(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下部磁極と上部磁極の間に記録ギャップ膜を設け、下部磁極と上部磁極の周囲にコイルを備えた薄膜磁気ヘッドであって、下部磁極は下部ヨークとヨーク先端部を有し、前記ヨーク先端部は前記上部磁極との間に記録ギャップ膜を有し、前記ヨーク先端部はＮｉＦｅ膜で形成され、前記ヨーク先端部の両側には、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗのいずれかの非磁性の金属膜で形成された平坦化膜が形成され、前記ヨーク先端部と前記平坦化膜は共通の平面を有することを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項２】
前記下部ヨークと前記ヨーク先端部が一体として形成されていることを特徴とする請求項１に記載の薄膜磁気ヘッド。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかに記載の薄膜磁気ヘッドに、ＭＲ素子を有する再生ヘッドを設けることを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
【請求項４】
下部磁極と上部磁極の間に記録ギャップ膜を設け、前記下部磁極と前記上部磁極の周囲にコイルを備え、前記下部磁極は下部ヨークとヨーク先端部を有し、前記ヨーク先端部は前記上部磁極との間に記録ギャップ膜を有し、前記ヨーク先端部の両側に平坦化膜を設け、前記ヨーク先端部と前記平坦化膜は共通の平面を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
前記ヨーク先端部を、ＮｉＦｅ膜で形成し、前記平坦化膜を、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗのいずれかの非磁性の金属膜で形成し、
前記ヨーク先端部と前記平坦化膜を設けた後に両者のエッチングを開始して、前記ヨーク先端部と前記平坦化膜がトラック幅方向に平行な平面を得たときにエッチングを止めた後、前記平面の上に記録ギャップと上部磁極を形成することを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁気記録装置に用いられる磁気ヘッドに関し、特にＨＤＤに搭載する薄膜磁気ヘッド、ＭＲヘッドなどに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＨＤＤ（ハードディスク装置）に用いられる薄膜磁気ヘッドは、媒体に記録した信号から発生する磁界を検知するＭＲ素子と、媒体に信号を記録する磁極とコイルを備える磁気ヘッドである。この薄膜磁気ヘッドの構造は、複数の薄膜を積層して構成されている。これらの薄膜は、スパッタリングや蒸着による成膜工程、フォトリソグラフィーによるマスク工程、薄膜を除去するエッチング工程等を利用して作製される。
【０００３】
ＨＤＤの記録密度の向上に伴って、薄膜磁気ヘッドの磁極のトラック幅を狭くすることが必要になった。ここで、磁極とは、記録ギャップ層を挟んで向き合った上部ヨークと下部ヨークを有する構造をいう。またトラック幅とは、上部ヨークまたは下部ヨークいずれかの先端部の幅のうち、狭い方の幅を表す。狭トラック化を図るためには、記録ギャップ膜に対向する下部磁極の先端部の幅を狭く作製する方法が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この場合、先端部の上に記録ギャップ層と上部磁極を順に形成する。しかし、下部磁極の凸形状によって段差が生じるため、上部磁極の形状に歪みを生じる。トラック幅の領域において磁極が平行に配列しないため、媒体に記録するビットも歪み、記録密度の向上の妨げになる。
【０００５】
