(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が金５０〜９９．８原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなることを特徴とする金色装飾部品。
【請求項２】
基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が金５０〜９８．９原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなることを特徴とする金色装飾部品。
【請求項３】
基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成されたチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金５０〜９９．８原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなることを特徴とする金色装飾部品。
【請求項４】
基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成されたチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金５０〜９８．９原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなることを特徴とする金色装飾部品。
【請求項５】
前記Ｔｉ系被膜の膜厚が、０．１〜０．５μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の金色装飾部品。
【請求項６】
前記チタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜の膜厚が、０．１〜１０μｍであることを特徴とする請求項３または請求項４に記載の金色装飾部品。
【請求項７】
前記最外層被膜の膜厚が、０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の金色装飾部品。
【請求項８】
前記乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気が、５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで行われていることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の金色装飾部品。
【請求項９】
前記Ｔｉ系被膜の膜厚が、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで行ない、該装置内に置かれた基材表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メッキ法で形成され、且つ、膜厚が０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の金色装飾部品。
【請求項１０】
乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次にこの乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９９．８原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴とする金色装飾部品の製造方法。
【請求項１１】
乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次にこの乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９８．９原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴とする金色装飾部品の製造方法。
【請求項１２】
乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次にこの乾式メッキ装置内でこのＴｉ系被膜の上に、窒素ガス雰囲気下でチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムを蒸発させて、それぞれの元素の窒化物を形成させ、次にこれら窒化被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９９．８原子％、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴とする金色装飾部品の製造方法。
【請求項１３】
乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次にこの乾式メッキ装置内でこのＴｉ系被膜の上に、窒素ガス雰囲気下でチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムを蒸発させて、それぞれの元素の窒化物を形成させ、次にこれら窒化被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９８．９原子％、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴とする金色装飾部品の製造方法。
【請求項１４】
前記Ｔｉ系被膜を、０．１〜０．５μｍの膜厚で形成したことを特徴とする請求項１０〜１３のいずれかに記載の金色装飾部品の製造方法。
【請求項１５】
