(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
絶縁性の基材と、前記基材の表面に配置されるとともに電源を供給する電源プレーンが形成された第１配線層と、前記第１配線層と絶縁層を介して配置されるとともに電源を供給する第３配線層と、前記第３配線層より前記基材から離れた方向に絶縁層を介して配置されるとともに電源を供給する第５配線層と、前記第１配線層と前記第３配線層との間に配置されるとともに信号を伝送する第１信号配線が形成された第２配線層と、前記第３配線層と前記第５配線層との間に配置されるとともに信号を伝送する第２信号配線が形成された第４配線層とを有する多層配線基板と、
前記多層配線基板の主面上に配置された半導体チップとを有し、
前記第５配線層と前記第４配線層との間隔は、前記第２配線層と前記第３配線層との間隔より大きいとともに前記第１配線層と前記第２配線層との間隔より小さく、かつ前記第３配線層と前記第４配線層との間隔は、前記第２配線層と前記第３配線層との間隔より大きいとともに前記第１配線層と前記第２配線層との間隔より小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項２】
表裏面に通じる複数の第１貫通孔配線が形成された絶縁性の基材と、前記基材の表面に配置されるとともに電源を供給する電源プレーンが形成された第１配線層と、前記第１配線層と絶縁層を介して配置されるとともに電源を供給する電源プレーンが形成された第３配線層と、前記第１配線層と前記第３配線層との間に配置されるとともに信号を伝送する第１信号配線が形成された第２配線層と、前記第３配線層より前記基材から離れた方向に絶縁層を介して配置されるとともに信号を伝送する第２信号配線が形成された第４配線層とを有する多層配線基板と、
前記多層配線基板の主面上に配置された半導体チップとを有し、
前記第１配線層と前記第２配線層との間隔が前記第２配線層と前記第３配線層との間隔より大きいとともに、前記第１信号配線と前記第２信号配線とを接続する第２貫通孔配線の配線径が前記第１貫通孔配線の配線径より小さいことを特徴とする半導体装置。
【請求項３】
請求項１記載の半導体装置であって、前記基材の表裏面に通じる複数の第１貫通孔配線が形成され、前記第１配線層における前記第１貫通孔配線の配線逃げ部の直径は、前記第５配線層と前記第４配線層との間隔、前記第４配線層と前記第３配線層との間隔、前記第３配線層と前記第２配線層との間隔、前記第２配線層と前記第１配線層との間隔のいずれよりも大きいことを特徴とする半導体装置。
【請求項４】
請求項２記載の半導体装置であって、前記第１配線層における前記第１貫通孔配線の配線逃げ部は、前記第３配線層における前記第２貫通孔配線の配線逃げ部より大きいことを特徴とする半導体装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体装置に関し、特に、多層配線基板を用いた半導体装置の電気特性の向上に適用して有効な技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
高速・多ピンの半導体チップ用パッケージとして、例えばＦＣ−ＢＧＡ(Flip Chip-Ball Grid Array)がある。このパッケージ用基板として、セラミック基板や有機基板などが用いられるが、低コスト化には有機基板が有効である。その有機基板では、近年、多ピンの半導体チップに対応するために、ドリルによる貫通スルーホールを持つコア層の表裏にフォトリソグラフィにより微細配線を形成する、ビルドアップ製法が用いられている。
【０００３】
このような高速・多ピンの半導体チップ用パッケージには、良好な電気特性が要求され、例えば特性インピーダンスについて、パッケージ内の全ての信号配線について値のばらつきを小さくする必要がある。
【０００４】
なお、多層配線基板（配線基板）の特性インピーダンスを変化させずにノイズ対策を行う技術として、特開２００１−７７５４１号公報にその記載があり、そこには、接地導体層に対するインピーダンスを調整するために信号配線を接地導体層から離間させる技術が記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、特開２００１−７７５４１号公報には、接地導体層と信号配線の間に配置される絶縁層の厚さによって特性インピーダンスが変化することは記載されているが、パッケージ基板が例えば上記ビルドアップ基板である場合、コア層に形成された複数のスルーホール配線からその直上に絶縁層を介して形成された信号配線が受ける特性インピーダンスの影響についての記載は全く見当たらない。
【０００６】
