(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ウレタン（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）１５〜９５質量部、下記一般式（ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合物（Ｂ）５〜８５質量部、および前記成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）０〜８０質量部（但し、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計量は１００質量部とする）を含有することを特徴とする銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
【化１】
0003989259.tif 000007
（但し、式（ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数４〜６のオキソアルキレン基、Ｒ４は水素原子又はメチル基、ｎは０〜３の整数をそれぞれ示す。）
【請求項２】
オリゴマー成分（Ａ）が、分子内に少なくとも１個のアミド基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物であることを特徴とする請求項１に記載の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
【請求項３】
オリゴマー成分（Ａ）が、下記成分（ａ１）〜（ａ４）を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物であることを特徴とする請求項２に記載の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
（ａ１）分子内に、少なくとも１個のアミド基及び少なくとも２個のヒドロキシ基を有するアミド含有化合物
（ａ２）成分（ａ１）を除く多価アルコール化合物
（ａ３）ジイソシアネート化合物
（ａ４）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
【請求項４】
成分（ａ１）が、環状ヒドロキシカルボン酸エステルとアミン化合物を反応させて得られるアミド含有化合物であることを特徴とする請求項３に記載の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
【請求項５】
成分（ａ２）が、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、及びポリカーボネートジオールから選ばれる少なくとも１種のジオール化合物であることを特徴とする請求項３又は請求項４に記載の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
【請求項６】
成分（ａ３）が、脂環式ジイソシアネートであることを特徴とする請求項３から請求項５までのいずれか１項に記載の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
【請求項７】
オリゴマー成分（Ａ）が、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート化合物類であることを特徴とする請求項１に記載の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物。
【請求項８】
請求項１から請求項７までのいずれか１項に記載の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて形成された硬化物層を有することを特徴とする銀または銀合金製記録膜を有する光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適な活性エネルギー線硬化性組成物、及び該組成物を用いて形成された硬化物層を有する光ディスクに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、情報記録媒体として、ＣＤ（コンパクトディスク）、追記型光ディスク、光磁気ディスク、相変化型光ディスク等の光ディスクが広く用いられている。かかる光ディスクとしては、ピット、グルーブ等の微細な凹凸を形成した透明樹脂基板の記録面に、金属薄膜からなる記録膜と、該記録膜の劣化を防止するための光硬化性樹脂組成物からなる保護層とが順次積層形成されたものが一般的であり、保護層形成用の光硬化性樹脂組成物としては、特開平２−１２３１７２号公報、特開平３−１３１６０５号公報、特開平４−２６４１６７号公報等に開示されている。
【０００３】
また、近年、高い記憶容量が得られることから、複数の光ディスク基板を、光硬化性樹脂組成物からなる接着剤兼光透過層を介して貼着したＤＶＤ（デジタルビデオディスク、あるいはデジタルバーサタイルディスク）をはじめとする多層記録型光ディスクが開発されている（例えば、特開平８−２１２５９７号公報等）。また、かかる多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層形成用の光硬化性樹脂組成物としては、特開平１０−２４５４６７号公報、特開２０００−３４５１１１号公報等に開示されている。
【０００４】
また、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクよりも高い記憶容量が得られ、高品位の動画情報等を長時間録画することが可能な高密度光ディスクが提案されている（特開平８−２３５６３８号公報等）。この高密度型光ディスクは、透明又は不透明の基板上に、記録膜と光硬化性樹脂組成物からなる光透過層とが順次積層形成されて概略構成され、光透過層を介して、記録膜に記録光又は再生光（書き込み光又は読み取り光）を入射させ、記録又は再生を行うことが可能なものである。かかる高密度光ディスクの光透過層形成用の光硬化性樹脂組成物としては、上述したＣＤ等の従来の光ディスクの保護層用材料、あるいはＤＶＤ等の多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層用材料を適用することができると思われる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、これまで光ディスク用として提案されている光硬化性樹脂組成物では、以下のような課題があった。
すなわち、ＣＤ等の従来の光ディスクの保護層用の光硬化性樹脂組成物では、特開平２−１２３１７２号公報、特開平３−１３１６０５号公報、特開平４−２６４１６７号公報等に開示されているように、記録膜との密着性を高めるために、ＣＯＯＨ基含有アクリル酸エステルやリン酸エステル系モノマー等の酸性モノマーを多量に配合する必要があった。
【０００６】
記録膜材料として、従来はアルミ合金が広く用いられていたのに対し、近年は反射率の高さから銀又は銀合金が広く用いられているが、銀又は銀合金製の記録膜上に、酸性モノマーを多量に含有する光硬化性樹脂組成物を用いてＣＤ等の従来の光ディスクの保護層や高密度光ディスクの光透過層を形成すると、高温高湿の保存環境下において、記録膜が腐食されてしまい、記録膜としての機能が低下する傾向にあった。
【０００７】
また、このような酸性モノマーを多量に含有する光硬化性樹脂組成物を用いて、ＣＤ等の従来の光ディスクの保護層や高密度光ディスクの光透過層を形成すると、該組成物の硬化収縮率が高いため、光ディスクに大きな初期反りが発生する恐れもあった。また、初期反りが大きくなくとも、高温下で長期間保存した場合に、硬化物が柔軟になるので、硬化物内部に蓄積された収縮応力が緩和する方向に収縮し、光ディスクの反り量が増大する傾向もあった。
【０００８】
また、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層用の光硬化性樹脂組成物としては、特開平１０−２４５４６７号公報、特開２０００−３４５１１１号公報等に開示されているように、光ディスク用基板や記録膜との密着性を向上させるために、希釈モノマーとしてＯＨ基含有モノマーを含有する光硬化性樹脂組成物など、軟質な硬化物が得られる光硬化性樹脂組成物が提案されている。
【０００９】
かかる光硬化性樹脂組成物を用いて、多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層や高密度光ディスクの光透過層を形成する場合には、これらの層が軟質なものとなるため、基板を変形させる力が弱く、光ディスクの反りの問題は発生しないが、形成される接着剤兼光透過層や光透過層が軟質なものとなるため、これらの層の機械的強度が不十分となる恐れがあった。また、記録膜が銀又は銀合金等からなる場合には、高温高湿の保存環境下において、記録膜が腐食されてしまい、記録膜としての機能が低下する傾向にあった。
【００１０】
そこで、本発明は上記課題を解決するためになされたものであり、光ディスクの基板や記録膜への密着性が良好であると共に、硬化収縮率が低く、硬化後の機械的強度に優れ、記録膜の腐食を防止することができ、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適な樹脂組成物、及び該組成物を用いて形成された硬化物層を有する光ディスクを提供することを目的とする。
なお、本明細書において、「光ディスクの硬化物層」とは、ＣＤ等の従来の光ディスクの保護層、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層、高密度光ディスクの光透過層等、光ディスクを構成する硬化物層全般を意味しているものとする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは上記課題を解決するべく検討を行った結果、以下の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物及び光ディスクを発明した。
本発明の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）１５〜９５質量部、下記一般式（ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合物（Ｂ）５〜８５質量部、および前記成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）０〜８０質量部（但し、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計量は１００質量部とする）を含有することを特徴とする。
【化２】
0003989259.tif 000002
（但し、式（ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数４〜６のオキソアルキレン基、Ｒ４は水素原子又はメチル基、ｎは０〜３の整数をそれぞれ示す。）
【００１２】
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、オリゴマー成分（Ａ）がウレタン（メタ）アクリレート化合物である場合には、オリゴマー成分（Ａ）として、分子内に少なくとも１個のアミド基を有するウレタン（メタ）アクリレート化合物が好適であり、その中でも特に、下記成分（ａ１）〜（ａ４）を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物が好適である。
