(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
蛍光Ｘ線測定装置により未知試料を測定する段階と、
この蛍光Ｘ線測定による結果を解析して前記未知試料の付着量を算出する段階と、
Ｘ線反射率測定により前記未知試料を測定する段階と、
このＸ線反射率測定による結果を解析し、その解析により得た前記未知試料の付着量と前記蛍光Ｘ線測定装置によって得た付着量との間で矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより、前記未知試料の構造を決定する段階と
を具備するＸ線反射率測定及び蛍光Ｘ線測定による金属多層膜の構造解析方法。
【請求項２】
標準試料のＸ線反射率測定を行い、その測定結果を解析することによりその標準試料の構造を決定する段階と、
この解析結果から、前記標準試料の特性Ｘ線の理論強度を算出する段階と、
前記蛍光Ｘ線測定装置により前記標準試料の蛍光Ｘ線測定を行い、前記標準試料の特性Ｘ線の実測値を得る段階と、
前記特性Ｘ線の理論強度と前記特性Ｘ線の実測値とから前記蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を得る段階と、
この感度係数に設定された前記蛍光Ｘ線測定装置により未知試料を測定する段階と、
この蛍光Ｘ線測定による結果を解析して前記未知試料の付着量を算出する段階と、
Ｘ線反射率測定により前記未知試料を測定する段階と、
このＸ線反射率測定による結果を解析し、その解析により得た前記未知試料の付着量と前記蛍光Ｘ線測定装置によって得た付着量との間で矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより、前記未知試料の構造を決定する段階と
を具備するＸ線反射率測定及び蛍光Ｘ線測定による金属多層膜の構造解析方法。
【請求項３】
請求項２に記載のＸ線反射率及び蛍光Ｘ線測定による金属多層膜の構造解析方法に使用する標準試料であって、
定量しようとする金属材料からなる単層の金属薄膜と、
この金属薄膜と異なる屈折率を有し、かつ酸化を防止する材料で形成され、前記単層の金属薄膜の上下を挟んで成膜された２層の薄膜と
からなる標準試料。
【請求項４】
前記単層の金属薄膜が３ｄ磁性金属であって、前記２層の薄膜がＴａである請求項３に記載の標準試料。
【請求項５】
Ｘ線反射率測定装置と、
蛍光Ｘ線測定装置と、
標準試料及び未知試料を前記Ｘ線反射率測定装置と前記蛍光Ｘ線測定装置の測定位置に搬送する装置と、
前記標準試料を、前記Ｘ線反射率測定装置と前記蛍光Ｘ線測定装置により測定した測定結果から、前記蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を設定する感度係数決定部と、
前記未知試料に関して、前記感度係数が設定された前記蛍光Ｘ線測定装置と前記Ｘ線反射率測定装置により付着量を測定し、各測定結果を、矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより解析して、最適な解析解を得て構造を決定する構造決定部と
を具備するＸ線反射率及び蛍光Ｘ線測定による金属多層膜の構造解析装置。
【請求項６】
蛍光Ｘ線測定装置に未知試料を測定させる手順と、
この蛍光Ｘ線測定による結果を解析して前記未知試料の付着量を算出させる手順と、
Ｘ線反射率測定に前記未知試料を測定させる段階と、
このＸ線反射率測定による結果を解析し、その解析により得た前記未知試料の付着量と前記蛍光Ｘ線測定装置によって得た付着量との間で矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより、前記未知試料の構造を決定させる段階と
をコンピユータに実行させるプログラムを記憶したコンピユータ読み取り可能な記憶媒体。
【請求項７】
標準試料のＸ線反射率測定を行い、測定結果を解析することによりその標準試料の構造を決定させる手順と、
