(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の投影ビーム（ＰＢ）を供給するための放射線システム（ＬＡ、ＩＬ）；
所望のパターンに従ってこの投影ビーム（ＰＢ）をパターン化するのに役立つパターニング手段（ＭＡ）を支持するための第１物体テーブル（ＭＴ）；
基板（Ｗ２）を保持するための第２物体テーブル（Ｗ２Ｔ）；
前記投影ビーム（ＰＢ）のための真空ビーム経路を生成するために第１ガス排気手段（ＶＥ）を備える真空室（２０）；
前記パターン化したビームを前記基板（Ｗ２）の目標部分（Ｃ）上に投影するための投影システム（ＰＬ）；および
上記真空室（２０）で少なくとも１自由度で動き得る構成要素にユーティリティを提供するための導管（２４）、
を含むリソグラフィ装置において、更に、
上記真空室（２０）の真空を前記導管を含む空間から遮蔽するためのものであって、アーム部およびジョイントを備え、前記アーム部は前記ジョイントの周りを回動可能に構成されており、前記構成要素の上記少なくとも１自由度の運動を許容するように構成および配置した導管遮蔽体（１００）と、
前記導管遮蔽体（１００）内における前記導管を含む前記空間に真空をもたらすための第２ガス排気手段（ＶＥ２）と、
を含むことを特徴とするリソグラフィ投影装置。
【請求項２】
上記導管遮蔽体が上記導管（２４）を案内し且つ遮蔽するための導管案内（１００）を含む、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
上記導管案内（１００）が少なくとも二つのジョイント（１０５、１１５）を含む、請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
上記導管案内が少なくとも一つの中空細長アーム部（１０７、１１０、１２０）を含む、請求項２または３に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
上記少なくとも一つの中空細長アーム部の一つ（１０７）が並進ジョイントでもう一つの構造体（１０９）に対してその細長方向に沿って並進可能である、請求項４に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
上記第２ガス排気手段（ＶＥ２）がこれらの導管（２４）を含む空間にもたらす上記真空が、上記第１ガス排気手段（ＶＥ）がこの真空室（２０）にもたらす真空より高圧である、請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
上記ジョイントの可動協同面が真空シール（１０８）を備える、請求項３から請求項６の何れかに一つに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
上記構成要素が物体テーブル（ＭＴ、ＷＴ）であり、上記導管（２４）が上記物体テーブル（ＭＴ、ＷＴ）にユーティリティを提供するように構成および配置してある、請求項１から請求項７の何れかに一つに記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
少なくとも部分的に放射線感応性材料の層で覆われた基板（Ｗ）を用意する工程；
真空室（２０）に真空を与える工程；
導管（２４）を通して、上記真空室（２０）内で少なくとも第１方向に可動な少なくとも一つの構成要素にユーティリティを与える工程；
上記真空室（２０）を通る放射線システム（ＬＡ、ＩＬ）を使って放射線の投影ビーム（ＰＢ）を作る工程；
この投影ビーム（ＰＢ）の断面にパターンを付けるためにパターニング手段（ＭＡ）を使う工程；および
この放射線のパターン化した投影ビームをこの放射線感応性材料の層の目標部分（Ｃ）上に投影する工程を含む、リソグラフィ装置（１）を使うデバイス製造方法において、
上記真空室（２０）内の上記真空をアーム部およびジョイントを備える導管遮蔽体（１００）で上記導管（２４）から遮蔽する工程と、
前記アーム部を前記ジョイントの周りを回動させることによって前記可動構成要素に追従するように上記導管遮蔽体（１００）を動かす工程と、
前記導管（２４）を含み且つこの導管遮蔽体（１００）によって上記真空室（２０）から隔離された空間に第２真空を与える工程を含むことを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、真空室内の可動構成要素にケーブル、ホースまたはパイプを通して電力、水、制御信号およびガスのようなユーティリティを提供するための導管に関連して使用する装置に関する。更に詳しくは、この発明は、そのような装置を：
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム；
所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための第１物体テーブル；
基板を保持するための第２物体テーブル；
この投影ビームのための真空ビーム経路を生成するために第１ガス排気手段を備える真空室；
このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム；および
上記真空室で少なくとも１自由度で動き得る構成要素にユーティリティを提供するための導管を含むリソグラフィ装置に取込むことに関する。
【０００２】
【従来の技術】
ここで使う“パターニング手段”という用語は、入射放射線ビームに、この基板の目標部分に創成すべきパターンに対応する、パターン化した断面を与えるために使うことができる手段を指すと広く解釈すべきであり；“光バルブ”という用語もこのような関係で使うことができる。一般的に、上記パターンは、集積回路またはその他のデバイス（以下参照）のような、この目標部分に創るデバイスの特別の機能層に対応するだろう。そのようなパターニング手段の例には次のようなものがある；
−    マスク。マスクの概念は、リソグラフィでよく知られ、二値、交互位相シフト、および減衰位相シフトのようなマスク型、並びに種々のハイブリッドマスク型を含む。そのようなマスクを放射線ビーム中に置くと、このマスク上のパターンに従って、このマスクに入射する放射線の選択透過（透過性マスクの場合）または選択反射（反射性マスクの場合）を生ずる。マスクの場合、この第１物体テーブルは、一般的にマスクテーブルであり、それがこのマスクを入射放射線ビームの中の所望の位置に保持できること、およびもし望むなら、それをこのビームに対して動かせることを保証する。
