(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリ（アルキルエチレン）のＨ−およびＹ−構造、および２・１０−３より８・１０−３（kJ/ モル・度）までのψ指数を有することを特徴とする改良された加工性および低下した溶融物不安定性を有する構造異性体ポリ（アルキルエチレン）において、
【数１】
0004007635.tif 000006
〔Tm ＝ 融点（°K）          △Hm ＝ 融解熱（kJ/ モル）
β＝ 25℃における線熱膨張係数（1/度）
ζ＝ 閾値（ISO 1131 による MFI 測定における構造異性体ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径／非変性ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径）
Tg ＝ガラス転移温度（°K）〕の関係式を満たし、
構造式、
【化１】
0004007635.tif 000007
（Ｒ１＝Ｃ１〜Ｃ４アルキル；Ｒ２＝Ｈ；t/u ＝０．０３〜３０；
Ｒ３＝Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＨ；Ｒ４＝Ｈ，Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ハロゲンまたはアリール、；Ｒ５＝ＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキル； y+z ＝１５０〜３０００；
Ξ＝アクリル酸、Ｃ４〜Ｃ１２−アクリル酸誘導体、Ｃ３〜Ｃ２１−アリル化合物、Ｃ８〜Ｃ１４−ジアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１６−ジアリル化合物、Ｃ４〜Ｃ１０−ジエン、Ｃ９〜Ｃ１５−ジメタアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１０−ジビニル化合物、Ｃ３〜Ｃ１６−モノビニル化合物、Ｃ１２〜Ｃ１７−ポリアクリレート、Ｃ１５〜Ｃ２１−ポリメタクリレートおよび／またはＣ９〜Ｃ１２−トリアリル化合物に基づくポリマー橋状部分）
のＨ−構造高分子を有するポリ（アルキルエチレン）、
および構造式、
【化２】
0004007635.tif 000008
（Ｒ１＝Ｃ１〜Ｃ４アルキル；Ｒ２＝Ｈ；Ｒ３＝Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＨ；Ｒ４＝Ｈ，Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ハロゲンまたはアリール、；Ｒ５＝ＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキル； y+z ＝１５０〜３０００；ｔ／ｕ＝０．０３〜３０；ｗ＝２５０〜５０００；
Ξ＝アクリル酸、Ｃ４〜Ｃ１２−アクリル酸誘導体、Ｃ３〜Ｃ２１−アリル化合物、Ｃ８〜Ｃ１４−ジアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１６−ジアリル化合物、Ｃ４〜Ｃ１０−ジエン、Ｃ９〜Ｃ１５−ジメタアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１０−ジビニル化合物、Ｃ３〜Ｃ１６−モノビニル化合物、Ｃ１２〜Ｃ１７−ポリアクリレート、Ｃ１５〜Ｃ２１−ポリメタクリレートおよび／またはＣ９〜Ｃ１２−トリアリル化合物に基づくポリマー橋状部分）
のＹ−構造高分子を有するポリ（アルキルエチレン）、
であり、かつＨ−及びＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）におけるポリマー橋状部分の比率は０．１〜５質量％になり、
しかも、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、連続プロセス運転下で、
−第１の反応段階において０．０２〜５質量％のアクリル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物との粉体混合物は流動床において、不活性条件下に、３００〜５００°Ｋにおいて、連続的製品供給および製品排出装置を有する流動床反応器内で、１５０〜１００００ＫｅＶのエネルギーのイオン化放射線に０，５〜８０ＫＧｙの照射線量でさらされ、そして
−第２の反応段階において照射された粉体混合物の熱処理が３８０〜５５０°Ｋにおいて、押出機内で４１０〜５５０°Ｋの範囲内の温度でおよび２〜１０分間の反応時間でまたは固相内で３８０〜５００°Ｋの範囲内の温度で５〜６０分間の反応時間において行われる、ことにより製造する、
前記の改良された加工性および低下した溶融物不安定性を有する構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
【請求項２】
構造異性体ポリ（アルキルエチレン）が次の置換基Ｒ１〜Ｒ５までとの構造の組み合わせにより定義されることを特徴とする請求項１に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
ａ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｃ２Ｈ５およびＲ２＝Ｒ５＝Ｈ
ｂ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｃ２Ｈ５，Ｒ２＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｈおよび t/u ＝１．２〜３２
ｃ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝ｉ−Ｃ４Ｈ９およびＲ２＝Ｒ５＝Ｈ
ｄ）Ｒ１＝Ｒ３＝ｉ−Ｃ４Ｈ９，Ｒ２＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｈおよび t/u ＝１．２〜３２
ｅ）Ｒ１＝Ｒ３＝ｉ−Ｃ４Ｈ９，Ｒ２＝Ｒ５＝Ｈ，Ｒ４＝ｎ−Ｃ４Ｈ９および t/u ＝０．０３〜３
ｆ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝ＣＨ３およびＲ２＝Ｒ５＝Ｈ
ｇ）Ｒ１＝Ｒ３＝ＣＨ３，Ｒ２＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｈおよび t/u ＝１．２〜３２
ｈ）Ｒ１＝Ｒ３＝ＣＨ３，Ｒ２＝Ｒ５＝Ｈ，Ｒ４＝Ｃｌおよび t/u ＝０．０３〜５。
【請求項３】
Ｈ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）が請求項２に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の混合物であることを特徴とする請求項１および２に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の組成物。
【請求項４】
ψ指数が２．５・１０−３〜６・１０−３（kJ/ モル・度）になることを特徴とする請求項１又は２に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
【請求項５】
構造異性体ポリ（アルキルエチレン）において橋状部分Ξが１．５〜５質量％のモノビニル化合物から成るモノマー単位、０．１〜２質量％のジビニル化合物から成るモノマー単位、０．２〜４．５質量％のアリル化合物から成るモノマー単位、０．１〜１．６質量％のジアクリレートから成るモノマー単位、０．１〜１．２質量％のポリアクリレートから成るモノマー単位、０．２〜１．８質量％のアクリル酸および／またはアクリル酸誘導体から成るモノマー単位、０．２〜１．８質量％のジアリル誘導体から成るモノマー単位、０．１〜１．６質量％のジメタクリレートから成るモノマー単位、０．１〜１．６質量％のジエンから成るモノマー単位、０．１〜１．２質量％のポレメタクリレートから成るモノマー単位および／または０．１〜１．４質量％のトリアリル化合物から成るモノマー単位を有することを特徴とする請求項１，２及び４のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
【請求項６】
請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、連続プロセス運転下で、
−第１の反応段階において０．０２〜５質量％のアクリル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物との粉体混合物は流動床において、不活性条件下に、３００〜５００°Ｋにおいて、連続的製品供給および製品排出装置を有する流動床反応器内で、１５０〜１００００ＫｅＶのエネルギーのイオン化放射線に０，５〜８０ＫＧｙの照射線量でさらされ、そして
−第２の反応段階において照射された粉体混合物の熱処理が３８０〜５５０°Ｋにおいて、押出機内で４１０〜５５０°Ｋの範囲内の温度でおよび２〜１０分間の反応時間でまたは固相内で３８０〜５００°Ｋの範囲内の温度で５〜６０分間の反応時間において行われる、ことを特徴とする請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
【請求項７】
請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、押出機内の溶融物の中で、不活性条件下で、
−第１の反応段階において、内部混合機内でポリ（アルキルエチレン）の上に混入されて一緒に投与されるかまたは押出機のゾーン２〜４にポリ（アルキルエチレン）溶融物の中に溶液として投与される０．０１〜３質量％のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステルと反応させられ、そして
−第２の反応段階において０．０１〜５質量％のアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物と、０．００１〜３．０質量％のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステルの存在下に、１４０より３２０℃までの温度で反応させられ、その際ラジカル形成剤とモノマーは分離された配量装置を経由しておよび／または溶液として一緒に押出機のゾーン３〜６の中でポリ（アルキルエチレン）溶融物中に投与される、
ことを特徴とする請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
【請求項８】
請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、連続プロセス運転下で、微粉末として、不活性条件下で、
−第１の工程において、循環装置および循環担体ガス案内装置の付いた反応器の中で２９０Ｋ〜５００Ｋの温度において、０．０５〜３．０質量％のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステル並びに０．０５〜５質量％のアクリル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物（それらは蒸発装置を経由して担体ガス流の中に導入されていた）を吸収させられ、そして
−第２の工程において、その粉体混合物は、スクリュー押出機の供給ゾーンの中でラジカル形成剤の分解温度に温められ、その後４１５°Ｋ〜５９５°Ｋの反応温度で融解されてから顆粒化される、
ことを特徴とする請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
【請求項９】
請求項６〜８のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（アルキルエチレン）として２４２〜２５０°Ｋのガラス転移温度および２・１０４〜３・１０６の範囲内の分子量（ＭＷ）を有するポリ（エチルエチレン）、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、３〜９７モル％のメチルエチレン配分を有するポリ（エチル−エチレン−コ−メチルエチレン）共重合体、２９５〜３０３°Ｋのガラス転移温度および２５℃において０．８１３〜０．８３２ｇ／ｃｍ３の範囲内の密度を有するポリ（イソブチルエチレン）、３〜９７モル％のｎ−ブチルエチレン配分を有するポリ（イソブチル−エチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、２５９より２６６°Ｋまでのガラス転移温度および１・１０５〜８・１０６の範囲内の分子量（ＭＷ）を有するポリ（メチルエチレン）および／または共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体が使用される、
ことを特徴とする請求項６〜８のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
【請求項１０】
請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）のフィルム、プレート、コーティング、ロール、チューブおよびフォームの製造のための使用。
【請求項１１】
前記ラジカル形成剤及びモノマーと一緒に、さらにポリ（アルキルエチレン）を投与できる、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）において、ポリ（アルキルエチレン）として２４２〜２５０°Ｋのガラス転移温度および２・１０４〜３・１０６の範囲内の分子量（ＭＷ）を有するポリ（エチルエチレン）、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、３〜９７モル％のメチルエチレン配分を有するポリ（エチル−エチレン−コ−メチルエチレン）共重合体、２９５〜３０３°Ｋのガラス転移温度および２５℃において０．８１３〜０．８３２ｇ／ｃｍ３の範囲内の密度を有するポリ（イソブチルエチレン）、３〜９７モル％のｎ−ブチルエチレン配分を有するポリ（イソブチル−エチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、２５９より２６６°Ｋまでのガラス転移温度および１・１０５〜８・１０６の範囲内の分子量（ＭＷ）を有するポリ（メチルエチレン）および／または共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体が使用される、
ことを特徴とする請求項１，２，４及び５のいずれか１項に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
ポリエチレンとは反対にポリ（アルキルエチレン）は熱可塑性プラスチックの加工の際に一連の短所を有する。例えば、溶融物の高い不安定性およびそれに関して結び付けられる比較的小さな加工の窓である。変形されていないポリ（アルキルエチレン）はポリエチレンに対して著しく低い加工速度のみを認める。
【０００２】
【従来の技術】
ポリ（エチルエチレン）の改良された加工性はポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体の合成により（Natta,G., J.Polymer Sci. 51(1961）, 387-398; Chim. Ind.(Milano) 41 (1959), 764; Yu, T., J.Plastic Film Sheeting 10(1994)1,539-564)並びにスチレン、塩化ビニルによるグラフトにより［G. Natta, Polymer Sci. 34(1965), 685-698］またはアクリロニトリルによるグラフトにより達成される。より好ましい加工特性を同様にポリ（エチルエチレン）／ポリエチレンブレンドが有する（Hwo, C., J.Plast.Film Sheeting 3(1987), 245-260; Kishore, K., Polymer 27(1986), 337-343 ）。
【０００３】
