(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上にブラックマトリクスおよび画素膜が形成されたカラーフィルター基板であって、室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜を、ブラックマトリクスおよび画素膜に接して具備し、該ＩＴＯ膜が４０〜１２０℃の基板温度でスパッタリングにより形成され、その後２２０〜３２０℃の温度範囲でアニール処理されたものであることを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項２】
透明基板上にブラックマトリクスおよび画素膜が形成され、その上にオーバーコート膜が形成されたカラーフィルター基板であって、室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜を、オーバーコート膜に接して具備し、該ＩＴＯ膜が４０〜１２０℃の基板温度でスパッタリングにより形成され、その後２２０〜３２０℃の温度範囲でアニール処理されたものであることを特徴とするカラーフィルター基板。
【請求項３】
カラーフィルターの画素膜が、顔料分散樹脂であることを特徴とする請求項１または２に記載のカラーフィルター基板。
【請求項４】
カラーフィルターの画素膜が、顔料が分散されたポリイミドからなることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載のカラーフィルター基板。
【請求項５】
顔料分散樹脂ブラックマトリクスを具備する請求項１〜４のいずれかに記載のカラーフィルター基板。
【請求項６】
画素膜の積層により形成された柱状スペーサを具備する請求項１〜５のいずれかに記載のカラーフィルター基板。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれかに記載のカラーフィルター基板を具備する液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラットパネルディスプレイ、特に液晶表示装置に用いられる、カラーフィルター基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示装置をカラー化するために、透明基板上にＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ  （青）の３色の画素を、ライン状またはモザイク状に配置したカラーフィルター基板が用いられている。たとえば、現在広く普及しているＴＮ（ツイステッド・ネマティック）方式のＴＦＴ（薄膜トランジスター）カラー液晶表示装置は、カラーフィルターが形成された透明ガラス基板と、ＴＦＴが形成された透明ガラス基板の間に、液晶を封入した構造となっている。
【０００３】
カラーフィルター基板は、ガラスなどの透明基板上に、染料により着色された樹脂膜や、顔料が分散された樹脂膜、あるいは、無機物からなる多重干渉膜などからなる、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素膜のパターンがガラスなどの透明基板上に形成されているものである。通常、画素と画素の間隙には、ブラックマトリクスが設けられている。また、場合により、表面を平坦化するためにオーバーコート膜が画素膜上に形成されている。カラーフィルター基板上には、液晶を駆動するために透明導電膜が形成されている。透明導電膜としては、一般に酸化スズ・インジウム（ＩＴＯ）が用いられる。
【０００４】
ＩＴＯ膜の成膜法としては、蒸着、イオンプレーティング、スパッタリングなど種々の方法がある。しかし、比較的容易に、大面積でムラ無く、低抵抗のＩＴＯ膜を形成することができることから、スパッタリング法が、広く用いられている。
【０００５】
現在、液晶表示装置の大型化にともない、さらなるＩＴＯ膜の表面抵抗の低減が求められている。これは、大面積において、液晶を駆動しようとした場合、カラーフィルター基板上のＩＴＯ膜の表面抵抗が大きければ、画面の周辺部と中央部とに大きな電位差が生じ、周辺部と中央部で、表示の明るさに差が発生するためである。ＩＴＯ膜の表面抵抗を小さくする手段の一つとして、膜厚を大きくすることが挙げられるが、膜厚を大きくするためには、スパッタリング時間を長くする必要があり、生産効率の面から好ましくない。また、ＩＴＯターゲットが短時間に消耗するという問題も生じる。このため、表面抵抗を小さくするためには、ＩＴＯ膜の比抵抗を小さくすることが望まれる。
【０００６】
スパッタリング法で形成されるＩＴＯ膜の比抵抗は、成膜条件によって大きく異なることが知られている。たとえば、特公昭６３−５４７８８で、スパッタリング時に基板温度を２００℃以上にすると、比抵抗が５×１０-4Ω・ｃｍのＩＴＯ膜が得られると報告されている。しかし、カラーフィルター上に２００℃以上の温度でスパッタリングにより、ＩＴＯ膜を形成した場合、ＩＴＯ膜中に大きな圧縮応力が発生する。この圧縮応力により、カラーフィルター基板の画素膜やオーバーコート膜にクラックや、細かいしわが発生する場合がある。これらのクラックや細かいしわにより、液晶表示装置の表示品位が低下するおそれがある。
【０００７】
特開平４−３５６０２２には、基板温度２００℃以下で、アルゴンと酸素の分圧を適当な値に制御することにより、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、圧縮応力の小さいＩＴＯ膜を形成する方法が記載されている。この方法により、ＩＴＯ膜のオーバーコート膜への付着強度を高くすることが可能とされている。しかし、この方法では、室温においては、確かに低圧縮応力となり、画素膜やオーバーコート膜にクラックや、細かいしわが発生する可能性は小さくなるが、ＩＴＯ膜上に配向膜を形成する工程で、カラーフィルターが高温下に置かれた時、画素膜やオーバーコート膜に前記の問題が生じる場合があった。これは、ＩＴＯ膜の熱膨張率がガラス基板の熱膨張率よりも大きいため、熱膨張率差に起因して発生する熱応力の大きさだけ、高温では室温よりもＩＴＯ膜中の圧縮応力が増大するためと考えられる。また、圧縮応力が残留した状態で空気にさらされたまま長く放置していた場合、吸湿によりＩＴＯ膜の劣化が起こり、昇温によりＩＴＯ膜にクラックが生じ、それが引き金となって、画素膜やオーバーコート膜にクラックが発生すると思われる場合があった。
