(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリスルホン系高分子、およびポリビニルピロリドンからなる中空糸膜を組み込んで放射線滅菌された血液処理モジュールにおいて、該中空糸膜は、該膜中のポリビニルピロリドンの含有率が５．０〜７．５重量％であり、該中空糸内側１．５ｍ２に対して４０容量％エタノール水溶液２００ccを循環したとき、該水溶液中に溶出するポリビニルピロリドン濃度が１０ｐｐｍ以下であり、更にモジュール内部の空間をドライ状態で放射線滅菌したことにより、該中空糸膜中のラジカルスピン含有量を２．１×１０１５  スピン／ｇ〜３．３×１０１５  スピン／ｇとしたことを特徴とするポリスルホン系血液処理モジュール。
【請求項２】
該中空糸膜中の吸着ポリビニルピロリドンを水性媒体で抽出除去後、放射線滅菌して得られる請求項１に記載のポリスルホン系血液処理モジュール。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、体外循環による血中老廃物の除去を目的とした血液処理モジュールに関するもので、血液浄化、特に腎機能を代用する血液透析、血液濾過、および血液濾過透析といった治療分野で使用されるものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、膜分離技術が数多く実用化されており、液体や気体の混合物から目的物を分離したり、不純物を除去するために様々な分離膜が利用されている。分離膜の素材としては一般に有機系高分子が汎用されており、例えば天然高分子としてセルロース、合成高分子としてはポリアクリロニトリル、ポリアミド、ポリイミド、ポリオレフィン、ポリシロキサン、ポリスルホン、ポリメタクリレート等が挙げられる。中でもポリスルホン系高分子は工業用分離膜として幅広く利用されているが、その理由は放射線、加熱、および酸・アルカリ等の化学薬品に対して優れた耐性を示すためである。また、生体適合性や安全性にも優れることから、最近では医療用途においても分離膜素材として注目され、需要が増加している。
【０００３】
ところが、ポリスルホン系高分子は親水基を持たない疎水性樹脂であり、医療用具、とりわけ血液処理用の分離膜として使用する場合には、透水不良や血液凝固系の活性化を引き起こすことがあった。そこで、これらを改善するために、通常は親水化剤によって膜表面に親水性が付与されている。親水化剤としては、グリセリンのような低分子化合物からポリエチレングリコールやポリビニルピロリドンのような親水性高分子まで幅広く使用されており、前者では膜表面に塗布、後者では製膜原液に若干量を添加することで、親水性が改善された分離膜が得られている。
【０００４】
これらの分離膜を医療用具として使用するためには、ハウジングに組み込んでモジュール化した後、滅菌処理が必要となる。医療用具の滅菌方法は、従来からガス滅菌や高圧蒸気滅菌が知られているが、物質浸透性、および生産性に優れるという理由から、最近では放射線滅菌が汎用されている。
しかしながら、放射線滅菌により、モジュールの構成素材の中で化学的に不安定な部分に損傷が生じることが知られている。ハウジングは放射線耐性の素材を選択すればよく、また、分離膜中のポリスルホン系高分子も放射線耐性が大きいため、このような問題は小さいが、親水性高分子はその化学構造ゆえに一般に放射線耐性が低く、加水分解や主鎖切断、架橋などの変成を起こしやすい。
通常、血液処理モジュールは、製造後数ヶ月から２〜３年の間に使用されるが、その間は病院・施設の保管場所に置かれている。この様な長期保管中に変成が徐々に進行し、その結果、使用時までに抗血栓性が低下するおそれがあった。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明は上記の課題を解決するため、放射線滅菌後に長期保管しても抗血栓性の低下が起こらない、ポリスルホン系血液処理モジュールを提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは前記目的を達成するために鋭意研究した結果、放射線滅菌後に膜中に残留するラジカルスピン含有量が一定値以下であれば、長期保管における抗血栓性の低下を抑制できることを見出した。すなわち、本発明のポリスルホン系血液処理モジュールは、ポリスルホン系高分子、およびポリビニルピロリドンからなる中空糸膜を組み込んで放射線滅菌された血液処理モジュールにおいて、該中空糸膜は、該膜中のポリビニルピロリドンの含有率が５．０〜７．５重量％であり、該中空糸内側１．５ｍ２に対して４０容量％エタノール水溶液２００ccを循環したとき、該水溶液中に溶出するポリビニルピロリドン濃度が１０ｐｐｍ以下であり、更にモジュール内部の空間をドライ状態で放射線滅菌したことにより、該中空糸膜中のラジカルスピン含有量を２．１×１０１５  スピン／ｇ〜３．３×１０１５  スピン／ｇとしたことを特徴とする。
