(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リング共振器または光導波路または導波路型光デバイスの偏光特性または伝搬定数を制御する方法であって、クラッド層もしくはコア層またはその両方に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用い、当該クラッド層もしくはコア層またはその両方を紫外線照射により膜厚調整することを特徴とする偏光特性・伝搬定数制御方法。
【請求項２】
クラッド層もしくはコア層またはその両方に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドが用いられており、紫外線照射によりクラッド層もしくはコア層またはその両方の膜厚が調整されることで、偏光無依存化されてなる、または伝搬定数が制御されてなることを特徴とするリング共振器。
【請求項３】
クラッド層もしくはコア層またはその両方に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドが用いられており、紫外線照射によりクラッド層もしくはコア層またはその両方の膜厚が調整されることで、偏光無依存化されてなる、または伝搬定数が制御されてなることを特徴とする光導波路。
【請求項４】
クラッド層もしくはコア層またはその両方に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドが用いられており、紫外線照射によりクラッド層もしくはコア層またはその両方の膜厚が調整されされることで、偏光無依存化されてなる、または伝搬定数が制御されてなることを特徴とする導波路型光デバイス。
【請求項５】
紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面にストライプパターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面にストライプパターンを形成することを特徴とする回折格子の製造方法。
【請求項６】
紫外光を用いた干渉露光あるいは位相格子によって、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に干渉縞パターンを発生させることにより、当該ポリイミド膜の表面に正弦波状の凹凸パターンを形成することを特徴とする回折格子の製造方法。
【請求項７】
紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に輪帯パターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面に輪帯パターンを形成することを特徴とするフレネルレンズの製造方法。
【請求項８】
紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に輪帯パターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面に輪帯パターンを形成することを特徴とするフレネルゾーンプレートの製造方法。
【請求項９】
紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に導波路パターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面に導波路パターンを形成することを特徴とするリッジ型光導波路の製造方法。
【請求項１０】
端面が反射鏡となっている共振器の少なくとも一部を、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用いて成製し、当該共振器に対して紫外線照射することにより、共振器長を調整することを特徴とするファブリーペロー共振器の製造方法。
【請求項１１】
少なくとも一層以上の積層薄膜を、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用いて成製し、当該積層薄膜に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整することを特徴とする多層膜フィルタの製造方法。
【請求項１２】
積層した上部コアと下部コアとの間の中間層を、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用いて成製し、当該中間層に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整することを特徴とする光導波路型方向性結合器の製造方法。
【請求項１３】
