(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）炭素数９〜１５のノルマルパラフィンの実質的に１種又は炭素数が１異なる前記炭化水素の実質的に２種の混合物からなる炭化水素系溶剤と、（ｂ）前記炭化水素系溶剤の常圧換算５０％留出温度±１０℃の沸点を有する１種又は２種以上のテルペン系溶剤、の両方を含み、ハロゲン系溶剤を含まないことを特徴とする洗浄剤組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の洗浄剤に、フェノール系及び／又はアミン系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ配合した洗浄剤組成物。
【請求項３】
請求項２に記載の洗浄剤に、リン系及び／又はイオウ系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ配合した洗浄剤組成物。
【請求項４】
請求項１〜３に記載のいずれか一つの洗浄剤を、洗浄剤の常圧換算５０％留出温度の±２５℃以内で蒸留再生することを特徴とする洗浄剤の蒸留再生方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は電気部品、電子部品、機械部品などの加工、組立工程に使用される機械油、ワックス、グリース、フラックスなどの洗浄性に優れ、かつ蒸留再生性に優れた洗浄剤組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、精密機械部品、電気・電子部品は、はんだ付け後に付着残存するハンダフラックス、とりわけロジン系フラックスを除去するため、また、機械部品に対しては、金属加工時に使用した加工油などを除去するため、フロン１１３、１,１,１−トリクロロエタン、塩化メチレン、トリクロロエチレン等のハロゲン化炭化水素系溶剤が用いられてきた。しかしながら、これらハロゲン化炭化水素系溶剤、とりわけフロン１１３、１,１,１−トリクロロエタンは、オゾン層の破壊の問題から、使用が制限或は禁止されるものである。このため、これらに代替し得る洗浄剤の開発が進められてきた。
【０００３】
主な代替洗浄剤としては、水系洗浄剤、有機溶剤を用いた溶剤系洗浄剤等があり、有機溶剤系ではオゾン破壊係数が低いフッ素系炭化水素や、炭化水素系の溶剤を主成分としたものが用いられる。
【０００４】
水系洗浄剤は、安全性が高く、フラックスなどの極性物質に対して高い洗浄力を有する。しかし、金属表面において錆が発生しやすく、また、金属加工油、グリースなどに対する脱脂力が不足することがあった。金属加工油、グリース等に対する洗浄性を向上させるため、水にノニオン系界面活性剤及び３−メトキシ−３−メチル−１−ブタノールを添加した洗浄剤が特開平７−１０９４９３号公報に記載されている。しかし、被洗浄物の錆発生防止に気を配る必要があることには変りはない。
【０００５】
有機溶剤系洗浄剤の中でも、フッ素系炭化水素有機溶剤を用いた代替洗浄剤は多くの開示があり、例えば特開昭６４−１５２２００号公報には１，１−ジクロロ−２，２，２−トリフルオロエタン及びアルコールの混合溶液に、ニトロメタン、１，２，３−ベンゾトリアゾール等を添加した洗浄剤が記載されている。また、特開平３−２８５９９７号公報には炭化水素系溶剤、特定フロンを除くフッ素系溶剤、テルペノイド溶剤、アルコール系溶剤等からなる油洗浄性に優れた洗浄組成物が記載されている。特定フロンを除くフッ素系溶剤は、オゾン破壊係数が限りなくゼロに近いものが使用されており、例えばＨＦＣ−１３４ａ、ＨＦＣ−１５２ａ等である。
【０００６】
