(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程において、合わせ元の露光工程及び合わせ先の露光工程が未処理である場合、当該合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置を、前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置として選択する最適露光装置選択部と、
前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算するミックスアンドマッチ計算部と、
前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他の処理基板に対して、前記１処理基板を優先的に引き当てる装置引当指示部と
を有することを特徴とする露光装置の事前引当システム。
【請求項２】
最適露光装置選択部によって選択された露光装置のステージ特性及びレンズ特性に関するデータをデータベースから呼び出す合わせ先工程装置ＱＣ情報取得部と、
合わせ元の露光工程で使用する露光装置のステージ特性及びレンズ特性に関するデータをデータベースから呼び出す合わせ元工程装置ＱＣ情報取得部
とを更に有することを特徴とする請求項１記載の露光装置の事前引当システム。
【請求項３】
１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程において、合わせ元の露光工程及び合わせ先の露光工程が未処理である場合、当該合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置を、前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置として選択し、
前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算し、
前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他の処理基板に対して、前記１処理基板を優先的に引き当てる
ことを特徴とする露光装置の事前引当方法。
【請求項４】
前記合わせ先の露光工程が複数存在し、合わせ先の露光工程毎に、当該合わせ先の露光工程で使用する露光装置を選択し、重ね合わせ補正値を計算し、前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ前記１処理基板を優先的に引き当てることを特徴とする請求項３記載の露光装置の事前引当方法。
【請求項５】
コンピュータに、
１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程において、合わせ元の露光工程及び合わせ先の露光工程が未処理である場合、当該合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置を、前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置として選択し、
前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算し、
前記合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他の処理基板に対して、前記１処理基板を優先的に引き当てる
ことを実行させることを特徴とする露光装置の事前引当プログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、露光装置の事前引当システム、露光装置の事前引当方法及び露光装置の事前引当プログラムに関わり、特に、複数の露光工程に対し、工程に応じて異なる種類の露光装置を使い分けるミックスアンドマッチ（装置混用）の運用に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置や液晶装置等の一連の製造工程には、通常、複数のリソグラフィと呼ばれる工程が含まれている。このリソグラフィ工程は、感光性樹脂（フォトレジスト）の塗布、露光及び現像の各工程に分けられる。この中で露光工程では、処理基板上に塗布されたレジスト膜に対してマスクパターンを精密に所定の解像力で転写する露光処理が行われる。
【０００３】
