(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
カルシウムを用いて排水中のフッ素を低減させる排水処理方法により生じた、低濃度フッ素含有排水を含む排水のｐＨを３〜５に調整し、該ｐＨを調整したフッ素含有排水をろ過処理し、該ろ過処理により生じたろ過処理水をフッ素吸着処理して、フッ素が低減された最終処理水を生じさせる、フッ素含有排水の処理方法であって、該排水処理方法は凝集沈殿法であり、かつ、該低濃度フッ素含有排水は該凝集沈殿法により生じた上澄水である、フッ素含有排水の処理方法。
【請求項２】
凝集沈殿法により生じた上澄水のｐＨが６〜１０である、請求項１記載のフッ素含有排水の処理方法。
【請求項３】
フッ素含有排水が、３００ｍｇ／Ｌ以上のカルシウムを含む請求項１または２記載のフッ素含有排水の処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素含有排水の処理方法に関する。より詳細には、フッ素含有排水のｐＨ調整後にろ過処理し、次いでフッ素吸着処理するフッ素含有排水の処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
工場などからの排水の水質については厳しい制限がなされているが、その規制は年々厳しくなる傾向にあり、例えば、フッ素の排水基準値（暫定基準値）は８ｍｇ／Ｌ以下と規定されている。電子産業（特に半導体関連）、発電所、アルミニウム工業などから排出される排水中にはフッ素が含まれている場合が多い。例えば、半導体製造工程では、シリコンウエハーにフォトレジストを塗布し、マスクパターンを転写し、露光後にエッチングを行って、半導体の回路パターンを形成しているが、この一連の工程においてリン酸やフッ酸などの種々の薬品を使用し、特にエッチング時にフッ酸を使用することが多く、この製造工程から生じる排水にはフッ素が含まれる。このため、フッ素を排水から効率良く除去することが求められており、従来技術として、カルシウムがフッ素と反応して難溶性化合物を形成することを利用した、凝集沈殿法、晶析法、炭酸カルシウム充填塔に通水する方法（特許第３２２７７６０号）などが知られている。
【０００３】
カルシウムによるフッ素の除去法としては、フッ素を含む排水に、水酸化カルシウム（Ｃａ（ＯＨ）２）、塩化カルシウム（ＣａＣｌ２）、炭酸カルシウム（ＣａＣＯ３）をはじめとするカルシウム化合物を添加し、式（Ｉ）に示されるように、難溶性のフッ化カルシウムを生じさせることを基本とする。
Ｃａ２＋＋２Ｆ−→  ＣａＦ２↓        （Ｉ）
また、フッ素およびリンが排水中に共存する場合には、カルシウムの添加により、式（ＩＩ）に示されるように、難溶性のフルオロアパタイトが生じる場合もある。
５Ｃａ２＋＋３ＰＯ４３−＋Ｆ−→  Ｃａ５（ＰＯ４）３Ｆ↓    （ＩＩ）
【０００４】
カルシウムを利用する凝集沈殿法においては、排水にカルシウムを添加してフッ化カルシウムをはじめとする難溶性化合物を生じさせ、次いで、アルミニウム塩、鉄塩等の無機凝集剤を添加することによりフロックを形成させる。次いで、沈殿分離等の固液分離処理を行うことにより、難溶性化合物を汚泥として分離し、フッ素が低減された処理水を得る。
晶析法においては、種晶を充填した反応槽に、フッ素を含む排水をカルシウム剤と共に導入して、種晶上にフッ化カルシウムを析出させることにより、フッ素が低減された処理水を得る。
また、炭酸カルシウム充填塔に通水する方法においては、粒状炭酸カルシウムを充填した反応槽に、フッ素を含む排水を導入して、置換反応を利用して、フッ素が低減された処理水を得る。
【０００５】
凝集沈殿法、晶析法、もしくは炭酸カルシウム充填塔に通水する方法をはじめとする、カルシウムを用いた排水処理方法で、またはこれらを組み合わせて排水処理を行う場合には、得られる処理水のフッ素濃度は１０〜２０ｍｇ／Ｌ程度なので、排水基準である８ｍｇ／Ｌ以下にする場合には、さらなるフッ素除去処理が必要であり、この場合、フッ素吸着剤を用いたフッ素吸着処理が行われる。凝集沈殿法など、カルシウムを用いた排水処理方法により得られた前記処理水（以後、低濃度フッ素含有処理水という）のｐＨは、通常、６〜１０程度なので、フッ素吸着処理においては、低濃度フッ素含有処理水のｐＨを３〜５に調整した後に、フッ素吸着剤を充填したフッ素吸着装置に通水する。このとき、フッ素吸着装置への懸濁物質（ＳＳ）の持ち込みを防ぐために、フッ素吸着装置の前段にろ過装置を設け、フッ素吸着処理前に、低濃度フッ素含有処理水をろ過処理してＳＳを除去する。