すなわち、実際のパッケージ基板ではコア層には複数のスルーホール配線が形成されており、このスルーホール配線上にも絶縁層を介して多数の信号配線が配置され、スルーホール配線上から全ての信号配線の配置を避けることは困難である。
【０００７】
したがって、単に、接地導体層と信号配線の間に配置される絶縁層の厚さによる特性インピーダンスの変化を考慮するだけでは、パッケージ基板の設計としては不十分であり、スルーホール配線上にある信号配線とスルーホール配線上にない信号配線によるインピーダンスのばらつきを抑えきれないことが問題となる。
【０００８】
本発明の目的は、配線の特性インピーダンスのばらつき低減を高精度に行うことができる半導体装置を提供することにある。
【０００９】
本発明の前記ならびにその他の目的と新規な特徴は、本明細書の記述および添付図面から明らかになるであろう。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本願において開示される発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【００１１】
すなわち、本発明は、絶縁性の基材と、前記基材の表面に配置されるとともに電源を供給する電源プレーンが形成された第１配線層と、前記第１配線層と絶縁層を介して配置されるとともに電源を供給する第３配線層と、前記第３配線層より前記基材から離れた方向に絶縁層を介して配置されるとともに電源を供給する第５配線層と、前記第１配線層と前記第３配線層との間に配置されるとともに信号を伝送する第１信号配線が形成された第２配線層と、前記第３配線層と前記第５配線層との間に配置されるとともに信号を伝送する第２信号配線が形成された第４配線層とを有する多層配線基板と、前記多層配線基板の主面上に配置された半導体チップとを有し、前記第５配線層と前記第４配線層との間隔は、前記第２配線層と前記第３配線層との間隔より大きいとともに前記第１配線層と前記第２配線層との間隔より小さく、かつ前記第３配線層と前記第４配線層との間隔は、前記第２配線層と前記第３配線層との間隔より大きいとともに前記第１配線層と前記第２配線層との間隔より小さいものである。
【００１２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。
【００１３】
以下の実施の形態においては便宜上その必要があるときは、複数のセクションまたは実施の形態に分割して説明するが、特に明示した場合を除き、それらはお互いに無関係なものではなく、一方は他方の一部または全部の変形例、詳細、補足説明などの関係にある。
【００１４】
また、以下の実施の形態において、要素の数等（個数、数値、量、範囲等を含む）に言及する場合、特に明示した場合及び原理的に明らかに特定の数に限定される場合などを除き、その特定の数に限定されるものではなく、特定の数以上でも以下でも良いものとする。
【００１５】
さらに、以下の実施の形態において、その構成要素（要素ステップなどを含む）は、特に明示した場合及び原理的に明らかに必須であると考えられる場合などを除き、必ずしも必須のものではないことは言うまでもない。
【００１６】
同様に、以下の実施の形態において、構成要素等の形状、位置関係等に言及するときは、特に明示した場合及び原理的に明らかにそうでないと考えられる場合などを除き、実質的にその形状などに近似または類似するものなどを含むものとする。このことは前記数値及び範囲についても同様である。
【００１７】
また、実施の形態を説明するための全図において同一機能を有する部材には同一の符号を付し、その繰り返しの説明は省略する。
【００１８】
（実施の形態１）
図１は本発明の実施の形態１の半導体装置（ＢＧＡ）の構造の一例を示す平面図、図２は図１に示すＢＧＡの構造を示す断面図、図３は図１に示すＢＧＡの構造を示す底面図、図４は図１に示すＢＧＡに組み込まれた多層配線基板の構造の一例を示す拡大部分断面図、図５は図４に示すＡ部の詳細構造を示す拡大部分断面図、図６は図５に示す基板構造におけるコア層のビア配線とその直上の配線との位置関係の一例を示す拡大部分断面図、図７は図４に示す基板構造における第５配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図、図８は図４に示す基板構造における第４配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図、図９は図４に示す基板構造における第３配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図、図１０は図４に示す基板構造における第２配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図、図１１は図４に示す基板構造における第１配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図、図１２は図４に示す基板構造におけるボール側の第１配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図、図１３は図１１に示すビア配線の構造の一例を示す拡大断面図と拡大平面図である。
