(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にカラーフィルタ及び光散乱膜が配設された反射型液晶表示装置用電極基板であって、前記光散乱膜は、透明なマトリックス樹脂と下記（１）、（２）、（３）、（４）の特徴を有する複数の散乱粒とで構成され、かつ、該反射型液晶表示装置用電極基板は観察者側電極基板であり、前記光散乱膜は、平均粒径の異なった散乱粒を有する２層以上の光散乱膜からなる積層構造であり、基板寄りに位置する光散乱膜中の散乱粒の平均粒径を液晶寄りに位置する光散乱膜中の散乱粒の平均粒径より小さくしたことを特徴とする反射型液晶表示装置用電極基板。
（１）溶剤存在下でマトリックス樹脂と溶解混合した塗液であり、前記塗液で形成された塗膜より溶剤が蒸発し光散乱膜となった際、マトリックス樹脂との相溶性の差によりマトリックス樹脂中に分散形成される樹脂からなる散乱粒
（２）マトリックス樹脂と屈折率が異なる散乱粒
（３）光散乱膜面上から見た大きさ・配設位置が少なくとも２次元的にランダマイズされた散乱粒
（４）光散乱膜面上から見た形状が略円形である散乱粒
【請求項２】
マトリックス樹脂の屈折率が、散乱粒の屈折率より低いことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項３】
マトリックス樹脂が、フッ素基を導入した樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項４】
マトリックス樹脂の量が、散乱粒の樹脂の量より多いことを特徴とする請求項１、２または３に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項５】
光散乱膜面上から見た散乱粒の平均粒径が、０．７μｍから３０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１、２、３または４に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項６】
光散乱膜面上から見た散乱粒の平均粒径が、２μｍから１５μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１、２、３、４または５に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項７】
光散乱膜表面に透明樹脂からなる平坦化膜を形成したことを特徴とする請求項１、２、３、４、５または６に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項８】
光散乱膜の形成に先立ち、マトリックス樹脂との被着性が高く、かつ、散乱粒となる樹脂とは被着性の低い層を下引層として形成したことを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６または７に記載の反射型液晶表示装置用電極基板。
【請求項９】
請求項１乃至請求項８に記載の反射型液晶表示装置用電極基板を用いたことを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項１０】
装置外部に出射される反射光の明るさのピークを、正反射光の明るさのピーク位置より４°から１５°ずれた範囲としたことを特徴とする請求項９に記載の反射型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射型液晶表示装置用電極基板及び反射型液晶表示装置に係わり、特に、明るく、表示品位が高く、視野角の広い画面表示を可能とする光散乱膜を形成した反射型液晶表示装置用電極基板及びそれを用いた反射型液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置は、一般的に、偏光膜と液晶駆動用の電極が各々配設された対向する一対の電極基板と、これら電極基板間に封入された液晶物質とでその主要部が構成されている。
【０００３】
画面表示を行なう際、対向する電極間に電圧を印加することにより電極基板間に封入された液晶物質の配向状態を変化させて、この液晶物質を透過する光の偏光面を制御すると共に、偏光フィルムによりその透過、不透過を制御している。
【０００４】
液晶表示装置として、背面側に位置する電極基板（上記液晶を封入する一対の電極基板のうち、観察者と反対側に位置する電極基板であり、以下背面側電極基板と記す）の裏面もしくは側面に光源（ランプ）を配置し、背面側電極基板に光線を入射させることで明るい画面表示を実現する、バックライト型もしくはライトガイド型と呼称されるランプ内蔵式の透過型液晶表示装置が広く普及している。
【０００５】
従来より液晶表示装置においては、低消費電力で軽量化が可能という特徴を活かし、モバイル機器等の携帯用表示装置への利用が期待されている。
しかし、上記ランプ内蔵式の透過型液晶表示装置では内蔵した光源（ランプ）による消費電力が大きい（例えば、ＣＲＴやプラズマディスプレイ装置等の表示装置と略同等の電力を消費する）。このため、ランプ内蔵式透過型液晶表示装置はバッテリーの使用時間が短く、かつ、バッテリーの占める割合が大きいため装置が重く、かさ張ることになる。すなわち、ランプ内蔵式透過型液晶表示装置は液晶表示装置が本来有すべき利点を活かしきれているとはいえない。
【０００６】
このため、光源（ライト）を内蔵しない反射型液晶表示装置が提案されている。反射型液晶表示装置は、背面側電極基板に光反射機能を有する光反射板もしくは液晶駆動用電極と光反射板とを兼用させた反射電極を配設している。すなわち、観察者側電極基板（液晶を封入する一対の基板のうち、観察者側に位置する電極基板）側から室内光や自然光等の外光を液晶表示装置内に入射させ、この入射光を前記光反射板もしくは反射電極で反射させ、この反射光を観察者側電極基板より射出することで画面表示を行なうものである。
【０００７】
反射型液晶表示装置に適用される背面側電極基板としては、例えば、図４に示すように、基板４１ｂ上にＴＦＴ（薄膜トランジスタ）アレイ４８を形成し、表面に光散乱のための凹凸を形成した絶縁膜４３の上に、各画素に対応する部位に金属反射膜４２を積層し、下層のＴＦＴアレイ４８と金属反射膜４２をビアホール４９で結び液晶表示駆動を行うもの、あるいは、図５に示すように金属反射膜５２が透明電極５５ｂとは反対側の、基板５１ｂの外側に一様に設けられたもの等が知られている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、この種の反射型液晶表示装置においては、上記金属反射膜が入射光線を反射するため、外光光源の位置によっては視野角が制限されるという問題を有していた。
