(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理体を液処理するチャンバと、
上記チャンバ内の被処理体に処理液を供給するノズルと、
上記ノズルに複数の供給ラインを介して連通する複数の処理液供給源と、
上記チャンバ内に供給された処理液をチャンバから排液する排液ポートと、
上記排液ポートに複数の排液ラインを介して連通する複数の排液部と、
レシピ設定時に、上記チャンバ、ノズル、供給ライン、処理液供給源、排液ポート、排液ライン及び排液部とを画像として表示可能なモニターと、を具備し、
更に、上記モニターの画像中のノズルが指定されることで、画像中にノズルから供給源に至る接続可能な供給ラインのすべてを表示させ、この画像表示された供給ラインの一つが選択されたとき、選択された供給ラインの画像を残して他の供給ラインの画像を消去し、次いで、上記画像中の排液ポートが選択されたとき、選択された供給ラインと組み合わせが許容され、排液ポートから排液部に至る接続が可能な排液ラインのすべてを画像表示させ、その画像のうちの排液ラインの一つが選択されたとき、選択された排液ラインの画像を残して他の排液ラインの画像を消去する制御手段を具備することを特徴とする液処理装置。
【請求項２】
請求項１記載の液処理装置において、
複数の処理液供給源のうち少なくとも１つは、処理液を貯留するタンクからなり、このタンクは処理に供されていない新液を貯留する新液タンクと、処理に供されたリサイクル液を貯留するリサイクルタンクとを有し、供給ラインは新液タンクとリサイクルタンクのいずれにも接続可能なことを特徴とする液処理装置。
【請求項３】
請求項１記載の液処理装置において、
複数の処理液供給源のうち少なくとも１つは、処理液を貯留するタンクからなり、このタンクは処理に供されていない新液を貯留する新液タンクと、処理に供されたリサイクル液を貯留するリサイクルタンクとを有し、供給ラインは新液タンクとリサイクルタンクのいずれにも接続可能で、
複数の排液部のうち少なくとも１つは、リサイクルタンクに接続可能なことを特徴とする液処理装置。
【請求項４】
請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、
複数の処理液供給源が処理液を供給する処理液供給源と気体を供給する気体供給源とを含むことを特徴とする液処理装置。
【請求項５】
請求項１ないし４のいずれかに記載の液処理装置において、
上記チャンバが内チャンバと外チャンバの二重構造からなり、モニターは、各チャンバでの画像表示がそれぞれ可能なことを特徴とする液処理装置。
【請求項６】
被処理体を液処理するチャンバにノズル及び排液ポートを有し、このノズルへ選択可能な複数の供給ラインを経て複数の処理液供給源から処理液を供給可能にすると共に、排液ポートから処理済みの処理液を選択可能な複数の排液ラインを経てタンク又は外部に排出する液処理装置において、
この液処理装置の供給ライン及び排液ラインの接続を設定制御する制御装置のモニターに、画像として、上記チャンバ及びそのチャンバ内に設けたノズル及び排液ポートを表示させ、
この画像中のノズルを指定することで、モニター画面に、該ノズルから処理液供給源に至る接続可能な供給ラインのすべてを画像表示させ、
その画像のうちの供給ラインの一つが選択されたとき、選択された供給ラインの画像を残して他の供給ラインの画像を消去し、
次いで、上記画像中の排液ポートが選択されたとき、モニター画面に、上記選択された供給ラインと組み合わせが許容され接続が可能な排液ラインのすべてを画像表示させ、
その画像のうちの排液ラインの一つが選択されたとき、選択された排液ラインの画像を残して他の排液ラインの画像を消去し、
上記により選択された供給ライン及び排液ラインの実際の設定を行うことを特徴とする液処理装置の設定管理方法。
【請求項７】
請求項６記載の液処理装置の設定管理方法において、
上記供給ラインの一つにリサイクルのタンク系を含むことを特徴とする液処理装置の設定管理方法。
【請求項８】
請求項６又は７記載の液処理装置の設定管理方法において、
上記供給ラインが、乾燥流体供給源、純水供給源、薬液の新液タンク、溶剤の新液タンクからノズルへの供給ラインを含むことを特徴とする液処理装置の設定管理方法。
【請求項９】
請求項６又は７記載の液処理装置の設定管理方法において、
上記排液ラインの一つにリサイクルのタンク系を含むことを特徴とする液処理装置の設定管理方法。
【請求項１０】
請求項６又は９記載の液処理装置の設定管理方法において、
上記排液ラインが、排液のリサイクルタンク、溶剤のリサイクルタンク、他の排液先と排液ポートを結ぶ排液ラインを含むことを特徴とする液処理装置の設定管理方法。
【請求項１１】
請求項６ないし１０のいずれかに記載の液処理装置の設定管理方法において、
上記チャンバが内チャンバと外チャンバで構成され、内チャンバに上記ノズル及び排液ポートが設けられていることを特徴とする液処理装置の設定管理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、液処理装置の供給・排液ラインの設定管理方法に関するもので、更に詳細には、例えば半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス基板等の被処理体に処理液例えば薬液等を供給して洗浄等の処理をする液処理装置のレシピの設定管理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、半導体デバイスの製造工程やＬＣＤ製造工程においては、半導体ウエハやＬＣＤ用ガラス等の被処理体（以下にウエハ等という）に付着したレジストやドライ処理後の残渣（ポリマ等）を除去するために、処理液等を用いる液処理装置（方法）が広く採用されている。
【０００３】
従来のこの種の液処理装置において、高価な薬液等の処理液を有効に利用するために、処理に供する新規処理液をリサイクル液として再利用する洗浄処理方法が知られている。このリサイクル液と新規処理液を用いる方法では、新規処理液を貯留するタンクと、リサイクル液を貯留するタンクの２種類を用意し、例えば処理初期時にはリサイクル液を処理部に供給してウエハ等を一次処理した後、新規処理液を二次処理に供することにより、処理液を有効に利用している。
【０００４】
従って、この種の液処理装置は、被処理体の処理室たるチャンバにノズル及び排液ポートを有し、このノズルへ選択可能な複数の供給ラインを経て複数の処理液供給源から処理液を供給可能にすると共に、排液ポートから処理済みの処理液を選択可能な複数の排液ラインを経てタンク又は外部に排出する構成を有する。
【０００５】
従来、これらのラインの接続関係の設定は、表形式のレシピ作成画面にて行っている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、配管の接続系統を、処理室たるチャンバへの供給ノズルや排液ポートを中心にして見てみると、これに接続可能な配管が複数あり、そのうちの一つが選択的に利用される構成になっているため、設定時等に理解が容易でない箇所が少なからず存在する。例えば、供給ノズルの場合、これに薬液供給管路やＩＰＡ供給管路の供給ラインの他、純水供給管路や乾燥流体供給管路の供給ラインも接続可能となっている。また、排液ポートには、循環供給タンクへの溶剤の戻り管路を形成する循環管路や、薬液供給部の外側タンクへの薬液の戻り管路や、複数の排液管といった排液ラインが接続可能となっている。
