(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の一般式（Ｉ）
【化１】
0003875740.tif 000016
（式中、Ｒ１は低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、またはアラルキル基を表す。また、ＣＨ３基は２−スルホニルピリジン類の３位から６位のいずれかに存在することを意味する。）
で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類に、ラジカル発生条件下、塩素化剤を作用させることを特徴とする、下記の式（ＩＩ）
【化２】
0003875740.tif 000017
（式中、ＣＨ２Ｃｌ基は、２−クロロピリジンの３位から６位のいずれかに存在することを意味する。）で示される２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類の製造法。
【請求項２】
下記の一般式（Ｖ）
【化５】
0003875740.tif 000018
（式中、Ｒ１は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、またはアラルキル基を表す。)で示されるスルホニルシアニドと、下記の一般式（ＶＩ）
【化６】
0003875740.tif 000019
（式中、ＣＨ３基は１，３−ブタジエンの１位から４位のいずれかに存在することを意味し、Ｒ２はアシロキシ基を表す。）
で示されるメチル置換１−アシロキシ−１，３−ブタジエンとを反応させることにより、下記の一般式（Ｉ）
【化７】
0003875740.tif 000020
（式中、Ｒ１は低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、またはアラルキル基を表す。また、ＣＨ３基は２−スルホニルピリジン類の３位から６位のいずれかに存在することを意味する。）
で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類を製造し、得られた上記一般式（Ｉ）で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類に、ラジカル発生条件下、塩素化剤を作用させることを特徴とする、下記の式（ＩＩ）
【化８】
0003875740.tif 000021
（式中、ＣＨ２Ｃｌ基は、２−クロロピリジンの３位から６位のいずれかに存在することを意味する。)で示される２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類の製造法。
【請求項３】
下記の一般式(V)
【化１１】
0003875740.tif 000022
(式中、R1は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、またはアラルキル基を表す。)で示されるスルホニルシアニドと、下記の一般式(VI)
【化１２】
0003875740.tif 000023
(式中、CH3基は１，３−ブタジエンの１位から４位のいずれかに存在することを意味し、R2はアシロキシ基を表す。)で示されるメチル置換 1−アシロキシ−１，３−ブタジエンとを反応させることを特徴とする、下記の一般式(I)
【化１３】
0003875740.tif 000024
(式中、R1およびR2は上記と同じである。また、CH3基は２−スルホニルピリジン類の３位から６位のいずれかに存在することを意味する。)で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、医薬、および、農薬の製造原料として有用な、２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類の製造法、およびその製造原料となるメチル−２−スルホニルピリジン類の製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
医薬および農薬の製造中間体として有用な２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類、２−クロロ−ジクロロメチルピリジン類、および、２−クロロ−トリクロロメチルピリジン類の一般的な製造法としては、メチル−２−クロロピリジン類の塩素化により得る方法[DE-3630046(EP-A-0260485),特開平5-230024,EP-A-0557967]が知られている。その原料となるメチル−２−クロロピリジン類は、テトラヘドロンレターズ(Tetrahedron Letters,1971 年,2807頁)記載の方法によりメチルピリジンを酸化して得られるメチルピリジン N−オキシドを、ケミストリーオブ ヘテロサイクリック コンパウンズ(Chemistryof Heterocyclic Compounds,14巻,補巻2,1974年)記載の方法により塩素化して得られる。従って、２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類、２−クロロ−ジクロロメチルピリジン類、および、２−クロロ−トリクロロメチルピリジン類はメチルピリジンより３工程を経て製造されており、工程全体を通算するとその収率は低い。また、メチルピリジン N−オキシドの塩素化に用いるオキシ塩化リンの廃液処理が環境保護上必須である。
