(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被対象物の表面に炭酸ガスを噴射して表面洗浄する表面洗浄システムに、炭酸ガスを供給するガス供給システムであって、
液化炭酸ガス液を蓄積しているバッファタンクと、
該バッファタンクに接続して、液化炭酸ガス液を一時貯留することができる複数の高耐圧タンクと、
該複数の高耐圧タンクのそれぞれには、高耐圧タンクの外周に配置し、該高耐圧タンクに貯留されている液化炭酸ガス液を加熱する加熱手段と、
前記高耐圧タンクから出力する炭酸ガスのガス圧を測定する圧力測定手段と、前記高耐圧タンクの外周適宜位置に設置した温度センサで検出したタンク温度および前記圧力測定手段により測定した圧力測定値に基づいて、前記高耐圧タンクに貯留されている液化炭酸ガス液の液切れを検出する液切れ検出手段と、を備え、前記それぞれの高耐圧タンクは、前記圧力測定手段により測定した圧力測定値に基づいて、高耐圧タンクを加熱する加熱手段を制御するようにして前記高耐圧タンク内の炭酸ガスの圧力を一定に保ち、この高耐圧タンク内のガス圧と同じ圧力レベルを維持した状態で炭酸ガスを前記表面洗浄システムに供給できるようにすると共に、前記液切れ検出手段が液化炭酸ガス液の液切れを検出したときに、その液切れをした高耐圧タンクからの炭酸ガスの供給を停止すると共に、別の高耐圧タンクから炭酸ガスの供給を開始するようにし、且つ液切れした高耐圧タンクに液化炭酸ガス液を前記バッファタンクから供給するようにして、前記表面洗浄システムに連続して炭酸ガスを供給することを特徴とするガス供給システム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ガス供給システムに関し、詳しくは半導体やハードディスク、液晶など平面基板を用いた製造工程において、表面に付着している有機物、パーティクル等を効率よく除去するための装置に、一定圧力のＣＯ２などの蒸気圧からなる液化ガスを精度よく効率的に供給するガス供給システムに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来技術におけるＣＯ２液化ガスを利用した基板表面洗浄システムは、図４に示すように、ＣＯ２ガス供給システム４１からＣＯ２ガスを供給して基板の表面洗浄を行う基板表面洗浄ユニット５１を備えた構成になっている。
【０００３】
ガス供給システム４１は、高圧液体ＣＯ２を溜めるためのタンク４２と、タンク４２内のＣＯ２蒸気圧（ＣＯ２ガス圧ＰＯ）のみを一定にするための液温を制御するためのヒータ４３と、タンク４２からガスのみを基板表面洗浄ユニット５１のＣＯ２噴射ノズル５４へ導入するガス配管４４と、圧力計４５と、エアーオペレート弁４６とからなる。このガス供給システム４１については、図６を参照して詳細に後述する。
【０００４】
基板表面洗浄ユニット５１は、エアーオペレート弁４６にガス配管を介して連結され、ＣＯ２ガス中のパーティクルを除去するための高圧気体用ラインフィルタ５２と、ＣＯ２噴射ノズル５４にＣＯ２ガスを噴射するラインの開閉を行うためのエアーオペレート弁５３と、ＣＯ２ガスを噴出するＣＯ２噴射ノズル５４と、被対象物の基板５６周辺にＮ２ガスを噴射する局所パージ機構部５５と、被対象物の基板５６を結露しないように加熱する赤外線ヒータ５７と、被対象物である基板５６を回転させるためのスピンドル５８とからなる。
【０００５】
ＣＯ２噴射ノズル５４は、被対象物である基板５６の洗浄物面に対し、ほぼ垂直になるように配置し、その距離は、次の式（１）で算出される距離以下に接近させた構成になっている。
【０００６】
２／３・Ｄ・√Ｐｏ（ｍｍ）……式（１）
Ｄ：ノズル口径ｍｍ
Ｐｏ：ＣＯ２圧力Ｋｇ／ｃｍ２
【０００７】
