(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
支持体、下塗層および蛍光体層をこの順に有する放射線像変換パネルを製造する方法であって、該支持体上に架橋可能な高分子物質と架橋剤を含有する下塗層を形成した後、該下塗層を、蛍光体層形成用の塗布液に使用する溶剤に対する溶解残存量が９７．５％以上で９９．８％以下となるように架橋させた状態で、下塗層上に該蛍光体層形成用塗布液を塗布し、乾燥して蛍光体層を形成することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項２】
架橋剤がポリイソシアネートである請求項１に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項３】
架橋可能な高分子物質がポリウレタンエラストマーである請求項１または２に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項４】
蛍光体層形成用塗布液に使用する溶剤がメチルエチルケトンである請求項１乃至３のうちのいずれかの項に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項５】
蛍光体層が蓄積性蛍光体からなる層である請求項１乃至４のうちのいずれかの項に記載の放射線像変換パネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、蓄積性蛍光体を利用する放射線画像情報記録再生方法に用いられる放射線像変換パネルに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
Ｘ線などの放射線が照射されると、放射線エネルギーの一部を吸収蓄積し、そののち可視光線や赤外線などの電磁波（励起光）の照射を受けると、蓄積した放射線エネルギーに応じて発光を示す性質を有する蓄積性蛍光体（輝尽発光を示す輝尽性蛍光体等）を利用して、この蓄積性蛍光体を含有するシート状の放射線像変換パネルに、被検体を透過したあるいは被検体から発せられた放射線を照射して被検体の放射線画像情報を一旦蓄積記録した後、パネルにレーザ光などの励起光を走査して順次発光光として放出させ、そしてこの発光光を光電的に読み取って画像信号を得ることからなる、放射線画像情報記録再生方法が広く実用に共されている。読み取りを終えたパネルは、残存する放射線エネルギーの消去が行われた後、次の撮影のために備えられて繰り返し使用される。
【０００３】
放射線画像情報記録再生方法に用いられる放射線像変換パネル（蓄積性蛍光体シートともいう）は、基本構造として、支持体とその上に設けられた蓄積性蛍光体層とからなる。ただし、蓄積性蛍光体層が自己支持性である場合には必ずしも支持体を必要としない。また、蓄積性蛍光体層の上面（支持体に面していない側の面）には通常、保護層が設けられていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝撃から保護している。さらに、支持体と蓄積性蛍光体層との接着性を高めるために、両者の間に下塗層を設けることも知られている。
【０００４】
蛍光体層は通常、蓄積性蛍光体粒子とこれを分散状態で含有支持する結合剤とからなる。ただし、蛍光体層としては、蒸着法や焼結法によって形成される結合剤を含まないで蓄積性蛍光体の凝集体のみから構成されるものや、蓄積性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸されているものなども知られている。
【０００５】
また、上記放射線画像情報記録再生方法の別法として本出願人による特願２０００−４００４２６号明細書には、従来の蓄積性蛍光体における放射線吸収機能とエネルギー蓄積機能とを分離して、少なくとも蓄積性蛍光体（エネルギー蓄積用蛍光体）を含有する放射線像変換パネルと、放射線を吸収して紫外乃至可視領域に発光を示す蛍光体（放射線吸収用蛍光体）を含有する蛍光スクリーンとの組合せを用いる放射線画像形成方法が提案されている。この方法は、被検体を透過などした放射線をまず、該スクリーンまたはパネルの放射線吸収用蛍光体により紫外乃至可視領域の光に変換した後、その光をパネルのエネルギー蓄積用蛍光体にて放射線画像情報として蓄積記録する。次いで、このパネルに励起光を走査して発光光を放出させ、この発光光を光電的に読み取って画像信号を得るものである。このような放射線像変換パネルおよび蛍光スクリーンも、本発明に包含される。
