(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
近赤外線吸収剤を０．００１〜２０重量％含み、下式（１）及び（２）より選ばれた少なくとも１種のビス（メタ）アクリレートを含んでなる組成物を活性エネルギー線により硬化させた光硬化樹脂組成物よりなり、４００〜７００ｎｍの可視光線透過率が５０％以上、８００〜１，０００ｎｍの近赤外線透過率が１０％以下であり、且つ、リターデーション値が２０ｎｍ以下であるシートを近赤外線吸収層として有することを特徴とする画像表示装置用フィルター。
【化１】
0003887913.tif 000014
［式（１）中、Ｒ1 及びＲ2 は、互に異っていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ3 及びＲ4 は、互に異っていてもよく、炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を有していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれた置換基を示し、ａは０〜４の整数を示す。但しａが２以上の整数の場合には、複数のＸは互に異っていてもよい。］
【化２】
0003887913.tif 000015
［式（２）中、Ｒ5 及びＲ6 は、互に異っていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。ｂは１又は２を示し、ｃは０又は１を示す。］
【請求項２】
光硬化樹脂組成物が、式（１）及び（２）より選ばれた少なくとも１種のビス（メタ）アクリレート８０〜９９．９重量部と下式（３）、（４）及び（５）よ
り選ばれた少なくとも１種のメルカプト化合物０．１〜２０重量部とを含んでなる組成物を活性エネルギー線により硬化させたものである請求項１記載の画像表示装置用フィルター。
【化３】
0003887913.tif 000016
［式（３）中、複数のＲ7 は互に異っていてもよく、それぞれメチレン基又はエチレン基を示す。Ｒ8 は炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を含んでいてもよい炭素数２〜１５の炭化水素残基を示す。ｄは２〜６の整数を示す。］
【化４】
0003887913.tif 000017
［式（４）中、Ｙは互に異っていてもよく、ＨＳ−（ＣＨ2 ）ｅ−（ＣＯ）（ＯＣＨ2 ＣＨ2 ）ｆ−（ＣＨ2 ）ｇ−を示す。但しｅは１〜４の整数、ｆは１〜４の整数、ｇは０〜２の整数をそれぞれ示す。］
【化５】
0003887913.tif 000018
［式（５）中、Ｒ9 及びＲ10は、互に異っていてもよく、炭素数１〜３の炭化水素基を示す。ｍ及びｎはそれぞれ０又は１を示す、ｐは１又は２を示す。］
【請求項３】
近赤外線吸収剤が、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物及びアミニウム塩系化合物のいずれかから選ばれる近赤外線吸収色素である請求項１または２に記載の画像表示装置用フィルター。
【請求項４】
シートの厚さが０．１〜２．０ｍｍである請求項１ないし３のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。
【請求項５】
シートの複屈折率が２０ｎｍ以下である請求項１ないし４のいずれかに記載の画像表示装置用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、近赤外線吸収能、可視光線透過性に優れた近赤外線吸収層を有する画像表示装置用フィルターに関する。  
【０００２】
【従来の技術】
透明樹脂に近赤外線吸収能を持つ物質を配合してなる近赤外線吸収透明樹脂組成物に関する発明としては種々のものが知られている。例えば、特開平６−２４０１４６号公報には、ポリカーボネート系樹脂、（メタ）アクリル樹脂等の透明樹脂にフタロシアニン化合物を配合した組成物が開示されている。また、特開平６−２５６５４１号公報には、ポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレート樹脂等の透明樹脂にアントラキノン系化合物を配合した組成物から成る成形フィルムが開示されている。更に、特開平７−１７９６５６号公報には、ポリカーボネート系樹脂、ポリスチレン等の透明樹脂に、硫化鉛、チオ尿素誘導体を配合した組成物が開示されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
