(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガスを含み、少なくとも一部が誘電体で形成された反応容器と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部と、前記第１開口部に対向する壁面に形成された第２開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、
前記内導体の底部が、前記導波管の第２開口部の周縁と接合され、
マイクロ波電力は、前記導波管内に入力され、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力されると共に、前記反応容器の誘電体を介して前記反応容器内のガスに電力を供給し、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項２】
ガスを含み、少なくとも一部が誘電体で形成された反応容器と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と、
前記内導体の中央部に形成された孔部に挿入される、前記反応容器を支持する支持部材と
を備え、
マイクロ波電力は、前記導波管内に入力され、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力されると共に、前記反応容器の誘電体を介して前記反応容器内のガスに電力を供給し、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項３】
ガスを含む反応容器と、
前記反応容器に面した誘電体と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部と、前記第１開口部に対向する壁面に形成された第２開口部とを有し、前記誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、
前記内導体の底部が、前記導波管の第２開口部の周縁と接合され、
マイクロ波電力は、前記導波管内に入力され、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力されると共に、前記誘電体を介して前記反応容器内のガスに電力を供給し、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項４】
ガスを含む反応容器と、
前記反応容器に面した誘電体と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な第１の側壁に設けられた第１開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な前記第１の側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、
前記内導体の先端部がギャップ又はスロットの内周となり、及び、前記導波管の第１開口部がギャップ又はスロットの外周となり、
前記内導体の底部が、前記導波管の第１開口部に対向する第２の側壁に接合され又は一体成形されており、
マイクロ波電力は、前記導波管内に入力され、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力されると共に、前記誘電体を介して前記反応容器内のガスに電力を供給し、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項５】
前記内導体は、円錐台形状であることを特徴とする請求項１乃至４のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項６】
前記ギャップ又はスロットの幅は一定又は略一定であって、形状はリング状であることを特徴とする請求項１乃至５のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項７】
前記支持部材は、誘電体であることを特徴とする請求項２に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項８】
