(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
弾性を有するヘラを先端に設けた洗浄部と、
洗浄部を回転駆動する駆動源と、
洗浄部が回転中心線の方向に移動可能な状態で駆動源の出力軸側と洗浄部との間を接続し、洗浄部を先端側に付勢する弾性部材を設けた付勢ジョイント部と、
洗浄部のヘラに当接した状態で試料皿を保持する皿保持部と、
皿保持部により保持した試料皿内に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備え、
洗浄液供給部から試料皿内に洗浄液を供給しながら洗浄部のヘラを試料皿の内表面に圧接した状態で回転させて、試料皿内表面に付着した試料を洗浄除去することを特徴とする試料皿洗浄機構。
【請求項２】
垂直方法に対して洗浄部の回転中心線を傾斜させ、試料皿を傾けた状態で洗浄して試料を洗浄液と共に試料皿内から流出させるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の試料皿洗浄機構。
【請求項３】
前記皿保持部は、試料皿の鍔部を載置する載置面を環状に形成し、載置面の内周縁に囲まれた穴内に試料皿の凹部を遊嵌し、上記載置面上に鍔部を載置して凹部を上記穴内に落とし込んで試料皿を保持可能な皿ホルダで構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の試料皿洗浄機構。
【請求項４】
前記皿ホルダの載置面の上面に滑べり止め材を設け、この滑べり止め材と試料皿の鍔部との摩擦力により試料皿の共回りを防止したことを特徴とする請求項３に記載の試料皿洗浄機構。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば下水処理場で汚泥濃度を測定した際に使用した試料皿（サンプル皿、あるいは測定皿ともいう。）を洗浄する試料皿洗浄機構に関する。
【０００２】
【従来の技術】
下水処理場等で汚泥濃度を測定する場合には、試料皿上に試料としての汚泥を採取し、これを加熱乾燥して乾燥前後の重量比から汚泥濃度を測定する。この測定に使用する試料皿には、一度使用したならば廃棄する使い捨てタイプと、洗浄して何度も繰り返し使用する再利用タイプとがある。使い捨てタイプの試料皿は、アルミニウム製が一般的であり、親水化処理が施されているので、採取した試料が皿全面に拡がって試料の厚さが均一になり易い。このため、繰り返し使用するタイプの試料皿に比較すると、乾燥時間を短縮し易い。一方、再利用タイプの試料皿は、表面にフッ素樹脂層を形成してあるので加熱乾燥した試料が簡単に剥離する反面、フッ素樹脂層の撥水性により試料が一箇所もしくは数カ所に集まり易い。このため、試料の厚さにばらつきが生じ易く、使い捨てタイプに比較すると、乾燥時間が長い。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
資源保護およびゴミ問題の観点からすれば、再利用タイプの試料皿を使用することが望ましいが、乾燥時間の短縮化が図れないので測定作業の能率を高めることが困難であり、また、加熱乾燥に多くのエネルギーを消費するので省エネを図り難い。そして、乾燥時間の短縮化を図るために親水化処理を施すと、加熱乾燥した後の試料が固形物となって試料皿にこびり付くため洗浄が容易ではない。そして、洗浄が不十分な試料皿を使用すると正確な測定が期待できない。
また、回転ブラシを使用してこびり付いた試料を強制的に洗浄することも考えられるが、ブラシで洗浄すると、剥離した試料がブラシに付着し、徐々に溜ってしまう。
【０００４】
