(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂製コア層と、前記樹脂製コア層の両面に積層された樹脂製クラッド層とからなる光導波部材を備え、かつ、記録可能な記録層が、前記樹脂製コア層又は前記樹脂製クラッド層に隣接して設けられてなる光メモリ素子であって、
前記記録層が、記録層に隣接する樹脂製コア層又は樹脂製クラッド層を形成するための塗布液に対する溶解度が０．２５％以下である記録部材を含んでなることを特徴とする光メモリ素子。
【請求項２】
前記記録部材が有機物である、請求項１に記載の光メモリ素子。
【請求項３】
前記記録部材が有機色素である、請求項１又は２に記載の光メモリ素子。
【請求項４】
樹脂製コア層と、前記樹脂製コア層の両面に積層された樹脂製クラッド層とからなる光導波部材を備え、かつ、記録可能な記録層が、前記樹脂製コア層又は前記樹脂製クラッド層に隣接して設けられてなる光メモリ素子であって、
前記記録層が、一般式（Ｉ）で示されるアゾ系化合物と金属イオンとで構成される化合物を含んでなることを特徴とする光メモリ素子。
【化１】
0003985534.tif 000016
（式中、環Ａは置換基を有していても良い芳香族複素環を表す。環Ｂは芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらに飽和環が縮合してなる環を表し、これらはいずれも−Ｏ-の他に置換基を有していてもよい。Ｍは２価以上の金属イオンを表し、ｎはＭの価数を表す。また、Ｘ-はカウンターアニオンを表し、ｍはＸ-の個数を表し、ｍ＝ｎ−２である。）
【請求項５】
前記化合物が、一般式（ＩＩ）で示されるアゾ系化合物と金属イオンとで構成される化合物である、請求項４に記載の光メモリ素子。
【化２】
0003985534.tif 000017
（式中、Ｍ、Ｘ-、ｍおよびｎは前記一般式（Ｉ）におけると同義である。
Ｒ0は、水素原子、無置換のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルチオ基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、アルケニル基、ホルミル基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表す。
ベンゼン環Ｇは−Ｏ-およびＮＲ10Ｒ11以外の置換基を有していてもよい。
Ｒ10およびＲ11は、▲１▼各々独立に後述する基を表すか、▲２▼互いに結合して環を形成するか、▲３▼各々、環Ｇを構成する炭素原子と結合し、環Ｇに縮合する飽和環を形成する。
上記▲１▼の場合、Ｒ10およびＲ11は各々独立に、水素原子、炭素数１から６の直鎖または分岐の置換基を有していてもよいアルキル基、炭素数６から１８の置換基を有していてもよいアリール基、炭素数２から６の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数３から６の環状アルケニル基、または炭素数３から６の置換基を有していてもよい環状アルキル基を表す。）
【請求項６】
金属イオンが３価以上の金属イオンである、請求項４又は５に記載の光メモリ素子。
【請求項７】
金属イオンがＣｏ3+である、請求項６に記載の光メモリ素子。
【請求項８】
前記化合物は、記録層に隣接する樹脂製コア層又は樹脂製クラッド層を形成するための塗布液に対する溶解度が０．２５％以下である、請求項４乃至７のいずれかに記載の光メモリ素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は記録可能な光学メモリ素子、特に光導波路デバイスを用いて構成される光メモリ素子に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、予め所定の散乱光を生じるようにパターンが刻まれた平面型（カード型）の光導波路中に光を導入し、光導波面の外部に画像を結像させる技術が提案されている。
即ち、例えば図５に模式的に示すように、光導波路として機能するように屈折率や膜厚を調整されたコア（層）１０１と、このコア層１０１を挟む形でその両側（両面部）に設けられた（第１，第２の）クラッド（層）１０２とをそなえて成るカード型のスラブ型光導波路デバイス１００において、コア層１０１とクラッド層１０２との界面に微細な凹凸が存在していた場合、コア層（光導波路）１０１にレンズ１０３を介して光（レーザ光）を導入すると、導入光の一部がその凹凸部分で散乱し、散乱光がクラッド層１０２を通じて外部に出てくる。
【０００３】
従って、光導波面（光導波路１０１）から所定距離に特定の画像が結像するような光の散乱強度と位相とを計算し、その計算に応じた微細な凹凸パターンを予めコア層１０１に刻み込んでおけば、光導波面の外部に所望の画像を結像させることができる。つまり、コア層１０１は情報の記録層として機能することになる。
【０００４】
そして、例えば、光導波面の外部に出てきた散乱光を上記所定距離に設置したＣＣＤ受像機１０４により受光して、結像画像を２次元のディジタルパターン〔例えば、明暗の２値のパターン、もしくは、明度（グレイスケール）による多値のパターン等〕化してディジタル信号化すれば、既存のディジタル画像処理装置（図示省略）で結像画像に対し所望の画像処理を実施することができる。
【０００５】
また、例えば図６に模式的に示すように、上記のクラッド層１０２とコア層１０１とを繰り返し積層して、光導波路（記録層）１０１を複数個積層した場合、或る光導波路１０１で散乱した光は、別の光導波路１０１を横切ることになるが、通常、コア層１０１とクラッド層１０２の屈折率差が極めて小さいので、その散乱光が別の光導波路１０１に形成された凹凸で再散乱することは殆ど無く、結像画像が乱れることは無い。従って、積層数に比例して数多くの画像やパターンを結像できることになる。
【０００６】
つまり、光導波路デバイス１００はその積層数に比例した容量を有する光メモリ素子（ＲＯＭ等の記録媒体）として使用できるのである。なお、この光メモリ素子は、理論上では、１層で約１ギガバイト程度の容量をもたせることができ、１００層程度まで積層することが可能であるといわれており、将来的には、動画像の記録等に十分対応できる大容量ＲＯＭとして使用されることが有望視されている。
【０００７】
更に、この原理を応用した記録可能な光メモリ素子も提案されている（特開平９−１０１７３５号公報）。例えばフォトクロミック材料等の感光（硬化）性の材料からなる記録層等が用いられる。
しかしながら、このような多層構造の光メモリ素子（以下、「多層光メモリ」ということがある）をフォトレジストの露光と現像とを用いた手法で作成すると、１層分の光メモリ素子１００の作製に非常に時間及びコストがかかってしまうので、大容量の多層光メモリを作製するには膨大な時間とコストがかかる。
【０００８】
このため、コア層及びクラッド層を樹脂製にすることで、多層構造を簡易に形成できるようにして、限られた体積でより大容量の情報を保持できる光メモリ素子を容易、且つ、安価に実現できるようにすることが提案されている（特願平１１−１３１５１２号、特願平１１−１３１５１３号）。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、記録可能な光メモリ素子の作製においても、コア層及びクラッド層を樹脂製にすることで、多層構造を簡易に形成できるようにして、限られた体積でより大容量の情報を記録再生できる光メモリ素子を容易、且つ、安価に実現できるようにしたいとの要請がある。
【００１０】
しかしながら、例えば、記録可能な有機色素を含有する記録層（以下、色素記録層と称する。）等を使用した場合、樹脂性コア層または樹脂製クラッド層と接する界面で色素が溶解し色素記録層が侵されてしまい、記録再生特性が悪化する虞があった。
特に、色素記録層の上にコア材、クラッド材など（コア層やクラッド層を形成する材料）を用いて樹脂性コア層または樹脂製クラッド層を形成し光導波路を作製しようとする際には、コア材、クラッド材が液状であるため色素記録層は特に溶解しやすく、記録再生が行えなくなるおそれもあり、これを解決して記録再生特性の良い光メモリ素子を得たいとの要望があった。
【００１１】
具体的には、記録層と樹脂性コア層／樹脂製クラッド層との混和を防止するための障壁層を設けることにより、樹脂製コア層／樹脂製クラッド層と記録層の相溶を防ぐことが提案されている。特には樹脂製コア層／樹脂製クラッド層形成時に、コア材やクラッド材からなる塗布液が記録層中に拡散、浸透したり、逆に記録層材料が樹脂製コア層／樹脂製クラッド層に拡散したり、樹脂製コア層または樹脂製クラッド層作製用塗布液が記録層に拡散、浸透する等の混和現象を防止する。しかしながら、障壁層を設けることは、光メモリ素子の作製工程を一つ増やすこととなる。
【００１２】
また、通常、色素記録層や樹脂性コア層／樹脂製クラッド層はいずれも塗布法によって簡便に作製することができ、光メモリ素子は塗布法のみで作製可能である。しかし、障壁層は一般的には無機物からなる場合が多く、簡便な塗布法は用いることができず、通常、スパッタリングや蒸着、ＣＶＤなどの形成法による。このため、障壁層を設けるためには光メモリ素子の作製工程を単に一つ増やすだけでなく、大きな工程変更が必要となる。このため、光メモリ素子を容易かつ安価に作製することが困難になるおそれがある。