この解析結果から、前記標準試料の特性Ｘ線の理論強度を算出させる手順と、
前記蛍光Ｘ線測定装置に前記標準試料の蛍光Ｘ線測定を行わせ、前記標準試料の特性Ｘ線の実測値を得させる手順と、
前記特性Ｘ線の理論強度と前記特性Ｘ線の実測値とから前記蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を得させる手順と、
この感度係数に設定された前記蛍光Ｘ線測定装置に未知試料を測定させる手順と、
この蛍光Ｘ線測定による結果を解析して前記未知試料の付着量を算出させる手順と、
Ｘ線反射率測定に前記未知試料を測定させる手順と、
このＸ線反射率測定による結果を解析し、その解析により得た前記未知試料の付着量と前記蛍光Ｘ線測定装置によって得た付着量との間で矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより、前記未知試料の構造を決定させる段階と
をコンピユータに実行させるプログラムを記憶したコンピユータ読み取り可能な記憶媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、金属多層膜の密度、膜厚、界面ラフネスなどの構造を解析するための方法及びそれに用いる標準試料及び装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
金属多層膜の構造を解析する方法としては、Ｘ線反射率測定法及び蛍光Ｘ線装置を用いる方法がある。
Ｘ線反射率測定法は、金属多層膜の膜構造を非破壊で評価できる方法として近年注目されている。Ｘ線反射率測定による金属多層膜の構造解析は、理論上では反射率プロファイルを解析することで可能である。しかし、実際の測定データは様々なエラーを含んでいるため、評価精度が低下する。
【０００３】
特に、Ｘ線に対する屈折率が近い複数の層が相互に近接して配置されている積層膜では、合計膜厚は評価できるものの、層を分離して評価することが比較的難しい。このような積層膜の合計膜厚の内訳を分離して評価するためには、測定時間を長くするなどにより、十分に高精度な測定が必要となる。しかし、汎用のＸ線反射率装置では、一枚のサンプルの測定に数時間もの時間が必要となり、応用面で問題が発生する。また、試料に対し非常に小さな角度でＸ線を入射するため、Ｘ線と試料のアライメントが難しいなどの問題がある。
【０００４】
蛍光Ｘ線測定による方法は、試料に含まれる各元素の特性Ｘ線を検出して構造を解析するため、屈折率が近い層が近接して配置された場合でも、各層の分離評価が容易に行える。
しかし、一般に蛍光Ｘ線測定は、定量したい元素についての感度係数、即ち、構造の分かっている標準試料に対し理論的に計算される蛍光Ｘ線の出力と実測値との比を知る必要がある。これは、試料の膜厚に応じて装置の感度係数が大幅に異なるため、標準試料を用いて装置の絶対値（感度係数）を補正して構造解析をする必要があるためである。通常、バルク試料に対する感度係数値は求められているが、バルク試料での蛍光Ｘ線出力は、薄膜試料に比べて１００〜１０００倍も大きい。そのように全く出力の異なる領域で求められた感度係数を薄膜の場合に適用することはできない。
【０００５】
また、磁気ヘッドなどの、各膜厚が数十Å程の薄膜試料を蛍光Ｘ線により定量する場合、これまで、蛍光Ｘ線測定に用いる標準試料として薄膜試料と同等の膜厚を有し、構造が明確に決定されており、かつ、標準試料として安定に存在し得る試料がなかった。というのは、従来、数十Åほどの薄膜の構造を決定する手段がなかったこと、薄膜の状態では、材料の酸化などを防ぎ試料を安定に保つことが困難なことから、適当な標準試料を得ることができなかった。したがって、磁気ヘッドなどの薄膜試料を蛍光Ｘ線で測定する場合に、その絶対値の評価精度が低かった。
【０００６】