前記内導体の近傍に配置され、前記反応容器と前記内導体又は前記導波管との隙間に、気体又は液体を流すことにより、前記反応容器を冷却する冷却部材をさらに備えたことを特徴とする請求項１乃至７のいずれかに記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項９】
前記内導体の中央部に孔部が形成され、該孔部の該第１及び／又は第２開口部側を覆う金属蓋を備えたことを特徴とする請求項１又は３又は４に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１０】
前記誘電体の外周の一部又は全部を覆う遮蔽部材を備えたことを特徴とする請求項１又は３又は４に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【請求項１１】
ガスを含み、少なくとも一部が誘電体で形成された反応容器と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部と、前記第１開口部に対向する壁面に形成された第２開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、前記内導体の底部が、前記導波管の第２開口部の周縁と接合されたマイクロ波プラズマ発生装置におけるマイクロ波プラズマ発生方法であって、
マイクロ波電力を、前記導波管内に入力すると共に、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力させ、
前記ギャップ又はスロットから出力されたマイクロ波電力を、前記反応容器の誘電体を介して前記容器内のガスに供給することにより、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生方法。
【請求項１２】
ガスを含み、少なくとも一部が誘電体で形成された反応容器と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と、
前記内導体の中央部に形成された孔部に挿入される、前記反応容器を支持する支持部材と
を備えたマイクロ波プラズマ発生装置におけるマイクロ波プラズマ発生方法であって、
マイクロ波電力を、前記導波管内に入力すると共に、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力させ、
前記ギャップ又はスロットから出力されたマイクロ波電力を、前記反応容器の誘電体を介して前記容器内のガスに供給することにより、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生方法。
【請求項１３】
ガスを含む反応容器と、
前記反応容器に面した誘電体と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部と、前記第１開口部に対向する壁面に形成された第２開口部とを有し、前記誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、前記内導体の底部が、前記導波管の第２開口部の周縁と接合されたマイクロ波プラズマ発生装置におけるマイクロ波プラズマ発生方法であって、
マイクロ波電力を、前記導波管内に入力すると共に、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力させ、
前記ギャップ又はスロットから出力されたマイクロ波電力を、前記誘電体を介して前記容器内のガスに供給することにより、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生方法。
【請求項１４】
ガスを含む反応容器と、
前記反応容器に面した誘電体と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な第１の側壁に設けられた第１開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な前記第１の側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、
前記内導体の先端部がギャップ又はスロットの内周となり、及び、前記導波管の第１開口部がギャップ又はスロットの外周となり、
前記内導体の底部が、前記導波管の第１開口部に対向する第２の側壁に接合され又は一体成形されたマイクロ波プラズマ発生装置におけるマイクロ波プラズマ発生方法であって、
