(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
原盤に情報を記録する原盤露光方法であって、
原盤を回転可能もしくは回転可能および前記原盤の半径方向に移動可能に保持し、前記原盤の表面にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する第一の露光を行い、
前記回転可能もしくは回転可能および前記原盤の半径方向に移動可能に保持した状態で前記原盤を回転させ、前記第一の露光にて前記原盤に形成された前記パターンを検知して得られる検知信号に基づいてクロック信号を作成し、このクロック信号を露光タイミングの基準にして前記原盤の表面に情報を記録する第二の露光を行うことを特徴とする、原盤露光方法。
【請求項２】
原盤駆動手段によって前記回転もしくは前記回転及び前記原盤の半径方向の前記移動がなされる前記原盤に光ビームを照射することにより露光を行う原盤露光方法であって、
上記第一の露光と上記第二の露光とに使用される光ビームの種類と該光ビームを変調するための光変調手段と前記原盤の回転数とを共にまたは個別に変更して前記露光を行うことを特徴とする、請求項１に記載の原盤露光方法。
【請求項３】
光源と、
クロック信号発生手段と、
パターン記録信号発生手段と、
光変調手段と、
光ビームにより感光する原盤と、
前記クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて前記原盤を回転もしくは回転及び前記原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段と、
検知手段と、
情報記録信号作成手段とを備え、
前記クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にして前記パターン記録信号発生手段が前記原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するためのパターン記録信号を発生し、このパターン記録信号に応じて前記光変調手段が前記光源から出射される光ビームをオン／オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に前記パターンを形成し、
前記検知手段が前記原盤駆動手段に保持されている前記原盤の表面に形成された前記パターンを検知して発生する検知信号に基づいて、前記情報記録信号作成手段が前記原盤駆動手段に保持されている前記原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、
前記光変調手段がこの情報記録信号に応じて前記光源から出射される光ビームをオン／オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することを特徴とする、原盤露光装置。
【請求項４】
請求項１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
前記第一の露光で形成される前記パターンはロータリエンコーダ用のパターンであり、
このロータリエンコーダの一周あたりのパルス数が前記第二の露光で前記原盤に記録される情報の各ゾーンの一周あたりのパルス数の最小公倍数もしくはその整数倍であることを特徴とする、原盤。
【請求項５】
請求項１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
前記原盤にクロック信号を発生させるための前記パターンを形成する部分の材料が、前記第一の露光によって反射率もしくは位相が変化する材料であることを特徴とする、原盤。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ビームを用いて回転する原盤に情報を記録する原盤露光方法に関し、更に詳細にはクロック信号を発生するパターンを原盤に形成し、形成されたパターンを検知して得られる信号を利用して情報を原盤に高位置精度に記録する新しい原盤露光方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の原盤露光装置は、フォトレジストを塗布したガラス原盤をスピンドルモータで回転させ、フォトレジストに光ビームを照射しながらガラス原盤の径方向に移動させることにより、螺旋状又は同心円状に情報ピットの列を形成する。
【０００３】
光ビームとしては可視光又は紫外光のレーザ光を使用することが多いが、高密度記録を実現するために微細な電子ビームを用いる装置の開発も行われている。
【０００４】
スピンドルモータにはモータの回転を高精度に制御するために一周あたり数千パルスの電気信号を発生するロータリエンコーダが取り付けられている。このロータリエンコーダが発生する電気信号に基づいてＰＬＬ（ＰｈａｓｅＬｏｃｋｅｄ  Ｌｏｏｐ）制御が行われ、記録される情報ピットのガラス原盤の回転変動による位置ずれを防止するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