さらに、Ｘ線反射率測定法は、金属多層膜の密度、膜厚、界面ラフネスなどの多様な構造を評価できるが、蛍光Ｘ線測定法は、付着量の評価しかできないという問題もある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、従来の蛍光Ｘ線測定による薄膜試料の構造解析は、蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を決定するための信頼できる標準試料がないため、絶対精度の高い測定ができないという問題がある。また、Ｘ線反射率測定による金属多層膜の構造解析は、屈折率の近い層の分離が困難であるという問題がある。このように、従来の金属多層膜の構造解析においては、正確かつ短時間に行える膜構造の評価方法がなかった。
【０００８】
本発明は、金属多層膜の構造解析を正確かつ短時間で行える方法及び装置を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するためなされたものである。
本発明のＸ線反射率測定及び蛍光Ｘ線測定による金属多層膜の構造解析方法は、蛍光Ｘ線測定装置により未知試料を測定する段階と、この蛍光Ｘ線測定による結果を解析して前記未知試料の付着量を算出する段階と、Ｘ線反射率測定により前記未知試料を測定する段階と、このＸ線反射率測定による結果を解析し、その解析により得た前記未知試料の付着量と前記蛍光Ｘ線測定装置によって得た付着量との間で矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより、前記未知試料の構造を決定する段階とからなる。
【００１０】
未知試料に屈折率の近い複数の層が相互に近接して配置されていると、Ｘ線反射率測定では、各層ごとの付着量を評価することはできないが、近接する各層の合計の付着量が得られる。一方、蛍光Ｘ線測定によれば、同じ未知試料について金属多層膜の各層ごとの付着量を算出することができる。したがって、Ｘ線反射率測定により得た解析結果について、蛍光Ｘ線測定により得た解析結果との間で矛盾しない構造パラメータを選択することにより、未知試料の密度、膜厚、ラフネスなどの各種構造を評価することができる。
【００１１】
また、本発明においては、蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を正確に設定するための標準試料を提供する。この標準試料は、定量しようとする金属材料からなる単層の金属薄膜と、この金属薄膜と異なる屈折率を有し、かつ酸化を防止する材料で形成され、前記単層の金属薄膜の上下を挟んで成膜された２層の薄膜とから構成される。この標準試料は屈折率の近い層が近接して配置されることがないので、Ｘ線反射率測定によりその構造を決定することができる。
【００１２】
また、この標準試料を使用してＸ線反射率測定を行い、その測定結果を解析することによりその標準試料の構造を決定する段階と、この解析結果から、前記標準試料の特性Ｘ線の理論強度を算出する段階と、前記蛍光Ｘ線測定装置により前記標準試料の蛍光Ｘ線測定を行い、前記標準試料の特性Ｘ線の実測値を得る段階と、前記特性Ｘ線の理論強度と前記特性Ｘ線の実測値とから前記蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を得る段階とから、蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を補正することができる。
【００１３】
これにより、薄膜構造の金属多層膜を測定する際の蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を正確に決定することができるので、上述の金属多層膜の構造解析方法における精度を向上させることができる。
さらに、本発明は、上述の金属多層膜の構造解析を行う装置を、Ｘ線反射率測定装置と、蛍光Ｘ線測定装置と、標準試料及び未知試料を前記Ｘ線反射率測定装置と前記蛍光Ｘ線測定装置の測定位置に搬送する装置と、前記標準試料を、前記Ｘ線反射率測定装置と前記蛍光Ｘ線測定装置により測定した測定結果から、前記蛍光Ｘ線測定装置の感度係数を設定する感度係数決定部と、前記未知試料に関して、前記感度係数が設定された前記蛍光Ｘ線測定装置と前記Ｘ線反射率測定装置により付着量を測定し、各測定結果を、矛盾が生じない構造パラメータを選択することにより解析して、最適な解析解を得て構造を決定する構造決定部とから構成することができる。
