(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の面と第２の面とを有する対象物を光学的に検査して該対象物の状態を表示する方法であって、
前記対象物の前記第１の面から第１の光線を反射させ、前記第１の面と前記第２の面とを含む前記対象物に第２の光線を透過させるステップと、
反射された前記光線と透過した前記光線とを感知するステップと、
感知された前記光線に対応した電気出力を発生するステップと、
前記電気出力を処理し、前記対象物の状態の表示を提供するステップと、
を具備する方法において、
前記対象物から前記第１の光線を周期的に反射させ、一連の時間的に離れた短時間の反射光を生成するステップと、
前記対象物に前記第２の光線を透過させ、一連の時間的に離れた短時間の透過光を生成するステップと、
矩形のイメージ・センサによって感知されている前記反射光及び前記透過光が、それぞれ、交互に配置され且つぼやけていない反射イメージ及び透過イメージを含むイメージの２つのストリームを形成するように、前記第１の光線と前記第２の光線とに関して前記対象物を移動させるステップであって、それぞれの前記イメージは矩形の区域を有しており、隣接する前記反射イメージと前記透過イメージとの間の遅延が矩形の区域の半分であるステップと、
を備えることを特徴とする方法。
【請求項２】
前記反射光と前記透過光とが面状のイメージ・センサによって感知される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記反射光と前記透過光とが前記対象物の両側に位置する個別の光源によって生成される、請求項２記載の方法。
【請求項４】
前記反射光と前記透過光とが前記対象物の一方の側に位置する共通の光源によって生成され、光学的操作素子が前記対象物の両側へ光線を交互に操作する、請求項２記載の方法。
【請求項５】
前記反射光と前記透過光とが共通のイメージ・センサによって感知される、請求項３又は４記載の方法。
【請求項６】
前記反射光と前記透過光とのそれぞれが、１ミリ秒よりも短い期間周期的に付勢される大出力の光源により生成される、請求項１記載の方法。
【請求項７】
前記反射光と前記透過光とのそれぞれが、１ＭＨｚよりも高い周波数で１００マイクロ秒よりも短い期間周期的に付勢される大出力の光源により生成される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記大出力の光源がレーザーである、請求項６又は７記載の方法。
【請求項９】
光学的に検査される前記対象物が、透明な領域と不透明な領域とを有するフォトマスクであり、表示されるべき前記状態が、前記フォトマスクの前記透明な領域と前記不透明な領域とにおける欠陥の存在又は不存在である、請求項１記載の方法。
【請求項１０】
前記第１の光線及び前記第２の光線がＵＶ光である、請求項１〜９のいずれか一つに記載の方法。
【請求項１１】
第１の面と第２の面とを有する対象物を光学的に検査して該対象物の状態を表示するための装置であって、
前記対象物の前記第１の面から反射させる第１の光線と、前記第１の面と前記第２の面とを含む前記対象物を透過する第２の光線とを生成する照明装置と、
反射された前記光線と透過した前記光線とを感知するセンサと、
感知された前記光線に対応した電気出力を発生する手段と、
前記電気出力を受け取って処理し、前記対象物の状態の表示を提供するプロセッサと、
を具備する装置において、
前記照明装置が、前記対象物から前記第１の光線を周期的に反射させて一連の時間的に離れた短時間の反射光を生成するとともに、前記対象物に前記第２の光線を透過させて一連の時間的に離れた短時間の透過光を生成する手段を備え、
ステージが、前記反射光及び前記透過光が、矩形のイメージ・センサによって感知されるように、且つ、交互に配置され且つぼやけていない反射イメージ及び透過イメージからなるイメージの２つのストリームを形成するように、前記第１の光線と前記第２の光線とに関して前記対象物を移動させ、それぞれの前記イメージは矩形の区域を有しており、隣接する前記反射イメージと前記透過イメージとの間の遅延が矩形の区域の半分である、
ことを特徴とする方法。
【請求項１２】
