(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１パルス光（５０）の第１入力端子（１０）と、
第２パルス光（５４）の第２入力端子（１２）と、
第１及び第２の入出力ポートを具備する光パルス分離・合成装置であって、当該第１入出力ポート（１６ａ）に入力する光パルスから先行光パルスと当該先行光パルスから所定時間遅れた後行光パルスとを生成して当該第１の入出力ポート（１６ａ）から出力し、当該第２入出力ポート（１６ｂ）に入力する当該所定時間だけ離れた２つの光パルスを同一時間位置に合成し、合成パルスを当該第２入出力ポート（１６ｂ）から出力する光パルス分離・合成装置（１６）と、
第１、第２及び第３ポートを具備する第１の光サーキュレータ（１４）であって、当該第１ポートが当該第１入力端子（１０）に接続し、当該第２ポートが当該光パルス分離・合成装置の当該第１入出力ポート（１６ａ）に接続する第１の光サーキュレータ（１４）と、
当該第１の光サーキュレータ（１４）の当該第３ポートの出力光に当該第２の入力端子（１２）からの当該第２パルス光（５４）を合波する光合波器（３２）と、
当該光合波器（３２）の出力光が入力し、当該第１の光サーキュレータ（１４）の当該第３ポートの出力光に含まれる後行光パルスの位相を当該第２パルス光により変調する位相変調器であって、当該第２パルス光の有無により当該後行光パルスの位相変調量がπだけ異なる位相変調器（３４）と、
第１、第２及び第３ポートを具備する第２の光サーキュレータ（３６）であって、当該位相変調器（３４）から出力され当該第１ポートに入力する当該先行光パルス及び当該後行光パルスを当該第２ポートから当該光パルス分離・合成装置（１６）の当該第２入出力ポート（１６ｂ）に供給し、当該光パルス分離・合成装置（１６）の当該第２入出力ポート（１６ｂ）から当該第２ポートに入力する光を当該第３ポートから出力する第２の光サーキュレータ（３６）と、
当該第２の光サーキュレータ（３６）の当該第３ポートの出力から所定偏光成分を抽出する偏波分離装置（３８）
とを具備することを特徴とする光信号処理装置。
【請求項２】
当該偏波分離装置（３８）が、当該第２の光サーキュレータ（３６）の当該第３ポートの出力から当該所定偏光成分と当該所定偏光成分に直交する偏光成分を抽出する請求項１に記載の光信号処理装置。
【請求項３】
当該光パルス分離・合成装置（１６）が、
第１及び第２の反射器（２０，２２）と、
当該第１の入出力ポート（１６ａ）の入力光を互いに直交する偏波に分離し、一方の偏波成分を当該第１の反射器（２０）に供給し、当該第１の反射器（２０）の反射光を当該先行光パルスとして当該第１の入出力ポート（１６ａ）に供給すると共に、他方の偏波成分を当該第２の反射器（２２）に供給し、当該第２の反射器（２２）の反射光を当該後行光パルスとして当該第１の入出力ポート（１６ａ）に供給し、かつ、当該第２の入出力ポート（１６ｂ）の入力光の内の先行する光パルスを当該第２の反射器（２２）に供給し、当該第２の反射器（２２）の反射光を当該第２の入出力ポート（１６ｂ）に供給すると共に、後行する光パルスを当該第１の反射器（２０）に供給し、当該第１の反射器（２０）の反射光を当該第２の入出力ポートに供給する偏光ビームスプリッタ（１８）
とからなる請求項１に記載の光信号処理装置。
【請求項４】
更に、当該第１の反射器（２０）と当該偏光ビームスプリッタ（１８）との間の光路長を調節する第１の調節装置（２８，３０）を具備する請求項１に記載の光信号処理装置。
【請求項５】
更に、当該第２の反射器（２２）と当該偏光ビームスプリッタ（１８）との間の光路長を調節する第２の調節装置（２９，３０）を具備する請求項１に記載の光信号処理装置。
【請求項６】
