(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される含フッ素ビスエポキシ化合物に由来する構造単位と、下記一般式（２）で表わされる含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物に由来する構造単位とを含み、フッ素含量が１０〜８０ｍｏｌ％である含フッ素共重合体。
【化１】
0003887580.tif 000020
［式中、Ｐｈは、相互に独立であり、フッ素で置換された又は置換されていないフェニレン基であり、ｎは０又は１である］
【化２】
0003887580.tif 000021
［式中、Ｒ２は、ＮＲ３２（Ｒ３は、相互に独立であり、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）又はＯＲ４（Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）であり、Ｒ５は、相互に独立であり、フッ素で置換されたフェニル基である］
【請求項２】
数平均分子量が２，０００〜３００，０００である請求項１に記載の含フッ素共重合体。
【請求項３】
屈折率が１．４０〜１．６５である請求項１又は２に記載の含フッ素共重合体。
【請求項４】
さらに、架橋剤に由来する構造単位を含む請求項１〜３のいずれか一項に記載の含フッ素共重合体。
【請求項５】
下記一般式（１）で表される含フッ素ビスエポキシ化合物と、下記一般式（２）で表わされる含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物とを重付加反応させる請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素共重合体の製造方法。
【化３】
0003887580.tif 000022
［式中、Ｐｈは、相互に独立であり、フッ素で置換された又は置換されていないフェニレン基であり、ｎは０又は１である］
【化４】
0003887580.tif 000023
［式中、Ｒ２は、ＮＲ３２（Ｒ３は、相互に独立であり、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）又はＯＲ４（Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）であり、Ｒ５は、相互に独立であり、フッ素で置換されたフェニル基である］
【請求項６】
第４オニウム塩、第３アミン類及び第３ホスフィン類からなる群から選択される少なくとも一つの触媒の存在下に、重付加反応させる請求項５に記載の含フッ素共重合体の製造方法。
【請求項７】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の含フッ素共重合体を含む光学用樹脂。
【請求項８】
光伝送用ファイバのクラッド材料、光伝送用ファイバのコア材料、感光体材料、光学レンズ用材料、光導波路材料、光学フィルム用材料、コンパクトディスク用材料、及び光反射防止膜材料からなる群から選択される用途に用いられる請求項７に記載の光学用樹脂。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光伝送用ファイバ用材料等として好適な含フッ素共重合体、その製造方法、及びそのような含フッ素共重合体を用いた光学用樹脂に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、光伝送用ファイバのクラッド材料やコア材料等の光学用樹脂には、透明性、耐候性、成形性に優れ、バランスのとれた力学的特性を有するポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）が多用されている。しかし、ＰＭＭＡは、一般に吸湿性が高く、耐熱性に劣るという欠点や、一定距離以上の導光においては光伝達機能が低下するという欠点があった。
【０００３】
そこで、近年、ＰＭＭＡに代わる光学用樹脂として、耐熱性が高く、透明性、耐衝撃性、難燃性等に優れるポリカーボネート（ＰＣ）の使用が検討されている。しかし、ＰＣは、複屈折率が高いという大きな欠点があった。
【０００４】
このような欠点を解決する手段としては、ＰＣに対して、ＰＣと反対の固有複屈折率を有するスチレン系樹脂を共重合したり、スチレン系樹脂を添加したりすることが提案されている。しかし、ＰＣとスチレン系樹脂とを共重合等した場合、透明性の低下や、基材に対する密着力の低下等のさらなる問題が見られた。
【０００５】
一方、一般に低屈折率であって、耐熱性が高いことから、光学用樹脂としてフッ素系ビニル化合物が好適に使用されている。
このようなフッ素系ビニル化合物を用いた組成物が、例えば、特開昭６４−１４２２１号公報に開示されている。このフッ素系組成物は、フッ素系ビニルモノマ及びグリシジル基を有するアクリレートモノマからなる含フッ素共重合体に、カルボキシル基含有エチレン性不飽和モノマを反応させて得られる化合物と、粘度調整用アクリル系モノマと、光重合開始剤とを含んでいる。
しかし、上記の含フッ素共重合体は、基材に対する密着性が低いという問題や、複屈折性が大きいという問題があった。また、この共重合体は、ラジカル重合で製造されるため、分子量分布が広く、その結果、流動性が低く、光学特性がばらつくという問題があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
従って、従来使用され、又は検討されている光学用樹脂は、透明性、耐熱性、屈折率、複屈折性、分子量分布、流動性等の特性のバランスが十分にとれているとは言い難かった。
本発明は、耐熱性及び光学特性に優れた含フッ素共重合体、その製造方法、及びそのような含フッ素共重合体を用いた光学用樹脂を提供することを目的とする。
本発明者らは、特定の含フッ素ビスエポキシ化合物と、特定の含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物とを重付加反応させて得られる含フッ素共重合体が、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成させた。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の第一の態様によれば、下記一般式（１）で表される含フッ素ビスエポキシ化合物に由来する構造単位と、下記一般式（２）で表わされる含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物に由来する構造単位とを含む含フッ素共重合体が提供される。
【化５】
0003887580.tif 000002
［式中、Ｐｈは、相互に独立であり、フッ素で置換された又は置換されていないフェニレン基であり、ｎは０又は１である］
【化６】
0003887580.tif 000003
［式中、Ｒ２は、ＮＲ３２（Ｒ３は、相互に独立であり、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）又はＯＲ４（Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基又は又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）であり、Ｒ５は、相互に独立であり、フッ素で置換されたフェニル基である］
【０００８】
また、本発明の第二の態様によれば、上記一般式（１）で表される含フッ素ビスエポキシ化合物と、上記一般式（２）で表わされる含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物とを重付加反応させる含フッ素共重合体の製造方法が提供される。
【０００９】
本発明の第三の態様によれば、上記の含フッ素共重合体を含む光学用樹脂が提供される。
【００１０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
［含フッ素共重合体］
本発明の含フッ素共重合体は、下記一般式（１）で表される含フッ素ビスエポキシ化合物に由来する構造単位（以下、第１の構造単位という）と、下記一般式（２）で表わされる含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物に由来する構造単位（以下、第２の構造単位という）とを含む。
このような構造単位を含むことにより、光学特性及び耐熱性に優れた含フッ素共重合体を構成することができる。
【００１１】
【化７】
0003887580.tif 000004
【００１２】
