(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
導電性基体上に、少なくとも下引き層及び感光層を有する電子写真感光体において、該下引き層が、▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶで且つ平均１次粒子径が１００ｎｍ以下（ＴＥＭ写真からの測定による）の金属酸化物粒子と、▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で、且つ平均１次粒子径が１００ｎｍ以上、２μｍ以下の粒子（ＴＥＭ写真からの測定による）と▲３▼バインダー樹脂とを含むことを特徴とする電子写真感光体。
【請求項２】
▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶの粒子と▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下の粒子の量比が、前者１００重量部に対して、後者が５〜１００重量部であることを特徴とする請求項１に記載の電子写真感光体。
【請求項３】
▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下の粒子の平均１次粒子径が、２００ｎｍ以上、１０００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１又は２に記載の電子写真感光体。
【請求項４】
▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下の粒子が、金属酸化物粒子であることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項５】
▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶの金属酸化物粒子が、少なくともチタン原子を構成成分として有する金属酸化物粒子であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項６】
▲３▼バインダー樹脂がポリアミド樹脂であることを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の電子写真感光体。
【請求項７】
感光層中、フタロシアニン化合物が含まれていることを特徴とする請求項１〜６のいずれかに１項に記載の電子写真感光体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、特に露光手段として、半導体レーザー光及びＬＥＤ光等の可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に搭載され少なくとも下引き層と感光層を有する電子写真感光体において、電気特性及び画像特性が良好で更に下引き層の生産性も良好な電子写真感光体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、電子写真感光体には、セレン、セレン−テルル合金、セレン化ヒ素、硫化カドミウム等の無機系光導電物質が広く用いられてきた。
一方、近年では低公害であり、製造が容易な有機系の光導電物質を感光層に用いた研究が盛んになっている。特に光を吸収して電荷を発生する機能と、発生した電荷を輸送する機能を分離した電荷発生層及び電荷移動層からなる積層型の感光体が主流となっている。これらの感光体は、複写機、レーザープリンター等の分野に広く用いられている。
【０００３】
電子写真感光体は、導電性支持体上に感光層を形成したものが基本構成である。支持体からの電荷注入や支持体の欠陥による画像欠陥の解消、感光層との接着性向上が帯電性の改善のために、感光層と支持体の間に下引き層を設けることが行われている。
従来より、下引き層としては、例えば、ポリビニルメチルエーテル、ポリ−Ｎ−ビニルイミダゾール、ポリエチレンオキシド、エチルセルロース、メチルセルロース、エチレン−アクリル酸共重合体、ポリアミド、ガゼイン、ゼラチン、ポリエチレン、ポリエステル、フェノール樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、エポキシ樹脂、ポリビニルピロリドン、ポリビニルピリジン、ポリウレタン、ポリグルタミン酸、ポリアクリル酸等の樹脂材料を用いることが知られている。これらの樹脂材料の中でも特に可溶性ポリアミド樹脂が好ましいとされている（特開昭５１−１１４１３２号、同５２−２５６３８号、同５６−２１１２９号、特開平４ー３１８７０号各公報参照）。
