(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（５）又は（６）で表されるリン化合物とを反応させて、下記一般式（１０）で表されるヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を製造することを特徴とするヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方法。
Ｒ５−Ｏ−Ａｒ１−ＣＨＯ    （１）
（１）式中、Ｒ５はテトラヒドロピラニル基を示し、Ａｒ１は下記一般式（２）〜（４）より表される基の中から選ばれる１つの基を示す。
【化１】
0003875365.tif 000008
【化２】
0003875365.tif 000009
【化３】
0003875365.tif 000010
（２）〜（４）式中、Ｒ１は、炭素数１〜２０のアルキル基、ビニル基、アリル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基又はカルボキシル基を示し、ｎ１，ｎ２，ｎ３，ｎ４は整数であって、それぞれｎ１は０〜４、ｎ２は０〜６、ｎ３およびｎ４は０〜４を示す。
Ｒ２ＯＯＣ−Ａｒ２−ＣＨ２ＰＯ（ＯＲ３）２    （５）
Ｒ２ＯＯＣ−Ａｒ２−ＣＨ２ＰＲ３Ｘ            （６）
（５）および（６）式中、Ａｒ２は下記一般式（７）〜（９）で表される基の中から選ばれる１つの基を示し、Ｒ２は水素又は、炭素数１〜２０のアルキル基を、Ｒ３はフェニル基又は炭素数１〜８のアルキル基をそれぞれ示す。
【化４】
0003875365.tif 000011
【化５】
0003875365.tif 000012
【化６】
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（７）〜（９）式中、Ｒ４は、炭素数１〜２０のアルキル基、ビニル基、アリル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、メトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基を示し、Ｘはハロゲンを示す。ｍ１，ｍ２，ｍ３，ｍ４は整数であって、それぞれｍ１は０〜４、ｍ２は０〜６、ｍ３およびｍ４は０〜４を示す。
ＨＯ−Ａｒ１−ＣＨ２＝ＣＨ２−Ａｒ２−ＣＯＯＲ２  （１０）
（１０）式中、Ａｒ１、Ａｒ２、Ｒ２は、一般式（１）、（５）および（６）におけるＡｒ１、Ａｒ２、Ｒ２と同じものを示す。
【請求項２】
前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（１１）で表されるヒドロキシル化合物を該ヒドロキシル基に由来するテトラヒドロピラニルエーテル構造を生じさせるべく反応してなる請求項１記載の製造方法。
ＨＯ−Ａｒ１−ＣＨＯ  （１１）
（１１）式中、Ａｒ１は、一般式（１）におけるＡｒ１と同じものを示す。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の高収率で簡便な製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物は、古くは染料、ポリエステルの原料として、近年ではエレクトロルミネッセンス素子、液晶化合物のメソゲン等の原料として注目されている。その製造方法としては、アニスアルデヒドとシアノフェニル酢酸とのＫｎｏｅｖｅｎａｇｅｌ縮合（収率１５．４％）（Ｒ．Ｎｅｈｅｒ，Ｋ．Ｍｉｅｓｃｈｅｒ，Ｈｅｌｖｅｔｉｃａ  Ｃｈｉｍｉｃａ  Ａｃｔａ，２９，４５２，１９４６）や、メトキシフェニル酢酸とフタル酸無水物とのＳｔｏｂｂｅ縮合（収率７．５％）（Ｊ．Ｎ．Ｃｈａｔｔｅｒｊｅａ，Ｎ．Ｐｒａｓａｄ，Ｋ．Ｄ．Ｂａｎｅｒｊｉ，Ｊ．Ｉｎｄｉａｎ  Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，４１，９３，１９６４）により合成する方法等が知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、前述の合成方法はいずれも低収率で副生成物が多いなどという課題があり、このため、高収率でヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を製造することができる製造方法が求められていた。
そこで、本発明は、このような実状に鑑みなされたものであり、その目的は、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を高収率に製造することができるヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方法を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記課題を解決するために鋭意検討した結果、下記一般式（１）で表される化合物と特定のリン化合物とを反応させることにより、安定した高い収率でヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物が得られることを見いだし、本発明に到達したのである。
すなわち、本発明のヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物の製造方法は、下記一般式（１）で表される化合物と、下記一般式（５）又は（６）で表されるリン化合物とを反応させるものである。
Ｒ5−Ｏ−Ａｒ1−ＣＨＯ                       （１）
Ｒ2ＯＯＣ−Ａｒ2−ＣＨ2ＰＯ（ＯＲ3）2        （５）
Ｒ2ＯＯＣ−Ａｒ2−ＣＨ2ＰＲ3Ｘ               （６）
前記一般式（１）で表される化合物が、下記一般式（１１）で表されるヒドロキシル化合物を該ヒドロキシル基に由来するエーテル結合に生じさせるべく反応してなることが好ましい。
ＨＯ−Ａｒ1−ＣＨＯ                          （１１）
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明をさらに詳細に説明する。
本発明で使用される下記一般式（１）で表される化合物とは、一般式（５）又は（６）で表されるリン化合物と反応して一般式（１０）で表される化合物を製造するものである。
Ｒ５−Ｏ−Ａｒ１−ＣＨＯ  （１）
（１）式中、Ａｒ１は、下記一般式（２）〜（４）より表される基の中から選ばれる１つの基を示す。
【化７】
0003875365.tif 000002
【化８】
0003875365.tif 000003
【化９】
0003875365.tif 000004
（２）〜（４）式中、Ｒ１は、アルキル基、ビニル基、アリル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基又はカルボキシル基を示し、それらの混在の有無を問わない。Ｒ１がアルキル基、アルコキシ基の場合の炭素数は、１〜２０、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８である。具体的にアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、オクチル基などが、アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素などがそれぞれ好適なものとして挙げられる。
