(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
透明基板上に遮光層を形成し、該遮光層の開口内に着色樹脂領域を形成する基材形成工程と、
得られる基材上に、１５０℃以下の温度でＩＴＯ材料を堆積する堆積工程と、
前記ＩＴＯ材料上に、ネガ型フォトレジストを溶剤に溶かしてなる熱硬化性の樹脂材料を塗布し、１８０℃未満の温度でプリベークを行う塗布工程と、
プリベーク後の前記樹脂材料上のスペーサ形成領域にホトマスクを介して露光する露光工程と、
露光後の前記樹脂材料を現像処理してスペーサ対応部分を残留させる現像工程と、
現像後に、前記ＩＴＯ材料及び前記樹脂材料を１８０℃以上の温度で同時に加熱する加熱工程と
を備えることを特徴とするカラーフィルターの製造方法。
【請求項２】
前記加熱工程は、２５０℃以下の温度で行われることを特徴とする請求項１に記載のカラーフィルターの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、カラーフィルターの製造方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の液晶表示装置は、液晶層の厚み（セルギャップ）を保持するために、２枚の液晶表示装置用基板間に柱状スペーサを介在させている。柱状スペーサは、特開平９―７３０８８号公報、特開平３―１２７０２８号公報、及び特開昭５０−５００５４号公報等に記載されている。柱状スペーサは樹脂又は感光性樹脂（フォトレジスト）を用いて形成される。ここで、スペーサはフォトレジストからなり、フォトレジストは透明電極であるＩＴＯ（酸化スズインジウム（Ｉｎ2Ｏ3Ｓｎ））上に形成され、スペーサは透明電極上に形成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、ＩＴＯとフォトレジストとの接着強度は比較的低いため剥がれやすい。特に、液晶用カラーフィルター製造時のラビング工程においては、スペーサ上を引っ掻くので、上記剥がれ現象が最も顕著に起きる。本発明は、上述の問題点に鑑みてなされたものであり、剥がれにくい樹脂／ＩＴＯ積層体を有するカラーフィルターの製造方法を提供することを目的とする。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するため、本発明は、カラーフィルターの製造方法において、透明基板上に遮光層を形成し、遮光層の開口内に着色樹脂領域を形成する基材形成工程と、得られる基材上に、１５０℃以下の温度でＩＴＯ材料を堆積する堆積工程と、ＩＴＯ材料上に、ネガ型フォトレジストを溶剤に溶かしてなる熱硬化性の樹脂材料を塗布し、１８０℃未満の温度でプリベークを行う塗布工程と、プリベーク後の樹脂材料上のスペーサ形成領域にホトマスクを介して露光する露光工程と、露光後の樹脂材料を現像処理してスペーサ対応部分を残留させる現像工程と、現像後に、ＩＴＯ材料及び樹脂材料を１８０℃以上の温度で同時に加熱する加熱工程とを備えることを特徴とする。
【０００５】
本方法においては、比較的低温である１５０℃以下の温度でＩＴＯ材料を基材上に堆積するが、この場合のＩＴＯ材料の結晶状態はアニール処理（１８０℃以上）前のものであって、表面モホロジーが悪く、アモルファスである。なお、結晶状態が変化しない温度であればよいので、堆積工程は室温で行ってもよい。この状態で樹脂材料を塗布すると、樹脂材料がＩＴＯ材料に噛み込むものと考えられる。樹脂材料の最終的な加熱工程（ベーキング）は、ＩＴＯ材料のアニール処理と同時に行われ（１８０℃以上）、ＩＴＯ材料の結晶状態変化と樹脂材料の硬化とが同時に起こる。したがって、これらの間の接着強度を著しく向上させることができる。
【０００６】
加熱工程の温度は、ＩＴＯ材料の結晶状態変化とフォトレジストの硬化とが起ればよいので、１８０℃以上であれば接着強度向上の面からは十分である。しかしながら、温度が高過ぎると樹脂材料が変形するため、この温度は２５０℃以下であることが更に好ましい。
【０００７】
このような方法で製造された樹脂／ＩＴＯ積層体は、基材上に形成されたＩＴＯ材料と、ＩＴＯ材料上に形成された樹脂材料とを備える樹脂／ＩＴＯ積層体において、ＩＴＯ材料の表面近傍に樹脂材料とＩＴＯ材料との混合領域を備えることを特徴とし、これの接着強度は著しく高くなる。
【０００８】
特に、この構造をラビング処理を必要とする液晶用カラーフィルターに用いた場合には、製造歩留まりの高い液晶用カラーフィルターを提供することができる。