【０００９】
また、図４に示された構造の背面側電極基板Ｂにおいては、視野角確保のための絶縁膜４３の表面の凹凸形成並びに金属反射膜４２と回路配線（ＴＦＴアレイ４８）との電気的導通を得るためのビアホール４９の形成工程が複雑であり、かつ金属反射膜４２の表面の凹凸が大きく、液晶の配向に問題を生じる等の問題点を有していた。
【００１０】
他方、図５に示す構造の背面側電極基板Ｂにおいても、金属反射膜５２が基板５１ｂの裏面にあるため基板５１ｂの厚みにより光路差を生じる。この光路差により、画素を透過し反射した光が、隣の画素に入射することになり、混色等の表示欠陥を生じることになる。あるいは、入射した光が透明電極５５ｂ表面と裏面の金属反射膜５２の双方で反射し２重画を生じる等の問題点も有するといえる。
【００１１】
本発明者らは、上記の問題を解決する手段として、光散乱膜を配設することを、特開平７−２８０５５号、及び特開平７−９８４４６号にて提案している。
この提案は、液晶と対向する基板面側に光散乱膜を配設する、すなわち光散乱膜を液晶パネルの内側の面に形成することで、光のスイッチである液晶との位置ズレ（視野）が小さくなり、高精細表示に適した構成としたものである。
【００１２】
かかる手段に用いた光散乱膜は、透明な樹脂に、該樹脂と屈折率の異なる透明粒子を分散させた塗膜にて容易に光の散乱性を確保することができる。
しかし、光を効率良く散乱させるため、粒子の径は０．４〜１μｍ、もしくはそれ以上の大きさを必要とした。このような大きい径の粒子を用いるため、塗膜として形成された光散乱膜の表面には０．２〜１μｍ程度の凹凸が生じてしまい、液晶の配向を妨げる要因となった。このため本発明者らは、光散乱膜と異なる屈折率を有する透明樹脂を平坦化膜として積層形成することを提案した。
【００１３】
しかし、光散乱膜の塗膜となる塗布液は、透明粒子として無機粒子やプラスチックビーズ等を分散させているもので、適正な粒径の透明粒子を選別するための濾過が難しい。また、濾過の際に塗布液への異物の混入も生じやすく、さらには、２次凝集による異物が形成されやすいものであった。このような塗布液で形成された塗膜は、異物や規格から外れた粒径の透明粒子による突起で液晶パネルに表示欠陥等の重欠陥をもたらすことが多かった。
また、無機粒子を分散させた塗膜では、透過光や反射光が黄色味を帯びやすく、真っ白な白（いわゆるパーパーホワイトな白）の再現は難しい。
【００１４】
また本発明者らは、感光性の樹脂材料を用いて、マイクロレンズ等の光学散乱素子を形成し光散乱を生じさせる技術を提案している。この技術は良好な光散乱性を得ることが可能であるが、フォトリソグラフィーの製造プロセスが必要となり製造工程が多く、製造コストが高くなるという問題があった。くわえて、規則的なパターンによるモアレに起因する虹色の着色等を防止するためマイクロレンズ等の光学散乱素子をランダムなパターンで形成する必要がある。フォトリソグラフィーにはパターン露光用フォトマスクが必要であるが、ランダムなパターンを有する大面積のパターン露光用フォトマスクを用意することは難しい。
さらに、マイクロレンズの高さを１〜２μｍに形成する必要があるが、この凹凸を平坦にすることが難しいという問題もある。
【００１５】
本発明は、以上のような問題点に鑑みなされたもので、その課題とするところは、高効率の光散乱性を有する光散乱膜を提供することで、外光光源の位置に関わり無く視野角を広くした、表示欠陥の無い明るい画面表示を可能とする反射型液晶表示装置用電極基板及び反射型液晶表示装置を低コストで得ることにある。
【００１６】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明の請求項１においては、基板上にカラーフィルタ及び光散乱膜が配設された反射型液晶表示装置用電極基板であって、前記光散乱膜は、透明なマトリックス樹脂と下記（１）、（２）、（３）、（４）の特徴を有する複数の散乱粒とで構成され、かつ、当該反射型液晶表示装置用電極基板は観察者側電極基板であり、前記光散乱膜は、平均粒径の異なった散乱粒を有する２層以上の光散乱膜からなる積層構造であり、基板寄りに位置する光散乱膜中の散乱粒の平均粒径を液晶寄りに位置する光散乱膜中の散乱粒の平均粒径より小さくしたことを特徴とする反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
（１）溶剤存在下でマトリックス樹脂と溶解混合した塗液であり、前記塗液で形成された塗膜より溶剤が蒸発し光散乱膜となった際、マトリックス樹脂との相溶性の差によりマトリックス樹脂中に分散形成される樹脂からなる散乱粒
（２）マトリックス樹脂と屈折率が異なる散乱粒
（３）光散乱膜面上から見た大きさ・配設位置が少なくとも２次元的にランダマイズされた散乱粒
（４）光散乱膜面上から見た形状が略円形である散乱粒
【００１７】
また、請求項２においては、
マトリックス樹脂の屈折率が、散乱粒の屈折率より低いことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００１８】
また、請求項３においては、
マトリックス樹脂が、フッ素基を導入した樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００１９】
また、請求項４においては、
マトリックス樹脂の量が、散乱粒の樹脂の量より多いことを特徴とする請求項１、２または３に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００２０】
また、請求項５においては、
光散乱膜面上から見た散乱粒の平均粒径が、０．７μｍから３０μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１、２、３または４に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００２１】
また、請求項６においては、
光散乱膜面上から見た散乱粒の平均粒径が、２μｍから１５μｍの範囲内にあることを特徴とする請求項１、２、３、４または５に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００２３】
また、請求項７においては、光散乱膜表面に透明樹脂からなる平坦化膜を形成したことを特徴とする請求項１、２、３、４、５または６に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００２５】
