(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気光学物質と、前記電気光学物質を挟持する一対の基板とを有する電気光学装置の製造方法において、
前記基板上に樹脂層を形成する工程と、
前記樹脂層に開口部を形成する工程と、
前記開口部の壁面と前記基板表面とを親液性にする親液化工程と、
前記樹脂層の上面を撥液性にする撥液化工程と、
前記基板に、隣接する反射膜を形成する工程と、
前記反射膜の上面にカラーフィルタを形成する工程を有し、
前記反射膜を形成する工程では、金属を含む液体材料を液滴吐出装置を用いて、前記開口部に吐出することにより、前記基板上に前記金属を含む前記反射膜を形成することを特徴とする電気光学装置の製造方法。
【請求項２】
前記金属は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒのうち少なくとも１つを含み、
前記液体材料は、所定の溶媒に前記金属を分散したものであることを特徴とする請求項１記載の電気光学装置の製造方法。
【請求項３】
請求項１又は請求項２記載の電気光学装置の製造方法で製造されたことを特徴とする電気光学装置。
【請求項４】
請求項３記載の電気光学装置を有することを特徴とする電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、反射膜の製造方法及びデバイスの製造方法、電気光学装置の製造方法、並びにデバイス及び電気光学装置、電子機器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
レーザーディスク等の光ディスクは、樹脂基板と、この樹脂基板上に設けられたアルミニウムやアルミニウム合金等の金属からなる反射膜とを有している。従来より、金属製反射膜を形成する方法として、スパッタリング法や真空蒸着法が知られている。
【０００３】
真空蒸着法は、真空容器内の下部に蒸発源を配置するとともにこの蒸発源に対向するように真空容器内の上部にワーク（基板）を配置し、電子ビーム加熱又は抵抗加熱により蒸発源のアルミニウム等の金属粒子を蒸発させ、これをワーク表面に堆積させてアルミニウム等の金属膜を表面に形成する方法である。
【０００４】
また、スパッタリング法、例えば、プラズマスパッタ法は、真空容器内に、磁石の上部にアルミニウム等の金属ターゲットを設けたスパッタ源を配置するとともに、このスパッタ源に対向するようにワークを配置し、真空容器内に不活性ガスを導入しつつ、金属ターゲット表面近傍に形成された磁界及び印加した電界等により、ワークと金属ターゲットとの間にプラズマを発生させ、このプラズマにより金属ターゲットをスパッタリングしてワーク表面にアルミニウム等の金属粒子を堆積させてアルミニウム等の金属膜を表面に形成する方法である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上述した従来の反射膜の形成方法には、以下に述べる問題が生じるようになった。
すなわち、反射膜を所定のパターンに形成したい場合、上述した真空蒸着法やスパッタリング法では、金属膜をワークの表面に形成した後、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程によりパターニングしなければならない。上記工程は大掛かりな設備を必要とし、また工程数も多くなり、作業性低下やコスト上昇を招くことになる。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、反射膜を所定のパターンに形成する際、大掛かりな設備を必要とせず、良好な作業性及び低コスト化を実現できる反射膜の製造方法、及びこの反射膜の製造方法を用いたデバイスの製造方法、電気光学装置の製造方法、並びにデバイス及び電気光学装置、電子機器を提供することを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するため、本発明の反射膜の製造方法は、金属を含む液体材料を液滴吐出装置を用いて基板上に設けることにより、該基板上に前記金属を含む反射膜を形成することを特徴とする。
【０００８】
本発明によれば、液滴吐出装置を用いて反射膜を形成するようにしたので、パターンを有する反射膜を形成するに際し、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程等の他の工程を必要とせず、所望のパターンを有する反射膜を容易に形成できる。したがって、簡易な工程で作業性良く反射膜を製造することができる。
【０００９】
本発明の反射膜の製造方法において、前記金属は、Ａｕ、Ａｇ、Ｃｕ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｃｒのうち少なくとも１つを含み、前記液体材料は、所定の溶媒に前記金属を分散したものである構成が採用される。
これにより、液滴吐出装置は、上記金属を基板上に吐出し、金属製反射膜を形成することができる。
【００１０】
