(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｓｉ：４．０〜７．０ｗｔ％、Ｃ≦０．０１ｗｔ％、Ｍｎ≦０．５ｗｔ％、Ｐ≦０．０１ｗｔ％、Ａｌ≦０．０１ｗｔ％、Ｓ≦０．０１ｗｔ％、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなり、板厚が０．３５ｍｍ以下で、板の法線方向に対する結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向の傾きが１５度以内である結晶粒の鋼板全体に占める体積率が３０〜７０％であることを特徴とする高珪素鋼板。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は磁束密度が高く且つ加工性に優れた高珪素鋼板に関する。
【０００２】
【従来の技術】
電磁誘導機器用の鉄心材料として用いられる珪素鋼板の軟磁気特性はＳｉの添加量の増加とともに向上し、特にＳｉ：６．５ｗｔ％付近で最高の透磁率を示すことが知られている。また、高珪素鋼板と呼ばれるＳｉ含有量が約４．０ｗｔ％以上の珪素鋼板は電気抵抗が高いため、特に高周波領域での磁気特性に優れている。一方、鋼板のＳｉ含有量が４ｗｔ％以上になると加工性が急激に劣化するため、従来は圧延により工業的規模で高珪素鋼板を製造することは不可能とされていた。
【０００３】
しかし近年において、圧延法（例えば、特公平３−６５００１号等に示される製造技術）や浸珪法（例えば、特公平５−４９７４５号等に示される製造技術）による薄板製造技術が開発され、板厚が０．０５〜０．５ｍｍ程度の高珪素鋼板の製造が可能となった。
しかし、高珪素鋼板をトランスやモータ等の鉄心に組み立てる際には、打ち抜き、剪断等の二次加工が必要となるが、高珪素鋼板はこれらの二次加工性に乏しいという問題がある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
一方、高珪素鋼板は優れた軟磁気特性を有するが、飽和磁束密度が低く、これに伴って実用磁束密度の指標とされるＢ8が低くなるという問題がある。Ｂ8の高い高珪素鋼板を得る方法として、特公平５−７２４５７号ではＳｉ含有量が１．０〜４．０ｗｔ％の方向性珪素鋼板に浸珪処理を施してＳｉ含有量が４．０〜７．０ｗｔ％の方向性高珪素鋼板を得る方法が示されている。また、特開平４−５９９２８号では、Ｓｉ含有量が４．５ｗｔ％以下の方向性珪素鋼板を冷間圧延して０．１５ｍｍ以下の板厚にした後に１次再結晶焼鈍を施し、引き続き浸珪処理を施してＳｉ含有量が６．５ｗｔ％の方向性高珪素鋼板を得る方法が示されている。
【０００５】
しかし、これらの従来技術のように方向性珪素鋼板を浸珪処理の出発材料に用いた場合、方向性珪素鋼板の煩雑な製造プロセスやグラス被膜の除去が必要になり、製造コストが上昇してしまう。
また、特公平５−７２４５７号に示された製造方法では、得られた高珪素鋼板は浸珪処理の出発材料である方向性珪素鋼板の大きい結晶粒を引き継ぐため、製品加工が困難になるという問題がある。
【０００６】
また、特開平４−５９９２８号に示された製造方法では、冷間圧延前の結晶粒径が圧延方向で２０ｍｍ以上、圧延直角方向で４０ｍｍ以上と非常に大きく、これに冷間圧延を施して板厚０．１５ｍｍ以下の冷延板を得る際に、変形に起因する表面の凹凸が発生し、この凹凸によって最終製品の占積率が低下してしまう問題がある。さらに、出発材料である方向性珪素鋼板は貫通粒組織となっており、実施例にあるようなＳｉ：３．３ｗｔ％といった比較的Ｓｉ含有量が高い場合には、組織の点でも組成の点でも加工性に乏しいため、圧延率が６０〜８０％もの冷間圧延を安定して実施することは非常に困難である。