以上のような従来からの近赤外線吸収性の樹脂組成物では、透明樹脂に対して近赤外線吸収剤を高温で溶融混練するため、耐熱性に乏しい近赤外線吸収剤が使用できないという問題点がある。また、透明樹脂として使用される通常の熱可塑性樹脂では、一般的に、ガラス基材と比較して、軽量性や加工性において優れている面があるが、光学特性において性能が十分でないという問題がある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、上記問題点に鑑みて鋭意研究を重ねた結果、特定の近赤外線吸収剤を含む光硬化樹脂体が、近赤外線吸収能に優れるほか、一般に要求される諸物性、特に光学特性に優れていること、更には低温成形が可能であることを見出し、本発明を完成するに至ったものである。
【０００５】
即ち、本発明は、近赤外線吸収剤を０．００１〜２０重量％含み、下式（１）及び（２）より選ばれた少なくとも１種のビス（メタ）アクリレートを含んでなる組成物を活性エネルギー線により硬化させた光硬化樹脂組成物よりなり、４００〜７００ｎｍの可視光線透過率が５０％以上、８００〜１，０００ｎｍの近赤外線透過率が１０％以下であり、且つ、リターデーション値が２０ｎｍ以下であるシートを近赤外線吸収層として有することを特徴とする画像表示装置用フィルターに存する。
【化６】
0003887913.tif 000002
［式（１）中、Ｒ1 及びＲ2 は、互に異っていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ3 及びＲ4 は、互に異っていてもよく、炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を有していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基及び炭素数１〜６のアルコキシ基から選ばれた置換基を示し、ａは０〜４の整数を示す。但しａが２以上の整数の場合には、複数のＸは互に異っていてもよい。］
【化７】
0003887913.tif 000003
［式（２）中、Ｒ5 及びＲ6 は、互に異っていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。ｂは１又は２を示し、ｃは０又は１を示す。］
【０００６】
【発明の実施の形態】
（Ａ）光硬化樹脂
本発明の近赤外線吸収性体を構成する光硬化性樹脂は、紫外線等の照射によって硬化する樹脂である。具体的には、ラジカル反応性不飽和化合物を有するアクリレート化合物よりなる樹脂組成物、このアクリレート化合物とチオール基を有するメルカプト化合物よりなる樹脂組成物、エポキシアクリレート、ウレタンアクリレート、ポリエステルアクリレート、ポリエーテルアクリレート等のオリゴマーを多官能アクリレートモノマーに溶融せしめた樹脂組成物等が挙げられるがこれらに限定されるものではない。
【０００７】
このうち、式（１）で示される含イオウビス（メタ）アクリレート及び式（２）で示される脂環骨格ビス（メタ）アクリレートより選ばれる少なくとも１種のビス（メタ）アクリレートよりなる組成物が耐薬品性、剛性等の面で好ましい。なお「（メタ）アクリレート」は、アクリレートないしメタクリレートを総称するものである。
【０００８】
【化８】
0003887913.tif 000004
【０００９】
［式（１）中、Ｒ1 及びＲ2 は、互に異っていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。Ｒ3 は炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を有していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基、好ましくは炭素数２〜４のアルキレン基を示す。Ｒ4 は炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を有していてもよい炭素数１〜６の炭化水素基、好ましくは炭素数１〜３のアルキレン基を示す。Ｘはハロゲン原子、炭素数１〜６のアルキル基又は炭素数１〜６のアルコキシ基を示し、ａは０〜４の整数を示す。但しａが２以上の整数の場合には、複数のＸは互に異っていてもよい。］
式（１）で示される化合物のいくつかを例示すれば、次の通りである。ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｐ−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｍ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｍ−ビス（β−アクリロイルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルオキシエチルチオメチル）ベンゼン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオエチルチオメチル）ベンゼン、ｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル）テトラブロムベンゼン、ｍ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオメチル）テトラクロロベンゼン。これらの化合物は、例えば、特開昭６２−１９５３５７号公報に開示されている方法で合成することができる。