［式中、Ｐｈは、相互に独立であり、フッ素で置換された又は置換されていないフェニレン基であり、ｎは０又は１である］
【００１３】
【化８】
0003887580.tif 000005
【００１４】
［式中、Ｒ２は、ＮＲ３２（Ｒ３は、相互に独立であり、炭素数１〜５のアルキル基又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）又はＯＲ４（Ｒ４は、炭素数１〜５のアルキル基又は又は炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基である）であり、Ｒ５は、相互に独立であり、フッ素で置換されたフェニル基である］
【００１５】
一般式（１）において、Ｐｈは、フルオロフェニレン基、ジフルオロフェニレン基、トリフルオロフェニレン基、テトラフルオロフェニレン基であり、好ましくは、ジフルオロフェニレン基、テトラフルオロフェニレン基である。
一般式（１）において、Ｒ１は、好ましくは、以下の基である。
【００１６】
【化９】
0003887580.tif 000006
【００１７】
一般式（２）において、Ｒ３及びＲ４の炭素数１〜５のアルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ネオペンチル基の直鎖又は分岐アルキル基が挙げられ、炭素数６〜１０のアルキルアリール基又はアリール基としては、例えば、フェニル基、アルキルフェニル基、ナフチル基等が挙げられる。
一般式（２）において、Ｒ３は、好ましくは、炭素数１〜５のアルキル基又はフェニル基であり、さらに好ましくは、メチル基又はフェニル基である。
一般式（２）において、Ｒ４は、好ましくは、炭素数１〜５のアルキル基であり、さらに好ましくは、エチル基、メチル基であり、特に好ましくは、エチル基である。
一般式（２）において、Ｒ２は、好ましくは、ジフェニルアミノ基、メチルフェニルアミノ基、ジメチルアミノ基、エトキシ基である。
一般式（２）において、Ｒ５としては、例えば、フルオロフェニル基、ジフルオロフェニル基、トリフルオロフェニル基、テトラフルオロフェニル基、ペンタフルオロフェニル基が挙げられる。このうち、好ましくは、ペンタフルオロフェニル基である。
【００１８】
第１の構造単位の含有量は特に制限されないが、通常、含フッ素共重合体の全体量に対して、１０〜８０ｍｏｌ％とするのが好ましい。この含有量が１０ｍｏｌ％未満になると、共重合体の透明性や耐熱性が低下する場合や、共重合体の屈折率や複屈折率が大きくなる場合がある。一方、８０ｍｏｌ％を超えると、共重合体のガラス転移温度や機械的強度が低下する場合がある。第１の構造単位の含有量は、より好ましくは２０〜７０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％である。
【００１９】
第２の構造単位の含有量は特に制限されないが、含フッ素共重合体の全体量に対して、１０〜８０ｍｏｌ％とするのが好ましい。この含有量が１０ｍｏｌ％未満になると、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物の添加効果が発現しない場合がある。一方、８０ｍｏｌ％を超えると、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物の未反応量が過度に多くなり、共重合体の耐熱性が低下する場合がある。第２の構造単位の含有量は、より好ましくは２０〜７０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％である。
【００２０】
本発明の含フッ素共重合体は、含フッ素ビスエポキシ化合物及び含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物以外の他の化合物に由来する構造単位（以下、第３の構造単位という）を含むことができる。他の化合物としては、例えば、２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパンジグリシジルエーテル（ＢＦＡＧＥ）、３,３′,５,５′−テトラメチルビフェニル−４,４′−ジグリシジルエーテル（ＴＭＢＧＥ）、１,４−ブタンジオールジグリシジルエーテル（ＢＧＧＥ）、ビフェニル−４,４′−ジグリシジルエーテル（ＢＧＥ）等のエポキシ化合物；２,２,３,３,４,４−ヘキサフルオロ−１,５−ペンタンジオール、２,２,３,３,４,４,５,５−オクタフルオロ−１,６−ヘキサンジオール、１Ｈ,１Ｈ,８Ｈ,８Ｈ−ドデカフルオロ−１,８−オクタンジオール、１Ｈ,１Ｈ,９Ｈ,９Ｈ−パーフルオロ−１,９−ノナンジオール、１Ｈ,１Ｈ,１０Ｈ,１０Ｈ−パーフルオロ−１,１０−デカンジオール、１Ｈ,１Ｈ,１２Ｈ,１２Ｈ−パーフルオロ−１,１２−ドデカンジオール、テトラフルオロベンゼン−１,３−ジオール、テトラフルオロベンゼン−１,４−ジオール等の多価アルコール；テトラフルオロサクシン酸、ドデカフルオロスベリン酸、パーフルオロアゼライン酸、パーフルオロセバシン酸、パーフルオロ−１,１０−デカンジカルボン酸、テトラフルオロイソフタル酸、テトラフルオロフタル酸、２,２−ビス（４−カルボキシフェニル）ヘキサフルオロプロパン、４−トリフルオロメチルフタル酸等の多価カルボン酸の一種又は二種以上の組み合わせが挙げられる。
【００２１】
第３の構造単位の含有量は特に制限されないが、例えば、含フッ素共重合体の全体量に対して、０．１〜５０ｍｏｌ％とするのが好ましい。この含有量が０．１ｍｏｌ％未満になると、添加効果が発現しない場合がある。一方、５０ｍｏｌ％を超えると、共重合体の耐熱性や複屈折性が低下する場合がある。第３の構造単位の含有量は、より好ましくは１〜３０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは１０〜２０ｍｏｌ％である。
【００２２】
さらに、本発明の含フッ素共重合体では、重合時、又は重合後に、架橋剤を添加してもよい。架橋剤を添加することにより、共重合体の耐熱性や基材との密着力、あるいは、共重合体の重合時の反応性等を適度に調節することができる。
架橋剤の中では、含フッ素エステル系硬化剤を使用することが好ましく、具体的に、下記式（３）で表される１，３，５−トリス（２，４−ジフルオロベンゾイルオキシ）ベンゼン又は式（４）で表されるベンゼン−１，３，５−トリカルボン酸トリス−（２，４−ジフルオロフェニル）エステル等の含フッ素エステル系硬化剤を使用することが好ましい。このような硬化剤であれば、共重合体のフッ素含量が容易に調節できる。また、共重合体の透明性を損なうことが少なくなる。
【００２３】
【化１０】
0003887580.tif 000007
【００２４】
【化１１】
0003887580.tif 000008
【００２５】
架橋剤の使用量は特に制限されないが、例えば、含フッ素共重合体１００重量部に対し、好ましくは０．１〜２０重量部とする。この使用量が０．１重量部未満になると、添加効果が発現しない場合がある。一方、２０重量部を超えると、反応の制御が困難になる場合がある。架橋剤の使用量は、より好ましくは０．５〜１５重量部であり、さらに好ましくは１〜１０重量部である。
【００２６】
含フッ素共重合体の数平均分子量（Ｍｎ）は、好ましくは２，０００〜３００，０００である。数平均分子量が２，０００未満になると、共重合体の基材に対する密着性や耐熱性が低下する場合がある。一方、３００，０００を超えると、反応時間が過度に長くなる場合や、反応率が低下する場合がある。数平均分子量は、より好ましくは３，０００〜１００，０００であり、さらに好ましくは５，０００〜５０，０００である。
また、含フッ素共重合体の分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）は、１〜４が好ましく、１〜３がより好ましく、１〜２がさらに好ましい。
【００２７】
含フッ素共重合体のフッ素含量は、好ましくは１０〜８０ｍｏｌ％である。フッ素含量が１０ｍｏｌ％未満になると、共重合体の複屈折性や耐熱性が低下する場合がある。一方、８０ｍｏｌ％を超えると、共重合体の機械的強度や透明性が低下する場合がある。フッ素含量は、より好ましくは２０〜７０ｍｏｌ％であり、さらに好ましくは３０〜６０ｍｏｌ％である。
【００２８】
含フッ素共重合体の屈折率（ｎＤ、２５℃測定）は、好ましくは１．４０〜１．６５である。屈折率が１．４０未満になると、共重合体の透明性や耐熱性が低下する場合や、使用可能な原料モノマの種類が過度に制限される場合がある。一方、１．６５を超えると、複屈折性や光損失が過度に大きくなる場合がある。屈折率は、より好ましくは１．４５〜１．６０であり、さらに好ましくは１．４７〜１．５５である。
【００２９】