（ａ１）分子内に、少なくとも１個のアミド基及び少なくとも２個のヒドロキシ基を有するアミド含有化合物
（ａ２）成分（ａ１）を除く多価アルコール化合物
（ａ３）ジイソシアネート化合物
（ａ４）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
【００１３】
ここで、成分（ａ１）としては、環状ヒドロキシカルボン酸エステルとアミン化合物を反応させて得られるアミド含有化合物が好適である。また、成分（ａ２）としては、ポリエーテルジオール、ポリエステルジオール、及びポリカーボネートジオールから選ばれる少なくとも１種のジオール化合物が好適である。また、成分（ａ３）としては、脂環式ジイソシアネートが好適である。
【００１４】
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、オリゴマー成分（Ａ）がエポキシ（メタ）アクリレート化合物である場合には、オリゴマー成分（Ａ）として、ビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート化合物類が好適である。
【００１５】
また、本発明の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクは、以上の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて形成された硬化物層を有することを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明について詳細に説明する。
［活性エネルギー線硬化性組成物］
本発明の銀または銀合金製記録膜を有する光ディスクの硬化物層用活性エネルギー線硬化性組成物は、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）と、下記一般式（ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステル化合物（Ｂ）と、成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）とを含有することを特徴としている。なお、成分（Ｃ）は任意成分であり、必要に応じて添加される成分である。
【化３】
0003989259.tif 000003
（但し、式（ｉ）中、Ｒ１及びＲ２は炭素数１〜６のアルキル基、Ｒ３は炭素数１〜４のアルキレン基又は炭素数４〜６のオキソアルキレン基、Ｒ４は水素原子又はメチル基、ｎは０〜３の整数をそれぞれ示す。）
【００１７】
以下、各成分について詳述する。
＜オリゴマー成分（Ａ）＞
本発明において、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの少なくとも１種であるオリゴマー成分（Ａ）は、組成物に低収縮性を付与すると共に、得られる硬化物層に記録膜保護性能および機械的強度を付与する成分である。
【００１８】
オリゴマー成分（Ａ）としては、ウレタン（メタ）アクリレート化合物、エポキシ（メタ）アクリレート化合物のうちの少なくとも１種であれば、特に限定されるものではないが、以下の化合物を例示することができる。
【００１９】
ウレタン（メタ）アクリレート化合物としては、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン、ビス（３−クロロ−４−イソシアナトフェニル）メタン、２、４−トリレンジイソシアネート、２、６−トリレンジイソシアネート、トリス（４−イソシアナトフェニル）メタン、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート等の１種又は２種以上の混合物に、分子内に、１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基及び1個のヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルの１種又は２種以上の混合物を反応させて得られるウレタンポリ（メタ）アクリレート類；
アルカンジオール、ポリエーテルジオール、ポリブタジエンジオール、ポリエステルジオール、ポリカーボネートジオール、アミドジオール、スピログリコール化合物等の１種又は２種以上の混合物からなるアルコール類とジイソシアネート化合物とを反応させて得られるウレタンプレポリマー類に、分子内に、１個以上の（メタ）アクリロイルオキシ基及び1個のヒドロキシ基を有するヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステルとを反応させて得られるウレタンポリ（メタ）アクリレート類等を例示することができる。
【００２０】
中でも特に、硬化収縮率を低減できること、及び硬化後の機械的強度を向上できることから、分子内に少なくとも１個のアミド基を含有するウレタン（メタ）アクリレートが好適である。かかるウレタン（メタ）アクリレートとしては、下記成分（ａ１）〜（ａ４）を反応させて得られるウレタン（メタ）アクリレート等を例示することができる。
（ａ１）分子内に、少なくとも１個のアミド基及び少なくとも２個のヒドロキシ基を有するアミド含有化合物（アミドヒドロキシ化合物）
（ａ２）成分（ａ１）を除く多価アルコール化合物
（ａ３）ジイソシアネート化合物
（ａ４）ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル
【００２１】
アミドヒドロキシ化合物（ａ１）は、得られる組成物の硬化収縮率を低く維持しながら、硬化後の機械的強度（靱性）を向上するための成分であり、成分（ａ１）としては、環状ヒドロキシカルボン酸エステルとアミン化合物（アンモニア、又は１個の第一級又は第二級アミノ窒素を含む化合物）とを反応させて得られるアミド含有化合物が好適である。
【００２２】
ここで、環状ヒドロキシカルボン酸エステルとしては、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン、ε−カプロラクトン等を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができるが、低粘度であることから、これらの中でも特に、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトンが好適である。
【００２３】
また、１個の第一級又は第二級アミノ窒素を含む化合物としては、エタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミン、Ｎ−エチルエタノールアミン、Ｎ−フェニルエタノールアミン、２−アミノ−１−ブタノール、２−アミノ−２−エチル−１，３−プロパンジオール、６−アミノ−１−ヘキサノール、１，４−ジアミノブタン、１，２−ジアミノシクロヘキサン、１，１０−ジアミノデカン等を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。これらの中でも特に、低コストであることから、エタノールアミン、ジエタノールアミン、Ｎ−メチルエタノールアミンが好適である。
【００２４】
環状ヒドロキシカルボン酸エステルと、アミン化合物（アンモニア又は１個の第一級又は第二級アミノ窒素を含む化合物）の反応は、例えば、当モル量の両者を混合し、約１００℃で６〜２４時間加熱することにより行われる。
成分（ａ１）としては、環状ヒドロキシカルボン酸エステルと、アミン化合物（アンモニア、又は１個の第一級又は第二級アミノ窒素を含む化合物）との反応生成物の中でも特に、低粘度であることから、Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド等が好適である。
【００２５】
多価アルコール化合物（ａ２）は、成分（ａ１）を除くものであり、得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物の硬化後の柔軟性と伸度を向上するための成分である。
【００２６】
成分（ａ２）としては、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、ポリブチレングリコール、１−メチルブチレングリコール等のポリエーテルジオール類；ネオペンチルグリコール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−ブタンジオール、１，９−ノナンジオール、１，１０−デカンジオール、３−メチルペンタンジオール、２，４−ジエチルペンタンジオール、トリシクロデカンジメタノール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、１，２−シクロヘキサンジメタノール、１，３−シクロヘキサンジメタノール、シクロヘキサンジオール、水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡ等のジオール類；前記ジオール類にエチレンオキサイド、プロピレンオキサイド、ブチレンオキサイド等のアルキレンオキサイドを付加したポリエーテル変性ジオール類；前記ジオール類と、コハク酸、フタル酸、ヘキサヒドロフタル酸、テレフタル酸、アジピン酸、アゼライン酸、テトラヒドロフタル酸等の多塩基酸類又はこれら多塩基酸の酸無水物類との反応によって得られるポリエステルジオールや、前記ジオール類と、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類との反応によって得られるポリカプロラクトンジオール等のポリエステルジオール類；前記ジオール類及び前記多塩基酸類と、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、γ−バレロラクトン、δ−バレロラクトン等のラクトン類との反応によって得られるカプロラクトン変性ポリエステルジオール類；芳香族ポリカーボネートや、脂肪族ポリカーボネート等のポリカーボネートジオール類；ポリブタジエンジオール類等を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００２７】
中でも特に、得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物の硬化後の強伸度特性を向上できることから、ポリエーテルジオール類、ポリエステルジオール類、ポリカーボネートジオール類が好適である。また、その中でも特に、ポリブチレングリコール、ポリカプロラクトンジオール、脂肪族ポリカーボネートジオールが好適である。
【００２８】
また、得られる組成物の硬化収縮率を低減できることから、成分（ａ２）の分子量は３００以上であることが好ましい。また、得られる組成物の低粘度化を図ることができることから、成分（ａ２）の分子量は２０００以下であることが好ましい。
【００２９】
