(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す装置であって、
(a) 基板に対して処理液を吐出するノズルと、
(b) 所定の基準位置情報に基づいて前記ノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、
(c) 前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、
(d) 基板処理の際に、基板を保持して搬送する基板搬送手段と、
(e) 前記基板搬送手段に前記基板のかわりに所定の治具を保持させた状態で、前記吐出位置に移動させた前記ノズルに対して前記治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において前記基板搬送手段を駆動させることにより、前記治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させる搬送制御手段と、
を備え、
前記ノズル位置特定手段は、前記複数の方向のそれぞれについて前記治具に付設したノズル検出センサから得られる出力に基づいて前記ノズル位置を特定することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の装置において、
前記ノズル検出センサは、前記ノズルが吐出位置に移動した際のノズルをそれぞれ異なる複数の方向について検出する複数のセンサであり、
前記ノズル位置特定手段は、前記複数のセンサからの出力により前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際の前記ノズル位置を特定することを特徴とする基板処理装置。
【請求項３】
処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す装置であって、
(a) 基板に対して処理液を吐出するノズルと、
(b) 所定の基準位置情報に基づいて前記ノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、
(c) 前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、
(d) 前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正する補正手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
請求項３に記載の装置において、さらに、
(e) 基板処理の際に、基板を保持して搬送する基板搬送手段と、
(f) 前記基板搬送手段に前記基板のかわりに所定の治具を保持させた状態で、前記吐出位置に移動させた前記ノズルに対して前記治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において前記基板搬送手段を駆動させることにより、前記治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させる搬送制御手段と、
を備え、
前記ノズル位置特定手段は、前記複数の方向のそれぞれについて前記治具に付設したノズル検出センサから得られる出力に基づいて前記ノズル位置を特定し、
前記補正手段は、前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正して前記ノズル駆動手段に与えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項５】
請求項３に記載の装置において、さらに、
(e) 前記ノズルが吐出位置に移動した際のノズルをそれぞれ異なる複数の方向について検出する複数のセンサ、
を備え、
前記ノズル位置特定手段は、前記複数のセンサからの出力により前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際の前記ノズル位置を特定し、
前記補正手段は、前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正して前記ノズル駆動手段に与えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項６】
処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す装置であって、
(a) 基板に対して処理液を吐出するノズルと、
(b) 所定の基準位置情報に基づいて前記ノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、
(c) 前記ノズルに対して一時的に近接させ、当該近接状態において異なる複数の方向に移動させることができる所定の治具に付設されたセンサから得られる出力に基づいて、前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、
を備えることを特徴とする基板処理装置。
【請求項７】
請求項６に記載の装置において、さらに、
(d) 基板処理の際に、基板を保持して搬送する基板搬送手段と、
(e) 前記基板搬送手段に前記基板のかわりに前記治具を保持させた状態で、前記吐出位置に移動させた前記ノズルに対して前記治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において前記基板搬送手段を駆動させることにより、前記治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させる搬送制御手段と、
を備え、
前記センサは、前記複数の方向のそれぞれについて前記治具に付設したノズル検出センサであることを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
請求項６に記載の装置において、さらに、
前記センサは、前記ノズルが吐出位置に移動した際のノズルを前記複数の方向について検出する複数のセンサであることを特徴とする基板処理装置。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれかに記載の装置において、
前記ノズル駆動手段は、
(b-1) 前記ノズルを前記吐出位置付近に移動させる第１駆動機構と、
(b-2) 前記吐出位置付近にあるノズルを前記基準位置情報に基づいて基板面と平行な面内の複数の方向について移動させる第２駆動機構と、
を含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項１０】
処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す方法であって、
(a) 処理液を吐出するノズルを所定の基準位置情報に基づいて基板に対する吐出位置に移動させる工程と、
(b) 前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定する工程と、
(c) 前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正する工程と、
を有することを特徴とする基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハ、フォトマスク用のガラス基板、液晶表示装置用のガラス基板、光ディスク用の基板などのような薄板状精密基板（以下、単に「基板」という。）に対して所定の処理液を供給することで、レジスト塗布、現像処理、基板洗浄等の処理を行う基板処理装置および基板処理方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より、基板に対してレジスト塗布や現像処理や基板洗浄等の所定の処理を行う際に、種々の処理液が使用されている。レジスト液や現像液や洗浄液等の処理液は、処理対象の基板に向けて所定のノズルより吐出される。
【０００３】
図１９，図２０は、従来の基板処理装置における処理液処理を行う処理部４００Ａ，４００Ｂの概略平面図である。