そこで、本発明は、親水化処理を施した試料皿であってもこびり付いた試料を容易に洗浄除去することができ、除去した試料が溜ることのない試料皿洗浄機構を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記目的を達成するために提案されたもので、請求項１に記載のものは、弾性を有するヘラを先端に設けた洗浄部と、
洗浄部を回転駆動する駆動源と、
洗浄部が出力軸の軸方向に移動可能な状態で駆動源の出力軸と洗浄部との間を接続し、洗浄部を先端側に付勢する弾性部材を設けた付勢ジョイント部と、
洗浄部のヘラに当接した状態で試料皿を保持する皿保持部と、
皿保持部により保持した試料皿内に洗浄液を供給する洗浄液供給部と、
を備え、
洗浄液供給部から試料皿内に洗浄液を供給しながら洗浄部のヘラを試料皿の内表面に圧接した状態で回転させて、試料皿内表面に付着した試料を洗浄除去することを特徴とする試料皿洗浄機構である。
【０００６】
請求項２に記載のものは、垂直方法に対して駆動源の出力軸と洗浄部を傾斜させ、試料皿を傾けた状態で洗浄して試料を洗浄液と共に試料皿内から流出させるようにしたことを特徴とする請求項１に記載の試料皿洗浄機構である。
【０００７】
請求項３に記載のものは、前記皿保持部が、試料皿の鍔部を載置する載置面を環状に形成し、載置面の内周縁に囲まれた穴内に試料皿の凹部を遊嵌し、上記載置面上に鍔部を載置して凹部を上記穴内に落とし込んで試料皿を保持可能な皿ホルダで構成されていることを特徴とする請求項１または２に記載の試料皿洗浄機構である。
【０００８】
請求項４に記載のものは、前記皿ホルダの載置面の上面に滑べり止め材を設け、この滑べり止め材と試料皿の鍔部との摩擦力により試料皿の共回りを防止したことを特徴とする請求項３に記載の試料皿洗浄機構である。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は本発明に係わる試料皿洗浄機構１の概略構成を示す正面図、図２は試料皿洗浄機構１の一部欠截断面図、図３は洗浄部２の底面図である。
【００１０】
本実施形態における試料皿洗浄機構１は、下水処理場等で使用される汚泥濃度測定装置（図示せず）に組み込まれており、試料皿３上に試料を採取する試料採取ステージ、採取した試料を拡散する試料拡散ステージ、拡散した試料を加熱乾燥しながら重量を測定し、この測定により、乾燥前の重量と乾燥後の重量比を求めて水分量を算出する加熱乾燥ステージと続いた後の洗浄ステージに配置されている。前記試料皿３は、ステンレス板等の耐熱性板材を浅い円形皿状体にプレス成型して表面に、界面活性剤を主体とする親水性層を形成（親水化処理）したもので、図２に示すように、平らな円形底面４と外周縁部５との間に緩やかな傾斜面６を有し、汚泥濃度測定装置に設けられた搬送機構により隣り合うステージの間を順次移動する。なお、この試料皿３が移動するステージは、前記したステージに限らず、各ステージにおける処理を円滑におこなうために他のステージ、例えば洗浄した試料皿３を乾燥する洗浄皿乾燥ステージや、何等の処理も行わないが次のステージへの移動を円滑にするためのアイドルステージ等を適宜に設けてもよい。
【００１１】
試料皿洗浄機構１は、図１に示すように、弾性を有するヘラ１０を先端（下端）に設けた洗浄部２と、この洗浄部２を回転駆動する駆動源としてのモータ１１と、洗浄部２がその回転中心線の方向に移動可能な状態でモータ１１の出力軸１２と洗浄部２との間を接続するとともに洗浄部２を先端側に付勢する付勢ジョイント部１３と、試料皿３を保持する皿保持部１４と、洗浄液供給部７とを備えている。なお、モータ１１は垂直方向に対して下向き出力軸１２を７０°傾斜した状態で汚泥濃度測定装置の一部に固定し、このモータ１１により付勢ジョイント部１３や洗浄部２などが支えられている。
