(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を保持する基板保持手段と、
前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側にかけて現像液を供給する現像液供給手段と、
前記基板の主面に現像液が供給された後、その基板主面の一端側から他端側にかけて現像停止液を供給する現像停止液供給手段と、
前記基板の主面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、
前記基板に現像停止液が供給された後、前記洗浄液供給手段から前記基板の主面に洗浄液を供給させる制御手段と、を備え、
前記現像停止液供給手段と前記洗浄液供給手段とは、
基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有するリンス液供給ノズルと、前記リンス液供給ノズルを、前記基板保持手段により基板が保持される位置の一端側から他端側に向けて及びその逆方向に向けて移動させるリンス液供給ノズル移動手段とを共有する構成とされ、
前記制御手段は、
前記基板に現像液が供給された後、前記リンス液供給ノズルを前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側に向けて移動させつつ、そのリンス液供給ノズルから現像停止液としてリンス液を供給させ、この後、前記リンス液供給ノズルを前記基板保持手段により基板が保持される位置の一端側から他端側の逆に向けて移動させつつ、そのリンス液供給ノズルから洗浄液としてリンス液を供給させる、基板処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の基板処理装置であって、
前記現像液供給手段は、
基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有する現像液供給ノズルを有し、
前記リンス液供給ノズル移動手段は、前記リンス液供給ノズルと共に前記現像液供給ノズルを移動させるノズル移動手段として機能する基板処理装置。
【請求項３】
請求項１記載の基板処理装置であって、
前記現像液供給手段は、
前記リンス液供給ノズルとは別体に形成され、前記リンス液基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有する現像液供給ノズルと、
前記現像液供給ノズルを、前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側に向けて移動させる現像液供給ノズル移動手段と、を有する基板処理装置。
【請求項４】
請求項１〜請求項３のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記基板保持手段に保持された基板を回転させる回転手段をさらに備え、
前記制御手段は、前記基板への洗浄液供給中に、前記基板を回転させる、基板処理装置。
【請求項５】
請求項１〜請求項４のいずれかに記載の基板処理装置であって、
前記基板への洗浄液の供給量を、前記基板への現像停止液の供給量よりも多くした、基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示パネル用ガラス基板、プラズマ表示パネル用ガラス基板等の基板に現像処理を行うための基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、この種の基板処理装置として、特開平１０−２０５０８号公報に開示のものがある。
【０００３】
同公報に開示の基板処理装置では、現像液供給ノズルを基板の一端側から他端側に移動させて、該基板の上面全体に現像液を供給し、その後所定時間経過後に、リンス液供給ノズルを前記現像液供給ノズルの移動速度と同速度で基板の一端側から他端側に移動させて、基板の上面全体にリンス液を供給して、基板上面における現像を停止させるようにしている。
【０００４】
この基板処理装置によると、基板の上面全体において現像時間をほぼ同じとすることができるため、現像むらを防止でき、また、現像後におけるレジストパターンの線幅均一性を向上させることができる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記基板処理装置では、基板の上面全体において現像時間がほぼ同じとなるように、リンス液供給ノズルの移動途中で随時移動位置に対応する基板部分にのみリンス液が供給されるような供給量で、リンスの供給を行っている。
