(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の基板を対向配置して基板間に放電空間を形成し、一方の基板内面に複数の電極対を電極対間で放電結合しない間隔を隔てて配列し、他方の基板内面に放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を前記電極対と交差する方向に配列し、かつ隔壁間の細長い溝内に蛍光体層を設けたプラズマディスプレイパネルであって、
前記蛍光体層は、前記電極対間の非放電領域に対応する位置に厚膜部を有し、当該厚膜部が細長い溝内において隔壁よりも低い壁状の凸部を形成してなる
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネル。
【請求項２】
一対の基板を対向配置して基板間に放電空間を形成し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を一方の基板に並列して配置し、前記隔壁と隔壁との間の細長い溝内に、前記隔壁よりも低くかつ蛍光面積を増大し得る高さの凸部を有する蛍光体層が形成されたプラズマディスプレイパネルを製造するための製造方法であって、
前記蛍光体層が、溶媒を含む感光性の蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を露光した後、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成することからなる工程により形成されてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【請求項３】
一対の基板を対向配置して基板間に放電空間を形成し、放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を一方の基板に並列して配置し、前記隔壁と隔壁との間の細長い溝内に、前記隔壁よりも低くかつ蛍光面積を増大し得る高さの凸部を有する蛍光体層が形成されたプラズマディスプレイパネルを製造するための製造方法であって、
前記蛍光体層が、溶媒を含む蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を赤外線の照射により加熱した後、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成することからなる工程により形成されてなるプラズマディスプレイパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）に関し、さらに詳しくは、マトリクス表示方式のＰＤＰに関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
ＰＤＰは視認性に優れ、高速表示が可能であり、しかも比較的大画面化の容易な薄型表示デバイスである。特に面放電型のＰＤＰは、駆動電圧の印加に際して対となる表示電極を同一の基板上に配列したＰＤＰであり、蛍光体によるカラー表示に適している。
【０００３】
従来、この種ＰＤＰにおいては、パネルを構成する一方の基板上に、隔壁（リブ）がほぼ平行に設けられており、蛍光体層は、蛍光体粉末と樹脂と有機溶媒からなる蛍光体ペーストを隔壁間の細長い溝内（放電領域）に充填後、乾燥と焼成をすることにより形成していた。
【０００４】
したがって、蛍光体層はセルの底部と側壁の形状にならった膜形状であり、膜表面は平滑になっていた。このため、プラズマ発光に伴う紫外線の受光はセル底部とセルの側壁部の面積に限定される。
【０００５】
また、発光セルは隔壁と平行方向には境界がないので、プラズマからの紫外線と蛍光体からの可視光の内、隔壁と平行方向の斜め光はパネルの発光として利用されておらず、発光効率が低下する要因になっていた。
【０００６】
なお、蛍光体の発光輝度を高めるものとしては、特開平７−３７５１１号公報に記載のものなどが知られている。
【０００７】