【００１２】
洗浄部２は、ゴム製ブレードを十字状に成形したヘラ１０と、このヘラ１０が取り付けられる円盤状のゴムヘラホルダ１５とから構成されており、ゴムヘラホルダ１５の中心を回転中心とし、ゴムヘラホルダ１５の上面には、付勢ジョイント部１３との接続に使用する雌ネジ孔１６が開設されている。
【００１３】
この洗浄部２のヘラ１０は、先端に向かって次第に肉厚を薄くしたエッジ１７を形成し、回転した時にエッジ１７が試料皿３の平らな底面４は勿論のこと緩やかに傾斜した傾斜面６にも摺動するように左右の端部を傾斜面６の傾斜角度と長さに応じて斜めに成形されている。なお、ヘラ１０は試料皿３に圧接すると変形するので、先端部分（エッジ１７）の回転軌跡が、外周縁部５を除いた試料皿３の内側表面の形状と同じか或は少し大きくなるように成形することが望ましい。なお、ヘラ１０は十字状に成形したものに限らず、先端の回転軌跡が試料皿３の内側表面の形状に対応した形状のものであればよい。
【００１４】
前記ヘラ１０をゴムヘラホルダ１５に取り付けるには、ゴムヘラホルダ１５の下面に接着剤により止着してもよいが、ヘラ１０の上面に雌ネジを開設しておき、ゴムヘラホルダ１５に開設した貫通止着孔内に上方から挿入した雄ネジを雌ネジに螺合することにより止着して、ヘラ１０だけを交換可能としてもよい（図示せず）。
【００１５】
付勢ジョイント部１３は、弾性部材としてのコイルスプリング２０と、上面から下面に貫通した貫通孔２１を隅部に複数開設するとともにコイルスプリング２０を収納する収納室２２を中心に形成した弾性部材ホルダ２３と、前記貫通孔２１内に挿通されて洗浄部２を軸方向に移動可能な状態で支持する支持ロッド２４とから構成されている。
【００１６】
弾性部材ホルダ２３は、肉厚な短尺円筒体の上面開口を閉塞した部材であり、上面の中心には、モータ１１の出力軸１２を嵌合する筒状の接続部２５を有する。したがって、図２に示すように、モータ１１の出力軸１２の先端部分を接続部２５内に嵌合し、接続部２５の側面に設けた固定ネジ２６を締め込むと、弾性部材ホルダ２３をモータ１１の出力軸１２に固定することができる。
【００１７】
支持ロッド２４は、軸部の長さが弾性部材ホルダ２３の上下長さよりも十分に長尺であり、この軸部の上端には貫通孔２１の内径よりも太いストッパとしての頭部２７を、下端部分には雄ネジ部２８をそれぞれ形成してある。したがって、この支持ロッド２４を弾性部材ホルダ２３の各貫通孔２１内に上方から挿入し、下方に突出した雄ネジ部２８を洗浄部２の上面の雌ネジ孔１６内に螺合すると、洗浄部２を回転中心線の方向に往復移動自在な状態で弾性部材ホルダ２３に接続することができる。
【００１８】
弾性部材ホルダ２３の収納室２２内に収納するコイルスプリング２０は、負荷を掛けない自然状態では収納室２２の深さよりも長尺である。したがって、このコイルスプリング２０を収納室２２内に収納してから洗浄部２を弾性部材ホルダ２３に取り付けると、コイルスプリング２０の下端が収納室２２の下面開口から突出し、この突出した部分が洗浄部２の上面に当接し、洗浄部２を先端側に付勢することができ、洗浄部２は支持ロッド２４の頭部２７が弾性部材ホルダ２３の上面に当接するまで下方に前進して停止する。したがって、弾性部材ホルダ２３の下面と洗浄部２の上面との間の隙間の寸法が、洗浄部２が回転中心線の方向に移動し得るストローク長さとなる。なお、モータ１１の出力軸１２、弾性部材ホルダ２３の中心、洗浄部２の中心、およびコイルスプリング２０の中心は同軸線上に位置し、この位置が回転中心となり、上記同軸線が回転中心線となる。
