(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被研磨材の研磨面の化学機械的研磨を含む複数の処理を行うための複数の装置を備えたポリッシング装置において、
前記ポリッシング装置の内部空間を複数の部屋に分割する壁と、
各部屋の壁の一部に設けられた開閉自在なドアと、
前記複数の装置のうちの所定の装置を前記ポリッシング装置の外部に待避させるための案内レールとを具備し、
前記所定の装置を前記案内レール上を走行させて前記ポリッシング装置の外部に待避させ、前記所定の装置が元あった場所から、他の装置に対するメンテナンスを行うことができるようにしたことを特徴とするポリッシング装置。
【請求項２】
前記所定の装置は、被研磨材を収容する収容装置と被研磨材の研磨面を化学機械的に研磨する研磨装置との間に設けられ、前記収容装置と前記研磨装置との間で移送される被研磨材を仮置きするための仮置室であることを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置。
【請求項３】
前記案内レールに沿った床面を床板で被覆したことを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置。
【請求項４】
複数の洗浄部が有り、前記所定の装置の両側にそれぞれ１個以上の洗浄部が有るように配置されたことを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ポリッシング装置に係り、特に、半導体ウエハ等の被研磨材を平坦かつ鏡面状に研磨するポリッシング装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、半導体デバイスの高集積化が進むにつれて回路の配線が微細化し、配線間距離もより狭くなりつつある。これに伴い、光リソグラフィなどで回路形成を行なう場合に焦点深度が浅くなるので、ステッパの結像面のより高い平坦度を必要とする。半導体ウエハの表面を平坦化する手段として、回転するターンテーブル上に貼付した研磨布に砥粒を含む研磨液を供給しながら、キャリアで保持したウエハを研磨布に押しつけて研磨する化学機械的研磨（ＣＭＰ）が行われている。
【０００３】
このような研磨装置として、平面内で周期運動する研磨テーブルと、該研磨テーブルに対して被研磨材の研磨面を押圧する把持部材とを有する研磨装置が用いられている。そして、このような研磨ユニットに、さらに、被研磨材を収容する収容装置と、前記研磨装置において研磨がされた被研磨材を洗浄する洗浄装置と、前記収容部に隣接して設けられた反転装置と、これらの各部又は装置の間で被研磨材を移送する搬送装置とを付加したポリッシング装置が用いられている。
【０００４】
これは、例えば、図４に示すように、被研磨材を収容する収容部１００ａ，１００ｂと、それぞれがターンテーブル１０２とトップリング１０４を有する少なくとも２つの研磨ユニット１０６ａ，１０６ｂと、研磨ユニット１０６ａ，１０６ｂにおいて研磨された被研磨材を洗浄及び乾燥する洗浄装置１０８ａ〜１０８ｄと、これらの装置の間で被研磨材を移送する搬送装置１１０と、被研磨材を反転させるための反転機１１２ａ，１１２ｂを備えている。各ユニットは、全体としての処理の流れと被研磨材の搬送とを考慮して、例えば、フレームで構築された直方体状の空調可能な収容空間内に配置されている。
【０００５】