【０００７】
本発明の血液処理用モジュールに組み込まれた分離膜において、第一の構成成分であるポリスルホン系高分子とは、下記の化学構造式（１）、もしくは（２）のユニットの繰り返し構造を有する芳香族ポリスルホン系高分子である。これには、芳香環上に官能基やアルキル基が結合した、いわゆるポリスルホン誘導体も範疇に含まれる。なお、式中のＡｒはパラ二置換のフェニル基を示し、重合度や分子量については特に限定しない。
0003928910.tif 000002
【０００８】
第二の構成成分はポリビニルピロリドン（以下、ＰＶＰという）であるが、ポリスルホン系高分子との相溶性に優れ、しかも血液凝固系の活性化が比較的少ないとの理由から選択される。ＰＶＰは、様々なグレードが市販されているので、それらを利用すればよいが、分離膜表面に残存して適当な親水性を付与させるためには、重量平均分子量が少なくとも１０万以上のものを用いることが好ましい。また、ポリスルホン系高分子との親和性や膜表面の親水性を制御する目的から、酢酸ビニル等、エステル系ビニルモノマーとの共重合物を含んでもよい。
【０００９】
該分離膜中のＰＶＰの含有率は、本発明を達成する重要なパラメーターの一つである。すなわち、ＰＶＰの含有率が低すぎる場合、親水化効果が不十分で抗血栓性が発揮できず、反対に高すぎる場合は、含水時にＰＶＰの膨潤で細孔が狭窄し、透過性能が低下する可能性がある。また、放射線滅菌後の分離膜中のラジカルスピン含有量はＰＶＰ含有率にも依存するため、ＰＶＰ含有率は不必要に上げすぎないほうが好ましい。従って、両者を満足する好ましいＰＶＰ含有率の範囲は３．０〜９．０重量％である。より好ましい範囲は、５．０〜７．５重量％である。
【００１０】
本発明でいうラジカルスピン含有量とは、分離膜をモジュールに組み込んで放射線滅菌した後、室温保管９０±３日目の分離膜中のラジカルスピン量を電子スピン共鳴装置で測定したもので、標準品として、１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルのラジカルスピン量から、膜１ｇあたりのラジカルスピン量に換算した値である。一般に、放射線滅菌後、生成した膜中のラジカル種のなかで極めて不安定なものは直ちに消失し、反応性がやや劣るものが長期間残留する。本発明者らは、これらが９０日目で一定値以下であれば、その後２年保管相当の加速試験を実施しても、抗血栓性の低下が抑制されることを見出した。
本発明の血液処理モジュールにおいては、放射線滅菌後のラジカルスピン含有量が２０．０×１０１５スピン／ｇ以下であり、その後の長期保管を経ても、抗血栓性の低下は抑えられている。より好ましくは１０．０×１０１５スピン／ｇ以下であり、３．０×１０１５スピン／ｇ以下とすることが最も好ましい。
【００１１】
以下、本発明の血液処理モジュールの実施態様について、詳細に説明する。
製膜原液は、ポリスルホン系高分子とＰＶＰを溶剤に溶解し、減圧脱気したものを用いる。溶剤としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドが挙げられるが、これらは単独、あるいは任意の割合で混合して使用しても構わない。さらに、凝固速度を制御する目的から少量の水や塩類を含んでいてもよい。中空状に製膜するには、製造上、取り扱いやすい粘度にする必要があり、また、膜のＰＶＰ含有率を所望の範囲に制御するため、製膜原液の好ましい組成は、ポリスルホン系高分子が１６〜１８重量％、ＰＶＰが４〜１０重量％であり、残りが溶剤である。
【００１２】
中空糸の形成は公知の方法に従えばよいが、本発明でいう血液処理モジュールに好適な透過性能を得るには、中空剤の組成を制御することが重要である。分離膜の透過性能を安定に制御するには、中空剤に水と溶剤との混合液を用いる方法が好ましく、溶剤はＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、ジメチルスルホキシドから選択される。中空剤の好ましい組成は溶剤が５〜４０重量％であり、残りが水である。溶剤の割合がこれ以上高くなると、凝固までに中空形状を保持できずに糸切れ等の製造トラブルの原因となる。反対に低くなると膜として十分な透過性能が達成できない。より好ましい範囲は１０〜２５重量％である。
【００１３】
これらの製膜原液と中空剤とを５０〜８０℃に保温した二重紡糸口金から同時に吐出させ、空中走行を経て温水凝固浴に導入後、巻き上げると中空糸状の分離膜が得られる。続いて、後述する水性媒体による抽出工程の後、水洗し、さらに孔径保持剤として、グリセリンまたはポリエチレングリコール水溶液を付着させて７０〜８０℃で乾燥処理を行えば、乾燥分離膜が得られる。
