(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に所定の付加価値を付与するための付加価値付与処理を実行する基板処理装置であって、
前記基板処理装置は、
反応炉と、
基板を加熱する基板加熱機構と、
前記反応炉の内部の圧力を減圧する反応炉減圧機構と、
前記反応炉に成膜用の反応ガス等を導入するガス導入機構と、
前記基板を移載する基板移載機構と、
前記各機構を制御する制御コントローラと、
各種データを記憶するメモリと、を備え、
前記メモリは、
前記付加価値付与処理の実行条件を指定する制御パラメータの値であって、
同じ又は異なる複数の付加価値付与処理によって共用されるパラメータ値を保持するための共用パラメータ値保持手段を備え、
前記制御コントローラは、
前記パラメータ値として、前記共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合、この共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値を指定するための共用パラメータ値指定手段を備えた基板処理装置であって、
オペレータの操作により前記付加価値付与処理を含む複数の付加価値付与処理が実行順に記載されたものを編集する際、
前記制御コントローラは、
オペレータにより選択された付加価値付与処理を表示させるステップと、
前記表示された付加価値付与処理の制御パラメータを表示させるステップと、
前記表示された制御パラメータの値として前記共用パラメータ値を使用するか否かについてのオペレータによる指定内容を表示させるステップと、
前記共用パラメータ値の使用を指定された場合、前記共用パラメータ値指定手段により指定された共用パラメータ値を表示させるステップと、
前記共用パラメータ値の使用を指定されない場合、オペレータにより入力された制御パラメータ値を表示させるステップと、
を実行することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
基板に所定の付加価値を付与するための付加価値付与処理を実行する基板処理装置であって、
前記基板処理装置は、
反応炉と、
基板を加熱する基板加熱機構と、
前記反応炉の内部の圧力を減圧する反応炉減圧機構と、
前記反応炉に成膜用の反応ガス等を導入するガス導入機構と、
前記基板を移載する基板移載機構と、
前記各機構を制御する制御コントローラと、
各種データを記憶するメモリと、を備え、
前記メモリは、
前記付加価値付与処理の実行条件を指定する制御パラメータの値であって、
同じ又は異なる複数の付加価値付与処理によって共用されるパラメータ値を保持するための共用パラメータ値保持手段を備え、
前記制御コントローラは、
前記パラメータ値として、前記共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合、この共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値を指定するための共用パラメータ値指定手段を備えた基板処理装置であって、
オペレータの操作により前記付加価値付与処理を含む複数の付加価値付与処理が実行順に記載されたレシピを作成又は変更する際、
前記制御コントローラは、
オペレータにより選択されたレシピを表示させるステップと、
前記表示されたレシピ内の付加価値付与処理であって、オペレータにより選択された付加価値付与処理を表示させるステップと、
前記表示された付加価値付与処理の制御パラメータを表示させるステップと、
前記表示された制御パラメータの値として前記共用パラメータ値を使用するか否かについてのオペレータによる指定内容を表示させるステップと、
前記共用パラメータ値の使用を指定された場合、前記共用パラメータ値指定手段により指定された共用パラメータ値を表示させるステップと、
前記共用パラメータ値の使用を指定されない場合、オペレータにより入力された制御パラメータ値を表示させるステップと、
を実行することを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板に所定の付加価値を付与するための付加価値付与処理を実行する基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスを製造するためには、ウェーハに所定の付加価値を付与するためのウェーハ処理装置が必要になる。このウェーハ処理装置としては、ウェーハの表面に所定の薄膜を形成する成膜装置や、ウェーハの中に所定の不純物を熱拡散するための熱拡散装置等がある。
【０００３】
これらのウェーハ処理装置では、通常、複数の処理によって、ウェーハに所定の付加価値を付与するようになっている。以下、このウェーハに所定の付加価値を付与するための個々の処理を付加価値付与処理という。
【０００４】
縦型のＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置の場合、この複数の付加価値付与処理としては、例えば、次のようなものがある。
（ａ）ウェーハをカセットからボートに移載するウェーハチャージ処理
（ｂ）ボートを反応炉の内部に搬入するボートローディング処理