Ａｒ１が式（２）で表される化合物の場合におけるヒドロキシル基の置換位置は特に限定されないが、カルボアルデヒド基に対しｐ−位が望ましく、また、カルボアルデヒド基、ヒドロキシル基の置換位置は、Ａｒ１が式（３）で表される化合物の場合においては、１，４−位、１，５−位および２，６−位が望ましく、式（４）の場合においては４，４’−位が望ましい。
ｎ１，ｎ２，ｎ３，ｎ４は整数であってＲの置換数を表し、それぞれｎ１は０〜４、ｎ２は０〜６、ｎ３およびｎ４は０〜４であり、いずれにおいても好ましくは２または１または０、さらに好ましくは１または０である。置換位置として好ましくは、カルボアルデヒド基に隣接する位置、もしくは、ヒドロキシル基に隣接する位置であり、さらに好ましくはヒドロキシル基に隣接する位置である。
【０００６】
また（１）式中、Ｒ5は炭素数１〜２０の炭化水素基、炭素数１〜２０の含酸素炭化水素基又は炭素数１〜２０の含硫黄炭化水素基を示し、例えば炭素数１〜２０のアルキル基、アリル基、トリチル基、無置換もしくは炭素数１〜３のアルキル基またはアルコキシ基を置換基にもつベンジル基、炭素数１〜１０のアセタール基、炭素数１〜１０のチオアセタール基等が好ましい。Ｒ5の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチル基、テトラヒドロピラニル（ＴＨＰ）基、テトラヒドロ−２−チオピラニル基等が例示できる。これらの中で、炭素数１〜２０のアルキル基およびＴＨＰ基が好ましく、特にＴＨＰ基が好ましい。ただし、一般式（２）〜（４）におけるＲ1がアルコキシ基の場合および一般式（７）〜（９）におけるＲ4がアルコキシ基の場合にはＲ5としてアルキル基を使用することは好ましくない。
【０００７】
一般式（１）で表される化合物は、どのような原料物質を用いて製造してもよいが、例えば下記一般式（１１）で表されるヒドロキシル化合物等を用いて製造することが好ましい。
ＨＯ−Ａｒ1−ＣＨＯ                          （１１）
（１１）式中、Ａｒ1は、一般式（１）におけるＡｒ1と同じものを示す。
一般式（１１）で表される化合物としては、具体的に、サリチルアルデヒド、ｍ−ヒドロキシベンツアルデヒド、ｐ−ヒドロキシベンツアルデヒド、バニリン、ｏ−バニリン、イソバニリン、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンツアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−メトキシベンツアルデヒド、エチルバニリン、３−エトキシ−２−ヒドロキシベンツアルデヒド、シリンガアルデヒド、２−ヒドロキシ−ｐ−アニスアルデヒド、６−ヒドロキシ−ｍ−アニスアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−メチルベンツアルデヒド、４−ヒドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド、２−クロロ−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、５−ブロモサリチルアルデヒド、３，５−ジブロモサリチルアルデヒド、３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、４−ヒドロキシ−５−ヨード−３−メトキシベンツアルデヒド、５−ニトロバニリン、５−シアノバニリン、１−ヒドロキシ−２−ナフタアルデヒド、１−ヒドロキシ−４−ナフタアルデヒド、２−ヒドロキシ−１−ナフタアルデヒド、２−ヒドロキシ−６−ナフタアルデヒド、１−ヒドロキシ−５−ナフタアルデヒド、２−ヒドロキシ−５−ニトロ−ｍ−アニスアルデヒド、４−（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド、３−フェニル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、３−オキシフェニル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、３−クミル−４−ヒドロキシベンツアルデヒド、５−クロロサリチルアルデヒド、３，５−ジクロロサリチルアルデヒド、３，５，６−トリクロロ−２−ヒドロキシベンツアルデヒド等が例示できる。これらの中でも、ｐ−ヒドロキシベンツアルデヒド、バニリン、エチルバニリン、２−ヒドロキシ−６−ナフタアルデヒド、１−ヒドロキシ−４−ナフタアルデヒド、４−（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒドが特に好ましい。
一般式（１１）で表されるヒドロキシル化合物を該ヒドロキシル基に由来するエーテル結合を有する化合物（一般式（１）で表される化合物（エーテル化合物））に変換するが、このヒドロキシル化合物のエーテル化合物への変換の方法は特に限定されないが、通常の公知の方法で変換可能であるので、ここでは概略について述べる。ヒドロキシル化合物を、一般式（１１）で表される化合物においてＲ5がアルキル基、アリル基、ベンジル基、トリチル基、ｐ−メトキシベンジル基、メトキシメチル基をもつ化合物に変換する場合には、相当するハライド（臭化アルキル、臭化アリル、ベンジルクロリド等）とのＷｉｌｌｉａｍｓｏｎ反応や、該アルコール（アルコール、アリルアルコール、ベンジルアルコール）をトシル基やメシル基で活性化した後、置換反応によって変換することができる。Ｒ5をｔｅｒｔ−ブチル基とする場合には、イソブテンを硫酸やＢＦ3ＯＥｔ2を触媒としヒドロキシル基と反応させることで変換できる。なお、ＴＨＰ基とする場合には，３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピランを酸触媒、例えばピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート存在下で反応させることで変換することができる。同様にテトラヒドロ−２−チオピラニル基の場合も、２，３−ジヒドロ−４Ｈ−チインを酸触媒存在下ヒドロキシル基に付加させ合成することができる。
これら何れの反応条件も、通常ヒドロキシル化合物が変性しない温和な条件下で行うことが好ましい。具体的には、０〜１５０℃の範囲が好ましく、より好ましくは、０〜１００℃の範囲である。
【０００８】
本発明で使用されるリン化合物は下記一般式（５）および（６）で表される化合物である。
Ｒ２ＯＯＣ−Ａｒ２−ＣＨ２ＰＯ（ＯＲ３）２  （５）
Ｒ２ＯＯＣ−Ａｒ２−ＣＨ２ＰＲ３Ｘ          （６）
式（５）および（６）中、Ａｒ２は下記一般式（７）〜（９）より表される基の中から選ばれる１つの基を示す。
式（５）および（６）中、Ｒ２は、水素又は炭素数１〜２０のアルキル基を示し、炭素数は、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ブチル基が好ましい。また、Ｒ３はフェニル基又は炭素数１〜８のアルキル基を示し、炭素数は、好ましくは１〜４、さらに好ましくは１〜２である。アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、へキシル基、ヘプチル基、オクチル基、イソプロピル基、２−エチルヘキシル基などが好適なものとして挙げられる。