【００１９】
洗浄液供給部７は、洗浄液タンクとポンプから構成される洗浄液供給装置（図示せず）、あるいは上水道から圧送される洗浄液を先端のノズルから噴出するものであり、ノズルが洗浄部２の下方に向けて設置され、皿保持部１４により保持した試料皿３内に洗浄液を供給する。
【００２０】
皿保持部１４は、圧接したヘラ１０が回転しても試料皿３が共回りしないように試料皿３を保持するものであり、本実施形態では、コ字状の保持爪３０と、この保持爪３０を上下方向に傾動するエアシリンダやモータ１１等の駆動源（図示せず）と、駆動源の駆動力を保持爪３０に伝達するリンク機構等の伝達機構（図示せず）とから概略構成されている。
【００２１】
次に、試料皿洗浄機構１の動作を説明する。
加熱乾燥および重量測定が終了した試料皿３が加熱乾燥ステージから洗浄ステージに送られると、皿保持部１４の保持爪３０が試料皿３の外周縁部５を両側から挟み付け、この状態で斜め上方に傾動して試料皿３を洗浄部２のヘラ１０に当接して停止する。試料皿３がヘラ１０に当接すると、この時の当接力によりコイルスプリング２０が圧縮されて洗浄部２が少し斜めに上昇するとともに、圧縮したコイルスプリング２０の復元力によりヘラ１０が試料皿３の上面に圧接される。
【００２２】
この様にして、乾燥した試料が付着した試料皿３が洗浄部２のヘラ１０に圧接すると、次に、洗浄液供給部７のノズルから洗浄液が噴出して試料皿３内に供給されるとともに、モータ１１が始動して洗浄部２が回転し、これによりヘラ１０のエッジ１７が洗浄液で柔らかくなりつつある試料を剥離しながら摺動回転する。なお、洗浄部２の回転が速すぎると、供給した洗浄液が飛散してしまい、遅すぎると短時間で洗浄できないので、これらを勘案して回転数を、例えば、毎分２０回転に設定する。
【００２３】
この様な洗浄では、ヘラ１０がコイルスプリング２０の復元力により付勢されて試料皿３の底面４および傾斜面６に圧接しているので、試料皿３とヘラ１０との当接角度に多少誤差があったとしても、ヘラ１０の試料皿３表面に対する面圧が常に均一に保たれ、また、試料皿３の表面が多少変形してうねりがあったとしても、ヘラ１０自体の柔軟性により隙間なく安定した圧接状態を維持できる。したがって、試料皿３に付着した試料を平均して洗浄除去することができ、洗浄残しが生じ難い。このため、従来よりも短時間で確実に洗浄除去することができる。
【００２４】
また、面圧が均一となるので試料皿３の表面に親水性化処理しても、この親水性の層を傷つけ難い。このため、試料皿３を洗浄して繰り返し使用しても、試料の拡散性を維持することができる。
【００２５】
さらに、試料中に研磨材となる砂等があった場合でも、ヘラ１０の先端にエッジ１７が形成されて細くなっているので、ヘラ１０および試料皿３の摩耗を低減することができる。
【００２６】
そして、本実施形態では垂直方向に対して洗浄部２の回転中心線を７０°傾斜させ、試料皿３を傾けた状態で洗浄するので、傾斜下端側の傾斜面６が外方に向かって下り傾斜することとなる。したがって、剥離した試料を洗浄液と共に試料皿３内から自然に流出させることができる。この様に、洗浄部２の回転中心線の傾斜角度は、試料皿３内から洗浄液等が自然流出するに必要な角度であり、試料皿３の底面４から起立している部分の高さや傾斜角度に応じて設定する。
【００２７】
洗浄が終了したならば皿保持部１４の保持爪３０を斜め下方に戻り傾動して試料皿３を元の位置に戻して放す。なお、洗浄が終了した試料皿３は、この洗浄ステージにおいて、あるいは別途設けた洗浄皿乾燥ステージにおいて加熱乾燥するとともに冷却してからアイドルステージあるいは試料採取ステージに送ることが望ましい。
