(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ノズル開口に連通する圧力発生室が画成される流路形成基板と、前記圧力発生室の一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対向する領域に設けられて前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる圧電素子とを具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、
前記流路形成基板の前記圧力発生室の列方向両端部には、前記圧力発生室よりも狭い幅を有する複数の凹部を形成することにより剛性を低下させた応力緩和部が設けられ、且つ前記凹部を前記圧力発生室と同時にエッチングにより形成して当該凹部の幅を前記流路形成基板の端部側ほど狭くなるように段階的に変化させることによって前記流路形成基板の剛性を変化させていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッド。
【請求項２】
前記流路形成基板には、各圧力発生室が連通し、前記圧力発生室の共通のインク室となるリザーバの少なくとも一部を構成する連通部が形成され、且つ前記応力緩和部が、前記圧力発生室の列方向の前記連通部の端部に対応する領域よりも内側又は外側に形成されていることを特徴とする請求項１に記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項３】
前記応力緩和部を構成する各凹部の幅が、前記圧力発生室の幅よりも狭いことを特徴とする請求項１又は２に記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項４】
前記圧力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチングにより形成され、前記圧電素子の各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたものであることを特徴とする請求項１〜３の何れかに記載のインクジェット式記録ヘッド。
【請求項５】
請求項１〜４の何れかに記載のインクジェット式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジェット式記録装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を介して圧電素子を設けて、圧電素子の変位によりインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧してノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドには、圧電素子の軸方向に伸長、収縮する縦振動モードの圧電アクチュエータを使用したものと、たわみ振動モードの圧電アクチュエータを使用したものの２種類が実用化されている。
【０００３】
前者は圧電素子の端面を振動板に当接させることにより圧力発生室の容積を変化させることができて、高密度印刷に適したヘッドの製作が可能である反面、圧電素子をノズル開口の配列ピッチに一致させて櫛歯状に切り分けるという困難な工程や、切り分けられた圧電素子を圧力発生室に位置決めして固定する作業が必要となり、製造工程が複雑であるという問題がある。
【０００４】
これに対して後者は、圧電材料のグリーンシートを圧力発生室の形状に合わせて貼付し、これを焼成するという比較的簡単な工程で振動板に圧電素子を作り付けることができるものの、たわみ振動を利用する関係上、ある程度の面積が必要となり、高密度配列が困難であるという問題がある。
【０００５】
一方、後者の記録ヘッドの不都合を解消すべく、特開平５−２８６１３１号公報に見られるように、振動板の表面全体に亙って成膜技術により均一な圧電材料層を形成し、この圧電材料層をリソグラフィ法により圧力発生室に対応する形状に切り分けて各圧力発生室毎に独立するように圧電素子を形成したものが提案されている。
【０００６】
【発明を解決しようとする課題】
このようなインクジェット式記録ヘッドでは、圧力発生室が形成された流路形成基板には、複数のノズル開口を有するノズルプレート等が接合されている。このノズルプレートは、一般的に、流路形成基板と異なる材料からなるため、流路形成基板とノズルプレートとを熱硬化性の接着剤で接合する際、あるいは圧電素子にワイヤボンディング等で配線を接続する際などに、流路形成基板とノズルプレートとの熱膨張率の違いによって変形し、流路形成基板に割れ等の破壊が発生するという問題がある。