当該位相変調器（３４）が半導体光増幅器からなる請求項１に記載の光信号処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光信号処理装置に関し、より具体的には、光スイッチ、光ゲート装置、時分割多重光信号を分離する分離装置、波長変換装置及び光論理演算装置として利用可能であり、４０Ｇｂｉｔ／ｓ以上の高速で動作可能な光信号処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
４０Ｇｂｉｔ／ｓ以上のビットレートで波長変換又は光再生を行う全光スイッチとして、様々な方式が提案されている。４０Ｇｂｐｓを超える高速動作が可能である光スイッチとして、半導体光アンプ（ＳＯＡ）と光干渉計を組み合わせた構成が報告されている（例えば、Ｙ．  Ｕｅｎｏ，  ｅｔ  ａｌ．，”Ｕｌｔｒａｈｉｇｈ−ｓｐｅｅｄ  ａｌｌ−ｏｐｔｉｃａｌ  ｄａｔａ  ｒｅｇｅｎｅｒａｔｉｏｎ  ａｎｄ  ｗａｖｅｌｅｎｇｔｈ  ｃｏｎｖｅｒｓｉｏｎ  ｆｏｒ  ＯＴＤＭ  ｓｙｓｔｅｍ”，  ｉｎ  ｔｈｅ  ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇ  ｏｆ  Ｅｕｒｏｐｅａｎ  Ｃｏｎｆｅｒｅｎｃｅ  ｏｎ  Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｏｍｍｕｎｉｃａｔｉｏｎ  ２００２，  （２００２）  Ｔｈ．Ｆ．２．１）。この構成では、ＳＯＡの相互位相変調（ＸＰＭ）を利用して、マッハツェンダ型又はマイケルソン型干渉計を差動動作させる事で、ＳＯＡ単体の応答速度を超える動作速度を実現する。
【０００３】
中でも、二つの複屈折率媒体の偏波モード分散（ＰＭＤ）によって偏光合分波を行う偏光分離型干渉系とＳＯＡを組み合わせた光スイッチは、ＵＮＩ（Ｕｌｔｒａｆａｓｔ  Ｎｏｎｌｉｎｅａｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ）と呼ばれている（例えば、Ｋ．  Ｌ．  Ｈａｌｌ，  ｅｔ  ａｌ．，”１００  Ｇｂｉｔ／ｓ  ｂｉｔ  ｗｉｓｅ  ｌｏｇｉｃ”，  Ｏｐｔｉｃｓ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ｖｏｌ．  ２３，  ｐｐ．１２７１，  （１９９８））。この光スイッチでは、ＳＯＡの利得回復時間より１桁以上短い１００Ｇｂｐｓの繰り返し時間においてＰＲＢＳ２３１−１の変調信号での動作が実証されており、超４０Ｇｂｐｓ動作の光スイッチとして非常に有望である。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ＵＮＩ構成の場合、光干渉計を構成する複屈折率媒体素子（ＨｉＢｉ素子）として、分離用素子と合波用素子の二つの素子が必要となる。完全にＰＭＤ量が一致するＨｉＢｉ素子を二つ用意することは物理的に不可能であり、その補正用にバビネ・ソレイユ位相補償素子等を別途用意する必要があった。また、ＨｉＢｉ素子を一つにした構成も提案されている（例えば、Ｃ．  Ｓｃｈｕｂｅｒｔ，  ｅｔ  ａｌ．，”１６０−Ｇｂ／ｓ  Ａｌｌ−Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｄｅｍｕｌｔｉｐｌｅｘｉｎｇ  ｕｓｉｎｇ  ａ  Ｇａｉｎ−Ｔｒａｎｓｐａｒｅｎｔ  Ｕｌｔｒａｆａｓｔ−Ｎｏｎｌｉｎｅａｒ  Ｉｎｔｅｒｆｅｒｏｍｅｔｅｒ  （ＧＴ−ＵＮＩ）”，  ＩＥＥＥ  Ｐｈｏｔｏｎｉｃｓ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  Ｌｅｔｔｅｒｓ，  ｖｏｌ．  １３，  Ｎｏ．  ５  ｐｐ．４７５  （２００１））。
【０００５】
何れの場合も、ＰＭＤ量が固定されたＨｉＢｉ素子を用いるので、波長変換したい光パルスの幅が原理的に制限され、その結果、光パルス幅に応じた光スイッチの構成を予め決定しておかなければならないという制約があった。
【０００６】
これらの事から、従来の構成では、装置の複雑さと装置構成の柔軟性など、実用上で幾つかの問題があった。
【０００７】