含フッ素共重合体のガラス転移温度は、好ましくは３０〜１５０℃である。この温度が３０℃未満になると、共重合体の耐熱性が低下する場合がある。一方、１５０℃を超えると、反応時間が過度に長くなる場合や、重合効率が低下する場合がある。ガラス転移温度は、より好ましくは５０〜１４０℃であり、さらに好ましくは８０〜１３０℃である。
【００３０】
含フッ素共重合体の５％重量熱分解温度（Ｔｇ５）は、好ましくは１８０〜４５０℃である。この温度が１８０℃未満になると、共重合体の耐熱性が低下する場合がある。一方、４５０℃を超えると、反応時間が過度に長くなる場合や、使用可能なモノマ種が過度に制限される場合がある。５％重量熱分解温度は、より好ましくは２００〜４００℃であり、さらに好ましくは２５０〜３８０℃である。
【００３１】
尚、本発明の含フッ素共重合体には、本発明の目的を逸脱しない範囲で、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料、金属粒子、ドーパント、反応性希釈剤、熱硬化剤、光硬化剤、各種オリゴマー、ポリマー等の一種単独又は二種以上の組み合わせを添加することができる。
【００３２】
［含フッ素共重合体の製造方法］
本発明では、上記一般式（１）で表される含フッ素ビスエポキシ化合物と、上記一般式（２）で表わされる含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物とを重付加反応させて含フッ素共重合体を製造する。
以下、反応条件等について説明するが、得られる含フッ素共重合体については、上記の内容と同様であるため、ここでの説明は省略する。
【００３３】
含フッ素ビスエポキシ化合物と、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物との反応割合は、好ましくは１：１０〜１０：１（ｍｏｌ比）である。反応割合がこれらの範囲外では、未反応の原料モノマが多く残留する場合や、共重合体の反応性や耐熱性が低下する場合がある。反応割合は、より好ましくは３：７〜７：３であり、さらに好ましくは４：６〜６：４である。
【００３４】
含フッ素ビスエポキシ化合物と、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物との反応温度は特に制限されないが、例えば、４０〜１５０℃が好ましい。反応温度が４０℃未満になると、反応性が著しく低下する場合がある。一方、１５０℃を超えると、反応を制御したり、重合に使用する溶剤種が過度に制限される場合がある。反応温度は、より好ましくは５０〜１２０℃であり、さらに好ましくは６０〜９０℃である。
【００３５】
含フッ素ビスエポキシ化合物と、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物との反応時間は特に制限されないが、例えば、１〜１２０時間が好ましい。反応時間が１時間未満になると、反応性が著しく低下する場合があり、一方、１２０時間を超えると、これらの反応を制御することが困難となる場合や、経済的に不利となる場合がある。反応時間は、より好ましくは６〜７２時間であり、さらに好ましくは１２〜４８時間である。
尚、図１に、実施例１の反応における、原料モノマの反応時間（ｈ）と、数平均分子量（Ｍｎ）及び共重合体の収率（％）との関係の一例を示す。●は反応時間（ｈ）と数平均分子量（Ｍｎ）の関係を、■は反応時間（ｈ）と収率（％）の関係を示す。この図から、実施例１では、収率及び分子量が反応時間とともに増加する傾向が見られ、２４時間程度に、これらのピークがあることが理解される。
ただし、含フッ素ビスエポキシ化合物、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物及び溶剤の種類等が変わると、反応率及び数平均分子量のピークが得られる反応時間も変化する場合もある。
【００３６】
含フッ素ビスエポキシ化合物と、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物とを重付加反応させる際には、触媒を使用することが好ましい。
このような触媒としては、第４オニウム塩、第３アミン類及び第３ホスフィン類からなる群から選択される少なくとも一つの触媒が挙げられる。より具体的には、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）、テトラブチルアンモニウムクロリド（ＴＢＡＣ）、テトラブチルホスホニウムブロミド（ＴＢＰＢ）、テトラブチルホスホニウムクロリド（ＴＢＰＣ）、テトラブチルアンモニウムヨージド（ＴＢＡＩ）、テトラフェニルホスホニウムブロミド（ＴＰＰＢ）、テトラフェニルホスホニウムクロリド（ＴＰＰＣ）、テトラフェニルホスホニウムヨージド（ＴＰＰＩ）等の第４オニウム塩；トリフェニルホスフィン（ＴＰＰ）等の第３ホスフィン類；４−（Ｎ、Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジン（ＤＭＡＰ）、及び１，８−ジアザビシクロー［５，４，０］−ウンデセンー７（ＤＢＵ）等の第３アミン類の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。このうち、第４オニウム塩が好ましく、中でも、対アニオンにＣｌ−を有するＴＰＰＣ，ＴＢＰＣ，ＴＢＡＣ等が、高分子量の共重合体が得られるのでより好ましい。
【００３７】
触媒の添加量は特に制限されないが、例えば、含フッ素ビスエポキシ化合物と、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物との合計量１００重量部に対して、好ましくは０．０１〜３０重量部添加する。添加量が０．０１重量部未満になると、反応性が著しく低下する場合があり、一方、３０重量部を超えると、反応の制御や反応終了後の精製操作が困難になる場合がある。触媒の添加量は、より好ましくは０．０５〜２０重量部であり、さらに好ましくは０．１〜１０重量部である。
【００３８】
含フッ素ビスエポキシ化合物と、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物とは、溶剤中で重付加反応させることが好ましい。溶剤中で重付加反応させることにより、原料モノマ同士が均一に反応し、共重合体の分子量分布が狭くなる。
好ましい溶剤の種類としては、ジオキサン、トルエン、ジグライム、ｏ−ジクロロベンゼン、クロロベンゼン、アニソール、ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルピロリドン、テトラヒドロフラン、酢酸エチル、Ｎ,Ｎ′−ジメチルアセトアミド、メチルエチルケトン、クロロホルム、ジクロロメタン、酢酸アミル、アセトニトリル、ニトロベンゼン、及びシアノベンゼン等の一種単独又は二種以上の組み合わせが挙げられる。これらのうち、クロロベンゼン、トルエン、ｏ−ジクロロベンゼン等の芳香族系溶媒が、含フッ素共重合体の反応率が向上する（高分子量のポリマーが得られる）ためより好ましい。特に、クロロベンゼンが好ましい。
【００３９】
溶剤の使用量は特に制限されないが、例えば、原料モノマ１００重量部に対して、好ましくは１０〜１，０００重量部使用する。使用量が１０重量部未満になると、反応性が著しく低下し、不要な重合体が副成する場合がある。一方、１，０００重量部を超えると、反応の制御や反応終了後の精製操作が困難になる場合がある。溶剤の使用量は、より好ましくは５０〜８００重量部であり、さらに好ましくは１００〜５００重量部である。
【００４０】
［光学用樹脂］
本発明の光学用樹脂は、上記の含フッ素共重合体を含んでなる。
また、本発明の光学用樹脂には、本発明の目的を逸脱しない範囲で、酸化防止剤、紫外線吸収剤、可塑剤、界面活性剤、帯電防止剤、シランカップリング剤、無機充填剤、顔料、染料、金属粒子、ドーパント、反応性希釈剤、熱硬化剤、光硬化剤、各種オリゴマー、ポリマー等の一種単独又は二種以上の組み合わせを添加することができる。
本発明の光学用樹脂は、屈折率が低い等光学特性に優れ、さらに耐熱性が高いので、例えば、光伝送用ファイバのクラッド材料やコア材料、感光体材料、光学レンズ用材料、光導波路用材料、光学フィルム用材料、コンパクトディスク用材料、光反射防止膜用材料、電気・電子部品の封止材料等の光学用途に使用できる。
【００４１】
例えば、本発明の光学用樹脂は、図２に示す光伝送用ファイバに用いることができる。本発明の光学用樹脂は光伝送用ファイバ１０のクラッド層１２、１４に使用されており、この場合、伝送時の光損失を小さくするため、光学用樹脂の屈折率（ｎＤ）を１．５０以下とすることが好ましい。そのため、光学用樹脂を構成する際に、フッ素含量を比較的多くすることが好ましい。
