(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル樹脂と色素を含有するプラズマディスプレイパネル用フィルターであって、該ポリエステル樹脂が粘度平均分子量（Ｍｖ）が１００００〜９００００であり、かつガラス転移点（Ｔｇ）が１６０℃以上であり、該色素が、下記一般式（ＩＶ）
【化１】
0004011275.tif 000030
〔式（IV）中、Ｒ7は、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を表し、各々のＲ7は同じであっても異なっていても良い。Ｒ8は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を表し、各々のＲ8は同じであっても異なっていても良い。Ｔは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。〕で表されるピラゾール系スクアリリウム化合物であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項２】
ポリエステル樹脂が、下記一般式（Ｉ）
【化２】
0004011275.tif 000031
（式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5は、各々独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアリール基を表し、Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5が複数存在する場合、各々は同一であっても異なっていても良い。Ｒ2とＲ3は連結してシクロアルキル環を形成しても良い。ｊ、ｋ、及びｌは、各々独立に１〜４の整数を示す。）を構成単位とするポリステル樹脂であることを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【請求項３】
請求項１または２のプラズマディスプレイパネル用フィルターに、さらに紫外線吸収剤を含有する層を積層したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。詳しくは、プラズマディスプレイパネルから放射されるネオン発光を有効に遮断することができるプラズマディスプレイパネル用フィルターに関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、大型の壁掛けテレビをはじめ種々の電子機器の表示パネルとしてプラズマディスプレイパネルが使用され、その需要が増大し、今後もその数は益々増加するものと考えられる。
プラズマディスプレイでは、放電によりキセノンとネオンの混合ガスが励起され真空紫外線を放射し、その真空紫外線励起による赤、青、緑のそれぞれの蛍光体の発光を利用して３原色発光を得ている。その際、ネオン原子が励起された後基底状態に戻る際に６００ｎｍ（５８０〜５９０ｎｍ）付近を中心とするいわゆるネオンオレンジ光を発光する（映像情報メディア学会誌  Vol.51  NO.4  P.459-463  (1997） )。この為、プラズマディスプレイでは、赤色にオレンジ色が混ざり鮮やかな赤色が得られない欠点がある。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明はネオン発光を有効にカットすることができ、かつ、耐熱性、耐光性等の耐久性の良好なプラズマディスプレイパネル用フィルターを提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明等は、種々検討を重ね、スクアリリウム系化合物のバインダー樹脂として特定のポリエステル樹脂を使用することにより上記目的が達成されることを見出した。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下に本発明を詳細に説明する。
本発明は、以下の内容を特徴とする。
１．ポリエステル樹脂と色素を含有するプラズマディスプレイパネル用フィルターであって、該ポリエステル樹脂が粘度平均分子量（Ｍｖ）が１００００〜９００００であり、かつガラス転移点（Ｔｇ）が１６０℃以上であることを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【０００６】
２．ポリエステル系樹脂が、下記一般式（I）
【０００７】
【化６】
0004011275.tif 000002
【０００８】
（式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5は、各々独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアリール基を表し、Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5が複数存在する場合、各々は同一であっても異なっていても良い。Ｒ2とＲ3は連結してシクロアルキル環を形成しても良い。ｊ、ｋ及びｌは、各々独立に１〜４の整数を示す。）
を構成単位とするポリステル樹脂であることを特徴とする前記１に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【０００９】
３．色素が下記一般式（II）
【００１０】
【化７】
0004011275.tif 000003
【００１１】
〔式（II) 中、Ａ、Ｂは、各々独立に、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良い複素環基又は  −ＣＨ＝Ｄ  （Ｄは、置換基を有していても良い複素環基を表す。）を表す。〕で表されるスクアリリウム系化合物であることを特徴とする前記１〜２に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【００１２】
４．スクアリリウム系化合物が下記一般式（III）
【００１３】
【化８】
0004011275.tif 000004
【００１４】
〔式（III) 中、Ｒ6は、ハロゲン原子、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基又は置換基を有していても良いアルケニル基を表し、各々のＲ6は同一であっても異なっていても良い。ｍは１〜４の整数を、ｎは０〜４の整数を表す。〕で表されるスクアリリウム系化合物であることを特徴とする前記３に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【００１５】
５．スクアリリウム系化合物が下記一般式（IV）
【００１６】
【化９】
0004011275.tif 000005
【００１７】
