(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対してステップ移動軸に沿う方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて異なる露光位置に順次位置決めし、位置決めされた各露光位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、
前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整する露光チャック移動機構と、
前記露光チャック上に搬入されてきた前記露光対象基板の該露光チャックに対する相対的位置を検出し、第1の検出信号を出力する第1の検出手段と、
前記第1の検出信号に基づき前記露光チャックに対する前記露光対象基板の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整するための第1の補正量を算出する第1の演算手段と、
前記第1の補正量に基づき前記露光チャックが前記露光対象基板を保持する前に該露光チャックの位置を調整するよう前記露光チャック移動機構の駆動を制御し、前記露光チャックと前記露光対象基板の位置ずれがないようにする第1の制御手段と、
前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態で前記マスクを動かすことにより前記露光チャックに対する前記マスクの相対的位置の補正を行うマスク位置補正機構と、
前記各露光位置毎に、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態で、前記マスクと前記露光チャックとの相対的位置関係を検出し、マスク位置検出信号を出力する第２の検出手段と、
前記マスク位置検出信号に基づき前記各露光位置における前記露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて第２の補正量を算出する第２の演算手段と、
前記第２の補正量に基づき前記マスク位置補正機構の駆動を制御して前記各露光位置における前記マスクの位置を調整することにより、前記マスクと前記露光チャック上の前記露光対象基板との相対的位置ずれを解消する第２の制御手段と
を具えた露光装置。
【請求項２】
前記マスク位置補正機構は、前記ステップ移動方向において、前記マスクに少なくとも２箇所で接して該マスクの位置補正を行う第１及び第２の位置補正機構と、前記ステップ移動方向と直角をなす方向において、前記マスクに少なくとも１箇所で接して該マスクの位置補正を行う第３の位置補正機構とを具えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項３】
マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対してステップ移動軸に沿う方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて異なる露光位置に順次位置決めし、位置決めされた各露光位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、
前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整する露光チャック移動機構と、
前記露光チャック上に搬入されてきた前記露光対象基板の該露光チャックに対する相対的位置を検出し、第１の検出信号を出力する第１の検出手段と、
前記第１の検出信号に基づき前記露光チャックに対する前記露光対象基板の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整するための第１の補正量を算出する第１の演算手段と、
前記第１の補正量に基づき前記露光チャックが前記露光対象基板を保持する前に該露光チャックの位置を調整するよう前記露光チャック移動機構の駆動を制御し、前記露光チャックと前記露光対象基板の位置ずれがないようにする第１の制御手段と、
前記マスクが前記マスクホルダに保持された状態で前記マスクホルダを動かすことにより前記露光チャックに対する前記マスクの相対的位置の補正を行うマスクホルダ位置補正機構と、
前記各露光位置毎に、前記マスクが前記マスクホルダに保持された状態で、前記マスクと前記露光チャックとの相対的位置関係を検出し、マスク位置検出信号を出力する第２の検出手段と、
前記マスク位置検出信号に基づき前記各露光位置における前記露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて第２の補正量を算出する第２の演算手段と、
前記第２の補正量に基づき前記マスクホルダ位置補正機構の駆動を制御して各露光位置で前記マスクホルダの位置を調整することにより、前記マスクと前記露光チャック上の前記露光対象基板との相対的位置ずれを解消する第２の制御手段と
を具えた露光装置。
【請求項４】
前記マスクホルダ位置補正機構は、前記ステップ移動軸に沿う方向に前記マスクホルダの位置補正を行う第１の位置補正テーブルと、前記ステップ移動軸と直角をなす直角方向に前記マスクホルダの位置補正を行う第２の位置補正テーブルと、前記ステップ移動軸の方向と前記直角方向とが交わる交点回り方向に前記マスクホルダの位置補正を行う第３の位置補正テーブルとを具えることを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
【請求項５】
前記露光チャック移動機構は、前記ステップ移動軸に沿う方向に移動する第１のテーブルと、前記ステップ移動軸と直角をなす直角方向に移動する第２のテーブルと、前記ステップ移動軸に沿う平面上で回転する第３のテーブルとを具えることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
【請求項６】
マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対してステップ移動軸に沿う方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて異なる露光位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記露光対象基板を前記露光チャックに保持する前に、該露光対象基板を前記露光チャックに対して位置決めする基板位置決め方法であって、
前記露光チャック上に搬入されてきた前記露光対象基板の該露光チャックに対する相対的位置を検出し、第１の検出信号を出力する工程と、