【０００７】
従って、従来の表形式のレシピ作成画面による接続関係の設定では、設定をミスしてしまう可能性があった。
【０００８】
そこで、この発明では、グラフィカルなレシピ作成画面にして、データ設定時に接続可能な配管のみ表示し、選択的に設定可能とすることで、レシピを視覚的に作成できるようにした液処理装置の設定管理方法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために、請求項１記載の液処理装置は、被処理体を液処理するチャンバと、  上記チャンバ内の被処理体に処理液を供給するノズルと、  上記ノズルに複数の供給ラインを介して連通する複数の処理液供給源と、  上記チャンバ内に供給された処理液をチャンバから排液する排液ポートと、  上記排液ポートに複数の排液ラインを介して連通する複数の排液部と、  レシピ設定時に、上記チャンバ、ノズル、供給ライン、処理液供給源、排液ポート、排液ライン、及び排液部とを画像として表示可能なモニターと、を具備し、  更に、上記モニターの画像中のノズルが指定されることで、画像中にノズルから供給源に至る接続可能な供給ラインのすべてを表示させ、この画像表示された供給ラインの一つが選択されたとき、選択された供給ラインの画像を残して他の供給ラインの画像を消去し、次いで、上記画像中の排液ポートが選択されたとき、選択された供給ラインと組み合わせが許容され、排液ポートから排液部に至る接続が可能な排液ラインのすべてを画像表示させ、その画像のうちの排液ラインの一つが選択されたとき、選択された排液ラインの画像を残して他の排液ラインの画像を消去する制御手段を具備することを特徴とする。
【００１０】
請求項２記載の液処理装置は、請求項１記載の液処理装置において、  複数の処理液供給源のうち少なくとも１つは、処理液を貯留するタンクからなり、このタンクは処理に供されていない新液を貯留する新液タンクと、処理に供されたリサイクル液を貯留するリサイクルタンクとを有し、供給ラインは新液タンクとリサイクルタンクのいずれにも接続可能なことを特徴とする。
【００１１】
請求項３記載の液処理装置は、請求項１記載の液処理装置において、  複数の処理液供給源のうち少なくとも１つは、処理液を貯留するタンクからなり、このタンクは処理に供されていない新液を貯留する新液タンクと、処理に供されたリサイクル液を貯留するリサイクルタンクとを有し、供給ラインは新液タンクとリサイクルタンクのいずれにも接続可能で、  複数の排液部のうち少なくとも１つは、リサイクルタンクに接続可能なことを特徴とする。
【００１２】
請求項４記載の液処理装置は、請求項１ないし３のいずれかに記載の液処理装置において、  複数の処理液供給源が処理液を供給する処理液供給源と気体を供給する気体供給源とを含むことを特徴とする。
【００１３】
請求項５記載の液処理装置は、請求項１ないし４のいずれかに記載の液処理装置において、  上記チャンバが内チャンバと外チャンバの二重構造からなり、モニターは、各チャンバでの画像表示がそれぞれ可能なことを特徴とする。
【００１４】
請求項６記載の液処理装置の設定管理方法は、被処理体を液処理するチャンバにノズル及び排液ポートを有し、このノズルへ選択可能な複数の供給ラインを経て複数の処理液供給源から処理液を供給可能にすると共に、排液ポートから処理済みの処理液を選択可能な複数の排液ラインを経てタンク又は外部に排出する液処理装置において、  この液処理装置の供給ライン及び排液ラインの接続を設定制御する制御装置のモニターに、画像として、上記チャンバ及びそのチャンバ内に設けたノズル及び排液ポートを表示させ、  この画像中のノズルを指定することで、モニター画面に、該ノズルから処理液供給源に至る接続可能な供給ラインのすべてを画像表示させ、  その画像のうちの供給ラインの一つが選択されたとき、選択された供給ラインの画像を残して他の供給ラインの画像を消去し、  次いで、上記画像中の排液ポートが選択されたとき、モニター画面に、上記選択された供給ラインと組み合わせが許容され接続が可能な排液ラインのすべてを画像表示させ、  その画像のうちの排液ラインの一つが選択されたとき、選択された排液ラインの画像を残して他の排液ラインの画像を消去し、  上記により選択された供給ライン及び排液ラインの実際の設定を行う、ことを特徴とする。
【００１５】
請求項７記載の設定管理方法は、請求項６記載の液処理装置の設定管理方法において、上記供給ラインの一つにリサイクルのタンク系を含むことを特徴とする。
【００１６】
請求項８記載の設定管理方法は、請求項６又は７記載の液処理装置の設定管理方法において、上記供給ラインが、乾燥流体供給源、純水供給源、薬液の新液タンク、溶剤の新液タンクからノズルへの供給ラインを含むことを特徴とする。
【００１７】
請求項９記載の設定管理方法は、請求項６又は７記載の液処理装置の設定管理方法において、上記排液ラインの一つにリサイクルのタンク系を含むことを特徴とする。
【００１８】
請求項１０記載の設定管理方法は、請求項６又は９記載の液処理装置の設定管理方法において、上記排液ラインが、排液のリサイクルタンク、溶剤のリサイクルタンク、他の排液先と排液ポートを結ぶ排液ラインを含むことを特徴とする。
【００１９】
請求項１１記載の設定管理方法は、請求項６ないし１０のいずれかの設定管理方法において、上記チャンバが内チャンバと外チャンバで構成され、内チャンバに上記ノズル及び排液ポートが設けられていることを特徴とする。
【００２０】
この発明によれば、モニター画像中のノズルを指定することで、ノズルから処理液供給源に至る接続可能な供給ラインのすべてを画像表示させ、その供給ラインの一つが選択されたとき他の供給ラインの画像を消去して当該供給ラインを特定し、次いで、排液ポートが選択されたとき、上記選択された供給ラインと組み合わせが許容され接続が可能な排液ラインの全てを画像表示させ、その排液ラインの一つが選択されたとき他の排液ラインの画像を消去し、上記により選択された供給ライン及び排液ラインの実際の設定を行う。従って、処理液の種類や選択的に利用可能なライン数が多く、その接続系統を設定時に理解し難い状況であっても、配管や処理液を取り間違えることなく、正しくステップの設定を行うことができる。従って、接続可能な配管の変更も容易に行うことができる。
【００２１】
また、先に選択された供給ラインに関連して、これとの組み合わせが許容され接続が可能な排液ラインのみを画像表示させ、その排液ラインの一つを選択するようにしているので、実際に選択できない接続の組み合わせが排除され、排液ラインの選択設定が容易となる。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下に、この発明の実施の形態を図面に基づいて詳細に説明する。この実施形態では半導体ウエハの洗浄・乾燥処理装置に適用した場合について説明する。
【００２３】
図１は、この発明に係る液処理装置を適用した洗浄・乾燥処理装置の一例を示す概略構成図、図２は、液処理装置における処理液の配管系統を示す概略配管図である。
【００２４】