この例として、特開平８−２１２５５２号公報に記載された「光ディスク原盤露光装置」が挙げられる。この原盤露光装置は、スピンドルモータに取り付けられたロータリエンコーダからモータ角速度を検出して、検出された角速度に応じて記録する情報の露光タイミングを可変するものである。
【０００６】
しかしながら、この方法には二つの問題がある。一つは、スピンドルモータに取り付けられたロータリエンコーダの取り付けによる偏芯の問題である。この偏芯があると、仮にスピンドルモータが一定角速度で回転していても回転周期に同期した回転変動があるかのような信号がロータリエンコーダから出力され、原盤上に記録される情報ピットの位置精度が悪化することになる。
【０００７】
また、この偏芯に対してロータリエンコーダの出力信号に基づいて情報の記録データを補正した場合でも、原盤上に同じ長さの情報ピットを作ろうとして、実際には一周に一回の周期で長い情報ピットと短い情報ピットとができてしまうことになる。
【０００８】
二つ目は、スピンドルモータの回転ムラ（いわゆるワウ・フラッタリング）によるジッタの問題である。信号源であるロータリエンコーダの出力にスピンドルモータの回転ムラによるジッタが存在すると、その後のＰＬＬ制御において、ループフィルタでそのジッタの影響が無くなるまで周波数帯域を制限することになり、制限された周波数以上の精密な補正ができないことになる。したがって、原盤の一周内での均一性を求める場合に、ロータリエンコーダ自体のジッタで補正に制限がかけられてしまうという問題がある。
【０００９】
ところで、この回転ムラは、一般に回転数が下がるほど大きくなることが知られている。近年は、高密度記録要求に対応した電子ビーム露光装置が注目されているが、この電子ビーム露光装置で露光する場合は、フォトレジスト感度と電子ビーム強度との関係から原盤回転数を下げて使うことが多い。また高精細記録のためにより短い情報ピットを作製するようになると、電子ビームの変調帯域により更に回転数を下げることになる。このため、電子ビーム露光装置では原盤回転系の回転ムラの問題はより深刻なものになる。
【００１０】
このような背景から、本発明は、原盤露光装置におけるロータリエンコーダ取り付けによる偏芯と原盤回転系の回転ムラとによる情報ピットの位置ずれをなくして高精度に記録する方法及びその装置の提供を目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
第一の発明は上記の偏芯と回転ムラとの問題を解決する露光方法を提供する。
【００１２】
この発明では、クロック信号を発生させるためのパターン、すなわちロータリエンコーダ、を原盤露光装置で原盤自体に形成する。つまり、モータにロータリエンコーダを取り付ける行為をなくすことで、ロータリエンコーダの取り付け誤差による偏芯の問題そのものをなくすことができる。
【００１３】
また、このロータリエンコーダを形成する際に、原盤回転系の回転ムラの影響が実用上無視できる回転数を選ぶことでジッタの極めて小さなロータリエンコーダを形成し、回転ムラに起因する問題をなくすことができる。
【００１４】
次いで情報を原盤に記録する際に、このようにして形成されたロータリエンコーダを検出器で検出し、その検出信号に基づいて情報の露光タイミングを作成することで、位置精度の高い情報ピットを記録することが可能になる。
【００１５】
第二の発明は、第一の発明において、ロータリエンコーダと情報ピットとのそれぞれの露光に適した光源、光変調器および原盤回転数とを選ぶ方法である。
【００１６】
通常は情報ピットの記録条件から光源、光変調器および原盤回転数が決められることが多く、原盤回転系が回転ムラを多く含む場合がある。特に電子ビームを光源とするときは、比較的低速の回転数となるため、回転ムラも多い。
【００１７】
このようなときに、ロータリエンコーダの記録条件を、例えば、光源にレーザ光、光変調器にレーザ光変調器を使用し、原盤回転数を原盤回転系の回転ムラが実用上無視できるレベルになるような比較的高速の回転数、あるいは原盤回転系の固有振動数からずらした回転数を選ぶことで、原盤にジッタの極めて少ないロータリエンコーダを形成することができ、このロータリエンコーダの出力に基づいて電子ビームによる情報ピットの露光タイミングを作成することでこの回転ムラの問題を解決することができる。
【００１８】
第三の発明は、上記の偏芯と回転ムラとの問題を解決して高位置精度の情報ピットを記録する露光装置を提供するものである。
【００１９】
まず、本発明の原盤露光装置は、光源と、クロック信号発生手段と、パターン記録信号発生手段と、光変調手段と、光ビームにより感光する原盤と、クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて原盤を回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段と、検知手段と、情報記録信号作成手段とを備えている。
【００２０】