量産性の高い製品の実際の製造現場では、複数の露光装置を並行して稼動させることで、大量のウェハ或いはロットを効率良く処理している。また、露光装置は、装置毎に異なる各装置固有のステージ、レンズ特性を有する。従って、複数の露光工程に対して、工程に応じて異なった種類の露光装置を使い分ける、いわゆるミックスアンドマッチ（装置混用）を適用する場合がある。
【０００４】
ミックスアンドマッチの運用においては、合わせ先の露光工程で使用された露光装置を基準にして、ステージ、レンズ特性を相殺するように合わせ元の露光工程で使用する露光装置の重ね合わせ精度を計算する。ミックスアンドマッチに関連する従来技術は、特開２０００−１１４１３２号公報及び特開平１１−２７４０７４号公報に開示されている。前者は、２以上の露光装置をミックスアンドマッチで使用する際、装置間のレンズディストーション差が規格内か否かを判定し、最良の組み合わせを検索するシステムを提案したものである。また、後者は、ステップアンドリピート型露光装置単体のレンズディストーションを管理するシステムを提案したものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記従来技術におけるミックスアンドマッチの運用では、既に処理済みの露光工程（過去の工程）を合わせ先の露光工程とし、合わせ先の露光工程で既に使用した露光装置を基準として現在の露光工程で使用する露光装置を選定している。即ち、合わせ先の露光工程が未処理（未来の工程）である場合、合わせ先の露光装置が不確定となり、現在の露光工程で使用する露光装置の合わせ補正値を計算することができない。
【０００６】
本発明はこのような従来技術の課題を解決するために成されたものであり、その目的は、ミックスアンドマッチ運用時に発生する露光装置間の重ね合わせ誤差を積極的に減少させる露光装置の事前引当システム、露光装置の事前引当方法、及び露光装置の事前引当プログラムを提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するため、本発明の第１の特徴は、１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程において、合わせ先の露光工程が未処理である場合、合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置を、合わせ先の露光工程で使用する露光装置として選択する最適露光装置選択部と、合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算するミックスアンドマッチ計算部と、合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他の処理基板に対して、１処理基板を優先的に引き当てる装置引当指示部とを有する露光装置の事前引当システムであることである。
【０００８】
本発明の第２の特徴は、１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程において、合わせ先の露光工程が未処理である場合、合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置を、合わせ先の露光工程で使用する露光装置として選択し、合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算し、合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他の処理基板に対して、１処理基板を優先的に引き当てる露光装置の事前引当方法であることである。
【０００９】
本発明の第３の特徴は、コンピュータに、１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程において、合わせ先の露光工程が未処理である場合、合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置を、合わせ先の露光工程で使用する露光装置として選択し、合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算し、合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他の処理基板に対して、１処理基板を優先的に引き当てることを実行させる露光装置の事前引当プログラムであることである。
【００１０】
