(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放電部を仕切る隔壁を基板上に備えるプラズマディスプレイパネルの隔壁を形成する方法であって、
隔壁形成用膜と前記放電部に対応する開口部を有するマスクとを積層した長方形の基板をその長辺に沿う方向に所定の速度で搬送させるとともに、
複数の噴射ノズルを前記基板の長辺に沿って基板の搬送方向と直交する第１の移動機構に取り付けるとともに当該第１の移動機構全体を基板の搬送方向と並行に前記基板の搬送速度と同じ速度で移動する第２の移動機構に取り付けて、第１および第２の移動機構を同時に駆動することにより当該噴射ノズルを前記基板の搬送速度に対応する所定の角度で当該基板を横切るように移動させ、
この移動中の噴射ノズルから砥粒を隔壁形成用膜に吹きつけて、前記マスクの開口部に露出した部分の隔壁形成用膜を切削し、当該基板上に残存する隔壁形成用膜により隔壁を形成することを
を特徴とするプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。
【請求項２】
放電部を仕切る隔壁を基板上に備えるプラズマディスプレイパネルの隔壁を形成する方法であって、
隔壁形成用膜と前記放電部に対応する開口部を有するマスクとを積層した長方形の基板をその長辺に沿う方向に所定の速度で搬送させるとともに、
前記基板の対向する２つの長辺に対して千鳥状に配置した複数の噴射ノズルを前記基板の長辺に沿って基板の搬送方向と直交する第１の移動機構に取り付けるとともに当該第１の移動機構全体を基板の搬送方向と並行に前記基板の搬送速度と同じ速度で移動する第２の移動機構に取り付けて、第１および第２の移動機構を同時に駆動することにより当該噴射ノズルを前記基板の搬送速度に対応する所定の角度で当該基板を横切るように移動させ、
この移動中の噴射ノズルから砥粒を隔壁形成用膜に吹きつけて、前記マスクの開口部に露出した部分の隔壁形成用膜を切削し、当該基板上に残存する隔壁形成用膜により隔壁を形成することを
特徴とするプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。
【請求項３】
前記噴射ノズルはスリット状に砥粒を噴射することを特徴とする請求項１または２に記載のプラズマディスプレイパネルの隔壁形成方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルの隔壁を形成する方法に関する。
プラズマディスプレイパネル（以下ＰＤＰと称する）は、ブラウン管に代わる表示デバイスとして注目されており、ハイビジョンテレビ等の大型ディスプレイの用途で有望視されている。
【０００２】
このようなＰＤＰにおいては、需要の拡大に対応すべく量産技術を確立すると共に、画質向上のために製造精度を高めることが求められている。
【０００３】
【従来の技術】
まず、フルカラー表示が可能なＡＣ型ＰＤＰの構造を図５を参照しながら説明する。図５は、３電極構造の面放電型ＰＤＰの一部を切り出した状態の斜視図である。
【０００４】
前面ガラス基板２１の内面には、基板面に沿った面放電を生じさせるための直線状の表示電極Ｘ，Ｙが、マトリクス表示のラインＬ毎に一対ずつ配列されている。表示電極Ｘ，Ｙは、それぞれがＩＴＯ（Indium Tin Oxide）薄膜からなる幅の広い直線状の透明電極２３と多層構造(Cr/Cu/Cr)の金属薄膜からなる幅の狭い直線状のバス電極２４とから構成されている。
【０００５】
また、表示電極Ｘ，Ｙを放電空間に対して被覆するように、ＡＣ駆動のためのＰｂＯ系の低融点ガラス層からなる誘電体層２５が設けられている。そして、誘電体層２５の表面にはＭｇＯ（酸化マグネシウム）からなる保護膜２６が蒸着されている。
【０００６】
