(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一時的に予め所定の磁気情報が記録された第１磁性層と、この第１磁性層の上に形成された第２磁性層を備える磁気記録媒体であって、
前記第２磁性層は、当該第２磁性層が塗設され未乾燥状態のうちに磁場配向処理されて第１磁性層の磁気情報に応じた磁性微粒子の粗密パターン形成による固定情報が記録されており、
前記第１磁性層と第２磁性層との間に、非磁性液体浸透防止層が介在されていることを特徴とする磁気記録媒体。
【請求項２】
前記非磁性液体浸透防止層は、その形成仕様が、当該非磁性液体浸透防止層を介在させることにより前記第２磁性層が前記第１磁性層から受ける磁束密度の低下割合が２０％以内となるように設定されてなる請求項１に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、磁気記録媒体、特に偽造、変造が困難な磁気記録媒体と、その製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
基材の片面あるいは両面の全域またはストライプ状に磁気記録層が形成された磁気記録媒体は、例えば、プリペイドカード、定期券、乗車券、入場券、車券、馬券、商品券、株券、証書、通帳、磁気タグ等の金券、証券類や、ＩＤカード、キャッシュカード、クレジットカード、会員カード等のカード類、磁気ラベル等として幅広く使用されている。従来、このような磁気記録媒体は、磁気記録層に高い記録密度で情報を書込み、外部から簡単には記録情報を読み出せないようにしている。
【０００３】
しかし、磁気記録層の特性上、記録された情報の書換え、消去が自在であるため、偽造、変造が可能であり、近年、大きな社会問題としてクローズアップされている。特に、現在は磁気ストライプの入手が容易であるため、類似のカードを製造することも可能であり、さらに、現在の仕様のように、磁気記録媒体の表面に磁気記録層が露出している場合、磁気記録情報を読み取ったり、磁気転写技術により磁気記録情報を他の磁気記録層に移すことが容易にできてしまうという問題もある。
【０００４】
このような磁気記録情報の可逆性という本質的な欠点に基づく問題を解決するために、磁気記録情報の書き換えを困難にする種々の方法が提案されている。例えば、ＢａフェライトやＳｒフェライト等の高保磁力磁性材料、高保磁力低キュリー点（高Ｈｃ低Ｔｃ）の磁性材料、ＭｎＢｉを含有する磁性材料等を用いることにより、磁気情報を消去されにくくした磁気記録媒体等が開発されている。
【０００５】
また、磁気的な書き換えが不可能となるように、磁性層に物理的変化を与えることにより磁気記録情報をもたせた磁気記録媒体も開発されている。例えば、印刷により磁気バーコードを設けた磁気記録媒体、磁性層にレーザー等によりマーキングを施した磁気記録媒体等が挙げられる。
【０００６】
さらに、基材上に比較的低い保磁力の磁性材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気記録を行った後、高保磁力の磁性材料を含む第２磁性層を塗布形成して積層した磁気記録媒体も開発されている。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パターンが、磁気ヘッドでは容易に記録できない第２磁性層に磁気転写されているので、偽造、変造を目的とした磁気ヘッドによる書き換えが困難である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような単に高保磁力磁性材料を用いた磁気記録媒体は、外部磁場の影響による磁気記録情報の消去を防ぐことは可能であるが、これは逆に磁気ヘッドで情報を書き込む際には磁化されにくく、書き込み装置に制限ができるという新たな問題を生じている。
【０００８】
また、高Ｈｃ低Ｔｃ磁性材料やＭｎＢｉ含有磁性材料を有する磁気記録媒体では、温度による保磁力の急激な低下を利用し、その条件下で磁気書き込みを行うことも可能であるが、常温において磁気記録情報の消去や書き込みができないため、装置が大掛かりになるという問題がある。
【０００９】
さらに、磁気バーコードのように磁性層に物理的変化を与えた磁気記録媒体では、磁気記録情報の消去と、新たな情報の書き込みが不可能である。
【００１０】
