(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
加熱した化学強化処理液に浸漬して化学強化処理を施した後の円盤状をなすガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄処理を施す情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法であって、
開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、
前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように洗浄処理を施すことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。
【請求項２】
前記洗浄槽には洗浄液の流入口及び流出口をそれぞれ設け、これら流入口と流出口との間を循環配管で接続し、同循環配管にポンプを連結して洗浄槽内の洗浄液を流出口から吸い込み、循環配管を介して流入口から洗浄槽内に戻すように構成するとともに、当該循環配管にヒーターを連結し、同ヒーターで循環配管内を流れる洗浄液を加熱して洗浄槽内に戻すように構成することを特徴とする請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。
【請求項３】
前記循環配管にはフィルターを連結し、同フィルターで洗浄槽内に戻される洗浄液中に存在する一定以上の粒径の微粒子を除去することを特徴とする請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。
【請求項４】
前記泡の径は１〜４０ｍｍであることを特徴とする請求項１から請求項３のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。
【請求項５】
加熱した化学強化処理液に円盤状をなすガラス基板を浸漬して化学強化を行う化学強化処理工程と、化学強化処理工程後の前記ガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄工程を具える情報記録媒体用ガラス基板の作製方法であって、
前記洗浄工程は、開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、
前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように行うことを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の作製方法。
【請求項６】
請求項５に記載の作製方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板に少なくとも磁性層を設ける工程を含むことを特徴とする情報記録媒体の作製方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、例えばハードディスク等のような情報記録装置の磁気記録媒体である磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等といった情報記録媒体に用いられる情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法及び情報記録媒体用ガラス基板の作製方法並びに情報記録媒体の作製方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上記のような情報記録媒体用ガラス基板は、シート状のガラス素板を円盤状に切断してその表面を研磨した後、化学強化が施されて形成されている。この化学強化とは、加熱した化学強化処理液にガラス素板を浸漬させ、ガラス素板中に含まれる一価の金属イオンをこれと比較してそのイオン半径が大きな一価の金属イオンに置き換えることにより、得られるガラス基板の強度を高めるものである。化学強化後のガラス基板の表面には置き換えられ、外部に放出された一価の金属イオンにより生成される溶融塩が付着物として付着している。また、この他にも溶融塩に混じり込んだ化学強化処理装置等を形成する金属の粒子、塵埃、研磨材、研磨粉等の微粒子が付着物として付着している。そして、これら付着物を除去するため、化学強化後のガラス基板には洗浄処理が施されるようになっている。
【０００３】