−    プログラム可能ミラーアレイ。そのような装置の例は、粘弾性制御層および反射面を有するマトリックスアドレス可能面である。そのような装置の背後の基本原理は、（例えば）この反射面のアドレス指定された領域が入射光を回折光として反射し、一方アドレス指定されない領域が入射光を未回折光として反射するということである。適当なフィルタを使って、上記未回折光を反射ビームから濾過して取除き、回折光だけを後に残すことができ；この様にして、このビームがマトリックスアドレス可能面のアドレス指定パターンに従ってパターン化されるようになる。必要なアドレス指定は、適当な電子手段を使って行える。そのようなミラーアレイについての更なる情報は、例えば、米国特許ＵＳ５，２９６，８９１およびＵＳ５，５２３，１９３を参照されたい。プログラム可能ミラーアレイの場合、この第１物体テーブルは、例えば、必要に応じて固定または可動でもよい、フレームまたはテーブルとして具体化してもよい。
−    プログラム可能ＬＣＤアレイ。そのような構成の例は、米国特許ＵＳ５，２２９，８７２を参照されたい。上記のように、この場合、この第１物体テーブルは、例えば、必要に応じて固定または可動でもよい、フレームまたはテーブルとして具体化してもよい。
簡単のために、この本文の以下の説明では、マスクおよびマスクテーブルを伴う例を適時説明する；しかし、そのような場合に議論する一般原理は、上に示すようなパターニング手段の広い文脈で見るべきである。
【０００３】
リソグラフィ投影装置は、例えば、集積回路（ＩＣ）の製造に使うことができる。そのような場合、パターニング手段がこのＩＣの個々の層に対応する回路パターンを創成してもよく、このパターンを、放射線感応性材料（レジスト）の層で塗被した基板（シリコンウエハ）の目標部分（例えば、一つ以上のダイを含む）上に結像することができる。一般的に、単一ウエハが隣接する目標部分の全ネットワークを含み、それらをこの投影システムを介して、一度に一つずつ、順次照射する。マスクテーブル上のマスクによるパターニングを使う現在の装置では、機械の二つの異なる種類を区別することができる。一つの種類のリソグラフィ投影装置では、全マスクパターンをこの目標部分上に一度に露出することによって各目標部分を照射し；そのような装置を普通ウエハステッパと呼ぶ。もう一つの装置 ― 普通ステップ・アンド・スキャン装置と呼ぶ ― では、このマスクパターンを投影ビームの下で与えられた基準方向（“走査”方向）に順次走査し、一方、一般的に、この投影システムが倍率Ｍ（一般的に＜１）であり、この基板テーブルを走査する速度Ｖが、倍率Ｍ掛けるマスクテーブルを走査する速度であるので、この基板テーブルをこの方向に平行または逆平行に同期して走査することによって各目標部分を照射する。ここに説明したようなリソグラフィ装置に関する更なる情報は、例えば、ＵＳ６，０４６，７９２を参照されたい。
【０００４】
リソグラフィ投影装置を使う製造プロセスでは、パターン（例えば、マスクの中の）を、少なくとも部分的に放射線感応材料（レジスト）の層で覆われた基板上に結像する。この結像工程の前に、この基板は、例えば、下塗り、レジスト塗布およびソフトベークのような、種々の処理を受けるかも知れない。露出後、基板は、例えば、露出後ベーク（ＰＥＢ）、現像、ハードベークおよび結像形態の測定／検査のような、他の処理を受けるかも知れない。この一連の処理は、デバイス、例えばＩＣの個々の層をパターン化するための基礎として使用する。そのようにパターン化した層は、次に、エッチング、イオン注入（ドーピング）、金属化処理、酸化処理、化学・機械的研磨等のような、全て個々の層の仕上げを意図した種々の処理を受けるかも知れない。もし、幾つかの層が必要ならば、全処理またはその変形を各新しい層に反復しなければならないだろう。結局、デバイスのアレイが基板（ウエハ）上にできる。次に、これらのデバイスをダイシングまたは鋸引のような手法によって互いから分離し、個々のデバイスをキャリヤに取付け、ピンに接続し等できる。そのようなプロセスに関する更なる情報は、例えば、ピータ・バン・ザントの“マイクロチップの製作：半導体加工の実用ガイド”、第３版、マグロウヒル出版社、1997年、ISBN0-07-067250-4を参照されたい。
【０００５】
簡単のために、この投影システムを、以後“レンズ”と呼ぶかも知れないが；この用語は、例えば、屈折性光学素子、反射性光学素子、および反射屈折性光学素子を含む、種々の型式の投影システムを包含するように広く解釈すべきである。この放射線システムも放射線のこの投影ビームを指向し、成形しまたは制御するためにこれらの設計形式の何れかに従って作用する部品を含んでもよく、そのような部品も以下で集合的または単独に“レンズ”と呼ぶこともある。更に、このリソグラフィ装置は、二つ以上の基板テーブル（および／または二つ以上のマスクテーブル）を有する型式でもよい。そのような“多段”装置では、追加のテーブルを並列に使ってもよく、または準備工程を一つ以上のテーブルで行い、一方他の一つ以上のテーブルを露出に使ってもよい。二段階リソグラフィ装置は、例えば、ＵＳ５，９６９，４４１およびＷＯ９８／４０７９１を参照されたい。
【０００６】
リソグラフィ装置では、基板上に結像できる形態のサイズが投影放射線の波長によって制限される。高密度デバイスの集積回路、従って高動作速度を生ずるためには、小さい形態を結像できることが望ましい。大抵の現代のリソグラフィ投影装置は、水銀灯またはエキシマレーザによって発生した紫外光線を使うが、１３ｎｍ位の短い波長の放射線を使うことが提案されている。そのような放射線を超紫外線（ＥＵＶ）または軟Ｘ線と呼び、可能性ある発生源には、レーザ励起プラズマ源、放電プラズマ源または電子貯蔵リングからのシンクロトロン照射がある。シンクロトロン照射を使うリソグラフィ投影装置の概略設計は、“投影Ｘ線リソグラフィ用シンクロトロン放射源およびコンデンサ”、ＪＢマーフィ外、アプライドオプチックス、３２巻２４号ｐｐ６９２０−６９２９（１９９３）に記載されている。
【０００７】
他の提案されている放射線型式には、電子ビームおよびイオンビームがある。リソグラフィに電子ビームを使用することに関する更なる情報は、例えば、ＥＰ−Ａ−０９６５８８８ならびにＵＳ５，０７９，１２２およびＵＳ５，２６０，１５１を参照されたい。これらの型式のビームは、マスク、基板および光学部品を含むビーム経路を高真空に保たねばならないという要件は、ＥＵＶと同じである。これは、ビームの吸収および／または散乱を防ぐためであり、それでそのような荷電粒子ビームに対しては典型的に約１０-6mbar未満の全圧が必要である。ＥＵＶ放射線を使う装置に対しては、この全真空圧は、１０-3から１０-5mbar必要である。ＥＵＶ放射線用光学素子は、表面に炭素層が堆積することによって損傷することがあり、それで炭化水素分圧を一般的にできるだけ低く、例えば、一般的に１０-8または１０-9mbar以下に保つべきであるという追加の要件が課される。
