(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
エンボス化粧板において、型板としてステンレス製のプレートの表面にエッチングレジスト層を設けてエッチング処理して凹部を形成した後、該エッチングレジスト層を除去して全面を研磨し、次いで凸部にブラストレジスト層を設けて全面を粒子径２５０〜４００μｍのガラスビーズによりブラスト加工し、しかる後該ブラストレジスト層を除去した賦型プレートを用いてなり、製品においてエンボス凹部の光沢度がエンボス凸部の光沢度より２０〜５０°高いことを特徴とするエンボス化粧板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明はエンボス化粧板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂などの熱硬化性樹脂よりなる樹脂液を化粧板用の化粧紙に含浸した樹脂含浸化粧紙と、フェノール樹脂含浸紙、合板、パーティクルボードなどのコア材と、金属製の型板やプラスティック製の型板とを用いて熱圧成形することにより得られる化粧板があり、表面が平坦な化粧板と表面に凹凸を賦与したエンボス化粧板が知られている。
【０００３】
エンボス化粧板は表面が平坦な化粧板に比べ立体感に富み印刷紙の模様と型板の形状を適宜選択して組み合わせることでデザインも豊富で、このエンボス化粧板の製法についてはインク中にハイドロキノンの如き重合禁止剤を添加して印刷を施した化粧紙に熱硬化性樹脂よりなる樹脂液を含浸し、コア材とともに熱圧成形して硬化速度の差により凹凸を形成するいわゆる化学的エンボス法と、金属製、プラスチック製の型板や賦型シートを用いて熱硬化性樹脂含浸化粧紙、コア材ともに熱圧成形して凹凸を賦与する物理的エンボス法に大別される。
【０００４】
一般に物理的手段により凹凸を賦与したエンボス化粧板は化学的エンボス法に基づいたものに比べ凹凸を深くすることが可能で、この凹凸の深さゆえに仕上がり外観がより立体的で付加価値が追及される昨今では需要も多いものとなっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、物理的エンボス法に基づいたエンボス化粧板は凹凸の深さが２０〜８０μｍと深く立体感に優れる反面、カウンター、机、テーブルなどの水平面用途として長期間使用すると人、物による接触頻度の多い箇所の凸部は擦られるため艶が変化しやすく初期の仕上がりとはほど遠いものとなることがあった。これは光沢度の高いエンボス化粧板については艶落ちとして顕著に現れ、また、光沢度の低いエンボス化粧板については表面状態の平滑性が乏しければ逆に艶が上がる傾向があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明はかかる状況に鑑み検討されたもので、エンボス化粧板において、型板としてステンレス製のプレートの表面にエッチングレジスト層を設けてエッチング処理して凹部を形成した後、該エッチングレジスト層を除去して全面を研磨し、次いで凸部にブラストレジスト層を設けて全面を粒子径２５０〜４００μｍのガラスビーズによりブラスト加工し、しかる後該ブラストレジスト層を除去した賦型プレートを用いてなり、製品においてエンボス凹部の光沢度がエンボス凸部の光沢度より２０〜５０°高いことを特徴とするエンボス化粧板である。以下、本発明について図面を参照しながら詳細に説明する。
【０００７】