また、請求項８においては、光散乱膜の形成に先立ち、マトリックス樹脂との被着性が高く、かつ、散乱粒となる樹脂とは被着性の低い層を下引層として形成したことを特徴とする請求項１、２、３、４、５、６または７に記載の反射型液晶表示装置用電極基板としたものである。
【００３２】
次いで、請求項９においては、
請求項１乃至請求項８に記載の反射型液晶表示装置用電極基板を用いたことを特徴とする反射型液晶表示装置としたものである。
【００３３】
さらに、請求項１０においては、装置外部に出射される反射光の明るさのピークを、正反射光の明るさのピーク位置より４°から１５°ずれた範囲としたことを特徴とする請求項９に記載の反射型液晶表示装置としたものである。
【００３４】
上述したように本発明に係わる光散乱膜は、相溶性の低い、もしくは非相溶性の２種以上の樹脂からなる混合樹脂の塗液を利用して形成される。塗液は溶剤を含み、溶剤の存在下で樹脂同志は溶解混合した状態にあり、塗液は透明状態である。
塗液が塗布された塗膜より溶剤が蒸発するにつれ、相溶性の差により混合樹脂の相分離が始まり、透明樹脂（マトリックス樹脂）中に樹脂粒が形成され始め塗膜は徐々に白濁してくる。最終的に溶剤が蒸発した段階で、透明樹脂（マトリックス樹脂）中に相分離した樹脂からなる複数の樹脂粒が分散形成され、光散乱効果を有する光散乱膜となる。
【００３５】
マトリックス樹脂と散乱粒に用いる樹脂は、透明で液晶表示装置の製造プロセスに耐えうるものであれば良く、限定するものではない。しかし、光散乱を持たせるため、マトリックス樹脂と散乱粒の樹脂とは屈折率に差（例えば、０．０５〜０．３程度の差）を有することが必要である。また、マトリックス樹脂中に形成される散乱粒の大きさが揃い、規則的な配列になった場合、モアレに起因する干渉ムラ（虹色の着色）が生じる。このため、散乱粒の大きさ・配設位置のランダマイズ（ランダム化、不均一化）が必要である。ランダマイズは、塗液を構成する樹脂や溶剤の選択、濃度・粘度、塗布や乾燥の条件の設定により可能であり、ランダマイズのための設定は適宜行って構わない。また、散乱粒はマトリックス樹脂中に球状、碁石状、円盤状等の形状で形成されるが、光の散乱効率を高くするため略球状の散乱粒を数多く配設することが望ましい。このためにも、塗液を形成する樹脂や溶剤の選択、濃度・粘度、塗布や乾燥の条件を適宜調整する。こうして得られた散乱粒は、光散乱膜面上から見ると略円形に見える。
本発明者らは、本発明の反射型液晶表示装置用電極基板にカラーフィルタを配設することを提案する。すなわち、各画素部を透過する透過光をそれぞれ対応する色に着色させるカラーフィルタを備えることで、液晶表示装置のカラー表示が可能になるものである。
次いで、本発明者らは、光散乱膜を平均粒径の異なる散乱粒を有する２層以上の光散乱膜の積層構成とすることで光散乱性がより向上し、視野角が広く白い散乱光が得られることを見いだし、これを提案する。光散乱膜を積層構成とする場合、一方の光散乱膜中の散乱粒の平均粒径は大きめの粒径とし、他方の光散乱膜中の散乱粒の平均粒径は２μｍ以下の小さい微小粒径とすることが好ましく、平均粒径の小さい散乱粒を有する光散乱膜を基板側に、平均粒径の大きい散乱粒を有する光散乱膜を液晶寄りに形成することが好ましい。かかる構成とすることで視野角が広く白い散乱光が得られる効果はより大きくなる。また、粒径の異なる光散乱膜の積層とすることで、散乱粒子が規則的な配列になった場合に生じる、モアレに起因する干渉ムラ（虹色の着色）を防止できる。
なお、平均粒径の小さい散乱粒を有する光散乱膜は上述した下引層としての役目も有することになり、平均粒径の小さい散乱粒を有する光散乱膜の上に形成する平均粒径の大きい散乱粒を有する光散乱膜は粒径のバラツキの少ない安定した粒径の散乱粒を得やすくなる。また、平均粒径の小さい散乱粒を有する光散乱膜の表面は平坦性が優れるため、平均粒径の小さい散乱粒を有する光散乱膜の上にさらに積層形成する光散乱膜の表面平坦性の向上に寄与することができる。
【００３６】
一般的に透明樹脂の屈折率は１．３〜１．７の範囲にあるといえ、液晶表示装置の製造プロセスに耐えうる透明樹脂であれば、マトリックス樹脂、散乱粒の樹脂材料として適宜組み合わせを選ぶことができる。
すなわち、散乱粒に高屈折率樹脂を使用した場合、マトリックス樹脂には低屈折率樹脂を使用し、散乱粒に低屈折率樹脂を使用した場合、マトリックス樹脂には高屈折率樹脂を使用すればよい。
しかし、反射型液晶表示装置の場合、装置に入射する光量に限りがあるため、装置より射出する光を観察者の位置に集める、いわゆる集光効果のある方が好ましいといえる。つまり、散乱粒をマトリックス樹脂より高屈折率の樹脂で形成し、散乱粒に凸レンズとしての効果を付与することが好ましい。
【００３７】
また、マトリックス樹脂をフッ素基を導入した樹脂とすることで、散乱粒をマトリックス樹脂中に安定した形で相分離することができるようになる。
【００３８】
次いで、本発明に係わる光散乱膜に使用する高屈折率材料としては、光透過率と屈折率の高いものが好ましく、かつ、波長分散の小さいものが好ましい。
このような材料としては、例えば、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、アクリルエステル樹脂、フローレン系アクリル樹脂、ポリイミド樹脂、あるいはこれらの共重合樹脂が利用できる。また、カラーフィルタの基材やオーバーコート樹脂として市販されているアクリル系の樹脂は好適に利用可能である。
【００３９】
一方、低屈折率樹脂としては、テトラフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン共重合体（屈折率ｎ＝１．３４）やフッ素系アクリル樹脂（屈折率ｎ＝１．３４〜１．４５）に代表されるフッ素樹脂、東京応化工業（株）製の商品名「ＭＯＦシリーズ」または「ＰＣＦシリーズ」（屈折率ｎ＝１．４６〜１．４８）に代表される有機シリケート樹脂、あるいはオルガノポリシラン樹脂やポリシロキサン樹脂等、シリコン基を有する樹脂が使用できる。なお、フッ素系アクリル樹脂の使用はより好ましいといえる。
【００４０】
次いで、マトリックス樹脂としてフッ素基を導入した樹脂を用いる場合、マトリックス樹脂を散乱粒を形成する樹脂と同量以上に多めに入れた混合樹脂液にて光散乱膜を形成することが、散乱粒を安定して再現性ある形にてマトリックス樹脂中に形成しやすいことを本発明者らは見いだした。
【００４１】
