(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁材料からなる基板上に、導電材料からなる導電被覆膜と、該被覆膜に対して絶縁膜を介して膜状に形成される複数の配線とを具備し、前記導電被覆膜の面積Ｓ１と、前記配線のうち前記導電被覆膜と重ならない部分の面積Ｓ２とにおいて、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下に設定されてなることを特徴とする基体。
【請求項２】
前記比率Ｓ２／Ｓ１が０．０００１以下に設定されてなることを特徴とする請求項１記載の基体。
【請求項３】
前記配線がすべて前記導電被覆膜と重なることを特徴とする請求項１記載の基体。
【請求項４】
液晶層を挟持して対向配置され、前記液晶層側の面に、少なくとも所定のパターンの電極を具備する一対の基板のうち、第１基板には少なくとも表示領域を覆う導電性の反射膜が設けられ、
前記第１基板において、前記反射膜の面積Ｓ１と、前電極のうち前記反射膜と重ならない部分の面積Ｓ２とにおいて、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下に設定されてなることを特徴とする液晶表示装置。
【請求項５】
前記比率Ｓ２／Ｓ１が０．０００１以下に設定されてなることを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項６】
前記電極がすべて前記反射膜と重なることを特徴とする請求項４記載の液晶表示装置。
【請求項７】
絶縁材料からなる基板上に、導電材料からなる電磁遮蔽膜と、該電磁遮蔽膜に対して絶縁膜を介して膜状に形成される複数の配線とを具備し、
前記電磁遮蔽膜の面積Ｓ１と、前記配線のうち前記電磁遮蔽膜と重ならない部分の面積Ｓ２とにおいて、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下に設定されてなることを特徴とする電子機器。
【請求項８】
前記比率Ｓ２／Ｓ１が０．０００１以下に設定されてなることを特徴とする請求項７記載の電子機器。
【請求項９】
前記配線がすべて前記電磁遮蔽膜と重なることを特徴とする請求項７記載の電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基体、液晶表示装置および電子機器に係り、特に、反射膜または電磁遮蔽膜等の導体膜および電極を有する基体等に用いて好適な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
図１２は単純マトリックス駆動型の液晶表示装置の例を示すものであり、図１２に示す液晶表示装置２００は、一対の透明の長方形状の基板２２０、２２１をそれらの間に封止材２２２を介在させて一体化させて構成されている。
図１２に示す構成において基板２２０は通常上基板、基板２２１は通常下基板と呼称されるもので、図１２に示すように基板２２１を手前側に基板２２０を裏側にして両者を横長にして起立させた状態において、基板２２０は基板２２１よりも背が高く形成され、基板２２１は基板２２０よりも横幅が長く形成されていて、基板２２０と基板２２１はそれぞれの底辺部分と右側面部分を揃えて一体化されるとともに、基板２２１よりも上にはみ出した部分が基板２２０の延出端部２２３とされ、基板２２０よりも左側部側にはみ出した部分が基板２２１の延出端部２２４とされている。
【０００３】
そしてこれら基板２２０、２２１の間に、基板２２０、２２１の重なり部分の隅部に沿って樹脂製の封止材２２２が基板２２０、２２１に挟まれた状態で介装されている。この封止材２２２は、基板２２０、２２１の重なり部分の周縁部分に沿ってほぼ矩形環状に配置された環状部２２２ａと、基板２２０、２２１の右側面側中央部分において基板２２０、２２１の右側面に向かって互いに離間した状態でほぼ平行に引き出されて形成され基板２２０、２２１の右側面側に液晶の注入部２２６を形成した延長部２２２ｂ、２２２ｂと、該注入部２２６を閉塞して設けられた封止部２２２ｃとから構成されている。また、注入部２２６の若干内側には注入部２２６の幅と同程度の長さの樹脂で形成された線状の土手部材２２７が基板２２０、２２１に挟まれた状態で基板２２０の右側面とほぼ平行に設けられている。
【０００４】
封止材２２２の内側の基板２２０、２２１の対向面には、それぞれ短冊状の多数の表示用電極が平行に形成され、基板２２０に形成された多数の表示用電極２２３ｂと基板２２１に形成された多数の表示用電極２２４ｂとが９０度の角度を持って対向してマトリックス状なるように配置され、封止材２２２の内側には環状の封止材２２２よりも若干狭い矩形状の電極形成領域２３０が形成されている。
この表示用電極２２３ｂ，２２４ｂはインジウム錫酸化物（以下、ＩＴＯと記載する）などの透明な導電材料からなる。
前記基板２２０の延出端部２２３において基板２２１側の面に、前述の多数の表示用電極２２３ｂから引き出された引出電極２２３ａ・・・が整列形成されるとともに、基板２２１の延出端部２２４において基板２２０側の面にも前述の多数の表示用電極２２４ｂから引き出された引出電極２２４ａが整列形成されている。なお、これらの引出電極２２３ａ、２２４ａは、液晶表示装置の駆動用ＩＣなどを取り付けるために利用されるものである。
更に、基板２２０、２２１の対向面側には、電極層の他にオーバーコート層や配向膜が積層され、カラー表示を行う構造の場合は更にカラーフィルタが設けられるが、この形態の説明においてはこれらの部分の説明は省略してある。
【０００５】
基板２２１（下基板）の外面側のほぼ全面に、蒸着Ａｌなどからなる金属反射膜２３１が形成され、この金属反射膜２３１は、前記電極形成領域２３０に対応する部分にのみ金属反射膜が形成されるとともに、その周囲の前記基板２２１の引出電極形成領域に対応する部分では、金属反射膜の未形成部２３１ｂが形成されている。