このポリッシング装置は２つの研磨ユニットを有するので、化合物半導体の製造などにおいて研磨液を変えて多段で研磨作業を行なう場合に、前段階の研磨液による汚染を防止して、品質や歩留まりの低下を防ぐことができ、さらに、１段研磨の場合には、これをそれぞれの研磨ユニットでパラレルに行ってスループットを上げるように用いることもできる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述したこれまでのポリッシング装置では、同一収容空間内に各処理工程を行なう各種装置が密な状態で配置されているため、例えば、研磨ユニット１０６ａ，１０６ｂから発する研磨液の飛沫が、洗浄装置１０８ｄにある洗浄を終えたウエハを汚染する可能性がある。そこで、要求される清浄度に従い、各処理部を隔壁で区画して汚染を防止することが考えられる。しかしながら、その場合には、従来に比べてさらに各装置への人のアクセスが困難になり、それらの点検や修理等のメンテナンスが困難となるという課題がある。
【０００７】
従って、この発明は、装置間の相互汚染を防止しながら、各装置のメンテナンスを容易に行うことができるポリッシング装置を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、被研磨材の研磨面の化学機械的研磨を含む複数の処理を行うための複数の装置を備えたポリッシング装置において、前記ポリッシング装置の内部空間を複数の部屋に分割する壁と、各部屋の壁の一部に設けられた開閉自在なドアと、前記複数の装置のうちの所定の装置を前記ポリッシング装置の外部に待避させるための案内レールとを具備し、前記所定の装置を前記案内レール上を走行させて前記ポリッシング装置の外部に待避させ、前記所定の装置が元あった場所から、他の装置に対するメンテナンスを行うことができるようにしたことを特徴とするポリッシング装置である。これにより、ポリッシング装置の各部分のメンテナンスを行う時には、各部を収容している部屋を区画している外壁や隔壁等の壁の一部に設けたドアを開くことにより、それらの部分に直接にアクセスことができる。
【０００９】
また、所定の装置を案内レールにより部屋の外部に退避させることによってこの装置の有った場所に空間を形成し、ここに人が入ることにより必要なメンテナンスを行うことができる。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記所定の装置は、被研磨材を収容する収容装置と被研磨材の研磨面を化学機械的に研磨する研磨装置との間に設けられ、前記収容装置と前記研磨装置との間で移送される被研磨材を仮置きするための仮置室であることを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置である。仮置室は、部屋の間で被研磨材を移送する移送路に位置しており、これを待避させることで各部屋へのメンテナンス用の通路が構成される。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記案内レールに沿った床面を床板で被覆したことを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置であるので、メンテナンス用通路に配線、配管、駆動機構等が露出せず、人が通過しやすく、また通過の際に配線等を引っかけて損傷することもない。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、複数の洗浄部が有り、前記所定の装置の両側にそれぞれ１個以上の洗浄部が有るように配置されたことを特徴とする請求項１に記載のポリッシング装置である。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明に係るポリッシング装置の実施の形態を図１乃至図３に基づいて説明する。この装置は、全体が長方形をなす床上のスペースの一端側の一側に２基の研磨装置１０ａ，１０ｂが配置され、他端にはウエハ収納用カセット１２ａ，１２ｂを載置するロード・アンロードユニット１４が配置されている。
【００１４】
