(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）結着樹脂、並びに（Ｃ）プロピレングリコールモノメチルエーテルまたは乳酸エチルの少なくとも１種の有機溶剤を含有する導電性ペースト組成物からなる膜形成材料層が支持フィルム上に形成されてなる転写フィルムであって、ロール状に巻き取って保存されることを特徴とする、プラズマディスプレイパネルの電極形成用転写フィルム。
【請求項２】
請求項１記載の転写フィルムを用いて形成する電極を構成要素に含むことを特徴とする、プラズマディスプレイパネル。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、導電性ペースト組成物に関し、さらに詳しくは、プラズマディスプレイパネル等の電極を形成するために好適に使用することができる導電性ペースト組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
最近において、平板状の蛍光表示体としてプラズマディスプレイが注目されている。図１は交流型のプラズマディスプレイパネル（以下、「ＰＤＰ」ともいう。）の断面形状を示す模式図である。同図において、１及び２は、対向配置されたガラス基板、３は隔壁であり、ガラス基板１、ガラス基板２及び隔壁３によりセルが区画形成されている。４はガラス基板１に固定されたバス電極、５はガラス基板２に固定されたアドレス電極、６はセル内に保持された蛍光物質、７はバス電極４を被覆するようガラス基板１の表面に形成された誘電体層、８は例えば酸化マグネシウムよりなる保護膜である。アドレス電極５は導電性粒子を主成分としたペーストより形成され、その膜厚は例えば５〜２０μｍとされる。
【０００３】
アドレス電極５の形成方法としては、従来、導電性粒子、結着樹脂および溶剤を含有するペースト状の組成物（非感光性導電性ペースト組成物）を直接基板表面に電極パターンを形成する印刷法と、感放射線性のペースト状組成物（感光性導電性ペースト組成物）をガラス基板全面に塗布し、マスクを介して例えば紫外線を露光したのち、現像することにより、基板表面に電極パターンを設けるフォトリソグラフィー法とが知られている。塗布方法としては、印刷法、フォトリソグラフィー法ともに、通常、スクリーン印刷を用いて行う。その際の乾燥条件としては１００〜１５０℃で１０〜１５分間行って膜形成材料層を形成し、次いでこの膜形成材料層を４００〜６００℃で、１０〜６０分焼成することにより有機物質を除去して導電性粒子を焼結させる方法が知られている。
【０００４】
導電性ペースト組成物を構成する溶剤としては、当該導電性ペースト組成物の好ましい粘性（スクリーン版の目詰まりを発生させない粘性）を長期間にわたり発現させる観点から、比較的高沸点（例えば２２０℃以上）の有機溶剤が使用されている。
【０００５】
しかしながら、前述の印刷法で直接ガラス基板に電極パターンを形成する場合には、パターンを有するスクリーンマスクと基板の間に数ｍｍのギャップを設け、スキージでスクリーンマスクにテンションを掛けながら印刷するため、版と実際の印刷パターンに寸法差が発生したり、また、印刷回数が増えるにしたがって版の寸法が変化する版伸びという問題が生じ、高精細のパターン形成が困難であった。
さらに、スクリーン印刷を用いる塗布方法は、スクリーン版のメッシュ形状が膜形成材料層の表面に転写されることがあり、このような膜形成材料層を焼成して形成される電極は、表面の平滑性に劣るものとなる。
【０００６】
スクリーン印刷によって膜形成材料層を形成する場合における上記のような問題を解決する手段として、本発明者らは、レジスト膜と導電性ペースト層との積層膜を支持フィルム上に形成し、支持フィルム上に形成された積層膜を基板上に転写し、当該積層膜を構成するレジスト膜を露光処理してレジストパターンの潜像を形成し、当該レジスト膜を現像処理してレジストパターンを顕在化させ、導電性ペースト層をエッチング処理してレジストパターンに対応する導電性ペースト層のパターンを形成し、当該パターンを焼成処理する工程を含む方法により、前記基板の表面に電極を形成する工程を含むＰＤＰの製造方法を提案している（特願平９−３４０５１４号明細書参照）。
このような製造方法によれば、高精細パターンの形成が可能で表面の均一性に優れた電極を形成することができ、また、膜形成材料層が支持フィルム上に形成されてなる複合フィルム（以下、「転写フィルム」ともいう。）は、これをロール状に巻き取って保存することができる点でも有利である。
ここに、支持フィルム上に塗布した塗膜（導電性ペースト組成物およびレジスト組成物）の乾燥条件としては、支持フィルムの耐熱性および製造効率の観点から、１１０℃以下で、１０分以内に制約される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような低温・短時間の乾燥条件では、通常２２０℃以上の沸点を有する有機溶剤を十分に除去することができず、支持フィルム上に形成される膜形成材料層には、相当量（例えば５〜１５重量％）の有機溶剤が残留してしまう。