【０００８】
高真空での使用は、この真空に入れなければならない構成要素に全く厄介な条件が課される。この真空室内の構成要素に対しては、汚染物質および全ガス放出、即ち、それ自体からと表面に吸着したガスからの両方のガス放出を最小あるいは皆無とする材料を使うべきである。これらの物体保持器が要求する所望程度の運動に対し、導管が十分に柔軟であるようにそれらをプラスチック材料で製造できる。これらの種類の材料は、上に説明したようなガス放出を起すので、屡々この真空室内の真空に対して有害である。真空用途によく適したプラスチック（例えば、テフロン（登録商標））があるが、この真空に通す必要がある多数のケーブルおよび電線が汚染物質をガス放出する大きな表面積を示す。例えば、プラスチック導管の使用では、部分的に１０-8または１０-9mbar以下の炭化水素圧力を得ることは困難だろう。更に、導管から漏れる危険性がそれらの使用を非現実的にする。導管の使用を減らせることが非常に望ましいだろう。しかし、基板、マスクおよび移送ステージの従来の設計は、非常に複雑で、多数のセンサおよび駆動装置を使用し、それらが全て水およびガスを運ぶためおよび電気配線を保護するために多数の導管を要する。
【０００９】
この問題を回避するために、ＵＳ４，９９３，６９６では、真空環境で作動流体またはガスを供給または放出するためにステンレス材料で作った金属パイプを使うことが提案している。そこで二つの隣接するパイプを、これらのパイプの一つの他に相対的な揺動運動を可能にするように配置したジョイントによって、互いに結合してもよい。これ（金属パイプ）は、ナイロン導管がするようなガス放出の難点はないだろう。これらのジョイントの欠点は、真空環境で液体またはガスを完全に遮断するジョイントを設計することが非常に困難なことである。従って、このジョイントを通って真空環境へ漏れ、この真空環境を汚染するガスがあるかも知れない。
【００１０】
もう一つの解決策がヨーロッパ特許出願第１０５２５４９号によって提案されている。この公報では、可動物体テーブルにしっかりと結合した中空パイプを通して導管を送込み、それらのパイプを使って真空室の外部からの運動を上記テーブルへ伝達する。これらのパイプは、中空で、パイプ内の圧力は、この真空室外の圧力に等しい。この真空室の壁とパイプの間に異なって給気したシールを使って、真空室への空気の漏れを防ぎ、同時に物体テーブルの運動を可能にする。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、真空室での材料のガス放出による問題を実質的に低減したリソグラフィ装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、リソグラフィ投影装置で：
放射線の投影ビームを供給するための放射線システム；
所望のパターンに従ってこの投影ビームをパターン化するのに役立つパターニング手段を支持するための第１物体テーブル；
基板を保持するための第２物体テーブル；
この投影ビームのための真空ビーム経路を生成するために第１ガス排気手段を備える真空室；
このパターン化したビームをこの基板の目標部分上に投影するための投影システム；および
上記真空室で少なくとも１自由度で動き得る構成要素にユーティリティを供給するための導管を含むリソグラフィ装置に於いて、更に：
上記真空室の真空をこれらの導管を含む空間から遮蔽するための導管遮蔽体で、この構成要素の上記少なくとも１自由度の運動を許容するように構成および配置した遮蔽体、並びに
これらの導管を含むこの空間に真空をもたらすための第２ガス排気手段を含むことを特徴とする装置が提供される。
【００１３】
【発明の実施の形態】
ここで使用するユーティリティという用語は、この可動構成要素に供給しなければならない水、ガス、電気および信号を指す。導管という用語は、これらのユーティリティを可動構成要素へ送るために使用するケーブルおよび管を指す。更に具体的には、導管という用語は、電源コード、信号搬送体、ガス管（例えば、テーブルのガス軸受にガスを供給するための）、冷媒管等のような品目を指す。マスクテーブルおよび／または基板テーブルおよび／または関連するモータおよび／またはセンサを含む真空室内部の可動構成要素は、この様にして（各構成要素に対して異なる導管案内を使って）この真空室外部のフレームに結合してもよい。
【００１４】
この導管遮蔽体を気密にし、同時にこの構成要素の運動を許容すべく十分に柔軟にすることは、困難であろう。本発明者は、この問題を、導管を含む空間から真空室を遮蔽するが、完全には気密である必要がない導管遮蔽体を使用することによって解決した。この完全には気密でない導管遮蔽体を通る漏れは、真空室の真空と導管を含む空間との間の圧力差を小さくするか、無くさえすることによって最小になるだろう。これらの導管は、第２ガス排気手段によって真空にされ且つこれらの導管のガス放出のために汚れるであろう空間内にあるだろう。これらの導管を含む空間の汚れた真空は、殆ど気密の導管遮蔽体を使い且つ導管を含む空間と真空室の間に圧力差が殆ど無いので、真空室の真空に悪影響することはないだろう。この完全には気密でない導管遮蔽体を通る真空室への汚染物質の流出は、それによって最小になるだろう。同時に、導管遮蔽体の気密性に対する要件の緩和が、可動構成要素の運動を許容する導管遮蔽体を作ることを更に容易にするだろう。この発明による構成の他の利点は、これらの導管を含む空間内の何れかのガス圧によってこの導管遮蔽体に加えられる力がこの第２ガス排気手段によって減り、軽い構造材料が使えることである。
【００１５】
この真空室内の真空は、炭化水素分圧が、例えば、１０-8または１０-9mbar以下でもよく、一方これらの導管を含む空間内のその分圧は、実質的に高いものとする。これらの導管を含む空間に与えられる真空は、１０-3mbar位で、この真空室に与えられる真空は、光学部品の存在で１０-5mbar位以下でもよい。
【００１６】
本発明の第２態様によれば、デバイス製造方法で：
少なくとも部分的に放射線感応性材料の層で覆われた基板を用意する工程；