【００１９】
なお、図７〜図１２は、パッケージ基板４における各配線層の配線パターンについて示した図であるが、それぞれは、図１に示すパッケージ基板４におけるある１／４の領域部分のみを示しており、それぞれの配線層においては残りの３／４の領域についてもそれぞれ同様の配線パターンが形成されている。
【００２０】
図１〜図３に示す本実施の形態１の半導体装置は、多ピンの半導体パッケージであり、多層配線基板であるパッケージ基板４の主面４ａ上にフリップチップ接続によって半導体チップ２が搭載され、かつパッケージ基板４の主面４ａと反対側の裏面４ｂ内に図３に示すように複数の外部接続用端子であるボール電極３がアレイ状に配置されたＢＧＡ（Ball Grid Array)１である。
【００２１】
なお、フリップチップ接続は半田バンプ電極５を介して行われている。すなわち、半導体チップ２の主面２ａとパッケージ基板４の主面４ａとが半田バンプ電極５を挟んだ状態で対向しており、半田バンプ電極５を介して半導体チップ２とパッケージ基板４とが電気的に接続されている。さらに、フリップチップの接続部が絶縁性樹脂などからなるアンダーフィル樹脂６によって保護されている。
【００２２】
また、パッケージ基板４の主面４ａ側の半導体チップ２の周辺には、チップ部品であるチップコンデンサ７が実装されている。
【００２３】
さらに、パッケージ基板４の裏面４ｂ側に配置されたボール電極３は、例えば、半田によって形成されているものである。
【００２４】
また、パッケージ基板４は、多層配線基板であり、図４に示すように、基材であるコア層４ｃのチップ側とボール電極（外部接続用端子）側の両面にビルドアップ製法によって配線層と絶縁層とを積み上げて形成したビルドアップ基板である。
【００２５】
したがって、コア層４ｃの表面のチップ側とボール電極側とで、配線層と絶縁層とからなるビルドアップ層４ｚが対称に形成されており、微細配線を形成することができる。
【００２６】
なお、本実施の形態１のＢＧＡ１のパッケージ基板４は、片側のビルドアップ層４ｚが、５つの配線層とそれぞれの層間に配置された４つの絶縁層とからなる場合である。
【００２７】
すなわち、コア層４ｃから半導体チップ２およびボール電極３に向かってそれぞれ第１配線層４ｄ、第２配線層４ｅ、第３配線層４ｆ、第４配線層４ｇおよび第５配線層４ｈが形成され、それぞれの層間に第１絶縁層４ｉ、第２絶縁層４ｊ、第３絶縁層４ｋまたは第４絶縁層４ｌが形成されている。また第５配線層４ｈの表面には、レジスト膜などの絶縁膜８ｅが形成されている。
【００２８】
ここで、本実施の形態１のＢＧＡ１は、そのパッケージ基板４において、図６に示すような、コア層４ｃのスルーホール４ｒ上に配置された第２配線層４ｅの第１配線４ｍに対して、コア層４ｃの表面のプレーン層である第１配線層４ｄと第２配線層４ｅとの間の第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）を厚くするとともに、逆側のプレーン層である第３配線層４ｆとの間の第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）を薄くすることにより、コア層４ｃの表面のプレーン層である第１配線層４ｄの図１１に示す電源プレーン８ａと、第１配線４ｍや第２配線４ｎとのインピーダンスの結合を弱め、かつ逆側のプレーン層である第３配線層４ｆの図９に示す電源プレーン８ａと第１配線４ｍや第２配線４ｎとのインピーダンスの結合を強めるものである。
【００２９】
これにより、配線の特性インピーダンスの調整を高精度に行うことができるようになり、スルーホール４ｒ上に配置された第１配線４ｍと、スルーホール４ｒ上から避けて配置された第２配線４ｎとの間の特性インピーダンスの差の低減化を図ることができる。
【００３０】
次に、パッケージ基板４におけるビルドアップ層４ｚの詳細構造について説明する。なお、ここではコア層４ｃとチップ側のビルドアップ層４ｚの構成について説明するが、ボール電極側のビルドアップ層４ｚについてもほぼ同じ構造である。
【００３１】
まず、コア層４ｃには、図５に示すように、そのチップ側の表面とボール電極側の表面とを電気的に接続する第１貫通孔配線である第１ビア配線４ｐが複数設けられている。
【００３２】
