(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
外部雰囲気中に開放された溶液を溜めるためのリザーバと、上記リザーバに一端部を接続されて該一端部より流入した上記溶液を他端部より流出させるための密閉構造の流路と、上記流路中に試料を導入するための上記流路の途中に鉛直上方に設けられた開口部と、上記流路の上記他端部側の圧力を上記リザーバの外部圧力よりも減圧するための減圧系とを有してなることを特徴とする試料導入装置。
【請求項２】
溶液を溜めるためのリザーバと、上記リザーバに一端部を接続されて該一端部より流入した上記溶液を他端部より流出させるための密閉構造の流路と、上記流路中に試料を導入するための上記流路の途中に鉛直上方に設けられた開口部と、上記流路の上記他端部側の圧力を上記リザーバの外部圧力よりも減圧するための減圧系とを有してなり、上記リザーバは大気圧雰囲気内に開放されており、上記雰囲気内の圧力と上記減圧系によって上記雰囲気内の圧力よりも減圧された上記流路の上記他端部側の圧力との間の圧力差により上記リザーバから上記流路中に流入した上記溶液が上記流路の上記他端部まで流され、この溶液の流れにより上記開口部から上記流路中に導入された試料が上記流路の上記他端部まで輸送されるように構成されてなることを特徴とする試料導入装置。
【請求項３】
外部雰囲気中に開放された溶液を溜めるためのリザーバと、上記リザーバに一端部を接続されて該一端部より流入した上記溶液を他端部より流出させるための密閉構造の流路と、上記流路中に試料を導入するための上記流路の途中に鉛直上方に設けられた開口部と、上記流路の上記他端部にガスを流すことにより上記流路の上記他端部より流出した上記溶液を噴霧するガス噴霧器とを有してなることを特徴とする試料導入装置。
【請求項４】
溶液を溜めるためのリザーバと、上記リザーバに一端部を接続されて該一端部より流入した上記溶液を他端部より流出させるための密閉構造の流路と、上記流路中に試料を導入するための上記流路の途中に鉛直上方に設けられた開口部と、上記流路の上記他端部にガスを流すことにより上記流路の上記他端部より流出した上記溶液を噴霧するガス噴霧器とを有してなり、上記リザーバは大気圧雰囲気内に開放されており、上記雰囲気内の圧力と上記ガス噴霧器による上記ガスの流れによって上記雰囲気内の圧力よりも減圧された上記流路の上記他端部側の圧力との間の圧力差によって上記リザーバから上記流路中に流入した上記溶液が上記流路の上記他端部まで流され、この溶液の流れにより上記開口部から上記流路中に導入された試料が上記流路の上記他端部まで輸送され上記ガス噴霧器によって上記溶液と共に噴霧されるように構成されてなることを特徴とする試料導入装置。
【請求項５】
外部雰囲気中に開放された溶液を溜めるためのリザーバと、上記リザーバに一端部を接続されて該一端部より流入した上記溶液を他端部より流出させるための密閉構造の流路と、上記流路中に試料を導入するための上記流路の途中に鉛直上方に設けられた開口部と、上記流路の上記他端部側にガスを流すことにより上記流路の上記他端部より流出した上記溶液および上記試料を噴霧して上記試料をイオン化させるためのイオン化部とを有してなることを特徴とするイオン源。
【請求項６】
溶液を溜めるためのリザーバと、上記リザーバに一端部を接続されて該一端部より流入した上記溶液を他端部より流出させるための密閉構造の流路と、上記流路中に試料を導入するための上記流路の途中に鉛直上方に設けられた開口部と、上記流路の上記他端部にガスを流すことにより上記流路の上記他端部より流出した上記溶液および上記試料を噴霧して上記試料をイオン化するためのイオン化部とを有してなり、上記リザーバは大気圧雰囲気内に開放されており、上記雰囲気内の圧力と上記イオン化手段による上記ガスの流れにより上記雰囲気内の圧力よりも減圧された上記流路の上記他端部側の圧力との間の圧力差によって上記リザーバから上記流路中に流入した上記溶液が上記流路の上記他端部まで流され、この溶液の流れにより上記開口部から上記流路中に導入された試料が上記流路の上記他端部まで輸送されて上記イオン化部による上記ガスの流れにより上記溶液と共に噴霧されてイオン化されるよう構成されてなることを特徴とするイオン源。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、溶液試料を分析装置に導入するためのまたは凍らせた試料を溶媒で溶かして分析装置に導入するための試料導入装置に関し、特に、シリコンまたは石英の基板上に装置が形成されている小型の試料導入装置であって、微量試料を高速かつ連続的に導入できる試料導入装置に関する。また、本発明は、上記試料導入装置と接続可能な質量分析装置に関する。
