(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（ｕ−２）で表わされる繰り返し単位を含有する高分子化合物。
【化１】
0003887106.tif 000015
（上記一般式中、Ｒ1はｔ−ブチルジメチルシリルエーテルであり、Ｒは脂環式骨格を有する基であり、Ｒ2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基である。Ｘ1は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ3−、または−Ｓ（＝Ｏ）2ＮＲ3−（Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子、または炭化水素基である。）であり、ｊは１である。Ｒ8はメチル基である。）
【請求項２】
下記一般式（ｕ−２）で表わされる繰り返し単位を含有する高分子化合物。
【化２】
0003887106.tif 000016
（上記一般式中、Ｒはシクロヘキシル基であり、Ｒ2は水素原子である。Ｘ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、ｊは１である。Ｒ8はメチル基である。
Ｒ1は、下記一般式（R1-3）で表わされるＳｉ含有基である。
−（Ｘ2）k−（Ｒ5）n−Ｓｉ（Ｒ7）3          （R1-3）
上記一般式（R1-3）中、
Ｘ2は、−ＯＣ（＝Ｏ）−であり、ｋは１である。
Ｒ5は、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨＣＨ3−、−Ｃ（ＣＨ2ＣＨ3）2−、および−ＣＨＣＨ2ＣＨ3−から選択される二価のアルキル基であり、ｎは０である。
Ｒ7はメチル基である。）
【請求項３】
前記一般式（ｕ−２）におけるＸ1は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であることを特徴とする請求項１に記載の高分子化合物。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれか１項に記載の高分子化合物と、光酸発生剤とを含有する感光性組成物。
【請求項５】
請求項４に記載の感光性組成物を含む膜を基板上に形成する工程と、
前記感光性組成物膜の所定の領域にパターン露光を施す工程と、
前記露光後の感光性組成物膜を熱処理する工程と、
前記熱処理後の感光性組成物膜をアルカリ水溶液で現像処理して、露光部を選択的に溶解除去する工程とを具備するパターン形成方法。
【請求項６】
請求項４に記載の感光性組成物を含む膜を基板上に形成する工程と、
前記感光性組成物膜の所定の領域にパターン露光を施す工程と、
前記露光後の感光性組成物膜を熱処理する工程と、
前記熱処理後の感光性組成物膜をアルカリ水溶液で現像処理して、露光部を選択的に溶解除去してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをエッチングマスクとして用いて、前記基板をエッチングする工程とを具備する電子部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は半導体素子などの製造工程に於ける微細加工に用いられるレジスト組成物として好適な感光性組成物に係り、特に、紫外線、ｄｅｅｐＵＶ光、２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光、１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光、フッ素レーザー光、電子線およびＸ線などの短波長光が露光エネルギー源として用いられる際に特に好適な感光性組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子などを始めとする電子部品の製造工程では、フォトリソグラフィー技術を用いて微細パタンが形成されている。かかる技術は、次のような工程に沿って行なわれる。すなわち、まず、レジスト組成物を基板等の上に塗布してフォトレジスト膜となる薄膜を形成する。次いで、このフォトレジスト膜に対して露光を行なった後、現像、リンス等の処理を施してレジストパタンを形成する。続いて、レジストパタンを耐エッチングマスクとして用いて、露出している基板などの表面をエッチングすることにより微細な幅の線や窓を開孔し、所望のパタンを形成する。最後に基板上に残留したレジストパタンを溶解除去してパターニングされた基板が得られる。
【０００３】
近年、半導体素子の高密度集積化に伴なって、フォトリソグラフィー技術に於いては、より微細なパタンを形成可能な加工技術が求められている。かかる要望に対して、露光光源の短波長化が試みられている。例えば、ＡｒＦエキシマレーザ（波長１９３ｎｍ）やＹＡＧレーザの５倍高調波（波長２１３ｎｍ）を光源として採用した、微細なレジストパタンを形成するプロセスが開発されている。これによって最小線幅がサブミクロンオーダの配線パタンを形成することが可能となったが、配線パタンはさらに微細化の傾向にある。
【０００４】
なお、基板等に微細加工を施す際には、プラズマを用いたドライエッチングプロセスが確立されているので、この微細加工をより効果的に行なう目的でドライエッチング耐性に優れたレジストを用いてレジストパタンを形成することが求められている。
【０００５】
かかる点に関して、レジスト材料として芳香族化合物を含有する感光性材料を使用することが知られている。このようなレジスト材料としては、フェノール樹脂をベース材料として含むものが数多く開発されてきたが、これらの材料は前述のような短波長光を露光光源として使用した場合には、その吸収が大きいので露光時にレジスト膜の表面から離れた部分にまで露光光を充分に到達させることができない。その結果、従来のレジスト材料によって微細パタンを得ることが困難であるという問題があった。
【０００６】
一方、光吸収の少ない樹脂として、芳香環を有しないポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）などを用いることが検討されているが、これらの材料は充分なドライエッチング耐性を有していないという問題点があった。
【０００７】
また、単なる脂肪族環式化合物をベース樹脂として用いることが検討されているが、これらの材料では溶解性、アルカリ現像性が低い。しかも、ドライエッチング耐性は充分でないという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、サブクォーターミクロンの微細パタンを実現するための感光性材料としては、光の吸収が少ないことが要求され、得られたレジストパタンは充分なドライエッチング耐性を有していることが必要である。
【０００９】
そこで、本発明は、短波長光源、特にＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、フッ素レーザー光に対して透明性が優れるとともに、充分なドライエッチング耐性を備えたレジストパタンを形成し得る感光性組成物を提供することを目的とする。
【００１０】
また本発明は、上述したような感光性組成物のベース樹脂成分として好適に配合される高分子化合物を提供することを目的とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、下記一般式（ｕ−２）で表わされる繰り返し単位を含有する高分子化合物を提供する。
【００１２】
【化３】
0003887106.tif 000002
（上記一般式中、Ｒ1はｔ−ブチルジメチルシリルエーテルであり、Ｒは脂環式骨格を有する基であり、Ｒ2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基である。Ｘ1は、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ3−、または−Ｓ（＝Ｏ）2ＮＲ3−（Ｒ3は、水素原子、ハロゲン原子、または炭化水素基である。）であり、ｊは１である。Ｒ8はメチル基である。）
【００１３】
また本発明は、下記一般式（ｕ−２）で表わされる繰り返し単位を含有する高分子化合物を提供する。
【００１４】
【化４】
0003887106.tif 000003
（上記一般式中、Ｒはシクロヘキシル基であり、Ｒ2は水素原子である。Ｘ1は−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−であり、ｊは１である。Ｒ8はメチル基である。
Ｒ1は、下記一般式（R1-3）で表わされるＳｉ含有基である。
−（Ｘ2）k−（Ｒ5）n−Ｓｉ（Ｒ7）3          （R1-3）
上記一般式（R1-3）中、
Ｘ2は、−ＯＣ（＝Ｏ）−であり、ｋは１である。
Ｒ5は、−ＣＨ2−、−Ｃ（ＣＨ3）2−、−ＣＨＣＨ3−、−Ｃ（ＣＨ2ＣＨ3）2−、および−ＣＨＣＨ2ＣＨ3−から選択される二価のアルキル基であり、ｎは０である。
Ｒ7はメチル基である。）
【００２３】
またさらに本発明は、前述の高分子化合物と、光酸発生剤とを含有する感光性組成物を提供する。
【００２４】
またさらに本発明は、前述の感光性組成物を含む膜を基板上に形成する工程と、
前記感光性組成物膜の所定の領域にパターン露光を施す工程と、
前記露光後の感光性組成物膜を熱処理する工程と、
前記熱処理後の感光性組成物膜をアルカリ水溶液で現像処理して、露光部を選択的に溶解除去する工程とを具備するパターン形成方法を提供する。
【００２５】
またさらに本発明は、前述の感光性組成物を含む膜を基板上に形成する工程と、
前記感光性組成物膜の所定の領域にパターン露光を施す工程と、
前記露光後の感光性組成物膜を熱処理する工程と、
前記熱処理後の感光性組成物膜をアルカリ水溶液で現像処理して、露光部を選択的に溶解除去してレジストパターンを形成する工程と、
前記レジストパターンをエッチングマスクとして用いて、前記基板をエッチングする工程とを具備する電子部品の製造方法を提供する。
【００２６】
本発明の単量体は、脂環式骨格と特定の酸分解性基とを有するものである。こうした単量体を単重合または共重合させてなる本発明の高分子化合物は、光酸発生剤を配合して、露光後、光化学反応を熱反応によって増幅する化学増幅型レジストとして好適に用いることができる。
【００２７】
まずここで、化学増幅型レジストについて簡単に説明する。
【００２８】
化学増幅型レジストは、その含有成分によってポジ型あるいはネガ型の任意のレジストとして使用することができる。ポジ型の化学増幅型レジストとは、例えば、樹脂成分であるアルカリ可溶性樹脂；酸により分解する化合物である溶解抑止剤；および化学放射線、エネルギー放射線、物質放射線などの照射により、酸を発生する化合物である光酸発生剤の３成分を含有する感光性組成物である。なお、アルカリ可溶性樹脂における共重合成分として溶解抑止基を含有せしめれば、同時に溶解抑止剤として作用させることもできる。このポジ型の化学増幅型レジストを基板等の上に塗布してなるレジスト膜においては、溶解抑止剤が存在していることに起因して未露光（化学放射線未照射）状態ではアルカリ水溶液に不溶性である。このようなレジスト膜に露光およびベーキング処理を施すことによって、レジスト膜の露光部においては光酸発生剤から酸が発生し、この酸が溶解抑止剤を分解してアルカリ溶液に対して可溶性を呈する。すなわち、このようなレジストは、レジスト膜の露光部が選択的に溶解除去されるポジ型であるが、未露光部が溶解除去されるネガ型とすることもできる。この場合には、上述した酸により分解する化合物に代えて、酸によって樹脂成分を架橋し得る化合物、または酸によって溶解度が変化する化合物を配合すればよい。
【００２９】
こうした化学増幅型レジストのベース樹脂成分として、本発明の高分子化合物は好適に用られる。本発明の高分子化合物は、前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）のいずれかで表わされる本発明の単量体を単重合または共重合させることにより得ることができる。
【００３０】
本発明の単量体は、前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）のいずれかで表わされる化合物である。
【００３１】
前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）におけるＲは脂環式骨格を含む基であり、脂環式骨格としては、単環式骨格、多環式骨格およびヘテロ環式骨格のいずれでもよく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニルおよびシクロデカニル等が挙げられる。さらに、ヘテロ環や縮環骨格でもよく、具体的には、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、メチルシクロヘキシルプロピル、テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ｏ−メンタンジイル、ｏ−メンテンジイル、ｍ−メンタンジイル、ｍ−メンテンジイル、ｐ−メンタンジイル、ｐ−メンテンジイル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、オキサシクロオクタン−２−オン−３−イル、オキサシクロノナン−２−オン−３−イル、オキサシクロデカン−２−オン−３−イル；オキソシクロペンチル、オキソシクロヘキシル、オキソシクロヘプチル、オキソシクロオクチル、オキソシクロノニル、オキソシクロデカニル；シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル、シクロノネニル、シクロデケニル；プレグニル、エストリル、イソキサゾリル、ピペリジル、ピペラジル、アンドロスタニル、スティグマスチル、オクタヒドロナフチル、およびコレステリル基等が挙げられる。
【００３２】
特に好ましい脂環式骨格としては、例えば、炭素原子と、酸素原子、窒素原子およびイオウ原子から選択された少なくとも１種の原子とを含み、その総原子数は３〜１００であり、０〜５０の不飽和結合を有する単環性もしくは２〜１０環性のものが挙げられる。
【００３３】
上述したような脂環式骨格を含むＲとしては、具体的には、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、メチルシクロヘキシルプロピル、テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ｏ−メンタンジイル、ｏ−メンテンジイル、ｍ−メンタンジイル、ｍ−メンテンジイル、ｐ−メンタンジイル、ｐ−メンテンジイル、ビシクロ［２．２．１］ヘプチル、ビシクロ［３．１．１］ヘプチル、オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、オキサシクロオクタン−２−オン−３−イル、オキサシクロノナン−２−オン−３−イル、オキサシクロデカン−２−オン−３−イル；オキソシクロペンチル、オキソシクロヘキシル、オキソシクロヘプチル、オキソシクロオクチル、オキソシクロノニル、オキソシクロデカニル；シクロペンテニル、シクロヘキセニル、シクロヘプテニル、シクロオクテニル、シクロノネニル、シクロデケニル；プレグニル、エストリル、イソキサゾリル、ピペリジル、ピペラジル、アンドロスタニル、スティグマスチル、オクタヒドロナフチル、コレステリル基；２’−ヒドロキシ−４’−メチル−１，１−ジメチルシクロヘキシル；（β−メチル−δ−バレロラクトン−３−イル）３―メチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−オキソシクロヘキシル、１−メチル−３−オキソシクロヘキシル、３−オキソシクロペンチル、３−オキソシクロヘプチル、３−オキソシクロオクチル、３−オキソシクロノニル、３−オキソシクロデカニル；メチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、エチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、プロピルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ブチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ペンチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ヘキシルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ヘプチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、オクチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ノニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、デカニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル；ヒドロキシメチルジメチルシクロヘキシル；２’−メトキシ−４’−メチル−１，１−ジメチルシクロヘキシル；１−２’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−セキシルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''，２''，２''−トリクロロエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−トリメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−トリエチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−トリイソプロピルシロキシ−４’−メチル−��クロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロチオピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロチオフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ジメチルイソプロピルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル；１−メチル−３−オキソシクロペンチル、１−メチル−３−オキソシクロヘプチル、１−メチル−３−オキソシクロオクチル、１−メチル−３−オキソシクロノニル、１−メチル−３−オキソシクロデカニル；１−エチル−３−オキソシクロペンチル、１−エチル−３−オキソシクロヘキシル、１−エチル−３−オキソシクロヘプチル、１−エチル−３−オキソシクロオクチル、１−エチル−３−オキソシクロノニル、１−エチル−３−オキソシクロデカニル；１−プロピル−３−オキソシクロペンチル、１−プロピル−３−オキソシクロヘキシル、１−プロピル−３−オキソシクロヘプチル、１−プロピル−３−オキソシクロオクチル、１−プロピル−３−オキソシクロノニル、１−プロピル−３−オキソシクロデカニル；１−ブチル−３−オキソシクロペンチル、１−ブチル−３−オキソシクロヘキシル、１−ブチル−３−オキソシクロヘプチル、１−ブチル−３−オキソシクロオクチル、１−ブチル−３−オキソシクロノニル、１−ブチル−３−オキソシクロデカニル；１−ペンチル−３−オキソシクロペンチル、１−ペンチル−３−オキソシクロヘキシル、１−ペンチル−３−オキソシクロヘプチル、１−ペンチル−３−オキソシクロオクチル、１−ペンチル−３−オキソシクロノニル、１−ペンチル−３−オキソシクロデカニル；β−メチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−メチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−エチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−エチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−プロピル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−プロピル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−プロピル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−ブチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−ブチル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−ブチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−ペンチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−ペンチル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−ペンチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−ヘキシル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−ヘキシル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−ヘキシル−ε−カプロラクトン−３−イル、３−メチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−メチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−エチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−エチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−エチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−ペンチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−ペンチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ペンチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−ヘキシル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−ヘキシル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ヘキシル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、４’−メチル−１，１−ジメチル−３−シクロヘキセニル；３，２１−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−１７−イル、１７−（２−プロペニル）エストロ−４−エン−１７−イル、１７−（２−プロペニル）エストラ−４，９，１１−トリエン−１７−イル、６−メチルプレグン−４−エン−２０−オン−１７−イル、１７−メチランドロスタノ［３，２−Ｃ］イソキサゾール−１７−イル、α，α−ジフェニル−４−ピペリジンメチル、α，α−ジナフチル−４−ピペリジンメチル、７，１７−ジメチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン−３−イル、７，１７−ジメチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、１，３−シクロヘキサンジオン−５−イル、９−フルオロ−１１−ヒドロキシ−１７−メチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、スティグマスタ−５，２４−ジエン−３−イル、オクタヒドロ−４，８ａ−ジメチル−４ａ（２Ｈ）−ナフタレニル、ヒドロキシコレステロール−２４−イル、エキソ−１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、６α−６−メチルプレグン−４−エン−３，２０−ジオン−１７−イル、１−２’−オキソ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、エストロ−４−エン−３−オン−１７−イル、３−エチル−１８，１９−ジノルプレグン−４−エン−３−オン−１７−イル、１９−ノルプレグン−４−エン−３−オン−１７−イル、１９−ノルプレグン−４−エン−２０−イン−３−オン−１７−イル、１９−ノルプレグン−５（１０）−エン−２０−イン−３−オン−１７−イル、１７−メチル−２−オキサアンドロスタン−３−オン−１７−イル、４−ヒドロキシ−１７−メチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、ジヒドロ−４Ｈ−ジメチル−２（３Ｈ）−フラノン−３−イル、５−ヒドロキシ−α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メチル、α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メチル、パチュリル、α，α，４−トリメチルシクロヘキサンメタン−４−イル、１−４’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、およびテトラヒドロフルフリルなどが挙げられる。
【００３４】
その他の５員環の脂環式骨格を含むものとしては、ジメチルイソプロピルシリルシクロペンチル、ジエチルイソプロピルシリルシクロペンチル、ジメチルセキシルシリルシクロペンチル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンチル、イソプロピルシクロペンチル、エチルシクロペンチル、ｎ−プロピルシクロペンチル、ｎ−ブチルシクロペンチル、イソブチルシクロペンチル、ｓ−ブチルシクロペンチル、ペンチルシクロペンチル、ヘキシルシクロペンチル、ヘプチルシクロペンチル、オクチルシクロペンチル、ノニルシクロペンチル、デカニルシクロペンチル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロペンチル、２，２，２−トリクロロエチルシクロペンチル、２−クロロエチルシクロペンチル、２−ブロモエチルシクロペンチル、２−ヨードエチルシクロペンチル、２−フルオロエチルシクロペンチル、ω−クロロアルキルシクロペンチル、２−メチルチオエチルシクロペンチル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロペンチル、シクロペンチルシクロペンチル、シクロヘキシルシクロペンチル、３−ブテン−１−イルシクロペンチル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロペンチル、９−アンスリルメチルシクロペンチル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロペンチル、１−ピレニルメチルシクロペンチル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロペンチル、ピペロニルシクロペンチル、４−ピコリルシクロペンチル、トリメチルシリルシクロペンチル、トリエチルシリルシクロペンチル、イソプロピルジメチルシリルシクロペンチル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロペンチル、チオシクロペンチル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロペンチル、メチルシクロペンチル、メトキシメチルシクロペンチル、メチルチオメチルシクロペンチル、ｔ−ブチルチオメチルシクロペンチル、ｔ−ブトキシメチルシクロペンチル、４−ペンテニロキシメチルシクロペンチル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロペンチル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロペンチル、２−メトキシエトキシメチルシクロペンチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロペンチル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロペンチル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロペンチル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロペンチル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロペンチル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロペンチル、テトラヒドロピラニルシクロペンチル、テトラヒドロチオピラニルシクロペンチル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロペンチル、１−メトキシシクロヘキシルシクロペンチル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロペンチル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロペンチル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロペンチル、テトラヒドロフラニルシクロペンチル、テトラヒドロチオフラニルシクロペンチル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロペンチル、２，２，２−トリクロロエチルシクロペンチル、２−トリメチルシリルエチルシクロペンチル、ｔ−ブチルシクロペンチル、アリル���クロペンチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロペンチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロペンチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロペンチル、９−アンスリルシクロペンチル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロペンチル、トリチロンシクロペンチル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロペンチル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロペンチル、トリメチルシリルシクロペンチル、トリエチルシリルシクロペンチル、トリイソプロピルシリルシクロペンチル、およびトリエチルスタニルシクロペンチルなどが挙げられる。
【００３５】
その他の６員環の脂環式骨格を含むものとしては、ジメチルイソプロピルシリルシクロヘキシル、ジエチルイソプロピルシリルシクロヘキシル、ジメチルセキシルシリルシクロヘキシル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロヘキシル、イソプロピルシクロヘキシル、エチルシクロヘキシル、ｎ−プロピルシクロヘキシル、ｎ−ブチルシクロヘキシル、イソブチルシクロヘキシル、ｓ−ブチルシクロヘキシル、ペンチルシクロヘキシル、ヘキシルシクロヘキシル、ヘプチルシクロヘキシル、オクチルシクロヘキシル、ノニルシクロヘキシル、デカニルシクロヘキシル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘキシル、２−クロロエチルシクロヘキシル、２−ブロモエチルシクロヘキシル、２−ヨードエチルシクロヘキシル、２−フルオロエチルシクロヘキシル、ω−クロロアルキルシクロヘキシル、２−メチルチオエチルシクロヘキシル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロヘキシル、シクロペンチルシクロヘキシル、シクロヘキシルシクロヘキシル、３−ブテン−１−イルシクロヘキシル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロヘキシル、９−アンスリルメチルシクロヘキシル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロヘキシル、１−ピレニルメチルシクロヘキシル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロヘキシル、ピペロニルシクロヘキシル、４−ピコリルシクロヘキシル、トリメチルシリルシクロヘキシル、トリエチルシリルシクロヘキシル、イソプロピルジメチルシリルシクロヘキシル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロヘキシル、チオシクロヘキシル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロヘキシル、メチルシクロヘキシル、メトキシメチルシクロヘキシル、メチルチオメチルシクロヘキシル、ｔ−ブチルチオメチルシクロヘキシル、ｔ−ブトキシメチルシクロヘキシル、４−ペンテニロキシメチルシクロヘキシル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロヘキシル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロヘキシル、２−メトキシエトキシメチルシクロヘキシル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロヘキシル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロヘキシル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロヘキシル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロヘキシル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシル、テトラヒドロピラニルシクロヘキシル、テトラヒドロチオピラニルシクロヘキシル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロヘキシル、１−メトキシシクロヘキシルシクロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロヘキシル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロヘキシル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロヘキシル、テトラヒドロフラニルシクロヘキシル、テトラヒドロチオフラニルシクロヘキシル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロヘキシル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘキシル、２−トリメチルシリルエチルシクロヘキシル、ｔ−ブチルシクロヘキシル、アリル���クロヘキシル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロヘキシル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロヘキシル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロヘキシル、９−アンスリルシクロヘキシル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロヘキシル、トリチロンシクロヘキシル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロヘキシル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロヘキシル、トリメチルシリルシクロヘキシル、トリエチルシリルシクロヘキシル、トリイソプロピルシリルシクロヘキシル、およびトリエチルスタニルシクロヘキシルなどが挙げられる。
【００３６】
その他の７員環の脂環式骨格を含むものとしては、ジメチルイソプロピルシリルシクロヘプチル、ジエチルイソプロピルシリルシクロヘプチル、ジメチルセキシルシリルシクロヘプチル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロヘプチル、イソプロピルシクロヘプチル、エチルシクロヘプチル、ｎ−プロピルシクロヘプチル、ｎ−ブチルシクロヘプチル、イソブチルシクロヘプチル、ｓ−ブチルシクロヘプチル、ペンチルシクロヘプチル、ヘキシルシクロヘプチル、ヘプチルシクロヘプチル、オクチルシクロヘプチル、ノニルシクロヘプチル、デカニルシクロヘプチル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘプチル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘプチル、２−クロロエチルシクロヘプチル、２−ブロモエチルシクロヘプチル、２−ヨードエチルシクロヘプチル、２−フルオロエチルシクロヘプチル、ω−クロロアルキルシクロヘプチル、２−メチルチオエチルシクロヘプチル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロヘプチル、シクロペンチルシクロヘプチル、シクロヘキシルシクロヘプチル、３−ブテン−１−イルシクロヘプチル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロヘプチル、９−アンスリルメチルシクロヘプチル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロヘプチル、１−ピレニルメチルシクロヘプチル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロヘプチル、ピペロニルシクロヘプチル、４−ピコリルシクロヘプチル、トリメチルシリルシクロヘプチル、トリエチルシリルシクロヘプチル、イソプロピルジメチルシリルシクロヘプチル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロヘプチル、チオシクロヘプチル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロヘプチル、メチルシクロヘプチル、メトキシメチルシクロヘプチル、メチルチオメチルシクロヘプチル、ｔ−ブチルチオメチルシクロヘプチル、ｔ−ブトキシメチルシクロヘプチル、４−ペンテニロキシメチルシクロヘプチル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロヘプチル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロヘプチル、２−メトキシエトキシメチルシクロヘプチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロヘプチル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロヘプチル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘプチル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロヘプチル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロヘプチル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロヘプチル、テトラヒドロピラニルシクロヘプチル、テトラヒドロチオピラニルシクロヘプチル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロヘプチル、１−メトキシシクロヘキシルシクロヘプチル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロヘプチル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロヘプチル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロヘプチル、テトラヒドロフラニルシクロヘプチル、テトラヒドロチオフラニルシクロヘプチル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロヘプチル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘプチル、２−トリメチルシリルエチルシクロヘプチル、ｔ−ブチルシクロヘプチル、アリル���クロヘプチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロヘプチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロヘプチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロヘプチル、９−アンスリルシクロヘプチル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロヘプチル、トリチロンシクロヘプチル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロヘプチル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロヘプチル、トリメチルシリルシクロヘプチル、トリエチルシリルシクロヘプチル、トリイソプロピルシリルシクロヘプチル、およびトリエチルスタニルシクロヘプチルなどが挙げられる。
