(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（イ）（Ｉ）下記一般式（１）で表される繰返し単位および下記一般式（２）で表される繰返し単位を含有する共重合体、（ロ）感放射線性酸発生剤、および（ハ）下記一般式（７）〜（１２）で表される化合物の単独または２種以上の混合物からなる水酸基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物。
【化１】
0003991466.tif 000022
〔一般式（１）において、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を示す。〕
【化２】
0003991466.tif 000023
〔一般式（２）において、Ｒ2 は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3 はｔ−ブチル基または下記一般式（３）
【化３】
0003991466.tif 000024
｛一般式（３）において、Ｒ4 およびＲ5 は、相互に独立に水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または５〜８員環の環状アルキル基を示すか、または相互に結合して一般式（３）中の炭素原子と共に５〜８員環の炭素環構造を形成しており、Ｒ6 およびＲ7 は、相互に独立に水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または５〜８員環の環状アルキル基を示すか、または相互に結合して一般式（３）中の２個の炭素原子と共に５〜８員環の炭素環構造を形成している。｝で表される基を示す。〕
【化１５】
0003991466.tif 000025
〔一般式（７）において、Ｘ1 は主鎖炭素数が２〜８のポリメチレン鎖を示し、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ14とＲ15が結合し、あるいはＲ16とＲ17が結合して、それぞれ一般式（７）中の１個の窒素原子と共に５〜８員環の複素環構造を形成し、Ｒ14〜Ｒ17の残りが相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化１６】
0003991466.tif 000026
〔一般式（８）において、Ｒ18およびＲ19は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記アルキル基、アリール基およびアラルキル基、並びに一般式（８）中のピペラジン環の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記アルキル基、アリール基およびアラルキル基は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化１７】
0003991466.tif 000027
〔一般式（９）において、Ｘ2 は主鎖炭素数が２〜８のポリメチレン鎖を示し、Ｒ20およびＲ21は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基もしくは炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基およびアラルキル基、並びに一般式（９）中の１個または２個のピペリジン環の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基およびアラルキル基は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化１８】
0003991466.tif 000028
〔一般式（１０）において、Ｘ3 およびＸ4 は、相互に独立に主鎖炭素数が２〜８のポリメチレン鎖を示し、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25およびＲ26は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ22とＲ23が相互に結合し、あるいはＲ25と
Ｒ26が相互に結合して、それぞれ一般式（１０）中の１個の窒素原子と共に５〜８員環の複素環構造を形成し、Ｒ22〜Ｒ26の残りが相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化１９】
0003991466.tif 000029
〔一般式（１１）において、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31およびＲ32は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ27とＲ28が相互に結合し、あるいはＲ29とＲ30が相互に結合し、あるいはＲ31とＲ32が相互に結合して、それぞれ一般式（１１）中の１個の窒素原子と共に５〜８員環の複素環構造を形成し、Ｒ27〜Ｒ32の残りが相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基もしくは炭素数７〜１２のアラルキル基を示す。但し、前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造は、それらの少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有することができ、またそれらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、さらにそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化２０】
0003991466.tif 000030
〔一般式（１２）において、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、相互に独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ33とＲ34が相互に結合し、あるいはＲ34とＲ35が相互に結合し、あるいはＲ35とＲ36が相互に結合し、あるいはＲ36とＲ37が相互に結合して、それぞれ一般式（１２）中の２個の炭素原子と共に６員環の芳香環構造を形成し、Ｒ33〜Ｒ37の残りが相互に独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつＲ33〜Ｒ37の少なくとも１つが水酸基であるか、あるいは前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および芳香環構造の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、Ｒ33〜Ｒ37の少なくとも１つが水酸基であるとき、残りのＲ33〜Ｒ37の前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および芳香環構造の少なくとも１つも水酸基を１個以上有することができ、前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および芳香環構造は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基、ピリジル基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性樹脂組成物に関わり、さらに詳しくは、特に紫外線、遠紫外線、Ｘ線あるいは荷電粒子線の如き放射線を用いる超微細加工に好適なレジストとして有用な感放射線性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野においては、集積回路のより高い集積度を得るために、近年では、サブハーフミクロンオーダー以下の微細加工を再現性よく行なうことができるリソグラフィー技術の開発が進められている。
従来のリソグラフィープロセスに使用されている代表的なレジストとしては、ノボラック樹脂等のアルカリ可溶性樹脂とキノンジアジド系感光剤とを用いるポジ型レジストが挙げられ、また他にネガ型レジストも知られているが、このようなレジストは、性能的に限界に達しつつあり、サブハーフミクロンオーダー以下の微細加工に使用するには、大きな困難を伴う。例えば、前記ポジ型レジストにおいては、従来から主に使用されている水銀灯のｇ線（波長４３６ｎｍ）、ｉ線（波長３６５ｎｍ）等の紫外線を使用するリソグラフィープロセスでは、０．３５μｍ以下の微細パターンになると、十分な理論焦点深度が達成できないという問題がある。
そこで、０．３５μｍ以下の微細パターンの形成に際して、より幅広い焦点深度を達成できる遠紫外線、Ｘ線あるいは電子線を使用するリソグラフィープロセスの検討が精力的に進められている。しかしながら、従来のレジストは、遠紫外線、Ｘ線あるいは電子線に対して、パターン形状、感度、コントラスト、現像性等の面で種々の問題がある。即ち、遠紫外線の場合には、レジストの光吸収が大き過ぎるため、パターン形状が、ネガ型レジストではパターンの上部より下部が細い、いわゆる逆テーパー状となりやすく、またポジ型レジストでもパターンの上部より下部が太いテーパー状になり、いずれの場合も矩形のパターンが得られ難いと同時に、感度、コントラスト等も十分とはいえない。また、Ｘ線や電子線といったよりエネルギーの高い放射線の場合には、一般に遠紫外線の場合よりも感度の低下がさらに大きくなり、特にポジ型レジストでは、放射線の照射により、本来現像液に対する溶解性が上昇すべきところが、逆に溶解性が低下してしまうという現象が生じる場合がある。
一方、次世代レジストとして近年注目されているものに、感放射線性酸発生剤（即ち、放射線の照射により酸を発生する化合物）を含有する化学増幅型レジストがあり、このレジストは、発生した酸の触媒作用により、各種放射線に対する感度が高いという利点を有している。
そして、このような化学増幅型レジストとして比較的良好なレジスト性能を示すものに、例えば、ｔ−ブチルエステル基やｔ−ブトキシカルボニル基を有する樹脂を用いたもの（例えば、特公平２−２７６６０号公報参照）、シリル基を有する樹脂を用いたもの（例えば、特公平３−４４２９０号公報参照）、アクリル酸成分を含有する樹脂を用いたもの（例えば、特開平４−３９６６５号公報参照）等が知られているが、これらの化学増幅型レジストには、それぞれ固有の問題があり、実用化には種々困難を伴うことが指摘されている。即ち、ｔ−ブトキシカルボニル基を有する樹脂を用いた系では、発生した酸の触媒作用による化学反応に伴って、イソブテンガスや炭酸ガスといった気体成分を放出するため、放射線の照射部において体積収縮を生じ、その結果パターン形状が歪みやすく、高精度のパターン形成が困難であり、またシリル基を有する樹脂を用いた系は、良好なパターン形成能を有しているが、シリル基をもたない他のレジストに比べて、基板からの剥離性に劣るという難点があり、さらにアクリル酸成分を含有する樹脂を用いた系では、レジストとシリコン基板との接着性が不十分であり、また芳香族系樹脂を用いたレジストに比べて、ドライエッチング耐性も低いという問題がある。
これらの問題を解決する技術として、近年、アクリル酸エステル構造とフェノール骨格の両者を有する樹脂を用いたレジストが注目を集めている（例えば、特開平４−２５１２５９号公報、同５−１８１２７９号公報、同５−１１３６６７号公報参照）。
しかしながら、このようなレジストは、アクリル酸系の繰り返し単位のみを有する樹脂と比較してドライエッチング耐性が改善される利点があるものの、基板依存性が大きく、特にＴｉＮ、ＳｉＮやＳｉＯＮといった塩基性基板では、実際にレジストパターンを形成すると裾引き形状となり、望ましいとされる矩形のパターンが形成されないという欠点があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、基板依存性が小さく、特にＴｉＮ、ＳｉＮやＳｉＯＮのような塩基性基板でも裾引きが殆どない、矩形のパターンを形成しうる感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