従来の処理方法では、低濃度フッ素含有処理水をろ過処理した後に、そのｐＨを３〜５に調整していた。これは、ろ過処理前に低濃度フッ素含有処理水のｐＨを５以下にした場合、ろ過装置の低濃度フッ素含有処理水と接触する部分を耐酸性構造にしなければならず、コストが高くなるからである。例えば、ろ過装置として砂ろ過装置が使用される場合には、ろ過塔の内面は通常、鋼板製であるが、この内面を耐酸性被膜で被覆する、または材質自体を鋼板以外の耐酸性の材質にするなどの必要があった。また別の理由として、従来の低濃度フッ素含有処理水においては、ろ過処理後にｐＨを３〜５に調整し、次いでフッ素吸着処理するという手順で処理を行ったとしても、フッ素吸着装置には問題が生じていなかったことが挙げられる。よって、従来は、低濃度フッ素含有処理水をろ過処理した後にｐＨを３〜５に調整し、これをフッ素吸着処理していた。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、本発明者らが、上記態様で低濃度フッ素含有処理水のフッ素吸着処理を行ったところ、場合によって、フッ素吸着装置において差圧が上昇し、通水が不可能になる、またショートパスが起こり処理水の水質が悪化する、さらにフッ素吸着剤自体の性能低下により処理水の水質が悪化するという不都合が生じ得ることが明らかとなった。このような現象は、従来の低濃度フッ素含有処理水のフッ素吸着処理においては、特に問題とはなっていなかったが、近年、工場等から排出される排水を処理して得られる低濃度フッ素含有処理水においてこのような問題が生じたことは、全く予想外のことであった。
【０００７】
本発明者らは、ろ過処理後、フッ素吸着処理前に、低濃度フッ素含有処理水のｐＨを３〜５に調整することで、難溶性化合物のＳＳが生成し、該ＳＳがフッ素吸着装置に流入すること、およびフッ素吸着剤表面に難溶性化合物が析出することが上記問題の原因であることを見出し、これに基づいて本願発明を完成するに至った。
理論に拘束されるものではないが、本発明者らは、前記難溶性化合物生成の原因の１つが、低濃度フッ素含有処理水に含まれるカルシウム量の増加にあり、このカルシウム量の増加の原因の１つは、凝集沈殿処理をはじめとする排水処理において処理される、排水中に含まれる分散剤等の量が増加したために、該排水処理において使用されるカルシウムの量が増大したことにあると推定するに至った。すなわち、例えば半導体製造工場では、洗浄などのために大量の水が必要となる。しかし、近年、環境保全のために取水量が制限されたり、また工場内における環境への配慮から、一度使用した水を再度回収し、再利用する方法によって、必要な水を確保するケースが多くなっている。この再利用の際、例えば、膜処理によって水を回収する場合、膜面へのスケーリング防止のために分散剤などの薬品が多量に使用されるケースが多い。このため、添加された多量の分散剤が排水中に含まれることとなる。そして、この多量の分散剤が、凝集沈殿処理をはじめとする排水処理において、フッ素をはじめとする除去対象成分と、カルシウムとの反応による難溶性化合物の形成、および／または形成された難溶性化合物の除去を妨げており、その結果、当該排水処理に使用されるカルシウムの量が増大し、それに伴って、低濃度フッ素含有処理水に含まれるカルシウム量も増加するものと推察された。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、フッ素吸着装置を用いてフッ素含有排水を処理する際に、難溶性化合物のＳＳがフッ素吸着装置に流入するのを防止し、また、フッ素吸着剤上での難溶性化合物の析出を抑制できる、フッ素含有排水の処理方法を提供することを目的とする。