(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属シリコン微紛体と水との混合スラリーを火炎中に噴射し、得られたシリカ微粉体を捕集する途中の温度２００℃以上の部分において、まずアルキルアルコキシシランを噴霧して第一段階の疎水化処理を行い、アルキルアルコキシシラン被覆量をシリカ微粉体１００質量部に対しカーボン量換算で０.１〜１質量部としたアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体を捕集した後、次いでこのアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体の流動層を形成させ、かつ外部から振動を加えながら、アルキルアルコキシシラン及びシリコーンオイルを噴霧、混合して第二段階の疎水化処理を行うことを特徴とする、メタノール滴定法による疎水化度が４０〜９０％で、しかもＦＴ―ＩＲ分析における波数３７５０ｃｍ―1付近の孤立シラノール基の吸収帯が消滅している、疎水性シリカ微粉体の製造方法。
【請求項２】
第二段階の疎水化処理による被覆量が、シリカ微粉体１００質量部に対し、カーボン量換算で２．７３〜４．６３質量部であることを特徴とする請求項１に記載の疎水性シリカ微粉体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、静電荷像現像用トナーの外添剤として好適な疎水性シリカ微粉体の製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
デジタル複写機やレーザープリンターで使用される静電荷像現像剤用トナーには、その流動性改善、付着力低下防止等を行うため、シリカ微粉体が外添剤として混入されている。シリカ微粉体は、表面シラノール基の存在により親水性を示すため、そのままでは湿度によってトナーの帯電量変化を引き起こし、画像不良の原因となる。これを解決するため、フュームドシリカと称されるケイ素ハロゲン化物の気相高温加熱分解法によって得られたシリカ微粉体を、シランカップリング剤やシリコーンオイル等の表面処理剤によって疎水化処理し、トナーの外添剤とすることが提案されている（例えば特開昭５９―２３１５５０号公報、特開昭６３―７３２７２号公報）。
【０００３】
しかしながら、フュームドシリカは、その一次粒子が数μｍ以下と微細であるのでトナーの外添剤として好都合であるが、球形度が低く、しかも粒子同士が連結したストラクチャー構造を形成し、凝集体として振る舞うので、疎水化処理を十分に施すことが困難であった。その結果、トナーの帯電量変化が十分に軽減されずに画像の鮮明度が思ったほどには向上せず、いまだ改善の余地があった。
【０００４】
一方、疎水性シリカの性能評価は、従来、メタノール滴定法によって行われている。この方法は、水にシリカ微粉体を浮遊させた状態でメタノールを滴下していき、粉体の全量が沈降した時点におけるメタノール水溶液濃度を疎水化度とするものである。従って、この値は、粉体の沈降の終点のみで決定されるため、処理剤の疎水性付与能力の高さを評価するには十分であるが、処理粉全体としての疎水化処理の均一性までは判断することができない。そのため、疎水化度が高い値を示しても、疎水化処理が不均一であることによって、予想したほどまでには画像不良を改善することができない場合があった。この要因を取り除くには、処理剤量と処理時間を増やせばよいが、かえって凝集粉が発生してよくない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、当該技術分野における今日の課題は、トナーの帯電量変化を著しく少なくして画像不良を改善することができる、流動性に優れた、均一で且つ高い疎水性を有する疎水性シリカ微粉体からなるトナー外添剤の開発である。
【０００６】
本発明は、上記に鑑みてなされてものであり、その目的は静電荷像現像用トナーの外添剤として好適な疎水性シリカ微粉体を提供することである。本発明の目的は、フュームドシリカとは異なる、実質的にストラクチャー構造を形成していないシリカ微粉体、すなわち金属シリコン微紛体と水との混合スラリーを火炎中に噴射し、熱処理して得られたシリカ微粉体を、アルキルアルコキシシランで被覆してアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体とした後、更にアルキルアルコキシシランとシリコーンオイルによって疎水化処理を行うことによって達成することができる。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、金属シリコン微紛体と水との混合スラリーを火炎中に噴射し、得られたシリカ微粉体を捕集する途中の温度２００℃以上の部分において、まずアルキルアルコキシシランを噴霧して第一段階の疎水化処理を行い、アルキルアルコキシシラン被覆量をシリカ微粉体１００質量部に対しカーボン量換算で０.