一方、背面ガラス基板２２の内面は、表示電極Ｘ，Ｙと直交するように一定ピッチでアドレス電極２７が配列されている。このアドレス電極２７は、表示電極のバス電極２４同様、多層構造(Cr/Cu/Cr)の金属膜により構成されている。
【０００７】
アドレス電極２７の上面全体を覆うように配設された誘電体層２８の上には、高さが１５０μｍ程度のストライプ状の複数の隔壁２９が、各アドレス電極２７の間に一つずつ設けられている。隔壁２９の主材料も低融点ガラスである。
【０００８】
このような隔壁２９は、放電空間３０をライン方向（表示電極Ｘ，Ｙと平行な画素配列方向）に単位発光領域毎に区画すると共に、上下方向の放電ギャップを規定している。
【０００９】
そして、前記隔壁間に形成される細長い溝内においてアドレス電極２７の上部を含めて、誘電体層２８の表面及び隔壁２９の側面を被覆するように、フルカラー表示のためのストライプ状のＲ（赤）、Ｇ（緑）、Ｂ（青）の３原色の蛍光体３１が設けられている。
【００１０】
このように構成されたＰＤＰは、その放電空間３０中に、放電時に紫外線を照射して蛍光体励起するＮｅ−Ｘｅ（ＮｅとＸｅの混合ガス）等の放電ガスが数百torr程度の圧力で封入されている。
【００１１】
このような構造のＰＤＰにおいて隔壁は、比較的良好なパターン精度を期待できるサンドブラスト法により形成される。
図６及び図７は、そのサンドブラスト法による従来の隔壁形成方法を説明するための断面図及び平面図である。
【００１２】
図６の断面図に示すように、背面ガラス基板２２上には、アドレス電極２７と誘電体層２８が順次形成されており、隔壁はこの誘電体層２８上に形成される。まず、誘電体層２８上の全面に隔壁を形成するための隔壁材料膜３２をスクリーン印刷法により塗布し、この上に紙面の垂直方向に延びる帯状の開口部（隔壁間の細長い溝に対応）を有するマスク３３を形成する。
【００１３】
このマスク３３は、ドライフィルムと呼ばれる耐ブラスト性を有する感光膜をフォトプロセスによりパターニングしたものであり、寸法精度の良好なパターン形成を行なうことができる。
【００１４】
以上のように隔壁材料膜３２上にマスク３３を形成した後、マスク３３を含む隔壁材料膜３２全面に切削粒子（以下砥粒と称する）を噴射ノズル３４を介して噴射する。砥粒は、マスク３３に対しては、研削能力がなく、開口部より露出したマスクよりも硬質な隔壁材料膜３２のみを研削するため、図６に示すように、マスク３３の下部分に隔壁２９に対応した膜が形成される。
【００１５】
図では、背面ガラス基板２２が矢印の如く右方向（アドレス電極と直交する方向）へ搬送されながらサンドブラスト処理されており、一部にのみ隔壁２９が形成されている状態となっている。この後サンドブラスト処理を継続し、背面ガラス基板２２の全面における研削を完了させた後、マスク３３を除去し、焼成処理を行なうことにより隔壁２９をガラス化する。（この焼成と同時にマスクをバーンアウトすることも可能である）
図７は、噴射ノズル３４及び背面ガラス基板２２の動作を明らかにする平面図である。図６では、噴射ノズル３４は一つしか示していないが、図７では複数（例えば３つ）の噴射ノズル３４ａ〜３４ｃを用いる例を示している。
【００１６】
噴射ノズル３４ａ〜３４ｃは、背面ガラス基板２２の隔壁の延伸方向に対向する２辺において交互に配置されていて、砥粒を噴射しながら一点鎖線の矢印で示す如く背面ガラス基板２２を横切るように往復移動を行なう。この間、背面ガラス基板２２は、所定の速度で搬送路３５上を隔壁の配列方向（矢印方向）に搬送されている。
【００１７】
噴射ノズル３４の噴射口は円形状であり、スポット的な砥粒噴射を行なっていることから、背面ガラス基板２２の搬送速度を遅くすることにより、同一箇所に複数回砥粒を噴射して、十分な研削を可能としている。
【００１８】
【発明が解決しようとする課題】
