(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバリボンであって、
各光ファイバが光を伝達できるコアを備えた少なくとも２本の光ファイバを備え、
前記光ファイバの少なくとも１本は、約２００ｎｍないし約３００ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含む１次コーティングと、該１次コーティングを包囲し約３００ｎｍないし約３８０ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含む２次コーティングとでコーティングされ、
前記光ファイバリボンは、リボンマトリックスコーティングを更に有し、
該リボンマトリックスコーティングは、約３００ｎｍないし約４００ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含み、光ファイバの周囲に配置されている、
ことを特徴とする光ファイバリボン。
【請求項２】
光ファイバケーブルであって、
光を伝達できるコアを備えた少なくとも１本の光ファイバと、
前記光ファイバを包囲し、約２００ｎｍないし約３００ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含む１次コーティングと、
前記１次コーティングを包囲し約３００ｎｍないし約３８０ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含む２次コーティングとを備えている、
ことを特徴とする光ファイバケーブル。
【請求項３】
（ａ）約２００ｎｍないし約３００ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含む１次コーティングで光ファイバをコーティングする工程と、
（ｂ）約２００ｎｍないし約３００ｎｍの有効波長域をもつ放射を行う第１放射線源で前記１次コーティングを照射して硬化させる工程と、
（ｃ）硬化された前記１次コーティング上に２次コーティングを施す工程を有し、２次コーティングは、約３００ｎｍないし約３５０ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含み、
（ｄ）約３００ｎｍないし約３５０ｎｍの有効波長域をもつ放射を行う第２放射線源で前記２次コーティングを照射して硬化させる工程と、を備えている、
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。
【請求項４】
（ａ）約２００ｎｍないし約３００ｎｍの波長域にピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含む１次コーティングで光ファイバをコーティングする工程と、
（ｂ）前記１次コーティングを第１放射線源で照射する工程とを有し、第１放射線源は有効波長域をもつ発光スペクトルを有し、１次コーティングのフォトイニシエータの前記ピーク吸光度は、前記放射線源の有効波長域の波長域に入る波長域を有し、これにより１次コーティングが硬化され、
（ｃ）硬化された前記１次コーティング上に２次コーティングを施す工程を有し、２次コーティングは、約３００ｎｍないし約３２０ｎｍにピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含み、
（ｄ）前記２次コーティングを第２放射線源で照射する工程を更に有し、第２放射線源は、約３００ｎｍないし約３５０ｎｍの有効波長域および約１７０ワット以上の線量能力をもつエキシマタイプのＵＶ照射源であり、前記２次コーティングのフォトイニシエータの前記ピーク吸光度は、前記第２放射線源の有効波長域の波長域に入り、これにより２次コーティングが硬化される、
ことを特徴とする光ファイバの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光ファイバに関し、より詳しくは、有機１次および２次コーティングを備えた光ファイバ、および少なくとも２本の光ファイバを包囲する有機リボンマトリックスコーティングを備えた光ファイバリボンに関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバは、遠隔通信、コンピュータおよびデータ情報の伝送に使用されている。例えば米国特許第5,181,269 号に開示されているような一般的な光ファイバ製造方法は、ガラスプリフォームロッドを垂直に吊り下げ、これを制御された速度で炉内に移動させる方法である。