【００１４】
上記の分離膜は、さらに処理工程を経た後、ハウジングに組み込まれて血液処理モジュールとなり、放射線滅菌を受ける。その際、分離膜に生成したラジカル種の一部が残留し、長期保管中に徐々にＰＶＰの変成を起こす結果、使用時までに抗血栓性が低下する可能性があった。
ところが、本発明者らは、分離膜表面に存在している吸着ＰＶＰを放射線滅菌前に除去しておくと、ラジカルスピン含有量が減少し、長期保管中の抗血栓性の低下が抑制されることを見出した。この理由は詳細に解明されてはいないが、ラジカル種の生成やＰＶＰの変成が、おもに表面に出た部分で生じていることが原因ではないかと推定される。すなわち、ＰＶＰ分子には、一部がポリスルホン系高分子中に強固に埋まり、残りの部分が表面に出たものと、全体が表面に吸着しているだけのものがある。後者は、血液中では脱着してしまう本来不要なものであるが、分子量が１０万〜数十万と大きく、多点吸着しているために短時間の水洗程度では除去されず、膜表面に残ってラジカル生成源になると思われる。従って、この吸着ＰＶＰを放射線滅菌前に十分に除去しておけば、滅菌後のラジカルスピン含有量が軽減し、膜表面の変成が抑制されるためだと考えられる。
【００１５】
膜表面に残っている吸着ＰＶＰを効率よく除去するにあたっては、下記に示す水性媒体を使用して分離膜を抽出すればよい。
ここでいう水性媒体とは、ポリスルホン系高分子を溶解せずにＰＶＰだけを溶解できる組成で、しかも、ポリスルホン系高分子表面にある吸着ＰＶＰに対して脱着作用を有する媒体である。具体的には、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、グリセロール等の水混和性アルコールを各々、３０〜９５容量％含有する水溶液、および、テトラヒドロフラン、ジメチルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン等の水混和性非プロトン性有機溶媒を各々、３０〜６０容量％含有する水溶液が挙げられる。これらの中から任意に選択すればよい。
水性媒体による抽出は、温度が高いほど吸着ＰＶＰの除去効果が高いが、製造上の取り扱い性の点から、３５〜９０℃で使用することが望ましい。この温度範囲で１５〜１２０分間抽出すれば、吸着ＰＶＰを十分に除去することができる。温度が低すぎると、これ以上に時間をかける必要があり、生産性が低下してしまう。抽出方法は特に問わないが、製膜後の巻き束を水性媒体に完全浸漬させるか、あるいはシャワーリングすればよい。もちろん、分離膜をハウジングに組み込んだ後にモジュール内部に通液してもよく、抽出効率が高くなるため好ましい。
【００１６】
膜表面の吸着ＰＶＰが除去されたことの評価は以下のように行う。すなわち、後述の方法で膜面積１．５ｍ２のモジュールを作成し、放射線滅菌後に、３７℃の４０容量％エタノール水溶液２００ｃｃを中空糸内側に２時間循環し、溶出するＰＶＰ濃度を測定する。循環液中のＰＶＰは、ゲル濾過カラムを取り付け、５０ｍＭの食塩水をキャリアーとした高速液体クロマトグラフ装置において、２２０ｎｍの紫外部吸収でモニターを行ったときに数千〜数十万の分子量領域に見られるピーク全てについて、ＰＶＰ標準品の検量線から濃度を求めればよい。この濃度が１０ｐｐｍ以下であれば、クロマトグラム上で分子量が１０万以上の高分子量ＰＶＰピークは認められず、膜表面の吸着ＰＶＰは実質的に除去されていると判断する。
【００１７】
続いて、分離膜に残った水性媒体を水で洗浄し、さらに孔径保持剤としてグリセリン水溶液を付着させた後、７０〜８０℃で１０時間以上の乾燥処理を行なえば、乾燥した分離膜が得られる。
【００１８】
分離膜の形状は中空状であるが、血液処理用途としての強度や実用性とを考慮すると、内径が８０〜４００μｍの中空部と、厚みが３５〜８５μｍの膜厚部からなることが好ましい。内径がこれ以下に小さいと血流抵抗が高まり、必要以上に大きくなっても血中の物質移動効率が悪くなって、治療効果の低下につながる。また、膜厚が薄すぎると強度が保てず、取り扱い時の潰れの原因となり、厚すぎると膜中の物質移動抵抗が大きくなり、透過性能が低下するので好ましくない。
【００１９】
モジュール化の方法も特に限定せず、公知の手法を用いればよい。すなわち、分離膜をハウジングに挿入した後、両端をポッティングして所定の膜面積を有するモジュールに成形する。ハウジングの素材は、ポリスチレンのブロック共重合体やポリカーボネート等、透明度が高くしかも放射線照射に耐える樹脂が用いられる。形状は、透析液や濾液を通すためのノズルが両端付近にそれぞれ付いていればよい。