【０００９】
すなわち、本発明の液晶用カラーフィルターは、液晶をスイッチングする電子素子が複数配列してなる電子素子基板に対向して取り付けられる液晶用カラーフィルターにおいて、電子素子基板に対向し液晶に所定電位を与える透明電極と、この液晶用カラーフィルタと電子素子基板との間に介在し液晶が充填される空間を透明電極上に提供するスペーサとを備え、透明電極及びスペーサは、それぞれ上記ＩＴＯ材料及び樹脂材料であることを特徴とする。
【００１０】
上記液晶用カラーフィルターは、そのスペーサが剥がれにくいので、製造歩留まりを向上させることができ、これに電子素子基板が取り付けられてなる液晶表示装置は、スペーサによる位置規制が確実に働くため、液晶厚の均一性を高めて高品質な画像を提供することができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、実施の形態に係る液晶用カラーフィルターについて説明する。なお、本液晶用カラーフィルターは、フォトレジスト／ＩＴＯ積層体を含んでいる。同一要素には同一符号を用いることとし、重複する説明は省略する。
【００１２】
まず、カラーフィルターの構造について説明する。
【００１３】
図１はカラーフィルターの斜視図であり、図２は図１に示したカラーフィルターのＩＩ−ＩＩ矢印断面図、図４は図１に示したカラーフィルターの平面図である。
【００１４】
透明基板６上には遮光層としてのブラックマスク（ブラックマトリクス）７が格子状に堆積されており、格子状の遮光層７の開口内には光学フィルターとしての着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂが設けられている。換言すれば、遮光層７は画素間の非表示領域に形成されており、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂの透過光を分離している。遮光層７の配置により、これを組み合せてなる液晶表示装置（液晶ディスプレイ）のコントラストの向上や、光による液晶表示装置の駆動素子の誤動作を防止することができる。
【００１５】
遮光層７及び着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、保護膜４によって覆われており、保護膜４上には液晶を駆動するための透明電極３が全面に形成されている。なお、透明電極３は、遮光層７直上の着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂ上に直接堆積されることとしてもよい。この場合、遮光層７直上に位置する保護膜４は着色樹脂に置換され、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂはストライプ形状を呈することとなる。
【００１６】
透明電極３上には、フォトレジスト（樹脂）からなる柱状スペーサ１が複数設けられる。スペーサ１は遮光層７の直上に位置している。スペーサ１は、カラーフィルター８と後述のＴＦＴ基板（電子素子基板）との間に介在し、その液晶が充填される空間を提供する。
【００１７】
スペーサ１の高さは、１〜９μｍが好ましく、さらには２〜８μｍ、さらには３〜７μｍが好ましい。スペーサ１の高さが１μｍよりも低いと、十分なセルギャップを確保することが困難になり、例えば、ＴＮモードでは、デスクリネーションが生じるなどの問題が起きやすい。一方、９μｍを超えると液晶表示装置のセルギャップが大きくなり過ぎ、このため駆動に要する電圧が高くなり、好ましくない。なお、ここで、スペーサ１の高さｄとは、１個のスペーサ１に着目し、底面と最上表面との間の距離の最大を意味する。
【００１８】
次に、これらの構成材料について詳説する。
【００１９】
透明基板６は、ポリエーテルサルホン、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルやポリプロピレン、ポリエチレン等のポリオレフィン等のプラスチックシート、各種ガラス板等を用いることができるが、本例ではガラス板を用いる。なお、ポリエーテルサルホンは耐熱性及び光透過性の観点から好ましい材料である。透明基板６の表面は、コロナ放電処理、オゾン処理、シランカップリング剤やウレタンポリマー等の各種ポリマーの薄膜処理等を行ってもよい。
【００２０】