【０００４】
まず、図１９に示す処理部４００Ａにおいては、飛散防止カップ２の側方（Ｘ方向側）の待機位置に、基板に対して処理液を吐出するノズル４１１〜４１４が先端部に設けられた長さの異なる例えば４本のノズルアーム４２１〜４２４が配置されている。これらの４本のノズルアーム４２１〜４２４は、飛散防止カップ２に近づくにつれて、長さの短いノズルアームが位置するように並列的に配備される。また、ノズルアーム４２１〜４２４は、基端部分を中心として水平面内で揺動自在に取り付けられている。
【０００５】
これら４本のノズルアーム４２１〜４２４のうちの所望のノズルアーム、例えば、ノズルアーム４２２は、次のように動作する。まず、待機位置にあるノズルアーム４２２が移動高さ位置まで上昇する。上昇したノズルアーム４２２は水平面内で揺動し、その先端部に設けられているノズル４１２が基板Ｗの回転中心付近の上方に移動する。次いで、ノズルアーム４２２が下降して、ノズル４１２が所定の吐出位置にまで下がる。その吐出位置でノズル４１２から所定量の処理液が、スピンチャック１に保持された基板Ｗに吐出供給される。例えば、処理液がレジストである場合は、ノズル４１２からのレジストの供給が完了すると、基板Ｗが高速回転駆動され、基板Ｗの表面に均一なレジスト膜が形成される。その後、ノズルアーム４２２は、移動高さ位置まで上昇し、続いて待機位置側に揺動復帰し、さらに待機位置にまで下降することにより、一連の処理を終了する。
【０００６】
次に、図２０に示す処理部４００Ｂにおいては、飛散防止カップ２の側方（Ｘ方向側）の待機位置に、同じ長さの例えば４本のノズルアーム４４１〜４４４が配備され、各ノズルアーム４４１〜４４４の先端部にノズル４３１〜４３４が設けられている。これら４本のノズルアーム４４１〜４４４は、各ノズルアーム４４１〜４４４の先端部がスピンチャック１側（−Ｘ方向側）に向かうように並列に配置されている。これらのノズルアーム４４１〜４４４は、一軸駆動機構４５０に載置されている。この一軸駆動機構４５０は、Ｙ軸方向に沿ってスライド移動することにより、各ノズルアーム４４１〜４４４を±Ｙ方向に移動させることができる。また、各ノズルアーム４４１〜４４４は、Ｘ軸方向に沿ってスライド移動可能なように構成されている。
【０００７】
これら４本のノズルアーム４４１〜４４４のうちの所望のノズルアーム、例えば、ノズルアーム４４４は次のように動作する。まず、一軸駆動機構４５０がＹ軸に沿ってスライド移動することによってノズルアーム４４４がスピンチャック１の回転中心線上に移動する。続いて、待機位置にあるノズルアーム４４４が−Ｘ方向にスライド移動し、ノズル４３４が基板Ｗの回転中心付近の上方となる吐出位置に移動する。その吐出位置でノズル４３４から所定量の処理液が、スピンチャック１に保持された基板Ｗに吐出供給される。例えば、処理液がレジストである場合は、ノズル４３４からのレジストの供給が完了すると、基板Ｗが高速回転駆動され、基板Ｗの表面に均一なレジスト膜が形成される。その後、ノズルアーム４４４は、＋Ｘ方向に移動して待機位置に復帰し、一連の処理を終了する。
【０００８】
なお、処理部４００Ａ，４００Ｂにおいて、複数のノズルが設けられているのは、処理内容に応じて異なる処理液を基板Ｗに吐出供給するためである。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上記のような従来の各処理部４００Ａ，４００Ｂにおいては、各ノズルを吐出位置に移動させる際には、設計上の基板Ｗの回転中心位置に移動させるようにしている。ところが、組立誤差等により、設計上の回転中心位置にノズルを移動させたとしても、実際にノズルが移動した吐出位置は、実際の回転中心位置に位置しないことがある。そして、回転中心位置からズレた吐出位置から基板Ｗに処理液を供給すると、基板表面に不均一な処理を施すこととなり、問題となる。
【００１０】
従って、処理液を基板Ｗに供給して基板に対する処理を行う場合、基板全面に対して均一な処理を行うことが必要であるため、基板Ｗに処理液を吐出供給する際の各ノズルの吐出位置を予め厳密に調整しておかなければならない。
【００１１】
従来では、処理液による処理を行う前に、ノズルを吐出位置へ移動させ、その位置においてノズルから処理液を吐出させながら、オペレータが目視にてノズルの吐出位置の調整を手動で行うことが必要であった。そして、各処理部に設けられた複数のノズルのそれぞれに対して個別に吐出位置の調整を行わなければならなかった。
【００１２】
ところが、このようなオペレータによるノズルごとの手動調整は、オペレータに負担をかけることとなり、調整時間も長くかかるとともに、正確な吐出位置の調整を行うことができないという問題がある。また、手動調整は、複数のノズルごとの吐出位置にばらつきを生じさせることにもなる。
【００１３】
そこで、この発明は、ノズルが実際に移動した位置を特定することを第１の目的とし、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の調整を行うことを第２の目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１に記載の発明は、処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す基板処理装置であって、(a)基板に対して処理液を吐出するノズルと、(b)所定の基準位置情報に基づいてノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、(c)ノズルを吐出位置に移動させた際にノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、(d) 基板処理の際に、基板を保持して搬送する基板搬送手段と、(e) 前記基板搬送手段に前記基板のかわりに所定の治具を保持させた状態で、前記吐出位置に移動させた前記ノズルに対して前記治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において前記基板搬送手段を駆動させることにより、前記治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させる搬送制御手段と、を備え、前記ノズル位置特定手段は、前記複数の方向のそれぞれについて前記治具に付設したノズル検出センサから得られる出力に基づいて前記ノズル位置を特定することを特徴としている。
【００１５】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置において、前記ノズル検出センサは、前記ノズルが吐出位置に移動した際のノズルをそれぞれ異なる複数の方向について検出する複数のセンサであり、前記ノズル位置特定手段は、前記複数のセンサからの出力により前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際の前記ノズル位置を特定することを特徴としている。
【００１６】
請求項３に記載の発明は、処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す装置であって、(a) 基板に対して処理液を吐出するノズルと、(b) 所定の基準位置情報に基づいて前記ノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、(c) 前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、(d) 前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正する補正手段と、を備える。
【００１７】
