(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
電子ビームコラムが内蔵される真空チャンバーに静圧浮上パッドが連結され、この静圧浮上パッドが被照射体に非接触で吸着した状態で電子ビームが静圧浮上パッドの電子ビーム通路を通って被照射体に照射される構造の電子ビーム照射装置において、
上記静圧浮上パッドの内部に、上記電子ビーム通路を開閉するピストンによりなる真空シールバルブが備えられ、
この真空シールバルブは、断面が丸型形状で、かつ先端が細く、根元が太いテーパー形状に形成されている
ことを特徴とする電子ビーム照射装置。
【請求項２】
上記真空シールバルブは、上記静圧浮上パッドと異なる金属材料で製作されている
ことを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置。
【請求項３】
上記真空シールバルブは、摩擦抵抗が小さく、かつ硬い表面層が形成されている
ことを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置。
【請求項４】
上記表面層は導電性を有する
ことを特徴とする請求項３に記載の電子ビーム照射装置。
【請求項５】
上記真空シールバルブは、断面が丸型形状で、かつ先端に弾性体が取り付けられ、バルブの押し込み力によって上記弾性体が半径方向に膨らむことで上記電子ビーム通路を閉塞する構造である
ことを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置。
【請求項６】
上記弾性体は導電性を有する
ことを特徴とする請求項５に記載の電子ビーム照射装置。
【請求項７】
上記真空シールバルブは、圧縮気体による押し込み力で上記電子ビーム通路を閉じ、バネによる戻り力で上記電子ビーム通路を開くように動作する構造である
ことを特徴とする請求項１に記載の電子ビーム照射装置。
【請求項８】
電子ビームコラムが内蔵される真空チャンバーに静圧浮上パッドが連結され、この静圧浮上パッドが被照射体に非接触で吸着した状態で電子ビームが静圧浮上パッドの電子ビーム通路を通って被照射体に照射されるようにした電子ビーム照射方法において、
上記静圧浮上パッドの内部に、断面が丸型形状に形成されたピストンによりなる真空シールバルブを組み込み、
上記ピストンは、先端が細く根元が太いテーパー形状に形成されており、
この真空シールバルブによって上記電子ビーム通路を閉塞するようにした
ことを特徴とする電子ビーム照射方法。
【請求項９】
上記真空シールバルブは、断面が丸型形状で、かつ先端に弾性体が取り付けられたピストンによりなり、バルブの押し込み力によって上記弾性体を半径方向に膨らませることで上記電子ビーム通路を閉塞するようにした
ことを特徴とする請求項８に記載の電子ビーム照射方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は例えば光ディスクの原盤記録に用いられる電子ビーム照射装置及び電子ビーム照射方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、光ディスクにおいては記録密度の一層の高密度化が求められており、これを実現するためには記録ピットをより微細に形成する必要がある。
このため光ディスクの原盤の作製においては、従前のレーザー光に代えて電子ビームを原盤に照射して記録を行なう装置が提案されている。
【０００３】
この電子ビーム照射装置では、電子ビームが気体分子と衝突して散乱することがないように、真空環境での電子ビーム照射が必要となる。
この場合、電子ビーム照射装置全体を真空環境に置くとすると、大きな真空空間及び大型の排気手段が必要となり、装置が大型で高価なものとなる。
【０００４】
そこでこれを回避するものとして本出願人は、先に「特願２０００−５７３７４」において、電子ビームを照射する部分のみを真空状態とする部分真空方式の電子ビーム照射装置を提案した。