【００２８】
なお、前記した実施形態では、洗浄部２の回転中心線を垂直方向に対して７０°傾けた状態で設置したが、本発明はこれに限定されるものではなく、例えば洗浄部２の回転中心線を垂直に設置して動作させてもよい。
【００２９】
また、付勢ジョイント部１３は、洗浄部２が回転中心線の方向に移動可能な状態で駆動源側と洗浄部２との間を接続し、洗浄部２を先端側に向けて付勢することができればどのような構成でもよい。例えば、前記実施形態ではモータ１１の出力軸１２に直接付勢ジョイント部１３を接続したが、モータ１１の出力軸１２に接続した中間軸に付勢ジョイント部１３を接続してもよい。そして、付勢ジョイント部１３の弾性部材は、コイルスプリング２０に限定されるものではなく、例えば板バネ等でもよい。
【００３０】
また、皿保持部１４は、圧接したヘラ１０が回転しても試料皿３の共回りを防止して保持できればどのような構成でもよく、例えば、図４に示すリング状の皿ホルダ３１を使用してもよい。
【００３１】
皿ホルダ３１は、図４（ｂ）に示すように、試料皿３の鍔部３２を載せる載置面３３を環状に形成し、この載置面３３の外側に起立面３４を形成した断面略Ｌ字状の環状部材であり、起立面３４の内径を試料皿３の鍔部３２の外径よりも少し大きく設定し、載置面３３の内周縁に囲まれた穴３５の内径を試料皿３の凹部の最大外径よりも少し大きく設定し、上記穴３５内に試料皿３の凹部を落とし込んで底部３６が下方に突出した状態で保持できるように構成してある。
【００３２】
本実施形態では、図４（ｃ）に示すように、載置面３３上に、摩擦係数が大きな滑べり止め材としてシリコンゴム層４０を形成し、穴３５の開口縁から載置面３３の内周縁にかけて摩擦係数の小さな滑べり材として断面Ｌ字状のプラスチック層４１を形成し、このプラスチック層４１に試料皿３の凹部が接触して円滑に上下動できるように構成してある。なお、このプラスチック層４１の上面は、前記シリコンゴム層４０の表面よりも低くしてある。したがって、載置面３３に試料皿３の鍔部３２を載置した状態で、鍔部３２の下面がシリコンゴム層４０の表面に確実に接触する。このため、前記実施形態と同様に、洗浄部２のヘラ１０を試料皿３の内表面に圧接した状態で回転させて洗浄した際に、皿洗皿３の鍔部３２とシリコンゴム層４１との摩擦力によって試料皿３の共回りを防止することができる。
【００３３】
皿ホルダ３１にセットする試料皿３は、図５に示すように、ステンレス板等の耐熱性板材を浅い円形皿状体にプレス成型し、表面に界面活性剤を主体とする親水性層を形成（親水化処理）したもので、平らな底部３６の縁から緩やかな傾斜面６を起立し、傾斜面６の傾斜上端部分に垂直部４２を形成して鍔部３２の内周縁に連続させてあり、傾斜面６と垂直部４２とにより凹部が形成される。なお、垂直部４２の上下長さは、皿ホルダ３１のプラスチック層４１の上下寸法よりも少し長く設定する。
【００３４】
この様な構成からなる試料皿３を皿ホルダ３１の穴３５内にセットすると、図４（ｂ）に示すように、鍔部３２が皿ホルダ３１の載置面３３上に載って、底部３６が下方に突出した状態で支持されるので、この状態で皿ホルダ３１が所定量だけ下降すると、試料皿３の底部３６が、例えば加熱乾燥ステージに配置してある天秤機構の測定テーブル上に載ると、鍔部３２が載置面３３から離れ、試料皿３の重さが天秤機構の測定テーブルに作用して重量を測定できる。そして、この状態で皿ホルダ３１を上昇すると、鍔部３２が載置面３３に載って上昇し、底部３６が測定テーブルから離れる。この様に、皿ホルダ３１の穴３５と試料皿３の凹部とは相対的に上下動するが、穴３５の内周面に摩擦係数の小さなプラスチック層４１を添設してあるので、引っ掛かりを防止して円滑に試料皿３を天秤機構等に載せたり、持ち上げたりすることができる。