前記第１の検出信号に基づき前記露光チャックに対する前記露光対象基板の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整するための第１の補正量を算出する工程と、
前記第１の補正量に基づき前記露光チャックが前記露光対象基板を保持する前に該露光チャックの位置を調整するよう露光チャック移動機構の駆動を制御し、前記露光チャックと前記露光対象基板の位置ずれがないようにする工程と、
前記各露光位置毎に、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態で、前記マスクと前記露光チャックとの相対的位置関係を検出し、マスク位置検出信号を出力する工程と、
前記マスク位置検出信号に基づき前記各露光位置における前記露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて第２の補正量を算出する工程と、
前記第２の補正量に基づき、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態でマスク位置補正機構の駆動を制御して前記各露光位置における前記マスクの位置を調整することにより、前記マスクと前記露光チャック上の前記露光対象基板との相対的位置ずれを解消する工程と
を具えた露光装置における基板位置決め方法。
【請求項７】
請求項１乃至５のいずれかに記載の露光装置を用いてフラットパネルディスプレイを製造することを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
【請求項８】
請求項６に記載の基板位置決め方法を用いてフラットパネルディスプレイを製造することを特徴とするフラットパネルディスプレイの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等のフラットパネルディスプレイの製造工程においてガラス基板やカラーフィルタ等の面上にパターンを形成する露光装置に係り、特に、フォトマスクよりも大きなガラス基板を該フォトマスクに対して複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行うことによって、ガラス基板全体を露光処理する露光装置及びその装置における基板位置決め方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ（ＬＣＤ：Liqud Crystal Display)は、ＣＲＴ（Cathode R-ay Tube)に比べて薄型化、軽量化が可能であるため、ＣＴＶ(Color Television ) やＯＡ機器等のディスプレイ装置として採用され、画面サイズも１０型以上の大型化が図られ、より一層の高精細化及びカラー化が押し進められている。
【０００３】
液晶ディスプレイは、フォトリソグラフィ技術によりガラス基板の表面に微細なパターンを描画して作られる。露光装置は、この微細パターンをガラス基板上に描画するものである。露光装置としては、マスクパターンをレンズまたはミラーを用いてガラス基板上に投影するプロジェクション方式と、フォトマスクとガラス基板との間に微小なギャップを設けてマスクパターンをガラス基板上に転写するプロキシミティ方式とがある。
【０００４】
プロキシミティ方式の露光装置は、プロジェクション方式に比べてパターン解像性能が劣るものの、照射光学系が非常にシンプルであり、スループットが高く、装置コストから見たコストパフォーマンスも優れており、生産性の高い量産用装置に適したものである。従来、プロキシミティ方式の露光装置は、インライン対応パススルー方式のローダ・アンローダユニットを採用しており、そのパススルー方向に沿って、ローダーユニット、基板搬入ユニット、アライメントステージユニット、基板搬出ユニット、アンローダユニットが順番に配置されて構成されている。
【０００５】
ローダユニットは、ガラス基板を順次供給するものであり、アンローダユニットは、露光処理の終了したガラス基板を順次排出するものである。基板搬入ユニットは、ローダユニットのガラス基板をセンタリング位置決めしてから搬入アームによってアライメントステージの露光チャック上に搬入する。アライメントステージユニットは、露光チャック、チルティングＺステージ、基板アライメントステージ及びマスクホルダなどで構成される。このアライメントステージユニットには、インラインの外側に設けられた露光チャックに保持されるガラス基板上にフォトマスクを介して紫外線を照射する照射光学系などが存在する。基板搬出ユニットは、露光チャック上の露光処理後のガラス基板をアンローダユニットに搬出する。
【０００６】
上記の露光装置では、マスクホルダにパターン形成用のフォトマスクが吸着保持され、露光チャックに露光対象のガラス基板が吸着保持されて、フォトマスクのマスクパターンがガラス基板に転写されるが、通常、フォトマスクを複数枚用いてガラス基板に所定のマスクパターンを順次転写するため、フォトマスクとガラス基板との位置合わせ精度が露光性能における重要な位置を占めることになる。そこで、アライメントステージユニットにおいて、露光チャックに対するガラス基板の搬送位置のずれを補正するプリアライメントと、フォトマスクとガラス基板とを高精度に位置合わせするアライメントとを行っている。また、ガラス基板がフォトマスクよりも大きい場合には、露光チャックをマスクに対してステップテーブル走行軸によって所定方向にステップ移動することによりガラス基板をフォトマスクに対して複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行うことにより、ガラス基板全体に露光処理を行うステップ露光方式が採用される。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
上記ステップ露光方式の露光装置では、露光処理工程において、ガラス基板を保持してなる露光チャックを所定の露光位置にステップテーブル走行軸によってステップ移動するので、ステップテーブル走行軸の搬送精度などに起因して、露光チャックがステップテーブル走行軸に沿って真っ直ぐにステップ移動されない場合がある。この場合、露光チャックがステップテーブル走行軸に対して変位し、これによって、該ステップテーブル走行軸の軸方向であるＸ方向或いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基板がずれたり、該ステップテーブル走行軸に対してガラス基板がＸ方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に斜めに傾いたりすることがある。このため、ガラス基板がフォトマスクに対して位置ずれを生じ、その位置ずれによりマスクパターンがガラス基板の所定の露光領域から一部はみ出るようになる。その結果、マスクパターンをガラス基板の所定の露光領域に転写することができなくなり、ガラス基板に対するマスクパターンの配列精度が低下するという問題があった。