図１は本発明で得られるエンボス化粧板（９）の断面図を示し、図２〜図５は賦型プレート（８）の製造方法を示す断面図である。図２に示されるように賦型プレート（８）は先ずエンボス化粧板の製造時の温度、圧力に耐えうるようにＳＵＳ３０４、ＳＵＳ４１０、ＳＵＳ４３０などのステンレス製のプレ−ト（１）を選択した後、表面に塩素化ポリオレフィン樹脂、クマロン樹脂、ゴム系樹脂などをベースにした有機溶剤剥離型のインクを用いて所望のパターンのスクリーン印刷を施し付着性が向上するように加熱乾燥してエッチングレジスト層（２）が設けられる。
【０００８】
エッチングレジスト層（２）はスクリーン印刷によらずとも感光性のレジスト液をステンレス製のプレ−ト（１）の表面に塗布し所望のマスクパターンを有するフィルムを用いて露光、現像してレジスト層を形成するいわゆる写真法が考えられるが工数と時間を要する上、レジスト層とステンレス製のプレート（１）との密着性、露光の管理、レジスト液の溢れなどを考慮すればスクリーン印刷法に基づくのが望ましい。
【０００９】
次に図３に示されるようにエッチングレジスト層（２）以外の表面をエッチングして凹部（３）を形成するが、エッチングについては塩化第二鉄水溶液単独よりむしろ塩化第二鉄を主剤としステンレス製のプレ−ト（１）の表面の難溶解性不純物を除去し溶解速度を向上させるために過酸化水素水、硝酸、塩酸などを添加物とするエッチング溶液を用いて処理するのが望ましい。塩化第二鉄水溶液は貴金属材料やチタン、タンタルなどの高耐食材料を除く金属に対して優れた腐食性を有しており、エッチングレジスト層（２）の浮きや剥離を生じることなくエッジ周辺が綺麗に仕上がる。
【００１０】
エッチング方法については化学エッチング、電解エッチングなどがあるがエンボス化粧板用に供される大面積のステンレス製のプレ−ト（１）の表面に均一な深さの凹部を形成し、また温度、電流密度などの条件管理を容易にすることなどを考慮すれば電解エッチングよりむしろ化学エッチングにより凹部（３）を形成するのが好ましい。化学エッチングとしては浸漬法、スプレー法などの公知のエッチング法が挙げられるが特に制約はない。
【００１１】
化学エッチングにより深さ１０〜７０μｍの凹部（３）を形成した後は図４〜図５に示されるようにエッチングレジスト層（２）を有機溶剤で除去してバフ研磨やベルト研磨などの機械研磨により全面を研磨し、しかる後凸部（４）にエッチングレジスト層（２）と同様の樹脂をベースにしたインクをスクリーン印刷し加熱乾燥してブラストレジスト層（５）を設けて全面をブラスト処理し、さらにブラストレジスト層（５）を有機溶剤で除去すると賦型プレート（８）が得られる。
【００１２】
ブラストレジスト層（５）は耐衝撃性に優れるゴム系樹脂をベースにしたインクを用いて形成するのがとりわけ好ましく、前述のエッチングレジスト層（２）もゴム系樹脂をベースにしたインクを用いればベース材料を共有でき非常に都合がよい。
【００１３】
エッチングレジスト層（２）、ブラストレジスト層（５）はステンレス製のプレート（１）上の同じ位置に形成されるため同一のスクリーン版で賄うことができる。各々の層を除去するための有機溶剤としては、トリクロロエタン、メチルエチルケトン、アセトン、トルエンなどが挙げられるが特に制約はない。
【００１４】
ブラスト加工についてはステンレス製のプレ−ト（１）のエッチング凹部（３）の粗面を平滑にし所望の深さになるように粒子径２５０〜４００μｍのガラスビーズをブラスト材として用い圧縮空気と混合して投射できる装置を用いればよく、例えばエアブラスト装置が挙げられる。ガラスビーズ以外のブラスト材、例えば鉄粉や砂などは角がありエッチング凹部（３）の粗面を平滑にするには不充分で熱圧成形後の化粧板表面の耐汚染性が劣るため好ましくない。ガラスビーズの粒子径が２５０μｍ未満の場合には光沢を低下させる効果が得られにくく、また、粒子径が４００μｍを越えるとブラスト面が粗くなり平滑性が得られにくくなる。この平滑性については特に重要であり、平滑性が不充分で表面がざらついた状態の場合にはエツチング凹部（３）が転写されて形成されるエンボス化粧板の凸部（３ａ）は耐汚染性に劣るばかりでなく摩擦による艶の変化を受けやすいものとなる。