ガラス基板に洗浄処理を施すための洗浄装置は、上面が開口された略四角箱状をなす洗浄槽を備えている。この洗浄槽内にはガラス基板を洗浄するための洗浄液として水が貯留されており、化学強化処理後のガラス基板は当該洗浄槽内の水に浸漬されるようになっている。前記洗浄槽の内部又は外部にはヒーターが取り付けられており、このヒーターによって洗浄槽内に貯留された水は加熱されて３０〜１００℃の温水となっている。また、洗浄槽の内部には超音波発生装置が取り付けられており、水に浸漬されたガラス基板に超音波を照射するようになっている。
【０００４】
さて、化学強化処理後のガラス基板は、化学強化処理装置から取り出された後、常温程度まで冷却される。このとき、溶融塩がガラス基板の表面に析出し、付着物として付着する。この表面に付着物が付着したガラス基板は、まず洗浄槽内に投入され、３０〜１００℃の温水に浸漬される。その後、温水に浸漬されたガラス基板に超音波発生装置から超音波が照射される。すると、ガラス基板の表面の付着物は、超音波による振動という物理的外力で微粒子状に粉砕され、ガラス基板の表面から遊離されるとともに、温水の極性と熱エネルギーによって温水に溶解されて除去されるようになっている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
ところが、上記従来の洗浄装置を使用してガラス基板を洗浄する場合、超音波は対象となる付着物を振動させ、粉砕する機能を有するが、この超音波による振動では洗浄槽内の温水を攪拌することはできない。このため、粉砕された付着物のうち特に溶融塩は、洗浄槽内で均一に分散されることなく、ガラス基板の近傍にのみ分散されて溶解されてしまい、温水に対する溶融塩の溶解速度が急激に低下して十分な洗浄能力を維持することができなくなるという問題があった。
【０００６】
さらに、付着物には溶融塩だけでなく、前に挙げた微粒子ような温水に溶けないものも混じり込んでいる。このような温水に溶けない付着物は超音波を照射している間はガラス基板の近傍に分散されているが、超音波の照射を停止するとガラス基板の表面に再び付着されるおそれがある。そして、このような再付着した付着物により、ガラス基板の表面の清浄度が低下し、微小突起が形成され、平滑性が失われて欠陥が発生してしまうという問題があった。
【０００７】
また、超音波は超音波発生装置からの距離が長くなったり、対象物が多くなったりすると対象物を振動させる力が弱まってしまう。このため、超音波では一作業当たりのガラス基板の処理量を多くすると、ガラス基板に付着した付着物を十分に除去することができなくなるという問題があった。
【０００８】
この発明は、このような従来技術に存在する問題点に着目してなされたものである。その目的とするところは、洗浄槽内に貯留された洗浄液全体に付着物を均一に分散又は溶解させて十分な洗浄能力を維持することができ、付着物の再付着を抑制することができるとともに、一作業当たりの処理量の向上を図ることができる情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法及び情報記録媒体用ガラス基板の作製方法並びに情報記録媒体の作製方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するために、請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、加熱した化学強化処理液に浸漬して化学強化処理を施した後の円盤状をなすガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄処理を施す情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法であって、開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように洗浄処理を施すことを特徴とするものである。
【００１０】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、請求項１に記載の発明において、前記洗浄槽には洗浄液の流入口及び流出口をそれぞれ設け、これら流入口と流出口との間を循環配管で接続し、同循環配管にポンプを連結して洗浄槽内の洗浄液を流出口から吸い込み、循環配管を介して流入口から洗浄槽内に戻すように構成するとともに、当該循環配管にヒーターを連結し、同ヒーターで循環配管内を流れる洗浄液を加熱して洗浄槽内に戻すように構成することを特徴とするものである。
【００１１】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、請求項２に記載の発明において、前記循環配管にはフィルターを連結し、同フィルターで洗浄槽内に戻される洗浄液中に存在する一定以上の粒径の微粒子を除去することを特徴とするものである。
【００１２】
