(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブチルゴム（但し、架橋したものを除く）を含有してなることを特徴とする字消し。
【請求項２】
基材がスチレン系樹脂である請求項１記載の字消し。
【請求項３】
スチレン系樹脂１００重量部に対し、ブチルゴムが０．５〜２３重量部である請求項２記載の字消し。
【請求項４】
基材がオレフィン系樹脂である請求項１記載の字消し。
【請求項５】
オレフィン系樹脂１００重量部に対し、ブチルゴムが０．５〜２３重量部である請求項４記載の字消し。
【請求項６】
基材がエチレン−酢酸ビニル系樹脂である請求項１記載の字消し。
【請求項７】
エチレン−酢酸ビニル系樹脂１００重量部に対し、ブチルゴムが１〜４０重量部である請求項６記載の字消し。
【請求項８】
基材がゴムである請求項１記載の字消し。
【請求項９】
ゴム１００重量部に対し、ブチルゴムが２〜９５重量部である請求項８記載の字消し。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は字消しに関し、更に詳しくは、字消しで筆跡を消去した際に発生する消し屑のまとまり性が良好で、消し屑が散乱して周囲や紙面を汚し筆記能率を低下させたり、机上や床面を汚染するといったトラブルのない字消しに関する。
【０００２】
【従来の技術】
字消しによる消去のメカニズムは、字消しを紙面上の筆跡に密着摩擦させ、筆跡を字消しに吸着させるとともに、筆跡を吸着した字消しの表面部分を消し屑として字消しから脱離させて字消し表面を新しくして、再び筆跡を吸着可能とすることによりなる。
従って、字消しにとっては消し屑の発生は不可欠であり、消し屑が発生しない字消しは字消し表面が新しくならず、字消し表面に筆跡が残るため、かかる字消しで消去すると、消去性が悪く、却って紙面を汚す結果とならざるを得ない。
【０００３】
しかしながら、消し屑の発生は、消し屑が散乱して周囲や紙面を汚し筆記能率を著しく低下させるばかりでなく、机上や、更には床面を汚染するという問題を引き起こす。
上記の如き問題を解決せんとして、例えば、特開平９−６６６９９号公報には、ポリ塩化ビニル等の基材樹脂と、エポキシ化脂肪酸エステル及び／又はエポキシ化トリグリセリドを含む、消し屑のまとまり性を改善した消しゴムが提案されている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記公報にあっては、実施例がいずれもポリ塩化ビニル樹脂を基材とするもので、塩化ビニル樹脂以外の樹脂を基材とする字消しについては効果が確認されていない。
特に、近年、環境保全の観点から、字消し基材が、塩化ビニル系樹脂からスチレン系樹脂、オレフィン系樹脂、エチレン−酢酸ビニル系樹脂、ゴム等に移行される傾向があるが、従来、これらの非塩化ビニル系樹脂やゴムを基材とする字消しの消し屑のまとまり性については殆ど試みられていないのが実情である。
【０００５】
本発明はかかる実情に鑑み、非塩化ビニル系樹脂やゴムを基材とする字消しにおいても消し屑のまとまり性が改善され、消し屑が散乱して周囲や紙面を汚し筆記能率を低下させたり、机上や床面を汚染するといったトラブルを解消した字消しを提供するものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決するべく鋭意研究の結果、架橋されていないブチルゴムを含有させることにより、消し屑のまとまり性を改善でき、所期の目的を達成できることを見い出し、本発明に到達した。
【０００７】
即ち、本発明の請求項１は、ブチルゴム（但し、架橋したものを除く）を含有してなることを特徴とする字消しである。
【０００８】
本発明の請求項２は、基材がスチレン系樹脂である請求項１記載の字消しである。
【０００９】
本発明の請求項３は、スチレン系樹脂１００重量部に対し、ブチルゴムが０．５〜２３重量部である請求項２記載の字消しである。
【００１０】
本発明の請求項４は、基材がオレフィン系樹脂である請求項１記載の字消しである。
【００１１】
本発明の請求項５は、オレフィン系樹脂１００重量部に対し、ブチルゴムが０．５〜２３重量部である請求項４記載の字消しである。
【００１２】
本発明の請求項６は、基材がエチレン−酢酸ビニル系樹脂である請求項１記載の字消しである。
【００１３】
本発明の請求項７は、エチレン−酢酸ビニル系樹脂１００重量部に対し、ブチルゴムが１〜４０重量部である請求項６記載の字消しである。
【００１４】