この種の光スイッチはまた、信号の光キャリアを変更する波長変換装置として、特定のタイムスロットの信号を抽出する光ゲート装置として、時分割多重光信号を分離する分離装置として、また、複数のパルス間の論理演算装置としても機能し、このような装置として使用する場合にも、構成の簡略化が望まれる。
【０００８】
本発明は、このような問題点を解決し、より簡単な構成で高速に動作する光信号処理装置を提示することを目的とする。
【０００９】
本発明はまた、光パルス幅の制約が少ない光信号処理装置を提示することを目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光信号処理装置は、第１パルス光の第１入力端子と、第２パルス光の第２入力端子と、第１及び第２の入出力ポートを具備する光パルス分離・合成装置であって、当該第１入出力ポートに入力する光パルスから先行光パルスと当該先行光パルスから所定時間遅れた後行光パルスとを生成して当該第１の入出力ポートから出力し、当該第２入出力ポートに入力する当該所定時間だけ離れた２つの光パルスを同一時間位置に合成し、合成パルスを当該第２入出力ポートから出力する光パルス分離・合成装置と、第１、第２及び第３ポートを具備する第１の光サーキュレータであって、当該第１ポートが当該第１入力端子に接続し、当該第２ポートが当該光パルス分離・合成装置の当該第１入出力ポートに接続する第１の光サーキュレータと、当該第１の光サーキュレータの当該第３ポートの出力光に当該第２の入力端子からの当該第２パルス光を合波する光合波器と、当該光合波器の出力光が入力し、当該第１の光サーキュレータの当該第３ポートの出力光に含まれる後行光パルスの位相を当該第２パルス光により変調する位相変調器であって、当該第２パルス光の有無により当該後行光パルスの位相変調量がπだけ異なる位相変調器と、第１、第２及び第３ポートを具備する第２の光サーキュレータであって、当該位相変調器から出力され当該第１ポートに入力する当該先行光パルス及び当該後行光パルスを当該第２ポートから当該光パルス分離・合成装置の当該第２入出力ポートに供給し、当該光パルス分離・合成装置の当該第２入出力ポートから当該第２ポートに入力する光を当該第３ポートから出力する第２の光サーキュレータと、当該第２の光サーキュレータの当該第３ポートの出力から所定偏光成分を抽出する偏波分離装置とを具備することを特徴とする。
【００１１】
好ましくは、当該偏波分離装置が、当該第２の光サーキュレータの当該第３ポートの出力から当該所定偏光成分と当該所定偏光成分に直交する偏光成分を抽出する。
【００１２】
好ましくは、当該光パルス分離・合成装置が、第１及び第２の反射器と、偏光ビームスプリッタとからなる。当該偏光ビームスプリッタは、当該第１の入出力ポートの入力光を互いに直交する偏波に分離し、一方の偏波成分を当該第１の反射器に供給し、当該第１の反射器の反射光を当該先行光パルスとして当該第１の入出力ポートに供給すると共に、他方の偏波成分を当該第２の反射器に供給し、当該第２の反射器の反射光を当該後行光パルスとして当該第１の入出力ポートに供給する。当該偏光ビームスプリッタは更に、当該第２の入出力ポートの入力光の内の先行する光パルスを当該第２の反射器に供給し、当該第２の反射器の反射光を当該第２の入出力ポートに供給すると共に、後行する光パルスを当該第１の反射器に供給し、当該第１の反射器の反射光を当該第２の入出力ポートに供給する。
【００１３】
好ましくは、本発明に係る光信号処理装置は更に、当該第１の反射器と当該偏光ビームスプリッタとの間の光路長を調節する調節装置を具備する。好ましくは、本発明に係る光信号処理装置は更に、当該第２の反射器と当該偏光ビームスプリッタとの間の光路長を調節する調節装置を具備する。これにより、光パルス分離・合成装置における２つの光路を独立に調節できる。
【００１４】
好ましくは、当該位相変調器が半導体光増幅器からなる。
【００１５】
【実施例】
以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する。