【００１０】
【化９】
0003887913.tif 000005
【００１１】
［式（２）中、Ｒ5 及びＲ6 は、互に異っていてもよく、水素原子又はメチル基を示す。ｂは１又は２を示し、ｃは０又は１を示す。］
式（２）で示される化合物のいくつかを例示すれば、次の通りである。ビス（オキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．０2．６〕デカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．０2．６〕デカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）トリシクロ〔５．２．１．０2．６〕デカン＝アクリレートメタクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ〔６．５．１．１3.6．０2.7．０9.13〕ペンタデカン＝ジアクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ〔６．５．１．１3.6．０2.7．０9.13〕ペンタデカン＝ジメタクリレート、ビス（オキシメチル）ペンタシクロ〔６．５．１．１3.6．０2.7．０9.13〕ペンタデカン＝アクリレートメタクリレート。これらの化合物は、例えば、特開昭６２−２２５５０８号公報に開示されている方法で合成することができる。
【００１２】
以上の式（１）及び式（２）で示される（メタ）アクリレートは、単独もしくは２種以上を併用して用いることができる。式（１）の化合物を単独で用いる場合、本発明により得られる低複屈折板の屈折率は、ナトリウムのＤ線（５８９．３ｍｍ）において室温で１．５４〜１．６５となり、高屈折率を有する。また式（２）の化合物を単独で用いる場合は比較的低い屈折率１．４７〜１．５１となる。従って、式（１）及び式（２）で示される化合物を２種以上併用することにより、１．４７〜１．６５の間で所望の屈折率を有する低複屈折板を得ることができる。
【００１３】
光硬化樹脂は、上記ビス（メタ）アクリレートを、単独で重合させて使用することができるが、下記の式（３）、（４）及び（５）で示される分子内に２個以上のチオール基を有するメルカプト化合物より選ばれる少なくとも１種のメルカプト化合物をビス（メタ）アクリレート８０〜９９．１重量部に対して、０．１〜２０重量部、より好ましくは１〜１５重量部、更に好ましくは５〜１０重量部配合することにより複屈折の低減、適度の靱性を付与することができる。メルカプト化合物が２０重量部を超えると耐熱性が低くなるのであまり好ましくない。
【００１４】
【化１０】
0003887913.tif 000006
【００１５】
［式（３）中、複数のＲ7 は互に異っていてもよく、それぞれメチレン基又はエチレン基を示す。Ｒ8 は炭素鎖中に酸素原子及び／又は硫黄原子を含んでいてもよい炭素数２〜１５、好ましくは２〜６の炭化水素残基を示す。ｄは２〜６の整数を示す。］
即ち、式（３）で示される化合物は、チオグリコール酸又はチオプロピオン酸とポリオールとのジエステル〜ヘキサエステルである。そのいくつかを例示すると、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキス（チオグリコレート）、トリメチロールプロパントリス（β−チオプロピオネート）、トリメチロールプロパントリス（チオグリコレート）、ジエチレングリコールビス（β−チオプロピオネート）、ジエチレングリコールビス（チオグリコレート）、トリエチレングリコールビス（β−チオプロピオネート）、トリエチレングリコールビス（チオグリコレート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（β−チオプロピオネート）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（チオグリコレート）などが挙げられる。
【００１６】
【化１１】
0003887913.tif 000007
【００１７】
［式（４）中、Ｙは互に異っていてもよく、ＨＳ−（ＣＨ2 ）e −（ＣＯ）（ＯＣＨ2 −ＣＨ2 ）f −（ＣＨ2 ）g −を示す。但しｅは１〜４の整数、ｆは１〜４の整数、ｇは０〜２の整数をそれぞれ示す。］
すなわち、式（４）の化合物はω−ＳＨ基含有トリイソシアヌレートである。そのいくつかを例示すると、トリス〔２−（β−チオプロピオニルオキシ）エチル〕イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシエチル）イソシアヌレート、トリス〔２−（β−チオプロピオニルオキシエトキシ）エチル〕イソシアヌレート、トリス（２−チオグリコニルオキシエトキシエチル）イソシアヌレート、トリス〔３−（β−チオプロピオニルオキシ）プロピル〕イソシアヌレート、トリス（３−チオグリコニルオキシプロピル）イソシアヌレートなどが挙げられる。