ＣＯ２噴射ノズル５４へＣＯ２ガスを供給するラインの開閉を行うためのエアーオペレート弁５３は、高圧気体用のラインフィルタ５２より下流側に設置して、高圧気体用のラインフィルタ５２が大気開放されずに常に高圧側に保持されるように配置した構造となっている。
【０００８】
ＣＯ２噴射ノズル５４及び局所パージ機構部５５は、同一ステージ上に配置され、中心からＣＯ２ガス、周辺からＮ２ガスを吹き出す二重構造で、吹き出すＣＯ２噴射ノズル５４の周辺をＮ２ガスでパージする構造となっている。
【０００９】
図５は、ＣＯ２噴射ノズル５４とスピンドル５８に装着されている基板５６との位置関係を示したものであり、ＣＯ２噴射ノズルと基板との距離であるノズル基板間距離ｄとすると、ノズルからｄ１の距離では気体と液体が混在する領域、次のｄ２の距離が気体、液体、固体が混在する領域、ｄ３が気体と固体が混在する領域である。
【００１０】
このように、基板５６周辺にＮ２ガスを吹き付けることによって被対象物である基板５６周辺をＮ２ガス雰囲気にする局所パージ機構部５５と、被対象物である基板５６を加熱する赤外線ヒータ５７とにより、基板５６の温度低下による結露を防ぐ構造になっている。
【００１１】
又、図示しないがスピンドル５８に搭載する基板５６は、基板５６をロード、アンロードする基板搬送手段により行う構成になっている。
【００１２】
更に、高速で回転している基板５６又はガスを吹き付けられている基板５６表面に、洗浄中及び洗浄前後に軟X線を照射することによって、除電を行う構成になっている。
【００１３】
さて、基板表面洗浄ユニット５１にＣＯ２ガスを供給するガス供給システム４１の構成は、図６に示すように、液化炭酸ガスボンベのタンク６１内のＣＯ２蒸気圧の温度を一定に制御する構成になっており、液化炭酸ガスボンベであるタンク６１と、このタンク６１の周囲に設けたヒータ６２と、タンク６１の一部に密着させて配置した温度センサである熱電対Ｔ（６３）と、熱電対Ｔ（６３）からの温度信号に基づいてヒータ６２へ供給する電流を制御する温度制御ボックス６４とからなる。
【００１４】
温度制御ボックス６４は、タンク６１の温度を加熱するためのヒータ６２を制御するソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）と、タンク６１に取り付けた熱電対Ｔ（６３）からの温度信号に基づいてソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）へのＡＣ１００Ｖの供給を制御する温度コントローラ６６とからなる。
【００１５】
ソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）は、その一方の入力側が接地ＧＮＤに接続し、他方の入力側が温度コントローラ６６の制御スイッチ６７を介してＤＣ＋２４Ｖに接続されている。その一方の出力側は商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｌ）に接続し、他方の出力側はヒータ６２の一方端子に接続されている。ヒータ６２の他方端子は商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｃ）に接続してある。
【００１６】
温度コントローラ６６は、一方の電源入力側がスイッチＳＷ２を介して商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｃ）に接続し、他方の入力側が他方の商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｌ）に接続しており、アナログ入力側が温度センサである熱電対Ｔ（６３）に接続した構成になっている。又、温度コントローラ６６には、上述したように、熱電対Ｔ（６３）の温度によってオン／オフする制御スイッチ６７を備えた構成になっている。
