(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製で被加熱物よりも熱容量の高い台座を形成し、被加熱物を台座に接触させて配置し、被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱し、台座から被加熱物に熱伝導させることを特徴とする成形熱処理加工方法。
【請求項２】
金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に発熱部を接触させ、被加熱物及び発熱部を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部から被加熱物の放熱しやすい部分に熱伝導させることを特徴とする成形熱処理加工方法。
【請求項３】
金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部とセラミック製の吸熱部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に発熱部を接触させると共に被加熱物の放熱しにくい部分に吸熱部を接触させ、被加熱物及び発熱部を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部から被加熱物の放熱しやすい部分に熱伝導させると共に被加熱物の放熱しにくい部分から吸熱部に熱伝導させることを特徴とする成形熱処理加工方法。
【請求項４】
金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、フェライト製のコア部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に対応させてコア部を位置させ、被加熱物を高周波誘導加熱により加熱し、高周波誘導加熱時においてコア部及び被加熱物の放熱しやすい部分に集中する磁束で被加熱物の放熱しやすい部分を発熱させることを特徴とする成形熱処理加工方法。
【請求項５】
金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部とセラミック製の吸熱部とフェライト製のコア部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に発熱部を接触させると共に被加熱物の放熱しにくい部分に吸熱部を接触させ、被加熱物の放熱しやすい部分に対応させてコア部を位置させ、被加熱物及び発熱部を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部から被加熱物の放熱しやすい部分に熱伝導させると共に被加熱物の放熱しにくい部分から吸熱部に熱伝導させ、高周波誘導加熱時にコア部及び被加熱物の放熱しやすい部分に集中する磁束で被加熱物の放熱しやすい部分を発熱させることを特徴とする成形熱処理加工方法。
【請求項６】
被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に台座の発熱部を接触させるように、被加熱物に対して台座を移動させることを特徴とする請求項２に記載の成形熱処理加工方法。
【請求項７】
被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に台座の発熱部を接触させるように、あるいは被加熱物の温度が高い部分に台座の吸熱部を接触させるように、被加熱物に対して台座を移動させることを特徴とする請求項３に記載の成形熱処理加工方法。
【請求項８】
被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に対応させて台座のコア部を位置させるように、被加熱物に対して台座を移動させることを特徴とする請求項４に記載の成形熱処理加工方法。
【請求項９】
被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に台座の発熱部を接触させるように、あるいは被加熱物の温度が低い部分に対応させて台座のコア部を位置させるように、あるいは被加熱物の温度が高い部分に台座の吸熱部を接触させるように、被加熱物に対して台座を移動させることを特徴とする請求項５に記載の成形熱処理加工方法。
【請求項１０】
被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイルと、台座を高周波誘導加熱により加熱するための第２のコイルとを具備し、第１のコイルにより被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度の低い部分に接触する台座の一部分が第２のコイルで加熱されるように、台座に対して第２のコイルを移動させることを特徴とする請求項１に記載の成形熱処理加工方法。
【請求項１１】
被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイルと、台座を高周波誘導加熱により加熱するための第２のコイルとを具備し、被加熱物の放熱しやすい部分に接触する台座の一部分が第２のコイルで加熱されるように台座と第２のコイルを配置し、第１のコイルにより被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、第２のコイルへの通電量を調整することを特徴とする請求項１に記載の成形熱処理加工方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高周波誘導加熱による成形熱処理加工に関するものであって、特に、複雑な形状の被加熱物を均一に加熱しようとするものである。
【０００２】
【従来の技術】
薄板を打ち抜き加工や曲げ加工などで加工して形成した複雑形状を有する部品を被加熱物として焼き入れを行う場合、打ち抜き加工や曲げ加工などの加工時の残留応力の解放やマルテンサイト変態時の変態応力などによって、焼き入れ歪みが生じ、部品の寸法精度を確保しにくいのが現状である。焼き入れ歪みを抑える方法としては、焼き入れの加熱を行いながら外力を加えて加圧成形する成形熱処理加工がある。
【０００３】
この成形熱処理加工の加熱方法として電気炉を用いた場合、外力を加えるためのプレス機を高温中で駆動させなければならないが、プレス機を高温中で駆動させるには、プレス機の摺動部に油を使用することができず、プレス機を構成する各部品が熱膨張することによって、摺動不良や精度の確保が困難になるものであった。そこでこのような問題を解決するための方法として、成形熱処理加工を行う場合の加熱を高周波誘導加熱や通電加熱により行い、加圧成形のためのプレス機は室温中で駆動させる方法が採用されている。
【０００４】
上記のような成形熱処理加工方法としては、例えば、特公平４−６８３６５号公報に記載されたものがある。この公報には、複数の放射状のスリット１００を有する平板状の皿ばね素材１０１を成形熱処理加工して皿ばね部材を製造する方法が記載されており、図２４（ａ）に示すように、皿ばね素材１０１のほぼ半分を半円盤状の高周波コイル１０２に対向配置し、この状態で皿ばね素材１０１を回転させながら高周波コイル１０２に通電することによって、高周波コイル１０２から生じる磁束で皿ばね素材１０１を全面に亘って均一に高周波誘電加熱し、この直後に、図２４（ｂ）に示すように皿ばね素材１０１を金型１０３で挟持して加圧成形するようにしている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし上記の方法では、被加熱物が円盤状の部品の場合には対応可能であるが、それ以外の複雑形状を有する部品の場合には対応することができないという問題があった。また高周波誘導加熱を行っている間及び加圧成形を行っている間に、被加熱物（皿ばね素材１０１）をセラミック製の保持具３２で保持しているので、保持具３２に熱が奪われて被加熱物を均一に加熱しにくいという問題があった。
【０００６】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、各種の複雑形状を有する被加熱物を均一な温度に加熱することができる成形熱処理加工方法を提供することを目的とするものである。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る成形熱処理加工方法は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物１を加熱し、加熱した被加熱物１を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製で被加熱物１よりも熱容量の高い台座２を形成し、被加熱物１を台座２に接触させて配置し、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により加熱し、台座２から被加熱物１に熱伝導させることを特徴とするものである。
【０００８】
本発明の請求項２に係る成形熱処理加工方法は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物１を加熱し、加熱した被加熱物１を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部３を有する台座２を形成し、被加熱物１を台座２に配置し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに発熱部３を接触させ、被加熱物１及び発熱部３を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部３から被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに熱伝導させることを特徴とするものである。
【０００９】
本発明の請求項３に係る成形熱処理加工方法は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物１を加熱し、加熱した被加熱物１を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部３とセラミック製の吸熱部４を有する台座２を形成し、被加熱物１を台座２に配置し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに発熱部３を接触させると共に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂに吸熱部４を接触させ、被加熱物１及び発熱部３を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部３から被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに熱伝導させると共に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂから吸熱部４に熱伝導させることを特徴とするものである。
【００１０】
本発明の請求項４に係る成形熱処理加工方法は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物１を加熱し、加熱した被加熱物１を加圧成形する成形熱処理加工方法において、フェライト製のコア部７を有する台座２を形成し、被加熱物１を台座２に配置し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに対応させてコア部７を位置させ、被加熱物１を高周波誘導加熱により加熱し、高周波誘導加熱時においてコア部７及び被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに集中する磁束で被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを発熱させることを特徴とするものである。
【００１１】
本発明の請求項５に係る成形熱処理加工方法は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物１を加熱し、加熱した被加熱物１を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部３とセラミック製の吸熱部４とフェライト製のコア部７を有する台座２を形成し、被加熱物１を台座２に配置し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに発熱部３を接触させると共に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂに吸熱部４を接触させ、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに対応させてコア部７を位置させ、被加熱物１及び発熱部３を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部３から被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに熱伝導させると共に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂから吸熱部４に熱伝導させ、高周波誘導加熱時にコア部７及び被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに集中する磁束で被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを発熱させることを特徴とするものである。