そして、クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にしてパターン記録信号発生手段が原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するパターン記録信号を発生し、このパターン記録信号に応じて光変調手段が光源から出射される光ビームをオン／オフして原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される原盤の表面にパターンを形成する。
【００２１】
次に、検知手段が前記原盤の表面に形成されたパターンを検知して発生する検知信号に基づいて、情報記録信号作成手段が前記原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、光変調手段がこの情報記録信号に応じて前記光源から出射される光ビームをオン／オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することにより、高位置精度の原盤を作成することができる。
【００２２】
第四の発明は、ロータリエンコーダの出力パルス数を情報ピットが記録される各ゾーンの一周あたりのパルス数の最小公倍数もしくはその整数倍とする原盤を提供する。
【００２３】
近年、原盤に情報ピットを記録するにあたり、記録する領域を複数のゾーンに分割し、ゾーン毎に異なるパルス数（周波数）で記録されることが増えている。
【００２４】
このとき、ロータリエンコーダのパルス数を各ゾーンの各パルス数の最小公倍数もしくはその整数倍として作製することで、各ゾーンに情報ピットを記録する際のそれぞれのクロック信号を、ロータリエンコーダの検出出力から容易に作成することができる。
【００２５】
第五の発明は、原盤上にロータリエンコーダを形成するのに適した感光材料を提供するものである。原盤上のロータリエンコーダを形成する部分に、露光されることによって反射率もしくは位相が変化する材料を用いることで、反射光の反射率もしくは位相の変化を検出するのに適したロータリエンコーダを形成することができる。このような材料としては、相変化材料、金属膜、金属膜上にフォトレジストを塗布したもの、厚さの異なるフォトレジストを塗布したもの、あるいはフタロシアニン等が挙げられる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以降、図面を使用して本発明の技術を詳細に説明する。
【００２７】
図１は、本発明の原盤露光方法において原盤にロータリエンコーダを形成する方法の一実施例である。図１において、１は原盤、2 はレーザ光源、３はクロック発振器、４はパターン記録信号発生器、５は光変調器、６はモータ制御部、７はスピンドルモータである。
【００２８】
図１において、パターン記録信号発生器４はクロック発振器３で発生されるクロックを基準にして記録すべき情報を電気信号として光変調器５に与え、光変調器５はレーザ光源２からのレーザ光をオン／オフする光信号に変えて原盤１に照射する。原盤１は、クロック発振器３で発生されるクロックを基準にしてパターン記録信号発生器４で作成される回転指令信号によりモータ制御部６にて回転駆動されるスピンドルモータ７にて回転され、光変調器５で光変調されて照射されるレーザ光により表面にロータリエンコーダが形成される。
【００２９】
図５は表面にロータリエンコーダが形成された原盤を示す。図５（ａ）では、原盤２０の外周近くの領域（エンコーダ領域）２１にロータリエンコーダを形成し、その内側の領域（データ領域）２２に記録すべき情報が情報ピットとして形成される場合を示す。また、図５（ｂ）は、原盤の中央部近傍をエンコーダ領域２１とし、その外側の領域をデータ領域２２とした場合を示す。エンコーダ領域２１部分の材料やレジスト層の厚さはエンコーダ検出方法に合わせてデータ領域２２の部分と異なる方が望ましい。
【００３０】
図２は、本発明の原盤露光方法において原盤に情報ピットを記録する方法の一実施例である。図２において図１と共通するものは同じ記号で示す。図２における情報記録信号作成部９は、位相比較器（ＰＤ）９１、ループフィルタ（ＬＦ）９２、電圧制御発振器（ＶＣＯ）９３、１／Ｎ分周器（１／Ｎ）９４、フォーマッタ（ＦＳ）９５から構成され、ライトクロックＰＬＬ回路を形成している。
【００３１】
図１に説明した方法にて原盤１の表面に形成されたロータリエンコーダをエンコーダ信号検出器８で検出し、検出された信号が位相比較器９１に入力され、これを基準信号としてもう一方の入力である１／Ｎ分周器９４の出力との位相誤差信号が生成される。この位相誤差信号はループフィルタ９２を通って電圧制御発振器９３に入力される。電圧制御発振器９３の出力は１／Ｎ分周器９４を介して位相比較器９１にフィードバックされる。
【００３２】
また、電圧制御発振器９３の出力はライトクロック信号としてフォーマッタ９５に与えられる。ライトクロック信号は上記のライトクロックＰＬＬ回路の出力で、エンコーダ出力に同期してかつＮ倍（分周比の逆数）の周波数を有する信号である。フォーマッタ９５はこのライトクロック信号に基づいて情報ピット形成のための信号を生成してレーザ光のオン／オフ制御を行う光変調器５に与え、原盤１の表面に情報ピットを記録する。
【００３３】
ところで、一般にモータの回転ムラは、回転体の慣性モーメントにもよるが、回転体の回転数が高くなればなるほど小さくなる傾向がある。
【００３４】
