(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
磁気記録媒体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マスター担体表面に形成された凹凸形状の凸部表面に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体をスレーブ媒体と密着させて磁気転写する際に、磁気転写マスター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．１Ｔ・μｍ以上、０．４２Ｔ・μｍ未満であって、磁性層の膜厚が２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下であることを特徴とする磁気転写方法。
【請求項２】
磁気記録情報が記録された磁性層を有する磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させて磁気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒体に転写する磁気転写方法において、予めスレーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した後、磁気転写用マスター担体と初期直流磁化したスレーブ媒体とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの方向に転写用磁界を印加し磁気転写を行うことを特徴とする請求項１記載の磁気転写方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、大容量、高記録密度の磁気記録再生装置用の磁気記録媒体への記録情報の磁気転写方法に関し、特に大容量、高記録密度の磁気記録媒体へのサーボ信号、アドレス信号、その他通常の映像信号、音声信号、データ信号等の記録に用いられる磁気転写方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
デジタル画像の利用の進展等で、パソコン等で取り扱う情報量が飛躍的に増加している。情報量の増加によって、情報を記録する大容量で安価で、しかも記録、読み出し時間の短い磁気記録媒体が求められている。
ハードディスク等の高密度記録媒体や、ＺＩＰ（Ｉｏｍｅｇａ社）等の大容量のリムーバル型の磁気記録媒体では、フロッピーディスクに比べて情報記録領域は狭トラックで構成されており、狭いトラック幅を正確に磁気ヘッドを走査し、信号の記録と再生を高Ｓ／Ｎ比で行うためには、トラッキングサーボ技術を用いて正確な走査を行うことが必要である。
【０００３】
そこで、ハードディスク、リムーバル型の磁気記録媒体のような大容量の磁気記録媒体では、ディスク１周に対して、一定の角度間隔でトラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等が記録された領域を設けており、磁気ヘッドは、一定間隔でこれらの信号を再生することにより、ヘッドの位置を確認、修正しながら正確にトラック上を走査している。これらの信号は、磁気記録媒体の製造時にプリフォーマットと称してあらかじめ磁気記録媒体に記録する方法が行われている。
【０００４】
トラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等の記録には正確な位置決め精度が要求されるので、磁気記録媒体をドライブに組み込んだ後、専用のサーボ記録装置を用いて厳密に位置制御された磁気ヘッドによりプリフォーマット記録が行われている。
しかしながら、磁気ヘッドによるサーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号のプリフォーマット記録においては、専用のサーボ記録装置を用いて磁気ヘッドを厳密に位置制御しながら記録を行うために、プリフォーマット記録に長時間を要している。また、磁気記録密度の増大に伴ってプリフォーマット記録すべき信号量が多くなり、さらに長時間を要することになる。したがって磁気記録媒体の製造において、サーボ信号等のプリフォーマット記録工程に要する費用の製造コストに占める割合が大きくなるので、この工程での低コスト化が望まれている。
一方、１トラックずつプリフォーマット情報を記録せずに、プリフォーマット情報をマスター担体からスレーブ媒体への磁気転写で行う方式も提案されている。例えば、特開昭６３−１８３６２３号公報、特開平１０−４０５４４号公報および特開平１０−２６９５６６号公報に転写技術が紹介されている。
【０００５】
