(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定方向に搬送される基板の上下両面に、この基板の搬送方向に対して所定の角度で傾斜して対向する上部エアーナイフと下部エアーナイフとを配置し、各エアーナイフから上記基板の上面と下面とに圧縮空気を噴射させることで、この基板に付着した処理液を除去する処理装置において、
所定方向の一端に搬入口、他端に搬出口を有する処理槽と、
この処理槽に軸線を上記所定方向に対して交差させて回転可能に設けられるとともに上記下部エアーナイフに対応する箇所で分断され回転駆動されることで上記基板を上記搬入口から搬出口に向けて搬送する複数のローラ軸と、
上記ローラ軸の分断箇所の上記下部エアーナイフの上記基板の搬送方向上流側と下流側に対応する位置に２つで対をなし上記下部エアーナイフの長手方向に対して所定間隔で複数組設けられ上記分断箇所において上記基板の上記ローラ軸による支持状態が外れた部分を支持する支持ローラと
を具備したことを特徴とするエアーナイフを用いた処理装置。
【請求項２】
上記支持ローラは、上記ローラ軸に設けられた搬送ローラよりも小径であることを特徴とする請求項１記載のエアーナイフを用いた処理装置。
【請求項３】
上記上部エアーナイフと下部エアーナイフとの幅方向両端部はそれぞれ支持部材によって回動可能に支持され、一方の支持部材には一対のエアーナイフを同時に逆方向に回動させる角度調整機構が設けられていることを特徴とする請求項１記載のエアーナイフを用いた処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は基板の上下面に付着した処理液を上下一対のエアーナイフによって除去する処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置に用いられるガラス製の基板に回路パターンを形成するフォトリソグラフィー工程では、上記基板を処理液で洗浄処理する洗浄工程と、洗浄された基板から処理液を除去する乾燥工程とが繰り返して行なわれる。
【０００３】
洗浄工程で洗浄された基板を乾燥処理する乾燥工程においては、基板を搬送しながらこの基板の上面と下面とに上部エアーナイフと下部エアーナイフとから圧縮空気を噴射して乾燥させるということが行なわれている。このような処理装置としては特開平１０−２１１４７３号公報に示されるものが提案されている。
【０００４】
すなわち、上記公報に示された処理装置は、所定方向一端に搬入口、他端に搬出口が形成された処理槽を有する。この処理槽内には基板の搬送方向に沿って複数のローラ軸が所定間隔で配置されている。
【０００５】
上記ローラ軸によって搬送される基板の上面側には上部エアーナイフが配置され、下面側には下部エアーナイフが配置されている。各エアーナイフは基板の搬送方向に対して所定の角度、たとえば４５度の角度で傾斜して設けられている。
【０００６】
それによって、基板の上面と下面に付着した処理液を基板の搬送方向後端の角部に吹き寄せ、その角部から除去するようにしている。つまり、エアーナイフを基板の搬送方向に対して所定の角度で傾斜させることで、基板の板面に付着した処理液を円滑かつ確実に除去できるようにしている。
【０００７】
エアーナイフを基板の搬送方向に対して傾斜させて設ける場合、下部エアーナイフがローラ軸の下側に位置したのでは、下部エアーナイフから噴射される圧縮空気が上記ローラ軸に遮られるため、基板の下面から処理液を均一かつ確実に除去することができないということがある。
【０００８】
そこで、ローラ軸は下部エアーナイフに対応する箇所で分断し、この下部エアーナイフから噴射される圧縮空気がローラ軸によって遮られることがないようにしている。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、ローラ軸の下部エアーナイフに対応する部分を分断すると、ローラ軸によって搬送される基板は、ローラ軸の分断された箇所においてローラ軸による支持状態が外れ、その状態で上部エアーノズルと下部エアーナイフから噴射される圧縮空気を受けることになる。
【００１０】
そのため、基板にはローラ軸の分断箇所で圧縮空気の圧力によってうねりが生じ易くなるから、基板の搬送状態が不安定になったり、基板の板面に付着した処理液がこの基板の板面から円滑に排出され難くなるということがある。
【００１１】