この発明は、簡単な構造で発光輝度を増大するためになされたもので、隔壁間の溝内に蛍光体層を形成する際に、蛍光体層の表面に蛍光体自身で凸部を形成して、発光に寄与する蛍光体の面積を増大させ、それにより発光輝度を増大させるようにしたプラズマディスプレイパネルを提供するものである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、一対の基板を対向配置して基板間に放電空間を形成し、一方の基板内面に複数の電極対を電極対間で放電結合しない間隔を隔てて配列し、他方の基板内面に放電空間を仕切るための複数の帯状の隔壁を前記電極対と交差する方向に配列し、かつ隔壁間の細長い溝内に蛍光体層を設けたプラズマディスプレイパネルであって、前記蛍光体層は、前記電極対間の非放電領域に対応する位置に厚膜部を有し、当該厚膜部が細長い溝内において隔壁よりも低い壁状の凸部を形成してなることを特徴とするプラズマディスプレイパネルである。
【０００９】
この発明によれば、簡単な構成で、発光輝度を増大させることができる。また、簡単な工程で、発光輝度を増大させることが可能な蛍光体層を形成することができる。
【００１０】
本発明の発明者らは、蛍光体層の形成に際し、感光性の蛍光体ペーストに対し溶媒を含んだ状態で露光光を照射することにより、以下のような作用で凸部を有する蛍光体層を形成することができることを見いだした。
【００１１】
すなわち、蛍光体ペーストを乾燥させずに、ペースト状態のままで露光光を照射すると、表面に樹脂層ができる。これは、以下のような原理に基づくものと考えられる。すなわち、感光性の蛍光体ペーストには、光重合性化合物（感光性モノマー）が含まれており、これが光重合することによって硬化する。この時、モノマーがポリマー（樹脂層）となるのであるが、この過程において、露光部分では、溶媒中に均一に分散していたモノマーが、感光度合いの高い部分、つまり蛍光体ペーストの表面に集合しつつ重合してポリマーになり、これにより蛍光体ペーストの表面に樹脂層ができるものと思われる。
【００１２】
そして、それをそのまま現像せずに乾燥させると、乾燥時にはこの樹脂層がその下部の乾燥を抑えるように働く。一方、未露光部は比較的速く乾燥する。乾燥時には溶媒が蒸発するので、未露光部と樹脂層下部とで溶媒の濃度に差が生じ、この差（浸透圧）により樹脂層下部から未露光部に溶媒が移行（浸透）しようとするが、この時固形分（蛍光体粉末）も一緒に移動する。これにより、露光部分は薄い膜になり、未露光部は厚膜となって、凸部を有する蛍光体層を形成することができる、ということを見いだした。
【００１３】
これにより、溶媒を含む感光性の蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を露光した後、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成することにより、凸部を有する蛍光体層を形成することができる。
【００１４】
また、蛍光体ペーストに感光性材料を混入せず、溶媒を含む蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布し、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を赤外線の照射により加熱した後、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成することにより、凸部を有する蛍光体層を形成することもできる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
この発明において、一対の基板としては、ガラス、石英、シリコン等の基板や、これらの基板上に、電極、絶縁膜、誘電体層、保護膜等の所望の構成物を形成した基板が含まれる。
【００１６】
隔壁は、放電空間を仕切る複数の帯状のものであれば、どのような形態のものであってもよい。例えば、ストライプ状の隔壁が平行に配置されたものや、蛇行状の隔壁が並列に配置されたものであってもよい。また、隔壁の端部が中央部より太くなったものや、隔壁の端部が接続されたものなど、あらゆる形態の隔壁が含まれる。
【００１７】
蛍光体層は、隔壁と隔壁との間の細長い溝内に形成されていればよく、この蛍光体層中の凸部は、隔壁よりも低くかつ蛍光面積を増大するという目的さえ達成される高さであれば、どのような形状のものであってもよい。例えば、この凸部は、隔壁と交差する方向に壁状に設けられていてもよい。
【００１８】