請求項４に記載の発明は、請求項３に記載の装置において、さらに、(e) 基板処理の際に、基板を保持して搬送する基板搬送手段と、(f) 前記基板搬送手段に前記基板のかわりに所定の治具を保持させた状態で、前記吐出位置に移動させた前記ノズルに対して前記治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において前記基板搬送手段を駆動させることにより、前記治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させる搬送制御手段と、を備え、前記ノズル位置特定手段は、前記複数の方向のそれぞれについて前記治具に付設したノズル検出センサから得られる出力に基づいて前記ノズル位置を特定し、前記補正手段は、前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正して前記ノズル駆動手段に与えることを特徴としている。
【００１８】
請求項５に記載の発明は、請求項３に記載の装置において、さらに、(e) 前記ノズルが吐出位置に移動した際のノズルをそれぞれ異なる複数の方向について検出する複数のセンサ、を備え、前記ノズル位置特定手段は、前記複数のセンサからの出力により前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際の前記ノズル位置を特定し、前記補正手段は、前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正して前記ノズル駆動手段に与えることを特徴としている。
【００１９】
請求項６に記載の発明は、処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す装置であって、(a) 基板に対して処理液を吐出するノズルと、(b) 所定の基準位置情報に基づいて前記ノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、(c) 前記ノズルに対して一時的に近接させ、当該近接状態において異なる複数の方向に移動させることができる所定の治具に付設されたセンサから得られる出力に基づいて、前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段と、を備えている。
【００２０】
請求項７に記載の発明は、請求項６に記載の装置において、さらに、(d) 基板処理の際に、基板を保持して搬送する基板搬送手段と、(e) 前記基板搬送手段に前記基板のかわりに前記治具を保持させた状態で、前記吐出位置に移動させた前記ノズルに対して前記治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において前記基板搬送手段を駆動させることにより、前記治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させる搬送制御手段と、を備え、前記センサは、前記複数の方向のそれぞれについて前記治具に付設したノズル検出センサであることを特徴としている。
【００２１】
請求項８に記載の発明は、請求項６に記載の装置において、さらに、前記センサは、前記ノズルが吐出位置に移動した際のノズルを前記複数の方向について検出する複数のセンサであることを特徴としている。
請求項９に記載の発明は、請求項１ないし８のいずれかに記載の装置において、前記ノズル駆動手段は、(b-1) 前記ノズルを前記吐出位置付近に移動させる第１駆動機構と、(b-2) 前記吐出位置付近にあるノズルを前記基準位置情報に基づいて基板面と平行な面内の複数の方向について移動させる第２駆動機構と、を含むことを特徴としている。
請求項１０に記載の発明は、処理液を供給することによって基板に対する所定の処理を施す方法であって、(a) 処理液を吐出するノズルを所定の基準位置情報に基づいて基板に対する吐出位置に移動させる工程と、(b) 前記ノズルを前記吐出位置に移動させた際に前記ノズルが実際に位置するノズル位置を特定する工程と、(c) 前記ノズル位置に基づいて前記基準位置情報を補正する工程と、を有している。
【００２２】
【発明の実施の形態】
＜１．基板処理装置の全体構成＞
まず、基板処理装置の全体構成について説明する。図１は、この発明の実施の形態である基板処理装置１００の斜視図である。基板処理装置１００は基板Ｗの搬出および搬入を行うインデクサ部５Ａ、基板Ｗに各種処理を施すユニット配置部５Ｂを有している。
【００２３】
インデクサ部５Ａでは基板Ｗを水平姿勢に複数枚収容したキャリア１９から基板Ｗをユニット配置部５Ｂに対して搬出入するように構成されており、キャリア１９は複数配置されるようになっている。また、インデクサ部５Ａには移載ロボットＴＲ１が設けられており、この移載ロボットＴＲ１がキャリア１９から基板Ｗを１枚ずつ取り出したり、キャリア１９に基板Ｗを収納するように構成されている。
【００２４】
ユニット配置部５Ｂには、処理液としてレジストを使用して基板表面にレジスト膜の形成を行う処理部（スピンコータ）６１と、処理液として現像液を使用して基板Ｗの現像処理を行う処理部（スピンディベロッパ）６３，６５と、加熱処理を行う複数のホットプレートＨＰと、冷却処理を行う複数のクールプレートＣＰと、基板Ｗを保持して搬送する基板搬送ロボットＴＲ２とが設けられている。
【００２５】
基板搬送ロボットＴＲ２は、図２に示すような構成になっている。図２に示すように、基板搬送ロボットＴＲ２は、雄ねじ７７，ガイドレール７６によってＸ軸に沿って移動可能な基台７４上に設けられており、雄ねじ７７の一端側に連結されたモータ等のＸ軸駆動機構によって±Ｘ方向に移動することが可能となっている。また、基台７４に取り付けられた固定部材７１ｄの内部に図示しないＺ軸方向の昇降機構であるＺ軸駆動機構が設けられている。この昇降機構によって、昇降部材７１ａ〜７１ｃが昇降動作を行う。また、固定部材７１ｄの内部には、基板搬送ロボットＴＲ２を所定の鉛直軸を中心に回転させることができるように、回転駆動機構が設けられている。このような各機構により、基板搬送ロボットＴＲ２は、各処理部６１，６３，６５、ホットプレートＨＰ、およびクールプレートＣＰに対向する位置に移動することができる。
【００２６】
そして、基板搬送ロボットＴＲ２の最上部には２本の搬送アーム７０ａ，７０ｂが設けられており、それぞれの搬送アーム７０ａ，７０ｂは、独立して所定の方向に屈伸動作を行うことができるように構成されている。この屈伸動作により、基板搬送ロボットＴＲ２は処理部６１，６３，６５の内部、ホットプレートＨＰの内部、又はクールプレートＣＰの内部に基板Ｗを搬送することができる。なお、以下においては、搬送アーム７０ａ，７０ｂの屈伸動作を行う機構をＹ軸駆動機構という。
【００２７】
図１に戻り、処理部６１と６３，６５とでは、使用する処理液は異なるが、ノズルより基板Ｗに処理液を吐出供給する構成は同様である。
【００２８】
以下、処理部６１の構成を例にとって説明する。図３は、この発明の実施の形態における処理部６１の概略構成を示す側面図である。また、図４は、この発明の実施の形態における処理部６１の平面図である。
【００２９】
図４に示すように、この処理部６１の内部には、飛散防止カップ２の内側において基板Ｗを回転させることによって所定の処理を行うための機構と、基板Ｗに対して処理液を供給する際にノズルを所定の吐出位置に移動させるための機構とが設けられている。
【００３０】
所定の処理を行うための機構は、次のような構成になっている。飛散防止カップ２の内側に、基板Ｗを一体回転可能に吸着保持するスピンチャック１が配置されている。スピンチャック１は、図３に示すように処理部６１の底部に固定されたモータ３の駆動によって鉛直方向の軸心周りで回転する回転軸４の上端に取り付けられている。また、飛散防止カップ２は、処理液が吐出供給された基板Ｗを高速回転させた際に、飛散する処理液を回収するために設けられるものであり、図示しない昇降機構によって昇降自在となっている。
【００３１】
ノズルを所定の吐出位置に移動させるための機構は、次のような構成になっている。図３に示すように、２軸駆動機構５４が処理部６１の底部に固定されている。この２軸駆動機構は、第２駆動機構として機能し、上部に設けられた扇形テーブル１０をＸ方向およびＹ方向の直交する２方向に自在に移動させることができる。扇形テーブル１０には、処理液を吐出するノズル６が先端部に設けられたノズルアーム７を、起立姿勢と横臥姿勢とに変位させることにより、ノズル６を基板Ｗの上方の所定の吐出位置付近に移動させる第１駆動機構となるノズルアーム駆動機構５３が複数個配置されている。また、これらのノズルアーム駆動機構５３は、図４に示すように扇形テーブル１０の上にスピンチャック１の回転中心を中心とする円弧状に配置されるとともに、各ノズルアーム７の先端部に設けられたノズル６は、全て回転中心に向くように配置されている。
