(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
互いに対向した第１及び第２基板と、
前記第１基板の前記第２基板との対向面上で縦方向と横方向とに配列した複数の画素電極と、
前記第１基板と前記複数の画素電極との間に介在し且つ吸収波長域が互いに異なる第１着色層と第２着色層と赤色着色層とを備えたカラーフィルタ層と、
前記第１基板と前記カラーフィルタ層との間に介在した複数のスイッチング素子と、
前記第２基板の前記第１基板との対向面に設けられた共通電極と、
前記複数の画素電極と前記共通電極との間に介在した液晶層とを具備し、
前記カラーフィルタ層には複数のスルーホールが設けられ、前記複数の画素電極は前記複数のスルーホールを介して前記複数のスイッチング素子にそれぞれ電気的に接続され、
前記複数のスルーホールの側壁はいずれも前記赤色着色層の材料と同一の材料で構成され、前記第１着色層と前記第２着色層と前記赤色着色層とは前記複数のスルーホールの位置で分断されることなく前記縦方向に連続した形状をそれぞれ有するとともに前記横方向に配列したことを特徴とする液晶表示装置。
【請求項２】
前記赤色着色層は前記第１及び第２着色層を形成した後に形成されていることを特徴とする請求項１に記載の液晶表示装置。
【請求項３】
前記第１着色層は緑色の着色層であり、前記第２着色層は青色の着色層であることを特徴とする請求項１又は２に記載の液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示装置に係り、特には、一方の基板上にスイッチング素子と画素電極とカラーフィルタ層とが設けられた液晶表示装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
アクティブマトリクス基板にカラーフィルタ層を設ける場合、カラーフィルタ層を構成する各着色層の画素電極に対する相対位置は容易且つ高精度に制御可能である。また、この場合、アクティブマトリクス基板と対向基板とを貼り合わせる際に、対向基板にカラーフィルタ層を設けた場合ほど高い精度で位置合わせを行う必要はない。すなわち、アクティブマトリクス基板にカラーフィルタ層を設けた構造を採用することにより、液晶表示装置を容易且つ高い歩留まりで製造することが可能となる。しかしながら、このような構造を採用した場合、以下の問題を生ずることがある。
【０００３】
一般に、画素電極を形成するための導電性薄膜の成膜工程では、カラーフィルタ層の上面だけでなくスルーホールの側壁及び底部にも導電性材料をスパッタリングする。このような方法で得られる構造において、スルーホールの側壁及び底面に堆積した導電性薄膜は、画素電極とスイッチング素子とを電気的に接続する役割を担っている。そのため、上記導電性薄膜は、画素電極とスイッチング素子との間で連続していなければならない。したがって、スルーホールの断面形状は、上記導電性薄膜に不連続部を生じ難い順テーパ状であることが望まれる。
【０００４】
ところで、スルーホールが設けられた着色層は、ネガ型の感光性樹脂と着色顔料或いは着色染料との混合物を用いて塗膜を形成し、この塗膜を露光・現像することによって形成されている。着色顔料或いは着色染料を含有した感光性樹脂では、透明な感光性樹脂とは異なり、着色顔料或いは着色染料による光吸収が生じる。着色顔料或いは着色染料によって吸収される光の波長域と感光性樹脂に架橋反応を生じさせる光の波長域との重なりは、当然、着色顔料或いは着色染料の色に応じて異なっている。このような理由から、或る色の着色層ではスルーホールの断面形状を順テーパ状とすることが容易であっても、他の色の着色層ではスルーホールの断面形状を順テーパ状とすることが困難となることがある。
【０００５】
この問題に対しては、図４に示す構造が有効であると考えられる。図４は、スルーホールの断面形状を順テーパ状とし得る構造を採用したカラーフィルタ層を概略的に示す平面図であって、緑及び青の着色層８ａ，８ｂではスルーホール２１ａ，２１ｂの断面形状を順テーパ状とすることが困難であり且つ赤の着色層２１ｃではスルーホールの断面形状を順テーパ状とすることが容易である場合を示している。
