(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ光を出射するレーザ光源と、
上記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射され、露光用の原盤の露光面の近接場領域に配される収束レンズと、
上記レーザ光源と上記収束レンズとの間の光路中に配される偏光ビームスプリッタと上記偏光ビームスプリッタと上記収束レンズとの間に配される１／４波長板と、
上記レーザ光源と上記偏光ビームスプリッタとの光路中に配されたビームスプリッタと、
上記収束レンズの先端面で反射されたレーザ光の一方の直線偏光成分を検出する検出部と、
上記検出部からの検出信号に基づいて上記収束レンズの先端面と上記露光面との間の距離を制御する制御部とを備え、
上記検出部は、上記先端面で反射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタを透過し、上記ビームスプリッタで反射された光を検出することを特徴とする露光装置。
【請求項２】
上記収束レンズは、対物レンズと上記対物レンズと上記露光面との間に配されるソリッドイマージョンレンズとを備えていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項３】
更に上記レーザ光源から出射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタで反射された光を吸収する光吸収部材を備えていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項４】
更に上記先端面で反射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタで反射された光を吸収する光吸収部材を備えていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項５】
上記ビームスプリッタは、無偏光ビームスプリッタであることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項６】
更に上記レーザ光源から出射されたレーザ光のうち上記ビームスプリッタで反射された光を吸収する光吸収部材を備えていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項７】
更に上記ビームスプリッタと上記偏光ビームスプリッタとの間の光路中に配されたビームエキスパンダを備えていることを特徴とする請求項１記載の露光装置。
【請求項８】
露光用の原盤の露光面の近接場領域に配される収束レンズの先端面で反射されたレーザ光の一方の直線偏光成分を検出し、
上記検出された結果得られる検出信号に基づいて上記収束レンズを光軸方向に移動させることによって上記収束レンズの先端面と上記露光面との間の距離を制御する収束レンズの制御方法において、
レーザ光源から出射されたレーザ光と同じ直線偏光成分を透過し、上記同じ直線偏光成分と直交する直線偏光成分を反射する偏光ビームスプリッタと１／４波長板を用い、上記収束レンズの先端面に臨界角以下で入射した光を上記１／４波長板によって上記直交する直線偏光成分とすることによって上記偏光ビームスプリッタで反射させ、
上記先端面で反射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタを透過した光を検出することを特徴とする収束レンズの制御方法 。
【請求項９】
上記収束レンズは、対物レンズと上記対物レンズと上記露光面との間に配されるソリッドイマージョンレンズとを備えていることを特徴とする請求項８記載の収束レンズの制御方法。
【請求項１０】
上記偏光ビームスプリッタによって反射された光は光吸収部材によって吸収されることを特徴とする請求項８記載の収束レンズの制御方法。
【請求項１１】
上記レーザ光源から出射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタで反射された光を吸収する更なる光吸収部材を備えていることを特徴とする請求項８記載の収束レンズの制御方法。
【請求項１２】
