(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
版基材と、膜厚がグラビアセルの深さに等しくなるように前記版基材の表面に形成された樹脂膜と、該樹脂膜の表面に形成されたレーザにより焼失可能な超硬質膜とから被製版ロールを構成し、レーザを照射して前記超硬質膜の一部と前記樹脂膜の一部を除去して前記版基材を露出させインキを収容するセルを形成してグラビア版を構成することを特徴とするグラビア印刷版の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本発明は、表面から垂直に彫り込むことができかつ深さが均一で精密なセルが得られ、転移するインキの膜厚が均一になり、濃淡階調度が優れていてシャープな印刷画像が得られるグラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来のグラビア印刷ロールの製造方法には、大きく分けて三種類ある。第一は、銅メッキされたロールにヘリオクリッショグラフという電子彫刻機で画像を直接彫り込む方法である。第二は、銅メッキされたロールに感光膜を形成しレーザー露光装置で画像を焼き付けるか原稿フィルムを重ねて紫外線で焼き付け、現像・エッチング・レジスト剥離・クロムメッキの工程を経て画像を形成する方法である。第三は、金属製の版基材にエポキシ樹脂をコートしてレーザを照射してエポキシ樹脂を焼失して画像を形成する方法である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
前記第一の方法は、四角錐の穴を彫り込むことになり、被印刷物に転移するインキは山盛りとなり、インキの分散性が悪い。前記第二の方法は、被印刷物に転移するインキが平らに盛られるので、ドット単位でのインキの分散性が良いが、ハイライト部のセルを、輪郭がくっきりとした正確な形状にかつシャドウ部のセルと深さを同じにすることが困難であり、全体として、ハイライト部におけるインキの分散性が悪い。前記第三の方法は、ハイライト部からシャドウ部までのセルの深さを均一にすることができるので、全体としても、ドット単位としてもインキの分散性が良いが、ドクターで版面が容易に削られてしまい、耐刷力が極めて小さいので実用できなかった。
【０００４】
本願発明は、上述した点に鑑み案出したもので、表面から垂直に彫り込むことができかつハイライト部からシャドウ部までのセルの深さを均一にすることができるので、全体としても、ドット単位としてもインキの分散性が良く、濃淡階調度が優れていてシャープな印刷画像が得られ、耐刷力が極めて大きいグラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本願発明は、版基材と、膜厚がグラビアセルの深さに等しくなるように前記版基材の表面に形成された樹脂膜と、該樹脂膜の表面に形成されたレーザにより焼失可能な超硬質膜とから被製版ロールを構成し、レーザを照射して前記超硬質膜の一部と前記樹脂膜の一部を除去して前記版基材を露出させインキを収容するセルを形成してグラビア版を構成することを特徴とするグラビア印刷版の製造方法を提供するものである。
【０００６】
本願発明の製造方法によって製造されるグラビア印刷版は、版基材と、膜厚がセルの深さに等しくなるように前記版基材の表面に形成された樹脂膜と、該樹脂膜の表面に形成されたレーザにより焼失可能な超硬質膜とからなり、前記超硬質膜の一部と前記樹脂膜の一部が同一箇所において除去され前記版基材が露出した状態にインキを収容するセルが形成されていることを特徴とする。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本願発明のグラビア印刷版、及び、グラビア印刷版の製造方法を図面を参照して説明する。
図１は、グラビア印刷版用の被製版ロールの断面図を示すもので、符号１は版基材、符号２は版基材１の表面に均一塗布され乾固した樹脂膜、符号３は該樹脂膜の表面に薄膜に形成されたレーザにより焼失可能な超硬質膜である。
図２は、グラビア印刷版の断面図を示すもので、図１の被製版ロールに対して、超硬質膜３の一部と樹脂膜２の一部を同一箇所において除去し版基材１を露出し、グラビア画像を得るようにインキを溜める凹部であるセル４を形成したものである。
【０００８】
版基材１はアルミニウム製であり、真円にかつ精密な円筒状に砥石研磨されさらに鏡面研磨されてなる。該版基材１は両端に被チャック孔を有する中空ロールとなっているが、印刷機に対応させて軸付の中空ロールとしても良い。