【０００６】
このような基板２２０を製造する際には、金属反射膜２３１および引出電極２２３ａ，表示用電極２２３ｂを形成した後、配向膜を形成する工程で、印刷用ロールと印刷用の金属ステージとの間で基板２２０を押圧する必要があるため、印刷用の金属ステージに基板２２０が強く押しつけられていた。
さらに、その後の工程において基板２２０を搬送する等のために、金属ステージから、基板２２０を引き剥がすことが必要となっている。このため、基板２２０をその四隅に位置するリフターピンなどにより金属ステージから剥離していた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この基板２２０を金属ステージから剥離する工程において、帯電した電荷に起因した放電により、この表示用電極２２３ｂが損傷を受けてしまい、表示領域に表示欠陥が生じて不良品になってしまうという問題があった。
【０００８】
本願発明者らは、この放電が起きる原因を探求したところ、配向膜印刷工程において、基板２２０と金属ステージが印刷用ロールにより押圧されて密着し、基板２２０と金属ステージとの接触率が上昇することで、この後の工程に搬送するため基板２２０を剥離した際に、この基板２２０が帯電する電荷の量が増えていることが判明した。
さらに、この基板２２０における帯電電位は、図９に示すように各ロットによって異なっており、その帯電量の値が高い場合にこの放電が起きる可能性が高いことが知見された。
【０００９】
そして、本願発明者は、上記の放電を検知するためにＥＭＩ( electromagnetic induced)ロケータを設置して、放電により発生する電磁波を計測することにより、放電の発生過程を特定するとともに、帯電モデルを考慮して、原因を特定しようと試みた。すると、基板２２０が帯電しているため、金属ステージがら剥離される際にリフターピンの当接している付近のみの基板２２０が金属ステージから離間して基板２２０自体が撓み、基板２２０の中央部分は金属ステージに当接した状態となるために、表示用電極２２３ｂ，２２３ｂ間に電位差が生じて放電が発生することを突きとめた。
つまり、静電気破壊の生じる原因を突きとめることができたのである。
【００１０】
さらに、本願発明者らは、鋭意追求した結果、基板裏面に発生した静電気に起因して発生する静電気放電により損傷を受けた部位に位置する隣り合った電極間の電位差が、反射膜の面積と、この反射膜と重ならない部分の電極の面積との比率に応じて変化することを突きとめた。
【００１１】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたもので、以下の目的を達成しようとするものである。
▲１▼ 静電気放電の発生を防止すること。
▲２▼ 静電気放電に起因する電極における欠損発生を防止すること。
▲３▼ 静電気放電に起因する表示欠損の発生を防止すること。
▲４▼ 上記の欠損発生を防止した基体を提供すること
▲５▼ 上記の表示欠損のない液晶表示装置を提供すること。
▲６▼ 上記の欠損を防止した電子機器の提供を図ること。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明の基体においては、絶縁材料からなる基板上に、導電材料からなる導電被覆膜と、該被覆膜に対して絶縁膜を介して膜状に形成される複数の配線とを具備し、
前記導電被覆膜の面積Ｓ１と、前記配線のうち前記導電被覆膜と重ならない部分の面積Ｓ２とにおいて、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下に設定されてなることにより上記課題を解決した。
本発明の液晶表示装置においては、液晶層を挟持して対向配置され、前記液晶層側の面に、少なくとも所定のパターンの電極を具備する一対の基板のうち、第１基板には少なくとも表示領域を覆う導電性の反射膜が設けられ、
前記第１基板において、前記反射膜の面積Ｓ１と、前電極のうち前記反射膜と重ならない部分の面積Ｓ２とにおいて、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下に設定されてなることにより上記課題を解決した。
本発明の電子機器においては、絶縁材料からなる基板上に、導電材料からなる電磁遮蔽膜（導電被覆膜）と、該電磁遮蔽膜に対して絶縁膜を介して膜状に形成される複数の配線とを具備し、
前記電磁遮蔽膜の面積Ｓ１と、前記配線のうち前記電磁遮蔽膜と重ならない部分の面積Ｓ２とにおいて、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下に設定されてなることにより上記課題を解決した。
本発明において、前記比率Ｓ２／Ｓ１が０．０００１以下に設定されてなることが好ましい。
また、本発明において、より好ましくは前記配線（電極）がすべて前記導電被覆膜（電磁遮蔽膜または反射膜）と重なることが可能である。
【００１３】
本発明の基体においては、基板上の各配線のうち任意の一本において前記導電被覆膜と重ならない部分の面積Ｓ２を、前記導電被覆膜の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下になるよう設定されてなることにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各配線間の電位差を抑制することが可能となるため、配線間において静電気放電が発生することを防止し、放電による配線欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率を低下して、歩留まりを向上することが可能となる。
具体的には、比率Ｓ２／Ｓ１を０．００１以下に設定した場合には、（放電による配線欠陥の１つでも発生したセル数）／（製造全セル数）で示される不良率を３％以下とすることが可能となる。