図６は、上記原盤露光時のモータの回転数と回転ムラの様子をモータに取り付けたロータリエンコーダの出力パルスの周波数を測定して表したものである。
【００３５】
横軸は１周の時間を、縦軸はロータリエンコーダ出力パルスの周波数を表している。モータの回転数が２００ｒｐｍではモータの極数を反映すると思われる周波数変動、すなわち回転ムラが見られる。回転数１０００ｒｐｍでは振幅は小さくなってくるもののまだ回転ムラが残っている。回転数が３０００ｒｐｍになると回転ムラは無視できるレベルになり、ロータリエンコーダ取り付け時の偏芯に起因する一周一サイクルのうねりが目立つようになる。このうねりは、ロータリエンコーダを露光装置自体で作成することにより回避される。
【００３６】
具体的な例として、３．５インチサイズの光磁気ディスクでは、直径２００ｍｍ、厚さ６ｍｍの原盤が用いられる。この光磁気ディスクでは、スピンドルモータ回転数３０００ｒｐｍでロータリエンコーダを原盤表面に形成する。
【００３７】
次に原盤に形成されたロータリエンコーダをエンコーダ信号検出器で検出し、この検出信号に基づいて情報ピットの露光タイミングを作成し、スピンドルモータ回転数を１０００ｒｐｍとして原盤上に情報ピットを記録する。このようにすることで、記録位置精度の高い原盤を作製することができる。
【００３８】
ここでロータリエンコーダの検出方法についてみてみる。図２のエンコーダ信号検出器８におけるエンコーダ信号の検出方法には、反射率の変化を検出する方法と位相の変化を検出する方法とがある。
【００３９】
反射率の変化を検出する方法では、図５におけるエンコード領域２１の部分を相変化材料や反射率の低い金属膜としてそこにレーザ光を用いて穴を開けてロータリエンコーダを作製しても良い。または反射率の低い金属膜の上に厚さλ／４n （λはエンコーダ信号検出器の波長、n はフォトレジストの屈折率）のフォトレジストをコートしても良い。
【００４０】
これらにおいて適切な露光パワーで露光すると、露光した部分の反射率が変化する。反射率を検出する方法の場合、露光したロータリエンコーダのパターンのエッジに起因する小さなジッタが存在することがあるが、この場合でも従来のエンコーダよりもジッタの絶対値は桁違いに小さく抑えることができる。
【００４１】
また、位相の変化を検出する方法では、図５におけるエンコード領域２１の部分に反射率の低い金属膜の上に、反射率の変化を検出する場合よりも薄く、厚さλ／８n のフォトレジストをコートすると良い。またガラス基板にロータリエンコーダ部分だけ上記と同じ厚さのフォトレジストをコートして、露光した後、現像して凹凸をつくっても良い。
【００４２】
位相検出器としては、一般的に使われている図７の様なもので良い。図７において、３０はロータリエンコーダが形成された原盤、３１は波長７８０ｎｍの半導体レーザ、３２はミラー、３３はハーフミラー、３４はディテクタである。
【００４３】
半導体レーザ３１から出射されたレーザ光は原盤３０に形成されたロータリエンコーダ３０で回折されミラー３２で反射し、ハーフミラー３３での透過光と反射光との二つの回折光はディテクタ３４に入射する。この入射光を電気信号に変換して２値化してエンコーダ信号を作成する。
【００４４】
今、ロータリエンコーダが半径８０ｍｍ、０．５μｍのラインとスペースで形成されているとすると、一周で１，０００，０００パルスの信号を得ることができる。このことは、情報ピットを例えば半径３０ｍｍの位置で記録する場合には０．１８８μｍ毎にエンコーダパルスが得られることになり、精細なフォーマット信号が作成でき、精密な情報ピットが記録できることになる。
【００４５】
この方法によると、従来、モータ取り付け用として使用していたロータリエンコーダよりも一周当たりのパルス数がはるかに多いものを形成することができるため、より高精度なＰＬＬライトクロック信号の作成が可能となる。
【００４６】
また、このようにしてロータリエンコーダを形成することにより、形成するロータリエンコーダのパターンに合わせて都合の良いパルス数のエンコーダ信号が得られるメリットがある。ロータリエンコーダのパルス数を原盤のデータ領域の複数のゾーンの各ゾーンの１周当たりのパルス数の最小公倍数またはその整数倍にすることで、原盤のデータ領域に情報ピットを記録する際のフォーマッタを作成しやすくすることができる。
【００４７】
図３は、これまで説明してきた原盤の露光方法を実現する原盤露光装置の一実施例を示したものである。図３において図１および図２と共通するものは同じ記号で示す。この実施例では露光用の光源としてレーザ光源が使用されているが、このほかにも電子ビームと電子ビーム変調器との組み合わせも可能である。
【００４８】
図４は、原盤にロータリエンコーダを形成する場合の光ビームとしてレーザ光を、情報ピットを形成する場合の光ビームとして電子ビームを用いた構成の装置の一実施例を示す。
【００４９】
図４において図１および図２と共通するものは同じ記号で示す。パターン記録信号発生器４はクロック発振器３で発生されるクロックを基準にして記録すべき情報を電気信号として光変調器５に与え、光変調器５はレーザ光源２からのレーザ光をオン／オフする光信号に変えて原盤１に照射する。原盤１は、クロック発振器３で発生されるクロックを基準にしてパターン記録信号発生器４で作成される回転指令信号によりモータ制御部６にて回転駆動されるスピンドルモータ７にて回転され、光変調されて照射されるレーザ光により原盤の表面にロータリエンコーダが形成される。
