(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、
その底面に基板の直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出口が形成され、前記基板保持手段に保持された基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して基板表面に現像液を供給する第１の移動手段と、
前記基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面の移動方向前側に形成された基板の直径と同等以上の吐出幅を有するリンス液吐出口と、前記底面の移動方向後側に形成された基板の直径と同等以上の吸引幅を有するリンス液吸引口とを有し、前記第１の移動手段によって基板表面全体に前記現像液が供給された後に前記基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して前記リンス液吐出口からリンス液を基板表面全体に供給するとともに、供給されたリンス液を前記リンス液吸引口から回収する第２の移動手段と、
を備えたことを特徴とする基板現像装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板現像装置において、
前記第２の移動手段は、さらにその底面の前記リンス液吐出口よりさらに移動方向前側に形成された基板の直径と同等以上の吸引幅を有する現像液吸引口を有し、前記基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動するときに前記現像液吸引口より基板表面全体に供給されていた現像液を回収することを特徴とする基板現像装置。
【請求項３】
基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、
基板の直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出口と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有し前記現像液吐出口から現像液が基板表面全体に供給された後にリンス液を基板表面に供給するリンス液吐出口と、基板の直径と同等以上の吸引幅を有するリンス液吸引口とが前記基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面に形成され、前記基板上を往復移動する移動手段とを備え、
前記移動手段には、少なくとも往復移動の復路の移動時に、前記リンス液吐出口が前記リンス液吸引口より移動方向前側に配設され、往路の移動時には、前記基板保持手段に保持された基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して前記現像液吐出口から基板表面に現像液を供給するとともに、復路の移動時には、基板の他端の現像液供給終了位置から一端の現像液供給開始位置まで移動して前記リンス液吐出口から基板表面全体にリンス液を供給するとともに、前記リンス液吸引口からリンス液を吸引して回収することを特徴とする基板現像装置。
【請求項４】
請求項３に記載の基板現像装置において、
前記移動手段は、さらに前記往復移動の復路の移動時に、前記リンス液吐出口より移動方向前側に基板の直径と同等以上の吸引幅を有する現像液吸引口が配設され、復路の移動時には、基板の他端の現像液供給終了位置から一端の現像液供給開始位置まで移動して前記現像液吸引口から基板表面の現像液を吸引して回収することを特徴とする基板現像装置。
【請求項５】
基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、
基板の直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出口と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有し前記現像液吐出口から現像液が基板表面全体に供給された後にリンス液を基板表面に供給するリンス液吐出口と、基板の直径と同等以上の吸引幅を有するリンス液吸引口とが前記基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面に形成され、前記基板上を往復移動する移動手段とを備え、
前記移動手段には、少なくとも往復移動の往路の移動時に、前記リンス液吐出口が前記リンス液吸引口より移動方向前側に配設され、第１回目の往路の移動時には、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して前記現像液吐出口から基板表面全体に現像液を供給するとともに、第２回目の往路の移動時には、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して前記リンス液供給口から基板表面全体にリンス液を供給するとともに、前記リンス液吸引口から基板表面に供給されたリンス液を吸引して回収するようにしたことを特徴とする基板現像装置。
【請求項６】
請求項５に記載の基板現像装置において、
前記移動手段は、さらに前記往復移動の往路の移動時に、前記リンス液吐出口より移動方向前側に基板の直径と同等以上の吸引幅を有する現像液吸引口が配設され、第２回目の往路の移動時には、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して前記現像液吸引口から基板表面の現像液を吸引して回収することを特徴とする基板現像装置。
【請求項７】
基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、
基板の直径と同等以上の吐出幅を有する液吐出口と、基板の直径と同等以上の吸引幅を有し、基板表面に供給された液を吸引して回収する液吸引口とが前記基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面に形成され、前記基板上を往復移動する移動手段と、
現像液を前記液吐出口に向けて供給する現像液供給手段と、
リンス液を前記液吐出口に向けて供給するリンス液供給手段と、
前記現像液とリンス液のうちの一方が前記液吐出口に供給されるように切り替える切り替え制御手段とを備え、
前記移動手段には、少なくとも往復移動の往路の移動時に、前記液吐出口が前記液吸引口より移動方向前側に配設され、第１回目の往路の移動時には、基板の一端の液供給開始位置から他端の液供給終了位置まで移動して前記液吐出口から基板表面全体に現像液を供給するとともに、第２回目の往路の移動時には、基板の一端の液供給開始位置から他端の液供給終了位置まで移動して前記液吐出口から基板表面全体にリンス液を供給するとともに、前記液吸引口から基板表面に供給されたリンス液を吸引して回収するようにしたことを特徴とする基板現像装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、基板上の感光性膜に現像液を供給して現像処理を行なう基板現像装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体ウエハ、液晶表示装置（LCD）用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の基板上に形成されたフォトレジストなどの感光性膜に現像処理を行うために基板現像装置が用いられる。
【０００３】
半導体製造プロセスやLCD製造プロセスなどにおいて、基板の表面に形成された露光済みの感光性膜を現像する場合、例えば基板を水平姿勢に保持して鉛直軸回りに回転させながら、スプレイ式吐出ノズルから現像液を吐出することにより、回転する基板の表面全体に均一かつ十分な量の現像液を供給して感光性膜を現像したり、或いは静止状態の基板に対して基板の最大幅と同等以上吐出幅を有するノズルから現像液を基板上に滴下させ、このノズルを基板の表面と平行に移動させることにより、基板上の全面に現像液を盛るような現像装置が知られている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、基板の表面全体に現像液を盛ってフォトレジストなどの感光性膜を現像する現像装置において、従来から現像液による感光性膜の現像を停止させるため、基板の表面に現像液を供給してから所定の現像時間が経過した後に基板を高速で回転させて基板上の現像液を遠心力で振り切りながら、リンス液、例えば純水を吐出ノズルから回転させた基板の表面に吐出し、基板全面を純水で置換することが行われている。そして、基板全面を純水で置換した後さらに基板の回転を続け、リンス液を振り切り乾燥して処理を終了するようになっている。
