(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板を所定の保持位置に保持する保持アームと，その保持アームに直列的に連結された補助アームとを少なくとも備え，前記保持アームは，前記補助アームとの連結部における鉛直方向の回転軸を中心に前記補助アームに対して回転自在であり，前記保持アームが前記補助アームに対して相対的に回転し，基板の受け渡し位置まで移動することによって，基板を搬送する搬送装置であって，
前記保持アームに載置された基板を前記回転軸側から前記保持位置側に向かう所定方向に押圧する押圧部材と，
前記押圧部材に押された基板が押し付けられ，固定される固定部材と，を備え，
前記押圧部材は，前記回転軸から所定距離ずれた，前記補助アームの偏心部に回転自在に取り付けられ，
前記保持アームには，前記押圧部材を前記所定方向に移動させるためのガイド部材が設けられ，
前記保持アームが前記受け渡し位置にあるときには，前記押圧部材が前記保持アームの保持位置から離れ，前記保持アームが前記受け渡し位置から離れると，前記押圧部材が前記保持位置に近づくにように前記偏心部の位置は定められており，
前記固定部材は，基板の側面の形状に適合する垂直面と，前記回転軸側から前記垂直面の下端に向かって次第に高くなる傾斜面と，を備え，
前記保持アームは，前記保持位置の基板の前記回転軸側を支持するための支持部材を備え，
前記支持部材は，前記回転軸側から前記保持位置に向かって次第に低くなる第１の傾斜部と，前記第１の傾斜部の下端に繋がる垂直部と，前記押圧部材により前記第１の傾斜部に沿って誘導された基板が落とし込まれる第２の傾斜部と，を備え，
前記第２の傾斜部は，前記垂直部の下端に繋がり，前記保持位置に向かって次第に低くなっており，
前記支持部材の垂直部の下端は，前記固定部材の垂直面の下端よりも高い位置に形成されていることを特徴とする，搬送装置。
【請求項２】
前記支持部材は，前記基板を支持した際に当該基板に対して遊びができるように形成されていることを特徴とする，請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記押圧部材の基板との接触部は，二股に形成されていることを特徴とする，請求項１又は２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記押圧部材は，前記補助アームの偏心部に取り付けられた可動板と，その可動板にピン結合され回動自在な基板ガイド部材とを有し，
前記基板ガイド部材の基板との接触部が，二股に形成されていることを特徴とする，請求項３に記載の搬送装置。
【請求項５】
前記押圧部材には，当該押圧部材と一体となって移動する係止部材が取り付けられ，
前記保持アームには，前記係止部材が当接することによって前記押圧部材の前記所定方向への移動を制限するストッパが設けられていることを特徴とする，請求項１〜４のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項６】
基板を所定の保持位置に保持する保持アームと，その保持アームに直列的に連結された補助アームとを少なくとも備え，前記保持アームは，前記補助アームとの連結部における鉛直方向の回転軸を中心に前記補助アームに対して回転自在であり，前記保持アームが前記補助アームに対して相対的に回転し，基板の受け渡し位置まで移動することによって，基板を搬送する搬送装置であって，
前記保持アームに載置された基板を前記回転軸側から前記保持位置側に向かう所定方向に押圧する押圧部材と，
前記押圧部材に押された基板が押し付けられ，固定される固定部材と，を備え，
前記押圧部材は，前記回転軸から所定距離ずれた，前記補助アームの偏心部に回転自在に取り付けられ，
前記保持アームには，前記押圧部材を前記所定方向に移動させるためのガイド部材が設けられ，
前記保持アームが前記受け渡し位置にあるときには，前記押圧部材が前記保持アームの保持位置から離れ，前記保持アームが前記受け渡し位置から離れると，前記押圧部材が前記保持位置に近づくにように前記偏心部の位置は定められており，
前記押圧部材は，前記補助アームの偏心部に取り付けられた可動板と，その可動板にピン結合され回動自在な基板ガイド部材とを有し，
前記基板ガイド部材の基板との接触部は，二股に形成されていることを特徴とする，搬送装置。
【請求項７】
前記押圧部材の前記所定方向への移動を制限するストッパを備えることを特徴とする，請求項６に記載の搬送装置。
【請求項８】
基板を所定の保持位置に保持する保持アームと，その保持アームに直列的に連結された補助アームとを少なくとも備え，前記保持アームは，前記補助アームとの連結部における鉛直方向の回転軸を中心に前記補助アームに対して回転自在であり，前記保持アームが前記補助アームに対して相対的に回転し，基板の受け渡し位置まで移動することによって，基板を搬送する搬送装置であって，
前記保持アームに載置された基板を前記回転軸側から前記保持位置側に向かう所定方向に押圧する押圧部材と，
前記押圧部材に押された基板が押し付けられ，固定される固定部材と，を備え，
前記押圧部材は，前記回転軸から所定距離ずれた，前記補助アームの偏心部に回転自在に取り付けられ，
前記保持アームには，前記押圧部材を前記所定方向に移動させるためのガイド部材が設けられ，
前記保持アームが前記受け渡し位置にあるときには，前記押圧部材が前記保持アームの保持位置から離れ，前記保持アームが前記受け渡し位置から離れると，前記押圧部材が前記保持位置に近づくにように前記偏心部の位置は定められており，
前記押圧部材には，当該押圧部材と一体となって移動する係止部材が取り付けられ，
前記保持アームには，前記係止部材が当接することによって前記押圧部材の前記所定方向への移動を制限するストッパが設けられていることを特徴とする，搬送装置。
【請求項９】
前記ストッパには，前記係止部材との距離を調節する調節部材が設けられていることを特徴とする，請求項８に記載の搬送装置。
【請求項１０】
前記押圧部材の基板との接触部は，二股に形成されていることを特徴とする，請求項８又は９に記載の搬送装置。
【請求項１１】
前記固定部材は，基板の側面の形状に適合する垂直面と，前記回転軸側から前記垂直面の下部に向かって次第に高くなる傾斜面と，を備えることを特徴とする，請求項６〜１０のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１２】
前記保持アームは，前記保持位置の基板の前記回転軸側を支持するための支持部材を備え，
前記支持部材は，前記回転軸側から前記保持位置に向かって次第に低くなる傾斜部と，前記押圧部材により当該傾斜部に沿って誘導された基板が落とし込まれる載置部と，を備えることを特徴とする，請求項６〜１１のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１３】