ジイソシアネート化合物（ａ３）は、上記２種のアルコール成分（ａ１）、（ａ２）にウレタン結合を導入し、得られる組成物の硬化後の機械的強度（靱性）を増すための成分である。また、ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル（ａ４）を付加するためのウレタン（メタ）アクリレート合成における必須成分でもある。
【００３０】
成分（ａ３）としては、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、ビス（４−イソシアナトフェニル）メタン、ビス（３−クロロ−４−イソシアナトフェニル）メタン、２、４−トリレンジイソシアネート、２、６−トリレンジイソシアネート、トリス（４−イソシアナトフェニル）メタン、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、テトラメチルキシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ナフタレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリンジイソシアネート等を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００３１】
中でも特に、得られる組成物の硬化物が機械的強度に優れることから、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、２、４−トリレンジイソシアネート、２、６−トリレンジイソシアネート、１，２−キシリレンジイソシアネート、１，４−キシリレンジイソシアネート、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリンジイソシアネートが好適である。
【００３２】
その中でも特に、硬化物に優れた機械的強度（靭性）と難黄変性を付与できることから、イソホロンジイソシアネート、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン、１，２−水添キシリレンジイソシアネート、１，４−水添キシリレンジイソシアネート、水添テトラメチルキシリレンジイソシアネート、ノルボルナンジイソシアネート、デカリンジイソシアネート等の脂環式ジイソシアネート化合物が好適である。中でも、光ディスクの記録膜保護性能向上（記録膜の腐食防止）の観点から、加水分解性塩素量が１００ｐｐｍ以下のジイソシアネート化合物が、最適である。
【００３３】
ヒドロキシ基含有（メタ）アクリル酸エステル（ａ４）は、成分（ａ１）〜（ａ３）を反応させて得られるポリウレタン前駆体の末端に付加する成分であり、この成分を付加することにより、得られるウレタン（メタ）アクリレート化合物にラジカル反応性を付与することができる。
【００３４】
成分（ａ４）としては、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、６−ヒドロキシヘキシル（メタ）アクリレート、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートとカプロラクトンの付加物、トリメチロールプロパンジアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００３５】
中でも特に、得られる組成物の低粘度化を図ることができることから、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、４−ヒドロキシブチル（メタ）アクリレートが好適である。
【００３６】
ウレタン（メタ）アクリレート化合物の合成方法としては、特に限定されるものではなく、公知の合成方法を採用することができる。例えば、成分（ａ１）と成分（ａ２）の混合物１モルと、合成触媒として機能するジラウリル酸ジノルマルブチル錫を最終総量に対して５０〜３００ｐｐｍ合成釜内に仕込み、これを４０〜８０℃で加熱・攪拌しながら、成分（ａ３）２モルを滴下することにより、前駆体のイソシアネート末端ポリウレタンが得られる。これにさらに、成分（ａ４）２モルを滴下し、６０〜８０℃で４〜８時間保持することにより、ウレタン（メタ）アクリレート化合物が得られる。なお、ウレタン（メタ）アクリレート中に残存する成分（ａ４）は、硬化物の耐水性向上の観点から、１％未満に抑えることが好ましい。
【００３７】
エポキシ（メタ）アクリレート化合物としては、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、ビスフェノールＳ型エポキシ樹脂、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、クレゾールノボラック型エポキシ樹脂、ビスフェノキシフルオレンジグリシジルエーテル、ビスフェノキシフルオレンエタノールジグリシジルエーテル、水添ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、水添ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、シクロヘキサンジメタノールジグリシジルエーテル、トリシクロデカンジメタノールジグリシジルエーテル等のエポキシ樹脂に、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸ダイマー、カプロラクトン変性（メタ）アクリル酸等の不飽和一塩基酸類を反応させて得られるエポキシ（メタ）アクリレート類等を例示することができる。
【００３８】
中でも、得られる組成物の低粘度を図ることができると共に、硬化後の耐熱性を向上できることから、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート、ビスフェノールＳ型エポキシ（メタ）アクリレート、テトラブロモビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート、水添ビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレート等のビスフェノール型エポキシ（メタ）アクリレート類が好適であり、その中でも、ビスフェノールＡ型エポキシ（メタ）アクリレート及びビスフェノールＦ型エポキシ（メタ）アクリレートが特に好適である。
【００３９】
エポキシ（メタ）アクリレート化合物の合成方法としては、特に限定されるものではなく、公知の合成方法を採用することができる。例えば、原料であるエポキシ樹脂と、該エポキシ樹脂のエポキシ当量に対応する（メタ）アクリル酸とを混合した後、合成触媒として機能するジメチルアミノエチルメタクリレート等の３級アミン化合物を最終総量に対して０．１〜１％を添加し、これを８０〜１００℃で、１２〜３６時間、加熱・攪拌することにより、エポキシ（メタ）アクリレート化合物が得られる。エポキシ（メタ）アクリレートの酸価は、硬化物の耐水性向上及び記録膜保護性能向上（記録膜の腐食防止）の観点から、３ｍｇＫＯＨ／ｇ未満に抑えることが好ましい。
【００４０】
なお、エポキシ（メタ）アクリレートの原料であるエポキシ樹脂には塩素が含まれていないことが好ましい。塩素を含有している場合には、エポキシ樹脂の全塩素含有量が２０００ｐｐｍ以下であることが好ましく、１５００ｐｐｍ以下であることがより好ましい。エポキシ樹脂の全塩素含有量が２０００ｐｐｍを超える場合には、これを原料として合成されたエポキシ（メタ）アクリレートを用いて得られる組成物により光ディスクの硬化物層を形成すると、塩素により記録膜が腐食される傾向にある。
【００４１】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、成分（Ａ）の含有量は、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部中１５〜９５質量部であることが好ましく、２０〜９０質量部であることがより好ましい。
成分（Ａ）の含有量が１５質量部より少ないと、得られる組成物の硬化性が低下する傾向にあると共に、得られる組成物を用いて形成される光ディスクの硬化物層の記録膜保護性能が低下する（光ディスクの記録膜が腐食する）傾向にある。また、成分（Ａ）の含有量が９５質量部を超えると、得られる組成物の粘度が高くなり、光ディスクの硬化物層を形成する際の作業性が低下する傾向にある。
【００４２】
＜（メタ）アクリル酸エステル化合物（Ｂ）＞
本発明者らは、特定の（メタ）アクリル酸エステル化合物（Ｂ）を配合することにより、得られる組成物を用いて形成される光ディスクの硬化物層の基板や記録膜に対する密着性を向上できることを見出した。また、得られる組成物を用いて、光ディスクの硬化物層を形成しても、銀又は銀合金等からなる記録膜は優れた耐腐食性を発現し、得られる硬化物層は記録膜保護性能にも優れることを見出した。また、成分（Ｂ）は、低粘度でありながら、皮膚刺激性も低いため、オリゴマー成分（Ａ）の希釈剤としても有用である。
【００４３】
成分（Ｂ）は上記一般式（ｉ）で表される（メタ）アクリル酸エステルであり、これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
成分（Ｂ）としては、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチルエトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチルプロポキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチルブトキシ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２−ノルマルプロピル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２−ブチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２−ペンチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性２−メチル−２−ヘキシル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート等を例示することができる。
【００４４】
中でも特に、それ自身が低粘度であり、希釈性が良好なことから、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート及び２−メチル−２−イソプロピル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレートが好適である。
【００４５】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、成分（Ｂ）の含有量は、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部中５〜８５質量部であることが好ましく、１０〜８０質量部であることがより好ましい。
成分（Ｂ）の含有量が５質量部より少ないと、得られる組成物の粘度が高くなり、光ディスクの硬化物層を形成する際の作業性が低下する傾向にある。また、成分（Ｂ）の含有量が８５質量部を超えると、得られる組成物の硬化性が低下する傾向にあると共に、硬化後の硬度が低下し、機械的強度が低下する傾向にある。
【００４６】
＜エチレン性不飽和化合物（Ｃ）＞
