(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラスチックフィルムシートを基板として用いる表示装置の製造方法において、プラスチックフィルムシートの両側に、水蒸気透過度が１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下のバリア層を積層し、表示装置作成工程中に、表示装置とした際に外面となる側のバリア層の４０℃９０％ＲＨにおけるカップ法により測定した水蒸気透過度を１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下となるように低下させる工程を含む、表示装置の製造方法。
【請求項２】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程が少なくともカラーフィルター形成工程の後である請求項１記載の表示装置の製造方法。
【請求項３】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層に凸形状を有する部材を刺入するものである請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
【請求項４】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層を化学的に劣化させるものである請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
【請求項５】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程が微小な粒を衝突させてバリア層を劣化させるものである請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
【請求項６】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層を電気的に劣化させるものである請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
【請求項７】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層にエネルギー線を照射するものである請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
【請求項８】
バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層に超音波を照射するものである請求項１または２記載の表示装置の製造方法。
【請求項９】
バリア層が酸化珪素または窒素化珪素または酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の何れかを含む層を少なくとも一層有する請求項１〜８何れか一項記載の表示装置の製造方法。
【請求項１０】
前記プラスチックフィルムシートの位相差が２０ｎｍ以下であり、且つ、波長５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であることを特徴とする請求項１〜９何れか一項記載の表示装置の製造方法。
【請求項１１】
前記プラスチックフィルムシートの光弾性定数が１０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎ以上である請求項１〜１０何れか一項記載の表示装置の製造方法。
【請求項１２】
前記プラスチックフィルムシートが（１）エステル結合で結合された繰り返し単位を有する高分子、（２）カーボネート結合で結合された繰り返し単位を有する高分子または（３）スルホン結合で結合された繰り返し単位を有する高分子を主成分とする請求項１〜１１何れか一項記載の表示装置の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラスチックフィルムシートを基板として用いる表示装置の製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
表示素子用基板としてはガラス基板が従来から使用されてきた。しかしながら、近年携帯用の表示媒体の急速な成長により、軽く、割れないと言った特徴を活かしたプラスチック基板を用いた表示媒体の研究開発がなされている。ところが、プラスチックは酸素や水蒸気等のガス透過性、吸水による寸法変化率があり、基板にプラスチックを用いた場合は透過ガスにより気泡を生ずることで表示不良が発生したり、液晶中に水分が混入することにより液晶の比抵抗が低下して表示不良が発生したり、更に工程中の吸湿による寸法変化により上下基板の透明電極回路の位置ずれによる接続不良が起こるなどの問題があった。この問題を解決するために、プラスチックフィルムシートの両面にＳｉＯｘ、ポリ塩化ビニリデン等の光線透過率が高く水蒸気透過度が低い皮膜をバリア層として形成することが行われている。
【０００３】
しかし、これらの皮膜形成は真空プロセスによって行われることが多く、プラスチックフィルムシートの側面には処理することが困難であり、しかも液晶表示装置の場合には、１枚の大型基板で複数のセルを一括形成した後に切断し、ドライバが接続された状態で側面に皮膜を形成する必要があるため、これはさらに難しく一般に行われていない。この場合、湿度が著しく高い環境においては、特にネマチック液晶を用いた液晶表示装置や円偏光板を用いた有機エレクトロルミネッセンス表示装置のように偏光を利用した表示装置の場合、表示部の四隅や周辺に表示ムラが発生する場合があり問題となっている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、プラスチックを基板に用いた際の、工程中及び装置完成後に起こる表示装置の表示ムラを防止することを目的とするものである。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記表示ムラが以下の原因によって起きるものと推定した。即ち、高湿環境下に表面に水蒸気バリア層を有するプラスチック基板が置かれた場合、バリア層を有しない側面から水蒸気が拡散し、側面近傍と面内部で吸水による寸法変化が異なる。側面に近い周囲および四隅では基板が膨潤して伸びようとし、光弾性の高いプラスチック材料では、ことさら位相差が生じ、これにより表示装置が偏光を利用した装置である場合に表示ムラが発生するものと考えられる。これを防止するため、カラーフィルター等の製造工程中に生じる吸湿によるプラスチック基板の寸法変化に対処する為に、プラスチック基板に水蒸気バリアとなる層を単層または複合層で設け、カラーフィルター形成後の何れかの工程で、表示装置とした際に外面となる側のバリア層のバリア性を劣化させることにより、基板の水蒸気透過度を、基板の中心層となるプラスチックへの水分浸入量の面内分布に著しい差を生じさせず、かつ表示装置とした際に内側となる面には水蒸気を十分に遮断できるレベルの水蒸気透過度であるバリア層を維持させることで前記課題を解決できることを突き止め、以下の発明に至った。