【０００６】
このため、基板に対する洗浄効果が不十分で、基板には、現像処理による溶解生成物等のパーティクルが停留したままの状態となっており、製品歩留りの低下等を招いてしまう。
【０００７】
そこで、この発明の課題は、現像停止液供給後の基板を、十分に洗浄することができる基板処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
【０００９】
上記課題を解決すべく、請求項１記載の基板処理装置は、基板を保持する基板保持手段と、前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側にかけて現像液を供給する現像液供給手段と、前記基板の主面に現像液が供給された後、その基板主面の一端側から他端側にかけて現像停止液を供給する現像停止液供給手段と、前記基板の主面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段と、前記基板に現像停止液が供給された後、前記洗浄液供給手段から前記基板の主面に洗浄液を供給させる制御手段と、を備え、前記現像停止液供給手段と前記洗浄液供給手段とは、基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有するリンス液供給ノズルと、前記リンス液供給ノズルを、前記基板保持手段により基板が保持される位置の一端側から他端側に向けて及びその逆方向に向けて移動させるリンス液供給ノズル移動手段とを共有する構成とされ、前記制御手段は、前記基板に現像液が供給された後、前記リンス液供給ノズルを前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側に向けて移動させつつ、そのリンス液供給ノズルから現像停止液としてリンス液を供給させ、この後、前記リンス液供給ノズルを前記基板保持手段により基板が保持される位置の一端側から他端側の逆に向けて移動させつつ、そのリンス液供給ノズルから洗浄液としてリンス液を供給させるものである。
【００１１】
また、請求項２記載のように、前記現像液供給手段は、基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有する現像液供給ノズルを有し、前記リンス液供給ノズル移動手段は、前記リンス液供給ノズルと共に前記現像液供給ノズルを移動させるノズル移動手段として機能するものであってもよく、また、請求項３記載のように、前記現像液供給手段は、前記リンス液供給ノズルとは別体に形成され、前記リンス液基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有する現像液供給ノズルと、前記現像液供給ノズルを、前記基板保持手段に保持された基板主面の一端側から他端側に向けて移動させる現像液供給ノズル移動手段と、を有するものであってもよい。
【００１２】
また、請求項４記載のように、前記基板保持手段に保持された基板を回転させる回転手段をさらに備え、前記制御手段は、前記基板への洗浄液供給中に、前記基板を回転させるようにしてもよい。
【００１３】
さらに、請求項５記載のように、前記基板への洗浄液の供給量を、前記基板への現像停止液の供給量よりも多くするようにしてもよい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施の形態について説明する。
【００１５】
本発明の概略的構成について説明しておくと、この基板処理装置は、基板の主面にその一端側から他端側にかけて現像液を供給した後、基板の主面全体において現像時間がほぼ同じとなるように、該基板主面の一端側から他端側にかけて現像停止液を供給し、さらにその後に、基板に洗浄液を供給するものである。
【００１６】
｛第１の実施の形態｝
この第１の実施の形態では、現像液を供給する手段と、現像停止液を供給する手段と、洗浄液を供給する手段とを、それぞれ別構成とした基板処理装置について説明する。
【００１７】
図１はこの発明の第１の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図であり、図２は図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【００１８】