【００３７】
その他の８員環の脂肪環式骨格を含むものとしては、ジメチルイソプロピルシリルシクロオクチル、ジエチルイソプロピルシリルシクロオクチル、ジメチルセキシルシリルシクロオクチル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロオクチル、イソプロピルシクロオクチル、エチルシクロオクチル、ｎ−プロピルシクロオクチル、ｎ−ブチルシクロオクチル、イソブチルシクロオクチル、ｓ−ブチルシクロオクチル、ペンチルシクロオクチル、ヘキシルシクロオクチル、ヘプチルシクロオクチル、オクチルシクロオクチル、ノニルシクロオクチル、デカニルシクロオクチル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロオクチル、２，２，２−トリクロロエチルシクロオクチル、２−クロロエチルシクロオクチル、２−ブロモエチルシクロオクチル、２−ヨードエチルシクロオクチル、２−フルオロエチルシクロオクチル、ω−クロロアルキルシクロオクチル、２−メチルチオエチルシクロオクチル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロオクチル、シクロペンチルシクロオクチル、シクロヘキシルシクロオクチル、３−ブテン−１−イルシクロオクチル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロオクチル、９−アンスリルメチルシクロオクチル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロオクチル、１−ピレニルメチルシクロオクチル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロオクチル、ピペロニルシクロオクチル、４−ピコリルシクロオクチル、トリメチルシリルシクロオクチル、トリエチルシリルシクロオクチル、イソプロピルジメチルシリルシクロオクチル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロオクチル、チオシクロオクチル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロオクチル、メチルシクロオクチル、メトキシメチルシクロオクチル、メチルチオメチルシクロオクチル、ｔ−ブチルチオメチルシクロオクチル、ｔ−ブトキシメチルシクロオクチル、４−ペンテニロキシメチルシクロオクチル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロオクチル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロオクチル、２−メトキシエトキシメチルシクロオクチル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロオクチル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロオクチル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロオクチル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロオクチル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロオクチル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロオクチル、テトラヒドロピラニルシクロオクチル、テトラヒドロチオピラニルシクロオクチル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロオクチル、１−メトキシシクロヘキシルシクロオクチル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロオクチル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロオクチル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロオクチル、テトラヒドロフラニルシクロオクチル、テトラヒドロチオフラニルシクロオクチル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロオクチル、２，２，２−トリクロロエチルシクロオクチル、２−トリメチルシリルエチルシクロオクチル、ｔ−ブチルシクロオクチル、アリ���シクロオクチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロオクチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロオクチル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロオクチル、９−アンスリルシクロオクチル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロオクチル、トリチロンシクロオクチル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロオクチル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロオクチル、トリメチルシリルシクロオクチル、トリエチルシリルシクロオクチル、トリイソプロピルシリルシクロオクチル、およびトリエチルスタニルシクロオクチルなどが挙げられる。
【００３８】
その他の９員環の脂環式骨格を含むものとしては、ジメチルイソプロピルシリルシクロノニル、ジエチルイソプロピルシリルシクロノニル、ジメチルセキシルシリルシクロノニル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロノニル、イソプロピルシクロノニル、エチルシクロノニル、ｎ−プロピルシクロノニル、ｎ−ブチルシクロノニル、イソブチルシクロノニル、ｓ−ブチルシクロノニル、ペンチルシクロノニル、ヘキシルシクロノニル、ヘプチルシクロノニル、オクチルシクロノニル、ノニルシクロノニル、デカニルシクロノニル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロノニル、２，２，２−トリクロロエチルシクロノニル、２−クロロエチルシクロノニル、２−ブロモエチルシクロノニル、２−ヨードエチルシクロノニル、２−フルオロエチルシクロノニル、ω−クロロアルキルシクロノニル、２−メチルチオエチルシクロノニル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロノニル、シクロペンチルシクロノニル、シクロヘキシルシクロノニル、３−ブテン−１−イルシクロノニル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロノニル、９−アンスリルメチルシクロノニル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロノニル、１−ピレニルメチルシクロノニル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロノニル、ピペロニルシクロノニル、４−ピコリルシクロノニル、トリメチルシリルシクロノニル、トリエチルシリルシクロノニル、イソプロピルジメチルシリルシクロノニル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロノニル、チオシクロノニル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロノニル、メチルシクロノニル、メトキシメチルシクロノニル、メチルチオメチルシクロノニル、ｔ−ブチルチオメチルシクロノニル、ｔ−ブトキシメチルシクロノニル、４−ペンテニロキシメチルシクロノニル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロノニル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロノニル、２−メトキシエトキシメチルシクロノニル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロノニル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロノニル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロノニル、２’−トリエトキシシリルエトキシメチルシクロノニル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロノニル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロノニル、テトラヒドロピラニルシクロノニル、テトラヒドロチオピラニルシクロノニル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロノニル、１−メトキシシクロヘキシルシクロノニル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロノニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロノニル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロノニル、テトラヒドロフラニルシクロノニル、テトラヒドロチオフラニルシクロノニル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロノニル、２，２，２−トリクロロエチルシクロノニル、２−トリメチルシリルエチルシクロノニル、ｔ−ブチルシクロノニル、アリルシクロノニル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロノニル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロノニル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロノニル、９−アンスリルシクロノニル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロノニル、トリチロンシクロノニル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロノニル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロノニル、トリメチルシリルシクロノニル、トリエチルシリルシクロノニル、トリイソプロピルシリルシクロノニル、およびトリエチルスタニルシクロノニルなどが挙げられる。
【００３９】
その他の１０員環の脂環式骨格を含むものとしては、ジメチルイソプロピルシリルシクロデカニル、ジエチルイソプロピルシリルシクロデカニル、ジメチルセキシルシリルシクロデカニル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロデカニル、イソプロピルシクロデカニル、エチルシクロデカニル、ｎ−プロピルシクロデカニル、ｎ−ブチルシクロデカニル、イソブチルシクロデカニル、ｓ−ブチルシクロデカニル、ペンチルシクロデカニル、ヘキシルシクロデカニル、ヘプチルシクロデカニル、オクチルシクロデカニル、ノニルシクロデカニル、デカニルシクロデカニル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロデカニル、２，２，２−トリクロロエチルシクロデカニル、２−クロロエチルシクロデカニル、２−ブロモエチルシクロデカニル、２−ヨードエチルシクロデカニル、２−フルオロエチルシクロデカニル、ω−クロロアルキルシクロデカニル、２−メチルチオエチルシクロデカニル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロデカニル、シクロペンチルシクロデカニル、シクロヘキシルシクロデカニル、３−ブテン−１−イルシクロデカニル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロデカニル、９−アンスリルメチルシクロデカニル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロデカニル、１−ピレニルメチルシクロデカニル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロデカニル、ピペロニルシクロデカニル、４−ピコリルシクロデカニル、トリメチルシリルシクロデカニル、トリエチルシリルシクロデカニル、イソプロピルジメチルシリルシクロデカニル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロデカニル、チオシクロデカニル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロデカニル、メチルシクロデカニル、メトキシメチルシクロデカニル、メチルチオメチルシクロデカニル、ｔ−ブチルチオメチルシクロデカニル、ｔ−ブトキシメチルシクロデカニル、４−ペンテニロキシメチルシクロデカニル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロデカニル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロデカニル、２−メトキシエトキシメチルシクロデカニル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロデカニル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロデカニル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロデカニル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロデカニル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロデカニル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロデカニル、テトラヒドロピラニルシクロデカニル、テトラヒドロチオピラニルシクロデカニル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロデカニル、１−メトキシシクロヘキシルシクロデカニル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロデカニル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロデカニル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロデカニル、テトラヒドロフラニルシクロデカニル、テトラヒドロチオフラニルシクロデカニル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロデカニル、２，２，２−トリクロロエチルシクロデカニル、２−トリメチルシリルエチルシクロデカニル、ｔ−ブチルシクロデカニル、アリ���シクロデカニル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロデカニル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロデカニル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロデカニル、９−アンスリルシクロデカニル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロデカニル、トリチロンシクロデカニル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロデカニル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロデカニル、トリメチルシリルシクロデカニル、トリエチルシリルシクロデカニル、トリイソプロピルシリルシクロデカニル、およびトリエチルスタニルシクロデカニルなどが挙げられる。
【００４０】
特に好ましいＲとしては、以下に示すものが挙げられる。例えば、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、メチルシクロヘキシルプロピル、テトラシクロ［６．２．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−メチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−エチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−プロピル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ブチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ペンチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ヘキシル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ヘプチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−オクチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ノニル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−デカニル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル；２−メチル−２−シクロヘキシル、２−メチル−２−シクロペンチル、２−メチル−２−シクロオクチル、２−メチル−２−シクロノニル、２−メチル−２−シクロデカニル；１−２’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２’’−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２’’−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル；１−４’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−２''−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−２''−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル；３−メチル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−メチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−エチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−プロピル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ブチル−δ���バレロラクトン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル；１−メチル−３−オキソシクロペンチル、１−メチル−３−オキソシクロヘキシル、１−メチル−３−オキソシクロヘプチル、１−メチル−３−オキソシクロオクチル、１−メチル−３−オキソシクロノニル、１−メチル−３−オキソシクロデカニル；１−エチル−３−オキソシクロペンチル、１−エチル−３−オキソシクロヘキシル、１−エチル−３−オキソシクロヘプチル、１−エチル−３−オキソシクロオクチル、１−エチル−３−オキソシクロノニル、１−エチル−３−オキソシクロデカニル；１−プロピル−３−オキソシクロペンチル、１−プロピル−３−オキソシクロヘキシル、１−プロピル−３−オキソシクロヘプチル、１−プロピル−３−オキソシクロオクチル、１−プロピル−３−オキソシクロノニル、１−プロピル−３−オキソシクロデカニル；１−ブチル−３−オキソシクロペンチル、１−ブチル−３−オキソシクロヘキシル、１−ブチル−３−オキソシクロヘプチル、１−ブチル−３−オキソシクロオクチル、１−ブチル−３−オキソシクロノニル、１−ブチル−３−オキソシクロデカニル、およびパチュリルなどである。
【００４１】
前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）においてＲ1 として導入される基は、下記（R1-1）および（R1-2）のいずれかの基である。
【００４２】
Ｓｉを含有する一価の有機基                        （R1-1）
【００４３】
前記一般式（R1-2）において、Ｘ2 として導入され得るヘテロ原子を含む二価の有機基としては、具体的には、＞Ｃ＝Ｏ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ3 −、−ＳＯ2 −、−Ｓ（＝Ｏ）2 ＮＲ3 −、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣＨ2 Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＳＯ2 −、および−Ｓ（＝Ｏ）2 Ｏ−が挙げられる。ここでＲ3 は、水素原子、ハロゲン原子、または炭化水素基であり、具体的には、シクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、フェニル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキシルメチル、イソプロピル、アリル、およびプロパルギル等が挙げられる。
【００４４】
これらのなかでも特に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、および−Ｏ−がＸ2 として好ましい。
【００４５】
Ｒ4 としては、−ＣＨ2 −、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −、−ＣＨＣＨ3 −、−Ｃ（ＣＨ2 ＣＨ3 ）2 −、および−ＣＨＣＨ2 ＣＨ3 −が好ましい。
【００４６】
Ｘ3 としては、上述したＸ2 として列挙したようなヘテロ原子を含む二価の有機基を用いることができる。特に、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−および−Ｏ−がＸ3 として好ましい。
【００４７】
Ｒ6 は、水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基であり、同一でも異なっていてもよい。導入され得る一価の有機基としては、例えば、炭化水素基、ペンタシクロアルキル基、テトラシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、ビシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、およびテルペノイド骨格を有する基等が挙げられる。より具体的には、例えば、フェニル、ナフチル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル、ウンデカニル、ドデカニル、シクロヘキシル、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、シクロペンチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデカニル、トリシクロデカニル、２−メチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、アンドロスト−４−エン−３，１１，１７−トリオン−イル、２１−アセトキシプレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、プレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、コレスト−４−エン−３−イル、１７，２１−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、３，１７−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−２１−イル、ビシクロ［４，４，０］デカニル、エチオアロコラニル、３−ヒドロキシ−アンドロスタン−１７−イル、ヒドロキシアンドロスタニル、１−１’−オキソエチル−３−メトキシ−４−フェニル、ベンゾフラニル、ベンゾチアゾリル、３−ヒドロキシエストロ−４−エン−１７−イル、ヒドロキシエストロ−４−エニル、１，４−アンドロスタジエン−３−オン−１７−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−オン−３−イル、２４−Ｒ−エルゴスト−５−エン−３−イル、４，７，７−トリメチル−３−オキソビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、セバジニル、セビニル、クリドニニル、３，７−ジヒドロキシフラニル、３−ヒドロキシコラニル、７−ヒドロキシコラニル、コラニル、コレスタニル、３−コレスタニル、コレストラリル、３，７，１２−トリヒドロキシ−５β−コラン−２４−イル、スティグマスタ−７，２２−ジエン−３−イル、クロステボリル、コルチコステロニル、コルチソニル、コルトリル、コルトロニル、シクロヘキシルカルビニル、７−デヒドロコレステリル、３，７，１２−トリオキソフラン−２４−イル、プレグン−４−エン−３，１１，２０−トリオン−２１−イル、１，３−シクロヘキサンジオン−５−イル、エスゴスタニル、エルゴスト−７−エン−３−イル、ペンタデカニル、ヘキサデカニル、ヘプタデカニル、オクタデカニル、ノナデカニル、オキサシクロヘキサデカン−２−オン−３−イル、ヒドロキシコレステロール−３−イル、４−ヒドロキシ−エストロ−４−エン−３−オン−１７−イル、エキソ−１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、ケトプロゲステロニル、ルピニニル、ノボブノロリル、６−メチルプレグン−４−エン−３，２０−ジオン−１１−イル、（１α，２β，５α）−５−メチル−２−（１−メチルエチル）−シクロヘキシル、（１α，２β，５α）−５−メチル−２−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル��−シクロヘキシル、ノルコラニル、ジヒドロ−４Ｈ−ジメチル−２（３Ｈ）−フラノン−３−イル、ピネン−イル、プレゴン−６−イル、シクロデカノン−２−イル、１，２−シクロデカンジオン−３−イル、（３β，５α）−スティグマスタン−３−イル、α−ヒドロキシ−α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−５−イル、ソラニド−５−エン−３−イル、（３β，２２Ｅ）−スティグマスタ−５，２２−ジエン−３−イル、タラキサステリル、およびタラキセリルが挙げられる。
【００４８】
一価の有機基としては、炭素数１ないし１５の炭化水素基が好ましく、特に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基およびペンチル基がＲ6 としてより好ましい。
【００４９】
なお、Ｓｉを含有する一価の有機基（R1-1）としては、具体的には下記一般式（R1-3）で表わされるものが挙げられる。
【００５０】
−（Ｘ2 ）k −（Ｒ5 ）n −Ｓｉ（Ｒ7 ）3           （R1-3）
上記一般式（R1-3）において、Ｘ2 はヘテロ原子を含む二価のアルキル基であり、ｋは０ないし３の整数である。Ｒ5 は、二価のアルキル基であり、ｎは０ないし３の整数である。Ｒ7 は同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基である。
【００５１】
Ｘ2 としては、上述した一般式（R1-2）に導入され得るヘテロ原子を含む二価のアルキル基が挙げられる。
【００５２】
Ｒ5 としては、−ＣＨ2 −、−Ｃ（ＣＨ3 ）2 −、−ＣＨＣＨ3 −、−Ｃ（ＣＨ2 ＣＨ3 ）2 −、および−ＣＨＣＨ2 ＣＨ3 −が好ましい。
【００５３】
Ｒ7 として導入され得る一価の有機基としては、上述のＲ6 として列挙した一価の有機基が挙げられる。炭化水素基としては、炭素数１ないし１５の炭化水素基が好ましく、特に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基およびペンチル基がＲ7 としてより好ましい。
【００５４】
上述したＲ1 は、酸により分解する基である。さらに、一般式（ｍ−１）ないし（ｍ−３）におけるＲ1 としては、以下に示すような、酸により分解する基（以下、溶解抑止基と称する）を導入することもできる。溶解抑止基としては、例えば、ｔ−ブチルジメチルシロキシ基、ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル基、テトラヒドロピラニロキシ基、ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、プロピオキシカルボニルメトキシ基、イソプロピロキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、メトキシカルボニル基、メトキシメトキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル基、メチルチオメトキシカルボニル基、テトラヒドロピラニロキシカルボニル基、テトラヒドロフラニロキシカルボニル基、メトキシエトキシメトキシカルボニル基、２−トリメチルシリルエトキシメトキシカルボニル基、２，２，２−トリクロロエトキシカルボニル基、２−クロロエトキシカルボニル基、２−ブロモエトキシカルボニル基、２−ヨードエトキシカルボニル基、２−フルオロエトキシカルボニル基、ω−クロロアルキロキシカルボニル基、２−トリメチルシリルエトキシカルボニル基、２−メチルチオエトキシカルボニル基、１，３−ジチアニル−２−メトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、シクロペントキシカルボニル基、シクロヘキシロキシカルボニル基、３−オキソシクロヘキシロキシカルボニル基、アリロキシカルボニル基、３−ブテン−１−イルオキシカルボニル基、イソボルニロキシカルボニル基、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルオキシカルボニル基、９−アンスリルメトキシカルボニル基、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメトキシカルボニル基、１−ピレニルメトキシカルボニル基、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメトキシカルボニル基、ピペロニロキシカルボニル基、４−ピコリロキシカルボニル基、トリメチルシロキシカルボニル基、トリエチルシロキシカルボニル基、イソプロピルジメチルシロキシカルボニル基、ジ−ｔ−ブチルメチルシロキシカルボニル基、チオールオキシカルボニル基、オキサゾール、２−アルキル−１，３−オキサゾリン、４−アルキル−５−オキソ−１，３−オキサゾリン、５−アルキル−４−オキソ−１，３−ジオキソラン、オルトエステル、ペンタアミンコバルトコンプレックス、トリエチルスタニロキシカルボニル基、トリ−ｎ−ブチルスタニロキシカルボニル基、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミド、ピロリジンアミド、ピペリジンアミド、５，６−ジヒドロフェナンスリジンアミド、Ｎ−７−ニトロインドロキシカルボニル基、Ｎ−８−ニトロ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリルアミド、ヒドラジド、Ｎ−フェニルヒドラジド、および、Ｎ，Ｎ’−ジイソプロピルヒドラジドなどのエステル類；ｔ−ブトキシカルボニロキシ基、メトキシ基、メトキシメトキシ基、メチルチオメトキシ基、ｔ−ブチルチオメトキシ基、ｔ−ブトキシメトキシ基、４−ペンテニロキシメトキシ基、ｔ−ブチルジメチルシロキシメトキシ基、セキシルジメチルシロキシメトキシ基、２−メトキシエトキシメトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシメトキシ基、ビス−２’−クロロエトキシ−メトキシ基、２’−トリメチルシリルエトキシメトキシ基、２’−トリエチルシリルエトキシメトキシ基、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメトキシ基、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメトキシ基、テトラヒドロピラニロキシ基、テトラヒドロチオピラニロキシ基、３−ブロモテトラヒドロピラニロキシ基、１−メトキシシクロヘキシロキシ基、４−メトキシテトラヒドロピラニロキシ基、４−メトキシテトラヒドロチオピラニロキシ基、４−メトキシテトラヒドロチオピラニロキシ−Ｓ，Ｓ−ジオキシド基、１，４−ジオキサン−２−イルオキシ基、テトラヒドロフラニロキシ基、テトラヒドロチオフラニロキシ基、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルオキシ基、１−エトキシエトキシ基、１−２’−クロロエトキシ−エトキシ基、１−メチル−１−メトキシエトキシ基、２，２，２−トリクロロエトキシ基、２−トリメチルシリルエトキシ基、ｔ−ブトキシ基、アリロキシ基、４，４’，４”−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニル−メトキシ基、４，４’，４”−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニル−メトキシ基、４，４’，４”−トリス−４’，５’−ヨードフタルイミドフェニル−メトキシ基、９−アンスリルオキシ基、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルロキシ（トリチロンエーテル）基、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルオキシ基、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドエーテル、トリメチルシロキシ基、トリエチルシロキシ基、トリイソプロピルシロキシ基、ジメチルイソプロピルシロキシ基、ジエチルイソプロピルシロキシ基、ジメチルセキシルシロキシ基、および、ｔ−ブチルジメチルシロキシ基などのエーテル類；メチレンアセタール、エチリデンアセタール、２，２，２−トリクロロエチリデンアセタール、２，２，２−トリブロモエチリデンアセタール、および、２，２，２−トリヨードエチリデンアセタールなどのアセタール類；１−ｔ−ブチルエチリデンケタール、イソプロピリデンケタール（アセトニド）、シクロペンチリデンケタール、シクロヘキシリデンケタール、および、シクロヘプチリデンケタールなどのケタール類；メトキシメチレンアセタール、エトキシメチレンアセタール、ジメトキシメチレンオルソエステル、１−メトキシエチリデンオルソエステル、１−エトキシエチリデンオルソエステル、１，２−ジメトキシエチリデンオルソエステル、１−Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノエチリデンオルソエステル、および、２−オキサシクロペンチリデンオルソエステル、などのサイクリックオルソエステル類；トリメチルシリルケテンアセタール、トリエチルシリルケテンアセタール、トリイソプロピルシリルケテンアセタール、および、ｔ−ブチルジメチルシリルケテンアセタールなどのシリルケテンアセタール類；ジ−ｔ−ブチルシリルエーテル、１，３−１’，１’，３’，３’−テトライソプロピルジシロキサニリデンエーテル、および、テトラ−ｔ−ブトキシジシロキサン−１，３−ジイリデンエーテルなどのシリルエーテル類；ジメチルアセタール、ジメチルケタール、ビス−２，２，２−トリクロロエチルアセタール、ビス−２，２，２−トリブロモエチルアセタール、ビス−２，２，２−トリヨードエチルアセタール、ビス−２，２，２−トリクロロエチルケタール、ビス−２，２，２−トリブロモエチルケタール、ビス−２，２，２−トリヨードエチルケタール、ジアセチルアセタール、および、ジアセチルケタールなどの非環状アセタール類またはケタール類；１，３−ジオキサン、５−メチレン−１，３−ジオキサン、５，５−ジブロモ−１，３−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、４−ブロモメチル−１，３−ジオキソラン、４−３’−ブテニル−１，３−ジオキソラン、および、４，５−ジメトキシメチル−１，３−ジオキソランなどのサイクリックアセタール類またはケタール類；Ｓ，Ｓ’−ジメチルアセタール、Ｓ，Ｓ’−ジメチルケタール、Ｓ，Ｓ’−ジエチルアセタール、Ｓ，Ｓ’−ジエチルケタール、Ｓ，Ｓ’−ジプロピルアセタール、Ｓ，Ｓ’−ジプロピルケタール、Ｓ，Ｓ’−ジブチルアセタール、Ｓ，Ｓ’−ジブチルケタール、Ｓ，Ｓ’−ジペンチルアセタール、Ｓ，Ｓ’−ジペンチルケタール、Ｓ，Ｓ’−ジアセチルアセタール、および、Ｓ，Ｓ’−ジアセチルケタールなどの非環状ジチオアセタール類またはケタール類；１，３−ジチアンアセタール、１，３−ジチアンケタール、１，３−ジチオランアセタール、および、１，３−ジチオランケタールなどのサイクリックジチオアセタール類またはケタール類；Ｏ−トリメチルシリル−Ｓ−アルキルアセタール類；Ｏ−トリメチルシリル−Ｓ−アルキルケタール類；Ｏ−メチル−Ｓ−２−メチルチオエチルアセタールなどの非環状モノチオアセタール類；Ｏ−メチル−Ｓ−２−メチルチオエチルケタールなどの非環状モノチオケタール類；１，３−オキサチオランアセタール、ジセレノアセタール、および、ジセレノケタールなどのサイクリックモノチオアセタール類またはケタール類；Ｏ−トリメチルシリルシアノヒドリン、Ｏ−１−エトキシエチルシアノヒドリン、Ｏ−テトラヒドロピラニルシアノヒドリンなどのシアノヒドリン類；Ｎ，Ｎ−ジメチルヒドラゾンなどのヒドラゾン類；オキシム誘導体、Ｏ−メチルオキシムなどのオキシム類；オキサゾリジン、１−メチル−２−１’−ヒドロキシアルキル−イミダゾール、および、Ｎ，Ｎ−ジメチルイミダゾリジンなどのサイクリック誘導体などを挙げることができる。