すなわち、コア層４ｃのチップ側の表面である第１配線層４ｄに設けられた図１１に示す配線と、これに対応してボール電極側の表面である第１配線層４ｄに設けられた図１２に示す配線とを図５に示す第１ビア配線４ｐによって電気的に接続している。
【００３３】
例えば、コア層４ｃのチップ側の表面である第１配線層４ｄには、図１１に示すように、電源プレーン８ａいわゆる電源を供給する導体パターンが形成され、これに対応してコア層４ｃのボール電極側の表面である第１配線層４ｄには、図１２に示すように半円と三角形を組み合わせた形状の電源配線４ｓが形成されており、チップ側の第１配線層４ｄの電源プレーン８ａとボール電極側の第１配線層４ｄの電源配線４ｓとが第１ビア配線４ｐを介して電気的に接続されている。
【００３４】
同様に、ボール電極側の第１配線層４ｄには、グランドプレーン８ｂいわゆるグランドの導体パターンが形成され、これに対応してチップ側の第１配線層４ｄには、半円と三角形を組み合わせた形状のグランド配線４ｕが形成されている。
【００３５】
なお、電源の配線は、所定の電源を供給する配線であり、また、グランドの配線は、例えば０Ｖなどの基準となる電位の電源を供給するものであり、したがって、グランドプレーン８ｂも電源プレーン８ａの一種と見なすことができる。
【００３６】
また、チップ側およびボール電極側のそれぞれの第１配線層４ｄには、半円と三角形を組み合わせた形状の複数の信号配線４ｔが形成されており、それぞれチップ側の信号配線４ｔとボール電極側の信号配線４ｔとが第１ビア配線４ｐを介して電気的に接続されている。
【００３７】
したがって、チップ側およびボール電極側のそれぞれの第１配線層４ｄの電源プレーン８ａやグランドプレーン８ｂにおいては、半円と三角形を組み合わせた形状の電源配線４ｓ、グランド配線４ｕおよび信号配線４ｔのそれぞれと電気的接続を避けるための配線逃げ部４ｖが形成されている。
【００３８】
さらに、複数のスルーホール４ｒも形成されているため、電源プレーン８ａやグランドプレーン８ｂには、数多くの配線逃げ部４ｖが形成されており、それぞれ導体が形成されていない箇所が広範囲に亘って存在している。したがって、チップ側の第１配線層４ｄの電源プレーン８ａおよびボール電極側の第１配線層４ｄのグランドプレーン８ｂのそれぞれの導体面積は、パッケージ基板４の第３配線層４ｆの電源プレーン８ａの面積と比較して非常に小さい。
【００３９】
次に、コア層４ｃのチップ側のビルドアップ層４ｚの第２配線層４ｅについて図１０を用いてその構造を説明する。
【００４０】
図１０に示す第２配線層４ｅには、複数の第１信号配線８ｃが形成され、チップ下に相当する領域の信号端子４ｘからチップ外側に相当する領域の信号端子４ｘに配線を引き回している。
【００４１】
また、複数の第１信号配線８ｃの周囲には、上層の第２ビア配線４ｑと下層の第２ビア配線４ｑとを接続するための他の信号配線４ｔと、さらにこれらを避けるように配線逃げ部４ｖが配置されてその周囲にベタ配線であるグランドプレーン８ｂが形成されている。
【００４２】
すなわち、第２配線層４ｅでは、複数の第１信号配線８ｃがグランドプレーン８ｂによって囲まれた状態となっている。
【００４３】
次に、コア層４ｃのチップ側のビルドアップ層４ｚの第３配線層４ｆについて図９を用いてその構造を説明する。
【００４４】
図９に示す第３配線層４ｆには、ベタ配線である電源プレーン８ａが形成されている。
【００４５】
さらに、上層の第２ビア配線４ｑと下層の第２ビア配線４ｑとを接続するための複数の信号配線４ｔやグランド配線４ｕが形成され、これらを避けるように配線逃げ部４ｖが形成された電源プレーン８ａが形成されている。
【００４６】
なお、第３配線層４ｆの信号配線４ｔやグランド配線４ｕは、非常に小さな面積の配線であるため、これらを避けた第３配線層４ｆの電源プレーン８ａは、第１配線層４ｄの電源プレーン８ａに比較して遥かに大きな面積のプレーンとなっている。
【００４７】
次に、コア層４ｃのチップ側のビルドアップ層４ｚの第４配線層４ｇについて図８を用いてその構造を説明する。
【００４８】
図８に示す第４配線層４ｇには、複数の第２信号配線８ｄが形成され、第２配線層４ｅの第１信号配線８ｃと同様に、チップ下に相当する領域の信号端子４ｘからチップ外側に相当する領域の信号端子４ｘに配線を引き回している。
【００４９】
また、複数の第２信号配線８ｄの周囲には、これらを避けた状態でグランドプレーン８ｂが形成されており、したがって、第４配線層４ｇにおいても、複数の第２信号配線８ｄがグランドプレーン８ｂによって囲まれた状態となっている。
【００５０】
次に、コア層４ｃのチップ側のビルドアップ層４ｚの最上層のプレーン層である第５配線層４ｈについて図７を用いてその構造を説明する。
【００５１】