この基板処理装置は、露光後の基板Ｗに対して現像液を供給して現像処理を行う装置であり、基板Ｗを保持する基板保持部１０と、基板Ｗの主面に現像液を供給する現像液供給手段２０と、基板Ｗの主面に現像停止液を供給する現像停止液供給手段３０と、基板Ｗの主面に洗浄液を供給する洗浄液供給手段４０と、本装置全体の動作制御を行う制御部５０とを備えている。
【００１９】
基板保持部１０は、基板Ｗを略水平姿勢で保持する。具体的には、基板保持部１０は、装置本体５の略中央部に略鉛直姿勢で配設された回転軸１１と、その回転軸の上端部に固設された回転台１２とを備えている。回転台１２は、基板Ｗを略水平姿勢で吸着保持可能に構成されている。また、回転軸１１の下端部は、回転手段であるスピンモータ１３に連結されており、スピンモータ１３の回転が回転軸１１を介して回転台１２に伝達される。これにより、基板Ｗが鉛直軸を回転軸として水平面内で回転可能とされる。なお、回転台１２は基板Ｗを吸着保持する構成に限定されるものではなく、基板Ｗの周縁部を把持する構成であってもよい。
【００２０】
なお、基板保持部１０周りには、基板Ｗを囲むようにして円形状の内カップ６が設けられると共に、その内カップ６の外周周りに略方形状の外カップ７が設けられている。また、外カップ７の両側に待機ポット８が設けられている。
【００２１】
現像液供給手段２０は、基板Ｗの主面の一端側から他端側にかけて現像液を供給する。具体的には、現像液供給手段２０は、現像液供給ノズル２１と、現像液供給ノズル移動機構２２と、現像液供給系機構２６とを備えている。
【００２２】
現像液供給系機構２６は、現像液供給源及び開閉バルブ（共に図示省略）を備えており、開閉バルブの開閉タイミングに応じて前記現像液供給源からの現像液が後述する所定のタイミングで現像液供給ノズル２１に供給されるように構成されている。
【００２３】
現像液供給ノズル２１は、基板Ｗの直径寸法と実質的に同じ幅寸法を有するスリット状の吐出口２１ａを有している（図２参照）。そして、現像液供給系機構２６より供給される現像液が当該吐出口２１ａの全幅から吐出されるように構成されている。なお、吐出口の幅寸法は、基板Ｗの幅寸法よりも大きくてもよい。
【００２４】
現像液供給ノズル移動機構２２は、ガイドレール２３と、水平駆動部２４と、支持アーム部２５とを備えている。ガイドレール２３は、装置本体５の上面側であって基板保持部１０の側方に水平方向に沿って敷設されている。水平駆動部２４は、該ガイドレール２３に沿って所定の走査方向Ａ及びその逆方向に水平移動可能に構成されている。支持アーム部２５は、基板保持部１０側に延びるようにして水平駆動部２４に片持ち状に支持されており、その遊端側に現像液供給ノズル２１が前記走査方向Ａに対して直交する方向に沿って略水平姿勢で支持されている。
【００２５】
そして、水平駆動部２４の駆動により、現像液供給ノズル２１が、基板Ｗの主面の上方を、その一端側から他端側に向けて移動可能とされる。現像液供給ノズル２１が基板Ｗの上方を移動する際、現像液供給ノズル２１から現像液を吐出させることで、基板Ｗの主面全体に現像液が供給されることとなる。
【００２６】
現像停止液供給手段３０は、基板Ｗの主面の一端側から他端側にかけて現像停止液を供給する。
【００２７】
具体的には、現像停止液供給手段３０は、現像停止液供給ノズル３１と、現像停止液供給ノズル移動機構３２と、現像停止液供給系機構３６とを備えており、上記現像液供給手段２０と同様の構成及び動作により現像停止液を供給する。
【００２８】
現像停止液供給系機構３６は、現像液供給系機構２６と同様に構成により、後述する所定タイミングで現像停止液を供給する。この現像停止液供給系機構３６からは、基板Ｗにおいて現像液による現像を停止する液体が供給される。通常は、基板Ｗにおける現像液を希釈してその現像反応を停止させることができる程度の量だけのリンス液（純水）を供給することにより現像を停止させる。
【００２９】
現像停止液供給ノズル３１は、基板Ｗの直径寸法と実質的に同じ幅寸法を有するスリット状の吐出口３１ａを有している。なお、この吐出口３１ａの幅寸法は、基板Ｗの直径寸法より大きくてもよい。
【００３０】