前記支持部材は，前記基板を支持した際に当該基板に対して遊びができるように形成されていることを特徴とする，請求項１２に記載の搬送装置。
【請求項１４】
前記固定部材は，前記保持アームの先端部に設けられていることを特徴とする，請求項１〜１３のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１５】
前記ガイド部材は，前記所定方向の直角方向であって前記押圧部材の両隣に設けられた，前記押圧部材の前記直角方向の移動を規制する規制部材であることを特徴とする，請求項１〜１４のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１６】
前記ガイド部材は，前記押圧部材を前記所定方向に直線的に移動させるための直動ガイドであることを特徴とする，請求項１〜１４のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１７】
前記押圧部材は，支持体によって前記補助アームに回転自在に取り付けられており，
前記保持アームには，前記支持体が貫通する貫通孔が設けられていることを特徴とする，請求項１〜１６のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１８】
前記固定部材の材質には，セラミックスが用いられていることを特徴とする，請求項１〜１７のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項１９】
前記押圧部材の基板に接触する部分の材質には，基板よりも耐摩耗性又は／及び弾性に優れた樹脂が用いられていることを特徴とする，請求項１〜１８のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項２０】
前記保持アームに連結された前記補助アームには，さらに他の補助アームが直列的に連結され，
当該他の補助アームと補助アームとは，当該連結部において鉛直方向の回転軸を中心に回転自在であり，
この他の補助アームは，さらに支柱に連結され，当該支柱を通る鉛直方向の回転軸を中心に回転自在であり，
前記直列的に連結された前記保持アーム，補助アーム及び他の補助アームがそれぞれ連動して各回転軸を中心に所定のタイミングで回転し，結果的に前記保持アームが前記支柱から所定方向に進退できることを特徴とする，請求項１〜１９のいずれかに記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は，基板の搬送装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では，基板表面にレジスト液を塗布するレジスト塗布処理，露光された基板を現像する現像処理，レジスト塗布処理後，現像処理前後に行われる熱処理等が行われ，基板に所定の回路パターンを形成する。
【０００３】
これらの一連の処理は，各種処理装置が多数搭載された塗布現像処理システムで行われる。塗布現像処理システムは，通常，このシステムに対して基板を搬入出するためのカセットステーション，前記各種処理装置が設置されている処理ステーション，露光処理装置との間で基板を受け渡しするためのインターフェイス部等で構成されている。
【０００４】
カセットステーションには，複数の基板を収容できるカセットを載置するカセット載置部と，このカセット載置部に載置されたカセットと処理ステーションとの間で基板を搬送する搬送装置とが備えられている。
【０００５】
この搬送装置には，図２０に示すように支柱１３０から直列的に連結された３つのアーム１３１〜１３３と，各アームの回転軸１３４〜１３６とを備えた，いわゆる３軸の搬送装置が用いられている。この３軸の搬送装置は，各アーム１３１〜１３３が各回転軸１３４〜１３６を中心に連動して回転することにより，基板を保持したヘッドアーム１３１が所定方向に進退して，基板を搬送できるようになっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで，ヘッドアーム１３１で基板を搬送している際中は，基板の落下を防止するため基板をしっかりと保持している方が望ましい。また，搬送中基板が固定されていないと，基板がヘッドアーム１３１上で激しく振動し，基板の破損，パーティクルの発生等の原因に成り兼ねない。一方，ヘッドアーム１３１が基板を搬送先に受け渡す際には，基板はヘッドアーム１３１上でフリーの状態になっている必要がある。
【０００７】
そこで，かかる問題を解決するために，例えばヘッドアーム１３１に，シリンダ等の駆動部によってヘッドアーム１３１上をスライドして，基板を押圧して固定する押圧部材を設けることが提案できる。この押圧部材によれば，基板の搬送中にヘッドアーム１３１上の基板を押圧して固定し，基板を受け渡すときに基板の固定を解除することができる。
【０００８】
しかしながら，この押圧部材のシリンダ等の駆動部を駆動させるためには，センサ等の配線，エア等の配管等が必要になる。この配管，配線は，搬送装置の回転運動等を考慮すると，搬送装置の各回転軸付近を通すのが理にかなっている。また，この際，各回転軸内を通した配線，配管のねじれや擦れを考慮する必要がある。こうなると，各回転軸に配線，配管を通すための大口径の通路を設けなければならず，搬送装置全体が大型化し，また，搬送装置の構造が複雑になる。さらに，搬送装置の大型化，複雑化に伴い搬送装置を構成する各部品のコストが高くなる。
【０００９】
本発明は，かかる点に鑑みてなされたものであり，搬送の際の基板の固定，解除をより単純な構成で，かつより安価に実現する搬送装置を提供することをその目的とする。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば，基板を所定の保持位置に保持する保持アームと，その保持アームに直列的に連結された補助アームとを少なくとも備え，前記保持アームは，前記補助アームとの連結部における鉛直方向の回転軸を中心に前記補助アームに対して回転自在であり，前記保持アームが前記補助アームに対して相対的に回転し，基板の受け渡し位置まで移動することによって，基板を搬送する搬送装置であって，前記保持アームに載置された基板を前記回転軸側から前記保持位置側に向かう所定方向に押圧する押圧部材と，前記押圧部材に押された基板が押し付けられ，固定される固定部材と，を備え，前記押圧部材は，前記回転軸から所定距離ずれた，前記補助アームの偏心部に回転自在に取り付けられ，前記保持アームには，前記押圧部材を前記所定方向に移動させるためのガイド部材が設けられ，前記保持アームが前記受け渡し位置にあるときには，前記押圧部材が前記保持アームの保持位置から離れ，前記保持アームが前記受け渡し位置から離れると，前記押圧部材が前記保持位置に近づくにように前記偏心部の位置は定められており，前記固定部材は，基板の側面の形状に適合する垂直面と，前記回転軸側から前記垂直面の下端に向かって次第に高くなる傾斜面と，を備え，前記保持アームは，前記保持位置の基板の前記回転軸側を支持するための支持部材を備え，前記支持部材は，前記回転軸側から前記保持位置に向かって次第に低くなる第１の傾斜部と，前記第１の傾斜部の下端に繋がる垂直部と，前記押圧部材により前記第１の傾斜部に沿って誘導された基板が落とし込まれる第２の傾斜部と，を備え，前記第２の傾斜部は，前記垂直部の下端に繋がり，前記保持位置に向かって次第に低くなっており，前記支持部材の垂直部の下端は，前記固定部材の垂直面の下端よりも高い位置に形成されていることを特徴とする搬送装置が提供される。
