(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
離型性を有する基材上に少なくとも剥離層、装飾層、接着剤層を積層した転写シートにおいて、前記剥離層を熱可塑性樹脂に平均粒径１〜１０μｍのＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｅより選択される１種又は複数種の酸化物微粒子を添加したものを用いて形成し、剥離層と装飾層の間に酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の透明樹脂層を設けたことを特徴とする転写シート。
【請求項２】
剥離層の熱可塑性樹脂の酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上であることを特徴とする請求項１に記載の転写シート。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、射出成形同時絵付け用を始めとして各種物品の表面に装飾を施すのに用いる転写シートに関するものである。
【０００２】
【発明が解決しようとする課題】
従来、装飾内装材や装飾雑貨に表面加飾を施す手段として、転写シートを用いて所望の装飾層を転写する方法がある。この場合、転写した装飾層の耐摩耗性を向上させるため、転写後に塗装を行う場合があるが、この方法は工程数が多い上に、成形品の表面に付着したゴミや油の洗浄が必要である。特に、ディップやフローコーティングでは、気泡、液ダレ、タマリが生じないようにするために速度や成形品形状に制約がある。また、塗装液の溶剤が揮散する問題がある上に、新たな塗装設備が必要である。
【０００３】
剥離層に電離放射線硬化型樹脂を使用し、転写シートの製造時又は転写後に電離放射線を照射する方法もあるが、電離放射線硬化型モノマーは刺激性が強く皮膚浸透性があるので、作業時に注意が必要である。またこの方法では、ＥＢ・ＵＶ照射装置が必要であるが、これらは高価な設備である上に、設置場所を必要とすることや照射工程が増えること等の問題がある。また、転写用インキを積層した後に転写シートの状態でＵＶを照射することを考えると、柄や隠蔽層等の装飾層が存在したり又剥離層が厚い場合には、硬化型樹脂の硬化に支障がある。また、基材側より照射する場合には、照射量を上げる必要があり、生産速度を下げるか高価な照射設備が必要となる。
【０００４】
熱硬化型樹脂にて剥離層を形成する方法もあるが、加熱や養生により硬化するウレタン、イソシアネート系熱硬化型樹脂や、尿素、メラニン、アミン、エポキシ系熱硬化型樹脂は硬化状態が安定するまで、剥離強度が不安定である。また、剥離強度が安定する時点、すなわち硬化反応が終結した場合、成形する形状によっては剥離層にクラックが発生したり、成形後のヒートサイクル試験でのクラックが発生しやすくなる。
【０００５】
また、剥離層が硬化型樹脂の場合、伸びない性質のため、深絞り形状に成形する際、剥離層にクラック、白化等が発生する等の問題がある。また、深絞りできないために他の製品と比べて立体的に優位差がなく、意匠性にも乏しい。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記の問題点を解決するために、本発明の転写シートは、離型性を有する基材上に少なくとも剥離層、装飾層、接着剤層を積層した転写シートにおいて、前記剥離層を熱可塑性樹脂に平均粒径１〜１０μｍのＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｅより選択される１種又は複数種の酸化物微粒子を添加したものを用いて形成し、剥離層と装飾層の間に酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の透明樹脂層を設けたことを特徴としている。そして、このような剥離層を設けることにより、塗装を行ったり、ＥＢやＵＶを照射せずとも耐摩耗性に優れた転写シートを得ることができる。
【０００７】
【発明の実施の形態】
図１は本発明の前提となる転写シートを示す断面図である。同図に示されるようにこの転写シートは、基材１の上に離型層２を形成し、その上に剥離層３、装飾層４、接着剤層５を積層したものである。図２は本発明に係る転写シートの一例を示す断面図であり、この転写シートは剥離層３と装飾層４の間に透明樹脂層６を積層している。
【０００８】
基材としては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリエチレン、ポリカーボネート、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリアミド等の合成樹脂フィルムを用いる。これらの中でも、成形性、耐熱性、印刷適性等を考慮すると２軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム又はポリプロピレンフィルムが最も好ましい。基材の厚さは９〜１００μｍ程度で、好ましくは１６〜５０μｍである。厚さが１６μｍ未満では強度不足であり、また厚さが５０μｍを越えるとインモールド転写には使用可能であるが、ロール転写では熱の伝わり方が悪く、転写不良の原因となり、コストが高くなる。
