(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面に、炭素数４〜１０のジエン系モノマーを全モノマーの０．５重量％以上の含有割合で構成ユニットとして含む（共）重合体もしくはその水素添加物を０．２〜３ｍｍｏｌ／ｇのスルホン酸（塩）基含量となるようにスルホン化して得られる、ポリスチレン換算の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００であるポリマーが水に乳化分散したものを、塗布または含浸させてなることを特徴とするインクジェット方式に使用される記録用シート。
【請求項２】
上記基材表面に、ジエン系モノマーを構成ユニットとして含む（共）重合体もしくはその水素添加物をスルホン化して得られる上記ポリマーを含有する層を設けてなることを特徴とする請求項１に記載の記録用シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水性インクを使用した記録に有用な記録用シートに関するものであり、さらに詳しくは印字品質が良好で、かつ、インク吸収性に優れたインクジェット方式による記録に有用な記録用シートに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
紙などの基材表面にインクジェット方式により記録する方法は、コンピューターのプリンターなどに採用され近年急速に普及している。インクジェット方式による記録は、インクの微少液滴を飛翔させて紙や高分子シートなどの記録用シートに付着させ、画像や文字などの記録を行うものであり、高速、低騒音であり、多色化が可能であり、記録パターンの融通性が大きく、現像―定着の行程が不要などの特徴がある。さらに、多色インクジェット方式により形成される画像は、製版方式による多色印刷やカラー写真方式による印画に比較して、遜色のない記録を得ることが可能である。
【０００２】
このインクジェット方式による記録で使用される記録用シートとしては、通常に印刷や筆記に使われる上質紙やコーテッド紙、ポリエステルなどの高分子材料などが知られている。一方、インクジェット記録用のインクとしては、安全性、記録特性の面から、主に水を主成分とする水性インクが使用され、ノズルの目詰まり防止および吐出特性の向上のために多価アルコール等が添加されている場合が多い。
それ故、インクジェット記録方式に使用される記録用シートとしては、
▲１▼水性インクを素早く吸収し、かつインクを滲ませないこと
▲２▼ 画像色彩性、鮮明性が良いこと
▲３▼ 印字ドット形状が良いこと
▲４▼ ＯＨＰ用として使用する場合には高い透明性を有していること
などの諸物性を満足させる必要がある。
これらの要求を満足させるためには、用いる記録用シートの特性に負うところが多いのであるが、従来、これら全ての特性を満足した記録用シートは知られていないのが現状である。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
これら従来の記録用シートは、用いた水溶性または水分散性ポリマーのインク吸収能が不十分であるため、印字品質および印刷後のインク乾燥性が十分満足されるものではなかった。本発明の目的は、水溶性または水分散性ポリマーのインクを用いた場合、印字品質が良好でかつインク吸水性に優れた記録用シートを提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明は、基材表面に、炭素数４〜１０のジエン系モノマーを全モノマーの０．５重量％以上の含有割合で構成ユニットとして含む（共）重合体もしくはその水素添加物を０．２〜３ｍｍｏｌ／ｇのスルホン酸（塩）基含量となるようにスルホン化して得られる、ポリスチレン換算の重量平均分子量が１，０００〜１，０００，０００であるポリマーが水に乳化分散したものを、塗布または含浸させてなることを特徴とするインクジェット方式に使用される記録用シートを提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳細に説明する。
本発明に使用されるジエン系（共）重合体あるいはその水素添加物（以下「水添物」ともいう）のスルホン化物は、ジエンモノマーを必須成分とするジエン系（共）重合体（以下「ベースポリマー」ともいう）あるいはその水添物をスルホン化することによって得られる。
ベースポリマーに使用されるジエンモノマーとしては、炭素数４〜１０のジエン系化合物が好ましく、より好ましくは炭素数４〜８、さらに好ましくは炭素数４〜６のジエン系化合物である。