【０００８】
特開平７−３１８９５０に、樹脂ブラックマトリクス上に画素膜の積層により形成された柱状スペーサを有するカラーフィルター基板に関する記載がある。この種のカラーフィルター基板は、液晶表示装置の組み立ての際に、スペーサ粒子を散布をする必要がなく、スペーサ粒子による画質の劣化が生じないという利点がある。
しかし、ＩＴＯ膜をこの種のカラーフィルター上に形成した場合、画素膜の積層により形成された柱状スペーサの周辺部に応力の集中が起こり、特に高温下に置かれた時に、柱状スペーサの周辺の画素膜にクラックが生じやすい。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、かかる従来技術の諸欠点に鑑み創案されたもので、その目的とするところは、表面抵抗が小さく、高温下に置かれた場合にも、画素膜やオーバーコート膜にクラックや細かいしわが発生しにくいカラーフィルター基板を提供し、液晶表示装置の表示品位の低下を防止することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
かかる本発明の目的は、透明基板上にブラックマトリクスおよび画素膜が形成されたカラーフィルター基板であって、室温（本発明においては２０〜３０℃の範囲内の任意の温度を意味する）において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜を、ブラックマトリクスおよび画素膜に接して具備し、ＩＴＯ膜が４０〜１２０℃の基板温度でスパッタリングにより形成され、その後２２０〜３２０℃の温度範囲でアニール処理されたものであることを特徴とするカラーフィルター基板、および透明基板上にブラックマトリクスおよび画素膜が形成され、その上にオーバーコート膜が形成されたカラーフィルター基板であって、室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜を、オーバーコート膜に接して具備し、ＩＴＯ膜が４０〜１２０℃の基板温度でスパッタリングにより形成され、その後２２０〜３２０℃の温度範囲でアニール処理されたものであることを特徴とするカラーフィルター基板を具備する液晶表示装置によって達成される。
【００１１】
【発明の実施の形態】
室温においてある程度の引張り応力が存在するＩＴＯ膜は、高温下に置かれ、熱応力の大きさだけ圧縮応力が増大しても、残留する圧縮応力は小さいレベルに抑制される。このようなＩＴＯ膜が形成されたカラーフィルター基板は、配向膜を形成する工程で、高温下に置かれても、画素膜やオーバーコート膜にクラックや細かいしわが発生しにくい。
【００１２】
室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、ある程度の引張り応力が存在するＩＴＯ膜を形成する手段として、たとえば次のような方法がある。アルゴンなどの不活性ガスと酸素の分圧を適当な値に制御し、ＩＴＯ膜の結晶化温度（約１５０℃）以下の温度でスパッタリングを行い、その後、ＩＴＯ膜の結晶化温度以上の温度のもとでアニールを行うというものである。
【００１３】
ここで、酸素の分圧が低いほど、スパッタリング時のＩＴＯ膜中への酸素イオンの打ち込み量が小さくなり、ＩＴＯ膜中に発生する圧縮応力が小さくなるが、酸素分圧が小さすぎれば、形成されるＩＴＯ膜の比抵抗が大きくなるため、酸素分圧を適正な値に調節することが必要である。また、不活性ガスの分圧も、小さすぎれば、スパッタリング時に異常放電現象を引き起こす場合があり、逆に、大きすぎれば、ＩＴＯ膜の成膜速度が小さくなりすぎて、生産効率の低下をもたらす。また、適切な不活性ガスと酸素の分圧の値は、スパッタリングを行う時の温度によって変化する。このように、不活性ガスと酸素の分圧の制御には注意を要する。
【００１４】
本発明では、好ましくは圧力０．０１〜１０Ｐａ、より好ましくは、０．１〜１Ｐａの不活性ガス中に、好ましくは０．０１〜１０％、より好ましくは、０．１〜５％の酸素が含有されたガス中で、好ましくは基板温度が２０〜１４０℃、より好ましくは４０〜１２０℃、さらに好ましくは５０〜１００℃の条件でスパッタリングを行う。基板温度が低いほど、結晶化度の小さいアモルファス状のＩＴＯ膜が形成され、圧縮応力低減の面から好ましいが、基板温度を低くするためには、スパッタリング時に発生する熱による温度上昇を抑えるための冷却に要するエネルギーが大きくなるという問題がある。
【００１５】
スパッタリング終了後、好ましくは２２０〜３２０℃の温度範囲、より好ましくは２４０〜３００℃の温度範囲、さらに好ましくは２５０〜２８０℃の温度範囲でアニール処理を行う。アニール温度が高いほど、結晶化を終了させるのに必要な時間を短縮でき、生産効率の面から好ましいが、アニール温度が高すぎれば、画素膜やオーバーコート膜の熱劣化が引き起こされる。また、アニールは空気中や不活性ガス中、または真空中などで行うことができるが、ＩＴＯ膜中の酸素空孔を消滅させ、キャリア濃度を低下させないために、できるだけ酸素が少ない状態でアニールを行うことが望ましい。
【００１６】
適当な圧縮応力が残留するアモルファス状のＩＴＯ膜を、アニール処理することにより、結晶化にともなう膜の体積収縮を引き起こし、室温でＩＴＯ膜中に引張り応力を存在させることができる。スパッタリング時の不活性ガス分圧、酸素分圧、基板温度、アニール時の温度のバランスを適切に保つことにより、本発明の、室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜をカラーフィルター基板上に形成することが可能となる。なお、室温においてＩＴＯ膜中に存在する引張り応力は、より好ましくは５０〜２００ＭＰａ、さらに好ましくは、７０〜１５０ＭＰａである。引張り応力が小さすぎれば、高温下に置かれた場合の圧縮応力が依然大きく、画素膜やオーバーコート膜にクラックや、細かいしわが発生するおそれがある。一方、引張り応力が大きすぎれば、室温において、ＩＴＯ膜の画素膜またはオーバーコート膜との付着強度が小さくなり、問題となる可能性がある。