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、成分（Ａ）、（Ｂ）以外のエチレン性不飽和化合物（Ｃ）を併用することができる。成分（Ｃ）は希釈剤若しくは架橋剤として機能する成分である。
【００４７】
成分（Ｃ）としては、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、トリス（２−メタクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、トリスエトキシレーテッドトリメチロールプロパントリ（メタ）アクリル酸エステル、ジトリメチロールプロパンテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリル酸エステル、エトキシレーテッドペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリル酸エステル、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリル酸エステル、炭素数２〜５の脂肪族炭化水素変性トリメチロールプロパントリアクリレート、炭素数２〜５の脂肪族炭化水素変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、炭素数２〜５の脂肪族炭化水素変性ジペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレート等の多官能（メタ）アクリル酸エステル類；
ジ（メタ）アクリル酸エチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，３−ブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸１，４−ブタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸１，６−ヘキサンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ノナンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ネオペンチルグリコール、ジ（メタ）アクリル酸メチルペンタンジオール、ジ（メタ）アクリル酸ジエチルペンタンジオール、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリル酸エステル、ジ（メタ）アクリル酸テトラエチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリプロピレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸ポリブチレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸シクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ビスフェノキシフルオレンエタノールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコール変性トリメチロールプロパンジ（メタ）アクリレート、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのε−カプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールのγ−ブチロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ネオペンチルグリコールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ブチレングリコールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、シクロヘキサンジメタノールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ジシクロペンタンジオールのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＡのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、水添ビスフェノールＡのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル、ビスフェノールＦのカプロラクトン付加物（ｎ＋ｍ＝２〜５）のジ（メタ）アクリル酸エステル等ジ（メタ）アクリル酸エステル類；
（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−ヒドロキシブチル、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸２−メチル−２−ノルボルニルメチル、（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパンホルマール、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル、シクロヘキサンジメタノールモノ（メタ）アクリレート、２−メトキシエチル（メタ）アクリレート、３−メトキシブチル（メタ）アクリレート、メトキシトリエチレングリコール（メタ）アクリレート、ブトキシエチル（メタ）アクリレート、メトキシジプロピレングリコール（メタ）アクリレート等の（メタ）アクリル酸エステル類；
酢酸ビニル、酪酸ビニル、Ｎ−ビニルホルムアミド、Ｎ−ビニルアセトアミド、Ｎ−ビニル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニルカプロラクタム、アジピン酸ジビニル等のビニルエステルモノマー類；エチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類；
アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルメタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−メトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ブトキシメチルアクリルアミド、Ｎ−ｔ−ブチルアクリルアミド、アクリロイルモルホリン、ヒドロキシエチルアクリルアミド、メチレンビスアクリルアミド等のアクリルアミド類；
フタル酸、コハク酸、ヘキサヒドロフタル酸、テトラヒドロフタル酸、テレフタル酸、アゼライン酸、アジピン酸等の多塩基酸、エチレングリコール、ヘキサンジオール、ポリエチレングリコール、ポリテトラメチレングリコール等の多価アルコール及び（メタ）アクリル酸又はその誘導体との反応で得られるポリエステルポリ（メタ）アクリレート類を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００４８】
中でも特に、硬化物の耐水性を向上できることから、分子内に環状構造を有する化合物が好適である。分子内に環状構造を有する化合物としては、ビス（２−アクリロイルオキシエチル）ヒドロキシエチルイソシアヌレート、トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート、ジ（メタ）アクリル酸トリシクロデカンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッド水添ビスフェノールＡ、ジ（メタ）アクリル酸ポリエトキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、ジ（メタ）アクリル酸ポリプロポキシレーテッドシクロヘキサンジメタノール、（メタ）アクリル酸テトラヒドロフルフリル、（メタ）アクリル酸フェノキシエチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸２−メチル−２−ノルボルニルメチル、（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパンホルマール、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸ベンジル、（メタ）アクリル酸フェニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンタニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロドデカニル等の化合物類等を例示することができる。
【００４９】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、成分（Ｃ）の含有量は、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部中０〜８０質量部であることが好ましく、０〜７０質量部であることがより好ましい。成分（Ｃ）の含有量が８０質量部を超えると、得られる組成物の硬化収縮率が高くなる傾向にある。
【００５０】
＜光重合開始剤（Ｄ）＞
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、光重合開始剤（Ｄ）を添加することが好ましい。このように、光重合開始剤（Ｄ）を添加することにより、活性エネルギー線照射により迅速に硬化する組成物を得ることができ、好適である。
【００５１】
成分（Ｄ）としては、ベンゾフェノン、４，４−ビス（ジエチルアミノ）ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ｔ−ブチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、２−メチル−〔４−（メチルチオ）フェニル〕−２−モルホリノ−１−プロパノン、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルホリノフェニル）−ブタノン−１、ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、ビス（２，６−ジメトキシベンゾイル）−２，４，４−トリメチルペンチルホスフィンオキサイド、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、メチルベンゾイルホルメート等を例示することができる。これらは１種を単独で又は２種以上を併用して用いることができる。
【００５２】
なお、本発明の組成物を用いて光ディスクの光透過層を形成する場合には、光透過層の光透過率が低下することを防止するために、記録光又は再生光（書き込み光又は読み取り光）を吸収しない光重合開始剤を適宜選択して用いることが好ましい。
例えば、記録光又は再生光に用いる光線が波長４００ｎｍ程度のレーザー光である場合、該レーザー光を吸収しない、短波長感光型光重合開始剤を用いることが好ましい。短波長感光型光重合開始剤としては、ベンゾフェノン、２，４，６−トリメチルベンゾフェノン、メチルオルトベンゾイルベンゾエイト、４−フェニルベンゾフェノン、ジエトキシアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、ベンジルジメチルケタール、１−ヒドロキシシクロヘキシル−フェニルケトン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、メチルベンゾイルホルメート等を例示することができる。