【０００６】
ジエンモノマーの具体例としては、例えば、１，３−ブタジエン、１，２−ブタジエン、１，２−ペンタジエン、１，３−ペンタジエン、２，３−ペンタジエン、イソプレン、１，２−ヘキサジエン、１，３−ヘキサジエン、１，４−ヘキサジエン、１，５−ヘキサジエン、２，３−ヘキサジエン、２，４−ヘキサジエン、２，３−ジメチル−１，３−ブタジエン、２−エチル−１，３−ブタジエン、１，２−ヘプタジエン、１，３−ヘプタジエン、１，４−ヘプタジエン、１，５−ヘプタジエン、１，６−ヘプタジエン、２，３−ヘプタジエン、２，５−ヘプタジエン、３，４−ヘプタジエン、３，５−ヘプタジエン、シクロペンタジエン、ジシクロペンタジエン、エチリデンノルボルネンなどのほか、分岐した炭素数４〜７の各種脂肪族あるいは脂環族ジエン類が挙げられ、１種単独でまたは２種以上を併用して用いることができる。特に好ましいのは１，３−ブタジエン、イソプレンである。
【０００７】
これらのジエンモノマー以外に、他のモノマーを併用することもできる。他のモノマーとしては、例えば、スチレン、α―メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｐ―メチルスチレン、ｍ―メチルスチレン、ビニルナフタレンなどの芳香族モノマー、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ブチルなどの（メタ）アクリル酸アルキルエステル、（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸などのモノあるいはジカルボン酸またはジカルボン酸の無水物、（メタ）アクリロニトリルなどのビニルシアン化合物、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルメチルエチルケトン、酢酸ビニル、（メタ）アクリルアミド、（メタ）アクリル酸グリシジルなどの不飽和化合物が挙げられる。これら他のモノマーは、１種単独でまたは２種以上併用して用いることができる。これら他のモノマーのうち好ましくはスチレンである。
これら他のモノマーを併用する場合には、ジエンモノマーの使用量は、好ましくは０．５重量％以上、さらに好ましくは１重量％以上、特に好ましくは５重量％以上である。０．５重量％未満では、スルホン化して得られるスルホン化物中に導入されるスルホン酸（塩）基含量が低くなる場合がある。
【０００８】
ベースポリマーは、ジエンモノマーおよび必要に応じて他のモノマーを、過酸化水素、ベンゾイルパーオキサイド、アゾビスイソブチロニトリルなどのラジカル重合開始剤、あるいはｎ−ブチルリチウム、ナトリウムナフタレン、金属ナトリウムなどのアニオン重合開始剤の存在下、必要に応じて公知の溶剤を使用して、通常、−１００〜１５０℃、好ましくは０〜１３０℃で、（共）重合を行うことにより得られる。
【０００９】
また、ベースポリマーとしては、ジエン系（共）重合体スルホン化物の前駆体であるベースポリマーのジエンモノマーに基づく残存二重結合の一部あるいは全部を水添して使用することもできる。この場合、公知の水添触媒が使用可能で、例えば、特開平５―２２２１１５号公報に記載されているような触媒、方法が挙げられる。ベースポリマーを水添後、後述する方法でスルホン化することもできるが、該（共）重合体をスルホン化したのち、水添してもよい。
【００１０】
本発明に使用されるベースポリマーは、ランダム型でもＡＢ型あるいはＡＢＡ型などのブロック型の共重合体でも特に制限なく使用できる。好ましいベースポリマーとしては、例えば、イソプレン単独重合体、ブタジエン単独重合体、イソプレン−スチレンランダム共重合体、イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレン三元ブロック共重合体、ブタジエン−スチレンランダム共重合体、ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、およびこれら（共）重合体の水添物、エチレン−プロピレン−ジエン三元共重合体などが挙げられる。
これらのうちさらに好ましいのは、イソプレン−スチレンブロック共重合体、スチレン−イソプレン−スチレン三元ブロック共重合体、ブタジエン−スチレンブロック共重合体、スチレン−ブタジエン−スチレンブロック共重合体、およびこれら（共）重合体の水添物などの芳香族系重合体ユニットと共役ジエン系重合体ユニットを有するブロック共重合体またはその水添物である。
【００１１】
