(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
表面層として二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／２０ｍｍ以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防止層を有し、前記汚染防止層が下記一般式（３）で表されるフルオロアミノシラン化合物およびその部分加水分解縮合物の少なくとも一方よりなる硬化層からなることを特徴とする反射防止膜。
【化１】
0003874513.tif 000008
前記一般式（３）において、Ｒ４は水素原子又は低級アルキル基若しくはアリール基、Ｒ５は低級アルキル基又はアリール基、Ｒ６は炭素数１〜４の有機基、ＱはＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２又はＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ｍは１５〜３５の整数、ｎは２又は３である。
【請求項２】
前記汚染防止層が、厚さ０．００１〜０．５μｍ、粘着テープの接着力０．５Ｎ／２０ｍｍ以下、水に対する静止接触角８０度以上である請求項１記載の反射防止膜。
【請求項３】
前記二酸化ケイ素系無機系反射防止層が、導電層を有し、表面反射率が３％以下である請求項１または２に記載の反射防止膜。
【請求項４】
前記汚染防止層が、前記シラン化合物の加水分解により硬化した層からなる請求項１から３のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項５】
前記二酸化ケイ素系無機層が、ＰＶＤ法により形成したものであり、前記汚染防止層がスピンコート法、浸漬コート法、カーテンフローコート法および真空蒸着法からなる群から選択される少なくとも一つの方法で形成したものである請求項１から４のいずれか一項に記載の反射防止膜。
【請求項６】
請求項１から５のいずれか一項に記載の反射防止膜を支持基材上に有することを特徴とする光学素材。
【請求項７】
前記反射防止膜と前記支持基材の間にハードコート層を有する請求項６記載の光学素材。
【請求項８】
前記ハードコート層が、平均粒径０．５〜５μｍのシリカ粒子の含有、又は中心線平均粗さ０．０１〜０．５μｍのエッチング表面によりきらめき防止機能を有するものである請求項７記載の光学素材。
【請求項９】
視認装置用の反射防止フィルタとして用いる請求項６から８のいずれか一項に記載の光学素材。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の技術分野】
本発明は、ＬＣＤやＣＲＴやプラズマ表示装置等の種々の視認装置、眼鏡用やカメラ用等の各種レンズ、あるいは鏡などに好適な、指紋等の汚染の除去性に優れる反射防止膜及びそれを付設した光学素材に関する。
【０００２】
【発明の背景】
視認装置等の表面に設けられることが一般的な反射防止膜にあっては、手垢や指紋、汗や唾液や整髪料等の汚染が付着しやすく、その付着で表面反射率が変化したり、付着物が白く浮きでて見えて表示内容が不鮮明になるなど、単なる透明板等の場合に比べて汚染が目立ちやすい難点があるため、かかる汚染物の付着防止性や付着汚染の除去性に優れる反射防止膜の提供が久しい課題となっている。
【０００３】
従来、汚染防止性の向上等を目的とした反射防止膜としては、ＰＶＤ法により形成した二酸化ケイ素を主成分とする表面層を有する単層又は多層の無機物層からなる反射防止層の表面に、有機ポリシロキサン系重合物又はパーフルオロアルキル基含有重合物からなる硬化層を有するものが知られていた（特公平６−５３２４号公報）。
【０００４】
しかしながら、手垢や指紋等の人体的ないし油系汚染が付着した場合に、通例のティッシュペーパなどで拭取ることが困難で汚染が薄膜に押し拡げられ、強く擦ると反射防止膜が傷つくため満足できる除去を達成できない問題点があった。
【０００５】
【発明の技術的課題】