【００１３】
本発明は、このような課題に鑑み創案されたもので、記録可能な記録層を設けてなる光メモリ素子において、簡便な作製工程で作製でき、かつ記録再生特性に優れる光メモリ素子を容易かつ安価に提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決すべく鋭意検討を重ねた結果、本発明を提案するに至った。すなわち、本発明の要旨は、樹脂製コア層と、前記樹脂製コア層の両面に積層された樹脂製クラッド層とからなる光導波部材を備え、かつ、記録可能な記録層が、前記樹脂製コア層又は前記樹脂製クラッド層に隣接して設けられてなる光メモリ素子であって、前記記録層が、記録層に隣接する樹脂製コア層又は樹脂製クラッド層を形成するための塗布液に対する溶解度が０．２５％以下である記録部材を含んでなることを特徴とする光メモリ素子に存する。
【００１５】
本発明の別の要旨は、樹脂製コア層と、前記樹脂製コア層の両面に積層された樹脂製クラッド層とからなる光導波部材を備え、かつ、記録可能な記録層が、前記樹脂製コア層又は前記樹脂製クラッド層に隣接して設けられてなる光メモリ素子であって、前記記録層が、一般式（Ｉ）で示されるアゾ系化合物と金属イオンとで構成される化合物を含んでなることを特徴とする光メモリ素子に存する。
【００１６】
【化３】
0003985534.tif 000002
【００１７】
（式中、環Ａは置換基を有していても良い芳香族複素環を表す。環Ｂは芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらに飽和環が縮合してなる環を表し、これらはいずれも−Ｏ-の他に置換基を有していてもよい。Ｍは２価以上の金属イオンを表し、ｎはＭの価数を表す。また、Ｘ-はカウンターアニオンを表し、ｍはＸ-の個数を表し、ｍ＝ｎ−２である。）
【００１８】
【発明の実施の様態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明においては、記録層に用いる記録可能な部材を記録層に隣接する樹脂製コア層又は樹脂製クラッド層を形成するための塗布液に対して難溶性の物質とすることを大きな特徴とする。
【００１９】
これによれば樹脂製コア層／樹脂製クラッド層と記録層の相溶を防ぐ効果がある。特には、記録層上に樹脂製コア層／樹脂製クラッド層を塗布形成する際に、記録層材料が塗布液中に拡散、浸透したり、塗布液が記録層中に拡散、浸透したりする等の混和現象を防止する効果がある。
従って、記録層は隣接する樹脂製コア層／樹脂製クラッド層による影響を受けることがなく、光メモリ素子の記録再生特性が良好なものとなる。従ってコア層／クラッド層を樹脂材料により構成することができる。しかも混和を防ぐ障壁層などを付け加える必要はなく、光メモリ素子を容易かつ安価に作製することができる。但し、本発明は記録層と樹脂製コア層／樹脂製クラッド層とのあいだに、必要に応じて他の層を加えることを排除するものではない。
【００２０】
なお、本発明においては、樹脂製コア層を形成するための塗布液をコア層形成用塗布液、コア材、液状コア樹脂などと称することがあり、樹脂製クラッド層を形成するための塗布液をクラッド層形成用塗布液、クラッド材、液状クラッド樹脂などと称することがある。
本発明においては、コア層形成用塗布液又はクラッド層形成用塗布液の少なくともいずれかに対して記録部材が難溶性、具体的には塗布液に含まれる溶媒やモノマーに対して難溶性である必要がある。好ましくは両方の塗布液に対して難溶性である。特に好ましくは、記録部材を含めた記録層構成材料がいずれも、これら塗布液に対して難溶性である。難溶性であるとは、通常、コア層／クラッド層形成用塗布液に対する記録部材の溶解度を０．２５％以下とする。この溶解度は０．２５％以下の範囲で低いほど好ましく、より好ましくは０．２０％以下であり、特に好ましくは０．１０％である。下限は無く、溶解度は０％であってもよい。
【００２１】
なお、本発明において溶解度は、飽和溶液中における溶質の濃度であり、室温（２５℃）での溶液１００ｇに対する溶質の量（ｇ）を表す。
また、樹脂製コア層又は樹脂製クラッド層を形成するための塗布液とは、少なくとも１種以上のポリマーおよび／またはモノマーを含む樹脂組成物であり、該組成物は必要に応じて適当な溶媒を含有していても良い。また、光重合開始剤や増感剤、あるいは可塑剤、塗布性改良剤、界面活性剤等の通常用いられる各種添加剤を適宜含有していてもよい。
【００２２】
光メモリ素子の作製しやすさを考慮すれば、溶剤を大量に含有しない塗布液、すなわちモノマーを適当量含有する未硬化の硬化性樹脂組成物が好ましい。硬化性樹脂組成物としては、熱硬化性樹脂組成物や光硬化性樹脂組成物などが挙げられるが、特に、硬化後に各種溶媒に難溶となる光硬化性樹脂組成物が好ましい。
光硬化性樹脂組成物としては、例えばアクリル系モノマーを含有する組成物や、エポキシ系モノマーを含有する組成物などが挙げられ、好ましくはアクリル系モノマーを含有する組成物である。
【００２３】
アクリル系モノマーとしては、単官能モノマーまたは多官能モノマーの何れであってもよく、以下に挙げるような化合物が考えられる。
単官能モノマーとしては、例えば、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレートなどの各種（メタ）アクリレート、Ｎ−ビニルピロリドン、２−ヒドロキシエチルアクリロイルホスフェート、Ｎ−アクリロイルモルホリン等が挙げられる。ここで「（メタ）アクリレート」とは「アクリレートまたはメタクリレート」を意味する。
【００２４】
多官能モノマー成分としては、例えばシクロペンテニール（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエニルジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦエトキシ変性ジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２５】
また光硬化性樹脂組成物は、モノマー以外に所謂オリゴマーを含有していても良い。
オリゴマーとしては、アクリル系オリゴマー、エステル系オリゴマー、ウレタン系オリゴマー、エーテル系オリゴマー、エポキシ系オリゴマー等が挙げられる。具体的には、特開２０００−３４３０５９号公報に記載された樹脂オリゴマー等が挙げられる。これらは単独で使用してもよいが、複数種を組み合わせて使用してもよい。例えば、アクリル系オリゴマーと共にエステル系オリゴマーを使用すると、耐水性に優れ、硬い層を得ることが出来る。この場合、硬化収縮が大きいため、媒体に反りが生じることがあるが、予め、基板に逆方向の反りを与えておくことにより解決可能である。アクリル系オリゴマーと共にエポキシ系オリゴマーを使用すると、耐熱性、接着性に優れた層を得ることが出来る。これも硬化収縮が大きいため、媒体に反りが生じることがあるが、予め、基板に逆方向の反りを与えておくことにより解決可能である。
【００２６】
一方、アクリル系オリゴマーと共にウレタン系オリゴマーを使用すると、ウレタン系オリゴマーは分子量が大きく硬化収縮が小さいため、基板の反り等が生じる可能性は小さくなる。この場合、形成された硬化塗膜は比較的柔らかいものとなる。また、ウレタン結合は水素結合などにより凝集効果を示し、強靱な層となる。更に、ポリエーテル、ポリエステル、ゴムなどのソフトセグメントとウレタン結合によるハードセグメントを含む樹脂ではハードセグメントがドメインを形成し、強靱性とゴム弾性を兼ね備えた層が得られる。
【００２７】
ウレタン系オリゴマーとしては、例えば、ポリエステル（エチレングリコール・アジピン酸）・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ポリエーテル（ポリエチレングリコール）・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、ヒドロキシエチルフタリル（メタ）アクリレート・キシレンジイソシアネート、１，２−ポリブタジエングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパン・プロピレングリコール・トリレンジイソシアネート・２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２８】
これらアクリル系モノマーを使用する場合には、光重合開始剤を使用することが好ましい。
光重合開始剤としては、従来公知のものから適宜選択して使用することが出来、例えば特開２０００−３４３０５９号公報に記載されたもの等が挙げられる。
光硬化性樹脂組成物は、上記の他、必要に応じ、重合停止剤、保存安定剤、分散剤、消泡剤、紫外線硬化性以外のバインダー樹脂などを含有していてもよい。バインダー樹脂としては、アクリル系モノマーと相溶し、記録／再生光波長（例えば３００〜９００ｎｍ程度）における透過率が８０％以上である樹脂であればよく、特に限定されない。
【００２９】
