(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステルからなるＡ層、Ｂ層、Ｃ層を有する共押出法により複合製膜された厚さ１６〜２０μｍの積層ポリエステルフイルムからなり、積層ポリエステルフイルムのヘイズが０．０５％以上１０％以下であり、Ａ層の中心線表面粗さをＡＲａ、Ｃ層の中心線表面粗さをＣＲａとするとき、
０．００５μｍ≦ＡＲａ≦０．０５μｍ
０．００５μｍ≦ＣＲａ≦０．０５μｍ
を満足し、かつ、該積層ポリエステルフイルムの厚さ方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下であることを特徴とするフォトレジスト用ポリエステルフイルム。
【請求項２】
さらに、
ＡＲａ≦ＣＲａ
を満足する、請求項１のフォトレジスト用ポリエステルフイルム。
ここで、Ａ層は感光性樹脂組成物積層側とする。
【請求項３】
少なくともＡ層とＣ層に粒子を含有している、請求項１または２のフォトレジスト用ポリエステルフイルム。
【請求項４】
Ａ層とＣ層の厚みの合計がＢ層の厚みよりも小さい、請求項１ないし３のいずれかに記載のフォトレジスト用ポリエステルフイルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フォトレジスト用ポリエステルフイルムに関し、とくに、片面に感光性樹脂組成物を積層してフォトレジスト用に供される際に基材フイルムとして用いられる積層ポリエステルフイルムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
フォトレジスト、とくにドライフイルムフォトレジストにおいては、光透過性の基材フイルムの片面に感光性樹脂組成物を積層し、その上にポリエチレン等からなるカバーフイルムを設けたものが用いられる。フォトレジストに際しては、先ずカバーフイルムが除去され、露出された感光性樹脂組成物面が、プリント配線板作製用基体等の対象物上に貼着される。この状態で、基材フイルム上にネガフイルムを密着させ、該ネガフイルム側から基材フイルムを透過させるように紫外線等の活性光線を照射し、感光性樹脂組成物を所定のパターンに露光させる。露光後に、ネガフイルムを除去するとともに、基材フイルムを剥離除去し、感光性樹脂組成物の硬化していない未露光部分を溶剤等によって除去することにより、基体上に目標とするパターンが形成される。
【０００３】
このようなドライフォトレジストにおいては、近年、プリント配線板の回路の微細化等により、益々高解像度化が求められている。また、光透過性の基材フイルムには、露光の際の上記高解像度化を達成するために、必要な自己形態保持性をもたせつつ、極力薄膜化することが求められている。しかし薄膜化すると、基材フイルムを剥離する際に、フイルム破れを生じやすくなるという問題がある。フイルムの強度を上げるためには、通常、延伸フイルムの配向度を高めることが有効であるが、この用途の場合には、上記剥離の際に厚さ方向に力が作用するので、配向度を高めすぎると、とくに厚さ方向の配向度を低くしすぎると劈開しやすくなる。逆に配向度、とくに厚さ方向の配向度を高くしすぎると、フイルム自身が伸びやすくなり、フイルムの伸びによりフイルム剥離の際にフイルムがきれいに剥がれないという不都合を招く。
【０００４】
一方、基材フイルム製造面からみると、製膜性はもちろんのこと、フイルム製造メーカーから出荷される際の形態である巻取ロールに巻き取る際の巻き性が重要になる。巻き性に劣ると、フイルムにしわが発生したりし、フォトレジスト用基材フイルムとしては致命的な欠陥となる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
そこで本発明の課題は、上記のようなフォトレジスト用基材フイルムに関する問題点に着目し、フォトレジストに必要な透光性を確保しつつ、フォトレジストにおける解像度に優れ、基材フイルム剥離の際の伸びや劈開等のトラブルを防止でき、しかも基材フイルム自身の巻き性の良好なフォトレジスト用ポリエステルフイルムを提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明のフォトレジスト用ポリエステルフイルムは、ポリエステルからなるＡ層、Ｂ層、Ｃ層を有する共押出法により複合製膜された厚さ１６〜２０μｍの積層ポリエステルフイルムからなり、積層ポリエステルフイルムのヘイズが０．０５％以上１０％以下であり、Ａ層の中心線表面粗さをＡＲａ、Ｃ層の中心線表面粗さをＣＲａとするとき、
