(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
インクジェットヘッドのノズルから基板上に発光材料を吐出して複数色の発光層を形成し、これら発光層にそれぞれ対応させて多数の画素を縦横に形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、
前記発光層のうちの少なくとも一つの色の発光層を形成する発光材料を、前記ノズルから第１の方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成し、
前記発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光材料を、前記ノズルから第１の方向と略直交する第２の方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項２】
請求項１記載の有機ＥＬ素子の製造方法において、
前記発光層を赤、緑、青の三色に形成するとともに、これら発光層を形成する画素にそれぞれ正孔注入層または正孔輸送層を、これらの形成材料をインクジェットヘッドのノズルから吐出することによって形成するに際して、
前記発光層のうちの一つの色と正孔注入層または正孔輸送層とを、それぞれの材料を第１の方向に吐出することによってそれぞれの列を形成し、
前記発光層のうちの他の二つの色を、それぞれの材料を第２の方向に吐出することによってそれぞれの列を形成することを特徴とする有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項３】
各画素に対応する単一の発光層を、形成する発光層の列方向に対して略直交して配列された複数のノズルから略同時に発光材料を吐出することにより、形成することを特徴とする請求項１又は２記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項４】
各画素に対応する単一の正孔注入層または正孔輸送層を、形成する正孔注入層または正孔輸送層の列方向に対して略直交して配列された複数のノズルから略同時にその材料を吐出することにより、形成することを特徴とする請求項２記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項５】
インクジェトヘッドのノズルの列を、形成する発光層の列方向に対して所定量傾けた状態で吐出することを特徴とする請求項３記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項６】
インクジェトヘッドのノズルの列を、形成する正孔注入層または正孔輸送層の列方向に対して所定量傾けた状態で吐出することを特徴とする請求項４記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項７】
前記基板上に予め画素間を隔てる隔壁を形成しておき、該隔壁内に前記発光材料を吐出して発光層を形成することを特徴とする請求項１〜６のいずれかに記載の有機ＥＬ素子の製造方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれかに記載の製造方法によって得られてなる有機ＥＬ素子。
【請求項９】
請求項８記載の有機ＥＬ素子を用いてなるＥＬディスプレイ。
【請求項１０】
請求項９記載のＥＬディスプレイを表示手段として備えてなる電子機器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ディスプレイ、表示光源などに用いられる電気的発光素子である有機ＥＬ素子とその製造方法、及びＥＬディスプレイ、電子機器に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、液晶ディスプレイに替わる自発発光型ディスプレイとして、発光層に有機物を用いた有機ＥＬ（エレクトロルミネセンス）素子の開発が加速している。有機ＥＬ素子における有機物からなる発光層の形成プロセスとしては、Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１（１２）、２１ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ １９８７の９１３ページに示されているように低分子材料を蒸着法で成膜する方法と、 Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７１（１）、７ Ｊｕｌｙ １９９７の３４ページから示されているように高分子材料を塗布する方法が主に開発されている。
【０００３】
カラー化の手段としては、低分子系材料を用いる場合、所定パターンのマスク越しに異なる発光色の発光材料を所望の画素対応部分に蒸着し形成する方法が行われている。一方、高分子系材料を用いる場合には、微細かつ容易にパターニングができることから、インクジェット法を用いたカラー化が注目されている。インクジェット法による有機ＥＬ素子の作製については、例えば、特開平７−２３５３７８、特開平１０−１２３７７、特開平１１−４０３５８、特開平１１−５４２７０に開示されている。
また、有機ＥＬ素子では、発光効率、耐久性を向上させるために、正孔注入層または正孔輸送層を陽極と発光層との間に形成することが提示されている（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．５１、２１ Ｓｅｐｔｅｍｂｅｒ １９８７の９１３ページ）。
【０００４】
ところで、インクジェット法によって正孔注入層や発光層が形成される有機ＥＬ素子では、通常、各画素はそれぞれインクジェットヘッドの１つのノズルより吐出される１ドット分の幅を有したものとなっている。そして、このような画素として例えば図１２に示すように発光色が赤となる画素Ｒと緑となる画素Ｇと、青となる画素Ｂとが、それぞれ同じ方向に配列するとともにそれぞれの列が規則的に多数配置されることにより、有機ＥＬ素子が形成される。
【０００５】
このような画素Ｒ、Ｇ、Ｂの発光層をインクジェット法で形成するには、基板あるいはインクジェットヘッドを移動させることにより、図１２に示したようにインクジェットヘッドＨの一つのノズル孔Ｎから、ＲＧＢのうちの一つの画素一列分を吐出するようにする。また、全体としては、複数のノズルＮから、同一色の画素複数列分を一度の走査で形成し、以下、同様にして他の色の画素についても形成するようにしている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、インクジェットヘッドＨに設けられた複数のノズルＮには、その位置などによってインクの供給経路が異なることなどにより吐出量にバラツキが生じることがある。例えば、図１２中の画素Ｒ１の列に吐出を行うノズルＮ１と、画素Ｒ２の列に吐出を行うノズルＮ２との間で、吐出量に差が生じてしまうことがあるのである。
【０００７】