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明は、請求項１から請求項３のいずれかに記載の発明において、前記泡の径は１〜４０ｍｍであることを特徴とするものである。
請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の作製方法の発明は、加熱した化学強化処理液に円盤状をなすガラス基板を浸漬して化学強化を行う化学強化処理工程と、化学強化処理工程後の前記ガラス基板に対し、当該ガラス基板の表面に付着した付着物を洗浄して除去するための洗浄工程を具える情報記録媒体用ガラス基板の作製方法であって、前記洗浄工程は、開口部を有し、内部には前記ガラス基板の表面に対する付着物の親和力を低減させる洗浄液が貯留され、同洗浄液にガラス基板を浸漬させた状態でその内部に収容するための洗浄槽と、当該洗浄槽内に配設され、洗浄槽内にガスを放出して貯留された洗浄液中に泡を発生させるためのガス供給孔とを備える洗浄装置を使用し、前記洗浄液にガラス基板が浸漬された状態で洗浄液中に泡を発生させ、同泡が洗浄液中を移動して当該洗浄液を攪拌しながらガラス基板の表面に接触して付着物を除去するように行うことを特徴とするものである。
請求項６に記載の情報記録媒体の作製方法の発明は、請求項５に記載の作製方法で得られた情報記録媒体用ガラス基板に少なくとも磁性層を設ける工程を含むことを特徴とするものである。
【００１３】
【発明の実施の形態】
以下、この発明の実施形態を、図面に基づいて詳細に説明する。
実施形態のガラス基板は、シート状をなすガラス素板を超硬合金又はダイヤモンド製のカッターを用いて切断することにより、その中心に円孔を有する円盤状に形成されている。ガラス素板の材料としては、フロート法、ダウンドロー法、リドロー法又はプレス法で製造されたソーダライムガラス、アルミノシリケートガラス、ボロシリケートガラス、結晶化ガラス等が挙げられる。このガラス基板の表面に、例えば磁気特性を向上させるための下地層、磁性層、保護層及び潤滑層等を設けることにより、例えば磁気ディスク、光磁気ディスク、光ディスク等の情報記録媒体が作製される。そして、情報記録媒体とした際に要求される耐衝撃性、耐振動性、耐熱性等を満たすため、ガラス基板には化学強化処理が施されている。
【００１４】
この化学強化処理は、ガラス基板を加熱した化学強化処理液に浸漬させることによって行われる。化学強化処理液としては、例えば硝酸カリウム溶液、硝酸ナトリウム溶液、硝酸銀等をそれぞれ単独、あるいは２種以上混合したものが挙げられる。この化学強化処理液の温度は、好ましくはガラス基板を形成するガラス材料の歪点よりも５０〜１５０℃程度低い温度である。より好ましくは、３５０〜４００℃程度である。加熱した化学強化処理液に浸漬されたガラス基板は組成中に含まれるリチウム、ナトリウム等の一価の金属イオンを、これと比較してそのイオン半径が大きいカリウム等の一価の金属イオンに置き換えられている。この状態でガラス基板の表面に圧縮応力が作用し、ガラス基板が化学的に強化される。
【００１５】
化学強化処理した後のガラス基板の表面には溶融塩が付着物として付着されている。また、この溶融塩に混じり込むことによって化学強化処理装置を形成する金属の粒子、塵埃、研磨材、研磨粉等の微粒子も付着物としてガラス基板の表面に付着している。そして、これらの付着物を除去するため、ガラス基板には洗浄装置を使用して洗浄処理が施されるようになっている。
【００１６】
次に、前記洗浄装置について説明する。
図１は、ガラス基板に洗浄処理を施すための洗浄装置の正断面図、図２は同洗浄装置の側断面図、図３は同洗浄装置を上方から見た平面図を示している。洗浄装置を構成する洗浄槽１１は、上面に開口部１１ａを有する略四角箱状に形成されている。この洗浄槽１１の底壁には中央部及び一隅部にそれぞれドレン管２７が下方から接続されている。また、これらドレン管２７には図示しないバルブがそれぞれ接続されており、バルブを操作することにより、各ドレン管２７を開閉することができるようになっている。
【００１７】
洗浄槽１１の内側には給水管１２が図１中で右側となる一側壁の内面から内底面上に渡って敷設されている。給水管１２の基端部にはバルブ１３を有する給水配管１４が接続されており、バルブ１３の開放により、給水配管１４から給水管１２に洗浄液が供給されている。そして、給水管１２内の洗浄液は給水管１２の先端部１２ａから吐出され、洗浄槽１１内に貯留されるようになっている。
【００１８】
ガラス基板３１は、複数枚が縦置きで一定間隔おきの状態でホルダー３２内に収納されるとともに、このホルダー３２ごとケージ３３内に収容されている。該ガラス基板３１は、ケージ３３を洗浄槽１１の開口部１１ａからその内部に投入することにより、ホルダー３２及びケージ３３とともに洗浄槽１１内に貯留された洗浄液に浸漬されている。
