(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも一端面が開放された筒状多孔質セラミックス基体の開放端に、底板部と側胴部から成る蓋体を装着し、該基体内側にセラミックス粒子のスラリーを供給して該基体の内周面にセラミックス粒子を層状に付着させ、蓋体除去後に焼成して前記基体内周面に、基体の気孔径より小さい気孔径を有する多孔質セラミックス焼結膜層を形成させるセラミックスフィルターの製造方法において、
前記蓋体の装着に際し、蓋体底板部内面と基体端面との間に空隙が形成されるように蓋体を装着し、前記供給スラリーを前記基体の内周面と端面とに接触させて、セラミックス粒子を付着させることにより、前記焼結時に多孔質セラミックス焼結膜層を基体の内周面及び端面に同時に形成することを特徴とするセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項２】
前記蓋体の装着に際し、蓋体の側胴部内周面を前記基体外周面に密着させることを特徴とする請求項１に記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項３】
前記蓋体が、ゴムあるいは合成樹脂からなることを特徴とする請求項１又は請求項２に記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項４】
前記蓋体は、その側胴部外面側がネジを設けた金属層からなり、かつ基体と接触する側胴部内面側が合成樹脂層あるいはゴム層からなる、２層構造の蓋体であることを特徴とする請求項２に記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項５】
前記蓋体底板部内面と前記基体端面との間隔が、前記セラミックス基体の肉厚に対して、１／４乃至４／４の間隔に設定されることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項６】
前記筒状多孔質セラミックス基体の平均気孔径が５乃至２０μｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項７】
前記多孔質セラミックス焼結膜層の平均気孔径が０．１乃至１．５μｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項８】
前記基体端面の焼結膜層の膜厚が２０乃至３０μｍであることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項９】
前記多孔質セラミックス基体に予め水を含浸させてからスラリーを供給することを特徴とする請求項１乃至請求項８のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項１０】
前記多孔質セラミックス基体を予め水槽中に浸漬セットしてからスラリーを供給することを特徴とする請求項１乃至請求項９のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【請求項１１】
前記多孔質セラミックス基体の開放端内周面端部が面取りあるいはア−ル形状になされていることを特徴とする請求項１乃至請求項１０のいずれかに記載されたセラミックスフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、セラミックスフィルターの製造方法に関し、より詳細には、管状あるいはシリンダー状等の筒状多孔質セラミックス基体の内面に微細孔径の多孔質焼結セラミックス濾過膜層が形成され、かつその開放端面が該焼結セラミックス膜層で封止されたセラミックスフィルターの製造方法、特に、濾過膜層形成と端面の封止とを同時に実施することにより、従来法に比べて製造コストを著しく低減したセラミックスフィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
セラミックスフィルターは、半導体製造工業分野等の精密工業分野等にけるガス中のダスト除去用等に使用されると共に他の分野においても空気清浄化用、ガス純化用等の用途に幅広く使用されている。