本発明の第１乃至第３の特徴によれば、ミックスアンドマッチ運用において基準となる合わせ先の露光工程が未処理である場合、重ね合わせ補正値の計算で想定した露光装置を優先的に引き当てることができる。これにより、ミックスアンドマッチ運用時に発生するレンズ、ステージ起因の重ね合わせ誤差が減少し、工程能力が向上する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下図面を参照して、本発明の実施の形態を説明する。図面の記載において同一あるいは類似部分には同一あるいは類似な符号を付している。
【００１２】
（ミックスアンドマッチ運用時に必要となる機能）
半導体装置の製造においては、通常、所定枚数の処理基板を１つのロットにまとめて各製造工程が実施される。更に、量産性の高い製品の製造現場においては、１つの露光工程で複数の露光装置を駆動させて複数のロットを処理している。一般的に半導体装置等は複数の異なるパターンを処理基板上に重ね合わせて形成することにより製造されるため、一連の製造工程には複数の露光工程が含まれている。
【００１３】
複数の露光装置を用いて大量のロットの露光工程を実施すると、１つのロットに対して行われる２以上の露光工程が異なる露光装置によって実施される場合がある。この場合、露光装置間のレンズディストーション差が現れ、製造歩留り低下の一因となる。従って、１つのロットに対して複数の露光工程を実施する際には、露光装置間のレンズディストーション差を考慮した最適な重ね合わせ補正と露光装置引当が必要であり、これによりミックスアンドマッチ運用が実現できる。なお、１つのロットに対して行われる２以上の露光工程を同一の露光装置を用いて実施した場合においても、各々の処理条件が異なれば、重ね合わせ補正が必要となる。
【００１４】
（第１の実施の形態）
図１は、本発明の第１の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの構成及びその周辺システムを示すブロック図である。露光装置の事前引当システム１は、異なる露光装置を用いて１処理基板上に２以上の露光パターンを重ね合わせて形成する２以上の露光工程に対して、ミックスアンドマッチを適用する場合に使用されるシステムである。なお、所定枚数の処理基板を１つのロットにまとめ、ロットごとに露光工程を実施する場合について説明する。つまり、特定のロット（以後、「特定ロット」という）に対して実施される２つの露光工程においてそれぞれ使用される露光装置を引き当てるシステムについて説明する。
【００１５】
図１に示すように、露光装置の事前引当システム１は、当該システム１を動作させる為の機能手段を備えた処理制御部２と、当該システム１を動作させる為のコンピュータ読み取り可能なプログラムを一時的に格納するランダムアクセスメモリ（ＲＡＭ）３と、各種アプリケーションソフトウェア、ミドルウェア、ならびにオペレーティングシステム（ＯＳ）を格納するプログラム記憶部４と、露光装置のレンズ特性及びステージ特性を含む各種装置特性に関するデータを格納する装置ＱＣ情報データベース５とを有する。処理演算部２は、通常のコンピュータシステムの中央処理装置（ＣＰＵ）の一部を構成している。プログラム記憶部４及び装置ＱＣ情報データベース５は、ＣＰＵの内部の主記憶装置で構成してもよく、このＣＰＵに接続された半導体ＲＯＭや半導体ＲＡＭなどの半導体メモリ、あるいは磁気ディスク装置などの記憶装置で構成してもよい。
【００１６】
処理制御部２は、当該システム１を動作させる為の機能手段として、最適露光装置選択部６と、合わせ先工程装置ＱＣ情報取得部７と、合わせ元工程装置ＱＣ情報取得部８と、ミックスアンドマッチ計算部９と、装置引当指示部１０とを有する。
【００１７】
最適露光装置選択部６は、合わせ先の露光工程で使用する最適な露光装置を選択する。ここで、最適な露光装置とは、合わせ先の露光工程が未処理である場合、合わせ先の露光工程を開始する予想時間において既に仕掛かり予定である他の処理基板への影響が最も少ない割り当てスケジュールを有する露光装置である。なお、露光工程はロットごとに実施されるため、ここでは「他の処理基板」は「他のロット」を示すことになる。
【００１８】
合わせ先工程装置ＱＣ情報取得部７は、最適露光装置選択部６によって選択された露光装置のレンズ特性及びステージ特性などの各種装置特性（装置の癖）に関するデータを、装置ＱＣ情報データベース５から呼び出す。一方、合わせ元工程装置ＱＣ情報取得部８は、合わせ元の露光工程で使用する露光装置のレンズ特性及びステージ特性などを各種装置特性（装置の癖）に関するデータを、装置ＱＣ情報データベース５から呼び出す。