【００５５】
より好ましい溶解抑止基としては、ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ基、メトキシカルボニルメトキシ基、エトキシカルボニルメトキシ基、プロピオキシカルボニルメトキシ基、ｔ−ブトキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル基、３−オキソシクロヘキシロキシカルボニル基、ｔ−ブチル−３−ナフチル−２−プロペノエート、イソボルニロキシカルボニル基、トリメチルシロキシカルボニル基、テトラヒドロピラニロキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、エトキシエトキシカルボニル基、３−オキソシクロヘキシロキシカルボニル基、イソボルニロキシカルボニル基、トリメチルシロキシカルボニル基、テトラヒドロピラニロキシカルボニル基、ｔ−ブチルジメチルシロキシ基、ｔ−ブチルジメチルシロキシカルボニル基、テトラヒドロピラニロキシ基、２−メチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニロキシカルボニル基、２−エチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニロキシカルボニル基、２−プロピル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニロキシカルボニル基、および２−ブチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニロキシカルボニル基のようなｔ−ブトキシカルボニル基；トリメチルシロキシカルボニル基；テトラヒドロピラニロキシカルボニル基が挙げられる。これらの基を用いた場合には、より酸で分解しやすいため高感度となるからである。
【００５６】
前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）においてＲ2 は、水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基である。導入され得る一価の有機基としては、炭化水素基、ペンタシクロアルキル基、テトラシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、ビシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、およびテルペノイド骨格を有する基等が挙げられる。より具体的には、例えば、フェニル、ナフチル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル、ウンデカニル、ドデカニル、シアノ、シクロヘキシル、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、シクロペンチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデカニル、トリシクロデカニル、２−メチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、アンドロスト−４−エン−３，１１，１７−トリオン−イル、２１−アセトキシプレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、プレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、コレスト−４−エン−３−イル、１７，２１−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、３，１７−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−２１−イル、ビシクロ［４，４，０］デカニル、エチオアロコラニル、３−ヒドロキシ−アンドロスタン−１７−イル、ヒドロキシアンドロスタニル、１−１’−オキソエチル−３−メトキシ−４−フェニル、ベンゾフラニル、ベンゾチアゾリル、３−ヒドロキシエストロ−４−エン−１７−イル、ヒドロキシエストロ−４−エニル、１，４−アンドロスタジエン−３−オン−１７−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−オン−３−イル、２４−Ｒ−エルゴスト−５−エン−３−イル、４，７，７−トリメチル−３−オキソビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、セバジニル、セビニル、クリドニニル、３，７−ジヒドロキシフラニル、３−ヒドロキシコラニル、７−ヒドロキシコラニル、コラニル、コレスタニル、３−コレスタニル、コレストラリル、３，７，１２−トリヒドロキシ−５β−コラン−２４−イル、スティグマスタ−７，２２−ジエン−３−イル、クロステボリル、コルチコステロニル、コルチソニル、コルトリル、コルトロニル、シクロヘキシルカルビニル、７−デヒドロコレステリル、３，７，１２−トリオキソフラン−２４−イル、プレグン−４−エン−３，１１，２０−トリオン−２１−イル、１，３−シクロヘキサンジオン−５−イル、エスゴスタニル、エルゴスト−７−エン−３−イル、ペンタデカニル、ヘキサデカニル、ヘプタデカニル、オクタデカニル、ノナデカニル、オキサシクロヘキサデカン−２−オン−３−イル、ヒドロキシコレステロール−３−イル、４−ヒドロキシ−エストロ−４−エン−３−オン−１７−イル、エキソ−１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、ケトプロゲステロニル、ルピニニル、ノボブノロリル、６−メチルプレグン−４−エン−３，２０−ジオン−１１−イル、（１α，２β，５α）−５−メチル−２−（１−メチルエチル）−シクロヘキシル、（１α，２β，５α）−５−メチル−２−（１−ヒ��ロキシ−１−メチルエチル）−シクロヘキシル、ノルコラニル、ジヒドロ−４Ｈ−ジメチル−２（３Ｈ）−フラノン−３−イル、ピネン−イル、プレゴン−６−イル、シクロデカノン−２−イル、１，２−シクロデカンジオン−３−イル、（３β，５α）−スティグマスタン−３−イル、α−ヒドロキシ−α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−５−イル、ソラニド−５−エン−３−イル、（３β，２２Ｅ）−スティグマスタ−５，２２−ジエン−３−イル、タラキサステリル、およびタラキセリルが挙げられる。
【００５７】
こうした一価の有機基のうち、脂環式骨格を有するものは、Ｒとして一般式（ｍ−１）〜（ｍ−３）等に導入することもできる。
【００５８】
上述したうちでも、特に好ましいＲ2 としては、水素原子、クロロ基、フルオロ基、メチル基、エチル基、シアノ基、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ナフチル、トリシクロデカニル、コラニル、およびコレスタニル等が挙げられる。
【００５９】
前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）における、ヘテロ原子を有する二価の有機基としてＸ1 としては、例えば、＞Ｃ＝Ｏ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ3 −、−ＳＯ2 −、−Ｓ（＝Ｏ）2 ＮＲ3 −、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、および−ＯＣＨ2 Ｃ（＝Ｏ）−が挙げられる。酸による分解のしやすさを考慮すると、特に−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−が好ましい。
【００６０】
なおＲ3 は、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基であり、具体的には、シクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、フェニル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキシルメチル、イソプロピル、アリル、およびプロパルギル等が挙げられる。
【００６１】
一般式（ｍ−２）、（ｍ−３）において、Ｒ8 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基である。Ｒ8 が一価の有機基の場合、少なくとも１つのＲ8 は、脂環式骨格を含む基Ｒの一部とともに環を形成していてもよい。
【００６２】
Ｒ8 として導入され得る一価の有機基としては、上述のＲ6 として列挙した一価の有機基が挙げられる。特に、水素原子、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、イソブチル基およびペンチル基がＲ8 として好ましい。
【００６３】
なお、前記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）において、Ｒに導入される脂環式骨格は、例えば、下記一般式（２Ａ）〜（２Ｃ）で表わされるテルペノイド骨格とすることができる。
【００６４】
【化１０】
0003887106.tif 000004
（上記一般式中、Ｒ15は、互いに同一であっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、水酸基、アルコキシル基、アミノ基、イミド基、アミド基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、カルボニル基、シアノ基、スルホンアミド基、スルホニル基であり、Ｒ15同士は、互いに結合して環を形成していてもよい。）
なお、Ｒ15として導入され得る１価の炭化水素基は、脂肪族基または芳香族基のいずれでもよく、さらに窒素原子、酸素原子、イオウ原子、リンなどのヘテロ原子で置換されていてもよく、何等限定されない。前記脂肪族基は、飽和していても不飽和結合を含んでいてもよく、直鎖または枝分れしていてもよい。さらに、前記脂肪族基は環状化合物を含むこともできる。また、前記芳香族基は、無置換であっても、前記脂肪族基で置換されていてもよい。
【００６５】
また、前記Ｒ15がアミノ基の場合には、その水素原子は、前記脂肪族基または芳香族基で置換されていてもよい。
【００６６】
上述したような一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）で表わされる単量体を単重合または共重合させることによって、本発明の高分子化合物が得られる。換言すれば、本発明の高分子化合物は、下記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位を有する重合体である。
【００６７】
【化１１】
0003887106.tif 000005
上記一般式中、Ｒは脂環式骨格を有する基であり、Ｒ2 は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基である。Ｘ1 は、ヘテロ原子を含む二価の有機基であり、ｊは０ないし３の整数である。
【００６８】
Ｒ1 は、以下に示す群から選択される基である。
【００６９】
Ｓｉを含有する一価の有機基                        （R1-1）
−（Ｘ2 ）k −Ｒ4 −（Ｘ3 ）m −Ｃ（Ｒ6 ）3       （R1-2）
ここで、Ｘ2 はヘテロ原子を含む二価の有機基であり、ｋは０ないし３の整数である。Ｒ4 は２価のアルキル基、Ｘ3 は、ヘテロ原子を含む二価の有機基であり、ｍは０ないし３の整数である。Ｒ6 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基である。
【００７０】
上記一般式（ｍ−１）、（ｍ−２）、（ｍ−３）におけるＳｉを含有する一価の有機基(R1-1)としては、トリアルキルシリル基、例えば、ｔ−ブチルジメチルシリル基、ジｔ−ブチルメチルシリル基、およびトリイソプロピルシリル基などが好ましく用いられる。
Ｒ8 は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子、または一価の有機基であり、少なくとも１つのＲ8 は、Ｒの一部とともに環を形成していてもよい。
【００７１】
本発明の高分子化合物は、例えば、前記一般式（２Ａ）〜（２Ｃ）で表わされるテルペノイド骨格を側鎖に有するビニル系、あるいは、下記一般式（３）で表わされるアクリル系化合物に、酸により分解する基を導入した単量体を、共重合させることによって合成することができる。
【００７２】
【化１２】
0003887106.tif 000006
（上記一般式（３）中、Ｒ16は環状骨格を含有する基であり、Ｒ17、Ｒ18およびＲ20は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、シリル基、炭化水素基、水酸基、アルコキシル基、アミノ基、イミド基、アミド基、スルホニル基、カルボキシル基、カルボニル基、またはスルホンアミド基を示し、同一でも異なっていてもよい。）
環状骨格を含有する基Ｒ16としては、例えば、テトラシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、ビシクロアルキル基、オキサシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、およびオキソシクロアルキル基（アルキル炭素数は５以上２０以下）等が挙げられる。また、Ｒ17、Ｒ18およびＲ20として導入され得る１価の有機基としては、例えば、シアノ基、クロロ基、ブロモ基、ヨージル基、ニトロ基、ヒドロキシル基、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、メトキシ基、エトキシ基、およびシリル基等が挙げられる。
【００７３】
前述した骨格中にテルペノイド骨格を有する基を共重合体について、以下に詳細に説明する。
【００７４】
テルペノイド骨格の量は、感光性組成物の固形分中、５重量％以上９５重量％以下であることが好ましい。この理由は、テルペノイド骨格の量が５重量％未満の場合には、得られるパタンのドライエッチング耐性が低下し、逆に９５重量％を超えると、解像度や感度が低下するおそれがあるためである。上記テルペノイド骨格のより好ましい量は、２０〜７５重量％である。
【００７５】
なお、テルペノイド骨格を有する化合物とは、ほぼイソプレン則に適合し、Ｃ5 Ｈ8 を基本組成とする炭化水素、および、その炭化水素から導かれる含酸素化合物、並びに不飽和度を異にする化合物、あるいは前記化合物の誘導体であって、本発明の感光性組成物の成分として使用できる化合物である。
【００７６】
前記炭化水素、およびそれから導かれる含酸素化合物、並びに不飽和度を異にする化合物としては、具体的には、ミルセン、カレン、オシメン、ピネン、リモネン、カンフェン、テルピノレン、トリシクレン、テルピネン、フェンチェン、フェランドレン、シルベストレン、サビネン、シトロネロール、ピノカンフェオール、ゲラニオール、フェンチルアルコール、ネロール、ボルネオール、リナロール、メントール、テルピネオール、カルベオール、ツイルアルコール、シトロネラール、ヨノン、イロン、シネロール、シトラール、メントン、ピノール、シクロシトラール、カルボメントン、アスカリドール、サフラナール、カルボタナセトン、フェランドラール、ピメリテノン、シトロネロル酸、ペリルアルデヒド、ツヨン、カロン、ダゲトン、ショウノウ、ビサボレン、サンタレン、ジンギベレン、カリオフィレン、クルクメン、セドレン、カジネン、ロンギホレン、セスキベニヘン、ファルネソール、パチュリアルコール、ネロリドール、カロトール、カジノール、ランセオール、オイデスモール、セドロール、グアヨール、ケッソグリコール、シペロン、ヒノキ酸、エレモフィロン、サンタル酸、ゼルンボン、カンホレン、ポドカルプレン、ミレン、フィロクラデン、トタレン、フィトール、スクラレオール、マノール、ヒノキオール、フェルギノール、トタロール、スギオール、ケトマノイルオキシド、マノイルオキシド、アビエチン酸、ピマル酸、ネオアビエチン酸、レボピマル酸、イソ−ｄ−ピマル酸、アガテンジカルボン酸、ルベニン酸、トリテルペン、テトラテルペン、ステロイド、およびカルチノイドなどの骨格を構造内に有する化合物が挙げられる。
【００７７】
これらの化合物のうち、テルペノイド骨格が単環式である化合物、またはヘミテルペン、モノテルペン、ジテルペンおよびセスキテルペンが、特にアルカリ溶解性の点で有利である。
【００７８】
テルペノイド骨格を有する化合物としては、カレン、ピネン、リモネン、カンフェン、テルピノレン、テルピネン、ボルネオール、メントール、テルピネロール、ソブレロール、およびパチュリアルコールが好ましい。特に、メンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基を有するポリマーが好ましい。メンチル基またはメンチル誘導体基を有するポリマーの原料として使用し得るメントール（Ｃ10Ｈ20Ｏ）は、容易に入手可能であり、安全で安価、かつ化学的に非常に安定である。
【００７９】
なお、メンチル基またはメンチル誘導体基は、前記一般式（２Ａ）〜（２Ｃ）で表わされる。このようなメンチル基またはメンチル誘導体基としては、例えば、ｐ−メンタ−１，８−ジエニル基、ｐ−メンタ−２，８−ジエニル基、ｐ−メンタ−３，８−ジエニル基、α−テルピニル基、β−テルピニル基、γ−テルピニル基、５−ヒドロキシ−α，α−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メンチル基、１−ヒドロキシ−α，α−トリメチル−３−シクロヘキセン−５−メンチル基、８−ブチルメンチル基、８−β−ナフチルメンチル基、および８−α−ナフチルメンチル基等が挙げられる。
【００８０】
このようなメンチル基またはその誘導体、テルピノレンまたはその誘導体、テルピネンまたはその誘導体、ボルネオールまたはその誘導体、テルピネロールまたはその誘導体、ソブレロールまたはその誘導体、パチュリアルコールまたはその誘導体のような脂環式骨格と酸により分解する基とを有する単量体は、例えば次のようにして合成することができる。すなわち、まず、テルピネオール、ｐ−トルエンスルホン酸、ジヒドロピランを、塩化メチレン中で反応させて、テトラヒドロピラニルテルピオネールを合成する。その後、得られたテトラヒドロピラニルテルピオネールと、アクリル酸クロリド、ｎ−ブチルリチウムとをテトラヒドロフラン中で反応させることにより単量体を合成する。こうして得られた単量体を、単重合または共重合化によって、目的とするポリマを得ることができる。上述したようなメンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基を導入する場合、感光性組成物の固形分中におけるメンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基の量は、少なくとも５重量％以上９５重量％以下であることが好ましい。この理由は、当該化合物の量が５重量％未満であると得られるパタンのドライエッチング耐性が低下し、逆に９５重量％を超えると、解像度や感度が低下するおそれがあるためである。上記メンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基のより好ましい量は、２０〜７５重量％である。
【００８１】
本発明の高分子化合物は、前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）あるいは（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位のみを有する単重合体としてもよいが、こうした繰り返し単位と、ビニル系化合物との共重合体とすることが好ましい。この場合には、感光性組成物の高解像度化を達成することができる。
【００８２】
ビニル系化合物としては、例えば、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、メチルα−クロロアクリレート、メチルシアノアクリレート、トリフルオロメチルアクリレート、α−メチルスチレン、トリメチルシリルメタクリレート、トリメチルシリルα−クロロアクリレート、トリメチルシリルメチルα−クロロアクリレート、無水マレイン酸、テトラヒドロピラニルメタクリレート、テトラヒドロピラニルα−クロロアクリレート、ｔ−ブチルメタクリレート、ｔ−ブチルα−クロロアクリレート、ブタジエン、グリシジルメタクリレート、イソボルニルメタクリレート、メンチルメタクリレート、ノルボルニルメタクリレート、アダマンチルメタクリレート、およびアリルメタクリレート等が挙げられる。
【００８３】
特に、共重合組成が、メチルメタクリレート、α−クロロメタクリレート、トリフルオロエチルα−クロロアクリレート、トリフルオロメチルアクリレート、オレフィンスルホン酸などのアクリル系化合物の場合には、ポジ型レジストとして好ましく用いることができる。また、エステルのアルコール部分にビニル基、あるいは、アリル基、エポキシ基を有するアクリル系化合物、およびエステルのアルコール部分の炭素数が４以上のアクリル系化合物が共重合組成の場合には、ネガ型レジストとして好ましく使用することができる。
【００８４】
アクリル系化合物は、下記一般式（４）で表わされる。
【００８５】
【化１３】
0003887106.tif 000007
（上記一般式（４）中、Ｒ21は、水素原子、または１価の有機基、Ｒ22、Ｒ23およびＲ24は、水素原子、ハロゲン原子、アルキル基を示す。Ｒ22、Ｒ23およびＲ24は、同一であっても異なっていてもよい。）
また、ポリマを得る際に使用する、メンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基を含む化合物が、前述の一般式（４）で表わされるアクリル系化合物である場合には、容易に高分子化、または共重合化できるので好ましいものとなる。前記アクリル系化合物は、下記一般式（５）で表わされる。この化合物を単重合または共重合させることによって、目的のポリマが得られる。
【００８６】
【化１４】
0003887106.tif 000008
（上記一般式（５）中、Ｒ25は前記一般式（２Ａ）〜（２Ｃ）で表わされるメンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基を含む有機基であり、Ｒ26はアルキル基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、ハロゲン原子または水素原子である。）
また、上述のメンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基を、下記一般式（６）で表わされるように、重合性構造を有する多価カルボン酸に導入してもよい。これによって、高解像度化が達成されるので好ましいものとなる。
【００８７】
【化１５】
0003887106.tif 000009
（上記一般式（６）中、Ｒ27およびＲ28は、１価の有機基、ハロゲン原子、または水素原子であり、その少なくとも一方は、前記一般式（２Ａ）〜（２Ｃ）で表わされるメンチル基またはメンチル誘導体基、テルピノレンまたはテルピノレン誘導体基、テルピネンまたはテルピネン誘導体基、ボルネオールまたはボルネオール誘導体基、テルピネロールまたはテルピネロール誘導体基、ソブレロールまたはソブレロール誘導体基、パチュリアルコールまたはパチュリアルコール誘導体基と、酸分解性基とを含む。）
メンチルまたはメンチル誘導体基等の環式骨格と酸分解性基とを有する基として、前述の一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で説明した−Ｒ−Ｒ1 、および−Ｃ（Ｒ8 ）2 −Ｒ−Ｒ1 を導入することもできる。
【００８８】
なお、上記一般式（６）で表わされる化合物は、Ｚ体またはＥ体の構造に限定されるものではなく、また、この単量体を単重合または共重合させることによって、本発明の高分子化合物を得ることができる。
【００８９】
本発明において、前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位は、以下に示すような単量体の少なくとも１種と共重合させることもできる。
【００９０】
例えば、酸により分解してアルカリ可溶性を呈する基（溶解抑止基）を含む単量体が挙げられる。溶解抑止基としては、一般式（ｍ−１）等においてＲ1 に導入され得る基として説明したようなものを用いることができる。この場合、共重合体中における溶解抑止基の総含有量は、１０モル％〜７０モル％の範囲が好ましい。１０モル％未満では、十分な溶解抑止作用を付与することができず、一方、７０モル％を超えると解像度が低下してしまう。なお、溶解抑止基の総含有量は、より好ましくは２０モル％〜６０モル％である。
【００９１】
また、前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位は、アルカリ可溶性基を含む単量体と共重合させてもよい。アルカリ溶解性基を含む単量体としては、それ自体がアルカリまたは塩基に溶解するものを使用することができる。例えば、カルボン酸、スルホン酸、酸無水物、フェノール性水酸基を含む単量体を挙げることができる。これらの単量体には、同時にエステル、アルコール、アミン、イミド、スルホンアミド、アミドなどの他の官能基が存在していてもよい。
【００９２】
本発明における高分子化合物中には、さらにアクリル酸系エステル単量体、イミド単量体、スルホンアミド単量体、アミド単量体およびアクリル系のアルキルアミノスルホニルアルキルエステルを含有させてもよい。例えば、メタクリル酸エステル単量体、アクリル酸エステル単量体、クロトン酸エステル単量体、チグリル酸エステル単量体等を挙げることができる。
【００９３】
アルカリ可溶性基を共重合組成に含む場合には、そのアルカリ可溶性基を有する単量体の含有量は、全体の単量体総モル数に対して、１モル％〜９５モル％の範囲が好ましい。１モル％未満では、露光後のアルカリ溶解性が不十分となるおそれがあり、一方、９５モル％を越えると感度が低下するおそれがある。なお、アルカリ可溶性基の含有量は、より好ましくは１〜７０モル％である。
【００９４】
また、アクリル酸系エステル単量体を含む場合には、この単量体は、全体の単量体の総モル数に対して１〜８０モル％であることが好ましい。この範囲を逸脱すると解像度が低下してしまう。なお、さらに含むメタクリル酸単量体の含有量は、より好ましくは１〜７０モル％である。
【００９５】
本発明の高分子化合物には、脂肪族単環式骨格、または脂肪族縮環式骨格を有する基、またはテルペノイド骨格を有する基を有する単量体が共重合成分として含有されていてもよい。この場合には、これらの単量体の含有量は、共重合体中の単量体の総モルに対して、１０％〜９５％の範囲が好ましい。１０％未満では得られるパタンの耐ドライエッチング性が低下し、９５％を越えると解像度や感度が低下してしまうので好ましくない。なお、前記単量体の含有量は、より好ましくは１５〜８０％である。
【００９６】
さらに、本発明の高分子化合物は、芳香環を有する繰り返し単位を５〜５０％程度含有していてもよい。特にナフタレンまたはその誘導体を有する繰り返し単位との共重合体とすることによって、１９３ｎｍ付近の光透過性が増大するので好ましい。このような繰り返し単位としては、例えば、下記化学式（ｕ−４）で表わされるものが挙げられる。
【００９７】
【化１６】
0003887106.tif 000010
上記一般式（ｕ−４）中、Ｒ51ないし57、およびＲ61ないしＲ63は、同一でも異なっていてもよく、それぞれ水素原子、ハロゲン原子または一価の有機基である。
【００９８】
Ｒ51〜Ｒ57およびＲ61〜Ｒ63として導入され得る一価の有機基としては、例えば、炭化水素基、ペンタシクロアルキル基、テトラシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、ビシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、およびテルペノイド骨格を有する基等が挙げられる。より具体的には、例えば、フェニル、ナフチル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デカニル、ウンデカニル、ドデカニル、シクロヘキシル、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、シクロペンチル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデカニル、トリシクロデカニル、２−メチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、アンドロスト−４−エン−３，１１，１７−トリオン−イル、２１−アセトキシプレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、プレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、コレスト−４−エン−３−イル、１７，２１−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−３−イル、３，１７−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−２１−イル、ビシクロ［４，４，０］デカニル、エチオアロコラニル、３−ヒドロキシ−アンドロスタン−１７−イル、ヒドロキシアンドロスタニル、１−１’−オキソエチル−３−メトキシ−４−フェニル、ベンゾフラニル、ベンゾチアゾリル、３−ヒドロキシエストロ−４−エン−１７−イル、ヒドロキシエストロ−４−エニル、１，４−アンドロスタジエン−３−オン−１７−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−オン−３−イル、２４−Ｒ−エルゴスト−５−エン−３−イル、４，７，７−トリメチル−３−オキソビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、セバジニル、セビニル、クリドニニル、３，７−ジヒドロキシフラニル、３−ヒドロキシコラニル、７−ヒドロキシコラニル、コラニル、コレスタニル、３−コレスタニル、コレストラリル、３，７，１２−トリヒドロキシ−５β−コラン−２４−イル、スティグマスタ−７，２２−ジエン−３−イル、クロステボリル、コルチコステロニル、コルチソニル、コルトリル、コルトロニル、シクロヘキシルカルビニル、７−デヒドロコレステリル、３，７，１２−トリオキソフラン−２４−イル、プレグン−４−エン−３，１１，２０−トリオン−２１−イル、１，３−シクロヘキサンジオン−５−イル、エスゴスタニル、エルゴスト−７−エン−３−イル、ペンタデカニル、ヘキサデカニル、ヘプタデカニル、オクタデカニル、ノナデカニル、オキサシクロヘキサデカン−２−オン−３−イル、ヒドロキシコレステロール−３−イル、４−ヒドロキシ−エストロ−４−エン−３−オン−１７−イル、エキソ−１，７，７−トリメチルビシクロ［２，２，１］ヘプタン−２−イル、ケトプロゲステロニル、ルピニニル、ノボブノロリル、６−メチルプレグン−４−エン−３，２０−ジオン−１１−イル、（１α，２β，５α）−５−メチル−２−（１−メチルエチル）−シクロヘキシル、（１α，２β，５α）−５−メチル−２−（１−ヒドロキシ−１−メチルエチル）−シクロヘキシル、ノルコラニル、ジヒドロ−４Ｈ−ジメ��ル−２（３Ｈ）−フラノン−３−イル、ピネン−イル、プレゴン−６−イル、シクロデカノン−２−イル、１，２−シクロデカンジオン−３−イル、（３β，５α）−スティグマスタン−３−イル、α−ヒドロキシ−α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−５−イル、ソラニド−５−エン−３−イル、（３β，２２Ｅ）−スティグマスタ−５，２２−ジエン−３−イル、タラキサステリル、およびタラキセリルが挙げられる。
【００９９】
なお、前記一般式（ｕ−４）においては、Ｒ51〜Ｒ57の全てが水素原子であることが最も好ましい。また、Ｒ61〜Ｒ63としては、水素原子、クロロ基、フルオロ基、ブロモ基、ヨージル基、メチル基、エチル基、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ナフチル、トリシクロデカニル、コラニル、およびコレスタニル等が最も好ましい。
【０１００】
また、本発明の高分子化合物には、以下に示す化学式（７）で表わされるスクシニックアンハイドライドユニットが含まれていてもよい。
【０１０１】
【化１７】
0003887106.tif 000011
こうしたスクシニックアンハイドライドユニットが含有されることによって、アルカリ溶解性が高められる。
【０１０２】
上述したような他の構造単位と共重合させる場合には、前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位は、少なくとも共重合体中５モル％以上であることが望まれる。５モル％未満の場合には、脂環式骨格を有する基に結合した酸分解性基の割合が少ないことに起因して、本発明の効果を十分に発揮することが困難となる。
【０１０３】
本発明の高分子化合物は、軟化点が２０℃以上であって、かつ、平均分子量が５００〜９００，０００であることが好ましい。ベース樹脂成分の軟化点が２０℃未満と低すぎる場合には、化学放射線の照射によって光酸発生剤から発生した酸がベーキング処理によって必要以上にレジスト層内に拡散してしまう。したがって、パタニング後のレジストの解像性が低下するおそれがある。
【０１０４】
また、余りに高分子のポリマの場合には、これを含むレジスト組成物に電子放射線を照射した際に、その照射および照射後のベーキングによって架橋反応が促進されてしまう。従って、ポジ型レジストの場合にレジストの像質または感度が劣化するおそれがある。
【０１０５】
なお、本発明の感光性組成物中にベース樹脂成分として配合される高分子化合物の配合量は、ドライエッチング耐性、感度、解像度、コントラスト等に応じて適宜決定することができるが、通常、樹脂組成物全体に対して５〜８０モル％程度である。
【０１０６】
本発明の感光性組成物は、上述したような高分子化合物に光酸発生剤を配合して化学増幅型レジストとして用いることができる。なお、光酸発生剤は、化学放射線の照射により酸を発生する化合物であり、例えば、アリールオニウム塩、ナフトキノンジアジド化合物、ジアゾニウム塩、スルフォネート化合物、スルフォニウム化合物、およびスルフォニルジアゾメタン化合物などが挙げられる。
【０１０７】
これらの化合物の例として、具体的には、トリフェニルスルフォニウムトリフレート、ジフェニルヨードニウムトリフレート、２，３，４，４−テトラヒドロキシベンゾフェノン−４−ナフトキノンジアジドスルフォネート、４−Ｎ−フェニルアミノ−２−メトキシフェニルジアゾニウムスルフェート、４−Ｎ−フェニルアミノ−２−メトキシフェニルジアゾニウムｐ−エチルフェニルスルフェート、４−Ｎ−フェニルアミノ−２−メトキシフェニルジアゾニウム２−ナフチルスルフェート、４−Ｎ−フェニルアミノ−２−メトキシフェニルジアゾニウムフェニルスルフェート、２，５−ジエトキシ−４−Ｎ−４’−メトキシフェニルカルボニルフェニルジアゾニウム３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニルスルフェート、２−メトキシ−４−Ｎ−フェニルフェニルジアゾニウム３−カルボキシ−４−ヒドロキシフェニルスルフェート、ジフェニルスルフォニルメタン、ジフェニルスルフォニルジアゾメタン、ジフェニルジスルホン、α−メチルベンゾイントシレート、ピロガロールトリメシレート、およびベンゾイントシレート等が挙げられる。
【０１０８】
ナフタレン骨格を有する光酸発生剤を用いると、共役系が増えるために１９３ｎｍ付近の光透過性が増大するので好ましい。
【０１０９】
ナフタレン骨格を有する光酸発生剤としては、例えば、ナフタレン、ペンタレン、インデン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、ａｓ−インダセン、ｓ−インダセン、アセナフチレン、フルオレン、フェナレン、フェナントレン、アントラセン、フルオランテン、アセフェナントリレン、アセアントリレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、プレイアデン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセン、テトラフェニレン、ヘキサフェン、ヘキサセン、ルビセン、コロネン、トリナフチレン、ヘプタフェン、ヘプタセン、ピラントレン、オバレン、ジベンゾフェナントレン、ベンズ［ａ］アントラセン、ジベンゾ［ａ，ｊ］アントラセン、インデノ［１，２−ａ］インデン、アントラ［２，１−ａ］ナフタセン、１Ｈ−ベンゾ［ａ］シクロペント［ｊ］アントラセン環を有するスルフォニルまたはスルフォネート化合物；ナフタレン、ペンタレン、インデン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、ａｓ−インダセン、ｓ−インダセン、アセナフチレン、フルオレン、フェナレン、フェナントレン、アントラセン、フルオランテン、アセフェナントリレン、アセアントリレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、プレイアデン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセン、テトラフェニレン、ヘキサフェン、ヘキサセン、ルビセン、コロネン、トリナフチレン、ヘプタフェン、ヘプタセン、ピラントレン、オバレン、ジベンゾフェナントレン、ベンズ［ａ］アントラセン、ジベンゾ［ａ，ｊ］アントラセン、インデノ［１，２−ａ］インデン、アントラ［２，１−ａ］ナフタセン、１Ｈ−ベンゾ［ａ］シクロペント［ｊ］アントラセン環にヒドロキシ化合物を有する４−キノンジアジド化合物；ナフタレン、ペンタレン、インデン、アズレン、ヘプタレン、ビフェニレン、ａｓ−インダセン、ｓ−インダセン、アセナフチレン、フルオレン、フェナレン、フェナントレン、アントラセン、フルオランテン、アセフェナントリレン、アセアントリレン、トリフェニレン、ピレン、クリセン、ナフタセン、プレイアデン、ピセン、ペリレン、ペンタフェン、ペンタセン、テトラフェニレン、ヘキサフェン、ヘキサセン、ルビセン、コロネン、トリナフチレン、ヘプタフェン、ヘプタセン、ピラントレン、オバレン、ジベンゾフェナントレン、ベンズ［ａ］アントラセン、ジベンゾ［ａ，ｊ］アントラセン、インデノ［１，２−ａ］インデン、アントラ［２，１−ａ］ナフタセン、１Ｈ−ベンゾ［ａ］シクロペント［ｊ］アントラセン側鎖を有するスルフォニウムまたはヨードニウムのトリフレートなどとの塩などが挙げられる。特に、ナフタレン環またはアントラセン環を有するスルフォニルまたはスルフォネート化合物：ナフタレンまたはアントラセンにヒドロキシ化合物を有する４−キノンジアジド化合物：ナフタレンまたはアントラセン側鎖を有するスルフォニウムまたはヨードニウムのトリフレートなどとの塩が好ましい。これらの化合物の中でトリナフチルスルフォニウムトリフレート、ジナフチルヨードニウムトリフレート、ジナフチルスルフォニルメタン、みどり化学製ＮＡＴ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［１３７８６７−６１−９］）、みどり化学製ＮＡＩ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［８５３４２−６２−７］）、および、みどり化学製ＴＡＺ−１０６（ＣＡＳ．Ｎｏ．［６９４３２−４０−２］）、みどり化学製ＮＤＳ−１０５、みどり化学製ＣＭＳ−１０５、みどり化学製ＤＡＭ−３０１（ＣＡＳ．Ｎｏ．［１３８５２９−８１−４］）、みどり化学製ＳＩ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［３４６９４−４０−７］）、みどり化学製ＮＤＩ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［１３３７１０−６２−０］）、みどり化学製ＥＰＩ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［１３５１３３−１２−９］）、みどり化学製ＰＩ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［４１５８０−５８−９］）が好ましい。