前記センサが面状のイメージ・センサである、請求項１１記載の装置。
【請求項１３】
前記イメージ・センサが矩形のマトリクス型の電荷結合デバイス（ＣＣＤ）を含む、請求項１２記載の装置。
【請求項１４】
前記照射装置が前記対象物の両側に位置する第１及び第２の光源を備える、請求項１２又は１３記載の装置。
【請求項１５】
前記照射装置が、
前記光源の一方の側に位置して短時間の時間的に離れた光を生成する共通の光源と、
前記対象物の前記一方の側に位置する第１の光学系と、
前記対象物の他方の側に位置する第２の光学系と、
前記対象物の前記一方の側に位置する光操作装置であって、前記光源からの光を前記第１の光学系及び前記第２の光学系へ交互に操作するよう周期的に制御される光操作装置と、
を備える、請求項１２又は１３記載の装置。
【請求項１６】
前記光操作装置がフリップフロップ・ミラーである、請求項１５記載の装置。
【請求項１７】
前記センサが前記反射光及び前記透過光を感知する面状のセンサである、請求項１１記載の装置。
【請求項１８】
前記照射装置が、１ミリ秒より短い期間の強い光を生成するよう周期的に付勢される、請求項１１記載の装置。
【請求項１９】
前記照射装置が、１ＭＨｚよりも高い周波数で１００マイクロ秒より短い期間の強い光を生成するよう周期的に付勢される、請求項１８記載の装置。
【請求項２０】
前記照射装置が周期的に付勢されるレーザーを含む、請求項１１〜１９のいずれか一つに記載の装置。
【請求項２１】
前記照明装置が、ＵＶ光からなる前記第１の光線及び前記第２の光線を生成する手段を備える、請求項１１〜２０のいずれか一つに記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、対象物を光学的に検査するための方法及び装置に関するもので、透明な領域と不透明な領域とを有するフォトマスクを光学的に検査してこれらの領域における欠陥の存在又は不存在を光学的に検出するのに特に有用である。したがって、以下の記述はフォトマスクの欠陥検出の分野に関連して記載されるが、他の分野、例えば、印刷回路基板やフラット・パネル・ディスプレイ等の対象物を検査するためにも利用可能である。
【０００２】
【従来の技術】
物体を光学的に検査するための多くの方法及び装置が公知である。例えば、ドータン等の米国特許第５，２１６，４７９号明細書は、光線を対象物（特に、印刷回路基板）の一つの面に投射し、該面からの反射光及び該面で誘導された蛍光を感知し、こうして感知された光を用いて対象物のそれぞれの面での欠陥を表示することにより、対象物を光学的に検査するためのシステムを開示している。また、このシステムにおいては、対象物に光を透過させ、透過した光を対象物の反対の面で感知して印刷回路基板のメッキ済みのスルーホールの欠陥を検出するようにしている。また、ヨーロッパ特許出願公開第９２１１４１８２．６号は、欠陥を検出するために反射光と透過光とを利用する光学的検査方法及びシステムを開示している。これらの公知技術は、レーザー・ビームのような光線に被検査対象物を走査させるという走査技術に基づいている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
この発明の目的は、反射光と透過光との両方を使用しながらも上記の公知技術における方法及びシステムよりも大きな利点を有する、対象物を光学的に検査するための新規な方法及び装置を提供することである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
この発明の１つの側面によれば、
第１の面と第２の面とを有する対象物を光学的に検査して該対象物の状態を表示する方法であって、
前記対象物の前記第１の面から周期的に光線を反射させ、一連の時間的に離れた短時間の反射光を生成するステップと、
前記対象物に光線を周期的に透過させ、一連の時間的に離れた且つ前記反射光と時間的に交互に配置された短時間の透過光を生成するステップと、
前記の短時間の反射光と透過光とを感知し、それに対応した電気出力を発生するステップと、
前記電気出力を処理し、前記対象物の状態の表示を提供するステップと、
を有する方法、
が提供される。
【０００５】
