(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
隔壁に取り囲まれており、基板に対して処理流体を用いた処理が行われる処理室と、
上記隔壁に形成されており、基板が通過可能な開口部と、この開口部を閉塞するための閉塞部材と、
駆動用エアが供給されるエアシリンダを駆動源とし、上記閉塞部材によって上記開口部が開閉されるように上記閉塞部材を駆動する開閉駆動機構と、
上記エアシリンダのエアリークが発生した場合においても、上記開口部が開放されている開状態においてその開状態を維持し、上記閉塞部材によって上記開口部が閉塞されている閉状態においてその閉状態を維持するためのモーメントを発生する開閉維持手段とを含むことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
上記開閉駆動機構は、上記シリンダのロッドの進出および没入による直線運動を回転力に変換するリンク機構を備え、このリンク機構が発生する回転力によって上記閉塞部材を変位させて上記開口部を開閉するものであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項３】
上記開閉維持手段は、上記開口部が開放されている開状態においてその開状態を維持する方向の力が上記リンク機構に作用し、上記閉塞部材によって上記開口部が閉塞されている閉状態においてその閉状態を維持する方向の力が上記リンク機構に作用するように設けられたバランサを含むものであることを特徴とする請求項２記載の基板処理装置。
【請求項４】
上記リンク機構は、上記閉塞部材の変位に伴って回動する回動部材を含み、
上記バランサは、上記回動部材に埋設されていることを特徴とする請求項３記載の基板処理装置。
【請求項５】
上記開閉維持手段は、上記開口部が開放されている開状態においてその開状態を維持する方向の力を上記リンク機構に作用させ、上記閉塞部材によって上記開口部が閉塞されている閉状態においてその閉状態を維持する方向の力を上記リンク機構に作用させる弾性部材を含むものであることを特徴とする請求項２ないし４のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項６】
上記弾性部材は、コイルばねであり、
上記リンク機構は、上記閉塞部材の変位に伴って回動する回動部材を含み、
上記コイルばねは、上記回動部材の回動軸を支持する支持部材に一端が固定され、上記回動部材に他端が固定され、
上記コイルばねの上記一端は、上記回動軸のよりも下方であって、上記コイルばねを含む平面において、上記閉状態における上記コイルばねの上記他端の位置および上記回動軸を通る直線と、上記開状態における上記コイルばねの上記他端の位置および上記回動軸を通る直線との間の領域内に配置されていることを特徴とする請求項５記載の基板処理装置。
【請求項７】
上記開閉駆動機構は、上記シリンダのロッドの進出および没入に応じて上記閉塞部材を昇降させるものであることを特徴とする請求項１記載の基板処理装置。
【請求項８】
上記開閉維持手段は、上記閉塞部材の昇降に伴って上下動するラック部材と、このラック部材に形成されているラックギアに噛合したピニオンギアと、上記開口部が開放されている開状態では上記開口部が閉塞される方向への回転を妨げる力が上記ピニオンギアに作用し、上記開口部が閉塞されている閉状態では上記開口部が開放される方向への回転を妨げる力が上記ピニオンギアに作用するように設けられたバランサとを含むものであることを特徴とする請求項７記載の基板処理装置。
【請求項９】
上記バランサは、上記開状態において、上記ピニオンギアの回転中心を含む上記隔壁と平行な鉛直面に関して一方側に位置し、上記閉状態において、上記鉛直面に関して上記一方側と反対側に位置することを特徴とする請求項８記載の基板処理装置。
【請求項１０】