【０００７】
特に、流路形成基板の周縁部近傍は、圧力発生室が設けられた中央部に比べて剛性が高いため、この剛性が高い領域と剛性が低い領域との境界近傍に応力が集中して割れが発生しやすいという問題がある。
【０００８】
本発明はこのような事情に鑑み、流路形成基板の破壊を防止したインクジェット式記録ヘッド及びインクジェット式記録装置を提供することを課題とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決する本発明の第１の態様は、ノズル開口に連通する圧力発生室が画成される流路形成基板と、前記圧力発生室の一部を構成する振動板を介して前記圧力発生室に対向する領域に設けられて前記圧力発生室内に圧力変化を生じさせる圧電素子とを具備するインクジェット式記録ヘッドにおいて、前記流路形成基板の前記圧力発生室の列方向両端部には、前記圧力発生室よりも狭い幅を有する複数の凹部を形成することにより剛性を低下させた応力緩和部が設けられ、且つ前記凹部を前記圧力発生室と同時にエッチングにより形成して当該凹部の幅を前記流路形成基板の端部側ほど狭くなるように段階的に変化させることによって前記流路形成基板の剛性を変化させていることを特徴とするインクジェット式記録ヘッドにある。
【００１０】
かかる第１の態様では、流路形成基板の剛性を段階的に低下させることにより、流路形成基板の変形による応力集中を防止して割れの発生を防止することができる。また、流路形成基板の端部に向かって徐々に剛性が高くなり、流路形成基板の変形による応力集中が効果的に防止される。
【００１３】
本発明の第２の態様は、前記流路形成基板には、各圧力発生室が連通し、前記圧力発生室の共通のインク室となるリザーバの少なくとも一部を構成する連通部が形成され、且つ前記応力緩和部が、前記圧力発生室の列方向の前記連通部の端部に対応する領域よりも内側又は外側に形成されていることを特徴とする第１の態様のインクジェット式記録ヘッドにある。
【００１４】
かかる第２の態様では、応力緩和部を構成する凹部に沿って流路形成基板に割れが発生することなく、流路形成基板の剛性を低下させることができる。
【００１７】
本発明の第３の態様は、前記応力緩和部を構成する各凹部の幅が、前記圧力発生室の幅よりも狭いことを特徴とする第１又は２の態様のインクジェット式記録ヘッドにある。
【００１８】
かかる第３の態様では、流路形成基板の剛性を低下させ過ぎることなく、適度に剛性を低下させることができる。
【００１９】
本発明の第４の態様は、前記圧力発生室がシリコン単結晶基板に異方性エッチングにより形成され、前記圧電素子の各層が成膜及びリソグラフィ法により形成されたものであることを特徴とする第１〜３の何れかの態様のインクジェット式記録ヘッドにある。
【００２０】
かかる第４の態様では、高密度のノズル開口を有するインクジェット式記録ヘッドを大量に且つ比較的容易に製造することができる。
【００２１】
本発明の第５の態様は、第１〜４の何れかの態様のインクジェット式記録ヘッドを具備することを特徴とするインクジェット式記録装置にある。
【００２２】
かかる第５の態様では、ヘッドのインク吐出特性を向上したインクジェット式記録装置を実現できる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を実施形態に基づいて詳細に説明する。
【００２４】
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドの斜視図であり、図２は、その上面図及び断面図である。
【００２５】
図示するように、流路形成基板１０は、本実施形態では面方位（１１０）のシリコン単結晶基板からなり、その一方面側には、予め熱酸化により形成した二酸化シリコンからなる、厚さ１〜２μｍの弾性膜５０が形成されている。
【００２６】
また、この流路形成基板１０には、弾性膜５０とは反対側の面から異方性エッチングすることにより形成され、流路形成基板１０を略貫通する複数の圧力発生室１２が幅方向に並設されている。また、圧力発生室１２の長手方向外側には、各圧力発生室１２がインク供給路１３を介して連通する連通部１４が形成されている。この連通部１４は、後述するリザーバ形成基板のリザーバ部に連通して各圧力発生室１２の共通のインク室であるリザーバ１００の一部を構成する。
【００２７】
なお、本実施形態では、流路形成基板１０には、幅方向に並設された圧力発生室１２の列が２列設けられ、且つ各圧力発生室１２は、その長手方向では直線上に並ばないように、幅方向に若干ずらして設けられている。
【００２８】
