(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材と、該基材上に磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層、第２磁性層、第３磁性層が積層されたものであり、該第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、前記第３磁性層は磁性材料を前記第２磁性層の疎密パターン上に逆のパターンで含有し、第２磁性層に含有される磁性材料の保磁力Ａと、第３磁性層に含有される磁性材料の保磁力Ｂとの比Ａ／Ｂは１／３以下あるいは３以上であることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記比Ａ／Ｂが３以上であり、第３磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３０００Ｏｅ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項３】
前記比Ａ／Ｂが１／３以上であり、第２磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３０００Ｏｅ以下であることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項４】
前記第２磁性層の残留磁化と前記第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあることを特徴とする請求項１に記載の磁気記録媒体。
【請求項５】
基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に保磁力Ａの磁性材料を含有する磁性塗料を塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、保磁力の比Ａ／Ｂが１／３以下あるいは３以上であることを満足する保磁力Ｂの磁性材料を含有する磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁性塗膜に第２磁性層形成時と逆方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成て、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体、特に偽造、変造が困難な磁気記録媒体と、その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基材の片面あるいは両面の全域またはストライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレジットカード、会員カード等のカード類、磁気ラベル等として幅広く使用されている。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高い記録密度で情報を書込み、外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしている。
【０００３】
しかし、磁気記録層の特性上、記録された情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易であるため、類似のカードを製造することも可能であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面に磁気記録層が露出している場合、磁気記録情報を読み取ったり、磁気転写技術により磁気記録情報を他の磁気記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もある。
【０００４】
このような磁気記録情報の可逆性という本質的な欠点に基づく問題を解決するために、磁気記録情報の書き換えを困難にする種々の方法が提案されている。例えば、ＢａフェライトやＳｒフェライト等の高保磁力磁性材料、高保磁力低キュリー点（高Hc低Tc）の磁性材料、ＭｎＢｉを含有する磁性材料等を用いることにより、磁気情報を消去されにくくした磁気記録媒体等が開発されている。
【０００５】
また、磁気的な書き換えが不可能となるように、磁性層に物理的変化を与えることにより磁気記録情報をもたせた磁気記録媒体も開発されている。例えば、印刷により磁気バーコードを設けた磁気記録媒体、磁性層にレーザー等によりマーキングを施した磁気記録媒体等が挙げられる。
【０００６】
さらに、基材上に比較的低い保磁力の磁性材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気記録を行った後、高保磁力の磁性材料を含む第２磁性層を塗布形成して積層した磁気記録媒体も開発されている。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パターンが第２磁性層にコピー（いわゆる磁気転写）されているので、偽造、変造を目的とした磁気ヘッドによる書き換えが困難である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような単に高保磁力磁性材料を用いた磁気記録媒体は、外部磁場の影響による磁気記録情報の消去を防ぐことは可能であるが、これは逆に磁気ヘッドで情報を書き込む際には磁化されにくく、書き込み装置に制限ができるという新たな問題を生じている。
【０００８】
また、高Hc低Tc磁性材料やＭｎＢｉ含有磁性材料を有する磁気記録媒体では、温度による保磁力の急激な低下を利用し、その条件下で磁気書き込みを行うことも可能であるが、常温において磁気記録情報の消去や書き込みができないため、装置が大掛かりになるという問題がある。
【０００９】