ここで、本発明における液滴吐出装置はインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）を備えたインクジェット装置を含む。インクジェット装置のインクジェットヘッドは、インクジェット法により液体材料を定量的に吐出可能であり、例えば１ドットあたり１〜３００ナノグラムの液体材料（流動体）を定量的に断続して滴下可能な装置である。
反射膜の製造方法としてインクジェット方式を採用することにより、安価な設備で反射膜を所定のパターンで形成することができる。
なお、液滴吐出装置としては、ディスペンサー装置であってもよい。
【００１１】
インクジェット方式としては、圧電体素子の体積変化により流動体（液体材料）を吐出させるピエゾジェット方式であっても、熱の印加により急激に蒸気が発生することにより流動体を吐出させる方式であってもよい。
【００１２】
ここで、流動体とは、インクジェットヘッドのノズルから吐出可能（滴下可能）な粘度を備えた媒体をいう。水性であると油性であるとを問わない。ノズル等から吐出可能な流動性（粘度）を備えていれば十分で、固体物質が混入していても全体として流動体であればよい。また、流動体に含まれる材料は、溶媒中に微粒子として分散されたものの他に、融点以上に加熱されて溶解されたものでもよく、溶媒の他に染料や顔料その他の機能性材料を添加したものであってもよい。また基板はフラット基板を指す他、曲面状の基板であってもよい。さらにパターン形成面の硬度が硬い必要はなく、ガラスやプラスチック、金属以外に、フィルム、紙、ゴム等可撓性を有するものの表面であってもよい。
【００１３】
本発明のデバイスの製造方法は、反射膜を有するデバイスの製造方法において、前記反射膜を、上記記載の反射膜の製造方法により形成することを特徴とする。
【００１４】
本発明によれば、デバイスの反射膜を形成する際、本発明の反射膜の製造方法を用いることにより、少ない工程数で作業性良く形成することができる。したがって、低コストなデバイスを製造することができる。
【００１５】
本発明の電気光学装置の製造方法は、電気光学物質と、前記電気光学物質を挟持する一対の基板とを有する電気光学装置の製造方法において、前記基板上に樹脂層を形成する工程と、前記樹脂層に開口部を形成する工程と、前記開口部の壁面と前記基板表面とを親液性にする親液化工程と、前記樹脂層の上面を撥液性にする撥液化工程と、前記基板に、隣接する反射膜を形成する工程と、前記反射膜の上面にカラーフィルタを形成する工程を有し、前記反射膜を形成する工程では、金属を含む液体材料を液滴吐出装置を用いて、前記開口部に吐出することにより、前記基板上に前記金属を含む前記反射膜を形成することを特徴とする。
【００１６】
本発明によれば、反射膜を有する電気光学装置を製造する際、液滴吐出装置を用いて反射膜を形成するようにしたので、パターンを有する反射膜を形成するに際し、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程等の他の工程を必要とせず、所望のパターンを有する反射膜を容易に形成できる。したがって、簡易な工程で作業性良く低コストな電気光学装置を製造することができる。
【００１７】
ここで、電気光学物質としては、液晶材料や有機エレクトロルミネッセンス材料が挙げられ、電気光学装置としては、液晶装置や有機エレクトロルミネッセンス装置が挙げられる。特に、反射膜を有する液晶装置としては、周囲光を取り込んで画像表示する反射型液晶表示装置が挙げられる。
【００１８】
本発明の電気光学装置の製造方法において、前記基板上に隔壁を形成する工程を有し、前記隔壁と前記基板とにより形成された空間に前記液体材料を設ける構成が採用される。
これにより、例えば隔壁をフォトリソグラフィ法や印刷法を用いて開口部を有するようにパターニングされたレジスト層（バンク層）とし、前記開口部に対して液体材料を吐出することにより、液体材料を開口部に配置するだけでパターニングを精度良く行うことができる。
ここで、形成したバンク層に対して撥液処理や親液処理といった表面処理を予め施しておくことにより、液体材料のパターニングを更に精度良く行うことができる。
【００１９】
本発明のデバイスは、上記記載のデバイスの製造方法で製造されたことを特徴とする。
本発明によれば、上記記載のデバイスの製造方法で製造されるので、低コスト化で安価なデバイスが提供される。
【００２０】
本発明の電気光学装置は、上記記載の電気光学装置の製造方法で製造されたことを特徴とする。
本発明によれば、上記記載の電気光学装置の製造方法で製造されるので、低コストで安価な電気光学装置が提供される。
【００２１】
本発明の電子機器は、上記記載のデバイスを有することを特徴とする。
また、本発明の電子機器は、上記記載の電気光学装置を有することを特徴とする。
本発明によれば、本発明のデバイス及び電気光学装置が搭載されることにより、低コスト化で安価な電子機器が提供される。
【００２２】
ここで、本発明における反射膜とは、デバイス、電気光学装置あるいは電子機器に設けられて光を照射された際、所望の強度（反射率）を有する反射光を生成可能な膜を言う。すなわち、反射率はデバイスの目的に応じて設定されるものであり、この設定された反射率を有する反射膜であればよい。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の反射膜の製造方法について図面を参照しながら説明する。図１は本発明の反射膜の製造方法に用いる液滴吐出装置としてのインクジェット装置を示す概略斜視図、図２及び図３はインクジェットヘッド（液滴吐出ヘッド）を示す図である。