（ｃ）ウェーハの表面に所定の薄膜を形成する成膜処理
（ｄ）ボートを反応炉の内部から搬出するボートアンローディング処理
（ｅ）ウェーハをボートからカセットに回収するウェーハディスチャージ処理
【０００５】
これら複数の付加価値付与処理を実行する方法としては、マニュアル操作によって順次実行する方法と、レシピを使って順次自動的に実行する方法とがある。ここで、レシピとは、実行すべき複数の付加価値付与処理が実行順に記述されたあるひとまとまりのプログラムである。図１２は、このレシピの構成の一例を示す図である。図示のレシピＲには、複数の付加価値付与処理ｒ１，ｒ２，…が順に記述されている。
【０００６】
各付加価値付与処理を実行するためには、この付加価値付与処理の実行条件を設定する必要がある。この実行条件は、通常、複数の制御パラメータによって指定される。この制御パラメータとしては、例えば、図１２に示すように、ステップ時間を指定する制御パラメータと、ウェーハの加熱温度を指定する制御パラメータと、反応炉の内部の圧力を指定する制御パラメータと、成膜用のガスの流量を指定する制御パラメータと、ローダを指定する制御パラメータとがある。ここで、ステップ時間とは、付加価値付与処理の実行時間である。また、ローダとは、ウェーハチャージ処理、ウェーハディスチャージ処理、ボートローディング処理、ボートアンローディング処理を識別するためのデータである。
【０００７】
付加価値付与処理の実行条件を設定するためには、この実行条件を指定する制御パラメータの値を装置に指示する必要がある。従来のウェーハ処理装置においては、この指示を行う場合、オペレータが装置にパラメータ値を入力するようになっていた。
【０００８】
すなわち、マニュアル操作によって付加価値提供処理を実行する場合は、この付加価値提供処理を装置に指示する場合に、パラメータ値を入力することにより、その指示を行うようになっていた。また、レシピによって付加価値付与処理を実行する場合は、レシピの作成または変更を行うときに、パラメータ値を入力することにより、その指示を行うようになっていた。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成では、装置にパラメータ値を指示する場合、オペレータは、常に、パラメータ値の入力操作を行わなければならない。これにより、このような構成では、次のような３つの問題が生じていた。
【００１０】
（１）  第１の問題は、オペレータの作業負荷が増大するという問題である。これは、複数の付加価値付与処理で同じパラメータ値を使用する場合、オペレータがこのパラメータ値を繰り返し入力しなければならないためである。
【００１１】
なお、複数の付加価値提供処理で同じ値の制御パラメータを使用する場合としては、例えば、次の３つのような場合がある。
（ａ）  第１の場合は、マニュアル操作によって付加価値付与処理を実行する場合、この付加価値付与処理で使用するパラメータ値がレシピ上の同じ付加価値付与処理で使用するパラメータ値と同じ場合である。
（ｂ）  第２の場合は、マニュアル操作によって複数の付加価値付与処理を実行する場合、ある付加価値付与処理で他の付加価値付与処理で使用するパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合である。
（ｃ）  第３の場合は、図１３に示すように、ある付加価値付与処理を複数のレシピで同じ実行条件で使用する場合である。図１３には、付加価値付与処理ｒ２を４つのレシピＲ１〜Ｒ４で同じ実行条件で使用する場合を代表として示す。
【００１２】
（２）  第２の問題は、入力ミスや確認ミス等の作業ミスが発生する可能性が高いという問題である。これは、第１の問題で述べたごとく、オペレータの作業負荷が大きくなるからである。
【００１３】
（３）  第３の問題は、複数のレシピの管理が煩雑になるという問題である。これは、（１）の（ｂ）で述べたごとく、ある付加価値付与処理を複数のレシピで同じ実行条件で使用する場合であっても、同じパラメータ値を各レシピごとに入力しなければならないため、複数のレシピを個々に管理しなければならないからである。
【００１４】
そこで、本発明は、複数の付加価値付与処理で同じパラメータ値を使用する場合、このパラメータ値を繰り返し入力しなくても済むようにすることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の基板処理装置は、基板に所定の付加価値を付与する付加価値付与処理を実行する装置において、予め複数の付加価値付与処理で共用される制御パラメータの値を登録しておき、パラメータ値として登録されたパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合は、この登録されたパラメータ値を指定することにより使用するようにしたものである。
【００１６】