１〜１質量部としたアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体を捕集した後、次いでこのアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体について更にアルキルアルコキシシラン及びシリコーンオイルを噴霧、混合して第二段階の疎水化処理を行うことを特徴とする、メタノール滴定法による疎水化度が４０〜９０％で、しかもＦＴ―ＩＲ分析における波数３７５０ｃｍ―1付近の孤立シラノール基の吸収帯が消滅している、疎水性シリカ微粉体の製造方法である。本発明にあっては、第二段階の疎水化処理を、アルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体の流動層を形成させ、かつ外部から振動を加えながらアルキルアルコキシシラン及びシリコーンオイルを噴霧、混合することによって行い、その被覆量が、シリカ微粉体１００質量部に対し、カーボン量換算で２．７３〜４．６３質量部であることが好ましい。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下、更に詳しく本発明を説明する。
【０００９】
本明細書において、「実質的にストラクチャー構造を形成していない」とは、画像解析装置によって測定された球形度が０．９以上であることをいう。画像解析装置としては、例えば日本アビオニクス社製「ＳＰＩＣＣＡ−ＩＩ」が用いられる。具体的には任意に選ばれた２０個以上の粒子を画像解析装置によって取り込み、測定された球形度が０．９以上であることが好ましい。
【００１０】
本発明で用いられるシリカ微粉体の粒度構成の一例を示すと、平均粒子径Ｄ５０が０.０２〜０.２μｍ、１００％相当径Ｄ１００が０.１〜０.５μｍである。このようなシリカ微粉体は、金属シリコン微紛体と水との混合スラリーを火炎中に噴射し酸化反応させながら球状化する方法（例えば特開２０００−２４７６２６号公報）などによって製造することができる。
【００１１】
本発明で用いられる疎水化処理剤は、第一段階目がアルキルアルコキシシランであり、第二段階目がアルキルアルコキシシランとシリコーンオイルである。アルキルアルコキシシランはシリカ表面のシラノール基と脱アルコール反応によって化学結合を形成するが、シリコーンオイルは化学結合を介さず、単に表面に物理吸着するのみである。一般的にシリコーンオイルはアルキルアルコキシシランに比べ、高い疎水性を付与することができるが、上記理由からそれ単体で用いる場合、親水性のシリカ表面に疎水性のシリコーンオイルを十分に被覆するには過剰量用いる必要があり、また処理後に表面から脱離しやすいといった問題がある。これに対し、アルキルアルコキシシランで第一段階目の処理してから、アルキルアルコキシシランとシリコーンオイルで第二段階目の疎水化処理を行うと、まずアルキルアルコキシシランがシラノール基と化学結合を介して被覆されることによって、シリカ表面が疎水化され、シリコーンオイルが物理吸着しやすくなる。これによって、アルキルアルコキシシランとシリコーンオイルの二重被覆構造が形成され、疎水性基同士の相互作用により、シリコーンオイルは表面から脱離しにくくなる。
【００１２】
本発明における疎水化処理剤の被覆量とは、アルキルアルコキシシランの場合はシリカ表面シラノール基との結合量であり、シリコーンオイルの場合はシリカ表面の物理吸着量として定義される。カーボン量換算の疎水化処理剤被覆量は、カーボン量測定装置を用い、以下の方法によって測定された値である。カーボン量測定装置としては、例えばＬＥＣＯ社製「ＨＦ−４００」を用いることができ、具体的には疎水化処理されたシリカ微粉体を０.０５〜０.１ｇ程度セラミック製るつぼに仕込み、約２０００℃まで加熱して、発生した気体成分を赤外線吸収法によって分析し、検出された二酸化炭素量から全カーボン量を求め、その値の仕込んだシリカ微粉体に対する質量分率をもって、カーボン量換算の被覆量とする。
【００１３】
アルキルアルコキシシランとしては、反応性の観点からアルキル鎖のカーボン数が１０以下、アルコキシ基が３個のものが特に好ましく、例えばメチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリメトキシシラン、ｎ−ヘキシルトリエトキシラン、ｎ−オクチルトリエトキシシラン、デシルトリエトキシシランなどが挙げられる。また、シリコーンオイルは、特別なものである必要がなく、例えばジメチルシリコーンオイル、メチルハイドロジェンシリコーンオイル及び末端あるいは側鎖をアルコキシ基によって変成した反応性シリコーンオイルなどを用いることができる。これらの市販品があるのでそれを用いることができる。
【００１４】