しかし、その場合には、当然形成される発光層間で吐出量の差に応じて層厚に差が生じてしまい、これにより画素Ｒ１の列とＲ２の列とで発光の度合いにむらが生じてしまい、結果として表示品質が損なわれることになってしまう。また、このような傾向は他の色でも当然起こることから、このような方法で形成された有機ＥＬ素子では、全ての色が図１２に示した基板の横方向（Ｘ方向）で、すなわち各列間でそれぞれ発光度にむらを生じてしまい、表示品質が低下したものとなってしまう。
【０００８】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、インクジェットヘッドのノズル間での吐出量のバラツキに起因して起こる、表示品質の低下を軽減した有機ＥＬ素子とその製造方法、及びＥＬディスプレイ、電子機器を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
前記目的を達成するため本発明の有機ＥＬ素子の製造方法は、インクジェットヘッドのノズルから基板上に発光材料を吐出して複数色の発光層を形成し、これら発光層にそれぞれ対応させて多数の画素を縦横に形成する有機ＥＬ素子の製造方法であって、前記発光層のうちの少なくとも一つの色の発光層を形成する発光材料を、前記ノズルから第１の方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成し、前記発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光材料を、前記ノズルから第１の方向と略直交する第２の方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成することを特徴としている。
【００１０】
この有機ＥＬ素子の製造方法によれば、発光層のうちの少なくとも一つの色の発光層を形成する発光材料を、ノズルから第１の方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成し、発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光材料を、ノズルから第１の方向と略直交する第２の方向に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成するので、インクジェットヘッドのノズル間での吐出量のバラツキに起因して吐出方向に形成される発光層の列間での発光むらを、発光層のうちの少なくとも一つの色と他の色とで略直交する方向に生じさせることができ、したがって発光むらの方向を一方向に偏らせないことにより全体としての表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることができる。
【００１１】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、前記発光層を赤、緑、青の三色に形成するとともに、これら発光層を形成する画素にそれぞれ正孔注入層または正孔輸送層を、これらの形成材料をインクジェットヘッドのノズルから吐出することによって形成するに際して、前記発光層のうちの一つの色と正孔注入層または正孔輸送層とを、それぞれの材料を第１の方向に吐出することによってそれぞれの列を形成し、前記発光層のうちの他の二つの色を、それぞれの材料を第２の方向に吐出することによってそれぞれの列を形成するのが好ましい。
このようにすれば、発光層のうちの一つの色の列と正孔注入層または正孔輸送層の列とが第１の方向に、また発光層のうちの他の二つの色の列が第２の方向に形成されるので、第１の方向の列間で生じる発光むらと第２の方向の列間で生じる発光むらとが確率的に言って共に同程度に起こると考えられ、したがって発光むらの方向の偏りを一層少なくして全体としての表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることができる。
【００１２】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、各画素に対応する単一の発光層を、形成する発光層の列方向に対して略直交して配列された複数のノズルから略同時に発光材料を吐出することにより、形成するのが好ましい。
このようにすれば、単一の発光層を複数のノズルから吐出することによって形成するので、単一の発光層を形成するノズルのグループ毎で比較した場合に、ノズル間での吐出量のバラツキがノズルのグループ間ではその吐出量のバラツキが平均化されることにより、発光層の列間での発光むらが少なくなり、したがって全体としての表示品質の向上を図ることができる。
【００１３】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、各画素に対応する単一の正孔注入層または正孔輸送層を、形成する正孔注入層または正孔輸送層の列方向に対して略直交して配列された複数のノズルから略同時にその材料を吐出することにより、形成するのが好ましい。
このようにすれば、単一の正孔注入層または正孔輸送層を複数のノズルから吐出することによって形成するので、単一の正孔注入層または正孔輸送層を形成するノズルのグループ毎で比較した場合に、ノズル間での吐出量のバラツキがノズルのグループ間ではその吐出量のバラツキが平均化されることにより、正孔注入層または正孔輸送層の列間での層厚のむらが少なくなり、したがってこの層厚のむらに起因する表示品質の低下を軽減することができる。
【００１４】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、インクジェトヘッドのノズルの列を、形成する発光層の列方向に対して所定量傾けた状態で吐出するのが好ましい。
このようにすれば、ノズル間の見かけ上の間隔を狭くすることにより、単一の発光層に対して吐出するノズルの数を増やすことができ、したがって前述したようにノズルのグループ間での吐出量のバラツキをより平均化して発光むらを少なくすることができる。
【００１５】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、インクジェトヘッドのノズルの列を、形成する正孔注入層または正孔輸送層の列方向に対して所定量傾けた状態で吐出するのが好ましい。
このようにすれば、ノズル間の見かけ上の間隔を狭くすることにより、単一の正孔注入層または正孔輸送層に対して吐出するノズルの数を増やすことができ、したがって前述したようにノズルのグループ間での吐出量のバラツキをより平均化して得られる正孔注入層または正孔輸送層の層厚のむらを少なくすることができる。
【００１６】
また、前記有機ＥＬ素子の製造方法においては、前記基板上に予め画素間を隔てる隔壁を形成しておき、該隔壁内に前記発光材料を吐出して発光層を形成するのが好ましい。
このようにすれば、吐出した際、各材料の着弾位置に少々バラツキがあっても、隔壁内に着弾すれば所望の位置に発光層等を形成することができ、したがって発光層等からなる画素をそれぞれ所望位置に形成することにより、表示品質を高めることができる。
なお、この隔壁の少なくとも頂面については、インクジェットヘッドから吐出される液体材料に対して３０°以上の接触角を持つのが好ましい。
このようにすれば、発光層等が隔壁を越えて隣の画素に流れ出てしまうのを防ぐことができる。
【００１７】