該モジュール内の分離膜の充填密度は、透析液の偏流れによる透析効率の低下、あるいはハウジングへの挿入時の膜の破損が起こらない範囲であればよく、５５〜７０％が好ましい。また、膜面積は分離膜の血液接触面を均一な平面と仮定した時の総表面積であるが、０．０１〜２．５ｍ２の範囲が好ましい。これ以上に小さいと、血液処理モジュールとしての治療効果が発揮されず、反対に大きすぎると体外に持ち出される血液量が増えるため、好ましくない。
【００２０】
次に、ハウジングの両端にポッティング剤を注入して硬化後、両端面を切断して中空糸を開口させる。ポッティング剤としては、ポリウレタン樹脂、エポキシ樹脂、およびシリコン樹脂が汎用されており、これらの何れを使用しても構わない。このハウジングに、血液の導入・排出用のノズルがついたヘッダーをゴムパッキンと共に取り付け、締結するか溶着して外れないように固定する。
上記の血液処理モジュールは、分離膜とハウジング以外の空間が空気や不活性ガスで満たされた、あるいは減圧状態に保たれたドライ状態、もしくは水溶液で満たされたウェット状態の何れであっても構わない。ただし、ヒドロキシラジカルに誘起されるラジカル生成量が少ないためか、ドライ状態の方が膜中のラジカルスピン含有量が少なくなるので、モジュール内部の空間はドライ状態の方がより好ましい。この場合、分離膜の含水率は特に限定しない。
【００２１】
該モジュールへ放射線滅菌を行うにあたり、放射線の線源は特に限定しないが、医療用具の放射線滅菌に汎用されているのはコバルト６０によるγ線である。他にもＸ線や電子線も利用できるが、物質浸透性の点からγ線を使用することが最も好ましい。照射線量は、一般的な医療用具の滅菌条件に準じればよく、１５〜５０ＫＧｙの範囲であればよく、好ましくは２０〜３５ＫＧｙである。
以上により、本発明の血液処理モジュールが得られる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、実施例により本発明をさらに詳細に説明するが、本発明はそれに限定されるものではない。なお、実施例で用いた諸数値は以下の手順によって測定したものである。
【００２３】
（分離膜中のラジカルスピン含有量の測定）放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モジュールから分離膜５０本×５cm分を取り出し、４時間凍結乾燥させた。窒素気流下で減圧を解除し、窒素ガスと共に測定試料管に挿入して密栓後、翌日の測定開始までドライアイスで氷冷した。測定は、電子スピン共鳴装置（日本電子  ＪＥＳ−ＦＥ２ＸＧ）を用いて、室温下、磁場３４００±１００Ｇ、マイクロ波照射０．４ｍＷ、掃引時間１分、強度２００倍で実施した。また、標準品としては、１，１−ジフェニル−２−ピクリルヒドラジルのベンゼン溶液（２．９×１０−６ｍｏｌ／リットル）を用い、装置内蔵のマンガンマーカーとの相対比から、試料中のラジカルスピン含有量を算出した。この値を分離膜の乾燥重量で割って、膜１ｇあたりのラジカルスピン含有量とした。
【００２４】
（分離膜吸着ＰＶＰの溶出評価）膜面積１．５ｍ２で、放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モジュールを準備し、その中空糸内側に、４０容量％エタノール水溶液２００ｃｃを流速２００ｃｃ／分にて、３７℃、２時間循環した。循環液０．０５ｃｃを、ゲル濾過カラム（昭和電工社製  Ａｓａｈｉｐａｋ  ＧＦ−７１０ＨＱ）を取り付けた高速液体クロマトグラフ装置に注入し、５０ｍＭの食塩水を流速１．０ｃｃ／分で流しながら２２０ｎｍの紫外部吸収でモニターした。高分子領域である保持時間６〜１０分のピークについて、ＰＶＰ標準品を用いた検量線からＰＶＰ濃度を求めた。ＰＶＰの定量限界は２．５ｐｐｍであった。
【００２５】
（分離膜の抗血栓性評価）放射線滅菌後９０±３日目の血液処理モジュールから分離膜を切り出し、長さ２０ｃｍ、３００本からなるミニモジュールを作成した。該モジュールにヘパリン加ヒト新鮮血を３７℃で１０分間充填させた後、血液を押し出して回収した。充填前後の血液をそれぞれ血漿分離して、血漿中のトロンボキサンＢ２濃度をラジオイムノアッセィ法にて測定し、充填前に対する充填後の増加率を算出した。なお、血小板活性化の激しい陽性対照として、ＰＶＰを全く含有しない膜を用い、試験品と同時に比較した。
【００２６】
（分離膜中のＰＶＰ含有率の測定）照射滅菌後に水洗して凍結乾燥させた分離膜を５ｍｇ秤量し、元素分析計を用いて測定した総窒素量からＰＶＰ含有率を算出した。
【００２７】
【実施例１】