【００１９】
前に挙げた溶融塩、微粒子等からなる付着物は、イオン結合、分子間力、静電力、クーロン力等のような親和力によってガラス基板３１の表面に付着されている。洗浄液は、当該洗浄液に付着物を溶解させたり、ガラス基板３１の表面と付着物との間に入り込んでガラス基板３１の表面から付着物を浮き上がらせたり等することにより、付着物の親和力を低減させ、ガラス基板３１の表面から遊離させるものである。そして、この洗浄液には付着物である溶融塩を溶解することが可能であるとともに、中性であるためガラス基板３１に影響を与えず、入手が容易な水が用いられる。
【００２０】
この水には通常の水を用いてもよいが、微粒子等がガラス基板３１に付着することを抑制するためにはフィルタリングした純水、イオン交換水、超純水等を用いることが好ましい。また、ガラス基板３１の表面に影響を与えない程度であれば、この水にイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）、メタノール、エタノール、ブタノール等のアルコール、カチオン性、アニオン性又はノニオン性界面活性剤等を混合してもよい。
【００２１】
図２中で左側となる洗浄槽１１の後壁の上端部にはオーバーフロー部１５が横方向へ延びるように突設されている。該オーバーフロー部１５の下面には排水管１６が接続されている。給水管１２の先端部１２ａから洗浄槽１１内に吐出された水は、洗浄槽１１内を満たしつつ、オーバーフロー部１５へとオーバーフローして排水管１６から外部へと排水されている。
【００２２】
洗浄槽１１の内底面上にはその外部から延びる複数本のガス供給管１７が敷設されている。各ガス供給管１７の周壁には複数の孔１７ａがそれぞれ透設されている。当該ガス供給管１７には洗浄槽１１の外部にて図示しないポンプが接続されており、その内部にはガスが供給されている。このガスにはガラス基板３１に影響を与えず、入手が容易なエアが用いられる。また、エア以外にもヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス等のような不活性ガスを用いてもよい。そして、ガス供給管１７に供給されたエアが孔１７ａから洗浄槽１１内に放出される際、洗浄槽１１内に貯留された水中に泡を発生させる。
【００２３】
ガス供給管１７の孔１７ａから発生した泡は、ここから洗浄槽１１内に貯留された水中を水面に向かって移動しようとする。この泡はケージ３３内のホルダー３２に収容されたガラス基板３１に接触する際にガラス基板３１の表面に対する付着物の親和力を低減又は消滅させる。
【００２４】
つまり、水に浸漬された状態で付着物はガラス基板３１の表面に対する親和力を低減されている。この状態でガラス基板３１の表面に泡が接触すると、例えば泡が破裂して細かな泡となったり、潰れたり等することによって生じる衝撃等のような付着物が遊離する程度の物理的外力がガラス基板３１の表面に付与され、付着物が除去される。また、水面に近付くにつれて水圧が低下することから、泡はその径を拡大させながら水を押し上げ、かき回すようにして移動することにより、洗浄槽１１内の水を攪拌している。
【００２５】
前記ガス供給管１７内へのエアの供給量は、１分間当たり３万〜１１万ｃｍ3とすることが好ましい。１分間当たりのエアの供給量が３万ｃｍ3よりも少ない場合、水中に泡が十分に発生しないおそれがあり、１１万ｃｍ3よりも多い場合、泡が接触するときの勢いによってガラス基板３１が大きく振動し、細かな傷、ひび割れ、破損等の欠陥が生じるおそれがある。
【００２６】
前記泡はガス供給管１７の孔１７ａの径を調整することによってその径を１〜４０ｍｍとすることが好ましい。泡の径が１ｍｍ未満の場合、付着物を十分に遊離させることができなくなるとともに、水を十分に攪拌することができなくなるおそれがある。また、泡の径が４０ｍｍより大きい場合、泡の接触によりガラス基板３１が大きく振動し、細かな傷、ひび割れ、破損等が生じるおそれがある。
【００２７】
また、ガス供給管１７には洗浄槽１１の外部にて図示しないフィルターが接続されている。このフィルターを通過したエアからは一定以上の粒径の微粒子が除去されており、洗浄槽１１内で水に浸漬されたガラス基板３１に泡が接触する際、この泡に混じり込んだ微粒子がガラス基板３１に付着することが防止されている。
【００２８】
フィルターでエアから除去される微粒子の粒径は０．３μｍ以上であることが好ましい。０．３μｍ未満の微粒子をフィルターで除去しようとする場合、フィルターが目詰まりして抵抗が大きくなり、ガス供給管１７内へエアを十分に送り込むことができなくなるおそれがある。なお、微粒子の粒径の上限については特に規定されないが、通常は１００μｍ以下である。１００μｍより大きな微粒子はその大半が水面に浮き上がるため、ガラス基板３１を水に浸漬するのみで取り除くことができる。