特開昭６３−１８３６２３号公報や特開平１０−４０５４４号公報に記載の方法では、磁気転写用マスター担体として基板の表面に情報信号に対応する凸凹形状が形成され、凸凹形状の少なくとも凸部表面に強磁性薄膜が形成された磁気転写用マスター担体の表面を、強磁性薄膜あるいは強磁性粉を含有する組成物の塗布層が形成されたシート状もしくはディスク状磁気記録媒体の表面に接触、あるいは更に交流バイアス磁界、あるいは直流磁界を印加して凸部表面を構成する強磁性材料を励起することにより、凸凹形状に対応する磁化パターンを磁気記録媒体に記録するものである。
【０００６】
この方法は、磁気転写用マスター担体の凸部表面をプリフォーマットするべき磁気記録媒体、すなわちスレーブ媒体に密着させて同時に凸部を構成する強磁性材料を励磁することにより、スレーブ媒体に所定のプリフォーマット情報の記録を形成する転写方法であり、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体との相対的な位置を変化させることなく静的に記録を行うことができ、正確なプリフォーマット記録が可能であり、しかも記録に要する時間も極めて短時間であるという特徴を有している。
また、この磁気転写方法は磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体の両者を静止した状態で接触させて転写する方式であるため、サーボ信号記録工程での磁気転写用マスター担体、スレーブ媒体ともに破損が発生することが少なく、高い耐久性が期待される方式である。
【０００７】
磁気転写用マスター担体に用いる磁性体としては軟磁性材料が使用される。そして、当初は、磁性層の透磁率が転写特性に大きく影響を与えていると考え、材料の選択に当たっては高透磁率を優先することが行われていた。しかし、信号品位はマージナルな領域であり、更なる信号品位の向上が必要であった。また、良好な磁気転写信号品質を実現しうる転写磁界強度領域が非常に狭く、設備面で実用上問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、磁気転写用マスター担体に記録された記録情報をスレーブ媒体に転写する際に、転写された信号の品位を高め、転写磁界強度領域が広い磁気転写方法を提供することを課題とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、磁気記録媒体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マスター担体表面に形成された凹凸形状の凸部表面に磁性層が形成された磁気転写用マスター担体をスレーブ媒体と密着させて磁気転写する際に、磁気転写マスター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．１Ｔ・μｍ以上、０．４２Ｔ・μｍ未満であって、磁性層の膜厚が２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である磁気転写方法である。
また、磁気記録情報が記録された磁性層を有する磁気転写用マスター担体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させて磁気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒体に転写する磁気転写方法において、予めスレーブ媒体の磁化をトラック方向に初期直流磁化した後、磁気転写用マスター担体と初期直流磁化したスレーブ媒体とを密着させスレーブ面の初期直流磁化方向と逆向きの方向に転写用磁界を印加し磁気転写をおこなう前記の磁気転写方法である。
【００１０】
【発明の実施の形態】
すなわち本発明においては、磁気記録媒体に磁気転写法を行う方法において、磁気記録媒体に磁気転写を行う方法において、磁気転写用マスター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．１Ｔ・μｍ以上、０．４２Ｔ・μｍ未満であって、磁性層の膜厚が２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である磁性材科を磁気転写用マスター担体の磁性層にして使用し記録した場合には、転写信号の品位向上を行うと共に、磁気転写の際の転写磁界領域の狭さを改善できることを見出した。
【００１１】
磁気転写用マスター担体の磁性材料としては軟磁性材科が使用される。当初は磁性層への磁界の進入し易さ、すなわち透磁率が転写特性に大きく影響を与えていると考え、高透磁率を優先として磁性材料の選択を行っていた。また、信号品位はマージナルな領域であり更なる信号品位の向上が必要であった。また、良好な磁気転写信号品質を実現しうる転写磁界領域が非常に狭く、設備面で実用上問題があった。