現像停止液供給ノズル移動機構３２は、上記現像液供給ノズル移動機構２２と同様構成を有しており、即ち、上記水平駆動部２４に対応する水平駆動部３４と、上記支持アーム部２５に対応する支持アーム部３５とを備えている。
【００３１】
そして、水平駆動部３４の駆動により、現像停止液供給ノズル３１が基板Ｗの上方を移動する際、現像停止液供給ノズル３１から現像停止液を吐出させることで、基板Ｗの主面全体に現像液が供給されることとなる。
【００３２】
洗浄液供給手段４０は、基板Ｗの主面に洗浄液を供給する。
【００３３】
具体的には、洗浄液供給手段４０は、洗浄液供給ノズル４１と、洗浄液供給ノズル移動機構４２と、洗浄液供給系機構４６とを備えており、上記現像液供給手段２０と同様の構成及び動作により洗浄液を供給する。
【００３４】
洗浄液供給系機構４６は、現像液供給系機構２６と同様に構成により、後述する所定タイミングで洗浄液を供給する。この洗浄液供給系機構４６からは、基板Ｗにおけるパーティクル等を洗い流して十分に洗浄できる液体が供給される。通常は、リンス液（純水）供給することにより洗浄を行う。この供給量は、洗浄効果を高めるため、上記現像停止用に供給した量よりも多量に供給することが好ましい。
【００３５】
洗浄液供給ノズル４１は、基板Ｗの直径寸法と実質的に同じ幅寸法を有するスリット状の吐出口４１ａを有している。なお、この吐出口４１ａの幅寸法は、基板Ｗの直径寸法より大きくてもよい。
【００３６】
洗浄液供給ノズル移動機構４２は、上記現像液供給ノズル移動機構２２と同様構成を有しており、即ち、上記水平駆動部２４に対応する水平駆動部４４と、上記支持アーム部２５に対応する支持アーム部４５とを備えている。
【００３７】
そして、水平駆動部４４の駆動により、洗浄液供給ノズル４１が基板Ｗの上方を移動する際、洗浄液供給ノズル４１から洗浄液を吐出させることで、基板Ｗの主面全体に洗浄液が供給されることとなる。
【００３８】
なお、本基板処理装置の初期待機状態では、所定の走査方向Ａに、現像液供給ノズル２１、現像停止液供給ノズル３１及び洗浄液供給ノズル４１の順でそれらが配設されている。そして、現像液供給ノズル２１、現像停止液供給ノズル３１及び洗浄液供給ノズル４１がその順で、基板Ｗの上方を通過可能なように構成されている。
【００３９】
また、本実施の形態では、現像液供給ノズル移動機構２２，現像停止液供給ノズル移動機構３２，洗浄液供給ノズル移動機構４２が共通のガイドレール２３上を移動する構成とされているが、これらは全く別々のガイド部材に沿って移動するものであってもよく、また、その移動機構も上記したものに限られない。
【００４０】
制御部５０は、本装置全体の制御を行うものであり、ＣＰＵ、ＲＯＭおよびＲＡＭ等を備え、予め格納されたソフトウェアプログラムによって所定の演算動作を行う一般的なマイクロコンピュータにより構成されている。
【００４１】
この制御部５０は、次に説明する一連の動作の制御を行うものであり、少なくとも、基板Ｗに現像停止液が供給された後、洗浄液供給手段４０から基板Ｗの主面に洗浄液を供給させる動作制御を行う。
【００４２】
次に、この基板処理装置の動作について、図３を参照して説明する。
【００４３】
初期待機状態では、図３（ａ）に示すように、基板Ｗが基板保持部１０に静止状態で水平姿勢に支持されている。また、現像液供給ノズル２１，現像停止液供給ノズル３１及び洗浄液供給ノズル４１は、基板Ｗの一端側（走査方向Ａの上流側）に位置している。
【００４４】
処理開始後、はじめに、図３（ｂ）に示すように、現像液供給ノズル２１が基板Ｗの主面上方を、走査方向Ａに、即ち基板Ｗの一端側から他端側に向けて移動する。現像液供給ノズル２１が基板Ｗの主面上方を移動する際、該現像液供給ノズル２１から現像液が吐出され、現像液が基板Ｗの主面全体に供給される。これにより、基板Ｗの主面において現像がなされる。
【００４５】
現像液供給ノズル２１が基板Ｗの主面上方を通過した後、基板Ｗにおける現像反応に必要な所定時間が経過するタイミングに合わせて、図３（ｃ）に示すように、現像停止液供給ノズル３１が基板Ｗの主面上方を、走査方向Ａに、即ち基板Ｗの一端側から他端側に向けて移動する。なお、現像停止液供給ノズル３１の移動速度は、現像液供給ノズル２１の移動速度と実質的に同じとされる。そして、現像停止液供給ノズル３１が基板Ｗの主面上方を通過する際、該現像停止液供給ノズル３１から現像停止液が吐出され、現像停止液が基板Ｗの主面全体に供給され、基板Ｗにおける現像が停止する。
【００４６】
