(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
樹脂に磁石粉末が分散されてなるボンド磁石であり、１Ω・ｃｍ以上の比抵抗を有し、該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが３００℃以上、粉末粒径が１５０μｍ以下である粉末を無機ガラスで被覆したものからなり、前記無機ガラスを重量比で１０％以下含有することを特徴とする永久磁石。
【請求項２】
請求項１に記載の永久磁石において、前記磁石粉末の平均粒径が２．０〜５０μｍであることを特徴とする永久磁石。
【請求項３】
請求項１に記載の永久磁石において、前記磁石粉末の平均粒径が２．５〜２５μｍで、最大粒径が５０μｍであることを特徴とする永久磁石。
【請求項４】
請求項１に記載の永久磁石において、前記無機ガラスは、軟化点が２２０℃〜５００℃であることを特徴とする永久磁石。
【請求項５】
請求項１に記載の永久磁石において、前記樹脂含有量が体積比で２０％以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項６】
請求項１に記載の永久磁石において、前記磁石粉末は、希土類磁石粉末であることを特徴とする永久磁石。
【請求項７】
請求項１に記載の永久磁石において、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項８】
請求項１に記載の永久磁石において、前記磁石粉末の平均粒径が２．５〜５０μｍであることを特徴とする永久磁石。
【請求項９】
請求項１記載の永久磁石において、該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが５００℃以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１０】
請求項９に記載の永久磁石において、前記無機ガラスは、軟化点が４００℃〜５５０℃であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１１】
請求項９に記載の永久磁石において、前記樹脂含有量が体積比で３０％以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１２】
請求項９に記載の永久磁石において、前記磁石粉末は、希土類磁石粉末であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１３】
請求項９に記載の永久磁石において、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１４】
請求項１に記載の永久磁石において、全体の厚みが１００００μｍ以下であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１５】
請求項１４に記載の永久磁石において、全体の厚みが５００μｍ以下であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１６】
請求項１に記載の永久磁石において、その着磁磁場が、２．５Ｔであることを特徴とする薄板磁石。
【請求項１７】
請求項１に記載の永久磁石において、中心線平均粗さＲａが１０μｍ以下であることを特徴とする永久磁石。
【請求項１８】
請求項１に記載の永久磁石において、金型成形によって製造されたことを特徴とする永久磁石。
【請求項１９】
請求項１に記載の永久磁石において、熱プレスによって製造されたことを特徴とする永久磁石。
【請求項２０】
請求項１に記載の永久磁石において、樹脂と磁石粉末との混合塗料からドクターブレード法、印刷法などの成膜法によって製造されたことを特徴とする永久磁石。
【請求項２１】
請求項１に記載の永久磁石において、表面のグロス（光沢度）が２５％以上であることを特徴とする永久磁石。
【請求項２２】
請求項１に記載の永久磁石において、前記樹脂は、ポリプロピレン樹脂、６−ナイロン樹脂、１２−ナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂から選択された少なくとも一種であることを特徴とする永久磁石。
【請求項２３】
請求項１に記載の永久磁石において、前記樹脂は、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、液晶ポリマーから選択された少なくとも１種であることを特徴とする永久磁石。
【請求項２４】
請求項６に記載の永久磁石において、前記磁石粉末は、ＳｍＣｏ、ＮｄＦｅＢ、ＳｍＦｅＮから選択された希土類磁石粉末であることを特徴とする永久磁石。
【請求項２５】
請求項２４に記載の永久磁石において、前記磁石粉末は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石であることを特徴とする永久磁石。
【請求項２６】
請求項２５に記載の永久磁石において、前記ＳｍＣｏ希土類磁石粉末は、Ｓｍ（ＣｏｂａｌＦｅ０．１５〜０．２５Ｃｕ０．０５〜０．０６Ｚｒ０．０２〜０．０３）７．０〜８．５で表される合金粉末であることを特徴とする永久磁石。
【請求項２７】
磁路の少なくとも１箇所以上に磁気ギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁気バイアス用磁石が、請求項１に記載の永久磁石であることを特徴とする磁気バイアス用磁石を有する磁気コア。
【請求項２８】
磁路の少なくとも１箇所以上に磁気ギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁気ギャップは約５０〜１００００μｍのギャップ長を有し、前記磁気バイアス用磁石が、請求項１７に記載の永久磁石であることを特徴とする磁気コア。
【請求項２９】
請求項２８に記載の磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁気ギャップは約５００μｍより大きなギャップ長を有し、前記磁気バイアス用磁石は該磁気ギャップ長に対応した厚さを有することを特徴とする磁気コア。
【請求項３０】
請求項２８に記載の磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁気ギャップは約５００μｍ以下のギャップ長を有し、前記磁気バイアス用磁石は該磁気ギャップ長に対応した厚さを有することを特徴とする磁気コア。
【請求項３１】
請求項２８に記載の磁気バイアス用磁石を有する磁気コアに、１ターン以上の巻線を少なくとも１つ施してあることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３２】
磁路の少なくとも１箇所以上に約５０〜１００００μｍのギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有するインダクタンス部品において、
前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁石であり、
該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点が３００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２〜５０μｍの希土類磁石粉末を無機ガラスで被覆したものからなり、該希土類磁石粉末は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石粉末、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石粉末、およびＳｍ−Ｆｅ−Ｎ磁石粉末の内から選ばれたものであり、前記ボンド磁石は、前記無機ガラスを、重量比で１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３３】
請求項３２に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス用永久磁石は、金型成形によって成形されていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３４】
請求項３３に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３５】
請求項３２に記載のインダクタンス部品において、前記無機ガラスは軟化点が２２０℃〜５５０℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３６】
請求項３２に記載のインダクタンス部品において、前記樹脂の含有量は、体積比で２０％以上であり、該樹脂は、ポリプロピレン樹脂、６−ナイロン樹脂、１２−ナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂から選択された少なくとも一種であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３７】
磁路の少なくとも１箇所以上に約５０〜１００００μｍのギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有し、半田リフロー処理されるインダクタンス部品において、
前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁石であり、
該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末であり、無機ガラスによって被覆されているものからなり、前記ボンド磁石は前記無機ガラスを重量比で１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３８】
請求項３７に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス用永久磁石は、金型成形によって成形されていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項３９】
請求項３８に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４０】
請求項３７に記載のインダクタンス部品において、前記ＳｍＣｏ希土類磁石粉末が、Ｓｍ（ＣｏｂａｌＦｅ０．１５〜０．２５Ｃｕ０．０５〜０．０６Ｚｒ０．０２〜０．０３）７．０〜８．５で表される合金粉末であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４１】
請求項３７に記載のインダクタンス部品において、前記無機ガラスは、軟化点が２２０℃〜５００℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４２】
請求項３７に記載のインダクタンス部品において、前記樹脂の含有量は体積比で３０％以上であり、該樹脂は、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、液晶ポリマーから選択された少なくとも１種であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４３】
磁路の少なくとも１箇所以上に約５００μｍ以下のギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有するインダクタンス部品において、
前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上、厚さ５００μｍ以下のボンド磁石であり、
該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点が３００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．０〜５０μｍの希土類磁石粉末であり、該希土類磁石粉末は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石粉末、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石粉末、およびＳｍ−Ｆｅ−Ｎ磁石粉末の内から選ばれたものであるとともに、無機ガラスによって被覆されものからなり、前記ボンド磁石は前記無機ガラスを重量比で１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４４】
請求項４３に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス用永久磁石は、樹脂と磁石粉末の混合物からドクターブレード法および印刷法等の成膜法によって成形されていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４５】
請求項４３に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４６】
請求項４３に記載のインダクタンス部品において、前記無機ガラスは、軟化点が２２０℃〜５００℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４７】