真空室に真空を与える工程；
ユーティリティを導管を通して、上記第１真空室内で少なくとも第１方向に可動の少なくとも一つの構成要素に与える工程；
上記真空室を通る放射線システムを使って放射線の投影ビームを投射する工程；
この投影ビームの断面にパターンを付けるためにパターニング手段を使う工程；
この放射線のパターン化した投影ビームをこの放射線感応性材料の層の目標部分上に投影する工程を含む方法に於いて：
上記真空室内の上記真空を導管遮蔽体で上記導管から遮蔽する工程；
この可動構成要素に追従するように上記導管遮蔽体を動かす工程；およびこれらの導管を含み且つこの導管遮蔽体によって上記真空室から隔離された空間に第２真空を与える工程を含むことを特徴とする方法が提供される。
【００１７】
この本文では、ＩＣの製造にこの発明による装置の使用を具体しているが、そのような装置は、他の多くの可能な用途があることを明確に理解すべきである。例えば、それを集積光学システム、磁区メモリ用誘導検出パターン、液晶ディスプレイパネル、薄膜磁気ヘッド等の製造に使ってもよい。当業者は、そのような代替用途の関係では、この本文で使う“レチクル”、“ウエハ”または“ダイ”という用語のどれも、それぞれ、より一般的な用語“マスク”、“基板”および“目標部分”で置換えられると考えるべきであることが分るだろう。
【００１８】
本発明およびそれに付随する利点を以下に実施例および貼付の概略図を参照して説明する。
これらの図面で、類似の部品は類似の参照番号によって示す。
【００１９】
【実施例１】
図１は、この発明によるリソグラフィ投影装置１を概略的に示す。この装置は：
●  放射線（例えば、ＵＶまたはＥＵＶ線、電子またはイオン）の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬ；
●  マスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するための第１物体（マスク）ホルダを備え、このマスクを部材ＰＬに関して正確に位置決めするための第１位置決め手段ＰＭに結合された第１物体テーブル（マスクテーブル）ＭＴ；
●  基板Ｗ２（例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ）を保持するための第２物体（基板）ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするための第２位置決め手段Ｐ２Ｗに結合された第２物体テーブル（基板テーブル）Ｗ２Ｔ；
●  基板Ｗ３（例えば、レジストを塗被したシリコンウエハ）を保持するための第３物体（基板）ホルダを備え、この基板を部材ＰＬに関して正確に位置決めするための第３位置決め手段Ｐ３Ｗに結合された第３物体テーブル（基板テーブル）Ｗ３Ｔ；および
●  このマスクＭＡの被照射部分を基板Ｗの目標部分Ｃ上に結像するための投影システム（“レンズ”）ＰＬ（例えば、屈折若しくは反射屈折性のシステム、ミラーグループまたは視界偏向器アレー）を含む。
【００２０】
この放射線システムは、放射線のビームを作る線源ＬＡ（例えば、貯蔵リング若しくはシンクロトロンの電子ビームの経路の周りに設けたアンジュレータ若しくはウィグラ、またはプラズマ源、または電子若しくはイオンビーム源、水銀灯またはレーザ）を含む。このビームは、照明システムＩＬに含まれる種々の光学部品に通され、出来たビームＰＢがその断面に所望の形状および強度分布を有するようなる。
【００２１】
このビームＰＢは、続いてマスクテーブルＭＴ上のマスクホルダに保持されているマスクＭＡに入射する。マスクＭＡによって選択的に反射されて（または透過されて）から、ビームＰＢは、“レンズ”ＰＬを通過し、そのレンズがビームＰＢを基板Ｗ２、Ｗ３の目標部分Ｃ上に集束する。位置決め手段Ｐ２Ｗ、Ｐ３Ｗおよび干渉形変位測定手段ＩＦを使って、基板テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔを、例えば、異なる目標部分ＣをビームＰＢの経路内に配置するように、正確に動かすことができる。同様に、位置決め手段ＰＷおよび干渉形変位測定手段ＩＦを使って、例えば、マスクＭＡをマスクライブラリーから機械的に取出してから、または走査運動中に、このマスクＭＡをビームＰＢの経路に関して正確に配置することができる。先行技術で、物体テーブルＭＴ、ＷＴの移動は、一般的に、図１にはっきりは示さないが、長ストロークモジュール（粗位置決め）および短ストロークモジュール（微細位置決め）を使って実現する。図示する装置は、二つの異なるモードで使用出来る：
●  ステップモードでは、マスクテーブルＭＴを本質的に固定し、全マスク画像を目標部分Ｃ上に一度に（即ち、単一“フラッシュ”で）投影する。次に、基板テーブルＭ２ＴをＸおよび／またはＹ方向に移動して異なる目標部分ＣをビームＰＢによって照射できるようにし；
●  走査モードでは、与えられた目標部分Ｃを単一“フラッシュ”で露出しないことを除いて、本質的に同じシナリオを適用する。その代りに、マスクテーブルＭＴが与えられた方向（所謂“走査”方向、例えば、Ｙ方向）に速度ｖで動き得て、それで投影ビームＰＢにマスク画像上を走査させ；それと同時に、基板テーブルＷ２Ｔを同じまたは反対方向にＶ＝Ｍｖの速度で同時に動かす。ここでＭはレンズＰＬの倍率（例えば、Ｍ＝１／４または１／５）である。この様にして、比較的大きな目標部分Ｃを、解像度に妥協する必要なく、露出することが出来る。
【００２２】
本発明のリソグラフィ投影装置では、第１および第２物体テーブルの少なくとも一つが真空室２０に設けてある。この真空室２０内部の真空は、真空排気手段ＶＥ、例えば、ポンプによって創り出してある。
【００２３】
多くの機器、例えば、整列センサ、差圧式真空シールを備える空気軸受、並びに電力、制御信号およびガスのようなユーティリティを要し且つ測定信号および更なる制御信号のようなユーティリティを提供する位置決めモータおよびアクチュエータが物体テーブルに関連している。これらのユーティリティは、例えば、ホース、パイプ、電気ケーブル等のような導管によって提供する。本発明の導管遮蔽体は、二つの物体テーブルを備える実施例に関して説明するが、単一物体テーブルしかないリソグラフィ投影装置または真空室内の他の可動構成要素にも同等に適用可能である。
【００２４】