また、流路形成基板１０の圧力発生室１２の列の両外側には、圧力発生室１２の幅方向に並設された複数の凹部１５からなる応力緩和部１６が設けられている。
【００２９】
この応力緩和部１６を構成する各凹部１５は、圧力発生室１２と同様に、流路形成基板１０を略貫通して設けられ、且つ圧力発生室１２よりも狭い幅を有する。また、本実施形態では、各凹部１５は、流路形成基板１０の端部側ほどその幅が狭くなっている。すなわち、応力緩和部１６を構成する各凹部１５の幅を段階的に変化させることにより、流路形成基板の剛性をその端部側に向かって徐々に大きくなるように変化させている。
【００３０】
このような応力緩和部１６を設けることにより、詳しくは後述するが、流路形成基板１０に割れが発生するのを防止することができる。
【００３１】
ここで、異方性エッチングは、シリコン単結晶基板のエッチングレートの違いを利用して行われる。例えば、本実施形態では、シリコン単結晶基板をＫＯＨ等のアルカリ溶液に浸漬すると、徐々に侵食されて（１１０）面に垂直な第１の（１１１）面と、この第１の（１１１）面と約７０度の角度をなし且つ上記（１１０）面と約３５度の角度をなす第２の（１１１）面とが出現し、（１１０）面のエッチングレートと比較して（１１１）面のエッチングレートが約１／１８０であるという性質を利用して行われる。かかる異方性エッチングにより、二つの第１の（１１１）面と斜めの二つの第２の（１１１）面とで形成される平行四辺形状の深さ加工を基本として精密加工を行うことができ、圧力発生室１２を高密度に配列することができる。
【００３２】
本実施形態では、各圧力発生室１２の長辺を第１の（１１１）面で、短辺を第２の（１１１）面で形成している。この圧力発生室１２は、流路形成基板１０をほぼ貫通して弾性膜５０に達するまでエッチングすることにより形成されている。ここで、弾性膜５０は、シリコン単結晶基板をエッチングするアルカリ溶液に侵される量がきわめて小さい。また、各圧力発生室１２の一端に連通する各インク供給路１３は、圧力発生室１２より浅く形成されており、圧力発生室１２に流入するインクの流路抵抗を一定に保持している。すなわち、インク供給路１３は、シリコン単結晶基板を厚さ方向に途中までエッチング（ハーフエッチング）することにより形成されている。なお、ハーフエッチングは、エッチング時間の調整により行われる。
【００３３】
また、流路形成基板１０の開口面側には、各圧力発生室１２とインク供給路１３とは反対側の端部近傍で連通するノズル開口２１が穿設されたノズルプレート２０が、例えば、加熱硬化性の接着剤によって固着されている。なお、ノズルプレート２０は、厚さが例えば、０．１〜１ｍｍの不錆鋼などからなる。また、ノズルプレート２０は、一方の面で流路形成基板１０の一面を全面的に覆い、シリコン単結晶基板を衝撃や外力から保護する補強板の役目も果たす。
【００３４】
ここで、インク滴吐出圧力をインクに与える圧力発生室１２の大きさと、インク滴を吐出するノズル開口２１の大きさとは、吐出するインク滴の量、吐出スピード、吐出周波数に応じて最適化される。例えば、１インチ当たり３６０個のインク滴を記録する場合、ノズル開口２１は数十μｍの直径で精度よく形成する必要がある。
【００３５】
一方、流路形成基板１０に設けられた弾性膜５０の上には、厚さが例えば、約０．２μｍの下電極膜６０と、厚さが例えば、約１μｍの圧電体層７０と、厚さが例えば、約０．１μｍの上電極膜８０とが、後述するプロセスで積層形成されて、圧電素子３００を構成している。ここで、圧電素子３００は、下電極膜６０、圧電体層７０、及び上電極膜８０を含む部分をいう。一般的には、圧電素子３００の何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極及び圧電体層７０を各圧力発生室１２毎にパターニングして構成する。そして、ここではパターニングされた何れか一方の電極及び圧電体層７０から構成され、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部という。本実施形態では、下電極膜６０は圧電素子３００の共通電極とし、上電極膜８０を圧電素子３００の個別電極としているが、駆動回路や配線の都合でこれを逆にしても支障はない。何れの場合においても、各圧力発生室毎に圧電体能動部が形成されていることになる。また、ここでは、圧電素子３００と当該圧電素子３００の駆動により変位が生じる振動板とを合わせて圧電アクチュエータと称する。
【００３６】
また、圧電素子３００の個別電極である上電極膜８０は、上電極膜８０から弾性膜５０上まで延設されたリード電極９０を介して図示しない駆動配線と接続されている。