【０１１０】
これらの化合物の中でさらに好ましいものとして、トリナフチルスルフォニウムトリフレート、ジナフチルヨードニウムトリフレート、ジナフチルスルフォニルメタン、みどり化学製ＮＡＴ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［１３７８６７−６１−９］）、および、みどり化学製ＮＡＩ−１０５（ＣＡＳ．Ｎｏ．［８５３４２−６２−７］）が挙げられる。
【０１１１】
本発明の感光性組成物において、上述したような光酸発生剤の配合量は、ベース樹脂全体に対して０．００１モル％〜５０モル％の範囲が好ましい。０．００１モル％未満では、十分な量の酸が発生せずパタン形成が困難となるおそれがあり、一方５０モル％を超えると、解像度、感度が低下してしまうので好ましくない。なお、前記光酸発生剤の含有量は、より好ましくはベース樹脂全体に対して０．０１モル％〜４０モル％である。
【０１１２】
本発明の感光性組成物には、上述した成分に加えて、以下に示すような化合物を別途配合してもよい。
【０１１３】
例えば、芳香環を含む基を有する化合物が挙げられる。こうした化合物の配合量は、５〜８０％程度配合とすることができ、芳香環としてはナフタレンまたはその誘導体を含有する化合物が好ましい。ベンゼン環を含む化合物の代わりとしてこのような化合物を配合することによって、１９３ｎｍ付近の光透過性を増大させることができる。
【０１１４】
また、酸により分解してアルカリ可溶性を呈する基、およびアルカリ可溶性基の少なくとも一方を有する基を含む化合物を添加してもよい。こうした基としては、すでに説明した溶解抑止基などが挙げられる。
【０１１５】
さらに、上述した一般式（７）で表わされるスクシニックアンハイドライドを有する化合物を５〜８０％程度配合してもよい。この場合には、アルカリ溶解性が高められる。
【０１１６】
またさらに、上述した成分に加えて、本発明の感光性組成物には、下記一般式（８）で表わされる化合物を添加剤として配合してもよい。
【０１１７】
【化１８】
0003887106.tif 000012
（前記一般式（８）中、Ｒ31は、水素原子、ハロゲン原子または１価の有機基であり、Ｘ31は、ヘテロ原子を有する二価の有機基である。Ｒ32は、脂環式骨格を含む基である。）
前記一般式（８）においてＲ31として導入され得る一価の有機基としては、例えば、炭化水素基、ペンタシクロアルキル基、テトラシクロアルキル基、トリシクロアルキル基、ビシクロアルキル基、ヘテロシクロアルキル基、およびテルペノイド骨格を有する等が挙げられる。
【０１１８】
すなわち、Ｒ31としては、前記一般式（ｍ−１）等においてＲ2 として列挙したような１価の基を導入することができる。
【０１１９】
上述したうちでも、特に好ましいＲ31としては、水素原子、クロロ基、フルオロ基、メチル基、エチル基、トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ナフチル、トリシクロデカニル、メンチル、トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、テトラシクロ［６．２．１ 3,6．１ 2,7］ドデカニル、コラニル、およびコレスタニル等が挙げられる。
【０１２０】
前記一般式（８）における、ヘテロ原子を有する二価の有機基Ｘ31としては、例えば、＞Ｃ＝Ｏ、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ33−、−ＳＯ2 −、−Ｓ（＝Ｏ）2 ＮＲ33−、−Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）−、および−ＯＣＨ2 Ｃ（＝Ｏ）−が挙げられる。酸による分解のしやすさを考慮すると、特に−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−が好ましい。なおＲ33は、水素原子、ハロゲン原子または炭化水素基であり、具体的には、シクロヘキシル、ベンジル、ナフチル、フェニル、メチル、エチル、プロピル、ブチル、シクロヘキシルメチル、イソプロピル、アリル、およびプロパルギル等が挙げられる。
【０１２１】
また、一般式（８）におけるＲ32は脂環式骨格を含む基であり、脂環式骨格としては、単環式骨格、多環式骨格およびヘテロ環式骨格のいずれでもよく、例えば、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、およびシクロデカニル等が挙げられる。さらに、ヘテロ環や縮環骨格でもよく、具体的には、前述の一般式（ｍ−１）等においてＲとして列挙したような基を導入することができる。
【０１２２】
さらにＲ32には、脂環式骨格以外の基が含まれていてもよい。例えば、前述の一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で説明した−Ｒ−Ｒ1 、および−Ｃ（Ｒ8 ）2 −Ｒ−Ｒ1 を、一般式（８）におけるＲ32として導入することができる。
【０１２３】
特に好ましい脂環式骨格としては、例えば、炭素原子と、酸素原子、窒素原子およびイオウ原子から選択された少なくとも１種の原子とを含み、その総原子数は３〜１００であり、０〜５０の不飽和結合を有する単環性もしくは２〜１０環性のものが挙げられる。
【０１２４】
上述したような脂環式骨格を含むＲ32としては、具体的には、２−２’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−２’−プロピル；２−トリシクロ［３．３．１．１ 3',7'］デカニル−２−プロピル、２−トリシクロ［５．２．１．０ 2',6'］デカニル−２−プロピル、２−テトラシクロ［６．２．１．１ 3',6'．０ 2',7'］ドデカニル−２−プロピル；（β−メチル−δ−バレロラクトン−３−イル）３―メチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−オキソシクロヘキシル、１−メチル−３−オキソシクロヘキシル、３−オキソシクロペンチル、３−オキソシクロヘプチル、３−オキソシクロオクチル、３−オキソシクロノニル、３−オキソシクロデカニル；メチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、エチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、プロピルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ブチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ペンチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ヘキシルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ヘプチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、オクチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ノニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、デカニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル；メチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、エチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、プロピルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ブチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ペンチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ヘキシルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ヘプチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、オクチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ノニルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、デカニルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル；メチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、エチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、プロピルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ブチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ペンチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ヘキシルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ヘプチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、オクチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ノニルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、デカニルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル；ヒドロキシメチルジメチルシクロヘキシル；２’−メトキシ−４’−メチル−１，１−ジメチルシクロヘキシル；１−２’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−セキシルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２���−２''，２''，２''−トリクロロエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−トリメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−トリエチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−トリイソプロピルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロチオピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロチオフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ジメチルイソプロピルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル；１−メチル−３−オキソシクロペンチル、１−メチル−３−オキソシクロヘプチル、１−メチル−３−オキソシクロオクチル、１−メチル−３−オキソシクロノニル、１−メチル−３−オキソシクロデカニル；１−エチル−３−オキソシクロペンチル、１−エチル−３−オキソシクロヘキシル、１−エチル−３−オキソシクロヘプチル、１−エチル−３−オキソシクロオクチル、１−エチル−３−オキソシクロノニル、１−エチル−３−オキソシクロデカニル；１−プロピル−３−オキソシクロペンチル、１−プロピル−３−オキソシクロヘキシル、１−プロピル−３−オキソシクロヘプチル、１−プロピル−３−オキソシクロオクチル、１−プロピル−３−オキソシクロノニル、１−プロピル−３−オキソシクロデカニル；１−ブチル−３−オキソシクロペンチル、１−ブチル−３−オキソシクロヘキシル、１−ブチル−３−オキソシクロヘプチル、１−ブチル−３−オキソシクロオクチル、１−ブチル−３−オキソシクロノニル、１−ブチル−３−オキソシクロデカニル；１−ペンチル−３−オキソシクロペンチル、１−ペンチル−３−オキソシクロヘキシル、１−ペンチル−３−オキソシクロヘプチル、１−ペンチル−３−オキソシクロオクチル、１−ペンチル−３−オキソシクロノニル、１−ペンチル−３−オキソシクロデカニル；β−メチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−メチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−エチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−エチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−プロピル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−プロピル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−プロピル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−ブチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−ブチル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−ブチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−ペンチル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−ペンチル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−ペンチル−ε−カプロラクトン−３−イル、β−ヘキシル−γ−ブチロラクトン−３−イル、β−ヘキシル−δ−バレロラクトン−３−イル、β−ヘキシル���ε−カプロラクトン−３−イル、３−メチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−メチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−エチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−エチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−エチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−ペンチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−ペンチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ペンチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、３−ヘキシル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イル、３−ヘキシル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ヘキシル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イル、４’−メチル−１，１−ジメチル−３−シクロヘキセニル；３，２１−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−１７−イル、１７−（２−プロペニル）エストロ−４−エン−１７−イル、１７−（２−プロペニル）エストラ−４，９，１１−トリエン−１７−イル、６−メチルプレグン−４−エン−２０−オン−１７−イル、１７−メチランドロスタノ［３，２−Ｃ］イソキサゾール−１７−イル、α，α−ジフェニル−４−ピペリジンメチル、α，α−ジナフチル−４−ピペリジンメチル、７，１７−ジメチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン−３−イル、７，１７−ジメチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、１，３−シクロヘキサンジオン−５−イル、９−フルオロ−１１−ヒドロキシ−１７−メチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、スティグマスタ−５，２４−ジエン−３−イル、オクタヒドロ−４，８ａ−ジメチル−４ａ（２Ｈ）−ナフタレニル、ヒドロキシコレステロール−２４−イル、エキソ−１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イル、６α−６−メチルプレグン−４−エン−３，２０−ジオン−１７−イル、１−２’−オキソ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、エストロ−４−エン−３−オン−１７−イル、３−エチル−１８，１９−ジノルプレグン−４−エン−３−オン−１７−イル、１９−ノルプレグン−４−エン−３−オン−１７−イル、１９−ノルプレグン−４−エン−２０−イン−３−オン−１７−イル、１９−ノルプレグン−５（１０）−エン−２０−イン−３−オン−１７−イル、１７−メチル−２−オキサアンドロスタン−３−オン−１７−イル、４−ヒドロキシ−１７−メチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イル、ジヒドロ−４Ｈ−ジメチル−２（３Ｈ）−フラノン−３−イル、５−ヒドロキシ−α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メチル���α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メチル、パチュリル、α，α，４−トリメチルシクロヘキサンメタン−４−イル、１−４’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、およびテトラヒドロフルフリルなどが挙げられる。
【０１２５】
その他の５員環、６員環、７員環、８員環、９員環、および１０員環の脂環式骨格を含むものとしても、すでに（ｍ−１）等におけるＲとして列挙したような化合物を用いることができる。
【０１２６】
なお、前記一般式（８）中の置換基Ｒ32のうち、Ｘ31に直接結合している原子は３級炭素原子であることが好ましい。１級炭素原子または２級炭素原子がＸ31に結合している場合には、酸によってＲ32が容易にはずれにくくなり、パターン形成が困難となるからである。
【０１２７】
特に好ましいＲ32としては、以下に示すものが挙げられる。例えば、２−メチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−エチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−プロピル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ブチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ペンチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ヘキシル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ヘプチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−オクチル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−ノニル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、２−デカニル−２−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル；２−２’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−２’−プロピル；２−トリシクロ［３．３．１．１ 3',7'］デカニル−２−プロピル、２−トリシクロ［５．２．１．０ 2',6'］デカニル−２−プロピル、２−テトラシクロ［６．２．１．１ 3',6'．０ 2',7'］ドデカニル−２−プロピル；メチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、エチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、プロピルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ブチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ペンチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ヘキシルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ヘプチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、オクチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、ノニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル、デカニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル；メチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、エチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、プロピルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ブチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ペンチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ヘキシルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ヘプチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、オクチルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、ノニルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル、デカニルトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル；メチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、エチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、プロピルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ブチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ペンチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ヘキシルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ヘプチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、オクチルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、ノニルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル、デカニルテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル；２−メチル−２−シクロヘキシル、２−メチル−２−シクロペンチル、２−メチル−２−シクロオクチル、２−メチル−２−シクロノニル、２−メチル−２−シクロデカニル；１−２’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メ��ルエチル、１−２’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−２''−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル；１−４’−ヒドロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−２''−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−２''−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル、１−４’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチル；３−メチル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−メチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−エチル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−エチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−プロピル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−プロピル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル、３−ブチル−δ−バレロラクトン−３−イル、３−ブチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イル；１−メチル−３−オキソシクロペンチル、１−メチル−３−オキソシクロヘキシル、１−メチル−３−オキソシクロヘプチル、１−メチル−３−オキソシクロオクチル、１−メチル−３−オキソシクロノニル、１−メチル−３−オキソシクロデカニル；１−エチル−３−オキソシクロペンチル、１−エチル−３−オキソシクロヘキシル、１−エチル−３−オキソシクロヘプチル、１−エチル−３−オキソシクロオクチル、１−エチル−３−オキソシクロノニル、１−エチル−３−オキソシクロデカニル；１−プロピル−３−オキソシクロペンチル、１−プロピル−３−オキソシクロヘキシル、１−プロピル−３−オキソシクロヘプチル、１−プロピル−３−オキソシクロオクチル、１−プロピル−３−オキソシクロノニル、１−プロピル−３−オキソシクロデカニル；１−ブチル−３−オキソシクロペンチル、１−ブチル−３−オキソシクロヘキシル、１−ブチル−３−オキソシクロヘプチル、１−ブチル−３−オキソシクロオクチル、１−ブチル−３−オキソシクロノニル、１−ブチル−３−オキソシクロデカニル、およびパチュリルなどである。
【０１２８】
上述したようなＲ31、Ｘ31、およびＲ32を有する前記一般式（８）で表わされる化合物としては、具体的には、例えば、フェノール性化合物をメチルシクロヘキシルカルボニルエーテル、メチルシクロヘキシルエーテル、メトキシメチルシクロヘキシルエーテル、メチルチオメチルシクロヘキシルエーテル、ｔ−ブチルチオメチルシクロヘキシルエーテル、ｔ−ブトキシメチルシクロヘキシルエーテル、４−ペンテニロキシメチルシクロヘキシルエーテル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロヘキシルエーテル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロヘキシルエーテル、２−メトキシエトキシメチルシクロヘキシルエーテル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロヘキシルエーテル、ビス−２’−クロロエトキシ−メチルシクロヘキシルエーテル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエーテル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエーテル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエーテル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエーテル、テトラヒドロピラニルシクロヘキシルエーテル、テトラヒドロチオピラニルシクロヘキシルエーテル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロヘキシルエーテル、１−メトキシシクロヘキシルシクロヘキシルエーテル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロヘキシルエーテル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロヘキシルエーテル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロヘキシルエーテル−Ｓ，Ｓ−ジオキシド、１，４−ジオキサン−２−イルシクロヘキシルエーテル、テトラヒドロフラニルシクロヘキシルエーテル、テトラヒドロチオフラニルシクロヘキシルエーテル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロヘキシルエーテル、１−エトキシエチルシクロヘキシルエーテル、１−２’−クロロエトキシ−エチルシクロヘキシルエーテル、１−メチル−１−メトキシエチルシクロヘキシルエーテル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘキシルエーテル、２−トリメチルシリルエチルシクロヘキシルエーテル、ｔ−ブチルシクロヘキシルエーテル、アリルシクロヘキシルエーテル、４，４’，４”−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニル−メチルシクロヘキシルエーテル、４，４’，４”−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニル−メチルシクロヘキシルエーテル、４，４’，４”−トリス−４’，５’−ヨードフタルイミドフェニル−メチルシクロヘキシルエーテル、９−アンスリルシクロヘキシルエーテル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロヘキシルエーテル（トリチロンシクロヘキシルエーテル）、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロヘキシルエーテル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロヘキシルエーテル、トリメチルシリルシクロヘキシルエーテル、トリエチルシリルシクロヘキシルエーテル、トリイソプロピルシリルシクロヘキシルエーテル、ジメチルイソプロピルシリルシクロヘキシルエーテル、ジエチルイソプロピルシリルシクロヘキシルエーテル、ジメチルセキシルシリルシクロヘキシルエーテル、テトラヒドロピラニルエーテル、および、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロヘキシルエーテルに変換した化合物が挙げられる。
【０１２９】
前記一般式（８）で表わされるエーテルのうち、好ましく使用されるものは、上述した例に限定されるものではない。
【０１３０】
特に、フェノール性化合物をシクロヘキシルカルボニル基、メチルシクロヘキシルカルボニルメチル基、またはテトラヒドロピラニル基で保護した化合物が好ましい。
【０１３１】
