(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
中央開口領域を有する硬い金属のハウジングであって接地電位にあるワンピースのハウジングと、
その１つの表面に形成された少なくとも１つの導波チャネルを有する１つの長いセラミックブロックと、
前記ハウジング中央開口領域の内面と前記セラミックブロックの前記１つの表面との間に接触して配置された接地電極と、
前記セラミックブロックの反対側の表面と接触して配置された第２の電極と、
前記第２の電極に電気接続されたインダクタと、
前記インダクタと前記ハウジング間に配置されたＣ型スプリングであって、前記導波チャネルと前記電極に圧力を付与して、前記電極およびセラミックブロックを前記ハウジング内に固定して保持するとともに、前記インダクタと前記ハウジング間を低インダクタンスで接続するＣ型スプリングとを備えた導波路レーザ。
【請求項２】
前記接地電極がチタン、チタンアルミナイド合金、金またはプラチナから形成されている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項３】
前記接地電極がチタンから形成されている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項４】
前記導波チャネルの幅が導波チャネルの高さよりも大きい、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項５】
前記セラミックブロックに形成されて、導波チャネルとハウジングの中央開口領域との間でガスの通路を与える開口部を更に備えている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項６】
導波チャネルからハウジングの中央開口領域に延伸するセラミックブロックに形成されて、導波チャネルとハウジングの中央開口領域との間でガスの通路を与える複数の開口部を更に備えている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項７】
導波チャネルからハウジングの中央開口領域に延伸するセラミックブロックに形成されて、導波チャネルとハウジングの中央開口領域との間でガスの通路を与えるチャンネルを更に備えている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項８】
前記セラミックブロックは３つの導波チャネルを備えている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項９】
前記セラミックブロックは４つの導波チャネルを備えている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【請求項１０】
前記セラミックブロックは５つの導波チャネルを備えている、請求項１に記載の導波路レーザ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、無線周波数（以下、「ＲＦ」という）励起導波レーザ、特に、ＲＦ励起導波レーザの構成部材の改良に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
一般に、分布インダクタンスを有するＲＦ励起導波レーザが知られている。先行技術の図１に、アメリカ特許４，７８７，０９０（以下、「特許０９０」という）に開示された従来のＲＦ励起導波レーザを示す。特許０９０は、金属製ハウジングに挿入された分布インダクタンスＲＦ励起導波レーザ装置を開示している。上記金属製ハウジングは真空ハウジングであるとともに、共振器ミラーを支持する構造になっている。特許０９０は、金属製ハウジング内に挿入されたＲＦ励起導波レーザ装置の一つの表面に、外部締め付け板を押し付けて、挿入された装置を締め付けることを教示している。しかし、実際には、上記締め付け方法にはレーザの精度および性能に悪影響を及ぼす多くの問題があることが判明した。例えば、締め付ける力の強さを制御することが難しく、その結果、締め付ける力が強すぎて、内部のセラミックス導波構造を破損してしまうことがある。更に、上記締め付け装置では、真空ハウジングの一つの面が非常に薄く、締め付け板によって変形する可能性がある。更にハウジングの強度が低下し、レーザの光整列の安定性を損なう。
【０００３】
先行技術の図２および３に、通常の電極を使用して、Ｚ型光導波路構造内のガス放電を励起する従来の屈折導波路を示す。上記構造においては、全てのチャネル（経路）においてガス放電が起きる。上記導波路は、その中に導波チャネル６が形成されたセラミックス基材４からなっている。金属電極８がセラミックス基材４の両面に設置されている。この状態でＲＦエネルギーが与えられると導波路の中でプラズマ放電が起きる。導波チャネルの交差部分１２では、導波チャネルのその他の通常の部分におけるよりも実質的に高電流であり、その結果、交差部分のプラズマは相対的に温度が高く、強度が高いことが判明した。上述した不均一なガス放電の状態は、レーザ変換効率を低下させ、交差部分で電極のスパッタリング（飛散）が生じることがある。
【０００４】
先行技術の図４に、Ｕ型孔導波スラブを含む、従来のＺ型導波路共振器の配置を示す。Ｚ型は、導波チャネル６の配列がＺの形をしていることを意味する（即ち、３つの導波チャネルであって、それぞれが導波路を横切って通過する）。反射ミラー１１がチャネル６に隣接して位置している。出力レーザビームは、透過ミラー１３を通って放出される。
【０００５】
先行技術の図５には、従来の導波路に使用されている導波チャネルの端部を示す。図示されているように、従来の導波チャネルは円形、四角形、およびＵ形の断面を有している。各チャネルは、概ね１対１の縦横比（高さと幅の比率）を有している。各導波チャネルの端部に位置するミラー１１および１３（図４参照）は、同時に多数の要件を満たす光マウント（光学機材搭載装置）に搭載されている。
【０００６】
第１の要件は、ガス封入器の真空度を損なうことなく、ミラーの角度設定が行われなければならないことである。
【０００７】
第２の要件は、上記設定は広範な環境条件において、安定していることである。更に、高出力レーザにおいては、上記光マウントはミラーの光基材から余剰の熱を取り除いて、潜在的な損傷および表面形状の歪みを極小化することである。これらは、矯正しないで放置すると、性能の低下および信頼性の低下に結びつく。角度を安定に維持し、且つ、表面形状を歪めることなく、共振装置をマウントに締め付けることは緊要であるが、達成が困難である。最後の要件は、商業的に有効であって、コストが安く、その適用が、マーケットにとっても経済的に通常認められるレベルであることである。
【０００８】