【００１７】
この制御スイッチ６７は、ＤＣ＋２４ＶをソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）に供給するように接続されており、熱電対Ｔ（６３）で検出した温度が所定の温度であるときに、制御スイッチ６７がオンし、ＤＣ＋２４ＶがソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）に供給され、ソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）がオンすると、ＡＣ１００Ｖがヒータ６２に供給され、タンク６１を加熱する。
【００１８】
又、熱電対Ｔ（６３）で検出した温度が所定の温度になると、制御スイッチ６７がオフし、ソリッドステートリレーＳＳＲ（６５）をオフすることにより、ヒータ６２へのＡＣ１００Ｖの供給を遮断して、タンク６１の加熱を停止する。このようにして、タンク６１の温度に基づいてタンク６１への加熱を制御して液化炭酸ガス液が炭酸ガスになったときに発生する蒸気圧を制御する。
【００１９】
このような温度制御ボックス６４を備えた液化炭酸ガスボンベのタンク６１からのＣＯ２蒸気圧を一定に維持するためには、高圧液体ＣＯ２を溜めるためのタンク６１の外側に接着してある熱電対Ｔ（６３）からの温度信号により、タンク６１の外周に密着させて設置したヒータ６２を制御してタンク６１を暖め、熱電対Ｔ（６３）の測定温度が一定になるように、温度コントローラ６６によって制御する。
【００２０】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来技術で説明した液化炭酸ガスの蒸気圧を一定にして供給するガス供給システムにおいて、蒸気圧を一定にするために液温を一定に制御していたが、高圧容器のボンベ（タンク）の場合、容器内の液温を正確に測定するには様々な問題がある。
例えば、使用する温度センサを、タンクの内部に用いる場合は、高圧のタンクに取り付け穴を開ける必要がありコスト高になるという問題がある。
【００２１】
ヒータの取り付け場所によっては、液体の温度に勾配ができるため攪拌が必要になるが、高圧下での攪拌は困難であるという問題もある。
【００２２】
タンクの外部に温度センサを取り付ける場合、タンクの熱容量などで応答が大幅に遅くなるという問題もある。
【００２３】
又、ヒータと温度センサの取り付け位置によって温度の計測値が大きく変化するため、制御すべき温度を一定にしても蒸気圧が変わってしまうという問題がある。
【００２４】
従って、蒸気圧のＣＯ２ガスを安定してＣＯ２洗浄システムに供給するガス供給システムに解決しなければならない課題を有する。
【００２５】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明に係るガス供給システムは、次に示す構成にするのである。
【００２６】
（１）被対象物の表面に炭酸ガスを噴射して表面洗浄する表面洗浄システムに、炭酸ガスを供給するガス供給システムであって、
液化炭酸ガス液を一時貯留することができる高耐圧タンクと、
該高耐圧タンクの外周にヒータを配置し、該高耐圧タンクに貯留されている液化炭酸ガス液を加熱する加熱手段と、
前記高耐圧タンクから出力する炭酸ガスのガス圧を測定する圧力測定手段と、を備え、前記圧力測定手段により測定した圧力測定値に基づいて、前記高耐圧タンクを加熱する加熱手段を制御するようにして前記高耐圧タンク内の炭酸ガスの圧力を一定に保ち、この高耐圧タンク内のガス圧と同じ圧力レベルを維持した状態で炭酸ガスを前記表面洗浄システムに供給するようにしたことを特徴とするガス供給システム。