上記開閉維持手段は、上記閉塞部材の昇降に伴って昇降するラック部材と、このラック部材に形成されているラックギアに噛合したピニオンギアと、上記開口部が開放されている開状態では上記開口部が閉塞される方向への回転を妨げる力を上記ピニオンギアに作用させ、上記開口部が閉塞されている閉状態では上記開口部が開放される方向への回転を妨げる力を上記ピニオンギアに作用させる弾性部材とを含むものであることを特徴とする請求項８または９記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハ、液晶表示装置用ガラス基板、プラズマディスプレイパネル用ガラス基板および磁気／光ディスク用基板などの各種基板に対して、所定の処理を施すための基板処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体装置や液晶表示装置の製造工程では、基板に処理液（薬液または純水）を供給して基板の表面処理を行うための基板処理装置が用いられる。基板を１枚ずつ処理する枚葉型の基板処理装置は、隔壁で区画された処理室を備えており、この処理室内に基板を１枚ずつ搬入して、その基板に処理液による処理を施すようになっている。
【０００３】
処理室を区画している隔壁には、基板を搬入および搬出するための基板通過口が形成されている。この基板通過口に関連して、基板通過口を開閉するためのシャッタ機構が設けられており、基板通過口から処理室内に基板が搬入された後は、シャッタ機構によって基板通過口が閉塞されて、処理室がほぼ密閉された状態で基板に対する処理が行われる。このように基板通過口を閉塞するのは、処理室内の処理液を含む雰囲気が基板通過口を介して流出することを防止するためである。
【０００４】
図７は、従来のシャッタ機構の構成を示す断面図である。従来のシャッタ機構は、ほぼ水平な回動軸９１まわりに回動自在に設けられたシャッタ部材９２と、このシャッタ部材９２にリンク機構９３を介して連結されたエアシリンダ９４とを備えている。
リンク機構９３は、エアシリンダ９４のロッド９５の進出および没入による直線運動をシャッタ部材９２を回動させるための力に変換するものである。このリンク機構９３の働きにより、エアシリンダ９４のロッド９５が進出すると、シャッタ部材９２が図７における反時計回りに回転して、処理室の隔壁９６に形成された基板通過口９７が開放される。一方、エアシリンダ９４のロッド９５が没入すると、シャッタ部材９２が図７における時計回りに回転し、このシャッタ部材９２によって基板通過口９７が閉塞される。なお、図７には、エアシリンダ９４のロッド９５が進出して、基板通過口９７が開放された状態が示されている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
基板が基板通過口９７を通過する際には、エアシリンダ９４に駆動用エアが供給されて、エアシリンダ９４のロッド９５が進出状態にされることにより、基板通過口９７が開放される。そして、基板が基板通過口９７を通過し終えるまで、エアシリンダ９４に駆動用エアが供給され続けて、基板通過口９７が開放された状態が維持される。
【０００６】
ところが、上述の従来装置では、基板通過口９７が開放された状態において、シャッタ部材９２に働く重力によってリンク機構９３に生じるモーメントよりも、エアシリンダ９４のロッド９５およびこのロッド９５とリンク機構９３とを連結している連結部材９８に作用する重力によってリンク機構９３に生じるモーメントの方が大きいために、エアシリンダ９４のエアリークが発生すると、シャッタ部材９２が基板通過口９７を閉塞する方向（図７における時計回り）に回転するという問題があった。エアリークの発生時に基板通過口９７を基板が通過していると、その通過中の基板にシャッタ部材９２が衝突して、基板が破壊されるおそれがある。
【０００７】
この問題を解決するために、エアシリンダ９４のロッド９５が進出した状態でシャッタ部材９２によって基板通過口９７が閉塞されるようにリンク機構９３を構成することが考えられる。しかしながら、このような構成を採用した場合、シャッタ部材９２で基板通過口９７が閉塞された状態においてエアリークが発生すると、シャッタ部材９２が基板通過口９７を開放する方向（図７における反時計回り）に回転し、処理室内の処理液を含む雰囲気が外部に流出するという別の問題を生じる。