そして、このような膜形成材料層を備えてなる転写フィルムをロール状に巻き取って保存すると、転写フィルム同士（膜形成材料層と支持体裏面）が固着してしまい（このような現象を、以下「ブロッキング現象」という。）、ロールから転写フィルムを引き出すことができなくなる、という新たな問題が生じた。
【０００８】
このような問題を回避するために、低沸点の有機溶剤を使用して導電性ペースト組成物を調製することにより、膜形成材料層中における溶剤の残留量を可及的に少なくすることも考えられる。
しかしながら、低沸点の有機溶剤は、概して、導電性粒子との親和性に劣るものであり、このような有機溶剤を含有する導電性ペーストには、導電性粒子の凝集物が発生しやすい。そして、導電性粒子の凝集物を含む導電性ペースト組成物を支持フィルム上に塗布して形成される膜形成材料層には、前記凝集物に起因する筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥が発生してしまう。
【０００９】
本発明は以上のような事情に基づいてなされたものであって、本発明の第１の目的は、低温・短時間の乾燥条件（例えば５０〜１１０℃で１〜１０分間）により、含有している溶剤の殆どを除去すること（例えば、乾燥後における溶剤の含有率が０〜１重量％となること）ができる、速乾性に優れた導電性ペースト組成物を提供することにある。
本発明の第２の目的は、導電性粒子の凝集物を含まない導電性ペースト組成物を提供することにある。
本発明の第３の目的は、塗膜を乾燥して形成される膜形成材料層に、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥を発生させない導電性ペースト組成物および転写フィルムを提供することにある。
本発明の第４の目的は、得られる膜形成材料層を焼成することにより、表面の均一性に優れた電極パターンを形成することができる導電性ペースト組成物および転写フィルムを提供することにある。
本発明の第５の目的は、ール状に巻き取って保存する際、ブロッキング現象を生じさせない転写フィルムを提供することにある。
本発明の第６の目的は、少ない工程数で製造でき、製造時間が短く、寸法制度の高い電極を有するプラズマディスプレイパネルを提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の導電性ペースト組成物は、（Ａ）導電性粒子、（Ｂ）結着樹脂、並びに（Ｃ）下記の条件（１）および（２）を満足する少なくとも１種の有機溶剤（以下、「特定溶剤」ともいう。）を含有することを特徴とする。
また、上記特定溶剤は、下記の条件（３）を併せて満足することが好ましい。
条件（１）：標準沸点が１００〜２００℃であること。
条件（２）：２０℃における蒸気圧が０．５〜５０ｍｍＨｇであること。
条件（３）：２０℃における表面張力が２５ｄｙｎ／ｃｍ以上であること。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の導電性ペースト組成物について詳細に説明する。
本発明の導電性ペースト組成物は、導電性粒子、結着樹脂および溶剤を必須成分として含有する。
＜導電性粒子＞
本発明の組成物を構成する導電性粒子としては、Ag、Au、Al、Ni、Ag-Pd合金、Cu、Crなどを挙げることができる。
また、導電性粒子の平均粒径としては、好ましくは０．１〜１０μｍ、より好ましくは０．２〜５μｍである。
導電性粒子の平均粒径が０．１μｍ未満の場合、導電性粒子の比表面積が大きくなることから導電性ペースト中で粒子の凝集が発生しやすくなり、安定した分散状態を得るのが難しくなる。一方、導電性粒子の平均粒径が１０μｍ以上の場合、高精細の電極パターンを得るのが難しくなる。
【００１２】
＜結着樹脂＞
本発明の導電性ペースト組成物に使用されるバインダーとしては、種々の樹脂を用いることができるが、アルカリ可溶性樹脂を３０〜１００重量％の割合で含有するバインダーを用いることが特に好ましい。
ここに、「アルカリ可溶性」とは、アルカリ性のエッチング液によって溶解し、目的とするエッチング処理が遂行される程度に溶解性を有する性質をいう。
かかるアルカリ可溶性樹脂の具体例としては、例えば（メタ）アクリル系樹脂、ヒドロキシスチレン樹脂、ノボラック樹脂、ポリエステル樹脂などを挙げることができる。
このようなアルカリ可溶性樹脂のうち、特に好ましいものとしては、下記のモノマー（イ）とモノマー（ロ）との共重合体、又はモノマー（イ）と、モノマー（ロ）とモノマー（ハ）との共重合体を挙げることができる。
