(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水を気化させ水蒸気とする気化装置と、
前記気化装置から排出される前記水蒸気に不活性ガスを供給するパージガス供給部と、
前記不活性ガスが供給された前記水蒸気を凝縮させる液化装置と、
前記液化装置から排出される凝縮水を貯留するタンクと、を有し、
前記パージガス供給部は前記気化装置から水蒸気を排出する水蒸気出口部に設けられており、
前記タンクは、前記凝縮水のユースポイントよりも上方に設けられている
ことを特徴とする高純度水製造装置。
【請求項２】
水を気化させ水蒸気とする気化装置と、
前記気化装置から排出される前記水蒸気に不活性ガスを供給するパージガス供給部と、
前記不活性ガスが供給された前記水蒸気を凝縮させる液化装置と、
前記液化装置の下方に設けられ前記液化装置から排出される凝縮水を貯留する第１のタンクと、
前記第１のタンクから供給される前記凝縮水を貯留する第２のタンクと、を有し、
前記パージガス供給部は前記気化装置から水蒸気を排出する水蒸気出口部に設けられており、
前記第２のタンクは、前記凝縮水のユースポイントよりも上方に設けられている
ことを特徴とする高純度水製造装置。
【請求項３】
前記液化装置と前記第１のタンクとは、前記液化装置の底部から下方に下がった後Ｕ字状に上方に向かい前記第１のタンクの上部に続く配管により接続されている
請求項２に記載の高純度水製造装置。
【請求項４】
建屋内において、
前記第１のタンクは下階に配置され、
前記第２のタンクは前記第１のタンクよりも上の階に配置され、
前記ユースポイントは前記第１のタンクよりも上方に設けられている
請求項２または請求項３に記載の高純度水製造装置。
【請求項５】
前記第２のタンクから前記第１のタンクに前記凝縮水を一定の量戻す戻し配管と、
前記第２のタンクに収容する前記凝縮水の重量を計測する重量検出装置と、が設けられ、
前記重量検出装置が、前記戻し配管から前記第１のタンクに戻る凝縮水の量と前記ユースポイントでの前記凝縮水の使用量とに基づいて前記第１のタンクから前記第２のタンクに送出する前記凝縮水の量を制御するように構成されている
請求項２ないし請求項４のいずれか１項に記載の高純度水製造装置。
【請求項６】
前記気化装置が多重効用缶式蒸留装置である
請求項１ないし請求項５のいずれか１項に記載の高純度水製造装置。
【請求項７】
前記多重効用缶式蒸留装置の沸騰水が供給される蒸気発生器が設けられた
請求項６に記載の高純度水製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、高純度水製造方法及び高純度水装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
純水（ｐｐｍオーダの濃度で不純物を含有している水）や超純水（ｐｐｂオーダの濃度で不純物を含有している水）などの高純度水は、医薬品製造用水や半導体工業用水として広く用いられている。
前記高純度水の製造方法や装置として、特許第２６２０９００号公報や特開平６−９９１６５号公報に記載の蒸留法、特開平１１−９９３８２号公報に記載のイオン交換法、又は、これらを組み合わせた方法等が公知である。
【０００３】
また、高純度水製造においては、水中の溶存酸素等の不純物質の除去が重要であり、この脱気法として、加熱脱気法（特開昭６３−３０５９１７号公報参照）、真空脱気法（特開平１０−５７４１号公報参照）、ガスバブリング法（特開昭５８−１３３８８５号公報、特開平１１−９９３８２号公報参照）、膜脱気法（特開平１１−９９０２号公報参照）、または、フラッシュ蒸発法（特開平７−１５５７４４号公報参照）等が公知である。
医薬品製造において、高純度水を注射用水（Water for Injection）（以下、「ＷＦＩ」という）として使用する場合、ＷＦＩの溶存酸素量は、一般的に、０．５ｐｐｍ以下が要求されている。
【０００４】
一方、高純度水の製造装置においては、パイプラインを介してユースポイントへ高純度水が供給されているが、このユースポイントから、配管内に菌や不純物等が侵入し、汚染されるおそれがあった。