前記チタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜を、０．１〜１０μｍの膜厚で形成したことを特徴とするであることを特徴とする請求項１２または請求項１４に記載の金色装飾部品の製造方法。
【請求項１６】
前記最外層被膜が、０．０５〜０．５μｍの膜厚で形成したことを特徴とする請求項１０〜１３のいずれかに記載の金色装飾部品の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、金色装飾部品及びその製造方法に関し、特に色調を調節することのできる製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、イオンプレーティング法による時計バンドなどの時計部品、指輪、ネックレス、イヤリング等の金色装飾部品は、その最外層に、金被膜を形成することにより、高級感あるいは優れた耐蝕性が付与されている。更に純金の被膜に変えて金−ニッケル、金−鉄、金−パラジウム、金−チタン合金膜等の合金膜が装飾部品の最外層に形成され装飾部品が提供されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
之等の合金膜は淡い金色で、各々色調が微妙に異なる。またグリーン系になる傾向がある。更に赤味を帯びた金メッキ部品との色合わせが困難である。
【０００４】
本発明は、上記のような従来技術における問題点を解決しようとするものであって、色調を変えることができ、特に赤味を帯びた金色を呈する装飾部品及びその製造方法を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明による第１の金色装飾部品は、基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が金５０〜９９．８原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなることを特徴としている。
【０００６】
本発明による第２の金色装飾部品は、基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が金５０〜９８．９原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなることを特徴としている。
【０００７】
本発明による第３の金色装飾部品は、基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成されたチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金５０〜９９．８原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなることを特徴としている。
【０００８】
本発明による第４の金色装飾部品は、基材と、この基材上に乾式メッキ法により、乾式メッキ装置内の圧力を８×１０-4〜５×１０-3Torrで窒素以外の不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有し形成されたＴｉ系被膜と、この被膜上に形成されたチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜と、この被膜上に形成された最外層被膜とからなり、かつ、最外層被膜が、金５０〜９８．９原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなることを特徴としている。
【０００９】
前記Ｔｉ系被膜の膜厚は、０．１〜０．５μｍであることを特徴とする。
【００１０】
前記チタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜の膜厚は、０．１〜１０μｍであることを特徴とする。
【００１１】
前記最外層被膜の膜厚は、０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする。
【００１２】
前記乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気が、５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで行われていることを特徴とする。
【００１３】
前記Ｔｉ系被膜の膜厚は、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内の初期排気を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで行ない、該装置内に置かれた基材表面に窒素以外の不活性ガス中で乾式メッキ法で形成され、且つ、膜厚が０．０５〜０．５μｍであることを特徴とする。
【００１４】
本発明による金色装飾部品の第１の製造方法は、乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次に、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９９．８原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴としている。
【００１５】
本発明による金色装飾部品の第２の製造方法は、乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次に、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９８．９原子％と、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴としている。
