(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴムからなるクッション層に下地金属膜を形成し、下地金属膜の表面に膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に前記下地金属膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版。
【請求項２】
ロール状の版基材の表面に、均一な厚さのゴムからなるクッション層を継ぎ目に隙間が開かないように巻付け、クッション層の表面に下地金属膜を形成して円筒研磨した後、膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に感光膜をコートして画像を焼き付け、現像しエッチングすることにより、前記クロムメッキ被膜に前記下地金属膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版。
【請求項３】
ゴムからなるクッション層に下地金属膜を形成し、下地金属膜の表面にバラードメッキ被膜を形成し、さらに膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に前記バラードメッキ被膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版。
【請求項４】
ロール状の版基材の表面に、均一な厚さのゴムからなるクッション層を継ぎ目に隙間が開かないように巻付け、クッション層の表面に下地金属膜を形成して円筒研磨した後、バラードメッキ被膜を形成して円筒研磨し、さらに膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に感光膜をコートして画像を焼き付け、現像しエッチングすることにより、前記クロムメッキ被膜に前記バラードメッキ被膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明が属する技術分野】
本願発明は、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適なクッション性を有する凹版に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するには、グラビアオフセット印刷または水なしオフセット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用されてこなかった。
その理由は、グラビア印刷は、クッション性がないので印圧が増大するとガラスを割ってしまったり、コンパクトディスク等に歪みを与える惧れがあるので、ゴムからなるブランケットロールを介して印刷することにより、印圧が増大するときはゴムの変形により印圧の増大を抑制できるグラビアオフセット印刷が適切だからである。
液晶パネル用ガラスへカラー印刷するには、ガラスに転移した直後のウエットのインキの膜厚を均一な５〜６μｍとして、バックライト光を均一に透過しかつ高い透過率を保障する必要がある。
また、コンパクトディスク等に画像をカラー印刷するには、画像がシャープに得られる限度にインキの膜厚を可能な限り薄くする必要がある。その理由は、コンパクトディスク等に印刷する画像は、中心に対して偏って印刷されるので、画像を形成しているインキの重量が、次世代のコンパクトディスク装置の流体動圧軸受を採用したスピンドルモータの高速回転化にともなって、アンバランス回転の原因として無視できなくなることが分かった。
従来のグラビア印刷版は、銅メッキの表層部に深さが１５〜２５μｍとなるようにセルを形成する必要があり、そうすると、ウエットのインキの膜厚が１５〜２５μｍとなるから、液晶パネル用ガラスへカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのにはインキの膜厚が厚すぎて適していない。
従来のグラビア印刷版において、銅メッキの表面に深さが５〜６μｍとなるようにセルをエッチング形成できないのは、銅メッキ被膜が結晶組織であるためエッチングの進行が均一に行われないためである。セルの輪郭や底面に凹凸が生じたり、大きさによって深さが異なったセルができることは避けられない。特にシャドウ部の大きなセルについて、深さが５〜６μｍとなるように得ても、ハイライト部の小さなセルについては、輪郭や底面に凹凸が生じる確率が高く、深さが５〜６μｍに確実に得ることはほとんど望めない。