ロード・アンロードユニット１４から装置の長手方向に沿って２軌の走行レール１６ａ，１６ｂが間に搬送ゲート１８を挟んで敷設され、それぞれのレール１６ａ，１６ｂ上には搬送ロボット２０ａ，２０ｂが走行可能に配置されている。走行レール１６ａ，１６ｂの先端側には、バフ研磨装置２２とバフ研磨工具のドレッシングを行なう工具の洗浄槽２３ａが設けられ、走行レール１６ａ，１６ｂの脇には、２台の反転機２４ａ，２４ｂと３台の洗浄機２６ａ，２６ｂ，２６ｃが配置されている。
【００１５】
２基の研磨装置１０ａ，１０ｂは、上面に研磨布を貼付したターンテーブル２８と、ウエハを真空吸着により保持してターンテーブル２８に押し付けるトップリング３０と、研磨布の目立てを行なうドレッシング装置３２と、これらのターンテーブル２８やドレッシング装置３２に水や砥粒を含む研磨液などを供給する手段とを備えており、それぞれの搬送ラインに面する位置には、ウエハをトップリング３０との間で授受するプッシャ３４が設置されている。トップリング３０は水平面内で旋回可能とされ、プッシャ３４は上下動可能となっている。
【００１６】
バフ研磨装置２２は、研磨装置１０ａ，１０ｂで研磨されたウエハをさらに仕上げ研磨あるいは洗浄研磨するもので、バフを貼付した並進円運動をするテーブル（バフ研磨工具）として構成され、搬送ロボットとウエハの授受を仲介するプッシャ３６、このプッシャからウエハを把持してバフ研磨工具に押圧するトップリング（把持装置）２２ａと、バフ研磨工具の目立てを行なうためのドレッシング工具（ドレッシング装置）２３が設けられている。図１ではトップリング２２ａがバフ研磨工具上にあり、ドレッシング工具２３が洗浄槽２３ａ上にある状態を示している。
【００１７】
バフ研磨装置でウエハを研磨するときは、トップリング２２ａ、ドレッシング工具２３が図１の状態から移動し、トップリング２２ａがプッシャ３６上、ドレッシング工具２３がバフ研磨工具上に位置し、ドレッシング工具でバフ研磨工具を再生しつつ、トップリング２２ａでプッシャ３６上のウエハを保持し、再びトップリング２２ａ、ドレッシング工具２３が図１の位置へ移動し、トップリング２２ａ、バフ研磨工具でウエハを研磨しつつドレッシング工具２３が洗浄槽２３ａにより洗浄される。このようなバフ研磨装置２２の構成では、自転するターンテーブルを用いる場合よりも研磨工具が小径で済むので、省スペースとなる。
【００１８】
洗浄機２６ａ，２６ｂ，２６ｃの形式は、それぞれ目的に応じて選択され、例えば、先端にスポンジが付いたペンシル型のものやスポンジ付きのローラ形式のものが用いられ、ウエハ片面またはウエハ両面を洗浄し、あるいは最後段の洗浄機２６ｃはウエハをスピンさせて脱水、乾燥させる形式のものが用いられる。
【００１９】
搬送ロボット２０ａ，２０ｂは、例えばレール１６ａ，１６ｂ上を走行する台車の上部に水平面内で屈折自在に関節アームが設けられているもので、上下の各アームの先端に２つの把持部（ハンド）を有している。第１のロボット２０ａの上側のハンドは研磨前および乾燥後のウエハを扱うドライハンド３８ａ、下側は乾燥前のウエハを扱うウエットハンド３８ｂとなっており、また、第２のロボット２０ｂの上側は清浄なウエハを扱うクリーンハンド３８ｃ、下側は研磨過程にあるウエハを扱うダーティーハンド３８ｄとなっている。４種類のハンド３８ａ〜３８ｄは上下動可能であり、後述の搬送ゲート１８の上段又は下段へ進入可能である。
【００２０】
反転機２４ａ，２４ｂは、この実施の形態では、カセットの収納方式やロボットの把持機構との関係で必要であるが、常にウエハの研磨面が下向きの状態で移送されるような場合には必要ではない。また、ロボット２０ａ，２０ｂに反転機能を持たせるような構造の場合も必要ではない。この実施の形態では、２つの反転機２４ａ，２４ｂを、研磨前のドライなウエハを扱うもの２４ａと、研磨後のウエットなウエハを扱うもの２４ｂとに使い分けている。
