(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記式（Ｉ）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノール
【化１】
0003941338.tif 000008
【請求項２】
下記式（II）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸を還元することを特徴とする６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。
【化２】
0003941338.tif 000009
【請求項３】
還元剤としてボラン類を用いる請求項２に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。
【請求項４】
還元反応を下記一般式（III）、（IV）、（Ｖ）又は（VI）で表されるホウ酸エステル類の存在下で行う請求項３に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。
【化３】
0003941338.tif 000010
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して、アルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表す）
【化４】
0003941338.tif 000011
（式中、Ｒ4はアルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ′は置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルキレン基を表す）
【化５】
0003941338.tif 000012
（式中、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、アルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表す）
【化６】
0003941338.tif 000013
（式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、Ｒ10は水素原子又はアルキル基を表し、Ｘは炭素原子、窒素原子又はホウ素原子を表す。また、ａ，ｂ，ｃ及びｄは０又は１である）
【請求項５】
ホウ酸エステル類がトリメチルホウ酸エステル又はトリエチルホウ酸エステルである請求項４に記載の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。
【請求項６】
式（II）の化合物を水素化アルミニウム錯化合物により還元することを特徴とする６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、新規な６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノール（以下、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールということがある）及びその製造方法に関する。本発明の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールは新規化合物であり、香料、樹脂、農薬及び医薬等の合成原料として期待され、例えば、血糖及び血中脂質低下作用を有し、糖尿病及び高脂血症の予防・治療薬として有用なナフチルメチルチアゾリジンジオン誘導体（特開平１０−１３９７６８号公報）の合成原料として有用である。
【０００２】
【従来の技術】
メチル基、ヒドロキシメチル基、クロロ基等を置換基として有するナフチルカルビノールの核置換体の製造方法としては、例えば相当するクロロメチル化合物を加水分解する方法、相当するナフタレンジカルボン酸無水物又はジエステルを金属水素化物により還元する方法等が知られている。
置換基が水産基の場合、例えば２−ヒドロキシ−１−ナフチルカルビノール等については公知であるが、本発明の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールについては、これ迄知られていない新規物質である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法としては、前者のクロロメチル化合物の加水分解による方法は原料面から好ましい方法とは言えず、また後者の金属水素化物を用いる方法については、この方法を６−ヒドロキシナフタレンカルボン酸に適用した例はこれ迄知られていない。
本発明は、６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノール及びこの化合物を従来法より簡便に、効率良く且つ経済的に製造する方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【問題を解決するための手段】
本発明者は、かかる事情に鑑み鋭意検討した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸をボラン類により還元することにより新規化合物である６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールが高収率且つ高選択率で得られること、しかも、この還元をホウ酸エステル類の存在下で行うことにより、微量ではあるが、数多い副生物を大幅に減らすことができ、高純度の目的物が高収率で得られることを見い出し、本発明を完成するに至った。
【０００５】
即ち、本発明の要旨は、
１．下記式（Ｉ）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノール
【０００６】
【化７】
0003941338.tif 000002
【０００７】
２．下記式（II）で表される６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸を還元することを特徴とする６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールの製造方法