【００１３】
モノマー（イ）：
アクリル酸、メタクリル酸、マレイン酸、フマル酸、クロトン酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、ケイ皮酸などのカルボキシル基含有モノマー類；（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルなどの水酸基含有モノマー類；ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレンなどのフェノール性水酸基含有モノマー類などに代表されるアルカリ可溶性官能基含有モノマー類。
モノマー（ロ）：
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、グリシジル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニル（メタ）アクリレートなどのモノマー（イ）以外の（メタ）アクリル酸エステル類；スチレン、α−メチルスチレンなどの芳香族ビニル系モノマー類；ブタジエン、イソプレンなどの共役ジエン類などに代表されるモノマー（イ）と共重合可能なモノマー類。
モノマー（ハ）：
ポリスチレン、ポリ（メタ）アクリル酸メチル、ポリ（メタ）アクリル酸エチル、ポリ（メタ）アクリル酸ベンジル等のポリマー鎖の一方の末端に、（メタ）アクリロイル基などの重合性不飽和基を有するマクロモノマーなどに代表されるマクロモノマー類：
【００１４】
本発明の組成物を構成するアルカリ可溶性樹脂の分子量としては、ＧＰＣによるポリスチレン換算の重量平均分子量として４，０００〜３００，０００であることが好ましく、さらに好ましくは１０，０００〜２００，０００とされる。
また、本発明の組成物におけるバインダーの含有割合としては、導電性粒子１００重量部に対して、通常１〜５０重量部とされ、好ましくは１〜４０重量部とされる。
【００１５】
＜溶剤＞
本発明においては、組成物を構成する溶剤として特定溶剤を含有する点に特徴を有している。
（１）特定溶剤の標準沸点（１気圧における沸点）は１００〜２００℃とされ、好ましくは１１０〜１８０℃とされる。
標準沸点が２００℃を超える場合には、含有される溶剤全体の沸点が高くなりすぎて、そのような溶剤を含有してなる導電性ペースト組成物を塗布して転写フィルムを製造するときに、得られる転写フィルムの膜形成材料層中に相当量の有機溶剤が残留し、当該転写フィルムをロール状に巻き取って保存する際にブロッキング現象が発生しやすくなる。一方、標準沸点が１００℃未満である場合には、溶剤全体の沸点が低くなりすぎて、そのような溶剤を含有してなる導電性ペースト組成物中において、導電性粒子の凝集物が発生しやすくなり、当該組成物を塗布して形成される膜形成材料層に、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥が発生しやすくなる。
【００１６】
（２）特定溶剤の２０℃における蒸気圧は０．５〜５０ｍｍＨｇとされ、好ましくは０．７〜３０ｍｍＨｇとされる。
蒸気圧が０．５ｍｍＨｇ未満である場合には、含有される溶剤全体の蒸気圧が低くなりすぎて、そのような溶剤を含有してなる導電性ペースト組成物を塗布して転写フィルムを製造するときに、得られる転写フィルムの膜形成材料層中に相当量の有機溶剤が残留し、当該転写フィルムをロール状に巻き取って保存する際にブロッキング現象が発生しやすくなる。一方、蒸気圧が５０ｍｍＨｇを超える場合には、溶剤全体の蒸気圧が高くなりすぎて、そのような溶剤を含有してなる導電性ペースト組成物が速乾性を有し、塗布時のレベリング性が不足して、膜厚均一性が悪くなりやすい。
【００１７】
（３）特定溶剤の２０℃における表面張力は２５ｄｙｎ／ｃｍ以上であることが好ましい。
表面張力が２５ｄｙｎ／ｃｍ未満である場合には、含有される溶剤全体の表面張力が低くなり、そのような溶剤を含有してなる導電性ペースト組成物を塗布して膜形成材料層を形成するときに、当該膜形成材料層を焼成して形成される焼結体（電極）が気泡を多く含んだポーラスな構造となり、安定した低抵抗値を有する電極とならない場合がある。
【００１８】
本発明の組成物を構成する特定溶剤は、上記の条件（１）および（２）を満足し、好ましくは上記の条件（３）を満足する有機溶剤であって、好ましくはケトン類、アルコール類またはエステル類である。
【００１９】