【０００７】
したがって本発明の目的は、このような従来技術の課題を解消し、磁束密度が高く且つ加工性にも優れ、しかも安価に且つ安定して製造することができる高珪素鋼板を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
上記のような問題を解決するために、本発明者らは高珪素鋼板の加工性を劣化させない範囲で集合組織を改善することが有効であると考え、詳細な検討を行った。その結果、浸珪法により製造される高珪素鋼板の浸珪処理前の出発材料について、その（１１０）粒の体積率を適切な範囲に制御することにより、加工性と磁束密度特性のいずれにも優れた高珪素鋼板が安定して得られることを見い出した。
【００１０】
本発明はこのような知見に基づきなされたもので、その特徴とする構成は、Ｓｉ：４．０〜７．０ｗｔ％、Ｃ≦０．０１ｗｔ％、Ｍｎ≦０．５ｗｔ％、Ｐ≦０．０１ｗｔ％、Ａｌ≦０．０１ｗｔ％、Ｓ≦０．０１ｗｔ％、残部Ｆｅおよび不可避的不純物からなり、板厚が０．３５ｍｍ以下で、板の法線方向に対する結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向の傾きが１５度以内である結晶粒の鋼板全体に占める体積率が３０〜７０％であることを特徴とする高珪素鋼板である。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の詳細をその限定理由とともに説明する。
本発明の高珪素鋼板は、Ｓｉ含有量が比較的低い鋼板を浸珪処理（浸珪−拡散熱処理）してＳｉを添加することにより製造されるＳｉ含有量が４．０〜７．０ｗｔ％の高珪素鋼板である。一般に、この高珪素鋼板はＳｉ含有量が４．０ｗｔ％未満の鋼板を素材とし、これを浸珪処理することにより製造される。
【００１２】
まず、鋼板の化学成分の限定理由を説明する。
Ｓｉは軟磁性を発現させるための元素であり、添加量が６．５ｗｔ％で最も優れた軟磁性を示す。Ｓｉが４．０ｗｔ％未満では高珪素鋼板として所望の軟磁気特性が得られない。一方、Ｓｉが７．０ｗｔ％を超えると飽和磁束密度が著しく減少する。このためＳｉ含有量は４．０〜７．０ｗｔ％とする。
【００１３】
また、他の元素については、以下のように規制することが好ましい。
Ｃは軟磁気特性に有害な元素であり、特に、０．０１ｗｔ％を超えると時効現象により軟磁性が劣化する。このためＣ含有量は０．０１ｗｔ％以下とすることが好ましい。
ＭｎはＳと結合してＭｎＳとなり、熱間加工性を改善する。しかし、Ｍｎ含有量が０．５ｗｔ％を超えると飽和磁束密度の減少が大きくなる。このためＭｎ含有量は０〜０．５ｗｔ％（但し、無添加の場合を含む）とすることが好ましい。
【００１４】
Ｐは鋼板を脆化させる元素であり、その含有量はできるだけ低いほうが好ましい。経済性及びＰが０．０１ｗｔ％以下であれば実質的にその影響は無視できることから、Ｐ含有量は０〜０．０１ｗｔ％（但し、無添加の場合を含む）とすることが好ましい。
本発明のようにＳｉを４．０〜７．０ｗｔ％含有する鋼板の場合、Ａｌを添加して軟磁気特性の向上を図る必要はない。また、微量に存在するＡｌは２次再結晶を促進するが、０．０１ｗｔ％を超えると２次再結晶に長時間焼鈍が必要になるため、Ａｌ含有量は０〜０．０１ｗｔ％（但し、無添加の場合を含む）とすることが好ましい。
【００１５】
Ｓは熱間加工性を低下させ、また軟磁気特性も劣化させるため、その含有量はできるだけ低いほうが好ましい。経済性及びＳが０．０１ｗｔ％以下であれば実質的にその影響は無視できることから、Ｓ含有量は０〜０．０１ｗｔ％（但し、無添加の場合を含む）とすることが好ましい。
【００１６】
次に、鋼板の板厚の限定理由を説明する。