従来、セラミックスフィルターは、一般に、透気性多孔質セラミックスから成る基体表面の一面側に、該多孔質基体の気孔径よりも小さい気孔径を有するセラミックス焼結膜層（濾過膜層）を焼結により形成させて作製される。
【０００３】
例えば、両端部が開放された管状のセラミックスフィルターの場合は、通常、長尺もの円管基体の内外表面の一方側に前記膜層を焼結により形成させた後、該膜層が形成された基材管を所定長さに切断加工し、その両端面を封止処理してから製品としていた。
即ち、濾過膜層が形成された長尺ものの円管を切断したままの状態では、その切断面（端面）は基体のセラミックス多孔質材が表面に露出した状態となり、セラミックスフィルターの使用時にこの部分からリークが生じ完全な濾過分離ができないという不都合が生じていた。
また、切断時に機械的に加えられた力による応力歪み等により、往々にして基体の端部の膜層に剥離が生じたり、傷が発生することがあった。この場合も前述と同様に、セラミックスフィルターの使用時にこの部分からリークが生じ完全な濾過分離ができないという不都合が生じていた。
【０００４】
この不都合を回避するため管状のセラミックスフィルターでは、この両端面の封止処理が必要とされている。上記した不都合は、シリンダー型フィルターの開放端部においても同様に生じ、従って、管状、シリンダー状等の筒状のセラミックスフィルターでは、一般に、開放端断面の封止処理が実施される。
このような開放端部の封止処理は、一般に、封止用接着素材として、釉薬、アルミナ系セラミックスボンド等の適当な無機材料等を選定して、そのスラリーを調製し、前記フィルターの開放端部をこのスラリー中に浸漬し、付着した素材を焼結して封止層を形成させる等の方法で処理されている。
【０００５】
例えば、特開平１−２８４３１６号公報には、濾過層が積層された筒状複層セラミックスフィルターのカッティング後の両端面に、ディッピング、刷毛塗り等の方法により、セラミックス微細粒子スラリーを付着させて再焼成し、該端面にセラミックス微細粒子焼結層から成る封止層を形成させるセラミックスフィルターの製造方法が開示され、特開昭６２ー１３２５１８号公報には、内面側に濾過膜層が形成された多孔質セラミックスフィルターの端面が、釉薬等の封止剤で封止された端部封止多孔質フィルターの発明が開示されている。
また、特開平３−２７０７０４号公報には、粗粒層と細粒層とから成るセラミックスス製管状フィルターの端部を封止スラリー液中（釉薬）に浸漬し、フィルター内孔を真空吸引することによりフィルター端部の外周面に封止膜を形成するセラミックス管状フィルターの端部封止方法が開示されている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記した従来のセラミックスフィルターの製造方法は、何れも所定形状に形成された多孔質セラミックス基体の内面または外面に濾過膜層形成用の微粒子を層状に付着させた後、これを一旦焼成して該付着面に微細多孔質の焼結濾過膜層を形成させ、これを切断加工した後、その開放端面部に封止材を付着させ、更に焼結するものである。そのため、セラミックスフィルター製品として完成するまでに２度の焼結工程を必要としていた。
したがって、この二度の焼成に要する手間、時間、費用がその分多くかかり、製造コスト節減がセラミックスフィルター製造上の大きな技術的課題となっていた。
よって、本発明は、管状、シリンダー状等の筒状の開放端面を封止したセラミックスフィルターの製造工程において、焼結濾過膜層形成と端面封止とを同時に行い、一回の焼結工程だけで製品フィルターを完成させるセラミックスフィルターの製造方法を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、少なくとも一端面が開放された筒状多孔質セラミックス基体の開放端に、底板部と側胴部から成る蓋体を装着し、該基体内側にセラミックス粒子のスラリーを供給して該基体の内周面にセラミックス粒子を層状に付着させ、蓋体除去後に焼成して前記基体内周面に、基体の気孔径より小さい気孔径を有する多孔質セラミックス焼結膜層を形成させるセラミックスフィルターの製造方法において、前記蓋体の装着に際し、蓋体底板部内面と基体端面との間に空隙が形成されるように蓋体を装着し、前記供給スラリーを前記基体の内周面と端面とに接触させて、セラミックス粒子を付着させることにより、前記焼結時に多孔質セラミックス焼結膜層を基体の内周面及び端面に同時に形成することを特徴とするセラミックスフィルターの製造方法が提供される。