図１において、インクジェット装置（液滴吐出装置）ＩＪは、基板Ｐ上に液体材料を設置可能な製膜装置であって、ベース１２と、ベース１２上に設けられ、基板Ｐを支持するステージＳＴと、ベース１２とステージＳＴとの間に介在し、ステージＳＴを移動可能に支持する第１移動装置１４と、ステージＳＴに支持されている基板Ｐに対して所定の材料を含むインク（液体材料、流動体）を定量的に吐出（滴下）可能なインクジェットヘッド（液滴吐出装置）２０と、インクジェットヘッド２０を移動可能に支持する第２移動装置１６とを備えている。ベース１２上には、重量測定装置としての電子天秤（不図示）と、キャッピングユニット２２と、クリーニングユニット２４とが設けられている。そして、インクジェットヘッド２０のインクの吐出動作や、第１移動装置１４及び第２移動装置１６の移動動作を含むインクジェット装置ＩＪの動作は、制御装置ＣＯＮＴにより制御される。
【００２４】
なお、以下の説明では、液滴吐出装置をインクジェット装置として説明するが、特にインクジェット装置には限定されず、液滴を吐出することにより基板Ｐ上に液体材料を所定のパターンで描画可能なものであればよく、例えばディスペンサー装置であってもよい。
【００２５】
第１移動装置１４はベース１２の上に設置されており、Ｙ軸方向に沿って位置決めされている。第２移動装置１６は、支柱１６Ａ，１６Ａを用いてベース１２に対して立てて取り付けられており、ベース１２の後部１２Ａにおいて取り付けられている。第２移動装置１６のＸ軸方向（第２の方向）は、第１移動装置１４のＹ軸方向（第１の方向）と直交する方向である。ここで、Ｙ軸方向はベース１２の前部１２Ｂと後部１２Ａ方向に沿った方向である。これに対してＸ軸方向はベース１２の左右方向に沿った方向であり、各々水平である。また、Ｚ軸方向はＸ軸方向及びＹ軸方向に垂直な方向である。
【００２６】
第１移動装置１４は、例えばリニアモータによって構成され、ガイドレール４０、４０と、このガイドレール４０に沿って移動可能に設けられているスライダー４２とを備えている。このリニアモータ形式の第１移動装置１４のスライダー４２は、ガイドレール４０に沿ってＹ軸方向に移動して位置決め可能である。
【００２７】
また、スライダー４２はＺ軸回り（θｚ）用のモータ４４を備えている。このモータ４４は、例えばダイレクトドライブモータであり、モータ４４のロータはステージＳＴに固定されている。これにより、モータ４４に通電することでロータとステージＳＴとは、θｚ方向に沿って回転してステージＳＴをインデックス（回転割り出し）することができる。すなわち、第１移動装置１４は、ステージＳＴをＹ軸方向（第１の方向）及びθｚ方向に移動可能である。
【００２８】
ステージＳＴは基板Ｐを保持し、所定の位置に位置決めするものである。また、ステージＳＴは吸着保持装置５０を有しており、吸着保持装置５０が作動することにより、ステージＳＴの穴４６Ａを通して基板ＰをステージＳＴの上に吸着して保持する。
【００２９】
第２移動装置１６はリニアモータによって構成され、支柱１６Ａ，１６Ａに固定されたコラム１６Ｂと、このコラム１６Ｂに支持されているガイドレール６２Ａと、ガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動可能に支持されているスライダー６０とを備えている。スライダー６０はガイドレール６２Ａに沿ってＸ軸方向に移動して位置決め可能であり、インクジェットヘッド２０はスライダー６０に取り付けられている。
【００３０】
インクジェットヘッド２０は、揺動位置決め装置としてのモータ６２，６４，６６，６８を有している。モータ６２を作動すれば、インクジェットヘッド２０は、Ｚ軸に沿って上下動して位置決め可能である。このＺ軸はＸ軸とＹ軸に対して各々直交する方向（上下方向）である。モータ６４を作動すると、インクジェットヘッド２０は、Ｙ軸回りのβ方向に沿って揺動して位置決め可能である。モータ６６を作動すると、インクジェットヘッド２０は、Ｘ軸回りのγ方向に揺動して位置決め可能である。モータ６８を作動すると、インクジェットヘッド２０は、Ｚ軸回りのα方向に揺動して位置決め可能である。すなわち、第２移動装置１６は、インクジェットヘッド２０をＸ軸方向（第１の方向）及びＺ軸方向に移動可能に支持するとともに、このインクジェットヘッド２０をθｘ方向、θｙ方向、θｚ方向に移動可能に支持する。
【００３１】
このように、図１のインクジェットヘッド２０は、スライダー６０において、Ｚ軸方向に直線移動して位置決め可能で、α、β、γに沿って揺動して位置決め可能であり、インクジェットヘッド２０のインク吐出面２０Ｐは、ステージＳＴ側の基板Ｐに対して正確に位置あるいは姿勢をコントロールすることができる。なお、インクジェットヘッド２０のインク吐出面２０Ｐにはインクを吐出する複数のノズルが設けられている。
【００３２】