【０００８】
また、ガラス基板は、搬入アームによってステップテーブル走行軸の一端側から露光チャック上に搬入されるが、搬入アームの搬送精度などに起因して、ガラス基板がステップテーブル走行軸に対して変位し、これによって、該ステップテーブル走行軸の軸方向であるＸ方向或いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基板がずれたり、該ステップテーブル走行軸に対してガラス基板がＸ方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に斜めに傾いたりした状態に搬入される場合がある。この場合、ガラス基板がステップテーブル走行軸に対して位置ずれを生じ、その位置ずれによりガラス基板がステップテーブル走行軸に対して変位した状態に露光チャックに保持されることとなるため、露光チャックに対するガラス基板の面付け精度が低下するという問題があった。
【０００９】
このようなステップ方式の露光装置においては、ステップテーブル走行軸は、ガラス基板のステップ移動及び露光領域の位置決めのための搬送基準軸となるので、ステップテーブル走行軸に対する露光チャックの変位に応じたガラス基板とフォトマスクとの位置ずれを補正すれば、マスクパターンを露光対象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該露光領域内に転写することができて、ガラス基板に対するマスクパターンの配列精度を向上させることができ、露光処理を高精度に行えるようになる。また、ステップテーブル走行軸に対するガラス基板の位置ずれを補正すれば、ガラス基板をステップテーブル走行軸に対して位置ずれを生じることなく露光チャックに保持することができて、露光チャックに対するガラス基板の面付け精度を向上させることができ、露光処理を高精度に行えるようになる。
【００１０】
本発明は、上記の点に鑑みて為されたもので、パターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板に対する露光処理を高精度に行えるよう、露光対象基板に対するマスクの位置ずれを補正して、露光対象基板に対するマスクパターンの配列精度を向上させた露光装置を提供しようとするものである。
また、パターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板に対する露光処理を高精度に行えるよう、露光チャックのステップ移動用の軸に対する露光対象基板の位置ずれを補正して、露光チャックに対する露光対象基板の面付け精度を向上させた露光装置及びその露光装置における基板位置決め方法を提供しようとするものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
【００１３】
本発明に係る露光装置は、マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対してステップ移動軸に沿う方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて異なる露光位置に順次位置決めし、位置決めされた各露光位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整する露光チャック移動機構と、前記露光チャック上に搬入されてきた前記露光対象基板の該露光チャックに対する相対的位置を検出し、第1の検出信号を出力する第1の検出手段と、前記第1の検出信号に基づき前記露光チャックに対する前記露光対象基板の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整するための第1の補正量を算出する第1の演算手段と、前記第1の補正量に基づき前記露光チャックが前記露光対象基板を保持する前に該露光チャックの位置を調整するよう前記露光チャック移動機構の駆動を制御し、前記露光チャックと前記露光対象基板の位置ずれがないようにする第1の制御手段と、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態で前記マスクを動かすことにより前記露光チャックに対する前記マスクの相対的位置の補正を行うマスク位置補正機構と、
前記各露光位置毎に、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態で、前記マスクと前記露光チャックとの相対的位置関係を検出し、マスク位置検出信号を出力する第２の検出手段と、前記マスク位置検出信号に基づき前記各露光位置における前記露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて第２の補正量を算出する第２の演算手段と、前記第２の補正量に基づき前記マスク位置補正機構の駆動を制御して前記各露光位置における前記マスクの位置を調整することにより、前記マスクと前記露光チャック上の前記露光対象基板との相対的位置ずれを解消する第２の制御手段とを具えたものである。これによれば、露光対象基板が露光チャック上に搬入された際、露光チャックが露光対象基板を保持する前に、露光対象基板の露光チャックに対する位置ずれを補正するので、露光対象基板を位置ずれを生じることなく露光チャックに保持することができる。これによって、露光チャックに対する露光対象基板の面付け精度を向上でき、露光処理を高精度に行えるようになる。また、マスクホルダにマスクが保持される前に、露光チャックに対するマスクの位置ずれを補正するので、露光チャックに対してマスクを正しく位置決めすることができ、これによって、パターンを露光対象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該露光領域内に転写することが可能となり、よって、露光対象基板に対するパターンの配列精度を向上でき、露光処理を高精度に行えるようになる。
【００１４】