【０００８】
【化８】
0003941338.tif 000003
、にある。
【０００９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明の式（Ｉ）の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールは、新規化合物であるが、式（II）の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸を還元することにより製造することができる。還元剤としては、特に制限されないが、通常ボラン類或いは水素化アルミニウム錯化合物等が用いられる。
原料の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸は、例えば、β−ナフトールのカリウム塩を高温、加圧下に二酸化炭素と反応させるところの、いわゆるコルベ−シュミット反応により、カルボキシル化した後、異性化することにより得られる。なお、この化合物は液晶ポリマーの合成原料として商業生産されているので容易に入手することができる。
【００１０】
本発明で還元剤として用いられるボラン類の具体例として、例えばジボラン、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体、ボラン−１，４−オキサチアン錯体、ボラン−ジメチルアニリン錯体、ボランージエチルアニリン錯体、ボラン−４−フェニルモルホリン錯体、カテコールボラン、テキシルボラン、ジシアミルボラン、９−ボラビシクロ〔３．３．１〕ノナンのようなアルキルボラン等が挙げられる。これらの中、ボラン−テトラヒドロフラン錯体、ボラン−ジメチルスルフィド錯体、ボラン−ジエチルアニリン錯体が好ましい。ボラン−テトラヒドロフラン錯体は目的の６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを高収率で与え、特に好ましい。
なお、これらのボラン類は組み合わせて用いてもよい。
【００１１】
ボラン類は、市販のものをそのまま使用することも可能であるが、水素化ホウ素化合物を用い系内で発生させ使用しても何ら差し支えない。例えば、ボラン−テトラヒドロフラン錯体は、テトラヒドロフラン溶媒中、水素化ホウ素化合物とジメチル硫酸或いは三フッ化ホウ素とを反応することにより容易に調製可能である。水素化ホウ素化合物としては、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウム、水素化ホウ素亜鉛、水素化ホウ素マグネシウム、水素化ホウ素カリウム、水素化ホウ素ベリリウム、水酸化ホウ素バリウム等を用いることができるが、主として経済的な見地から、水素化ホウ素ナトリウム、水素化ホウ素リチウム、水素化ホウ素カルシウム等が好ましい。
【００１２】
ボラン類は、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸に対して、ボラン換算で通常１〜８モル倍程度、好ましくは、１．３〜４モル倍程度使用される。１モル倍以下の場合、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応は未完結であり、また、８モル倍以上の場合、主として経済的な見地から好ましくない。また、水素化アルミニウム錯化合物としては、水素化アルミニウムリチウム、水素化ジエトキシアルミニウムリチウム、水素化トリ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルミニウムリチウム、水素化ジイソブチルアルミニウム、水素化ビス（２−メトキシエトキシ）アルミニウムナトリウム、等が挙げられる。
【００１３】
６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸をボラン類により還元する場合、原料の一部が酸無水物、エーテル、エステル等の形に変化し、またフリーデルクラフツ反応により微量ではあるが、多数の二量化物及び三量化物が生成する副反応が起こる。
反応生成物からこれらの副生物を除いて、高純度の自的生成物を得るには、多くの繁雑な精製工程が必要となり、しかもかかる精製操作によってもなお除去することができない副生物が残存し、また精製過程における収率の減少という問題がある。
【００１４】
本発明者らの検討結果によれば、このような副生物を減らすには、ボラン類による還元の際に、ホウ酸エステル類を共存させることが好ましい。
共存させるホウ酸エステル類については、特に限定されるものではないが、式（III）、（IV）、（Ｖ）又は（VI）で表される化合物を用いるのが好ましい。
【００１５】
【化９】
0003941338.tif 000004
【００１６】
（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は、それぞれ独立して、アルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表す）
【００１７】
式（III）において、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がアルキル基である場合、アルキル基については直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またその炭素数については特に限定されるものではないが、通常１〜２０、好ましくは１〜１６である。このようなアルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、２，２，２−トリフルオロエチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、ヘキサデシル基、シクロヘキシル基、２−シクロヘキシルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００１８】
また、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がアラルキル基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常７〜２０、好ましくは７〜１６であり、アリール基は置換基を有していてもよい。このようなアラルキル基の具体例としては、例えばベンジル基、２−フェニルシクロヘキシル基等が挙げられる。