【００１２】
しかしながら、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体と転写を受けるスレーブ媒体とを密着させて磁気転写用マスター担体の磁気記録情報をスレーブ媒体に転写する磁気転写方法においては、磁気転写用マスター担体の記録情報のパターン上の磁界をパターン内に収束、パターン端で放出することで、パターン部外のスレーブ媒体の磁化を反転させることによってスレーブ媒体に対して記録情報を転写するものである。
【００１３】
この転写方法では磁気転写用マスター担体の磁化状態は飽和領域であるため、不飽和領域での透磁率、比透磁率など磁性層の特性は転写特性に大きな影響を与える可能性は小さいものと考えられる。飽和領域で磁気転写用マスター担体の磁性層の特性を支配するのは、飽和磁化などの大きさである。
また、単位体積当たりの磁束収束量は磁性材料の飽和磁化に比例し、磁気転写では実際にパターンから発せられる磁束量が転写特性に影響を与える。そのため飽和磁化（Ｍｓ）だけではなく磁性層厚（δ）も特性に影響を与えると考えられる。そこで、飽和磁化（Ｍｓ）、膜厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）で表現される面磁気モーメントをパラメーターとし転写磁界範囲、信号品位の評価を行ったところ、Ｍｓ・δには最適な範囲があることを見出したものである。
【００１４】
Ｍｓ・δが０．０２５Ｔ・μｍ（２０Ｇ・μｍ）未満の領域では転写磁界がマスターパターン内に収束せず、信号間の磁化反転境界領域が広がり、その結果信号品位が低下し、また転写磁界領域が狭くなることがわかった。
一方、Ｍｓ・δが２．３Ｔ・μｍ（１８３０Ｇ・μｍ）を超える領域では、転写磁界領域、信号品位は向上するが、磁気転写に使用する電磁石の磁極の残留磁化により転写磁界を印加しない場合でもわずかにスレーブ媒体を磁化する転写磁界が発生してしまう。そのため磁気転写後にスレーブ媒体を取り出した際に、転写信号が乱れ、信号品位が低下することがわかった。
【００１５】
以上の解析結果を踏まえ、磁気転写用マスター磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．１Ｔ・μｍ以上、０．４２Ｔ・μｍ未満であって、磁性層の膜厚が２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である磁性材料を磁気転写用マスター担体として使用することで、記録した信号品位の向上、転写磁界領域を拡張できることを見出した。
【００１６】
本発明の磁気転写方法に使用する磁気転写用マスター担体は、以下の方法によって作製することができる。
磁気転写用マスター担体の基板としては、シリコン、アルミニウム、ガラス、合成樹脂等の表面が平滑な部材を用いることができる。
まず、これらの基板上にフォトレジストを塗布し、磁気転写により形成するパターンに合致したレジストパターンをパターン露光、あるいは直接けがきにより形成する。
パターン露光の場合は反応性エッチング、またはアルゴンプラズマ等による物理的エッチング、または液体によるエッチングにより、基板上にパターンを形成する。
【００１７】
次いで、スパッタリングにより磁性層を所定の部分に、所定の厚さに成膜する。その後、フォトレジストをリフトオフで除去する。また、磁気転写の際にスレーブ媒体と接触する凸状の磁性層のみをフォトファブリケーションで作製しても良い。
【００１８】
また微細加工を行う方法として射出成形法を用いても良い。
射出成形法について説明すると、フォトレジストを塗布したガラス基板を回転しながら、サーボ信号に対応して変調したレーザーを照射しフォトレジストをガラス面全体に露光する。該レジストを現像して、ガラス基板を現像しガラスに凹凸を形成する。次いで、レジストを除去して凹凸を形成したガラス基板上にめっきを行い、凹凸が形成されためっき原盤を作製する。
めっき板材料としては、ニッケルもしくはニッケル合金を使用することができる。また、めっき原盤の耐久性を向上させるために、ダイヤモンド状炭素等の炭素膜をスパッタリング等によって形成しても良い。
【００１９】
めっき原盤を使用し射出成形などの方法により、パターン形成した樹脂基板を作製する。樹脂材料としてはポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート等のアクリル樹脂、ポリ塩化ビニル・塩化ビニル共重合体などの塩化ビニル樹脂、エポキシ樹脂、アモルファスポリオレフィンおよびポリエステルなどが使用可能である。耐湿性、寸法安定性および価格等の点からポリカーボネートが好ましい。また、形成しためっき原盤にバリがある場合はバーニシュまたはポリッシュにより除去する。パターンの溝深さは５０〜１０００ｎｍの範囲が好ましい。より好ましくは２００〜５００ｎｍの範囲である。