本発明の他の課題は、特に遠紫外線、Ｘ線あるいは電子線に有効に感応し、感度、解像度等に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本願発明によると、前記課題は、
（イ）（Ｉ）下記一般式（１）で表される繰返し単位および下記一般式（２）で表される繰返し単位を含有する共重合体、（ロ）感放射線性酸発生剤、および（ハ）下記一般式（７）〜（１２）で表される化合物の単独または２種以上の混合物からなる水酸基を有する塩基性化合物を含有することを特徴とする感放射線性樹脂組成物、
によって達成される。
【０００５】
【化４】
0003991466.tif 000002
〔一般式（１）において、Ｒ1 は水素原子またはメチル基を示す。〕
【０００６】
【化５】
0003991466.tif 000003
〔一般式（２）において、Ｒ2 は水素原子またはメチル基を示し、Ｒ3 はｔ−ブチル基または下記一般式（３）
【０００７】
【化６】
0003991466.tif 000004
｛一般式（３）において、Ｒ4 およびＲ5 は、相互に独立に水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または５〜８員環の環状アルキル基を示すか、または相互に結合して一般式（３）中の炭素原子と共に５〜８員環の炭素環構造を形成しており、Ｒ6 およびＲ7 は、相互に独立に水素原子、炭素数１〜６の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基または５〜８員環の環状アルキル基を示すか、または相互に結合して一般式（３）中の２個の炭素原子と共に５〜８員環の炭素環構造を形成している。｝で表される基を示す。〕
【化２３】
0003991466.tif 000005
〔一般式（７）において、Ｘ1 は主鎖炭素数が２〜８のポリメチレン鎖を示し、Ｒ14、Ｒ15、Ｒ16およびＲ17は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ14とＲ15が結合し、あるいはＲ16とＲ17が結合して、それぞれ一般式（７）中の１個の窒素原子と共に５〜８員環の複素環構造を形成し、Ｒ14〜Ｒ17の残りが相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化２４】
0003991466.tif 000006
〔一般式（８）において、Ｒ18およびＲ19は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記アルキル基、アリール基およびアラルキル基、並びに一般式（８）中のピペラジン環の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記アルキル基、アリール基およびアラルキル基は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化２５】
0003991466.tif 000007
〔一般式（９）において、Ｘ2 は主鎖炭素数が２〜８のポリメチレン鎖を示し、Ｒ20およびＲ21は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基もしくは炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基およびアラルキル基、並びに一般式（９）中の１個または２個のピペリジン環の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基およびアラルキル基は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化２６】
0003991466.tif 000008
〔一般式（１０）において、Ｘ3 およびＸ4 は、相互に独立に主鎖炭素数が２〜８のポリメチレン鎖を示し、Ｒ22、Ｒ23、Ｒ24、Ｒ25およびＲ26は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ22とＲ23が相互に結合し、あるいはＲ25と
Ｒ26が相互に結合して、それぞれ一般式（１０）中の１個の窒素原子と共に５〜８員環の複素環構造を形成し、Ｒ22〜Ｒ26の残りが相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつ前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、前記ポリメチレン鎖、アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化２７】
0003991466.tif 000009
〔一般式（１１）において、Ｒ27、Ｒ28、Ｒ29、Ｒ30、Ｒ31およびＲ32は、相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ27とＲ28が相互に結合し、あるいはＲ29とＲ30が相互に結合し、あるいはＲ31とＲ32が相互に結合して、それぞれ一般式（１１）中の１個の窒素原子と共に５〜８員環の複素環構造を形成し、Ｒ27〜Ｒ32の残りが相互に独立に炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基もしくは炭素数７〜１２のアラルキル基を示す。但し、前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および複素環構造は、それらの少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有することができ、またそれらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、さらにそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【化２８】
0003991466.tif 000010
〔一般式（１２）において、Ｒ33、Ｒ34、Ｒ35、Ｒ36およびＲ37は、相互に独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示すか、またはＲ33とＲ34が相互に結合し、あるいはＲ34とＲ35が相互に結合し、あるいはＲ35とＲ36が相互に結合し、あるいはＲ36とＲ37が相互に結合して、それぞれ一般式（１２）中の２個の炭素原子と共に６員環の芳香環構造を形成し、Ｒ33〜Ｒ37の残りが相互に独立に水素原子、水酸基、炭素数１〜１２の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基または炭素数７〜１２のアラルキル基を示し、かつＲ33〜Ｒ37の少なくとも１つが水酸基であるか、あるいは前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および芳香環構造の少なくとも１つが炭素原子に結合した水酸基を１個以上有する。但し、Ｒ33〜Ｒ37の少なくとも１つが水酸基であるとき、残りのＲ33〜Ｒ37の前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および芳香環構造の少なくとも１つも水酸基を１個以上有することができ、前記アルキル基、アリール基、アラルキル基および芳香環構造は、それらの任意の炭素−炭素結合間に酸素原子、硫黄原子あるいはカルボニル基を有することができ、またそれらの任意の炭素原子に結合した水素原子がアルコキシル基、フェノキシ基、ピリジル基等の水酸基以外の１種以上の置換基で置換されていてもよい。〕
【０００８】
以下、本発明を詳細に説明する。
（イ）成分
本発明における（イ）成分は、前記一般式（１）で表される繰返し単位（以下、「繰返し単位（１）」という。）および前記一般式（２）で表される繰返し単位（以下、「繰返し単位（２）」という。）を含有する共重合体（以下、「共重合体（イ）」という。）からなる。
共重合体（イ）は、一般式（１）中のＲ1 が水素原子である繰返し単位（１）とメチル基である繰返し単位（１）とを同時に含有することができる。
Ｒ1 が水素原子である繰返し単位（１）は、具体的には、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレンまたはｐ−ヒドロキシスチレンの重合性不飽和結合が開裂した繰返し単位の１種以上からなり、またＲ1 がメチル基である繰返し単位（１）は、具体的には、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンまたはｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの重合性不飽和結合が開裂した繰返し単位の１種以上からなる。
共重合体（イ）における繰返し単位（１）の含有割合は、全繰返し単位に対して、好ましくは１０〜９０重量％、さらに好ましくは３０〜９０重量％である。この場合、繰返し単位（１）の含有割合が１０重量％未満であると、基板との接着性が低下し、レジストパターンの剥がれを生じるおそれがあり、一方９０重量％を越えると、放射線の照射部と未照射部とのアルカリ現像液に対する溶解速度の差が小さくなり、解像度が低下する傾向がある。
【０００９】
また、共重合体（イ）は、一般式（２）中のＲ2 が水素原子である繰返し単位（２）とメチル基である繰返し単位（２）とを同時に含有することができ、あるいは一般式（２）中のＲ3 がｔ−ブチル基である繰返し単位（２）と一般式（３）で表される基である繰返し単位（２）とを同時に含有することができる。
一般式（３）において、Ｒ4 、Ｒ5 、Ｒ6 およびＲ7 としては、水素原子、炭素数１〜３の直鎖状もしくは分岐状のアルキル基が好ましい。また、Ｒ4 とＲ5 が相互に結合した５〜８員環の炭素環構造あるいはＲ6 とＲ7 が相互に結合した５〜８員環の炭素環構造としては、シクロペンタン環構造、シクロヘキサン環構造等の５〜６員環の炭素環構造が好ましい。
一般式（３）で表される基の好ましい具体例としては、下記式（３−１）〜（３−５）で表される基を挙げることができる。
【００１０】
【化７】
0003991466.tif 000011
（１，１−ジメチル−３−オキソブチル基）
【００１１】
【化８】
0003991466.tif 000012
（１，１−ジエチル−２−メチル−３−オキソペンチル基）
【００１２】
【化９】
0003991466.tif 000013
（１−（２’−オキソシクロヘキシル）−１−メチルエチル基）
【００１３】
【化１０】
0003991466.tif 000014
（１−メチル−１−エチル−３−オキソペンチル基）
【００１４】
【化１１】
0003991466.tif 000015
（１−（２−オキソプロピル）シクロヘキシル基）
【００１５】
共重合体（イ）における繰返し単位（２）の含有割合は、全繰返し単位に対して、好ましくは１〜７０重量％、さらに好ましくは５〜５０重量％である。この場合、繰返し単位（２）の含有割合が１重量％未満であると、放射線照射部のアルカリ現像液に対する溶解速度が低くなり、パターンが形成され難くなるおそれがあり、一方７０重量％を越えると、共重合体中のベンゼン環の量が少なくなり、ドライエッチング耐性が低下する傾向がある。
【００１６】
共重合体（イ）は、場合により、繰返し単位（１）および繰返し単位（２）以外に、ビニル芳香族化合物、単官能（メタ）アクリル酸エステル、多官能（メタ）アクリル酸エステル等を含む群から選ばれる単量体の重合性不飽和結合が開裂した他の繰返し単位を１種以上含有することができる。
前記ビニル芳香族化合物の具体例としては、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ｐ−クロロスチレン等を挙げることができる。
また、前記単官能（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｉ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｉ−ブチル、（メタ）アクリル酸ｓｅｃ−ブチル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル等を挙げることができる。
