(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で示される色素を含むことを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素。
【化１】
0003876970.tif 000013
（但し、環Ａは環を構成する原子の数が５もしくは６の環を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 、はそれぞれ独立して、水素原子または任意の置換基を表し、Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞれ独立して水素原子又はハメットの置換基定数σｐが０または負の置換基を表す。またＲ1 〜Ｒ6 の隣接する２つの置換基が結合して環を形成していても良い。）
【請求項２】
一般式（１）において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 がそれぞれ独立して、水素原子、置換されていても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、アリール基、飽和もしくは不飽和の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホン酸基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、カルバモイル基、カルボン酸エステル基、スルファモイル基及びスルホン酸エステル基から選ばれる基を表し、Ｒ5 、Ｒ6 がそれぞれ独立して、水素原子、置換されていても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基およびアラルキル基から選ばれる基を表す請求項１に記載の光学記録媒体の記録層形成用色素。
【請求項３】
一般式（１）において、環Ａが飽和もしくは不飽和の複素環である請求項１または２に記載の光学記録媒体の記録層形成用色素。
【請求項４】
基板上に、レーザーによる情報の記録及び／または再生が可能な記録層が設けられた光学記録媒体であって、該記録層が請求項１乃至３のいずれかに記載の色素を含有することを特徴とする光学記録媒体。
【請求項５】
請求項４に記載の光学記録媒体に対し、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザー光を用いて記録を行うことを特徴とする光学記録媒体の記録方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、有機色素を記録層に用いた追記型光学記録媒体に関わるものであり、詳しくは青色レーザー対応の追記型光学記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、発振波長の短い半導体レーザーの開発が進められ、従来使用されているレーザーの波長７８０ｎｍ、８３０ｎｍよりも短波長のレーザー光を用いた高密度の記録再生可能な光学記録媒体が求められている。従来提案されている光学記録媒体としては、光磁気記録媒体、相変化記録媒体、カルコゲン酸化物光記録媒体、有機色素系記録媒体等があるが、これらの中で有機色素系記録媒体は、コスト的に安価で且つ製造プロセスも容易であるという点で優位性を有するものと考えられている。
【０００３】
現在、有機色素系光学記録媒体には、反射率の高い金属層を有機色素の上に積層したタイプの書き込み型コンパクトディスク（ＣＤ−Ｒ）が量産化され広く知られているが、このＣＤ−Ｒの記録再生に使用されるレーザーよりも短波長の、赤色半導体レーザーで記録する高密度の有機色素系光学記録媒体（ＤＶＤ−Ｒ）も開発され、実用化されている。また、更に短波長のレーザー発振が可能となるに従い、ＤＶＤ−Ｒより短波長のレーザー、即ち青色半導体レーザー（波長３５０〜５３０ｎｍ）で記録再生可能な光学記録媒体の必要性が高まってきた。
【０００４】
ところが、一般にＣＤ−ＲあるいはＤＶＤ−Ｒとして使用されている光学記録媒体は、短波長の青色レーザーでは、反射率が低く記録再生ができないという問題点を有している。
そこで、例えば特開２００１−７１６３９号公報には、ハメットの置換基定数σｐが−０．６〜０．０の範囲にある電子供与性基のみを有するアリール基または芳香族ヘテロ環基を有する色素を、青色半導体レーザー対応の記録材料として用いることが提案されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、有機色素系光学記録媒体において良好な記録特性を得るためには、色素の複素屈折率の実部が大きくかつ虚部が小さいことが必要である。これはすなわち、色素の吸収極大がレーザーの波長よりも短波長側にあること、色素の吸収極大における吸光度が大きいこと、レーザーの波長近辺における色素の吸収スペクトル変化が急峻であることが必要である。本発明者らの検討では、上記特開２００１−７１６３９号公報に記載の色素化合物は、色素の吸収極大における吸光度及び、レーザーの波長近辺における色素の吸収スペクトル変化が不十分であり、改良を要することがわかった。