この発明は、ローラ軸の下部エアーナイフと対応する部分を分断しても、その分断箇所でも基板を確実に支持できるようにした処理装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、所定方向に搬送される基板の上下両面に、この基板の搬送方向に対して所定の角度で傾斜して対向する上部エアーナイフと下部エアーナイフとを配置し、各エアーナイフから上記基板の上面と下面とに圧縮空気を噴射させることで、この基板に付着した処理液を除去する処理装置において、
所定方向の一端に搬入口、他端に搬出口を有する処理槽と、
この処理槽に軸線を上記所定方向に対して交差させて回転可能に設けられるとともに上記下部エアーナイフに対応する箇所で分断され回転駆動されることで上記基板を上記搬入口から搬出口に向けて搬送するローラ軸と、
上記ローラ軸の分断箇所の上記下部エアーナイフの上記基板の搬送方向上流側と下流側に対応する位置に２つで対をなし上記下部エアーナイフの長手方向に対して所定間隔で複数組設けられ上記分断箇所において上記基板の上記ローラ軸による支持状態が外れた部分を支持する支持ローラと
を具備したことを特徴とするエアーナイフを用いた処理装置にある。
【００１３】
請求項２の発明は、上記支持ローラは、上記支持ローラは、上記ローラ軸に設けられた搬送ローラよりも小径であることを特徴とする請求項１記載のエアーナイフを用いた処理装置にある。
【００１４】
請求項３の発明は、上記上部エアーナイフと下部エアーナイフとの幅方向両端部はそれぞれ支持部材によって回動可能に支持され、一方の支持部材には一対のエアーナイフを同時に逆方向に回動させる角度調整機構が設けられていることを特徴とする請求項１記載のエアーナイフを用いた処理装置にある。
【００１５】
この発明によれば、ローラ軸を分断し、このローラ軸が下部エアーナイフから噴射される圧縮空気を遮ることがないようにしても、基板はその分断箇所で支持ローラによって支持されるから、基板の支持状態が損なわれてうねりが生じるのを防止できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながらこの発明の一実施の形態を説明する。
【００１７】
図１はこの発明の一実施の形態に係る処理装置を示し、この処理装置は処理槽１を備えている。この処理槽１は箱型状をなしていて、所定方向の一端面には搬入口２が形成され、他端面には搬出口３が形成されている。
【００１８】
上記処理槽１内には上部エアーナイフ５と下部エアーナイフ６とが上記所定方向に対して所定の角度、たとえば４５度の角度で傾斜して設けられている。各エアーナイフ５、６は図２に示すようにナイフ本体７を有する。ナイフ本体７は一対の板状部材８，９を接合してなり、これら板状部材８，９間には圧縮空気が供給される導入部１１が形成されている。各導入部１１はナイフ本体７の先端部に形成されたノズル孔１２に連通している。
【００１９】
上記ナイフ本体７には圧縮空気の供給管１３が接続されている。したがって、供給管１３から上記導入部１１に供給された圧縮空気は上記ノズル孔１２から噴射されるようになっている。
【００２０】
なお、一対のエアーナイフ５、６はノズル孔１２が形成された先端部を所定の間隔で離間対向させて配置されている。
【００２１】
上記処理槽１内には、上記所定方向に沿って一定間隔で搬送手段を構成する複数のローラ軸１５が設けられている。上記ローラ軸１５のうち、上記下部エアーナイフ６の先端部に対応するローラ軸１５は、その箇所で左右一対の分断軸部１５ａ，１５ｂに分断されている。
【００２２】
上記処理槽１内の幅方向両端部にはそれぞれ支持部材１６が幅方向と直交する上記所定方向全長に亘って設けられている。上記各分断軸部１５ａ，１５ｂは、一端が上記支持部材１６に回転可能に支持されている。各分断軸部１５ａ、１５ｂの他端は処理槽１の内底面から立設された支柱部材１７に回転可能に支持されている。
【００２３】
各分断軸部１５ａ，１５ｂの支持部材１６から突出した一端部には第１の従動プーリ１８が嵌着されている。処理槽１の搬入口２側に位置するローラ軸１５は下部エアーナイフ６と非対向であるため分断軸部に分断されておらず、一対の支持部材１６から突出した両端にも分断軸部１５ａ，１５ｂと同様、第１の従動プーリ１８が嵌着され、さらにそのローラ軸１５の一端には第２の従動プーリ２１が嵌着されている。各ローラ軸１５の一端部と他端部とに設けられた第１の従動プーリ１８には、それぞれ第１のベルト１９が張設されている。
【００２４】
上記第２の従動プーリ２１と、駆動源２２によって回転駆動される駆動プーリ２３とには第２のベルト２４が張設されている。それによって、上記駆動源２２が作動すれば、各分断軸部１５ａ，１５ｂに分断されたローラ軸１５及び分断軸部に分断されていないローラ軸１５がそれぞれ同方向に回転駆動されるようになっている。