先行技術の図６に、従来のガスレーザー共振器用の透過ミラーマウントを示す。上記ミラーマウントは、透過ミラー１６を有する金属ポスト１４を使用している。湾曲点の周りの湾曲部１７は、真空封入器を通る角度を変える働きをする。ミラーマウントが、取り付けボルト１９によって、（図示されていない）レーザハウジングに締め付けられることは公知である。「Ｏ」リング２１および２３によって、ミラーとレーザハウジングとが密封される。マウントの角度変化は、真空封入器の外側に位置する精密ねじ込み式調整ネジ１８を使用して行われる。ネジ１８は、順次、ポスト１４に対して力を加える。上述したように、ポストは通常（図示されていない）レーザハウジングと一体的で、そして、レーザハウジングに密封される。多くの場合、４本の調整ネジ１８は、直角方向に傾斜する動きをもたらすけれども、３点システムのようには安定していない。透過ミラーは、押圧キャップ２０によって、「Ｏ」リング２１に押圧された状態で固定されている。
【０００９】
ミラー１６をポスト１４に取り付けるために用いられている従来の方法には、問題点がある。透過ミラー１６（および図示されていない高反射ミラー）は、典型的に、ミラーに軸方向の力を加える押圧キャップ２０を使用して取り付けられている。冷却目的のために、図７に示すように、高反射ミラーの背面に強く密着することが要求される。押圧キャップ２０をそのように配置するためには、（図中矢印Ｆで示すように）ミラー１６の軸方向の力が生じる。この力によって、ミラーの２２の部分に歪みが生じ、ミラーの表面形状を損傷する。この問題点を解決する方法の１つは、ポストの端に古典的な３点接触でミラーを搭載することであるが、この方法によると、熱的な面を犠牲にしなければならない。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
上述した問題点および従来技術の他の欠陥は、本発明の導波路レーザによって解決される。本発明の一態様によれば、導波路レーザは、中央開口領域を有する硬い金属のハウジング（２４）であって接地電位にあるワンピース（one piece）のハウジング（２４）と、その１つの表面に形成された少なくとも１つの導波チャネル（３７）を有する１つの長いセラミックブロック（３６）と、前記ハウジング中央開口領域の内面と前記セラミックブロック（３６）の前記１つの表面との間に接触して配置された接地電極（３２）と、前記セラミックブロックの反対側の表面と接触して配置された第２の電極（３８）と、前記第２の電極（３８）に電気接続されたインダクタ（４０）と、前記インダクタ（４０）と前記ハウジング（２４）間に配置されたＣ型スプリング（２６）であって、前記導波チャネル（３７）と前記電極（３２、３８）に圧力を付与して、前記電極（３２、３８）およびセラミックブロック（３６）を前記ハウジング（２４）内に固定して保持するとともに、前記インダクタ（４０）と前記ハウジング（２４）間を低インダクタンスで接続するＣ型スプリング（２６）とを備える。
【００１１】
好ましくは、前記接地電極はチタン、チタンアルミナイド合金、金またはプラチナから形成される。
【００１２】
好ましくは、前記接地電極はチタンから形成される。
【００１３】
好ましくは、前記導波チャネルの幅が導波チャネルの高さよりも大きい。
【００１４】
好ましくは、前記セラミックブロックに形成されて、導波チャネルとハウジングの中央開口領域との間でガスの通路を与える開口部が更に備えられる。
【００１５】
好ましくは、導波チャネルからハウジングの中央開口領域に延伸するセラミックブロックに形成されて、導波チャネルとハウジングの中央開口領域との間でガスの通路を与える複数の開口部が更に備えられる。
【００１６】
好ましくは、導波チャネルからハウジングの中央開口領域に延伸するセラミックブロックに形成されて、導波チャネルとハウジングの中央開口領域との間でガスの通路を与えるチャンネルが更に備えられる。
【００１７】
好ましくは、前記セラミックブロックは３つの導波チャネルを備える。
【００１８】
好ましくは、前記セラミックブロックは４つの導波チャネルを備える。
【００１９】
好ましくは、前記セラミックブロックは５つの導波チャネルを備える。
【００２０】
上述したこの発明の特徴および他の特徴ならびに利点は、次の詳細な記述および図面から、当業者は理解し、識別することができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】
図８に、先行技術の締め付け板の問題点を解決したこの発明の改良締め付け装置が示されている。レーザヘッド（または装置）２３は、レーザヘッドの電気的アースとしての機能も併せ持つ１個（ワンピース）の金属ハウジング２４を有している。金属ハウジング２４内には、ハウジングと電気的に接続された金属電極３８および非酸素放出・非微粒子放出電極３２が配置され、セラミックス導波路３６が両電極の間に位置している。導波路３６は、その中に形成された導波チャネル３７を有している。ＲＦ電源装置３０は、同軸ケーブル２５によって、真空密封されたＲＦコネクタ１３３を介して、そして、更に位相の一致した同軸ライン１３５によって、真空密封されたＲＦコネクタ１３７を介して、電極３８に接続されている。内部冷却経路３１を形成する冷却液封入プレート２９が、ハウジング２４に取り付けられている。なお、内部冷却経路３１は、ハウジング２４内に形成して、プレート２９によって密封してもよい。セラミックス導波路３６は、上下右左の全ての方向において、電極３８および３２の外方に張り出して、上下の電極の端において、電極間で放電が起きることを防止する。この導波路３６の張り出し（または電極３８および３２の引き込み）によって、セラミックスの表面に沿う方向の電極間の電気抵抗が、導波路を通る方向の電極間の電気抵抗よりも全ての個所で確実に大きくなっている。
【００２２】
分布インダクタンス４０は、先行技術の図１に用いられているように、セラミックススペーサ２８によって、電極３８の上方に設置されている。分布インダクタンス４０の一端は、ワイヤー１４１によって電極３８と電気的に結合され、そして、分布インダクタンス４０の他端は、金属製Ｃ型スプリング２６によって、アースとして機能する金属ハウジングに電気的に結合されている。この発明のレーザ２３は、先行技術において使用されている外部締め付け板、例えば、図１に示す締め付け板を除外した締め付け装置を備えている。外部締め付け板の代わりに、Ｃ型スプリング２６とセラミックススペーサ２８との組み合わせからなる装置を用いている。Ｃ型スプリングは、金めっきベリリウム−カッパー等の弾力性のある材料から作られている。Ｃ型スプリング２６によって、所定の締め付け力、および、インダクタンス４０と金属ハウジング２４との間の低インダクタンス接続が得られる。この装置によって、非常に均一な締め付け力が得られ、その締め付け力は、セラミックス部材の破損を引き起こさない程度の大きさである。
【００２３】