該特開２００１−７１６３９号公報には、具体例として種々の化合物が例示されているが、例えばアルコキシ基を有する例示化合物（Ｉ−１６）
【０００６】
【化２】
0003876970.tif 000002
【０００７】
は吸収スペクトルのピーク形状がブロードであり、レーザーの波長近辺における色素の吸収スペクトル変化が緩やかである。
また、本発明の構造に類似のアミノ基を有する化合物（Ｉ−１２）、（Ｉ−１７）
【０００８】
【化３】
0003876970.tif 000003
【０００９】
等も例示されている。上記フェニル基における置換基のσｐを−０．６〜０．０の範囲にするためには、アミノ基の窒素原子上に強い電子吸引性基の置換基を導入する必要があるが、本発明者らの検討では、強い電子吸引性基をアミノ基に導入すると色素の吸収極大における吸光度が小さくなるという問題があることがわかった。
本発明は、青色半導体レーザーによって記録再生が可能でありかつ優れた記録特性を有する有機色素系光学記録媒体を提供することを目的とする。
【００１０】
発明者らは、鋭意検討の結果、特定の構造のベンゼン誘導体においてメチン鎖のパラ位に特定構造のアミノ基を導入することにより、吸光度が増大し、吸収スペクトル変化も急峻であることを見いだし本発明に至った。
即ち、本発明の要旨は、下記一般式（１）で示される色素を含むことを特徴とする光学記録媒体の記録層形成用色素、並びに、基板上に、レーザーによる情報の記録及び／または再生が可能な記録層が設けられた光学記録媒体であって、該記録層が該記録層形成用色素を含有することを特徴とする光学記録媒体、及び、該光学記録媒体に対し、波長３５０〜５３０ｎｍのレーザー光を用いて記録を行うことを特徴とする光学記録媒体の記録方法、に存する。
【００１１】
【化４】
0003876970.tif 000004
【００１２】
（但し、環Ａは環を構成する原子の数が５もしくは６の環を表し、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 、はそれぞれ独立して、水素原子または任意の置換基を表し、Ｒ5 、Ｒ6 はそれぞれ独立して水素原子又はハメットの置換基定数σｐが０または負の置換基を表す。またＲ1 〜Ｒ6 の隣接する２つの置換基が結合して環を形成していても良い。）
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
本発明で使用される前記一般式（１）の化合物は、３５０〜５３０ｎｍの青色光領域に適度な吸収を有し、青色レーザーでの記録に適する色素である。
前記一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ4で表される基としては、例えば水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数３〜１８のシクロアルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数３〜１８のシクロアルケニル基；メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基、アミルオキシ基、ｔｅｒｔ−アミルオキシ基、ｎ−ヘキシルオキシ基、ｎ−ヘプチルオキシ基、ｎ−オクチルオキシ基、ｔｅｒｔ−オクチルオキシ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルコキシ基；メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−プロピルチオ基、ｉｓｏ−プロピルチオ基、ｎ−ブチルチオ基、ｓｅｃ−ブチルチオ基、ｔｅｒｔ−ブチルチオ基、アミルチオ基、ｔｅｒｔ−アミルチオ基、ｎ−ヘキシルチオ基、ｎ−ヘプチルチオ基、ｎ−オクチルチオ基、ｔｅｒｔ−オクチルチオ基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキルチオ基；フェニル基、トリル基、キシリル基、メシチル基等の炭素数６〜１８のアリール基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数７〜１８のアラルキル基；ビニルオキシ基、プロペニルオキシ基、ヘキセニルオキシ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルオキシ基；ビニルチオ基、プロペニルチオ基、ヘキセニルチオ基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニルチオ基；２−チエニル基、２−ピリジル基、フリル基、オキサゾリル基、ベンゾキサゾリル基、チアゾリル基、ベンゾチアゾリル基、モルホリノ基、ピロリジニル基、テトラヒドロチオフェンジオキザイド基等の飽和もしくは不飽和の複素環基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；ニトロ基；シアノ基；ホルミル基；ヒドロキシ基；カルボキシル基；スルホン酸基；−ＯＣＯＲ7で表されるアシルオキシ基；−ＮＲ8Ｒ9で表されるアミノ基；−ＮＨＣＯＲ10で表されるアシルアミノ基；−ＮＨＣＯＯＲ11で表されるカーバメート基；−ＮＨＳＯ2Ｒ12で表されるスルホンアミド基；−ＣＯＮＲ13Ｒ14で表されるカルバモイル基；−ＣＯＯＲ15で表されるカルボン酸エステル基；−ＳＯ3ＮＲ16Ｒ17で表されるスルファモイル基；−ＳＯ3Ｒ18で表されるスルホン酸エステル基、等が挙げられる。
【００１４】
これらの位置関係は特に限定されず、複数の置換基を有する場合、同種でも異なっても良い。
前記一般式（１）において、Ｒ5またはＲ6で表される基としては、水素原子又はハメットの置換基定数σpが０または負の置換基であればよく、好ましくはＲ5、Ｒ6の少なくともいずれか一方がハメットの置換基定数σpが-0.05以下の置換基である。ハメットの置換基定数σpは、例えばChem. Rev., 91巻, 165頁〜195頁(1991年)に記載されている。本発明において、ハメットの置換基定数σpを定義する際、Ｒ5、Ｒ6が置換または非置換のアルキル基または置換または非置換のシクロアルキル基の場合には、Ｒ5、Ｒ6が置換している窒素原子から２個以上離れた炭素原子上の置換基は、色素の吸収スペクトルに与える電子的効果は実質上非常に小さいと見なせるため、水素原子と等価と見なすこととする。また、Ｒ5、Ｒ6が隣接するＲ2、Ｒ4との間で環を形成する場合、Ｒ5、Ｒ6が置換している窒素原子から３個離れた結合鎖で切断し、切断した結合に水素原子が置換されたものと等価と見なすこととする。
【００１５】
具体的には、水素原子；メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉｓｏ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｉｓｏ−ブチル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、アミル基、ｔｅｒｔ−アミル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基、ｎ−オクチル基、ｔｅｒｔ−オクチル基等の炭素数１〜１８の直鎖又は分岐のアルキル基；シクロプロピル基、シクロブチル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、アダマンチル基等の炭素数３〜１８のシクロアルキル基；ビニル基、プロペニル基、ヘキセニル基等の炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基；シクロペンテニル基、シクロヘキセニル基等の炭素数３〜１８のシクロアルケニル基；ベンジル基、フェネチル基等の炭素数６〜１８のアラルキル基等が挙げられる。
【００１６】
また、Ｒ1〜Ｒ6の内、隣接する２つが結合して環を形成する場合としては、基本骨格であるベンゼン環に縮合する、飽和又は不飽和の炭化水素環又は複素環、Ｒ5とＲ6が窒素原子と共に形成するピペリジニル基、ピロリジニル基等の含窒素複素環やさらに酸素原子を含んだモルホリニル基、あるいはＲ2とＲ5、Ｒ4とＲ6とが結合して形成するジュロリジン環等が挙げられる。これらの環はさらに置換基を有していても良い。特に、Ｒ5および／またはＲ6が結合して形成する環、すなわちＲ2とＲ5、Ｒ4とＲ6、Ｒ5とＲ6が結合して形成する環としては、飽和環が好ましい。
【００１７】
この様な環を有する例としては、例えば下記の構造が挙げられる。
【００１８】
【化５】
0003876970.tif 000005
【００１９】
（（５）式中、Ｒは任意の置換基を表す。）
上記構造式中には記載していないが、各化合物においてＲ1〜Ｒ6のうち隣接する２つが結合して形成した環は、置換基を有していても良い。またＲ1〜Ｒ4も記載を省略した。
Ｒ7〜Ｒ18はそれぞれ水素原子、置換されていても良い直鎖、分岐又は環状のアルキル基、置換されていても良い直鎖、分岐又は環状のアルケニル基、置換されていても良いアリール基、または置換されていても良いアラルキル基を表す。
【００２０】