炭化水素溶剤を用いた洗浄剤についても種々の開示があり、例えば、特開平３−１４６５９７号公報、特開平７−５０３０３２号公報には、炭化水素溶剤にアルコール、エーテル、ケトン等の極性物質を添加しフラックス除去性、部品洗浄性を向上させた洗浄剤が記載されている。また、環状テルペン、イソパラフィン及びナフテン系溶剤を組合わせ、主に光学部品用に用いる洗浄剤が特開平６−３３６５９９号公報に開示されている。このようなアルコールなどの極性溶剤を炭化水素系溶剤に加えた洗浄剤は、フラックスと金属加工油の両方の汚れに対する洗浄性を満足するものが多い。
【０００７】
上記のような溶剤系洗浄剤は、コスト削減及び環境への影響を軽減するため、通常蒸留回収して繰り返し使用する。蒸留回収時に組成変化があると、洗浄性能に影響するため、蒸留回収しても組成変化の少ない洗浄剤を用いる必要がある。また、この蒸留回収時や洗浄時に極性物質が分解或いは酸化され、洗浄剤が劣化したり爆発性の過酸化物が生成することがある。これを防止するため、２，６−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−ｐ−クレゾール（ＢＨＴ）等の酸化防止剤を添加した例が、特開平７−２６８３９１号公報に開示されている。
【０００８】
しかし、通常容易に入手可能な炭化水素溶剤は、特定の沸点範囲の石油留分を蒸留分離したものや、芳香族炭化水素留分を水素化したナフテン系溶剤である。このため、沸点範囲が比較的広く、蒸留回収することによって組成が変化することがあった。また、このような炭化水素溶剤は、いわゆる石油臭が強いものが多い。一方、アルコールなどの極性溶剤も不快臭を有するものがあり、これらの両者が混合された場合、不快臭が助長されることがある。
【０００９】
炭化水素系溶剤の石油臭を軽減する方法として、香料として一般的に使用され、しかも洗浄剤としても使用可能なテルペン化合物を配合することが挙げられる。このような洗浄剤として、前述の環状テルペン、イソパラフィン及びナフテン系溶剤を組合わせた、特開平６−３３６５９９号公報に開示された洗浄剤があるが、軽減効果は不十分なことが多い。
【００１０】
臭気が少なく、沸点範囲が狭い炭化水素溶剤として、合成により得られたｉ−パラフィン溶剤がある。しかし、比較的容易に入手可能な合成ｉ−パラフィン溶剤であって、洗浄剤に適する沸点範囲ものは、合成上の制約から炭素数１２（沸点範囲１８９〜２０２℃）に限定されてしまう。このため、臭気が良好なテルペン系溶剤と組合わせ、しかも蒸留回収性を確保するために５０％留出温度の常圧換算の沸点差が±１０℃以内の洗浄剤を製造しようとすると、使用可能なテルペン系溶剤としては、リナロールオキサイド、フェンコン、α−シクロシトラール、オシメノール、テトラヒドロリナロール、リナロール、テトラヒドロムゴール、イソプレゴール、ジヒドロリナロール、イソジヒドロラバンジュロール、β−シクロシトラール、ギ酸リナリル等以外になく、安価に、大量に、しかも蒸留回収性を満足する洗浄剤を得ることは難しかった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、ロジン系フラックスおよび鉱物系加工油を除去するのに適した洗浄剤組成物で、１）フロン系または塩素系溶剤などのハロゲン化炭化水素系溶剤を使用せず、２）沸点範囲が狭く蒸留回収性に優れ、３）不快な臭気を持たず、４）安価で大量に製造可能な洗浄剤を提供することを課題とする。
【００１２】
【問題を解するための手段】
本発明者等は、（ａ）臭いの少ない炭化水素として炭素数９〜１５のノルマルパラフィンの実質的に１種又は炭素数が１異なる前記炭化水素の実質的に２種の混合物を用い、これに（ｂ）前記炭化水素系溶剤の常圧換算５０％留出温度±１０℃の沸点を有する１種又は２種以上のテルペン系溶剤を配合することで前記課題を解決できる洗浄剤組成物を得ることができた。
【００１３】
すなわち、ノルマルパラフィンを用いることで、炭素数９〜１５の任意の溶剤（沸点：ｎ−ノナン  １５０．８℃、ｎ−デカン１７４．１℃、ｎ−ウンデカン１９５．６℃、ｎ−ドデカン  ２１６．３℃、ｎ−トリデカン  ２３４℃、ｎ−テトラデカン  ２５２〜２５５℃、ｎ−ペンタデカン２７０．５℃）を比較的容易に選択可能になる。これにより、炭化水素溶剤であるノルマルパラフィンと組合わせるテルペン溶剤の制限が大幅に緩和され、安価で大量に入手可能なものを使用できることになる。