図２はインクジェットヘッド２０を示す分解斜視図である。図２に示すように、インクジェットヘッド２０は、ノズル２１１を有するノズルプレート２１０と、振動板２３０を有する圧力室基板２２０と、これらノズルプレート２１０と振動板２３０とを嵌めコンで支持する筐体２５０とを備えている。インクジェットヘッド２０の主要部構造は、図３の斜視図一部断面図に示すように、圧力室基板２２０をノズルプレート２１０と振動板２３０とで挟み込んだ構造を備える。ノズルプレート２１０には、圧力室基板２２０と貼り合わせられたときにキャビティ（圧力室）２２１に対応することとなる位置にノズル２１１が形成されている。圧力室基板２２０には、シリコン単結晶基板等をエッチングすることにより、各々が圧力室として機能可能にキャビティ２２１が複数設けられている。キャビティ２２１どうしの間は側壁２２２で分離されている。各キャビティ２２１は供給口２２４を介して共通の流路であるリザーバ２２３に繋がっている。振動板２３０は、例えば熱酸化膜等により構成される。振動板２３０にはインクタンク口２３１が設けられ、不図示のタンク（流動体収容部）からパイプ（流路）を通して任意の液体材料を供給可能に構成されている。振動板２３０上のキャビティ２２１に相当する位置には圧電体素子２４０が形成されている。圧電体素子２４０はＰＺＴ素子等の圧電性セラミックスの結晶を上部電極および下部電極（図示せず）で挟んだ構造を備える。圧電体素子２４０は制御装置ＣＯＮＴから供給される吐出信号に対応して体積変化を発生可能に構成されている。
【００３３】
インクジェットヘッド２０から液体材料を吐出するには、まず、制御装置ＣＯＮＴが液体材料を吐出させるための吐出信号をインクジェットヘッド２０に供給する。液体材料はインクジェットヘッド２０のキャビティ２２１に流入しており、吐出信号が供給されたインクジェットヘッド２０では、その圧電体素子２４０がその上部電極と下部電極との間に加えられた電圧により体積変化を生ずる。この体積変化は振動板２３０を変形させ、キャビティ２２１の体積を変化させる。この結果、そのキャビティ２２１のノズル穴２１１から液体材料の液滴が吐出される。液体材料が吐出されたキャビティ２２１には吐出によって減った液体材料が新たに後述するタンク８０から供給される。
【００３４】
なお、上記インクジェットヘッドは圧電体素子に体積変化を生じさせて液体材料を吐出させる構成であったが、発熱体により液体材料に熱を加えその膨張によって液滴を吐出させるようなヘッド構成であってもよい。
【００３５】
電子天秤（不図示）は、インクジェットヘッド２０のノズルから吐出されたインク滴の一滴の重量を測定して管理するために、例えば、インクジェットヘッド２０のノズルから、５０００滴分のインク滴を受ける。電子天秤は、この５０００滴のインク滴の重量を５０００の数字とノズル数で割ることにより、１ノズルあたり一滴のインク滴の重量を正確に測定することができる。このインク滴の測定量に基づいて、インクジェットヘッド２０から吐出するインク滴の量を最適にコントロールすることができる。
【００３６】
クリーニングユニット２４は、インクジェットヘッド２０のノズル等のクリーニングをデバイス製造工程中や待機時に定期的にあるいは随時に行うことができる。キャッピングユニット２２は、インクジェットヘッド２０のインク吐出面２０Ｐが乾燥しないようにするために、デバイスを製造しない待機時にこのインク吐出面２０Ｐにキャップをかぶせるものである。
【００３７】
インクジェットヘッド２０が第２移動装置１６によりＸ軸方向に移動することで、インクジェットヘッド２０を電子天秤、クリーニングユニット２４あるいはキャッピングユニット２２の上部に選択的に位置決めさせることができる。つまり、デバイス製造作業の途中であっても、インクジェットヘッド２０をたとえば電子天秤側に移動すれば、インク滴の重量を測定できる。またインクジェットヘッド２０をクリーニングユニット２４上に移動すれば、インクジェットヘッド２０のクリーニングを行うことができる。インクジェットヘッド２０をキャッピングユニット２２の上に移動すれば、インクジェットヘッド２０のインク吐出面２０Ｐにキャップを取り付けて乾燥を防止する。
【００３８】
つまり、これら電子天秤、クリーニングユニット２４、およびキャッピングユニット２２は、ベース１２上の後端側で、インクジェットヘッド２０の移動経路直下に、ステージＳＴと離間して配置されている。ステージＳＴに対する基板Ｐの給材作業及び排材作業はベース１２の前端側で行われるため、これら電子天秤、クリーニングユニット２４あるいはキャッピングユニット２２により作業に支障を来すことはない。
【００３９】
基板Ｐは、上面にパターンが形成されるパターン形成領域を有している。そして、パターンとしての反射膜を形成するために、基板Ｐのパターン形成領域に対してインクジェットヘッド２０からインク（液体材料）が吐出される。
【００４０】
インクは、例えばＡｕ（金）、Ａｇ（銀）、Ｃｕ（銅）、Ａｌ（アルミニウム）、Ｎｉ（ニッケル）、Ｃｒ（クロム）等の反射膜を形成するための反射膜形成用材料である金属材料を含んでいる。インクは、前記金属材料を所定の溶媒及びバインダー樹脂を用いてペースト化したものである。
【００４１】