【０００６】
すなわち本発明は、
（１）プラスチックフィルムシートを基板として用いる表示装置の製造方法において、プラスチックフィルムシートの両側に、水蒸気透過度が１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下のバリア層を積層し、表示装置作成工程中に、表示装置とした際に外面となる側のバリア層の水蒸気透過度を１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下となるように低下させる工程を含む、表示装置の製造方法。
（２）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程が少なくともカラーフィルター形成工程の後である（１）の表示装置の製造方法。
（３）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層に凸形状を有する部材を刺入するものである（１）、（２）の表示装置の製造方法。
（４）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層を化学的に劣化させるものである（１）、（２）の表示装置の製造方法。
（５）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程が微小な粒を衝突させてバリア層を劣化させるものである（１）、（２）の表示装置の製造方法。
（６）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層を電気的に劣化させるものである（１）、（２）の表示装置の製造方法。
（７）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層にエネルギー線を照射するものである（１）、（２）の表示装置の製造方法。
（８）バリア層の水蒸気透過度を低下させる工程がバリア層に超音波を照射するものである（１）、（２）の表示装置の製造方法。
（９）バリア層が酸化珪素または窒素化珪素または酸化インジウム錫（ＩＴＯ）の何れかを含む層を少なくとも一層有する（１）〜（８）の表示装置の製造方法。
（１０）前記プラスチックフィルムシートの位相差が２０ｎｍ以下であり、
且つ、波長５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上であることを特徴とする（１）〜（９）の表示装置の製造方法。
（１１）前記プラスチックフィルムシートの光弾性定数が１０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎ以上である（１）〜（１０）の表示装置の製造方法。
（１２）前記プラスチックフィルムシートが（１）エステル結合で結合された繰り返し単位を有する高分子、（２）カーボネート結合で結合された繰り返し単位を有する高分子または（３）スルホン結合で結合された繰り返し単位を有する高分子を主成分とする（１）〜（１１）の表示装置の製造方法。
である。
【０００７】
【発明の実施の形態】
本発明は、カラーフィルター等の製造工程中は寸法変化に問題が生じないように、カラーフィルター形成工程、基板貼り合せ等の何れかの工程前前にプラスチックフィルムシートの両面に水蒸気透過度が１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であるバリア層を形成し、カラーフィルター形成後には、基板の中心となるプラスチックフィルムシートへの水分浸入量の面内分布に著しい差が生じないように、装置とした際に外面となる側のバリア層のみを水蒸気透過度が１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以上５０ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下まで劣化させることで、表示ムラの発生を防止するものである。
【０００８】
本発明のバリア層としては、特に限定しないが、ポリ塩化ビニリデン等の有機バリア層をコーティング等により必要な厚さに成膜するか、またはＳｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｉｎ等の酸化物、窒化物、ハロゲン化物等の無機バリア層を真空蒸着，ＣＶＤ，スパッタリング等で成膜することができる。さらに有機層と無機層を重ねて成膜することもできる。これらの組成および膜厚を選ぶ事により、水蒸気透過度を前記範囲に制御することができるが、産業上または経済上の理由から酸化珪素または窒素化珪素または酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が好ましい。
上記の表示装置外面側のバリア層の水蒸気透過度としては、カラーフィルターを形成工程、基板貼り合せ等の工程前までは、１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であり、好ましくは、０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下更に好ましくは、０．０５ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下である。水蒸気透過度が１ｇ／ｍ2／ｄａｙを越えた場合、フィルムシートの寸法変化が大きく、特にカラーフィルター形成時にブラックマトリックスやＲＧＢフィルターの形成に位置ズレを生じ問題となるが、カラーフィルター形成後、特に表示装置となった後には、水蒸気透過度が１０ｇ／ｍ2／ｄａｙ未満であるとバリア性が高すぎて側面からの水蒸気の浸入とプラスチック中の拡散により吸湿濃度分布が発生してしまい位相差を発生する原因となる。
