(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料面上のマーク上でエネルギービームを１次元又は２次元的に走査して得られるマーク信号を用いて、エネルギービーム装置の光学系を調整する方法において、
前記マークは１次元又は２次元の周期構造を有しており、前記マーク信号に対して周波数の異なる参照信号と前記マーク信号との積をとって得られるモアレ信号の位相のずれから前記マーク信号の位相のずれを検出し、検出された位相のずれから前記マークとビーム走査領域との位置関係の変動を求めることを特徴とするエネルギービーム装置における光学系の調整方法。
【請求項２】
試料面上のマーク上でエネルギービームを１次元又は２次元的に走査して得られるマーク信号を用いて、エネルギービーム装置の光学系を調整する方法において、
前記マークは１次元又は２次元の周期構造を有しており、前記マーク信号のうちのオフセット分を除いた成分を２値化し、前記マーク信号に対して周波数の等しい２値化した参照信号と前記マーク信号との積をとって平均することで得られる位相差信号から前記マーク信号の位相のずれを検出し、検出された位相のずれから前記マークとビーム走査領域との位置関係の変動を求めることを特徴とするエネルギービーム装置における光学系の調整方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、エネルギービーム装置における光学系の調整方法に係わり、例えばウェハ上に微細パターンを形成するために用いられる電子ビーム描画装置において光学系を調整する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年の半導体製作プロセスに用いられる電子ビーム描画では、従来の丸ビームを用いたものに加えて、スループットを上げるために矩形，三角形或いは任意パターンの断面を有するビームを発生して描画する、可変成形或いはキャラクタプロジェクション方式の電子ビーム描画装置が用いられる。この種の装置においては、パターン形成の微細化と高精度化に伴い、ビーム寸法や位置の高精度化が要求されている。
【０００３】
ビーム寸法や位置の高精度化を実現するための条件の一つとして、ビームの光軸をレンズの軸と一致させることが求められる。ビームの光軸を合わせるためには、例えば図１１に示すように、ビーム１１１を微細マーク１１２上で走査し、得られる反射電子信号から走査範囲とマークとの相対的な位置関係を求め、この位置関係がレンズの励磁を変えても変化しないように軸合わせコイルを用いて調整する。
【０００４】
また、電子ビームの偏向位置についても極めて高い精度が必要となる。偏向を正確に制御するためにはレーザ干渉計を設けたステージ上のマーク位置をある偏向条件で求め、次にマークを移動させて偏向条件を求める。この作業を繰り返して、偏向条件と実際のマーク位置との対応を求めて偏向位置が所定の位置となるように偏向系を調整する。
【０００５】
マークが、例えば重金属薄膜に微細な孔を開けて作られたものの場合は、信号の極性が逆になる。また、マークとして、微小なファラデーカップ構造のものを用いて流入電流を測定することもできる。図１２（ａ）に示すような単独のマーク１２２をビーム１２１で走査し、これにより得られる図１２（ｂ）に示すような信号から位置を求める場合には、図１２（ｃ）に示すように例えばマーク信号を微分して二つのピーク位置の中間をとる。
【０００６】
ところで、現実にマーク上をビームで走査して得られる信号は多くの場合、かなりの雑音を含んでいる。これを除くためには、ビームでマーク上を何度も走査してマーク信号を得、これを重ね合わせることが必要となる。この場合、必要な精度を得るまでに長時間を要し、また同一個所に何度もビームを照射することはマーク付近を局所的に加熱することとなり、マーク及びマーク基板の熱膨張を招き精度の劣化を招くこともある。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
このように、従来の単一マークを用いてビームの光軸，偏向位置，回転等を調整する方法においては、十分な調整精度が得られない、調整に長時間を要する等の問題があった。