さらに、ポリ（メチルエチレン）溶融体の不安定性はポリエチレン（Ramstei-ner, F., Polmer 24(1983), 365-370 ）、ポリエチレン／ポリ（エチレン−コ−メチルエチレン）混合物（Wasiak,A., ANTEK 1992, 1265-1266）またはポリ（エチレン−コ−アセトキシエチレン）（Gupta, A., J.appl.Polymer Sci, 46(1992), 281-293) の添加により下がることが知られている。ポリ（メチルエチレン）の加工の窓の拡大は同様にイオン化放射線（EP 190889 ）, ペルオキシド（EP 384431 ）またはモノマー／ペルオキシド混合物（EP 43708）により固相においてその粉を処理することによりもたらされる。ポリ（メチルエチレン）／ポリエチレン溶融体をペルオキシドと共に処理すること（Xanthos, M., Adv.Polym. .Techn. 11(1992)4, 295-304）も同様に知られている。
【０００４】
ポリ（イソブチルエチレン）の溶融体不安定性を低下させるための既知の方法はポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（Yu, T., J. PlasticFilm Sheeting 10(1994)1, 539-564) 、ポリ（イソブチルエチレン−コ−ヘキシルエチレン）共重合体およびポリ（イソブチルエチレン−コ−ヘキサデシルエチレン）共重合体（Campbell, J.appl.Polymer Sci.5(1961)4, 184-190; Hambling,J., Rubber Plas.Age 49(1968)3, 224-227)、ポリ（イソブチルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体(Krenzel, V., Plast.Massy (1972)3, 57-59; Kissin, Y., Eur.Polymer J.8(1072)3, 487-499)などの合成並びにポリ（イソブチルエチレン−ｇ−フェニルエチレン）グラフト共重合体（Wilson, J., J.macromol.Sci.A6(1972)2, 391-402)の合成である。
【０００５】
熱形状安定性および弾性率の向上のため放射線照射によるポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）、ポリ（メチルエチレン）並びにポリ（アセチルエチレン−コ−エチレン）の橋かけも同様に知られている（N. Brooks, J. Irradiation Tech. 1(1983)3, 237-257 ）。さらに粉体のポリ（アルキルエチレン）の中へのモノマーの収着についての研究も発表されている［Ratzsch, M., Angew. Makro-mol. Chemie 229(1995), 145-158］。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
これらの方法において不利なことは、ポリ（アルキルエチレン）の好ましい工業材料としての特性、例えば、熱形状安定性、透明性および弾性率などは共重合、グラフトおよび合金の際の改質成分の高い持ち分により低下させられることである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
したがって本発明には、ポリ（アルキルエチレン）の好ましい工業材料特性を保存しながらポリ（アルキルエチレン）の加工特性を改良するという問題が根底にある。この問題は意外にもポリ（アルキルエチレン）の構造異性体化により解決されたが、その際いろいろ異なる鎖長のポリ（アルキルエチレン）はポリマーの橋状部分によりＨ−およびＹ−構造を有する構造異性体ポリ（アルキルエチレン）へ結び付けられる。
【０００８】
ポリ（アルキルエチレン）の加工状態を特徴づけるためにψ−指数が適当な判断の基準であることが判明した。
【０００９】
【数２】
ψ＝  Tm・△Hm・β・ζ・Tg-1（kJ/ モル・度）
Tm＝融点（Ｋ）              △Hm＝融解熱（kJ/ モル）
β＝25℃における線熱膨張係数（1/度）
ζ＝閾値
Tg＝ガラス転移温度（Ｋ）
【００１０】
溶融温度Tm(K) および融解熱△Hm（kJ/ モル）は DIN 51004または ISO 3146 に従って求められる。25℃における線熱膨張係数β（1/度）は DIN 53752に従って決定される。閾値ζは ISO 1131 に従う MFI既定において、製造された構造異性体ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径ｄ1 （ｍｍ) 並びに変形されないポリ（アルキルエチレン）出発物質のロープ直径ｄA （ｍｍ）および商の形ｄ1 / ｄA を求めることにより決定される。ガラス転移温度Tg（Ｋ）については DIN
61006 に従って決定がなされる。
【００１１】
出発物質（変形されないポリアルキルエチレン）について融解温度、ガラス転移温度、融解熱および線熱膨張係数βは例えば、 Brandrup-Immergut "Polymer Handbook", John Wiley & Sons, New York 1989 (ISBN 0-471-81244-7)のような表集から引用されることができる。
【００１２】
本発明によればＨ−およびＹ−構造と２・１０-3〜８・１０-3（kJ/ モル・度）のψ−指数を有するポリ（アルキルエチレン）は変形されないポリ（アルキルエチレン）に対して著しく好ましい加工特性を有する。そのようにψ−価はポリ（イソブチルエチレン）については約１．８８・１０-3（kJ/ モル・度）およびポリ（エチルエチレン）については約１．８４・１０-3（kJ/ モル・度）にある。
【００１３】
Ｈ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）は次の構造の高分子化合物である。
【化３】
0004007635.tif 000002
【００１４】
〔Ｒ1 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル；Ｒ2 ＝Ｈ；t/u ＝０．０３〜３０；
Ｒ3 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルまたはＨ；Ｒ4 ＝Ｈ，Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル；Ｒ5 ＝ＨまたはＣ1 〜Ｃ4 アルキル； y+z＝１５０〜３０００；
【００１５】
Ξ＝アクリル酸、Ｃ4 〜Ｃ12−アクリル酸誘導体、Ｃ3 〜Ｃ21−アリル化合物、Ｃ8 〜Ｃ14−ジアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ16−ジアリル化合物、Ｃ4 〜Ｃ10−ジエン、Ｃ9 〜Ｃ15−ジメタアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ10−ジビニル化合物、Ｃ3 〜Ｃ16−モノビニル化合物、Ｃ12〜Ｃ17−ポリアクリレート、Ｃ15〜Ｃ21−ポリメタクリレートおよび／またはＣ9 〜Ｃ12−トリアリル化合物および／またはオリゴブタジエン、ポリシロキサンおよび／またはポリエーテルに基づく高分子化合物に基づくポリマー橋状部分。〕
【００１６】
Ｙ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）は次の構造の高分子化合物である。
【化４】
0004007635.tif 000003
【００１７】
〔Ｒ1 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル；Ｒ2 ＝Ｈ；Ｒ3 ＝Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルまたはＨ；Ｒ4 ＝Ｈ，Ｃ1 〜Ｃ4 アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル；Ｒ5 ＝ＨまたはＣ1 〜Ｃ4 アルキル； y+z＝１５０〜３０００；  t/u ＝０．０３〜３０；ｗ＝２５０〜５０００
【００１８】
Ξ＝アクリル酸、Ｃ4 〜Ｃ12−アクリル酸誘導体、Ｃ3 〜Ｃ21−アリル化合物、Ｃ8 〜Ｃ14−ジアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ16−ジアリル化合物、Ｃ4 〜Ｃ10−ジエン、Ｃ9 〜Ｃ15−ジメタアクリレート、Ｃ7 〜Ｃ10−ジビニル化合物、Ｃ3 〜Ｃ16−モノビニル化合物、Ｃ12〜Ｃ17−ポリアクリレート、Ｃ15〜Ｃ21−ポリメタクリレートおよび／またはＣ9 〜Ｃ12−トリアリル化合物および／またはオリゴブタジエン、ポリシロキサンおよび／またはポリエーテルに基づく高分子化合物に基づくポリマー橋状部分。〕
【００１９】
Ｈ−またはＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）におけるポリマー橋状部分は０．１〜５質量％になる。
【００２０】
ポリ（アルキルエチレン）のＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）への構造異性化は溶融物においてある鎖配列を達成し、そしてそれはポリ（アルキルエチレン）の溶融物不安定性を強く低下させる。
【００２１】
Ｈ−またはＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）において、Ｒ1 とＲ3 がエチル、メチルまたはイソブチル基により形成され、Ｒ2 とＲ5 ＝ＨでありかつＲ4 がエチル、ｎ−ブチル、メチルまたはイソブチル基もしくはＨまたはＣｌにより形成されていることが好ましい。
【００２２】
これらの構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の混合物も同様に本発明に適合した特性を有する。好ましいψ−価は２．５・１０-3〜６・１０-3（kJ/ モル・度）の間にある。
【００２３】
橋状部分Ξに適当なモノビニル化合物はｐ−アセトキシスチレン、アミノスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ブロムスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ｍ−ジエチルアミノエチルスチレン、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジメトキシスチレン、ジメチルスチレン、エトキシスチレン、エチルスチレン、エチルビニルアセテート、エチルビニルエーテル、エチルビニルピリジン、フルオロスチレン、２−ヒドロキシブチルスチレン、２−ヒドロキシプロピルスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、イソプロピルスチレン、メトキシスチレン、メチルクロロスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、メチルビニルアセテート、メチルビニルエーテル、メチルビニルピリジン、４−フェノキシスチレン、フェニルビニルエーテル、スチレン、トリメトキシスチレン、トリメチルスチレン、ビニルアセテート、ビニルアセトキシメチルケトン、ビニルアジペート、９−ビニルアントラセン、ビニルベンゾエート、ビニルブチルエーテル、ビニルブチルケトン、ビニルブチレート、ビニルカルバゾール、ビニルシアノアセテート、ビニルドデシルエーテル、ビニルエーテル、ビニルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルエーテル、ビニルエチレングリコールグリシジルエーテル、ビニルエチルヘキシルエーテル、ビニルエチルケトン、ビニルホルメート、ビニルフラン、ビニルヘキシルエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルイソブチルエーテル、ビニルイソシアナート、ビニルイソプロピルエーテル、ビニルイソプロピルケトン、ビニルラウレート、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルエーテル、ビニルメチルケトン、ビニルナフタレン、ビニルオクタデシルエーテル、ビニルオクチルエーテル、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、ビニルペラゴナート、ｏ−ビニルフェノール、ビニルフェニルジメチルシラン、ビニルフェニルエーテル、ビニルフェニルケトン、５−ビニルピコリン、ビニルブロピオネート、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルステアレート、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル−ｔｒｉｓ−（トリメトキシシロキシ）シランおよび／またはビニルトリメチルシランの１．５〜５質量％の配分である。
【００２４】
ポリマーの橋状部分Ξのためのジビニル化合物としてはジビニルアニリン、ｍ−ジビニルベンゼン、ｐ−ジビニルベンゼン、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジビニルペンタン、ジビニルプロパンおよび／または１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンの０．１〜２質量％の配分が適当である。
【００２５】
アリル化合物に基づくポリマーの橋状部分Ξは、アリルアセテート、アリルアクリレート、アリルアルコール、アリルベンゼン、アリルベンジルエーテル、３−アリル−１−ブテン、アリルブチルエーテル、アリルシアヌレート、アリルシクロヘキサン、アリルジエチルケトン、４−アリル−２，６−ジメトキシフェノール、アリルジメチルクロロシラン、アリルエポキシプロピルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルグリシジルエーテル、アリルグリシジルヘキシルヒドロフタレート、アリルグリシジルフタレート、アリルヘプタノエート、アリルヘキサノエート、アリルメタクリレート、アリルメトキシフェノール、アリルメチルエーテル、アリルメチルマレエート、アリルオキシ−２，３−プロパンジオール、Ｎ−アリルステアラミド、アリルトルイルエーテル、アリルトリクロロシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリメチルシラン、アリルトリフェニルシランおよび／またはアリルビニルエーテルのようなモノマー単位の、本発明に適合するＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）に関して、０．２〜４．５質量％の配分から成る。
【００２６】
ポリマーの橋状部分Ξのために適当なジアクリレートおよびジメタクリレートはエチルレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチレングリコールジアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ペンタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールジアクリレート、オクタンジオールジアクリレート、ジグリコールジアクリレートおよび／またはトリグリコールジアクリレートもしくはジメタクリレート、例えば、エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリメチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、ペンタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、オクタンジオールジメタクリレート、ジグリコールジメタクリレートおよび／またはトリグリコールジメタクリレートの０．１〜１．６質量％の配分である。
【００２７】
ポリマーの橋状部分Ξのためのポリアクリレートとしてグリセリントリアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレートおよび／またはペンタエリトリトテトラアクリレートが０．１〜１．２質量％の配分で適する。
【００２８】