【００１７】
なお、本発明では、室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜をカラーフィルター基板上に形成することが可能であれば、どのような方法でＩＴＯ膜の形成を行ってもよく、上記の低温でスパッタリングを行い、その後高温でアニールを行う方法に限定されるものではない。
【００１８】
本発明でいうＩＴＯ膜中の引張り応力は、以下のような方法で測定したものである。ＩＴＯ膜を形成する前のカラーフィルター基板の曲率半径Ｒ0 を室温で測定しておく。そして、ＩＴＯ膜を形成後の曲率半径Ｒ1 を室温で測定する。ＩＴＯ成膜前後の曲率半径Ｒ0 とＲ1 を用いて、次の（１）式より、ＩＴＯ膜中の応力σf が求められる。
【００１９】
σf ＝［Ｅs ｔs 2 （Ｒ0 −Ｒ1 ）］／６（１−νs ）ｔf Ｒ0 Ｒ1   （１）
この式で、Ｅs 、ｔs とνs は、それぞれ、カラーフィルターが形成されている基板のヤング率、厚さ、ポアッソン比を表し、ｔf はＩＴＯ膜の厚さを表す。厳密には、応力の計算にあたって、基板上に存在するＩＴＯ膜以外の膜である、画素膜、ブラックマトリクスおよびオーバーコート膜の物性値を考慮する必要があるが、本発明においては、基板の厚さに比べ、それらの厚さが非常に小さいために、それらの物性値が（１）式から求められる応力値へ及ぼす影響は無視することとする。なお、ＩＴＯ成膜前の曲率半径Ｒ0 は、ＩＴＯ成膜後Ｒ1 を測定し、ＩＴＯ膜を塩酸などにより除去した後、基板の曲率半径を測定することによって求めることもできる。
【００２０】
曲率半径Ｒは、触針法や光梃法などにより測定することができる。たとえば、触針法により、図１で示される基板の反りδを測定し、針の走査距離Ｄから、次の（２）式より、求められる。
【００２１】
Ｒ＝Ｄ2 ／８δ  （２）
カラーフィルターが形成される基板としては、ソーダガラス、無アルカリガラス、ホウケイ酸ガラス、石英ガラスなどの透明基板が用いられる。通常、この基板上にクロムや、クロムと酸化クロムや窒化クロムの多層膜などからなる無機系ブラックマトリクスや、黒色顔料が分散された樹脂などからなる有機系ブラックマトリクスなどが形成される。無機系、有機系どちらのブラックマトリクスも本発明において好適に使用されるが、製造および廃棄コストの面から、有機系の顔料分散樹脂ブラックマトリクスを用いるのが好ましい。
【００２２】
本発明で用いられる画素膜としては、染色膜、顔料分散膜、多重干渉膜、選択反射膜などが用いられるが、作製の容易さ、耐熱性、耐光性などの点から、顔料分散膜が好ましい。
【００２３】
本発明では、顔料を分散保持する樹脂については、一般にカラーフィルターに使用される樹脂であれば特に限定されず、どのようなものも使用が可能である。
たとえば、アクリル樹脂、アルキド樹脂、メラミン樹脂、ポリビニルアルコール、ポリアミド、ポリアミドイミド、ポリイミドなど種々の樹脂を用いることができる。パターン形成の容易さという面からは、感光性のアクリル樹脂を用いることが好ましい。しかし、耐熱性の面からは、ポリイミドの使用が好ましい。本発明のＩＴＯ膜をカラーフィルター基板上に形成する場合、画素膜の耐熱性が良好であれば、たとえばより高温でアニール処理を行うことが可能となる。
【００２４】
ポリイミドは、通常、ポリイミド前駆体を熱的または化学的にイミド化することにより得られる。ポリイミド前駆体としては、ポリアミック酸およびそのエステル化物が通常用いられる。ここで言うポリアミック酸は、次の一般式（１）で表される。
【００２５】
【化１】
0003965716.tif 000002
ここでＲ1 は炭素数２〜２２の４価の有機基、Ｒ2 炭素数１〜２２の２価の有機基、ｎは１以上の整数を意味する。ポリイミド膜の力学的特性は、分子量が大きいほど良好である。このため、ポリイミド前駆体であるポリアミック酸の分子量も大きいことが望まれる。一方、ポリイミド前駆体膜を湿式エッチングによりパターン加工を行う場合、ポリアミック酸の分子量が大きすぎると、現像に要する時間が長くなりすぎるという問題がある。したがって、ｎの好ましい範囲は２〜１０００、より好ましくは４〜４００、さらに好ましくは６〜１００である。なお、ポリアミック酸の分子量には一般にばらつきがあるため、ここでいうｎの好ましい範囲とは、この範囲の中に全ポリアミック酸の５０モル％以上、好ましくは７０モル％以上、さらに好ましくは９０モル％以上が入っていることを意味する。
【００２６】
ポリアミック酸は、テトラカルボン酸二無水物とジアミンを反応させることにより得ることができる。
【００２７】
テトラカルボン酸二無水物は、一般式（２）
【００２８】
【化２】
0003965716.tif 000003
（式中のＲ1 は、前記の炭素数２〜２２の４価の有機基を表す。）で示される。
本発明では、テトラカルボン酸二無水物として、たとえば、脂肪族系または脂環式系のものを用いることができ、その具体的な例として、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，３，５−シクロペンタンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−ビシクロヘキセンテトラカルボン酸二無水物、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸二無水物、１，３，３ａ，４，５，９ｂ−ヘキサヒドロ−５−（テトラヒドロ−２，５−ジオキソ−３−フラニル）−ナフト［１，２−Ｃ］フラン−１，３−ジオンなどが挙げられる。また、芳香族系のものを用いると、耐熱性の良好なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体的な例として、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物、ピロメリット酸二無水物、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸二無水物、３，３´，４，４´−ジフェニルスルホンテトラカルボン酸二無水物、４，４´−オキシジフタル酸二無水物、３，３´，４，４´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸二無水物、３，３”，４，４”−パラターフェニルテトラカルボン酸二無水物、３，３”，４，４”−メタターフェニルテトラカルボン酸二無水物が挙げられる。また、フッ素系のものを用いると、短波長領域での透明性が良好なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体的な例として、４，４´−（ヘキサフルオロイソプロピリデン）ジフタル酸二無水物などが挙げられる。なお、本発明は、これらに限定されずにテトラカルボン酸二無水物が１種または２種以上用いられる。