ここで、配線欠陥とは、配線の不良に限るものではなく、静電気放電により配線周囲の構造に影響が出て、所望の性能を呈さない状態を意味するものである。
【００１４】
さらに、この比率Ｓ２／Ｓ１を０．０００１以下に設定されてなることにより、不良率を０．５％とすることが可能であるため、より一層好ましい。
【００１５】
また、前記配線（電極）がすべて前記導電被覆膜（電磁遮蔽膜または反射膜）と重なること、つまり、Ｓ２＝０とすることにより静電気放電に起因する表示欠陥による不良率を０％とすることが可能であるため、より好ましい。
【００１６】
本発明の液晶表示装置においては、基板上の各電極のうち任意の一本において前記反射膜と重ならない部分の面積Ｓ２を、前記反射膜の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下になるよう設定されてなることにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各電極間の電位差を抑制することが可能となるため、電極間において静電気放電が発生することを防止し、放電による表示欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率の増大を防止して、歩留まりを向上することが可能となる。
具体的には、比率Ｓ２／Ｓ１を０．００１以下に設定した場合には、（放電による表示欠陥の１つでも発生したセル数）／（製造全セル数）で示される不良率を３０％以下とすることが可能となる。
【００１７】
本発明の電子機器においては、基板上の各配線のうち任意の一本において前記電磁遮蔽膜と重ならない部分の面積Ｓ２を、前記電磁遮蔽膜の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下になるよう設定されてなることにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各配線間の電位差を抑制することが可能となるため、配線間において静電気放電が発生することを防止し、放電による配線欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率の低下を図り、歩留まりの向上を可能とすることができる。
【００１８】
上記の基体、液晶表示装置および電子機器によれば、製造工程そのものおよび、その際の各条件を変化することなく、導電被覆膜（反射膜、電磁遮蔽膜）の面積Ｓ１と配線（電極）のうち、前記導電被覆膜と重ならない部分の面積Ｓ２とを設定することで、製造設備の改造等の手段を用いることなく、配線（電極）間の放電を防止し、放電に起因した不良率を低減して歩留まりの向上を可能とすることができる。ここで、配線（電極）のうち、前記導電被覆膜と重ならない部分とは、平面視して、導電被覆膜と重ならないと言う意味で、この導電被覆膜と対向していない部分という意味である。
【００１９】
【発明の実施の形態】
［実施形態１］
以下、本発明に係る基体、液晶表示装置の第１実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１は本実施形態における液晶表示装置を示す断面図であり、図２は図１の液晶表示装置におけるコモン基板を示す断面図、図３は同コモン基板を示す平面図、図４は図３の拡大平面図である。
【００２０】
本実施形態の液晶表示装置は反射型の単純マトリックス型の液晶表示装置とされ、図において、符号１は第１基板、２は反射膜、３は表示領域である。
本液晶表示装置は、基本的には、ガラス基板等からなる一対の基板１，３１間にＳＴＮ（Super Twisted Nematic ）液晶等からなる液晶層４５が挟持されている。
【００２１】
図１に示すように、下側基板（第１基板）１の上側基板３１との対向面には、形状転写膜１２を介して、反射膜（導電被覆膜）２、赤（Ｒ），緑（Ｇ），青（Ｂ）などのカラー画素と遮光層（ブラックマトリックス）とからなるカラーフィルタ層２１が順次積層形成され、その上にオーバーコート層１１を介して複数の電極（配線）７が形成され、さらにその上に配向膜４３が形成されて、コモン基板（基体）４７が構成されている。このコモン基板４６は、図１２に示した下基板２２１に対応する構成要素である。
同様に、上側基板３１の下側基板１との対向面にはオーバーコート膜４１を介して下側基板１の表示電極４と直交する方向に延在する複数の電極３７が形成され、その上に配向層４２が順次積層形成されて、セグメント基板４６が構成されている。このセグメント基板４６は図１２に示した上基板２２０に対応する構成要素である。
【００２２】
これら離間して対向配置された一対のガラス基板、すなわちコモン基板４７およびセグメント基板４６とがシール材４４を介して貼合され、これら一対の基板４６，４７に挟持されて表示領域３となる部分の周囲を囲んで形成されたシール材４４に囲まれたセル内に液晶４５を充填することにより形成されている。
また、液晶層４５内には液晶セルのセルギャップを均一化するために、二酸化珪素、ポリスチレン等からなる多数の球状のスペーサが配置されており、上側基板３１の外側には偏光板、位相差板などの光学素子が設けられているが、これらは、図面上省略している。
【００２３】
反射膜２は光を反射する銀やアルミニウムなどからなり、上側基板３１側（観察者側）から入射した太陽光などの外光が液晶層４５を透過し、反射膜２で反射されて、再び液晶層４５、上側基板３１を透過して外部に出射され、表示することが可能な構造になっている。
反射膜２は、表示領域３のみならず、その外側の後述する引出配線６，端子部５に重なる位置まで設けられており、この反射膜２を設ける範囲に関しては後述するように設定される。
【００２４】