請求項４３に記載のインダクタンス部品において、前記樹脂の含有量は、体積比で２０％以上であり、該樹脂は、ポリプロピレン樹脂、６−ナイロン樹脂、１２−ナイロン樹脂、ポリイミド樹脂、ポリエチレン樹脂、エポキシ樹脂から選択された少なくとも一種であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４８】
磁路の少なくとも１箇所以上に約５００μｍ以下のギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有し、半田リフロー処理されるインダクタンス部品において、
前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上、厚さ５００μｍ以下のボンド磁石であり、
該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末であるとともに無機ガラスによって被覆されたものからなり、前記ボンド磁石は前記無機ガラスを重量比で、１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項４９】
請求項４８に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス用永久磁石は、樹脂と磁石粉末の混合物からドクターブレード法あるいは印刷法等の成膜法によって成形されていることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５０】
請求項４８に記載のインダクタンス部品において、前記バイアス永久磁石は、成形圧縮率が２０％以上であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５１】
請求項４８に記載のインダクタンス部品において、前記無機ガラスは軟化点が２２０℃〜５００℃であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５２】
請求項４８に記載のインダクタンス部品において、前記ＳｍＣｏ希土類磁石粉末が、Ｓｍ（ＣｏｂａｌＦｅ０．１５〜０．２５Ｃｕ０．０５〜０．０６Ｚｒ０．０２〜０．０３）７．０〜８．５  で表される合金粉末であることを特徴とするインダクタンス部品。
【請求項５３】
請求項４８に記載のインダクタンス部品において、前記樹脂の含有量は体積比で３０％以上であり、該樹脂は、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイド樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、液晶ポリマーから選択された少なくとも１種であることを特徴とするインダクタンス部品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、チョークコイルやトランス等のインダクタンス部品の磁気コア（以下、単に「コア」とも呼ぶ）に関するものであり、特に、磁気バイアス用の永久磁石を備えた磁気コアに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来から、例えば、スイッチング電源などに用いられるチョークコイル及びトランスにおいては、通常、交流は直流に重畳して印加される。したがって、これらチョークコイルやトランスに用いる磁気コアは、この直流重畳に対して磁気飽和しない透磁率特性（この特性を「直流重畳特性」と呼ぶ）の良好なことが求められている。
【０００３】
高周波用の磁気コアとしてはフェライト磁気コアや圧粉磁気コアが使用されているが、フェライト磁気コアは初透磁率が高く飽和磁束密度が小さく、圧粉磁気コアは初透磁率が低く飽和磁束密度が高い、という材料物性に由来した特徴がある。従って、圧粉磁気コアはトロイダル形状で用いられることが多い。他方、フェライト磁気コアの場合には、例えばＥ型コアの中足に磁気空隙（磁気ギャップ）を形成して直流重畳により磁気飽和することを避けることが行われている。
【０００４】
しかし、近年の電子機器の小型化要請に伴う電子部品の小型化の要求により、磁気コアの磁気ギャップも小さくせざるを得ず、直流重畳に対してより高い透磁率の磁気コアが強く求められている。
【０００５】
この要求に対しては、一般に、飽和磁化の高い磁気コアを選択する事、つまり高磁界で磁気飽和しない磁気コアの選択が必須とされている。しかし、飽和磁化は材料の組成で必然的に決まるものであり、無限に高く出来るものではない。
【０００６】
その解決手段として、磁気コアの磁路に設けた磁気ギャップに永久磁石を配置し、直流重畳による直流磁界を打ち消す事、すなわち、磁気コアに磁気バイアスを与えることが古くから提案されている。
【０００７】
この永久磁石を用いた磁気バイアス方法は、直流重畳特性を向上させるには優れた方法であるが、一方で金属焼結磁石を用いると磁気コアのコアロスの増大が著しく、またフェライト磁石を用いると重畳特性が安定しないなどとても実用に耐え得るものではなかった。
【０００８】
これらを解決する手段として、例えば特開昭５０−１３３４５３は、磁気バイアス用永久磁石として保磁力の高い希土類磁石粉末とバインダーとを混合し圧縮成形したボンド磁石を用いること、これにより、直流重畳特性およびコアの温度上昇が改善されたことを開示している。
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
しかし近年、電源に対する電力変換効率向上の要求はますます厳しくなっており、チョークコイル用及びトランス用の磁気コアについても単にコア温度を測定するだけでは優劣が判断不能なレベルとなっている。そのため、コアロス測定装置による測定結果の判断が不可欠であり、実際本発明者等が検討を行った結果、特開昭５０−１３３４５３に示された抵抗率の値ではコアロス特性が劣化する事が明らかになった。
【００１０】
又、近年の電子機器の小型化に伴い、インダクタンス部品の小型化がますます要求され、したがって、磁気バイアス用磁石の薄型化も又要求されているところである。
【００１１】
また近年、表面実装タイプのコイルが所望されているが、表面実装のためにはコイルはリフローはんだ処理に付される。このリフロー条件で、コイルの磁気コアの特性が劣化しない事が望まれる。また、耐酸化性の希土類磁石が必須である。
【００１２】
したがって、本発明の一技術的課題は、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該ギャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、上記を考慮して、優れた直流重畳特性と、コアロス特性と、耐酸化性とを有すると共に、リフロー条件でもコア特性が劣化しない磁気コアを容易かつ安価に提供する事にある。
【００１３】
また、本発明のもう一つの技術的課題は、小型インダクタンス部品の磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアに、このギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、このギャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁気コアの小型化を可能とするために特に適した磁石を配置した磁気コアを提供することにある。
【００１４】
さらに、本発明のさらにもう一つの技術的課題は、前記磁石及び磁気コアを用いたインダクタンス部品を提供することにある。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、樹脂に磁石粉末が分散されてなるボンド磁石であり、１Ω・ｃｍ以上の比抵抗を有し、該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが３００℃以上、粉末粒径が１５０μｍ以下である粉末を無機ガラスで被覆したものからなり、前記無機ガラスを重量比で１０％以下含有することを特徴とする永久磁石が得られる。
【００１６】
また、本発明によれば、磁路の少なくとも１箇所以上に磁気ギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記磁気バイアス用磁石が、前記永久磁石であることを特徴とする磁気バイアス用磁石を有する磁気コアが得られる。
【００１７】
また、本発明によれば、磁路の少なくとも１箇所以上に約５０〜１００００μｍのギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有するインダクタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が５ＫＯｅ以上、キュリー点が３００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２〜５０μｍの希土類磁石粉末を無機ガラスで被覆したものからなり、該希土類磁石粉末は、Ｓｍ−Ｃｏ磁石粉末、Ｎｄ−Ｆｅ−Ｂ磁石粉末、およびＳｍ−Ｆｅ−Ｎ磁石粉末の内から選ばれたものであり、前記ボンド磁石は、前記無機ガラスを、重量比で１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品が得られる。また、本発明によれば、磁路の少なくとも１箇所以上に約５０〜１００００μｍのギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有し、半田リフロー処理されるインダクタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗１Ω・ｃｍ以上のボンド磁石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末であり、無機ガラスによって被覆されているものからなり、前記ボンド磁石は前記無機ガラスを重量比で１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品が得られる。また、本発明によれば、磁路の少なくとも１箇所以上に約５００μｍ以下のギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有し、半田リフロー処理されるインダクタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上、厚さ５００μｍ以下のボンド磁石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末であるとともに無機ガラスによって被覆されたものからなり、前記ボンド磁石は前記無機ガラスを重量比で、１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品が得られる。さらに、本発明によれば、磁路の少なくとも１箇所以上に約５００μｍ以下のギャップ長を有する磁気ギャップを有する磁気コアと、該磁気ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に配した磁気バイアス用磁石と、該磁気コアに少なくとも１ターン卷回されたコイル巻線とを有し、半田リフロー処理されるインダクタンス部品において、前記磁気バイアス用磁石は、樹脂と該樹脂中に分散された磁石粉末とを有する比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上、厚さ５００μｍ以下のボンド磁石であり、該磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、キュリー点が５００℃以上、最大粒径１５０μｍ、平均粒径２．５〜５０μｍのＳｍ−Ｃｏ希土類磁石粉末であるとともに無機ガラスによって被覆されたものからなり、前記ボンド磁石は前記無機ガラスを重量比で、１０％以下含有することを特徴とするインダクタンス部品が得られる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態について図面を参照しながら説明する。
【００１９】
まず、本発明の１つの発明について具体的に説明する。
【００２０】
本発明の１発明では、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該ギャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおける上記課題を解決するために、前記永久磁石が、１０ＫＯｅ以上の固有保磁力及び５００℃以上のキュリー温度を持つ粉末平均粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石粉末と樹脂とからなるボンド磁石であり、前記磁石粉末を無機ガラスで被覆した磁気バイアス用磁石を有する磁気コアである。
【００２１】
前記磁気バイアス用磁石としてのボンド磁石は、前記樹脂を体積比で３０％以上含有し、比抵抗が１Ωｃｍ以上であることが好ましい。
【００２２】
前記無機ガラスは、軟化点が４００℃以上５５０℃以下であることが好ましい。
【００２３】
また、前記ボンド磁石は、前記磁石粉末を被覆する前記無機ガラスは、重量比で、１０％以下含有することが好ましい。
【００２４】
又、本発明の一つの発明は、前記の磁気バイアス用磁石を有する磁気コアに、１ターン以上の巻線を少なくともひとつ施してあるインダクタンス部品である。
【００２５】
さらに、前記希土類磁石粉末はＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末であることが好ましい。