更にポリアミド樹脂に無機材料を分散させた下引き層として、例えば、バンドギャップが２〜４ｅＶの金属酸化物粒子である酸化チタンと酸化スズを８−ナイロンに分散させたもの（特開昭６２−２８０８６４号公報参照）、アルミナ処理酸化チタンをポリアミド樹脂に分散させたもの（特開平２−１８１１５８号公報参照）、又更に画像特性を乱さず、電気特性を向上させる目的で、平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の酸化チタン粒子をポリアミド樹脂に分散させたもの、更には環境特性を改善する目的で、有機珪素化合物処理された金属酸化物粒子をポリアミド樹脂等のバインダー樹脂に分散させたものが提案されている。
ところが、最近は、デジタル化の流れの中で、電子写真装置も、デジタル方式の装置が主流になってきた。デジタル方式の電子写真装置は、半導体レーザー及びＬＥＤ光等の可干渉光を用いて像形成を行うため、干渉模様の画像欠陥も抑制する必要が生じてくる。
その干渉模様の画像欠陥の抑制には、上述した、１００ｎｍ以下の酸化チタン粒子をバインダー樹脂に分散させた下引き層では不充分であった。
上記画像欠陥を抑制する目的で、一次粒径が、０．１μｍ以下の無機顔料と一次粒径が、０．１μｍ以上１．０μｍ以下の一次粒子径である無機顔料をを含む下引き層（特開平１０−１７７２６７）等が提案されているが、干渉縞欠陥はある程度抑制できるものの、微小黒点欠陥などの画像欠陥抑制は更なる改善が望まれており、また、生産性の向上も望まれている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
上述したように、従来の少なくとも下引き層及び感光層を有する電子写真感光体では、半導体レーザー光及びＬＥＤ光等の可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に用いた場合は、干渉模様の画像不良を抑制するのが不充分な下引き層がほとんどであった。また、干渉模様の画像不良を抑制に重きを置いたがために下引き塗布液の分散安定性が悪く、微小黒点等画像欠陥，生産性の低下を招くものがほとんどであった。
つまり、干渉模様の画像欠陥の抑制に効果が有り、且つ塗布液の分散安定性も良好な下引き層がなっかた。
そのため、塗布液の分散安定性が良く且つ干渉縞及び微小黒点等の画像欠陥の少ない電子写真感光体が今日、強く望まれている。
【０００５】
そこで本発明の目的は、可干渉光を用いて像形成を行う電子写真装置に搭載される電子写真感光体において、その電気特性及び干渉模様を含めた画像特性及び下引き塗布液の分散安定性の全てを改善することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明者らは、上記の要求特性を満足できる下引き材料について鋭意検討した結果、下引き層中に分散させる粒子として、▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶ及び平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子と▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で平均一次粒子径が、１００ｎｍ以上、２μｍ以下の粒子とを併用させることにより上記課題が解決できることを見出し、本発明に到達した。
すなわち本発明の要旨は、導電性基体上に、少なくとも下引き層及び感光層を有する有機電子写真感光体において、該下引き層が、少なくとも、▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶであり且つ平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子と▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で平均一次粒子径が、１００ｎｍ以上、２μｍ以下の粒子と▲３▼バインダー樹脂とを含むことを特徴とする電子写真感光体にある。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明では、導電性支持体上に少なくとも下引き層と感光層を有する有機電子写真感光体に関するが、導電性支持体としては、例えばアルミニウム、ステンレス鋼、銅、ニッケル等の金属からなるもの、或いはポリエステルフィルム、紙、ガラス等の絶縁性基体の表面にアルミニウム、銅、パラジウム、酸化錫、酸化インジウム等からなる導電層を設けたものがある。なかでも、アルミニウム等の金属のエンドレスパイプを適当な長さに切断したものが望ましい。導電性支持体の表面には、画質に影響のない範囲で、例えば酸化処理や薬品処理等の各種の処理を施すことができる。