【０００５】
ところが、かかる従来の現像装置においては、少なくとも現像液による感光性膜の現像を停止させるための現像液を振り切りながらリンス液を供給する処理からそれに引き続くリンス液を振り切り乾燥するまでの処理が、基板を高速回転させた状態で行われているため、基板上から遠心力で振り切られた現像液やリンス液が周囲から跳ね返って基板表面や基板裏面に再付着して基板を汚染したりする問題があった。また、昨今のより一層のパターンの微細化が進むなか、現像液によって形成された微細なパターンが、基板の高速回転による遠心力の影響で倒壊する場合があるという問題が生じることとなった。
【０００６】
本発明は、上記事情に鑑みてなされたものであり、その目的とするところは、現像処理の過程において、基板を汚染することなく、また現像液によって形成されたパターン倒壊の恐れのない基板現像装置を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
かかる課題を解決する為に、請求項１に係る発明の基板現像装置は、基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、その底面に基板の直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出口が形成され、基板保持手段に保持された基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して基板表面に現像液を供給する第１の移動手段と、基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面の移動方向前側に形成された基板の直径と同等以上の吐出幅を有するリンス液吐出口と、その底面の移動方向後側に形成された基板の直径と同等以上の吸引幅を有するリンス液吸引口とを有し、第１の移動手段によって基板表面全体に現像液が供給された後に基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動してリンス液吐出口からリンス液を基板表面全体に供給するとともに、供給されたリンス液をリンス液吸引口から回収する第２の移動手段とを備えたことを特徴とするものである。
【０００８】
また請求項２に係る発明は、請求項１の発明に係る基板現像装置において、第２の移動手段は、さらにその底面のリンス液吐出口よりさらに移動方向前側に形成された基板の直径と同等以上の吸引幅を有する現像液吸引口を有し、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動するときに現像液吸引口より基板表面全体に供給されていた現像液を回収することを特徴としている。
【０００９】
また請求項３に係る発明の基板現像装置は、基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出口と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有し現像液吐出口から現像液が基板表面全体に供給された後にリンス液を基板表面に供給するリンス液吐出口と、基板の直径と同等以上の吸引幅を有するリンス液吸引口とが基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面に形成され、基板上を往復移動する移動手段とを備え、移動手段には、少なくとも往復移動の復路の移動時に、リンス液吐出口がリンス液吸引口より移動方向前側に配設され、往路の移動時には、基板保持手段に保持された基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して現像液吐出口から基板表面に現像液を供給するとともに、復路の移動時には、基板の他端の現像液供給終了位置から一端の現像液供給開始位置まで移動してリンス液吐出口から基板表面全体にリンス液を供給するとともに、リンス液吸引口からリンス液を吸引して回収することを特徴とするものである。
【００１０】
また請求項４に係る発明は、請求項３に係る発明の基板現像装置において、移動手段は、さらに前記往復移動の復路の移動時に、リンス液吐出口より移動方向前側に基板の直径と同等以上の吸引幅を有する現像液吸引口が配設され、復路の移動時には、基板の他端の現像液供給終了位置から一端の現像液供給開始位置まで移動して現像液吸引口から基板表面の現像液を吸引して回収することを特徴とするものである。
【００１１】
また請求項５に係る発明は、基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出口と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有し現像液吐出口から現像液が基板表面全体に供給された後にリンス液を基板表面に供給するリンス液吐出口と、基板の直径と同等以上の吸引幅を有するリンス液吸引口とが基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面に形成され、基板上を往復移動する移動手段とを備え、移動手段には、少なくとも往復移動の往路の移動時に、リンス液吐出口がリンス液吸引口より移動方向前側に配設され、第１回目の往路の移動時には、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して現像液吐出口から基板表面全面に現像液を供給するとともに、第２回目の往路の移動時には、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動してリンス液供給口から基板表面全体にリンス液を供給するとともに、リンス液吸引口から基板表面に供給されたリンス液を吸引して回収するようにしたことを特徴とする。
【００１２】
また請求項６に係る発明は、請求項５に係る基板現像装置において、移動手段は、さらに往復移動の往路の移動時に、リンス液吐出口より移動方向前側に基板の直径と同等以上の吸引幅を有する現像液吸引口が配設され、第２回目の往路の移動時には、基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動して現像液吸引口から基板表面の現像液を吸引して回収することを特徴とする。
【００１３】
また、請求項７に係る発明は、基板を静止状態で水平姿勢に保持する基板保持手段と、基板の直径と同等以上の吐出幅を有する液吐出口と、基板の直径と同等以上の吸引幅を有し、基板表面に供給された液を吸引して回収する液吸引口とが前記基板保持手段に水平姿勢に保持された基板の表面に対して平行な底面に形成され、基板上を往復移動する移動手段と、現像液を液吐出口に向けて供給する現像液供給手段と、リンス液を液吐出口に向けて供給するリンス液供給手段と、現像液とリンス液のうちの一方が液吐出口に供給されるように切り替える切り替え制御手段とを備え、移動手段には、少なくとも往復移動の往路の移動時に、液吐出口が液吸引口より移動方向前側に配設され、第１回目の往路の移動時には、基板の一端の液供給開始位置から他端の液供給終了位置まで移動して液吐出口から基板表面全体に現像液を供給するとともに、第２回目の往路の移動時には、基板の一端の液供給開始位置から他端の液供給終了位置まで移動して液吐出口から基板表面全体にリンス液を供給するとともに、液吸引口から基板表面に供給されたリンス液を吸引して回収するようにしたことを特徴とする。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係る基板現像装置について説明する。図１は本発明の第１の実施形態における基板現像装置１の平面図、図２は図１の基板現像装置１の後述する現像液吐出ノズル１１が基板Ｗ上にある場合における主要部のＸ−Ｘ線断面図、図３は図１の基板現像装置１の後述するリンス液吐出ノズル４１が基板Ｗ上にある場合における主要部のＸ−Ｘ線断面図、図４は図１の基板現像装置１の主要部のＹ−Ｙ線断面図である。