遮光層７としては、Ｃｒ、Ｍｎ、Ａｌ、Ｎｉ、Ｔｉなどの金属とその酸化物、窒化物及び／又は炭化物を積層してなる多層膜や、樹脂中に遮光剤を分散させた樹脂膜、黒色のカラーフィルターレジストが用いられる。
【００２１】
着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂは、液晶中に表示不良の原因となる不純物を溶出しなければ、いかなる材質のものであっても良い。具体的な材質としては、任意の光のみを透過するように膜厚制御された無機膜や、染色、染料分散あるいは顔料分散された樹脂などがある。この樹脂の種類には、特に制限は無いが、アクリル、ポリビニルアルコール、ポリイミドなどを含む樹脂材料から構成され、なお、製造プロセスの簡便さや耐候性などの面から、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂには、顔料分散された樹脂膜を用いることが好ましい。
【００２２】
スペーサ１は、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂを構成するものから顔料及び染料を除いた樹脂材料から構成される。但し、スペーサ１と樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂは同一樹脂材料であってもよいが、異なる樹脂材料であってもよい。また、スペーサ１に顔料や染料等の着色材料を含有させることとしてもよく、この場合にもスペーサとしての機能を奏する。これらの樹脂材料は、熱硬化性を有するが、加工の面からは感エネルギー線（光）樹脂組成分（フォトレジスト）から構成されることが好ましい。本例に用いられるこれらの樹脂材料は熱硬化性樹脂であるが、加熱温度が１８０℃以上の所定温度であれば硬化時間が短時間（１時間以下）でよいフォトレジストである。なお、エネルギー線とは、Ｘ線、紫外線、可視光又は赤外線を含むものとする。
【００２３】
ここで、上記フォトレジストについて説明すると、フォトレジストは、エネルギー線（光）重合性組成物であって、エネルギー線（光）を吸収してラジカルを発生するエネルギー線重合開始系と、該ラジカルにより重合が誘起される付加重合性のエチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有する化合物（エチレン性化合物）を含有し、好ましくは、エネルギー線重合性組成物の結合剤を含有させたものである。
【００２４】
このようなフォトレジストは、特開平８−１２９１０４号公報、特開平８−１８３８１９号公報等に記載されており、光重合開始系としては、例えば、エネルギー線としての紫外光を吸収してラジカルを発生する紫外光感応型光重合開始系、例えば、ジアルキルアセトフェノン系、ベンジルジアルキルケタール系、ベンゾイン、ベンゾインアルキルエーテル系、チオモサントン誘導体、アルシホスフィンオキサイド系等、ヘキサアリールビイミダゾール系、ｓ−トリハロメチルトリアジン系等が知られており、この他にも可視光感応型光重合開始系等が知られている。
【００２５】
エチレン性化合物としては、単量体、二量体、三量体又はオリゴマー、側鎖もしくは主鎖にエチレン性不飽和二重結合を有する重合体のいずれでも良く、例えば、不飽和カルボン酸、脂肪族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、芳香族ポリヒドロキシ化合物と不飽和カルボン酸とのエステル、不飽和カルボン酸と多価カルボン酸及び脂肪族ポリヒドロキシ化合物、芳香族ポリヒドロキシ化合物等の多価ヒドロキシ化合物とのエステル化反応により得られるエステル等が挙げられる。
【００２６】
光重合性組成物の結合剤として使用される有機高分子物質としては、メチル（メタ）アクリル酸等の（メタ）アクリル酸のアルキルエステル、酢酸ビニル等の酸ビニル、アクリロニトリル等が挙げられ、基板との接着性の観点から特に好ましいものとしては、スチレン、α−メチルスチレン、ベンジル（メタ）アクリレート、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリル酸、メトキシフェニル（メタ）アクリル酸、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルアミド、ヒドロキシフェニル（メタ）アクリルスルホアミド等のフェニル基を有する共重合モノマーを１０〜８０モル％、好ましくは２０〜７０モル％、より好ましくは３０〜６０モル％の割合で含有し、その他（メタ）アクリル酸を２〜５０重量％、好ましくは５〜４０重量％、より好ましくは５〜３０重量％の割合で含有する共重合体、或いは、全共重合モノマーに対して２〜５０モル％、好ましくは５〜４０モル％、より好ましくは１０〜３０モル％のエポキシ（メタ）アクリレートが付加された反応物が挙げられる。