〔式（IV） 中、Ｒ7は、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を表し、各々のＲ7は同じであっても異なっていても良い。Ｒ8は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基又は置換基を有していても良いアリール基を表し、各々のＲ8は同じであっても異なっていても良い。Ｔは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。〕で表されるスクアリリウム系化合物であることを特徴とする前記３に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【００１８】
６．色素が下記一般式（V）
【００１９】
【化１０】
0004011275.tif 000006
【００２０】
（式中、ＭはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＳｎまたはＣｕを表す。
Ｘ1 〜Ｘ10は、それぞれ独立に、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基，アリールオキシ基、ニトロ基、シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表わし、Ｙ1 〜Ｙ8は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、アリールオキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表す。）で表される金属錯体であることを特徴とする前記３に記載のプラズマディスプレイパネル用フィルター。
【００２１】
７．前記１〜６のプラズマディスプレイパネル用フィルターに、さらに紫外線吸収剤を含有する層とを積層したことを特徴とするプラズマディスプレイパネル用フィルター。
本発明では、プラズマディスプレイパネル用フィルターの色素層に、粘度平均分子量（Ｍｖ）が１００００〜９００００であり、かつガラス転移点（Ｔｇ）が１６０℃以上である特定のポリエステル樹脂を用いることが特徴である。
このようなポリエステル樹脂としては、上記物性を満たす限り特に限定はされないが、例えば、下記一般式（Ｉ）を構成単位とする樹脂を用いることが出来る。
【００２２】
【化１１】
0004011275.tif 000007
【００２３】
（式（Ｉ）中、Ｒ1〜Ｒ5は、各々独立に水素原子、置換されていても良いアルキル基または置換されていても良いアリール基を表し、Ｒ1、Ｒ4、Ｒ5が複数存在する場合、各々は同一であっても異なっていても良い。Ｒ2とＲ3は連結してシクロアルキル環を形成しても良い。ｊ、ｋ、及びｌは、各々独立に１〜４の整数を示す。）
一般式（I）のポリエステル樹脂における置換基Ｒ1〜Ｒ2の置換されていても良いアルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｔ−ブチル基等の炭素数１〜８のアルキル基が挙げられ、Ｒ2とＲ3が連結して形成するシクロアルキル環としては、例えば５〜７員環のシクロアルキル環が挙げられ、具体的にはシクロペンチル環、シクロヘキシル環、シクロヘプチル環等が挙げられる。
【００２４】
一般式（I）のポリエステル樹脂における置換基Ｒ1〜Ｒ5の置換されていても良いアリール基としては、フェニル基、トリル基等が挙げられる。
一般式（I）のポリエステル樹脂の代表例としては、下記の構成単位を有する樹脂が使用される。
【００２５】
【化１２】
0004011275.tif 000008
【００２６】
Ｉ−１〜Ｉ−７は、ポリアリレート樹脂とも言われている。  又、Ｉ−１：Ｉ−２＝１：１（モル比）の樹脂は、ポリアクリレート樹脂Ｕ−１００（ユニチカ（株）製）として販売されている。
本発明では、一般式（Ｉ）で表される構成単位のみからなるポリエステル樹脂を単独で用いても良いが、粘度平均分子量とガラス転移点が本願で規定する範囲内であれば、上記の構成単位を有するポリエステル樹脂成分を、お互いに、又は他のポリエステル樹脂成分とを共重合して用いることが出来る。その場合、ポリエステル樹脂中に一般式（Ｉ）の構成単位を５０モル％以上含有していることが好ましい。
【００２７】
共重合したポリエステル樹脂は溶媒に対する溶解性が良好であり、より好適に使用出来る。共重合した好ましい例として、下記の例を挙げることが出来る。
【００２８】
【化１３】
0004011275.tif 000009
【００２９】
上記式Ｉ−８において、Ｕ／Ｖは、１０／９０〜９０／１０（モル比）であるのが好ましい。
また、一般式（Ｉ）で表される構成単位からなるポリエステル系樹脂と、ポリエステル樹脂以外の他の樹脂とを配合して用いても良い。その場合は、一般式（I）の構成単位が、５０重量％以上であるのが好ましい。
【００３０】
本発明で用いるポリエステル樹脂の粘度平均分子量（Ｍｖ）は、１００００〜９００００であり、より好ましくは２００００〜８００００である。また、ガラス転移点（Ｔｇ）は１６０℃以上であり、好ましくは１７０℃以上であるのが望ましい。
本願で用いるポリエステル樹脂の使用量はスクアリリウム系化合物に対して、10〜500 重量倍、好ましくは50〜350 重量倍である。
【００３１】
一般式（I）のポリエステル樹脂は、有機溶媒に対する溶解性が良好で、バインダーとして使用した場合、耐熱性、耐光性等の耐久性の良好なプラズマディスプレイパネル用フィルターが得られる。
これは、一般式（I）のポリエステル樹脂中でスクアリリウム系化合物が安定な共鳴構造で存在すること、一般式（I）のポリエステル樹脂中にスクアリリウム系化合物の劣化を促進する成分が含有されてないか、又は少ないこと、Ｔｇが高く、スクアリリウム系化合物の劣化を促進する水分等のスクアリリウム系化合物含有ポリエステル樹脂層への浸入がし難いこと等により耐熱性、耐光性等の耐久性の向上するものと考えられる。
【００３２】
一般にプラズマディスプレイパネル用フィルターのバインダー樹脂としては、これまでポリエステル樹脂を用いることが知られているが、ポリエステル樹脂は有機溶媒に対する溶解性が良好である反面、耐熱性に劣るなどの問題があり、十分な耐熱性、耐光性のプラズマディスプレイパネル用フィルターは得られなかった。本願発明の特定のポリエステル樹脂を用いることによって、これら全ての性能を満足することがはじめて可能となったのである。
【００３３】
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターでは、前述のポリエステル樹脂を含有する層には、色素を分散または溶解して含有している。そのような色素としては、プラズマディスプレイパネル用フィルターに通常使われる色素であれば、特に限定なく用いることが出来る。
