(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂を主成分とする目的物と被分離物とが金属層を介して一体化され、この一体化物から前記被分離物を分離して前記目的物を回収するに際し、前記一体化物を液体で処理して前記被分離物を選択的に膨潤させ、前記金属層と共に前記目的物から剥離する、樹脂の回収方法。
【請求項２】
前記一体化物を液体に浸漬する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項３】
前記液体として、炭素数が１〜６の低級アルコールを主成分とする液体を使用する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項４】
前記一体化物を液体に浸漬させながら、攪拌、加熱、超音波照射及び攪拌の少なくとも１つを行う、請求項１に記載した回収方法。
【請求項５】
前記一体化物を低級アルコールとアルカリとの混合物に浸漬する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項６】
前記被分離物の分離後に、前記目的物を水又はアルコールで洗浄する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項７】
ポリカーボネート基板、光反射層及び保護層からなる光ディスクにおいて、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項８】
ポリカーボネート基板、断熱層、磁性層、断熱層、光反射層及び保護層からなる書換え型光磁気記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項９】
ポリカーボネート基板、断熱層、相変化層、断熱層、光反射層及び保護層からなる書換え型光相変化記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項１０】
ポリカーボネート基板、光反射層又は半透明層及び保護層の組み合わせからなり、かつ複数の記録層を有する光ディスク記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項１１】
記録層が信号ピットを有している、請求項１０に記載した回収方法。
【請求項１２】
記録層が書換え型である、請求項１０に記載した回収方法。
【請求項１３】
ポリカーボネート基板、光反射層、半透明層、保護層及び記録層の組み合わせからなる単一体の複数個が一体化された光ディスク記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収する、請求項１に記載した回収方法。
【請求項１４】
前記被分離物を分離して回収した前記目的物を再使用する、請求項１に記載した回収方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、樹脂の回収方法に関し、例えば、光ディスクのポリカーボネート基板樹脂の回収方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
光ディスクは、光学的にレーザービームを用いて情報の読み出し、或いは書き込み、消去を行うことができる高密度な情報記録媒体として知られており、音楽用としてだけではなく、コンピュータやゲームなどあらゆる分野における情報記録媒体として、その生産量は年々増加している。
【０００３】
このような光学的記録媒体は、光の波長に合わせて非常に小さな記録ピットを形成して高密度に記録がなされている。このため極めて高い品質が要求され、僅かな欠陥は即不良品に繋がり、生産量の増加に伴い不良品率も増加の傾向にある。
【０００４】
光ディスクの場合、金属の光反射層や紫外線硬化樹脂の保護層が形成される前の製造過程で発生した透明な不良品としての基板樹脂は、一般のポリカーボネート樹脂に混合して再利用されている。
【０００５】
しかし、光反射層及び保護層等が形成された後に発見された欠陥のある光ディスクにおいては、基板樹脂を透明基板として再利用することは不可能なため、廃棄されているのが実情である。
【０００６】