【００１４】
さらに、洗浄剤に安定性を付与するために、必要に応じてフェノール系及び／又はアミン系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ、より安定性を向上させる場合は、さらにリン系及び／又はイオウ系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ洗浄剤に配合する。これにより、高温での使用や長期間に渡る使用に耐えられる洗浄剤とすることができ、本発明を完成させた。
【００１５】
ｎ−パラフィンは、常圧換算沸点が１５０℃以上の洗浄用として適する炭素数９〜１５のものが比較的容易に入手可能である。本発明で使用できる炭化水素系溶剤は、炭素数が実質的に１種の単一溶剤、あるいは炭素数が１異なる実質的に２種の混合物を使用する。炭素数は、９〜１５、好ましくは１０〜１３であることが必要である。炭素数８以下の場合は、引火の危険性が高く安全上の問題があり、炭素数１６以上の場合は、乾燥性が悪くなるだけでなく、蒸留回収時に汚れ成分との分離が困難となる。
【００１６】
次に、本発明に用いられるテルペン系溶剤は、その沸点が上記ノルマルパラフィン系溶剤の５０％留出温度±１０℃に納まるものを選択して使用する。また、これらのテルペン系溶剤は、単独または２種以上組み合わせて使用することができる。また、テルペン系溶剤の添加量については、かなり広範囲に変えることが可能であるが、経済性等を考慮すると、概ね５％〜５０％が好ましい。次に、各ノルマルパラフィン系溶剤に対応したテルペン系溶剤の具体例示す。
【００１７】
ｎ−ノナンに対しては、α−ピネン、カンフェン等を混合して使用でき、ｎ−デカンに対しては、ピナン、ミルセン、ジヒドロミルセン、ｐ−メンタン、３−カレン、ｐ−メンタジエン、α−テルピネン、β−テルピネン、α−フェランドレン、オシメン、リモネン、ｐ−サイメン、γ−テルピネン、テルピノーレン、１,４−シネオール、１,８−シネオール、ロ−ズオキサイド等を混合して使用できる。
【００１８】
ｎ−ウンデカンに対しては、リナロールオキサイド、フェンコン、α−シクロシトラール、オシメノール、テトラヒドロリナロール、リナロール、テトラヒドロムゴール、イソプレゴール、ジヒドロリナロール、イソジヒドロラバンジュロール、β−シクロシトラール、シトロネラール、Ｌ−メントン、ギ酸リナリル等を混合して使用できる。
【００１９】
ｎ−ドデカンに対しては、ジヒドロテルピネオール、β−テルピネオール、メントール、ミルセノール、Ｌ−メントール、ピノカルベオール、α−テルピネオール、γ−テルピネオール、ノポール、ミルテノール、ジヒドロカルベオール、シトロネロール、ミルテナール、ジヒドロカルボン、ｄ−プレゴン、ゲラニルエチルエーテル、ギ酸ゲラニル、ギ酸ネリル、ギ酸テルピニル、酢酸イソジヒドロラバンジュリル、酢酸テルピニル、酢酸リナリル、酢酸ミルセニル、酢酸ボルニル、プロピオン酸メンチル、プロピオン酸リナリル等を混合して使用できる。
【００２０】
ｎ−トリデカンに対しては、ネロール、カルベオール、ペリラアルコール、ゲラニオール、サフラナール、シトラール、ペリラアルデヒド、シトロネリルオキシアセトアルデヒド、ヒドロキシシトロネラール、ベルベノン、ｄ−カルボン、Ｌ−カルボン、ピペリトン、ピペリテノン、ギ酸シトロネリル、酢酸イソボルニル、酢酸メンチル、酢酸シトロネリル、酢酸カルビル、酢酸ジメチルオクタニル、酢酸ネリル、酢酸イソプレゴール、酢酸ジヒドロカルビル、酢酸ノピル、酢酸ゲラニル、プロピオン酸ボルニル、プロピオン酸ネリル、プロピオン酸カルビル、プロピオン酸テルピニル、プロピオン酸シトロネリル、プロピオン酸イソボルニル、イソ酪酸リナリル、イソ酪酸ネリル、酪酸リナリル、酪酸ネリル、イソ酪酸テルピニル、酪酸テルピニル、イソ酪酸ゲラニル、酪酸シトロネリル、ヘキサン酸シトロネリル、イソ吉草酸メンチル等を混合して使用できる。