【００１５】
このようにして得られる賦型プレート（８）上述のようにスクリーン印刷、研磨、ブラストなどの工程で充分対応でき、ニッケル、クロムなどの金属メッキ工程、感光性レジスト材、露光工程などが不要であり生産上都合がよい。
【００１６】
賦型プレート（８）と化粧板用の化粧紙に熱硬化性樹脂よりなる樹脂液を含浸した樹脂含浸化粧紙とコア材とを積層して一対の熱盤間に挿入して温度１００〜１６０℃、圧力１０〜７０ｋｇ/ｃｍ2、時間５〜１００分の条件で熱圧成形すると賦型プレート（８）の凹凸が転写されたエンボス化粧板（９）が得られる。
【００１７】
樹脂含浸化粧紙は薄葉紙、チタン紙、リンタ−紙などの化粧紙にメラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、不飽和ポリエステル樹脂、グアナミン樹脂などの熱硬化性樹脂よりなる樹脂液を含浸処理したものが適用でき、更に化粧層を保護し、耐摩耗性を向上させるためにα−セルロ−スを主成分とする表面紙に同様の樹脂液を含浸した樹脂含浸表面紙を用いても良い。
【００１８】
メラミン樹脂としてはメラミンとホルムアルデヒドを反応させたメラミン−ホルムアルデヒド初期縮合物を基本にアルコ−ル類によるエ−テル化、あるいは、ベンゾグアナミン、アセトグアナミンなどのグアナミン類、パラトルエンスルフォンアミドの如き可塑化を促す変性剤で変性されたものが適用できる。
【００１９】
コア材としては、化粧板用として供されるクラフト紙、不織布、クロスなどのコア紙に不飽和ポリエステル樹脂、フェノール樹脂、メラミン樹脂、ジアリルフタレート樹脂、ＳＢＲなどよりなる樹脂液を含浸した樹脂含浸コア紙や、また化粧合板用として供される基材、例えば合板、パーティクルボード、中密度繊維板などの木質材料が適用できる。
【００２０】
不飽和ポリエステル樹脂は二価のアルコールと二塩基酸とを縮合反応せしめたもので、二価のアルコールとしてはエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、１，３―ブチレングリコール、ネオペンチルグリコールなどが挙げられ、二塩基酸としては無水マレイン酸、フマル酸などの不飽和二塩基酸、イソフタル酸、無水フタル酸などが挙げられ、二価のアルコール、二塩基酸いずれも１種以上を選択して反応させればよい。
【００２１】
コア紙にジアリルフタレート樹脂や不飽和ポリエステル樹脂、あるいはこれらを併用する場合には、硬化剤としてのメチルエチルケトンパーオキサイド、ベンゾイルパーオキサイドなどの有機過酸化物、及び硬化促進剤、充填剤などが加
えられる。さらに、硬化性、フロ−性、密着性などを向上させるためスチレン、オルトクロルスチレン、ジアリルフタレートモノマー、メチルメタクリレートなどの重合性モノマーを添加してもよい。
【００２２】
コア紙に含浸されるフェノール樹脂はフェノール類とアルデヒド類を塩基性触媒下で脱水反応させレゾール型フェノール樹脂で、フェノール類としては、フェノール、クレゾール、キシレノール、オクチルフェノール、フェニルフェノール、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＳ、ビスフェノールＦなどが挙げられ、アルデヒド類としては、ホルマリン、パラホルムアルデヒド、グリオキザール、トリオキザールなどが挙げられる。また塩基性触媒としては、ナトリウム、カリウムなどのアルカリ金属、及びマグネシウム、カルシウムなどのアルカリ土類金属の酸化物や水酸化物、及びトリエチルアミン、トリエタノールアミンなどのアミン類が挙げられる。