なお、該組成物は溶剤を多量に含有しないことが好ましいが、含有させる場合、例えばセロソルブ系溶剤、アルキレングリコール系溶剤、エステル系溶剤、炭化水素系溶剤、ハロゲン化炭化水素系溶剤、アルコール系溶剤、エーテル系溶剤、ケトン系溶剤、プロピオン酸系溶剤、或いはこれらの混合溶剤等が挙げられる。後述する樹脂フィルムと接する層を形成する場合には、これらの中でも該樹脂フィルムを浸食しない溶剤を選択することが好ましい。
【００３０】
アクリル系モノマーを含む光硬化性樹脂組成物は、紫外線照射により硬化させることができる。紫外線照射の光源としては、高圧水銀灯、メタルハライドランプ等が使用される。照射エネルギー量は、通常１５０〜２０００ｍＪ／ｃｍ2、好ましくは２５０〜１０００ｍＪ／ｃｍ2の範囲から選択される。このような紫外線を照射することにより、該組成物からなる膜は数秒で硬化するため、生産性の点で好ましい。以下、このような光硬化性樹脂組成物を紫外線硬化性樹脂と称することがある。
【００３１】
本発明においては、記録層は光により記録が行え導波路ホログラムを形成できるものであれば材質は問わず、有機色素、感光性樹脂（フォトポリマー）などの有機物を含有する層が好適に用いうるが、記録性能を考慮すれば記録可能な有機色素が好ましい。
以下では有機色素を含有する記録層（以下、色素記録層を称することがある。）を例に説明を行う。
【００３２】
本発明において、色素記録層は、樹脂製コア層又は前記樹脂製クラッド層に隣接して設けられる。具体的な積層例としては、（Ａ）樹脂製クラッド層／樹脂製コア層／色素記録層／樹脂製クラッド層、（Ｂ）樹脂製クラッド層／色素記録層／樹脂製コア層／樹脂製クラッド層、或いは（Ｃ）樹脂製クラッド層／色素記録層／樹脂製クラッド層、などが挙げられる。（Ａ）〜（Ｃ）はそれぞれ一つの光導波部材を形成しており、記録層に光記録が行われたのち、記録情報に応じた再生像（ホログラム像）を形成することとなる。良好な記録再生特性を得る上では、（Ａ）又は（Ｂ）の構成のほうが光導波部材として好ましい。
【００３３】
樹脂製コア層及び樹脂製クラッド層の形成方法には特に制限はないが、通常、樹脂フィルムなどの基体上に、コア材又はクラッド材を塗布したのち、乾燥、硬化させて形成される。塗布方法は常法を用いればよいが、例えばダイコーター、マイクログラビア、バーコータ等が適用できる。
なお、コア層，クラッド層の膜厚については、コア層，クラッド層が光導波路として機能するだけの膜厚であればよく、例えばコア層は通常１０μｍ以下であり、更に、使用光波長域が可視光の波長域であればおおよそ１〜５μｍ程度になると考えられる。
【００３４】
クラッド層の膜厚に関しては特に制限は無いが、全体の厚みを薄くすることを考慮すれば、１００μｍ以下にするのが好ましい。あえて下限を規定するなら０．１μｍ以上になると思われる。通常、５μｍ以上設ける。
前述の通り、色素記録層の上に樹脂製コア層／樹脂製クラッド層を形成する際に、特に、塗布液が記録層中に拡散、浸透する等の混和現象が起こりやすい。従って、少なくとも色素記録層の上に形成されるべき層の塗布液に対して難溶性、具体的には塗布液に含まれる溶媒やモノマーに対して難溶性であるのが好ましい。
【００３５】
上記光導波部材（Ａ）〜（Ｃ）同士を、更に積層して複数の記録可能な層を有する光メモリ素子としてもよい。本発明によれば、コア層及びクラッド層を樹脂製にすることができ、多層構造を簡易に形成できるので、限られた体積で大容量の情報を記録再生できる光メモリ素子を容易、且つ、安価に実現できる。
或いは、ＲＯＭ型の多層光メモリ素子に、光導波部材（Ａ）〜（Ｃ）を積層してもよい。これによれば、ＲＯＭ型光メモリ素子において、記録可能な記録層を設けるので、複製防止（特に、不正コピー防止）やソフトウェアの不正使用防止等の著作権保護に利用可能な情報、シリアル番号等のような一枚一枚異なる情報等を書き込めるようにでき、また、アップデートに必要なデータや正誤表データのような情報等を追記できる。
【００３６】
これにより、例えば同一のコンテンツデータを光メモリ素子に書き込んで大量複製する場合であっても、例えばシリアル番号等のような一枚一枚異なる情報はコンテンツデータとは別に書き込めるようになる。
また、複製防止（特に、不正コピー防止）やソフトウェアの不正使用防止等の著作権保護に利用可能な情報として、著作権情報、ＩＤ情報、暗号化に際して用いられるキー情報等の情報を光メモリ素子に書き込んで、保護管理することができるようになる。このような記録層を設けることで、例えばＲＯＭ型光メモリ素子の製造後に記録層にＩＤ情報等の情報を書き込むことができるようになる。
【００３７】
特に、光メモリ素子の製造後に記録層にＩＤ情報を記録すれば、一つ一つの光メモリ素子を識別可能となる。なお、ＩＤ情報は一般に情報量が少ないので、記録層の記録可能密度が低くても記録することができる。さらに、アプリケーションソフトをアップデートするためのデータ（情報）や正誤表データのようなデータ（情報）を、ユーザー側（例えば出荷先）で追記情報として書き込めるようになる。
【００３８】
次に、記録層の好ましい構成について詳述する。
本発明において記録層は、記録可能な色素を含有するのが好ましく、更に、成膜が容易であることから有機色素が好ましい。
構造上の制限は特にないが、具体的には、含金属アゾ系色素、ベンゾフェノン系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
【００３９】
特に含金属アゾ系色素が記録感度に優れ、かつ耐光性、耐環境性に優れるため好ましい。
中でも、下記一般式（Ｉ）で表される含金属アゾ系色素は、樹脂製コア層／樹脂製クラッド層を形成するための塗布液（コア材、クラッド材）、特にアクリレート系モノマーを適当量含有する未硬化の硬化性樹脂組成物に対して難溶性であるため好ましい。
【００４０】
【化４】
0003985534.tif 000003
【００４１】
上記式中、環Ａは置換基を有していても良い芳香族複素環を表す。環Ｂは芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらに飽和環が縮合してなる環を表し、これらはいずれも−Ｏ-の他に置換基を有していてもよい。Ｍは２価以上の金属イオンを表し、ｎはＭの価数を表す。また、Ｘ-はカウンターアニオンを表し、ｍはＸ-の個数を表し、ｍ＝ｎ−２である。但し、ｎ＝２の時、ｍ＝０、すなわちカウンターアニオンを有さない。
【００４２】
これは、環Ｂが−Ｏ-なる置換基を有するために極性が比較的高く、このため上記塗布液（コア材、クラッド材）、特にアクリレート系モノマーを適当量含有する未硬化の硬化性樹脂組成物に対して難溶性となるものと推測される。
一般式（Ｉ）において、環Ａは芳香族複素環であり、これらの複素環は置換基を有していてもよい。環Ａとしては５員環および／または６員環が、１つないし３つ縮環した構造が好ましく、単環または２縮合環がより好ましい。具体的には下記の構造が挙げられる。
【００４３】
【化５】
0003985534.tif 000004
【００４４】
同一環構造中のＲ1 は全て同じでも、異なっていてもよく、水素原子、炭素数１から６の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３から６の環状アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数２から７のアルキルカルボニル基、炭素数２から６の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数３から６の環状アルケニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１から６のヒドロキシアルキル基、炭素数２から７のアルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、炭素数１から６のアルキルアミノ基、炭素数２から１２のジアルキルアミノ基、炭素数３から７のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数１から６のアルキルスルホニル基、置換基を有してもよい炭素数６から１６のアリール基、置換基を有してもよい炭素数７から１７のアリールカルボニル基、
−ＣＲ2 ＝Ｃ（ＣＮ）Ｒ3 
（Ｒ2 は水素原子または炭素数１から６のアルキル基を表し、Ｒ3 はシアノ基または炭素数２から７のアルコキシカルボニル基を表す。）
【００４５】
【化６】
0003985534.tif 000005
【００４６】
（Ｒ4 からＲ6 はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ基、ハロゲン原子、炭素数１から６の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３から６の環状アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基を表す。）
【００４７】
【化７】
0003985534.tif 000006
【００４８】
（Ｒ7 からＲ9 はそれぞれ独立して水素原子、ニトロ基、フッ素原子、ハロゲン原子、炭素数１から６の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３から６の環状アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基を表し、Ｌは−ＳＣＨ2−、−ＳＯ2−を表す。）、