【０００６】
放射線画像情報記録再生方法（および放射線画像形成方法）は上述したように数々の優れた利点を有する方法であるが、この方法に用いられる放射線像変換パネルにあっても、できる限り高感度であってかつ画質（鮮鋭度、粒状性など）の良好な画像を与えるものであることが望まれている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者は、支持体と蛍光体層との接着性を高めるために設けられる下塗層について検討した結果、下塗層形成のための高分子物質に架橋剤を含有させて下塗層を形成した場合に、下塗層の架橋状態によっては、支持体やその上に設けられる蛍光体層との接着性が低下することがあるだけではなく、蛍光体層からの発光量も変化（低下）することを新たに見い出し、本発明に至ったものである。
【０００８】
蓄積性蛍光体粒子と結合剤を有機溶剤中に含有してなる塗布液を支持体上に塗布、乾燥して蛍光体層を形成する場合に、予め支持体上に下塗層を設けておくことによって、塗布時に塗布液中の溶剤により下塗層をある程度溶解させて、蛍光体層との接着性を高めることが行われている。しかしながら、溶剤に対する下塗層の溶解度が高過ぎると、下塗層が溶出し、充分な接着性が得られなくなる。そこで、下塗層の溶剤に対する溶解度を抑えるために架橋剤が添加される。今回、本願発明者の研究により、架橋剤による下塗層の架橋の程度が蛍光体層との接着性に影響を及ぼすばかりか、蛍光体層からの発光量にも大きな影響を与えることが判明した。すなわち、架橋の程度が低過ぎると、蛍光体層との接着性は良くても、その発光量が低下する。反対に、架橋が進み過ぎると、下塗層表面の平面性が失われて支持体から剥離したり、蛍光体層の表面状態が悪くなる。
【０００９】
従って、本発明は、下塗層と蛍光体層との接着性が良く、かつ感度の高い放射線像変換パネルを安定して製造する方法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明は、支持体、下塗層および蛍光体層をこの順に有する放射線像変換パネルを製造する方法であって、該支持体上に架橋可能な高分子物質と架橋剤を含有する下塗層を形成した後、該下塗層を、蛍光体層形成用の塗布液に使用する溶剤に対する溶解残存量が９７．５％以上で９９．８％以下となるように架橋させた状態で、下塗層上に該蛍光体層形成用塗布液を塗布し、乾燥して蛍光体層を形成することを特徴とする放射線像変換パネルの製造方法にある。
【００１１】
本発明において、「溶解残存量」とは、支持体上に設けられた下塗層の重量に対して、この下塗層を有する支持体を蛍光体層形成用塗布液に使用する溶剤に５分間浸漬した後、乾燥して得られた支持体上に溶解しないで残存している下塗層の重量の比率を意味する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
本発明の製造方法において、下塗層を、前述のように、蛍光体層形成用塗布液に使用する溶剤に対する溶解残存量が９７．５％以上で９９．８％以下となるように架橋させた状態で、下塗層上に該蛍光体層形成用塗布液を塗布することが好ましい。また、架橋剤はポリイソシアネートであることが好ましい。架橋可能な高分子物質はポリウレタンエラストマーであることが好ましい。蛍光体層形成用塗布液に使用する溶剤はメチルエチルケトンであることが好ましい。蛍光体層は蓄積性蛍光体からなる層であることが好ましい。
【００１３】
以下に、本発明の放射線像変換パネルの製造方法について、蛍光体が蓄積性蛍光体である場合を例にとって詳細に述べる。
【００１４】
