(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）：
【化１】
0003979743.tif 000008
（式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１８の直鎖または分岐状のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基を示す。Ｒ1、Ｒ2は互いに異なる基を示し、Ｐ*は不斉リン原子を示す。）で表される光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸と四酢酸鉛とを反応させることを特徴とする下記一般式（２）：
【化２】
0003979743.tif 000009
（式中、 Ｒ1、Ｒ2及びＰ*は、前記と同義である。）で示される光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法。
【請求項２】
反応を、酢酸銅の存在下に行う請求項１記載の光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法。
【請求項３】
反応を、塩基の存在下で行う請求項１又は２記載の光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法。
【請求項４】
反応を、ピリジン、トリエチルアミンから選ばれる塩基の存在下で行う請求項１乃至３のいずれかに記載の光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学活性な化合物を製造する場合の原料として有用な、高い光学活性を有するビニルホスフィンオキシドの新規な製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、上市されている医薬品に占める光学活性な医薬品の割合は年々増加する傾向にあり、最近５年間では、光学活性な医薬品の品目は、実に３９％にも達する。また、光学活性体に求められるものは、医薬品に限らず、農薬、香料、甘味量、調味料、更には、強誘電性液晶、高速液体クロマトグラフィーの充填剤などの機能性材料の分野にまで展開されている。
【０００３】
ビニル結合は、反応性の高い官能基であることから不斉中心をリン原子上に持つ新規な光学活性な化合物を製造する上で、ビルディングブロックとして特に有用であることが知られている（K.M.Pietrusiewicz, M. Zablocka, and W. Wiesniewski, Phosphorus, Sulfur, and Silicon, 1990, 49/50, 263-266)。
これまでに知られている光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法としては、例えば、下記反応式：
【０００４】
【化３】
0003979743.tif 000002
【０００５】
で示されるように、フェニルジクロロホスファンにトリエチルアミンの存在下でブタノールを反応させ、さらにビニルマグネシウムブロマイドでグリニャール反応させる。次いで、生成物と（−）−メンチルブロモ酢酸エステルを反応させた後、ベンゼンで再結晶化させ光学活性体を分別結晶させ光学活性な（−）−（メントキシカルボニルメチル）フェニルビニルホスフィンオキシドを得、更に含水ジメチルスルフォキシド中で塩化リチウム存在下１８０℃で２時間還流させて、目的とする（−）−メチルフェニルビニルホスフィンオキシドを得る方法｛(Ryszard Bodalski, Ewa rutkowska-Olma, Tetrahedron, 36, 2353-2355)、(K. Michal Pietrusiewicz, Maria Zablocka, and Jaroslaw Monkiewicz, J. Org. Chem., 1984, 49, 1522-1526)｝等が提案されている。
【０００６】
また、光学純度の極めて高い光学活性なビニルホスフィンオキシド類の製造方法として、特開昭６４−７５４９５号公報には、下記一般式（３）：
【０００７】
【化４】
0003979743.tif 000003
【０００８】
（式中、Ａｒはアリール基、Ｒ1及びＲ2は、相異なる炭素数１〜６の低級炭化水素基であり、ビニル基の例示あり。）で表されるホスフィンオキシド類のラセミ体と２,２−ジヒドロキシ−１,１−ビナフチルと有機溶媒中で接触させ、次に生成した包接錯体を分離後、分割する製造方法が提案されている。
また本発明者等は特願平１０−２９８０３号発明において、次式（４）：
【０００９】
【化５】
0003979743.tif 000004
【００１０】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１８の直鎖または分岐状のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基を示す。Ａはアルキレン基を示す。Ｒ1、Ｒ2はお互いに異なる基を示す。）で表されるラセミ体のホスフィンオキシドカルボン酸に光学活性な１−フェニルエチルアミンを反応させ、生成したジアステレオマー塩を溶媒に対する溶解度の差を利用して分離し、次いで酸を分解して光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を製造することを提案した。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明者らは、光学活性なビニルホスフィンオキシドの新規な製造する方法について鋭意研究を重ねた結果、本発明者らが先に提案した上記特願平１０−２９８０３号記載の光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を反応原料として用いたところ、不斉構造を維持したまま全くラセミ化することなく、光学純度の高いビニルホスフィンオキシドを得ることができることを知見し本発明を完成させるに至った。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明は、下記一般式（１）：