上記液処理装置２０は、図１に示すように、被処理体であるウエハＷを保持する回転可能な保持手段例えばロータ２１と、このロータ２１を水平軸を中心として回転駆動する駆動手段であるモータ２２と、ロータ２１にて保持されたウエハＷを包囲する複数例えば２つの処理部｛具体的には第１の処理室，第２の処理室｝の内チャンバ２３，外チャンバ２４と、これら内チャンバ２３又は外チャンバ２４内に収容されたウエハＷに対して処理液例えばレジスト剥離液，ポリマ除去液等の薬液の供給手段５０、この薬液の溶剤例えばイソプロピルアルコール（ＩＰＡ）の供給手段６０、リンス液例えば純水等の供給手段（リンス液供給手段）７０又は例えば窒素（Ｎ2）等の不活性ガスや清浄空気等の乾燥気体（乾燥流体）の供給手段８０｛図１では薬液供給手段５０と乾燥流体供給手段８０を示す。｝と、内チャンバ２３を構成する内筒体２５と外チャンバ２４を構成する外筒体２６をそれぞれウエハＷの包囲位置とウエハＷの包囲位置から離れた待機位置に切り換え移動する移動手段例えば第１，第２のシリンダ２７，２８及びウエハＷを図示しないウエハ搬送チャックから受け取ってロータ２１に受け渡すと共に、ロータ２１から受け取ってウエハ搬送チャックに受け渡す被処理体受渡手段例えばウエハ受渡ハンド２９とで主要部が構成されている。
【００２５】
上記のように構成される液処理装置２０におけるモータ２２、処理流体の各供給手段５０，６０，７０，８０｛図１では薬液供給手段５０と乾燥流体供給手段８０を示す。｝の供給部、ウエハ受渡ハンド２９等は制御手段例えば中央演算処理装置（ＣＰＵ）を主体としメモリ（ＲＯＭ、ＲＡＭ）を含んで構成された制御装置３０によって制御される。
【００２６】
また、上記ロータ２１は、水平に配設されるモータ２２の駆動軸２２ａに片持ち状に連結されて、ウエハＷの処理面が鉛直になるように保持し、水平軸を中心として回転可能に形成されている。この場合、ロータ２１は、モータ２２の駆動軸２２ａにカップリング（図示せず）を介して連結される回転軸（図示せず）を有する第１の回転板２１ａと、この第１の回転板２１ａと対峙する第２の回転板２１ｂと、第１及び第２の回転板２１ａ，２１ｂ間に架設される複数例えば４本の固定保持棒３１と、これら固定保持棒３１に列設された保持溝（図示せず）によって保持されたウエハＷの上部を押さえる図示しないロック手段及びロック解除手段によって押え位置と非押え位置とに切換移動する一対の押え棒３２とで構成されている。この場合、モータ２２は、予め制御装置３０に記憶されたプログラムに基づいて所定の高速回転と低速回転を選択的に繰り返し行い得るように制御されている。従って、モータ２２は高速回転と低速回転との切り換えが何回も行われることによって過熱される虞があるので、モータ２２には、過熱を抑制するための冷却手段３７が設けられている。この冷却手段３７は、図１に示すように、モータ２２の周囲に配管される循環式冷却パイプ３７ａと、この冷却パイプ３７ａの一部と冷却水供給パイプ３７ｂの一部を配設して、冷却パイプ３７ａ内に封入される冷媒液を冷却する熱交換器３７ｃとで構成されている。
【００２７】
一方、処理部例えば内チャンバ２３（第１の処理室）は、第１の固定壁３４と、この第１の固定壁３４と対峙する第２の固定壁３８と、これら第１の固定壁３４及び第２の固定壁３８との間にそれぞれ第１及び第２のシール部材４０ａ，４０ｂを介して係合する内筒体２５とで形成されている。すなわち、内筒体２５は、移動手段である第１のシリンダ２７の伸張動作によってロータ２１と共にウエハＷを包囲する位置まで移動されて、第１の固定壁３４との間に第１のシール部材４０ａを介してシールされると共に、第２の固定壁３８との間に第２のシール部材４０ｂを介してシールされた状態で内チャンバ２３（第１の処理室）を形成する。また、第１のシリンダ２７の収縮動作によって固定筒体３６の外周側位置（待機位置）に移動されるように構成されている。この場合、内筒体２５の先端開口部は第１の固定壁３４との間に第１のシール部材４０ａを介してシールされ、内筒体２５の基端部は図示しない固定筒体の中間部に周設された第３のシール部材（図示せず）を介してシールされて、内チャンバ２３内に残存する薬液の雰囲気が外部に漏洩するのを防止している。
【００２８】
また、外チャンバ２４（第２の処理室）は、待機位置に移動された内筒体２５との間にシール部材４０ｂを介在する第１の固定壁３４と、第２の固定壁３８と、第２の固定壁３８と内筒体２５との間にそれぞれ第４及び第５のシール部材４０ｄ，４０ｅを介して係合する外筒体２６とで形成されている。すなわち、外筒体２６は、移動手段である第２のシリンダ２８の伸張動作によってロータ２１と共にウエハＷを包囲する位置まで移動されて、第２の固定壁３８との間に第４のシール部材４０ｄを介してシールされると共に、内筒体２５の先端部外方に位置する第５のシール部材４０ｅを介してシールされた状態で、外チャンバ２４（第２の処理室）を形成する。また、第２のシリンダ２８の収縮動作によって固定筒体３６の外周側位置（待機位置）に移動されるように構成されている。この場合、外筒体２６と内筒体２５の基端部間には第５のシール部材４０ｅが介在されて、シールされている。従って、内チャンバ２３の内側雰囲気と、外チャンバ２４の内側雰囲気とは、互いに気水密な状態に離隔されるので、両チャンバ２３，２４内の雰囲気が混じることなく、異なる処理流体が反応して生じるクロスコンタミネーションを防止することができる。
【００２９】
上記のように構成される内筒体２５と外筒体２６は共に先端に向かって拡開するテーパ状に形成されている。このように内筒体２５及び外筒体２６を、一端に向かって拡開するテーパ状に形成することにより、処理時に内筒体２５又は外筒体２６内でロータ２１が回転されたときに発生する気流が拡開側へ渦巻き状に流れ、内部の薬液等が拡開側へ排出し易くすることができる。また、内筒体２５と外筒体２６とを同一軸線上に重合する構造とすることにより、内筒体２５と外筒体２６及び内チャンバ２３及び外チャンバ２４の設置スペースを少なくすることができると共に、装置の小型化が図れる。
【００３０】
一方、上記処理液供給手段のうち、薬液例えばポリマ除去液の供給手段５０は、図２に示すように、処理部すなわち内筒体２５内に取り付けられる薬液供給ノズル５１と、薬液供給部５２と、これら薬液供給ノズル５１と薬液供給部５２とを接続する薬液供給管路５３を具備してなる。
【００３１】
上記薬液供給部５２は、図３に示すように、薬液供給源３（液供給源）と、この薬液供給源３から供給される新規の薬液を貯留すると共に、処理に供された薬液を貯留するタンク１０とで主要部が構成されている。
【００３２】
上記タンク１０は、薬液開閉弁３ａを介設する薬液管路３ｂを介して薬液供給源３に接続する新液を貯留する内側タンク１と、この内側タンク１を内方に収容する外側タンク２とからなる二重槽構造に構成されている。この場合、内側タンク１は有底円筒状のステンレス製容器にて形成されている。また、外側タンク２は、大径の胴部と小径の開口部と開口部側に向かって漸次狭小テーパ状の肩部とを有する有底円筒状のステンレス製容器にて形成されている。ここで、肩部を開口部側に向かって漸次狭小テーパ状としたのは、外側タンク２内に貯留される薬液が開口部に充満される過程で肩部に空気が溜まるのを防止するためである。また、外側タンク２の外周面には、外側タンク２を囲繞するように加熱手段であるヒータ４が配設されている。
【００３３】