この発明の実施の形態における特徴によると、前記反射光と前記透過光とは面状の（ａｒｅａ−ｔｙｐｅ）イメージ・センサによって感知される。更に、前記反射光と前記透過光とは、１ミリ秒よりも短い期間、好ましくは１ＭＨｚより高い周波数で１００マイクロ秒より短い期間、周期的に付勢される大出力の光源によって生成される。
【０００６】
以下に説明する実施の形態においては、それぞれの大出力の光源の持続時間は約６０マイクロ秒であり、その周波数は４０ＭＨｚである。このような配置は、以下に説明するとおり、対象物が連続的に移動しているときでも、対象物のイメージをぼやかすことなく、対象物の「迅速な（ｏｎ  ｔｈｅ  ｆｌｙ）」光学的検査を可能にする。
【０００７】
ＮＡＳＡプルート計画のために開発されたＣＣＤイメージ・センサを用いることにより、特に良好な結果を得ることができる。このセンサは冷却背面照明型（ｃｏｏｌｅｄ  ｂａｃｋ−ｉｌｌｕｍｉｎａｔｉｏｎ）ＣＣＤイメージ・センサであり、紫外線（ＵＶ）スペクトル領域に高い量子効率（ｑｕａｎｔｕｍ  ｅｆｆｉｃｉｅｎｃｙ）を持つ。また、このセンサは極めて大きなデータ速度を持ち、極めて雑音が小さい。この種のＣＣＤイメージ・センサをイメージ・センサとして使用することにより、センサは所望のＵＶ領域での走査を行って解像度を上げることができる。この種のセンサの使用はシステム・スループットを向上させ、反射光及び透過光により同時に対象物を検査することを可能にする。このようなイメージ・センサを用いると、光源はレーザーやフラッシュ・ランプでよく、更には水銀アーク灯であってもよく、短時間の閃光を生成するためにチョッパや変調器を含むことができる。
【０００８】
以下、多くの実施の形態が例示の目的で説明される。１つの実施の形態によれば、反射光及び透過光は対象物の両側に位置する個別の光源により生成される。別の実施の形態においては、反射光と透過光とは対象物の一方の側に位置する共通の光源と、対象物の反対側に位置して光線を交互に操作する光操作素子（例えば、フリップフロップ・ミラー）とによって生成される。これらの実施の形態においては、反射光と透過光とは共通のイメージ・センサによって感知される。
【０００９】
この発明の他の実施の形態は、反射光と透過光とが対象物の一方の側に位置する単一の光源によって生成され、反射光は対象物の一方の側に位置する第１のセンサによって感知され、透過光は対象物の他方の側に位置する第２のセンサによって感知される。
【００１０】
また、この発明は、上記の方法にしたがって対象物を光学的に検査するための装置を提供する。
【００１１】
【発明の実施の形態】
この発明の特徴及び利点は、以下の説明から明らかになろう。以下、この発明を添付の図面を参照しながら例を挙げて説明する。
【００１２】
先に述べたとおり、この発明に係る方法及び装置は、フォトマスクを光学的に検査して該フォトマスクの透明な領域と不透明な領域とにおける欠陥を検出するのに特に有用である。
【００１３】
図１に示す装置は、光学的に検査されるフォトマスクＰＭを受け取って輸送するためのステージ２を有する。フォトマスクＰＭの一方の側に位置する第１の光源４は、光学系６、ビーム・スプリッタ８及び対物レンズ１０を介してフォトマスクＰＭの一方の面に至る閃光を発する。フォトマスクＰＭの他方の側に位置する第２の光源１２は、反射器１４及び光学系１６を介してフォトマスクＰＭの他方の面に至る閃光を発する。光源４からの光はフォトマスクＰＭで反射され、中継レンズ１８を通って面状のイメージ・センサ２０に至る。光源１２からの光はフォトマスクＰＭを透過し、即ちフォトマスクＰＭの両面を通過し、中継レンズ１８を通ってイメージ・センサ２０に至るが、イメージ・センサ２０は光源４からのフォトマスクＰＭの反射光をも受光する。
【００１４】
更に、イメージ・センサ２０へ至る光軸は、ビーム・スプリッタ２４を介して対物レンズ１０を制御する自動焦点装置２２と、観察のためにビーム・スプリッタ２８を介してイメージを受け取る観察用の接眼レンズ２６とを備えている。
【００１５】