マイクロ波電力を、前記導波管内に入力すると共に、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力させ、
前記ギャップ又はスロットから出力されたマイクロ波電力を、前記反応容器の誘電体を介して前記容器内のガスに供給することにより、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生方法。
【請求項１５】
前記反応容器は、少なくとも一部が誘電体で構成され、前記誘電体を兼ねたことを特徴とする請求項４に記載のマイクロ波プラズマ発生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、マイクロ波プラズマ発生装置及び方法に係り、特に、半導体分野の露光用光源、液晶表示装置用の光源及び樹脂硬化などに用いる光源装置やプラズマを用いた微細加工のエッチング、成膜及び表面改質などに用いるプラズマ表面処理装置などに対して好適なマイクロ波プラズマを発生させるマイクロ波プラズマ発生装置及び方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体分野の露光用光源、液晶表示装置用の光源及び樹脂硬化などに用いる光源装置等として、マイクロ波電力を用いた▲１▼プラズマ光源装置が知られている。また、プラズマを用いた微細加工のエッチング、成膜及び表面改質などに用いるプラズマ表面処理装置として、マイクロ波電力を用いた▲２▼プラズマ表面処理装置が知られている。
【０００３】
まず、▲１▼プラズマ光源装置の代表的なものとしては、例えば、照明学会研究会資料L3-86-1-6（吉沢、西前、滝、児玉  １９８６年）、三菱電機技報、Vol.57、
No.2 (1983) 23 等に記載された技術が挙げられる。
【０００４】
図５は、従来のプラズマ光源装置３００の概略構成図である。
プラズマ光源装置３００は、例えば、マグネトロン３０１、導波管３０２、空胴共振器３０３、無電極ランプ３０５及び反射板３０６を備える。マグネトロン３０１は、例えば、周波数２．４５ＧＨｚ（波長１２２ｍｍ）のマイクロ波電力を発生する。導波管３０２は、一端をマグネトロン３０１に接続され、他端は空胴共振器３０３に接続されている。
【０００５】
空胴共振器３０３は、マイクロ波を反射し、光を透過する金属メッシュで覆われており、この金属メッシュのうち導波管３０２に接続された箇所には、導波管３０２を経てマグネトロン３０１から供給されるマイクロ波電力を導入するための給電口３０４が形成されている。無電極ランプ３０５は、空胴共振器３０３内に配設されており、例えば、球形であって、内部に希ガス、水銀、ハロゲン、金属などが封入されている。また、反射板３０６は、配光分布が所望の分布となるように適宜設定される。
【０００６】
ここで、無電極ランプ３０５内でプラズマが発生する過程について概要を説明する。
まず、マグネトロン３０１から供給されるマイクロ波電力は、導波管３０２を経て給電口３０４から空胴共振器３０３内に導入される。空胴共振器３内に導入されたマイクロ波電力は、無電極ランプ３０５に対してマイクロ波電力を与える。このマイクロ波電力によって、無電極ランプ３０５内に封入された各種物質は電離し、プラズマを発生する。
【０００７】
つぎに、▲２▼プラズマ表面処理装置の代表的なものとしては、例えば、本発明者らが既に公表したPlasma Sources Science & Technology、 5 (1996) 648等に記載された技術が挙げられる。
図６は、従来のプラズマ表面処理装置４００の概略構成図である。
プラズマ表面処理装置４００は、例えば、放電管４０１と、この放電管４０１より延設されたプラズマ処理室（チャンバー）４０２と、導波管４０３と、空胴部（キャビティ）４０４とを備える。放電管４０１には、例えば、プロセスガス（例えば、Ｏ２やＣＦ４など）を導入するための導入パイプが取り付けられている。また、放電管４０１は、石英ガラス等の誘電体から形成されている。放電管４０１の外周には、例えば、図示しない内導体及び外導体が設けられている。導波管４０３は、放電管４０１を覆うキャビティ４０４に接続されている。キャビティ４０４の壁面は、この放電管４０１を覆う導体で形成されている。
【０００８】
ここで、プラズマの発生について説明する。