本発明の請求項８は、基材がゴムである請求項１記載の字消しである。
【００１５】
本発明の請求項９は、ゴム１００重量部に対し、ブチルゴムが２〜９５重量部である請求項８記載の字消しである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明に用いられる基材としては、安全性や環境保全の面から、スチレン系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニル系、ゴム系の基材が好適で、これらは単独で又は必要に応じ２種以上組み合わせて用いられるが、特に、スチレン系、オレフィン系、ゴム系基材が好適である。
【００１７】
スチレン系基材としては、例えば、スチレン−イソプレン−スチレン共重合体、スチレン−エチレンブチレン−スチレン共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレン共重合体、スチレン−エチレンプロピレン−スチレン共重合体、スチレン系熱可塑性エラストマーコンパウンド等のスチレン系熱可塑性エラストマーが挙げられ、これらは単独でもよいが、好ましくは２種以上組み合わせて用いられる。更に、他の基材と組み合わせても何ら差し支えない。
【００１８】
オレフィン系基材としては、例えば、住友ＴＰＥ（住友化学工業株式会社）、ミラストマー（三井化学株式会社）、エチレン−αオレフィン共重合体、プロピレン−αオレフィン共重合体、エチレン−αオレフィン共重合体（メタロセン触媒）、非晶性ポリαオレフィン、高密度ポリエチレン、低密度ポリエチレン、超低密度ポリエチレン、ポリプロピレン等のオレフィン系エラストマーが挙げられ、これらは単独でもよいが、好ましくは２種以上組み合わせて用いられる。更に、他の基材と組み合わせても何ら差し支えない。
【００１９】
エチレン−酢酸ビニル系基材としては、例えば、エバフレックス（商品名、三井デュポン・ポリケミカル株式会社）、ウルトラセン（東ソー株式会社）が挙げられ、これらは単独でもよいが、好ましくは２種以上組み合わせて用いられる。更に、他の基材と組み合わせても何ら差し支えない。
【００２０】
ゴム系基材としては、例えば、ＩＩＲ（ブチルゴム）、ＩＲ（イソプレンゴム）、ＳＢＲ（スチレン−ブタジエンゴム）、ＢＲ（ブタジエンゴム）、ＥＰＭ（エチレンプロピレンゴム）、ＥＰＤＭ（エチレンプロピレン三元共重合体）、アクリルゴム、ポリイソブチレン、ＮＲ（天然ゴム）が挙げられ、これらは単独でもよいが、好ましくは２種以上組み合わせて用いられる。更に、他の基材と組み合わせても何ら差し支えない。
【００２１】
本発明に用いられる架橋されていないブチルゴムとしては、例えば、エクソンブチル０６５（エクソンモービル化学有限会社）、エクソンブチル３６５（エクソンモービル化学有限会社）、エクソンブチル２６８（エクソンモービル化学有限会社）、バイエルブチル３０１（バイエル株式会社）、バイエルブチル１００（バイエル株式会社）、バイエルブチル４０２（バイエル株式会社）、ＪＳＲ  Ｂｕｔｙｌ  ０６５（ＪＳＲ株式会社）、ＪＳＲ  Ｂｕｔｙｌ  ２６８（ＪＳＲ株式会社）、ＪＳＲ  Ｂｕｔｙｌ  ３６５（ＪＳＲ株式会社）等が挙げられ、これらは単独で又は必要に応じ２種以上組み合わせて用いられる。
【００２２】
ブチルゴムの含有量は、スチレン系基材及びオレフィン系基材の場合は、スチレン系樹脂又はオレフィン系樹脂１００重量部に対し０．５〜２３重量部が好ましく、消し屑のまとまり性と消字率とをバランス良く備えている点からは、より好ましくは０．５〜２１重量部である。ブチルゴムの含有量が０．５重量部未満では消し屑のまとまり性が十分でなく、一方、２３重量部を越えると、消字率及び成形性が低下する等の問題が生じる傾向がある。
エチレン−酢酸ビニル系基材の場合は、エチレン−酢酸ビニル系樹脂１００重量部に対し１〜４０重量部が好ましく、消し屑のまとまり性と消字率とをバランス良く備えている点からは、より好ましくは１〜３５重量部である。ブチルゴムの含有量が１重量部未満では消し屑のまとまり性が十分でなく、一方、４０重量部を越えると、消字率及び成形性が低下する等の問題が生じる傾向がある。
ゴム系基材の場合は、ゴム１００重量部に対し２〜９５重量部が好ましく、消し屑のまとまり性と消字率とをバランス良く備えている点からは、より好ましくは２〜８５である。ブチルゴムの含有量が２重量部未満では消し屑のまとまり性が十分でなく、一方、９５重量部を越えると、消字率及び成形性が低下する等の問題が生じる傾向がある。
【００２３】