（２）前記高耐圧タンクの外周適宜位置に設置した温度センサで検出したタンク温度および前記圧力測定手段により測定した圧力測定値に基づいて、前記高耐圧タンクに貯留されている液化炭酸ガス液の液切れを検出する液切れ検出手段を備えたことを特徴とする（１）に記載のガス供給システム。
【００２７】
（３）被対象物の表面に炭酸ガスを噴射して表面洗浄する表面洗浄システムに、炭酸ガスを供給するガス供給システムであって、
液化炭酸ガス液を蓄積しているバッファタンクと、
該バッファタンクに接続して、液化炭酸ガス液を一時貯留することができる複数の高耐圧タンクと、
該複数の高耐圧タンクのそれぞれには、高耐圧タンクの外周に配置し、該高耐圧タンクに貯留されている液化炭酸ガス液を加熱する加熱手段と、
前記高耐圧タンクから出力する炭酸ガスのガス圧を測定する圧力測定手段と、前記高耐圧タンクの外周適宜位置に設置した温度センサで検出したタンク温度および前記圧力測定手段により測定した圧力測定値に基づいて、前記高耐圧タンクに貯留されている液化炭酸ガス液の液切れを検出する液切れ検出手段と、を備え、前記それぞれの高耐圧タンクは、前記圧力測定手段により測定した圧力測定値に基づいて、高耐圧タンクを加熱する加熱手段を制御するようにして前記高耐圧タンク内の炭酸ガスの圧力を一定に保ち、この高耐圧タンク内のガス圧と同じ圧力レベルを維持した状態で炭酸ガスを前記表面洗浄システムに供給できるようにすると共に、前記液切れ検出手段が液化炭酸ガス液の液切れを検出したときに、その液切れをした高耐圧タンクからの炭酸ガスの供給を停止すると共に、別の高耐圧タンクから炭酸ガスの供給を開始するようにし、且つ液切れした高耐圧タンクに液化炭酸ガス液を前記バッファタンクから供給するようにして、前記表面洗浄システムに連続して炭酸ガスを供給することを特徴とするガス供給システム。
【００２８】
このように、液化炭酸ガス液を一時貯留するタンクに対する加熱をタンク内の炭酸ガスの圧力が一定に保たれるように制御して、結果的に洗浄システムに供給する炭酸ガスの蒸気圧を一定に維持した状態で提供することができる。
【００２９】
又、少なくとも２個の高耐圧タンクを備え、その高耐圧タンクの液切れを圧力制御と温度測定によって検出して他方の高耐圧タンクに切換えると共に、液切れの高耐圧タンクには液化炭酸ガス液をバッファタンクから充填するようにしたことにより、表面洗浄システムに連続した一定蒸気圧の炭酸ガスの提供が可能になる。
【００３０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明に係るガス供給システムの実施形態について、図面を参照して説明する。尚、表面洗浄システムについては、従来技術で説明した図４及び図５に開示されているものと同様であるので、その説明は省略する。
【００３１】
本発明に係るガス供給システムは、図１に示すように、液化炭酸ガスボンベである高耐圧タンク１１と、この高耐圧タンク１１の外周に接着して取り付けたヒータ１３と、同じ高耐圧タンク１１の外周に接着して取り付けた温度センサである熱電対Ｔ（１２）と、ヒータ１３及び熱電対Ｔ（１２）の信号を制御する温度制御ボックス１４と、液化炭酸ガスボンベ(高耐圧タンク１１)からの出力のガス配管の途中に接点圧力スイッチ１８を備えた圧力計１７とからなる。この接点圧力スイッチ１８は、圧力計１７で所定の測定圧力値になったときにオンするスイッチである。
【００３２】
実施例において、ヒータ１３は４本であり、例えば、径が１.６ｍｍ、長さ３ｍのマイクロシースヒータで、厚さ１ｍｍのアルミ板にアルミテープで密着させるように固定する。このヒータ１３を取り付けたアルミ板は、液化炭酸ガスボンベ(高耐圧タンク１１)に密着するように耐熱性のバンドによって固定する。
【００３３】