更に、この発明の締め付け装置によると、ハウジング２４を薄くする必要が無いので、従来の装置に比して、ハウジングの堅固さを向上し、センタリングが安定する。更に、セラミックススペーサ２８は単純な、２個の部材からなっており、図１に示す先行技術の装置に使用されるセラミックス部材よりもコストが低い。（低出力レーザに対しては）ハウジング２４に取り付けられた金属フィン４２によって空冷することができる。フィン２４は、図に示すように、ハウジングの底部に取り付けるのが望ましい。（４０Ｗ以上の）高出力レーザに対しては、冷却経路３４の中を液体または圧縮空気を流す装置が用いられる。または、図に示されているように、上述した両方の方法を使用することができる。
【００２４】
先行技術においては、電極としてアルミニウムが一般的に用いられている。アルミニウムは以下の点でこの装置の材料として優れている。即ち、安価である。電気抵抗が低く、熱伝導率が高い。酸素の減少を阻止する優れた酸化物を形成する。更に、ＣＯ2レーザと共通の波長において、導波路として使用するとき、伝搬損失が低い。残念なことに、アルミニウムの上に形成される固有の酸化物（Ａｌ2Ｏ3）の熱膨張係数は、アルミニウム基板の熱膨張係数と係数で３．５異なっている。レーザが起動、停止（スイッチオンおよびオフ）されたとき、またはパルスモードで操作されたときに生じる熱サイクルは、上記酸化物を損傷して、粒子を発散させる。これ等の粒子は、レーザの、高い光強度の導波路の中で直接生じるので、上述した飛散した粒子は加熱され、光学ミラーを損傷し、レーザの性能を低下させる。特に、垂直の位置でレーザが操作されるとき、その信頼性を低下させ、ある位置から他の位置への移動時または移動を伴う操作時には、移動の影響を受ける。
【００２５】
上述した酸化物の飛散問題を低減するために、通常、アルミニウムに電解薄膜を施す。電解浴は、レーザガス媒質の汚染をさけるために特に清浄に保たなければならない。ガスを放出すると、レーザヘッドハウジング内でレーザガスと混合して汚染を引き起こす。電解浴の清浄性を保つために特別な配慮をすると、レーザの製造コストが高くなる。電解薄膜形成工程で析出した酸化物のガス放出に対して必要な追加の熱処理を行うと、追加の出費が必要になる。更に、電解薄膜形成によって、アルミニウムにおける上述した飛散の問題は軽減されるけれども、根本的にその問題は解決されない。
【００２６】
本発明においては、図８に示した非酸素放出・非微粒子放出電極シム板３２として、アルミニウムの代わりにチタンを使用することによって、上述した問題点を解決する。チタンおよびその合金の耐酸化性および耐腐食性は、４００□未満の温度で優れている。８００□未満の温度では、チタン−アルミナイド合金の耐酸化性は十分である。チタンおよびその合金は、空気中において、頑強な表面酸化物被膜を形成するので、熱伝導率およびＲＦ抵抗に関してはアルミニウムほどは良くないという事実にかかわらず、この装置へ適用する利点がある。他の適切な材料は、金およびプラチナであるが、コストが高く、大きな装置に使用するには適していない。これ等の材料は、適切なコストにするために、導波路をカバーする金属電極の部分だけを覆う薄いフォイル（箔）の形で使用することができる。更に、上述した材料は、公知の薄膜析出技術（蒸着、スパッタリング等）によって、電極を覆う薄膜の形で析出させることができ、優れた耐酸化性／耐腐食性を示す。
【００２７】
非酸素放出・非微粒子放出電極３２は、チタン薄板の形状とすることができる。チタン薄板を使用することによって、この相対的に低い熱伝導材の温度上昇を最小化して、レーザガスの過度の温度上昇を防止する。しかしながら、容易な操作ができる厚さは必要である。この発明の態様においては、チタンシム電極は、１／４インチ以下の厚さを有している。
【００２８】
図９および１０には、この発明の１つの態様の、電極３８および３２の間に配置されたセラミックス導波路３６が、導波チャネル３７の配列とともに示されている。先行技術の図２および３を参照しながら述べたように、過度のプラズマ放電が導波チャネルの交差部分に生じる。図８および９に示された実施態様は、セラミックス導波路３６と接触する相対的に厚いアルミニウム電極３８を有しており、ＲＦ電気的接触は、（電気）ワイヤ１４１によって分布インダクタンス４０に対してなされている。相対的に厚い電極は、ホットＲＦ電極として機能するとともに、セラミックス導波路３６から伝導によつて熱を除去する働きをする。チタン電極３２は、装置の底部において導波チャネル内のプラズマと接触している。必ずしも必要ではないが、３９で示される導波チャネルの各交差部分の上に、セラミックス製カバー４８が使用されている。使用されるときには、セラミックス製カバーは、セラミックスサポート１４３および圧縮バネ１４５によってその位置に固定される。交差部分３９の全域が金属電極３２および３８によって覆われないようにすると、交差部分内のプラズマは交差部分全域の８０％以下を占める結果となる。好ましい実施態様においては、金属電極３２および３８は、各導波チャネルの交差部分３９の所定部分まで延び（図９において「ｄ」として示す距離）ており、所定部分の長さは非交差部分における導波チャネル３７の幅の大きさに概ね等しい。これによって、交差部分３９において高温強度のプラズマが生じないようにし、更に、その結果、高度に均一なポンピング、レーザ効率の向上およびレーザ寿命の向上をもたらす。セラミックス製カバー４８は、金属電極３２によって覆われていない導波チャネルの交差部分３９を覆うように置かれる。セラミックス製カバーは導波路を延長して、レーザのモードの質を向上させる。このように配置することによって、プラズマの移動を共振器の光学器材から遠ざけて、レーザ寿命の向上に良い結果をもたらす。
【００３０】
更に別の実施態様においては、セラミックスカバー４８は取り除かれて、チャネルの交差部分３９はカバーされない状態にある。セラミックスカバーを取り除くことによって、出力の低下は生じない。しかしながら、セラミックスカバー４８を金属電極３２によって覆われていない導波チャネルの交差部分の上に置くことによって、少し優れた質のモードが得られる。
【００３１】