炭素数１から６のハロゲン化アルキル基、炭素数１から６のハロゲン化アルコキシ基、炭素数１から６のハロゲン化アルキルチオ基などを表す。）
を表す。
【００４９】
置換基Ｒ1 として挙げたもののうち好ましい基は、水素原子、無置換のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルチオ基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、アルケニル基、ホルミル基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子である。
【００５０】
環Ａの構造として特に好ましくは、下記式（ＩＩＩ）で表される構造である。
【００５１】
【化８】
0003985534.tif 000007
【００５２】
上記環が有していても良い置換基Ｒ1は前述した基を表し、好ましい基も前述と同様である。
一般式（Ｉ）において、環Ｂは芳香族炭化水素環、芳香族複素環、またはこれらに飽和環が結合してなる環であり、これらはいずれも置換基を有していてもよい。
【００５３】
芳香族炭化水素環および芳香族複素環としては、５または６員環の、単環または２縮合環が好ましい。これらに飽和環が縮合してなる環としては、上記した芳香族環に、飽和５員環または飽和６員環が、１または２個縮合してなる環が挙げられる。
具体的には、芳香族炭化水素環としてはベンゼン環、ナフタレン環などが挙げらる。ピラゾール環やビリドン環などが挙げられる。これらの芳香族環に飽和環が縮合してなる環については後述する。
【００５４】
環Ｂとして、より好ましくはベンゼン環またはベンゼン環に飽和環が縮合してなる環であり、特に下記一般式（ＩＶ）
【００５５】
【化９】
0003985534.tif 000008
【００５６】
で表される構造が好ましい。
式中、ベンゼン環Ｇは−Ｏ-およびＮＲ10Ｒ11以外の置換基を有していてもよい。
Ｒ10およびＲ11は、▲１▼各々独立に後述する基を表すか、▲２▼互いに結合して環を形成するか、▲３▼各々、環Ｇを構成する炭素原子と結合し、環Ｇに縮合する飽和環を形成する。
【００５７】
上記▲１▼の場合、Ｒ10およびＲ11は各々独立に、水素原子、炭素数１から６の直鎖または分岐の置換基を有していてもよいアルキル基、炭素数６から１８の置換基を有していてもよいアリール基、炭素数２から６の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数３から６の環状アルケニル基、または炭素数３から６の置換基を有していてもよい環状アルキル基などを表す。
【００５８】
かかるアルキル基、アリール基、アルケニル基、環状アルケニル基、環状アルキル基は、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数２から１２のアルコキシアルコキシ基、炭素数３から１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、炭素数６から１８のアリール基、炭素数６から１８のアリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシル基、テトラヒドロフリル基、炭素数１から６のアルキルアミノ基、炭素数１から１２のジアルキルアミノ基、炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基、ハロゲン原子、炭素数２から７のアルコキシカルボニル基、炭素数２から７のアルキルカルボニルオキシ基、などで置換されていてもよい。
【００５９】
これらのなかで、Ｒ10およびＲ11として特に好ましいのは無置換の直鎖または分岐のアルキル基またはハロゲンで置換されたアルキル基である。
一般式（ＩＶ）においてベンゼン環Ｇは、ＮＲ10Ｒ11のほかに置換基を有していてもよく、該置換基としては、炭素数１から６の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、炭素数１から６のアルキルスルホニル基、炭素数２から７のアルコキシカルボニル基、チオシアナート基などが挙げられる。
【００６０】
これらベンゼン環Ｇの置換基として特に好ましくは、無置換の直鎖または分岐のアルキル基または無置換のアルコキシ基である。
前記▲２▼の場合、すなわちＲ10とＲ11が互いに結合して含窒素複素環を形成する場合、該環は飽和環であっても、不飽和基を含む環であってもよいが、好ましくは飽和環である。また環の大きさは、好ましくは５〜７員環、より好ましくは５または６員環である。
【００６１】
具体的には、例えば下記の基が挙げられる。
【００６２】
【化１０】
0003985534.tif 000009
【００６３】
式中、Ｒ13は後述するＲ12と同様の基を表し、好ましい基としてもＲ12と同様の基が挙げられる。
一般式（ＩＶ）において、Ｒ10および／またはＲ11がベンゼン環Ｇと縮合する環を形成する場合、すなわち前述▲３▼の場合、環の大きさは５員環または６員環が好ましく、６員環が特に好ましい。また、飽和環と不飽和環では、飽和環が好ましい。具体的には下記のような構造が挙げられる。
【００６４】
【化１１】
0003985534.tif 000010
【００６５】
窒素上の置換基Ｒ12は水素原子、炭素数１から６の直鎖または分岐の、置換基を有していてもよいアルキル基、炭素数６から１８の置換基を有していてもよいアリール基を表し、好ましくは、炭素数１から６の直鎖または分岐のアルキル基である。
かかるアルキル基またはアリール基は、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数２から１２のアルコキシアルコキシ基、炭素数３から１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基、アリルオキシ基、炭素数６から１８のアリール基、炭素数６から１８のアリールオキシ基、シアノ基、ニトロ基、ヒドロキシ基、テトラヒドロフリル基、炭素数１から６のアルキルアミノ基、炭素数１から１２のジアルキルアミノ基、炭素数１から６のアルキルスルホニルアミノ基、ハロゲン原子、炭素数２から７のアルコキシカルボニル基、炭素数２から７のアルキルカルボニルオキシ基、などで置換されていてもよい。
【００６６】
これらＲ12のなかで特に好ましいのは無置換の直鎖または分岐のアルキル基、ハロゲン原子またはアルケニル基で置換されたアルキル基である。
環Ｂへの、−Ｏ-およびＲ12以外の置換基としては、炭素数１から６の直鎖または分岐のアルキル基、炭素数３から６の環状アルキル基、炭素数１から６のアルコキシ基、炭素数２から７のアルキルカルボニル基、炭素数２から６の直鎖または分岐のアルケニル基、炭素数３から６の環状アルケニル基、ハロゲン原子、ホルミル基、ヒドロキシル基、カルボキシル基、炭素数１から６のヒドロキシアルキル基、炭素数２から７のアルコキシカルボニル基、ニトロ基、シアノ基、アミノ基、炭素数１から６のアルキルアミノ基、炭素数１から１２のジアルキルアミノ基、炭素数３から７のアルコキシカルボニルアルキル基、炭素数１から６のアルキルチオ基、炭素数１から６のアルキルスルホニル基、置換基を有してもよい炭素数６から１６のアリール基、置換基を有してもよい炭素数７から１７のアリールカルボニル基、などが挙げられる。
【００６７】
これら環Ｂ置換基の中で、特に好ましいものは無置換の直鎖または分岐のアルキル基、ハロゲンで置換されたアルキル基である。
本発明の含金属アゾ系色素を構成する金属イオンＭn+としては、２価以上（ｎ≧２）ならば特に制限はない。なおここで「金属」とは、長周期型周期表においてホウ素とアスタチンを結ぶ線の左側に位置するもの、すなわち水素を除くＩ族（アルカリ金属および銅族）、ＩＩ族（アルカリ土類金属および亜鉛族）、ホウ素を除くＩＩＩ族、炭素とケイ素を除くＩＶ族、ＶＩＩＩ族（鉄族および白金族）、およびＶ、ＶＩ、ＶＩＩ族の各ａ亜族に属する元素と、アンチモン、ビスマス、ポロニウムを意味する（岩波書店理化学辞典第３版増補版Ｐ３３９参照）。金属Ｍとして好ましくは、Ｍｇ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｒｕ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ｉｎ、Ｓｎ、Ｈｆ、Ｏｓ、Ｐｔ、またはＨｇであり、中でもＮｉ、Ｃｏ、Ｚｎ、Ｆｅ、Ｃｕ、Ｐｄがより好ましく、Ｃｏが特に好ましい。なお、これらを金属イオンＭn+として表記すれば、Ｃｏ3+、Ｎｉ2+、Ｚｎ2+、Ｆｅ2+、Ｃｕ2+、Ｐｄ2+である。
【００６８】
中でも、金属イオンとしては価数が３価以上のものが好ましく、Ｃｏ3+が特に好ましい。これにより含金属アゾ系色素がカウンターアニオンＸ-を含む構造、すなわち塩に近い構造となるため非極性液体に対する溶解性が低くなり、塗布液（コア材、クラッド材）、特にアクリレート系モノマーを適当量含有する未硬化の硬化性樹脂組成物に対して難溶性が増すと推測される。
【００６９】