【０００８】
本発明では、その上記記述の導電性支持体と感光層の間に、少なくとも▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶであり、且つ平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子と▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で平均一次粒子径が１００ｎｍ以上２μｍ以下の粒子と▲３▼バインダー樹脂とを含む下引き層が形成される。
一方の粒子として、▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶの金属酸化物粒子が用いられるが、バンドギャップが２ｅＶ以下の場合は、感光層への電荷の注入性が大きく、画像特性を悪化させる。また、バンドギャップが４ｅＶ以上の場合は、残留電位が大きくなり、電気特性を悪化させる。バンドギャップが２〜４ｅＶの金属酸化物粒子の中でも、ｎ型性（電子輸送性）の粒子が好ましく、特にチタン原子を構成元素として含有する金属酸化物が好ましい。
そのような金属酸化物としては、具体的には、チタン酸ストロンチウム，チタン酸カルシウム，チタン酸バリウム等のチタン酸塩及び酸化チタン及び酸化チタンに酸化ニオブ，酸化アンチモン，酸化タングステン，酸化インジウム，酸化ニッケル，酸化鉄，酸化珪素等がドープされたもの等が挙げられる。その中でも、酸化チタン粒子、並びに酸化チタン酸化チタンに５価または６価の金属元素をドープしたものが特に好ましい。
【０００９】
このような金属酸化物粒子は、比重が大きなものが一般的であり、塗布液の分散安定性の面及び残留電位等の電気特性に悪影響を及ぼさないように、平均一次粒子径としては、１００ｎｍ以下の粒子が用いられ、好ましくは１０〜８０ｎｍ、より好ましくは１０〜６０ｎｍである。
尚、上記の金属酸化物粒子は、無処理で使用されても良いが、表面処理されて使用されても良い。例えば、環境特性を改善する目的で、疎水性になるように表面処理されていることは好ましい。特にメチル水素ポリシロキサン，ジメチルポリシロキサン等のシリコーン樹脂及びメチルジメトキシシラン処理等のシラン処理剤，シランカップリング剤で表面処理されているのが好ましい。又、分散性及び画像特性を改良する目的で、酸化アルミ処理及び酸化珪素処理又は酸化ジルコニウム処理等がなされていても良い。更に電気特性を改善する目的で、酸化錫処理，ＡＴＯ（アンチモンドープ酸化錫）処理，ＩＴＯ（インジウムドープ酸化錫）処理等が行われていても良い。
【００１０】
もう一方の粒子としては、▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で、且つ平均一次粒子径が、１００ｎｍ以上、２μｍ以下のものが用いられる。
平均一次粒子径が１００ｎｍ以下の場合は、干渉縞抑制の効果が小さく、又、２μｍより大きな粒子の場合は、このように比重が小さな粒子でも、塗布液の分散安定性が悪くなり適さない。この中でも、塗布液の分散安定性の面と干渉縞抑制の効果の面から、平均１次粒子径が０．２μｍ以上１．５μｍ以下のものが好ましく、より好ましくは０．２μｍ以上１．０μｍ以下、特に０．３μｍ以上０．７μｍ以下のものが好ましい。
又、比重が３ｇ／ｃｍ3 以上では、平均一次粒子径が２μｍ以下であっても塗布液の分散安定性が悪くなるので、比重が３ｇ／ｃｍ3 以下の粒子が用いられる。
【００１１】
比重が３ｇ／ｃｍ3 以下の粒子としては、シリコーン樹脂粒子，ポリアミド樹脂粒子，アクリル樹脂粒子等の樹脂粒子、及び、酸化珪素粒子，酸化ホウ素粒子，酸化ベリリウム等の酸化物粒子が挙げられるが、酸化物粒子が金属酸化物粒子とのなじみ等でより好ましく、特に酸化珪素粒子は、最も好ましい例である。
▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶ、且つ平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子と▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で、かつ平均一次粒子径が１００ｎｍ以上２μｍ以下の粒子との比率は、任意に選ぶことが出来るが、前者１００重量部に対して、後者が５から１００重量部の範囲が好ましい。後者が５重量部より少ないときは、干渉模様の抑制効果が充分でなく、また、後者が１００重量部を超える場合は、電気特性が悪化してくる。より好ましくは、１０から５０重量部である。