また、第２磁性層に磁気転写された磁気記録情報を備える磁気記録媒体は、非常に強い磁界が加わると、磁気転写による第２磁性層の磁気記録が消去されてしまうという問題があり、さらに、高保磁力磁性材料を含む第２磁性層に磁気転写を効率良く行うことが困難なため、読み取りに必要な磁気出力が第２磁性層から得られないという問題もあった。
【００１１】
このような問題点に対処するために、磁気情報の未乾燥磁気層への磁気転写を利用した媒体、すなわち、基材上に磁性材料を含む第１磁性層を形成し、この第１磁性層に磁気記録を行った後、磁性材料を含む第２磁性層を塗布形成して未乾燥状態のうちに磁場配向処理して形成された磁気記録媒体も開発されている。この磁気記録媒体では、第１磁性層の磁気記録パターンを利用して、第２磁性層に磁性体の粗密パターンが固定情報として記録されているので、偽造、変造を目的とした書き換えが困難であり、セキュリティ性に優れる。しかしながら、粗密パターンの形成には、コーティング時の第２磁性層の磁気インキの粘度が大きく寄与し、粘度が高いと磁性体の流動性が制限され、粗密パターンがうまく形成できなくなってしまうことがある。すなわち、第１磁性層の上に第２磁性層がコーティングされてから第２磁性層が磁場配向を受けるまでの間に、第２磁性層中の磁気インキ中の溶剤の一部が第１の磁性層に浸透し、磁気インキの粘度が上昇して磁性体の流動性が悪くなり、粗密パターンの形成に不利に働くことがわかってきた。このようなマイナス要因は、磁気記録媒体本来の特性を落とすことになってしまう。
【００１２】
本発明は、このような実情の基に創案されたものであり、その目的は、偽造や改ざん等の不正行為を防止できることはもとより、粗密パターンの形成が容易かつ確実に形成でき、出力等の磁気特性に優れる磁気記録媒体およびその製造方法を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
このような目的を達成するために、本発明の磁気記録媒体は、一時的に予め所定の磁気情報が記録された第１磁性層と、この第１磁性層の上に形成された第２磁性層を備える磁気記録媒体であって、前記第２磁性層は、当該第２磁性層が塗設され未乾燥状態のうちに磁場配向処理されて第１磁性層の磁気情報に応じた磁性微粒子の粗密パターン形成による固定情報が記録されており、前記第１磁性層と第２磁性層との間に、非磁性液体浸透防止層が介在されているように構成される。
【００１４】
また、本発明の好ましい態様として、前記非磁性液体浸透防止層は、その形成仕様が、当該非磁性液体浸透防止層を介在させることにより前記第２磁性層が前記第１磁性層から受ける磁束密度の低下割合が２０％以内となるように構成される。
【００１５】
本発明においては、第１磁性層と第２磁性層との間に、非磁性液体浸透防止層が介在されているので、第１磁性層の上に第２磁性層がコーティングされてから第２磁性層が磁場配向を受けるまでの間に、第２磁性層中の磁気インキ中の溶剤の一部が第１の磁性層に浸透しないので、第２磁性層中の磁性体の流動性は良好な状態を維持できる。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の好適な実施の形態を、図面を参照しつつ詳細に説明する。
【００１７】
図１には、本発明の磁気記録媒体の好適な実施形態の一例が概略断面図として示されている。
【００１８】
図１において、本発明の磁気記録媒体１は、基材２と、この基材２の上にストライプ状に形成された記録層３を備えており、記録層３は、第１磁性層３１と、この上に非磁性液体浸透防止層４０を介して形成された第２磁性層３５を有して構成されている。図面上、記録層３は、基材２の中に部分的に埋設された形態を採用しているが、単に、基材２の上に形成されたものであってもよい。
【００１９】
本発明の磁気記録媒体１を構成する基材２は、基材として要求される耐熱性、強度、剛性等を考慮して、ＰＥＴ、ＰＥＴ−Ｇ、ＰＥＮ等のポリエステル、塩化ビニル、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン、ポリ乳酸等の樹脂、生分解性樹脂、銅、アルミニウム等の金属、紙、含浸紙、合成紙等の材料の中から適宜選択した材料の単独あるいは組み合わせた複合体により構成することができる。このような基材２の厚さは、１００μｍ〜１ｍｍ、好ましくは１５０〜２５０μｍ程度とすることができる。
【００２０】