【００１９】
また、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がヘテロ原子含有アルキル基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常１〜２０、好ましくは１〜１６であり、またヘテロ原子としては、酸素原子及び窒素原子が好ましい。このようなヘテロ原子含有アルキル基の具体例としては、例えば２−メトキシエチル基、２−ジメチルアミノエチル基等が挙げられる。
【００２０】
また、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3がアリール基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常６〜２０、好ましくは６〜１６であり、置換基を有していてもよい。このようなアリール基の具体例としては、例えばフェニル基、トリル基、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニル基、クロロフェニル基、等が挙げられる。
【００２１】
そして、このような式（III）の化合物の具体例としては、例えばトリメチルホウ酸エステル、トリエチルホウ酸エステル、トリス（２，２，２−トリフルオロエチル）ホウ酸エステル、トリプロピルホウ酸エステル、トリイソプロピルホウ酸エステル、トリブチルホウ酸エステル、トリｔ−ブチルホウ酸エステル、トリ−ｎ−アルミホウ酸エステル、トリヘキシルホウ酸エステル、トリシクロヘキシルホウ酸エステル、トリス（１−イソプロピル−２−メチルプロピル）ホウ酸エステル、トリス（３，３，５−トリルメチルヘキシル）ホウ酸エステル、トリス（１−イソブチル−３−メチルブチル）ホウ酸エステル、トリス（デシル）ホウ酸エステル、ホウ酸トリ−ｎ−ヘキサデシルエステル、ホウ酸トリ−ｎ−オクタデシルエステル、トリ−ｎ−オクチルホウ酸エステル、トリ−２−オクチルホウ酸エステル、トリ−ＤＬ−メンチルホウ酸エステル、トリ−２−フェニルシクロヘキシルホウ酸エステル、トリアミルメチルホウ酸エステル、２，６−ジ−ｔ−ブチルフェニルジブチルホウ酸エステル、トリス（２−エチルヘキシル）ホウ酸エステル、トリス（２−シクロヘキシルシクロヘキシル）ホウ酸エステル、トリベンジルホウ酸エステル、ジメチルモノエチルホウ酸エステル、ジメチルモノフェニルホウ酸エステル、モノメチルジエチルホウ酸エステル、トリフェニルホウ酸エステル、トリス（４−クロロフェニル）ホウ酸エステル、トリス（２−メチルフェニル）ホウ酸エステル等が挙げられる。
【００２２】
【化１０】
0003941338.tif 000005
【００２３】
（式中、Ｒ4はアルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表し、Ｒ′は置換基を有していてもよい炭素数２〜１０のアルキレン基を表す）
【００２４】
式（IV）において、Ｒ4がアルキル基である場合、アルキル基については直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またその炭素数については特に限定されるものではないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２である。このようなアルキル基の具体例としては、例えばメチル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、等が挙げられる。
【００２５】
また、Ｒ4がアラルキル基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常７〜２０、好ましくは７〜１６であり、アリール基は置換基を有していてもよい。
【００２６】
また、Ｒ4がヘテロ原子含有アルキル基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２であり、またヘテロ原子としては酸素原子、窒素原子及びホウ素原子が好ましい。このようなヘテロ原子含有アルキル基の具体例としては、例えばジメチルアミノエチル基、２，４−ジメチル−４−（４，４，６−トリメチル−１，３，２−ジオキサボリナノ）ペンチル基、等が挙げられる。
【００２７】
また、Ｒ4がアリール基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常６〜２０、好ましくは６〜１６であり、置換基を有していてもよい。
【００２８】
また、Ｒ′は置換基を有していてもよい炭素数２〜１６、好ましくは２〜１２のアルキレン基であり、その具体例としては、例えばエチレン基、１，１，２，２−テトラエチレン基、１−メチルトリメチレン基、１，１，３−トリメチルトリメチレン基、等が挙げられる。
【００２９】
そして、このような式（IV）の化合物の具体例としては、例えば２−（２−ジメチルアミノエトキシ）−４−メチル−１，３，２−ジオキサボリナン、２，２′−（２−メチル−２，４−ペンタンジルジオキシ）ビス（４，４，６−トリメチル−１，３，２−ジオキサボリナン、２−ブトキシ−４，４，６−トリメチル−１，３，２−ジオキサボリナン、２−メトキシ−１，３，２−ジオキサボロラン、２−イソプロポキシ４，４，５，５−テトラメチル−１，３，２−ジオキサボロラン等が挙げられる。
【００３０】
【化１１】
0003941338.tif 000006
【００３１】
（式中、Ｒ5及びＲ6は、それぞれ独立して、アルキル基、アラルキル基、ヘテロ原子含有アルキル基又はアリール基を表す）
【００３２】
式（Ｖ）において、Ｒ5及びＲ6がアルキル基である場合、アルキル基については直鎖状、分岐状、環状のいずれでもよく、またその炭素数については特に限定されるものではないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２である。このようなアルキル基の具体例としては、例えばメチル基、エチル基、等が挙げられる。
【００３３】