表示装置とした際に外面の側にあるバリア層の水蒸気透過度を低下させる方法としては、特に限定はしないが、外面のバリア層を貫通し、内面のバリア層には影響を及ぼさない程度の突起を面内に均一になるように配置したロールや板等の凸形状を有する部材をフィルムシートまたは表示装置の外面側のバリア層に押し当て刺入させ、劣化させる方法や、ナイフ状または針状の治具を使用し、外面のバリア層を貫通させて内面のバリア層には影響を及ぼさない程度に格子状または面内均一になるようにランダムに傷をつける方法、溶剤、エッチング剤等を使用し化学的に外面のバリア層を劣化させる方法、微小な粒を外面のバリア層に衝突させる方法、放電、電蝕等の処理により電気的に外面のバリア層を劣化させる方法、超音波を表面にあて外面のバリア層を劣化させる方法、焦点を絞ったレーザー等のエネルギー線照射で外面のバリア層を劣化させる方法等が挙げられる。また、上記方法の２種類以上を組み合わせて用いても良い。
一方、表示装置とした際に内面の側に形成される単独層または複合層の成膜は、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ａｌ、Ｔａ、Ｎｂ、Ｓｎ、Ｉｎ等の酸化物、窒化物、ハロゲン化物等の無機バリア層を真空蒸着，ＣＶＤ，スパッタリング等で成膜するか、これらと有機膜を重ねて成膜することで得ることができる。これらの組成および膜厚を選ぶ事により、水蒸気透過度を前記範囲に制御することができるが、産業上または経済上の上から酸化珪素または窒素化珪素または酸化インジウム錫（ＩＴＯ）が好ましい。透明導電材料であるＩＴＯはガス・水蒸気透過度を０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下とすることできるため、電着透明電極を全面に成膜するＴＦＴ−ＬＣＤの共通電極側基板のような場合には、ＩＴＯ電極で兼用できる場合がある。
【０００９】
本発明の光学用フィルムシートは位相差が２０ｎｍ以下であることが望ましい。位相差フィルムを別として、表示基板等に使用する場合は位相差が２０ｎｍを越えると、吸湿による位相差発生が無くても表示装置の表示ムラとして不良となる場合がある。さらに、本発明の光学用フィルムシートは、光弾性定数が１０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎ以上のプラスチックフィルムシートを用いた際に特に有効である。光弾性定数が１０×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎ以下のプラスチックフィルムシートでは応力による位相差の発生が少ないため両面のバリア層ともに水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下であっても表示装置に表示ムラを発生する問題は起こりにくいが、光弾性定数が低いプラスチックは一般に脂肪族系高分子等の耐熱性が低いものが多く、表示装置用基板としては使用が限られるものが多い。本発明の光学用フィルムシートに用いるプラスチックとしては特に限定はしないが、好ましいものを挙げると、（１）ポリエステルやポリアリレート等エステル結合で結合された繰り返し単位を有する高分子、（２）ポリカーボネート等カーボネート結合で結合された繰り返し単位を有する高分子または（３）ポリスルホン等スルホン結合で結合された繰り返し単位を有する高分子を主成分とするプラスチックである。これらを１種類で用いても２種類以上を混合して用いてもよい。また、滑剤、耐熱安定剤、耐候安定剤、顔料、染料、無機質充填剤などを適宜ブレンドしても良い。表示装置の製造工程では１５０℃程度に加熱される工程が存在するので、耐熱性に優れるプラスチックが好ましく、芳香族基を有する芳香族ポリエステル、芳香族ポリアリレート、芳香族ポリカーボネート、芳香族ポリスルホン系の高分子を主成分とするものが好ましい。特に、耐熱性と以下に記す透明性のバランスからポリエーテルスルホンが好ましい。
【００１０】
本発明の光学用フィルムシートは波長５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上である方が好ましい。光線透過率が低いと、表示装置とした際に表示が暗くて見にくいことや、或いは明るくするために電力消費が大きくなる。この不具合は光線透過率の低下と共に徐々に問題となるものであるが、実用的には半透過型の表示基板を除けば、波長５５０ｎｍにおける光線透過率が８０％以上である方が望ましい。
【００１１】
【実施例】
以下、実施例に基づき、詳細に説明するが、本発明は本実施例に限定されるものではない。
＜実施例１＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ２００μｍ、位相差４ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルム両面に、コーター部、乾燥炉、高圧水銀灯による紫外線照射装置を有する連続式塗工機を用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂２５重量部、ウレタンアクリレート樹脂１０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、シランカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．２重量部、酢酸ブチル６５重量部の混合液（以下、紫外線硬化性樹脂組成物Ａと称す。）を塗布し、１２０℃で乾燥後に紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ５０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の内側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０８Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度をヤナコ分析工業株式会社製ガスクロマトグラフィー式ガス・水蒸気透過率測定機ＧＴＲ−３０（以下、水蒸気透過率測定機と称す。）を用いて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００１２】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を前記と同様の方法により成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設け、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜とコート層による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．１０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、８９％であった。
【００１３】