また、本発明に係る露光装置における基板位置決め方法は、マスクホルダに保持されたパターン形成用のマスクよりも大きな露光対象基板を搬入して露光チャックに保持し、該露光チャックを該マスクに対してステップ移動軸に沿う方向にステップ移動することにより、該露光対象基板を該マスクに対して複数回に分けて異なる露光位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行う露光装置において、前記露光対象基板を前記露光チャックに保持する前に、該露光対象基板を前記露光チャックに対して位置決めする基板位置決め方法であって、前記露光チャック上に搬入されてきた前記露光対象基板の該露光チャックに対する相対的位置を検出し、第１の検出信号を出力する工程と、前記第１の検出信号に基づき前記露光チャックに対する前記露光対象基板の位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて前記露光チャックの前記ステップ移動軸に沿う平面上での位置を調整するための第１の補正量を算出する工程と、前記第１の補正量に基づき前記露光チャックが前記露光対象基板を保持する前に該露光チャックの位置を調整するよう露光チャック移動機構の駆動を制御し、前記露光チャックと前記露光対象基板の位置ずれがないようにする工程と、前記各露光位置毎に、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態で、前記マスクと前記露光チャックとの相対的位置関係を検出し、マスク位置検出信号を出力する工程と、前記マスク位置検出信号に基づき前記各露光位置における前記露光チャックに対する前記マスクの位置ずれを求め、該位置ずれに基づいて第２の補正量を算出する工程と、前記第２の補正量に基づき、前記マスクホルダで前記マスクを保持していない状態でマスク位置補正機構の駆動を制御して前記各露光位置における前記マスクの位置を調整することにより、前記マスクと前記露光チャック上の前記露光対象基板との相対的位置ずれを解消する工程とを具えたものである。この場合も、露光対象基板が露光チャック上に搬入された際、露光チャックが露光対象基板を保持する前に、露光対象基板の露光チャックに対する位置ずれを補正するので、露光対象基板を位置ずれを生じることなく露光チャックに保持することができる。これによって、露光チャックに対する露光対象基板の面付け精度を向上でき、露光処理を高精度に行えるようになる。
更に、本発明に係るフラットパネルディスプレイの製造方法は、上記露光装置を用いてフラットパネルディスプレイを製造することを特徴とする。
更に、本発明に係るフラットパネルディスプレイの製造方法は、上記基板位置決め方法を用いてフラットパネルディスプレイを製造することを特徴とする。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を添付図面に従って説明する。
図１は、本発明に係る露光装置の一実施例を示す概略構成図である。図１では、アライメントステージユニット１について示し、他のユニット（ローダユニット、基板搬入ユニット、基板搬出ユニット及びアンローダユニット）については、図示を省略している。
【００１６】
図１において、露光装置は、フォトマスクＡよりも大きなガラス基板Ｂを該フォトマスクＡに対して複数回に分けて所定位置に順次位置決めし、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理を行うステップ方式の露光装置に適用される。アライメントステージユニット１は、例えば、図３に示されるような縦長長方形状に形成されてなるフォトマスクＡを吸着保持するマスクホルダ２の真下に露光チャック３を有する。この露光チャック３上には、例えば、図４に示されるような横長長方形状に形成されてなるガラス基板Ｂがステップテーブル走行軸４の一端側（図示例では、ステップテーブル走行軸４の左端側）から基板搬入ユニットの搬入アーム１０によって搬入される。ガラス基板Ｂは、所定の位置で露光チャック３によって吸着保持され、その露光チャック３がステップテーブル走行軸４によって図１に示される矢印Ｘ方向にステップ移動されることにより、図５及び図６に示されるように、フォトマスクＡに対して複数回（図示例では、２回）に分けて所定位置に順次位置決めされ、位置決めされた各所定位置でそれぞれ露光処理が行われる。
【００１７】
露光装置では、露光処理の前に、先ず、アライメントステージ６によって露光チャック３に対するガラス基板Ｂの搬送位置ずれを補正するプリアライメントが行われ、次に、チルティングＺステージ５によってフォトマスクＡとガラス基板Ｂ間のプロキシミティギャップを適切なギャップ値に設定するプロキシミティギャップ制御が行われ、最後に、アライメントステージ６によってフォトマスクＡとガラス基板Ｂとを高精度に位置合わせするアライメントが行われる。
【００１８】
しかし、露光処理工程においては、露光チャック３をステップテーブル走行軸４によってステップ移動するので、ステップテーブル走行軸４の搬送精度に起因して、露光チャック３がステップテーブル走行軸４に沿って真っ直ぐにステップ移動されない場合、露光チャック３と共にガラス基板Ｂがステップテーブル走行軸４に対して変位し、これによって、該ステップテーブル走行軸４の軸方向である図３に示されるＸ方向或いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基板Ｂがずれたり、該ステップテーブル走行軸４に対してガラス基板ＢがＸ方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に斜めに傾いたりして、ガラス基板ＢがフォトマスクＡに対して位置ずれを生じるが、その位置ずれを補正することができれば、ガラス基板Ｂに対するマスクパターンの配列精度を向上できる。そこで、本例では、図５及び図６に示される各露光位置において、フォトマスクＡがマスクホルダ２に吸着保持される前に、フォトマスクＡの位置ずれをマスク補正機構８によって補正することにより、フォトマスクＡをステップテーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定角度に設定するようにした。
【００１９】
また、ガラス基板Ｂの搬入工程においては、ガラス基板Ｂを搬入アーム１1 によってステップテーブル走行軸４の一端側から露光チャック３上に搬入するので、搬入アーム１０の搬送精度などに起因して、ガラス基板Ｂがステップテーブル走行軸４に対して変位し、該ステップテーブル走行軸４の軸方向である図４に示されるＸ方向或いは該Ｘ方向と直角をなすＹ方向にガラス基板Ｂがずれたり、該ステップテーブル走行軸４に対してガラス基板ＢがＸ方向とＹ方向とが交わる交点回りのθ方向に斜めに傾いたりした場合、ガラス基板Ｂがステップテーブル走行軸４に対して位置ずれを生じるが、その位置ずれを補正することができれば、露光チャック３に対するガラス基板Ｂの面付け精度を向上できる。そこで、本例では、ガラス基板Ｂが露光チャック３に吸着保持される前に、ガラス基板Ｂの位置ずれをアライメントステージ６によって補正することにより、ガラス基板Ｂをステップテーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定角度に位置決めするようにした。
【００２０】