すなわち、第１の発明の基板処理装置は、基板に所定の付加価値を付与するための付加価値付与処理を実行する基板処理装置であって、前記基板処理装置は、反応炉と、基板を加熱する基板加熱機構と、前記反応炉の内部の圧力を減圧する反応炉減圧機構と、前記反応炉に成膜用の反応ガス等を導入するガス導入機構と、前記基板を移載する基板移載機構と、前記各機構を制御する制御コントローラと、各種データを記憶するメモリと、を備え、前記メモリは、前記付加価値付与処理の実行条件を指定する制御パラメータの値であって、同じ又は異なる複数の付加価値付与処理によって共用されるパラメータ値を保持するための共用パラメータ値保持手段を備え、前記制御コントローラは、前記パラメータ値として、前記共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合、この共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値を指定するための共用パラメータ値指定手段を備えた基板処理装置である。
ここで、オペレータの操作により前記付加価値付与処理を含む複数の付加価値付与処理が実行順に記載されたものを編集する際、前記制御コントローラは、オペレータにより選択された付加価値付与処理を表示させるステップと、前記表示された付加価値付与処理の制御パラメータを表示させるステップと、前記表示された制御パラメータの値として前記共用パラメータ値を使用するか否かについてのオペレータによる指定内容を表示させるステップと、前記共用パラメータ値の使用を指定された場合、前記共用パラメータ値指定手段により指定された共用パラメータ値を表示させるステップと、前記共用パラメータ値の使用を指定されない場合、オペレータにより入力された制御パラメータ値を表示させるステップと、を実行するものである。
【００１７】
また、第２の発明の基板処理装置は、基板に所定の付加価値を付与するための付加価値付与処理を実行する基板処理装置であって、前記基板処理装置は、反応炉と、基板を加熱する基板加熱機構と、前記反応炉の内部の圧力を減圧する反応炉減圧機構と、前記反応炉に成膜用の反応ガス等を導入するガス導入機構と、前記基板を移載する基板移載機構と、前記各機構を制御する制御コントローラと、各種データを記憶するメモリと、を備え、前記メモリは、前記付加価値付与処理の実行条件を指定する制御パラメータの値であって、同じ又は異なる複数の付加価値付与処理によって共用されるパラメータ値を保持するための共用パラメータ値保持手段を備え、前記制御コントローラは、前記パラメータ値として、前記共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合、この共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値を指定するための共用パラメータ値指定手段を備えた基板処理装置である。
ここで、オペレータの操作により前記付加価値付与処理を含む複数の付加価値付与処理が実行順に記載されたレシピを作成又は変更する際、前記制御コントローラは、オペレータにより選択されたレシピを表示させるステップと、前記表示されたレシピ内の付加価値付与処理であって、オペレータにより選択された付加価値付与処理を表示させるステップと、前記表示された付加価値付与処理の制御パラメータを表示させるステップと、前記表示された制御パラメータの値として前記共用パラメータ値を使用するか否かについてのオペレータによる指定内容を表示させるステップと、前記共用パラメータ値の使用を指定された場合、前記共用パラメータ値指定手段により指定された共用パラメータ値を表示させるステップと、前記共用パラメータ値の使用を指定されない場合、オペレータにより入力された制御パラメータ値を表示させるステップと、を実行するものである。
【００１８】
本発明の基板処理装置では、複数の付加価値付与処理で共用されるパラメータ値は、予め共用パラメータ値保持手段に登録される。そして、パラメータ値として、共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値と同じパラメータ値を使用する場合は、このパラメータ値が指定される。これにより、この場合は、付加価値付与処理の実行条件は、共用パラメータ値保持手段に保持されているパラメータ値に基づいて設定される。
【００１９】
このような構成によれば、複数の付加価値付与処理で同じパラメータ値を使用する場合、オペレータは、このパラメータ値の入力操作を１回だけ行えばよく、あとは、入力したパラメータ値の指定操作だけを行えばよい。これにより、オペレータの作業負荷を軽減することができる。また、オペレータの作業負荷を軽減することができることにより、作業ミスの発生を軽減することができる。さらに、ある付加価値付与処理を複数のレシピで同じ実行条件で使用する場合、複数のレシピ間でパラメータ値が異なってしまうことを軽減することができる。これにより、複数のレシピの管理を容易にすることができる。
【００２０】
なお、共用パラメータ値保持手段に複数の付加価値付与処理で共用されるパラメータ値を登録するための共用パラメータ値登録手段は、基板処理装置に設けてもよいし、基板処理装置以外の装置に設けてもよい。
【００２１】
基板処理装置に設ける構成によれば、基板処理装置以外の装置に設ける場合に必要な外部記憶媒体や通信回線を省略することができる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら、本発明の実施の形態を詳細に説明する。