【００２７】
フォトレジストの塗布に用いられる溶剤としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、トルエン、クロロホルム、ジクロロメチン、酢酸エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノール、テトラハイドロフラン等が挙げられる。
【００２８】
透明電極３としては、ＩＴＯ（酸化スズインジウム（Ｉｎ2Ｏ3Ｓｎ）が用いられる。
【００２９】
図３は、上記カラーフィルターの製造方法を説明するための説明図である。以下、同図にしたがって、上記カラーフィルターの製造方法について説明する。
【００３０】
（基材形成工程）
まず、透明基板６を用意し、透明基板６上にホトリソグラフィ技術を用いて格子状の遮光層７を形成する（図３（ａ））。次に、遮光層７の開口内に、赤、緑、青に着色したフォトレジストを順次ホトリソグラフィ技術を用いて形成し、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂを形成する。さらに、この上に樹脂からなる保護膜４を形成する。なお、保護膜４は無くても良く、この場合には、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂはストライプ形状を呈する。このようにして、透明電極が堆積されるべき基材が形成される。ここで、基材とは、保護膜４を用いる場合には保護膜４が、用いない場合は着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂが露出表面を有する基板である。
【００３１】
（透明電極堆積工程）
しかる後、上記基材の露出表面上に透明電極３を堆積する。上述のように、透明電極３はＩＴＯ材料からなり、この堆積工程はスパッタ法を用いて行われる。すなわち、ターゲット材料としてＩＴＯ焼結体を用い、これをスパッタリングして露出表面上に堆積させる。堆積時のＩＴＯ材料３の成膜温度（基材温度）は１５０℃以下である。本方法においては、比較的低温である１５０℃以下の温度でＩＴＯ材料３を基材上に堆積するが、この場合のＩＴＯ材料３の結晶状態は後述のアニール処理（１８０℃以上）前のものであって、表面モホロジーが悪く、アモルファスである。なお、結晶状態が変化しない温度であればよいので、堆積工程は室温で行ってもよいが、特に、スパッタ時の基板温度上昇を考慮すると、上記成膜温度は６０℃以上であることが好ましい。
【００３２】
（樹脂塗布工程）
次に、ＩＴＯ材料３上にネガ型フォトレジストを溶剤に溶かしてなる樹脂材料２を塗布し、プリベークを行う。プリベーク時の加熱温度は１８０℃未満の温度で行われる。本例では加熱温度は５０℃〜１００℃であり、加熱時間は１分〜１５分である。ここで、上記ＩＴＯ材料３の結晶状態でフォトレジストを塗布した場合、樹脂材料２がＩＴＯ材料３に噛み込んでいるものと思われる。
【００３３】
（露光工程）
次に、ホトマスク１８を介して長方形のスペーサ形成予定領域上に露光光を照射する（図３（ｂ））。この露光によって、樹脂材料２内に略長方形の潜像濃度分布が複数形成される。
【００３４】
（現像工程）
次に、樹脂材料２を現像処理し、スペーサ１対応部分を残留させる。なお、スペーサ１の配設箇所は遮光層７上とし、これは遮光層７は対向するアクティブマトリクス基板の配線にほぼ対応して配置される。なお、ホトマスク１８の開口の大きさを変化させることにより、大きさの違うスペーサを形成することができる。
【００３５】
（加熱工程）
更に、スペーサ対応部分１にベーキングを行うことによって、その角部が丸まった縦断面台形状のスペーサ（樹脂材料）１が形成される（図３（ｃ））。ここで、ベーキングの温度は１８０℃以上である。加熱時間は、樹脂材料の種類、この中に含まれる溶剤の濃度により適宜設定されるが、本例では１０分〜１時間とする。このフォトレジストの最終的な加熱工程（ベーキング）は、ＩＴＯ材料３のアニール処理（１８０℃以上）を兼用しており、ＩＴＯ材料３の結晶状態変化とフォトレジストの硬化とが同時に起こる。したがって、これらの間の接着強度を著しく向上させることができる。加熱工程の温度は、ＩＴＯ材料の結晶状態変化とフォトレジストの硬化とが起ればよいので、１８０℃以上であれば接着強度向上の面からは十分である。しかしながら、温度が高過ぎるとフォトレジスト２が変形するため、この温度は２５０℃以下であることが更に好ましい。