【化１０】
0003875365.tif 000005
【化１１】
0003875365.tif 000006
【化１２】
0003875365.tif 000007
式（７）〜（９）中、Ｒ４はアルキル基、ビニル基、アリル基、アルコキシ基、ハロゲン、ニトロ基、シアノ基、メトキシカルボニル基又はエトキシカルボニル基を示し、それらの混在の有無を問わない。Ｒ４がアルキル基、アルコキシ基の場合の炭素数は１〜２０、好ましくは１〜１２、さらに好ましくは１〜８である。具体的にアルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ペンチル基、オクチル基等が、アルコキシル基としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等が、ハロゲンとしては、フッ素、塩素、臭素等がそれぞれ好適なものとして挙げられる。
Ａｒ２が式（７）で表される化合物の場合のカルボニル基の置換位置は特に限定されないが、リンを含む基に対しｐ−位が望ましく、また、カルボニル基、リンを含む基の置換位置は、Ａｒ２が式（８）の場合、１，４−位、１，５−位および２，６−位が望ましく、Ａｒ２が式（９）の場合、４，４’−位が望ましい。
ｍ１，ｍ２，ｍ３およびｍ４は整数であってＲ４の置換数を表し、通常それぞれｍ１は０〜４以下、ｍ２は０〜６以下、ｍ３およびｍ４は０〜４であり、いずれにおいても好ましくは２または１または０であり、さらに好ましくは１または０である。置換位置として好ましくは、リンを含む基に隣接する位置、もしくは、カルボニル基に隣接する位置、さらに好ましくは、カルボニル基に隣接する位置である。
【０００９】
なお、前記リン化合物の製造方法は特に限定されないが、相当する下記一般式（１３）で表されるα−ハロゲン化メチル化合物から式（５）で表される化合物を製造する場合には、亜リン酸トリアルキルエステルを、式（６）で表される化合物を製造する場合にはトリアリール隣を公知の方法（例えば新実験化学講座１４（１），ｐ２２６，ｐ２３８，１９７７，丸善）で反応させて製造することができる。
Ｒ2ＯＯＣ−Ａｒ2−ＣＨ2Ｘ                    （１３）
（１３）式中、Ｒ2，Ａｒ2は一般式（５）および（６）におけるＲ2、Ａｒ2と同じものを示し、Ｘはハロゲンを示し、ハロゲンとしては塩素、臭素、ヨウ素が好ましいが、特に塩素、臭素が好ましい。
式（１２）で表されるα−ハロゲン化メチル化合物としては、４−（ブロモメチル）安息香酸、４−（クロロメチル）安息香酸、４−（ヨードメチル）安息香酸、４−（ブロモメチル）安息香酸メチル、４−（ブロモメチル）安息香酸エチル、４−（ブロモメチル）安息香酸プロピル、４−（ブロモメチル）安息香酸ブチル、４−（クロロメチル）安息香酸メチル、４−（クロロメチル）安息香酸エチル、４−（クロロメチル）安息香酸イソプロピル、４−（クロロメチル）安息香酸プロピル、４−（クロロメチル）安息香酸ブチル、２−メトキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸、２−メトキシ−４−（ヨードメチル）安息香酸、２−メトキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸メチル、２−メトキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸エチル、２−メトキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸プロピル、２−メトキシ−４−（ブロモメチル）安息香酸ブチル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸メチル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸エチル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸イソプロピル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸プロピル、２−メトキシ−４−（クロロメチル）安息香酸ブチル、２−メチル−４−（ブロモメチル）安息香酸、２−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸、２−メチル−４−（ヨードメチル）安息香酸、２−メチル−４−（ブロモメチル）安息香酸メチル、２−メチル−４−（ブロモメチル）安息香酸エチル、２−メチル−４−（ブロモメチル）安息香酸プロピル、２−メチル−４−（ブロモメチル）安息香酸ブチル、２−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸メチル、２−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸エチル、２−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸イソプロピル、２−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸プロピル、２−メチル−４−（クロロメチル）安息香酸ブチル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸、３−クロロ−４−（ヨードメチル）安息香酸、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸メチル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸エチル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸プロピル、３−クロロ−４−（ブロモメチル）安息香酸ブチル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸メチル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸エチル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸イソプロピル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸プロピル、３−クロロ−４−（クロロメチル）安息香酸ブチル、３−（ブロモメチル）安息香酸、３−（クロロメチル）安息香酸、３−（ヨードメチル）安息香酸、２−ブロモ−３−（ブロモメチル）安息香酸、２−クロロ−３−（クロロメチル）安息香酸、２−（ブロモメチル）安息香酸、２−（クロロメチル）安息香酸、２−（ヨードメチル）安息香酸、１−（ブロモメチル）−４−ナフタレンカルボン酸、１−（クロロメチル）−４−ナフタレンカルボン酸メチル、１−（ブロモメチル）−５−ナフタレンカルボン酸、１−（クロロメチル）−５−ナフタレンカルボン酸メチル、２−（ブロモメチル）−６−ナフタレンカルボン酸、２−（���ロロメチル）−６−ナフタレンカルボン酸メチル、４−（４’−（ブロモメチル）フェニル）安息香酸、４−（４’−（クロロメチル）フェニル）安息香酸メチル等が例示できる。これらの中でも、４−（ブロモメチル）安息香酸、４−（クロロメチル）安息香酸メチル、２−（ブロモメチル）−６−ナフタレンカルボン酸、２−（クロロメチル）−６−ナフタレンカルボン酸メチル、４−（４’−（ブロモメチル）フェニル）安息香酸、４−（４’−（クロロメチル）フェニル）安息香酸メチルが、特に好ましい。
