(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の搬出入口とガス導入口及び真空排気口を備えた真空圧と大気圧とに圧力が変化する仕込取出室内に昇降自在の基板テーブルを設け、該仕込取出室の室壁と該基板テーブルの周縁との間に間隔を設けた仕込取出室に於いて、
該仕込取出室の上方にガス吹き出し室を区画形成するガス吹き出し板を設け、該ガス吹き出し板の、上記基板テーブルの面と対向せず且つ上記間隔に対向した箇所に、通過するガスを整流する多数のガス吹き出し小孔を形成し、上記ガス導入口を上記ガス吹き出し室に開口させてガスを該吹き出し小孔から上記間隔へ吹き出させることを特徴とする仕込取出室。
【請求項２】
上記ガス吹き出し板を、ほぼ平坦な板で構成し、該板の板面を上記基板テーブルの上昇位置に於いて該基板テーブルの表面に接近させて設けたことを特徴とする請求項１に記載の仕込取出室。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多数の基板を一枚ずつ真空処理する枚葉式真空処理装置に設けられて基板を真空処理室内の真空圧を維持した状態で大気圧の外部との間で出し入れする仕込取出室に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、枚葉式真空処理装置では、基板に薄膜を形成したり、あるいは基板上の薄膜を微細加工する真空処理室に、基板を搬送する搬送ロボットを備えた搬送室を介して、基板を収容する仕込取出室を連設するのが通常である。
【０００３】
図５に示すように、従来の仕込取出室ａは、真空槽ｂと天板ｃから成る室壁で囲まれた気密の室内ｄを有し、該真空槽ｂの底部の中央に設けた真空排気口ｅに外部の真空ポンプ（図示せず）へ連なる真空排気管ｆが接続される。また、該天板ｃの中央には、外方へ膨らんだ凸状のカバーｇに囲まれたガス導入口ｈが設けられ、該カバーｇを貫通して先端が３本に分岐したガス導入管ｉが設けられる。該ガス導入管ｉの分岐先端にはフィルターｊが取り付けられる。
【０００４】
更に、該室内ｄには、外部の駆動源（図示せず）により昇降自在な支柱ｋが真空槽ｂの底部を介して挿入され、この支柱ｋの上端に基板テーブルｌが室壁と間隔ｍを存して昇降自在に取り付けられる。該基板テーブルｌは、図６に示したように、上段テーブルｎと下段テーブルｏの例えば２段として各段に基板ｐを載せるように構成される。各テーブルｎ、ｏの表面には、２本の凹溝ｑ、ｒが形成され、これに基板ｐを搬送する搬送ロボットの基板把持部が進入して各テーブル上からの基板ｐの積み下ろしが可能になる。
【０００５】
基板ｐは、真空槽ｂの一側と他側に設けた搬出入口ｓ、ｔから室内ｄに出し入れされ、一方の搬出入口ｓは仕切弁ｕを介して外部へつながり、他方の搬出入口ｔは仕切弁ｕを介して搬送ロボットを備えた搬送室ｘへつながる。該搬送室には図示してない真空処理室が接続して設けられる。  ｖはべローズ、ｗは該べローズ内へダストが落下するのを防止するスリーブである。
【０００６】
該仕切取出室ａ内へ未処理の基板ｐを搬入する場合、両仕切弁ｕを閉じた室内ｄへガス導入管ｉからガスを大気圧になるまで導入し、一方の搬出入口ｓの仕切弁ｕを開いて未処理の基板ｐを基板テーブルｌ上に載せ、該搬出入口ｓの仕切弁ｕを閉じ、真空排気管ｆから室内ｄを排気する。そして適当な真空圧になったとき、他方の搬出入口ｔの仕切弁ｕを開いて搬送室ｘから該室内ｄへ延び込む搬送ロボットにより該基板テーブルｌ上の基板ｐを取り上げ、これを真空処理室へと搬送し、そこで成膜等の処理を終えた該基板ｐを再び搬送ロボットが基板テーブルｌ上へ運ぶ。該処理の終えた基板ｐを該仕込取出室ａから外部へ搬出する場合、両仕切弁ｕを閉じた状態でガス導入管ｉからガスを大気圧まで導入し、搬出入口ｓの仕切弁ｕを開いて基板テーブルｌ上の基板ｐを外部へ搬出する。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