【００１３】
【化６】
0003979743.tif 000005
【００１４】
（式中、Ｒ1、Ｒ2は炭素数１〜１８の直鎖または分岐状のアルキル基、置換もしくは無置換のフェニル基を示す。Ｒ1、Ｒ2は互いに異なる基を示し、Ｐ*は不斉なリン原子を示す。）で表される光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸と四酢酸鉛とを反応させることを特徴とする下記一般式（２）：
【００１５】
【化７】
0003979743.tif 000006
【００１６】
（式中、 Ｒ1、Ｒ2及びＰ*は、前記と同義である。）で示される光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法を提供するものである。
また、上記の反応は、酢酸銅及びピリジン、トリエチルアミン等の塩基の存在下で行うことが好ましい。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
（光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸）
本発明の反応原料となる光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸は、上記一般式（１）で表されるものである。
ここでＲ1、Ｒ2は、上記に定義したとおりであるが、具体的なアルキル基の種類としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチル基、イソペンチル基、ｎ−ヘキシル基、イソヘキシル基、ｎ−ヘプチル、イソヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル基、ｎ−ドデシル基、イソドデシル基等が挙げられる。
【００１８】
前記一般式（１）で表わされる光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸の具体的な化合物としては、例えば、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)( 1,1,-ジメチルエチル)メチル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)( 1,1,-ジメチルエチル)メチル]ホスフィンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチル]ホスフィンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)（1,1,-ジメチルエチル）]ホスフィンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(o-メトキシフェニル）フェニル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル) (o-メトキシフェニル）フェニル]ホスフィンオキシド、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(o-エチルフェニル）フェニル]ホスフィンオキシド、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(o-エチルフェニル）フェニル]ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００１９】
これら光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸の製造方法は、特に、限定されないが、その一例を示すと、先に本発明者らが提案した特願平１０−２９８０３号記載の発明のように、下記一般式（５）：
【００２０】
【化８】
0003979743.tif 000007
【００２１】
（式中、Ｒ1及びＲ2は前記と同義）
で表されるラセミ混合物を、光学活性な１−フェニルエチルアミンなどのアミンを用いて、ジアステレオマー塩を形成させ、溶媒への溶解度差を利用して、光学活性体に分割する方法が好適に用いられる。
具体的には、前記一般式（４）で示されるホスフィンオキシドカルボン酸のラセミ体混合物に、光学分割剤である光学活性な１−フェニルエチルアミンを、ホスフィンオキシドカルボン酸に対して０．７〜１．０モルの割合で添加すればよい。
【００２２】
反応溶媒は、アセトン、メチルエチルケトン、ＭＩＢＫ等のケトン類が適しており、特にアセトン、メチルエチルケトンが望ましい。該溶媒の使用量は、溶解度によって異なるが、一般に溶質の５〜１０倍量（重量比）が適当である。 両者の反応は、中和反応であるので、特別な反応条件を必要としない。混合する方法も、任意であり、直接溶媒中に混合しても、それぞれの溶液を混合しても差し支えない。反応温度は、室温ないしは加熱した場合は溶媒の沸点以下の温度において均一な溶液とし、静置して難溶性なジアステレオマー塩として析出させる。静置させる温度は、室温もしくは冷蔵庫または冷凍庫などで冷却した温度でも構わない。このとき、析出させようとする塩の種結晶を接種することも通常行われる。