ここで、金属としては、照射された光を反射するものであればよく、上記金属の他に、インジウム、錫、鉛、亜鉛、チタン、タンタル、タングステン、パラジウム、白金、鉄、コバルト、ホウ素、ケイ素、マグネシウム、スカンジウム、ロジウム、イリジウム、バナジウム、ルテニウム、オスミウム、ニオブ、ビスマス、バリウムなどのうち少なくとも１種の金属又はこれらの合金が挙げられる。また、酸化銀（ＡｇＯ又はＡｇ2Ｏ）や酸化銅なども挙げられる。なお、これら金属のうち、本実施形態においては、アルミニウム又はアルミニウムを含む合金が望ましい。
【００４２】
上記金属は、微粒子状に加工され、液体材料中に分散される。ここで、金属微粒子の粒径は可能な限り小さい（例えば５〜７ｎｍ）ことが好ましい。
【００４３】
ここで、金属微粒子を分散させて液体材料とする溶媒としては、炭素数５以上のアルコール類（例えばテルピネオール、シトロネロール、ゲラニオール、ネロール、フェネチルアルコール）の１種以上を含有する溶媒、又は有機エステル類（例えば酢酸エチル、オレイン酸メチル、酢酸ブチル、グリセリド）の１種以上を含有する溶媒であればよく、使用する金属により適宜選択できる。更には、ミネラルスピリット、トリデカン、ドデシルベンゼンもしくはそれらの混合物、又はそれらにα−テルピネオールを混合したもの、炭素数５以上の炭化水素（例えば、ピネン等）、アルコール（例えば、ｎ−ヘプタノール等）、エーテル（例えば、エチルベンジルエーテル等）、エステル（例えば、ｎ−ブチルステアレート等）、ケトン（例えば、ジイソブチルケトン等）、有機窒素化合物（例えば、トリイソプロパノールアミン等）、有機ケイ素化合物（シリコーン油等）、有機硫黄化合物もしくはそれらの混合物を用いることもできる。
ここで、インクジェット装置ＩＪとしては高沸点溶媒が好ましいので、例えば沸点２５０℃程度のテトラデカンを用いることが好ましい。使用する溶媒を選択することにより、インクの粘度を調整することができる。
なお、有機溶媒中に必要に応じて適当な有機物を添加してもよい。
【００４４】
金属材料が分散されているインクは、タンク（液体材料収容部）８０に収容されている。タンク８０はパイプ（流路）８１を介してインクジェットヘッド２０に接続しており、インクジェットヘッド２０から吐出されるべきインクはタンク８０からパイプ８１を介して供給される。
【００４５】
タンク８０には、インクの温度を調整する温度調整装置８２が設けられている。温度調整装置８２はヒータにより構成されている。温度調整装置８２は制御装置ＣＯＮＴにより制御され、タンク８０内のインクは温度調整装置８２によって所定の温度に調整されることにより所望の粘度に調整される。
【００４６】
更に、タンク８０には、このタンク８０内に収容されているインクを攪拌する撹拌装置８３が設けられている。撹拌装置８３によって攪拌されることにより、インク内の金属微粒子は均一に分散される。
【００４７】
更に、パイプ８１を流れるインクは不図示のパイプ温度調整装置によって所定の温度に制御され、粘度を調整される。更に、インクジェットヘッド２０から吐出されるインクの温度は、インクジェットヘッド２０に設けられた不図示の温度調整装置によって制御され、所望の粘度に調整されるようになっている。
【００４８】
ここで、図１にはインクジェットヘッド２０が１つだけ図示されているが、インクジェット装置ＩＪには複数のインクジェットヘッド２０が設けられており、これら複数のインクジェットヘッド２０のそれぞれから異種又は同種のインクが吐出されるようになっている。そして、基板Ｐに対してこれら複数のインクジェット２０のうち、第１のインクジェットヘッドから第１の材料を含むインクを吐出した後これを焼成又は乾燥し、次いで第２のインクジェットヘッドから第２の材料を含むインクを基板Ｐに対して吐出した後これを焼成又は乾燥し、以下、複数のインクジェットヘッドを用いて同様の処理を行うことにより、基板Ｐ上に複数の材料層が積層され、多層パターンが形成される。
【００４９】
図４は、インクジェット装置ＩＪを用いて形成された反射膜を有するデバイスの一例を示す図であって、反射型液晶表示装置を示す概略断面図である。
図４に示すように、反射型液晶表示装置ＬＣＤは、上側偏光板１０１と、ガラス基板である対向基板１０２と、液晶１０３と、ガラス基板である素子基板１０４と、下側偏光板１０５とを有している。対向基板１０２にはＲＧＢ３色のカラーフィルタ１０７が画素毎に設けられており、これらは遮光膜（ブラックマトリクス）１０７ａで仕切られている。更に、対向基板１０２には、カラーフィルタ１０７に不図示のオーバーコート層（保護層）を介して隣接する対向電極１０８と、対向電極１０８に隣接する配向膜１０９とが設けられている。一方、素子基板１０４には、複数の画素電極１１０と、画素電極１１０のそれぞれに対応して隣接する反射膜１１１とが設けられている。反射膜１１１は素子基板１０４上に設けられている。また、画素電極１１０を覆うように配向膜１１２が設けられている。そして、液晶表示装置ＬＣＤはドライバＩＣチップＤを有しており、これにより駆動される。
【００５０】
対向電極１０８及び画素電極１１０は透明なＩＴＯ（Indium Tin Oxide）により形成されており、画素電極１１０のそれぞれには、ＴＦＴ（Thin Film Transistor：薄膜トランジスタ）あるいはＭＩＭ（Metal Insulator Metal：二端子型スイッチング素子）などのスイッチング素子（不図示）が接続されている。対向基板１０２と素子基板１０４とはエポキシ系接着剤等を含む封止材１１３により接続されている。封止材１１３には、対向基板１０２と素子基板１０４とを貼り合わせた際、これらの距離（間隙）を調整するギャップ材が含有されている。
