(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材であって、
Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、
Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、
Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満である
ことを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム材。
【請求項２】
Ｓｉ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下である請求項１の電解コンデンサ用アルミニウム材。
【請求項３】
Ｆｅ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下である請求項１又は請求項２の電解コンデンサ用アルミニウム材。
【請求項４】
Ｃｕ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下である請求項１〜請求項３いずれかの電解コンデンサ用アルミニウム材。
【請求項５】
Ｐｂ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ以下である請求項１〜請求項４いずれかの電解コンデンサ用アルミニウム材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、特に、高圧用電解コンデンサの陽極として好適な静電容量を持つアルミニウム箔に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、高圧用電解コンデンサの陽極として用いられるアルミニウム箔は、高い静電容量を得る為、例えば塩酸を主体とした水溶液中で直流電源を用いた電気化学的なエッチングによる粗面化（表面積拡大）処理が行われている。このような処理により形成されるエッチングのピットは、微細なキャピラリ状である。そして、粗面化率はピットの密度によって決まる。従って、高い静電容量を得る為には、ピットの形成が均一、かつ、高密度である必要がある。
【０００３】
このような均一、かつ、高密度のピットを形成する為、従来より、各種の提案がなされている。
例えば、特公昭６２−４２３７０号公報や特開平１−１２８４１９号公報では、Ｐｂ，Ｂｉ，Ｉｎ，Ｓｎ等の元素をアルミニウム箔の表面に濃縮させる方法が提案されている。すなわち、アルミニウム箔の表面に前記元素を高濃度に存在させていると、酸化皮膜が化学的に不安定なものになり、表面の溶解性を高めると謳われている。
【０００４】
又、特開平６−６５６６４号公報では、Ａｌ純度が９９．５ｗｔ％以上であって、Ｓｉを含有すると共に、Ｚｎ０．００１〜０．０５ｗｔ％、Ｃｕ０．００１〜０．０１ｗｔ％、Ｔｉ≦０．００１ｗｔ％、Ｎｉ≦０．００２ｗｔ％、及びその他不可避不純物を含有し、かつ、酸化皮膜中のＳｉ析出量と酸化皮膜外におけるＳｉ析出量との比が、〔（酸化皮膜中のＳｉ析出量／酸化皮膜外におけるＳｉ析出量）〕≦１であり、そしてＭｇ，Ｌｉ，及びＮａよりなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を０．００１〜０．１０ｗｔ％含有し、該元素の酸化皮膜中における含有量は該元素の総量に対して５〜５０％である電解コンデンサ電極用アルミニウム合金箔が提案されている。これによれば、Ｓｉ，Ｚｎ，Ｃｕ，Ｔｉ，Ｎｉを上記のような割合にしたので、表面酸化皮膜のエッチング性が向上し、表面積の拡大が図れ、高い静電容量の電解コンデンサが得られると謳われている。又、Ｍｇ，Ｌｉ，及びＮａよりなる群から選ばれた少なくとも一種の元素を０．００１〜０．１０ｗｔ％含有していると、Ｓｉの析出を抑制し、エッチング性が向上すると記載されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記提案の技術は、エッチングピットの密度が増加するものの、エッチングピット以外の部分の表面溶解も激しく、電流がエッチングピットの成長に有効に使われなかったり、箔厚の減少によりピットの長さが不十分と言った問題が残されている。すなわち、表面積拡大が十分ではない。
【０００６】
従って、本発明が解決しようとする課題は、表面積の拡大が大きく、高い静電容量が得られる高圧用電解コンデンサの陽極用アルミニウム箔を提供することである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
前記の課題は、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材であって、
Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、
Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、
Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満
であることを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム材によって解決される。
【０００８】
又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材であって、
Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、
Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、
Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満であり、