【００２６】
なお、インダクタンス部品とは、コイル、チョークコイル、トランス、その他一般に磁気コアと巻き線とを必須とした部品を含むものとする。
【００２７】
本発明の１発明では、前記磁気コアに挿入する永久磁石について検討した結果、磁石の比抵抗が１Ωｃｍ以上で、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上の永久磁石を使用するとき優れた直流重畳特性が得られ、しかもコアロス特性の劣化が生じない磁気コアを形成できる事を発見したものである。これは、優れた直流重畳特性を得るのに必要な磁石特性はエネルギー積よりもむしろ固有保磁力であり、従ってエネルギー積の低い永久磁石を使用しても固有保磁力が高ければ充分に高い直流重畳特性が得られる事を見出したことによる。
【００２８】
比抵抗が高くしかも固有保磁力が高い磁石は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混合して成形した希土類ボンド磁石で得られるが、保磁力の高い磁石粉末であればどのような組成のものでも可能である。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅＢ系、ＳｍＦｅＮ系とある。
【００２９】
リフロー条件及び耐酸化性を考慮すると、キュリー点Ｔｃが５００℃以上、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上の磁石が必要であり、現状では、Ｓｍ２Ｃｏ１７系磁石に限定される。
【００３０】
チョークコイル用及びトランス用磁気コアとしては、軟磁気特性を有する材料であればなんでも有効であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェライト、圧粉磁気コア、珪素鋼板、アモルファス等が用いられる。また、磁気コアの形状についても特に制限があるわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコア等あらゆる形状の磁気コアに本発明の適用が可能である。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを設け、そのギャップに永久磁石を挿入配置する。
【００３１】
ギャップ長に特に制限はないがギャップ長が狭すぎると直流重畳特性が劣化し、またギャップ長が広すぎると透磁率が低下しすぎるので、おのずから挿入するギャップ長は決まってくる。なお、磁気バイアス用永久磁石の厚みは大きければバイアス効果を容易に得られるが、磁気コアの小型化にとっては、磁気バイアス用永久磁石は、薄いほどよい。しかしながら、５０μｍより小さいと十分な磁気バイアスが得られない。したがって、磁気バイアス用永久磁石を配置する磁気ギャップは５０μｍ以上であることが必要であり、コア寸法を抑えるという点からは、１００００μｍ以下が好ましい。
【００３２】
次にギャップに挿入される永久磁石に対する要求特性は、固有保磁力については１０ＫＯｅ以下では磁気コアに印可される直流磁界によって保磁力が消失するのでそれ以上の保磁力が必要であり、また比抵抗は大きいほど良いが、１Ω・ｃｍ以上であればコアロス劣化の大きな要因にはならない。また、粉末の平均最大粒径が５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化するので、粉末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望ましく、最小粒径が２．５μｍ以下になると磁石粉末の熱処理及びコアやインダクタンス部品のリフロー時に磁石粉末が酸化され、これにより磁化の減少が顕著になるため２．５μｍ以上の粒径が必要で有る。
【００３３】
またコイルの発熱による熱減磁の問題があるが、トランスの想定される最高使用温度は２００℃なのでＴｃが５００℃以上であれば実質的に問題とはならない。また、コアロスを増大させないため樹脂の量は少なくとも体積比で３０％以上必要であり、耐酸化性を増大させるための無機ガラスは軟化点が４００℃以上であればリフロー作業や、最高使用温度でもその被覆が破壊されることがなく、一方５５０℃以下であれば被覆熱処理時の粉末酸化の問題が顕著には現れない。また、無機ガラスを添加することによって耐酸化性の効果が得られるが、添加量が１０ｗｔ％を超えると非磁性物の量の増加により、直流重畳特性の改善が小さくなるので、上限を１０ｗｔ％とするのがよい。
【００３４】
以下、本発明の第１発明の実施の形態について、説明する。
【００３５】
（第１の実施の形態）
ガラス粉末として、軟化点が約３５０℃のＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１）、軟化点が約４００℃のＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２）、軟化点が約４５０℃のＢ２Ｏ３−ＰｂＯ、軟化点が約５００℃のＫ２Ｏ−ＳｉＯ２−ＰｂＯ、軟化点が約５５０℃のＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１）、軟化点が約６００℃のＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２）、の６種類のガラス粉末を用意した。各粉末は、粒径が約３μｍであった。
【００３６】
次に磁石粉末として、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末を焼結体から粉砕することによって製造した。すなわち、Ｓｍ２Ｃｏ１７焼結体を通常の粉末冶金法で作製した。その磁石特性は、（ＢＨ）ｍａｘは２８ＭＧＯｅであり、保磁力は２５ＫＯｅであった。この焼結体をジョークラッシャーやディスクミルで粗粉砕し、ボールミルで平均粒径約５．０μｍに粉砕した。
【００３７】
この磁石粉末に前記した各々のガラス粉末を１％混合し、ガラス粉末の軟化点よりも約５０℃高い温度にてＡｒ中で熱処理することによって、磁石粉末の表面をガラスにて被覆した。次にこうして被覆処理した磁石粉末と、体積比で４５ｖｏｌ％の熱可塑性樹脂としてポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）とを２軸式の熱混練機によって３３０℃にて混練した。次に熱プレス機で成形温度３３０℃、圧力１ｔ／ｃｍ２で高さ１．５ｍｍのシート状に無磁場中で成形し、ボンド磁石を作製した。これらシート状ボンド磁石の比抵抗は全て１Ωｃｍ以上の値を示した。このシート状ボンド磁石は図１および図２に示すフェライトコア３３の中央磁脚と同一断面形状に加工した。
【００３８】
ここでボンド磁石の磁石特性は、作製したボンド磁石のシートを必要枚数張り合わせる事により直径φ１０ｍｍで厚みｔ１０ｍｍのテストピースを別途作製し、直流ＢＨトレーサーで測定した。その結果、全てのボンド磁石について固有保磁力が約１０ＫＯｅ以上得られている事が分かった。
【００３９】
フェライトコア３３は、一般的なＭｎ−Ｚｎ系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効断面積０．７４ｃｍのＥＥコアで、その中央磁脚に１．５ｍｍのギャップ加工を施した。上記作製したボンド磁石３１を着磁磁場４Ｔでパルス着磁後、ガウスメーターで表面磁束を測定後、コア３３のギャップ部に挿入配置した。次に、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーで１００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。ここで測定に使用したフェライトコアは、各ボンド磁石に対して、同一のものであり、被覆されたガラスの種類だけが異なる磁石３１を交換して、コアロスを測定した。その測定結果を、表１に、熱処理前として示す。
【００４０】
次に、それらボンド磁石を最高温度が２７０℃であるリフロー炉に２回通した後、上記と全く同様に表面磁束とコアロスを測定し、表１に、熱処理後として示す。
【００４１】
【表１】
0003974773.tif 000002
【００４２】
表１から、被覆処理温度が６５０℃と６００℃のデータからわかるように、被覆処理温度が６００℃を超えると表面磁束が小さくなる事がわかる。コアロスについては被覆処理温度が４００℃すなわち軟化点が３５０℃のガラス組成の被覆を用いたものは、リフロー後に表面磁束が劣化することがわかった。これは、南下点が３５０℃のガラス粉末は、一旦被覆処理された後、樹脂との熱混練中に再融解してはがれたことによるものと考えられる。他方、軟化点が６００℃を超えるガラスについては被覆処理温度が高すぎて、磁石粉末の酸化または被覆ガラス材との反応により磁石粉末の磁化寄与分の減少が起こって減磁が生じたものと思われる。
【００４３】
次に、コイル（図２の３５で示す）に直流磁界として８０（Ｏｅ）となる直流を重畳しながら、交流信号を印加した時のインダクタンスＬをＬＣＲメーターで測定し、コア定数（寸法）とコイルの巻線数から透磁率を計算した。その結果は、軟化点が４００℃（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２））〜５５０℃（ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１））のガラス粉末を用いて被覆した磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置したコアの透磁率は５０以上の値を示した。一方、比較例として、磁気ギャップに磁石を挿入配置しない場合のコアの透磁率、及び、軟化点が３５０℃のガラス粉末（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１））及び６００℃のガラス粉末（ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２））で被覆した磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置したコアの透磁率は、いずれも１５と著しく低い値を示した。
【００４４】
以上の結果より、軟化点が４００℃以上で５５０℃以下のガラス粉末で被覆した磁石粉末を用いたボンド磁石であって、比抵抗が１Ω・ｃｍ以上の永久磁石を磁気コアの磁気ギャップに挿入配置する時、直流重畳特性に優れしかもコアロス特性の劣化が小さい優れた磁気コアが得られる事が分かった。
【００４５】
（第２の実施の形態）
第１の実施の形態で使用したＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と、軟化点が約５００℃の約３μｍのＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯガラス粉末を、後者の重量比が、０．１、０．５、１．０、２．５、５．０、７．５、１０、１２．５ｗｔ％となるように、それぞれ、混合し、５５０℃Ａｒ中で熱処理して、磁石粉末にガラス被覆処理をした。次にこれらガラス被覆処理をした磁石粉末に、バインダーＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２））としてポリイミド樹脂を体積比で５０ｖｏｌ％混合して、ドクターブレード法でシート状にした。その溶剤を乾燥後、熱プレスし、厚み０．５ｍｍに成形した。
【００４６】
このボンド磁石の磁気特性は、テストピースを別途作製し、第１の実施の形態と同様にして測定した。その結果、各ボンド磁石は、磁石粉末に混合したガラス粉末の量によらず全て約１０ＫＯｅ以上の固有保磁力を示した。また比抵抗を測定した結果、全てのボンド磁石について１Ω・ｃｍ以上の値を示した。
【００４７】
次に第１の実施の形態と全く同様にシート状ボンド磁石を着磁して、その表面磁束を測定後、図１および２に示すフェライトのＥＥコア３３の中央磁脚の磁気ギャップに挟み込み、第１の実施の形態と同様に、コイル３５に交流と直流を重畳して印加し、直流重畳特性を測定した。さらに、第１の実施の形態と全く同様のリフロー炉（最高温度２７０℃）に２回通し、再度表面磁束と直流重畳特性を測定した。その結果を表面磁束については表２に、直流重畳特性については表３に示す。
【００４８】
【表２】
0003974773.tif 000003
【００４９】
【表３】
0003974773.tif 000004
【００５０】
表２および表３に示す通り、ガラス粉末の添加量が実質的に０を超え１０ｗｔ％以下の時優れた特性の耐酸化性の磁石が得られる事が分かる。
【００５１】
以上に説明したように、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアであって、その磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用磁石を、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが５００℃以上、粉末粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石粉末を用いたボンド磁石とし、その磁石粉末表面を無機ガラスで被覆し、その粉末と少なくとも体積比で３０％以上の樹脂からなる比抵抗が１Ωｃｍ以上のボンド磁石を用いることによって、直流重畳特性、コアロス特性、耐酸化性に優れた磁気コアを実現できる。