この場合、内側タンク１の上端部には、この内側タンク１からオーバーフローする薬液を外側タンク２内に供給するオーバーフロー管路５が配設されている。従って、薬液供給源３から内側タンク１内に供給される新規の薬液が内側タンク１内に充満された後、オーバーフロー管路５を介して外側タンク２内に供給される。また、図３に示すように、外側タンク２の開口部における内側タンク１との隙間が狭く形成されている。内側タンク１と外側タンク２の隙間が狭い程、外側タンク２内に貯留される薬液の液面の外気と接触する面積を少なくすることができるので、薬液の空気との接触による化学反応や劣化を抑制することができ、薬液の品質や性能の維持を図ることができるからである。
【００３４】
なお、内側タンク１及び外側タンク２の開口部には、パージガス供給管路６とガス抜き管路６Ａが接続されており、両タンク１，２内に貯留される薬液が外気に晒されて雰囲気が変化するのを防止するために、図示しない不活性ガス例えばＮ2ガス等のパージガス供給源に接続するパージガス供給管路６からパージガス例えばＮ2ガスが供給されるようになっている。なお、外側タンク２の外方近接部にはそれぞれ静電容量型の上限センサ７ａ，秤量センサ７ｂ，ヒータオフ下限センサ７ｃ及び下限センサ７ｄが配設されており、これらセンサ７ａ〜７ｄはＣＰＵを主体に構成した制御装置（制御部）３０に接続されている。この場合、センサ７ａ〜７ｄは必ずしも静電容量型である必要はなく、液面を検出できるものであればその他の形式のセンサであってもよい。これらセンサ７ａ〜７ｄのうち、上限センサ７ａと下限センサ７ｄは、外側タンク２内に貯留される薬液の上限液面と下限液面を検出し、秤量センサ７ｂは、外側タンク２内に実際に貯留されている薬液の量を検出し、また、ヒータオフ下限センサ７ｃは、ヒータ４による加熱可能な薬液量を検出し得るようになっている。なお、内側タンク１の上端部には、薬液満杯センサが配設されており、この薬液満杯センサによって内側タンク１内から外側タンク２内に流れる薬液の状態を監視することができるようになっている。すなわち、薬液満杯センサと上記秤量センサ７ｂからの検出信号に基づいて制御部３０（ＣＰＵ）からの制御信号を薬液開閉弁３ａに伝達することで、内側タンク１及び外側タンク２内の薬液の液量を管理することができる。
【００３５】
また、内側タンク１内に貯留される薬液と、外側タンク２内に貯留される薬液は、外側タンク２の外方近接部に配設される１つのヒータ４によって加熱・保温されるようになっている。この場合、内側タンク１内の薬液の温度は、内側タンク薬液温度センサＴａによって検出され、外側タンク２内の薬液の温度は、外側タンク薬液温度センサＴｂによって検出され、また、ヒータ４の温度は、コントロール温度センサＴｃと、オーバーヒート温度センサＴｄによって検出されるようになっている。これら温度センサＴａ〜Ｔｄのうち、外側タンク薬液温度センサＴｂ、コントロール温度センサＴｃ及びオーバーヒート温度センサＴｄの検出信号を温度制御部で制御して、外側タンク２内の薬液温度、ヒータ４の加熱温度を所定温度、すなわち、８０℃＜Ｔ1＜１５０℃に設定できるようになっている。
【００３６】
このように外側タンク２内の薬液の温度Ｔ1を所定温度、すなわち、８０℃＜Ｔ1＜１５０℃に制御することで、内側タンク１内の薬液の温度Ｔ０を、外側タンク２内の薬液の温度Ｔ1の熱容量によってＴ1とほぼ等しい温度に設定することができる。
【００３７】
一方、処理部すなわち内筒体２５内に取り付けられる薬液供給ノズル５１と、薬液供給部５２とを接続する薬液供給管路５３は、図１及び図３に示すように、内側タンク１内の薬液を処理部側に供給する第１の供給管路１４ａと、外側タンク２内の薬液を処理部側に供給する第２の供給管路１４ｂと、これら第１及び第２の供給管路１４ａ，１４ｂを連結して共通化する主供給管路１４ｃとで主に構成されている。この場合、第１の供給管路１４ａには第１の切換開閉弁１５ａが介設され、第２の供給管路１４ｂには第２の切換開閉弁１５ｂが介設されている。また、主供給管路１４ｃには例えばダイアフラム式の供給ポンプ１６が介設されると共に、この供給ポンプ１６の吐出側に順次、第３の切換開閉弁１５ｃ、フィルタ１７、第４の切換開閉弁１５ｄが介設されている。
【００３８】
また、主供給管路１４ｃにおける供給ポンプ１６の吐出側と外側タンク２とは、第５の切換開閉弁１５ｅを介設した循環管路１８が接続されており、外側タンク２内から供給される薬液を循環し得るように構成されている。
【００３９】
また、主供給管路１４ｃにおける供給ポンプ１６の吐出側｛具体的には供給ポンプ１６と第３の切換開閉弁１５ｃとの間｝と、第３の切換開閉弁１５ｃの吐出側と循環管路１８の接続部との間には、主供給管路１４ｃから分岐され再び主供給管路１４ｃに連結するバイパス管路１９が接続されている。このバイパス管路１９には、第６の切換開閉弁１５ｆ、フィルタ１９ａ及び第７の切換開閉弁１５ｇが順次介設されている。また、外側タンク２の開口部と処理部には、切換弁Ｖ１を介設した薬液の戻り管路５６が接続されており、処理部で処理に供された薬液が外側タンク２内に貯留されて、リサイクルに供されるようになっている。
【００４０】
上記のようにして薬液供給管路５３を形成することにより、外側タンク２内に貯留された薬液を第２の供給管路１４ｂ、主供給管路１４ｃ、バイパス管路１９及び主供給管路１４ｃを介して処理部側に供給することができる。また、内側タンク１内に貯留された薬液（新液）を第１の供給管路１４ａと主供給管路１４ｃを介して処理部側に供給することができる。また、ウエハＷの処理の待機時には、外側タンク２内に貯留された薬液を循環管路１８を介して循環することができる。
【００４１】
なお、外側タンク２の底部には排液開閉弁５７を介設した排液管路５８が接続され、更に排液管路５９へと接続されている（図３参照）。
【００４２】
一方、薬液の溶剤例えばＩＰＡの供給手段６０は、図２に示すように、内筒体２５内に取り付けられる上記薬液供給ノズルを兼用する供給ノズル５１（以下に薬液供給ノズル５１で代表する）と、溶剤供給部６１と、この供給ノズル５１と薬液供給部５２とを接続するＩＰＡ供給管路６２に介設されるポンプ５４、フィルタ５５、ＩＰＡ供給弁６３を具備してなる。この場合、溶剤供給部６１は、溶剤例えばＩＰＡの供給源６４と、このＩＰＡ供給源６４から供給される新規のＩＰＡを貯留するＩＰＡ供給タンク６１ａと、処理に供されたＩＰＡを貯留する循環供給タンク６１ｂとで構成されており、両ＩＰＡ供給タンク６１ａ，６１ｂには、上記内チャンバ２３の拡開側部位の下部に設けられた第１の排液ポート４１に接続する第１の排液管路４２に切換弁Ｖ２を介して循環管路９０が接続されている。なお、第１の排液管路４２は、切換弁Ｖ３を介して排液管路４２Ａに接続され、また、切換弁Ｖ４を介して別の排液管路５９に接続されている（図１参照）。
【００４３】
一方、リンス液例えば純水の供給手段７０は、図２に示すように、第２の固定壁３８に取り付けられる純水供給ノズル７１と、純水供給源７２と、純水供給ノズル７１と純水供給源７２とを接続する純水供給管路７３に介設される供給ポンプ７４、純水供給弁７５とを具備してなる。この場合、純水供給ノズル７１は、内チャンバ２３の外側に位置すると共に、外チャンバ２４の内側に位置し得るように配設されており、内筒体２５が待機位置に後退し、外筒体２６がロータ２１とウエハＷを包囲する位置に移動して外チャンバ２４を形成した際に、外チャンバ２４内に位置して、ウエハＷに対して純水を供給し得るように構成されている。なお、純水供給ノズル７１は、外チャンバ２４に取り付けられるものであってもよい。
【００４４】
