(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物としてチオウレア系、チアゾール系又はイミダゾール系の化合物を０．１重量％以上１０重量％以下と、一分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタンと、を含有する電子線硬化型樹脂組成物からなることを特徴とする電子線硬化型光ファイバ用被覆材。
【請求項２】
前記電子線硬化型樹脂組成物が、一分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタンを１００重量部、反応性希釈剤を５〜２００重量部含有するものであることを特徴とする請求項１記載の電子線硬化型光ファイバ用被覆材。
【請求項３】
前記一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物が、エチレンチオ尿素、Ｎ，Ｎ−ジエチルチオ尿素、Ｎ，Ｎ−ジブチルチオ尿素、トリメチルチオ尿素、２−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩、２−メルカプトベンズイミダゾールから選ばれるものであることを特徴とする請求項１乃至２のいずれか１項記載の電子線硬化型光ファイバ用被覆材。
【請求項４】
請求項１乃至３のいずれか１項記載の被覆材を光ファイバに膜厚２０〜２００μｍになるよう塗工し、電圧５０〜１９０ｋＶで電子を加速することにより得られる電子線を吸収線量が５〜１００ｋＧｙになるように照射することを特徴とする電子線硬化型光ファイバ用被覆材の硬化方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子線硬化型の光ファイバ用被覆材（光ファイバ心線の一次被覆材及び二次被覆材）及びその電子線硬化方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
光通信ファイバとしては、石英ガラス系、多成分ガラス系、プラスチック系等の種々のものがあるが、現実にはその軽量性、低損失性、高耐久性、更には伝送容量が大きいことから、石英ガラス系のものが広範囲の分野で大量に使用されている。しかし、この石英ガラス系のものは、極めて細く、外的要因で変化も起こることから、石英ガラス系の光通信ファイバは、溶融紡糸された石英ガラスファイバ上にまず硬化物の軟らかい液状硬化性樹脂を塗布、硬化し、一次被覆した後、この一次被覆層を保護するために、更に硬化物の硬い液状の硬化性樹脂を塗布、硬化し、二次被覆が施されている。このものは光ファイバ心線と呼ばれているが、更に、この心線を数本（通常は４本又は８本）束ね、テープ化材を塗布、硬化することにより、テープ心線が製造されている。
【０００３】
これらの被覆材としては、ウレタンアクリレート系の紫外線硬化性樹脂組成物が提案されており、特公平１−１９６９４号公報、特許第２５２２６６３号公報、特許第２５４７０２１号公報に記載されているように、ウレタンアクリレートオリゴマと、反応性希釈剤と、光重合開始剤からなる液状紫外線硬化性組成物が知られている。
【０００４】
更に、特許第２５４１９９７号公報には、活性エネルギー線照射として電子線照射が記載されているが、電子線の加速電圧については記載されておらず、従来公知の高電圧で加速された電子線を光ファイバに照射すると屈折率を高めるために添加されたファイバコア中のドーパントを変質（黒色化）させ、伝送損失が大きくなるという問題があった。一方、電子線の加速電圧は光ファイバに照射した場合の電子透過深さに影響し、加速電圧が低すぎると被覆した樹脂表面しか硬化しないという問題があった。更に、電子線はエネルギーが大きいため、吸収線量が大きいとラジカル重合性官能基以外の部分での架橋が生じるため、硬化物の特性を一定にするには、電子の加速電圧と電子線の吸収線量を同時に制御することが必要になってきた。
【０００５】
本発明は、電子線硬化型光ファイバ用被覆材として光重合開始剤を含有していなくても、低吸収線量の電子線照射で良好に硬化する光ファイバ用被覆材を提供することを目的とする。また、この光ファイバ用被覆材の光ファイバの伝送損失に悪影響を及ぼさず、十分な硬化度が得られ、かつ安定した特性が得られる硬化方法を提供することを他の目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本発明者らは、上記目的を達成すべく、電子線硬化型光ファイバ用被覆材の硬化性向上について鋭意研究を行った結果、一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物を添加することにより、低吸収線量の電子線照射でも良好に硬化することを見出した。更に、光ファイバ用被覆材としての必要なヤング率、伸び、強度などの機械的物性や水素ガス発生量などの特性を損なわないばかりでなく、一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物の濃度範囲を限定することにより、むしろ、改善されることを見出した。
【０００７】