特に、高濃度のカルシウムを含むフッ素含有排水がフッ素吸着処理された場合であっても、難溶性化合物のＳＳがフッ素吸着装置に流入するのを防止し、また、フッ素吸着剤上での難溶性化合物の析出を抑制できる、フッ素含有排水の処理方法を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は請求項１として、カルシウムを用いて排水中のフッ素を低減させる排水処理方法により生じた、低濃度フッ素含有排水を含む排水のｐＨを３〜５に調整し、該ｐＨを調整したフッ素含有排水をろ過処理し、該ろ過処理により生じたろ過処理水をフッ素吸着処理して、フッ素が低減された最終処理水を生じさせる、フッ素含有排水の処理方法であって、該排水処理方法は凝集沈殿法であり、かつ、該低濃度フッ素含有排水は該凝集沈殿法により生じた上澄水である、フッ素含有排水の処理方法を提供する。
本発明は請求項２として、凝集沈殿法により生じた上澄水のｐＨが６〜１０である、請求項１記載のフッ素含有排水の処理方法を提供する。
本発明は請求項３として、フッ素含有排水が、３００ｍｇ／Ｌ以上のカルシウムを含む請求項１または２記載のフッ素含有排水の処理方法を提供する。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明のフッ素含有排水の処理方法においては、まず、フッ素含有排水のｐＨが３〜５に調整される。
本発明において処理されるフッ素含有排水としては、フッ素を含んでいれば良く、また、フッ素以外の任意の他の成分を、任意の量で含んでいても良い。フッ素含有排水に含まれるフッ素の量は、特に限定されるものではないが、好ましくは、５０ｍｇ／Ｌ以下、より好ましくは、２０ｍｇ／Ｌ以下である。
また、フッ素含有排水は如何なる由来の排水であっても良い。例えば、半導体関連産業をはじめとする電子産業、発電所、アルミニウム工業などから排出されるフッ素含有排水が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１１】
本発明者らは、フッ素含有排水に含まれるカルシウム量が多くなれば、フッ素含有排水のｐＨを３〜５に調整する場合に発生する難溶性化合物の量が増加することを見出した。よって、本発明のフッ素含有排水の処理方法は、フッ素含有排水がカルシウムを含む場合に適用されるのが好ましい。この場合、フッ素含有排水中のカルシウム濃度としては、好ましくは、３００ｍｇ／Ｌ以上、より好ましくは、４００ｍｇ／Ｌ以上である。
カルシウムを含むフッ素含有排水としては、カルシウムを含んでいる排水であれば特に限定されるものではないが、好ましくは、フッ素含有排水は、カルシウムを用いて排水中のフッ素を低減させる排水処理方法により生じた低濃度フッ素含有処理水を含むものであり、より好ましくは、フッ素含有排水は低濃度フッ素含有処理水である。
カルシウムを用いて排水中のフッ素を低減させる排水処理方法としては、排水中のフッ素をカルシウムと反応させてフッ化カルシウムとして析出させ、これを除去する方法であれば任意の、公知の方法が可能であり、例えば、凝集沈殿処理法、晶析処理法、炭酸カルシウム充填塔に通水する方法等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。カルシウムを用いた排水処理方法で得られる、低濃度フッ素含有処理水中のフッ素濃度は、好ましくは、２０ｍｇ／Ｌ以下である。
【００１２】
排水処理方法の１態様である凝集沈殿処理法としては、排水からフッ素を凝集沈殿させることにより低減できる装置であれば、本発明の目的に反しない限り、任意の、公知の装置を用いて行うことが可能であり、特に限定されるものではない。例えば、凝集沈殿処理法においては、フッ素を含む排水にカルシウムを添加し、カルシウムを含む難溶性化合物を形成させ、これが凝集沈殿により除去され、低濃度フッ素含有処理水を生じさせる。凝集沈殿処理の際には、カルシウムの添加前、添加後または添加と同時に凝集剤を添加するのが好ましく、これにより、難溶性化合物が凝集剤から形成されるフロックと共沈して、凝集沈殿が促進され分離効率が向上する。凝集剤の例としては、ポリ塩化アルミニウム（ＰＡＣ）、硫酸バンド、塩化第２鉄、硫酸第１鉄、硫酸第２鉄をはじめとする無機凝集剤、およびカチオン系高分子凝集剤、アニオン系高分子凝集剤、ノニオン系高分子凝集剤をはじめとする有機高分子凝集剤が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【００１３】