次いで、本発明者らは散乱粒の大きさにつき検討を行った結果、散乱粒の大きさを光の波長の２倍以上とすれば効率的な光散乱を得られることを見いだした。Ｂｌｕｅ（青）光の波長は０．３５μｍ程度であることから、散乱粒の大きさは少なくともこの２倍の０．７μｍ以上あることが必要といえる。また、本発明者らは、液晶表示面から見た散乱粒の粒径が光散乱膜の厚みの１０倍以上になると散乱効率が極端に悪くなり、反射型液晶表示装置の視野角が狭くなることを見いだした。
このことより、液晶表示面から見た（すなわち、光散乱膜面上から見た）光散乱膜中の散乱粒の平均粒径は、０．７μｍ〜３０μｍの範囲内が好ましいとえる。
【００４２】
しかし、液晶表示面から見た散乱粒の平均粒径を、例えば１５μｍ〜３０μｍという比較的大きい粒径とすると光散乱性が不足し、また、反射型液晶表示装置に組み込んだ際、白の表示がメタリック調となり画面表示が不十分となる。一方、液晶表示面から見た散乱粒の平均粒径を２μｍ〜１５μｍの範囲とすると、白の表示はかなりペーパーホワイトに近づけられ、視野角も比較的広いものとなる。散乱粒の平均粒径を２μｍ以下とすると、オフアクシスの傾向（正反射方向から角度のずれたところに明るい反射光が観察される傾向）が強く出てくるようになり、表示画面中央部が周辺部よりやや暗いものとなる。
【００４３】
さらに、液晶表示面から見た散乱粒の平均粒径が０．７μｍより小さくなる（例えば０．３μｍ前後）と、入射光の入射角度が表示面の法線方向（垂直）に近い場合に光散乱性が低くなり、表示面に垂直方向から見たときに観察者の顔が表示面に映るようになる。同時に、正反射方向から角度のずれた方向に出射光が観察されるオフアクシスの傾向がより顕著になり、虹色の干渉光も発生するようになる。
【００４４】
上記したように粒径の小さい散乱粒が光散乱膜中に多くなると正反射に近い部分の反射光の強度が下がるといえる（但し、０°の正反射は除く）が、広角側の反射光強度が上がることになり好ましいとはいえない。また、粒径が大きくても画面表示が不十分となる。このことより本発明者らは、液晶表示面から見た（すなわち、光散乱膜面上から見た）散乱粒の平均粒径が２μｍ〜１５μｍの範囲とすれば、視野角が広く白い表示を得るうえでより好ましいことを見いだし、これを提案するものである。
【００４５】
ちなみに図６は、本発明に係わる光散乱膜を用いた反射型液晶表示装置に平行光を入射した際に反射型液晶表示装置より射出される光の明るさを測定した一例を示すグラフ図である。射出光の明るさの測定は正反射方向から１０°変角した位置で測定したものであり、光散乱膜中に分散される散乱粒の大きさを変化させた以外は光散乱膜の構成、反射型液晶表示装置の構成、測定等は同一の条件にて測定を行った。
図６に示すように、散乱粒の平均粒径が２μｍ〜１５μｍの範囲で十分な明るさの射出光が得られている。この傾向は、光散乱膜を構成する樹脂同志の屈折率差、マトリックス樹脂中の散乱粒の分布、光散乱膜の膜厚、測定系（光の平行度、光の入射角等）等を種々変化させた場合においても同様の結果が得られた。
【００４７】
本発明に係わる光散乱膜は、用いる樹脂の骨格や末端基、導入基、溶剤、あるいは塗布条件、硬膜条件等によって、散乱粒の大きさが変化しやすいが、散乱粒が大きくなると光散乱膜の表面が凹凸となりやすい。
光散乱膜の表面が凹凸となると、光散乱膜上に液晶駆動用電極や配向膜等を形成した際、液晶駆動用電極や配向膜も表面凹凸となり、表示装置として表示ムラや応答ムラを生じやすい。これを防止するため、光散乱膜の表面に平坦化膜を形成し平坦化を行うことは望ましい。すなわち、本発明者らは、光散乱膜の表面に透明樹脂からなる平坦化膜を形成することを提案するものである。
【００４８】
なお、平坦化膜上に液晶駆動用電極を設ける際に、平坦化膜と液晶駆動用電極との間に別に透明樹脂層を介在させ、より一層の平坦性の改善を行うことであっても構わない。このような、改善された平坦性を有する電極基板は、液晶駆動用電極表面に高度の平坦性が要求される液晶表示装置（例えば、ＳＴＮ液晶、ＴＮ液晶、ＯＣＢ、ＥＣＢやＢＴＮ液晶、強誘電液晶等）に適しているといえる。
【００４９】
なお、平坦化膜は光散乱膜間に挿入することであっても構わない。この場合、平坦化膜の屈折率を光散乱膜を構成するマトリックス樹脂の屈折率と異なったものとすれば、対向する光散乱膜面の凹凸による光の散乱に加えて、光散乱膜と平坦化膜との屈折率差による拡散も加わり、散乱性を向上させることが可能となる。
【００５１】
次いで、散乱粒の粒径のバラツキを抑制するため、光散乱膜の形成に先立ち、塗液中のマトリックス樹脂との被着性が高く、かつ、塗液中の散乱粒となる樹脂とは被着性の低い層を、例えば低屈折率の樹脂液を用いて下引層として形成することは、粒径のバラツキが抑制された安定した大きさの散乱粒を得るうえで好ましい。すなわち、下引層と被着性を有するマトリックス樹脂は連続相となり、下引層と被着性を有しない樹脂は分散相となり、連続相であるマトリックス樹脂中に分散相である散乱粒が分散しやすくなり粒径のバラツキが抑制された安定した大きさの散乱粒が得られる。
【００５５】
ここで、本発明の反射型液晶表示装置用電極基板を観察者側電極基板とし、観察者側電極基板にカラーフィルタを配設する場合、光散乱膜の形成位置は、カラーフィルタの上（液晶に対向するカラーフィルタ面側）、または、基板とカラーフィルタの間として構わない。なお、カラーフィルタに光の回折機能を付与させる場合は、基板とカラーフィルタとの間に光散乱膜を形成することが好ましい。さらにカラーフィルタの色の組合せは、Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色系、または、Ｙ（黄）、Ｍ（マゼンタ）、Ｃ（シアン）の補色系、さらには他の色の組合せとしても構わず、液晶表示装置の仕様に応じ、適宜選択して構わない。
【００５６】
背面側電極基板を反射型液晶表示装置用電極基板とする場合、光散乱膜を金属反射膜上に形成すると、液晶駆動用の電極は透明電極として光散乱膜上に積層する必要がある。しかし、金属反射膜−光散乱膜−透明電極の積層構成とすると製造プロセスが複雑となり、また、製造コストの面からも好ましいとはいえない。このため、光散乱膜を形成した本発明の反射型液晶表示装置用電極基板を観察者側電極基板とし、また、観察者側電極基板にカラーフィルタを配設することはより好ましいといえる。かかる構成とすれば、背面側電極基板には金属反射膜と液晶駆動用の電極とを兼用した反射電極の形成で良いことになり、製造プロセスが簡単となり、製造コストの低減が可能となる。
【００５７】