更に、本発明者らは、電子線の吸収線量はフィラメントに流す電流値と処理速度により決定されるため、線引き速度に比例して電流値をコントロールすることで吸収線量を一定にすることが可能であることを知見した。即ち、電子線は一般にフィラメントに電流を流すことにより加熱して放出された熱電子を電圧（加速電圧）によって加速することにより得られるが、この時の加速電圧は光ファイバに照射した場合の電子浸透深さに影響する。このため、加速電圧が低すぎると被覆した樹脂表面しか硬化しないという問題があり、更に、電子線はエネルギーが大きいため、吸収線量が大きいとラジカル重合性官能基以外の部分での架橋が生じるため、硬化物の物性を一定にするには電子の加速電圧と同時に吸収線量も制御することが必要であるという知見に鑑み、検討を重ねた結果、一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物を含有した電子線硬化型樹脂組成物、特に一分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタン、チオウレア系、チアゾール系又はイミダゾール系の一分子中に窒素原子とイオウ原子の両方を有する化合物、及び反応性希釈剤を配合したものを光ファイバ用被覆材として用い、この被覆材を光ファイバに膜厚２０〜２００μｍになるように塗工し、電圧５０〜１９０ｋＶで電子を加速することにより得られる電子線を、吸収線量が５〜１００ｋＧｙになるように照射して硬化させることが有効であることを知見し、本発明をなすに至った。
【０００８】
なお、従来、特開昭６２−２１５６６３号公報にイオウ系酸化防止剤を含有する光ファイバ用被覆材組成物が提案され、水素ガス発生抑制効果が記載されているが、電子線で硬化した場合、硬化性を促進する効果については言及されていない。また、ＷＯ９８／３８５４０１には、窒素−イオウ原子含有化合物を含む光ファイバ心線結束材（テープ化材）が提案され、紫外線硬化における気泡の巻き込みが少ない効果が記載されているが、電子線硬化における硬化性を促進する効果については言及されていない。
【０００９】
従って、本発明は、一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物としてチオウレア系、チアゾール系又はイミダゾール系の化合物を０．１重量％以上１０重量％以下と、一分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタンと、を含有する電子線硬化型樹脂組成物、更に好ましくは、該化合物に加えて反応性希釈剤を含有する組成物からなる電子線硬化型光ファイバ用被覆材、及び、この被覆材を光ファイバに膜厚２０〜２００μｍになるように塗工し、電圧５０〜１９０ｋＶで電子を加速することにより得られる電子線を、吸収線量が５〜１００ｋＧｙになるように照射する電子線硬化型光ファイバ用被覆材の硬化方法を提供する。
【００１０】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の電子線硬化型光ファイバ用被覆材は、一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物を含有する。この一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物は電子線硬化型光ファイバ用被覆材に電子線照射した場合の硬化性を向上するもので、チオウレア系、チアゾール系又はイミダゾール系の一分子中に窒素原子とイオウ原子の両方を有する化合物が硬化性向上効果が高いので好ましい。
【００１１】
チオウレア系の化合物としては、例えば、エチレンチオ尿素、Ｎ，Ｎ−ジエチルチオ尿素、Ｎ，Ｎ−ジブチルチオ尿素、トリメチルチオ尿素などが例示され、チアゾール系の化合物としては、２−メルカプトベンゾチアゾール、ジベンゾチアジルジスルフィド、２−メルカプトベンゾチアゾールのシクロヘキシルアミン塩、２−メルカプトベンゾチアゾールの亜鉛塩などが例示され、イミダゾール系の化合物としては、２−メルカプトベンズイミダゾールなどが例示される。
【００１２】
一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物の含有量は、電子線硬化型光ファイバ用被覆材（電子線硬化型樹脂組成物）中０．１重量％未満では硬化性向上効果が十分発揮されず、１０重量％より大きいと硬化皮膜特性が低下してしまうおそれがあるので、電子線硬化型樹脂組成物中０．１重量％以上１０重量％以下とすることが望ましく、更に０．３重量％以上５重量％以下とすることがより望ましい。
【００１３】
本発明においては、上記化合物に加え、一分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタンを含むことが好ましい。
【００１４】
前記一分子中に少なくとも２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタンは、例えば、ジイソシアネートとエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させることにより得られ、また別の例として、炭素数２〜１０のオキシアルキレン基からなる数平均分子量８００〜１０，０００のジオールとジイソシアネート及びエチレン性不飽和基を有する化合物とを反応させることにより得られる。オキシアルキレン基からなるジオールの数平均分子量が８００未満であると、得られた硬化皮膜が伸びなくなり、１０，０００より大きいと電子線照射による硬化性が悪くなる。
【００１５】