また、Ｒ1〜Ｒ18で示される基に含まれるアルキル基、アルケニル基、アリール基および複素環基は、更に置換されていても良い。
この場合の置換基としては、メトキシ基、エトキシ基、ｎ−プロポキシ基、ｉｓｏ−プロポキシ基、ｎ−ブトキシ基、ｓｅｃ−ブトキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシ基等の炭素数１〜１０のアルコキシ基；メトキシメトキシ基、エトキシメトキシ基、プロポキシメトキシ基、エトキシエトキシ基、プロポキシエトキシ基、メトキシブトキシ基等の炭素数２〜１２のアルコキシアルコキシ基；メトキシメトキシメトキシ基、メトキシメトキシエトキシ基、メトキシエトキシメトキシ基、エトキシメトキシメトキシ基、エトキシエトキシメトキシ基等の炭素数３〜１５のアルコキシアルコキシアルコキシ基；フェニル基、トリル基、キシリル基等の炭素数６〜１２のアリール基（これらは置換基で更に置換されていても良い。）；フェノキシ基、トリルオキシ基、キシリルオキシ基、ナフチルオキシ基等の炭素数６〜１２のアリールオキシ基；ビニルオキシ基、アリルオキシ基等の炭素数２〜１２のアルケニルオキシ基；アセチル基、プロピオニル基などのアシル基；シアノ基；ニトロ基；ヒドロキシル基；テトラヒドロフリル基；アミノ基；Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ基、Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ基等の炭素数１〜１０のアルキルアミノ基；メチルスルホニルアミノ基、エチルスルホニルアミノ基、ｎ−プロピルスルホニルアミノ基等の炭素数１〜６のアルキルスルホニルアミノ基；フッ素原子、塩素原子、臭素原子等のハロゲン原子；メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニル基、ｎ−ブトキシカルボニル基等の炭素数２〜７のアルコキシカルボニル基；メチルカルボニルオキシ基、エチルカルボニルオキシ基、ｎ−プロピルカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロピルカルボニルオキシ基、ｎ−ブチルカルボニルオキシ基等の炭素数２〜７のアルキルカルボニルオキシ基：メトキシカルボニルオキシ基、エトキシカルボニルオキシ基、ｎ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｉｓｏ−プロポキシカルボニルオキシ基、ｎ−ブトキシカルボニルオキシ基、ｔｅｒｔ−ブトキシカルボニルオキシ基などの炭素数２〜７のアルコキシカルボニルオキシ基等が挙げられる。
【００２１】
好ましくは、Ｒ1〜Ｒ4としては水素原子、置換されていても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、アルケニルオキシ基、アルケニルチオ基、アリール基、飽和もしくは不飽和の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ホルミル基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、スルホン酸基、アシルオキシ基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、カルバモイル基、カルボン酸エステル基、スルファモイル基またはスルホン酸エステル基であり、Ｒ5およびＲ6としては、水素原子、置換されていても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基であるか、あるいはこれらＲ1〜Ｒ6のうち隣接する２つが結合して飽和又は不飽和の炭化水素環または複素環を形成する場合である。
【００２２】
より好ましくは、Ｒ1〜Ｒ4としては水素原子、置換されていても良いアルキル基、アルケニル基、アルコキシ基、アルキルチオ基、アラルキル基、アリール基、飽和もしくは不飽和の複素環基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、ヒドロキシ基、カルボキシル基、アミノ基、アシルアミノ基、カーバメート基、スルホンアミド基、カルバモイル基またはカルボン酸エステル基であり、Ｒ5およびＲ6としては、水素原子、置換されていても良いアルキル基、アルケニル基またはアラルキル基であるか、あるいはこれらＲ1〜Ｒ6のうち隣接する２つが結合して５〜６員環の飽和炭化水素環または飽和複素環を形成する場合である。
【００２３】