従来の仕込取出室は、基板ｐを外部へ搬出する際に大気が浸入するため、これに混入しているダストもその室内ｄに浸入して堆積し、該室内ｄを大気圧にするためガスを導入するときに、その気流により該室内ｄでダストが舞上げられ、それが基板ｐに付着するという不都合が生じた。基板ｐに付着したダストのために、真空処理室での処理に欠陥が生じ、例えば基板に形成された薄膜にピンホールを生じて不良品発生の原因となって好ましくない。
【０００８】
本発明は、基板にダストが付着することの少ない仕込取出室を提供することを目的とするものである。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明では、基板の搬出入口とガス導入口及び真空排気口を備えた真空圧と大気圧とに圧力が変化する仕込取出室内に昇降自在の基板テーブルを設け、該仕込取出室の室壁と該基板テーブルの周縁との間に間隔を設けた仕込取出室に於いて、該仕込取出室の上方にガス吹き出し室を区画形成するガス吹き出し板を設け、該ガス吹き出し板の、上記基板テーブルの面と対向せず且つ上記間隔に対向した箇所に、通過するガスを整流する多数のガス吹き出し小孔を形成し、上記ガス導入口を上記ガス吹き出し室に開口させてガスを該吹き出し小孔から上記間隔へ吹き出させることにより、上記の目的を達成するようにした。該ガス吹き出し板を、ほぼ平坦な板で構成し、その板面を上昇した基板テーブルの表面に接近させて設けることが好ましい。
【００１０】
【発明の実施の形態】
図１及び図２に於いて、符号１は枚葉式真空処理装置に設けた仕込取出室を示す。該仕込取出室１は真空槽２と天板３とで囲まれた気密の室内４を有し、該真空槽２の底部の中央には、図示してない真空ポンプに連なる真空排気管６が接続された真空排気口５が設けられ、該天板３の中央には、凸状のカバー７に囲まれてガス導入口８が設けられる。該ガス導入口８には、該カバー７を貫通して先端が３本に分岐したガス導入管９が設けられ、その各先端にはフィルター１０が取り付けられる。また、該真空槽２の周壁の対向した２カ所に、仕切弁１３、１３により開閉される基板Ａの搬出入口１１、１２を設けた。一方の搬出入口１１は該仕込取出室１の外部へ連なり、他方の搬出入口１２は搬送室１４へ連なる。該搬送室１４は更に図示してない真空処理室に連なり、該搬送室１４内に設備した図４に見られるような基板把持部１５を有する搬送ロボットが、該室内４から真空処理室へスパッタ等の真空処理を施すべくガラスやシリコンウエハ等の基板Ａを搬送し、処理の終えた基板Ａを該室内４へ戻す。
【００１１】
符号１６は、該室内４に昇降する支柱１７で支承されて昇降する基板テーブルを示し、該基板テーブル１６は、その周縁と真空槽２の周壁との間に間隔１８をを有し、該支柱１７は、図４に示すように該真空槽２の外部へべローズ１９及びダスト落下防止用のスリーブ２０に囲まれて延び、電動機２１により回転される送りねじ２２で昇降する昇降板２３上に固定され、該昇降板２３の昇降に伴い支柱１７及び基板テーブル１６が昇降する。該基板テーブル１６の具体的形状は図２に明示する如くであり、テーブル表面１６ａに搬送ロボットの２叉状の基板把持部１５の進入を可能にする２本の凹溝２４、２４が形成され、該基板テーブル１６の昇降と基板把持部１５の進退で該テーブル表面１６ａ上に基板Ａの積み下ろしが行われる。該基板テーブル１６は、支柱１７に上下の２段に設けられ、各テーブルに基板Ａを載置して能率良く処理できるようにした。
【００１２】
以上の構成は、従来の仕込取出室の構成とほぼ同様であり、基板Ａを室内４から外部へ搬出入口１１を介して出し入れするとき、ガス導入口８からガスを大気圧になるまで導入することも同様であるが、本発明では、上気したようなガス導入に伴い基板Ａにダストが付着する不都合を解決すべく、該仕込取出室１の上方にガス吹き出し板２５を設けてガス吹き出し室２６を区画形成したもので、これを詳述すると、次の通りである。