【０００９】
離型層は転写後も基材側に残留し、転写層との剥離を容易ならしめる層で、基材に必要に応じて設けるものである。この離型層は、メラミン、シリコーン、アミノアルキッド、ウレタン、尿素、エポキシ樹脂等により基材上に０．０１〜５μｍ程度の厚さで形成する。また、シリコン、フッ素、ポリエステル、ポリエチレン等の添加剤を加えて剥離強度を調整することも可能である。また、転写後の表面の艶を調整するために離型層にマイクロシリカ等の公知のマット剤を添加することもできる。
【００１０】
剥離層は転写後に被転写体側へ転移し、転写層の表面保護層となる層で、本発明では熱可塑性樹脂に高硬度の微粒子を添加したものを用いて形成する。その熱可塑性樹脂としては、アクリル樹脂、ウレタン樹脂、塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、ブチラール樹脂等を用いる。これらの中でも、耐摩耗性、透明性を考慮するとアクリル樹脂が好ましい。特に、アクリル樹脂の酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の場合、高硬度の微粒子が酸化物微粒子であるとそれとの濡れが良くなり透明性が向上する。
【００１１】
高硬度の微粒子としては酸化物微粒子が使用される。具体的には、シリカ、アルミナ、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化錫、酸化セリウムの中から用途により適宜選択する。例えば、屋外用途では紫外線吸収性能が必要となるため、酸化亜鉛、酸化セリウムが好ましい。また、一般成形用途であれば低価格なアルミナやシリカが好ましい。また、帯電防止性能を必要とする場合は、酸化錫を用いるのがよい。使用する微粒子の粒径は１〜１０μｍとする。１μｍ未満では耐摩耗効果が少なく、逆に１０μｍを越えると透明性、印刷適性が低下するし、粒径が大きいと柄印刷時にヌケの原因となる。
【００１２】
酸化物微粒子は、バインダー中での保持力向上、インキ中での分散性向上、塗工品の透明性向上のため表面処理したものを使用するのが好ましい。表面処理剤としてはシランカップリング剤が一般的であり、用途によってはチタネート系カップリング剤、アルミネート系カップリング剤を選択してもよい。
【００１３】
剥離層には、転写後の表面滑性を出現させるため、添加剤として、ポリエチレンワックス、テフロンワックス、カルナバワックス、パラフィンワックス等を添加してもよい。また、外装用途や太陽光にさらされる部位に使用する場合は、ベンゾトリアゾール系、ベンゾフェノン系、サルチル酸系等の紫外線吸収剤や、ヒンダードアミン系安定剤、フェノール系酸化防止剤や熱安定剤を添加するのが好ましい。
【００１４】
剥離層はグラビア印刷、ロールコート、スクリーン印刷、オフセット印刷等公知の手法により積層する。
【００１５】
そして、本発明では、剥離層と装飾層との密着力向上、装飾層の印刷適性向上のために図２に示すように透明樹脂層を設ける。形成樹脂は剥離層及び装飾層と密着するものであればよい。特にＯＨ基を含有する樹脂が好ましく、樹脂酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上で透明性が特に向上する。
【００１６】
装飾層として絵柄を形成する場合、樹脂バインダー中に顔料、染料等の着色剤、稀釈溶剤、さらに必要に応じて各種添加剤を混合したインキが使用される。樹脂バインダーは、アクリル樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、セルロース樹脂、ウレタン樹脂等より選択される。その他装飾層として蒸着層を設けてもよい。さらに装飾層に加え機能層として、帯電防止層、赤外線遮断層、紫外線吸収層等を設けてもよい。
【００１７】
接着剤層は転写層を被転写体に転移、接着させるための層で、本発明では感熱接着剤を使用する。具体的には、アクリル樹脂、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体、ポリエステル樹脂、スチレン樹脂、塩素化ポリプロピレン樹脂、ポリアミド樹脂、ウレタン樹脂、エポキシ樹脂等より選択される１種以上の樹脂をグラビア印刷、オフセット印刷、ロールコート、スクリーン印刷等公知の手法を用いて積層する。
【００１８】
【実施例】
以下、本発明の実施例について詳細に説明する。
【００１９】
（比較例１）
厚さ１００μｍの塩化ビニルフィルム（理研製）にウレタン樹脂（大日精化製）を乾燥後塗布量１ｇ／ｍ2 となるようにグラビアコートし、７０℃で３０秒間乾燥させ、さらに４０℃にて１日放置し完全硬化させて離型性を有する基材フィルムを得た。次に、下記組成Ａよりなる剥離インキを乾燥後塗布量２ｇ／ｍ2 となるよう離型性基材フィルム上にグラビアコートした後、乾燥させて剥離層を形成した。
【００２０】
〔組成Ａ〕