特定溶剤の好ましい具体例としては、ジエチルケトン、メチルブチルケトン、ジプロピルケトン、シクロヘキサノンなどのケトン類；ｎ−ペンタノール、４−メチル−２−ペンタノール、シクロヘキサノール、ジアセトンアルコールなどのアルコール類；エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテルなどのエーテル系アルコール類；酢酸−ｎ−ブチル、酢酸アミルなどの飽和脂肪族モノカルボン酸アルキルエステル類；乳酸エチル、乳酸−ｎ−ブチルなどの乳酸エステル類；メチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチル−３−エトキシプロピオネートなどのエーテル系エステル類などを例示することができ、これらのうち、メチルブチルケトン、シクロヘキサノン、ジアセトンアルコール、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル、乳酸エチル、エチル−３−エトキシプロピオネートなどが好ましい。これらの特定溶剤は、単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００２０】
本発明の組成物に含有されることがある特定溶剤以外の溶剤としては、
▲１▼  導電性粒子との親和性（分散性）、結着樹脂の溶解性、特定溶剤との相溶性が良好で、
▲２▼  特定溶剤と共に、導電性ペースト組成物に適度な粘性を付与することができ、
▲３▼  乾燥されることによって容易に蒸発除去できる
ものの中から選択することができる。かかる溶剤の具体例としては、テレビン油、エチルセロソルブ、メチルセロソルブ、テルピネオール、ブチルカルビトールアセテート、ブチルカルビトール、イソプロピルアルコール、ベンジルアルコール、Ｎ−メチル−２−ピロリドンなどを挙げることができる。
【００２１】
本発明の組成物において、全溶剤に対する特定溶剤の含有割合としては、通常５０重量％以上とされ、好ましくは７０重量％以上とされる。
また、本発明の組成物における溶剤（特定溶剤およびその他の溶剤）の含有割合としては、組成物の粘度を好適な範囲に維持する観点から、ガラス粉末１００重量部に対して、５〜５０重量部であることが好ましく、さらに好ましくは１０〜４０重量部とされる。
【００２２】
本発明の導電性ペースト組成物には、上記の必須成分のほかに、低融点ガラス、分散剤、粘着性付与剤、可塑剤、表面張力調整剤、安定剤、消泡剤などの各種添加剤が任意成分として含有されていてもよい。
好ましい導電性ペースト組成物の一例を示せば、導電性粒子として、銀粒子１００重量部と、ブチルメタクリレート／メタクリル酸共重合体１０〜３０重量部と、プロピレングリコールモノメチルエーテル（特定溶剤）１０〜５０重量部とを必須成分として含有する組成物を挙げることができる。
【００２３】
本発明の組成物は、上記導電性粒子、結着樹脂および溶剤並びに任意成分を、ロール混練機、ミキサー、ホモミキサー、ボールミル、ビーズミルなどの混練機を用いて混練することにより調製することができる。
上記のようにして調製される本発明の組成物は、塗布に適した流動性を有するペースト状の組成物であり、その粘度は、通常１，０００〜３０，０００ｃｐとされ、好ましくは３，０００〜１０，０００ｃｐとされる。
【００２４】
本発明の導電性ペースト組成物は、支持フィルム上に膜形成材料層を形成して転写フィルムを製造する際に好適に使用することができるが、これらの用途に限定されるものではなく、従来において公知の膜形成材料層の形成方法、すなわち、スクリーン印刷法などによって当該組成物をガラス基板の表面に直接塗布し、塗膜を乾燥することにより膜形成材料層を形成する方法にも好適に使用することができる。
【００２５】
＜転写フィルム＞
本発明の転写フィルムは、支持フィルムと、この支持フィルム上に形成された膜形成材料層とにより構成され、ドライフィルム法に適用される複合材料である。
転写フィルムを構成する支持フィルムは、耐熱性及び耐溶剤性を有するとともに可撓性を有する樹脂フィルムであることが好ましい。支持フィルムが可撓性を有することにより、ロールコーター、ブレードコーターなどによって本発明の組成物を塗布することができ、膜形成材料層をロール状に巻回した状態で保存し、供給することができる。支持フィルムを形成する樹脂としては、例えばポリエチレンテレフタレート、ポリエステル、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリイミド、ポリビニルアルコール、ポリ塩化ビニル、ポリフロロエチレンなどの含フッ素樹脂、ナイロン、セルロースなどを挙げることができる。支持フィルムの厚さとしては、例えば２０〜１００μｍとされる。
【００２６】
転写フィルムを構成する膜形成材料層は、本発明の導電性ペースト組成物を前記支持フィルム上に塗布し、塗膜を乾燥して溶剤の一部又は全部を除去すること（例えば、溶剤の含有率が０〜１．０重量％となるまで除去すること）により形成することができる。
【００２７】