【００３６】
換言すれば、透明電極３上に形成したスペーサ１のベーキングと透明電極３のアニール処理とを１８０℃以上で同時に行なうことにより付着力が大きくなる。この方法によると、ラビング時に剥離が生じるスペーサの底面積を小さくすることができる。すなわち、スペーサ１のベーキングと透明電極３のアニール処理とを同時に行なったものは、事前にアニール処理された透明電極３上にスペーサ１を形成したものよりもスペーサ剥離が見られる底面積が小さい。したがって、本実施形態の液晶用カラーフィルター８は、表示品質を劣化させず剥がれにくいスペーサ１を備えることとなり、これを用いれば従来に比して著しく鮮明な画像を提供することができる。
【００３７】
なお、基材上に形成されたＩＴＯ材料３と、ＩＴＯ材料３上に形成された樹脂材料２（スペーサ１）とを備える樹脂／ＩＴＯ積層体部分を透過形電子顕微鏡にて観察したところ、ＩＴＯ材料３の表面近傍に樹脂材料２とＩＴＯ材料３との混合領域が観察された。この混合領域は接着強度を高めているものと思われる。
【００３８】
（液晶表示装置）
図５は、上記カラーフィルター８を用いた液晶表示装置２０の斜視図である。液晶表示装置は、液晶の電気光学応答を用いることにより、画像や文字の表示を行うものであって、情報処理などに用いられる。具体的には、パソコン、ワードプロセッサー、ナビゲーションシステム、液晶テレビ、ビデオなどの表示画面や、液晶プロジェクターなどに用いられる。
【００３９】
透明基板６上には偏光板９が設けられ、カラーフィルター８のスペーサ１（図１参照）上には配向膜（図示せず）が形成される。この配向膜は、スペーサ１上に樹脂を塗布した後、これをラビング処理することによって形成される。この上に配向膜が形成されたＴＦＴ基板１２が取付けられる。カラーフィルター８とＴＦＴ基板１２との間にはスペーサ１及びカラーフィルター８の外周部に位置する外枠１５が設けられており、これらによって規定される空間内に液晶が充填される。なお、ＴＦＴ基板１２は、カラーフィルター８側から透明基板（ガラス）１１及び偏光板１０を順次設けてなり、透明基板１１上には、液晶の偏光方向をスイッチングによって可変するための薄膜トランジスタ（ＴＦＴ）（図示せず）が画素に対応して設けられている。
【００４０】
ＴＦＴ基板１２の背面に配置されるバックライト１６によってＴＦＴ基板１２を照明すると、この照明光はＴＦＴによる液晶のスイッチングによって、画素毎にＴＦＴ基板１２を通過し、カラーフィルター８に入射する。カラーフィルター８には画素に対応して着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂが設けられているので、カラーフィルター８からは画素毎に発光色が制御された画像が出力される。なお、ＴＦＴ基板１２の代わりに、メタル・インシュレーター・メタル（ＭＩＭ）、バリスタ、ダイオードなどのアクティブ素子を有する電子素子基板を用いてもよい。カラーフィルター８は印刷や電着などの方法によって形成してもよい。また、スペーサ１に用いられる材料は樹脂である。
【００４１】
以上、説明したように、上記カラーフィルターは、液晶をスイッチングするＴＦＴ等の電子素子が複数配列してなる電子素子基板１２に対向して取り付けられ、二次元状に配列された複数の着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂと、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂの透過光を分離する遮光層７と、遮光層７と電子素子基板１２との間に介在し液晶が充填される空間を提供するためのスペーサ１とを備える液晶用カラーフィルターであり、本製造方法においては、透明電極３の成膜温度を１５０℃以下とし、透明電極３上に形成したスペーサ１のベーキングと透明電極３のアニール処理とは１８０℃以上で同時に行なわれることとした。したがって、本方法によれば、これらの間の接着強度を著しく向上させることができる。
【００４２】
【実施例】
（実施例１）
偏光板９を含まない上記カラーフィルター８を以下の工程▲１▼〜▲６▼にしたがって製作し、その特性について評価した。