さらに、磁気バーコードのように磁性層に物理的変化を与えた磁気記録媒体では、磁気記録情報の消去と、新たな情報の書き込みが不可能であるとともに、情報の存在を容易に認識することができ、偽造等の防止上、不充分であった。
【００１０】
また、第２磁性層に磁気転写された磁気記録情報を備える磁気記録媒体は、非常に強い磁界が加わると、磁気転写による第２磁性層の磁気記録が消去されてしまうという問題があり、さらに、高保磁力磁性材料を含む第２磁性層に磁気転写を効率良く行うことが困難なため、読み取りに必要な磁気出力が第２磁性層から得られないという問題もあった。
【００１１】
本発明は、このような実情に鑑みてなされたものであり、磁気ヘッドによる読み取りにおいて出力レベルおよび波形が多様に変化可能な固定情報をもち、他の磁気記録媒体との判別が確実に行え、かつ、このような固定情報が概観上から認識困難であり、偽造や改ざん等の不正行為を防止できる磁気記録媒体と、この磁気記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体は、基材と、該基材上に磁気記録層とを有し、該磁気記録層は基材側から順に第１磁性層、第２磁性層、第３磁性層が積層されたものであり、該第２磁性層は磁性材料を所定の疎密パターンで含有し、前記第３磁性層は磁性材料を前記第２磁性層の疎密パターン上に逆のパターンで含有し、第２磁性層に含有される磁性材料の保磁力Ａと、第３磁性層に含有される磁性材料の保磁力Ｂとの比Ａ／Ｂは、１／３以下あるいは３以上であるような構成とした。
【００１３】
また、本発明の磁気記録媒体は、前記比Ａ／Ｂが３以上であり、第３磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３０００Ｏｅ以下であるような構成、前記比Ａ／Ｂが１／３以下であり、第２磁性層に含有される磁性材料の保磁力が３０００Ｏｅ以下であるような構成とした。
【００１４】
また、本発明の磁気記録媒体は、前記第２磁性層の残留磁化と前記第３磁性層の残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあるような構成とした。
【００１５】
本発明の磁気記録媒体の製造方法は、基材上に第１磁性層を形成し、該第１磁性層に所望の磁気記録を行った後、前記第１磁性層上に保磁力Ａの磁性材料を含有する磁性塗料を塗布し、磁性塗膜に所定方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層を形成し、次いで、保磁力の比Ａ／Ｂが１／３以下あるいは３以上であることを満足する保磁力Ｂの磁性材料を含有する磁性塗料を前記第２磁性層上に塗布し、磁性塗膜に第２磁性層形成時と逆方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後に乾燥して、前記第１磁性層の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層を形成て、前記第１磁性層、前記第２磁性層および前記第３磁性層からなる磁気記録層を形成するような構成とした。
【００１６】
上記のような本発明では、第２磁性層における磁性材料の疎密パターンと、第３磁性層における磁性材料の疎密パターンが逆相となり、各層の疎密パターンの凹凸が外観上相殺され、これらの疎密パターンからなる固定情報の存在が認識しにくいものとなり、また、上記の固定情報を有する磁気記録層を磁気ヘッドで読み取る際に、バイアス磁界の有無、および、その向きによって、得られる磁気出力レベルおよび波形が変化する。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について図面を参照しながら説明する。
図１は本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す斜視図であり、図２は図１のＡ−Ａ線矢視における部分拡大断面図である。図１および図２において、本発明の磁気記録媒体１は、基材２と、この基材２上にストライプ状に設けられた磁気記録層３を備えており、磁気記録層３は第１磁性層３ａと第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃとが積層されて構成されている。
【００１８】
本発明の磁気記録媒体１を構成する基材２は、基材として要求される耐熱性、強度、剛性等を考慮して、ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ、ＰＥＮ等のポリエステル、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸等の樹脂、生分解性樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙、合成紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み合わせた複合体により構成することができる。このような基材２の厚さは、１００μｍ〜１ｍｍ、好ましくは１５０〜２５０μｍ程度とすることができる。
【００１９】
上記の磁気記録層３を構成する第１磁性層３ａは、保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を含有する。この磁性材料の保磁力が３００Ｏｅ未満であると、第２磁性層形成時の配向磁界に対する耐性が不十分であり、６０００Ｏｅを超えると、磁気ヘッドによる安定した記録が難しくなり好ましくない。尚、磁気ヘッドによる記録が安定して行えるならば、保磁力が６０００Ｏｅを超える磁性材料を使用することは可能である。
【００２０】