背景技術
キャピラリー電気泳動装置（ＣＥ）や液体クロマトグラフ装置（ＬＣ）は、溶液中に溶存している試料物質の分離はできるが、分離された試料物質の種類の同定が困難である。一方、質量分析計（ＭＳ）は試料物質を高感度で同定することができるが、溶液中の溶存試料物質の分離ができない。このため、水等の溶媒中に溶存している複数の試料物質を分離分析する場合、質量分析計にキャピラリー電気泳動装置を結合させたキャピラリー電気泳動／質量分析計（ＣＥ／ＭＳ）または液体クロマトグラフ装置を結合させた液体クロマトグラフ／質量分析計（ＬＣ／ＭＳ）が一般に使用される。
上記ＣＥ／ＭＳについては、Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，６０，ｐｐ．４３６−４４１（１９８８）に記載されている。
また、ガラス基板上に細い溝を掘り、この溝を通して電気泳動を行なって混合試料を分離する技術が、Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，６５，ｐｐ．２６３７−２６４２（１９９３）に記載されている。
キャピラリー電気泳動装置あるいは液体クロマトグラフ装置により分離された試料物質を質量分析計で分析するためには、溶液中の試料分子を気体状のイオンに変換することが必要である。このような気体状イオンを得る従来技術として、イオンスプレー法［Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５９，ｐｐ．２６４２−２６４６（１９８７）］，エレクトロスプレー法［Ｊｏｕｎａｌ  ｏｆ  Ｐｈｙｓｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，８８，ｐｐ．４４５１−４４５９（１９８４）］，大気圧化学イオン化法［Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，５４，ｐｐ．１４３−１４６（１９８２）］等が知られている。
最近、上記した従来技術とは別のイオン化方法として、音速のガス流によって試料溶液を噴霧するだけで効率良く気体状イオンを生成できるソニックスプレー法が報告されている［Ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，６６，ｐｐ．４４５７−４４５９（１９９４），Ａｎａｌｙ−ｔｉｃａｌ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ，６７，ｐｐ．２８７８−２８８２（１９９５），特開平０７−３０６１９３号公報，または、特開平０８−０６２２００号公報］。この方法では、音速のガス流によって微細な帯電液滴が生成され、さらにそこから溶媒分子が剥がされて、試料分子の気体状イオンが生成されるものと考えられている。
また、質量分析装置内に試料を導入する際に、液体クロマトグラフまたは送液ポンプを使用せずに、重力によって連続的に微量試料を導入する方法が特開平０８−００５６２４号公報に記載されている。さらに、イオン源にソニックスプレー法を用いることにより、噴霧補助溶液の送液ポンプを不要としたキャピラリー電気泳動／質量分析装置が特開平０９−２４３６００号公報に記載されている。
液体クロマトグラフ／質量分析装置（ＬＣ／ＭＳ）のような分析装置に溶液試料を導入する場合、従来は、シリンジまたはオートサンプラーに接続されたポンプ等により移動相が流れている流路に試料を押し込むという方法が採られていた。シリンジを差し込む試料導入用流路またはオートサンプラーの試料導入用流路は移動相流路から分岐しており、バルブ等で液の流れが切り替えられていた。しかし、バルブは試料溶液に接するため汚れやすく、試料に前回導入した試料成分が混ざってしまう所謂コンタミネーションがしばしば発生した。また、試料導入毎に、バルブを切り替えて試料を押し込み、またバルブを切り替えなければならないので、多種類の試料を分析する場合に非常に時間がかかった。
