(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記：
所定の高さを有しかつ底部に多孔質ディスクを有する反応容器を選定する工程；
該反応容器に燐光体粒子を投入し、不活性ガスを該容器の中に該多孔質ディスクを通して導入することによって該粒子を流動化させる工程；
該反応容器を加熱して反応温度にする工程；
コーティング前駆物質を該反応容器の中に該容器の該底部に近隣するが該ディスクよりも上の位置に導入する工程；
共反応物質を該反応容器の中に該所定の高さの実質的に中ほどの位置に導入する工程；並びに
該不活性ガス流れ、該前駆物質流れ及び該共反応物質流れを、反応が起きかつ該燐光体に該防湿性のコーティングを被覆する程の時間保つ工程
を含む硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐光体の粒子であってそれらの上に防湿性コーティングを有する粒子を製造する方法。
【請求項２】
前記防湿性コーティングがアルミニウムニトリドアミンである請求項１の方法。
【請求項３】
前記コーティング前駆物質がヘキサキス（ジメチルアミド）ジアルミニウムである請求項１の方法。
【請求項４】
前記共反応物質が無水アンモニアである請求項３の方法。
【請求項５】
前記反応温度が１５０°〜２２５℃である請求項４の方法。
【請求項６】
下記：
所定の高さを有しかつ底部に多孔質ディスクを有する反応容器；
該容器内への燐光体粒子の供給；
該容器に該多孔質ディスクを通して入る該粒子を流動化させるための不活性ガスの第一供給；
該反応容器を加熱して反応温度にするための該反応容器を囲む加熱器；
コーティング前駆物質の供給；
該反応容器に該容器の底部の該多孔質ディスクよりも上の位置に入る、該コーティング前駆物質を該供給から該反応容器に案内するための第一手段；
共反応物質の供給；及び
該反応容器に該所定の高さの実質的に中ほどの位置に入る、該共反応物質を該供給から該反応容器に案内するための第二手段
を含む硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐光体であってその上に防湿性コーティングを有するものを商業量で製造する装置。
【請求項７】
前記反応容器が直径１５〜３０ｃｍ（６〜１２インチ）を有する請求項６の装置。
【請求項８】
前記反応容器がステンレスチールである請求項７の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐光体に関し、一層特にそのような燐光体に水分抑制性のコーティングを被覆するための方法及び装置に関する。
【０００２】
なお一層特に、本発明は、そのような燐光体を商業量で製造するための方法及び装置に関する。
【０００３】
【従来の技術】
米国特許第６，０６４，１５０号から、エレクトロルミネセンス燐光体粒子上のアルミニウムニトリド又はアルミニウムニトリドアミンのコーティングは、良好な寿命特性を有するエレクトロルミネセント光源を製造するのを可能にすることが知られている。また、そのような燐光体に金属酸化物ヒドロキシドを被覆することも知られている。
【０００４】
そのようなコーティングを燐光体物質の大きなバッチに適用することができるならば、当分野における進歩になろう。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
従って、本発明の目的は、従来技術の不利を無くすことにある。
発明の別の目的は、被覆されたエレクトロルミネセンス燐光体を商業量で製造することを増進することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
発明の開示
発明の一態様では、これらの目的は、所定の高さを有しかつ底部に多孔質ディスクを有する反応容器を選定する工程；反応容器に燐光体粒子を投入し、不活性ガスを容器の中に多孔質ディスクを通して導入することによって粒子を流動化させる工程；反応容器を加熱して反応温度にする工程；コーティング前駆物質を反応容器の中に容器の底部に近隣するがディスクよりも上の位置に導入する工程；共反応物質を反応容器の中に所定の高さの実質的に中ほどの位置に導入する工程；並びに不活性ガス流れ、前駆物質流れ及び共反応物質流れを、反応が起きかつ燐光体に防湿性のコーティングを被覆する程の時間保つ工程を含む硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐光体の粒子であってそれらの上に防湿性コーティングを有する粒子を製造するプロセスによって達成される。