ガラスプリフォームロッドは炉内で軟化し、ガラスファイバは引上げタワーの基部に配置されたキャプスタンによりプリフォームロッドから延伸される。ガラスファイバの化学的保護および機械的保護のため、光ファイバ製造工業では、ガラスファイバに１次および２次コーティングを施すことが一般的である。１次コーティングはガラスファイバを完全にコーティングすべく光ファイバ上に施され、２次コーティングは１次コーティング上に施される。コーティングを備えたガラスファイバは、光ファイバと呼ばれている。光ファイバは、タイトバッファ、ルーズチューブまたは光ファイバリボン等の用途に組み込まれる。光ファイバリボンは、リボンマトリックスコーティングにより一体結合された少なくとも２本の光ファイバを有している。
【０００３】
１次コーティング、２次コーティングおよびリボンマトリックスコーティングとして使用できるものとして、紫外線硬化（ＵＶ硬化）性および可視光硬化性の有機コーティングが開発されている。より詳細に後述するように、ＵＶ硬化性コーティングはＵＶ照射により硬化される。一般に、ＵＶ硬化性コーティングは、丈夫で、摩擦に対する高い抵抗性を呈し、応力の作用下でも首尾よく機能し、かつ大量生産に適合している。硬化したとき、ＵＶ硬化性１次コーティングは、約１０6 Paのモジュラス（Modulus)をもたなくてはならず、ＵＶ硬化性２次コーティングは、約１０9 Paという比較的高いモジュラスをもたなくてはならない。２次コーティングは、本質的に、ガラスファイバの周囲の半剛性保護シェルであり、内側の１次コーティングは、ガラスファイバのための柔らかいクッションであるのが好ましい。両コーティングのモジュラスが許容可能範囲内にあるならば、コーティングは、ガラスファイバに微小曲げを引き起こす虞のある応力から光ファイバを隔絶すべく機能する。微小曲げ、すなわちガラスファイバにおける顕微鏡的曲げの形成は好ましくない。なぜならば、微小曲げは、伝達される光の強さ（通常、特定波長でのデシベルで測定される）の減衰すなわち減少を引き起こすことにより光ファイバの性能に悪影響をもたらすからである。光ファイバは、１次コーティングのモジュラスが増大してその柔軟性がかなり喪失されると、微小曲げを受け易くなる。コーティングの初期硬化後の１次コーティングのモジュラスの大きな増大は、硬化後処理中の１次コーティングの露出、または例えばリボンマトリックスコーティングおよび／または光ファイバ着色工程時の光ファイバの処理により生じる。いずれのコーティングのモジュラスの増大も、後硬化固化（post-cure hardening)と呼ばれている。
【０００４】
放射線硬化性材料では、硬化は、放射線源に対面する側から、放射線源から遠い側にかけて生じる。光源に近い側の材料の部分は、光が材料の非硬化部分に到達することを妨げるので、硬化勾配が形成される。従って、入射光の量に基づいて、硬化材料は異なる硬化度を呈する。
硬化度は、材料の機械的特性、例えばモジュラスに影響を与える。例えば、低モジュラス材料については、材料の過度硬化部分は、所望モジュラスより高いモジュラスをもつ部分（すなわち、剛性が大き過ぎる部分）として形成され、また、材料の不足硬化部分は、低過ぎるモジュラスをもつ部分（すなわち、柔らか過ぎる部分）として形成される。一方、高モジュラス材料は、過度に硬化されると脆くなる。しかしながら、上記後硬化固化の問題に関しては、材料が放射線源の作用、すなわち後硬化リボン化（post-cure ribbonizing)加工または光ファイバ着色加工を受ける箇所で、フォトイニシエータ（photoinitiator) により開始される重合／ハーデニング反応が継続する。分子移動度の可能性のため、後硬化固化の問題は、低モジュラスのＵＶ硬化性コーティングにおいて特に重大である。重合／ハーデニング反応の後硬化継続は、固体膜の機械的特性に悪影響を与え、特に材料のモジュラスは望ましい大きさを超えて増大する。
【０００５】
このことを、ＵＶ硬化性コーティングを用いた光ファイバに関連して例示するため、本発明の背景を以下に述べる。光ファイバ製造ラインの速度が低い場合には、１次コーティングが硬化不足になるであろう。しかしながら、ライン速度が低くなるとガラスファイバの延伸速度が低下し、従って光ファイバ製造速度が全体として低下するため好ましくない。