本発明の有機ＥＬ素子は、前記の製造方法によって得られてなることを特徴としている。
この有機ＥＬ素子によれば、前記の製造方法によって得られてなることにより、表示品質の高いものとなる。
【００１８】
本発明のＥＬディスプレイは、前記有機ＥＬ素子を用いてなることを特徴としている。
このＥＬディスプレイによれば、前記有機ＥＬ素子を用いてなることにより高い表示品質を有するものとなる。
【００１９】
本発明の電子機器は、前記ＥＬディスプレイを表示手段として備えてなることを特徴としている。
この電子機器によれば、前記ＥＬディスプレイを用いてなることにより高い表示品質を有するものとなる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を詳しく説明する。
まず、本発明の製造方法が適用されることによって得られる本発明の有機ＥＬ素子を備えたＥＬディスプレイについて、その概略構成を説明する。
図１、図２は本発明のＥＬディスプレイをアクティブマトリクス型のディスプレイに適用した場合の一例を示すもので、これらの図において符号１はＥＬディスプレイである。
【００２１】
このＥＬディスプレイ１は、回路図である図１に示すように透明の表示基板上に、複数の走査線１３１と、これら走査線１３１に対して交差する方向に延びる複数の信号線１３２と、これら信号線１３２に並列に延びる複数の共通給電線１３３とがそれぞれ配線されたもので、走査線１３１及び信号線１３２の各交点毎に、画素（画素領域素）１Ａが設けられて構成されたものである。
【００２２】
信号線１３２に対しては、シフトレジスタ、レベルシフタ、ビデオライン、アナログスイッチを備えるデータ側駆動回路３が設けられている。
一方、走査線１３１に対しては、シフトレジスタ及びレベルシフタを備える走査側駆動回路４が設けられている。また、画素領域１Ａの各々には、走査線１３１を介して走査信号がゲート電極に供給されるスイッチング薄膜トランジスタ１４２と、このスイッチング薄膜トランジスタ１４２を介して信号線１３２から供給される画像信号を保持する保持容量ｃａｐと、保持容量ｃａｐによって保持された画像信号がゲート電極に供給されるカレント薄膜トランジスタ１４３と、このカレント薄膜トランジスタ１４３を介して共通給電線１３３に電気的に接続したときに共通給電線１３３から駆動電流が流れ込む画素電極１４１と、この画素電極１４１と反射電極１５４との間に挟み込まれる発光部１４０と、が設けられている。
【００２３】
このような構成のもとに、走査線１３１が駆動されてスイッチング薄膜トランジスタ１４２がオンとなると、そのときの信号線１３２の電位が保持容量ｃａｐに保持され、該保持容量ｃａｐの状態に応じて、カレント薄膜トランジスタ１４３のオン・オフ状態が決まる。そして、カレント薄膜トランジスタ１４３のチャネルを介して共通給電線１３３から画素電極１４１に電流が流れ、さらに発光部１４０を通じて反射電極１５４に電流が流れることにより、発光部１４０は、これを流れる電流量に応じて発光するようになる。
【００２４】
ここで、各画素１Ａの平面構造は、反射電極や有機ＥＬ素子を取り除いた状態での拡大平面図である図２に示すように、平面形状が長方形の画素電極１４１の四辺が、信号線１３２、共通給電線１３３、走査線１３１及び図示しない他の画素電極用の走査線によって囲まれた配置となっている。
【００２５】
次に、このようなＥＬディスプレイ１に備えられる有機ＥＬ素子の製造方法について、図３〜図５を用いて説明する。なお、図３〜図５では、説明を簡略化するべく、単一の画素１Ａについてのみ図示する。
まず、基板を用意する。ここで、有機ＥＬ素子では後述する発光層による発光光を基板側から取り出すことも可能であり、また基板と反対側から取り出す構成とすることも可能である。発光光を基板側から取り出す構成とする場合、基板材料としてはガラスや石英、樹脂等の透明ないし半透明なものが用いられるが、特に安価なソーダガラスが好適に用いられる。ソーダガラスを用いた場合、これにシリカコートを施すのが、酸アルカリに弱いソーダガラスを保護する効果を有し、さらに基板の平坦性をよくする効果も有するため好ましい。
また、基板に色フィルター膜や蛍光性物質を含む色変換膜、あるいは誘電体反射膜を配置して、発光色を制御するようにしてもよい。
また、基板と反対側から発光光を取り出す構成の場合、基板は不透明であってもよく、その場合、アルミナ等のセラミックス、ステンレス等の金属シートに表面酸化などの絶縁処理を施したもの、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂などを用いることができる。
【００２６】
本例では、基板として図３（ａ）に示すようにソーダガラス等からなる透明基板１２１を用意する。そして、これに対し、必要に応じてＴＥＯＳ（テトラエトキシシラン）や酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約２００〜５００ｎｍのシリコン酸化膜からなる下地保護膜（図示せず）を形成する。
【００２７】
次に、透明基板１２１の温度を約３５０℃に設定して、下地保護膜の表面にプラズマＣＶＤ法により厚さ約３０〜７０ｎｍのアモルファスシリコン膜からなる半導体膜２００を形成する。次いで、この半導体膜２００に対してレーザアニールまたは固相成長法などの結晶化工程を行い、半導体膜２００をポリシリコン膜に結晶化する。レーザアニール法では、例えばエキシマレーザでビームの長寸が４００ｍｍのラインビームを用い、その出力強度は例えば２００ｍＪ／ｃｍ2 とする。ラインビームについては、その短寸方向におけるレーザ強度のピーク値の９０％に相当する部分が各領域毎に重なるようにラインビームを走査する。
【００２８】
次いで、図３（ｂ）に示すように、半導体膜（ポリシリコン膜）２００をパターニングして島状の半導体膜２１０とし、その表面に対して、ＴＥＯＳや酸素ガスなどを原料としてプラズマＣＶＤ法により厚さ約６０〜１５０ｎｍのシリコン酸化膜または窒化膜からなるゲート絶縁膜２２０を形成する。なお、半導体膜２１０は、図２に示したカレント薄膜トランジスタ１４３のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となるものであるが、異なる断面位置においてはスイッチング薄膜トランジスタ１４２のチャネル領域及びソース・ドレイン領域となる半導体膜も形成されている。つまり、図３〜図５に示す製造工程では二種類のトランジスタ１４２、１４３が同時に作られるのであるが、同じ手順で作られるため、以下の説明ではトランジスタに関しては、カレント薄膜トランジスタ１４３についてのみ説明し、スイッチング薄膜トランジスタ１４２についてはその説明を省略する。
【００２９】
次いで、図３（ｃ）に示すように、アルミニウム、タンタル、モリブデン、チタン、タングステンなどの金属膜からなる導電膜をスパッタ法により形成した後、これをパターニングし、ゲート電極１４３Ａを形成する。
次いで、この状態で高濃度のリンイオンを打ち込み、半導体膜２１０に、ゲート電極１４３Ａに対して自己整合的にソース・ドレイン領域１４３ａ、１４３ｂを形成する。なお、不純物が導入されなかった部分がチャネル領域１４３ｃとなる。