ポリスルホン系高分子（アモコ社製：Ｐ−１７００）１７．５部とＰＶＰ（ＢＡＳＦ社製：Ｋ９０、重量平均分子量３６万）４．５部をＮ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（以下、ＤＭＡＣという）７８部に添加、溶解して製膜原液を得た。中空剤はＤＭＡＣ１２．５部と水８７．５部の混合液とし、これらを４０℃の二重紡糸口金から吐出させ、凝固浴を通過させた後にカセに巻取った。巻き束を５０容量％ＤＭＡＣ水溶液に浸漬し、７５℃で３０分間抽出して余分のＰＶＰを抽出後、水洗した。さらに、４５重量％のグリセリン水溶液を付着させ、７０℃で１０時間乾燥させて乾燥膜を得た。
この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、γ線を２０ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は２．７×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．２重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は６．８ｐｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．３であり、陽性対照の１０．１に比較して明らかに抗血栓性が優れていた。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は２．３×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は２．５にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００２８】
【実施例２】
水性媒体として、３５容量％ＤＭＡＣ水溶液を用い、９０℃で３０分間浸漬抽出した以外は、実施例１と同様の条件で乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、減圧・窒素置換を３回繰り返した後、真空パックした。
γ線を２５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は２．１×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．４重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は５．４ｐｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．４であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は２．０×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は２．５にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００２９】
【参考例１】
水性媒体として、５０容量％ＤＭＡＣ水溶液を用い、９０℃で６０分間浸漬抽出した以外は、実施例１と同様の条件で乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、５００ｐｐｍのピロ亜硫酸ナトリウム水溶液を充填して一晩静置した。
γ線を２７．５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は６．９×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．０重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は２．５ｐｐｍ以下であった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．７であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．１×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は２．７にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００３０】
【実施例３】
実施例１で得られた紡糸後の巻き束を、水性媒体で処理せずに水洗、グリセリン処理  し、乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形後、４０℃の６０容量％エタノール水溶液を流速５０ｍｌ／分で通液し、２時間、全濾過抽出した。さらに、モジュールを水洗し、分離膜を４０重量％のグリセリン水溶液で置換後、中空部をエアーフラッシュした。