このような実情下にあって、今後更に生産量が増加するに伴い、不良品として廃棄される量も増加することが予測される。しかし、地球環境保護に関する社会的要求の高まりから、資源の有効活用を図るために、ＤＥ 43 06 348Ａ１、ＥＵＯ 601 719Ａ１、特開平６−63942 号公報に示されるように、光学式記録媒体から透明な樹脂を回収する方法が提案されている。特に、ポリカーボネートは比較的高価であるから、その回収、リサイクルはメリットが大きい。
【０００７】
これらの公知の方法は、強酸や強アルカリの溶液に光ディスクを浸漬してアルミニウムの光反射層を溶出し、保護層を剥離後にポリカーボネート基板を回収するものである。従って、強酸、強アルカリの使用によって容器などの装置が制約を受け、また使用した溶液はアルミニウムの溶出によってｐＨが変化し、一定量の処理ごとに溶液の取り換えが必要となって連続処理ができず、かつ、処理後の廃液処理等を伴う傾向があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記の事情に鑑みてなされたものであって、光ディスク等のポリカーボネート基板の如き樹脂上に形成された様々な機能層を安全かつ容易に剥離し、その樹脂を効果的に回収して再利用することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、樹脂（例えばポリカーボネート基板樹脂：以下、同様）を主成分とする目的物（例えばポリカーボネート基板：以下、同様）と被分離物（例えば紫外線硬化樹脂の保護層：以下、同様）とが金属層（例えばアルミニウム光反射層：以下、同様）を介して一体化され、この一体化物から前記被分離物を分離して前記目的物を回収するに際し、前記一体化物を液体（例えばメタノール）で処理して前記被分離物を選択的に膨潤させ、前記金属層と共に前記目的物から剥離する、樹脂の回収方法に係るものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】
本発明における樹脂の回収方法においては、被分離物を選択的に膨潤させ、金属層と共に目的物から分離することが特徴的である。
【００１１】
このためには、目的物と被分離物との一体化物を液体に浸漬させ、液体として、炭素数が１〜６の低級アルコールを主成分とする液体を使用することにより好適に行える。
【００１２】
この場合、一体化物を液体に浸漬させながら、攪拌、加熱、超音波照射及び攪拌の少なくとも１つを行うことが効果的である。
【００１３】
また、上記の回収方法に使用する液体としては、低級アルコールとアルカリとの混合物を使用してもよい。
【００１４】
そして、上記の方法により、目的物から被分離物を分離後に、目的物を水又はアルコールで洗浄することが望ましい。
【００１５】
上記した回収方法は、ポリカーボネート基板、光反射層及び保護層からなる光ディスクにおいて、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収するのに好適である。
【００１６】
また、ポリカーボネート基板、断熱層、磁性層、断熱層、光反射層及び保護層からなる書換え型光磁気記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収するのにも好適である。
【００１７】
また、ポリカーボネート基板、断熱層、相変化層、断熱層、光反射層及び保護層からなる書換え型光相変化記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収するのにも好適である。
【００１８】
また、ポリカーボネート基板、光反射層又は半透明層及び保護層の組み合わせからなり、かつ複数の記録層を有する光ディスク記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収するのにも好適である。
【００１９】
従って、上記の回収方法は、記録層が信号ピットを有している光ディスクであり、またこの方法は、記録層が書換え型である光ディスクからポリカーボネート基板の樹脂を回収するのにも適用できる。
【００２０】
また、上記の方法は、ポリカーボネート基板、光反射層、半透明層、保護層及び記録層の組み合わせからなる単一体の複数個が一体化されたいわゆる２層式等の光ディスク記録媒体において、前記ポリカーボネート基板の樹脂を回収するのにも好適である。
【００２１】