【００１２】
本発明の請求項６に係る成形熱処理加工方法は、請求項２の構成に加えて、被加熱物１の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物１の温度が低い部分に台座２の発熱部３を接触させるように、被加熱物１に対して台座２を移動させることを特徴とするものである。
【００１３】
本発明の請求項７に係る成形熱処理加工方法は、請求項３の構成に加えて、被加熱物１の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物１の温度が低い部分に台座２の発熱部３を接触させるように、あるいは被加熱物１の温度が高い部分に台座２の吸熱部４を接触させるように、被加熱物１に対して台座２を移動させることを特徴とするものである。
【００１４】
本発明の請求項８に係る成形熱処理加工方法は、請求項４の構成に加えて、被加熱物１の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物１の温度が低い部分に対応させて台座２のコア部７を位置させるように、被加熱物１に対して台座２を移動させることを特徴とするものである。
【００１５】
本発明の請求項９に係る成形熱処理加工方法は、請求項５の構成に加えて、被加熱物１の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物１の温度が低い部分に台座２の発熱部３を接触させるように、あるいは被加熱物１の温度が低い部分に対応させて台座２のコア部７を位置させるように、あるいは被加熱物１の温度が高い部分に台座２の吸熱部４を接触させるように、被加熱物１に対して台座２を移動させることを特徴とするものである。
【００１６】
本発明の請求項１０に係る成形熱処理加工方法は、請求項１の構成に加えて、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイル８と、台座２を高周波誘導加熱により加熱するための第２のコイル９とを具備し、第１のコイル８により被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物１の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物１の温度の低い部分に接触する台座２の一部分が第２のコイル９で加熱されるように、台座２に対して第２のコイル９を移動させることを特徴とするものである。
【００１７】
本発明の請求項１１に係る成形熱処理加工方法は、請求項１の構成に加えて、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイル８と、台座２を高周波誘導加熱により加熱するための第２のコイル９とを具備し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに接触する台座２の一部分が第２のコイル９で加熱されるように台座２と第２のコイル９を配置し、第１のコイル８により被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物１の温度を測定し、その測定結果に基づいて、第２のコイル９への通電量を調整することを特徴とするものである。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００１９】
図２に本発明の対象となる被加熱物１の一例を示す。この被加熱物１はシェーバーの刃などとして用いられるものであって、ステンレス鋼板など導電性金属の薄板を打ち抜き加工したり曲げ加工したりして形成されるものである。具体的には、矩形板状のスリット部２０の両側に長手方向に沿って側片２１を対向するように設けて形成されており、スリット部２０にはその長手方向に沿って複数個の打ち抜き部２３が設けられていると共に側片２１の略中央部には下側に開口する切欠部２４が形成されている。また被加熱物１としては、長さＬが４０ｍｍ、幅Ｗが２ｍｍ、高さＨが１０ｍｍで、板厚が０．３ｍｍの大きさのものを例示することができる。被加熱物１の形状や大きさは上記に限定されるものではない。そして打ち抜き部２３のエッジが刃部として形成され、このエッジで髭をカットするのである。
【００２０】
このような被加熱物１には打ち抜き加工時及び曲げ加工時に歪み（熱処理歪み）が生じている場合があるが、上記のように打ち抜き部２３で髭をカットするものであるので、スリット部２０には高い平面度（平坦度）が要求される。そこで本発明の成形熱処理加工を施して被加熱物１の歪み、特にスリット部２０の歪みを低減させるのである。
【００２１】
本発明の成形熱処理加工方法は、図１（ａ）乃至（ｃ）に示すように、下型として用いる台座２と、上型として用いる加圧治具３０、及びコイル８などを使用して行われる。台座２は支持部２６と基台２５で断面略逆Ｔ字状に形成されており、矩形板状の基台２５の上面にその長手方向の全長に亘って支持部２６が立設されている。支持部２６は被加熱物１の長さよりも長く形成されている。また支持部２６の幅寸法（短手方向の寸法）は被加熱物１の対向する側片２１の間の寸法とほぼ同じである。また台座２は高温時における強度が高くて導電性を有する金属材料で形成されており、例えば、超硬ステンレス鋼などを用いることができる。さらに台座２は被加熱物１よりも高い熱容量を有するものであって、被加熱物１の形状によっても異なるが、被加熱物１よりも４〜５倍の熱容量を有するものである。
【００２２】
加圧治具３０は断面略逆Ｔ字状であって、台座２と同様の材料で台座２とほぼ同じ長さに形成されている。加圧治具３０の下面は平坦な加圧面２７として形成されている。コイル８は銅製などの導電性の金属材料で形成されており、一対の対向する主磁束発生部２９と主磁束発生部２９の一方の端部間に形成される連結部３１とで構成されており、平面視で略コ字状に形成されている。主磁束発生部２９にはコイル８に通電するための高周波電源３２が接続されている。
【００２３】
そしてこの実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、被加熱物１の側片２１の間を台座２の支持部２６に上側から差し込んで、図１（ａ）に示すように被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、被加熱物１の成形熱処理加工を行いたい面で且つ焼き入れを行いたい面、すなわちスリット部２０の下面が台座２の支持部２６の上面に接触すると共に側片２１の内面が台座２の支持部２６の側面に接触する。また、図１（ｂ）（ｃ）に示すように、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２の支持部２６が位置するように、被加熱物１の側片２１の外側にコイル８を配置する。この時、被加熱物１のスリット部２０の上面とコイル８の上面がほぼ同じ高さになっている。
【００２４】
次に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱する（図１（ｂ）にはコイル８に矢印アの方向に電流が流れているときの磁束ａの方向を示す）。つまり、コイル８に通電して磁束ａを発生させると、磁束ａに垂直な面に過電流が発生し、この電流によって被加熱物１及び台座２が発熱するのである。このようにして被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、加圧治具３０の加圧面２７を被加熱物１のスリット部２０の上面に当接させ、台座２（支持部２６）の上面と加圧治具３０の加圧面２７の間でスリット部２０を挟持して加圧することによって、スリット部２０の上面が平坦となるように加圧成形し、被加熱物１の熱処理歪みを低減する。この後、加圧治具３０による加圧を解除する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。尚、成形熱処理加工の条件は、被加熱物１の大きさや材質、コイル８と被加熱物１の位置関係などによって異なるが、例えば、図２に示す大きさでステンレス鋼製の被加熱物１である場合、コイル８に通電する電流の周波数を４００ｋＨｚ、電流の実行値を約１００Ａとすることができる。また被加熱物１の温度はステンレス鋼のＭｓ点（マルテンサイトへの格子変態が始まる温度）の温度前後に加熱したり、３００℃程度に加熱したりすることができる。また材料の耐力（ステンレス鋼の場合は約５５ｋｇｆ／ｍｍ２）以下の圧力（例えば、約３０ｋｇｆ／ｍｍ２）で加圧成形すればよい。これら条件で成形熱処理加工を行うことで被加熱物１の熱処理歪みを低減することができる。
【００２５】
図２に示すような被加熱物１は、スリット部２０に複数個の打ち抜き部２３が設けられていたり、スリット部２０の略中央部において側片２１に切欠部２４が設けられていたりして複雑な形状を有しているので、被加熱物１を単独で高周波誘導加熱により加熱すると、被加熱物１の各部分によって加熱と放熱の割合が異なることになって、被加熱物１を全体に亘って均一な温度にすることができない。つまり、図２の被加熱物１では高周波誘導加熱により加熱される量は全体に亘ってほぼ一定であるが、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂとが存在して各部分で放熱量が異なるので、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂとで加熱時に温度差が生じると考えられる。具体的には、被加熱物１の略中央部（スリット部２０の略中央部と側片２１の切欠部２４を設けた部分で図２の点線で囲まれる部分）が放熱しにくい部分Ｂとなり、それ以外の部分が放熱しやすい部分Ａとなる。
【００２６】
そこでこの実施の形態では、被加熱物１よりも単純な形状で熱容量の高い台座２を用い、この台座２に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを接触させ、台座２を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱するようにしたものであり、このことで、放熱しやすい部分Ａに台座２の熱を伝導させて加熱して放熱しやすい部分Ａから空気中に放熱された熱を補うことができ、被加熱物１自身の発熱による加熱量と被加熱物１の放熱量との差に関わらず、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。そして被加熱物１を全体に亘って均一な温度に加熱することができるので、被加熱物１全体及びスリット部２０に均一な成形熱処理加工や焼き入れを行うことができ、硬度や組織のばらつきが少ない品質の良い部品を得ることができるものである。また、台座２から被加熱物１に熱を伝導させて被加熱物１を加熱するので、高周波誘導加熱により発熱しにくい材料（例えば、ステンレス鋼）の被加熱物１に対しても均一な温度に加熱することができるものである。しかも本発明では被加熱物１の形状に対応させて台座２の形状を変えて被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに接触させることによって、各種の複雑な形状の被加熱物１を均一な温度に加熱が可能である。
【００２７】
図３に他の実施の形態を示す。この実施の形態の被加熱物１は図２のものと同様に形成されている。台座２はセラミック材料で角棒状に形成される基体３５と、金属材料で形成される一対の発熱部３とで構成されている。発熱部３は基体３５の長手方向に並べられて設けられており、各発熱部３は基体３５の外面に全周に亘って設けられている。発熱部３はその厚み分だけ基体３５の表面から突出している。さらに発熱部３の間隔は被加熱物１の長さとほぼ同じ長さに形成されている。また台座２の熱容量及び台座２の発熱部３の熱容量は被加熱物１の熱容量よりも高く形成されている。基体３５は高温時になっても強度の低下が起こらないように窒化珪素などで形成するのが好ましい。また発熱部３は高温時における強度が高くて導電性を有する金属材料で形成されており、例えば、超硬ステンレス鋼などを用いることができる。
【００２８】
そしてこの実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、図３（ａ）に示すように被加熱物１の側片２１の間を台座２に上側から差し込んで、図３（ｂ）に示すように被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、スリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が発熱部３に接触する。つまり被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみの内面が台座２の発熱部３の外面に接触し、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂは台座２に接触しないように配置される。また図１（ｂ）（ｃ）と同様に、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２が位置するようにコイル８を配置する。