また、亜リン酸トリアルキルエステルとして具体的には、亜リン酸トリエチル、亜リン酸トリヘキシル、亜リン酸トリイソデシル、亜リン酸トリイソプロピル、亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリオクタデシル、亜リン酸トリオクチル、亜リン酸トリ（２−エチルヘキシル）、亜リン酸トリブチル、また、トリアリール燐としてトリブチルホスフィン、トリフェニルホスフィン、トリス（２−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（３−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−メチルフェニル）ホスフィン、トリス（４−メトキシフェニル）ホスフィン、トリス（２，６−ジメトキシフェニル）ホスフィン等が使用できる。この中でも亜リン酸トリメチル、亜リン酸トリエチルが好ましく、亜リン酸トリエチルが最も好ましい。
【００１０】
本発明は前述の通り、一般式（１）で表される化合物とリン化合物とを反応させることにより、一般式（１０）で表される化合物が製造される。
一般式（１０）で表される化合物として、立体異性体であるシス体、トランス体が製造されるが、本発明の方法は特にトランス体を製造するのに好ましい。一般式（１０）において、Ａｒ1およびＡｒ2の組み合わせは特に限定されないが、Ａｒ2がベンゼン環をもつ組み合わせが好ましく、このうち、Ａｒ1がナフタレン環とベンゼン環をもつ組み合わせがさらに好ましく、Ａｒ1がベンゼン環をもつものが特に好ましい。実用上好ましい化合物の具体例としては、４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−エトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−アミロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−プロポキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−ブトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−４−スチルベンカルボン酸、４’−（ｐ−カルボキシフェニル）−３−メトキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−（ｐ−カルボキシフェニル）−３−エトキシ−４−ヒドロキシスチルベン、４’−（ｐ−カルボキシフェニル）−４−ヒドロキシスチルベン、２−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−１−（ｐ−カルボキシフェニル）エテニレン、２−（４−ヒドロキシフェニル）−１−（２−カルボキシ−６−ナフチル）エテニレン、２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−（２−カルボキシ−６−ナフチル）エテニレン、２−（４−ヒドロキシ−３−エトキシフェニル）−１−（２−カルボキシ−６−ナフチル）エテニレン等が例示できる。これらの中で、４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−エトキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−アミロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−プロポキシ−４−スチルベンカルボン酸、４’−ヒドロキシ−３’−ブトキシ−４−スチルベンカルボン酸が特に好ましい。
【００１１】
前記一般式（１）で表される化合物とリン化合物とを反応させる際は、通常塩基性触媒が用いられる。塩基性触媒としては特に限定されないが、ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、ｔｅｒｔ−ブチルカリウム、ｎ−ブチルリチウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、ピリジン、１，５−ジアザビシクロ［４．３．０］ノネン−５、フェニルリチウム、ナトリウムアミド、水素化ナトリウム等が挙げられる。これらの中でも、ナトリウムメトキシドまたは水素化ナトリウムが好ましく、特に水素化ナトリウムが好ましい。この触媒量はリン化合物１モルあたり通常０．１〜１０モル、好ましくは０．５〜５モル、さらに好ましくは０．７５〜３モル、最も好ましくは１．０〜２．０モルの範囲である。また、反応における一般式（１）で表される化合物とリン化合物のモル比は通常５対１、好ましくは３対１さらに好ましくは１対１である。
反応は通常、溶媒の存在下で行われる。反応溶媒としては、本発明の一般式（１）で表される化合物とリン化合物とを溶解でき、前述の塩基性触媒に不活性な溶媒であれば何れも使用可能である。具体的には、水、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、アセトニトリル、エーテル、ジオキサン、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ−メチルイミダゾール、ヘキサメチルホスフォリックトリアミド、テトラヒドロフラン、液体アンモニア、ピリジン、ベンゼン、トルエン、キシレン、ジメトキシエタン、セロソルブ等、及びこれらの混合物が使用可能である。これらの中でも、メタノールまたはジメチルホルムアミドが好ましく、特にジメチルホルムアミドが好ましい。反応条件は、通常、常圧下で温度−７０〜２００℃、好ましくは−３０〜１００℃、より好ましくは−２０〜５０℃、さらに好ましくは−１０〜３０℃の範囲で行われ、反応時間は０．１〜１００時間、好ましくは１〜５０時間、より好ましくは２〜１０時間、最も好ましくは３〜５時間の範囲で選ばれる。反応の形態としては、▲１▼前述した溶媒中でリン化合物を塩基性触媒で活性化した後、一般式（１）で表される化合物を添加、▲２▼一般式（１）で表される化合物とリン化合物の溶液に塩基触媒を添加、▲３▼溶媒に分散または溶解した塩基性触媒中に、一般式（１）で表される化合物とリン化合物を添加の何れでも差し支えないが、▲１▼が最も好ましい。
【００１２】
反応終了後は、反応混合物中に水、メタノール、エタノールなどの貧溶媒を添加してエーテル結合を持つ反応生成物を析出させる。これらの貧溶媒のうち、水が特に好ましい。一般式（２），（３）および（４）においてＲ1がカルボキシル基である場合および一般式（５）および（６）においてＲ2が水素である場合は、反応生成物がアルカリ塩となり水に可溶な場合が多いのでその際には、水に投入し溶解させた後、酸で中和もしくは酸析によって反応生成物を析出させる。析出した反応生成物は濾過などの方法により単離が可能である。