【０００８】
本発明は、上記事情を考慮して成されたもので、その目的とするところは、エネルギービームの光軸，偏向位置，回転等を最適に合わせるための光学系の調整を短時間に且つ正確に行うことができるエネルギービーム装置における光学系の調整方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
（構成）
上記課題を解決するために本発明は次のような構成を採用している。
即ち本発明は、試料面上のマーク上でエネルギービームを１次元又は２次元的に走査して得られるマーク信号を用いて、エネルギービーム装置の光学系を調整する方法において、前記マークは１次元又は２次元の周期構造を有しており、前記マーク信号に対して周波数の異なる参照信号と前記マーク信号との積をとって得られるモアレ信号の位相のずれから前記マーク信号の位相のずれを検出し、検出された位相のずれから前記マークとビーム走査領域との位置関係の変動を求めることを特徴とする。
【００１０】
また本発明は、試料面上のマーク上でエネルギービームを１次元又は２次元的に走査して得られるマーク信号を用いて、エネルギービーム装置の光学系を調整する方法において、前記マークは１次元又は２次元の周期構造を有しており、前記マーク信号のうちのオフセット分を除いた成分を２値化し、前記マーク信号に対して周波数の等しい２値化した参照信号と前記マーク信号との積をとって平均することで得られる位相差信号から前記マーク信号の位相のずれを検出し、検出された位相のずれから前記マークとビーム走査領域との位置関係の変動を求めることを特徴とする。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の詳細を図示の実施形態によって説明する。
【００２４】
（第１の実施形態）
図１は、本発明の第１の実施形態で用いるマークパターンを示す図である。図１（ａ）の例では、マークを有する試料は、ガラス基板上のクロム遮光膜の下地に導電膜を有するクロムマスクである。クロム遮光膜の一つの領域を一定の周期Ｓで市松格子にエッチングしてマークとしている。なお、図１（ｂ）〜（ｅ）に示すようなマークパターンを用いることも可能である。
【００２５】
いま、図１（ａ）に示すマークを用いてビームの位置を求めることを考える。エネルギービームとしては電子ビームを考えるが、これに限らず光，イオン，中性粒子でもよい。試料を載置したステージを移動させて、ビームが偏向位置の原点（０，０）でマークの中心付近に来るようにする。この状態で、偏向器によりマーク上を縦・横にビーム走査させて得られる反射電子信号を取り込む。得られた信号は図２（ａ）に示すように縦・横とも周期的な信号となる。得られた信号の正弦波成分の基本成分を取り出すと、図２（ｂ）のように表される。
【００２６】
次に、ステージを移動させて、マークの位置を位置（ｘ１，ｙ１）まで移動さる。ここで、マークの移動距離はステージに設けられたレーザ干渉計により精度良く測定しておく。この位置までビーム偏向させて、その位置を中心として、ビームを縦・横に原点（０，０）の場合と同じ幅だけ走査させる。このとき得られる信号の正弦波成分は、理想的には図３（ａ）に示すように、原点（０，０）で得られる信号と位相が一致する。しかし、偏向位置が所望の値と若干量ずれていると、図３（ｂ）に示すように信号の位相がずれる。従って、原点（０，０）で得られる第１のマーク信号３１と位置（ｘ１，ｙ１）で得られる第２のマーク信号３２との位相のずれから、偏向位置のずれを測定することができる。
【００２７】
ここで、位相のずれの検出方法としては、以下の（１−ａ）〜（１−ｄ）の方法を使用できる。マーク信号には多くの場合にオフセット値が含まれるので、この値は予め求めておいてマーク信号から差し引いたものをマーク信号として用いる。或いは、マーク信号の時間的に一定な成分を、例えばコンデンサを通すことにより除いておくことが望ましい。
【００２８】
（１−ａ）
得られた信号を（０，１）に２値化し、矩形波を求める。原点（０，０）で求めた信号より得られた２値分布と、（ｘ１，ｙ１）で得られた２値分布との積を求め、その後で分布の平均値を求める。