図７に示す第５配線層４ｈには、半導体チップ２の主面２ａに取り付けられた半田バンプ電極５の配置に対応してフリップチップ接続用の複数の信号端子４ｘと電源端子４ｗとグランド端子４ｙが形成され、その外側にグランドプレーン８ｂが形成されている。
【００５２】
さらに、電源端子４ｗ間が電源配線４ｓによって電気的に接続され、また、グランド端子４ｙがその外側のグランドプレーン８ｂとグランド配線４ｕによって電気的に接続されている。
【００５３】
したがって、第５配線層４ｈでは、複数の信号端子４ｘがグランドプレーン８ｂによって囲まれた状態となっており、これによって、複数の信号端子４ｘや第１信号配線８ｃおよび第２信号配線８ｄが形成された第２配線層４ｅ、第４配線層４ｇおよび第５配線層４ｈでは信号系の端子や配線がそれぞれグランドプレーン８ｂによって囲まれた状態となっている。
【００５４】
さらに、第２配線層４ｅの第１信号配線８ｃは、第１配線層４ｄの電源プレーン８ａと第３配線層４ｆの電源プレーン８ａとによって挟まれた状態となっており、また、第４配線層４ｇの第２信号配線８ｄは、第３配線層４ｆの電源プレーン８ａと第５配線層４ｈのグランドプレーン８ｂとによって挟まれた状態となっている。
【００５５】
したがって、それぞれの信号系の端子や配線は、その上下も電源プレーン８ａやグランドプレーン８ｂによって覆われており、これにより、信号系の端子や配線にノイズがのったり、あるいは周波数特性の低下などを防ぐ基板構造となっている。
【００５６】
また、第５配線層４ｈの信号端子４ｘとこれに対応する第４配線層４ｇの信号端子４ｘや、第２配線層４ｅの信号端子４ｘとこれに対応する第４配線層４ｇの信号端子４ｘは、図５に示すように、第２貫通孔配線である第２ビア配線４ｑを介して電気的に接続されている。
【００５７】
なお、第１ビア配線４ｐと第２ビア配線４ｑでは、その配線径は、第１ビア配線４ｐの方が遥かに大きい。例えば、コア層４ｃの厚さ（Ｔ）を約８００μｍとすると、図１３に示すように第１ビア配線４ｐのビア径である配線径（Ｈ）は、例えば、２５０〜３００μｍであるが、図５に示すように第２ビア配線４ｑのビア径である配線径（Ｆ）は、例えば、１００μｍ以下である。
【００５８】
これは、それぞれの層の厚さによる下地の貫通孔の加工方法の違いで起こる前記貫通孔の孔径差に起因している。
【００５９】
すなわち、コア層４ｃは、その厚さ（Ｔ）が約８００μｍであるため、下地の貫通孔をドリルによって形成する。この際、ドリル径を細くすると、ドリルが破損するため、比較的大きなドリル径のドリルを用いる。
【００６０】
これに対して、第２ビア配線４ｑの下地の貫通孔は、その層厚が数十μｍ程度であるため、前記下地の貫通孔をリソグラフィ技術またはレーザ加工によって形成する。
【００６１】
したがって、第１ビア配線４ｐの下地の貫通孔より遥かに小さな孔径の前記貫通孔を形成することができる。
【００６２】
その結果、配線逃げ部４ｖについても、図５に示す第２ビア配線４ｑの場合、その大きさ（Ｅ）が幅：４００μｍ程度であるのに対して、図１３に示すように、第１ビア配線４ｐでは、その配線逃げ部４ｖの大きさ（Ｇ）が直径：８００〜９００μｍ程度であり、図１１に示す第１配線層４ｄに形成された配線逃げ部４ｖの方が、図９に示す第３配線層４ｆに形成された配線逃げ部４ｖより遥かに大きい。
【００６３】
また、コア層４ｃに形成された第１ビア配線４ｐの図１３に示す配線逃げ部４ｖの直径（Ｇ）は、８００〜９００μｍ程度であるため、第１絶縁層４ｉ、第２絶縁層４ｊ、第３絶縁層４ｋおよび第４絶縁層４ｌの何れの厚さ（例えば、３０〜５０μｍ程度）と比較しても遥かに大きい。
【００６４】
このようなパッケージ基板４を用いたＢＧＡ１では、図６に示すように、コア層４ｃの表面の第１配線層４ｄの上層の第２配線層４ｅにおいて、スルーホール４ｒや配線逃げ部４ｖの直上に第１配線４ｍが配置される場合が生じる。
【００６５】
つまり、コア層４ｃの表面の図１１に示す第１配線層４ｄには、図９に示す第３配線層４ｆに形成される配線逃げ部４ｖより大きなスルーホール４ｒや配線逃げ部４ｖが複数形成されており、したがって、図１０に示す第２配線層４ｅの第１信号配線８ｃ（図６に示す第１配線４ｍや第２配線４ｎのこと）において、第１信号配線８ｃ全てを第１配線層４ｄのスルーホール４ｒ上や配線逃げ部４ｖ上から避けるのは困難となり、その結果、図６に示すように、スルーホール４ｒや配線逃げ部４ｖの直上にも第１配線４ｍのような信号用の配線が配置される。
【００６６】
これに対して、図８に示す第４配線層４ｇの第２信号配線８ｄでは、その下層の図９に示す第３配線層４ｆの配線逃げ部４ｖの大きさが第１配線層４ｄの配線逃げ部４ｖに比較して十分に小さいため、第４配線層４ｇにおいて第３配線層４ｆの配線逃げ部４ｖを避けた位置にそれぞれの第２信号配線８ｄを形成することができる。
【００６７】