凸部の位置は、放電領域と放電領域との間の非放電領域に対応する位置に形成するようにしてもよい。この構成であれば、放電部からの斜め方向の紫外線および蛍光体からの斜め方向の可視光をパネルの発光として有効に利用することができる（光のクロストークの防止）。また、放電のクロストークも防止することができる。
【００１９】
あるいは、凸部の位置は、電極対の存在する放電領域に対応する位置に設けるようにしてもよい。
【００２０】
この発明においては、蛍光体層を、以下のような工程で形成することができる。
すなわち、まず、溶媒を含む感光性の蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布する。溶媒を含む感光性の蛍光体ペーストとしては、有機溶媒、感光性材料、蛍光体粉末からなるペーストを用いることができる。
【００２１】
有機溶媒としては、例えば、エチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、トルエン、メチルセロソルブ、酢酸エチル、メタノール、イソブチルアルコール、ブチルセロソルブ、メチルセルソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトン、ブロモベンゼン、クロロベンゼン、ジブロモベンゼン、ジクロロベンゼン、ブロモ安息香酸、クロロ安息香酸などや、これらのうち１種以上を含有する有機溶媒混合物を用いることができる。
【００２２】
感光性材料としては、特に限定されず、公知の材料をいずれも使用することができる。例えば、分子内に少なくとも１つの重合可能なエチレン性不飽和基（ビニル基、アリル基、アクリル基、メタクリル基など）を有する光重合性化合物、光重合開始剤等を含む感光性材料が挙げられる。
【００２３】
感光性材料には、架橋剤、紫外線吸収剤、増感剤、増感助剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、有機あるいは無機の沈殿防止剤などの添加剤成分が加えられていてもよい。
【００２４】
光重合性化合物は、感光性モノマーおよび感光性ポリマーの内、少なくとも１種類から選ばれる光反応性成分を含むものであればよい。
【００２５】
感光性モノマーとしては、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物で、その具体的な例として、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ｎ−プロピルアクリレート、イソプロピルアクリレート、ｎ−ブチルアクリレート、ｓｅｃ−ブチルアクリレート、イソ−ブチルアクリレート、ｔｅｒｔ−ブチルアクリレート、ｎ−ペンチルアクリレート、アリルアクリレート、ベンジルアクリレート、ブトキシエチルアクリレート、ブトキシトリエチレングリコールアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンテニルアクリレート、２−エチルヘキシルアクリレート、グリセロールアクリレート、グリシジルアクリレート、ヘプタデカフロロデシルアクリレート、２−ヒドロキシエチルアクリレート、イソボニルアクリレート、２−ヒドロキシプロピルアクリレート、イソデキシルアクリレート、イソオキチルアクリレート、ラウリルアクリレート、２−メトキシエチルアクリレート、メトキシエチレングリコールアクリレート、メトキシジエチレングリコールアクリレート、オクタフロロペンチルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート、ステアリルアクリレート、トリフロロエチルアクリレート、アリル化シクロヘキシルジアクリレート、１，４−ブタンジオールジアクリレート、１，３−ブチレングリコールジアクリレート、エチレングリコールジアクリレート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリエチレングリコールジアクリレート、、ポリエチレングリコールジアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、ジペンタエリスリトールモノヒドロキシペンタアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、グリセロールジアクリレート、メトキシ化シクロヘキシルジアクリレート、ネオペンチルグルコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ポリプロピレングリコールジアクリレート、トリグリセロールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、アクリルアミド、アミノエチルアクリレートおよび上記化合物の分子内のアクリレートを一部もしくはすべてをメタクリレートに変えたもの、γ−メチクリロキシプロピルトリメトキシシラン、１−ビニル−２−ピロリドン、フェニル（メタ）アクリレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、ベンジル（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−エチレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＡ−プロピレンオキサイド付加物のジ（メタ）アクリレート、１−ナフチル（メタ）アクリレート、２−ナフチル（メタ）アクリレート、チオフェノール（メタ）アクリレート、ベンジルメルカプタン（メタ）アクリレートまたこれらの芳香環中の１〜５個の水素原子を塩素または臭素原子に置換した化合物を用いることができる。
【００２６】
感光性ポリマーとしては、感光性オリゴマーを含み、炭素−炭素不飽和結合を含有する化合物や、スチレンやビニルナフタレン、α−メチルナフタレン等を重合して用いることができる。
【００２７】
光重合開始剤としては、例えば、ベンゾフェノン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、４，４−ビス（ジメチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミン）ベンゾフェノン、４，４−ジクロロベンゾフェノン、４−ベンゾイル−４−メチルジフェニルケトン、ジベンジルケトン、フルオレノン、２，２−ジエトキシアセトフェノン、２，２−ジメトキシ−２−フェニル−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン、ｐ−ｔ−ブチルジクロロアセトフェノン、チオキサントン、２−メチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２−イソプロピルチオキサントン、ジエチルチオキサントン、ベンジル、ベンジルジメチルケタノール、ベンジル−メトキシエチルアセタール、ベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインブチルエーテル、アントラキノン、２−ｔ−ブチルアントラキノン、２−アミルアントラキノン、β−クロルアントラキノン、アントロン、ベンズアントロン、ジベンゾスベロン、メチレンアントロン、４−アジドベンザルアセトフェノン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）シクロヘキサン、２，６−ビス（ｐ−アジドベンジリデン）−４−メチルシクロヘキサノン、２−フェニル−１，２−ブタジオン−２−（ｏ−メトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−プロパンジオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１，３−ジフェニル−プロパントリオン−２−（ｏ−エトキシカルボニル）オキシム、１−フェニル−３−エトキシ−プロパントリオン−２−（ｏ−ベンゾイル）オキシム、ミヒラ−ケトン、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルフォリノ−１−プロパノン、ナフタレンスルホニルクロライド、キノリンスルホニルクロライド、Ｎ−フェニルチオアクリドン、４，４−アゾビスイソブチロニトリル、ジフェニルジスルフィド、ベンズチアゾールジスルフィド、トリフェニルホルフィン、カンファーキノン、四臭素化炭素、トリブロモフェニルスルホン、過酸化ベンゾインおよびエオシン、メチレンブルーなどの光還元性の色素とアスコルビン酸、トリエタノールアミンなどの還元剤の組み合わせなどが挙げられ、これらを１種または２種以上使用することができる。