そのため、高純度水製造装置としては、このような汚染を防止するものでなければならず、このような汚染防止技術として、例えば、特開平５−１３８１６７号公報、特開平９−１５５３６１号公報、特開平１１−５７４１７号公報等に記載のものが公知である。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
前記従来の技術を用いて、溶存酸素量を０．５ｐｐｍ以下にするには、高純度水製造装置が大がかりになり、設備費が高くなるものであった。また、窒素バブリング法などにより脱酸素処理を行った場合は、窒素ガスの消費が多く、コスト高になるものであった。
そこで、本発明は、簡単な構成により、また低コストで、溶存酸素量を０．５ｐｐｍ以下にすることができる高純度水製造方法及び高純度水製造装置を提供することを目的とする。
【０００６】
また、一般に高純度水の製造装置は地上階に設置され、一方、ユースポイントは上層階に設けられていたため、高純度水貯留タンク内の高純度水は、供給配管を介してポンプによりユースポイントへ供給されていた。
この様な供給装置においては、従来の汚染防止装置が設けられていても、停電などで前記ポンプが停止した場合、供給配管内の高純度水が下方のタンクへ流下するため、供給配管内が負圧になり、ユースポイントから雑菌などが供給配管内へ侵入し、配管内やタンク内の高純度水が汚染されるという問題があった。
【０００７】
そこで、本発明は、停電などの場合でも汚染が生じない高純度水製造装置を提供することを目的とする。
更に、高純度水製造装置では、ユースポイントにおいて、薬液タンク等の洗浄後の滅菌処理に高温の蒸気が使用される。この蒸気は、不凝縮ガスを含まない高純度の純蒸気（pure steam）（以下、「ＰＳ」という）が要求される。
しかし、一般的に従来の高純度水製造装置では、ＰＳの製造はＵＦ水（酸素、二酸化炭素等の不純物を多く含んでいる）を原水としており、不凝縮ガスが多く、ＰＳを製造する技術が確立していなかった。
【０００８】
そこで、本発明は、ＰＳを低コストで供給することができる高純度水製造装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため、本発明は次の手段を講じた。
即ち、本発明の高純度水製造装置の特徴とするところは、水を気化させ水蒸気とする気化装置と、前記気化装置から排出される前記水蒸気に不活性ガスを供給するパージガス供給部と、前記不活性ガスが供給された前記水蒸気を凝縮させる液化装置と、前記液化装置から排出される凝縮水を貯留するタンクと、を有し、前記パージガス供給部は前記気化装置から水蒸気を排出する水蒸気出口部に設けられており、前記タンクは、前記凝縮水のユースポイントよりも上方に設けられている点にある。
【００１０】
他の本発明に係る高純度水製造装置は、水を気化させ水蒸気とする気化装置と、前記気化装置から排出される前記水蒸気に不活性ガスを供給するパージガス供給部と、前記不活性ガスが供給された前記水蒸気を凝縮させる液化装置と、前記液化装置の下方に設けられ前記液化装置から排出される凝縮水を貯留する第１のタンクと、前記第１のタンクから供給される前記凝縮水を貯留する第２のタンクと、を有し、前記パージガス供給部は前記気化装置から水蒸気を排出する水蒸気出口部に設けられており、前記第２のタンクは、前記凝縮水のユースポイントよりも上方に設けられている。
【００１１】
前記構成の本発明によれば、気体である蒸気に対してパージガスを供給するので、分散混合が良く、液体である水にパージガスを供給するバブリング法や、霧状の水にパージガスを供給する真空脱気法等に比べ、脱気効率がよくなり、且つ、パージガスの消費量が少なくなる。
前記液化装置と前記第１のタンクとは、前記液化装置の底部から下方に下がった後Ｕ字状に上方に向かい前記第１のタンクの上部に続く配管により接続されているのが好ましい。
【００１２】
前記不活性ガスは窒素であることが望ましい。
好ましくは、建屋内において、前記第１のタンクは下階に配置され、前記第２のタンクは前記第１のタンクよりも上の階に配置され、前記ユースポイントは前記第１のタンクよりも上方に設けられている。
好ましくは、前記第２のタンクから前記第１のタンクに前記凝縮水を一定の量戻す戻し配管と、前記第２のタンクに収容する前記凝縮水の重量を計測する重量検出装置と、が設けられ、前記重量検出装置が、前記戻し配管から前記第１のタンクに戻る凝縮水の量と前記ユースポイントでの前記凝縮水の使用量とに基づいて前記第１のタンクから前記第２のタンクに送出する前記凝縮水の量を制御するように構成される。