【００５２】
次に本発明のもう一つの発明について説明する。
【００５３】
本発明の第２発明では、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該ギャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおける上記課題を解決するために、前記永久磁石が、５ＫＯｅ以上の固有保磁力及び３００℃以上のキュリー温度を持つ粉末平均粒径が２．０〜５０μｍの希土類磁石粉末と樹脂とからなるボンド磁石であり、前記磁石粉末を無機ガラスで被覆した磁気バイアス用磁石を有する磁気コアである。
【００５４】
前記磁気バイアス用磁石としてのボンド磁石は、前記樹脂を体積比で３０％以上含有し、比抵抗が１Ωｃｍ以上であることが好ましい。
【００５５】
前記無機ガラスは、軟化点が２００℃以上５５０℃以下であることが好ましい。
【００５６】
また、前記ボンド磁石は、前記磁石粉末を被覆する前記無機ガラスは、重量比で、１０％以下含有することが好ましい。
【００５７】
又、本発明によれば、前記の磁気バイアス用磁石を有する磁気コアに、１ターン以上の巻線を少なくともひとつ施してあることを特徴とするインダクタンス部品が得られる。
【００５８】
なお、インダクタンス部品とは、コイル、チョークコイル、トランス、その他一般に磁気コアと巻き線とを必須とした部品を含むものとする。
【００５９】
本発明は、前記課題を達成するべく挿入する永久磁石について検討した結果、磁石の比抵抗が１Ωｃｍ以上で、固有保磁力ｉＨｃが５ＫＯｅ以上の永久磁石を使用するとき優れた直流重畳特性が得られ、しかもコアロス特性の劣化が生じない磁気コアを形成できる事を発見したものである。これは、優れた直流重畳特性を得るのに必要な磁石特性はエネルギー積よりもむしろ固有保磁力であり、従ってエネルギー積の低い永久磁石を使用しても固有保磁力が高ければ充分に高い直流重畳特性が得られる事を見出したことによる。
【００６０】
比抵抗が高くしかも固有保磁力が高い磁石は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混合して成形した希土類ボンド磁石で得られるが、保磁力の高い磁石粉末であればどのような組成のものでも可能である。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅＢ系、ＳｍＦｅＮ系とある。
【００６１】
チョークコイル用及びトランス用磁気コアとしては、軟磁気特性を有する材料であればなんでも有効であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェライト、圧粉磁気コア、珪素鋼板、アモルファス等が用いられる。また、磁気コアの形状についても特に制限があるわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコア等あらゆる形状の磁気コアに本発明の適用が可能である。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを設け、そのギャップに永久磁石を挿入配置する。
【００６２】
ギャップ長に特に制限はないがギャップ長が狭すぎると直流重畳特性が劣化し、またギャップ長が広すぎると透磁率が低下しすぎるので、おのずから挿入するギャップ長は決まってくる。なお、磁気バイアス用永久磁石の厚みは大きければバイアス効果を容易に得られるが、磁気コアの小型化にとっては、磁気バイアス用永久磁石は、薄いほどよい。しかしながら、５０μｍより小さいと十分な磁気バイアスが得られない。したがって、磁気バイアス用永久磁石を配置する磁気ギャップは５０μｍ以上であることが必要であり、コア寸法を抑えるという点からは、１００００μｍ以下が好ましい。
【００６３】
次にギャップに挿入される永久磁石に対する要求特性は、固有保磁力については５ＫＯｅ以下では磁気コアに印可される直流磁界によって保磁力が消失するのでそれ以上の保磁力が必要であり、また比抵抗は大きいほど良いが１Ω・ｃｍ以上であればコアロス劣化の大きな要因にはならない。また、粉末の平均最大粒径が５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化するので、粉末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望ましく、最小粒径が２．０μｍ以下になると粉砕による粉末酸化により磁化の減少が顕著になるため２．０μｍ以上の粒径が必要で有る。
【００６４】
またコイルの発熱による熱減磁の問題があるが、トランスの想定される最高使用温度は２００℃なのでＴｃが３００℃以上であれば実質的に問題とはならない。また、コアロスを増大させないため樹脂の量は少なくとも体積比で２０％以上必要であり、耐酸化性を増大させるための無機ガラスは軟化点が２５０℃以上であれば最高使用温度でもその被覆が破壊されることがなく、一方５５０℃以下であればコーティング熱処理時の粉末酸化の問題が顕著には現れない。また、無機ガラスを添加することによって耐酸化性の効果があるが、添加量が１０ｗｔ％を超えると非磁性物の量の増加により、直流重畳特性の改善が小さくなるので、上限を１０ｗｔ％とするのがよい。
【００６５】
以下、本第２発明の実施の形態について、説明する。
【００６６】
（第３の実施の形態）
ガラス粉末として、軟化点が約３５０℃のＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１）、軟化点が約４００℃のＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２）、軟化点が約４５０℃のＢ２Ｏ３−ＰｂＯ、軟化点が約５００℃のＫ２Ｏ−ＳｉＯ２−ＰｂＯ、軟化点が約５５０℃のＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１）、軟化点が約６００℃のＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２）、の６種類のガラス粉末を用意した。各粉末は、粒径が約３μｍであった。
【００６７】
次にＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末として、インゴットを粉砕して一般的な粉末冶金法で作製した焼結体を２．３μｍに微粉砕したものを用意した。その磁石粉末の磁気特性をＶＳＭで測定した結果は、保磁力ｉＨｃが約９ＫＯｅであった。
【００６８】
この磁石粉末に前記した各々のガラス粉末を１％混合し、ガラス粉末の軟化点よりも約５０℃高い温度にてＡｒ中で熱処理することによって、磁石粉末の表面をガラスにて被覆した。次にこうして被覆処理した磁石粉末と、体積比で４５ｖｏｌ％の熱可塑性樹脂として６ナイロンとを２軸式の熱混練機によって２２０℃にて混練した。次に熱プレス機で成形温度２２０℃、圧力０．０５ｔ／ｃｍ２で高さ１．５ｍｍのシート状に無磁場中で成形し、ボンド磁石を作製した。これらシート状ボンド磁石の比抵抗は全て１Ωｃｍ以上の値を示した。このシート状ボンド磁石は図１および図２に示すものと同様のフェライトコア３３の中央磁脚と同一断面形状に加工した。
【００６９】
ここでボンド磁石の磁石特性は、作製したボンド磁石のシートを必要枚数張り合わせる事により直径φ１０ｍｍで厚みｔ１０ｍｍのテストピースを別途作製し、直流ＢＨトレーサーで測定した。その結果、全てのボンド磁石について固有保磁力が約９ＫＯｅ得られている事が分かった。
【００７０】
フェライトコア３３は、一般的なＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効断面積０．７４ｃｍのＥＥコアで、その中央磁脚に１．５ｍｍのギャップ加工を施した。そのギャップ部に、上記作製したボンド磁石３１を着磁磁場４Ｔでパルス着磁後、ガウスメーターで表面磁束を測定後、挿入配置した。次に、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーで１００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。ここで測定に使用したフェライトコアは、各ボンド磁石に対して、同一のものであり、被覆されたガラスの種類だけが異なる磁石３１を交換して、コアロスを測定した。その測定結果を、表４に、熱処理前として示す。次に、それらボンド磁石をトランスの想定される最高使用温度である２００℃の恒温槽に正味３０分間保持し、上記と全く同様に表面磁束とコアロスを測定し、表４に、熱処理後として示す。
【００７１】
【表４】
0003974773.tif 000005
【００７２】
表４から、被覆処理温度が６５０℃と６００℃のデータからわかるように、被覆処理温度が６００℃を超えると表面磁束が小さくなる事がわかる。コアロスについてはどのガラス組成の被覆を用いた場合でも劣化は見られなかった。従って、軟化点が６００℃を超えるガラスについては被覆処理温度が高すぎて、磁石粉末の酸化または被覆ガラス材との反応により磁石粉末の磁化寄与分の減少が起こって減磁が生じたものと思われる。
【００７３】
次に、コイル（図２の３５５で示す）に直流磁界として８０（Ｏｅ）となる直流を重畳品から、交流信号を印加して時のインダクタンスＬをＬＣＲメーターで測定し、コア定数（寸法）とコイルの巻線数から透磁率を計算した。その結果は、軟化点が３５０℃（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１））〜５５０℃（ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（１））のガラス粉末を用いて被覆した磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置したコアの透磁率は５０以上の値を示した。一方、比較例として、磁気ギャップに磁石を挿入配置しない場合のコアの透磁率、及び、軟化点が６００℃のガラス粉末（ＳｉＯ２−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ（２））で被覆した磁石粉末を含むボンド磁石を磁気ギャップに挿入配置したコアの透磁率は、いずれも１５と著しく低い値を示した。
【００７４】
以上の結果より、ガラス粉末の軟化点が５５０℃以下のガラス粉末で被覆した磁石粉末を用いたボンド磁石であって、比抵抗が１Ω・ｃｍ以上の永久磁石を磁気コアの磁気ギャップに挿入配置する時、直流重畳特性に優れしかもコアロス特性の劣化が小さい優れた磁気コアが得られる事が分かった。
【００７５】
（第４の実施の形態）
磁石粉末として還元拡散法で作製されたＳｍＦｅ粉末を３μｍに微粉砕後、窒化処理する事で得られたＳｍＦｅＮ粉末を用意した。この磁石粉末の磁気特性をＶＳＭで測定した結果は、保磁力ｉＨｃが約８ＫＯｅであった。
【００７６】
次に、この磁石粉末と、軟化点が約３５０℃の約３μｍのＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ  ガラス粉末を、後者の重量比が、０．１、０．５、１．０、２．５、５．０、７．５、１０、１２．５ｗｔ％となるように、それぞれ、混合し、４００℃Ａｒ中で熱処理して、磁石粉末にガラス被覆処理をした。次にこれらガラス被覆処理をした磁石粉末に、バインダーとしてエポキシ樹脂を体積比で３０ｖｏｌ％混合して、図１及び２に示すフェライトコア３３の中央磁脚と同一の断面形状のシート状に金型成形後、１５０℃で樹脂を硬化させ、ボンド磁石を形成した。このボンド磁石の磁気特性は、テストピースを別途作製し、第３の実施の形態と同様にして測定した。その結果、各ボンド磁石は、磁石粉末に混合したガラス粉末の量によらず全て約８ＫＯｅの固有保磁力を示した。また比抵抗を測定した結果、全てのボンド磁石について１Ω・ｃｍ以上の値を示した。
【００７７】
次に第３の実施の形態と全く同様にシート状ボンド磁石を着磁して、その表面磁束を測定後、図１および２に示すフェライトのＥＥコア３３の中央磁脚の磁気ギャップに挟み込み、第３の実施の形態と同様に、コイル３５に交流と直流を重畳して印加し、直流重畳特性を測定した。
【００７８】
さらに、第３の実施の形態と全く同様に２００℃恒温槽に実質的に３０分間保持し、再度表面磁束と直流重畳特性を測定した。その結果を表面磁束については表５に、直流重畳特性については表６に示す。
【００７９】
【表５】
0003974773.tif 000006
【００８０】
【表６】
0003974773.tif 000007
【００８１】
表５および表６に示す通り、ガラス粉末の添加量が実質的に０を超え１０ｗｔ％以下の時優れた特性の耐酸化性の磁石が得られる事が分かる。
【００８２】
以上に説明したように、本発明の第２発明によれば、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアであって、その磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用磁石を、固有保磁力ｉＨｃが５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが３００℃以上、粉末粒径が２．０〜５０μｍの希土類磁石粉末を用いたボンド磁石とし、その磁石粉末表面を無機ガラスで被覆し、その粉末と少なくとも体積比で２０％以上の樹脂からなる比抵抗が１Ωｃｍ以上のボンド磁石を用いることによって、直流重畳特性、コアロス特性、耐酸化性に優れた磁気コアを実現できる。