上記レーザ光源と上記対物レンズとの間に配されたビームエキスパンダを用いて上記対物レンズによる上記レーザ光源から出射されたレーザ光の集光点が上記先端面にあるように調整することを特徴とする請求項８記載の収束レンズの制御方法。
【請求項１３】
上記ビームエキスパンダは、凸レンズと凹レンズから構成され、上記凸レンズと上記凹レンズとの間の距離を調整することによって上記対物レンズによる集光点の位置を調整することを特徴とする請求項８記載の収束レンズの制御方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、近接場光を利用して露光用原盤の露光を行う露光装置及び収束レンズの制御方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光ディスクの高密度化のニーズに対応してスポット径をより一層微小化させるために、対物レンズと露光原盤との間に、球形レンズの一部を切り取った形状をした高屈折率のレンズであるソリッドイマージョンレンズ（ＳＩＬ：Solid Immersion Lens）を配置することにより、対物レンズ自体の開口数よりも大きな開口数（例えば１よりも大きな開口数）を得ることが実現されている。このＳＩＬは、球面が対物レンズ側に、球面と反対側が露光原盤等側に向けられるように配置されている。また、ソリッドイマージョンミラー（ＳＩＭ：Solid Immersion Mirror）を用いても大きな開口数を実現できる。
【０００３】
このＳＩＬを用いて露光を行うには、対物レンズを透過した露光レーザ光をＳＩＬに集光させ、かつ、ＳＩＬの最下部端面である先端面（ＳＩＬの露光原盤等との対向面）と露光原盤等の被照射面との距離を近接場光が生じる領域（ニアフィールド領域）まで接近させ、さらに、ＳＩＬの先端面と露光原盤等の被照射面との距離を一定にするギャップ制御を行う必要がある。
【０００４】
このギャップ制御を行うために、ギャップ長を検出する方法が必要になるが、この方法の一つに全反射検出法がある。この全反射検出法では、ＳＩＬの先端面が露光原盤の被照射面より大きく離れているときには、ＳＩＬと対物レンズにより構成される収束レンズへの入射光の高ＮＡ成分（ＮＡ≧１．０）がＳＩＬの先端面で全反射されるが、ＳＩＬの先端面が露光原盤の被照射面に対して近接場領域にまで近づくと戻り光の光強度が低下することを利用する。
【０００５】
すなわち、ＳＩＬの先端面からの戻り光の光強度が低下し、この戻り光の光強度が所定の値に達したところで維持するようにサーボをかけることにより、ＳＩＬの先端面と露光原盤の被照射面との距離が一定に保たれるギャップ制御が行われる。
【０００６】
この全反射検出法によるギャップ制御は、収束レンズのＮＡが１以下となる領域の入射光の成分がＳＩＬの先端面で反射した戻り光については、遮光円形マスクを光路上に配置して遮光することによって、収束レンズのＮＡが１以上となる領域の入射光の成分の戻り光、すなわち、収束レンズの先端面に臨界角以上の角度で入射した光の戻り光の光強度のみを検出することにより行われていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、収束レンズのギャップサーボが作動していて、収束レンズの先端面と露光原盤の被照射面との間隔が一定の近接距離に保持されている場合はいいが、例えば、サーボの引き込み時には、遮光円形マスクだけでは収束レンズのＮＡが１以上となる領域の入射光の成分の戻り光以外のフレネル反射による戻り光を十分には遮断しきれず、検出光に誤差として重畳してしまう。また、遮光円形マスクのエッジからの光の漏れこみによっても検出光に誤差が生じてしまう。
【０００８】
本発明はかかる問題点に鑑みてなされたもので、その目的は、近接場光を利用して露光用原盤に露光を行う際に、ギャップ制御を精度よく安定して行うことができる露光装置、露光方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る露光装置は、レーザ光を出射するレーザ光源と、上記レーザ光源から出射されたレーザ光が入射され、露光用の原盤の露光面の近接場領域に配される収束レンズと、上記レーザ光源と上記収束レンズとの間の光路中に配される偏光ビームスプリッタと上記偏光ビームスプリッタと上記収束レンズとの間に配される１／４波長板と、上記レーザ光源と上記偏光ビームスプリッタとの光路中に配されたビームスプリッタと、上記収束レンズの先端面で反射されたレーザ光の一方の直線偏光成分を検出する検出部と、上記検出部からの検出信号に基づいて上記収束レンズの先端面と上記露光面との間の距離を制御する制御部とを備え、上記検出部は、上記先端面で反射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタを透過し、上記ビームスプリッタで反射された光を検出することを特徴とする。