これにより、基板Ｗの主面において、現像液が供給された態様（供給方向や供給速度）と同態様で現像停止液が供給され、基板Ｗの主面全体において現像時間をほぼ同じとすることができる。
【００４７】
現像停止液供給ノズル３１が基板Ｗの主面上方を通過した後、図３（ｄ）に示すように、洗浄液供給ノズル４１が基板Ｗの主面上方を走査方向Ａに、即ち、基板Ｗが保持される位置の一端側から他端側に向けて移動する。現像停止液供給ノズル３１が基板Ｗの主面上方を通過する際、該現像停止液供給ノズル３１から現像停止液が吐出されると共に、基板Ｗが回転する。こうして、回転する基板Ｗの主面全体に洗浄液が供給され、パーティクル除去に十分な洗浄がなされる。
【００４８】
最後に、図３（ｅ）に示すように、現像液供給ノズル２１，現像停止液供給ノズル３１及び洗浄液供給ノズル４１が、基板Ｗの他端側（走査方向Ａの下流側）に位置して、一連の動作が終了する。
【００４９】
以上のように構成された基板処理装置によると、現像停止液を供給して基板Ｗにおける現像を停止させた後、さらにその基板Ｗに洗浄液が供給されるため、現像停止液供給後の基板Ｗを十分に洗浄することができる。
【００５０】
また、基板径寸法と実質的に同寸法の吐出口４１ａを有する洗浄液供給ノズル４１が、基板Ｗが保持された位置の一端側から他端側に向けて移動しつつ、洗浄液を供給することになるため、洗浄液が基板Ｗの局所に集中して供給されることがなく、従って、基板Ｗの主面全体に大量の洗浄液を低衝撃（インパクト）で供給でき、微細パターンの倒壊等を防止できる。
【００５１】
さらに、基板Ｗへの洗浄液供給中に、基板Ｗが回転しているため、洗浄効果がより向上する。
【００５２】
｛第２の実施の形態｝
この第２の実施の形態では、現像停止液を供給する手段と洗浄液を供給する手段とが、リンス液供給手段を共有する構成とされ、しかも、そのリンス液供給手段と現像液供給手段とが別の機構により移動される構成について説明する。なお、この説明においては、上記第１の実施の形態に係る基板処理装置における構成要素と同様構成要素については同一符号を付してその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【００５３】
図４はこの発明の第２の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【００５４】
この基板処理装置では、上記第１の実施の形態に係る基板処理装置における現像停止液供給手段３０と洗浄液供給手段４０に代えて、リンス液供給手段１６０を有している。
【００５５】
リンス液供給手段１６０は、リンス液供給ノズル１６１と、リンス液供給ノズル移動機構１６２と、リンス液供給系機構１６６とを備えている。
【００５６】
リンス液供給系機構１６６は、第１の実施の形態において説明した現像液供給系機構２６と同様に構成により、後述する所定タイミングでリンス液を供給する。なお、リンス液の供給量も、バルブの開度調整により調整される。
【００５７】
本リンス液供給手段１６０を現像停止液供給手段として機能させる際には、通常、基板Ｗにおける現像液を希釈してその現像反応を停止させることができる程度の量だけのリンス液（純水）を供給する。また、本リンス液供給手段を洗浄液供給手段として機能させる際にも、洗浄液としてリンス液（純水）を供給する。洗浄の際のリンス液供給量は、洗浄効果を高めるため、上記現像停止用に供給した量よりも多量に供給することが好ましい。
【００５８】
リンス液供給ノズル１６１は、基板Ｗの直径寸法と実質的に同じ幅寸法を有するスリット状の吐出口（図示省略）を有している。なお、この吐出口の幅寸法は、基板Ｗの直径寸法より大きくてもよい。
【００５９】
リンス液供給ノズル移動機構１６２は、第１の実施の形態において説明した現像液供給ノズル移動機構２２と同様構成を有しており、即ち、上記水平駆動部２４に対応する水平駆動部１６４と、上記支持アーム部２５に対応する支持アーム部１６５とを備えている。
【００６０】
そして、水平駆動部１６４の駆動により、リンス液供給ノズル１６１が基板Ｗの上方を移動する際、リンス液供給ノズル１６１からリンス液が、現像停止液として又は洗浄液として、基板Ｗの主面全体に供給されることとなる。
【００６１】