【００２５】
上記処理槽１には、前工程で処理液によって処理された矩形状の基板２６が搬入口２から供給される。処理槽１に供給された基板２６は、回転駆動されるローラ軸１５によって搬出口３に向かって搬送される。基板２６は、搬送の途中で上部エアーナイフ５と下部エアーナイフ６との対向する先端部間を通過する。それによって、基板２６の上面と下面とに付着残留した処理液が各エアーナイフ５、６のノズル孔１２から噴射される圧縮空気によって基板２６の搬送方向後端側の一方の角部へ押し流されて除去される。
【００２６】
なお、各ローラ軸１５（分断軸部１５ａ、１５ｂを含む）には基板２６を部分的に支持するための複数の搬送ローラ２５が軸方向に所定間隔で設けられている。
【００２７】
上記ローラ軸１５の分断軸部１５ａ，１５ｂに分断された箇所には、図１に示すように下部エアーナイフ６を挟んで基板２６の搬送方向上流側と下流側とにそれぞれ支持体２８に回転可能に支持された２つで対をなす複数組の支持ローラ２９が上記下部エアーナイフ６の長手方向に対して所定間隔で設けられている。支持ローラ２９は、上記ローラ軸１５に設けられた搬送ローラ２５よりも小径に形成され、回転軸線を上記ローラ軸１５の軸線と平行にし、さらに上端をローラ軸１５と同じレベルにして設けられている。
【００２８】
上記支持体２８は、図３に示すようにベース部材３１を有し、このベース部材３１上には第１の可動体３２が基板２６の搬送方向に沿って移動可能に設けられている。この第１の可動体３２には、上記ベース部材３１の一端に立設された第１の取付け部材３３に回転可能に支持された前後送りねじ３４が螺合されている。それによって、上記第１の可動体３２は上記前後送りねじ３４によって基板２６の搬送方向に沿う前後方向に位置決め調整できるようになっている。
【００２９】
上記第１の可動体３２には支柱部材３５が立設されている。この支柱部材３５には第２の可動体３６が支柱部材３５に沿う上下方向に移動可能に設けられている。この第２の可動体３６には上下送りねじ３７が螺合されている。この上下送りねじ３７は上記支柱部材３５の上端に設けられた第２の取付け部材３８に回転可能に支持されている。したがって、上下送りねじ３７を回転させることで、上記第２の可動体３６を上下方向、つまり搬送される基板２６の板面に対して直交する方向に位置決め調整できるようになっている。
【００３０】
上記第２の可動体３６はＬ字状をなしていて、支柱部材３５に上下動可能に支持された一端部には固定ねじ３９を螺合できるようになっており、この固定ねじ３９を締め付けることで、上記第２の可動体３６を移動不能に固定できる。
【００３１】
第２の可動体３６の他端部には上記支持ローラ２９が上述した状態で回転可能に設けられている。したがって、この支持ローラ２９は上記支持体２８によって基板２６の搬送方向に沿う前後方向と、基板２６の板面に直交する上下方向とに位置決め調整できるようになっている。
【００３２】
支持ローラ２９が上記ローラ軸１５に設けられた搬送ローラ２５よりも小径に形成されている。そのため、ローラ軸１５の搬送ローラ２５による基板２６の円滑な搬送が上記支持ローラ２９によって阻害されることがない。
【００３３】
上記上部エアーナイフ５と下部エアーナイフ６とは、図４に示すように幅方向両端に支軸４１が設けられ、各支軸４１はそれぞれ左右一対の支持部材としてのブロック４２に回転可能に支持されている。
【００３４】
各エアーナイフ５、６の一端側のブロック４２には、それぞれ操作軸４３がこれらのブロック４２を貫通して回転可能に支持されている。上記操作軸４３の上部エアーナイフ５を支持したブロック４２の上面から突出した部分には、操作摘み４４と第１のベベルギア４５とが固定され、下部エアーナイフ６を支持したブロック４２の下面から突出した下端部には第２のベベルギア４６が設けられている。
【００３５】
上記第１のベベルギア４５は上部エアーナイフ５をブロック４２に回転可能に支持した一方の支軸４１に嵌着固定された第３のベベルギア４７に噛合し、第２のベベルギア４６は下部エアーナイフ６を回転可能に支持した一方の支軸４１に嵌着固定された第４のベベルギア４８に噛合している。それによって、上記操作摘み４４を介して操作軸４３を回転させれば、第３、第４のベベルギア４７，４８を図５に矢印で示すように逆方向に回転させることができるから、その回転に一対のエアーナイフ５、６を連動させることができる。
【００３６】