カラーフィルター２１は、図１に示すように、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｂ）の着色層と隣接する着色層間を遮光する遮光層（ブラックマトリクス）とからなっている。本実施形態の液晶表示装置において、表示電極４と表示電極３４とが交差する部分が画素になっており、各画素に対応して、赤、緑、青の着色層のうちいずれかの着色層が配置され、赤、緑、青を表示する３つの画素で１つの表示が可能になっている。オーバーコート膜（平坦化膜）１１は有機膜などからなり、カラーフィルター２１を形成した下側基板１の表面を平坦化するために設けられている。
【００２５】
配向膜４２，４３は、ポリイミドなどの配向性高分子からなり、電界を印加しないときの液晶層４５の配向状態に合わせて、その表面は布などを用いて所定の方向にラビングされている。
【００２６】
下側基板１、上側基板３１の液晶層４５側表面上には、各々複数のＩＴＯ（インジウム錫酸化物）などからなる電極（配線）７，３７が形成されており、この電極７，３７間に所定の電圧を印加することにより液晶の配向状態を変化させ、これを光学的に識別することにより、表示することが可能な構造になっている。これら電極７，３７は、表示領域３において、表示電極４，３４としてそれぞれ直交するストライプ状に形成され、これらの表示電極４，３４が交差する部分が画素となっており、液晶を各画素毎に外部から駆動する方式が採用されている。
【００２７】
表示電極４は、表示領域３の内部にストライプ状に形成されており、かつ、その端部が表示領域３外側に位置する引出配線（電極）６を介して表示領域３外側に位置する各端子部（電極）５に接続するように形成されている。これらの表示電極４、引出配線６、端子部５は電極７を構成している。
引出配線６，６…は、それぞれ、例えば幅寸法Ｗ１が７０μｍ、その間隔寸法Ｐ１が２０μｍに設定される。
【００２８】
表示領域３における複数の表示電極４，４…は、図３に示すように、４ブロックに区分されて、それぞれが、異なる部位に集められた端子部５，５に接続されている。
つまり、図３において右端に位置する表示領域３Ａに位置する表示電極４，４…は、それぞれ、図の下側に位置する引出配線６，６…により下側基板１右下隅に位置する端子部５，５…に接続される。同様にして、図３において右から２番目に位置する表示領域３Ｂに位置する表示電極４，４…は、それぞれ、図の上側に位置する引出配線６，６…により下側基板１右上隅に位置する端子部５，５…に接続される。
同様に、図３において左から２番目に位置する表示領域３Ｃに位置する表示電極４，４…は、それぞれ、図の下側に位置する引出配線６，６…により下側基板１左下隅に位置する端子部５，５…に接続される。同様にして、図３において左橋に位置する表示領域３Ｄに位置する表示電極４，４…は、それぞれ、図の上側に位置する引出配線６，６…により下側基板１左上隅に位置する端子部５，５…に接続される。
【００２９】
下側基板１上の電極７は、表示領域３外側に位置する端子部５において異方性導電材からなるシール材４４によって上側基板３１上の電極３５に接続されている。この上側基板３１上の表示領域外に位置する電極３５と、上側基板３１の電極３７とに、各基板の表示電極４，３４，に対して信号を供給する駆動用回路をそれぞれ実装し、各駆動用回路と各透明電極とを電気的に接続する構成とされている。
【００３０】
このように、下側基板１の四隅に設けられた端子部５，５が、異方性導電材料からなるシール材４４、上側基板３１の電極３５を介して駆動用回路と接続される構成とすることで、図１２に示した下基板２２１に設けられていた延出端部２２４が必要なくなり、駆動用回路を上側基板のみに接続（実装）することなどが可能となり、液晶表示装置の小型化を図ることができるとともに、基板への駆動用回路の実装を容易にすることができる。
【００３１】
次に、反射膜２を設ける範囲について説明する。
【００３２】
反射膜２は、図３，図４に示すように、表示領域３の外側位置まで設けられるが、その範囲は、電極７の配置との関係によって設定される。
つまり、反射膜２の面積Ｓ１が、下側基板１上の各電極７，７…のうち任意の一本においてこの反射膜２と平面視して重ならない部分の面積Ｓ２に対して、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下になるように設定されている。
【００３３】
図４においては、この電極７における反射膜２と重ならない部分の面積Ｓ２の一例として、基板１の最外側に位置する引出配線６を有する電極７に対して、Ｓ２となる領域を示してある。つまり、この例では、図３の表示領域３Ａを通る電極７において、反射膜２と重ならない部分の長さが最大であるもの、つまり、電極７の幅Ｗ１と総延長との積で規定される領域Ｓ２の面積が最大のもの、すなわち、反射膜２の面積に対する比率Ｓ２／Ｓ１が最大のものを示した。
従って、図示したＳ２が上記の条件に該当していれば、表示領域３Ａの他の電極７，７…はすべて上記の条件を満たしていることになる。
同様に、表示領域３Ｂ，３Ｃ，３Ｄにおいても、すべての電極７，７…において面積Ｓ２の値が、上記の条件を満たすように、反射膜２の設ける範囲を設定する。
【００３４】
ここで、下側基板１の表示領域３外側には、図３に示すように、表示領域３を通る電極７に接続されていないダミー電極が存在する領域Ｄが設けられている。この領域Ｄに存在するダミー電極は、表示領域３に延在する表示電極４，４間における静電気放電には関与していないと考えられるので、本実施形態において、上記のＳ２／Ｓ１の条件を満たす必要はなく、上記の条件から除外されるものである。
【００３５】