特に好ましくは、Ｒ1〜Ｒ4としては水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基、炭素数１〜６のアルコキシ基、炭素数７〜１８のアラルキル基、炭素数１〜１８のアリール基、炭素数１〜６のフルオロアルキル基、炭素数１〜６のフルオロアルコキシ基、炭素数１〜６のフルオロアルキルチオ基、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、置換アミノ基、アシル基またはカルボン酸エステル基であり、Ｒ5、Ｒ6として、水素原子、炭素数１〜６のアルキル基、炭素数２〜１８の直鎖又は分岐のアルケニル基または炭素数７〜１８のアラルキル基であるか、あるいはこれらＲ1〜Ｒ6のうち隣接する２つが結合して５〜６員環の飽和炭化水素環または飽和複素環を形成する場合である。
【００２４】
一般式（１）における環Ａとしては、環を構成する原子の数が４以上８以下の環であるが、好ましくは環を構成する原子の数が４以上８以下の飽和もしくは不飽和の複素環である。
特に好ましくは、５員環もしくは６員環の飽和もしくは不飽和の複素環である。環Ａとしては具体的には下記のようなものが例示される。
【００２５】
【化６】
0003876970.tif 000006
（但し、Ｒ19〜Ｒ36はそれぞれ独立して、水素原子、置換されていても良いアルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、シクロアルケニル基、アラルキル基、アリール基を表す。）
これら本発明の色素は、例えば該色素を含む溶液から記録層の成膜を形成する際の薄膜形成製に優れているので。光学記録媒体の記録層に使用する色素としてきわめて有用である。また本発明の色素は、該色素を含有する記録層がより短い波長（３５０〜５００ｎｍ）領域にレーザー光による記録再生に適した強度の吸収およびスペクトル形状を有しているため、短波長レーザーに対応する記録再生用光学記録媒体に使用する色素として、きわめて有用である。
【００２６】
本発明の光学記録媒体は、基本的には基板と前記化合物を含む記録層とから構成されるものであるが、更に必要に応じて基板上に下引き層、金属反射層、保護層などを設けても良い。
好ましい層構成の一例としては、記録層上に金、銀、アルミニウムのような金属反射層および保護層を設けた高反射率の媒体が挙げられる。以下、この構造の媒体を例に本発明の光学記録媒体について説明する。
【００２７】
本発明の光学記録媒体における基板の材質としては、基本的には記録光及び再生光の波長で透明であればよい。
このような材質としては、例えばアクリル系樹脂、メタクリル系樹脂、ポリカーボネート系樹脂、ポリオレフィン系樹脂（特に非晶質ポリオレフィン）、ポリエステル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、エポキシ系樹脂等の樹脂からなるもの、ガラスからなるもの、ガラス上に光硬化性樹脂等の放射線硬化性樹脂からなる樹脂層を設けたもの等を使用することができる。
【００２８】
高生産性、コスト、耐吸湿性等の点からは、射出成型ポリカーボネートが好ましい。
耐薬品性、耐吸湿性等の点からは、非晶質ポリオレフィンが好ましい。
また高速応答などの点からは、ガラス基板が好ましい。
記録層に接して樹脂基板または樹脂層を設け、その樹脂基板または樹脂層上に記録再生光の案内溝やピットを有していても良い。案内溝がスパイラル状の場合、この溝ピッチが０．３〜１．２μｍ程度であることが好ましい。
【００２９】
基板上、または必要に応じて下引き層等を設けた上に本発明の化合物を含む記録層を形成する。
記録層の形成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等一般に行われている薄膜形成法が挙げられる。量産性、コスト面からはスピンコート法が好ましい。また、厚みの均一な記録層が得られるという点からは、塗布法よりも真空蒸着法等の方が好ましい。
【００３０】
スピンコート法による成膜の場合、回転数は５００〜１５００ｒｐｍが好ましく、スピンコートの後、場合によっては加熱あるいは溶媒蒸気にあてるなどの処理を行ってもよい。
ドクターブレード法、キャスト法、スピンコート法、浸漬法等の塗布方法により記録層を形成する場合の塗布溶媒としては、基板を侵さない溶媒であればよく、特に限定されない。例えば、ジアセトンアルコール、３−ヒドロキシ−３−メチル−２−ブタノン等のケトンアルコール系溶媒；メチルセロソルブ、エチルセロソルブ等のセロソルブ系溶媒；ｎ−ヘキサン、ｎ−オクタン等の鎖状炭化水素系溶媒；シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、エチルシクロヘキサン、ジメチルシクロヘキサン、ｎ−ブチルシクロヘキサン、ｔｅｒｔ−ブチルシクロヘキサン、シクロオクタン等の環状炭化水素系溶媒；テトラフルオロプロパノール、オクタフルオロペンタパノール、ヘキサフルオロブタノール等のパーフルオロアルコール系溶媒；乳酸メチル、乳酸エチル、イソ酪酸メチル等のヒドロキシカルボン酸エステル系溶媒などが挙げられる。