支持体は通常、柔軟な樹脂材料からなる厚さが５０μｍ乃至１ｍｍのシートあるいはフィルムである。支持体は透明であってもよく、あるいは支持体に、励起光もしくは発光光を反射させるための光反射性材料（例、アルミナ粒子、二酸化チタン粒子、硫酸バリウム粒子）を充填してもよく、あるいは空隙を設けてもよい。また、支持体に励起光もしくは発光光を吸収させるため光吸収性材料（例、カーボンブラック）を充填してもよい。支持体の形成に用いることのできる樹脂材料の例としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、アラミド樹脂、ポリイミド樹脂などの各種樹脂材料を挙げることができる。必要に応じて、支持体は金属シート、セラミックシート、ガラスシートなどであってもよい。
【００１５】
支持体上には、支持体と蛍光体層との接着性を高めるために、下塗層が設けられる。本発明において、下塗層は、少なくとも架橋可能な高分子物質と架橋剤とからなる。
【００１６】
架橋可能な高分子物質の例としては、ポリウレタン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリエステル系樹脂などの公知の架橋性ポリマーを挙げることができる。
【００１７】
架橋剤の例としては、ポリイソシアネート、ペルオキシド、オキシム、フェノール樹脂などの公知の架橋剤を挙げることができる。ポリイソシアネートが最も好ましい。
【００１８】
下塗層の形成は、まず上記の高分子物質と架橋剤とを適当な有機溶剤に溶解または分散して塗布液を調製する。有機溶剤としては、後述する蛍光体層形成用の塗布液に使用できる溶剤の中から任意に選択して用いることができる。塗布液中の高分子物質に対する架橋剤の比率は、これら材料の組合せや架橋条件などによっても異なるが、一般には０．５乃至２０重量％の範囲にあり、好ましくは２乃至７重量％の範囲にある。塗布液には更に、架橋剤による架橋を促進するための触媒、導電剤などを添加してもよい。
【００１９】
この塗布液を次に、支持体の表面に均一に塗布して塗膜を形成し、乾燥して、下塗層を形成する。塗布操作は、通常の塗布手段、たとえばドクターブレード、ロールコータ、ナイフコータなどを用いる方法により行うことができる。下塗層の層厚は、通常は０．５〜１００μｍの範囲にあり、好ましくは３〜３０μｍの範囲にある。
【００２０】
次いで、この下塗層を有する支持体を一定温度で一定時間放置することによって、高分子物質を架橋剤により架橋させる。
【００２１】
図１は、下塗層を有する支持体を温度２５±５℃（室温）で一定時間放置して下塗層を架橋させた後、メチルエチルケトン溶剤に５分間浸漬し、乾燥することにより、支持体上に溶解しないで残存している下塗層の比率（溶解残存量）と、経時時間（日数）との関係を表すグラフである。
【００２２】
図２は、これら経時時間の異なる下塗層を有する支持体上に蓄積性蛍光体層を形成して得られた放射線像変換パネルそれぞれに、Ｘ線を照射した後、励起光で励起して発光光を検出したときの発光量と、経時時間（日数）との関係を表すグラフである。
【００２３】
図１及び図２に示したグラフから、得られた放射線像変換パネルの発光量と下塗層の溶解残存量、すなわち架橋状態との間には一定の相関関係があることが分かる。パネルが十分に高い発光量を示すのは、下塗層を有する支持体を８日間以上放置して溶解残存量が９７．０％以上となったときである。下塗層の架橋の程度が低くて溶解度が高い場合において蛍光体層からの発光量が少ないのは、蛍光体層形成用塗布液の塗布時に下塗層の成分が溶出して、蛍光体層中に侵入し、その結果、励起光や発光光の吸収や散乱を招くためである。
【００２４】
一方、放置時間が長過ぎると、架橋が進み過ぎて、下塗層が溶剤に全く溶解しなくなり、溶剤に浸漬した際に襞状の凹凸が形成されるようになることが判明した。その結果、蛍光体層との十分な接着性が得られなくなったり、あるいは平面性の悪い蛍光体層が形成されることになる。
【００２５】
よって、本発明においては、下塗層の溶解残存量が９７．５％以上で、９９．８％以下となるように下塗層を架橋させた状態で、その上に蛍光体層を形成する。