上記の記録層３を構成する第１磁性層３１は、保磁力が３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料を含有する。この磁性材料の保磁力が３００Ｏｅ未満であると、磁気転写に要する十分な磁気出力が得られなかったり、外部磁界に対する耐性が不十分であり、６０００Ｏｅを超えると、磁気ヘッドによる安定した記録が難しくなり好ましくない。
【００２１】
第１磁性層３１を構成する上記のような保磁力３００〜６０００Ｏｅの範囲にある磁性材料としては、例えば、γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｃｏ被着γ−Ｆｅ2 Ｏ3 、Ｆｅ3 Ｏ4 、ＣｒＯ2 、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｆｅ−Ｃｏ、Ｃｏ−Ｎｉ、Ｆｅ−Ｎｉ、Ｂａフェライト、Ｓｒフェライト等の磁性微粒子が挙げられる。
【００２２】
この第１磁性層３１は、上記の磁性微粒子を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。また、上記の磁性材料を用いて、真空蒸着法、スパッタリング法、メッキ法等により第１磁性層３１を形成することもできる。
【００２３】
第１磁性層３１の厚さは、塗布方法により形成される場合、乾燥膜厚で１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度である。
【００２４】
本発明において、第１磁性層３１の上に形成される非磁性液体浸透防止層４０は、この上に塗布される第２磁性層中の(磁気インキ中の)溶剤の一部が、下方の第１磁性層に浸透していくのを防止する機能を有している。これにより第２磁性層の磁気インキの粘度が短時間に増大することを防止でき、未乾燥塗膜中の磁性微粒子の動きの良い状態が維持できるので、粗密パターンの形成が容易になる。
【００２５】
このような非磁性液体浸透防止層４０は、溶剤等の液体が浸透するのを防止する機能を有していればよく、無機系や有機系いずれの材料を用いてもよいが、磁性層との接着性を考慮にいれれば、有機系、特に、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン・マレイン酸共重合体樹脂等をコーティングして形成させたものが望ましい。また、紫外線硬化型や電子線硬化型の放射線硬化型樹脂を用いてもよい。
【００２６】
このような非磁性液体浸透防止層４０の材質および膜厚等の形成仕様は、以下のように設定することが望ましい。すなわち、当該非磁性液体浸透防止層４０を介在させることにより、この上に塗設される第２磁性層３５が前記第１磁性層３１から受ける磁束密度の低下割合が２０％以内、好ましくは、０〜１５％、より好ましくは、０〜１０％となるように設定される。
【００２７】
この値が２０％を超えると、非磁性液体浸透防止層４０を設けたことによるスペーシングロスの不利益が大きく作用して、本発明の効果が顕著とならなくなってしまう。非磁性液体浸透防止層４０は、通常、単層として形成されるが、場合によっては、２層以上の積層構成とすることもできる。
【００２８】
このような非磁性液体浸透防止層４０の上には、上述のごとく、第２磁性層３５が塗設される。
【００２９】
第２磁性層３５は、塗設後の塗膜中の磁性材料（磁性微粒子）を所定の疎密パターンとして含有させるものである。第２磁性層３５中に含有される磁性材料（磁性微粒子）の保磁力は、１〜１００００Ｏｅの範囲にある磁性材料（磁性微粒子）を適宜選定して用いることが好ましい。これらは、前記第１磁性層３１のところで説明した磁性微粒子の中から適宜選定して用いることができる。
【００３０】
第２磁性層３５は、上記の磁性材料が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、非磁性液体浸透防止層４０の上にグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し、当該塗膜が未乾燥状態に在るうちに所定方向（ストライプ方向）の磁気配向処理を施した後、磁性塗膜を乾燥することにより形成することができる。この第２磁性層３５は、磁性材料（磁性微粒子）の疎密パターンからなる固定情報を有するものである。この固定情報の形成方法については、後述の製造方法で詳細に説明する。尚、磁場配向処理に用いる配向装置としては、ソレノイド型の電磁石配向装置が好ましい。
【００３１】
第２磁性層３５の厚さは、１〜５０μｍ、好ましくは３〜２０μｍ程度である。