本発明の含金属アゾ系色素を構成するカウンターアニオンＸ-としては、１価のアニオンであれば特に制限はないが、例えばＣｌ-、Ｉ-、Ｂｒ-などのハロゲンイオンやＣｌＯ4-、ＢＦ4-、ＰＦ6-などを用いることができる。但し、金属イオンが２価の場合には、カウンターアニオンを有さない。
さらに、本発明の含金属アゾ系色素はデータ（情報）の記録に使用されるレーザー光などの光に対して適度な吸収を持つことが好ましく、例えば３００〜９００ｎｍに吸収ピークを有するものが望ましい。使用される光の波長に従って適切な吸収ピーク波長を持つ色素が選択される。例えば、通常ＣＤ−Ｒに用いられるような波長７７０〜８３０ｎｍ程度の近赤外レーザーや、ＤＶＤ−Ｒに用いられるような波長６２０〜６９０ｎｍ程度の赤色レーザー、あるいは波長４１０ｎｍや５１５ｎｍなどのいわゆる青色レーザーなどに対応した吸収ピーク波長を持つ色素が選択される。なお、色素を適宜選択したり組み合わせることによって、複数の波長域でのレーザー光による記録に対応する光メモリ素子とすることもできる。
【００７０】
より好ましくは、下記一般式（ＩＩ）で表される含金属アゾ系色素は、樹脂製コア層／樹脂製クラッド層を形成するための塗布液（コア材、クラッド材）に対する溶解度が著しく小さく特に好ましい。
【００７１】
【化１２】
0003985534.tif 000011
【００７２】
上記式中、Ｍ、Ｘ-、ｍおよびｎは前記一般式（Ｉ）におけると同義である。また環Ｇ、Ｒ10およびＲ11は前記式（ＩＶ）におけると同義である。
また、置換基Ｒ0は、水素原子、無置換のアルキル基、ハロゲン化アルキル基、アルキルチオ基、無置換のアルコキシ基、ハロゲン化アルコキシ基、アルケニル基、ホルミル基、カルボキシル基、アルキルカルボニル基、アルコキシカルボニル基、シアノ基、ニトロ基またはハロゲン原子を表す。特にフッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などのハロゲン原子、ニトロ基、ハロゲン化アルキル基などの電子吸引性基とすることで、吸収極大波長を短波長化でき好ましい。
【００７３】
また、記録層の安定性や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えばアセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン）などを含有させてもよく、また記録感度向上のために金属系化合物などの記録感度向上剤を含有させてもよい。
【００７４】
ここで金属系化合物とは、遷移金属などの金属が原子、イオン、クラスターなどの形で化合物に含まれるものを言い、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００７５】
さらに記録層は、必要に応じてバインダー、レベリング剤、消泡剤等を含んでいても良い。好ましいバインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルアセテート、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００７６】
記録層の成膜方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法など一般に行われている薄膜形成法で製膜することができるが、量産性、コスト面からはスピナー法が好ましい。この場合、色素の塗布溶媒への溶解性を考慮する必要がある。また厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法より真空蒸着法の方が好ましい。
【００７７】
スピナー法による製膜の場合、回転数は１０〜１５，０００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、場合によっては、加熱あるいは溶媒蒸気にあてるなどの処理を行ってもよい。
ドクターブレード法、キャスト法、スピナー法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板及び樹脂製コア層／樹脂製クラッド層を侵さない侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタノール、ヘキサフルオロブタノール等のフルオロアルキルアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、２−ヒドロキシイソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒；ジイソプルピルエーテル、ジブチルエーテルなどのエーテル系溶媒、などが挙げられる。
【００７８】
真空蒸着法の場合は、例えば色素と、必要に応じて他の色素や各種添加剤等の記録層成分を、真空容器内に設置されたるつぼに入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０-2〜１０-5Ｐａ程度にまで排気した後、るつぼを加熱して記録層成分を蒸発させ、るつぼと向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
【００７９】
記録層の膜厚は該層に含まれる色素等の化合物の性質によっても異なるが、通常１０ｎｍ以上である。あまり薄いと良好な記録が行えず、十分な記録再生特性が得られない虞がある。より好ましくは３０ｎｍ以上である。但し、通常は５μｍ以下である。あまり薄いと、光透過性が悪く、再生時に十分な光量が得られない虞がある。より好ましくは３μｍ以下である。
【００８０】
以下、本発明の一実施形態に関わる光メモリ素子について、図面を参照しながら詳細に説明する。
（第１実施形態の説明）
まず、本発明の第１実施形態にかかる光メモリ素子の構成及び光メモリ素子の記録方法について、図１〜図４を参照しながら説明する。
【００８１】
本実施形態にかかる光メモリ素子はＲＯＭ型光メモリ素子に記録可能な記録層を設けた構成からなる。まず、図４に示すように、樹脂製クラッド層３，樹脂製コア層２，樹脂製クラッド層３からなる光導波部材３２３を複数個積層した積層体を備えるものを構成する。なお、ここでは、樹脂フィルム４も貼り付けたものとしている。
【００８２】
ここで、光導波部材３２３は、樹脂製コア層２と、樹脂製コア層２の両面に積層された樹脂製クラッド層３とからなり、かつ、樹脂製コア層２と樹脂製クラッド層３との界面の少なくとも一方に凹凸部（情報用凹凸部）５を有する。
以下、このような光メモリ素子１０を構成する積層体の製造方法について説明する。
【００８３】
始めに、図３（Ａ）に示すように、表面に結像させたい画像（情報）に応じた所望の凹凸パターン（凹凸形状；ピット）の刻まれたスタンパ１上に、所定の膜厚となるようにコア材（液状コア樹脂）２′を塗布する。このコア材２′には、本実施形態では、紫外線（ＵＶ光）を照射することにより硬化する紫外線硬化性樹脂剤から成るものを使用し、このようにスタンパ１へ塗布した後、紫外線を照射して完全に硬化させることで樹脂製のコア層２′を形成する。
【００８４】
次に、このようにコア材２′を完全硬化させた後、図３（Ｂ）に示すように、その上に、コア層２′よりも屈折率の小さい紫外線硬化性樹脂剤から成るクラッド材（液状クラッド樹脂）３ａ′を塗布し、紫外線照射により硬化させてコア層２′よりも屈折率の小さい樹脂製クラッド層３ａ′を形成する。
その後、図３（Ｃ）に示すように、上記のクラッド層３ａ′上に、クラッド材３ａ′と同じクラッド材３ｂ′を塗布し、その上から支持体となる樹脂フィルム（樹脂製フィルム部材）４を、例えばローラ等を用いて加圧しながら貼着（ラミネート）していく。つまり、クラッド層３ａ′にクラッド材３ｂ′を介して樹脂フィルム４をラミネートする。
【００８５】
かかる状態で、紫外線を照射してクラッド材３ｂ′を硬化させれば、クラッド層３ａ′と同じ材質のクラッド層３ｂ′が形成されると共に、樹脂フィルム４の接着が行われる。ここで、クラッド層３ａ′，３ｂ′はいずれも同じクラッド材から成るので、１層分のクラッド層３′として機能する。
そして、図３（Ｄ）に示すように、スタンパ１から、上記のコア層２′とクラッド層３′（３ａ′，３ｂ′）と樹脂フィルム４とからなる部材２′３′４を一体に剥離（分離）する。
【００８６】
次に、図３（Ｅ）に示すように、次層の所望の凹凸パターンが刻まれたスタンパ１″上に同様にコア層２″，クラッド層３ａ″をそれぞれ塗布、紫外線照射による硬化により形成する。
その後、図３（Ｆ）に示すように、上記クラッド層３ａ″上に、クラッド材３ａ″と同じクラッド材３ｂ″を塗布し、その上から、上記部材２′３′４を貼着する。紫外線照射により、クラッド材３ｂ″を硬化した後、図３（Ｇ）に示すように、スタンパ１″から、上記のコア層２″とクラッド層３″（３ａ″、３ｂ″）と部材２′３′４とを一体に剥離する。
【００８７】
以上のプロセスを繰り返すことにより、図４に示すような、支持体としての樹脂フィルム４の少なくとも一面に、樹脂製クラッド層３と樹脂製コア層２とからなり、かつ、樹脂製クラッド層３と樹脂製コア層２との界面に凹凸部５を有するクラッド／コア部材が、２以上積層されて積層体が形成される。
ここでは、図４に示すように、クラッド／コア部材はもろいため、支持体としての樹脂フィルム４上に２以上のクラッド／コア部材を積層させているが、さらに樹脂フィルム４を接着して２枚の樹脂フィルム４で挟み込んだ構造としている。なお、樹脂フィルムで挟み込んだ構造としなくても良く、例えば一方の面のみに樹脂フィルムを貼着しても良いし、樹脂フィルムを貼着しなくても良い。