【００２８】
蛍光体粉末としては、当該分野で使用されている蛍光体粉末をいずれも使用することができる。例えば、Ｙ2 Ｏ3 ：Ｅｕ、ＹＶＯ4 ：Ｅｕ、（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ3 ：Ｅｕ、Ｙ2 Ｏ3 Ｓ：Ｅｕ、γ−Ｚｎ3 （ＰＯ4 ）2 ：Ｍｎ、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：Ａｇ（以上赤色）、Ｚｎ2 ＧｅＯ2 ：Ｍｎ、ＢａＡｌ12Ｏ19：Ｍｎ、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：Ｍｎ、ＬａＰＯ4 ：Ｔｂ、ＺｎＳ：（Ｃｕ，Ａｌ）、ＺｎＳ：（Ａｕ，Ｃｕ，Ａｌ）、（Ｚｎ，Ｃｄ）Ｓ：（Ｃｕ，Ａｌ）、Ｚｎ2 ＳｉＯ4 ：（Ｍｎ，Ａｓ）、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｃｅ、Ｇｄ2 Ｏ2 Ｓ：Ｔｂ、Ｙ3 Ａｌ5 Ｏ12：Ｔｂ、ＺｎＯ：Ｚｎ（以上緑色）、Ｓｒ5 （ＰＯ4 ）3 Ｃｌ：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ14Ｏ23：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ16Ｏ27：Ｅｕ、ＢａＭｇＡｌ10Ｏ17：Ｅｕ、ＺｎＳ：Ａｇ、Ｙ2 ＳｉＯ3 ：Ｃｅ（以上青色）等が挙げられる。
【００２９】
次に、実質的に溶媒を含む状態で蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を露光する。実質的に溶媒を含む状態とは、蛍光体ペーストが乾燥せずペースト状態であることを意味する。すなわち、積極的に乾燥させない状態であり、沸点の高い溶媒を用いたとしても自然蒸発によって失われる溶媒があるため、ある程度の溶媒を含む状態であればよい。このように溶媒が含まれた状態の蛍光体ペーストに露光光を照射することにより、蛍光体ペーストの凸部形成位置以外の表面に樹脂層を作る。
【００３０】
蛍光体ペーストの露光は、公知のフォトリソグラフィの手法を用いて行うことができる。すなわちフォトマスクを介して露光することにより行うことができる。この時用いるフォトマスクは、材料、形成方法とも、公知のフォトリソグラフィの手法で用いられるものをそのまま適用することができる。なお、この蛍光体ペーストの露光は、これに限定されず、レーザー光などで選択的に露光を行うものであってもよい。
【００３１】
露光の際の露光量については、通常の公知のフォトリソグラフィの手法で用いられている露光量でよいが、露光時間については、蛍光体ペーストの表面に樹脂層ができるように適当に設定してもよい。
【００３２】
なお、露光により光重合性化合物が重合して樹脂を形成するが、この重合には、モノマーどうしの重合の他、ポリマーとポリマー（またはモノマー）の架橋による重合も含まれる。
【００３３】
露光光としては、例えば、近紫外線、紫外線、電子線、Ｘ線などが挙げられるが、これらの中で紫外線が好ましく、その光源としては、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプ、殺菌灯などが使用できる。これらの中でも超高圧水銀灯が好適である。露光条件は塗布厚みによって異なるが、５〜１０００ｍＪ／ｃｍ2 の出力の超高圧水銀灯を用いて０．１〜３０分間露光を行う。
【００３４】
次に、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成する。現像に付することなく溶媒を除去するとは、蛍光体ペーストを露光した後、現像せずに、蛍光体ペーストを乾燥させることを意味する。乾燥に際しては、基板ごと乾燥炉内に搬入し、７０〜１００℃の温度で、１５分〜３０分程度かけてゆっくり乾燥させることが望ましい。この乾燥の過程で、上述の原理により凸部が形成されるのであるが、この凸部の形状および高さは、蛍光体ペーストの乾燥の速さ、蛍光体ペースト中の有機溶媒の種類および量によって左右されるため、これらを適当に設定する。
【００３５】