汚染制御が重要問題である。例えば、ミラー上の少数の炭化水素（ＣxＨy）単層がこれらのミラーの許容できない反射効率低下に繋がるだろう。“清浄な”真空環境では、プラスチックおよびエラストマのような材料が絶えずガスを放出し、ねじ結合のような構造の中空部分がガス負荷（主として水および炭化水素）および見かけの漏れによる汚染を増しがちである。
【００２５】
物体テーブルにユーティリティを供給する導管を、各々それらが関連する物体テーブルと少なくとも同じ自由度を有する導管遮蔽体を使って遮蔽することによって、これらの導管をそれらのほぼ全長に亘って汚れた真空内に置くことが可能である。これは、この真空室２０で曝される炭化水素の量を減らすことによって真空要件を満たすことを助け、冷媒管破損の場合の危険を減らすことも助ける。ジョイント（回転と並進の両方）およびアーム部の数は、それぞれの可動構成要素の運動の必要な自由度数に依って変り得る。例えば、導管案内の形の導管遮蔽体は、ジョイントの周りに必ずしも回転可能でない、一つのアームがあるだけでよいかも知れない。
【００２６】
図２は、真空室２０の外部から物体テーブルＷ２Ｔまで導管２４を接続する導管案内１００を一つだけ示す。本発明の第１実施例は、そのような物体テーブルを二つ有する。導管２４は、真空室２０の側壁２１を導管案内１００への入口１２で通過し、その案内は、三つの中空で細長いアーム部１０７、１１０、１２０を含む。並進アーム部１０７は、この真空室側壁２１に対して並進可能である。これは、並進アーム部１０７の外面を受け並進アーム部１０９の内面と滑り接触しているように構成することによって達成する。導管２４を含む空間から真空室２０へのガスの流出を最少にするために真空シール１０８を設けてもよい。
【００２７】
第１アーム部１１０が一端で第２ジョイント１０５を介して並進アーム部１０７に結合してあり、第２ジョイント１０５の周りに回転可能である。他端で、第１アーム部１１０は、第１ジョイント１１５を介して第２アーム部１２０の端に回転可能に結合してある。物体テーブルＷ２Ｔは、第２アーム部１２０に他端で結合してある。これらのジョイント１０５、１１５およびアーム部１０７、１１０、１２０は、実質的に気密で、従って、この様にして、導管２４は、真空室２０の真空に曝されることなく物体テーブルＷ２Ｔにあてがわれ、且つ、もし必要なら、製造業者が選択した条件で設けてもよい。もし、並進ジョイントを使うなら、このジョイントを作動させるために必要な力が大き過ぎないように（もしこの導管が大気圧下にあれば、真空室内の真空がこの並進ジョイントを伸すように作用する力を発生する）、導管案内１００内を低真空にすることも好ましい。低真空によりこれらのジョイントに対する気密要件が緩和され、導管案内１００の変形の発生を低減できる。この変形は、真空シールの使用に有害かも知れない。この低真空を創り出すために、第２真空排気手段ＶＥ２を設けて導管案内１００から空気を排出してもよい。
【００２８】
導管案内１００は、この導管案内１００が物体テーブルＷ２Ｔを配置できるように、ジョイント１０５、１１５にトルクモータを含んでもよい。導管案内１００が物体テーブルＷ２Ｔの位置決め手段の影響の下で動くことも可能である。即ち、導管案内１００は、駆動モータを何も含まず、物体テーブルＷ２Ｔの影響の下でのみ動く点で受動的であってもよい。もし、この導管案内が受動的なら、この導管案内１００が物体テーブルＷ２Ｔに加える力を予測して、この位置決め手段によってフィードフォワードを物体テーブルＷ２Ｔの運動への導管案内１００の質量の影響について補償できるようにすることが有利かも知れない。この補償は、この力の影響の較正によるか、またはこの力の影響を計算するアルゴリズムを作ることによって行うことができる。その代りに、物体テーブルＷ２Ｔと導管案内１００の間に、物体テーブルＷ２Ｔがこの導管案内に加える力を測定し、その力をこの位置決め手段が加える力を調整することによってフィードバック補償する力センサを使うことができる。そのようなフィードバックシステムに関する詳細なる情報は、特許出願ＥＰ１０１８６６９を参照されたい。或る実施例では、物体テーブルＷ２Ｔを配置するために導管案内１００自体を使うことができる。物体テーブルＷ２Ｔの位置を測定するために、ジョイントにセンサを設けることが可能である。この様にして得た測定値を物体テーブルＷ２Ｔの位置決め手段の転換目的で使うことができる。この位置決め手段は、ＷＯ０１／１８９４４に記載してあるような平面モータでもよい。
【００２９】
その代りに、１０８ａの差圧式真空シールおよび１０８ｂの空気またはガス軸受を面１０７、１０９の間に設けて、真空室２０内の真空をまだ維持しながら、アーム部１０７、１０９間の低摩擦運動を可能にすることができる。差圧式真空シールおよび空気またはガス軸受１０８ａ、１０８ｂは、実施例７に詳しく説明してある。
【００３０】
リソグラフィ装置では、独立に駆動できる、二つの基板保持用物体テーブルを持つことが有利である。この様にして、測定または先に露出したウエハの除荷および露出領域での別のまだ未露出のウエハの露出と同時の測定領域への新しいウエハの載荷のような何か他の機能を行うことが可能である。この測定領域と露出領域の間のウエハテーブルの交換を“スワップ”と呼ぶ。実施例１では、図１にＷ３Ｔで示す第３物体テーブル並びに第２物体テーブルＷ２Ｔをこの目的で備える。
【００３１】
この装置の大きさを減らすことは都合がよい。実施例１は、これを、それぞれ第２および第３物体テーブルと関連する第１および第２導管案内の構成によって達成する。更に、この構成は、この基板テーブルを露出および測定領域で動かすために、並びにこの基板テーブルを露出領域から測定領域へまたはその逆に移動するために要する第１および第２ジョイントの回転量を減らす。これは、導管の応力を減らし、結果として装置寿命を延す。
【００３２】
本発明の実施例１のリソグラフィ装置では、第２または第３物体テーブルの一つが露出領域にあって、それぞれの物体テーブルが保持するウエハを照射しているときに、この第２および第３物体テーブルの他の一つは、測定領域にあって、ウエハを測定、載荷および除荷する。
【００３３】
図３は、それぞれ、測定領域３００および露出領域２００に位置する、第２物体テーブルＷ２Ｔおよび第３物体テーブルＷ３Ｔを平面図で示す。第１導管案内１００は、第２物体テーブルＷ２Ｔにユーティリティを供給し、第２導管案内１５０は、第３物体テーブルＷ３Ｔにユーティリティを供給する。
【００３４】