また、導入試料の分析装置として質量分析装置を用いる場合、質量分析装置の内部は汚れに弱く、汚れると感度が低下するため、定期的にクリーニングをする必要がある。このため、従来の試料導入方法では長時間連続しての分析が困難であった。このクリーニングを行なうためには、分析中は真空に保たれている質量分析装置内部を大気に曝さねばならないため、再び分析可能な真空度に戻すのに長時間がかかった。従って、クリーニングの間隔が短い場合、著しく分析スループットを低下させると云う問題もあった。
発明の開示
従って、本発明の目的は、上述したようなコンタミネーションを防止するために、流路切替用のバルブを必要とせずに、一定流速の溶液中に連続または間歇的に試料を導入でき、かつ試料導入に要する時間を短縮して、分析スループットを向上し得る高速の試料導入装置を提供することである。
本発明の他の目的は、上記した本発明による試料導入装置に接続可能であり、高速導入された試料を高速で分析することのできる質量分析装置を提供することである。
従来のように、ポンプ等により流路入口に圧力をかけて移動相溶液を送液し、試料導入にも圧力をかけて押し込むようにした場合には、流路を切替えて一方の流路のみに溶液が流れるようにしておかなければ、溶液が他方の流路に逆流してしまう。従って、流路切替えバルブが必要になる。そこで、本発明では、流路の出口側を減圧して、流路入口側との圧力差により溶液を吸引するように構成することにより、流路途中に試料導入用流路が分岐していて、そこにバルブが設けられていなくても、溶液が逆流することがないようにした。さらに、試料導入流路端部を開放しておいても移動相溶液が逆流しないので、試料導入流路端部を開放したままで次々と試料を投入することができるため、分析スループットの向上が可能となる。
また、質量分析装置内の汚れを最小限に押え、クリーニングの回数を減らして長時間分析を行なうには、試料を微量化する必要がある。そのために、微細加工技術により基板上に溶液が流れる流路を形成し、導入装置自体を小型化した。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明の実施の形態について、実施例を挙げ、図面を参照して詳細に説明する。
〈実施例１〉
図１に、本発明の第一の実施例になる装置構成を示す。図において、リザーバ１の底部が管状流路２の一端部（流入端部）につながっており、流路２の途中には試料投入口３が設けられている。流路２の他端部（流出端部）にはイオン源または噴霧器５が配置され、流路２の末端部はイオン源または噴霧器５のオリフィス６中に挿入されている。ここで、イオン源５は、目的によって噴霧器としての役割を果たすものであり、目的に応じて両役割を使い分ける。溶液噴霧用のガスは、外部のガス供給源（図示省略）からガス流路４を通ってイオン源５内に流れ込み、流路２の外周を流れて、オリフィス６から外部雰囲気（通常大気）中に流出する。ここで、流出ガスの速度が大きい場合、流路２の末端部付近の圧力が下がって、リザーバ１付近の外部雰囲気圧（通常大気圧）との間に圧力差が生じる。この圧力差によってリザーバ１内の移動相溶液が流路２中に引き込まれ、さらに流路２を通って流路２末端部まで送液され、そこから流出した溶液がオリフィス６からの高速ガス流によって噴霧（霧化）される。試料投入口３から投入された試料も、投入口３付近と流路２末端部付近との圧力差により流路２中に引き込まれ、移動相溶液と共に流路２末端部まで送液されて噴霧される。ここで、噴霧ガスの流れが高速であると、投入試料のイオン化が生じ、イオン源としての機能が生じる。
試料は、液体試料でも、液体試料を凍らせた固体状試料でもよい。液体試料の場合、液の表面張力があるため、一回に投入する一滴の量をマイクロリッターのオーターよりも小さくするのは困難である。しかし、液体試料を凍らせた固体状試料の場合には、表面張力の影響が無いので、一回分の投入量をナノリッターのオーダーにまで小さくすることが可能である。また、このように微少な氷結試料であれば、移動相中に投入後は直ちに溶けてしまうので、イオン化には全く支障が生じない。