本発明は、汚染が付着しにくく、かつ汚染が付着した場合にもその汚染が目立ちにくいと共に、手垢や指紋等の人体的汚染も含めて付着した汚染をティッシュペーパ等で容易に拭取り除去でき、その拭取り操作で傷付きにくくて、水滴等の付着は容易に振り落すことができ、しかもかかる汚染防止性や易拭取り除去性、耐擦傷性や撥水性等の性能を長期に持続する反射防止膜及び光学素材の開発を課題とする。
【０００６】
【課題の解決手段】
本発明は、表面層として二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／２０ｍｍ以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防止層を有し、前記汚染防止層が下記一般式（３）で表されるフルオロアミノシラン化合物およびその部分加水分解縮合物の少なくとも一方よりなる硬化層からなることを特徴とする反射防止膜、及びその反射防止膜を支持基材上に有することを特徴とする光学素材を提供するものである。
【化２】
0003874513.tif 000002
前記一般式（３）において、Ｒ４は水素原子又は低級アルキル基若しくはアリール基、Ｒ５は低級アルキル基又はアリール基、Ｒ６は炭素数１〜４の有機基、ＱはＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２又はＣＨ２ＣＨ２ＮＨＣＨ２ＣＨ２ＣＨ２、ｍは１５〜３５の整数、ｎは２又は３である。
【０００７】
【発明の効果】
本発明によれば、汚染防止性や付着汚染の易拭取り除去性、耐擦傷性や撥水性等の性能に優れる、特に一般式（３）によるフルオロアミノシラン化合物等を用いるため、フッ素変性基が表面に効率よく配向して優れた撥水撥油性や汚染防止性、耐薬品性や潤滑性、離型性や耐擦傷性等の性能を示すと共に、二酸化ケイ素系無機層と強固に密着した汚染防止層を形成でき、手垢や指紋等の油系や水系等の汚染が付着しにくい上に、仮に汚染が付着しても目立ちにくくてティッシュペーパ等で容易に拭取り除去でき、その拭取り操作で傷付きにくくて、水滴等の付着は容易に振り落すことができ、しかもかかる性能を長期に持続する反射防止膜ないしその光学素材を得ることができる。
【０００８】
【発明の実施形態】
本発明の反射防止膜は、表面層として二酸化ケイ素系無機層を有する単層構造又は複層構造の無機系反射防止層の表面に、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm以下であるフッ素含有のシラン系硬化層からなる汚染防止層を有してなる。また本発明の光学素材は、前記反射防止膜を支持基材上に有してなる。
【０００９】
図１、図２に本発明による反射防止膜を例示した。また図３、図４に本発明による光学素材を例示した。３が無機系反射防止層１と汚染防止層２からなる反射防止膜、４が支持基材であり、１１，１２，１３は、無機系反射防止層１を形成する無機層である。なお５は、必要に応じて設けられるハードコート層である。
【００１０】
反射防止膜における無機系反射防止層は、実質的な反射防止機能を担う部分であり、本発明においては二酸化ケイ素系無機層を表面に有するものとする点を除いて、すなわち単層構造の場合には、図１に例示の如く二酸化ケイ素系無機層１３からなる無機系反射防止層１とする点を除いて、単層構造又は複層構造の適宜な構造とすることができる。
【００１１】
従って、例えばＡ．ＶＡＳＩＣＥＫ著、「OPUTICS OF THIN FILMS」Ｐ１５９〜２８３［北オランダパブリッシングカンパニ、アムステルダム（１９６０）：NORTH-HOLLAND PUBLISHING COMPANY, AMSTERDAM(1960)］や特開昭５８−４６３０１号公報、特開昭５９−４９５０１号公報や特開昭５９−５０４０１号公報、特開平１−２９４７０９号公報や特公平６−５３２４号公報などに基づく従来技術の如く、従来に準じた構造の反射防止層として形成することもできる。
【００１２】
無機系反射防止層の形成には、無機酸化物や無機ハロゲン化物やそれらの複合物等よりなる無機物を用いうる。その無機物の具体例としては、ＳiＯ2やＺrＯ2、Ａl2Ｏ3やＹ2Ｏ3、ＴiＯ2の如き無機酸化物、ＭgＦ2やＢaＦ2、ＣaＦ2やＬaＦ2、ＬiＦやＮaＦ、ＳrＦ2の如き無機ハロゲン化物などを代表例としてあげられる。
【００１３】