【００３２】
第２駆動機構となる２軸駆動機構５４は、処理部６１の底部に固定される駆動系支持部材１１ａと、この駆動系支持部材１１ａに対してＸ方向に移動自在に取り付けられるＸ方向用部材１１ｂと、このＸ方向用部材１１ｂ上に取り付けられ、Ｘ方向に直交するＹ方向に移動自在なＹ方向用部材１１ｃとで構成されている。また、Ｘ方向用部材１１ｂは、Ｘ方向用部材１１ｂをＸ方向の任意の位置に移動させるためのＸ軸モータ１２ａを備え、このＸ軸モータ１２ａの回転力が図示しない螺子送り機構を介してＸ方向用部材１１ｂに伝えられるように構成されている。Ｙ方向用部材１１ｃも同様にして構成されるが、Ｙ軸モータ１２ｂは、Ｘ軸モータ１２ａと直交する方向に取り付けられている。
【００３３】
そして、Ｙ方向用部材１１ｃの上面には扇形テーブル１０が一体移動可能に取り付けられており、Ｘ軸モータ１２ａおよびＹ軸モータ１２ｂを駆動することにより、扇形テーブル１０をＸ，Ｙ方向に移動させることができ、この扇形テーブル１０の動作に連動して後述するノズル６の吐出位置を任意の位置に移動させることができる。
【００３４】
この２軸駆動機構５４は、ノズルアーム駆動機構５３によって吐出位置付近に移動したノズル６を後述する基準位置情報に基づいてノズル６の吐出位置をＸＹ平面内において移動調整するために設けられている。
【００３５】
第１駆動機構となるノズルアーム駆動機構５３は、ノズルアーム７の基端部側の揺動変位の中心から外れた位置に設けられたカムホロア７ｂと、このカムホロア７ｂを受けるカム溝１３ａが形成されたノズルアーム案内部材１３と、ノズルアーム７の基端部側に設けられたアーム揺動軸７ａでノズルアーム７を揺動変位可能に支持するノズルアーム支持部材９と、このノズルアーム支持部材９を昇降駆動するエアシリンダ８とで構成される。
【００３６】
ノズル６を基板Ｗの吐出位置付近に移動させる動作について説明する。まず、エアシリンダ８のロッドは収縮しており、ノズルアーム７は待機状態の起立姿勢となっている。この状態で、ノズル６は扇形テーブル１０に固定された待機ポット１４に収容されている。そして、ノズル６を基板Ｗの吐出位置に移動させる際には、エアシリンダ８を駆動し、そのロッドを伸長させる。エアシリンダ８のロッドが伸びるに従って、ノズルアーム支持部材９が上昇し、ノズルアーム７の基端部側のアーム揺動軸７ａが上昇する。カムホロア７ｂも、ノズルアーム支持部材９の上昇に伴って上昇するが、カムホロア７ｂが上昇する際の軌跡は、カム溝１３ａに沿うこととなる。カム溝１３ａは、ノズルアーム案内部材１３の上部側に向かうにつれて外側（Ｘ方向側）に向かうように形成されている。従って、ノズルアーム支持部材９が上昇するにつれてカムホロア７ｂは、アーム揺動軸７ａを中心に反時計回りの動作を行うこととなる。この結果、ノズルアーム７はノズルアーム支持部材９の上昇に伴って、待機状態である起立姿勢から横臥姿勢に変化し、ノズル６を基板Ｗの上方の吐出位置に移動させることができる。
【００３７】
この実施の形態における基板処理装置１００は、上記のような構成となっており、処理部６１における各ノズル６が実際に吐出位置付近に移動した際のノズル位置を特定するとともに、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の調整を行うための詳細な実施の形態について以下に説明する。
【００３８】
なお、以下の各実施の形態において、ノズルの吐出位置が基板Ｗの回転中心位置となるものを一例として説明するが、そのようなものに限定するものではない。
【００３９】
＜２．第１の実施の形態＞
この実施の形態では、ノズル検出センサが搭載された所定の治具を基板搬送ロボットＴＲ２が保持した状態で、治具を処理部６１の内部に進入させ、ノズル６を吐出位置に移動させた際にノズル６が実際に位置するノズル位置を特定し、ノズル６の吐出位置の調整を自動で行うように実現するものである。なお、この実施の形態においては、基板搬送ロボットＴＲ２が各処理部にアクセスする際の位置調整が既に完了しているものとする。
【００４０】
図５は、この実施の形態で使用する治具２１０を示す図である。図５（ａ）は治具２１０を上から見た平面図であり、図５（ｂ）は、図５（ａ）の平面図におけるＢ−Ｂ断面図である。
【００４１】
図５に示すように、治具２１０は、基板Ｗと略同形状の円形とされた薄板状の本体部２１１を有している。そして、その本体部２１１には所定の直径を有する円状の開口２２０が形成されている。なお、開口２２０の中心と本体部２１１の中心とは一致するように構成されている。この治具２１０の本体部２１１は、円形に限定されるものではなく、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アーム７０ａ，７０ｂで保持することができる形状であれば良い。
【００４２】
本体部２１１には、投光部２３１，２４１と受光部２３２，２４２とが設けられており、投光部２３１と受光部２３２とで１つの透過型光センサを形成し、同様に投光部２４１と受光部２４２とで別の１つの透過型光センサを形成する。これらの透過型光センサをノズル検出センサと呼ぶ。図５に示す点線は、これらのノズル検出センサによる光軸を示しており、２つのノズル検出センサによる２つの光軸は開口２２０の中心で互いに直交するように取り付けられている。
【００４３】
なお、投光部２３１，２４１と受光部２３２，２４２とを駆動するために接続されるケーブル２１２は、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アーム７０ａ，７０ｂに設けられたコネクタに接続されるようになっている。
【００４４】
次に、図６は、この実施の形態における基板処理装置１００の制御機構を示すブロック図である。なお、図６は、上記の治具２１０を基板搬送ロボットＴＲ２のいずれかの搬送アーム上にセットした状態のブロック図を示している。
【００４５】
図６に示すように、この基板処理装置１００の制御機構として３つの制御部、すなわち、メイン制御部３０と搬送制御部４０と処理制御部５０とが設けられている。
【００４６】
メイン制御部３０は、搬送制御部４０と処理制御部５０とを統括的に制御する制御部であり、ＣＰＵ３１と表示部３２と操作入力部３３とを備えている。表示部３２は、オペレータに対して処理情報を表示したり、警報を表示するためのものであり、操作入力部３３は、オペレータが処理コマンド等を入力するためのものである。ＣＰＵ３１は、搬送制御部４０と処理制御部５０に対して動作指令などを送出する。
【００４７】
搬送制御部４０は、搬送制御手段として機能するものであり、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送動作を制御する制御部である。この搬送制御部４０は、ＣＰＵ４１とＸ軸駆動部４２とＹ軸駆動部４４とエンコーダ４３，４５とを備えている。その他にも、基板搬送ロボットＴＲ２の回転動作や昇降動作に関する駆動部を有するが図６では省略している。ＣＰＵ４１は、Ｘ軸駆動部４２およびＹ軸駆動部４４に対して駆動命令を与え、エンコーダ４３，４５から基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アーム７０ａ，７０ｂが位置する現在位置を取得することができる。また、ＣＰＵ４１には、ノズル検出センサ２３０，２４０が接続され、各受光部２３２，２４２からの出力を取得することができるように構成されている。
【００４８】