【００１５】
図１に示すように、基板現像装置１は現像液吐出ユニット１０と、リンス液吐出ユニット４０と、処理部３０を備える外カップ５０と、外カップ５０の一方端側に設けられた現像ノズル待機ポット２１およびリンスノズル待機ポット８１と、外カップ５０の他方端側に設けられた現像ノズル待機ポット２２およびリンスノズル待機ポット８２とを備えている。図１上において外カップ５０の下側にはガイドレール１４が配設されており、後述する現像液吐出ユニット１０を構成するノズルアーム１２がアーム駆動部１３によりガイドレール１４に沿って走査方向Ａおよびその逆方向に移動可能に設けられている。
【００１６】
図２、図３および図４に示すように、処理部３０には、基板Ｗを静止状態の水平姿勢で吸引保持する吸引チャック３１を備える。この吸引チャック３１の周囲には、現像液やリンス液を回収する液回収カップ３４が図示しない昇降手段により上下動自在に設けられている。本実施形態においては、基板Ｗを静止状態の水平姿勢で保持するのを吸引チェック３１によって行っているが、これに限られるものではなく、基板Ｗを水平姿勢に保持できうる構成であればいかなるものであってもよい。
【００１７】
図２に示すように現像液吐出ユニット１０は、ノズルアーム１２と、このノズルアーム１２の下端部に備え付けられた現像液吐出ノズル１１とを備えている。現像液吐出ノズル１１は、現像液の吐出開始前には、処理部３０の一方端側に設けられた現像ノズル待機ポット２１内に待機しており、実際に現像液を基板Ｗ上に供給する際には、ノズルアーム１２が、アーム駆動部１３によってガイドレール１４に沿って移動されることにより、現像ノズル待機ポット２１を出て、吸引チャック３１に保持された基板Ｗ上を移動し、処理部３０の他方端側に設けられた現像ノズル待機ポット２２まで走査方向Ａに沿って直線状に移動するようになっている。（図１および図４参照。）
【００１８】
図２に示すように、現像液吐出ノズル１１には、現像液供給系６０により現像液が供給される。現像液供給系６０は、現像液を貯留する液貯留部６１、液貯留部６１と現像液吐出ノズル１１とを連通接続する配管６２、配管６２に介装されて現像液を液貯留部６１から現像液吐出ノズル１１に送液するポンプ６３、配管６２に介装された開閉バルブ６４とより構成される。
【００１９】
またマイクロコンピュータによって構成される制御部７０は、アーム駆動部１３、開閉弁６４、ポンプ６３に電気的に接続されており、アーム駆動部１３による現像液吐出ノズル１１の走査（移動）および開閉弁６４による現像液吐出ノズル１１からの現像液の吐出開始および停止タイミング、現像液の吐出量、吐出速度、等各種の吐出条件を制御する。
【００２０】
図５は現像液吐出ノズル１１の断面図である。
【００２１】
現像液吐出ノズル１１のノズル本体部１６は段差状の底面１７を有する。このノズル本体部１６には、鉛直下向きに延びかつ底面１７で開口する現像液吐出口としてのスリット状吐出口１５が形成されている。段差状の底面１７は、走査方向Ａにおいてスリット状吐出口１５よりも前方側の平面状の底面（以下、前方側底面と呼ぶ）１７ａおよびスリット状吐出口１５よりも後方側の平面状の底面（以下、後方側底面と呼ぶ）１７ｂからなる。前方側底面１７ａは、後方側底面１７ｂよりも低い位置に形成されている。それにより、図１の吸引チャック３１に静止状態で水平姿勢に保持された基板Ｗの表面と前方側底面１７ａとの間隔が基板Ｗの表面と後方側底面１７ｂとの間隔よりも小さくなる。  現像液吐出ノズル１１は、前方側底面１７ａおよび後方側底面１７ｂが基板Ｗの表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに向けて走査される。
【００２２】
現像液吐出ノズル１１のノズル本体部１６は、ステンレス鋼、石英ガラス、パイレックスガラス、セラミックス（例えばアルミナ、ＳｉＣ、αＣ）等の比較的硬質な親水性材料により形成されている。走査方向Ａに向かった場合においてノズル本体部１６の底面１７のスリット状吐出口１５よりも前方側底面１７ａおよびスリット状吐出口１５よりも前方側の外壁面１８は、ＰＰＳ（ポリフェニレンサルファイド）、ＰＴＥＥ（ポリテトラフルオロエチレン）等の樹脂系の撥水性材料層２０でコーティングされている。本実施形態では、ＰＴＦＥからなる撥水性材料層２０が用いられる。一方、走査方向Ａに向かった場合においてノズル本体部１６の底面１７のスリット状吐出口１５よりも後方側の領域および後方側の外壁面１９では、親水性材料が露出している。また、スリット状吐出口１５の内壁面１５ａでも、親水性材料が露出している。
【００２３】
図７に示すように、現像液吐出ノズルのスリット状吐出口１５の長手方向となる吐出幅方向は現像液吐出ノズル１１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出口１５の短辺ｔは０．０５〜１．００ｍｍであり、本実施例では０．１ｍｍである。また、スリット状吐出口１５長手方向の吐出幅Ｌは処理対象となる基板Ｗの直径と同じかまたはそれよりも大きく設定（同等以上に設定）され、直径８インチの基板Ｗを処理する場合には、本実施形態では２１０ｍｍに設定される。
【００２４】
現像液吐出ノズル１１は、底面１７が基板Ｗの表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに向けて走査される。スリット状吐出口１５と基板Ｗ１、Ｗ２の表面との間隔は、０．２〜５．０ｍｍ、より好ましくは０．５ｍｍ〜２．０ｍｍであり、本実施例では１．０ｍｍである。
【００２５】
図１および図３に戻って、リンス液吐出ユニット４０は、ノズルアーム４２と、このノズルアーム４２の下端部に取り付けられたリンス液吐出ノズル４１とを備えている。リンス液吐出ノズル４１は、リンス液の吐出開始前には、処理部３０の一方端側に設けられたリンスノズル待機ポット８１内に待機しており、前述した現像液吐出ノズル１１から現像液が基板Ｗに供給されて現像が行われた後、実際にリンス液を基板Ｗ上に供給する際には、ノズルアーム４２が、アーム駆動部４３によってガイドレール４４に沿って移動されることにより、リンスノズル待機ポット８１を出て、吸引チャック３１に保持された基板Ｗ上を移動し、処理部３０の他方端側に設けられたリンスノズル待機ポット８２まで走査方向Ａに沿って直線状に移動するようになっている。（図１および図４参照。）
【００２６】
図３に示すように、リンス液吐出ノズル４１には、リンス液供給系７０により純水がリンス液として供給される。リンス液供給系７０は、ユーティリティとしての純水供給源から供給される純水をリンス液吐出ノズル４１に導く配管７２、配管７２に介装されて純水をリンス液吐出ノズル４１に送液するポンプ７３、配管７２に介装された開閉バルブ７４とにより構成される。
【００２７】
また、リンス液供給ノズル４１には、その途中に吸引ポンプ４６が介在されている吸引用の配管４５が接続されており、吸引ポンプ４６の駆動によって、後述するリンス液供給ノズル４１の底面に形成されたスリット状吸引口５１より基板上に供給された純水を吸引して回収し、ドレインに排出するようになっている。
【００２８】
さらに制御部７０は、アーム駆動部４３、開閉弁７４、ポンプ７３、吸引ポンプ４６に電気的に接続されており、アーム駆動部４３によるリンス液吐出ノズル４１の走査（移動）および開閉弁７４によるリンス液吐出ノズル４１からの純水の吐出開始および停止タイミング、純水の吐出量、吐出速度、等各種の吐出条件、後述するリンス液吸引口５１を通じての基板Ｗ上からの純水の吸引回収を制御する。
【００２９】
図６はリンス液吐出ノズル４１の断面図である。
【００３０】
リンス液吐出ノズル４１のノズル本体部４７は底面４８を有する。このノズル本体部４７には、その底面４８の移動方向（走査方向Ａに向かう方向）前側の位置に鉛直下向きに延びかつ当該底面４８で開口するリンス液吐出口に相当するスリット状吐出口４９が形成されている。このスリット吐出口４９は、配管７２と連通されており、配管７２によって導かれたリンス液としての純水を基板Ｗに向けて供給するようになっている。また、このノズル本体部４７には、その底面４８の移動方向（走査方向Ａに向かう方向）後側の位置に鉛直下向きに延びかつ当該底面４８で開口するリンス液吸引口に相当するスリット状吸引口５１が形成されている。このスリット状吐出口５１は、配管４５と連通されており、配管４５を通じて吸引されることにより基板Ｗ上に供給されたリンス液としての純水を吸引して回収するようになっている。リンス液吐出ノズル４１は、その底面４８が基板Ｗの表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに向けて走査される。