【００３０】
次いで、図３（ｄ）に示すように、層間絶縁膜２３０を形成した後、コンタクトホール２３２、２３４を形成し、これらコンタクトホール２３２、２３４内に中継電極２３６、２３８を埋め込む。
次いで、図３（ｅ）に示すように、層間絶縁膜２３０上に、信号線１３２、共通給電線１３３及び走査線（図３に示さず）を形成する。ここで、中継電極２３８と各配線とは、同一工程で形成されていてもよい。このとき、中継電極２３６は、後述するＩＴＯ膜により形成されることになる。
【００３１】
そして、各配線の上面をも覆うように層間絶縁膜２４０を形成し、中継電極２３６に対応する位置にコンタクトホール（図示せず）を形成し、そのコンタクトホール内にも埋め込まれるようにＩＴＯ膜を形成し、さらにそのＩＴＯ膜をパターニングして、信号線１３２、共通給電線１３３及び走査線（図示せず）に囲まれた所定位置に、ソース・ドレイン領域１４３ａに電気的に接続する画素電極１４１を形成する。ここで、信号線１３２及び共通給電線１３３、さらには走査線（図示せず）に挟まれた部分が、後述するように正孔注入層や発光層の形成場所となっている。
【００３２】
次いで、図４（ａ）に示すように、前記の形成場所を囲むように隔壁１５０を形成する。この隔壁１５０は仕切部材として機能するものであり、例えばポリイミド等の絶縁性有機材料で形成するのが好ましい。隔壁１５０の膜厚については、例えば１〜２μｍの高さとなるように形成する。また、隔壁１５０は、インクジェットヘッド１０から吐出される液体に対して撥インク性を示すものが好ましく、具体的には、インク（インクジェットヘッド１０から吐出される液体）の該隔壁１５０に対する接触角が３０°以上となるものであるのが好ましい。
隔壁１５０に撥インク性を発現させるためには、例えば隔壁１５０の表面をフッ素系化合物などで表面処理するといった方法が採用される。フッ素化合物としては、例えばＣＦ4 、ＳＦ5 、ＣＨＦ3 などがあり、表面処理としては、例えばプラズマ処理、ＵＶ照射処理などが挙げられる。
そして、このような構成のもとに、正孔注入層や発光層の形成場所、すなわちこれらの形成材料の塗布位置とその周囲の隔壁１５０との間には、十分な高さの段差１１１が形成されているのである。
【００３３】
次いで、図４（ｂ）に示すように、表示基板１２１の上面を上に向けた状態で、インクジェットヘッド法によって正孔注入層の形成材料をインクジェットヘッド１０より、前記隔壁１５０に囲まれた塗布位置に選択的に塗布する。
ここで、インクジェットヘッド１０は、図６（ａ）に示すように例えばステンレス製のノズルプレート１２と振動板１３とを備え、両者を仕切部材（リザーバプレート）１４を介して接合したものである。ノズルプレート１２と振動板１３との間には、仕切部材１４によって複数の空間１５と液溜まり１６とが形成されている。各空間１５と液溜まり１６の内部はインクで満たされており、各空間１５と液溜まり１６とは供給口１７を介して連通したものとなっている。また、ノズルプレート１２には、空間１５からインクを噴射するためのノズル孔１８が一列に配列された状態で複数形成されている。一方、振動板１３には、液溜まり１６にインクを供給するための孔１９が形成されている。
【００３４】
また、振動板１３の空間１５に対向する面と反対側の面上には、図６（ｂ）に示すように圧電素子（ピエゾ素子）２０が接合されている。この圧電素子２０は、一対の電極２１の間に位置し、通電するとこれが外側に突出するようにして撓曲するよう構成されたものである。そして、このような構成のもとに圧電素子２０が接合されている振動板１３は、圧電素子２０と一体になって同時に外側へ撓曲するようになっており、これによって空間１５の容積が増大するようになっている。したがって、空間１５内に増大した容積分に相当するインクが、液溜まり１６から供給口１７を介して流入する。また、このような状態から圧電素子２０への通電を解除すると、圧電素子２０と振動板１３はともに元の形状に戻る。したがって、空間１５も元の容積に戻ることから、空間１５内部のインクの圧力が上昇し、ノズル孔１８から基板に向けてインクの液滴２２が吐出される。
なお、インクジェットヘッド１０のインクジェット方式としては、前記の圧電素子２０を用いたピエゾジェットタイプ以外の方式でもよく、例えば、エネルギー発生素子として電気熱変換体を用いた、熱エネルギーを利用してインクを吐出するヘッド等の方式を採用してもよい。
【００３５】
このような構成のインクジェットヘッド１０を用いて、本例では図４（ｂ）に示したように隔壁１５０内に正孔注入層の形成材料をインクとして塗布する。
正孔注入層の形成材料としては、ポリマー前駆体がポリテトラヒドロチオフェニルフェニレンであるポリフェニレンビニレン、１，１−ビス−（４−Ｎ，Ｎ−ジトリルアミノフェニル）シクロヘキサン、トリス（８−ヒドロキシキノリノール）アルミニウム等が挙げられる。
このとき、液状の形成材料１１４Ａは、流動性が高いため水平方向に広がろうとするが、塗布された位置を囲んで隔壁１５０が形成されているので、形成材料１１４Ａは隔壁１５０を越えてその外側に広がることが防止されている。
【００３６】
なお、このようなインクジェットヘッド１０のノズル孔１８からの、形成材料１１４Ａの吐出による正孔注入層の形成は、後述するように透明基板１２１のＸ方向に沿って、この方向に配列された画素１Ａ毎に順次なされるようになっている。また、このような正孔注入層の形成材料の吐出については、基本的に全ての画素に対して行うことから、インクジェットヘッド１０に配列された複数のノズル孔１８のうち、各画素１Ａに対応するノズル孔１８は全て、略同時に吐出をなすようになっている。
【００３７】
次いで、図４（ｃ）に示すように加熱あるいは光照射により液状の前駆体１１４Ａの溶媒を蒸発させて、画素電極１４１上に、固形の正孔注入層１４０Ａを形成する。
次いで、図５（ａ）に示すように、表示基板１２１の上面を上に向けた状態で、インクジェットヘッド１０よりインクとして発光層の形成材料（発光材料）１１４Ｂを前記隔壁１５０内の正孔注入層１４０Ａ上に選択的に塗布する。
【００３８】
発光層の形成材料としては、例えば共役系高分子有機化合物の前駆体と、得られる発光層の発光特性を変化させるための蛍光色素とを含んでなるものが好適に用いられる。
共役系高分子有機化合物の前駆体は、蛍光色素等とともにインクジェットヘッド１０から吐出されて薄膜に成形された後、例えば以下の式（Ｉ）に示すように加熱硬化されることによって共役系高分子有機ＥＬ層となる発光層を生成し得るものをいい、例えば前駆体のスルホニウム塩の場合、加熱処理されることによりスルホニウム基が脱離し、共役系高分子有機化合物となるもの等である。
【００３９】
【化１】
0003932847.tif 000002
【００４０】
このような共役系高分子有機化合物は固体で強い蛍光を持ち、均質な固体超薄膜を形成することができる。しかも形成能に富みＩＴＯ電極との密着性も高い。さらに、このような化合物の前駆体は、硬化した後は強固な共役系高分子膜を形成することから、加熱硬化前においては前駆体溶液を後述するインクジェットパターニングに適用可能な所望の粘度に調整することができ、簡便かつ短時間で最適条件の膜形成を行うことができる。