【００１８】
【化１２】
0003887913.tif 000008
【００１９】
［式（５）中、Ｒ9 及びＲ10は、互に異っていてもよく、炭素数１〜３の炭化水素基を示す。ｍ及びｎはそれぞれ０又は１を示す。ｐは１又は２を示す。］
すなわち、式（５）の化合物はα，ω−ＳＨ基含有化合物である。そのいくつかを例示すると、ベンゼンジメルカプタン、キシリレンジメルカプタン、４，４′−ジメルカプトジフェニルスルフィドなどが挙げられる。
【００２０】
また、以上の光硬化樹脂の重合の際に用いる他の単量体としては、例えば、メチル（メタ）アクリレート、フェニル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロドデカン、メタクリロイルオキシメチルテトラシクロドデセン、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、１，６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２′−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリレート化合物、スチレン、クロルスチレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン等の核及び（又は）側鎖置換及び非置換スチレンなどが挙げられる。これらの他の単量体の中でもメタクリロイルオキシメチルシクロドデカン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス［４−（β−メタクリロイルオキシエトキシ）シクロヘキシル］プロパン、１，４−ビス（メタクリロイルオキシメチル）シクロヘキサン、及びこれらの混合物が特に好ましい。更に、これらには少量の酸化防止剤、紫外線吸収剤、染顔料、充填剤等を含んでいてもよい。
【００２１】
以上のようなビス（メタ）アクリレート又はビス（メタ）アクリレートとメルカプト化合物との混合物は、紫外線等の活性エネルギー線によりラジカルを発生する光重合開始剤を添加する公知のラジカル重合により硬化させる。その際に用いる光重合開始剤としては、例えばベンゾフェノン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ジエトキシアセトフェノン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，６−ジメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等が挙げられる。好ましい光開始剤としては、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド、ベンゾフェノンである。これら光重合開始剤は２種以上を併用してもよい。
【００２２】
光重合開始剤の添加量は、モノマー１００重量部に対し０．０１〜１重量部、好ましくは０．０２〜０．３重量部である。光重合開始剤の添加量が多すぎると、重合が急激に進行し複屈折の増大をもたらすだけでなく色相も悪化する。また少なすぎると組成物を充分に硬化させることができなくなる。
照射する活性エネルギー線の量は、光重合開始剤がラジカルを発生する範囲であれば任意であるが、極端に少ない場合は重合が不完全なため硬化物の耐熱性、機械特性が十分に発現されず、逆に極端に過剰な場合には硬化物の黄変等の光による劣化を生じるので、モノマーの組成及び光重合開始剤の種類、量に合わせて２００〜４００ｎｍの紫外線を好ましくは０．１〜２００Ｊの範囲で照射する。使用するランプの具体例としては、メタルハライドランプ、高圧水銀灯ランプ等を挙げることができる。
【００２３】
硬化をすみやかに完了させる目的で、熱重合を併用してもよい。即ち、光照射と同時に組成物並びに型全体を通常３０〜３００℃の範囲で加熱する。この場合は重合をよりよく完結するためにラジカル重合開始剤を添加してもよいが、過剰な使用は複屈折の増大と色相の悪化をもたらす。熱重合開始剤の具体例としてはベンゾイルパーオキシド、ジイソプロピルパーオキシカーボネート、ｔ−ブチルパーオキシ（２−エチルヘキサノエート）等が挙げられ、使用量はモノマー１００重量部に対して１重量部以下が好ましい。
【００２４】
更に、光照射によるラジカル重合を行った後、硬化物を加熱することにより重合反応の完結及び重合時に発生する内部歪を低減することも可能である。加熱温度は、硬化物の組成やガラス転移温度に合わせて適宜選択されるが、過剰な加熱は硬化物の色相悪化をもたらすため、ガラス転移温度付近かそれ以下の温度が好ましい。
【００２５】
光硬化樹脂シートの成形方法は、少なくとも一面が活性エネルギー線を透過可能な２枚の相対する平板（以下「成形型」という。）を用いスペーサー等によりキャビティを形成させ周辺部をシールしてなる注入型に光硬化樹脂を注入し、活性エネルギー線を照射して光硬化樹脂を硬化させる。