０．００５μｍ≦ＡＲａ≦０．０５μｍ
０．００５μｍ≦ＣＲａ≦０．０５μｍ
を満足し、かつ、該積層ポリエステルフイルムの厚さ方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下であることを特徴とするものからなる。
【０００７】
このフォトレジスト用ポリエステルフイルムにおいては、さらに、
ＡＲａ≦ＣＲａ
を満足することが好ましい。
ここで、Ａ層は感光性樹脂組成物積層側とする。
【０００８】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明について、望ましい実施の形態とともに詳細に説明する。
本発明に係るフォトレジスト用ポリエステルフイルムは、ポリエステルからなるＡ層、Ｂ層、Ｃ層を有する、少なくとも３層の、共押出法により複合製膜された積層ポリエステルフイルムからなる。このように３層構成とすることにより、Ａ層表面（Ａ面）とＣ層表面（Ｃ面）とをそれぞれ最適な表面粗さに制御しつつ、内層のＢ層は透明性の高い層として、積層フイルム全体としての透光性を容易に確保できる。したがって、Ｂ層に対しＡ層、Ｃ層は薄い層でよく、たとえば、Ａ層とＣ層の厚みの合計がＢ層の厚みよりも小さく構成することが好ましい。
【０００９】
Ａ層、Ｂ層、Ｃ層を構成するポリエステルは、同一のものであってもよく、異種のポリエステルであってもよい。本発明に使用される二軸配向ポリエステルフイルムを構成するポリエステルには、酸成分として、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、ナフタレンジカルボン酸等の芳香族ジカルボン酸、アジピン酸、アゼライン酸、セバシン酸、デカンジカルボン酸等の脂肪族ジカルボン酸、シクロヘキサンジカルボン酸等の脂環族ジカルボン酸を用いることができ、アルコール成分として、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ブタンジオール、ヘキサンジオール等の脂肪族ジオール、シクロヘキサンジメタノール等の脂環族ジオールを用いることができる。
【００１０】
また、このポリエステルの中に公知の添加剤、たとえば、耐熱安定剤、耐酸化安定剤、耐候安定剤、紫外線吸収剤、有機の易滑剤、顔料、染料、充填剤、帯電防止剤、核剤等を配合してもよい。上述したようなポリエステルの極限粘度（２５℃オルソクロロフェノール中で測定）は、０．４０〜１．２０が好ましく、より好ましくは０．５０〜０．８０、さらに好ましくは０．５５〜０．７５ｄｌ／ｇの範囲である。
【００１１】
本発明に使用される二軸配向ポリエステルフイルムに含有される粒子としては、各種核剤により重合時に生成した粒子、凝集体、二酸化珪素粒子、炭酸カルシウム粒子、アルミナ粒子、酸化チタン粒子、硫酸バリウム粒子などの無機粒子を、また、架橋ポリスチレン粒子、アクリル粒子、イミド粒子のような有機粒子を、あるいは、それらの混合体をその代表例として挙げることができる。
【００１２】
使用される粒子の径はとくに限定されないが、通常は、沈降法あるいは光散乱法により測定した平均粒径が０．０５〜８．０μｍ、好ましくは０．１〜４．０μｍのものをその代表として挙げることができる。
【００１３】
本発明に係る積層ポリエステルフイルムにおけるＡ層、Ｂ層、Ｃ層の積層は、ラミネート法等でも可能ではあるが、フォトレジスト用途での劈開等を防止するためには、シート状に溶融押出する前に、つまり共押出によって積層することが必要である。
【００１４】
また、本発明に係る積層ポリエステルフイルムのヘイズは、フォトレジスト用に必要な透光性を確保する点から、０．０５％以上１０％以下である必要がある。０．０５％未満のヘイズのフイルムは実用上製膜が非常に困難になり、また、後述の粒子の含有を考えると、ヘイズ０．０５％未満の達成は困難である。また、ヘイズが１０％を越えると、フォトレジスト用としての透光性が不足し、露光が不完全となって高い解像度が得られない。
【００１５】
また、本発明に係る積層ポリエステルフイルムにおいては、Ａ層の表面粗さをＡＲａ、Ｃ層の表面粗さをＣＲａとするとき、