図１１には、別の配置の導波チャネル３７を有するセラミックス導波路３６を示す。導波チャネル３７ａ−３７ｄは、リング共振器の形状が「ボウタイ（蝶ネクタイ）」または「８の字」を形成するように配置される。従って、導波チャネル３７ａおよび３７ｂは実質的に平行であり、第３の導波チャネル３７ｃは第１および第２導波チャネル３７ａおよび３７ｂと斜めに交差する。第４の導波チャネル３７ｄは第１および第２導波チャネル３７ａおよび３７ｂと斜めに交差する。反射ミラー４５、４７および４９、ならびに、部分反射ミラー５１はチャネル３７ａ−３７ｄを通ってビームを誘導する。ミラー５１は部分透過であり、導波路からレーザビームを出力する。更に、第５のミラー５２は、従来から知られているように、導波路のビーム取り出し口（出力口）の近くに配置されて、リング共振器から出てくる所定値以下の小さい第２ビームを共振器の中にフィードバックする。このような配置によって、リングレーザの単一方向操作を可能にし、図１１に示すように、１つの出力ビームを生じる。リング共振器においては、レーザ利得媒質の光学的長さを増大することによって、物理的に同一の大きさのレーザヘッドから、出力が増大したレーザを得ることができる。図９に示す導波路に、対角線の導波チャネル３７ｄを追加して、リング共振器を構成することによって、出力を約２５％増大することができる。図１１に示すように、リング共振器の放電長さを長くすることによって、レーザ増幅器としても魅力あるものになる。図３９に示すように、電極３２および３８に設けられた、図１１に示す導波中央交差部６３に一致する開口部６１は、図９のチャネル交差部分に関して述べ、そして、図３９に示すように、この交差部分における放電強度を低下させる。電極３２が十分に厚いとき、電極３２をサポートする金属レーザハウジングに、対応する開口部を設ける必要はない。開口部６１における部分６３を覆うように、セラミックス製カバー４８と同様のセラミックス製カバー６５を配置してもよい。
【００３２】
図１２Ａ−図１２Ｃには、符号５５で指示される、高反射ミラーのための本発明による改良された光マウント（光学機材搭載装置）が一般的に示されている。光マウントはポスト５４からなっており、ポスト５４は所定の間隔をおいて設けられた複数のタブ５６を有しており、タブ５６はポスト５４から内側に向って延び、そして、ポスト５４の軸線方向と平行である。光学機材（例えば、反射ミラー、または、伝導（透過）ミラー）は、ポスト５４の端部に置かれ、スペース５８によって隔てられたタブ５６によって囲まれている。次いで、圧縮リング６０をタブの周りに嵌合し、そして、適切な道具６１によって、ポストの縦軸方向に押し込む。これによって、タブ５６は光学機材６２に向って押され、光学機材６２をポスト５４に固定する。光学機材６２に加わる上述した力は図１２Ａにおいて「Ｆ」の矢印で示されるように、半径方向（外周から中心に向う方向）である。即ち、光学機材の表面に直接力が加わることが無いので、光学機材６２の表面の歪みが最小化される。光マウント５５は、レーザの端部を密封（シール）する端壁部材に組み込むことができる。更に、レーザ、例えば、図１１、３３および３４に示される屈折型の共振レーザの１つの端壁に複数個の光マウントを組み込むことができる。先行技術（図６、７参照）においては、共振器のミラーは、通常、光学機材（ミラー）に軸方向の力が加わる押圧キャップを使用して取り付けられていた。また冷却のためには、光学機材の背面への緊密な接触が必要とされていた。しかしながら、細心の注意をはらって準備しないと、基材に変形が生じて、光学機材の表面形状を損傷する。この問題点を解決するための１つの方法は、光学機材をポストの端部に３点接触で搭載することである。しかし、この方法によると、装置に熱に関する問題が生じる。
【００３３】
これらの問題点は、この発明の光マウント５５によって解決される。光マウントから光学機材、例えば、ミラー４５、４７、４９または５１に加えられる力は、軸線方向ではなく、半径方向であり、しかも、この力は光学機材の表面から十分後退した側面部分に加えられる。先行技術の図７を参照しながら述べたように、光学機材の表面に不均一に加えられる軸線方向の力によって、光学機材の表面が変形する。他方、この発明の図１２Ａに示されるように、半径方向の力は、光学機材の表面と平行に加えられるので、光学機材の表面に与える影響は非常に小さい。更に、外周から中心に向う半径方向の締め付け力が、光学機材の前面から十分に後退した部分に加わるので、光学機材の表面を変形から守ることができる。熱的な観点では、最大の熱的抵抗は、光学機材とポスト５４の境界部分に生じ、接触面が増えるにしたがって熱的抵抗を少なくすることができ、表面仕上げが向上し、結合力が高まる。この発明の光マウントによると、接触面および結合力が先行技術によって得られるよりも大きいので、光学機材の熱伝導性が向上する。コスト面では、変形を生じること無く、光学機材を光マウントに効果的に取り付けるに当たり、表面の準備およびその技術はそれ程要求されない。光マウント５５は、図１３から図１６に示されているように、ミラーハウジング６５に直接組み込まれて製作される。
【００３４】
図１３から図１５および図１６には、２個の光マウント５５を使用するミラーハウジング６５を示す。導波路の各端末に反射面を設けるために、複数個の光マウント５５を１個のミラーハウジングに組み込んで製作してもよい。ポスト５４（その結果として、光学機材６２）の指向方向はセットネジ６６を使用して調節する。かくして、ポストを図１６に示す屈曲点６８の周りに傾斜させる。屈曲点は、薄い金属板材６８からなっており、同時に、レーザヘッドの内部を外気から遮断する働きを有し、そして、ポスト５４を屈曲させる。
【００３５】
溝７０（図１５参照）がミラーハウジングの面に形成され、ガスケット７２が備えられて、ミラーハウジングとレーザヘッドとの間を真空密封させる。ガスケットとして、例えば、インジウムワイヤが使用され、ミラーハウジングとレーザヘッドとの間を金属と金属で密封する。ガスケットを形成するために、他の金属を用いてもよい。密封するために、ゴムガスケットよりも、金属と金属で密封するほうが好ましい。ゴムガスケットを使用すると、ガスの発生に伴ってレーザガスを汚染しレーザの操作寿命を短くする。
【００３６】
図１６において、それを通ってレーザビームが取り出される部分反射ミラー５１のために、ミラーを搭載するポスト５４の中を貫通するように孔７１が形成されて、開口が形成され、その結果、ポストの中を通って、レーザビームが進む。圧縮リング６０がミラー５１をポスト５４に固定する。ガスケット７２によって、レーザヘッドの内部がレーザヘッドの外側の大気と接触するのを妨げる。ポスト５４の位置は、図１３から図１５において述べたと同様の方法で、セットネジ６６によって調節される。
【００３７】
図１７に、この発明の導波チャネル３７の端部を示す。導波チャネル３７は１対１よりも大きい縦横比を有している（先行技術の縦横比は図５を参照）。与えられた導波路の長さに対しては、上述した矩形の導波チャネルは、高出力を得るために、レーザ利得体積を増大する。四角形のｘ，ｙ両方の大きさを増大することに関して、上述した方法は好ましい。その理由は、より良いモード識別およびより良いガス冷却が得られるからである。図１７に示す導波チャネルの断面積は、スラブ放電形態のように、広い範囲の高い縦横比にわたって、高次モードの識別を向上させる。この発明の導波路は容易に製作することができ、その非対称的な断面積は、スラブまたは大きな丸型または四角の断面を有する導波チャネル（図５参照）を使用する従来技術のレーザが通常直面する高次モードに対して、識別力が高まる。この発明においては、Ｕ字型の導波チャネルは、幅方向に延伸されて、１対１よりも広い縦横比、即ち、横４．５７ｍｍ×縦２．７９ｍｍを形成する。この実施態様（図１７参照）では、縦横比は概ね横２対縦１で、ローブを追加することなく、軸場で、単一中心を備える低次の横方向モードを維持している。共振器に使用される共振器光学機器は全てフラットであり、導波路共振器と連携するフラットな波面と一致している。