【００２９】
次に図１（ｂ）と同様に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２の発熱部３のみを高周波誘導加熱により同時に加熱する。このようにして被加熱物１及び発熱部３を所定の温度に加熱した後、図１（ｃ）と同様にして加圧治具３０でスリット部２０に加圧成形を行って被加熱物１の熱処理歪みを低減する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。
【００３０】
上述のように図２に示すような被加熱物１には、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂとが存在して各部分で放熱量が異なるので、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂとで加熱時に温度差が生じる。そこでこの実施の形態では、台座２の発熱部３に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみを接触させ、台座２の発熱部３を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみに発熱部３から熱を伝導するようにしたものであり、このことで発熱部３から伝導される熱で放熱しやすい部分Ａから放熱された熱を補うことができ、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。
【００３１】
図４に他の実施の形態を示す。この実施の形態の被加熱物１は図２のものと同様に形成されている。台座２はセラミック材料で形成される吸熱部４と金属材料で形成される発熱部３とで構成されている。吸熱部４は台座２の略中央部に位置して角棒状に形成されており、吸熱部４の両端部に発熱部３が一体に結合されて設けられている。従って、台座２は発熱部３の間に吸熱部４が挟まれて形成されている。また発熱部３の表面と吸熱部４の表面は面一に形成されている。さらに台座２の長手方向における吸熱部４の長さは切欠部２４、つまり被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの長さとほぼ同じに形成されている。また台座２の熱容量及び台座２の発熱部３の熱容量は被加熱物１の熱容量よりも高く形成されている。
【００３２】
この実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、図４（ａ）に示すように被加熱物１の側片２１の間を台座２に上側から差し込んで、図４（ｂ）に示すように被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、スリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が発熱部３に接触する。つまり被加熱物１の放熱しやすい部分Ａの内面が台座２の発熱部３の外面に接触し、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの内面は吸熱部４の外面に接触して配置される。また図１（ｂ）（ｃ）と同様に、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２が位置するようにコイル８を配置する。
【００３３】
次に図１（ｂ）と同様に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２の発熱部３のみを高周波誘導加熱により同時に加熱する。この時、台座２の吸熱部４は導電性が無いので高周波誘導加熱により発熱しない。このようにして被加熱物１及び台座２の発熱部３を所定の温度に加熱した後、図１（ｃ）と同様にして加圧治具３０でスリット部２０に加圧成形を行って被加熱物１の熱処理歪みを低減する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。
【００３４】
この実施の形態では、高周波誘導加熱で発熱しない吸熱部４と発熱する発熱部３と設けて台座２を形成し、台座２の発熱部３に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみを接触させると共に台座２の吸熱部４に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂのみを接触させ、台座２の発熱部３を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみに発熱部３から熱伝導させると共に高周波誘導加熱により発熱せずに発熱部３や被加熱物１よりも低い温度の吸熱部４に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの熱を伝導させるようにしたので、発熱部３から伝導される熱で放熱しやすい部分Ａから放熱された熱を補うことができると共に放熱しにくい部分Ｂから吸熱部４に熱を逃がすことができ、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。
【００３５】
図５に他の実施の形態を示す。この実施の形態の被加熱物１は図２のものと同様に形成されている。台座２は、超硬ステンレス鋼などの導電性を有する金属材料で角棒状の基体３５を形成し、基体３５の全面に亘って窒化珪素などのセラミック製の絶縁物３７を設け、基体３５の両側面において絶縁物３７の表面に三本の電極５を基体３５の長手方向に並べて設けると共に基体３５の一方の端部において両面に設けた電極５同士を接続線３９で接続することによって形成されている。台座２の熱容量は被加熱物１の熱容量よりも高く形成されている。また電極５は銅などの導電性金属材料で形成することができる。
【００３６】
この実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、被加熱物１の側片２１の間を台座２に上側から差し込んで、図５（ａ）に示すように被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、図５（ｂ）に示すように、スリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が台座２の側面に接触し、また真ん中の電極５が被加熱物１の切欠部２４に位置して側片２１に接触すると共に両端の電極５が被加熱物１の端部よりも外側に位置して側片２１に接触する。このようにして電極５と被加熱物１によって被加熱物１の一部を通電するような回路が形成される。さらに図１（ｂ）（ｃ）と同様に、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２が位置するようにコイル８を配置する。
【００３７】
次に図１（ｂ）と同様に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により同時に加熱する。また接続線３９で接続していない電極５に高周波誘導加熱用の高周波電源３２をコイル８と並列に接続して電極５に給電すると共に電極５から被加熱物１の側片２１に通電する（矢印イで示す）ことによって、側片２１を通電により発熱させて加熱する。このようにして被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、図１（ｃ）と同様にして加圧治具３０でスリット部２０に加圧成形を行って被加熱物１の熱処理歪みを低減する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。
【００３８】
この実施の形態では、高周波誘導加熱により被加熱物１と台座２を同時に加熱し、加熱された台座２の熱を被加熱物１に熱伝導させて加熱すると同時に、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａである側片２１に電極５から通電して側片２１を発熱させて加熱するので、放熱しやすい部分Ａから空気中に放熱された熱を通電により発熱する側片２１の熱で補うことができ、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。この実施の形態は、台座２からの熱伝導だけでは加熱されにくい複雑形状の被加熱物１に対して有効である。しかも高周波誘導加熱用の高周波電源３２を電極５への給電用の電源として兼用するので、電極５への給電用の電源を別途用意する必要が無く、成形熱処理加工に用いる装置の簡素化や小型化を図ることができるものである。
【００３９】
図６に他の実施の形態を示す。この実施の形態の被加熱物１は図２のものと同様に形成されている。台座２は、超硬ステンレス鋼などの導電性を有する金属材料で角棒状に形成されており、台座２の側面の略中央部には凹部４０が設けられている。凹部４０内には複数個のエア噴き出し口６が穿設されている。台座２の内部にはエア噴き出し口６に連通するエア流路が設けられており、エア流路にコンプレッサが接続されている。従って、コンプレッサからエア流路を介してエア噴き出し口６に空気を供給し、この空気をエア噴き出し口６から噴き出すことができるように形成されている。さらに台座２の熱容量は被加熱物１の熱容量よりも高く形成されている。
【００４０】
この実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、図６（ａ）に示すように、被加熱物１の側片２１の間を台座２に上側から差し込んで被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、図６（ｂ）に示すように、凹部４０の箇所を除いてスリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が凹部４０の両側において台座２の側面に接触する。つまり被加熱物１の放熱しやすい部分Ａの内面が台座２の外面に接触し、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの内面は凹部４０に対応して位置して台座２に接触しないように配置される。さらに図１（ｂ）（ｃ）と同様に、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２が位置するようにコイル８を配置する。
【００４１】
次に図１（ｂ）と同様に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により同時に加熱する。また加熱と同時にエア噴き出し口６から空気を噴き出し、噴き出された空気を被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂにふきかけて冷却する。このようにして被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、図１（ｃ）と同様にして加圧治具３０でスリット部２０に加圧成形を行って被加熱物１の熱処理歪みを低減する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。
【００４２】
この実施の形態では、高周波誘導加熱により被加熱物１と台座２を同時に加熱し、加熱された台座２の熱を被加熱物１に熱伝導させて加熱すると同時に、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂに空気を噴き付けるので、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂを空気で冷却することができ、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。
【００４３】
この実施の形態において、噴き出される空気の温度は被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの温度よりも低ければよいが、台座２内のエア流路を工夫して長さを調整することによって、噴き出される空気の温度を調整することができる。つまり、台座２内にエア流路を長く形成すると、高温に加熱された台座２内を空気が長い時間かかって通過することになり、噴き出し口６から噴き出される空気の温度が高くなり、台座２内にエア流路を短く形成すると、高温に加熱された台座２内を空気が短い時間で通過することになり、噴き出し口６から噴き出される空気の温度を低くすることができる。また台座２の一部を低温にし、この低温の部分を被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂに接触させて冷却する方法では、この低温の部分が常に低い温度となるように温度管理が必要であるが、部品を量産化する場合、常に低温の部分が常に低い温度となるようにするのは難しい。しかしこの実施の形態では、空気を用いているので、その温度を低くなるように管理するのは容易であり、また台座２の一部を低温にする必要もないため、部品の量産化時に適用しやすい。