アクリル樹脂（酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ）                ５０重量部
ポリエチレンワックス                                  ２重量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理
アルミナ（粒径３μｍ）                                ２重量部
ＭＥＫ                                            １００重量部
トルエン                                          １００重量部
【００２１】
次いで、アクリル樹脂と塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体をバインダーとしたグラビアインキ（昭和インク製）にて絵柄層を形成した。続いて、塩化ビニル酢酸ビニル系接着剤（昭和インク製）を乾燥後塗布量１ｇ／ｍ2 でグラビアコートして転写シートを得た。
【００２２】
（実施例１）
比較例１と同様にして作製した離型性基材フィルムに、下記組成Ｂよりなる剥離インキを乾燥後膜厚２μｍとなるようグラビアコートした後、乾燥させて剥離層を形成した。
【００２３】
〔組成Ｂ〕
アクリル樹脂（酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ）                ５０重量部
ポリエチレンワックス                                  ２重量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理
アルミナ（粒径３μｍ）                                ２重量部
ＭＥＫ                                            １００重量部
トルエン                                          １００重量部
【００２４】
次いで、下記組成Ｃよりなるグラビアインキを乾燥後膜厚１μｍとなるようグラビアコートして透明樹脂層を形成してから、比較例１と同様に絵柄層と接着剤層を積層して転写シートを得た。
【００２５】
〔組成Ｃ〕
アクリル樹脂（酸価３ｍｇＫＯＨ／ｇ）              ３０重量部
トルエン                                          ４０重量部
ＭＥＫ                                            ３０重量部
【００２６】
（実施例２）
比較例１と同様にして作製した離型性基材フィルムに、下記組成Ｄよりなる剥離インキを乾燥後膜厚２μｍとなるようグラビアコートした後、乾燥させて剥離層を形成した。次いで、実施例１と同様にして透明樹脂層を形成した後、比較例１と同様に絵柄層と接着剤層を順次積層して転写シートを得た。
【００２７】
〔組成Ｄ〕
アクリル樹脂（酸価０ｍｇＫＯＨ／ｇ）                ５０重量部
ポリエチレンワックス                                  ２重量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理
シリカ（真球形状、粒径３μｍ）                        ２重量部
ＭＥＫ                                            １００重量部
トルエン                                          １００重量部
【００２８】
（比較例２）
比較例１と同様にして作製した離型性基材フィルムに、下記組成Ｅよりなる剥離インキを乾燥後膜厚２μｍとなるようグラビアコートした後、乾燥させて剥離層とし、次いで、比較例１と同様に絵柄層と接着剤層を積層して比較例２の転写シートを得た。
【００２９】
〔組成Ｅ〕
アミノ変性アクリル樹脂                              ３５重量部
セルロース                                            ５重量部
ポリエチレンワックス                                  ２重量部
エポキシシラン系架橋剤                              １０重量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理
シリカ（粒径３μｍ）                                  ２重量部
ＭＥＫ                                            １００重量部
トルエン                                          １００重量部
【００３０】
（比較例３）
