡大したり、ホモジナイザやコンデンサレンズ等を用いるなどして、エネルギー線のビームスポット内での強度分布を１５％以内に抑えるようにする。
【０１７９】
また好ましくは、エネルギー線に予め強度分布の均一化処理をなす。照射した領域の加熱状態の分布を小さく抑えることができ、磁化パターンの磁気的強さの分布を小さく抑えることができる。従って、磁気ヘッドを使用して信号強度を読み取る際に、信号強度の均一性の高い磁化パターンを形成することができる。
【０１８０】
強度分布の均一化処理としては、例えば以下のような処理が挙げられる。ホモジナイザやコンデンサレンズを用いて均一化したり、遮光板やスリットなどでエネルギー線の強度分布の小さい部分だけを透過し必要に応じて拡大する、などである。
【０１８１】
好ましくは、エネルギー線を、一旦光学分割したのち重ね合わせることによって均一化処理すると、エネルギー線を無駄なく使用でき使用効率が良い。本発明においては、磁性層の加熱には、高強度のエネルギー線を短時間に照射するのがよく、このためにはエネルギーを無駄なく使用するのが好ましい。
【０１８２】
ディスク状磁気記録媒体（磁気ディスク）は、ディスクの主両面に磁性層が形成されている場合があるが、その場合、本発明の磁化パターン形成は片面ずつ、逐次に行ってもよいし、マスク、エネルギー照射系および外部磁界を印加する手段を磁気ディスクの両面に設置して、両面同時に磁化パターン形成を行うこともできる。
【０１８３】
一面に二層以上の磁性層が形成されており、それぞれに異なるパターンを形成したい場合は、照射するエネルギー線の焦点を各層に合わせることにより、各層を個別に加熱し、個別にパターンを形成する。
【０１８４】
磁化パターンを形成する際には、エネルギー線の光源とマスクとの間、又はマスクと該媒体との間の照射をしたくない領域に、エネルギー線を部分的に遮光可能な遮光板を設けて、エネルギー線の再照射を防ぐ構造とするのが好ましい。
【０１８５】
遮光板としては、使用するエネルギー線の波長を透過しないものであればよく、エネルギー線を反射又は吸収すればよい。ただし、エネルギー線を吸収すると加熱し磁化パターンに影響を与えやすいため、熱伝導率がよく反射率の高いものが好ましい。例えば、Ｃｒ、Ａｌ、Ｆｅなどの金属板である。
【０１８６】
次に、外部磁界について説明する。
【０１８７】
まず、磁気記録媒体に強い第１外部磁界を印加して、磁性層全体を所望の磁化方向に一様に磁化する。第１外部磁界を印加する手段は、磁気ヘッドを用いてもよいし、電磁石または永久磁石を、所望の磁化方向に磁界が生じるよう配置して用いてもよい。更にそれら手段を組み合わせて使用してもよい。
なお、所望の磁化方向とは、磁化容易軸が面内方向にある媒体の場合には、データの記録／再生ヘッドの走行方向（媒体とヘッドの相対移動方向）と同一又は逆方向であり、磁化容易軸が面内方向に垂直にある場合には、垂直方向のいずれか（上向き、下向き）である。従ってそのように磁化されるように、第１外部磁界を印加する。媒体が円板形状であるので、第１外部磁界の印加方向は、周方向、半径方向、板面に垂直方向のいずれかをとるのが好ましい。
【０１８８】
第１外部磁界の強さは磁性層の保磁力に合わせて設定すればよいが、磁性層の室温での保磁力（静的保磁力）の２倍以上の磁界によって磁化することが好ましい。これより弱いと磁化が不十分となる可能性がある。ただし、通常、磁界印加に用いる着磁装置の能力上、磁性層の室温での保磁力の５倍以下程度である。室温とは例えば２５℃である。また磁気記録媒体の保磁力は、磁性層（記録層）の保磁力とほぼ同じである。
【０１８９】
磁性層は一般に静的保磁力（単に保磁力と称することもある。）と動的保磁力を有するが、局所加熱については、少なくとも磁性層の動的保磁力がある程度低下する温度まで加熱できればよい。勿論、静的保磁力が低下する温度まで加熱してもよい。好ましくは１００℃以上に加熱する。加熱温度が１００℃未満で外部磁界の影響を受ける磁性層は、室温での磁区の安定性が低い傾向がある。
【０１９０】
ただし、加熱温度は所望の保磁力の低下が得られる範囲で低いことが望ましい。例えば磁性層の磁化消失温度やキュリー温度の近傍までである。加熱温度が高すぎると加熱したい領域以外への熱拡散が起こりやすく、パターンがぼやけてしまう虞がある。また、磁性層が変形してしまう可能性がある。更に、通常、磁気記録媒体の表面には潤滑剤からなる潤滑層が形成されており、加熱による潤滑剤の劣化等の悪影響を防止するためにも、加熱温度は低いほど好ましい。加熱により潤滑剤が分解などの劣化を起こしたり気化して減少したりする虞があるほか、特に近接露光の場合には気化した潤滑剤がマスク等に付着する虞もある。従って本発明の磁化パターン形成法を、潤滑層を備えた磁気記録媒体に工業的に適用可能にするためにも、加熱温度はできるだけ低いことが望ましい。
【０１９１】
このため加熱温度は磁性層のキュリー温度以下とするのが好ましい。例えば３００℃以下とするのが好ましく、より好ましくは２５０℃以下であり、更に好ましくは２００℃以下である。
【０１９２】
次に、加熱と同時に印加する第２の外部磁界の方向は、一般に、第１外部磁界と逆方向である。媒体が円板形状である場合、第２の外部磁界の印加方向は、周方向、半径方向、板面に垂直方向のいずれかをとるのが好ましい。
【０１９３】
なお、加熱のためにパルス状エネルギー線を使用する際には、第２外部磁界は連続的に印加してもパルス状に印加しても良い。また第２外部磁界がパルス状磁界である場合は、パルス状磁界成分のみであってもよいし、パルス状磁界成分と静磁界成分の組合せであってもよい。このとき、パルス状磁界成分と静磁界成分の合計を第２外部磁界の強度とする。
【０１９４】
