(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
アルミニウム又はその合金からなる導電性支持体の表面に、陽極酸化処理及び封孔処理を施し、導電性支持基体内面の陽極酸化皮膜の一部を除去した後、感光体層を被膜形成する電子写真感光体の製造方法において、導電性支持基体内面の陽極酸化皮膜の一部を除去した後に水流により導電性支持基体を洗浄し、その後に浸漬洗浄することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。
【請求項２】
水流が、導電性支持基体内面に放出される水流を含むことを特徴とする請求項１記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項３】
水流が、導電性支持基体内部から放出される水流を含むことを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体の製造方法。
【請求項４】
前記導電性支持基体内面の、一部分のみを水流により洗浄することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、靜電複写機やレーザービームプリンタの感光ドラム等に用いられる電子写真感光体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子写真感光体は、アルミニウムからなる導電性支持体に感光体層が被覆されたものに構成されるが、かかる感光体層として有機物系材料を用いた有機感光体（ＯＰＣ）が製膜性、低価格性等の面で優れているところから、広く用いられている。そして、ＯＰＣ感光体の機能、特性をさらに向上させるために、近年、感光体を電荷発生層（ＣＧＬ）と電荷移動層（ＣＴＬ）を有するものに構成した積層型のＯＰＣ感光体が提供されている。
【０００３】
従来、アルミニウムからなる導電性支持体を用いる場合、上記感光体層、特に電荷発生層との密着性等の向上を目的として、該支持体に予め下地処理として硫酸法等による陽極酸化処理更に熱水等による封孔処理を施し、支持体表面に陽極酸化皮膜を形成することが一般的であった（特開平８−１７１２２４号公報等）。また、陽極酸化皮膜を形成した後、支持体の導電性を確保するために、該支持体内面の一部の陽極酸化皮膜をカセイソーダ等で脱膜する手法が知られていた。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、支持体内面の一部の陽極酸化皮膜をカセイソーダなどのアルカリや酸等で脱膜する方法によれば、該処理に用いたカセイソーダ等が支持体内面に残留し、次の水洗工程で残留カセイソーダ等が溶解し、支持体表面をエッチングしてしまうという問題点があった。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、かかる問題点を解消すべく鋭意検討した結果、陽極酸化皮膜を形成した後、支持体内面を効果的に洗浄することで、カセイソーダの残留を防止できることを見いだし、本発明に至った。すなわち、本発明の要旨は、「アルミニウム又はその合金からなる導電性支持体の表面に、陽極酸化処理及び封孔処理を施し、導電性支持基体内面の陽極酸化皮膜の一部を除去した後、感光体層を被膜形成する電子写真感光体の製造方法において、導電性支持基体内面の陽極酸化皮膜の一部を除去した後に水流により導電性支持基体を洗浄し、その後に浸漬洗浄することを特徴とする電子写真感光体の製造方法。」に存する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
電子写真感光体用のアルミニウム支持体は、アルミニウム又はアルミニウム合金の成分、形状、製法等に種類があるが、本発明においては、アルミニウムを主成分とし、表面に陽極酸化皮膜を形成し得るものなら、いかなるアルミニウム支持体でも用い得る。
【０００７】
上記アルミニウム支持体に陽極酸化処理を施すに際し、前処理として、脱脂、中和、水洗等を行っても構わない。これら前処理の方法は公知の方法でよく、特に限定されない。陽極酸化処理法としては、公知の硫酸法、しゅう酸法、リン酸法等いずれでもかまわないが、硫酸法を用いることが特に望ましい。
【０００８】
硫酸法の場合は、硫酸濃度を１５０〜２５０ｇ／Ｌ（Ｌはリットルを示す。）（望ましくは１７０〜１９０ｇ／Ｌ）、溶存アルミニウム濃度を１０ｇ／Ｌ以下、望ましくは４〜６ｇ／Ｌとし、且つ濃度の振れ幅を±０．５ｇ／Ｌ以内、より望ましくは±０．２５ｇ／Ｌ以内に管理する。通常、陽極酸化処理を行うとアルミニウム支持体から処理液中へアルミニウムが溶解し、処理液中のアルミニウム濃度は常に増加する傾向にある。よってアルミニウム濃度の管理は主に濃度を希釈することで達成される。
【０００９】
アルミニウム濃度の希釈方法としてはアルミニウムを含んだ処理液を所定量パージして、適切な濃度に調整したアルミニウムを含まない硫酸水溶液を上記のパージした処理液の容量分投入して混合する。これによって、処理液中のアルミニウム濃度は上記の管理幅に管理することができる。希釈の方法としては、連続でアルミニウムを含まない硫酸水溶液を投入しつつ、処理液を連続でパージする連続方式、または前記のことをバッチで行う方式がある。