この光学用フィルムを３６０ｍｍ×４６０ｍｍのシートに切断し、表示素子用基板とした。カラーフィルター層形成及び表示用透明電極形成のフォトリソグラフィー工程でフォトレジストの加熱乾燥及び水溶液による現像・エッチングの繰り返しに対する寸法変化を評価するため、次のような試験を行った。まず、基板を１２０℃で１時間乾燥させた後、乾燥容器中で基板の温度２３℃となるまで放置し精密寸法測定装置で外寸の測定を行い、その後２３℃の純水に５分間浸漬した後に再度外寸の測定を行う。この操作を再度繰り返し、最初の測定値に対する振れ幅の割合を求めた。このようにして求めた寸法変化は０．００４％であった。次に表示装置の外側となる面を、高さ５±１μの針が縦横１ｍｍ間隔で並んだ平板により、十分に針がフィルムに突き刺さる荷重にて押さえ込み、外側の面の酸化珪素膜に穴をあけ、外側のバリア性を劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、上記と同様のバリア性劣化処理をした後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、１５．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
上記処理を施した基板を高温高湿条件下での位相差発生の評価を行った。まず、基板を、小型表示装置を想定して４０ｍｍ×６０ｍｍの外寸に切断し、四隅から縦・横ともに３ｍｍ内側の部分の位相差をベレックコンペンセイターを装着した偏光顕微鏡で測定した。位相差は１〜２ｎｍであった。この基板を、６０℃９０％ＲＨに設定した恒温恒湿槽に投入し、２４時間ごとに２４０時間まで、その後１００時間ごとに１０４０時間まで前記と同じ位置の位相差の測定を行ったところ、位相差の最大値は８ｎｍであった。
【００１４】
＜実施例２＞
溶液キャスト法で製造した幅１ｍ厚さ１８０μｍ、位相差１ｎｍ±１ｎｍのポリカーボネートフィルムの両面に、コーター部、乾燥炉、高圧水銀灯による紫外線照射装置を有する連続式塗工機を用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂２５重量部、ウレタンアクリレート樹脂１０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、シランカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン0．2重量部、酢酸ブチル６５重量部の混合液（以下、紫外線硬化性樹脂組成物Ａと称す。）を塗布し、１２０℃で乾燥後に紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ４０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。尚、用いたポリカーボネートの光弾性定数は９６×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の内側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０４Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０４Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０.０２ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００１５】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、
連続式スパッタ装置を用いて厚さ２０ｎｍのＩＴＯ（酸化インジウム錫）膜を成膜した。ＩＴＯ膜は、原料ターゲットにＩＴＯターゲットを用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０６Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０２Ｐａ導入してスパッタリングを行い成膜した。このＩＴＯ層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設け、光学用フィルムを得た。尚、２度目のＩＴＯ膜とコート層による水蒸気透過度を測定するために、一度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０３ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、９２％であった。
【００１６】
この光学用フィルムについて実施例1と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００３％であった。
次に表示装置の外側となる面を、高さ５±１μの円錐状の突起が円周方向および幅方向に３ｍｍ間隔で並んだ１００ｍｍφの金属ロールにより、十分に突起がフィルムに突き刺さる荷重にて押さえ込み、外側の面のＩＴＯ膜に穴をあけ、外側のバリア性を劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０２ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、上記と同様のバリア性劣化処理をした後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、３０．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は４ｎｍであった。
【００１７】
＜実施例３＞