【０００８】
そこで、この発明の目的は、上述の技術的課題を解決し、閉塞部材（シャッタ部材）による開口部（基板通過口）の開閉状態を維持できる基板処理装置を提供することである。
【０００９】
【課題を解決するための手段および発明の効果】
上記の目的を達成するための請求項１記載の発明は、隔壁（１）に取り囲まれており、基板に対して処理流体を用いた処理が行われる処理室（２）と、上記隔壁に形成されており、基板が通過可能な開口部（１１）と、この開口部を閉塞するための閉塞部材（３９；６２）と、駆動用エアが供給されるエアシリンダ（３２；６１）を駆動源とし、上記閉塞部材によって上記開口部が開閉されるように上記閉塞部材を駆動するための開閉駆動機構（３２，３３，３４，３５，３６，３７，３８；６１）と、上記エアシリンダのエアリークが発生した場合においても、上記開口部が開放されている開状態においてその開状態を維持し、上記閉塞部材によって上記開口部が閉塞されている閉状態においてその閉状態を維持するためのモーメントを発生する開閉維持手段（４；５；６３，６４，７）とを含むことを特徴とする基板処理装置である。
【００１０】
なお、括弧内の英数字は、後述の実施形態における対応構成要素等を表す。以下、この項において同じ。
この発明によれば、閉塞部材による開口部の開閉状態を維持することができる。ゆえに、開口部が処理室に対して基板を搬入および搬出するための基板通過口である場合には、この基板通過口を通過中の基板に閉塞部材が衝突するおそれがなく、閉塞部材の衝突による基板の破損を生じるおそれがない。
【００１１】
また、開口部の閉状態を維持できるので、処理室内の処理流体を含む雰囲気が外部に流出するおそれがない。
なお、請求項２に記載のように、上記開閉駆動機構は、上記シリンダのロッドの進出および没入による直線運動を回転力に変換するリンク機構（３５，３６，３７，３８）を備え、このリンク機構が発生する回転力によって上記閉塞部材を変位させて上記開口部を開閉するものであってもよい。
【００１２】
この場合、上記開閉維持手段は、請求項３に記載のように、上記開口部が開放されている開状態においてその開状態を維持する方向の力が上記リンク機構に作用し、上記閉塞部材によって上記開口部が閉塞されている閉状態においてその閉状態を維持する方向の力が上記リンク機構に作用するように設けられたバランサ（４）を含むものであってもよいし、請求項５に記載のように、上記開口部が開放されている開状態においてその開状態を維持する方向の力を上記リンク機構に作用させ、上記閉塞部材によって上記開口部が閉塞されている閉状態においてその閉状態を維持する方向の力を上記リンク機構に作用させる弾性部材（５）を含むものであってもよい。
上記開閉維持手段が上記バランサを含む場合、請求項４に記載のように、上記リンク機構は、上記閉塞部材の変位に伴って回動する回動部材を含み、上記バランサは、上記回動部材に埋設されていることが好ましい。
また、上記開閉維持手段が上記弾性部材を含む場合、請求項６に記載のように、上記弾性部材は、コイルばねであり、上記リンク機構は、上記閉塞部材の変位に伴って回動する回動部材を含み、上記コイルばねは、上記回動部材の回動軸を支持する支持部材に一端が固定され、上記回動部材に他端が固定され、上記コイルばねの上記一端は、上記回動軸のよりも下方であって、上記コイルばねを含む平面において、上記閉状態における上記コイルばねの上記他端の位置および上記回動軸を通る直線と、上記開状態における上記コイルばねの上記他端の位置および上記回動軸を通る直線との間の領域内に配置されていることが好ましい。
【００１３】