表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きい
ことを特徴とする電解コンデンサ用アルミニウム材によって解決される。
【０００９】
又、更に、Ｓｉ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下であり、上記特徴を有する電解コンデンサ用アルミニウム材によって解決される。
又、更に、Ｆｅ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下であり、上記特徴を有する電解コンデンサ用アルミニウム材によって解決される。
又、更に、Ｃｕ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下であり、上記特徴を有する電解コンデンサ用アルミニウム材によって解決される。
【００１０】
又、更に、Ｐｂ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ以下であり、上記特徴を有する電解コンデンサ用アルミニウム材によって解決される。
本発明において、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウムを用いたのは、純度が９９．９ｗｔ％未満に低下し、不純物の量が増加すると、エッチングによる溶解性が高くなり、ピットの分布が不均一になるからである。従って、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウムを用いるのが大事である。好ましくは、９９．９８ｗｔ％以上である。
【００１１】
本発明において、Ｍｇを必須成分とするのは、Ｍｇがピットの起点となり得る酸化皮膜の欠陥を多くする作用があるからによる。しかし、Ｍｇは、皮膜の溶解性を著しく低下させる。この為、Ｍｇに起因する欠陥が全てピットの起点になる訳ではない。
一方、Ｎａは、表面溶解性を高め、ピットの発生を容易にする作用がある。しかし、表面積拡大に寄与しない表面溶解も促進させる。
【００１２】
従って、ＭｇとＮａとを共存させ、これらの量を微妙に制御することによって、上手く表面積の拡大を図ることが出来る。すなわち、Ｍｇの添加によって導入された酸化皮膜の欠陥の殆どがＮａの作用によって活性になり、その他の部分はＭｇの作用によって相対的に不活性となる為、ピットが高密度で、かつ、均一に発生し、表面積の拡大に寄与しない表面溶解を最小限に抑えつつ、表面積の拡大に有効なトンネル状ピットが成長する。
【００１３】
このようなＭｇとＮａとの微妙な共同作用は、Ｍｇが０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、かつ、Ｎａが０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満の場合に発揮される。好ましくは、Ｍｇが０．２〜７ｐｐｍ、Ｎａが０．０２〜７ｐｐｍである。
尚、Ｎａが１０ｐｐｍ以上になると、Ｍｇ共存下でも表面溶解性が高くなり、表面積の拡大効果が低下し、又、Ｍｇが１０ｐｐｍ以上になると、Ｎａ共存下でも皮膜の欠陥部の活性度が低下し、表面積の拡大効果が低下する。又、Ｍｇが０．１ｐｐｍ未満であると、ピットの起点となり得る酸化皮膜の欠陥が少なく、表面積の拡大効果が得られない。又、Ｎａが０．０１ｐｐｍ未満であると、表面溶解性が低く、表面積の拡大効果が得られない。
【００１４】
ＭｇとＮａとを共存させる技術思想は、前記した特開平６−６５６６４号公報には認められない。特開平６−６５６６４号公報にあっては、Ｍｇ又はＮａはＳｉの析出を抑制する作用に着目して含有させられたものであり、本発明者が着目したＭｇとＮａとの共同作用については全く触れる処がない。因みに、発明のベストモードを記載した実施例にあっても、特開平６−６５６６４号公報ではＭｇとＮａとを共存させた例が挙げられていない。又、Ｍｇを含有させた電解コンデンサ用アルミニウム箔の例として特許第２５７２４７９号明細書があるが、これにおいてもＮａを共存させる技術思想はない。Ｎａを含有させた電解コンデンサ用アルミニウム箔の例としては特開平８−２７５４９号公報や特開平８−１４８３８７号公報があるが、これ等においてもＭｇを共存させる技術思想はない。
【００１５】
Ｎａ，Ｍｇは表面層に高濃度で存在しているのが好ましい。つまり、表面から１μｍ以内の表面層におけるＮａ濃度やＭｇ濃度と、前記より深い内部におけるＮａ濃度やＭｇ濃度とを比べた場合、表面層におけるＮａ濃度＞内部におけるＮａ濃度、表面層におけるＭｇ濃度＞内部におけるＭｇ濃度であるのが好ましい。すなわち、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度＞深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、表面から深さ１μｍまでの層におけるＭｇの平均濃度＞深さ１μｍより内部の層におけるＭｇの平均濃度である場合、エッチングによる表面積の拡大効果が一層大きい。
【００１６】
ピットの起点は、酸化皮膜の欠陥に起因する他に、圧延によってロール目が転写されて生じた凹凸や、Ａｌ−Ｆｅ系の金属間化合物の周囲からも発生する。これらに起因するピットの起点は、酸化皮膜の欠陥に起因するピットの起点に比べて大きなものの、Ｂが添加されていると、ピットの粗大化が抑制されることが判った。従って、Ｂを添加することによって、エッチングによる表面積の拡大効果が得られる。Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ未満では、ピットの粗大化抑制効果は小さく、表面積の拡大効果が得られず、逆に、Ｂ含有量が１０ｐｐｍ以上では、不均一溶解の原因となることから、Ｂ含有量は０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満とした。好ましくは、Ｂが０．０２〜１ｐｐｍである。
【００１７】