スピンコートによって基板上に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを成膜し、溶媒を揮発させてからポリイミド膜を基板から剥がし、ポリイミド膜をその両側端を固定するように枠体に装着させた状態にてイミド化した後、当該ポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整することを特徴とする波長板の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この出願の発明は、偏光特性・伝搬定数制御方法、およびリング共振器、光導波路、導波路型光デバイス、ならびに各種光デバイスの製造方法に関するものである。さらに詳しくは、この出願の発明は、リング共振器や光導波路、さらには導波路型光デバイスの偏光特性および伝搬定数を容易に制御することのできる新しい偏光特性・伝搬定数制御方法、および、偏光無依存化されたあるいは伝搬定数が制御された新しいリング共振器、光導波路、導波路型光デバイスに関するものであり、また、回折格子やフレネルレンズ、フレネルゾーンプレート、リッジ型光導波路、ファブリーペロー共振器、多層膜フィルタ、光導波路型方向性結合器、波長板などの各種光デバイスを、各々の特性を良好に、且つ容易に調整可能として製造することのできる、新しい製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、特定波長の光信号のみが各光導波路相互に乗り移ることによりＡＤＤ／ＤＲＯＰ動作を行う光導波路型波長フィルタの一つとして、たとえば図１に例示したように、入力側光導波路（１）および出力側光導波路（２）の間にリング共振器（３）が備えられた構造を有するものが知られている。
【０００３】
このリング共振器付き光導波路型波長フィルタでは、リング共振器（３）が入力側光導波路（１）および出力側光導波路（２）間の光結合部の役割を担っており、波長多重光信号λ1...nが入力側光導波路（１）の入力ポートに入射されると、リング共振器（３）の共振波長と一致する波長の光信号λjだけが、リング共振器（３）を介して出力側光導波路（２）に乗り移ってＤＲＯＰポートから出射される。他の波長の光信号λ1...j-1,j+1...nはそのまま入力側光導波路（１）のスルーポートに流れる。また、出力側光導波路（２）のＡＤＤポートから入射された光信号は、リング共振器（３）の共振波長と一致する場合にのみ入力側光導波路（１）のスルーポートに合波される。
【０００４】
ところで、このような従来のリング共振器付き光導波路型波長フィルタでは、入力多重光信号に対して一波長の光信号のみしか合波・分波することができないため、１×Ｎ波長フィルタを構成するには複数のリング共振器を曲がり導波路などで連結する必要があり、高密度集積化が困難であるといった問題があった。
【０００５】
そこで、この出願の発明の発明者は、１×Ｎ波長フィルタを実現すべく、新しいリング共振器付き光導波路型波型波長フィルタをすでに提供している（特願２０００−３２４８０参照）。
【０００６】
すなわち、新しいリング共振器付き光導波路型波長フィルタは、たとえば図２に例示したように、リング共振器（３）を介して入力側光導波路（１）および出力側光導波路（２）相互のＡＤＤ／ＤＲＯＰ動作を行うリング共振器付き光導波路型波長フィルタであって、入力側光導波路（１）および出力側光導波路（２）が交叉しており、これらの入力側光導波路（１）および出力側光導波路（２）とリング共振器（３）とが互いに重なるように積層されていることを特徴とするものである。このリング共振器付き光導波路型波長フィルタによって、１×Ｎ光導波路型波長フィルタを容易に実現することができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のとおりの優れたリング共振器付き光導波路波長フィルタであっても、実用上さらに改良すべき点があることがわかった。すなわち、偏光依存性が大きいのである。この偏光依存性を解消するには、ＴＥ偏光とＴＭ偏光の伝播定数が同じになるように各膜厚とコア幅を設計して製作すれば良いが、製作誤差によって完全な偏光無依存化は困難な場合が多い。
【０００８】
この出願の発明は、以上の通りの事情に鑑みてなされたものであり、従来技術の問題点を解消し、リング共振器を初め、光導波路や導波路型光デバイスの偏光特性および伝搬定数の制御を容易に行うことのできる、新しい偏光特性・伝搬定数制御方法、および、偏光無依存化されたあるいは伝搬定数が制御された新しいリング共振器、光導波路、導波路型光デバイスを提供することを課題としている。
【０００９】
【課題を解決する手段】