紫外線硬化性樹脂組成物として、ウレタンアクリレート樹脂２０重量部、イソシアヌル酸トリアクリレート７０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、メチルセロソルブアセテート５重量部の混合液を、表面に離型剤を均一に塗布した研磨ガラス上に流延し、９０℃のオーブン中で３０分乾燥した後、高圧水銀灯により紫外線を基板上下から各２００ｍＪ／ｃｍ2照射して紫外線硬化性樹脂組成物を硬化させた。硬化物を基板から剥離した後、更に上下から各４００ｍＪ／ｃｍ2の紫外線を照射し、次いで研磨ガラス間に挟持した状態で１５０℃のオーブン中で２時間処理して厚さ０．４ｍｍ、外形３００ｍｍ×３００ｍｍのプラスチックシートを得た。このシートの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ２０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、このプラスチックシートの位相差は０〜１ｎｍであり、光弾性定数は４×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このシートの一方の面、表示装置の内側となる面に、枚葉式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０４Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０４Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａをスピンコーティングし、８０℃のホットプレート上で２分間、さらに１２０℃のホットプレートで２分間乾燥した後、高圧水銀灯により紫外線を４００ｍＪ／ｃｍ2して硬化し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０.００２ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００１８】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０５Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０５Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設け、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜とコート層による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．８ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、８８％であった。
【００１９】
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００３％であった。次に表示装置の外側となる面を、実施例１と同様の方法で外側のバリア性を劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．００２ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、実施例１と同様のバリア性劣化処理をした後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、２０．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は１ｎｍであった。
【００２０】
＜実施例４＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ１５０μｍ、位相差４ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルム両面に、コーター部、乾燥炉、高圧水銀灯による紫外線照射装置を有する連続式塗工機を用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂２５重量部、ウレタンアクリレート樹脂１０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、シランカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．２重量部、酢酸ブチル６５重量部の混合液（以下、紫外線硬化性樹脂組成物Ａと称す。）を塗布し、１２０℃で乾燥後に紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ８０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の内側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０６Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０４ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００２１】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を前記と同様の方法により成膜し、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０５ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、９０％であった。
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００２％であった。
次に上記基板を２３℃のフッ化水素溶液中に１０分間浸漬し、外側のバリア性を化学処理で劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０３ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、２３℃のフッ化水素溶液中に１０分間浸漬し、外側のバリア性を化学処理で劣化させる処理を施した後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、１０．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は９ｎｍであった。
【００２２】
＜実施例５＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ３００μｍ、位相差５ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルム両面に、コーター部、乾燥炉、高圧水銀灯による紫外線照射装置を有する連続式塗工機を用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂２５重量部、ウレタンアクリレート樹脂１０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、シランカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．２重量部、酢酸ブチル６５重量部の混合液（以下、紫外線硬化性樹脂組成物Ａと称す。）を塗布し、１２０℃で乾燥後に紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ５０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の内側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０６Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０５ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００２３】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ３０ｎｍの酸化珪素膜を前記と同様の方法により成膜し、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０８ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、９０％であった。