ジエンモノマーを必須成分とするベースポリマーあるいはその水添物のポリスチレン換算の重量平均分子量（以下「Ｍｗ」という）は、好ましくは１，０００〜１，０００，０００、さらに好ましくは３，０００〜５００，０００、特に好ましくは５，０００〜４００，０００である。Ｍｗが１，０００未満であると、基材に塗布した後、ポリマーが表面にブリードしやすくなり、一方、１，０００，０００を超えると、スルホン化時にゲル化する等の問題が生じる場合がある。
【００１２】
本発明のジエン系（共）重合体スルホン化物は、上記ベースポリマーを、公知の方法、例えば日本化学会編集、新実験講座（１４巻 III、１７７３頁）あるいは、特開平２−２２７４０３号公報などに記載された方法でスルホン化して得られる。すなわち、上記ベースポリマーは、該ポリマー中のジエンユニットの二重結合部分をスルホン化剤を用いて、スルホン化することができる。このスルホン化の際、二重結合は開環して単結合になるか、あるいは二重結合は残ったまま、水素原子がスルホン酸（塩）と置換することになる。なお、他のモノマーを使用した場合には、二重結合部分がジエンユニット部分以外にも、芳香族ユニットがスルホン化されてもかまわない。この場合のスルホン化剤としては、好ましくは無水硫酸、無水硫酸と電子供与性化合物との錯体のほか、硫酸、クロロスルホン酸、発煙硫酸、亜硫酸水素塩（Ｎａ塩、Ｋ塩、Ｌｉ塩など）などが使用される。
【００１３】
ここで、電子供与性化合物としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジオキサン、ジブチルエーテル、テトラヒドロフラン、ジエチルエーテルなどのエーテル類；ピリジン、ピペラジン、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリブチルアミンなどのアミン類；ジメチルスルフィド、ジエチルスルフィドなどのスルフィド類；アセトニトリル、エチルニトリル、プロピルニトリルなどのニトリル化合物などが挙げられ、このうちでもＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、ジオキサンが好ましい。
【００１４】
スルホン化剤の量は、ベースポリマー中のジエンユニットと芳香族ユニットのトータル１モルに対して、通常、無水硫酸換算で０．００５〜１．５モル、好ましくは０．０１〜１．０モルであり、０．００５モル未満では、目的とするスルホン化率のものが得られないため、種々の性能が発現できず、一方、１．５モルを超えると、未反応の無水硫酸が多くなり、アルカリで中和したのち、多量の硫酸塩を生じ、純度が低下するため好ましくない。
【００１５】
このスルホン化の際には、無水硫酸などのスルホン化剤に不活性な溶媒を使用することもでき、この溶媒としては例えばクロロホルム、ジクロロエタン、テトラクロロエタン、テトラクロロエチレン、ジクロロメタンなどのハロゲン化炭化水素；ニトロメタン、ニトロベンゼンなどのニトロ化合物；液体二酸化イオウ、プロパン、ブタン、ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、ジオキサン、テトラヒドロフランなどのエーテル系溶剤が挙げられる。
これらの溶媒は、適宜、２種以上混合して使用することができる。
このスルホン化の反応温度は、通常、−７０〜２００℃、好ましくは−３０〜５０℃であり、−７０℃未満ではスルホン化反応が遅くなり経済的でなく、一方２００℃を超えると副反応を起こし、生成物が黒色化あるいは不溶化する場合があり好ましくない。
【００１６】
本発明のジエン系（共）重合体のスルホン化物は、この生成物に水または塩基性化合物を作用させることにより得られる。
この塩基性化合物としては、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、水酸化リチウムなどのアルカリ金属水酸化物；ナトリウムメトキシド、ナトリウムエトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウム−ｔ−ブトキシド、カリウム−ｔ−ブトキシドなどのアルカリ金属アルコキシド；炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸リチウムなどの炭酸塩；メチルリチウム、エチルリチウム、ｎ−ブチルリチウム、ｓｅｃ−ブチルリチウム、アミルリチウム、プロピルナトリウム、メチルマグネシウムクロライド、エチルマグネシウムブロマイド、プロピルマグネシウムアイオダイド、ジエチルマグネシウム、ジエチル亜鉛、トリエチルアルミニウム、トリイソブチルアルミニウムなどの有機金属化合物；アンモニア水、トリメチルアミン、トリエチルアミン、トリプロピルアミン、トリブチルアミン、ピリジン、アニリン、ピペラジンなどのアミン類；ナトリウム、リチウム、カリウム、カルシウム、亜鉛などの金属化合物を挙げることができる。これらの塩基性化合物は、１種単独で使用することも、また２種以上を併用することもできる。これらの塩基性化合物の中では、アルカリ金属水酸化物、アンモニア水が好ましく、特に水酸化ナトリウム、水酸化リチウムが好ましい。