また、外チャンバ２４の拡開側部位の下部には、第２の排液ポート４５が設けられており、この第２の排液ポート４５には、図示しない開閉弁を介設した第２の排液管路４６が接続されている。なお、第２の排液管路４６には、純水の比抵抗値を検出する比抵抗計４７が介設されており、この比抵抗計４７によってリンス処理に供された純水の比抵抗値を検出し、その信号を上記制御装置３０に伝達するように構成されている。従って、この比抵抗計４７でリンス処理の状況を監視し、適正なリンス処理が行われた後、リンス処理を終了することができる。
【００４５】
なお、上記外チャンバ２４の拡開側部位の上部には、第２の排気ポート４８が設けられており、この第２の排気ポート４８には、図示しない開閉弁を介設した第２の排気管路４９が接続されている。
【００４６】
また、乾燥流体供給手段８０は、図１及び図２に示すように、第２の固定壁３８に取り付けられる乾燥流体供給ノズル８１と、乾燥流体例えば窒素（Ｎ2）供給源８２と、乾燥流体供給ノズル８１とＮ2供給源８２とを接続する乾燥流体供給管路８３に介設される開閉弁８４、フィルタ８５、Ｎ2温度調整器８６とを具備してなり、かつ乾燥流体供給管路８３におけるＮ2温度調整器８６の二次側に切換弁８７を介して上記ＩＰＡ供給管路６２から分岐される分岐管路８８を接続してなる。この場合、乾燥流体供給ノズル８１は、上記純水供給ノズル７１と同様に内チャンバ２３の外側に位置すると共に、外チャンバ２４の内側に位置し得るように配設されており、内筒体２５が待機位置に後退し、外筒体２６がロータ２１とウエハＷを包囲する位置に移動して外チャンバ２４を形成した際に、外チャンバ２４内に位置して、ウエハＷに対してＮ2ガスとＩＰＡの混合流体を霧状に供給し得るように構成されている。この場合、Ｎ2ガスとＩＰＡの混合流体で乾燥した後に、更にＮ2ガスのみで乾燥する。なお、ここでは、乾燥流体がＮ2ガスとＩＰＡの混合流体である場合について説明したが、この混合流体に代えてＮ2ガスのみを供給するようにしてもよい。
【００４７】
なお、上記薬液供給手段５０、ＩＰＡ供給手段６０、純水供給手段７０及び乾燥流体供給手段８０における供給ポンプ１６，５４、薬液供給部５２の第１〜第７の切換開閉弁１５ａ〜１５ｇ、温度調整器５６，Ｎ2温度調整器８６、ＩＰＡ供給弁６３及び切換弁８７は、制御装置３０によって制御されている（図１参照）。
【００４８】
次に、洗浄・乾燥処理装置の動作態様について説明する。まず、搬入・搬出部（図示せず）側からウエハ搬送チャックによって搬送されるウエハＷを処理装置２０の上方、すなわち、内筒体２５及び外筒体２６が待機位置に後退した状態のロータ２１の上方位置まで搬送する。すると、ウエハ受渡ハンド２９が上昇して、ウエハ搬送チャック１０にて搬送されたウエハＷを受け取り、その後、下降してウエハＷをロータ２１の固定保持棒３１上に受け渡した後、ウエハ受渡ハンド２９は元の位置に移動する。ロータ２１の固定保持棒３１上にウエハＷを受け渡した後、図示しないロック手段が作動してウエハ押え棒３２がウエハＷの上側縁部まで移動してウエハＷの上部を保持する。
【００４９】
上記のようにしてロータ２１にウエハＷがセットされると、内筒体２５及び外筒体２６がロータ２１及びウエハＷを包囲する位置まで移動して、内チャンバ２３内にウエハＷを収容する。この状態において、まず、ウエハＷに薬液を供給して薬液処理を行う。この薬液処理は、ロータ２１及びウエハＷを低速回転例えば１〜５００ｒｐｍで回転させた状態で所定時間例えば数十秒間薬液を供給した後、薬液の供給を停止し、その後、ロータ２１及びウエハＷを数秒間高速回転例えば１００〜３０００ｒｐｍで回転させてウエハＷ表面に付着する薬液を振り切って除去する。この薬液供給工程と薬液振り切り工程を数回から数千回繰り返して薬液処理を完了する。
【００５０】
上記薬液処理工程において、内側タンク１及び外側タンク２内に薬液が貯留された状態の通常の処理では、最初に供給される薬液は、外側タンク２内に貯留された薬液が使用される。すなわち、第２，第６，第７及び第４の切換開閉弁１５ｂ，１５ｆ，１５ｇ，１５ｄが開いた状態で供給ポンプ１６が作動することにより、外側タンク２内の薬液は、第２の供給管路１４ｂ、主供給管路１４ｃ、バイパス管路１９及び主供給管路１４ｃを流れて処理部側に供給される。この際、供給ポンプ１６を通過した薬液はフィルタ１９ａによって濾過され、薬液中に混入する不純物や夾雑物等が除去される。ある一定時間内最初に使用された薬液は第１の排液管路４２から廃棄される。それ以外の薬液は一定時間処理に供された後、外側タンク２内に戻されて、以後循環供給される。
【００５１】
所定時間薬液を循環供給して処理を行った後、内側タンク１内の新規薬液が処理部側に供給されて薬液処理が終了する。内側タンク１内の新規薬液を処理部側へ供給する場合には、上記第２，第６及び第７の切換開閉弁１５ｂ，１５ｆ，１５ｇが閉じ、第１，第３及び第４の切換開閉弁１５ａ，１５ｃ，１５ｄが開く。この状態で供給ポンプ１６が作動することにより、内側タンク１内の新規薬液は、第１の供給管１４ａ及び主供給管１４ｃを流れて処理部側に供給される。この際、供給ポンプ１６を通過した新規薬液はフィルタ１７によって濾過され、薬液中に混入する不純物や夾雑物等が除去される。また、前回の処理時に供給され、主供給管路１４ｃに残留した新規薬液は、次回の新規薬液と共にフィルタ１７によって濾過される。なお、処理に供された新規薬液は戻り管路５６を介して外側タンク２内に貯留される。
【００５２】
上記説明では、内側タンク１内と外側タンク２内に薬液が貯留された状態の通常の薬液処理について説明したが、内側タンク１及び外側タンク２内に薬液が貯留されていない空の状態では、以下のようにして薬液処理を行う。
【００５３】
まず、薬液開閉弁３ａを開いて薬液供給源３から薬液を内側タンク１内に供給すると共に、内側タンク１からオーバーフロー管路５を介して外側タンク２内に所定量の薬液を貯留する。そして、処理初期時に、外側タンク２内の新規薬液を処理部側に供給して最初の薬液処理を行う。その後は、上記通常の薬液処理と同様に、外側タンク２内の薬液を循環供給した後、内側タンク１内の新規薬液を処理部側に供給して、薬液処理を終了する。
【００５４】
なお、薬液処理工程の際には、薬液処理に供された薬液は第１の排液ポート４１に排出され、切換弁（図示せず）の動作によって戻り管路５６を介して薬液供給部５２に循環されるか又は第１の排液管路４２に排出される一方、薬液から発生するガスは第１の排気ポート４３を介して第１の排気管路４４から排気される。
【００５５】
薬液処理を行った後、内チャンバ２３内にウエハＷを収容したままの状態で、ＩＰＡ供給手段６０のＩＰＡの供給ノズルを兼用する薬液供給ノズル５１から低速回転例えば１〜５００ｒｐｍで回転させた状態で所定時間例えば数十秒間ＩＰＡを供給した後、ＩＰＡの供給を停止し、その後、ロータ２１及びウエハＷを数秒間高速回転例えば１００〜３０００ｒｐｍで回転させてウエハＷ表面に付着するＩＰＡを振り切って除去する。このＩＰＡ供給工程とＩＰＡ振り切り工程を数回から数千回繰り返して薬液除去処理を完了する。この薬液除去処理においても、上記薬液処理工程と同様に、最初に供給されるＩＰＡは、循環供給タンク６１ｂ内に貯留されたＩＰＡが使用され、この最初に使用されたＩＰＡは第１の排液管路４２から廃棄され、以後の処理に供されるＩＰＡは供給タンク６１ｂ内に貯留されたＩＰＡを循環供給する。そして、薬液除去処理の最後に、ＩＰＡ供給源６４から供給タンク６１ａ内に供給された新規のＩＰＡが使用されて、薬液除去処理が終了する。
【００５６】
なお、薬液除去処理において、薬液除去処理に供されたＩＰＡは第１の排液ポート４１に排出され、切換弁（図示せず）の動作によって溶剤供給部６１の循環管路９０又は第１の排液管路４２に排出される一方、ＩＰＡガスは第１の排気ポート４３を介して第１の排気管路４４から排気される。
【００５７】
薬液処理が終了した後、内筒体２５が待機位置に後退して、ロータ２１及びウエハＷが外筒体２６によって包囲、すなわち外チャンバ２４内にウエハＷが収容される。従って、内チャンバ２３内で処理されたウエハＷから液がしたたり落ちても外チャンバ２４で受け止めることができる。この状態において、まず、リンス液供給手段の純水供給ノズル７１から回転するウエハＷに対してリンス液例えば純水が供給されてリンス処理される。このリンス処理に供された純水と除去されたＩＰＡは第２の排液ポート４５を介して第２の排液管路４６から排出される。また、外チャンバ２４内に発生するガスは第２の排気ポート４８を介して第２の排気管路４９から外部に排出される。
【００５８】
このようにしてリンス処理を所定時間行った後、外チャンバ２４内にウエハＷを収容したままの状態で、乾燥流体供給手段８０のＮ2ガス供給源８２及びＩＰＡ供給源６４から、Ｎ2ガスとＩＰＡの混合流体を、回転するウエハＷに供給して、ウエハ表面に付着する純水を除去することで、ウエハＷと外チャンバ２４内の乾燥を行うことができる。また、Ｎ2ガスとＩＰＡの混合流体によって乾燥処理した後、Ｎ2ガスのみをウエハＷに供給することで、ウエハＷの乾燥と外チャンバ２４内の乾燥をより一層効率よく行うことができる。
【００５９】
上記のようにして、ウエハＷの薬液処理、薬液除去処理、リンス処理及び乾燥処理が終了した後、外筒体２６が内筒体２５の外周側の待機位置に後退する一方、図示しないロック解除手段が動作してウエハ押え棒３２をウエハＷの押え位置から後退する。すると、ウエハ受渡ハンド２９が上昇してロータ２１の固定保持棒３１にて保持されたウエハＷを受け取って処理装置２０の上方へ移動する。処理装置の上方へ移動されたウエハＷはウエハ搬送チャックに受け取られて搬入・搬出部に搬送された後、装置外部に搬送される。
【００６０】
＜液処理装置の設定管理方法＞
ところで、上述したシステムの接続系統を供給ノズルや排液ポートを中心にして見てみると、これに接続可能な配管が複数あり、そのうちの一つが選択的に利用される構成になっているため、設定時等に理解が容易でない箇所が少なからず存在する。例えば、供給ノズル５１の場合、これに薬液供給管路５３やＩＰＡ供給管路６２の供給ラインの他、純水供給管路７３や乾燥流体供給管路８３の供給ラインも接続可能となっている。また、排液ポート４１には、循環供給タンク６１ｂへの溶剤の戻り管路を形成する循環管路９０や、薬液供給部５２の外側タンク２への薬液の戻り管路５６や、排液管路４２，４２Ａや、排液管路５９といった排液ラインが接続可能となっている。
【００６１】
従って、表形式のレシピ作成画面では接続関係の設定をミスしてしまう可能性がある。
【００６２】
そこで、この発明では、グラフィカルなレシピ作成画面にして、データ設定時に接続可能な配管のみを表示し、その配管のうちの一つを選択的に設定可能とすることで、レシピを視覚的に容易に作成できるようにして、設定ミスを防止するようにしている。また、接続可能な配管をデータテーブルで変更可能にし、配管が変わっても対応できるようにしている。
【００６３】
図４に制御装置３０のモニター３２に画像表示されるレシピ画面を示す。このレシピ画面は、図示してないメニューバーの「レシピ」キーを選択することで表示される。
【００６４】
レシピ画面には、その中央に、接続要素のアイコンや接続ライン等の接続系統を描くことのできる描画作成領域１００が大面積で用意されている。
【００６５】
この描画作成領域１００の上方に条件設定表示欄１０１が設けられ、この条件設定表示欄１０１には、入力設定エリアとして、内チャンバか外チャンバかの別を入力設定する「ＣＨＡＭＢＥＲ」設定部１０２、ロータ２１の回転を低速回転及び高速回転に切換ながら繰り返しを行うための低速／高速回転繰り返しレシピを使用するときに入力する「低速／高速回転繰り返し」設定部１０３、パージガスの種類を入力する「パージ」設定部１０４、ローター回転数を入力する「回転数」設定部１０５、ステップの処理時間を入力する「処理時間」設定部１０６、ステップ処理開始時の初期排液時間を入力する「排液切り換え」設定部１０７が設けられている。これらの各入力設定エリア１０２〜１０７には、それぞれの設定値の入力が可能となっている。このうち「ＣＨＡＭＢＥＲ」設定部１０２と「パージ」設定部１０４はプルダウンメニユーバーとして構成されており、黒三角印の部位を押すと、リストボックスが表示され、任意のメニューバーを選択することができる。すなわち「ＣＨＡＭＢＥＲ」入力エリアに対しては処理チャンバの種類として内チャンバ２３又は外チャンバ２４を選択することができ、また「パージ」入力エリアに対してはパージガスの種類として不活性ガスであるＮ2または清浄空気等を選択することができる。
【００６６】
また、条件設定表示欄１０１には、表示エリアとして、作成中または登録済のレシピのレシピ番号が表示される「レシピＮｏ」表示部１０８、登録されたレシピＩＤ（レシピネーム）が表示される「レシピＩＤ」表示部１０９、「ハイブリッド」表示部１１０、作成中のレシピの総ステップ数が表示される「ステップ数」表示部１１１、作成中のステップ番号が表示される「ステップＮｏ」表示部１１２も設けられている。
【００６７】
一方、画面右側には、黒三角印を付した「ステップアップ」キー１１３及び「ステップダウン」キー１１４を具備し、これを押すことで、この画面の前後のステップのレシピ作成画面に切り換えることができる。
【００６８】
更に、画面右側には、操作用のソフトキーとして、挿入するステップを選択し、指定したステップの前にステップの挿入をしたいときに操作する「挿入」キー１１５、削除するステップを選択し、ステップを削除をしたいときに操作する「削除」キー１１６、レシピ作成中に、吐出ノズル、供給・排液ラインを変更する時に使用する「キャンセル」キー１１７、ステップの内容を初期化ときに操作する「クリア」キー１１８、ステップの入力、変更後、内容を保存ときに操作する「登録」キー１１９、前画面に戻るときに操作する「戻る」キー１２０が設けられている。
【００６９】
描画作成領域１００には、「ＣＨＡＭＢＥＲ」設定部１０２で内チャンバ２３を選ぶことで、図４に示すように、チャンバーユニット２００の画像が現れる。このチャンバーユニット２００は、実際の内チャンバ２３及び外チャンバ２４に対応した輪郭２２３、２２４（以下単に内チャンバ２２３、外チャンバ２２４と称する）と、内チャンバ２３内に位置する供給ノズル５１及び排液ポート４１のシンボル２５１、２４１（以下単に供給ノズル２５１及び排液ポート２４１と称する）とを有する。
【００７０】
また、このチャンバーユニット２００の画像のうちの供給ノズル２５１を図示してないマウス等のポインティングデバイスで選択すると、この供給ノズル２５１に接続可能な全ての処理液供給源とこれらから供給ノズル５１への供給ラインとが表示される。この実施形態では、図５に示すように、処理液供給源として、乾燥流体（例えば窒素Ｎ2）供給源８２及び純水供給源７２の各アイコン２８２、２７２（以下単に乾燥流体供給源２８２、純水供給源２７２と称する）が、それらと供給ノズル２５１とを結ぶ供給ライン２８９、２７６（供給管路８９、供給管路７６に対応する）と共に表示される。