単離した反応生成物はエーテル結合を有しているので、次に適当な試薬を用いてエーテル結合をヒドロキシル基に変換し、一般式（１０）で表される目的とする化合物を得ることができる。ここではハロゲン化水素、スルホン酸、カルボン酸等の公知の試薬が使用できるが、試薬によってはスチルベンの二重結合と反応する場合があるので注意を要する。具体的には、一般式（１１）においてＲ5がアルキル、アリル、ベンジル、トリチル、ｐ−メトキシベンジル、ｔ−ブチルの場合には、トリフルオロ酢酸、塩化水素、臭化水素などが使用できる。メトキシメチル，ＴＨＰ、テトラヒドロ−２−チオピラニルなどの場合には、塩酸、希塩酸，ｐ−トルエンスルホン酸等が使用可能である。なお、反応の際の溶媒であるが単離された反応生成物が可溶な溶媒であれば何れも使用可能である。また、この際の反応温度、反応時間は基によって異なるが、高温、長時間では重合反応等の好ましくない副反応を生じるので、できるだけ低温、短時間になるよう基によって適宜選択する必要がある。通常は反応温度は０〜２００℃、反応時間は１０分〜５０時間であり、好ましくは反応温度が１０〜１５０℃、反応時間は１〜３０時間である。具体的には、Ｒ5がＴＨＰの場合は反応温度は１０〜５０℃、反応時間は１〜５時間、Ｒ5がベンジルの場合には反応温度１００〜１５０℃、反応時間は２０〜３０時間が好ましい。
なお、Ｒ5が、ＴＨＰ，メトキシメチル，テトラヒドロ−２−チオピラニルの場合には、反応生成物を単離せずに、反応直後の反応溶液に直接、前記の試薬を添加しヒドロキシル基に変換することも可能である。変換後、前記と同様に反応溶液に水などの貧溶媒を添加して目的とする化合物を析出させる。目的とする化合物の精製は、再結晶や蒸留などの公知の精製手段が利用できる。トランス体のシス体よりの分離方法は特に限定されないが、ジオキサン、酢酸等の溶媒より再結晶することにより行うことができる。再結晶溶媒としては、酢酸が最も好ましい。
【００１３】
【実施例】
以下、本発明を実施例によりさらに詳しく説明するが、本発明はこれら実施例によりなんら限定されるものではない。
【００１４】
（合成例１）
ジエチルホスフォネートメチル安息香酸の合成
４−（ブロモメチル）安息香酸（４９８ｇ，２．３２ｍｏｌ）、亜リン酸トリエチル（４６２ｇ，２．７８ｍｏｌ）およびトルエン（１０００ｍｌ）の混合物を還流条件下で１５時間反応させ、反応後冷却すると白色の結晶が析出した。結晶を濾別し、これをトルエンで洗浄後、乾燥し、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（ｍ．ｐ．１２４．７℃）４７４ｇ（収率７５％）を得た。
（合成例２）
ジエチルホスフォネートメチル安息香酸メチルの合成
４−（クロロメチル）安息香酸メチル（１１３ｇ，０．６１ｍｏｌ）および亜リン酸トリエチル（１２１ｇ，０．７３ｍｏｌ）の混合物を１４０℃から１８５℃まで２時間かけて徐々に加熱し、１８５℃で３時間反応を行った。反応後、減圧下で加熱し過剰量の亜リン酸トリエチルを留去し、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸メチル（ｏｉｌ）１７５ｇ（収率１００％）を得た。
（合成例３）
（４−カルボキシベンジル）トリフェニルホスホニウムブロミドの合成
４−（ブロモメチル）安息香酸４．３０ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）とトリフェニルホスフィン５．２５ｇ（２０．０ｍｍｏｌ）の無水アセトン（１５０ｍｌ）溶液を撹拌下７０℃で加熱した。はじめ透明な溶液は速やかにミルク状となり、ホスホニウム塩の無色結晶が析出してきた。析出後、氷水中で冷却してから吸引濾過し、無水エチルエーテルで洗浄した。母液を１／３に濃縮し、結晶化した生成物を分離し、（４−カルボキシベンジル）トリフェニルホスホニウムブロミドを８．５ｇ（収率８９％）得た。
（合成例４）
４−（ジエチルホスフォネートメチル）−１−ナフトエ酸の合成
４−メチル−１−ナフトエ酸（１８．６ｇ，０．１ｍｏｌ）、Ｎ−ブロモスクシンイミド（１７．８ｇ，０．１ｍｏｌ）、アゾビスイソブチロニトリル（８２ｍｇ，０．５ｍｏｌ％）および四塩化炭素（２００ｍｌ）の混合物を還流温度で一時間反応させ、析出した沈殿を四塩化炭素、メタノールで洗浄し減圧乾燥すると４−（ブロモメチル）−１−ナフトエ酸が１９．９ｇ得られた。続いて、４−（ブロモメチル）−１−ナフトエ酸（１９．９ｇ，７５ｍｍｏｌ）、亜リン酸トリエチル（２５．０ｇ，１５０ｍｍｏｌ）およびトルエン（１００ｍｌ）の混合物を還流温度で２４時間反応させ、析出した沈殿物をトルエンで洗浄して減圧乾燥し、４−（ジエチルホスフォネートメチル）−１−ナフトエ酸１７．２ｇ（７１％）を得た。
【００１５】
（実施例１）
４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
バニリン（１００ｇ，０．６６ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１１１ｇ，１．３１ｍｏｌ）、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（８．２６ｇ，０．０３３ｍｏｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）の混合物を１２時間室温下で撹拌した。この反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除去して油状のバニリン−ＴＨＰエーテル１３６ｇを得た。続いて、合成例１で得たジエチルホスフォネートメチル安息香酸（１３１ｇ，０．４８ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（５０ｇ，１．２５ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（１８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−ＴＨＰエーテル（１３６ｇ，０．５４ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（２０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１４３ｇ（収率９５％）を得た。
【００１６】
（実施例２）
４’−ヒドロキシ−３’−エトキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