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００３％であった。
次に上記基板の外側のバリア側に１０％ＮａＯＨを塗布し、ホットプレート上で１０分間、５０℃に加熱し、外側のバリア性を化学処理で劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０５ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、上記と同様にして外側のバリア性を化学処理で劣化させる処理を施した後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、１５．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は１０ｎｍであった。
【００２４】
＜実施例６＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ２００μｍ、位相差３ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルムの両面に、コーター部、乾燥炉、高圧水銀灯による紫外線照射装置を有する連続式塗工機を用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂２５重量部、ウレタンアクリレート樹脂１０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、シランカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．２重量部、酢酸ブチル６５重量部の混合液（以下、紫外線硬化性樹脂組成物Ａと称す。）を塗布し、１２０℃で乾燥後に紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ５０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。窒素化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で各０．０８Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００２５】
次に、前記の窒素化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を前記と同様の方法により成膜し、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．１０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、８９％であった。
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００２％であった。
次に表示装置の外側となる面を、太さが０．５ｍｍ、長さが３０ｍｍで先端の尖った円錐部分の長さが４ｍｍ、先端Ｒ形状が２μの裁縫用の縫い針を用い、内側のバリア面に穴が開かないよう差込深さに注意しながら、ランダムに外側の面の酸化珪素膜に穴をあけ、外側のバリア性を劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、上記と同様のバリア性劣化処理をした後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、２０．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は１０ｎｍであった。
【００２６】
＜実施例７＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ２００μｍ、位相差３ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルムの両面に、コーター部、乾燥炉、高圧水銀灯による紫外線照射装置を有する連続式塗工機を用い、紫外線硬化性樹脂組成物としてエポキシアクリレート樹脂２５重量部、ウレタンアクリレート樹脂１０重量部、光重合開始剤として、イルガキュアー９０７(チバスぺシャリティケミカルズ製)１重量部、シランカップリング剤としてγ−メルカプトプロピルトリメトキシシラン０．２重量部、酢酸ブチル６５重量部の混合液（以下、紫外線硬化性樹脂組成物Ａと称す。）を塗布し、１２０℃で乾燥後に紫外線を３５０ｍＪ／ｃｍ2照射し膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ５０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの窒素化珪素膜を成膜した。窒素化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素と窒素を分圧で各０．０１Ｐａ導入して反応性のＲＦスパッタリングを行い成膜した。この窒素化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを前記と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００２７】
次に、前記の窒素化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ３０ｎｍの窒素化珪素膜を前記と同様の方法により成膜し、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した窒素化珪素膜による水蒸気透過度を測定するために、１度目の窒素化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、８９％であった。