【００３１】
リンス液吐出ノズル４１のノズル本体部４７も、ステンレス鋼、石英ガラス、パイレックスガラス、セラミックス（例えばアルミナ、ＳｉＣ、αＣ）等の比較的硬質な親水性材料により形成されている。
【００３２】
図８に示すように、リンス液吐出ノズル４１の底面４８に形成されたスリット状吐出口４９の長手方向となる吐出幅方向は、リンス液吐出ノズル４１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出口４９の長手方向の吐出幅Ｌは処理対象となる基板Ｗの直径と同じかまたはそれよりも大きく設定（同等以上に設定）され、直径８インチの基板Ｗを処理する場合には、本実施形態では２１０ｍｍに設定される。
【００３３】
また、リンス液吐出ノズル４１の底面４８に形成されたスリット状吸引口５１の長手方向となる吸引幅方向も、リンス液吐出ノズル４１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吸引口５１の長手方向の吸引幅Ｌも処理対象となる基板Ｗの直径と同じかまたはそれよりも大きく設定（同等以上に設定）され、直径８インチの基板Ｗを処理する場合には、本実施形態では２１０ｍｍに設定される。
【００３４】
リンス液吐出ノズル４１は、底面４８が基板Ｗの表面に対して平行な状態を保つように走査方向Ａに向けて走査される。スリット状吐出口４９およびスリット状吸引口５１と基板Ｗの表面との間隔は、０．２〜５．０ｍｍ、より好ましくは０．５ｍｍ〜２．０ｍｍであり、本実施例では１．０ｍｍである。
【００３５】
このような構成のもと、次に図９、図１０を参照しながら本実施の形態の基板現像装置の動作を説明する。なお、基板Ｗは、吸引チャック３１によって一連の処理を通じて静止状態の水平姿勢で保持されている。
【００３６】
まず現像液を基板Ｗ上に液盛りする前の待機時には、現像液吐出ノズル１１は、待機ポット２１内の位置Ｐ０に待機している。現像液を基板Ｗ上に液盛りする時には、現像液吐出ノズル１１が上昇した後、走査方向Ａに向かって移動し、外カップ５０内の走査開始位置Ｐ１で下降する。（図９参照）
【００３７】
その後、現像液吐出ノズル１１は、走査開始位置Ｐ１から所定の走査速度で基板Ｗに向かう走査方向Ａに向かって走査を開始する。この時点では、現像液吐出ノズル１１からまだ現像液の吐出は行なわない。本実施形態では、走査速度は１０〜５００ｍｍ／秒とする。
【００３８】
現像液吐出ノズル１１の走査開始後、現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５（図５参照）が基板Ｗ１上に到達する前に、位置Ｐ２にて所定の流量で現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を開始する。本実施形態では現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。
【００３９】
そして現像液吐出ノズル１１は、そのまま現像液を吐出しながら走査方向Ａに向かって直線的に移動を続け、基板Ｗの一端の現像液供給開始位置に到達して基板Ｗ上に現像液を供給し始める。さらに現像液吐出ノズル１１は、基板Ｗ上を走査方向Ａに向かって移動を続け、現像液を連続的に供給し続け、基板Ｗの他端の現像液供給終了位置まで到達して、基板Ｗ表面全体への現像液の液盛りを完了する。供給された現像液は、表面張力により基板Ｗ上に保持される。
【００４０】
現像液吐出ノズル１１が基板Ｗ１上を通過した後、基板Ｗ上から外れた位置Ｐ３で現像液吐出ノズル１１による現像液の吐出を停止させる。そして、現像液吐出ノズル１１が外カップ５０内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液吐出ノズル１１の走査を停止させる。その後、現像液吐出ノズル１１は、走査停止位置Ｐ４で上昇した後、待機ポット２２の位置Ｐ５まで移動し、待機ポット２２内に下降する。
【００４１】
このような現像液吐出ノズル１１によって基板Ｗ上に現像液が液盛りされた状態でしばらく基板Ｗを保持し、基板Ｗに対する現像処理を進める。そして所定時間が経過すると次にリンス液吐出ノズル４１によってリンス処理を行う。このリンス処理の場合にも、基板Ｗは、吸引チャック３１によって静止状態の水平姿勢に保持されたまま最後まで処理が行われる。まずリンス液を基板Ｗ上に供給する前の待機時には、リンス液吐出ノズル４１は、待機ポット８１内の位置Ｐ００に待機している。リンス液としての純水を基板Ｗ上に供給する時には、リンス液吐出ノズル４１が上昇した後、走査方向Ａに向かって移動し、外カップ５０内の走査開始位置Ｐ１で下降する。（図１０参照）
【００４２】
その後、リンス液吐出ノズル４１は、走査開始位置Ｐ１から所定の走査速度で基板Ｗに向かう走査方向Ａに向かって走査を開始する。この時点では、リンス液吐出ノズル４１からまだ純水の吐出は行なわない。本実施形態では、現像液吐出ノズル１１の場合と同様の走査速度は１０〜５００ｍｍ／秒とする。
【００４３】
リンス液吐出ノズル４１の走査開始後、現像液吐出ノズル４１のスリット状吐出口４９（図６参照）が基板Ｗ１上に到達する前に、位置Ｐ２にて所定の流量でリンス液吐出ノズル４１によるリンス液の吐出を開始する。本実施形態ではリンス現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。
【００４４】
そしてリンス液吐出ノズル４１は、そのまま純水を吐出しながら走査方向Ａに向かって直線的に移動を続け、基板Ｗの一端の現像液供給開始位置に到達してスリット状吐出口４９から基板Ｗ上に純水を供給し始め、基板表面の液を現像液から純水へ置き換え始める。それとともに、スリット状吸引口５１（図６参照）が基板Ｗの一端の現像液供給開始位置に到達する直前から当該スリット状吸引口５１からの吸引を開始する。さらにリンス液吐出ノズル４１は、基板Ｗ上を走査方向Ａに向かって移動を続る。すると、スリット状吸引口が、基板Ｗの一端の現像液供給開始位置に到達し、先にスリット状吐出口４９から基板Ｗの表面に供給されていたリンス液としての純水を吸引して回収し始める。
【００４５】
さらに、リンス液吐出ノズル４１の走査方向Ａに向かっての移動を続け、スリット状吐出口４９から純水を連続的に供給し続けるとともに、スリット状吸引口５１から基板Ｗの表面から純水を吸引して回収し続ける。そして、基板Ｗの他端の現像液供給終了位置までリンス液吐出ノズル４１が到達すると、スリット状吐出口４９から基板Ｗ表面全体へのリンス液の供給が完了し、基板表面の液が現像液から純水へ一旦置き換えられるとともに、基板表面へ供給された純水がスリット状吸引口５１から吸引されて完全に回収される。
【００４６】
リンス液吐出ノズル４１が基板Ｗ上を通過した後、基板Ｗ上から外れた位置Ｐ３でリンス液吐出ノズル４１のスリット状吐出口４９からの純水の吐出を停止させるとともにスリット状吸引口からの吸引を停止する。そして、リンス液吐出ノズル４１が外カップ５０内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点でリンス液吐出ノズル４１の走査を停止させる。その後、リンス液吐出ノズル４１は、走査停止位置Ｐ４で上昇した後、待機ポット８２の位置Ｐ６まで移動し、待機ポット８２内に下降する。
【００４７】
このような動作によって、本実施形態の基板現像装置は、基板Ｗに対する現像液供給、リンス液供給さらにはリンス液除去までの一連の現像処理を完了する。なお、必要に応じてこのような動作を繰り返して行うこともできる。
【００４８】
このように本実施形態の基板現像装置においては、基板Ｗに対する現像液の供給、リンス液の供給およびリンス液の基板Ｗ上からの回収を基板Ｗを静止させたままで行うことができるので、基板を高速回転させた場合に生じるような基板上から遠心力で振り切られた現像液やリンス液が周囲から跳ね返って基板表面や基板裏面に再付着して基板を汚染したりするというようなことがなく、基板Ｗに対する一連の現像処理を基板を汚染することなく清浄に行うことができる。また、本実施形態の基板現像装置においては、基板Ｗに対する現像液の供給、リンス液の供給およびリンス液の基板Ｗ上からの回収を基板Ｗを静止させたままで行うことができるので、基板Ｗを高速回転させた場合に生じるようなパターンの倒壊を生じるおそれもない。