エチルバニリン（１００ｇ，０．６０ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１０１ｇ，１．２０ｍｏｌ）、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（７．５６ｇ，０．０３０ｍｏｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）の混合物を１２時間室温下で撹拌した。反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除去してエチルバニリン−ＴＨＰエーテル（結晶状）１２８ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（１２３ｇ，０．４５ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（４７ｇ，１．１８ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（１７００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、エチルバニリン−ＴＨＰエーテル（１２８ｇ，０．５１ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（２０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−エトキシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１３９ｇ（収率９４％）を得た。
【００１７】
（実施例３）
４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２８ｇ，０．１ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（１０．７ｇ，０．２７ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（５００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−ベンジルエーテル（アルドリッチ市販品，２５ｇ，０．１ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（６０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水２０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し、メタノール洗浄、減圧乾燥を行い、白色の４’−ベンジルオキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸３７ｇを得た。続いて、このベンジル化合物（３７ｇ）を酢酸（３０００ｍｌ）と濃塩酸（４００ｍｌ）中で還流条件下５０時間反応させ、冷却、濾過、メタノール洗浄、減圧乾燥し、４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１９．２ｇ（収率７０％）を得た。
【００１８】
（実施例４）
４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸メチルの合成
合成例２で得たジエチルホスフォネートメチル安息香酸メチル（２８．６ｇ，０．１ｍｏｌ）、ナトリウムメトキシド（５．７ｇ，０．１１ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（８０ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−ＴＨＰエーテル（２５．１ｇ，０．１ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水５００ｍｌを加えた。沈殿物を濾過し乾燥してからアセトニトリル（３００ｍｌ）に投入し、２規定塩酸を６０ｍｌ加え、室温下で１時間ほど反応させた。次いで水１５００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過し、メタノール洗浄、減圧乾燥を行い、白色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸メチル（シス・トランス混合物）２９．１ｇ（８９％）を得た。シス体、トランス体の混合割合の確認のため、酢酸から再結晶を行い1Ｈ−ＮＭＲを測定したところ、混合物の６０％がトランス体であった。
【００１９】
（実施例５）
４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２７．４ｇ，０．１ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（１０．４ｇ，０．２６ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（３８０ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、４−ｎ−ヘプチルオキシベンツアルデヒド（関東化学市販品，２５ｇ，０．１１３ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（６０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水２０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し、メタノール洗浄、減圧乾燥を行い、白色の４’−ｎ−ヘプチルオキシ−４−スチルベンカルボン酸３２．３ｇを得た。さらにこのヘプチル化合物（３２．３ｇ）を酢酸（１６００ｍｌ）と４７％臭化水素酸（３００ｍｌ）中で還流条件下２０時間反応後、冷却、濾過、メタノール洗浄、減圧乾燥し、４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸１８．４ｇ（収率８１％）を得た。
【００２０】
（実施例６）
４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
４−ヒドロキシベンツアルデヒド（１００ｇ，０．８２ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１３８ｇ，１．６４ｍｏｌ）およびトルエン（５００ｍｌ）の混合物にピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（１０．３ｇ，０．０４１ｍｏｌ）を添加し４時間２０℃で撹拌した。反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除去して油状の４−ヒドロキシベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル１６８ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２０３ｇ，０．７５ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（７２ｇ，１．７９ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（３８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、４−ヒドロキシベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル（１６８ｇ，０．８２ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（５００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水６０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過し、白色の４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１７６ｇ（収率９８％）を得た。