本発明において、シリカ微粉体の疎水化処理は、まず、金属シリコン微紛体と水との混合スラリーを火炎中に噴射し、得られたシリカ微粉体を捕集する途中の温度２００℃以上の部分において、アルキルアルコキシシランを噴霧して、第一段の疎水化処理を行う。具体的にはシリカ微粉体を捕集装置に気体輸送する配管の途中にニ流体ノズルを設置して、気流中に分散したシリカ微粉体にアルキルアルコキシシランを空気に同伴させて噴霧する。捕集ライン中のシリカ微粉体は凝集が極めて少なく、気流中にほぼ一次粒子の状態で分散した状態であるため、アルキルアルコキシシランを一次粒子の表面に均一に被覆することができる。また、第一段の疎水化処理におけるアルキルアルコキシシラン被覆量はシリカ微粉体１００質量部に対し、カーボン量換算で０.１〜１質量部とする必要がある。アルキルアルコキシシラン被覆量がこれよりも少ないと、シリカ表面シラノール基の被覆が不十分であるため、粒子同士が水素結合による化学的なストラクチャー構造を形成し、また多いと過剰の処理剤噴霧による粗大な凝集粉を生じやすくなる。アルキルアルコキシシランは、原液を用いてもよいが、原液１００質量部に対し１０〜３００質量部の溶媒で希釈して噴霧される。噴霧場の温度は、２００℃以上で、具体的にはアルキルアルコキシシランの沸点以上にすると、反応性を高めることができるため好ましい。
【００１５】
第一段階の疎水化処理を受けたアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体は、次いで第二段階の疎水化処理が施される。第一段階の疎水化処理は高い疎水性を付与するというよりも、一次粒子に対し均一に処理剤を被覆させ、極力凝集の少ない粉体として捕集することが目的であり、これによって、次の第二段階の疎水化処理における疎水化処理剤の被覆効率を高めることができ、少ない処理量でも高い疎水性を付与することが可能となる。第二段階では疎水化処理剤は、アルキルアルコキシシランとシリコーンオイルが併用され、第一段階及び第二段階による合計の処理被覆量がシリカ微粉体１００質量部に対しカーボン量換算で５．１６質量部（実施例７参照）までの範囲内に高められることが好ましい。第二段階の疎水化処理によって被覆量を更に高めないと、十分な疎水性が得られず、また合計の被覆量がカーボン量換算で５．１６質量部よりも多くなると、高い疎水性が得られるものの、シリカの帯電量制御が困難となり、また凝集粉が多く見受けられるようになる。
【００１６】
第二段階の疎水化処理は、第一段階の疎水化処理を受けたアルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体を容器に入れ、下部から空気等のガスを流入して流動層を形成させ、更に外部から該容器に振動を与えながら、上部から疎水化処理剤を噴霧する方法によって行うことができる。処理温度（系内温度）は常温でも特に問題ないが、凝集粉を低減するために、外部をヒーターやスチームなどによって加熱したり、また高温気体を内部に吹き込んだりして、４００℃以下に加熱して行うことが好ましい。
【００１７】
上記方法によって、実質的にストラクチャー構造を形成していない疎水性シリカ微粉体が製造される。具体的には、メタノール滴定法による疎水化度が４０〜９０％で、しかもＦＴ―ＩＲ分析における波数３７５０ｃｍ−１付近の孤立シラノール基の吸収帯が消滅している疎水性シリカ微粉体が製造される。
【００１８】
本発明に係る疎水性シリカ微粉体において、メタノール滴定法による疎水化度が４０％未満であると、疎水性能が低く、吸湿性が高くなるために高湿環境下においてはトナーの帯電量が低下し画像不良を引き起こす改善効果が小さくなる。また、疎水化度が９０％超であると、シリカ粒子自体の帯電性制御が難しく、また凝集粉が多く見受けられるようになる。
【００１９】
一方、ＦＴ−ＩＲ分析においては、未処理シリカ粉体の場合、波数３７５０ｃｍ−１付近に孤立シラノール基の吸収によるシャープピークがはっきりと現れるが、本発明で製造された疎水性シリカ微粉体においてはこのピークが消滅している。このことは、メタノール滴定法による疎水化度が４０〜９０％を示す疎水性シリカ微粉体であっても、一部の粉体が十分に疎水化されていないとシラノール吸収ピークが確認され、本発明に係る疎水性シリカ微粉体とは異なったものになることを意味している。すなわち、メタノール滴定法による疎水化度が４０〜９０％であり、且つＦＴ−ＩＲ分析による孤立シラノール吸収帯が消滅している本発明で製造された疎水性シリカ微粉体は、疎水化処理剤によって十分に且つ均一に処理されているといえる。
【００２０】
なお、メタノール滴定法による疎水化度は以下の方法によって測定した。イオン交換水５０ｍｌ、試料（疎水性シリカ微粉体）０．２ｇをビーカーにいれ、ビーカー内部をマグネティックスターラーによって撹拌しながらビュレットからメタノールを滴下する。ビーカー内のメタノール濃度が増加するにつれ粉体は徐々に沈降していき、その全量が沈んだ終点におけるメタノール−水混合溶液中のメタノールの質量分率を疎水化度とした。
【００２１】
また、ＦＴ−ＩＲ分析装置としては、例えばＰｅｒｋｉｎ  Ｅｌｍｅｒ社製「Ｓｐｅｃｔｒｕｍ  Ｏｎｅ」が用いられる。測定の方法は、まず標準試料を用いてバックグラウンド測定を行った後、試料（疎水性シリカ微粉体）を充填したサンプル用セルをセットしスキャニング回数３２回で表面を分析する。検出されたチャートは、縦軸をＴｒａｎｃｅｍｉｔｔａｎｃｅ[％]、横軸を波数[ｃｍ−１]として出力した。
【００２２】