本実施形態の液晶表示装置においては、下側基板１上の各電極７，７…のうち任意の一本において前記反射膜２と重ならない部分の面積Ｓ２を、前記反射膜２の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１が０．００１以下になるよう設定されてなることにより、コモン基板４７の製造工程において、形状転写膜１２、反射膜２、オーバーコート膜１１、電極７の形成された下側基板に対する、次工程としての配向膜４３の印刷時に、コモン基板４７となる下側基板１を金属ステージに載置し、この金属ステージと印刷用ローラとで下側基板１を押圧した後、下側基板１を金属ステージから剥離する際に、発生する静電気に起因して生じる各電極７，７…間の電位差を抑制することが可能となる。
【００３６】
これにより、配向膜４３印刷の次工程のために、金属ステージから下側基板１を引き剥がしたときに、各電極７，７…間において静電気放電が発生することを防止することが可能となる。従って、放電に起因する電極７，７の破損（配線欠陥）、あるいはオーバーコート膜１１の絶縁不良等による表示欠陥の発生する不良率を３パーセント以下にすることができる。
ここで、不良率とは、全製造セル数に対して静電気放電に起因する表示欠損の生じたセル数の比で表される。
【００３７】
また、本実施形態の液晶表示装置によれば、製造工程そのものおよび、その際の各条件を変化することなく、反射膜２を表示領域の外側に伸長することのみ、つまり、反射膜２の下側基板１に対する形成位置を設定することのみにより、製造設備の改造等の手段を用いることなく、電極７，７…間の放電を防止し、静電放電に起因した不良率を低減して歩留まりの向上を可能とすることができる。
【００３８】
なお、本実施形態においては、反射膜２の輪郭を矩形としたが、この形状に限るものではなく、本発明の趣旨の範囲で種々の形状が可能である。たとえば、図１４に示すように、各表示領域３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄにおいて、それぞれ、各電極７が反射膜２と重ならない部分の長さが同一になるようにする、あるいは、各電極７，７に対してＳ２／Ｓ１の比率のばらつきを低減するようにすることも可能である。
【００３９】
［実施形態２］
以下、本発明に係る基体、液晶表示装置の第２実施形態を、図面に基づいて説明する。
【００４０】
本実施形態において、図１ないし図４に示した第１実施形態と異なる点は、反射膜２に対する電極７の配置であり、それ以外の対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
図５は、本実施形態の液晶表示装置におけるコモン基板を示す平面図である。
【００４１】
本実施形態のコモン基板４７においては、その下側基板１に対する反射膜２の配置が、図３，図４に示す第１実施形態と略同一とされており、図５に示すように、各電極７，７においては、引出配線６’，６’…が反射膜２とすべて重なるように設定されている。
つまり、各電極７，７…において反射膜２と重ならない部分は、端子部５，５…のみとされている。これは各引出配線６’，６’…において、例えば、それぞれ幅寸法Ｗ１を５０μｍに設定することにより実現される。
【００４２】
そして、反射膜２の面積Ｓ１が、下側基板１上の各電極７，７…のうち任意の一本においてこの反射膜２と平面視して重ならない部分の面積Ｓ２に対して、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０．０００１以下になるように設定されている。
【００４３】
これは、図４に示した第１実施形態に比べて、この電極７における反射膜２と重ならない部分の面積Ｓ２のうち、端子部５の部分のみが本実施形態におけるＳ２として規定されることを示している。つまり、この例では、図５の各表示領域３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄを通る電極７，７において、反射膜２と重ならない部分の面積Ｓ２はすべて等しく設定される。すなわち、反射膜２の面積に対する比率Ｓ２／Ｓ１の値がすべて同一の０．０００１に設定されている。
【００４４】
本実施形態の液晶表示装置においては、前述の第１実施形態と同様の効果を奏することができるとともに、下側基板１上の各電極７，７のうち任意の一本において前記反射膜２と重ならない部分の面積Ｓ２を、前記反射膜２の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１が０．０００１以下になるよう設定されてなることにより、コモン基板４７の製造工程において、形状転写膜１２、反射膜２、オーバーコート膜１１、電極７の形成された下側基板に対する、次工程としての配向膜４３の印刷時に、コモン基板４７となる下側基板１を金属ステージに載置し、この金属ステージと印刷用ローラとで下側基板１を押圧した後、下側基板１を金属ステージから剥離する際に、発生する静電気に起因して生じる各電極７，７…間の電位差をより一層抑制することが可能となる。
【００４５】
これにより、配向膜４３印刷の次工程のために、金属ステージから下側基板１を引き剥がした場合に、各電極７，７…間において静電気放電が発生することをさらに防止することが可能となる。従って、放電に起因する電極７，７の破損、あるいはオーバーコート膜１１の絶縁不良等による表示欠陥の発生する不良率を０．５パーセント以下にすることができる。
【００４６】
なお、本実施形態においては、引出配線６’，６’…の幅寸法を第１実施形態の値よりも小さくすることによって、面積比率Ｓ２／Ｓ１の値を０．０００１に設定したが、これ以外にも、反射膜２の形状を変化することによって、この面積比率Ｓ２／Ｓ１の値を変化することが可能である。
【００４７】
［実施形態３］
以下、本発明に係る基体、液晶表示装置の第３実施形態を、図面に基づいて説明する。
【００４８】
本実施形態において、図１ないし図４に示した第１実施形態と異なる点は、下側基板１に対する反射膜２’の配置であり、それ以外の対応する構成要素には同一の符号を付してその説明を省略する。