上記従来の隔壁形成方法によると、背面ガラス基板２２に対して砥粒の噴射範囲が狭いノズルを往復動作させることで、サンドブラスト処理しているため、隔壁材料膜３２の研削を十分に行なうには、背面ガラス基板２２の搬送速度を低速にしなければならないため、隔壁形成に要する処理時間が極めて長くなり、量産に適するものではない。
【００１９】
また、噴射ノズル３４ａ〜３４ｃが背面ガラス基板２２を直角に横切る直線的な往復運動であるのに対して、背面ガラス基板２２が所定の速度で搬送されているため、各噴射ノズルはマスク３３の帯状の開口部に対して結果的に傾斜をもって研削を行なうことになり、背面ガラス基板２２の面内で均一な研削を行なうことができない。
【００２０】
例えば、図７において、噴射ノズル３４ａ〜３４ｃが背面ガラス基板２２を１回横切る間に、背面ガラス基板２２が点線の位置から実線の位置までの間（距離Ａ）だけ搬送された場合、噴射ノズル３４ｃによる研削領域は、搬送後の状態で斜線で示す範囲となり、研削ムラを生じることになる。これは、搬送速度が速くなるほど顕著となる。
【００２１】
この結果、所望の放電空間を画定する隔壁が得られず、そのため不点灯や余分な点灯等の点灯不良の原因となる。
本発明は、上記課題を解決して、処理速度が速く、かつ精度の良い隔壁を形成し得る方法を提供することを目的としている。
【００２２】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するための本発明の隔壁形成方法は、放電部を仕切る隔壁を基板上に備えるプラズマディスプレイパネルの隔壁を形成する方法であって、隔壁形成用膜と前記放電部に対応する開口部を有するマスクとを積層した長方形の基板をその長辺に沿う方向に所定の速度で搬送させるとともに、複数の噴射ノズルを前記基板の長辺に沿って基板の搬送方向と直交する第１の移動機構に取り付けるとともに当該第１の移動機構全体を基板の搬送方向と並行に前記基板の搬送速度と同じ速度で移動する第２の移動機構に取り付けて、第１および第２の移動機構を同時に駆動することにより当該噴射ノズルを前記基板の搬送速度に対応する所定の角度で当該基板を横切るように移動させ、この移動中の噴射ノズルから砥粒を隔壁形成用膜に吹きつけて、前記マスクの開口部に露出した部分の隔壁形成用膜を切削し、当該基板上に残存する隔壁形成用膜により隔壁を形成するするものである。
また、本発明の隔壁形成方法は、 放電部を仕切る隔壁を基板上に備えるプラズマディスプレイパネルの隔壁を形成する方法であって、隔壁形成用膜と前記放電部に対応する開口部を有するマスクとを積層した長方形の基板をその長辺に沿う方向に所定の速度で搬送させるとともに、前記基板の対向する２つの長辺に対して千鳥状に配置した複数の噴射ノズルを前記基板の長辺に沿って基板の搬送方向と直交する第１の移動機構に取り付けるとともに当該第１の移動機構全体を基板の搬送方向と並行に前記基板の搬送速度と同じ速度で移動する第２の移動機構に取り付けて、第１および第２の移動機構を同時に駆動することにより当該噴射ノズルを前記基板の搬送速度に対応する所定の角度で当該基板を横切るように移動させ、この移動中の噴射ノズルから砥粒を隔壁形成用膜に吹きつけて、前記マスクの開口部に露出した部分の隔壁形成用膜を切削し、当該基板上に残存する隔壁形成用膜により隔壁を形成するものである。
【００２３】
以上の隔壁形成方法によれば、長方形の基板をその長辺に沿う方向に所定の速度で搬送させ、噴射ノズルを前記基板の搬送方向に対して前記基板の搬送速度に応じた所定の角度で移動させ、この移動中の噴射ノズルから砥粒を隔壁形成用膜に吹きつけて、前記マスクの開口部に露出した部分の隔壁形成用膜を前記基板の搬送方向に直交する方向に切削し、当該基板上に残存する隔壁形成用膜により隔壁を形成するようにしているので、基板の一辺方向を同時に、且つ同一噴射ノズルで常に基板の同一領域を研削するため、研削に要する処理速度が速くなると共に、基板面内での研削ムラの発生を防止することが可能となる。