【００１４】
この装置によれば、標準試料による蛍光Ｘ線測定装置の感度係数の補正から、未知試料の構造解析までを、自動的に短時間に行うことができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について図を用いて説明する。
図１は、本発明を適用した金属多層膜の構造解析装置の構成を示す。
図１において、１は構造解析装置で、Ｘ線反射率測定装置２と蛍光Ｘ線測定装置３と構造解析部４と自動搬送装置７と表示装置１０を具備する。Ｘ線反射率測定装置２と蛍光Ｘ線測定装置３は公知のものが使用される。構造解析部４はコンピユータにより構成される。構造解析部４は、蛍光Ｘ線測定装置３の感度係数を決定するための感度係数決定部５と、構造決定部６を有する。自動搬送装置７は、標準試料８及び未知試料９をＸ線反射率測定装置２及び蛍光Ｘ線測定装置３の測定位置へ搬送する。なお、この自動搬送装置７の制御については説明を省略する。
【００１６】
図２に、構造解析部４のハード構成を示す。
構造解析部４は、ＣＰＵ１１と、ＲＡＭ又はハードディスクなどのメモリ１２と、インターフェース１３とを具備し、インターフェース１３には、Ｘ線反射率測定装置２、蛍光Ｘ線測定装置３、表示装置１０、外部メモリ装置１４が接続される。ＣＰＵ１１は、外部メモリ装置１４が読み取るＣＤ−ＲＯＭ又はＦＤなどの記憶媒体１５に記憶されたプログラムによって、以下に説明する処理を実行する。なお、プログラムを記憶した記憶媒体としては、メモリ１２を使用することも、或いは、図示しない回線などに接続されたメモリを使用することもできる。
【００１７】
ここで、図１に示した構造解析装置１の動作の概略を説明する。
標準試料８としては、定量したい層の厚さを変えた数枚の試料が用意される。自動搬送装置７は、最初に標準試料８をＸ線反射率測定装置２へ運び、標準試料８についてＸ線反射率測定を行い、次いで、蛍光Ｘ線測定装置３へ運び、蛍光Ｘ線測定を行う。構造解析部４の感度係数決定部５は、Ｘ線反射率測定の結果と蛍光Ｘ線測定の結果に基づいて、蛍光Ｘ線測定装置３の感度係数を決定し、蛍光Ｘ線測定装置３にその感度係数を設定する。
【００１８】
次に、自動搬送装置７は、スピンバルブ膜などの未知試料９を順次、Ｘ線反射率測定装置２と蛍光Ｘ線測定装置３へ搬送する。構造解析部４の構造決定部６では、Ｘ線反射率測定の結果と蛍光Ｘ線測定の結果に基づいて、未知試料９の構造解析を行い、表示装置１０へ密度、膜厚、界面ラフネスなどの構造解析結果を表示する。
【００１９】
次に、構造解析部４における構造解析処理について詳細に説明する。
図３は、構造解析部４における処理動作を示すフローチャートである。
図３において、ステップＳ１〜Ｓ４が、感度係数決定部５により標準試料８を用いて蛍光Ｘ線測定装置３の感度係数を決定する処理を示す。また、ステップＳ５〜Ｓ９が、構造決定部６により未知試料９の構造を決定する処理を示す。
【００２０】
図４に、本例において使用される標準試料８と未知試料９の構造を示す。
図４（Ａ）は標準試料８の構造を示す。Ｘ線反射率測定装置２は、Ｘ線に対する屈折率が近い層を分離して評価することが困難であるが、屈折率が異なるＴａ（タンタル）と３ｄ磁性金属層との分離は容易に行える。標準試料８は、このＸ線反射率の性質を利用するため、単層の３ｄ磁性金属層を安定なＴａで挟んだ膜を成膜して作成する。
【００２１】
具体的には、Ｓｉ基板上に、５０Å厚のＴａ層、ｘÅ厚のＸ層、１００Å厚のＴａ層を成膜している。ただし、ｘÅは膜厚を表し、Ｘは、ＮｉＦｅ，ＣｏＦｅ，Ｃｕなどの３ｄ磁性金属層を表す。なお、以下の説明においては、図示の薄膜構造をＳｉ／Ｔａ（５０）／Ｘ（ｘ）／Ｔａ（１００）のように表す。ここで上下のＴａ層の膜厚は厳密に５０，１００Åである必要はなく、およそ同一レベルであればよい。