【００２１】
このポリッシング装置では、外壁４０で囲まれた直方体状の収容空間４２を隔壁４４で区画して複数の部屋Ｒ１〜Ｒ５を構成している。すなわち、ロード・アンロードユニット１４、第１の搬送ロボット２０ａ、及びこれの脇に配置された反転機２４ａ及び２つの洗浄装置２６ｂ，２６ｃを含む空間が第１の部屋Ｒ１となり、第２の搬送ロボット２０ｂとこれの一側に配置された反転機２４ｂ及び洗浄装置２６ａを含む空間が第２の部屋Ｒ２となり、バフ研磨装置２２を含む空間が第３の部屋Ｒ３、各研磨装置１０ａ，１０ｂを収容する空間が第４及び第５の部屋Ｒ４，Ｒ５となる。この例では、ロード・アンロードユニット１４に隣接する空間Ｒ６には制御装置（図示略）が配置され、また、これに隣接する空間Ｒ７はメンテナンスのために人間が入れるように開口している。部屋Ｒ５，Ｒ７間の隔壁、部屋Ｒ１，Ｒ７間の隔壁は、部屋Ｒ１，Ｒ５の空気が部屋Ｒ７へ出ていかないようにするためである。部屋Ｒ７はポリッシング装置外部（クリーンルーム）に連通しているので清浄度を高く保つ必要がある。各部屋を隔壁４４で区画するにあたり、以下の点が重要である。即ち、研磨装置を含む部屋Ｒ４，Ｒ５は、ポリッシング装置内で最も汚染されており、部屋Ｒ４，Ｒ５と、高い清浄度を要する部屋Ｒ１とを隔離することが重要である。
【００２２】
第１の部屋Ｒ1と第２の部屋Ｒ2の間には、被研磨材を部屋間で移動する際に仮置きするための搬送ゲート１８が設けられている。これは、プラスチック製の箱であり、ウエハをこれらの部屋の間で受け渡しをする場所である。図３に示すように、内部は上下の仮置室１８ａ，１８ｂに仕切られており、上段でドライな状態のウエハを、下段でウエットな状態のウエハを受け渡しするようになっている。なお、図示していないが、第２の部屋Ｒ2と第３及び第４の部屋Ｒ3，Ｒ4の間の隔壁にも、プッシャ３４，３６に面する位置にシャッタ（図示略）が設けられている。
【００２３】
第１の部屋Ｒ1及び第２の部屋Ｒ2に面する位置に、それぞれ上下の仮置室１８ａ，１８ｂごとに個別に開閉するシャッタ５０ａ1，５０ａ2，５０ｂ1，５０ｂ2が設けられている。また、搬送ゲート１８の上下及び中間の仕切壁には、それぞれ穴Ｈ1，Ｈ2，Ｈ3が形成され、これに順次清浄な空気を流すように穴Ｈ1及びＨ3に給気ダクト１９ａ及び排気ダクト１９ｂが設けられている。また、下段側の仮置室１８ｂには、ウエハに注水するノズルが設けられている。このように、上段から下段に向けて送風することにより、各仮置室１８ａ，１８ｂ内のパーティクルの飛散を防止することができるとともに、各仮置室１８ａ，１８ｂが相互にその内部を汚染しあうこともない。また、下段の仮置室１８ｂをウエットなウエハの搬送用として使い分けることにより、上段側の仮置室１８ａへの汚染を防止することができる。
【００２４】
このように搬送ゲート１８の内部を上下の仮置室１８ａ，１８ｂに区画したのは、第１に、スループットを上げるためである。すなわち、１段しかないと、未研磨のウエハを搬送ゲート１８に格納すると、その間は、研磨ずみのウエハを搬送ゲート１８に入れられず、研磨済のウエハは未研磨のウエハが搬送ゲートを出るまで洗浄機２６ａ内で待っている必要があり、円滑にウエハが流れない。つまり待ち時間が生じる。研磨済のウエハを搬送ゲートに格納したときも未研磨のウエハについて同様のことが生ずる。上下２段にしてあれば上述のような待ち時間が生じないのでスループットが上がる。すなわち、４つのハンドにより、部屋Ｒ1からＲ2へ未研磨のウエハを送る動作と、Ｒ2からＲ1へ研磨済のウエハを送る動作を同時並行的に行うことができる。
【００２５】