【００１０】
処理液温度は８〜２３℃（望ましくは１０〜２１℃）、給電法を直接給電、間接給電及び両者の併用給電、電流密度を１．０〜２．０Ａ／ｄｍ2 （望ましくは１．０〜１．５Ａ／ｄｍ2 ）として処理を行う。なお、陽極酸化被覆の厚さは３〜１０μｍが望ましく、目的により適宜最適厚さを得るために、処理時間を選択する。
【００１１】
陽極酸化処理の後、水、純水、脱イオン水等による水洗工程を経て熱水封孔処理を行う。熱水封孔処理は、比抵抗が１〜２ＭΩ・ｃｍの純水を用い、液温度を８０〜９８℃（望ましくは９０〜９５℃）、処理時間を１０〜２５分（望ましくは１３〜１９分）として実施するが、陽極酸化膜表面の状態、特に活性度をできるだけ均一に保つために、液のＰＨ値を５〜８、望ましくは６〜７にコントロールすることが重要である。
【００１２】
なお、熱水封孔処理の前に、酢酸ニッケル封孔処理を行っても構わない。この場合の処理は、酢酸ニッケル濃度を５〜２０ｇ／Ｌ（望ましくは１０〜１５ｇ／Ｌ）、液温度を８０〜９８℃（望ましくは９０〜９５℃）、ＰＨ値を５．０〜６．０（望ましくは５．３〜５．８）、処理時間を１０〜２５分（望ましくは１３〜１９分）として実施する。
【００１３】
ここで、酢酸ニッケル封孔処理を行った場合は、公知の上水、純水等による洗浄を実施した後、前記の熱水封孔処理を行うことが望ましい。
【００１４】
上記、封孔処理を施した後には、支持体の導電性を確保するため、支持体内面の一部を酸、アルカリその他の脱膜液で脱膜することが望ましい。
酸としては、特に限定されるものではないが、塩酸・硫酸等公知の酸を用いることが可能である。一方、アルカリとしては、ＮａＯＨ（カセイソーダ）、ＫＯＨ、アンモニア水等公知のアルカリを用いることができる。なお、酢酸ニッケル封孔処理を行った場合、酢酸ニッケルは弱酸性なので、アルカリを用いれば、支持基体を中和することが可能となり望ましい。
【００１５】
脱膜方法としては、特に限定されるものではないが、支持基体内部に公知の脱膜冶具を挿入し、該脱膜冶具より、脱膜液を支持基体内面へ向け放出することにより行う方法が望ましい。
【００１６】
上記脱膜処理後は、支持体内面に脱膜液が残留しているため、そのまま感光層を塗布することができず、残留した脱膜液を取り除く必要がある。かかる手段としては、水槽に漬けることも想定されるが、残留した脱膜液が水槽内の水又は脱イオン水に溶解し、支持体の外表面をもエッチングしてしまうため、水槽に漬ける前に水流により残留した脱膜液を取り除くことが望ましい。
【００１７】
ここで、水流とは、水が、ある程度の速度をもって移動等するものを意味し、水とは、特に限定されるものではないが、例えば、純水、脱イオン水、水道水があげられる。水流としては、導電性支持基体の外部より如雨露のように水その他の液体を放出可能な装置を用いて形成されるものがあげられる。また、支持基体内部に水流放出装置を挿入し、該水流放出装置より水を支持体内面に向け放出し、支持体内面に残留する脱膜液を除去するのも好ましい残留脱膜液除去手段である。これらの手段を組み合わせて用いるとより効果的に残留脱膜液を除去することが可能となりより望ましい。
【００１８】
支持基体内部に挿入する水流放出装置としては、該装置から液体を放出可能な装置であれば、特に限定されるものではないが、例えば図１に示すような装置があげられる。
図１の水流放出装置は、ドラム保持部（２）に載せられたドラムの内面に挿入され、管（３）から水等を導入し、水流放出部（１）より水等を支持体内面に向けて放出することにより、支持体内面に残留している脱膜液を除去する。
【００１９】
図１の水流放出装置は、個別に設置しても良いが、いくつかを並べることは、作業効率の観点から好ましい。
【００２０】
以上のような下地処理の後、感光体層を塗布形成する。かかる感光体層としては、単層型の有機感光体層、また電荷発生層と電荷輸送層が積層された構造の機能分離型感光体層のどちらであってもよい。
【００２１】
本発明における電子写真感光体形成用塗料としては電荷発生材料及び／または電荷輸送材料を含む塗布液、ポリビニルアルコール、カゼイン、ポリビニルピロリドン、ポリアクリル酸、アルロース類、ゼラチン、でんぷん、ポリウレタン、ポリイミド、ポリアミド、ポリビニルブチラール、フェノキシ樹脂、ポリカーボネート、ポリビニルカルバゾール等のポリマーを含む塗布液或いはこれらポリマーに導電性の微粉末を分散した塗布液などが挙げられる。
【００２２】
上記電荷発生材料としては、アゾ系顔料、ペリレン系顔料、アントラキノン系顔料、多環キノン系顔料、インジゴイド系顔料、フタロシアニン系顔料、カルボニウム系顔料、キノンイミン系顔料、メチン系顔料、キノリン系顔料、ニトロ系顔料、ニトロソ系顔料、ベンゾキノン及びナフトキノン系顔料、ナフタルイミド系顔料、ピスベンズイミダゾール系顔料等公知の電荷発生剤が挙げられる。