【００５３】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物において、成分（Ｄ）の添加量は特に限定されるものではないが、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．００１〜１０質量部であることが好ましく、０．０１〜６質量部であることがより好ましい。
成分（Ｄ）の添加量が０．００１質量部より少ないと、得られる組成物の硬化性が低下する傾向にあり、１０質量部を超えると、得られる組成物からなる塗膜の深部硬化性が低下したり、硬化物が着色する傾向にある。
【００５４】
＜その他の成分＞
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、必要に応じて、４−ジメチルアミノ安息香酸メチル、４−ジメチルアミノ安息香酸エチル、４−ジメチルアミノ安息香酸アミル、４−ジメチルアミノアセトフェノン等の公知の光増感剤を添加することもできる。
【００５５】
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物には、本発明の趣旨を逸脱しない範囲内であれば、必要に応じて、熱可塑性高分子、スリップ剤、レベリング剤、酸化防止剤、光安定剤、紫外線吸収剤、重合禁止剤、シランカップリング剤、無機フィラー、有機フィラー、表面有機化処理した無機フィラー等の添加剤等を適宜配合しても良い。
これらの添加剤の中でも特に、得られる組成物を用いて形成される光ディスクの硬化物層の黄変（光透過率の低下）を長期に渡って防止し、光ディスクの記録又は再生（書き込み又は読み込み）を良好に行うために、酸化防止剤や光安定剤を配合することが好ましい。
【００５６】
酸化防止剤や光安定剤としては、住友化学（株）製スミライザーＢＨＴ、スミライザーＳ、スミライザーＢＰ−７６、スミライザーＭＤＰ−Ｓ、スミライザーＧＭ、スミライザーＢＢＭ−Ｓ、スミライザーＷＸ−Ｒ、スミライザーＮＷ、スミライザーＢＰ−１７９、スミライザーＢＰ−１０１、スミライザーＧＡ−８０、スミライザーＴＮＰ、スミライザーＴＰＰ−Ｒ、スミライザーＰ−１６、旭電化工業（株）製アデカスタブＡＯ−２０、アデカスタブＡＯ−３０、アデカスタブＡＯ−４０、アデカスタブＡＯ−５０、アデカスタブＡＯ−６０、アデカスタブＡＯ−７０、アデカスタブＡＯ−８０、アデカスタブＡＯ−３３０、アデカスタブＰＥＰ−４Ｃ、アデカスタブＰＥＰ−８、アデカスタブＰＥＰ−２４Ｇ、アデカスタブＰＥＰ−３６、アデカスタブＨＰ−１０、アデカスタブ２１１２、アデカスタブ２６０、アデカスタブ５２２Ａ、アデカスタブ３２９Ｋ、アデカスタブ１５００、アデカスタブＣ、アデカスタブ１３５Ａ、アデカスタブ３０１０、チバスペシャリティーケミカルズ（株）製チヌビン７７０、チヌビン７６５、チヌビン１４４、チヌビン６２２、チヌビン１１１、チヌビン１２３、チヌビン２９２、日立化成工業（株）製ファンクリルＦＡ−７１１Ｍ、ＦＡ−７１２ＨＭ等を例示することができる。
【００５７】
酸化防止剤及び／又は光安定剤の添加量は特に限定されるものではないが、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、０．００１〜２質量部であることが好ましく、０．０１〜１質量部であることがより好ましい。
【００５８】
本発明の活性エネルギー線硬化性組成物は上記成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を所定の配合比で配合してなる組成物であり、光ディスクの基板や記録膜への密着性が良好であると共に、硬化収縮率が低く、硬化後の機械的強度に優れ、記録膜の腐食を防止することができ、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適なものである。
【００５９】
また、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて得られる光ディスクの記録又は再生（書き込み又は読み取り）のエラーを防ぐために、本発明の組成物の硬化後の光透過率が高いことが好ましく、硬化後に透明であることが特に好ましい。具体的には、本発明の組成物を用いて形成される硬化物層の記録光又は再生光（書き込み光又は読み取り光）の光透過率が７０％以上であることが好ましく、７５％以上であることがより好ましい。
【００６０】
また、上述のように、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物によれば、低硬化収縮率を実現することができるが、本発明の組成物の硬化収縮率は１０％未満であることが好ましく、８％未満であることがより好ましい。本発明の組成物の硬化収縮率が１０％以上であると、本発明の組成物を用いて形成される硬化物層と記録膜との密着性が低下したり、得られる光ディスクに反りが生じたりする傾向にあり、記録や再生（書き込みや読み取り）時にエラーが発生する傾向にある。
なお、本明細書において、「硬化収縮率」とは下記式により定義されるものとする。
硬化収縮率（％）＝［（ｄ２−ｄ１）／ｄ２］×１００
（但し、式中、ｄ１は２０℃における硬化前の比重、ｄ２は２０℃における硬化後の比重をそれぞれ示す。）
【００６１】
また、上述のように、本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を用いれば、機械的強度に優れた硬化物を得ることができるが、本発明の組成物の硬化後の表面硬度が鉛筆硬度で２Ｂ以上であることが好ましい。また、本発明の組成物が、光ディスクの最表面に形成される硬化物層用である場合には、硬化後の表面硬度が鉛筆硬度でＢ以上であることが好ましい。本発明の組成物の硬化後の鉛筆硬度が２Ｂ未満では、得られる硬化物層表面に傷がつきやすいため、光ディスクの記録又は再生（書き込み又は読み込み）時にエラーが発生する傾向にある。
なお、本明細書において、「鉛筆硬度」は、基板上に形成した硬化物をＪＩＳ
Ｋ−５４００準拠の方法に基づいて測定されるものとする。
【００６２】
また、本発明の組成物の硬化後のガラス転移温度（Ｔｇ）は、特に限定されるものではないが、車載用途等、耐熱性の要求される環境での使用を考慮すると、５０℃以上であることが好ましく、６０℃以上であることがより好ましい。
【００６３】
本発明の組成物は活性エネルギー線硬化性を有するものであり、紫外線、α，β、γ線等の活性エネルギー線を公知の方法で本発明の組成物に照射することにより、本発明の組成物を硬化させることができるが、活性エネルギー線の中でも、工業的利用が容易であることから、紫外線を用いることが好ましい。紫外線照射手段としては、低圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、超高圧水銀ランプ、キセノンランプ、メタルハライドランプ等の紫外線ランプを例示することができる。
【００６４】
なお、本発明の組成物は、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適なものであるが、本発明はこの用途に限定されるものではなく、これらの特性を必要とする種々の用途、例えば、ＩＣカード、ＩＤカード等のカード類の接着剤や保護層、フレネルレンズ、プリズムシート等の光学部品用２Ｐレジンや、透明ポッティング材料、光ファイバー用被覆材料、液晶封止材料、ＥＬ（エレクトロルミネッセンス）封止材料としても好適に用いることができる。
【００６５】
［光ディスク］
次に、本発明の光ディスクについて説明する。
本発明の光ディスクは、上記の本発明の活性エネルギー線硬化性組成物を用いて形成された硬化物層を有することを特徴とする。本発明は、ＣＤ等の従来の光ディスク、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスク、高密度光ディスク等、いかなる構造の光ディスクにも適用可能である。
硬化物層として、ＣＤ等の従来の光ディスクの保護層や、高密度光ディスクの光透過層を形成するには、例えば、支持基板上に形成された記録膜表面に、本発明の組成物を塗布し塗膜を形成した後、該塗膜に対して活性エネルギー線を照射し、硬化させれば良い。
また、硬化物層として、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層を形成するには、例えば、光ディスク用基板の片側若しくは両側に本発明の組成物を塗布し、該組成物を介して複数の光ディスク用基板を貼着した後、基板を通して活性エネルギー線を照射し、組成物を硬化させれば良い。
【００６６】
本発明の光ディスクに用いる基板としては、低コストであること、軽量であること、ランドやグルーブの成型が容易であることなどから、ポリカーボネート系樹脂、ポリメチルメタクリレート系樹脂、アモルファスポリオレフィン系樹脂等のプラスチック製基板が好適である。
【００６７】
また、本発明の光ディスクにおいて、記録膜の材質としては、再生（読み取り）専用光ディスクでは、光反射率の高い金属である銀、あるいは銀とＴｉ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｕ、Ｐｄ、Ｔａ等の金属との合金を例示することができる。
また、書き換え（記録、再生）可能な光ディスクでは、相変化記録膜の材質として、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ合金、銀・Ｉｎ・Ｔｅ・Ｓｂ・Ｇｅ合金、等を例示することができる。
また、記録膜の形成方法としては、真空蒸着法、イオンプレーティング法、スパッタリング法等の公知の薄膜形成法を採用することができる。
また、記録膜上には、ＳｉＮ、ＺｎＳ、ＳｉＯ2等の誘電膜を積層形成しても良い。
【００６８】
本発明の組成物の支持基板上への塗布方法としては、特に限定されるものではないが、光ディスクの生産性向上の観点から、スピンコーター法等が好適である。
また、本発明の組成物を用いて形成する硬化物層の膜厚は、所望する特性が得られれば特に限定されるものではないが、例えば、ＣＤ等の従来の光ディスクの保護層であれば、５〜２０μｍが好ましく、ＤＶＤ等の多層記録型光ディスクの接着剤兼光透過層であれば、２０〜６０μｍが好ましく、高密度光ディスクの光透過層であれば、２０〜２００μｍが好ましい。
【００６９】
また、本発明の光ディスクにおいて、記録光又は再生光（書き込み光又は読み取り光）としては、特に限定されるものではなく、一般の光ディスクに使用されている波長３８０〜８００ｎｍのレーザー光等を用いることができる。中でも、光ディスクの記録容量を高密度化できることから、４００ｎｍ前後の青紫色レーザー光を用いることが好適である。
【００７０】
本発明の光ディスクは、本発明の組成物を用いて形成された硬化物層を備えたものであるので、硬化物層の記録膜や基板への密着性が高く、硬化物層の機械的強度に優れ、反りを防止することができると共に、記録膜の耐腐食性に非常に優れたものとなる。
【００７１】
【実施例】