【００４４】
図７に他の実施の形態を示す。この実施の形態の被加熱物１は図２のものと同様に形成されている。台座２は、超硬ステンレス鋼などの導電性を有する金属材料で角棒状に形成される基体３５と、フェライト材料で形成される一対のコア部７とで構成されている。コア部７は基体３５の長手方向に並べられて設けられて（内装されて）おり、コア部７の間隔は被加熱物１の長さとほぼ同じ長さに形成されている。またコア部７の表面と基体３５の表面は面一に形成されている。また台座２の熱容量は被加熱物１の熱容量よりも高く形成されている。
【００４５】
この実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、図７（ａ）に示すように、被加熱物１の側片２１の間を台座２に上側から差し込んで被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、図７（ｂ）に示すように、スリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面がコア部７に接触する。つまり被加熱物１の放熱しやすい部分Ａがコア部７に対応する位置に配置される。さらに図１（ｂ）（ｃ）と同様に、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２が位置するようにコイル８を配置する。
【００４６】
次に図１（ｂ）と同様に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により同時に加熱する。このようにして被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、図１（ｃ）と同様にして加圧治具３０でスリット部２０に加圧成形を行って被加熱物１の熱処理歪みを低減する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。
【００４７】
この実施の形態では、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに対応する位置にコア部７が設けられているので、図７（ｂ）のように高周波誘導加熱時に生じる磁束ａをコア部７に集中して生成させることができ（コイル８の電流の周波数が４００ｋＨｚの場合、コア部７を設けていない箇所の数百倍以上の磁束密度がある）、磁束ａによって被加熱物１の放熱しやすい部分Ａとここに接触する台座２の金属部分が、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂとここに接触する台座２の金属部分よりも加熱されやすくなる。つまり、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを放熱しにくい部分Ｂよりも大きく加熱すると共に、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに接触する台座２の金属部分から放熱しやすい部分Ａへの熱伝導を大きくして加熱することができ、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。尚、フェライト材料で形成されるコア部７は強度があまり高くなく、加圧成形用の台座２には使用しにくいが、金属の基体３５と組み合わせることにより、補強することができ、しかもコア部７の大きさを適宜変えることによって集中する磁束の量を変えることができ、被加熱物１の加熱量をコントロールすることができる。またフェライト材料としては高周波誘導加熱で使用する周波数において、透磁率の低下の少ないものを用いる方が、加熱の効率が良い。
【００４８】
図８に他の実施の形態を示す。この実施の形態の被加熱物１は図２のものと同様に形成されている。台座２はセラミック材料で形成される吸熱部４と金属材料で形成される一対の発熱部３とフェライト材料で形成される一対のコア部７で構成されている。吸熱部４は台座２の略中央部に位置して角棒状に形成されており、吸熱部４の両側に発熱部３が一体に結合されて設けられている。従って、台座２は発熱部３の間に吸熱部４が位置して形成されている。またコア部７は各発熱部３に一つずつ設けられて（内装されて）おり、台座２の長手方向に並べられている。従って、コア部７の間に吸熱部４が挟まれ、コア部７と吸熱部４が発熱部３で挟まれて形成されている。コア部７の間隔は被加熱物１の長さとほぼ同じ長さに形成されている。発熱部３の表面と吸熱部４の表面とコア部７の表面は面一に形成されている。また台座２の長手方向における吸熱部４の長さは切欠部２４、つまり被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの長さとほぼ同じに形成されている。また台座２の熱容量及び台座２の発熱部３の熱容量は被加熱物１の熱容量よりも高く形成されている。
【００４９】
この実施の形態では成形熱処理加工を次のようにして行う。まず、図８（ａ）に示すように被加熱物１の側片２１の間を台座２に上側から差し込んで、図８（ｂ）に示すように被加熱物１を台座２に配置する。このように被加熱物１を台座２に配置すると、スリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が発熱部３及びコア部７に接触する。つまり被加熱物１の放熱しやすい部分Ａの内面が台座２の発熱部３の外面に接触し、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの内面は吸熱部４の外面に接触し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａがコア部７に対応する位置に配置される。また図１（ｂ）（ｃ）と同様に、一対の主磁束発生部２９の間に被加熱物１及び台座２が位置するようにコイル８を配置する。
【００５０】
次に図１（ｂ）と同様に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、被加熱物１及び台座２の発熱部３のみを高周波誘導加熱により同時に加熱する。この時、台座２の吸熱部４は導電性が無いので高周波誘導加熱により発熱しない。このようにして被加熱物１及び台座２の発熱部３を所定の温度に加熱した後、図１（ｃ）と同様にして加圧治具３０でスリット部２０に加圧成形を行って被加熱物１の熱処理歪みを低減する。このようにして被加熱物１に成形熱処理加工を施すことができる。
【００５１】
この実施の形態では、高周波誘導加熱で発熱しない吸熱部４と発熱する発熱部３と磁束を集中させるコア部７を設けて台座２を形成し、台座２の発熱部３に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみを接触させると共に台座２の吸熱部４に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂのみを接触させ、さらに被加熱物１の放熱しやすい部分Ａがコア部７に対応する位置に配置し、台座２の発熱部３を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａのみに発熱部３から熱伝導させると共に高周波誘導加熱により発熱せずに発熱部３や被加熱物１よりも低い温度の吸熱部４に被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂの熱を伝導させ、さらに高周波誘導加熱時に生じる磁束ａをコア部７に集中して生成させるようにしたので、発熱部３から伝導される熱で放熱しやすい部分Ａから放熱された熱を補うことができると共に放熱しにくい部分Ｂから吸熱部４に熱を逃がすことができ、しかもコア部７に集中して通過する磁束ａによって、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを放熱しにくい部分Ｂよりも大きく加熱すると共に、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに接触する台座２の金属部分から放熱しやすい部分Ａへの熱伝導を大きくして加熱することができ、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。
【００５２】
図９に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図３に示す実施例において温度計４０により被加熱物１の均一な温度にしたい部分、つまりスリット部２０の温度を測定するようにしたものである。温度計４０は台座２に配置された被加熱物１の上方に配設されるものであって、微小面積の温度測定が可能な赤外線センサーなどの非接触式のものを用いることができる。この温度計４０は一軸駆動テーブルに載せるなどしてスリット部２０の上方で移動自在に形成されている。また台座２は一軸駆動テーブルに載せるなどして、台座２の長手方向に被加熱物１に対して移動自在に形成されている。
【００５３】
この実施の形態では図３と同様にして成形熱処理加工を行うが、図９（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間あるいは加熱した後、温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように台座２を移動させて熱伝導により加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分を検出する。次に、スリット部２０の低温部分を台座２の発熱部３にて他の高温部分よりも加熱するために、台座２を被加熱物１に対して長手方向に移動させるが、この移動方向と移動量を検出結果に基づいて決定する。次に、台座２を被加熱物１に対して移動させて台座２の発熱部３を被加熱物１の低温部分に接触させ、高周波誘導加熱により加熱された発熱部３から低温部分に熱伝導させる。このようにしてスリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００５４】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、台座２からの熱伝導による被加熱物１の加熱量を調整するために、つまりスリット部２０の低温部分を台座２からの熱伝導で加熱するために、台座２を被加熱物１に対して移動させてスリット部２０の低温部分を台座２で加熱するので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。尚、温度を測定する方法としては、スリット部２０の全面をカメラで取り込み、その温度分布を測定するようにしても良い。
【００５５】
図１０に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図４に示す実施例において温度計４０により被加熱物１の均一な温度にしたい部分、つまりスリット部２０の温度を測定するようにしたものである。温度計４０やその移動方法、台座２の移動方法などは図９のものと同様である。この実施の形態では図４と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１０（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間あるいは加熱した後、温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように台座２を移動させて熱伝導により加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分と高温部分を検出する。次に、スリット部２０の低温部分を台座２の発熱部３にて他の高温部分よりも加熱するために、あるいはスリット部２０の高温部分を台座２の吸熱部３にて他の低温部分よりも吸熱するために、台座２を被加熱物１に対して長手方向に移動させるが、この移動方向と移動量を検出結果に基づいて決定する。次に、台座２を被加熱物１に対して移動させて台座２の発熱部３を被加熱物１の低温部分に接触させ、高周波誘導加熱により加熱された発熱部３から低温部分に熱伝導させる。あるいは台座２を被加熱物１に対して移動させて台座２の吸熱部４を被加熱物１の高温部分に接触させ、この高温部分から吸熱部４に熱伝導させる。このようにしてスリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００５６】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、台座２からの熱伝導による被加熱物１の加熱量を調整するために、つまりスリット部２０の低温部分を台座２の発熱部３からの熱伝導で加熱したり、スリット部２０の高温部部分からの台座２の吸熱部４への熱伝導で吸熱したりするために、台座２を被加熱物１に対して移動させてスリット部２０の低温部分を台座２で加熱するので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００５７】