【００２９】
ジアミンは、一般式（３）
Ｈ2Ｎ−Ｒ2 −ＮＨ2                                 （３）
（式中のＲ2 は、前記の炭素数１〜２２の２価の有機基を表す。）で示される。
本発明ではジアミンとして、たとえば、脂肪族系または脂環式系のものを用いることができ、その具体的な例として、エチレンジアミン、１，３−ジアミノシクロヘキサン、１，４−ジアミノシクロヘキサン、４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチルジシクロヘキシルメタン、４，４´−ジアミノ−３，３´−ジメチルジシクロヘキシルなどが挙げられる。また、芳香族系のものを用いると、耐熱性の良好なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体的な例として、４，４´−ジアミノジフェニルエーテル、３，４´−ジアミノジフェニルエーテル、４，４´−ジアミノジフェニルメタン、３，３´−ジアミノジフェニルメタン、４，４´−ジアミノジフェニルスルホン、３，３´−ジアミノジフェニルスルホン、４，４´−ジアミノジフェニルサルファイド、ｍ−フェニレンジアミン、ｐ−フェニレンジアミン、２，４−ジアミノトルエン、２，５−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、ベンジジン、３，３´−ジメチルベンジジン、３，３´−ジメトキシベンジジン、ｏ−トリジン、４，４”−ジアミノターフェニル、１，５−ジアミノナフタレン、３，３´−ジメチル−４，４´−ジアミノジフェニルメタン、４，４´−ビス（４−アミノフェノキシ）ビフェニル、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］エ−テル、ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］スルホン、ビス［４−（３−アミノフェノキシ）フェニル］スルホンなどが挙げられる。また、フッ素系のものを用いると、短波長領域での透明性が良好なポリイミドに変換しうるポリイミド前駆体組成物を得ることができ、その具体的な例として、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパンなどが挙げられる。
【００３０】
また、一般式（４）
【００３１】
【化３】
0003965716.tif 000004
（式中のＲ3 は炭素数１〜１０の２価の有機基、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 、およびＲ7 は炭素数１〜１０の１価の有機基でこれらは同一であっても異なっていてもよく、ｍは１〜１０の整数を意味する。）で示されるシロキサンジアミンを用いると、無機基板との接着性を良好にすることができる。シロキサンジアミンは、通常、全ジアミン中の１〜２０モル％量用いる。シロキサンジアミンの量が少なすぎれば接着性向上効果が発揮されず、多すぎれば耐熱性が低下する。シロキサンジアミンの具体例としては、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサンなどが挙げられる。本発明では、これらに限定されずにジアミンが１種または２種以上用いることができる。
【００３２】
ポリアミック酸の合成は、極性有機溶媒中でジアミンとテトラカルボン酸二無水物を混合して反応させることにより行うのが一般的である。この時、ジアミンとテトラカルボン酸二無水物の混合比により得られるポリアミック酸の重合度を調節することができる。
【００３３】
このほか、テトラカルボン酸ジクロライドとジアミンを極性有機溶媒中で反応させて、その後、塩酸と溶媒を除去することによってポリアミック酸を得るなど、ポリアミック酸を得るには種々の方法がある。しかし、本発明はその合成法によらずにポリアミック酸に対して適用が可能である。また、上記のポリアミック酸のエステル化物などの誘導体に対しても適用が可能である。
【００３４】
本発明で用いることのできる顔料に特に制限はないが、耐光性、耐熱性、耐薬品性に優れたものが好ましい。代表的な顔料の具体的な例をカラーインデックス（ＣＩ）ナンバーで示す。黄色顔料の例としてはピグメントイエロー２０、２４、８３、８６、９３、９４、１０９、１１０、１１７、１２５、１３７、１３８、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６６、１７３などが挙げられる。橙色顔料の例としてはピグメントオレンジ１３、３１、３６、３８、４０、４２、４３、５１、５５、５９、６１、６４、６５などが挙げられる。赤色顔料の例としてはピグメントレッド９、９７、１２２、１２３、１４４、１４９、１６６、１６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１６、２２４などが挙げられる。紫色顔料の例としてはピグメントバイオレット１９、２３、２９、３２、３３、３６、３７、３８などが挙げられる。青色顔料の例としてはピグメントブルー１５（１５：３、１５：４、１５：６など）、２１、２２、６０、６４などが挙げられる。緑色顔料の例としてはピグメントグリーン７、１０、３６、４７などが挙げられる。ブラックマトリクス用の黒色顔料の例としてはピグメントブラック７などが挙げられる。本発明ではこれらに限定されずに種々の顔料を使用することができる。なお、顔料は必要に応じて、ロジン処理、酸性基処理、塩基性処理などの表面処理が施されているものを使用してもよい。