【００５１】
次に、上述した液晶表示装置ＬＣＤを製造する手順について図５を参照しながら説明する。
図５（ａ）に示すように、素子基板１０４に対して、スピンコート法あるいはディップコート法を用いて、アクリル樹脂、ポリイミド樹脂等の合成樹脂層（レジスト層、バンク層）２００が形成される。ここでは、ポリイミド樹脂を溶媒で溶かしたものがスピンコート法により素子基板１０４に塗布されることにより、合成樹脂層２００が形成される。
【００５２】
次いで、図５（ｂ）に示すように、フォトリソグラフィ法により合成樹脂層２００に対して、画素に対応した開口部２００ａが形成される。開口部２００ａが形成されることにより、合成樹脂層２００には隔壁が形成されることになる。
隔壁を形成する開口部２００ａが形成されたら、合成樹脂層２００の表面には、親液性を示す領域と撥液性を示す領域とが設けられる。本実施形態においてはプラズマ処理工程により各領域が設けられる。具体的にプラズマ処理工程は、予備加熱工程と、開口部２００ａの壁面並びに素子基板１０４の表面を親液性にする親液化工程と、合成樹脂層２００の上面を撥液性にする撥液化工程と、冷却工程とを有している。
すなわち、基材（素子基板１０４）を所定温度（例えば７０〜８０度程度）に加熱し、次いで親液化工程として大気雰囲気中で酸素を反応ガスとするプラズマ処理（Ｏ2プラスマ処理）を行う。続いて、撥液化工程として大気雰囲気中で４フッ化メタンを反応ガスとするプラスマ処理（ＣＦ4プラスマ処理）を行い、プラズマ処理のために加熱された基材を室温まで冷却することで、親液性及び撥液性が所定箇所に付与されることとなる。
【００５３】
次いで、図５（ｃ）に示すように、開口部２００ａを有する合成樹脂層（バンク層）２００に対して、図１〜図３を用いて説明したインクジェット装置ＩＪのインクジェットヘッド２０より、反射膜１１１を形成するための上述した金属を含むインクが開口部２００ａ（隔壁と基板１０４とで形成される空間）に対して吐出される。吐出されたインク滴は親液処理された素子基板１０４の面に広がり、開口部２００ａの底部近傍に満たされる。その一方で、撥液処理された合成樹脂層２００の上面にはインク滴がはじかれて付着しない。したがって、インク滴が所定の吐出位置からはずれて合成樹脂層２００の上面に吐出されたとしても、該上面がインク滴で濡れることがなく、はじかれたインク滴が合成樹脂層２００の開口部２００ａ内に転がり込むものとされている。ここで、合成樹脂層（バンク層）２００の構成材料は、上記インクの溶媒に溶解せず、しかもエッチング等によってパターニングしやすいものであればよい。開口部２００ａに前記金属を含むインクが配置されたら、インクに含まれる溶媒を除去するための乾燥処理及び熱処理を行うことにより、反射膜１１１が形成される。
【００５４】
反射膜１１１が形成されたら、図５（ｄ）に示すように、反射膜１１１の上層に画素電極１１０が形成される。
【００５５】
次に、図５（ｅ）に示すように、素子基板１０４に対して、配向膜１１２の形成材料であるポリイミド層が設けられる。そして、このポリイミド層を乾燥・焼成後、ラビングを行い配向処理が施される。
【００５６】
一方、不図示ではあるが、対向基板１０２に対しても、例えばフォトリソグラフィ法によりカラーフィルタ１０７が形成された後、不図示のオーバーコート層（保護層）及び対向電極１０８が設けられる。そして、対向電極１０８に隣接して配向膜１０９が形成され、配向膜１０９にはラビングにより配向処理が施される。
【００５７】
そして、素子基板１０４の周辺（対向基板１０２の周辺でもよい）にスクリーン印刷法等により封止材１１３を配置し、反射膜１１１及び画素電極１１０を備えた素子基板１０４と、カラーフィルタ１０７を備えた対向基板１０２とを貼り合わせ、加熱硬化後、素子基板１０４と対向基板１０２との間に液晶１０３を注入する。液晶１０３を注入したら注入口を封止し、液晶洗浄後、液晶駆動用ドライバＩＣチップＤを装着し、偏光板１０１，１０５を装着することにより、液晶表示装置ＬＣＤが形成される。
【００５８】
以上説明したように、インクジェット装置ＩＪを用いて反射膜１１１を形成するようにしたので、画素毎に反射膜１１１を形成するに際し、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程等の他の工程を必要とせず、所望のパターンを有する反射膜１１１を容易に形成できる。したがって、簡易な工程で作業性良く反射膜を製造することができる。
【００５９】
なお、対向基板１０２と素子基板１０４とを貼り合わせる前に、素子基板１０４側に隔壁（バンク）を設け、この隔壁で形成された空間に対してインクジェット装置ＩＪにより液晶１０３を吐出した後、この素子基板１０４と、カラーフィルタ１０７を有する対向基板１０２とを貼り合わせるようにしてもよい。そして、偏光板１０１，１０５を装着することにより、液晶駆動用ドライバＩＣチップを装着し、液晶表示装置ＬＣＤが形成される。
【００６０】