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施例を図面を参照しながら詳細に説明する。
図１は、本発明の第一実施例を説明するための平面図である。
【００２５】
ガラス基板１は、図６で説明した背面基板と同様のものであり、図示していないが、紙面の上下方向に延びるアドレス電極と、アドレス電極を含めた基板全面を覆う誘電体層とを有している。そして該誘電体層上には、隔壁を形成するための隔壁材料膜と耐ブラスト性の隔壁形状に対応するストライプ状マスクが積層して形成されている。
【００２６】
本実施例では、ガラス基板１を点線で示す位置Ａから実線の位置Ｂまで搬送させながらサンドブラスト処理を行なう場合の例を説明する。
上記構成のガラス基板１は搬送路４上を所定の速度で搬送され、隔壁材料膜は当該ガラス基板１を挟んで交互に配置される複数（本実施例では４個）の噴射ノズル２ａ〜２ｄから噴射される砥粒によりサンドブラスト処理される。
【００２７】
千鳥状に配置された噴射ノズル２ａ〜２ｄは、長方形をしており、ガ    ラス基板１の一対の長辺に対してほぼ隙間なく配置するもので、長辺方向に対して同    時に砥粒が噴射される構成としている。尚、隣接する噴射ノズル２ａおよび２ｂ、２ ｂおよび２ｃ、２ｃおよび２ｄはガラス基板１の中央付近ですれ違うため、僅かに隙    間を有するよう配置する必要があるが、砥粒は広がりをもってガラス基板１に噴射さ    れることから、ガラス基板１の長辺方向に対して同時に砥粒が衝突することになる。
【００２８】
ガラス基板１が点線の位置の時に、図１に示すように配置されており、    ガラス基板１の搬送と共に、噴射口３から砥粒を噴射しながらジグザク動作を行なう    。つまり、噴射ノズル２ａ〜２ｄは、ガラス基板１の搬送速度に対応する角度にてガ    ラス基板１を横切るように動作するために、前記基板１の長辺に沿って基板１の搬送 方向と直交する方向（第１の方向）へ移動するとともに、基板１の搬送方向と並行す る方向（第２の方向）へ移動するもので、本実施例の場合、一点鎖線の矢印で示すよ    うに移動し、ガラス基板１が実線の位置に搬送された時、噴射ノズル２ａは噴射ノズ    ル２ｂの位置へ、噴射ノズル２ｂは噴射ノズル２ｃの位置へというようにそれぞれ移    動している。前記第１の方向へのガラス基板１の移動は、前記基板１の長辺方向に沿 って基板１の搬送方向と直交するように取り付けられた第１の移動機構により動作さ れる。また、前記第２の方向へのガラス基板１の移動は、前記第１の移動機構全体を 基板１の搬送方向と並行に取り付けられた第２の移動機構により動作される。
【００２９】
ここで、噴射ノズル２ｄを例に、研削領域について説明する。ガラス基板１が点線の位置Ａにある時、噴射ノズル２ｄはガラス基板１の右上端にあり、ガラス基板１の搬送と共に、砥粒を噴射しながら一点鎖線の矢印で示すように、斜め下方向に移動していく。その時の噴射ノズル２ｄのガラス基板を横切る角度は、例えばガラス基板１のサイズが縦１０００mm、横１５００mm、搬送速度が２００mm／分、噴射ノズル２ｄの移動速度が５００mm／分とすると、静止座標系での噴射ノズル２ｄの移動角度が約２３°ないし２４°［arcsin(2/5)］に設定されて、搬送されるガラス基板１上の座標系での噴射ノズル２ｄの移動方向（研磨角度）がガラス基板１の搬送方向と直交する角度となる。かくしてガラス基板１が実線の位置Ｂに到達した時、所定の搬送速度（２００mm／分）でのガラス基板１の搬送方向と所定の移動速度（５００mm／分）での噴射ノズル２ｄの移動方向との合成方向（図１を参照）に基づいて斜線で示す領域が前記ガラス基板１の搬送方向に対して直交する方向に研削されている。尚、図に示していないがこの時噴射ノズル２ｄは実線の位置Ｂにおけるガラス基板１の右下端に移動している。