【０００３】
また、２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類、２−クロロ−ジクロロメチルピリジン類、および、２−クロロ−トリクロロメチルピリジン類はメチルピリジンの直接塩素化によっても製造されている[USP-5247093(WO94/13640),USP-4577027,USP-4564681]。 しかし、反応には300℃から500℃の高温を要し、さらに、低収率であることから工業的製法としては用いえない。
【０００４】
なお、農薬の製造中間体、特に殺虫剤の製造中間体として有用な２−クロロ−５−クロロメチルピリジンに関しては、製造法として、２−クロロ−５−メチルピリジンの塩素化による得る方法[DE-3630046(EP-A-0260485),DE-4016175,EP-A-0557967,特開平5-230026]が知られている。この原料となる２−クロロ−５−メチルピリジンは、上記のように対応するメチルピリジン N−オキシドを経て製造される。また、EP-A-0393453記載の方法では３−メチルピリジンの塩素化により得られる３−ジクロロメチルピリジンを２−メトキシ−５−メトキシメチルピリジンとし、さらにオキシ塩化リンあるいはそれに加えて五塩化リンによる塩素化を行うことにより２−クロロ−５−クロロメチルピリジンを製造している。これらいずれの方法においても２−クロロ−５−クロロメチルピリジンは３−メチルピリジンより３工程を経て製造されるため、工程全体としては低収率であり、また、塩素化にオキシ塩化リンあるいはそれに加えて五塩化リンを使用するため廃液処理が必須である。
【０００５】
さらに、２−クロロ−５−クロロメチルピリジンの他の製造原料として、EP-A-0477828記載の２−クロロ−５−ヒドロキシメチルピリジンが挙げられるが、微生物変換による製法のため生産効率の低さが問題となっている。
すなわち、これまで、医薬および農薬の製造中間体として有用な２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類、２−クロロ−ジクロロメチルピリジン類、および、２−クロロ−トリクロロメチルピリジン類を工業的にかつ安価に製造し得る方法は存在しなかった。
【０００６】
さらに、本発明の新たな製造法において原料となる、メチル−２−スルホニルピリジン類の製造法としては、１−エトキシイソプレンとｐ−トルエンスルホニルシアニドとの反応により５−メチル−２−ｐ−トルエンスルホニルピリジンを得る方法が報告されている［シンセシス(Synthesis,1989年,623頁)］。しかしながら、この方法においては収率が低く、農薬の製造中間体としてのメチル−２−スルホニルピリジン類の工業的製造のためには、より効率の良い製造法の開発が必要とされる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、医薬、および、農薬の製造中間体として有用な２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類、およびその製造原料となるメチル−２−スルホニルピリジン類を工業的にかつ安価に製造しうる方法を提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の目的を達成するために種々の検討を行い、その結果、メチル−２−スルホニルピリジン類にラジカル発生条件下に塩素化剤を作用させると、２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類を選択的に製造しうること、および製造原料となるメチル−２−スルホニルピリジン類がスルホニルシアニドとメチル置換１−アシロキシ−１，３−ブタジエンから高収率かつ簡便に製造しうることを見いだし、本発明を完成するに至った。
【０００９】
すなわち本発明は、下記の一般式(I)
【００１０】
【化１４】
0003875740.tif 000002
【００１１】
(式中、R1は低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、またはアラルキル基を表す。また、CH3基は、２− スルホニルピリジン類の３位から６位のいずれかに存在することを意味する。)で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類に、ラジカル発生条件下、塩素化剤を作用させることを特徴とする、下記の式(II)
【００１２】
【化１５】
0003875740.tif 000003
【００１７】
（式中、ＣＨ２Ｃｌ基は、２−クロロピリジンの３位から６位のいずれかに存在することを意味する。)で示される２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類の製造法に関する。