第１および第２導管案内１００、１５０は、同じで、第１アーム部１１０、１６０、および第１ジョイント１１５、１６５に回転可能に結合された第２アーム部１２０、１７０を含む。第１および第２導管案内１００、１５０のこれらの第１アーム部は、露出領域２００（第１作業帯）、測定領域３００（第２作業帯）およびこのリソグラフィ装置に対して第２ジョイント１０５、１５５の周りに回転可能である。図３に示すように、第２物体テーブルが測定位置にあるとき、第１導管案内１００の第２ジョイント１０５は、第２位置１０２の周りに回転する。この第２位置で、第２物体テーブルは、測定領域３００内に配置可能である。対照的に、第３物体テーブルＷ３Ｔが露出領域２００内に位置するとき、第２導管案内１５０の第２ジョイント１５５は第１位置１５１にある。第１導管案内１００の第２位置１０２は、一般的に露出領域２００および測定領域３００から等距離であり、第２導管案内１５０の第１位置１５１は、一般的に露出領域２００および測定領域３００から等距離である。これらの第２ジョイント１０５、１５５は、第１位置から第２位置へ１０１、１０２、１５１、１５２およびその逆に、第２ジョイント１０５、１５５に取付けられ且つ第１ジョイントを第１位置から第２位置へ１０１、１０２、１５１、１５２動かすために受けアーム部１０９、１５９の中を滑る並進アーム部１０７、１５７を含む並進ジョイントを介して並進可能である。この滑りシールは、差圧式真空シール１０８ａ、１５８ａおよび空気軸受１０８ｂ、１５８ｂによって維持する。
【００３５】
第２物体テーブルＷ２Ｔが露出領域２００および測定領域３００の一つから他の領域へ動き、第３物体テーブルＷ３Ｔが反対方向に動く、“スワップ”作業を図４および図５に概略的に描く。図４および図５は、所謂“スワップ”になる運動の一つの組合せを示すが、運動の順序は別の順番でもよい。
【００３６】
図４に示すように、もしスワップを始めるべきなら、第１段階は、第１および第２導管案内の両方の第２ジョイント１０５、１５５の並進である。第２物体テーブルの場合、第１導管案内１００の第２ジョイント１０５がその第２位置１０２から、測定領域３００より露出領域２００の近くにある第１位置１０１へ動く。この作業中、第２物体テーブルは、実質的に測定領域３００内に留まり、その領域内で動いてもよい。第３物体テーブルの場合、この第３物体テーブルＷ３Ｔがほぼ露出領域２００上に留まる間に、第２導管案内１５０の第２ジョイント１５５が第１位置１５１から第２位置１５２へ動く。
【００３７】
スワップ中の次の段階を図５に描き、そこでは第２および第３物体テーブルをそれらそれぞれの導管案内１００、１５０の第２ジョイント１０５、１５５の方へ動かす。この位置で、第２および第３物体テーブルは、ほぼ露出領域２００と測定領域３００の間にある。
【００３８】
最後に、図６に示すように、第２物体テーブルＷ２Ｔ上に保持したウエハを露出するために、第１導管案内１００の第２ジョイント１０５を第１導管案内１００の第１位置１０１に位置付ける。第３物体テーブルＷ３Ｔ上のウエハを測定するために、第２導管案内１５０の第２ジョイント１５５を第１位置１５１ではなく第２位置１５２に配置する。
【００３９】
導管案内１００、１５０のジョイント１０５、１１５、１５５、１６５は、１００°未満、好ましくは９０°未満の運動角度範囲を有する。これは、第１位置１０１、１５１および第２位置１０２、１５２の正しい位置決め並びに露出領域２００および測定領域３００の大きさによって整えられる。更に、第２ジョイント１０５、１５５の並進を許容することによって、これらの導管案内並びに露出および測定領域の大きさを最小にできる。
【００４０】
この第２および第３物体テーブルは、それらそれぞれの導管案内の第２アーム部に対して回転可能であるのが好ましい。どんな数のアーム部、回転ジョイントおよび並進可能ジョイントで導管案内を構成してもよい。厳密な構成は、それらが関連する構成要素の要件および自由度数に依るだろう。以下の実施例で、これらの導管案内を構成する種々の構成要素の特定の例は勿論、変形を説明する。当業者には、ここに説明しなかった他の変形も可能であることが明白だろう。
【００４１】
【実施例２】
図７は、以下に説明することを除いて実施例１と同じである、実施例２による導管案内１００を示す。この実施例２では、第２および第３物体テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔが主回転ジョイント１０３に取付けてある。スワップを行うためには、第２および第３物体テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔが図７に示す位置をスワップするように、主回転ジョイント１０３を１８０°だけ回転する。露出および測定領域での位置決めは、物体テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔを主回転ジョイント１０３に対して回転するための位置決めジョイント１２５、１７５の回転により、および並進アーム部１０７、１５７の受けアーム部１０９、１５９に出入りする伸縮によって達成する。実施例１同様、並進アーム部の可動面は、差圧式真空シールおよび空気軸受組立体１０８、１５８を使って封止するのが好ましい。
【００４２】
【実施例３】
図８は、以下に説明することを除いて実施例１と同じでもよい、実施例３による導管案内１００を示す。図８は、単一導管案内１００および物体テーブルＷ２Ｔだけを示す。導管案内のこの実施例は、第３物体テーブルＷ３Ｔが存在し、測定領域３００と露出領域２００の間のスワップが必要な場合にも同等によく適用できる。実施例３では、導管案内１００に回転ジョイントがない。操作性のために、この導管案内１００は、ほぼ直交方向の伸縮を許容する二つの並進可能ジョイントを備える。この導管案内１００は、回転第１ジョイント１１５を並進可能ジョイント１１８で置換え、および回転第２ジョイント１０５を、並進アーム部１０７を９０°で第１アーム部１１０に結合する固定部で置換えることを除いて、実施例１のものと同じである。並進可能ジョイント１１８は、実施例１の並進可能ジョイントと同じ構造であり、差圧式真空シールおよび空気またはガス軸受組立体１１８で封止してある。
【００４３】
【実施例４】
図９は、以下に説明することを除いて実施例１と同じでもよい、実施例４による導管案内１００を示す。この実施例では、物体テーブルＷ２Ｔが並進アーム部１０７の端に取付けてある。受けアーム部１０９は、この真空室２０の側壁２１に相対的に（並進アーム部１０７が並進可能な方向とほぼ直交方向に）並進可能な並進可能板１２２から突出する。並進可能板１２２は、空気軸受および差圧式真空シール装置１２１上を真空側壁２１に相対的に滑動する。