【００４１】
このような前駆体としては、例えばＰＰＶ（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））またはその誘導体の前駆体が好ましい。ＰＰＶまたはその誘導体の前駆体は、水あるいは有機溶媒に可溶であり、また、ポリマー化が可能であるため光学的にも高品質の薄膜を得ることができる。さらに、ＰＰＶは強い蛍光を持ち、また二重結合のπ電子がポリマー鎖上で非極在化している導電性高分子でもあるため、高性能の有機ＥＬ素子を得ることができる。
【００４２】
このようなＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体として、例えば化学式（ＩＩ）に示すような、ＰＰＶ（ポリ（パラ−フェニレンビニレン））前駆体、ＭＯ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ジメトキシ−１，４−フェニレンビニレン））前駆体、ＣＮ−ＰＰＶ（ポリ（２，５−ビスヘキシルオキシ−１，４−フェニレン−（１−シアノビニレン）））前駆体、ＭＥＨ−ＰＰＶ（ポリ［２−メトキシ−５−（２’−エチルヘキシルオキシ）］−パラ−フェニレンビニレン）前駆体等が挙げられる。
【００４３】
【化２】
0003932847.tif 000003
【００４４】
ＰＰＶまたはＰＰＶ誘導体の前駆体は、前述したように水に可溶であり、成膜後の加熱により高分子化してＰＰＶ層を形成する。前記ＰＰＶ前駆体に代表される前駆体の含有量は、組成物全体に対して０．０１〜１０．０ｗｔ％が好ましく、０．１〜５．０ｗｔ％がさらに好ましい。前駆体の添加量が少な過ぎると共役系高分子膜を形成するのに不十分であり、多過ぎると組成物の粘度が高くなり、インクジェット法による精度の高いパターニングに適さない場合がある。
【００４５】
さらに、発光層の形成材料としては、少なくとも１種の蛍光色素を含むのが好ましい。これにより、発光層の発光特性を変化させることができ、例えば、発光層の発光効率の向上、または光吸収極大波長（発光色）を変えるための手段としても有効である。すなわち、蛍光色素は単に発光層材料としてではなく、発光機能そのものを担う色素材料として利用することができる。例えば、共役系高分子有機化合物分子上のキャリア再結合で生成したエキシトンのエネルギーをほとんど蛍光色素分子上に移すことができる。この場合、発光は蛍光量子効率が高い蛍光色素分子からのみ起こるため、発光層の電流量子効率も増加する。したがって、発光層の形成材料中に蛍光色素を加えることにより、同時に発光層の発光スペクトルも蛍光分子のものとなるので、発光色を変えるための手段としても有効となる。
【００４６】
なお、ここでいう電流量子効率とは、発光機能に基づいて発光性能を考察するための尺度であって、下記式により定義される。
ηE ＝放出されるフォトンのエネルギー／入力電気エネルギー
そして、蛍光色素のドープによる光吸収極大波長の変換によって、例えば赤、青、緑の３原色を発光させることができ、その結果フルカラー表示体を得ることが可能となる。
さらに蛍光色素をドーピングすることにより、ＥＬ素子の発光効率を大幅に向上させることができる。
【００４７】
蛍光色素としては、赤色の発色光を発光する発光層を形成する場合、赤色の発色光を有するローダミンまたはローダミン誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素は、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく、均一で安定した発光層の形成が容易である。このような蛍光色素として具体的には、ローダミンＢ、ローダミンＢベース、ローダミン６Ｇ、ローダミン１０１過塩素酸塩等が挙げられ、これらを２種以上混合したものであってもよい。
【００４８】
また、緑色の発色光を発光する発光層を形成する場合、緑色の発色光を有するキナクリドンおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
【００４９】
さらに、青色の発色光を発光する発光層を形成する場合、青色の発色光を有するジスチリルビフェニルおよびその誘導体を用いるのが好ましい。これらの蛍光色素は前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水・アルコール混合溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
【００５０】
また、青色の発色光を有する他の蛍光色素としては、クマリンおよびその誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。このような蛍光色素として具体的には、クマリン、クマリン−１、クマリン−６、クマリン−７、クマリン１２０、クマリン１３８、クマリン１５２、クマリン１５３、クマリン３１１、クマリン３１４、クマリン３３４、クマリン３３７、クマリン３４３等が挙げられる。
【００５１】
さらに、別の青色の発色光を有する蛍光色素としては、テトラフェニルブタジエン（ＴＰＢ）またはＴＰＢ誘導体を挙げることができる。これらの蛍光色素は、前記赤色蛍光色素等と同様、低分子であるため水溶液に可溶であり、またＰＰＶと相溶性がよく発光層の形成が容易である。
以上の蛍光色素については、各色ともに１種のみを用いてもよく、また２種以上を混合して用いてもよい。
【００５２】
これらの蛍光色素については、前記共役系高分子有機化合物の前駆体固型分に対し、０．５〜１０ｗｔ％添加するのが好ましく、１．０〜５．０ｗｔ％添加するのがより好ましい。蛍光色素の添加量が多過ぎると発光層の耐候性および耐久性の維持が困難となり、一方、添加量が少な過ぎると、前述したような蛍光色素を加えることによる効果が十分に得られないからである。
【００５３】
また、前記前駆体および蛍光色素については、極性溶媒に溶解または分散させてインクとし、このインクをインクジェットヘッド１０から吐出するのが好ましい。極性溶媒は、前記前駆体、蛍光色素等を容易に溶解または均一に分散させることができるため、インクジェットヘッド１０のノズル孔１８での発光層形成材料中の固型分が付着したり目詰りを起こすのを防止することができる。
【００５４】
このような極性溶媒として具体的には、水、メタノール、エタノール等の水と相溶性のあるアルコール、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、Ｎ−メチルピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルイミダゾリン（ＤＭＩ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）等の有機溶媒または無機溶媒が挙げられ、これらの溶媒を２種以上適宜混合したものであってもよい。
【００５５】
さらに、前記形成材料中に湿潤剤を添加しておくのが好ましい。これにより、形成材料がインクジェットヘッド１０のノズル孔１８で乾燥・凝固することを有効に防止することができる。かかる湿潤剤としては、例えばグリセリン、ジエチレングリコール等の多価アルコールが挙げられ、これらを２種以上混合したものであってもよい。この湿潤剤の添加量としては、形成材料の全体量に対し、５〜２０ｗｔ％程度とするのが好ましい。