【００２３】
［１］一実施の形態
［１−１］構成
図１は、本発明の一実施の形態の構成を示すブロック図である。なお、図１には、例えば、本発明を、化学反応を使ってウェーハに所定の薄膜を形成するＣＶＤ（Chemical Vapor Deposition）装置に適用した場合を代表として示す。
【００２４】
図示のＣＶＤ装置は、反応炉に搬入されたウェーハを加熱するウェーハ加熱機構１１と、反応炉の内部の圧力を減圧する反応炉減圧機構１２と、反応炉に成膜用の反応ガス等を導入するガス導入機構１３と、反応炉とカセットとの間でウェーハを移載するウェーハ移載機構１４とを有する。
【００２５】
また、図示のＣＶＤ装置は、上述した各種機構１１，１２，１３，１４を制御する制御コントローラ１５と、各種データを記憶するメモリ１６とを有する。
【００２６】
上記制御コントローラ１５は、オペレータが装置に対して各種データ等を入力したり、装置がオペレータに対して各種データ等を出力するためのデータ表示・入力モジュール１５１と、上述した各種機構１１，１２，１３，１４を制御するための制御モジュール１５２とを有する。
【００２７】
上記メモリ１６は、マニュアル操作によって付加価値付与処理を実行する場合のデータ（以下「マニュアルデータ」という。）が格納されるマニュアルデータ格納エリア１６１と、レシピを使って付加価値付与処理を実行する場合のデータ（以下「レシピデータ」という。）が格納されるレシピデータ格納エリア１６２と、複数の付加価値付与処理で共用される制御パラメータ（以下「共用パラメータ」という。）の値を示すデータが格納される共用パラメータ値格納エリア１６３とを有する。
【００２８】
［１−２］動作
上記構成において、動作を説明する。まず、図２を参照しながら、共用パラメータの値を登録する場合の動作を説明する。図２は、この場合の制御コントローラ１５の処理を示すフローチャートである。
【００２９】
図示の処理は、例えば、オペレータがデータ表示・入力モジュール１５１を使って、パラメータ値の登録を要求することにより開始される。この処理においては、まず、データ表示・入力モジュール１５１が共用パラメータ値を登録するための編集画面を表示する（ステップＳ１１）。
【００３０】
図３は、この編集画面の一例を示す図である。図示の編集画面は、装置の状態等の各種情報を表示するための情報表示部２１と、パラメータ値を登録するための共用パラメータ値登録部２２と、コマンド等の各種情報を入力するための情報入力部２３とを有する。
【００３１】
共用パラメータ値登録部２２は、共用パラメータを選択するための共用パラメータ選択部２２１と、パラメータ値を入力するためのパラメータ値入力部２２２と、操作内容を確認するための操作内容確認部２２３と、登録を希望するすべてのパラメータ値の入力が終了したことを通知するための入力終了通知部２２４とを有する。
【００３２】
オペレータは、この編集画面が表示されると、まず、共用パラメータ選択部２２１を使って、登録を希望する共用パラメータを選択する。データ表示・入力モジュール１５１は、この選択操作がなされると、選択された共用パラメータを表示する（ステップＳ１２）。次に、オペレータは、パラメータ値入力部２２２を使って、登録を希望する共用パラメータ値を入力する。データ表示・入力モジュール１５１は、この入力操作がなされると、入力された共用パラメータ値を表示する（ステップＳ１３）。
【００３３】
次に、オペレータは、表示された共用パラメータや共用パラメータ値が正しいか否かを確認する。正しければ、操作内容確認部２２３を使って、操作内容を確認したことを装置に通知する。これに対し、正しくなければ、共用パラメータの選択操作等をやり直す。データ表示・入力モジュール１５１は、確認通知を受けると、それまでの操作内容を登録する（ステップＳ１４）。これにより、入力された共用パラメータ値が共用パラメータ値格納エリア１６３に格納される。
【００３４】
この後、データ表示・入力モジュール１５１は、新しい共用パラメータ値が入力されたか否かを判定する（ステップＳ１５）。入力された場合は、ステップＳ１３に戻る。これにより、この場合は、新しい共用パラメータ値が共用パラメータ値格納エリア１６３に格納される。これに対し、入力されない場合は、新しい共用パラメータが選択されたか否かを判定する（ステップＳ１６）。
【００３５】
選択された場合は、ステップＳ１２に戻る。これにより、この場合は、新たに選択された共用パラメータについて、共用パラメータ値の登録処理が実行される。これに対し、選択されない場合は、入力終了通知を受けたか否かを判定する（ステップＳ１７）。この入力終了通知は、登録を希望する共用パラメータ値の入力が終了した場合に、入力終了通知部２２４を使って、オペレータから装置に通知される。
【００３６】
入力終了通知を受けない場合は、データ表示・入力モジュール１５１は、ステップＳ１５に戻る。これにより、この場合は、再び、上述した判定処理が実行される。これに対し、受けた場合は、図２の処理を終了させる。
【００３７】