第２外部磁界の最大強度は、強いほど磁化パターンが形成しやすい。磁気記録媒体の磁性層の特性によって最適強度は異なるが、第２外部磁界が静磁界の場合は、室温の保磁力（静的保磁力）の１／８以上であることが好ましい。これより弱いと、加熱部が、冷却時に周囲の磁区からの磁界の影響をうけて再び周囲と同じ方向に磁化されてしまう可能性がある。ただし、磁性層の室温での保磁力の２／３以下とするのが好ましく、１／２倍以下とするのがより好ましい。これより大きいと、加熱部の周囲の磁区も影響を受けてしまう可能性がある。
【０１９５】
第２外部磁界がパルス状磁界の場合は、室温の保磁力（静的保磁力）の２／３以上であることが好ましい。あまり弱いと加熱領域が良好に磁化されない虞がある。さらに好ましくは室温の静的保磁力の３／４以上である。室温での静的保磁力より強い磁界をかけてもよい。ただし、磁性層の室温での動的保磁力より小さい磁界とする。第２外部磁界がこれより大きいと、非加熱領域の磁化に影響を与えてしまうからである。
【０１９６】
なお本発明において、磁界強度の値Ｈ（Ｏｅ）は磁束密度の値Ｂ（Ｇａｕｓｓ）でそのまま代用できる。一般にＢ＝μＨ（ただし、μは透磁率を表す）の関係があるが、通常磁化パターンの形成は空気中で行われるため、透磁率は１であって、Ｂ＝Ｈの関係が成り立つからである。
【０１９７】
第２外部磁界を印加する手段は、磁気ヘッドを用いてもよいし、電磁石または、永久磁石を所望の磁化方向に磁界が生じるよう複数個配置して用いてもよい、更にそれらの異なる手段を組み合わせて使用してもよい。高密度記録に適した高保磁力媒体を効率よく磁化するためには、フェライト磁石、ネオジム系希土類磁石、サマリウムコバルト系希土類磁石などの永久磁石が好適である。
【０１９８】
第２外部磁界がパルス状磁界である場合は、パルス状磁界印加手段のみであってもよいし、パルス状磁界印加手段と静磁界印加手段の組合せであってもよい。例えば前者では、電磁石などでパルス状磁界のみを発生する。例えば後者では、永久磁石または電磁石によってある程度の大きさの静磁界を与えておき、それ以上の磁界を電磁石でパルス状に印加する。インダクタンスの小さな空芯コイルを用いると、パルス幅を狭くでき磁界印加時間を短くできるため好ましい。また、永久磁石のかわりに他のヨーク型などの電磁石を用いてもよい。
【０１９９】
静磁界とパルス状磁界を組み合わせると、パルス状に印加する磁界を小さくすることができる。一般に電磁石は磁界が大きくなるほどパルス幅を短くすることが困難になるので、それだけパルス幅を短くしやすい。
【０２００】
或いはパルス状磁界は、常時磁界を発生する磁石を短時間のみ磁気記録媒体に接近させる方式によって印加することもできる。例えば、磁気記録媒体の一部に永久磁石によって磁界を印加しつつ、媒体を所定以上の速度で回転させればよい。
【０２０１】
また、第２外部磁界が静磁界とパルス状磁界の組み合わせの場合は、静磁界の磁界強度を磁性層の室温での静的保磁力より小さくする。好ましくは静的保磁力の２／３以下とし、より好ましくは１／２倍以下とする。あまり大きいと、形成した磁化パターンに影響を与えてしまい出力が落ちるだけでなく、モジュレーションが悪化する。下限は特にないが、あまり弱いと静磁界を用いる意味が小さくなるので、例えば磁性層の室温での静的保磁力の１／８以上とする。
【０２０２】
次に、第２外部磁界がパルス状磁界である場合のパルス幅について説明する。本発明では第２外部磁界のパルス状磁界成分のパルス幅を、単に第２外部磁界のパルス幅と称する。ここで、磁界のパルス幅とは半値幅を指す。
【０２０３】
第２外部磁界のパルス幅は通常１００ｍｓｅｃ以下とする。好ましくは１０ｍｓｅｃ以下とする。第２外部磁界のパルス幅を短くするほど印加できる磁界の上限値が大きくなる。動的保磁力の値は磁界の印加時間によって変化し、第２外部磁界のパルス幅を短くするほど磁性層の室温での動的保磁力が大きくなるからである。より好ましくは１ｍｓｅｃ以下とする。
【０２０４】
ただし好ましくは１０ｎｓｅｃ以上とする。あまり短いとそれだけ動的保磁力が大きくなるため、加熱領域を磁化するために必要な第２外部磁界が大きくなってしまう。また、磁界の大きさにもよるが、電磁石の特性上磁界の立上がり、立下がりには時間を要するので、パルス幅を短くするのには限界がある。より好ましくは１００ｎｓｅｃ以上とする。ここで、磁界のパルス幅は半値幅を指す。
【０２０５】
局所加熱にパルス状エネルギー線を使用する場合は、第２外部磁界のパルス幅はパルス状エネルギー線のパルス幅以上とする。これ以下であると、局所加熱中に磁界が変化してしまうので磁化パターンが良好に形成されないためである。
【０２０６】
またパルス状エネルギー線とパルス状の第２外部磁界を同期させ、同時に印加するのが好ましい。通常、エネルギー線のパルス幅より磁界のパルス幅のほうが長いと考えられるが、このときは第２外部磁界のパルスを印加し、磁界が最大になるところでエネルギー線のパルスが印加されるよう制御するのが好ましい。
【０２０７】
以上のような方法で磁化パターンが形成された磁気記録媒体は、干渉縞の影響が抑えられ、再生信号のモジュレーションの小さい微細な磁化パターンが精度良く形成される。そして、磁化遷移幅が小さく磁区の境界での磁化遷移が非常に急峻で出力信号の品質が高いパターンが形成される。
【０２０８】
また非常に短時間で簡便に製造でき、従来のようにマスターディスクと密着させることがないため、傷や欠陥が少ない。
【０２０９】
特に、高密度記録になるにつれて、サーボ信号が書きにくいだけでなくサーボ記録がコストアップの主原因となるため高密度記録用の媒体に本発明を適用すると効果が大きい。垂直磁気記録媒体であれば磁界の印加が容易であることからより本発明を適用しやすい。
【０２１０】
本発明装置を磁気記録媒体の製造ラインに組み入れれば、ヘッド制御用の高精度の磁化パターンが形成された媒体を短時間かつ安価に製造できる。
【０２１１】
次に、本発明が適用されるのに好適な磁気記録媒体の構成について説明する。
【０２１２】