なお、その他の添加剤、被膜安定化材料を添加してもよく、例えば、安定剤、、粘度調整剤、老化防止剤、ｐＨ調整剤、防腐剤、樹脂エマルジョン、レベリング剤等を用いることができる。
【００５６】
このような発光層の形成材料１１４Ｂをインクジェットヘッド１０のノズル孔１８から吐出すると、形成材料１１４Ａは隔壁１５０内の正孔注入層１４０Ａ上に塗布される。
ここで、形成材料１１４Ａの吐出による発光層の形成は、赤色の発色光を発光する発光層の形成材料、緑色の発色光を発光する発光層の形成材料、青色の発色光を発光する発光層の形成材料を、それぞれ対応する画素１Ａに吐出し塗布することによって行う。なお、各色に対応する画素１Ａは、これらが規則的な配置となるように予め決められている。
【００５７】
各色の発光層形成のための、形成材料の吐出例について、図７（ａ）〜（ｃ）を参照して説明する。
この例では、前述したように予め前記の正孔注入層１４０Ａが、図７（ｂ）に示すように透明基板１２１のＸ方向、すなわち図７（ｂ）中の矢印に示す方向にインクジェットヘッド１０と透明基板１２１とが相対的に移動させられたことにより、全ての画素１Ａに形成されているものとする。なお、インクジェットヘッド１０にはノズル孔１８が、Ｘ方向と略直交する方向、すなわちＹ方向に配列されており、したがってＸ方向に並列している各画素列は、それぞれインクジェットヘッド１０のうちの対応する同じノズル孔１８から各画素１Ａ毎に断続的なインクの吐出がなされることにより、正孔注入層１４０Ａを形成したものとなっている。
【００５８】
このようにして正孔注入層１４０Ａが形成された各画素１Ａに、前述したようにして発光層の形成材料を吐出し塗布するが、その際、本発明では、前記発光層形成材料のうちの一つの色（本例では緑色）の発光層形成材料を、正孔注入層１４０Ａの場合と同様にＸ方向に断続的に吐出し塗布する。
また、残りの赤色及び青色の発光層形成材料については、Ｘ方向と略直交するＹ方向に断続的に吐出し塗布する。
【００５９】
すなわち、まず図７（ａ）に示すように透明基板１２１のＹ方向に、赤色の発光層の形成材料を断続的に吐出し、Ｙ方向に配列された画素１Ａのうち予め赤色の発光層を形成するように設定されている画素（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３）に形成材料を塗布する。ここで、インクジェットヘッド１０にはノズル孔１８が、Ｙ方向と略直交する方向、すなわちＸ方向に配列されており、したがってＹ方向に並列している各画素列は、それぞれインクジェットヘッド１０のうちの対応する同じノズル孔１８から各画素１Ａ毎に断続的なインクの吐出がなされることにより、赤色の発光層の形成材料が塗布されたものとなっている。なお、Ｙ方向に並列されたこれら画素列については、その複数の列（図７（ａ）では３列）がインクジェットヘッド１０による一回の走査により同時に形成されるようになっている。
【００６０】
また、この赤色発光層の形成材料の吐出については、前述した正孔注入層１４０Ａの形成材料の吐出（図７（ｂ）参照）に対して９０°傾いた方向で行うようにしているが、このような吐出方向の変更については、透明基板１２１を載置した基板ステージ（図示せず）を回転させるか、あるいはインクジェットヘッド１０を９０°回転させることによって行う。すなわち、これによって図７（ｂ）に示した正孔注入層の形成の際の状態から、図７（ａ）に示した赤色発光層形成の状態に移行させているのである。
【００６１】
このようにして赤色発光層の形成材料を塗布したら、続いて緑色発光層の形成材料を吐出するべく、再度基板ステージあるいはインクジェットヘッド１０を回転させて、図７（ｂ）に示したようにインクジェットヘッド１０をそのノズル孔１８の列が透明基板１２１のＹ方向となるように相対的位置関係をセットする。そして、この状態のもとで緑色の発光層形成材料を透明基板１２１のＸ方向に断続的に吐出し、Ｘ方向に配列された画素１Ａのうち予め緑色の発光層を形成するように設定されている画素（Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４）に形成材料を塗布する。ここで、Ｘ方向に配列された画素１Ａは、図７（ａ）に示したようなＹ方向に形成された画素列と異なり、列を構成する全ての画素１Ａが同一色の発光層を形成する画素とはなっておらず、複数個毎、本例では３個の画素毎に１個の緑色の発光層を形成する画素（Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４）となっている。したがって、インクジェットヘッド１０からの断続的な吐出を行う際には、先の赤色発光層形成の場合とは異なり、吐出間隔をその分長くして行う必要がある。
【００６２】
このようにして緑色発光層の形成材料を塗布したら、続いて青色発光層の形成材料を吐出するべく、基板ステージあるいはインクジェットヘッド１０を再度回転させて、図７（ｃ）に示したようにインクジェットヘッド１０をそのノズル孔１８の列が透明基板１２１のＸ方向となるようにセットする。そして、この状態のもとで青色の発光層形成材料を透明基板１２１のＸ方向に断続的に吐出し、Ｙ方向に配列された画素１Ａのうち予め青色の発光層を形成するように設定されている画素（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３）に形成材料を塗布する。
【００６３】
このようにして正孔注入層１４０Ａを形成し、さらに各色の発光層形成材料を吐出塗布すると、同じノズル孔１８からの吐出によりその吐出方向に形成された画素列は、発光層のうちの緑色の画素列と正孔注入層１４０Ａの画素列とが透明基板１２１のＸ方向に、また発光層のうちの赤色の画素列と青色の画素列とがＹ方向に形成されることになる。すると、Ｘ方向の列間で生じる発光むらとＹ方向の列間で生じる発光むらとが確率的に言って共に同程度に起こると考えられることから、正孔注入層１４０Ａと赤色、緑色、青色の全て色の発光層とを同一の吐出方向で形成し、したがって各色の発光度のむらが同一の方向に生じる場合に比べ、発光むらとして視認される方向がＸ方向とＹ方向に分散され、これにより発光むらの偏りが少なくなる。
【００６４】
このようにして各色の発光層形成材料を吐出し塗布したら、発光層形成材料１１４Ｂ中の溶媒を蒸発させることにより、図５（ｂ）に示すように正孔層注入層１４０Ａ上に固形の発光層１４０Ｂを形成し、これにより正孔層注入層１４０Ａと発光層１４０Ｂとからなる発光部１４０を得る。ここで、発光層形成材料１１４Ｂ中の溶媒の蒸発については、必要に応じて加熱あるいは減圧等の処理を行うが、発光層の形成材料は通常乾燥性が良好で速乾性であることから、特にこのような処理を行うことなく、したがって各色の発光層形成材料を順次吐出塗布することにより、その塗布順に各色の発光層１４０Ｂを形成することができる。
その後、図５（ｃ）に示すように、透明基板１２１の表面全体に、あるいはストライプ状に反射電極１５４を形成し、有機ＥＬ素子を得る。