図２は、図１と同様の実施例において、リザーバ１、流路２等を基板７に溝を彫り込むことによって形成し、さらに、基板７と密閉用蓋部材８とを貼り合せることによって流路２を密閉構造とした変形構成例である。基板７にはリザーバ１となるべき凹部と流路２となるべき溝部が掘られており、基板７上にはリザーバ１および試料投入口３となるべき部位に開口（穴）を設けた密閉用蓋部材８を貼り合せてある。密閉用蓋部材８に設けた上記開口部の開口面積とリザーバ１および投入口３の断面積とは等しくなくてもよい。流路２の末端部にはキャピラリー９が接続されており、このキャピラリー９の末端部がイオン源５のオリフィス６中に挿入されている。移動相溶液は、図１の場合と同様、圧力差によりリザーバ１から流路２を経由してキャピラリー９に導入されてその末端部から流出し、上記ガス流によって噴霧される。試料投入口３から投入された試料も、図１の場合と同様、キャピラリー９の末端部まで送液され、ガス流により噴霧されてイオン化される。
図３は、図２と同様の実施例において、リザーバ１，試料投入口３に、溶液を溜めるための容器１０，１１をそれぞれ付設した変形構成例である。容器１０を設けてあるため、より多量の移動相溶液をリザーバ１内に蓄えておくことが可能になり、長時間の試料導入／分析が可能となる。また、試料投入口３に容器１１を設けたことにより、液面高さの変化にも対応できるようになっている。これら容器の材質には、化学物質を吸着しにくい不活性な材料を用いるのが望ましい。また、活性な材料を用いる場合には、その表面を化学処理して不活性化しておくのがよい。
図４は、図３に示した装置構造の鳥瞰図である。本図に示すように、流路２はその途中で屈曲していてもよい。あるいは、流路２とイオン源５のキャピラリー９とがほぼ一直線上に配置されていてもよい。なお、試料投入口３は、リザーバ１側よりもイオン源または噴霧器５側に設けるのがよい。その理由は、リザーバ１側に設けた場合には、投入試料が流路途中で移動相溶液により薄められ、分析スピード，分析感度が低下するだけであり、試料の拡散を抑えてイオン源または噴霧器５へと送ると云う効果が来たいできなくなるからである。
上述したように、リザーバ１や流路２等を基板７に溝を彫り込むことによって形成する場合には、半導体素子製造に際しての露光技術およびエッチング技術を用いて基板７表面に溝加工を施すことができるため、非常に小型で集積化可能な試料導入装置を得ることができる。
〈実施例２〉
図５に、本発明の第二の実施例になる装置構成を示す。本実施例では、流路２のうちリザーバ１から試料投入口３までの距離を長く形成して、流路２の一部がリザーバ１の役割をも兼ねるようにしてある。この場合には、リザーバ１を小さく形成でき、移動相溶液の注入口としての役割を果たす程度のものとすることができる。移動相溶液を蓄えるのは、長い流路２である。リザーバ１の底部は流路２につながっており、流路２の途中に試料投入口３が開けられている。リザーバ１から試料投入口３までの長さは試料投入口３から流路２末端部までの長さよりも長く設定されている。流路２の末端部にはイオン源５が配置されており、流路２の末端部はイオン源５のオリフィス６中に挿入されている。溶液噴霧用のガスは外部ガス供給源（図示省略）からガス流路４を通ってイオン源５中に流れ込み、流路２の外周部を流れ、オリフィス６から外部雰囲気中に流出する。流出ガスの速度が大きい場合、流路２の末端部付近の圧力が下がり、リザーバ１付近の外部雰囲気圧（通常大気圧）との間に圧力差が生じる。この圧力差により、リザーバ１に蓄えられた移動相溶液は流路２中に引き込まれ、該流路２を通ってその末端部まで送液され、上記流出ガスにより噴霧される。リザーバ１から注入され流路２を満たした移動相溶液は上記の圧力差により送液され、移動相溶液と外部雰囲気（大気）との境界が試料投入口３の直下に来るまで分析を続けることができる。リザーバ１から試料投入口３までの流路長が十分に長ければ、長時間の分析が可能である。