【００７１】
更にまた、処理液供給源として、内側タンク１及び外側タンク２を具備するタンク１０のアイコン２１０（以下単に新液タンク２０１及びリサイクルタンク２０２を具備するタンク２１０と称する）と、ＩＰＡ供給タンク６１ａ及び循環供給タンク６１ｂを具備する溶剤供給部６１のアイコン２６１（以下単に新液タンク２６１ａ及びリサイクルタンク２６１ｂを具備する溶剤供給タンク２６１と称する）とが、それらと供給ノズル２５１とを結ぶ供給ライン２５３、２６２（薬液供給管路５３、ＩＰＡ供給管路６２に対応する）と共に表示される。ただし、このタンク２１０の新液タンク２０１及びリサイクルタンク２０２のいずれの側を使用するかは、図５に示すように、アイコン２１０の下方に表示させたソフトキー１２５を、ポインティングデバイスで操作することにより、切り換えることができる。同様に、溶剤供給タンク２６１の新液タンク２６１ａ及びリサイクルタンク２６１ｂのいずれの側を使用するかも、アイコン２６１の下方に表示させたソフトキー１２６を、ポインティングデバイスで操作することにより、切り換えることができる。
【００７２】
また、上記チャンバーユニット２００の画像のうちの排液ポート２４１を図示してないマウス等のポインティングデバイスで選択すると、この排液ポート２４１に接続可能な全ての排液先と、これらと排液ポート２４１とを結ぶ排液ラインとが表示される。この実施形態では、図６に示すように、排液先として、タンク２１０のリサイクルタンク２０２（タンク１０の外側タンク２）と、溶剤供給タンク２６１のリサイクルタンク２６１ｂ（溶剤供給部６１の循環供給タンク６１ｂ）とが、それらと排液ポート４１とを結ぶ排液ライン２５６、２９０（薬液の戻り管路５６、循環管路９０に対応する）と共に表示される。
【００７３】
更にまた、排液先１２１〜１２４として、薬液処理後の初期リンスとして使われる例えばＩＰＡ等を排液するRinse Chemi(1)、有機系例えばアミン系やフッ化アンモ系の有機薬液を排液するSOLVENT(1)、例えばリンスとして純水を使った際に薬液の混ざった純水を排液するDilution、再生利用可能な純水を排液するReclaimの４種類が、それらと排液ポート４１とを結ぶ排液ライン２４２、２５９（排液管路４２、排液管路５９に対応する）と共に表示される。
【００７４】
図７及び図８に、基本的なウェハ処理を実行するレシピの作成手順をフローチャートにして示す。
【００７５】
図７において、まずメニュー画面よりレシピ画面を選択する（ステップＳＴ１）。「レシピ」キーを選択し、レシピの作成を開始する（ステップＳＴ２、ＳＴ３）。プログラムは図８のステップ作成処理に入る（ステップＳＴ４）。
【００７６】
図８のステップ作成処理においては、まず、スピンチャンバーの選択を行う（ステップＳＴ４１）。すなわち、上述の「ＣＨＡＭＢＥＲ」入力エリアに対して、プルダウンメニユーバーより内チャンバ２３又は外チャンバ２４を選択する。ここでは例として内チャンバ２３を選択する。図４に示すように、チャンバーユニット２００の画像が現れる。
【００７７】
次に、スピンチャンバーユニットの供給ノズル（吐出ノズル）を選択する（ステップＳＴ４２）。ここで、供給ノズル２５１をポインティングデバイスで選択すると、これに接続可能な全ての処理液供給源と供給ラインとが表示される。すなわち、図９（ａ）に示すように、処理液供給源として、乾燥流体供給源２８２と、純水供給源２７２と、タンク２１０の新液タンク２０１と、溶剤供給タンク２６１の新液タンク２６１ａとが、それらと供給ノズル２５１を結ぶ供給ライン２８９，２７６，２５３，２６２と共に表示される。なお、タンク２１０の新液タンク２０１とリサイクルタンク２０２の切り換え、並びに、溶剤供給タンク２６１の新液タンク２６１ａとリサイクルタンク２６１ｂの切り換えは、タンク２１０，２６１の下方に位置するソフトキー１２５，１２６を操作することにより実行することができる。
【００７８】
次に、供給ノズル２５１の使用する供給ラインを選択する（ステップＳＴ４３）。これは、例えばタンク２１０の新液タンク２０１の使用を希望する場合は、まず、タンク２１０を選択してアクティブにし、ソフトキー１２５を操作してその表示を“Ｎ”（新液タンク）にすることで行う。新液タンク２０１が選択された状態を図９（ｂ）に示す。図示するように、乾燥流体供給源２８２、供給源２７２及び溶剤供給タンク２６１とそれらの供給ライン２８９，２７６，２６２は消去され、タンク２１０の新液タンク２０１とその供給ライン２５３だけが残る。乾燥流体供給源２８２が選択された場合は、図９（ｃ）に示すようになる。すなわち、供給源２７２及び溶剤供給タンク２６１とそれらの供給ライン２７６，２６２や、タンク２１０の新液タンク２０１とその供給ライン２５３は消去され、乾燥流体供給源２８２及びその供給ライン２８９だけが残る。
【００７９】
次に、ステップの処理時間（秒）、及びロータの回転数（ｒｐｍ）の設定を入力する（ステップＳＴ４４）。例えば、ステップの処理時間として６５秒を設定し、ローターの回転数として３５ｒｐｍを設定する場合は、「処理時間」設定部１０６に“６５”を入力し、「回転数」設定部１０５に“３５”を入力する。
【００８０】
次に、スピンチャンバーユニットの排液ポートを選択する（ステップＳＴ４５）。ここで、排液ポート２４１をポインティングデバイスで選択すると、これに接続可能な全ての排液先と排液ラインとが表示される。すなわち、図１０（ａ）に示すように、排液先として、タンク２１０のリサイクルタンク２０２と、溶剤供給タンク２６１のリサイクルタンク２６１ｂとが、更にはRinse Chemi(1)、SOLVENT(1)、Dilution、Reclaimの４つの排液先１２１〜１２４が、それらと排液ポート２４１を結ぶ排液ライン２５６，２９０，２４２，２５９と共に表示される。
【００８１】
次に、排液ポート２４１の使用する排液ラインを選択する（ステップＳＴ４６）。これは、例えばタンク２１０のリサイクルタンク２０２の使用を希望する場合は、まずタンク２１０を選択してアクティブにし、ソフトキー１２５を操作してその表示を“Ｒ”（リサイクルタンク）にすることで行う。リサイクルタンク２０２が選択された状態を図１０（ｂ）に示す。図示するように、排液先１２１〜１２４及び溶剤供給タンク２６１とそれらの供給ライン２４２，２５９，２９０は消去され、タンク２１０のリサイクルタンク２０２とその排液ライン２５６だけが残る。SOLVENT(1)の排液先１２２が選択された場合は、図１０（ｃ）に示すようになる。すなわち、排液先１２１，１２３，１２４、タンク２１０及び溶剤供給タンク２６１とそれらの排液ライン２４２，２５６，２９０は消去され、SOLVENT(1)の排液先１２２及びその排液ライン２５９だけが残る。
【００８２】
次いで、次のステップを作成するかどうかを確認する（ステップＳＴ４７）。次のステップを作成する場合は「低速／高速回転繰り返し」設定部１０３をチェックすることで低速／高速回転繰り返しレシピを選択し、作成しない場合は何もしないで終了し、図７のステップＳＴ４６に戻る。
【００８３】
低速／高速回転繰り返しレシピを選択した場合は、ステップタイムで入力した設定値（秒）の間において、低速／高速回転繰り返しレシピが繰り返される。例えば、低速／高速回転繰り返しレシピの処理時間が１５秒の場合、ステップタイムで入力した６５秒の間に繰り返す低速／高速回転繰り返し処理は（６５秒／１５秒＝４回）４回低速／高速回転繰り返しレシピが動作することになる。なお、余りの時間はロータ回転数で設定した回転数にて処理されることになる。