２つの光源４、１２は制御システム３０によって制御される。制御システム３０は、これらの光源を周期的に付勢して閃光を発生させ、各光源から一連の時間的に離れた短時間の光を互いに時間的に交互に配置されるように発生させる。つまり、光源４は、フォトマスクＰＭの一方の面から反射される一連の時間的に離れた短時間の光を発生し、光源１２はフォトマスクＰＭを透過し且つ光源４からの光と交互に配置される一連の時間的に離れた短時間の光を発生する。光源４から出てフォトマスクＰＭで反射された光及び光源１２から出てフォトマスクＰＭを透過した光は、共通のイメージ・センサ２０で受光される。イメージ・センサ２０は受光した光線に対応した電気出力を発生する。
【００１６】
イメージ・センサ２０からの電気出力はプロセッサ３２へ送られ、基準データ源３４からの基準データと比較される。基準データ源はデータベースに蓄積することもできるし、他の対象物から又は被検査対象物の他の部分から導き出したものでもよい。こうして、プロセッサ３２は基準データとフォトマスクＰＭの光学的検査から導き出されたデータとの間の不一致の指示を生成するので、フォトマスクＰＭの欠陥の指示を得ることができる。この処理の結果は出力装置（例えば表示装置３６）に出力される。
【００１７】
フォトマスクＰＭを受け取るステージ２は、フォトマスクＰＭをＸ軸方向及び／又はＹ軸方向に連続的に移動させるＸＹステージである。イメージ・センサ２０は面状のイメージ・センサで、２次元マトリクスのＣＣＤ（電荷結合デバイス）が好ましい。このようなイメージ・センサは、ＸＹステージがフォトマスクＰＭを一定速度で移動させているときでも、全面のイメージを一時に捕捉することができる。ぼやけていないイメージをＸＹステージがフォトマスクＰＭを移動させている間に「迅速に（ｏｎ  ｔｈｅ  ｆｌｙ）」捕捉するために、捕捉されたイメージがイメージ捕捉時間の期間に大きく動かないよう、ＣＣＤの蓄積時間（ｉｎｔｅｇｒａｔｉｏｎ  ｔｉｍｅ）は十分に短くなければならない。このためには、ＣＣＤ全体の蓄積時間は、１個の画素の走査時間と等しいかそれよりも短かくなければならない。
【００１８】
図２に示すとおり、フォトマスクＰＭの区域はスライスによって検査される。図２は、フォトマスクＰＭの垂直に延びるスライスのうちの１つのスライス４０を示している。それぞれのスライス４０は、イメージ作成光学系の光学的拡大によって分割されたイメージ・センサ２０の区域に等しい大きさの矩形の区域４２へ分割される。図２に示すとおり、それぞれのスライス４０の矩形の区域４２の各ショットでのイメージは、マスク上でイメージ・センサによってカバーされる区域全体４４よりも僅かに小さいので、４つの側に僅かな重なり部分４６を作ることになる。このため、連続的に獲得される個々のイメージを組み合わせたとき、完全なマスク・イメージを入手することが保証される。
【００１９】
イメージ・センサ２０は２つのイメージ、即ち、光源４から出てフォトマスクＰＭで反射された光によるイメージと光源１２から出てフォトマスクＰＭを透過した光によるイメージとを受け取る。フォトマスクＰＭは連続的に移動しているので、イメージ・センサ２０で受け取る２つのイメージの間には僅かな遅延が存在する。図３はこの遅延を水平方向のずれに関して示しており、反射光によるイメージ５０は透過光によるイメージ５２よりも遅れてイメージ・センサ２０によって受け取られる。
【００２０】
それぞれの光源４、１２は１ＭＨｚよりも高い周波数で１ミリ秒より短い期間、パルス動作することが好ましく、１００マイクロ秒よりも短い期間、パルス動作することが更に好ましい。これにより、イメージ・センサ２０によって受け取られるイメージのぼやけを回避するために十分短い持続時間の強い閃光を作ることができる。
【００２１】
図４は、システム動作の一例のタイミング図を示しており、それぞれの光源は６０マイクロ秒の期間、パルス動作され、パルス状の光は約２６ミリ秒だけ互いに離れており、その間にイメージ・センサによる読み出しが行われる。例えば、イメージ・センサが１Ｋ×１Ｋ個のピクセルを有すると仮定すると、イメージ・センサは２つの部分に分割され、それぞれの部分の読み出しは２０ＭＨｚで行われる。つまり、全スループットは４０ＭＨｚである。短いパルス又は幅広のセンサにより、高いデータ速度を達成することができる。例えば、８０ＭＨｚのデータ速度を３０マイクロ秒のパルス又は２Ｋ個のピクセル幅のセンサにより達成することができる。
【００２２】