次いで、図７は、本発明に係わる光散乱膜において、視角の変化による反射光の明るさの変化を示す反射特性の一例を示したグラフ図である。
図７のグラフ図の測定は変角光度計を用いて行ったもので、横軸は測定角度を示す。測定にあたりリファレンスとして硫酸バリウム標準白色板を用い、グラフ図の縦軸はゲイン（（試料の光度）／（硫酸バリウム標準白色板の光度））を示す。また、測定の際、正反射成分を拾わないよう、あおり角度５°（被検査体を５°傾けた状態）にて測定したもので、被測定体への照射光は平行光とした。
図７中の実線は、本発明に係わる光散乱膜を形成した疑似液晶パネルの反射特性を示す。疑似液晶パネルは、観察者側基板Ａと反射基板Ｂとで屈折率１．５２の樹脂液を挟持させた。反射基板Ｂはガラス基板上に光反射膜として銀合金（金１ａｔ％（原子パーセント）、銅０．５ａｔ％、残部銀とした銀合金）を２００ｎｍの膜厚で形成した。また、観察者側基板Ａはガラス基板上に後述する実施例１に記す光散乱膜３を単層で形成した。疑似液晶パネルは銀合金薄膜と光散乱膜３とを対向させている（図３参照）。
次いで、比較のため、ＴＦＴ反射板を用いた疑似液晶パネルの反射特性を、図７中の破線に示す。なお、ＴＦＴ反射板は、表面を凹凸としたアルミニウムからなる金属薄膜（図４に示す従来の反射型液晶表示装置で、反射電極としてＴＦＴ素子とともに配設する金属反射膜４２）をガラス基板上に配設したものであり、ＴＦＴ反射板とガラス基板単体との間に屈折率１．５２の樹脂液を挟持し、比較のための疑似液晶パネルとした。
図７に示すように、上述したオフアクシスの効果により、正反射方向の光軸から少しずれた、およそ視角７°のところに明るさのピークが存在する。これにより、液晶パネル表面のまぶしい正反射を避けて、見やすく明るい画面表示が可能となる。
【００５８】
上記の反射光の明るさのピークの正反射方向からのズレは、４°から１５°程度が良い。散乱粒の粒径がおよそ３μｍから５μｍ近辺で７°程度のズレとなる。散乱粒が微細になると、この角度が大きくなるが、あまり大きくズラすと、基板（液晶パネル）を傾けて見なければならなくなり、不便である。
【００５９】
よって、装置内に入射後、光散乱膜および反射電極を介して装置外に出射される反射光の明るさのピークが、正反射光の明るさのピーク位置より４°から１５°ずれた範囲にあることを特徴とする反射型液晶表示装置とすることが望ましい。
【００６０】
本発明の反射型液晶表示装置においては、画素のパターンもしくは透明電極、反射電極等のパターンはいずれも周知の形状で良く、液晶の駆動方式は単純マトリックス方式でも、または、ＴＦＴ（薄膜トランジスタ）等の駆動素子を用いたアクティブマトリックス方式でも構わず、適宜選択して構わない。
【００６１】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を、実施例に基づき説明する。
＜実施例１＞
本実施例は参考のための例である。
本実施例１に係わる液晶表示装置は、図１に示すように、観察者側電極基板Ａおよび背面側電極基板Ｂで液晶１０を挟持、封止している。観察者側電極基板Ａは、厚さ０．７ｍｍのガラス板からなるガラス基板１ａ上にカラーフィルタ６、光散乱膜３、平坦化膜４を順次形成しており、平坦化膜４上のカラーフィルタ６に対応する部位を覆うよう透明電極５を形成している。
【００６２】
次いで、背面側電極基板Ｂには、液晶駆動用の電極と金属反射膜とを兼用させた、銀合金薄膜からなる反射電極２を形成している。
【００６３】
カラーフィルタ６は、赤（Ｒ）、緑（Ｇ）、青（Ｇ）色からなる複数のカラーフィルタで構成している。赤色カラーフィルタ６Ｒの形成には、アクリル系透明感光性樹脂と赤色顔料との混合物からなる赤色感光性樹脂を用いた。赤色感光性樹脂をガラス基板１ａ上に塗布してその被膜を形成した後、所定のパターンを有する露光用パターンマスクを用いたパターン露光、現像、硬膜処理等を行い、所定の画素に対応する部位に被膜を選択的に残存させ赤色カラーフィルタ６Ｒを形成した。続いて、アクリル系透明感光性樹脂と緑色顔料との混合物からなる緑色感光性樹脂および、アクリル系透明感光性樹脂と青色顔料との混合物からなる青色感光性樹脂を各々用い、同様の方法により、順次、緑色カラーフィルタ６Ｇ、青色カラーフィルタ６Ｂをそれぞれ形成した。
【００６４】
次いで、カラーフィルタ６を含めた基板１ａ上に、下引層としてフッ素系アクリル樹脂層を膜厚０．３μｍで形成した後、光散乱膜３（膜厚約２．５μｍ）を形成した。
光散乱膜３は、屈折率１．４４のフッ素系アクリル樹脂からなるマトリックス樹脂中に、屈折率１．５６の熱硬化性アクリル樹脂からなる平均粒系４μｍの散乱粒を分散させている。
【００６５】
光散乱膜３の形成にあたっては、熱硬化性のフッ素系アクリル樹脂（屈折率１．４４、消衰係数０．６×１０-3）と熱硬化性アクリル樹脂（屈折率１．５６、衰係数１．０×１０-3）とを１．１：１の比率で有機溶剤に混合し各々が溶解した塗布液を用いた。
この塗布液を約８００回転／分のスピンコーティングで塗布し、光散乱膜３となる塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用い、塗布した混合樹脂に１００℃〜２００℃まで段階的に加熱を行った。塗膜から有機溶剤が蒸発乾燥する際、相溶性の差により、フッ素系アクリル樹脂（マトリックス樹脂）中に熱硬化性アクリル樹脂からなる複数の散乱粒が分散形成される。液晶表示面から見た散乱粒は略円形状（平均粒系が約４μｍ）となっており、その大きさ・位置はランダマイズしていた。
【００６６】
光散乱膜３を形成後、光散乱膜３表面の平坦化のため、透明アクリル樹脂を約８００回転／分のスピンコーティングで塗布し、平坦化膜４を形成した。
ここで  カラーフィルタ６、光散乱膜３、および平坦化膜４からなる積層体の合計の厚さは約４μｍとした。
【００６７】
次いで、平坦化膜４上にＩＴＯ薄膜（酸化インジウムと酸化錫とからなる混合酸化物の薄膜）を一様にスパッタ成膜した後、ポジ型レジストを用いた周知のフォトエッチング法にてＩＴＯ薄膜からなるストライプ形状の透明電極５を得、観察者側電極基板Ａとした。
【００６８】
次いで、背面側電極基板Ｂには、厚さ０．７ｍｍのガラス板からなるガラス基板１ｂを用いた。
まず、ガラス基板１ｂ表面を洗浄した後、スパッタリング成膜にて順次、酸化インジウム系混合酸化物薄膜（膜厚２０ｎｍ）、銀系薄膜（膜厚１５０ｎｍ）、酸化インジウム系混合酸化物薄膜（膜厚５ｎｍ）をガラス基板１ｂ上に積層した。なお、酸化インジウム系混合酸化物は、酸化セリウムを金属元素換算（酸素原子を換算しない）の原子パーセント（ａｔ％）で２０ａｔ％含む、酸化インジウムとの混合酸化物とした。また、銀系薄膜は、銀に、金を２ａｔ％、銅を０．５ａｔ％混合させた銀合金で形成した。