【００８８】
なお、ここでは、樹脂製コア層２と、この樹脂製コア層２の両面に積層された樹脂製クラッド層３とを備え、これらの樹脂製コア層２と樹脂製クラッド層３との界面の少なくとも一方に凹凸部５を設けられたスラブ型光導波路デバイス（光導波部材）３２３を、複数個積層して積層体を形成していると見ることもできる。
【００８９】
この場合、積層される複数の光導波部材３２３は、隣接する２つの光導波部材間で１層のクラッド層を兼用している。このため、例えばクラッド層／コア層／クラッド層／コア層／クラッド層というようにクラッド層及びコア層を５層積層した場合には、２つの光導波部材３２３を積層して積層体を形成したことになる。
【００９０】
なお、本実施形態では、隣接するクラッド層を１層として共通に使用しているが、これに限られるものではなく、クラッド層／コア層／クラッド層の３層積層体（光導波部材）３２３を基本構成とし、複数の光導波部材３２３を樹脂フィルム４等の支持体を挟んで又は挟まずに積層することもできる。また、光導波部材同士を接着剤により積層することもできる。ここで、接着剤としては、例えば硬化後にクラッド層として機能するクラッド材を使用することができる。さらに、支持体としての樹脂フィルム４の裏面側にも同様にクラッド／コア部材を積層したり、他の樹脂層を設けることで、積層体のカールを抑える構成とすることもできる。
【００９１】
また、本実施形態では、光メモリ素子１０を構成するのに、光導波部材３２３を複数個積層して積層体としているが、これに限られるものではなく、１個の光導波部材（クラッド層／コア層／クラッド層の３層積層体）３２３のみで光メモリ素子１０を構成しても良い。
以上の説明において、コア材２には、塗布時には液体で、その後、硬化させることのできる樹脂であればどのような樹脂を適用してもよいが、好適な物質としては、例えば、紫外線硬化性樹脂などの光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等が挙げられる。ただし、上述のごとくスタンパによる転写を行なう場合には、光硬化性樹脂を適用するのが好ましい。
【００９２】
また、上記のクラッド材３は、透明で屈折率がコア材２よりも僅かに小さい物質（樹脂）であれば何でも良いが、各種樹脂製のクラッド材３を塗布すると簡便である。光硬化性樹脂や熱硬化性樹脂等から成るクラッド材３は樹脂フィルム４との接着性に優れ、好適である。
また、コア材２、クラッド材３の塗布方法には、例えば、スピンコート法，ブレードコート法，グラビアコート法，ダイコート法等があるが、塗布膜厚と均一性を満足すればどのような塗布方法を用いてもよい。
【００９３】
ここで、光導波部材３２３を積層してなる積層体の厚さは、強度を得るために約０．３ｍｍ以上とするのが好ましい。より好ましくは約０．５ｍｍ以上である。ただし、光カード等の光メモリ（情報記録媒体）としての携帯性を考慮すると約５ｍｍ以下とするのが好ましい。より好ましくは約３ｍｍ以下である。
本実施形態において、支持体は、積層体（光メモリ素子１０）を保持する支持体として機能しうる物質であれば樹脂，金属など各種のものが用いられるが、製造工程上、貼着（ラミネート）を行うなど柔軟性が要求される場合は、樹脂製の支持体とするのが好ましい。各種の硬化性樹脂を塗布後硬化させたり、樹脂を溶剤に溶かして塗布し乾燥させたりして樹脂製支持体としてもよいが、樹脂フィルム４を用いると、スタンパ１上への貼着、剥離を繰り返して行ないやすく、生産性、作業性の点で好ましい。
【００９４】
樹脂フィルム４には、具体的には、ポリカーボネート，アートン（ＪＳＲ社製）などの非晶質ポリオレフィン，ＰＥＴ（ポリエチレンテレフタレート），ＰＥＮ（ポリエチレンナフタレート）等の光学特性に優れる（ＰＥＮはさらに耐熱性にも優れる）熱可塑性の樹脂フィルムが好適（特に、上記のＰＥＴやＰＥＮはいずれも均一な厚みのフィルムを得られやすいので好適）で、これらのいずれかを熱延伸或いは溶媒キャスト等の方法で、例えば１００μｍ以下の厚さにしたものがよい。
【００９５】
また、一般に樹脂フィルム４は、その製造工程で、無機粒子等の光学的には散乱体として機能するものがフィルム内に混入される。フィルム内の散乱体による光の散乱が信号の読み取りに際し問題になる場合、フィルムの片面にのみクラッド／コア部材が積層されている態様であれば、フィルムとして遮光性フィルムを用いるか、もしくはフィルムとクラッド／コア部材の間に遮光膜を設けることが好ましい。これにより、樹脂フィルム内への光の伝搬、もしくはフィルム内での散乱光の信号光への干渉を防ぐことができる。
【００９６】
この場合、支持体そのものを遮光性とすることが、光メモリ素子１０の小型化が図れ、製造工程も簡素化できるためより好ましい。
ここで、上記遮光性フィルム及び遮光膜としては、例えばカーボンを樹脂中に練りこんだり、色素を添加したりして作製したＰＥＴフィルムなどが挙げられる。なお、該遮光フィルムまたは該遮光膜が作用する波長域については、再生に用いる導入光（入射光，再生光）の波長を遮光することができれば十分であり、可視光域全てを遮光する必要はない。遮光性能については、フィルム厚さ方向で、９０％以上の光を遮断することができればよいが、９９％以上の光を遮断することができればより望ましい。
【００９７】
なお、コア層２，クラッド層３の膜厚については、コア層２，クラッド層３が光導波路として機能するだけの膜厚であればよく、例えばコア層２は通常１０μｍ以下であり、更に、使用光波長域が可視光の波長域であればおおよそ１〜５μｍ程度になると考えられる。
クラッド層３の膜厚に関しては特に制限は無いが、全体の厚みを薄くすることを考慮すれば、１００μｍ以下にするのが好ましい。あえて下限を規定するなら０．１μｍ以上になると思われる。通常、５μｍ以上設ける。
【００９８】
クラッド層３は上記説明のように２層に分けて形成するのが、膜厚が安定して好ましいが、１層として形成してもよい。
また、上記では、樹脂フィルム４として、枚葉のフィルムを用いた方式を説明したが、連続フィルムによる実施も可能である。フィルム上へのコア、クラッド材のダイコーター、マイクログラビア、バーコータ等による塗布、スタンパを加圧した状態でのコア、クラッド材の硬化等のプロセスを組み合わせることにより、支持体上にクラッド／コア部材を積層した構造体を作製することができる。また、スタンパとしてロールに巻き取り可能な形に加工したロールスタンパを用いることにより、スタンパからの転写プロセスの生産性を向上させることも可能である。
【００９９】
上述のごとく構成された光メモリ素子１０では、例えば、光導波路としてのコア層２に入射端面を介して光を導入すると、その導入光が界面の凹凸部分で散乱しながら伝播する。このときの散乱光は導入光に対して上下方向（交差する方向）のそれぞれに伝搬（透過）していき、最終的に光メモリ素子の両面部から外部へ放出され、凹凸パターンに応じた画像が結像することになる。
【０１００】
以上のように、本実施形態によれば、積層されたコア層２とクラッド層３とがいずれも樹脂製で、しかも、凹凸の形成されるコア層（コア材）２に光や熱等で硬化しうる硬化性樹脂を用いているので、従来のようにフォトリソグラフィーを行わなくても、スタンパからの転写によってコア層２とクラッド層３との界面に容易に所望形状の凹凸部５を形成することが可能になる。
【０１０１】
また、クラッド層３の膜厚を例えば１０μｍ程度にすることによって、１００層積層時にも素子の膜厚を１ｍｍ程度に抑えることが可能となり、多層構造の実用的な光メモリ素子１０を製造することが可能となる。従って、多層構造の光メモリ素子１０の大量生産が可能になり、光メモリ素子１０を従来よりも容易に（短期間で）、且つ、安価に提供することができる。
【０１０２】
ところで、本実施形態では、図１に示すように、上述のようにして製造される光導波部材３２３を積層させた積層体に、さらに、樹脂製コア層２Ａと、樹脂製コア層２Ａの両面側に積層された樹脂製クラッド層３，３Ａとを備え、さらに樹脂製コア層２Ａと樹脂製クラッド層３Ａ（又は樹脂製クラッド層３）との間の中間層として記録可能な記録層２０Ａを備える記録部材３０Ａを積層して構成している。
【０１０３】
このように、記録可能な記録層２０Ａを設けてることで、例えば複製防止（特に、不正コピー防止）やソフトウエアの不正使用防止等の著作権保護に利用可能な情報、シリアル番号等のような一枚一枚異なる情報等を書き込め、また、アップデータに必要なデータや正誤表データのような情報等を追記できる。
これにより、例えば同一のコンテンツデータを光メモリ素子１０Ａに書き込んで大量複製する場合であっても、例えばシリアル番号等のような一枚一枚異なる情報はコンテンツデータとは別に書き込めるようになる。
【０１０４】
また、複製防止（特に、不正コピー防止）やソフトウエアの不正使用防止等の著作権保護に利用可能な情報として、著作権情報，ＩＤ情報，暗号化に際して用いられるキー情報等の情報を光メモリ素子１０Ａに書き込んで、保護管理することができるようになる。