温度制御ボックス１４は、ヒータ１３の温度を制御するソリッドステートリレーＳＳＲ（１５）と温度センサである熱電対Ｔ（１２）を制御する温度コントローラ１６とからなり、その接続状態は、ソリッドステートリレーＳＳＲ（１５）の一方の入力側は圧力計１７の接点圧力スイッチ１８を介して接地ＧＮＤに接続し、他方の入力側は温度コントローラ１４の制御スイッチ１９を介して電源ＤＣ＋２４Ｖに接続されている。そのソリッドステートリレーＳＳＲ（１５）の一方の出力側は商用交流電源であるＡＣ１００Ｖ（Ｌ）に接続され、他方の出力側はヒータ１３の入力端に接続されている。ヒータ１３の出力端は他方の商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｃ）に接続されている。
【００３４】
温度コントローラ１６は、その一方の入力側はスイッチＳＷ１を介して商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｃ）に接続し、他方の電源入力側は商用交流電源ＡＣ１００Ｖ（Ｌ）の他方側に接続してある。又、そのアナログ入力側は熱電対Ｔ（１２）に接続した構成になっている。そして、ソリッドステートリレーＳＳＲ（１５）に供給するＤＣ＋２４Ｖをオン／オフ制御する制御スイッチ１９を備えた構成になっている。
【００３５】
圧力計１７には、耐圧１０ＭＰａで、設定値に対してオン／オフの接点出力をする接点圧力スイッチ１８を備えてあり、圧力が設定値に達したときにヒータ１３が切れるようにオン／オフ制御を行うことができる。
【００３６】
又、熱電対Ｔ（１２）の出力信号は温度コントローラ１６に入力され、温度をモニタし液切れのアラームを出力することができる。即ち、液化炭酸ガス液が高耐圧タンク１１に残っている場合には、液温はほぼ一定になっているので高耐圧タンク１１の温度は急激には上がらないが、液切れ時にはタンク温度は急激に上昇するから、この上昇した温度を検知すれば液切れであることを検出できるのである。実際には、通常使用温度より１〜２℃高い温度でヒータ１３が切れるように設定温度を決定しておけば液切れを検知することができる。
【００３７】
図２は、高耐圧タンク１１中の液切れが発生する前後の様子をグラフで示したものであり、高耐圧タンク１１内に液化炭酸ガス液が存在する場合は、ヒータ１３によって温度が保たれていれば、内部の蒸気圧は一定に保たれている。
【００３８】
即ち、ヒータ１３がオンして温度が上昇したこと（２３℃以下から２４℃ぐらいになったとき：Ｑ１の位置）を検出すると、ヒータ１３がオフされ温度が下がり温度が２３℃位になり略２３℃に維持するように制御される。
【００３９】
この温度を維持した状態で、蒸気圧の圧力が６．３ＭＰａ以上のときに６．３ＭＰａに維持（Ｐ１の位置）する。そして、ＣＯ２噴射ノズル５４（図４に示す表面洗浄ユニット５１）から噴射されると、炭酸ガスＣＯ２の圧力は６．３ＭＰａ〜６．２５ＭＰａ間を繰り返し、同時に温度を２３℃に維持させながらＣＯ２噴射を行う。
【００４０】
このようにして、ＣＯ２噴射を行ううちに、ＣＯ２液切れによる温度上昇が開始する（Ｑ２の位置）と、ＣＯ２噴射のオン／オフを繰り返しても温度は上昇し、２５℃に達する（Ｑ３の位置）と、設定温度に達したものと判断して液切れ警報を発報する。
【００４１】
このように、炭酸ガスＣＯ２が使用されることによって、多少の圧力変動が生じるが、設定値６．３ＭＰａに対して、０．０５ＭＰａ程度の変動に収まっている。温度はほぼ０．５℃以内で略一定値を示している。
高耐圧タンク１１中の液が切れると圧力が下がるため一定に保とうとして、ヒータ１３が加熱を始める。液切れの状態で温度を一定にしておくと、ＣＯ２ガスが消費されるにつれて圧力が下がってしまうため、急激で連続的な温度上昇が生じる。そこで、温度が設定値に達したときに、液切れを認知することができるのである。