次いで、周知のフォトエッチング法を用い上記積層体を所定の形状にパターニングし反射電極２とした。すなわち、レジストの塗布、パターン露光、現像等を行った後、硫酸、硝酸、および酢酸からなる混酸でエッチングを行った。
【００６９】
上記観察者側電極基板Ａおよび背面側電極基板Ｂを電極同志が対向するよう貼り合わせ、電極基板間に液晶１０を封入し、図１に示す反射型液晶表示装置を得た。  なお、図１においては、透明電極５上および反射電極２上に形成した配向膜の図示は省略している。
【００７０】
上述した本実施例１に係わる反射型液晶表示装置の表示品質を目視にて観察したところ、視角が１０°から２５°（液晶表示面に対し、垂直方向を０°とする）の範囲で、図４および図５の例に示す従来の反射型液晶表示装置より明るい表示が得られた。また、本実施例１に係わる反射型液晶表示装置は、平行光を照射光とする変角光度計を用いた反射光測定においても、正反射方向からややズレた視角範囲（すなわち視角が１０°から２５°の範囲）でアルミニウム反射電極（従来より反射型液晶表示装置に用いられている、表面を凹凸としたアルミニウム反射電極）を用いた反射型液晶表示装置と比べて約２倍の明るさが確保できた。
【００７１】
＜実施例２＞
本実施例は参考のための例である。
本実施例２に係わる液晶表示装置は、図２に示すように、観察者側電極基板Ａおよび背面側電極基板Ｂで液晶２０を挟持、封止している。観察者側電極基板Ａには、厚さ０．７ｍｍのガラス板からなるガラス基板２１ａ上に光散乱膜２３と平坦化膜２４、カラーフィルタ２６、およびカラーフィルタ２６の画素に対応する部位にストライプ状の透明電極２５を形成している。
【００７２】
次いで、背面側電極基板Ｂには液晶駆動用の電極と金属反射膜とを兼用させたアルミニウム合金薄膜からなる反射電極２２を形成している。
【００７３】
光散乱膜２３（膜厚約２μｍ）は、屈折率１．４４のフッ素系アクリル樹脂からなるマトリックス樹脂中に屈折率１．５６の熱硬化性アクリル樹脂からなる樹脂粒を、これら樹脂の相溶性の差を利用して分散させている。すなわち、マトリックス樹脂となる熱硬化性のフッ素系アクリル樹脂と樹脂粒となる熱硬化性アクリル樹脂とを体積比率で１．２：１の割合で有機溶剤に混合し各々が溶解した塗布液を用い、スピンコーティングにて塗布液を塗布し塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用い、塗布した混合樹脂に１００℃〜２００℃まで段階的に加熱を行った。この塗膜から有機溶剤が蒸発乾燥する際に、相溶性の差により、フッ素系アクリル樹脂（マトリックス樹脂）中に熱硬化性アクリル樹脂からなる複数の散乱粒が分散形成される。液晶表示面から見た散乱粒は略円形状（平均粒系は約４μｍ）となっており、その大きさ・位置はランダマイズしていた。
【００７４】
光散乱膜２３の上に熱硬化性アクリル樹脂（屈折率１．５５）からなる中間膜を平坦化膜２４として形成した。平坦化膜２４の形成にあたっては、散乱膜２３と平坦化膜２４との合計の膜厚が約２．５μｍとなるようにした。
【００７５】
次いで、散乱膜２３と平坦化膜２４が形成された基板２１ａ上に、上述した実施例１と同様の手法にて、赤色カラーフィルタ２６Ｒ、緑色カラーフィルタ２６Ｇ、および青色カラーフィルタ２６Ｂからなるカラーフィルタ２６を形成した。
【００７６】
次いで、散乱膜２３、平坦化膜２４およびカラーフィルタ２６が形成された基板２１ａ上にＩＴＯ薄膜を一様にスパッタ成膜した後、フォトエッチング法にてＩＴＯ薄膜をストライプ状パターンに形成し透明電極２５とした。
【００７７】
また、反射電極２２の形成にあたっては、基板２１ｂの表面を洗浄した後、順次Ｃｒ（クロム）薄膜、Ａｌ（アルミ）合金薄膜をスパッタリング成膜し、この積層膜をフォトエッチング法にて所定の形状にパターン形成した。なお、Ｃｒ（クロム）薄膜は、Ａｌ（アルミ）合金薄膜と基板２１ｂとの密着性を向上させるために形成している。
【００７８】
次いで、観察者側電極基板Ａと背面側電極基板Ｂとを貼り合わせ、液晶２０を両電極基板間に封入して、図２に示す反射型液晶表示装置とした。なお、上述した実施例１および実施例２では平坦化膜４および平坦化膜２４を形成し、表面平坦としている。しかし、本実施例に係わる光散乱膜は平坦性に優れるので、平坦化膜や中間膜を省略することが可能であり、平坦化膜や中間膜の形成の有無は必要とされる平坦性に応じ適宜選択して構わない。すなわち、本実施例の反射型液晶表示装置は、光散乱膜が十分な平坦性を有するため、光散乱膜を介して形成される電極も平坦とすることができ、電極形成面に高度の平坦性が要求される、ＴＮ、ＧＨ、ＳＴＮ、ＯＣＢ、ＥＣＢ、ＢＴＮ、反強誘電、コレステリック等の反射型液晶表示装置として用いることが可能である。さらに、光散乱膜の平坦性が不十分な場合は、保護膜や平坦化膜を光散乱膜上に設けても良い。
【００７９】
＜実施例３＞
本実施例３においては、図３に示すように、厚さ０．７ｍｍの透明ガラス基板３１ａ上に２層からなる光散乱膜を形成したもので、第１光散乱膜３３ａの膜厚は約１μｍとし、当該第１光散乱膜３３ａ上の第２光散乱膜３３ｂは膜厚約２．５μｍとした。第１光散乱膜３３ａおよび第２光散乱膜３３ｂは、上述した実施例１または実施例２と同様に低屈折率マトリックス樹脂（屈折率１．４４のフッ素系アクリル樹脂）中に相溶性の差を利用して分散形成された高屈折率樹脂（屈折率１．５６の熱硬化性アクリル樹脂）からなる散乱粒を有している。なお、第１光散乱膜３３ａ中の散乱粒は、液晶表示面から見た平均粒系を約０．５μｍの略円形状の散乱粒とし、第２光散乱膜３３ｂ中の散乱粒は、液晶表示面から見た平均粒系を約３μｍの略円形状の散乱粒とした。
【００８０】
ここで、上記２層構成の光散乱膜を形成した透明ガラス基板３１ａを仮に観察者側基板Ａとした。また、基板３１ｂ上に表面平坦としたＡｌ（アルミ）反射電極を形成し、これを仮に背面側基板Ｂとした。観察者側基板Ａと背面側基板Ｂとを対向させ、両基板間に屈折率１．５２の樹脂液を疑似液晶３０として挟みこみ、図３に示す本実施例３に係わる疑似液晶セルを得た。
【００８１】
次いで、上記疑似液晶セルに平行光を入射し変角反射率を測定した。
変角反射率の測定にあたっては、本実施例３に係わる疑似液晶セル（本発明に係わる光散乱膜を形成した疑似液晶セル）との比較のため、以下に記す比較用疑似液晶セル１および比較用疑似液晶セル２も同様に測定を行った。
【００８２】