本発明の導電性ペースト組成物を支持フィルム上に塗布する方法としては、膜厚の均一性に優れた膜厚の大きい（例えば１０μｍ以上）塗膜を効率よく形成することができるものであることが好ましく、具体的には、ロールコーターによる塗布方法、ブレードコーターによる塗布方法、カーテンコーターによる塗布方法、ワイヤーコーターによる塗布方法などを好ましいものとして挙げることができる。
なお、本発明の導電性ペースト組成物が塗布される支持フィルムの表面には離型処理が施されていることが好ましい。これにより、ガラス基板への転写工程において、支持フィルムの剥離操作を容易に行うことができる。
また、本発明の転写フィルムには、膜形成材料層の表面に保護フィルム層が設けられてもよい。このような保護フィルム層としては、ポリエチレンテレフタレートフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリビニルアルコール系フィルムなどを挙げることができる。
本発明の転写フィルムにおける膜形成材料層（転写フィルムを構成する膜形成材料層）は、優れた柔軟性（ロール加工性）、およびガラス基板に対する優れた密着性を有するものとなる。
【００２８】
本発明の転写フィルムは、支持フィルム上にレジスト層と膜形成材料層との積層膜が形成されたものであってもよい。ガラス基板に当該積層膜を転写することにより、膜形成材料層上にレジスト膜が形成された積層膜を得ることができる。
レジスト膜を形成するために使用するレジスト組成物としては、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物、有機溶剤現像型感放射線性レジスト組成物、水性現像型感放射線性レジスト組成物などを例示することができるが、好ましくはアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物が用いられる。
【００２９】
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物は、アルカリ可溶性樹脂と感放射線性成分を必須成分として含有してなる。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成するアルカリ可溶性樹脂としては、隔壁形成用のガラスペースト組成物を構成するものとして例示したアルカリ可溶性樹脂を挙げることができる。
アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物を構成する感放射線性成分としては、例えば、（イ）多官能性モノマーと光重合開始剤との組み合わせ、（ロ）メラミン樹脂と放射線照射により酸を形成する光酸発生剤との組み合わせなどを好ましいものとして例示することができ、上記（イ）の組み合わせのうち、多官能性（メタ）アクリレートと光重合開始剤との組み合わせが特に好ましい。
【００３０】
感放射線性成分を構成する多官能性（メタ）アクリレートの具体例としては、エチレングリコール、プロピレングリコールなどのアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコールなどのポリアルキレングリコールのジ（メタ）アクリレート類；両末端ヒドロキシポリブタジエン、両末端ヒドロキシポリイソプレン、両末端ヒドロキシポリカプロラクトンなどの両末端ヒドロキシル化重合体のジ（メタ）アクリレート類；グリセリン、１，２，４−ブタントリオール、トリメチロールアルカン、テトラメチロールアルカン、ジペンタエリスリトールなどの３価以上の多価アルコールのポリ（メタ）アクリレート類；３価以上の多価アルコールのポリアルキレングリコール付加物のポリ（メタ）アクリレート類；１，４−シクロヘキサンジオール、１，４−ベンゼンジオール類などの環式ポリオールのポリ（メタ）アクリレート類；ポリエステル（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレート、ウレタン（メタ）アクリレート、アルキド樹脂（メタ）アクリレート、シリコーン樹脂（メタ）アクリレート、スピラン樹脂（メタ）アクリレート等のオリゴ（メタ）アクリレート類などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３１】