図１１に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図５に示す実施例において温度計４０により被加熱物１の均一な温度にしたい部分、つまりスリット部２０の温度を測定するようにしたものである。温度計４０やその移動方法などは図９のものと同様であるが、被加熱物１と電極５と高周波電源３２で構成される通電加熱用の回路には可変抵抗器４１が設けられている。この実施の形態では図５と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１１（ｃ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間あるいは加熱している間、温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように電極５への通電量を調整して補助加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分を検出する。この低温部分はほとんどの場合、被加熱物１の放熱しやすい部分Ａに生じる。次に、スリット部２０の低温部分を通電により発熱させて加熱するための補助加熱量を決定すると共に、その補助加熱量となるように可変抵抗器４１の抵抗値を決定する。次に、可変抵抗器４１の抵抗値を変化させて回路内に流れる電流量をコントロールし、被加熱物１を発熱させて低温部分を加熱する。このようにしてスリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００５８】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、通電加熱の電流量をコントロールするので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００５９】
図１２に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図６に示す実施例において温度計４０により被加熱物１の均一な温度にしたい部分、つまりスリット部２０の温度を測定するようにしたものである。温度計４０やその移動方法などは図９のものと同様である。この実施の形態では図６と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１２（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間あるいは加熱した後、温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるようにエアの噴き出し量を調整して冷却する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において高温部分を検出する。この高温部分はほとんどの場合、被加熱物１の放熱しにくい部分Ｂに生じる。次に、スリット部２０の高温部分を空気により冷却するための噴き出し量を決定すると共に、その噴き出し量となるようにコンプレッサの動作を調整する決定する。次に、エアを噴き出して被加熱物１に噴き付けて高温部分を冷却する。このようにしてスリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００６０】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、エアの噴き出し量を調整するので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００６１】
図１３に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図７に示す実施例において温度計４０により被加熱物１の均一な温度にしたい部分、つまりスリット部２０の温度を測定するようにしたものである。温度計４０やその移動方法、台座２の移動方法などは図９のものと同様である。この実施の形態では図７と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１３（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間は温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように台座２を移動させて熱伝導により加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分を検出する。次に、スリット部２０の低温部分を台座２にて他の高温部分よりも加熱するために、台座２を被加熱物１に対して移動させるが、この移動方向と移動量を検出結果に基づいて決定する。次に、台座２を被加熱物１に対して長手方向に移動させて低温部分に対応してコア部７を位置させて磁束ａが低温部分に集中するようにし、磁束ａが集中する箇所を変えて被加熱物１及び台座２の発熱する部分を変え、被加熱物１の低温部分を加熱するようにする。このようにしてスリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００６２】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、スリット部２０の低温部分を加熱するために、台座２を被加熱物１に対して移動させてスリット部２０の低温部分に磁束ａを集中させて発熱させて加熱するので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。また台座２を高速に移動させることにより、磁束ａ内でコア部７が移動するので、コイル８に流れる電流の変化に伴う磁束ａの変化に加えて、コア部７の移動に伴う磁束ａの変化も発生させることができ、これら磁束ａの変化に伴って発生する過電流を多く発生させることができ、被加熱物１内の発熱量はこの過電流の二乗に比例して発生するために、被加熱物１を効率よく加熱することができるものである。
【００６３】
図１４に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図８に示す実施例において温度計４０により被加熱物１の均一な温度にしたい部分、つまりスリット部２０の温度を測定するようにしたものである。温度計４０やその移動方法、台座２の移動方法などは図９のものと同様である。この実施の形態では図４と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１４（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間は温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように台座２を移動させて熱伝導により加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分と高温部分を検出する。次に、スリット部２０の低温部分を台座２の発熱部３にて他の高温部分よりも加熱するために、あるいはスリット部２０の低温部分に台座２のコア部７で磁束ａを集中させて他の高温部分よりも加熱するために、あるいはスリット部２０の高温部分を台座２の吸熱部３にて他の低温部分よりも吸熱するために、台座２を被加熱物１に対して長手方向に移動させるが、この移動方向と移動量を検出結果に基づいて決定する。次に、台座２を被加熱物１に対して移動させて台座２の発熱部３を被加熱物１の低温部分に接触させ、高周波誘導加熱により加熱された発熱部３から低温部分に熱伝導させる。あるいは台座２を被加熱物１に対して移動させて台座２の吸熱部４を被加熱物１の高温部分に接触させ、この高温部分から吸熱部４に熱伝導させる。あるいは台座２を被加熱物１に対して移動させて低温部分に対応してコア部７を位置させて磁束ａが低温部分に集中するようにし、磁束ａが集中する箇所を変えて被加熱物１及び台座２の発熱する部分を変え、被加熱物１の低温部分を加熱するようにする。このようにしてスリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００６４】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、台座２からの熱伝導による被加熱物１の加熱量を調整するために、つまりスリット部２０の低温部分を台座２の発熱部３からの熱伝導で加熱したり、スリット部２０の高温部部分からの台座２の吸熱部４への熱伝導で吸熱したり、スリット部２０の低温部分に磁束ａを集中させて発熱させて加熱したりするために、台座２を被加熱物１に対して移動させてスリット部２０の低温部分を台座２で加熱したり発熱により加熱したりするので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００６５】
図１５に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図１の実施の形態に加えて、第２のコイル９と図９と同様の温度計４０を具備するものである。第２のコイル９は、図１５（ｂ）に示すように、被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイル８の下側で台座２の一方の側方に配置されるものであり、台座２とほぼ同じ長さに形成されている。第２のコイル９は第１のコイル８と並列に高周波電源３２に接続されていると共に、第２のコイル９を台座２の長手方向に沿って移動させるための並進機構４５が設けられている。
【００６６】
この実施の形態では図１と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１５（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間あるいは加熱した後、温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように第２のコイル９を移動させて台座２を高周波誘導加熱により加熱し、さらに第２のコイル９により加熱された台座２から被加熱物１の低温部分に熱伝導させて加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分を検出する。次に、スリット部２０の低温部分を台座２にて加熱するために、スリット部２０の低温部分に対応する位置にある台座２の一部分を加熱するが、この台座２の一部分の加熱は、第２のコイル９を台座２の加熱する部分に対応させて長手方向に移動させると共に、第２のコイル９に給電（矢印ウで示す）して磁束ｂを発生させて高周波誘導加熱により加熱することによって行う。この第２のコイル９の移動方向と移動量とコイル９への給電量は温度計４０による温度の検出結果に基づいて決定する。このようにしてスリット部２０の低温部分に対応する位置にある台座２の一部分を第２のコイル９で加熱し、加熱された台座２から被加熱物１の低温部分に熱伝導させることによって、スリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００６７】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、台座２からの熱伝導による被加熱物１の加熱量を調整するために、つまりスリット部２０の低温部分を台座２からの熱伝導で加熱するために、スリット部２０の低温部分に対応する位置にある台座２の一部分を第２のコイル９で加熱するので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。特に、被加熱物１の低温部分が各被加熱物１でばらつく場合や加熱中に低温部分の位置が変わる場合に、第２のコイル９を必要に応じて移動させて台座２を加熱することができ、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００６８】
図１６に他の実施の形態を示す。この実施の形態では、図１５と同様に図１のものにおいて第２のコイル９と図９と同様の温度計４０を具備するものであるが、並進機構４５は設けられておらず、第２のコイル９は固定されて配置されている。第２のコイル９は、スリット部２０の低温部分になると予想される部分に対応する位置にある台座２の一部分を加熱することができるような位置に配置されている。また第２のコイル９と高周波電源３２の間には可変抵抗器４１が設けられいる。
【００６９】
この実施の形態では図１と同様にして成形熱処理加工を行うが、図１５（ｂ）に示すように、高周波誘導加熱により加熱している間あるいは加熱した後、温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果に基づいてスリット部２０が均一な温度になるように第２のコイル９で台座２を高周波誘導加熱により加熱し、さらに第２のコイル９により加熱された台座２から被加熱物１の低温部分に熱伝導させて加熱する。つまり、まず温度計４０で被加熱物１のスリット部２０の温度を測定し、この測定結果からスリット部２０において低温部分を検出する。次に、スリット部２０の低温部分を台座２にて加熱するために、スリット部２０の低温部分に対応する位置にある台座２の一部分を加熱するが、この台座２の一部分の加熱は、図１５（ｃ）と同様に、第２のコイル９に給電（矢印ウで示す）して磁束ｂを発生させて高周波誘導加熱により加熱することによって行う。この第２のコイル９への給電量は温度計４０による温度の検出結果に基づいて決定する。第２のコイル９への給電量は可変抵抗器４１の抵抗値を変化させて調整する。このようにしてスリット部２０の低温部分に対応する位置にある台座２の一部分を第２のコイル９で加熱し、加熱された台座２から被加熱物１の低温部分に熱伝導させることによって、スリット部２０の温度を均一にし、その温度を一定時間保持した後、加圧成形（プレス成形）することによって、成形熱処理加工を行うのである。