この磁気記録媒体における基板としては、高速記録再生時に高速回転させても振動しない必要があり、通常、硬質基板が用いられる。振動しない十分な剛性を得るため、基板厚みは一般に０．３ｍｍ以上が好ましい。但し厚いと磁気記録装置の薄型化に不利なため、３ｍｍ以下が好ましい。例えば、Ａｌを主成分とした例えばＡｌ−Ｍｇ合金等のＡｌ合金基板や、Ｍｇを主成分とした例えばＭｇ−Ｚｎ合金等のＭｇ合金基板、通常のソーダガラス、アルミノシリケート系ガラス、非結晶ガラス類、シリコン、チタン、セラミックス、各種樹脂のいずれかからなる基板やそれらを組み合わせた基板などを用いることができる。中でもＡｌ合金基板や強度の点では結晶化ガラス等のガラス製基板、コストの点では樹脂製基板を用いることが好ましい。
【０２１３】
この磁気記録媒体は硬質基板を有する媒体であることが好ましい。従来の磁気転写法では硬質基板を有する媒体はマスターディスクとの密着が不十分になり傷や欠陥が発生したり転写された磁区の境界が不明確でＰＷ５０が広がりやすい傾向があったが本発明ではマスクと媒体とを圧着しないのでそのような問題がない。特に、ガラス製基板のようにクラックの入りやすい基板を有する媒体には効果的である。
【０２１４】
磁気ディスクの製造工程においては、まず基板の洗浄・乾燥が行われるのが通常であり、本発明においても各層の密着性を確保する見地からもその形成前に洗浄、乾燥を行うことが望ましい。基板表面にＮｉＰ，ＮｉＡｌ等の金属層を形成してもよい。
【０２１５】
金属層を形成する場合に、その手法としては、無電解めっき法、スパッタリング法、真空蒸着法、ＣＶＤ法など薄膜形成に用いられる方法を利用することができる。導電性の材料からなる基板の場合であれば電解めっきを使用することが可能である。金属層の膜厚は５０ｎｍ以上が好ましい。ただし、磁気ディスク媒体の生産性などを考慮すると２０μｍ以下であることが好ましい。さらに好ましくは１０μｍ以下である。
【０２１６】
また、金属層を成膜する領域は基板表面全域が望ましいが、一部だけ、例えばテキスチャリングを施す領域のみでも実施可能である。
【０２１７】
また、基板表面、又は基板に金属層が形成された表面に同心状テキスチャリングを施してもよい。本発明において同心状テキスチャリングとは、例えば遊離砥粒とテキスチャーテープを使用した機械式テキスチャリングやレーザ光線などを利用したテキスチャリング加工、又はこれらを併用することによって、円周方向に研磨することによって基板円周方向に微小溝を多数形成した状態を指称する。
【０２１８】
機械的テキスチャリングを施すための遊離砥粒の種類としてはダイヤモンド砥粒、中でも表面がグラファイト化処理されているものが最も好ましい。機械的テキスチャリングに用いられる砥粒としては他にアルミナ砥粒が広く用いられているが、特にテキスチャリング溝に沿って磁化容易軸を配向させるという面内配向媒体の観点から考えるとダイヤモンド砥粒が極めて良い性能を発揮する。
【０２１９】
ヘッド浮上量ができるだけ小さいことが高密度磁気記録の実現には有効であり、またこれら基板の特長のひとつが優れた表面平滑性にあることから、基板表面の粗度Ｒａは２ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは１ｎｍ以下である。特に０．５ｎｍ以下が好ましい。なお、基板表面粗度Ｒａは、触針式表面粗さ計を用いて測定長４００μｍで測定後、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に則って算出した値である。このとき測定用の針の先端は半径０．２μｍ程度の大きさのものが使用される。
【０２２０】
次に基板上には、磁性層との間に下地層等を形成してもよい。下地層は、結晶を微細化し、かつその結晶面の配向を制御することを目的とし、Ｃｒを主成分とするものが好ましく用いられる。
【０２２１】
Ｃｒを主成分とする下地層の材料としては、純Ｃｒのほか、記録層との結晶マッチングなどの目的で、ＣｒにＶ、Ｔｉ、Ｍｏ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｔａ、Ｗ、Ｇｅ、Ｎｂ、Ｓｉ、Ｃｕ、Ｂから選ばれる１又は２以上の元素を添加した合金や酸化Ｃｒなども含む。
【０２２２】
中でも純Ｃｒ、又はＣｒにＴｉ、Ｍｏ、Ｗ、Ｖ、Ｔａ、Ｓｉ、Ｎｂ、Ｚｒ及びＨｆから選ばれる１又は２以上の元素を添加した合金が好ましい。これら第二、第三元素の含有量はそれぞれの元素によって最適な量が異なるが、一般には１原子％〜５０原子％が好ましく、より好ましくは５原子％〜３０原子％、さらに好ましくは５原子％〜２０原子％の範囲である。
【０２２３】
下地層の膜厚はこの異方性を発現させ得るに十分なものであればよいが、好ましくは０．１〜５０ｎｍであり、より好ましくは０．３〜３０ｎｍ、さらに好ましくは０．５〜１０ｎｍである。Ｃｒを主成分とする下地層の成膜時は基板加熱を行っても行わなくてもよい。
【０２２４】
下地層の上には、記録層との間に、場合により軟磁性層を設けても良い。特に磁化遷移ノイズの少ないキーパー媒体、或いは磁区が媒体の面内に対して垂直方向にある垂直記録媒体には、効果が大きく、好適に用いられる。
【０２２５】
軟磁性層は透磁率が比較的高く損失の少ないものであればよいが、ＮｉＦｅや、それに第３元素としてＭｏ等を添加した合金が好適に用いられる。最適な透磁率は、データの記録に利用されるヘッドや記録層の特性によっても大きく変わるが、概して、最大透磁率が１０〜１００００００（Ｈ／ｍ）程度であることが好ましい。
【０２２６】
或いはまた、Ｃｒを主成分とする下地層上に必要に応じ中間層を設けてもよい。例えばＣｏＣｒ系中間層を設けると磁性層の配向がより好ましく制御できる。
【０２２７】
次に記録層（磁性層）を形成するが、記録層と軟磁性層の間には下地層と同一材料の層又は他の非磁性材料が挿入されていてもよい。記録層の成膜時は、基板加熱を行っても行わなくてもよい。記録層としては、Ｃｏ合金磁性層、ＴｂＦｅＣｏを代表とする希土類系磁性層、ＣｏとＰｄの積層膜を代表とする遷移金属と貴金属系の積層膜等が好ましく用いられる。
【０２２８】