また、感放射線性成分を構成する光重合開始剤の具体例としては、ベンジル、ベンゾイン、ベンゾフェノン、カンファーキノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２，２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−メチル−〔４’−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オンなどのカルボニル化合物；アゾイソブチロニトリル、４−アジドベンズアルデヒドなどのアゾ化合物あるいはアジド化合物；メルカプタンジスルフィドなどの有機硫黄化合物；ベンゾイルパーオキシド、ジ−ｔｒｅｔ−ブチルパーオキシド、ｔｒｅｔ−ブチルハイドロパーオキシド、クメンハイドロパーオキシド、パラメタンハイドロパーオキシドなどの有機パーオキシド；１，３−ビス（トリクロロメチル）−５−（２’−クロロフェニル）−１，３，５−トリアジン、２−〔２−（２−フラニル）エチレニル〕−４，６−ビス（トリクロロメチル）−１，３，５−トリアジンなどのトリハロメタン類；２，２’−ビス（２−クロロフェニル）４，５，４’，５’−テトラフェニル１，２’−ビイミダゾールなどのイミダゾール二量体などを挙げることができ、これらは単独でまたは２種以上を組み合わせて使用することができる。
【００３２】
このアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物における感放射線性成分の含有割合としては、アルカリ可溶性樹脂１００重量部当たり、通常１〜３００重量部とされ、好ましくは１０〜２００重量部である。
また、アルカリ現像型感放射線性レジスト組成物については、良好な膜形成性付与するために、適宜有機溶剤が含有される。かかる有機溶剤としては、導電性ペースト組成物を構成するものとして例示した溶剤を挙げることができる。
【００３３】
＜プラズマディスプレイパネル＞
本発明のプラズマディスプレイパネルは、電極が、本発明の導電性ペースト組成物を用いて形成されることを特徴とする。
電極の形成方法としては、基板上に導電性ペースト層を設け、該導電性ペースト層上にレジスト膜を設け、レジスト膜を、通常、露光マスクを介して露光、現像し、ガラスペースト層をエッチングした後、該ガラスペースト層を焼成する方法が挙げられる。
導電性ペースト組成物の塗布方法としては、上記転写フィルムの形成において、支持フィルム上に導電性ペースト組成物を塗布する方法に準ずることができる。
また、本発明の転写フィルムを用いた転写は、必要に応じて使用される転写フィルムの保護フィルム層を剥離した後、基板の表面に、導電性ペースト層の表面が当接されるように転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラなどにより熱圧着した後、導電性ペースト層から支持フィルムを剥離除去する、という手順で行われる。これにより、基板の表面に導電性ペースト層が転写されて密着した状態となる。ここで、転写条件としては、例えば、加熱ローラの表面温度が８０〜１４０℃、加熱ローラによるロール圧が１〜５ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度が０．１〜１０．０ｍ／分を示すことができる。また、基板は予熱されていてもよく、予熱温度としては例えば４０〜１００℃とすることができる。
【００３４】
導電性ペースト層上にレジスト膜を設ける方法としては、レジスト組成物を導電性ペースト層上に塗布または転写する方法と、レジスト膜と導電性ペースト層との積層膜を有する本発明の転写フィルムを用いて、基板上に積層膜を転写する方法とが挙げられる。
レジスト膜の露光、現像は、公知の方法を用いることができる。まず、露光用マスクを介して紫外線などの放射線を選択的照射（露光）してレジストパターンの潜像を形成し、これを、アルカリ性現像液などで現像し、レジストパターンを形成する。該レジストパターンは、導電性ペースト層のエッチング工程におけるエッチングマスクとして作用する。
導電性ペースト層のエッチングは、例えばアルカリ性溶液などのエッチング液を用いて行われ、この際、レジスト残留部は除去される。
導電性ペースト層の焼成温度としては、導電性ペースト層中の有機物質が焼失される温度であることが必要であり、通常、４００〜６００℃とされる。また、焼成時間は、通常、１０〜９０分間である。
【００３５】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明するが、本発明はこれらによって限定されるものではない。なお、以下において「部」は「重量部」を示す。
また、重量平均分子量（Ｍｗ）は、東ソー株式会社製ゲルパーミィエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）（商品名ＨＬＣ−８０２Ａ）により測定したポリスチレン換算の平均分子量である。
【００３６】
＜実施例１＞
（１）導電性ペースト組成物の調製：
プロピレングリコールモノメチルエーテル２００部、ｎ−ブチルメタクリレート７０部、メタクリル酸３０部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる単量体組成物を、攪拌機付きオートクレーブに仕込み、窒素雰囲気下において、室温で均一になるまで攪拌した後、８０℃で３時間重合させ、さらに１００℃で１時間重合反応を継続させた後室温まで冷却してポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ａ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は、６０，０００であった。