【００１１】
この発明によれば，押圧部材が，補助アームの前記回転軸から所定距離ずれた偏心部に取り付けられているので，保持アームと補助アームとが相対的に回転した場合に，保持アームの保持位置と偏心部の位置との距離が変動し，押圧部材が保持アームの保持位置に対して相対的に移動する。また，押圧部材は，前記補助アームに回転自在に取り付けられ，さらに保持アームには，ガイド部材が設けられているため，押圧部材は，保持アームが回転しても，当該保持アームと共に回転し，保持アーム上からずれることない。したがって，押圧部材は，保持アームの補助アームに対する回転に伴い，保持アーム上を前記所定方向にのみスライドできる。さらに，押圧部材の取り付けられた偏心部の位置を，保持アームが基板の受け渡し位置にあるときに押圧部材が保持位置から離れるように定めるので，基板の受け渡しの際に基板が押圧部材により固定されることなく，保持アームの基板の受け渡しをスムーズに行うことができる。また，前記保持アームが受け渡し位置から離れると，押圧部材が保持アームの保持位置に近づくようにしたので，基板の搬送中に基板を押圧し，固定することができる。つまり，この搬送装置は，搬送中には基板を固定し，受け渡すときにはその固定を解除することができる。さらに，この搬送装置では，押圧部材を保持アーム上で所定方向に移動させる際に，シリンダ等の駆動部が用いられないので，搬送装置内に配線や配管を通す必要がなく，構造が単純で，かつ安価な搬送装置を実現できる。また，押圧部材に押された基板が前記傾斜部に沿って誘導され，やがて基板側面が垂直面に適合した状態で当該垂直面に押し付けられる。したがって，保持アーム上の載置された基板を適切に固定することができる。
【００１２】
前記固定部材は，前記保持アームの先端部に設けられていてもよい。また，前記ガイド部材は，前記所定方向の直角方向であって前記押圧部材の両隣に設けられた，前記押圧部材の前記直角方向の移動を規制する規制部材であってもよい。さらに，前記ガイド部材は，前記押圧部材を前記所定方向に直線的に移動させるための直動ガイドであってもよい。
【００１３】
前記押圧部材は，支持体によって前記補助アームに回転自在に取り付けられており，前記保持アームには，前記支持体が貫通する貫通孔が設けられていてもよい。この場合，支持体が保持アームを迂回しないので，支持体を含めた保持アーム回りが小型化され，ひいては搬送装置全体の小型化が図られる。
【００１６】
前記支持部材は，前記基板を支持した際に当該基板に対して遊びができるように形成されていてもよい。このように基板に対する遊びが形成されることによって，基板の固定が解除された際に，基板が遊動できるようになる。この場合，例えばカセットのように基板の受け渡し位置が厳密に定まっていない時でも，基板が多少動くことができるので，基板を適切に受け渡すことができる。
【００１７】
別の観点による本発明は，基板を所定の保持位置に保持する保持アームと，その保持アームに直列的に連結された補助アームとを少なくとも備え，前記保持アームは，前記補助アームとの連結部における鉛直方向の回転軸を中心に前記補助アームに対して回転自在であり，前記保持アームが前記補助アームに対して相対的に回転し，基板の受け渡し位置まで移動することによって，基板を搬送する搬送装置であって，前記保持アームに載置された基板を前記回転軸側から前記保持位置側に向かう所定方向に押圧する押圧部材と，前記押圧部材に押された基板が押し付けられ，固定される固定部材と，を備え，前記押圧部材は，前記回転軸から所定距離ずれた，前記補助アームの偏心部に回転自在に取り付けられ，前記保持アームには，前記押圧部材を前記所定方向に移動させるためのガイド部材が設けられ，前記保持アームが前記受け渡し位置にあるときには，前記押圧部材が前記保持アームの保持位置から離れ，前記保持アームが前記受け渡し位置から離れると，前記押圧部材が前記保持位置に近づくにように前記偏心部の位置は定められており，前記押圧部材は，前記補助アームの偏心部に取り付けられた可動板と，その可動板にピン結合され回動自在な基板ガイド部材とを有し，前記基板ガイド部材の基板との接触部は，二股に形成されていることを特徴とする。この場合，例えば円形の基板であっても，基板の移動方向がずれることなく基板を保持位置に適切に移動させることができる。
【００１８】
別の観点による本発明は，基板を所定の保持位置に保持する保持アームと，その保持アームに直列的に連結された補助アームとを少なくとも備え，前記保持アームは，前記補助アームとの連結部における鉛直方向の回転軸を中心に前記補助アームに対して回転自在であり，前記保持アームが前記補助アームに対して相対的に回転し，基板の受け渡し位置まで移動することによって，基板を搬送する搬送装置であって，前記保持アームに載置された基板を前記回転軸側から前記保持位置側に向かう所定方向に押圧する押圧部材と，前記押圧部材に押された基板が押し付けられ，固定される固定部材と，を備え，前記押圧部材は，前記回転軸から所定距離ずれた，前記補助アームの偏心部に回転自在に取り付けられ，前記保持アームには，前記押圧部材を前記所定方向に移動させるためのガイド部材が設けられ，前記保持アームが前記受け渡し位置にあるときには，前記押圧部材が前記保持アームの保持位置から離れ，前記保持アームが前記受け渡し位置から離れると，前記押圧部材が前記保持位置に近づくにように前記偏心部の位置は定められており，前記押圧部材には，当該押圧部材と一体となって移動する係止部材が取り付けられ，前記保持アームには，前記係止部材が当接することによって前記押圧部材の前記所定方向への移動を制限するストッパが設けられていることを特徴とする。かかる場合，押圧部材が基板を必要以上に前記固定部材に押し付けて基板を破損させることを防止できる。