例えば、前述の一般式（ＩＩ）で表されるスクアリリウム系色素が好ましい。一般式（II）において、置換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いアリール基の好ましいアリール基としては、フェニル基、ナフチル基等が挙げられ、置換基を有していても良い複素環基の好ましい複素環としては、ピロール基、ピラゾール基等が挙げられ、これらのうち、フェニル基が特に好ましい。
【００３４】
一般式（II）において、置換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いフェニル基の場合の好ましいスクアリリウム系化合物は、前記一般式（III) で表される。
一般式(III) において、置換基Ｒ6の好ましいものとしては、次の(i) 〜(vii)
のようなものが例示できる。
(i) フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；
(ii)メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ペンタデシル基等の炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基；
(iii) 置換基としてヒドロキシ基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ブトキシカルボニル基等のアルキコキシカルボニル基、アセチルオキシ基カルボニル基、プロピオニルオキシカルボニル基等のアシルオキシカルボニル基、メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ブトキシカルボニルオキシ基等のアルコキシカルボニルオキシ基等を有する前記炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルキル基；
(iv)メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基、デシオキシ基、ウンデシルオキシ基、ドデシルオキシ基、トリデシルオキシ基、ペンタデシルオキシ基等の炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルコキシ基；
(v) 置換基としてメトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基、ペンンチルオキシ基、ヘキシルオキシ基、ヘプチルオキシ基、オクチルオキシ基等の炭素数１〜８のアルコキシ基を有する前記炭素数１〜２０の直鎖もしくは分岐鎖アルコキシ基；
(vi)エテニル基などのアルケニル基；
(vii) 置換基としてメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、デシル基等のアルキル基、フェニル基、４−ヒドロキシフェニル基、４−アルコキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）フェニル基、３，４−ビスアルコキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）フェニル基、３，５−ビスアルコキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）フェニル基、３，４，５−トリスアルコキシ（例えば、炭素数１〜１０のアルコキシ基）フェニル基で置換されたエテニル基等のアルケニル基。
【００３５】
これらのうち、炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基；水酸基もしくはアルコキシカルボニル基で置換された炭素数１〜６の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基；炭素数１〜６のアルコキシ基；または置換基を有するエテニル基が特に好ましい。
置換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いピラゾール基の場合の好ましいスクアリリウム系化合物は、下記一般式（IV) で表される。
【００３６】
【化１４】
0004011275.tif 000010
【００３７】
〔式（IV） 中、Ｒ7は、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いアリール基を表し、Ｒ8は、置換基を有していても良いアルキル基を表し、Ｔは−Ｏ−又は−ＮＨ−を表す。〕
置換基Ａ，Ｂが置換基を有していても良いピロール基の場合の好ましいスクアリリウム系化合物は、下記一般式（VI) で表される。
【００３８】
【化１５】
0004011275.tif 000011
【００３９】
〔式（VI） 中、Ｒ9、Ｒ10  は、置換基を有していても良いアルキル基、又は置換基を有していても良いフェニル基を表し、ｓは０〜３の整数を表す。〕
置換基Ａ，Ｂが−ＣＨ＝Ｄの場合の好ましいスクアリリウム系化合物は、下記一般式（VII) で表される。
【００４０】
【化１６】
0004011275.tif 000012
【００４１】
〔式（VII） 中、Ｒ11は、置換基を有していても良いアルキル基、Ｒ12は、置換基を有していても良いアルキル基、置換基を有していても良いアルコキシ基又はハロゲン原子を表し、Ｚは、−Ｏ−、−Ｓ−又は−ＣＬ2−（Ｌは置換基を有していても良いアルキル基を表す。）を表し、ｔは０〜４の整数を表す。〕
一般式(II)、(III)、(IV)、 (VI)及び(VII)で表されるスクアリリム系化合物は、左右対称である構造である場合が、製造上も容易であり、また色素としても安定であるため好ましい。
【００４２】
一般式(II) 、(III)、(IV)、 (VI)及び(VII)のスクアリリウム系化合物は、例えば、Angew.Chem．77  680-681  (1965) 記載の方法あるいはそれらに準じて製造することが出来る。
即ち、下記一般式（VIII）
【００４３】
【化１７】
0004011275.tif 000013
【００４４】
〔式中、Ｒ6、ｍ、ｎは、前記一般式（III）と同じ。〕で表されるフェノール系化合物２モル、又は下記一般式（IX）
【００４５】
【化１８】
0004011275.tif 000014
【００４６】
〔式中、Ｒ7、Ｒ8及びＴは、一般式(IV)と同じ定義である。〕で表されるピラゾロン系化合物２モル、又は下記一般式（Ｘ）
【００４７】
【化１９】
0004011275.tif 000015
【００４８】
〔式中、Ｒ9、Ｒ10及びｓは、一般式(VI)同じ定義である〕で表されるピロール系化合物２モル、又は下記一般式（ＸI）
【００４９】
【化２０】