処理制御部５０は、ノズル駆動手段として機能するものであり、処理部６１におけるノズル６を駆動する制御部である。この処理制御部５０は、ＣＰＵ５１とＲＡＭ５２とノズルアーム駆動機構５３と２軸駆動機構５４とを備えている。ＣＰＵ５１は、ノズル６を吐出位置に移動させる際に、ＲＡＭ５２から基準位置情報を取得し、その基準位置情報に基づいてノズルアーム駆動機構５３や２軸駆動機構５４に対して駆動命令を出力する。なお、基準位置情報は、後述する補正が行われる前の状態であれば、初期値「０」が格納されているか、若しくは、ノズル６を吐出位置へ移動させる際の移動量として設計値から導かれる理論的な値が最初に格納されている。また、図４に示したように、処理部内に複数のノズルが設けられる場合は、それぞれのノズルごとに基準位置情報が設定されている。
【００４９】
以上のような構成で、ノズルの吐出位置の調整を行う処理について説明する。図７ないし図１０は、ノズルの吐出位置の調整を行う処理シーケンスを示すフローチャートである。
【００５０】
図７に示すように、まず、ステップＳ１において、オペレータはノズルの吐出位置の調整を行う処理部の選択を行う。ここではオペレータは、調整する処理部６１を選択し、操作入力部３３より指示入力することによって行われる。
【００５１】
ステップＳ１において処理部６１が指定されると、メイン制御部３０のＣＰＵ３１は搬送制御部４０に対して基板搬送ロボットＴＲ２を処理部６１に対向する位置に移動させ、２本のうちのいずれかの搬送アーム、例えば、搬送アーム７０ａを処理部６１の内部に伸ばすように命令する。
【００５２】
搬送制御部４０のＣＰＵ４１は、メイン制御部３０からの命令を受けると、基板搬送ロボットＴＲ２の各駆動部を駆動し、基板搬送ロボットＴＲ２を処理部６１に対向する位置に移動させ、搬送アーム７０ａを処理部６１の内部に伸ばす（ステップＳ２）。このとき、搬送アーム７０ａの高さ位置は、基板Ｗをスピンチャック１に載置する高さ位置よりも数ｍｍ程度上方の位置となるようにする。この高さ位置は、後の処理でノズル６を吐出位置に移動させた際に、ノズル６が治具２１０に設けられた開口２２０の内側に入り込むような状態となるような高さ位置であれば良い。
【００５３】
次に、オペレータは、処理部６１の内部に伸びた搬送アーム７０ａ上に治具２１０をセットする（ステップＳ３）。この状態を図１１に示す。図１１に示すように、搬送アーム７０ａ上に治具２１０をセットするときは、ノズル検出センサ２３０，２４０の光軸がそれぞれＹ軸およびＸ軸と平行となるようにセットする。
【００５４】
治具２１０のセットが終了すると、オペレータは複数設けられているノズル６のうちから吐出位置の調整を行うノズル６を選択し、メイン制御部３０の操作入力部３３より設定入力する（ステップＳ４）。
【００５５】
ノズル６の指定が行われると、ステップＳ５の自動調整が開始される。このステップＳ５の自動調整の処理の詳細を、図８のフローチャートに示す。
【００５６】
自動調整が開始されると、メイン制御部３０は、処理制御部５０に対して選択されたノズル６がどれであるかを伝える。処理制御部５０のＣＰＵ５１は、指定されたノズル６の基準位置情報をＲＡＭ５２から読み出し、その基準位置情報に基づいてノズルアーム駆動機構５３および２軸駆動機構５４に駆動命令を送出する。この動作により、ノズル６は予め設定されている調整前の基準位置情報に基づいた吐出位置に移動する（ステップＳ５１）。このときのノズル６と治具２１０との高さ関係は、図１２に示すような状態となる。
【００５７】
そして、ステップＳ５１で移動させたノズル６が、実際に位置するＹ軸上のノズル位置をステップＳ５２において特定する。メイン制御部３０は、搬送制御部４０に対してＹ軸上のノズル位置の特定を行うための処理を行うよう命令する。そして、搬送制御部４０においてステップＳ５２の処理が行われる。このステップＳ５２のＹ軸の位置特定の処理の詳細を図９のフローチャートに示す。
【００５８】
Ｙ軸上のノズル位置を特定する際には、まず、ステップＳ２０１において搬送制御部４０のＣＰＵ４１がＹ軸駆動部４４に対して駆動命令を出力し、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アーム７０ａを−Ｙ方向に数十ｍｍ程度移動させる。ここでの移動量は、図１３に示すようにノズル検出センサ２４０の投光部２４１と受光部２４２との光路中にノズル６が存在しない程度であれば良い。そして、ＣＰＵ４１は、ノズル検出センサ２４０の出力を確認する。なお、ノズル検出センサ２３０，２４０において、受光部２３２，２４２が投光部からの光を受光していれば「ＯＦＦ」出力であり、受光していなければ「ＯＮ」出力を行うものとする。
【００５９】
そして、ステップＳ２０２において、ステップＳ２０１で確認したノズル検出センサ２４０の出力が「ＯＮ」であれば、メイン制御部３０に対して異常を示すメッセージを送出する。メイン制御部３０のＣＰＵ３１は、この異常メッセージを受けると警報を発生させ、オペレータに異常を伝える。一方、ステップＳ２０１で確認したノズル検出センサ２４０の出力が「ＯＦＦ」であれば、投光部２４１と受光部２４２との光路中にノズル６が存在しないということであるのでステップＳ２０３の処理に進む。
【００６０】
ステップＳ２０３では、搬送制御部４０のＣＰＵ４１はＹ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａを高速で＋Ｙ方向に移動開始させる駆動命令を送出するとともに、ノズル検出センサ２４０の出力の「ＯＦＦ」状態から「ＯＮ」状態への変化を監視する。この処理により、治具２１０は＋Ｙ方向に高速で移動し、その移動中、ＣＰＵ４１はノズル検出センサ２４０の出力を監視し続ける。
【００６１】
そして、ＣＰＵ４１はノズル検出センサ２４０の出力が「ＯＦＦ」から「ＯＮ」に変化したことを認識すると、Ｙ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａの高速移動を即時停止するよう命令を出力する（ステップＳ２０４）。ここで、搬送アーム７０ａは高速動作を行っていたため、即時停止させたとしてもノズル検出センサ２４０の検出ポイント（光軸）は、ノズル６のエッジ部分からさらに内側に移動している。
【００６２】
そして、ステップＳ２０５において、搬送制御部４０のＣＰＵ４１は、Ｙ軸駆動部４４に対してさらに搬送アーム７０ａを＋Ｙ方向に数ｍｍ程度移動させるよう命令を与える。すなわち、治具２１０を＋Ｙ方向に移動させ、ノズル６がノズル検出センサ２４０の光を完全に遮光するような位置となるように移動させる。従って、このステップＳ２０５が終了した時点でのノズル検出センサ２４０の出力は、「ＯＮ」状態である。
【００６３】
ステップＳ２０６では、搬送制御部４０のＣＰＵ４１は、Ｙ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａを低速で−Ｙ方向に移動開始させる駆動命令を送出するとともに、ノズル検出センサ２４０の出力の「ＯＮ」状態から「ＯＦＦ」状態への変化を監視する。この処理により、治具２１０は−Ｙ方向に低速で移動し、その移動中、ＣＰＵ４１はノズル検出センサ２４０の出力を監視し続ける。
【００６４】
そして、ＣＰＵ４１はノズル検出センサ２４０の出力が「ＯＮ」から「ＯＦＦ」に変化したことを認識すると、Ｙ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａの低速移動を即時停止するよう命令を出力し、搬送アーム７０ａのＹ軸上の現在位置ＹＲをエンコーダ４５より取得する（ステップＳ２０７）。
【００６５】
図１４は、治具２１０の移動に伴う検出ポイントの移動を示す図である。ステップＳ２０６によりノズル検出センサ２４０の検出ポイントは低速で−Ｙ方向に移動するため、ステップＳ２０７において即時停止させたときの検出ポイントは、図１４に示す現在位置ＹＲに位置する。
【００６６】
次に、ステップＳ２０８において、搬送制御部４０のＣＰＵ４１は、Ｙ軸駆動部４４に対して再び搬送アーム７０ａを＋Ｙ方向に数ｍｍ程度移動させるよう命令を与える。すなわち、治具２１０を＋Ｙ方向に移動させ、ノズル６がノズル検出センサ２４０の光を完全に遮光するような位置となるように移動させる。従って、このステップＳ２０８が終了した時点でのノズル検出センサ２４０の出力は、再び「ＯＮ」状態となる。