【００２２】
本例では、標準試料８の金属層Ｘとして後述の未知試料９の１つの金属層であるＣｏＦｅを使用し、その膜厚ｘとして、３５Å、５５Å、７５Åの３種類の標準試料を使用する。なお、この膜厚としては、未知試料のＣｏＦｅ層の膜厚と同一レベルにあれば良く厳密に同一である必要はない。また、３種類の膜厚を用意するのは感度係数の決定の精度を向上させるためであって、１種類の標準試料を用意するだけでも良いものである。
【００２３】
図４（Ｂ）に示す未知試料は、Ｓｉ／Ｔａ（５０）／ＮｉＦｅ（２０）／ＣｏＦｅ（５５）／Ｔａ（１００）の構造を有するものとする。
図３のステップＳ１で、定量すべき層の厚さが異なる３種類の標準試料〔Ｓｉ／Ｔａ（５０）／ＣｏＦｅ（ｘ）／Ｔａ（１００），ｘ＝３５，５５，７５Å〕についてＸ線反射率測定装置２によりＸ線反射率測定を行う。
【００２４】
ステップＳ２で、Ｘ線反射率測定の結果を解析して構造を決定する。この構造決定は公知の手法を使用して実現できる。
図５に、実測したＸ線反射率曲線を点で、フィッティング結果を実線で示す。図５の横軸はＸ線の入力角度（ｄｅｇ）を示し、縦軸は測定された反射量を示す。いずれの試料に対しても、２θ≦７ｄｅｇの広い角度範囲で微細な構造まで測定データを良く再現している。図中に示したＲ値はフィッティングの良し悪しの指標であり、およそ２％であった。
【００２５】
図６に、評価パラメータをまとめて示す。なお、図６におけるＴａ2 Ｏ5 は、Ｔａ層の表面にできた酸化膜層を表している。
図３のステップＳ３で、蛍光Ｘ線測定装置３により蛍光Ｘ線測定を行う。
ステップＳ４で蛍光Ｘ線測定装置の感度補正を行う。感度補正のため、最初に、図６の評価パラメータを基に、３種類の標準試料ごとにFundamental Parameter method（ＦＰ法）を用いてＣｏＫα線の理論強度を計算する。
【００２６】
図７に、ＣｏＫα線の理論強度と実測値との関係を示す。横軸は計算して求めた理論強度で、縦軸はステップＳ３で測定した実測値である。３種類の標準試料（ｘ＝３５，５５，７５Å）ごとの結果をプロットすると、図示のとおりとなり、理論強度と実測値との間には良い比例関係が成り立ち、その傾きがＣｏＫα線に対する蛍光Ｘ線測定装置３の感度係数ｆ＝４．０４となる。なお、標準試料８の個数は、１個だけとしても精度の良い結果を得ることができる。
【００２７】
なお、同一測定装置を用いてバルク試料を測定した場合、感度係数としてｆ＝４．６４が得られた。このように、薄膜の場合とバルク試料の場合では、感度係数に約１３％のずれが生じる。したがって、蛍光Ｘ線測定装置に対して、薄膜標準試料を用いて感度係数を補正する必要性があることが理解できる。
図２に示す構造解析部４の感度係数決定部５は、以上のようにして、標準試料から感度係数を決定し、これにより、蛍光Ｘ線測定装置３の感度を設定する。このように、本例においては、蛍光Ｘ線測定装置３の感度係数を薄膜の標準試料の測定に基づいて設定するので、以下に説明する未知試料の構造の決定を正確に行うことが可能となる。
【００２８】
図３のステップＳ５で、定量しようとする未知試料９がＸ線反射率測定装置２へ運ばれ、Ｘ線反射率測定が行われる。図８に、未知試料〔Ｓｉ／Ｔａ（５０）／ＮｉＦｅ（２０）／ＣｏＦｅ（５５）／Ｔａ（１００）〕に対するＸ線反射率の測定結果を示す。
ステップＳ６で、感度係数が補正された蛍光Ｘ線測定装置３へ未知試料９が運ばれ、蛍光Ｘ線測定が行われ、その結果から公知の手法により付着量が算出される。図９に、上記未知試料９の解析結果により算出された付着量の例を示す。蛍光Ｘ線測定装置３は、前述のように、屈折率が近い層（ＮｉＦｅ層，ＣｏＦｅ層）が近接して配置された場合でも、各層を分離して評価をすることができる。そして、蛍光Ｘ線測定装置３は、感度係数が正確に設定されている。したがって、蛍光Ｘ線測定装置３により解析した図９に示す付着量は正確である。
【００２９】