0004011275.tif 000016
【００５０】
〔式中、Ｒ11、Ｒ12、Ｚ及びｔは、一般式(VII)と同じ定義である。〕で表される化合物２モルに対し、それぞれ、スクアリック酸１モルをエタノール、酢酸、ｎ−ブチルアルコール−トルエン混合溶媒、ｎ−ブチルアルコール−ベンゼン混合溶媒等の中で、７０〜１５０℃程度に加熱しながら脱水縮合させることにより合成することが出来る。
【００５１】
一般式（III）の代表例を次に示す  。
【００５２】
【化２１】
0004011275.tif 000017
【００５３】
一般式（III）のうち好ましい化学構造例を次に示す。
【００５４】
【化２２】
0004011275.tif 000018
【００５５】
一般式（IV）の代表例を次に示す  。
【００５６】
【化２３】
0004011275.tif 000019
【００５７】
一般式（IV）のうち好ましい化学構造例を次に示す。
【００５８】
【化２４】
0004011275.tif 000020
【００５９】
一般式（VI）の代表例を次に示す  。
【００６０】
【化２５】
0004011275.tif 000021
【００６１】
一般式（VI）のうち好ましい化学構造例を次に示す。
【００６２】
【化２６】
0004011275.tif 000022
【００６３】
一般式（VII）の代表例を次に示す  。
【００６４】
【化２７】
0004011275.tif 000023
【００６５】
一般式（VII）のうち好ましい化学構造例を次に示す。
【００６６】
【化２８】
0004011275.tif 000024
【００６７】
一般式（Ｖ）において、
【００６８】
【化２９】
0004011275.tif 000025
【００６９】
Ｍは、金属元素を表し、好ましくはＮｉ、Ｐｄ、Ｐｔ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｔｉ、ＳｎまたはＣｕを表す。さらに好ましくはＮｉ，Ｐｄ，Ｐｔが用いられる。
Ｘ1〜Ｘ10は、それぞれ、水素原子、ハロゲン原子、アルコキシ基，ニトロ基，シアノ基、置換されていてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基または置換基を有していてもよいアラルキル基を表す。具体的には、水素原子及びフッ素原子，塩素原子，臭素原子，メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基基、ニトロ基，シアノ基，メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基，アリール基、ベンジル基、フェネチル基などのアラキル基が，挙げられ，好ましくは、水素原子及びフッ素原子，塩素原子，臭素原子，メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基、ニトロ基，シアノ基等の電子吸引性基が，挙げられる。
【００７０】
Ｙ1 〜Ｙ8、それぞれ、水素原子、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアリール基、置換基を有していてもよいアラルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアノ基を表わし、好ましくは、水素原子、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルコキシ基、ニトロ基、ハロゲン原子、アミノ基、置換アミノ基またはシアン基を表し、さらに好ましくは、水素原子；メチル基、エチル基、ｉ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基などの炭素数１〜５のアルキル基；アリール基、ベンジル基、フェネチル基などのアラルキル基；メトキシ基、エトキシ基、ｔ−ブトキシ基、ｎ−ブトキシ基などの炭素数１〜５のアルコキシ基；ニトロ基；塩素原子、臭素原子、フッ素原子などのハロゲン原子；アミノ基；ジメチルアミノ基、ジエチルアミノ基、ジフェニルアミノ基などの置換アミノ基；またはシアノ基が挙げられ、特に好ましくは、水素原子が用いられる。
【００７１】
好ましい化合物として具体的には、
【００７２】
【化３０】
0004011275.tif 000026
【００７３】
が、挙げられる。
本発明のフィルターの一般式（II）、(III)、(IV)で表されるスクアリリウム系化合物、又は一般式（Ｖ）で表される金属錯体を含有する層は、フィルムあるいはシート等に成形された透明基板に、一般式（II）、(III)、(IV) で表されるスクアリリウム系化合物、又は一般式（Ｖ）で表される金属錯体を含む塗工液を塗布することにより、容易に製造される。
【００７４】
塗工液は、一般式（II）、(III)、(IV) で表されるスクアリリウム系化合物、又は一般式（Ｖ）で表される金属錯体を式（I）のポリエステル系樹脂と共に有機溶剤に溶解させる方法、又は粒径0.1 〜３μm に微粒化したスクアリリウム系化合物または金属錯体を、必要に応じ分散剤を用い、ポリエステル系樹脂と共に溶剤に分散させる方法により調製される。このとき溶剤に溶解、又は分散される色素、金属錯体、ポリカーボネート樹脂、分散剤等の塗工液に対する含有量は0.5 〜5 0 重量% で、スクアリリウム系化合物、金属錯体、ポリエステル系樹脂、分散剤の中でスクアリリウム系化合物、又は金属錯体が占める割合は0.05〜50重量% 、好ましくは0.1 〜20重量% である。
【００７５】
必要に応じて使用される分散剤としては、ポリビニルブチラール樹脂、フェノキシ樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、石油樹脂、硬化ロジン、ロジンエステル、マレイン化ロジン、ポリウレタン樹脂等が挙げられる。その使用量は、スクアリリウム系化合、又は金属錯体に対して0.5 〜150 重量倍、好ましくは 0.5〜20重量倍である。
【００７６】
一般式（III）のスクアリリウム系化合物は、５９０ｎｍ付近のネオン発光を効率的にカットし、蛍光体の発光色である５００〜５３０ｎｍ付近の緑色発光及び６００ｎｍより長波長の赤色発光はカットしないことが好ましい。この為には、スクアリリウム系色素の透過率曲線はシャープなバレー型（谷型）を有しているほうが良く、スクアリリウム系色素の透過率曲線の最小値における波長は、５７０ｎｍ〜６０５ｎｍが好ましく、５８０〜６００ｎｍがより好ましく、透過率曲線の半値幅は、６０ｎｍ以下が好ましい。又、視野の明るさ  を確保する為、５９０ｎｍ付近の透過率曲線の最小値以外には、スクアリリウム系化合物は、透過率曲線の極小値を有さないことが好ましいが、有したとしても７０％以上、より好ましくは８０％以上であり、可視光透過率は好ましくは４０％以上であり、より好ましくは、５０％以上である。