あるいは、以下に列挙する化合物を用いてもよい。カルボン酸のイソプロピルシクロヘキシルエステル、２’−ヒドロキシ−４’−メチル−１，１−ジメチルシクロヘキシルエステル；（β−メチル−δ−バレロラクトン−３−イル）３―メチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イルエステル、３−オキソシクロヘキシルエステル、１−メチル−３−オキソシクロヘキシルエステル、３−オキソシクロペンチルエステル、３−オキソシクロヘプチルエステル、３−オキソシクロオクチルエステル、３−オキソシクロノニルエステル、３−オキソシクロデカニルエステル、メチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、エチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、プロピルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、ブチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、ペンチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、ヘキシルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、ヘプチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、オクチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、ノニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、デカニルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルエステル、ヒドロキシメチルジメチルシクロヘキシルエステル、２’−メトキシ−４’−メチル−１，１−ジメチルシクロヘキシルエステル、１−２’−アセトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−ｔ−ブトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−セキシルジメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−２''−メトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−２''−エトキシエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−２''，２''，２''−トリクロロエトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−トリメチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−トリエチルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−トリイソプロピルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−テトラヒドロピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−テトラヒドロチオピラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−テトラヒドロフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−テトラヒドロチオフラニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−ジメチルイソプロピルシロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−２’−ｔ−ブトキシカルボニロキシ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、１−メチル−３−オキソシクロペンチルエステル、１−メチル−３−オキソシクロヘプチルエステル、１−メチル−３−オキソシクロオクチルエステル、１−メチル−３−オキソシクロノニルエステル、１−メチル−３−オキソシクロデカニルエステル、１−エチル−３−オキソシクロペンチルエステル、１−エチル−３−オキソシクロヘキシルエステル、１−エチル−３−オキソシクロヘプチルエステル、１−エチル−３−オキソシクロオクチルエステル、１−エチル−３−オキソシクロノニルエステル、１−エチル−３−オキソシクロデカニルエステル、１−プロピル−３−オキソシクロペンチルエステル、１−プロピル−３−オキソシクロヘキシルエステル、１−プロピル−３−オキソシクロヘプチルエステル、１−プロピル−３−オキソシクロオクチルエステル、１−プロピル−３−オキソシクロノニルエステル、１−プロピル−３−オキソシクロデカニルエステル、１−ブチル−３−オキソシクロペンチルエステル、１−ブチル−３−オキソシクロヘキシルエステル、１−ブチル−３−オキソシクロヘプチルエステル、１−ブチル−３−オキソシクロオクチルエステル、１−ブチル−３−オキソシクロノニルエステル、１−ブチル−３−オキソシクロデカニルエステル、１−ペンチル−３−オキソシクロペンチルエステル、１−ペンチル−３−オキソシクロヘキシルエステル、１−ペンチル−３−オキソシクロヘプチルエステル、１−ペンチル−３−オキソシクロオクチルエステル、１−ペンチル−３−オキソシクロノニルエステル、１−ペンチル−３−オキソシクロデカニルエステル、β−メチル−γ−ブチロラクトン−３−イルエステル、β−メチル−ε−カプロラクトン−３−イルエステル、β−エチル−γ−ブチロラクトン−３−イルエステル、β−エチル−δ−バレロラクトン−３−イルエステル、β−エチル−ε−カプロラクトン−３−イルエステル、β−プロピル−γ−ブチロラクトン−３−イルエステル、β−プロピル−δ−バレロラクトン−３−イルエステル、β−プロピル−ε−カプロラクトン−３−イルエステル、β−ブチル−γ−ブチロラクトン−３−イルエステル、β−ブチル−δ−バレロラクトン−３−イルエステル、β−ブチル−ε−カプロラクトン−３−イルエステル、β−ペンチル−γ−ブチロラクトン−３−イルエステル、β−ペンチル−δ−バレロラクトン−３−イルエステル、β−ペンチル−ε−カプロラクトン−３−イルエステル、β−ヘキシル−γ−ブチロラクトン−３−イルエステル、β−ヘキシル−δ−バレロラクトン−３−イルエステル、β−ヘキシル−ε−カプロラクトン−３−イルエステル、３−メチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イルエステル、３−メチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イルエステル、３−エチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イルエステル、３−エチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イルエステル、３−エチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イルエステル、３−プロピル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イルエステル、３−プロピル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イルエステル、３−プロピル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イルエステル、３−ブチル−オキ���シクロペンタン−２−オン−３−イルエステル、３−ブチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イルエステル、３−ブチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イルエステル、３−ペンチル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イルエステル、３−ペンチル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イルエステル、３−ペンチル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イルエステル、３−ヘキシル−オキサシクロペンタン−２−オン−３−イルエステル、３−ヘキシル−オキサシクロヘキサン−２−オン−３−イルエステル、３−ヘキシル−オキサシクロヘプタン−２−オン−３−イルエステル、４’−メチル−１，１−ジメチル−３−シクロヘキセニルエステル、３，２１−ジヒドロキシ−５α−プレグナン−１１，２０−ジオン−１７−イルエステル、１７−（２−プロペニル）エストロ−４−エン−１７−イルエステル、１７−（２−プロペニル）エストラ−４，９，１１−トリエン−１７−イルエステル、６−メチルプレグン−４−エン−２０−オン−１７−イルエステル、１７−メチランドロスタノ［３，２−Ｃ］イソキサゾール−１７−イルエステル、α，α−ジフェニル−４−ピペリジンメチルエステル、α，α−ジナフチル−４−ピペリジンメチルエステル、７，１７−ジメチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イルエステル、１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−オン−３−イルエステル、７，１７−ジメチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、１，３−シクロヘキサンジオン−５−イルエステル、９−フルオロ−１１−ヒドロキシ−１７−メチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、スティグマスタ−５，２４−ジエン−３−イルエステル、オクタヒドロ−４，８ａ−ジメチル−４ａ（２Ｈ）−ナフタレニルエステル、ヒドロキシコレステロール−２４−イルエステル、エキソ−１，７，７−トリメチルビシクロ［２．２．１］ヘプタン−２−イルエステル、６α−６−メチルプレグン−４−エン−３，２０−ジオン−１７−イルエステル、１−２’−オキソ−４’−メチル−シクロヘキシル−１−メチルエチルエステル、エストロ−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、３−エチル−１８，１９−ジノルプレグン−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、１９−ノルプレグン−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、１９−ノルプレグン−４−エン−２０−イン−３−オン−１７−イルエステル、１９−ノルプレグン−５（１０）−エン−２０−イン−３−オン−１７−イルエステル、１７−メチル−２−オキサアンドロスタン−３−オン−１７−イルエステル、４−ヒドロキシ−１７−メチルアンドロスト−４−エン−３−オン−１７−イルエステル、ジヒドロ−４Ｈ−ジメチル−２（３Ｈ）−フラノン−３−イルエステル、５−ヒドロキシ−α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メチルエステル、α，α，４−トリメチル−３−シクロヘキセン−１−メチルエステル、パチュリルエステル、α，α，４−トリメチルシクロヘキサンメタン−４−イルエステル、１−４’−ヒドロキシ−４’−メチル−���クロヘキシル−１−メチルエチルエステル、テトラヒドロフルフリルエステル、ジメチルイソプロピルシリルシクロペンチルエステル、ジエチルイソプロピルシリルシクロペンチルエステル、ジメチルセキシルシリルシクロペンチルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロペンチルエステル、イソプロピルシクロペンチルエステル、エチルシクロペンチルエステル、ｎ−プロピルシクロペンチルエステル、ｎ−ブチルシクロペンチルエステル、イソブチルシクロペンチルエステル、ｓ−ブチルシクロペンチルエステル、ペンチルシクロペンチルエステル、ヘキシルシクロペンチルエステル、ヘプチルシクロペンチルエステル、オクチルシクロペンチルエステル、ノニルシクロペンチルエステル、デカニルシクロペンチルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロペンチルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロペンチルエステル、２−クロロエチルシクロペンチルエステル、２−ブロモエチルシクロペンチルエステル、２−ヨードエチルシクロペンチルエステル、２−フルオロエチルシクロペンチルエステル、ω−クロロアルキルシクロペンチルエステル、２−メチルチオエチルシクロペンチルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロペンチルエステル、シクロペンチルシクロペンチルエステル、シクロヘキシルシクロペンチルエステル、３−ブテン−１−イルシクロペンチルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロペンチルエステル、９−アンスリルメチルシクロペンチルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロペンチルエステル、１−ピレニルメチルシクロペンチルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロペンチルエステル、ピペロニルシクロペンチルエステル、４−ピコリルシクロペンチルエステル、トリメチルシリルシクロペンチルエステル、トリエチルシリルシクロペンチルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロペンチルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロペンチルエステル、チオシクロペンチルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロペンチルエステル、メチルシクロペンチルエステル、メトキシメチルシクロペンチルエステル、メチルチオメチルシクロペンチルエステル、ｔ−ブチルチオメチルシクロペンチルエステル、ｔ−ブトキシメチルシクロペンチルエステル、４−ペンテニロキシメチルシクロペンチルエステル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロペンチルエステル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロペンチルエステル、２−メトキシエトキシメチルシクロペンチルエステル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロペンチルエステル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロペンチルエステル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロペンチルエステル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロペンチルエステル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロペンチルエステル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロペンチルエステル、テトラヒドロピラニルシクロペンチルエステル、テトラヒドロチオピラニルシクロペンチルエステル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロペンチルエステル、１−メ��キシシクロヘキシルシクロペンチルエステル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロペンチルエステル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロペンチルエステル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロペンチルエステル、テトラヒドロフラニルシクロペンチルエステル、テトラヒドロチオフラニルシクロペンチルエステル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロペンチルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロペンチルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロペンチルエステル、ｔ−ブチルシクロペンチルエステル、アリルシクロペンチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロペンチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロペンチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロペンチルエステル、９−アンスリルシクロペンチルエステル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロペンチルエステル、トリチロンシクロペンチルエステル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロペンチルエステル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロペンチルエステル、トリメチルシリルシクロペンチルエステル、トリエチルシリルシクロペンチルエステル、トリイソプロピルシリルシクロペンチルエステル、トリエチルスタニルシクロペンチルエステル、ジメチルイソプロピルシリルシクロヘキシルエステル、ジエチルイソプロピルシリルシクロヘキシルエステル、ジメチルセキシルシリルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロヘキシルエステル、イソプロピルシクロヘキシルエステル、エチルシクロヘキシルエステル、ｎ−プロピルシクロヘキシルエステル、ｎ−ブチルシクロヘキシルエステル、イソブチルシクロヘキシルエステル、ｓ−ブチルシクロヘキシルエステル、ペンチルシクロヘキシルエステル、ヘキシルシクロヘキシルエステル、ヘプチルシクロヘキシルエステル、オクチルシクロヘキシルエステル、ノニルシクロヘキシルエステル、デカニルシクロヘキシルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘキシルエステル、２−クロロエチルシクロヘキシルエステル、２−ブロモエチルシクロヘキシルエステル、２−ヨードエチルシクロヘキシルエステル、２−フルオロエチルシクロヘキシルエステル、ω−クロロアルキルシクロヘキシルエステル、２−メチルチオエチルシクロヘキシルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロヘキシルエステル、シクロペンチルシクロヘキシルエステル、シクロヘキシルシクロヘキシルエステル、３−ブテン−１−イルシクロヘキシルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロヘキシルエステル、９−アンスリルメチルシクロヘキシルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロヘキシルエステル、１−ピレニルメチルシクロヘキシルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロヘキシルエステル、ピペロニルシクロヘキシルエステル、４−ピコリルシクロヘキシルエステル、トリメチルシリルシクロヘキシルエステル、トリエチルシリルシクロヘキシルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロヘキシルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロヘキシルエステル、チオシクロヘキシルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロヘキシルエステル、メチルシクロヘキシルエステル、メトキシメチルシクロヘキシルエステル、メチルチオメチルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブチルチオメチルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブトキシメチルシクロヘキシルエステル、４−ペンテニロキシメチルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロヘキシルエステル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロヘキシルエステル、２−メトキシエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロヘキシルエステル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエステル、テトラヒドロピラニルシクロヘキシルエステル、テトラヒドロチオピラニルシクロヘキシルエステル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロヘキシルエステル、１−メトキシシクロヘキシルシクロヘキシルエステル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロヘキシルエステル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロヘキシルエステル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロヘキシルエステル、テトラヒドロフラニルシクロヘキシルエステル、テトラヒドロチオフラニルシクロヘキシルエステル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロヘキシルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘキシルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブチルシクロヘキシルエステル、アリルシクロヘキシルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロヘキシルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロヘキシルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロヘキシルエステル、９−アンスリルシクロヘキシルエステル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロヘキシルエステル、トリチロンシクロヘキシルエステル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロヘキシルエステル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロヘキシルエステル、トリメチルシリルシクロヘキシルエステル、トリエチルシリルシクロヘキシルエステル、トリイソプロピルシリルシクロヘキシルエステル、トリエチルスタニルシクロヘキシルエステル、ジメチルイソプロピルシリルシクロヘプチルエステル、ジエチルイソプロピルシリルシクロヘプチルエステル、ジメチルセキシルシリルシクロヘプチルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロヘプチルエステル、イソプロピルシクロヘプチルエステル、エチルシクロヘプチルエステル、ｎ−プロピルシクロヘプチルエステル、ｎ−ブチルシクロヘプチルエステル、イソブチルシクロヘプチルエステル、ｓ−ブチルシクロヘプチルエステル、ペンチルシクロヘプチルエステル、ヘキシルシクロヘプチルエステル、ヘプチルシクロヘプチルエステル、オクチルシクロヘプチルエステル、ノニルシクロヘプチルエステル、デカニルシクロヘプチルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘプチルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘプチルエステル、２−クロロエチルシクロヘプチルエステル、２−ブロモエチルシクロヘプチルエステル、２−ヨードエチルシクロヘプチルエステル、２−フルオロエチルシクロヘプチルエステル、ω−クロロアルキルシクロヘプチルエステル、２−メチルチオエチルシクロヘプチルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロヘプチルエステル、シクロペンチルシクロヘプチルエステル、シクロヘキシルシクロヘプチルエステル、３−ブテン−１−イルシクロヘプチルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロヘプチルエステル、９−アンスリルメチルシクロヘプチルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロヘプチルエステル、１−ピレニルメチルシクロヘプチルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロヘプチルエステル、ピペロニルシクロヘプチルエステル、４−ピコリルシクロヘプチルエステル、トリメチルシリルシクロヘプチルエステル、トリエチルシリルシクロヘプチルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロヘプチルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロヘプチルエステル、チオシクロヘプチルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロヘプチルエステル、メチルシクロヘプチルエステル、メトキシメチルシクロヘプチルエステル、メチルチオメチルシクロヘプチルエステル、t-ブチルチオメチルシクロヘプチルエステル、ｔ−ブトキシメチルシクロヘプチルエステル、４−ペンテニロキシメチルシクロヘプチルエステル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロヘプチルエステル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロヘプチルエステル、２−メトキシエトキシメチルシクロヘプチルエステル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロヘプチルエステル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロヘプチルエステル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘプチルエステル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロヘプチルエステル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロヘプチルエステル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロヘプチルエステル、テトラヒドロピラニルシクロヘプチルエステル、テトラヒドロチオピラニルシクロヘプチルエステル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロヘプチルエステル、１−メトキシシクロヘキシルシクロヘプチルエステル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロヘプチルエステル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロヘプチルエステル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロヘプチルエステル、テトラヒドロフラニルシクロヘプチルエス��ル、テトラヒドロチオフラニルシクロヘプチルエステル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロヘプチルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘプチルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロヘプチルエステル、ｔ−ブチルシクロヘプチルエステル、アリルシクロヘプチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロヘプチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロヘプチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５'−ジヨードフタル イミドフェニルメチルシクロヘプチルエステル、９−アンスリルシクロヘプチルエステル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロヘプチルエステル、トリチロンシクロヘプチルエステル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロヘプチルエステル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロヘプチルエステル、トリメチルシリルシクロヘプチルエステル、トリエチルシリルシクロヘプチルエステル、トリイソプロピルシリルシクロヘプチルエステル、トリエチルスタニルシクロヘプチルエステル、ジメチルイソプロピルシリルシクロオクチルエステル、ジエチルイソプロピルシリルシクロオクチルエステル、ジメチルセキシルシリルシクロオクチルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロオクチルエステル、イソプロピルシクロオクチルエステル、エチルシクロオクチルエステル、ｎ−プロピルシクロオクチルエステル、ｎ−ブチルシクロオクチルエステル、イソブチルシクロオクチルエステル、ｓ−ブチルシクロオクチルエステル、ペンチルシクロオクチルエステル、ヘキシルシクロオクチルエステル、ヘプチルシクロオクチルエステル、オクチルシクロオクチルエステル、ノニルシクロオクチルエステル、デカニルシクロオクチルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロオクチルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロオクチルエステル、２−クロロエチルシクロオクチルエステル、２−ブロモエチルシクロオクチルエステル、２−ヨードエチルシクロオクチルエステル、２−フルオロエチルシクロオクチルエステル、ω−クロロアルキルシクロオクチルエステル、２−メチルチオエチルシクロオクチルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロオクチルエステル、シクロペンチルシクロオクチルエステル、シクロヘキシルシクロオクチルエステル、３−ブテン−１−イルシクロオクチルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロオクチルエステル、９−アンスリルメチルシクロオクチルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロオクチルエステル、１−ピレニルメチルシクロオクチルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロオクチルエステル、ピペロニルシクロオクチルエステル、４−ピコリルシクロオクチルエステル、トリメチルシリルシクロオクチルエステル、トリエチルシリルシクロオクチルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロオクチルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロオクチルエステル、チオシクロ���クチルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロオクチルエステル、メチルシクロオクチルエステル、メトキシメチルシクロオクチルエステル、メチルチオメチルシクロオクチルエステル、ｔ−ブチルチオメチルシクロオクチルエステル、ｔ−ブトキシメチルシクロオクチルエステル、４−ペンテニロキシメチルシクロオクチルエステル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロオクチルエステル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロオクチルエステル、２−メトキシエトキシメチルシクロオクチルエステル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロオクチルエステル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロオクチルエステル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロオクチルエステル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロオクチルエステル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロオクチルエステル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロオクチルエステル、テトラヒドロピラニルシクロオクチルエステル、テトラヒドロチオピラニルシクロオクチルエステル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロオクチルエステル、１−メトキシシクロヘキシルシクロオクチルエステル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロオクチルエステル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロオクチルエステル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロオクチルエステル、テトラヒドロフラニルシクロオクチルエステル、テトラヒドロチオフラニルシクロオクチルエステル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロオクチルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロオクチルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロオクチルエステル、ｔ−ブチルシクロオクチルエステル、アリルシクロオクチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロオクチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロオクチルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロオクチルエステル、９−アンスリルシクロオクチルエステル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロオクチルエステル、トリチロンシクロオクチルエステル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロオクチルエステル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロオクチルエステル、トリメチルシリルシクロオクチルエステル、トリエチルシリルシクロオクチルエステル、トリイソプロピルシリルシクロオクチルエステル、トリエチルスタニルシクロオクチルエステル、ジメチルイソプロピルシリルシクロノニルエステル、ジエチルイソプロピルシリルシクロノニルエステル、ジメチルセキシルシリルシクロノニルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロノニルエステル、イソプロピルシクロノニルエステル、エチルシクロノニルエステル、ｎ−プロピルシクロノニルエステル、ｎ−ブチルシクロノニルエステル、イソブチルシクロノニルエステル、ｓ−ブチルシクロノニルエステル、ペンチルシクロノニルエステル、ヘキシルシクロノ���ルエステル、ヘプチルシクロノニルエステル、オクチルシクロノニルエステル、ノニルシクロノニルエステル、デカニルシクロノニルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロノニルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロノニルエステル、２−クロロエチルシクロノニルエステル、２−ブロモエチルシクロノニルエステル、２−ヨードエチルシクロノニルエステル、２−フルオロエチルシクロノニルエステル、ω−クロロアルキルシクロノニルエステル、２−メチルチオエチルシクロノニルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロノニルエステル、シクロペンチルシクロノニルエステル、シクロヘキシルシクロノニルエステル、３−ブテン−１−イルシクロノニルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロノニルエステル、９−アンスリルメチルシクロノニルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロノニルエステル、１−ピレニルメチルシクロノニルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロノニルエステル、ピペロニルシクロノニルエステル、４−ピコリルシクロノニルエステル、トリメチルシリルシクロノニルエステル、トリエチルシリルシクロノニルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロノニルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロノニルエステル、チオシクロノニルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロノニルエステル、メチルシクロノニルエステル、メトキシメチルシクロノニルエステル、メチルチオメチルシクロノニルエステル、ｔ−ブチルチオメチルシクロノニルエステル、ｔ−ブトキシメチルシクロノニルエステル、４−ペンテニロキシメチルシクロノニルエステル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロノニルエステル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロノニルエステル、２−メトキシエトキシメチルシクロノニルエステル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロノニルエステル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロノニルエステル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロノニルエステル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロノニルエステル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロノニルエステル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロノニルエステル、テトラヒドロピラニルシクロノニルエステル、テトラヒドロチオピラニルシクロノニルエステル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロノニルエステル、１−メトキシシクロヘキシルシクロノニルエステル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロノニルエステル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロノニルエステル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロノニルエステル、テトラヒドロフラニルシクロノニルエステル、テトラヒドロチオフラニルシクロノニルエステル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロノニルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロノニルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロノニルエステル、ｔ−ブチルシクロノニルエステル、アリルシクロノニルエステル、４，４’，４’’−トリス−４’，５��−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロノニルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロノニルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロノニルエステル、９−アンスリルシクロノニルエステル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロノニルエステル、トリチロンシクロノニルエステル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロノニルエステル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロノニルエステル、トリメチルシリルシクロノニルエステル、トリエチルシリルシクロノニルエステル、トリイソプロピルシリルシクロノニルエステル、トリエチルスタニルシクロノニルエステル、ジメチルイソプロピルシリルシクロデカニルエステル、ジエチルイソプロピルシリルシクロデカニルエステル、ジメチルセキシルシリルシクロデカニルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロデカニルエステル、イソプロピルシクロデカニルエステル、エチルシクロデカニルエステル、ｎ−プロピルシクロデカニルエステル、ｎ−ブチルシクロデカニルエステル、イソブチルシクロデカニルエステル、ｓ−ブチルシクロデカニルエステル、ペンチルシクロデカニルエステル、ヘキシルシクロデカニルエステル、ヘプチルシクロデカニルエステル、オクチルシクロデカニルエステル、ノニルシクロデカニルエステル、デカニルシクロデカニルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロデカニルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロデカニルエステル、２−クロロエチルシクロデカニルエステル、２−ブロモエチルシクロデカニルエステル、２−ヨードエチルシクロデカニルエステル、２−フルオロエチルシクロデカニルエステル、ω−クロロアルキルシクロデカニルエステル、２−メチルチオエチルシクロデカニルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロデカニルエステル、シクロペンチルシクロデカニルエステル、シクロヘキシルシクロデカニルエステル、３−ブテン−１−イルシクロデカニルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロデカニルエステル、９−アンスリルメチルシクロデカニルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロデカニルエステル、１−ピレニルメチルシクロデカニルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロデカニルエステル、ピペロニルシクロデカニルエステル、４−ピコリルシクロデカニルエステル、トリメチルシリルシクロデカニルエステル、トリエチルシリルシクロデカニルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロデカニルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロデカニルエステル、チオシクロデカニルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロデカニルエステル、メチルシクロデカニルエステル、メトキシメチルシクロデカニルエステル、メチルチオメチルシクロデカニルエステル、ｔ−ブチルチオメチルシクロデカニルエステル、ｔ−ブトキシメチルシクロデカニルエステル、４−ペンテニロキシメチルシクロデカニルエステル、ｔ−ブチルジメチルシロキシメチルシクロデカニルエステル、セキシルジメチルシロキシメチルシクロデカニル��ステル、２−メトキシエトキシメチルシクロデカニルエステル、２，２，２−トリクロロエトキシメチルシクロデカニルエステル、ビス−２’−クロロエトキシメチルシクロデカニルエステル、２’−トリメチルシリルエトキシメチルシクロデカニルエステル、２’−トリエチルシリルエトキシメチルシクロデカニルエステル、２’−トリイソプロピルシリルエトキシメチルシクロデカニルエステル、２’−ｔ−ブチルジメチルシリルエトキシメチルシクロデカニルエステル、テトラヒドロピラニルシクロデカニルエステル、テトラヒドロチオピラニルシクロデカニルエステル、３−ブロモテトラヒドロピラニルシクロデカニルエステル、１−メトキシシクロヘキシルシクロデカニルエステル、４−メトキシテトラヒドロピラニルシクロデカニルエステル、４−メトキシテトラヒドロチオピラニルシクロデカニルエステル、１，４−ジオキサン−２−イルシクロデカニルエステル、テトラヒドロフラニルシクロデカニルエステル、テトラヒドロチオフラニルシクロデカニルエステル、２，３，３ａ，４，５，６，７，７ａ−オクタヒドロ−７，８，８−トリメチル−４，７−メタノベンゾフラン−２−イルシクロデカニルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロデカニルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロデカニルエステル、ｔ−ブチルシクロデカニルエステル、アリルシクロデカニルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジクロロフタルイミドフェニルメチルシクロデカニルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジブロモフタルイミドフェニルメチルシクロデカニルエステル、４，４’，４''−トリス−４’，５’−ジヨードフタルイミドフェニルメチルシクロデカニルエステル、９−アンスリルシクロデカニルエステル、９−９’−フェニル−１０’−オキソ−アンスリルシクロデカニルエステル、トリチロンシクロデカニルエステル、１，３−ベンゾジチオラン−２−イルシクロデカニルエステル、ベンズイソチアゾリル−Ｓ，Ｓ−ジオキシドシクロデカニルエステル、トリメチルシリルシクロデカニルエステル、トリエチルシリルシクロデカニルエステル、トリイソプロピルシリルシクロデカニルエステル、トリエチルスタニルシクロデカニルエステル、エチルシクロヘキシルエステル、メチルシクロヘキシルエステル、エトキシメチルシクロヘキシルエステル、メチルチオメチルシクロヘキシルエステル、テトラヒドロピラニルシクロヘキシルエステル、テトラヒドロフラニルシクロヘキシルエステル、メトキシエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２−トリメチルシリルエトキシメチルシクロヘキシルエステル、２，２，２−トリクロロエチルシクロヘキシルエステル、２−クロロエチルシクロヘキシルエステル、２−ブロモエチルシクロヘキシルエステル、２−ヨードエチルシクロヘキシルエステル、２−フルオロエチルシクロヘキシルエステル、ω−クロロアルキルシクロヘキシルエステル、２−トリメチルシリルエチルシクロヘキシルエステル、２−メチルチオエチルシクロヘキシルエステル、１，３−ジチアニル−２−メチルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブチルシクロヘキシルエステル、シクロペンチルシクロヘキシルエステル、シクロヘキシルシクロヘキシルエステル、アリルシクロヘキシルエステル、３−ブテン−１−イルシクロヘキシルエステル、４−トリメチルシリル−２−ブテン−１−イルシクロヘキシルエステル、９−アンスリルメチルシクロヘキシルエステル、２−９’，１０’−ジオキソ−アンスリルメチルシクロヘキシルエステル、１−ピレニルメチルシクロヘキシルエステル、２−トリフルオロメチル−６−クロミルメチルシクロヘキシルエステル、ピペロニルシクロヘキシルエステル、４−ピコリルシクロヘキシルエステル、トリメチルシリルシクロヘキシルエステル、トリエチルシリルシクロヘキシルエステル、ｔ−ブチルジメチルシリルシクロヘキシルエステル、イソプロピルジメチルシリルシクロヘキシルエステル、ジ−ｔ−ブチルメチルシリルシクロヘキシルエステル、チオシクロヘキシルエステル、オキサゾール、２−アルキル−１，３−オキサゾリン、４−アルキル−５−オキソ−１，３−オキサゾリン、５−アルキル−４−オキソ−１，３−ジオキソラン、オルトシクロヘキシルエステル、ペンタアミンコバルトコンプレックス、トリエチルスタニルシクロヘキシルエステル、トリ−ｎ−ブチルスタニルシクロヘキシルエステル、Ｎ−７−ニトロインドリルシクロヘキシルエステル、Ｎ−８−ニトロ−１，２，３，４−テトラヒドロキノリルアミド、ヒドラジド、Ｎ−フェニルヒドラジド、およびＮ，Ｎ’−ジイソプロピルヒドラジドなどである。
【０１３２】
特に、ナフタレン骨格を構造に有するポリヒドロキシナフトールなどをｔ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニルメチル基で保護した化合物は、１９３ｎｍの透過性が高まるので望ましい。
【０１３３】
すなわち、本発明の感光性組成物において添加剤として好ましく配合され得る化合物としては、例えば、メチルアダマンチルアダマンタンジカルボネート、メチルアダマンチルアダマンタンカルボネート、メチルシクロヘキシルアダマンタンジカルボネート、テトラヒドロピラニルアダマンタンカルボネート、テトラヒドロピラニルアダマンタンジカルボネート、メチルシクロヘキシルシクロヘキシルアダマンタンジカルボネート、テトラヒドロピラニルシクロヘキサンジカルボネート、テトラヒドロフラニルアダマンタンカルボネート、テトラヒドロフラニルアダマンタンジカルボネート、およびエトキシエチルアダマンタンカルボネート等が挙げられる。
【０１３４】
本発明において好ましく使用され得る添加剤は、上述した具体例に限定されるものではない。
【０１３５】
本発明の感光性組成物において、上述したような脂環式骨格を含む添加剤の配合量は、樹脂に対して１ｗｔ％以上９０ｗｔ％以下、さらには、５ｗｔ％以上７０ｗｔ％以下であることが好ましい。１ｗｔ％未満の場合には、この化合物を配合した効果が得られず、一方９０ｗｔ％を超えると、塗布性に問題を生じるおそれがある。
【０１３６】
本発明の感光性組成物においては、上述した成分に加えて、さらに下記一般式（９）で表わされる化合物を同時に使用してもよい。かかる化合物を併用することによって、コントラストをいっそう向上させることができる。
【０１３７】
【化１９】
0003887106.tif 000013
（上記一般式（９）中、Ｒ41およびＲ42は、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基、シリル基、または１価の有機基を示し、同一でも異なっても良い。また、Ｒ41とＲ42とは、互いに結合して環を形成していても良い。Ｘ41は＞Ｃ＝Ｏまたは−ＳＯ2 −を示す。Ｙは２価の有機基を示す。なお、Ｒ41，Ｒ42またはＹのいずれか１つ以上は酸により分解する置換基、官能基を有する。）
前記一般式（９）で表わされる化合物に於いて、Ｒ41またはＲ42として導入される１価の有機基としては、例えば、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｓ−ブチル、ｔ−ブチルなどのアルキル基、シクロエキシル、ピペリジル、ピラニンなどの置換または非置換の脂環式基もしくはヘテロ環式基を挙げることができる。
【０１３８】
また、２価の置換基Ｙとしては、例えば、エチレン、プロピレン、および、ブチレン等の不飽和脂肪族基；シクロヘキサン、ピラジン、ピラン、およびモルホランなどの置換または非置換の脂環式基もしくはヘテロ環式基を挙げることができる。
【０１３９】
なお、本発明の感光性組成物に配合される樹脂成分として、ビニル系またはアクリル系化合物と、メタクリル酸またはアクリル酸等のアルカリ可溶性のアクリル系またはビニル系化合物との共重合体を用い、これに光酸発生剤および光架橋剤を配合すれば、ネガ型の化学増幅型レジストとすることができる。
【０１４０】
この場合、光酸発生剤としては、ポジ型の場合に列挙したものの他に、ハロゲン化アルキル置換されたトリアジン、ナフチリジン化合物などを使用することができ、光架橋剤としては、例えば、エポキシ基を側鎖に有するビニル、アクリル系重合体；メチロール置換されたトリアジン、ナフチリジン化合物のようなメラミン系化合物などを使用することができる。
【０１４１】
次に、ポジ型の化学増幅型レジストを例に挙げて、本発明の感光性組成物の調製例、およびこれを用いたパタン形成方法を説明する。
【０１４２】
本発明の感光性組成物は、前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位を有する高分子化合物をベース樹脂として、光酸発生剤とともに有機溶媒に溶解し、濾過することによって調製することができる。この際、上述したように必要に応じて、アルカリ可溶性の樹脂などを配合してもよい。
【０１４３】
かかる有機溶媒としては、例えば、シクロヘキサノン、アセトン、メチルエチルケトン、またはメチルイソブチルケトンなどのケトン系溶媒；メチルセロソルブ、２−エトキシエチルアセテート、２−メトキシエチルアセテート、２−プロピロキシエチルアセテート、または、２−ブトキシエチルアセテートなどのセロソルブ系溶媒；プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテートなどのグリコール系溶媒；酢酸エチル、酢酸ブチル、または、酢酸イソアミルなどのエステル系溶媒；γ−ブチロラクトンなどのラクトン系溶媒；ジメチルスルホキシド、ヘキサメチルホスホリックトリアミド、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドンなどの含窒素系溶媒を挙げることができる。これらの溶媒は、単独で使用しても、混合溶媒として使用してもよい。これらにキシレン、トルエンなどの芳香族溶媒、または、イソプロピルアルコール、ノルマルアルコール、エチルアルコール、メチルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｓ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、およびイソブチルアルコールなどの脂肪族アルコールが適量含まれていてもよい。
【０１４４】
なお、上述した成分に加えて、本発明の感光性組成物には必要に応じて塗膜改質剤としての界面活性剤；エポキシ樹脂、ポリメチルメタクリレート、プロピレンオキシド−エチレンオキシド共重合体、ポリスチレンなどの他のポリマー；または反射防止剤としての染料を配合してもよい。
【０１４５】
上述のようにして調製された感光性組成物の溶液は、回転塗布法やディッピング法により基板上に塗布した後、約１５０℃以下、好ましくは７０〜１２０℃で乾燥して、上記組成物を主成分として含む感光性の樹脂層（レジスト膜）を形成する。ここで用いる基板としては、例えばシリコンウェハ；表面に各種の絶縁膜や電極、配線が形成された段差を有するシリコンウェハ；ブランクマスク；ＧａＡｓ，ＡｌＧａＡｓなどの III−Ｖ族化合物半導体ウェハなどを挙げることができる。
【０１４６】
次いで、前記レジスト膜にパタン露光、すなわち、所定のマスクパタンを介して化学放射線の照射を行なう。このパタン露光に用いられる化学放射線としては、短波長の紫外線、電子ビーム、Ｘ線、低圧水銀ランプ光、ＫｒＦやＡｒＦのエキシマレーザ光、フッ素レーザ、シンクロトロンオービタルラディエーション光、γ線、イオンビームなどを用いることができるが、ＡｒＦエキシマレーザを光源として用いたパタン露光に対して、本発明の感光性組成物は特に効果を発揮する。
【０１４７】
続いて、露光後のレジスト膜を熱板、オーブン等を用いて、または赤外線照射等によって６０〜２００℃の温度において、１〜３０分間加熱処理することによりベーキング処理を施す。
【０１４８】
次いで、ベーキング後のレジスト膜をアルカリ水溶液を用いて、浸漬法、スプレ法などにより現像処理することにより、所望のパタンが形成される。ここで現像液として用いるアルカリ水溶液としては、例えば、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液等の有機アルカリ水溶液、または、水酸化カリウム、水酸化ナトリウムなどの無機アルカリ水溶液などを１５％以下の濃度で使用することができる。また、現像液としてイソプロピルアルコール、ノルマルプロピルアルコール、エタノール、メタノール、１−ブタノール、２−ブタノール、１−メチル−１−プロパノール、および、１−メチル−２−プロパノールなどの有機溶媒を用いることもできる。これらは、単独で用いても、混合溶媒として用いてもよい。
【０１４９】
現像処理後の基板およびレジスト膜に対しては、水等を用いてリンス処理を施してもよい。
【０１５０】
本発明の感光性組成物は、短波長光の吸収が少なく透明性に優れているので、所望の線幅の超微細なレジストパタンを精度良く形成することができる。しかも、得られたレジストパタンは高いドライエッチング耐性を有しているので、これをエッチングマスクとして用いてドライプロセスにより基板等に精度よくパタンを転写することが可能である。
【０１５１】
本発明の感光性組成物にベース樹脂として配合される高分子化合物は、前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位を含むものである。こうした構成単位中に脂環式骨格を有する基と、この脂環式骨格を有する基に結合した酸により分解する特定の基とが含まれているので、次のような利点を有する。すなわち、第１に高分子合成（共重合体の合成）が容易であり（仕込み、反応性）、第２に、ヘテロ原子、極性基を含むため、疎水性を低減することができることが挙げられる。特に、酸により分解する基がＳｉを含有する場合には、本発明の感光性組成物を用いて形成されたレジストパターンは、より高いドライエッチング耐性を有している。
【０１５２】
脂環式骨格を含む基と酸分解性の基とが、それぞれ別個の単量体中に含有されている場合には、仕込み、反応性における共重合体の合成が容易ではなかった。であった。これに対して本発明では、脂環式骨格を有する基と酸分解性の特定の基とが同一の単量体中に含まれているので、疎水性が低減することによりＳｉ基板に対する密着性が向上する。加えて、露光光に対する感度も著しく高めることができた。
【０１５３】
なお、脂環式骨格を有する化合物は、芳香環を有しないにも拘わらず優れたドライエッチング耐性を示すことが本発明者らの研究により判明している。かかる化合物は、ドライエッチング耐性が高いうえに、芳香環を有しないのでＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、フッ素レーザー光などの短波長領域における吸収が少なく透明性に優れている。
【０１５４】
このような脂環式骨格と酸分解性基とを含む単量体を重合させてなる高分子化合物を含有しているので、紫外線、ｄｅｅｐＵＶ光、２４８ｎｍのＫｒＦエキシマレーザ光、１９３ｎｍのＡｒＦエキシマレーザ光、フッ素レーザ光、電子線、および、Ｘ線などの短波長光に対して高い透明性を有するとともに、充分なドライエッチング耐性を有するレジストパタンを形成可能な感光性組成物が得られた。かかる特徴を有する本発明の感光性組成物を用いることにより、精度良くサブクォータミクロン以下の超微細なパタンを形成することができる。
【０１５５】
なお、上述したような高分子化合物を配合した本発明の感光性組成物は、脂環式骨格、すなわち環構造を有していることに起因してドライエッチング耐性が優れている。これは、一方の炭素−炭素結合が切れても、他方の結合が残るためであると考えられる。
【０１５６】
本発明の特徴である前記一般式（ｕ−１）、（ｕ−２）、（ｕ−３）で表わされる繰り返し単位を有する高分子化合物は、化学増幅型レジストのみならず、従来レジストのベース樹脂として配合してもよい。具体的には、露光によって主鎖が切断される樹脂や、露光によって溶解度が向上する化合物を含有する樹脂組成物（ポジ型レジスト）や、露光によって架橋し得る樹脂や、露光によって溶解性が低下する化合物を含有する樹脂組成物（ネガ型レジスト）のベース樹脂として配合することもできる。このような従来レジストは、樹脂と光架橋剤または光主鎖切断剤とを上述したような溶媒に溶解し、濾過することによって調製することができる。
【０１５７】
従来レジストとした場合も、脂環式骨格と酸分解性の特定の基とを有する単量体を含む高分子化合物をベース樹脂として配合したことに起因して、短波長光に対する透明性に優れるとともに、かつ高いドライエッチング耐性を有するレジストパタンを形成することが可能である。
【０１５８】
【発明の実施の形態】
以下、実施例によりこの発明をより詳細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
（合成例１）
テルピネオール、アセチルクロリドおよびトリエチルアミンを塩化メチレンに溶解し、湯温７０℃で９時間加熱還流した。その後，飽和塩化アンモニウム水溶液により反応を停止し、酢酸エチルを加えた。二層を分離して水層を酢酸エチル抽出し、有機層を合わせて飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。飽和食塩水および無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。最後に、得られた油状物を減圧蒸留してアセチルテルピネオールを得た。
（合成例２）
テルピネオール、クロロアセチルクロリドおよびソディウムハイドライドをテトラヒドロフランに溶解し、湯温７０℃で９時間加熱還流した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液により反応を停止し、酢酸エチルを加えた。二層を分離して水層を酢酸エチル抽出し、有機層を合わせて飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。飽和食塩水および無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。最後に、得られた油状物を減圧蒸留してクロロアセチルテルピネオールを得た。
（合成例３）
クロロアセチルクロリドをメチルアダマンチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法により、メチルアダマンチルテルピネオールを得た。（合成例４）
テルピネオール、ジヒドロピランおよびｐ−トルエンスルホン酸をジクロロメタンに溶解し、室温で８時間攪拌した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液により反応を停止し、エーテルを加えた。二層を分離して水層をエーテル抽出し、有機層を合わせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液で洗浄した。飽和食塩水および無水硫酸ナトリウムにより乾燥、溶媒を溜去した。最後に、得られた油状物を減圧蒸留してテトラヒドロピラニルテルピネオールを得た。
（合成例５）
テルピネオール、ｔ−ブトキシカルボニルクロリドおよびイミダゾールをジメチルチルホルムアミド中で湯温７０℃で９時間加熱還流した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液により反応を停止し、エーテルを加えた。二層を分離して水層をエーテル抽出し、有機層を合わせて飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。飽和食塩水および無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。最後に、得られた油状物を減圧蒸留してｔ−ブトキシカルボニルテルピネオールを得た。
（合成例６）
クロロアセチルクロリドをｔ−ブチルジメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールを合成した。
（合成例７）
アセチルクロリドをテトラヒドロピラニロキシカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを合成した。
（合成例８）
ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをジｔ−ブチルメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法により２−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールを合成した。
（合成例９）
アセチルクロリドをメトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１０）
クロロアセチルクロリドをトリイソプロピルシリルトリフレートに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１１）
テルピネオールをトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブチルジメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１２）
テルピネオールをトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルプロパンジオールに変更し、アセチルクロリドをテトラヒドロピラニロキシカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１３）
テルピネオールをトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルプロパンジオールに変更し、ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをジｔ−ブチルメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法により２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１４）
テルピネオールをトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルプロパンジオールに変更し、アセチルクロリドをメトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１５）
テルピネオールをトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをトリイソプロピルシリルトリフレートに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１６）
テルピネオールをトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブチルジメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１７）
テルピネオールをトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルプロパンジオールに変更し、アセチルクロリドをテトラヒドロピラニロキシカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１８）
テルピネオールをトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルプロパンジオールに変更し、ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをジｔ−ブチルメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法により２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１９）
テルピネオールをトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルプロパンジオールに変更し、アセチルクロリドをメトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２０）
テルピネオールをトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをトリイソプロピルシリルトリフレートに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２１）
テルピネオールをテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブチルジメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２２）
テルピネオールをテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニルプロパンジオールに変更し、アセチルクロリドをテトラヒドロピラニロキシカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２３）
テルピネオールをテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニルプロパンジオールに変更し、ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをジｔ−ブチルメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法により２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２４）
テルピネオールをテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニルプロパンジオールに変更し、アセチルクロリドをメトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法により２−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２５）
テルピネオールをテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをトリイソプロピルシリルトリフレートに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法により２−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例２６）
テルピネオールをメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブチルジメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法によりｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールを合成した。
（合成例２７）
テルピネオールをメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカンジオールに変更し、アセチルクロリドをテトラヒドロピラニロキシカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法によりテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールを合成した。
（合成例２８）
テルピネオールをメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカンジオールに変更し、ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをｔ−ブチルメチルシリルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法によりジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールを合成した。
（合成例２９）
テルピネオールをメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカンジオールに変更し、アセチルクロリドをトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、前述の合成例１と同様の手法によりメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールを合成した。
（合成例３０）
テルピネオールをメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをトリイソプロピルシリルトリフレートに変更した以外は、前述の合成例２と同様の手法によりトリイソプロピルシロキシ−メチルトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールを合成した。
（合成例３１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノール、メタクリル酸クロリドおよびブチルリチウムをテトラヒドロフラン中に溶解し、室温で８時間還流した。その後、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液により反応を停止し、エーテルを加えた。二層を分離して水層をエーテル抽出し、有機層を合わせて飽和炭酸水素ナトリウム水溶液、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。濃縮後、得られた油状物を減圧蒸留して２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートを得た。
（合成例３２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、前述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例３３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例３４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、前述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例３５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、前述の合成例３１と同様の手法によりｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートを合成した。
（合成例３６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例３７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例３８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例３９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。（合成例４０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法によりｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートを合成した。
（合成例４１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法によりテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートを合成した。
（合成例４６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例４９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。（合成例５０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法によりジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートを合成した。
（合成例５１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例５２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例５３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例５４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。（合成例５５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法によりメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートを合成した。
（合成例５６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例５７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例５８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例５９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートを合成した。
（合成例６０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法によりトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートを合成した。
（合成例６１）
メタクリル酸クロリドをアクリル酸クロリドに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法によりｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアクリレートを合成した。
（合成例６６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例６９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。（合成例７０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法によりｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアクリレートを合成した。
（合成例７１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法によりテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアクリレートを合成した。
（合成例７６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例７９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。（合成例８０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法によりジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアクリレートを合成した。
（合成例８１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例８２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例８３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例８４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。（合成例８５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法によりメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアクリレートを合成した。
（合成例８６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例８７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例８８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例８９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルアクリレートを合成した。
（合成例９０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様の手法によりトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアクリレートを合成した。
（合成例９１）
メタクリル酸クロリドをシアノアクリル酸クロリドに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法によりｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例９９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１００）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法によりｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法によりテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１０９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法によりジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法によりメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１１９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルシアノアクリレートを合成した。（合成例１２０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例９１と同様の手法によりトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルシアノアクリレートを合成した。