高珪素鋼板は電気抵抗が高いため、特に高周波領域での磁気特性に優れている。高周波領域では鉄損の大部分を渦流損が占めるため、板厚は薄い方が好ましい。板厚が０．３５ｍｍを超えると高珪素鋼板として必要な高周波領域での鉄損特性が劣化するため、板厚は０．３５ｍｍ以下とする。また、板厚が０．０３ｍｍ未満は冷間圧延が困難であり、また、製造コストも上昇するため、板厚は０．０３ｍｍ以上とすることが望ましい。
【００１７】
次に、（１１０）粒の体積率の限定理由を説明する。ここで、一般に（１１０）粒とは板面に平行な（１１０）面を有する結晶粒を指すが、磁束密度特性は、完全な（１１０）粒ではなくても、結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向が板の法線方向に対して少し傾いた結晶粒を生成させた場合でも向上する。但し、この傾きがあまり大きいと磁束密度特性の向上結果が小さいため、傾きは１５度以内とすることが必要である。そこで、本発明では板の法線方向に対する結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向の傾きが１５度以内の結晶粒を対象とし、その体積率を規定する。以下、説明の便宜上、そのような条件を満足する結晶粒を（１１０）粒を呼ぶ。
【００１８】
珪素鋼板の磁束密度特性を向上させるには、例えば特開平９−９５７３９号に示されるように、Ｓｉ含有量が３．０ｗｔ％程度の珪素鋼を薄板にした後に、Ｇｏｓｓ方位と称される｛１１０｝〈００１〉方位粒を２次再結晶によって異常粒成長させて鋼板全面を覆うようにした方向性珪素鋼板の製造方法が有効である。しかし、この製造方法では、２次再結晶を完了させた場合には磁気特性は飛躍的に向上するものの、そのためには異常粒成長により粒径が約１０ｍｍ以上の粗大粒を形成させることが必要となる。したがって、この２次再結晶を完了させたＳｉ含有量が３．０ｗｔ％程度の方向性珪素鋼板に浸珪処理を行って高珪素鋼板を製造した場合、磁気特性には優れるが加工性の低い非実用的な材料しか得られない。
【００１９】
そこで、本発明者らは２次再結晶を部分的に発現させることによって磁束密度特性と加工性の両面を満足する高珪素鋼板について検討を行った。まず、表１の鋼種Ａの化学成分を有する鋼を精錬、鋳造及び熱間圧延して板厚２．０ｍｍの熱延板を得た。これを酸洗した後、板厚０．３ｍｍまで冷間圧延し、９００℃で２分間の窒素雰囲気焼鈍を行った。引き続き板厚０．１ｍｍまで冷間圧延した後、表２に示す条件で２次再結晶焼鈍を行った。この２次再結晶焼鈍では、１回目焼鈍の時間を１分間〜５時間の範囲で変え、２次再結晶の発現状況を制御することによって（１１０）粒の鋼板全体に占める体積率をコントロールした。さらに、この鋼板に対してＳｉＣｌ4を含む非酸化性雰囲気中で浸珪処理を行い、引き続きＳｉＣｌ4を含まない非酸化性雰囲気で板厚方向にＳｉを拡散させる拡散熱処理を行い、Ｓｉ含有量が６．５ｗｔ％であってＳｉ濃度が板厚方向でほぼ一様な高珪素鋼板を得た。
【００２０】
このようにして得られた高珪素鋼板の加工性、Ｂ8特性と（１１０）粒の鋼板全体に占める体積率との関係を図１に示す。加工性はＪＩＳ５号試験片を用いた引張り試験での伸びで評価した。また、浸珪−拡散熱処理後の鋼板は貫通粒組織となっているため、（１１０）粒の体積率は長さ１００ｍｍ×幅５０ｍｍの板を３％ナイタルによって腐食させ、画像解析装置によって異常粒成長部の体積率を算出することによって求めた。この時、異常粒成長部は全て（１１０）粒であること（すなわち、板の法線方向に対する結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向の傾きが１５度以内の結晶粒であること）をエッチピット法によって確認した。また、Ｂ8は長さ１００ｍｍ×幅１０ｍｍの単板８本平均の値である。