また、請求項７記載のように、上記開閉駆動機構は、上記シリンダのロッドの進出および没入に応じて上記閉塞部材を昇降させるものであってもよい。この場合、上記開閉維持手段は、請求項８に記載のように、上記閉塞部材の昇降に伴って上下動するラック部材（６３）と、このラック部材に形成されているラックギアに噛合したピニオンギア（６４）と、上記開口部が開放されている開状態では上記開口部が閉塞される方向への回転を妨げる力が上記ピニオンギアに作用し、上記開口部が閉塞されている閉状態では上記開口部が開放される方向への回転を妨げる力が上記ピニオンギアに作用するように設けられたバランサ（７）とを含むものであってもよいし、請求項１０に記載のように、上記閉塞部材の昇降に伴って昇降するラック部材（６３）と、このラック部材に形成されているラックギアに噛合したピニオンギア（６４）と、上記開口部が開放されている開状態では上記開口部が閉塞される方向への回転を妨げる力を上記ピニオンギアに作用させ、上記開口部が閉塞されている閉状態では上記開口部が開放される方向への回転を妨げる力を上記ピニオンギアに作用させる弾性部材とを含むものであってもよい。
上記開閉維持手段が上記バランサを含む場合、請求項９に記載のように、上記バランサは、上記開状態において、上記ピニオンギアの回転中心を含む上記隔壁と平行な鉛直面に関して一方側に位置し、上記閉状態において、上記鉛直面に関して上記一方側と反対側に位置することが好ましい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下では、この発明の実施の形態を、添付図面を参照して詳細に説明する。
図１は、この発明の一実施形態に係る基板処理装置を一部破断して示す正面図である。また、図２および図３は、図１に示す切断面線Ａ−Ａにおける基板処理装置の断面図である。この基板処理装置は、隔壁１で区画された処理室２を有しており、この処理室２内において、基板に対して処理液による処理（たとえば、エッチング液による洗浄処理や純水による水洗処理など）を行うようになっている。
【００１５】
隔壁１には、処理室２に対して基板を搬入および搬出するためのスロット状の基板通過口１１が形成されている。この基板通過口１１の周囲には、その全周にわたってシール部材１２が配置されている。また、基板通過口１１に関連して、処理室２外には、基板通過口１１を開閉するためのシャッタ機構３が設けられている。
シャッタ機構３は、処理室２外の底面に固定されたベース３１と、ベース３１に回動自在に支持されたエアシリンダ３２と、エアシリンダ３２のロッド３２１の先端に連結された水平方向に長い昇降部材３３と、この昇降部材３３の長手方向の両端からそれぞれロッド３２１とほぼ平行に延びた左右一対の連結板３４と、これら一対の連結板３４の先端にそれぞれ回動自在に連結されたレバー３５と、これらのレバー３５，３５を連結する回動軸３６と、この回動軸３６を回動自在に支持する支持部材３７と、回動軸３６に一端が固定された左右一対のＬ字状部材３８と、これら一対のＬ字状部材３８の他端に支持されたシャッタ板３９とを備えている。シャッタ板３９は、基板通過口１１よりも少し大きい略長方形状に形成されていて、処理室２の内側に設けられており、基板通過口１１の周縁に配置されたシール部材１２に密着して基板通過口１１を閉塞することができる。
【００１６】
エアシリンダ３２は、駆動用エアが供給されていない状態で、ロッド３２１が本体３２２内に没入している。このとき、図２に示すように、レバー３５の連結板３４に連結されている側の端部３５１が引き下げられており、Ｌ字状部材３８の回動軸３６に固定されている側の一方片３８１が、回動軸３６を含む鉛直面（一点鎖線で示す。）に関して、隔壁１とは反対側（図２における右側）に位置している。そして、Ｌ字状部材３８の他方の片３８２は、ほぼ水平な状態となって基板通過口１１に挿通されており、このＬ字状部材３８の先端に取り付けられたシャッタ板３９は、シール部材１２に密着して基板通過口１１を閉塞している。
【００１７】
処理室２に対して基板を搬入および搬出する際には、エアシリンダ３２に駆動用エアが供給されて、エアシリンダ３２のロッド３２１が本体３２２から進出させられる。このロッド３２１の進出により、レバー３５の端部３５１が押し上げられて、回動軸３６が図２における反時計回りに回転し、この回動軸３６の回転に伴ってＬ字状部材３８が回転する。その結果、図３に示すように、シャッタ板３９が基板通過口１１から離間して、基板通過口１１が開放される。この状態で、Ｌ字状部材３８の回動軸３６に固定されている側の片３８１は、回動軸３６を含む鉛直面に関して、隔壁１に近い側（図３における左側）に位置している。