【００８３】
次に本発明のさらにもう一つの発明について説明する。
【００８４】
本発明の第３発明では、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂、エポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミド、液晶ポリマーから選択された一種類の樹脂に磁石粉末が分散されてなり、該樹脂含有量が体積比で３０％以上で、全体の厚みが５００μｍ以下であることを特徴とする薄板磁石が得られる。
【００８５】
ここで、前記磁石粉末は、固有保磁力が１０ＫＯｅ以上、Ｔｃが５００℃以上、粉末平均粒径が２．５〜５０μｍであることが好ましい。
【００８６】
また、薄板磁石においては、前記磁石粉末は、希土類磁石粉末であり、また、表面のグロス（光沢度）が２５％以上であることが好ましい。
【００８７】
また、薄板磁石においては、成形圧縮率が２０％以上であることが好ましい。前記磁石粉末は、表面活性剤でコーティングされている。
【００８８】
又、本発明の薄板磁石において、比抵抗が０．１Ω・ｃｍ以上あることが好ましい。
【００８９】
又、本発明においては、磁路の少なくとも１箇所以上に磁気ギャップを有する磁気コアに、該ギャップ両端から磁気バイアスを供給するために、該磁気ギャップ近傍に永久磁石を配してなる磁気バイアス用磁石を有する磁気コアにおいて、前記永久磁石が、前記した薄板磁石である磁気バイアス用磁石を有する磁気コアである。
【００９０】
前記磁気ギャップは、約５００μｍ以下のギャップ長を有し、前記磁気バイアス用磁石は該ギャップ長以下の厚みを有し、厚み方向に磁化されていることが好ましい。
【００９１】
更に又、本発明のインダクタンス部品は、前記薄板磁石を磁気バイアス用磁石として備えた磁気コアに、１ターン以上の巻線を少なくともひとつ施して、薄型で、直流重畳特性が良好で、コアロス低いインダクタンス部品である。
【００９２】
即ち、本発明においては、磁気コアの磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用の永久磁石として、５００μｍ以下の厚みの薄板磁石の可能性について検討した。その結果、特定樹脂の含有量が体積比で３０％以上の薄板磁石の比抵抗が０．１Ω・ｃｍ以上で固有保磁力が１０ＫＯｅ以上の薄板磁石を使用した時優れた直流重畳特性が得られ、しかもコアロス特性の劣化が生じない磁気コアを形成できる事を発見した。これは、優れた直流重畳特性を得るのに必要な磁石特性は、エネルギー積よりもむしろ固有保磁力であり、従って比抵抗の高い永久磁石を使用しても固有保磁力が高ければ充分に高い直流重畳特性が得られる事を見出したことによる。
【００９３】
比抵抗が高くしかも固有保磁力が高い磁石は、一般的には希土類磁石粉末をバインダーとともに混合して成形した希土類ボンド磁石で得られるが、保磁力の高い磁石粉末であればどのような組成のものでも可能である。希土類磁石粉末の種類はＳｍＣｏ系、ＮｄＦｅＢ系、ＳｍＦｅＮ系とあるが、リフロー等の使用時の熱減磁を考えるとキュリー点Ｔｃが５００℃以上、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上の磁石が必要である。
【００９４】
また、磁石粉末に表面活性材でコーティングすることにより成形体中での粉末の分散が良好となり磁石の特性が向上するためさらに高特性の磁気コアが得られる。
【００９５】
チョークコイル用及びトランス用磁気コアとしては軟磁気特性を有する材料であればなんでも有効であるが、一般的にはＭｎＺｎ系又はＮｉＺｎ系フェライト、圧粉磁気コア、珪素鋼板、アモルファス等が用いられる。また、磁気コアの形状についても特に制限があるわけではなく、トロイダルコア、ＥＥコア、ＥＩコア等あらゆる形状の磁気コアに本発明の適用が可能である。これらコアの磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを設け、そのギャップに薄板磁石を挿入配置する。ギャップ長に特に制限はないがギャップ長が狭すぎると直流重畳特性が劣化し、またギャップ長が広すぎると透磁率が低下しすぎるので、おのずから挿入するギャップ長は決まってくる。磁気コア全体の寸法を小さくするために、ギャップ長を５００μｍに抑える。
【００９６】
次にギャップに挿入される薄板磁石に対する要求特性は、固有保磁力については１０ＫＯｅ以下では磁気コアに印可される直流重畳磁界によって保磁力が消失するのでそれ以上の保磁力が必要であり、また比抵抗は大きいほど良いが０．１Ω・ｃｍ以上であればコアロス劣化の大きな要因にはならない。また、粉末の平均最大粒径が５０μｍ以上になるとコアロス特性が劣化するので、粉末の最大粒径は５０μｍ以下である事が望ましく、最小粒径が２．５μｍ以下になると粉末熱処理及びリフロー時に粉末の酸化による磁化の減少が顕著になるため２．５μｍ以上の粒径が必要で有る。
【００９７】
以下、本第３発明の実施の形態について説明する。
【００９８】
（第５の実施の形態）
Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末とポリイミド樹脂を熱混練機としてラボプラストミルを用いて熱混練を行った。樹脂量としては１５ｖｏｌ％〜４０ｖｏｌ％で変化させそれぞれ混練した。熱混練で得たものを熱プレス機で０．５ｍｍの薄板磁石の成形を試みた。この結果、樹脂の添加量は３０ｖｏｌ％以上でないと成形できないことがわかった。また、本実施の形態ではポリイミド樹脂薄板磁石の結果を示したが、これ以外のエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミド、液晶ポリマーのそれぞれにおいても、同様の結果が得られた。
【００９９】
（第６の実施の形態）
各磁石粉末と各種樹脂とを、それぞれ、下の表７に示す組成でラボプラストミルを用いて熱混練を行った。ラボプラストミルの運転時の設定温度は各樹脂の軟化点よりもそれぞれ５℃高い温度とした。
【０１００】
【表７】
0003974773.tif 000008
【０１０１】
ラボプラストミルで混練したものを、熱プレス機で無磁場中で金型成形する事によりそれぞれ０．５ｍｍの薄板磁石を作製した。この薄板磁石を図１，図２に示すＥ型フェライトコア３３の中央磁脚と同一断面形状に切断した。
【０１０２】
次に、図１，図２に示すように、一般的なＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効断面積０．７４ｃｍのＥＥコアの中央磁脚に０．５ｍｍのギャップ加工をした。そのギャップ部に上記作製した薄板磁石３１を挿入配置して、磁気バイアス磁石３１を有する磁気コアを作製した。同図において、３１が薄板磁石、３３がフェライトコアである。次に、磁石３１を、パルス着磁機でコア３３の磁路方向に着磁後、コア３３にコイル３５を巻き線し、ＨＰ製−４２８４ＬＣＲメーターで、交流磁場周波数１００ｋＨｚ、重畳磁場０〜２００Ｏｅの条件で、インダクタンスＬを測定した。この測定後、２７０℃でリフロー炉で３０分保持した後、インダクタンスＬを再び測定し、この繰り返しで５回測定した。この時の直流重畳による磁界の向きが、磁気バイアス磁石の磁化の向きとは逆になるように直流重畳電流を印可する。得られたインダクタンスＬと、コア定数（コア寸法等）と巻線数から透磁率を計算して、直流重畳特性を得た。各コアの５回の測定に基づく直流重畳特性を図３〜図７に示す。
【０１０３】
図７から、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末をポリプロピレン樹脂に分散した薄板磁石を挿入配置したコアは２回目以降直流重畳特性が大きく劣化していることがわかる。これは、リフローで薄板磁石が変形してしまった為である。保磁力が４ｋＯｅしかないＢａフェライトをポリイミド樹脂に分散した薄板磁石を挿入配置したコアでは、図６に見られるように、測定回数がすすむにつれ、直流重畳特性が大きく劣化することがわかる。逆に、保磁力が１０ｋＯｅ以上の磁石粉末とポリイミドあるいはエポキシ樹脂とを用いた薄板磁石を挿入配置したコアは、図３〜８に見られる通り、繰り返しの測定においても大きな変化は無く、非常に安定した特性を示すことが分かる。これらの結果よりＢａフェライト薄板磁石は保磁力が小さいために、薄板磁石に印可される逆向きの磁界によって減磁、または磁化の反転が起こり、直流重畳特性が劣化したものと推測できる。また、コアに挿入する薄板磁石は保磁力が１０ｋＯｅ以上の薄板磁石において優れた直流重畳特性を示すことが分かった。また、本実施の形態では示さなかったが、本実施の形態以外の組み合わせでもポリフェニレンサルファイト樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミド、液晶ポリマーから選択した樹脂で作製した薄板磁石においても同様の効果が得られることを確認した。
【０１０４】
（第７の実施の形態）
ポリフェニレンサルファイト樹脂３０ｖｏｌ％と、磁石粉末の粒径が１．０μｍ、２．０μｍ、２５μｍ、５０μｍ、５５μｍのＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末とを、それぞれ、ラボプラストミルを用いて熱混練を行った。ラボプラストミルで混練したものを、熱プレス機により無磁場中で金型成形する事によりそれぞれ０．５ｍｍの薄板磁石を作製した。次に、第６の実施の形態と同様に、図１及び図２に示すように、この薄板磁石３１をＥ型フェライトコア３３の中央磁脚と同一断面形状に切断し、図１及び図２に示すようなコアを作製した。次に、薄板磁石３１を、パルス着磁機でコア３３の磁路方向に着磁後、コア４５にコイル４７を巻き線し、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーで、３００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。その測定結果を表８に示す。表８より薄板磁石に用いる磁石の粉末平均粒径が２．５〜５０μｍではコアロス特性が優れていることがわかった。
【０１０５】
【表８】
0003974773.tif 000009
【０１０６】
（第８の実施の形態）
Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末６０ｖｏｌ％とポリイミド樹脂４０ｖｏｌ％とをラボプラストミルを用いてそれぞれ熱混練を行った。熱混練で得たものを熱プレス機でプレス圧を変化させ０．３ｍｍの成形体を作製し、パルス着磁装置で４Ｔで着磁を行い、薄板磁石を作製した。作製した薄板磁石のグロス（光沢度）は、それぞれ１５％〜３３％でプレス圧が高いほどグロスも高い値を示した。これらの成形体を１ｃｍ×１ｃｍに切断を行い、ＴＯＥＩ  ＴＤＦ−５  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｆｌｕｘｍｅｔｅｒでフラックスを測定した結果とグロスの測定結果を表９に並べて示す。
【０１０７】
【表９】
0003974773.tif 000010
【０１０８】
表９の結果から、グロスが２５％以上の薄板磁石では磁石特性が優れている。これは、作製した薄板磁石のグロスが２５％以上では薄板磁石の充填率が９０％以上となるためである。また、本実施の形態ではポリイミド樹脂で実験を行った結果を示したが、これ以外のエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミド、液晶ポリマーから選択された一種類の樹脂でも同様の結果が得られた。
【０１０９】
（第９の実施の形態）
乾燥後の体積比がＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末６０ｖｏｌ％、ポリイミド樹脂４０ｖｏｌ％となるように、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と新日本理化製リカコート（ポリイミド樹脂）に、溶剤としてγ−ブチロラクトンを加えて、円心脱泡機で５分攪拌後、３本ロールで混練を行ってペーストを作製した。溶剤の配合比は、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と新日本理化製リカコートを合わせて７０重量部に対してγ−ブチロラクトンを１０重量部とした。作製したペーストをドクターブレード法により５００μｍのグリーンシートを作製し乾燥を行った。乾燥させたグリーンシートを１ｃｍ×１ｃｍに切断し、プレス圧を変化させ熱プレス機で熱プレスを行い、作製した成形体をパルス着磁装置で４Ｔで着磁を行い、薄板磁石を作製した。比較として、熱プレスを行っていない成形体も着磁して薄板磁石にした。また、今回は上記の配合比で作製したが、これ以外の成分、配合比でも、グリーンシート作製可能なペーストが得られるものであれば良い。また、混練のために三本ロールミルを用いたが、これ以外にもホモジナイザーやサンドミル等を用いても良い。作製した薄板磁石のグロス（光沢度）は、それぞれ９％〜２８％でプレス圧が高いほどグロスも高い値を示した。これらの薄板磁石のフラックスをＴＯＥＩ  ＴＤＦ−５  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｆｌｕｘｍｅｔｅｒで測定した結果を表１０に示す。また、この時の薄板磁石の熱プレスによる圧縮率（＝１−熱プレス後の厚さ／熱プレス前の厚さ）を測定した結果も並べて示す。