【００１３】
前記構成の本発明によれば、タンクよりも下方にユースポイントが設けられているため、停電などでポンプが停止しても、ユースポイントの高純度水がタンクに自然流下しないので、配管内が負圧になることが防止され、その結果、ユースポイントからの菌の侵入等が防止され、高純度水の汚染が防止される。
さらに好ましくは、前記気化装置が多重効用缶式蒸留装置である。
前記多重効用缶式蒸留装置の沸騰水が供給される蒸気発生器が設けられる。
前記構成の本発明によれば、不凝縮ガスが除去された多重効用缶式蒸留装置の沸騰水を、蒸気発生器に供給しているので、ＰＳを低コストで供給することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図面に基づき説明する。
図１に示すものは、高純度水製造装置の構成図である。
市水や井水からなる原料水１は、前処理装置２により前処理される。この前処理装置２は、活性炭塔、保安フィルタ等を有し、原料水中に存在する不純物を除去するものである。
前処理装置２により処理された水は、前処理水タンク３に貯留される。
【００１５】
前処理水タンク３に貯留された前処理水は、図示省略のポンプにより脱イオン装置４に供給され、脱イオン処理がされる。
この脱イオン装置４は、水を加温するヒータ、逆浸透（ＲＯ）膜装置、連続電気再生式脱イオン装置（ＣＥＤＩ装置）等を直列配置して構成されている。
前記脱イオン装置４を通過した水は、精製水タンク５に貯留される。
前記精製水タンク５に貯留された脱イオン水は、図示省略のポンプにより限外濾過（ＵＦ）膜装置６に供給され、濾過されてＵＦ水とされ、ＵＦ水タンク７に貯留される。
【００１６】
前記ＵＦ水タンク７に貯留されたＵＦ水は、図示省略のポンプにより気化装置８に供給される。
前記気化装置８は、前記供給されたＵＦ水を気化（蒸発）させるもので、この気化装置８には、気化した蒸気を排出する蒸気出口部９を有する。
前記蒸気出口部９にパージガス供給部１０が設けられている。このパージガス供給部１０よりも下流側の蒸気出口部９に、液化装置１１が設けられている。この液化装置１１は、前記気化装置８からの蒸気を液化（凝縮）させるものである。この液化装置１１の上部に、ベント管１２が接続されている。
【００１７】
前記パージガス供給部１０から、パージガス１３が供給される。このパージガス１３の供給により、不純物ガスの分圧を下げて不純物ガスの脱気処理が行われる。
前記パージガス１３として、例えば、窒素ガス（Ｎ2）が用いられる。このパージガス１３の注入は、蒸気が凝縮しない条件において行われる。
蒸気とパージガス１３と酸素、二酸化炭素などの不純物は、気体状態において液化装置１１に流入し、該液化装置１１において蒸気は液化し、液化した水は高純度水とされ、不凝縮のガスは前記ベント管１２から排出される。即ち、この脱気処理において、酸素、二酸化炭素等の不純物が除去される。
【００１８】
従って、前記蒸気出口部９、パージガス供給部１０、液化装置１１、及びベント管１２により、脱気装置１４が構成される。
高純度水を１０００ｋｇ／ｈ製造するに当たり、前記パージガス１３として窒素（Ｎ2）ガスを単位時間当たり１００〜１５０リットル連続供給したとき、この高純度水の溶存酸素量は、０．５ｐｐｍ以下であった。
前記実施の形態によれば、気体である蒸気に対してパージガス１３を供給するので、液体である水にパージガスを供給する従来のバブリング法や、霧状の水にパージガスを供給する真空脱気法等に比べ、脱酸素効率がよくなり、且つ、パージガスの消費量が少なくなる。
【００１９】
また、前記実施の形態によれば、無菌Ｎ2を流量を管理し連続注入するものであり、無菌Ｎ2連続注入ポイントは、その量を最小限とするために、蒸気出口部９とされ、蒸気との混合が良いポイントとされている。
前記液化装置１１により液化されて得られた高純度水は、高純度水タンク１５に貯留される。このタンク１５に貯留された高純度水は、図示省略のポンプによりユースポイント１６に供給され、そのリターン水は、ヒータ１７により温度管理されて前記高純度水タンク１５に戻される。即ち、高純度水は、常時、循環状態が維持され、菌の増殖が防止されている。
【００２０】