樹脂膜２は、もしも、アモルファスダイヤモンド膜等の超硬質膜を、１０〜１５μｍ位の厚さに経済的にかつ迅速にかつ確実容易に形成できるならば、超硬質膜３の下地として形成しなくてもよい。しかしながら、ブラズマＣＶＤ法あるいはスパッタリングにより形成できる超硬質膜３の膜厚は、最大で１μｍ強の厚さにしかならない。従って、本願発明は、下地に１０〜１５μｍ位の厚さとなるように樹脂膜２を形成して、セル４の深さを確保している。該樹脂膜２は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、ＹＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により、超硬質膜３とともに焼失できる樹脂である必要があり、例えばエポキシ樹脂が使用可能である。
超硬質膜３は、ダイヤモンド膜、アモルファスダイヤモンド膜（ＤＬＣ膜）、ＣＢＮ膜、その他、ビッカース硬度がダイヤモンドのように非常に大きくて、各種のＣＶＤ法や燃焼炎法、イオンビーム注入法等の薄膜形成技術により薄膜形成可能であって、しかもレーザにより焼失可能な超硬質膜であればよい。特に、アモルファスダイヤモンド膜（ＤＬＣ膜）であることが薄膜形成が容易であるので好ましい。アモルファスダイヤモンド膜は、プラズマＣＶＤ法あるいはスパッタリングにより最大で１μｍ強の厚さの薄膜を形成することができる。そして、アモルファスダイヤモンド膜は、数ワットの低出力のレーザ（炭酸ガスレーザ、ＹＡＧレーザ、あるいはアルゴンレーザ）により８００°Ｃ〜９００°Ｃの比較的低温で容易に焼失できる。特に、アモルファスダイヤモンド膜の焼失は、酸素雰囲気中で行うと、炭素粒が残らず炭素粒が表面に付着せず、実用的な速度で加工できるので好ましい。
本発明では、１μｍ前後の厚さの超硬質膜３にレーザを照射し焼失して、セル４を形成する。
樹脂膜２は印刷後に版基材１を反復使用できるように、印刷後に引き剥がし可能なバラードメッキとすることが好ましい。バラードメッキは銅メッキであることが好ましい。従来のバラードメッキは、８０〜１００μｍ位の厚さに形成されていて、このバラードメッキの厚み内にエッチングまたは電子彫刻機により１０〜３０μｍ位のセルが彫り込まれているが、本発明では、１０〜１５μｍ位の厚さの樹脂膜２が形成されていて、レーザ加工より、該樹脂膜２に前記セル４が形成されており、セル４はハイライト部からシャドウ部まで樹脂膜２の厚さに等しく形成される。
アモルファスダイヤモンド膜等の超硬質膜３は、クロムメッキよりも固く、表面が滑らかで潤滑性があるので、耐刷力が大きく版面に好適である。
なお、本願発明は、ロール版に限定されるものでなく、平版も含むものである。
【０００９】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本願発明のグラビア印刷版、及びグラビア印刷版の製造方法によれば、
▲１▼レーザにより超硬質膜３と樹脂膜２を熱化学分解して除去するので、表面から垂直に彫り込むことができ、樹脂膜２の厚みを正確・容易に管理できるので、ハイライト部からシャドウ部までのセルの深さを望みの寸法に均一にすることができるので、全体としても、ドット単位としてもインキの分散性が良く、濃淡階調度が優れていてシャープな印刷画像が得られる。
▲２▼バラード銅メッキがなくなるとともに、樹脂膜２の厚さを従来のバラード銅メッキの厚さの1/4 〜1/5 に小さく抑えられるので、メッキ金属の使用量とメッキのための電力消費量が零になり、省エネルギーになり経済性が良い。
▲３▼耐刷力は、アモルファスダイヤモンド膜等の超硬質膜３は、従来のクロムメッキに比べて１０倍近く大きい。樹脂膜２と超硬質膜３の形成に要する費用は、従来のバラード銅メッキ、感光膜形成、現像、エッチング、レジスト剥離、クロムメッキの工程にかかる費用よりも大幅に低減する。
▲４▼印刷後、超硬質膜３の除去はレーザをスパイラル状に隙間なく照射することにより除去することができ、アモルファスダイヤモンド膜等の超硬質膜３は、炭酸ガスと水蒸気に熱化学変化するので無公害となり、樹脂膜は排出ガスを回収してフィルタリングすれば良いので、銅メッキ、エッチング、クロムメッキを行う場合に比べて、環境に優しく好ましい。
▲５▼従来において行っていた、バラード銅メッキの形成、さらにバラード銅メッキへの感光膜の形成、露光、現像、レジスト隔離の工程を、本願発明では、行わなず、樹脂膜３の形成と超硬質膜３の形成だけなので、安価に製作でき、工程の大幅な省略化になり、設備ラインを大幅に省略できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明の実施の形態に係るグラビア印刷版用の被製版ロールの断面図。
【図２】本願発明の実施の形態に係るグラビア印刷ロールの断面図。
【符号の説明】
１        ・・・・版基材
２        ・・・・樹脂膜
３        ・・・・超硬質膜
４        ・・・・セル
【図１】
0003886643.tif 000002
【図２】
0003886643.tif 000003