尚、図２では、フレール１６を設けて接続した光伝送用ファイバ１０を例示しているが、各種構成の変更は適宜可能である。
【００４２】
また、本発明の光学用樹脂は、図３に示す光導波路に用いることもできる。本発明の光学用樹脂は、光導波路２０のクラッド層２２に使用されており、波長１，３００〜１，６００ｎｍの光（矢印Ａ及びＢ）を使用した場合、光学用樹脂の屈折率を１．４００〜１．６４８とすることが好ましい。そして、光導波路２０における光損失を０．１ｄＢ／ｃｍ以下とするために、クラッド層２２の屈折率を、コア部分２４の屈折率よりも０．００２〜０．５小さくすることがより好ましい。
尚、図３では、光スイッチとしての光導波路２０を例示しているが、各種構成の変更は適宜可能である。
【００４３】
本発明の光学用樹脂の形態は特に制限されないが、基材や光伝送用ファイバのコア上に均一に製膜できるように、液状とすることが好ましい。液状の光学用樹脂の場合には、その粘度を、有機溶剤や粘度調整剤（共重合性モノマを含む。）を添加して、例えば、１０〜１００，０００ｍＰａ・ｓ（測定温度２５℃）に調整することが好ましい。有機溶媒や粘度調整剤としては、例えば、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等の環状エーテル類；Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド等のアミド類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、塩化メチレン等のハロゲン化炭化水素が挙げられる。
【００４４】
液状の光学用樹脂の場合には、基材や光伝送用ファイバのコア上に均一に製膜できるように、塗布して使用することが好ましい。塗布方法としては、ディッピング法、ロールコート法、スピンコート法、グラビアコート法等を採用することが好ましい。
【００４５】
また、光学用樹脂に熱硬化成分や光硬化成分を添加しておき、光学用樹脂を塗布した後、加熱又は光照射することが好ましい。このように熱硬化及び光硬化させることにより、基材に対する密着力や耐熱性を著しく向上させることができる。
そのため、例えば、加熱条件を、５０〜１２０℃、１〜１８０分にすることが好ましい。また、光照射条件については、１００〜１０００ｍＪ／ｃｍ２にすることが好ましい。
【００４６】
【実施例】
以下、本発明の実施例を説明するが、本発明の範囲はこれら実施例の記載に限定されない。
尚、含フッ素ビスエポキシ化合物（製造例１〜５）、含フッ素トリアジンジアリールエーテル化合物（製造例６〜９）及び含フッ素共重合体（実施例１〜１７）のＩＲスペクトル、ＮＭＲスペクトル、分子量及び融点の測定に用いた機器は以下の通りである。
【００４７】
（１）ＩＲスペクトル
赤外分光光度計（日本分光（株）製、ＦＴ/ＩＲ４２０）を用いた。
（２）ＮＭＲスペクトル
核磁気共鳴装置（日本電子（株）社製、ＪＭＮ−α−５００）を用いた。
（３）数平均分子量（Ｍｎ）、重量平均分子量（Ｍｗ）及び分子量分布（Ｍｗ／Ｍｎ）
ゲル浸透クロマトグラフィー（ＧＰＣ）（東ソー（株）製、ＨＬＣ−８０２０システム、カラム：ＴＳＫ ｇｅｌ Ｇ１０００）を用い、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を展開溶媒とした。
（４）融点
柳本製作所（株）製、Ｙａｎａｋｏ ＭＰ−５００Ｄを用いた。
【００４８】
製造例１
２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンジグリシジルエーテル（ＢＰＡＦＧＥ）の合成
３００ｍＬ三つ口ナスフラスコに、ビスフェノールＡＦ２０．１７ｇ（６０ｍｍｏｌ）及び炭酸セシウム４６．９２ｇ（１４４ｍｍｏｌ）を量り取り、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）１８０ｍｌに溶かし、５０℃で３時間攪拌を行った。その後、エピブロモヒドリン１９．７２ｇ（１４４ｍｍｏｌ）を攪拌中に滴下させ、４８時間反応を行った。反応終了後、塩をろ過し、ろ液を酢酸エチルで希釈後、蒸留水で３回洗浄し、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤をろ別し、酢酸エチルを減圧留去し、ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝１：１の展開溶媒を用い、シリカゲルカラムクロマトグラフィー（Ｒｆ＝０．６７）で単離を行い、減圧乾燥後、粉末状の白色固体２３．０８ｇを８６％の収率で得た。この白色固体の融点は７２〜７３℃であった。
【００４９】
この白色固体がＢＰＡＦＧＥであることを、ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、13Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：１６１１，１５１５，１２９８，１０３３，１２５４，１２０６，１１７４，９２８
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．７６，２．９１，３．３４〜３．３７，３．９７，４．２５，６．９０，７．３０
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４４．６，５０．０，６３．５，６８．８，１１４．１，１２４．３，１２６．０，１３１．５，１５８．６
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＣＦ３Ｃｌ３）：−６４．２
【００５０】
製造例２
オクタフルオロ−４，４’−ビフェニルジグリシジルエーテル（ＯＦＢＰＧＥ）の合成
回転子を入れた１００ｍＬ三つ口フラスコに、オクタフルオロ−４，４’−ビフェノール（ＯＦＢＰ）３．３０ｇ（１０ｍｍｏｌ）、炭酸セシウム３．９１ｇ（１２ｍｍｏｌ）と、テトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）０．３２ｇ（５ｍｏｌ％）を量り取り、ＮＭＰ３０ｍｌに溶かし、５０℃で３時間攪拌させた。攪拌終了後、エピブロモヒドリン３．２９ｇ（２４ｍｍｏｌ）を攪拌中に滴下させ、５０℃で２４時間反応させた。反応終了後、塩をろ過し、ろ液を酢酸エチルで希釈し、飽和食塩水で３回洗浄後、有機層を無水硫酸マグネシウムで乾燥した。乾燥剤を除去後、酢酸エチルを減圧留去し、カラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２）［酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝２：１、Ｒｆ＝０．４８］で単離を行い、減圧乾燥後、白色粉末固体５．９０ｇを５３％の収率で得た。この白色粉末固体の融点は８０〜８１℃であった。
【００５１】
この白色粉末固体がＯＦＢＰＧＥであることを、ＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：１６５４，１４９７，１３４７，１２５４，１０９８，９０５
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．７７，２．９２，３．３８〜３．４２，４．２５，４．５９
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４４．１，５０．０，７５．４，１００．７〜１００．９，１３８．６〜１３８．８，１４０．１〜１４０．２，１４３．６〜１４３．７，１４５．６〜１４５．７
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１５４．７６〜−１５４．９２，−１３８．０５〜−１３７．９３
【００５２】
製造例３
１，３−ビス（ヘキサフルオロ−α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼンジグリシジルエーテル（１，３−ＨＦＡＢＧＥ）の合成
製造例２において、ＯＦＢＰの代わりに１，３−ビス（ヘキサフルオロ−α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼンを用いた以外は、製造例２と同様の反応を行った。反応終了後、カラムクロマトグラフィー（Ａｌ２Ｏ３）［酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：６、Ｒｆ＝０．５２］で単離を行った以外は、製造例２と同様の処理を行い、白色粉末固体を２５％の収率で得た。この白色粉末固体の融点は６１〜６２℃であった。