【００１８】
なお、この実施形態では、レバー３５、回動軸３６、支持部材３７およびＬ字状部材３８によって、エアシリンダ３２のロッド３２１の進出および没入による直線運動を回転力に変換するリンク機構が構成されている。
基板通過口１１が開放された状態は、処理室２に対して搬入および搬出される基板が基板通過口１１を通過し終えるまで継続される。すなわち、基板が基板通過口１１を通過し終えるまで、エアシリンダ３２への駆動用エアの供給が続けられて、エアシリンダ３２のロッド３２１が進出した状態が保たれる。そして、基板が基板通過口１１を通過し終えると、エアシリンダ３２への駆動用エアの供給が停止されて、エアシリンダ３２のロッド３２１が本体３２２に没入し、Ｌ字状部材３８が図３における時計回りに回転することにより、基板通過口１１がシャッタ板３９によって閉塞された状態に戻される。処理室２内に搬入された基板に対する処理は、基板通過口１１がシャッタ板３９で閉塞されて、処理室２がほぼ密閉された状態で行われる。
【００１９】
Ｌ字状部材３８は、たとえば、耐薬液性を有する樹脂材料で形成されている。そして、その一方片３８１には、金属製のバランサ４が埋設されている。このバランサ４は、シャッタ板３９による基板通過口１１の開閉状態が維持されるようなモーメントを、回動軸３６を中心に回動可能な部材（レバー３５、Ｌ字状部材３８およびシャッタ板３９）に生じさせるためのものである。
すなわち、バランサ４は、図２に示すような基板通過口１１の閉状態では、シャッタ板３９に作用する重力によって生じるモーメントよりも、Ｌ字状部材３８およびバランサ４に作用する重力によって生じるモーメントと、レバー３５の端部３５１に作用するエアシリンダ３２のロッド３２１、昇降部材３３および一対の連結板３４，３４の重力によって生じるモーメントとの和の方が大きくなり、図３に示すような基板通過口１１の開状態では、レバー３５の端部３５１に作用するエアシリンダ３２のロッド３２１、昇降部材３３および一対の連結板３４，３４の重力によって生じるモーメントよりも、シャッタ板３９に作用する重力によって生じるモーメントと、Ｌ字状部材３８およびバランサ４に作用する重力によって生じるモーメントとの和の方が大きくなるような質量を有している。
【００２０】
これにより、基板通過口１１が開成されている状態でエアシリンダ３２のエアリークが発生しても、このとき回動軸３６を中心に回動可能な部材に生じているモーメントによって、その基板通過口１１の開状態が保たれる。ゆえに、基板通過口１１を通過中の基板にシャッタ板３９が衝突するおそれがなく、このシャッタ板３９の衝突による基板の破損を生じるおそれがない。
また、基板通過口１１が閉塞されている状態では、回動軸３６を中心に回動可能な部材を図２における時計回りに回転させる方向の力が作用するから、その基板通過口１１の閉状態が保たれる。よって、エアシリンダ３２に駆動用エアが供給されていない状態でシャッタ板３９が開成するおそれがなく、処理室２内の処理液を含む雰囲気が外部に流出するおそれがない。
【００２１】
図４は、この発明の他の実施形態について説明するための断面図である。この図４において、上述の図２および図３に示された各部に相当する部分には、図２および図３の場合と同一の参照符号が付されている。また、以下では、上述した第１の実施形態に係る構成との相違点を中心に説明する。
上述した第１の実施形態では、適当な質量のバランサ４（図２および図３参照）をＬ字状部材３８の一方片３８１に埋設しておくことにより、回動軸３６を中心に回動可能な部材に基板通過口１１の開状態および閉状態を維持するためのモーメントを生じさせるようにしているが、この実施形態では、バランサ４に代えて、回動軸３６を中心に回動可能な部材に基板通過口１１の開状態および閉状態が維持されるようなモーメントを、回動軸３６を中心に回動可能な部材（レバー３５、Ｌ字状部材３８およびシャッタ板３９）に生じさせるコイルばね５が備えられている。
【００２２】