（合成例１２１）
メタクリル酸クロリドをクロロアクリル酸クロリドに変更した以外は、上述の合成例３１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法によりｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１２９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法によりｔ−ブチルジメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−テトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法によりテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１３９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法によりジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４１）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４２）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４３）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４４）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−メトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４５）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法によりメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４６）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４７）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４８）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１４９）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを２−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニル−２−プロパノールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法により２’−トリイソプロピルシロキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１５０）
２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールに変更した以外は、上述の合成例１２１と同様の手法によりトリイソプロピルシロキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルクロロアクリレートを合成した。
（合成例１５１）
クロロアセチルクロリドをｔ−ブトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１５２）
テルピネオールをトリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１５３）
テルピネオールをトリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2'',6''］デカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１５４）
テルピネオールをテトラシクロ［６．２．１．１ 3,6．０ 2,7］ドデカニルプロパンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法により２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２−プロパノールを合成した。
（合成例１５５）
テルピネオールをメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカンジオールに変更し、クロロアセチルクロリドをｔ−ブトキシカルボニルメチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法によりｔ−ブトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルアルコールを合成した。
（実施例１、比較例）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルメタクリレートとｔ−ブチルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたアセチルテルピニルメタクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをアセチルテルピネオールに変更した以外は、上述の合成例３１と同様にして合成したものである。
【０１５９】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％配合してシクロヘキサノン溶液とした。
【０１６０】
得られた感光性組成物の溶液をシリコンウェハ上に０．３μｍの厚さに塗布した後、１００℃でプリベークしてレジスト膜を形成した。このレジスト膜の所定の領域にＡｒＦエキシマレーザ露光（３ｍＪｃｍ-2）を行なった後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドで現像してパタニング特性を調べた。その結果、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１６１】
さらに、カーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチング速度を測定した。なお、ドライエッチングの評価は、次のような条件で行なった。すなわち、ＣＦ4 の流量は１２．６ｓｃｃｍ、真空度は１０ｍｔｏｒｒ、マイクロ波の出力は１５０Ｗとした。
【０１６２】
また、比較例のポリマーとしてメンチルメタクリレートとｔ−ブチルメタクリレートとの１：１共重合体を合成し、この共重合体に対し、光酸発生剤として、トリフェニルスルホニウムトリフレート１ｍｏｌ％を添加してエチルセロソルブアセテート溶液とした。この感光性組成物の溶液を用いて、照射量を５０ｍＪ／ｃｍ2 とした以外は上述と同様の手法でレジストパタンを形成して解像性を調べた。さらに前述と同様の条件でカーボンテトラフルオライドガスによるエッチング速度を調べた。得られた結果を下記表１にまとめる。
【０１６３】
【表１】
0003887106.tif 000014
なお、表１中のエッチング耐性は、比較例の感光性組成物の値を１とした相対値である。表１に示すように、脂環式骨格と酸分解性の基とを含む単量体を有する高分子化合物をベース樹脂として含有する本発明の感光性組成物は、パタンの解像性およびドライエッチング耐性のいずれの点でも、比較例の感光性組成物より優れていることがわかる。
（実施例２）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルテルピニルアクリレートとｔ−ブチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたテトラヒドロピラニルテルピニルアクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニルテルピネオールに変更した以外は、上述の合成例６１と同様にして合成したものである。
【０１６４】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤として、トリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％配合してシクロヘキサノン溶液とした。
【０１６５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１６６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３）
まず、ベース樹脂としてメチルアダマンチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたメチルアダマンチルテルピニルアクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメチルアダマンチルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様にして合成したものである。
【０１６７】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％添加して、シクロヘキサノン溶液とした。
【０１６８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１６９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例４）
まず、ベース樹脂としてアセチルオイデスミルアクリレートとテトラヒドロピラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたアセチルオイデスミルアクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０１７０】
テルピネオールをオイデスモールに変更し、クロロアセチルクロリドをアセチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法によりアセチルオイデスモールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを、アセチルオイデスモールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりアセチルオイデスミルアクリレートを得た。
【０１７１】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０１７２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１７３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例５）
まず、テトラヒドロピラニルオイデスミルアクリレートとテトラヒドロピラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたテトラヒドロピラニルオイデスミルアクリレートは、次のようにして合成したものである。テルピネオールをオイデスモールに変更した以外は、上述の合成例４と同様の手法によりテトラヒドロピラニルオイデスモールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールを、テトラヒドロピラニルオイデスモールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりテトラヒドロピラニルオイデスミルアクリレートを得た。
【０１７４】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダメンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１７５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例６）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルグアイヨイルアクリレートとテトラヒドロピラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたテトラヒドロピラニルグアイヨイルアクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０１７６】
テルピネオールをグアイヨールに変更した以外は、上述の合成例４と同様の手法によりテトラヒドロピラニルグアイヨールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニルグアイヨールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりテトラヒドロピラニルグアイヨイルアクリレートを得た。
【０１７７】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリナフチルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０１７８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１７９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例７）
まず、ベース樹脂としてメチルアダマンチルグアイヨイルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたメチルアダマンチルグアイヨイルアクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０１８０】
テルピネオールをグアイヨールに変更し、クロロアセチルクロリドをメチルアダマンチルメチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法によりメチルアダマンチルグアイヨールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメチルアダマンチルグアイヨールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりメチルアダマンチルグアイヨイルアクリレートを得た。
【０１８１】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートと、添加剤としてメチルアダマンチルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０１８２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１８３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例８）
まず、ベース樹脂としてメチルアダマンチルオイデスミルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたメチルアダマンチルオイデスミルアクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０１８４】
テルピネオールをオイデスモールに変更し、クロロアセチルクロリドをメチルアダマンチルクロリドに変更した以外は、上述の合成例２と同様の手法によりメチルアダマンチルオイデスモールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをメチルアダマンチルオイデスモールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりメチルアダマンチルオイデスミルアクリレートを得た。
【０１８５】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０１８６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１８７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例９）
まず、ベース樹脂としてトリメチルシリルカルボニルテルピニルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたトリメチルシリルカルボニルテルピニルアクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０１８８】
ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをトリメチルシリルカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法によりトリメチルシリルカルボニルテルピネオールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをトリメチルシリルカルボニルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりトリメチルシリルカルボニルテルピニルアクリレートを得た。
【０１８９】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０１９０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１９１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例１０）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０１９２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１９３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例１１）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルメチルテルピニルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたｔ−ブトキシカルボニルメチルテルピニルアクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０１９４】
テルピネオール、ｔ−ブトキシカルボニルメチルクロリド、ジメチルアミノピリジンおよびイミダゾールを混合し、ジメチルホルムアミド中で湯温７０℃で９時間加熱還流した。その後、飽和塩化アンモニウム水溶液により反応を停止し、エーテルを加えた。二層を分離して水層をエーテル抽出し、有機層を合わせて飽和塩化アンモニウム水溶液で洗浄した。飽和食塩水および無水硫酸ナトリウムにより乾燥した。最後に、得られた油状物を減圧蒸留して、ｔ−ブトキシカルボニルメチルテルピネオールを得た。
【０１９５】
次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｔ−ブトキシカルボニルメチルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様の手法によりｔ−ブトキシカルボニルメチルテルピニルアクリレートを得た。
【０１９６】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。得られた感光性組成物の溶液を用いて、露光量を４ｍＪｃｍ-2に変更した以外は、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べた。その結果、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０１９７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１２）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルアクリレートとメトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＤＩ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して３０ｗｔ％とした。
【０１９８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを形成することができた。
【０１９９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１３）
まず、ベース樹脂としてクロロアセチルテルピニルアクリレートとテトラヒドロピラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたクロロアセチルテルピニルアクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをクロロアセチルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様にして合成したものである。
【０２００】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。得られた感光性組成物の溶液を用いて、露光量を２ｍＪｃｍ-2に変更した以外は、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べた。その結果、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２０１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１４）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルアクリレートとテトラヒドロフラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリナフチルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２０２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２０３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１５）
まず、ベース樹脂としてクロロアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２０４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２０５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１６）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたアセチルテルピニルアクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをアセチルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例６１と同様にして合成したものである。
【０２０６】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２０７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１７）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートを５ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２０８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２０９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例１８）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルテルピニルメタクリレートとエトキシエチルアクリレートの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたテトラヒドロピラニルテルピニルメタクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをテトラヒドロピラニルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例３１と同様にして合成したものである。
【０２１０】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートを５ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２１１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３のラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２１２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２優れていた。
（実施例１９）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジナフチルヨードニウムトリフレートを５ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２１３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２１４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例２０）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２１５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２１６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例２１）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルテルピニルアクリレートとエトキシエチルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２１７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２１８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例２２）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルテルピニルアクリレートとエトキシエチルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのジｔ−ブチル２−１’−アダマンチルカルボニルメチルマロネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２１９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、露光量を５ｍＪｃｍ-2に変更した以外は、前述の実施例１と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２２０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例２３）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのジｔ−ブチル２−１’−アダマンチルカルボニルメチルマロネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２２１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２２２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例２４）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリナフチルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２２３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２２４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例２５）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとｔ−ブチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリナフチルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２２５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２２６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例２６）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとｔ−ブチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリナフチルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのテトラヒドロピラニルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２２７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２２８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例２７）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとｔ−ブチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを５ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２２９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２３０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例２８）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルメタクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたアセチルテルピニルメタクリレートは、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをアセチルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例３１と同様にして合成したものである。
【０２３１】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを５ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２３２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２３３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例２９）
まず、ベース樹脂としてｓ−ブトキシカルボニルテルピニルメタクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。なお、ここで用いたｓ−ブトキシカルボニルテルピニルメタクリレートは、次のようにして合成したものである。
【０２３４】
ｔ−ブトキシカルボニルクロリドをｓ−ブトキシカルボニルクロリドに変更した以外は、前述の合成例５と同様の手法によりｓ−ブトキシカルボニルテルピネオールを得た。次いで、２−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシシクロヘキシル−２−プロパノールをｓ−ブトキシカルボニルテルピネオールに変更した以外は、前述の合成例３１と同様の手法によりｓ−ブトキシカルボニルテルピニルメタクリレートを得た。
【０２３５】
このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して５ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２３６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３０）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルメタクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＤＩ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１０ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２３７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２３８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３１）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルメタクリレートとテトラヒドロピラニルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＤＩ−１０５（みどり化学製）を１０ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２３９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２４０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．２と優れていた。
（実施例３２）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルメタクリレートとエトキシエチルメタクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてのメチルシクロアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２４１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例２２と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１３μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２４２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３３）
まず、ベース樹脂としてクロロアセチルテルピニルアクリレートとテトラヒドリピラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は、樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２４３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２４４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３４）
まず、ベース樹脂としてｔ−ブトキシカルボニルテルピニルアクリレートとテトラヒドロフラニルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてのメチルアダマンチルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は、樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２４５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２４６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３５）
まず、ベース樹脂としてクロロアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は、樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２４７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２４８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３６）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）と、添加剤としてのメチルシクロヘキシルアダマンタンジカルボネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は、樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０２４９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２５０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例３７）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）を１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２５１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２５２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例３８）