【００７７】
一般式（IＶ）のスクアリリウム系色素を含有する本発明のフィルターは、青又は緑の蛍光体発光を阻害しないように、４８０〜５２０ｎｍ付近に透過率曲線の最小値を有し、透過率曲線はシャープなバレー型（谷型）を有しているほうが良く、その透過率曲線の半値幅は、６０ｎｍ以下であることが好ましく、透過率曲線の最小値以外には透過率曲線の極小値を有さないことが好ましい。  又、青又は緑の蛍光体発光を阻害しないように４５０ｎｍ、５００ｎｍ、５５０ｎｍの透過率はそれぞれ７０％以上、３０％以上、７０％以上が好ましい。
【００７８】
一般式（Ｖ）の金属錯体は、７００〜９５０ｎｍ付近に吸収を有することから、プラズマディスプレーから放射される近赤外線をカットし、リモコンや伝送系光通信における誤動作を防止することが出来る。
また、本発明では、プラズマディスプレイパネル用フィルターの色素として、下記一般式(XII)で表されるピラゾールメチン系化合物を、単独で、あるいは上記色素と併用して用いることもできる。
【００７９】
【化３１】
0004011275.tif 000027
【００８０】
〔式（ＸII） 中、Ｒ13は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基または置換基を有していても良いアリール基を表し、Ｒ14は、水素原子、置換基を有していても良いアミノ基、置換基を有していてもよいアルキル基、置換基を有していてもよいアルコキシ基、置換基を有していても良いアリール基、置換基を有していても良いアルコキシカルボニル基または置換基を有していても良いアリールオキシカルボニル基を表し、各々のＲ14は同じであっても異なっていても良い。Ｒ15は、水素原子、置換基を有していても良いアルキル基または置換基を有していても良いアリール基を表し、各々のＲ15は同じであっても異なっていても良い。〕
一般式（ＸII）で表されるピラゾールメチン系化合物の好ましい化学構造例を次に示す。
【００８１】
【化３２】
0004011275.tif 000028
【００８２】
上記のピラゾールメチン系化合物を用いることにより、３８０〜４２０ｎｍ近辺の青〜青紫を選択的に効率的に吸収することができ、一方他の波長領域での吸収はほとんどないことからディスプレイ画面の明るさを損なうこともなく、ナチュラルな色調、即ち無色のフィルターを得ることが出来、また蛍光体発光により得られた画面の色調を理想の３原色により近づけることが可能となる。
【００８３】
一般式（ＸII）で表されるピラゾールメチン系化合物で表される色素を含有する本発明の蛍光体発光型フィルターは、青の蛍光体発光を阻害しないように、３８０〜４２０ｎｍ付近に透過率曲線の最小値を有し、透過率曲線はシャープなバレー型（谷型）を有しているほうが良く、その透過率曲線の半値幅は、６０ｎｍ以下であることが好まし。一般式（XII）の置換基Ｒ13のうち、置換基を有していても良いフェニル基が、他の基に比し、前記の半値幅はが小さく好ましい。  又、透過率曲線の最小値以外には透過率曲線の極小値を有さない方が、フィルターの透過率が高くなり好ましく、更に、青又は緑の蛍光体発光を阻害しないように４００ｎｍ、４５０ｎｍの透過率はそれぞれ３０％以上、７０％以上が好ましい。
【００８４】
スクアリリウム系化合物、金属錯体、ピラゾールメチン系化合物などの色素を含む塗工液のコーティングは、ディッピング法、フローコート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコート法等の公知の塗工方法でコーティングされる。このとき膜厚は、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5 〜10μm となるようコーティングされる。
【００８５】
本発明のプラズマディスプレイパネル用のフィルターを構成する透明基板の材質としては、実質的に透明であって、吸収、散乱が大きくない材料であれば特に制限はない。具体的な例としては、ガラス、ポリオレフィン樹脂、非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ( メタ) アクリル酸エステル樹脂、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリ酢酸ビニル、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等を挙げることができる。
【００８６】
これらの中では、特に非晶質ポリオレフィン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリ(メタ) アクリル酸エステル樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルサルホン樹脂等が好ましい。
上記の樹脂には、一般的に公知である添加剤、耐熱老化防止剤、滑剤、帯電防止剤、等や、シアニン系色素、アントラキノン系色素、フタロシアニン系色素、ピロメテン系色素、メチン系色色素、スクアリリウム系色素等、プラズマディスプレイパネル用フィルターとして用いうる色素を配合することができる。
【００８７】
また上記樹脂は、公知の射出成形、T ダイ成形、カレンダー成形、圧縮成形等の方法や、有機溶剤に溶融させてキャスティングする方法などを用い、フィルムまたはシート( 板) に成形される。その厚みとしては、目的に応じて10μm 〜5mm の範囲が望ましい。かかる透明基板を構成する基材は、未延伸でも延伸されていても良い。また、他の基材と積層されていても良い。
【００８８】
更に、該透明基板は、コロナ放電処理、火炎処理、プラズマ処理、グロー放電処理、粗面化処理、薬品処理等の従来公知の方法による表面処理や、アンカーコート剤やプライマー等のコーティングを施しても良い。
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターは、前記一般式(II) 、(III)、(IV)で表わされるスクアリリウム系化合物、一般式（Ｖ）で表される金属錯体又は一般式(XII) で表わされるメチン系化合物をポリエステル系樹脂に直接溶解あるいは分散させて、得られたスクアリリウム系化合物を含有する樹脂を、射出成形、T ダイ成形、カレンダー成形あるいは圧縮成形などの成形技術を用いて成形、フィルム化し、必要に応じて他の透明基板と張り合わせて製造することもできる。
【００８９】