【００５３】
この白色粉末固体が１，３−ＨＦＡＢＧＥであることを、ＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：１４９１，１２６７，１１７３，７３０，１２２３，１０３１，９３９
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．７０，２．９１，３．３１〜３．２７，３．５６，３．８６，７．６３，７．７９，７．８９
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４４．２，４９．７，６７．３，８２．０〜８２．９，１２２．１，１２８．０，１２８．７，１２９．６，１３０．３
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−７０．０７〜−６９．８５，−６９．５５〜−６９．３７
【００５４】
製造例４
１，４−ビス（ヘキサフルオロ−α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼンジグリシジルエーテル（１，４−ＨＦＡＢＧＥ）の合成
製造例２において、ＯＦＢＰの代わりに１，４−ビス（ヘキサフルオロ−α−ヒドロキシイソプロピル）ベンゼンを用いた以外は、製造例２と同様の反応を行った。反応終了後、酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１混合溶媒を用いて２回再結晶を行った以外は、製造例２と同様の処理を行い、白色粉末固体を３４％の収率で得た。この白色粉末固体の融点は１２７〜１２８℃であった。
【００５５】
この白色粉末固体が１，４−ＨＦＡＢＧＥであることを、ＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：１４６１，１２６３，１１４６，１１０８，１２００，１００６，９１１
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．７４，２．８８，３．２７〜３．３２，３．５８，３．９２，７．７６
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４４．１，４９．９，６７．１，８１．８〜８２．７，１２２．１，１２８．７，１３０．２
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−７０．０７〜−６９．８５，−６９．５５〜−６９．３７
【００５６】
製造例５
２，２−ビス（３，５−ジフルオロー４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロピルジグリシジルエーテル（ＴＦＢＰＡＦＧＥ）の合成
製造例２において、ＯＦＢＰの代わりに２，２−ビス（３，５−ジフルオロー４−ヒドロキシフェニル）ヘキサフルオロプロパンを用いた以外は、製造例２と同様の反応を行った。反応終了後、カラムクロマトグラフィー（ＳｉＯ２）［酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３、Ｒｆ＝０．５０］で単離を行った以外は、製造例２と同様の処理を行い、黄白色粉末固体を９９％の収率で得た。この白色粉末固体の融点は７１〜７２℃であった。
【００５７】
この黄白色粉末固体がＴＦＢＰＡＦＧＥであることを、ＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：１５８５，１５２２，１２０７，１１７４，１２５７，１０４８，９６５
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：２．７４，２．８０，３．３５〜３．３９，４．１８，４．４８，６．９９
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４４．２，５０．１，６６．１〜６３．８，７４．８，１１４．６，１１４．８，１２３．３，１２６．８〜１２７．０，１３６．３〜１３６．７，１５３．８〜１５３．９，１５５．８〜１５５．９
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１２５．４，−６２．９０
【００５８】
製造例６
２，４−ジ（ペンタフルオロフェノキシ）−６−（ジフェニルアミノ）−ｓ−トリアジン（ＤＰＦＡＴ）の合成
（１）２，４−ジクロロ−６−（ジフェニルアミノ）−ｓ−トリアジン（ＤＰＡＴ）の合成
攪拌モーターを取りつけた５００ｍＬ三つ口フラスコに、塩化シアヌル２６．５６ｇ（１４４ｍｍｏｌ）、反応溶媒としてＴＨＦ７０ｍＬを量り取り、ＴＨＦ５５ｍｌに溶解させたジフェニルアミン２２．３１ｇ（１２０ｍｍｏｌ）の入った滴下ロート、塩化カルシウム管、温度計を取り付けた。攪拌モーターを用いて攪拌しながら、ジフェニルアミン−ＴＨＦ溶液を氷冷下に保ちながら２５分かけて滴下し、滴下後、氷冷下で１時間攪拌した。次に、ＴＨＦ５５ｍＬで希釈したトリエチルアミン１６．７ｍＬ（１２０ｍｍｏｌ）を氷冷下に保ちながら滴下ロートで１００分間かけて滴下し、さらに、氷冷下で１時間、続けて２０℃で８．５時間攪拌した。反応終了後、トリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ＴＨＦを減圧留去、乾固させた。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、飽和食塩水で３回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥し、ろ別後、酢酸エチルを減圧留去した。これに冷エタノールを加え、不溶部をｎ−ヘキサン：トルエン＝１０：９混合溶媒を用いて２回再結晶を行い、白色板状結晶１０．５３ｇを２８％の収率で得た。この白色板状結晶の融点は１７３〜１７４℃であった。
【００５９】
この白色板状結晶がＤＰＡＴであることを、ＩＲ及び13Ｃ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０５６，１５４８，１４９６，１３４３，８４３
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１２７．２，１２７．６，１２９．５，１４１．６，１６５．８，１７０．６
【００６０】
（２）ＤＰＦＡＴの合成
回転子を入れた３００ｍＬの三つ口フラスコに、ペンタフルオロフェノール８．８３ｇ（４８ｍｍｏｌ）、トリエチルアミン６．６８ｍＬ（４８ｍｍｏｌ）、反応溶媒としてＴＨＦ６０ｍＬを量り取り、ＴＨＦ４０ｍｌに溶解させたＤＰＡＴ６．３５ｇ（２０ｍｍｏｌ）の入った滴下ロート、塩化カルシウム管、温度計を取り付けた。マグネチックスターラーを用いて攪拌しながら、ＤＰＡＴ−ＴＨＦ溶液を氷冷下に保ちながら２０分かけて滴下し、滴下後、室温で３時間、続けて６０℃で５時間攪拌した。反応終了後、トリエチルアミン塩酸塩をろ別し、ＴＨＦを減圧留去、乾固させた。得られた固体を酢酸エチルに溶解させ、５ｗｔ％炭酸ナトリウム水溶液で３回洗浄後、無水硫酸マグネシウムで乾燥させ、ろ別後、酢酸エチルを減圧留去した。これをシクロヘキサンを用いて２回再結晶を行い、白色綿状結晶６．０７ｇを５０％の収率で得た。この白色綿状結晶の融点は１３５〜１３６℃であった。
【００６１】
この白色綿状結晶がＤＰＦＡＴであることを、ＩＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０６７，１５９０，１５１９，１３７０，１１５８，１０７２
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１２６．３〜１２６．６，１２７．１，１２７．３，１２８．９，１３６．５〜１３６．８，１３８．２〜１３８．９，１４０．０〜１４０．３，１４０．３〜１４０．７，１４１．５，１４２．０〜１４２．３，１６７．６，１７１．０
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６１．３８〜−１６１．５３，−１５７．２３〜−１５７．３６，−１５１．００〜−１５１．１２
【００６２】
製造例７
２，４−ジ（ペンタフルオロフェノキシ）−６−（メチルフェニルアミノ）−ｓ−トリアジン（ＤＰＭＰＴ）の合成
（１）２，４−ジクロロ−６−（メチルフェニルアミノ）−ｓ−トリアジン（ＤＭＰＴ）の合成
製造例６（１）において、ジフェニルアミンの代わりにＮ−メチルアニリンを用いた以外は、製造例６（１）と同様の反応を行った。反応終了後、ｎ−ヘキサン：トルエン＝１：１混合溶媒を用いて再結晶を行った以外は、製造例６（１）と同様の処理を行い、白色板状結晶を３３％の収率で得た。この白色板状結晶の融点は１３４〜１３５℃であった。