【００２１】
ｎ−テトラデカンに対しては、β−カリオフィレン、セドレン、ビサボレン、ヒドロキシシトロネロール、ファルネソール、イソ酪酸ロジニル等を混合して使用でき、ｎ−ペンタデカンに対しては、セドレン、ビサボレン、カジネン、ヒドロキシシトロネロール、ファルネソール、ベチベロール、αービサボロール、セドレノール、ネロリドール、オキソセドラン、酪酸ロジニル、オクタン酸リナリル、チグリン酸シトロネリル、チグリン酸ゲラニル等を混合して使用できる。
【００２２】
炭素数が１異なる実質的に２種のノルマルパラフィンを混合した炭化水素溶剤に対しても、上述したテルペン系溶剤を用いることができる。さらにこれに加えて、ｎ−ノナンとｎ−デカンを混合した炭化水素溶剤を用いると、沸点がｎ−ノナンとｎ−デカンのほぼ中間に位置するβ−ピネンも使用することが可能となる。
【００２３】
テルペン系溶剤は、フラックス洗浄性を確保するため、極性基を有するものを１種類以上含むことが好ましい。テルペン系溶剤のうち、炭化水素系溶媒のみを添加する場合は、二重結合を有するものを１０〜７０％、好ましくは１０〜５０％程度配合する。さもないと、フラックス洗浄性が低下する場合がある。ただし、加工油の洗浄を主目的にするのであれば、二重結合を含まないパラメンタン等のテルペン系炭化水素溶剤を用いてもなんら問題はない。
【００２４】
上記のテルペン系溶剤の中でも、比較的に安価で大量に入手できるものは、α−テルピネオール（沸点；２１９℃）、ｐ−メンタジエン（沸点；１６８〜１８３℃）等であり、それぞれｎ−ドデカン、ｎ−デカンと組合わせて本発明の洗浄剤とすることができる。
【００２５】
さらに、本発明洗浄剤は、高温下における洗浄や蒸留再生時における酸化劣化を防ぐために、フェノール系及び／又はアミン系酸化防止剤を１０〜１０００ｐｐｍ、より好ましくは１００〜１０００ｐｐｍ加えて使用することができる。使用条件がより高温である場合には、上記の酸化防止剤に加えて、リン系及び／又はイオウ系酸化防止剤を併用すると有効である。添加量は、使用温度条件により異なるが、同じく１０〜１０００ｐｐｍ、より好ましくは、１００〜１０００ｐｐｍである。ただし、リン系及び／又はイオウ系酸化防止剤は、フェノール系及び／又はアミン系酸化防止剤と併用する必要がある。さもないと、酸化防止効果が低下することがある。また、いずれの酸化防止剤も、溶剤に悪影響を与えず、被洗浄物表面で乾燥後に、シミなどの影響を与えないものを選択して使用する。
【００２６】
酸化防止剤は、洗浄剤の使用により徐々に消耗する。このため、長時間使用する場合は、定期的に補充するのが望ましい。さらに、蒸留回収時には大部分が蒸留残渣部に留る。このため、回収した洗浄液には、新たに所定量の酸化防止剤を添加する必要がある。
【００２７】
このようなフェノール系酸化防止剤としては、例えば、２,６−ジ−ｔ−ブチルフェノール、ブチルヒドロキシアニソール、２,６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、２,６−ジ−ｔ−ブチル−４−エチルフェノール、２,４−ジチル−６−ｔ−ブチルフェノール、２,６−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシメチルフェノールなどが挙げられる。アミン系酸化防止剤としては、例えば、ジフェニル−ｐ−フェニレン−ジアミン、４−アミノ−ｐ−ジフェニールアミン、Ｐ，Ｐ’−ジオクチルジフェニルアミンなどが挙げられる。
【００２８】