【０００５】
即ちこの電子ビーム照射装置は、電子ビームコラムが内蔵される真空チャンバーの電子ビーム出口に静圧浮上パッドが連結されてなり、この静圧浮上パッドは排気手段による吸引と給気手段による圧縮気体の供給により原盤に対し数μｍ程度の僅かな隙間をもって非接触で吸着され、その状態で電子銃から出射された電子ビームが静圧浮上パッドの中心部の電子ビーム通路を通って原盤に照射される構造となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、このように構成される電子ビーム照射装置において、原盤の取り替え作業を行なう場合、静圧浮上パッドを原盤から待避させる必要がある。
この場合、静圧浮上パッドが原盤から完全に離れる状態となるので、静圧浮上パッドの電子ビーム通路から大気が真空チャンバーの内部に流入し、電子ビームコラムが大気開放状態に晒される。
【０００７】
そのため、静圧浮上パッドを待避させる前の高真空を維持しているうちに電子ビームコラムのゲートバルブを閉じて電子銃を保護し、また真空チャンバー内を真空にする排気手段（真空ポンプ）を保護するためにその電源を切らなければならない等、非常に作業性が悪い。
【０００８】
また、原盤を取り替えた後に再び真空システムを立ち上げる場合、真空チャンバー内の真空度が電子ビームの照射に支障のない程度まで上昇し、それが安定するまでには数時間を費やすことになり、これは電子ビーム照射によって原盤に記録を行なう時間よりも待ち時間の方が長いという非常に効率の悪いシステムであった。
【０００９】
さらには、原盤の取り替えの度に真空チャンバー内を大気開放状態とするために、大気中の塵埃の吸い込みによる真空チャンバー及び電子ビームコラム内の汚染の問題もあった。
【００１０】
本発明はこのような問題点に鑑みてなされたもので、部分真空方式の電子ビーム照射装置において、被照射体（原盤）から静圧浮上パッドを離した状態でも真空チャンバー内を所要の真空度に維持することができるようにし、上記の問題点の解消することを課題としている。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
上記の課題を解決するために、本発明は、電子ビームコラムが内蔵される真空チャンバーに静圧浮上パッドが連結され、この静圧浮上パッドが被照射体に非接触で吸着した状態で電子ビームが静圧浮上パッドの電子ビーム通路を通って被照射体に照射される構造の電子ビーム照射装置において、
静圧浮上パッドの内部に、電子ビーム通路を開閉するピストンによりなる真空シールバルブを備え、この真空シールバルブは、断面が丸型形状で、かつ先端が細く、根元が太いテーパー形状に形成されていることを特徴とするものである。
また、この真空シールバルブは、断面が丸型形状で、かつ先端に弾性体が取り付けられ、バルブの押し込み力によって弾性体が半径方向に膨らむことで電子ビーム通路を閉塞する構造としてもよい。
【００１２】
このように構成される本発明の電子ビーム照射装置では、被照射体から静圧浮上パッドを離すときには真空シールバルブを作動させて電子ビーム通路を閉じることにより真空シールが行なわれ、真空チャンバー及び電子ビームコラム内を所要の真空度に維持することができる。
ここで特に本発明では、真空シールバルブを丸型の断面形状としたことにより高精度の加工が容易となり、さらに真空シールバルブを先端が細いテーパー形状としたことで、隙間の殆どない高真空シールが可能となる。
またバルブの押し込み力によって先端の弾性体が半径方向に膨らむことで電子ビーム通路を塞ぐようにした構造においても、隙間のない高真空シールが可能となり、真空チャンバー及び電子ビームコラム内の真空度を確実に維持することができる。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照しながら本発明の実施の形態例について詳述する。