【００６３】
この白色板状結晶がＤＭＰＴであることを、ＩＲ及び13Ｃ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：３０６２，１５４９，１４６９，１３２４，８３６
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３９．２，１２６．０，１２７．８，１２９．５，１４２．０，１６５．１，１７０．０，１７０．１
【００６４】
（２）ＤＰＭＰＴの合成
製造例６（２）において、ＤＰＡＴの代わりにＤＭＰＴを用いた以外は、製造例６（２）と同様の反応を行った。反応終了後、製造例６（２）と同様の処理を行い、白色綿状結晶を４７％の収率で得た。この白色綿状結晶の融点は１２２〜１２３℃であった。
【００６５】
この白色板状結晶がＤＰＭＰＴであることを、ＩＲ、13Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９４１，１６１０，１５１４，１３７５，１１５６，１０６２
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３８．３，１２６．２，１２６．４〜１２６．５，１２７．４，１２８．９，１３６．４〜１３７．２，１３８．２〜１３８．６，１３８．７〜１３９．１，１４０．０〜１４０．６，１４２．０〜１４２．６，１４２．４，１６７．３，１７０．２，１７１．２
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６１．７２〜−１６１．８７，−１６０．９７〜−１６１．１１，−１５７．６０〜−１５７．７４，−１５６．５７〜−１５６．７０，−１５１．０１〜−１５１．１６
【００６６】
製造例８
２，４−ジ（ペンタフルオロフェノキシ）−６−（ジメチルアミノ）−ｓ−トリアジン（ＤＰＭＡＴ）の合成
（１）２，４−ジクロロ−６−（ジメチルアミノ）−ｓ−トリアジン（ＤＭＡＴ）の合成
製造例６（１）において、ジフェニルアミンの代わりにジメチルアミンを用いた以外は、製造例６（１）と同様の反応を行った。反応終了後、ｎ−ヘキサン：トルエン＝７：１混合溶媒を用いて再結晶を行った以外は、製造例６（１）と同様の処理を行い、白色板状結晶を２７％の収率で得た。この白色板状結晶の融点は１１９〜１２０℃であった。
【００６７】
この白色板状結晶がＤＭＡＴであることを、ＩＲ及び13Ｃ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９８１，１６０５，１５５５，１２４０，８４９
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３７．１，１６４．８，１６９．９
【００６８】
（２）ＤＰＭＡＴの合成
製造例６（２）において、ＤＰＡＴの代わりにＤＭＡＴを用いた以外は、製造例６（２）と同様の反応を行った。反応終了後、シクロヘキサンの代わりにｎ−ヘキサンで再結晶を行った以外は、製造例６（２）と同様の処理を行い、白色板状結晶を２２％の収率で得た。この白色板状結晶の融点は１１８〜１１９℃であった。
【００６９】
この白色板状結晶がＤＰＭＡＴであることを、ＩＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９５０，１６２３，１５１６，１３６２，１１４６，１０６５
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３６．８，１２６．２〜１２６．８，１３６．５〜１３７．１，１３８．２〜１３８．５，１３８．５〜１３９．０，１４０．１〜１４０．８，１４２．２〜１４２．６，１６７．１，１７０．５
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６１．２９〜−１６１．４２，−１５６．９２〜−１５７．０４，−１５１．１２〜−１５１．２２
【００７０】
製造例９
２，４−ジ（ペンタフルオロフェノキシ）−６−エトキシ−ｓ−トリアジン（ＤＰＦＥＴ）の合成
（１）２，４−ジクロロ−６−エトキシ−ｓ−トリアジン（ＤＥＴ）の合成
スターラー、温度計、ウォーターバス及び回転子を装備した三つ口フラスコに、塩化シアヌル５．５３ｇ（３０ｍｍｏｌ）及び反応試薬兼溶媒であるエタノール３０ｍＬを量り取り、０〜５℃に保った。ここに炭酸水素ナトリウム２．５２ｇ（３０ｍｍｏｌ）を加え、氷冷下で１時間、続けて室温で１時間攪拌した。反応終了後、吸引ろ過により沈殿物を取り除き、得られた液体をナスフラスコに移し、エタノールを減圧留去した。その結果、白色固体と無色の液体の混合物が得られた。これに少量の２−プロパノールを加えて白色固体をろ過した。得られた液体を減圧蒸留（１１４℃、１５ｍｍＨｇ）で精製し、無色の液体２．９１ｇを５０％の収率で得た。
【００７１】
この無色の液体がＤＥＴであることを、ＩＲ及び13Ｃ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｎｅａｔ，ｃｍ−１）：２９８７，１５４３，１４５６，１０５１，１２５４，８７８
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１３．９，６６．６．１７０．９，１７２．５
【００７２】
製造例６（２）において、ＤＰＡＴの代わりにＤＥＴを用いた以外は、製造例６（２）と同様の反応を行った。反応終了後、シクロヘキサンの代わりにｎ−ヘキサンで再結晶を行った以外は、製造例６（２）と同様の処理を行い、白色粉末結晶を２５％の収率で得た。この白色粉末結晶の融点は８１〜８２℃であった。
【００７３】
この白色粉末結晶がＤＰＦＥＴであることを、ＩＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ＫＢｒ，ｃｍ−１）：２９９３，１６０２，１５２０，１３６６，１１６０，１０７５
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１３．９，６６．２，１２５．８〜１２６．１，１３６．８〜１３７．０，１３８．８〜１３７．０，１４０．１〜１４０．２，１４０．９〜１４１．１，１４２．１〜１４２．２，１７２．２，１７３．８
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６１．２９〜−１６１．４２，−１５６．９２〜−１５７．０４，−１５１．１２〜−１５１．２２
【００７４】
実施例１
ドライバック中（＜湿度１０％）で、回転子の入ったアンプル管内に触媒として、テトラフェニルホスホニウムクロリド（ＴＰＰＣ）０．０１１ｇ（５ｍｏｌ％）量り取り、６０℃で５時間減圧乾燥させた。その後、製造例１で合成したＢＰＡＦＧＥ０．１３５ｇ（０．３ｍｍｏｌ）、製造例６で合成したＤＰＦＡＴ０．１８４ｇ（０．３ｍｍｏｌ）及びクロロベンゼン（ＣＢ）０．３３ｍＬ（１ｍｏｌ／Ｌ）を量り取り、二方コックを接続して密閉状態とし、次の操作で脱気を行った。アンプル管を液体窒素中に入れ、試料を凍結させた後減圧し、アンプル管を水中に入れ、試料を解凍させてから乾燥高純度窒素で置換した。上記の脱気操作を２回繰り返した後、再び凍結させ、減圧状態でアンプル管を封管した。試料を解凍した後、１００℃のオイルバス中で２４時間攪拌させた。
反応終了後、反応液をＴＨＦで希釈し、良溶媒としてＴＨＦ、貧溶媒としてエタノール：ｎ−ヘキサン＝１：１の混合溶媒を用いて１回再沈精製を行った。その後、ろ別回収して減圧乾燥を行い、褐色固体のポリマー（Ｐ−１ａ）１．３０ｇを９５％の収率で得た。このポリマーの数平均分子量（Ｍｎ）及び分子量分布（Ｍｎ／Ｍｗ）を上記の方法で測定した。結果を表１に示す。
【００７５】
また、このポリマーが下記式（５）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：３０５８，１５７２，１５１４，１４０１，１１７３，１０３７
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．１３〜４．３２，４．３９〜４．５９，５．３６〜５．５２，６．７１〜７．５３
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６３．３〜６３．９，７２．９，７３．７，７４．３，１２４．４，１２５，６，１２６．１，１２６．９，１２６．９〜１２７．３，１２７．５，１２９．１６，１３１．５，１３６．４〜１３７．３，１３８．３〜１３８．８，１３８．８〜１３９．３，１４０．０〜１４０．８，１４２．０〜１４２．９，１４２．６，１５８．４，１６８．０，１７１．４