【０００６】
図４に示すカラーフィルタ層８では、通常は縦方向に連続したストライプ状の緑及び青の着色層８ａ，８ｂを各スルーホール２１ａ，２１ｂの位置で分断するとともに、それらスルーホール２１ａ，２１ｂの周囲部分を赤の着色層８ｃで構成している。すなわち、全てのスルーホール２１ａ〜２１ｃの周囲部分を赤の着色層で構成している。そのため、このような構造によると、全てのスルーホール２１ａ〜２１ｃの断面形状を順テーパ状とすることが容易であり、したがって、画素電極１０とスイッチング素子との間の接続不良及びそれに基づく表示不良の発生を抑制することができる。
【０００７】
しかしながら、図４に示す液晶表示装置１は着色層８ａ，８ｂの剥離などを生じ易いことが判明した。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記問題点に鑑みてなされたものであり、カラーフィルタ層に設けられるスルーホールの断面形状を順テーパ状とすることが容易であり且つカラーフィルタ層を構成する着色層の剥離を生じ難い液晶表示装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、互いに対向した第１及び第２基板と、前記第１基板の前記第２基板との対向面上で縦方向と横方向とに配列した複数の画素電極と、前記第１基板と前記複数の画素電極との間に介在し且つ吸収波長域が互いに異なる第１着色層と第２着色層と赤色着色層とを備えたカラーフィルタ層と、前記第１基板と前記カラーフィルタ層との間に介在した複数のスイッチング素子と、前記第２基板の前記第１基板との対向面に設けられた共通電極と、前記複数の画素電極と前記共通電極との間に介在した液晶層とを具備し、前記カラーフィルタ層には複数のスルーホールが設けられ、前記複数の画素電極は前記複数のスルーホールを介して前記複数のスイッチング素子にそれぞれ電気的に接続され、前記複数のスルーホールの側壁はいずれも前記赤色着色層の材料と同一の材料で構成され、前記第１着色層と前記第２着色層と前記赤色着色層とは前記複数のスルーホールの位置で分断されることなく前記縦方向に連続した形状をそれぞれ有するとともに前記横方向に配列したことを特徴とする液晶表示装置を提供する。
【００１０】
本発明において、第１着色層は縦方向に延び且つ縦方向に第１孔を繰り返し設けた帯状の形状を有し、第２着色層は縦方向に延び且つ縦方向に第２孔を繰り返し設けた帯状の形状を有し、赤色着色層は縦方向に延び且つ縦方向に第３孔を繰り返し設けた帯状の形状を有し、第１孔のそれぞれは赤色着色層の材料と同一の材料からなり且つ第４孔が設けられた第４着色層で埋め込まれ、第２孔のそれぞれは赤色着色層の材料と同一の材料からなり且つ第５孔が設けられた第５着色層で埋め込まれ、第３乃至第５孔が前記複数のスルーホールを構成していてもよい。
【００１１】
この場合、第３乃至第５孔はそれぞれ順テーパ状の断面形状を有し、第１及び第２孔の少なくとも一部は逆テーパ状の断面形状を有していてもよい。なお、ここで、「順テーパ状の断面形状」は、「孔」や「スルーホール」に関して使用する場合、その開口から底部に向けて幅が狭くなる断面形状を意味する。
【００１２】
本発明において、赤色着色層は第１及び第２着色層を形成した後に形成されていてもよい。なお、赤色着色層が第１及び第２着色層を形成した後に形成されているか否かは、例えば、カラーフィルタ層の断面構造をＳＥＭで観察して第１着色層と第２着色層と赤色着色層との重なり方を調べることにより判別することができる。
【００１３】
本発明において、例えば、第１着色層は緑色の着色層であり、第２着色層は青色の着色層であってもよい。
【００１４】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の各実施形態について、図面を参照しながら詳細に説明する。なお、各図において同様の構成部材には同一の参照符号を付し、重複する説明は省略する。
【００１５】