【００３８】
１対１の縦横比の導波路を使用する場合は、出力されるレーザビームの直径は、基本的に導波チャネルの大きさと同一である。レーザ使用者は、多くの場合、特定の光システム、例えば、光スキャナの開口部に一致する、特定の直径を有するビームを要望する。従って、光学機材はビームの直径を変更し、レーザビームを視準再整正する機能が要求される。ビーム直径の変更は、公知の通り、合理的な長さにおいて、２個のレンズからなる望遠鏡を使用して典型的に行われる。そのような２個のレンズからなる装置は、光スキャナと共に、レーザヘッドに直接搭載することができる。これは、そのような要求に対して、効果的な解決方法を提供する。
【００３９】
導波チャネルの幅が高さよりも大きい場合、または、導波チャネルの高さが幅よりも大きい場合（縦横比が１対１よりも大きい）、レーザビームの回折角はレーザ放出口（即ち、矩形の導波路）の２つの軸に関して同一ではない。導波チャネル断面の最小の大きさ、最大の大きさに伴って、それぞれ、最大の回折角および最小の回折角を有している。その結果、非円形ビームを生じる。
【００４０】
図３７に、スリットからの距離の関数として、幅４．７５ｍｍ高さ２．２６ｍｍのスリットから放出される矩形のＣＯ2レーザビームの水平軸および垂直軸を展開したものについてのガウスのビーム計算を示す。回折物理に従って、狭い部分は広い部分よりもより急速に拡大する。ガウスのビーム分析に基づいて、垂直に狭く、水平に広い大きさを有する導波チャネルの場合に対して、スリットから約３８０ｍｍ離れた地点において、垂直部分は十分に拡大されて、矩形のレーザビームの水平部分の大きさに一致する。この地点において共振レーザビームは円形である。図３７に使用されているスリットに対して、６１６ｍｍの焦点長を有する円筒状レンズをこの位置に配置することによって、この距離から外に向って円形が維持される。円筒状レンズはビームの垂直部分の回折角を変換して、ビームの水平部分と等しくする。この方法では、ビームはビームの水平部分と等しい回折角で伝播し、円筒状レンズは、幾何学光学的分析では明らかではない非点収差を生じることはない。この方法は、矩形の導波レーザから円形ビームを得るための、低コストで、低光損失、コンパクトな解決方法である。次いで、焦点レンズが配置され、レーザビームを、除去、切開、掘削等のタイプの材料処理／加工を行うための地点に指向する。例として、図３７に、レーザスリットから５７５ｍｍの距離の位置に焦点長１２７ｍｍのレンズを配置して、所望の適用のために必要な焦点位置を得る場合を図示している。円筒状レンズおよび焦点レンズは、図１９および２０に示すように、レーザヘッドに直接搭載することができる。
【００４１】
円筒状レンズの後に、公知の通り、２個のレンズからなる望遠鏡を装入して、レーザビームの直径を増大または減少し、所望の直径のレーザビームを得る。更に、円筒状レンズと焦点レンズとの間の距離は、スキャナ、焦点レンズまたは回転ミラー等の他の光学機材を備えることができるように、十分にとる。コンパクトさを保つために、全ての光学機材は、上述したように、レーザヘッドに直接搭載することができる。光ベンチとして機能するレーザヘッドに搭載された３個レンズからなる光装置（ビーム矯正装置）は、低コスト、低損失およびコンパクトであって、ユーザが特定の直径を有する丸いビームを要求するような場合に、この装置によって、矩形の導波チャネルから所望の直径を有する円形レーザビームを得ることができる。
【００４２】
矩形の導波チャネルの例として、３個のレンズからなる公知のビーム矯正装置を使用して、短い距離内で所望の直径を有する丸いビームを得て、光スキャナ等の所望の光サブシステムに提供することができる。このような３個のレンズからなるサブシステムは、光スキャナ等の光装置と共にレーザヘッドに直接塔載することができる。
【００４３】
図１８から図２３には、装置（レーザヘッド）２３が、ビームを形成する光学機器、反転ミラー、音響−光、振動ミラー型スキャナ（即ち、検流計型スキャナ）モータ駆動回転ミラー等の転向装置のための搭載装置として示されている。図１８に示されているように、レーザヘッド２３には、ＲＦコネクタおよびＲＦ位相調節装置８２が取り付けられている。装置８２（図８参照）によって、レーザは、各種同軸ケーブルおよびＲＦ電源装置に結合され、レーザヘッド、ケーブルおよび遠隔ＲＦ電源装置は交換可能である。装置８２は同軸ケーブル２５に連結され、同軸ケーブルは密封されたＲＦコネクタ１３３に連結される。この交換可能性は特に好ましい特徴である。レーザヘッド２３の各端部上には、ミラーハウジング６５（図１３から１５を参照）が配置されている。冷却口９０を通って、内部冷却経路３１（図８および２３参照）を流れる冷却液が出入する。冷却液密封プレート２９（図８参照）は、（図示しない）「Ｏ」リングシールを備えており、冷却液がレーザヘッド２３から流出するのを防止している。ミラー４５、４７、４９および５１はミラーハウジング６５に搭載され、導波路３６を通ってレーザビームを導く。ビーム再指向装置８８は、ミラー５１が搭載されているミラーハウジング６５の出力側に連結され、図２３に示すように、ビームを再指向する。その結果、ビームは、ビーム再指向装置からレーザヘッド２３に実質的に平行に出ていく。レンズ９２、９４および９６は、ビームを修正して、上述したように、所望の断面積を有するビームを生じる。光スキャナ９５等の他の光学機材を、図２３に示すように、レーザヘッド２３に搭載してもよい。スキャナは、音響−光セル、モータ駆動回転ミラー、または、検流計、同調フォーク等の振動ミラースキャナであればよい。スキャナおよび追加のミラー（図示しない）を適切な位置に配置することによって、スキャナケーブルを出るビームを所望の方向に曲げることができる。
【００４４】
レンズの保持方法の１つの実施態様を図示する。ビーム再指向装置８８をミラーハウジング６５に（例えば、ネジで）取り付け、ビーム直径調節光学機材９２、９４、９６およびそれに伴う搭載装置をレーザヘッド２３に取り付ける。レンズ９２、９４および９６の間の距離を調節して、円形ビームを得る。所望のビーム形状を得るための調節量は、公知の技術にあるように、レンズのために選択された曲率によって決定される。
【００４５】