この出願の発明は、上記の課題を解決するものとして、リング共振器または光導波路または導波路型光デバイスの偏光特性または伝搬定数を制御する方法であって、クラッド層もしくはコア層またはその両方に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用い、当該クラッド層もしくはコア層またはその両方を紫外線照射により膜厚調整することを特徴とする偏光特性・伝搬定数制御方法（請求項１）を提供する。
【００１０】
また、この出願の発明は、クラッド層もしくはコア層またはその両方に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドが用いられており、紫外線照射によりクラッド層もしくはコア層またはその両方の膜厚が調整されることで、偏光無依存化されてなる、または伝搬定数が制御されてなることを特徴とするリング共振器または光導波路または導波路型光デバイス（請求項２）（請求項３）（請求項４）をも提供する。
【００１１】
さらにまた、この出願の発明は、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面にストライプパターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面にストライプパターンを形成することを特徴とする回折格子の製造方法（請求項５）、紫外光を用いた干渉露光あるいは位相格子によって、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に干渉縞パターンを発生させることにより、当該ポリイミド膜の表面に正弦波状の凹凸パターンを形成することを特徴とする回折格子の製造方法（請求項６）、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に輪帯パターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面に輪帯パターンを形成することを特徴とするフレネルレンズまたはフレネルゾーンプレートの製造方法（請求項７）（請求項８）、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミド膜の表面に導波路パターンを形成したフォトマスクを密着あるいは投影露光して、フォトマスク上方からポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、当該ポリイミド膜の表面に導波路パターンを形成することを特徴とするリッジ型光導波路の製造方法（請求項９）、端面が反射鏡となっている共振器の少なくとも一部を、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用いて成製し、当該共振器に対して紫外線照射することにより、共振器長を調整することを特徴とするファブリーペロー共振器の製造方法（請求項１０）、少なくとも一層以上の積層薄膜を、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用いて成製し、当該積層薄膜に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整することを特徴とする多層膜フィルタの製造方法（請求項１１）、積層した上部コアと下部コアとの間の中間層を、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを用いて成製し、当該中間層に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整することを特徴とする光導波路型方向性結合器の製造方法（請求項１２）、スピンコートによって基板上に、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを成膜し、溶媒を揮発させてからポリイミド膜を基板から剥がし、ポリイミド膜をその両側端を固定するように枠体に装着させた状態にてイミド化した後、当該ポリイミド膜に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整することを特徴とする波長板の製造方法（請求項１３）をも提供する。
【００１２】
【発明の実施の形態】
ここで、この出願の発明の偏光特性・伝搬定数制御方法の原理について説明する。
【００１３】
まず、この出願の発明の発明者は、リング共振器の上層クラッドに複屈折ポリマーを用いた構造を検討したところ、複屈折ポリマーとして、紫外線の照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を減少させることのできるポリイミドを発見した。
【００１４】