図６は、本実施形態の液晶表示装置におけるコモン基板を示す平面図である。
【００４９】
本実施形態のコモン基板４７においては、反射膜２’が下側基板１を略同一の面積を有するように設定されており、図６に示すように、各電極７，７が反射膜２’とすべて重なるように設定されている。
つまり、各電極７，７…において反射膜２’と重ならない部分はない、つまり、各電極７，７において反射膜２に対向しない部分が存在しないように設定されている。
【００５０】
そして、反射膜２’の面積Ｓ１が、下側基板１上の各電極７，７…のうち任意の一本においてこの反射膜２と平面視して重ならない部分の面積Ｓ２に対して、これらの面積の比率Ｓ２／Ｓ１が０になるように設定されている。
【００５１】
本実施形態の液晶表示装置においては、前述の第１実施形態と同様の効果を奏することができるとともに、下側基板１上の各電極７のうち任意の一本において前記反射膜２’と重ならない部分の面積Ｓ２を０とし、前記反射膜２’の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１を０になるよう設定してなることにより、コモン基板４７の製造工程において、形状転写膜１２、反射膜２’、オーバーコート膜１１、電極７の形成された下側基板に対する、次工程としての配向膜４３の印刷時に、コモン基板４７となる下側基板１を金属ステージに載置し、この金属ステージと印刷用ローラとで下側基板１を押圧した後、下側基板１を金属ステージから剥離する際に、発生する静電気に起因して生じる各電極７，７…間の電位差をなくすことが可能となる。
【００５２】
これにより、配向膜４３印刷の次工程のために、金属ステージから下側基板１を引き剥がした場合に、各電極７，７…間において静電気放電が発生することを完全に防止することが可能となる。従って、放電に起因する電極７，７の破損、あるいはオーバーコート膜１１の絶縁不良等による表示欠陥の発生する不良率を０パーセントにすることができる。
【００５３】
なお、上記の各実施形態においては、カラー型液晶表示装置およびその基体として説明したが、図７に示すように、カラーフィルタ層２１のない構成とすることも可能である
【００５４】
［実施形態４］
以下、本発明に係る基体、電子機器の第４実施形態を、図面に基づいて説明する。
図１０は、本発明の電子機器の一例を示した図であり、図１１は、図１０に示す電子機器の積層構造の要部を示す斜視図である。
【００５５】
本実施形態における電子機器は、コンピュータ等に使用されるパッドタイプのデータ入力装置１００であり、図１０、図１１に示すように、電極パターンが形成され、かつ、スルーホールを有するセンサ基板１０２と、片面に配線パターンが施されセンサ基板１０２と逆側に電磁波を遮蔽するための電磁遮蔽膜２０が設けられた第１基板としてのプリント配線基板（以下、ＰＣＢで示す。）１２０とが、絶縁層を介して接着された積層基板を用いたものである。
【００５６】
前記センサ基板１０２は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）などの樹脂シートからなり、図１１に示すように、前記センサ基板１０２の表面には、複数本のＸ電極１１２が平行に形成され、裏面には、複数本のＹ電極１１３が平行に形成されている。前記Ｘ電極１１２と前記Ｙ電極１１３とは、図１１に示すように、マトリックス状に配置されて交又し、この交又部分には、入力点が形成されている。
【００５７】
このデータ入力装置１００では、前記入力点において、Ｘ電極１１２とＹ電極１１３との間の静電容量が変化することにより、座標情報の入力が行なわれる。
【００５８】
図１１に示すように、前記センサ基板１０２のＸ電極１１２と平行な縁部には、前記Ｙ電極１１３の端部１１７と前記端部１１７に対向するダミー電極１１４とが形成されている。一方、前記センサ基板１０２のＹ電極１１３と平行な縁部には、前記Ｘ電極１１２の端部１１６と前記端部１１６に対向するダミー電極１１３ａとが形成されている。
【００５９】
そして、前記Ｙ電極１１３の端部１１７とダミー電極１１４とが対向している領域内で、センサ基板１０２を貫通するスルーホール１３５が形成され、同じくＸ電極１１２の端部１１６とダミー電極１１３ａとが対向している領域内で、センサ基板１０２を貫通するスルーホール１３６が形成されている。
【００６０】
また、図１１に示すように、前記センサ基板１０２のＸ電極１１２と平行な縁部のスルーホール１３５の外側には、空気抜き通路の縦通路を構成する空気穴１０２ａが形成されている。
【００６１】
さらに、センサ基板１０２の表面の縁部には、図１１に示すように、グランドパターン１１８が一体に形成されている。前記グランドパターン１１８の端部は、図１１に示すように、積層基板の外部に露出してフレームグランド１１５とされる。前記フレームグランド１１５は、静電気を接地部へ逃がすためのものである。
【００６２】
なお、分解能を高めるため、前記Ｙ電極１１３のラインの幅は、Ｘ電極１１２のラィンの幅よりも太く形成されることが好ましい。また、前記センサ基板（樹脂シート）１０２の厚さは、２５０〜８００μｍ程度とすることが好ましい。
【００６３】
前記センサ基板１０２の上面には、図１１に示すように、例えば、エポキシ樹脂などからなるレジスト膜１０６が積層されており、下側にも同様のレジスト膜が積層されている。
【００６４】
前記センサ基板１０２の表面側（図示上側）に設けられ、前記センサ基板１０２の表面側の絶縁層となるレジスト膜１０６のＸ電極１１２と平行な縁部には、図１１に示すように、前記空気抜き通路の縦通路の一部を構成する空気穴１２４ａと、前記縦通路を囲むように外側に向かって張り出して設けられた張り出し部１２４とが形成されている。また、前記レジスト膜１０６には、前記Ｘ電極１１２の端部１１６を露出させ、前記スルーホール１３６に対向する位置と、前記Ｙ電極１１３の端部１１７に対向するダミー電極１１４を露出させ、前記スルーホール１３５に対向する位置とに切欠き穴１２５が設けられている。