【００２１】
図１によれば、（１１０）粒の体積率が増加するにしたがってＢ8が高くなり、特に体積率が３０％以上では１．３５（Ｔ）を超える高い磁束密度が得られることが判る。また、加工性は（１１０）粒の体積率が７０％を超えると急激に劣化している。
以上の結果から、本発明では（１１０）粒が鋼板全体に占める体積率を３０〜７０％とする。
【００２２】
本発明の高珪素鋼板は、（１１０）粒の体積率を上記の範囲に制御した鋼板（通常、Ｓｉ含有量：４．０ｗｔ％未満）を浸珪−拡散熱処理することにより製造される。この浸珪−拡散熱処理では、鋼板はＳｉＣｌ4が約５〜３５ｍｏｌ％程度含まれる非酸化性雰囲気中で１０２３〜１２００℃程度の処理温度で浸珪処理され、引き続きＳｉＣｌ4を含まない非酸化性雰囲気中で１２００〜１２３０℃程度の処理温度で拡散熱処理される。
【００２３】
また、２次再結晶焼鈍を完了させるためには数時間以上を必要とするため、通常は２次再結晶焼鈍にはバッチ炉が用いられるが、本発明の高珪素鋼板は２次再結晶を完了させる必要がないため、連続炉を用いて２次再結晶焼鈍（部分２次再結晶焼鈍）を行うことが可能であり、従来法に較べてコストの大幅削減が可能である。さらに、２次再結晶焼鈍（部分２次再結晶焼鈍）と浸珪−拡散熱処理を同一の連続炉で連続的に行うこと（２次再結晶焼鈍−浸珪処理−拡散熱処理）もでき、これによってより一層のコスト削減が可能となる。
【００２４】
本発明の効果は、浸珪−拡散熱処理の出発材料である鋼板の２次再結晶処理の方法に拘りなく得られ、このためインヒビター法、表面エネルギー法などの任意の２次再結晶手法を用いることが可能である。さらに、１回冷間圧延法、中間焼鈍を挾む複数回冷間圧延法（例えば、２回冷間圧延法、３回冷間圧延法）のいずれでも適用可能であるが、（１１０）粒の核発生頻度が高い複数回冷間圧延法の方が磁束密度特性のバラツキを小さくできるため、より好ましい。
【００２５】
また、本発明の効果は、浸珪−拡散熱処理の出発材料である鋼板の（１１０）粒の生成方法に拘りなく得られ、したがって、２次再結晶処理以外の方法で（１１０）粒を生成させた鋼板を浸珪−拡散熱処理して得られたものでもよい。例えば、比較的高温の中間焼鈍を挾む２回冷間圧延法によって（１１０）粒を生成させた鋼板を浸珪−拡散熱処理して得られたものでもよい。
【００２６】
したがって、本発明の高珪素鋼板の代表的な製造プロセスとしては、以下のような態様が挙げられる。
▲１▼ 低Ｓｉ鋼（通常、Ｓｉ含有量：４．０ｗｔ％未満）の熱延鋼板を冷間圧延（１回冷間圧延法または中間焼鈍を挾む複数回冷間圧延法）した後、２次再結晶焼鈍（部分２次再結晶焼鈍）し、しかる後、浸珪−拡散熱処理する方法。
▲２▼ 低Ｓｉ鋼（通常、Ｓｉ含有量：４．０ｗｔ％未満）の熱延鋼板を、焼鈍温度を適正化した中間焼鈍を挾む複数回冷間圧延法（例えば、２回冷間圧延法、３回冷間圧延法）で圧延することにより（１１０）粒を生成させ、この鋼板を浸珪−拡散熱処理する方法。
【００２７】
【実施例】
［実施例１］
表１の鋼種Ｂの化学成分を有する鋼を精錬、鋳造、熱間圧延して板厚２．０ｍｍの熱延板とした。これを酸洗した後、中間焼鈍を挾まずに板厚０．３ｍｍまで圧延して得られた鋼板と、板厚０．９ｍｍまで冷間圧延した後に９００℃で２分間の窒素雰囲気焼鈍を行い、さらに板厚０．３ｍｍまで圧延して得られた鋼板について、表２に示す条件で２次再結晶焼鈍を施した。この２次再結晶焼鈍では、１回目の焼鈍時間を１分間〜７時間の範囲で変え、２次再結晶の発現状況を制御することによって（１１０）粒の体積率をコントロールした。さらに、この鋼板に対してＳｉＣｌ4を含む非酸化性雰囲気中で浸珪処理を行い、引き続きＳｉＣｌ4を含まない非酸化性雰囲気中で板厚方向にＳｉを拡散させる拡散熱処理を行い、Ｓｉ含有量が６．５ｗｔ％であって、Ｓｉ濃度が板厚方向でほぼ一様な高珪素鋼板を得た。