そこで、本実施の形態１のＢＧＡ１におけるパッケージ基板４では、図６に示すように、コア層４ｃのスルーホール４ｒ上に配置された第２配線層４ｅの第１配線４ｍに対して、コア層４ｃの表面のプレーン層である第１配線層４ｄと第２配線層４ｅとの間の第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）を厚くするとともに、逆側のプレーン層である第３配線層４ｆとの間の第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）を薄くする。
【００６８】
これによって、コア層４ｃの表面のプレーン層である第１配線層４ｄの図１１に示す電源プレーン８ａと、第１配線４ｍや第２配線４ｎとのインピーダンスの結合を弱め、かつ逆側のプレーン層である第３配線層４ｆの図９に示す電源プレーン８ａと、第１配線４ｍや第２配線４ｎとのインピーダンスの結合を強めることができる。
【００６９】
その結果、配線の特性インピーダンスの調整を高精度に行うことができるようになり、スルーホール４ｒの直上に配置された第１配線４ｍと、スルーホール４ｒの直上から避けて配置された第２配線４ｎとの間の特性インピーダンスの差の低減化を図ることができる。
【００７０】
これによって、ＢＧＡ１の電気特性の向上を図ることができる。
【００７１】
ここで、図６に示す基板構造において特性インピーダンスのばらつき低減化を図る上での計算シミュレーションによる効果について説明する。
【００７２】
例えば、従来の基板では、第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）＝第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）であり、（Ｄ）＝（Ｃ）＝４０μｍ、第１配線４ｍおよび第２配線４ｎの幅を５０μｍとして特性インピーダンスを計算すると、第１配線４ｍ（スルーホール直上）で約５６．２Ω、第２配線４ｎ（スルーホール４ｒを避けた電源プレーン上）で約４４．５ Ωとなる。
【００７３】
これは、配線に信号が伝播する時に、対向するプレーン層に帰還電流が流れるが、その際に帰還電流の経路の途中に穴があることにより、インダクタンスが大きくなるためであり、前記計算値によれば、プレーン層のパターンによっては約１２Ωの差を有することになる。
【００７４】
その際、絶縁層自体の厚みや配線幅の設計値からのばらつきを考慮すると、例えば、一般的な特性インピーダンスの目標値の５０Ωに対して特性インピーダンスのばらつきを±１５％(±７．５Ω)に抑えようとするのは非常に困難である。
【００７５】
これに対して、本実施の形態１のＢＧＡ１のパッケージ基板４では、例えば、第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）を５０μｍ、第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）を３０μｍ、第１配線４ｍおよび第２配線４ｎの幅を４０μｍとして特性インピーダンスを計算すると、第１配線４ｍ（スルーホール直上）で約５４．８Ω、第２配線４ｎ（スルーホール４ｒを避けた電源プレーン上）で約４７．９Ωとなる。
【００７６】
その結果、プレーン層の配線パターンによるばらつきは７Ω程度となり、絶縁層自体の厚さおよび配線幅のばらつきを考慮しても５０Ω±１５％を実現できる。
【００７７】
これは、第１絶縁層４ｉの厚さを第２絶縁層４ｊより厚く、かつ第２絶縁層４ｊの厚さを元より薄くすることで、第１配線４ｍおよび第２配線４ｎは、第３配線層４ｆの電源プレーン８ａとのインピーダンスの結合が強化されるためである。これにより、配線間の特性インピーダンスの大きさの中心値を変えることなく、特性インピーダンスのばらつきを低減できる。
【００７８】
スルーホール配線上を通る信号配線のみ配線幅を広くして、スルーホール配線上を通らない信号配線との特性インピーダンスの差を小さくする手段もあるが、配線ピッチの限界から配線幅を広げられないような場合には、本実施の形態１のように絶縁層の厚さを変えることは非常に有効である。
【００７９】
なお、本実施の形態１のパッケージ基板４では、第１絶縁層４ｉ、第２絶縁層４ｊ、第３絶縁層４ｋおよび第４絶縁層４ｌのそれぞれの厚さを設定する際に、図５に示す第４絶縁層４ｌの厚さ（Ａ）は、第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）より大きく、かつ第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）より小さい方が望ましい。さらに、第３絶縁層４ｋの厚さ（Ｂ）は、第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）より大きく、かつ第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）より小さい方が望ましい。