【００２１】
（実施例７）
４’−ヒドロキシ−３’−アミロキシ−４−スチルベンカルボン酸合成
４−ヒドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド（１７１ｇ，０．８２ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１３８ｇ，１．６４ｍｏｌ）およびトルエン（７００ｍｌ）の混合物にピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（１０．３ｇ，０．０４１ｍｏｌ）を添加し、１２時間２０℃で撹拌した。反応溶液にトルエンを３００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除去して油状の４−ヒドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル２３７ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（２０３ｇ，０．７５ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（７２ｇ，１．７９ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（３８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、４−ヒドロキシ−３−アミロキシベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル（２３７ｇ，０．８２ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（５００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水６０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−アミロキシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）２４０ｇ（収率９８％）を得た。
【００２２】
（実施例８）
４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
合成例３で得た（４−カルボキシベンジル）トリフェニルホスホニウムブロミド（４．８ｇ，１０．０ｍｍｏｌ）、６０％ＮａＨ（１．０ｇ，２５ｍｍｏｌ）およびＤＭＦ（１００ｍｌ）の混合物を氷冷し３０分間撹拌した。バニリン−ＴＨＰエーテル２．５１ｇ（１０．０ｍｍｏｌ）のＤＭＦ（１０ｍｌ）溶液を投入し、室温下１０時間反応させた。水（５００ｍｌ）を添加し、析出したトリフェニルホスフィンオキシドを吸引濾過後、水で洗浄し、濾液に希塩酸をゆっくりと滴下し、ｐＨ３の酸性とすると白色の沈殿が析出した。沈殿物を濾過しある程度乾燥した後、ＴＨＦ（２００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２０ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水４００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、白色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）２．３ｇ（収率８５％）を得た。
【００２３】
（実施例９）
２−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−１−（ｐ−カルボキシフェニル）エテニレンの合成
６−ヒドロキシ−２−ナフタアルデヒド（１１４ｇ，０．６６ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１１１ｇ，１．３１ｍｏｌ）、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（８．２６ｇ，０．０３３ｍｏｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）の混合物を１２時間室温下で撹拌した。反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３回）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３回）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除去して、６−ヒドロキシ−２−ナフタアルデヒド−ＴＨＰエーテル１４９ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（１３１ｇ，０．４８ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（５０ｇ，１．２５ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（２８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、６−ヒドロキシ−２−ナフタアルデヒド−ＴＨＰエーテル（１３８ｇ，０．５４ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調整後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、２−（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）−１−（ｐ−カルボキシフェニル）エテニレン（トランス体）１３２ｇ（収率９５％）を得た。
【００２４】
（実施例１０）
４’−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−４−スチルベンカルボン酸の合成