第２には、上述したように２つの仮置室１８ａ，１８ｂを清浄な被研磨材の搬送と、清浄でない被研磨材の処理に使い分けることにより、被研磨材が搬送ゲート１８を介して汚染されることを防止するためである。この例では、下段にウエットなウエハを入れ、ウエハにパーティクルが固着しないように、箱内に設けたノズルより水をウエハにかける。従って、箱内のウエハの受け台は濡れており、また、パーティクルにより汚れている。一方、上段はドライウエハ専用として用いており、下段のように水を掛けていないので、上段の受け台は濡れていない。従って、上段にウエハがある時に装置にトラブルが生じたとき等、ウエハを一旦ロード・アンロードユニット１４に戻すことがあるが、上段の受け台によりウエハが汚染されることはないのでウエハを清浄なままロード・アンロードユニット１４に戻すことができる。もし、未研磨のウエハが汚染されてロード側に戻ると、汚染物質（パーティクル）がウエハ上で乾燥して固着してのちの研磨時のウエハ面の傷の元となる。
【００２６】
また、この実施の形態において、搬送ゲート１８のシャッタ５０ａ1，５０ａ2，５０ｂ1，５０ｂ2を上下の各仮置室１８ａ，１８ｂの２つの出口ごとに設けたのは、部屋Ｒ1，Ｒ2と、搬送ゲート１８との間の空気の流通を防いで、特にＲ1側の清浄な空間を汚染をさせないようにするためである。つまり、ドライハンド３８ａがドライウエハを上段に置くときはシャッタ５０ａ1のみが開き、さらにシャッタ５０ａ1を閉じてシャッタ５０ｂ1を開き、ダーティハンド３８ｄによりドライウエハを上段から部屋Ｒ2に取り出す。
【００２７】
同様に、クリーンハンド３８ｃが洗浄装置２６ａで洗浄されたウエットウエハを下段に置くときは、シャッタ５０ｂ2を開き、ウエットハンド３８ｂがウエットウエハを下段から取るときはシャッタ５０ａ2のみを開くようにする。このように必要なシャッタのみが開くようにしてあるため、部屋Ｒ1，Ｒ2，搬送ゲート１８の空気流通を防いでいる。なお、ウエハを搬送ゲートの仮置室内に置いて、挿入した側のシャッタを閉じ、他方のシャッタを開くまで、間に短い時間を取って、Ｈ1から清浄な空気を供給し、搬送ゲート内の空気を置換すると、搬送ゲートからの相互汚染を一層完全に防止することができる。部屋Ｒ1を清浄に保ち、それにより、ドライハンド３８ａ、未研磨のドライウエハ、研磨と洗浄・乾燥の終了したドライウエハも清浄に保てる。ドライハンド３８ａは、この乾燥の終了したドライウエハを搬送するため清浄に保つことが必要である。
【００２８】
このポリッシング装置には、各部屋内に収容した各種装置のメンテナンスの便を図るために、各部屋を区画する壁の一部に開閉自在なドアが設けられている。すなわち、第１の部屋Ｒ1においては、収容空間４２の洗浄装置２６ｂ，２６ｃ側の外壁４０に、折り畳み自在な一対の折り畳み式ドア６０ａが設けられ、また、メンテナンス用の空間Ｒ7との隔壁４４にも、ヒンジを介して回転自在な回転式ドア６０ｂが設けられている。第２の部屋Ｒ2においては、収容空間４２の洗浄装置２６ａ側の外壁４０に折り畳み自在な一対の折り畳み式ドア６０ｃが設けられている。第３の部屋Ｒ3においては、収容空間４２の端部側外壁４０に折り畳み自在な一対の折り畳み式ドア６０ｄが設けられている。第４の部屋Ｒ4においては、収容空間４２の端部側外壁４０に折り畳み自在な一対の折り畳み式ドア６０ｅが設けられている。第５の部屋Ｒ5においては、メンテナンス用の空間Ｒ7との隔壁４４に折り畳み自在な折り畳み式ドア６０ｆとヒンジを介して回転自在な回転式ドア６０ｇとが設けられている。
【００２９】
搬送ゲート１８は、第１の部屋Ｒ1と第２の部屋Ｒ2との間に設けられた空間Ｒ8に沿って収容空間４２内での移動又はその外に退避できるよう構成されている。この空間Ｒ8の床面には、一対のレール６４が敷設され、このレール６４上を搬送ゲート１８が走行可能になっている。また、この空間Ｒ8の入口部には、ヒンジを介して回転自在な回転式ドア６６が設けられている。
【００３０】