また、前記多官能（メタ）アクリル酸エステルの具体例としては、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、プロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、ジプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレート、２，５−ジメチル−２，５−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、２，６−ジメチル−４−オキソ−２，６−ヘプタンジオールジ（メタ）アクリレート、２−エチル−２―ヒドロキシメチル―１，３−プロパンジオールトリ（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
共重合体（イ）における他の繰返し単位の含有割合は、全繰返し単位に対して、好ましくは６０重量％以下、さらに好ましくは３０重量％以下である。
【００１７】
共重合体（イ）は、例えば、該共重合体中の各繰返し単位に対応する単量体混合物をラジカル重合、熱重合等により重合することにより製造することができる。
共重合体（イ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、感度、耐熱性、現像性および解像性を確保する観点から、好ましくは１，５００〜５００，０００、さらに好ましくは３，０００〜３００，０００である。
また、共重合体（イ）のＭｗとゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量（以下、「Ｍｎ」という。）との比（以下、「Ｍｗ／Ｍｎ」という。）は、感度、耐熱性、現像性および解像性を確保する観点から、好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１．０〜５．０である。
共重合体（イ）は、繰返し単位（１）、繰返し単位（２）あるいは他の繰返し単位の含有割合が異なる共重合体の混合物や、Ｍｗおよび／またはＭｗ／Ｍｎの異なる共重合体の混合物として使用することができる。共重合体（イ）をこれらの混合物として使用する場合でも、該混合物を構成している各繰返し単位の平均含有割合、平均Ｍｗおよび平均Ｍｗ／Ｍｎが前記範囲内にあるのが望ましい。
【００１８】
本発明においては、共重合体（イ）と共に、酸解離性を有する他の樹脂（以下、「他の酸解離性基含有樹脂」という。）を併用することができる。
他の酸解離性基含有樹脂としては、例えば、
（Ｉ) ポリヒドロキシ（α−メチル）スチレン中のフェノール性水酸基の１０〜６０モル％が１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基で置換された構造を有する樹脂（以下、「樹脂（Ｉ）」という。）、
（II）ポリヒドロキシ（α−メチル）スチレン中のフェノール性水酸基の１０〜６０モル％がｔ−ブトキシカルボニルオキシ基で置換された構造を有する（以下、「樹脂（II) 」という。）
等を挙げることができる。
【００１９】
樹脂（Ｉ）は、ヒドロキシスチレン中のフェノール性水酸基の水素原子を１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基で置換した繰返し単位とヒドロキシ−α−メチルスチレン中のフェノール性水酸基の水素原子を１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基で置換した繰返し単位とを同時に含有することができる。
樹脂（Ｉ）の製造に使用されるヒドロキシ（α−メチル）スチレンは、具体的には、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンまたはｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの１種以上からなる。
樹脂（Ｉ) は、例えば、
ポリヒドロキシ（α−メチル）スチレン中のフェノール性水酸基の水素原子を１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基で置換する方法、
フェノール性水酸基の水素原子を１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基で置換した（α−メチル）スチレンをラジカル重合、熱重合等により重合する方法
等により製造することができる。
【００２０】
樹脂（Ｉ）における１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基の置換率は、好ましくは２０〜５０モル％である。
樹脂（Ｉ）のＭｗは、感度、耐熱性、現像性および解像性を確保する観点から、好ましくは１，５００〜５００，０００、さらに好ましくは３，０００〜３００，０００である。
また、樹脂（Ｉ）のＭｗ／Ｍｎは、感度、耐熱性、現像性および解像性を確保する観点から、好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１．０〜５．０である。
樹脂（Ｉ）は、１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基の置換率が異なる樹脂の混合物や、Ｍｗおよび／またはＭｗ／Ｍｎの異なる樹脂の混合物として使用することができる。樹脂（Ｉ）をこれらの混合物として使用する場合でも、該混合物の１−エトキシエトキシ基および／または１−エトキシプロポキシ基の平均置換率、平均Ｍｗおよび平均Ｍｗ／Ｍｎが前記範囲内にあるのが望ましい。
【００２１】
また、樹脂（II）は、ヒドロキシスチレン中のフェノール性水酸基の水素原子をｔ−ブトキシカルボニルオキシ基で置換した繰返し単位とヒドロキシ−α−メチルスチレン中のフェノール性水酸基の水素原子をｔ−ブトキシカルボニルオキシ基で置換した繰返し単位とを同時に含有することができる。
樹脂（II）の製造に使用されるヒドロキシ（α−メチル）スチレンは、具体的には、ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンまたはｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレンの１種以上からなる。
樹脂（II）は、例えば、
ポリヒドロキシ（α−メチル）スチレン中のフェノール性水酸基の水素原子をｔ−ブトキシカルボニルオキシ基で置換する方法、
フェノール性水酸基の水素原子をｔ−ブトキシカルボニルオキシ基で置換した（α−メチル）スチレンをラジカル重合、熱重合等により重合する方法
等により製造することができる。
【００２２】
樹脂（II）におけるｔ−ブトキシカルボニルオキシ基の置換率は、好ましくは１０〜４０モル％である。
樹脂（II）のＭｗは、感度、耐熱性、現像性および解像性を確保する観点から、好ましくは１，５００〜５００，０００、さらに好ましくは３，０００〜３００，０００である。
また、樹脂（II）のＭｗ／Ｍｎは、感度、耐熱性、現像性および解像性を確保する観点から、好ましくは１〜１０、さらに好ましくは１．０〜５．０である。
樹脂（II）は、ｔ−ブトキシカルボニルオキシ基の置換率が異なる樹脂の混合物や、Ｍｗおよび／またはＭｗ／Ｍｎの異なる樹脂の混合物として使用することができる。樹脂（II）をこれらの混合物として使用する場合でも、該混合物のｔ−ブトキシカルボニルオキシ基の平均置換率、平均Ｍｗおよび平均Ｍｗ／Ｍｎが前記範囲内にあるのが望ましい。
本発明における他の酸解離性基含有樹脂の使用量は、共重合体（イ）１００重量部に対して、通常、５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下である。
【００２３】
（ロ）成分
本発明における（ロ）成分は、放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発生する感放射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（ロ）」という。）からなる。
酸発生剤（ロ）としては、オニウム塩化合物、スルホン化合物、スルホン酸エステル化合物、スルホンイミド化合物、ジアゾメタン化合物等を挙げることができる。
以下に、これらの化合物の例を示す。
オニウム塩：
オニウム塩としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。
オニウム塩化合物の具体例としては、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムピレンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−１０−カンファースルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムオクタンスルホネート、
ジフェニルヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ジフェニルヨードニウムベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウム−１０−カンファースルホネート、ジフェニルヨードニウムオクタンスルホネート、
トリフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウムピレンスルホネート、トリフェニルスルホニウムドデシルベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、トリフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、トリフェニルスルホニウム−１０−カンファースルホネート、トリフェニルスルホニウムオクタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブチルフェニル・ジフェニルスルホニウム−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウムピレンスルホネート、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウムドデシルベンゼンスルホネート、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネート、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウムベンゼンスルホネート、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウム−１０−カンファースルホネート、４−ｔ−ブトキシフェニル・ジフェニルスルホニウムオクタンスルホネート
等を挙げることができる。
【００２４】
スルホン化合物：
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホン、これらのα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。
スルホン化合物の具体例としては、フェナシルフェニルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン、４−トリスフェナシルスルホン等を挙げることができる。
スルホン酸エステル化合物：
スルホン酸エステル化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。
スルホン酸エステル化合物の具体例としては、α−メチロールベンゾインパーフルオロブタンスルホネート、α−メチロールベンゾイントリフルオロメタンスルホネート、α−メチロールベンゾイン−２−トリフルオロメチルベンゼンスルホネート、フェナシルフェニルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン、４−トリスフェナシルスルホン等を挙げることができる。