米国特許第5,015,068 号には上記問題に対する解決法が開示されており、この解決法は、非類似（non-comparable) フォトイニシエータを含む１次コーティングおよび２次コーティングが、単一のＶスペクトル（可視光）放射線源により硬化される。しかしながら、１次コーティングに対してＶ光（可視光）光活性領域（V-light photoactive region）をもつフォトイニシエータを使用することは有効でない。後硬化固化中または光ファイバの加工中に、光ファイバが後硬化Ｖ光（例えば、普通の昼光）を受けるとき、１次コーティングは後硬化固化を受ける。上記のように、後硬化固化は、１次コーティングのモジュラスを好ましくないほど増大させ、これが、ガラスファイバの微小曲げ減衰損失を増大させる。また、放射されるエネルギ量には、フォトイニシエータのそれぞれの光活性領域内でのエネルギの釣合いのとれた割合が含まれないので、単一Ｖ光源に頼ることは好ましくない。このため、ライン速度は最適速度より低い速度に維持して、２次コーティングの硬化不足を防止しなければならない。
【０００６】
米国特許第5,416,880 号には、フォトイニシエータと組み合わされたウレタンアクリレートオリゴマーを含むコーティング化合物が開示されており、コーティングは湿潤重ね塗布（wet-on-wet) されかつ放射線源を用いて同時に硬化される。或る１次コーティングにはフォトイニシエータとしてIRGACURE 651が使用され、かつ１次コーティングおよび２次コーティングにはフォトイニシエータとしてLUCIRON TPO が使用された。上記のように、IRGACURE 651は、ほぼ２５０mmの範囲内の光活性吸収ピークを有するフォトイニシエータである。ほぼ３８０nm以上での吸収ピークをもつLUCIRIN TPO は、Ｖスペクトル光に反応するという比較的大きい不均衡がある。この観点から、Ｖスペクトル光活性領域をもつフォトイニシエータを用いる１次コーティングまたは２次コーティングは問題がある。光ファイバは、例えば光ファイバの着色またはリボン化加工中に、短波長のＵＶスペクトルすなわちＶスペクトル光を受けるので、Ｖ光の光活性フォトイニシエータ（V-light photoactive photoinitiator）を用いたコーティングは後硬化固化を受けかつモジュラスの好ましくない増大の可能性がある。また、１００nm以上の吸収ピーク不均衡があるので、単一放射線源による同時硬化は、より低いライン速度を必要とする。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、後硬化固化による減衰を最小にしかつ高いライン速度を可能にするフォトイニシエータからなる１次コーティングおよび２次コーティングを備えた光ファイバを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、少なくとも２本の光ファイバを有し、各光ファイバは光を伝達できるコアを備え、少なくとも１本の前記光ファイバはコアを包囲する１次コーティングを備え、該１次コーティングは、比較的短い波長のＵＶスペクトルでのピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含み、前記１次コーティングを包囲する２次コーティングを備え、該２次コーティングは、比較的長い波長のＵＶスペクトルでのピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含み、前記比較的長い波長のＵＶスペクトルは約３００〜３８０nmの波長帯域からなり、リボンマトリックスコーティングを更に有し、該リボンマトリックスは、比較的長い波長のＵＶスペクトルでのピーク吸光度をもつフォトイニシエータを含み、前記リボンマトリックスコーティングは光ファイバの周囲に配置されている光ファイバリボンが提供される。
【０００９】
【発明の実施の形態】
図１〜図３を参照して、本発明による光ファイバ２０と、該光ファイバ２０からなる光ファイバリボン４０とを説明する。光ファイバ２０は光を伝達する機能をもつシリカベースコア２２を有し、該コア２２は、これより小さい屈折率をもつシリカベースクラッディング２４により包囲されている。本発明に使用するには、例えば、Corning Incorporatedにより市販されているSMF-28ファイバが適している。１次コーティング２６がクラッディング２４を包囲し、かつ２次コーティング２８が１次コーティング２６を包囲している。光ファイバリボン４０は、リボンマトリックス４２を有している。
本発明の好ましい実施形態では、１次コーティング２６は、アクリレート樹脂を含む配合物で形成できる。図３は、本発明による例示フォトイニシエータの吸光度スペクトル５０を示す。１次コーティング２６の配合物は、比較的短い波長のＵＶスペクトル（２００〜３００nm）での光活性ピーク吸光度５２（図３）をもつフォトイニシエータを有している。すなわち、光活性ピーク吸光度は、約２４０〜２７０nmの波長帯域内にある。１次コーティング２６のフォトイニシエータは、ベンジルジメチルケタール材料（例えば、Cibaから市販されているIRGACURE 651）で形成できる。IRGACURE 651は、不飽和樹脂、例えば不飽和アクリレート（ウレタンおよびエポキシ）およびモノマー系を光硬化させる効率的フォトイニシエータである。