図４は、共用パラメータ値の登録構成の一例を概念的に示す図である。図示の例は、各共用パラメータＰｎ（ｎ＝１，２，３，４，５）ごとに、複数の共用パラメータ値Ｐｎ（１），Ｐｎ（２），…を格納可能となっている。図には、５つの共用パラメータ値Ｐｎ（１）〜Ｐｎ（５）を格納可能な場合を代表として示す。各共用パラメータ値Ｐｎ（ｍ）（ｍ＝１，２，３，４，５）は、値指定データＤ１（ｍ）によって指定されるようになっている。
【００３８】
なお、図には、ステップ時間Ｐ１の共用パラメータ値として、５つの共用パラメータ値Ｐ１（１）〜Ｐ１（５）が格納され、ウェーハ温度Ｐ２の共用パラメータ値として、２つの共用パラメータ値Ｐ２（１），Ｐ２（２）が格納され、炉内圧力Ｐ３の共用パラメータ値として、３つの共用パラメータ値Ｐ３（１）〜Ｐ３（３）が格納され、ガス流量の共用パラメータ値として、３つの共用パラメータ値Ｐ４（１）〜Ｐ４（３）が格納され、ローダの共用パラメータ値として、４つの共用パラメータ値Ｐ５（１）〜Ｐ５（４）が格納されている場合を代表として示す。
【００３９】
このような構成においては、装置にパラメータ値として、共用パラメータ値Ｐｎ（ｍ）を指示する場合は、共用パラメータＰｎを選択し、値指定データＤｎ（ｍ）を入力することにより指示することができる。これにより、パラメータ値Ｐｎ（ｍ）を入力することなく、これを指示することができる。
【００４０】
次に、図５を参照しながら、マニュアル操作によって付加価値付与処理を実行する場合の動作を説明する。図５は、この場合の制御コントローラ１５の処理を示すフローチャートである。なお、この図５は、１つの付加価値付与処理を実行する場合の処理を示す。したがって、複数の付加価値付与処理を実行する場合は、図５の処理が繰り返される。
【００４１】
図示の処理は、例えば、オペレータがデータ表示・入力モジュール１５１を使って、装置に付加価値付与処理の実行を要求することにより開始される。この処理においては、まず、付加価値付与処理を示すマニュアルデータの登録処理が実行される（ステップＳ２１〜Ｓ２８）。この登録処理が終了すると、登録されたマニュアルデータに基づいて、付加価値付与処理が実行される（ステップＳ２９〜Ｓ３３）。
【００４２】
マニュアルデータの登録処理においては、まず、データ表示・入力モジュール１５１がマニュアルデータを登録するための編集画面を表示する（ステップＳ２１）。
【００４３】
図６は、この編集画面の一例を示す図である。図示の編集画面は、情報表示部３１と、情報入力部３３とを有する点では、図３の編集画面と同じである。異なる点は、共用パラメータ値登録部２２の代わりに、マニュアルデータを登録するためのマニュアルデータ登録部３２を有する点である。
【００４４】
このマニュアルデータ登録部３２は、パラメータ値入力部３２５と、操作内容確認部３２６と、入力終了通知部３２７とを有する点では、図３の編集画面と同じである。異なる点は、実行する付加価値付与処理を選択するための付加価値付与処理選択部３２１と、使用する制御パラメータを選択するための制御パラメータ選択部３２２と、選択した制御パラメータの値として共用パラメータ値を使用するか否かを指定するための使用指定部３２３と、共用パラメータ値を使用する場合に、使用する共用パラメータ値を指定するための共用パラメータ値指定部３２４と、登録された共用パラメータ値の一覧表を表示する一覧表表示部３２８とを有する点である。
【００４５】
オペレータは、この編集画面が表示されると、まず、付加価値付与処理選択部３２１を使って、実行する付加価値付与処理を選択する。データ表示・入力モジュール１５１は、この選択操作がなされると、選択された付加価値付与処理を表示する（ステップＳ２２）。次に、オペレータは、制御パラメータ選択部３２２を使って使用する制御パラメータを選択する。データ表示・入力モジュール１５１は、この選択操作がなされると、選択された制御パラメータを表示する（ステップＳ２３）。
【００４６】
次に、オペレータは、使用指定部３２３を使って、選択パラメータの値として、共用パラメータ値を使用する否かを指定する。データ表示・入力モジュール１５１は、この指定操作がなされると、指定内容を表示する（ステップＳ２４）。
【００４７】
共用パラメータ値を使用する場合は、オペレータは、一覧表表示部３２８を使って、使用する共用パラメータ値を検索する。この検索が終了すると、検索した共用パラメータ値を共用パラメータ値指定部３２４を使って指定する。データ表示・入力モジュール１５１は、この指定操作がなされると、指定された共用パラメータ値（指定パラメータ値）を表示する（ステップＳ２５）。これに対し、共用パラメータ値を使用しない場合は、オペレータは、パラメータ値入力部３２５を使って、使用する制御パラメータの値を入力する。データ表示・入力モジュール１５１は、この入力操作がなされると、入力された制御パラメータ値（入力パラメータ値）を表示する（ステップＳ２５）。
【００４８】
次に、オペレータは、表示された付加価値付与処理等が正しいか否かを確認する。正しければ、操作内容確認部３２６を使って、操作内容を確認したことを装置に通知する。これに対し、正しくなければ、付加価値付与処理の選択操作等をやり直す。データ表示・入力モジュール１５１は、確認通知を受けると、それまでの操作内容を登録する（ステップＳ２６）。これにより、選択された付加価値付与処理を示す処理表示データと、実行条件の設定を指示する指示コマンドと、共用パラメータ値を使用するか否かを示す使用指定データと、使用する共用パラメータ値を指定する値指定データまたは入力された制御パラメータ値を示すデータがマニュアルデータ格納エリア１６１に格納される。