本例に示す露光装置において、ステップテーブル走行軸４は、ガラス基板Ａを保持した露光チャック３をそのままＸ方向にステップ移動するものであり、光学式のリニアスケールを用いたクローズドループ制御にて図２に示される制御部１２により位置決めされる。
【００２１】
チルティングＺステージ５は、露光チャック３をフォトマスクＡに対して平行に昇降動する粗動ステージと、ガラス基板Ｂをチルティングしてプロキシミティギャップの制御を行う３点接触型のチルト駆動機構などを有して構成される。プロキシミティギャップ制御を行う場合、４個のギャップ検出センサ（図示せず）でフォトマスクＡとガラス基板Ｂ間のギャップ量を検出し、その検出結果から図２に示される演算部１３によって演算されるギャップ量に応じて制御部１２がチルト駆動機構を駆動することにより、フォトマスクＡとガラス基板Ｂとの間に所定のプロキシミティギャップを設定する。
【００２２】
アライメントステージ６は、図４に示されるように、露光チャック３によって吸着保持されてなるガラス基板Ｂの中心を例えば原点Ｏとして、Ｘ方向及びその逆方向の−Ｘ方向に移動するＸ軸テーブル６ａと、Ｙ方向及びその逆方向の−Ｙ方向に移動するＹ軸テーブル６ｂと、θ方向に移動するθ軸テーブル６ｃなどにより構成される。プリアライメントを行う場合、ガラス基板Ｂが露光チャック３に保持された状態で、そのガラス基板Ｂのエッジをエッジ検出センサ（図示せず）により非接触で検出し、その検出結果から演算部１３によって演算されるずれ量に基づいて制御部１２がＸ軸テーブル６ａ、Ｙ軸テーブル６ｂ、θ軸テーブル６ｃを適宜駆動することにより、露光チャック３に対するガラス基板Ｂの搬送位置ずれを補正する。また、アライメントを行う場合、ガラス基板Ｂが露光チャック３に保持された状態で、フォトマスクＡとガラス基板Ｂの双方に設けられているアライメントマークをＣＣＤセンサ（図示せず）を用いて検出し、その検出結果から演算部１３によって演算されるずれ量に基づいて制御部１２がＸ軸テーブル６ａ、Ｙ軸テーブル６ｂ、θ軸テーブル６ｃを適宜駆動することにより、フォトマスクＡに対してガラス基板Ｂを高精度に位置合わせする。
【００２３】
露光チャック３の外周周囲には、図４に示されるように、ガラス基板Ｂの搬入工程において、ガラス基板Ｂのエッジを光学的に検出する複数（図示例では、３つ）のエッジ検出センサ７ａ〜７ｃが設けられる。エッジ検出センサ７ａ〜７ｃのうち、エッジ検出センサ７ａ及び７ｂは、ガラス基板ＢがＸ方向で露光チャック３に吸着保持されるべき位置に所定の間隔Ｌ１をおいて配置されてなり、ガラス基板ＢにおけるＸ方向側のエッジＢ１の異なる２箇所を検出する。エッジ検出センサ７ｃは、ガラス基板ＢがＹ方向で露光チャック３に吸着保持されるべき位置に配置されてなり、ガラス基板ＢにおけるＹ方向側のエッジＢ２の１箇所を検出する。各エッジ検出センサ７ａ〜７ｃは、ガラス基板ＢのエッジＢ１及びＢ２を検出すると、そのエッジＢ１及びＢ２の位置に応じたエッジ位置検出信号を図２に示される入出力回路１１に送出する。
【００２４】
マスク補正機構８は、図４に示されるように、フォトマスクＡの外周周囲に設けられた複数（図示例では、３つ）のマスク位置補正機構８ａ〜８ｃにより構成される。マスク位置補正機構８ａ〜８ｃは、それぞれリニアモータ８ａ１〜８ｃ１及びプッシャー８ａ１１〜８ｃ１１などを有して構成される。マスク位置補正機構８ａ〜８ｃのうち、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂは、リニアモータ８ａ１及び８ｂ１が先端部でフォトマスクＡにおけるＸ方向側の端面Ａ１に接触し、プッシャー８ａ１１及び８ｂ１１が先端部で該端面Ａ１と反対側の端面Ａ２に接触している。マスク位置補正機構８ｃは、リニアモータ８ｃ１が先端部でフォトマスクＡにおけるＹ方向側の端面Ａ３に接触し、プッシャー８ｃ１１が先端部で該端面Ａ３と反対側の端面Ａ４に接触している。マスク位置補正機構８ａ及び８ｂにおいて、プッシャー８ａ１１及び８ｂ１１は、例えば、コイルばねなどから構成されてなり、先端部でフォトマスクＡを対応する反対側のリニアモータ８ａ１及び８ｂ１に常時付勢する。リニアモータ８ａ１及び８ｂ１は、制御部１２によって同時に或いは個別に駆動されて、Ｘ方向若しくは−Ｘ方向に同時に或いは個別に進退動されることにより、フォトマスクＡをＸ方向、−Ｘ方向若しくはθ方向に移動する。マスク位置補正機構８ｃにおいて、プッシャー８ｃ１１は、例えば、コイルばねなどから構成されてなり、先端部でフォトマスクＡを対応する反対側のリニアモータ８ｃ１に常時付勢する。リニアモータ８ｃ１は、制御部１２によって駆動されてＹ方向若しくは−Ｙ方向に進退動されることにより、フォトマスクＡをＹ方向若しくは−Ｙ方向に移動する。なお、本例では、マスク位置補正機構８ａ〜８ｃにおいて、リニアモータ８ａ１〜８ｃ１を用いているが、このリニアモータ８ａ１〜８ｃ１に代えて流体圧シリンダを用い、該流体圧シリンダによってフォトマスクＡをＸ方向、−Ｘ方向、θ方向、Ｙ方向若しくは−Ｙ方向に移動するように構成してもよい。
【００２５】
図５（ａ）に示されるように、露光チャック３及びフォトマスクＡには、それぞれ位置合わせ用の任意形状のマーク３ａ〜３ｆ（図示例では、×形状のマーク）及びＡａ〜Ａｆ（図示例では、＋形状のマーク）が所定の位置に設けられる。マーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆは、図５及び図６に示される各露光位置において、マスク位置補正機構８ａ〜８ｃと対応する位置に設けられる。例えば、マーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃは、図５に示される露光位置において、マスク位置補正機構８ａ〜８ｃと対応する位置に設けられる。マーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃのうち、マーク３ａ及び３ｂは、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂと対応するよう露光チャック３におけるＸ方向側の端部の異なる２箇所に設けられてなるマーク付設部３１ａ及び３１ｂに設けられ、マーク３ｃは、マスク位置補正機構８ｃと対応するよう露光チャック３におけるＹ方向側の端部の１箇所に設けられてなるマーク付設部３１ｃに設けられる。また、マークＡａ及びＡｂは、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂと対応するようフォトマスクＡにおけるＸ方向側の端部の異なる２箇所に設けられてなるマーク付設部Ａ５ａ及びＡ５ｂに設けられ、マークＡｃは、マスク位置補正機構８ｃと対応するようフォトマスクＡにおけるＹ方向側の端部の１箇所に設けられてなるマーク付設部Ａ５ｃに設けられる。