第１磁性層３ａを構成する上記のような保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料としては、例えば、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の磁性微粒子が挙げられる。
【００２１】
この第１磁性層３ａは、上記の磁性微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。
【００２２】
第１磁性層３ａの厚さは、塗布方法により形成される場合、乾燥後の膜厚で１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度である。
【００２３】
また、上記の磁気記録層３を構成する第２磁性層３ｂは、保磁力Ａの磁性材料を所定の疎密パターンで含有するものである。そして、磁気記録層３を構成する第３磁性層３ｃは、保磁力Ｂの磁性材料を所定の疎密パターンで含有するものであり、この疎密パターンは、第２磁性層３ｂの疎密パターンと逆相の関係にある。さらに、第２磁性層３ｂに含有される磁性材料の保磁力Ａと、第３磁性層３ｃに含有される磁性材料の保磁力Ｂとの間には、その比Ａ／Ｂが１／３以下あるいは３以上であるという関係が成立する。
【００２４】
尚、第２磁性層３ｂあるいは第３磁性層３ｃに含有される磁性材料が２種以上である場合、含有される磁性材料の保磁力の設定は次のようにして行うことができる。例えば、第２磁性層３ｂに３種の磁性材料が含有され、これらの保磁力の大小関係Ａ１／Ａ２、Ａ２／Ａ３がそれぞれ３以上であり、同じく、第３磁性層３ｃに３種の磁性材料が含有され、これらの保磁力の大小関係Ｂ１／Ｂ２、Ｂ２／Ｂ３がそれぞれ３以上であり、かつ、Ａ＞Ｂある場合、Ａの最低保磁力（Ａ３）とＢの最高保磁力Ｂ１の比Ａ３／Ｂ１が３以上となるように設定する。また、上記において、Ｂ＞Ａある場合、Ａの最高保磁力Ａ１とＢの最低保磁力（Ｂ３）との比Ａ１／Ｂ３が１／３以下となるように設定する。
【００２５】
本発明の磁気記録媒体１は、上記のように第２磁性層３ｂにおける磁性材料の疎密パターンと第３磁性層３ｃにおける磁性材料の疎密パターンが逆相となっているので、各層の疎密パターンの凹凸が外観上相殺されて、磁気記録層３の表面がほぼ平坦なものとなっている。これにより、第３磁性層３ｃの上に隠蔽層を設けた場合、隠蔽の効果が得られやすくなり、第２磁性層３ｂの疎密パターン、および、第３磁性層３ｃの疎密パターンからなる固定情報の存在が外観上からは認識しにくいものとなる。
【００２６】
また、第２磁性層３ｂに含有される磁性材料と、第３磁性層３ｃに含有される磁性材料との間に、保磁力の比が３倍以上、あるいは、１／３以下となる関係が存在するので、磁気記録層３に所定の磁界を与えたときに、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃのうち、保磁力の低い磁性材料を含有する磁性層においてのみ着磁の向きを反転させることができる。
【００２７】
このような第２磁性層３ｂや第３磁性層３ｃを構成する磁性材料としては、例えば、Ａｌ、Ｓｉ、Ｆｅ等からなる磁性合金材料、パーマロイ、センダスト、Ｍｎ−Ｚｎフェライト、Ｃｏ−Ｚｎフェライト、Ｎｉ−Ｚｎフェライト等のフェライト、γ―Ｆｅ2Ｏ3、Ｃｏ被着γ―Ｆｅ2Ｏ3、Ｆｅ3Ｏ4等の鉄酸化物、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｒ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｃｏ−Ｃｒ、Ｃｏ−Ｎｉ、ＣｒＯ2、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の保磁力が１〜１００００Ｏｅの範囲の磁性材料を挙げることができ、これらの磁性材料の中から上記の保磁力の比の関係を満足する１種を使用、または２種以上の磁性材料の組み合わせを適宜選択して使用することができる。
【００２８】
この第２磁性層３ｂは、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録を行った第１磁性層３ａ上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、所定のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。
【００２９】
また、第３磁性層３ｃは、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、既に磁性材料の疎密パターンからなる固定情報をもつ第２磁性層３ｂ上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、第２磁性層形成時と逆方向のバイアス磁界による磁気配向処理を施しながら、あるいは、磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。
【００３０】
尚、配向処理に用いる配向装置としては、ソレノイド型の電磁石配向装置が好ましい。
【００３１】
また、第２磁性層３ｂおよび第３磁性層３ｃの厚さ（磁性材料が密な部分における厚さ）は、１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度であり、第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃとを合わせた厚さは、２〜１００μｍ、好ましくは６〜４０μｍ程度とすることができる。
【００３２】