【００１８】
また、本発明は、下記の一般式(V)
【００１９】
【化１８】
0003875740.tif 000004
【００２０】
(式中、R1は、低級アルキル基、シクロアルキル基、置換されてもよいアリール基、またはアラルキル基を表す。)で示されるスルホニルシアニドと、下記の一般式(VI)
【００２１】
【化１９】
0003875740.tif 000005
【００２２】
（式中、ＣＨ３基は１，３−ブタジエンの１位から４位のいずれかに存在することを意味し、Ｒ２はアシロキシ基を表す。）
で示されるメチル置換１−アシロキシ−１，３−ブタジエンとを反応させることにより上記一般式(I)で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類を製造し、得られたメチル−２−スルホニルピリジン類（Ｉ）に、ラジカル発生条件下、塩素化剤を作用させることを特徴とする上記式（ＩＩ）で示される２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類の製造法に関する。
【００２３】
さらに、本発明は、上記一般式(V)で示されるスルホニルシアニドと上記一般式(VI)で示されるメチル置換 1−アシロキシ−１，３−ブタジエンとを反応させることを特徴とする上記一般式(I)で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類の製造法に関する。
【００２４】
【発明の実施の形態】
上記一般式中、低級アルキル基としては、メチル基、エチル基、プロピル基などが挙げられ、シクロアルキル基としては、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロオクチル基などが挙げられる。
また、アリール基としてはフェニル基、ナフチル基などが挙げられ、これらはメチル基、エチル基などの低級アルキル基、メトキシ基、プロポキシ基などの低級アルコキシ基、フッ素原子、塩素原子、臭素原子などのハロゲン原子、シアノ基、ニトロ基などにより適宜置換されていてもよい。そして、アラルキル基としては、ベンジル基、フェネチル基などが挙げられる。
【００２５】
本発明の２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類の製造法は下記のスキームで示される。
【００２６】
【化２０】
0003875740.tif 000006
【００２７】
（式中、Ｒ１は上記と同じである。ＣＨ３基は、２−スルホニルピリジン類の３位から６位のいずれかに存在することを意味し、また、ＣＨ２Ｃｌ基は、２−クロロピリジンの３位から６位のいずれかに存在することを意味する。）
【００２８】
塩素化剤としては、ラジカル発生条件下で塩素ラジカルを発生するものであればいかなるものであってもよいが、反応効率およびコストの点で、塩素または塩化スルフリルが好ましい。塩素化剤は、反応中に連続的にもしくは逐次的に加えることが好ましい。
【００２９】
塩素ラジカルを発生させためには、ラジカル開始剤を使用することができる。かかるラジカル開始剤としては、２，２’−アゾビス(イソブチロニトリル)、１，１’−アゾビス(シクロヘキサンカルボニトリル)などのニトリル類、過酸化ベンゾイル、過酸化アセチルなどの過酸化物が挙げられる。ラジカル開始剤は、反応前および／または反応中に連続的にもしくは逐次的に添加することができる。該ラジカル開始剤の添加量は0.001当量から3.0当量であり、好ましくは0.05当量から1.0当量である。また、光照射等によっても、塩素ラジカルを発生させることができる。
【００３０】
本反応は好ましくは溶媒中で行われ、溶媒としては反応に関与しないものであればいかなるものでも用いられるが、例えばアセトニトリル、二硫化炭素、テトラクロロエタン、四塩化炭素、および、四塩化炭素とクロロホルムの混合溶媒などが挙げられる。
【００３１】
また、反応は、20℃から溶媒還流温度で行われることが好ましく、60℃から100℃がより好ましい。
【００３２】
一般に、２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類（ＩＩ）の製造は、塩素化剤の量、反応時間、および反応温度により制御しうる。
【００３３】
また、本発明の、一般式(I)で示されるメチル−２−スルホニルピリジン類の製造法において、アシロキシ基としてはアセトキシ基、プロパノイルオキシ基、ブタノイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基などが挙げられる。
【００３４】
出発物質であるスルホニルシアニド(V)は、対応するスルフィン酸ナトリウムよりオーガニック シンセシス(Organic Synthesis,57巻,88頁,1977年)記載の方法で得ることができる。他方の出発物質であるメチル置換 1−アシロキシ−１，３−ブタジエン(VI)は、例えば、インダストリアル アンド エンジニアリング ケミストリー(Industrial and Engineering Chemistry,41巻,12号,2920頁,1949年)記載の方法で得ることができる。