スルホンイミド化合物：
スルホンイミド化合物としては、例えば、下記式（４）
【００２５】
【化１２】
0003991466.tif 000016
〔式（４）において、Ｘはアルキレン基、アリーレン基、アルコキシレン基等の２価の基を示し、Ｒ8 はアルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール基等の１価の基を示す。）
で表される化合物を挙げることができる。
【００２６】
スルホンイミド化合物の具体例としては、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（トリフルオロメチルスルホニルオキシ）ナフチルイミド、
Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（カンファースルホニルオキシ）ナフチルイミド、
Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−メチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（カンファニルスルホニルオキシ）ナフチルイミド、
Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）フタルイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．２．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．２．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（２−トリフルオロメチルフェニルスルホニルオキシ）ナフチルイミド、
Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）スクシンイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニル）フタルイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ジフェニルマレイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．１．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）−７−オキサビシクロ［２．１．１］ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ビシクロ［２．１．１］ヘプタン−５，６−オキシ−２，３−ジカルボキシイミド、Ｎ−（４−フルオロフェニルスルホニルオキシ）ナフチルイミド
等を挙げることができる。
ジアゾメタン化合物：
ジアゾメタン化合物としては、例えば、下記式（５）
【００２７】
【化１３】
0003991466.tif 000017
〔式（５）において、Ｒ9 およびＲ10は、相互に独立にアルキル基、アリール基、ハロゲン置換アルキル基、ハロゲン置換アリール基等の１価の基を示す。〕
で表される化合物を挙げることができる。
【００２８】
ジアゾメタン化合物の具体例としては、ビス（トリフルオロメチルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（シクロヘキシルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（フェニルスルホニル）ジアゾメタン、ビス（ｐ−トルエンスルホニル）ジアゾメタン、メチルスルホニル−ｐ−トルエンスルホニルジアゾメタン、ビス（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン、シクロヘキシルスルホニル・（１，１−ジメチルエチルスルホニル）ジアゾメタン等を挙げることができる。
これらの酸発生剤（ロ）は、単独でもしくは２種類以上混合して使用される。
【００２９】
酸発生剤（ロ）としては、オニウム塩が好ましく、特に、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−ｐ−トルエンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−１０−カンファースルホネート、トリフェニルスルホニウムパーフルオロブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウム−ｐ−トルエンスルホネートまたはトリフェニルスルホニウム−１０−カンファースルホネートの少なくとも１種を用いるのが好ましい。
本発明における酸発生剤（ロ）の使用量は、共重合体（イ）１００重量部当り、好ましくは０．１〜２０重量部、特に好ましくは０．５〜１０重量部である。この場合、酸発生剤（ロ）の使用量が０．１重量部未満であると、感度が低下する傾向があり、一方２０重量部を越えると、レジストの塗布性が低下する傾向がある。
【００３０】
（ハ）成分
本発明における（ハ）成分は、前記一般式（７）〜（１２）で表される化合物の単独または２種以上の混合物からなる水酸基を有する塩基性化合物（以下、「塩基性化合物（ハ）」という。）からなる。
感放射線性酸発生剤を含有する化学増幅型感放射線性樹脂組成物においては、酸拡散制御剤として塩基性物質を添加することにより、パターン形状、パターン上層部における庇の発生防止や、マスク寸法に対する寸法忠実度をより改良できることは既に知られている。
本発明者らは、前記共重合体（イ）を樹脂成分とする化学増幅型感放射線性樹脂組成物において、特に基板依存性について鋭意検討した結果、酸拡散制御剤として、塩基性化合物（ハ）を使用することにより、感放射線性樹脂組成物の諸性能が著しく改善されることを見い出し、本発明を成すに至った。
【００３１】
以下では、「前記一般式（７）、一般式（８）または一般式（９）で表される化合物」をまとめて「塩基性化合物（ハ−２）」といい、「前記一般式（１０）または一般式（１１）で表される化合物」をまとめて「塩基性化合物（ハ−３）」といい、「前記一般式（１２）で表される化合物」を「塩基性化合物（ハ−４）」という。
【００３２】
以下に、塩基性化合物（ハ−２）〜（ハ−４）について具体的に説明する。
【００４６】
塩基性化合物（ハ−２）の具体例としては、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリエチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリエチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリフェニル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリベンジル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリベンジル−Ｎ’−（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（４−ヒドロキシフェニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（４−ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン、
【００４７】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）トリメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）テトラメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ペンタメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ヘキサメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ヘプタメチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）オクタメチレンジアミン、
１，３−ビス（ジメチルアミノ）−２−プロパノール、１，３−ビス（ジエチルアミノ）−２−プロパノール、
１−ジメチルアミノ−２−（３’−ヒドロキシピロリジノ）エタン、１−ジメチルアミノ−２−（２’−ヒドロキシメチルピロリジノ）エタン、１−ジメチルアミノ−２−｛３’−（２''−ヒドロキシエチル）ピロリジノ｝エタン、
１−ジメチルアミノ−２−（４’−ヒドロキシピペリジノ）エタン、
【００４８】
Ｎ−メチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ｎ−ブチル−
Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ｎ−ペンチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ｎ−ヘキシル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ｎ−オクチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ｎ−デシル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、
Ｎ−メチル−Ｎ’−（２−ヒドロキシプロピル）ピペラジン、Ｎ−メチル−Ｎ’−（３−ヒドロキシプロピル）ピペラジン、
Ｎ−フェニル−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ−ベンジル−
Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、
Ｎ−メチル−Ｎ’−（４−ヒドロキシフェニル）ピペラジン、Ｎ−メチル−Ｎ’−（４−ヒドロキシベンジル）ピペラジン、
【００４９】
１−｛４’−（Ｎ−メチルピペリジニル）｝−２−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕エタン、１−｛４’−（Ｎ−ｎ−ドデシルピペリジニル）｝−２−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕エタン、
１−｛４’−（Ｎ−ベンジルピペリジニル）｝−２−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕エタン、
１，３−ビス｛４’−（Ｎ−メチルピペリジニル）｝−２−プロパノール、
１−｛４’−（Ｎ−メチルピペリジニル）｝−３−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕プロパン、１−｛４’−（Ｎ−メチルピペリジニル）｝−６−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕ヘキサン、１−｛４’−（Ｎ−メチルピペリジニル）｝−８−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕オクタン
等の水酸基を１個有する化合物；
【００５０】
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン、
１，２−ビス（３’−ヒドロキシピロリジノ）エタン、１，２−ビス（３’−ヒドロキシメチルピロリジノ）エタン、１，２−ビス｛（３’−（２''−ヒドロキシエチル) ピロリジノ｝エタン、
１，２−ビス（４’−ヒドロキシピペリジノ）エタン、１，２−ビス（４’−ヒドロキシメチルピペリジノ）エタン、１，２−ビス｛（４’−（２''−ヒドロキシエチル) ピペリジノ｝エタン、
１−モルホリノ−２−｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝エタン、
【００５１】
Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシプロピル）ピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシフェニル）ピペラジン、Ｎ，Ｎ’−ビス（４−ヒドロキシベンジル）ピペラジン、