【００４９】
また、本実施形態の基板現像装置においては、基板Ｗの直径と同等以上の吐出幅を有する現像液吐出ノズル１１のスリット状吐出口１５からの現像液の供給と、同じく基板Ｗの直径と同等以上の吐出幅を有するリンス液吐出ノズル４１のスリット状吐出口４９からのリンス液の供給とを、それぞれ同一の移動方向（走査方向）に移動させながら行っているので基板Ｗ表面内の各箇所で現像液と接している時間（現像時間）が均一となり、基板表面全体を均一に現像できてパターンの線幅均一性を向上させることができる。
【００５０】
また、本実施形態の基板現像装置においては、リンス液としての純水を吐出するスリット状吐出口４９と純水を吸引して回収するスリット状吸引口５１とを一つのリンス液吐出ノズル４１に設けるようにしているので、基板Ｗ上へのリンス液の供給と回収とを時間をわずかな時間差で行うことができ、一連の現像処理のスループットを向上させることができる。
【００５１】
なお、本実施形態における吸引チャック３１が請求項１の基板保持手段に相当し、現像液吐出ノズル１１が請求項１の第１の移動手段に相当し、リンス液吐出手段４１が請求項１の第２の移動手段に相当する。
【００５２】
次に第２の実施形態について図１１、図１２、図１３に基づいて説明する。この第２の実施形態においては、リンス液吐出ノズル４１に現像液を吸引して回収するスリット状吸引口５２を形成するとともに、このスリット状吸引口５２に、その途中に吸引ポンプ５３が介在された配管５４を連通させて、現像液をも吸引回収する構成を採用（図１１、１２、１３参照）している点が第１の実施形態と異なる。なお、その他の部分については、第１の実施形態と同一であり、同一の符号を付してその説明を省略する。
【００５３】
図１２は、第２の実施形態におけるはリンス液吐出ノズル４１の断面図である。
【００５４】
リンス液吐出ノズル４１のノズル本体部４７の底面４８には、リンス液としての純水を吐出するスリット状吐出口４９よりもその底面４８の移動方向（走査方向Ａに向かう方向）前側の位置に鉛直下向きに延びかつ当該底面４８で開口する現像液吸引口に相当するスリット状吸引口５２が形成されている。このスリット状吸引口５２は、配管５４と連通されており、吸引ポンプ５３の駆動によって配管５４を通じて吸引されることにより先に現像液吐出ノズル１１によって基板Ｗ表面に液盛りされていた現像液を吸引して回収するようになっている。
【００５５】
図１３に示すように、リンス液吐出ノズル４１の底面４８に形成されたスリット状吸引口５２の長手方向となる吸引幅方向も、リンス液吐出ノズル４１の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吸引口５２の長手方向の吸引幅Ｌは処理対象となる基板Ｗの直径と同じかまたはそれよりも大きく設定（同等以上に設定）され、直径８インチの基板Ｗを処理する場合には、本実施形態では２１０ｍｍに設定される。
【００５６】
このような構成のもと、現像液吐出ノズル１１によって、基板Ｗ上に現像液を液盛りした後、リンス液吐出ノズル４１を走査方向Ａに移動させることによって、リンス液としての純水の供給に先立ってその底面に形成されたスリット状吸引口５２から基板Ｗ上の現像液を吸引して回収し、現像液がない状態のところにスリット状吐出口４９から純水を供給してリンス液吐出ノズル４１の移動に伴って現像液から純水に順次置き換えることができる。さらに、リンス液吐出ノズル４１の移動に伴ってスリット状吐出口５２から基板Ｗ上に供給された純水を順次スリット状吸引口５１から吸引して回収し、基板Ｗ上に液が残らないようにすることができる。
【００５７】
このようにこの第２の実施形態においては、基板Ｗ上に液盛りされた現像液も回収し、現像液が残っていない状況でリンス液としての純水を供給するようにされるので、現像液と純水が混ざりあって基板Ｗの面内において現像むらを生じるようなことを防止することができる。
【００５８】
次に第３の実施形態の基板現像装置について図１４、１５、１６、１７、１８に基づいて説明する。この第３の実施形態の基板現像装置は、現像液吐出用のノズルとリンス液吐出用のノズルとを一つにして、基板Ｗ上を往復動して基板Ｗ上への現像液の供給および回収とリンス液の供給および回収とを行う点、さらにノズル待機ポットを処理部３０の一方端側と他方端側とにそれぞれ一つづつしか備えない点で、上記第１および第２の実施形態と異なる。なお、第１および第２の実施形態と同様の構成部分については、同一の符号を付しその説明を一部省略する。
【００５９】
図１４に示すように、第３の実施形態の基板現像装置は現像・リンス液吐出ユニット１００と、処理部３０を備える外カップ５０と、外カップ５０の一方端側に設けられたノズル待機ポット２１０と、外カップ５０の他方端側に設けられたノズル待機ポット２２０とを備えている。図１４上において外カップ５０の下側にはガイドレール１４が配設されており、後述する現像液吐出ユニット１００を構成するノズルアーム１２がアーム駆動部１３によりガイドレール１４に沿って走査方向Ａおよびその逆方向の−Ａ方向に移動可能に設けられている。
【００６０】
図１７に示すように現像液・リンス液吐出ユニット１００は、ノズルアーム１２と、このノズルアーム１２の下端部に備え付けられた現像液・リンス液吐出ノズル１１０とを備えている。現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、現像液の吐出開始前には、処理部３０の一方端側に設けられたノズル待機ポット２１０内に待機しており、実際に現像液を基板Ｗ上に供給する際には、ノズルアーム１２が、アーム駆動部１３によってガイドレール１４に沿って移動されることにより、ノズル待機ポット２１０を出て、吸引チャック３１に保持された基板Ｗ上を移動し、処理部３０の他方端側に設けられたノズル待機ポット２２０まで走査方向Ａに沿って直線的に移動するようになっている。（図１４および図１７参照。）
【００６１】
図１７に示すように、現像液・リンス液吐出ノズル１１０には、現像液供給系６０により現像液が供給される。現像液供給系６０は、現像液を貯留する液貯留部６１、液貯留部６１と現像液・リンス液吐出ノズル１１０とを連通接続する配管６２、配管６２に介装されて現像液を液貯留部６１から現像液・リンス液吐出ノズル１１０に送液するポンプ６３、配管６２に介装された開閉バルブ６４とにより構成される。
【００６２】
また、図１７に示すように現像液・リンス液吐出ノズル１１０には、リンス液供給系７０により純水がリンス液として供給される。リンス液供給系７０は、ユーティリティとしての純水供給源から供給される純水を現像液・リンス液吐出ノズル１１０に導く配管７２、配管７２に介装されて純水を現像液・リンス液吐出ノズル１１０に送液するポンプ７３、配管７２に介装された開閉バルブ７４とにより構成される。
【００６３】
また現像液・リンス液吐出ノズル１１０には、その途中に吸引ポンプ４６が介在されている吸引用の配管４５が接続されており、吸引ポンプ４６の駆動によって、後述する現像液・リンス液供給ノズル１１０の底面に形成されたリンス液吸引口５１０より基板上に供給された純水を吸引して回収し、ドレインに排出するようになっている。
【００６４】
さらに、現像液・リンス液吐出ノズル１１０には、その途中に吸引ポンプ５３を介在させた吸引配管５４が接続されており、吸引ポンプ５３の駆動によって、後述する現像液・リンス液吐出ノズル１１０の底面に形成された吸引口５２０より基板に供給された現像液を吸引して回収し、ドレインに排出するようになっている。
【００６５】
またマイクロコンピュータより構成される制御部７０は、アーム駆動部１３、開閉弁６４、ポンプ６３、開閉弁７４、ポンプ７３、吸引ポンプ４６、吸引ポンプ５３に電気的に接続されており、アーム駆動部１３による現像液・リンス液吐出ノズル１１０のガイドレール１４に沿った往復動の走査（移動）および開閉弁６４、７４による現像液・リンス液吐出ノズル１１０からの現像液やリンス液としての純水の吐出開始および停止タイミング、現像液や純水の吐出量、吐出速度等各種の吐出条件、吸引ポンプ４６、５３によるリンス液としての純水や現像液の吸引タイミングなどを制御する。