Ｃｏ合金磁性層としては、通常、純ＣｏやＣｏＮｉ、ＣｏＳｍ、ＣｏＣｒＴａ、ＣｏＮｉＣｒ、ＣｏＣｒＰｔなどの磁性材料として一般に用いられるＣｏ合金磁性材料を用いうる。これらのＣｏ合金に更にＮｉ、Ｃｒ、Ｐｔ、Ｔａ、Ｗ、Ｂなどの元素やＳｉＯ2等の化合物を加えたものでも良い。例えばＣｏＣｒＰｔＴａ、ＣｏＣｒＰｔＢ、ＣｏＮｉＰｔ、ＣｏＮｉＣｒＰｔＢ等が挙げられる。Ｃｏ合金磁性層の膜厚は任意であるが、好ましくは５ｎｍ以上、より好ましくは１０ｎｍ以上である。また、好ましくは５０ｎｍ以下、より好ましくは３０ｎｍ以下である。また、本記録層は、適当な非磁性の中間層を介して、或いは直接２層以上積層してもよい。その時、積層される磁性材料の組成は、同じであっても異なっていてもよい。
【０２２９】
希土類系磁性層としては、磁性材料として一般的なものを用いうるが、例えばＴｂＦｅＣｏ、ＧｄＦｅＣｏ、ＤｙＦｅＣｏ、ＴｂＦｅなどが挙げられる。これらの希土類合金にＴｂ、Ｄｙ、Ｈｏなどを添加してもよい。酸化劣化防止の目的からＴｉ、Ａｌ、Ｐｔが添加されていてもよい。希土類系磁性層の膜厚は、任意であるが、通常５〜１００ｎｍ程度である。また、本記録層は、適当な非磁性の中間層を介して、或いは直接２層以上積層してもよい。その時、積層される磁性材料の組成は、同じであっても異なっていてもよい。特に希土類系磁性層は、アモルファス構造膜であり、かつメディア面内に対して垂直方向に磁化を持つため高記録密度記録に適し、高密度かつ高精度に磁化パターンを形成できる本発明の方法がより効果的に適用できる。
【０２３０】
同様に垂直磁気記録が行える、遷移金属と貴金属系の積層膜としては、磁性材料として一般的なものを用いうるが、例えばＣｏ／Ｐｄ、Ｃｏ／Ｐｔ、Ｆｅ／Ｐｔ、Ｆｅ／Ａｕ、Ｆｅ／Ａｇなどが挙げられる。これらの積層膜材料の遷移金属、貴金属は、特に純粋なものでなくてもよく、それらを主とする合金であってもよい。積層膜の膜厚は、任意であるが、通常５〜１０００ｎｍ程度である。また、必要に応じて３種以上の材料の積層であってもよい。
【０２３１】
記録層としての磁性層は、室温において磁化を保持し、加熱時に消磁されるか、或いは加熱と同時に外部磁界を印加されることで磁化される。
【０２３２】
磁性層の室温での保磁力は、室温において磁化を保持し、かつ適当な外部磁界により均一に磁化されるものである必要がある。磁性層の室温での保磁力を２０００Ｏｅ以上とすることで、小さな磁区が保持でき高密度記録に適した媒体が得られる。より好ましくは３０００Ｏｅ以上である。
【０２３３】
従来の磁気転写法では、あまり保磁力が高い媒体には転写が困難であるが、磁性層を加熱し保磁力を十分に下げて磁化パターンを形成することにより、保磁力の大きい媒体に磁化パターンを形成することができる。
【０２３４】
ただし、保磁力は好ましくは２０ｋＯｅ以下とする。２０ｋＯｅを超えると、一括磁化のために大きな外部磁界が必要となり、また通常の磁気記録が困難となる可能性がある。
【０２３５】
磁性層は、室温において磁化を保持しつつ、適当な加熱温度では弱い外部磁界で磁化されるものである必要がある。また室温と磁化消失温度との差が大きい方が磁化パターンの磁区が明瞭に形成しやすい。このため磁化消失温度は高いほうが好ましく、１００℃以上が好ましくより好ましくは１５０℃以上である。例えば、キュリー温度近傍（キュリー温度のやや下）や補償温度近傍に磁化消失温度がある。
【０２３６】
キュリー温度は、好ましくは１００℃以上である。１００℃未満では、室温での磁区の安定性が低い傾向がある。より好ましくは１５０℃以上である。また好ましくは７００℃以下である。磁性層をあまり高温に加熱すると、変形してしまう可能性があるためである。
【０２３７】
磁気記録媒体が面内磁気記録媒体である場合、高密度用の高い保磁力を持った磁気記録媒体に対しては従来の磁気転写法では飽和記録が難しく、磁界強度の高い磁化パターン生成が困難となり、半値幅も広がってしまう。このような高記録密度に適した面内記録媒体でも、本方法によれば良好な磁化パターン形成が可能となる。特に、該磁性層の飽和磁化が５０ｅｍｕ／ｃｃ以上である場合は、反磁界の影響が大きいので本発明を適用する効果が大きい。
【０２３８】
なお、１００ｅｍｕ／ｃｃ以上であるとより効果が高い。ただしあまり大きいと磁化パターンの形成がしにくいため、５００ｅｍｕ／ｃｃ以下が好ましい。
【０２３９】
磁気記録媒体が垂直磁気記録媒体であり、磁化パターンが比較的大きく１磁区の単位体積が大きい場合は、飽和磁化が大きくなり、磁気的な減磁作用で磁化反転が起こりやすいためそれがノイズとなり半値幅を悪化させる。しかし、本発明では、軟磁性を使用した下地層の併用で、これらの媒体にも良好な記録が可能となる。
【０２４０】
これら記録層は、記録容量増大などのために、二層以上設けてもよい。このとき、間には他の層を介するのが好ましい。
【０２４１】
磁性層上には保護層を形成するのが好ましい。すなわち、媒体の最表面を硬質の保護層により覆う。保護層はヘッドや衝突や塵埃・ゴミ等のマスクとの挟み込みによる磁性層の損傷を防ぐ働きをする。本発明のようにマスクを用いた磁化パターン形成法を適用する際には、マスクとの接触から媒体を保護する働きもある。
【０２４２】
保護層は、加熱された磁性層の酸化を防止する。磁性層は一般に酸化されやすく、加熱されると更に酸化されやすい。本発明では磁性層をエネルギー線などで局所的に加熱するため、酸化を防ぐための保護層を磁性層上に予め形成しておくことが好ましい。
【０２４３】
磁性層が複数層ある場合には、最表面に近い磁性層の上に保護層を設ければよい。保護層は磁性層上に直接設けても良いし、必要に応じて間に他の働きをする層をはさんでも良い。
【０２４４】
エネルギー線の一部は保護層でも吸収され、熱伝導によって磁性層を局所的に加熱する働きをする。このため保護層が厚すぎると横方向への熱伝導により磁化パターンがぼやけてしまう可能性があるので、膜厚は薄い方が好ましい。また記録再生時の磁性層とヘッドとの距離を小さくするためにも薄い方が好ましい。従って５０ｎｍ以下が好ましく、より好ましくは３０ｎｍ以下、さらに好ましくは２０ｎｍ以下である。ただし、充分な耐久性を得るためには０．１ｎｍ以上が好ましく、より好ましくは１ｎｍ以上である。