このような記録層２０Ａを設けることで、例えば光メモリ素子１０Ａの製造後に記録層２０ＡにＩＤ情報等の情報を書き込むことができるようになる。特に、光メモリ素子１０Ａの製造後に記録層２０ＡにＩＤ情報を記録すれば、一つ一つの光メモリ素子１０Ａを識別可能となる。なお、ＩＤ情報は一般に情報量が少ないので、記録層２０Ａの記録可能密度が低くても記録することができる。
【０１０５】
さらに、アプリケーションソフトをアップデートするためのデータ（情報）や正誤表データのようなデータ（情報）を、ユーザ側（例えば出荷先）で追記情報として書き込めるようになる。
具体的には、記録可能な記録層２０Ａは、特定波長の光の照射により分解、蒸発、融解、変形などの熱的変化が起こり、屈折率が変化する色素からなる色素記録層（光により記録可能な記録層）である。
【０１０６】
ここで、色素記録層２０Ａは、記録前又は記録後の屈折率が、光導波部材３２３のコア層２Ａ又はクラッド層３Ａを構成する樹脂（紫外線硬化性樹脂）の屈折率とほぼ同じであるのが好ましい。また、色素記録層２０Ａに含まれる色素の記録前後の屈折率の変化は、約０．００１〜約０．０２０（特に、約０．０１０）とするのが好ましい。なお、色素記録層２０Ａに含まれる色素の記録後の屈折率は、コア層２Ａ又はクラッド層３Ａと同じでなくても良い。
【０１０７】
特に、記録可能な記録層２０Ａを、情報を１度だけ書き込みうる記録層（ライトワンス型記録層）として構成すると、記録された情報が誤って消去されたり、変更されてしまったりするのを防止できる。また、記録された情報の改ざんを防ぐこともできるため、著作権情報，ＩＤ情報及び暗号化の際に使われるキー情報等の情報の記録には特に好ましい。
【０１０８】
本実施形態では、光導波部材の樹脂製コア層２Ａ上に、有機色素を塗布して色素記録層２０Ａを形成する。
次に、上述の光導波部材のクラッド材３と同じクラッド材３Ａ（紫外線硬化性樹脂材，液状クラッド材）からなる塗布液を所定の膜厚（例えば、完全硬化時に約１５〜約２０μｍ）となるように塗布した後、樹脂フィルム４Ａを載置し、紫外線を照射して完全に硬化させて樹脂製クラッド層３Ａを形成する。
【０１０９】
これにより、光導波部材の最外層（最上層又は最下層）の樹脂製クラッド層３の外側（上側）に、樹脂製コア層２Ａ、色素記録層２０Ａ、樹脂製クラッド層３Ａが順に積層され、光導波部材の樹脂製クラッド層３と樹脂製クラッド層３Ａとの間に樹脂製コア層２Ａ、色素記録層２０Ａが挟み込まれることになる。
このように、樹脂製コア層２Ａ、色素記録層２０Ａを樹脂製クラッド層３，３Ａで挟み込むことにより、光導波部材の樹脂製クラッド層，樹脂製コア層、色素記録層及び樹脂製クラッド層により記録部材（記録可能な記録層を含む記録部材）３０Ａが構成され、この記録部材３０Ａが上述のクラッド層３，コア層２，クラッド層３からなる光導波部材と同様に機能しうるようにしている。
【０１１０】
ここで、樹脂製コア層２Ａと色素記録層２０Ａの膜厚は、合計で通常のＲＯＭ用の記録部材におけるコア層の膜厚程度とするのが好ましい。従って、合計膜厚は通常１０μｍ以下であり、更に、使用光波長域が可視光の波長域であればおおよそ１〜５μｍ程度になると考えられる。
つまり、後述するようにして色素記録層２０Ａにレーザ光を照射することで有機色素の屈折率を変化させて記録した記録マーク２１Ａの情報を再生する際に、上述の光導波部材に記録された情報を再生する場合と同様に、樹脂製クラッド層３，３Ａに挟み込まれた樹脂製コア層２Ａと色素記録層２０Ａに入射光を導入し、その導入光が記録マーク（記録部）２１Ａで散乱しながら伝播する。
【０１１１】
なお、本実施形態では、さらにクラッド層３Ａ上に支持体としての樹脂フィルム４Ａを貼着し、樹脂フィルム４上にクラッド層３やコア層２を積層して形成された光導波部材と、この光導波部材に積層させた記録部材３０Ａとを樹脂フィルム４、４Ａで挟み込むようにしている。
そして、このときの散乱光が導入光に対して上下方向（交差する方向）のそれぞれに伝播（透過）していき、最終的に光メモリ素子１０Ａの両面部から外部へ放出され、記録マーク２１Ａに記録された情報に応じた画像が結像するようになっている。
【０１１２】
このように、記録部材３０Ａを光導波部材の樹脂製クラッド層３，樹脂製コア層２Ａ、色素記録層２０Ａ及び樹脂製クラッド層３Ａにより構成し、上述の光導波部材３２３と同様に構成することで、色素記録層２０Ａに記録マーク２１Ａによって記録された情報を再生するのに、上述の光導波部材３２３において記録情報を再生するのに用いる光学系を共用できるようにしている。
【０１１３】
なお、本実施形態では、記録可能な記録層２０Ａを有機色素により構成しているが、これに限られるものではない。また、記録可能な記録層（記録可能型記録層）２０は、一度だけ書き込みうる追記可能な記録層（追記可能型記録層）として構成しても良いし、記録・消去を繰り返し行ないうる書換可能な記録層（書換可能型記録層）として構成しても良い。
【０１１４】
また、記録可能な記録層２０Ａは、上述のように、光により記録可能な記録層に限られず、例えば電子線やＸ線により記録可能な記録層として構成しても良い。さらに、記録可能な記録層２０Ａは、複数層設けても良いし１層のみでも良い。
ところで、上述のように構成される光メモリ素子１０Ａには、図１に示すように、樹脂製コア層２と樹脂製クラッド層３との両層の界面に設けられる凹凸部５の情報を読み出すための入射光（再生光）を、光導波部材３２３の樹脂製コア層２や記録部材３０Ａの記録層２０Ａへ導くための入射端面（入射光導入端面）１１が形成される。
【０１１５】
ここでは、所望の大きさに切り出された個々の光メモリ素子１０Ａの９０度（光導波部材の表面とのなす角度が９０度）の端面を入射端面（９０度入射端面）１１としている。
なお、入射光を樹脂製コア層２や記録層２０Ａへ導くための入射端面１１は、これに限られるものではなく、種々のものが考えられる。例えば、光メモリ素子１０Ａの一方の端面を４５度（光導波部材の表面とのなす角度が４５度）に切断し、必要に応じて反射膜を形成してミラー端面（傾斜端面，マイクロミラー）とし、このミラー端面を入射端面（４５度入射端面）としても良い。この場合、光メモリ素子１０Ａの表面に対して垂直な方向から、この４５度入射端面に向かって光を入射させ、４５度入射端面で反射させて入射光を樹脂製コア層２や記録層２０Ａへと導くことになる。
【０１１６】
なお、本実施形態にかかる光メモリ素子１０Ａは、上述のように色素記録層２０Ａを含むものとして構成されるため、この色素記録層２０Ａが、実際に情報を記録する時以外の時（例えば搬送中等）に可視光によって感光してしまわないように、光メモリ素子１０Ａの全体を遮光部材で覆い、色素記録層２０Ａへ情報を記録する際に、この遮光部材を除去しうるように構成するのが好ましい。
【０１１７】
ここで、遮光部材は、例えば光メモリ素子を収納するカートリッジやパッケージ等である。
次に、上述のように構成される光メモリ素子１０の色素記録層２０Ａへの情報の記録方法（光メモリ素子の記録方法）について説明する。
つまり、図２（Ａ），（Ｂ）に示すように、上述の光メモリ素子１０Ａの色素記録層２０Ａの情報を記録すべき部分に局所的にレーザ光（記録光）を照射して、その部分の色素記録層の屈折率を変化させることによって、屈折率の変化した記録マーク２１Ａとして情報を記録する。このように、色素記録層２０Ａの情報を記録すべき部分にレーザ光が局所的に照射されると、その部分の屈折率が変化して色素記録層２０Ａに記録マーク（記録部）２１Ａが形成されることになる。
【０１１８】
上述したように、情報記録後には、色素記録層２０Ａの記録マーク２１Ａと樹脂製コア層２Ａとから、光導波部材３２３の樹脂製コア層２に相当するものが構成されるとともに、樹脂製クラッド層３Ａと色素記録層２０Ａの記録マーク２１Ａ以外の部分とから、光導波部材３２３の樹脂製クラッド層３に相当するものが構成され、さらに、樹脂製コア層２Ａと樹脂製クラッド層３Ａとの間に介装される色素記録層２０Ａに凹凸部が形成される。この結果、記録部材３０Ａは、光導波部材３２３と同様の構造を有するものとなる。
【０１１９】
したがって、本実施形態にかかる光メモリ素子及び光メモリ素子の記録方法によれば、複製防止（特に、不正コピー防止）やソフトウエアの不正使用防止等の著作権保護に利用可能な情報、シリアル番号等のような一枚一枚異なる情報等を書き込めるようになり、また、アップデートに必要なデータや正誤表データのような情報等を本来のコンテンツデータとは別に追記できるようになるという利点がある。
【０１２０】
また、色素記録層２０Ａを複数層設ける場合には、各色素記録層２０Ａ毎にレーザ光の焦点の深さ（焦点深度）を変えながら情報を記録することになるが、各色素記録層２０Ａの記録感度の立ち上がりを急激にしておくことで、レーザ光のパワーが弱いとき（即ち、焦点が合ってないとき）には各色素記録層の屈折率が変化しないようにする。これにより、色素記録層２０Ａを複数層設ける場合に、情報を記録したい色素記録層２０Ａ以外の層には情報が記録されないようにすることができる。
【０１２１】
なお、色素記録層２０Ａへの情報の記録方法は、これに限られるものではなく、波長の等しい２つの光(物体光と参照光)を干渉させて物体光の波面を干渉縞として色素記録層２０Ａに記録するようにしても良い。つまり、色素記録層２０Ａに、記録したい情報（像）を形成しうる記録光（物体光）を照射するとともに、色素記録層２０Ａに記録された情報を再生する際に入射される導入光（参照光）を照射することで、これらの記録光と導入光を干渉させて干渉縞を生じさせ、この干渉縞を色素記録層２０Ａに記録するようにしても良い。