【００２０】
磁性材料としてはＣｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＮｉ、ＣｏＮｉＺｒ、ＣｏＮｂＴａＺｒ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＣｏ、Ｎｉ、ＦｅＮｉＭｏ、ＦｅＡｌＳｉ、ＦｅＡｌ、ＦｅＴａＮ）、Ｎｉ、Ｎｉ合金（ＮｉＦｅ）が用いることができる。特に好ましくはＦｅＣｏ、ＦｅＣｏＮｉである。
【００２１】
また、本発明の磁気転写方法に使用する磁気転写用マスター担体の磁性層の形成に先だって、非磁性の下地層を設けることが好ましく、下地層の結晶構造と格子常数を磁性層のそれに一致させることが好ましい。
下地層を形成する材料としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、ＮｉＡｌ、Ｒｕ等を挙げることができる。
【００２２】
また、磁性層上にダイヤモンド状炭素（ＤＬＣ）等の保護膜を設けても良く、潤滑剤層を設けても良い。
特に保護膜として５〜３０ｎｍのダイヤモンド状炭素膜と潤滑剤が存在することが更に好ましい。
潤滑剤が存在すると、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体との接触過程で生じるずれを補正する際に摩擦が生じた場合にも、耐久性を高めることが可能となる。
【００２３】
磁気転写用マスター担体の磁性材料としては磁気転写用マスター担体の磁性材料の飽和磁化（Ｍｓ）と磁性層厚（δ）の積（Ｍｓ・δ）が０．１Ｔ・μｍ以上、０．４２Ｔ・μｍ未満であって、磁性層の膜厚が２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下以下の範囲である。マスター磁性層のＭｓ・δの調整は磁性層材料飽和磁化、磁性層厚、作製温度、スパッタリング時の使用気体の種類等の調整によって行うことができる。
Ｃｒ、Ｔｉ等の非磁性元素の添加量を調整することによりＭｓを調整することができる。また作製温度を調整することで、マスター磁性層の均一性を調整し、Ｍｓを調整することも可能である。
【００２４】
また、ＦｅＣｏ（原子比６５：３５）を用いた場合には、作製温度を２０℃〜２００℃の間に設定することで、２．０〜２．３Ｔの範囲でＭｓを調整することもできる。
また磁性層をアルゴンと酸素、窒素などの混合雰囲気中で作製することにより磁性層を酸化、あるいは窒化させて、磁性層のＭｓを調整する。Ｍｓの大きさは酸素・窒素の分圧で調整することができる。
また、好ましい磁性層２００ｎｍ以上、５００ｎｍ以下である。
【００２５】
以下に、本発明に使用するスレーブ媒体について説明する。
スレーブ媒体としては、強磁性金属粒子を結合剤中に分散した塗布型磁気記録媒体、あるいは基板上に強磁性金属薄膜を形成した金属薄膜型磁気記録媒体を用いることができる。
塗布型磁気記録媒体としては、Ｚｉｐ（アイオメガ社）用記録媒体であるＺｉｐ１００、Ｚｉｐ２５０、あるいはＨｉＦＤと呼ばれる高密度フロッピーディスクなどの磁気記録媒体が挙げられる。
【００２６】
スレーブ媒体の保磁力Ｈｃが１０３ｋＡ／ｍ（１３００Ｏｅ）以上、３１３ｋＡ／ｍ（４０００Ｏｅ）未満であることが好ましく、更に１２７ｋＡ／ｍ（１６００Ｏｅ）以上、２３９ｋＡ／ｍ（３０００Ｏｅ）未満であることがより好ましい。スレーブ媒体の保磁力Ｈｃが１０３ｋＡ／ｍ未満では、６．４５ｃｍ2あたり１Ｇｂ（１ギガビット／平方インチ）以上の高密度記録情報を保持することはできない。逆に３１３ｋＡ／ｍ）以上では、スレーブ媒体に記録可能な磁気記録ヘッドが存在しない。
金属薄膜型磁気記録媒体としては、磁性材料として、Ｃｏ、Ｃｏ合金（ＣｏＰｔＣｒ、ＣｏＣｒ、ＣｏＰｔＣｒＴａ、ＣｏＰｔＣｒＮｂＴａ、ＣｏＣｒＢ、ＣｏＮｉ等）、Ｆｅ、Ｆｅ合金（ＦｅＣｏ、ＦｅＰｔ、ＦｅＣｏＮｉ）を用いることができる。磁束密度が大きく、磁気転写用マスター担体の磁性層と同じ方向、すなわち面内記録なら面内方向、垂直なら垂直方向の磁気異方性を有していることが明瞭な転写が行えるため好ましい。
【００２７】
磁性層の下部、すなわち基板側に必要な磁気異方性を形成するために非磁性の下地層を設けることが好ましく、結晶構造と格子常数を磁性層に合致させることが好ましい。
具体的には、下地層形成用材料としては、Ｃｒ、ＣｒＴｉ、ＣｏＣｒ、ＣｒＴａ、ＣｒＭｏ、Ｎｉ、Ｒｕ等を挙げることができる。