Ｂも表面層に高濃度で存在しているのが好ましい。つまり、表面から１μｍ以内の表面層におけるＢ濃度と、前記より深い内部におけるＢ濃度とを比べた場合、表面層におけるＢ濃度＞内部におけるＢ濃度であるのが好ましい。すなわち、表面から深さ１μｍまでの層におけるＢの平均濃度＞深さ１μｍより内部の層におけるＢの平均濃度である場合、エッチングによる表面積の拡大効果が一層大きい。
【００１８】
Ｓｉ，Ｆｅ，Ｃｕは、強度の付与及び（１００）面占有率を高める為に添加される。エッチングによる表面積の拡大効果を一層大きなものとする為には、Ｓｉ，Ｆｅ，Ｃｕは１ｐｐｍ以上とする必要がある。しかし、１００ｐｐｍを越えた含有量では、不均一溶解の原因になる。従って、Ｓｉ，Ｆｅ，Ｃｕは、各々、１〜１００ｐｐｍとした。好ましくは、Ｓｉが５〜３０ｐｐｍ、Ｆｅが５〜３０ｐｐｍ、Ｃｕが１０〜７０ｐｐｍである。
【００１９】
Ｐｂはピット密度を増加させる作用がある。エッチングによる表面積の拡大効果を一層大きなものとする為には、Ｐｂは０．１ｐｐｍ以上とする必要がある。しかし、１０ｐｐｍを越えた含有量では、不均一溶解の原因になる。従って、Ｐｂは、０．１〜１０ｐｐｍとした。好ましくは、Ｐｂが０．２〜２ｐｐｍである。
【００２０】
【発明の実施の形態】
本発明になる電解コンデンサ用アルミニウム材（箔）は、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）である。又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）であり、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きいものである。
【００２１】
又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｓｉ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）である。又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｓｉ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）であり、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きいものである。
【００２２】
又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｆｅ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）である。又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｆｅ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）であり、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きいものである。
【００２３】
又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｃｕ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、１０〜７０ｐｐｍ）である。又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｃｕ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、１０〜７０ｐｐｍ）であり、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きいものである。
【００２４】
又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｐｂ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ以下（特に、０．２〜２ｐｐｍ）である。又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｐｂ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ以下（特に、０．２〜２ｐｐｍ）であり、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きいものである。
【００２５】
又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｓｉ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）、Ｆｅ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）、Ｃｕ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、１０〜７０ｐｐｍ）、Ｐｂ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ以下（特に、０．２〜２ｐｐｍ）である。又、純度９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム材（箔）であって、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜７ｐｐｍ）、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．２〜７ｐｐｍ）、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満（特に、０．０２〜１ｐｐｍ）、Ｓｉ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）、Ｆｅ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、５〜３０ｐｐｍ）、Ｃｕ含有量が１ｐｐｍ以上、１００ｐｐｍ以下（特に、１０〜７０ｐｐｍ）、Ｐｂ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ以下（特に、０．２〜２ｐｐｍ）であり、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きいものである。