また，前記ストッパには，前記係止部材との距離を調節する調節部材が設けられていてもよい。
【００１９】
前記固定部材の材質には，セラミックスが用いられてもよい。また，前記押圧部材の基板と接触する部分の材質には，基板よりも耐摩耗性及び／又は弾性に優れた樹脂が用いられていてもよい。
【００２０】
前記保持アームに連結された前記補助アームには，さらに他の補助アームが直列的に連結され，当該他の補助アームと補助アームとは，当該連結部において鉛直方向の回転軸を中心に回転自在であり，この他の補助アームは，さらに支柱に連結され，当該支柱を通る鉛直方向の回転軸を中心に回転自在であり，前記直列的に連結された前記保持アーム，補助アーム及び他の補助アームがそれぞれ連動して各回転軸を中心に所定のタイミングで回転し，結果的に前記保持アームが前記支柱から所定方向に進退できるようになっていてもよい。このような３つの回転軸を備えた搬送装置は，アームの移動機構等により構造が複雑になりやすいので，この発明のようにシリンダ等の駆動部を必要としない押圧部材で基板の固定，解除を行うことにより，搬送装置全体のこれ以上の複雑化が回避できる。したがって，押圧部材のためのシリンダ等の駆動部を取り付けた搬送装置に比べると，構造が簡単で安価な搬送装置を実現できる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
以下，本発明の好ましい実施の形態について説明する。図１は，本実施の形態にかかる搬送装置が搭載された塗布現像処理システム１の構成の概略を示す平面図であり，図２は，塗布現像処理システム１の正面図であり，図３は，塗布現像処理システム１の背面図である。
【００２２】
塗布現像処理システム１は，図１に示すように，例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部から塗布現像処理システム１に対して搬入出したり，カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットステーション２と，塗布現像処理工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション３と，この処理ステーション３に隣接して設けられている図示しない露光装置との間でウェハＷの受け渡しをするインターフェイス部４とを一体に接続した構成を有している。
【００２３】
カセットステーション２には，カセット載置台５が備えられ，このカセット載置台５上の所定の位置には，複数のカセットＣをＸ方向（図１中の上下方向）に一列に載置できる。そして，このカセット配列方向（Ｘ方向）に沿って搬送路６が敷設されており，この搬送路６には，搬送装置としてのウェハ搬送体７が搬送路６に沿って移動自在に備えられている。ウェハ搬送体７は，各カセットＣと後述する処理ステーション３のエクステンション装置３２にアクセス自在であり，カセットステーション２と処理ステーション３間でウェハＷを搬送できる。なお，ウェハ搬送体７の構成の詳細は，後述する。
【００２４】
処理ステーション３では，その中心部に主搬送装置１３が設けられており，この主搬送装置１３の周辺には各種処理装置が多段に配置されて処理装置群を構成している。当該塗布現像処理システム１においては，４つの処理装置群G1，G2，G3，G4が配置されており，第１及び第２の処理装置群G1，G2は塗布現像処理システム１の正面側に配置され，第３の処理装置群G3は，カセットステーション２に隣接して配置され，第４の処理装置群G4は，インターフェイス部４に隣接して配置されている。さらにオプションとして破線で示した第５の処理装置群G5を背面側に別途配置可能となっている。前記主搬送装置１３は，これらの処理装置群G1，G2，G3，G4，G5内に配置されている後述する各種処理装置に対して，ウェハＷを搬入出可能である。なお，処理装置群の数や配置は，ウェハＷに施される処理の種類によって異なり，処理装置群の数は，１つ以上であれば任意に選択可能である。
【００２５】
第１の処理装置群G1では，例えば図２に示すようにウェハＷにレジスト液を塗布するレジスト塗布装置１７と，露光後にウェハＷを現像処理する現像処理装置１８とが下から順に２段に配置されている。第２の処理装置群G2にも同様に，レジスト塗布装置１９と，現像処理装置２０とが下から順に２段に配置されている。
【００２６】
第３の処理装置群G3では，例えば図３に示すように，ウェハＷを冷却処理するクーリング装置３０，レジスト液とウェハＷとの定着性を高めるためのアドヒージョン装置３１，ウェハＷの受け渡しを行うためのエクステンション装置３２，レジスト液中の溶剤を蒸発させるためのプリベーキング装置３３，３４，現像処理後の加熱処理を行うポストベーキング装置３５が下から順に例えば６段に積み重ねられている。
【００２７】
第４の処理装置群G4では，例えばクーリング装置４０，載置したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クーリング装置４１，エクステンション装置４２，クーリング装置４３，露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキング装置４４，４５，ポストベーキング装置４６が下から順に例えば７段に積み重ねられている。
【００２８】
インターフェイス部４の中央部には，図１に示すように例えばウェハ搬送体５０が設けられている。このウェハ搬送体５０はＸ方向（図１中の上下方向），Ｚ方向（鉛直方向）の移動とθ方向（Ｚ軸を中心とする回転方向）の回転が自在に構成されており，第４の処理装置群G4に属するエクステンション・クーリング装置４１，エクステンション装置４２，周辺露光装置５１及び図示しない露光装置に対してアクセスして，各々に対してウェハＷを搬送できるように構成されている。
【００２９】
次に，ウェハ搬送体７の構成について詳しく説明する。ウェハ搬送体７は，図４に示すように多関節の搬送ロボットであり，支柱６０に取り付けられた第１アーム６１と，第１アーム６１に直列的に連結された第２アーム６２と，第２アーム６２に直列的に連結され，ウェハＷを保持するヘッドアーム６３を備えている。他の補助アームとしての第１アーム６１は，支柱６０を通る鉛直方向の第１回転軸Ｄ周りに回転できる。補助アームとしての第２アーム６２は，第１アーム６１との連結部分にある鉛直方向の第２回転軸Ｅを中心にして，第１アーム６１に対して回転できる。保持アームとしてのヘッドアーム６３は，第２アーム６２との連結部分において第２アーム６２と第３回転軸Ｆを共有し，第２アーム６２に対して第３回転軸Ｆを中心に回転できる。また，第１回転軸Ｄから第２回転軸Ｅまでの距離と第２回転軸Ｅから第３回転軸Ｆまでの距離が等しくなるように，第１アーム６１と第２アーム６２の長さが調整されている。