【００１２】
バインダー樹脂としては、ポリビニルアセタール，ポリアミド樹脂，フェノール樹脂，ポリエステル，エポキシ樹脂，ポリウレタン，ポリアクリル酸等の樹脂材料を用いることが出来る。
なかでも、支持体の接着性に優れ、電荷発生層塗布液に用いられる溶媒に対する溶解性の小さなポリアミド樹脂が好ましい。その中でも下記一般式一般式（Ｉ）で示されるジアミン成分を構成成分として有する共重合ポリアミド樹脂が好ましい。
【００１３】
【化１】
0003941301.tif 000002
【００１４】
は、それぞれ独立して置換基を有していてもよいシクロヘキシル環を表し、Ｒ7 、Ｒ8 はそれぞれ独立して水素、アルキル基、アルコキシ基、アリール基を表す。）
【００１５】
次に、粒子とバインダー樹脂の比率は任意に選ぶことが出来るが、液の安定性及び特性面からバインダー樹脂１重量部に対して、０．５重量部から６重量部の範囲が好ましい。
下引き層は主として、▲１▼バンドギャップが２〜４ｅＶ且つ平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の金属酸化物粒子と、▲２▼比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で平均一次粒子径が１００ｎｍ以上、２μｍ以下の粒子と、▲３▼バインダー樹脂とで構成されるが、下引き層の特性及び塗布液の分散安定性を悪化させない範囲で、必要に応じて、比重が３ｇ／ｃｍ3 以下で平均１次粒子径が１００ｎｍ以下の粒子、あるいは、比重が３ｇ／ｃｍ3 以上で平均１次粒子径が１００ｎｍ以上の粒子、あるいは、酸化防止剤、分散剤、レベリング剤、その他の添加剤、導電剤等を加えても良い。
【００１６】
下引き層の膜厚は、薄すぎると局所的な帯電不良に対する効果が充分でなく、また逆に厚すぎると残留電位の上昇、あるいは導電性基体と感光層との間の接着強度の低下の原因となる。本発明の下引き層の膜厚は、通常、０．１〜２０μｍで、好ましくは０．３〜１０μｍで、より好ましくは０．５μｍ〜５μｍで使用される。
下引き層の塗布は、ある程度均一に塗布できる方法であれば、いかなる塗布方法を用いても良いが、一般的には、浸漬塗布やスプレー塗布、ノズル塗布方法等で塗布される。
【００１７】
下引き層の上には感光層が形成される。感光層は、単層構造でもよいが、電荷発生層と電荷輸送層の分離された、積層構造の方が好ましい。特に、積層構造の感光層は、可干渉光を吸収する電荷発生物質（光吸収物質）を含有する電荷発生層の膜厚が薄い場合が一般的で、干渉模様が発生しやすく、本発明の下引き層が、より効果的に機能する。
感光層が単層構造の場合には、感光材料がバインダーに分散してなる公知のものが使用される。例えば、電荷発生物質のみを主成分として、バインダー樹脂に分散させたもの、電荷発生物質及び電荷輸送物質を主成分として、バインダー樹脂に分散させたもの、などが用いられる。
感光層が積層構造の場合は、下引き層上に電荷発生層、電荷輸送層が形成される。
【００１８】
電荷発生層に用いられる電荷発生物質としては、フタロシアニン、アゾ、ペリレン、キナクリドン、多環キノン、ピリリウム塩、インジゴ、チオインジゴ、アントアントロン、ピラントロン、シアニン等の各種有機顔料、色素が使用できる。中でも無金属フタロシアニン、又は、銅、インジウム、ガリウム、錫、チタン、亜鉛、バナジウム、シリコン等の金属、もしくは、これらの酸化物、塩化物を配位したフタロシアニン類、モノアゾ、ビスアゾ、トリスアゾ、ポリアゾ類等のアゾ顔料、ペリレン顔料が好ましい。このうち特に好ましくは、チタニルフタロシアニンである。
【００１９】
電荷発生層はこれらの物質の微粒子とバインダーポリマーを溶剤に溶解あるいは分散して得られる塗布液を塗布乾燥して得ることができる。バインダー樹脂としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルアルコール、エチルビニルエーテル等のビニル化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリアミド、ポリウレタン、セルロースエーテル、フェノキシ樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２０】