この場合、時間が経過し移動相溶液量が減っても、外部雰囲気（大気）と接する部分の移動相溶液の液面高さが変わらないので、より安定な速度での送液が可能である。試料投入口３に投入された試料も、投入口３付近と流路２末端部付近との間の圧力差によって、流路２中に引き込まれ、移動相溶液と共に流路２末端部まで送液され、ガス噴霧され、イオン化される。上述したように、移動相溶液の送液速度が安定しているため、投入試料と分析結果との対応関係を、時間管理によって適確に把握することができる。また、分析部にイオン蓄積型分析器を用いる場合には、ミリ秒オーダの分析時間しか要しないため、分析すべき試料を短い時間間隔（数百ミリ秒以下）で供給することができ、高速（効能率）分析が可能となる。
なお、流路２の断面積はほぼ一定でもよいし、イオン源５側（末端部側）の断面積がリザーバ１側の断面積よりも小さくてもよい。
試料は、液体状のものでも、液体を凍らせた固体状のものでもよい。液状試料の場合は、液の表面張力があるため、一回に投入する量（一滴）をマイクロリッターのオーダよりも少なくするのは困難である。しかし、凍らせた試料の場合には表面張力の影響が無いので、一回の投入量をナノリッターのオーダーにまで少なくすることが可能である。また、このように微少な氷塊は、移動相溶液中に投入後直ぐに溶けるので、イオン化には問題がない。
図６は、図５と同様の実施例において、リザーバ１，流路２等を基板７に彫り込むことによって形成し、この基板７上に密閉用蓋部材８を貼り合せて流路２を密閉構造としてなる変形構成例である。基板７にリザーバ１と溝状の流路２とが掘られており、その上にリザーバ１および試料投入口３の位置に開口（穴）を設けてある密閉用蓋部材８を貼り合せてある。この密閉用蓋部材８の開口（穴）面積とリザーバ１および試料投入口の断面積とは等しくなくてもよい。また、基板７上の流路２の末端部にはキャピラリー９が配置され、このキャピラリー９の末端部がイオン源５のオリフィス６中に挿入されている。溶液は、図５の場合と同様、圧力差によってリザーバ１から流路２を経由してキャピラリー９中に導入され、ガス流によって噴霧される。試料投入口３から投入された試料も、図１の場合と同様、キャピラリー９の末端部まで送液され、ガス流により噴霧され、イオン化される。
図７は、図６と同様の実施例において、試料投入口３に液を溜めるための容器１１を設置してなる変形構成例である。移動相溶液は長い流路２中に蓄えられており、リザーバ１には大量の移動相溶液を蓄える必要が無いので、そこには容器を取り付けなくてもよいが、もちろん、取り付けてもよい。試料投入口３に容器１１を設けることにより、液面高さの変化に対応できるようになる。容器１１の材質には、化学物質が吸着しにくい不活性な材料を用いてもよいし、あるいは、容器内表面を化学処理して不活性化したものを用いてもよい。
図８は、図７に示した装置構造の鳥瞰図である。流路２の長さを稼ぐために、流路２を屈曲させてもよい。また、流路２を渦巻き状に形成して、長さを稼いでもよい。
上述したように、本実施例でも、リザーバ１や流路２等を基板７に溝を彫り込むことによって形成しているので、半導体素子製造に際しての露光技術およびエッチング技術を応用することにより、容易に装置作製ができる。
（参考従来例）
図９に、ガス流によって溶液を噴霧してイオン化する方式の従来のイオン源を示す。高速のガス流により溶液を噴霧してイオン化する方法は「ソニックスプレー法」と呼ばれ、この方法によるイオン源は液体クロマトグラフ装置に接続して用いられる。この従来のイオン源でも、オリフィス６からの噴出ガス流によって流路（キャピラリー）２０両端間に圧力差が生じるため、微量の溶液がキャピラリー２中に吸引される。しかし、実際には液体クロマトグラフ装置のポンプにより大量の溶液がキャピラリー２中に導入されていたがため、他のイオン化法によるイオン源と同様、バルブを用いて試料を導入してやらなければならなかった。