【００２３】
化粧紙、表面紙、コア紙などの化粧板用の原紙に前述の樹脂を用いる際には水、トルエン、アセトン、メタノールなどの溶媒で粘度調整のため希釈されディッピング、コーティングなどの手段により含浸処理される。手段については原紙に樹脂が充分に付着し乾燥できれば特に制約はない。
【００２４】
【作用】
賦型プレート（８）、樹脂含浸化粧紙、コア材などの材料を積層し一対の熱盤間に挿入後熱圧成形して得られるエンボス化粧板（９）はＪＩＳ  Ｚ  ８７４１に基づく凸部（３ａ）の光沢度が５〜４０°と低く、かつエンボス化粧板（９）の凹部（４ａ）の光沢度が凸部（３ａ）の光沢度より２０〜５０°高くなり、２０〜８０μｍのエンボスの深さと光沢度の差が相まってより立体感のある仕上がりとなる。
【００２５】
また、エンボス化粧板（９）の凸部（３ａ）は、平滑性を有し低光沢となるようにブラスト処理された賦型プレート（８）の凹部が転写されたものであるため耐汚染性に優れ摩擦による光沢度の変化が極めて少なく長期間使用しても熱圧成形直後の外観を充分維持することができる。
【００２６】
以下、本発明を実施例に基づいて詳細に説明する。
【実施例】
実施例１
賦型プレートの作成
厚み３ｍｍのＳＵＳ４３０ステンレスプレートの表面にゴム系樹脂をベースにしたインクを用いて石目パターン状のスクリーン印刷を施しエッチングレジスト層を形成した後、塩化第二鉄を主剤とし硝酸を添加物とするエッチング溶液を用い浸漬法に基づいて処理して深さ４０μｍの凹部を形成した。次いでアセトンでエッチングレジスト層を除去して全面をバフ研磨し、凸部にゴム系樹脂をベースにしたインクを用いてスクリーン印刷を施しブラストレジスト層を設けた。次いでエッチング凹部を平滑になるように粒子径３００μｍのガラスビーズをエアーブラスト装置のノズルから投射圧力３ｋｇ/ｃｍ2で投射し、しかる後アセトンでブラストレジスト層を除去して賦型プレートを得た。
化粧紙用の樹脂の配合
変性メラミン−ホルムアルデヒド樹脂            １００重量部
硬化剤
（パラトルエンスルホン酸）                      １重量部
離型剤                                            １重量部
２００ｇ/ｍ2のクラフト紙にフェノールとホルマリンを水酸化ナトリウム下反応させたフェノール樹脂よりなる樹脂液を１００ｇ/ｍ2含浸させた樹脂含浸コア紙を４枚と、酸化チタン隠蔽剤及び顔料を抄き込んだ１００ｇ/ｍ2の淡褐色の無地パターン紙に上記配合の樹脂よりなるメラミン樹脂液を１１０ｇ/ｍ2含浸させた樹脂含浸化粧紙を１枚と、上記の賦型プレートとを順次積層した後平板プレスの熱盤間に挿入して、圧力７０ｋｇ/ｃｍ2、温度１５０℃、時間５０分の条件で熱圧成形して実施例１のエンボス化粧板を得た。実施例１のエンボス化粧板の成形直後の外観は凹部と凸部に艶の差があり、また耐摩耗試験５０００回実施後においても凸部の光沢度の変化は認められなかった。
【００２７】
比較例１
実施例１において、スクリーン印刷によるブラストレジスト層を設けなかった以外は実施例１と同様に熱圧成形して比較例１の化粧板を得た。比較例１の化粧板の成形直後の表面を目視で確認すると凹部と凸部の艶の差がなかった。
【００２８】
比較例２
実施例１において、粒子径３００μｍのガラスビーズのかわりに粒子径３００μｍのケイ砂を用いた以外は実施例１と同様に熱圧成形して比較例２の化粧板を得たが、エッチング凹部の粗面の平滑性に乏しくＪＩＳ  Ｋ  ６９０３の耐汚染性に適合せず、耐摩耗試験５０００回実施後光沢度が変化した。
【００２９】
比較例３