【００３５】
液晶表示装置に用いられるカラーフィルターのＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色の画素は、ＣＲＴ蛍光体の色度特性に類似させる必要があるため、上記の顔料はバックライトと液晶表示装置の光線透過特性に合うよう、数色組み合わせて調色されて用いられる場合がある。たとえば、Ｒ（赤）は赤色顔料と黄色顔料または橙色顔料、Ｇ（緑）は緑色顔料と黄色顔料または橙色顔料、Ｂ（青）は青色顔料と紫色顔料の組み合わせなどにより調色される。また、カラーフィルター基板のブラックマトリクスとしては、黒色顔料を単独で、または、黒色顔料と青色顔料や紫色顔料を組み合わせるなど複数の顔料を混合して用いることもできる。
【００３６】
本発明のカラーフィルター基板を作製する代表的な方法のひとつとして、水または有機溶媒にマトリクス樹脂が溶解した溶液に顔料が分散されたカラーペーストを用いる方法が挙げられる。カラーペーストに用いられる溶媒に特に制限はない。
水および一般的な有機溶媒を用いることができる。画素またはブラックマトリクスの成分として、ポリイミドを用いる場合、カラーぺ−ストに用いられる溶媒は、ポリイミド前駆体を溶解する溶媒であることが望ましい。ポリイミド前駆体を溶解する溶媒としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミドなどのアミド類、γ−ブチロラクトン、β−プロピルラクトンなどのラクトン類、２−ピロリドン、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどのピロリドン類などの極性有機溶媒が挙げられる。また、通常、単独ではポリイミド前駆体を溶解しない、エタノール、ブタノール、エチレングリコールなどのアルコール類、メチルセロソルブ、エチルセロソルブなどのセロソルブ類などの有機溶媒をポリイミド前駆体を溶解する溶媒と混合して用いることができる。
【００３７】
カラーペーストは、分散機を用いて樹脂溶液中に直接顔料を分散させる方法や、分散機を用いて水または有機溶媒中に顔料を分散して顔料分散液を作製し、その後樹脂溶液と混合する方法などにより製造される。顔料の分散方法には特に限定はなく、ボールミル、サンドグラインダー、３本ロールミル、高速度衝撃ミルなど、種々の方法がとりうる。
【００３８】
カラーぺーストにおいて、樹脂成分と顔料は、通常、重量比で２：８〜９：１、好ましくは３：７〜８：２、より好ましくは４：６〜７：３の範囲で混合して用いられる。樹脂成分の量が少なすぎると、着色被膜の基板との接着性が不良となり、逆に顔料の量が少なすぎると着色度が問題となる。
【００３９】
カラーぺーストの塗布性および着色膜の表面の均一性を良好にする目的で、あるいは、顔料の分散性を良好にする目的で、カラーぺーストに界面活性剤を添加することができる。界面活性剤の添加量は通常、顔料の０．００１〜１０ｗｔ％、好ましくは０．０１〜１ｗｔ％である。添加量が少なすぎると塗布性、着色膜表面の均一性の改良、あるいは顔料の分散性の改良の効果がなく、多すぎると逆に塗布性が不良となったり、顔料の凝集が起こる。界面活性剤の具体例としては、ラウリル硫酸アンモニウム、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸トリエタノールアミンなどの陰イオン界面活性剤、ステアリルアミンアセテート、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライドなどの陽イオン界面活性剤、ラウリルジメチルアミンオキサイド、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリウムベタインなどの両性界面活性剤、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ソルビタンモノステアレートなどの非イオン界面活性剤などが挙げられる。これらに限定されずに、界面活性剤が１種または２種以上用いることができる。界面活性剤の添加は、顔料の分散工程中またはその工程の前後のどの時点でも行うことができる。しかし、添加の時点により顔料の分散性が変わる場合があるので、注意を要する。
【００４０】
カラーぺーストを基板上に塗布する方法としては、スピンコーター、バーコーター、ブレードコーター、ロールコーター、ダイコーター、スクリーン印刷法などで基板に塗布する方法、基板をカラーペースト中に浸漬する方法、カラーペーストを基板に噴霧する方法や、カラーペースト中の樹脂成分が電解質である場合には電極上に電着する方法などの種々の方法を用いることができる。なお、基板上にカラーペーストを塗布する場合、シランカップリング剤などの接着助剤で基板表面を処理しておくと、着色膜と基板の接着力を向上させることができる。また、電着を行う場合には、基板上に電極を形成しておかなければならない。
【００４１】
本発明でカラーフィルターとして用いられる着色膜の厚みには特に制限は無いが、通常、０．１〜１０μｍ、好ましくは、０．５〜３μｍである。膜厚が小さすぎれば、光の吸収が小さくなりすぎ、カラーフィルターとしての光学特性が満足されない。膜厚が大きすぎる場合は、逆に光の吸収が大きくなりすぎるなどの問題が生じ、カラーフィルターとしての光学特性が満足されないおそれがある。
【００４２】
次に、画素またはブラックマトリクスとして顔料分散膜を使用し、その樹脂成分としてポリイミドを、さらにその前駆体としてポリアミック酸を使用した場合の、カラーフィルター基板の作製法の一例を以下に示す。
【００４３】