【００２９】
洗浄槽１１の一側壁の下端部には流出口１９が透設されるとともに、この流出口１９よりも洗浄槽１１の外部には流出管２０が接続されている。また、洗浄槽１１の他側壁の上端部には流入管２１が配設されるとともに、この流入管２１の下端は流入口２２として開口されている。これら流出管２０と流入管２１との間は循環配管２３によって接続されている。さらに、この循環配管２３にはポンプ２４が連結されている。そして、洗浄槽１１内の水はポンプ２４により流出管２０から吸い出され、循環配管２３を介して流入管２１に至り、この流入管２１から洗浄槽１１内に戻されることにより、洗浄槽１１と循環配管２３との間で循環されるようになっている。
【００３０】
前記循環配管２３の途中にはフィルター２５が連結されている。このフィルター２５は、循環配管２３内を流れる水中に存在する金属の粒子、塵埃、研磨材、研磨粉等といった水に対して不溶性であり、一定以上の粒径の微粒子を除去するように機能している。そして、フィルター２５で一定以上の粒径の微粒子を除去することにより、洗浄槽１１に戻される水の清浄度が良好に維持されるようになっている。このときフィルター２５で除去される微粒子の粒径は０．２μｍ以上であることが好ましい。０．２μｍ未満の微粒子をフィルター２５で除去しようとする場合、循環配管２３中においてフィルター２５が目詰まりして抵抗が大きくなり、水が流れにくくなるおそれがある。なお、微粒子の粒径の上限については特に規定されないが、通常は１００μｍ以下である。１００μｍより大きな微粒子はその大半が水面に浮き上がるため、ガラス基板３１を水に浸漬するのみで取り除くことができる。
【００３１】
さらに、循環配管２３の途中にはフィルター２５よりも流入管２１側に位置するようにヒーター２６が連結されている。このヒーター２６は、循環配管２３内を流れる水を加熱することによって、流入管２１から洗浄槽１１内に所定温度の温水を戻すように機能している。そして、ヒーター２６で加熱しながら水を洗浄槽１１と循環配管２３との間で循環させることにより、洗浄槽１１内に貯留された水は一定温度に維持された温水となり、ガラス基板３１は一定時間、温水で洗浄されるように構成されている。また、一定時間温水で洗浄されたガラス基板３１は、ヒーター２６による加熱を停止するとともに、前記給水管１２から水が給水され、洗浄槽１１内の水が入れ替えられることにより、徐冷されるようになっている。
【００３２】
前記温水の温度は２０〜７０℃であることが好ましい。温度を２０℃未満とすると溶融塩が溶けにくく、洗浄能力が低下するおそれがあり、７０℃より高くすると、水が蒸発しやすくなり、溶解された溶融塩が再び析出するおそれがある。また、ガラス基板３１を温水で洗浄する時間は、３０〜６０分であることが好ましい。温水で洗浄する時間が３０分未満の場合、付着物を十分に除去できず、６０分より長く温水で洗浄しても、ガラス基板３１の清浄度は高まらず、却って一作業当たりの処理量が減少する。
【００３３】
温水で洗浄している間のポンプ２４による水の循環量は、洗浄槽１１の容量及び温水による洗浄時間によって調整され、温水による洗浄時間中に洗浄槽１１の全ての水が１〜５回循環するように設定することが好ましい。具体的には１分間当たりの循環量を洗浄槽１１の容量の２０分の１〜１０分の１とすることが好ましい。例えば、洗浄槽１１の容量を１．０１５ｍ3、温水による洗浄時間を４０分とし、４０分間で１．０１５ｍ3の水を２．４回循環させる場合、１分間当たりの循環量は、洗浄槽１１の容量の１７分の１である０．０６ｍ3となる。
【００３４】
温水による洗浄時間中における水の循環回数を１回未満とした場合、水に多量の微粒子が混じり込み、その洗浄能力を十分に維持することができず、５回より多くしても、ガラス基板３１の清浄度は高まらず、却って一作業当たりの処理量が減少する。また、１分間当たりの循環量を洗浄槽１１の容量の２０分の１未満とした場合、水が十分に温まらず、十分な洗浄能力を発揮できないおそれがあり、１０分の１より多くしてもガラス基板３１の清浄度は高まらず、却って一作業当たりの処理量が減少する。
【００３５】
次いで、前記洗浄装置の作用について説明する。
さて、図１〜図３に示すような洗浄装置を使用するときには、予め２つのドレン管２７が閉塞された状態でバルブ１３が開放され、給水配管１４から給水管１２を介して洗浄槽１１内に水が給水される。この給水は、オーバーフロー部１５から水がオーバーフローするまで続けられ、その後バルブ１３が閉塞されて洗浄槽１１内に水が貯留される。この後、ポンプ２４を作動させ、ヒーター２６でこの水を加熱しながら洗浄槽１１内の水を循環させ、洗浄槽１１内の水を温水とし、その温度を２０〜７０℃に維持する。