ここでは、光ディスクの原盤記録に用いる電子ビーム照射装置を例示してあり、はじめに図１及び図２を参照してこの電子ビーム照射装置の基本構成を説明する。
【００１４】
この装置は図１に示す如く、電子銃１６から出射される電子ビームｂを被照射体であるディスク原盤１に照射して信号の記録（信号パターンの記録ピットの形成）を行なうものである。
ここで電子ビームの照射には真空環境が必要であるが、特にこの装置では電子ビームを照射する部分のみを真空状態とし、それ以外の部分は大気中に置く部分真空方式が採用されている。
【００１５】
先ず、この装置において原盤１を支持する支持機構部２について説明する。
装置の基台３上にはガイドレール４が水平に配置されてその左右両端部が固定部５ａ，５ｂで固定されており、このガイドレール４にスライドテーブル６が左右の脚部７ａ，７ｂに設けられた軸受８によって移動可能に支持されている。
ここで軸受８としては、静圧空気式軸受を用いることにより、スライドテーブル６の移動時の摩擦抵抗が極端に少ない高精度な移動機構を実現することができる。
【００１６】
そしてこのスライドテーブル６には原盤１の回転手段であるモーター９が固定されており、このモーター９の回転軸に取り付けられた回転テーブル１０に原盤１が水平に載置支持されるようになっている。
【００１７】
原盤回転用のモーター９は電磁駆動型のスピンドルモーターが用いられており、制御回路からの制御信号に基いてこのモーター９が駆動されることによって回転テーブル１０と一体に原盤１が回転されるものである。
ここでこのモーター９は、回転軸の軸受に静圧空気式軸受を用いることにより、回転時の摩擦抵抗による負荷が少なくなって応答性のよい高精度な回転機構を実現することができる。
【００１８】
またこの装置において原盤１を回転テーブル１０に固定保持するチャッキング方式としては、真空吸着方式が採用されている。
【００１９】
さらにスライドテーブル６と基台３との間には、スライドテーブル６の移動手段であるモーター１１が配置されている。
このスライドテーブル移動用のモーター１１には電磁駆動型のリニアモーターが用いられており、即ちこれは基台３側の固定子１１ａとスライドテーブル６側の移動子１１ｂとの間に例えばボイスコイル型の磁気回路が構成されてなるもので、制御回路からの制御信号に基いてこのモーター１１が駆動されることによってスライドテーブル６がガイドレール４に沿って水平に移動し、これと一体に原盤１がその径方向に移動される構造となっている。
【００２０】
このように構成される原盤の支持機構部２に対しその上方には、原盤１上を部分的に真空状態にして電子ビームを照射する電子ビーム照射手段１３が固定配置されている。
１４は原盤１の上方で懸架支持されている真空チャンバーで、この真空チャンバー１４の内部に電子ビームコラム１５が配置され、この電子ビームコラム１５の上流の電子ビーム励起源である電子銃１６から電子ビームｂが出射される。
【００２１】
電子ビームコラム１５が内蔵される真空チャンバー１４には真空ポンプによりなる排気手段が連結されており、この排気手段によって真空チャンバー１４の内部を吸引することで電子ビームコラム１５内が電子ビームの照射に支障のない程度の真空度（１×１０-4〔Ｐａ〕程度）に保たれるようになっている。
【００２２】
この真空チャンバー１４の下端部の電子ビーム出口には伸縮連結機構１７を介して静圧浮上パッド１８が取り付けられており、この静圧浮上パッド１８が原盤１に対し５μｍ程度の僅かな隙間をもって非接触で吸着し、その状態で電子銃１６から出射された電子ビームｂが静圧浮上パッド１８の中心部の電子ビーム通路を通って原盤１に照射される。
【００２３】
図２に静圧浮上パッド１８の詳細な構造を示す。