【００６５】
一方、前記センサ基板１０２の裏面側（図示下側）に設けられた絶縁層となるレジスト膜には、センサ基板１０２のダミー電極１１３ａを露出させ、前記スルーホール１３６と対向する位置に形成された切り欠き穴と、Ｙ電極１１３の端部１１７を露出させ、前記スルーホール１３５と対向する位置に形成された円形穴と、この円形穴からセンサ基板１０２に設けられた空気穴１０２ａの下側の位置まで連続して形成された空気抜け通路の横通路とが備えられている。
【００６６】
このレジスト膜の下面にはグランド層が形成されている。このグランド層は、ＰＥＴなどの絶縁シートにＣｕ箔またはＡｇ系ぺーストを接着または印刷することにより形成されている。グランド層には、前記縦通路の一部を構成する空気穴と、前記レジスト膜に設けられた円形穴および切欠き穴に対向する位置に形成された切欠き穴とが備えられている。前記切欠き穴は、円形穴または前記切欠き穴と連続して形成されている。さらに、グランド層の下面には、接着層が形成されている。なお、前記接着層の材質は、ホットメルト接着剤などが好ましい。また、この接着層は、ＰＣＢ１２０の表面またはセンサ基板１０２側の前記グランド層の表面に印刷法などにより形成される。
【００６７】
図１１に示すように、第１基板となる前記ＰＣＢ１２０は、裏面（図示下側）にのみ配線パターンが形成された片面基板である。図１１に示すように、前記ＰＣＢ１２０の裏面において、前記センサ基板１０２のダミー電極１１３ａおよびＹ電極１１３の端部１１７に対向する部分には、ランド１８２が形成されている。そして、前記ランド１８２の位置にスルーホール１２３が形成されている。すなわち、図１１に示すように、前記センサ基板１０２のパターン（ｉ），（ｉｉ），（ｉｉｉ）…と、前記ＰＣＢ１２０側のランド（ｉ），（ｉｉ），（ｉｉｉ）…とが、スルーホール１３５および１２３を介してそれぞれ対向し、さらに、前記センサ基板１０２のパターン▲１▼，▲２▼…と、前記ＰＣＢ２０側のランド▲１▼，▲２▼…とが、スルーホール１３６および１２３を介してそれぞれ対向している。
【００６８】
さらに、前記ＰＣＢ１２０の裏面には、前記ランド１８２から延びる配線パターンが形成され、さらに電磁遮蔽膜２０がその全面に設けられている。前記配線パターンには電気的に接続するようにＩＣなどの電子部品が実装されている。
【００６９】
電磁遮蔽膜２０は例えばＡｌ等の金属とされ、データ入力装置１００裏面側に位置する電子部品等から放射される電磁を遮蔽して、このデータ入力装置１００の動作安定性を維持するためのものとされ、ＰＣＢ１２０の全面に形成される。図においては、説明のためセンサ基板１０２、プリント配線基板１２０電磁遮蔽膜２０を離間して描いてある。
【００７０】
図１１に示すように、前記センサ基板１２と前記ＰＣＢ１２０とが積層され、接着層を介して接着された積層体に対し、前記センサ基板１０２のスルーホール１３５および１３６から導電材が充填される。
この導電材は、導電性樹脂、例えば、エポキシ及びフェノールまたはポリエステル系などの熱硬化性樹脂にＡｇなどの導電性フィラーが混入されたものを使用することができる。前記導電材は、センサ基板１０２の表面の図１１に示すスルーホール１３５および１３６が形成されている位置にスキージで充填される。
そして、前記導電材により、センサ基板１０２のＸ電極１１２およびＹ電極１１３の端部１１７と、ＰＣＢ１２０の裏面のランド１８２とが電気的に接続され、積層基板とされる。
【００７１】
本実施形態のデータ入力装置１００は、前記積層基板のレジスト膜１０６の上面に、データを入力する際に指に直接接触するフェイスシートが、積層されてなるものである。
このように構成されたデータ入力装置１００では、操作者がフェイスシート上を指で軽く擦るようにスライドさせることにより、前記センサ基板１０２に形成されたＸ電極１１２およびＹ電極１１３において、Ｘ電極１１２からＹ電極１１３へ向かう電気力線の一部が操作者の指に吸収される。それにより、Ｙ電極１１３に吸収される電気力線が減って、静電容量が変化するという現象が起こる。そして、前記静電容量の変化に応じて変化するセンサ基板１０２の電流出力値に基づいて、指を押し当てた座標の位置が検出される。
【００７２】
このようなデータ入力装置１００においては、Ｙ電極１１３が、電磁遮蔽膜２０と重なっていない部分がないため、図６に示す第３実施形態と同様、Ｓ１／Ｓ２の値は０となる。ここで、電磁遮蔽膜２０は反射膜２’に対応しており、Ｙ電極１１３は電極７に対応している。
【００７３】
本実施形態の電子機器としてのデータ入力装置１００においては、前述の第３実施形態と同様の効果を奏することができる。つまり、Ｙ電極１１３のうち任意の一本において電磁遮蔽膜２０と重ならない部分の面積Ｓ２を、電磁遮蔽膜２０の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１を０になるよう設定することにより、製造工程などで発生する静電気に起因して生じるＹ電極１１３、１１３間の電位差を抑制し、放電発生を防止して、静電気放電に起因するＹ電極１１３，１１３の破損、等による配線欠陥の発生する不良率を０パーセントにすることが可能となる。
【００７４】
［実施例］
以下、本発明の実施例として、次のように面積の比率Ｓ２／Ｓ１を変化させて、その際の不良率を測定した。
【００７５】
（実施例１）
先ず、実施例１として、図３に示す第１実施形態と同等の構造を製造した。この実施例１において、面積の比率Ｓ２／Ｓ１は０．００１以下に設定される。
具体的な各部の寸法は以下のとうりである。
【００７６】
Ｓ１に相当する反射膜２の寸法：４．３ｃｍ×３．６ｃｍ
Ｓ２の一部である引出配線６のうち最長のもの、つまり、表示領域３Ｃにおいて最外側に位置する引出配線６のうち、図３に示すように斜めになった引出配線６ａにおける幅寸法１５５μｍ×長さ０．３６ｃｍ