反射防止層を形成する無機物は、下記の形成方法などに応じてその１種又は２種以上が固体物、あるいはバインダ用ポリマー等と混合した分散液などの適宜な状態で用いられるが、その場合、無機物を３０重量％以上含有する組成で用いることが硬度や汚染防止性などの点より好ましい。なお前記のバインダ用ポリマーとしては、適宜なポリマーを用いることがでて特に限定はないが、硬度等の点よりはポリオルガノシロキサンを形成しうる各種の有機ケイ素化合物やその加水分解物などが好ましく用いうる。
【００１４】
無機系反射防止層の形成は、例えば真空蒸着法やスパッタリング法やイオンプレーティング法等で代表される各種のＰＶＤ（Phisical Vapor Deposition）法、あるいはスピンコート法や浸漬コート法、カーテンフローコート法やロールコート法、スプレーコート法や流し塗り法等で代表される流体塗布法などの適宜な薄膜形成法にて行うことができる。
【００１５】
前記したＰＶＤ法には、上記に例示したＳiＯ2等の無機酸化物やＭgＦ2等の無機ハロゲン化物などが好ましく用いられ、特に表面層となる二酸化ケイ素系無機層は、表面硬度の高さや汚染防止層の密着性などの点より、ＰＶＤ法により二酸化ケイ素を主成分として含有する層に形成したものが好ましい。
【００１６】
反射防止層は、反射防止効果等の点より複層構造とすることが好ましく、就中、表面層の二酸化ケイ素系無機層よりも高い屈折率の層を１層又は２層以上内在させた複層構造とすることが好ましい。その場合、各層の厚さや屈折率の設定等については、上記したＡ．ＶＡＳＩＣＥＫ著、「OPUTICS OF THIN FILMS」などの公知技術の如く、従来に準じることができる。
【００１７】
また反射防止層には、帯電によるゴミ等の付着を防止するために静電気の除去効果や電磁波のシールド効果も発揮する導電層を含ませてもよい。かかる導電層は、例えば金や銀やアルミニウム等の金属薄膜、酸化スズや酸化インジウムやそれらの混合物（ＩＴＯ）等の無機酸化物薄膜などからなる透明導電膜として形成される。可視領域では、光の吸収が極めて少ない無機酸化物系の透明導電膜が特に好ましい。
【００１８】
無機系反射防止層表面の二酸化ケイ素系無機層に付設される汚染防止層は、粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mm以下であるフッ素含有のシラン系硬化層にて形成される。粘着テープの接着力が１．０Ｎ／20mmを超えるシラン系硬化層では、汚染防止性に乏しくて、特に手垢や指紋等の人体的汚染が付着しやすく、また汚染の拭取り除去性に乏しくなる。
【００１９】
なお前記の接着力は、ＪＩＳ
Ｃ ２３３８（電気絶縁用ポリエステル粘着テープ）又はＣＥＳ
Ｍ ５０２３−６（ポリエステルフィルム粘着テープ）で品質が規定された、ポリエステルフィルムにアクリル系粘着層を設けた粘着力２．０Ｎ／10mm以上の粘着テープを、常温で汚染防止層（シラン系硬化層）に圧着し、それを剥離速度３００mm／分の条件で１８０度ピールした場合の値に基づく。
【００２０】
フッ素変性基が表面に効率よく配向し、優れた撥水撥油性や汚染防止性、耐薬品性や潤滑性、離型性や耐擦傷性等を発揮して二酸化ケイ素系無機層と強固に密着した汚染防止層の安定した形成性などの点より好ましく用いうるシラン系化合物としては、前記の一般式（３）で表されるフルオロアミノシラン化合物又は／及びその部分加水分解縮合物があげられる。
【００２１】
前記したフルオロアミノシラン化合物又は／及びその部分加水分解縮合物によれば、水分の存在下に加水分解して硬化し、従って上記した適切な水分の存在下に放置又は加熱することにより硬化層を形成することができる。
【００２２】
なお一般式（３）中の低級アルキル基又はアリール基Ｒ4，Ｒ5は、例えばメチル基やエチル基、プロピル基やフェニル基などの適宜なものであってよいが、前記性能等の点よりＲ4は水素原子又はメチル基であることが、Ｒ5はメチル基であることが好ましい。
【００２３】
また炭素数１〜４の有機基Ｒ6は、例えばメチル基やエチル基、プロピル基やブチル基の如きアルキル基、メトキシメチル基やメトキシエチル基の如きオキシアルキル基、アセチル基の如きアシル基、イソプロペニル基の如きアルケニル基などの適宜なものであっていてよい。前記性能等の点よりはメチル基やエチル基やイソプロペニル基などであることが好ましい。