このような構成のポリッシング装置においてウエハの研磨を行なう場合のウエハの流れを説明する。ロード・アンロードユニット１４に載置された複数枚数のウエハを収容するカセット１２ａ，１２ｂから、第１のロボット２０ａのドライハンド３８ａでウエハを取り出し、第１の反転機２４ａで反転した後、搬送ゲート１８のシャッタ５０ａ1を開き、再びドライハンド３８ａで上段に置く。次に、搬送ゲート１８の他方のシャッタ５０ｂ1を開いて第２ロボット２０ｂのダーティハンド３８ｄでウエハを取り出し、隔壁のシャッタを開いて研磨装置１０ａ又は１０ｂのプッシャ３４の上に置く。
【００３１】
以下、ウエハは、パラレル処理の場合には、研磨装置１０ａ，１０ｂ→バフ研磨装置２２→反転機２４ｂ→洗浄装置２６ａと流れ、また、シリーズ処理の場合は、第１研磨装置１０ａ→洗浄装置２６ａ→第２研磨装置１０ｂ→バフ研磨装置２２→反転機２４ｂ→洗浄装置２６ａと流れる。ここまでの各装置間の搬送はダーティハンド３８ｄで行なわれる。
次に、洗浄装置２６ａで第１の洗浄を行った後の比較的クリーンでかつウエットなウエハを、第２のロボット２０ｂのクリーンハンド３８ｃで取り出し、シャッタ５０ｂ2を開いて搬送ゲート１８の下段に置き、シャッタ５０ｂ2を閉じる。クリーンハンド３８ｃは研磨済みのウェットなウエハを洗浄装置２６ａから搬送ゲート１８へ搬送するためだけに使うため、クリーンハンド３８ｃを清浄に保つことができ、クリーンハンド３８ｃがこのウエハを汚染することがない。
【００３２】
この実施の形態では、バフ研磨装置２２一基に対して研磨装置１０ａ，１０ｂが２基設けられている。これは、研磨装置１０ａ，１０ｂにおける研磨よりもバフ研磨装置２２における研磨の方が研磨時間が短いからである。従来の装置で、１次研磨装置が１基のみ設けられていたときは、次のウエハの１次研磨が済むまでは２次研磨装置（バフ研磨装置２２）は研磨を休んでいたが、本装置では、１次研磨装置を１０ａ，１０ｂの２台としたので、ウエハの１次研磨をパラレルで行い、２次研磨を行なうバフ研磨装置２２を遊ばせることをなくして研磨のスループットを上げることができる。
【００３３】
次に、搬送ゲート１８のシャッタ５０ａ2を開き、第１のロボット２０ａのウエットハンド３８ｂでウエハを取り出し、第２の洗浄装置２６ｂ、第３の洗浄装置２６ｃへと順次送って、洗浄と乾燥を行なう。第３の洗浄装置２６ｃで乾燥が済んだウエハは、第１のロボット２０ａのドライハンド３８ａで取り出されてロード・アンロードユニット１４のカセット１２ａ，１２ｂに戻される。
【００３４】
次に、研磨装置のメンテナンスを行なう場合の作業を説明する。上述したように、各部屋のメンテナンスが必要な箇所にはドア６０ａ〜６０ｇが設けられており、これを開くことによりアクセスが可能である。例えば、第３の部屋Ｒ3内に収容したバフ研磨装置２２やドレッシング装置２３のメンテナンスを行う時には、この部屋Ｒ3を区画する収容空間４２の外壁４０に設けたドア６０ｄを開くことによって、また、第５の部屋Ｒ5内に収容した研磨装置１０ａのメンテナンスを行う時には、メンテナンス用の空間Ｒ7との隔壁４４に設けたドア６０ｆ，６０ｇを開くことによって、これを容易かつ迅速に行うことができる。このドアは、特に外側だけでなく研磨装置１０ａの内側に近い位置（空間Ｒ7の奥のドア６０ｆ）にも設けられているので、内側の部分の点検や修理が容易に行える。
【００３５】
さらに、より内側にある装置や部分、の点検や修理を行なう際には、ドア６６を開き、搬送ゲート１８を収容空間４２内での移動又はその外に退避させた後ドア６０ｂを開いて、この搬送ゲート１８がもとあった場所に人が入り込んで、ここから、特に搬送ロボット２０ｂに対する必要なメンテナンスを行う。搬送ゲート１８をポリッシング装置外へ退避した場合、空間Ｒ8の床面には配線や搬送ゲートを移動させるレール覆う床蓋（床板）６２ａが設けられ、人はその上を歩くことができるので、レール、配線等を踏んだり、引っかけたりすることが防止され、円滑かつ安全な作業が行われる。尚、搬送ゲート１８を移動させる前に、気流用のダクト１９ａ，１９ｂを取り外す。