前記ユースポイント１６において、高純度水は、例えば、ＷＦＩとして使用される。即ち、ＷＦＩに主原料又は副原料を溶解し反応させるなどして注射用薬液が調整される。
前記高純度水タンク１５の上部に、ガス供給管１８が接続されている。この供給管１８には図示省略の無菌フィルタ（０．２２ミクロン）が設けられている。この供給管１８より窒素ガス等の加圧ガス１９が供給され、高純度水タンク１５内は微正圧に管理されている。この高純度水タンク１５の上部と前記ＵＦ水タンク７の上部、ＵＦ水タンク７の上部と前記精製水タンク５の上部、及び、精製水タンク５の上部と前記前処理水タンク３の上部は、連通管２０、２１、２２で連通され、高純度水タンク１５に供給された加圧ガス１９は、ＵＦ水タンク７、精製水タンク５、及び、前処理水タンク３へ供給され、各タンク内を微正圧に維持する。前記前処理水タンク３には、最終ベント管２３が設けられ、該最終ベント管２３から前記加圧ガス１９は系外へ排出される。
【００２１】
このように、各タンク３，５，７，１５内を常時、微正圧に管理することにより、負圧により生じる菌やその他の不純物の侵入を防止している。また、各タンク３，５，７，１５の連通管２０，２１，２２の入口、最終ベント管２３にも、図示省略のフィルタが設けられ、雑菌などの侵入が防止されている。
なお、前記液化装置１１のベント管１２は、前記ＵＦ水タンク７の上部に接続されており、液化装置１１からの不凝縮ガスも、前記最終ベント管２３から系外へ排出されるよう構成されている。
【００２２】
前記ユースポイント１６は、前記高純度水タンク１５よりも下方に設けられている。
このような配置構成とすることにより、停電などで図示省略のポンプが停止した場合でも、ユースポイント１６における配管内の高純度水がタンク１５へ戻らないので、ユースポイント１６の配管内が負圧になることがない。
従って、ユースポイント１６において、負圧により生じる菌などの侵入が防止され、高純度水の汚染が防止される。
【００２３】
前記ＵＦ水タンク７に貯留されているＵＦ水は、図示省略のポンプを介してユースポイント２４へ供給可能とされている。そのリターン水は、ヒータ２５により温度管理され、ＵＦ水タンク７へ戻される。
このユースポイント２４もＵＦ水タンク７よりも下方に配置され、停電時におけるＵＦ水の汚染が防止されている。
更に、前記ＵＦ水タンク７に貯留されているＵＦ水は、加熱脱気装置２６へ供給され、該脱気装置２６において不凝縮ガスが脱気された沸騰水は、ポンプで純蒸気発生器２７へ供給されて、高温蒸気に生成され、該蒸気はＰＳとしてユースポイント２８に供給され、ゴム栓また薬液タンクなどの滅菌に使用される。
【００２４】
なお、加熱脱気装置２６へ供給される加熱用スチームとして、前記純蒸気発生器２７において生成されるＰＳを直接使用するようにすれば、エネルギーのロスが防止される。
前記気化装置８及び液化装置１１としては、例えば、特許第２６２０９００号公報や特開閉６−９９１６５号公報に記載のような多重効用缶式蒸留装置とすることができる。
気化装置８として多重効用缶式蒸留装置２９を採用した場合、この蒸留装置２９により生成される沸騰水を前記純蒸気発生器２７に供給することができる。
【００２５】
即ち、多重効用缶式蒸留装置２９の効用缶の底部から沸騰が済んだ沸騰水の一部を、配管３０を介して直接ポンプで純蒸気発生器２７に供給して、ＰＳを製造し、ユースポイント２８へ供給することができる。
この後者のシステムを採用した場合は、前記ＵＦ水によるものに比べ、加熱脱気装置２６が不要となるので有利となる。
前記何れかの方法によって製造したＰＳには、滅菌条件に影響を及ぼすような不凝縮ガス等が含まれず、よって本システムで構成された純蒸気発生器２７からの蒸気は、医薬品製造メーカとして十分無菌保証のできる高品質で安定したＰＳとなる。
【００２６】
医薬品製造時の運転条件としては、ユースポイント２４，１６，２８において、（１）薬液タンクを酸、アルカリで洗浄、（２）ＵＦ水での洗浄、（３）ＷＦＩでのリンス、（４）ＰＳでの滅菌、（５）ＷＦＩの注入、（６）薬液の調整等の各工程が行われる。
前記工程によれば、一般的にＰＳ使用時は、ＷＦＩの使用量が少なく、能力に余裕ができるため、前記の如き高純度水製造ラインに、ＰＳ製造ラインを付加した高純度水製造装置とする方が、省エネまたは投資費用、バランスから優れたものとなる。
【００２７】