カラーぺーストを、前記のような方法で基板上に塗布した後、風乾、加熱乾燥、真空乾燥などにより、ポリイミド前駆体着色膜を形成する。加熱乾燥の場合、オーブン、ホットプレートなどを使用し、５０〜１８０℃の範囲、より好ましくは８０〜１２０℃で３０秒〜３時間行う。温度が低すぎる場合、溶媒がなかなか蒸発せず、逆に温度が高すぎると現像液への溶解性が低下する。このようにして得られたポリイミド前駆体着色膜に、通常の湿式エッチングによりパターンを形成する。まず、ポリイミド前駆体着色膜上にポジ型フォトレジストを塗布し、フォトレジスト被膜を形成する。続いて該フォトレジスト被膜上にマスクを置き、露光装置を用いて紫外線を照射する。露光後、ポジ型フォトレジスト用アルカリ現像液により、フォトレジスト被膜とポリイミド前駆体着色膜のエッチングを同時に行う。エッチング後、不要となったフォトレジスト被膜を剥離する。
【００４４】
ポリイミド前駆体着色膜は、その後、加熱処理することによって、ポリイミド着色膜に変換される。加熱処理は通常、空気中、窒素雰囲気中、あるいは、真空中などで、１５０〜４００℃、好ましくは１８０〜３５０℃、より好ましくは２００〜３００℃の温度のもとで、１分〜３時間、連続的、または段階的に行われる。
【００４５】
以上の工程をＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３色のカラーぺースト、および必要に応じてブラックのカラーぺーストにいついて行うと、カラーフィルターが作製できる。さらに画素膜やブラックマトリクス上にオーバーコート膜を形成してもよい。
【００４６】
このようにして作製されたカラーフィルター基板上に、たとえば前記のように、適切な不活性ガス分圧、酸素分圧のもとで低温でスパッタリングを行い、その後高温でアニールするなどして、室温において、比抵抗が３×１０-4Ω・ｃｍ以下で、かつ、３０〜３００ＭＰａの引張り応力が存在するＩＴＯ膜を形成すると本発明のカラーフィルター基板が得られる。
【００４７】
もちろん、本発明は上記の製造法に限定されず、たとえば、無機系ブラックマトリクスを用いたカラーフィルター基板にも適用可能であるし、感光性アクリル樹脂を用いたカラーフィルター基板などにも適用することができる。
【００４８】
本発明のカラーフィルター基板と対向基板との間に液晶を封入し、本発明の液晶表示装置を作製することができる。液晶の表示方式には特に制限は無く、ＴＮ、ＳＴＮ、ＧＨ、ＦＬＣ、ＰＤＬＣなどの表示方式に適用可能である。
【００４９】
【実施例】
以下、実施例によって本発明を具体的に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００５０】
実施例１
温度計および乾燥空気導入口と攪拌装置を付した５０００ｍｌの４つ口フラスコに、４，４´−ジアミノジフェニルエ−テル１３０．１ｇ（０．６５モル当量）、３，４´−ジアミノジフェニルエーテル６０．１ｇ（０．３モル当量）、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン１２．４ｇ（０．０５モル当量）、γ−ブチロラクトン１０００ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを２００ｇを投入し、乾燥窒素流入下、３０℃で１時間攪拌した後、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物１６１．１ｇ（０．５モル当量）、ピロメリット酸二無水物８７．２ｇ（０．４モル当量）、３，３´，４，４´−ビフェニルテトラカルボン酸二無水物２６．５ｇ（０．０９倍モル当量）、γ−ブチロラクトン１３１６．７ｇを投入し、乾燥窒素流入下、７０℃で２時間攪拌し、その後、無水マレイン酸を１．９６ｇ（０．０２モル当量）添加し１時間攪拌して、ポリアミック酸溶液（ポリマー濃度１６ｗｔ％）を得た。
【００５１】
ポリアミック酸溶液２５ｇと、ピグメントブラック７（カーボンブラック）５ｇ、ピグメントブルー１５（フタロシアニンブルー）１ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン４５．３ｇ、ブチルセロソルブ１４ｇをガラスビーズ１５０ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、黒色カラーペーストを得た。
【００５２】
また、温度計および乾燥窒素導入口と攪拌装置を付した５０００ｍｌの４つ口フラスコに、４，４´−ジアミノジフェニルエ−テル１４０．２ｇ（０．７モル当量）、３，３´−ジアミノジフェニルスルホン６２．１ｇ（０．２５モル当量）、ビス−３−（アミノプロピル）テトラメチルシロキサン１２．４ｇ（０．０５モル当量）、γ−ブチロラクトン１０００ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドンを５００ｇを投入し、乾燥窒素流入下、４０℃で１時間攪拌した後、３，３´，４，４´−ベンゾフェノンテトラカルボン酸二無水物３２２．２ｇ（１モル当量）、γ−ブチロラクトン９４５．９ｇを投入し、乾燥窒素流入下、６０℃で３時間攪拌し、ポリアミック酸溶液（ポリマー濃度１８ｗｔ％）を得た。
【００５３】
このポリアミック酸溶液を２０ｇ取り出し、それにγ−ブチロラクトン１８．６ｇ、ブチルセロソルブ６．４ｇを添加して、ポリマー濃度８ｗｔ％の溶液を得た。
【００５４】
ピグメントレッド１７７（アントラキノンレッド）４ｇ、γ−ブチロラクトン４０ｇ、ブチルセロソルブ６ｇをガラスビーズ１００ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、顔料濃度８ｗｔ％の顔料分散液を得た。顔料分散液３０ｇに、ポリマー濃度８重量％の溶液３０ｇを添加混合し、赤色カラーぺーストを得た。
【００５５】
黒色ペーストの作製に用いたポリアミック酸溶液（ポリマー濃度１６ｗｔ％）２０ｇに、γ−ブチロラクトン７．７ｇ、３−メチル−３−メトキシブタノール４ｇを添加して、ポリマー濃度１０ｗｔ％の溶液を得た。
【００５６】
ピグメントグリーン７（フタロシアニングリーン）３．６ｇ、ピグメントイエロー８３（ベンジジンイエロー）０．４ｇ、γ−ブチロラクトン３２ｇ、ブチルセロソルブ４ｇをガラスビーズ１２０ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、顔料濃度１０ｗｔ％の顔料分散液を得た。顔料分散液３２ｇにポリマー濃度１０ｗｔ％の溶液２８ｇを添加混合し、緑色カラーぺーストを得た。