この静電浮上パッド１８は、その中心部に電子ビームｂが通る電子ビーム通路１９を有する例えば金属製のブロック２０により構成される。このブロック２０はベローズ状の伸縮連結機構１７によって真空チャンバー１４の下端の固定部１４ａに気密的に連結されており、この伸縮連結機構１７の伸縮によりブロック２０は原盤１に厚さムラや回転ぶれ等があってもそれに追従して確実に吸着できるようになっている。
【００２４】
そしてこのブロック２０を原盤１に吸着する手段としてブロック２０には、原盤１との対向面に開口する第１の吸引溝２１及び第２の吸引溝２２が電子ビーム通路１９を中心とする同心円状に形成されている。
【００２５】
この第１の吸引溝２１と第２の吸引溝２２には夫々排気管２３と２４を介して排気手段が連結されており、この排気手段によって第１の吸引溝２１と第２の吸引溝２２から排気即ち気体の吸引が行なわれる如くなされている。
【００２６】
この排気手段としては真空ポンプが用いられ、この場合、電子ビーム通路１９に近い吸引溝ほど高い真空度に排気できる真空ポンプを連結する。即ち、電子ビーム通路１９に近い第１の吸引溝２１には例えば１×１０-1〔Ｐａ〕程度の真空度が得られる真空ポンプを連結し、これより外側の第２の吸引溝２２には５×１０3 〔Ｐａ〕程度の真空度が得られる真空ポンプを連結する。
【００２７】
さらにブロック２０には、第２の吸引溝２２の外側において原盤１との対向面に露出する通気体２５が埋め込まれている。この通気体２５は通気性を有する多孔質の金属またはカーボン等のセラミックスを材料として電子ビーム通路１９を中心とするリング状に形成されており、この通気体２５の裏側においてブロック２０の内部には気体の流路２６が形成されている。
【００２８】
この流路２６には給気管２７を介して給気手段が連結されており、この給気手段から流路２６に例えば５×１０5 〔Ｐａ〕程度の圧縮気体（正圧）が供給され、これが通気体２５から噴出されるようになっている。
【００２９】
このように構成される静圧浮上パッド１８を原盤１の上に載せた状態で各排気手段及び給気手段を作動させると、通気体２５から噴出される気体によって静圧浮上パッド１８が原盤１から僅かに浮き上がり、同時に第１及び第２の吸引溝２１及び２２から気体が吸引されて溝内が負圧となることによって静圧浮上パッド１８が原盤１に吸い付くように作用し、このため静圧浮上パッド１８は原盤１に対し５μｍ程度の隙間ｄを保ちながら非接触で吸着される状態となるので、原盤１の回転には支障がない。
【００３０】
このとき通気体２５から噴出される気体は、その周囲に形成されている第１及び第２の吸引溝２１及び２２で吸引されることにより電子ビーム通路１９に至ることが回避され、この場合、通気体２５からの気体は先ず第２の吸引溝２２で吸引され、さらに第１の吸引溝２１で吸引されることになり、ここで第１の吸引溝２１での吸引力は第２の吸引溝２２より強くなっているため、静圧浮上パッド１８の中心部にいくほど真空度を高くでき、これによって真空チャンバー１４の内部即ち電子ビームコラム１５内を電子ビームの照射に支障のない程度の真空度（１×１０-4〔Ｐａ〕程度）に保つことができるものである。
【００３１】
そしてこの静圧浮上パッド１８によって原盤１上の一部分を真空にした状態で原盤１に電子ビームｂが照射され、同時に支持機構部２のモーター９の駆動により原盤１が回転されると共にモーター１１の駆動によって原盤１が径方向に移動されることで所定のトラックに記録が行なわれる。
【００３２】
上記の如く構成される電子ビーム照射装置では、電子ビームを照射する部分のみを真空とする部分真空方式を採用したことにより、大きな空間の真空保持を必要とせず、このため大型の排気手段（真空ポンプ）の使用を回避でき、小型で廉価に装置を構成することができる。
【００３３】
ところで、この部分真空方式の電子ビーム照射装置においては、原盤１の取り替え作業を行なう場合、静圧浮上パッド１８の第１及び第２の吸引溝２１及び２２からの排気（吸引）を停止し、静圧浮上パッド１８を原盤１上から半径方向もしくは上方向へ待避させる。