【００２９】
図４に示すように、位相が完全に一致していればその値は０．５であり、位相が１８０度ずれていれば０となる。中間の位相差では０と０．５との間の値をとる。ここで、２値化するのは位相の検出感度を上げるためであり、信号値をそのまま用いることも可能である。但し、その場合は位相の変化に応じて積は変化するが、その値は信号のオフセット値や振幅によって変化する。
【００３０】
（１−ｂ）
得られた信号に有限区間フーリエ変換を施して、位相成分を検出し、得られた位相の変化を求める。信号の基本成分をＩｓｉｎ（ｋｘ＋α）とすると、それに参照信号ｓｉｎ（ｋｘ）をかけてｎ周期（ｎは自然数）平均化すると、信号のオフセット分や高調波成分は全て０となり、結局位相差信号０．５ｎＩｃｏｓ（α）が得られる。
【００３１】
位相差信号はαに対して図５のように変化する。ビームの偏向位置をずらして位相差信号を最大になる条件で、ビームの偏向位置は所望のものとなっている。ここで、マーク信号に参照信号をかける代わりにエネルギービーム強度自身に変調をかけて、得られた信号を積分することにより、直接位相差信号を得ることも可能である。
【００３２】
（１−ｃ）
図６（ａ）に示すように、得られた信号の基本成分をＩｓｉｎ（ｋｘ＋α）とすると、これと少しだけ周波数がずれた参照信号ｓｉｎ（ｋ'ｘ）をかけると、得られる信号は
0.5Ｉcos{(k-k')x+α}−0.5Ｉcos{(k+k')x+α}
となる。
【００３３】
ここで、第１項に関しては、同位相を与えるｘは位相差αの変化△αに対して、−△α／（ｋ−ｋ'）だけずれる。いま、第１項を新しい信号（モアレ信号）と考えると、図６（ｂ）に示すように、信号の位相のずれは元の信号に対して、ｋ／（ｋ−ｋ'）倍に拡大される。ｋ／（ｋ−ｋ'）はｋとｋ'の大小関係により符号が変化するが、以下拡大率においては特に断らなければ絶対値で議論するものとする。原点（０，０）と（ｘ１，ｙ１）とでモアレ信号の位相の変化が最小となるようにビームの偏向位置を調整すれば、ビームの偏向位置は所望のものとなる。
【００３４】
第２項に対しては、対象とするｘにおいて、（ｋ−ｋ'）Ｌ＝（２ｎ−１）π（ｎ：整数）となるＬについて、ｘ−Ｌ／２からｘ＋Ｌ／２までの平均値をとることにすると、共通な係数０．５ｎＩを除く部分について
第１項の平均値
0003946899.tif 000002
第２項の平均値
0003946899.tif 000003
ここで、積分の上限と下限は各々ｘ−Ｌ／２とｘ＋Ｌ／２とする。
【００３５】
従って、ｋＬ＝２ｍπ（ｍ：自然数）となれば第２項は０となる。二つの条件より明らかなように、ｋ'，Ｌは
ｋＬ＝２ｍπ，（ｋ−ｋ'）Ｌ＝±π
となるようにとるのが望ましい。例えば、ｍ＝５，ｋ−ｋ'＝π／Ｌとすると、
ｋ／（ｋ−ｋ'）＝１０
となる。
【００３６】
第２項はほぼｋＬに反比例して減少するから、ｍは大きくとることが望ましい。また、マーク信号のオフセット値については予め除いておくことも可能であるが、上記のモアレ信号を得る処理と上で説明した平均化処理における望ましい条件においては除かれる。さらに、高周波のノイズ成分も平均化処理によって除去できる。
【００３７】
ここで、装置内部に有する参照信号とマーク信号との積を作る代わりに、エネルギービームの強度自身に反射率一様なマーク上をビーム走査したときに得られるマーク信号の変化分がＩｓｉｎ（ｋ'ｘ）となるように変調をかけることにより、直接信号
0.5Ｉ［cos{(k-k')x+α}-cos{(k+k')x+α}］
を得ることも可能である。この場合には、オフセット成分は平均化処理の後も残るので、信号を得る時点で時間的に一定な成分を除いておくことが望ましい。
【００３８】
（１−ｄ）
得られた信号の基本成分をＩｓｉｎ（ｋｘ＋α）とすると、これと少しだけ周波数が大きい参照信号と少しだけ周波数が小さい参照信号ｓｉｎ（ｋ'ｘ），ｓｉｎ（ｋ"ｘ）をかけて、各々について、モアレ信号を求める。モアレ信号の抽出は（１−ｃ）と同様に行う。ここで、図７に示すように異なる点Ａ，Ｂでの二つのモアレ信号の位相差の変化を求めると、位相の変化が上記（１−ｃ）の場合よりも大きくなる。
【００３９】