【００５７】
さらに、黒色および緑色カラーぺースト作製に用いたのと同じポリアミック酸溶液（ポリマー濃度１６ｗｔ％）４５ｇと、ピグメントブルー１５（フタロシアニンブルー）２．８ｇ、Ｎ−メチル−２−ピロリドン２５．５ｇ、ブチルセロソルブ１０ｇをガラスビーズ１５０ｇとともにホモジナイザーを用い、７０００ｒｐｍで３０分間分散処理後、ガラスビーズを濾過により除去し、青色カラーペーストを得た。
【００５８】
黒色カラーペーストを厚さ１．１ｍｍの無アルカリガラス基板上にスピンコートし、１１０℃で１５分間オーブンを用いて空気中で加熱乾燥して、膜厚１．６μｍのポリイミド前駆体膜を得た。この膜上にポジ型フォトレジストを塗布し、８０℃で２０分間加熱乾燥して膜厚１．０μｍのレジスト膜を得た。紫外線露光機を用い、クロム製のフォトマスクを介して紫外線を照射した。露光後、テトラメチルアンモニウムハイドロオキサイドの２．３８ｗｔ％の水溶液からなる現像液に浸漬し、フォトレジストおよびポリイミド前駆体着色膜の現像を同時に行った。エッチング後、不要となったフォトレジスト層をメチルセロソルブアセテートで剥離した。さらにこのようにして得られたポリイミド前駆体着色被膜を窒素雰囲気中で３１０℃で２０分間熱処理し、膜厚１．３μｍのポリイミド黒色着色膜からなる格子状のブラックマトリクスを得た。
【００５９】
次に、赤色カラーぺーストをブラックマトリクスが形成された無アルカリガラス基板上にスピンコートし、９０℃で１０分間、１１０℃で２０分間オーブンを用いて空気中で加熱乾燥して、膜厚１．７μｍのポリイミド前駆体膜を得た。この膜に黒色ポリイミド前駆体膜と同様なパターン加工処理を施し、ストライプ状のパターンを形成した後、窒素雰囲気中で３００℃で３０分間熱処理し、膜厚１．３μｍのポリイミド赤色着色膜からなる画素を形成した。なお、赤色着色膜のパターン加工の際、ブラックマトリクスとの境界部で、赤色着色膜はブラックマトリクス上に乗り上げるようにし、ブラックマトリクスと赤色着色膜の間に空隙が生じないようにした。
【００６０】
また、緑色カラーぺーストを無アルカリガラス基板上にスピンコートし、１００℃で２０分間オーブンを用いて空気中で加熱乾燥して、膜厚１．５μｍの緑色ポリイミド前駆体膜を得た。この膜を赤色ポリイミド前駆体膜と同様にパターン加工し、窒素雰囲気中で２８０℃で１時間熱処理して、膜厚１．２μｍのポリイミド緑色着色膜からなる画素を形成した。
【００６１】
さらに、青色カラーペーストを無アルカリガラス基板上にスピンコートし、１２０℃で２０分間オーブンを用いて空気中で加熱乾燥して、膜厚１．４μｍの青色ポリイミド前駆体膜を得た。この膜を赤色ポリイミド前駆体膜と同様にパターン加工し、窒素雰囲気中で２８０℃で１時間熱処理し、膜厚１．１μｍのポリイミド青色着色膜からなる画素を形成して、カラーフィルター基板を作製した。
【００６２】
このカラーフィルター基板の曲率半径（画素形成面側を正とする）を、温調室（２５℃）で、触針法の表面粗さ測定装置を用い、針を画素形成面の裏側に接触させて測定した。基板の反りと、針の走査距離から、（２）式より求めた曲率半径は、６３０ｍであった。
【００６３】
カラーフィルター基板をＤＣマグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内にセットした。酸化スズ濃度１０％のＩＴＯターゲットを使用し、スパッタガスとしてアルゴンを、反応性ガスとして微量の酸素を用い、スパッタリングを行った。
磁場強度４００Ｇ、出力１．４ｋＷ、ガス圧０．５Ｐａ、酸素濃度１．５％、基板温度１００℃の条件のもとでスパッタリングを行い、スパッタリング終了後、基板温度を２６０℃に上げ、１０分間アニールを行い、膜厚１５０ｎｍのＩＴＯ膜をカラーフィルター基板上に形成し、本発明のカラーフィルター基板が得られた。
【００６４】
ＩＴＯ成膜後のカラーフィルター基板の曲率半径を、温調室（２５℃）で測定したところ４５２ｍであった。無アルカリガラスのヤング率は室温で９６ＧＰａ、ポアッソン比は０．２６であるため、（１）式よりＩＴＯ膜中には１０９ＭＰａの引張り応力が存在するという結果が得られた。また、表面抵抗を測定したところ、１８Ω／□であった。膜厚が１５０ｎｍであるので、比抵抗は２．７×１０-4Ω・ｃｍである。
【００６５】
ＩＴＯ膜上に配向膜形成用ポリイミド前駆体溶液をスピンコートし、窒素雰囲気中で１２０℃で１０分間、２５０℃で２０分間熱処理を行い、配向膜を形成した後、ラビング処理を施した。これと、ＩＴＯ膜および配向膜を形成しラビング処理を施した無アルカリガラスを、球状スペーサを散布した後、重ね合わせ、周辺をエポキシ樹脂で１部に開口部を設けて周辺部を封止した。その後、開口部より液晶を注入し、開口部を紫外線硬化樹脂で封止した。このようにして作製した液晶セルを偏光板で挟んで本発明の液晶表示装置を作製した。
【００６６】
液晶表示装置の表示特性に特に問題はなかった。その後、装置を分解して、電子顕微鏡によりカラーフィルター基板を観察したが、異常はみられなかった。
【００６７】
ＩＴＯ膜を塩酸により除去し、触針法により曲率半径の測定を行った。曲率半径として６３０ｍという値が得られ、ＩＴＯ膜形成前と同じ値であった。
【００６８】
比較例１
実施例１と同様にして、無アルカリガラス基板上に、ブラックマトリクスとＲ、Ｇ、Ｂの画素膜を形成し、曲率半径６３０ｍのカラーフィルター基板（ＩＴＯ膜未形成）を得た。
【００６９】
スパッタリング時の基板温度を１００℃から２２０℃へ、また、アニール処理を行わないという条件変更以外は実施例１と同様にして、カラーフィルター基板上に膜厚１５０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
【００７０】
実施例１と同様に、曲率半径を測定したところ１８００ｍであった。（１）式よりＩＴＯ膜中には１８０ＭＰａの圧縮応力が存在するという結果が得られた。
表面抵抗を測定したところ、１９Ω／□であった。膜厚が１５０ｎｍであるので、比抵抗は２．９×１０-4Ω・ｃｍである。