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．２０〜−１６１．６８，−１６１．６８〜−１６１．３２，−１５５．１０〜−１５５．６０，−６２．９４
【００７６】
【化１２】
0003887580.tif 000009
【００７７】
実施例２〜５
実施例１において、クロロベンゼンの代わりに、実施例２ではｏ−ジクロロベンゼン（ＯＤＣＢ）、実施例３ではトルエン（Ｔｏｌ）、実施例４ではジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、実施例５ではＮＭＰを用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、実施例１と同じポリマーを得た。各実施例で得られたポリマーの収率、並びにＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表１に示す。
【００７８】
実施例６〜１０
実施例１において、ＴＰＰＣの代わりに、実施例６ではテトラフェニルホスホニウムブロミド（ＴＰＰＢ）、実施例７ではテトラブチルホスホニウムクロリド（ＴＢＰＣ）、実施例８ではテトラブチルホスホニウムブロミド（ＴＢＰＢ）、実施例９ではテトラブチルアンモニウムクロリド（ＴＢＡＣ）、実施例１０ではテトラブチルアンモニウムブロミド（ＴＢＡＢ）を用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、実施例１と同じポリマーを得た。各実施例で得られたポリマーの収率、並びにＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表１に示す。
【００７９】
【表１】
0003887580.tif 000010
【００８０】
実施例１１
実施例１において、ＤＰＦＡＴの代わりに、製造例７で合成したＤＰＭＰＴを用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、黄色固体のポリマー（Ｐ−１ｂ）を８５％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００８１】
また、このポリマーが下記式（６）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：３０５８，１５７２，１５１４，１４０１，１１７３，１０３７
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．４０〜３．５７，４．０８〜４．３９，４．４０〜４．７５，５．２０〜５．９０，７．０５〜７．５３
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３８．４，６３．３〜６３．７，７２．９，７３．３，７３．８，１１４．０，１２４．３，１２５．４，１２６．３，１２６．４，１２６．４〜１２６．８，１２６．９，１２９．０，１３１．５，１３６．３〜１３７．３，１３８．２〜１３８．７，１３８．７〜１３９．１，１４０．１〜１４１．１，１４２．１〜１４３．０，１４３．４，１５８．４，１６７．４，１７０．８，１７１．５
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．２２〜−１６１．７５，−１６１．７５〜−１６１．２８，−１５５．６１〜−１５４．８４，−６２．９６
【００８２】
【化１３】
0003887580.tif 000011
【００８３】
実施例１２
実施例１において、ＤＰＦＡＴの代わりに、製造例８で合成したＤＰＭＡＴを用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、黄色固体のポリマー（Ｐ−１ｃ）を８５％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００８４】
また、このポリマーが下記式（７）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：３０５８，１５７２，１５１４，１４０１，１１７３，１０３７
1Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．３０〜３．２２，４．１９〜４．４３，４．４３〜４．６５，５．７５〜５．８４，６．７９〜６．９２，７．１９〜７．３３
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３６．７，６３．０〜６４．１，７２．９，７３．５，７４．８，１１４．０，１２４．３，１２５．９〜１２６．１，１２６．１，１３１．５，１３６．３〜１３７．３，１３８．２〜１３８．８，１３８．８〜１３９．２，１４０．１〜１４１．１，１４２．３〜１４３．１，１５８．４，１６７．１，１７０．９
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．２０〜−１６１．６０，−１６１．６７〜−１６０．７５，−１５５．２０〜−１５４．６０，−６３．０２
【００８５】
【化１４】
0003887580.tif 000012
【００８６】
実施例１３
実施例１において、ＤＰＦＡＴの代わりに、製造例９で合成したＤＰＦＥＴを用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、黄色固体のポリマー（Ｐ−１ｄ）を４９％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００８７】
また、このポリマーが下記式（８）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：３０５８，１５７２，１５１４，１４０１，１１７３，１０３７
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１．２９〜１．４６，４．０２〜４．２８，４．３０〜４．５０，４．５０〜４．８８，５．７２〜５．９２，６．６５〜６．９８，７．１４〜７．３８
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：１３．５，６３．３〜６３．９，６５．６，７２．９，７４．１，７４．８，１１４．０，１２４．２，１２５．６〜１２６．１，１２６．２，１３１．５，１３６．３〜１３７．４，１３８．４〜１３９．３，１４０．０〜１４０．７，１４０．７〜１４１．３，１４２．０〜１４３．３，１５８．２，１７２．６，１７３．５
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．１２〜−１６０．９８，−１６０．９９〜−１５９．８２，−１５６．５０〜−１５４．７２，−６２．９９
【００８８】
【化１５】
0003887580.tif 000013
【００８９】
実施例１４
実施例１において、ＢＰＡＦＧＥの代わりに、製造例２で合成したＯＦＢＰＧＥを用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、褐色固体のポリマー（Ｐ−２ａ）を６０％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００９０】
また、このポリマーが下記式（９）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：３９６７，１５８４，１５１６，１４０６，１１０５，９９７
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．２９〜４．４９，４．５５〜４．７５，５．３９〜５．５２，７．１２〜７．４２
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７２．１，７３．６，７４．１，１００．１〜１００．２，１２６．２〜１２６．５，１２７．３，１２７．５，１２９．０，１３６．５〜１３７．２，１３８．５〜１３８．９，１３８．８〜１３９．２，１３９．８〜１４０．０，１４０．０〜１４０．４，１４０．４〜１４０．７，１４２，１４１．７〜１４２．１，１４２．１〜１４２．８，１４３．５〜１４４．０，１４５．６〜１４６．０，１６７．７，１７１．２
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．０８〜−１６１．４２，−１６１．４２〜−１６０．８３，−１５５．８２〜−１５５．１８，−１５５．２５〜−１５４．６４，−１３８．３２〜−１３７．１４
【００９１】
【化１６】
0003887580.tif 000014