図１は、本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。また、図２は、図１に示す液晶表示装置のカラーフィルタ層を概略的に示す平面図である。なお、図１に示すカラーフィルタ層の断面構造は、図２に示すカラーフィルタ層のＡ−Ａ線に沿った断面に相当している。
【００１６】
図１に示す液晶表示装置１は、ＴＮ駆動方式のカラー型液晶表示装置であって、アクティブマトリクス基板２と対向基板３とを対向させ、それら基板２，３間に液晶層４を介在させた構造を有している。これら基板２，３間の周縁部には、液晶材料を注入するための注入口（図示せず）を除いて接着剤層１６が設けられており、その注入口は封止剤を用いて封止されている。また、この液晶表示装置１の両面には偏光板５がそれぞれ貼り付けられており、その背面側には図示しない光源が配置されている。
【００１７】
図１に示す液晶表示装置１において、アクティブマトリクス基板２は、ガラス基板のような透明基板６を有している。透明基板６上には、配線及びスイッチング素子７が形成されている。また、透明基板６の配線及びスイッチング素子７が設けられた面には、カラーフィルタ層８及び周縁遮光層９が形成されている。カラーフィルタ層８上には画素電極１０及び柱状スペーサ１１が順次積層されており、画素電極１０上には配向膜１２が形成されている。一方、対向基板３は、ガラス基板のような透明基板１３を有している。透明基板１３上には、共通電極１４及び配向膜１５が順次積層されている。
【００１８】
アクティブマトリクス基板２に形成する配線は、透明基板６上で格子状に配列した走査線及び信号線などで構成されている。また、スイッチング素子７は、例えば、アモルファスシリコンやポリシリコンを半導体層とした薄膜トランジスタ（以下、ＴＦＴという）である。このスイッチング素子７は、走査線及び信号線などの配線並びに画素電極１０と接続されており、それにより、所望の画素電極１０に対して選択的に電圧を印加することを可能としている。
【００１９】
カラーフィルタ層８は、画素電極１０に対応してストライプ状に設けられた緑色の着色層８ａと青色の着色層８ｂと赤色の着色層８ｃとで主に構成されている。着色層８ａ〜８ｃにはスルーホール２１ａ〜２１ｃがそれぞれ設けられている。スルーホール２１ａ，２１ｂは着色層８ｃと同一の材料からなる着色層８ｄ，８ｅでそれぞれ埋め込まれており、着色層８ｄ，８ｅにはスルーホール２１ｄ，２１ｅがそれぞれ設けられている。
【００２０】
着色層８ａ〜８ｅは、感光性樹脂とそれぞれの色に対応した着色顔料或いは着色染料とを含有する混合物を用いて形成することができる。着色層８ａ〜８ｅの成膜順に特に制限はないが、着色層８ｃ〜８ｅは同一の材料からなるので、それらを同時に形成することにより製造プロセスを簡略化することができる。また、この場合、着色層８ｃ〜８ｅは着色層８ａ，８ｂを形成した後に形成することが好ましい。このように着色層８ｃ〜８ｅを後から形成すると、着色層８ａ，８ｂの断面が逆テーパ状になったとしても、着色層８ａ，８ｂの側面と着色層８ｃ〜８ｅの側面とを良好に密着させることができる。そのため、着色層８ａ〜８ｅが剥離することに起因して接続不良が生じるのを効果的に防止することが可能となる。
【００２１】
周縁遮光層９は、一般には額縁層などと呼ばれ、画面の周縁部に形成される。
周縁遮光層９は、例えば、カーボン微粒子のような黒色顔料や黒色染料と感光性樹脂との混合物を用いて形成することができる。
【００２２】
画素電極１０及び共通電極１４は、ＩＴＯのような透明導電材料で構成されている。電極１０，１４は、例えばスパッタリング法などにより形成することができる。
【００２３】
柱状スペーサ１１は、感光性樹脂を用いて形成することができる。すなわち、
柱状スペーサ１１は、例えば、カラーフィルタ層８上に感光性樹脂層を形成した後、この感光性樹脂層をパターン露光・現像することなどにより得られる。柱状スペーサ１１は、その少なくとも一部を周縁遮光層９と同一の材料で及び同一の工程で形成することができる。また、カラーフィルタ層８を構成する各着色層８ａ〜８ｃを部分的に重ね合わせて、それらの積層部を柱状スペーサ１１として利用することもできる。
【００２４】