電荷発生物質とバインダーポリマーの割合は、特に制限はないが、一般には電荷発生物質１００重量部に対し、５〜５００重量部、好ましくは２０〜３００重量部のバインダーポリマーを使用する。
また電荷発生層は上記電荷発生物質の蒸着膜であってもよい。
電荷発生層の膜厚は、０．０５〜５μｍ、好ましくは０．１〜２μｍになるようにする。
【００２１】
電荷移動層は、上記電荷発生層の上に、バインダーとして優れた性能を有する公知のポリマーと混合して電荷移動材料と共に適当な溶剤中に溶解し、必要に応じて電子吸引性化合物、あるいは、可塑剤、顔料その他の添加剤を添加して得られる塗布液を塗布することにより、製造することができる。電荷移動層の膜厚は通常は１０〜５０μｍ、好ましくは１３〜３５μｍの範囲で使用される。
電荷移動層中の電荷移動材料としては、ポリビニルカルバゾール、ポリピニルピレン、ポリアセナフチレン等の高分子化合物、又は各種ピラゾリン誘導体、オキサゾール誘導体、ヒドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、アリールアミン誘導体等の低分子化合物が使用できる。
【００２２】
バインダーポリマーとしては、上記電荷移動材料と相溶性が良く、塗膜形成後に電荷移動材料が結晶化したり、相分離することのないポリマーが好ましい。それらの例としては、スチレン、酢酸ビニル、塩化ビニル、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、ビニルアルコール、エチルビニルエーテル等のビニル化合物の重合体及び共重合体、ポリビニルアセタール、ポリカーボネート、ポリエステル、ポリスルホン、ポリフェニレンオキサイド、ポリウレタン、セルロースエステル、セルロースエーテル、フェノキシ樹脂、ケイ素樹脂、エポキシ樹脂等が挙げられる。
【００２３】
電子吸引性化合物としては、テトラシアノキノジメタン、ジシアノキノメタン、ジシアノキノビニル基を有する芳香族エステル類等のシアノ化合物、２，４，６−トリニトロフルオレノン等のニトロ化合物、ペリレン等の縮合多環芳香族化合物、ジフェノキノン誘導体、キノン類、アルデヒド類、ケトン類、エステル類、酸無水物、フタリド類、置換及び無置換サリチル酸の金属錯体、置換及び無置換サリチル酸の金属塩、芳香族カルボン酸の金属錯体、芳香族カルボン酸の金属塩が挙げられる。好ましくは、シアノ化合物、ニトロ化合物、縮合多環芳香族化合物、ジフェノキノン誘導体、置換及び無置換サリチル酸の金属錯体、置換及び無置換サリチル酸の金属塩、芳香族カルボン酸の金属錯体、芳香族カルボン酸の金属塩を用いるのがよい。
また、本発明の電子写真用感光体の感光層は成膜性、可とう性、塗布性、機械的強度を向上させるために周知の可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、レベリング剤を含有していてもよい。
【００２４】
更に、感光層の上に、機械的特性の向上及びオゾン，ＮＯｘ等の耐ガス特性向上のために、オーバーコート層を用いても良い。更に必要に応じて、接着層、透明絶縁層等を有していてもよいことは言うまでもない。
なお、下引き層と感光層の間に更に中間層を設けても良いが、本発明の下引き層は、それのみで、電気特性，干渉縞抑制，微小黒点等の画像欠陥抑制に効果が有るので、そのような中間層を設けない方が、生産性及びコストの面で好ましい。
【００２５】
このようにして作製された本発明の有機電子写真感光体は、主に帯電、可干渉光による露光、現像、転写の各プロセスを、感光体に対して行う電子写真装置において使用されるが、帯電方法としては、例えばコロナ放電を利用したコロトロンあるいはスコロトロン帯電、導電性ローラーあるいはブラシあるいは、ペーパーによる接触帯電などいずれを用いても良い。コロナ放電を利用した帯電方法は、暗部電位を一定に保つためにスコロトロン帯電を用いられることが多い。現像方法としては、磁性あるいは非磁性の一成分現像剤、二成分現像剤などを接触あるいは非接触させて現像する一般的な方法が用いられる。転写方法としては、コロナ放電によるもの、転写ローラーを用いた方法等いずれでも良い。通常現像剤を紙などに定着させる定着プロセスが用いられ、定着手段としては一般的に用いられる熱定着、圧力定着を用いることが出来る。これらのプロセスのほかに、クリーニング、除電等のプロセスが用いられても良い。
【００２６】
【実施例】