【００２８】
【実施例】
以下に実施例を示し本発明を説明する。
実施例１
３．５型磁気転写用マスター担体には、シリコンウエハー円盤を基板としＦｅＣｏ（原子比Ｆｅ：Ｃｏ＝７０：３０）からなる厚さ２００ｎｍの磁性層を形成した。パターンは円盤中心から半径方向２０ｍｍ〜４０ｍｍの位置まで幅５μｍの等間隔の放射状ライン、ライン間隔は半径方向２０ｍｍの最内周位置で８μｍ間隔とした。
磁性層はスパッタリング装置（アネルバ社製７３０Ｈ）で直流スパッタリング法を使用し、作製温度は２５℃、アルゴンスパッタリング圧５．０×１０-4Ｐａ（０．３６ｍＴｏｒｒ）、投入電力２．８０Ｗ／ｃｍ2とした。
【００２９】
膜厚の調整は、マーキングを施したシリコン基板上に磁性材料を１０分間成膜する。この試料をアセトンで洗浄し、マーキング部を除去する。この部分に発生した膜厚段差を接触式段差計で膜厚を測定し、膜厚とスパッタリング時間の関係からスパッタリング速度を算出する。次いで、目標膜厚に必要な時間をスパッタリング速度から計算し、必要時間成膜する。
【００３０】
スレーブ媒体には、市販のアイオメガ社Ｚｉｐ２５０用塗布型磁気記録媒体（富士写真フイルム製）を使用した。スレーブ媒体の保磁力Ｈｃは１９９ｋＡ／ｍ（２５０００ｅ）であった。
スレーブ媒体を３９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）で初期直流磁化した後、磁気転写用マスター担体とスレーブ媒体とを密着して、初期直流磁化とは反対の方向に１９９ｋＡ／ｍ（２５００Ｏｅ）の強度の転写磁界を印加して記録情報をスレーブ媒体へ転写した。得られたスレーブ媒体を以下の評価方法によって評価を行い、磁気転写情報の評価を行った。
【００３１】
参考例１
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層厚を４００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様にして参考例１の磁気転写用マスター担体を作製し実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
【００３２】
実施例２
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層をＣｏＦｅＮｉ（原子比６５：２２：１３）に変更した点を除き実施例１と同様に実施例２の磁気転写用マスター担体を作製し実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
【００３３】
実施例３
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層をＮｉに変更した点を除き実施例１と同様に実施例３の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様に磁気転写を行って以下の評価方法によって評価を行った。
【００３４】
実施例４
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパッタリング雰囲気をアルゴン分圧５．０×１０-4Ｐａ（０．３６ｍＴｏｒｒ）、酸素圧力３．０×１０-5（０．０２２ｍＴｏｒｒ）に変更した点を除き実施例１と同様に実施例４の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
【００３５】
実施例５
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパッタリング雰囲気をアルゴン分圧５．０×１０-4Ｐａ（０．３６ｍＴｏｒｒ）、窒素圧力３．０×１０-5（０．０２２ｍＴｏｒｒ）に変更した点を除き実施例１と同様に実施例５の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様に磁気転写を行って評価を行った。
【００３６】
比較例１
実施例３記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さを１００ｎｍに変更した点を除き実施例３と同様に比較例１の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００３７】
比較例２
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さを３０ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較例２の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００３８】