そして、上記により被分離物を分離して回収した目的物は再使用することができる。この再利用としては、目的物を溶融等の処理を経て所定の用途（例えばポリカーボネート基板の射出成形）に用いてもよいし、また、そのまま用いて例えば、アルミニウム光反射層及び紫外線硬化樹脂の保護層を形成し、再び光ディスクとして再生したり、回収したポリカーボネートを洗浄後、保持された信号ピット面に無電解めっきによる金属膜及び電気めっきによるニッケル膜を形成し、これを剥離してスタンパーを作製し、このスタンパーからポリカーボネート基板を成形し、光ディスクを作製してもよい。
【００２２】
【実施例】
以下、本発明の実施例を詳細に説明する。
【００２３】
図１は、ＣＤ（コンパクトディスク）からなる光ディスク（以下、ディスクと称することがある）の要部について本実施例の方法により樹脂を回収する過程を示すものである。
【００２４】
本実施例の特徴は、炭素数が１〜６の低級アルコールを主成分とする溶媒に光ディスク５を浸漬させ、保護層３を膨潤させて光反射層２と共に基板１から分離し、基板１（ポリカーボネート基板樹脂）を回収することである。
【００２５】
従って、まず図２に示すように、容器７の中に入れた低級アルコール６に不良品となった光ディスク５を浸漬させる。浸漬時間は６時間程度でよい。これにより、浸漬する前には、図１（ａ）のような状態であったディスク５は、保護層３が膨潤し、図１（ｂ）の３’のように体積が膨張し、基板１よりも保護層３’に強固に接着した光反射層２が徐々に基板１から剥離し始める。
【００２６】
即ち、ここで光反射層２として用いられている金属はアルミニウム又はアルミニウム合金であり、この上に積層されている保護層３がアルミニウム又はアルミニウム合金からなる光反射層２に強く接着する性質があるため、基板１のポリカーボネートよりも保護層３の樹脂に強く吸着していることによる現象である。
【００２７】
本発明者は、光ディスク５の保護層３に使用されている紫外線硬化樹脂と光反射層２のアルミニウム又はアルミニウム合金との接着力の方が、ポリカーボネート基板１と光反射層２との接着力よりも強いことに着目し、種々実験を試みた結果、上記のアルコールへの浸漬によって、保護層３と共に光反射層２を基板１から分離することに成功したのである。
【００２８】
そして、膨潤した保護層３は、光反射層２が付いた状態で容易に剥離することができるが、保護層３を分離した後、残った基板１を純水又はアルコールで洗浄して乾燥後、回収することができる。使用したアルコール溶液は装置を侵すことはなく、またその中には、アルミニウムなどの溶出がないので、連続的に使用可能である。
【００２９】
保護層３は一般に次の２種類がある。一つは、紫外線で硬化するアクリル酸系の紫外線硬化樹脂であり、もう一つは、セルロース系の樹脂を少量の有機溶剤（例えばトルエン）に溶かしたものである。これらのいずれも、上記した方法によりアルコールによって膨潤し、同様の現象を呈する。
【００３０】
従って、上記したように膨潤した保護層３は、光反射層２を伴って基板１から剥離し、容易に分離され、図１（ｃ）のように、ポリカーボネート基板１は後述するスタンパーにより複製されたときの状態と同等となる。
【００３１】
本実施例における保護層３の膨潤、剥離に用いる低級アルコール６としては、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール等の炭素数１〜６の低級アルコールを主に用いている。炭素数が７以上のアルコールでは、溶液粘度が上昇し易い。また、工業用に用いるので安価であることが望ましい。
【００３２】
但し、使用可能なアルコールは、水酸基が１つ（１価）である必要はないので、例えばグリコールやグリセリンのように２価、３価であってもよい。上記した例は、室温での条件であるが、温度を高温にすることにより処理速度を速くすることができる。また、保護膜３に傷をつけることにより、液が浸透し易くなり、処理速度を速くすることができる。
【００３３】
しかし、上記の低級アルコール６以外の有機溶媒（例えば、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド）ではポリカーボネート基板１が溶けることがあるため、低級アルコールが望ましい。
【００３４】
上記したようにして得られるポリカーボネートは、完全に透明であり、再使用が可能である。
【００３５】
次に、本実施例を理解し易くするために光ディスクの製造過程等について概略的に説明する。
【００３６】
光ディスクの作製プロセスは、原盤工程及び複製工程の二つに大別される。そして、図３が原盤工程を示す図であり、図４が複製工程を示す図である。