【００３５】
反応に供するスルホニルシアニド(V)の具体例としては、メタンスルホニルシアニド、プロパンスルホニルシアニドなどの低級アルカンスルホニルシアニド、シクロヘキサンスルホニルシアニド、シクロオクタンスルホニルシアニドなどのシクロアルカンスルホニルシアニド、ベンゼンスルホニルシアニド、p−トルエンスルホニルシアニド、p−クロロベンゼンスルホニルシアニドなどのアレンスルホニルシアニド、そして、フェニルメタンスルホニルシアニドなどのアリールアルカンスルホニルシアニドが挙げられる。
【００３６】
反応に供するメチル置換 1−アシロキシ−１，３−ブタジエン(VI)の具体例としては、４−アセトキシ−１，３−ペンタジエン、４−プロパノイルオキシ−１，３−ペンタジエン、１−アセトキシ−イソプレン、１−アセトキシ−３−メチル−１，３−ブタジエン、１−ベンゾイルオキシ−３−メチル−１，３−ブタジエン、そして、１−アセトキシ−１，３−ペンタジエンなどが挙げられる。
【００３７】
上記一般式(V)で示されるスルホニルシアニドと上記一般式(VI)で示されるメチル置換 1−アシロキシ−１，３−ブタジエンとの反応は、ディールス−アルダー反応条件下に行うことができ、重合禁止剤の存在下、あるいは、非存在下に行われる。本反応においては、一旦、ディールス−アルダー付加体が生成した後、反応条件下で脱離反応が進行して、一般式(I)で示される目的物が得られるものと考えられる。
【００３８】
重合禁止剤としては、４−メトキシフェノール、２，６−ジ−t−ブチル−４−メチルフェノールなどのフェノール類、ヒドロキノン、ジ−tert−ブチルヒドロキノンなどのヒドロキノン類、１−ナフトール、２−ナフトールなどのナフトール類、そして、カテコール、p−tert−ブチルカテコールなどのカテコール類などが挙げられる。重合禁止剤の添加量はジエンの重量の1/100000から1/100であることが好ましく、1/10000から1/1000がより好ましい。
【００３９】
反応に際して、溶媒を用いることもできる。溶媒としては反応に関与しないものであればいかなるものでも用いうるが、例えば、ヘキサン、オクタンなどの炭化水素、ジクロロメタン、１，２−ジクロロエタンなどのハロゲン化炭化水素、ジエチルエーテル、テトラヒドロフランなどのエーテル類、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素が挙げられる。
【００４０】
反応は、一般に、20℃から120℃で行われることが好ましく、60℃から100℃がより好ましい。
【００４１】
本発明の上記製造法においては、一般式(VI)で示されるメチル置換 1−アシロキシ−１，３−ブタジエン上のメチル基の置換位置に対応したメチル−２− スルホニルピリジン類が得られる。すなわち、４−アシロキシ−１，３−ペンタジエンからは６−メチル−２−スルホニルピリジン、１−アシロキシ−イソプレンからは５−メチル−２−スルホニルピリジン、１−アシロキシ−３−メチル−１，３−ブタジエンからは４−メチル−２−スルホニルピリジン、そして、１−アシロキシ−１，３−ペンタジエンからは３−メチル−２−スルホニルピリジンが得られる。
【００４２】
【発明の効果】
本発明によれば、医薬、農薬の製造中間体である２−クロロ−モノクロロメチルピリジン類（ＩＩ）を、メチル−２−スルホニルピリジン類（Ｉ）から収率良くかつ簡便に製造しうる。また、その原料化合物であるメチル−２−スルホニルピリジン類（Ｉ）は、例えばスルホニルシアニド（Ｖ）およびメチル置換１−アシロキシ−１，３−ブタジエン（ＶＩ）から収率良く安価に製造しうる。
【００４３】
【実施例】
以下、参考例および実施例により本発明を更に詳しく説明する。なお、本発明はこれらによって制限されるものではない。
【００４４】
実施例１
５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００４５】
【化２１】
0003875740.tif 000007
【００４６】
室温下、４−メトキシフェノール(5.2mg,0.04mmol)を加えた１−アセトキシイソプレン(17.3g,137.1mmol)にベンゼンスルホニルシアニド(14.4g,85.7mmol)を 加え80℃で１時間攪拌した。反応溶液に飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え溶液をアルカリ性とし室温まで放冷した後、生じた固体を水(200ml)で二度洗浄し、続いて、ジエチルエーテル(200ml)で洗浄し、減圧下に溶媒を溜去することにより下記の物性値を有する５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを白色固体(19.0g,収率95.2%)として得た。
【００４７】
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ :2.40(s,3H,-CH3),7.52-7.6(m,3H,Ar-H),7.70(dd,1H,J=1.8 and 8.6Hz,H-4),8.03-8.07(m,2H,Ar-H),8.09(d,1H,J=8.6Hz,H-3),8.49(d,1H,J=1.8Hz,H-6)