まず、導波管４０３は、キャビティ４０４にマイクロ波電力を導入する。放電管４０１は、キャビティ４０４内に設置されている。このため、キャビティ４０４に導入されたマイクロ波電力は、外導体及び内導体を経て放電管４０１に供給され、放電管４０１の中のガスを電離してプラズマを生成する。放電管４０１の中に生成したプラズマは、チャンバー４０２に拡散される。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
従来技術では、例えば、図５の▲１▼プラズマ光源装置３００に示すように、空胴共振器３内に配設された無電極ランプ３０５の外部からマイクロ波電力が与えられ、無電極ランプ３０５内にプラズマが発生する。このとき、共振器５内のマイクロ波電界は、中心部が最大になるためガス温度が低く、かつ、非平衡なプラズマが生成される等、供給したマイクロ波電力の利用率が低い。さらに、この装置自体が大きく、かつ複雑である。
【００１０】
また、従来技術では、例えば、図６の▲２▼プラズマ表面処理装置４００を参照すると、キャビティ４０４に導入されたマイクロ波電力が、外導体及び内導体を経て、ベルジャ状の誘電体で形成された放電管４０１に導入されるので、大口径で均一なプラズマを生成することが困難になる。
本発明は、以上の点に鑑み、マイクロ波電力の利用率が大きく、よりコンパクトかつ安価で任意の形状のプラズマを安定に生成できるマイクロ波プラズマ発生装置及び方法を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の第１の解決手段によると、
ガスを含み、少なくとも一部が誘電体で形成された反応容器と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備え、
マイクロ波電力は、前記導波管内に入力され、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力されると共に、前記反応容器の誘電体を介して前記反応容器内のガスに電力を供給し、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生装置を提供する。
【００１２】
本発明の第２の解決手段によると、
ガスを含み、少なくとも一部が誘電体で形成された反応容器と、
短絡された一端と、開放されてマイクロ波電力が導入される他端と、磁界に平行な側壁に設けられた第１開口部とを有し、前記反応容器の誘電体の近傍に配置された導波管と、
前記導波管内の磁界に平行な側壁に、前記導波管の第１開口部とギャップ又はスロットを形成するための内導体と
を備えたマイクロ波プラズマ発生装置におけるマイクロ波プラズマ発生方法であって、
マイクロ波電力を、前記導波管内に入力すると共に、前記導波管の第１開口部と前記内導体の間のギャップ又はスロットから出力させ、
前記ギャップ又はスロットから出力されたマイクロ波電力を、前記反応容器の誘電体を介して前記容器内のガスに供給することにより、プラズマを生成するようにしたマイクロ波プラズマ発生方法を提供する。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を用いて本発明の実施の形態を詳細に説明する。
図１は、本発明に関するプラズマ光源装置に適用したマイクロ波プラズマ発生装置１００の概略構成図である。なお、図１（ａ）は、プラズマ発生装置１００の主要部を示した断面図であり、図１（ｂ）は、図１（ａ）のＡ−Ａ’線断面図である。
【００１４】
マイクロ波プラズマ発生装置１００は、ここでは、プラズマ光源装置に適用されており、例えば、扁平導波管１と、内導体２と、ランプ３と、このランプ３を支持するためのランプ支持棒４と、このランプ支持棒４を固定するための支持具７，８と、冷却部材９とを備える。なお、マイクロ波のリークを考慮し、マイクロ波を反射させる材質で形成されたシールドケージ１０を、ランプ３の外周に配設してもよい。なお、ここで、扁平導波管とは、標準サイズより薄い形状のものをいう。
【００１５】