【００３０】
以上のように、ガラス基板１の搬送速度に合わせて、噴射ノズル２ａ〜２ｄも搬送方向に移動させているため、結果的に噴射ノズルの幅で直線的に研削されることになる。この動作を複数回繰り返すことで、ジグザグ動作する同一噴射ノズルで同一領域を複数回サンドブラスト処理することができる。
【００３１】
本実施例によれば、ガラス基板１の一対の長辺方向に対して隙間なく噴射ノズル２ａ〜２ｄを配置すると共に、ガラス基板１の搬送速度に合わせて噴射ノズル２ａ〜２ｄをジグザグ動作させるため、４分割されたガラス基板１の領域毎に同一の噴射ノズルがサンドブラスト処理することになり、ガラス基板１の搬送速度に関係なく均一な研削が可能となっている。
【００３２】
図２は、噴射ノズルのジグザグ動作を可能にする駆動機構を説明するための図であり、図２（ａ）はガラス基板の長辺側より見た断面図、図２（ｂ）はガラス基板の短辺側（矢印Ｃ方向）より見た断面図である。
【００３３】
図２（ａ）に示すように、複数の噴射ノズル２ａ〜２ｄは、可動ブロック６のレール７に吊られた状態で保持されており、図１でも説明したとおりガラス基板１の長辺に対してほぼ隙間がない状態としている。
【００３４】
可動ブロック６のレール７は、紙面垂直方向に延びており、噴射ノズル    の接触面との摺動により、図２（ｂ）の矢印で示すように移動可能（第１の移動機構 ）となっている。また、可動ブロック６自体も、ガラス基板１の搬送方向と同一方向    へ移動可能（第２の移動機構）になっている。
【００３５】
従って、第１の移動機構であるレール７に沿って噴射ノズル２ａ〜２    ｄを移動させ、同時に第２の移動機構で可動ブロック６を搬送し移動させることによ    り、噴射ノズル２ａ〜２ｄはガラス基板１を横切る方向に所望の角度をもってジグザ    グ動作することが可能となる。
【００３６】
このような動作を行なう噴射ノズル２ａ〜２ｄには、噴射口３に通ずる供給管５が備えられており、この供給管５に砥粒及び高圧空気が供給されることで、噴射口３から砥粒が噴射される。
【００３７】
図３は、本発明の第２実施例を説明するための平面図であり、第一実施例と同一部分には同一符号を付している。
ガラス基板１を所定速度で搬送させながらサンドブラスト処理を行う第一実施例に対して、本実施例はガラス基板１を停止した状態でサンドブラスト処理するものである。
【００３８】
即ち、搬送路４上を搬送されてくるガラス基板１を処理部で停止させ、この停止状態において複数の噴射ノズル２ａ〜２ｄを往復動作させる。この時噴射ノズル２ａ〜２ｄは、第一実施例の如く角度をつけることなく、ガラス基板１を直角に横切る動作を行なうもので、一定時間処理を継続することで研削を行なう。
【００３９】
このようなサンドブラスト処理では、第一実施例同様、４分割されたガラス基板１の領域毎に同一の噴射ノズルがサンドブラスト処理することができる。そのため均一な研削を可能としている。
【００４０】
なお、本実施例ではガラス基板１の搬送を間欠的に行なうための制御が必要であると共に、停止状態にてサンドブラスト処理するために、第一実施例に比べて処理速度が若干遅くなる。しかし搬送時には何ら処理を施さないため、処理部への搬送速度は、速くすることができる。また噴射ノズル２ａ〜２ｄをガラス基板１の搬送方向に移動させる必要がないため、その制御は簡単なものとなる。
【００４１】
この第二実施例で使用する装置は、図２に示す駆動機構を有する第一実施例と同様なものでよい。
以上説明した第一，第二実施例では、ガラス基板１を挟んで一対の長辺に交互に噴射ノズル２ａ〜２ｄを配置したが、片方の長辺のみに連続して配置することも可能である。
【００４２】
図４は、サンドブラスト装置の全体構成を説明するための図である。
サンドブラスト装置は、図４に示すように研削槽１１と分離槽１２、及びろ過槽１３とから構成されており、前述したサンドブラスト処理は研削槽１１内で行なわれている。