【００１６】
本発明による金色装飾部品の第３の製造方法は、乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次に、この乾式メッキ装置内で、このＴｉ系被膜の上に、窒素ガス雰囲気下でチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムを蒸発させて、それぞれの元素の窒化物を形成させ、次に、これら窒化被膜の上に、窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９９．８原子％、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、不可避成分０．１〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴としている。
【００１７】
本発明による金色装飾部品の第３の製造方法は、乾式メッキ法において、基材を含む、成膜前の乾式メッキ装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで初期排気後、乾式メッキ装置内に窒素以外の不活ガスを８×１０-4〜５×１０-3Torrまで導入し、基材上に不活性ガス雰囲気下でチタンを蒸発させて、乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、次に、この乾式メッキ装置内でこのＴｉ系被膜の上に、窒素ガス雰囲気下でチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムを蒸発させて、それぞれの元素の窒化物を形成させ、次に、これら窒化被膜の上に窒素ガス、酸素ガス、炭化水素系ガス、又はそれらの混合ガス雰囲気下に、金５０〜９８．９原子％、窒素、酸素、炭素のうち少なくとも１元素が０．１〜３０原子％と、鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、コバルトのうち少なくとも１元素が０．５〜２０原子％と、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有してなる最外層被膜を形成することを特徴としている。
【００１８】
前記Ｔｉ系被膜は、０．１〜０．５μｍの膜厚で形成したことを特徴としている。
【００１９】
前記チタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はバナジウム、又はジルコニウムの窒化物よりなる被膜は、０．１〜１０μｍの膜厚で形成したことを特徴としている。
【００２０】
前記最外層被膜は、０．０５〜０．５μｍの膜厚で形成したことを特徴としている。
【００２１】
具体的説明
以下、本発明に係わる金色装飾部品及びその製造方法について具体的に説明する。
【００２２】
本発明に係わる金色装飾部品は、基材と、この基材上に真空蒸着法、スパッタ法あるいはイオンプレーティング法等の乾式メッキ法により形成された最外層被膜とからなり、最外層被膜が金、又は金と他の金属との合金、窒素、酸素又は炭素による成分及び不可避成分とを特定の割合で含有してなる。他の金属は鉄、チタン、ニッケル、パラジウム、又はコバルトである。
【００２３】
また、本発明による金色装飾部品は、上記の基材の上にチタン、又はタンタル、又はハフニウム、又はジルコニウム被膜が形成され、その上に最外層被膜を形成してもよい。これらの窒化被膜を有する金色装飾部品は、最外層被膜と基材との密着性に優れている。
【００２４】
本発明で用いられる基材としては装飾部品の種類によって異なり、金属、プラスチック、セラミック等の材料である。
本発明に係わる金色装飾部品では、最外層被膜は金が５０〜９９．８又は９８．９原子％、好ましくは８１．５〜９６．５原子％、更に好ましくは８８〜９６．５原子％、他の金属が０．５〜２０原子％、好ましくは２．５〜７原子％、更に好ましくは３〜７原子％、窒素、酸素又は炭素が０．１〜３０原子％、不可避成分０．５〜２０原子％とを含有している。ここで不可避成分とは、装置内に存在する残留ガス成分であり、酸素、炭素、窒素等をさしている。従って被膜中に含まれる窒素、酸素、炭素が積極的に導入したガス成分なのか、それとも不可避成分なのかを区別することはできない。しかしながら被膜中に含まれる不可避成分の量は通常一定しており、導入したガス成分がどれ位被膜中に含まれたかは、ガスを導入した場合と導入しない場合の差としてみる事ができる。
【００２５】
例えば、表３において
膜中にとりこまれた酸素は▲１▼と▲２▼の差  １．１％
膜中にとりこまれた炭素は▲２▼と▲３▼の差  ８．４％
とみることができる。
【００２６】
次に、本発明による金色装飾部品の製造方法について説明する。
基材と最外層被膜とからなる金色装飾部品は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素ガス雰囲気下に金５０〜９８．９原子％と鉄０．５〜２０原子％の混合被膜を形成する。
【００２７】
また、基材と、Ｔｉ系被膜と、最外層被膜とからなる金色装飾部品は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素以外のアルゴン、ヘリウム、ネオンなどの不活性ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、