配向膜１２，１５は、ポリイミドなどの透明樹脂からなる薄膜にラビング処理等の配向処理を施すことにより形成され得る。
【００２５】
さて、上記液晶表示装置１では、上述のようにスルーホール２１ｃ〜２１ｅの側壁を同一の材料で構成している。このような構造によると、以下に説明するように、画素電極１０とスイッチング素子７との間で導通不良が発生するのを防止することができるのに加え、カラーフィルタ層８を構成する着色層８ａ〜８ｃが剥離するのを防止することができる。
【００２６】
先に説明したように、着色顔料或いは着色染料によって吸収される光の波長域と感光性樹脂に架橋反応を生じさせる光の波長域との重なりは着色顔料或いは着色染料の色に応じて異なっているため、或る色の着色層ではスルーホールの断面形状は順テーパ状となり、他の色の着色層ではスルーホールの断面形状が順テーパ状となることがある。例えば、或る条件のもとで着色層８ａ〜８ｃを形成した場合には、青の着色層８ｂではスルーホール２１ｂの断面形状は逆テーパ状となり、緑の着色層８ａではスルーホール２１ａの断面形状は順テーパ状と逆テーパ状とが混在した状態となり、赤の着色層８ｃではスルーホール２１ｃの断面形状は順テーパ状となる。
【００２７】
図３（ａ）〜（ｃ）は、画素電極とスイッチング素子との間で生じる導通不良とスルーホールの断面形状との関係を示す断面図である。図３（ａ）に示すように、スルーホール２１ｃの断面形状が順テーパ状である場合、画素電極１０を構成する導電性材料は着色層８ｃ上だけでなくスルーホール２１ｃの側壁及び底部にも堆積するため、導通不良を生ずることはない。他方、図３（ｂ）に示すように、スルーホール２１ｂの断面形状が逆テーパ状である場合、画素電極１０を構成する導電性材料は着色層８ｂ及びスルーホール２１ｂの底部に堆積するもののスルーホール２１ｂの側壁には堆積し得ない。そのため、図３（ｂ）に示す構造では、画素電極１０とスイッチング素子７との間の導通が不完全となる。
【００２８】
これに対し、図３（ｃ）に示すように、着色層８ｃと同一の材料からなる着色層８ｅでスルーホール２１ｂを埋め込んだ場合、スルーホール２１ｂ内に断面形状が順テーパ状のスルーホール２１ｅを容易に形成することができる。このような構造によると、図３（ａ）を参照して説明したように、画素電極１０を構成する導電性材料は着色層８ｂ上だけでなくスルーホール２１ｅの側壁及び底部にも堆積する。したがって、画素電極１０とスイッチング素子７との間の導通不良の発生を防止することができる。
【００２９】
本実施形態に係る液晶表示装置１では、スルーホールの断面形状が逆テーパ状になり易い緑及び青の着色層８ａ，８ｂの位置で図３（ｃ）に示す構造を採用している。そのため、全ての位置で、画素電極１０とスイッチング素子７との間の導通不良の発生を防止することができる。
【００３０】
また、本実施形態では、図２に示すように、着色層８ａ〜８ｃはスルーホールの位置で分断されておらず、縦方向に連続した形状を有している。図４に示す構造は、着色層８ａ，８ｂがスルーホールの位置で分断されているため、それら着色層８ａ，８ｂの端部の丸まりや剥離を生じ易い。これに対し、本実施形態で採用する構造では、着色層８ａ，８ｂの個々の寸法が、図４に示す構造に比べて遥かに大きいため、それら着色層８ａ，８ｂの端部の丸まりや剥離を十分に防止することができる。
【００３２】
上記実施形態では、カラーフィルタ層８を図２に示す構造としたが、カラーフィルタ層８は他の構造を有していてもよい。例えば、図２に示す構造において着色層８ｃと着色層８ｄ，８ｅとを繋ぎ合わせてもよい。
【００３３】
また、上記実施形態では、スペーサ１１をアクティブマトリクス基板２に形成したが、スペーサ１１は対向基板３に設けてもよく、基板２，３の双方に設けてもよい。さらに、上記実施形態では、ＴＮ型の液晶表示装置１について説明したが、表示方式は、ＳＴＮ型、ＧＨ型、ＥＣＢ型、或いは強誘電性液晶を利用したタイプ等であってもよい。
【００３４】
【実施例】
以下、本発明の実施例について説明する。
【００３５】
（実施例）
図１に示す液晶表示装置１を以下の方法により作製した。