ここで、炭素数２〜１０のオキシアルキレン基からなるジオールの具体例としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、２−メチルテトラヒドロフラングリコール、３−メチルテトラヒドロフラングリコール、ポリヘプタメチレングリコール、ポリヘキサメチレングリコール、ポリデカメチレングリコール、ビスフェノールＡのポリアルキレンオキサイド付加体ジオールなどが挙げられるが、吸水率や粘度の観点からポリプロピレングリコール、ポリテトラメチレングリコール、２−メチルテトラヒドロフラングリコール、３−メチルテトラヒドロフラングリコールが好ましい。ポリアルキレンオキサイドはその単独重合体のみならず、それらのランダムもしくはブロック共重合体も使用することができる。
【００１６】
ジイソシアネートとしては、例えば、２，４−トルエンジイソシアネート、２，６−トルエンジイソシアネート、１，３−キシレンジイソシアネート、１，４−キシレンジイソシアネート、１，５−ナフタレンジイソシアネート、ｍ−フェニレンジイソシアネート、ｐ−フェニレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、イソボロンジイソシアネート、２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、２，４，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネートなどが挙げられ、中でも２，４−トルエンジイソシアネートが特性的に優れ、かつ容易に入手でき、安価に製造できるので好ましい。これらのジイソシアネートは単独で用いても２種以上併用してもよい。
【００１７】
更に、エチレン性不飽和基を有する化合物としては、例えば、水酸基、酸ハライド基、又はエポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物を挙げることができる。
【００１８】
水酸基を有する（メタ）アクリル系化合物は、例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、グリセリンジ（メタ）アクリレートなどやアルキルグリシジルエーテル、グリシジル（メタ）アクリレートなどのグリシジル基含有化合物と（メタ）アクリル酸の付加物などが挙げられる。
酸ハライド基を有する（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリル酸クロライド、（メタ）アクリル酸ブロマイドなどを挙げることができる。
エポキシ基を有する（メタ）アクリル系化合物としては、（メタ）アクリル酸のグリシジルエステルなどが挙げられる。
【００１９】
一分子中に２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタンは、例えば、上記ジオールとジイソシアネートを従来公知の方法によりＯＨ／ＮＣＯ＝０．５〜２（モル比）で反応させた後、更に、エチレン性不飽和基を有する化合物を反応させることにより製造することができる。
【００２０】
また、上記ポリウレタンと一分子中に窒素原子とイオウ原子を有する化合物のみでは粘度が高すぎて塗工性が悪い場合には、反応性希釈剤で希釈することが望ましい。反応性希釈剤としては、電子線照射によりラジカル重合可能な官能基を有するものであればよいが、ラジカル重合性に優れる（メタ）アクリロイル基を一分子中に１個以上有する化合物が望ましい。
【００２１】
一分子中に１個のアクリロイル基を有する化合物として、具体的にはメトキシエチレングリコール（メタ）アクリレート、メトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシエチル（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ノニルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、３−クロロ−２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、アルキル（メタ）アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、テトラヒドロフルフリル（メタ）アクリレート、イソボロニル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、クミルフェノール（メタ）アクリレート、クミルフェノキシポリエチレングリコール（メタ）アクリレート、クミルフェノキシポリプロピレングリコール（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−エチルヘキシル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエン（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル（メタ）アクリレート、２−（メタ）アクリロイルキシエチル−２−ヒドロキシエチルフタル酸、３−アクリロイルオキシグリセリンモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシ−１−（メタ）アクリロキシ−３−（メタ）アクリロキシプロパン、