【００８０】
すなわち、（Ｄ）＞（Ａ）＞（Ｃ）とし、かつ（Ｄ）＞（Ｂ）＞（Ｃ）とすることにより、第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）を第４絶縁層４ｌの厚さ(Ａ)や第３絶縁層４ｋの厚さ（Ｂ）より薄くすることになるため、第２配線層４ｅの第１信号配線８ｃと第４配線層４ｇの第２信号配線８ｄの特性インピーダンスをほぼ同じにすることができ、第１信号配線８ｃと第２信号配線８ｄの特性インピーダンスのばらつきを抑えることができる。
【００８１】
また、第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｄ）と第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｃ）の差が、第２配線層４ｅの第１信号配線８ｃの厚さより大きくなるようにする。すなわち、第１信号配線８ｃや第２信号配線８ｄの配線厚さは、例えば、１０μｍ程度であり、第１絶縁層４ｉと第２絶縁層４ｊの厚さの差を、第１信号配線８ｃや第２信号配線８ｄの配線厚さよりも確実に厚くする。
【００８２】
すなわち、第１絶縁層４ｉと第２絶縁層４ｊの厚さの差は、それぞれの厚さのばらつき誤差によって生じているものではなく、第１絶縁層４ｉを意図的に第２絶縁層４ｊより厚くするものである。
【００８３】
以上、本実施の形態１に示すパッケージ基板４は、例えば、５００ＭＨｚの高速動作を行うＢＧＡ１などの半導体パッケージに適用することがより有効である。
【００８４】
（実施の形態２）
図１４は本発明の実施の形態２の半導体装置（ＦＣ−ＢＧＡ）における多層配線基板の詳細構造の一例を示す拡大部分断面図である。
【００８５】
本実施の形態２は、ＢＧＡ１のパッケージ基板４が、ビルドアップ３層配線構造の場合である。
【００８６】
すなわち、パッケージ基板４のビルドアップ層４ｚには、４つの絶縁層と４つの配線層が形成されている。まず、コア層４ｃの表面には、実施の形態１のＢＧＡ１と同様に図１１に示すような電源プレーン８ａを有した第１配線層４ｄが形成され、さらに、第１配線層４ｄ上に第１絶縁層４ｉが形成され、この上に、図１０に示す第１信号配線８ｃを有した第２配線層４ｅ、第２絶縁層４ｊ、図９に示す電源プレーン８ａを有した第３配線層４ｆ、第３絶縁層４ｋ、および図８に示す第２信号配線８ｄを有した第４配線層４ｇが順に積層されて配置されている。
【００８７】
さらに、最上層の第４配線層４ｇがレジスト膜などの絶縁膜によって覆われてパッケージ基板４の主面４ａとなり、この主面４ａ上に半導体チップ２がフリップチップ接続されている。
【００８８】
本実施の形態２のＢＧＡ１においても第１配線層４ｄと第２配線層４ｅとの間隔を、第２配線層４ｅと第３配線層４ｆとの間隔より大きくし、さらに第３配線層４ｆと第４配線層４ｇとの間隔より大きくする。
【００８９】
すなわち、第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｃ）を第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｂ）より厚くし、好ましくは第３絶縁層４ｋの厚さ（Ａ）より厚くする。
【００９０】
これによって、実施の形態１と同様に、配線間の特性インピーダンスのばらつきを低減できる。
【００９１】
またこの際、第３絶縁層４ｋの厚さは、第２絶縁層４ｊの厚さと同じか、それよりも薄くすることにより、第４配線層４ｇと第３配線層４ｆとのインピーダンスの結合を強め、第２配線層４ｅと第４配線層４ｇとの特性インピーダンスのセンター値のずれを抑えることができる。
【００９２】
また、実施の形態１で説明したのと同様に、第１配線層４ｄの電源プレーン８ａには、面積の大きな複数の配線逃げ部４ｖが形成されているため、第３配線層４ｆの電源プレーン８ａの導体面積が第１配線層４ｄの電源プレーン８ａの導体面積より大きい。
【００９３】
さらに、第１絶縁層４ｉの厚さ（Ｃ）と第２絶縁層４ｊの厚さ（Ｂ）の差が、第２配線層４ｅの第１信号配線８ｃの厚さより大きくなるようにする。すなわち、第１信号配線８ｃや第２信号配線８ｄの配線厚さは、例えば、１０μｍ程度であり、第１絶縁層４ｉと第２絶縁層４ｊの厚さの差が、第１信号配線８ｃや第２信号配線８ｄの配線厚さよりも確実に厚くなるように意図的にする。
【００９４】
以上、本実施の形態２に示すパッケージ基板４を用いたＢＧＡ１であっても、実施の形態１と同様の作用効果を得ることが可能である。
【００９５】