アクリル酸に基づくポリマーの橋状部分Ξのほかに、アクリル酸誘導体例えば、アクリルアミド、アクリルニトリル、ベンジルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ドデシルアクリレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクリレート、ヒドロキシエチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、４−メトキシベンジルアクリレート、メチルアクリレート、アクリル酸ナトリウム、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−アミノエチルアクリレート、オクチルアクリレート、フェニルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレートおよび／またはテトラヒドロフルフリルアクリレートが、基準として、本発明に適合するＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）に関して、０．２〜１．８質量％の配分でポリマーの橋状部分Ξとして好ましいものであった。
【００２９】
ポリマーの橋状部分Ξのためのジアリル化合物としてジアリルジメチルシラン、ジアリル（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル）イソシアヌレート、ジアリルシアヌレート、ジアリルシアノエチルイソシアヌレート、ジアリルシアナミド、ジアリルマレイネート、ジアリルメラミン、ジアリルフタレートおよび／またはＮ，Ｎ’−ジアリル酒石酸ジアミドが０．２〜１．８質量％の配分で適する。
【００３０】
ジエンに基づくポリマーの橋状部分Ξは、ブタジエン、ブタジエン−１−カルボン酸、クロロプレン、シクロヘキサジエン−１，３、シクロヘキサジエン−１，５、シクロペンタジエン、２，３−ジメチルブタジエン、１−エトキシブタジエン、１，４−ヘプタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，６−ヘキサジエン、イソプレン、ノルボルナジエンおよび／または１，４−ペンタジエンのようなモノマー単位の、本発明に適合するＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）に関して、０．１〜１．６質量％の配分から成る。
【００３１】
好ましいポリメタクリレートポリマーの橋状部分Ξは、グリセリントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートおよび／またはペンタエリトリトテトラメタクリレートのようなモノマー単位の０．１〜１．２質量％の配分から成る。
【００３２】
ポリマーの橋状部分Ξのためのトリアリル化合物としてトリアリルシトラート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートおよび／またはトルアリルホスフィンが０．１〜１．４の配分で適する。
【００３３】
ポリマーの橋状部分Ξのために適当な高分子化合物はアクリル、アリル、イソシアネート、オキサゾリンまたはビニル末端基を有するオリゴブタジエン、ボリシロキサンおよび／またはポリエーテルに基づき、それらの高分子化合物の質量配分は、本発明に適合するＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）に関して、０．８〜５質量％にある。
【００３４】
変形されないポリ（アルキルエチレン）に比較して改良された加工性を同様に本発明によれば、３〜９７％のＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）、９７〜３％の変形されないポリ（アルキルエチレン）、０．００１〜２．５％の安定剤および場合により０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５〜１％の核形成剤、５〜４０％の充填剤、２〜２０％の防火剤および／または０．００１〜１％の加工補助剤から成る混合物が有する。これらの混合物についてのψ指数は２・１０-3〜７．８・１０-3（kJ/ モル・度）の間にある。
【００３５】
安定剤としては、０．０１〜０．６質量％のフェノール系酸化防止剤、０．０１〜０．６％の亜リン酸塩に基づく加工安定剤、０．０１〜０．６％のジスルフィドとチオエーテルに基づく高温安定剤および０．０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡＬＳ）から成る混合物が好んで使用される。
【００３６】
適当なフェノール系酸化防止剤は２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソアミルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジイソプロピルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジオクタデシルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４，４−ヘキサデシルオキシフェノール、２，２’−メチレン−ビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシルエステル、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンおよび／またはペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）〕プロピオナートである。
【００３７】
ＨＡＬＳ化合物としてはビス−２，２，６，６，−４−ピペリジルセバツァートおよび／またはポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−イミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４，ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）−イミノ〕が特に適する。
【００３８】
加工補助剤としてはステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マチグネシウムおよび／またはワックスを使用することができる。
【００３９】
構造異性体ポリ（アルキルエチレン）は本発明によれば放射線照射法によりまたは溶融反応法によりまたは固相反応法により製造される。
【００４０】
放射線照射法において本発明によれば９５より９９．９８質量％までの（：９５〜９９．９８質量％の）ポリ（Ｃ1 よりＣ4 −アルキルエチレン）および０．０２より５質量％までのアクリル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、アシル、アリル、イソシアナート、オキサゾリンまたはビニレン基を含むオリゴブタジエン、ポリシロキサンまたはポリエーテルに基づく高分子化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物との粉体混合物は渦流層において、好ましくは不活性条件下に、３００より５００Ｋまでにおいて、場合により追加の慣用の補助剤、特に０．０１より０．６質量％までのフェノール系酸化防止剤、０．０１より０．６％までのジスルフィドおよびポリエーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１より０．６％までの亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤および／または０．０１より０．８％までの立体障害アミン（ＨＡＬＳ）、０．１より１％までの静電防止剤、０．２より３％までの顔料、０．０５より１％までの核形成剤、５より４０％までの充填剤、２より２０％までの防火剤および／または０．００１より１％までの加工補助剤の存在で、
ａ）第１の反応段階において、好ましくは連続的製品供給および製品排出装置を有する渦流層反応器内で、特に線源としてコバルト−６０を含む核種照射装置により、３００より４５００ＫｅＶまでの線流エネルギーを有するコックロフト−ワルトン型の電子加速器により、１０００より１００００ＫｅＶの線流エネルギーを有するリニァー加速型の電子加速器により１５０より１００００ＫｅＶのエネルギーのイオン化放射線に０．５より８０ＫＧｙまでの照射線量でさらされ、そして
ｂ）第２の反応段階において照射された粉体混合物の熱処理が３８０より５５０Ｋまでにおいて、特に押出機内で４１０より５５０Ｋまでの範囲内の温度でおよび２より１０分間までの反応時間でまたは固相内で３８０より５００Ｋまでの範囲内の温度で５より６０分間までの反応時間において行われ、その際熱処理の前にさらに慣用の安定剤を０．０１より０．６％までの濃度に添加することができる。
【００４１】
溶融反応法において本発明によればポリ（Ｃ1 よりＣ4 −アルキルエチレン）は押出機の中で連続法により、特に不活性条件下で、
ａ）第１の反応段階において、内部混合機内でポリ（アルキルエチレン）の上に叩きつけられて一緒に投与されるかまたは押出機のゾーン２〜４にポリ（アルキルエチレン）溶融物の中に溶液として投与される０．０１より３質量％までのアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステルと反応させられ、そして
ｂ）第２の反応段階において０．０１より５質量％までのアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、アシル、アリル、イソシアネート、オキサゾリンまたはビニレン基を含むオリゴブタジエン、ポリシロキサンまたはポリエーテルに基づく高分子化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物と、０．００１より３．０質量％までのアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステルの存在で、また場合によりその他の補助剤、特に０．０１より０．６質量％までのフェノール系酸化防止剤、０．０１より０．６％までのジスルフィドおよびポリエーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１より０．６％までの亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤および／または０．０１より０．８％までの立体障害アミン（ＨＡＬＳ）、０．１より１％までの静電防止剤、０．２より３％までの顔料、０．０５より１％までの核形成剤、５より４０％までの充填剤、２より２０％までの防火剤および／または０．００１より１％までの加工補助剤、と共に１４０より３２０℃までの温度で反応させられ、その際ラジカル形成剤とモノマーは分離された配量装置を経由しておよび／または溶液として一緒に押出機のゾーン３〜６の中に、場合によりさらにポリ（アルキルエチレン）分量と共に、投与される。
【００４２】
固相反応法において本発明によれば連続法により、特に不活性条件下で、
ａ）第１の工程において粉体のポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルエチレン）は循環装置および循環担体ガス案内装置の付いた反応器の中で２９０Ｋより５００Ｋまでの温度において、０．０５より３．０質量％までのアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステル並びに０．０５より５質量％までのアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物、それらは蒸発装置を経由して担体ガス流の中に導入されていた、を収着され、そして
ｂ）第２の工程においてその粉体混合物、場合によりその他の補助剤、特に０．０１より２．５％までの安定剤、０．１より１％までの静電防止剤、０．２より３％までの顔料、０．０５より１％までの核形成剤、５より４０％までの充填剤、２より２０％までの防火剤および／または０．００１より１％までの加工補助剤を添加して、スクリュー機械、特に二軸スクリュー押出機またはプランジャースクリューの付いた一軸スクリュー押出機、の供給ゾーンの中でラジカル形成剤の分解温度に温められ、その後４１５Ｋより５９５Ｋまでの反応温度で融解されてから顆粒化される。
【００４３】
ポリ（アルキルエチレン）として特に２４２より２５０Ｋまでのガラス転移温度および２・１０4 より３・１０6 までの範囲内の分子量（ＭW ）を有するポリ（エチルエチレン）、共重合体の中に３より４５モル％までのエチレン配分を有するポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、３より９７モル％までのメチルエチレン配分を有するポリ（エチル−エチレン−コ−メチルエチレン）共重合体、２９５より３０３Ｋまでのガラス転移温度および２５℃において０．８１３より０．８３２ｇ／ｃｍ3 までの範囲内の密度を有するポリ（イソブチルエチレン）、３より９７モル％までのｎ−ブチルエチレン配分を有するポリ（イソブチル−エチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体、共重合体の中に３より４５モル％までのエチレン配分を有するポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、２５９より２６６Ｋまでのガラス転移温度および１・１０5 より８・１０6 までの範囲内の分子量（ＭW ）を有するポリ（メチルエチレン）および／または共重合体の中に３より４５モル％までのエチレン配分を有するポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体が使用される。
【００４４】
使用されるペルオキシドとしては次のものがある。
−ベンゾイルペルオキシド、４−クロロベンゾイルペルオキシド、３−メトキシベンゾイルペルオキシドおよび／またはメチルベンゾイルペルオキシドのようなアシルペルオキシド
−アセチルベンゾイルペルオキシド、アリルオキシプロピオニルペルオキシド、アリル−ｔ−ブチルペルオキシド、ベンゾイルペルオキシド、２，２−ビス（ｔ−ブチルペルオキシブタン）、１，１，−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）−３，３，５−トリメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチル−４，４−ビス（ｔ−ブチルペルオキシ）バレアート、ジイソプロピルアミノメチル−ｔ−アミルペルオキシド、ジメチルアミノメチル−ｔ−アミルペルオキシド、ジエチルアミノメチル−ｔ−ブチルペルオキシド、ジメチルアミノメチル−ｔ−ブチルペルオキシド、ジニトロベンゾイルペルオキシド、１，１−ジ−（ｔ−アミルペルオキシ）シクロヘキサン、メトキシベンゾイルペルオキシド、メチルベンゾイルペルオキシド、ｔ−アミルペルオキシド、ｔ−ブチルクミルペルオキシド、ｔ−ブチルペメマレイン酸、ｔ−ブチルペルオキシド、１−ヒドロキシブチル−ｎ−ブチルペルオキシド、１−ヒドロキシブチル−ｎ−ブチルエペルオキシドおよび／またはスクシノイルペルオキシドのようなアルキルペルオキシド
−デカリンヒドロペルオキシドおよび／またはテトラリンヒドロペルオキシドのようなヒドロキシペルオキシド
−メチルエチルケトンヒドロペルオキシドのようなケトンペルオキシド
【００４５】