次に、この乾式メッキ装置内で、Ｔｉ系被膜の上に、窒素ガス雰囲気下に金５０〜９８．９原子％と鉄０．５〜２０原子％の混合被膜を形成する。
【００２８】
更に、基材と、ＴｉＮ被膜と、最外層被膜とからなる金色装飾部品は、基材上に、乾式メッキ装置内で窒素ガス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成させ、次に、この乾式メッキ装置内で、ＴｉＮ被膜の上に、窒素ガス雰囲気下に金５０〜９８．９原子％と鉄０．５〜２０原子％の混合被膜を形成する。
【００２９】
更に基材と、Ｔｉ系被膜と、ＴｉＮ被膜と、最外層被膜とからなる金色装飾部品は、基材上に、窒素以外の不活性ガス雰囲気下にチタンを蒸発させて乾式メッキ装置内に存在する不可避成分を含有するＴｉ系被膜を形成させ、
次に、この乾式メッキ装置内で、Ｔｉ系被膜の上に窒素ガス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉ系被膜の上に窒素ガス雰囲気下にチタンを蒸発させてＴｉＮ被膜を形成させ、
次いで、この乾式メッキ装置内で、このＴｉＮ被膜の上に、窒素ガス雰囲気下に金５０〜９８．９原子％と鉄０．５〜２０原子％の混合被膜を形成する。
【００３０】
上記方法以外の方法として、窒素以外のガスとして酸素及び炭化水素系ガスがあり、又鉄以外の金属として、チタン、ニッケル、パラジウム、及びコバルトがある。更にＴｉＮ被膜以外の被膜としてＴａＮ、ＨｆＮ、ＶＮ、ＺｒＮがある。
【００３１】
本発明においては、上記の最外層被膜は、スパッタ法、真空蒸着法またはイオンプレーティング法によって形成することができるが、特にイオンプレーティング法によって形成することが好ましい。
【００３２】
以下、本発明による金色装飾部品における各々の被膜、特にイオンプレーティング法により最外層被膜を金−鉄合金で形成した場合でより具体的に説明する。腕時計用バンドなどの基材は、予め有機溶剤等で洗浄しておくことが好ましい。また、イオンプレーティング装置内を５×１０-5〜１．０×１０-6Torr、好ましくは１．０×１０-5〜１．０×１０-6Torrまで排気した後、雰囲気ガスを８×１０-4〜５×-3Torr、好ましくは１．０×１０-3〜２．０×１０-3Torrまで導入する。
【００３３】
均一な金色調を有する最外層被膜を得るには、成膜前の装置内部の圧力は低い方がよく、１×１０-5Torr以下、好ましくは１×１０-6Torr以下に排気することが望ましい。すなわち、装置内部の圧力が低くなるにしたがって、装置内部の不可避成分の存在する量が減少し、金色調が均一化するからである。
【００３４】
本発明による金色装飾部品の最外層被膜は、厚みが通常０．０５〜０．５μｍ、好ましくは０．１〜０．３μｍである。
また、ＴｉＮ被膜の膜厚は、０．１〜１０μｍ、好ましくは０．１〜２μｍであり、不可避成分を多く含有するＴｉ系被膜の膜厚は、０．１〜０．５μｍ、好ましくは０．２〜０．３μｍ程度であることが望ましい。
【００３５】
前記のようにＴｉＮ被膜を形成することにより金−鉄合金膜の最外層被膜と基材との密着性を上げることができるが、ＴｉＮ被膜の代わりに、ＺｒＮ、ＨｆＮ等の金色系の窒化物被膜を形成してもよい。
【００３６】
本発明では、金−鉄混合物を蒸発源として用いてもよいが、蒸発源を２つ設け、一方の蒸発源として金を用い、他方の蒸発源として鉄を用い、金と鉄を別々に蒸発させてもよい。
【００３７】
本発明で蒸発源として金−鉄混合物を用いる場合には、得られる最外層被膜の組成が金５０〜９８．９原子％、鉄０．５〜２０原子％となるように金と鉄を用いるが、具体的には、金７５〜９０原子％、鉄１０〜２５原子％である金−鉄混合物、あるいは金−鉄合金を用いることが好ましい。
【００３８】
酸素を用いるときは酸素と不活性ガス、例えばアルゴンとの混合ガスを用いる。また炭素としては炭化水素、例えばエチレンガスを用いる。
【００３９】
表１は窒素及び酸素の量の変化を示し、表２はそれに伴う色調の変化を示す。ここに、Ｌ* は国際照明委員会（ＣＩＥ）ＣＩＥ１９７６（L * ａ* ｂ* ）色空間における明度指数であり、ａ* 、ｂ* はクロマティクネス指数を表す。上記金色調のＬ* 、ａ* 及びｂ* の測定は０度視野ＸＹＺ系による物体色の測定方法に従って、鏡面光沢の試験片について、スガ試験機（株）製色差計ＳＭ−２−ＳＣＨ［積分球方式、測定方式：反射、測定口径：１２ｍｍ］を用いて行われた。
【００４０】
【表１】
0003909092.tif 000002
【００４１】
【表２】
0003909092.tif 000003
【００４２】
表２において、ａ* は赤味をｂ* は黄味を表し、数値が大きくなるに従って濃くなる。
【００４３】
【表３】
0003909092.tif 000004
【００４４】
表３はＸ線光電子分光法で測定した、Ａｕ−Ｆｅ合金被膜の場合の成分分析を示し、表中の▲１▼は金成膜時アルゴンのみを導入しプラズマを発生させない場合、▲２▼は金成膜時酸素を導入しプラズマを発生させた場合、▲３▼は金成膜時エチレンを導入しプラズマを発生させた場合をそれぞれ示す。
【００４５】
本発明による部品においては、金（Ａｕ）又は金（Ａｕ）と他の金属によって形成された被膜中に、窒素（Ｎ）、酸素（Ｎ）、炭素（Ｃ）、又はそれらの混合ガス成分が入ることにより、金粒子及び他の金属の粒子の配列が乱され赤味を帯びた金色が発色するものと考える。
【００４６】
本発明によれば、ガスの種類及び導入量を変えることにより、自由に金の色調を変えることができる。製品としては、特に、最外層被膜の下にＴｉ系被膜を有する金色装飾部品は、均一な金色調とすることができる。またＴｉＮ被膜を有する金色装飾部品は最外層被膜と基材との密着性に優れている。