【００１０】
また、本発明に係る収束レンズの制御方法は、露光用の原盤の露光面の近接場領域に配される収束レンズの先端面で反射されたレーザ光の一方の直線偏光成分を検出し、上記検出された結果得られる検出信号に基づいて上記収束レンズを光軸方向に移動させることによって上記収束レンズの先端面と上記露光面との間の距離を制御する収束レンズの制御方法において、レーザ光源から出射されたレーザ光と同じ直線偏光成分を透過し、上記同じ直線偏光成分と直交する直線偏光成分を反射する偏光ビームスプリッタと１／４波長板を用い、上記収束レンズの先端面に臨界角以下で入射した光を上記１／４波長板によって上記直交する直線偏光成分とすることによって上記偏光ビームスプリッタで反射させ、上記先端面で反射されたレーザ光のうち上記偏光ビームスプリッタを透過した光を検出することを特徴とする。
【００１１】
本発明に係る露光装置及び収束レンズの制御方法は、収束レンズの先端面において反射された露光レーザ光の戻り光のうち、露光レーザ光の偏光状態と同じ偏光状態の成分の光強度を検出することにより、収束レンズの先端面に臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光の戻り光の光強度のみを検出する。例えば、露光レーザ光の偏光状態がＰ偏光である場合に、収束レンズの先端面に臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光の戻り光のうちＰ偏光成分の光強度のみ検出するようにできる。
【００１２】
また、本発明においては、露光レーザ光を偏光ビームスプリッタと１／４波長板に順次透過させて収束レンズに入射させ、収束レンズの先端面において反射された露光レーザ光の戻り光のうち１／４波長板と偏光ビームスプリッタに順次透過された成分の光強度を検出する。例えば、露光レーザ光は、Ｐ偏光で偏光ビームスプリッタを透過して、１／４波長板で円偏光に変換される。１／４波長板で円偏光に変換された露光レーザ光は、収束レンズに入射する。収束レンズの先端面において臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光は、収束レンズの先端面で反射されて、楕円偏光となり、この戻り光のＰ偏光成分は１／４波長板、偏光ビームスプリッタを透過して、光強度が検出される。
【００１３】
また、このような収束レンズの先端面において臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光の戻り光を無偏光スプリッタにより反射させて分離して検出するようにしてもよい。
【００１４】
また、本発明においては、露光用光源と収束レンズとの間に配置されたビームエキスパンダーを透過した露光用レーザ光の戻り光をビームスプリッタによって分離するようにしてもよい。このビームスプリッタで反射されて分離された露光用レーザ光の戻り光の状態に応じて、ビームエキスパンダのレンズ間隔を調整することにより、例えば収束レンズが対物レンズとＳＩＬから構成されている場合には、対物レンズとＳＩＬの間隔調整誤差や対物レンズの球面収差等を修正することができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照して詳細に説明する。
【００１６】
図１は本発明の一実施の形態である露光装置の概略構成を表したものである。この露光装置は、ＳＩＬの最下部端面である先端面と露光用原盤１０の露光面との間の距離（ギャップ長）を一定にするギャップ制御を行って、露光レーザ光Ｌにより露光用原盤１０のレジスト１０ａの露光を行うものである。
【００１７】