まず、ガラス基板６上に通常の方法により配線及びＴＦＴ７を形成して、縦方向に７６８ピクセル及び横方向に１０２４×３（Ｒ、Ｇ、Ｂ）ピクセルの画素数を有するＴＦＴアレイ基板とした。
【００３６】
次に、基板６のＴＦＴ７などを形成した面に緑色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＧ−２０００（富士フィルムオーリン社製）をスピナーを用いて塗布した。このようにして形成した塗膜の上方にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して上記塗膜に露光量が１００ｍＪ／ｃｍ2となるように波長３６５ｎｍの紫外線を照射した。上述した条件で露光を終えた後、１％のＫＯＨ水溶液を用いて上記塗膜を１０秒間現像することにより、厚さが３．０μｍでありストライプ幅が７０μｍの緑色の着色層８ａを形成した。なお、この着色層８ａには、２５μｍ×３０μｍのサイズのスルーホール２１ａを設けた。
【００３７】
次いで、青色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＢ−２０００（富士フィルムオーリン社製）を用いて、緑色の着色層８ａに関して説明したのと同様の方法により、厚さが３．０μｍでありストライプ幅が７０μｍの青色の着色層８ｂを形成した。なお、この着色層８ｂには、２５μｍ×３０μｍのサイズのスルーホール２１ｂを設けた。
【００３８】
その後、赤色の顔料を分散させた紫外線硬化型アクリル樹脂レジストＣＲ−２０００（富士フィルムオーリン社製）を用いて、緑色の着色層８ａに関して説明したのと同様の方法により、厚さが３．０μｍでありストライプ幅が７０μｍの赤色の着色層８ｃを形成した。また、これと同時に、スルーホール２１ａ，２１ｂ内に赤色の着色層８ｄ，８ｅを形成した。なお、着色層８ｃ〜８ｅには、１５μｍ×２０μｍのサイズのスルーホール２１ｃ〜２１ｅをそれぞれ設けた。
【００３９】
次に、上述した方法で得られたカラーフィルタ層８上に、スパッタリング法を用いて厚さ１５００ÅのＩＴＯ膜を形成し、これをフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いてパターニングすることにより画素電極１０を得た。なお、これら画素電極１０は、それぞれカラーフィルタ層８に設けたスルーホール２１ｃ〜２１ｅを介してＴＦＴのソース電極と接続されるように形成した。
【００４０】
その後、基板６の画素電極１０を形成した面に、感光性のカーボンレス黒色樹脂（富士フィルムオーリン社製）を６．０μｍの厚さに塗布した。これにより得られた塗膜を９０℃で１０分間乾燥させた後、塗膜の上方にフォトマスクを配置し、このフォトマスクを介して上記塗膜に露光量が５００ｍＪ／ｃｍ2となるように波長３６５ｎｍの紫外線を照射した。上述した条件で露光を終えた後、ｐＨ１１．５のアルカリ水溶液を用いて上記塗膜を現像し、さらに、２００℃で６０分間焼成することにより、高さが５．０μｍのスペーサ１１と周縁遮光層９とを同時に形成した。
【００４１】
その後、基板６の画素電極１０を形成した面に、配向膜材料であるＡＬ−３４５６（ＪＳＲ社製）を５００Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜１２を形成した。以上のようにして、アクティブマトリクス基板２を完成した。
【００４２】
上述した方法でアクティブマトリクス基板２を作製する一方で、以下の方法により対向基板３を作製した。すなわち、まず、ガラス基板１３上に、スパッタリング法を用いて厚さ１５００ÅのＩＴＯ膜を形成した。このＩＴＯ膜をフォトリソグラフィ技術とエッチング技術とを用いてパターニングすることにより共通電極１４を得た。その後、基板１３の共通電極１４を形成した面に、配向膜材料であるＡＬ−３４５６（ＪＳＲ社製）を５００Åの厚さで塗布し、得られた塗膜にラビング処理を施して配向膜１５を形成した。以上のようにして、対向基板３を完成した。
【００４３】