比較例３
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さを８００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較例３の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００３９】
比較例４
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層の厚さを１０００ｎｍに変更した点を除き実施例１と同様に比較例４の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００４０】
比較例５
実施例３記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパッタリング雰囲気を酸素に変更した点を除き実施例３と同様に比較例５の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００４１】
比較例６
実施例１記載の磁気転写用マスター担体の磁性層のスパッタリング雰囲気を酸素に変更した点を除き実施例１と同様に比較例５の磁気転写用マスター担体を作製して実施例１と同様にして磁気転写を行って評価を行った。
【００４２】
（評価方法）
１．飽和磁化の測定とＭｓ・δの演算
磁性層の飽和磁化（Ｍｓ）は試料振動型磁力計（ＶＳＭ）により測定を行う。また、試料を８ｍｍ×６ｍｍの大きさに切り出し、この面積とスパッタリング速度から計算した磁性層厚（δ）から体積、飽和磁化を算出する。
上記方法により求めたＭｓおよびδの積からＭｓ・δを算出した。
２．転写磁界領域の広さの測定
磁気転写後のスレーブ担体を磁気現像液（シグマハイケミカル社製シグマーカーＱ）を１５倍に希釈し、スレーブ媒体上に滴下、乾燥させ、現像を行う。現像後の磁気転写像を目視で確認し、信号が発生・消失した各磁界強度間の差を転写磁界領域とした。
３．電磁変換特性の測定
電磁変換特性測定装置（協同電子製：ＳＳ−６０）によりスレーブ媒体の転写信号の信号品位の評価を行った。装置の再生信号をデジタルオシロスコープ（レクロイ社製ＬＣ３３４ＡＭ）に入力し、信号の半値幅（ＰＷ５０）により評価した。ＰＷ５０が３００ｎｍ以下であれば良好、それ以上では不良とした。
【００４３】
【表１】
磁性層厚        Ｍｓ・δ           転写磁界領域  信号品位    ＰＷ５０
（ｎｍ）  面磁気モーメント (T・μm)（ｋＡ／ｍ）             （ｎｍ）
実施例１   ２００          ０．４                ２００      良好      ２８８
参考例１   ４００          ０．８                ２２３      良好      ２７４
実施例２   ２００          ０．４２              １７９      良好      ２８２
実施例３   ２００          ０．１                １４３      良好      ２９９
実施例４   ２００          ０．０６              ２１０      良好      ２７６
実施例５   ２００          ０．０４              ２０３      良好      ２７７
比較例１   １００          ０．０５                ６４      不良      ３１５
比較例２   ３００          ０．０６                ８１      不良      ３１９
比較例３   ８００          １．６                ２２３      不良      ３０４
比較例４ １０００          ２．０                ２２７      不良      ３０９
比較例５   ２００          ０．０１                ２１      不良      ４１２
比較例６   ２００          ０．００６              １６      不良      ３９５
【００４４】
【発明の効果】
以上のように、本発明の磁気転写用マスター担体を用いた磁気転写方法によって、ハードディスク、大容量リムーバブルディスク媒体、大容量フレキシブル媒体等のディスク状媒体に、短時間に生産性良く、トラッキング用サーボ信号やアドレス情報信号、再生クロック信号等のプリフォーマット記録を転写信号の品位の低下をきたすことなく安定した磁気転写を行うことができる。