０．００５μｍ≦ＡＲａ≦０．０５μｍ
０．００５μｍ≦ＣＲａ≦０．０５μｍ
を満足する必要がある。この範囲を下回ると、フイルム自身としての良好な巻き性が得られなくなり、しわ等の発生するおそれがある。また、この範囲を上回ると、所望のヘイズを得にくくなる。つまり、表面粗さを大きくするには、一般に表層に含有する粒子の量を多くするが、そうするとヘイズが１０％を越え、結果的に前述のヘイズ１０％以下の達成が困難となる。
【００１６】
この表面粗さに関して、Ａ面側を感光性樹脂組成物積層側とすると、さらに、
ＡＲａ≦ＣＲａ
を満足することが好ましい。これは、Ａ面側においては、感光性樹脂組成物との密着性を向上するとともに、Ｃ面側においては滑り性を向上して良好な巻き性を確保するためである。
【００１７】
上記のように、Ａ面、Ｃ面ともに望ましい表面粗さとするためには、Ａ層およびＣ層にそれぞれ粒子を含有させることが好ましい。粒子の粒径や含有量を適切に制御することにより各面の表面粗さを所望の値に制御することが可能になる。
【００１８】
さらに本発明に係る積層ポリエステルフイルムにおいては、厚さ方向の屈折率が１．４９０以上１．５０５以下である必要がある。この屈折率は、ドライフイルムフォトレジストフイルムの露光後の基材フイルムの剥離性の指標になるものであり、屈折率が１．４９０未満であると、フォトレジスト用基材フイルムとしてそれを剥離する際に劈開しやすくなる。一方屈折率が１．５０５を越えると、剥離の際にフイルムが伸びを生じ剥離不良になりやすくなる。
【００１９】
【実施例】
以下に、本発明の具体的な実施例について説明する。まず、本発明の規定や説明に用いた各特性の測定方法について説明する。
【００２０】
（１）表面粗さ
ＪＩＳ−Ｂ−０６０１に準じて中心線平均粗さＲａを測定した。
【００２１】
（２）ヘイズ
ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じてフイルムのヘイズを測定した。
【００２２】
（３）屈折率
ＪＩＳ−Ｋ−７１０５に準じてフイルムの厚さ方向の屈折率を測定した。
【００２３】
（４）巻き性
幅１０００ｍｍ、長さ４０００ｍにフイルムをスリットし、長さ１２００ｍｍ、内径６インチ、肉厚１２ｍｍの紙コアに巻き取り、巻き状態を観察し、次の基準で判定した。
しわ等の欠点の無い巻き姿のもの  ：  ○
しわ等の欠点のあるもの          ：  ×
【００２４】
（５）伸び
公知の感光性樹脂を厚さ４５μｍに塗布したフイルムを銅貼り積層板にラミネート後、露光しフイルムを剥がす際の伸びによる剥離不良を確認し、次の基準で判定した。
伸び無し  ：  ○
伸び有り  ：  ×
【００２５】
（６）劈開
公知の感光性樹脂を厚さ４５μｍに塗布したフイルムを銅貼り積層板にラミネート後、露光しフイルムを剥がす際の劈開を確認し、次の基準で判定した。
劈開無し  ：  ○
劈開有り  ：  ×
【００２６】
（７）解像度
公知の感光性樹脂を厚さ４５μｍに塗布したフイルムを銅貼り積層板にラミネート後、解像度評価用のネガフイルム（ＳＴＯＵＦＦＥＲ  ＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＲＴＳ  ＥＱＵＩＰＭＥＮＴ社，２１ＳＴＥＰ，ＳＥＮＳＩＴＩＶＩＴＹ  ＧＵＩＤＥ，＃Ｔ２１１５）を設けて露光しフイルムを除去した。次いで３０℃、１．０重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー圧１．０ｋｇ／ｃｍ2 で６０秒間スプレーして未露光部分を除去し、銅貼り積層板上の光硬化膜のステップタブレットの段数を測定し、次の基準で判定した。段数が大きい程解像度に優れている。
段数８．０以上  ：  解像度  ○
段数８．０未満  ：  解像度  ×
【００２７】
実施例１