【００１７】
塩基性化合物の使用量は、使用したスルホン化剤１モルに対して、２モル以下、好ましくは１．３モル以下である。
この反応の際には、上記塩基性化合物を水溶液の形で使用することもでき、あるいは塩基性化合物に不活性な有機溶媒に溶解して使用することもできる。
この有機溶媒としては、上記スルホン化に使用される各種の有機溶媒のほか、ベンゼン、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素化合物；メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール、エチレングリコールなどのアルコール類などが挙げられる。これらの溶媒は、適宜、２種以上混合して使用することができる。
【００１８】
塩基性化合物を水溶液または有機溶媒溶液として使用する場合には、塩基性化合物濃度は、通常、１〜７０重量％、好ましくは１０〜５０重量％程度である。また、この反応温度は、通常、−３０〜１５０℃、好ましくは０〜１２０℃、さらに好ましくは＋５０〜１００℃で行われ、また常圧、減圧あるいは加圧下のいずれでも実施することができる。さらに、反応時間は、通常、０．１〜２４時間、好ましくは０．５〜５時間である。
【００１９】
以上のようなジエン系（共）重合体のスルホン化物のスルホン酸（塩）基含量は、０．１〜５．２ｍｍｏｌ／ｇ、好ましくは０．２〜３ｍｍｏｌ／ｇである。０．１ｍｍｏｌ／ｇ未満では、十分なインク吸収能が得られず好ましくなく、一方、５．２ｍｍｏｌ／ｇを超えると、耐水性が低下し好ましくない。
このような本発明のジエン系（共）重合体スルホン化物の構造は、赤外線吸収スペクトルによってスルホン基の吸収より確認でき、これらの組成比は元素分析などにより知ることができる。また、核磁気共鳴スペクトルにより、その構造を確認することができる。
【００２０】
ジエン系（共）重合体のスルホン化物は、水に乳化させたもの（以下、乳化過程を「再乳化」ともいう）を使用することができる。再乳化は、上記スルホン化物あるいは、中和前の生成物の有機溶剤溶液を、水あるいは前記アルカリ化合物と攪拌・混合し、乳化させたのち、水を残したまま有機溶剤を除去することにより得られる。この再乳化は、一般的な方法が採用でき、上記スルホン化物の有機溶剤溶液中に攪拌しながら水を添加する方法、攪拌しながらスルホン化物の有機溶剤溶液を水中に添加する方法、水とスルホン化物の有機溶剤溶液を同時に添加して攪拌する方法など、特に制限はない。
【００２１】
ここで、再乳化に使用する有機溶剤としては、例えば、トルエン、キシレンなどの芳香族系溶媒、ヘキサン、ヘプタンなどの脂肪族系溶剤、アセトン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶剤、テトラヒドロフラン、ジオキサンなのエーテル系溶剤、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル系溶剤、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコールなどのアルコール系溶剤などが使用される。これら溶剤は、単独で使用しても、２種以上併用して使用してもなんら問題ない。
【００２２】
再乳化の際に用いられる上記有機溶剤の使用量は、スルホン化物１００重量部に対し、好ましくは、２０〜５，０００重量部、さらに好ましくは５０〜２，０００重量部である。２０重量部未満では、安定な再乳化物が得られず、一方、５，０００重量部を超えると、生産性が悪く問題となる。
また、再乳化の際に用いられる水の使用量は、スルホン化物１００重量部に対し、好ましくは、５０〜１０，０００重量部、さらに好ましくは１００〜５，０００重量部である。５０重量部未満では、安定な再乳化物が得られず、一方、１０，０００重量部を超えると、生産性が悪く問題となる。
【００２３】