１，２−ビス〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕エタン、１，２−ビス〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシプロピル）ピペリジニル｝〕エタン、
１，２−ビス〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕プロパン、１，２−ビス〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシプロピル）ピペリジニル｝〕プロパン
等の水酸基を２個有する化合物；
【００５２】
Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ−ｎ−ドデシル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（４−ヒドロキシフェニル）エチレンジアミン、Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（４−ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン、
１−（３’−ヒドロキシピロリジノ）−２−｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝エタン、
１−（４’−ヒドロキシピペリジノ）−２−｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝エタン、
【００５３】
Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−Ｎ’−（２，３−ジヒドロキシプロピル）ピペラジン、Ｎ−（２−ヒドロキシプロピル）−Ｎ’−（２，３−ジヒドロキシプロピル）ピペラジン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）−Ｎ’−（２，３−ジヒドロキシプロピル）ピペラジン、Ｎ−（４−ヒドロキシベンジル）−Ｎ’−（２，３−ジヒドロキシプロピル）ピペラジン、
１−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕−２−〔４’−｛Ｎ’−（２''，３''−ジヒドロキシプロピル）ピペリジニル｝〕エタン、１−〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕−２−〔４’−｛Ｎ’−（２''，３''−ジヒドロキシプロピル）ピペリジニル｝〕プロパン
等の水酸基を３個有する化合物；
【００５４】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ヒドロキシフェニル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（４−ヒドロキシベンジル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシ−３−エトキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシ−３−ｎ−プロポキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジメチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，３−ジヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ’−ジエチル−Ｎ，Ｎ’−ビス（２，３−ジヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、
Ｎ−メチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（２，３−ジヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２，３−ジヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ’−ビス（２，３−ジヒドロキシプロピル）ピペラジン、
１，２−ビス｛Ｎ−（２’，３’−ジヒドロキシプロピル）ピペラジニル｝エタン
等の４個以上の水酸基を有する化合物
等を挙げることができる。
【００５８】
塩基性化合物（ハ−３）の具体例としては、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−｛２−（３’−ヒドロキシピロリジノ）エチル）｝エチレンジアミン、
ビス（２−ピロリジノエチル）・２−ヒドロキシエチルアミン、ビス（２−ピロリジノエチル）・２−ヒドロキシプロピルアミン、
メチル・２−ピロリジノエチル・２−（３’−ヒドロキシピロリジノ）エチルアミン、
Ｎ，Ｎ−ジメチル−Ｎ’−（２−ピペリジノエチル）−Ｎ’−（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’−トリメチル−Ｎ’−｛２−（４’−ヒドロキシピペリジノ）エチル）｝エチレンジアミン、
【００５９】
２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（ジエチルアミノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（ジフェニルアミノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（ジベンジルアミノメチル）フェノール、
２，４，６−トリス（ピロリジノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（ピペリジノメチル）フェノール、４−モルホリノメチル−２，６−ビス（ジメチルアミノメチル）フェノール、２，４，６−トリ（モルホリノメチル）フェノール等の水酸基を１個有する化合物；
【００６０】
Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリメチル−Ｎ，Ｎ''−ビス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラメチル−Ｎ’−（２，３−ジヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、
Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ピロリジノエチル）−Ｎ’，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
メチル・ビス｛２−（３’−ヒドロキシピロリジノ）エチル｝アミン、
Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ピペリジノエチル）−Ｎ’，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
メチル・ビス｛２−（４’−ヒドロキシピペリジノ）エチル｝アミン、
ビス（２−ピロリジノエチル）・２，３−ジヒドロキシプロピルアミン、
ビス（２−モルホリノエチル）・２，３−ジヒドロキシプロピルアミン
等の水酸基を２個有する化合物；
【００６１】
Ｎ，Ｎ''−ジメチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、
Ｎ−（２−ピロリジノエチル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
Ｎ−（２−ピペリジノエチル）−Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、
２，６−ビス（ジメチルアミノメチル）−４−〔｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝メチル〕フェノール、
４−（ジメチルアミノメチル）−２，６−ビス（３’−ヒドロキシピロリジノメチル）フェノール、
４−（ジメチルアミノメチル）−２，６−ビス（４’−ヒドロキシピペリジノメチル）フェノール、
２，６−ジ（ピロリジノメチル）−４−〔｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝メチル〕フェノール、
２，６−ジ（ピペリジノメチル）−４−〔｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝メチル〕フェノール
等の水酸基を３個有する化合物；
【００６２】
Ｎ’−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−エチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−ｎ−ブチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−ｎ−ヘキシル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−ｎ−オクチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−ｎ−デシル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−ｎ−ドデシル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−フェニル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ’−ベンジル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、
【００６３】
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２−ヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（４−ヒドロキシフェニル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（４−ヒドロキシベンジル）ジエチレントリアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２−ヒドロキシ−３−メトキシプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２−ヒドロキシ−３−エトキシプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２−ヒドロキシ−３−ｎ−プロポキシプロピル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピル）ジエチレントリアミン、
Ｎ，Ｎ''−ジメチル−Ｎ，Ｎ’，Ｎ''−トリス（２，３−ジヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、
Ｎ’−メチル−Ｎ，Ｎ，Ｎ''，Ｎ''−テトラキス（２，３−ジヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''−ペンタキス（２，３−ジヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、
【００６４】
４−ジメチルアミノメチル−２，６−ビス〔｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝メチル〕フェノール、
２，４，６−トリス〔｛ビス（２’−ヒドロキシエチル）アミノ｝メチル〕フェノール、２，４，６−トリス〔｛ビス（２’−ヒドロキシプロピル）アミノ｝メチル〕フェノール、