【００２４】
さらにＱは、ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2又はＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2であるが、汚染防止層の形成に際しては、それらのＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2とＣＨ2ＣＨ2ＮＨＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2が混在したものとして用いることもできる。従って汚染防止層の形成には、２種以上のフルオロアミノシラン化合物又は／及びその部分加水分解縮合物を適宜な組合せで併用してもよい。
【００２５】
またさらにｍは、１５〜３５の整数であるが、１５以下では上記したパーフルオロポリエーテル基としての特長が充分に発揮されにくく、３５以上では分子中のアルコキシシリル基の含有割合が相対的に小さくなり縮合反応の進行が遅延して硬化皮膜の形成速度に乏しくなる。なおｎは、２又は３であるが、ｎが２のものと３のものとの併用は許容される。
【００２６】
前記したフルオロアミノシラン化合物の調製は、例えば相当するヘキサフルオロプロピレンオキシド（ＨＦＰＯ）オリゴマー又はそのエステル誘導体とアミノアルキルアルコキシシランを縮合反応させる方式などにより行うことができる。
【００２７】
汚染防止層の形成は、上記した反射防止層の場合に準じて適宜な方法を採りうるが、反射防止効果の均一性や反射干渉色の制御などの点より、スピンコート法、浸漬コート法、カーテンフローコート法などの適宜な薄膜塗布方法や真空蒸着法等の１種又は２種以上を適用した形成方法が好ましい。また作業性等の点よりは、塗布液を紙や布等に含浸させて塗布流延する形成方法が好ましい。
【００２８】
なお塗布液は、例えば１種又は２種以上のシラン系化合物を揮発性溶媒に溶解又は分散させる方法などの適宜な方法で調製することができる。その場合、揮発性溶媒についは、組成物の安定性や溶解性、無機系反射防止層表面の二酸化ケイ素系無機層に対する濡れ性や揮発速度などを考慮して適宜に決定してよく、２種以上の混溶媒とすることもできる。
【００２９】
ちなみに前記の揮発性溶媒としては、例えばパーフルオロヘプタンやパーフルオロオクタンの如きフッ素変性脂肪族炭化水素類、ｍ−キシレンヘキサフロライドやベンゾトリフロライドの如きフッ素変性芳香族炭化水素類、メチルパーフルオロブチルエーテルやパーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）の如きフッ素変性エーテル類、石油ベンジンやミネラルスピリッツ、トルエンやキシレンの如き炭化水素類、アセトンやメチルエチルケトン、メチルイソブチルケトンの如きケトン類などがあげられる。就中、溶解性などの点よりｍ−キシレンヘキサフロライドやパーフルオロ（２−ブチルテトラヒドロフラン）の如きフッ素変性物が好ましく用いうる。
【００３０】
なお塗布液の調製に際しては、シラン系化合物、就中フルオロアミノシラン化合物やその部分加水分解縮合物の加水分解縮合反応の促進を目的に必要に応じて、例えばジブチル錫ジメトキシドやジラウリル酸ジブチル錫の如き有機錫化合物、テトラｎ−ブチルチタネートの如き有機チタン化合物、酢酸やメタンスルホン酸の如き有機酸、塩酸や硫酸の如き無機酸などのアルコキシシラン加水分解縮合触媒を添加することもできる。かかる触媒としては、酢酸やテトラｎ−ブチルチタネートやジラウリル酸ジブチル錫などが特に好ましく用いうる。
【００３１】
形成する汚染防止層の厚さは、適宜に決定しうるが、一般には反射防止性や汚染防止性、水に対する静止接触角や粘着テープの接着力、表面硬度との調和性などの点より、０．００１〜０．５μm、就中０．０１〜０．１μmとされる。なお汚染防止層の形成に際しては、反射防止層の表面を清浄に処理しておくことが好ましい。その処理は、例えば界面活性剤による汚れ除去、有機溶剤による脱脂、フッ素系溶剤による蒸気洗浄などの適宜な方式で行うことができる。また密着性や耐久性の向上などを目的とした適宜な前処理を施すこともでき、特に活性化ガスによる処理や酸、アルカリ等による薬品処理などが好ましい。