そこで、セルの深さが５〜６μｍのグラビア版を確実に得るには、アルカリガラスに画像を焼き付けて現像しフッ酸によりエッチングすることにより深さが均一なかなり正確なセルを形成することができる。ただし、これは、グラビア印刷とはならず、ブランケットロールを介して印刷を行うグラビアオフセット印刷となる。
こうして、従来は、液晶パネル用ガラスへカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等にカラー印刷するには、グラビアオフセット印刷、または水なし平凹版オフセット印刷が採用されてきており、グラビア印刷は採用されてこなかった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の印刷法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタは、画像のシャープさが低く、線画像のエッジの乱れ、線画像の凹凸があり、フィルム法によって製作される液晶パネル用カラーフィルタに比べて著しく品質が劣り、このため、玩具関係にしか用途が広がらず、コンピュータディスプレイやテレビジョン等の高級品には全く採用されていない。
グラビアオフセット印刷によって製作される液晶パネル用カラーフィルタの品質が劣り原因は、次のように考えられる。
グラビアオフセット印刷は、ブランケットロールからガラス等の被印刷物にインキを転移させる際に多少なりとも印圧が加わる。該印圧は、インキを押圧するので、インキの輪郭が外側に広がりあるいは乱れ、これが、ラインアンドセペースの値を小さくできない原因の一つである。また、転移するインキが版からブランケットロールに、さらにブランケットロールからガラス等の被印刷物に、それぞれ１００％の確率で転移しないときは、インキが引きちぎられる結果となり、ガラス等の被印刷物に印刷されるインキの膜厚は均一でなく表面に凹凸ができる。
転移するインキがガラス等の被印刷物に１００％の確率で転移できるとした研究結果が論文に発表されている。
それによれば、アルカリガラス製の凹版の０．１μｍのシリコンゴムの被膜をコートして離型性を付与すること、及びセルに光硬化性のインキを盛った時点で光を照射してインキを半乾きにして千切れ難いインキにすることによって、版からブランケットロールに１００％の確率でインキを転移させることができたとしており、さらに、シリコン誘導体のブランケットロールに転移したインキを液晶パネル用ガラスに印刷する前にもう一度光を照射してインキを半乾きにして千切れ難いインキにするとともに、液晶パネル用ガラスの表面に０．２〜０．３μｍの膜厚のアクリル系粘着剤をコートすることにより、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに１００％の確率でインキを転移させることができたとしている。
しかし、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに１００％の確率でインキを転移させるためには、版や印刷装置を超精密に製作することが必須条件である。すなわち、通常の印刷装置の機械精度では、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスにインキを転移させる際に印圧が掛りしかも変動することが避けられない。印圧が全く無くしたり、全く変動しないように機械精度を高めることは至難である。
仮に、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間をインキの膜厚と完全に一致させてしかも印刷中に隙間寸法に変動が生じないように、印刷機械を超精密に製作できたとすれば、印圧は殆どかからず変動しない。しかしながら、そのような装置を実用化することはほとんど不可能である。
なぜならば、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間を例えば５．５μｍに保持し、ブランケットロールに付着している６μｍの膜厚のインキを液晶パネル用ガラスに転移させるときには、インキの膜厚が５．５μｍとなるように印圧が発生する。ブランケットロールが回転するとともに、ブランケットロールの表面の速度に完全に一致させて液晶パネル用ガラスを直動させる際に、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間を全く変動させないようにすることは至難である。ブランケットロールは真円・真円筒となるように超精密に製作する必要があり、液晶パネル用ガラスを全く波動が生じないように直動させる必要がある。ブランケットロールの直径に１μｍの偏心があっても、または液晶パネル用ガラスがブランケットロールに対して１μｍ近づくか遠ざかったりすると、それだけで、インキの膜厚が４．５μｍとなり印圧が変動し、または、ブランケットロールと液晶パネル用ガラスとの隙間が５．５μｍよりも大きくなってしまい、そのときは、ブランケットロールに付着しているインキが液晶パネル用ガラスに転移できない。