なお、本実施の形態では、現像液供給ノズル移動機構２２，リンス液供給ノズル移動機構１６２が共通のガイドレール２３上を移動する構成とされているが、これらば全く別々のガイド部材に沿って移動するものであってもよく、また、その移動機構も上記したものに限られない。
【００６２】
また、この基板処理装置においては、制御部１５０は、次に説明する一連の動作の制御を行うものであり、少なくとも、基板Ｗに現像液が供給された後、リンス液供給ノズル１６１から基板Ｗに現像停止液としてリンス液を供給させる動作と、この後、リンス液供給ノズル１６１から基板Ｗに洗浄液としてリンス液を供給させる動作の制御を行う。
【００６３】
このように構成された基板処理装置の動作について、図５を参照して説明する。
【００６４】
まず、初期待機状態では、図５（ａ）に示すように、基板Ｗが基板保持部１０に静止状態で水平姿勢に支持されている。また、現像液供給ノズル２１，リンス液供給ノズル１６１が、基板Ｗの一端側（走査方向Ａの上流側）に位置している。
【００６５】
基板処理開始後、はじめに、図５（ｂ）に示すように、現像液供給ノズル２１から基板Ｗの主面全体に現像液が供給される。この動作は、図３（ｂ）と同様である。
【００６６】
現像液供給ノズル２１が基板Ｗの主面上方を通過した後、基板Ｗにおける現像反応に必要な所定時間が経過すると、図５（ｃ）に示すように、リンス液供給ノズル１６１が基板Ｗの主面上方を、走査方向Ａに、即ち基板Ｗの一端側から他端側に向けて移動する。この際のリンス液供給ノズル１６１の移動速度は、現像液供給ノズル２１の移動速度と実質的に同じに設定される。また、リンス液の供給量は、現像を停止させるのに十分な比較的少ない量だけ供給される。これにより、基板Ｗの主面全体において現像時間をほぼ同じにして、基板Ｗにおける現像を停止させることができる。この後、リンス液供給ノズル１６１は、一旦走査方向Ａの下流側に位置（図５（ｃ）に２点鎖線で示す位置参照）する。
【００６７】
この後、図５（ｄ）に示すように、リンス液供給ノズル１６１が基板Ｗの主面上方を、走査方向Ａの逆方向に、即ち、基板Ｗが支持される位置の他端側から一端側に向けて移動する。リンス液供給ノズル１６１が基板Ｗの主面上方を通過する際、該リンス液供給ノズル１６１から洗浄液としてリンス液が吐出されると共に、基板Ｗが回転する。こうして、回転する基板Ｗの主面全体に洗浄液が供給され、パーティクル除去に十分な洗浄がなされる。
【００６８】
最後に、図５（ｅ）に示すように、現像液供給ノズル２１が基板Ｗの他端側（走査方向Ａの下流側）に位置すると共に、リンス液供給ノズル１６１が基板Ｗの一端側（走査方向Ａの上流側）に位置して、一連の動作が終了する。
【００６９】
以上のように構成された基板処理装置によると、上記第１の実施の形態において得られたのと同様の効果に加えて、現像停止液供給手段と洗浄液供給手段とが、リンス液供給ノズル１６１と、リンス液供給ノズル移動機構１６２とを共有する構成とされているため、その構成の簡易化が図られる。
【００７０】
｛第３の実施の形態｝
この第３の実施の形態では、現像停止液を供給する手段と洗浄液を供給する手段とが、リンス液供給手段を共有する構成とされ、しかも、そのリンス液供給手段に係るリンス液供給ノズルと現像液供給手段に係る現像液供給ノズルとが同一の機構により移動される構成について説明する。なお、この説明においては、上記第１の実施の形態に係る基板処理装置における構成要素と同様構成要素については同一符号を付してその説明を省略し、相違点を中心に説明する。
【００７１】
図６はこの発明の第３の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【００７２】
この基板処理装置では、上記第１の実施の形態に係る基板処理装置における現像液供給手段２０と現像停止液供給手段３０と洗浄液供給手段４０に代えて、処理液供給手段２７０を有している。
【００７３】
処理液供給手段２７０は、現像液供給に係る機構として現像液供給ノズル２２１と現像液供給系機構２２６を備えると共に、リンス液供給に係る機構としてリンス液供給ノズル２６１とリンス液供給系機構２６６を備え、さらに、単一のノズル移動機構２７２を備えた構成とされている。
【００７４】
上記現像液供給ノズル２２１は、第１の実施の形態において説明した現像液供給ノズル２１と同様の構成とされ、また、現像液供給系機構２２６は、第１の実施の形態において説明した現像液供給系機構２６と同様の構成により、所定のタイミングで現像液を現像液供給ノズル２２１に供給可能とされている。