Ａ層樹脂、Ｃ層樹脂として、固有粘度０．６０のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）を用い、Ｂ層樹脂として固有粘度０．５８のＰＥＴを用いた。表１に示すように平均粒径１．１μｍの凝集シリカを重合時にＡ層用原料、Ｃ層用原料に、平均粒径１．０μｍの凝集シリカを重合時にＢ層用原料のそれぞれ添加し、各原料を水分率２００ｐｐｍに乾燥した後、２９０℃でＡ層、Ｂ層、Ｃ層からなる３層積層シート状に押し出し、表面温度が３０℃にコントロールされた冷却ロール上で急冷、固化させた。この未延伸積層シートを、延伸温度１１５℃、延伸倍率３．８倍で長手方向に延伸し、続いて延伸温度１２０℃、延伸倍率３．７倍で幅方向に延伸し、しかる後に２１５℃で弛緩率５．０％で熱処理して、Ａ層、Ｂ層、Ｃ層の厚み比Ａ／Ｂ／Ｃが１／１８／１（μｍ）の総厚さ２０μｍの二軸配向積層ポリエステルフイルムを得た。
【００２８】
このフイルムのＡ層、Ｃ層の表面粗さ、ヘイズ、厚さ方向の屈折率を測定した。また、上記のフイルムのＡ面に公知の感光性樹脂溶液を塗布し１００℃、８分間乾燥させ、乾燥後の感光性樹脂の膜厚さを４５μｍとした。このフイルムを９０℃に加熱し、６０℃に加熱したガラスエポキシ板に銅板を貼ったプリント用基板にラミネートした。そして、このフイルムに解像度評価用ネガフイルム（ＳＴＯＵＦＦＥＲ  ＧＲＡＰＨＩＣ  ＡＲＴＳ  ＥＱＵＩＰＭＥＮＴ社，２１ＳＴＥＰ，ＳＥＮＳＩＴＩＶＩＴＹ  ＧＵＩＤＥ，＃Ｔ２１１５）を設けて高圧水銀灯で１１０ｍＪ／ｃｍ2 の露光を行った。露光後、基板上のポリエステルフイルムを剥がし、劈開、伸びの評価を行った。更に、ポリエステルフイルムを剥離した基板を３０℃１重量％炭酸ナトリウム水溶液を用いてスプレー圧１．０ｋｇ／ｃｍ2 で６０秒間スプレーして未露光部分を除去し、銅貼り積層板上の光硬化膜のステップタブレットの段数から解像度を測定した。結果を表１に示す。
【００２９】
実施例２
Ａ層用原料として、実施例１に比べ、粒子の添加量を変更し、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表１に示す。
【００３０】
実施例３
Ｂ層用原料として、実施例１に比べ、粒子の添加量を変更し、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表１に示す。
【００３１】
実施例４
Ａ層用原料、Ｂ層用原料として、実施例１に比べ、粒子の添加量を変更し、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表１に示す。
【００３２】
実施例５、６
実施例１に比べ、Ａ層用原料、Ｃ層用原料として、粒子径、粒子の添加量を、Ｂ層用原料として、粒子の添加量を変更し、更に厚み比を変更し、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表１に示す。
【００３３】
比較例１
実施例１に比べ、Ａ層用原料、Ｃ層用原料として、粒子径、粒子の添加量を、Ｂ層用原料として、粒子の添加量を変更し、更に厚み比を変更し、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表２に示す。
【００３４】
比較例２、３
Ａ層用原料、Ｂ層用原料、Ｃ層用原料として、実施例１に比べ、粒子の添加量を変更し、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表２に示す。
【００３５】
比較例４
Ａ層用原料、Ｂ層用原料として、実施例１に比べ、粒子の添加量を変更し、更に延伸倍率を変更して、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表２に示す。
【００３６】
比較例５
実施例１に比べ、Ａ層用原料、Ｂ層用原料、Ｃ層用原料として固有粘度を、Ｂ層用原料として粒子の添加量を変更し、更に延伸倍率を変更して、実施例１同様に製膜して各特性を評価した。結果を表２に示す。
【００３７】
【表１】
0003932074.tif 000002
【００３８】
【表２】
0003932074.tif 000003
【００３９】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明のフォトレジスト用ポリエステルフイルムによれば、フォトレジストの際に基材フイルムといて使用される積層ポリエステルフイルムのヘイズ、両面の表面粗さ、厚さ方向の屈折率をそれぞれ特定の範囲に規定したので、フォトレジストにおける解像度、基材フイルム剥離の際の劈開や伸び、基材フイルム自身の巻き性の全てに優れたフォトレジスト用ポリエステルフイルムを得ることができる。