【００３２】
なお、上記の本発明の磁気記録媒体では、基材２の一部にストライプ状に記録層３を形成した構成となっているが、図２に示されるように、記録層３が基材の一方の面の全面に形成された構成であってもよい。図２において、図１と同一符号の部材は、互いに同一の部材を示す（以下の図面においても同様である）。
【００３３】
このような構成を有する本発明の磁気記録媒体１の第２磁性層３５には、磁性材料（磁性微粒子）の疎密パターンが固定情報として形成されている。
【００３４】
また、本発明では、磁気記録媒体１の記録層３（第２磁性層３５）の上に、保護、隠蔽、装飾効果をもたせるための保護層、着色層や絵柄を設けてもよい。
【００３５】
保護層、着色層や絵柄はエチルセルロース、硝酸セルロース、エチルヒドロキシエチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポリ−α−メチルスチレン等のスチレン樹脂、あるいはスチレン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブチル等のアクリル樹脂またはメタクリル樹脂の単独あるいは共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジン変性フェノール樹脂、重合ロジン等のロジンエステル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルトルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のバインダーに、着色すべき色に応じて各種の顔料を添加し、必要に応じて磁気ヘッドのクリーニング効果をもたせるよう、酸化チタン、アルミナ粉末、マイクロシリカ等を添加し、さらに必要に応じて、可塑剤、安定剤、ワックス、グリース、乾燥剤、乾燥補助剤、硬化剤、増粘剤、分散剤を添加した後、溶剤あるいは希釈剤で充分に混練してなる着色塗料あるいはインキを用いて、通常のグラビア法、ロール法、ナイフエッジ法、オフセット法等の塗布方法あるいは印刷方法により、所望部分に形成できる。
【００３６】
次に、本発明の磁気記録媒体の製造方法の一実施形態について、図３を参照しながら説明する。図３に示される実施形態は、基本的に図２のそれと実質的に同じである。
【００３７】
まず、基材２の上に第１磁性層３１を形成する（図３（Ａ））。この第１磁性層３１の形成は、上述の保磁力範囲にある磁性材料を適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散してなる磁性塗料を、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布し乾燥することにより形成することができる。樹脂あるいはインキビヒクルとしては、ブチラール樹脂、塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、アクリル樹脂、スチレン／マレイン酸共重合体樹脂等が用いられ、必要に応じてニトリルゴム等のゴム系樹脂あるいはウレタンエラストマー等が添加される。また、耐熱性を考慮して、ポリアミド、ポリイミド、ポリエーテルサルホン等のガラス転移温度（Ｔｇ）の高い樹脂、あるいは硬化反応によりＴｇが上昇する系を用いることができる。上記のような樹脂あるいはインキビヒクル中に磁性材料が分散されてなる磁性塗料中に、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を適宜含有させてもよい。
【００３８】
次に、この第１磁性層３１の上に非磁性液体浸透防止層４０を形成し、しかる後、第１磁性層３１に所望の磁気記録を行う（図３（Ｂ））。これにより、第１磁性層３１に磁化方向が相違する磁気パターンが形成される。この工程を、特に本発明では、基材の上に第１磁性層３１を形成するとともに、第１磁性層３１に所定の磁気情報を記録するマスター層形成工程と称す。第１磁性層３１の表面は、平滑面形成のための平滑化処理を行っても良い。また、非磁性液体浸透防止層４０は、グラビア法、エアドクタ法、ブレードコート法、ナイフコート法、ロッドコート法、ロールコート法、スロットオリフィスコート法、スプレーコート法等の塗布方法で形成することが望ましい。前述したように非磁性液体浸透防止層４０の材質や厚さは、非磁性液体浸透防止層４０の上に塗設される第２磁性層３５が前記第１磁性層３１から受ける磁束密度の低下割合が２０％以内となるように設定するのがよい。