【００３７】
原盤工程においては、図３（ａ）及び（ｂ）に示すようにまず、磨かれたガラス原板（ガラスマスター）40を用意し、この表面に感光材料であるフォトレジスト41をスピンコート法等で一様に塗布する。
【００３８】
記録すべき情報は予めマスターテープに編集されており、これを再生しながらレーザービームによる露光によってその情報をフォトレジスト41面に記録（カッティング）し、情報が記録されたガラス原板40を現像液に浸して現像し、図３（ｃ）の状態が形成される。このカッティングは次のようなカッティングシステムにより行われる。
【００３９】
即ち、図３（ｂ）のように、フォトレジスト41が塗布されたガラス原板40をカッティングシステム（図示省略）において、フォーマッタで制御されるスピンドルモータで回転させながら、Ｈｅ−ＣｄレーザーからのカッティングビームをＥＯＭ（電気光学変調器）、ビームスプリッタ、ＡＯＭ（音響光学変調器）、ミラー（又はビームスプリッタ）、更には対物レンズからなる集光レンズを経てガラス原板40上に導く。
【００４０】
この場合、Ｈｅ−ＣｄレーザーからのカッティングビームをＥＯＭ及びＡＯＭで変調し、変調されたビーム４Ａ、４Ｂを図３（ｃ）のようにフォトレジスト41に選択的に照射、露光する。そして、上記したように現像処理にて、ビーム４Ａ、４Ｂの照射部分41ａ、41ｂのみをエッチング除去する。このように、露光部分のみを除去すること（フォトレジスト41はポジ型）としたのは、エッチング量をコントロールしてピット（又は後述するグルーブ）の深さを決め易いからである。
【００４１】
ここで、除去された部分41ａが例えばピットに、41ｂが例えばプリグルーブに対応している。このピットのカッティングに用いる変調レーザー光４Ａは、マイクロコンピュータからなるフォーマッタによって上記したように予めプログラムされた周期で変調されたものである。
【００４２】
そして、このカッティング時に、レーザービーム４Ａと同一光路上に、Ｈｅ−Ｎｅレーザーからのサーボ用ビームをミラー、更にはレンズを介してガラス原板40上に導き、このガラス原板40からの反射ビームを逆方向へ戻し、ビームスプリッタを経てフォトディテクタ上に入射させる。そして、このフォトディテクタによる検出結果に基づいて、フォーカスサーボ等を行っている。
【００４３】
次いで、図３（ｄ）のように全面に無電解めっき又はスパッタ法によって金属膜42を被着する。この金属膜42は、レジスト41及びその除去部分41ａ、41ｂによる表面凹凸形状に追随した凹凸形状を呈している。
【００４４】
次いで、図３（ｅ）のように、全面に電気めっきをかけ、例えばニッケルめっき層43を被着する。そして、このめっき層43を剥離して図３（ｆ）のようなスタンパー44を作製する。このスタンパー44は、その凹凸面には、グルーブとなる凸部51とランドとなる凹部52とピットとなる凸部50とがそれぞれ形成されたものである。このようにして、スタンパー44が作製される。
【００４５】
このようなスタンパー（原盤）44によって基板１が複製されるが、例えば5.25インチや 3.5インチのＩＳＯフォーマットとして、各ピットには信号を記録するＣＤ（コンパクトディスク）用、ＭＤ（ミニディスク）用の如き場合は、１セクタ内にプリフォーマット部（アドレス部）、ミラーマーク部（フラグ部）、データエリア部、更にはバッファ部を設けることがある。
【００４６】
図４の複製工程においては、上記の原盤工程において作製したスタンパー44に、図４（ａ）のように基板材料として溶融したポリカーボネートを射出成形して、図４（ｂ）に示すような基板１が形成される。そして、この基板１の記録面には、スタンパー44の凸部50によって転写されたピット８を多数形成する。
【００４７】
次いで、図４（ｃ）のように、基板１の上面にスパッタリング法又は蒸着法により、アルミニウム又はアルミニウム合金、或いはチタン等を 300〜800 Å蒸着して光反射層２を形成する。
【００４８】
次いで、図４（ｄ）のように、上記した光反射層２の上にアクリル酸ベースの紫外線硬化樹脂を塗布し、これに紫外線を照射して５〜12μｍの厚みで保護層３を形成する。この場合、アクリル酸ベースとしては、例えば、２−ＥＡＨ（２−エチルヘキシルアクリレート）、ＢＤＤＡ（１，４−ブタンジオールジアクリレート）、Ｖicure 10（ベンゾイルイソブチルエーテル）の３成分の共重合体であってよい。このようにして厚さｔが規格の 1.2mmのディスク又はミニディスクが完成する。