−ブチルペルアセテート、クミルペルアセテート、クミルペルプロピオネート、シクロヘキシルペルアセテート、ジ−ｔ−ブチルペルアジぺート、ジ−ｔ−ブチルペルアゼラート、ジ−ｔ−ブチルペルグルタレート、ジ−ｔ−ブチルペルフタレート、ジ−ｔ−ブチルペルセバツァート、４−ニトロクミルペルプロピオネート、１−フェニルエチルペルベンゾエート、フェニルエチルニトロペンゾエート、ｔ−ブチル−ビシクロ−（２，２，１）ヘプタンペルカルボキシレート、ｔ−ブチル−４−カルボメトキシペルブチレート、ｔ−ブチルシクロブタンペルカルボキシレート、ｔ−ブチルシクロヘキシルペルオキシカルボキシレート、ｔ−ブチルシクロペンチルペルオキシカルボキシレート、ｔ−ブチルシクロプロパンペルオキシカルボキシレート、ｔ−ブチルジメチルペルシンナメート、ｔ−ブチル−２−（２，２−ジフェニルビニル）ペルベンゾエート、ｔ−ブチル−４−メトキシペルベンゾエート、ｔ−ブチルペルベンゾエート、ｔ−ブチルカルボキシシクロヘキサン、ｔ−ブチルペルナフトアート、ｔ−ブチルペルオキシイソブロピルカルボネート、ｔ−ブチルペルトルエート、ｔ−ブチル−１−フェニルシクロプロピルペルカルボキシレート、ｔ−ブチル−２−ブロピルペルペンテン−２−オアート、ｔ−ブチル−１−メチルシクロプロピルペルカルボキシレート、ｔ−ブチル−４−ニトロフェニルペルアセテート、ｔ−ブチルニトロフェニルペルオキシカルバメート、ｔ−ブチル−Ｎ−スクシンイミドペルカルボキシレート、ｔ−ブチルペルクロトネート、ｔ−ブチルペルマレイン酸、ｔ−ブチルペルメタクリレート、ｔ−ブチルペルクロトネート、ｔ−ブチルペルオキシイソプロピルカルボネート、ｔ−ブチルペルイソブチレート、ｔ−ブチルペルアクリレートおよび／またはｔ−ブチルペルプロピオネートのようなペルエステルおよびペルオキシカルボネート。
【００４６】
使用されるモノマーとしてはアクリル酸および次のものがある。
−アクリルアミド、アクリルニトリル、ベンジルアクリレート、ブチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、ドデシルアクリレート、エチルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、２−エトキシエチルアクリレート、グリシジルアクルラート、ヒドロキシエチルアクリレート、イソプロピルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、４−メトキシベンジルアクリレート、メチルアクリレート、アクリル酸ナトリウム、Ｎ−ｔ−ブトキシカルボニル−２−アミノエチルアクリレート、オクチルアクリレート、フェニルメチルアクリレート、フェニルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレートおよび／またはテトラヒドロフルフリルアクリレートのようなアクリル酸誘導体
【００４７】
−ジアリルジメチルシラン、ジアリル（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル）イソシアヌレート、ジアリルシアヌレート、ジアリルシアノエチルイソシアヌレート、ジアリルシアナミド、ジアリルマレイネート、ジアリルメラミン、ジアリルフタレートおよび／またはＮ，Ｎ’−ジアリル酒石酸ジアミドのようなジアリル化合物
−エチレングリコールジメタクリレート、プロピレングリコールジメタクリレート、トリメチレングリコールジメタクリレート、ブチレングリコールジメタクリレート、ペンタンジオールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレート、オクタンジオールジメタクリレート、ジグリコールジメタクリレートおよび／またはトリグリコールジメタクリレートのようなジメタクリレート
−ブタジエン、ブタジエン−１−カルボン酸、クロロプレン、シクロヘキサジエン、シクロペンタジエン、２，３−ジメチルブタジエン、１−エトキシブタジエン、１，４−ヘプタジエン、１，４−ヘキサジエン、１，６−ヘキサジエン、イソプレン、ノルボルナジエンおよび／または１，４−ペンタジエンのようなジエン
−グリセリントリメタクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレートおよび／またはペンタエリトリトテトラメタクリレートのようなポリメタクリレート
−トリアリルシトレート、トリアリルシアヌレート、トリアリルイソシアヌレートおよび／またはトリアリルホスフィンのようなトリアリル化合物
【００４８】
−アセトキシスチレン、アミノスチレン、ｔ−ブチルスチレン、ブロムスチレン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、ｍ−ジエチルアミノエチルスチレン、ジエチレングリコールモノビニルエーテル、ジメトキシスチレン、ジメチルスチレン、エトキシスチレン、エチルスチレン、エチルビニルスチレン、エチルビニルエーテル、エチルビニルピリジン、フルオロスチレン、２−ヒドロキシブチルスチレン、２−ヒドロキシプロピルスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、イソプロピルスチレン、メトキシスチレン、メチルクロロスチレン、α−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、メチルビニルアセテート、メチルビニルエーテル、メチルビニルピリジン、４−フェノキシスチレン、フェニルビニルエーテル、スチレン、トリメトキシスチレン、トリメチルスチレン、ビニルアセテート、ビニルアセトキシメチルケトン、ビニルアジぺート、９−ビニルアントラセン、ビニルベンゾエート、ビニルブチルエーテル、ビニルエチルケトン、ビニルブチレート、ビニルカルバゾール、ビニルシアノアセテート、ビニルドデシルエーテル、ビニルエーテル、ビニルエチルジエトキシシラン、ビニルエチルエーテル、ビニルエチレングリコールグリシジルエーテル、ビニルエチルヘキシルエーテル、ビニルエチルケトン、ビニルホルメート、ビニルフラン、ビニルヘキシルエーテル、ビニルイミダゾール、ビニルイソブチルエーテル、ビニルイソシアネート、ビニルイソプロピルエーテル、ビニルイソプロピルケトン、ビニルラウレート、ビニルメチルジアセトキシシラン、ビニルメチルジエトキシシラン、ビニルメチルエーテル、ビニルメチルケトン、ビニルナフタレン、ビニルオクタデシルエーテル、ビニルオクチルエーテル、Ｎ−ビニルオキサゾリドン、ビニルペラゴネート、ｏ−ビニルフェノール、ビニルフェニルジメチルシラン、ビニルフェニルエーテル、ビニルフェニルケトン、５−ビニルピコリン、ビニルプロピオネート、Ｎ−ビニルピリジン、Ｎ−ビニリピロリドン、ビニルステアレート、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニル−トリス（トリメトキシシロキシ）シランおよび／またはビニルトリメチルシランのようなモノビニル化合物
【００４９】
−ジビニルアニリン、ｍ−ジビニルベンゼン、ｐ−ジビニルベンゼン、ジエチレングリコールジビニルエーテル、ジビニルペンタン、ジビニルプロパンおよび／または１，３−ジビニル−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンのようなジビニル化合物
【００５０】
−アリルアセテート、アリルアクリレート、アリルアルコール、アリルペンゾール、アリルベンジルエーテル、３−アリル−１−ブテン、アリルブチルエーテル、アリルシアヌレート、アリルシクロヘキサン、アリルジエチルケトン、４−アリル−２，６−ジメトキシフェノール、アリルジメチルクロロシラン、アリルエポキシプロピルエーテル、アリルエチルエーテル、アリルグリシジリエーテル、アリルグリシジルヘキサヒドロフタレート、アリルグリシジルフタレート、アリルヘプタノエート、アリルヘキサノエート、アリルメタクリレート、アリルメトキシフェノール、アリルメチルエーテル、アリルメチルマレエート、アリルオキシ−２，３−プロパンジオール、Ｎ−アリルステアラミド、アリルトリルエーテル、アリルトリクロロシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリメトキシシラン、アリルトリメチルシラン、アリルトリフェニルシランおよび／またはアリルビニルエーテルのようなアリル化合物
【００５１】
−エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、トリメチレングリコールジアクリレート、ブチレングリコールジアクリレート、ペンタンジオールジアクリレート、ヘキサンジオールアクリレート、オクタンジオールジアクリレート、ジグリコールジアクリレートおよび／またはトリグリコールジアクリレートのようなジアクリレート
【００５２】
−アクリル、アリル、イソシアネート、オキサゾリンまたはビニル基を有するオリゴブタジエン、ポリシロキサンおよび／またはポリエーテルに基づく高分子化合物。
【００５３】
安定剤として特に０．０１より０．６質量％までのフェノール系酸化防止剤、０．０１より０．６％までの亜リン酸塩に基づく加工安定剤、０．０１より０．６％までのジスルフィドおよびチオエーテルに基づく高温度安定剤および０．０１より０．８％までの立体障害アミン（ＨＡＬＳ）から成る混合物が使用される。
【００５４】
適当なフェノール系酸化防止剤は２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール、２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−イソアミルフェノール、２  ６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジイソプロピルフェノール、２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、２  ６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、２−ｔ−ブチル−４，６−ジオクタデシルフェノール、２，５−ジ−ｔ−ブチルヒドロキノン、２  ６−ジ−ｔ−ブチル−４，４−ヘキサデシルオキシフェノール、２，２’−メチレン−ビス（６−ｔ−ブチル−４−メチルフェノール）、４，４’−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）、３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシルエステル、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼンおよび／またはペンタエリトリトールテトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）〕−プロピオナートである。
【００５５】
ＨＡＬＳ化合物としてビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペルジルセバツァートおよび／またはポリ−（〔１，１，３，３−テトラメチルブチル）−イミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４，ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２．２．６．６−テトラメチルピペリジル）−イミノ〕が特に適する。
【００５６】
放射線照射法において、９５より９９．９８質量％までのポリ（Ｃ1 〜Ｃ4 アルキルエチレン）および０．０２より５質量％までのアクリル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、アシル、アリル、イソシアネート、オキサゾリンまたはビニレン基を含むオリゴブタジエン、ポリシロキサンまたはポリエーテルに基づく高分子化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物から成る粉体混合物の調製は内部混合機、静的混合機または渦流反応器の中で行われることが特に好ましい。
【００５７】
溶融反応法において、特に３０より４５までのＬ／Ｄ比を有する二軸押出機が使用される。二つの反応段階のために有利な反応温度はポリ（エチルエチレン）ホモポリマーおよびコポリマーの使用の際は１４０より２５０℃までにあり、ポリ（メチルエチレン）ホモポリマーおよびコポリマーのためには１６５より２７０℃までに、そして（ポリイソブチルエチレン）ホモポリマーおよびコポリマーのためには２４０より３１０℃までにある。
【００５８】
固相反応法においては循環装置および循環担体ガス案内装置としてバンカー貯蔵タンクが特に適する。
【００５９】
本発明に適合するＨ−およびＹ−構造および２・１０-3より８・１０-3（kJ／モル・度）までのψ指数を有するポリ（アルキルエチレン）並びに変形されないポリ（アルキルエチレン）、安定剤、静電防止剤、顔料、核形成剤、充填剤、防火剤および／または加工補助剤の混合物は特にフイルム、コーティング、ロール、チューブおよびフォームの製造に適する。
【００６０】
【発明の実施の形態】
本発明は次の実施例により説明される。
【００６１】
【実施例】
例  １
「ガンマビーム」型のガンマ線照射装置の中に取り付けられている、１５リットルの容積の渦流層反応器の中へ、２４５０ｇの粉体ポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ、Ｍｗ＝８・１０5 ）を投入し、純窒素を含む渦流により不活性化する。９０℃に加熱の後、照射位置（線量率０．５５ＫＧｙ／時）において８時間の期間に渦流ガスを介して反応器内へ８．５ｇスチレン／時を供給する。線源を沈下させた後、改質されたポリ（アルキルエチレン）を不活性ガスの下で２５℃に冷却させ、０．１５％の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノールと０．２０％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートから成る混合物０．３５％（１０％アセトン溶液）を添加して安定化し、そしてＺＳＫ２０型のWerner & Pfleiderer 二軸押出機中の押し出しにより第２の反応段階において１６２℃における熱処理（滞留時間４．８分）を受けさせる。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン）は２．３・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３４５である。赤外スペクトルにより示されたスチレンに基づくポリマー橋状部分の配分は２．５質量％である。
【００６２】
例  ２
例１に従って渦流層反応器の中へ、３２８０ｇの粉体ポリ（エチルエチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分６モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス３．５ｇ／１０分）を投入し、純窒素を含む渦流により不活性化する。８０℃に加熱の後、照射位置（線量率０．５５ＫＧｙ／時）において３．５時間の期間に渦流ガスを介して反応器内へ２．５ｇ／時のアリルアクリレートを供給する。線源を沈下させた後、改質されたポリ（アルキルエチルエチレン−コ−エチレン）を不活性ガスの下で２５℃に冷却させ、０．２５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールと０．２０％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートから成る混合物０．４５％（１０％アセトン溶液）を添加して安定化し、そしてＺＳＫ２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中の押し出しにより第２の反応段階において１６６℃における熱処理（滞留時間４．２分）を受けさせる。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２９５である。赤外スペクトルにより示されたアリルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．２２質量％である。t/u-比は約１６になる。
【００６３】
例  ３