【００３９】
次に、非磁性液体浸透防止層４０の上に第２磁性層３５を形成する。まず、上述の保磁力を有する磁性材料（磁性微粒子）が適当な樹脂あるいはインキビヒクル中に分散されてなる磁性塗料を、非磁性液体浸透防止層４０の上に、グラビア法、ロール法、ナイフエッジ法等の公知の塗布方法に従って塗布して、磁性塗膜３５ａを形成する（図３（Ｃ））。磁性塗料に使用する樹脂あるいはインキビヒクルは、上述の第１磁性層３１の形成で挙げたものを使用することができ、また、必要に応じて分散剤、可塑剤、硬化剤、帯電防止剤、顔料等を磁性塗料に適宜含有させてもよい。
【００４０】
次いで、当該塗膜が未乾燥の状態で、配向のための磁界を一定方向（図示の場合、矢印（α）方向）に加えて磁場配向処理を施す（図３（Ｄ））。これにより、第１磁性層３１から発生する磁力線によって磁性塗膜３５ａが影響を受ける磁力線方向と、配向磁場方向（矢印（α）方向）とが一致する部位に、磁性微粒子が移動して集まり、磁性塗膜３５ａ中に磁性微粒子の密な部分３６が形成される。
【００４１】
つまり、第１磁性層３１に記録された磁気情報から生じる磁力線と配向磁場方向が一致した部分では磁力線成分が増長され、この部分に磁性塗膜３５ａ中の磁性微粒子が集まり密な部分３６が形成される。逆に、向きが一致していない部分の磁力線成分は相殺され粗の部分３７(磁性微粒子がほとんど存在しない)が形成される。本発明においては、第２磁性層３５の下に非磁性液体浸透防止層４０が敷設されているので、塗布後の第２磁性層３５の粘度低下が少なく、配向磁場にもとづく磁性微粒子の動きは極めてスムースであり、明瞭な粗密パターンが形成される。印加される配向磁界は１５０〜３０００Ｇの範囲で、第１磁性層３１の磁気記録が消去されないように、使用する磁性材料に応じて適宜設定することができる。その後、磁性塗膜３５ａを乾燥することにより、第１磁性層３１の磁気記録パターンに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報を有する第２磁性層３５を形成する。
【００４２】
次に、第１磁性層３１の磁気記録が消去されるような消磁磁界を一定方向に加えて、第１磁性層３１の磁気記録を消去するとともに、第２磁性層３５の上記固定情報に着磁を行い、磁気記録媒体１とする（図３（Ｅ））。
【００４３】
このように製造される本発明の磁気記録媒体１において、記録層３の第２磁性層３５に書き込まれた固定情報は、磁性微粒子が磁性塗膜中を移動して形成された粗密パターンからなるので、強磁界が加わっても消去されることがない。
【００４４】
また、本発明では、上記の第２磁性層３５における固定情報は、第１磁性層３１への磁気記録によって磁気記録媒体個々に任意に設定することができるので、他の磁気記録媒体との判別が可能となる。
【００４５】
なお、基材としてポリエチレンテレフタレートフィルムのような樹脂フィルムを使用し、上述のような製造方法で基材２上に第１磁性層３１、非磁性液体浸透防止層４０、第２磁性層３５とを順に積層して磁気記録層を設けることにより磁気テープを作製し、この磁気テープをカード基材等の全面、あるいは、一部に貼合して磁気記録媒体を製造してもよい。
【００４６】
【実施例】
次に、実施例を示して本発明をさらに詳細に説明する。
［実験例１］
【００４７】
基材として、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（東レ（株）製Ｅ−２２）を準備し、この基材の片面に下記の組成を有する第１磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布し乾燥して、厚み２０μｍの第１磁性層を形成した。
（第１磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝４０００Ｏｅ）    …    ８０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
次いで、この第１磁性層の上に、種々の厚さのアクリル樹脂からなる非磁性液体浸透防止層を形成し、下記表１に示されるような種々の第１磁性層の磁束密度の低下割合(第２磁性層に対して)が異なるサンプルを作製した。
次に、この第１磁性層に書込み電流１０００ｍＡで磁気記録Ｄを行った。このときの記録密度は２００ｂｐｉ（ＦＭ記録）とした。