【００７０】
この実施の形態では、被加熱物１のスリット部２０（均一な温度に加熱したい部分）の温度を測定し、この測定結果に基づいて、台座２からの熱伝導による被加熱物１の加熱量を調整するために、つまりスリット部２０の低温部分を台座２からの熱伝導で加熱するために、スリット部２０の低温部分に対応する位置にある台座２の一部分を第２のコイル９で加熱するので、被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に正確に加熱することができるものである。特に、被加熱物１の低温部分が各被加熱物１でばらつきがなく、特定されている場合に有効である。
【００７１】
図１８に他の実施の形態を示す。この実施の形態は、図１７に示すような連なった複数個の被加熱物１を連続的に成形熱処理加工するものであり、しかも台座２における成形熱処理加工の前に、未処理の被加熱物１を予熱するものである。図１７に複数個の被加熱物１が連なって形成される加熱物帯体４７を示す。加熱物帯体４７は一対の長尺の支持片４８の間に複数個の被加熱物１を支持片４８の長手方向に並べて設けたものであって、支持片４８と被加熱物１の長手方向の端部が結合片４９により連結されている。この加熱物帯体４７はフープ材を打ち抜き加工したり折り曲げ加工したりして形成される。
【００７２】
図１８に示す加熱治具５０は上面に台座２と成形前熱処理部１０を立設して形成されており、台座２と成形前熱処理部１０は一体化されている。加熱治具５０は超硬ステンレス鋼などの導電性を有する金属材料で形成されており、台座２及び成形前熱処理部１０は図１に示す台座２の支持部２６と同様に形成されている。また台座２と成形前熱処理部１０の間隔は加熱物帯体４７の隣り合う被加熱物１の間隔と同等に形成されている。また台座２と成形前熱処理部１０は被加熱物１よりも熱容量が高く形成されている。
【００７３】
この実施の形態では成形熱処理加工及び予熱を次のようにして行う。まず、予熱後の被加熱物１の側片２１間を台座２に上側から差し込んで、図１８に示すように予熱後の被加熱物１を台座２に配置する。このように予熱後の被加熱物１を台座２に配置すると、予熱後の被加熱物１の成形熱処理加工を行いたい面で且つ焼き入れを行いたい面、すなわちスリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が台座２の側面に接触する。また上記の予熱後の被加熱物１と隣り合う他の予熱前（未処理）の被加熱物１の側片２１間を成形前熱処理部１０に上側から差し込んで、図１８に示すように予熱前の被加熱物１を成形前熱処理部１０に配置する。このように予熱前の被加熱物１を成形前熱処理部１０に配置すると、予熱前の被加熱物１のスリット部２０の下面が成形前熱処理部１０の上面に接触すると共に側片２１の内面が成形前熱処理部１０の側面に接触する。また、図１８に示すように、一対の主磁束発生部２９の間に予熱後の被加熱物１及び台座２が位置するように、予熱後の被加熱物１の側片２１の外側にコイル８を配置する。この時、予熱後の被加熱物１のスリット部２０の上面とコイル８の上面がほぼ同じ高さになっている。また予熱後の被加熱物１と予熱前の被加熱物１の間にコイル８の片方の主磁束発生部２９が位置することになる。
【００７４】
次に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、予熱後の被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱すると共に予熱前の被加熱物１及び成形前熱処理部１０を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱する。例えば、台座２に配置された被加熱物１が１０００℃程度に加熱されるようにコイル８に電流を流すと、成形前熱処理部１０に配置された被加熱物１は２００℃程度に加熱される。そしてこの加熱により成形前熱処理部１０から成形前熱処理部１０に配置された被加熱物１に熱を伝導させて予熱を施す。このようにして台座２に配置された被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、加圧治具３０の加圧面２７を台座２に配置した被加熱物１のスリット部２０の上面に当接させ、台座２の上面と加圧治具３０の加圧面２７の間でスリット部２０を挟持して加圧することによって、スリット部２０の上面が平坦となるように加圧成形し、台座２に配置した被加熱物１の熱処理歪みを低減する。この後、加圧治具３０による加圧を解除する。次に、予熱後の被加熱物１を成形前熱処理部１０から取り外すと共に加圧成形後の被加熱物１を台座２から取り外す。次に、加熱物帯体４７を成形前熱処理部１０から台座２の方に向かって進行させることによって、予熱後の被加熱物１を台座２に配置すると共に予熱後の被加熱物１と隣り合う未処理の被加熱物１を成形前熱処理部１０に配置する。このようにして加熱物帯体４７を進行させて順次被加熱物１を送っていくことによって、複数個の被加熱物１に予熱と成形熱処理加工を連続的に施すことができる。尚、成形熱処理加工の条件は図１の実施の形態と同様である。
【００７５】
この実施の形態では、被加熱物１よりも単純な形状で熱容量の高い台座２を用い、この台座２に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを接触させ、台座２を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱するようにしたものであり、このことで、放熱しやすい部分Ａに台座２の熱を伝導させて加熱して放熱しやすい部分Ａから空気中に放熱された熱を補うことができ、被加熱物１自身の発熱による加熱量と被加熱物１の放熱量との差に関わらず、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。
【００７６】
また被加熱物１は打ち抜き加工や曲げ加工により形成されるので、被加熱物１には油等の不純物が付着している場合があり、この状態で台座２において加熱加圧成形（成形熱処理加工）を行うと、被加熱物１に悪影響を与えて部品の品質の低下を招く恐れがある。そこでこの実施の形態では、台座２で加熱加圧成形を行う前に、成形前熱処理部１０で被加熱物１を予熱して付着した油などの不純物を蒸発させて除去するようにしたものであり、このように不純物を除去するので、品質の良い焼き入れを台座２で行うことができ、部品の品質を高めることができるものである。しかも台座２で行う高周波誘導加熱による加熱と同時に予熱も行うことができ、予熱を別途行う必要が無くなって生産性を向上させることができる。また台座２及び台座２に配置された被加熱物１を高周波誘導加熱するためのコイル８を利用し、このコイル８から生じる磁束ａを成形前熱処理部１０及び成形前熱処理部１０に配置された被加熱物１に誘導して予熱を行うことができ、予熱を行うための加熱装置が別途必要でなく小スペース化を図ることができるものである。
【００７７】
図１９に他の実施の形態を示す。この実施の形態では図１８のものにおいて、台座２と成形前熱処理部１０の少なくとも一方を、図１９（ａ）に示すように、金属材料で形成される基体３５とフェライト材料で形成されるコア部７とで構成したものであって、図７の台座２と同様に形成されている。またこのような台座２と成形前熱処理部１０を備えて図１８と同様の加熱治具５０が形成されている。尚、台座２と成形前熱処理部１０の少なくとも一方を図８の台座２と同様に形成しても良い。
【００７８】
この実施の形態では、図１８の実施の形態と同様にして成形前熱処理部１０における予熱と台座２における加熱加圧成形（成形熱処理加工）を同時に行うことができる。そして台座２における加熱加圧成形のみを高温で行い、成形前熱処理部１０における予熱を低温で行いたい場合は、台座２のみにコア部７を内装し、成形前熱処理部１０にはコア部７を内装しないようにすることができる。このことで台座２側にコイル８から生じる磁束ａを集中させることができる。また台座２と成形前熱処理部１０の両方にコア部７を内装して被加熱物１を加熱してもよい。この場合、台座２はコイル８の両方の主磁束発生部２９から磁束ａを受けるので、片方の主磁束発生部２９からしか磁束ａを受けない成形前熱処理部１０よりも約２倍の磁束量で加熱されることになり、台座２は成形前熱処理部１０よりも高温となるが、成形前熱処理部１０にコア部７を設けることによって、図７の場合と同様に被加熱物１の全体が均一な温度に加熱されるために、被加熱物１の全面に付着した不純物を蒸発させて除去することができる。
【００７９】
図２０に他の実施の形態を示す。この実施の形態は、図１７に示すような連なった複数個の被加熱物１を連続的に成形熱処理加工するものであり、しかも台座２における成形熱処理加工の後に、被加熱物１を焼き鈍しや焼き戻しするものである。図２０に示す加熱治具５０は上面に台座２と成形後熱処理部１１を立設して形成されており、台座２と成形後熱処理部１１は一体化されている。加熱治具５０は超硬ステンレス鋼などの導電性を有する金属材料で形成されており、台座２及び成形後熱処理部１１は図１に示す台座２の支持部２６と同様に形成されている。また台座２と成形後熱処理部１１の間隔は加熱物帯体４７の隣り合う被加熱物１の間隔と同等に形成されている。また台座２と成形後熱処理部１１は被加熱物１よりも熱容量が高く形成されている。
【００８０】
この実施の形態では成形熱処理加工及び焼き鈍しや焼き戻しを次のようにして行う。まず、未処理の被加熱物１の側片２１間を台座２に上側から差し込んで、図２０に示すように未処理の被加熱物１を台座２に配置する。このように未処理の被加熱物１を台座２に配置すると、未処理の被加熱物１の成形熱処理加工を行いたい面で且つ焼き入れを行いたい面、すなわちスリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が台座２の側面に接触する。また上記の未処理の被加熱物１と隣り合う他の加圧成形後（成形熱処理加工後）の被加熱物１の側片２１間を成形後熱処理部１１に上側から差し込んで、図２０に示すように加圧成形後の被加熱物１を成形後熱処理部１１に配置する。このように加圧成形後の被加熱物１を成形後熱処理部１１に配置すると、加圧成形後の被加熱物１のスリット部２０の下面が成形後熱処理部１１の上面に接触すると共に側片２１の内面が成形後熱処理部１１の側面に接触する。また、図２０に示すように、一対の主磁束発生部２９の間に未処理の被加熱物１及び台座２が位置するように、未処理の被加熱物１の側片２１の外側にコイル８を配置する。この時、未処理の被加熱物１のスリット部２０の上面とコイル８の上面がほぼ同じ高さになっている。また加圧成形後の被加熱物１と未処理の被加熱物１の間にコイル８の片方の主磁束発生部２９が位置することになる。
【００８１】
次に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、未処理の被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱すると共に加圧成形後の被加熱物１及び成形後熱処理部１１を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱する。例えば、台座２に配置された被加熱物１が１０００℃程度に加熱されるようにコイル８に電流を流すと、成形後熱処理部１１に配置された被加熱物１は２００〜４００℃程度に加熱される。そしてこの加熱により成形後熱処理部１１から成形後熱処理部１１に配置された被加熱物１に熱を伝導させて焼き鈍しや焼き戻しを施す。このようにして台座２に配置された被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、加圧治具３０の加圧面２７を台座２に配置した被加熱物１のスリット部２０の上面に当接させ、台座２の上面と加圧治具３０の加圧面２７の間でスリット部２０を挟持して加圧することによって、スリット部２０の上面が平坦となるように加圧成形し、台座２に配置した被加熱物１の熱処理歪みを低減する。この後、加圧治具３０による加圧を解除する。次に、焼き鈍しや焼き戻し後の被加熱物１を成形後熱処理部１１から取り外すと共に加圧成形後の被加熱物１を台座２から取り外す。次に、加熱物帯体４７を台座２から成形後熱処理部１１の方に向かって進行させることによって、加圧成形後の被加熱物１を成形後熱処理部１１に配置すると共に成形後熱処理部１１に配置した被加熱物１と隣り合う未処理の被加熱物１を台座２に配置する。このようにして加熱物帯体４７を進行させて順次被加熱物１を送っていくことによって、複数個の被加熱物１に成形熱処理加工と焼き鈍しや焼き戻しを連続的に施すことができる。尚、成形熱処理加工の条件は図１の実施の形態と同様である。