成形型の材質は、硬化後のシートの表面から、好ましくは研磨ガラスを用い、光硬化性樹脂を硬化させるに充分な活性エネルギー線の透過性を持ち、熱等により容易にその形状を変形させないものであればよい。また、研磨ガラスと同等な表面性を得られるアクリル板等のプラスチック等が挙げられる。
【００２６】
また、必要により成形型上に剥離剤等の塗布、又は剥離層を設け硬化後の光硬化性樹脂シートを成形型より除去し易くする処理を行うこともできる。用いる剥離剤、剥離層、その塗布、については特に限定するものではないが、光硬化樹脂を硬化させるに充分な活性エネルギー線の透過性を持つ物質であり、更に、光硬化性樹脂を硬化させるための活性エネルギー線や、硬化時に発生する熱等により容易にその形成状態を変形しない物質であり、ガラス表面並の平面性が得られる物質であればよい。
【００２７】
活性エネルギー線は光硬化樹脂を硬化させるものであり、例えば、紫外線等が挙げられる。活性エネルギー線の照射量は用いる光硬化樹脂を硬化させる量であればよい。キャビティを形成させるスペーサー等については、特に限定しないが、所望のシート厚さが得られるものであればよい。例えば、シリコンゴム等のゴム製、金属製の板もしくは棒状、テフロン等の樹脂製の板もしくは棒状が挙げられる。
【００２８】
なお、以上の光硬化樹脂には、一般に公知である添加剤、例えば、フェノール系、燐系等の酸化防止剤、ハロゲン系、燐酸系等の難燃剤、耐熱老化防止剤、紫外線吸収剤、滑剤、帯電防止剤等を配合することができる。
光硬化樹脂シートの厚さは０．１〜２．０ｍｍの範囲が好ましい。０．１ｍｍ未満では層が自重によりたわみ易く、平坦性に劣る傾向があり、２．０ｍｍを超えると従来の１．５〜０．７ｍｍのガラス基板と同じ重量となり、軽量化の目的からはずれてしまう。
【００２９】
また、光硬化樹脂シートの光学特性としては、複屈折率が２０ｎｍ以下、特に１０ｎｍ以下であることが好ましい。２０ｎｍよりも大きいと、該シートをを表示装置などで利用した場合に表示画面の色ムラが生じる傾向がある。また、光硬化樹脂シートのリターデーション値（Ｒ値）は、好ましくは２０ｎｍ以下、特に好ましくは１０ｎｍ以下である。２０ｎｍを超えると表示画面の表示斑を生じる傾向がある。
【００３０】
更に、光硬化樹脂シートの表面粗度（Ｒａ値）は、０．０５μｍ以下であることが好ましい。０．０５μｍを超える表示画面のに表示ムラが生じてしまう傾向がある。また、該シートに他の層を積層する際の積層表面が乱れて上記光学的特性を悪化させる傾向があるがあるので好ましくない。
（Ｂ）近赤外線吸収剤
本発明の近赤外線吸収体は、波長領域８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が１０％以下、好ましくは８％以下である。この近赤外線吸収能を付与するための方法としては、近赤外線吸収剤を光硬化樹脂に配合するか、もしくは、近赤外線吸収剤を光硬化モノマー等よりなる反応混合物中に添加して光硬化させる方法がある。光硬化樹脂組成物中の近赤外線吸収剤の含有量は、近赤外線吸収体の形状や吸収剤の種類等で大きく変化するが、上記の光学特性を維持できる広い範囲であり、通常０．００１〜２０重量％、０．０１〜１０重量％である。なお、光硬化樹脂は、一般的に通常の熱可塑性樹脂よりも比較的低温で成形できるので、熱に対して不安定な近赤外線吸収剤も使用することが可能である。
【００３１】
近赤外線吸収剤としては、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、又はアルミニウム塩系化合物を使用するのが好ましいが、他の近赤外線吸収剤を併用してもよい。このような近赤外線吸収剤としては、有機物質であるニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、スクワリリウム系化合物、チオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、またはアミノ化合物、あるいは無機物質であるカーボンブラックや、酸化アンチモン、または酸化インジウムをドープした酸化錫、周期表の４、５または６族に属する金属の酸化物、若しくは炭化物、またはホウ化物等が挙げられる。この場合、波長領域８００〜１１００ｎｍの近赤外線透過率が１０％以下となるように上記化合物を適宜組み合わせて使用することができる。
【００３２】
上記イモニウム系化合物、及びジイモニウム系化合物としては、例えば下記式で表される化合物が挙げられる。
イモニウム系化合物或いはジイモニウム系化合物
【００３３】
【化１３】
0003887913.tif 000009
【００３４】
【化１４】
0003887913.tif 000010
【００３５】
【化１５】
0003887913.tif 000011
【００３６】
【化１６】
0003887913.tif 000012