次いで、対向基板３の配向膜１５を形成した面の周縁部に接着剤１６を注入口が残されるように印刷した。さらに、アクティブマトリクス基板２から共通電極１４に電圧を印加するための電極転移材（図示せず）を接着剤１６の周辺部の電極転移材（図示せず）上に形成した。
【００４４】
その後、アクティブマトリクス基板２と対向基板３とを、それらの配向膜１２，１５同士が対向するように及びそれらのラビング方向が直交するように貼り合わせ、さらに加熱して接着剤１６を硬化させることによりセルを形成した。このセル中に液晶材料としてＺＬＩ−１５６５（Ｅ．メルク社製）にＳ８１１を添加してなる組成物を通常の方法により注入して液晶層４を形成した。さらに、注入口を紫外線硬化樹脂で封止し、ガラス基板６，１３のそれぞれに偏光板５を貼り付けた。
【００４５】
次に、以上のようにして得られた液晶表示装置１の表示性能について調べた。
その結果、この液晶表示装置１では、明点や半明点などの表示不良は観察されず、高コントラスト比で優れた表示品位が得られた。
【００４６】
（比較例１）
図５は、比較例１に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図である。また、図６は、図５に示す液晶表示装置のカラーフィルタ層を概略的に示す平面図である。
【００４７】
本比較例では、カラーフィルタ層８を図６に示す構造としたこと以外は上記実施例で説明したのとほぼ同様の方法により図６に示す液晶表示装置１を作製した。なお、ここでは、スルーホール２１ａ〜２１ｃのサイズを１５μｍ×２０μｍとした。
【００４８】
次に、以上のようにして得られた液晶表示装置１の表示性能について調べた。
その結果、この液晶表示装置１では、明点や半明点などの表示不良が認められた。
【００４９】
（比較例２）
カラーフィルタ層８を図４に示す構造としたこと以外は上記実施例で説明したのとほぼ同様の方法により図１に示す液晶表示装置１を作製した。なお、ここでは、スルーホール２１ａ〜２１ｃのサイズを１５μｍ×２０μｍとした。
【００５０】
次に、以上のようにして得られた液晶表示装置１の表示性能について調べた。
その結果、この液晶表示装置１では、緑ムラや青ムラなどの表示不良が認められた。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明では、各スルーホールの側壁を全て同一の材料で構成しているため、それらスルーホールの断面形状を順テーパ状とすることができ、したがって、画素電極とスイッチング素子との間の導通不良の発生を防止することができる。また、本発明では、各着色層をスルーホールの位置で分断することなく連続した形状としているため、それら着色層の端部の丸まりや剥離を十分に防止することができる。
すなわち、本発明によると、カラーフィルタ層に設けられるスルーホールの断面形状を順テーパ状とすることが容易であり且つカラーフィルタ層を構成する着色層の剥離を生じ難い液晶表示装置が提供される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図２】図１に示す液晶表示装置のカラーフィルタ層を概略的に示す平面図。
【図３】（ａ）〜（ｃ）は、画素電極とスイッチング素子との間で生じる導通不良とスルーホールの断面形状との関係を示す断面図。
【図４】スルーホールの断面形状を順テーパ状とし得る構造を採用したカラーフィルタ層を概略的に示す平面図。
【図５】比較例１に係る液晶表示装置を概略的に示す断面図。
【図６】図５に示す液晶表示装置のカラーフィルタ層を概略的に示す平面図。
【符号の説明】
１…液晶表示装置
２…アクティブマトリクス基板
３…対向基板
４…液晶層
５…偏光板
６…透明基板
７…スイッチング素子
８…カラーフィルタ層
８ａ〜８ｅ…着色層
９…周縁遮光層
１０…画素電極
１１…柱状スペーサ
１２…配向膜
１３…透明基板
１４…共通電極
１５…配向膜
１６…接着剤層
２１ａ〜２１ｅ…スルーホール
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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