【０００８】
本発明のセラミックスフィルターの製造方法は、端面を封止するセラミックスフィルターの製造工程にいて、微細孔径多孔質濾過膜層の形成と開放端面封止とを同時に実施し、該セラミックスフィルターの焼結工程を一度で済ませる点が顕著な特徴である。
これを達成するため本発明にいては、管状あるいはシリンダー状等の筒状の多孔質セラミックス基体の開放端部にゴム等より成る蓋体を装着し、この内側に、例えば該蓋体に設けられた供給管からアルミナ、シリカ等の焼結濾過膜層形成用のらにミックス粒子のスラリーをローラーポンプ等により供給し、該セラミックス基体の内周面にスラリーを接触させてセラミックス粒子を層状に付着させる。
【０００９】
この場合において、本発明のセラミックスフィルターの製造方法では、図２に示されるように、蓋体底板部２ｄの内面と基体端面１ａとがある程度隔てられて位置させることによって、両面の間に空隙を形成し、この部分に浸入したスラリーが基体の端面に接触し、その結果セラミックス粒子が付着して付着粒子層が形成されることが重要である。
所定量のスラリーを供給した後スラリーを排出し、乾燥後、内周面と開放端面とに前記粒子層が形成された基体を焼成して、該内周面及び端面に微細孔径の多孔質焼結膜を形成させる。
このようにして、濾過膜層形成と端部封止を同時に行えば、焼結工程は一度で済み、これにより製造コストの大幅な低減を達成できる。しかも、濾過膜層と端面封止膜層が同質の連続膜層として形成されるため、端面封止膜層が濾過膜層としての機能も果たし、濾過効率が向上する。また蓋体を基体の寸法に合わせて製作しておくことにより、小ロット多品種製造にも対応できる。
【００１０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明にかかるセラミックスフィルターの製造方法を図面に基づき詳細に説明する。
図１は、本発明で用いる前記焼結膜層形成用のセラミックス粒子スラリー供給装置の一形態の説明図であり、図２はその要部（フィルター基体装着部）の拡大図を示す。
図１、２において、符号１はフィルター基体（筒状セラミックス多孔質基体）であって、前記フィルター基体１の両端部に蓋体２が装着される。符号３は前記蓋体２が装着されたフィルター基体１にスラリーを供給するスラリー供給管であって、前記スラリーは、スラリー貯槽５からスラリー供給用のローラーポンプ４を経て、蓋体２が装着されたフィルター基体１の内側に供給される。なお、符号６は水が満たされた水槽を示す。
【００１１】
図１を参照することにより明らかなように、本発明にかかるセラミックスフィルターの製造方法においては、多孔質セラミックスよりなるフィルター基体１の端部１ａ、この図に示された例では、管状フィルター基体１の両端部１ａに蓋体２を装着し、水が満たされた水槽６中に設置される。
また、該蓋体２の一方側には、スラリー供給管３に接続するスラリー供給口２ｂが設けられているため、スラリー貯槽５から、濾過層及び封止層形成用セラミックス粒子のスラリーを、ローラーポンプ４により供給管３を経由してフィルター基体１の内側に供給し、該スラリーを基体の内周面に接触させて粒子を付着させる。
所定量のスラリーが供給され該スラリー接触面に焼結膜層形成に充分な厚さの粒子層が付着した段階で、該基体１内部に供給されたスラリーを排出し、排出後基体１を水槽から取り出す。
基体から蓋体２を取外した後、乾燥し、その後焼成して、該付着セラミックス粒子層を焼結させ、微細多孔質セラミックスの焼結膜層をその内周面と開放端面とに形成させる。
【００１２】
本発明のセラミックスフィルターの製造方法においては、図２に示されているように、前記蓋体２は、その蓋体底板部２ｄの内面２ａがフィルター基体端面１ａと隔てられて位置して、両面の間に空隙７が形成されるように該蓋体２が装着される。
即ち、このように蓋体２を装着することにより、前記供給スラリーがこの空隙部７にも供給充填され、フィルター基体端面１ａにスラリーが接触して、該基体端面１ａにも基体１の内周面１ｂと同様に付着粒子層が形成される。