レーザビームの形状は、このようにして、レーザハウジングに搭載されている光学スキャナモジュール９５の穴と一致するまで調節される。ビーム再指向装置８８とスキャナとの間にはカバーが設けられ、埃および水がビーム再指向装置８８−スキャナ間のレーザビーム経路に入らないようにする。他の実施態様は、（図示しない）スライド式外部円柱状筒内に搭載されたレンズからなっており、外部円柱状筒はレーザヘッドに搭載されている。円柱状筒のスライドによって、レンズ間の距離を調節し、直径が所望の大きさに調節されたビームを得る。
【００４６】
１８０度ビーム再指向装置８８は、図２３に示すように、ミラーハウジング６５の１つから出力するレーザビームを、レーザヘッドの長い方の表面と平行になるように導く。ビーム再指向装置の詳細を図２４−３２に示す。ビーム再指向装置８８は、２個の４５度の傾斜面を有するミラーを搭載するミラーマウント１００および１０２からなっている。各ミラーマウント１００および１０２はミラー１０４を備えている。レーザビームはミラーハウジング６５から出力して、ビーム再指向装置に形成された開口１０６に入り、ミラーマウント１００および１０２で反射して、開口１０８を通って出る。
【００４７】
図１１に示す「ボウタイ」（「８の字」）型導波レーザに対しては、ビーム再指向装置８８は、２個のミラーマウント１００および１０２、穴１１２を有する第３のミラーマウント１１０、およびフィードバックミラー１１４（フィードバックミラー５２と類似）を備えており、図１１に示された「ボウタイ」（「８の字」）型導波レーザのための一方向の操作を生じる。第３のミラーマウント１１０は、第２の開口１０８に位置する。ミラーマウント１００および１０２の調節は、１つの実施態様では、セットネジの周りに、ミラーマウント１００および１０２をビーム再指向装置ハウジング１１６に保持するゴム製「Ｏ」リングを備えることによって行う。逆回転セットネジは、最終的な調節が終了した後、ミラー位置を固定するために使用される。更に、少量の接着剤を、ミラーマウント１００および１０２の最終的な調節が終了した後、ミラー位置を固定するために使用してもよい。
【００４８】
図３１および３２には、備えられた穴１１２からレーザビームがビーム再指向装置８８を出る第３のミラーマウント１１０が示されている。更に、図３１には、「ボウタイ」型導波路（図１１参照）を一方向に操作させるためのフィードバックミラー１１４が示されている。第３のミラーマウント１１０を調節するためのメカニズムはミラーマウント１００および１０２に関して用いられたのと同一である。セットネジの周りに装入されたゴム製「Ｏ」リングは、一方向の操作を行うように、ミラーを調節するために使用される。整列は、例えば、４回折限定可視Ｈｅ−Ｎｅレーザに使用される整列手続きによって、行われる。一度調節されると、一方向ミラーの位置を固定するために、逆回転セットネジが再度使用される。更に、適切な整列が維持されるように、ミラー１１４を固定するために、再び接着剤を使用してもよい。
【００４９】
この発明によって、ＲＦ励起レーザの改良された種々の構成部材が提供される。この発明は、基本的にＺ型導波路を参照して説明した。この発明によって得られる利点は、ＷまたはＷＩ（ＮＶ）および他の複数のチャネル形状を含む各種の導波路に関しても、同様に得られる。従って、この発明のＲＦ励起レーザの改良された種々の構成部材は、単に、Ｚ型導波路に限定されるものではない。
【００５０】
この発明の多くの適用に際して、これまで述べた装置よりも、更にコンパクトでコストの低い光ビーム矯正装置が望まれる。
【００５１】
図３８に、アナモルフィックなビーム拡大器（エクスパンダ）２００によって達成されるコンパクトな低コストの装置を示す。アナモルフィックなビームエクスパンダ２００は、側断面図で示すように、単純な２個の部品からなるホルダ２０６内に配置される２個の単純なプリズムを使用する。プリズム２０４はホルダ２０６ａ内に装入され、プリズム２０２はホルダ２０６ｂ内に装入される。図に示すように、ホルダ２０６ｂはホルダ２０６ａ内に装入される。ホルダ２０６ｂは、プリズム２０２、２０４が適切に整列されるまで、回転し、（図示しない）圧力ネジまたは他の適切な整列保持機構によってその位置に固定される。２個のプリズムの各々は、所定のウエッジ角を有するように設計され、レーザビームのｘ、ｙ軸の回折角の１つを矯正する。プリズムは所望のレーザ波長を伝える適切な光学材によって製作される。ＣＯ2レーザに対して、ＺｎＳｅは、プリズム材に適している。プリズム２０２は、図１６に示す透過ミラーによって取り出される矩形のレーザビーム２０８の垂直部分の分散を増大するように、製造され、配置される。従って、プリズム２０４の表面では、レーザビームの垂直方向の大きさは、レーザビームの水平方向の大きさと等しい。この位置では、レーザビームは円形である。プリズム２０４のウエッジ角が選択され、そのウエッジ角でプリズムが配置される。その結果、円形のビームが維持されアナモルフィックなビームエクスパンダから前方に進む。プリズム２０４のウエッジ角を、ビームの垂直部分の分散を減少し、ビームの水平部分の分散と一致するように選択することによって、上述したことが可能になる。この例では、装置２００をレーザヘッドの透過ミラーにボルトで止めることによって、レーザヘッドの長さが約２．５４ｃｍだけ長くなることに留意すれば、上述した装置が魅力的であることが明らかである。従って、上述した装置は、前述した円筒状レンズを使用する場合よりも、更にコンパクトであるが、コストが少し高くなる。
【００５２】
図３３および３４は、Ｚ型（図９参照）または「ボウタイ」型リング形状の代わりに、Ｗ（またはＭ）（図３３参照）およびＷＩ（またはＮＶ）（図３４参照）型の導波チャネル構造がそれぞれ形成されたセラミックス構造を示す。ガスレーザのガス放出利得領域は図１７（または図５）に従っている。Ｗ型導波路は、３個のミラーを有する端部を備えている。ＷＩ（またはＮＶ）型構造は、各端部に３個のミラーを必要とし、３軸調節および／または３個ミラーの中央ミラーの整列を、図１３、１４および１５で示した手続き／説明によって、行うことは難しい。その理由は、ミラーの間隔が近すぎて、中央反射ミラーを保持する傾斜可能なポストに対して、３軸ネジ調節を行うことが出来ないからである。
【００５３】
図３５および３６は、この問題に対する解決策を示す。光マウント５５（図１２〜１５参照）の少なくとも１つのミラーホルダが延伸している。この例では、長いポストを使用することによって、中央部の光マウントが延伸されている。セットネジ６６へのアクセスは明確に可能であり（図３６参照）、それによって、ミラーは上述したように、調節することができる。あるいは、より広いレーザ配置を用いることによって、セットネジ間の距離を大きくする。この方法は、２以上のＷ型導波チャネルを組み合わせた導波レーザに対しても適用できる。
【００５４】