【０２４５】
保護層としては、一般にカーボン、水素化カーボン、窒素化カーボン、アモルファスカーボン、ＳｉＣ等の炭素質層やＳｉＯ2、Ｚｒ2Ｏ3、ＳｉＮ、ＴｉＮなどの硬質材料が用いられる。
【０２４６】
磁気ディスクにおいては、ヘッドと磁性層の距離を極限まで近づけるため、非常に硬質の保護層を薄く設けることが好ましい。従って耐衝撃性及び潤滑性の点で炭素質保護膜が好ましく、特にダイヤモンドライクカーボンが好ましい。エネルギー線による磁性層の損傷防止の役割を果たすだけでなく、ヘッドによる磁性層の損傷にも極めて強くなる。本発明の磁化パターン形成法は、炭素質保護層のような不透明な保護層に対しても適用できる。
【０２４７】
また、保護層が２層以上の層から構成されていてもよい。磁性層の直上の保護層としてＣｒを主成分とする層を設けると、磁性層への酸素透過を防ぐ効果が高く好ましい。
【０２４８】
更に保護層上には潤滑層を形成するのが好ましい。媒体のマスク及び磁気ヘッドによる損傷を防ぐ機能を持つ。潤滑層に用いる潤滑剤としては、フッ素系潤滑剤、炭化水素系潤滑剤及びこれらの混合物等が挙げられ、ディップ法、スピンコート法などの常法で塗布することができる。磁化パターン形成の妨げとならないために潤滑層は薄い方が好ましく、１０ｎｍ以下が好ましい。より好ましくは４ｎｍ以下である。十分な潤滑性能を得るためには０．５ｎｍ以上が好ましい。より好ましくは１ｎｍ以上である。
【０２４９】
潤滑層上からエネルギー線を照射する場合には、潤滑剤のダメージ（分解、重合）等を考慮し、再塗布などを行ってもよい。
【０２５０】
以上述べた層以外の層を、必要に応じて設けてもよい。
【０２５１】
浮上型／接触型ヘッドの走行安定性を損なわないよう、磁化パターン形成後の該媒体の表面粗度Ｒａは３ｎｍ以下に保つのが好ましい。なお、媒体表面粗度Ｒａとは潤滑層を含まない媒体表面の粗度であって、触針式表面粗さ計（機種名：Ｔｅｎｃｏｒ Ｐ−１２ｄｉｓｋ ｐｒｏｆｉｌｅｒ(ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ社製)）を用いて測定長４００μｍで測定後、ＪＩＳ  Ｂ０６０１に則って算出した値である。より好ましくは１．５ｎｍ以下とする。
【０２５２】
望ましくは磁化パターン形成後の該媒体の表面うねりＷａを５ｎｍ以下に保つ。Ｗａは潤滑層を含まない媒体表面のうねりであって、触針式表面粗さ計（機種名：Ｔｅｎｃｏｒ Ｐ−１２ｄｉｓｋ ｐｒｏｆｉｌｅｒ(ＫＬＡ Ｔｅｎｃｏｒ社製)）を用いて測定長２ｍｍで測定後、Ｒａ算出に準じて算出した値である。より好ましくは３ｎｍ以下とする。
【０２５３】
磁気記録媒体の各層を形成する成膜方法としては各種の方法が採りうるが、例えば直流（マグネトロン）スパッタリング法、高周波（マグネトロン）スパッタリング法、ＥＣＲスパッタリング法、真空蒸着法などの物理的蒸着法が挙げられる。
【０２５４】
また、成膜時の条件としては、得るべき媒体の特性に応じて、到達真空度、基板加熱の方式と基板温度、スパッタリングガス圧、バイアス電圧等を適宜決定する。例えば、スパッタリング成膜では、通常の場合、到達真空度は５×１０-6Ｔｏｒｒ以下、基板温度は室温〜４００℃、スパッタリングガス圧は１×１０-3〜２０×１０-3Ｔｏｒｒ、バイアス電圧は０〜−５００Ｖが好ましい。
【０２５５】
基板を加熱する場合は下地層形成前から加熱しても良い。或いは、熱吸収率が低い透明な基板を使用する場合には、熱吸収率を高くするため、Ｃｒを主成分とする種子層又はＢ２結晶構造を有する下地層を形成してから基板を加熱し、しかる後に記録層等を形成しても良い。
【０２５６】
記録層が、希土類系の磁性層の場合には、腐食・酸化防止の見地から、ディスクの最内周部及び最外周部を最初マスクして、記録層まで成膜、続く保護層の成膜の際にマスクを外し、記録層を保護層で完全に覆う方法や、保護層が２層の場合には、記録層と第一の保護層までをマスクしたまま成膜、第２の保護層を成膜する際にマスクを外し、やはり記録層を第二の保護層で完全に覆うようにすると希土類系磁性層の腐食、酸化が防げて好適である。
【０２５７】
上述の方法で磁化パターンを形成した磁気記録媒体と、磁気記録媒体を記録方向に駆動する駆動部と、記録部と再生部からなる磁気ヘッドと、磁気ヘッドを磁気記録媒体に対して相対移動させる手段と、磁気ヘッドへの記録信号入力と磁気ヘッドからの再生信号出力を行うための記録再生信号処理手段とを備えることにより、磁気記録装置が構成される。この磁気ヘッドとしては、高密度記録を行うため、通常は浮上型／接触型磁気ヘッドを用いる。
【０２５８】
高精度なサーボパターン等の磁化パターンが形成された磁気記録媒体を用いるので、このような磁気記録装置は高密度記録が可能である。また、媒体に傷がなく欠陥も少ないため、エラーの少ない記録を行うことができる。
【０２５９】
また、磁気記録媒体を装置に組みこんだ後、上記磁化パターンを磁気ヘッドにより再生し信号を得、該信号を基準としてサーボバースト信号を該磁気ヘッドにより記録してなる磁気記録装置に用いることで、簡易に精密なサーボ信号を得ることができる。
【０２６０】
また、磁気ヘッドでのサーボバースト信号記録後にも、ユーザデータ領域として用いられない領域には本発明により磁化パターンとして記録した信号が残っていると何らかの外乱により磁気ヘッドの位置ずれが起きたときにも所望の位置に復帰させやすいので、両者の書き込み方法による信号が存在する磁気記録装置は、信頼性が高い。
【０２６１】
磁気記録装置として代表的な、磁気ディスク装置の一例について次に説明する。
【０２６２】