【００２８】
このようにして得られた高珪素鋼板の加工性（伸び）、Ｂ8特性と（１１０）粒の体積率との関係を図２に示す。加工性はＪＩＳ５号試験片を用いた引張り試験での伸びで評価した。また、（１１０）粒の体積率は長さ１００ｍｍ×幅５０ｍｍの板を３％ナイタルによって腐食させ、画像解析装置によって異常粒成長部の体積率を算出することによって求めた。この時、異常粒成長部は全て（１１０）粒であること（すなわち、板の法線方向に対する結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向の傾きが１５度以内の結晶粒であること）をエッチピット法によって確認した。また、Ｂ8は長さ１００ｍｍ×幅１０ｍｍの単板８本平均の値である。図２中には、８本のＢ8の最大値と最小値の差（バラツキの指標）も示す。
【００２９】
図２によれば、１回冷圧、２回冷圧という製造条件の違いに拘りなく、（１１０）粒の体積率が３０〜７０％の範囲において、加工性が劣化せずに良好な磁束密度特性が得られている。但し、Ｂ8のバラツキが小さいという点では、２回冷圧を経て製造された鋼板の方が好ましい。
【００３０】
［実施例２］
表１の鋼種Ｃの化学成分を有する鋼を精錬、鋳造、熱間圧延して板厚２．３ｍｍの熱延板とした。これを酸洗した後、板厚０．３ｍｍまで冷間圧延し、次いで、窒素雰囲気中で種々の焼鈍温度で２分間の焼鈍を行った後、板厚０．１ｍｍまで冷間圧延した。さらに、この鋼板に対してＳｉＣｌ4を含む非酸化性雰囲気で浸珪処理を行い、引き続きＳｉＣｌ4を含まない非酸化性雰囲気で板厚方向にＳｉを拡散させる拡散熱処理を行い、Ｓｉ含有量が６．５ｗｔ％であって、Ｓｉ濃度が板厚方向でほぼ一様な高珪素鋼板とした。
【００３１】
このようにして得られた高珪素鋼板の加工性（伸び）、Ｂ8特性を中間焼鈍温度および（１１０）粒の体積率とともに表３に示す。加工性はＪＩＳ５号試験片を用いた引張り試験での伸びで評価した。また（１１０）粒の体積率は、ＥＣＰを用いて板の法線方向に対する結晶粒の任意の〈１１０〉軸方向の傾きが１５度以内の結晶粒を（１１０）粒として測定した。ＥＣＰでは２６ｍｍ×２６ｍｍの試料を化学研磨した後に２ｍｍピッチのメッシュに分け、１２×１２＝１４４ポイントを測定して体積率を算出した。また、Ｂ8は長さ１００ｍｍ×幅１０ｍｍの単板８本平均の値である。
表３によれば、本発明条件を満足する（１１０）粒の体積率を有する高珪素鋼板は加工性に優れ、しかも、１．４（Ｔ）以上の高い磁束密度特性が得られていることが判る。
【００３２】
【表１】
0003890790.tif 000002
【００３３】
【表２】
0003890790.tif 000003
【００３４】
【表３】
0003890790.tif 000004
【００３５】
【発明の効果】
以上述べたように、本発明の高珪素鋼板は磁束密度が高く且つ加工性が優れ、しかも安価に且つ安定して製造することができる。したがって、本発明の高珪素鋼板は鉄芯材料等として非常に有用であり、各種鉄心の小型化、さらにはエネルギーロスの低減化が可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】高珪素鋼板の（１１０）粒の鋼板全体に占める体積率と加工性およびＢ8特性との関係を示すグラフ
【図２】１回冷圧及び２回冷圧を経て製造された高珪素鋼板について、（１１０）粒の鋼板全体に占める体積率と加工性、Ｂ8特性、Ｂ8特性のバラツキとの関係を示すグラフ
【図１】
0003890790.tif 000005
【図２】
0003890790.tif 000006