図１０に、従来の試料導入方法を示す。移動相溶液はポンプ１２により流路２中に導入される。流路２には試料を導入するためのシリンジ１３が差し込まれているが、このシリンジ１３中に移動相溶液が流れ込まないようにするため、通常はバルブ１４でシリンジ１３側を閉ざしている。試料を導入する時には、バルブ１４によりポンプ１２から送られてくる移動相溶液の流れを止め、シリンジ１３側を開いて流路２中に試料を注入し、注入が終わった後に、再びシリンジ１３側を閉じ、再度移動相溶液を流すようにバルブ１４を切替える。注入された試料は移動相溶液の流れによりイオン源１５内に送られてイオン化される。バルブ１４が無い状態でシリンジ１３により試料を注入すると、試料溶液がポンプ１２側に逆流してしまい、流路２を汚す危険がある。しかし、バルブ１４は汚れ易いために、何回も分析を行なうとコンタミネーションを起こす危険性がある。この問題は、ソニックスプレー法によるイオン源でも、他のイオン化法によるイオン源でも同様に起こる。
〈実施例３〉
図１１は、本発明になるイオン源を質量分析装置に取り付けた場合の構成図である。ガス噴霧されて大気中でイオン化された試料は、質量分析装置１６に導入されて質量分析される。質量分析装置１６の内部は、真空ポンプ１７により真空状態に保たれている。なお、質量分析装置としては、四重極質量分析計，三次元四重極質量分析計，および磁場型の質量分析計等のいずれを用いてもよい。
〈実施例４〉
図１２に、本発明によるさらに別の実施例を示す。本実施例では、高速のガス流によって流路２末端部付近を減圧して流路２両端部間に圧力差を生じさせるのではなく、イオン源５と質量分析装置１６との間に減圧室１８を設け、該減圧室１８内を真空ポンプ１９によって減圧して流路２両端部間に圧力差を生じさせて送液するよう構成している。イオン源５のオリフィス６側に接して減圧室１８が設けられており、オリフィス６によりイオン源５内と減圧室１８内とは連通している。流路２の末端部にはキャピラリー９が接続されており、キャピラリー９の末端部はオリフィス６を通って減圧室１８内にまで入り込んでいる。減圧室１８内の圧力とリザーバ１側の圧力（通常、大気圧）との差によって、流路２内の溶液が吸引されて送液される。一方、ガス流路４を通ってイオン源５内に空気が流れ込み、さらにオリフィス６を通って減圧室１８に流れ込む時に、キャピラリー９末端部から流出した溶液が噴霧されて、該溶液中に含まれている試料がイオン化される。減圧室１８は細孔を介して質量分析装置１６に接続されており、減圧室１８内で生成された試料イオンは、上記細孔を通して質量分析装置１６内に導入され、質量分析される。
図１３は、図１２と同様の実施例で、減圧室１８内と質量分析装置１６内とを真空引き用の開口２０を介して連通させ、質量分析装置１６内排気用の真空ポンプ１７により減圧室１８内をも排気（減圧）するようにした変形構成例である。
図１４は、図１２，１３と同様の実施例で、減圧室１８内と質量分析装置１６内とを１台の真空ポンプ１７で排気（減圧）するようにした変形構成例である。
図１５は、図１２，１３と同様の実施例で、イオン源５にはガス導入流路４を設けず、また、イオン源５と減圧室１８とは接していないようにした変形構成例である。イオン源５と減圧室１８とは離されており、減圧室１８のキャピラリー挿入用開孔２１内にキャピラリー９の末端部分が挿入されている。また、減圧室１８内は真空ポンプ１９で減圧されている。キャピラリー９の末端部外周から、キャピラリー挿入用開孔２１を通って空気が減圧室１８内に流れ込み、この空気流により溶液が噴霧され、溶液中の試料がイオン化される。
図１６は、図１５の実施例において、イオン源５と減圧室１８とが互いに接するようにした変形構成例である。本例では、減圧室１８内に空気が流れ込む経路がないので、キャピラリー９末端部から流出した溶液は空気の流れにより噴霧はされないが、減圧室１８内の負圧により蒸発し、イオン化する。減圧室１８内に放電用の電極（図示せず）を設け、放電によりイオン化させてもよい。
〈実施例５〉
図１７は、本発明による質量分析装置に溶液試料を投入するためのオートサンプラーを付設してなる質量分析システムの構成図である。オートサンプラー２２にはマイクロピペットが複数取り付けられており、このピペットが順次移動して試料投入口３から流路２内に試料を投入する。なお、試料を連続的に投入してもよいし、試料とクリーニング用のバッファー液とを交互に投入するようにしてもよい。また、１個のピペットが複数の試料容器から順次試料を採取して投入する形式のオートサンプラーを用いてもよい。
〈実施例６〉