磁気ディスク装置は、通常、磁気ディスクを１枚或いは複数枚を串刺し状に固定するシャフトと、該シャフトにベアリングを介して接合された磁気ディスクを回転させるモータと、記録及び／又は再生に用いる磁気ヘッドと、該ヘッドが取り付けられたアームと、ヘッドアームを介してヘッドを磁気記録媒体上の任意の位置に移動させることのできるアクチュエータとからなり、記録再生用ヘッドが磁気記録媒体上を一定の浮上量で移動している。記録情報は、信号処理手段を経て記録信号に変換されて磁気ヘッドにより記録される。また、磁気ヘッドにより読み取られた再生信号は同信号処理手段を経て逆変換され、再生情報が得られる。
【０２６３】
ディスク上には、情報信号が同心円状のトラックに沿って、セクター単位で記録される。サーボパターンは通常、セクター間に記録される。磁気ヘッドは該パターンからサーボ信号を読み取り、これによりトラックの中心に正確にトラッキングを行い、そのセクターの情報信号を読み取る。記録時も同様にトラッキングを行う。
【０２６４】
前述の通り、サーボ信号を発生するサーボパターンは、情報を記録する際のトラッキングに使用するという性質上、特に高精度が要求される。また現在多く使用されているサーボパターンは、１トラックあたり、互いに１／２ピッチずれた２組のパターンからなるため、情報信号の１／２のピッチ毎に形成する必要があり、２倍の精度が要求される。
【０２６５】
しかしながら、従来のサーボパターン形成方法では、外部ピンとアクチュエータの重心が異なることから生じる振動の影響でライトトラック幅で０．２〜０．３μｍ程度が限界であり、トラック密度の増加にサーボパターンの精度が追いつかず、磁気記録装置の記録密度向上及びコストダウンの妨げとなりつつある。
【０２６６】
本発明によれば、縮小結像技術を用いることで効率よく精度の高い磁化パターンを形成することができるので、従来のサーボパターン形成方法に比べて格段に低コスト、短時間で精度良くサーボパターンを形成でき、例えば４０ｋＴＰＩ以上に媒体のトラック密度を高めることができる。従って本媒体を用いた磁気記録装置は高密度での記録が可能となる。
【０２６７】
また、位相サーボ方式を用いると連続的に変化するサーボ信号が得られるのでよりトラック密度を上げることができ、０．１μｍ幅以下でのトラッキングも可能となり、より高密度記録が可能である。
【０２６８】
前述のように、位相サーボ方式には、例えば、内周から外周に、半径に対して斜めに直線的に延びる磁化パターンが用いられる。このような、半径方向に連続したパターンや斜めのパターンは、ディスクを回転させながら１トラックずつサーボ信号を記録する従来のサーボパターン形成方法では作りにくく、複雑な計算や構成が必要であった。
【０２６９】
しかし本発明によれば、該形状に応じたマスクを一旦作成すれば、マスクを介してエネルギー線を照射するだけで当該パターンを容易に形成できるため、位相サーボ方式に用いる媒体を簡単かつ短時間、安価に作成することができる。ひいては、高密度記録が可能な、位相サーボ方式の磁気記録装置を提供できる。
【０２７０】
従来主流のサーボパターン形成方法は、媒体を磁気記録装置（ドライブ）に組み込んだのちに、クリーンルーム内で専用のサーボライターを用いて行う。
【０２７１】
各ドライブをサーボライターに装着し、ドライブ表面あるいは裏面のいずれかにある孔よりサーボライターのピンを差し入れ磁気ヘッドを機械的に動かしながら、トラックに沿って１パターンずつ記録を行う。このためドライブ一台あたり１５〜２０分程度と非常に時間がかかる。専用のサーボライターを用い、またドライブに孔を開けるためこれら作業はクリーンルーム内で行う必要があり、工程上も煩雑でコストアップの要因であった。
【０２７２】
本発明の磁化パターン形成方法において、予めパターンを記録したマスクを介してエネルギー線を照射することにより、サーボパターン或いはサーボパターン記録用基準パターンを一括して記録でき、非常に簡便かつ短時間で媒体にサーボパターンを形成できる。このようにしてサーボパターンを形成した媒体を組み込んだ磁気記録装置は、上記サーボパターン書込み工程は不要となる。
【０２７３】
或いはサーボパターン記録用基準パターンを形成した媒体を組み込んだ磁気記録装置は、該基準パターンをもとにして装置内で所望のサーボパターンを書込むことができ、上記のサーボライターは不要であり、クリーンルーム内での作業も必要ない。
【０２７４】
また、磁気記録装置の裏側に孔を開ける必要がなく耐久性や安全性の上でも好ましい。
【０２７５】
さらに、本発明においてはマスクと媒体との間を密着させなくてよいので、磁気記録媒体と他の構成部材との接触による損傷や、微小な塵埃やゴミの挟み込みによる媒体の損傷を防ぎ、欠陥の発生を防ぐことができる。
【０２７６】
以上のように、本発明によれば高密度記録が可能な磁気記録装置を、簡便な工程で安価に得ることができる。
【０２７７】
磁気ヘッドとしては、薄膜ヘッド、ＭＲヘッド、ＧＭＲヘッド、ＴＭＲヘッドなど各種のものを用いることができる。磁気ヘッドの再生部をＭＲヘッドで構成することにより、高記録密度においても十分な信号強度を得ることができ、より高記録密度の磁気記録装置を実現することができる。
【０２７８】
また磁気ヘッドを、浮上量が０．００１μｍ以上、０．０５μｍ未満と、従来より低い高さで浮上させると、出力が向上して高い装置Ｓ／Ｎが得られ、大容量で高信頼性の磁気記録装置を提供することができる。
【０２７９】
また、最尤復号法による信号処理回路を組み合わせるとさらに記録密度を向上でき、例えば、トラック密度１３ｋＴＰＩ以上、線記録密度２５０ｋＦＣＩ以上、１平方インチ当たり３Ｇビット以上の記録密度で記録・再生する場合にも十分なＳ／Ｎが得られる。
【０２８０】
さらに磁気ヘッドの再生部を、互いの磁化方向が外部磁界によって相対的に変化することによって大きな抵抗変化を生じる複数の導電性磁性層と、その導電性磁性層の間に配置された導電性非磁性層からなるＧＭＲヘッド、あるいはスピン・バルブ効果を利用したＧＭＲヘッドとすることにより、信号強度をさらに高めることができ、１平方インチ当たり１０Ｇビット以上、３５０ｋＦＣＩ以上の線記録密度を持った信頼性の高い磁気記録装置の実現が可能となる。