図３（ａ）（ｂ）は、各々、あるポリイミドの紫外線照射と屈折率変化の関係および紫外線照射と膜厚変化の関係の一実測例を示したものである。また、図４（ａ）（ｂ）も同じく、別のポリイミドの各関係の一実測例を示したものである。図３の実測例において使用したポリイミドは、商品名「ＯＰＩ（Optical use Polyimide ）」（日立化成株式会社製）と呼ばれる、フッ素の含有量を変えることで屈折率の大きさを制御可能なフッ素化ポリイミドである。図４では、商品名「フォトニース」（東レ株式会社製）と呼ばれる全芳香属感光性ポリイミドを用いている。
【００１５】
これら図３および図４から明らかなように、いずれのポリイミドも、紫外線が照射されても、ＴＥモードおよびＴＭモードの屈折率はほぼ一定であり、且つ両偏光の屈折率差である複屈折もほぼ一定となっている。そしてそれとともに、膜厚は照射時間が増えるにつれて減少していることがわかる。
【００１６】
なお、紫外線照射前のＯＰＩおよびフォトニースそれぞれの屈折率および膜厚は、表１および表２のとおりである。
【００１７】
【表１】
0003883377.tif 000002
【００１８】
【表２】
0003883377.tif 000003
【００１９】
したがって、この特性を利用することで、リング共振器の偏光無依存化が可能となる。すなわち、リング共振器において、紫外線照射により屈折率および複屈折を一定に保ったままで膜厚を調整できるＯＰＩやフォトニースなどのポリイミドを用いて上層クラッドを形成し、コア層および上層クラッド層厚を適切な値に設定することにより、伝搬定数の偏光依存性のないリング共振器に調整することができる。そして、製作誤差によって僅かに残った伝搬定数の偏光依存性を、さらに紫外線照射によって除去することができる。より具体的には、リング共振器のコア厚をある設定値とし、そのコアに対して上層クラッドを上記ポリイミドで形成した後、それに対して紫外線を照射することにより、複屈折の全くない、つまりＴＥ偏光とＴＭ偏光の伝搬定数が同じになる膜厚を有する上層クラッドとすることができるのである。これにより、リング共振器の偏光特性を制御して、偏光無依存性のリング共振器が実現される。
【００２０】
もちろん、膜厚が変化することによって伝搬定数が変化するので、伝搬定数（あるいは光路長）の制御を容易に行うことができることにもなる。
【００２１】
なお、この出願の発明の偏光特性・伝搬定数制御方法は、リング共振器だけでなく、上述と同様にして、一般的な光導波路、さらには空間光ビーム用の多層薄膜型光デバイスなどの光デバイスに対しても適用でき、偏光無依存性を有する、あるいは伝搬定数が制御されてなる光導波路および導波路型光デバイスを実現することができる。
【００２２】
また、以上の説明は上層クラッドについてのものであるが、クラッド層は上層でも下層でもよく、また、コア層にポリイミドを用いても、あるいはクラッド層およびコア層の両方にポリイミドを用いても、上述と同様に、偏光無依存性を有する、あるいは伝搬定数が制御されてなるリング共振器や、光導波路、導波路型光デバイスを実現できる。
【００２３】
ところで、近年の高速・大容量光通信の発展に伴い、それに使用される各種光デバイスについての研究・開発が盛んに行なわれているが、たとえば、リッジ型光導波路では、偏光特性以外にも、光の閉じ込め条件などの特性を容易に調整できる技術の実現が望まれている。その他、回折格子やフレネルレンズ、フレネルゾーンプレート、ファブリーペロー共振器、多層膜フィルタ、光導波路型方向性結合器、波長板などについても、各々の特性を良好に、且つ容易に調整することのできる製造方法の実現が望まれている。
【００２４】
そこで、この出願の発明は、ポリイミドを上記の各種光デバイスの製造に応用し、ポリイミドの紫外線照射に関わる上記特性を利用することで、各種光デバイスの特性調整を良好に、且つ容易に行うことをも実現している。
【００２５】
この出願の発明は、以上のとおりの特徴を持つものであるが、以下に添付した図面に沿って実施例を示し、さらに詳しくこの出願の発明の実施の形態について説明する。
【００２６】
【実施例】
［実施例１］
この発明の偏光特性・伝搬定数制御方法によりリング共振器の偏光特性を制御した一実施例について説明する。
【００２７】
図５は、用いたリング共振器の一例を示した概略図である。このリング共振器において、
0003883377.tif 000004
とした。
【００２８】