【００３４】
このとき、静圧浮上パッド１８が原盤１から離れることによって静圧浮上パッド１８の電子ビーム通路１９から真空チャンバー１４の内部に大気が流入することを防止するために、特に本発明による電子ビーム照射装置においては、静圧浮上パッド１８の内部に真空シールバルブ機構を構築してある。
【００３５】
この真空シールバルブ機構の詳細を図３に示す。
本例においては、静圧浮上パッド１８を構成するブロック２０の内部に、ピストン３０によりなる真空シールバルブが電子ビーム通路１９と直交して左右に摺動可能に組み込まれている。
【００３６】
この真空シールバルブを構成するピストン３０は後述するように断面が丸型形状の棒状体によりなるもので、このピストン３０の移動によって電子ビーム通路１９が開閉される構造となっている。
【００３７】
このピストン３０の作動手段としてブロック２０内にはエアーシリンダー部３１が設けられており、このエアーシリンダー部３１にピストン３０の基部３０ａが隙間なく摺動可能に嵌め込まれている。エアーシリンダー部３１の外側にはエアー継手３２及び給気管３３を介してエアーポンプによりなる給気手段が連結されており、この給気手段からエアーシリンダー部３１に圧縮気体が供給されることによってピストン３０が押し込まれるようになっている。
さらにエアーシリンダー部３１の内側には圧縮コイルバネ３４が組み込まれており、このバネ３４の弾性によってピストン３０に戻り力が付与されている。
【００３８】
通常の状態、即ち給気手段から圧縮気体が供給されていない状態ではピストン３０はバネ３４の戻り力によって電子ビーム通路１９から離れた後退位置にあり、このため電子ビーム通路１９は開いた状態にあって、この状態で電子ビームの照射が行なわれる（図４Ａ参照）。
【００３９】
そして静圧浮上パッド１８の待避時には、給気手段から圧縮気体を供給することにより、ピストン３０がバネ３４の戻り力に抗して押し込まれて前進移動し、電子ビーム通路１９を塞ぐ状態となる（図４Ｂ参照）。
これによって電子ビーム通路１９が閉じられて真空シールが行なわれ、即ちこの状態では電子ビーム通路１９から真空チャンバー１４内に大気が流入することはない。
【００４０】
このように本例の真空シールバルブ機構は、バネの戻り力と圧縮気体の押し込み力を利用して電子ビーム通路１９を開閉する簡単な構造であり、この構造では圧縮気体の押し込み力＞バネの力となるようにバネの選定を行なう必要がある。一方、押し込み力は、ピストン３０の基部３０ａの断面積×圧縮気体の圧力の積となり、この値が大きいほどピストン３０の押し込み力も大きくなり、バルブ開閉動作時の安定性が増すことになる。
【００４１】
また、ピストン３０は摺動時の焼き付きを防ぐため、静圧浮上パッド１８のブロック２０とは異なる金属材料で製作することが望ましい。例えば、静圧浮上パッド１８のブロック２０の材料にはアルミニウムが好適に用いられるが、この場合ピストン３０は黄銅を用いて製作するものとする。
【００４２】
さらにピストン３０は、その表面に摺動時の摩擦抵抗が小さく、かつ硬い表面層を形成することにより、一層動作の安定を図ることができる。またその表面層は、電子ビームによる帯電を防止するため導電性を有するものであることが望ましい。この表面層には無電解ニッケルメッキが好適であり、これに加えてさらにテフロンを含浸させた表面処理を施すことにより、非常に滑らかで硬い表面層を形成することができる。
【００４３】
続いて、ピストン３０の形状についてさらに詳しく述べる。
先ずこのピストン３０は図５に示す如く断面が略真円状の丸型に形成されている形状に特徴がある。ピストン３０を丸型の断面形状とする最大の利点として、加工精度の向上が容易に可能であるという点が挙げられる。
【００４４】