従って、この付着粒子膜層を焼結することにより、一度の焼結工程で、微細多孔質セラミックスから成る焼結膜層をフィルター基体１の内周面（濾過膜層）１ｂと開放端面（封止層）１ａとに同時に形成させることができる。
【００１３】
前記蓋体装着時に設定される該蓋体底板内面と基体端面との間隔は、供給スラリーが両面間に形成された空隙部７に浸入でき、該基体端面にセラミックス粒子が充分に付着できる間隔に設定され、フィルター基体の口径、肉厚等に応じて適宜設定されるが、通常、０．５ｍｍ以上で、フィルター基体の肉厚に対して、１／４乃至４／４程度、好ましくは１／２乃至２／２の間隔に設定される。
【００１４】
本発明の方法において用いられるフィルター基体としては、ガス透過性を有する管状あるいはシリンダー状等の筒状の多孔質セラミックスであれば特に限定されるものではなく、通常のガスフィルター基体用素材として使用されるセラミックス、例えばアルミナ、ムライト、シリカ、炭化珪素、窒化珪素等より成る多孔質セラミックスが用いられる。
このよう透気性多孔質のセラミックスフィルター基体は、例えば、上記アルミナ、ムライト、シリカ、炭化珪素、窒化珪素等の粒径１０乃至３０μｍ程度の粉末を所定長さ、外径及び肉厚の管状あるいはシリンダー状に成形し、このグリーン成形体を、例えば、還元雰囲気下に１７００乃至１９００℃程度の温度で焼成して作製する。
【００１５】
また、両端が開放された管状フィルターの場合には、長尺物の管状グリーン成形体を焼成し、得られた多孔性セラミックス長尺管を所定長さに切断して基体としても良い。一端部が閉塞されたシリンダー型フィルターの場合には、上記切断したセラミックス管の一方の端面に同一材質の多孔性セラミックス底板を接合して閉塞するか、または、両端部が閉塞された有底中空のセラミックス長尺筒を切断して作製しても良い。
【００１６】
これらのグリーン成形体の成形方法としては、例えばＣＩＰ成形、押出成形等の成形方法が用いられ、ＣＩＰ成形の場合、通常、上記原料粒子に対し結合剤を数％程度配合することが好ましく、押出成形の場合には、この他に滑剤、可塑剤等を１乃至２％程度配合することが好ましい。
【００１７】
前記セラミックスフィルター基体の平均気孔径は、５乃至２０μｍ程度であることが好ましく、気孔径が５μｍ未満のものは、フィルターとしての通気特性が劣り、一方、２０μｍを越えると、濾過膜層形成の際、スラリー中のセラミックス粒子が該気孔中に浸入し、気孔を埋めてしまったり、均一な濾過膜層の形成が困難となる。
本発明の方法において、前記セラミックスフィルター基体の開放端部への蓋体の装着は、その側胴部内周面が該フィルター基体の外周面に隙間なく密着して装着することが好ましい。この装着部に隙間ができ、その部分にスラリーが入り込み、この基体外周面のスラリー浸入部分にも付着粒子膜層が形成されると、蓋体の脱離時に、基体外周面に形成された膜層が、該蓋体の内周面との摩擦、あるいは蓋体内周面に引っ張られることにより、部分的に剥離したり損傷を受けると、この基体外周面の膜層と連続している端面に形成された膜層が、その影響を受けて部分的に剥離や損傷を受ける恐れがある。
【００１８】
蓋体に使用される材質としては、ステンレス鋼、その他の金属、ポリテトラフルオロエチレン、その他の合成樹脂、ゴムまたはこれ等を組み合わせた複合材料等を用いることができるが、フィルターが半導体分野等で使用される場合には、少なくとも蓋体内側のスラリーと接触する部分はステンレスその他の金属類から形成されたものでないことが好ましい。
スラリーと接触する部分が金属製の場合は、供給スラリー中のセラミックス粒子が金属面とぶつかり、金属を摩耗させ、生成した金属微粒子がスラリーに混入し、フィルター使用時の半導体製造環境に悪影響を与える可能性があるためである。
【００１９】
本発明で使用する該蓋体の一好適例として、図３に示すように蓋体２の外面側がステンレス鋼等の金属層から成り、基体との接触部分である蓋体側胴部２ｃの内面２ａ側はポリテトラフルオロエチレン等の合成樹脂あるいはゴム等の可撓性材料９から成る２層構造とし、前記金属層側胴部にネジ８を設けた蓋体を挙げることができる。
図３に示すように、蓋体側胴部内面に例えばゴム材９を装着し、蓋体の外面側からネジ８を締め付けることによって蓋体側胴部内面と基体の外周面とを密着させ、脱離時には前記ネジ８を緩めて蓋体２を取り外すように構成すれば、付着粒子膜層を傷つけることがなく本発明の目的を好適に達成することができる。