また、得られる二つの位相差の絶対値が一致するようにすればｋ'，ｋ"は精度良く決められるからｋを精度良く求められる。原点（０，０）と（ｘ１，ｙ１）とでモアレ信号の位相差が一致するようにビームの偏向位置を調整すれば、ビームの偏向位置は所望のものとなる。
【００４０】
以上述べた方法のいずれか或いは複数を繰り返して異なるマーク位置においてビームの偏向位置を調べ、それが所望の値に対して許容できる範囲になるように調節する。これにより、ビーム偏向位置の高精度な制御が可能となる。
【００４１】
（第２の実施形態）
本実施形態では、ビームの光軸とレンズの軸を合わせる。まず、偏向位置の原点（０，０）に第１の実施形態で説明したマークを移動させる。この位置でビームを縦・横に走査して信号を得る。次に、軸合わせを行いたいレンズの励磁或いは電場を微小量変更してレンズの焦点距離を変えて同様に信号を得る。
【００４２】
次に、得られた二つの信号から、ステージ位置に対するビームの位置のずれを検出する。検出方法は、第１の実施形態に示した方法を用いる。レンズの焦点距離を設定値付近で変化させる時に、ビーム位置が最小となるように軸合わせコイル或いは電極を調整してレンズとビームとの軸合わせを行う。
【００４３】
また、レンズの焦点距離を一定として得られるモアレ信号からビームの位置の揺らぎが別の手段で測定されていれば、ステージ位置の揺らぎを求めることも可能である。
【００４４】
（第３の実施形態）
本実施形態では、ビーム偏向の座標軸とマークの座標軸とを合わせる。まず、ビーム偏向領域程度の広さの市松格子状のマークの中心を原点として、ビームを偏向して、マークの２次元像を得る。周波数はｋで与えられたとする。
【００４５】
いま、ビーム偏向の座標軸の向きがマークの座標軸の向きからθだけ回転しているとする。参照信号の周波数を２軸ともｋ'として、モアレ信号を２次元で表示すると、図８に示すように、モアレ信号の回転はθが小さい時にはｋ／（ｋ−ｋ'）θだけずれる。従って、軸の回転の検出は容易となる。
【００４６】
また、ｋ'＜ｋ，k"＞ｋとして、二つの参照信号を用いて二つのモアレ信号を求めて、両者の角度のずれを求めると、近似的に[(k'-k")/{(k-k')(k-k")}]θとなる。このとき、k/(k-k')θと、k/(k"-k)θとが一致するようにｋ，ｋ'を決めてやれば、k-k'=k"-k=△kとして、((k'+k")/△k)θとなり、精度良く求められる。ここで、θと共に、マーク信号の周波数は大きくなるから、モアレ信号の周期も短くなる。θ＝０で、モアレ信号の周期は最長となる。
【００４７】
別の実施形態として、モアレ信号の周期を計測して、これが最長となるように計測することも可能である。また、ビームを２次元的に走査するピッチを周期マークの周期の整数倍程度に大きくとり、それぞれの走査線に沿った位置ずれを検出するようにすることもできる。
【００４８】
（第４の実施形態）
ビーム偏向領域程度の広さの市松格子状のマークの中心を原点として、ビームを偏向して、マークの２次元像を得る。周期はｋで与えられたとする。いま、ビームの実際の偏向位置（Ｘ，Ｙ）と所望の位置（ｘ，ｙ）とが（△Ｘ，△Ｙ）だけずれているとする。即ち、Ｘ＝ｘ＋△Ｘ，Ｙ＝ｙ＋△Ｙとする。このとき、△Ｘ，△Ｙの分布の特徴的な長さがモアレ信号の波長に比べて十分大きい場合を考える。
【００４９】
２次元のモアレ信号が極大となる線の交点をモアレ信号格子点と呼ぶこととする。これは、極小となる線の交点、或いは信号が０となる点として定義してもよい。２次元モアレ信号で格子点位置の分布を考える。理想的なモアレ信号の周波数を△ｋ、参照信号の周波数をｋとする。あらゆる点で△Ｘ＝０，△Ｙ＝０である場合の２次元モアレ信号格子点の一つ（ｘ１，ｙ１）に対応する格子点が、２次元モアレ信号上で（ｘ１＋ｄＸ１，ｙ１＋ｄＹ１）に移動しているとする。
【００５０】
測定点付近でのマーク信号のｘ方向，ｙ方向の周波数をｋｘ，ｋｙ、参照信号の周波数をｘ，ｙ方向ともｋ'とすると、
△Ｘ＝−ｄＸ１×（ｋｘ−ｋ'）／ｋｘ
△Ｙ＝−ｄＹ１×（ｋｙ−ｋ'）／ｋｙ
で与えられる。参照信号の位相を変えることにより格子点の位置を変えられるので、（△Ｘ，△Ｙ）分布は容易に得られる。