例１に従って渦流層反応器の中へ、３９６０ｇのポリ（イソブチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝３００Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）を投入し、純窒素を含む渦流により不活性化する。１４０℃に加熱の後、照射位置（線量率０．５５ＫＧｙ／時）において５．３時間の期間に渦流ガスを介して反応器内へ４．９ｇ／時のグリシジルアクリレートを供給する。線源を沈下させた後、改質されたポリ（イソブチルエチレン）を不活性ガスの下にさらに数時間放置してから、２５℃に冷却させ、０．２０％の２−ｔ−ブチル−４，６−ジジオクタデシルフェノールと０．２０％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートから成る混合物０．４０％（１０％アセトン溶液）を添加して安定化させる。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）は３．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝  Ｒ4 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝１７３である。赤外スペクトルにより示されたグリシジルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．５８質量％である。
【００６４】
例  ４
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下にポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ、Ｍｗ＝４・１０5 ）の上に０．１５％の２，６−ジシクロペンチル−４−メチルフェノール、０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートおよび３．２％のｔ−ブチルアクリレートを混入する。その粉体混合物の照射は渦流層反応器内でコックロフト−ワルトン型の電子加速機（ビーム流エネルギー３５００ＫｅＶ、２ｘ３５ＫＷ）により行われる。渦流層反応器（容積０．３ｍ3 、集流底０．９５ｘ０．２０ｍ）の狭い側の表面にスキャナーの二つの電子線出口窓が組みこまれている。１１０℃の照射温度において粉体混合物は０．５ｋｇ／秒の装入量で渦流層反応器に連続的に供給および排出され、続いて第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に１６５℃（滞留時間６．３分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン）ホモポリマーは３．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３１０およびｗ＝６２０である。ｔ−ブチルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は２．６５質量％である。
【００６５】
例  ５
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２６３Ｋ、Ｍｗ＝６・１０5 ）の上に０．３１％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートおよび０．３５％のジビニルペンゾールを混入する。その粉体混合物の照射は０．３ｍ3 渦流層反応器内で例４に従う電子線加速器により行われる。１１０℃の照射温度において粉体混合物は１．５ｋｇ／秒の装入量で渦流層反応器に連続的に供給および排出され、続いて第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に２２０℃（滞留時間４．９分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン）は４．１・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５４０である。赤外スペクトルにより示されたジビニルベンゾールに基づくポリマー橋状部分の配分は０．３２質量％である。
【００６６】
例  ６
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（エチルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体（フェニルエチレン含有量５モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス６．８ｇ／１０分）の上に０．１５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノール、０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートおよび１．２％のビニルトリメチルシランを混入する。その粉体混合物の照射は０．３ｍ3 渦流層反応器内で例４に従う電子線加速器により行われる。６５℃の照射温度において粉体混合物は０．７ｋｇ／秒の装入量で渦流層反応器に連続的に供給および排出され、続いて第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に１７０℃（滞留時間５．２分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体は３．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 、ｙ＋ｚ＝２１５である。赤外スペクトルにより示されたビニルトリメチルシランに基づくポリマー橋状部分の配分のは０．９５質量％である。t/u-比は約１９になる。
【００６７】
例  ７
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分８モル％、２３０℃におけるメルトインデックス０．８ｇ／１０分）の上に０．６％のアリルメタクリレートを混入する。その粉体混合物の照射は渦流層反応器内で３個のスキャナを備え付けられた直線電子加速器（ビームカレントエネルギー８０００ＫｅＶ、ビーム出力３ｘ５ＫＷ）により行われる。渦流層反応器（容積０．９４ｍ3 ）の流出底は一辺の長さ１．３ｍの等辺三角形の形を有する。その三つの側面にスキャナのビーム出口窓が組み込まれている。１７５℃の照射温度において粉体混合物は４０ｋｇ／分の装入量で渦流層反応器に連続的に供給および排出され、続いて第２の反応段階において０．１５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノールおよび０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートを添加してＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に２５５℃（滞留時間４．２分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２５０である。赤外スペクトルにより示されたアリルメタクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分のは０．５６質量％であり、t/u-比は約１１．５になる。
【００６８】
例  ８
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン含有量７モル％、Ｍｗ＝３．５・１０5 ）の上に０．２５％のグリセリントリメタクリレートおよび０．６５％のベヘン酸を混入する。その粉体混合物の照射は渦流層反応器内で例７に従う照射装置により３５ｋｇ／分の装入量でおよび１２５℃の照射温度において行われる。０．２％の４，４’−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）および０．１５％のポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−イミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕を添加の後、その粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に２１５℃（滞留時間４．６分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は４．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３５０およびｗ＝７００である。グレセリントリメタクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分のは０．２４％である。
【００６９】
例  ９
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（メチルエチレン分９２モル％、２３０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス１．８ｇ／１０分）の上に０．３２％のアリルグリシジルフタレートが混入される。その粉体混合物の照射は渦流層反応器内で例７に従う照射装置により３７ｋｇ／分の装入量でおよび１２５℃の照射温度において行われる。０．２％の４，４’−チオ−ビス−（６−ｔ−ブチル−２−メチルフェノール）および０．１５％のポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチル）−イミノ〕−１，３，５−トリアジン−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕を添加の後、その粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に２０５℃（滞留時間４．８分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体は４．１・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、ｙ＋ｚ＝７７０である。赤外スペクトルにより示されたアリルグリシジルフタレートに基づくポリマー橋状部分の配分のは約０．３０質量％であり、t/u-比は約０．０８になる。
【００７０】
例  １０
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（イソブチルエチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体（ｎ−ブチルエチレン分４２モル％、２３０℃／４９Ｎにおけるメルトインデックス０．９ｇ／１０分）の上に０．２２％のエチレングリコールジアクリレートが叩きつけられ、そしてその粉体混合物は不活性ガス圧力によりバンドビーム型の低エネルギー加速器（電子エネルギー２５０ＫｅＶ、ビーム出力４ｘ１０ＫＷ）の４個の組み込まれた陰極および組み込まれた振動装置を有する０．２０ｘ３．５０ｍのカセット反応器の中に運びこまれ、１６０℃の照射温度における装入量は４３ｋｇ／分になる。０．１８％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノールおよび０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートを添加の後、その粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の Werner & Pfleiderer二軸押出機中で不活性条件下に２５５℃（滞留時間５．３分）で熱処理を受ける。その結果生成する変形されないおよび構造異性体のポリ（イソブチルエチレン−コ−ブチルエチレン）共重合体から成る混合物は３．１・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有し、そしてその構造異性体ポリ（アルキルエチレン）はＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−Ｃ4 Ｈ9 、ｙ＋ｚ＝４１０である。赤外スペクトルにより示されたエチレングリコールジアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分のは約０．２１質量％であり、t/u-比は約１．４になる。
【００７１】
例  １１
例１０に記載の照射装置を有するカセット反応器中にポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｍｗ＝４．９・１０5 、Ｔｇ＝２６５Ｋ）を９７％純窒素および３％ブタジエンから成る担体ガス流により送り込み、１６０℃の照射温度における渦を巻いて流れるバルク層の装入量は３１ｋｇ／分になる。０．２５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールおよび０．２０％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートから成る０．４５％の混合物を添加して後、その粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型のWerner & Pfleiderer 二軸押出機中で不活性条件下に２００℃（滞留時間５．１分）で熱処理を受ける。その結果生成する構造異性体のポリ（メチルエチレン）と変形されないポリ（メチルエチレン）ホモポリマーから成る混合物は２．９・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数および７．７・１０4 のＭｗ値を有する。
【００７２】
例  １２
内部混合器の中で窒素ガス遮蔽の下に粉体のポリ（エチルエチレン−コ−クロロエチレン）共重合体（クロロエチレン含有量４モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス３．２ｇ／１０分）の上に３．９％のメチルメタクリレートが混入され、そして例１０に記載の照射装置の付いたカセット反応器の中へガス圧で送りこまれ、６０℃の照射温度における渦を巻いて流れるバルク層の装入量は１８ｋｇ／分になる。０．２５％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールおよび０．１５％のビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートから成る０．４０％の混合物を添加して後、その粉体混合物は第２の反応段階においてＺＳＫ１２０型の  Werner & Pfleiderer 二軸押出機中で不活性条件下に１６５℃（滞留時間５．９分）で熱処理を受ける。その結果生成する変形されないおよび構造異性体のポリ（エチルエチレン−コ−クロロエチレン）共重合体から成る混合物は２．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有し、そしてその変形されたポリ（アルキルエチレン）はＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃｌおよびｙ＋ｚ＝３２５である。メチルメタクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分のは３．１質量％である。
【００７３】
例  １３
例１に記載の構造異性体のポリ（エチルエチレン）４０部を６０部の変形されないポリ（ブチルエチレン）、０．２３部の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、０．１０部のベヘン酸、０．２０部のステアリン酸カルシウムおよび０．２０部のポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチルイミノ〕トリアジン−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕と混合してから、押出機の中で１４０／１６５／１７５／１７５／１７５／１７０／１５５℃で均一化する。その結果生成する化合物は２．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有する。
【００７４】
例  １４