排水処理方法の他の態様である晶析処理法としては、排水からフッ素を晶析させることにより低減できる装置であれば、本発明の目的に反しない限り、任意の、公知の装置を用いて行うことが可能であり、特に限定されるものではない。例えば、晶析処理法においては、種晶が充填された晶析反応槽に、フッ素を含む排水とカルシウム含有液とを供給し、該種晶上にフッ素とカルシウムとを含む難溶性化合物を晶析させ、低濃度フッ素含有処理水を生じさせる。
また、他の態様である炭酸カルシウム充填塔に通水する方法においては、粒状炭酸カルシウムを充填した反応槽に、フッ素を含む排水を導入して、置換反応を利用して対象成分とカルシウムとの難溶性化合物を形成させ、低濃度フッ素含有処理水を生じさせる。
【００１４】
フッ素含有排水のｐＨを３〜５に調整する場合におけるＳＳ発生の原因の１つはカルシウムであると考えられるが、フッ素含有排水中には種々の物質が含まれ得るため、ＳＳ発生の原因は完全には明らかではない。しかし、理論に拘束されるものではないが、例えば、ケイフッ酸イオンに由来する現象、ｐＨによる物質の溶解度の違いに由来する現象、およびｐＨによる物質の反応速度の違いによる現象などが原因として考えられる。ケイフッ酸イオンに由来する現象としては、ケイフッ酸は中性〜弱アルカリ性領域で存在するので、弱酸性にしてケイ酸イオンとフッ酸に解離させることで、排水中に含まれるカルシウムイオンと反応し、フッ化カルシウムとして析出することが考えられる。ｐＨによる物質の溶解度の違いに由来する現象としては、酸性領域で溶解度が低くなる物質は、ｐＨを３〜５とすることで析出することが考えられる。ｐＨによる物質の反応速度の違いに由来する現象としては、難溶性物質を生じさせる反応であって、当該反応の反応速度が酸性領域で増大する場合に、ｐＨを３〜５とすることで難溶性物質が析出することが考えられる。
【００１５】
半導体製造工場等から排出される排水には、二酸化ケイ素、ケイフッ酸等の形態でケイ素が含まれることが知られており、このような排水においては、ケイ素に起因するＳＳの発生が考えられ、本発明の処理方法が有用であると考えられる。よって、本発明の処理方法は、フッ素含有排水が二酸化ケイ素、ケイフッ酸をはじめとする形態でケイ素を含んでいる場合に適用されるのが好ましく、含まれるケイ素の量としては、ＳｉＯ２として２０ｍｇ／Ｌ以上が好ましく、４０ｍｇ／Ｌ以上がより好ましい。
また、フッ素含有排水がカルシウムおよび硫酸を含む場合には、硫酸はカルシウムと反応して難溶性の硫酸カルシウムを形成し得るので、このような排水においては、硫酸カルシウムに起因するＳＳの発生が考えられ、本発明の処理方法が有用であると考えられる。よって、本発明の処理方法は、フッ素含有排水が硫酸を含んでいる場合に適用されるのが好ましく、含まれる硫酸イオンの量としては、２０００ｍｇ／Ｌ以上が好ましい。
【００１６】
ｐＨを調整するためのｐＨ調整剤としては、フッ素含有排水のｐＨを３〜５の範囲に調整できるものであれば特に限定されるものではなく、例えば、硫酸、硝酸、塩酸等任意の酸、水酸化ナトリウムなどの塩基が挙げられるが、塩酸がｐＨの調整のために使用されるのが好ましい。
フッ素含有排水のｐＨの調整は任意の態様で行うことができ、例えば、フッ素含有排水貯留槽に貯留されたフッ素含有排水にｐＨ調整剤を添加して、バッチでｐＨの調整を行う態様でも良いし、ろ過装置へフッ素含有排水を供給するフッ素含有排水供給ライン上でｐＨ調整剤を混合して、連続的にｐＨの調整を行う態様でも良く、特に限定されるものではない。
【００１７】
本発明においては、上記操作に続いて、ｐＨが３〜５に調整されたフッ素含有排水をろ過処理して、ろ過処理水を生じさせる。
ろ過処理は、フッ素含有排水中に存在するＳＳ成分を低減、除去できるのであれば、本発明の目的に反しない限りは、任意の態様で行うことが可能である。ろ過処理に使用可能なろ過装置としては、例えば、砂ろ過装置をはじめとする充填材が塔内に充填された充填塔式ろ過装置、膜ろ過装置が挙げられるがこれらに限定されるものではない。好ましくは、ろ過装置は砂ろ過装置である。また、ろ過装置の運転条件としては、本発明の目的に反しない限りは、任意の態様で運転することが可能である。