このことから言えることは、グラビアオフセット印刷機械の超精密化をいくら追求しても、印圧をかける必要があり、印圧の変動を抑えることは不可能である。従って、印圧がかかり、印圧が変動することが必須なので、ブランケットロールから液晶パネル用ガラスに１００％の確率でインキを転移させることは、実験ではできたとしても、実用化はとても困難であると考えられる。
【０００４】
本願発明は、上述した点に鑑み案出したもので、クッション性を有することにより、硬質な被印刷物に対してブランケットロールを用いないダイレクトなグラビア印刷が可能であり、しかも深さが小さく底面が平滑で離型性があるセルを形成できることにより、液晶パネル用ガラスへカラーフィルタを構成するためのマトリックス画像をカラー印刷したり、あるいはコンパクトディスク等に画像をカラー印刷するのに好適なクッション性を有する凹版を提供することを目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本願第一の発明は、ゴムからなるクッション層に下地金属膜を形成し、下地金属膜の表面に膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に前記下地金属膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版を提供するものである。
本願第二の発明は、ロール状の版基材の表面に、均一な厚さのゴムからなるクッション層を継ぎ目に隙間が開かないように巻付け、クッション層の表面に下地金属膜を形成して円筒研磨した後、膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に感光膜をコートして画像を焼き付け、現像しエッチングすることにより、前記クロムメッキ被膜に前記下地金属膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版を提供するものである。
本願第三の発明は、ゴムからなるクッション層に下地金属膜を形成し、下地金属膜の表面にバラードメッキ被膜を形成し、さらに膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に前記バラードメッキ被膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版を提供するものである。
本願第四の発明は、ロール状の版基材の表面に、均一な厚さのゴムからなるクッション層を継ぎ目に隙間が開かないように巻付け、クッション層の表面に下地金属膜を形成して円筒研磨した後、バラードメッキ被膜を形成して円筒研磨し、さらに膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜を形成し、該クロムメッキ被膜に感光膜をコートして画像を焼き付け、現像しエッチングすることにより、前記クロムメッキ被膜に前記バラードメッキ被膜が露出するようにインキを収容するセルを形成し、かつ前記セルを形成したクロムメッキ被膜の表面に、スクリン線のシャドウ部の耐刷力を補強する微小のクロムメッキ被膜を積層形成してなることを特徴とするクッション性を有する凹版を提供するものである。
前記セルが形成したクロムメッキ被膜の表面にシリコン誘導体ゴム、あるいはフッ素系樹脂をコートしてクッション性を有する凹版を作製することもできる。
【０００６】
【発明の実施の形態】
本願発明の実施の形態にかかるクッション性を有する凹版を図面を参照して説明する。
図１において、（ａ）はロール状の凹版用版材を示す断面図、（ｂ）は凹版用版材の拡大断面図、（ｃ）は凹版用版材のクロムメッキ被膜にセルをエッチング形成した状態を示す拡大断面図である。
符号１は版基材、符号２はクッション層、符号３は下地金属膜、符号４はバラードメッキ、符号５はクロムメッキ被膜、符号６はセルである。