【０１１０】
【表１０】
0003974773.tif 000011
【０１１１】
以上の結果から、第８の実施の形態と同様に、グロスが２５％以上では良好な磁石特性が得られる。この理由もグロス２５％以上では薄板磁石の充填率が９０％以上となるためである。また、圧縮率についてみると圧縮率２０％以上で良好な磁石特性が得られることがわかった。
【０１１２】
本実施の形態ではポリイミド樹脂で上記組成、配合比で実験を行った結果を示したが、これ以外のこれ以外のエポキシ樹脂、ポリフェニレンサルファイト樹脂、シリコン樹脂、ポリエステル樹脂、芳香族系ポリアミド、液晶ポリマーから選択された一種類の樹脂及び配合比、においても同様の結果が得られた。
【０１１３】
（第１０の実施の形態）
Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と、界面活性剤としてリン酸ナトリウムを０．５ｗｔ％とを混合した。同様にして、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と、カルボキシメチルセルロースナトリウム０．５ｗｔ％とを混合、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と珪酸ナトリウムとを、それぞれ混合した。これら混合した粉末の、それぞれ、６５ｖｏｌ％と、ポリフェニルサルファイト樹脂３５ｖｏｌ％とをラボプラストミルを用いてそれぞれ熱混練を行った。ラボプラストミルで混練したものを熱プレスにより０．５ｍｍに成型し、第６の実施の形態と同一の、図１及び図２に示すＥ型フェライトコア３３の中央磁脚と同一断面形状に切断し、ＥＥコア３３の中央磁脚ギャップ部に上記作製した薄板磁石３１を挿入配置し、図１及び図２に示すコアを作製した。次に、この薄板磁石３１をパルス着磁機でコア３３の磁路方向に着磁後、コア３３にコイル３５を巻き線し、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーにて、３００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。その測定結果を表１１に示す。比較として、界面活性剤を用いずに、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末６５ｖｏｌ％とポリフェニルサルファイト樹脂３５ｖｏｌ％とをラボプラストミルで混練したものを熱プレスにより０．５ｍｍに成型し、上記と同じフェライトＥＥコアの中央磁脚の磁気ギャップ中に挿入配置し、これをパルス着磁機でコアの磁路方向に着磁後に、コイルを巻き線し、コアロスを測定した。その結果も表１１に並べて示す。
【０１１４】
【表１１】
0003974773.tif 000012
【０１１５】
表１１より界面活性剤を添加したものは良好なコアロス特性を示している。これは、界面活性剤を添加することにより、１次粒子の凝集を防止し、渦電流損を抑制したためである。本実施の形態ではリン酸塩を添加した結果を示したがこれ以外の界面活性剤を添加しても同様に、コアロス特性が良好である結果が得られた。
【０１１６】
（第１１の実施の形態）
Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末とポリイミド樹脂とをラボプラストミルで熱混練した後、熱プレス機で無磁場中でプレス成形する事により厚さ０．５ｍｍの薄板磁石を作製した。ここでポリイミド樹脂の樹脂量を調節する事により、比抵抗が各々０．０５、０．１、０．２、０．５、１．０Ω・ｃｍの薄板磁石を作製した。その後、第６の実施の形態と同様に、図１及び図２のＥ型フェライトコア４５の中央磁脚と同一断面形状に加工した。次にこのＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長７．５ｃｍ、実効断面積０．７４ｃｍのＥＥコア４５の中央磁脚の磁気ギャップに上記作製した薄板磁石３１を挿入配置し、電磁石で磁路方向に着磁後、コイル３５を巻き線し、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーで、３００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。ここで測定に使用したフェライトコアは同一のものであり、磁石だけを比抵抗の異なるものと交換して、コアロスを測定したその結果を表１２に示す。
【０１１７】
【表１２】
0003974773.tif 000013
【０１１８】
表１２より比抵抗０．１Ω・ｃｍ以上の磁気コアでは良好なコアロス特性を示していることがわかる。これは、薄板磁石の比抵抗をあげることにより渦電流損失を抑制できるためである。
【０１１９】
（第１２の実施の形態）
各種磁石粉末と各種樹脂とを各々表１３に示す組成で、以下の記載した方法で混練、成形、加工して厚さ０．５ｍｍの試料を作製した。ここでＳｍ２Ｃｏ１７系紛末とフェライト紛末は焼結体の粉砕粉末であり、Ｓｍ２Ｆｅ１７Ｎ紛末は還元拡散法で作製したＳｍ２Ｆｅ１７紛末を窒化処理した紛末であり、各粉末は平均粒径で約５μｍであった。芳香族系ポリアミド樹脂（６Ｔナイロン）とポリプロピレン樹脂はラボプラストミルを用いてＡｒ中３００℃（ポリアミド）、２５０℃（ポリプロピレン）で熱混練後、熱プレス機で成形し試料を作製した。可溶性ポリイミド樹脂は溶剤としてγ−ブチロラクトンを加えて遠心脱泡機で５分間攪拌してペーストを作製後、ドクターブレード法により出来あがりが５００μｍになるようにグリーンシートを作製し、乾燥後、熱プレスによって試料を作製した。エポキシ樹脂はビーカーで攪拌混合後金型成形し適当なキュア条件により試料を作製した。これら試料の比抵抗は全て０．１Ωｃｍ以上であった。
【０１２０】
この薄板磁石を以下に説明するフェライトコアの中芯断面形状に切断した。コアは一般的なＭｎＺｎ系フェライト材で作製された磁路長５．９ｃｍ、実効断面積０．７４ｃｍのＥＥコアであり中芯には０．５ｍｍのギャップ加工をした。そのギャップ部に上記作製した薄板磁石を挿入し、図１及び図２に示すように配置した（３１が薄板磁石、３３がフェライトコア、３５は巻き線部）。
【０１２１】
次にパルス着磁機で磁路方向に着磁後、Ｈｅｗｌｅｔ  Ｐａｃｋａｒｄ製ＨＰ−４２８４Ａ  ＬＣＲメーターで直流重畳特性を交流磁場周波数１００ＫＨｚ、直流重畳磁場３５  Ｏｅの実効透磁率を測定した。
【０１２２】
次にこれらコアを２７０℃のリフロー炉で３０分間保持した後、再び直流重畳特性を全く同じ条件で測定した。
【０１２３】
比較例として、ギャップに磁石を挿入しないものについても同様に測定し、これはリフロー前後で特性の変化はなく、実効透磁率μｅは７０であった。
【０１２４】
これらの結果を表１３に、また結果の１例として図７に試料▲２▼と▲４▼と比較例との直流重畳特性を示す。また直流バイアス磁界の向きは、挿入時に着磁した磁石の磁化の向きとは逆になるように重畳電流を印可するのはもちろんのことである。
【０１２５】
なおポリプロピレン樹脂の薄板磁石を挿入したコアは、磁石が著しく変形したため測定出来なかった。
【０１２６】
保磁力が４ＫＯｅしかないＢａフェライトの薄板磁石を挿入したコアではリフロー後、直流重畳特性が大きく劣化することがわかる。またＳｍ２Ｆｅ１７Ｎの薄板磁石を挿入したコアでもリフロー後、直流重畳特性が大きく劣化することがわかる。逆に、保磁力が１０ＫＯｅ以上でＴｃが７７０℃と高いＳｍ２Ｃｏ１７の薄板磁石を挿入したコアは、特性の劣化が認められず、非常に安定した特性を示すことが分かる。
【０１２７】
これらの結果よりＢａフェライト薄板磁石は保磁力が小さいために、薄板磁石に印可される逆向きの磁界によって減磁、または磁化の反転が起こり、直流重畳特性が劣化したものと推測でき、またＳｍＦｅＮ磁石は保磁力が高いもののＴｃが４７０℃と低いために熱減磁が生じ、それに逆向きの磁界による減磁の相乗効果により特性が劣化したと推測される。従って、コアに挿入する薄板磁石は保磁力が１０ＫＯｅ以上でＴｃが５００℃以上の薄板磁石において優れた直流重畳特性を示すことが分かった。
【０１２８】
また、本実施の形態では示さなかったが、本実施の形態以外の組み合わせでも、請求の範囲で示した樹脂で作製した薄板磁石においても同様の効果が得られることを確認した。
【０１２９】
【表１３】
0003974773.tif 000014
【０１３０】
（第１３の実施の形態）
第１２の実施の形態と全く同じＳｍ２Ｃｏ１７系磁石粉末（ｉＨｃ＝１５ｋＯｅ）と可溶性ポリアミドイミド樹脂（東洋紡バイロマックス）を加圧ニーダーで混練後、プラネタリーミキサーで希釈混練したものを遠心脱泡機で５分間攪拌してペーストを作製した。ペーストはドクターブレード法により乾燥後の厚みが約５００μｍになるようにグリーンシートを作製し、乾燥後、熱プレス、次に厚さ０．５ｍｍに加工し、薄板磁石試料とした。ここでポリアミドイミド樹脂の樹脂量は、比抵抗が各々０．０６、０．１、０．２、０．５、１．０Ω・ｃｍとなるように表１４のとおりに調製した。これらの薄板磁石を第５の実施の形態と全く同じコアの中芯断面形状に切断し、測定試料とした。
【０１３１】
次に、第１２の実施の形態と全く同じ０．５ｍｍのギャップ長を有するＥＥコアに上記作製した薄板磁石を挿入し、パルス着磁機で磁石を着磁した。これらのコアについて、岩崎通信機製のＳＹ−８２３２交流ＢＨトレーサーを用いて３００ＫＨｚ、０．１Ｔにおけるコアロス特性を室温で測定した。ここで測定に使用したフェライトコアは同一のものであり、比抵抗の異なる磁石だけを交換、挿入し再びパルス着磁機で着磁後コアロス特性を測定した。
【０１３２】
その結果を表１４に示す。比較例として、全く同じギャップ付のＥＥコアの、同じ測定条件でのコアロス特性は５２０（ＫＷ／ｍ３）であった。表１４から、比抵抗０．１Ωｃｍ以上の磁気コアで良好なコアロス特性を示している。これは薄板磁石の比抵抗をあげると渦電流損失を抑制できるためと推測される。
【０１３３】
【表１４】
0003974773.tif 000015
【０１３４】
（第１４の実施の形態）
Ｓｍ（Ｃｏ０．７４２Ｆｅ０．２０Ｃｕ０．０５５Ｚｒ０．０２９）７．７組成の焼結磁石（ｉＨｃ＝１５ＫＯｅ）から、粉砕時間を変えて平均粒径の異なるものを用意し、次に径の異なるふるいを通じで最大粒径を調整した。
【０１３５】
乾燥後の体積比がＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末６０ｖｏ１％とポリイミド樹脂４０ｖｏｌ％となるように、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と新日本理化製リカコート（ポリイミド樹脂）に溶剤としてγ−ブチロラクトンを加えて円心脱泡機で５分攪拌してペーストを作製した。溶剤の配合比は、Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末と新日本理化製リカコートを合わせて７０重量部に対してγ−ブチロラクトンを１０重量部とした。作製したペーストをドククーブレード法により５００μｍのグリーンシートを作製し乾燥、熱プレスを行った。これをフェライトコアの中芯形状に切断後、パルス着磁装置を使用して４Ｔで着磁を行い、薄板磁石を作製した。これらの薄板磁石のフラックスをＴＯＥＩ  ＴＤＦ−５  Ｄｉｇｉｔａｌ  Ｆｌｕｘ  ｍｅｔｅｒ  で測定した結果を表１５に示す。さらに第１２の実施の形態と同様にフェライトコアにはさんで直流重畳特性を測定し、次にバイアス量を測定した。バイアス量は透磁率と重畳磁界の大きさの積で求めた。
【０１３６】
【表１５】
0003974773.tif 000016
【０１３７】
平均粒径が２．１μｍの試料▲１▼はフラックスが低下しており、バイアス量が小さい。これは作製工程中で磁石粉末の酸化が進行しているためと考えられる。また平均粒径が大きい試料▲４▼は、粉末充填率が低いためフラックスが低く、また磁石の表面粗さが粗いため、コアとの密着性が悪くパーミアンス係数が低下するため、バイアス量が低下していると考えられる。また、粒径が小さいものでも、プレス圧が充分でなく表面粗さの大きい試料▲５▼は、粉末の充填率が低いためフラックスが低下しており、バイアス量が小さい。また粗大粒が混ざっている試料▲６▼は表面粗さが粗いため、バイアス量が低下していると考えられる。
【０１３８】
これらの結果より、磁性粉の平均粒径が２５μｍ以上で、かつ最大粒径が５０μｍであり、中心線平均粗さが１０μｍ以下の薄板磁石を挿入したとき、薄板磁石そ挿入したときに、優れた直流重畳特性を示すことがわかった。
【０１３９】
（第１５の実施の形態）