【００３７】
次いで、導電性粒子として平均粒径１．０μｍの銀粉末７５０部、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ａ）１５０部、可塑剤としてポリプロピレングリコール〔分子量４００、和光純薬（株）製〕２０部、および特定溶剤としてプロピレングリコールモノメチルエーテル３００部を混練りすることにより、電極形成用の導電性ペースト組成物を調整した。
【００３８】
（２）感放射線性レジスト組成物の調製：
３−エトキシプロピオン酸エチル２００部、ｎ−ブチルメタクリレート８５  部、メタクリル酸１５部、アゾビスイソブチロニトリル１部からなる単量体組成物をオートクレーブに仕込んだこと以外はポリマーＡと同様にしてポリマー溶液を得た。ここに、重合率は９８％であり、このポリマー溶液から析出した共重合体〔以下、「ポリマー（Ｂ）」という。〕の重量平均分子量（Ｍｗ）は、５０，０００であった。
【００３９】
次いで、アルカリ可溶性樹脂としてポリマー（Ｂ）５０部、多官能性モノマー（感放射線性成分）としてペンタエリスリトールテトラアクリレート４０部、光重合開始剤（感放射線性成分）として２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）−ブタン−１−オン５部、および溶剤として３−エトキシプロピオン酸エチル１５０部を混練りすることにより、ペースト状のアルカリ現像型感放射線性レジスト組成物〔以下、「レジスト組成物」という。〕を調製した。
【００４０】
（３）転写フィルムの製造：
下記（イ）〜（ロ）の操作により、導電性ペースト層と、レジスト膜との積層膜が支持フィルム上に形成されてなる本発明の転写フィルムを作製した。
（イ）レジスト組成物を予め離型処理したＰＥＴフィルムよりなる支持フィルム（幅２００ｍｍ、長さ３０ｍ、厚さ３８μｍ）上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を完全に除去し、厚さ５μｍのレジスト膜〔以下、「レジスト膜」という。〕を支持フィルム上に形成した。
（ロ）上記（１）で得られた導電性ペースト組成物をレジスト膜上にロールコータを用いて塗布し、塗膜を１００℃で５分間乾燥して溶剤を除去し、厚さ２０μｍの導電性ペースト層をレジスト膜上に形成した。
【００４１】
（４）転写フィルムの評価：
上記（３）で製造した本発明の転写フィルムについて、膜形成材料層に残留している溶剤（プロピレングリコールモノメチルエーテル）の含有率をガスクロマトグラフィーにより定量したところ、１重量％以下であり、この膜形成材料層の表面においてベタツキは認められなかった。また、この膜形成材料層の表面状態を顕微鏡を用いて観察したところ、導電性粒子の凝集物、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥は全く認められなかった。さらに、この転写フィルムを１０ｃｍ×１０ｃｍの大きさに裁断して試験片を１０枚作製し、これらを重ね合わせて積層体を作製し、この積層体の両面に圧縮荷重（２０ｇｆ／ｃｍ2 ）を架けた状態で、恒温恒湿環境下（温度４０℃，相対湿度６０％）に２４時間放置した後、積層体から試験片を１枚ずつ剥がしてみたところ、容易に剥がすことができ、ブロッキング現象は認められなかった。
【００４２】
（５）積層膜の転写工程：
６インチパネル用のガラス基板の表面に、導電性ペースト層の表面が当接されるよう転写フィルムを重ね合わせ、この転写フィルムを加熱ローラに熱圧着した。ここで、圧着条件としては、加熱ローラの表面温度を１２０℃、ロール圧を４ｋｇ／ｃｍ2 、加熱ローラの移動速度を０．５ｍ／分とした。熱圧着処理の終了後、積層膜〔レジスト膜の表面〕から支持フィルムを剥離除去した。これにより、ガラス基板の表面に積層膜が転写されて密着した状態となった。この積層膜〔導電性ペースト層とレジスト膜との積層膜〕について膜厚を測定したところ、２５μｍ±２μｍの範囲にあった。
【００４３】
（６）レジスト膜の露光工程・現像工程：
導電性ペースト層の積層体上に形成されたレジスト膜に対して、露光用マスク（５０μｍ幅のストライプパターン）を介して、超高圧水銀灯により、ｉ線（波長３６５ｎｍの紫外線）を照射した。照射量は４００ｍＪ／ｃｍ2とした。
次いで、露光処理されたレジスト膜に対して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）を現像液とするシャワー法による現像処理を２０秒かけて行った。次いで超純水による水洗処理を行い、これにより、紫外線が照射されていない未硬化のレジストを除去し、レジストパターンを形成した。