【００３０】
第１アーム６１には，例えば図５に示すようにモータ等の駆動部Ｍが設けられており，この駆動部Ｍによって第１アーム６１は，第１回転軸Ｄを中心に支柱６０に対して回転できる。この第１アーム６１内には，第１回転軸Ｄを軸に回転する第１プーリ７０が支柱６０に固定されて設けられている。第１アーム６１内には，第２回転軸Ｅを軸に第１アーム６１に対して自由に回転できる第２プーリ７１が設けられている。この第２プーリ７１と第１プーリ７０は，第１ベルト７２によって連結されており，第１プーリ７０と第２プーリ７１のプーリ比は，２：１に保たれている。また，第２プーリ７１は，第２アーム６２に固定されており，第２アーム６２は，第２プーリ７１と一体となって回転する。したがって，第１アーム６１が支柱６０に対して回転すると，第１ベルト７２を介して第２プーリ７１が回転し，第２アーム６２も回転する。
【００３１】
第２アーム６２内には，第２プーリ７１と同軸上にあり，かつ前記第１アーム６１に固定された第３プーリ７３が設けられている。また，第２アーム６２内には，第３回転軸Ｆを軸に第２アーム６２に対して自由に回転できる第４プーリ７４が設けられている。第２アームの第３回転軸Ｆには，軸シャフトＳが設けられており，前記第４プーリ７４は，この軸シャフトＳを中心に回転できる。第４プーリ７４は，第２ベルト７５によって第３プーリ７３に連結されており，第３プーリ７３と第４プーリ７４とのプーリ比は，１：２に保たれている。第４プーリ７４は，ヘッドアーム６３に固定されており，ヘッドアーム６３は，第４プーリ７４と一体となって回転する。したがって，第２アーム６２が第１アーム６１に対して回転すると，第３プーリ７３が回転し，ヘッドアーム６３が回転する。なお，第２プーリ７１と第３プーリ７３とのプーリ比は，２：１に保たれている。
【００３２】
このように構成されたウェハ搬送体７の動作原理について説明すると，例えば図５，図６に示すように駆動部Ｍにより第１アーム６１が角度αだけ時計回りに回転した場合，第１プーリ７０が支柱６０に固定されているので，第１ベルト７２を通じて第２プーリ７１が反時計回りに回転する。これにより，第２プーリ７１に固定された第２アーム６２が反時計回りに回転する。このとき，第１プーリ７０と第２プーリ７１のプーリ比が２：１であるので，第２アーム６２は，反時計回りに角度２αだけ回転する。
【００３３】
また，第２アーム６２が反時計回りに回転すると，第３プーリ７３が第１アーム６１に固定されているので，第２ベルト７５を通じて第４プーリ７４が時計回りに回転する。これにより，第４プーリ７４に固定されたヘッドアーム６３が時計回りに回転する。このとき，第３プーリ７３と第４プーリ７４とのプーリ比が，２：１であるので，ヘッドアーム６３は，第２アーム６２に対して時計回りに角度αだけ回転する。この結果，ヘッドアーム６３は，支柱６０のある第１回転軸Ｄから外方向に常に一定方向を向いて直線動作する。つまり，ウェハ搬送体７は，図１に示すようにヘッドアーム６３の先端部を常にＹ方向（図１の左右方向）に向けた状態で，ヘッドアーム６３を直線的に進退することができる。
【００３４】
なお，ウェハ搬送体７のアーム６１〜６３が折り畳まれた時，例えばヘッドアーム６３が支柱６０上に位置した時の位置がこのウェハ搬送体７のホーム位置Ｈになっている。したがって，ヘッドアーム６３は，このホーム位置Ｈを起点にＹ方向に進退する。なお，このように構成されたウェハ搬送体７では，ヘッドアーム６３と第１アーム６１とのなす角は，ヘッドアーム６３がホーム位置Ｈにある時に小さく，ヘッドアーム６３がＹ方向に進むにつれて１８０°に近づく。
【００３５】
また，ウェハ搬送体７は，図４に示すように支柱６０を昇降させたり，回転させたりするモータやシリンダ等の備えた駆動部７６を備えている。こうすることによって，ウェハ搬送体７は，支柱６０をＺ方向（鉛直方向）に昇降させて，ヘッドアーム６３をウェハＷの受け渡し位置の高さに合わせることができる。また，ウェハ搬送体７をθ方向（第１回転軸Ｄを中心とした回転方向）に回転させ，ウェハ搬送体７全体の向きを変えて，カセットステーション２のカセットＣ側と処理ステーション３側にウェハＷを搬送することができる。
【００３６】
ヘッドアーム６３は，図７に示すように略Ｕ字形でウェハＷの保持位置Ｐのあるヘッド部６３ａと，そのヘッド部６３ａの根元部分でヘッド部６３ａを支えるアーム部６３ｂから構成されている。ヘッド部６３ａには，ウェハＷを保持するための固定部材８０，８１と支持部材８２，８３が取り付けられている。固定部材８０，８１は，ヘッド部６３ａの先端部Ａに，支持部材８２，８３は，ヘッド部６３ａのアーム部６３ｂ側に設けられている。
【００３７】
固定部材８０，８１は，例えば図８に示すようにアーム部６３ｂ側に面した垂直面８５と，当該垂直面８５の下端部に向かって次第に高くなる傾斜面８６を有している。垂直面８５は，例えばウェハＷの厚みより僅かに高い，例えば１ｍｍ程度の高さに形成されている。垂直面８５は，平面から見ると図７に示すようにウェハＷの側面の形状に適合するように円弧状に湾曲している。傾斜面８６は，例えば水平面に対し４°〜６°程度の角度に形成されている。かかる構成から，後述する押圧部材１００によりアーム部６３ｂ側から押されたウェハＷが，ウェハＷの裏面との擦れる面積が少ないように傾斜面８６に沿って誘導され，最終的に垂直面８５に到達し，垂直面８５に適合する。なお，固定部材８０，８１の材質は，例えば耐摩耗性の優れたセラミックス，ＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）等の樹脂が用いられる。
【００３８】
支持部材８２，８３は，図８に示すように保持位置Ｐに向かって低くなる第１傾斜部９０と，第１傾斜部９０の下端に繋がる垂直部９１と，この垂直部９１の下端からヘッド６３ａの先端部Ａ側に向かって低くなる載置部としての第２傾斜部９２とを備えている。第１傾斜部９０は，例えば水平面に対し４°〜６°程度の角度に形成されており，後述する押圧部材１００により押されたウェハＷは，この第１傾斜部９０に沿って誘導され，第２傾斜部９２に落とし込まれる。なお，第２傾斜部９２も水平面に対し４°〜６°程度の角度に形成されている。
【００３９】
垂直部９１は，その下端が上述の固定部材８０，８１の垂直面８５の下端より少し高くなるように形成され，例えば後述する押圧部材１００により押されたウェハＷの先端部Ａ側の側面が垂直面８５に合致した時に，ウェハＷが水平に支持されるようになっている。
【００４０】