【００６５】
このように、本例の有機ＥＬ素子の製造方法にあっては、発光層のうちの緑色の画素列と正孔注入層１４０Ａの画素列とを透明基板１２１のＸ方向に、また発光層のうちの赤色の画素列と青色の画素列とをＹ方向に形成しているので、正孔注入層１４０Ａと赤色、緑色、青色の全て色の発光層とを同一の吐出方向で形成し、したがって各色の発光度のむらが同一の方向に生じる場合に比べ、発光むらとして視認される方向をＸ方向とＹ方向に分散することができ、これにより発光むらの偏りを少なくして全体としての表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることができる。
【００６６】
また、透明基板１２１上に予め隔壁１５０を形成しておき、該隔壁１５０内に正孔注入層の形成材料や発光層の形成材料を吐出し塗布しているので、吐出した際、各材料の着弾位置に少々バラツキがあっても、隔壁１５０内に着弾すれば所望の位置に発光層等を形成することができ、したがって発光層等からなる画素をそれぞれ所望位置に形成することにより、表示品質を高めることができる。
【００６７】
また、このようにして得られた有機ＥＬ素子にあっては、前記の製造方法によって得られてなることにより発光むらの偏りが少ないものとなることから、全体としての表示品質の低下が軽減され、表示品質の向上されたものとなる。
さらに、この有機ＥＬ素子を用いてなるＥＬディスプレイにあっても、高い表示品質を有するものとなる。
【００６８】
次に、本発明の有機ＥＬ素子の製造方法の他の例について説明する。
この例が先の例と異なるところは、インクジェット法で正孔注入層１４０Ａ及び発光層１４０Ｂを形成する際に、単一の画素に対する各形成材料の吐出を、単一のノズル孔１８からでなく、複数のノズル孔１８から行う点にある。
すなわち、本例では、図８（ａ）〜（ｃ）に示すように、一列に配列されたノズル孔１８間の間隔が図７（ａ）〜（ｃ）に示したものに比べ狭いインクジェットヘッド１０Ａを用意し、これを用いて正孔注入層１４０Ａ及び発光層１４０Ｂの形成材料を吐出するようにしている。
【００６９】
このインクジェットヘッド１０Ａによって正孔注入層１４０Ａ及び発光層１４０Ｂを形成するには、まず、図８（ｂ）に示すようにインクジェットヘッド１０Ａを、そのノズル孔１８の列が透明基板１２１のＹ方向となるようにセットし、その状態から図８（ｂ）中の矢印に示す方向にインクジェットヘッド１０Ａと透明基板１２１とをＸ方向に相対的に移動させ、これによって全ての画素１Ａに正孔注入層の形成材料を吐出し塗布する。このとき、インクジェットヘッド１０Ａは前述したようにノズル孔１８間の間隔が狭いことにより、単一の画素１Ａに対する正孔注入層形成材料の吐出が、単一のノズル孔１８からでなく、複数のノズル孔１８（本例では二つのノズル孔１８）から同時になされる。そして、先の例と同様にして塗布した形成材料から正孔注入層１４０Ａを形成する。
【００７０】
このように、単一のノズル孔１８からでなく複数のノズル孔１８から単一の画素１Ａに対して同時に吐出を行うことにより、この画素１Ａに吐出された形成材料の量は、ここへの吐出を行った複数のノズル孔１８間のバラツキが平均化された量となる。したがって、単一の正孔注入層１４０Ａを形成するノズル孔１８のグループ毎で比較した場合に、そのグループ間での吐出量のバラツキも平均化されることになる。
【００７１】
このようにして正孔注入層１４０Ａを形成したら、先の例と同様にして発光層の形成材料を吐出し塗布する。
すなわち、まず図８（ａ）に示すように透明基板１２１のＹ方向に、赤色の発光層の形成材料を断続的に吐出し、Ｙ方向に配列された画素１Ａのうち予め赤色の発光層を形成するように設定されている画素（Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３）に形成材料を塗布する。この場合にも、正孔注入層の形成材料の場合と同様に、単一の画素１Ａに対する赤色発光層形成材料の吐出を、単一のノズル孔１８からでなく複数のノズル孔１８（本例では二つのノズル孔１８）から同時に行う。なお、Ｙ方向に並列されたこれら画素列については、先の例と同様に、その複数の列（図８（ａ）では３列）がインクジェットヘッド１０Ａによる一回の走査により同時に形成されるようになっている。
【００７２】
このようにして赤色発光層の形成材料を塗布したら、続いて緑色発光層の形成材料を吐出するべく、図８（ｂ）に示したようにインクジェットヘッド１０Ａをそのノズル孔１８の列が透明基板１２１のＹ方向となるようにセットする。そして、この状態のもとで先の例と同様にして緑色の発光層形成材料を透明基板１２１のＸ方向に断続的に吐出し、Ｘ方向に配列された画素１Ａのうち予め緑色の発光層を形成するように設定されている画素（Ｇ１、Ｇ２、Ｇ３、Ｇ４）に形成材料を塗布する。この場合にも、赤色発光層の形成材料の場合と同様に、単一の画素１Ａに対する緑色発光層形成材料の吐出を、単一のノズル孔１８からでなく複数のノズル孔１８（本例では二つのノズル孔１８）から同時に行う。なお、インクジェットヘッド１０からの断続的な吐出を行う際には、先の例と同様に、赤色発光層形成の場合よりその吐出間隔を長くして行う。
【００７３】
このようにして緑色発光層の形成材料を塗布したら、続いて青色発光層の形成材料を吐出するべく、図８（ｃ）に示したようにインクジェットヘッド１０Ａをそのノズル孔１８の列が透明基板１２１のＸ方向となるようにセットする。そして、この状態のもとで青色の発光層形成材料を透明基板１２１のＸ方向に断続的に吐出し、Ｙ方向に配列された画素１Ａのうち予め青色の発光層を形成するように設定されている画素（Ｂ１、Ｂ２、Ｂ３）に形成材料を塗布する。この場合にも、赤色発光層の形成材料の場合と同様に、単一の画素１Ａに対する青色発光層形成材料の吐出を、単一のノズル孔１８からでなく複数のノズル孔１８（本例では二つのノズル孔１８）から同時に行う。
【００７４】
このような発光層形成材料の吐出に際しても、単一のノズル孔１８からでなく複数のノズル孔１８から単一の画素１Ａに対して同時に吐出を行うことにより、この画素１Ａに吐出された形成材料の量を、ここへの吐出を行った複数のノズル孔１８間のバラツキが平均化された量とすることができる。したがって、単一の正孔注入層１４０Ａを形成するノズル孔１８のグループ毎で比較した場合に、そのグループ間での吐出量のバラツキも平均化されることになる。
【００７５】
そして、このように正孔注入層１４０Ａ及び各色の発光層１４０Ｂについて、いずれも単一の画素１Ａに対して複数のノズル孔１８から同時に吐出するようにしているので、ノズル孔１８のグループ間での吐出量のバラツキも平均化されることにより、全体としての表示品質の向上を図ることができる。
また、発光層のうちの緑色の画素列と正孔注入層１４０Ａの画素列とを透明基板１２１のＸ方向に、また発光層のうちの赤色の画素列と青色の画素列とをＹ方向に形成しているので、正孔注入層１４０Ａと赤色、緑色、青色の全て色の発光層とを同一の吐出方向で形成し、したがって各色の発光度のむらが同一の方向に生じる場合に比べ、発光むらとして視認される方向をＸ方向とＹ方向に分散することができ、これにより発光むらの偏りを少なくして全体としての表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることができる。