図２に示すものは、高純度水製造装置の他の実施の態様を示す詳細図である。尚、図１に示すものと同じものは、同じ符号を用いて説明する。
ＵＦ水３１が、気化装置８である多重効用缶式蒸留装置２９へ供給される。このＵＦ水３１は、例えば、図１に示すＵＦ水タンク７から供給される。このＵＦ水３１は、蒸留装置２９の最終段の効用缶の蒸気出口部９から気体状態で排出される。前記蒸気出口部９にパージガス供給部１０が設けられている。
前記蒸気出口部９は、蒸気管から構成され、パージガス供給部１０は、パージガス供給管から構成され、蒸気管とパージガス供給管とが接合されている。
【００２８】
パージガス供給部１０の管に、ガスの流量を制御する流量計３２と、菌の侵入を防止する無菌フィルター３３が介在されている。パージガス１３として窒素ガスが使用される。
前記蒸気出口部９の蒸気管の終端部に前記液化装置１１が接続されている。この液化装置１１は、冷却媒体３４が供給される凝縮器として構成されている。蒸気出口部９から供給された蒸気は、この液化装置１１内で凝縮水となる。
前記液化装置１１には、無菌フィルター３５と逆止弁３６を介して前記ベント管１２が接続され、該ベント管１２からパージガス１３や不凝縮ガスが排出される。このベント管１２は、前記ＵＦ水タンク７の上部に連通している。
【００２９】
前記液化装置１１で凝縮した高純度水は、第１配管３７を介して１次タンク３８に貯留され、ＷＦＩとされる。
前記第１配管３７は、前記液化装置１１の底部から下方に下がった後，Ｕ字状に上方へ向かった後、１次タンク３８の上部に接続されており、第１配管３７内のＷＦＩが１次タンク３８内へ自重落下するように構成されている。従って、液化装置１１である凝縮器は１次タンク３８よりも上方に配置されている。
前記１次タンク３８を含めた高純度水製造装置は大がかりな装置であるので、通常、地上階に設置されている。この１次タンク３８よりも上方に、該１次タンク３８よりも小容量の２次タンク３９が設置されている。この２次タンク３９よりも下方に、ＷＦＩを使用するユースポイント１６が設けられている。具体的には、２次タンク３９は建屋の最上階に設けられ、ユースポイント１６は、２階や３階に設けられている。
【００３０】
前記１次タンク３８の底部と２次タンク３９の上部とが第２配管４０で接続されている。第２配管４０に揚水ポンプ４１が介在され、１次タンク３８内のＷＦＩは、ポンプ４１によって２次タンク３９へ供給される。
前記２次タンク３９内のＷＦＩは、供給ポンプ４２及び第３配管４３を介してユースポイント１６へ供給される。この第３配管４３は、２次タンク３９の上部へリターンしている。この第３配管４３のリターン部に前記ヒータ１７が介在され、循環するＷＦＩの温度管理をしている。
【００３１】
前記１次タンク３８の上部と２次タンク３９の底部は第４配管４４で接続され、常時、２次タンク３９内のＷＦＩを１次タンク３８へ戻すように構成されている。この第４配管４４は、配管自体で一定量が流れるように設計し、その径が小さくされている。
前記揚水ポンプ４１は、可変速度モータにより、その吐出量が制御されている。
前記２次タンク３９は、ロードセル等の重量検出装置４５により、内部に貯留されているＷＦＩの水量が検出されている。この重量検出装置４５により前記揚水ポンプ４１の吐出量が制御され、２次タンク３９の貯水量を適正値に制御している。
【００３２】
このように外部から２次タンク３９の液面を管理しているので、２次タンク３９内に液面計などを設けるものに比べ、雑菌等の不純物質の侵入が防止される。
前記揚水ポンプ４１は、１次タンク３８内のＷＦＩを２次タンク３９へ供給すると共に、１次タンク３８へのサーキュレーションを行う。
例えば、前記第４配管４４の流量が「２」で、ユースポイント１６での使用量が「８」の場合、揚水ポンプ４１の吐出量は「１０」となるように制御されている。
【００３３】
前記第４配管４４は、長時間、２次タンク３９への供給の必要がない場合（ユースポイント１６での使用がない場合）でも、ＷＦＩの滞留をなくして菌の増殖を防止する目的で設けられているもので、必要最小限の量を２次タンク３９から１次タンク３８へ戻すように構成されている。
以上のように、菌の増殖を防ぐ目的の一つである滞留をなくする方法として、１次タンク３８と２次タンク３９との一連のループを揚水ポンプ４１と供給ポンプ４２によって構成し、ＷＦＩの流れを常に確保することによって、ＷＦＩの品質を安定的に確保することができる。