また、Ｒ5及びＲ6がアラルキル基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常７〜１６、好ましくは７〜１２であり、アリール基は置換基を有していてもよい。
【００３４】
また、Ｒ5及びＲ6がヘテロ原子含有アルキル基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２である。
【００３５】
また、Ｒ5及びＲ6がアリール基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常６〜２０、好ましくは６〜１６であり、置換基を有していてもよい。このようなアリール基の具体例としては、例えばフェニル基、等が挙げられる。
【００３６】
そして、このような式（Ｖ）の化合物の具体例としては、例えば２−メトキシベンゾ〔ｄ〕１，３，２−ジオキサボロラン、２−エトキシベンゾ〔ｄ〕１，３，２−ジオキシサボロラン、２−フェノキシベンゾ〔ｄ〕１，３，２−ジオキサボロラン等が挙げられる。
【００３７】
【化１２】
0003941338.tif 000007
【００３８】
（式中、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9は、それぞれ独立して、置換基を有していてもよいアルキレン基又はアルキレンオキシ基を表し、Ｒ10は水素原子又はアルキル基を表し、Ｘは炭素原子、窒素原子又はホウ素原子を表す。また、ａ、ｂ、ｃ及びｄは０又は１である）
【００３９】
式（VI）において、Ｒ7、Ｒ8及びＲ9が置換基を有していてもよいアルキレン基である場合、アルキレン基の炭素数については特に限定はされないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２である。このようなアルキレン基の具体例としては、例えばメチレン基、エチレン基、等が挙げられる。
【００４０】
また、Ｒ7、Ｒ8が及びＲ9が置換基を有していてもよいアルキレンオキシ基である場合、その炭素数については特に限定はされないが、通常１〜１６、好ましくは１〜１２である。このようなアルキレンオキシ基の具体例としては、例えばエチレンオキシ基、１，３，３−トリメチル−トリメチレンオキシ基等が挙げられる。
【００４１】
そして、このような式（VI）の化合物の具体例としては、例えばトリエタノールアミンボレート、２−メチル−２，４−ペンタンジオールジボーレート、１−ボラ−２，６，７−トリオキサビシクロ〔２．２．１〕ヘプタン、１，６−ジボラ−２，５，７，１０，１１，１４−ヘキサオキサビシクロ〔４．４．４〕テトラデカン等のホウ酸エステル類が挙げられる。
そして、これらの式（III）ないし（VI）の化合物の中、主として経済的な見地からトリメチルホウ酸エステル及びトリエチルホウ酸エステル、等が好ましい。
なお、これらのホウ酸エステル類は組み合わせて用いてもよい。
【００４２】
これら、ホウ酸エステル類は、市販のものをそのまま使用することも可能であるが、文献Ｌａｐｐｅｒｔ，Ｍ．Ｆ．，Ｃｈｅｍ．Ｒｅｖｉｅｗ，５６，９５９（１９５６）等に記載されている三ハロゲン化ホウ素化合物、三酸化二ホウ素、ホウ酸、ナトリウムピロホウ酸エステル又はボラン類及び水素化ホウ素化合物を原料としてアルコール類とを反応させることにより、容易に調製可能である。アルコール類としては、それらの級数、価数及び置換基の有無により制限を受けず用いることができるが、主として経済的な見地から、メタノール、エタノール等が好ましい。
ホウ酸エステル類は、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸に対して、通常０．０１〜２０モル倍程度、好ましくは０．０５〜１０モル倍程度使用される。
【００４３】
また、ホウ酸エステル類の添加方法としては、適当な溶媒に溶かした６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸溶液にホウ酸エステル類を加え、調製した混合溶液をボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液中に滴下する方法、又はボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液中にホウ酸エステル類を加え混合させた後、その混合溶液中に溶媒に溶かした６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸溶液を滴下する方法いずれでも差し支えないが、前者の方法の方がより高純度の６−ヒドロキシ−２−ナフチルカルビノールが得られ好ましい。
【００４４】
反応は、通常溶媒とホウ酸エステルの存在下にボラン類と６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸とを反応させる。かかる溶媒としては、反応を阻害しないものであれば特に制限はないが、例えばジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジグライム、トリグライム、ｔ−ブチルメチルエーテル、１，３−ジオキソラン等のエーテル系溶媒、ベンゼン、トルエン、キシレン等の炭化水素系溶媒、クロロベンゼン、１，２−ジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン系溶媒等が挙げられる。溶媒は、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸に対して、通常１〜５０重量倍程度、好ましくは２〜２０重量倍程度使用される。
【００４５】
反応温度は、通常−３０〜１５０℃、好ましくは−２０〜１００℃である。反応時間は、用いるボラン類又はホウ酸エステル類、それらの使用量等により異なるが、通常０．５〜１０時間程度である。かくして反応は実施されるが、ボラン類を予め調製し反応に使用する場合、通常はボラン調製液に６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸もしくはこれと溶媒との混合物を加えることにより実施される。加える溶媒として、ボラン調製に使用した溶媒と別の溶媒を加えて実施することもできる。ここで、ボラン調製溶媒及び加える溶媒としては、反応に使用するに際し示した溶媒と同様の溶媒が例示される。また、ボラン類を水素化ホウ酸化合物とジメチル硫酸或いは三フッ化ホウ素とを反応することにより調製した場合、系内に析出する、モノメチル硫酸塩或いは４フッ化ホウ酸塩を濾去した調製液に、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸と溶媒との混合物を添加する手法が反応効率が向上し有利な場合がある。
【００４６】
生成した６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールは、残存する還元剤を塩酸等の鉱酸、水又はメタノールを加えて失活させた後、苛性ソーダ等で中和し、晶析、抽出、蒸留、カラムクロマトグラフィー等の手段により、単離することができる。
【００４７】
【実施例】
以下、実施例により本発明を詳細に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これらの実施例に限定されるものではない。
（実施例１）
窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した３００ｍＬの四つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９８％）３．８７ｇ（１００ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１２．６５ｇ（１００ｍｍｏｌ）を、０℃で５分を要して滴下し、氷冷下で２時間撹拌を行い、更に室温下３時間撹拌を続けてガスの発生が終了するのを確認した。生じたボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液を０℃付近に保持し、系中に生成したモノメチルナトリウム硫酸塩を分離するために、窒素雰囲気下、上澄液をグラスフィルターで濾過して、その塩層を更に４０ｍＬ無水テトラヒドロフランで洗浄し、精製した約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液を合わせ、別の５００ｍＬ容量の四つ口フラスコの移送した。６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸９．４１ｇ（５０ｍｍｏｌ）、トリメチルホウ酸エステル２０．１３ｇと無水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）溶液を、滴下ロートを用い、室温で２５分かけて、調製したボラン−テトラヒドロフラン錯体溶液中に滴下した。この反応液を同温度で３時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水１００ｍＬを加え、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを白色結晶として８．４６ｇ得た。
得られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９３％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９９．２１％（４８．５７ｍｍｏｌ、収率：９７．１％）であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．３７％及びその他の副生成物が併せて０．３５％存在することが分かった。
【００４８】
融点：１８１〜１８３℃
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3＋ＤＭＳＯ−ｄ6、δｐｐｍ）：９．０８（１Ｈ，ｂｒｓ），７．７０−７．５８（３Ｈ，ｍ），７．４０（１Ｈ，ｄ），７．１０（２Ｈ，ｑ），４．７２（２Ｈ，ｓ），２．９１（１Ｈ，ｂｒｓ）
13Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3＋ＤＭＳＯ−ｄ6、δｐｐｍ）：６３．２８，１０８．１０，１１７．７９，１２４．１１，１２４．９２，１２５．２３，１２７．０３，１２８．２０，１３３．１５，１３５．５７，１５４．２３
【００４９】
（実施例２）
窒素雰囲気下、液化ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液１００ｍＬを入れ、そこに６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１２．５８ｇ（６６．８５ｍｍｏｌ）、トリメチルホウ酸エステル６．９５ｇと無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、液化ロートを用い、室温で３０分かけて滴下した。この反応液を同温度で３時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水１５０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを白色結晶として１１．２８ｇ得た。
得られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９９％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９９．４２％（６４．７５ｍｍｏｌ、収率：９６．９％）であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．０８％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン−２−オールは０．０７％、６−〔（６−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナフタレン−２−オールは０．１０％、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボキシレートは０．０５％及びその他の副生成物が併せて０．２７％存在することが分かった。
【００５０】
（実施例３）
窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液１００ｍＬを入れ、そこに６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１２．６０ｇ（６６．９６ｍｍｏｌ）、トリエチルホウ酸エステル１９．２７ｇと無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、滴下ロートを用い、室温で３５分かけて滴下した。この反応液を同温度で５時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水２００ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色結晶を水（２５０ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを白色結晶として１１．３６ｇ得た。
得られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９２％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９９．１８％（６５．２１ｍｍｏｌ、収率：９７．４％）であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．３１％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン−２−オールは０．０６％、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボキシレートは０．０５％及びその他の副生成物が併せて０．３２％存在することが分かった。
【００５１】
（実施例４）
窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液１００ｍＬ及びトリメチルホウ酸エステル１３．８６ｇを入れ、そこに６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１２．５６ｇ（６６．７４ｍｍｏｌ）無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、滴下ロートを用い、室温で４０分かけて滴下した。この反応液を同温度で４時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水１５０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを白色結晶として１１．２３ｇ得た。
得られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９５％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９９．２６％（６４．４７ｍｍｏｌ、収率：９６．６％）であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．２８％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン−２−オールは０．０５％及びその他の副生成物が併せて０．３６％存在することが分かった。
【００５２】
（実施例５）
窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９８％）３．９１ｇ（１０１ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１３．１７ｇ（１０４ｍｍｏｌ）を、０℃で５分を要して滴下し、氷冷下で２時間撹拌を行い、更に無水テトラヒドロフラン４０ｍＬを加え、室温下３時間撹拌を続けてガスの発生が終了するのを確認した。次にそこに６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１２．５９ｇ（６６．９０ｍｍｏｌ）とトリメチルホウ酸エステル６．９６ｇ及び無水テトラヒドロフラン（７０ｍＬ）溶液を、滴下ロートを用い、室温で３５分かけて滴下した。この反応液を同温度で２時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水２００ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色結晶を水（２００ｍＬ）で洗浄した後、８０℃、８時間減圧乾燥することにより、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールを白色結晶として１１．３１ｇ得た。
得られた白色結晶の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．９５％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は９９．３０％（６４．９３ｍｍｏｌ、収率：９７．１％）であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．１０％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン−２−オールは０．０４％、６−〔（６−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナフタレン−２−オールは０．１２％、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボキシレートは０．０７％及びその他の副生成物が併せて０．３２％存在することが分かった。
【００５３】
（実施例６）
窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した５００ｍＬの四つ口フラスコに、実施例１と同様の操作により得られた約１Ｍのボラン−テトラヒドロフラン錯体のテトラヒドロフラン溶液２００ｍＬを入れ、そこに６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１８．８２ｇ（１００．０ｍｍｏｌ）無水テトラヒドロフラン（１２０ｍＬ）溶液を、滴下ロートを用い、室温で１時間かけて滴下した。この反応液を同温度で７時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水２００ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、白色結晶を析出した。濾過により得られた白色固体を水（３００ｍＬ）で洗浄した後、減圧乾燥することにより白色固体１６．７３ｇを得た。