【００３５】
次に、試料皿３を傾ける機構を説明するが、その前に、試料皿３の搬送機構について簡単に説明する。この搬送機構は、図７から図９に示すように、汚泥濃度測定装置５０の軸受により上部と下部を支持した状態で回転駆動軸５１を縦方向に設け、この回転駆動軸５１の上部にパルスモータ５２を接続するとともに、回転駆動軸５１の回転位置を検出する位置検出機構５３を設け、回転駆動軸５１の途中に昇降基部５４を設け、先端に皿ホルダ３１を固定した２本の支持アーム５５の基端を昇降基部５４に取り付け、昇降基部５４の下方に、エアシリンダによって昇降基部５４を上下動する昇降機構を設け、図９に示すように、回転駆動軸５１の回転により皿ホルダ３１が描く軌跡上に、試料皿洗浄機構１を設けた皿洗浄ステージＳＴ１、ヒータ５６を設けた洗浄皿乾燥ステージＳＴ２、サンプル供給ノズル（図示せず）を設けたサンプル（試料）供給ステージＳＴ３、ターンテーブル５７を設けたサンプル拡散ステージＳＴ４、ヒータ５８と天秤機構５９を設けた加熱乾燥ステージＳＴ５を配置してある。なお、図中、符号５９′は、天秤機構５９の測定テーブルを示し、また、８は試料皿洗浄機構１を昇降する昇降アームを示す。
【００３６】
前記支持アーム５５は、その基端を、昇降基部５４に対して、長手方向の軸中心線を中心にして回動可能な状態で取り付けてある。また、基端に近い支持アーム５５の途中には、図１０に示すように、ストッパ６０の作用により一方向に自由に揺動して他方向に揺動しないワンウエイ係止片６１が下向きに軸着されており、皿洗浄ステージＳＴ１には、ワンウエイ係止片６１に係止する係止突起６２が下方から起立している。したがって、支持アーム５５が昇降基部５４と共に回転（図１０（ｂ）中、左側に移動）してワンウエイ係止片６１が係止突起６２に係止すると、ワンウエイ係止片６１が係止突起６２に引っ掛かって支持アーム５５の進行に伴って支持アーム５５がその軸中心線を中心にして回動し、これにより皿ホルダ３１が傾動する。そして、支持アーム５５が皿洗浄ステージＳＴ１で停止すると、皿ホルダ３１が十分な角度まで傾斜する。皿ホルダ３１が傾斜しても、試料皿３の凹部が皿ホルダ３１の穴３５内に嵌合しているので、皿ホルダ３１から外れて落下することはない。そして、皿ホルダ３１が水平方向に回動して皿洗浄ステージＳＴ１から外れると、支持アーム５５に接続したスプリング６３の付勢力により皿ホルダ３１が水平な状態に復帰する。
なお、この皿ホルダ３１で保持した試料皿を洗浄する手順等は前記した実施形態と同様である。
【００３７】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば以下の効果を奏する。
請求項１の発明によれば、付勢ジョイント部に設けた弾性部材の付勢力によりヘラを試料皿に圧接しながら回転するので、ヘラの試料皿表面に対する面圧が均一となり、これによりこびり付いた試料であっても全域に亘って平均して除去できる。
したがって、短時間で残すことなく確実に洗浄することできる。このため、試料皿を繰り返し使用することができ、繰り返し使用したことが測定値の誤差に影響を及ぼすこともない。さらに、親水化処理した試料皿でも繰り返し使用できるので、試料が拡散し易くなり、これにより測定作業の能率を高めることができる。そして、試料皿に対するヘラの面圧が均一となるので、試料皿内表面の親水性化処理された層を傷つけることがない。
また、ゴム製のヘラを使用しているので、ブラシのように洗浄除去した試料が付着して溜ることが無く、高い洗浄効率を長い間に亘って維持することができる。