【００５１】
得られた△Ｘ，△Ｙ分布に基いて、実際の偏向位置（Ｘ，Ｙ）と所望の位置（ｘ，ｙ）とのずれが偏向領域全面で許容できる値にまで小さくなるように偏向のパラメータを調整する。具体的には例えば、
△Ｘ＝a1×x+b1×y+c1×x×x+d1×x×y+e1×y×y
△Ｙ＝a2×x+b2×y+c2×x×x+d2×x×y+e2×y×y
で与えられるとして、所望の偏向位置（ｘ，ｙ）に対して、（−△Ｘ，−△Ｙ）だけ補正を行う。これにより、ビームの偏向位置を高精度に制御することが可能となる。
【００５２】
（第５の実施形態）
本実施形態は、隣接するフィールドを接続するために、各々のフィールドで偏向位置を合わせる方法である。
【００５３】
試料上の隣接する小フィールドをＡｗ，Ｂｗとする。ここで、対応する電子ビームの偏向領域をＡｄ，Ｂｄとする。Ａｄ，Ｂｄは重なり領域ＡＢで重なっているとする。いま、重なり領域ＡＢに図９に示すように２次元マークを配置する。ここで、電子ビームの偏向領域がＡｄの時に、領域ＡＢにおいてビームをｘ方向，ｙ方向に走査して、その時に得られるマーク信号からモアレ信号Ｍ1x，Ｍ1yを得る。
【００５４】
一方、電子ビームの偏向領域がＢｄの時に、領域ＡＢにおいてビームを縦・横に走査して、その時に得られるマーク信号からモアレ信号をＭ2x，Ｍ2yを得る。Ｍ1xとＭ2xとの位相が一致し、Ｍ1yとＭ2yとの位相が一致するようにビーム偏向を調整すれば、描画フィールドＡｗ，Ｂｗの境界においてビームの偏向位置は一致する。これにより、描画フィールドは滑らかに接続できる。
【００５５】
また、マークは二方向に走査するのではなく、２次元的に走査して得られる２次元モアレ信号が一致するように調整することも勿論可能である。
【００５６】
（第６の実施形態）
本実施形態は、ビームの偏向幅を精度良く合わせる方法である。いま、可変成形或いはキャラクタビームを考える。試料上に小型のマークを配置して、まずビーム形状を測定する。次に、予め精度良く形成した１次元又は２次元マーク上をビーム走査する。
【００５７】
ここで、マークの周期は正確に定められているものとする。例えば、マークのピッチが１μｍで、ビームの偏向幅が１０μｍであるとすると、ビームの１回の走査で検出信号に９つのパルスが得られることになる。ビームの偏向幅が変わるとパルスの数が異なってくる。つまり、ビームの偏向幅によって信号の周期が異なることになる。これを利用して、ビームの偏向幅を合わせ、ひいてはビーム照射位置を正確に定める。
【００５８】
具体的には、例えば第１の実施形態の（１−ｄ）で述べた方法により、信号の周期は正確に求まる。これと、予め測定されたマークの周期とを比較することにより、ビーム偏向量の絶対値が求まる。そして、この偏向量と測定されたビーム形状とから、連続するショット間の位置を決める。これにより、連続するビームの照射位置を正確に決めることができる。
【００５９】
（第７の実施形態）
描画装置においては、描画速度を向上させるために試料を搭載したステージを連続移動させながら描画することを行うことが望ましい。この場合には、移動する試料ステージの位置をレーザ干渉計等により正確に測定して、試料上の同じ位置にビームをビーム照射位置を移動させることが必要となる。これを、トラッキングと呼ぶ。本発明の方式を用いることによりトラッキング調整も高精度に行うことが可能となる。
【００６０】
図１０に示すように、ステージ上に格子状のマーク１０１を設け、この上でビーム１０２を２次元状に或いは十字状に、或いは進行方向に沿って１次元的に走査する。そして、マーク１０１からの反射電子１０３を電子検出器１０４で検出する。このとき、ビームの走査領域と、マークとの相対位置がずれればモアレ信号の位相にずれが検出される。従って、ビームの偏向の調整はモアレ信号の位相の移動が許される程度に小さくなるように行う。
【００６１】
また、逆に偏向制御信号と、レーザ干渉計１０５によるステージ位置との関係とモアレ信号の位相変化とから、逆にステージ測定精度の揺らき或いは偏向量の揺らぎ等も検出可能である。
【００６２】