【００２６】
なお、上述した好適な架橋状態は、放置温度及び／又は放置時間を制御すること以外に、架橋剤の量や触媒の量などを制御することによっても達成することができる。
【００２７】
上記架橋状態にある下塗層の上には蛍光体層が設けられる。
蓄積性蛍光体としては、波長が４００〜９００ｎｍの範囲の励起光の照射により、３００〜５００ｎｍの波長範囲に輝尽発光を示す輝尽性蛍光体が好ましい。そのような輝尽性蛍光体の例は、特公平７−８４５８８号、特開平２−１９３１００号および特開平４−３１０９００号の各公報に詳しく記載されている。好ましい輝尽性蛍光体としては、ユーロピウム又はセリウムで付活したアルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体（例、ＢａＦＢｒ：Ｅｕ、およびＢａＦ（Ｂｒ，Ｉ）：Ｅｕ）、およびセリウム付活希土類オキシハロゲン化物系蛍光体を挙げることができる。
【００２８】
これらのうちでも、基本組成式（Ｉ）：
ＭIIＦＸ：ｚＬｎ                          ‥‥（Ｉ）
で代表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は特に好ましい。ただし、ＭIIはＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属を表し、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ、Ｔｍ及びＹｂからなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素を表す。Ｘは、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンを表す。ｚは、０＜ｚ≦０．２の範囲内の数値を表す。
【００２９】
上記基本組成式（Ｉ）中のＭIIとしては、Ｂａが半分以上を占めることが好ましい。Ｌｎとしては、特にＥｕ又はＣｅであることが好ましい。また、基本組成式（Ｉ）では、表記上ではＦ：Ｘ＝１：１のように見えるが、これはＢａＦＸ型の結晶構造を持つことを示すものであり、最終的な組成物の化学量論的組成を示すものではない。一般に、ＢａＦＸ結晶においてＸ-イオンの空格子点であるＦ+（Ｘ-）中心が多く生成された状態が、６００〜７００ｎｍの波長の光に対する輝尽効率を高める上で好ましい。このとき、ＦはＸよりも、やや過剰にあることが多い。
【００３０】
なお、基本組成式（Ｉ）では省略されているが、必要に応じて下記のような添加物を基本組成式（Ｉ）に加えてもよい。
ｂＡ，  ｗＮI，  ｘＮII，  ｙＮIII
ただし、ＡはＡｌ2Ｏ3、ＳｉＯ2及びＺｒＯ2などの金属酸化物を表す。ＭIIＦＸ粒子同士の焼結を防止する上では、一次粒子の平均粒径が０．１μｍ以下の超微粒子でＭIIＦＸとの反応性が低いものを用いることが好ましい。ＮIは、Ｌｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ金属の化合物を表し、ＮIIは、Ｍｇ及び／又はＢｅからなるアルカリ土類金属の化合物を表し、ＮIIIは、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｔｌ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる少なくとも一種の三価金属の化合物を表す。これらの金属化合物としては、特開昭５９−７５２００号公報に記載のようなハロゲン化物を用いることが好ましいが、それらに限定されるものではない。
【００３１】
また、ｂ、ｗ、ｘ及びｙはそれぞれ、ＭIIＦＸのモル数を１としたときの仕込み添加量であり、０≦ｂ≦０．５、０≦ｗ≦２、０≦ｘ≦０．３、０≦ｙ≦０．３の各範囲内の数値を表す。これらの数値は、焼成やその後の洗浄処理によって減量する添加物に関しては最終的な組成物に含まれる元素比を表しているわけではない。また、上記化合物には最終的な組成物において添加されたままの化合物として残留するものもあれば、ＭIIＦＸと反応する、あるいは取り込まれてしまうものもある。