【０１２２】
この場合、このようにして色素記録層２０Ａに記録されたホログラムに元の参照光（導入光）と同一条件の光を当てることで、干渉縞による回折現象を生じさせ、元の記録光（物体光）と同一の波面を再生することができ、これにより、色素記録層２０Ａに記録された情報（像）を再生できることになる。
このような記録方法によれば、色素記録層２０Ａに情報を記録する際に、色素記録層２０Ａの全面を一度に照射して情報を記録することができるため、短時間で大きな面積に対して情報を記録できるようになり、効率的に情報記録を行なえるようになる。
【０１２３】
したがって、本実施形態にかかる光メモリ素子及び光メモリ素子の記録方法によれば、複製防止（特に、不正コピー防止）やソフトウエアの不正使用防止等の著作権保護に利用可能な情報、シリアル番号等のような一枚一枚異なる情報等を書き込めるようになり、また、アップデートに必要なデータや正誤表データのような情報等を本来のコンテンツデータとは別に追記できるようになるという利点がある。
【０１２４】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はその要旨を超えない限りこれらに限定されるものではない。
〔実施例１〕
厚さ０．６ｍｍのポリカーボネート基板上にクラッド材、コア材の塗布、紫外線硬化を繰り返して、樹脂製クラッド層（厚み１５μｍ）、樹脂製コア層（厚み２μｍ）の順に積層した。
【０１２５】
クラッド層形成用塗布液（クラッド材）の組成は以下の通りである。粘度は２５０ｃｐｓ、硬化後の屈折率は１．５１２０（波長６８０ｎｍにおいて）であった。
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート              ４０重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート              ２０重量部
ウレタン系アクリレート                       ４０重量部
コア層形成用塗布液（コア材）の組成は以下の通りである。粘度は３１ｃｐｓ、硬化後の屈折率は１．５２０４（波長６８０ｎｍにおいて）であった。
【０１２６】
１，６−ヘキサンジオールジアクリレート              ４０重量部
トリメチロールプロパントリアクリレート              ２０重量部
ジシクロペンタジエニルジアクリレート         ２０重量部
ビスフェノールＦエトキシ変性ジアクリレート          ２０重量部
次に、下記化合物Ａ（含金属アゾ系色素）０．３ｇをオクタフルオロペンタノール２０ｇに溶解し、孔径２２０ｎｍのフィルターで濾過し、色素溶液を得た。この溶液を上記樹脂製コア層上に滴下し、スピナー法により塗布した。
【０１２７】
【化１３】
0003985534.tif 000012
【０１２８】
塗布後、１００℃で３０分間乾燥し記録層（厚み１２０ｎｍ）を形成した。記録層の最大吸収波長は６１３ｎｍであった。
更に、クラッド層形成用塗布液（クラッド材）をスピンコートして塗膜を形成した後紫外線を照射し、硬化させて樹脂製クラッド層（厚さ１５μｍ）とし、光メモリ素子を得た。上記化合物Ａのクラッド層形成用塗布液（クラッド材）に対する溶解度は０．０４８％であった。
【０１２９】
この光メモリ素子に対し、ＱスイッチＮｄ：ＹＡＧレーザーの第２高調波である波長５３２ｎｍのレーザー光（Ｓｐｅｃｔｒａ  Ｐｈｙｓｉｃｓ社、出力１００ｍＪ、繰り返し周波数１０Ｈｚ、パルス幅１０ｎｓｅｃ、ビーム径約１０ｍｍ）を、ピームスプリッターで強度比１：１に分割して２光束干渉法（角度５５゜）で照射して記録を行ったところ、記録層表面に直径１０ｍｍの円形の干渉縞が形成された。
【０１３０】
この干渉縞を、原子間力顕微鏡（Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ社Ｎａｎｏ  ＳｃｏｐｅＩＩＩａ）で測定したところ、周期０．６５μｍ、深さ５２ｎｍであった。この干渉縞が形成された部分に波長６３３ｎｍのＨｅ−Ｎｅレーザーを照射して回折効率を測定したところ、２．１９％の値が得られた。
〔実施例２〕
上記化合物Ａ０．３ｇに代えて、化合物Ａ０．１５ｇとポリビニルアセテート０．１５ｇをオクタフルオロペンタノール２０ｇに溶解した以外は実施例１と同様にして、光メモリ素子を作製した。記録層の厚みは１２０ｎｍであり、最大吸収波長は６２４ｎｍであった。この光メモリ素子を同様にして記録を行ったところ記録層表面に直径１０ｍｍの干渉縞が形成され、その回折効率は１．６１％であった。
【０１３１】
〔実施例３〕
化合物Ａ０．３ｇに代えて下記化合物Ｂ（含金属アゾ系色素）０．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして、光メモリ素子を作製した。
【０１３２】
【化１４】
0003985534.tif 000013
【０１３３】
化合物Ｂのクラッド層形成用塗布液（クラッド材）に対する溶解度は０．０４３％であった。記録層の厚みは１２０ｎｍであり、最大吸収波長は６３１ｎｍであった。この光メモリ素子を同様にして記録を行ったところ記録層表面に直径１０ｍｍの干渉縞が形成された。
実施例３の回折効率データは無い
〔比較例１〕
化合物Ａ０．３ｇに代えて下記化合物Ｃ（含金属アゾ系色素）０．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして、光メモリ素子を作製した。
【０１３４】
【化１５】
0003985534.tif 000014
【０１３５】
化合物Ｃのクラッド層形成用塗布液（クラッド材）に対する溶解度は０．２８％であった。記録層の厚みは１２０ｎｍであり、最大吸収波長は６４９ｎｍであった。
しかしながら、色素記録層上に塗布液をスピンコートして樹脂製クラッド層を作製する際に、化合物Ｃの色素が塗布液に溶けだし、良好な光メモリ素子を作製できなかった。また、この光メモリ素子に対し実施例１と同様に記録を行ったところ、干渉縞は形成されなかった。
【０１３６】
〔比較例２〕
化合物Ａ０．３ｇに代えて下記化合物Ｄ（含金属アゾ系色素）０．３ｇを用いた以外は実施例１と同様にして、光メモリ素子を作製した。
【０１３７】
【化１６】
0003985534.tif 000015
【０１３８】
化合物Ｄのクラッド層形成用塗布液（クラッド材）に対する溶解度は０．６１％であった。記録層の厚みは１２０ｎｍであり、最大吸収波長は６０６ｎｍであった。
しかしながら、色素記録層上に塗布液をスピンコートして樹脂製クラッド層を作製する際に、化合物Ｄが塗布液に溶けだし、良好な光メモリ素子を作製できなかった。また、この光メモリ素子に対し実施例１と同様に記録を行ったところ、干渉縞は形成されなかった。
【０１３９】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、記録層に使用する色素材料が樹脂製コア層または樹脂製クラッド層の作製時における色素の樹脂製コア層または樹脂製クラッド層への拡散、樹脂製コア層または樹脂製クラッド層作製用塗布液の色素記録層への拡散、浸透などの混和現象を防止できる。従ってコア層／クラッド層を樹脂材料により構成することができ、光メモリ素子を容易かつ安価に作製することができるのである。
【０１４０】
更に、光メモリ素子を作製する際に、混和を防止する障壁層などを設ける必要がなく、作製工程が簡略化されるので、記録特性の良好な光メモリ素子を簡便かつ安価に提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態にかかる光メモリ素子の全体構成を示す模式的断面図である。
【図２】本発明の第１実施形態にかかる光メモリ素子の記録方法を説明するための模式的断面図であって、（Ａ）は記録前の状態、（Ｂ）は記録後の状態をそれぞれ示している。
【図３】（Ａ）〜（Ｇ）は、本発明の第１実施形態にかかる光メモリ素子を構成する積層体の製造方法を説明するための模式的断面図である。
【図４】本発明の第１実施形態にかかる光メモリ素子を構成する積層体の積層構造の一例を説明するための模式的断面図である。
【図５】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するための模式的斜視図である。
【図６】従来の光メモリ素子の動作原理を説明するための模式的斜視図である。
【符号の説明】
１  スタンパ
２，２Ａ  コア層
３，３Ａ  クラッド層
４，４Ａ  樹脂フィルム（支持体）
５  凹凸部
１０，１０Ａ  光メモリ素子
１１  入射端面
２０Ａ  記録層
２１Ａ  記録マーク
３０Ａ  記録部材
４０  ＣＣＤ受像機
３２３  光導波部材
【図１】
0003985534.tif 000018
【図２】
0003985534.tif 000019
【図３】
0003985534.tif 000020
【図４】
0003985534.tif 000021
【図５】
0003985534.tif 000022
【図６】
0003985534.tif 000023