【０００７】
硫化亜鉛ベースのエレクトロルミネセンス燐光体であってその上に防湿性コーティングを有するものを商業量で製造する装置は、所定の高さを有しかつ底部に多孔質ディスクを有する反応容器；容器内への燐光体粒子の供給；容器に多孔質ディスクを通して入る粒子を流動化させるための不活性ガスの第一供給；反応容器を加熱して反応温度にするための反応容器を囲む加熱器；コーティング前駆物質の供給；反応容器に容器の底部の多孔質ディスクよりも上の位置に入る、コーティング前駆物質を供給から反応容器に案内するための第一手段；共反応物質の供給；及び反応容器に所定の高さの実質的に中ほどの位置に入る、共反応物質を供給から反応容器に案内するための第二手段を含む。
【０００８】
この方法及び装置は、被覆されたエレクトロルミネセンス燐光体をかなり多量に製造することを可能にする。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明を、発明のその他の及びそれ以上の目的、利点並びに能力と共に一層良く理解するために、下記の開示及び特許請求の範囲の記載を添付図と共に参照する。
【００１０】
今、図面を一層詳細に参照すると、図に、直径が６インチ（１５ｃｍ）よりも大きく、高さが約６フィート（１．８ｍ）でありかつ容量が５０キログラムよりも大きい、ステンレスチールで形成されるのが好ましい反応容器１０ａを示す。好適な実施態様では、容器１０ａは、直径が１０〜１２インチ（２５〜３０ｃｍ）であり、高さが６フィート（１．８ｍ）でありかつ容量が１５０キログラムよりも大きい。実際上、容量は、３００キログラムよりも大きくなるのが可能である。容器１０ａは、反応容器１０ａをコーティング温度１５０°〜２２５℃にもたらすことができる適した加熱器３０ａで囲まれる。コーティング前駆物質は、ヘキサキス（ジメチルアミド）ジアルミニウムにすることができ、該前駆物質を供給２０ａから供給２２ａからの窒素に同伴させた後に、チューブ３２を通して容器１０ａの中に供給する。チューブ３２の容器１０ａの中への入口は、多孔質ディスク１０ａよりも約１．０ｃｍ高い点にある。チューブ３２は、容器１０ａ内で狭いチップを有し、チップは反応容器の中央に配置する。
【００１１】
共反応物質は、希無水アンモニアにすることができ、共反応物質を供給２４ａからチューブ３３を経て反応容器１０ａの高さの実質的に中ほどの点の側部の中に供給する。チューブ３３は、狭い開口スリットを有し、該スリットを容器１０ａの中央に配置する。共反応物質は、ユニット質量制御器２６ａを通過した後に、容器１０ａに入ることができる。希釈は、精製された窒素を加えることによって達成することができる。
【００１２】
燐光体粒子１６を流動化させるための、窒素のような不活性ガス１８ａの供給を供する。不活性ガスを、反応容器１０ａの底部から多孔質ディスク１２ａを通して供給し、こうして粒子の良好な流動化を確実にする。
【００１３】
このプロセス及び装置は、上に挙げたヘキサキス（ジメチルアミド）ジアルミニウムのような前駆物質を反応容器の中に多孔質ディスク１２ａを通して投入した従来の技術の問題を解決する。前駆物質の相対的に極度に高い反応性は、ディスク１２ａの細孔内でニトリド被覆反応を起きさせ、直ぐにディスク内の孔を閉塞して所望の反応を停止させることが分かった。これは、反応容器の温度が１５０°〜２２５℃と高いことにより、更に一層急速に行われる。
【００１４】
前駆物質を反応容器の多孔質ディスクよりも上に投入することにより、被覆問題が除かれる。また、従来技術が実施したようにニトリド前駆物質を反応容器の上部から供給する代わりに側部から供給することによって、前駆物質が高温の容器内部で曝される時間は一層短くなる。加えて、この反応容器デザインは、トリメチルアルミニウムと酸素及びオゾンとの反応のようなその他のコーティングプロセスに関して利用することができる。酸素−オゾン混合物を容器の上部から供給する代わりに側部から供給すると、容器内の非常に反応性のオゾンの寿命を伸ばし、一層大きなコーティング可能性を可能にする。
【００１５】
現時点で発明の好適な実施態様と考えられるものを示しかつ記載したが、種々の変更及び変更態様を、特許請求の範囲に記載する通りの発明の範囲から逸脱しないでなすことができることは、当業者にとり明らかであると思う。
【図面の簡単な説明】
【図１】発明の装置の図式化した図である。
【符号の説明】
１０ａ  反応容器
１２ａ  多孔質ディスク
１６  燐光体粒子
２６ａ  ユニット質量制御器
３０ａ  加熱器
３２  チューブ
３３  チューブ
【図１】
0003887226.tif 000002