【００８４】
以上により図８のステップ処理を終了し、プログラムは図７のステップＳＴ４に戻る。そして、上記により作成したステップの書込みをするのかどうか質問する（ステップＳＴ５）。書込みをしない場合、つまり「キャンセル」キー１１７が操作されたときは、上記ステップ作成処理を繰り返すことになる。他方、上記により作成したステップの書込みをするとき、つまり「登録」キー１１９が操作されたときは、ステップの内容を制御装置３０のメモリ（図示せず）に格納し、登録を実行する。
【００８５】
登録の完了後、次のステップを作成するかどうかを質問し（ステップＳＴ６）、次のステップを作成する場合はステップＳＴ４に戻り、次のステップを作成しないときはレシピ作成の処理を終了する。
【００８６】
図１１に、上記設定管理方法により供給ライン及び排液ラインが選択された状態を示す。図１１（ａ）は供給ライン系として、タンク２１０の新液タンク２０１とその供給ライン２５３が、更に、排液ライン系としてタンク２１０のサイクルタンク２０２とその排液ライン２５６が選択されて残った状態を示す。図１１（ｂ）は供給ライン系として、乾燥流体供給源２８２及びその供給ライン２８９が、そして排液ライン系として、タンク２１０のサイクルタンク２０２とその排液ライン２５６が選択されて残った状態を示す。そして、図１１（ｃ）は供給ライン系として、乾燥流体供給源２８２及びその供給ライン２８９が、そして排液ライン系として、SOLVENT(1)の排液先１２２及びその排液ライン２５９が選択されて残った状態を示す。
【００８７】
このように自由に且つ容易に、供給ノズル５１及び排液ポート４１に対するラインの接続を完成することができる。
【００８８】
上記のようにして内チャンバ２３の処理のレシピを設定した後、ここでは説明は省略するが、外チャンバ２４の処理レシピを同様の手順で行う。
【００８９】
なお、上記実施形態では、供給ノズル２５１の使用する供給ラインを選択（ステップＳＴ４３）した後に、ステップの処理時間やロータの回転数の設定を入力（ステップＳＴ４４）する場合について説明したが、供給ラインの選択の前に、ステップの処理時間やロータの回転数の設定を行うことも可能である。この場合、供給ラインの選択と同時に、次のステップ（ステップＳＴ４５）のスピンチャンバーユニットの排液ポートの選択画面を同時に表示させることも可能である。
【００９０】
なお、上記実施形態では、この発明に係る液処理装置及び液処理方法を半導体ウエハの洗浄・乾燥処理装置に適用した場合について説明したが、半導体ウエハ以外のＬＣＤ用ガラス基板等にも適用できることは勿論であり、また、洗浄・乾燥処理装置以外の薬液等の処理液を用いた液処理装置にも適用できることは勿論である。
【００９１】
【発明の効果】
以上に説明したように、この発明によれば、上記のように構成されているので、以下のような効果が得られる。
【００９２】
この発明によれば、モニター画像中のノズルを指定することで、ノズルから処理液供給源に至る接続可能な供給ラインのすべてを画像表示させ、その供給ラインの一つが選択されたとき他の供給ラインの画像を消去して当該供給ラインを特定し、次いで、排液ポートが選択されたとき、上記選択された供給ラインと組み合わせが許容され接続が可能な排液ラインの全てを画像表示させ、その排液ラインの一つが選択されたとき他の排液ラインの画像を消去し、上記により選択された供給ライン及び排液ラインの実際の設定を行う。従って、処理液の種類や選択的に利用可能なライン数が多く、その接続系統を設定時に理解し難い状況であっても、配管や処理液を取り間違えることなく、正しくステップの設定を行うことができる。従って、接続可能な配管の変更も容易に行うことができる。
【００９３】
また、先に選択された供給ラインに関連して、これとの組み合わせが許容され接続が可能な排液ラインのみを画像表示させ、その排液ラインの一つを選択するようにしているので、実際に選択できない接続の組み合わせが排除され、排液ラインの選択設定が容易となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明に係る設定管理方法を適用した液処理装置を具備する洗浄・乾燥処理装置の概略構成図である。
【図２】  この発明の実施形態に係る液処理装置の処理液の配管系統を示す概略配管図である。
【図３】  この発明の実施形態に係る液処理装置の要部を示す概略構成図である。
【図４】  この発明に係る設定管理方法を説明するためのモニター画面の一ステップを示す図である。
【図５】  この発明に係る設定管理方法を説明するためのモニター画面の他のステップを示す図である。
【図６】  この発明に係る設定管理方法を説明するためのモニター画面の他のステップを示す図である。
【図７】  この発明に係る設定管理方法のレシピ作成フローを示す図である。
【図８】  図７のレシピ作成フロー中で定義されたステップ作成処理のフローを示す図である。
【図９】  この発明に係る設定管理方法の供給ラインの選択を示した図である。
【図１０】  この発明に係る設定管理方法の排液ラインの選択を示した図である。
【図１１】  この発明に係る設定管理方法の供給ライン及び排液ラインが選択された状態を示した図である。
【符号の説明】
１０  タンク
１４ａ  第１の供給管路
１４ｂ  第２の供給管路
１４ｃ  主供給管路
２０  液処理装置
２３  内チャンバ（処理部）
２４  外チャンバ（処理部）
３０  制御装置（制御手段）
３２  モニター
４２  第１の排液管路
４２Ａ  排液管路
４６  第２の排液管路
５０  供給手段（薬液供給手段）
５１  薬液供給ノズル（溶剤供給ノズルと兼用）
５２  薬液供給部
５３  薬液供給管路
５６  薬液の戻り管路
５９  排液管路
６０  ＩＰＡ供給手段
６１  溶剤供給部
６１ａ  ＩＰＡ供給タンク
６１ｂ  循環供給タンク
６２  ＩＰＡ供給管路
７０  供給手段（リンス液供給手段）
７１  純水供給ノズル
７２  純水供給源
７３  純水供給管路
７６  供給管路
８０  供給手段（乾燥流体供給手段）
８１  乾燥流体供給ノズル
８２  乾燥流体例えば窒素（Ｎ2）供給源
８３  乾燥流体供給管路
８９  供給管路
９０  循環管路
１００  描画作成領域
１０１  条件設定表示欄
１０２  「ＣＨＡＭＢＥＲ」設定部
１０３  「低速／高速回転繰り返し」設定部
１０４  「パージ」設定部
１０５  「回転数」設定部
１０６  「処理時間」設定部
１０７  「排液切り換え」設定部
１２１〜１２４  排液先
２００  チャンバーユニット
２０１  新液タンク
２０２  リサイクルタンク
２１０  タンク
２２３  内チャンバ
２２４  外チャンバ
２４２  排液ライン
２５１  供給ノズル
２５３  供給ライン
２５６  排液ライン
２５９  排液ライン
２６１  溶剤供給タンク
２６１ａ  新液タンク
２６１ｂ  リサイクルタンク
２６２  供給ライン
２７２  純水供給源
２７６  供給ライン
２８２  乾燥流体供給源
２８９  供給ライン
２９０  排液ライン
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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