このクッション性を有する凹版は、両端に被チャック孔を有する中空形状で、外面が真円かつ円筒に精密研磨されたアルミニウム製（鉄製でもよい）の版基材１の平滑な表面に、５〜１０ｃｍの均一な厚さで表面の平滑度が高いゴムからなるクッション層２を継ぎ目に隙間が開かないように巻付け接着し、版基材１の両端の被チャック孔を両端チャックして無電解メッキ液に浸漬して回転することにより、版基材１の端面からクッション層２の表面にかけて、無電解メッキにより下地メッキ（銅メッキ）を形成し、次いで、電解銅メッキ液に浸漬し回転しかつ版基材１にメッキ電流を流して下地メッキの表面に電気メッキの下地金属膜（銅メッキ）３を形成してから、下地金属膜３の表面を砥石研磨装置により平滑に円筒研磨し、続いてバラード処理してから２５〜３５μｍの膜厚となるようにバラードメッキ被膜（銅メッキ被膜）４を形成し、さらに下地金属膜３の表面を砥石研磨装置により平滑に円筒研磨しさらに鏡面研磨し、次いでセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜５を形成してロール状の凹版用版材（図１（ａ））を構成し、
続いて、クロムメッキ被膜５の表面を活性化処理してから感光膜を均一に塗布して乾固し、レーザー露光装置により直接画像を焼き付けるか、フィルムを重ねて露光して画像を焼き付け、次いで、現像してからエッチングすることにより、前記下地金属膜３が露出するようにインキを収容するセル６を前記クロムメッキ被膜５に形成し、次いで、レジスト剥離して凹版を完成する。この版は、バラードメッキ被膜４が露出した銅色の鮮やかな画像が得られる。
切手や印紙等の印刷のように、スクリン線数が例えば３００本／インチと大きくして高精細な印刷が必要なときは、シャドウ部におけるスクリン線の幅が極めて小さくなり、そのために、ドクターの摺接に対して耐刷力が不十分となるときは、上記のレジスト剥離の後に、１〜２μｍの膜厚のクロムメッキを版全面に付ける。このようにすると、クロムメッキのスクリン線の耐刷力が大きくなる。
さらに、カラーフィルタを製造するための印刷に使用するため、インキの転移率を１００％とするためには、該セル６を有するクロムメッキ被膜５の表面に脱酸素により硬化するシリコン誘導体ゴム又はフッ素系樹脂を膜厚が０．１μｍとなるようにコートする。
【０００７】
クッション層２は、ロールの偏心回転に起因して印圧が高く発生しようとするときに、印圧により容易に変形して該印圧が印圧が高くなるのを抑制する役目を果たしている。
【０００８】
この凹版は、クロムメッキ被膜５にエッチングしてセル６の底面部にバラードメッキ４を露出させる。この凹版は、クロムメッキ被膜５の膜厚を容易かつ正確に制御できる。
従って、バラードメッキ４が露出するようにクロムメッキ被膜５をエッチングするのは、セル６の深さをハイライト部からシャドウ部のいずれにおいても等しく得られるためである。この凹版は、インキ量が必要な印刷にあっては、クロムメッキ被膜５の膜厚を例えば１０〜２０μｍと大きくすれば良い。
【０００９】
この凹版は、クロムメッキ被膜５にエッチングしてセル６の底面部にバラードメッキ４を露出させ、クロムメッキ被膜５の表面に脱酸素により硬化するシリコン誘導体ゴム７を膜厚が０．１μｍとなるようにコートする。
これは、セル６の底面及び側面を占めるゴムの撥油性が機能して、セル６としてのインキに対する離型性を有する点で有利である。セル６の深さを極めて浅くすると、ゴムの撥油性が効いてくる。
【００１０】
従って、この凹版を、液晶パネル用ガラスへカラー印刷するための版として構成するときは、クロムメッキ被膜５の膜厚を４〜６μｍとする。こうして、セル６の深さを極めて浅くした液晶パネル用ガラスへカラー印刷するための凹版は、表面にコートされたシリコン誘導体ゴムの撥油性により、インキに対する離型性を保有できる。
そして、この凹版をガラスに接触させて印刷すると、接触圧が印圧として作用しようとするが、接触圧はセル内に少しも作用しない。インキはセル６内よりガラスに転移し、その際に、大きな印圧がかかる惧れが全く無いから、印圧によりインキの輪郭が外側に広がりあるいは乱れることがない。
このため、液晶パネル用ガラスにカラーフィルタを製造するためのカラー印刷を行うための、本願発明にかかる凹版は、レーザー露光装置を使用してパターンを正確に焼き付けて製作した場合には、６μｍのライン／スペースが得られる。
従って、ドクターによりセル６にＵＶインキを盛ってＵＶ光線を照射してＵＶインキを半乾きにしてから液晶パネル用ガラスへカラー印刷する技法を併用すれば、この凹版からガラスへのインキの転移を１００％の確率で得られるから、本願発明にかかる凹版を使用した印刷法により、従来のフォトリソグラフィー法に比べてはるかに安価にカラーフィルタを製造できる。
【００１１】