比較用疑似液晶セル１は、図４に示す従来の反射型液晶表示装置を想定したもので、基板３１ｂ上に表面凹凸としたＡｌ（アルミ）反射電極を形成し、これを背面側基板Ｂとした。観察者側基板Ａは上述した透明ガラス基板３１ａと同質の透明ガラス基板単体としたもので、観察者側基板Ａと背面側基板Ｂとを対向させ、両基板間に屈折率１．５２の樹脂液を疑似液晶３０として挟みこみ、上記疑似液晶セルと略同一の構成とした比較用疑似液晶セル１を得た。
【００８３】
次いで、比較用疑似液晶セル２は、本発明者らが以前に提案した技術（特開平１０−２０６８３７号）での光散乱膜を用いた反射型液晶表示装置を想定したもので、光散乱膜は無機粒子分散型とした。
すなわち光散乱膜は、平均粒径０．７μｍの酸化セリウム（ＣｅＯ2 ）を固形比の重量比で２５％、平均粒径０．８μｍの酸化珪素（ＳｉＯ2 ）を固形比の重量比で２５％、残りを屈折率１．４１のフッ素系樹脂とした無機粒子分散型とした。
【００８４】
比較用疑似液晶セル２においては、上述した疑似液晶セルと同様に基板３１ｂ上に表面凹凸としたＡｌ（アルミ）反射電極を形成し、これを背面側基板Ｂとした。また、透明ガラス基板３１ａと同質の透明ガラス基板上に上記無機粒子分散型光散乱膜を膜厚約１．５μｍで形成し、次いで光散乱膜上に屈折率１．４１のフッ素系樹脂からなる平坦化膜を膜厚約１．５μｍで形成し観察者側基板Ａとした。これら観察者側基板Ａと背面側基板Ｂとを対向させ、両基板間に屈折率１．５２の樹脂液を疑似液晶３０として挟みこみ、上記疑似液晶セルと略同一の構成とした比較用疑似液晶セル２を得た。
【００８５】
疑似液晶セル、比較用疑似液晶セル１、比較用疑似液晶セル２に同一条件で平行光を入射し各々の変角反射率を同一条件で測定した。測定にあたっては変角光度計（村上色彩技術研究所（株）製、商品名「ＧＰ−２００」）を用いた。このときの測定結果を以下の（表１）に示す。なお（表１）では、透過型液晶表示装置に組み込まれている導光板（光源（ランプ）から出た光を反射させ液晶パネル内に導く表面凹凸としたＡｌ（アルミ）反射板）単体の正反射（Ｒ０°）の明るさをリファレンスとし、この明るさを１００％としたときの各測定値の％を（表１）に記している。また（表１）中に記したＲの次の角度（°）は正反射からの測定角度を示すもので、例えば正反射はＲ０°を示す。
【００８６】
【表１】
0003941322.tif 000002
【００８７】
上記（表１）に示すように、表面凹凸としたＡｌ（アルミ）反射電極にて光散乱を行う比較用疑似液晶セル１や無機粒子分散型光散乱膜にて光散乱を行う比較用疑似液晶セル２より、本発明に係わる光散乱膜を用いた疑似液晶セルの方が光反射率が高く、明るい画面表示が得られる。
【００８８】
＜実施例４＞
本実施例４は、反射型液晶表示装置の参考例であり、図８は本実施例４に係わる背面側電極基板Ｂを模式的に示す図面である。本実施例４に係わる背面側電極基板Ｂは、図８に示すように、厚さ０．７ｍｍのガラス基板  ８１ｂ上に、画素パターン（１画素：横９０μｍ×縦３１０μｍ、配列のピッチ：横方向１１０μｍ、縦方向３３０μｍ）に対応した部位に設けられた、アルミニウムからなる厚さ０．２μｍの矩形状の金属反射膜８２が形成されている。次いで、金属反射膜８２上にはスピンコート法で塗布された光散乱膜８３と、金属反射膜８２と位置整合して設けられた三色（赤色Ｒ、緑色Ｇ、及び青色Ｂ）のカラーフィルタ８６と、全面に一様に塗布形成された平坦化膜８４とを形成している。この平坦化膜８４（厚さ１μｍのフェノール・ノボラック・エポキシ感光性樹脂膜）上に、画素パターンに位置整合したストライプ状の透明電極８５（厚さ２４０ｎｍのＩＴＯ薄膜）を形成している。
【００８９】
光散乱膜83は、上述した実施例１で形成した光散乱膜３と同様に形成した。
すなわち、光散乱膜83の形成にあたっては、熱硬化性のフッ素系アクリル樹脂（屈折率１．４４、消衰係数０．６×１０-3）と熱硬化性アクリル樹脂（屈折率１．５６、消衰係数１．０×１０-3）とを１．１：１の比率で有機溶剤に混合し各々が溶解した塗布液を用いた。
この塗布液を約８００回転／分のスピンコーティングで塗布し、光散乱膜83となる塗膜を形成した。次いで、ホットプレートを用い、塗布した混合樹脂に１００℃〜２００℃まで段階的に加熱を行った。塗膜から有機溶剤が蒸発乾燥する際、相溶性の差により、フッ素系アクリル樹脂（マトリックス樹脂）中に熱硬化性アクリル樹脂からなる複数の散乱粒が分散形成される。液晶表示面から見た散乱粒は略円形状（平均粒系が約４μｍ）となっており、その大きさ・位置はランダマイズしていた。
【００９０】
なお、金属反射膜82および透明電極85を所定のパターン形状とするにあたっては、一様にスパッタリング成膜した後に周知のフォトエッチング法を用いた。
また、カラーフィルタ86は、顔料分散型感光性樹脂（アクリル系透明感光性樹脂に着色顔料を分散させた感光性樹脂）を用い、周知のフォトリソグラフィー法にて所定のパターンに形成した。
【００９１】
以上、本発明の実施例につき説明したが、本発明の実施の形態は上述した説明および図面に限定されるものではなく、本発明の趣旨に基づき種々の変形を行っても構わないことは言うまでもない。
【００９２】
例えば、上記実施例では、電極をストライプパターン状に加工した単純マトリックス型の反射型液晶表示装置としたが、観察者側電極基板Ａに配設する透明電極をベタ状に（表示部全面を覆うように）に形成し、反射電極をＴＦＴ等のアクティブ素子と電気的に接続させた個別電極としても構わない。なお、アクティブ素子は、ポリシリコンＴＦＴでも良く、あるいはＭＩＭ等のダイオード素子でも良い。
また、電極基板を構成する基板は、ガラス板の他、樹脂の板、プラスチックフィルム等であってもよく、または、基板そのものが半導体素子を形成したシリコン基板であってもよく、適宜選択することが出来る。
【００９３】
次いで、上記実施例では、光散乱膜の塗布にあたり、スピンコーティングを用いたが、塗布方式は、カーテンコーティング、スリットアンドスピン、印刷方式、転写方式もしくは他の方式を用いても構わない。
【００９４】
さらに、光散乱膜を形成する樹脂は熱硬化型とする必要は無く、紫外線硬化型の樹脂、電子線硬化型の樹脂等も使用可能であり、適宜選択して構わない。
また、光散乱膜を形成する樹脂として光硬化型の樹脂を用いれば、公知のフォトリソプロセスを用い、光散乱膜を所望するパターン形状とすることも可能である。
【００９５】
【発明の効果】