【００１９】
ミックスアンドマッチ計算部９は、合わせ先の露光工程で使用する露光装置と合わせ元の露光工程で使用する露光装置との間のステージ特性及びレンズ特性などを各種装置特性の誤差を相殺する為の重ね合わせ補正値を計算する。各露光装置はそれぞれ特有の各種装置特性を有し、同種類、同品種の露光装置であっても、互いに異なる「装置の癖」を有する。よって、複数の露光パターンを重ね合わせて形成する際、正確な露光パターンの重ね合わせが困難である。しかし、複数の露光パターンを組合わせた場合に生じる相対的な重ね合わせ誤差を補正することで、正確なパターンの重ね合わせは可能である。なお、各種装置特性の中には、各露光装置がそれぞれ有する光学レンズ固有のレンズディストーション（像面歪曲収差）に関する特性が含まれる。
【００２０】
装置引当指示部１０は、合わせ先の露光工程で使用する露光装置へ仕掛かり予定である他のロットに対して特定ロットを優先的に引き当てることを、装置引当システム１４に対して要求する。
【００２１】
露光装置の事前引当システム１は、データバス１１を介して、露光装置１２、装置稼動管理システム１３、装置引当システム１４、工程管理システム１５にそれぞれ接続されている。また、工程管理システム１５は製品製造フローデータベース１６に接続されている。装置稼動管理システム１３は、稼動可能な露光装置リストを管理する。装置引当システム１４は、工程管理システム１５からの処理開始要求に対して露光装置１２の引当及びロット割り当てスケジュールを管理する。工程管理システム１５は、製品製造の進捗や製品製造フローを管理する。
【００２２】
図２は、第１の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの機能ブロック図である。また、図３は、第１の実施の形態に係る、合わせ元の露光工程と合わせ先の露光工程について時系列の並びを示すフローチャートである。図３に示すように、合わせ元の露光工程は、ｍ層の露光パターンを形成する露光工程（ｍ層）であり、合わせ先の露光工程は、ｍ＋１層の露光パターンを形成する露光工程（ｍ＋１層）である。また、現在の工程である露光工程（ｍ層）を特定ロットに対して実施する際に、未処理工程である露光工程（ｍ＋１層）で使用する露光装置を事前に引き当てる。即ち、図３に示す製品製造フローを持つ特定ロットは、露光工程（ｍ層）の処理条件決定待ち状態であり、露光装置の事前引当システムは、露光工程（ｍ層）及び露光工程（ｍ＋１層）でそれぞれ使用する露光装置を決定し、各露光装置の重ね合わせ補正値を計算する。
【００２３】
（イ）まず、図２に示すように、装置引当システム１４は、工程管理システム１５からの露光工程（ｍ層）の処理開始要求を受け、露光工程（ｍ層）で使用する露光装置（ｍ層）を決定する。工程管理システム１５の装置決定方法は、露光装置の稼動状況から判断しても良いし、露光装置の工程能力で判断しても構わない。
【００２４】
（ロ）次に、合わせ元工程装置ＱＣ情報取得部８は、露光装置（ｍ層）の装置ＱＣ情報（図２中の「合わせ元工程装置ＱＣ情報」を示す）を装置ＱＣデータベース５から取得する。ここで、「装置ＱＣ情報」とは、露光装置がそれぞれ有する装置固有のレンズ特性及びステージ特性などを含む各種装置特性に関する情報である。
【００２５】
（ハ）一方、最適露光装置選択部６は、装置稼動管理システム１３から露光装置リストを、装置引当システム１４から装置スケジュールをそれぞれ受け取る。ここで、「露光装置リスト」は、露光工程（ｍ＋１層）で使用可能な露光装置のリストを示す。また、「装置スケジュール」には、リスト中の露光装置の稼動状態（稼動／非稼動）、及びロット割り当てスケジュールが含まれる。そして、最適露光装置選択部６は、露光装置リストのなかから露光工程（ｍ＋１層）で使用する露光装置（ｍ＋１層）として最も適したものを選択する。選択される露光装置は、稼動中の露光装置であり、且つ露光工程（ｍ＋１層）の処理開始予想時間において既に仕掛かり予定である他のロットへの影響が最も少ない露光装置である。
【００２６】
（ニ）次に、合わせ先工程装置ＱＣ情報取得部７は、露光装置（ｍ＋１層）の装置ＱＣ情報（図２中の「合わせ先工程装置ＱＣ情報」を示す）を装置ＱＣデータベース５から取得する。
【００２７】