クロムメッキ被膜５の膜厚は、希望の寸法に容易かつ正確に制御できる。その結果、セル６の深さを希望の寸法にハイライト部からシャドウ部のいずれにおいても等しく得られる。これによって、ハイライト部からシャドウ部までのインキの転移量をセルの面積に完全に比例させることができ、もって、ハイライト部からシャドウ部までの濃淡階調度を直線的に変化させることができ、濃淡階調度が豊かでシャープなグラビア画像が得られる。
この凹版は、使用後にバラードメッキ４を引き裂いて取り除けば落版ができるので、版に繰り返し使用性が生じ、経済的で好ましい。
【００１２】
本願発明は、バラードメッキは必要的ではない。すなわち、本願発明のクッション性を有する凹版は、ロール状の版基材１の表面に、均一な厚さのゴムからなるクッション層２を継ぎ目に隙間が開かないように巻付け、クッション層の表面に下地金属膜３を形成して円筒研磨した後、膜厚がセルの深さに等しくなるようにクロムメッキ被膜５し、該クロムメッキ被膜５に感光膜をコートして画像を焼き付け、現像しエッチングすることにより、前記クロムメッキ被膜５に前記下地金属膜３が露出するようにインキを収容するセル６を形成した凹版も含むものである。
本願発明は、セルを有するクロムメッキ被膜の表面にシリコン誘導体ゴムをコートすることは必要的ではない。
【００１３】
【発明の効果】
以上説明してきたように、本願発明のクッション性を有する凹版によれば、
クッション層によりクッション性を備えて印圧が高くならないように抑制することができるとともに必要十分な耐刷力を有するので、硬質な被印刷物、特にガラスへの印刷をダイレクトに良好に印刷することができる。
この凹版は、クロムメッキ被膜の膜厚を所望の寸法に制御することが容易かつ正確にでき、下地金属膜またはバラードメッキはを露出するようにクロムメッキ被膜をエッチングしてセルを形成するので、２、３μｍ〜数十μｍの希望する任意の深さのかつ均一な深さのセルを版表面から垂直に彫り込まれた版を得ることができ、セルに盛るインキの膜厚は均一になり、またコンパクトディスク等への薄膜なグラビア印刷に関して、ハイライト部からシャドウ部までのインキの転移量をセルの面積に完全に比例させることができ、ハイライト部からシャドウ部までの濃淡階調度を直線的に変化させることができ、濃淡階調度が豊かでシャープなグラビア画像が得られる。
そして、この凹版を、セルを有するクロムメッキ被膜の表面に撥油性を有するシリコン誘導体ゴムをコートすると、インキに対する離型性がある深さが極めて浅く均一なセルを有する凹版が得られる。従って、この凹版を使用してガラスへのダイレクトな印刷を行えば、グラビアオフセット印刷とは異なり、セル内のインキを印圧により潰されることがなく被印刷物への転移を保障できる。従って、従来の印刷法によるカラーフィルタの製造上の欠点である断面山盛り状態のインキの転移を回避でき、インキの膜厚が極めて薄く均一で、輪郭がシャープで、輪郭線のエッジの乱れが少ない印刷ができ、コンパクトディスク等にインキの膜厚が極めて薄い鮮明な画像をカラー印刷するのに好適である。なお、インキはＵＶインキを使用するのが好ましい。
この凹版は、クロムメッキ被膜を４〜６μｍに浅く形成し感光膜を形成しレーザ露光装置によりパターンを焼き付けてクロムメッキ被膜の表面にセルを形成し撥油性を有するシリコン誘導体ゴムをコートすると、６μｍのラインアンドスペースを実現できて、インキに対する離型性があるセルを有する凹版が得られる。従って、版のセルに盛られたインキにＵＶ光源を照射して半乾きにしてから転移させる技法を併用することにより、１００％のインキ転移率が得られる。この凹版は、転移するインキの膜厚が均一でインキの表面に凹凸が生じないから、前記の印刷法によるカラーフィルタの製造がフォトリソグラフィー法と同等以上の品質が印刷法により実用できて、カラーフィルタの製造コストをフォトリソグラフィー法に比べて飛躍的に低減することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本願発明の実施の形態にかかるクッション性を有する凹版に係り、
（ａ）はロール状の凹版用版材を示す断面図、（ｂ）は凹版用版材の拡大断面図、（ｃ）は凹版用版材のクロムメッキ被膜にセルをエッチング形成した状態を示す拡大断面図である。
【符号の説明】
１        ・・・・版基材
２        ・・・・クッション層
３        ・・・・エッチング容易性を有する下地金属膜（銅メッキ）
４        ・・・・セル
５        ・・・・耐刷力を有する硬質膜（クロムメッキ被膜）
【図１】
0003923655.tif 000002