【００４４】
（７）導電性ペースト層のエッチング工程：
上記の工程に連続して、０．２重量％の水酸化カリウム水溶液（２５℃）をエッチング液とするシャワー法によるエッチング処理を２分間行った。
次いで、超純水による水洗処理および乾燥処理を行った。、これにより、材料層残留部と、材料層除去部とから構成される導電性ペースト層のパターンを形成した。
【００４５】
（８）導電性ペースト層の焼成工程：
導電性ペースト層のパターンが形成されたガラス基板を焼成炉内で６００℃の温度雰囲気下で３０分間にわたり焼成処理を行った。これにより、ガラス基板の表面に電極が形成されてなるパネル材料が得られた。
【００４６】
（９）電極パターンの評価：
得られたパネル材料における電極の断面形状を走査型電子顕微鏡により観察し、当該断面形状の底面の幅および高さを測定したところ、底面の幅が５０μｍ±２μｍ、高さが１０μｍ±１μｍであり、寸法精度がきわめて高いものであった。
【００４７】
＜実施例２〜４＞
表１に示す処方に従って溶剤の組成を変更したこと以外は実施例１と同様にして、本発明の導電性ペースト組成物を調製した。
次いで、得られた導電性ペースト組成物の各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして、本発明の転写フィルムを製造した。
その後、得られた転写フィルムの各々を使用したこと以外は実施例１と同様にして、膜形成材料層の転写および膜形成材料層の焼成処理を行って、ガラス基板の表面に（厚さ１０μｍ±１．０μｍ）を形成した。
転写フィルムの評価結果（膜形成材料層中における溶剤の含有率・膜形成材料層表面におけるベタツキ・転写フィルムのブロッキング現象・膜形成材料層における膜欠陥の有無）並びに形成された誘電体層の光透過率を表１に示す。
【００４８】
＜比較例１＞
プロピレングリコールモノメチルエーテル（特定溶剤）に代えてイソプロピルアルコール３００部を使用したこと以外は実施例１と同様にして、比較用のガラスペースト組成物を調製し、当該ガラスペースト組成物を使用して転写フィルムを製造した。
得られた転写フィルムについて、膜形成材料層における溶剤（イソプロピルアルコール）の含有率は１重量％以下であり、この膜形成材料層の表面にベタツキは認められなかった。また、当該転写フィルムの積層体において、ブロッキング現象は認められなかった。しかしながら、膜形成材料層の表面には、２０〜４０μｍ程度の導電性粒子の凝集物が多数認められ、当該凝集物を核に発生している筋状の塗装跡およびクレーターも認められた。
以上の結果を表１にまとめて示す。
【００４９】
＜比較例２＞
メチルブチルケトン（特定溶剤）に代えてジエチレングリコールモノブチルエーテル３００部を使用したこと以外は実施例１と同様にして、比較用のガラスペースト組成物を調製し、当該ガラスペースト組成物を使用して転写フィルムを製造した。
得られた転写フィルムについて、膜形成材料層の表面状態を観察したところ、導電性粒子の凝集物、筋状の塗装跡、クレーター、ピンホールなどの膜欠陥は認められなかった。
しかしながら、当該膜形成材料層における溶剤（ジエチレングリコールモノブチルエーテル）の含有率は８重量％と高く、この膜形成材料層の表面全体にベタツキが認められた。また、ブロッキング現象の有無を確認するために作製した当該転写フィルムの積層体において、試験片を剥離することができなかった。
以上の結果を表１にまとめて示す。
【００５０】
【表１】
0003932649.tif 000002
【００５１】
【発明の効果】
本発明の組成物によれば下記のような効果が奏される。
（１）低温・短時間の乾燥によって、溶剤含有率の低い膜形成材料層を形成することができる。
（２）導電性粒子との親和性に優れる特定溶剤が含有されているので、組成物中において導電性粒子の凝集物が生成することはない。
（３）膜欠陥のない均質性に優れた膜形成材料層を形成することができる。
（４）柔軟性に優れた膜形成材料層を形成することができる。
（５）ガラス基板との接着性に優れた膜形成材料層を形成することができる。
（６）転写フィルムの製造に好適に使用することができる。
（７）耐ブロッキング性に優れた転写フィルムを製造することができる。
（８）ロール加工性に優れた転写フィルムを製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】交流型のプラズマディスプレイパネルの断面形状を示す模式図である。
【符号の説明】
１  ガラス基板
２  ガラス基板
３  隔壁
４  バス電極
５  アドレス電極
６  蛍光物質
７  誘電体層
８  保護層
【図１】
0003932649.tif 000003