すなわち、実施の形態１の図６で示したのと同様に、スルーホール４ｒ直上や配線逃げ部４ｖ直上に信号用の第１配線４ｍが形成されていても、スルーホール４ｒ上や配線逃げ部４ｖを避けて配置された第２配線４ｎとの特性インピーダンスの差を低減できる。
【００９６】
さらに、実施の形態２のパッケージ基板４は、絶縁層が３層であるため、実施の形態１のパッケージ基板４に比較してパッケージ基板４のコストを低減でき、ＢＧＡ１のコストも低減できる。
【００９７】
以上、本発明者によってなされた発明を発明の実施の形態に基づき具体的に説明したが、本発明は前記発明の実施の形態に限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で種々変更可能であることは言うまでもない。
【００９８】
例えば、前記実施の形態１，２では、半導体装置がＢＧＡ１の場合について説明したが、前記半導体装置は、ビルドアップ製法で形成された多層配線基板であるパッケージ基板４を用いた半導体パッケージであれば、例えば、ＰＧＡ（Pin Grid Array) やＬＧＡ（Land Grid Array)などであってもよい。
【００９９】
【発明の効果】
本願において開示される発明のうち、代表的なものによって得られる効果を簡単に説明すれば、以下のとおりである。
【０１００】
多層配線基板において基材の表面に電源プレーンを備えた第１配線層と、これに絶縁層を介し、かつ電源プレーンを備えた第３配線層とが形成され、さらに第１配線層と第３配線層との間に信号配線を備えた第２配線層が形成されている際に、第１配線層と第２配線層との間隔が第２配線層と第３配線層との間隔より大きく、かつ第３配線層の電源プレーンの面積が第１配線層の電源プレーンより大きいことにより、配線の特性インピーダンスのばらつきを低減できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施の形態１の半導体装置（ＢＧＡ）の構造の一例を示す平面図である。
【図２】図１に示すＢＧＡの構造を示す断面図である。
【図３】図１に示すＢＧＡの構造を示す底面図である。
【図４】図１に示すＢＧＡに組み込まれた多層配線基板の構造の一例を示す拡大部分断面図である。
【図５】図４に示すＡ部の詳細構造を示す拡大部分断面図である。
【図６】図５に示す基板構造におけるコア層のビア配線とその直上の配線との位置関係の一例を示す拡大部分断面図である。
【図７】図４に示す基板構造における第５配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図８】図４に示す基板構造における第４配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図９】図４に示す基板構造における第３配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図１０】図４に示す基板構造における第２配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図１１】図４に示す基板構造における第１配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図１２】図４に示す基板構造におけるボール側の第１配線層の構造の一例を示す拡大部分平面図である。
【図１３】図１１に示すビア配線の構造の一例を示す拡大断面図と拡大平面図である。
【図１４】本発明の実施の形態２の半導体装置（ＢＧＡ）における多層配線基板の詳細構造の一例を示す拡大部分断面図である。
【符号の説明】
１  ＢＧＡ（半導体装置）
２  半導体チップ
２ａ  主面
３  ボール電極
４  パッケージ基板（多層配線基板）
４ａ  主面
４ｂ  裏面
４ｃ  コア層（基材）
４ｄ  第１配線層
４ｅ  第２配線層
４ｆ  第３配線層
４ｇ  第４配線層
４ｈ  第５配線層
４ｉ  第１絶縁層
４ｊ  第２絶縁層
４ｋ  第３絶縁層
４ｌ  第４絶縁層
４ｍ  第１配線
４ｎ  第２配線
４ｐ  第１ビア配線（第１貫通孔配線）
４ｑ  第２ビア配線（第２貫通孔配線）
４ｒ  スルーホール
４ｓ  電源配線
４ｔ  信号配線
４ｕ  グランド配線
４ｖ  配線逃げ部
４ｗ  電源端子
４ｘ  信号端子
４ｙ  グランド端子
４ｚ  ビルドアップ層
５  半田バンプ電極
６  アンダーフィル樹脂
７  チップコンデンサ
８ａ  電源プレーン
８ｂ  グランドプレーン
８ｃ  第１信号配線
８ｄ  第２信号配線
８ｅ  絶縁膜
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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