【００３１】
真空蒸着法の場合には、例えば本発明の化合物と、必要に応じて他の色素や各種添加剤などの記録層成分を真空容器内に設置された坩堝に入れ、真空容器内を適当な真空ポンプで１０-2〜１０-5Ｐａ程度にまで排気した後、坩堝を加熱して記録層成分を蒸発させ、坩堝と向き合って置かれた基板上に蒸着させることにより、記録層を形成する。
【００３２】
また、記録層は記録層の安定や耐光性向上のために、一重項酸素クエンチャーとして遷移金属キレート化合物（例えば、アセチルアセトナートキレート、ビスフェニルジチオール、サリチルアルデヒドオキシム、ビスジチオ−α−ジケトン等）等や記録感度向上のために金属系化合物等の記録感度向上剤を含有していても良い。ここで、金属系化合物とは、遷移金属等の金属が原子、イオン、クラスター等の形で化合物に含まれるものをいい、例えばエチレンジアミン系錯体、アゾメチン系錯体、フェニルヒドロキシアミン系錯体、フェナントロリン系錯体、ジヒドロキシアゾベンゼン系錯体、ジオキシム系錯体、ニトロソアミノフェノール系錯体、ピリジルトリアジン系錯体、アセチルアセトナート系錯体、メタロセン系錯体、ポルフィリン系錯体のような有機金属化合物が挙げられる。金属原子としては特に限定されないが、遷移金属であることが好ましい。
【００３３】
さらに、必要に応じて他系統の色素を併用することもできる。他系統の色素としては、主として記録用のレーザー波長域￥に適度な吸収を有するものであればよく、特に制限されない。また、ＣＤ−Ｒのような７７０〜８３０ｎｍから選ばれた波長の近赤外レーザーやＤＶＤ−Ｒのような６２０〜６９０ｎｍから選ばれた赤色レーザーでの記録に適する色素を併用して、複数の波長域でのレーザー光による記録に対応する光学記録媒体とする事もできる。
【００３４】
他系統の色素としては含金属アゾ系色素、フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、シアニン系色素、アゾ系色素、スクアリリウム系色素、含金属インドアニリン系色素、トリアリールメタン系色素、メロシアニン系色素、アズレニウム系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素、インドフェノール系色素、キサンテン系色素、オキサジン系色素、ピリリウム系色素等が挙げられる。
【００３５】
更に必要に応じて、バインダー、レベリング剤、消泡剤などを併用することもできる。好ましいバインダーとしてはポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、ニトロセルロース、酢酸セルロース、ケトン系樹脂、アクリル系樹脂、ポリスチレン系樹脂、ウレタン系樹脂、ポリビニルブチラール、ポリカーボネート、ポリオレフィン等が挙げられる。
【００３６】
記録層の膜厚は記録方法などにより適した膜厚が異なるため、特に限定するものではないが、通常５０〜３００ｎｍである。
記録層の上には、反射層を形成してもよく、その膜厚は好ましくは５０〜３００ｎｍである。反射層の材料としては、再生光の波長で反射率の十分高いもの、例えばＡｕ、Ａｌ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｔｉ、Ｃｒ、Ｎｉ、Ｐｔ、Ｔａ及びＰｄの金属を単独あるいは合金にして用いることができる。この中でもＡｕ、Ａｌ、Ａｇは反射率が高く反射層の材料として適している。これらを主成分とする以外に下記のものを含んでいても良い。例えば、Ｍｇ、Ｓｅ、Ｈｆ、Ｖ、Ｎｂ、Ｒｕ、Ｗ、Ｍｎ、Ｒｅ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｒｈ、Ｉｒ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｇａ、Ｉｎ、Ｓｉ、Ｇｅ、Ｔｅ、Ｐｂ、Ｐｏ、Ｓｎ、Ｂｉ等の金属及び半金属を挙げることができる。なかでもＡｇを主成分としているものはコストが安い点、高反射率が出やすい点、更に後で述べる印刷受容層を設ける場合には地色が白く美しいものが得られる点等から特に好ましい。ここで主成分とは含有率が５０％以上のものをいう。
【００３７】
金属以外の材料で低屈折率薄膜と高屈折率薄膜とを交互に積み重ねて多層膜を形成し、反射層として用いることも可能である。
反射層を形成する方法としては、例えばスパッタ法、イオンプレーティング法、化学蒸着法、真空蒸着法等が挙げられる。また、基板の上や反射層のしたに反射率の向上、記録特性の改善、密着性の向上などのために公知の無機系または有機系の中間層、接着層を設けることもできる。
【００３８】