得られた白色固体の組成を、内部標準法を用いた液体クロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は９９．４４％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールの純度は８７．６０％であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．１４％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン−２−オールは３．５９％、６−〔（６−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナフタレン−２−オールは３．２９％、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボキシレートは１．２４％及びその他の副生物が併せて３．５８％存在することが分かった。
【００５４】
（実施例７）
窒素雰囲気下、滴下ロート、ガス導入管、冷却管及び温度計を付した３００ｍＬの四つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９８％）３．９０ｇ（１０１ｍｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン６０ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１３．２１ｇ（１０５ｍｍｏｌ）を、０℃で５分を要して滴下し、氷冷下で２時間撹拌を行い、更に無水テトラヒドロフラン４０ｍＬを加え、室温下３時間撹拌を続けてガスの発生が終了するのを確認した。次にそこに６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸９．７３ｇ（５１．７１ｍｍｏｌ）及び無水テトラヒドロフラン（５０ｍＬ）溶液を、滴下ロートを用い、室温で２５分かけて滴下し、滴下途中固まりになった。この反応液を同温度で７時間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水１５０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した。
得られた反応溶液を、内部標準法を用いた液体クロマトグラフィーで分析した結果、６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸の反応率は６８．５３％であり、６−ヒドロキシ−２−ナフラレンメタノールの収率は２６．８％であった。副生成物として６−ヒドロキシ−２−ナフトアルデヒドは０．３６％、１−〔（６−ヒドロキシ（２−ナフチル））メチル〕−６−（ヒドロキシメチル）ナフタレン−２−オールは８．２１％、６−〔（６−ヒドロキシ−２−ナフチルオキシ）メチル〕ナフタレン−２−オールは６．１８％、（６−ヒドロキシ−２−ナフチル）カルボニル−６−ヒドロキシナフタレン−２−カルボキシレートは５．６６％及びその他の副生成物が多数存在することが判明した。
【００５５】
（実施例８）
窒素雰囲気下、滴下漏斗とガス導入管及び温度計を付した３００ｍＬの四つ口フラスコに、水素化ホウ素ナトリウム（純度：９２％）５．４９ｇ（０．１３４ｍｏｌ）と、無水テトラヒドロフラン１００ｍＬを加え撹拌する。ジメチル硫酸１７．３５ｇ（０．１３５ｍｏｌ）を、２０℃で３０分を要して滴下し、更に、３時間撹拌を続けてガスの発生が終了するのを確認した。生じたボラン−テトラヒドロフラン錯体を２０℃に保持し、系中に生成したモノメチル硫酸塩を分離するために、窒素雰囲気下上澄液をグラスフィルターで濾過して別の５００ｍＬ容量の四つ口フラスコに移送した。６−ヒドロキシ−２−ナフタレンカルボン酸１２．６ｇ（０．０６７ｍｏｌ）の無水テトラヒドロフラン（８０ｍＬ）溶液を、滴下漏斗を用い、０℃で４０分かけて、調製したボラン−テトラヒドロフランフラン錯体溶媒液中に滴下した。この反応液を同温度で水素の発生が完了するまで１５分撹拌を続け、更に、還流条件下で４次間撹拌を行った。反応後、反応液を冷却し、氷冷下、水８０ｍＬを加えて、３０分間室温で激しく撹拌した後、減圧下、テトラヒドロフランを留去させた後、ジエチルエーテル５００ｍＬで二回抽出し、得られた有機層を飽和炭酸水素ナトリウム水溶液１５０ｍＬで、引き続き飽和食塩水溶液１５０ｍＬで、洗浄した後、硫酸マグネシウムで乾燥した。ジエチルエーテルを減圧下除去し、６−ヒドロキシ−２−ナフラレンメタノールを白色結晶として１１．４５ｇ（０．０６６ｍｏｌ、収率：９８．１％）得た。
【００５６】
融点：１８１〜１８３℃
元素分析：Ｃ11Ｈ10Ｏ2（１７４．２０）として
計算値  Ｃ：７５．８４、Ｈ：５．７９
分析値  Ｃ：７５．９０、Ｈ：５．８２
ＭＳ（ｍ／ｅ）：１７４（Ｍ+、１００％）、１５７、１４５、１２７、１１５
ＩＲ（ＫＢｒ）：３４１７、３１８３、２８６４、１６０７、１２１４、１１７１、１００９、９９９、９０３、８７１ｃｍ-1
【００５７】
1Ｈ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3＋ＤＭＳＯ−ｄ6、δｐｐｍ）：９．０８（１Ｈ、ｂｒｓ）、７．７０−７．５８（３Ｈ、ｍ）、７．４０（１Ｈ、ｄ）、７．１０（２Ｈ、ｑ）、４．７２（２Ｈ、ｓ）、２．９１（１Ｈ、ｂｒｓ）。
13Ｃ−ＮＭＲ（３００ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3＋ＤＭＳＯ−ｄ6、δｐｐｍ）：６３．２８、１０８．１０、１１７．７９、１２４．１１、１２４．９２、１２５．２３、１２７．０３、１２８．２０、１３３．１５、１３５・５７、１５４．２３。
【００５８】
【発明の効果】
本発明によれば、香料、樹脂、農薬及び医薬等の合成原料として有用な６−ヒドロキシ−２−ナフタレンメタノールが得られ、またこの化合物を工業的に有利に製造することができる。