【００３７】
また、流路形成基板１０の圧電素子３００側には、リザーバ１００の一部を構成するリザーバ部３１を有するリザーバ形成基板３０が接合されている。このリザーバ部３１は、本実施形態では、リザーバ形成基板３０を厚さ方向に貫通して圧力発生室１２の列方向に亘って形成されており、上述のように流路形成基板１０の連通部１４と連通されてリザーバ１００を構成している。
【００３８】
このようなリザーバ形成基板３０としては、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いた。これにより、両者を熱硬化性の接着剤を用いた高温での接着により確実に接着して、製造工程を簡略化することができる。
【００３９】
また、リザーバ形成基板３０の圧電素子３００に対向する領域には、圧電素子３００の運動を阻害しない程度の空間を確保した状態で、その空間を密封可能な圧電素子保持部３２が設けられ、圧電素子３００はこの圧電素子保持部３２内に密封されている。
【００４０】
さらに、リザーバ形成基板３０には、圧電素子３００の上電極膜８０に接続されたリード電極９０の端部近傍に対向する領域に、厚さ方向に貫通する貫通溝３７が圧力発生室１２の並設方向に亘って設けられている。そして、図示しない駆動回路に接続される駆動配線が、例えば、ワイヤボンディング等によってこの貫通溝３７内に延設され、各リード電極９０と電気的に接続されている。
【００４１】
また、このリザーバ形成基板３０には、封止膜４１及び固定板４２からなるコンプライアンス基板４０が接合されている。ここで、封止膜４１は、剛性が低く可撓性を有する材料（例えば、厚さが６μｍのポリフェニレンスルフィド（ＰＰＳ）フィルム）からなり、この封止膜４１によってリザーバ部３１の一方面が封止されている。また、固定板４２は、金属等の硬質の材料（例えば、厚さが３０μｍのステンレス鋼（ＳＵＳ）等）で形成される。この固定板４２のリザーバ１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４３となっているため、リザーバ１００の一方面は可撓性を有する封止膜４１のみで封止され、内部圧力の変化によって変形可能な可撓部４５となっている。
【００４２】
なお、このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、図示しない外部インク供給手段からインクを取り込み、リザーバ１００からノズル開口２１に至るまで内部をインクで満たした後、図示しない外部の駆動回路からの記録信号に従い、圧力発生室１２に対応するそれぞれの下電極膜６０と上電極膜８０との間に電圧を印加し、弾性膜５０、下電極膜６０及び圧電体層７０をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口２１からインク滴が吐出する。
【００４３】
以下、このようなインクジェット式記録ヘッドの製造工程について、図３及び図４を参照して説明する。なお、図３及び図４は、圧力発生室１２の幅方向の断面図である。
【００４４】
まず、図３（ａ）に示すように、流路形成基板１０となるシリコン単結晶基板のウェハを約１１００℃の拡散炉で熱酸化して二酸化シリコンからなる弾性膜５０を形成する。
【００４５】
次に、図３（ｂ）に示すように、スパッタリングで下電極膜６０を流路形成基板１０の圧力発生室１２側に全面に亘って形成すると共に所定形状にパターニングする。この下電極膜６０の材料としては、白金、イリジウム等が好適である。これは、スパッタリング法やゾル−ゲル法で成膜する後述の圧電体層７０は、成膜後に大気雰囲気下又は酸素雰囲気下で６００〜１０００℃程度の温度で焼成して結晶化させる必要があるからである。すなわち、下電極膜６０の材料は、このような高温、酸化雰囲気下で導電性を保持できなければならず、殊に、圧電体層７０としてチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）を用いた場合には、酸化鉛の拡散による導電性の変化が少ないことが望ましく、これらの理由から白金、イリジウムが好適である。
【００４６】
次に、図３（ｃ）に示すように、圧電体層７０及び上電極膜８０を順次積層形成すると共に、圧電体層７０及び上電極膜８０のみをエッチングして圧電素子３００のパターニングを行う。
【００４７】
この圧電体層７０は、例えば、本実施形態では、金属有機物を触媒に溶解・分散したいわゆるゾルを塗布乾燥してゲル化し、さらに高温で焼成することで金属酸化物からなる圧電体層７０を得る、いわゆるゾル−ゲル法を用いて形成した。圧電体層７０の材料としては、ＰＺＴ系の材料がインクジェット式記録ヘッドに使用する場合には好適である。なお、この圧電体層７０の成膜方法は、特に限定されず、例えば、スパッタリング法又はＭＯＤ法（有機金属熱塗布分解法）等のスピンコート法により成膜するようにしてもよい。