【００３２】
その他、上記基本組成式（Ｉ）には更に必要に応じて、特開昭５５−１２１４５号公報に記載のＺｎ及びＣｄ化合物；特開昭５５−１６００７８号公報に記載の金属酸化物であるＴｉＯ2、ＢｅＯ、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ｙ2Ｏ3、Ｌａ2Ｏ3、Ｉｎ2Ｏ3、ＧｅＯ2、ＳｎＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＴｈＯ2；特開昭５６−１１６７７７号公報に記載のＺｒ及びＳｃ化合物；特開昭５７−２３６７３号公報に記載のＢ化合物；特開昭５７−２３６７５号公報に記載のＡｓ及びＳｉ化合物；特開昭５９−２７９８０号公報に記載のテトラフルオロホウ酸化合物；特開昭５９−４７２８９号公報に記載のヘキサフルオロケイ酸、ヘキサフルオロチタン酸、及びヘキサフルオロジルコニウム酸の１価もしくは２価の塩からなるヘキサフルオロ化合物；特開昭５９−５６４８０号公報に記載のＶ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉなどの遷移金属の化合物などを添加してもよい。さらに、本発明においては上述した添加物を含む蛍光体に限らず、基本的に希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体とみなされる組成を有するものであれば如何なるものであってもよい。
【００３３】
上記基本組成式（Ｉ）で表される希土類付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体は、通常は、アスペクト比が１．０乃至５．０の範囲にある。本発明に係る放射線像変換パネルに用いる蓄積性蛍光体粒子は一般に、アスペクト比が１．０乃至２．０（好ましくは、１．０乃至１．５）の範囲にあり、粒子サイズのメジアン径（Ｄｍ）が１μｍ乃至１０μｍ（好ましくは、２μｍ乃至７μｍ）の範囲にあり、そして粒子サイズ分布の標準偏差をσとしたときのσ／Ｄｍが５０％以下（好ましくは、４０％以下）のものである。また、粒子の形状としては、直方体型、正六面体型、正八面体型、１４面体型、これらの中間多面体型および不定型粉砕粒子などがあるが、それらのうちでは１４面体型のものが好ましい。
【００３４】
ただし、本発明において蛍光体は蓄積性蛍光体に限定されるものではなく、Ｘ線などの放射線を吸収して紫外乃至可視領域に（瞬時）発光を示す蛍光体であってもよい。そのような蛍光体の例としては、ＬｎＴａＯ4：（Ｎｂ，Ｇｄ）系、Ｌｎ2ＳｉＯ5：Ｃｅ系、ＬｎＯＸ：Ｔｍ系（Ｌｎは希土類元素である）、ＣｓＸ系（Ｘはハロゲンである）、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｔｂ、Ｇｄ2Ｏ2Ｓ：Ｐｒ，Ｃｅ、ＺｎＷＯ4、ＬｕＡｌＯ3：Ｃｅ、Ｇｄ3Ｇａ5Ｏ12：Ｃｒ，Ｃｅ、ＨｆＯ2等を挙げることができる。
【００３５】
上記粒子状の蓄積性蛍光体を結合剤と共に適当な有機溶剤に分散溶解して、塗布液を調製する。塗布液中での結合剤と蛍光体との比率は通常、１：１乃至１：１００（重量比）の範囲の値となるようにする。この比率は、特に１：８乃至１：４０（重量比）の範囲にあることが好ましい。蓄積性蛍光体粒子を分散支持する結合剤については様々な種類の樹脂材料が知られており、本発明に係る蛍光体層の形成においても、それらの公知の結合剤樹脂を中心とした任意の樹脂材料から適宜選択して用いることができる。
【００３６】
塗布液調製用の有機溶剤の例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ−ブタノール等の低級アルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライドなどの塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン；酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチルなどの低級脂肪酸と低級アルコールとのエステル；ジオキサン、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル；そして、それらの混合物を挙げることができる。