この露光装置は、レーザ光源１１と、無偏光ビームスプリッタ（ＮＢＳ：Normal Beam Splitter）１２と、ビームストップ１３ａ，１３ｂおよび１３ｃと、例えば凸レンズ１４ａおよび凹レンズ１４ｂからなるビームエキスパンダ１４と、偏光ビームスプリッタ（ＰＢＳ：Polarized Beam Splitter）１５と、１／４波長板（ＱＷＰ：Quarter Wave Plate）１６と、ミラー１７と、対物レンズ１８およびＳＩＬ１９からなる収束レンズ２０と、フォトディテクタ（ＰＤ）２１とを有する。なお、ビームストップ１３ａ，１３ｂおよび１３ｃは、例えば黒色の板等であって、光を吸収するものであればよい。なお、ビームストップ１３ａ，１３ｂおよび１３ｃを設けなくても、光を十分遠方で散乱させるようにしてもよい。
【００１８】
次に、このような露光装置によって、ＳＩＬ１９の最下部端面である先端面１９ａと露光用原盤１０の露光面との間の距離（ギャップ長）を一定にするギャップ制御を行う原理について説明する。
【００１９】
まず、レーザ光源１１から露光レーザ光Ｌが出射される。この露光レーザ光Ｌは、一部がＮＢＳ１３において反射されこの反射光はビームストップ１３ａに吸収される。このようにビームストップ１３ａにより露光レーザ光ＬのＮＢＳ１３における反射光を吸収させて、再びＮＢＳ１３に逆戻りしないようにすることにより、ギャップ制御の精度が向上する。
【００２０】
一方、ＮＢＳ１３を透過した露光レーザ光Ｌは、ビームエキスパンダー１４により対物レンズ１８の入射瞳よりも十分に大きくビーム径が広げられる。このようにビーム径を広げられた露光レーザ光Ｌは、ＰＢＳ１５の反射面に対してＰ偏光となっているためにＰＢＳ１５をほぼ１００％透過する。ただし、ＰＢＳ１５の消光比が悪いと、ごく一部の露光レーザ光ＬがＰＢＳ１５において反射することがあるが、このような反射光はビームストップ１３ｂに吸収される。このようにビームストップ１３ｂにより露光レーザ光ＬのＰＢＳ１５における反射光を吸収させて、再びＰＢＳ１５に逆戻りしないようにすることにより、ギャップ制御の精度が向上する。
【００２１】
ＰＢＳ１５を透過した露光レーザ光Ｌは、結晶軸が入射偏光方向に対して４５°傾けられて配置された１／４波長板１６を透過することにより、円偏光に変換される。
【００２２】
この１／４波長板１６にて円偏光に変換された露光レーザ光Ｌは、ミラー１７により反射されて、対物レンズ１８に入射する。この対物レンズ１８によりＳＩＬ１９の先端面１９ａに露光レーザ光Ｌが集光するようにＳＩＬ１９が配置されていると、ＳＩＬ１９の先端面１９ａで反射された露光レーザ光Ｌは戻り光としてミラー１７側へ戻る。
【００２３】
このＳＩＬ１９の先端面１９ａに臨界角以下の角度で入射した露光レーザ光Ｌは、先端面１９ａで反射されて、戻り光として、ＳＩＬ１９、対物レンズ１８を透過して、ミラー１７で反射され、１／４波長板１６で直線偏光に変換される。この１／４波長板１６で直線偏光に変換された戻り光は、ＰＢＳ１５にＳ偏光で入射されるために、ＰＢＳ１５で反射される。このＰＢＳ１５で反射された戻り光は、ビームストップ１３ｃにより吸収される。このようにビームストップ１３ｃによりＰＢＳ１５で反射された戻り光を吸収させることにより、再びＰＢＳ１５にこのような戻り光の反射成分が逆戻りしないようにすることができる。これいにより精度の高いギャップ制御を行うことができる。
【００２４】
一方、このＳＩＬ１９の先端面１９ａに臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光Ｌ、すなわち、収束レンズ２３のＮＡ（開口数）がギャップを満たす材質が空気である場合には１以上となる領域の露光レーザ光Ｌの高ＮＡ成分は、先端面１９ａで反射されて、楕円偏光となり、戻り光として、ＳＩＬ１９、対物レンズ１８を透過して、ミラー１７で反射され、１／４波長板１６を透過した後も直線偏光とはならない。このため、この戻り光のＳ偏光成分はＰＢＳ１５で反射されてビームストップ１３ｃにより吸収されるが、Ｐ偏光成分はＰＢＳ１５を透過する。この露光レーザ光Ｌの偏光状態であるＰ偏光と同じ偏光状態の成分である、戻り光のＰ偏光成分は、ビームエキスパンダー１４によりビーム径が縮小された後、ＮＢＳ１２において一部が透過するが、一部が反射されてＰＤ２１により光強度が検出される。
【００２５】