コア厚ｔｒ＝１．０μｍ、１．１μｍとした場合について、フッ素化ポリイミド上層クラッドの厚さを変えた場合のＴＥモードとＴＭモードの等価屈折率差（等価複屈折）を計算によって求めた。図６は、その結果である上層クラッド厚ｔｐと複屈折（ｎＴＥ−ｎＴＭ）の関係を示したものである。横軸にはフッ素化ポリイミド上層クラッドの膜厚［μｍ］、縦軸には等価複屈折Δｎeqをとってある。この図６から明らかなように、コア厚ｔｒ＝１．０μｍでは、上層クラッド厚ｔｐ＝約０．７５μｍで等価複屈折が０となり、コア厚ｔｒ＝１．１μｍでは、上層クラッド厚ｔｐ＝約１．４μｍで等価複屈折が０となる。紫外線照射によってポリイミドの膜厚は減少するので、製作誤差を考慮して素子製作時にポリイミドの膜厚を設計値よりも少しだけ厚めに製作して、素子製作後に等価複屈折をモニターしながら紫外線を照射することによって、完全に複屈折を零とすることができる。
【００２９】
このように、上層クラッドにフッ素化ポリイミドを用い、紫外線照射することによって、複屈折を解消した、すなわち偏光無依存化したリング共振器（偏光無依存リング共振器と呼ぶ）が実現できるのである。
【００３０】
もちろん、この発明の偏光特性・伝搬定数制御方法は、たとえば、特願２０００−３２４８０に開示されているリング共振器付き光導波路型波長フィルタの全態様に適用できることは言うまでもない。
【００３１】
［実施例２］
続いて、以下にこの出願の発明の各種光デバイスの製造方法について説明する。
【００３２】
［回折格子、フレネルレンズ、フレネルゾーンプレートの製造］
たとえば図７に例示したように、まず、ポリイミド膜（１１）の表面にストライプパターンを形成したフォトマスク（１２）を密着あるいは投影露光し、続いて、ポリイミド膜（１１）に対して紫外線照射することにより、ポリイミド膜（１１）の表面にストライプ状のパターン（１３）を形成する。これにより、回折格子を製造する。このときの紫外線の照射時間を調整することで、パターン（１３）の溝深さを微調整したり、フォトマスクの透過率を場所によって変えることで溝に角度を持たせるようにすることができる。
【００３３】
また、フォトマスク（１２）のパターンを輪帯パターンとすることで、同様にして、ポリイミド膜（１１）の表面に輪帯状のパターン（１３）を形成し、フレネルレンズやフレネルゾーンプレートをも製造することができる。この場合にも、紫外線の照射時間を調整することで、輪帯形状を微調整することができる。
【００３４】
他方、回折格子の製造においては、たとえば図８に例示したように、紫外光を用いた干渉露光（二つの紫外光をクロスさせる）あるいは位相格子によってポリイミド膜（１１）の表面に干渉縞パターン（１４）を発生させ、これにより、ポリイミド膜（１１）の表面に正弦波凹凸状のパターン（１３）を形成するようにしてもよい。
【００３５】
［リッジ型光導波路の製造］
たとえば図９に例示したように、ポリイミド膜（１１）の表面に導波路パターンを形成したフォトマスク（１２）を密着あるいは投影露光し、ポリイミド膜（１１）に対して紫外線照射することにより、ポリイミド膜（１１）の表面に導波路パターン（１５）を形成する。この導波路パターン（１５）をコアとして用いてリッジ型光導波路を製造する。このときの紫外線の照射時間を調整することで、導波路パターン（１５）の形状を微調整でき、光の閉じ込め条件などを容易に、且つ任意に変更できるのである。
【００３６】
［ファブリーペロー共振器の製造］
たとえば図１０に例示したように、端面が反射鏡（１６１）となっている共振器（１６）（たとえば半透明とする）の少なくとも一部をポリイミドを用いて成製し、その共振器（１６）に対して紫外線照射することにより、共振器長Ｌを調整する。ファブリーペロー共振器においては、図１１に例示したような多数モードの共振波が出力される。この共振波長λ0は共振器長Ｌに依存する（λ0＝２ｎＬ／Ｎ（Ｎは共振次数））。そこで、紫外線を照射し、且つその照射時間を調整することで、ポリイミドの膜厚制御特性に従って共振器長Ｌを調整でき、その結果共振波長λ0を所望のものに変更できるようになる。なお、このことをトリミングと呼ぶこととする。すなわち、この方法は、紫外線照射による波長トリミング法とも呼ぶことができる。
【００３７】
［多層膜フィルターの製造］
上記の波長トリミング法は、多層膜フィルタにも適用することができる。たとえば図１２に例示したように、少なくとも一層以上の積層薄膜（１７）をポリイミドを用いて成製し、その積層薄膜（１７）に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整する。これにより、透過波長を所望のものに容易にトリミングできるのである。
【００３８】
［光導波路型方向性結合器の製造］
たとえば図１３に例示したように、まず、積層した上部コア（１８）と下部コア（１９）との間の中間層（２０）をポリイミドを用いて成製する。そして、中間層（２０）に対して紫外線照射することにより、膜厚を調整する。二つの導波路（上部コア（１８）および下部コア（１９））を図１４に例示したように接近させると、光はその接近ポイントで一方の導波路と他方の導波路との間で往復移動する。その往復移動時の結合度（周期と最大移動電力）は導波路間隔に依存するのである。そこで、両導波路の間隔ｄ、つまりポリイミド製の中間層（２０）の厚さを紫外線照射により調整することで、所望の結合度が得られるようになる。