安定的なバルブの開閉動作即ちピストン３０の摺動のためには、ピストン３０とこのピストン３０が挿入されるブロック２０の穴３５との間に、ある程度の隙間ｇが必要である。しかしながら、この隙間が大きいとそこから空気が流入し真空チャンバー１４内の真空度を保つことができない。
【００４５】
そこでピストン３０を丸型の断面形状とすることで、ピストン３０は旋盤加工により、また穴３５側はマシニングセンター等でリーマを使用して加工することにより、容易にシール面の表面粗さを最大高さで０．８ｓ以下、隙間ｇを１０μｍ以下に抑えることが可能となる。
【００４６】
ここで参考までにピストン３０を丸型でない断面形状とした例を図６に示す。これは本出願人が先に「特願２００１−５４７３９」で提案した真空シールバルブであり、ピストン３０は半円型の断面形状を有している。この場合はフライス盤によるエンドミル加工の限界で、シール面の表面粗さは最大高さ６．３ｓ程度、隙間ｇも少なくとも数十μｍはあり、これでは隙間から空気が流入し易く、真空チャンバー１４内の真空度を安定して保つことは難しい。
【００４７】
これに対し本例では、前述した如くピストン３０を丸型の断面形状としたことで表面粗さを０．８ｓ以下、隙間ｇを１０μｍ以下に抑えることができたため、隙間からの空気の流入が格段に減少し、その結果、真空チャンバー１４及び電子ビームコラム１５内の高真空シールが可能となり、真空チャンバー１４及び電子ビームコラム１５内を装置として最低限必要な１×１０0 〔Ｐａ〕以下（排気手段である高真空ターボ分子ポンプが定常運転可能な真空圧）に維持することができるものである。
【００４８】
ところで、一般的な工作機械の場合、工具やワークの振れ（芯振れ）という問題があり、ピストン３０と穴３５の間の隙間を機械の送り方向で一定に保つことは難しい。大抵の場合、その量は僅かであるが、先が細く、根元が太くなるようなテーパー形状になる。そうなると真空シールに悪影響を及ぼしかねない。
【００４９】
そこで図７に示す如く、それを見越して最初から先が細く、根元が太いテーパー（例えば１／５００程度のテーパー）形状にピストン３０及び穴３５を形成することで、その影響を極力抑えるようにする構造が有効である。
この場合、ピストン３０が押し込まれて電子ビーム通路１９が閉じたときにピストン３０はくさびのように穴３５にきっちりと嵌まり込む状態となるため、より一層の真空シール性の向上が期待できるものである。
【００５０】
図８は真空シールバルブの他の構造例を示している。
これは前の実施例のようにピストン３０と穴３５の間の隙間を極小化して真空シール性を向上させる構造ではなく、図示の如くピストン３０の先端にゴム等の弾性体３６を取り付けた複合体のピストンとし、この弾性体３６をバルブの押し込み力によって半径方向に膨らませることで隙間をなくして真空シール性を向上させる構造としたものである。
【００５１】
ここでピストン３０は、先端の弾性体３６を含めて全体的に丸型の断面形状に形成されており、このためピストン３０と弾性体３６の複合化を容易に実現できるものである。
【００５２】
このピストン３０と弾性体３６の複合化構造の一例を図９に示す。
即ちこの構造は、ピストン３０の先端に突出される固定芯３０ｂに弾性体３６を嵌め合わせて一体化したものであり、この場合、固定芯３０ｂの先端が太く形成されていることにより弾性体３６はピストン３０から脱落することなく確実に固定されるようになっている。ここでピストン３０は、弾性体３６を含む全体が丸型の断面形状であることにより、弾性体３６の取り付けにおいて面倒な位置合わせ等を必要とすることなく容易に複合化が可能である。
【００５３】
そしてこのピストン３０が圧縮気体によって押し込まれた状態では、図８Ｂに示す如く先端の弾性体３６が穴３５の奥の壁に突き当たり、これによって弾性体３６は押し込み方向に縮み、その分、半径方向に膨らむように弾性変形して隙間なく電子ビーム通路１９を閉塞する状態となる。
【００５４】