【００４３】
▲１▼まず、上述のように、透明基板６を用意し、透明基板６上にホトリソグラフィ技術を用いてクロムの酸化物、窒化物及び／炭化物を積層してなる格子状の遮光層７を形成した。
【００４４】
▲２▼次に、遮光層７の開口内に、赤、緑、青に着色したフォトレジストを順次ホトリソグラフィ技術を用いて形成し、着色樹脂領域Ｒ，Ｇ，Ｂを形成した。さらに、ＩＴＯ焼結体をターゲットとするマグネトロンスパッタ法を用い、基板温度（Ｔ１＝）１５０℃で透明電極（ＩＴＯ材料）３を成膜した。
【００４５】
▲３▼次に、透明電極３上の全面にネガ型フォトレジストからなる樹脂材料２（ＪＳＲ製ＮＮ７００）をスピナーを用いて塗布した後、８０℃で２分間のプリベークを行った。
【００４６】
▲４▼次に、正方形の開口を有するホトマスク１８を介して樹脂材料２のスペーサ形成予定領域に露光光（波長３６５ｎｍ、露光量２００ｍＪ／ｃｍ2）を照射した。なお、スペーサ形成予定領域は、スペーサ１の底面の形状に相当する。この露光によって、樹脂材料２内に略正方形の潜像濃度分布が形成される。
【００４７】
▲５▼次に、これを現像処理（水酸化カリウム（ＫＯＨ）の１％水溶液で６０秒間）した。
【００４８】
▲６▼しかる後、基板温度（Ｔ２＝）２３０℃でＩＴＯ透明電極３及び樹脂材料２の形成された基板を２０分間加熱（ポストベーク）することによって、スペーサ１を具備したカラーフィルターの作製を行なった。なお、この加熱は透明電極３のアニールも兼ねる。
【００４９】
（比較例）
上記方法において、工程▲１▼及び工程▲２▼を順番に行った後、基板温度２３０℃で透明電極３をアニールし、しかる後、上記実施例と同様に工程▲３▼以降を行い、スペーサ１を具備したカラーフィルターの作製を行なった。
【００５０】
（結果及び評価）
上記実施例及び比較例のカラーフィルターの製造方法における工程▲４▼において、ホトマスク１８の開口の大きさを変化させることにより、底面積の違うスペーサ１を具備するカラーフィルターを製作し、スペーサ１及び透明電極３の露出面を覆うように厚さ数μｍの樹脂膜（配向膜）を形成し、この樹脂膜をラビング装置を用いて引っ掻いた（ラビング処理）。以下の表は、実施例及び比較例において製造されたスペーサ１の底面積と、ラビング工程によるスペーサ剥離の有無の関係を示す。×は剥離、○は非剥離であることを示す。
【００５１】
【表１】
0004028668.tif 000002
【００５２】
上記表から明らかなように、比較例のスペーサ（アニール処理された透明電極に形成したスペーサ）に比べて、実施例１のスペーサ（スペーサのベーキングと透明電極のアニール処理とを同時に行なったスペーサ）の方が、スペーサに剥がれるが見られる底面積が小さかった（接着強度が高い）。
【００５３】
これは、実施例１のものにおいては、樹脂材料２塗布前のＩＴＯ材料３の表面及び結晶状態が乱雑状態であり、この状態において樹脂材料を塗布したため、樹脂材料２がＩＴＯ材料３に噛み込み、▲６▼の加熱工程によってＩＴＯ材料３のアニール処理及び樹脂材料２の熱硬化とが同時に行われたため、これらの間の接着強度が著しく向上したものと考えられる。また、実施例１のカラーフィルターをＴＦＴ基板に取付けてなる液晶表示装置の画像は、比較例のものよりも鮮明であった。
【００５４】
【発明の効果】
本発明に係るカラーフィルターの製造方法によれば、接着強度の高い樹脂／ＩＴＯ積層体を製造することができるので、カラーフィルターの画質の劣化及びスペーサの剥離を抑制し、これを用いることにより、鮮明な画像を提供する液晶表示装置を作製することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】カラーフィルターの斜視図。
【図２】図１に示したカラーフィルターのＩＩ−ＩＩ矢印断面図。
【図３】スペーサ１の製造方法を説明するための説明図。
【図４】カラーフィルターの平面図。
【図５】カラーフィルター８を用いた液晶ディスプレイ２０の斜視図。
【符号の説明】
１…スペーサ、２…スペーサ用樹脂、３…透明電極、４…保護膜、Ｒ，Ｇ，Ｂ…着色樹脂領域、６…透明基板、７…遮光層。
【図１】
0004028668.tif 000003
【図２】
0004028668.tif 000004
【図３】
0004028668.tif 000005
【図４】
0004028668.tif 000006
【図５】
0004028668.tif 000007