【００１６】
図１は、本発明の一実施例の概略構成図を示す。図２は、本実施例のタイミングチャートを示す。
【００１７】
入力端子１０には、図２に符号５０で示すようなＲＺパルス信号光が入力し、入力端子１２には、その信号光パルス５０に同期したスイッチ制御信号（制御光パルス）５４（図２）が入力する。光サーキュレータ１４は、３ポートＡ，Ｂ，Ｃを具備し、ポートＡの入力光をポートＢから出力し、ポートＢの入力光をポートＣから出力する光学装置である。入力端子１０に入力した信号光５０（図２）は、光サーキュレータ１４のポートＡに入力し、ポートＢからＰＭＤ（偏波モード分散）発生装置１６の入出力ポート１６ａに入力する。
【００１８】
ＰＭＤ発生装置１６は、入出力ポート１６ａに入力する光パルスから先行光パルスと当該先行光パルスから所定時間遅れた後行光パルスとを生成して当該第１の入出力ポート１６ａから出力し、入出力ポート１６ｂに入力する当該所定時間だけ離れた２つの光パルスを同一時間位置に合成し、合成パルスを入出力ポート１６ｂから出力する光パルス分離・合成装置として機能する。
【００１９】
具体的には、ＰＭＤ発生装置１６は、基本的な光学要素として、偏光ビームスプリッタ１８、偏光ビームスプリッタ１８により分離されたＳ波とＰ波の一方を反射するミラー２０、他方を反射するミラー２２、及び、偏光ビームスプリッタ１８におけるＳ波とＰ波への分離のパワー配分を調節するための半波長板２４，２６を具備する。偏光ビームスプリッタ１８を中心に９０で交差する一方の直線上に、偏光ビームスプリッタ１８を挟んでミラー２０と半波長板２４が配置され、他方の直線上に、偏光ビームスプリッタ１８を挟んでミラー２２と半波長板２６が配置されている。ミラー２０は、モータ２８により、偏光ビームスプリッタ１８との間の距離を調節可能であり、ミラー２２は、モータ２９により、偏光ビームスプリッタ１８との間の距離を調節可能である。制御回路３０が、モータ２８，２９に駆動制御信号を供給して、ミラー２０，２２の、偏光ビームスプリッタ１８からの距離を制御する。
【００２０】
モータ２８，２９による光路長の調節は、一方のみ、例えば後行光パルスのタイミング位置の調節だけでもよい。いうまでもないが、両方を調節可能とすることで、広いビットレートに対応可能になり、適用範囲が広がる。
【００２１】
詳細は後述するが、ＰＭＤ発生装置１６は、偏波に応じた任意の遅延時間を設定可能な装置であり、本実施例では、信号光５０の各光パルスを時間軸上で２つの光パルスに分離する装置として、及び、時間的に分離する２つの光パルスを同じ時間上の１つの光パルスに合成する装置として使用される。ここでは、偏光ビームスプリッタ１８とミラー２０の間の光路Ａは、偏光ビームスプリッタ１８とミラー２２との間の光路Ｂより短く、光路Ａ，Ｂ間の伝搬時間差がτ／２であるとする。
【００２２】
光サーキュレータ１４のポートＢから出力される信号光は、入出力ポート１６ａ及び偏波制御素子としての半波長板２４を介して、４５゜の偏光方向で偏光ビームスプリッタ１８に入射する。
【００２３】
偏光ビームスプリッタ１８は、半波長板２４からの信号光を互いに直交する偏光方向のＰ波とＳ波に分離し、Ｐ波をミラー２０に、Ｓ波をミラー２２に供給する。ミラー２０，２２は共に、入射光を全反射する。ミラー２０，２２で反射された光は、偏光ビームスプリッタ１８により合波され、半波長板２４及び入出力ポート１６ａを介して光サーキュレータ１４のポートＢに入射する。Ｐ波は光路Ａを往復し、Ｓ波は光路Ｂを往復する。従って、光サーキュレータ１４のポートＢでは、図２に符号５２で示すように、Ｓ波はＰ波に対してτだけ遅延している。即ち、ＰＭＤ発生装置１６は、信号光５０の各光パルスを、Ｐ波からなる先行光パルス５２Ｐと、Ｓ波からなる後行光パルス５２Ｓに時間的に分離する。
【００２４】