【００２３】
析出した塩は、濾過または遠心分離により溶媒から分離し、必要に応じて再結晶・精製する。得られた塩は、塩酸、硫酸などの強酸で処理して塩を分解させ、ホスフィンオキシドカルボン酸が可溶な水と混合しない溶媒で抽出することにより光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸が得られる。また必要に応じて再結精製して用いることができる
【００２４】
（四酢酸鉛）
本発明の製造方法に使用するもう一方の反応原料である四酢酸鉛は、工業的に入手できるものであれば特に限定はなく、含水物であっても無水物であってもよい。
本発明の前記一般式（２）で表わされる光学活性なビニルホスフィンオキシドの製造方法は、前記一般式（１）で表わされる光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸を溶媒中で四酢酸鉛で酸化反応するもので、反応原料の前記一般式（１）で表わされる光学活性なホスフィンオキシドカルボン酸の（＋）体、又は（−）体を選択して、四酢酸鉛と反応させることにより目的とする前記一般式（２）で表される光学活性なビニルホスフィンオキシドを所望の（＋）体、又は（−）体を得るところに特徴がある。
【００２５】
本発明の製造方法で得られる具体的な化合物としては、例えば、(−)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフィンオキシド、(−)−［( 1,1,-ジメチルエチル)メチルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［( 1,1,-ジメチルエチル)メチルビニル］ホスフィンオキシド、(−)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)エチルビニル］ホスフィンオキシド、(−)−［(o-メトキシフェニル）フェニルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［(o-メトキシフェニル）フェニルビニル］ホスフィンオキシド、(−)−［(o-エチルフェニル）フェニルビニル］ホスフィンオキシド、(＋)−［(o-エチルフェニル）フェニルビニル］ホスフィンオキシドなどが挙げられる。
【００２６】
四酢酸鉛の使用量は、ホスフィンオキシドカルボン酸に対して、０．１〜２．０倍モル、好ましくは、０．５〜１．５倍モルである。また、酢酸銅を、四酢酸鉛に対して、０．０１〜１．０倍モル、好ましくは０．１〜０．５倍モル使用する。ホスフィンオキシドカルボン酸が、四酢酸鉛により酸化、脱炭酸されて生成したラジカルイオンから、水素カチオンを引き抜いて不飽和エチレンを生成させるのに、酢酸銅が手助けとなる。なお、酢酸銅は、無水物であっても含水物であってもよい。
【００２７】
さらに、本発明の製造方法において、所望により触媒としてピリジン、トリエチルアミンなどの塩基を用いてもよい。この場合、使用量は、ごく微量で、例えば、四酢酸鉛に対して、０．００１〜０．５倍モル、好ましくは、０．０５〜０．２倍モルである。
【００２８】
反応溶媒としては、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素や、クロロベンゼン、ｏ−ジクロロベンゼン、ｍ−ジクロロベンゼン、ｐ−ジクロロベンゼン、１，２，４−トリクロロベンゼン、ｏ−クロロトルエン、ｐ−クロロトルエン、ブロモベンゼン、ｏ−ジブロモベンゼン、ｍ−ジブロモベンゼン、ｐ−ジブロモベンゼンなどのハロゲン化芳香族炭化水素や、ヘキサン、ヘプタン、オクタンなどの脂肪族炭化水素や、１，２−ジクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、トリクロロエチレンなどのハロゲン化脂肪族炭化水素などが好ましい。
【００２９】
なお、原料の四酢酸鉛は、光により褐色に着色するので、光を遮断した容器や、装置を用いるのが好まく、また、空気により酸化するので、窒素などの不活性なガスを一定量通気させながら反応させことが好ましい。反応温度は、用いる溶媒の沸点により異なるが、溶媒の沸点以下の温度で、通常２０〜１５０℃、好ましくは、５０〜１００℃であり、反応時間は、通常０．５〜２４時間、好ましくは１〜５時間である。
かくすることにより得られる前記一般式（２）で表わされる光学活性なビニルホスフィンオキシドは光学純度が高く、光学活性な化合物の反応原料として有用である。
【００３０】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
（参考例  １）
[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィン
オキシドラセミ混合物の合成