垂直部９１と垂直面８５は，保持位置ＰにウェハＷを支持した際に，このウェハＷに対して例えば０．３ｍｍ程度の遊び，つまりウェハＷと垂直部９１及び垂直面８５との間に所定の隙間ができるように形成される。こうすることにより，ウェハＷが第２傾斜部９２上に落とし込まれた時にも，ウェハＷは保持位置Ｐ内で遊動できる。垂直部９１は，図７に示すようにウェハＷの形状に合わせて，平面から見て円弧状に設けられている。なお，この支持部材８２，８３の材質には，例えばＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）等の樹脂が用いられる。
【００４１】
ヘッドアーム６３のアーム部６３ｂ上には，ヘッド部６３ａ上のウェハＷを押圧するための押圧部材１００が配置されている。この押圧部材１００は，例えば図９に示すように可動板１０１と，押圧部材１００の接触部としてのウェハガイド部材１０２とを備えている。ウェハガイド部材１０２は，ウェハＷの側面を，例えば２箇所で点接触で押圧できるように二股に分かれている。ウェハガイド部材１０２のウェハＷとの接触部分１０２ａは，例えばＰＥＥＫ（ポリエーテルエーテルケトン）等の樹脂により形成されている。ウェハガイド部材１０２と可動板１０１とは，ピン１０３によってピン結合されており，互いに回動自在である。なお，接触部分１０２ａは，ウェハＷの素材であるシリコンよりも柔らかく，耐摩耗性の優れたものであればよく，例えば耐摩耗性の優れた弾性体であってもよい。
【００４２】
この押圧部材１００は，第３回転軸Ｆ側から保持位置Ｐ側に向かう所定方向（本実施の形態ではＹ方向）にヘッドアーム６３に対してスライド自在に構成されている。特に，ヘッドアーム６３がＹ方向に進行しウェハＷの受け渡し位置にある時に，押圧部材１００は保持位置Ｐから後退し，ヘッドアーム６３が受け渡し位置Ｐにない，例えばウェハＷの搬送中に，押圧部材１００は保持位置Ｐ側に移動するようになっている。以下，この押圧部材１００のＹ方向のスライド機構について説明する。
【００４３】
第２アーム６２に固定された軸シャフトＳの側面には，図１０に示すように偏心部としての偏心シャフトＴが取り付けられている。偏心シャフトＴは，例えば軸シャフトＳから水平方向に進み，直角に曲がって上方に延びる略Ｌ字型を有している。この偏心シャフトＴは，軸シャフトＳから第２回転軸Ｅ側に所定距離ずれた位置，例えば図１１に示すように第２アーム６２の水平方向の中心線Ｒ上であって平面から見て第３回転軸Ｆから３．５ｍｍ程度ずれた偏心軸Ｇ上を通るように形成されている。一方，押圧部材１００の可動板１０１は，支持体としての垂直支持棒１０５により支持されている。この垂直支持棒１０５は，ヘッドアーム６３に設けられた貫通孔としてのガイド穴１０６を貫通し，偏心軸Ｇ上にある偏心シャフトＴに連結されている。垂直支持棒１０５と偏心シャフトＴは，例えば図示しない転がり軸受け等を介して連結されており，垂直支持棒１０５は，偏心シャフトＴに対して回転自在になっている。つまり，垂直支持棒１０５に支持された押圧部材１００は，第２アーム６２の偏心軸Ｇ上の偏心シャフトＴに回転自在に取り付けられている。この結果，ヘッドアーム６３が第２アーム６２に対して第３回転軸Ｆを中心に回転し，例えば図１１に示すようにヘッドアーム６３と第２アーム６２とが直線状になるにつれて，偏心シャフトＴ（偏心軸Ｇ）と保持位置Ｐとの距離Ｌは長くなり，図１２に示すようにヘッドアーム６３と第２アーム６２とのなす角が小さくなるにつれ，距離Ｌは短くなる。
【００４４】
また，ヘッドアーム６３上の押圧部材６３の両脇には，図７に示すように押圧部材１００のＸ方向（Ｙ方向の直角方向）への移動を規制するガイド部材及び規制部材としてのピン１０７が立てられている。これにより，ヘッドアーム６３の回転に伴って押圧部材１００が強制的に回転させられ，押圧部材１００を常にヘッドアーム６３と同じＹ方向側に向けておくことができる。したがって，押圧部材１００は，ほぼＹ方向にのみスライドする。
【００４５】
かかる構成からヘッドアーム６３と第２アーム６２とが直線状に近づき，より遠くにあるウェハＷの受け渡し位置に近づくと，偏心シャフトＴに取り付けられている押圧部材１００がＹ方向の第３回転軸Ｆ側にスライドする。そして，ヘッドアーム６３と第２アーム６２との角度が小さくなり，ヘッドアーム６３が受け渡し位置から離れると，押圧部材１００がＹ方向の保持位置Ｐ側にスライドする。
【００４６】
そして，この押圧部材１００のスライド動作を利用して，ヘッドアーム６３がウェハＷの受け渡し位置に到達したときに，丁度押圧部材１００が保持位置ＰのウェハＷから離れ，ヘッドアーム６３が受け渡し位置から離れたときに，押圧部材１００が保持位置ＰのウェハＷを押圧し，前記固定部材８０，８１に押しつけるように偏心軸Ｇ，つまり偏心シャフトＴの位置は定められている。
【００４７】
なお，ガイド穴１０６は，例えば第３回転軸Ｆを中心とし，平面から見て偏心軸Ｇを通過する円弧状に形成される。これにより，ヘッドアーム６３は，垂直支持棒１０５を貫通した状態で第２アーム６２に対して回転できる。
【００４８】
ウェハ搬送体７は，以上のように構成されており，次にその動作について，塗布現像処理システム１で行われるフォトリソグラフィー工程のプロセスと共に説明する。先ず，ウェハ搬送体７によりカセットＣから未処理のウェハＷが１枚取り出され，第３の処理装置群G3に属するエクステンション装置３２に搬送される。次いでウェハＷは，主搬送装置１３によってアドヒージョン装置３１に搬送され，例えばHMDS等の処理液が塗布された後，クーリング装置３０に搬送され，所定の温度に冷却される。所定温度に冷却されたウェハＷは，主搬送装置１３によって，レジスト塗布装置１７に搬送され，レジスト塗布処理が行われた後，プリベーキング装置３４，エクステンション・クーリング装置４１に順次搬送される。その後ウェハ搬送体５０によって周辺露光装置５１，露光装置（図示せず）に順次搬送され，露光処理の終了したウェハＷは，エクステンション装置４２に戻される。その後，主搬送装置１３によってポストエクスポージャーベーキング装置４４，クーリング装置４３，現像処理装置１９，ポストベーキング装置４６及びクーリング装置３０に順次搬送され，各装置において所定の処理が施される。その後，ウェハＷは，エクステンション装置３２に搬送され，エクステンション装置３２からウェハ搬送体７によりカセットＣに戻されて，一連のフォトリソグラフィー工程が終了する。
【００４９】
次に，上述のウェハ搬送体７の動作について詳しく説明する。ウェハＷの受け渡し位置であるカセットＣからウェハＷを取り出す際には，先ず，ウェハ搬送体７が搬送路６に沿ってＸ方向に移動し，カセットＣに対向する位置まで移動する。次いで，ウェハ搬送体７がＺ方向に移動し，ヘッドアーム６３の高さが調節される。その後，ヘッドアーム６３がホーム位置ＨからカセットＣに向かってＹ方向正方向に移動する。この際，駆動部Ｍによってヘッドアーム６３，第１アーム６１及び第２アーム６２が稼動し，上述したようにヘッドアーム６３が直線的に移動する。