【００２３】
上記電荷輸送材料としては電子の輸送媒体或いはホールの輸送媒体を使用することができ、またその混合物も使用できる。電子の輸送媒体としてはニトロ基、シアノ基、エステル基等の電子吸引性基を有する電子吸引性化合物、例えば、２，４，７−トリニトロフルオレノン、２，４，５，７−テトラニトロフルオレノン等のニトロ化フルオレノン或いはテトラシアノジメタンが挙げられる。また、ホールの輸送媒体としては電子供与性の有機光導電性化合物、例えば、カルバゾール、インドール、イミダゾール、オキサゾール、チアゾール、オキサジアゾール、ピラゾール、ピラゾリン、チアジアゾール等の複素環化合物、トリフェニルメタンとその誘導体、トリフェニルアミンとその誘導体、フェニレンジアミン誘導体、Ｎ−フェニルカルバゾール誘導体、スチルベン誘導体、ヒドラゾン化合物等が挙げられる。
【００２４】
上記塗布液を調製するための媒体としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノン、４−メトキシ−４−メチルペンタノン−２、ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ベンゼン、トルエン、キシレン、クロロホルム、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタン、テトラヒドロフラン、１，４−ジオキサン、メタノール、エタノール、２−プロパノール、酢酸エチル、酢酸ブチル、ジメチルスルホキシド、２，４−ベンタンジオン、３−オキソブタン酸メチル等が挙げられる。
【００２５】
電荷発生材料及び／または電荷輸送材料は前記分散溶媒に単独または適切なバインダー樹脂と共に分散されて塗布液をなすが、その他に該塗布液は分散剤、別のバインダー樹脂、別の有機溶剤、酸化防止剤、感度劣化防止剤、レベリング剤、その他公知の各種添加剤を含有しても良い。塗布液中の固形分の含有量は主として形成すべき層の膜厚に応じて形成されるが、積層型の電荷発生層を形成する場合には固形分濃度１５重量％以下、より好ましくは１〜１０重量％とすると良い。
【００２６】
積層型の電荷発生層の厚さは、通常５μｍ以下、好ましくは０．０１〜１μｍが適当である。電荷移動層の厚さは、通常１０〜４０μｍ、好ましくは１０〜２５μｍが適当である。前記感光体層の塗布方法としては、従来から知られている方法で良いが、生産性という観点では、ディップ塗布法が最適である。
【００２７】
【実施例】
以下、本発明を実施例により詳細に説明するが、本発明は下記実施例に限定されるものではない。
Ａ３００３合金を用いた外径３０ｍｍ、長さ２５０ｍｍ、肉厚０．７５ｍｍのＥＩ管をアルミニウム支持体として用い、一般的な前処理（脱脂、中和、水洗）を行った後、硫酸濃度１８０ｇ／Ｌ、溶存アルミニウム濃度４．５±０．５ｇ／Ｌ、浴温度１８℃、電流密度１．３Ａ／ｄｍ2 条件下で陽極酸化皮膜５μｍを得た。
【００２８】
その後、酢酸ニッケル封孔剤（奥野製薬工業製、ＤＸ−５００、濃度１３ｇ／Ｌ）を用いて、液温度９５℃、ＰＨ５．５の条件下で１４分間酢酸ニッケル封孔処理を行い、更にＰＨ７の熱水にて、液温度９５℃の条件下で１４分間熱水封孔処理を行った。その後、ドラム保持部（２）に支持体を載せ、支持体の内面に図１の水流放出装置を挿入した。ドラム保持部（２）は、羽状になっており、これにより水はけが良くなっている。つぎに、管（３）から純水を導入し、水流放出部（１）より水等を支持体内面に向けて純水を５秒間放出することにより、支持体内面に残留している脱膜液を除去した。
その後、水槽に支持体を浸漬し、乾燥処理を施した後に、電荷発生層、電荷移送層の浸漬塗布を行った。
【００２９】
電荷発生層塗布用溶液として、
フタロシアニン系顔料                          ６部
ポリビニルブチラール樹脂                      ２部
ジメトキシエタン                          １５０部
４メトキシ−４−メチルペンタノン２          ２０部
の組成を持ち、固形分濃度３．４ｗｔ％のものを用いた。また、塗布時の引上げ速度は２５０ｍｍ／分で実施した。
【００３０】
【比較例】
封孔処理後、図１の水流放出装置と、支持体上部に設けられた水流装置から純水を約５秒間放出しなかった以外は、実施例と同様に行った。封孔処理後に水槽に支持体を浸漬し、乾燥した際に支持体表面がエッチングされているものがあった。このような支持体表面がエッチングされているものに電荷発生層、電荷移送層を塗布した電子写真感光体は、画像むらを生じた。
【００３１】
【発明の効果】
本発明によれば、支持体表面を残留脱膜液によってエッチングされる事態を減らし、画像むら等の画像欠陥を効果的に防止できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  水流放出装置の概略図である。
【符号の説明】
１  水流放出部
２  ドラム保持部
３  管
４  支持体
【図１】
0003941295.tif 000002