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００２％であった。
次に表示装置の外側となる面を、高さ５±１μの円錐状の突起が円周方向および幅方向に３ｍｍ間隔で並んだ１００ｍｍφの金属ロールにより、十分に突起がフィルムに突き刺さる荷重にて押さえ込み、外側の面の窒素化珪素膜に穴をあけ、外側のバリア性を劣化させる処理を施した。
上記処理を施した基板の水蒸気透過率を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０１ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、バリア性を劣化させる処理の効果を見るために、表示装置内面側のバリア層が無いサンプルを作成し、実施例２と同様のバリア性劣化処理をした後、４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、２０．０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
また、実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は９ｎｍであった。
【００２８】
＜実施例８＞
実施例１で得られた表示装置外面側のバリア層を劣化させる前の光学用フィルムを基板として用いて、液晶表示装置を作製した。第１の工程として、カラーフィルター層を形成した。カラーフォルター層は、樹脂ブラックマトリクス材，Ｒ，Ｇ，Ｂの３種の顔料分散カラーレジストを用い、フォトリソグラフィーにより水蒸気透過度０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙのバリア層成膜面、表示装置の内側となる面側に形成を行った。Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーレジストの寸法は７０μｍ×２００μｍで、その間には幅１０μｍでブラックマトリクスを形成した。ブラックマトリクスの外寸は４０ｍｍ×６０ｍｍで、カラーフィルター形成範囲は３０ｍｍ×５０ｍｍとした。更に、カラーフィルターオーバーコート材をスピンコーターにより塗布し、１７０℃のオーブン中で１時間硬化した。
【００２９】
第２の工程として、透明電極を形成した。カラーフィルターを形成した基板には、カラーフィルター形成面上に、組み合わせて用いるカラーフィルターを形成していない基板は、水蒸気透過度０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙのバリア層成膜面、表示装置の内側になる面側に、枚葉式スパッタ装置で酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を厚さ１３０ｎｍに成膜し、フォトリソグラフィーとエッチングによりストライプ状にパターニングして透明電極とした。
パターニングした透明電極上に配向剤を印刷・成膜し、２４０度ツイストの配向となるようラビングを行った後、洗浄して乾燥した。次に、カラーフィルターを形成していない基板にシール材をスクリーン印刷し、プリベークを行った。その間に、カラーフィルターを形成した基板側にはスペーサーを散布した。尚、スペーサーは接着性のコーティングがなされるものを用いた。続いて両基板のはり合わせを行い、シール材を完全硬化してセルとした。セル化後に、実施例１と同様の方法でセルの外側にあたる両面のバリア層に平板を押し当てバリア性を劣化させた。その後、セルに、液晶としてメルク社製ＺＬＩ２２９３にカイラル剤を添加した組成物を注入し、封口材を用いて封口し、液晶セルを得た。さらに液晶セルに位相差フィルムと偏光フィルムを貼り液晶表示装置とした。
【００３０】
作製した液晶表示装置に駆動波形発生装置を接続し表示を行った。全面点灯時も非点灯時も表示ムラは見られず良好であった。また、液晶表示装置を６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、処理により表示に変化を生じないかを処理時間１０００時間まで試験したところ、表示ムラは発生しなかった。
【００３１】
＜実施例９＞
実施例１で得られた表示装置外面側のバリア層を劣化させる前の光学用フィルムを基板として用いて、液晶表示装置を作製した。第１の工程として、カラーフィルター層を形成した。カラーフォルター層は、樹脂ブラックマトリクス材，Ｒ，Ｇ，Ｂの３種の顔料分散カラーレジストを用い、フォトリソグラフィーにより水蒸気透過度０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙのバリア層成膜面、表示装置の内側となる面側に形成を行った。Ｒ，Ｇ，Ｂのカラーレジストの寸法は７０μｍ×２００μｍで、その間には幅１０μｍでブラックマトリクスを形成した。ブラックマトリクスの外寸は４０ｍｍ×６０ｍｍで、カラーフィルター形成範囲は３０ｍｍ×５０ｍｍとした。更に、カラーフィルターオーバーコート材をスピンコーターにより塗布し、１７０℃のオーブン中で１時間硬化した。
【００３２】
第２の工程として、透明電極を形成した。カラーフィルターを形成した基板には、カラーフィルター形成面上に、組み合わせて用いるカラーフィルターを形成していない基板は、水蒸気透過度０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙのバリア層成膜面、表示装置の内側になる面側に、枚葉式スパッタ装置で酸化インジウム錫（ＩＴＯ）を厚さ１３０ｎｍに成膜し、フォトリソグラフィーとエッチングによりストライプ状にパターニングして透明電極とした。
パターニングした透明電極上に配向剤を印刷・成膜し、２４０度ツイストの配向となるようラビングを行った後、洗浄して乾燥した。次に、カラーフィルターを形成していない基板にシール材をスクリーン印刷し、プリベークを行った。その間に、カラーフィルターを形成した基板側にはスペーサーを散布した。尚、スペーサーは接着性のコーティングがなされるものを用いた。続いて両基板のはり合わせを行い、シール材を完全硬化させセルとしたが、その際に粗面化された平板を使用し、セルの外側にあたる両面のバリア層に押し当てバリア性を劣化させた。その後、セルに、液晶としてメルク社製ＺＬＩ２２９３にカイラル剤を添加した組成物を注入し、封口材を用いて封口し、液晶セルを得た。さらに液晶セルに位相差フィルムと偏光フィルムを貼り液晶表示装置とした。
【００３３】