【００１０】
２次コーティング２８は、比較的長い波長のＵＶスペクトル（すなわち、約３００〜３８０nm、好ましくは３００〜３５０nmの範囲内の波長帯域）での光活性ピーク吸光度をもつフォトイニシエータで硬化されたアクリレート樹脂を含む配合物が好ましい。本発明によれば、２次コーティング２８はαアミノケトン材料からなるフォトイニシエータ、例えば、約３２０〜３５０nmのピーク吸光度波長帯域をもつ吸光度ピーク５６（図３）を有するIRGACURE 369、または約３００〜３２０nmのピーク吸光度波長帯域をもつ吸光度ピーク５４（図３）を有するIRGACURE 907）を含んでいる。IRGACURE 369およびIRGACURE 907はCibaから市販されている効率的なＵＶ硬化剤である。
２次コーティング２８の吸光度を高めるため、この配合物に、慣用的なＵＶ吸収剤添加物を含めることもできる。ＵＶ吸収剤は、入射光を吸収して、これを熱エネルギに変換することにより機能する。しかしながら、２次コーティング２８にＵＶ吸収剤を使用するとその硬化速度が低下され、逆に、配合物中のフォトイニシエータの増大した濃度は適当なものとなる。米国特許第4,482,204 号（この全体を本願に援用する）には、適当なＵＶ吸収剤が開示されている。他の適当なＵＶ吸収剤として、CibaからTINUVIN の商標で市販されているものがある。リボンマトリックス４２は、アクリレート樹脂およびフォトイニシエータを含む配合物であって、長波長のＵＶスペクトル放射線（３００〜４００nm) に曝露することにより硬化される配合物が好ましい。
【００１１】
図４を参照して、本発明による光ファイバ２０を製造する装置６０について説明する。本発明の方法は、炉７０内で約2,000 ℃の温度に加熱されるガラスプリフォーム１９から出発する。プリフォーム１９が炉７０内に供給されると、クラッディング２４を備えたガラスファイバ２２が溶融材料から延伸される。ガラスファイバ２２の直径は測定装置７１で測定され、その出力は、プリフォーム１９からガラスファイバ２２が延伸される速度を制御するフィードバック制御システム（図示せず）に入力される。制御システム内では、測定された直径が所望の値と比較され、ガラスファイバ２２の直径が所望値に到達するようにガラスファイバ２２の延伸速度を調節する出力信号が発生される。
ガラスファイバ２２の冷却後、ガラスファイバ２２はコーティングダイ７２に通され、ここで液体１次コーティング２６がコーティングされて、第１中間ファイバ２２、２６を形成する。液体コーティング２６中での気泡形成が少ない、大きなコーティング速度では、コーティングダイ７２は加圧コーティングダイ形式のものでよい。このようなダイは米国特許第4,374,161 号（この全体を本願に援用する）に開示されている。高速加工の場合には、コーティングダイ７２上にガスパージを設けることができる。第１中間ファイバ２２、２６が同心度ゲージ７３に通された後、放射線源７４はコーティング２６を照射して、該コーティング２６を硬化させる。中間ファイバ２２、２６は、約１６０〜２２０μm の好ましい硬化直径、および約2.0 MPa 以下（室温では、約1.4 MPa 以下であるのが好ましい）のモジュラスを有している。
【００１２】
本発明の好ましい実施形態では、放射線源７４は、Ｈバルブ（H-bulb) （水銀蒸気）で構成できる。Ｈバルブは、標準水銀スペクトルラインを備えたものであり、Fusion UV Curing System から市販されている。図５に示すように、放射線源７４の発光スペクトルは、エネルギが主として短波長ＵＶスペクトルで放射されるようなものである（図５）。換言すれば、放射線源７４は、約２００〜３００nmの波長帯域での有効線量を放射できる。１次コーティング２６のフォトイニシエータのピーク吸光度はこの帯域を補完する（すなわち、この帯域内に入るように予選択される）ので、このことは重要である。換言すれば、短波長のＵＶスペクトルのピーク吸光度をもつ１次コーティング２６のフォトイニシエータは、放射線源７４の発光スペクトルの有効波長帯域（この波長帯域は、フォトイニシエータのピーク吸光度波長帯域の波長帯域を補完する）で照射される。従って、１次コーティング２６は迅速に硬化（すなわち、液体から固体に迅速に変化）され、この迅速な硬化は、本発明の長所により、高速ライン速度および加工速度を可能にする。次に、装置７５は、加工パラメータ（例えば、コーティングダイ７２の温度および／または圧力）を変えることにより直径を制御するフィードバックループのために、硬化した中間ファイバ２２、２６の外径を測定する。