図６〜図８は反射型液晶表示装置の他の実施例を示す図である。ここで、図６〜図８を用いた説明において、図４、図５を用いて説明した反射型液晶表示装置ＬＣＤと同一又は同等の構成部分についてはその説明を簡略もしくは省略するものとする。
図６に示す反射型液晶表示装置ＬＣＤ２では、対向基板１０２側に反射膜１１１が形成されている。すなわち、対向基板１０２は、この対向基板１０２に隣接し画素毎に形成された反射膜１１１と、反射膜１１１に隣接するカラーフィルタ１０７と、カラーフィルタ１０７に不図示のオーバーコート層を介して隣接する対向電極１０８と、対向電極１０８に隣接する配向膜１０９とを有している。一方、素子基板１０４は、この素子基板１０４に隣接する画素電極１１０を有している。素子基板１０４側には画素電極１１０に接続するＴＦＴ等のスイッチング素子が設けられている。そして、対向電極１０２と素子基板１０４との間には液晶１０３が配置されている。
上記反射膜１１１が、インクジェット装置ＩＪにより形成される。
【００６１】
図６を用いて説明した反射型液晶表示装置ＬＣＤ２は、対向基板１０２側に反射膜１１１及びカラーフィルタ１０７が設けられた構成である。一方、図４を用いて説明した反射型液晶表示装置ＬＣＤは、対向基板１０２側にカラーフィルタ１０７が設けられ、スイッチング素子を有する素子基板１０４側に反射膜１１１が設けられた構成である。
【００６２】
図７に示す反射型液晶表示装置ＬＣＤ３では、対向基板１０２側に反射膜１１１が設けられ、スイッチング回路に接続する画素電極１１０を有する素子基板１０４側にカラーフィルタ１０７が設けられている。図７にはカラーフィルタ１０７のオーバーコート層（保護層）１１４が示されている。
上記反射膜１１１が、インクジェット装置ＩＪにより形成される。
【００６３】
図７に示した反射型液晶表示装置ＬＣＤ３は、対向基板１０２側に反射膜１１１が設けられ、素子基板１０４側にカラーフィルタ１０７が設けられた構成である。
【００６４】
図８に示す反射型液晶表示装置ＬＣＤ４では、スイッチング回路に接続する画素電極１１０を有する素子基板１０４側に反射膜１１１及びカラーフィルタ１０７が設けられている。
上記反射膜１１１が、インクジェット装置ＩＪにより形成される。
【００６５】
図８に示した反射型液晶表示装置ＬＣＤ４は、素子基板１０４側に反射膜１１１及びカラーフィルタ１０７が設けられた構成である。
【００６６】
なお、上記各実施形態において、カラーフィルタ、及び反射膜のパターンは、図９（ａ）〜（ｃ）に示すように、ストライブ型、モザイク型、及びデルタ型のうちいずれのパターンでもよい。また、カラーフィルタは、ＲＧＢ系、ＹＭＣ系のいずれでも構わない。また、液晶表示装置の素子基板の構成は、単純マトリクス、アクティブマトリクス（ＴＦＴ、ＴＦＤ）のいずれでも構わない。
【００６７】
図１０は、インクジェット装置ＩＪを用いて形成された反射膜を有するデバイスの一例を示す図であって、光ディスクＣＤを示す図であり、図１０（ａ）は平面図、図１０（ｂ）は図１０（ａ）のＡ−Ａ矢視断面図である。
図１０に示すように、光ディスクＣＤは、楽音信号、映像信号、データ信号等の情報信号が光学的に読み取り可能に記録された再生専用型の光ディスクであって、平面視円形状の基板２０１と、この基板２０１に形成された信号パターン２０２と、この基板２０１に形成された信号パターン２０２上に薄膜形成される反射膜２０３とを有している。基板２０１は、ポリカーボネート、ＰＭＭＡ等の光透過性を有する合成樹脂を、記録すべき情報信号に基づいて凹凸パターンが形成されたスタンパが取り付けられた射出成形機で射出し、スタンパの凹凸パターンを射出成形機のキャビティ内に射出された合成樹脂の一方の面側に転写し、信号パターンを形成することにより成形される。
【００６８】
また、光透過性の合成樹脂を用いるかわりに平坦なガラス基板の一方の面に紫外線硬化型樹脂を塗布し、塗布された紫外線硬化型樹脂に記録すべき情報信号に基づいて凹凸パターンが形成されたスタンパを圧着した状態で、ガラス基板側より紫外線を照射することによりガラス基板上に塗布された紫外線硬化型樹脂を硬化させ、スタンパを剥離してスタンパの凹凸パターンをガラス基板上に塗布された紫外線硬化型樹脂に転写することによりディスク基板を形成する方法もある。
【００６９】
そして、形成された基板２０１の信号パターン２０２上に、インクジェット装置ＩＪを用いて反射膜２０３が形成される。この反射膜２０３の形成材料としては、反射用金属、例えばアルミニウムやアルミニウムを含む合金が挙げられる。あるいは、反射膜２０３の形成材料としては、Ａｇ、Ｃｒ、Ｎｉ、及びこれらを含む合金であってもよい。形成する反射膜２０３の膜厚は、４００Å〜１２００Å、好ましくは４５０Å〜９５０Å、更に好ましくは５００Å〜９００Åに設定される。
【００７０】
インクジェット装置ＩＪにより基板２０１上に反射膜２０３を形成する際には、図１に示したステージＳＴに基板２０１をロードし、支持させる。制御装置ＣＯＮＴは、基板２０１を支持したステージＳＴをＹ軸方向に走査しながら、基板２０１に対してインクジェットヘッド２０より反射膜形成用材料を含むインクをＸ軸方向に所定幅吐出する。この１回の走査により、基板２０１にはＸ軸方向において所定幅を有するインクが塗布される。そして、ステージＳＴの１回の走査が終了したら、制御装置ＣＯＮＴは、基板２０１を支持しているステージＳＴをＸ軸方向にステップ移動させる。そして、制御装置ＣＯＮＴは、ステージＳＴをＹ軸方向に再び走査しながら、基板２０１に対してインクジェットヘッド２０よりインクを吐出する。これを所定回数繰り返すことにより、円形状の基板２０１に対してインクが均一に塗布される。