例５、８および９に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の各２０部を１５部の変形されないポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分５０％）、１５部の変形されないポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（エチレン分１５％）、９部のタルクおよび１部のカーボンブラックと混合してから、押出機の中で１４０／１９０／２３０／２２０／２２０／２１０／２００℃で均質化する。そのポリマーアロイは２．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有する。
【００７５】
例  １５
例７に記載の構造異性体ポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体をフィッシュテイルダイの付いた押出機の中で２５５より２７５℃までの温度でプレートに押し出す。フライス加工された試験片は次の特性値、引っ張り強さ２７ＭＰａ、切断点伸び１６％、引っ張り弾性率１．６ＧＰａ、曲げ弾性率１．４ＧＰａ、を有する。変形されないポリ（イソブチルエチレン）について対応する特性値はそれぞれ２３ＭＰａ，１６％，１．２ＧＰａおよび１．１ＧＰａである。
【００７６】
例  １６
二軸押出機  Werner & Pfleiderer ＺＳＫ３０，Ｌ／Ｄ＝４２の中に、不活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよびストランド造粒を伴って、１４０／１７０／１６５／１９０／１６５／１９０／１４５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ，Ｍｗ＝８・１０5 ）を１６ｋｇ／時で投入する。その溶融物の中へゾーン３において０．６４  ｌ／時でｔ−ブチルペルベンゾエートのアセトン中２０％溶液を投入する。ゾーン５の中へ別の計量ポンプを経由して０．６１  ｌ／時でビニルトリメトキシシランおよび０．６４
ｌ／時でｔ−ブチルペルベンゾエートのアセトン中２０％溶液を投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン）は３．３・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝３８０である。赤外スペクトルにより示されたビニルメトキシシランに基づくポリマー橋状部分の配分は３．２質量％である。
【００７７】
例  １７
例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、１４０／１７０／１６５／１９０／１６５／１９０／１４５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分６モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス３．９ｇ／１０分）を１２ｋｇ／時で投入する。その溶融物の中へゾーン３において０．４８  ｌ／時でｔ−ブチルペルトルアートのアセトン中１０％溶液を投入する。ゾーン５の中へ別の計量ポンプを経由して０．１１  ｌ／時でアリルメチルマレアートおよび０．８４  ｌ／時でｔ−ブチルペルトルアートのアセトン中１０％溶液を投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）コポリマーは３．１・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２７５である。赤外スペクトルにより示されたアリルメチルマレアートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．７５質量％である。t/u-比は約１６になる。
【００７８】
例  １８
例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、１４０／１７５／１９０／１６５／１９０／１８０／１４５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（メチルエチレン分９２モル％、２３０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス１．８ｇ／１０分）、（既に内部混合器内でその上に０．１７％の３−メトキシベンゾイルペルオキシドが混入されていた）、を２１ｋｇ／時で投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由して０．１６  ｌ／時でアリルグリシジルヘキシルヒドロフタレートと共に０．１８  ｌ／時で３−メトキシペンゾイルペルオキシドのメチルエチルケトン中２０％溶液を投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体は４．１・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、ｙ＋ｚ＝７９０である。赤外スペクトルにより示されたアリルグリシジルヘキシルヒドロフタレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．６２質量％であり、t/u-比は約０．０８になる。
【００７９】
例  １９
例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、２４５／２７０／２８０／２６０／２８０／２７０／２５０℃の温度プロフィールで、ポリ（イソブチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝３００Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）（既にその上に０．１８％のｔ−ブチルペルオキシドが混入されていた）を１８ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由して０．３４  ｌ／時でｔ−ブチルクミルペルオキシドのジエチルケトン中１０％溶液および０．１２  ｌ／時でジアリルフタレートを投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）は３．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 および  Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝１９０である。赤外スペクトルにより示されたジアリルフタレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．５２質量％である。
【００８０】
例  ２０
例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、１７０／２０５／１８５／１７０／２１０／１７０／１６０℃の温度プロフィールで、ポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２６３Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）（既にその上に内部反応器内で０．３１％の２，６−ジ−ｔ−ブチル−４−メトキシメチルフェノールが混入されていた）を１４ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由して０．３６  ｌ／時でベンゾイルペルオキシドのアセトン中１０％溶液および０．０４２  ｌ／時でジビニルベンゾールを投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン）は３．９・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 および  Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５８０である。赤外スペクトルにより示されたジビニルベンゼンに基づくポリマー橋状部分の配分は０．２７質量％である。
【００８１】
例  ２１
例１６に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、２２０／２６０／２４５／２８０／２４５／２７０／２３５℃の温度プロフィールで、ポリ（イソブチルエチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体（ｎ−ブチルエチレン分４２モル％、２３０℃／４９Ｎにおけるメルトインデックス０．９ｇ／１０分）を１９．５ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。その溶融物の中にゾーン３でクミルヒドロペルオキシドのアセトン中２０％溶液を０．１９５  ｌ／時で投入する。押出機のゾーン５の中へ別の計量ポンプを経由してクミルヒドロペルオキシドのアセトン中２０％溶液を０．１４  ｌ／時でおよびオクタンジオールジメタクリレートを０．２３  ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体は３．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 および  Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ｎ−Ｃ4 Ｈ9 、ｙ＋ｚ＝４１０である。赤外スペクトルにより示されたオクタンジオールジメタクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は１．０５質量％であり、t/u 比は約１．４になる。
【００８２】
例  ２２
二軸押出機  Werner & Pfleiderer ＺＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよび水中造粒を伴って、１４０／１６５／１５５／１８０／１５５／１８５／１５５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体（フェニルエチレン含有量５モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス６．８ｇ／１０分）を３２ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。その溶融物の中にゾーン３でデカリンヒドロペルオキシドのメチルエチルケトン中２０％溶液を０．１６  ｌ／時で投入する。押出機のゾーン５の中へ別の計量ポンプを経由してデカリンヒドロペルオキシドの２０％溶液を０．１４  ｌ／時でおよびグリシジルアクリレートのエタノール中５０％溶液を０．２９  ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−フェニルエチレン）共重合体は４．０３・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃ6 Ｈ5 、ｙ＋ｚ＝２４０である。赤外スペクトルにより示されたグリシジルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．４３質量％であり、t/u 比は約１９になる。
【００８３】
例  ２３
例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、２４５／２７０／２５５／２８０／２８５／２８０／２５０℃の温度プロフィールで、ポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分８モル％、２３０℃におけるメルトインデックス０．８ｇ／１０分）を３８ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。その溶融物の中にゾーン３でｔ−ブチルヒドロペルオキシドのジエチルケトン中２０％溶液を１．７１  ｌ／時で投入する。押出機のゾーン５の中へ別の計量ポンプを経由してｔ−ブチルクミルペルオキシドのメチルエチルケトン中２０％溶液を０．９５  ｌ／時でおよびアリル末端基を有するポリエチレングリコールに基づく液体ポリエーテル（分子量１４５０）を１．７１  ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は３．８・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｒ4 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２７０である。赤外スペクトルにより示されたアリル末端基を有するポリエーテルに基づくポリマー橋状部分の配分は４．１％であり、t/u 比は約１１．５になる。
【００８４】
例  ２４
例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、７０／２００／２３０／２３０／２１０／２００／２００℃の温度プロフィールで、ポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｍｗ＝４．９・１０5 ，Ｔｇ＝２６５Ｋ）（既にその上に０．１％のｔ−ブチルペルオキシベンゾエート、０．２％のベンゼンプロピオン酸−３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−２，２−ビス｛〔３−〔３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル〕−１−オキソプロポキシ〕−メチル｝−１．３−プロパンジイルエステルおよび０．１％のジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエンから成る混合物が混入されていた）を１４．４ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。ゾーン３の投入孔の中にポリ（メチルエチレン）ホモポリマーと０．２％のｔ−ブチルペルオキシベンゾエートおよび０．３％のジブチルベンゼンから成る混合物が２１．６ｋｇ／時で投入される。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン）と変形されないポリ（メチルエチレン）ホモポリマーから成る混合物は４．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数および７．４・１０のＭｎ−値を有する。
【００８５】
例  ２５
例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、１４０／１６５／１８０／１５５／１８５／１８５／１５５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレン−コ−クロロエチレン）共重合体（クロロエチレン含有量４モル％、１９０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス３．２ｇ／１０分）（既にその上に内部反応器内で０．０２６ｋｇのｔ−ブチルペルベンゾエートおよび０．０８４ｋｇのステアリン酸カルシウムが混入されていた）を４３ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由してクミルペルオキシドのアセトン中２０％溶液を０．０６６  ｌ／時でおよびトリアリルイソシアヌラートのアセトン中１０％溶液２．３６  ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−クロロエチレン）共重合体は３．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝Ｃｌおよびｙ＋ｚ＝３１０である。トリアリルイソシアヌラートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．５３％である。
【００８６】
例  ２６