【００１３】
次に、第１中間ファイバ２２、２６が第２コーティングダイ７６に通され、該ダイ７６において、第１中間ファイバ２２、２６に液体２次コーティング２８が施され、第２中間ファイバ２２、２６、２８を形成する。同心度ゲージ７７が第２中間ファイバ２２、２６、２８の同心度を測定し、次に、放射線源７８が第２中間ファイバ２２、２６、２８を照射し、これにより、該ファイバを硬化して、約２４５μm の好ましい直径および室温で５００MPa より大きい好ましいモジュラスをもつようにする。
本発明の好ましい実施形態では、放射線源７８の発光スペクトルは２次コーティング２８のフォトイニシエータのピーク吸光度を補完する。適当な水銀蒸気形放射線源は、例えば、Ｄバルブ（D-bulb）（水銀蒸気＋単一または複数のメタルハライド）からなる。しかしながら、より好ましい放射線源はエキシマーＵＶバルブで構成し、エキシマー光源を用いて比較的多量のＵＶ光を発生させる。適当なエキシマーＵＶ放射線源の例として、例えばコバルトバルブおよびキセノン塩化物バルブがあり、これらのバルブの発光スペクトルが、それぞれ図７および図８に示されている。本発明によれば、３００〜３５０nmの波長帯域の比較的高い線量能力をもつ放射線源により、最高の硬化結果が得られる。６００ワット／インチプラットホーム上でかつ３００〜３５０nmの間の上記好ましい放射線源の近似線量能力は次の通り、すなわち、Ｄバルブ−281.2 ワット、キセノン塩化物バルブ−684.7 ワット、およびコバルトバルブ−808.6 ワットである。これらの比較から、Ｈバルブからなる放射線源の線量能力（３００〜３５０nmの間の６００ワット／インチプラットホーム）は、約207.2 ワットである。
【００１４】
上記観点から、放射線源７８の発光スペクトルと放射線源７４の発光スペクトルとを異ならせ、放射線源７８の発光スペクトルが３００〜３５０nmの波長帯域でより有効になるようにするのが効果的である。２次コーティング２８のフォトイニシエータの光活性ピーク吸光度は、放射線源７８の有効波長帯域を補完（すなわち、この有効波長帯域内に入るように選択）される。例えば、IRGACURE 907は約３００〜３２０nmでピーク吸光度を有しかつキセノン塩化物エキシマー放射線源はこの帯域内で非常に有効であるため、IRGACURE 907にはキセノン塩化物放射線源を使用するのが好ましい。同様に、IRGACURE 369は約３２０〜３５０nmでピーク吸光度を有しかつコバルトエキシマー放射線源はこの帯域内で非常に有効であるため、IRGACURE 369にはコバルトエキシマー放射線源を使用するのが好ましい。かくしてフォトイニシエータは、そのピーク吸光度は放射線源７８の有効波長帯域内に入るように予選択される。
【００１５】
また、このことは、１次コーティング２６の後硬化固化を回避する上で重要である。なぜならば、１次コーティング２６のピーク吸光度は、実質的に、放射線源７８の最高有効範囲内にはないからである。換言すれば、２次コーティング２８の長波長ＵＶフォトイニシエータは放射線源７８の発光スペクトルの有効帯域により高度に光活性化されるが、１次コーティング２６の短波長ＵＶフォトイニシエータの光活性化はゼロまたは最小である。従って、２次コーティング２８は液体から固体へと迅速に硬化し、このため、本発明の長所により、光ファイバ２０のライン速度および加工速度を増大させることができる。しかしながら、同じ理由から、１次コーティング２６のフォトイニシエータは、実質的に、長波長ＵＶエネルギに感応しないので、１次コーティング２６の後硬化固化が最小にされるか、完全に回避される。光ファイバ製造工程の終時に、装置７９は硬化した光ファイバ２０の外径を測定し、光ファイバ２０は、キャプスタン８０を通って移動されかつスプーリングステーション（図示せず）に送られる。
【００１６】
本発明によれば、光ファイバ２０を着色でき、かつ光ファイバリボン４０の一部を、最小の後硬化固化の１次コーティング２６で形成することができる。光ファイバ２０は、着色層２９（図１）を形成するＵＶ硬化性キャリヤ／バインダ系内で分散された顔料でコーティングすることにより着色される。着色層２９は、少量の短波長ＵＶ放射輝度（short wavelength UV radiance) をもつ長波長ＵＶ光源により硬化される。図３に示すように、IRGACURE 907およびIRGACURE 369は、短波長ＵＶスペクトル（２５０〜３００nm以下）に幾分かの吸収能力を有する。好ましいＵＶ吸収剤は、短波長ＵＶスペクトルでのＵＶ光を吸収するであろう。２次コーティング２８は、短波長ＵＶ光が１次コーティング２６に衝突する前に、光ファイバ２０の着色中に短波長ＵＶエネルギを吸収する。これにより、１次コーティング２６の後硬化固化が最小になる。