また本発明では、フィルターの耐光性を上げるために酸化防止剤、紫外線吸収剤等を含有する層を設けることが出来る。酸化防止剤としては、フェノール系酸化防止剤及びリン系酸化防止剤等を挙げることが出来る。酸化防止剤を紫外線吸収剤と併用することによりより効果が大となる。紫外線吸収剤によって遮断しきれなかった紫外光によるか、又は可視光線による色素の活性化により生じる系色素のラジカルを酸化防止剤が不活性化することにより、色素の耐光性が向上するものと考えられる。又、酸化防止剤のみでは、強い光が酸化防止剤に当たる結果、酸化防止剤が酸化され、色素の連鎖酸化反応が酸化防止剤の酸化により誘起され、かえって、系色素の耐光性が劣化することがある。
【００９０】
また本発明では、フィルターの耐光性を上げるために色素を含有する層に紫外線吸収剤を含有する透明樹脂層を色素を含有する層に積層することが出来る。
紫外線吸収剤を含有する透明樹脂としては、前記のスクアリリウム系化合物のバインダーとして挙げた樹脂の他、ポリメチルメタクリレート樹脂、ポリエチルアクリレート樹脂等のアクリレート系樹脂、ポリカーボネート樹脂、エチレンービニルアルコール共重合樹脂、エチレンー酢酸ビニル共重合樹脂、ＡＳ樹脂、ポリエステル樹脂、塩酢ビ樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ＰＶＰＡ、ポリスチレン系樹脂、フェノール系樹脂、フェノキシ系樹脂、ポリスルフォン、ナイロン、セルロース系樹脂、酢酸セルロース系樹脂等を使用することが出来る。この場合、特開昭１０−２０４３０４号公報に記載されているようなスクアリリウム系化合物と同じ層内に紫外線吸収剤を含有する方法より、紫外線吸収層を積層する本発明の方法は、スクアリリウム系化合物の耐光性向上効果が遥かに大である。積層方法としては、スクアリリウム系化合物を含有する層に接して積層しても良いし、スクアリリウム系化合物を含有する層を塗布した透明基板のスクアリリウム系化合物を含有する層と反対側に積層しても良い。このとき紫外線吸収剤を含有層の膜厚は、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5 〜10μm となるように積層する。又、紫外線吸収剤含有層を塗布して形成する代わりに、市販の紫外線カットフィルターを積層して使用しても良い。この様なフィルターとしては、シャープカットフィルターＳＣ−３８、ＳＣ−３９、ＳＣ−４０（富士写真フィルム（株）製）等を挙げることが出来る。
【００９１】
紫外線吸収剤としては、有機系紫外線吸収剤と無機系紫外線吸収剤が使用出来る。有機系紫外線吸収剤としては、２−（２’−ヒドロキシ−５’−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２’−ヒドロキシ−３’，５’−ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾール等のベンゾトリアゾール系化合物、２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−オクチルオキシベンゾフェノン等のベンゾフェノン系化合物、フェニルサルシレート、４−ｔ−ブチルフェニルサルシレート、２，５−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ安息香酸ｎ−ヘキサデシルエステル、２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル−３’，５’−ジ−ｔ−ブチル−４’−ヒドロキシベンゾーエート等のヒドロキシベンゾエート系化合物等を挙げることが出来る。無機系紫外線吸収剤としては、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化セリウム、酸化鉄、硫酸バリウム等を挙げることが出来る。  紫外線吸収剤としては、５０％透過率での波長が３５０〜４２０ｎｍが好ましく、より好ましくは３６０ｎｍ〜４００ｎｍであり、３５０ｎｍより低波長では、紫外線遮断能が弱く、４２０ｎｍより高波長では着色が強くなり好ましくない。
【００９２】
本発明のプラズマディスプレイパネル用フィルターは、近赤外線カット層や電磁波カット層を設けたり、表面への蛍光灯などの外光の写り込みを防止する反射防止層、ぎらつき防止( ノングレア) 層を設けることができる。これらの層の膜厚は、それぞれ、0.1 〜30μm 、好ましくは0.5 〜10μm となるように積層する。
【００９３】
近赤外線カット層は、プラズマディスプレーから放射される近赤外線によるリモコンや伝送系光通信における誤動作を防止する目的でディスプレーの前面に設置する。近赤外線光のカット領域は特に問題になる波長としてリモコンや伝送系光通信に、800 〜1000nmであり、その領域に吸収を有する近赤外線吸収物質を使用する。この近赤外線吸収物質しては、一般式（Ｖ）に示す
金属錯体色素の他、ニトロソ化合物及びその金属錯塩、シアニン系化合物、ジチオールニッケル錯塩系化合物、アミノチオールニッケル錯塩系化合物、フタロシアニン系化合物、トリアリルメタン系化合物、イモニウム系化合物、ジイモニウム系化合物、ナフトキノン系化合物、アントラキノン系化合物、アミノ化合物、アミニウム塩系化合物の近赤外線吸収色素、あるいは、カーボンブラックや、酸化インジウムスズ、酸化アンチモンスズなどの近赤外線吸収化合物を、単独又は組み合わせて使うことができる。
【００９４】
電磁波カット層は、金属酸化物等の蒸着あるいはスパッタリング方法等が利用できる。通常は酸化インジウムスズ(ITO) が一般的であるが、誘電体層と金属層を基材上に交互にスパッタリング等で積層させることで1000nm以上の光をカットすることもできる。誘電体層としては酸化インジウム、酸化亜鉛などの透明な金属酸化物等であり、金属層としては銀あるいは銀- パラジウム合金が一般的であり、通常、誘電体層よりはじまり3 層、5 層、7 層あるいは11層程度積層する。基材は、該フィルターをそのまま利用しても良いし、樹脂フィルムあるいはガラス上に蒸着あるいはスパッタリング後に、該フィルターと貼り合わせても良い。
【００９５】
反射防止層は、表面の反射を抑えてフィルターの透過率を向上させるために、金属酸化物、フッ化物、ケイ化物、ホウ化物、炭化物、至化物、硫化物等の無機物を、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレ−ティング法、イオンビームアシスト法等で単層あるいは多層に積層させる方法、アクリル樹脂、フッ素樹脂などの屈折率の異なる樹脂を単層あるいは多層に積層させる方法等がある。また、反射防止処理を施したフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。
【００９６】
また、ぎらつき防止層（ノングレア層）も設けることもできる。ノングレア層は、フィルターの視野角を広げる目的で、透過光を散乱させるために、シリカ、メラミン、アクリル等の徴粉体をインキ化して、表面にコーティングする方法などを用いることができる。インキの硬化は、熱硬化あるいは光硬化を用いることができる。また、ノングレア処理をしたフィルムを該フィルター上に貼り付けることもできる。更に必要であればハードコート層を設けることもできる。