比較例１と同様にして作製した離型性基材フィルム上に、下記組成Ｆよりなる剥離インキを乾燥後膜厚２μｍとなるようグラビアコートした後、乾燥させて剥離層とし、次いで、比較例１と同様に絵柄層と接着剤層を積層した後、１６５ｋｖ、６Ｍｒａｄで電子線を照射して比較例３の転写シートを得た。
【００３１】
〔組成Ｆ〕
アクリル樹脂                                        ４０重量部
ＤＰＨＡ                                            １０重量部
ポリエチレンワックス                                  ２重量部
γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン処理
シリカ（粒径３μｍ）                                  ２重量部
ＭＥＫ                                            １００重量部
トルエン                                          １００重量部
【００３２】
（比較例４）
比較例１と同様にして作製した離型性基材フィルム上に、下記組成Ｇよりなる剥離インキを乾燥後膜厚２μｍとなるようグラビアコートした後、乾燥させて剥離層とし、次いで、比較例１と同様に絵柄層と接着剤層を積層して比較例４の転写シートを得た。
【００３３】
〔組成Ｇ〕
アクリル樹脂                                        ５０重量部
ポリエチレンワックス                                  ２重量部
ＭＥＫ                                            １００重量部
トルエン                                          １００重量部
【００３４】
（性能評価）
上記の実施例１〜２と比較例１〜４で得られた転写シートを使用して成形同時絵付けを行った。すなわち、射出成形機（松田製作所）によりアクリル樹脂（住友化学工業製「スペミックス」）を射出し、成形と同時に転写層を成形品表面に転写した。そして下記の要領で性能評価を行った。
【００３５】
〔耐摩耗性〕
テーバー摩耗試験機を使用した。そして、摩耗輪ＣＳ−１０Ｆ、荷重５００ｇで１００回転後のヘイズ変化量ΔＨにより比較した。ヘイズ測定には東洋精機製作所製の直読ヘイズメーターを使用した。
【００３６】
〔耐スチールウール性〕
スチールウール摩耗テストを行った。具体的には、荷重１ｋｇで１００往復後の表面艶変化ΔＧをグロスメーターにて測定した。グロスメーターは村上色彩研究所製「ＧＭ−３Ｄ」を使用した。
【００３７】
〔深絞り成形性〕
直径Ｒが５０ｍｍで、深さＤをそれぞれ５ｍｍ、１０ｍｍ、１５ｍｍ、２０ｍｍとした複数の真空成形型を使用する。そして、各転写シートを１００℃で３秒加熱した後、それぞれについて複数の成形型で真空成形を行い、転写層にクラックが発生しない成形型の深さを表示した。
【００３８】
〔透明性〕
転写層の透明性Ｈ（ヘイズ）を測定した。このヘイズ測定にも東洋精機製作所製の直読ヘイズメーターを使用した。
【００３９】
評価結果を表１に示す。この表１から分かるように、実施例１，２の転写シートは各項目ともに良好であるが、剥離層に酸化物微粒子を含有しない比較例４の転写シートは、深絞り成形性は良いものの耐摩耗性、耐スチールウール性に劣る。また、剥離層が熱硬化性である比較例２の転写シートは、耐摩耗性は良いものの深絞り性に劣り、電子線硬化型の剥離層を有する比較例３の転写シートは、耐摩耗性、耐スチールウール性は良好なものの深絞り性に劣る。
【００４０】
【表１】
0003885980.tif 000002
【００４１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の転写シートは、その剥離層を平均粒径１〜１０μｍのＳｉ、Ａｌ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓｎ、Ｃｅより選択される１種又は複数種の酸化物微粒子を含む熱可塑性樹脂で構成したことにより、塗料を塗布したり、ＥＢやＵＶを照射したり、或いは加熱したりすることなく、転写後の耐摩耗性に優れたものを得ることができる。また、剥離層が熱可塑性樹脂により形成されているため、成形に際しては深絞り形状にも対応することができる。
【００４２】
そして、剥離層と装飾層の間に酸価が３ｍｇＫＯＨ／ｇ以上の透明樹脂層を設けたことにより、剥離層と装飾層との密着力が向上し、装飾層の印刷適性が向上する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の前提となる転写シートを示す断面図である。
【図２】  本発明に係る転写シートの一例を示す断面図である。
【符号の説明】
１  基材
２  離型層
３  剥離層
４  装飾層
５  接着剤層
６  透明樹脂層
【図１】
0003885980.tif 000003
【図２】
0003885980.tif 000004