γ線を２２ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は３．３×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．６重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は６．０ｐｐｍであった。また、トロンボキサンＢ２増加率は２．９であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は３．２にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００３１】
【参考例２】
実施例１で得られた紡糸後の巻き束を、水性媒体で処理せずに水洗、グリセリン処理し、乾燥膜を得た。この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形後、４０℃の４０容量％テトラヒドロフラン水溶液を流速５０ｍｌ／分で通液し、２時間、全濾過抽出した。
モジュールを水洗後、内部に水を充填したままγ線を２２ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は９．３×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は６．６重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は２．５ｐｐｍ以下であった。また、トロンボキサンＢ２増加率は３．２であった。同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０１５スピン／ｇ、トロンボキサンＢ２増加率は３．５にとどまり、抗血栓性は保持されていた。
【００３２】
【比較例１】
実施例１で得られた紡糸後の巻き束を、水性媒体による抽出処理をせずに水洗、グリセリン処理を行い、乾燥膜を得た。
この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、２２．５ＫＧｙのγ線照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は２３×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は９．２重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は４７ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２増加率は３．１であった。ところが、同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は２．４×１０１５スピン／ｇまで減少し、一方、トロンボキサンＢ２増加率は９．５と増大し、抗血栓性が低下した。
【００３３】
【比較例２】
比較例１の乾燥膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形後、水を充填してγ線を２２．５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は３１×１０１５スピン／ｇ、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度は１９ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２増加率は３．３であった。ところが、同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は３．３×１０１５スピン／ｇまで減少し、一方、トロンボキサンＢ２増加率は１０．２と増大し、抗血栓性は低下した。
【００３４】
【比較例３】
ポリスルホン系高分子１５部とＰＶＰ９部をＤＭＡＣ７６部に添加、溶解した以外は、実施例１と同様の条件で巻き束を得た。この束を、２５容量％のジメチルスルホキシド水溶液に７５℃で３０分間浸漬抽出した後、１時間水洗し、さらに４５重量％のグリセリン水溶液を付着させて７０℃で１０時間乾燥した。
この膜を膜面積１．５ｍ２のモジュールに成形し、水を充填してγ線を２５ＫＧｙ照射したところ、照射滅菌後９０日目において、分離膜中のラジカルスピン含有量は４３×１０１５スピン／ｇ、ＰＶＰ含有率は１１．４重量％であり、４０容量％エタノール循環液中のＰＶＰ濃度も５７ｐｐｍと何れも高かった。また、トロンボキサンＢ２増加率は３．１であった。ところが、同様に作成したモジュールの６０℃、４週間加速試験後のラジカルスピン含有量は５．２×１０１５スピン／ｇまで減少し、一方、トロンボキサンＢ２増加率は９．４と増大し、抗血栓性は低下した。
【００３５】
【発明の効果】
本発明のポリスルホン系血液処理モジュールは、放射線滅菌後のラジカルスピン含有量が少なく、長期保管中も抗血栓状態を保持できるため、血液浄化の分野に好適に利用できる。