そこで、本発明は下部磁極の記録ギャップに対向する面を平坦にして上部磁極を積層する薄膜磁気ヘッドとその製造方法を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明の薄膜磁気ヘッドは、下部磁極と上部磁極の間に記録ギャップ膜を設け、下部磁極と上部磁極の周囲にコイルを備えた薄膜磁気ヘッドであって、下部磁極は下部ヨークとヨーク先端部を有し、前記ヨーク先端部は前記上部磁極との間に記録ギャップ膜を有し、前記ヨーク先端部はＮｉＦｅ膜で形成され、前記ヨーク先端部の両側には、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗのいずれかの非磁性の金属膜で形成された平坦化膜が形成され、前記ヨーク先端部と前記平坦化膜は共通の平面を有することを特徴とする。上記材料を用いることによって、前記平坦化膜と前記ヨーク先端部とを同時にエッチングする際に、エッチング速度のばらつきを低減し、均一な平坦面もしくは共通の平面を得ることができる。
【０００９】
また、本発明の薄膜磁気ヘッドでは、下部ヨークとヨーク先端部が一体として形成されていることを特徴とする。また、本発明の薄膜磁気ヘッドにおいて、ＭＲ素子を有する再生ヘッドを設けることを特徴とする。
【００１０】
本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法は、下部磁極と上部磁極の間に記録ギャップ膜を設け、前記下部磁極と前記上部磁極の周囲にコイルを備え、前記下部磁極は下部ヨークとヨーク先端部を有し、前記ヨーク先端部は前記上部磁極との間に記録ギャップ膜を有し、前記ヨーク先端部の両側に平坦化膜を設け、前記ヨーク先端部と前記平坦化膜は共通の平面を有する薄膜磁気ヘッドの製造方法において、
前記ヨーク先端部を、ＮｉＦｅ膜で形成し、前記平坦化膜を、Ｃｒ、Ｔａ、Ｗのいずれかの非磁性の金属膜で形成し、
前記ヨーク先端部と前記平坦化膜を設けた後に両者のエッチングを開始して、前記ヨーク先端部と前記平坦化膜がトラック幅方向に平行な平面を得たときにエッチングを止め、前記平面の上に記録ギャップと上部磁極を形成することを特徴とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、図面に沿って本発明の薄膜磁気ヘッドとその製造工程を説明する。図１に本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す。図１中の断面図は、製造工程の各ステップを示す。まず、下部ヨーク１上にヨーク先端部２ａを設けて下部磁極を構成する。さらに前記下部ヨークとヨーク先端部の上に、平坦化膜４とレジスト膜５ａを順に積層した（ステップ１）。ここで各々の膜の組成を説明する。下部ヨーク１は、スパッタで形成されたＣｏＴａＺｒの膜である。ヨーク先端部２ａは、メッキで形成されたＮｉＦｅの膜である。平坦化膜４は、スパッタで形成されたＣｒの膜である。平坦化膜には、非磁性の金属膜を用いることが望ましい。具体的にはＣｒ、Ｔａ、Ｗ等の材料が挙げられる。
【００１２】
さらに、（ステップ２）ヨーク先端部上に積層した平坦化膜およびレジスト膜をイオンミリングでエッチングして、イオンミリングを途中で止めることによってヨーク先端部の両側に残留させた平坦化膜を平坦化部材４ａとして用い、前記平坦化部材がヨーク先端部と共通の平面４ｃを有するようにした。ここで、イオンミリングとは、励起してイオン化した不活性ガスやプラズマガスを高周波の電磁界で加速・振動させ、これを衝突させることにより対象物を削るエッチング法である。
【００１３】
続けて、（ステップ３）前記共通の平面上に記録ギャップ膜６を形成して、前記ヨーク先端部と対向するように前記記録ギャップ上に上部磁極７を形成した。以上の工程で薄膜磁気ヘッドを形成することにより、上部磁極と下部磁極の先端部において、記録ギャップ膜は平坦になる。また、記録ギャップ膜を平坦にすることで、その上に設ける上部磁極の記録ギャップ膜に対向する側も平坦な面にすることができる。従って、下部磁極にヨーク先端部を設けても、薄膜磁気ヘッドを用いて記録媒体に書込みを行った際のビットの歪みが防止され、記録密度を高くすることができる。
【００１４】
次に本発明の別の実施形態の一例を説明する。図２に本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す。まず（ステップ１）、下部ヨーク１上に一様にメッキ膜２を形成し、前記メッキ膜２上にオーバーハングレジスト３を形成する。オーバーハングレジストとは、メッキ膜と接合する側の両端に隙間を有する形状のレジスト膜のことをいう。