扁平導波管１は、一端は開放され、他端は短絡されており、図示しないマイクロ波電源、チューナ及びテーパー管を経て、一端よりマイクロ波電力が供給される。薄い扁平導波管１は、例えば、周波数２．４５ＧＨｚのとき、その内寸は、電界方向（Ｅ面）：高さｈ＝３−１２ｍｍ、磁界方向（Ｈ面）：幅ｗ＝８４ｍｍ以上で生成するプラズマの断面積に依存する。また、扁平導波管１のＨ面の一側壁（前面）には、半径ｒ１の第１開口部１１が設けられている。なお、この第１開口部１１の半径ｒ１は、ランプ３の内径に依存しており、例えば、ランプ３の内径が約３０ｍｍのとき、ｒ１＝１０ｍｍ程度となる。
【００１６】
一方、扁平導波管１の他方の側壁（後面）には、半径ｒ２（ｒ２＞ｒ１）の第２開口部１２が設けられている。なお、ここで、Ｅ面とは、扁平導波管１内の電界に平行な側壁であり、Ｈ面とは、扁平導波管１内の磁界に平行な側壁である。
【００１７】
なお、チューナは、例えば、マイクロ波電源とマイクロ波プラズマ発生装置１００の間に配設され、マイクロ波電力を効率良く（反射電力が少なくなるように）プラズマに供給出来るように、マイクロ波源側のインピーダンスとプラズマ側のインピーダンスを整合させている。
【００１８】
内導体２は、扁平導波管１の中央部付近に設ける。内導体２の形状は、例えば、円錐台形状であって、この内導体２の先端部は、例えば、Ｈ面の一側壁（前面）の外側の高さとほぼ等しく同心状で、ランプ３の外径とも同心状になっている。内導体２の先端部は、円筒形でその外径ｒ３は、前面に設けた第１開口部１１の半径ｒ１より小さい（ｒ３＜ｒ１）。このため、内導体２の先端部は、図１（ロ）に示すように、第１開口部１１と共に磁界方向にリング状のギャップ（又はスロット）ｇ（例えば、ギャップ幅：２〜８ｍｍ）を形成する。なお、ギャップｇの形状は、反応（真空）容器であるランプ３の形状（断面）と同一又は略同一とするとよい。また、ギャップｇの幅が一定又は略一定となるように、基本的にはギャップｇの内周となる内導体２の先端部と、ギャップｇの外周となる扁平導波管１に形成された第１開口部１１との形状を同一形状にする。なお、上述のギャップｇ、扁平導波管１、内導体２、ランプ３及びランプ支持棒４は、例えば、内導体２の中心軸を中心として、互いに軸対称に配置するとよい。
【００１９】
また、内導体２の底部は、第２開口部１２の周縁と接合する。なお、扁平導波管１には、ここでは、扁平導波管１に形成された第１開口部１１及び第２開口部１２を介して、内導体２が設けられているが、扁平導波管１と内導体２とを一体成形してもよい。この場合、図中、第２開口部１２と内導体２の底部とが一体成形となる。これによっても、内導体２の先端部は、第１開口部と共にギャップｇを形成することができ、マイクロ波電力を集中させることができる。
【００２０】
また、ランプ３は、反応容器であって、例えば、石英ガラス等の誘電体からなる球形のランプ（内径：例えば５−３０ｍｍ）である。このランプ３の内部には、例えば、数ｋＰａ（例えば、０．１−１０５Ｐａ）のＨｅ、Ｎｅ、Ａｒ、Ｋｒ、Ｘｅの少なくとも一種の希ガスと必要とする光を得るための数１０ｍｇのＨｇ、ＩｎＢｒ、ＳｃＩ３−ＮａＩなどの少なくとも１種類が封入されている。なお、ランプ３の形状は、球形に限らず、円筒形、角柱等、適宜の形状で形成してもよい。また、ランプ３の内部に封入されたガスなどは、内導体２の先端部と扁平導波管１のＨ面の一側壁（前面）に形成された第１開口部１１との間のギャップｇから出力されるマイクロ波電力（例えば、数１００Ｗ）によってイオン化され、プラズマ５を発生する。ここでは、プラズマ５の発生に伴って放射される光を光源として用いることにより、マイクロ波プラズマ発生装置１００は、プラズマ光源装置として機能する。
【００２１】
ランプ支持棒４は、例えば、ランプ３を支持するための支持棒であって、内導体２に開けられた円筒６に挿入されている。ランプ支持棒４は、例えば、石英ガラス、誘電体、導体、非導体、絶縁体等の適宜の材質を用いて形成することができる。なお、ランプ支持棒４の材質をランプ３の材質（誘電体）と同一にした場合、ランプ（例えば、放電管）３と熱膨張係数が同じになり、ランプ３が高温になっても破損することがなく、効率的な放熱を行うことができる。さらにこの場合、ランプ３及びランプ支持棒４とを一体成形することができる。
【００２２】
また、ランプ３を冷却する場合は冷却部材９を設けるとよい。冷却部材９の空気（又は液体）導入口から導入した空気（又は液体）は、内導体２に形成された円筒６を経て、ランプ３と内導体２の先端部又は扁平導波管１との隙間を通過する。この空気（又は液体）の流れによって、ランプ３の表面が冷却される。なお、ランプ３を冷却する場合、図示しない冷却ファンによって強制的に冷却してもよい。