【００４９】
このあと、データ表示・入力モジュール１５１は、新しい制御パラメータが選択されたか否かを判定する（ステップＳ２７）。選択された場合は、ステップＳ２３に戻る。これにより、この場合は、新たに選択された制御パラメータについて、操作内容の登録処理が実行される。これに対し、選択されない場合は、入力終了通知を受けたか否かを判定する（ステップＳ２８）。受けない場合は、ステップＳ２７に戻る。これにより、この場合は、再び、上述した判定処理が実行される。これに対し、受けた場合は、マニュアルデータの登録処理が終了する。
【００５０】
図７は、登録されたマニュアルデータの一例を示す図である。図示のごとく、マニュアルデータは、上述した処理表示データＤ２と、指示コマンドと、使用指定データＤ３と、値指定データＤ１または入力された制御パラメータ値とを有する。指示コマンドと、使用指定データＤ３と、値指定データＤ１または入力パラメータ値とは、選択された制御パラメータＰｎごとに設けられる。使用指定データＤ３において、Ｄ３（１）は、共用パラメータ値を使用する場合を示し、Ｄ３（２）は、使用しない場合を示す。
【００５１】
図には、付加価値付与処理として、処理ｒ３が選択された場合を代表として示す。また、図には、使用する制御パラメータＰとして、５つの制御パラメータＰのうち、ステップ時間Ｐ１と、ウェーハ温度Ｐ２と、炉内圧力Ｐ３と、ガス流量Ｐ４とが選択された場合を代表として示す。さらに、図には、ステップ時間Ｐ１と炉内圧力Ｐ３で、パラメータ値として共用パラメータ値を使用し、ウェーハ温度Ｐ２とガス流量Ｐ４で、入力パラメータ値を使用する場合を代表として示す。
【００５２】
上述したマニュアルデータの登録処理が終了すると、付加価値付与処理が実行される。この実行処理においては、まず、制御モジュール１５２が指示コマンドの存在する最初の制御パラメータに関する付属データを読み出す（ステップＳ２９）。ここで、付属データとは、使用指定データＤ３と、値指定データＤ１または入力パラメータ値である。図７の例では、ステップ時間Ｐ１の付属データが読み出される。これにより、使用指定データＤ３（１）と、値指定データＤ１（３）が読み出される。
【００５３】
次に、制御モジュール１５２は、読み出された使用指定データＤ３に基づいて、共用パラメータ値の使用が指定されているか否かを判定する（ステップＳ３０）。指定されている場合は、読み出された値指定データＤ１によって指定された共用パラメータ値（指定パラメータ値）に基づいて、実行条件を設定する（ステップＳ３１）。これに対し、指定されていない場合は、読み出された制御パラメータ値（入力パラメータ値）に基づいて、実行条件を設定する（ステップＳ３２）。
【００５４】
図７の例では、共用パラメータ値の使用が指定されている。これにより、この場合は、値指定データＤ１（３）によって指定された共用パラメータ値Ｐ１（３）に基づいて、ステップ時間Ｐ１に関する実行条件が設定される。
【００５５】
このあと、制御モジュール１５２は、指示コマンドが存在するすべての制御パラメータの付属データの読出しが終了したか否かを判定する（ステップＳ３３）。この読出しが終了していなければ、ステップＳ２９に戻る。これにより、今度は、指示コマンドが存在する２番目の制御パラメータの付属データの読出しが行われる。図７の例では、ウェーハ温度Ｐ２の付属データの読出しが行われる。これにより、この場合は、入力パラメータ値Ｐ２（２）に基づいて、ウェーハ温度に関する実行条件が設定される。この設定は、入力パラメータ値Ｐ２（２）に基づいて、ウェーハ加熱機構１１１を制御することにより行われる。これに対し、読出しが終了していれば、図５の処理を終了させる。
【００５６】
次に、図８を参照しながら、レシピを作成または変更する場合の動作を説明する。図８は、この場合の制御コントローラ１５の処理を示すフローチャートである。
【００５７】
図示の処理は、例えば、オペレータがデータ表示・入力モジュール１５１を使って、装置にレシピの作成または変更を要求することにより開始される。この処理においては、まず、データ表示・入力モジュール１５１がレシピを作成または変更するための編集画面を表示する（ステップＳ４１）。
【００５８】
図９は、この編集画面の一例を示す図である。図示の編集画面は、情報表示部４１と、情報入力部４３とを有する点では、図６に示す編集画面と同じである。異なる点は、マニュアルデータ登録部３２の代わりに、レシピデータ登録部４２が設けられる点である。
【００５９】
このレシピデータ登録部４２は、付加価値付与処理選択部４２２と、制御パラメータ選択部４２３と、使用指定部４２４と、共用パラメータ値指定部４２５と、パラメータ値入力部４２６と、操作内容確認部４２７と、入力終了通知部４２８と、一覧表表示部４２９とを有する点では、同じである。異なる点は、作成または変更するレシピを選択するためのレシピ選択部４２１を有する点である。
【００６０】