ＲＦ（無線周波数）パルスを導波路に適用する度毎に、得られる媒質の温度が上昇し、膨張する。導波チャネル内で膨張するガスは、導波チャネルからレーザハウジング内のバラスト容積部へと広がって行き、安定した均一な圧力に達する。ＲＦのパルス−レート−周波数が導波チャネル内のガス円柱の音響−共振−周波数に近づくと、チャネル内に永続的な圧力波が蓄積し、導波チャネルに沿って、非均一圧力変化が生じる。この非均一圧力が生じると、放電がチャネルの中央部分で消滅してしまう。その結果、逆に、圧力の低い端部に向って更に強いガス放電が生じる。ガスの放電励起における非均一性は、レーザ出力の劇的な減衰、パルス間のピーク出力の変動、出力ビームの質、低効率等のレーザ性能を引き起こす。
【００５５】
音響共振、レーザ性能を損ねる力が生じる周波数は、ガスの成分組成、圧力、導波チャネルの長さおよび直径、電気的パルスのピーク電力、衝撃係数を含む各種要因に影響を受ける。例えば、ＮまたはＮＶ型からなる長さ４５ｃｍの導波チャネルにおいて、音響共振ポイントは、８００〜９００Ｈｚ（基本）、１６００〜１８００Ｈｚ（第２調波）、２４００〜２７００Ｈｚ（第３調波）の範囲に位置する。
【００５６】
音響共振がレーザ性能に及ぼす悪影響は、基本および第２調波共振、即ち、導波チャネルの長さＬの一端からＬ／４、Ｌ／２および３Ｌ／４の地点に対してガス圧ピークが生じる位置に、開口を設けることによって排除することができる。そのようなガス圧解放用の開口は、セラミックス導波路の全幅にわたって、導波チャネルが位置する部分の上に、切り開いた狭いスロットによって形成することができる。このように形成されたスロットは、更に、導波路の全てのアーム間における電気的相互連結を強化する優れた効果がある。それによって、レーザ放電の開始を容易にし、レーザの開始におけるタイムジッターを減少する。更に、開口を新たに設けることによって、バラスト容積部および導波チャネル内のガス間の新たなガス交換を可能にする。このガス交換は、レーザの全般性能を強化する効果がある。
【００５７】
ＮおよびＮＶ型導波チャネルでは、多くの場合、基本および第２調波音響共振のピークにガス放出用開口を設けることによって、音響共振の及ぼす悪影響を取り除くことができる。多数の穴は一般的に必要とされない。図４０に、レーザを駆動するＲＦパルスの繰り返し率が５０Ｈｚから７０００Ｈｚの間で変化するときに生じる出力の大きな変化を表すデータを示す。図９および１０に示すセラミックスカバー４８が無いとき、全体の長さＬｗ＝１８．７インチを有するＮ型導波路に対しては、（これはＮ型導波路の１つのアームに対するのと概ね同じ長さである）、チタン電極によって覆われている導波路の長さＬｅ（即ち、導波チャネルの覆われた部分）によって、音響共振が決まる。この発明の実施例では、導波路の長さＬｅ＝１４．１２インチであって、それはチタン電極によって覆われた部分である。図４０に、８４０Ｈｚおよび１６８０Ｈｚで起きている強共振を示す。これは、実施例に使用した典型的な形のセラミックス導波路に対して□で示すデータから明らかである。パルス繰返周波数が音響共振周波数を上回り、等しくなり、下回って変動する際に、生じている、出力における大きな変動は、基本共振および第２調波共振において明らかである。
【００５８】
図４１に、基本、第２および第３調波音響共振に対する典型的な圧力変化を示す。基本に対しては、最大圧力がＬｅ／２で生じ、第２調波に対しては、Ｌｅ／４および３Ｌｅ／４で最大圧力が生じている。これらの位置にベント開口を設けることによって、これらの強共振が生じるのを防止し、レーザ性能を向上させることが判明した。更に、第３調波は生じないことが判明した。その理由は、第３調波はＬｅ／２の位置に最大圧力点があるが、そこにはベント開口が設けられて、基本共振を弱める。従って、Ｌｅ／２の位置に設けられた開口は、第３調波共振を排除するように機能する。他の形状の導波レーザを使用して第４またはそれ以上の音響共振が問題となるときには、上述したことを適用して、これら高い周波数共振を排除することができる。
【００５９】
図４２には、上述した導波路３６の各導波チャネル３７内におけるベントホール１００ａ−ｃの配置の一例を示す。ベント開口の大きさを、音響共振を所望の量まで弱めるために必要な大きさよりも、大きくしないことが重要である。その理由は、開口が大き過ぎると、上部電極３８（図８参照）からベントホールを通って、下部電極３２への放電に対して、低いインピーダンスを生じるからである。これによって、放電の位置にホットスポット（過熱点）を生じ、そして、レーザ効率を低下させる。
【００６０】
セラミックス導波路３６の上を通るベントホール１００を設けることは、上部電極３８、および、ある場合にはセラミックススペーサ２８に、上記ベントホールに対応するベントホールを設ける必要がある。これらの複数の穴を設けるときは、組立工程において、圧力放出ベントホールをふさがないように、心合せをして整列することが必要である。更に、アルミニウム電極３８が放電に晒されると、上述したように、導波路に微粒子が析出する。これ等の微粒子はレーザビームによって加熱されたとき、導波路から推進されてミラーの損傷を引き起こし、最終的にレーザ帰還キャビティミラーの一つに衝突する。図４３に示すように、１端から所定の位置の、セラミックス導波路３６の底面を横切る、浅く、狭い切り込み１０２ａ−ｃ（またはスロット）が好ましい。これは、組み立てが容易で、同一の所望の結果をもたらす。深さ０．０３インチ、幅０．０８８インチのスロットが、図４３に示すように、セラミックス導波路の底面を横切って形成されたときに、図４０で×印のデータで示すように、５０％の一定のパワーデュウティを維持しながら、レーザ放出を駆動するＲＦパルス繰返比率によって出力が変動する。この圧力放出用開口は、底部のチタン電極と接触し、その結果、アースとして機能するアルミニウムハウジングと電気的熱的に接触する。
【００６１】
図３４に示すＮＶ型セラミックス導波路および他の形状の導波路に対して、浅い、狭いスロットを設けた場合にも同様の結果が得られる。レーザ放出のエネルギーとしての電気パルスのパルス繰返比がレーザの注入ガス放出器の音響共振と重なるときに、レーザ性能に悪影響を及ぼすような、形状の封入されたレーザ放出器の全てに対して、本発明は適用することができる。そのような悪影響を及ぼす音響共振は、封入されたレーザ放出器を駆動するＲＦまたはｄｃ電気パルスの何れかによって生じる。この発明は、パルスガスレーザに対して広く適用できる。
【００６２】
素数は、１またはそれ自体以外の如何なる数字によっても割る事が出来ない数字、即ち、１、３、５、７、１１、１３、等である。導波路に沿って、長さがｎＬｅ／３，ｎＬｅ／５，ｎＬｅ／７等の選択された素数の位置にベント開口を設けることによって、同じような結果を得ることができる。ここで、ｎは整数１、２、３、４、５等音響共振の波長の半分を示す。図４０に示す○印で示すデータは、孔がＬｅ／３，３Ｌｅ／５，６Ｌｅ／７の位置に配置された結果である。孔の直径は、０．０８０インチであった。すべての場合において、ＲＦパワーピークは６００Ｗに維持され、そして、パルス列の衝撃係数はＣＷパワーの５０％に維持された。