このＰＤ２１での戻り光の検出強度は、ＳＩＬ１９の先端面１９ａと露光用原盤１０の露光面との間が十分離れており、ＳＩＬ１９の先端面１９ａがニアフィールド領域から離れている場合には、露光レーザ光ＬのうちＳＩＬ１９の先端面１９ａに臨界角以上で入射した光は先端面１９ａで全反射するので、ある一定の値を示す。しかし、ＳＩＬ１９の先端面１９ａと露光用原盤１０の露光面との間の距離が例えば光の波長以下のニアフィールド領域内にまで近づくと、露光レーザ光ＬのＳＩＬ１９の先端面１９ａで全反射していた成分が露光用原盤１０側に透過してくるので、ＰＤ２１での戻り光の検出強度は低下する。さらに、ＳＩＬ１９の先端面１９ａと露光用原盤１０の露光面との間のギャップが０になると、露光レーザ光ＬのＳＩＬ１９の先端面１９ａで全反射していた成分のほぼすべてが露光用原盤１０側にしみだし、透過するため、ＰＤ２１での戻り光の検出強度はほぼ０となる。
【００２６】
そこで、ＳＩＬ１９の先端面１９ａと露光用原盤１０の露光面との間の距離が十分離れており、ニアフィールド領域から離れている場合の戻り光のＰ偏光成分の検出強度に対して例えば６０％程度にＰＤ２１におけるリファレンスレベルを設定する。そして、ＰＤ２１における戻り光の強度がリファレンスレベルになるように、対物レンズ１８およびＳＩＬ１９を一体で光軸方向に例えばピエゾ素子からなる図示しないアクチュエータにより図示しないギャップ制御装置を用いてサーボ制御することにより、ＳＩＬ１９の先端面１９ａと露光用原盤１０の露光面との間のギャップを一定に保持できるようになる。
【００２７】
すなわち、ギャップ制御装置において、ＰＤ２１で検出された戻り光のＰ偏光成分の強度を被制御量としてギャップ制御電圧が出力され、このギャップ制御電圧に応じてアクチュエータである例えばピエゾ素子が伸縮制御されることにより、このピエゾ素子が取り付けられたＳＩＬ１９と、露光原盤１０の露光面との間の距離が制御される。
【００２８】
このようにギャップ制御を行いながら、露光レーザ光ＬをＮＢＳ１２、ビームエキスパンダー１４、ＰＢＳ１５、１／４波長板１６、ミラー１７を介して対物レンズ１８に入射させて、対物レンズ１８によりＳＩＬ１９の先端面１９ａ上に集光させる。これにより、露光レーザ光Ｌａが先端面１９ａからしみだして、近接場光を利用した露光用原盤１０のレジスト１０ａの露光を行うことができる。
【００２９】
ところで、対物レンズ１８とＳＩＬ１９の間隔調整誤差や、対物レンズ１８そのものの公差等により球面収差が生じることで、設計上の集光点であるＳＩＬ１９の先端面１９ａからずれた位置に露光レーザ光Ｌが集光することがある。
【００３０】
例えば、平行ビームを入射してＳＩＬ１９の先端面１９ａに集光するように設計した対物レンズ１８であるにもかかわらず、集光点がＳＩＬ１９の先端面１９ａより手前、つまりＳＩＬ１９の内部になったとする。この場合には、ビームエキスパンダー１４を構成する例えば凹レンズ１４ｂと凸レンズ１４ａとの間隔を狭めて、発散気味のレーザ光を用いることで焦点位置を遠方にシフトさせ、ＳＩＬ１９の先端面１９ａに集光させることができる。逆に、集光点がＳＩＬ１９の先端面１９ａより遠方になってしまっている場合には、ビームエキスパンダー１４を構成する凹レンズ１４ｂと凸レンズ１４ａとの間隔を広げることで、ＳＩＬ１９の先端面１９ａに集光させることができる。このようにビームエキスパンダー１４を構成する凹レンズ１４ｂと凸レンズ１４ａとの間隔を調整することによりフォーカスバイアス調整を行うことができる。
【００３１】
ＳＩＬ１９の先端面１９ａに露光レーザ光Ｌが集光していることの確認には、露光レーザ光ＬがＳＩＬ１９の先端面１９ａに集光し、反射した場合に、戻り光が入射光である露光レーザ光Ｌと同光路を逆行することを利用する。ビームエキスパンダー１４よりレーザ光源１１側で平行ビームとなっている位置に配置されているＮＢＳ１２により、入射光である露光レーザ光Ｌの一部と反射戻り光の一部をそれぞれ取り出し、それぞれのビーム径をモニタリングする。ＳＩＬ１９の先端面１９ａ上に露光レーザ光Ｌが集光され反射されている場合には、モニタリングされるそれぞれのビーム径が等しくなっているが、露光レーザ光Ｌの先端面１９ａにおける集光点がずれている場合には、それぞれのビーム径は異なってくる。なお、ＮＢＳ１２とは別に、ビームエキスパンダー１４よりレーザ光源１１側にＮＢＳ等を配置して、入射光である露光レーザ光Ｌの一部と反射戻り光の一部をそれぞれ取り出し、上記それぞれのビーム径をモニタリングするようにしてもよい。例えば、ビームエキスパンダー１４をＮＢＳ１２よりレーザ光源１１側に配置した場合に、ビームエキスパンダー１４よりレーザ光源１１側にＮＢＳ等を配置するようにしてもよい。