【０２８１】
【実施例】
以下に実施例及び比較例を挙げて本発明をより具体的に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。
【０２８２】
実施例１
３．５インチ径のＮｉＰメッキ付きアルミニウム合金基板を洗浄、乾燥し、その上に到達真空度：１×１０−７Ｔｏｒｒ（１．３×１０−５Ｐａ）、基板温度：３５０℃、バイアス電圧：−２００Ｖ、スパッタリングガス：Ａｒ、ガス圧：３×１０−３Ｔｏｒｒ（０．４Ｐａ）の条件下で、ＮｉＡｌを６０ｎｍ、Ｃｒ９４Ｍｏ６を１０ｎｍ、記録層としてＣｏ７２Ｃｒ１８Ｐｔ１０を２２ｎｍ、保護層としてカーボン（ダイヤモンドライクカーボン）を３ｎｍの厚さにそれぞれ成膜した。
【０２８３】
保護層の上には潤滑層としてフッ素系潤滑剤を１．５ｎｍの厚さに塗布し、１００℃で４０分焼成して、室温での保磁力３０００Ｏｅ、飽和磁化３１０ｅｍｕ／ｃｃのディスク状の面内記録用磁気記録媒体（以下、磁気ディスク又は単にディスクということがある。）を得た。記録層のキュリー温度は２５０℃であった。
【０２８４】
このディスクに、電磁石の磁界方向がディスクの回転方向と同じとなるように構成して、約１０ｋＯｅ（約１０ｋガウス）の強度で磁界を印加して、ディスク面を一様にかつ均一に磁化した。
【０２８５】
次に第５図に示すようなフォトマスクを作製した。
【０２８６】
１２７ｍｍ×１２７ｍｍの正方形で厚さ２．３ｍｍの石英ガラス１３１を基材とし、磁気ディスクに対する面側に、クロムを７５ｎｍ、酸化クロム２５ｎｍの膜厚で順次に成膜し、エッチング領域１３２（パターン領域）をパターン最小幅１μｍにエッチングし、非透過部を形成した。なお、エッチング領域１３２（パターン領域）以外の領域は全てクロム層と酸化クロム層が形成された非透過部である。その後、非感光性ポリイミド樹脂を用いてマスク５０の下面の内周側及び外周側にそれぞれ同心状に円環状のスペーサを作成した。スペーサの突起形成用マスクは、直径約３．５インチのディスク状で、半径１３〜１５．５ｍｍの領域及び半径４７〜４８ｍｍの領域に、直径１００μｍの円形突起部が２００μｍピッチで並んでいる。これにより、第５図に示す如く、パターン領域１３２が半径１８〜４５ｍｍの範囲に形成され、パターン領域１３２の内，外周縁部、つまりパターン領域１３２以外の外周側の半径約４７〜４８ｍｍの範囲１３３ａ及び内周側の半径約１３〜１５．５ｍｍの範囲１３３ｂに、直径１００μｍの略円盤形の突起（スペーサ）が２００μｍピッチで形成されたフォトマスク５０を得た。
【０２８７】
スペーサの高さは、外周側の範囲１３３ａでは２μｍ、内周側の範囲１３３ｂでは、０．５μｍとした。
【０２８８】
このフォトマスクと上記ディスクを第１図〜第４図に示す本発明の磁化パターン形成装置に装着した。
【０２８９】
第２図に示すように、マスク５０を、マスクに形成されたパターンの中心とマスク保持部材５２の中心とが合致するように調整し、固定した。
【０２９０】
次に、ディスク１をターンテーブル１０上に載置し、吸引口１４，１６に−８０ｋＰａの負圧を作用させてディスク１を固定した。この上に上記マスク５０を重ねた。この時、ディスク１の下面部とターンテーブル１０とが接触する位置は、内周側が半径１３〜１５ｍｍの部分（高位部１０ａ）、外周側が半径４７ｍｍより外側の部分（高位部１０ｂ）であった。その後、負圧切替弁２４を切り替え、マスク保持部材５２を真空圧（−８０ｋＰａ）で吸引し、減圧して固定した。
【０２９１】
このマスク５０とディスク１を一体として、３．２秒間で１回転の速度で回転させた。ここに波長２４８ｎｍのエキシマパルスレーザをパルス幅：２５ｎｓｅｃ、パワー（エネルギー密度）：１７０ｍＪ／ｃｍ２、ビーム形状：１０ｍｍ×３０ｍｍ（ピークエネルギーの１／ｅ２となる径）に制御し、レーザ照射口にビーム形状を角度１２°の扇形に整形する遮光板を設置して、繰り返し周波数１０Ｈｚで３２パルス照射し、同時に約１．７ｋガウスの磁界をディスクの円周方向で一様磁化とは逆の方向に永久磁石にて印加し、磁気パターンの形成を試みた。
【０２９２】
なお、ここで用いた、レーザ照射のための光学系の構成は以下の通りである。
【０２９３】
エキシマパルスレーザ光源から発振したパルスレーザはプログラマブルシャッターを通過する。プログラマブルシャッターは光源から所望のパルスのみ取り出す役目をする。
【０２９４】
プログラマブルシャッターで選択されたレーザは、所望のパワーに出力調整された後、ビームエキスパンダに至る。次いで、レーザは短軸方向を３分割するためのプリズムアレイと、長軸方向を７分割するためのプリズムアレイを通過し、投影レンズに至る。プリズムアレイは、レーザを分割し重ね合わせ、エネルギー強度分布を均一にする機能を有する。これらをホモジナイザと称することもある。さらに、レーザは必要に応じて遮光板を通して所望のビーム形状とし、フォトマスクにより強度分布を磁化パターンに応じて変化させた後、ディスクに投影される。
【０２９５】
その後、負圧切替弁２４を切替操作して吸引口１４，１６に負圧（−８０ｋＰａ）を作用させると共に負圧通路４０ｃに大気圧を供給し、マスク５０を取り外した。次いで、負圧切替弁２４を切替操作し、ディスク１を取り外した。１枚のディスクの処理に要する時間は最短で約１秒と短時間であった。
【０２９６】
［塵粒子付着検査］
次に、実施例１の装置において、ディスクは交換せずにマスクのみ１０回着脱した後、ディスク上の塵粒子の数を光学式検査機（日立ＤＥＣＯ社製  ＲＳ１３５０）で測定したところ、２８個と極めて少なかった。
【０２９７】
［凹み検査］
磁気ディスクを５枚準備した。また、スペーサ用突起の高さが内周部１．４μｍ、外周部２．９μｍであること以外は上記と同様のフォトマスクを作成した。
【０２９８】