反射層の上に形成する保護層の材料としては、反射層を外力から保護するものであれば特に限定されない。有機物質の材料としては、熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、電子線硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げることができる。また、無機物質としてはＳｉＯ2、ＳｉＮ4、ＭｇＦ2、ＳｎＯ2等が挙げられる。
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂等は適当な溶剤に溶解して塗布液を塗布し、乾燥することによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂は、そのままもしくは適当な溶剤に溶解して塗布液を調製した後にこの塗布液を塗布し、ＵＶ光を照射して硬化させることによって形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては例えば、ウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエステルアクリレート等のアクリレート系樹脂を用いることができる。これらの材料は単独であるいは混合して用いても良いし、１層だけではなく多層膜にして用いても良い。
【００３９】
保護層の形成方法としては、記録層と同様にスピンコート法やキャスト法等の塗布方法やスパッタ法や化学蒸着法等の方法が用いられるが、この中でもスピンコート法が好ましい。
保護層の膜厚は、一般に０．１〜１００μｍの範囲であるが、本発明においては、３〜３０μｍが好ましい。
【００４０】
また、反射層面に更に基板を張り合わせてもよく、また反射層面相互を内面とし対向させ光学記録媒体２枚を張り合わせても良い。基板鏡面側に、表面保護やゴミなどの付着防止のために紫外線硬化樹脂層や、無機系薄膜などを成膜しても良い。
なお、記録再生光の入射面ではない面にインクジェット、感熱転写等の各種プリンタあるいは各種筆記用具にて記入（印刷）が可能な印刷受容層を設けても良い。
【００４１】
本発明の光学記録媒体について使用されるレーザー光は、高密度記録のため波長は短いほど好ましいが、特に３５０〜５３０ｎｍのレーザー光が好ましい。かかるレーザー光の代表例としては、中心波長４１０ｎｍ、５１５ｎｍのレーザー光が挙げられる。
波長３５０〜５３０ｎｍの範囲のレーザー光の一例は４０５ｎｍの青色または５１５ｎｍの青緑色の高出力半導体レーザーを使用することにより得ることができるが、その他、例えば、（ａ）基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な半導体レーザー、または（ｂ）半導体レーザーによって励起され、かつ基本発振波長が７４０〜９６０ｎｍの連続発振可能な固体レーザーのいずれかを第二高調波発生素子（ＳＨＧ）により波長変換することによっても得ることができる。
【００４２】
上記のＳＨＧ素子としては、反転対称性を欠くピエゾ素子であればいかなるものでもよいが、ＫＤＰ、ＡＤＰ、ＢＮＮ、ＫＮ、ＬＢＯ、化合物半導体などが好ましい。第二高調波の具体例としては、基本発振波長が８６０ｎｍの半導体レーザーの場合、その倍波の４３０ｎｍ、また半導体レーザー励起の固体レーザーの場合にはＣｒドープしたＬｉＳｒＡｌＦ6結晶（基本発振波長８６０ｎｍ）からの倍波の４３０ｎｍなどが挙げられる。
【００４３】
上記のようにして得られた本発明の光学記録媒体への記録は、基板の両面または片面に設けた記録層に０．３〜０．６μｍ程度に集束したレーザー光を照射することにより行う。レーザー光の照射された部分には、レーザー光エネルギーの吸収による分解、発熱、溶解等の記録層の熱的変形が起こり、光学特性が変化する。
記録された情報の再生は、レーザー光により光学特性の変化が起きている部分と起きていない部分の反射率の差を読みとることにより行う。
【００４４】
【実施例】
以下本発明を実施例によりさらに具体的に説明するが、本発明はその要旨を越えない限り、これら実施例によって限定されるものではない。
合成例１  色素（１９）の合成
【００４５】
【化７】
0003876970.tif 000007
【００４６】
攪拌棒と冷却管とを備えた１００ｍｌの反応容器にｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド２．９８ｇ（２０ｍｍｏｌ）とＮ，Ｎ−ジメチルアミノホルムアミド４０ｍｌとを入れ攪拌して均一な溶液とした。次いで、メルドラム酸２．８８ｇ（２０ｍｍｏｌ）を加え、８０℃で１時間反応させた。反応終了後、室温まで冷却し、反応溶液を２００ｍｌの水に滴下した。析出した固体を濾別、乾燥して濃黄褐色の固体として色素（１９）１．１ｇを得た。
合成例２  色素（２０）の合成