【００５０】
次に、原盤１の表面に作成されたロータリエンコーダをエンコーダ信号検出器８で検出し、その検出信号が位相比較器９１に入力され、これを基準信号としてもう一方の入力である１／Ｎ分周器９４の出力との位相誤差信号が生成される。
【００５１】
この位相誤差信号はループフィルタ９２を通って電圧制御発振器９３に入力される。電圧制御発振器９３の出力は１／Ｎ分周器９４を介して位相比較器９１にフィードバックされる。フォーマッタ９５はこのライトクロック信号に基づいて情報ピット形成のための信号を生成して電子ビーム源１０から発せられる電子ビームのオン／オフ制御を行う電子ビーム変調器１１に与え、原盤１の表面に情報ピットを記録する。
【００５２】
例えば、レーザ光を用いてスピンドルモータ回転数３０００ｒｐｍで原盤表面にロータリエンコーダを形成する。次に、そのロータリエンコーダの検出出力に基づいて情報ピットの露光タイミングを作成し、電子ビームを用いて高密度記録に必要なスピンドルモータ回転数、例えば２００ｒｐｍ、で情報ピットを記録する。こうして、高密度で高位置精度の情報ピットを記録することができる。
【００５３】
図４の実施例では、パターン形成用と情報記録用の露光用光源としてそれぞれレーザ光源と電子ビームとの組み合わせが示されているが、このほかにも波長の異なる２種類のレーザ光源の組み合わせや、波長の異なる２種類の電子ビームの組み合わせも可能である。
【００５４】
以上、高位置精度に情報を記録する原盤露光方法と原盤露光装置の実施例について説明してきた。これまでは主に光磁気ディスクを例に取り上げて説明してきたが、本発明の露光方法及び露光装置及び原盤は、他の光ディスクやまたは磁気ディスク等の原盤作製においても適用することが可能である。
【００５５】
ここから以降は、ガラス原盤にロータリエンコーダを露光する際の感光材について説明する。感光材には、露光により位相が変化するものと反射率が変化するものとがあり、それらについて具体的な実施例を挙げて説明する。
【００５６】
〔実施例１〕
図８は、ガラス原盤に感光材として相変化材料を用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。その形成工程は、（ａ）表面を研磨したガラス原盤４０の、（ｂ）外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分にＩｎＳｂ等の相変化材４１をスパッタリングで１００ｎｍ厚製膜し、その上にＳｉＮ等の保護膜４２を２０ｎｍ厚スパッタリングで製膜する。このとき、ガラス基板のデータ記録領域をこのスパッタリングから保護する必要がある。
【００５７】
図１４はその保護の状態を示しており、８０はガラス原盤、８１は原盤搭載用のターンテーブル、８２はデータ記録領域を保護するための軟磁性材料からなるマスク、８３はマグネットである。ガラス原盤８０の中央部近傍のデータ記録領域をマグネット８３で保持されたマスク８２で覆うことによりスパッタリングから保護している。
【００５８】
図８に戻り、スパッタリング後マスクを外して、（ｃ）ガラス原盤にフォトレジスト層４３を所定の厚さスピンコートする。次いで、（ｄ）フォトレジストの溶剤で相変化材４１を製膜した部分のフォトレジストを除去したのち１００℃で３０分間プリベークして原盤を作製する。
（ｅ）この原盤を図３に示すような原盤露光装置に搭載し、スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍとして、波長３５０ｎｍ、露光パワー５ｍＷのレーザ光で相変化材部分を露光してロータリエンコーダを形成する。
【００５９】
形成するロータリエンコーダは読み取り専用であるから反射率変化が起これば十分であるため、初期化処理は必要としない。また、露光ピッチを０．２μｍ程度とし、隣接するトラックと重ね書きする。こうすることで、一周にわたり高精度の放射線状のパターンを持つロータリエンコーダを形成することができる。
【００６０】
次に、図３に示すように、形成したロータリエンコーダの上部にエンコーダ信号検出器８を設置し、露光ピットの長さ補正を掛けられる程度の低い回転数で情報ピットを記録することで、位置精度の高い高密度の情報ピットを記録することができる。
【００６１】
〔実施例２〕
図９は、ガラス原盤に感光材として薄い金属膜を用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。（ａ）表面を研磨したガラス原盤５０の、（ｂ）外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の金属膜５１をスパッタリングで５０ｎｍ製膜する。（ｃ）フォトレジスト５２を所定の厚さスピンコートする。（ｄ）フォトレジストの溶剤で金属膜５１のフォトレジストを除去し、１００℃で３０分間プリベークする。（ｅ）スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍとして、波長３５０ｎｍ、露光パワー１０ｍＷのレーザ光で金属膜５１部分を露光する。これにより金属膜に穴をあけ、ロータリエンコーダを形成する。