【００３６】
この状態でホルダー３２及びケージ３３ごとガラス基板３１を洗浄槽１１内に投入し、温水に浸漬させる。そして、ガラス基板３１を温水に浸漬させた後、温水を循環させたまま、ガス供給管１７にエアを供給し、その孔１７ａからエアを放出させて温水中に泡を発生させる。
【００３７】
温水中に発生した泡は、温水を攪拌しつつ、このまま水面に向かって移動する。このとき、ガラス基板３１に泡が接触される。ガラス基板３１に接触した泡は、温水に浸漬されることによってガラス基板３１の表面に対する親和力が低減された付着物に物理的外力を与える。すると、その物理的外力により、ガラス基板３１の表面に対する付着物の親和力が消滅し、付着物がガラス基板３１の表面から遊離される。遊離された付着物のうち、溶融塩はそのまま温水に溶解し、微粒子は泡内に取り込まれたり、温水中に分散されたり等する。
【００３８】
ガラス基板３１の表面では、溶融塩が溶解した温水が泡の移動に伴ってガラス基板３１の表面から水面に向かって押し上げられることにより、液交換が常に行われる。また、溶融塩が溶解した温水は水面まで達すると、そのまま洗浄槽１１内の温水中に均一に拡散される。このため、ガラス基板３１の近傍と、その他の箇所とで温水に対する溶融塩の溶解度に大きな差を生じることがなく、洗浄槽１１内の温水全体で溶融塩の溶解度は均一となり、その洗浄能力が十分に維持される。
【００３９】
微粒子が分散された温水は、溶融塩が溶解した温水と同様に泡の移動に伴ってガラス基板３１の表面から水面に向かって押し上げられ、水面まで達するとそのまま洗浄槽１１内の温水中に均一に分散される。また、温水中に均一に分散された微粒子のうち粒径が０．３μｍ以上のものは、温水が循環配管２３内を流れるときにフィルター２５で除去され、ガラス基板３１の表面に再付着することを防止される。
【００４０】
ガラス基板３１を温水で一定時間洗浄した後、ヒーター２６による水の加熱が停止され、ポンプ２４による循環と、ガス供給管１７からのエアの放出は継続されたまま、給水管１２から常温の水が給水される。すると、温水は溶融塩が溶解され、微粒子が分散されたままの状態で、その大半がオーバーフロー部１５からオーバーフローされ、洗浄槽１１から外部に排水される。その後、洗浄槽１１内の温水が常温の水へと入れ替わるまでガラス基板３１が徐冷される。そして、ガラス基板３１が徐冷された後、給水管１２からの給水、ポンプ２４による循環及びガス供給管１７からのエアの放出が停止され、ガラス基板３１がケージ３３ごと洗浄槽１１内から引きあげられ、次工程へと搬送される。また、洗浄槽１１内の水は、ガラス基板３１が洗浄槽１１内から引きあげられた後、両ドレン管２７が開放されて排水される。
【００４１】
前記の実施形態によって発揮される効果について、以下に記載する。
・  実施形態の洗浄装置によれば、洗浄槽１１内に貯留された水中に泡を発生させ、この泡により水を攪拌するとともに、泡をガラス基板３１に接触させて付着物を除去している。このため、洗浄槽１１内に貯留された水全体に付着物を均一に分散又は溶解させて十分な洗浄能力を維持することができ、付着物の再付着を抑制することができる、加えて、従来例で挙げた超音波とは異なり、泡は洗浄槽１１内の全体に均一に広がり、ガラス基板３１にほぼ確実に接触されるため、付着物の洗い残しがなく、一作業当たりの処理量の向上を図ることができる。
【００４２】
・  また、洗浄槽１１内に貯留された水をヒーター２６で加熱しながらポンプ２４を用いて循環させることにより、洗浄槽１１内の水を一定温度に維持することができ、付着物に対する水の洗浄能力を良好に維持することができる。
【００４３】
・  さらに、循環配管２３にフィルターを連結し、水中に存在する微粒子を除去するように構成したことにより、ガラス基板３１に対する付着物の再付着をより効果的に抑制することができる。
【００４４】
・  さらにまた、泡の径を１〜４０ｍｍとしたことにより、ガラス基板３１の損傷を抑制しつつ、付着物の除去及び水の攪拌をより良好に行うことができる。
なお、本実施形態は、次のように変更して具体化することも可能である。
【００４５】
・  例えば、洗浄槽１１の両側壁内面にガス供給管１７をそれぞれ敷設し、下方に加えて側方からもガラス基板３１に泡を接触させるように構成してもよい。このように構成した場合、水をより効率よく攪拌することができる。
【００４６】
・  洗浄槽１１内に温水がある程度貯留された状態であれば、給水管１２から水を給水しつつ、ヒーター２６で循環される水を加熱しながら洗浄を行ってもよい。このように構成した場合、給水管１２から水を給水した分だけ洗浄槽１１内の付着物が溶解又は分散された温水がオーバーフロー部１５から排水されるため、洗浄槽１１内の水の清浄度を高めることができる。
【００４７】
・  ヒーター２６を省略し、給水管１２から温水を給水してもよい。
・  洗浄槽１１内の洗浄液にガラス基板３１が浸漬された状態で、同ガラス基板３１に超音波を照射するように構成してもよい。このように構成した場合、超音波による振動でガラス基板の表面の付着物を粉砕することが可能であり、超音波と泡の相乗効果により、ガラス基板３１の表面の清浄度をより良好なものとすることができる。
【００４８】
さらに、前記実施形態より把握できる技術的思想について以下に記載する。
【００４９】
・  前記ヒーターで洗浄槽内に戻される洗浄液を加熱することによって洗浄槽内の洗浄液を２０〜７０℃で一定の温度に維持することを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。このように構成した場合、洗浄液の付着物に対する洗浄能力を良好に維持することができる。
【００５０】
・  前記フィルターで粒径０．２μｍ以上の微粒子を除去することを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。このように構成した場合、除去され、洗浄液中に分散された微粒子がガラス基板に再付着することを防止することができる。
【００５１】
・  前記ガス供給管には１分間当たり３万〜１１万ｃｍ３のエアを供給することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の洗浄装置。このように構成した場合、ガラス基板の損傷を抑制しつつ、洗浄液中に十分な量の泡を発生させることができる。
【００５２】
・  前記ガス供給管にフィルターを接続し、当該フィルターにより、ガス供給管に供給されるエア中から粒径が０．３μｍ以上の微粒子を除去することを特徴とする情報記録媒体用ガラス基板の洗浄装置。このように構成した場合、泡を発生させるエア中に混じり込んだ微粒子がガラス基板に付着することを防止することができる。
【００５３】
・  前記ポンプによる洗浄液の１分間当たりの循環量が洗浄槽の容量の２０分の１〜１０分の１であることを特徴とする請求項２から請求項４のいずれかに記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法。このように構成した場合、洗浄液がその洗浄能力を十分に発揮することができる。
【００５４】
【発明の効果】
以上詳述したように、この発明によれば、次のような効果を奏する。
請求項１に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、洗浄槽内に貯留された洗浄液全体に付着物を均一に分散又は溶解させて十分な洗浄能力を維持することができ、付着物の再付着を抑制することができるとともに、一作業当たりの処理量の向上を図ることができる。
【００５５】
請求項２に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、請求項１に記載の発明の効果に加えて、付着物に対する水の洗浄能力を良好に維持することができる。
【００５６】
請求項３に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、請求項２に記載の発明の効果に加えて、ガラス基板に対する付着物の再付着をより効果的に抑制することができる。
【００５７】
請求項４に記載の情報記録媒体用ガラス基板の洗浄方法の発明によれば、請求項１から請求項３のいずれかに記載の発明の効果に加えて、ガラス基板の損傷を抑制しつつ、付着物の除去及び水の攪拌をより良好に行うことができる。
請求項５に記載の情報記録媒体用ガラス基板の作製方法の発明によれば、請求項１に記載の発明の効果に加えて、化学強化処理を施す際に付着する付着物を好適に除去することができる。
請求項６に記載の情報記録媒体の作製方法の発明によれば、好適な情報記録媒体を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施形態の洗浄装置を示す正断面図。
【図２】  実施形態の洗浄装置を示す側断面図。
【図３】  実施形態の洗浄装置を示す平面図。
【符号の説明】
１１…洗浄槽、１１ａ…開口部、１７…ガス供給管、１９…流出口、２２…流入口、２３…循環配管、２４…ポンプ、２５…フィルター、２６…ヒーター、３１…ガラス基板。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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