このような構成である本発明の磁気記録媒体１では、磁気記録層３を磁気ヘッドで読み取る際の第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによって、得られる磁気出力レベルおよび波形が変化する。例えば、第１磁性層３ａの含有磁性材料、第２磁性層３ｂの含有磁性材料、および、第３磁性層３ｃの含有磁性材料のうち、高保磁力の磁性材料を充分着磁させられる磁界強度で着磁して一様に磁化した後、バイアス磁界を印加しない通常の無バイアス読み取りを行うと、ほとんど磁気出力が得られない。しかし、低保磁力の磁性材料の磁化反転のみを生じさせる向きでのバイアス磁界による読み取りを行うと、高い磁気出力が得られる。また、予めバイアス磁界の印加によって低保磁力の磁性材料のみ磁化反転させた後、バイアス磁界なしで読み取っても磁気出力が得られる。
【００３３】
本発明では、第３磁性層３ｃに高透磁率材料（シールド材料）を用いることにより、磁気記録媒体に対してシールド効果を付与することも可能である。
【００３４】
また、本発明では、第２磁性層３ｂの残留磁化と第３磁性層３ｃの残留磁化の比が０．５〜２の範囲内にあることが好ましい。残留磁化がこのような範囲内にあることにより、上述の第２磁性層３ｂと第３磁性層３ｃの着磁の状態、バイアス磁界の有無、または、その向きによる、磁気出力レベルおよび波形の変化が明確なものとなる。
【００３５】
尚、上記の本発明の磁気記録媒体では、基材２の一部にストライプ状に磁気記録層３を形成した構成となっているが、磁気記録層３が基材の一方の面の全面に形成された構成であってもよい。
【００３６】
また、本発明では、磁気記録媒体１の磁気記録層３上に、保護、隠蔽、装飾効果をもたせるための保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。
【００３７】
保護層、着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、必要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果をもたせるよう、酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシリカ等を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望部分に形成できる。
【００３８】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態について、図３および図４を参照しながら説明する。
【００３９】
まず、基材２に第１磁性層３ａを形成し、この第１磁性層３ａに所望の磁気記録を行う（図３（Ａ））。これにより、第１磁性層３ａに磁化方向が相違する磁気パターンが形成される。この第１磁性層３ａの形成は、上述の保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等が添加される。また、耐熱性を考慮して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いることができる。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁性材料が分散されてなる磁性塗料中に、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を適宜含有させてもよい。
【００４０】
次に、第２磁性層３ｂを形成する。まず、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、所望の磁気記録が行われた第１磁性層３ａ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３′ｂを形成し、次いで、バイアス磁界を一定方向に加えて磁気配向処理を施す（図３（Ｂ））。これにより、第１磁性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｂ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗膜３′ｂ中に磁性材料が密な部分が形成される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。
【００４１】
磁性塗料に使用する樹脂あるいはインキビヒクルは、上述の第１磁性層３ａの形成で挙げたものを使用することができ、また、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に適宜含有させてもよい。
【００４２】
その後、磁性塗膜３′ｂを乾燥（上記のバイアス磁界を印加しながらでもよい）することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層３ｂを形成する（図３（Ｃ））。
【００４３】
次いで、第３磁性層３ｃを形成する。ここでは、磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、磁性材料の疎密パターンからなる第２磁性層３ｂ上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３′ｃを形成し、次いで、バイアス磁界を一定方向に加えて磁気配向処理を施す（図４（Ａ））。この場合、磁性塗料に使用される磁性材料は、第２磁性層に含有される磁性材料との間に、保磁力の比が３倍以上、あるいは、１／３以下となる関係が成立する磁性材料である。また、バイアス磁界の印加方向は、上記の第２磁性層３ｂ形成時の印加方向と逆方向とする。これにより、第１磁性層３ａから発生する磁力線によって磁性塗膜３′ｃ中に存在する磁化方向と、バイアス磁界の方向とが一致する部位に、磁性材料が移動して集まり、未乾燥の磁性塗膜３′ｃ中に磁性材料が密な部分が形成される。印加するバイアス磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。