【００４９】
光ディスクには情報記録容量の増大化に伴って、上記した１層式を貼り合わせ又は積み重ねたいわゆる２層式のディスクがある。図５（ａ）はその一例であり、Ａ面Ａ及びＢ面Ｂからなっている。Ａ面Ａ及びＢ面Ｂの情報は前記した工程と同様にして、それぞれ別々のスタンパーによって基板１、１をそれぞれ形成し、その上に光反射層９、９を形成した後、図示のように向かい合わせ、間に保護層３が紫外線硬化樹脂により形成されて全体の厚さｔは 1.2mmとなっている。
【００５０】
この２層式の場合、Ａ面Ａを有する基板１には半透明の誘電体の材料による光反射層２’又はアルミニウムの光反射層２が形成される。従って、半透明の光反射層２’でＡ面Ａが形成された場合はＡ面Ａ側からの片側の読み取り用となり、アルミニウムにより光反射層２が形成された場合は両面からの読み取り用となる。
【００５１】
図６（ａ）は、別の２層式の例であり、同じくＡ面Ａ及びＢ面Ｂからなっている。この２層式の場合は、Ａ面Ａ用のスタンパーにより複製したＡ面用の基板１の上に半透明の誘電体材料により光反射層２’を形成し、続いて前記した１層式と同様に、この上に紫外線硬化樹脂により保護層３’を形成したものであるが、更にこの２層式はこの保護層３’の上面に別のスタンパーを用いてＢ面Ｂ用の情報が記録されている。
【００５２】
そして、Ｂ面Ｂ用の光反射層２をアルミニウムで形成した後、紫外線硬化樹脂で保護層３が形成されて全体の厚さｔは 1.2mmとなっている。従って、この２層式ディスクの場合はＡ面Ａ側からの片側読み取り用である。
【００５３】
図７（ａ）は、また別の２層式の例であり、同じくＡ面Ａ及びＢ面Ｂからなっている。この２層式ディスクの場合、前記した図４と同様にして別々のスタンパーにより基板１、１を形成し、この上にそれぞれ光反射層２、２及び保護層３、３を形成して、作製したＡ面Ａ用及びＢ面Ｂ用が背中合わせに接着剤で結合されたものである。これも全体の厚さｔは 1.2mmとなっており、光反射層２にはアルミニウムが使用されているため両面からの読み取り用である。
【００５４】
上記した図５〜図７の各２層式ディスクの場合も図１と同様に、低級アルコールを主成分とする溶媒６に浸漬させることにより、保護層３が膨潤し光反射層２を伴って基板１から剥離して分離される。従って、それぞれの２層式ディスクの場合も図５〜図７各図（ｂ）のようにポリカーボネート樹脂１が回収できる。
【００５５】
図８は、光ディスク記録再生用のための光学系の基本構成を示したものである。光ディスクでは、情報はディスク面上に例えば幅１μｍ以下、トラックピッチは例えば約２μｍ程度のピットの配列で記録されている。そして、情報の記録再生には、直径約１〜２μｍに絞り込まれたレーザー光束が用いられる。
【００５６】
即ち、レーザー31から出射されたレーザー光束Ｌ1 はレンズ32によって拡大光束Ｌ2 になり、追従ミラー34を経て絞り込みレンズ33によって縮小されながら光ディスク28上の情報記録面に微小スポットＬ3 として絞り込まれて入射する。そして、情報記録面からの反射光は、入射時と同じ光路を戻り、ビームスプリッター35によって光検出器36へ導かれる。
【００５７】
情報再生時には、レーザー31は連続発振し光ディスク28の情報記録面上のピットの有無による反射光の強度変化を光検出器36で捕らえて信号を再生する。
【００５８】
情報の記録再生時には、光ディスク28上の情報記録面はディスク基板の反りやうねり等により、回転に応じて上下に振動するので、これをフォーカスサーボ機構で制御して対物レンズ33を矢印37のように振動させている。また、ディスク上の情報トラックは、ディスクの偏心や歪み等によって半径方向に移動するので、トラッキングサーボをミラー38のように動かして行う。
【００５９】
図８は、１層式光ディスクを例として説明したが、これが２層式の場合には、レンズ33がＡ面及びＢ面のある各基板の情報記録面にレーザースポットＬ3 の焦点を合わせるように上下動する。そして、このような情報再生用としてのレーザー31は、Ｈｅ−Ｎｅレーザー、半導体レーザー等が通常は用いられている。
【００６０】
本発明は、例えば、コンパクトディスク（ＣＤ）、ミニディスク（ＭＤ）、再生専用のコンパクトディスク（ＣＤ−ＲＯＭ）及びレーザーディスク（ＬＤ）等に適用可能であり、更に光磁気ディスク（ＭＯ）及び相変化型ディスク（ＰＤ）にも適用することができる。