【００６２】
〔実施例３〕
本実施例は、実施例２において情報ピットを電子ビームで形成する場合の実施例である。図９を参照して、（ａ）表面を研磨したガラス原盤５０の、（ｂ）外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の金属膜５１をスパッタリングで５０ｎｍ製膜する。（ｃ）電子ビーム用のフォトレジスト５２を所定の厚さスピンコートする。（ｄ）ロータリエンコーダを形成する部分のフォトレジスト５２を溶剤で除去し、１００℃で３０分間プリベークする。
（ｅ）図４の例に示されるようなレーザ光が組み込まれた電子線露光装置にこの原盤をセットし、スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍとして、波長３５０ｎｍ、露光パワー１０ｍＷのレーザ光で金属膜５１部分を露光する。これにより金属膜に穴をあけ、ロータリエンコーダを形成する。実施例１と同様に反射率変化を検出して、所定の回転数にて電子ビームで情報ピットを記録する。こうして、高位置精度に情報を記録された原盤ができあがる。
【００６３】
〔実施例４〕
図１０は、ガラス原盤に感光材として反射率の低い金属上にフォトレジストをコートしてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。図１０において、（ａ）表面を研磨したガラス原盤６０の、（ｂ）外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の反射率の低い金属膜６１をスパッタリングで５０ｎｍ製膜する。（ｃ）フォトレジスト６２を所定の厚さスピンコートする。（ｄ）更にロータリエンコーダを作成する部分にだけ粘度の高いフォトレジスト６３を１２０ｎｍスピンコートし、１００℃で３０分間プリベークする。（ｅ）スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍとして、波長３５０ｎｍ、露光パワー０．５ｍＷのレーザ光でフォトレジストを露光する。露光した部分のフォトレジストは焼けてなくなり、現像することなくロータリエンコーダの凹凸パターンが出来る。
【００６４】
〔実施例５〕
本実施例は、実施例４においてロータリエンコーダを形成する部分にのみフォトレジストをコートする方法である。図１１を参照して、（ａ）表面を研磨したガラス原盤６０の、（ｂ）外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分に酸化クロム等の反射率の低い金属膜６１をスパッタリングで５０ｎｍ製膜する。
（ｃ）ロータリエンコーダを形成する部分にフォトレジスト６２を所定の厚さスピンコートする。（ｄ）さらにロータリエンコーダを形成する部分に粘度の高いフォトレジスト６３を６０ｎｍスピンコートし、１００℃で３０分間プリベークする。（ｅ）スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍとして、波長３５０ｎｍ、露光パワー０．７ｍＷのレーザ光でフォトレジスト６３を露光する。露光した部分のフォトレジストは焼けてなくなり、現像することなくロータリエンコーダの凹凸パターンが出来る。
【００６５】
〔実施例６〕
図１２は、ガラス原盤に感光材として高粘度のフォトレジストを用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。その形成工程は（ａ）表面を研磨したガラス原盤７０に、（ｂ）フォトレジスト７１を所定の厚さスピンコートする。（ｃ）ロータリエンコーダを形成する部分に粘度を上げたフォトレジスト７２を６０ｎｍスピンコートし、１００℃で３０分間プリベークする。
（ｄ）スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍ、波長３５０ｎｍ、露光パワー１ｍＷのレーザ光でフォトレジスト７２を露光する。
【００６６】
次にロータリエンコーダの部分だけに現像液がかかる様にして、露光装置上で現像する。このとき、現像液がデータ領域の部分に入らず、かつ外側からの跳ね返りがないようにスピンドルモータの回転数は３００ｒｐｍとする。現像液は５ｍｌを１０秒流し、次に純水で５０ｍｌを1 分間流して洗浄する。徐々にスピンドルモータの回転数を８００ｒｐｍまで上げて乾燥させ、その後、現像液と純水を回収する。図１５はこのときの状態を示している。図１５において、８５はガラス原盤、８６はターンテーブル、８７は現像液回収部である。現像液と純水がターンテーブル８６から流れ出ないようにターンテーブル８６に図１５の破線で表されているような逆テーパーをつけることで現像液と純水の跳ね返りをおさえることができる。
【００６７】
〔実施例７〕