この構造では、ピストン３０と穴３５の間の隙間ｇをそれほど高精度にコントロールする必要がないので、前の実施例に比して加工費等のコストを大幅に低減することができる。
そして、この隙間以上に弾性体３６の弾性変形量が大きいため、基本的に隙間をゼロにすることが可能であるので、さらなる真空シール性の向上が可能となり、真空チャンバー１４内を前の実施例より高い真空度（１０-1〜１０-2〔Ｐａ〕程度）に維持できるものである。
【００５５】
またこの構成において弾性体３６の材質は、電子ビームによる帯電の影響をなくすため、導電性のゴムとすることが望ましい。この導電性のゴムとしては、例えばシリコン系ゴムを好適に用いることができる。
【００５６】
以上に説明した如き真空シールバルブ機構を備えた静圧浮上パッド１８を有する電子ビーム照射装置では、真空チャンバー１４及び電子ビームコラム１５内を常に高真空状態に維持できるので、従来のように静圧浮上パッドを原盤から離す度に電子ビームコラムのゲートバルブを閉じて電子銃を保護したり真空チャンバー１４の排気手段の電源を切ったりする必要がなくなり、真空排気及び電子ビームの安定に必要な待ち時間を数時間から数分へと大幅に短縮することができる。また真空チャンバー内を常に真空状態に維持できることにより、真空チャンバー及び電子ビームコラム内の汚染を効果的に防止することができる。
【００５７】
以上、本発明の実施例として本発明を光ディスクの原盤記録に用いる電子ビーム照射装置に適用した例を示したが、本発明はこれに限ることなく他にも例えば液晶や半導体構造で用いる石英、シリコンウエハなどに対する電子ビームの照射や、電子ビーム照射による各種の検査装置及び顕微鏡装置など、幅広い用途に適用することができるものである。
【００５８】
【発明の効果】
以上説明した如く本発明では、静電浮上パッドを用いた部分真空方式の電子ビーム照射装置において、被照射体から静圧浮上パッドを離した状態でも真空シールバルブにより高真空シールが可能となるので、真空チャンバー及び電子ビームコラム内を所要の真空度に確実に維持することができる。
【００５９】
その結果本発明の電子ビーム照射装置では、従来のように静電浮上パッドを被照射体から離す度に電子ビームコラムのゲートバルブを閉じて電子銃を保護したり真空チャンバーの排気手段の電源を切ったりする必要がなくなるので、真空排気及び電子ビームの安定に必要な待ち時間を大幅に短縮でき、作業の簡略化、短時間化による作業性の向上を図ることができる。
また真空チャンバー内を常に真空状態に維持できることにより、真空チャンバー及び電子ビームコラム内の汚染が防止され、電子銃の長寿命化に繋がる効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用される部分真空方式の電子ビーム照射装置の基本構造を示す正面図である。
【図２】電子ビーム照射装置に備えられる静圧浮上パッドの構造を示す縦断面図である。
【図３】本発明を適用した静圧浮上パッドの縦断面図である。
【図４】静圧浮上パッドにおける真空シールバルブ機構の動作説明図で、Ａはバルブが開いた状態、Ｂは閉じた状態である。
【図５】真空シールバルブの断面形状を示す図である。
【図６】真空シールバルブの断面形状の参考図である。
【図７】静圧浮上パッドにおける真空シールバルブ機構の要部の拡大図である。
【図８】真空シールバルブの他の構造例を示す図で、Ａはバルブが開いた状態、Ｂは閉じた状態である。
【図９】図８に示す真空シールバルブの複合化構造の一例を示す図である。
【符号の説明】
１‥‥原盤（被照射体）、１４‥‥真空チャンバー、１５‥‥電子ビームコラム、１８‥‥静圧浮上パッド、１９‥‥電子ビーム通路、３０‥‥ピストン（真空シールバルブ）、３６‥‥弾性体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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