図１８は、本発明による質量分析装置に固体試料を投入するためのオートサンプラーを付設してなる質量分析システムの構成図である。オートサンプラー２３は、複数の凍った試料を順次試料投入口３から流路２内に投入する。試料を投入する方法は、アームで順次試料を摘み上げて投入する方法でもよいし、または、細い管の内部を減圧して管先に試料を吸い付けて試料投入口３上に運び、そこで管内圧力を上げて試料を落とす方法を用いてもよい。または、ベルトコンベアで順次投入する方法でもよい。さらには、投入するまでに試料が溶けないように、オートサンプラーに冷却機能を持たせてもよい。
〈実施例７〉
図１９は、図１７の試料投入口３の付近に、投入口３内の液面高さを検知するためのセンサを設けた実施例である。液面センサ２４は、試料投入口３内の液面高さを検知し、液面が下がりすぎて流路２内に空気が入り込まないように、ある特定の位置まで液面が下がる前に次の試料またはバッファー液を投入するようにオートサンプラー２２にフィードバックをかける。もちろん、図１８の試料投入口３にも同様に液面センサを付設するようにしてもよい。
また、液面センサ２４と質量分析装置とを連動させ、液面がある特定位置まで下がった時に分析を開始するように構成してもよい。または、試料投入後、ある特定の時間が経過した後に分析を行なうようにしてもよい。上記した特定の時間とは、試料が投入されてから、試料イオンが質量分析装置内に取り込まれるまでに要する時間でよい。もちろん、このように分析実行時間を限定することなく、連続的に分析を行なっていてもよい。
図２０は、図１９の実施例におけるリザーバ１と試料投入口３とに蓋を設けた場合の変形構成例である。試料を投入した時には、蓋２６は開けたままで蓋２５を閉めて、試料投入口３内に投入された試料が優先的に流路２内に流れ込むように調節する。また、試料投入口３内の液面が過度に下がってそこから流路２内に空気が入り込まないように、液面センサ２４と連動して、ある特定位置まで液面が下がったら蓋２６を閉じて蓋２５を開け、リザーバ１からの移動相溶液が優先的に流れるように調節する。蓋２５，２６の開閉は、モーター，バネ等を用いて機械的に行なってもよいし、手動で開閉するようにしてもよい。なお、図１８に示したように試料投入口３に固体試料を投入する場合にも、上記と同様の構成を採用することができることは云うまでもない。
図２１は、図１９の実施例における流路２のリザーバ１側端部と試料投入口３との間に開閉弁２７を設けた変形構成例である。試料を投入した直後には、開閉弁２７を閉じるかまたは狭く絞って移動相溶液の流量を減らし、投入した試料が優先的に流れるように調節する。一方、液面センサ２４が試料投入口３内の液面がある特定位置まで下がったことを検知したら、開閉弁２７を開いて移動相溶液が優先的に流れるように調節する。なお、試料投入口３にも同様の弁を設けて、流路２内への試料の流入量や試料投入口３内の液面高さを調節するようにしてもよい。なお、図１８に示したように試料投入口３内に固体状試料を投入する場合にも、上記と同様の構成を採用することができることは云うまでもない。
図２２は、流路２の試料投入口３と流路２の末端部との間に、固体試料の位置を検知するためのセンサを設置した変形構成例である。センサ２８は、流路２内に投入された試料の存在位置を検知し、ある特定の位置に試料が到達した時に、オートサンプラー２３を連動動作させて、次の試料を投入する。あるいはまた、位置センサ２８の検出信号で質量分析装置を動作させ、分析を行なうタイミングを調節する。例えば、流路２内のある特定の位置に試料が到達したときに分析を行なうようにしてもよいし、または、ある特定の位置に試料が到達した時点から一定時間後に分析を行なうようにしてもよい。
なお、上記した図２２の構成例は、固体試料を投入する場合についてのものであるが、溶液試料を投入する場合にも、上記同様の構成を採用することができることは云うまでもない。なお、溶液試料投入の場合には、投入試料溶液にマーカー剤を混ぜておいてもよい。
〈実施例８〉