【００６１】
図９は、光磁気ディスク又は相変化型光ディスクの要部を示した拡大断面図である。光磁気ディスクの場合は、ポリーカーボネート樹脂からなる基板１上に、窒化シリコン等の誘電体層11、磁性層12、窒化シリコン等の誘電体層11、アルミニウム等の金属光反射層２及び紫外線硬化樹脂からなる保護層３を順次積層して構成されている。
【００６２】
光磁気ディスクは記録媒体である磁性層12に局部的にレーザー光を照射する。集光したレーザービームの吸収熱により記録媒体がキュリー温度以上に加熱されると、それまで磁化されていた物質の保磁力が減少する現象を利用している。即ち、カー効果と呼ばれる磁気光学現象を利用して、保磁力の磁化の向きを正逆２進数としてディスク内に記録するものであり、音、映像が記録される上に書換えが可能なディスクである。
【００６３】
磁性層12の光磁気材料としては、最もポピュラーとなっている希土類−遷移金属アモルファス合金があるが、これはフェリ磁性を示す。希土類金属はランタノイド系に属する元素で不完全４ｆ軌道の電子が磁気モーメントの担い手になっていると考えられている。光磁気記録材料として用いられる希土類は、比較的大きな磁気モーメントを有するカドリニウム、テルビウム、ジスブロシウム等が主である。一方、遷移金属は、不完全ｄ殻をもつ元素であり、特に室温で強磁性を示すものとして鉄、コバルト、ニッケルがある。光磁気記録材料としては主に、鉄、コバルトが用いられる。
【００６４】
一方、相変化型光ディスクの場合は、ポリカーボネート基板１上に、亜鉛、硫黄、ケイ素、酸素等からなる例えばＺｎＳ−ＳｉＯ2 の透明誘電体層14と、銀、インジウム、亜鉛、ヒ素、ゲルマニウム、テルル、ビスマス、アンチモン、セレン等からなる例えばＧｅＴｅ−Ｓｂ2 Ｔｅ3 −Ｓｂの相変化記録層13と、ＺｎＳ−ＳｉＯ2 等の透明誘電体層14と、アルミニウム又はアルミニウム合金等の光反射層２と、紫外線硬化樹脂３からなる保護層３とを順次積層して、構成されている。
【００６５】
相変化型光ディスクの記録消去の原理は、記録媒体である相変化層13に局部的にレーザー光を照射すると、強い光パルスにより融点以上に記録材料が急熱、急冷されて、原子配列が乱れたまま固定化して非晶質化することによって情報が記録される。また、反対に、結晶化温度以上に徐熱、徐冷して、原子の配列を結晶状態に戻すことによって消去される。
【００６６】
従って、再生専用型光ディスクの場合と同様に、反射光量の変化として検出するものである。そして、光磁気ディスクと同じく、音、映像が記録される上に書換えが可能なディスクである。
【００６７】
なお、相変化光記録層13に用いられる材料は、カルコゲン化合物（テルル、セレン、硫黄のうち一元素を含む材料）または合金であって、特にカルコゲン化合物は非晶質になり易いのが特徴である。代表的な材料としてゲルマニウム−アンチモン−テルルなどがある。
【００６８】
以上、本発明による樹脂の回収方法が適用される各種の光ディスク及びその製造過程の概要を説明したが、上記した如く、全ての光ディスクに基板１としてポリカーボネートが使用されており、基板１と保護層３との間にはアルミニウム又はアルミニウム合金からなる光反射層２が介在している。
【００６９】
光磁気ディスク及び相変化型光ディスクの場合は、光反射層２と基板１との間に更に他の材料が設けられているが、これらも保護層３と共に低級アルコールによって膨潤して剥離することができる。即ち、保護層３を剥離する際、アルミニウム等の反射層２、誘電体膜４、磁性層12及び／又は相変化層13が保護層３に付着して同時に取り除くことができる。これは、保護層の樹脂が、アルミニウムやアルミニウム合金に強く接着することによるものと思われる。そのため、基板１であるポリカーボネートよりも保護層３の樹脂に強く吸着し、剥離の際は保護層３の樹脂に付着し易いためである。
【００７０】
上記した本実施例の効果を実証するために、市販のコンパクトディスクを用いて行った各種の試験結果及びその評価を次に説明する。
【００７１】
＜例１−１＞
市販のコンパクトディスク（ＣＤ）をメタノール溶液に浸漬して放置した。保護膜とこの保護膜に付着した光反射層を剥がし、ポリカーボネート基板を蒸留水で洗浄した。
【００７２】
＜例１−２＞
市販のＣＤをエタノール溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００７３】