（ホ）次に、ミックスアンドマッチ計算部９は、合わせ元工程装置ＱＣ情報及び合わせ先工程装置ＱＣ情報に基づいて、両装置間のステージ特性、レンズ特性などの誤差を相殺するような重ね合わせ補正値を計算する。ここで、重ね合わせ補正値には、合わせ先工程（ｍ＋１層）で使用する露光装置に対する補正値のみならず、合わせ元工程（ｍ層）で使用する露光装置に対しての補正値をも含まれる。即ち、ミックスアンドマッチ計算部９は、２つの露光工程（ｍ層、ｍ＋１層）で使用する各露光装置に対する重ね合わせ補正値を計算する。重ね合わせ補正値の計算結果は、露光装置（ｍ層）及び露光装置（ｍ＋１層）に対して送信される。
【００２８】
（ヘ）そして、装置引当指示部１０は、最適露光装置選択部６で選択された露光装置（ｍ＋１層）に特定ロットが優先的に引き当てられるように、装置引当システム１４に対して装置スケジュール（ｍ＋１層）を事前に指示する。装置引当システム１４は、この指示に従い、露光装置（ｍ＋１層）のロット割り当てスケジュールを変更する。このようにして、特定ロットに対する２つの露光工程（ｍ層、ｍ＋１層）で使用される露光装置が特定され、これらの露光装置に対する重ね合わせ誤差の補正値が計算される。
【００２９】
次に、最適露光装置選択部６が露光装置（ｍ＋１層）を選択し、装置引当システム１４が露光装置（ｍ＋１層）のロット割り当てスケジュールを変更する一連の手順について、図４及び図５を参照して説明する。ここで、装置稼動管理システム１３から受け取った露光装置リストには、使用可能な露光装置として図５（ａ）に示すように＃１〜＃５までの５つの露光装置が記載され、装置引当システム１４から受け取った装置スケジュールには、各露光装置について図５（ａ）に示すようなロット割り当てスケジュール及び稼動状況が記載されているものとする。横軸は時間を示し、斜線を付した棒状の期間がロットの処理期間を示す。露光装置＃３を除く各露光装置には、所定の時間間隔をおいて、複数のロットが既に割り当てられている。露光装置＃３は非稼動状態であるため、割り当てられているロットは存在しない。
【００３０】
（１）まず、装置引当システム１４によって引き当てられた露光装置（ｍ層）の割り当てスケジュールから、特定ロットの露光工程（ｍ層）の処理開始時間を求める。図５（ａ）において露光工程（ｍ層）の処理開始時間を「現在」とする。未処理状態の露光工程（ｍ＋１層）の処理開始予想時間は、割り当てスケジュールから参照される。図５（ａ）において露光工程（ｍ＋１層）の処理開始時間を「ＰｒＴｉｍｅ」とする。
【００３１】
（２）そして、Ｓ０１段階において、ＰｒＴｉｍｅ時に稼動中の露光装置（＃１、＃２、＃４、＃５）に仕掛かり予定のロットを調べる。具体的には、ＰｒＴｉｍｅ時に仕掛かり予定のロットの有無を調査し、図５（ｂ）に示すように、仕掛かり予定のロットの処理開始時間（Start Time）及び処理終了時間（End Time）を求める。
【００３２】
（３）次に、稼動中の露光装置から露光装置[ｘ]を１台選択する（Ｓ０２）。ここで、[ｘ]は、露光装置の番号（＃１〜＃５）を示す。そして、選択された露光装置[ｘ]について図５（ｂ）に示すようにStart TimeからＰｒＴｉｍｅまでの期間（ＡＴｉｍｅ）、及びＰｒＴｉｍｅからEnd Timeまでの期間（ＢＴｉｍｅ）を計算する（Ｓ０３）。
【００３３】
（４）そして、Ｓ０４段階において、ＡＴｉｍｅとＢＴｉｍｅの長さを比較し、ＡＴｉｍｅがＢＴｉｍｅよりも小さい場合、Ｓ０５段階へ進み、ＡＴｉｍｅがＢＴｉｍｅよりも大きい場合、Ｓ０６段階へ進む。
【００３４】
（５）ＡＴｉｍｅ＜ＢＴｉｍｅの場合、ＡＴｉｍｅ[ｘ]を露光装置[ｘ]の最適度Ｏｐｔ[ｘ]と定義する（Ｓ０５）。一方、ＡＴｉｍｅ＞ＢＴｉｍｅの場合、ＢＴｉｍｅ[ｘ]を露光装置[ｘ]の最適度Ｏｐｔ[ｘ]と定義する（Ｓ０６）。即ち、Ｏｐｔ[ｘ]＝ＡＴｉｍｅ[ｘ]の場合は、露光装置[ｘ]に仕掛かり予定ロットの“直前”に特定ロットの露光工程（ｍ＋１層）を割り込ませることが適していると判断する。また、Ｏｐｔ[ｘ]＝ＢＴｉｍｅ[ｘ]の場合は、露光装置[ｘ]に仕掛かり予定ロットの“直後”に特定ロットの露光工程（ｍ＋１層）を割り込ませることが適していると判断する。Ｏｐｔ[ｘ]は、割り込みの適切さの度合いを示す値である。
【００３５】
（６）そして、稼動中の総ての露光装置（＃１、＃２、＃４、＃５）が選択されたか否かを判断する。まだ総て選択されていない場合（Ｓ０７においてＮｏ）、Ｓ０２段階に戻り、未選択の露光装置について上記と同様な作業を行う。一方、稼動中の総ての露光装置が選択された場合（Ｓ０７においてＮｏ）、Ｓ０８段階へ進む。
【００３６】