【００２３】
ここで、上述のプラズマ光源装置に適用したプラズマ発生装置１００におけるプラズマ５の発生について概略的に説明する。
図示しないマイクロ波源で発生したマイクロ波電力は、例えば、アイソレータ、チューナ及びテーパ電波管を経て、扁平導波管１の一端から導入される。なお、この扁平導波管１の他端は短絡されている。このとき、マイクロ波電力は、第１開口部１１と内導体２との間のギャップｇに集中する。ランプ３はこのギャップｇ上（又は近傍）に設置されているので、このランプ３に封入された反応ガス（種々のガス状の物質）には、このマイクロ波電力が印加される。
【００２４】
したがって、この電力により、ガスはイオン化されプラズマ５を発生する。このプラズマ５とランプ３を形成する誘電体である石英ガラスとの境界には、表面波が励起伝搬し、反応ガスはよりイオン化され、より高密度のプラズマ５が発生する。このようにして、適宜の物質のプラズマが、高密度（使用した周波数のカットオフ密度以上：例えば、２．４５ＧＨｚのとき７×１０１０／ｃｍ３以上）となり、したがって、発光強度も一層高輝度になる。さらに、適宜の目的に応じたプラズマを、低気圧（１０−２Ｐａ）から高気圧（数１００気圧）まで球状、平面状等の任意の形状に効率良く生成維持することができる。
【００２５】
この表面波の性質として、例えば、ランプ３の内面からプラズマ５の中に表面波が伝搬することにより、プラズマ５の電子密度や温度は、プラズマ５の中心部より周辺部の方が高くなる。また、マイクロ波の周波数で決まるカットオフ密度以上の高密度プラズマを生成することができる。このため、マイクロ波プラズマ発生装置１００で生成されたプラズマ５は、高輝度・高効率となる。
【００２６】
なお、カットオフ密度について説明すると、マイクロ波は、その周波数ｆで決まる電子密度（カットオフ密度という）以上の電子密度を有する媒体の中を伝搬することができないが、表面波モードに変換すると、表面波の性質から、ランプや誘電体板の材質（誘電率：ｋ＝４−１０程度）に依存して、その周波数ｆはｆ（１＋ｋ）１／２と大きくなる。このため、カットオフ密度も大きくなって、より高密度のプラズマが得られることになる。
【００２７】
次に、図２は本発明に関するプラズマ表面処理装置に適用したプラズマ発生装置２００の概略構成図である。なお、上述のプラズマ発生装置１００と重複する部材については、同一符号を付すと共に、冗長とならない程度に説明を省略する。
【００２８】
プラズマ発生装置２００は、ここでは、プラズマ表面処理装置として適用されており、例えば、扁平導波管１と、内導体２と、反応容器２２と、誘電体板２１と、金属製の上蓋２８又は金属製の下蓋２９と、金属円状板２７とを備える。なお、このプラズマ表面処理装置に適用したプラズマには、例えば、スループットを高めるためにより高密度、かつ大口径で均一であること、また、方向性のあるエッチングをダメージなく行うために、低温（数ｅＶ以下）で低圧などであることなどが要求される。
【００２９】
薄くて大きな扁平導波管１は、例えば、Ｅ面の高さｈ＝５−１２ｍｍ、Ｈ面の幅ｗ＝８４ｍｍ以上で必要とするプラズマの大きさに依存し、例えば、ｗ＝３００ｍｍである。扁平導波管１は、一端が開放され、他端は短絡されている。一端からは、図示しないマイクロ波源及びチューナなどを経てマイクロ波電力が供給される。扁平導波管１のＨ面の一側壁（ここでは、誘電体板２１側）には半径ｒ１の第１開口部１１が、他方の対向した側壁には第２開口部１２がそれぞれ形成されている。この扁平導波管１には、この第１開口部１１及び第２開口部１２を介して内導体２が設けられている。なお、この扁平導波管１のＷの大きさは、必要される処理の面積（例えば、エッチングすべきウェハー等の試料の面積）に比例し、これに伴って、第１開口部１１の半径ｒ１の大きさも大きくする（例えば、通常２５ｍｍ以上）。
【００３０】
反応容器（真空容器）２２は、例えば、金属製の真空チャンバーであって、ガス導入パイプ３０と、排気口３１とを備える。また、反応容器２２の内部には、試料２５と、試料台２４とが設置されている。試料２５は、各種表面処理（例えば、エッチング）をすべき適宜の材料（例えば、処理すべきウェハー）である。試料台２４には、この試料２５を誘電体２１に対向して設置する。誘電体板２１は、反応容器２２の側面に配設された石英ガラス等、適宜の誘電体から形成されている。ガス導入パイプ３０からは、試料２５に合った反応ガスを導入する。排気口は、図示しない真空ポンプ等に接続されている。