上述したように本発明では、光散乱膜は、相溶性の低い、もしくは非相溶性の２種以上の樹脂を含む混合樹脂の塗液を利用して形成される。塗液は溶剤を含み、溶剤の存在下では樹脂同志は溶解混合状態にあるが、塗液が塗布された後、塗液より溶剤が蒸発し光散乱膜となる際、相溶性の差により樹脂は相分離し、透明樹脂（マトリックス樹脂）中に樹脂粒が分散して形成される。マトリックス樹脂と樹脂粒（散乱粒）とは屈折率に差をもたせたもので、この屈折率差により光散乱膜に光散乱効果が生じる。かかる光散乱膜を形成した電極基板にて反射型液晶表示装置を構成することで、観察者側電極基板から入射した光は、光散乱膜により均一に散乱され、かつ、背面側電極基板に形成した光反射板もしくは反射電極で反射され観察者側電極基板から射出されることになる。このため、入射光の入射角度によらず広い視野角にて明るい表示画面を観察することが可能となる。
【００９６】
また、本発明に係わる光散乱膜は、スピンコート等の簡単な塗布方法にて極めて簡便に形成できる。このため、本発明の電極基板では表面凹凸とした反射電極の形成という複雑な製造工程を必要とせず、製造コストを低減できる。
また、光散乱膜として無機粒子、あるいは固形の微粒子を散乱材として使用した場合、これらの粒子の２次凝集に起因する異物突起が発生し、液晶表示装置に表示欠陥等の重欠陥をもたらしていた。すなわち、無機粒子、あるいは固形の微粒子を分散させた光散乱膜の使用は、電極基板、もしくは表示装置の収率を低下させていた。しかし、本発明に係わる光散乱膜は無機粒子、あるいは固形の微粒子を散乱材として使用しないため、２次凝集による異物突起が発生しない。このため、本発明に係わる光散乱膜を用いた電極基板、もしくは表示装置においては収率が向上し、かつ、表示欠陥の無い良好な画面表示が可能となる。
【００９７】
さらに、表面凹凸とした反射電極やマイクロレンズを配設することで光散乱を行う反射型液晶表示装置では、フォトリソグラフィーの製造プロセスが必要となり製造工程が多く、製造コストが高くなるという問題があった。くわえて、規則的なパターンによるモアレに起因する虹色の着色等を防止するためマイクロレンズ等の光学散乱素子をランダムなパターンで形成する必要がある。フォトリソグラフィーにはパターン露光用フォトマスクが必要であるが、ランダムなパターンを有する大面積のパターン露光用フォトマスクを用意することは難しかった。
しかるに、本発明に係わる光散乱膜は、スピンコート法等を用い塗液を塗布した後、溶剤の蒸発と同時に散乱粒のランダマイズができる。すなわち、本発明の電極基板もしくは反射型液晶表示装置では、複雑なランダマイズパターンを有するパターン露光用フォトマスクの使用を不要としたもので、製造プロセスの大幅な簡略化が可能となる。
【００９８】
また、本発明に係わる光散乱膜は、用いる樹脂および樹脂量を適宜設定することで散乱粒を所望する光散乱に適した形状とすることが可能であり、高い光散乱性を有する安定した光散乱膜を簡便な製造プロセスで製造でき、かつ、本発明に係わる光散乱膜を形成した電極基板にカラーフィルタを配設することで高品質のカラー反射型液晶表示装置を提供できる。
【００９９】
なお、本発明に係わる光散乱膜は、反射型液晶表示装置のみならず、例えばＳＴＮ液晶、ＴＮ、ＯＣＢ、ＨＡＮ、ＥＣＢやＢＴＮ液晶、反強誘電液晶、強誘電液晶、ＩＰＳタイプの液晶等を用いた透過型の液晶表示装置への適用も可能である。なお、本発明に係わる光散乱膜は、反射型のゲストホスト型液晶表示装置への応用も可能であるが、その場合、偏光フィルムや位相差フィルムを省略した構成とすることも可能である。
【０１００】
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係わる反射型液晶表示装置の第１の実施形態を模式的に示す断面説明図。
【図２】本発明に係わる反射型液晶表示装置の第２の実施形態を模式的に示す断面説明図。
【図３】本発明に係わる反射型液晶表示装置の第３の実施形態を模式的に示す断面説明図。
【図４】従来の反射型液晶表示装置の一例を模式的に示す断面説明図。
【図５】従来の反射型液晶表示装置の他の例を模式的に示す断面説明図。
【図６】光散乱膜中の散乱粒の粒径を変化させたときの反射光の明るさの変化の一例を示すグラフ図。
【図７】本発明の電極基板において視角を変化させたときの反射光の明るさの変化の一例を示すグラフ図。
【図８】本発明に係わる反射型液晶表示装置用電極基板の実施形態の例を模式的に示す断面説明図。
【符号の説明】
Ａ                                観察者側電極基板
Ｂ                                背面側電極基板
1a、1b、 21a、 21b、 31a、 31b    基板
41a、41b 、51a 、51b 、 81b        基板
２、22、32                        反射電極
42、52、82                        金属反射膜
３、23、 33a、 33b、83            光散乱膜
４、24、34、84、54                平坦化膜
５、25、35、45、 55a、55b 、85    透明電極
６、26、36、46、56、86            カラーフィルタ
７、27、57                        偏光フィルムと位相差フィルム
８、28、38                        背面側電極基板
48                                ＴＦＴアレイ
49                                ビアホール
10、20、40、50                    液晶
30                                疑似液晶
43                                絶縁膜
【図１】
0003941322.tif 000003
【図２】
0003941322.tif 000004
【図３】
0003941322.tif 000005
【図４】
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【図５】
0003941322.tif 000007
【図６】
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【図７】
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【図８】
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