充填塔式ろ過装置に使用されるろ材としては、ろ過砂、アンスラサイト、活性炭、イオン交換樹脂、樹脂繊維等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、ろ材の粒径、充填量、ろ過面積、ろ過能力等は、特に限定されるものではなく、任意の、公知の態様のろ過装置を使用可能である。
膜ろ過装置に使用されるろ過膜としては、精密ろ過膜、限外ろ過膜などが挙げられるが、これらに限定されるものではない。また、膜ろ過装置におけるろ過膜の材質、ろ過面積、ろ過能力等は、特に限定されるものではなく、任意の、公知の態様の膜ろ過装置を使用可能である。
【００１８】
本発明においては、上記操作に続いて、ろ過処理により生じたろ過処理水をフッ素吸着処理して、フッ素が低減された最終処理水を生じさせる。
フッ素吸着処理は、ろ過処理水中のフッ素をフッ素吸着剤に吸着させることにより行われる。本発明の方法に使用されるフッ素吸着剤は、ろ過処理水中のフッ素を吸着することができ、特に、フッ素を特異的に吸着することができる吸着剤である。該フッ素吸着剤は、フッ素を吸着できるものであれば、任意の材質から構成されることができ、例えば、金属元素を金属として、および／または金属酸化物などの化合物として、母体上に吸着または担持した吸着剤であっても良く、この場合にフッ素吸着剤に含まれる金属元素としては、フッ素を吸着できる金属元素であれば特に限定されるものではないが、好ましくは、ハフニウム、チタン、ジルコニウム、鉄、アルミニウム、並びに、セリウム等のランタノイド類が挙げられるがこれらに限定されるものではない。また、フッ素吸着剤の母体としては、上記金属元素を担持、吸着等できるものであれば特に限定されるものではない。
理論に拘束されるのは望まないが、金属元素を含むフッ素吸着剤においては、含まれる金属および／または金属化合物等が被処理水中のフッ素と錯化化合物を形成することにより、フッ素を吸着するものと考えられている。フッ素吸着剤としては、任意の、市販のフッ素吸着剤を使用することができ、例えば、ジルコニウム系吸着剤、セリウム系吸着剤等が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１９】
本発明においては、ろ過処理水をフッ素吸着剤でフッ素吸着処理することにより、該ろ過処理水中のフッ素がフッ素吸着剤に吸着され、フッ素が低減された最終処理水が得られる。本発明の方法においては、最終処理水中のフッ素濃度は、好ましくは、８ｍｇＦ／Ｌ以下、より好ましくは、３ｍｇＦ／Ｌ以下、さらにより好ましくは、１ｍｇＦ／Ｌ以下まで低減可能である。
フッ素吸着処理の態様としては、ろ過処理水に含まれるフッ素が、フッ素吸着剤に吸着されるのであれば、任意の方法でろ過処理水とフッ素吸着剤とを接触させ、フッ素吸着処理を行うことが可能である。例えば、フッ素吸着剤をフッ素吸着塔に充填して、該フッ素吸着塔にろ過処理水を連続的に、または断続的に通水する態様であっても良いし、吸着処理槽にろ過処理水を貯留し、そこにフッ素吸着剤を添加することにより、バッチでフッ素吸着処理するような態様も可能であって、特に限定されるものではない。連続的に処理可能であるとの観点から、フッ素吸着処理としては、フッ素吸着剤が充填されたフッ素吸着塔にろ過処理水を通水する態様が好ましい。
以下、実施例で本発明をより具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００２０】
【実施例】
本実施例においては、フッ素含有排水として、半導体製造工場からの凝集沈殿処理して得た処理水を使用した。すなわち、半導体工場からのｐＨ２．５の排水を、Ｃａ（ＯＨ）２をｐＨ１０となるように添加した後、１５０ｒｐｍで１５分間撹拌し、次いで、ＦｅＣｌ３を２００ｍｇ／Ｌ添加してｐＨ６に調整した後、１５０ｒｐｍで１５分間撹拌し、さらに高分子凝集剤オルフロックＡＸ−５００Ｓを２ｍｇ／Ｌ添加した後、４０ｒｐｍで１５分間撹拌し、これを１時間静置してその上澄水をフッ素含有排水とした。フッ素含有排水中の成分は以下の通りである。