【００７６】
なお、図８（ａ）〜（ｃ）に示した例のごとく、単一の画素に対して複数のノズル孔１８から吐出を行う場合、図９に示すようにインクジェットヘッド１０Ａを、正孔注入層や発光層を形成する画素１Ａの列方向に対して所定量（例えば図９中の角度θ）傾けた状態で吐出するようにしてもよい。このようにしてインクジェットヘッド１０Ａを所定量傾け、ノズル孔１８の配列方向と移動方向（例えばＸ軸方向）との傾きを角度θとすれば、ノズル孔１８間の実際のピッチＤよりも見かけ上のピッチＥを狭くすることができ、これにより単一の画素１Ａに対して複数のノズル孔１８から略同時に吐出を行わせることができるようになる。
このようにしてノズル孔１８間の見かけ上の間隔を狭くするようにすれば、単一の画素１Ａに対して吐出するノズル孔１８の数を増やすことができ、したがって前述したようにノズル孔１８のグループ間での吐出量のバラツキをより平均化して、発光むらを一層少なくすることができる。
【００７７】
また、前記例では、画素１Ａ…の配列を図１０（ａ）に示すようにストライプ状としたが、図１０（ｂ）に示すようなモザイク状の配列や、図１０（ｃ）に示すようなデルタ状の配列などにおいても、同様の効果を得ることができる。
また、前記例では発光層１４０Ｂの下層として正孔注入層１４０Ａを形成したが、本発明はこれに限定されることなく、例えばこの正孔注入層に代えて正孔輸送層を形成するようにしてもよい。この正孔輸送層の形成材料としては特に限定されないものの、例えばピラゾリン誘導体、アリールアミン誘導体、スチルベン誘導体、トリフェニルジアミン誘導体等が用いられる。
【００７８】
また、前記例では画素１Ａ間を隔てる隔壁１５０を、ポリイミド材料とその表面を撥インク処理することによって形成したが、本発明はこれに限定されることなく、例えば樹脂ブラックレジストなどによって隔壁を形成してもよく、さらには隔壁を設けることなく正孔注入層や発光層を形成するようにしてもよい。
【００７９】
次に、前記例の有機ＥＬ素子を用いたＥＬディスプレイが備えられた電子機器の具体例について説明する。
図１１（ａ）は、携帯電話の一例を示した斜視図である。図１１（ａ）において、５００は携帯電話本体を示し、５０１は図１、図２に示したＥＬディスプレイを備えたＥＬ表示部（表示手段）を示している。
図１１（ｂ）は、ワープロ、パソコンなどの携帯型情報処理装置の一例を示した斜視図である。図１１（ｂ）において、６００は情報処理装置、６０１はキーボードなどの入力部、６０３は情報処理本体、６０２は前記の図１、図２に示したＥＬディスプレイを備えたＥＬ表示部（表示手段）を示している。
図１１（ｃ）は、腕時計型電子機器の一例を示した斜視図である。図１１（ｃ）において、７００は時計本体を示し、７０１は前記の図１、図２に示したＥＬディスプレイを備えたＥＬ表示部（表示手段）を示している。
図１１（ａ）〜（ｃ）に示す電子機器は、前記ＥＬディスプレイが備えられたものであるので、優れた表示品質が得られる表示手段を備えた電子機器となる。
【００８０】
【発明の効果】
以上説明したように本発明の有機ＥＬ素子の製造方法によれば、発光層のうちの少なくとも一つの色の発光層を形成する発光材料を、ノズルから第１の方向（例えばＸ方向）に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成し、発光層のうちの他の色の発光層を形成する発光材料を、ノズルから第１の方向と略直交する第２の方向（例えばＹ方向）に断続的に吐出して複数の発光層からなる発光層の列を形成するので、インクジェットヘッドのノズル間での吐出量のバラツキに起因して吐出方向に形成される発光層の列間での発光むらを、発光層のうちの少なくとも一つの色と他の色とで略直交する方向に生じさせることができ、したがって発光むらの方向を一方向に偏らせないことにより全体としての表示品質の低下を軽減し、これの向上を図ることができる。
【００８１】
本発明の有機ＥＬ素子によれば、前記の製造方法によって得られてなることにより、表示品質の高いものとなる。
本発明のＥＬディスプレイによれば、前記有機ＥＬ素子を用いてなることにより高い表示品質を有するものとなる。
本発明の電子機器によれば、前記ＥＬディスプレイを用いてなることにより高い表示品質を有するものとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明のＥＬディスプレイの配置部を示す回路図である。
【図２】  画素部の平面構造を示す拡大平面図である。
【図３】  （ａ）〜（ｅ）は本発明の有機ＥＬ素子の製造方法を工程順に説明するための要部側断面図である。
【図４】  （ａ）〜（ｃ）は図３に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図５】  （ａ）〜（ｃ）は図４に続く工程を順に説明するための要部側断面図である。
【図６】  インクジェットヘッドの概略構成を説明するための図であり、（ａ）は要部斜視図、（ｂ）は要部側断面図である。
【図７】  （ａ）〜（ｃ）はインクジェットヘッドのノズル孔から発光層の形成材料を吐出する工程の一例を順に説明するための模式図である。
【図８】  （ａ）〜（ｃ）はインクジェットヘッドのノズル孔から発光層の形成材料を吐出する工程の他の例を順に説明するための模式図である。
【図９】  インクジェットヘッドを所定量傾けた状態で吐出する例を説明するための模式図である。
【図１０】  画素の配列パターンを説明するための図であって、（ａ）はストライプ状のパターン、（ｂ）はモザイク状のパターン、（ｃ）はデルタ状のパターンを示す図である。
【図１１】  ＥＬディスプレイが備えられた電子機器の具体例を示す図であり、（ａ）は携帯電話に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｂ）は情報処理装置に適用した場合の一例を示す斜視図、（ｃ）は腕時計型電子機器に適用した場合の一例を示す斜視図である。
【図１２】  インクジェットヘッドのノズル孔から発光層の形成材料を吐出する工程の従来の例を説明するための模式図である。
【符号の説明】
１Ａ…画素、１０、１０Ａ…インクジェットヘッド、
１８…ノズル孔（ノズル）、１２１…透明基板、１４０Ａ…正孔注入層、
１４０Ｂ…発光層、１５０…隔壁
【図１】
0003932847.tif 000004
【図２】
0003932847.tif 000005
【図３】
0003932847.tif 000006
【図４】
0003932847.tif 000007
【図５】
0003932847.tif 000008
【図６】
0003932847.tif 000009
【図７】
0003932847.tif 000010
【図８】
0003932847.tif 000011
【図９】
0003932847.tif 000012
【図１０】
0003932847.tif 000013
【図１１】
0003932847.tif 000014
【図１２】
0003932847.tif 000015