以下本発明を実施例、比較例により更に詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらに限定されるものではない。なお、実施例中で用いる「部」は断りがない限り、「重量部」を示す。
＜下引き塗布液の分散安定性＞
まず、最初に下引き塗布液の分散安定性の比較を行なった。
表面処理酸化チタンＡを、溶媒はメタノール，ボールは、約５ｍｍΦのアルミナボールでボールミル，時間は１６時間でボールミル分散を行い、表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを得た。
ここで得られた分散スラリーをのナイロンＢの混合アルコール（メタノール／１−プロパノール＝７０／３０）溶液に加え、更にメタノール，１−プロパノール，トルエンを加えて攪拌混合し、最終的に表面処理酸化チタンＡ／ナイロンＢ＝３／１（重量比）で固形分濃度１８重量％、溶媒組成：メタノール／１−プロパノール／トルエン＝７／１／２の分散液を調製し、これを分散液（Ｐ）とした。
尚、表面処理酸化チタンＡは、先ず、酸化チタンとして石原産業（株）製  製品名ＴＴＯ−５５Ｎ（結晶型  ルチル  １次粒径０．０３〜０．０５μｍ）を用い、この表面にメチルジメトキシシランを３重量％均一に施して調製したものである。
ナイロンＢは、特開平４−３１８７０号公報の実施例で記載された製造法により製造された下記構造のランダム共重合ポリアミドである。
【００２７】
【化２】
0003941301.tif 000003
【００２８】
この塗布液の分散安定性は、調液後１週間経過しても、粒子の沈降は、ほとんど見られず非常に良好であった。
実施例１−１
＜分散液（Ｐ１）の作製＞
表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを作製したのと全く同様にして、ＫＥＰ−３０（後述）の分散スラリーを作製した。そのスラリーを分散液（Ｐ）に添加して、混合攪拌することにより、表面処理酸化チタンＡ／ＫＥ−Ｐ３０／ナイロンＢ＝３／０．５／１の分散液（Ｐ１）を作製した。
注）ＫＥ−Ｐ３０：株式会社日本触媒製  シリカ球状粒子；平均粒子径  ０．２８±０．０３μｍ（商品名：シーホスターＫＥ−Ｐ３０）
この分散液（Ｐ１）は、調液後に３日経過しても粒子の沈降等はほとんど認められず、分散安定性は良好であった。
【００２９】
実施例１−２
＜分散液（Ｐ２）の作製＞
表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを作製したのと全く同様にして、ＫＥＰ−５０（後述）の分散スラリーを作製した。そのスラリーを分散液（Ｐ）に添加して、混合攪拌することにより、表面処理酸化チタンＡ／ＫＥＰ−５０／ナイロンＢ＝３／０．５／１の分散液（Ｐ２）を作製した。
注）ＫＥ−Ｐ５０：株式会社日本触媒製  シリカ球状粒子；平均粒子径  ０．５３±０．０５μｍ（商品名：シーホスターＫＥ−Ｐ５０）
この分散液（Ｐ２）は、調液後に３日経過しても粒子の沈降等はほとんど認められず、分散安定性は良好であった。
【００３０】
実施例１−３
＜分散液（Ｐ３）の作製＞
表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを作製したのと全く同様にして、ＫＥＰ−５０の分散スラリーを作製した。そのスラリーを分散液（Ｐ）に添加して、混合攪拌することにより、表面処理酸化チタンＡ／ＫＥ−Ｐ５０／ナイロンＢ＝３／１／１の分散液（Ｐ３）を作製した。
この分散液（Ｐ３）は、調液後に３日経過しても粒子の沈降等はほとんど認められず、分散安定性は良好であった。
【００３１】
実施例１−４
＜分散液（Ｐ４）の作製＞
表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを作製したのと全く同様にして、ＫＥＰ−７０（後述）の分散スラリーを作製した。そのスラリーを分散液（Ｐ）に添加して、混合攪拌することにより、表面処理酸化チタンＡ／ＫＥ−Ｐ７０／ナイロンＢ＝３／０．５／１の分散液（Ｐ４）を作製した。
注）ＫＥ−Ｐ７０：株式会社日本触媒製  シリカ球状粒子；平均粒子径約  ０．７μｍ（商品名：シーホスターＫＥ−Ｐ７０）
この分散液（Ｐ４）は、調液後に３日経過しても粒子の沈降等はほとんど認められず、分散安定性は良好であった。
【００３２】
実施例１−５
＜分散液（Ｐ５）の作製＞