すなわち、コイルばね５は、回動軸３６を含む鉛直面上であって支持部材３７の回動軸３６よりも下方の位置に一端５１が固定され、他端５２がＬ字状部材３８の屈曲部３８３付近に固定されており、上死点が回動軸３６を含む鉛直面上に位置するようになっている。また、基板通過口１１の開状態（二点鎖線で示す状態）および閉状態（実線で示す状態）におけるコイルばね５の長さよりも、シャッタ板３９が開状態と閉状態との間で変位する過程におけるコイルばね５の長さの方が長くなるようになっている。
【００２３】
そして、コイルばね５は、基板通過口１１の閉状態では、シャッタ板３９に作用する重力によって生じるモーメントよりも、Ｌ字状部材３８に作用する重力によって生じるモーメントと、レバー３５の端部３５１に作用するエアシリンダ３２のロッド３２１、昇降部材３３および一対の連結板３４，３４の重力によって生じるモーメントと、コイルばね５の弾性力（ばね力）によって生じるモーメントとの和の方が大きく、基板通過口１１の開状態では、レバー３５の端部３５１に作用するエアシリンダ３２のロッド３２１、昇降部材３３および一対の連結板３４，３４の重力によるモーメントよりも、シャッタ板３９に作用する重力によって生じるモーメントと、Ｌ字状部材３８に作用する重力によって生じるモーメントと、コイルばね５の弾性力によって生じるモーメントとの和の方が大きくなるような弾性力（ばね力）を有している。
【００２４】
したがって、上述の第１の実施形態の構成と同様に、基板通過口１１の開状態でエアシリンダ３２のエアリークが発生しても、シャッタ板３９が開成されている状態（基板通過口１１の開状態）を維持することができる。ゆえに、基板通過口１１を通過中の基板にシャッタ板３９が衝突するおそれがなく、このシャッタ板３９の衝突による基板の破損を生じるおそれがない。また、基板通過口１１の閉状態を維持することができるので、処理室２内の処理液を含む雰囲気が外部に流出するおそれもない。
【００２５】
なお、必ずしもコイルばね５の一端５１が回動軸３６を含む鉛直面上に設けられる必要はなく、上述の効果を達成するためには、図５に示すように、コイルばね５の一端５１は、支持部材３７の回動軸３６よりも下方であって、コイルばね５を含む平面において、シャッタ板３９が開状態のときのコイルばね５の他端５２の位置Ｐ１および回動軸３６を通る直線とシャッタ板３９が閉状態のときのコイルばね５の他端５２の位置Ｐ２および回動軸３６を通る直線との間の領域（図５においてハッチングを付した領域。境界を除く。）Ｓ内にあればよい。
【００２６】
また、コイルばね５を備えたことによってバランサ４を必ず省略しなければならないというわけではなく、バランサ４を備えた第１の実施形態に係る構成にコイルばね５がさらに付加されてもよい。
図６は、この発明のさらに他の実施形態について説明するための図解的な断面図である。図６において、上述の図２および図３に示された各部に相当する部分には、図２および図３の場合と同一の参照符号を付している。
【００２７】
この実施形態に係るシャッタ機構６は、ロッド６１１が鉛直方向に進出および没入するように配置されたエアシリンダ６１と、このエアシリンダ６１の進出および没入によって昇降されるシャッタ板６２と、エアシリンダ６１によるシャッタ板６２の昇降に伴って昇降するラック部材６３と、このラック部材６３に形成されたラックギアに噛合したピニオンギア６４とを備えている。ピニオンギア６４は、耐薬液性を有する樹脂材料で形成されていて、その内部には、適当な質量を有する金属製のバランサ７が埋設されている。
【００２８】
エアシリンダ６１は、駆動用エアが供給されていない状態で、ロッド６１１が本体６１２内に没入している。このとき、図６(a)に示すように、シャッタ板６２が基板通過口１１の下方まで下げられて、基板通過口１１は基板の通過が可能なように開放されている。また、ピニオンギア６４に埋設されているバランサ７は、ピニオンギア６４の回転中心を含む隔壁１と平行な鉛直面に関して、図６における左側に位置している。
【００２９】