【００８２】
この実施の形態では、被加熱物１よりも単純な形状で熱容量の高い台座２を用い、この台座２に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを接触させ、台座２を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱するようにしたものであり、このことで、放熱しやすい部分Ａに台座２の熱を伝導させて加熱して放熱しやすい部分Ａから空気中に放熱された熱を補うことができ、被加熱物１自身の発熱による加熱量と被加熱物１の放熱量との差に関わらず、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。また成形熱処理加工による焼き入れ後に、焼き鈍しや焼き戻しを行うので、焼き入れの品質を高めることができ、部品の品質の向上を図ることができる。しかも台座２で行う高周波誘導加熱による加熱と同時に焼き鈍しや焼き戻しも行うことができ、焼き鈍しや焼き戻しを別途行う必要が無くなって生産性を向上させることができる。また台座２及び台座２に配置された被加熱物１を高周波誘導加熱するためのコイル８を利用し、このコイル８から生じる磁束ａを成形後熱処理部１１及び成形後熱処理部１１に配置された被加熱物１に誘導して焼き鈍しや焼き戻しを行うことができ、焼き鈍しや焼き戻しを行うための加熱装置が別途必要でなく小スペース化を図ることができるものである。
【００８３】
図２１に他の実施の形態を示す。この実施の形態では図２０のものにおいて、台座２と成形後熱処理部１１の少なくとも一方を、図２１（ａ）に示すように、金属材料で形成される発熱部３とフェライト材料で形成されるコア部７とで構成したものであって、図７の台座２と同様に形成されている。またこのような台座２と成形後熱処理部１１を用いて図２０と同様の加熱治具５０が形成されている。尚、台座２と成形後熱処理部１１の少なくとも一方を、図８の台座２と同様に形成しても良い。
【００８４】
この実施の形態では、図２０の実施の形態と同様にして成形後熱処理部１１における焼き鈍しや焼き戻しと台座２における加熱加圧成形（成形熱処理加工）を同時に行うことができる。そして台座２における加熱加圧成形のみを高温で行い、成形後熱処理部１１における焼き鈍しや焼き戻しを低温で行いたい場合は、台座２のみにコア部７を内装し、成形後熱処理部１１にはコア部７を内装しないようにすることができる。このことで台座２側にコイル８から生じる磁束ａを集中させることができる。また台座２と成形後熱処理部１１の両方にコア部７を内装して被加熱物１を加熱してもよい。この場合、台座２はコイル８の両方の主磁束発生部２９から磁束ａを受けるので、片方の主磁束発生部２９からしか磁束ａを受けない成形後熱処理部１１よりも約２倍の磁束量で加熱されることになり、台座２は成形後熱処理部１１よりも高温となるが、成形後熱処理部１１にコア部７を設けることによって、図７の場合と同様に被加熱物１の全体が均一な温度に加熱されるために、被加熱物１の全面に焼き鈍しや焼き戻しを均一に安定して施すことができ、部品の品質を向上させることができる。
【００８５】
図２２に他の実施の形態を示す。この実施の形態は、図１７に示すような連なった複数個の被加熱物１を連続的に成形熱処理加工するものであり、しかも台座２における成形熱処理加工の前に被加熱物１を予熱し、台座２における成形熱処理加工の後に、被加熱物１を焼き鈍しや焼き戻しするものである。図２２に示す加熱治具５０は上面に台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１を立設して形成されており、台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１は一体化されている。また成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１の間に台座２が配置されている。加熱治具５０は超硬ステンレス鋼などの導電性を有する金属材料で形成されており、台座２及び成形前熱処理部１０及び成形後熱処理部１１は図１に示す台座２の支持部２６と同様に形成されている。また台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１の間隔は加熱物帯体４７の隣り合う被加熱物１の間隔と同等に形成されている。また台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１は被加熱物１よりも熱容量が高く形成されている。
【００８６】
この実施の形態では成形熱処理加工及び予熱及び焼き鈍しや焼き戻しを次のようにして行う。まず、予熱後の被加熱物１の側片２１間を台座２に上側から差し込んで、図２２に示すように未処理の被加熱物１を台座２に配置する。このように予熱後の被加熱物１を台座２に配置すると、未処理の被加熱物１の成形熱処理加工を行いたい面で且つ焼き入れを行いたい面、すなわちスリット部２０の下面が台座２の上面に接触すると共に側片２１の内面が台座２の側面に接触する。また上記の予熱後の被加熱物１と隣り合う他の加圧成形後（成形熱処理加工後）の被加熱物１の側片２１間を成形後熱処理部１１に上側から差し込んで、図２２に示すように加圧成形後の被加熱物１を成形後熱処理部１１に配置する。このように加圧成形後の被加熱物１を成形後熱処理部１１に配置すると、加圧成形後の被加熱物１のスリット部２０の下面が成形後熱処理部１１の上面に接触すると共に側片２１の内面が成形後熱処理部１１の側面に接触する。さらに上記の予熱後の被加熱物１と隣り合う他の予熱前（未処理）の被加熱物１の側片２１間を成形前熱処理部１０に上側から差し込んで、図２２に示すように予熱前の被加熱物１を成形前熱処理部１０に配置する。このように予熱前の被加熱物１を成形前熱処理部１０に配置すると、予熱前の被加熱物１のスリット部２０の下面が成形前熱処理部１０の上面に接触すると共に側片２１の内面が成形前熱処理部１０の側面に接触する。また、図２２に示すように、一対の主磁束発生部２９の間に予熱後の被加熱物１及び台座２が位置するように、予熱後の被加熱物１の側片２１の外側にコイル８を配置する。この時、予熱後の被加熱物１のスリット部２０の上面とコイル８の上面がほぼ同じ高さになっている。また加圧成形後の被加熱物１と予熱後の被加熱物１の間、及び予熱前の被加熱物１と予熱後の被加熱物１の間にコイル８の主磁束発生部２９が片方ずつ位置することになる。
【００８７】
次に、コイル８に高周波電源３２から給電することによって磁束ａを発生させ、予熱後の被加熱物１及び台座２を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱すると共に加圧成形後の被加熱物１及び成形後熱処理部１１を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱し、さらに予熱前の被加熱物１及び成形前熱処理部１０を高周波誘導加熱により発熱させて同時に加熱する。そしてこの加熱により成形後熱処理部１１から成形後熱処理部１１に配置された被加熱物１に熱を伝導させて焼き鈍しや焼き戻しを施すと共に、成形前熱処理部１０から成形前熱処理部１０に配置された被加熱物１に熱を伝導させて予熱を施す。このようにして台座２に配置された被加熱物１及び台座２を所定の温度に加熱した後、加圧治具３０の加圧面２７を台座２に配置した被加熱物１のスリット部２０の上面に当接させ、台座２の上面と加圧治具３０の加圧面２７の間でスリット部２０を挟持して加圧することによって、スリット部２０の上面が平坦となるように加圧成形し、台座２に配置した被加熱物１の熱処理歪みを低減する。この後、加圧治具３０による加圧を解除する。次に、焼き鈍しや焼き戻し後の被加熱物１を成形後熱処理部１１から取り外すと共に加圧成形後の被加熱物１を台座２から取り外し、さらに予熱後の被加熱物１を成形前熱処理部１０から取り外す。次に、加熱物帯体４７を成形前熱処理部１０から成形後熱処理部１１の方に向かって進行させることによって、加圧成形後の被加熱物１を成形後熱処理部１１に配置すると共に成形後熱処理部１１に配置した被加熱物１と隣り合う予熱後の被加熱物１を台座２に配置し、予熱後の被加熱物１と隣り合う未処理の被加熱物１を成形前熱処理部１０に配置する。このようにして加熱物帯体４７を進行させて順次被加熱物１を送っていくことによって、複数個の被加熱物１に成形熱処理加工と焼き鈍しや焼き戻しと予熱を連続的に施すことができる。尚、成形熱処理加工の条件は図１の実施の形態と同様である。
【００８８】
この実施の形態では、被加熱物１よりも単純な形状で熱容量の高い台座２を用い、この台座２に被加熱物１の放熱しやすい部分Ａを接触させ、台座２を被加熱物１とともに高周波誘導加熱により加熱するようにしたものであり、このことで、放熱しやすい部分Ａに台座２の熱を伝導させて加熱して放熱しやすい部分Ａから空気中に放熱された熱を補うことができ、被加熱物１自身の発熱による加熱量と被加熱物１の放熱量との差に関わらず、放熱しやすい部分Ａと放熱しにくい部分Ｂの温度差が小さくなって被加熱物１の全体（特にスリット部２０）を均一な温度に加熱することができるものである。また成形熱処理加工による焼き入れ後に、焼き鈍しや焼き戻しを行うので、焼き入れの品質を高めることができ、部品の品質の向上を図ることができる。しかも台座２で行う高周波誘導加熱による加熱と同時に焼き鈍しや焼き戻しも行うことができ、焼き鈍しや焼き戻しを別途行う必要が無くなって生産性を向上させることができる。また台座２及び台座２に配置された被加熱物１を高周波誘導加熱するためのコイル８を利用し、このコイル８から生じる磁束ａを成形後熱処理部１１及び成形後熱処理部１１に配置された被加熱物１に誘導して焼き鈍しや焼き戻しを行うことができ、焼き鈍しや焼き戻しを行うための加熱装置が別途必要でなく小スペース化を図ることができるものである。また台座２で加熱加圧成形を行う前に、成形前熱処理部１０で被加熱物１を予熱して付着した油などの不純物を蒸発させて除去するので、品質の良い焼き入れを台座２で行うことができ、部品の品質を高めることができるものである。しかも台座２で行う高周波誘導加熱による加熱と同時に予熱も行うことができ、予熱を別途行う必要が無くなって生産性を向上させることができる。また台座２及び台座２に配置された被加熱物１を高周波誘導加熱するためのコイル８を利用し、このコイル８から生じる磁束ａを成形前熱処理部１０及び成形前熱処理部１０に配置された被加熱物１に誘導して予熱を行うことができ、予熱を行うための加熱装置が別途必要でなく小スペース化を図ることができるものである。
【００８９】
図２３に他の実施の形態を示す。この実施の形態では図２２のものにおいて、台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１の少なくとも一つを、図２３（ａ）に示すように、金属材料で形成される基体３５とフェライト材料で形成されるコア部７とで構成したものであって、図７の台座２と同様に形成されている。またこのような台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１を用いて図２３と同様の加熱治具５０が形成されている。尚、台座２と成形前熱処理部１０と成形後熱処理部１１の少なくとも一つを図８の台座２と同様に形成しても良い。
【００９０】
この実施の形態では、図２２の実施の形態と同様にして成形前熱処理部１０における予熱と台座２における加熱加圧成形（成形熱処理加工）と成形後熱処理部１１における焼き鈍しや焼き戻しを同時に行うことができる。そして台座２における加熱加圧成形のみを高温で行い、成形前熱処理部１０における予熱や成形後熱処理部１１における焼き鈍しや焼き戻しを低温で行いたい場合は、台座２のみにコア部７を内装し、成形前熱処理部１０や成形後熱処理部１１にはコア部７を内装しないようにすることができる。このことで台座２側にコイル８から生じる磁束ａを集中させることができる。また台座２と成形前熱処理部１０の両方にコア部７を内装して被加熱物１を加熱してもよい。この場合、台座２はコイル８の両方の主磁束発生部２９から磁束ａを受けるので、片方の主磁束発生部２９からしか磁束ａを受けない成形前熱処理部１０よりも約２倍の磁束量で加熱されることになり、台座２は成形前熱処理部１０よりも高温となるが、成形前熱処理部１０にコア部７を設けることによって、図７の場合と同様に被加熱物１の全体が均一な温度に加熱されるために、被加熱物１の全面に付着した不純物を蒸発させて除去することができる。また台座２と成形後熱処理部１１の両方にコア部７を内装して被加熱物１を加熱してもよい。この場合、台座２はコイル８の両方の主磁束発生部２９から磁束ａを受けるので、片方の主磁束発生部２９からしか磁束ａを受けない成形後熱処理部１１よりも約２倍の磁束量で加熱されることになり、台座２は成形後熱処理部１１よりも高温となるが、成形後熱処理部１１にコア部７を設けることによって、図７の場合と同様に被加熱物１の全体が均一な温度に加熱されるために、被加熱物１の全面に焼き鈍しや焼き戻しを均一に安定して施すことができ、部品の品質を向上させることができる。