表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを作製したのと全く同様にして、Ｔ１０５（後述）の分散スラリーを作製した。そのスラリーを分散液（Ｐ）に添加して、混合攪拌することにより、表面処理酸化チタンＡ／Ｔ１０５／ナイロンＢ＝３／０．５／１の分散液（Ｐ４）を作製した。
注）Ｔ１０５：東芝シリコーン（株）製  シリコーン樹脂粒子；平均粒子径０．５μｍ（商品名：トスパールＴ１０５）
この分散液（Ｐ４）は、調液後に３日経過しても粒子の沈降等はほとんど認められず、分散安定性は良好であった。
【００３３】
比較例１−１
＜分散液（Ｐ６）の作製＞
表面処理酸化チタンＡの分散スラリーを作製したのと全く同様にして、ＴＹ−５０（後述）の分散スラリーを作製した。そのスラリーを分散液（Ｐ）に添加して、混合攪拌することにより、表面処理酸化チタンＡ／ＴＹ−５０／ナイロンＢ＝３／０．５／１の分散液（Ｐ６）を作製した。
注）ＴＹ−５０：石原産業（株）製  チタンイエロー球状粒子；ルチル型酸化チタンの結晶格子中にアンチモン及びニッケル原子を熱拡散させ黄色に発色させた固溶体。粒子径：０．２μｍ〜０．６μｍ。
この分散液（Ｐ６）は、調液後に３日後には、粒子の沈降等ははっきりと確認出来、分散安定性は悪かった。
【００３４】
＜分散液（Ｑ）の作製＞
石原産業（株）製のチタニアＴＴＯ−５５Ｎ（商品名）を、溶媒はメタノール／１−プロパノール＝７／３，ボールは、約５ｍｍΦのアルミナボールでボールミル，時間は１６時間でボールミル分散を行い、ＴＴＯ−５５Ｎの分散スラリーを得た。
この分散スラリーをナイロンＢの混合アルコール（メタノール／１−プロパノール＝７／３）溶液に加え、攪拌混合を行い、ＴＴ０−５５Ｎ／ナイロンＢ＝１／１組成で、固形分濃度が、９重量％の分散液（Ｑ）を作製した。
【００３５】
＜分散液（Ｑ１）の作製＞
ＴＴＯ−５５Ｎを、溶媒はメタノー／１−プロパノール＝７／３，ボールは、約５ｍｍΦのアルミナボールでボールミル，時間は１６時間でボールミル分散を行い、ＴＴＯ−５５Ｎの分散スラリーを得た。
又、Ｔ１０５についても、溶媒はメタノール／１−プロパノール＝７／３，ボールは、約５ｍｍΦのアルミナボールでボールミル，時間は１６時間でボールミル分散を行い、Ｔ１０５の分散スラリーを得た。この二つの分散スラリーをナイロンＢの混合アルコール（メタノール／１−プロパノール＝７／３）溶液に加え、攪拌混合を行い、ＴＴ０−５５Ｎ／Ｔ１０５／ナイロンＢ＝４／２／５組成で、固形分濃度が、９重量％の分散液（Ｑ１）を作製した。
【００３６】
実施例２−１
分散液（Ｐ２）に、表面をＲｚが０．６μｍとなるように粗切削した外径３０ｍｍ、長さ３５０ｍｍ、肉厚１．０ｍｍのアルミニウム製シリンダーを浸漬塗布し、その乾燥膜厚が、１．２５μｍとなるように下引き層を設けた。
次に、ＣｕＫα線による粉末Ｘ線回折パターンで、２７．３°に特徴的なピークを示すオキシチタニウムフタロシニアン１０部、ポリビニルブチラール（電気化学工業（株）製、商品名＃６０００−Ｃ）５部に１，２−ジメトキシエタン５００部を加え、サンドグラインドミルで粉砕、分散処理を行った。この分散液に先に下引き層を設けたアルミニウム製シリンダーを浸漬塗布し、その乾燥膜厚が０．３ｇ／ｍ2 （厚さ約０．３μｍ）となるように電荷発生層を設けた。
【００３７】
次に、このアルミニウム製シリンダーを、次に示すヒドラゾン化合物５６重量部
【００３８】
【化３】
0003941301.tif 000004
【００３９】
次にヒドラゾン化合物１４重量部、
【００４０】
【化４】
0003941301.tif 000005
【００４１】
及び下記のシアン化合物１．５重量部
【００４２】
【化５】
0003941301.tif 000006
【００４３】
及び１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）シクロヘキサンをビスフェノール成分とするポリカーボネート樹脂１００部、並びに酸化防止剤８部を１，４ジオキサン、テトラヒドロフランの混合溶媒に溶解させた液を浸漬塗布することにより、乾燥膜厚が２５μｍになるように電荷移動層を設けた。このようにして得られたドラムを感光体Ａ１とする。感光体Ａ１の低温低湿度環境（温度５℃、湿度１０％）での電気特性を評価したところ、感度（Ｅ1/2 ）が０．１３μＪ／ｃｍ2 であり、残留電位（Ｖｒ）は９３Ｖであった。
尚、アルミニウムシリンダーを、粗切削管から、鏡面仕上げ管に替えた以外は、感光体Ａ１と全く同様にして作製したドラムを感光体Ａ２とする。感光体Ａ２の感度、残留電位はＡ１と同等である。
【００４４】
実施例２−２