４−（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド（１３１ｇ，０．６６ｍｏｌ）、３，４−ジヒドロ−２Ｈ−ピラン（１１１ｇ，１．３１ｍｏｌ）、ピリジニウム−ｐ−トルエンスルフォネート（８．２６ｇ，０．０３３ｍｏｌ）およびトルエン（４００ｍｌ）の混合物を１２時間室温下で撹拌した。反応溶液にトルエンを２００ｍｌ追加し、１０％水酸化ナトリウム水溶液で洗浄し（２００ｍｌ×３）、次いで飽和食塩水で洗浄し（１００ｍｌ×３）、無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥後、無水硫酸マグネシウムを濾別し、濾液中のトルエンをロータリーエバポレーターで除去して、４−（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル１６４ｇを得た。続いて、ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（１３１ｇ，０．４８ｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（５０ｇ，１．２５ｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（２８００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、４−（４’−ヒドロキシフェニル）ベンツアルデヒド−ＴＨＰエーテル（１５２ｇ，０．５４ｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３００ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水６０００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（３０００ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２００ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水４０００ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、４’−（ｐ−ヒドロキシフェニル）−４−スチルベンカルボン酸（トランス体）１４４ｇ（収率９５％）を得た。
【００２５】
（実施例１１）
２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−（４−カルボキシナフチル）エテニレンの合成
合成例４で得た４−（ジエチルホスフォネートメチル）−１−ナフトエ酸（１７．２ｇ，５３．３ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（５．６ｇ，１４０ｍｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（２００ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後氷冷し、バニリン−ＴＨＰエーテル（１５．１ｇ，６０ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（３０ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水７００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを４に調整した。調製後、沈殿物を濾過しある程度乾燥してからＴＨＦ（２３０ｍｌ）に投入し、６規定塩酸を２５ｍｌ加え、室温下で３時間ほど反応させた。次いで水４５０ｍｌを投入し氷冷後、沈殿物を濾過して乾燥し、２−（４−ヒドロキシ−３−メトキシフェニル）−１−（４−カルボキシナフチル）エテニレン１６．２ｇ（収率９５％）を得た。
【００２６】
（比較例１）
４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（６．５３ｇ，２４ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（３．０ｇ，１２５ｍｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（９０ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後、バニリン（４．１ｇ，２７ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（１５ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水３００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し乾燥した後、白色の４’−ヒドロキシ−３’−メトキシ−４−スチルベンカルボン酸が０．８７ｇ（収率１３．３％）得られた。
【００２７】
（比較例２）
４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメトキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（６．５３ｇ，２４ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（３．０ｇ，１２５ｍｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（９０ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後、シリンガアルデヒド（４．９ｇ，２７ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（１５ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水３００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し乾燥した後、白色の４’−ヒドロキシ−３’，５’−ジメトキシ−４−スチルベンカルボン酸が０．９７ｇ（収率１３．４％）得られた。
【００２８】
（比較例３）
４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸の合成
ジエチルホスフォネートメチル安息香酸（６．５３ｇ，２４ｍｍｏｌ）、６０％−ＮａＨ（３．０ｇ，１２５ｍｍｏｌ）およびジメチルホルムアミド（９０ｍｌ）の混合物を１時間ほど撹拌し、橙色の溶液となった後、４−ヒドロキシベンツアルデヒド（３．３ｇ，２７ｍｍｏｌ）のジメチルホルムアミド溶液（１５ｍｌ）を滴下した。室温下で４時間ほど撹拌した後、水３００ｍｌを加え、次いで濃塩酸でｐＨを１に調整した。調製後、沈殿物を濾過し乾燥した後、白色の４’−ヒドロキシ−４−スチルベンカルボン酸が０．８１ｇ（収率１４．０％）得られた。
【００２９】
このように、一般式（１）で表される化合物と特定のリン化合物とを反応させることにより、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を安定した高い収率で製造することができ、かつ、その製造を簡便に行うことができる。すなわち、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を製造するための原料を、従来の製造方法では入手し難いが、本発明では容易に入手することが可能である。また、反応温度は従来では２００℃付近であったが、本発明では室温付近である。さらに、収率が低いと、副生成物を分離するのに多大の能力が必要になる。
従って、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を簡便な方法で高収率に製造することができる。
【００３０】
【発明の効果】
以上要するに本発明によれば、ヒドロキシスチルベンカルボン酸類化合物を簡便な方法で高収率に製造することができる。