【００４２】
図３は、蒸気圧一定のＣＯ２ガスの連続供給システムの例を示したものであり、その構成は、液化炭酸ガス液を貯留できる外部タンク２１と、外部タンク２１から供給される液化炭酸ガス液を貯留することができるタンク１（２４）を備えた第１のタンク部２３と、液化炭酸ガス液を一時貯留することができるタンク２（２６）を備え上述した蒸気圧を一定温度に制御するヒータ２８を備えた第２のタンク部２５と、液化炭酸ガス液を一時貯留することができるタンク３（２７）を備え上述した蒸気圧を一定温度に制御するヒータ２９を備えた第３のタンク部３０とからなり、第１のタンク部２３には液化炭酸ガス液を貯留し、第２及び第２のタンク部２５、３０はバルブの開閉を制御してタンク２（２６）及びタンク３（２７）を切り替えて連続して表面洗浄システムに蒸気圧の炭酸ガスＣＯ２を供給する。
【００４３】
第１のタンク部２３は、入力側にタンク１（２４）と外部タンク２１との均圧を一定にするために接続してあるエアーバルブＡＶ２と、外部タンク２１から液化炭酸ガス液を供給するラインフィルタＦＬ１を介したエアーバルブＡＶ１とを備え、出力側に、タンク２（２６）との均圧を一定にするために接続してあるエアーバルブＡＶ５、ラインフィルタＦＬ２と、タンク２（２６）及びタンク３（２７）に液化炭酸ガス液を供給するエアーバルブＡＶ３を備えた構成になっている。
【００４４】
第２のタンク部２５は、タンク２（２６）に液化炭酸ガス液をタンク１（２４）から供給するラインフィルタＦＬ６、エアーバルブＡＶ４と、タンク２（２６）を一定温度に制御するヒータ２８と、タンク２（２６）の温度を検知する熱電対Ｔと、出力側に表面洗浄ユニット５１に炭酸ガスＣＯ２の蒸気圧を供給するエアーバルブＡＶ６と、このエアーバルブＡＶ６を経由してラインフィルタＦＬ４、エアーバルブＡＶ１０を介して表面洗浄システムに蒸気圧の炭酸ガスＣＯ２が供給される。
【００４５】
第３のタンク部３０は、タンク３（２７）に液化炭酸ガス液をタンク１（２４）から供給するラインフィルタＦＬ５、エアーバルブＡＶ９と、タンク３（２７）を一定温度に制御するヒータ２９と、タンク３（２７）の温度を検知する熱電対Ｔと、出力側に表面洗浄ユニット５１に炭酸ガスＣＯ２の蒸気圧を供給するエアーバルブＡＶ８と、このエアーバルブＡＶ８を経由してラインフィルタＦＬ４、エアーバルブＡＶ１０を介して表面洗浄ユニット５１に蒸気圧の炭酸ガスＣＯ２が供給される。
【００４６】
このような構成からなる連続ガス供給システムにおいて、液化炭酸ガス液は外部タンク２１から−１２℃の液体としてタンク１（２４）に供給される。先ず、エアーバルブＡＶ２を開き、外部タンク２１と第１のタンク部２３のタンク１（２４）を均圧にする。次に、エアーバルブＡＶ１を開き、液化炭酸ガス液をタンク１（２４）に流し込む。タンク１（２４）には、外部タンク２１から一定量の液化炭酸ガス液が供給されれば、エアーバルブＡＶ１を閉じる。満タンの終点検出には、例えば、ロードセルを用いて、タンク１（２４）の重量を測定することで達成される。
【００４７】
今、エアーバルブＡＶ８が開いてタンク３（２７）から炭酸ガスＣＯ２が表面洗浄ユニット５１に供給されているときに、タンク２（２６）が空になったときに、先ず、エアーバルブＡＶ５を開き均圧とした後、エアーバルブＡＶ４、ＡＶ３を開きタンク１（２４）よりタンク２（２６）に液化炭酸ガス液を供給する。タンク１（２４）の液化炭酸ガス液が全量供給された後、エアーバルブＡＶ４、ＡＶ５、ＡＶ３を閉じ、タンク２（２６）のヒータ２８をオンにして、−１２℃の液体ＣＯ２を＋２３℃まで昇温し、炭酸ガスＣＯ２の蒸気圧を６．３ＭＰａに制御する。
【００４８】