【００３１】
なお、誘電体板２１を、例えば、誘電率の大きいセラミックス等で形成した場合、表面波の性質からより高密度のプラズマ５が得られる。また、試料台２４は、例えば、加熱又は冷却ができるとともに、直流又は高周波バイアスなどが必要に応じて印加できるようになっている。反応容器２２の側面に設けられた誘電体板２１の試料２５側の一面と、反応容器２２の金属製の側面との間には、互いを真空シールするための”Ｏ”リング２３等のパッキンが取り付けられている。
【００３２】
内導体２は、上述のように、例えば、円錐台形状であって、内導体２の先端部（半径ｒ３、例えば、ｒ１−ｒ３＝２−８ｍｍ）は、誘電体板２１の近傍に配設され、第１開口部１１と共に、リング状のギャップ（又はスロット）ｇを形成する。また、内導体２の底部は、第２開口部１２の周縁と接合する。
【００３３】
このギャップｇの位置を、例えば、必要とするプラズマ５の径の約７５−８５％のところに設定すると、大口径で均一性の良いプラズマが得られる。なお、このギャップｇの設定位置は、プラズマの生成と壁および拡散による損失とのバランスで決まる。
【００３４】
また、内導体２の略中心部に、空胴部２０を形成し、軽量化を図ることもできる。なお、外光やマイクロ波のリーク、又は、均一性などを考慮する場合、この空胴部２０を形成しないようにするか、又は、この空胴部２０の内導体２の底部に相当する部分に金属製の上蓋２８を、又は、空胴部２０の内導体２の先端部に相当する部分に金属製の下蓋２９をそれぞれ取り付けるか内導体２と一体製作する。
【００３５】
また、誘電体板２１の径が大きくなると、耐真空強度を大きくするために、この誘電体板２１の厚さを厚くする必要があり、このため、マイクロ波電力の利用率は低下する。誘電体板２１の厚さを厚くすることなく、耐真空強度を維持するには、上述の空胴部２０を完全には形成しないようにするか、又は、反応容器２２の金属製の側壁のうち誘電体板２１に面した部分を、例えば、部分的な上壁２６として一部残しておくようにしてもよい。なお、誘電体板２１の周辺部などからのマイクロ波電力のリークを防止する対策としては、この誘電体板２１の周辺部などにマイクロ波を遮蔽する金属円状板２７を設置する。
【００３６】
ここで、上述のプラズマ表面処理装置に適用したプラズマ発生装置２００におけるプラズマ５の発生について説明する。
まず、真空チャンバーである反応容器２２内に、例えば、エッチングすべきウェハなどの試料２５に合わせた反応ガス（例えば、ＣＦ４などのエッチングガス）を、ガス導入パイプ３０より導入する。つぎに、図示しないマイクロ波源で発生したマイクロ波電力が、扁平導波管１の一端から入力される。このマイクロ波電力は、上述のギャップｇから出力される。また、ギャップｇから出力されたマイクロ波電力は、誘電体板２１を経て反応容器２２に封入された反応ガスに供給される。これにより、反応ガスがイオン化され、プラズマ５が生成・維持される。このプラズマ５によるラジカルやイオン（正と負）と試料２５との物理的、化学的反応によりエッチングが起こり、エッチング生成物は排気除去される。なお、試料台２４に対しては、例えば、高周波バイアス用高周波電圧を印加したり冷却することにより、指向性の優れたエッチングを促進するようにしてもよい。一方、反応ガスとしてＯ２やＮ２などを用いると、アークシングはじめ酸化物や窒化物などの創製などにも応用することができる。
【００３７】
このように、リング状のギャップｇにマイクロ波電力を集中させ、反応容器２２のうちギャップｇに対応する部分からプラズマ５を発生させると、誘電体板２１とプラズマ５との境界で表面波が励起され伝搬するので、低温で大口径の均一なカットオフ密度以上の高密度プラズマを効率良く生成維持することができる。
【００３８】
図３は、本発明及び従来技術に関するイオン電流密度の径分布特性を比較した一例の図である。