【００５０】
Ｙ方向正方向側に移動してカセットＣ内に進入したヘッドアーム６３は，下方からウェハＷを持ち上げ，ヘッド部６３ａ上にウェハＷを支持する。このとき，図１３に示すようにヘッドアーム６３が受け渡し位置Ｋに到達し，偏心軸Ｇが保持位置Ｐから遠ざかるので，押圧部材１００はウェハＷから離れた状態にある。そして，ウェハＷを支持したヘッドアーム６３は，先程カセットＣに直進した時と同様にホーム位置Ｈに向かって直線的に後退する。この後退時には，ヘッドアーム６３と第１アーム６１とのなす角が小さくなり，偏心軸Ｇが保持位置Ｐに近くなるので，押圧部材１００が保持位置Ｐ側にスライドする。このとき，例えば図１４に示すようにウェハＷが支持部材８２，８３の傾斜部９０上に乗り上げていた場合には，押圧部材１００がウェハＷを保持位置Ｐ側に押し，ウェハＷは，第２傾斜部９２に落とし込まれる。このとき，ウェハＷの先端部Ａ側は，固定部材８０，８１の傾斜面８６に沿って垂直面８５側に誘導される。そしてウェハＷは，押圧部材１００によりさらに先端部Ａ側に押され，図１５に示すように垂直面８５に押さえ付けられ，固定される。これ以降，ウェハＷは，押圧部材１００によって固定された状態で搬送される。一方，ウェハＷが保持位置Ｐに適切に載置されていた場合にも，ウェハＷは，押圧部材１００により先端部Ａ側に押圧され，固定部材８０，８１に固定される。
【００５１】
ヘッドアーム６３が後退してホーム位置Ｈに戻ると，例えば支柱６０が１８０°回転し，ウェハ搬送体７全体が処理ステーション３側に向けられる。その後ウェハ搬送体７がＸ方向に移動し，ヘッドアーム６３が次の受け渡し位置であるエクステンション装置３２の正面に移動される。
【００５２】
続いてヘッドアーム６３は，エクステンション装置３２に向かってＹ方向負方向に直進し，ウェハＷをエクステンション装置３２内に搬入する。そして，ウェハＷがエクステンション装置３２の受け渡し位置に到達すると，押圧部材１００が押圧していたウェハＷから離れ，固定されていたウェハＷが自由になる。これによって，ウェハＷは，保持位置Ｐ上で遊動可能になる。
【００５３】
その後，ヘッドアーム６３からエクステンション装置３２にウェハＷが受け渡され，ヘッドアーム６３は，再びホーム位置Ｈに戻される。
【００５４】
また，処理ステーション３のエクステンション装置３２側からカセットＣにウェハＷを搬送する際も，上述した例と同様にヘッドアーム６３は，Ｙ方向負方向側に直進し，押圧部材１００が保持位置Ｐから後退した状態で，ウェハＷを保持する。そして，ヘッドアーム６３がホーム位置Ｈに向けてＹ方向正方向側に後退すると直ぐに，押圧部材１００と固定部材８０，８１によってウェハＷが固定される。その後，ウェハ搬送体７がカセットステーション２側に向いて，ヘッドアーム６３がＹ方向正方向側に直進し，ヘッドアーム６３がカセットＣに到達すると，ウェハＷの固定が解除される。その後ウェハＷは，カセットＣの所定位置に収容される。
【００５５】
以上の実施の形態によれば，ヘッドアーム６３と第２アーム６２との相対的な回転運動を利用して，押圧部材１００をヘッドアーム６３上においてスライドさせることができる。これにより，ウェハＷの搬送中においては，押圧部材１００によりウェハＷを押しつけ固定し，ウェハＷを受け渡す際には，ウェハＷの固定を解除することができる。したがって，搬送中にウェハＷが微動してウェハＷと支持部材８２，８３等との接触によるパーティクルの発生が防止できる。また，搬送中にウェハＷが落下することも防止できる。さらに，ウェハＷの受け渡しをスムーズに行うことができる。
【００５６】
かかるウェハＷの固定，解除の操作を，ヘッドアーム６３の回転を利用してできるので，別途押圧部材１００をスライドさせる駆動機構を取り付ける必要がなく，かかる操作を，比較的単純な機構で安価に実現できる。
【００５７】
ヘッドアーム６３の支持部材８２，８３に，第１傾斜部９０を形成したので，ウェハＷがヘッド部６３ａに適切に支持されなかった場合にも，押圧部材１００によって当該ウェハＷが保持位置Ｐに適切に誘導される。
【００５８】
また，支持部材８２，８３を，ウェハＷが載置された際に当該ウェハＷに対して遊びができるように形成したので，カセットＣのように載置位置が厳密に定まっていないような場合でも，ウェハＷの受け渡しを確実かつ適切に行うことができる。
【００５９】
ヘッドアーム６３に垂直支持棒１０５を貫通させるガイド穴１０６を設けたので，垂直支持棒１０５をヘッドアーム６３を迂回させる形状にする必要がなく，その分ヘッドアーム６３周辺の構成を単純化できる。押圧部材１００のガイド部１０２を二股にしたので，円形のウェハＷを２箇所で押し，ウェハＷを確実に先端部Ａの方向に押すことができる。固定部材８０，８１の材質を耐摩耗性の優れたセラミックスにしたので，繰り返しウェハＷと接触しても摩耗せず，パーティクルの発生等を抑制できる。また，固定部材８０，８１に傾斜面８６を形成したので，ウェハＷの裏面と固定部材８０，８１との接触面積が減り，接触によるパーティクルの発生をさらに効果的に抑えられる。同様に支持部材８２，８３にも，第１傾斜部９１，第２傾斜部９２を形成したので，ウェハＷ裏面との接触を最小限に抑え，パーティクルの発生を抑制できる。なお，第１傾斜部９１を形成せず，その部分が平坦であってもよい。
【００６０】
ヘッドアーム６３に，ガイド部材としてのピン１０７を設けたので，押圧部材１００のヘッドアーム６３に対する回転を規制し，結果的に押圧部材１００をＹ方向のみに移動させることができる。
【００６１】
なお，前記実施の形態で記載した支持部材８２，８３の形状は，図１６に示すように平面から見て円形状であってもよい。この場合，支持部材８２，８３とウェハＷとが点接触になり，接触によるパーティクルの発生を最小限に抑えることができる。また，支持部材８２，８３とウェハＷとが点接触なので，面接触の時のように接触面の位置調整を必要としない。
【００６２】
以上の実施の形態で記載したヘッドアーム６３のピン１０７の代わりに，押圧部材をＹ方向に直線的に移動させるための直動ガイドを用いてもよい。図１７は，かかる一例を示すものであり，ヘッドアーム１１０表面に直動ガイドとしてのレール１１１が取り付けられる。レール１１１には，例えばへッドアーム１１０のＹ方向（図１７中の左右方向）の中心線Ｂに沿った溝１１２が形成されている。押圧部材１１３には，溝１１２に適合するガイド１１４が取り付けられている。ガイド１１４は，押圧部材１１３が垂直支持棒１１５に従って回転できるように，溝１１２との間に隙間ができるように形成されている。かかる構成により押圧部材１１３は，レール１１１に沿ってヘッドアーム１１０上を直線的に移動できる。