【００７５】
リンス液供給ノズル２６１は、第２の実施の形態において説明したリンス液供給ノズル１６１と同様の構成とされ、また、リンス液供給系機構２６６は、同第２の実施の形態において説明したリンス液供給系機構１６６と同様の構成により、所定タイミングで、リンス液を、現像停止液として所定量又は洗浄液として所定量供給可能とされている。洗浄の際のリンス液供給量は、洗浄効果を高めるため、現像停止用に供給した量よりも多量に供給することが好ましい。
【００７６】
ノズル移動機構２７２は、現像液供給ノズル移動機構２２と同様の構成を有しており、上記水平駆動部２４に対応する水平駆動部２７４と、それぞれ上記支持アーム部２５に対応する２つの支持アーム部２７５，２７６とを備えている。各支持アーム部２７５，２７６のうち走査方向Ａ下流側の支持アーム部２７５には、現像液供給ノズル２２１が走査方向Ａに対して直交する方向に沿って略水平姿勢で支持されており、走査方向Ａ上流側の支持アーム部２７６には、リンス液供給ノズル２６１が走査方向Ａに対して直交する方向に沿って略水平姿勢で支持されている。
【００７７】
そして、水平駆動部２７４の駆動により、現像液供給ノズル２２１が基板Ｗの上方を移動する際、該現像液供給ノズル２２１から基板Ｗに現像液が供給され、或は、リンス液供給ノズル２６１が基板Ｗの上方を移動する際、該リンス液供給ノズル２６１からリンス液が、現像停止液として又は洗浄液として、基板Ｗの主面全体に供給されることとなる。
【００７８】
また、この基板処理装置においては、制御部２５０は、次に説明する一連の動作の制御を行うものであり、少なくとも、現像液供給ノズル２２１を基板Ｗの主面上方の一端側から他端側に向けて移動させて当該基板Ｗに現像液の供給を行った後、リンス液供給ノズル２６１を基板Ｗの主面上方の一端側から他端側に向けて移動させつて該基板Ｗに現像停止液としてリンス液を供給し、この後、再度リンス液供給ノズル２６１を基板Ｗの主面上方に移動させて洗浄液としてリンス液を供給させる動作制御を行う。
【００７９】
このように構成された基板処理装置の動作について、図７を参照して説明する。
【００８０】
まず、初期待機状態では、図７（ａ）に示すように、基板Ｗが基板保持部１０に静止状態で水平姿勢に支持されている。また、現像液供給ノズル２２１，リンス液供給ノズル２６１が、基板Ｗの一端側（走査方向Ａの上流側）に位置している。
【００８１】
基板処理開始後、はじめに、図７（ｂ）に示すように、現像液供給ノズル２２１がリンス液供給ノズル２６１と共に、基板Ｗの主面上方を、走査方向Ａに、即ち、基板Ｗの一端側から他端側に向けて移動する。現像液供給ノズル２２１が基板Ｗの主面上方を移動する際、該現像液供給ノズル２２１から現像液が吐出され、現像液が基板Ｗの主面全体に供給され、基板Ｗの主面において現像がなされる。
【００８２】
この後、現像液供給ノズル２２１及びリンス液供給ノズル２６１は、図７（ｃ）に示すように、走査方向Ａと逆方向に、即ち、基板Ｗの他端側（走査方向Ａの下流側）から基板Ｗの一端側（走査方向Ａの上流側）に移動する。
【００８３】
そして、基板Ｗにおける現像反応に必要な所定時間が経過するタイミングに合わせて、図７（ｄ）に示すように、リンス液供給ノズル２６１が現像液供給ノズル２２１と共に、基板Ｗの主面上方を走査方向Ａに、即ち、基板Ｗの一端側から他端側に向けて移動する。この際のリンス液供給ノズル２６１の移動速度は、図７（ｂ）における現像液供給ノズル２２１の移動速度と実質的に同じに設定される。また、リンス液の供給量は、現像を停止させるのに十分な量であり、比較的少な目の量だけ供給される。これにより、基板Ｗの主面全体において現像時間をほぼ同じにして、基板Ｗにおける現像を停止させることができる。この後、現像液供給ノズル２２１及びリンス液供給ノズル２６１は、一旦走査方向Ａの下流側に位置（図７（ｅ）に２点鎖線で示す位置参照）する。
【００８４】
この後、図７（ｅ）に示すように、リンス液供給ノズル２６１が現像液供給ノズル２２１と共に、基板Ｗの主面上方を、走査方向Ａの逆方向に、即ち、基板Ｗが支持される位置の他端側から一端側に向けて移動する。リンス液供給ノズル２６１が基板Ｗの主面上方を通過する際、該リンス液供給ノズル２６１から洗浄液としてリンス液が吐出されると共に、基板Ｗが回転する。こうして、回転する基板Ｗの主面全体に洗浄液が供給され、パーティクル除去に十分な洗浄がなされる。