次に、本発明に係る実施例及び比較例について説明する。
なお、実施例、比較例において、「反り角」とは、光ディスク最外周における硬化物層側への半径方向の最大反り角を意味するものとする。
【００７２】
（合成例１）ウレタンアクリレート（ＵＡ１：成分（Ａ））の製造
（１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン（住友バイエルエレタン製デスモジュールＷ：加水分解塩素量４ｐｐｍ）１３２４ｇ（５モル）、及びジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が４０℃になるように加熱した。
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−４−ヒドロキシプロピルアミド６４ｇ（０．４モル）とポリカプロラクトンジオール（ダイセル化学工業（株）製プラクセル２０５、平均分子量：５３０）８４８ｇ（１．６モル）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記（１）のフラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、上記（１）のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を３５〜４５℃に保持しながら、４時間かけて等速滴下により滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で２時間攪拌して反応させた。
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に昇温後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルアクリレート６９６ｇ（６モル）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７０〜８０℃に保持しつつ４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ１）を得た。なお、残存イソシアネート当量を測定し、反応率９９％以上（残存イソシアネート当量が１％未満）となった時点を反応の終点とした。
【００７３】
（合成例２）ウレタンアクリレート（ＵＡ２：成分（Ａ））の製造
（１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、ビス（４−イソシアナトシクロヘキシル）メタン（住友バイエルエレタン製デスモジュールＷ：加水分解塩素量４ｐｐｍ）１３２４ｇ（５モル）、及びジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド１６１ｇ（１モル）とポリブチレングリコール（ｎ＝１２、平均分子量：８５０）ｇ（１．３モル）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記（１）のフラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、上記（１）のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保持しながら、４時間かけて等速滴下により滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で２時間攪拌して反応させた。
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルアクリレート６２６ｇ（５．４モル相当量）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保持しつつ４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ２）を得た。なお、反応の終点は合成例１と同様に判定した。
【００７４】
（合成例３）ウレタンアクリレート（ＵＡ３：成分（Ａ））の製造
（１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート１１１０ｇ（５モル）、及びジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
（２）Ｎ−メチル−Ｎ−（２−ヒドロキシエチル）−３−ヒドロキシプロピルアミド６４ｇ（０．４モル）とポリカーボネートジオール（旭化成（株）製ＣＸ−４７１０、平均分子量：１００２）１６０３ｇ（１．６モル）を均一に混合溶解させた液を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記（１）のフラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、上記（１）のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保持しながら、４時間かけて等速滴下により滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で２時間攪拌して反応させた。
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルアクリレート６２６ｇ（６モル）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保持しながら４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ３）を得た。なお、反応の終点は合成例１と同様に判定した。
【００７５】
（合成例４）ウレタンアクリレート（ＵＡ４：成分（Ａ））の製造
（１）攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積５リットルの三つ口フラスコに、イソホロンジイソシアネート８８８ｇ（４モル）、及びジブチル錫ジラウレート０．５ｇを仕込んでウオーターバスで内温が７０℃になるように加熱した。
（２）ポリブチレングリコール（ｎ＝１２、平均分子量：８５０）１７００ｇ（２モル）を側管付きの滴下ロートに仕込み、この滴下ロート内の液を上記（１）のフラスコ中の内容物に対して滴下した。なお、上記（１）のフラスコ中の内容物を攪拌しつつ、フラスコ内温を６５〜７５℃に保持しながら、４時間かけて等速滴下により滴下した。さらに、滴下終了後、同温度で２時間攪拌して反応させた。
（３）次いで、フラスコ内容物の温度を６０℃に下げた後、別の滴下ロートに仕込んだ２-ヒドロキシエチルアクリレート４６４ｇ（４モル）とハイドロキノンモノメチルエーテル１．５ｇを均一に混合溶解させた液を、フラスコ内温を５５〜６５℃に保持しながら２時間かけて等速滴下により滴下した後、フラスコ内容物の温度を７５〜８５℃に保持しながら４時間反応させて、ウレタンアクリレート（ＵＡ４）を得た。なお、反応の終点は合成例１と同様に判定した。
【００７６】
（合成例５）エポキシアクリレート（ＥＡ１：成分（Ａ））の製造
攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積１リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ（株）製エピコートＹＬ９８０（ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂、全塩素含有量１９０ｐｐｍ、エポキシ当量１８６）３７２ｇ、アクリル酸１４４ｇ、メタクリル酸ジメチルアミノエチル２．６ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．５ｇを仕込み、９５℃で２４時間反応させ、ビスフェノールＡ型エポキシアクリレート（ＥＡ１）を得た。なお、酸価測定を行い、酸価が１ｍｇＫＯＨ／ｇとなった時点を反応の終点とした。
【００７７】
（合成例６）エポキシアクリレート（ＥＡ２：成分（Ａ））の製造
攪拌機、温度調節器、温度計及び凝縮器を備えた内容積１リットルの三つ口フラスコに、油化シェルエポキシ（株）製エピコートＹＬ９８３Ｕ（ビスフェノールＦ型エポキシ樹脂、全塩素含有量２７０ｐｐｍ、エポキシ当量１７２）３４４ｇ、アクリル酸１４４ｇ、メタクリル酸ジメチルアミノエチル２．４ｇ、ハイドロキノンモノメチルエーテル０．５ｇを仕込み、９５℃で２４時間反応させ、ビスフェノールＦ型エポキシアクリレート（ＥＡ２）を得た。なお、反応の終点は合成例５と同様に判定した。
【００７８】
（実施例１）
（１）ＣＤの保護層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の調製
成分（Ａ）として、合成例１で得られたＵＡ１（３０質量部）、成分（Ｂ）として、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート（３０質量部）、成分（Ｃ）として、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート（２０質量部）、及び１，９−ノナンジオールジアクリレート（２０質量部）、成分（Ｄ）として、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（５質量部）を混合溶解し、ＣＤの保護層形成用活性エネルギー線硬化性組成物を得た。
本実施例において調製した組成物の組成を表１に示す。
（２）評価用ＣＤの作製
帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカーボネート樹脂）を射出成型して得た、直径１．５ｃｍの中心穴を有する透明円盤状基板（直径１２ｃｍ、板厚１．２ｍｍ、反り角０度）を用い、この基板上に、バルザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００を用い、純度９９．９％の銀を膜厚５０ｎｍとなるようにスパッタリング法により成膜し、記録膜を形成した。次いで、該記録膜上に、（１）で得た組成物を、スピンコーター法により平均膜厚１０μｍとなるように塗布し塗膜を形成した。最後に、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、この塗膜を積算光量４００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、保護層（硬化物層）を形成し、評価用ＣＤを作製した。
【００７９】
（実施例２〜５、比較例１〜４）
表２に示す組成とした以外は実施例１と同様にして、ＣＤの保護層形成用活性エネルギー線組成物を調製した。また、得られた組成物を用い、実施例１と同様にして評価用ＣＤを作製した。
【００８０】
（評価項目及び評価方法）
実施例１〜５、比較例１〜４において得られた、活性エネルギー線硬化性組成物及び評価用ＣＤについて、以下の評価を行った。
＜硬化収縮率＞
得られた活性エネルギー線硬化組成物の硬化前及び硬化後の比重を各々測定し、上述した定義に基づいて硬化収縮率を算出した。また、下記基準に基づいて、評価を行った。
判定基準
○：硬化収縮率が１０％未満であった。
×：硬化収縮率が１０％以上であった。
＜硬化物層の表面硬度＞
得られた評価用ＣＤの保護層（硬化物層）の鉛筆硬度を測定し、下記基準に基づいて評価した。