【００３４】
前記２次タンク３９の上部に、タンク内の内圧を管理するガス供給管１８が接続されている。この供給管１８には無菌フィルター４６（０．２２ミクロン）が設けられている。この供給管１８に加圧ガス１９である窒素ガスが供給され、前記２次タンク３９内を常時微正圧に管理し、液面変化によるタンク内の負圧を防止し、空気や菌などの不純物質の侵入を防止している。
この２次タンク３９の上部と前記１次タンク３８の上部とは連通管４７で接続され、前記加圧ガス１９が１次タンク３８へも供給され、１次タンク３８内も微正圧に維持されている。
【００３５】
１次タンク３８の上部に無菌フィルター４８及び逆止弁４９を介して連通管２０が接続され、この連通管２０は、前記図１に示すＵＦ水タンク７の上部に連通している。
尚、前記蒸留装置２９の多重効用缶の底部から沸騰が済んだ沸騰水の一部が、配管３０を介して直接ポンプで純蒸気発生器２７に供給されている。
前記図２記載の実施の形態によれば、２次タンク３９の下方にユースポイント１６を設けているので、停電などで供給ポンプ４２が停止しても、第３配管４３内が負圧にならないので、ユースポイント１６からの負圧による菌などの侵入が防止される。
【００３６】
また、小容量の２次タンク３９を、建家の最上階に設けるように構成しているので、大がかりな装置を屋上に設けるものに比べ、設備費が安くなり、低コストとなる。
尚、図１に示すＵＦ水タンク７も、大容量の１次タンクと小容量の２次タンクに分け、１次タンクを地上階へ、２次タンクを最上階へ配置し、前記ユースポイント２４を２次タンクよりも下方に配置することができる。本発明の高純度水が貯留されるタンクとは、ＵＦ水タンク７と高純度水タンク１５の何れか一方又は両方を含むものである。
【００３７】
なお、本発明は、前記実施の形態に示すものに限定されるものではない。
例えば、原料水を気化する気化装置８として多重効用缶式蒸留装置２９を用いる代わりに、他の気化手段を採用できる。例えば、特開平７−１５５７４４号公報に示すフラッシュ蒸発された蒸気や、特開平６−９９１６５号公、特開昭６３−３０５９１７号公報報などに示される加熱脱気装置における蒸気に対して、パージガスを供給し、脱気処理を行うものであっても良い。脱気処理は脱酸素処理に限定されない。
【００３８】
また、パージガスは窒素ガスに限定されるものではなく、高純度水の使用用途に応じて、その他の不活性ガスやその他のガスを用いることができる。
また、タンク内を常時微正圧に維持する手段として、窒素ガスを用いるものに限定されない。
高純度水の用途も、ＷＦＩに限定されるものではなく、化粧品、半導体製造等に用いるものであっても良い。
【００３９】
【発明の効果】
本発明の高純度水製造方法及び高純度水製造装置によれば、気体状態の蒸気にパージガスを供給して脱気処理を行うようにしているので、簡単な構成により、また低コストで、高純度水中の溶存不純物質を減少させることができる。例えば、溶存酸素量を０．５ｐｐｍ以下にすることができる。
また、本発明の高純度水製造装置によれば、高純度水のタンクをユースポイントよりも上方に配置したので、停電などの場合でも配管内が負圧にならないので、菌の侵入による汚染が生じ難く、安定した品質の高純度水を供給することができる。
【００４０】
更に、本発明の高純度水製造装置によれば、不凝縮ガスが含まれないＰＳを低コストで安定して供給することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１は、本発明の実施の形態を示す高純度水製造装置の構成図である。
【図２】  図２は、本発明の高純度水製造装置の他の実施の形態を示す詳細な構成図である。
【符号の説明】
７  ＵＦ水タンク
８  気化装置
９  蒸気出口部
１０  パージガス供給部
１１  液化装置
１３  パージガス
１４  脱気装置
１５  高純度水タンク
１６  ユースポイント
２４  ユースポイント
２７  蒸気発生器
２９  多重効用缶式蒸留装置
３０  配管
３８  タンク、第１のタンク（１次タンク）
３９  第２のタンク（２次タンク）
４４  戻し配管（第４配管）
４５  状量検出装置
【図１】
0003936587.tif 000002
【図２】
0003936587.tif 000003