【００６３】
好ましい実施態様について示し説明したが、この発明の思想、範囲から離れることなく各種の修正、置き換えが行われる。従って、この発明は説明の目的で記述されたものであって、それによって何ら制限されるものではない。
【００６４】
【図面の簡単な説明】
【図１】先行技術のレーザ締め付け装置の部分分解透視図である。
【図２】先行技術の、金属電極を含む導波路の平面図である。
【図３】図２の導波路の側面図である。
【図４】先行技術の、導波チャネルの近傍にミラーの設置を示した導波路の平面図である。
【図５】先行技術の、導波路に使用されるチャネルの端部を示す図である。
【図６】先行技術の、光マウントの断面図である。
【図７】先行技術の、従来の光マウントにミラーを搭載するための装置の側面図である。
【図８】この発明の締め付け装置の、端の部分を取り除いた側面図である。
【図９】この発明の金属電極およびセラミックスカバーを備えた導波路の底面図である。
【図１０】図９の導波路の側面図である。
【図１１】この発明のリングレーザ装置のボウタイまたは８の字型導波路を上から示した概略図である。
【図１２】この発明の光マウントの側面図である。
【図１３】この発明のミラーハウジングの後面図である。
【図１４】図１３の線１４−１４における断面図である。
【図１５】図１３のミラーハウジングの前面図である。
【図１６】この発明の高反射ミラーの搭載装置の断面図である。
【図１７】この発明の導波チャネルの端面を示す図である。
【図１８】他の光学機材のための搭載面として使用されるレーザヘッドの上面を示す図である。
【図１９】図１８のレーザヘッドの側面図である。
【図２０】図１８の底面を示す図である。
【図２１】図１９の線２１−２１における断面図である。
【図２２】図１８のレーザヘッドの端面を示す図である。
【図２３】光スキャナを備えた図１８のレーザヘッドの側面図である。
【図２４】図１８に示されたレーザヘッドと使用されるビーム再指向装置の前面図である。
【図２５】図２４のビーム再指向装置を側方から見たときの断面図である。
【図２６】図２４のビーム再指向装置の後面を示す図である。
【図２７】図２４のビーム再指向装置の側面を示す図である。
【図２８】図２４のビーム再指向装置を端部から見たときの断面図である。
【図２９】図１８に示すレーザヘッドと使用される第１ミラーマウントの前面を示す図である。
【図３０】図１８に示すレーザヘッドと使用される第２ミラーマウントの前面を示す図である。
【図３１】図１８に示すレーザヘッドと使用される第３ミラーマウントの前面を示す図である。
【図３２】図３１の線３２ー３２における断面図である。
【図３３】この発明のＷ型導波路の上面を示す図である。
【図３４】この発明のＷＩまたはＮＶ型導波路の上面を示す図である。
【図３５】この発明の、Ｗ型導波路（図３３）の３個のミラーの側の端部またはＷＩまたはＮＶ型導波路（図３４）の両方の端部のためのミラーハウジングの後面を示す図である。
【図３６】図３５のミラーハウジングの上面を示す図である。
【図３７】水平および垂直部分のレーザビームの大きさが等しくなる位置に円筒状レンズを配置し、水平部分４．５７ｍｍ、垂直部分２．７９ｍｍの矩形レーザを円形レーザに変換する状態を示した光波分析結果をプロットした図である。
【図３８】この発明の、短い距離において、矩形のレーザビームを円形のレーザビームに変換するためのアナモルフィックなビームエクスパンダの側面を示す図である。
【図３９】この発明の、電極および導波チャネルの交差部分の上を覆うセラミックスカバーを備えたリング導波路の底面を示す図である。
【図４０】この発明の、周波数の関数としてレーザ出力をプロットした図である。
【図４１】この発明の、レーザ導波チャネルの音響調波の波型をプロットした図である。
【図４２】この発明の、ガス圧ベントホールを有する導波路の上面を示す図である。
【図４３】この発明の、ガス圧放出スロットを有する導波路の底面を示す図である。
【図１】
0003932207.tif 000002
【図２】
0003932207.tif 000003
【図３】
0003932207.tif 000004
【図４】
0003932207.tif 000005
【図５】
0003932207.tif 000006
【図６】
0003932207.tif 000007
【図７】
0003932207.tif 000008
【図８】
0003932207.tif 000009
【図９】
0003932207.tif 000010
【図１０】
0003932207.tif 000011
【図１１】
0003932207.tif 000012
【図１２Ａ】
0003932207.tif 000013
【図１２Ｂ】
0003932207.tif 000014
【図１２Ｃ】
0003932207.tif 000015
【図１３】
0003932207.tif 000016
【図１４】
0003932207.tif 000017
【図１５】
0003932207.tif 000018
【図１６】
0003932207.tif 000019
【図１７】
0003932207.tif 000020
【図２３】
0003932207.tif 000021
【図１８】
0003932207.tif 000022
【図１９】
0003932207.tif 000023
【図２０】
0003932207.tif 000024
【図２１】
0003932207.tif 000025
【図２２】
0003932207.tif 000026
【図２４】
0003932207.tif 000027
【図２５】
0003932207.tif 000028
【図２６】
0003932207.tif 000029
【図２７】
0003932207.tif 000030
【図２８】
0003932207.tif 000031
【図２９】
0003932207.tif 000032
【図３０】
0003932207.tif 000033
【図３１】
0003932207.tif 000034
【図３２】
0003932207.tif 000035
【図３３】
0003932207.tif 000036
【図３４】
0003932207.tif 000037
【図３５】
0003932207.tif 000038
【図３６】
0003932207.tif 000039
【図３７】
0003932207.tif 000040
【図３８】
0003932207.tif 000041
【図３９】
0003932207.tif 000042
【図４０】
0003932207.tif 000043
【図４１】
0003932207.tif 000044
【図４２】
0003932207.tif 000045
【図４３】
0003932207.tif 000046