焼成は、焼成炉にて行う。焼成雰囲気や温度はペーストや基板の種類によって異なるが、通常は空気中もしくは窒素雰囲気中で焼成する。焼成温度は４２０〜４６０℃で行う。
【００３６】
以下、図面に示す実施の形態に基づいてこの発明を詳述する。なお、これによってこの発明が限定されるものではない。
【００３７】
図１は本発明の実施例を示す３電極面放電構造のＰＤＰの内部構造を示す斜視図である。
【００３８】
ＰＤＰ１は、前面側のガラス基板１１の内面に、行Ｌ毎に一対ずつサステイン電極（表示電極）Ｘ，Ｙが配列されている。行Ｌは画面における水平方向のセル列である。サステイン電極Ｘ，Ｙは、それぞれがＩＴＯからなる透明導電膜４１とＣｒ−Ｃｕ−Ｃｒからなる金属膜（バス電極）４２で形成され、低融点ガラスからなる厚さ３０μｍ程度の誘電体層１７で被覆されている。誘電体層１７の表面にはマグネシア（ＭｇＯ）からなる厚さ数千オングストロームの保護膜１８が設けられている。アドレス電極Ａは、背面側のガラス基板２１の内面を覆う下地層２２の上に配列されており、厚さ１０μｍ程度の誘電体層２４によって被覆されている。誘電体層２４の上には、高さ１５０μｍの平面視直線帯状の隔壁２９が、各アドレス電極Ａの間に１つずつ設けられている。これらの隔壁２９によって放電空間３０が行方向にサブピクセル（単位発光領域）毎に区画され、且つ放電空間３０の間隙寸法が規定されている。そして、アドレス電極Ａの上方及び隔壁２９の側面を含めて背面側の内面を被覆するように、カラー表示のためのＲ，Ｇ，Ｂの３色の蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂが設けられている。３色の配置パターンは、１列のセルの発光色が同一で且つ隣接する列どうしの発光色が異なるストライプパターンである。なお、隔壁形成に際しては、コントラストを高めるために頂上部を暗色に着色し、他の部分を白色に着色して可視光の反射率を高めるのが望ましい。着色は材料のガラスペーストに所定色の顔料を添加することにより行う。
【００３９】
放電空間３０には主成分のネオンにキセノンを混合した放電ガスが充填されており（封入圧力は５００Ｔｏｒｒ）、蛍光体層２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂは放電時にキセノンが放つ紫外線によって局部的に励起されて発光する。表示の１ピクセル（画素）は行方向に並ぶ３個のサブピクセルで構成される。各サブピクセル内の構造体がセル（表示素子）である。隔壁２９の配置パターンがストライプパターンであることから、放電空間３０のうちの各列に対応した部分は全ての行Ｌに跨がって列方向に連続している。そのため、隣接する行Ｌどうしの電極間隙（逆スリット）の寸法は各行Ｌの面放電ギャップ（例えば５０〜１５０μｍの範囲内の値）より十分に大きく、列方向の放電結合を防ぐことのできる値（例えば１５０〜５００μｍの範囲内の値）に選定されている。なお、逆スリットには非発光の白っぽい蛍光体層を隠す目的で、前面側ガラス基板１１の外面側又は内面側に図示しない遮光膜が設けられる。
【００４０】
図２および図３は蛍光体層の形成方法を示す説明図であり、図２は隔壁２９が形成された背面側のガラス基板２１の平面図、図３の（Ａ）〜（Ｄ）は蛍光体層の形成工程を示す説明図であり、いずれも図２で示した背面側のガラス基板２１をＢ−Ｂ′断面で見た状態を示したものである。
【００４１】
この発明のプラズマディスプレイパネルでは、以下のようにして蛍光体層を形成する。
まず、背面側のガラス基板２１の隔壁間の細長い溝内に、蛍光体粉末と感光性材料と有機溶媒とを混ぜ合わせた蛍光体ペースト３を隔壁２９とほぼ同じ高さまで塗布する（図３（Ａ）参照）。
【００４２】
この場合、隔壁２９の両端部に蛍光体ペースト３の流出を阻止する流出阻止枠を樹脂等で設けるようにしてもよい。カラーＰＤＰの場合には３色の蛍光体ペースト３を所定の順序で塗布する。
【００４３】
背面側のガラス基板２１としては、図１で示した背面側のガラス基板２１に下地層２２、アドレス電極Ａ、誘電体層２４、隔壁２９が形成されたものを用いる。
【００４４】
本例においては、蛍光体ペースト３としては、一般にネガ型フォトレジストとして市販されている東京応化工業（株）社製のＰＭＥＲ  Ｎ−ＨＣ６００Ｙに、公知の蛍光体粉末を混ぜ合わせたものを適用した。混合比は、東京応化工業社製のフォトレジスト７４重量％、蛍光体粉末２６重量％とした。