【００１５】
さらに、（ステップ２）オーバーハングレジスト３とメッキ膜２をイオンミリングでエッチングして、オーバーハングレジストに覆われていない領域のメッキ膜を除去して、残留したメッキ膜をヨーク先端部２ａとする。続けて、（ステップ３）オーバーハングレジスト３とヨーク先端部２ａと下部ヨーク１の上に、スパッタリングで平坦化膜４を形成する。
【００１６】
さらに、（ステップ４）オーバーハングレジストを溶解液に曝してエッチングすることで完全に除去し、ヨーク先端部とヨーク先端部の両端部に乗り上げている平坦化膜の上に、第２の平坦化膜５を形成する。続けて、（ステップ５）イオンミリングで第２の平坦化膜を削りながら、ヨーク先端部の上に乗り上げた平坦化膜の端部も除去するまでエッチングする。この結果、平坦化膜は平坦化部材４ａに加工され、ヨーク先端部と平坦化部材の共通の平面４ｃを得る。さらに、前記共通の平面の上に記録ギャップ膜６と上部磁極７を形成して、薄膜磁気ヘッドを得た。
【００１７】
次に本発明の別の実施形態の一例を説明する。図３に本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を示す。まず、（ステップ１）ＣｏＴａＺｒの下部ヨーク１上にフレームレジスト２ｃを形成し、前記レジストフレーム内にメッキ法でＮｉＦｅのヨーク先端部２ａを形成した。続けて、（ステップ２）フレームレジストをエッチングで除去した後、ヨーク先端部２ａ上にオーバーハングレジスト３を形成した。次に、（ステップ３）オーバーハングレジスト３と下部ヨーク１とヨーク先端部２ａの上に、スパッタリングでＣｒの平坦化膜４を形成した。続けて、（ステップ４、５）オーバーハングレジスト３を湿式エッチングで除去し、ヨーク先端部２ａとヨーク先端部の両端部に乗り上げた平坦化膜の上に、第２の平坦化膜５であるアルミナを形成した。続けてイオンミリングによるエッチングで第２の平坦化膜を削り、ヨーク先端部２ａの上に乗り上げた平坦化膜４の端部を除去して、ヨーク先端部２ａと平坦化部材４ａの共通の平面４ｃを得た。さらに、（ステップ６）前記平面の上にアルミナの記録ギャップ膜６とＮｉＦｅの上部磁極７を形成して薄膜磁気ヘッドを得た。
【００１８】
図４で本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図を説明する。
図４中の再生ヘッド１２は、下部シールド１１と下部磁極１の間に、再生ギャップ膜１０を介して、ＭＲ素子８と電極膜９を設けた構造を有する。二つある電極膜９はＭＲ素子の両端に各々接合され、ＭＲ素子に電流を供給する。下部ヨークより上の部分である記録ヘッドに、図１、２、３にて説明した薄膜磁気ヘッドの構造を用いた。図中では記載を省略したが、電極膜９は電極膜／永久磁石膜の２層膜を用い、ＭＲ素子に電流とバイアス磁界を印加する形態とした。
【００１９】
【発明の効果】
本発明により、上部磁極の記録ギャップ膜に対向する側を平坦に形成して、記録媒体の記録密度を向上できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する断面図。
【図２】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する断面図。
【図３】本発明の薄膜磁気ヘッドの製造方法を説明する断面図。
【図４】本発明の薄膜磁気ヘッドの断面図。
【符号の説明】
１  下部ヨーク、２  メッキ膜、２ａ  ヨーク先端部、２ｃ  フレームレジスト、３  オーバーハングレジスト、４  平坦化膜、４ａ  平坦化部材、４ｃ  共通の平面、５  第２の平坦化膜、５ａ  レジスト膜、６  記録ギャップ膜、７  上部磁極、８  ＭＲ素子、９  電極膜、１０  再生ギャップ膜、１１  下部シールド、１２  再生ヘッド
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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