【００３２】
本発明による反射防止膜は、反射防止効果等の点より最外面の汚染防止層表面における全光線の反射率に基づいて、その表面反射率が３％以下であることが好ましい。従って、後述の光学素材として支持基材の表裏に反射防止膜を設けた場合には、その表裏における合計の表面反射率が６％以下であることが好ましい。なお表裏に反射防止膜を設けた無色透明の光学素材においては、１００％から光学素材の全光線透過率を引いて、得られた値の半分を片面における表面反射率と定義することもできる。
【００３３】
前記において、汚染防止層表面での表面反射率が高いと、反射防止効果に乏しくて眼鏡レンズ等ではゴーストやフレアなどの反射像を生じ、不快感発生の原因となりやすい。またルッキンググラスやＣＲＴ用フィルタなどでは、面状の反射光で内容物や表示内容が判然としない状態となりやすい。
【００３４】
なお汚染防止層については、ＴＯＦ−ＳＩＭＳ（飛行時間型二次イオン質量スペクトル法）にて表面分析を行うことができる。この方法は、高真空中においた試料表面に弱いエネルギをもつイオンを照射し、表面からでた分子フラグメントを時間分解によりその質量数を検出することにより行うものである。
【００３５】
なお前記の代表的な測定条件を下記する。
測定装置；米国 Phisical Electronics（PHI EVANS）社 ＴＦＳ−２０００
測定条件；一次イオン種              ：Ｇａ（＋）イオン
一次イオンエネルギ        ：２５ｋＶ
一次イオン電流（ＤＣ）    ：〜１５０ｐＡ
試料電位                  ：＋３．２ｋＶ
パルス周波数              ：７．２ｋＨｚ
パルス幅                  ：〜１０ｎｓ
バンチング                ：無し
帯電中和                  ：有り
時間分解能                ：１．１ｎｓ／ｃｈ
二次イオン極性            ：正、負
質量範囲（Ｍ／ｚ）        ：０〜１００００
ラスターサイズ            ：１２０μｍ□
測定時間                  ：２０分
エネルギーフィルタ        ：無し
コントラストダイアフラム  ：＃０
位置検出器，              ：Ｒａｓｔｅｒ
後段加速                  ：５ｋＶ
測定真空度                ：〜４×１／１０8Ｔｏｒｒ
【００３６】
本発明による反射防止膜は、例えばＬＣＤやＣＲＴやプラズマディスプレイの如き表示装置ないし視認装置等の内部や前面板、偏光板等の光学素子、眼鏡用やカメラ用や双眼鏡用等のレンズ、防眩ミラー等の鏡、重量計等の計器類などの、従来に準じた適宜な物品に適用することができる。その場合、反射防止膜は、前記物品等からなる被処理体に直接付設することもできるし、ガラス板やプラスチック板、あるいは偏光板や拡散板等の光学素子などからなる適宜な支持基材に付設した光学素材として適用することもできる。
【００３７】
上記のように図３、図４に本発明による、支持基材４の片面又は両面に反射防止膜３を設けてなる光学素材を例示したが、その支持基材としては適宜なものを用いてよく、特に限定はない。液状コーティング法等で反射防止膜を形成する場合などには、ガラスやプラスチックからなる支持基材が好ましく用いうる。
【００３８】
また前記においてガラス基材の場合には、反射防止層にＭgＦ2やＣaＦ2の如き低屈折率を示すものを含ませることが、高い反射効果を得る点などより好ましい。またプラスチック基材の場合には、反射防止層にＳiＯ2の如き屈折率が比較的低くて硬度の高いものを含ませることが耐久性などの点より好ましい。
【００３９】
なお前記の支持基材を形成するプラスチックは、適宜なものであってよい。ちなみにそのプラスチックの例としては、ポリメチルメタクリレートやメチルメタクリレート共重合体の如きアクリル系樹脂、ポリカーボネートやジエチレングリコールビスアリルカーボネート（ＣＲ−３９）の如きポリカーボネート系樹脂、ポリエチレンテレフタレートや不飽和ポリエスチルの如きポリエステル系樹脂、トリアセチルセルロースの如きアセテート系樹脂、その他、アクリロニトリル−スチレン共重合体、スチレン系樹脂、ポリ塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリエーテルサルホン系樹脂、ポリアミド系樹脂、ポリイミド系樹脂、ポリオレフィン系樹脂などがあげられる。