【００２６】
本発明になる電解コンデンサ用アルミニウム箔は、上記した元素が上記した割合になるアルミニウム合金の鋳塊を均質化処理、面削、熱間圧延を行った後、適宜中間焼鈍を加えながら冷間圧延を施し、８０〜１１０μｍの厚さのアルミニウム箔を得る。
この後、圧延油を綺麗に除去する為、脱脂処理を行う。脱脂処理は公知の方法を用いることが出来る。例えば、アルカリ性浴を用いた脱脂処理、酸性浴を用いた脱脂処理、或いは有機溶剤を用いた脱脂処理を適宜採用できる。
【００２７】
脱脂処理後、水洗する。
水洗後、必要に応じて、アルミニウム箔を次亜塩素酸ソーダ等の次亜塩素酸塩及び苛性ソーダ等のアルカリを含有する水溶液中に浸漬する。これらの含有量は、水溶液のｐＨが９〜１２、特に１０〜１１、電気伝導率が１〜１０ｍＳ／ｃｍ、特に５〜７ｍＳ／ｃｍになるよう設定されたものである。具体的には、次亜塩素酸ソーダが１×１０-3〜５×１０-1ｍｏｌ／ｌ、苛性ソーダが５×１０-4〜１×１０-2ｍｏｌ／ｌである。上記浸漬時の温度は、４０〜８０℃、特に５０〜６５℃であり、浸漬時間は１５〜６００秒、特に３０〜１８０秒である。
【００２８】
所定時間経過後、アルミニウム箔を取り出し、４８０〜６２０℃（特に、５２０〜５８０℃）の温度で焼鈍する。
焼鈍時間は、１〜１２時間（特に、１〜８時間）である。焼鈍は、非酸化性雰囲気、例えば真空中または不活性ガス（ＡｒやＮ2 ガス）雰囲気中で行われる。焼鈍の後、アルミニウム箔を１００℃以下（特に、７０℃以下）の温度に冷却する。
【００２９】
１００℃以下に冷却した後、アルミニウム箔を２００〜３００℃（特に、２２０〜２８０℃）の温度に加熱処理する。この加熱処理は、１０秒〜８時間である。加熱処理は、真空中または不活性ガス雰囲気中と言った非酸化性雰囲気下で行うのみならず、大気中で行うことも出来る。
そして、加熱処理後、アルミニウム箔に公知の電解エッチング処理を施し、高圧用電解コンデンサの陽極用アルミニウム箔を得る。
【００３０】
以下、具体的実施例を挙げて本発明を説明する。
【００３１】
【実施例１〜２０】
半連続鋳造法により下記の表−１，２に示す組成のものとなるスラブを作製し、そして通常の条件で均質化処理、面削、熱間圧延を行った後、適宜中間焼鈍を加えながら、冷間圧延を行って厚さ０．１ｍｍのアルミニウム箔を得た。
この後、脱脂、水洗などを経た後、Ａｒガス雰囲気下で５５０℃に５時間保持して焼鈍を加えた。
【００３２】
このようにして得られたアルミニウム箔に、８５℃の電解エッチング液（ＨＣｌ；１ｍｏｌ／ｌ，Ｈ2 ＳＯ4 ；３ｍｏｌ／ｌ）中で電流密度０．１Ａ／ｃｍ2 、時間７２０秒の条件下で第１段直流電解エッチングを行い、次いで８０℃のエッチング液（ＨＮＯ3 ；０．５ｍｏｌ／ｌ）中に７２０秒浸漬の化学エッチングを行った。
【００３３】
この後、１０％アジピン酸アンモニウム溶液中で３００ｖの化成処理を施した。
そして、上記のようにして得たアルミニウム箔を用いて高圧用電解コンデンサを得た。
表−１
化学組成（ｐｐｍ） 
Ｎｏ    Ｎａ    Ｍｇ    Ｂ        Ｓｉ    Ｆｅ    Ｃｕ    Ｐｂ    Ａｌ
１    ０．０１  ２．４  ２．５    １０    １１    ３４    ０．８  残り
２    ５．２    ４．６  ６．３      ７      ９    ４９    ０．４  残り
３    ９．７    ３．５  １．４    １５      ９    ２６    ０．３  残り
４    ２．２    ０．１  ０．２２    ６    １０    ５５    ０．９  残り
５    １．０    ９．８  １．１    １８    １２    ４０    １．２  残り
６    ４．９    ６．２  ０．０１  ２５    ２５    ２５    １．７  残り
７    ３．２    ４．１  ９．５      ５      ５    １０    １．２  残り
８    ０．０４  ７．８  ０．１５  ３１    ５５    ５６    ７．０  残り
９    ８．５    ０．６  １．５    ６８    ３５    ９４    ２．８  残り
１０  ０．０９  ２．５  ０．２５  ９２    ９４    ３８    ０．３  残り
１１  ２．５    ０．４  １．４    ５０    ４８    ５０    １．０  残り
１２  ６．２    ５．２  ０．０８  ３０    ４１    ８０    ０．６  残り
１３  １．０    ３．５  ４．６    １８    １５    ３８    ２．１  残り
表−２
表面から深さ１μｍまでの層における平均濃度（ｐｐｍ）
Ｎｏ                  Ｎａ            Ｍｇ          Ｂ
１                ２１００        １２００      ８００
２                  ６００        ５０００    ２０００
３                ５４００        １４００    ７０００
４                １４００          ８００    １２００
５              １５０００      ２００００    １３００
６              ３１０００        ８５００    ４１００
７                ３７００        ８０００    ３５００