【００４３】
研削槽１１内には、砥粒１８を貯える小型タンク１４が備えられ、この小型タンク１４から噴射ノズル２に砥粒１８が供給される。噴射ノズル２には高圧空気も送られており、この圧力により砥粒１８がガラス基板１に向けて噴射され、隔壁材料膜の不要部分が研削されることで、隔壁が形成される。
【００４４】
このようなサンドブラスト処理により、隔壁材料膜が研削された粉（以下研削粉と称する）１９が発生し、使用した砥粒１８と混じって落下する。この研削粉１９と砥粒１８とは、接続管を介して分離槽１２に導入される。
【００４５】
分離槽１２では、遠心分離の原理により重い砥粒１８と、軽い研削粉１９とを分離して、砥粒１８は下方の大型タンク１５へ、研削粉１９は接続管を介してろ過槽１へと送られる。
【００４６】
ろ過槽１３では、フィルター１６によりろ過された清浄な空気が外部へ送出され、残った研削粉１９はろ過槽１３の下方から排出され、廃棄物収容箱１７に集められて、廃棄処理される。
【００４７】
一方、大型タンクへ送られた砥粒は、接続管を介して研削槽１１内の小型タンク１４へ導入され、再度サンドブラスト処理に使用される。尚、砥粒１８を全て回収することは困難であり、僅かに減少していくことから、大型タンク１５には新しい砥粒を定期的に補充する。
【００４８】
本発明では、ガラス基板の長辺方向に対して、同時に研削を行なうため、使用する砥粒が多い。そのため、図４に示すような使用した砥粒を回収して再利用する構成のサンドブラスト装置が有効となる。
【００４９】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法及び製造装置によれ    ば、長方形の基板をその長辺に沿う方向に所定の速度で搬送させ、噴射ノズルを前記 基板の搬送方向と直交する方向でかつ前記基板の搬送速度に応じた所定の角度で移動 させ、この移動中の噴射ノズルから砥粒を隔壁形成用膜に吹きつけて、前記マスクの 開口部に露出した部分の隔壁形成用膜を切削し、当該基板上に残存する隔壁形成用膜 により隔壁を形成するようにしているので、基板の一辺方向を同時に、且つ同一噴射    ノズルで常に基板の同一領域を研削するため、研削に要する処理速度が速くなると共    に、基板面内での研削ムラの発生を防止することが可能となる。
【００５０】
従って、隔壁の形成工程における量産性の向上が可能であると共に、所望の隔壁が得られるため画質向上も実現できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第一実施例を説明するための平面図である。
【図２】本発明に係る噴射ノズルの駆動機構を説明するための図である。
【図３】本発明の第二実施例を説明するための平面図である。
【図４】サンドブラスト装置の全体構成を説明するための図である。
【図５】プラズマディスプレイパネルの構造を説明するための斜視図である。
【図６】従来の隔壁形成方法を説明するための断面図である。
【図７】従来の隔壁形成方法を説明するための平面図である。
【符号の説明】
１    ガラス基板
２，２ａ〜２ｄ    噴射ノズル
３    噴射口
４    搬送路
５    供給管
６    可動ブロック
７    レール
１１  研削槽
１２  分離槽
１３  ろ過槽
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
0003931930.tif 000005
【図５】
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【図６】
0003931930.tif 000007
【図７】
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