【００８５】
最後に、図７（ｆ）に示すように、現像液供給ノズル２２１及びリンス液供給ノズル２６１が基板Ｗの一端側（走査方向Ａの上流側）に位置して、一連の動作が終了する。
【００８６】
以上のように構成された基板処理装置によると、上記第１及び第２の実施の形態において得られたのと同様の効果に加えて、ノズル移動機構２７２が、現像液供給ノズル２２１と共にリンス液供給ノズル２６１を移動させるため、各ノズル２６１，２２１を移動させるための構成が共通化されることとなり、全体構成の簡易化が図られる。
【００８７】
なお、この実施の形態において、現像液供給ノズル２２１とリンス液供給ノズル２６１とが単一の構成部材とされた構成、即ち、単一のノズルに現像液吐出口とリンス液吐出口が形成された構成であってもよい。
【００８８】
｛その他変形例｝
以上、本発明の各実施の形態について説明したが、この発明は上記の例に限定されるものではない。
【００８９】
例えば、基板Ｗを洗浄する際における洗浄液供給ノズル４１やリンス液供給ノズル１６１，２６１の移動方向は、走査方向Ａの順方向であってもよいし、又はその逆方向であってもよい。
【００９０】
また、洗浄具合に応じて、それら洗浄液供給ノズル４１やリンス液供給ノズル１６１，２６１を、洗浄液を吐出させつつ、基板Ｗの主面上方を複数回通過移動させて、より十分な洗浄を行うようにしてもよい。
【００９１】
【発明の効果】
以上のように構成された請求項１〜請求項５記載の基板処理装置によると、現像停止液を供給した後、基板に洗浄液が供給されるため、現像停止液供給後の基板を十分に洗浄することができる。
【００９３】
また、請求項１記載の基板処理装置によると、リンス液供給ノズルとリンス液供給ノズル移動手段とを共有する構成とされているため、その構成の簡易化が図られる。
【００９４】
また、基板径寸法と実質的に同寸法又はそれ以上の幅寸法の吐出口を有するリンス液供給ノズルが、基板が保持される位置の一端側から他端側の逆に移動しつつ、洗浄液を供給することになるため、基板の主面全体に大量の洗浄液を低衝撃で供給でき、パターンの倒壊等を防止できる。
【００９５】
また、請求項２記載の基板処理装置によると、リンス液供給ノズル移動手段は、リンス液供給ノズルと共に現像液供給ノズルを移動させるノズル移動手段として機能するため、各ノズルを移動させるための構成が共通化されることとなり、全体構成の簡易化が図られる。
【００９６】
さらに、請求項４記載の基板処理装置によると、基板への洗浄液供給中に、基板が回転されるため、洗浄効果が向上する。
【００９７】
また、請求項５記載の基板処理装置によると、基板への洗浄液の供給量は、基板への現像停止液の供給量よりも多いため、より十分な洗浄を行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の第１の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ線断面図である。
【図３】第１の実施の形態に係る基板処理装置の動作を示す概略工程図である。
【図４】この発明の第２の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図５】同上の基板処理装置の動作を示す概略工程図である。
【図６】この発明の第３の実施の形態に係る基板処理装置の概略構成を示す平面図である。
【図７】同上の基板処理装置の動作を示す概略工程図である。
【符号の説明】
１０  基板保持部
２０  現像液供給手段
２１  現像液供給ノズル
２１ａ  吐出口
２２  現像液供給ノズル移動機構
３０  現像停止液供給手段
３１  現像停止液供給ノズル
３１ａ  吐出口
３２  現像停止液供給ノズル移動機構
４０  洗浄液供給手段
４１  洗浄液供給ノズル
４１ａ  吐出口
４２  洗浄液供給ノズル移動機構
５０  制御部
１５０  制御部
１６０  リンス液供給手段
１６１  リンス液供給ノズル
１６２  リンス液供給ノズル移動機構
２２１  現像液供給ノズル
２５０  制御部
２７０  処理液供給手段
２７２  ノズル移動機構
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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