これらを、第１〜４図に示す本発明の磁化パターン形成装置に装着し、マスク吸引圧力を−４０ｋＰａとして吸引し磁気ディスクとマスクを固定した。そののちマスク吸引を解除するとともに、ディスク吸引圧力を−６５ｋＰａとしてディスクを吸引しマスクを取り外した。次いで、ディスク吸引を解除しディスクを取り外した。
【０２９９】
このような着脱テストを５枚の磁気ディスクについて行ったのち、表面状態を光検査器（日立ＤＥＣＯ社製  ＲＳ１３５０）で検査したところ、いずれも中周域に、３〜５個と少ない乍ら、凹み（デント）が検出された。
【０３００】
比較例１
実施例１と同様に磁気ディスク及びフォトマスクを作成した。
【０３０１】
このディスクに、電磁石の磁界方向がディスクの回転方向と同じとなるように構成して、約１０ｋＯｅ（約１０ｋガウス）の強度で磁界を印加して、ディスク面を一様に磁化した。
【０３０２】
このフォトマスクと上記ディスクを第６図〜第９図に示す特願２００１−１５９２２０号の磁化パターン形成装置に装着した。
【０３０３】
第７図に示すように、マスク６１６を、マスクに形成されたパターンの中心とマスク保持部材６７８の中心とが合致するように調整し、固定した。
【０３０４】
次に、ディスク６０１をターンテーブル６１０に置いてから、スリ割りを開いて固定片６１４によってディスク６０１を位置決めした。この上に上記マスク６１６とマスク保持部材６７８とを置いた。この時、ディスク６０１の下面部とターンテーブル６１０とが接触する位置は、内周側が半径１３〜１５ｍｍの部分（凸段部６１０ａ）、外周側が半径４７ｍｍより外側の部分（凸段部６１０ｂ）であった。その後、マスク保持部材６７８を真空圧−８０ｋＰａで吸引し、減圧して固定した。
【０３０５】
次に、実施例１と同条件で磁化パターン形成を試みた。
【０３０６】
その後、減圧を解除し、マスク及びディスクを取り外した。１枚のディスクの処理に要する時間は最短で約２．５秒であった。
【０３０７】
［塵粒子付着検査］
次に、比較例１の装置において、ディスクは交換せずにマスクのみ１０回着脱した後、ディスク上の塵粒子の数を光学式検査機（日立ＤＥＣＯ社製  ＲＳ１３５０）で測定したところ、１２６１個と極めて多いことが認められた。
【０３０８】
実施例２
第１０図の装置を用いて磁気ディスク及びフォトマスクを作成した。この磁気ディスクに、電磁石の磁界方向がディスクの回転方向と同じとなるように構成して、約１０ｋＯｅ（約１０ｋガウス）の強度で印加して、ディスク面を一様に磁化した。
【０３０９】
このフォトマスクと磁気ディスクを第１０図に示す本発明の磁化パターン形成装置に装着した。
【０３１０】
即ち、ディスク１をターンテーブル１０に載せた後、吸引口１４，１６に負圧（−８０ｋＰａ）を作用させてディスク１を固定した。次いで、このディスク１の上にマスク５０を重ねた後、吸引口１４，１６内への負圧供給はそのまま継続し、新たに凹部４２内に負圧（−８０ｋＰａ）を作用させてマスク５０を固定した。
【０３１１】
次に、実施例１と同条件で磁化パターン形成を行った。その後、マスク吸引を解除しマスクを取り外し、続いてディスク吸引を解除しディスクを取り外した。１枚のディスクの処理に要する時間は最短で１秒と短時間であった。また、このように処理したディスク上の塵粒子の付着数は極めて少ない。
【０３１２】
［凹み検査］
磁気ディスクを５枚準備した。また、スペーサ用突起の高さが内周部１．４μｍ、外周部２．９μｍであること以外は上記と同様のフォトマスクを作成した。
【０３１３】
これらを、第１０図に示す本発明の磁化パターン形成装置に装着し、マスク吸引圧力とディスク吸引圧力をともに−４０ｋＰａとして吸引し、磁気ディスクとマスクを固定した。そののちマスク吸引を解除するとともに、ディスク吸引圧力を−６５ｋＰａとしてディスクを吸引しマスクを取り外した。次いで、ディスク吸引を解除しディスクを取り外した。
【０３１４】
このような着脱テストを５枚の磁気ディスクについて行ったのち、表面状態を実施例１と同様に検査したところ、いずれも中周域には０〜１個の凹み（デント）しか検出されなかった。
【０３１５】
【発明の効果】
以上の通り、本発明によると、高精度にて磁化パターンを効率良く形成することができる。また、本発明によると、磁化パターン形成時に磁気記録媒体に付着する塵粒子を著しく少ないものとすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施の形態に係る磁化パターン形成装置の縦断面図である。
【図２】第１図の磁化パターン形成装置の上部の拡大図である。
【図３】磁気記録媒体及びマスクを装着した状態の磁化パターン形成装置の断面の拡大図である。
【図４】磁化パターン形成装置の上部の模式的な斜視図である。
【図５】実施例１で作製したマスクを示す平面図である。
【図６】比較例１で用いた磁化パターン形成装置を示す縦断面図である。
【図７】第６図の磁化パターン形成装置の上部の拡大図である。
【図８】第６図の装置において磁気記録媒体及びマスクを装着した状態の上部の拡大図である。
【図９】第６図の磁化パターン形成装置の上部の模式的な斜視図である。
【図１０】別の実施の形態に係る磁化パターン形成装置を示す縦断面図である。
【図１１】さらに別の実施の形態に係る磁化パターン形成装置を示す縦断面図である。
【符号の説明】
１  磁気記録媒体（磁気ディスク）
１０，１０’  ターンテーブル
１２  回転駆動軸
１４，１６  吸引口
１８，２０，２２，２６，４０ｃ  負圧通路
２４  負圧切替弁
３０  ハブ
３０ａ  テーパ面
３０Ｈ  ヘッド部
４０  シャフト
４０ａ  ピン
４２  凹部
５０  マスク
５２  マスク保持部材
５４  パッキン
６０（６０ａ，６０ｂ，６０ｃ）  マグネット
９０  凹所
９２，９４  負圧通路
９２ａ，９４ａ  三方弁
９６  真空ポンプ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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