【００７１】
実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、表示特性を調べた。画面に部分的にムラが生じているのが観察された。装置を分解し、ムラが生じた部分に相当するカラーフィルター基板の部位を電子顕微鏡により観察したところ、ブラックマトリクス上に画素膜が乗り上げている部分で、画素膜にクラックが生じていることが判明した。
【００７２】
実施例２
温度計および乾燥窒素導入口と攪拌装置を付した２０００ｍｌの４つ口フラスコ中にγ−アミノプロピルメチルジエトキシシラン１９１．４ｇ（１モル当量）、γ−ブチロラクトン５４１．０ｇ、水３６．０ｇ（２モル当量）を入れ、乾燥窒素流入下、６０℃で２間攪拌し、γ−アミノプロピルメチルジエトキシシランの加水分解を完了した。その後、ピロメリット酸二無水物７６．３ｇ（０．３５モル当量）、およびＮ−メチル−２−ピロリドン３０５．４ｇを投入し、乾燥窒素流入下、６０℃で２時間攪拌した後、無水マレイン酸２９．４ｇ（０．３モル当量）、３−メチル−３−メトキシブタノール１１７．７ｇを投入して同条件下で１時間攪拌し、硬化性化合物の溶液を得た。
【００７３】
実施例１と同様にして、無アルカリガラス基板上に、ブラックマトリクスとＲ、Ｇ、Ｂの画素膜を形成した後、硬化性化合物の溶液をスピンコートした。窒素雰囲気中で１３０℃で２０分間、２８０℃で４０分間熱処理を行い、オーバーコート膜を形成した。曲率半径を測定したところ３４２ｍであった。
【００７４】
カラーフィルター基板をＤＣマグネトロンスパッタリング装置のチャンバー内にセットし、実施例１と同様に、ただし、ガス圧０．２Ｐａ、酸素濃度２．５％、基板温度８０℃の条件のもとでスパッタリングを行った。スパッタリング終了後、基板温度を２７０℃に上げ、５分間アニールを行い、膜厚１８０ｎｍのＩＴＯ膜をカラーフィルター基板上に形成し、本発明のカラーフィルター基板が得られた。
【００７５】
表面抵抗を測定したところ、１４Ω／□であった。膜厚が１８０ｎｍであるので、比抵抗は２．５×１０-4Ω・ｃｍである。曲率半径を測定したところ２９１ｍであった。（１）式よりＩＴＯ膜中には７４ＭＰａの引張り応力が存在するという結果が得られた。
【００７６】
実施例１と同様に液晶表示装置を作製し、表示特性を調べたが、特に問題はなかった。装置を分解し、電子顕微鏡によりカラーフィルター基板を観察したが、異常はみられなかった。
比較例２
実施例２と同様にして、オーバーコート膜が画素膜およびブラックマトリクス上に形成された、曲率半径が３４２ｍのカラーフィルター基板（ＩＴＯ膜未形成）を得た。実施例２と同様に、ただし、スパッタリング時の基板温度を２３０℃へ、また、アニール処理を行わないという条件変更を行い、オーバーコート膜上に膜厚１８０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。
【００７７】
表面抵抗を測定したところ、１５Ω／□であった。膜厚が１８０ｎｍであるので、比抵抗は２．７×１０-4Ω・ｃｍである。曲率半径を測定したところ７９０ｍであった。（１）式よりＩＴＯ膜中には２４１ＭＰａの圧縮応力が存在するという結果が得られた。
【００７８】
実施例１と同様にして液晶表示装置を作製し、表示特性を調べた。画面に部分的にムラが生じているのが観察された。装置を分解し、ムラが生じた部分に相当するカラーフィルターの部位を電子顕微鏡により観察したところ、ブラックマトリクス上に画素膜が乗り上げている部分で、画素膜とオーバーコート膜の界面で、オーバーコート膜にクラックが生じていることが判明した。
【００７９】
実施例３
実施例１と同様に、ただし、ブラックマトリクス、および、Ｒ、Ｇ、Ｂの画素膜の厚みがそれぞれ２倍になるようにスピンコート条件を変更し、異なるフォトマスクを使用して、ブラックマトリクス上に、画素膜の積層により高さ５．４μｍの柱状のスペーサが形成された、カラーフィルター基板（ＩＴＯ膜未形成）を作製した。このカラーフィルターの曲率半径を、触針法により求めたところ、２９８ｍであった。
【００８０】
このカラーフィルター基板の上に、実施例１と同様に、ただし、ガス圧０．３Ｐａ、酸素濃度２．０％、基板温度６０℃の条件のもとでスパッタリングを行った。
スパッタリング終了後、基板温度を２８０℃に上げ、５分間アニールを行い、膜厚１４０ｎｍのＩＴＯ膜を形成した。基板の曲率半径は２２３ｍであり、ＩＴＯ膜中には２１１ＭＰａの引張り応力が存在した。また、ＩＴＯ膜の比抵抗は２．６×１０-4Ω・ｃｍであった。
【００８１】
実施例１と同様に、ただし、球状スペーサの散布は行わずに、液晶表示装置を作製した。表示特性を調べたが、特に問題はなかった。装置を分解し、電子顕微鏡によりカラーフィルター基板を観察したが、異常はみられなっかた。
【００８２】
比較例３
実施例３と同様に、曲率半径２９８ｍのカラーフィルター基板（ＩＴＯ膜未形成）を作製した。実施例３と同様に、ただし、スパッタリング時の基板温度を２５０℃とし、アニールを行わずに、膜厚１４０ｎｍのＩＴＯ膜をカラーフィルター基板上に形成した。ＩＴＯ膜形成後、基板の曲率半径は１５５０ｍであり、ＩＴＯ膜中には５０７ＭＰａの圧縮応力が存在した。また、ＩＴＯ膜の比抵抗は２．６×１０-4Ω・ｃｍであった。
【００８３】
実施例３と同様にして液晶表示装置を作製し、表示特性を調べた。画面に部分的にムラが生じているのが観察された。装置を分解し、ムラが生じた部分に相当するカラーフィルター基板の部位を電子顕微鏡により観察したところ、柱状スペーサの周辺部で、画素膜にクラックが生じていた。
【００８４】
【発明の効果】
本発明のカラーフィルター基板は、上述のごとく構成したので、配向膜の形成工程で、高温下に置かれても、画素膜やオーバーコート膜にクラックや細かいしわが発生しにくい。このカラーフィルター基板を用いて作製した液晶表示装置は、画素膜やオーバーコート膜のクラックに起因する表示品位の低下が起こる可能性が小さい。
【図面の簡単な説明】
【図１】曲率半径Ｒを求める際の基板の断面図である。
【符号の説明】
Ｒ：曲率半径
Ｄ：針の走査距離
δ：基板の反り
【図１】
0003965716.tif 000005