【００２０】
本発明において、焼結膜層形成用スラリーに用いられるセラミックス粒子の種類としては、前記セラミックスフィルター基体形成用に用いられるセラミックス粒子と同種のものを用いることが好ましいが特に限定されず、その粒径は、基体形成用セラミックス粒子より細粒径のものを用いる。
通常、平均粒径として０．１乃至２．０μｍの範囲のものを用いることが好ましく、平均粒径が０．１μｍ未満のものでは粒径が小さすぎて膜が緻密に成り過ぎ圧力損失が大きくなり、一方２．０μｍを越えると粒子が大きすぎてパーティクル除去機能等の濾過性能が充分でなくなる。
スラリーは、セラミックス粒子濃度として１乃至２０重量％程度の水性スラリーとすることが好ましく、これにポリエチレングリコール等を添加してスラリー粘度を１００乃至３００ｃｐｓ程度に調整することがより好ましい。１００ｃｐｓ未満であると、スラリー中のセラミックス粒子が多孔質基体の気孔を通過して、基体の外周側に排出されてしまったり、セラミックス粒子が基体の気孔に入り込み気孔を埋めてしまう。また、３００ｃｐｓを越えると、粒子付着層が形成しにくく、スラリー中の溶媒が除去されにくい。
【００２１】
尚、スラリーの供給方法は、図１に示す供給装置によるものに限定されず、スラリーをフィルター基体に接触させて、セラミックス粒子を付着させることができれば、どのような基体内側にスラリーを供給し、一定時間保持し、焼結膜層形成に十分な厚さの粒子層が付着した段階で、スラリーを重力により排出してもよい。
また、図１に示す供給装置ではスラリーをポンプにより供給しているため、基体内側に圧力が加えられるが、この他にも基体内側に圧力を加える方法によれば、スラリーが多孔質基体内周面や端面に押しつけられ、均一な厚さの付着粒子膜層が形成でき、スラリー中の溶媒が多孔質基体の外周側に排出されやすいため好ましい。
ポンプを用いてスラリーを供給する場合には、フィルター基体内側へのスラリー供給速度は０．０３乃至０．３ｍｌ／秒程度が好ましく、これより供給速度が速いとスラリー中のセラミックス粒子が多孔質基体の気孔を通過して、基体の外周側に排出されてしまったり、セラミックス粒子が基体の気孔に入り込み気孔を埋めてしまう。また、該速度が遅すぎると形成される粒子付着層の厚さが不均一となる。
また、図４に示すように、フィルター基体１端部の内周面側の角部１ｃを面取りするか、あるいはア−ル形状にすると、基体端面１ａにスラリーが流れ込み易くなるためより好ましい。
【００２２】
また、フィルター基体に予め水を含浸させてからスラリーを供給するか、あるいは図１に示したようにフィルタ基体を予め水槽６中に浸漬セットしてからスラリーを供給することが好ましい。
このように、多孔質のフィルター基体１の気孔に空気が存在せず水が含浸されていると、気孔中に存在する空気が、焼結の際に粒子付着膜層を通過して抜けていくことにより膜に欠陥が生成することを防止できる。また、スラリー中のセラミックス粒子が基体の気孔を通過して、基体の外周側に排出されてしまったり、セラミックス粒子が基体の気孔に入り込み、気孔を埋めてしまうことを防止する。
【００２３】
セラミックス粒子付着膜層が形成されたフィルター基体の乾燥は、７０乃至８０℃で１乃至３時間実施され、乾燥後の焼結は、該セラミックス粒子の種類によりそれぞれ異なるが、アルミナ粒子の場合は、１４００乃至１６００℃、シリカ粒子では１２５０乃至１４００℃、ジルコニアでは１２００乃至１３５０℃の範囲に夫々設定される。
上記各範囲の下限未満の温度では、焼結が不十分で基体と焼結膜層の接合強度が充分でなく、一方、上限温度を超えると粒成長により焼結膜の気孔径が大きく成り過ぎ好ましくない。
【００２４】
基体端面の焼結膜層厚さは２０乃至３０μｍの範囲にあることが好ましく、この封止膜層の厚さが、２０μｍより薄いとリークを起こしやすく、また、３０μｍより厚いと製品としてフィルターをモジュールに組み込みガスケット（封止部材）で押さえつけた際に、端部の膜が破壊される虞を生ずる。