【００４８】
また、ゾル−ゲル法又はスパッタリング法もしくはＭＯＤ法等によりチタン酸ジルコン酸鉛の前駆体膜を形成後、アルカリ水溶液中での高圧処理法にて低温で結晶化させる方法を用いてもよい。
【００４９】
また、上電極膜８０は、導電性の高い材料であればよく、アルミニウム、金、ニッケル、白金等の多くの金属や、導電性酸化物等を使用できる。本実施形態では、白金をスパッタリングにより成膜している。
【００５０】
次に、図３（ｄ）に示すように、リード電極９０を流路形成基板１０の全面に亘って形成すると共に、各圧電素子３００毎にパターニングする。
【００５１】
以上が膜形成プロセスである。このようにして膜形成を行った後、図４（ａ）に示すように、前述したアルカリ溶液によるシリコン単結晶基板からなる流路形成基板１０を異方性エッチングすることにより、圧力発生室１２等を形成する。また、本実施形態では、同時に、流路形成基板１０に応力緩和部１６を構成する凹部１５を形成する。
【００５２】
次いで、図４（ｂ）に示すように、流路形成基板１０の圧電素子３００側にリザーバ形成基板３０を接合し、その後、図４（ｃ）に示すように、流路形成基板１０の圧力発生室１２が開口する面にノズルプレート２０を接着する。
【００５３】
ここで、このノズルプレート２０は、上述したように、熱硬化性の接着剤によって流路形成基板１０に接着している。このため、接着持の熱により流路形成基板１０、リザーバ形成基板３０及びノズルプレート２０等の各基板が膨張し、各基板の熱膨張率の違いによって反りが発生し、この反りによって流路形成基板１０等に割れが発生する虞がある。
【００５４】
すなわち、流路形成基板１０は、圧力発生室１２が設けられた領域では剛性が比較的低く、その周縁部は圧力発生室１２が設けられた領域よりも剛性が高い。したがって、圧力発生室１２の列の両外側の領域が、剛性が高い領域と低い領域との境界となり、この境界部分に反りによる応力が集中することによって、流路形成基板１０には、圧力発生室１２の側面に沿って割れ等の破壊が発生する虞がある。
【００５５】
しかしながら、本発明では、上述したように、流路形成基板１０の圧力発生室の列の両外側に複数の凹部１５からなる応力緩和部１６を設けているため、各基板に発生した反りによる応力が一部に集中することが無く、流路形成基板１０に割れ等の破壊が発生するのを防止することができる。
【００５６】
また、本実施形態では、各凹部１５の幅を、流路形成基板１０の端部側に向かって段階的に狭くすることによって、流路形成基板１０の剛性が徐々に大きくなるようにしているので、流路形成基板１０の一部分への応力集中を確実に無くすことができる。
【００５７】
また、その後、リード電極９０に接続配線がワイヤボンディングによって接続され、その際、各基板は、例えば、１００℃〜１２０℃で加熱されるが、上述したように流路形成基板１０に応力緩和部１６を設けることにより、流路形成基板１０が反ることによる割れ等の発生を防止することができる。
【００５８】
さらに、流路形成基板１０に応力緩和部１６を設けることにより、流路形成基板の剛性が全体的に略均一となるため、弾性膜５０の変位量のばらつきを抑えることができ、インク吐出特性を向上することができる。
【００５９】
（実施形態２）
図５は、実施形態２に係るインクジェット式記録ヘッドの要部を示す平面図である。
【００６０】
図５（ａ）及び（ｂ）に示すように、本実施形態では、複数の凹部１５Ａからなる応力緩和部１６Ａが、リザーバの一部を構成する連通部１４の端部に沿った領域（図中Ｂ−Ｂ’線の近傍領域）の内側又は外側に設けられている。また、応力緩和部１６Ａを構成する各凹部１５Ａが同一幅で形成され、且つ圧力発生室１２の幅よりも狭い幅で形成されている。
【００６１】
このように、流路形成基板に応力緩和部を設けることにより、実施形態１と同様に、各基板に発生した反りによる応力が一部に集中することが無く、流路形成基板１０に割れ等の破壊が発生するのを防止することができる。
【００６２】
また、連通部１４の端部に沿った領域に凹部１５Ａを設けると、この領域の剛性が著しく低下し、基板の反りによる応力が集中して割れが発生しやすくなってしまう。しかしながら、本実施形態では、この連通部１４の端部に沿った領域に凹部１５Ａを設けることなく、その領域の内側又は外側に設けるようにしているため、流路形成基板１０の割れの発生をより確実に防止することができる。
【００６３】