同図３において左右方向に延在する引出配線６ｂにおける幅寸法７０μ×長さ１．１ｃｍ
端子部５の幅寸法５０μｍ×０．３ｃｍ
【００７７】
（実施例２）
次に、実施例２として、図５に示す第２実施形態と同等の構造を製造した。この実施例２において、面積の比率Ｓ２／Ｓ１は０．０００１に設定される。
具体的な各部の寸法は以下のとうりである。
【００７８】
Ｓ１に相当する反射膜２の寸法：４．３ｃｍ×３．６ｃｍ
Ｓ２の一部である電極７のうち端子部５の幅寸法５０μｍ×０．３ｃｍ
【００７９】
（実施例３）
次に、実施例３として、図６に示す第３実施形態と同等の構造を製造した。この実施例３においては、反射膜２は基板１のすべての部分を覆うように設けられる。
【００８０】
（比較例）
そして、比較例として、図３に示す実施例１において、反射膜２の構造が異なる構造を製造した。この比較例においては、図３に示した構造で反射膜２が表示領域３のみに設けられるとともに、引出配線６の幅寸法が大きく設定されており、面積の比率Ｓ２／Ｓ１は０．００１３に設定される。
具体的な各部の寸法は以下のとうりである。
【００８１】
Ｓ１に相当する反射膜２”の寸法：３．８ｃｍ×３．０ｃｍ
Ｓ２の一部である引出配線６のうち最長のもの、つまり、表示領域３Ｃにおいて最外側に位置する引出配線６のうち、図３に示すものと同様に斜めになった引出配線６ａにおける幅寸法１５５μｍ×長さ０．３６ｃｍ
同図３に示すものと同様に左右方向に延在する引出配線６ｂにおける幅寸法７０μ×長さ１．１ｃｍ
端子部５の幅寸法５０μｍ×０．３ｃｍ
【００８２】
上記のような実施例１〜３および比較例の構造のセルを４０００個づつ製造し、このときの不良率を測定した。
不良率は、（静電気放電による表示欠陥が１つでも発生したセル数）／（製造全セル数）をパーセントで表した。
その結果を図９に示す。
【００８３】
このグラフによれば、Ｓ１／Ｓ２の値が０．００１３程度の比較例であると不良率が３０％程度となっているが、Ｓ１／Ｓ２の値を０．００１に設定した実施例１であると、不良率が３％まで低減し、Ｓ１／Ｓ２の値を０．０００１に設定した実施例２であると、不良率が０．５％まで低減し、Ｓ１／Ｓ２の値を０に設定した実施例３であると、不良率が０％となることがわかる。
【００８４】
これにより、本発明において、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各電極間の電位差を抑制することを可能とし、電極間において放電の発生を防止可能なことがわかる。
【００８５】
【発明の効果】
本発明の基体、液晶表示装置および電子機器によれば、基板上の各電極（配線）のうち任意の一本において反射膜（導電被覆膜）と重ならない部分の面積Ｓ２を、反射膜の面積Ｓ１に対する比率Ｓ２／Ｓ１を０．００１以下または０．０００１または０になるよう設定することにより、製造時等に発生する静電気に起因して生じる各電極間の電位差を抑制することが可能となるため、電極間において放電が発生することを防止し、静電気放電による表示欠陥の発生した製品数の全品数に対する割合である不良率の増大を防止して、歩留まりを向上することが可能となるという効果を奏することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】   本発明に係る液晶表示装置の第１実施形態を示す断面図である。
【図２】   図１の液晶表示装置におけるコモン基板を示す断面図である。
【図３】   図２のコモン基板を示す平面図である。
【図４】   図３における拡大平面図である。
【図５】   本発明における液晶表示装置の第２実施形態におけるコモン基板を示す平面図である。
【図６】   本発明における液晶表示装置の第３実施形態におけるコモン基板を示す平面図である。
【図７】   本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態におけるコモン基板を示す断面図である。
【図８】   配向膜印刷工程における各ロットの停電電位のばらつきを示すグラフである。
【図９】   本発明の実施例における面積比（Ｓ１／Ｓ２）と不良率（％）とを示すグラフである。
【図１０】   本発明に係る電子機器の第４実施形態を示す平面図である。
【図１１】   図１０の電子機器を示す分解斜視図である。
【図１２】   従来の液晶表示装置を示す平面図である。
【図１３】   本発明に係る液晶表示装置の他の実施形態を示す断面図である。
【符号の説明】
１…下側基板（基板）
２，２’…反射膜（導電被覆膜）
３，３Ａ，３Ｂ，３Ｃ，３Ｄ…表示領域
４，３４…表示電極
５…端子部
６、６’…引出配線
７，３７…電極（配線）
１１…オーバーコート膜
１２…形状転写膜
２１…カラーフィルタ層
３１…上側基板
３５…電極
４１…オーバーコート膜
４２，４３…配向膜
４４…シール材
４５…液晶層
４６…セグメント基板
４７…コモン基板（基体）
２０…電磁遮蔽膜（導電被覆層）
【図１】
0003880317.tif 000002
【図２】
0003880317.tif 000003
【図３】
0003880317.tif 000004
【図４】
0003880317.tif 000005
【図５】
0003880317.tif 000006
【図６】
0003880317.tif 000007
【図７】
0003880317.tif 000008
【図８】
0003880317.tif 000009
【図９】
0003880317.tif 000010
【図１０】
0003880317.tif 000011
【図１１】
0003880317.tif 000012
【図１２】
0003880317.tif 000013
【図１３】
0003880317.tif 000014