【００９１】
【発明の効果】
上記のように本発明の請求項１に係る発明は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製で被加熱物よりも熱容量の高い台座を形成し、被加熱物を台座に接触させて配置し、被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱し、台座から被加熱物に熱伝導させるので、被加熱物の放熱しやすい部分に台座の熱を伝導させて加熱して放熱しやすい部分から空気中に放熱された熱を補うことができ、各種の複雑形状を有する被加熱物を均一な温度に加熱することができるものである。そして被加熱物を全体に亘って均一な温度に加熱することができるので、被加熱物に均一な焼き入れを行うことができ、硬度や組織のばらつきが少ない品質の良い部品を得ることができるものである。
【００９２】
本発明の請求項２に係る発明は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に発熱部を接触させ、被加熱物及び発熱部を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部から被加熱物の放熱しやすい部分に熱伝導させるので、台座の発熱部に被加熱物の放熱しやすい部分のみを接触させ、台座の発熱部を被加熱物とともに高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物の放熱しやすい部分のみに発熱部から熱を伝導することによって、発熱部から伝導される熱で放熱しやすい部分から放熱された熱を補うことができ、各種の複雑形状を有する被加熱物を均一な温度に加熱することができるものである。
【００９３】
本発明の請求項３に係る発明は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部とセラミック製の吸熱部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に発熱部を接触させると共に被加熱物の放熱しにくい部分に吸熱部を接触させ、被加熱物及び発熱部を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部から被加熱物の放熱しやすい部分に熱伝導させると共に被加熱物の放熱しにくい部分から吸熱部に熱伝導させるので、発熱部から伝導される熱で放熱しやすい部分から放熱された熱を補うことができると共に放熱しにくい部分から吸熱部に熱を逃がすことができ、放熱しやすい部分と放熱しにくい部分の温度差が小さくなって各種の複雑な形状を有する被加熱物を均一な温度に加熱することができるものである。
【００９４】
本発明の請求項４に係る発明は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、フェライト製のコア部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に対応させてコア部を位置させ、被加熱物を高周波誘導加熱により加熱し、高周波誘導加熱時においてコア部及び被加熱物の放熱しやすい部分に集中する磁束で被加熱物の放熱しやすい部分を発熱させるので、被加熱物の放熱しやすい部分を放熱しにくい部分よりも大きく加熱すると共に、被加熱物の放熱しやすい部分に接触する台座の金属部分から放熱しやすい部分への熱伝導を大きくして加熱することができ、放熱しやすい部分と放熱しにくい部分の温度差が小さくなって各種の複雑な形状を有する被加熱物を均一な温度に加熱することができるものである。
【００９５】
本発明の請求項５に係る発明は、金属製の薄板を成形した複雑形状を有する被加熱物を加熱し、加熱した被加熱物を加圧成形する成形熱処理加工方法において、金属製の発熱部とセラミック製の吸熱部とフェライト製のコア部を有する台座を形成し、被加熱物を台座に配置し、被加熱物の放熱しやすい部分に発熱部を接触させると共に被加熱物の放熱しにくい部分に吸熱部を接触させ、被加熱物の放熱しやすい部分に対応させてコア部を位置させ、被加熱物及び発熱部を高周波誘導加熱により加熱し、発熱部から被加熱物の放熱しやすい部分に熱伝導させると共に被加熱物の放熱しにくい部分から吸熱部に熱伝導させ、高周波誘導加熱時にコア部及び被加熱物の放熱しやすい部分に集中する磁束で被加熱物の放熱しやすい部分を発熱させるので、発熱部から伝導される熱で放熱しやすい部分から放熱された熱を補うことができると共に放熱しにくい部分から吸熱部に熱を逃がすことができ、しかもコア部に集中して通過する磁束によって、被加熱物の放熱しやすい部分を放熱しにくい部分よりも大きく加熱すると共に、被加熱物の放熱しやすい部分に接触する台座の金属部分から放熱しやすい部分への熱伝導を大きくして加熱することができ、放熱しやすい部分と放熱しにくい部分の温度差が小さくなって各種の複雑な形状の被加熱物を均一な温度に加熱することができるものである。
【００９６】
本発明の請求項６に係る発明は、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に台座の発熱部を接触させるように、被加熱物に対して台座を移動させるので、被加熱物の温度が低い部分を台座の発熱部で加熱することができ、被加熱物を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００９７】
本発明の請求項７に係る発明は、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に台座の発熱部を接触させるように、あるいは被加熱物の温度が高い部分に台座の吸熱部を接触させるように、被加熱物に対して台座を移動させるので、被加熱物の温度が低い部分を台座の発熱部で加熱することができ、あるいは被加熱物の温度が高い部分から台座の吸熱部で吸熱することができ、被加熱物を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００９８】
本発明の請求項８に係る発明は、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に対応させて台座のコア部を位置させるように、被加熱物に対して台座を移動させるので、被加熱物の温度が低い部分における磁束量を変化させて発熱量をコントロールすることができ、被加熱物を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【００９９】
本発明の請求項９に係る発明は、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度が低い部分に台座の発熱部を接触させるように、あるいは被加熱物の温度が低い部分に対応させて台座のコア部を位置させるように、あるいは被加熱物の温度が高い部分に台座の吸熱部を接触させるように、被加熱物に対して台座を移動させるので、被加熱物の温度が低い部分を台座の発熱部で加熱することができ、あるいは被加熱物の温度が高い部分から台座の吸熱部で吸熱することができ、あるいは被加熱物の温度が低い部分における磁束量を変化させて発熱量をコントロールすることができ、被加熱物を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【０１００】
本発明の請求項１０に係る発明は、被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイルと、台座を高周波誘導加熱により加熱するための第２のコイルとを具備し、第１のコイルにより被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、被加熱物の温度の低い部分に接触する台座の一部分が第２のコイルで加熱されるように、台座に対して第２のコイルを移動させるので、被加熱物の低温部分の温度に応じて、低温部分に対応する位置にある台座の一部分を第２のコイルで加熱することができ、被加熱物を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【０１０１】
本発明の請求項１１に係る成形熱処理加工方法は、被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱するための第１のコイルと、台座を高周波誘導加熱により加熱するための第２のコイルとを具備し、被加熱物の放熱しやすい部分に接触する台座の一部分が第２のコイルで加熱されるように台座と第２のコイルを配置し、第１のコイルにより被加熱物及び台座を高周波誘導加熱により加熱し、被加熱物の温度を測定し、その測定結果に基づいて、第２のコイルへの通電量を調整するので、被加熱物の低温部分の温度に応じて第２のコイルへの通電量をコントロールして、低温部分に対応する位置にある台座の一部分を第２のコイルで加熱することができ、被加熱物を均一な温度に正確に加熱することができるものである。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は断面図、（ｃ）は一部の斜視図である。
【図２】  同上の被加熱物を示す斜視図である。
【図３】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）（ｂ）は斜視図、（ｃ）は底面図である。
【図４】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）（ｂ）は斜視図、（ｃ）は底面図である。
【図５】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は底面図である。
【図６】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は底面図である。
【図７】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は底面図である。
【図８】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は底面図である。
【図９】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）はフロー図である。
【図１０】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）はフロー図である。
【図１１】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は底面図、（ｃ）はフロー図である。
【図１２】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）はフロー図である。
【図１３】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）はフロー図である。
【図１４】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）はフロー図である。
【図１５】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は一部の斜視図、（ｂ）は正面図、（ｃ）は側面図である。
【図１６】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は一部の斜視図、（ｂ）は正面図である。
【図１７】  同上の加熱物帯体の一部を示す斜視図である。
【図１８】  同上の他の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図１９】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は一部の斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図２０】  同上の他の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図２１】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は一部の斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図２２】  同上の他の実施の形態の一例を示す断面図である。
【図２３】  同上の他の実施の形態の一例を示し、（ａ）は一部の斜視図、（ｂ）は断面図である。
【図２４】  従来例を示し、（ａ）は斜視図、（ｂ）は断面図である。
【符号の説明】
１  被加熱物
２  台座
３  発熱部
４  吸熱部
５  電極
６  エア噴き出し口
７  コア部
８  コイル
９  コイル
１０  成形前熱処理部
１１  成形後熱処理部
Ａ  放熱しやすい部分
Ｂ  放熱しにくい部分
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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