本発明で製造された疎水性シリカ微粉体は、静電荷像現像用トナーの外添剤として好適に使用される。その外添剤は、従来のシリカ微粉体からなる外添剤と同等にして使用することができる。その一例は、特開平２０００−３３０３２８号公報に記載されている。
【００２３】
【実施例】
以下、本発明の実施例、比較例を挙げて更に説明する。
【００２４】
実施例で用いた実質的にストラクチャー構造を形成していないシリカ微粉体は、内炎と外炎が形成できるようにニ重管構造のＬＰＧ−酸素混合型バーナーが炉頂に設けられてなる製造炉の下部に捕集系ラインが直結されてなる装置を用いて製造した。上記バーナーの中心部には更にスラリー噴霧用のニ流体ノズルが取り付けられており、ニ流体ノズルの中心部からはシリコン微粉体の水スラリーを噴射し、周囲からは酸素を供給できるようになっている。火炎の形成はニ重管バーナーの出口に数十個の細孔を設け、そこからＬＰＧと酸素の混合ガスを噴射することによって行われる。ニ流体ノズルから噴射され火炎を通過したシリコンは酸化されシリカ微粒子を生成し、ブロアーによって吸引され捕集ラインへ空気輸送され、バグフィルターから捕集される。第一段階の疎水化処理は、捕集ライン中の温度２００℃以上となる配管にアルキルアルコキシシランを噴霧することによって行い、第二段階の疎水化処理は、バグフィルターからの捕集品（アルキルアルコキシシラン被覆シリカ微粉体）に、常温でアルキルアルコキシシラン及びシリコーンオイルを噴霧して行った。
【００２５】
実施例１
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置されたニ流体ノズルからメチルトリメトキシシラン（日本ユニカー社製商品名「Ａ−１６３」）７９.１質量部と水２１.９質量部の混合溶液を２５.０ミリリットル／分の速度で噴射し、第一段階の疎水化処理を行った。ついで、バグフィルターによって捕集された処理粉体１００ｇを振動流動層（中央化工機社製商品名「振動流動相装置ＶＵＡ−１５型」）に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン（日本ユニカー社製商品名「Ａ−１３７」）８ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、ジメチルシリコーンオイル（日本ユニカー社製商品名「Ｌ−４５」）６ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００２６】
実施例２
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置したニ流体ノズルからｎ−オクチルトリエトキシシラン４２.２質量部と水５７.８質量部の混合溶液を１２.５ミリリットル／分の速度で噴射し、第一段階の疎水化処理を行った。バグフィルターによって捕集された処理粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン５ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、ジメチルシリコーンオイル６ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００２７】
実施例３
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置したニ流体ノズルからｎ−オクチルトリエトキシシラン８４.４質量部と水１５.６質量部の混合溶液を１２.５ミリリットル／分の速度で噴射し、第一段階の疎水化処理を行った。バグフィルターによって捕集された処理粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン５ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、ジメチルシリコーンオイル６ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００２８】
実施例４
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置した３本のニ流体ノズルからｎ−オクチルトリエトキシシラン５６.５質量部と水４３.５質量部の混合溶液を、それぞれ１２.５ミリリットル／分の速度で噴射し、第一段階の疎水化処理を行った。バグフィルターによって捕集された処理粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン５ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、ジメチルシリコーンオイル６ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００２９】
実施例５