なお、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。先の実施形態では、ビーム偏向領域とマークとの位置関係のずれの測定方法を主に説明した。しかし、第１の実施形態の（１−ｂ）の場合で、マーク上のビーム偏向領域の大きさが所定の値からずれていると、測定されたマーク信号の周波数は所定の値ｋからずれる。従って、マークが必要な精度に制作されている場合には、周波数が所定の値ｋとなるように偏向領域の大きさを設定することが望ましい。
【００６３】
同様に、第１の実施形態の（１−ｃ）の場合でも、モアレ信号の周波数が所定の値からずれる。従って、モアレ信号の周波数が所定の値になるように偏向領域の大きさを決めれば、マーク上を走査するビームの偏向領域の大きさを調整することができる。
【００６４】
また実施形態では、市松格子状のマークを用いた例について説明したが、本発明はこれに限定されず、例えば図１（ｂ）〜（ｅ）に示すように、１次元の位置合わせについては１次元のラインアンドスペースマークを用いることが可能である。また、市松格子ではなくて、ｘ方向，ｙ方向のラインアンドスペースを直交させたものでもよい。ｘ方向，ｙ方向のラインアンドスペースマークを設けておいてビーム位置を測定することも可能である。さらに、マークは例えば３角形や６角形を並べたものでもよい。重要なことはマークが測定したい方向について周期構造を持つということである。
【００６５】
また本発明は、電子ビーム描画装置に限るものではなく、各種のエネルギービーム装置の光学系の調整に適用することができる。つまり、エネルギービームとしては、電子ビームに限るものではなく、イオンビーム，中性粒子ビーム，光子ビームであってもよい。その他、本発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々変形して実施することができる。
【００６６】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、マークとビーム走査領域との位置関係の変動を、マーク信号の位相の変化から求めることによって、エネルギービームの光軸，偏向位置，回転等を最適に合わせるための光学系の調整を短時間に且つ正確に行うことができ、各種エネルギービーム装置の稼動率向上等に寄与することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の実施形態で用いるマークパターンを示す図。
【図２】周期的なマーク信号の例と基本波成分を示す図。
【図３】マーク信号の基本波成分と位相がずれた信号の基本波成分を示す図。
【図４】矩形波マーク信号と参照信号との積の位相差依存性を示す図。
【図５】マーク信号の基本波成分と参照信号との積から得られる位相差信号の位相差依存性を示す図。
【図６】マーク信号の基本波成分と参照信号との積から得られる信号、及び異なる２点でのマーク信号の基本波成分と対応するモアレ信号を示す図。
【図７】マーク信号の基本波成分より周波数が高い参照信号及び低い参照信号を用いて得られるモアレ信号を示す図。
【図８】マーク走査が回転するときの２次元モアレ信号の変化を示す図。
【図９】隣接する小領域に対して重なる偏向可能領域でのビーム繋ぎの調整方法を示す図。
【図１０】ステージ連続移動する場合のトラッキング調整を示す図。
【図１１】従来のマークを用いたビーム測定の例を示す図。
【図１２】従来のマークを用いたビーム測定の例を示す図。
【符号の説明】
３１…第１のマーク信号
３２…第２のマーク信号
１０１…格子状マーク
１０２…電子ビーム
１０３…反射電子
１０４…電子検出器
１０５…レーザ干渉計
【図１】
0003946899.tif 000004
【図２】
0003946899.tif 000005
【図３】
0003946899.tif 000006
【図４】
0003946899.tif 000007
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
0003946899.tif 000013
【図１１】
0003946899.tif 000014
【図１２】
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