図２３は、本発明によるオートサンプラーを有してなる質量分析システムに、さらにモニター装置２９を付設して、試料毎に付けられている番号が分析結果と対応付けられてモニター装置に表示されるように構成した実施例である。オートサンプラー２２の各々のピペットには試料識別用の番号が付けられており、各々のピペットからの投入試料の分析結果と投入試料の種類との対応が付き易くなるように、モニター２９に表示された分析結果の近くに、上記した試料識別用番号も表示させる。モニター装置２９は信号線３０，３１を介してオートサンプラー２２，質量分析装置１６とそれぞれ接続されて連動動作せしめられており、上記の試料識別用番号と分析結果との対応付けが行なわれる。
上記の対応付けを行なう方法として、ある試料を投入してから特定時間が経過した時に行なわれた質量分析の結果を、その試料の分析結果としてもよい。このように、試料溶液の投入タイミングを制御する制御信号を基にして時間管理することにより、投入試料と分析結果との対応関係を適確に把握することができる。また、先述したような液面センサ２４または位置センサ２８を設置して、これらセンサにより投入試料の位置を検知し、当該投入試料が実際に質量分析装置１６内に到達した時または到達したと予想できた時に得られた分析結果を、当該投入試料に対応付けるようにしてもよい。
以上、種々の実施例を挙げて説明してきたように、本発明によれば、試料投入部に従来のような切替えバルブを設ける必要が無くなるので、試料のコンタミネーションが防止できる。また、試料投入口を開放したままで、次々に試料を投入できるので、分析のスループットが向上する。
また、試料導入装置自体を小型化することができ、質量分析装置内部の汚れを最小限に抑えることが可能となり、クリーニング作業によって分析が中断される時間を短縮することができる。従って、長時間の連続分析が可能になり、分析のスループットが向上する。
産業上の利用可能性
本発明による試料導入装置は、質量分析装置等の分析装置に微量の溶液試料を導入するための効果的な手段として利用することができる。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の第一の実施例になる試料導入装置の基本構成を示す断面図。
図２は、本発明の第一の実施例になる試料導入装置の一変形構成例を示す断面図。
図３は、本発明の第一の実施例になる試料導入装置の他の変形構成例を示す断面図。
図４は、図３に示した試料導入装置の鳥瞰図。
図５は、本発明の第二の実施例になる試料導入装置の基本構成を示す断面図。
図６は、本発明の第二の実施例になる試料導入装置の一変形構成例を示す断面図。
図７は、本発明の第二の実施例になる試料導入装置の他の変形構成例を示す断面図。
図８は、図７に示した試料導入装置の鳥瞰図。
図９は、従来のソニックスプレーイオン源の概略構成を示す断面図。
図１０は、従来の試料導入装置の一構成例を示す断面模式図。
図１１は、本発明の第三の実施例になる質量分析装置の概略構成を示す断面模式図。
図１２は、本発明の第四の実施例になる質量分析装置の概略構成を示す断面模式図。
図１３は、本発明の第四の実施例になる質量分析装置の一変形構成例を示す断面模式図。
図１４は、本発明の第四の実施例になる質量分析装置の他の変形構成例を示す断面模式図。
図１５は、本発明の第四の実施例になる質量分析装置のさらに他の変形構成例を示す断面模式図。
図１６は、本発明の第四の実施例になる質量分析装置のさらに別の変形構成例を示す断面模式図。
図１７は、本発明の第五の実施例になる質量分析システムの概略構成を示す断面模式図。
図１８は、本発明の第六の実施例になる質量分析システムの概略構成を示す断面模式図。
図１９は、本発明の第七の実施例になる質量分析システムの概略構成を示す断面模式図。
図２０は、本発明の第七の実施例になる質量分析システムの一変形構成例を示す断面模式図。
図２１は、本発明の第七の実施例になる質量分析システムの他の変形構成例を示す断面模式図。
図２２は、本発明の第七の実施例になる質量分析システムのさらに他の変形構成例を示す断面模式図。
図２３は、本発明の第八の実施例になる質量分析システムの概略構成を示す断面模式図。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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