Ｓｍ２Ｃｏ１７系でＺｒ量が０．０１ａｔ％で組成がＳｍ（Ｃｏ０．７８Ｆｅ０．１１Ｃｕ０．１０Ｚｒ０．０１）８．２の俗に第２世代Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石と呼ばれる組成のインゴットを粗粉砕後に熱処理した磁石紛末と、Ｚｒ量が０．０２９ａｔ％で組成がＳｍ（Ｃｏ０．０７４２Ｆｅ０．２０Ｃｕ０．０５５Ｚｒ０．０２９）８．２の俗に第３世代Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石と呼ばれる組成のインゴツドを粗粉砕後に熱処理した磁石粉末を用いた。上記第２世代Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末は８００℃で１．５Ｈｒの時効熱処理を行い、第３世代Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石は８００℃で１０Ｈｒの時効熱処理を行った。これによってＶＳＭで測定された磁石粉末の保磁力は、第２世代か８ＫＯｅで第３世代が２０ＫＯｅであった。これらの粗粉砕粉末を、有機溶媒中でボールミルにより平均粒径５．２μｍに微粉砕し、さらに目開き４５μｍの篩を通し、磁石粉末を得た。次にこれら作製した磁石粉末にそれぞれバインダーとしてエポキシ樹脂を３５ｖｏ１％混合し、第１２の実施の形態と全く同しＥＥコアの中芯形状と厚み０．５ｍｍのボンド磁石を金型成形により作製した。ここで磁石特注はφ１０×ｔ１０のテストピースを別途作製し、直流ＢＨトレーサーで測定した。
【０１４０】
保磁力は粗粉砕粉末とほほ同様の値であった。次にこれら磁石を第１２の実施の形態と全く同じＥＥコアに挿入後、パルス着磁、巻き線後、ＬＣＲメータで４０Ｏｅ直流重畳時の１００ＫＨｚにおける実効透磁率を測定した。次に、これらコアをリフロー炉の条件である２７０℃の恒温槽で１Ｈｒ保持した後、上記と同様に直流重畳特性を測定した。その結果も表１６に示す。
【０１４１】
【表１６】
0003974773.tif 000017
【０１４２】
表１６より保磁力の高い第３世代Ｓｍ２Ｃｏ１７磁石粉末を使用した場合、リフロー後も良好な直流重畳特性が得られることがわかった。なお、Ｓｍと遷移金属の比で保磁力のピークを有することが知られているが、この最適値の組成比は合金に含有される酸素量によって変動することが知られており、焼結体は７．０〜８．０でインゴットは８．０〜８．５の間で変動することを確認している。以上より組成が第３世代であるＳｍ（Ｃｏｂａｌ．Ｆｅ０．１５−０．２５Ｃｕ０．０５−０．０６Ｚｒ０．０２−０．０３）７．０−８．５でリフロー条件でも直流重畳特性が良好であることがわかった。
【０１４３】
（第１６の実施の形態）
第１４の実施の形態の試料▲３▼で作製した、組成がＳｍ（Ｃｏ０．７４２Ｆｅ０．２０Ｃｕ０．０５５Ｚｒ０．０２９）７．７で粒径が平均で５μｍ、最大粒径で４５μｍの磁石紛末を用いた。その磁石粉末の表面にＺｎ、無機ガラス（ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ）軟化点４００℃、Ｚｎ後更に無機ガラス（ＺｎＯ‐Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ）を被覆した薄板磁石を第１３の実施の形態の試料▲２▼と全く同様の方法で作製し、それを挿入したＭｎ‐Ｚｎ系フェライトコアの直流重畳特性は第１２の実施の形態と全く同様に測定後バイアス量を求め、コアロス特性は第１３の実施の形態と全く同様の方法で測定し、比較を行った結果を表１７に示す。
【０１４４】
ここでＺｎは磁石粉末と混合後、５００℃，Ａｒ雰囲気下で２時間熱処理を施した。ＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯは熱処理温度が４５０℃以外は全く同じ方法で熱処理した。一方、複合層を形成するためには始めにＺｎと磁石粉末とを混合し５００℃で熱処理し、ここで一旦炉から取り出してこの粉末とＺｎＯ−Ｂ２Ｏ３−ＰｂＯ粉末を混合後、４５０℃で熱処理する。これら紛末は総体積の４５ｖｏｌ％に当たる量のバインター（エポキシ樹脂）を混合した後、無磁場中で金型成形を行った。成形体は第１２の実施の形態と全く同じフェライトコアの中芯断面形状でかつ高さ０．５ｍｍでありコアに挿入後約１０Ｔのパルス磁場で着磁して、第１２の実施の形態と同じ方法で直流重畳特性と第１３の実施の形態と同じ方法でコアロス特性とを測定した。次にこれらコアを２７０℃の恒温糟で３０分間保持した後、同様に直流重畳特性、コアロス特性を測定した。比較例として被覆していない粉末でも全く同じ方法で成形体を作製後、特性を測定した結果も表１７に示す。
【０１４５】
未被覆のものは熱処理により大きく直流重畳特性、コアロス特性が劣化するが、Ｚｎ、無機ガラス、及びその複合体を被覆したものは未被覆のものに比へ、熱処理における劣化率は非常に小さいことが分かる。これは被覆により磁石粉末の酸化が抑制されたためと推測できる。
【０１４６】
また被覆材を１０ｖｏ１％以上混合したものについては実効透磁挙が低く、磁石によるバイアス磁界の大きさが他のものに比へ非常に小さくなっていることか分かる。これは被覆材の量が増大したために、磁石粉末の割合が減少したため、もしくは磁石粉末と被覆材が反応し磁化の大きさが減少したためと考えられる。従って被覆する量は０．１〜１０ｗｔ％の範囲で非常に優れた特性を示すことが分かった。
【０１４７】
【表１７】
0003974773.tif 000018
【０１４８】
（第１７の実施の形態）
第１４の実施の形態の試料▲３▼のＳｍ２Ｃｏ１７磁石劾末を用い、バインダーとしてエポキシ樹脂を５０ｖｏ１％混合した後、２Ｔの磁場中で中足上下方向に金型成形し異方性の磁石を作製した。また、比較例として無磁場中で金型成形したものも同様に作製した。次にこれらの各ボンド磁石を第１２の実施の形態と同様にＭｎＺｎ系フェライト材に挿入し、パルス着磁、巻き線を施し、ＬＣＲメーターで直流重畳特性を測定し、コア定数と巻線数から透磁率を計算した。その結果を表１８に示す。
【０１４９】
また、測定が終わった試料をリフローの条件である２７０℃の恒温糟で１Ｈｒ保持し常温まで冷却し上記と同様にＬＣＲメーターて直流重畳特注を測定した。その結果も表１８に示す。
【０１５０】
表１８よりリフロー前後とも無磁場磁石に比べ良好な結果が得られることがわかった。
【０１５１】
【表１８】
0003974773.tif 000019
【０１５２】
（第１８の実施の形態）
第１４の実施の形態の試料（３）のＳｍ２Ｃｏ１７磁石粉末を用い、バインダーとしてエポキシ樹脂を５０ｖｏ１％混合した後、無磁場中で金型成形し０．５ｍｍ厚の磁石を作製したところまでは第２０の実施の形態と全く同じである。次に第１２の実施の形態と同様にＭｎＺｎ系フェライト材に挿入し着磁を行った。このときの磁場を１Ｔ、２Ｔ、２．５Ｔ、３Ｔ、５Ｔ、１０Ｔで着磁を行った。１Ｔ、２Ｔ、２５Ｔは、電磁石で着磁し、３Ｔ、５Ｔ、１０Ｔはパルス着磁機で着磁した。その後、ＬＣＲメーターで直流重畳物性を測定し、コア定数と巻線数から透磁率を計算した。その結果から第１７の実施の形態で求めた方法でバイアス量を求めその結果を図９に示す。
【０１５３】
図９より２．５Ｔ以上でないと良好な重畳特性が得られないことがわかった。
【０１５４】
（第１９の実施の形態）
図１０及び図１１を参照すると、本発明の第１９の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品において、使用するコア３９は、ＭｎＺｎ系フェライト材で作製され磁路長２．４６、実効断面積０．３９４ｃｍ２のＥＥ型磁芯を形成する。図１１のように、Ｅ型コア３９に、モールドコイル（樹脂封止された巻線（巻回数４ターン））４１を組み込んだ後、さらにＥ型コア３９の中脚断面積と同形状に加工された、厚み０．１６ｍｍの薄板磁石４３を、コアキャップ部に配置して、もう片側のコア３９により挾みこんでインダクタンス部品として機能するものである。
【０１５５】
薄型磁石４３の着磁方向は、モールドコイルが作る磁界と逆向きに着磁されているものとする。
【０１５６】
薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図１２の４５（前者）と４７（後者）に示す。
【０１５７】
またリフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。
【０１５８】
（第２０の実施の形態）
図１３及び図１４を参照すると、本発明の第２０の実施の形態において、使用するコアは第１９の実施の形態と同様、ＭｎＺｎ系フェライト材で作製され磁路長２．４６ｃｍ、実効断面積０．３９４ｃｍの磁芯を形成するが、ＥＩ型磁芯を形成してインダクタンス部品として機能する。組立工程も第１９の実施の形態と同様であるが、片側のフェライトコア５３の形状は、Ｉ型である。
【０１５９】
薄型磁石を適用した直流重畳インダクタンス特性、及びリフロー炉に通した後の直流重畳インダクタンス特性は、第１９の実施の形態と変化はない。
【０１６０】
（第２１の実施の形態）
図１５及び図１６を参照すると、本発明の第２１の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品においては、使用するコア６５はＭｎＺｎ系フェライト材で作製され磁路長０．０２ｍ、実効断面積５×１０−６ｃｍのＵＵ型磁芯を形成する。図１６のように、ボビン６３にコイル６７を巻回し、一対のＵ型コア６５を組み込む際、Ｕ型コア６５の断面積（接合部）と同形状に加工された、厚み０２ｍｍの薄板磁石６９を、コアギャップ部に配置する。これにより、透磁率４×１０−３Ｈ／ｍのインダクタンス部品として機能するものである。
【０１６１】
薄型磁石６９の着磁方向は、コイルが作る磁界と逆向きに着磁されているものとする。
【０１６２】
薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図１７の７１（前者）と７３（後者）に示す。
【０１６３】
上記直流重畳インダクタンス特性の結果は、一般に磁芯を形成するコアの使用磁束密度（△Ｂ）の拡大を示していることと等価であり（図１８により補足，図１８の７５は従来のインダクタンス部品に対するコアの使用領域を示し、図１８の７７は本発明による薄板磁石を連用したインダクタンス部品のコアの使用領域を示す。これらの図は、前記直流重畳インダクタンス特性の結果７１と７７と７３と７５の各々対応する）インダクタンス部品の一般的な理論式は次の数１式により表わされる。
【０１６４】
【数１】
0003974773.tif 000020
【０１６５】
この数１式より、前記使用磁束密度（△Ｂ）拡大の効果は、巻回数Ｎと磁芯の実効断面積Ａｅの逆数に比例し、前者はインダクタンス部品の巻回数を減らすことで銅損失低減の効果とインダクタンス部品の小型化をもたらし、後者は、磁芯を形成するコアの小型化に寄与して、前記巻回数低減による小型化と併せて、インダクタンス部品の小型化に大きく寄与することか明らかである。トランスにおいては一次及び二次コイル巻回数を低減できるため、その効果は絶大である。
【０１６６】
さらに出力電力に関する式を数２式に示すが、この式から使用磁束密度（△Ｂ）拡大効果は、出力電力拡大の効果にも作用していることが言える。
【０１６７】
【数２】
0003974773.tif 000021
【０１６８】
また、インダクタンス部品の信頼性に関し、リフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。
【０１６９】
（第２２の実施の形態）
図１９及び図２０を参照すると、本発明の第２２の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品では、使用するコアは第２１の実施の形態と同様、ＭｎＺｎ系フェライト材で作製され磁路長０．０２ｍ、実効断面積５×１０−６ｍ２の磁芯を形成するか、ＵＩ型磁芯を形成してインダクタンス部品として機能する。図２０のように、ボビン８５にコイル８３を巻回し、Ｉ型コア８７をボビン８５に組み込んだ後、Ｕ型コア８９の断面積（接合部）と同形状に加工された、厚み０．１ｍｍの薄板磁石９１を、コイルを巻回したボビンの両翼部（Ｉ型コア８７がボビンからはみ出す部分）に各１枚（両翼で２枚）づつ配置して、Ｕ型コア８９を組み込んで完成する。
【０１７０】
薄型磁石を適用した直流重畳インダクタンス特性、及びリフロー炉投入後の直流重畳インダクタンス特性は、第２１の実施の形態と変化はない。
【０１７１】
（第２３の実施の形態）
図２１及び図２２を参照すると、本発明の第２３の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品においては、使用する４本のＩ型コア９５は珪素鋼で作製され、磁路長０．２ｍ、実効断面積１×１０−４ｍ２の口の字型磁芯を形成する。図２１のように、絶縁紙９７を備えた２つのコイル９９に、各１本ずつＩ型コア９５を挿入し、口の字の磁路を形成するように、もう２本のＩ型コア９５を組む。その接合部に本発明による薄板磁石１２３を配置して、透磁率２×１０−２Ｈ／ｍの口の字型の磁路を形成してインダクタンス部品として機能する。
【０１７２】
薄型磁石１０１の着磁方向は、コイルが作る磁界と逆向きに着磁されているものとする。
【０１７３】
薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図２３の１１０３（前者）と１０５（後者）に示す。
【０１７４】
上記直流重畳インダクタンス特性の結果は、一般に磁芯を形成するコアの使用磁束密度（△Ｂ）の拡大を示していることと等価であり（図２４により補足，図２４の１０７は従来のインダクタンス部品に対するコアの使用領域を示し、図２４の１０９は本発明による薄板磁石を適用したインダクタンス部品のコアの使用領域を示す。これらの図は、前記直流重畳インダクタンス特性の結果１０３と１０５、１０９と１０７の各々対応する）、インダクタンス部品の一般的な理論式は次の数３式により表わされる。