【００４４】
【実施例５】
図１０ａは、実施例５の導管案内１００のジョイント１１５を詳細に示す。他の種類の軸受も可能であり、それでこの説明は例としてのみ挙げる。この概略図で、ジョイント１１５は、第１アーム部１１０と第２アーム部１２０の間のヒンジを形成する。このジョイントは、その代りにアーム部１１０、１２０と真空室壁２１または物体テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔの間のヒンジ機構を形成してもよい。ジョイント１１５、第１アーム部１１０、および第２アーム部１２０を通る通路が導管２４にこの導管案内１００を通過させる。ジョイント１１５は、円筒形外面を備える第１部材２６および円筒形内面を備える第２部材２８を含む。第２部材２８は、第１部材２６と協同し、この第１部材２６と同軸にそれに対して回転可能である。空気軸受２０および差圧式真空シール２２が第１および第２部材２６、２８の対向する面の間に設けてある。
【００４５】
代替装置を図１０ｂに示し、そこでは第１および第２部材２６、２８がそれらの端にフランジ２７、２９が取付けてある。これらのフランジの表面は、互いに対向し、空気軸受２０および差圧式真空シール２２がこれらの対向する面の間に設けてある。
【００４６】
この第１および第２部材２６、２８は、導管２４がこれらの部材の中央を通過できるように、中空開放端パイプとして作ってある。この第１および第２部材２６、２８は、第１および第２アーム部１１０、１２０に、二つのアーム部間の接合面だけを真空差圧式シールによって封止して、導管がこの第１アーム部１１０からジョイント１１５を通り第２アーム部１２０の中へ進めるように結合してある。これは、導管案内１００内部の導管２４が真空に曝されないことを保証しながら、アーム部１１０および１２０の互いに対する自由な回転を可能にする。差圧式真空シールは、低圧源に曝された少なくとも一つの通路を有する。任意に、差圧式真空シールが、各々順次低い圧力源に曝される幾つかの通路を含むことができる。差圧式真空シールを実施例７で説明する。
【００４７】
【実施例６】
図１１および図１２は、以下に説明することを除いて実施例１と同じである、この発明の実施例６によるジョイント１１５を示す。ジョイント１１５は、第１および第２アーム部１１０、１２０がほぼ同じ平面内にあるように設えてある。このジョイントは、その代りにアーム部１１０、１２０と真空室壁２１または物体テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔの間のヒンジ機構を形成してもよい。この実施例では、少なくとも部分的に円筒形の外面を有する内側部材３２が第１中空アーム部１１０の端に設けてある。図１２から分るように、第２アーム部１２０は、上記内側部材３２と協同する、少なくとも部分的に円筒形の内側面を有する外側部材３８を備える。この内側部材３２の内面は、導管２４が貫通する、上記第１アーム部１１０に通ずる第１開口３４を有し、および外側部材３８の内面は、第２開口４０を有し、導管２４がそれを通過して上記第２アーム部１２０の中へ入ることができる。空気軸受２０および差圧式真空シール２２が部材３２と３８の対向する面間の開口３４および４０の周りに設けてある。この内側部材３２は、この円筒の内部が真空に曝されないように、この円筒面の頂部と底部とが閉じてある。この内側および外側部材の第１および第２開口３４および４０の大きさは、所望の任意の回転角で第１開口３４および第２開口４０が整列し、導管２４が上記第１アーム部１１０を通って上記第２アーム部１２０に入れるような寸法になっている。この構成は、第１および第２アーム部１１０、１２０がほぼ同じ（水平）平面内にあるようにするので、導管２４は、アーム部１１０、１２０がジョイント１１５の周りに回転するとき、曲げられるだけで、互いに対して捻られない。これは、導管２４の寿命を捻れおよび／または擦れ合いの減少によって延せるので有利である。
【００４８】
【実施例７】
上に説明した実施例に使えるガス軸受（“空気軸受”）および差圧式真空シールの例を次に図１３を参照して説明する。図１３は、差圧式ガス軸受１０８を通る断面図で、支持部材、例えば、受け並進可能アーム部１０９、および被支持部材、例えば、並進アーム部１０７の一部を示す。ガス軸受１０８は、並進アーム部１０７をこの受けアーム部から一定隙間ｇ、例えば、５μｍだけ離して保持する。そのような隙間のために、この軸受付近の受けアーム部１０９の表面１０９ｂ、およびこの軸受の移動領域上の並進アーム部１０７の表面１０７ｂは、０．８μｍ未満のＲＭＳ表面粗さに仕上げねばならないが０．４μｍＲＭＳ表面粗さ以上に平坦である必要はない。これは、既知の機械的研磨技術で容易に達成できる。ある用途では、５μｍないし１０μｍの範囲の隙間が適当かも知れず、それで表面をそのような高許容差に仕上げる必要はない。清浄空気（またはその他のガス、例えば、Ｎ2）をガス供給路２１１から数気圧の圧力で絶えず供給して高圧領域２１４を創成する。供給した空気は、区画室Ｍの方へ、および真空室２０の方へも流れるが、そこにそれがあることは、勿論、好ましくない。大気圧への逃道が溝２１２を介して設けてある。この空気軸受を形成する空気が更に真空室２０への許容できない漏れになるのを防ぐために、それを真空導管２１３を介してポンプで排気する。もし望むなら、逃道２１２もポンプで排気してもよい。この様にして、真空室２０への残留漏れｌを許容レベル内に保つことができる。
【００４９】
【実施例８】
この発明の実施例８を図１４に示す。この実施例は、以下に説明することを除いて実施例１と同じでもよい。一つの導管案内と物体テーブルだけを示すが、同じ構成を、第１物体テーブルは勿論、それぞれの第１および第２導管案内を有する第２および第３物体テーブルの両方に使うことができる。可能である場合は、類似の参照番号を使う。
【００５０】
この実施例８では、物体テーブルが導管案内と独立である位置決め手段に結合してある。この導管案内は、例えば、第２ジョイント１０５および第１ジョイント１１５の中にトルクモータを含んでも含まなくてもよい。この導管案内の第２アーム部１２０は、導管２４が通過するベロー６５０とともに物体テーブルＷ２Ｔに取付けてある。この様にして、ユーティリティを第２ジョイント１０５から物体テーブルＷ２Ｔへ供給する。
【００５１】