実施例１において、厚み３ｍｍのＳＵＳ４３０ステンレスプレートの表面をバフ研磨した後にゴム系樹脂をベースにしたインクを用いて石目パターン状のスクリーン印刷を施しエッチングレジスト層を形成した。次いで塩化第二鉄を主剤とし硝酸を添加物とするエッチング溶液を用いて深さ５０μｍの凹部を形成した。しかる後アセトンでエッチングレジスト層を除去した得られたプレートを用いた以外は実施例１と同様に熱圧成形して比較例３の化粧板を得た。比較例３の化粧板は仕上がり外観は実施例１と同程度に艶の差があり立体感があったが、化粧板の凸部はプレート凹部のエッチングによるランダムな微細形状が転写されたものであるためＪＩＳ  Ｋ  ６９０３の耐汚染性に適合せず、耐摩耗試験５０００回実施後光沢度が大きく変化した。
【００３０】
評価結果を表１に示す。
【表１】
0003928893.tif 000002
【００３１】
評価方法は以下の通りとした。
成形直後の外観；成形直後のエンボス化粧板、化粧板の表面の艶を目視にて確認し、凹部と凸部の艶の差があるものを○、凹部と凸部の艶の差がないものを×とした。
耐摩耗試験５０００回の外観；試験後ののエンボス化粧板、化粧板の表面の艶を目視にて確認し、凹部と凸部の艶の差があるものを○、凹部と凸部の艶の差が軽微なものを△、凹部と凸部の艶の差がないものを×とした。
耐摩耗試験；１ｋｇの素焼きの灰皿を１０ｍ／minの速さでエンボス化粧板、化粧板の表面を往復運動させ、１往復を１回とした。
光沢度；株式会社村上色彩技術研究所の光沢度計ＧＭＸ−１０１型（校正標準板として黒塗りＢＫガラスを使用。入射角、受光角ともに６０°）を用いて、耐摩耗試験実施前と５０００回実施後のエンボス凹部とエンボス凸部の光沢度をＪＩＳ  Ｚ  ８７４１に基づいて測定した。
耐汚染性；ＪＩＳ  Ｋ  ６９０２に従って試験を行い、ＪＩＳ  Ｋ  ６９０３に適合するものを○、適合しないものを×とした。
【００３２】
【発明の効果】
一般にエンボス加工した化粧板は摩擦による凸部の艶の変化が大きいが、本発明の製法に基づき凸部（３ａ）の光沢度が５〜４０°と低く、かつエンボス化粧板（９）の凹部（４ａ）の光沢度が凸部（３ａ）の光沢度より２０〜５０°高くなるように作成されたエンボス化粧板は意匠的に見栄えがするばかりでなく、実施例１と比較例２で対比されるようにエンボス凸部の摩擦による光沢度の変化が極めて少なく、水平面用途として長期間使用しても生産当初の外観を保つことができる。
【００３３】
また、比較例３と対比されるようにエンボス化粧板の凸部はブラスト処理された賦型プレートの凹部が転写されたものであるから耐汚染性に優れたものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  エンボス化粧板（９）の断面図を示す。
【図２】    ステンレス製のプレート（１）の表面にエッチングレジスト層（２）を形成した時の断面図を示す。
【図３】    エッチングして凹部（３）を形成した時の断面図を示す。
【図４】    エッチングレジスト層（２）を除去し凸部（４）にブラストレジスト層（５）を形成した時の断面図を示す。
【図５】    ブラスト加工後ブラストレジスト層（５）を除去して得た賦型プレート（８）の断面図を示す。
【符号の説明】
１    ステンレス製のプレート
２    エッチングレジスト層
３    ステンレスプレートの凹部
３ａ  エンボス化粧板の凸部
４    ステンレスプレートの凸部
４ａ  エンボス化粧板の凹部
５    ブラストレジスト層
８    賦型プレート
９    エンボス化粧板
【図１】
0003928893.tif 000003
【図２】
0003928893.tif 000004
【図３】
0003928893.tif 000005
【図４】
0003928893.tif 000006
【図５】
0003928893.tif 000007