【００４５】
東京応化工業社製のフォトレジストは、感光性材料３５重量％、有機溶媒（エチルセロソルブアセテート、エチルセロソルブ、トルエン、メチルセロソルブ、酢酸エチル、メタノール、イソブチルアルコール、ブチルセロソルブ）６５重量％の配合となっているので、蛍光体ペースト３の成分としては、蛍光体粉末２６重量％、感光性材料２６重量％、有機溶媒４８重量％であった。有機溶媒は、上記と同等の沸点を有するものであればどのようなものを用いてもよい。
【００４６】
蛍光体ペースト３の塗布方法は、公知のスクリーン印刷法を適用したが、他の方法で塗布してもよい。
【００４７】
次に、蛍光体ペースト３を乾燥させずにペースト状態のまま、蛍光体ペースト３上にフォトマスク４を設置し、紫外線５を照射して、蛍光体ペースト３を露光する（図３（Ｂ）参照）。これにより、蛍光体ペースト３の表面に樹脂層を形成する。
【００４８】
蛍光体ペースト３の感光の程度は、露光量と蛍光体ペースト３中の感光性材料の質および量に影響されるため、これらを適切に設定して、蛍光体ペースト３の表面に樹脂層が形成されるようにする。
【００４９】
通常、上記のフォトレジストを用いる場合は、塗布した後、乾燥させて露光を行うのであるが、本方法においては、蛍光体ペースト３を乾燥させず、ペースト状態のまま露光を行うようにしている。このようにペースト状態のまま露光を行うと、上述した原理により、通常と同じ量の紫外線を照射しても、蛍光体ペースト３の表面に樹脂層を形成することができる。
【００５０】
本例においては、隔壁２９の上面から０．１ｍｍのギャップになるようにフォトマスク４を設置した。露光光は、超高圧水銀灯を用い、紫外線を照射した。露光条件は５００ｍＪ／ｃｍ2 で露光を行った。フォトマスク４は公知のフォトリソグラフィで用いるものと同じものを用いた。これにより、蛍光体ペースト３の表面に深さ約５μｍの樹脂層を形成することができた。
【００５１】
次に、現像せずに、そのまま蛍光体ペースト３を乾燥させ、これにより自動的に壁状の凸部６が出現するようにする（図３（Ｃ）参照）。出現する壁状の凸部６の形状および高さは、蛍光体ペースト３の乾燥の速さ、蛍光体ペースト３中の溶媒の種類および量によって左右されるため、これらを適切に設定する。
本例においては、乾燥は、基板２１を乾燥室に入れ、７０〜８０℃の温度で１５〜２０分間かけてゆっくり乾燥させた。
【００５２】
次に、乾燥した蛍光体ぺーストを焼成することにより、隔壁間の細長い溝内に壁状の凸部６を有する蛍光体層を形成する（図３（Ｄ）参照）。本例では、高さ９０μｍの隔壁に対し、高さ約６０μｍの壁状の凸部６を有する蛍光体層を形成することができた。
【００５３】
蛍光体層を形成する際の壁状の凸部の形成方法は、図４に示すような原理に基づくものである。
【００５４】
すなわち、蛍光体ペースト３を乾燥させずに、ペースト状態のままで紫外線を照射すると、蛍光体ペースト３の表面に樹脂層３ａができる（図４（Ａ）参照）。
【００５５】
これは、以下のような理由によるものと考えられる。すなわち、上述したように、感光性の蛍光体ペーストには、光重合性化合物（感光性モノマー）が含まれており、これが光重合することによって硬化する。この時、モノマーがポリマー（樹脂層）となるのであるが、この過程において、露光部分では、溶媒中に均一に分散していたモノマーが、感光度合いの高い部分、つまり蛍光体ペーストの表面に集合しつつ重合してポリマーになり、これにより蛍光体ペーストの表面に樹脂層ができるものと思われる。
【００５６】
それをそのまま現像せずに乾燥させると、乾燥時にはこの樹脂層３ａがその下部の乾燥を抑えるように働く。一方、未露光部３ｂは樹脂層３ａの部分と比較して速く乾燥する。乾燥時には、未露光部３ｂから溶媒が蒸発するので、未露光部３ｂと樹脂層３ａ下部とで溶媒の濃度に差が生じ、この差（浸透圧）により樹脂層３ａ下部から未露光部３ｂに、図中矢印で示すように、溶媒が移行（浸透）しようとするが、この時蛍光体粉末も一緒に移動する。このようにして樹脂層３ａのできた露光部分は薄い膜になり、一方、未露光部３ｂは厚膜となるため壁状の凸部が出現する（図４（Ｂ）参照）。
【００５７】
そして、これを焼成することにより、壁状の凸部６を有する蛍光体層を形成することができる（図４（Ｃ）参照）。