また、リン系酸化防止剤としては、例えば、フェニルジイソデシルホスファイト、ジフェニルジイソオクチルホスファイト、ジフェニルジイソデシルホスファイト、トリフェニルホスファイト、トリスノニルフェニルホスファイト、ビス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ペンタエリスリトールジホスファイトなどが挙げられる。
【００２９】
イオウ系酸化防止剤としては、例えば、ジラウリル−３,３'−チオジプロピオン酸エステル、ジトリデシル−３,３'−チオジプロピオン酸エステル、ジミリスチル−３,３'−チオジプロピオン酸エステル、ジステアリル−３,３'−チオジプロピオン酸エステルなどが挙げることができる。
【００３０】
繰り返し使用して、フラックスや金属加工油などで汚れた洗浄剤は、蒸留によって再生するが、汚れ成分の混入を防ぐため、洗浄剤の５０％留出温度±２５℃以内で行うとよい。しかし、汚れ成分の沸点が洗浄剤の５０％留出温度に近い場合は、±１５℃、特には±１０℃以内で行うことが好ましい。ｎ−パラフィンが実質的に単一種であって、テルペン系溶剤の沸点がｎ−パラフィンのそれに近い場合は、±７℃、特には±５℃で蒸留回収することが可能であり、理想的にはこのような洗浄剤を用いるのが望ましい。
【００３１】
さらに、本発明の洗浄剤は蒸留回収による組成変化が極めて少ないため、不純物の混入を防ぐ目的で留分の一部を除去する方法も採用できる。具体的には、低沸点側の０〜３％或いは０〜５％留出部分を除く方法や、洗浄剤に含まれる低沸点成分の常圧換算沸点−３℃、好ましくは−１℃以下の留出分を除く方法によっても不純物の混入を防止できる。一方、高沸点側の９７〜１００％或いは９５〜１００％留出部分を除く方法や、洗浄剤に含まれる高沸点成分の常圧換算沸点＋３℃、好ましくは＋１℃以上の留出分を除く方法によっても不純物の混入を防止できる。このような除去を行なっても組成変化が殆ど無いため、洗浄性の変化も極めて少ないことは言うまでもない。
【００３２】
また添加剤として電気電子部品、機械部品などの金属表面の防錆剤を添加することもでき、含窒素有機添加剤、エポキシ化合物等を添加することができる。含窒素有機添加剤としてはベンゾトリアゾール、トリルトリアゾール、炭素数２〜１０の炭化水素基を有するベンゾトリアゾール誘導体、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）−４−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−メチルアミン、Ｎ，Ｎ−ビス（２−エチルヘキシル）−５−メチル−１Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−メチルアミン、ベンゾイミダゾール、炭素数２〜２０の炭化水素基を有するイミダゾール誘導体、炭素数２〜２０の炭化水素基を有するチアゾール誘導体等が使用できる。一方エポキシ化合物としては、プロピレンオキサイド、１，２−エポキシブタン、１，２−エポキシオクタン、１，６−ヘキサンジオールグリシジルエーテル、炭素数３〜１５のグリシジルエーテル類が使用できる。これら含窒素有機添加剤、エポキシ化合物から選ばれる１種あるいは２種以上を０．１％程度、洗浄剤に添加して用いることができる。
【００３３】
さらに添加剤として電気電子部品、機械部品などの表面から付着した水を分離するため、界面活性剤を添加することもできる。界面活性剤としては、アニオン性、カチオン性、両イオン性界面活性剤等のいずれも使用することができるが、洗浄面への影響が少ないという点で非イオン性界面活性剤が最も好ましい。例えばポリオキシアルキレンアルキルエーテル、ポリオキシアルキレンアルキルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアルキル脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアリルフェノールエーテル、ポリオキシアルキレンソルビタン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアルキルアミン、これらポリオキシアルキレン類、ソルビタン脂肪酸エステル等が好適に使用できる。