物体テーブルＷ２Ｔは、第１または長ストロークモジュール６２０および第２または短ストロークモジュール６３０を含む位置決め手段に結合してある。長ストロークモジュール６２０は、基準フレームに対して第１運動範囲を有し、短ストロークモジュール６３０は、この長ストロークモジュール６２０によって支持され且つ第１運動範囲より小さい第２運動範囲を有する。
【００５２】
長ストロークモジュール６２０が動き得る領域をＢＰで示す。この実施例では、この領域がベースプレートＢＰに平面モータ磁石アレイを備える。この実施例の図３に示すような露出領域２００および測定領域３００も平面モータ磁石アレイを有し、この露出および測定領域の外部の領域、特に二つの領域の間も必要に応じて平面モータ磁石アレイを備える。
【００５３】
本発明の実施例８の物体テーブル用位置決め手段は、長ストロークモジュール６２０に平面モータコイル６２５を含む。この長ストロークモジュール６２０上の短ストロークモジュール６３０の位置決めは、６自由度のローレンツ力モータ６６０を使って達成する。この平面モータおよびローレンツ力モータは、図１４に概略的にだけ示す。
【００５４】
【実施例９】
この発明の実施例９を図１５に示す。この実施例は、以下に説明することを除いて実施例１と同じでもよい。図１５に、この導管案内の第２アーム部の一部だけを示す。この物体テーブルの粗位置決め用トレー７００がこの導管案内の第２アーム部１２０の端に取付けてあり、それは、平面モータコイル７０５およびベースプレートＢＰに組込んだ平面モータ磁石アレイを使うことによって位置決め可能である。導管を、ベロー６５０を介して、物体テーブルＷ２Ｔに結合した位置決め手段の第１、長ストロークモジュール６２０へ繰出す。本発明のこの実施例の長ストロークモジュール用位置決め手段は、平面モータコイル６２５を含む。実施例８同様、この長ストロークモジュールの上に配置した短ストロークモジュール６３０は、６自由度のローレンツ力モータ６６０によって位置決めする。
【００５５】
【実施例１０】
この発明の実施例１０を図１６に概略的に示す。この実施例は、以下に説明することを除いて実施例１と同じでもよい。この実施例では、物体テーブルを坦持するトレー７００の位置を、例えば、その第１および第２ジョイントをトルクモータによって駆動する導管案内によって決める。トレー７００の重量は、差圧式真空シール８１５を備える空気軸受によって面ＢＰ上で支持する。トレー７００に近い導管案内のアーム部１２０の中のベロー８３０および板ばね８３５装置がこの導管案内とトレーの間の少量の相対運動を可能にする。大きな位置決め運動は、導管案内ジョイントの中のトルクモータによって行うが、中程度の運動は、第１モジュール６２０の運動によって行い、小さい運動は、第２モジュール６３０の運動によって行う。第１モジュール６２０は、６自由度の中ストロークローレンツ力アクチュエータを使ってトレー７００に相対的に動かす。第１モジュール６２０と第２モジュール６３０の間の運動も６自由度のローレンツ力アクチュエータを使って達成する。ローレンツ力アクチュエータに重力補償器を使い、重力を打消す力を供給してこれらのローレンツ力モータがそのような力を出すことから解放してもよい。
【００５６】
上にこの発明を好適実施例に関して説明した；しかし、この発明が上の説明によって限定されないことが分るだろう。特に、この発明を上に真空室に収容したリソグラフィ装置のウエハステージに関して説明した。しかし、本発明がマスクテーブルにも同等に適用可能であることが容易に分るだろう。
【００５７】
更に、開示したスワップ機構は、ユーティリティをスワップ中に切離す必要がないように物体テーブルへ供給する非真空環境でも使ってよい。真空シールおよび従来の転り軸受を、この出願で差圧式真空シールおよび空気またはガス軸受を適用する場所に設けてもよい。真空シールおよび従来の転り軸受の構成は、ジョイントに空気／ガス供給排気が必要ないので、この差圧式シールおよび空気軸受構成より複雑でない。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の実施例１によるリソグラフィ投影装置を描く。
【図２】この実施例１による導管案内を示す概略平面図である。
【図３】通常動作でのこの実施例１による第１および第２導管案内の位置を示す概略図である。
【図４】初期スワップ運動中のこの実施例１による第１および第２導管案内の位置を示す概略図である。
【図５】スワップ中のこの実施例１による第１および第２導管案内の位置を示す概略図である。
【図６】通常動作中のこの実施例１による第１および第２導管案内の位置を示す概略図である。
【図７】実施例２の導管案内を示す概略図である。
【図８】実施例３の導管案内を示す概略図である。
【図９】実施例４の導管案内を示す概略図である。
【図１０ａ】実施例５のジョイントを示す概略断面図である。
【図１０ｂ】この実施例５のジョイントの変形である。
【図１１】実施例６のジョイントの内側部材を示す概略図である。
【図１２】この実施例６のジョイントを示す概略平面図である。
【図１３】この発明の実施例７による差圧式ガス軸受の断面図である。
【図１４】この発明によるリソグラフィ投影装置の実施例８の基板テーブルおよび位置決め手段の前腕の断面図である。
【図１５】この発明によるリソグラフィ投影装置の実施例９の基板テーブルおよび位置決め手段の前腕の断面図である。
【図１６】この発明によるリソグラフィ投影装置の実施例１０の基板テーブルおよび位置決め手段の前腕の断面図である。
【符号の説明】
１  リソグラフィ投影装置
２０  真空室
２４  導管
１００  導管遮蔽体（導管案内）
１０５  ジョイント
１０７  中空細長アーム部
１０８  真空シール
１０９  構造体
１１０  中空細長アーム部
１１５  ジョイント
１２０  中空細長アーム部
Ｃ  （基板の）目標部
ＩＬ  照明システム
ＬＡ  線源
ＭＡ  パターニング手段（マスク）
ＭＴ  第１物体（マスク）テーブル
ＰＢ  投影ビーム
ＰＬ  投影システム
ＶＥ  第１ガス排気手段
ＶＥ２  第２ガス排気手段
Ｗ  基板
Ｗ２  基板
Ｗ２Ｔ  第２物体（基板）テーブル
ＷＴ  基板テーブル
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０ａ】
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【図１０ｂ】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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