【００３２】
例えば、露光レーザ光Ｌの集光点がＳＩＬ１９の先端面１９ａの手前になってずれている場合には、戻り光のビーム径は小さくなり、逆に、露光レーザ光Ｌの集光点がＳＩＬ１９の先端面１９ａより遠方になっている場合には、戻り光のビーム径は大きくなる。そこで、露光レーザ光Ｌと戻り光のそれぞれのビーム径を等しくなるように、ビームエキスパンダー１４の間隔を調整することにより露光レーザ光ＬをＳＩＬ１９の先端面１９ａへ集光させるような調整が可能となる。
【００３３】
このように本実施の形態では、ギャップ制御を行うのに、ＳＩＬ１９の先端面１９ａに臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光Ｌの戻り光のＰ偏光成分のみがＰＤ２１により検出されるようにしたので、従来のように円形遮光マスクを配置する必要はなく、精度良く安定したギャップ制御を行うことができ、外乱によるサーボ破綻が起きる確率も格段に減少する。さらに、本実施の形態の露光装置により露光された露光原盤を用いて製造した光ディスクのＳＮＲ（Signal Noise Ration）は格段に向上する。
【００３４】
また、本実施の形態では、ビームエキスパンダー１４を構成する例えば凹レンズ１４ｂと凸レンズ１４ａとの間隔を調整することにより、フォーカスバイアスを調整することができるようにしたので、対物レンズ１８とＳＩＬ１９との間隔ずれや、対物レンズ１８そのものの球面収差に対するマージンを広く取ることができるようになる。
【００３５】
以上、実施の形態を挙げて本発明を説明したが、本発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、種々変形可能である。
【００３６】
上記実施の形態では、ビームエキスパンダー１４をＮＢＳ１２とＰＢＳ１５との間に配置するようにしたが、この場所に限らず、ＮＢＳ１２と対物レンズ１８との間に配置されるようにしてもよい。また、上述したようにビームエキスパンダー１４をＮＢＳ１２よりもレーザ光源１１側に配置した場合であっても、ビームエキスパンダー１４よりレーザ光源１１側にフォーカスバイアスの調整に用いるＮＢＳ等を配置するようにすればよい。
【００３７】
また、上記実施の形態では、ビームエキスパンダー１４はフォーカスバイアスの調整以外に、対物レンズ１８への入射ビーム径を十分に大きくするという役割を担っているが、レーザ光源１１からのビーム径が十分大きい場合には、さらに拡大する必要はなく、逆に縮小するようなレンズ配置にしてもよい。ただし、対物レンズ１８への入射ビーム径は対物レンズ１８の入射瞳より十分大きくしておく必要はある。
【００３８】
さらに、上記実施の形態では、露光用原盤の露光を行う例について説明したが、光学的記録媒体全般においてＳＩＬ等を用いたギャップ制御やフォーカスバイアス調整に適用してもよい。
【００３９】
また、上記実施の形態では、ＳＩＬを収束レンズに用いる例について説明したが、近接場エリアへのアプローチを必要とするＳＩＭ（Solid Immersion Mirror）やその他の光学素子に適用してもよい。
【００４０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、近接場光を利用した露光において、収束レンズの先端面に臨界角以上の角度で入射した露光レーザ光の戻り光の成分の光強度のみを検出してギャップ制御を行うようにしたので、精度良く安定したギャップ制御を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態である露光装置の概略構成を表す説明図である。
【符号の説明】
１０…露光用原盤、１１…レーザ光源、１２…ＮＢＳ、１３ａ，１３ｂ，１３ｃ…ビームストップ、１４…ＢＥ、１４ａ…凸レンズ、１４ｂ…凹レンズ、１５…ＰＢＳ、１６…１／４波長板、１８…対物レンズ、１９…ＳＩＬ、２０…収束レンズ、２１…ＰＤ
【図１】
0004016179.tif 000002