（７）次に、稼動中の各露光装置の最適度Ｏｐｔ[ｘ]を比較し、最適度Ｏｐｔ[ｘ]の最小値を求める（Ｓ０８）。そして、最も小さい最適度Ｏｐｔ[ｘ]を有する露光装置を、最適露光装置として選択する（Ｓ０９）。前述したように、Ｏｐｔ[ｘ]が小さいほど、割り込みの適切さの度合いは高い。従って、稼動中の各露光装置の中で、最も小さい最適度Ｏｐｔ[ｘ]を有する装置が最適露光装置となる。なお、最適露光装置が決定されると同時に、当該露光装置のロット割り当てスケジュールに対する最適ロット割り込み位置も同時に決定される。ここで、最適露光装置として露光装置＃２が選択された場合を考える。図５（ｃ）に示すように、露光装置＃２に既に仕掛かり予定ロットの“直前”に特定ロットの露光工程（ｍ＋１層）が優先的に割り当てられるように、装置引当指示部１０は、装置引当システム１４に対して要求する。
【００３７】
以上説明したように、本発明の第１の実施の形態によれば、ミックスアンドマッチ運用において基準となる合わせ先の露光工程（ｍ＋１層）が未処理（後の工程）である場合、重ね合わせ補正値の計算で想定した露光装置（ｍ＋１層）を優先的に引き当てられるように装置引当システム１４に指示する。これにより、ミックスアンドマッチ運用時に発生するレンズ、ステージ起因の重ね合わせ誤差が減少し、工程能力が向上する。また、効率的な割り当てスケジュールを指示することができ、露光装置全体の装置稼働率が向上する。
【００３８】
なお、上述した露光装置の事前引当方法は、時系列的につながった一連の処理又は操作、即ち「手順」として表現することができる。従って、この方法を、コンピュータシステムを用いて実行するために、コンピュータシステム内のプロセッサーなどが果たす複数の機能を特定するコンピュータプログラムとして構成することができる。また、このコンピュータプログラムは、コンピュータ読み取り可能な記録媒体に保存することができる。この記録媒体をコンピュータシステムによって読み込ませ、前記プログラムを実行してコンピュータを制御しながら上述した方法を実現することができる。この記録媒体は、図１に示したプログラム記憶部４として用いる、あるいはプログラム記憶部４に読み込ませ、このプログラムにより処理制御部２における種々の作業を所定の処理手順に従って実行することができる。ここで、前記記録媒体としては、メモリ装置、磁気ディスク装置、光ディスク装置、その他のプログラムを記録することができるような装置が含まれる。
【００３９】
図６は、これらのコンピュータプログラムを読み取り、そこに記述された手順に従って、露光装置の事前引当システムが果たす複数の機能を制御することにより、上記の露光装置の事前引当方法を実現するコンピュータシステムからなる露光装置の事前引当装置９０の一例を示す外観図である。この露光装置の事前引当装置９０の本体全面には、フロッピーディスクドライブ９１、及びＣＤ−ＲＯＭドライブ９２が設けられており、磁気ディスクとしてのフロッピーディスク９３または光ディスクとしてのＣＤ−ＲＯＭ９４を各ドライブ入り口から挿入し、所定の読み出し操作を行うことにより、これらの記録媒体に格納されたプログラムをシステム内にインストールすることができる。また、所定のドライブ装置９７を接続することにより、例えばゲームパックなどに使用されている半導体メモリとしてのＲＯＭ９５や、磁気テープとしてのカセットテープ９６を用いることもできる。
【００４０】
（第２の実施の形態）
本発明の第２の実施の形態においては、１つの合わせ元の露光工程に対して、未処理状態の合わせ先の露光工程が複数存在する場合について説明する。図８に示すように、合わせ元の露光工程は、ｍ層の露光パターンを形成する露光工程（ｍ層）である。また、合わせ先の露光工程は、ｍ＋１層乃至ｍ＋Ｎ層の露光パターンを形成するＮ個の露光工程（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）である。また、現在の工程である露光工程（ｍ層）を特定ロットに対して実施する際に、未処理工程である露光工程（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）で使用するＮ個の露光装置を事前に引き当てる。即ち、図８に示す製品製造フローを持つ特定ロットは、露光工程（ｍ層）の処理条件決定待ち状態であり、露光装置の事前引当システムは、露光工程（ｍ層）及びＮ個の露光工程（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）でそれぞれ使用する露光装置を決定し、各露光装置の重ね合わせ補正値を計算する。
【００４１】