【００４０】
支持基材は、フィルムやシートや板等の適宜な形態を有するものであってよく、その厚さは任意である。また支持基材は、ハードーコート層を有するものであってもよい。この場合には、図４に例示の如く、反射防止膜３と支持基材４の間にハードコート層５を有する形態の光学素材となる。さらに支持基材は、ハードーコート層に代えて、あるいはハードーコート層と共に、例えば反射防止膜の密着性、硬度や耐薬品性、耐久性や染色性等の向上などを目的に、適宜なコート層を有したり、表面処理されたものなどであってもよい。
【００４１】
ちなみに硬度の向上には、特公昭５０−２８０９２号公報や特公昭５０−２８４４６号公報、特公昭５０−３９４４９号公報や特公昭５１−２４３６８号公報、特公昭５７−２７３５号公報や特開昭５２−１１２６９８号公報などに記載された高硬度化用の適宜な材料を用いうる。またチタンやアルミニウムやスズ等の金属又はケイ素からなる酸化物をコーティングする方式や、（メタ）アクリル酸のペンタエリスリトール等による架橋体などからなるアクリル系架橋体の付設なども硬度の向上に有効である。
【００４２】
ハードーコート層も従来に準じて形成することができる。就中、有機ケイ素化合物、特に一般式：Ｒ4cＲ5dＳｉ（ＯＲ6）4-c-dで表される有機ケイ素化合物やその加水分解物などの硬化物からなるハードーコート層が好ましい。なお式中のＲ4、Ｒ5はアルキル基、アルケニル基、アリール基、又はハロゲン基やエポキシ基、グリシドキシ基やアミノ基、メルカプト基やメタクリルオキシ基、シアノ基等を有する炭化水素基などであり、Ｒ6は炭素数が１〜８のアルキル基、アルコキシアルキル基、アシル基、又はアリール基などである。またｃ，ｄは０又は１であり、従ってｃ＋ｄは、０，１又は２である。
【００４３】
ハードーコート層は、例えばゾル−ゲル法などにより平均粒径が０．５〜５μmのシリカや金属酸化物などからなる微粒子を含有させる方式、あるいはバフやコロナ放電やイオンエッチングの如き適宜な方法で中心線平均粗さが０．０１〜０．５μmのエッチング表面とする方式などにより、きらめき防止機能を有するものとして付設することもできる。
【００４４】
本発明による反射防止膜及び光学素材は、汚れにくく、汚れが目立ちにくくてその汚れをとりやすく、表面の滑り性が良好で傷付きにくく、それらの性能を長期に持続するなどの特長を有して、例えばＬＣＤ等の各種の視認装置類や偏光板等の各種の光学素子類、眼鏡用等の各種のレンズ類や防眩ミラー等の各種の鏡類、重量計等の各種の計器類などの種々の物品における表面や内部などに配置する反射防止フィルタなどとして好ましく用いることができる。
【００４５】
【実施例】
実施例１
粘着偏光フィルタ（日東電工社製、ＥＧ１４２５ＤＵＡＧ３０）に付設したきらめき防止機能付のハードコート層の上にスパッタリング方式で、ＳiＯ2層、ＴiＯ2層、ＳiＯ2層、ＴiＯ2層、ＳiＯ2層の５層をそれぞれλ／４光学膜厚で順次積層して反射防止層を付設した。
【００４６】
次に、下記式で表されるフルオロアミノシラン化合物３重量部を、ヘキサフルオロメタキシレンとパーフルオロヘプタンの混合溶媒１００部に溶解させたコーティング溶液に前記の反射防止層を浸漬し、２０ｃｍ／分の速度で引き上げてコーティング処理し、室温下に一昼夜（２４時間）放置してコーティング層を硬化させて汚染防止層を形成し、反射防止膜を有する光学素材を得た。
【化３】
0003874513.tif 000003
【００４７】
実施例２
シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素材を得た。
【化４】
0003874513.tif 000004
【００４８】
実施例３
シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素材を得た。
【化５】
0003874513.tif 000005
【００４９】
実施例４