以下、本発明を実施例により説明するが、本発明は、これは実施例に限定するものではない。
【００４７】
実施例１
ステンレススチールにより加工した腕時計用ケースを有機溶剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレティング装置に配置した。
【００４８】
次に、装置内を１．０×１０-5Torrまで排気した後、アルゴンガスを装置内が３×１０-3Torrになるまで導入した。
次に、装置内部に備えられた熱電子フィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５０Ｖの電位が印加され、１０分間ボンバードクリーニングが行われた。
【００４９】
次に、アルゴンガスの導入を止め、装置内に窒素ガスが２．０×１０-3Torrになるまで導入された。
次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃でプラズマを発生させた後、チタンを１０分間蒸発させてＴｉＮ被膜を０．５μｍの膜厚に形成させた。
【００５０】
次に、チタンの蒸発と窒素ガスの導入を止め、装置内を１．０×１０-5Torrまで排気した。
次いで、装置内に窒素ガスを１．０×１０-3Torrまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％と鉄２５原子％からなる金−鉄混合物を蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄混合物の蒸発を止め、製品が得られた。
【００５１】
得られた腕時計ケースは、均一な金色調を有しており、得られた色調はL * １８．６、ａ* ３．２ｂ* ８．５であった。之は表１及び表２の試料１に対応する。
【００５２】
実施例２
ステンレススチールにより加工した腕時計ケースを有機溶剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティング装置に配置した。
【００５３】
次に、装置内を１．０×１０-5Torrまで排気した後、アルゴンガスを装置内が３×１０-3Torrになるまで導入した。
次に、装置内部に備えられた熱電子フィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５０Ｖの電位が印加され、１０分間ボンバードクリーニングが行われた。
【００５４】
次に、アルゴンガスの導入を止め、装置内に窒素ガスが２．０×１０-3Torrになるまで導入された。
次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃でプラズマを発生させた後、チタンを１０分間蒸発させてＴｉＮ被膜を０．５μｍの膜厚に形成させた。
【００５５】
次に、チタンの蒸発と窒素ガスの導入を止め、装置内を１．０×１０-5Torrまで排気した。
次いで、装置内に窒素ガスを２．０×１０-3Torrまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％と鉄２５原子％からなる金−鉄混合物を蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄混合物の蒸発を止め、製品が得られた。
【００５６】
得られた腕時計ケースは、均一な金色調を有しており、得られた色調はL * １８．３、ａ* ４．５ｂ* ８．４であった。之は表１及び表２の試料４に対応する。
【００５７】
実施例３
ステンレススチールにより加工した腕時計ケースを有機溶剤で洗浄し、この腕時計用ケースをイオンプレーティング装置に配置した。
【００５８】
次に、装置内を１．０×１０-5Torrまで排気した後、アルゴンガスを装置内が３×１０-3Torrになるまで導入した。
次に、装置内部に備えられた熱電子フィラメントとプラズマ電極を駆動させてアルゴンのプラズマを形成させた。同時に基材である腕時計用ケースに−５０Ｖの電位が印加され、１０分間ボンバードクリーニングが行われた。
【００５９】
次に、アルゴンガスの導入を止め、装置内に窒素ガスが２．０×１０-3Torrになるまで導入された。
次いで、装置内部に備えられたプラズマ銃でプラズマを発生させた後、チタンを１０分間蒸発させてＴｉＮ被膜を０．５μｍの膜厚に形成させた。
【００６０】
次に、チタンの蒸発と窒素ガスの導入を止め、装置内を１．０×１０-5Torrまで排気した。
次いで、装置内に酸素を２５％含有する酸素アルゴン混合ガスを１．０×１０-3Torrまで導入してプラズマを発生させた後、金７５原子％と鉄２５原子％からなる金−鉄混合物を蒸発させ、金−鉄合金膜の厚みが０．３μｍになったところで金−鉄混合物の蒸発を止め、製品が得られた。
【００６１】
得られた腕時計ケースは、均一な金色調を有しており、得られた色調はL * ９．２、ａ* ７．１ｂ* ５．２であった。之は表１及び表２の試料６に対応する。
【００６２】
尚、上記実施例においては、Ａｕ−Ｆｅ合金で行ったがＡｕ−Ｔｉ合金、Ａｕ−Ｎｉ合金、Ａｕ−Ｐｄ合金、Ａｕ−Ｃｏ合金で行っても同様の効果が得られることは言うまでもない。また、Ａｕ−Ｔｉ−Ｐｄ、Ａｕ−Ｔｉ−Ｎｉ等の３元合金や４元合金等の合金で行っても同様の効果が得られる。尚、この合金の使用方法については、必要とする耐食性、硬度等の機能品質や、必要とする色調等によって使いわける。また、ガスの種類とその量で色調の変化を出したが、このガスの種類及びその量に、プラズマの強度の変化をプラスすることにより、更に微妙な色調を出すことができる。