判定基準
○：鉛筆硬度が２Ｂ以上であった。
×：鉛筆硬度が２Ｂ未満であった。
＜硬化物層の密着性＞
１．記録膜密着性（記録膜に対する密着性）
カッターナイフを用い、得られた光ディスクの保護層（硬化物層）から記録膜表面まで十字状に切傷をつけた後、保護層にニチバンセロテープ（登録商標）を貼付、剥離する剥離試験を行い、下記基準に基づいて、硬化物層の記録膜密着性について評価した。
判定基準
○：保護層（硬化物層）と記録膜とが剥離しなかった。
×：保護層（硬化物層）と記録膜とが剥離した。
２．基板密着性（基板に対する密着性）
得られた活性エネルギー線硬化組成物を用い、記録膜を形成する前の基板上に直接、保護層形成と同様にして、硬化物層を形成した。このサンプルに対して、前記と同様、カッターナイフを用い、得られた硬化物層から基板表面まで十字状に切傷をつけた後、硬化物層にニチバンセロテープ（登録商標）を貼付、剥離する剥離試験を行い、下記基準に基づいて、硬化物層の基板への密着性について評価した。
判定基準
○：硬化物層と基板とが剥離しなかった。
×：硬化物層と基板とが剥離した。
＜光ディスクの反り角＞
１．初期反り角
得られた評価用ＣＤについて、ジャパンイーエム（株）製ＤＬＤ−３０００光ディスク光学機械特性測定装置を用いて、２０℃、相対湿度５０％環境下にて、初期反り角を測定した。
２．耐久試験後反り角
得られた評価用ＣＤを８０℃、相対湿度８５％の環境下に１００時間放置し、さらに、２０℃、相対湿度５０％環境下に１００時間放置した後、初期反り角と同様にして、再度反り角を測定した。
なお、初期反り角、耐久試験後反り角の双方について、下記基準に基づいて評価を行った。
判定基準
○：反り角が０．３度以下であった。
×：反り角が０．３度未満であった。
＜硬化物層の記録膜保護性能＞
得られた評価用ＣＤの記録膜を顕微鏡にて８００倍の倍率で観察し、記録膜が腐食されてないか否かを検査し、記録膜が腐食されていないものについて、硬化物層の記録膜保護性能が良好であると判定した。なお、記録膜に白化やピンホール等が観察されたものを腐食されていると認定した。
【００８１】
（実施例６）
（１）ＤＶＤの接着剤兼光透過層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の調製成分（Ａ）として、合成例２で得られたＵＡ２（４０質量部）、成分（Ｂ）として、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート（３０質量部）、成分（Ｃ）として、トリス（２−ヒドロキシエチル）イソシアヌレート（１５質量部）、テトラヒドロフルフリルアクリレート（１０質量部）、及びイソボルニルアクリレート（５質量部）、成分（Ｄ）として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（４．５質量部）、及び２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド（０．５質量部）を混合溶解し、ＤＶＤの接着剤兼光透過層形成用活性エネルギー線硬化性組成物を得た。
本実施例において調製した組成物の組成を表２に示す。
（２）評価用ＤＶＤの作製
帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカーボネート樹脂）を射出成型して得た、直径１．５ｃｍの中心穴を有する透明円盤状基板（直径１２ｃｍ、板厚０．６ｍｍ、反り角０度）を用い、この基板上に、バルザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００を用い、純度９９．９％の銀を膜厚５０ｎｍとなるようにスパッタリング法により成膜し、銀反射膜からなる記録膜を有する光ディスクを得た。
得られた光ディスクの記録膜上の内周縁部に、（１）で得た組成物をディスペンス法によりリング状に塗布した後、該塗布物上に、上記と同様に作製した銀反射膜からなる記録膜を有する光ディスクを、間に気泡が残らないように密着させた。この時、記録膜が互いに対向するように一対の光ディスクを密着させた。
続いて、スピンコーターを用い、一対の光ディスク間に介在する組成物を全体に広げ、その平均膜厚を５０μｍとした。最後に、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１６０Ｗ／ｃｍ）を用い、記録膜を通して光を照射し、積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、接着剤兼光透過層（硬化物層）を形成し、評価用ＤＶＤを作製した。
【００８２】
（実施例７〜１０、比較例５〜８）
表２に示す組成とした以外は実施例６と同様にして、ＤＶＤの接着剤兼光透過層用活性エネルギー線組成物を調製した。また、得られた組成物を用い、実施例６と同様にして評価用ＤＶＤを作製した。
【００８３】
（評価項目及び評価方法）
実施例６〜１０、比較例５〜８において得られた、活性エネルギー線硬化性組成物及び評価用ＤＶＤについて、以下の評価を行った。
＜硬化収縮率＞
得られた活性エネルギー線硬化性組成物について、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、硬化収縮率の評価を行った。
＜硬化物層の基板密着性（基板に対する密着性）＞
得られた評価用ＤＶＤの端面から、カッターナイフを用いて、接着剤兼光透過層（硬化物層）部分に切り込みを入れ、貼り合せた基板を剥離する試験を行い、下記基準に基づいて硬化物層の基板密着性を評価した。
判定基準
○：接着剤兼光透過層（硬化物層）と基板とが剥離しなかった。
×：接着剤兼光透過層（硬化物層）と基板とが剥離した。
＜光ディスクの反り角＞
得られた評価用ＤＶＤについて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、初期反り角、及び耐久試験後反り角の評価を行った。
＜硬化物層の記録膜保護性能＞
得られた評価用ＤＶＤについて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能を評価した。
【００８４】
（実施例１１）
（１）高密度光ディスクの光透過層形成用活性エネルギー線硬化性組成物の調製成分（Ａ）として、合成例２で得られたＵＡ２（６０質量部）、成分（Ｂ）として、２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチル（メタ）アクリレート（４０質量部）、成分（Ｄ）として、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン（２質量部）を混合溶解し、高密度光ディスクの光透過層形成用活性エネルギー線硬化性組成物を得た。
本実施例において調製した組成物の組成を表３に示す。
（２）評価用高密度光ディスクの作製
帝人化成（株）製パンライトＡＤ９０００ＴＧ（ポリカーボネート樹脂）を射出成型して得た透明円盤状基板（直径１２ｃｍ、板厚１．１ｍｍ、反り角０度）を用い、この基板上に、バルザース（株）製スパッタリング装置ＣＤＩ−９００を用い、純度９９．９％の銀を膜厚５０ｎｍとなるようにスパッタリング法により成膜し、記録膜を形成した。次いで、該記録膜上に、（１）で得た組成物を、スピンコーター法により平均膜厚１００μｍとなるように塗布し塗膜を形成した。最後に、ランプ高さ１０ｃｍの高圧水銀灯（１２０Ｗ／ｃｍ）を用い、この塗膜を積算光量１０００ｍＪ／ｃｍ2のエネルギー量で硬化させて、光透過層（硬化物層）を形成し、評価用高密度光ディスクを作製した。
【００８５】
（実施例１２〜１５、比較例９〜１２）
表３に示す組成とした以外は実施例１１と同様にして、高密度光ディスクの光透過層形成用活性エネルギー線組成物を調製した。また、得られた組成物を用い、実施例１１と同様にして高密度光ディスクを作製した。
【００８６】
（評価項目及び評価方法）
実施例１１〜１５、比較例９〜１２において得られた、活性エネルギー線硬化性組成物及び評価用高密度ディスクについて、以下の評価を行った。
＜硬化収縮率＞
得られた活性エネルギー線硬化組成物について、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、硬化収縮率の評価を行った。
＜硬化物層の表面硬度＞
得られた評価用高密度ディスクの光透過層（硬化物層）の鉛筆硬度を、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に評価した。
＜硬化物層の密着性＞
実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、光透過層（硬化物層）の記録膜密着性、及び基板密着性を評価した。
＜光ディスクの反り角＞
得られた評価用高密度ディスクについて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、初期反り角、及び耐久試験後反り角の評価を行った。
＜硬化物層の記録膜保護性能＞
得られた評価用高密度ディスクについて、実施例１〜５、比較例１〜４と同様に、光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能を評価した。
＜硬化物層の光透過率＞
得られた評価用高密度ディスクの光透過層（硬化物層）を記録膜から剥離し、日立製作所（株）製分光光度計Ｕ−３４００を用い、空気をリファレンスとして波長４００ｎｍの光線透過率を測定し、下記基準に基づいて評価した。
判定基準
○：光透過率が７０％以上であった。
×：光透過率が７０％未満であった。
【００８７】
なお、表１〜３において、各成分の配合量の単位は「質量部」を示す。また、各略号は、以下の化合物を示す。
ＭＥＤＯＡ：２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルアクリレート
ＭＩＢＤＯＡ：２−メチル−２−イソブチル−１，３−ジオキソラニルメチルアクリレート
ＭＥＤＯＥＯＡ：エチレンオキサイド（１モル）変性２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルアクリレート
ＭＥＤＯＣＰＡ：カプロラクトン（１モル）変性２−メチル−２−エチル−１，３−ジオキソラニルメチルアクリレート
ＴＭＰＴＡ：トリメチロールプロパントリアクリレート
ＴＡＩＣ：トリス（２−アクリロイルオキシエチル）イソシアヌレート
ＢＰＥ４：エチレンオキサイド（４モル）変性ビスフェノールＡジアクリレート
Ｃ６ＤＡ：１，６−ヘキサンジオールジアクリレート
Ｃ９ＤＡ：１，９−ノナンジオールジアクリレート
ＴＨＦＡ：テトラヒドロフルフリルアクリレート
ＰＭ２：日本化薬（株）製エチレンオキサイド変性リン酸メタクリレート
ＨＣＰＫ：１−ヒドロキシ−シクロヘキシルフェニルケトン
ＨＰＰＡ：２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート
ＨＰＡ：２−ヒドロキシプロピルアクリレート
ＩＢＸＡ：イソボルニルアクリレート
ＴＰＯ：２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルフォスフィンオキサイド
ＢＤＫ：ベンジルジメチルケタール
ＨＭＰＰ：２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン
【００８８】
（実施例１〜５、比較例１〜４の結果）
実施例１〜５、比較例１〜４において得られた結果を表１に示す。
表１に示すように、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を配合すると共に、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）の配合量を１５〜３０質量部、成分（Ｂ）の配合量を３０〜６０質量部、成分（Ｃ）の配合量を２５〜５５質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した実施例１〜５において、得られた組成物の硬化収縮率は８．５％と低く、そのため、得られたＣＤの初期反り角は０．１度と十分に小さいものであった。また、耐久試験後反り角も０．２度と十分に小さいものであった。また、得られた保護層（硬化物層）の表面硬度は鉛筆硬度でＨＢと極めて高く、十分な機械的強度を有するものであった。また、得られた保護層（硬化物層）の記録膜密着性、基板密着性はいずれも良好であった。また、記録膜に腐食は見られず、得られた保護層（硬化物層）の記録膜保護性能についても良好であった。
【００８９】
これに対して、成分（Ａ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ｂ）を９０質量部、成分（Ｃ）を１０質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例１では、記録膜に腐食が見られ、得られた保護層（硬化物層）の記録膜保護性能が不十分であった。
【００９０】
また、成分（Ｃ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を９６質量部、成分（Ｂ）を４質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例２では、得られた保護層（硬化物層）の表面硬度が鉛筆硬度で６Ｂであり、機械的強度が不十分であった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた保護層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【００９１】
また、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を１０質量部、成分（Ｂ）を７質量部、成分（Ｃ）を８３質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例３では、得られた組成物の硬化収縮率が１３％と極めて高く、得られたＣＤの初期反り角が０．４度と大きいものであった。また、耐久試験後反り角も０．８度と大きいものであった。また、得られた保護層（硬化物層）の記録膜密着性、基板密着性も不十分であった。
【００９２】
また、成分（Ａ）、（Ｂ）を配合せずに、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例４では、得られた組成物の硬化収縮率が１０．４％と大きく、得られたＣＤの耐久試験後反り角が０．９度と著しく大きい値となった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた保護層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【００９３】
（実施例６〜１０、比較例５〜８の結果）
実施例６〜１０、比較例５〜８において得られた結果を表２に示す。
表２に示すように、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を配合すると共に、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）の配合量を２５〜５０質量部、成分（Ｂ）の配合量を７〜３０質量部、成分（Ｃ）の配合量を３０〜４５質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した実施例６〜１０において、得られた組成物の硬化収縮率は７〜８％と低く、そのため、得られたＣＤの初期反り角は０．１度と十分に小さいものであった。また、耐久試験後反り角も０．２度と十分に小さいものであった。また、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の基板密着性も良好であった。また、記録膜に腐食は見られず、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能についても良好であった。
【００９４】
これに対して、成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を４５質量部、成分（Ｃ）を５５質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例５では、記録膜に腐食が見られ、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能が不十分であった。
【００９５】
また、成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を６０質量部、成分（Ｃ）を４０質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例６では、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の基板密着性が不十分であった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【００９６】
また、成分（Ａ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ｂ）を９０質量部、成分（Ｃ）を１０質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例７では、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の基板密着性が不十分であった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【００９７】
また、成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を３０質量部、成分（Ｃ）を７０質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例８では、得られた組成物の硬化収縮率が１０％と大きく、得られたＣＤの初期反り角が０．４度と大きいものであった。また、耐久試験後反り角も０．８度と極めて大きい値となった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた接着剤兼光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【００９８】
（実施例１１〜１５、比較例９〜１２の結果）
実施例１１〜１５、比較例９〜１２において得られた結果を表３に示す。
表３に示すように、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）を配合すると共に、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）の配合量を６０〜８５質量部、成分（Ｂ）の配合量を５〜４０質量部、成分（Ｃ）の配合量を０〜２０質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した実施例１１〜１５において、  得られた組成物の硬化収縮率は６％と極めて低く、そのため、得られた高密度ディスクの初期反り角は０．１度と十分に小さいものであった。また、耐久試験後反り角も０．２度と十分に小さいものであった。また、得られた光透過層（硬化物層）の表面硬度は鉛筆硬度でＢであり、十分な機械的強度を有するものであった。また、得られた光透過層（硬化物層）の記録膜密着性、基板密着性はいずれも良好であった。また、記録膜に腐食は見られず、得られた光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能についても良好であった。また、得られた光透過層の光透過率は８６〜８８％と極めて高く、良好であった。
【００９９】
これに対して、成分（Ｂ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を４５〜６０質量部、成分（Ｃ）を４０〜５５質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例９、１０では、得られた光透過層（硬化物層）の表面硬度が鉛筆硬度で６Ｂ〜７Ｂであり、機械的強度が不十分であった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。また、比較例９では、得られた光透過層の光透過率も６９％と低く、不十分であった。
【０１００】
また、成分（Ｃ）を配合せず、成分（Ａ）、（Ｂ）、（Ｃ）の合計１００質量部に対して、成分（Ａ）を９６質量部、成分（Ｂ）を４質量部として、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例１１では、得られた高密度ディスクの初期反り角は０．２度と良好であったものの、耐久試験後に大きく反りが発生し、反り角が０．６度となった。また、得られた光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【０１０１】
また、成分（Ａ）、（Ｂ）を配合せずに、活性エネルギー線硬化性組成物を調製した比較例１２では、得られた組成物の硬化収縮率が１０％と大きく、得られた高密度ディスクの初期反り角が１度以上と大きかった。また、耐久試験後反り角も１度以上と大きい値となった。また、記録膜に腐食が見られ、得られた光透過層（硬化物層）の記録膜保護性能も不十分であった。
【０１０２】
以上の結果から、成分（Ａ）〜（Ｃ）を配合すると共に、これらを最適な配合比で配合した本発明の組成物を用いることにより、硬化物層の記録膜や基板への密着性が高く、硬化物層の機械的強度に優れ、反りや記録膜の腐食が防止され、性能に優れた光ディスクを提供できることが判明した。
【０１０３】
【表１】
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【０１０４】
【表２】
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【０１０５】
【表３】
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【０１０６】
【発明の効果】
本発明によれば、光ディスクの基板や記録膜への密着性が良好であると共に、硬化収縮率が低く、硬化後の機械的強度に優れ、記録膜の腐食を防止することができ、光ディスクの硬化物層を形成する際に用いて好適な樹脂組成物、及び該組成物を用いて形成された硬化物層を有する光ディスクを提供することができる。