【００４４】
その後、磁性塗膜３′ｃを乾燥（上記のバイアス磁界を印加しながらでもよい）することにより、第１磁性層３ａの磁気記録パターンに対応し、かつ、第２磁性層３ｂにおける磁性材料の疎密パターンに対して逆相の疎密パターンからなる固定情報を有する第３磁性層３ｃを形成する（図４（Ｂ））。次に、第１磁性層３ａの磁気記録が消去されるようなバイアス磁界を一定方向に加えて、第１磁性層３ａの磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３ｂの固定情報と第３磁性層３ｃの固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする（図４（Ｃ））。
【００４５】
このように製造される本発明の磁気記録媒体１では、磁気記録層３の第２磁性層３ｂにおける固定情報、および、第３磁性層３ｃにおける固定情報は、磁性材料が未乾燥状態の磁性塗膜中を移動して形成された疎密パターンからなるので、強磁界が加わっても消去されることがない。そして、磁気ヘッドで読み取ったときの磁気出力波形は、第２磁性層３ｂに含有される２種以上の磁性材料のそれぞれの着磁の状態と、読み取りバイアス磁界の有無、および、その向きによって変化する。例えば、第２磁性層３ｂに含有される磁性材料と、第３磁性層３ｃに含有される磁性材料が一様に磁化されており、バイアス磁界なしで読み取った場合、ほとんど磁気出力は得られない。しかし、低保磁力の磁性材料の磁化反転のみを生じさせる向きでのバイアス磁界を印加しながら読み取りを行うと、高い磁気出力が得られる。また、予め低保磁力の磁性材料のみ磁化反転させた後、バイアス磁界なしで読み取っても磁気出力が得られる。
【００４６】
本発明では、上記の第２磁性層３ｂにおける固定情報、および、第３磁性層３ｃにおける固定情報は、第１磁性層３ａへの磁気記録によって磁気記録媒体個々に任意に設定することができるので、他の磁気記録媒体との判別が可能となる。
【００４７】
尚、基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のような製造方法で基材上に第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層を順に積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるいは、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。
また、本発明の磁気記録媒体は、第１磁性層の情報を消磁しないで用いてもよい。
【００４８】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説明する。
【００４９】
（実施例１）
まず、基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み１０μｍの第１磁性層を形成した。
【００５０】
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝４０００Ｏｅ）    …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００５１】
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
【００５２】
次いで、この第１磁性層上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００５３】
（第２磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝１５００Ｏｅ）    …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００５４】
次に、上記の磁性塗膜に２０００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み５μｍ（磁性材料の密な部位での厚み）の第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。
【００５５】
次いで、この第２磁性層上に、下記の組成を有する第３磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００５６】
（第３磁性層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝１５０Ｏｅ）        …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００５７】
次に、上記の磁性塗膜に２０００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿い、かつ、上記の第２磁性層形成時の印加方向と逆の方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚みが７μｍ（磁性材料の密な部位での厚み）の第３磁性層を形成した。この第３磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″を有するものであった。
【００５８】
これにより、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。形成された磁気記録層は、第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の各疎密パターンの凹凸が外観上相殺され、ほぼ平坦なものであり、疎密パターンからなる固定情報の認識は困難であった。