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリε−カプロラクトンモノ（メタ）アクリレート、ジアルキルアミノエチル（メタ）アクリレート、グリシジル（メタ）アクリレート、モノ［２−（メタ）アクリロイルオキシエチル］アシッドフォスフェート、トリクロロエチル（メタ）アクリレート、２，２，３，３−テトラフロロプロピル（メタ）アクリレート、２，２，３，４，４，４−ヘキサフロロブチル（メタ）アクリレート、パーフロロオクチルエチル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンテニルオキシアルキル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルオキシエチル（メタ）アクリレート、トリシクロデカニルオキシエチル（メタ）アクリレート、イソボロニルオキシエチル（メタ）アクリレート、モルホリン（メタ）アクリレート等が挙げられる。
【００２２】
一分子中に２個のアクリロイル基を有する化合物の具体例としては、２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピル−２，２−ジメチル−３−ヒドロキシプロピオネートのジ（メタ）アクリレート、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、テトラエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、グリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリセリンジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡのプロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、２，２’−ジ（ヒドロキシエトキシフェニル）プロパンのジ（メタ）アクリレート、トリシクロデカンジメチロールのジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジエンジ（メタ）アクリレート、ペンタンジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス（グリシジルオキシフェニル）プロパンのジ（メタ）アクリル酸付加物等が挙げられる。
【００２３】
一分子中に３個以上のアクリロイル基を有する化合物としては、例えば、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリオキシエチル（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシメチル）イソシアヌレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、トリス（アクリロキシプロピル）イソシアヌレート、トリアリルトリメリット酸、トリアリルイソシアヌレート等が挙げられる。
【００２４】
また、（メタ）アクリロイル基含有化合物以外に、ラジカル重合性に優れるＮ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニルホルムアミドなどのＮ−ビニル化合物を使用することも可能である。これらの反応性希釈剤は１種又は２種以上を併用することが可能である。
【００２５】
ここで、前記反応性希釈剤は一分子中に２個のエチレン性不飽和基を有するポリウレタン１００重量部に対し、５〜２００重量部とすることが好ましい。
【００２６】
本発明の光ファイバ用被覆材には、更に必要に応じて、イオウ系やフェノール系などの酸化防止剤、有機溶剤、可塑剤、界面活性剤、シランカップリング剤、着色顔料、有機又は無機粒子等の添加剤を、本発明の目的を損なわない範囲で必要に応じて添加することができる。
【００２７】
本発明の光ファイバ用被覆材は、上記した所要の成分を配合した後、撹拌混合することにより調製することができ、その粘度は、作業性の点で光ファイバの通常の製造条件との適合性から、５００〜１０，０００ｍＰａ・ｓｅｃ（２５℃）、特に高速の製造条件では５００〜４，０００ｍＰａ・ｓｅｃ（２５℃）とすることが望ましい。
【００２８】
なお、本発明の光ファイバ用被覆材は、光ファイバ用被覆材の一次被覆材（プライマリ材）として使用される場合は、光ガラスファイバに直接被覆され、硬化皮膜を形成するが、外部応力及び温度変化によるマイクロベンドから心線を保護するために５ＭＰａ以下のヤング率を有することが望ましい。更に、この上層に光ファイバを機械的に保護する目的で使用される二次被覆材（セカンダリ材）として使用される場合は、３０ＭＰａ以上のヤング率を有することが望ましい。
【００２９】
本発明においては、上記の成分を混合した被覆材を光ファイバにダイコートなどの方法で２０〜２００μｍ、望ましくは３０〜６０μｍの厚みになるように塗工し、電圧５０〜１９０ｋＶ、望ましくは７０〜１２０ｋＶで電子を加速することにより得られた電子線を吸収線量５〜１００ｋＧｙ、望ましくは１０〜３０ｋＧｙになるように照射することで、光ファイバの伝送損失などの特性に悪影響を及ぼすことなく、被覆材を良好に硬化することができる。ここで、加速電圧が５０ｋＶより低いと被覆材の内部硬化性が悪くなり、１９０ｋＶより大きいと光ファイバの特性を低下する。また、吸収線量が５ｋＧｙ未満の場合は硬化が不十分になり、１００ｋＧｙより大きい場合はエチレン性官能基以外でも架橋反応が起こり、例えば、所定のヤング率より高くなってしまう場合がある。