作製した液晶表示装置に駆動波形発生装置を接続し表示を行った。全面点灯時も非点灯時も表示ムラは見られず良好であった。また、液晶表示装置を６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、処理により表示に変化を生じないかを処理時間１０００時間まで試験したところ、表示ムラは発生しなかった。
【００３４】
＜比較例１＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ２００μｍ、位相差４ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルム両面に、実施例１と同様にして膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ５０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０８Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを実施例１と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００３５】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の内側となる面に、連続式真空蒸着装置を用いて厚さ２０ｎｍの酸化珪素膜を成膜して、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、１５ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、８９％であった。
【００３６】
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．０１％であった。また、平板を使用した表示装置の外側となる面のバリア層の劣化処理を実施しなかった以外は実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は７ｎｍであった。
この光学用フィルムを基板として用いて、液晶表示装置の作製を試みた。実施例２と同様にしてカラーフィルター層の形成を行ったところ、フォトリソグラフィーの繰り返し時に位置ズレが生じ、ブラックマトリクスとＲ，Ｇ，Ｂのカラーレジストの間に隙間ができる、２色のカラーレジストが一部重なるといった不良が発生した。
【００３７】
＜比較例２＞
溶融押出法で製造した幅１ｍ厚さ３００μｍ、位相差４ｎｍ±２ｎｍのポリエーテルスルホンのフィルム両面に、実施例１と同様にして膜厚２μｍのコート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの４０℃９０％ＲＨにおける水蒸気透過度をカップ法にて測定したところ、 ５０ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、用いたポリエーテルスルホンの光弾性定数は１００×１０-13ｃｍ2／ｄｙｎであった。
続いて、このフィルムの一方の面、表示装置の外側となる面に、連続式スパッタ装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜した。酸化珪素膜は、原料ターゲットに珪素を用い、スパッタ装置内を１０-3Ｐａ以下まで減圧した上で放電ガスとしてアルゴンを分圧で０．０８Ｐａ導入、反応ガスとして酸素を分圧で０．０８Ｐａ導入して反応性スパッタリングを行い成膜した。この酸化珪素層の上に、再度紫外線硬化性樹脂組成物Ａを実施例１と同様の方法により塗工し、コート層を設けた。この工程でサンプリングしたフィルムの水蒸気透過度を水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０６ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。
【００３８】
次に、前記の酸化珪素膜を成膜した面と逆の面、表示装置の内側となる面に、連続式真空蒸着装置を用いて厚さ５０ｎｍの酸化珪素膜を成膜して、光学用フィルムを得た。尚、２度目に成膜した酸化珪素膜による水蒸気透過度を測定するために、１度目の酸化珪素膜とその上層のコート層が無いサンプルを作成し、水蒸気透過率測定機を用いて測定したところ、０．０８ｇ／ｍ2／ｄａｙであった。また、この光学用フィルムの波長５５０ｎｍにおける光線透過率を分光光度計により測定したところ、８９％であった。
【００３９】
得られた光学用フィルムについて実施例１と同様にして寸法変化を求めたところ、０．００３％であった。また、平板を使用した表示装置の外側となる面のバリア層の劣化処理を実施しなかった以外は実施例１と同様にして高温高湿条件下での位相差発生の評価を行ったところ、位相差の最大値は４５ｎｍであった。
この光学用フィルムを基板として用いて、平板を使用した表示装置の外側となる面のバリア層の劣化処理を実施しなかった以外は、実施例２と同様にして液晶表示装置を作製した。作製した液晶表示装置に駆動波形発生装置を接続し表示を行った。全面点灯時も非点灯時も表示ムラは見られず良好であった。この液晶表示装置を６０℃９０％ＲＨの恒温恒湿槽に入れ、処理により表示に変化を生じないかを試験したところ、５０時間程度より表示部四隅から表示ムラが発生した。
【００４０】
実施例１〜５では、カラーフィルター形成時には、寸法変化も小さく、バリア性の劣化処理を施すことにより、高温高湿処理による位相差発生も小さな表示装置用基板として好適な光学用フィルムシートがえられており、この中では最も位相差発生が大きな実施例１の光学用フィルムを用いて表示装置を作製した場合でも、良好な表示を行うことができた（実施例６）。
【００４１】
一方、比較例１では、一方の面に、水蒸気透過度が０．１ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下でとなる単独層または複合層を有するものの、他方の面に水蒸気透過度が１５ｇ／ｍ2／ｄａｙと大きかったため、カラーフィルターの形成がうまくできなかった。また、実施例２では、両面ともに水蒸気透過度が０．００２ｇ／ｍ2／ｄａｙ以下と小さく、バリア性の劣化処理を施さなかったために、高温高湿処理による位相差の発生が大きく、表示装置とした際には高温高湿条件下で表示ムラが発生してしまった。
【００４２】
【発明の効果】
以上のように、本発明の表示装置の製造方法及びこれを用いた表示装置は、表示装置製造時には、良好な寸法安定性を維持しつつ、表示装置となった後では従来プラスチック基板で発生していた表示部四隅の表示ムラを無くす事ができ、表示性能を著しく向上させることができるものである。