また、焼結により形成される該微細多孔質膜層（内周面濾過膜層及び端面封止膜層）の平均気孔径は０．１乃至１．５μｍ、より好ましくは０．２乃至０．８μｍの範囲にあることが、製品フィルターの濾過性能及びガス透過圧損（通常バブルポイントとして評価される）の観点から好ましい。
【００２５】
上記本発明のセラミックスフィルターの製造方法で製作された端面が封止されたセラミックスフィルターは、モジュールに組み込んで、例えば、半導体製造工業分野等の精密工業分野等にけるガス中のダスト除去用、その他の分野の空気清浄化用、ガス純化用等の用途に好適に使用できる。
【００２６】
【実施例】
平均粒径１８μｍ、粒径範囲１０〜数十μｍの粗粒アルミナと平均粒径０．２μｍの微粒アルミナを９：１の配合比で混合した混合アルミナ粉末に結合剤（ポリビニルアルコール２重量％）を配合してＣＩＰ成形により円管状に成形し、これを還元雰囲気下に１８００〜１８７０℃で２時間焼成した。
得られた焼結円管体を切断加工し、外径１９ｍｍ、内径１５ｍｍ、長さ４０ｃｍ、平均気孔径１２μｍの管状多孔質セラミックスフィルター基体を作製した。このフィルター基材の両端部に、合成ゴム製蓋体を図２に示したように装着し、図１に示したセラミックス焼結膜形成用スラリー供給装置の水槽中にセットした。
【００２７】
別に平均粒径１．２μｍのアルミナ粉末１０重量％、ポリエチレングリコール５０重量％、ジエチレングリコール２重量％、残部が水から成る水性スラリー（粘度３００ｃｐｓ）を調製し、このスラリーをローラーポンプにより、フィルター基体内側に０．１ｍｌ／ｓｅｃの移送速度で供給し、基体の内周面及び端面に付着アルミナ粒子層を形成させた。
このアルミナ粒子層を付着させた基体を、８０℃で乾燥し、その後大気雰囲気中、１５００℃で２時間焼成して基体の内周面及び端面に平均細孔径０．８μｍの多孔質焼結膜を形成させ、本発明の実施品である端面封止セラミックスフィルター（φ１９×φ１５×４００ｍｍ）を作製した。
【００２８】
このフィルターをモジュールに装着し、その性能を評価した結果、ガス流量特性は、２４ｎｌ／ｍｉｎ（元圧０．５ｋｇｆ／ｃｍ3 ）、バブルポイント（エタノール中で測定）４，０００ｍｍＨ2 Ｏ以上であった。なお、このバブルポイントは、液体中（ここではエタノ−ル）にフィルタ−を浸漬し、フィルタ−にガスを送り込んだ際に、ガスが泡となってフィルタ−の外部に出てくるときの圧力を意味する。
また、パーティクル捕捉能力は、パーティクル粒径０．０７μｍ〜１．０μｍのトータルが２０，０００〜６０，０００個／ｍｉｎのパーティクルエアーを通過させた時、通過後のガス中のパーテイクルは０個であった。
【００２９】
【発明の効果】
上記した通り、本発明にかかるセラミックスフィルターの製造方法によれば、従来２回の焼結工程を必要とした端面封止セラミックスフィルターを一回の焼結で済ませることができ、製造工程を短縮できると共に焼結に要する費用をその分節約できるため製造コストを大幅に低減できる。
また、本発明の方法で製作されたフィルターは、濾過膜層と端面封止膜層が同質の連続膜層として形成されているため、端面封止膜層が濾過膜層としての機能も果たし、濾過効率が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は、本発明で用いるセラミックス焼結膜層形成用スラリー供給装置の一形態を説明するための概略図である。
【図２】図２は、図１におけるフィルター基材に蓋体を装着した箇所を拡大した断面図である。
【図３】図３は、本発明の蓋体の一好適例を示す断面図である。
【図４】図４は、本発明のフィルター基体を示す断面図である。
【符号の説明】
１      フィルター基体（筒状多孔質セラミックス基体）
１ａ    基体端面（端部）
１ｂ    基体内周面
１ｃ    面取り（角部）
２      蓋体
２ａ    蓋体内面
２ｂ    スラリー供給
２ｃ    蓋体側胴部
２ｄ    蓋体底板部
３      スラリー供給管
４      ローラーポンプ
５      スラリー貯槽
６      水槽
７      空隙（空隙部）
８      ネジ
９      可撓性材料（ゴム材）
【図１】
0003916021.tif 000002
【図２】
0003916021.tif 000003
【図３】
0003916021.tif 000004
【図４】
0003916021.tif 000005