なお、再乳化に際しては、界面活性剤を併用することもできる。この界面活性剤としては、ポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシソルビタンエステル、ポリオキシエチレンアルキルアミンエーテルなどの非イオン系界面活性剤、オレイン酸塩、ラウリン酸塩、ロジン酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩などのアニオン系界面活性剤、オクチルトリメチルアンモニウムブロマイド、ジオクチルジメチルアンモニウムクロライド、ドデシルピリジジニウムクロライドなどのカチオン系界面活性剤などが挙げられる。これらの界面活性剤は、１種単独で使用することも、あるいは２種以上を混合して用いることもできる。
上記界面活性剤は、スルホン化物の有機溶剤溶液中に溶解あるいは分散させて使用しても、水中に溶解あるいは分散させて使用してもかまわない。
上記界面活性剤の使用量は、ジエン系（共）重合体スルホン化物１００重量部に対し、通常、１０重量部以下、好ましくは５重量部以下である。１５重量部を超えると、スルホン化物エマルジョン（再乳化物）を粘着剤として使用した場合に十分な粘着力あるいは保持力が得られず好ましくない。
【００２４】
また、系内のｐＨを調整するために、水酸化ナトリウム、水酸化リチウムなどのアルカリ化合物、塩酸、硫酸などの無機酸を添加することもできる。また、少量であれば、水以外の有機溶剤などを併用することもできる。
このようにして得られるスルホン化物の再乳化されたエマルジョンの粒径は、通常、１〜１，０００ｎｍ、好ましくは５〜５００ｎｍである。
また、得られるスルホン化物エマルジョンの固形分濃度は、通常、５〜５０重量％、好ましくは１０〜４０重量％であり、これは、使用条件、保存条件などにより、適宜選択することができる。
【００２５】
このようにして得られたジエン（共）重合体のスルホン化物あるいは該スルホン化物を含有する組成物を、種々の基材に存在させることにより記録用シートが得られる。
本発明に使用する基材としては、ＬＢＫＰ、ＮＢＫＰなどの化学パルプ、ＧＰ、ＰＧＷ、ＲＭＰなどの機会パルプ、ＤＩＰなどの古紙パルプなどを原料とした原紙、さらに原紙に、澱粉、ポリビニルアルコールなどでのサイズプレスやアンカーコート層を設けた原紙、それらの上にコート層を設けたアート紙、コート紙、キャストコート紙などの塗工紙も含まれる。このような原紙および塗工紙にそのまま本発明にかかわる塗層を設けても良いし、平坦化をコントロールする目的でカレンダー装置を使用しても良い。
【００２６】
また、本発明に使用する基材として、ポリエステル、ポリオレフィン、ポリアミド、ポリエステルアミド、ポリエーテル、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリーｐ―フェニレンスルフィド、ポリエーテルエステル、ポリ塩化ビニル、ポリ（メタ）クリル酸エステル、セロハン、セルロイド、ＡＢＳ樹脂、ＡＥＳ樹脂などの高分子のシートやフイルムが用いられる。またこれらの共重合体やブレンド物を用いることもできる。
さらに基材とインクを吸収させる層との接着性を向上させるために、基材表面をアンカーコート処理、コロナ放電処理することや、または親水化剤を基材にコートしたり混合させることもできる。
【００２７】
これら基材の厚さは特に制限されないが、プリンターへの記録用シートの挿入し易さから、通常１０〜５００μｍ、好ましくは３０〜３００μｍの基材のシートもしくはフイルムが用いられる。
【００２８】
本発明の記録用シートにおいては、前記ジエン（共）重合体のスルホン化物を基材表面に存在させるが、他の材料を、印字特性などを損なわない範囲で併用することができる。
併用できる材料としては、水溶性または水分散性のポリマーが好ましく、例えば、特開平５―５０７４０号公報、特開昭６３―１８３８７４号公報、特開昭６３―１６２２７２号公報、特開昭６１―２７７４８３号公報、特開昭６１―１８１６７９号公報などに知られているものが挙げられる。
これらの具体例としては、かんしょデンプン、馬鈴薯デンプン、酸化デンプン、リン酸デンプン、カルボキシル化デンプン、ヒドロキシエチルデンプン、シアノエチル化デンプン、メチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルエチルセルロース、セルロースサルフェート、デキストリン、コーンスターチ、こんにゃく、ふのり、寒天、アルギン酸ナトリウム、トラガントガム、グアガム、ペクチン、カラギニン、にかわ、ゼラチン、カゼイン、大豆蛋白、アルブミン、ポリビニルアルコールおよびその変性物、ポリアクリルアミド、およびその共重合体、ポリビニルピロリドンおよびその共重合体、ポリエチレンオキシド、ポリプロピレンオキシド、ポリブチレンオキシド、カルボキシル化ポリエチレンオキシド、ポリアクリル酸（塩）およびその共重合体、スチレンー無水マレイン酸（塩）共重合体、エチレンー無水マレイン酸（塩）共重合体、キサンタンガムなどが挙げられる。これらは単独でも２種以上併用して用いることもできる。