例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、１８０／２１０／２３０／１９５／２３５／２３５／１９０℃の温度プロフィールで、ポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン含有量７％、Ｍｗ＝３．５・１０5 ）（既に内部混合器内でその上に０．１２３ｋｇの２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールおよび０．１８５ｋｇのベヘン酸が混入されていた）を３９ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由してジ−ｔ−ブチルペルアジパートのメチルエチルケトン中２０％溶液を０．１５４  ｌ／時でおよびをトリメチロールプロパントリメチルアクリレートの５０％溶液を０．１１５  ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は４．８・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋ｚ＝３４０およびｗ＝６８０である。トリメチロールプロパントリメチルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．１５％である。
【００８７】
例  ２７
例２２に記載のWerner & Pfleiderer 二軸押出機の中に、１４０／１７０／１９０／１６５／１８５／１８０／１５５℃の温度プロフィールで、ポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ、Ｍｗ＝４・１０5 ）（既にその上に０．０６６ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートおよび０．０４５ｋｇのビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ピペリジルセバツァートが混入させられていた）を３３ｋｇ／時で二軸押出機の供給漏斗に投入する。押出機のゾーン４の中へ別の計量ポンプを経由してｔ−ブチルペルトルアートのアセトン中２５％溶液を０．２５  ｌ／時でおよびエチルヘキシルアクリレートを１．１５  ｌ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン）ホモポリマーは３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋ｚ＝２４０およびｗ＝６８０である。エチルヘキシルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．１５％である。
【００８８】
例  ２８
例１６に記載の構造異性体ポリ（エチルエチレン）の４０部を、６０部の変形されないポリ（ブチルエチレン）、０．２３部の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、０．１０部のベヘン酸、０．２０部のステアリン酸カルシウムおよび０．２０部のポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチルイミノ〕トリアジン−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕と混合してから、押出機の中で１４０／１６５／１７５／１７５／１７５／１７０／１５５℃で均一化する。その結果生成する化合物は２．９・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有する。
【００８９】
例  ２９
例２０、２４および２６に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の各２２部を、１５部の変形されないポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分５０％）、１０部の変形されないポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（エチレン分１５％）、８部のタルクおよび１部のカーボンブラックと共に、押出機の中で１４０／１９０／２３０／２２０／２２０／２１０／２００℃で均質化する。そのポリマーアロイは２．７・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有する。
【００９０】
例  ３０
例１９に記載の構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）をフィッシュテイルダイの付いた押出機の中で２６５より２８５℃までの温度でプレートに押し出す。フライス加工された試験片は次の特性値、引っ張り強さ２８ＭＰａ、切断点伸び１５％、引っ張り弾性率１．７ＧＰａ、曲げ弾性率１．５ＧＰａ、を有する。変形されないポリ（イソブチルエチレン）について対応する特性値はそれぞれ２４ＭＰａ，１５％，１．３ＧＰａおよび１．２ＧＰａである。
【００９１】
例  ３１
羽根車攪拌装置の付いたバンカー貯蔵タンク、充填容積０．２ｍ3 、の中へ５０ｋｇのポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（メチルエチレ分９２モル％、２３０℃／２１．１９Ｎにおけるメルトインデックス１．８ｇ／１０分）を空気圧で投入する。蒸発装置の上で１５０ｇのグリシジルアクリレートおよび１３５ｇのメトキシベンゾイルペルオキシドを真空下に蒸発させて、循環ガスを仲立ちとして前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は３５０Ｋにおいて粉体の共重合体に吸収される。その混合物を二軸押出機  Werner & Pfleiderer ＺＳＫ３０，Ｌ／Ｄ＝４２の中に、不活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよびストランド造粒を伴って、１００／１４５／１７５／１８０／１８５／１７０／１４５℃の温度プロフィールで２４ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体は４．０・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｃ2 Ｈ5 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、Ｒ4 ＝ＣＨ3 、ｙ＋ｚ＝８２０である。赤外スペクトルにより示されたグリシジルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．２８質量％であり、t/u 比は約０．０８になる。
【００９２】
例  ３２
例３１に記載のバンカー貯蔵タンクの中へ６２ｋｇの粉体のポリ（エチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２４８Ｋ，Ｍｗ＝４・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸発装置の上で１．８６ｋｇのエチルヘキシルアクリレートおよび０．３９ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートを真空下に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は３４０Ｋにおいて粉体ポリマーに吸収される。その混合物を例１に記載の二軸押出機に９０／１３０／１７０／１７５／１８０／１７０／１４５℃の温度プロフィールで１９ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（エチルエチレン）ホモポリマーは２．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝Ｃ2 Ｈ5 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋ｚ＝３３０およびＷ＝６６０である。エチルヘキシルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は約２．７５％である。
【００９３】
例  ３３
例３１に記載のバンカー貯蔵タンクの中へ４８６２ｋｇの粉体のポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝２６３Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸発装置の上で１６８ｇのアリルアクリレートおよび１２０ｇのジ−ｔ−ブチルペルベンゾエートを真空下に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は３５５Ｋにおいて粉体ポリマーに吸収される。その混合物を例３１に記載の二軸押出機に１００／１４５／１８０／１８５／１８０／１７５／１６０℃の温度プロフィールで２２ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン）は４．０・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５７０である。赤外スペクトルにより示されたアリルアクリレートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．３３％である。
【００９４】
例  ３４
例３１に記載のバンカー貯蔵タンクの中へ４６ｋｇの粉体のポリ（イソブチルエチレン）ホモポリマー（Ｔｇ＝３００Ｋ，Ｍｗ＝６・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸発装置の上で２６７ｇのアリルメチルマレアートおよび１６１ｇのｔ−ブチルヒドロペルオキシドを真空下に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は４３０Ｋにおいて粉体ポリマーに吸収される。その混合物を例１に記載の二軸押出機に１７０／２２０／２６０／２６５／２６０／２５０／２３５℃の温度プロフィールで１６ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）は３．３・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２０５である。赤外スペクトルにより示されたアリルメチルマレアートに基づくポリマー橋状部分の配分は０．５４％である。
【００９５】
例  ３５
羽根車攪拌装置の付いたバンカー貯蔵タンク、充填容積１．０ｍ3 、の中へ２５０ｋｇの粉体ポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン含有量７％、Ｍｗ＝３．５・１０5 ）を空気圧で投入する。蒸発装置の上で０．５ｋｇのジビニルペンゾールおよび０．５ｋｇのｔ−ブチルペルベンゾエートを真空下に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は４００Ｋにおいて粉体共重合体に吸収される。二軸押出機Werner & Pfleiderer ＺＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、３回の配分コンベヤー計量、真空ガス抜きおよび水中造粒を伴って、１００／１４５／１８０／１８５／１８０／１７５／１６０℃の温度プロフィールでその変性剤を添加された共重合体を４５ｋｇ／時で、並びに１０％バッチの２−ｔ−ブチル−４−メチルフェノールを１３ｋｇ／時でおよびベヘン酸を０．３５ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体は４．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ＣＨ3 、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈおよびｙ＋ｚ＝３５０およびｗ＝７００である。ジビニルペンゾールに基づくポリマー橋状部分の配分は０．１８％である。
【００９６】
例  ３６
例３５に記載のバンカー貯蔵タンクの中に２２０ｋｇの粉体ポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分８モル％、２３０℃におけるメルトインデックス０．８ｇ／１０分）を投入する。蒸発装置の上で６．６ｋｇのビニルトリメトキシシランおよび１．１ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートを真空下に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は４４５Ｋにおいて粉体共重合体に吸収される。二軸押出機Werner & Pfleiderer ＺＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、３回の配分コンベヤー計量、真空ガス抜きおよび水中造粒を伴って、１７０／２２０／２６０／２６５／２６０／２５０／２３５℃の温度プロフィールでその変性剤を添加された共重合体を３８ｋｇ／時で、並びにステアリン酸カルシウムを３８ｋｇ／時でおよび１０％バッチの３（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオン酸オクタデシルエステルおよびビス−２，２，６，６−テトラメチル−４−ビペリジルセバツァートを９．５ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（イソブルエチレン−コ−エチレン）共重合体は３．４・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝ｉ−Ｃ4 Ｈ9 、Ｒ2 ＝Ｒ4 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝２７０である。赤外スペクトルにより示されたビニルトリメトキシシランに基づくポリマー橋状部分の配分は２．８％であり、t/u 比は約１１．５になる。
【００９７】
例  ３７
例３５に記載のバンカー貯蔵タンクの中に２７０ｋｇの粉体ポリ（メチルエチレン）ホモポリマー（Ｍｗ＝４．９・１０5 、Ｔｇ＝２６５Ｋ）（既にその上に０．２％のペンゼンプロピオン酸−３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシ−２，２−ビス｛〔３−〔３，５−ビス（１，１−ジメチルエチル）−４−ヒドロキシフェニル〕−オキソプロポキシ〕メチル｝−１，３−プロパンジイルエステルおよび０．１％のジ−ｔ−ブチルヒドロキシトルエンが混入されていた）を空気圧で投入する。蒸発装置の上で４．０５ｋｇのスチレンおよび０．８１ｋｇのｔ−ブチルペルトルアートを真空下に蒸発させて、循環ガスを媒介として前記のタンクの中に運び込み、そこでそれらの変性剤は３８５Ｋにおいて粉体共重合体に吸収される。二軸押出機Werner & Pfleiderer ＺＳＫ５３，Ｌ／Ｄ＝３６の中に、不活性ガス遮蔽、真空ガス抜きおよび水中造粒を伴って、１００／１４５／１８０／１８５／１８０／１７５／１６０℃の温度プロフィールでその粉体混合物を４８ｋｇ／時で投入する。その結果生成する構造異性体ポリ（メチルエチレン）は４．２・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有しかつＨ−およびＹ−構造にあり、そこでＲ1 ＝Ｒ3 ＝Ｒ4 ＝ＣＨ3 およびＲ2 ＝Ｒ5 ＝Ｈ、ｙ＋ｚ＝５９０である。赤外スペクトルにより示されたスチレンに基づくポリマー橋状部分の配分は１．３３％である。
【００９８】
例３８
例３４に記載の構造異性体ポリ（イソブチレン）４５部を、５５部の変形されないポリ（イソブチレン）、０．２８部の２−ｔ−ブチル−４，６−ジメチルフェノール、０．１５部のベヘン酸、０．２５部のステアリン酸カルシウムおよび０．１５部のポリ（〔１，１，３，３，−テトラメチルブチルイミノ〕トリアジン−２，４−ジイル）〔２，２，６，６−テトラメチルピペリジル）−アミノ〕−ヘキサメチレン−４−（２，２，６，６−テトラメチル）ピペリジル）イミノ〕と混合してから、押出機の中で２４５／２７０／２８０／２８０／２８０／２７０／２５０℃で均一化する。その結果生成する化合物は２．７５・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有する。
【００９９】
例  ３９