２，４，６−トリス（３’−ヒドロキシピロリジノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（３’−ヒドロキシメチルピロリジノメチル）フェノール、２，４，６−トリス〔｛３’−（２''−ヒドロキシエチル）ピロリジノ｝メチル〕フェノール、
２，４，６−トリス（４’−ヒドロキシピペリジノメチル）フェノール、２，４，６−トリス（４’−ヒドロキシメチルピペリジノメチル）フェノール、２，４，６−トリス〔｛４’−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジノ｝メチル〕フェノール
等の水酸基を４個以上有する化合物
等を挙げることができる。
【００６７】
塩基性化合物（ハ−４）の具体例としては、
２−ヒドロキシピリジン、３−ヒドロキシピリジン、４−ヒドロキシピリジン、２−ヒドロキシ−３−メチルピリジン、２−ヒドロキシ−４−メチルピリジン、２−ヒドロキシ−５−メチルピリジン、２−ヒドロキシ−６−メチルピリジン、３−ヒドロキシ−２−メチルピリジン、３−ヒドロキシ−４−メチルピリジン、３−ヒドロキシ−５−メチルピリジン、３−ヒドロキシ−６−メチルピリジン、４−ヒドロキシ−２−メチルピリジン、４−ヒドロキシ−３−メチルピリジン、２−ヒドロキシ−４−エチルピリジン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−プロピルピリジン、２−ヒドロキシ−４−ｉ−プロピルピリジン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ブチルピリジン、２−ヒドロキシ−４−ｎ−ドデシルピリジン、２−ヒドロキシ−４−フェニルピリジン、２−ヒドロキシ−４−ベンジルピリジン、
２−ヒドロキシメチルピリジン、３−ヒドロキシメチルピリジン、４−ヒドロキシメチルピリジン、
２−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、４−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、
２−（２’−ヒドロキシプロピル）ピリジン、３−（２’−ヒドロキシプロピル）ピリジン、４−（２’−ヒドロキシプロピル）ピリジン、
４−（４’−ヒドロキシフェニル）ピリジン、４−（４’−ヒドロキシベンジル）ピリジン、
２−キノリノール、３−キノリノール、４−キノリノール、
１−イソキノリノール、３−イソキノリノール、４−イソキノリノール、
α−ピリドイン
等の水酸基を１個有する化合物；
【００６８】
２，３−ジヒドロキシピリジン、２，４−ジヒドロキシピリジン、２，５−ジヒドロキシピリジン、２，６−ジヒドロキシピリジン、３，４−ジヒドロキシピリジン、３，５−ジヒドロキシピリジン、
２−ヒドロキシ−３−ヒドロキシメチルピリジン、２−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルピリジン、２−ヒドロキシ−５−ヒドロキシメチルピリジン、２−ヒドロキシ−６−ヒドロキシメチルピリジン、３−ヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルピリジン、３−ヒドロキシ−５−ヒドロキシメチルピリジン、
２−ヒドロキシ−３−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、２−ヒドロキシ−４−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、２−ヒドロキシ−５−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、２−ヒドロキシ−６−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３−ヒドロキシ−４−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３−ヒドロキシ−５−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、
２，３−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、２，４−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、２，５−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、２，６−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、３，４−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、３，５−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、
２，３−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、２，４−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、２，５−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、２，６−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３，４−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３，５−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、
【００６９】
３−（２’−ピリジル）−１，２−プロパンジオール、３−（３’−ピリジル）−１，２−プロパンジオール、３−（４’−ピリジル）−１，２−プロパンジオール、２−（２’−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、２−（３’−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、２−（４’−ピリジル）−１，３−プロパンジオール、２−（２’−ピリジル）−１，４−ブタンジオール、２−（３’−ピリジル）−１，４−ブタンジオール、２−（４’−ピリジル）−１，４−ブタンジオール、
２−（２’−ピリジル）−２，３−ブタンジオール、２−（３’−ピリジル）−２，３−ブタンジオール、２−（４’−ピリジル）−２，３−ブタンジオール、
２，３−ジ（２’−ピリジル）−１，４−ブタンジオール、２，３−ジ（３’−ピリジル）−１，４−ブタンジオール、２，３−ジ（４’−ピリジル）−１，４−ブタンジオール、
２，３−ジ（２’−ピリジル）−２，３−ブタンジオール、２、３−ジ（３’−ピリジル）−２，３−ブタンジオール、２、３−ジ（４’−ピリジル）−２，３−ブタンジオール等の水酸基を２個有する化合物；
【００７０】
２，６−ジヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルピリジン、３，５−ジヒドロキシ−４−ヒドロキシメチルピリジン、２，６−ジヒドロキシ−４−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３，５−ジヒドロキシ−４−（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、
４−ヒドロキシ−２，６−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、４−ヒドロキシ−３，５−ジ（ヒドロキシメチル）ピリジン、４−ヒドロキシ−２，６−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、４−ヒドロキシ−３，５−ビス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、
２，４，６−トリ（ヒドロキシメチル）ピリジン、３，４，５−トリ（ヒドロキシメチル）ピリジン、２，４，６−トリス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン、３，４，５−トリス（２’−ヒドロキシエチル）ピリジン
等の水酸基を３個有する化合物
等を挙げることができる。
【００７１】
本発明において、塩基性化合物（ハ）としては、前記塩基性化合物（ハ−２）〜（ハ−４）のうち、塩基性化合物（ハ−２）および塩基性化合物（ハ−３）が好ましく、さらに好ましくは、窒素原子と水酸基の間に炭素原子を２個有する塩基性化合物（ハ−２）および窒素原子と水酸基の間に炭素原子を２個有する塩基性化合物（ハ−３）であり、また塩基性化合物（ハ）中の水酸基の数は、１〜（窒素原子数×３）が好ましく、特に好ましくは１〜（窒素原子数×２＋１）である。
本発明における塩基性化合物（ハ）としては、特に、１，３−ビス（ジメチルアミノ）−２−プロパノール、Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン、１，２−ビス〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕プロパン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''  −ペンタキス（２−ヒドロキシエチル）ジエチレントリアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''  −ペンタキス（２−ヒドロキシプロピル）ジエチレントリアミン、２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール、２，４，６−トリス〔｛（２−ヒドロキシエチル）アミノ｝メチル〕フェノール、α−ピリドインが好ましい。
【００７２】
本発明において、塩基性化合物（ハ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
本発明において、塩基性化合物（ハ）の使用量は、共重合体（イ）１００重量部当り、好ましくは０．０１〜１重量部、特に好ましくは０．０２〜０．５重量部である。塩基性化合物（ハ）の使用量を前記範囲内とすることにより、高感度となり、基板の種類に係わらず矩形のレジストパターンを得ることができる。
【００７３】
また、本発明の感放射線性樹脂組成物には、場合により、下記する溶解制御剤を配合するすることができる。
溶解制御剤
溶解制御剤は、感放射線性樹脂組成物のアルカリ可溶性を制御する性質を有し、酸の存在下で解離、例えば加水分解させることにより、感放射線性樹脂組成物のアルカリ溶解性制御効果を低下もしくは消失させる作用を有するか、または感放射線性樹脂組成物のアルカリ溶解性を促進させる作用を有する化合物である。
このような溶解制御剤としては、例えば、フェノール性水酸基、カルボキシル基等の酸性官能基中の水素原子を酸解離性基で置換した化合物等を挙げることができる。
溶解制御剤は、低分子化合物でも高分子化合物でもよいが、好ましい溶解制御剤としては、ビスフェノールＡ、ビスフェノールＦ、ビスフェノールＳや、１，１−ビス（４’−ヒドロキシフェニル）−１−〔４’−｛１''−メチル−１''−（４''' −ヒドロキシフェニル）エチル｝フェニル〕エタン等の多価フェノール性化合物、あるいは４−ヒドロキシフェニル酢酸等のカルボン酸化合物の酸性官能基中の水素原子を酸解離性基で置換した化合物等を挙げることができる。
好ましい低分子化合物の溶解制御剤の具体例としては、下記構造式（１３）または構造式（１４）で示される化合物を挙げることができる。
【００７４】
【化２１】
0003991466.tif 000018
【００７５】
【化２２】
0003991466.tif 000019
【００７６】
また、高分子の溶解制御剤としては、前記共重合体（イ）や他の酸解離性基含有樹脂以外の酸解離性基含有樹脂（以下、「溶解制御性樹脂」という。）を使用することができる。
ここで酸解離性基とは、酸の存在下で解離して、溶解制御剤に対してアルカリ可溶性を発現する置換基を意味する。
このような酸解離性基としては、例えば、置換メチル基、１−置換エチル基、１−分岐アルキル基、シリル基、ゲルミル基、アルコキシカルボニル基、アシル基、環式酸解離性基等を挙げることができる。