【００５８】
図５は壁状の凸部を有する蛍光体層の形成状態を示す部分拡大斜視図であり、この図に示すように、隔壁２９間の細長い溝内に、隔壁２９よりも低くかつ蛍光面積を増大し得る高さの壁状の凸部を有する蛍光体層が形成される。
【００５９】
図６は前面側のガラス基板と背面側のガラス基板とを組み合わせた状態の一例を示す説明図であり、図２で示したＢ−Ｂ′断面で見た状態を示したものである。
【００６０】
この例においては、壁状の凸部６を隔壁２９の高さの８０％の高さにし、サステイン電極対Ｘ，Ｙとサステイン電極対Ｘ，Ｙとの間の放電に寄与しない領域（逆スリットの位置）６ａに壁状の凸部６が対応するように、壁状の凸部６の形成ピッチを設定した。すなわち、壁状の凸部６でガス放電空間９を仕切るように蛍光体層を形成した。
【００６１】
このようにすることにより、サステイン電極Ｘ，Ｙの放電によってガス放電空間９から紫外線ｅが放射されるが、この紫外線を無駄にすることなく蛍光体の励起光として利用することができ、底部蛍光体からの可視光ｄを壁状の凸部６で反射させて光ｆとして、パネルの光量として利用することができる。
【００６２】
このようにして、蛍光体自身で壁状の凸部を形成して、蛍光体層の表面積を増やすとにより、特殊な材料等を使用することなく、簡単な構成で、発光輝度を増加させることができる。
【００６３】
そして、この壁状の凸部をセルの境界に設けることにより、斜め方向の紫外線と可視光が隣接するセルの方向に照射されることを防止し、パネル発光として有効に利用することができる（光のクロストークの防止）。また、放電のクロストークも防止することができる。
【００６４】
そして、蛍光体層の形成に際し、蛍光体ペーストに感光性材料を用い、ペースト状態のままでパターン露光後、現像せずに乾燥、焼成を行うことにより、簡単な工程で壁状の凸部を有する蛍光体層を形成することができる。
【００６５】
以上では、感光性の蛍光体ペーストに選択的に紫外線を照射して、蛍光体ペーストの表面に樹脂層を作り、この樹脂層の部分の乾燥を抑えることによって、凸部を有する蛍光体層を形成する方法を示したが、この他に、感光剤を含まない通常の蛍光体ペーストに選択的に赤外線を照射して、蛍光体ペーストの表面に乾燥を促進した硬化層を作り、この硬化層の部分の乾燥を抑えることによって、凸部を有する蛍光体層を形成することもできる。
【００６６】
【発明の効果】
この発明によれば、蛍光体層の表面積を広くできるので、パネルの発光量を増やすことができる。また、蛍光体層の凸部（厚膜部）を放電領域と放電領域との間の非放電領域に対応する位置に形成したので、紫外線と可視光を無駄にせずパネル発光として利用でき、発光効率を上げることができる。
【００６７】
さらに、蛍光体層を、蛍光体ペーストを隔壁間の溝内に塗布し、蛍光体ペーストの凸部形成位置以外を露光した後、現像に付することなく溶媒を除去し、焼成することにより形成した場合には、簡単な工程で、かつ低コストで凸部を有する蛍光体層を形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例を示す３電極面放電構造のＰＤＰの内部構造を示す斜視図である。
【図２】隔壁が形成された背面側のガラス基板の平面図である。
【図３】蛍光体層の形成工程を示す説明図である。
【図４】蛍光体層の形成方法の原理を示す説明図である。
【図５】壁状の凸部を有する蛍光体層の形成状態を示す部分拡大斜視図である。
【図６】前面側のガラス基板と背面側のガラス基板とを組み合わせた状態の一例を示す説明図である。
【符号の説明】
１  ＡＣ型のＰＤＰ
３  蛍光体ペースト
４  フォトマスク
５  紫外線
６  壁状の凸部
６ａ  放電に寄与しない領域
９  ガス放電空間
１１  前面側のガラス基板
１７  誘電体層
１８  保護膜
２１  背面側のガラス基板
２２  下地層
２４  誘電体層
２８Ｒ，２８Ｇ，２８Ｂ  蛍光体層
２９  隔壁
３０  放電空間
４１  透明導電膜
４２  金属膜
Ａ  アドレス電極
Ｌ  行
Ｘ，Ｙ  サステイン電極
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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