例３１、３２および３３に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の各２２部を、２０部の変形されないポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体（エチレン分８％）、１０部の変形されないポリ（エチルエチレン−コ−メチルエチレン）共重合体（エチレン分１５％）、９部のタルクおよび１部のカーボンブラックと共に、押出機の中で１４５／１９０／２３０／２３０／２２０／２１０／２００℃で均質化する。そのポリマーアロイは２．６・１０-3（kJ／モル・度）のψ指数を有する。
【０１００】
例  ４０
例３４に記載の構造異性体ポリ（イソブチルエチレン）をフィッシュテイルダイの付いた押出機の中で２６０より２８０℃までの温度でプレートに押し出す。フライス加工された試験片は次の特性値、引っ張り強さ２９ＭＰａ、切断点伸び１４％、引っ張り弾性率１．８ＧＰａ、曲げ弾性率１．６ＧＰａ、を有する。変形されないポリ（イソブチルエチレン）について対応する特性値はそれぞれ２４ＭＰａ，１５％，１．３ＧＰａおよび１．２ＧＰａである。
本発明に関して、更に以下の内容を開示する。
（１）  ポリ（アルキルエチレン）のＨ−およびＹ−構造、および２・１０−３より８・１０−３（kJ/ モル・度）までのψ指数を有することを特徴とする改良された加工性および低下した不安定性を有する構造異性体ポリ（アルキルエチレン）において、
【数３】
ψ＝  Tm・△Hm・β・ζ・Tg−１（kJ/ モル・度）
〔Tm＝融点（°K）              △Hm＝融解熱（kJ/ モル）
β＝25℃における線熱膨張係数（1/度）
ζ＝閾値（ISO 1131による MFI測定における構造異性体ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径／非変形ポリ（アルキルエチレン）のロープ直径）
Tg＝ガラス転移温度（°K）〕の関係式を満たし、
構造式、
【化５】
0004007635.tif 000004
（Ｒ１＝Ｃ１〜Ｃ４アルキル；Ｒ２＝Ｈ；t/u ＝０．０３〜３０；
Ｒ３＝Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＨ；Ｒ４＝Ｈ，Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル；Ｒ５＝ＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキル； y+z＝１５０〜３０００；
Ξ＝アクリル酸、Ｃ４〜Ｃ１２−アクリル酸誘導体、Ｃ３〜Ｃ２１−アリル化合物、Ｃ８〜Ｃ１４−ジアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１６−ジアリル化合物、Ｃ４〜Ｃ１０−ジエン、Ｃ９〜Ｃ１５−ジメタアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１０−ジビニル化合物、Ｃ３〜Ｃ１６−モノビニル化合物、Ｃ１２〜Ｃ１７−ポリアクリレート、Ｃ１５〜Ｃ２１−ポリメタクリレートおよび／またはＣ９〜Ｃ１２−トリアリル化合物に基づくポリマー橋状部分）
のＨ−構造高分子を有するポリ（アルキルエチレン）、
および構造式、
【化６】
0004007635.tif 000005
（Ｒ１＝Ｃ１〜Ｃ４アルキル；Ｒ２＝Ｈ；Ｒ３＝Ｃ１〜Ｃ４アルキルまたはＨ；Ｒ４＝Ｈ，Ｃ１〜Ｃ４アルキル、ハロゲンまたはアリール、特にフェニル；Ｒ５＝ＨまたはＣ１〜Ｃ４アルキル； y+z＝１５０〜３０００；  t/u ＝０．０３〜３０；ｗ＝２５０〜５０００；
Ξ＝アクリル酸、Ｃ４〜Ｃ１２−アクリル酸誘導体、Ｃ３〜Ｃ２１−アリル化合物、Ｃ８〜Ｃ１４−ジアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１６−ジアリル化合物、Ｃ４〜Ｃ１０−ジエン、Ｃ９〜Ｃ１５−ジメタアクリレート、Ｃ７〜Ｃ１０−ジビニル化合物、Ｃ３〜Ｃ１６−モノビニル化合物、Ｃ１２〜Ｃ１７−ポリアクリレート、Ｃ１５〜Ｃ２１−ポリメタクリレートおよび／またはＣ９〜Ｃ１２−トリアリル化合物に基づくポリマー橋状部分）
のＹ−構造高分子を有するポリ（アルキルエチレン）、
であり、かつＨ−またはＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）におけるポリマー橋状部分は０．１〜５質量％になる、前記の改良された加工性および低下した不安定性を有する構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
（２）  構造異性体ポリ（アルキルエチレン）が次の置換基Ｒ１〜Ｒ５までとの構造の組み合わせにより定義されることを特徴とする（１）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
ａ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝Ｃ２Ｈ５およびＲ２＝Ｒ５＝Ｈ
ｂ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｃ２Ｈ５，Ｒ２＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｈおよび t/u＝１．２〜３２
ｃ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝ｉ−Ｃ４Ｈ９およびＲ２＝Ｒ５＝Ｈ
ｄ）Ｒ１＝Ｒ３＝ｉ−Ｃ４Ｈ９，Ｒ２＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｈおよび t/u＝１．２〜３２
ｅ）Ｒ１＝Ｒ３＝ｉ−Ｃ４Ｈ９，Ｒ２＝Ｒ５＝Ｈ，Ｒ４＝ｎ−Ｃ４Ｈ９およびt/u＝０．０３〜３
ｆ）Ｒ１＝Ｒ３＝Ｒ４＝ＣＨ３およびＲ２＝Ｒ５＝Ｈ
ｇ）Ｒ１＝Ｒ３＝ＣＨ３，Ｒ２＝Ｒ４＝Ｒ５＝Ｈおよび t/u＝１．２〜３２
ｈ）Ｒ１＝Ｒ３＝ＣＨ３，Ｒ２＝Ｒ５＝Ｈ，Ｒ４＝Ｃｌおよびt/u＝０．０３〜５。
（３）  Ｈ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）が（２）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）の混合物であることを特徴とする（１）および（２）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
（４）  ψ指数が２．５・１０−３〜６・１０−３（kJ/ モル・度）になることを特徴とする（１）〜（３）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
（５）  構造異性体ポリ（アルキルエチレン）において橋状部分Ξが１．５〜５質量％のモノビニル化合物から成るモノマー単位、０．１〜２質量％のジビニル化合物から成るモノマー単位、０．２〜４．５質量％のアリル化合物から成るモノマー単位、０．１〜１．６質量％のジアクリレートから成るモノマー単位、０．１〜１．２質量％のポリアクリレートから成るモノマー単位、０．２〜１．８質量％のアクリル酸および／またはアクリル酸誘導体から成るモノマー単位、０．２〜１．８質量％のジアリル誘導体から成るモノマー単位、０．１〜１．６質量％のジメタクリレートから成るモノマー単位、０．１〜１．６質量％のジエンから成るモノマー単位、０．１〜１．２質量％のポレメタクリレートから成るモノマー単位および／または０．１〜１．４質量％のトリアリル化合物から成るモノマー単位を有することを特徴とする（１）〜（４）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）。
（６）  該混合物が３〜９７％（１）〜（５）に記載のＨ−およびＹ−構造を有するポリ（アルキルエチレン）、９７〜３％の非変形ポリ（アルキルエチレン）、０．５〜４５％の慣用の補助剤、特に０．０１〜０．６質量％のフェノール系酸化防止剤、０．０１〜０．６％の亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤、０．０１〜０．６％のジスルフィドおよびチオエーテルを主成分とする高温度安定剤および０．０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡＬＳ）および場合により０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５〜１％の核形成剤、５〜４０％充填剤、２〜２０％防火剤および／または０．００１〜１％の加工補助剤から成り、かつ２・１０−３〜７．８・１０−３（kJ/ モル・度）のψ指数を有することを特徴とするポリ（アルキルエチレン）から成る混合物。
（７）  （１）〜（６）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、好ましくは連続プロセス運転下で、
−第１の反応段階において０．０２〜５質量％のアクリル酸、アクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物との粉体混合物は渦流層において、好ましくは不活性条件下に、３００〜５００°Ｋにおいて、場合により追加の慣用の補助剤、特に０．０１〜０．６質量％のフェノール系酸化防止剤、０．０１〜０．６％のジスルフィドおよびポリエーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１〜０．６％の亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤および／または０．０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡＬＳ）、０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５〜１％の核形成剤、５〜４０％の充填剤、２〜２０％の防火剤および／または０．００１〜１％の加工補助剤の存在で、好ましくは連続的製品供給および製品排出装置を有する渦流層反応器内で、特に線源としてコバルト−６０を含む核種照射装置により、３００〜４５００ＫｅＶの線流エネルギーを有するコックロフト−ワルトン型の電子加速器により、１０００〜１００００ＫｅＶの線流エネルギーを有するリニァー加速型の電子加速器により１５０〜１００００ＫｅＶのエネルギーのイオン化放射線に０，５〜８０ＫＧｙの照射線量でさらされ、そして
−第２の反応段階において照射された粉体混合物の熱処理が３８０〜５５０°Ｋにおいて、特に押出機内で４１０〜５５０°Ｋの範囲内の温度でおよび２〜１０分間の反応時間でまたは固相内で３８０〜５００°Ｋの範囲内の温度で５〜６０分間の反応時間において行われ、その際熱処理の前にさらに慣用の安定剤を０．０１〜０．６％の濃度を添加することができる、ことを特徴とする（１）〜（６）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
（８）  （１）〜（６）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、押出機内の溶融物の中で、特に不活性条件下で、
−第１の反応段階において、内部混合機内でポリ（アルキルエチレン）の上に混入されて一緒に投与されるかまたは押出機のゾーン２〜４にポリ（アルキルエチレン）溶融物の中に溶液として投与される０．０１〜３質量％のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステルと反応させられ、そして
−第２の反応段階において０．０１〜５質量％のアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物と、０．００１〜３．０質量％のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステルの存在で、また場合によりその他の補助剤、特に０．０１〜０．６質量％のフェノール系酸化防止剤、０．０１〜０．６％のジスルフィドおよびポリエーテルを主成分とする高温度安定剤、０．０１〜０．６％の亜リン酸塩を主成分とする加工安定剤および／または０．０１〜０．８％の立体障害アミン（ＨＡＬＳ）、０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５〜１％の核形成剤、５より４０％までの充填剤、２より２０％までの防火剤および／または０．００１より１％までの加工補助剤、と共に１４０より３２０℃までの温度で反応させられ、その際核形成剤とモノマーは分離された配量装置を経由しておよび／または溶液として一緒に押出機のゾーン３〜６の中に、場合によりさらにポリ（アルキルエチレン）分量と共に、投与される、
ことを特徴とする（１）〜（６）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
（９）  （１）〜（６）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（Ｃ１〜Ｃ４アルキルエチレン）は、好ましくは連続プロセス運転下で、微粉末として、好ましくは不活性条件下で、
−第１の工程において、循環装置および循環担体ガス案内装置の付いた反応器の中で２９０°Ｋ〜５００°Ｋの温度において、０．０５〜３．０質量％のアシルペルオキシド、アルキルペルオキシド、ヒドロペルオキシドおよび／またはペルエステル並びに０．０５〜５質量％のアクリル酸またはアクリル酸誘導体、アリル化合物、ジアクリレート、ジアリル化合物、ジエン、ジメタクリレート、ジビニル化合物、モノビニル化合物、ポリアクリレート、ポリメタクリレート、および／またはトリアリル化合物（それらは蒸発装置を経由して担体ガス流の中に導入されていた）を吸収させられ、そして
−第２の工程において、その粉体混合物、場合によりその他の補助剤、特に０．０１〜２．５％の安定剤、０．１〜１％の静電防止剤、０．２〜３％の顔料、０．０５〜１％の核形成剤、５〜４０％の充填剤、２〜２０％の防火剤および／または０．００１〜１％の加工補助剤を添加して、スクリュー機械、特に二軸スクリュー押出機またはプランジャースクリューの付いた一軸スクリュー押出機、の供給ゾーンの中でラジカル形成剤の分解温度に温められ、その後４１５°Ｋ〜５９５°Ｋの反応温度で融解されてから顆粒化される、
ことを特徴とする（１）〜（６）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
（１０）  （１）〜（９）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法において、ポリ（アルキルエチレン）として２４２〜２５０°Ｋのガラス転移温度および２・１０４〜３・１０６の範囲内の分子量（ＭＷ）を有するポリ（エチルエチレン）、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（エチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、３〜９７モル％のメチルエチレン配分を有するポリ（エチル−エチレン−コ−メチルエチレン）共重合体、２９５〜３０３°Ｋのガラス転移温度および２５℃において０．８１３〜０．８３２ｇ／ｃｍ３の範囲内の密度を有するポリ（イソブチルエチレン）、３〜９７モル％のｎ−ブチルエチレン配分を有するポリ（イソブチル−エチレン−コ−ｎ−ブチルエチレン）共重合体、共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（イソブチルエチレン−コ−エチレン）共重合体、２５９より２６６°Ｋまでのガラス転移温度および１・１０５〜８・１０６の範囲内の分子量（ＭＷ）を有するポリ（メチルエチレン）および／または共重合体の中に３〜４５モル％のエチレン配分を有するポリ（メチルエチレン−コ−エチレン）共重合体が使用される、
ことを特徴とする（１）〜（９）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）を製造する方法。
（１１）  （１）〜（５）に記載の構造異性体ポリ（アルキルエチレン）並びに（６）に記載の混合物のフィルム、プレート、コーティング、ロール、チューブおよびフォームの製造のための使用。