図１３は、ガラス原盤に感光材としてフタロシアニンを用いてロータリエンコーダを形成する場合の工程を示す図である。その形成工程は、（ａ）表面を研磨したガラス原盤８０上に、（ｂ）フォトレジスト８１を所定の厚さスピンコートし、（ｃ）フォトレジストの溶剤で外周近傍のロータリエンコーダを形成する部分のフォトレジストを除去し、１００℃で３０分間プリベークする。次に（ｄ）ロータリエンコーダを形成する部分にフタロシアニンをスピンコートする。原盤を原盤露光装置にセットして、（ｅ）スピンドルモータの回転数を３０００ｒｐｍとして、波長３５０ｎｍ、露光パワー３ｍＷのレーザ光でフタロシアニン部分を露光する。露光した部分は反射率が下がるので、この方法で反射率の変化を検出するロタリエンコーダを形成することができる。
【００６８】
（付記１）      原盤に情報を記録する原盤露光方法であって、
原盤の表面にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する第一の露光を行い、
第一の露光にて原盤に形成されたパターンを検知して得られる検知信号に基づいてクロック信号を作成し、このクロック信号を露光タイミングの基準にして前記の原盤の表面に情報を記録する第二の露光を行うことを特徴とする、原盤露光方法。
【００６９】
（付記２）      原盤駆動手段によって回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動される原盤に光ビームを照射することにより露光を行う原盤露光方法であって、
上記第一の露光と上記第二の露光とに使用される光ビームの種類と光変調手段と原盤の回転数とを共にまたは個別に変更して露光を行うことを特徴とする、付記１に記載の原盤露光方法。
【００７０】
（付記３）      光源と、
クロック信号発生手段と、
パターン記録信号発生手段と、
光変調手段と、
光ビームにより感光する原盤と、
クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて原盤を回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段と、
検知手段と、
情報記録信号作成手段とを備え、
クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にしてパターン記録信号発生手段が原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するパターン記録信号を発生し、このパターン記録信号に応じて光変調手段が光源から出射される光ビームをオン／オフして原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される原盤の表面にパターンを形成し、
検知手段が前記原盤の表面に形成されたパターンを検知して発生する検知信号に基づいて、情報記録信号作成手段が前記原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、光変調手段がこの情報記録信号に応じて前記光源から出射される光ビームをオン／オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することを特徴とする、原盤露光装置。
【００７１】
（付記４）        付記１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
第一の露光で形成されるパターンはロータリエンコーダ用のパターンであり、
このロータリエンコーダの一周あたりのパルス数が第二の露光で原盤に記録される情報の各ゾーンの一周あたりのパルス数の最小公倍数もしくはその整数倍であることを特徴とする、原盤。
【００７２】
（付記５）        付記１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が、露光されることによって反射率もしくは位相が変化する材料であることを特徴とする、原盤。
【００７３】
（付記６）        付記１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
該原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が相変化材料であることを特徴とする、原盤。
【００７４】
（付記７）        付記１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
該原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が金属膜かもしくは金属膜上にフォトレジストを塗布したものであることを特徴とする、原盤。
【００７５】
（付記８）        付記１に記載の原盤露光方法で作製された原盤であって、
該原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成する部分の材料が厚さの異なるフォトレジストを塗布したものであることを特徴とする、原盤。
【００７６】
（付記９）        付記２に記載の原盤露光方法であって、
第一の露光における光ビームがレーザビームであり、
第二の露光における光ビームが電子ビームであることを特徴とする、原盤露光方法。