【００３０】
【実施例】
以下、実施例及び比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。
【００３１】
［実施例１］
ノニルフェノールＥＯ４モル変性アクリレートであるアロニックスＭ−１１３（東亜合成社製アクリル化合物）１０６．８ｇｒ、２，４−トリレンジイソシアネート１７．３ｇｒ、ジブチルチンジラウレート０．５ｇｒ、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルヒドロキシトルエン０．１５ｇｒを反応容器に仕込み、乾燥空気下で、１５℃以下に保つ速度で２−ヒドロキシエチルアクリレート１１．３ｇｒを滴下した。次いで、温度３０℃にし、２時間反応させた後、数平均分子量７，９５０のポリプロピレングリコール３９８ｇｒを添加し、５０〜６０℃で３時間反応させ、Ｍ−１１３を２０重量％含有するアクリルウレタンオリゴマ（オリゴマＡとする）を得た。
【００３２】
オリゴマＡ  １２５重量部、アロニックスＭ−１１３  ８．３重量部、ラウリルアクリレート  １６．６重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム  １６．６重量部、２−メルカプトチアゾール  ０．８３重量部（０．５ｗｔ％）を混合し、一次被覆材を調製した。このものの２５℃における粘度は４，５００ｍＰａ・ｓｅｃであった。
【００３３】
この一次被覆材をアプリケータを用い、ガラス板上に約６０μｍの膜厚に塗布し、電圧１００ｋＶで電子を加速することにより得られた電子線を吸収線量１０〜１００ｋＧｙになるよう照射し、硬化フィルムを得た。硬化皮膜特性を下記のようにして測定した結果を表１に示すが、光ファイバ用の一次被覆材としての特性を十分満足するものであった。
【００３４】
皮膜特性の測定方法：
（１）ゲル分率
硬化フィルムをアセトンに１６時間浸漬後、フィルムを取り出し、７０℃で４時間乾燥し、重量変化の比率を下記式より求めた。
ゲル分率＝（乾燥後のフィルム重量／初期のフィルム重量）×１００（％）
（２）ヤング率
２５℃、相対湿度５０％で硬化フィルムを２４時間状態調整した後、標線間２５ｍｍ、引っ張り速度１ｍｍ／ｍｉｎの条件で２．５％引っ張り弾性率を測定した。
（３）引っ張り強さ及び破断伸びの測定
２５℃、相対湿度５０％で硬化フィルムを２４時間状態調整した後、標線間２５ｍｍ、引っ張り速度５０ｍｍ／ｍｉｎの条件で測定した。
（４）水素ガス発生量
硬化フィルム約３ｇを５００ｍｌのガラス容器に取り、空気密閉下、１２０℃で４８時間加熱し、発生した水素ガスをガスクロマトグラフィーを用いて測定した。
【００３５】
［比較例１］
実施例１において、２−メルカプトチアゾールを配合しない一次被覆材を調製した。この被覆材を実施例１と同様に電子線を照射し、硬化フィルムを作成し、硬化皮膜特性を測定した。その結果を表１に示すが、実施例１と比較し、低吸収線量での硬化性が不十分であり、水素ガス発生量も多かった。
【００３６】
［実施例２］
２，４−トリレンジイソシアネート５１．５ｇｒ、数平均分子量２，０００のポリテトラメチレンエーテルグリコール４２．３ｇｒ、数平均分子量４００のポリオキシプロピレングリコール２２．０ｇｒ、トリオキシプロピレングリコール１．６ｇｒの混合液を反応容器に仕込み、窒素雰囲気下、７０〜８０℃で３時間反応させた。次いで、この反応混合物を４０℃まで冷却し、反応容器内を乾燥空気で置換し、２−ヒドロキシアクリレート５０．０ｇｒを加え、徐々に昇温させ、温度６０〜７０℃で２時間反応させた。次いで、ジブチルチンジラウレート０．１ｇｒを仕込み、更に４時間反応させ、アクリルウレタンオリゴマ（オリゴマＢとする）を得た。
【００３７】
オリゴマＢ  １００重量部、イソボロニルアクリレート  １４．３重量部、Ｎ−ビニルカプロラクタム  １４．３重量部、トリシクロデカンジメタノールジアクリレート  １４．３重量部、２−メルカプトベンズイミダゾール  １．４重量部（１．０ｗｔ％）を混合し、二次被覆材を調製した。このものの２５℃における粘度は３，９００ｍＰａ・ｓｅｃであった。
【００３８】
この二次被覆材を実施例１と同様にして電子線で硬化し、硬化皮膜特性を測定した結果を表１に示すが、光ファイバ用の二次被覆材としての特性を十分満足するものであった。
【００３９】
［比較例２］
実施例２において、２−メルカプトベンズイミダゾールを配合しない二次被覆材を調製した。この被覆材を実施例１と同様に電子線を照射し、硬化フィルムを作成し、硬化皮膜特性を測定した。その結果を表１に示すが、実施例２と比較し、低吸収線量での硬化性が不十分であり、水素ガス発生量も多かった。
【００４０】
【表１】
0003985129.tif 000002
【００４１】
【発明の効果】
本発明によれば、光ファイバ用被覆材として十分高い電子線硬化性を有するため、ゲル分率、ヤング率の吸収線量依存性が小さく、光ファイバの高速線引きにも十分対応可能である。また、本発明の被覆材を特定の条件で電子線硬化することにより、光ファイバの伝送損失に悪影響を及ぼさず、十分な硬化度が得られ、かつ安定した特性を得ることができるという優れた効果がある。