【０１７５】
【数３】
0003974773.tif 000022
【０１７６】
この数３式より、前記使用磁束密度（△Ｂ）拡大の効果は、巻回数Ｎと磁芯の実効断面積Ａｅの逆数に比例し、前者はインダクタンス部品の巻回数を減らすことで銅損失低減の効果とインダクタンス部品の小型化をもたらし、後者は、磁芯を形成するコアの小型化に寄与して、前記巻回数低減による小型化と併せて、インダクタンス部品の小型化に大きく寄与することか明らかである。トランスにおいては一次及び二次コイル巻回数を低減できるため、その効果は絶大である。
【０１７７】
さらに出力電力に関する式を数４式に示すが、この式から使用磁束密度（△Ｂ）拡大効果は、出力電力拡大の効果にも作用していることが言える。
【０１７８】
【数４】
0003974773.tif 000023
【０１７９】
また、インダクタンス部品の信頼性に関し、リフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。
【０１８０】
（第２４の実施の形態）
図２５及び図２６を参照すると、本発明の第２４の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品においては、凹状のくぼみを有する口の字型コア１１３とＩ型コア１１５、コイル１１７が巻線されたボビン１１９及び薄板磁石１２１で構成される。図２６のように、薄板磁石１２１は、口の字型コア１１３の凹状くぼみ部、すなわち口の字型コア１１３とＩ型コア１１５の接合部に配置される。
【０１８１】
ここで使用の口の字型コア１１３及びＩ型コア１１５は、ＭｎＺｎ系フェライト材で、磁路長６．０ｃｍ、実効断面積０．１ｃｍ２の日の字型磁芯を形成する。
【０１８２】
また、薄板磁石１２１は、厚み０．２５ｍｍ、断面積０．１ｃｍ２であって、コイルが作る磁界と逆向きに着磁されているものとする。
【０１８３】
コイル１１７は１８ターン巻回されており、本インダクタンス部品の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図２７の１２３（前者）と１２５（後者）に示す。
【０１８４】
またリフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。
【０１８５】
（第２５の実施の形態）
図２８及び図２９を参照すると、本発明の第２５の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品は、凸状コア１３５にコイル１３１が巻線され凸状コア１３５の凸部上面に、この凸部上面と同形状（０．０７ｍｍ）で、厚み１２０μｍの薄板磁石１３３を配置して、円筒状のキャップコア１２９を被せて構成されているものである。
【０１８６】
ここで使用の凸状コア１３５及び円筒状のキャップコア１２９は、ＮｉＺｎ系フェライト材で、磁路長１．８５ｃｍ、実効断面積０．０７ｃｍ２の磁芯を形成する。
【０１８７】
また薄板磁石１３３は、コイルが作る磁界と逆向きに着磁されているものとする。
【０１８８】
コイル１３１は１５ターン巻回されており、本インダクタンス部品の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性を測定し、結果を図３０の１３９（前者）と１４１（後者）に示す。
【０１８９】
またリフロー炉（ピーク温度２７０℃）に通した後、上記同様直流重畳インダクタンス特性を測定し、その結果、リフロー前の結果と同様である事を確認した。
【０１９０】
以上説明したように、本発明の３発明によれば、５００μｍ以下の薄板磁石が得られ、この薄型磁石を磁気バイアス磁石として使用することにより、小型で、高周波における磁気コアの直流重畳特性が向上した且つリフロー温度でも特性の劣化のない磁気コア及び、この磁気コアを用いて、リフローにて特性の劣化の恐れなく表面実装を可能としたインダクタンス素子を提供することができる。
【０１９１】
【発明の効果】
以上に説明したように、本発明においては、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアであって、その磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用磁石を、固有保磁力ｉＨｃが１０ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが５００℃以上、粉末粒径が２．５〜５０μｍの希土類磁石粉末を用いたボンド磁石とし、その磁石粉末表面を無機ガラスで被覆し、その粉末と少なくとも体積比で３０％以上の樹脂からなる比抵抗が１Ωｃｍ以上のボンド磁石を用いることによって、直流重畳特性、コアロス特性、耐酸化性に優れた磁気コアを提供することができる。
【０１９２】
また、本発明においては、磁路の少なくとも１箇所以上にギャップを有する磁気コアであって、その磁気ギャップに挿入配置する磁気バイアス用磁石を、固有保磁力ｉＨｃが５ＫＯｅ以上、キュリー点Ｔｃが３００℃以上、粉末粒径が２．０〜５０μｍの希土類磁石粉末を用いたボンド磁石とし、その磁石粉末表面を無機ガラスで被覆し、その粉末と少なくとも体積比で２０％以上の樹脂からなる比抵抗が１Ωｃｍ以上のボンド磁石を用いることによって、直流重畳特性、コアロス特性、耐酸化性に優れた磁気コアを提供することができる。
【０１９３】
また、本発明においては、５００μｍ以下の薄板磁石が得られ、この薄型磁石を磁気バイアス磁石として使用することにより、小型で、高周波における磁気コアの直流重畳特性が向上した且つリフロー温度でも特性の劣化のない磁気コア及び、この磁気コアを用いて、リフローにて特性の劣化の恐れなく表面実装を可能としたインダクタンス部品を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１は本発明の１実施の形態によるチョークコイルのコイル巻回前の一例を示す斜視図である。
【図２】図１のチョークコイルの側面図である。
【図３】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ２Ｃｏ１７磁石とポリイミド樹脂からなる薄板磁石の直流重畳特性の測定データを示す図である。
【図４】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ２Ｃｏ１７磁石とエポキシ樹脂からなる薄板磁石の直流重畳特性の測定データを示す図である。
【図５】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ２Ｃｏ１７Ｎ磁石とポリイミド樹脂からなる薄板磁石の直流重畳特性の測定データを示す図である。
【図６】本発明の第６の実施の形態におけるＢａフェライト磁石とポリイミド樹脂からなる薄板磁石の直流重畳特性の測定データを示す図である。
【図７】本発明の第６の実施の形態におけるＳｍ２Ｃｏ１７磁石とポリプロピレン樹脂からなる薄板磁石の直流重畳特性の測定データを示す図である。
【図８】本発明の第１２の実施の形態における試料２および４からなる薄板磁石を用いた場合と、薄板磁石を用いない場合について、リフロー前後における直流重畳特性の測定データを示す図である。
【図９】本発明の第１８の実施の形態におけるＳｍ２Ｃｏ１７磁石−エポキシ樹脂薄板磁石の着磁磁界と直流重畳特性を示す図である。
【図１０】本発明の第１９の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図である。
【図１１】図１０のインダクタンス部品の分解組立斜視図である。
【図１２】本発明の第１９の実施の形態の薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性の測定結果を示す図である。
【図１３】本発明の第２０の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図である。
【図１４】図１３のインダクタンス部品の分解組立斜視図である。
【図１５】本発明の第２１の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図である。
【図１６】図１５のインダクタンス部品の分解組立斜視図である。
【図１７】本発明の第２１の実施の形態の薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性の測定結果を示す図である。
【図１８】（ａ）は従来のインダクタンス部品のコア使用領域を示す図である。
（ｂ）は本発明の第２２の実施の形態による薄型磁石を適用した場合のインダクタンス部品のコア使用領域を示す図である。
【図１９】本発明の第２２の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図である。
【図２０】図１９のインダクタンス部品の分解組立斜視図である。
【図２１】本発明の第２３の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図である。
【図２２】図２１のインダクタンス部品の分解組立斜視図である。
【図２３】図２３は薄型磁石を適用した場合の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性の測定結果を示す図である。
【図２４】（ａ）は従来のインダクタンス部品に対するコアの使用領域を示す図である。
（ｂ）は本発明の第２３の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品のコアの使用領域を示す図である。
【図２５】本発明の第２４の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品を示す外観斜視図である。
【図２６】図２５のインダクタンス部品の磁路を形成するコアと薄板磁石の構成斜視図である。
【図２７】本発明の薄板磁石を適用した場合のインダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性を測定結果を示す図である。
【図２８】本発明の第２５の実施の形態による薄板磁石を適用したインダクタンス部品の断面図を示す図である。
【図２９】図２８のインダクタンス部品の磁路を形成するコアと薄板磁石の構成斜視図である。
【図３０】図３０は本発明の第２５の実施の形態によるインダクタンス部品の直流重畳インダクタンス特性と、比較として薄型磁石を適用しない場合の直流重畳インダクタンス特性の測定結果を示す図である。
【符号の説明】
３１    磁石
３３    コア
３５    コイル
３７    インダクタンス部品
３９    コア
４１    コイル
４３    磁石
５１    インダクタンス部品
５３    コア
５５    コア
５９    磁石
６１    インダクタンス部品
６３    ボビン
６５    コア
６７    巻線（コイル）
６９    磁石
８１    インダクタンス部品
８３    コイル
８５    ボビン
８７    コア
８９    コア
９１    磁石
９３    インダクタンス部品
９５    コア
９７    絶縁紙
１０１    磁石
１１１    インダクタンス部品
１１３    コア
１１５    コア
１１７    コイル
１１９    ボビン
１２１    磁石
１２７    インダクタンス部品
１２９    コア
１３１    コイル
１３３    磁石
１３５    コア
１３７    端子
【図１】
0003974773.tif 000024
【図２】
0003974773.tif 000025
【図３】
0003974773.tif 000026
【図４】
0003974773.tif 000027
【図５】
0003974773.tif 000028
【図６】
0003974773.tif 000029
【図７】
0003974773.tif 000030
【図８】
0003974773.tif 000031
【図９】
0003974773.tif 000032
【図１０】
0003974773.tif 000033
【図１１】
0003974773.tif 000034
【図１２】
0003974773.tif 000035
【図１３】
0003974773.tif 000036
【図１４】
0003974773.tif 000037
【図１５】
0003974773.tif 000038
【図１６】
0003974773.tif 000039
【図１７】
0003974773.tif 000040
【図１８】
0003974773.tif 000041
【図１９】
0003974773.tif 000042
【図２０】
0003974773.tif 000043
【図２１】
0003974773.tif 000044
【図２２】
0003974773.tif 000045
【図２３】
0003974773.tif 000046
【図２４】
0003974773.tif 000047
【図２５】
0003974773.tif 000048
【図２６】
0003974773.tif 000049
【図２７】
0003974773.tif 000050
【図２８】
0003974773.tif 000051
【図２９】
0003974773.tif 000052
【図３０】
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