【００３８】
請求項２の発明によれば、垂直方法に対して洗浄部の回転中心線を傾斜させ、試料皿を傾けた状態で洗浄するので、剥離した試料を洗浄液と共に試料皿内から流出させることができる。したがって、剥離した試料を試料皿内から外部に取り出す操作を別途行う必要がなく、洗浄効率を高めることができるし、剥離した試料が試料皿内に残ることもない。
【００３９】
請求項３の発明によれば、皿保持部が、試料皿の鍔部を載置する載置面を環状に形成し、載置面の内周縁に囲まれた穴内に試料皿の凹部を遊嵌し、上記載置面上に鍔部を載置して凹部を上記穴内に落とし込んで試料皿を保持可能な皿ホルダで構成されているので、皿ホルダを下降するだけで試料皿を、例えば天秤機構の測定テーブル上に降ろして全重量を測定テーブル上に作用させ、この状態で皿ホルダを上昇するだけで試料皿を持ち上げることができる。したがって、試料皿を複数のステージに順次搬送するための構造および動きの簡素化を図ることができる。
【００４０】
請求項４の発明によれば、前記皿ホルダの載置面の上面に滑べり止め材を設け、この滑べり止め材と試料皿の鍔部との摩擦力により試料皿の共回りを防止したので、ヘラにより皿の表面を押圧しながら洗浄しても、共回りを確実に防止でき、しかも構造が簡単なので、製造が容易である。
【図面の簡単な説明】
【図１】試料皿洗浄機構の側面図である。
【図２】試料皿洗浄機構の一部欠截断面図である。
【図３】洗浄部の底面図である。
【図４】（ａ）は皿ホルダの平面図、（ｂ）は皿ホルダの正面図、（ｃ）は皿ホルダの断面図である。
【図５】試料皿と洗浄部の断面図である。
【図６】皿ホルダにセットした試料皿と試料皿洗浄機構の側面図である。
【図７】汚泥濃度測定装置の要部を示す右側面図である。
【図８】汚泥濃度測定装置の要部を示す左側面図である。
【図９】汚泥濃度測定装置の各ステージの配置を示す平面図である。
【図１０】皿ホルダを傾動する機構を示す説明図であり、（ａ）は皿ホルダが水平状態を維持している状態を示す説明図、（ｂ）は皿ホルダが傾斜した状態を示す説明図である。
【符号の説明】
１  試料皿洗浄機構
２  洗浄部
３  試料皿
４  底面
５  外周縁部
６  傾斜面
７  洗浄液供給部
１０  ヘラ
１１  モータ
１２  モータの出力軸
１３  付勢ジョイント部
１４  皿保持部
１５  ゴムヘラホルダ
１６  雌ネジ孔
１７  エッジ
２０  コイルスプリング
２１  貫通孔
２２  収納室
２３  弾性部材ホルダ
２４  支持ロッド
２５  接続部
２６  固定ネジ
２７  頭部
２８  雄ネジ部
３０  保持爪
３１  皿ホルダ
３２  試料皿の鍔部
３３  皿ホルダの載置面
３４  皿ホルダの起立面
３５  皿ホルダの穴
３６  試料皿の底部
４０  シリコンゴム層
４１  プラスチック層
４２  試料皿の垂直部
５０  汚泥濃度測定装置
５１  回転駆動軸
５２  パルスモータ
５３  位置検出機構
５４  昇降基部
５５  支持アーム
５６  ヒータ
５７  ターンテーブル
５８  ヒータ
５９  天秤機構
６０  ストッパ
６１  ワンウエイ係止片
６２  係止突起
６３  スプリング
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0003874952.tif 000008
【図８】
0003874952.tif 000009
【図９】
0003874952.tif 000010
【図１０】
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