【００３６】
このように搬送ゲートを待避させると、図１の斜線で示すように、人の手または人が外部空間から研磨装置１０ａ，１０ｂのプッシャ３４に臨む位置まで達するので、比較的複雑な構成の部分の点検や修理が容易となる。なお、床蓋（床板）６２ｂおよび６２ｃは、搬送ロボット２０ａおよび２０ｂの走行経路の途中まで延ばされており、搬送ロボット２０ａおよび２０ｂを駆動するボールねじを覆っているので、人が進入する際に、このボールねじを踏んでしまうことを防止することができる。
【００３７】
なお、この実施の形態では、ロボット２０ａ，２０ｂにハンド３８ａ〜３８ｄをそれぞれ２本持たせて、洗浄後のウエハとそれ以外のウエハ、及び乾燥状態の濡れた状態のウエハを扱う場合をそれぞれ使い分けるようにしたので、各ハンドを介して汚染されることもない。さらに、搬送ゲート１８の中の空間を上下の仮置室１８ａ，１８ｂに分けているので、搬送ゲート１８を介して汚染されることもない。
【００３８】
また、この発明の実施の形態は前記に限られるものではなく、各装置内の構成、台数、形式又は配置は任意である。例えば、シリーズやパラレルの処理を行わない場合には、研磨装置は１台で足り、付属設備も少なくてよい。また、反転機の有無、配置、台数、形式、プッシャ３４，３６の有無等も任意であり、例えば、搬送ロボット２０ａ，２０ｂはレール上を走行する方式ではなく、据え付け式でもよい。また、上記実施例では第１の部屋Ｒ1はロード・アンロードユニット１４を含むが、特に高い清浄度を要するロード・アンロードユニット１４を隔壁で覆い別個の部屋としてもよい。さらに、ロード・アンロードユニット１４とロボット２０ａとの間でウエハの受け渡しをするシャッタを該隔壁に設けてもよい。これにより、ロード・アンロードユニット１４と、例えば洗浄装置２６ｂ，２６ｃとの間の相互汚染を防げる。
【００３９】
【発明の効果】
以上説明したように、この発明によれば、内部空間を複数の部屋に分割して装置間の相互汚染を防止するとともに、各部屋の壁の一部にドアを設けて、メンテナンス時にこれを開くことにより各装置に直接にアクセスできるようにしたのでメンテナンスを容易に行うことができる。さらに、装置を部屋内での移動、又は外部に退避させるための案内レールを設けることにより、ドアに面する所定の装置を案内レールにより部屋内での移動、又は外部に退避させることによってこの装置の有った場所に空間を形成し装置内部のメンテナンスを容易にすることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明のポリッシング装置を示す平面図である。
【図２】図１のポリッシング装置を模式的に示す平面図である。
【図３】図１のポリッシング装置の搬送ゲートを示す斜視図である。
【図４】従来のポリッシング装置を模式的に示す平面図である。
【符号の説明】
１０ａ，１０ｂ    研磨装置
１４    ロード・アンロードユニット
１８    搬送ゲート
１８ａ，１８ｂ    仮置室
２０ａ，２０ｂ    ロボット（搬送装置）
２３    ドレッシング装置
２４ａ，２４ｂ    反転機
２６ａ，２６ｂ，２６ｃ    洗浄装置
２２    バフ研磨装置
６０ａ，６０ｂ，６０ｃ，６０ｄ，６０ｅ，６０ｆ，６０ｇ    ドア
６２ａ，６２ｂ，６２ｃ    床板
６４    レール
Ｒ1〜Ｒ8    部屋
【図１】
0003883256.tif 000002
【図２】
0003883256.tif 000003
【図３】
0003883256.tif 000004
【図４】
0003883256.tif 000005