＜例１−３＞
市販のＣＤをイソプロピルアルコール溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００７４】
＜例１−４＞
溶液の温度を50℃に変更した以外は、例１−１と同様にした。
【００７５】
＜例１−５＞
溶液の温度を50℃に変更した以外は、例１−２と同様にした。
【００７６】
＜例１−６＞
溶液の温度を50℃に変更した以外は、例１−３と同様にした。
【００７７】
＜例１−７＞
１Ｎの水酸化ナトリウムのメタノール溶液に浸漬した以外は、例１−１と同様にした。
【００７８】
＜例１−８＞
１Ｎの水酸化ナトリウムのエタノール溶液に浸漬した以外は、例１−２と同様にした。
【００７９】
＜例１−９＞
１Ｎの水酸化ナトリウムのイソプロピルアルコール溶液に浸漬した以外は、例１−３と同様にした。
【００８０】
＜例２−１＞
市販の光ディスク（ＭＯ）をメタノール溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００８１】
＜例３−１＞
市販の相変化ディスク（ＰＤ）をメタノール溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００８２】
＜比較例１＞
市販のコンパクトディスク（ＣＤ）を水溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００８３】
＜比較例２＞
市販のＣＤを60℃の水溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００８４】
＜比較例３＞
市販のＣＤを飽和塩化カリウム水溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００８５】
＜比較例４＞
市販のＣＤをテトラヒドロフラン溶液に浸漬して放置した以外は、例１−１と同様にした。
【００８６】
＜例４−１＞
例１−１において、回収したポリカーボネート基板を洗浄後、保持された信号ピット面上にアルミニウム光反射層及び紫外線効果樹脂の保護層を形成し、再び光ディスクとして再生した。比較例１についても同様にし、これを比較例５とした。
【００８７】
＜例４−２＞
例１−１において、回収したポリカーボネート基板を洗浄後、保持された信号ピット面に無電解めっきによる金属膜及び電気めっきによるニッケル膜を形成し、これを剥離してスタンパーを作製した。このスタンパーからポリカーボネート基板を成形し、例４−１と同様にして光ディスクを作製し、再生した。比較例１についても同様にし、これを比較例６とした。
【００８８】
上記した各例の結果を下記の表１〜表４に示して評価した。評価の記号は、○は保護膜が剥離できる、△は保護膜が一部剥離、×は保護膜を剥離できない。また、表面状態における○は信号ピットの形状良好、△は一部良好、×は不良。品質における○は強度、透明性良好、△は強度、透明性やや不良、×は強度、透明性不良。また、表４の性能の○は光ディスク又はスタンパとして良好、△は性能劣る、×は不良。品質の○は良好、△はやや劣る、×は不良を表したものである。
【００８９】
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【００９０】
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【００９１】
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【００９２】
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【００９３】
上記の結果から、溶媒が水や塩溶液、テトラヒドロフランでは加熱又は超音波処理しても目的が達成できない（比較例１〜４）が、低級アルコールを使用すれば、常温でもポリカーボネート基板から紫外線硬化樹脂の保護層が膨潤し、光反射層と共に剥離し分離できることが分かる（例１−１〜１−９、２−１、３−１）。
【００９４】
また、アルコールを加熱したり、或いは、超音波を照射してアルコールに振動を与えれば更に効果的であることも立証され、前記した本実施例の効果が証明できた。また、アルコールを加熱すると、剥離速度が早くなり、超音波処理がなくてもよく、或いは、アルコールにアルカリを混合しても、剥離速度が早くなり、常温でも剥離効果がある。アルカリとしては、ＮａＯＨ以外も使用できるし、或いはＨＣｌ等の酸を添加しても剥離効果がある。