コーティング層の硬化処理を、６０℃、９５％ＲＨの湿熱条件下に１０分間放置する方式で行った他は、実施例１に準じて光学素材を得た。
【００５０】
実施例５
コーティング溶液を蒸着源として、汚染防止層を真空蒸着方式で形成したほかは、実施例１に準じて光学素材を得た。
【００５１】
比較例１
汚染防止層を付設しないほかは実施例１に準じて光学素材を得た。
【００５２】
比較例２
数平均分子量１００のパーフルオロポリエーテル基を有するポリエーテル鎖の末端にトリメトキシシリル基を結合したシラン系化合物を用いて汚染防止層を形成したほかは実施例４に準じて光学素材を得た。
【００５３】
比較例３
パーフロオロポリエーテル基に代えて、数平均分子量が１０００以上のパーフルオロアルキル基を有するポリシロキサン系化合物を用いて汚染防止層を形成したほかは比較例２に準じて光学素材を得た。
【００５４】
比較例４
シラン系化合物として、下記式で表されるフルオロアミノシラン化合物を用いたほかは実施例１に準じて光学素材を得た。
【化６】
0003874513.tif 000006
【００５５】
比較例５
シラン系化合物として、Ｃ8Ｆ17Ｃ2Ｈ4Ｓi（ＯＣＨ3）3からなるパーフルオロアルキルシランを用いたほかは実施例１に準じて光学素材を得た。
【００５６】
評価方法
実施例、比較例で得た光学素材について、下記の特性を調べた。
静止接触角
直径１．５mmの水滴を針先に形成し、それを汚染防止層の表面に接触させて汚染防止層上に水滴を移し、水滴と面の静止接触角を接触角計（協和界面化学社製、ＣＡ−Ｄ型）にて測定した。
【００５７】
外観
目視にて、反射干渉色及びその均一性、濁りなどを調べた。
【００５８】
反射防止性
波長５５０nmの光を１５度の入射角で入射させ、分光光度計（島津製作所製、ＭＰＳ−２０００）にて絶対鏡面反射率を測定した。
【００５９】
接着力
ポリエステル粘着テープ（日東電工社製、Ｎｏ．３１Ｂ）を常温で、２ｋｇのローラを一往復させる方式で汚染防止層に圧着し、２０分間放置後、１８０度ピール値（剥離速度３００mm／分）を測定した。
【００６０】
汚染防止性
額に指を２秒間押し当てて、その指を汚染防止層の表面に５秒間押し当てることにより指紋を付着させ、目視にて指紋の付き具合を評価し、かつ付着した指紋をティッシュペーパにて拭取り、その除去性を評価した。その評価基準は下記による。なお実施例４〜８、比較例４，５については、５人のテスターがそれぞれ試験を行って、その評価結果を平均した。
良好：指紋が目立たず、かつ容易に拭取れた場合
不良：指紋が目立ち、かつ拭取りにくい場合
不可：指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない場合
【００６１】
耐久性
イソプロピルアルコールを含浸させたペーパで汚染防止層の表面を２０回擦った後（比較例１〜３）、又はイソプロピルアルコールを含浸させたセルロース製不織布で汚染防止層の表面を３０回擦った後（実施例１〜４、比較例４，５）、前記汚染防止性試験と同様に指紋を付着させ、それをティッシュペーパにて拭取り、その除去性を評価した。なお評価基準は下記による。
良好：拭取れた場合
不良：拭取れない場合
【００６２】
前記の結果を表１に示した。
【表１】
0003874513.tif 000007
【００６４】
表１より、実施例では、指紋等の汚れが付着しにくく、付着した汚染が目立ちにくくて、その汚染をティッシュペーパ等で容易に拭取ることができ、その効果を長期に持続して、撥水性にも優れていることがわかる。なお実施例では、耐久性試験の場合にも汚染防止性に準じた評価で、指紋が目立たずかつ容易に拭取れる良好の評価であったが、比較例４，５では指紋が著しく目立ち、かつ拭取れない不可の評価であった。
【図面の簡単な説明】
【図１】反射防止膜例の断面図
【図２】他の反射防止膜例の断面図
【図３】光学素材例の断面図
【図４】他の光学素材例の断面図
【符号の説明】
３：反射防止膜
１：反射防止層
２：汚染防止層
４：支持基材
５：ハードコート層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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