実施例２−１で用いたアルミニウム製シリンダーを、分散液（Ｐ３）に浸漬塗布し、その乾燥膜厚が１．２５μｍとなるように下引き層を設けた以外は、実施例２−１と同様にして感光体を得た。このようにして得たドラムをＡ３とする。
尚、アルミニウムシリンダーのみを、粗切削管から、鏡面仕上げ管に替えた以外は、感光体Ａ３と全く同様にして作製したドラムを感光体Ａ４とする。感光体Ａ３、Ａ４の感度、残留電位はＡ１と同等である。
【００４５】
比較例２−１
実施例２−１で用いたアルミニウム製シリンダーを、分散液（Ｐ）に浸漬塗布し、その乾燥膜厚が１．２５μｍとなるように下引き層を設けた以外は、実施例２−１と同様にして感光体を得た。このようにして得たドラムをＡ５とする。感光体Ａ５の低温低湿度環境での電気特性は、感度（Ｅ1/2 ）が０．１４μＪ／ｃｍ2 、残留電位（Ｖｒ）が９９Ｖと、感光体Ａ１の電気特性とほぼ同等であった。
尚、アルミニウムシリンダーを、粗切削管から、鏡面仕上げ管に替えた以外は、感光体Ａ５と全く同様にして作製したドラムを感光体Ａ６とする。感光体Ａ６の感度、残留電位はＡ５と同等である。
【００４６】
＜評価＞
次にこれらの感光体Ａ１〜Ａ６を市販のレーザープリンター（ＨＥＷＬＥＴＴＰＡＣＫＡＲＤ製  ＬＡＳＥＲ  ＪＥＴ  ５０００  ＰＣＬ６）に装着して、２５℃／５０％、及び３５℃／８５％の環境下で、ProRes 1200-最高品質モード（1200ｄｐｉモード）で、白地画像を出し、微小黒点等の画像評価を、又、ハーフトーン画像を出し、干渉縞模様の評価を行った。干渉縞模様目視判定を行い、肉眼で干渉縞模様がほとんど確認できないものを◎、肉眼で干渉縞模様が僅かに認められるものを○、肉眼で干渉縞模様が確認できるものを△、明瞭な干渉縞模様が認められるものを×とした。その結果を表１に示す。
これらの感光体はいずれも微小黒点については、２５℃／５０％，３５℃／８５％の環境で問題の無いレベルであった。干渉縞模様については、実施例の感光体では、アルミニウムシリンダーが鏡面仕上げされていた管であっても、良好な範囲で有ったが、比較例の感光体のＡ５は、明確に干渉縞模様が観察された。感光体Ａ６は、アルミニウムシリンダーが粗切削管で有るにも関わらず、
程度は軽くなっているが、干渉縞模様は観察された。
次にこれらの電子写真感光体を感光体特性測定機に装着して、表面電位が−５６０Ｖになるように帯電させた後、７８０ｎｍの光を照射した時の半減露光量、６６０ｎｍのＬＥＤを照射した後のＶｒ（残留電位）を測定した。
その結果を表１に示す。
【００４７】
【表１】
表    １
0003941301.tif 000007
【００４８】
実施例３
分散液（Ｑ１）に、表面が鏡面仕上げされた外径３０ｍｍ、長さ２５４ｍｍ、肉厚１．０ｍｍのアルミニウム製シリンダーを浸漬塗布し、その乾燥膜厚が、０．７５μｍとなるように下引き層を設けた。
次に、実施例２ー１と同様にして、厚さ約０．３μｍの電荷発生層を形成させた。
次に、このアルミニウム製シリンダーを、ポリカーボネート樹脂を、２，２−ビス（３−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、及び１−フェニル−１，１−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エタンの２種をビスフェノール成分とするポリカーボネートに代えた他は実施例２−１と同様にして、乾燥膜厚が１７μｍの電荷移動層を設けた。このようにして得られたドラムを感光体Ｂ１とする。この感光体を２５℃、湿度５０％の環境下で残留電位（Ｖｒ）を測定したところ、５０Ｖであった。また、市販プリンターをＨＥＷＬＥＴＴ  ＰＡＣＫＡＲＤ製  ＬＡＳＥＲ  ＪＥＴ  ４  Ｐｌｕｓ（６００ｄｐｉモード）に替え、表面電位を−５６０Ｖから−７００Ｖに替えた他は実施例２−１と同様にして干渉縞模様を観測したところ、干渉縞評価はΔであった。
【００４９】
比較例３
実施例３で用いたアルミニウム製シリンダーを、分散液（Ｑ）に浸漬塗布し、その乾燥膜厚が０．７５μｍとなるように下引き層を設けた以外は、実施例１と同様にして感光体を得た。このようにして得たドラムをＢ２とする。この感光体の残留電位はＢ１と同等であり、干渉縞価値は×であった。
【００５０】
以上の結果から、本発明の電子写真感光体は、非常に優れた性能を有していると判断できる。
【００５１】
【発明の効果】
本発明の下引き層を用いた電子写真感光体は、可干渉光を光源として用いる電子写真装置に用いられても、干渉縞模様の発生抑制を含めた画像特性，電気特性共に良好で有り、更に下引き塗布液の分散安定性も良く、優れている。