さらに、応力緩和部１６Ａを構成する凹部１５Ａの幅は、特に限定されないが、本実施形態のように、圧力発生室１２よりも狭い幅で形成することが好ましい。これにより、流路形成基板１０の剛性を必要以上に低下させるのを防止することができる。
【００６４】
なお、本実施形態では、応力緩和部１６Ａを構成する各凹部１５Ａの幅を略同一幅としたが、これに限定されず、勿論、実施形態１と同様に、流路形成基板１０の端部側に向かって段階的に凹部１５Ａの幅を狭くするようにしてもよい。
【００６５】
また、本実施形態では、連通部１４の端部に沿った領域の内側又は外側の一方側のみに応力緩和部１６Ａを設けているが、勿論、両側に設けるようにしてもよい。
【００６６】
（他の実施形態）
以上、本発明の各実施形態を説明したが、インクジェット式記録ヘッドの基本的構成は上述したものに限定されるものではない。
【００６７】
例えば、上述の実施形態では、成膜及びリソグラフィプロセスを応用して製造される薄膜型のインクジェット式記録ヘッドを例にしたが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、グリーンシートを貼付する等の方法により形成される厚膜型のインクジェット式記録ヘッドにも本発明を採用することができる。
【００６８】
また、これら各実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図６は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
【００６９】
図６に示すように、インクジェット式記録ヘッドを有する記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、インク供給手段を構成するカートリッジ２Ａ及び２Ｂが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。
【００７０】
そして、駆動モータ６の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４にはキャリッジ軸５に沿ってプラテン８が設けられており、図示しない給紙ローラなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートＳがプラテン８上を搬送されるようになっている。
【００７１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明では、流路形成基板に、複数の凹部を形成することにより剛性を低下させた応力緩和部を設け、且つこれらの凹部の幅を段階的に変化させることによって流路形成基板の剛性を変化させるようにしたので、流路形成基板の一部分に反りによる応力が集中するのを効果的に抑えることができ、流路形成基板に割れ等が発生するのを防止することができる。また、流路形成基板の剛性が略均一となるため、流路形成基板に設けられた振動板の変位量のバラツキが抑えられ、インク吐出特性を向上することができる効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドを示す斜視図である。
【図２】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドを示す平面図及び断面図である。
【図３】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図４】本発明の実施形態１に係るインクジェット式記録ヘッドの製造工程を示す断面図である。
【図５】本発明の実施形態２に係るインクジェット式記録ヘッドを示す平面図である。
【図６】本発明の一実施形態に係るインクジェット式記録装置の概略図である。
【符号の説明】
１０  流路形成基板
１２  圧力発生室
１３  インク供給路
１４  連通部
１５，１５Ａ  凹部
１６，１６Ａ  応力緩和部
２０  ノズルプレート
２１  ノズル開口
３０  リザーバ形成基板
３１  リザーバ部
３２  圧電素子保持部
４０  コンプライアンス基板
５０  弾性膜
６０  下電極膜
７０  圧電体層
８０  上電極膜
１００  リザーバ
３００  圧電素子
【図１】
0004013029.tif 000002
【図２】
0004013029.tif 000003
【図３】
0004013029.tif 000004
【図４】
0004013029.tif 000005
【図５】
0004013029.tif 000006
【図６】
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