【００２９】
また、アニオン、カチオン、ノニオン、両性の界面活性剤、安息香酸、安息香酸Ｎａ、ヒドロキシ安息香酸メチルなどの防腐剤、消泡剤、塗布性改良剤、贈粘剤、帯電防止剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤なども併用することができる。
さらに、印字性等を損なわない範囲で、無機粒子、疎水性粒子を併用することもできる。無機粒子としては、シリカ、クレー、タルク、ケイソウ土、炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ケイ酸アルミニウム、合成ゼオライト、アルミナ、アルミナ水和物、酸化亜鉛、雲母等が、疎水性の有機粒子としては、（メタ）アクリル樹脂、スチロール樹脂、ポリエステル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリアミド樹脂、ポリカーボネート樹脂、等の未架橋品、架橋品が挙げられ、これらの粒径としては０．０１〜１００μｍが好ましい。
【００３０】
基材表面にジエン系（共）重合体のスルホン化物もしくはこれを含有する組成物を存在させる方法としては、特に制限はないが、基材表面にこれらを塗布もしくは塗工する方法、含浸する方法などが挙げられる。
ジエン系（共）重合体スルホン化物もしくはこれを含有する組成物を基材に塗布する場合、その塗布層の厚さには特に制限はないが、通常、乾燥後の厚さで、１〜１００μｍが好ましく、さらに好ましくは５〜５０μｍである。１００μｍを超えると作業性が悪くなる。
ジエン系（共）重合体スルホン化物もしくはこれを含有する組成物を基材に塗布または塗工する方法としては、各種ブレードコーター、ロールコーター、エアーナイフコーター、バーコーター、ロッドブレードコーター、カーテンコーター、ショートドウェルコーター、サイズプレスまどの各種装置を用いることができる。
【００３１】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明は、これらの実施例に限定されるものではない。
なお、実施例中、部および％は、特に断らない限り重量基準である。
（実施例１〜６、比較例１〜２）
表１に示すジエン系（共）重合体のスルホン化物を用いて表２に示す再乳化物や組成物を得た。
【００３２】
【表１】
0003931417.tif 000002
【００３３】
【表２】
0003931417.tif 000003
【００３４】
ポリエチレンテレフタレートフィルム（厚さ１００μｍ）上に表２に示す再乳化物や組成物を塗布し、８０゜ｃ１５分間乾燥した。乾燥後の塗布層の厚みは２０μｍであった。ＥＰＳＯＮ（株）製  ＭＪ８３０ＣＳ２型インクジェットプリンターを用い、図柄パターンを印字し、以下に述べる方法で印字品質、インク吸水性、透明性を評価した。
【００３５】
（インク吸収性）
インク吸水性は印字直後、図柄パターンを指で一回こすってインクによるインク吸収層の汚れ度合いを以下の基準で評価した。
◎ ：非常に良好（インク吸収層が汚れない）
○ ：良好
△ ：やや劣る
×：不良（インクが流れ、汚れる）
（印字品質）
印字品質は、拡大鏡で肉眼観察にて以下の基準で評価した。
◎ ：非常に良好（ドットが均一で鮮明）
○ ：良好
△ ：やや劣る
×：不良（ドットが不均一）
（透明性）
透明性は分光光度計を用いて７００ｎｍの波長における光透過率を測定し、以下の基準で評価した。
◎ ：光透過率８０％以上
○ ：７０〜８０％
×：７０％以下
【００３６】
評価結果を表３に示す。
本発明の記録シートは、印字品質、インク吸収性、透明性に優れていることがわかる。
【００３７】
【表３】
0003931417.tif 000004
【００３８】
【発明の効果】
本発明の記録用シートは、水性インクに対するインク吸収性能が高く、特に印字品質、インク乾燥性に極めて優れた性能を有する。インクジェット方式のプリンターに用いられる記録用シート、オフセット印刷やフレキソ印刷などを行う記録用シートの用途において好ましく使用することができる。