処理対象の基板が基板通過口１１を介して処理室２内に搬入されると、エアシリンダ６１に駆動用エアが供給されて、エアシリンダ６１のロッド６１１が本体６１２から進出させられる。このロッド６１１の進出により、シャッタ板６２が上昇されて基板通過口１１に対向し、シャッタ板６２によって基板通過口１１が閉塞される。このとき、シャッタ板６２の上昇に伴ってラック部材６３が上昇し、このラック部材６３の上昇により、ピニオンギア６４が図６における時計回りに回転する。そして、シャッタ板６２によって基板通過口１１が閉塞された状態で、ピニオンギア６４に埋設されているバランサ７は、ピニオンギア６４の回転中心を含む隔壁１と平行な鉛直面に関して、図６における右側に位置するようになっている。処理室２内に搬入された基板に対する処理は、基板通過口１１がシャッタ板６２で閉塞されて、処理室２がほぼ密閉された状態で行われる。
【００３０】
この実施形態の構成によれば、基板通過口１１の開状態においては、ピニオンギア６４に埋設されているバランサ７に作用する重力によって、シャッタ板６２（ラック部材６３）が上昇する方向へのピニオンギア６４の回転が妨げられる。また、基板通過口１１の開状態においては、ピニオンギア６４に埋設されているバランサ７に作用する重力によって、シャッタ板６２が下降する方向へのピニオンギア６４の回転が妨げられる。
【００３１】
これにより、たとえ基板通過口１１の閉状態でエアシリンダ３２のエアリークが発生しても、その基板通過口１１の閉状態を維持することができる。ゆえに、処理室２内の処理液を含む雰囲気が外部に流出するおそれがない。また、基板通過口１１の開状態を維持することができるので、基板通過口１１を通過中の基板にシャッタ板６２が衝突するおそれがなく、このシャッタ板６２の衝突による基板の破損を生じるおそれもない。
【００３２】
なお、この実施形態では、基板通過口１１の開状態および閉状態を維持するための力を付与するバランサ７がピニオンギア６４に埋設されているとしたが、このバランサ７に代えて、基板通過口１１の開状態ではシャッタ板６２によって基板通過口１１が閉塞される方向（ラック部材６３が上昇する方向）への回転を妨げる力をピニオンギア６４に作用させ、基板通過口１１の閉状態では基板通過口１１が開放される方向（ラック部材６３が下降する方向）への回転を妨げる力をピニオンギア６４に作用させるばねが設けられてもよい。また、この実施形態に係る構成（バランサ７を備えた構成）に、上記のような力を作用させるばねがさらに付加されてもよい。
【００３３】
以上、この発明のいくつかの実施形態について説明したが、この発明はさらに他の形態で実施することができ、特許請求の範囲に記載された事項の範囲で種々の設計変更を施すことが可能である。
【図面の簡単な説明】
【図１】この発明の一実施形態に係る基板処理装置を一部破断して示す正面図である。
【図２】図１に示す切断面線Ａ−Ａにおける基板処理装置の断面図であり、シャッタ部材によって基板通過口が閉塞された状態を示す。
【図３】図１に示す切断面線Ａ−Ａにおける基板処理装置の断面図であり、基板通過口が開放された状態を示す。
【図４】この発明の他の実施形態について説明するための断面図である。
【図５】図４に示す基板処理装置の変形例について説明するための図である。
【図６】この発明のさらに他の実施形態について説明するための図解的な断面図である。
【図７】従来の基板処理装置の構成を説明するための断面図である。
【符号の説明】
１      隔壁
１１    基板通過口
２      処理室
３      シャッタ機構
３１    ベース
３２    エアシリンダ
３２１  ロッド
３２２  本体
３３    昇降部材
３４    連結板
３５    レバー
３６    回動軸
３７    支持部材
３８    Ｌ字状部材
３９    シャッタ板
４      バランサ
５      コイルばね
６      シャッタ機構
６１    エアシリンダ
６１１  ロッド
６１２  本体
６２    シャッタ板
６３    ラック部材
６４    ピニオンギア
７      バランサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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