【００９７】
本発明のプラズマディスプレイ用フィルターには最外層に粘着剤層を設けても良い。この粘着剤層によりプラズマディスプレイの製造工程の途中、またはプラズマディスプレイの製造後、プラズマディスプレイの前面にこのフィルターを貼着することにより、ネオン発光を効率的にカットでき、かつ耐光性にも優れたプラズマディスプレイパネル表示装置を得ることができる。
【００９８】
このようにすることにより、プラズマディスプレイ自体の前面に順番に近赤外線吸収層、電磁波シールド層や他の層を設ける必要がなくなり、またフィルターがプラズマディスプレイと一体形成されるので、プラズマディスプレイの薄肉化が可能となる。
粘着剤層を構成する粘着剤としては、スチレンブタジエンラバー、ポリイソブチレン、天然ゴム、ネオプレン、ブチルゴム等のゴム類やポリアクリル酸メチル、ボリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のポリアクリル酸アルキルエステル等の低重合度ポリマ- 単独もしくはこれらに粘着付与剤としてピッコライト、ポリベール、ロジンエステル等を添加したもの等が挙げられる。
【００９９】
プラズマディスプレイにフィルターを貼着時、プラズマディスプレイの表面とフィルターとの間に気泡が入ると画像が歪んだり、見にくくなったりする等、実用上の大きな問題となるので気泡の巻き込みには十分に注意する必要がある。
また、プラズマディスプレイ自体、その表面が高温になるので、加熱によりガスが発生するような粘着剤は避けるべきである。
【０１００】
ガスの発生が考えられる場合には吸収剤等の添加を考慮するのがよい。このような理由から、3mm のガラス板に30μm のポリエステルフィルムを、3 0 μm の粘着剤で貼り合わせ、8 0 ℃で10日間保持後における１８０度剥離強度が300g/cm 以上、好ましくは400g/cm 以上の粘着剤を用いるのが望ましい。
具体的には、ポリアクリル酸アルキルエステル系等のポリマー系粘着剤、又はスチレンブタジエンラバー、天然ゴム等のゴム系粘着剤を、ハロゲン系、アルコール系、ケトン系、エステル系、エ- テル系、脂肪族炭化水素系、芳香族炭化水素系等の有機溶剤を単独又は複数混合した溶剤系に分散又は溶解して粘度を調整したものをディッピング法、フロ- コート法、スプレー法、バーコート法、グラビアコート法、ロールコート法、プレードコート法及びエアーナイフコ- ト法等の塗工方法で塗工し、その後溶剤を乾燥させ、粘着剤層とする。
【０１０１】
この際の粘着剤層の厚みは、通常、5 〜100 μm 、好ましくは10〜50μm である。粘着剤層の表面に剥離フィルムを設け、粘着剤層にゴミ等が付着しないように、プラズマディスプレイの表面に張り付けるまで粘着剤層を保護するのも良い。
この場合、フィルターの縁綾部の粘着剤層と剥離フィルムとの間に、粘着剤層を設けない部分を形成したり、非粘着性のフィルムを挟む等して非粘着部分を形成し、剥離開始部とすれば貼着時の作業がやりやすい。
【０１０２】
更に、このプラズマディスプレイパネル用フィルターは単独はもちろん透明のガラスや他の透明樹脂板等と貼り合わせた積層体として用いることができる。
本願のプラズマディスプレイパネル用フィルターを用いて、プラズマディスプレイパネル表示装置を得るには、プラズマディスプレイパネル表示装置として、公知の表示装置あるいは市販品であれば特に限定なく用いることができる。
【０１０３】
そのようなプラズマディスプレイパネル表示装置とは、次のような原理によってカラー画像の表示を行う装置である。前面ガラス板と背面ガラス板との間に表示電極対と、２枚のガラス板の間に設けた各画素（Ｒ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青））に対応するセルを設け、セルの中にキセノンガスやネオンガスを封入し、一方セル内の背面ガラス板側に各画素に対応する蛍光体を塗布しておく。表示電極間の放電によって、セル中のキセノンガスおよびネオンガスの励起発光し、紫外線が発生する。そしてこの紫外線を蛍光体に照射することによって、各画素に対応する可視光が発生する。そして、背面ガラス板にアドレス用電極を設け、このアドレス用電極に信号を印加することにより、どの放電セルを表示するかを制御し、カラー画像の表示を行うものである。
【０１０４】
【実施例】
以下に、実施例により本発明の実施態様を説明するが、本発明は以下の実施例に限定されるものではない。
製造例１（ポリエステル樹脂Ａの製造）
ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルフェノール（０．１４ｇ）、ベンジルトリエチルアンモニウムクロライド（０．０６３２ｇ）および２，２−ビス（４−ヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）メタン［テトラメチルビスフェノールＦ］（１２．６８ｇ）を水酸化ナトリウム水溶液に溶解した。
【０１０５】
この水酸化ナトリウム水溶液を反応槽に移し、重合槽の外温を２０℃に保ちながら、イソフタル酸クロライド（５．１３ｇ）、テレフタル酸クロライド（５．１３ｇ）のジクロロメタン溶液を滴下した。
反応槽内のアルカリ水溶液を撹拌しながら、５．５時間撹拌を続けて、ポリエステル樹脂Ａを得た。ポリエステル樹脂Ａは、前記一般式（Ｉ−８）において、Ｕ＝Ｖ＝５０である構造であり、Ｍｖ＝３５０００、Ｔｇ＝２１３℃である。
【０１０６】
実施例１−１
ポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製PET フィルム「T １００E 」、厚み１００μm ）に、一般式（III）において、ｎ＝０、ｍ＝３（置換位置は２、４、６位）のスクアリリウム系化合物（III-1）の０．６３％ＤＭＥ（ジメトキシエタン）溶液０．３６ｇ、前記製造例１で得られたポリエステル樹脂Ａの１０％溶液（ＤＭＥ／ジオキサン＝１／１(vol比)）３ｇを混合溶解し、バーコーター（NO.24）で塗工し、乾燥して、膜厚３μm のコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【０１０７】
このフィルターの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は５７６ｎｍ、スペクトルの半値幅は４６．８ｎｍで透過率は、９．４４％であった。５７６ｎｍの最小値の他には、透過率の極小値はなく、透過率の良好なフィルターが得られた。
【０１０８】
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９６．５％であり、非常に良好な耐熱性を示した。