【００５９】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００６０】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００６１】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、ほとんど磁気出力が得られなかった。
【００６２】
次に、磁気記録媒体の磁気記録層に、ソレノイドによる４５０Ｇの直流バイアス磁界を、第１磁性層の記録方向に沿って印加した。上記のバイアス磁界は、第３磁性層の保磁力１５０Ｏｅの磁性材料の着磁方向のみを反転させ、第２磁性層の保磁力１５００Ｏｅの磁性材料の着磁方向は反転しないような強度である。その後、磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳した磁気出力波形（磁気出力＝４．２Ｖ（ｐ−ｐ））が得られた。
【００６３】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の磁気出力は、バイアス磁界の有無、および、その方向により変化することが確認された。
【００６４】
（実施例２）
第３磁性層形成用の磁性塗料に含有させる磁性材料として、γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝１５０Ｏｅ）の代わりにパーマロイ（保磁力＝１０Ｏｅ）を用いた他は、実施例１と同様にして、本発明の磁気記録媒体を得た。
【００６５】
この磁気記録媒体の磁気記録層は、第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の各疎密パターンの凹凸が外観上相殺され、ほぼ平坦なものであり、疎密パターンからなる固定情報の認識は困難であった。
【００６６】
次いで、上記の磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００６７】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、第３磁性層のシールド効果により、ほとんど磁気出力が得られなかった。
【００６８】
次に、第３磁性層の保磁力１０Ｏｅの磁性材料の着磁方向を、第２磁性層の保磁力１５００Ｏｅの磁性材料の着磁方向と逆方向となるようなバイアス磁界を第３磁性層が飽和する強度で印加しながらカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳した磁気出力波形（磁気出力＝４．８Ｖ（ｐ−ｐ））が得られた。しかし、上記のバイアス磁界を逆方向に印加しながらカードリーダーを用いて読み取った結果、ほとんど磁気出力が得られなかった。
【００６９】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の磁気出力は、バイアス磁界の有無、および、その方向により変化することが確認された。
【００７０】
（実施例３）
まず、基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み１０μｍの第１磁性層を形成した。
【００７１】
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝４０００Ｏｅ）    …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００７２】
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
【００７３】
次いで、この第１磁性層上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００７４】
（第２磁性層形成用の塗工液）
・γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝１５０Ｏｅ）        …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００７５】
次に、上記の磁性塗膜に２０００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み６μｍ（磁性材料の密な部位での厚み）の第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。
【００７６】
次いで、この第２磁性層上に、下記の組成を有する第３磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
【００７７】
（第３磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝１５００Ｏｅ）    …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００７８】
次に、上記の磁性塗膜に２０００Ｇのソレノイドによる直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿い、かつ、上記の第２磁性層形成時の印加方向と逆の方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚みが４μｍ（磁性材料の密な部位での厚み）の第３磁性層を形成した。この第３磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″を有するものであった。
【００７９】
これにより、第１磁性層、第２磁性層および第３磁性層の積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。形成された磁気記録層は、第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の各疎密パターンの凹凸が外観上相殺され、ほぼ平坦なものであり、疎密パターンからなる固定情報の認識は困難であった。