【００６６】
図１５に示すように、現像液・リンス液吐出ノズル１１０のノズル本体部４７０は、底面４８０を有する。このノズル本体部４７０には、その底面４８０の往路の移動方向（走査方向Ａに向かう方向）の最前列に鉛直下向きに延びかつ当該底面４８０で開口する現像液吐出口としてのスリット状吐出口１５０が、第２列目には同様にリンス液吸引口に相当するスリット状吸引口４８０が、第３列目には、リンス液吐出口としてのスリット状吐出口４９０が、第４列目（最後列）には現像液吸引口としてのスリット状吸引口５２０がそれぞれ形成されている。このスリット吐出口１５０は、配管６２と連通されており、後述する現像液・リンス液吐出ノズル１１０の移動時に配管６２によって導かれた現像液を基板Ｗに向けて供給するようになっている。スリット状吐出口４９０は、配管７２と連通されており、後述する現像液・リンス液吐出ノズル１１０の復路の移動時に配管７２によって導かれたリンス液としての純水を基板Ｗに向けて供給するようになっている。また、スリット状吸引口５２０は、配管５４と連通されており、後述する現像液・リンス液吐出ノズル１１０の復路の移動時に、基板Ｗ上に盛られていた現像液を吸引して回収するようになっている。さらに、スリット状吸引口５１０は、配管５３と連通されており、後述する現像液・リンス液吐出ノズル１１０の復路の移動時に、基板Ｗ上に供給されたリンス液としての純水を吸引して回収するようになっている。即ち、現像液・リンス液吐出ノズル１１０の往復移動の復路の移動時には、現像液を吸引して回収するスリット状吸引口５２０が、リンス液の供給を行うスリット状吐出口４９０よりも移動方向前側（―Ａ方向前側）に配設されており、また、当該スリット状吐出口４９０が、リンス液を吸引して回収するスリット状吸引口５１０よりも移動方向前側（―Ａ方向前側）に位置することとなっている。
【００６７】
図１６に示すように、現像液・リンス液吐出ノズルのスリット状吐出口１５０、４９０の長手方向となる吐出幅方向は現像液・リンス液吐出ノズル１１０の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吐出口１５０、４９０の短辺ｔは０．０５〜１．００ｍｍであり、本実施形態では０．１ｍｍである。また、スリット状吐出口１５０、４９０の長手方向の吐出幅Ｌは処理対象となる基板Ｗの直径と同じかまたはそれよりも大きく設定（同等以上に設定）され、直径８インチの基板Ｗを処理する場合には、本実施形態では２１０ｍｍに設定される。
【００６８】
また、現像液・リンス液吐出ノズル１１０の底面４８０に形成されたスリット状吸引口５１０、５２０の長手方向となる吸引幅方向も、現像液・リンス液吐出ノズル１１０の走査方向Ａと垂直に配置される。スリット状吸引口５１０、５２０の長手方向の吸引幅Ｌも処理対象となる基板Ｗの直径と同じかまたはそれよりも大きく設定（同等以上に設定）され、直径８インチの基板Ｗを処理する場合には、本実施形態では２１０ｍｍに設定される。
【００６９】
現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、底面４８０が基板Ｗの表面に対して平行な状態を保つように往路である走査方向Ａ或いは復路である走査方向―Ａに向けて走査される。スリット状吐出口１５０、４９０およびスリット状吸引口５１０、５２０と基板Ｗの表面との間隔は、０．２〜５．０ｍｍ、より好ましくは０．５ｍｍ〜２．０ｍｍであり、本実施形態では１．０ｍｍである。
【００７０】
このような構成のもと、次に図１８、図１９を参照しながら本実施の形態の基板現像装置の動作を説明する。基板Ｗは、吸引チャック３１によって一連の処理を通じて静止状態の水平姿勢で保持されている。
【００７１】
まず現像液を基板Ｗ上に液盛りする前の待機時には、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、待機ポット２１０内の位置Ｐ０に待機している。現像液を基板Ｗ上に液盛りする時には、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が上昇した後、走査方向Ａに向かって移動し、外カップ５０内の走査開始位置Ｐ１で下降する。（図１８参照）
【００７２】
その後、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、走査開始位置Ｐ１から所定の走査速度で基板Ｗに向かう走査方向Ａに向かって走査即ち往路の移動を開始する。この時点では、現像液・リンス液吐出ノズル１１０からまだ現像液の吐出は行なわない。本実施形態では、走査速度は１０〜５００ｍｍ／秒とする。
【００７３】
現像液・リンス液吐出ノズル１１０の走査開始後、現像液・リンス液吐出ノズル１１０のスリット状吐出口１５０（図１５参照）が基板Ｗ上に到達する前に、位置Ｐ２にて所定の流量で現像液・リンス液吐出ノズル１１０による現像液の吐出を開始する。本実施形態では現像液の流量は１．５Ｌ／分とする。
【００７４】
そして現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、そのまま現像液を吐出しながら走査方向Ａに向かって直線状に移動を続け、基板Ｗの一端の現像液供給開始位置に到達して基板Ｗ上に現像液を供給し始める。さらに現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、基板Ｗ上を走査方向Ａに向かって移動を続け、現像液を連続的に供給し続け、基板Ｗの他端の現像液供給終了位置まで到達して、基板Ｗ表面全体への現像液の液盛りを完了する。供給された現像液は、表面張力により基板Ｗ上に保持される。
【００７５】
現像液・リンス液吐出ノズル１１０が基板Ｗ上を通過した後、基板Ｗ上から外れた位置Ｐ３で現像液・リンス液吐出ノズル１１０による現像液の吐出を停止させる。そして、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が外カップ５０内の走査停止位置Ｐ４に到達した時点で現像液・リンス液吐出ノズル１１０の走査を停止させる。その後、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、走査停止位置Ｐ４で上昇した後、待機ポット２２０の位置Ｐ５まで移動し、待機ポット２２０内に下降する。
【００７６】
このような現像液・リンス液吐出ノズル１１０によって基板Ｗ上に現像液が液盛りされた状態でしばらく基板Ｗを保持し、基板Ｗに対する現像処理を進める。そして所定時間が経過すると今度は、図１９に示すように現像液・リンス液吐出ノズル１１０を現像液の供給時とは反対の−Ａ方向に走査即ち復路の移動を行いながらリンス処理を行う。このリンス処理の場合にも、基板Ｗは、吸引チャック３１によって静止状態の水平姿勢に保持されたまま最後まで処理が行われる。まずリンス液を基板Ｗ上に供給する前の待機時には、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、待機ポット２２０内の位置Ｐ５に待機している。リンス液としての純水を基板Ｗ上に供給する時には、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が上昇した後、走査方向−Ａ方向に向かって移動し、外カップ５０内の走査開始位置Ｐ４で下降する。（図１９参照）
【００７７】
その後、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、走査開始位置Ｐ４から所定の走査速度で基板Ｗに向かう走査方向−Ａに向かって走査即ち往復移動の復路の移動を開始する。この時点では、現像液・リンス液吐出ノズル１１０からまだ純水の吐出は行なわない。本実施形態では、現像液の供給時と同様の走査速度は１０〜５００ｍｍ／秒とする。
【００７８】
現像液・リンス液吐出ノズル１１０の走査開始後、現像液・リンス液吐出ノズル１１０のスリット状吸引口５２０（図１５参照）が基板Ｗ上に到達する前に位置Ｐ３においてスリット状吸引口５２０およびスリット状吸引口５１０からの吸引動作を開始するとともに、スリット状吐出口４９０から所定の流量で現像液・リンス液吐出ノズル１１０によるリンス液の吐出を開始する。