CIMS(m/z):234(M++1),169(M+-SO2)
融点：118℃〜120℃
【００４８】
実施例２
５−メチル−２−メチルスルホニルピリジンの合成
【００４９】
【化２２】
0003875740.tif 000008
【００５０】
実施例１においてベンゼンスルホニルシアニドに代えメタンスルホニルシアニドを用いることにより下記の物性値を有する５−メチル−２−メチルスルホニルピリジンを白色固体(収率69.3%)として得た。
【００５１】
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ :2.47(s,3H,-CH3),3.21(s,3H,-SO2-CH3),7.75(dd,1H,J=1.9 and 8.0Hz,H-4),7.99(d,1H,J=8.0Hz,H-3),8.56(d,1H,J=1.9Hz,H-6)
融点：85.5℃〜86.5℃
【００５２】
実施例３
４−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００５３】
【化２３】
0003875740.tif 000009
【００５４】
実施例１において１−アセトキシイソプレンに代え１−アセトキシ−３−メチル−１，３−ブタジエンを用いることにより下記の物性値を有する４−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを白色固体(収率85.0%)として得た。
【００５５】
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ :2.47(s,3H,-CH3),7.25(dd,1H,J=1.6 and 4.8Hz,H-5),7.53-7.62(m,3H,Ar-H),8.04-8.08(m,2H,Ar-H),8.10(d,1H,J=1.6Hz,H-3),8.52(d,1H,J=4.8Hz,H-6)
融点：128℃〜129℃
【００５６】
実施例４
６−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンの合成
【００５７】
【化２４】
0003875740.tif 000010
【００５８】
実施例１において１−アセトキシイソプレンに代え４−アセトキシ−１，３−ペンタジエンを用いることにより下記の物性値を有する６−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンを黄色半固体(収率25.8%)として得た。
【００５９】
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ :2.74(s,3H,-CH3),7.35(dd,1H,J=4.6 and 7.4Hz,H-4),7.57(dd,1H,J=1.2 and 7.4Hz,H-3),7.61-7.64(m,3H,Ar-H),8.00-8.04(m,2H,Ar-H),8.40(dd,1H,J=1.2 and 4.6Hz,H-5)
IR(KBr,cm-1):3075,1760,1455,1315(SO2),1165(SO2),730,600
【００６０】
実施例５
２−クロロ−５−クロロメチルピリジンの合成
【００６１】
【化２５】
0003875740.tif 000011
【００６２】
室温下、アセトニトリル(20g)に２,２’−アゾビス(イソブチロニトリル)(10mg,0.061mmol)、および、５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジン(290mg,0.125mmol)を懸濁させ、１５分毎に２,２’−アゾビス(イソブチロニトリル)(2.5mg,0.015mmol)を加えながら、加熱還流下、塩素(毎秒0.3ml)を反応液に７５分間通じた。
加熱還流下、反応溶液に窒素を３分間吹き込み、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(30ml)を加え溶液をアルカリ性とした後、室温まで冷却し、有機層を回収した。水層をアセトニトリル(10ml)で二度抽出し、先の有機層に加えた。有機層を飽和食塩水(50ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残査をクロロホルム(30ml)に溶解し、水(30ml)、および、飽和食塩水(30ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残査を減圧下に蒸留し、沸点72℃〜88℃(2mmHg)の留分として、下記の物性値を示す２−クロロ−５−クロロメチルピリジン(132.6mg,収率65.8%)を白色半固体として得た。
【００６３】
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ:4.57(s,2H,-CH2),7.35(d,1H,J=8.1Hz,H-3),7.50(dd,1H,J=2.3 and 8.1Hz,H-4),8.40(d,1H,J=2.3Hz,H-6)