【００６７】
ステップＳ２０９では、搬送制御部４０のＣＰＵ４１は、Ｙ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａを低速で＋Ｙ方向に移動開始させる駆動命令を送出するとともに、ノズル検出センサ２４０の出力の「ＯＮ」状態から「ＯＦＦ」状態への変化を監視する。この処理により、治具２１０は＋Ｙ方向に低速で移動し、その移動中、ＣＰＵ４１はノズル検出センサ２４０の出力を監視し続ける。
【００６８】
そして、ＣＰＵ４１はノズル検出センサ２４０の出力が「ＯＮ」から「ＯＦＦ」に変化したことを認識すると、Ｙ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａの低速移動を即時停止するよう命令を出力し、搬送アーム７０ａのＹ軸上の現在位置ＹＦをエンコーダ４５より取得する（ステップＳ２１０）。
【００６９】
ステップＳ２０９によりノズル検出センサ２４０の検出ポイントは低速で＋Ｙ方向に移動するため、ステップＳ２１０において即時停止させたときの検出ポイントは、図１４に示す現在位置ＹＦに位置する。
【００７０】
そして、ステップＳ２１１において、搬送制御部４０のＣＰＵ４１は、Ｙ軸駆動部４４に対して搬送アーム７０ａを「ＹＲ＋（ＹＦ−ＹＲ）／２」の位置に移動させるよう命令を送出する。ここで、「ＹＲ＋（ＹＦ−ＹＲ）／２」で表現される位置は、図１４に示すようにノズル６のＹ軸上の中心位置Ｎｙである。従って、このＹ軸上の中心位置Ｎｙが、ノズル６の実際に位置するＹ軸上のノズル位置であり、「ＹＲ＋（ＹＦ−ＹＲ）／２」の演算を行うことによってノズル位置Ｎｙを特定することができる。
【００７１】
以上で、図８に示したＹ軸の位置特定の処理（ステップＳ５２）が終了し、次に、Ｘ軸の位置特定の処理（ステップＳ５３）が行われる。すなわち、ステップＳ５３において、ステップＳ５１で移動させたノズル６が、実際に位置するＸ軸上のノズル位置を特定する。メイン制御部３０は、搬送制御部４０に対してＸ軸上のノズル位置の特定を行うための処理を行うよう命令する。そして、搬送制御部４０においてステップＳ５３の処理が行われる。
【００７２】
このステップＳ５３のＸ軸の位置特定の処理の詳細を図１０のフローチャートに示している。Ｘ軸の位置特定の処理では、基板搬送ロボットＴＲ２を移動させる軸方向がＸ軸方向であることと、ノズル位置の検出に使用するセンサがノズル検出センサ２３０であることが異なり、それ以外は図９に示したＹ軸の位置特定の処理と同様である。そのため、図１０の各ステップごとの説明は省略することとし、図１４によりＸ軸の位置特定の処理の概要を説明する。
【００７３】
図１４に示すように、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アーム７０ａに治具２１０を保持させた状態でＸ軸に沿って低速移動させ、ノズル６の−Ｘ方向側のエッジ部分の現在位置ＸＲと＋Ｘ方向側のエッジ部分の現在位置ＸＦとを検出し、ノズル６の実際に位置するＸ軸上のノズル位置Ｎｘを特定する。
【００７４】
このようにして、ノズル６のＸ，Ｙ軸上のノズル位置が特定されると、搬送制御部４０は、メイン制御部３０に対してステップＳ４（図７参照）で選択されたノズル６を吐出位置に移動させた際のノズル位置の特定が終了したことを伝える。
【００７５】
なお、上記のステップＳ５２，Ｓ５３の処理を搬送制御部４０が行う際には、搬送制御部４０は、ノズル位置特定手段として機能することとなる。
【００７６】
次に、図８のステップＳ５４の処理に進む。ステップＳ５４において、メイン制御部３０は、処理制御部５０に対して吐出位置に移動させているノズル６を待機位置に戻すように命令する。この命令により、処理制御部５０のＣＰＵ５１は、ノズルアーム駆動機構５３および２軸駆動機構５４に対して駆動命令を送出し、吐出位置にあるノズル６を待機位置に戻す動作が行われる。
【００７７】
次に、メイン制御部３０のＣＰＵ３１は、特定したノズル位置Ｎｘ，Ｎｙを搬送制御部４０から受け取り、そのノズル６の基準位置情報についての補正値を導出する（ステップＳ５５）。基板搬送ロボットＴＲ２が各処理部にアクセスする際の位置調整が既に完了しているため、ノズル位置Ｎｘ，Ｎｙは正確な位置情報となっている。従って、これらのノズル位置Ｎｘ，Ｎｙに基づいてノズル６の基準位置情報を補正すれば、組立誤差等の影響を取り除くことができる。
【００７８】
そして、メイン制御部３０は、ステップＳ５５で導出した補正値を処理制御部５０に対して送出する。
【００７９】
処理制御部５０のＣＰＵ５１は、メイン制御部３０から送られてくる補正値を入力すると、そのノズル６についてのＲＡＭ５２に格納されている基準位置情報を補正する（ステップＳ５６）。このとき、処理制御部５０のＣＰＵ５１は、補正手段として機能する。そして、ここまでの処理により、図７のステップＳ４で選択されたノズル６の自動調整（ステップＳ５）が終了したこととなる。
【００８０】
そして、ステップＳ６に進み、オペレータは処理部６１内に設けられている他のノズルの調整を行うか否かを決定する。他のノズルについても調整を行う場合は、ＴＲ２をその処理部のアクセス位置にもどしてから、調整を行うノズルの選択（ステップＳ４）と自動調整（ステップＳ５）の処理を繰り返す。他のノズルの調整を行わない場合は、ステップＳ７に進み、処理部６１の内部に伸ばした状態の搬送アーム７０ａ上から治具２１０を取り除くとともに、操作入力部３３から処理部６１についてのノズルの自動調整が終了したことを入力する。これにより、基板搬送ロボットＴＲ２は、処理部６１から退避する。
【００８１】
以上で、ノズルの吐出位置の調整を行う処理は全て終了する。そして、上記のような処理を行うことにより、処理制御部５０のＲＡＭ５２に格納されている基準位置情報を、設計値から導かれる位置情報ではなく、基板処理に適した吐出位置に移動させるための位置情報に補正することができる。従って、実際に基板Ｗに対して処理液を吐出する際には、補正後の基準位置情報に基づいてノズル６を移動させれば、基板Ｗに対して適切な処理液の供給を行うことができる。なお、処理部６１には２軸駆動機構５４が設けられているので、ＸＹ平面内のノズル６の吐出位置の微調整は、２軸駆動機構５４が担当することができる。
【００８２】
上記の処理内容では、基板Ｗのかわりに治具２１０を、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アーム７０ａに保持させた状態で、吐出位置に移動させたノズル６に対して治具２１０を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において基板搬送ロボットＴＲ２を駆動することにより、治具２１０をそれぞれＸ方向とＹ方向とに移動させ、Ｘ方向とＹ方向とのそれぞれについて治具２１０に付設したノズル検出センサ２３０，２４０から得られる出力に基づいてノズル位置を特定している。
【００８３】
従って、基準位置情報を補正する処理を行わなくても、ノズルが現在位置するノズル位置を特定することにより、組立誤差等によりノズルの吐出位置が適切な吐出位置からズレている場合には、基板処理に先立って実際にノズルが移動する吐出位置が適切な吐出位置である否かの判断を行うこともできる。この場合には、警報などを発生させることにより、不良基板を生じさせることを回避することができる。
【００８４】
このように、この実施の形態に示した基板処理装置１００によると、ノズルが実際に移動した位置を特定することができ、また、オペレータに負担をかけることがなく、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の自動調整を行うことができる。
【００８５】
また、正確な基板搬送ロボットＴＲ２の位置情報に基づいてノズルの吐出位置の自動調整が行われるため、処理部６１に設けられている複数のノズルのそれぞれに対して適切な基準位置情報を設定することができ、ノズルごとの吐出位置にばらつきが生じることもない。
【００８６】
＜３．第２の実施の形態＞