【００７９】
そして現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、そのまま吸引動作および純水を吐出する動作を行いながら走査方向−Ａに向かって直線状に移動を続ける。そして、そのスリット状吸引口５２０が基板Ｗの他端の現像液供給終了位置に到達すると、基板Ｗの表面に盛られた現像液を当該スリット状吸引口５２０から吸引して回収し始める。さらに現像液・リンス液吐出ノズル１１０が−Ａ方向に走査されてスリット状吐出口４９０が基板Ｗの他端の現像液供給終了位置に到達すると、スリット状吸引口５２０によって現像液が回収された領域に対して、スリット状吐出口４９０から基板Ｗ上に純水を供給し始め、基板表面の液を現像液から純水へ置き換え始める。さらに現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、基板Ｗ上を走査方向−Ａに向かって移動を続る。すると、スリット状吸引口５１０が、基板Ｗの一端の現像液供給終了位置に到達し、先にスリット状吐出口４９０から基板Ｗの表面に供給されていたリンス液としての純水を吸引して回収し始める。
【００８０】
さらに、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が走査方向−Ａに向かっての移動を続け、スリット状吸引口５２０から基板Ｗの表面の現像液の吸引回収を行いつつスリット状吐出口４９０から純水を連続的に供給し続け、さらに、スリット状吸引口５１０から基板Ｗの表面に供給されていた純水を吸引して回収を続ける。そして、基板Ｗの他端の現像液供給終了位置まで現像液・リンス液吐出ノズル１１０が到達すると、スリット状吸引口５２０からの現像液の吸引回収が完了し、さらに、スリット状吐出口４９０から基板Ｗ表面全体へのリンス液の供給が完了し、基板表面の液が現像液から純水へ一旦置き換えられるとともに、基板表面へ供給された純水がスリット状吸引口５１０から吸引によって完全に回収される。
【００８１】
現像液・リンス液吐出ノズル１１０が基板Ｗ上を通過した後、基板Ｗ上から外れた位置Ｐ２で現像液・リンス液吐出ノズル１１０のスリット状吐出口４９０からの純水の吐出を停止させるとともにスリット状吸引口５２０、５１０からの吸引を停止する。そして、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が外カップ５０内の走査停止位置Ｐ１に到達した時点で現像液・リンス液吐出ノズル１１０の走査を停止させる。その後、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、走査停止位置Ｐ１で上昇した後、待機ポット２１０の位置Ｐ０まで移動し、待機ポット２１０内に下降する。
【００８２】
このような動作によって、本実施形態の基板現像装置は、基板Ｗに対する現像液供給、リンス液供給さらにはリンス液除去までの一連の現像処理を完了する。なお、必要に応じてこのような動作を繰り返して行うこともできる。
【００８３】
このように本実施形態の基板現像装置においては、基板Ｗに対する現像液の供給、リンス液の供給およびリンス液の基板Ｗ上からの回収を基板Ｗを静止させたままで行うことができるので、基板を高速回転させた場合に生じるような基板上から遠心力で振り切られた現像液やリンス液が周囲から跳ね返って基板表面や基板裏面に再付着して基板を汚染したりするというようなことがなく、基板Ｗに対する一連の現像処理を基板を汚染することなく清浄に行うことができる。また、本実施形態の基板現像装置においては、基板Ｗに対する現像液の供給、リンス液の供給およびリンス液の基板Ｗ上からの回収を基板Ｗを静止させたままで行うことができるので、基板Ｗを高速回転させた場合に生じるようなパターンの倒壊を生じるおそれもない。
【００８４】
また、本実施形態の基板現像装置においては、リンス液としての純水を吐出するスリット状吐出口４９０と純水を吸引して回収するスリット状吸引口５１０とを一つの現像液・リンス液吐出ノズル１１０に設けるようにしているので、基板Ｗ上へのリンス液の供給と回収との時間をわずかな時間差で行うことができ、一連の現像処理のスループットを向上させることができる。
【００８５】
また、この第３の実施形態においては、基板Ｗ上に液盛りされた現像液も回収し、現像液が残っていない状況でリンス液としての純水を供給するようにされるので、現像液と純水が混ざりあって基板Ｗの面内において現像むらを生じるようなことを防止することができる。
【００８６】
さらに、この第３の実施形態においては、現像液・リンス液吐出ノズル１１０に、現像液を供給するスリット状吐出口１５０、リンス液を供給するスリット状吐出口４９０、リンス液を吸引して回収するスリット状吸引口５１０の全てを形成するにしたので、現像液吐出ノズルとリンス液吐出ノズルとをそれぞれ待機させるスペースを必要とせず、装置の小型化を図ることができ、フットプリントの削減を図ることができる。
【００８７】
本実施形態における現像液・リンス液吐出ノズル１１０が請求項３の移動手段に相当する。
【００８８】
次に、第４の実施形態の基板現像装置について説明する。第４の実施形態は、図２０、２１に示すように前述した第３の実施形態と比較して、現像液・リンス液吐出ノズル１１０のノズル本体４７０の底面４８０に形成される現像液を吸引して回収するスリット状吸引口５２０と、リンス液を吸引して回収するスリット状吸引口５１０の位置関係が入れ替わっている点で異なっており、また、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が、往復移動の往路の移動を複数回繰り返し、往路の移動時に相当する走査方向Ａに向かって移動する場合にのみ、現像液・リンス液吐出ノズル１１０から現像液またはリンス液を基板Ｗに供給するようにしている点で異なっている。即ち、現像液・リンス液吐出ノズル１１０の往復移動の往路の移動時には、現像液を吸引して回収する現像液吸引口に相当するスリット状吸引口５２０が、リンス液の供給を行うリンス液吐出口に相当するスリット状吐出口４９０よりも移動方向前側（Ａ方向前側）に配設されており、また、当該スリット状吐出口４９０が、リンス液を吸引して回収するリンス液吸引口に相当するスリット状吸引口５１０よりも移動方向前側（Ａ方向前側）に位置することとなっている。その他の構成については、前述した第３の実施形態と同一であるのでその説明を省略する。
【００８９】
このような構成のもと、この第４の実施形態の基板現像装置においては、前述した第３の実施形態の場合と同様の動作（図１８参照）によって、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は走査方向Ａに向かって１回目の往路の移動を行い、基板Ｗ上に現像液を液盛りする。この現像液の液盛りが完了した時点では、現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、待機ポット２１０から２２０まで一旦移動している。
【００９０】
そして、基板Ｗ上への現像液の液盛りが完了すると、その状態をしばらく維持して現像処理が進められるので、その時間を利用して現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、基板Ｗに影響を与えないような高さまで移動した上で、走査方向Ａ（往路の移動方向）と反対方向の−Ａ方向である復路を移動してもとの待機ポット２１０に戻る。そして現像に要する所定時間が経過すると今度は、再度図１８に示すのと同様の動作によって現像液・リンス液吐出ノズル１１０は、走査方向Ａに向かって２回目の往路の移動を行う。
【００９１】
このとき、現像液・リンス液吐出ノズル１１０が基板の一端の現像液供給開始位置から他端の現像液供給終了位置まで移動することによって、それぞれスリット状吸引口５２０からの現像液の吸引回収、スリット状吐出口４９０からのリンス液の基板Ｗ上への供給、スリット状吸引口５１０からのリンス液の吸引回収が連続的に行われ、基板Ｗに対する現像液供給、現像液回収、リンス液供給さらにはリンス液回収までの一連の現像処理を完了する。なお、必要に応じてこのような動作を繰り返して行うこともできる。
【００９２】