【００３４】
本発明洗浄剤を用いてロジン系フラックスおよび金属加工油を洗浄するには、室温から約１００℃、好ましくは約３０〜７０℃に加温した洗浄剤中に被洗浄物を浸漬し、所見により超音波、撹拌、揺動、空気撹拌、液流動を併用するか、あるいはスプレー、ふきとり等により洗浄してもよい。
【００３５】
洗浄後、被洗浄物を引き上げてそのまま乾燥するか、あるいは再度本発明洗浄剤、またはパーフルオロカーボン等のハロゲン化炭化水素系溶剤、または低級アルコールなどで洗浄してから乾燥してもよい。
【００３６】
【発明の実施の形態】
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００３７】
蒸留回収試験
（試験方法）
洗浄後の洗浄液を模擬して、洗浄剤の新液と金属加工油を９７：３の割合で混合した汚染液を用意して、ＪＩＳ−Ｋ２２５４に定められた常圧蒸留試験機を用いて、０〜１０％、１０〜５０％、５０〜９０％、９０〜９５％の各留分を回収した。この各留分をガスクロマトグラフィーによって分析し、炭化水素系溶剤、テルペン系溶剤、加工油の各含有量を測定し、組成の変化を比較した。また、蒸留回収液を用いて、臭気およびフラックス洗浄性を調べた。まず、ＩＣチップを装着したプリント配線板にフラックスを塗布・加熱処理（２００℃、３０秒）し、さらにハンダ付けを行ったものをテストピースとした。このテストピースを３０℃に保った洗浄液に浸漬し、５分間洗浄した後、プリント配線板からのフラックスの除去性を目視で評価した。最後に、各留出液の臭いの強弱や不快さについて調べた。
（１）フラックス洗浄力評価基準
○：フラックスがほとんど残っていない。
△：フラックスが僅かに残っている。
×：フラックスがかなり残っている。
（２）臭気評価基準
○：不快臭なし
×：不快臭あり
【００３８】
（実施例１）
沸点１７５℃であるｎ-デカンが８０％、沸点１７４℃であるα−テルピネンが２０％から成る洗浄剤を用い、上記の方法に従って蒸留試験と性能試験を行った。試験結果を表１に示すが、全ての留出液中に加工油は含まれておらず、洗浄剤の組成も変化していなかった。そのため、フラックス洗浄力に変化は見られなかった。また、α−テルピネンのレモン様香気のため、いずれの留出液に対しても不快さを感じなかった。
【００３９】
【表１】
0003874312.tif 000002
【００４０】
（実施例２）
沸点１９６℃のｎ−ウンデカンが８０％、沸点１９６℃のオシメノールを２０％にした以外は、実施例１と同様にして試験した。試験結果を表２に示すが、実施例１と同様に、洗浄剤組成およびフラックス洗浄力に変化は見られず、オシメノールに由来したフローラル香気のため不快さを感じなかった。
【００４１】
【表２】
0003874312.tif 000003
【００４２】
（実施例３）
沸点２１６℃のｎ−ドデカンが８０％、沸点２１９℃のα−テルピネオールが２０％から成る洗浄剤を用い、前記の方法に従って蒸留試験と性能試験を行った。結果を表３に示すが、すべての留出液中に加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の組成が変化していなかったため、フラックス洗浄力に変化は見られなかった。また、α−テルピネオールに由来したライラック様香気のため不快さを感じなかった。
【００４３】
【表３】
0003874312.tif 000004
【００４４】
（実施例４）
実施例３のα−テルピネオールをミルテナール（沸点２２０℃）に変えた以外は、実施例３と同様にして試験した。結果を表４に示すが、すべての留出液中に加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の組成が変化していなかったため、フラックス洗浄力に変化は見られなかった。また、ミルテナールに由来したハーバル香のため不快さを感じなかった。