この実施の形態では、各処理部の内部にエリアセンサを複数個取り付け、各エリアセンサが異なる方向について、ノズル６が実際に位置するノズル位置を特定するものである。なお、この実施の形態においても、エリアセンサ自体の位置調整は既に完了しているものとする。なお、以下においては、処理部６１を一例として説明する。
【００８７】
図１５は、この実施の形態の処理部６１を示す平面図である。図１５に示すように、この実施の形態では、処理部６１の内部に、ＸＹ平面内においてレーザ光を走査させながら出射する投光部２５１，２６１と、投光部２５１，２６１からのレーザ光を受光する受光部２５２，２６２とが設けられている。投光部２５１と受光部２５２とは１つのエリアセンサ２５０を形成し、投光部２６１と受光部２６２とは１つのエリアセンサ２６０を形成している。
【００８８】
図１６は、この実施の形態における処理部６１の制御機構である処理制御部５０を示すブロック図である。図１６に示すように、処理制御部５０は、ＣＰＵ５１とＲＡＭ５２とノズルアーム駆動機構５３と２軸駆動機構５４とエリアセンサ２５０，２６０とが設けられている。ＣＰＵ５１は、各エリアセンサ２５０，２６０からの出力を入力するように構成されている。
【００８９】
なお、他の制御機構は、図６で示したものと同様であるが、この実施の形態では、処理部６１内にエリアセンサが設けられていることから、搬送制御部４０にセンサは接続されない。
【００９０】
図１７は、この実施の形態において、ノズル６の実際に位置するノズル位置を特定する方法についての説明図である。図１７に示すように、エリアセンサ２５０の投光部２５１はα方向にレーザ光を走査するものとし、エリアセンサ２６０の投光部２６１はβ方向にレーザ光を走査するものとする。
【００９１】
ノズル６が予め設定されている基準位置情報に基づいて吐出位置に移動させた際に、図１７に示すようなノズル位置となったとする。このとき、ＣＰＵ５１が各エリアセンサ２５０，２６０を動作させると、ノズル６によってレーザ光が遮光される位置が存在するため、各受光部２５２，２６２で得られる信号は、それぞれＳα，Ｓβのようになる。
【００９２】
ＣＰＵ５１は、信号Ｓα，Ｓβを入力する。そして、ＣＰＵ５１は、各信号Ｓα，Ｓβの変化点に基づいて、α軸上のノズル６の位置する中心位置Ｎαと、β軸上のノズル６の位置する中心位置Ｎβとを求めることができる。
【００９３】
一般的に、任意の直交座標系について得られた座標を、同一平面内の他の直交座標系についての座標に変換することは、簡単な演算によって可能である。
【００９４】
従って、ＣＰＵ５１は、αβ座標系で得られたノズル位置（Ｎα，Ｎβ）をＸＹ座標系におけるノズル位置（Ｎｘ，Ｎｙ）に変換することにより、実際にノズル６が位置しているノズル位置を特定することができる。なお、αβ座標系をＸＹ座標系に変換すると、ノズル６の吐出位置の微調整を行う２軸駆動機構の駆動方向とも一致するため、制御量として取り扱いやすいからである。
【００９５】
ＣＰＵ５１は、ＸＹ軸上のノズル位置（Ｎｘ，Ｎｙ）を特定することができると、次にＲＡＭ５２に格納している基準位置情報を補正すれば良い。
【００９６】
なお、この実施の形態においては、２個のエリアセンサ２５０，２６０が取り付けられているが、これらはそれぞれ異なる方向についてノズルを検出するように配置することが必要である。
【００９７】
以上のように、この実施の形態においては、各処理部にノズルが吐出位置に移動した際のノズルをそれぞれ異なる複数の方向について検出する複数のエリアセンサが設けられており、これら複数のエリアセンサからの出力によりノズルを吐出位置に移動させた際のノズル位置を特定するように構成されている。
【００９８】
従って、この実施の形態の場合も、基準位置情報を補正する処理を特に行わなくても、ノズルが現在位置するノズル位置を特定することにより、組立誤差等によりノズルの吐出位置が適切な吐出位置からズレている場合には、基板処理に先立って実際にノズルが移動する吐出位置が適切な吐出位置である否かの判断を行うことができる。この場合には、警報などを発生させることにより、不良基板を生じさせることを回避することができる。
【００９９】
このように、この実施の形態に示した基板処理装置１００によると、ノズルが実際に移動した位置を特定することができ、また、オペレータに負担をかけることがなく、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の自動調整を行うことができる。
【０１００】
また、正確な位置に調整されたエリアセンサ２５０，２６０で検出される信号に基づいてノズルの吐出位置の自動調整が行われるため、処理部６１に設けられている複数のノズルのそれぞれに対して適切な基準位置情報を設定することができ、ノズルごとの吐出位置にばらつきが生じることもない。
【０１０１】
なお、この実施の形態においては、ＣＰＵ５１は、ノズル位置特定手段および補正手段として機能することは言うまでもない。
【０１０２】
＜４．第３の実施の形態＞
この実施の形態では、各処理部の内部に移動可能なセンサを複数個取り付け、各センサが異なる方向について、ノズル６が実際に位置するノズル位置を特定するものである。なお、この実施の形態においても、各センサ自体の位置調整は既に完了しているものとする。なお、以下においては、処理部６１を一例として説明する。
【０１０３】
図１８は、この実施の形態の処理部６１を示す平面図である。図１８に示すように、この実施の形態では、処理部６１の内部に、ＸＹ平面内においてレーザ光等を出射する投光部２７１，２８１と、投光部２７１，２８１からの光を受光する受光部２７２，２８２とが設けられている。投光部２７１と受光部２７２とは１つのセンサ２７０を形成し、投光部２８１と受光部２８２とは１つのセンサ２８０を形成している。
【０１０４】
投光部２７１と受光部２７２とは、それぞれ雄ねじ２９１，２９２が回転することによってＹ軸に沿って移動可能なように設けられている。ここで、雄ねじ２９１と２９２との回転動作を同期させることによって、第１の実施の形態で示したノズル検出センサ２４０（図１１参照）と同様の機能を実現することができる。
【０１０５】
また、投光部２８１と受光部２８２とは、それぞれ雄ねじ２９３，２９４が回転することによってＸ軸に沿って移動可能なように設けられている。この場合も、雄ねじ２９３と２９４との回転動作を同期させることによって、第１の実施の形態で示したノズル検出センサ２３０（図１１参照）と同様の機能を実現することができる。
【０１０６】
従って、この実施の形態においても、投光部２７１と受光部２７２、並びに、投光部２８１と受光部２８２をそれぞれ同期した状態で、第１の実施の形態で説明した動作と同様の動作をさせることにより、ノズル位置を特定することができるとともに、ノズルの吐出位置の自動調整も行うことができる。すなわち、この実施の形態の基板処理装置１００においても、ノズルが実際に移動した位置を特定することができ、また、オペレータに負担をかけることがなく、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の自動調整を行うことができる。
【０１０７】
なお、この実施の形態のように雄ねじによってセンサを移動させる場合は、基板Ｗを搬送する際に、基板搬送ロボットＴＲ２の搬送アームとセンサとの干渉を避ける必要があるため、例えば、雄ねじ２９３を十分長くしておいてセンサを基板搬送に影響のない領域に退避させるように構成することが好ましい。
【０１０８】
＜５．変形例＞
以上の説明した各実施の形態においては、図３に示したように、ノズルアーム７を起立姿勢から横臥姿勢に変化させることにより、ノズル６を吐出位置付近に移動させ、２軸駆動機構５４がノズル６の吐出位置を基準位置情報に基づいて微調整するように構成された処理部に対して、ノズル６の吐出位置の自動調整を行う技術を適用している。
【０１０９】
しかし、各処理部の構成は、このような構成に限定されるものではない。
【０１１０】