この第４の実施形態の基板現像装置においては、第３の実施形態の装置と同様の効果を奏することができる他、基板Ｗの直径と同等以上の吐出幅を有する現像液・リンス液吐出ノズル１１０のスリット状吐出口１５０からの現像液の供給と、同じく基板Ｗの直径と同等以上の吐出幅を有するスリット状吐出口４９０からのリンス液の供給とを、それぞれ同一の移動方向（走査方向Ａ）に移動させながら行っているので基板Ｗ表面内の各箇所で現像液と接している時間（現像時間）が均一となり、基板表面全体を均一に現像できパターンの線幅均一性を向上させることができる。
【００９３】
次に第５の実施形態の基板現像装置について図２２、２３、２４に基づいて説明する。第５の実施形態の基板現像装置は、図２２、２３、２４に示すように前述した第３の実施形態と比較して、現像液・リンス液吐出ノズル１２０のノズル本体６９０の底面６６０には、それぞれ基板Ｗと同等以上の吐出幅と吸引幅とを有する液吐出口としてのスリット状吐出口６４０と、液吸引口としてのスリット状吸引口６５０の二つのみが形成されている点、現像液を導く配管６２とリンス液としての純水を導く配管７２とが三方弁６８０に接続され、制御部７０による切り替え制御によって配管６７０を通して現像液か純水のいずれかが現像液・リンス液吐出ノズル１２０のスリット状吐出口６４０に導かれる点、および、現像液・リンス液吐出ノズル１２０が、往復移動の往路の移動を複数回繰り返し、往路の移動時に相当する走査方向Ａに向かって移動する場合にのみ、現像液・リンス液吐出ノズル１１０から現像液またはリンス液を基板Ｗに供給するようにしている点で異なっている。なお、現像液・リンス液吐出ノズル１２０の往復移動の往路の移動時には、リンス液の供給を行うスリット状吐出口６４０が、リンス液を吸引して回収するスリット状吸引口６５０よりも移動方向前側（Ａ方向前側）に位置することとなっている。その他の構成については、前述した第３の実施形態と同一であるのでその説明を省略する。
【００９４】
このような構成のもと、この第５の実施形態の基板現像装置においては、前述した第３の実施形態の場合と同様の動作（図１８参照）によって、現像液・リンス液吐出ノズル１２０は走査方向Ａに向かって１回目の往路の移動を行う。このとき制御部７０は、三方弁６８０を配管６２と配管６７０とが連通するように切り替え制御し、現像液がスリット状吐出口６４０から基板Ｗへ供給されるようにする。そして、現像液・リンス液吐出ノズル１２０が、基板の一端の液供給開始位置から他端の液供給終了位置まで移動することによって、基板Ｗ上に現像液を液盛りする。この現像液の液盛りが完了した時点では、現像液・リンス液吐出ノズル１２０は、待機ポット２１０から２２０まで一旦移動している。
【００９５】
そして、基板Ｗ上への現像液の液盛りが完了すると、その状態をしばらく維持して現像処理が進められるので、その時間を利用して現像液・リンス液吐出ノズル１２０は、基板Ｗに影響を与えないような高さまで移動した上で、走査方向Ａ（往路の移動方向）と反対方向の−Ａ方向である復路を移動してもとの待機ポット２１０に戻る。そして現像に要する所定時間が経過すると今度は、再度図１８に示すのと同様の動作によって現像液・リンス液吐出ノズル１２０は、走査方向Ａに向かって２回目の往路の移動を行う。
【００９６】
このとき、制御部７０は、配管７２と配管６７０とが連通するように三方弁６８０を切り替え制御し、現像液・リンス液吐出ノズル１２０のスリット状吐出口６４０からリンス液としての純水が吐出されるようにする。そして、現像液・リンス液吐出ノズル１２０が基板の一端の液供給開始位置から他端の液供給終了位置まで移動することによって、それぞれスリット状吐出口６４０からのリンス液の基板Ｗ上への供給、スリット状吸引口６９０からのリンス液の吸引回収が連続的に行われ、基板Ｗに対する現像液供給、リンス液供給さらにはリンス液回収までの一連の現像処理を完了する。なお、必要に応じてこのような動作を繰り返して行うこともできる。
【００９７】
この第５の実施形態の基板現像装置においては、第３の実施形態の装置と同様の効果を奏することができる他、基板Ｗの直径と同等以上の吐出幅を有する現像液・リンス液吐出ノズル１２０のスリット状吐出口６４０からの現像液の供給と、リンス液の供給とを、それぞれ同一の移動方向（走査方向Ａ）に移動させながら行っているので基板Ｗ表面内の各箇所で現像液と接している時間（現像時間）が均一となり、基板表面全体を均一に現像できパターンの線幅均一性を向上させることができる。
【００９８】
また、この第５の実施形態によれば、配管系統を簡略化することができる。
【００９９】
この第５の実施形態における現像液・リンス液吐出ノズル１２０が請求項７に記載する移動手段に相当し、現像液供給系６０が現像液供給手段に相当し、リンス液供給系７０がリンス液供給手段に相当し、三方弁６８０及び制御手段７０が切り替え制御手段に相当する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態における基板現像装置の平面図である。
【図２】図１の基板現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図である。
【図３】図１の基板現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図である。
【図４】図１の基板現像装置の主要部のＹ−Ｙ線断面図である。
【図５】本発明の第１の実施形態にかかる現像液吐出ノズルの断面図である。
【図６】本発明の第１の実施形態にかかるリンス液吐出ノズルの断面図である。
【図７】本発明の第1の実施の形態にかかる現像液吐出ノズルの底面図である。
【図８】本発明の第1の実施の形態にかかるリンス液吐出ノズルの底面図である。
【図９】基板上での現像液吐出ノズルの走査を示す断面図である。
【図１０】基板上でのリンス液吐出ノズルの走査を示す断面図である。
【図１１】本発明の第２の実施形態にかかる基板現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図である。
【図１２】本発明の第２の実施形態にかかるリンス液供給ノズルの断面図である。
【図１３】本発明の第２の実施形態にかかるリンス液供給ノズルの底面図である。
【図１４】本発明の第３の実施形態にかかる基板現像装置の平面図である。
【図１５】本発明の第３の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの断面図である。
【図１６】本発明の第３の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの底面図である。
【図１７】図１４の基板現像装置の主要部のＸ−Ｘ線断面図である。
【図１８】本発明の第３の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの往路の走査を示す断面図である。
【図１９】本発明の第３の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの復路の走査を示す断面図である。
【図２０】本発明の第４の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの断面図である。
【図２１】本発明の第４の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの底面図である。
【図２２】本発明の第５の実施形態にかかる基板現像装置の主要部の断面図である。
【図２３】本発明の第５の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの断面図である。
【図２４】本発明の第５の実施形態にかかる現像液・リンス液吐出ノズルの底面図である。
【符号の説明】
１    基板現像装置
１１  現像液吐出ノズル
３１  吸引チャック
４１  リンス液吐出ノズル
６０  現像液供給系
７０  リンス液供給系
１５、４９、１５０、４９０、６４０  スリット状吐出口
５１、５２、５１０、５２０、６５０  スリット状吸引口
６８０  三方弁
【図１】
0003957983.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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