それによって、一対のエアーナイフ５，６から噴射される圧縮空気の基板２６の板面に対する角度を設定することができる。なお、上記操作軸４３、第１乃至第４のベベルギア４５〜４８によってエアーナイフ５，６の角度調整機構を構成している。
【００３７】
つぎに、上記構成の処理装置によって基板２６を乾燥処理する場合について説明する。処理液によって処理された基板２６が処理槽１に送り込まれると、その基板２６は回転駆動されるローラ軸１５によって所定方向に沿って搬送される。基板２６が上部エアーナイフ５と下部エアーナイフ６との先端部間を通過すると、各エアーナイフ５，６のノズル孔１２から基板２６の搬送方向後方に向かって噴射される圧縮空気により、基板２６の上面と下面とに付着した処理液が搬送方向後方に押し流され、この基板２６の一方の角部から円滑に排出される。それによって、基板２６が乾燥処理されることになる。
【００３８】
各ローラ軸１５の下部エアーナイフ６と対応する部分を分断し、分断軸部１５ａ，１５ｂとしたことで、下部エアーナイフ６は分断軸部１５ａ，１５ｂの分断箇所から露出する。そのため、下部エアーナイフ６から噴射される圧縮空気はローラ軸１５によって邪魔されることなく基板６の下面側に到達するから、基板２６の下面を上記下部エアーナイフ６によって確実に乾燥処理することができる。
【００３９】
ローラ軸１５を分断軸部１５ａ，１５ｂに分断したことで、その分断箇所で基板２６は支持されていない状態になり、各エアーナイフ５，６から噴射される圧縮空気の圧力及び自重によって基板２６にうねりが生じる虞がある。
【００４０】
しかしながら、各ローラ軸１５の分断箇所には、支持ローラ２９が下部エアーナイフ６を挟んで基板２６の搬送方向上流側と下流側とに設けられている。そのため、ローラ軸１５の分断箇所において、基板２６は支持ローラ２９によって支持されるため、基板２６にうねりが生じるのが防止されるから、基板２６を安定した状態で確実に搬送することができるばかりか、基板２６に付着した処理液の除去も確実かつ円滑に行なうことができる。
【００４１】
また、上記支持ローラ２９を基板２６の搬送方向に沿う前後方向と、基板２６の板面に対して垂直な上下方向とに位置決め調整できるようにしたから、支持ローラ２９を、搬送される基板２６の下面に確実に接触する高さに調整することができる。そのため、そのことによっても、ローラ軸１５の分断箇所で、基板２６にうねりが生じるのを防止することができる。さらに、支持ローラ２９は、ローラ軸１５に設けられた搬送ローラ２５よりも小径なので、下部エアーナイフ６に近接して設けることができる。
【００４２】
上部エアーナイフ５と下部エアーナイフ６とは、操作摘み４４によって操作軸３を回転させることで、同時に角度調整することができる。そのため、一対のエアーナイフ５，６の角度調整を、別々に行なう場合に比べて容易に、しかも確実に行なうことができる。
【００４３】
なお、上記一実施の形態ではローラ軸の分断箇所には、下部エアーナイフを挟んで基板の搬送方向上流側と下流側との両方向にそれぞれ支持ローラを設けるようにしたが、圧縮空気は基板の搬送方向後端側（上流側）に向けて噴射されるから、圧縮空気による撓みを防止するだけであれば、支持ローラはエアーナイフの上流側だけに設けるようにしてもよい。
【００４４】
【発明の効果】
以上のようにこの発明によれば、ローラ軸を分断し、このローラ軸が下部エアーナイフから噴射される圧縮空気を遮ることがないよう分断したときに、その分断箇所に基板を支持する支持ローラを設けるようにした。
【００４５】
そのため、基板は上記ローラ軸の分断箇所ではローラ軸に代わり支持ローラによって支持されるから、上記分断箇所で基板の支持状態が損なわれてうねりなどの変形が発生するのを防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の一実施の形態に係る処理装置の横断面図。
【図２】  一対のエアーナイフの断面図。
【図３】  支持ローラを回転可能に設けた支持体の説明図。
【図４】  一対のエアーナイフの傾斜角度を調整する機構を示す正面図。
【図５】  同じく側面図。
【符号の説明】
１…処理槽
２…搬入口
３…搬出口
５…上部エアーナイフ
６…下部エアーナイフ
１５…ローラ軸
２９…支持ローラ
４２…ブロック（支持部材）
４３…操作軸（角度調整機構）
【図１】
0003880386.tif 000002
【図２】
0003880386.tif 000003
【図３】
0003880386.tif 000004
【図４】
0003880386.tif 000005
【図５】
0003880386.tif 000006