EIMS(m/z):161(M+),126(M+-Cl)
【００６４】
実施例６
２−クロロ−５−クロロメチルピリジンの合成
【００６５】
【化２６】
0003875740.tif 000012
【００６６】
実施例５において５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンに代え５−メチル−２−メチルスルホニルピリジンを用いることにより２−クロロ−５−クロロメチルピリジンを白色半固体(収率63.5%)として得た。
【００６７】
参考例１
２−クロロ−５−クロロメチルピリジンおよび２−クロロ−５−ジクロロメチルピリジンの合成
【００６８】
【化２７】
0003875740.tif 000013
【００６９】
室温下、四塩化炭素(30ml)に５−メチル−２−スルホニルピリジン(2.33g,10.0mmol)、塩化スルフリル(1.8ml,22.4mmol)、および、α,α'−アゾビス(イソブチロニトリル)(120mg,0.7mmol)を懸濁させ、還流開始1.5時間後にα,α'−アゾビス(イソブチロニトリル)(120mg,0.7mmol)、また、3.5時間後、および、5.5時間後にそれぞれ塩化スルフリル(1.8ml,22.4mmol)を加え、合計6時間加熱還流した。
室温まで放冷後、反応液がアルカリ性となるまで飽和炭酸水素ナトリウム水溶液を加え、有機層を分離した。水層を塩化メチレン(20ml×2回)で抽出し、これを先の有機層と共に、水(50ml)、および、飽和食塩水(50ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下に溶媒を留去した。得られた残渣をカラムクロマトグラフィー(シリカゲル100g、ヘキサン/酢酸エチル=2/1)に付し２−クロロ−５−クロロメチルピリジン(412mg,収率25.5%)、および、下記の物性値を有する２−クロロ−５−ジクロロメチルピリジン(839mg,収率43.2%)を得た。
【００７０】
２−クロロ−５−ジクロロメチルピリジン
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ:6.73(s,1H,-CHCl2),7.42(d,1H,J=8.4Hz,H-3),7.96(dd,1H,J=2.6 and 8.4Hz,H-4),8.52(d,1H,J=2.6Hz,H-6)
EIMS(m/z):194(M+),124(M+-2Cl)
融点:64℃〜65℃
【００７１】
参考例２
２−クロロ−５−ジクロロメチルピリジンおよび２−クロロ−５−トリクロロメチルピリジンの合成
【００７２】
【化２８】
0003875740.tif 000014
【００７３】
室温下、アセトニトリル(30g)に２,２’−アゾビス(イソブチロニトリル)(14mg,0.086mmol)、および、５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジン(2g,8.58mmol)を懸濁させ、15分毎に２,２’−アゾビス(イソブチロニトリル)(14mg,0.086mmol)を加えながら、加熱還流下、塩素(毎秒0.3ml)を反応液に110分間通じた。
加熱還流下、反応溶液に窒素を３分間吹き込み、飽和炭酸水素ナトリウム水溶液(30ml)を加え溶液をアルカリ性とした後、室温まで冷却し、有機層を回収した。水層をアセトニトリル(10ml)で二度抽出し、先の有機層に加えた。有機層を飽和食塩水(50ml)で洗浄し、無水硫酸ナトリウムにより乾燥した後、減圧下に溶媒を溜去した。得られた残留物をガスクロマトグラフィーで分析したところ２−クロロ−５−モノクロロメチルピリジンが1.3％、２−クロロ−５−ジクロロメチルピリジンが52.9％、そして、２−クロロ−５−トリクロロメチルピリジンが24.2％であった。
【００７４】
２−クロロ−５−トリクロロメチルピリジン
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ:7.46(d,1H,J=8.5Hz,H-3),8.18(dd,1H,J=2.7 and 8.5Hz,H-4),8.98(d,1H,J=2.7Hz,H-6)
IR(KBr,cm-1):3100,1585,1565,1480,1460,805,770
融点:64℃〜65℃
【００７５】
参考例３
２−クロロ−４−トリクロロメチルピリジンの合成
【００７６】
【化２９】
0003875740.tif 000015
【００７７】
実施例５において５−メチル−２−フェニルスルホニルピリジンに代え４−メチル−２−メチルスルホニルピリジンを用いることにより下記の物性値を有する２−クロロ−４−トリクロロメチルピリジンを白色半固体(収率83.7%)として得 た。
【００７８】
1H-NMR(200MHz,CDCl3)δ:7.72(dd,1H,J=1.8 and 5.3Hz,H-5),7.83(d,1H,J=1.8Hz,H-3),8.52(d,1H,J=5.3Hz,H-6)
EIMS(m/z):229(M+),159(M+-2Cl),124(M+-3Cl)