更に、必要に応じて、重質炭酸カルシウム、軽質炭酸カルシウム、シリカ、珪藻土、酸化マグネシウム、タルク、セリサイト、石英粉末、モンモリロナイト、ホタテ、カキ、しじみなどの貝殻粉末などの充填剤、有機中空粒子、無機中空粒子及び有機・無機顔料、染料などの着色材、香料、安定剤、滑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、防カビ剤などの他の添加物も適宜任意に使用することも可能である。また、更にインキ等を溶解する溶剤を内包したマイクロカプセルや、インキ筆跡などを摩消する研磨剤を添加することにより、鉛筆筆跡以外の消去も可能な字消しを提供することができる。
【００２４】
上記の如き成分からなる字消し組成物は、混練され、プレス成形、射出成形、押出成形等により成形され、所定の寸法に裁断されて製品とされる。
【００２５】
【実施例】
以下、実施例及び比較例に基づいて本発明を更に詳細に説明するが、これらは本発明の範囲を何ら制限するものではない。
【００２６】
以下の実施例及び比較例で用いた材料を表１に示す。尚、以下の記載において、「部」は特に断らない限り「重量部」を表す。
【００２７】
【表１】
0003913030.tif 000002
【００２８】
実施例１〜１６、比較例１〜４
表２に示すように、スチレン系、オレフィン系、エチレン−酢酸ビニル系及びゴム系の各基材を使用し、ブチルゴムとして「エクソンブチル２６８」を使用した樹脂組成物を混練り混合した後、所定の寸法の金型にて押出成形によって試料を得た。尚、ゴム系基材の場合は、加硫操作の後、試料を得た。
各試料について、消字率及び消し屑のまとまり性を下記の方法により測定、評価した。結果を表２〜表５に示す。
【００２９】
消字率の測定方法（ＪＩＳ−Ｓ−６０５０より）：
（１）試料を厚さ５ｍ／ｍの板状に切り、試験紙との接触部分を半径６ｍ／ｍの円弧に仕上げたものを試験片とした。
（２）試験片を着色紙に対して垂直に、しかも着色線に対して直角になるように接触させ、試験片におもりとホルダの質量の和が０．５kgとなるようにおもりを載せ、１５０±１０cm／min の速さで着色部を４往復摩消させた。
（３）濃度計（ＤＥＮＳＩＴＯＭＥＴＥＲ  ＰＤＡ６５  ｓａｋｕｒａ社製）によって、着色紙の非着色部分の濃度を０として、着色部及び摩消部の濃度をそれぞれ測定した。
（４）消字率は次の式によって算出した。
消字率（％）＝（１−（摩消部の濃度÷着色部の濃度））×１００
【００３０】
（消し屑のまとまり性の試験方法）
特開平９−６６６９９号公報に準じ、消去荷重５００ｇｆで１０往復させて、最も大きな消し屑の重量を試験片が減量した重量で割った値に１００を乗じたものを屑のまとまり率（％）として算出した。
尚、１配合につき４回ずつ屑の重量を測定し、それらの平均をとった。
屑のまとまり率（％）＝〔最大の屑の重量／（テスト前の試験片の重量−テスト後の試験片の重量部）〕×１００
【００３１】
【表２】
0003913030.tif 000003
【００３２】
【表３】
0003913030.tif 000004
【００３３】
【表４】
0003913030.tif 000005
【００３４】
【表５】
0003913030.tif 000006
【００３５】
実施例１７〜３１
ブチルゴムとして、グレードの異なる各種のブチルゴムを用いるとともに、含有量を２部とした他は実施例１〜１６と同様にして試料を得、特性を測定、評価した。結果を表６〜表８に示す。
【００３６】
【表６】
0003913030.tif 000007
【００３７】
【表７】
0003913030.tif 000008
【００３８】
【表８】
0003913030.tif 000009
【００３９】
実施例３２〜３９
ブチルゴムの量を増やした他は実施例１〜１６と同様にして試料を得、特性を測定、評価した。結果を表９〜表１２に示す。尚、表９〜表１２中、硬度Ｃ型の＊は頂点を示す。
【００４０】
【表９】
0003913030.tif 000010
【００４１】
【表１０】
0003913030.tif 000011
【００４２】
【表１１】
0003913030.tif 000012
【００４３】
【表１２】
0003913030.tif 000013
【００４４】
【発明の効果】
叙上のとおり、本発明によれば、字消しで筆跡を消去した際に、発生する消し屑のまとまり性が良好で、消し屑が散乱して周囲や紙面を汚し筆記能率を低下させたり、机上や床面を汚染するといったトラブルのない字消しが提供される。