【００１７】
光ファイバリボン４０は、光ファイバ２０を配置し、該光ファイバ２０の周囲にＵＶ硬化性リボンマトリックス４２を押出し成形し、かつ該マトリックスをＵＶ放射線源で硬化させることにより作られる。放射線源はＨバルブまたはＤバルブを使用でき、Ｈバルブは、硬化勾配および良好な剥離性を確立する場合に好ましく、Ｄバルブは硬化勾配が殆ど生じないようにする場合に好ましい。好ましい実施形態では、リボンマトリックス４２の配合物は、フォトイニシエータをもつＵＶ硬化性アクリレート材料からなる。フォトイニシエータは、長波長ＵＶスペクトル（すなわち、約３００〜４００nm）において光活性をもつことが好ましい。リボンマトリックス４２の硬化中、２次コーティング２８は幾分かの短波長ＵＶスペクトル光を吸収し、これにより１次コーティング２６の後硬化固化を最小にする。１次コーティング２６を後硬化固化から保護するため、リボンマトリックス４２には、短波長ＵＶ光を吸収できるＵＶ吸収剤を含めることができる。また、リボンマトリックス４２の剥取り性（strippability)／剥離性（peelability)を高めるため、光ファイバリボン４０には、例えば、米国特許第4,900,126 号（この全体を本願に援用する）に開示されているように、光ファイバ２０とリボンマトリックス４２との間にそれぞれの剥離層を設けることができる。また、リボンマトリックス４２には、共有に係る米国特許第5,561,730 号（この全体を本願に援用する）に開示されているように、リボンマトリックスの摩擦係数を低下させる添加剤を含めることができる。
【００１８】
以上、上記実施形態を参照して本発明を説明したが、これらの実施形態は発明概念を例示するためのものであって、限定するものではない。当業者ならば、特許請求の範囲から逸脱することなく上記実施形態の種々の変更を行なうことができるであろう。例えば、光ファイバ２０は、共有に係る米国特許第5,224,192 号および第5,408,564 号（これらの全体を本願に援用する）にそれぞれ開示されているように、ルーズチューブ（図９）またはタイトバッファ（図１０）の光ファイバケーブル形態で使用できる。また、共有に係る米国特許第5,556,729 号（これらの全体を本願に援用する）に開示されているように、複数のリボン４０は、リボンスタックとして形成し、光ファイバケーブルに組み込むことができる（図１１）。また、本発明は単一モードファイバを参照して説明したが、本発明の概念は、多モード光ファイバにも首尾よく適用できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明による光ファイバリボンの部分断面図である。
【図２】本発明による光ファイバリボンの断面図である。
【図３】本発明による予選択フォトイニシエータの例示吸収スペクトル曲線を示すグラフであり、このグラフは波長の関数として吸光度をプロットしたものである。
【図４】本発明による光ファイバ製造方法を示す概略図である。
【図５】図４の方法に使用される放射線源の発光スペクトルを示すグラフである。
【図６】図４の方法に使用される放射線源の発光スペクトルを示すグラフである。
【図７】図４の方法に使用される放射線源の発光スペクトルを示すグラフである。
【図８】図４の方法に使用される放射線源の発光スペクトルを示すグラフである。
【図９】本発明による光ファイバからなるルーズチューブ光ファイバケーブルを示す断面図である。
【図１０】本発明による光ファイバからなるタイトバッファ光ファイバケーブルを示す断面図である。
【図１１】本発明による光ファイバリボンのスタックからなるモノチューブ形光ファイバケーブルを示す断面図である。
【符号の説明】
１９  ガラスプリフォーム
２０  光ファイバ
２２  コア
２４  クラッディング
２６  １次コーティング
２８  ２次コーティング
２９  着色層
４０  光ファイバリボン
４２  リボンマトリックス
７２、７６  コーティングダイ
７４、７８  放射線源
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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