【００３７】
なお、塗布液にはさらに、塗布液中における蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、形成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との間の結合力を向上させるための可塑剤、蛍光体層の変色を防止するための黄変防止剤、硬化剤、架橋剤など各種の添加剤が混合されていてもよい。
【００３８】
このようにして調製された塗布液を次に、下塗層の表面に前記の塗布手段を用いて均一に塗布して塗膜を形成する。この塗膜を乾燥して、下塗層上への蓄積性蛍光体層の形成を完了する。蓄積性蛍光体層の層厚は、目的とする放射線像変換パネルの特性、蛍光体の種類、結合剤と蛍光体との混合比などによっても異なるが、通常は２０μｍ乃至１ｍｍの範囲にあり、好ましくは５０乃至５００μｍの範囲にある。
【００３９】
蛍光体層の表面には、放射線像変換パネルの取扱い上の便宜や特性変化の回避のために、保護層を設けることが望ましい。保護層は、励起光の入射や発光光の出射に殆ど影響を与えないように、透明であることが望ましく、また外部から与えられる物理的衝撃や化学的影響から放射線像変換パネルを充分に保護することができるように、化学的に安定でかつ高い物理的強度を持つことが望ましい。
【００４０】
保護層としては、セルロース誘導体、ポリメチルメタクリレート、有機溶媒可溶性フッ素系樹脂などのような透明な有機高分子物質を適当な溶媒に溶解して調製した溶液を蛍光体層の上に塗布することで形成されたもの、あるいはポリエチレンテレフタレートなどの有機高分子フィルムや透明なガラス板などの保護層形成用シートを別に形成して蛍光体層の表面に適当な接着剤を用いて設けたもの、あるいは無機化合物を蒸着などによって蛍光体層上に成膜したものなどが用いられる。また、保護層中には酸化マグネシウム、酸化亜鉛、二酸化チタン、アルミナ等の光散乱性微粒子、パーフルオロオレフィン樹脂粉末、シリコーン樹脂粉末等の滑り剤、およびポリイソシアネート等の架橋剤など各種の添加剤が分散含有されていてもよい。保護層の層厚は一般に、高分子物質からなる場合には約０．１乃至２０μｍの範囲にあり、ガラス等の無機化合物からなる場合には１００乃至１０００μｍの範囲にある。
【００４１】
保護層の表面にはさらに、保護層の耐汚染性を高めるためにフッ素樹脂塗布層を設けてもよい。フッ素樹脂塗布層は、フッ素樹脂を有機溶媒に溶解（または分散）させて調製したフッ素樹脂溶液を保護層の表面に塗布し、乾燥することにより形成することができる。フッ素樹脂は単独で使用してもよいが、通常はフッ素樹脂と膜形成性の高い樹脂との混合物として使用する。また、ポリシロキサン骨格を持つオリゴマーあるいはパーフルオロアルキル基を持つオリゴマーを併用することもできる。フッ素樹脂塗布層には、干渉むらを低減させて更に放射線画像の画質を向上させるために、微粒子フィラーを充填することもできる。フッ素樹脂塗布層の層厚は通常は０．５μｍ乃至２０μｍの範囲にある。フッ素樹脂塗布層の形成に際しては、架橋剤、硬膜剤、黄変防止剤などのような添加成分を用いることができる。特に架橋剤の添加は、フッ素樹脂塗布層の耐久性の向上に有利である。
【００４２】
上述のようにして本発明に係る放射線像変換パネルが得られるが、本発明のパネルの構成は、公知の各種のバリエーションを含むものであってもよい。たとえば、得られる画像の鮮鋭度を向上させることを目的として、上記の少なくともいずれかの層を、励起光を吸収し発光光は吸収しないような着色剤によって着色してもよい（特公昭５９−２３４００号公報参照）。
【００４３】
【実施例】
0003996364.tif 000002
【００４４】