オペレータは、この編集画面が表示されると、まず、レシピ選択部４２１を使って、作成または変更するレシピを選択する。データ表示・入力モジュール１５１は、この選択操作がなされると、選択されたレシピを表示する（ステップＳ４２）。
【００６１】
このあと、オペレータは、レシピ内の付加価値付与処理を示すデータを登録する操作を実行する。この操作は、マニュアルデータを登録する場合の操作と同じようにして行われる。
【００６２】
すなわち、この場合、オペレータは、付加価値付与処理の選択操作と、制御パラメータの選択操作と、共用パラメータ値を使用するか否かを指定する操作と、使用する共用パラメータ値の指定操作または使用する制御パラメータ値の入力操作と、操作内容を確認する操作とを順次行う。
【００６３】
これに伴い、データ表示・入力モジュール１５１は、選択された付加価値付与処理の表示処理（ステップＳ４３）と、選択された制御パラメータの表示処理（ステップＳ４４）と、共用パラメータ値を使用するか否かの表示処理（ステップＳ４５）と、指定された共用パラメータ値（指定パラメータ値）または入力された制御パラメータ値（入力パラメータ値）の表示処理（ステップＳ４６）と、操作内容の登録処理（ステップＳ４７）とを順次実行する。
【００６４】
このあと、データ表示モジュール１５１は、新しい制御パラメータが選択されたか否かを判定し（ステップＳ４８）、選択されれば、ステップＳ４４に戻る。これに対し、選択されなければ、新しい付加価値付与処理が選択されたか否かを判定する（ステップＳ４９）。選択されれば、ステップＳ４２に戻る。これにより、今度は、この新しい付加価値付与処理について、上述したような処理が実行される。これに対し、選択されなければ、入力終了通知を受けたか否かを判定する（ステップＳ５０）。受けなければ、ステップＳ４８に戻る。これに対し、受ければ、レシピの作成または変更が終了したことになるので、図８の処理を終了させる。
【００６５】
図１０は、作成または変更されたレシピＲの一例を示す図である。図示のレシピは、複数の付加価値付与処理ｒ１，ｒ２，…からなる。各付加価値付与処理を示すデータは、図７のマニュアルデータと同じである。図には、付加価値付与処理ｒ２を示すデータを代表として示す。また、図には、制御パラメータとして、ステップ時間Ｐ１と、ウェーハ温度Ｐ２と、ローダＰ５とを用いる場合を代表として示す。さらに、図には、ステップ時間Ｐ１では、パラメータ値として、入力された制御パラメータ値を用い、ウェーハ温度Ｐ２とローダＰ５では、指定された共用パラメータ値を用いる場合を代表として示す。
【００６６】
次に、図１１を参照しながら、レシピの実行要求が発生した場合の動作を説明する。図１１は、この場合の制御コントローラ１５の処理を示すフローチャートである。
【００６７】
図示の処理は、例えば、オペレータがデータ表示・入力モジュール１５１を使って、装置にレシピの実行を要求することにより開始される。この処理においては、複数の付加価値付与処理が順次実行される。各付加価値付与処理は、図５のステップＳ２９〜Ｓ３３に示す付加価値付与処理の実行と同じようにして実行される。
【００６８】
すなわち、各付加価値付与処理においては、付属データの読出し処理（ステップＳ６１）と、共用パラメータ値の使用が指定されているか否かの判定処理（ステップＳ６２）と、指定された共用パラメータ値（指定パラメータ値）に基づく実行条件の設定処理（ステップＳ６３）または入力された制御パラメータ値（入力パラメータ値）に基づく実行条件の設定処理（ステップＳ６４）と、全付属データの読出し処理が終了したか否かの判定処理（ステップＳ６５）が順次実行される。
【００６９】
全付属データの読出し処理が終了した場合は、制御モジュール１５２は、レシピに含まれるすべての付加価値付与処理の実行が終了したか否かを判定する（ステップＳ６６）。終了しない場合は、実行する付加価値付与処理を次の付加価値付与処理に切り替えた後（ステップＳ６７）、ステップＳ６１に戻る。これにより、次の付加価値付与処理が実行される。これに対し、終了した場合は、レシピの実行が終了したことになるので、図１１の処理を終了させる。
【００７０】
［１−３］効果
以上詳述した本実施の形態によれば、次のような効果を得ることができる。
【００７１】
（１）まず、本実施の形態によれば、装置に対して複数の付加価値付与処理で共用されるパラメータ値を指示する場合、予めこの共用パラメータ値を登録し、これを指定することにより指示するようになっている。
【００７２】
これにより、複数の付加価値付与処理で同じパラメータ値を使用する場合、オペレータは、このパラメータ値の入力操作を１回だけ行えばよく、あとは、入力したパラメータ値の指定操作だけを行えばよい。その結果、オペレータの作業負荷を軽減することができる。また、これにより、作業ミスの発生を軽減することができる。さらに、ある付加価値付与処理を複数のレシピで同じ実行条件で使用する場合、複数のレシピ間でパラメータ値が異なってしまう可能性を軽減することができる。これにより、複数のレシピの管理を容易にすることができる。
【００７３】
（２）また、本実施の形態によれば、共用パラメータ値を共用パラメータ値格納エリア１６３に登録するための手段がＣＶＤ装置に設けられる。これにより、共用パラメータ値登録手段を他の装置に設ける場合に必要なフロッピィディスク等の外部記憶媒体や通信回線を省略することができる。