【００８０】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００８１】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００８２】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、ほとんど磁気出力が得られなかった。
【００８３】
次に、磁気記録媒体の磁気記録層に、ソレノイドによる４５０Ｇの直流バイアス磁界を、第１磁性層の記録方向に沿って印加した。上記のバイアス磁界は、第２磁性層の保磁力１５０Ｏｅの磁性材料の着磁方向のみを反転させ、第３磁性層の保磁力１５００Ｏｅの磁性材料の着磁方向は反転しないような強度である。その後、磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳した磁気出力波形（磁気出力＝３．９Ｖ（ｐ−ｐ））が得られた。
【００８４】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の磁気出力は、バイアス磁界の有無、および、その方向により変化することが確認された。
【００８５】
（実施例４）
第２磁性層形成用の磁性塗料に含有させる磁性材料として、γ−Ｆｅ2 Ｏ3（保磁力＝１５０Ｏｅ）の代わりにパーマロイ（保磁力＝１０Ｏｅ）を用いた他は、実施例３と同様にして、本発明の磁気記録媒体を得た。
【００８６】
この磁気記録媒体の磁気記録層は、第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の各疎密パターンの凹凸が外観上相殺され、ほぼ平坦なものであり、疎密パターンからなる固定情報の認識は困難であった。
【００８７】
次いで、上記の磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１２０００Ｇの直流バイアス磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部、および、第３磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ″部に着磁を行った。
【００８８】
この磁気記録媒体をバイアス磁界なしでカードリーダーを用いて読み取った結果、ほとんど磁気出力が得られなかった。これは、第２磁性層に含有される磁性材料の保磁力（１０Ｏｅ）が非常に低く、第３磁性層から生じる磁束により第２磁性層に磁化が生じたためと考えられる。
【００８９】
次に、第２磁性層の保磁力１０Ｏｅの磁性材料の着磁方向を、第３磁性層の保磁力１５００Ｏｅの磁性材料の着磁方向と逆となるようなバイアス磁界を第２磁性層が飽和する強度で印加しながらカードリーダーを用いて読み取った結果、固定情報Ｄ′と固定情報Ｄ″とが重畳した磁気出力波形（磁気出力＝４．２Ｖ（ｐ−ｐ））が得られた。しかし、上記のバイアス磁界を逆方向に印加しながらカードリーダーを用いて読み取った結果、ほとんど磁気出力が得られなかった。
【００９０】
このことから、本発明の磁気記録媒体の第２磁性層の固定情報および第３磁性層の固定情報は、磁気的に消去できない磁気情報として利用できること、および、この固定情報の磁気出力は、バイアス磁界の有無、および、その方向により変化することが確認された。
【００９１】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明によれば基材に設けられた磁気記録層が第１磁性層と第２磁性層と第３磁性層とをこの順に基材上に積層したものであり、第２磁性層と第３磁性層とは、それぞれ磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有し、かつ、第３磁性層の疎密パターンは第２磁性層の疎密パターン上に逆のパターンで形成されたものであるため、第２磁性層と第３磁性層における磁性材料の各疎密パターンの凹凸が外観上相殺され、これらの疎密パターンからなる固定情報の存在が認識しにくいものとなり、偽造、変造等の防止上で有利であり、さらに、第２磁性層に含有される磁性材料の保磁力と、第３磁性層に含有される磁性材料の保磁力との間に、保磁力の比が３倍以上、あるいは、１／３以下となる関係が存在するので、上記の固定情報を有する第２磁性層あるいは第３磁性層を磁気ヘッドで読み取る際に、バイアス磁界の有無、および、その向きによって、得られる磁気出力レベルおよび波形が変化し、これにより、他の磁気記録媒体との判別が可能となり、磁気記録媒体の真偽判定が確実に行える。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す斜視図である。
【図２】図１のＡ−Ａ線矢視における部分拡大断面図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の一例を示す工程図である。
【図４】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の一例を示す工程図である。
【符号の説明】
１…磁気記録媒体
２…基材
３…磁気記録層
３ａ…第１磁性層
３ｂ…第２磁性層
３ｃ…第３磁性層
【図１】
0004028661.tif 000002
【図２】
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【図３】
0004028661.tif 000004
【図４】
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