ｐＨ＝７．０
ＳＳ：０．８ｍｇ／Ｌ
Ｆ：２０ｍｇ／Ｌ
ＰＯ４：２ｍｇ（リン重量）／Ｌ
Ｃａ：６５０ｍｇ／Ｌ
ＳＯ４：２５００ｍｇ／Ｌ
フッ素含有排水（実施例１）またはろ過処理水（比較例１）のｐＨの調整には、１０％塩酸を使用した。
ろ過装置としては、内径６５ｍｍであって、アンスラサイト、平均粒径０．６ｍｍのろ過砂（株式会社トーケミ製）、砂利から成る、高さ１ｍのろ材充填層を有する砂ろ過装置を使用した。該砂ろ過装置に、上記フッ素含有排水をＬＶ１０ｍ３／ｍ２／時間となるように通水した。
フッ素吸着装置としては、内径２０ｍｍ、フッ素吸着剤充填層高１ｍのフッ素吸着剤充填層を有するフッ素吸着装置を使用し、該装置にろ過処理液をＬＶ３０ｍ３／ｍ２／時間となるように通水した。使用したフッ素吸着剤は酸化ジルコニウムを基質とした、平均粒径０．７ｍｍのものを使用した。
【００２１】
実施例１
実施例１においては、本発明の方法として、上記フッ素含有排水のｐＨをｐＨ４に調整した後、上記ろ過装置でろ過処理を行い、得られたろ過処理水を上記フッ素吸着装置でフッ素吸着処理して最終処理水を得た。
比較例１
比較例１においては、従来法として、上記フッ素含有排水を上記ろ過装置でろ過処理し、得られたろ過処理水のｐＨをｐＨ４に調整した後、上記フッ素吸着装置でフッ素吸着処理して最終処理水を得た。
【００２２】
実施例１および比較例１共に、２４時間連続してフッ素含有排水の処理を行い、処理開始から２４時間後における、フッ素吸着装置の入口水でのＳＳ濃度、最終処理水のフッ素濃度、フッ素吸着装置の差圧、フッ素吸着剤のカルシウム含有量、フッ素吸着剤の外観を測定した。結果を表１に示す。
【００２３】
【表１】
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【００２４】
表１に示されるように、ろ過処理後、フッ素吸着処理前にｐＨの調整を行う比較例１においては、ｐＨの調整によるフッ素吸着装置入口水でのＳＳの発生が認められた。また、フッ素吸着装置の差圧の上昇、フッ素吸着剤におけるカルシウム含有量の増加、目視によるフッ素吸着剤の白色化が認められ、フッ素吸着剤上への難溶性カルシウム化合物の析出および／またはＳＳの堆積が認められた。
これに対して、ｐＨ調整後にろ過処理、次いでフッ素吸着処理を行う実施例１においては、フッ素吸着装置入口水でのＳＳの存在は認められず、フッ素吸着装置の差圧の上昇、フッ素吸着剤におけるカルシウム含有量の増加もほぼ認められず、フッ素吸着剤の白色化も認められなかった。これにより、本発明の方法は、フッ素吸着剤上への難溶性カルシウム化合物の析出および／またはＳＳの堆積を抑制できることが明らかとなった。
また、最終処理水のフッ素濃度は、従来法である比較例１よりも、本発明の方法である実施例１において低く、フッ素含有排水からのフッ素濃度の低減という点でも本発明は優れていることが明らかとなった。
以上、本発明の方法は、高濃度でカルシウムおよび硫酸を含むフッ素含有排水を処理するという、従来法ではフッ素吸着剤の劣化が著しい場合であっても、フッ素吸着剤を劣化させることなく、フッ素の吸着除去が可能であることが明らかとなった。
【００２５】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明は、フッ素吸着装置を用いてフッ素含有排水を処理する際に、難溶性化合物のＳＳがフッ素吸着装置に流入するのを防止し、また、フッ素吸着剤上での難溶性化合物の析出を抑制することにより、フッ素吸着剤の劣化を防止できるという有利な効果を有する。
また、本発明は、フッ素含有排水が高濃度でカルシウムを含むという、従来法では、フッ素吸着剤の劣化が著しい条件下であっても、フッ素吸着剤を劣化させることなく、フッ素の吸着除去を行うことができるという有利な効果を有する。さらに、本発明は、フッ素含有排水が高濃度でカルシウムおよび硫酸を含むという、従来法では、フッ素吸着剤の劣化が著しい条件下であっても、フッ素吸着剤を劣化させることなく、フッ素の吸着除去を行うことができるという有利な効果を有する。