【００４７】
【化８】
0003876970.tif 000008
【００４８】
合成例１と同様にして、ｐ−（２−シアノエチル）エチルアミノベンズアルデヒド４．０４ｇ（２０ｍｍｏｌ）とメルドラム酸２．８８ｇ（２０ｍｍｏｌ）とから色素（２０）２．０ｇを得た。
合成例３  色素（２１）の合成
【００４９】
【化９】
0003876970.tif 000009
【００５０】
攪拌棒と冷却管とを備えた２００ｍｌの反応容器にｐ−ジメチルアミノベンズアルデヒド２．９８ｇ（２０ｍｍｏｌ）、ヒダントイン２．２０ｇ（２２ｍｍｏｌ）およびピペリジン４ｍｌを入れ、１２０℃で１時間反応させた。反応終了後、反応容器に８０ｍｌの水を加え６０℃で１時間攪拌した。室温まで冷却後、反応溶液に１２規定塩酸８ｍｌを滴下した。析出した固体を濾別、乾燥して黄色の固体として色素（２１）２．２ｇを得た。
実施例１
合成例１で合成した化合物（１９）をエタノールに溶解し、５ｍｇ／Ｌの溶液とした。この溶液のＵＶ可視吸収スペクトルを測定したところ、３３８ｎｍに吸収極大（λｍａｘ）があり、モル吸光係数（ε）は５２，４００であった。また、吸収スペクトルの吸収極大付近での変化率の大きさを見積もるために、吸光度がλｍａｘの半分になるλｍａｘよりも長波長側の波長（λ1/2）と吸収極大波長との差を求めたところ２０ｎｍであった。
【００５１】
ついで、化合物（１９）をオクタフロロペンタノールに１重量％の濃度で溶解し、これを濾過して作成した液を、直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に滴下し、スピナー法によって塗布した後、１００℃で３０分間乾燥したところ、良好な色素塗膜が得られた。この塗布膜のλｍａｘは３４０．５ｎｍであった。
実施例２
実施例１と同様にして、上記構造式（２０）で示される化合物の５ｍｇ／Ｌエタノール溶液を調製し、ＵＶ可視吸収スペクトルを測定したところ、４４２．５ｎｍにλｍａｘがあり、εは２９，８００であった。またλｍａｘとλ1/2の差は２０ｎｍであった。ついで、化合物（２０）をオクタフロロペンタノールに１重量％の濃度で溶解し、これを濾過して作成した液を、実施例１と同様にして直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に塗布したところ、良好な色素塗膜が得られた。この塗布膜のλｍａｘは４４２ｎｍであった。
実施例３
実施例１と同様にして、上記構造式（２１）で示される化合物の５ｍｇ／Ｌエタノール溶液を調製し、ＵＶ可視吸収スペクトルを測定したところ、３９２．５ｎｍにλｍａｘがあり、εは１８，０００であった。またλｍａｘとλ1/2の差は２５ｎｍであった。ついで、化合物（２１）を乳酸メチルに１重量％の濃度で溶解し、これを濾過して作成した液を、実施例１と同様にして直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に塗布したところ、良好な色素塗膜が得られた。この塗布膜のλｍａｘは３９５．５ｎｍであった。
比較例１
【００５２】
【化１０】
0003876970.tif 000010
【００５３】
実施例１と同様にして、上記構造式（２２）で示される化合物の５ｍｇ／Ｌエタノール溶液を調製し、ＵＶ可視吸収スペクトルを測定したところ、３３９ｎｍにλｍａｘがあり、εは１２，０００であった。またλｍａｘとλ1/2の差は３０ｎｍであった。ついで、化合物（２３）をオクタフロロペンタノールに１重量％の濃度で溶解し、これを濾過して作成した液を、実施例１と同様にして直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に塗布したところ、良好な色素塗膜が得られた。この塗布膜のλｍａｘは３４０ｎｍであった。
比較例２
【００５４】
【化１１】
0003876970.tif 000011
【００５５】
実施例１と同様にして、上記構造式（２３）で示される化合物の５ｍｇ／Ｌエタノール溶液を調製し、ＵＶ可視吸収スペクトルを測定したところ、３６１ｎｍにλｍａｘがあり、εは３，１５０であった。またλｍａｘとλ1/2の差は３１ｎｍであった。ついで、化合物（２３）をオクタフロロペンタノールに１重量％の濃度で溶解し、これを濾過して作成した液を、実施例１と同様にして直径１２０ｍｍ、厚さ０．６ｍｍの射出成型ポリカーボネート樹脂基板上に塗布したところ、良好な色素塗膜が得られた。この塗布膜のλｍａｘは３６５ｎｍであった。
【００５６】
【表１】
0003876970.tif 000012
【００５７】
【発明の効果】
本発明の光学記録媒体は、吸収スペクトルにおける適切な波長領域に急峻なピークを有し、かつ高い吸光度を有する色素を使用することにより、比較的短波長のレーザー光にて好適に記録再生を行うことができる。