８                ２５００        ６４００    １５００
９                ３８００          ６００    ２４００
１０                ２００          ２００      ２００
１１              ２７００        １２００        ６０
１２                ４００          ８００        ２０
１３            １８０００        ４８００  １０５００
＊グロー放電質量分析装置を用いて放電条件０．５ｍＡ，０．５ｋｖで測定
【００３４】
【比較例１〜６】
半連続鋳造法により下記の表−３，４に示す組成のものとなるスラブを作製し、そして通常の条件で均質化処理、面削、熱間圧延を行った後、適宜中間焼鈍を加えながら、冷間圧延を行って厚さ０．１ｍｍのアルミニウム箔を得た。
この後、脱脂、水洗などを経た後、Ａｒガス雰囲気下で５５０℃に５時間保持して焼鈍を加えた。
【００３５】
このようにして得られたアルミニウム箔に、８５℃の電解エッチング液（ＨＣｌ；１ｍｏｌ／ｌ，Ｈ2 ＳＯ4 ；３ｍｏｌ／ｌ）中で電流密度０．１Ａ／ｃｍ2 、時間７２０秒の条件下で第１段直流電解エッチングを行い、次いで８０℃のエッチング液（ＨＮＯ3 ；０．５ｍｏｌ／ｌ）中に７２０秒浸漬の化学エッチングを行った。
【００３６】
この後、１０％アジピン酸アンモニウム溶液中で３００ｖの化成処理を施した。
そして、上記のようにして得たアルミニウム箔を用いて高圧用電解コンデンサを得た。
0003945597.tif 000002
【００３７】
【特性】
上記各実施例および比較例で得た電解コンデンサについて、その静電容量を測定したので、その結果を表−５に示す。
表−５
静電容量（μＦ／ｃｍ2 ）
実施例Ｎｏ１                          １．６０
実施例Ｎｏ２                          １．６１
実施例Ｎｏ３                          １．６２
実施例Ｎｏ４                          １．６０
実施例Ｎｏ５                          １．６３
実施例Ｎｏ６                          １．６０
実施例Ｎｏ７                          １．６４
実施例Ｎｏ８                          １．６６
実施例Ｎｏ９                          １．６８
実施例Ｎｏ１０                        １．６７
実施例Ｎｏ１１                        １．６５
実施例Ｎｏ１２                        １．６６
実施例Ｎｏ１３                        １．６７
比較例Ｎｏ１                          ０．９９
比較例Ｎｏ２                          １．０５
比較例Ｎｏ３                          ０．９９
比較例Ｎｏ４                          １．０５
比較例Ｎｏ５                          １．２６
比較例Ｎｏ６                          １．２１
この表−５から、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満の純度が９９．９ｗｔ％以上のアルミニウム箔は、静電容量が大きなことが判る。
【００３８】
これに対して、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満であっても、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満の要件が外れたアルミニウム箔は、比較例１，２が示す通り、静電容量が小さい。
又、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満であっても、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満の要件が外れたアルミニウム箔は、比較例３，４が示す通り、静電容量が小さい。
【００３９】
すなわち、比較例１，２，３，４と実施例との対比から、ＮａとＭｇとの共同作用、特に０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満のＮａと０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満のＭｇとの共同作用により、静電容量が著しく大きなアルミニウム箔が得られることが判る。
又、Ｎａ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満、Ｍｇ含有量が０．１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満であっても、Ｂ含有量が０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満の要件が外れたアルミニウム箔は、比較例５，６が示す通り、静電容量が小さい。
【００４０】
すなわち、０．０１ｐｐｍ以上、１０ｐｐｍ未満のＢにより、より大きな静電容量を持つアルミニウム箔が得られる。
又、表面から深さ１μｍまでの層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度が、各々、深さ１μｍより内部の層におけるＮａの平均濃度、Ｍｇの平均濃度、Ｂの平均濃度より大きい場合の方が、一層大きな静電容量を持つものであった。
【００４１】
【発明の効果】
高い静電容量を持つ電解コンデンサ電極用アルミニウム箔が得られる。