【０１０９】
比較例１―１
実施例１のポリエステル樹脂Ａの２０％ＤＭＥ溶液３ｇの代わりに、ポリエステル樹脂（バイロン２００,  Tg=６７℃；東洋紡（株）製）の１０％ジメトキシエタン溶液３ｇを使用し、他は、同様にして処理して膜厚３μm、透過率の最小値における波長が５７６ｎｍのコーティング膜を得た。
【０１１０】
このコーティング膜の１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、８３．７％であり、耐熱性が劣っていた。
実施例１−２
実施例１−１のコーティングフィルムのスクアリリウム系化合物含有層面と反対側のポリエテレンテレフタレート樹脂面上に、２−（２' −ヒドロキシ−３' ，５' −ジ−ｔ−ブチルフェニル）ベンゾトリアゾールの０．６３％シクロヘキサノン溶液０．３６ｇ、ポリエテレンテレフタレート樹脂（バイロン２００；東洋紡（株）製）の２０％シクロヘキサノン溶液３ｇを混合し、バーコーターで塗工し、乾燥して、膜厚６μm のコーティング膜を得た（紫外線吸収層積層膜）。この紫外線吸収層の５０％透過率での波長は３９０ｎｍであった。
【０１１１】
キセノンフェードメーター（スガ試験機（株）製  FAL-25AX-HC.B.EC）で上記のネオン発光カットフィルターの耐光性の評価を紫外線吸収層面より露光して行った（２８０Ｈｒ露光）。日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、７６．２％であり、良好な耐光性を示した。
実施例２
実施例１−１で用いたスクアリリウム系化合物（III-1）の０．６３％ジメトキシエタン溶液０．３６ｇの代わりに、一般式（III）においてＲ＝ｎ−プロピル基、ｎ＝１（置換位置  ３位）、ｍ＝２（置換位置  ２、４位）のスクアリリウム系化合物（III-5）の０．６３％ＤＭＥ（ジメトキシエタン）溶液０．３６ｇを使用し、他は同様に処理して膜厚６μm のコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【０１１２】
このフィルターの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は５８５ｎｍ、スペクトルの半値幅は５６．４ｎｍで透過率は、２６．０５％であった。５８５ｎｍの最小値の他には、透過率の極小値はなく、透過率の良好なフィルターが得られた。
【０１１３】
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９５．０％であり、良好な耐熱性を示した。
【０１１４】
比較例２
実施例２で用いたポリエステル樹脂の２０％ＤＭＥ溶液３ｇの代わりに、ポリエステル樹脂（ＵＥ−３６９０,  Tg=９０℃；ユニチカ（株）製）の１０％ジメトキシエタン溶液３ｇを使用した他は、同様にして処理して膜厚３μm、透過率の最小値における波長が５８５ｎｍのコーティング膜を得た。
【０１１５】
このコーティング膜の１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、５０．４％であり、耐熱性が劣っていた。
実施例３
実施例２で用いたスクアリリウム系化合物（III-5）の０．６３％ＤＭＥ（ジメトキシエタン）溶液０．３６ｇの代わりに、一般式（IV）において、Ｒ３＝メチル基、Ｒ４＝ｎ−プロピル基、Ｘ＝Ｏであるスクアリリウム系化合物（IV-3）の０．２５％ジメトキシエタン溶液０．３６ｇを使用し、他は同様に処理して膜厚３μm のコーティング層を有するネオン発光カットフィルターを得た。
【０１１６】
このフィルターの透過率を日立分光光度計（Ｕ−３５００）で測定した。透過率の最小値における波長は４９９ｎｍ、スペクトルの半値幅は４４．０ｎｍで透過率は、３４．５５％であった。４９９ｎｍの最小値の他には、透過率の極小値はなく、透過率の良好なフィルターが得られた。
【０１１７】
上記のネオン発光カットフィルターを１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９７．４％であり、良好な耐熱性を示した。
【０１１８】
比較例３
実施例３で用いたポリエステル樹脂Ａの１０％ＤＭＥ溶液３ｇの代わりに、ポリエステル樹脂（バイロン２００,  Tg=６７℃；東洋紡（株）製）の１０％ジメトキシエタン溶液３ｇを使用し、他は、同様にして処理して膜厚３μm、透過率の最小値における波長が５００ｎｍのコーティング膜を得た。
【０１１９】
このコーティング膜の１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、６２．１％であり、耐熱性が劣っていた。
実施例４
下式（Ｖ−１）に示す近赤外線吸収色素の５．０％ＴＨＦ（テトラヒドロフラン）溶液０．１ｇ、実施例１で使用したポリエステル樹脂Ａの１０．０％溶液（ＤＭＥ／ジオキサン＝１／１(vol比)）４．５ｇを混合溶解し、バーコーター（NO.24）でポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製PET フィルム「T １００E 」、厚み１００μm ）に塗工し、乾燥して、近赤外線吸収フィルターを得た。
【０１２０】
【化３３】
0004011275.tif 000029
【０１２１】
このフィルムの近赤外吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８４６ｎｍであった。
このフィルムを、１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、９２．２％であり、良好な耐熱性を示した。
【０１２２】
比較例４
上記式（Ｖ−１）に示す近赤外線吸収色素の５重量％ＴＨＦ溶液０．０６ｇに、ポリメチルメタクリレート樹脂（商品名；ダイヤナールＢＲ−８０：三菱レイヨン株式会社製品）のＴＨＦ／トルエン（＝１／１）溶液（樹脂濃度２０重量％）を１．５ｇ添加し、超音波洗浄機にて、完全に溶解させた後、この塗工液を、バーコータ＃２４でポリエチレンテレフタレート製フィルム（三菱化学ポリエステルフィルム社製PET フィルム「T １００E 」、厚み１００μm ）に塗工し、乾燥することにより、近赤外線吸収フィルムを得た。
【０１２３】
このフィルムの近赤外線吸収を、日立分光光度計Ｕ−３５００で測定したところ、λｍａｘは、８３５ｎｍであった。
このコーティング膜の１００℃の恒温槽に１００時間入れて耐熱性の試験を行い、日立分光光度計（Ｕ−３５００）の吸光度で色素残存率（％）を測定した所、８３．８％であり、耐熱性が劣っていた。
【０１２４】
【発明の効果】
本発明の、一般式（Ｉ) で示されるポリエステル樹脂及び色素含有層を有するプラズマディスプレイパネル用フィルターは、耐熱性、耐光性等の耐久性に優れている。