【００３７】
上記アルミニウム塩系化合物としては、例えば下記の式で表される化合物が挙げられ、式中のＸの具体例としては、六フッ化アンチモン酸イオン、過塩素酸イオン、フッ化ホウ素酸イオン、六フッ化砒素酸イオン、過ヨウ素酸イオン、トリフルオロ酢酸イオン、、塩素イオン等が挙げられる。
アルミニウム塩系化合物
【００３８】
【化１７】
0003887913.tif 000013
【００３９】
（Ｃ）積層体の構成
本発明の赤外線吸収体は、通常、近赤外線吸収を含む光硬化樹脂シートとして使用し、必要に応じて、電磁波シールド層、傷付き防止層、あるいは光線反射防止層などの任意層を積層してもよい。また、透明ガラス、光硬化性樹脂、あるいはポリエステル樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリ（メタ）アクリル酸エステル系樹脂、脂環式オレフィン系樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル等の通常の熱可塑性透明樹脂層を積層してもよい。積層の方法は公知の積層方法を採用すればよく、勿論、各層の間に接着層を介在させてもよい。
【００４０】
上記の電磁波シールド層としては、金属、あるいは金属酸化物等で可視光線を透過しうるものであれば、いかなるものであってもよい。好ましくは、酸化スズ、酸化インジウムドープ酸化スズ（以下「ＩＴＯ」という。）、アンチモンドープ酸化スズ（以下「ＡＴＯ」という。）、銀が挙げられる。電磁波シールド層を形成する金属、あるいは金属酸化物は、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法等の方法により基板上に形成することができる。あるいは、金属ペーストを基板上にコーティングすることにより形成することもできる。電磁波シールド層の膜厚は、要求される物性、用途などにより異なるが、透明性の観点から２０〜３００ｎｍの範囲とするのが好ましい。
【００４１】
上記の傷付き防止層は、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレートなどのアクリレートあるいは多官能アクリレート、光重合開始剤、および有機溶剤を主成分とするコート剤により形成される。傷付き防止層は、上記コート剤の塗工液をディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、ブレードコート法及びエアーナイフコート法等の塗工方法で塗工した後、溶剤を乾燥させ、さらに活性エネルギー線を照射することにより塗工したコート剤を架橋硬化せしめることによって形成される。前記活性エネルギー線としては、キセノンランプ、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、メタルハライドランプ、カーボンアーク灯、タングステンランプ等の光源から発せられる紫外線あるいは、通常２０〜２０００ｋｅＶの電子線加速器から取り出される電子線、α線、β線、γ線等を用いることができる。このようにして形成される傷付き防止層は、通常１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍの厚みとする。
【００４２】
上記の光線反射防止層は、比較的低屈折率である酸化珪素、酸化ジルコニウム、酸化チタン、フッ化マグネシウム、フッ化カルシウム、酸化アルミニウム等、あるいは反射防止コーティング剤（例えば旭硝子（株）製；商品名「サイトップ」等）を用いて形成される。これらのものを一層、あるいは２種類以上を組み合わせて多層設け、反射防止層を形成する。反射防止層の形成方法としては、金属アルコキシドを塗布後に焼成する方法、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法、ＣＶＤ法、プラズマ化学蒸着法、あるいはロールコート法、ディッピング法等が挙げられる。この反射防止層は、透明積層体の最表面に設けられることが好ましい。また反射防止層の厚みは、通常５０〜１００ｎｍであり、積層の順序は特に限定されないが、反射防止層を最表面に設けられることが好ましい。
【００４３】
積層体の具体例としては、▲１▼近赤外線吸収剤入り層光硬化樹脂層、▲２▼近赤外線吸収剤入り光硬化樹脂層／傷付き防止層／電磁波シールド層／光線反射防止層、▲３▼近赤外線吸収剤入り光硬化樹脂層／電磁波シールド層／傷付き防止層／光線反射防止層、▲４▼近赤外線吸収剤入り光硬化樹脂層／傷付き防止層／電磁波シールド層／光線反射防止層、▲５▼近赤外線吸収剤入り光硬化樹脂層／ポリエステル樹脂層／電磁波シールド層／傷付き防止層／光線反射防止層などがあり、かかる具体例においても接着層を設ける場合もある。
【００４４】
【実施例】
以下に実施例により本発明の具体的な態様を更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、これらの実施例によって限定されるものではない。