攪拌機、温度計、滴下ロート、コンデンサーを備えた３００ｍｌの四つ口フラスコを十分に窒素置換し、（1、1、3、3−テトラメチルブチル）メチルホスフィン１６．０ｇ（０．１モル）、濃塩酸１５．６ｇ（０．１５モル）を仕込み、２０〜２５℃に冷却して保ちながらアクリル酸７．２ｇ（０．１モル）を滴下した。滴下後、４０℃で２時間熟成し、エバポレーターで濃縮して、過剰の塩酸を除去した。純水１００ｍｌを添加し、８０℃まで昇温し、３５％過酸化水素水１０．７ｇ（０．１１モル）を温度を保ちながら徐々に滴下した。さらに、同温度で３時間熟成させた。濃縮することにより得られた粘性固体をアセトンで再結晶・精製することにより、融点１００〜１０３℃の白色結晶１５．８ｇ（収率６３．８％）を得た。分析の結果、[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドのラセミ混合物であった。
【００３１】
1H-NMR(ppm,CDCl3)： 1.06(s,9H,CH3), 1.35(d,6H,JPCCH=17.6Hz,CH3), 1.50(d,2H,          CH2,JPCCH=8.6Hz), 1.59(d,3H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.92-2.27(m,2H,P-          CH2-), 2.57-2.80(m,2H,-CH2-COO), 11.81(s,1H,COOH)
FAB-MASS(Pos.)： m/z = 249 [M+H+]
FT-IR(KBr,cm-1)： 2953, 2918, 1735, 1422, 1233, 1171, 1112, 964, 903
UV-VIS(MeOH)： εmax = 140.1、 λmax=218.1nm
【００３２】
（光学分割  その１）
５０ｍｌのフラスコに、上記の参考例１で得られた[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドのラセミ混合物３．０３ｇ（１２．２ｍモル）、アセトン４．５ｍｌを入れ、(＋)−(Ｒ)−１−フェニルエチルアミン１．４８ｇ（１２．２ｍモル）を添加した。わずかに発熱して完全に溶解した。０℃で一昼夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥させて、０．８３ｇの白色結晶を得た。融点１３５−１３８℃、旋光度[α]25D＝＋３．４２(c 1.072 CH3OH)であった。塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出することにより０．１１ｇの白色結晶を得た。融点１４５−１４６℃、旋光度[α]25D＝−８．１７（ｃ＝１．０４、メタノール）で、(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドであった。
【００３３】
1H-NMR(ppm,CDCl3)：1.06(s,9H,CH3), 1.33(d,6H,JPCCH=17.0Hz,CH3), 1.50(d,2H,          CH2,JPCCH=8.4Hz), 1.49(d,3H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.78-2.16(m,2H,P-          CH2-), 2.46-2.71(m,2H,-CH2-COO), 10.34(s,1H,COOH)
FAB-MASS(Pos.)：m/z=249[M+H+]
【００３４】
（光学分割  その２）
５０ｍｌのフラスコに、上記の参考例１で得られた[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドのラセミ混合物３．０５ｇ（１２．３ｍモル）、アセトン４．５ｍｌを入れ、(−)−(Ｓ)−１−フェニルエチルアミン１．４８ｇ（１２．２ｍモル）を添加し、０℃で一昼夜静置させ結晶を析出させた。結晶を濾別し、真空乾燥させて、０．３２ｇの白色結晶を得た。融点１２６−１３１℃であった。塩酸で遊離させ、ジクロロメタンで抽出することにより、０．１８ｇの白色結晶を得た。融点は１４４−１４６℃、旋光度[α]25D＝＋６．３０（ｃ＝０．２３８、メタノール）で、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドであった。
【００３５】
1H-NMR(ppm,CDCl3)：1.06(s,9H,CH3), 1.33(d,6H,JPCCH=17.0Hz,CH3), 1.50(d,2H,C          H2,JPCCH=8.4Hz), 1.49(d,3H,P-CH3,JPCH=11.7Hz), 1.83-2.22(m,2H,P-C          H2-), 2.53-2.76(m,2H,-CH2-COO), 10.72(s,1H,COOH)
FAB-MASS(Pos.)：m/z=249[M+H+]
【００３６】
（実施例 １）
(＋)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフィンオキシドの合成
攪拌機、温度計、コンデンサーを備えた３００ｍｌの四つ口フラスコに、光学分割その１により得られた(−)−(Ｓ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド５．０３ｇ（２０．３ｍモル）、無水酢酸銅０．６５ｇ（３．６ｍモル）、ピリジン０．１３ｇ（１．５ｍモル）、クロロベンゼン３０ｍｌを添加して３０分間、室温で攪拌溶解させた。さらに、窒素気流下で、四酢酸鉛８．９ｇ（２０．１ｍモル）を添加し、冷暗所で１時間攪拌溶解させた。窒素気流下で、８０℃に加熱し、７時間３０分反応させた。冷却後、エバポレーターで溶媒を濃縮し、クロロホルムと水を添加し、クロロホルム層を分液し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレーターで濃縮することにより、緑色液体４．６４ｇを得た。粗生成物を減圧蒸留し、８０〜８５℃／３〜４ｍｍＨｇの留分を分取することにより、無色透明液体１．２０ｇを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、純度８５．５％で、蒸留収率は、２５．０％であった。