一方、マーク３ｄ〜３ｆ及びＡｄ〜Ａｆは、図６に示される露光位置において、マスク位置補正機構８ａ〜８ｃと対応する位置に設けられる。例えば、マーク３ｄ〜３ｆ及びＡｄ〜Ａｆのうち、マーク３ｄ及び３ｅは、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂと対応するよう露光チャック３における−Ｘ方向側の端部の異なる２箇所に設けられてなるマーク付設部３１ｄ及び３１ｅに設けられ、マーク３ｆは、マスク位置補正機構８ｃと対応するよう露光チャック３における−Ｙ方向側の端部の１箇所に設けられてなるマーク付設部３１ｆに設けられる。また、マークＡｄ及びＡｅは、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂと対応するようフォトマスクＡにおける−Ｘ方向側の端部の異なる２箇所に設けられてなるマーク付設部Ａ５ｄ及びＡ５ｅに設けられ、マークＡｆは、マスク位置補正機構８ｃと対応するようフォトマスクＡにおける−Ｙ方向側の端部の１箇所に設けられてなるマーク付設部Ａ５ｆに設けられる。
【００２６】
フォトマスクＡの上方には、図５（ａ）に示されるように、上記マーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆに対応して複数（図示例では、６つ）のマーク検出センサ９ａ〜９ｆが設けられる。マーク検出センサ９ａ〜９ｆは、例えばＣＣＤセンサなどにより構成される。マーク検出センサ９ａ〜９ｆのうち、マーク検出センサ９ａ〜９ｃが上記マーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃに対応し、マーク検出センサ９ｄ〜９ｆが上記マーク３ｄ〜３ｆ及びＡｄ〜Ａｆに対応している。マーク検出センサ９ａ〜９ｃのうち、マーク検出センサ９ａ及び９ｂは、露光チャック３及びフォトマスクＡのＸ方向側のマーク３ａ及びＡａと３ｂ及びＡｂとを検出するよう所定の間隔Ｌ２をおいて配置されてなり、図５に示される露光位置において、マーク検出センサ９ａがマークＡａ及び３ａを検出し、マーク検出センサ９ｂがマークＡｂ及び３ｂを検出する。マーク検出センサ９ｃは、同図に示される露光位置において、露光チャック３及びフォトマスクＡのＹ方向側のマーク３ｃ及びＡｃを検出する。また、マーク検出センサ９ｄ〜９ｆのうち、マーク検出センサ９ｄ及び９ｅは、露光チャック３及びフォトマスクＡの−Ｘ方向側のマーク３ｄ及びＡｄと３ｅ及びＡｅとを検出するよう所定の間隔Ｌ３をおいて配置されてなり、図６に示される露光位置において、マーク検出センサ９ｄがマークＡｄ及び３ｄを検出し、マーク検出センサ９ｅがマークＡｅ及び３ｅを検出する。マーク検出センサ９ｆは、同図に示される露光位置において、露光チャック３及びフォトマスクＡの−Ｙ方向側のマーク３ｆ及びＡｆを検出する。このように、各マーク検出センサ９ａ〜９ｆは、図５及び図６に示される各露光位置において、マーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆをそれぞれ検出し、そのマーク３ａ〜３ｆ及びＡａ〜Ａｆの位置に応じたマーク位置検出信号を図２に示される入出力回路１１に送出する。なお、本例では、露光チャック３にマーク３ａ〜３ｆを設けているが、ガラス基板Ｂの所定の位置にマークを設けて、マーク検出センサ９ａ〜９ｆによりフォトマスクＡのマークＡａ〜Ａｆ及びガラス基板Ｂのマークをそれぞれ検出し、そのマークの位置に応じたマーク位置検出信号を入出力回路１１に送出するように構成してもよい。
【００２７】
図２において、入出力回路１１は、エッジ位置検出信号及びマーク位置検出信号のＡ／Ｄ変換器やアライメントステージ６及びマスク補正機構８の駆動制御に必要な回路などを含んで構成される。ＲＯＭ及びＲＡＭを含んで構成されるメモリ部１４には、露光装置のシーケンス動作やアライメントステージ６の駆動制御及びガラス基板ＡやフォトマスクＢの位置補正などに必要とされる各種基準データ（設定データ）が記憶されている。制御部１２は、ＭＰＵなどから構成されてなり、メモリ部１４に記憶されているプログラムを実行して、露光装置のシーケンス動作やアライメントステージ６の駆動制御処理及び位置補正処理などの各種処理を行う。演算部１３は、制御部１２からの指令信号に従ってエッジ検出センサ７ａ〜７ｃやマーク検出センサ９ａ〜９ｃから得られる検出データの演算処理を行う。
【００２８】
図７に示すフロー図に従って、本例に示される露光装置におけるガラス基板Ｂの位置決めのための位置ずれ補正処理を説明する。
ステップＳ１では、エッジ検出センサ７ａ〜７ｃからエッジ位置検出信号を入力する。
【００２９】
ステップＳ２では、エッジ検出センサ７ａ〜７ｃからのエッジ位置検出信号に基づき演算部１２でステップテーブル走行軸４に対するガラス基板Ｂの位置ずれ量を求める。例えば、エッジ検出センサ７ａ及び７ｂから得られるいずれか１つのエッジ位置検出信号と、ガラス基板ＡにおけるＸ方向側のエッジＢ１の基準位置データ（エッジＢ１がステップテーブル走行軸４に対して直角となる場合の基準位置データ）とを用いて所定の演算処理を行うことにより、図３において一点鎖線で示されるガラス基板ＢのＸ方向のずれ量Δｘを求める。また、そのずれ量Δｘと、両エッジ検出センサ７ａ及び７ｂ間の距離Ｌ１とを用いて所定の演算を行うことにより、ガラス基板Ｂのθ方向の傾きずれ量Δθを求める。また、エッジ検出センサ７ｃから得られるエッジ位置検出信号と、ガラス基板ＡにおけるＹ方向側のエッジＢ２の基準位置データ（エッジＢ２がステップテーブル走行軸４に対して平行となる場合の基準位置データ）とを用いて所定の演算処理を行うことにより、ガラス基板ＢのＹ方向のずれ量Δｙを求める。
【００３０】
ステップＳ３では、ステップＳ２で求めた位置ずれ量に基づいて演算部１２でガラス基板Ｂの位置を補正するための補正量を算出する。例えば、ずれ量Δｘの補正量として、該ずれ量Δｘを相殺する補正量−Δｘを算出する。また、傾きずれ量Δθの補正量として、該ずれ量Δθを相殺する補正量−Δθを算出する。また、ずれ量Δｙの補正量として、該ずれ量ΔＹを相殺する補正量−ΔＹを算出する。
【００３１】
ステップＳ４では、ステップＳ３で算出した補正量に基づき制御部１２がアライメントステージ６を駆動して、Ｘ軸テーブル６ａ、Ｙ軸テーブル６ｂ、θ軸テーブル６ｃを適宜移動することにより、ステップテーブル走行軸４に対するガラス基板Ｂの位置ずれを補正する。例えば、Ｘ軸テーブル６ａを駆動して補正量−Δｘ分だけ移動する。また、θ軸テーブル６ｃを駆動して補正量−Δθ分だけ移動する。また、Ｙ軸テーブル６ｂを駆動して補正量−Δｙだけ移動する。これによって、ガラス基板ＢのＸ方向側のエッジＢ１がステップテーブル走行軸４に対して直角となり、ガラス基板ＢのＹ方向側のエッジＢ２がステップテーブル走行軸４に対して平行となる。