【００１３】
即ち、該ガス吹き出し板２５を、真空槽２の平面形状に合わせた角形平板状で基板テーブル１６の面と対向せず且つ該間隔１８に対向した箇所にのみガス吹き出し穴２７を多数形成した図３に示す如き形状のものとし、これを該基板テーブル１６の上昇を妨げない真空槽２の上方に該基板テーブル１６の表面と平行でこれに接近させて取り付け、該ガス吹き出し板２５と真空槽２及び天板３とでガス吹き出し室２６を区画形成してこれに該天板３のガス導入口８を開口させ、該ガス導入口８から該ガス吹き出し室２６内へ導入された空気等のガスは、該ガス吹き出し穴２７から整流されて該間隔１８へ吹き出し、該真空槽２内の圧力が大気圧にまで高まるときに気流の乱れがなくダストの舞い上がりが防止される。尚、上下の基板テーブル１６の間隔は、その下段のテーブルに載せられた基板Ａの表面の気流の乱れを少なくするために狭く設定される。基板テーブルの段数は任意である。
【００１４】
図示実施例に於いて、該仕切取出室１内の処理済みの基板Ａを外部へ搬出し、代わって未処理の基板Ａを搬入する場合、両仕切弁１３、１３を閉じた真空の室内４へガス導入管９からガスを大気圧になるまで導入し、このあと仕切弁１３を開いて基板Ａが出し入れされるが、この場合、該ガス導入管９から導入されたガスは、ガス吹き出し室２６内に均一に拡散したのち、ガス吹き出し板２５のガス吹き出し穴２７から整流されて吹き出される。このとき、ガス吹き出し板２６に基板テーブル１６の表面が接近するように該基板テーブル１６を上昇させておくと、該ガス吹き出し穴２７から整流されて吹き出したガスは、該基板テーブル１６の周縁と真空槽２の室壁との間の間隔１８に沿って下方へと流れるので、真空槽２内のダストの舞い上がりが少なくなり、またこの際にダストが撹拌されることがあっても、各基板テーブル１６の上方の隙間が狭いために、基板Ａ上にダストが付着しずらくなる。
【００１５】
【発明の効果】
以上のように本発明によるときは、昇降自在の基板テーブルを設けた仕込取出室の上方に、該基板テーブルの面と対向しない箇所にのみガス吹き出し穴を形成したガス吹き出し板を設けてガス吹き出し室を区画形成し、該ガス導入口を該ガス吹き出し室に開口させてガスを該吹き出し口から該間隔へ吹き出させるようにしたので、該仕込取出室を大気圧に上昇すべく導入したガスは、該ガス吹き出し室で均一に拡散した後ガス吹き出し穴から整流されて吹き出し、ダストの舞い上がりが防止されて基板にダストが付着しにくくなり、該基板テーブルを該ガス吹き出し板に接近させておくことでより一層ダストの付着を防げる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例の切断側面図
【図２】  図１の基板テーブルの要部の斜視図
【図３】  図１のガス吹き出し板の下面図
【図４】  図１の斜視図
【図５】  従来例の切断側面図
【図６】  図５の基板テーブルの要部の斜視図
【符号の説明】
１  仕込取出室            ４  室内                  ５  真空排気口
６  真空排気管            ８  ガス導入口          １１、１２  搬出入口
１３  仕切弁              １６  基板テーブル        １６ａ  テーブル表面
１８  間隔                ２５  ガス吹き出し板      ２６  ガス吹き出し室
２７  ガス吹き出し穴        Ａ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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