第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの構成は、図１に示したものと同じであり、説明を省略する。図７は、第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの機能ブロック図を示す。最適露光装置選択部６は、装置スケジュール及び露光装置リストから、Ｎ個の露光工程（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）についてそれぞれ最適な露光装置を選択する。合わせ先工程装置ＱＣ情報取得部７は、選択された総ての露光装置の装置ＱＣ情報を取得する。そして、ミックスアンドマッチ計算部９は、合わせ先の露光工程ごとに、重ね合わせ補正値を計算する。従って、Ｎ個の重ね合わせ補正値が計算されることになる。同様に、装置引当指示部１０は、合わせ先の露光工程ごとに、選択された露光装置の装置スケジュールを変更する指示を装置引当システム１４に対して発する。
【００４２】
最適露光装置選択部６がＮ個の露光装置（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）を選択し、装置引当システム１４がこれらの露光装置（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）のロット割り当てスケジュールを変更する一連の手順について、図９乃至図１１を参照して説明する。
【００４３】
（イ）まず始めに、複数ある合わせ先の露光工程（ｍ＋ｉ層）の内、ｉ＝１、即ち露光工程（ｍ＋１層）を選択する（Ｓ１１）。未処理状態の露光工程（ｍ＋１層）の処理開始予想時間は、割り当てスケジュールから参照される。図１０（ａ）において露光工程（ｍ＋１層）の処理開始時間を「ＰｒＴｉｍｅ（ｍ＋１）」とする。そして、図４に示したフローチャートと同様にして、露光工程（ｍ＋１層）について最適露光装置[ｘ]を決定する（Ｓ０１〜０９）。そして、露光工程（ｍ＋１層）で使用する最適露光装置[ｘ]の割り当てスケジュールを更新する（Ｓ１０）。つまり、図１０（ｂ）に示すように、露光装置＃２のＰｒＴｉｍｅ（ｍ＋１）に特定ロットの露光工程（ｍ＋１層）を割り込ませる。露光工程（ｍ＋１層）の処理開始予想時間ＰｒＴｉｍｅ（ｍ＋１）から、未処理状態の露光工程（ｍ＋２層）の処理開始予想時間を求めることができる。図１０（ｂ）において露光工程（ｍ＋２層）の処理開始時間を「ＰｒＴｉｍｅ（ｍ＋２）」とする。
【００４４】
（ロ）そして、Ｓ１２段階にてｉ＝Ｎであるか否かを判断する。Ｓ１１段階にてｉ＝１が設定されているため（Ｓ１２においてＮｏ）、ここではＳ１３段階へ進む。そして、新たにｉ＝２、即ち露光工程（ｍ＋２層）を設定する（Ｓ１３）。
【００４５】
（ハ）そして、再び図４に示したフローチャートと同様にして、露光工程（ｍ＋２層）について最適露光装置[ｘ]を決定する（Ｓ０１〜０９）。そして、露光工程（ｍ＋２層）で使用する最適露光装置[ｘ]の割り当てスケジュールを更新する（Ｓ１０）。つまり、図１１に示すように、露光装置＃２のＰｒＴｉｍｅ（ｍ＋２）に特定ロットの露光工程（ｍ＋２層）を割り込ませる。
【００４６】
（ニ）上記ループを繰り返し行い、図１１に示すように、露光工程（ｍ＋１層）から露光工程（ｍ＋Ｎ層）まで、それぞれの露光工程で使用する最適露光装置[ｘ]を選択し、各最適露光装置[ｘ]の割り当てスケジュールを更新する。
【００４７】
以上説明したように、本発明の第２の実施の形態によれば、ミックスアンドマッチ運用において基準となる合わせ先の露光工程（ｍ＋１層）が未処理（後の工程）であり、且つ複数存在する場合であっても、第１の実施の形態と同様に、ミックスアンドマッチ運用時に発生するレンズ、ステージ起因の重ね合わせ誤差が減少し、工程能力が向上する。また、効率的な割り当てスケジュールを指示することができ、露光装置全体の装置稼働率が向上する。
【００４８】
また、ミックスアンドマッチ運用において基準となる合わせ先の露光工程がさらに基準となる合わせ先の露光工程を有している場合、最終合わせ先を探索し合わせ先の露光工程で使用可能な露光装置を決定して合わせ補正値を計算し、実績露光処理を考慮した複雑な合わせ制御が実現できる。これによりレンズ、ステージ起因合わせ誤差が減少し工程能力が向上する。また複雑な計算に対する作業者のミスを低減できる。
【００４９】