【００４５】
【表４】
0003874312.tif 000005
【００４６】
（実施例５）
沸点２３６℃のｎ−トリデカンが８０％、沸点２３４℃の酢酸ノピルが２０％から成る洗浄剤を用い、前記の方法に従って蒸留試験と性能試験を行った。結果を表５に示すが、すべての留出液中に加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の組成が変化していなかったため、フラックス洗浄力に変化は見られなかった。また、酢酸ノピルに由来したフルーツ香のため不快さを感じなかった。
【００４７】
【表５】
0003874312.tif 000006
【００４８】
（実施例６）
実施例５の酢酸ノピルをＬ−カルボン（沸点２３１℃）に変えた以外は、実施例５と同様にして試験した。結果を表６に示すが、すべての留出液中に加工油は含まれていなかった。また、洗浄剤の組成が変化していなかったため、フラックス洗浄力に変化は見られなかった。また、Ｌ−カルボンに由来した甘みのあるハーバル香のため不快さを感じなかった。
【００４９】
【表６】
0003874312.tif 000007
【００５０】
（比較例１）
実施例３のα−テルピネオールをｎ−ドデシルアルコール（沸点２５９℃）に変えた以外は、実施例３と同様にして試験した。結果を表７に示すが、すべての留分の組成が大きく変化している。とりわけ、０〜１０％、および１０〜５０％留分においては、ｎ−ドデシルアルコールの含有量が減少しているため、フラックス洗浄力の低下を招いた。また、９０〜９５％留分には加工油が混入していた。さらに、ｎ−ドデシルアルコールに由来する不快臭があった。
【００５１】
【表７】
0003874312.tif 000008
【００５２】
（比較例２）
実施例３のｎ−ドデカンを沸点範囲１９７〜２０２℃の合成イソパラフィン系溶剤とした以外は、実施例３と同様にして試験した。結果を表８に示すが、すべての留分の組成が少し変化しており、α−テルピネオールが少ない０〜１０、および１０〜５０％留分のフラックス洗浄性がわずかに低下した。このように炭素数１２の合成イソパラフィン系溶剤では、安価に入手可能なα−テルピネオールと組合わて蒸留回収しながら繰返し使用する場合、成分調製が必要不可欠であることが分かる。
【００５３】
【表８】
0003874312.tif 000009
【００５４】
（比較例３）
実施例３のｎ−ドデカンを沸点範囲２０９〜２４５℃のナフテン系溶剤とした以外は、実施例３と同様にして試験した。結果を表９に示すが、すべての留分の組成が変化しており、α−テルピネオールが少ない０〜１０％、および１０〜５０％留分のフラックス洗浄性が低下した。さらに、ナフテン系溶剤に由来した不快臭があり、また、９０〜９５％留分には加工油が混入していた。
【００５５】
【表９】
0003874312.tif 000010
【００５６】
酸化防止剤の効果確認試験
（実施例７〜１０）
還流冷却器を取り付けた１００ｍｌのナスフラスコに、表１０に示すそれぞれの洗浄剤組成物（実施例７〜１０）１００ｍｌと表面研磨された銅板１枚を入れ、空気雰囲気中で１３０℃のオイルバスで加熱した。５時間経過後、ナスフラスコから取り出した銅板表面の腐食状態について目視観察した。
【００５７】
【表１０】
0003874312.tif 000011
【００５８】
【発明の効果】
本発明洗浄剤を用いると安価かつ大量に供給可能で、蒸留再生性に優れ、さらに不快な臭気を有しない洗浄剤を製造可能である。また、酸化防止剤と組合わせることで、長期に渡って安定に使用可能である。これにより、環境問題を起こしやすいハロゲン系溶剤を使用することなく、被洗浄物上のロジン系フラックスおよび金属加工油などを有効に除去することができる。また、洗浄作業が容易な作業環境とすることができる。