前記置換メチル基としては、例えば、メトキシメチル基、メチルチオメチル基、エトキシメチル基、エチルチオメチル基、２−メトキシエトキシメチル基、ベンジルオキシメチル基、ベンジルチオメチル基、シクロプロピルメチル基、ベンジル基、ｐ−ブロモベンジル基、ｐ−ニトロベンジル基、ｐ−メトキシベンジル基、ｐ−メチルチオベンジル基、ｐ−エトキシベンジル基、ｐ−エチルチオベンジル基、ジフェニルメチル基、トリフェニルメチル基、ピペロニル基等を挙げることができる。
前記１−置換エチル基としては、例えば、１−メトキシエチル基、１−メチルチオエチル基、１，１−ジメトキシエチル基、１−エトキシエチル基、１−エチルチオエチル基、１，１−ジエトキシエチル基、１−フェノキシエチル基、１−フェニルチオエチル基、１，１−ジフェノキシエチル基、１−ベンジルオキシエチル基、１−ベンジルチオエチル基、１−シクロプロピルエチル基、１−フェニルエチル基、１，１−ジフェニルエチル基、α−メチルフェナシル基等を挙げることができる。
前記１−分岐アルキル基としては、例えば、ｉ−プロピル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ−ブチル基（但し、溶解制御性樹脂の場合は除く。）、１，１−ジメチルプロピル基、１−メチルブチル基、１，１−ジメチルブチル基等を挙げることができる。
【００７７】
前記シリル基としては、例えば，トリメチルシリル基、ジメチル・エチルシリル基、メチル・ジエチルシリル基、トリエチルシリル基、ジメチル・ｉ−プロピルシリル基、メチル・ジ−ｉ−プロピルシリル基、トリ−ｉ−プロピルシリル基、ジメチル・ｔ−ブチルシリル基、メチル・ジ−ｔ−ブチルシリル基、トリ−ｔ−ブチルシリル基、ジメチル・フェニルシリル基、メチル・ジフェニルシリル基、トリフェニルシリル基等を挙げることができる。
前記ゲルミル基としては、例えば、トリメチルゲルミル基、ジメチル・エチルゲルミル基、メチル・ジエチルゲルミル基、トリエチルゲルミル基、ジメチル・ｉ−プロピルゲルミル基、メチル・ジ−ｉ−プロピルゲルミル基、トリ−ｉ−プロピルゲルミル基、ジメチル・ｔ−ブチルゲルミル基、メチル・ジ−ｔ−ブチルゲルミル基、トリ−ｔ−ブチルゲルミル基、ジメチル・フェニルゲルミル基、メチル・ジフェニルゲルミル基、トリフェニルゲルミル基等を挙げることができる。
【００７８】
前記アルコキシカルボニル基としては、例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基、ｉ−プロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、ｔ−ペンチルオキシカルボニル基等を挙げることができる。
前記アシル基としては、例えば、アセチル基、プロピオニル基、ブチリル基、ヘプタノイル基、ヘキサノイル基、バレリル基、ピバロイル基、イソバレリル基、ラウリロイル基、ミリストイル基、パルミトイル基、ステアロイル基、オキサリル基、マロニル基、スクシニル基、グルタリル基、アジポイル基、ピペロイル基、スベロイル基、アゼラオイル基、セバコイル基、アクリロイル基、プロピオロイル基、メタクリロイル基、クロトノイル基、オレオイル基、マレオイル基、フマロイル基、メサコノイル基、カンホロイル基、ベンゾイル基、フタロイル基、イソフタロイル基、テレフタロイル基、ナフトイル基、トルオイル基、ヒドロアトロポイル基、アトロポイル基、シンナモイル基、フロイル基、テノイル基、ニコチノイル基、イソニコチノイル基、ｐ−トルエンスルホニル基、メシル基等を挙げることができる。
前記環式酸解離性基としては、例えば、シクロプロピル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、シクロヘキセニル基、オキソシクロヘキセニル基、４−メトキシシクロヘキシル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフラニル基、３−ブロモテトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロピラニル基、４−メトキシテトラヒドロチオピラニル基、Ｓ，Ｓ−ジオキシド基、２−１，３−ジオキソラニル基、２−１，３−ジチオラニル基、ベンゾ−２−１，３−ジオキソラニル基、ベンゾ−２−１，３−ジチオラニル基等を挙げることができる。
【００７９】
これらの酸解離性基のうち、ｔ−ブチル基、ベンジル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、テトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、テトラヒドロチオピラニル基、テトラヒドロチオフラニル基等が好ましい。
【００８０】
また、溶解制御性樹脂は、例えば、酸性官能基を有するアルカリ可溶性樹脂に１種以上の前記酸解離性基を導入する方法、１種以上の前記酸解離性基を有する単量体を（共）重合する方法、１種以上の前記酸解離性基を有する重縮合成分を（共）縮合する方法等によって製造することができる。
溶解制御性樹脂における酸解離性基の導入率（溶解制御性樹脂中の酸性官能基と酸解離性基との合計数に対する酸解離性基の数の割合）は、好ましくは１５〜１００％、さらに好ましくは２０〜１００％、特に好ましくは２０〜８０％である。
溶解制御性樹脂のＭｗは、好ましくは１，０００〜１５０，０００、さらに好ましくは３，０００〜１００，０００である。
本発明における溶解制御剤の配合量は、共重合体（イ）１００重量部当たり、１００重量部以下が好ましい。この場合、溶解制御剤の配合量が１００重量部を越えると、樹脂組成物の製膜性、膜強度等が低下する傾向がある。
本発明において、溶解制御剤は、低分子化合物および高分子化合物（即ち、溶解制御性樹脂）それぞれについて、単独でまたは２種以上を混合して使用することができ、また低分子化合物と高分子化合物とを併用することもできる。
【００８１】
他の添加剤
さらに、本発明の感放射線性樹脂組成物には、必要に応じて、界面活性剤、増感剤等の他の添加剤を配合することができる。
前記界面活性剤は、感放射線性樹脂組成物溶液の塗布性やストリエーション、レジストの現像性等を改良する作用を示す。
このような界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリオキシエチレングリコールジラウレート、ポリオキシエチレングリコールジステアレートのほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業（株）製）、ポリフローＮｏ．７５，Ｎｏ９５（共栄社油脂化学工業（株）製）、エフトップＥＦ３０１，ＥＦ３０３，ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ（株）製）、メガファックＦ１７１，Ｆ１７２，Ｆ１７３（大日本インキ化学工業（株）製）、フロラードＦＣ４３０，ＦＣ４３１（住友スリーエム（株）製）、アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳ−３８２，ＳＣ−１０１，ＳＣ−１０２，ＳＣ−１０３，ＳＣ−１０４，ＳＣ−１０５，ＳＣ−１０６（旭硝子（株）製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の配合量は、感放射線性樹脂組成物中の全固形分１００重量部当たり、通常、２重量部以下である。
また、前記増感剤は、放射線のエネルギーを吸収して、そのエネルギーを酸発生剤（ロ）に伝達し、それにより酸の生成量を増加させる作用を示すもので、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いて得られるレジストの感度を向上させる効果を有する。
増感剤の好ましい具体例としては、アセトン、ベンゼン、アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ナフタレン類、ビアセチル、エオシン、ローズベンガル、ピレン類、アントラセン類、フェノチアジン類等を挙げることができる。
これらの増感剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
増感剤の配合量は、感放射線性樹脂組成物中の全固形分１００重量部当たり、通常、５０重量部以下、好ましくは３０重量部以下である。
また、染料あるいは顔料を配合することにより、露光時のハレーションの影響を緩和でき、接着助剤を配合することにより、基板との接着性を改善することができる。
さらに、他の添加剤としては、アゾ化合物、アミン化合物等のハレーション防止剤や、保存安定剤、消泡剤、形状改良剤等を挙げることができる。
【００８２】
溶剤
本発明の感放射線性樹脂組成物は、その使用に際して、固形分濃度が例えば０．５〜５０重量％、好ましくは０．５〜４０重量％となるように溶剤に溶解したのち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターで濾過することによって、組成物溶液として調製される。
前記組成物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、
エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のエチレングリコールモノアルキルエーテル類；
エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のエチレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル等のジエチレングリコールジアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル等のプロピレングリコールモノアルキルエーテル類；
プロピレングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコールジエチルエーテル、プロピレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、プロピレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル等のプロピレングリコールジアルキルエーテル類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
乳酸メチル、乳酸エチル、乳酸ｎ−プロピル、乳酸イソプロピル、乳酸ｎ−ブチル、乳酸イソブチル等の乳酸エステル類；
ギ酸メチル、ギ酸エチル、ギ酸ｎ−プロピル、ギ酸ｉ−プロピル、ギ酸ｎ−ブチル、ギ酸ｉ−ブチル、ギ酸ｎ−アミル、ギ酸ｉ−アミル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｉ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、酢酸ｎ−アミル、酢酸ｉ−アミル、酢酸ｎ−ヘキシル、プロピオン酸メチル、プロピオン酸エチル、プロピオン酸ｎ−プロピル、プロピオン酸ｉ−プロピル、プロピオン酸ｎ−ブチル、プロピオン酸ｉ−ブチル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸ｎ−プロピル、酪酸ｉ−プロピル、酪酸ｎ−ブチル、酪酸ｉ−ブチル等の脂肪族カルボン酸エステル類；
ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、メトキシ酢酸エチル、エトキシ酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−メトキシプロピオン酸エチル、３−エトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル等の他のエステル類；
トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類；
メチルエチルケトン、２−ヘプタノン、３−ヘプタノン、４−ヘプタノン、シクロヘキサノン等のケトン類；
Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチルピロリドン等のアミド類；
γ−ブチロラクトン等のラクトン類
等を挙げることができる。
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
組成物溶液を調製する際の溶剤の使用量は、感放射線性樹脂組成物の全固形分１００重量部当たり、通常、１００〜２０，０００重量部、好ましくは１５０〜１５，０００重量部、さらに好ましくは２００〜１０，０００重量部である。
【００８３】
レジストパターンの形成
本発明の感放射線性樹脂組成物からレジストパターンを形成する際には、該組成物の溶液を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の手段によって、例えばシリコンウェハー、アルミニウムで被覆されたウェハー等の基板上に塗布したのち、プレベークを行うことにより、レジスト被膜を形成し、その後所望のパターンを形成するように該レジスト被膜に露光する。
その際に使用する放射線は、使用する酸発生剤（ロ）の種類に応じて、ｉ線等の紫外線、エキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線を適宜選択して使用されるが、特に遠紫外線、Ｘ線、荷電粒子線が好ましい。また、放射線量等の露光条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等に応じて、適宜選定される。
また、本発明の感放射線性樹脂組成物を用いてレジストパターンを形成する際には、作業雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、レジスト被膜上に保護膜を設けることもできる。
また、本発明においては、レジスト被膜のみかけの感度を向上させるために、露光後に焼成（ポストベーク）を行うことが好ましい。その加熱条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成、添加剤の種類等により変わるが、通常、５０〜２００℃、好ましくは８０〜１６０℃である。
次いで、アルカリ現像液で現像することにより、所定のレジストパターンを形成させる。
前記アルカリ現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、珪酸ナトリウム、メタ珪酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチル・ジエチルアミン、ジメチル・エタノールアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、テトラエチルアンモニウムヒドロキシド、コリン、ピロール、ピペリジン、１，８−ジアザビシクロ−［５，４，０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物を、通常、１〜１０重量％、好ましくは２〜５重量％の濃度となるように溶解したアルカリ性水溶液が使用される。
また、前記現像液には、例えばメタノール、エタノール等の水溶性有機溶剤や界面活性剤を適量添加することもできる。
なお、このようにアルカリ性水溶液からなる現像液を使用する場合には、一般に、現像後、水で洗浄する。
【００８４】
【発明の実施の形態】
以下、実施例および比較例を挙げて、本発明をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。
実施例および比較例における各種の測定・評価は、次のようにして行った。
ＭｗおよびＭｗ／Ｍｎ
東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００ＨXL  ２本、Ｇ３０００ＨXL  １本、Ｇ４０００ＨXL  １本）を用い、流量１．０ｍｌ／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）により測定した。
最適露光量
２．３８重量％のテトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用いて現像後、水洗、乾燥して、各種の基板上にレジストパターンを形成したときの、０．２５μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の幅に形成する放射線の露光量を、最適露光量とした。
解像度
最適露光量で放射線を照射したときに解像されるレジストパターンの最小寸法を、解像度とした。
裾引きおよび形状
各種の基板上に形成した線幅０．２５μｍの１Ｌ１Ｓの方形状断面の基板とパターンとの界面における線幅Ｌａとパターン中間部の線幅Ｌｂを、走査型電子顕微鏡を用いて測定し、０．９５≦Ｌａ／Ｌｂ≦１．０５を満足し、パターンの壁面が垂直に近く、パターン頭部に先細りやオーバーハングのないものを「裾引きおよび形状」が良好であるとし、これらの条件の少なくとも１つを満たさないものを「裾引きおよび形状」が不良であるとした。
【００８５】
合成例１
ｐ−ヒドロキシスチレン３０ｇ、アクリル酸ｔ−ブチル１０ｇおよびスチレン８ｇをジオキサン５０ｇに溶解し、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル８．２ｇを加えて、窒素ガスで３０分間バブリングを行ったのち、バブリングを継続しながら、６０℃に加熱して７時間重合を行った。重合後、反応溶液を多量のヘキサン中に注いで重合体を凝固させて回収した。次いで、この重合体をアセトンに溶解したのち、再度ヘキサン中に凝固させる操作を数回繰り返して、未反応単量体を除去したのち、重合体を５０℃、減圧下で一晩乾燥して、白色の重合体（収率５５重量％）を得た。
得られた重合体は、 1Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、ｐ−ヒドロキシスチレン、アクリル酸ｔ−ブチルおよびスチレンの共重合組成（重量比）が、ほぼ３：１：１であり、Ｍｗが２４，０００、Ｍｗ／Ｍｎが２．０であった。
この重合体を、樹脂（Ａ１）とする。
【００８６】
合成例２
使用する単量体を、ｐ−ヒドロキシスチレン３０ｇ、メタクリル酸ｔ−ブチル１０ｇ、スチレン８ｇおよびトリプロピレングリコールジアクリレート４ｇに変えた以外は、合成例１と同様にして、白色の重合体（収率４５重量％）を得た。
得られた重合体は、 1Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、ｐ−ヒドロキシスチレン、メタクリル酸ｔ−ブチル、スチレンおよびトリプロピレングリコールジアクリレートの共重合組成（重量比）が、ほぼ３：１：１：０．１であり、Ｍｗが５３，０００、Ｍｗ／Ｍｎが３．６であった。
この重合体を、樹脂（Ａ２）とする。
【００８７】
合成例３
使用する単量体を、ｐ−ヒドロキシスチレン３０ｇおよびアクリル酸ｔ−ブチル２０ｇに変えた以外は、合成例１と同様にして、白色の重合体（収率５０重量％）を得た。
得られた重合体は、 1Ｈ−ＮＭＲ分析の結果、ｐ−ヒドロキシスチレンおよびアクリル酸ｔ−ブチルの共重合組成（重量比）が、ほぼ３：２であり、Ｍｗが２２，０００、Ｍｗ／Ｍｎが２．４であった。
この重合体を、樹脂（Ａ３）とする。
【００８８】
実施例３〜１０および比較例１〜２
樹脂（イ）、酸発生剤（ロ）、酸拡散制御剤として塩基性化合物（ハ）または他の化合物、溶解抑制剤および溶剤を、表１に示す配合組成（但し、部は重量に基づく。）で混合して均一溶液としたのち、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、組成物溶液を調製した。
次いで、各組成物溶液を、表２に示す基板上にスピンコーターで塗布し、表２に示す温度で１００秒間プレベークを行って、膜厚０．７μｍのレジスト被膜を形成した。その後、表２に示す放射線により露光した。このとき、放射線がＫｒＦエキシマレーザーの場合は、露光機として（株）ニコン製Ｎｉｋｏｎ  ＮＳＲ２００５  ＥＸ８Ａ（開口数０．５）を用い、また放射線が電子線の場合は、電子線描画装置として（株）日立製作所製Ｈｉｔａｃｈｉ  ＨＬ７００Ｄ（但し、加速電圧を５０ＫｅＶに改造したもの）を用いた。その後、表２に示す温度で１２０秒間、ポストベークを行った。その後、２．３８重量％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液を用い、２３℃で１分間浸漬法により現像したのち、水で３０秒間洗浄した。
各レジストの評価結果を、表２に示す。
【００８９】
【表１】
0003991466.tif 000020
【００９０】
表１中の各成分は、次のとおりである。
共重合体（イ）
Ａ１〜Ａ３  ：  合成例１〜３参照
他の酸解離性基含有樹脂
ａ１  ：  ポリ（ｐ−ヒドロキシスチレン）中のフェノール性水酸基の水素原子の３０          モル％が１−エトキシエチル基で置換された樹脂（Ｍｗ＝９，０００）
酸発生剤（ロ）
Ｂ１  ：  ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムパーフルオロブタンスルホネ          ート
Ｂ２  ：  ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウム−１０−カンファースルホネ          ート
Ｂ３  ：  トリフェニルスルホニウムンパーフルオロブタンスルホネート
酸拡散制御剤
塩基性化合物（ハ）
Ｃ３：  １，３−ビス（ジメチルアミノ）−２−プロパノール
Ｃ４：  Ｎ，Ｎ’−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン
Ｃ５：  １，２−ビス〔４’−｛Ｎ−（２''−ヒドロキシエチル）ピペリジニル｝〕          プロパン
Ｃ６：  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシエチル）エチレンジアミ          ン
Ｃ７：  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラキス（２−ヒドロキシプロピル）エチレンジア          ミン
Ｃ８：  Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ''，Ｎ''  −ペンタキス（２−ヒドロキシプロピル）ジエ          チレントリアミン
Ｃ９：  ２，４，６−トリス（ジメチルアミノメチル）フェノール
Ｃ10：  α−ピリドイン
他の化合物
ｃ１：  トリ−ｎ−ブチルアミン
ｃ２：  Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン
溶解制御剤
Ｄ１  ：  前記構造式（１３）で表される化合物
溶剤
ＥＬ  ：  乳酸エチル
ＥＥＰ：  ３−エトキシプロピオン酸エチル
ＭＭＰ：  ３−メトキシプロピオン酸メチル
PGMEA ：  プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート
ＭＡＫ：  メチル−ｎ−アミルケトン
【００９１】
【表２】
0003991466.tif 000021
【００９２】
【発明の効果】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、ＴｉＮ、ＳｉＮやＳｉＯＮのような塩基性基板の場合にも、パターン形状に裾引きを生じることがなく、高精度のレジストパターンを形成することができる。
また、本発明の感放射線性樹脂組成物は、各種の放射線を用いて微細パターンを形成する際にも、パターン頭部に細りやオーバーハングのない矩形のパターンを形成することができる。
さらに、本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に遠紫外線、Ｘ線あるいは電子線に対して、感度、解像度等にも優れている。
したがって、本発明の感放射線性樹脂組成物は、今後ますます微細化が進行するとみられる半導体デバイスの製造用レジストとして極めて好適に使用することができる。