【００３２】
このように、ガラス基板Ｂの搬入工程において、ガラス基板Ｂが露光チャック３に保持される前に、各テーブル６ａ〜６ｃをガラス基板Ｂの位置ずれに応じて所定の方向に補正量分だけ移動するので、ステップステージ走行軸４に対するガラス基板Ｂの位置ずれが補正され、これにより、図４において一点鎖線にて示されるように、ガラス基板Ｂをステップテーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定角度に位置決めすることができる。これによって、ガラス基板Ｂがその所定角度のまま露光チャック３に吸着保持されることとなる。
【００３３】
次に、図８に示すフロー図に従って、本例に示される露光装置におけるフォトマスクＡの位置補正処理について説明する。
ステップＳ１１では、図９（ａ）に示す１回目の露光位置において、マーク検出センサ９ａ〜９ｃからマーク３ａ〜３ｃ及びＡａ〜Ａｃのマーク位置検出信号を入力する。
【００３４】
ステップＳ１２では、マーク検出センサ９ａ〜９ｃからのマーク位置検出信号に基づき演算部１３で露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量を求める。例えば、マーク検出センサ９ａ及び９ｂにおいて、いずれか１つのマーク検出センサ９ａ又は９ｂから得られる露光チャック３のマーク位置検出信号と、フォトマスクＡのマーク位置検出信号とを用いて所定の演算処理を行うことにより、図３に示されるように、露光チャック３とフォトマスクＡとのＸ方向のずれ量Δｘを求める。また、そのずれ量Δｘと、図５（ａ）に示されるマーク検出センサ９ａ及び９ｂ間の距離Ｌ２とを用いて所定の演算を行うことにより、露光チャック３とフォトマスクＡとのθ方向の傾きずれ量Δθを求める。また、マーク検出センサ９ｃから得られる露光チャック３のマーク位置検出信号と、フォトマスクＡのマーク位置検出信号とを用いて所定の演算処理を行うことにより、露光チャック３とフォトマスクＡとのＹ方向のずれ量Δｙを求める。
【００３５】
ステップＳ１３では、ステップＳ１２で求めた露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量に基づいて演算部１３がフォトマスクＡの位置を補正するための補正量を算出する。例えば、ずれ量Δｘの補正量として、該ずれ量Δｘを相殺する補正量−Δｘを算出する。また、傾きずれ量Δθの補正量として、該ずれ量Δθを相殺する補正量−Δθを算出する。また、ずれ量Δｙの補正量として、該ずれ量Δｙを相殺する補正量−Δｙを算出する。
【００３６】
ステップＳ１４では、ステップＳ１３で算出した補正量に基づき制御部１２がマスク補正機構８のマスク位置補正機構８ａ〜８ｃにおけるリニアモータ８ａ１〜８ｃ１を適宜駆動して、露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれを補正する。例えば、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂのリニアモータ８ａ１及び８ｂ１を同時に或いは個別に駆動してフォトマスクＡを補正量−Δｘ及び−Δθに応じた分だけ移動させる。また、マスク位置補正機構８ｃのリニアモータ８ｃ１を補正量−Δｙに応じた分だけ移動させる。これによって、フォトマスクＡのＸ方向側の端面Ａ２及び−Ｘ方向側の端面Ａ１がステップテーブル走行軸４に対して直角となり、フォトマスクＡのＹ方向側の端面Ａ３及び−Ｙ方向側の端面Ａ４がステップテーブル走行軸４に対して平行となる。
【００３７】
このように、図５に示される１回目の露光位置において、各マスク位置補正機構８ａ〜８ｃのリニアモータ８ａ１〜８ｃ１を駆動して、露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量に応じた補正量分だけフォトマスクＡを所定の方向に移動するので、露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれが補正される。これによって、図３において一点鎖線にて示されるように、フォトマスクＡがステップテーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定角度に設定される。これにより、フォトマスクＡがその所定角度のままマスクホルダ２に吸着保持されるので、図５（ｂ）及び図９に示されるように、パターンをガラス基板Ｂの露光領域ＢＡ１からはみ出ることなく該露光領域ＢＡ１内に転写することできる。
【００３８】
ステップＳ１５では、図６に示す２回目の露光位置において、マーク検出センサ９ｄ〜９ｆからマーク３ｄ〜３ｆ及びＡｅ〜Ａｆのマーク位置検出信号を入力する。
【００３９】
ステップＳ１６では、マーク検出センサ９ｄ〜９ｆからのマーク位置検出信号に基づき演算部１３で露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量を求める。例えば、２回目の露光位置において、１回目の露光位置における露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量が同じであるとすると、マーク検出センサ９ｄ及び９ｅにおいて、いずれか１つのマーク検出センサ９ｄ又は９ｅから得られる露光チャック３のマーク位置検出信号と、フォトマスクＡのマーク位置検出信号とを用いて所定の演算処理を行うことにより、図３に示されるように、露光チャック３とフォトマスクＡとのＸ方向のずれ量Δｘを求める。また、そのずれ量Δｘと、図５（ａ）に示されるマーク検出センサ９ｄ及び９ｅ間の距離Ｌ３とを用いて所定の演算を行うことにより、露光チャック３とフォトマスクＡとのθ方向の傾きずれ量Δθを求める。また、マーク検出センサ９ｆから得られる露光チャック３のマーク位置検出信号と、フォトマスクＡのマーク位置検出信号とを用いて所定の演算処理を行うことにより、露光チャック３とフォトマスクＡとのＹ方向のずれ量Δｙを求める。
【００４０】
ステップＳ１７では、ステップＳ１６で求めた露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量に基づいて演算部１３がフォトマスクＡの位置を補正するための補正量を算出する。例えば、ずれ量Δｘの補正量として、該ずれ量Δｘを相殺する補正量−Δｘを算出する。また、傾きずれ量Δθの補正量として、該傾きずれ量Δθを相殺する補正量−Δθを算出する。また、ずれ量Δｙの補正量として、該ずれ量Δｙを相殺する補正量−Δｙを算出する。
【００４１】