この間、タンク１（２４）には、エアーバルブＡＶ１を開いて、外部タンク２１より再び一定量の液化炭酸ガス液が供給されることになる。
【００４９】
タンク３（２７）に貯留されている炭酸ガスＣＯ２が消費され、液切れ信号を検出した場合、先ず、エアーバルブＡＶ６を開き、続いてエアーバルブＡＶ８を閉じる。この時点で炭酸ガスＣＯ２の供給元は、タンク３（２７）からタンク２（２６）へ切り替わる。
【００５０】
タンク３（２７）は空になったので、タンク１（２４）に貯められている液化炭酸ガス液を供給する。このとき、先ず、エアーバルブＡＶ７を開き、タンク１（２４）とタンク３（２７）を均一にした後、エアーバルブＡＶ３、ＡＶ９を開き、タンク１（２４）の液化炭酸ガス液が全量供給された後、エアーバルブＡＶ３、ＡＶ７、ＡＶ９を閉じ、タンク３（２７）のヒータ２９をオンにして、−１２℃の液化炭酸ガス液を＋２３℃にまで昇温し、蒸気圧の炭酸ガスＣＯ２を圧力６．３ＭＰａに制御する。
【００５１】
この間、タンク１（２４）には外部タンク２１により再び一定量の液化炭酸ガス液が供給される。タンク２（２６）が空になったら、エアーバルブＡＶ８を開き、続いてエアーバルブＡＶ６を閉じる。この時点で炭酸ガスＣＯ２ガスの供給元は、タンク２（２６）からタンク３（２７）へ切り替わる。
【００５２】
以後、これら一連の動作を繰り返すことによって、蒸気圧一定のガスを連続的に供給することができるのである。
【００５３】
【発明の効果】
上記説明したように、本発明に係るガス供給システムは、表面洗浄システムに蒸気圧が一定の炭酸ガスを安定して供給できるため、洗浄むらがなく、再現性の高い洗浄効果が得られる。
【００５４】
又、炭酸ガス容器であるタンクの温度を測定しておくことにより、液切れをタイミング良くモニターできるため、液切れによる洗浄不良を出さないか、それに近い状態にすることができる。
【００５５】
更に、液切れ情報によって、炭酸ガスの供給タンクを切り替えることで、炭酸ガスの連続的な供給が可能になる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る液化炭酸ガス蒸気圧安定化システムを略示的に示したブロック図である。
【図２】同炭酸ガスタンク内の温度と圧力変化の様子を示したグラフである。
【図３】同炭酸ガスＣＯ２を連続して供給するガス供給システムを略示的に示したブロック図である。
【図４】炭酸ガスＣＯ２エアロゾルによるドライ洗浄システムを略示的に示したブロック図である。
【図５】炭酸ガスＣＯ２を噴出した後の状態とディスクとの距離関係を示した説明図である。
【図６】従来技術における液化炭酸ガス蒸気圧安定化システムを略示的に示したブロック図である。
【符号の説明】
１１      高耐圧タンク
１２      温度センサ（熱電対Ｔ）
１３      ヒータ
１４      温度制御ボックス
１５      ソリッドステートリレーＳＳＲ
１６      温度コントローラ
１７      圧力計
１８      接点圧力スイッチ
２１      外部タンク
２３      第１のタンク部
２４      タンク１
２５      第２のタンク部
２６      タンク２
２７      タンク３
２８      ヒータ
２９      ヒータ
３０      第３のタンク部
５１      表面洗浄ユニット
５２      ラインフィルタ
５３      エアーオペレート弁
５４      ＣＯ２噴射ノズル
５５      局所パージ機構部
５６      基板
５７      赤外線ヒータ
５８      スピンドル
【図１】
0003932108.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0003932108.tif 000007