【００７１】
基板２０１にインクが塗布されたら、乾燥処理（焼成処理）が行われる。乾燥条件としては、基板２０１が上記合成樹脂製である場合、５０℃〜８０℃の温度で約１時間乾燥処理される。一方、基板２０１がガラス基板である場合、１５０℃〜２００℃の温度で約３分間乾燥処理される。
【００７２】
なお、円形状の基板２０１に対してインクジェット装置ＩＪによりインクを塗布する際、基板２０１を支持したステージＳＴをθｚ方向に回転させ、この回転する基板２０１に対してインクを塗布するようにしてもよい。もちろん、基板２０１を固定した状態で、インクジェットヘッド２０をθｚ方向に円を描くように回転させながら基板２０１に対してインクを塗布するようにしてもよい。
【００７３】
上記実施形態の液晶表示装置ＬＣＤを備えた電子機器の例について説明する。図１１は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１において、符号１０００は携帯電話本体を示し、符号１００１は上記の液晶表示装置を用いた表示部を示している。
【００７４】
図１２は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１２において、符号１１００は時計本体を示し、符号１１０１は上記の液晶表示装置を用いた表示部を示している。
【００７５】
図１３は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１３において、符号１２００は情報処理装置、符号１２０２はキーボードなどの入力部、符号１２０４は情報処理装置本体、符号１２０６は上記の液晶表示装置を用いた表示部を示している。
【００７６】
図１１〜図１３に示す電子機器は、上記実施の形態の液晶表示装置を備えているので、低コストで表示品位に優れた液晶表示部を備えた電子機器を実現することができる。
【００７７】
上記実施形態は、本発明の反射膜の製造方法を、反射型液晶表示装置の反射膜や光ディスクの反射膜に適用したものであるが、これらのデバイスに限らず、反射膜を有する全てのデバイス、メディアの反射膜を製造する際にインクジェット法を適用することができる。更に、有機エレクトロルミネッセンス装置に反射膜を形成する際にも、本発明の反射膜の製造方法を適用することができる。
【００７８】
【発明の効果】
本発明によれば、液滴吐出装置を用いて反射膜を形成するようにしたので、パターンを有する反射膜を形成するに際し、フォトリソグラフィ工程やエッチング工程等の他の工程を必要とせず、所望のパターンを有する反射膜を容易に形成できる。したがって、簡易な工程で作業性良く反射膜を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の反射膜の製造方法に用いる液滴吐出装置を示す概略斜視図である。
【図２】インクジェットヘッドの分解斜視図である。
【図３】インクジェットヘッドの主要部の斜視図一部断面図である。
【図４】本発明の反射膜の製造方法により製造された反射膜を有するデバイスの一例を示す図であって、液晶表示装置を示す断面図である。
【図５】液晶表示装置の製造工程の一例を示す図である。
【図６】反射膜を有する液晶表示装置の他の実施例を示す断面図である。
【図７】反射膜を有する液晶表示装置の他の実施例を示す断面図である。
【図８】反射膜を有する液晶表示装置の他の実施例を示す断面図である。
【図９】カラーフィルタのパターン例を示す図である。
【図１０】本発明の反射膜の製造方法により製造された反射膜を揺するデバイスの一例を示す図であって、光ディスクを示す図である。
【図１１】本発明のデバイスを備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１２】本発明のデバイスを備えた電子機器の一例を示す図である。
【図１３】本発明のデバイスを備えた電子機器の一例を示す図である。
【符号の説明】
ＩＪ    インクジェット装置（液滴吐出装置）
２０    インクジェットヘッド（液滴吐出装置、液滴吐出ヘッド）
１１１    反射膜
【図１】
0003879558.tif 000002
【図２】
0003879558.tif 000003
【図３】
0003879558.tif 000004
【図４】
0003879558.tif 000005
【図５】
0003879558.tif 000006
【図６】
0003879558.tif 000007
【図７】
0003879558.tif 000008
【図８】
0003879558.tif 000009
【図９】
0003879558.tif 000010
【図１０】
0003879558.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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