次いで、この第１磁性層の上に、下記の組成を有する第２磁性層形成用の磁性塗料をグラビアコート法により塗布して磁性塗膜を形成した。
（第２磁性層形成用の塗工液）
・Ｂａフェライト（保磁力＝１０００Ｏｅ）    …    ４０重量部
・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体樹脂        …    １０重量部
・ウレタン樹脂                              …    １０重量部
・メチルエチルケトン                        …    ５０重量部
・トルエン                                  …    ５０重量部
・メチルイソブチルケトン                    …    ５０重量部
・イソシアネート系硬化剤                    …      ３重量部
【００４８】
次に、上記の磁性塗膜に２０００Ｇのソレノイドによる直流磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に加えて磁気配向処理を施した。その後、磁性塗膜を乾燥することにより厚み１５μｍの第２磁性層を形成した。この第２磁性層は、第１磁性層の磁気記録Ｄに対応した磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′を有するものであった。これにより、非磁性液体浸透防止層を介在させた第１磁性層と第２磁性層との積層体からなる磁気記録層を基材上に形成した。
【００４９】
上記のように磁気記録層を形成した基材を８６ｍｍ×５４ｍｍの大きさのカード状に打ち抜いて本発明の磁気記録媒体を得た。
【００５０】
次いで、この磁気記録媒体の磁気記録層にソレノイドによる１２０００Ｇの直流磁界を第１磁性層の記録方向に沿って一方向に印加して、第１磁性層の磁気記録Ｄを消去するとともに、第２磁性層の磁性材料の疎密パターンからなる固定情報Ｄ′部に着磁を行った。
【００５１】
このようにして下記表１に示すような種々の磁気記録サンプル（実施例I−１〜 I−４；比較例I−１〜 I−２）を作製した。なお、比較例I−１は、上記非磁性液体浸透防止層を形成していないサンプルである。
【００５２】
各サンプルの固定情報の磁気出力を測定しその結果を下記表１に示した。なお、磁気出力は、比較例I−１を１．００とした場合の相対値として比較表示した。
【００５３】
【表１】
0004028660.tif 000002
【００５４】
表１に示される結果より、比較例I−１と本発明との対比において、本発明のものは、スペーシングロスが生じ得るという不利な状況下にありながら、非磁性液体浸透防止層の溶剤浸透防止効果が、この不利な状況を一掃していることがわかる。また、本発明において、非磁性液体浸透防止層を介在させるには、第２磁性層が第１磁性層から受ける磁束密度の低下割合が２０％以内となるように設定するのが好ましいことがわかる。
【００５５】
【発明の効果】
以上詳述したように、本発明の磁気記録媒体は、一時的に予め所定の磁気情報が記録された第１磁性層と、この第１磁性層の上に形成された第２磁性層を備える磁気記録媒体であって、前記第２磁性層は、当該第２磁性層が塗設され未乾燥状態のうちに磁場配向処理されて第１磁性層の磁気情報に応じた磁性微粒子の粗密パターン形成による固定情報が記録されており、前記第１磁性層と第２磁性層との間に、非磁性液体浸透防止層が介在されているように構成されているので、偽造や改ざん等の不正行為を防止できることはもとより、粗密パターンの形成が容易かつ確実に形成でき、出力等の磁気特性に優れる磁気記録媒体が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気記録媒体の実施形態の一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明の磁気記録媒体の他の実施形態を示す概略断面図である。
【図３】本発明の磁気記録媒体の製造方法の実施形態の一例を経時的に示す工程図である。
【符号の説明】
１…磁気記録媒体
２…基材
３…記録層
３１…第１磁性層
３５…第２磁性層
４０…非磁性液体浸透防止層
【図１】
0004028660.tif 000003
【図２】
0004028660.tif 000004
【図３】
0004028660.tif 000005