上記組成の各材料をメチルエチルケトンに加え、混合分散して塗布液を調製した。この塗布液を、厚さが２００μｍのポリエチレンテレフタレートシート（支持体）の表面にドクターブレードを用いて塗布した後、乾燥して下塗層を形成した。
【００４５】
このようにして得られた複数の下塗層付き支持体を、２５±５℃（室温）の温度条件下で、それぞれ異なる日数放置して下塗層を架橋させた。次いで、架橋した下塗層付き支持体を、蛍光体層形成用塗布液の溶剤（本実施例では、メチルエチルケトン）に５分間浸漬した後、乾燥した。溶剤に浸漬する前後で下塗層付き支持体の重量を測定し、その重量比を求めて、これを溶剤浸漬後も溶解しないで残存している下塗層の比率（溶解残存量）とした。得られた結果を表１および図１に示す。
【００４６】
【表１】
0003996364.tif 000003
【００４７】
0003996364.tif 000004
【００４８】
上記組成の各材料をメチルエチルケトンに加え、混合分散して塗布液を調製した。この塗布液をドクターブレードを用いて、実施例１の下塗層付き支持体（温度２５±５℃で１３日および４０日放置したもの）の上に均一に塗布した後、乾燥して、蓄積性蛍光体層（層厚：１３０μｍ）を形成した。
【００４９】
（２）保護層の付設
蓄積性蛍光体層の表面に接着剤層を設けた後、厚さ９μｍのポリエチレンテレフタレートフィルムをラミネートロールを用いて接着して、保護層を設けた。
このようにして、支持体、下塗層、蓄積性蛍光体層および保護層から構成された本発明に係る放射線像変換パネルを製造した。
【００５０】
［比較例１〜３］  放射線像変換パネル
実施例２において、下塗層付き支持体として、温度２５±５℃で１日、３日および１００日放置した下塗層付き支持体を用いたこと以外は実施例２と同様にして、比較のための放射線像変換パネルを製造した。
【００５１】
［放射線像変換パネルの性能評価］
得られた各放射線像変換パネルの下塗層の状態、蛍光体層の表面状態および感度について評価を行った。
【００５２】
（１）下塗層の状態
上記の時間放置した後の下塗層付き支持体を、メチルエチルケトンに５分間浸漬した後、乾燥した。得られた下塗層付き支持体の下塗層を目視により観察して評価した。
【００５３】
（２）蛍光体層の表面状態
下塗層上に形成した蛍光体層の表面を目視により観察して評価した。
【００５４】
（３）感度
放射線像変換パネルに管電圧８０ｋＶｐ、管電流１６ｍＡのＸ線を照射した。次いで、パネルをＨｅ−Ｎｅレーザ光（波長：６３３ｎｍ）で励起し、パネルから放出された輝尽発光光をフォトマルチプライヤで検出して、その発光量（相対値）により感度を評価した。
得られた結果をまとめて表２および図２に示す。
【００５５】
【表２】
0003996364.tif 000005
【００５６】
表２および図２の結果から、本発明の方法に従って製造された放射線像変換パネル（実施例２、３）は、下塗層が適度に架橋した状態にあり、蛍光体層の表面状態も良く、高い感度を示したことが分かる。
【００５７】
一方、架橋の程度が不十分であった比較のための放射線像変換パネル（比較例１、２）は、下塗層が過度に溶解したり、変色してしまい、結果として感度が低く、そして経時による感度変化も大きかった。また、架橋が進み過ぎた放射線像変換パネル（比較例３）は、下塗層が襞状になったために支持体より剥離し、そして蛍光体層形成用塗布液を正常に塗布することができず、得られた蛍光体層表面には凹凸が生じてパネルとして機能しえなかった。
【００５８】
【発明の効果】
本発明の方法によれば、溶解残存量が一定の範囲内の値を示すような適度に架橋した状態で下塗層上に蛍光体層を塗布により形成することによって、支持体、下塗層および蛍光体層の接着性に優れ、かつ発光量の多い高感度の放射線像変換パネルを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】下塗層付き支持体の経時日数と溶解残存量との関係を表すグラフである。
【図２】経時日数と放射線像変換パネルからの発光量との関係を表すグラフである。
【図１】
0003996364.tif 000006
【図２】
0003996364.tif 000007