光源１２からの透過する閃光は、フォトマスクＰＭの透明な領域での欠陥（例えば、微粒子）を光の低下として出現させ、フォトマスクＰＭの不透明な領域での欠陥（例えば、穴）を輝点として出現させる。透過する閃光は、不透明な領域における欠陥（例えば、微粒子）の位置を発見することはできないが、こうした欠陥は光源４からの反射される閃光によって突き止め得る。
【００２３】
線状のイメージ・センサを用いた場合、照射モード間の切り換え速度はライン速度（例えば、約２０ＫＨｚ）内の速度でなければならない。しかし、前記のように面状のイメージ・センサを用いることにより、データ速度が２０ＭＨｚであり、１ライン当たり１０００個のピクセルであるとして、切り換え速度はフレーム速度（例えば、約２０Ｈｚ）内の速度であればよいことになる。照射モード間の切り換え速度がこのように低いことは、前記のシステムにおいて特に大きな利点である。
【００２４】
この例においては、それぞれの蓄積時間は約６０マイクロ秒であり、その間にイメージ・センサ２０の１Ｋ×１Ｋ個のピクセルから成る全視野が光源１２からの短い透過する閃光によって照射され、イメージ作成光学系（対物レンズ１０及び中継レンズ１８を含む）によってイメージ・センサ２０上にイメージが作成される。
【００２５】
図５に示すように、イメージ・センサ２０は２つの出力ストリーム２５ａ、２５ｂを生成してイメージ・プロセッサ３２ａ、３２ｂへ送る。それぞれのイメージ・プロセッサは２０ＭＨｚで動作し、その内容をシリアル結合器３３へ出力する。約２６ミリ秒（これは１０２４２／２×２０×１０６に等しい）の後、ＣＣＤのイメージ・センサ２０は空になり、次の閃光に対する準備ができる。一方、一定速度で移動しているフォトマスクＰＭが、光源１２からの透過する閃光による次の隣接する視野までの中間に達すると、光源４によって短い閃光が発生され、新たな１Ｋ×１Ｋのピクセル領域を照射して反射光が生成される。反射光によるイメージはイメージ・センサ２０によって捕捉され、２つの出力ストリーム２５ａ、２５ｂとして読み出され、イメージ・プロセッサ３２ａ、３２ｂを介してシリアル結合器３３に供給される。この手順は、全マスク領域のイメージが２度作成されるまで、即ち、光源１２からの透過光によるイメージと光源４による反射光によるイメージとが作成されるまで反復される。
【００２６】
面状のイメージ・センサ２０は、既に簡単に説明したＮＡＳＡプルート計画で開発された冷却背面照明型のＣＣＤイメージ・センサであることが好ましい。このイメージ・センサはＵＶスペクトル領域に高い量子効率を持ち、極めて大きなデータ速度が可能であり、極めて雑音が小さいという特徴がある。この種のイメージ・センサをイメージ・センサ２０として使用することにより、所望のＵＶ領域での走査を行って解像度を上げることが可能になる。この種のＣＣＤイメージ・センサをイメージ・センサ２０として使用すると、光源は、パルス動作型レーザーやフラッシュ・ランプでよく、更には水銀アーク灯であってもよい。また、短時間の閃光を生成するために、光源はチョッパや変調器を含むことができる。
【００２７】
図６は、図１と実質的に同じ装置を示しているが、接眼レンズ２６及びビーム・スプリッタ２８は省略されている。
【００２８】
図７は、図１の装置と類似する他の装置を示している。図７の装置においては、接眼レンズ２６及びビーム・スプリッタ２８が省略されるのに加えて、フォトマスクＰＭに関してイメージ・センサ２０とは反対の側に位置する単一の光源１２が設けられている。フォトマスクＰＭに関してイメージ・センサ２０と同じ側の光源４の代わりに、図７の装置はミラー６０と（フリップフロップ・ミラーの形の）光操作部材６２とを備える。光操作部材６２は光源１２からの光をミラー６０とミラー１４とに交互に切り換えてフォトマスクＰＭからの反射光又は透過光を生成する。他の全部の点に関しては、図７の装置は図１の装置について既に説明したのと同じように構成され且つ動作する。
【００２９】
図８は、単一の光源１２を備える図７の装置と類似の装置を示しているが、２つの面状のイメージ・センサ７１、７２が設けられている。つまり、イメージ・センサ７１はフォトマスクＰＭと同じ側に位置し、光源１２から出てフォトマスクＰＭで反射された光を受光し、一方、イメージ・センサ７２はフォトマスクＰＭの反対の側に位置し、光源１２から出てフォトマスクＰＭを透過した光を受光する。全ての他の点においては、図８に示す装置の構成及び動作は図７に関して説明したところと同じである。