本実施の形態であるプラズマ発生装置２００で発生したプラズマは、例えば、従来技術と比較すると、イオン電流密度の径分布は均一であり、しかも高密度である。具体的には、実線で示した本実施の形態に関する径分布特性は、破線で示した従来技術の径分布特性に比べて、径が大きくなっても、イオン電流密度は均一になっている。また、図示のように、本実施の形態に関する径分布特性のイオン電流密度は、従来技術の径分布特性のイオン電流密度よりも大きい。さらに、電子温度が低い（例えば、１−３ｅＶ程度）こともあって、プラズマ５の電位も低く、したがって、試料２５に入射するイオンのエネルギーも小さくなる等、プラズマプロセスにとっての利点が多くある。
【００３９】
上述の実施の形態によれば、薄い扁平導波管１のＨ面方向と平行に面した一側壁の略中央部に、例えば、円状の第１開口部１１を設け、さらに、他方の側壁の略中央部に円錐台状の内導体２を同心状に設ける。また、この第１開口部１１と内導体２の先端部とでリング状のギャップ（又はスロット）ｇをＨ面方向に形成させる。
【００４０】
マイクロ波電力は、石英ガラスなどの適宜の誘電体で形成され、ギャップｇの近傍に配設されたランプ３、又は、誘電体板２１を介して、ランプ３内又は反応容器２２内に封入された反応ガスに与える。これにより、反応ガスはイオン化され、プラズマ５を生成維持させることができる。
【００４１】
このとき、ギャップｇにマイクロ波電力が集中すると共に、ランプ３又は誘電体板２１とプラズマ５との境界に表面波が励起伝搬するので、プラズマ５に対してマイクロ波電力を効率良く吸収させることができる。このため、低気圧（１０−２Ｐａ）から高気圧（数１００気圧）までの広い範囲で、カットオフ密度以上の高密度で低温のプラズマを、適宜のガスについて所望の大きさ、かつ、適宜の目的に応じて発生させることができる。
【００４２】
このように、プラズマ発生装置１００で発生したプラズマは、例えば、露光などの光源としてプラズマ光源装置に適用でき、さらに、プラズマ発生装置２００で発生したプラズマは、例えば、エッチングやテポジションなどのプラズマプロセス用として、プラズマ表面処理装置に適用することができる。なお、供給するマイクロ波電力は、連続（ＣＷ）またはパルス（例えば、周期：１０μｓ−１０ｍｓ程度、パルス幅：１μｓ−５ｍｓ程度）等に限らず、適宜の状態であってもよく、特に、パルス変調の場合は、プラズマの温度や密度などの物理量を制御できる。また、マイクロ波電力の周波数は、通常５００ＭＨｚ程度以上であれば、適宜の値であっても良い。なお、内導体２の形状は、円錐台形状だけでなく、円筒、角柱、円柱等の形状であってもよい。さらに、ギャップ（又はスロット）ｇの形状は、リング状以外の形状であってもよい。
【００４３】
図４は、ギャップｇの他の形状を示す図である。ギャップｇの形状としては、例えば、図４（ａ）のような長方形、図４（ｂ）のような導波管２の長手方向と直交方向に沿った楕円形状、図４（ｃ）のような導波管２の長手方向に沿った楕円形状であってもよい。これらの形状は、ランプ又は反応容器の形状に応じ、適宜選択される。例えば、ランプが楕円球形のときは、図４（ｂ）（ｃ）、また、ランプが蛍光灯のような棒状のときは、図４（ａ）等を選択することができる。
【００４４】
【発明の効果】
本発明によると、以上説明した通り、マイクロ波電力の利用率が大きく、よりコンパクトかつ安価で任意の形状のプラズマを安定に生成することができる。
また、本発明によると、低気圧から高気圧まで球状から平面状の任意の形状のプラズマを、効率良く生成維持することができる。さらに、本発明によると、マイクロ波電力の利用率が大きく、高密度、かつ、低温のプラズマを安定に生成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に関するプラズマ光源装置に適したマイクロ波プラズマ発生装置１００の概略構成図。
【図２】本発明に関するプラズマ表面処理装置に適したプラズマ発生装置２００の概略構成図。
【図３】本発明及び従来技術に関するイオン電流密度の径分布特性を比較した一例の図。
【図４】ギャップｇの他の形状を示す図。
【図５】従来のプラズマ光源装置３００の概略構成図。
【図６】従来のプラズマ表面処理装置４００の概略構成図。
【符号の説明】
１  扁平導波管
２  内導体
３  ランプ（放電管）
２１  誘電体板
２２  反応容器
ｇ  リング状ギャップ（スロット）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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