このように時間的に分離された光パルス５２Ｐ，５２Ｓが、光サーキュレータ１４のポートＣから光カップラ３２に印加される。光カップラ３２には更に、図２に符号５４で示すタイミングで、入力端子１２から制御光パルスが入力する。光カップラ３２は、両入力光を合波して半導体光増幅器（ＳＯＡ）３４に入射する。ＳＯＡ３４内で制御光パルス５４が先行光パルス５２Ｐと後行光パルス５２Ｓの間に位置するように、ＰＭＤ発生装置１６の光路Ａ，Ｂの遅延時間が設定される。換言すると、制御光パルス５４がＳＯＡ３４内に存在するキャリアを消費し、そのキャリア密度が電流注入によって定常値まで完全に回復する前に後行光パルス５２ＳがＳＯＡ３４内を通過するように、光路Ａ，Ｂの遅延時間が設定されている。
【００２５】
ＳＯＡ３４は直流電源（図示せず。）により順方向バイアスされている。ＳＯＡ３４は、例えば、活性層材料としてＩｎＧａＡｓＰ／ＩｎＰ系を用いた埋込導波路型素子からなり、その両端に無反射コーティングが施されている。制御光パルス５４により消費されたキャリアの密度が電流注入によって定常値に完全に回復する前に後行光パルス５２ＳがＳＯＡ３４内を通過するので、後行光パルス５２Ｓは、先行光パルス５２Ｐとは異なる屈折率値でＳＯＡ３４を通過する。換言すると、後行光パルス５２ＳはＳＯＡ３４内で制御光パルス５４による相互位相変調（ＸＰＭ）を受ける。この結果、先行光パルス５２Ｐと後行光パルス５２Ｓは、同一のＳＯＡ３４内を通過しながらも、異なる実効長の光路を伝搬することになり、両者に位相差が生じる。
【００２６】
制御光パルス５４の有無による後行光パルス５２Ｓの位相変化がπになるように、制御光パルス５４の光強度並びにＳＯＡ３４の長さ及び電流値を設定する。これにより、ＳＯＡ３４から出力される後行光パルス５６Ｓの位相は、制御光パルスの有無により、図２に符号５６で示すように、πだけ異なる。５６Ｐは先行光パルスを示し、５６Ｓは後行光パルスを示す。
【００２７】
光バンドパスフィルタ（ＢＰＦ）３５は、ＳＯＡ３４の出力光から、信号光５０の波長成分を抽出する。光ＢＰＦ３５の出力光は、光サーキュレータ３６のポートＡに入力し、ポートＢからＰＢＳ発生装置１６の別の入出力ポート１６ｂに印加される。ＳＯＡ３４の出力光の内で必要な光は、信号光５０から生成された先行光パルス５６Ｐと後行光パルス５６Ｓである。制御光パルス５４と信号光５０の波長を異なるものにできるので、信号光の先行光パルス５６Ｐ及び後行光パルス５６Ｓのみを抽出する光バンドパスフィルタ３５をＳＯＡ３４と光サーキュレータ３６のポートＡの間に配置する。勿論、同様の光バンドパスフィルタを後段のその他の適当な箇所に配置してもよい。
【００２８】
光サーキュレータ３６は、光サーキュレータ１４と同様に、３ポートＡ，Ｂ，Ｃを具備し、ポートＡの入力光をポートＢから出力し、ポートＢの入力光をポートＣから出力する光学装置である。
【００２９】
光サーキュレータ３６のポートＢから出力される先行光パルス５６Ｐ及び後行光パルス５６Ｓはそれぞれ、入出力ポート１６ｂ及び偏波制御素子としての半波長板２６を介して、先行光パルス５６Ｐが光路Ｂに行き、後行光パルス５６Ｓが光路Ａに行くような偏光方向で、偏光ビームスプリッタ１８に入射する。先行光パルス５６Ｐと後行光パルス５６Ｓは偏光方向が直交しているので、単に、半波長板２６と偏光ビームスプリッタ１８の配置角度を調節すればよい。
【００３０】
偏光ビームスプリッタ１８は、半波長板２４からの先行光パルス５６Ｐをミラー２２に供給し、後行光パルス５６Ｓをミラー２０に供給する。ミラー２０，２２で反射された各光パルスは、偏光ビームスプリッタ１８で合波され、半波長板２６及び入出力ポート１６ｂを介して光サーキュレータ３６のポートＢに入射する。ＰＭＤ発生装置１６内では、先行光パルス５６Ｐと後行光パルス５６Ｓは、先に信号光５０の各パルスを先行光パルス５２Ｐと後行光パルス５２Ｓに分離したときとは逆の光路を通る。この結果、先行光パルス５６Ｐが後行光パルス５６Ｓに対して相対的にτだけ遅れ、両光パルス５６Ｐ，５６Ｓは、図２に符号５８Ｐ，５８Ｓで示すように時間的に同じ位置に位置するようになる。但し、制御光パルス５４の有無により、後行光パルス５８Ｓの位相がπだけ異なるので、合成光パルスの偏光方向も、制御光パルスの有無により９０゜異なる。