なお、第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当方法も、第１の実施の形態と同様に、時系列的につながった一連の処理又は操作、即ち「手順」として表現することができる。従って、この方法を、コンピュータシステムを用いて実行するために、コンピュータシステム内のプロセッサーなどが果たす複数の機能を特定するコンピュータプログラムとして構成することができる。また、このコンピュータプログラムは、コンピュータ読み取り可能な記録媒体に保存することができる。この記録媒体をコンピュータシステムによって読み込ませ、前記プログラムを実行してコンピュータを制御しながら上述した方法を実現することができる。
【００５０】
また、図６に示したように、第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当プログラムを読み取り、そこに記述された手順に従って、露光装置の事前引当システムが果たす複数の機能を制御することにより、上記の露光装置の事前引当方法を実現するコンピュータシステムからなる露光装置の事前引当装置９０として、実施することも可能である。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ミックスアンドマッチ運用時に発生する露光装置間の重ね合わせ誤差を積極的に減少させる露光装置の事前引当システム、露光装置の事前引当方法、及び露光装置の事前引当プログラムを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１及び第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの構成及びその周辺システムを示すブロック図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの機能ブロック図である。
【図３】本発明の第１の実施の形態に係る、合わせ元の露光工程と合わせ先の露光工程について時系列の並びを示すフローチャートである。
【図４】最適露光装置選択部が露光装置（ｍ＋１層）を選択する一連の手順を示すフローチャートである。
【図５】図５（ａ）は、各露光装置ごとのロット割り当てスケジュール及び稼動状況を示す装置スケジュールである。図５（ｂ）は、仕掛かり予定ロットに係るＡＴｉｍｅ及びＢＴｉｍｅを説明する為の図である。図５（ｃ）は、露光装置＃２に既に仕掛かり予定ロットの“直前”に特定ロットの露光工程（ｍ＋１層）が優先的に割り当てられた状態を示す図である。
【図６】第１及び第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当プログラムを読み取り、そこに記述された手順に従って、露光装置の事前引当システムが果たす複数の機能を制御することにより、露光装置の事前引当方法を実現するコンピュータシステムからなる露光装置の事前引当装置の一例を示す外観図である。
【図７】本発明の第２の実施の形態に係る露光装置の事前引当システムの機能ブロック図である。
【図８】本発明の第２の実施の形態に係る、合わせ元の露光工程と合わせ先の露光工程について時系列の並びを示すフローチャートである。
【図９】最適露光装置選択部が露光装置（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）を選択する一連の手順を示すフローチャートである。
【図１０】図１０（ａ）は、各露光装置ごとのロット割り当てスケジュール及び稼動状況を示す装置スケジュールである。図１０（ｂ）は、露光装置＃２に既に仕掛かり予定ロットの“直前”に特定ロットの露光工程（ｍ＋１層）が優先的に割り当てられた状態を示す図である。
【図１１】特定ロットの総ての合わせ先の露光工程（ｍ＋１層〜ｍ＋Ｎ層）が優先的に割り当てられた状態を示す図である。
【符号の説明】
１    露光装置の事前引当システム
２    処理制御部
３    ＲＡＭ
４    プログラム記憶部
５    装置ＱＣ情報データベース
６    最適露光装置選択部
７    合わせ先工程装置ＱＣ情報取得部
８    合わせ元工程装置ＱＣ情報取得部
９    ミックスアンドマッチ計算部
１０    装置引当指示部
１１    データバス
１２    露光装置
１３    装置稼動管理システム
１４    装置引当システム
１５    工程管理システム
１６    製品製造フローデータベース
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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