【００９５】
本実施例によれば、光ディスクを炭素数が１〜６の低級アルコールを主成分とする液体に浸漬することにより、紫外線硬化樹脂からなる保護層３が膨潤し、基板１との接着力よりも強い保護層３との接着力で接着しているアルミニウムの光反射層２が、膨潤により体積が膨張した保護層３と共に基板１から効果的に剥離される。
【００９６】
しかも、溶媒が低級アルコール６であるため、保護層３が溶解しないので、溶媒の濃度が低下したり、粘度が高くなることもなく、溶媒が劣化することもない。
【００９７】
更に、溶媒を加熱又は超音波照射下等で作用させると一層効果が大きい。また、例４−１、４−２のように、基板１の材料であるポリカーボネートは分離後も透明性等の品質を保持するので、そのまま光ディスクの基板１として再度使用することができる。従って、これにより歩留りが向上し、生産の効率化が実現される。
【００９８】
以上、本発明について説明したが、本発明は上記した実施例に限定されるものではなく、本発明の技術思想に基づいて種々の変形が可能である。
【００９９】
例えば、保護層の膨潤用のアルコールは、複数種を混合して使用してよいし、他の物質を任意に添加して効果を助長してよい。
【０１００】
また、基板として、ポリカーボネート基板以外にも、透明性、熱可塑性、機械的強度及び耐溶剤性のあるもの、例えば、ポリ塩化ビニル（ＰＶＣ）やポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）を材料とする基板にも本発明を適用することができる。
【０１０１】
更に、本発明は、上述した信号ピットと共にプリグルーブ等を有する光ディスクに適用してよい。また、樹脂上に金属層を介して被分離層のあるものであれば、上述した光ディスク以外の種々の製品に広く応用することができる。
【０１０２】
【発明の作用効果】
本発明は、樹脂を主成分とする目的物と被分離物とが金属層を介して一体化され、この一体化物から前記被分離物を分離して前記目的物を回収するに際し、前記一体化物を液体で処理して前記被分離物を選択的に膨潤させ、前記金属層と共に前記目的物から剥離するので、被分離物が体積膨張し、被分離物は金属層を伴って目的物から剥離され、分離される。従って、目的物である樹脂を効果的に回収して再利用することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例による樹脂の回収過程を示す図であり、（ａ）は光ディスク要部の拡大概略断面図、（ｂ）はアルコールに浸漬後の保護層が膨潤した状態の拡大概略断面図、（ｃ）は回収した樹脂の拡大概略断面図である。
【図２】同実施例の方法により光ディスクをアルコールに浸漬した状態を示す概略図である。
【図３】光ディスクの原盤の作製工程を示す概略断面図である。
【図４】光ディスクの複製工程の一部を示す概略断面図である。
【図５】本実施例による２層式光ディスクの樹脂の回収を示す図であり、（ａ）は要部の拡大概略断面図、（ｂ）は回収した樹脂の拡大概略断面図である。
【図６】同他の２層式光ディスクの樹脂の回収を示す図であり、（ａ）は要部の拡大概略断面図、（ｂ）は回収した樹脂の拡大概略断面図である。
【図７】同更に他の２層式光ディスクの樹脂の回収を示す図であり、（ａ）は要部の拡大概略断面図、（ｂ）は回収した樹脂の拡大概略断面図である。
【図８】光ディスクの情報再生機構を示す概略図である。
【図９】光磁気ディスク（又は相変化型光ディスク）を示す要部の拡大概略断面図である。
【符号の説明】
１・・・ポリカーボネート
２・・・光反射層
２’・・・半透明層
３・・・保護層
３’・・・膨潤した保護層
４Ａ、４Ｂ・・・レーザー光
５・・・光ディスク（不良品）
６・・・低級アルコール
７・・・容器
８・・・ピット
11・・・窒化シリコン誘電体層
12・・・磁性層
13・・・相変化記録層
14・・・透明誘電体層
40・・・ガラス原板
41・・・フォトレジスト
41ａ、41ｂ・・・照射部分
42・・・金属膜
43・・・めっき層
44・・・スタンパー
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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