【００６３】
また，押圧部材１１３には，押圧部材１１３と一体となって移動する係止部材１１６が取り付けられている。係止部材１１６は，例えば略円筒形状に形成されており，支持棒１１７により押圧部材１１３と平行になるように支持されている。一方，ヘッドアーム１１０には，係止部材１１６のＹ方向への移動を制限するストッパ１１８が設けられている。ストッパ１１８は，係止部材１１６に対向する位置に設けられている。したがって，押圧部材１１３がヘッドアーム１１０に対してＹ方向にスライドし，所定距離進むと，係止部材１１６がストッパ１１８に衝突し，押圧部材１１３を停止させることができる。また，ストッパ１１８には，例えば係止部材１１６との距離を調節できる調節部材であるねじ１１９が設けられている。このねじ１１９は，例えば回すとストッパ１１８がＹ方向に進退するようになっており，ストッパ１１８と係止部材１１６との距離を調節できる。したがって，このねじ１１９により押圧部材１１３の移動距離が調整できる。
【００６４】
そして，例えば押圧部材１１３が保持位置Ｐ上のウェハＷを押し，ウェハＷが固定部材８０，８１の垂直面８５に接触した時に，押圧部材１１３の移動が止められるようにストッパ１１８の位置が調節される。こうすることによって，押圧部材１１３が必要以上の力でウェハＷを垂直面８５に押しつけてウェハＷを歪めたり，破損させたりすることが抑制できる。
【００６５】
以上の実施の形態では，押圧部材１００を第２アーム６２に回転自在に直接取り付けて，ヘッドアーム６３と第２アーム６２との回転運動を押圧部材１００の直線運動に変換していたが，ヘッドアーム６３と第２アーム６２との回転運動をカム装置等の伝動機構を介して押圧部材１００の直線運動に変換してもよい。例えば，図１８に示すように第２アーム６２の第３回転軸Ｆ側に固定された原節である正面カム１２０に従節である押圧部材１００を取り付けるようにしてもよい。この場合，ヘッドアーム６３と第２アーム６２が直線状になるウェハＷの受け渡し時に，押圧部材１００が第２アーム６２側に後退し，ヘッドアーム６３が第２アーム６２に対して所定角度を有するウェハＷの搬送時に，押圧部材１００がヘッドアーム６３の先端部側に移動するように，正面カム１２０の溝１２０ａは形成される。なお，カムは，正面カムに限られず，板カム等の他の種のカムであってもよい。例えば図１９に示すような板カム１２５の場合，押圧部材１００を第２アーム６２側に付勢する付勢部材（図示せず）を取り付けて，押圧部材１００の往復運動を実現してもよい。
【００６６】
以上の実施の形態では，３つのアームと３つの回転軸を有するウェハ搬送体７について記載したが，本発明は，少なくともヘッドアーム６３が第２アーム６２に回転自在に連結されているのもであれば，アーム及び回転軸の数は，限定されない。
【００６７】
以上の実施の形態は，本発明をウェハ搬送体７に適用したものであったが，本発明を他の搬送装置，例えば主搬送装置１３，ウェハ搬送体５０に適用してもよい。また，以上の実施の形態は，本発明をウェハＷを搬送する搬送装置に適用したものであったが，本発明は，ウェハＷ以外の基板例えばＬＣＤ基板，マスク基板，レクチル基板等の搬送装置にも適用できる。
【００６８】
【発明の効果】
本発明によれば，別途押圧部材の駆動部を備える必要がないので，搬送装置全体の構成が簡単になる。また，それに伴い搬送装置の製造コストが安価になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態における塗布現像処理システムの構成の概略を示す平面図である。
【図２】図１の塗布現像処理システムの正面図である。
【図３】図１の塗布現像処理システムの背面図である。
【図４】ウェハ搬送体の概略を示す斜視図である。
【図５】ウェハ搬送体の構成を示す縦断面の説明図である。
【図６】ウェハ搬送体の動作原理を説明するためのウェハ搬送体の模式図である。
【図７】ヘッドアームの構成を説明するための平面図である。
【図８】ヘッドアームのヘッド部の構成を説明するためのヘッド部の縦断面の説明図である。
【図９】押圧部材の斜視図である。
【図１０】押圧部材と第２アームとの連結部を示す縦断面の説明図である。
【図１１】ヘッドアームと第２アームとが直線状になった状態を示す説明図である。
【図１２】ヘッドアームと第２アームとの角度が小さくなった状態を示す説明図である。
【図１３】ウェハ搬送体の伸びた時と，縮んだ時の状態を示す説明図である。
【図１４】ウェハが支持部材上に乗り上がった場合を示すヘッド部の縦断面の説明図である。
【図１５】ウェハが固定部材に固定された状態を示すヘッド部の縦断面の説明図である。
【図１６】支持部材が円形状のヘッドアームの構成を説明するための平面図である。
【図１７】押圧部材にストッパを設けた場合のヘッドアームのアーム部の平面図である。
【図１８】正面カムを用いた押圧部材の移動機構を示す説明図である。
【図１９】板カムを用いた押圧部材の移動機構を示す説明図である。
【図２０】３軸の搬送装置を模式的に現した説明図である。
【符号の説明】
１    塗布現像処理システム
７    ウェハ搬送体
６０    支柱
６２    第２アーム
６３    ヘッドアーム
１００  押圧部材
Ｅ    第２回転軸
Ｆ    第３回転軸
Ｇ    偏心軸
Ｔ    偏心シャフト
Ｗ    ウェハ
【図１】
0003962609.tif 000002
【図２】
0003962609.tif 000003
【図３】
0003962609.tif 000004
【図４】
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【図５】
0003962609.tif 000006
【図６】
0003962609.tif 000007
【図７】
0003962609.tif 000008
【図８】
0003962609.tif 000009
【図９】
0003962609.tif 000010
【図１０】
0003962609.tif 000011
【図１１】
0003962609.tif 000012
【図１２】
0003962609.tif 000013
【図１３】
0003962609.tif 000014
【図１４】
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【図１５】
0003962609.tif 000016
【図１６】
0003962609.tif 000017
【図１７】
0003962609.tif 000018
【図１８】
0003962609.tif 000019
【図１９】
0003962609.tif 000020
【図２０】
0003962609.tif 000021