ステップＳ１８では、ステップＳ１７で算出した補正量に基づき制御部１２がマスク補正機構８のマスク位置補正機構８ａ〜８ｃにおけるリニアモータ８ａ１〜８ｃ１を適宜駆動して、露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれを補正する。例えば、マスク位置補正機構８ａ及び８ｂのリニアモータ８ａ１及び８ｂ１を同時に或いは個別に駆動してフォトマスクＡを補正量−Δｘ及び−Δθに応じた分だけ移動させる。また、マスク位置補正機構８ｃのリニアモータ８ｃ１を補正量−Δｙに応じた分だけ移動させる。これによって、フォトマスクＡのＸ方向側の端面Ａ２及び−Ｘ方向側の端面Ａ１がステップテーブル走行軸４に対して直角となり、フォトマスクＡのＹ方向側の端面Ａ３及び−Ｙ方向側の端面Ａ４がステップテーブル走行軸４に対して平行となる。
【００４２】
このように、図６に示される２回目の露光位置において、各マスク位置補正機構８ａ〜８ｃのリニアモータ８ａ１〜８ｃ１を駆動して、露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれ量に応じた補正量分だけフォトマスクＡを所定の方向に駆動するので、露光チャック３とフォトマスクＡとの位置ずれが補正される。これによって、図３において一点鎖線にて示されるように、フォトマスクＡをステップテーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定角度に設定することができる。これによって、フォトマスクＡがその所定角度のままマスクホルダ２に吸着保持されるので、図６（ｂ）及び図９に示されるように、パターンをガラス基板Ｂの露光領域ＢＡ２からはみ出ることなく該露光領域ＢＡ２内に転写することできる。
【００４３】
このように、１回目及び２回目の各露光位置において、ガラス基板Ｂの露光領域ＢＡ１及びＢＡ２内にマスクパターンが収まるようにフォトマスクＡの位置が補正されるので、ガラス基板Ｂに対するマスクパターンの配列精度を向上できて、フォトマスクＡよりも大きなガラス基板Ｂに対する露光処理を高精度に行えるようになる。
【００４４】
本例に示される露光装置において、露光チャック３とマスクホルダ２との位置ずれを補正するため、マスク機構８に代えて、アライメントステージ６と同じように、Ｘ軸テーブル、Ｙ軸テーブル及びθ軸テーブルなどにより構成されるマスク補正機構（図示せず）をマスクホルダ２に設けてもよい。その場合、マスクホルダ２にフォトマスクＡが吸着保持された状態で、前記マスク補正機構を制御部１２によって駆動制御することにより、露光チャック３とマスクホルダ２との位置ずれが補正される。これにより、フォトマスクＡをステップテーブル走行軸４に対して平行、かつ、直角となる所定角度に設定することができる。しかし、マスクホルダ２に前記マスク補正機構を設けた場合、装置の大型化は免れないので、前述したマスク機構８を用いて露光チャック３とマスクホルダ２との位置ずれを補正する構成とすれば、装置の小型化を図れるという点で有利である。
【００４５】
なお、本例に示される露光装置においては、図９に示されるように、１回目の露光でフォトマスクＡのパターンをガラス基板Ｂの右側半分に転写し、２回目の露光でフォトマスクＡのパターンをガラス基板Ｂの左半分に転写するが、ステップ露光におけるステップ数や露光位置は上記のものに限られるものではない。
【００４６】
【発明の効果】
以上、説明したように、本発明によれば、マスクホルダにマスクが保持される前に、補正手段によって各所定位置で軸に対する露光チャックの変位に応じた露光対象基板とマスクとの位置ずれを補正するようにしたので、該各所定位置でマスクを軸に対して所定角度に設定することができ、これによって、パターンを露光対象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該露光領域内に転写することが可能となり、よって、露光対象基板に対するパターンの配列精度を向上でき、露光処理を高精度に行えるという優れた効果を奏する。
【００４７】
また、マスクがマスクホルダに保持された状態で、補正手段によって各所定位置で軸に対する露光チャックの変位に応じた露光対象基板とマスクとの位置ずれを補正するようにしたので、該各所定位置でマスクをマスクホルダによって軸に対して所定角度に設定することができ、これによって、パターンを露光対象基板の所定の露光領域からはみ出ることなく該露光領域内に転写することが可能となり、よって、露光対象基板に対するパターンの配列精度を向上でき、露光処理を高精度に行えるという優れた効果を奏する。
【００４８】
また、露光対象基板が露光チャック上に搬入される前に、テーブルによって軸に対する露光対象基板の変位に応じた位置ずれを補正するようにしたので、露光対象基板を軸に対して位置ずれを生じることなく露光チャックに保持することができ、これによって、露光チャックに対する露光対象基板の面付け精度を向上でき、露光処理を高精度に行えるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本実施の形態に係る露光装置の一実施例を示す概略構成図。
【図２】  本例の露光装置の制御ブロック図。
【図３】  マスク補正機構によるフォトマスクの位置ずれ補正の説明図。
【図４】  ガラス基板の位置決めのためのアライメントテーブルによる位置ずれ補正の説明図。
【図５】  ガラス基板に１回目の露光処理を行う場合の説明図であり、（ａ）はガラス基板及びフォトマスクの配置態様を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の側面図。
【図６】  ガラス基板に２回目の露光処理を行う場合の説明図であり、（ａ）はガラス基板及びフォトマスクの配置態様を示す平面図、（ｂ）は（ａ）の側面図。
【図７】  ガラス基板の位置決めのための位置ずれ補正処理を示すフロー図。
【図８】  フォトマスクの位置補正処理を示すフロー図。
【図９】  本例の露光装置によるステップ露光処理の説明図。
【符号の説明】
１  アライメントステージユニット
２  マスクホルダ
３  露光チャック
３ａ〜３ｆ  位置合わせ用のマーク
４  ステップテーブル走行軸
６  アライメントステージ
６ａ  Ｘ軸テーブル
６ｂ  Ｙ軸テーブル
６ｃ  θ軸テーブル
７ａ〜７ｃ  エッジ検出センサ
８  マスク補正機構
８ａ〜８ｃ  マスク位置補正機構
９ａ〜９ｆ  マーク検出センサ
１０  搬入アーム
１２  制御部
１３  演算部
Ａ  フォトマスク
Ａａ〜Ａｆ  位置合わせ用のマーク
Ｂ  ガラス基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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