なお、以下の実施例において、近赤外線透過率は、分光光度計（ＢＩＯ−ＲＡＤ社製：ＦＴＳ−６０Ａ型）を、可視光線透過率は、分光光度計（島津製作所（株）製：ＭＰＳ−２０００型）を、またリターデーション値は自動複屈折測定装置（オーク製作所製、ＡＤＲ−１５０Ｎ）を用いて測定を行った。
実施例１
光学研磨ガラス平板（縦３１０ｍｍＸ横４１０ｍｍＸ厚さ５ｍｍ）を用いて、スペーサーとして幅５ｍｍ、厚さ１ｍｍのシリコン板を用いてキャビティを形成させ、周辺部をテープでシールして注入型を形成した。光硬化性樹脂としてｐ−ビス（β−メタクリロイルオキシエチルチオ）キシレン９９重量部、ペンタエリスリトールテトラキス（β−チオプロピオネート）１重量部、光開始剤として２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィノキシド（ＢＡＳＦ社製「ルシリンＴＰＯ」０．０５重量部、ベンゾフェノン０．０２重量部、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量部を均一に撹拌混合した後、脱泡して組成物を得た。この組成物を注入型に注入し、ガラス面より距離４００ｍｍで上下にある出力８０Ｗ／ｃｍのメタルハライドランプの間にて、３０分間紫外線を照射して硬化させた。注入型を除去し光硬化性樹脂よりなる透明基板を得た。得られた光硬化性樹脂よりなる透明基板は、縦３００ｍｍＸ横４００ｍｍＸ厚さ１ｍｍ、リターデーション値（Ｒ値）５ｎｍであった。
【００４５】
得られた成形品の近赤外線透過率を分光光度計（ＢＩＯ−ＲＡＤ社製ＦＴＳ−６０Ａ型）で測定した結果、８００ｎｍ〜１，０００ｎｍの平均透過率は２％であった。また、分光光度計（島津社製ＵＶ−２２００型）で測定した結果、可視光線平均透過率は８０％であった。
実施例２
実施例１において、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量部を、日本感光色素研究所製近赤外線吸収剤「ＮＫ−３０２７」（ベンゾピリリウム系）２重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）１重量部、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー９０１Ｂ」（フタロシアニン系）２重量部  得られた成形品の近赤外線平均透過率は８％、可視光線平均透過率は８５％であった。
実施例３
実施例１において、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量部を、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−００２」（アミニウム系）４重量部に変更した以外は、同例と同様に実施し、成型品を得た。得られた成形品の近赤外線平均透過率は３％、可視光線平均透過率は７５％であった。
比較例１
三菱レーヨン社製ポリメタクリル酸メチルアクリペット「ＶＨ５」１００重量部に、日本感光色素研究所社製近赤外線吸収剤ＮＫ−３０２７（ベンゾピリリウム系）２重量部、ＮＫＸ−１２４（シアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）２重量部を添加し、４０ｍｍ径の単軸押出機で混練し、透明樹脂組成物を得た。得られた組成物を、射出成形機（日本製鋼所製Ｊ−１５０）にて成形し、１００ｍｍ□×２ｍｍｔのシート状成形体を得た。
【００４６】
得られた成形体に、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート及びジペンタエリスリトールペンタアクリレートの混合物（日本化薬社製「カラヤッドＤＰＨＡ」）の４０％メチルエチルケトン溶液１００部に、ベンジルジメチルケタール０．２部を混合したハードコート剤を、バーコーター＃２０で塗工し、実施例１と同様に紫外線硬化させた。
【００４７】
得られた成形体の近赤外線平均透過率は２０％、可視光線平均透過率は５０％であった。
比較例２
実施例１において、日本触媒社製近赤外線吸収剤「イーエクスカラー８０３Ｋ」（フタロシアニン系）１重量部、日本化薬社製近赤外線吸収剤「ＩＲＧ−０２２」（ジイモニウム系）４重量部をなくした以外は、同例と同様に実施し、成型品を得た。
【００４８】
得られた成形体の近赤外線平均透過率は９０％、可視光線平均透過率は９０％であった。
【００４９】
【発明の効果】
本発明の近赤外線吸収体は近赤外線吸収能に特に優れているほか、可視光線透過性、あるいはリタデーション値等に代表される光学特性に優れている。また、耐衝撃性、耐薬品性及び剛性などに優れているともに、軽量で取扱いやすい。本発明の近赤外線吸収体体は、近赤外線を遮断するフィルター、具体的にはプラズマデイスプレイのような画像表示装置のフィルター、窓ガラス、褪色保護シート、サングラス、保護眼鏡、リモコン受光器などに好適に使用することができる。