【００９２】
実施例１５
実施例１において、ＢＰＡＦＧＥの代わりに、製造例３で合成した１，３−ＨＦＡＢＧＥを用いた以外は、実施例１と同様の反応を行った。反応終了後、再沈精製の貧溶媒にｎ−ヘキサンを用いた以外は、実施例１と同様の処理を行い、褐色固体のポリマー（Ｐ−２ｂ）を５２％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００９３】
また、このポリマーが下記式（１０）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：２９７４，１５８４，１５１７，１４０８，１１７２，９９７
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．７７〜３．９８，４．３０〜４．５３，５．２９〜５．４２，７．０８〜７．８８
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７２．３，７３．４，７４．１，８１．５〜８３．０，１２２．０，１２２．１，１２６．３〜１２６．５，１２７．３，１２７．４，１２７．８，１２８．５，１２９．０，１３６．５〜１３６．８，１３８．５〜１３９．２，１４０．１〜１４０．５，１４０．５〜１４０．９，１４２．０，１４２．０〜１４２．４，１６７．７，１７０．６
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．４６〜−１６１．５７，−１６１．５７〜−１６０．９５，−１５５．９１〜−１５５．２３，−７１．００〜−６８．４２
【００９４】
【化１７】
0003887580.tif 000015
【００９５】
実施例１６
実施例１において、ＢＰＡＦＧＥの代わりに、製造例４で合成した１，４−ＨＦＡＢＧＥを用いた以外は、実施例１と同様の反応を行った。反応終了後、再沈精製の貧溶媒にｎ−ヘキサンを用いた以外は、実施例１と同様の処理を行い、褐色固体のポリマー（Ｐ−２ｃ）を２９％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００９６】
また、このポリマーが下記式（１１）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、1Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：２９６２，１５８２，１５１７，１４０７，１１０５，９９７
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：３．７２〜４．００，４．２８〜４．５３，５．２９〜５．４３，７．０７〜７．８８
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：７２．３，７３．４，７４．０，８１．８〜８２．７，１２１．７，１２２．０，１２６．２〜１２６．５，１２７．２，１２７．４，１２８．５，１２９．０，１３０．０，１３６．５〜１３７．３，１３８．５〜１３９．２，１４０．０〜１４０．５，１４０．５〜１４１．０，１４１．９〜１４２．６，１４１．９，１６７．６，１７０．６
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．２８〜−１６１．６２，−１６１．６２〜−１６０．９９，−１５６．２０〜−１５４．９５，−７１．００〜−６８．４９
【００９７】
【化１８】
0003887580.tif 000016
【００９８】
実施例１７
実施例１において、ＢＰＡＦＧＥの代わりに、製造例５で合成したＴＦＢＰＡＦＧＥを用いた以外は、実施例１と同様の反応及び処理を行い、桃色固体のポリマー（Ｐ−２ｄ）を７６％の収率で得た。このポリマーのＭｎ及びＭｎ／Ｍｗの測定結果を表２に示す。
【００９９】
また、このポリマーが下記式（１２）で表される繰り返し単位を有することをＩＲ、１Ｈ−ＮＭＲ、１３Ｃ−ＮＭＲ及び１９Ｆ−ＮＭＲを測定して確認した。これらの各スペクトルデータを以下に示す。
ＩＲ（ｆｉｌｍ，ｃｍ−１）：２９６６，１５８４，１５１７，１４０７，１１４３，１０４５
１Ｈ−ＮＭＲ（５００ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：４．２８〜４．５１，４．５１〜４．６７，５．４８〜５．５０，６．８５〜７．００，７．１２〜７．３５
１３Ｃ−ＮＭＲ（１２５ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，ＴＭＳ）δ（ｐｐｍ）：６３．２０〜６３．６０，７２．２５，７３．６９，７４．２９，１１４．６８，１１４．８５，１２３．３５，１２５．５０〜１２５．６０，１２６．２５〜１２６．５５，１２７．０２，１２７．５３，１２８．９９，１３６．２０〜１３６．８０，１３６．５０〜１３７．２０，１３８．４０〜１３９．２０，１４０．００〜１４０．４５，１４０．４５〜１４０．８５，１４２．００〜１４２．８０，１２４．０４，１５３．５６，１５５．５５，１６７．７２，１７１３２
１９Ｆ−ＮＭＲ（４７０ＭＨｚ，ＣＤＣｌ３，Ｃ６Ｆ６）：−１６２．２８〜−１６１．６５，−１６１．６５〜−１６１．００，−１５６．６５〜−１５５．２５，−１２５．３８〜−１２４．５３，−６２．８７
【０１００】
【化１９】
0003887580.tif 000017
【０１０１】
【表２】
0003887580.tif 000018
【０１０２】
実施例１，１１〜１７で合成した含フッ素共重合体の屈折率、ガラス点移温度（Ｔｇ）及び分解開始温度（Ｔｄ及びＴｄ５％）を以下の条件で測定し、各共重合体の光学特性及び耐熱性を評価した。また、各共重合体のフッ素含量をアリザリンコンプレクソン法で測定した。結果を表３に示す。
【０１０３】
（１）屈折率
キャスト溶媒として、メチルセルソルブアセテート０．２ｍＬをサンプルビンに加え、その中に、膜厚が約１．０μｍの薄膜が作成されるような濃度に予め調製した含フッ素共重合体を加え、完全に溶解するまで攪拌を行った。その後、シリコン板に滴下し、スピナー（浅沼製作所（株）製）を用いてコーティングした。これを１７０℃で３０分間乾燥させ、薄膜を作成した。得られた薄膜の屈折率をエリプソメーター（ガードナー社製、Ｌ１１５Ｂタイプ）を用い、波長０．６３２８μｍレーザーにより５回測定し、最大屈折率及び最小屈折率を除いた３回の測定の平均値として決定した。
【０１０４】
（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）
含フッ素共重合体約３ｍｇをアルミニウムパンに量り取り、パンを密閉した後、示差走査熱量計（ＤＳＣ）（セイコーインスツルメンツ（株）製、ＥＸＳＴＡＲ ６０００／ＤＳＣ６２００）を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度を１０℃／ｍｉｎ、昇温設定を室温〜２００℃としてＤＳＣ測定を行い、得られたＤＳＣ曲線の変曲点からＴｇを決定した。
【０１０５】
（３）分解開始温度（Ｔｄ５％及びＴｄ）
含フッ素共重合体約３ｍｇをアルミニウムパンに量り取り、示差熱熱重量同時測定装置（セイコーインスツルメンツ（株）製、ＥＸＳＴＡＲ ６０００／ＴＧ／ＤＴＡ６２００）を用いて、窒素雰囲気下、昇温速度を１０℃／ｍｉｎ、昇温設定を室温〜６００℃として、熱天秤−示差走査熱分析（ＴＧ−ＤＴＡ）を行った。ＴＧ／ＤＴＡ測定から得られたＴＧ曲線の重量減少からＴｄ５％及びＴｄを決定した。尚、Ｔｄ５％とは、含フッ素共重合体が分解して、全体の５％の重量が減少したときの温度である。
【０１０６】
【表３】
0003887580.tif 000019
【０１０７】
【発明の効果】
本発明によれば、耐熱性及び光学特性に優れた含フッ素共重合体、その製造方法、及びそのような含フッ素共重合体を用いた光学用樹脂が提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】実施例１の反応における、原料モノマの反応時間（ｈ）と、共重合体の収率（％）及び数平均分子量（Ｍｎ）との関係を示す図である。
【図２】本発明の光学用樹脂を用いた光伝送用ファイバを示す図である。
【図３】本発明の光学用樹脂を用いた光導波路を示す図である。
【符合の説明】
１０：光伝送用ファイバ
１２，１４：クラッド層
２０：光導波路
２２：クラッド層
【図１】
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【図２】
0003887580.tif 000025
【図３】
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