光学活性カラムＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−ＲＨ（ダイセル化学工業製）、溶離液にアセトニトリル：水＝４：１、０．５ｍｌ／分、ＵＶ検出器（２１５ｎｍ）、温度３０℃で、光学純度を測定したところ、光学純度は、９７．０％ e.e.であった。また、旋光度は、[α]24D ＝ ＋２６．３７（ｃ＝１．８６、ＣＨＣｌ3）であった。
【００３７】
（実施例  ２）
(−)−［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフィンオキシドの合成
光学分割その２により得られた(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシドを用いて、実施例１と同様に反応させた。攪拌機、温度計、コンデンサーを備えた３００ｍｌの四つ口フラスコに、(＋)−(Ｒ)−[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド７．３０ｇ（２９．４ｍモル）、無水酢酸銅０．７４ｇ（４．０ｍモル）、ピリジン０．１５ｇ（１．９ｍモル）、クロロベンゼン３０ｍｌを添加して３０分間、室温で攪拌溶解させた。さらに、窒素気流下で、四酢酸鉛１３．２５ｇ（２９．９ｍモル）を添加し、冷暗所で１時間攪拌溶解させた。窒素気流下で、８０℃に加熱し、３時間反応させた。冷却後、クロロホルムと水を添加し、クロロホルム層を分液し、無水硫酸ナトリウムで脱水後、エバポレーターで濃縮することにより、緑色液体７．７３ｇを得た。粗生成物を減圧蒸留し、６８〜７１℃／３ｍｍＨｇの留分を分取することにより、無色透明液体２．１２ｇを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、純度９１．５％で、蒸留収率は、３２．６％であった。
光学活性カラムＣＨＩＲＡＬＣＥＬ  ＯＤ−ＲＨ（ダイセル化学工業製）、溶離液にアセトニトリル：水＝４：１、０．５ｍｌ／分、ＵＶ検出器（２１５ｎｍ）、温度３０℃で、光学純度を測定したところ、光学純度は、９９．０％ e.e.であった。また、旋光度は、[α]23D ＝ −３０．０７（ｃ＝０．７９８、ＣＨＣｌ3）であった。
【００３８】
（比較例）
［(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチルビニル］ホスフィンオキシドラセミ混合物の合成
攪拌機、温度計、コンデンサーを備えた３００ｍｌの四つ口フラスコに、前記参考例１で得たラセミ混合物である[(２−カルボキシエチル)(1,1,3,3-テトラメチルブチル)メチル]ホスフィンオキシド２４．８ｇ（１００．０ｍモル）、無水酢酸銅４５５ｍｇ（２．５ｍモル）、ピリジン５４．５ｍｇ（６．６ｍモル）、クロロベンゼン３０ｍｌを添加して３０分間、攪拌溶解させた。さらに、窒素気流下で、四酢酸鉛２１．５ｇ（４６．５ｍモル）を添加し、冷暗所で１時間攪拌溶解させた。窒素気流下で、８５℃に加熱し、１時間３０分反応させた。冷却後、トルエン２００ｍｌを添加し希釈後、容量の純水で洗浄し、さらに飽和重炭酸ナトリウム水溶液で２回洗浄した。有機溶媒層を分液し、無水硫酸ナトリウムで脱水後エバポレーターで濃縮することにより、黄緑色液体１２．２ｇを得た。
【００３９】
粗生成物を減圧蒸留し、１０９〜１１２℃／４ｍｍＨｇの留分を分取することにより、無色透明液体６．４ｇを得た。ガスクロマトグラフィーで分析したところ、純度９３．４％で、蒸留収率は、３１．６％であった。
また、得られた黄緑色液体を1Ｈ−ＮＭＲ、31Ｐ−ＮＭＲ、ＦＴ−ＩＲ、ＧＣ−ＭＳ及びＵＶ分析により同定分析したところ、(1,1,3,3-テトラメチルブチル)ビニルホスフィンオキシドのラセミ混合物であることが確認された。
【００４０】
＜同定データ＞
1H-NMR(δ、CDCl3)：1.052 ( s, 9H), 1.305 (d, J = 16.31Hz, J = 2.37Hz,6H),          1.451 (d, J = 11.17 Hz, 3H), 1.564 (d, J = 4.78 Hz, 2H), 6.14          7-6.339 (m, 3H)
31P-NMR (δ、CDCl3, Internal Standard; H3PO4)：46.95(s)
FT-IR (液膜、cm-1)：2953.5 (C-H伸縮), 1474.3, 1389.5, 1366.3 (C-H面内変角), 1180.2 (P=O伸縮), 989.3, 882.3 (C-H面外変角)
GC-MASS(Pos.)：m/z = 202 [M+]
UV-VIS(MeOH)：εmax = 2300.6、 λmax=199.2nm
【００４１】
【発明の効果】
本発明の製造方法によれば、光学純度の高い光学活性なビニルホスフィンオキシドを工業的に有利な方法で容易に得ることができる。また、本発明で得られる光学活性なビニルホスフィンオキシドは、光学純度が高いものが要求される化合物の反応原料として利用価値は極めて大である。