【００３０】
図９は、イメージ・センサ２０からの出力を処理し、比較的低速で動作する処理回路により比較的高いスループットを得ることを可能にする好ましい配置を示している。例えば、ここで説明する透過・反射検査装置は、２０ＭＨｚで動作する処理回路と図１に示す回路に係る１Ｋ×１ＫのＣＣＤイメージ・センサとを用いることにより、以下のとおり、４０ＭＨｚの等価データ速度で動作することができる。
【００３１】
ＣＣＤのイメージ・センサ２０は、完全な１Ｋ×１Ｋを転送するために、２０ＭＨｚでそれぞれ動作する４つの読み出しタップ（ｒｅａｄｏｕｔ  ｔａｐ）に分割される。透過する閃光が最初に対象物（フォトマスク）を照射し、イメージ・センサ２０の４つのタップは、ステージ２が半分の距離（即ち５１２ライン）の移動を完了した時点で、透過光によるデータを透過ＦＩＦＯレジスタ３１ｔへ転送する。ＦＩＦＯレジスタ３１ｔは透過光によるデータを８０ＭＨｚで受け取り、該データをそれぞれ２０ＭＨｚでイメージ・プロセッサＩＰ１、ＩＰ２へ転送する。ステージ２が半分の距離（即ち５１２ライン）の移動を完了した時点で、反射される閃光が対象物（フォトマスク）を照射し、イメージ・センサ２０の４つのタップはデータを８０ＭＨｚの速度で反射ＦＩＦＯレジスタ３０ｒへ転送する。このデータは４０ＭＨｚでイメージ・プロセッサＩＰ３、ＩＰ４へ転送される。
【００３２】
このようにして、２つの１Ｋ×１Ｋ画素群が８０ＭＨｚのデータ速度でイメージ・センサ２０から読み出され、それぞれ２０ＭＨｚのデータ速度で４つのパイプラインを動作させる。４つのパイプラインのうちの２つは反射光によるデータ、２つは透過光によるデータに対するものである。イメージ処理技術は、本願と同一の出願人により出願された米国特許出願第０７／８０１，７６１号及び米国特許出願第０７／８８０，１００号に記載されたものでよい。
【００３３】
以上、この発明を若干の実施の形態についてフォトマスクの光学的検査に関して説明してきたが、この発明は他の対象物、例えば印刷回路基板にも使用することができ、このときには、透過する閃光は、例えば米国特許第５，２１６，４７９号に開示されているとおり、スルーホールその他における欠陥を検出するために用いられる。この発明の他の多くの変更、修正及び応用は明白である。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明にしたがって構成された装置の形態を示す光学的な図である。
【図２】対象物の全面を光学的に検査するための方法を示す図である。
【図３】対象物の全面を光学的に検査するための方法を示す図である。
【図４】図１の装置において透過する光線と反射された光線とを生成する電気パルスのタイミングの一例を示すタイミング図である。
【図５】イメージ・センサの出力を電気的に処理する方法を示すブロック図である。
【図６】図１の装置の変形例を示す図である。
【図７】この発明にしたがって構成された、単一の光源を使用する装置を示す図である。
【図８】この発明にしたがって構成された、単一の光源と対象物の両側に位置するイメージ・センサとを使用する装置の形態を示す図である。
【図９】イメージ・センサの出力を電気的に処理するための好ましい配置を示すブロック図である。
【符号の説明】
２：ステージ、  ＰＭ：フォトマスク、  ４：光源、  ６：光学系、
８：ビーム・スプリッタ、  １０：対物レンズ、  １２：光源、
１４：反射器、  １６：光学系、  ２０：イメージ・センサ、
３０：制御システム、  ３２：プロセッサ、  ３４：基準データ源、
３６：表示装置
【図１】
0003958835.tif 000002
【図２】
0003958835.tif 000003
【図３】
0003958835.tif 000004
【図４】
0003958835.tif 000005
【図５】
0003958835.tif 000006
【図６】
0003958835.tif 000007
【図７】
0003958835.tif 000008
【図８】
0003958835.tif 000009
【図９】
0003958835.tif 000010