例えば、図１９に示した従来型の処理部４００Ａに対しても、上記各実施の形態で説明したノズルの吐出位置の自動調整を行う技術を適用することができる。すなわち、図１９に示した４本のノズルアーム４２１〜４２４を可動テーブル上に配置し、この可動テーブルを２軸駆動機構によってＸＹ平面内で移動可能となるように構成すれば、上記各実施の形態の自動調整を適用することができる。また、自動調整を行わず、単にノズル位置の特定だけを目的とするならば、図１９に示した処理部４００Ａに対して直接各実施の形態のノズル位置の特定を行う技術を適用することができる。
【０１１１】
また、図２０に示した従来型の処理部４００Ｂに対しても、上記各実施の形態で説明したノズルの吐出位置の自動調整を行う技術を適用することができる。この場合、処理部４００Ｂは各ノズル４３１〜４３４がそれぞれ独立してＸ方向およびＹ方向に沿った移動が可能なようになっているため、２軸駆動機構を新たに設けることなく、上記各実施の形態の自動調整を適用することができる。なお、各実施の形態のノズル位置の特定を行う技術についても勿論適用可能である。
【０１１２】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の発明によれば、基板に対して処理液を吐出するノズルと、所定の基準位置情報に基づいてノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、ノズルを吐出位置に移動させた際にノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段とを備えるため、ノズル位置を特定することができ、このノズル位置を参照すれば、ノズルが移動した際のノズルの位置が適切な吐出位置にあるか否かの判断を行うことができる。また、ノズル位置を特定することにより、不良基板の発生を回避することも可能となる。
【０１１３】
また、基板搬送手段に基板のかわりに所定の治具を保持させた状態で、吐出位置に移動させたノズルに対して治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において基板搬送手段を駆動させることにより、治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させ、複数の方向のそれぞれについて治具に付設したノズル検出センサから得られる出力に基づいてノズル位置を特定するように構成されているため、基板処理装置にセンサを設けることなく、正確かつ短時間で効率的にノズルが実際に移動した位置を特定することができる。
【０１１４】
請求項２に記載の発明によれば、ノズル位置特定手段は、装置に設けられた複数のセンサからの出力によりノズルを吐出位置に移動させた際のノズル位置を特定するように構成されているため、正確かつ短時間で効率的にノズルが実際に移動した位置を特定することができる。
【０１１５】
請求項３に記載の発明によれば、特定したノズル位置に基づいて基準位置情報を補正するため、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の調整を行うことが可能となる。
【０１１６】
請求項４に記載の発明によれば、基板搬送手段に基板のかわりに所定の治具を保持させた状態で、吐出位置に移動させたノズルに対して治具を所定の相対的位置関係になるまで近接させ、当該近接状態において基板搬送手段を駆動させることにより、治具をそれぞれ異なる複数の方向に移動させ、ノズル位置特定手段が、複数の方向のそれぞれについて治具に付設したノズル検出センサから得られる出力に基づいてノズル位置を特定し、補正手段が、ノズル位置に基づいて基準位置情報を補正してノズル駆動手段に与えるように構成されているため、基板処理装置にセンサを設けることなく、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の調整を行うことができる。
【０１１７】
請求項５に記載の発明によれば、ノズル位置特定手段が、装置に設けられた複数のセンサからの出力によりノズルを吐出位置に移動させた際のノズル位置を特定し、補正手段が、ノズル位置に基づいて基準位置情報を補正してノズル駆動手段に与えるように構成されているため、正確かつ短時間で効率的にノズルの吐出位置の調整を行うことができる。
請求項６から請求項８までに記載の発明によれば、基板に対して処理液を吐出するノズルと、所定の基準位置情報に基づいてノズルを吐出位置に移動させるノズル駆動手段と、ノズルを吐出位置に移動させた際にノズルが実際に位置するノズル位置を特定するノズル位置特定手段とを備えるため、ノズル位置を特定することができ、このノズル位置を参照すれば、ノズルが移動した際のノズルの位置が適切な吐出位置にあるか否かの判断を行うことができる。また、ノズル位置を特定することにより、不良基板の発生を回避することも可能となる。また、ノズル位置特定手段は、ノズルに対して一時的に近接させることができる所定のセンサから得られる出力に基づいてノズル位置を特定するため、より正確にノズル位置を特定することができる。
【０１１８】
請求項９に記載の発明によれば、ノズル駆動手段は、ノズルを吐出位置付近に移動させる第１駆動機構と、吐出位置付近にあるノズルを基準位置情報に基づいて基板面と平行な面内の複数の方向について移動させる第２駆動機構とを含むため、ノズルの吐出位置を任意の位置に移動させることができる。
【０１１９】
請求項１０に記載の発明によれば、処理液を吐出するノズルを所定の基準位置情報に基づいて基板に対する吐出位置に移動させる工程と、ノズルを吐出位置に移動させた際にノズルが実際に位置するノズル位置を特定する工程と、ノズル位置に基づいて基準位置情報を補正する工程とを有するため、正確なノズルの吐出位置の調整を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の適用される基板処理装置の一例を示す斜視図である。
【図２】この発明の適用される基板処理装置の基板搬送ロボットを示す斜視図である。
【図３】この発明の実施の形態における処理部の概略構成を示す側面図である。
【図４】この発明の実施の形態における処理部の概略構成を示す平面図である。
【図５】第１の実施の形態で使用する治具を示す図である。
【図６】第１の実施の形態における基板処理装置の制御機構を示すブロック図である。
【図７】ノズルの吐出位置の調整を行うための処理シーケンスを示す第１のフローチャートである。
【図８】ノズルの吐出位置の調整を行うための処理シーケンスを示す第２のフローチャートである。
【図９】ノズルの吐出位置の調整を行うための処理シーケンスを示す第３のフローチャートである。
【図１０】ノズルの吐出位置の調整を行うための処理シーケンスを示す第４のフローチャートである。
【図１１】搬送アーム上に治具をセットした状態を示す平面図である。
【図１２】ノズルと治具との高さ関係を示す概略側面図である。
【図１３】ノズル検出センサ２４０の光路中にノズルが存在しない例を示す図である。
【図１４】治具の移動に伴う検出ポイントの移動を示す図である。
【図１５】第２の実施の形態の処理部を示す平面図である。
【図１６】第２の実施の形態における処理部の制御機構を示すブロック図である。
【図１７】第２の実施の形態のノズル位置を特定する方法についての説明図である。
【図１８】第３の実施の形態の処理部を示す平面図である。
【図１９】従来の基板処理装置における処理液処理を行う処理部の概略平面図である。
【図２０】従来の基板処理装置における処理液処理を行う処理部の概略平面図である。
【符号の説明】
６  ノズル
３０  メイン制御部
４０  搬送制御部（搬送制御手段）
５０  処理制御部（ノズル駆動手段）
５３  ノズルアーム駆動機構（第１駆動機構）
５４  ２軸駆動機構（第２駆動機構）
６１，６３，６５  処理部
２１０  治具
２３０，２４０  ノズル検出センサ
２５０，２６０  エリアセンサ
ＴＲ２  基板搬送ロボット（基板搬送手段）
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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