まず、ベース樹脂としてテトラヒドロピラニルテルピニルメタクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）を１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２５３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２５４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例３９）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルメタクリレートとの１：１共重合体を共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）を１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２５５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２５６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例４０）
まず、ベース樹脂としてアセチルテルピニルアクリレートとエトキシエチルアクリレートとの１：１共重合体を共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学製）を１ｍｏｌ％添加してシクロヘキサノン溶液とした。
【０２５７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２５８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．３と優れていた。
（実施例４１）
まず、ベース樹脂として２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートを１ｍｏｌ％添加して、シクロヘキサノン溶液とした。
【０２５９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２６０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例４２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２６１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２６２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例４３）
ベース樹脂をメチルテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２６３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２６４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例４４）
ベース樹脂を２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２６５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２６６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例４５）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２６７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２６８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例４６）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２６９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２７０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例４７）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２７１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２７２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例４８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２７３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２７４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例４９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２７５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２７６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２７７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２７８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５１）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２７９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２８０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２８１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２８２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５３）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２８３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２８４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例５４）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２８５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２８６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５５）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２８７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２８８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５６）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２８９】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２９０】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５７）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２９１】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２９２】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２９３】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２９４】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例５９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸スルホンアミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２９５】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２９６】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸スルホンアミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例４１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０２９７】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２９８】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６１）
ベース樹脂として、２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのジフェニルヨードニウムトリフレートを１ｍｏｌ％添加して、シクロヘキサノン溶液とした。得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０２９９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３００】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３０１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例６３）
ベース樹脂をメチルテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３０２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３０３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例６４）
ベース樹脂を２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３０４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３０５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６５）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３０６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３０７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例６６）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３０８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３０９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６７）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３１０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３１１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３１２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３１３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例６９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３１４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３１５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３１６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３１７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７１）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３１８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３１９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３２０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３２１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７３）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３２２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３２３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例７４）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３２４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３２５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７５）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３２６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３２７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７６）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３２８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３２９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７７）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３３０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３３１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３３２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３３３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例７９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３３４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３３５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例６１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３３６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３３７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８１）
ベース樹脂として、２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのＮＡＴ−１０５（みどり化学社製）を５ｍｏｌ％添加して、シクロヘキサノン溶液とした。
【０３３８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３３９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３４０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３４１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例８３）
ベース樹脂をメチルテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３４２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３４３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例８４）
ベース樹脂を２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３４４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３４５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８５）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３４６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３４７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例８６）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３４８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３４９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８７）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３５０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３５１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３５２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３５３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例８９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３５４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３５５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３５６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３５７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９１）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３５８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３５９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３６０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３６１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９３）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３６２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３６３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例９４）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３６４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３６５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９５）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３６６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３６７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９６）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３６８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３６９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９７）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３７０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３７１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３７２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３７３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例９９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３７４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３７５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１００）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例８１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３７６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３７７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１０１）
まず、ベース樹脂として２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１共重合体を用意した。このベース樹脂に対して、光酸発生剤としてのトリフェニルスルホニウムトリフレートと、添加剤としてのジｔ−ブチル  ２−１’−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルカルボニルメチルマロネートとを配合してシクロヘキサノン溶液とした。なお、光酸発生剤の配合量はベース樹脂に対して１ｍｏｌ％とし、添加剤の配合量は樹脂に対して４０ｗｔ％とした。
【０３７８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３７９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１０２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３８０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３８１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例１０３）
ベース樹脂をメチルテトラヒドロピラニロキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［５．２．１．０ 2,6］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３８２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３８３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例１０４）
ベース樹脂を２’−ジｔ−ブチルメチルシロキシメチル−テトラシクロ［６．２．１．１ 3'',6''．０ 2'',7''］ドデカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３８４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３８５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１０５）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３８６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３８７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例１０６）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３８８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３８９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１０７）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３９０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３９１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１０８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３９２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３９３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１０９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３９４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３９５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３９６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３９７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１１）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０３９８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０３９９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１２）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４００】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４０１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１３）
ベース樹脂をメトキシカルボニルメトキシメチル−トリシクロ［３．３．１．１ 3,7］デカニルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４０２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４０３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
（実施例１１４）
ベース樹脂を２’−トリイソプロピルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４０４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４０５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１５）
ベース樹脂を２’−セキシルジメチルシロキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体を用意に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４０６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４０７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１６）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４０８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４０９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１７）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルシアノアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４１０】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４１１】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１８）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルクロロアクリレートとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４１２】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４１３】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１１９）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルメタクリル酸アミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４１４】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４１５】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１２０）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブチルジメチルシロキシシクロヘキシル−２’−プロピルアクリル酸アミドとビニルナフタレンと無水マレイン酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４１６】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４１７】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．５と優れていた。
（実施例１２１）
ベース樹脂を２’−ｔ−ブトキシカルボニルメトキシ−トリシクロ［３．３．１．１ 3'',7''］デカニル−２’−プロピルメタクリレートとビニルナフタレンとメタクリル酸との１：１：１共重合体に変更した以外は、前述の実施例１０１と同様にして感光性組成物の溶液を調製した。
【０４１８】
得られた感光性組成物の溶液を用いて、前述の実施例１３と同様の手法でパタニング特性を調べたところ、０．１μｍのラインアンドスペースパタンを解像することができた。
【０４１９】
さらに、実施例１と同様にカーボンテトラフルオライド（ＣＦ4 ）ガスによるエッチングレートを比較例と比較した結果、比較例のレジストのエッチング耐性を１とすると、本実施例では１．４と優れていた。
【０４２０】
ここで、図面を参照して、本発明の感光性組成物を用いた電子部品の製造方法について説明する。
【０４２１】
図１は、本発明の感光性組成物を用いた半導体チップの製造工程の一例を示す断面図である。
【０４２２】
まず図１（ａ）に示すように、シリコン半導体基板１上に、被エッチング膜として厚さ約０．８μｍの酸化ケイ素膜２をＣＶＤ法により形成し、この上に実施例１と同様の感光性組成物を含むレジスト膜３を約０．３μｍの膜厚で形成した。なお、半導体基板１中には、例えばＭＯＳＦＥＴ、ダイオード等の素子（図示せず）が形成されている。
【０４２３】
このレジスト膜を実施例１と同様の方法でパターニングすることによって、直径約０．３μｍの開孔パターンを形成し、得られたレジストパターン３ＡをＮ2 雰囲気中で１３０℃、３０分間加熱した。このレジストパターン３Ａをエッチングマスクとして、ＣＦ4 ガスを用いたＲＩＥ法により被エッチング膜である酸化ケイ素膜２を選択的にエッチングして、図１（ｂ）に示すようにパターンを転写した。
【０４２４】
最後にＯ2 プラズマ中でレジストパターン３Ａを炭化して除去することにより、図１（ｃ）に示すような微細な開孔６を有する酸化ケイ素膜２が得られた。なお、酸化ケイ素膜２に形成された開孔６の直径は約０．３２μｍであり、膜厚のばらつきは２％以下に抑制された。
【０４２５】
本発明の感光性組成物は、電子部品における配線のパターニングにも好ましく用いることができる。
【０４２６】
図２は、本発明を２層配線の形成に適用した例を示す工程断面図である。
【０４２７】
まず、図２（ａ）に示すように、半導体基板１の上に厚さ約０．８μｍの酸化ケイ素膜２をＣＶＤ法により成膜した。なお、半導体基板１中には、例えば、ＭＯＳＦＥＴ、ダイオード等の素子（図示せず）が形成されている。次いで、Ａｌ−Ｓｉ−Ｃｕからなる厚さ約０．７μｍの下層配線１０と、ＳｉＯ2 からなる厚さ０．７μｍの層間絶縁膜７とを形成し、これらの上にＡｌ−Ｓｉ−Ｃｕからなる厚さ約０．７μｍの上層配線層１１を形成した。このとき、上層配線層には、約０．７μｍの段差が生じた。さらに、実施例１と同様の感光性組成物を含むレジスト膜３を約０．３μｍの膜厚で上層配線層１１の上に成膜した。
【０４２８】
このレジスト膜３を実施例１と同様の方法でパターニングして、図２（ｂ）に示すようなレジストパターン３Ａを形成し、これをエッチングマスクとして、ＣＣｌ4 等の塩素系ガスを用いＲＩＥ法により上層配線層１１をエッチング除去することにより、上層配線１１Ａを形成した。
【０４２９】
最後に、Ｏ2 プラズマ中でレジストパターン３Ａを炭化し除去することにより、図２（ｃ）に示すような２層配線が得られた。
【０４３０】
上述したような２層配線の形成に本発明を適用した場合も、収縮率や強度を改善することができる。形成された上層配線１１Ａは、下層配線膜等によって生じる段差（約０．７μｍ）の影響をほとんど受けず、設計寸法０．６μｍに対して、寸法誤差は±０．０５μｍであった。従来の寸法誤差は±０．１μｍであったのと比較すると、本発明を適用することによって、極めて高い精度で配線を形成できることがわかる。
【０４３１】
また、配線間隔０．４μｍ、配線幅０．６μｍの上層配線を形成した場合、断線や短絡等の不良は全く発生しなかった。
【０４３２】
図３は、本発明をＡｕ配線の形成に適用した例を示す工程断面図である。
【０４３３】
まず、図３（ａ）に示すように、半導体基板１上にＣＶＤ法により厚さ約０．８μｍの酸化ケイ素膜２を形成した。なお、半導体基板１中には、例えばＭＯＳＦＥＴ、ダイオード等の素子（図示せず）が形成されている。次いで、この酸化ケイ素膜２上に、厚さ約０．２μｍのチタン含有タングステン（Ｔｉ−Ｗ）膜１２と、厚さ約０．１μｍの金（Ａｕ）膜１３とをスパッタ法により順次形成した。さらに、実施例１と同様の感光性組成物を含むレジスト膜３を約０．３μｍの膜厚でＡｕ膜１３の上に形成した。
【０４３４】
このレジスト膜３を実施例１と同様の方法でパターニングして、図３（ｂ）に示すようなレジストパターン３Ａを形成することによって、溝１５を設けた。得られた溝１５の底部に露出したＴｉ−Ｗ膜１２およびＡｕ膜１３を電極として用い、電解メッキ法により溝中に厚さ約１μｍのＡｕメッキ膜１４を形成した。
【０４３５】
続いて、Ｏ2 プラズマ中でレジストパターン３Ａを炭化して除去することにより、図３（ｃ）に示すようにＡｕメッキ膜１４をＡｕ膜１３の上に突出させた。最後に、イオンミリング法によって露出しているＡｕ膜１３を除去した後、フッ素系ガスを用いて露出したＴｉ−Ｗ膜１３を除去することによって、図３（ｄ）に示すようなＡｕ配線２０を形成した。
【０４３６】
本発明を適用すると、レジスト膜３を１５０℃以下で形成できる。したがって、Ａｕ膜１３とレジスト膜３との剥離がなくなるため、幅０．７μｍのＡｕ配線を形成した場合、断線や短絡等の不良は全く発生しなかった。
【０４３７】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、脂環式骨格と特定の酸分解性基とを含む単量体を重合させてなる高分子化合物をベース樹脂として配合しているので、短波長の光源に対して吸収が極めて少なく、優れた溶解性、アルカリ現像性、耐ドライエッチング性を有する感光性組成物が提供される。本発明の感光性組成物は、これらの特徴に加えて、さらに、耐熱性、および基板との密着性に極めて優れるという特徴を有する。従って、本発明の感光性組成物を用いることにより、サブクォータミクロン未満のオーダの超微細なパタンを、矩形の良好な断面形状で形成することができる。
【０４３８】
なお、本発明の感光性組成物は、ＫｒＦエキシマレーザ光、ＡｒＦエキシマレーザ光、フッ素レーザー光を利用したパタン形成の際に、特にその効果を発揮するが、ｉ線光、ｄｅｅｐＵＶ光、電子線、Ｘ線等を利用したパタン形成に於いても充分使用が可能である。かかる感光性組成物は、半導体デバイスの製造プロセスのフォトリソグラフィー技術において顕著な効果を有するものであり、その工業的価値は極めて大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の感光性組成物を用いた電子部品の製造工程の一例を示す断面図。
【図２】本発明の感光性組成物を用いた電子部品の製造工程の他の例を示す断面図。
【図３】本発明の感光性組成物を用いた電子部品の製造工程の他の例を示す断面図。
【符号の説明】
１…半導体基板
２…酸化ケイ素膜
３…レジスト膜
３Ａ…レジストパターン
６…開孔
７…層間絶縁膜
１０…下層配線
１１…上層配線層
１１Ａ…上層配線
１２…Ｔｉ−Ｗ膜
１３…Ａｕ膜
１４…Ａｕメッキ膜
１５…溝
２０…Ａｕ配線
【図１】
0003887106.tif 000017
【図２】
0003887106.tif 000018
【図３】
0003887106.tif 000019