【００７７】
（付記１０）    レーザ光源と、
クロック信号発生手段と、
パターン記録信号発生手段と、
レーザ光源から出射されるレーザ光をパターン記録信号に応じてオン／オフするレーザ光変調手段と、
レーザ光変調手段から照射されるレーザ光により感光する原盤と、
クロック信号発生手段が発生するクロック信号に基づいて原盤を回転もしくは回転及び原盤の半径方向に移動させる原盤駆動手段とを備え、
前記クロック信号発生手段の発生するクロック信号を基準にして前記パターン記録信号発生手段が前記原盤にクロック信号を発生させるためのパターンを形成するパターン記録信号を発生し、該パターン記録信号に応じて前記光変調手段が前記レーザ光源から出射されるレーザ光をオン／オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面にパターンを形成し、
電子ビーム光源と、
電子ビーム光源から出射される電子ビームを情報記録信号に応じてオン／オフする電子ビーム変調手段と、
原盤の表面に形成されたパターンを検知して検知信号を発生する検知手段と、検知信号に基づいて原盤に情報を記録する信号を作成する情報記録信号作成手段とを備え、
前記検知手段が前記原盤の表面に形成された前記パターンを検知して発生する検知信号に基づいて、前記情報記録信号作成手段が原盤に情報を記録する情報記録信号を作成し、前記電子ビーム変調手段が該情報記録信号に応じて前記電子ビーム光源から出射される電子ビームをオン／オフして前記原盤駆動手段により所定の回転数で回転制御される前記原盤の表面に情報を記録することを特徴とする、原盤露光装置。
【００７８】
【発明の効果】
以上詳述したように、第一の発明によれば、原盤露光装置でスピンドルモータを回転ムラの少ない速度で回転させて原盤上にロータリーエンコーダを形成し、その形成されたロータリーエンコーダの検出信号にＰＬＬを掛けて情報ピットの露光タイミングを作成することにより、ディスクの円周方向において周期間隔の均一な情報ピットを作製することができる。
【００７９】
また、第二の発明によれば、原盤上にロータリーエンコーダを形成する露光用の光源と情報を記録する露光用光源とを変えることで、それぞれに適した製造方法とすることができる。
【００８０】
また、第三の発明によれば、スピンドルモータを回転ムラの少ない速度で回転させて原盤上にロータリーエンコーダを形成し、その形成されたロータリーエンコーダの検出信号にＰＬＬを掛けて情報ピットの露光タイミングを作成することにより、ディスクの円周方向において周期間隔の均一な情報ピットを作製する原盤露光装置を実現することができる。
【００８１】
また、第四の発明によれば、ロータリエンコーダのパルス数をデータ領域の各ゾーンの各パルス数の最小公倍数もしくはその整数倍として作製することで、各ゾーンに情報ピットを記録する際のそれぞれのクロック信号を、ロータリエンコーダの検出出力から容易に作成することができる。
【００８２】
また、第五の発明によれば、本材料を用いることにより、検出に適したロータリエンコーダを露光にて形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する方法の一実施例。
【図２】  本発明の原盤に情報を記録する方法の一実施例。
【図３】  本発明の原盤露光装置の一実施例。
【図４】  本発明の原盤露光装置の一実施例。
【図５】  本発明のロータリエンコーダが形成された原盤の説明図。
【図６】  モータの回転数とロータリエンコーダ出力の説明図。
【図７】  位相検出器の一実施例。
【図８】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図９】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図１０】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図１１】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図１２】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図１３】  本発明の原盤にロータリエンコーダを形成する実施例。
【図１４】  原盤をマスクする説明図。
【図１５】  原盤を洗浄する説明図。
【符号の説明】
１、２０、３０  原盤
２  レーザ光源
３  クロック発振器
４  パターン記録信号発生器
５  光変調器
６  モータ制御部
７  スピンドルモータ
８  エンコーダ信号検出器
９  情報記録信号作成部
１０  電子ビーム源
１１  電子ビーム変調器
２１  エンコーダ領域
２２  データ領域
４０、５０、６０、７０、８０、８５  ガラス原盤
９１  位相比較器
９２  ループフィルタ
９３  電圧制御発振器
９４  １／Ｎ分周器
９５  フォーマッタ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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