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置したニ流体ノズルからｎ−オクチルトリエトキシシラン８３.１質量部と水１６.９質量部の混合溶液を２５.０ミリリットル／分の速度で噴射し、第一段階の疎水化処理を行った。バグフィルターによって捕集された処理粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン６ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル（日本ユニカー社製商品名「Ｌ−３１」）９ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００３０】
実施例６
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置した３本のニ流体ノズルからｎ−オクチルトリエトキシシラン３９.１質量部と水６０.９質量部の混合溶液を、それぞれ１２.５ミリリットル／分の速度で噴射し、第一段階の疎水化処理を行った。バグフィルターによって捕集された処理粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン５ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル６ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００３１】
実施例７
実施例３と同様の操作によって第一段階の疎水化処理されたシリカ微粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン８ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、ジメチルシリコーンオイル９ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。得られた処理粉の疎水化処理剤被覆量は４.６３で、メタノール滴定法による疎水化度が８３.８％、ＦＴ−ＩＲによるシラノール基吸収帯は消滅していたが、かさ密度比より算出した凝集度が実施例４に比べ約２０％増加した。
【００３２】
比較例１
金属シリコン微粉体（平均粒子径１０.５μｍ）３０質量部と水７０質量部の混合スラリーを、二流体ノズル中心部から火炎中に１２.０ｋｇ／時の速度で噴射し、生成したシリカ微粉体をバグフィルターによって捕集する途中の配管内に設置したニ流体ノズルからｎ−オクチルトリエトキシシラン８５.１質量部と水１４.９質量部の混合溶液を、２５ミリリットル／分の速度で噴射して、第一段階の疎水化処理を行った。第二段階の疎水化処理は行わなかった。
【００３３】
比較例２
第一段階の疎水化処理をしていないシリカ微粉体１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン３ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル３ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して疎水化処理を行った。
【００３４】
比較例３
実施例５と同様の操作によって第一段階の疎水化処理されたシリカ微粉体１００ｇを振動流動層に仕込みｎ−オクチルトリエトキシシランを噴霧、混合せずにメチルハイドロジェンシリコーンオイル１５ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。得られた処理粉の疎水性能をメタノール滴定法、ＦＴ−ＩＲ分析によって評価して、処理粉を湿度９０％、２５℃の環境下に２４時間放置した後の吸湿量を測定した。
【００３５】
比較例４
市販のシリカ微粉体（日本アエロジル社製商品名「アエロジル１３０」）１００ｇを振動流動層に仕込み、振動流動させたところにｎ−オクチルトリエトキシシラン９ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合処理した後、メチルハイドロジェンシリコーンオイル９ｇをミストスプレーによって噴霧し、３０分間混合して、第二段階の疎水化処理を行った。
【００３６】
上記で製造されたシリカ微粉体の疎水性能をメタノール滴定法、ＦＴ−ＩＲ分析によって評価した後、処理粉を湿度９０％、２５℃の環境下に２４時間放置した後の吸湿量を測定した。それらの結果を表１に示す。
【００３７】
【表１】
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【００３８】
表１から、本発明で製造された疎水性シリカ微粉体は、比較例の疎水性シリカ微粉体に比べて高い疎水性を有し、且つ均一に疎水化処理されていることが分かる。このことから、本発明で製造された疎水性シリカ微粉体は、疎水化処理剤の被覆率が高められているのでより高い疎水性を実現し、高湿環境下における吸湿量が低く、静電荷像現像用トナーの外添剤として有効であることが示された。
【００３９】
【発明の効果】
本発明によれば、メタノール滴定法による疎水化度が４０〜９０％で、しかもＦＴ―ＩＲ分析における波数３７５０ｃｍ―1付近の孤立シラノール基の吸収帯が消滅している疎水性シリカ微粉体を容易に製造することができる。