【００７４】
［２］その他の実施の形態
以上、本発明の一実施の形態を詳細に説明した。しかしながら、本発明は、上述したような実施の形態に限定されるものではない。
【００７５】
（１）例えば、先の実施の形態では、図２に示す共用パラメータ値の登録処理を図５に示す付加価値付与処理の実行処理や図８に示すレシピの作成／変更処理とは独立に設定する場合を説明した。しかしながら、本発明では、共用パラメータ値の登録処理を付加価値付与処理の実行処理やレシピの作成／変更処理の前段に配置するようにしてもよい。但し、この場合は、共用パラメータ値の登録処理を通過して、付加価値付与処理の実行処理やレシピの作成／変更処理を実行するルートを設ける必要がある。これは、共用パラメータ値の登録処理が常に付加価値付与処理の実行処理やレシピの作成／変更処理に先立って実行されるとは限らないからである。
【００７６】
（２）また、先の実施の形態では、図８に示すレシピの作成／変更処理を図１１に示すレシピの実行処理とは独立に設定する場合を説明した。しかしながら、本発明では、レシピの作成／変更処理をレシピの実行処理の前段に配置するようにしてもよい。但し、この場合は、レシピの作成／変更処理を通過して、レシピの実行処理を実行するルートを設ける必要がある。これは、レシピの作成／変更処理が常にレシピの実行処理に先立って実行されるとは限らないからである。
【００７７】
（３）さらに、先の実施の形態では、共用パラメータ値の登録手段をＣＶＤ装置に設ける場合を説明した。しかしながら、本発明では、これを他の装置に設けるようにしてもよい。すなわち、共用パラメータ値登録手段を他の装置に設け、この装置でフロッピィディスク等の外部記憶媒体に共用パラメータ値を登録し、これをＣＶＤ装置にセットしたり、他の装置から通信回線を介してＣＶＤ装置のメモリに登録するようにしてもよい。
【００７８】
（４）また、先の実施の形態では、本発明を、ＣＶＤ装置に適用する場合を説明した。しかしながら、本発明は、ＣＶＤ装置以外のウェーハ処理装置にも適用することができる。また、本発明は、液晶表示装置のガラス基板等、ウェーハ以外の基板に所定の付加価値を付与する基板処理装置一般に適用することができる。
【００７９】
（５）このほかにも、本発明は、その要旨を逸脱しない範囲で、種々様々変形実施可能なことは勿論である。
【００８０】
【発明の効果】
以上詳述したように請求項１記載の基板処理装置によれば、装置に対して複数の付加価値付与処理で共用されるパラメータ値を指示する場合、予めこの共用パラメータ値を登録し、これを指定することにより指示するようになっている。これにより、オペレータの作業負荷と作業ミスの発生とを軽減することができる。また、複数のレシピの管理を容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態の構成を示す平面図である。
【図２】共用パラメータ値を登録する場合の一実施の形態の動作を説明するためのフローチャートである。
【図３】共用パラメータ値を登録する場合の一実施の形態の編集画面の一例を示す図である。
【図４】一実施の形態における共用パラメータ値の登録構成の一例を概念的に示す図である。
【図５】付加価値付与処理を実行する場合の一実施の形態の動作を説明するためのフローチャートである。
【図６】付加価値付与処理を実行する場合の一実施の形態の編集画面の一例を示す図である。
【図７】一実施の形態におけるマニュアルデータの登録構成の一例を概念的に示す図である。
【図８】レシピの作成／変更処理を実行する場合の一実施の形態の動作を説明するためのフローチャートである。
【図９】レシピの作成／変更処理を実行する場合の一実施の形態の編集画面の一例を示す図である。
【図１０】一実施の形態におけるレシピデータの登録構成の一例を概念的に示す図である。
【図１１】レシピを実行する場合の一実施の形態の動作を説明するためのフローチャートである。
【図１２】レシピの構成の一例を示す図である。
【図１３】複数のレシピで実行条件の同じ付加価値付与処理を実行する場合を説明するための図である。
【符号の説明】
１１…ウェーハ加熱機構、１２…反応炉減圧機構、１３…ガス導入機構、１４…ウェーハ移載機構、１５…制御コントローラ、１６…メモリ、１５１…データ表示・入力モジュール、１５２…制御モジュール、１６１…マニュアルデータ格納エリア、１６２…レシピデータ格納エリア、１６３…共用パラメータ値格納エリア、２１，３１，４１…情報表示部、２２…共用パラメータ値登録部、２３，３３，４３…情報入力部、２２１…共用パラメータ選択部、２２２，３２５…パラメータ値入力部、２２３，３２６，４２７…操作内容確認部、２２４，３２７，４２８…入力終了通知部、３２…マニュアルデータ登録部、４２…レシピデータ登録部、３２１，４２２…付加価値付与処理選択部、３２８，４２９…一覧表表示部、４２１…レシピ選択部。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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