ステップＳ７で、Ｘ線反射率測定の結果を解析して、付着量を算出する。このＸ線反射率測定装置２では、前述のように、屈折率が近い層（ＮｉＦｅ層，ＣｏＦｅ層）が近接して配置された場合、各層を分離して評価できないので、ここでは、ＮｉＦｅの膜厚を順次異なる値に固定して、各層ごとの付着量を算出する。
図１０に、Ｘ線反射率測定の結果を公知の方法により解析して各パラメータを変化させてフィッティングを試みた結果を示す。パラメータの１例として、（ａ）評価膜厚、（ｂ）付着量（＝評価密度×評価膜厚）、（ｃ）フィッティングの精度Ｒ値を示す。（ａ）〜（ｃ）において、横軸は固定したＮｉＦｅの膜厚（Å）である。（ａ）の縦軸は各層の膜厚（Å）を示し、（ｂ）の縦軸は、ＣｏＦｅ層とＮｉＦｅ層の付着量（μｇ／ｃｍ2 ）を示し、（ｃ）の縦軸は、フィッティングの精度Ｒ値（％）を示す。この（ｃ）に示されたように、屈折率が近い層が近接する場合、フィッティングの善し悪しの指標であるＲ値の変化は緩やかで、最適なパラメータを決定することが困難であることを示している。
【００３０】
図３のステップＳ８で、蛍光Ｘ線測定の結果から求めたＮｉＦｅ層とＣｏＦｅ層の付着量と、Ｘ線反射率測定から解析したＮｉＦｅ層とＣｏＦｅ層の付着量が等しいか否かを判定する。ここで、両者が等しくない場合は、ステップＳ７へ戻り、Ｘ線反射率測定の解析においてＮｉＦｅ層の固定膜厚を変化させて、ＮｉＦｅ層とＣｏＦｅ層の付着量を算出し、この値を用いて更にステップＳ８で比較を行う。
【００３１】
図１０に示した例では、図９のＮｉＦｅ層の付着量１．４９（μｇ／ｃｍ2 ）及びＣｏＦｅ層の付着量４．５０（μｇ／ｃｍ2 ）とほぼ等しくなる評価パラメータの組み合わせは、ＮｉＦｅ層を１６（Å）としたときに得られることが分かる（図１０（ｂ））。図３のステップＳ８で、蛍光Ｘ線測定の結果とＸ線反射率測定の結果がほぼ等しくなった場合は、ステップＳ９へ進み、等しくなったときのＮｉＦｅ層の固定膜厚を用いて、構造を決定する。
【００３２】
なお、ステップＳ７及び８の変形例として、ステップＳ７で、図１０に示す範囲の解析を全て実行し、ステップＳ８でその解析結果の中から最も蛍光Ｘ線測定の結果に近いＮｉＦｅ層の固定膜厚を用いて構造を決定することもできる。
このように、各構成層の付着量（＝評価密度×評価膜厚）が蛍光Ｘ線測定の結果と一致するという条件を付加することで、反射率測定の解析精度を向上させることができる。また、この解析方法を自動で行うプログラムにより、簡便かつ高速に解析が可能となり、実際の製造プロセスで利用可能な評価技術となる。
【００３３】
【発明の効果】
本発明によれば、これまで正確に膜構造を評価することが困難であった金属多層膜の構造解析が正確に行えるようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を適用した金属多層膜の構造解析装置の構成を示す図。
【図２】図１の構造解析部の構成を示す図。
【図３】図１の構造解析部の動作を説明するフローチャート。
【図４】図１の構造解析装置で使用する標準試料及び未知試料の構造を示す図。
【図５】図４の標準試料のＸ線反射率曲線及びフィッティング結果Ｒを示す図。
【図６】図５から得た評価パラメータを示す図。
【図７】蛍光Ｘ線測定装置で得たＣｏＫα線の理論強度と実測値との関係を示す図。
【図８】図４の未知試料のＸ線反射率曲線及びフィッティング結果Ｒを示す図。
【図９】蛍光Ｘ線測定装置により未知試料から得た付着量の例を示す図。
【図１０】Ｘ線反射率測定の結果をＮｉＦｅ固定膜厚に対する評価パラメータを示す図。
【符号の説明】
１…構造解析装置
２…Ｘ線反射率測定装置
３…蛍光Ｘ線測定装置
４…構造解析部
５…感度係数決定部
６…構造決定部
７…自動搬送装置
８…標準試料
９…未知試料
１０…表示装置
１１…ＣＰＵ
１２…メモリ
１３…インターフェース
１４…外部メモリ装置
１５…記憶媒体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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