【００３９】
［波長板の製造］
たとえば図１５に例示したように、まず、スピンコートによって基板（２１）上にポリイミド膜（２２）を成膜し、溶媒を揮発させてからポリイミド膜（２２）を基板（２１）から剥がす。次いで、ポリイミド膜（２２）をその両側端を固定するように枠体（２３）に装着させる。つまり、両側端に向う方向（これを平行方向とする）は固定し、それに直交する方向は自由にしておく。この状態にて、たとえば約３５０℃まで加熱してキュアすることによりイミド化する。そして、ポリイミド膜（２２）に対して紫外線照射することにより膜厚を調整する。たとえば図１６に例示したように、ポリイミド膜（２２）では、イミド化後に自己収縮によってその分子配列が平行方向に揃い、大きな複屈折（最大約０．１程度）が発生する。したがって、紫外線照射して膜厚を制御することで、λ／２波長板やλ／４波長板を製造することができるのである。
【００４０】
この発明は以上の例に限定されるものではなく、細部については様々な態様が可能である。
【００４１】
【発明の効果】
以上詳しく説明した通り、この出願の発明によって、リング共振器や光導波路、さらには導波路型光デバイスの偏光特性および伝搬定数の制御を容易に行うことができ、偏光無依存性を実現可能とした、新しい偏光特性・伝搬定数制御方法が提供される。
【００４２】
そして、この偏光特性・伝搬定数制御方法を用いることにより偏光無依存性を有する、または伝搬定数が制御されてなるリング共振器、光導波路、導波路型光デバイスを実現することができる。
【００４３】
また、各種光デバイスを、各々の特性を良好に、且つ容易に調整して製造することのできる、新しい製造方法が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来のリング共振器付き光導波路型波長フィルタの一例を示した要部平面図である。
【図２】従来の別のリング共振器付き光導波路型波長フィルタの一例を示した要部斜視図である。
【図３】（ａ）（ｂ）は、各々、フッ素化ポリイミドの紫外線照射と屈折率変化の関係および紫外線照射と膜厚変化の関係の一実測例を示した図である。
【図４】（ａ）（ｂ）は、各々、全芳香族感光性ポリイミドの紫外線照射と屈折率変化の関係および紫外線照射と膜厚変化の関係の一実測例を示した図である。
【図５】リング共振器の一例を示した断面図である。
【図６】上層クラッドの膜厚と等価複屈折立の関係を例示した図である。
【図７】回折格子、フレネルレンズ、フレネルゾーンプレートの製造方法を説明するための図である。
【図８】回折格子の別の製造方法を説明するための図である。
【図９】リッジ型光導波路の製造方法を説明するための図である。
【図１０】ファブリーペロー共振器の製造方法を説明するための図である。
【図１１】ファブリーペロー共振器による共振波長を例示した図である。
【図１２】多層膜フィルターの製造方法を説明するための図である。
【図１３】光導波路型方向性結合器の製造方法を説明するための図である。
【図１４】光導波路型方向性結合器を例示した図である。
【図１５】波長板の製造方法を説明するための図である。
【図１６】イミド化ポリイミド膜の分子配向および紫外線照射を例示した図である。
【符号の説明】
１  入力側光導波路
２  出力側光導波路
３  リング共振器
１１  ポリイミド膜
１２  フォトマスク
１３  パターン
１４  干渉縞パターン
１５  導波路パターン
１６  共振器
１６１  反射鏡
１７  積層薄膜
１８  上部コア
１９  下部コア
２０  中間層
２１  基板
２２  ポリイミド膜
２３  枠体
【図１】
0003883377.tif 000005
【図２】
0003883377.tif 000006
【図３】
0003883377.tif 000007
【図４】
0003883377.tif 000008
【図５】
0003883377.tif 000009
【図６】
0003883377.tif 000010
【図７】
0003883377.tif 000011
【図８】
0003883377.tif 000012
【図９】
0003883377.tif 000013
【図１０】
0003883377.tif 000014
【図１１】
0003883377.tif 000015
【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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