【００３１】
光サーキュレータ３６は、ＰＭＤ発生装置１６からポートＢに入射する光をポートＣから偏光ビームスプリッタ３８に供給する。偏光ビームスプリッタ３８は、制御光パルスが存在するときの、光サーキュレータ３６のポートＣの出力光を通過する偏光方向で配置されている。従って、偏光ビームスプリッタ３８は、制御光パルス５４が存在する時の信号光を図２に符号６０で示すように出力ポート４０に供給し、制御光パルス５４が存在しない時の信号光を図２に符号６２で示すように出力ポート４２に供給する。
【００３２】
このように、本実施例では、入力端子１０に入力する信号光５０を、制御信号光５４のパルスの有無により、出力端子４０又は同４２に切り替えることができる。これは、本実施例が、信号光を時間軸上で２チャネルに分離するＴＤＭ分離装置として機能することを意味する。このためには、例えば、制御光５４を信号光５０に同期し、且つ、信号光５０のビットレートの１／２に相当する周波数のクロックパルスとすればよい。
【００３３】
また、出力端子４０に注目すれば、本実施例は、入力端子１０に入力する信号光を、制御信号光５０のパルスの有無によりゲートする光ゲート装置として機能する。
【００３４】
本実施例では、ＳＯＡ３４の前後でＰＭＤ発生装置１６を使用し、ＳＯＡ３４の出力光に含まれる時間的に分離した先行光パルスと後行光パルスをＰＭＤ発生装置１６内で、先行光パルスと後行光パルスの生成時とは逆の光路を通過させる。これにより、ＳＯＡの前と後に複屈折媒体のようなＰＭＤ発生装置の配置した従来例では、それぞれにＰＭＤ量を調節しなければならなかったものが、本実施例では、ＰＭＤ発生装置１６のＰＭＤ量、即ち遅延時間を調整するだけですむ。
【００３５】
ＳＯＡ３４を使用する実施例を説明したが、時間的に直前に位置する光パルスの有無により位相を偏重できる位相変調素子、たとえば半導体導波路及び非線形結晶等の非線形媒体をＳＯＡ３４の代わりに使用することができる。
【００３６】
本実施例は、波長変換装置又は波形整形装置としても使用できる。その場合に、入力端子１０にはオール１の光クロックパルスを入力し、入力端子１２には、波長を変換したいパルス信号光を入力する。図１に示す実施例では、出力信号波形は、基本的に、入力端子１０に入力する信号光５０のパルス波形に依存する。従って、信号光５０をきれいな波形のクロックパルス光とすることで、波長を変換しつつ、パルス波形を整形することもできる。
【００３７】
本実施例では、ＰＭＤ発生装置１６の入力光は、所定偏波方向の直線偏波になっている必要がある。この要求を満たせない光信号が入力する可能性がある場合には、入力光の偏波を当該所定偏波方向の直線偏波に制御する偏波制御装置を入力端子１６ａ，１６ｂの直前等に配置すれば良い。
【００３８】
【発明の効果】
以上の説明から容易に理解できるように、本発明によれば、小型化が可能になり、また、調整も容易になる。更には、より幅広いデータレートに容易に対応できるようになる。
【００３９】
２つの反射器の相対位置によりゲート幅を変更できるので、入力信号光のパルス幅に柔軟に対応できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の一実施例の概略構成ブロック図である。
【図２】  本実施例のタイミングチャートである。
【符号の説明】
１０：入力端子
１２：入力端子
１４：光サーキュレータ
１６：ＰＭＤ発生装置
１６ａ，１６ｂ：入出力ポート
１８：偏光ビームスプリッタ
２０，２２：ミラー
２４，２６：半波長板
２８，２９：モータ
３０：制御回路
３２：光カップラ
３４：半導体光増幅器（ＳＯＡ）
３５：光バンドパスフィルタ
３６：光サーキュレータ
３８：偏光ビームスプリッタ
４０，４２：出力端子
【図１】
0003899952.tif 000002
【図２】
0003899952.tif 000003