(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の重合体若しくは共重合体を基材とし、充填剤を含む少なくとも１種の重合体組成物を基材とするタイヤカバーよりなる最終製品、又は
少なくとも１種の重合体若しくは共重合体を基材とし、充填剤を含む少なくとも１種の重合体組成物を基材とする内部ゴムを有するタイヤよりなる最終製品であり、
上記充填剤は、少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤がその構造内に層間された、焼成されたハイドロタルサイトを含有する重合体組成物補強用充填剤である最終製品。
【請求項２】
焼成ハイドロタルサイトが脱炭酸されている請求項１に記載の最終製品。
【請求項３】
ハイドロタルサイトが少なくとも１種の２価陽イオンと少なくとも１種の３価陽イオンを含む請求項１又は２に記載の最終製品。
【請求項４】
上記重合体又は共重合体が−１５０℃〜＋３００℃の少なくとも一つのガラス転移温度を示す請求項１〜３のいずれかに記載の最終製品。
【請求項５】
上記重合体組成物が少なくとも１種のカップリング剤及び／又は少なくとも１種の被覆剤を更に含む請求項１〜４のいずれかに記載の最終製品。
【請求項６】
その組成物が天然ゴムから主としてなるタイヤである請求項１〜５のいずれかに記載の最終製品。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
本発明は、焼成された及び（又は）少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤を使用して層間されたハイドロタルサイトの、重合体組成物用充填剤としての使用に関する。
また、本発明は、このようにして得られた重合体組成物に関する。
更に、本発明は、これらの組成物を基材とした最終物品、特にタイヤカバーに関する。
【０００２】
重合体、特にエラストマーに補強用白色充填剤、例えば沈降シリカを使用することは周知である。しかし、その結果は、常に希望されたものではない。
【０００３】
本発明の目的は、性質に関して、特に、
・高分散性沈降シリカに少なくとも匹敵できる良好な流動学的性質及び優秀な加硫適性、
・特に有益な動的性質、特に、重合体組成物を基材としたタイヤのためにむしろ低いロール抵抗をもたらす比較的低い大きさのペイン（Ｐａｙｎｅ）効果及び（又は）これらの組成物を基材としたタイヤのために改善された接着性をもたらす０℃でのむしろ高いタンジェントδ、
・モジュラスの面からの良好な強化、
・熱老化及びＵＶ（紫外線）老化に対する一般的に高い抵抗性
に関して非常に満足できる妥協を重合体組成物に与えるもう一つの充填剤を提供することである。
【０００４】
この目的のために、本発明の主題は、焼成された及び（又は）少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤により層間された少なくとも１種のハイドロタルサイトの、重合体を含む組成物（以下、単に重合体組成物という）への充填剤、特に補強充填剤としての使用にある。
【０００５】
しかして、本発明により使用されるハイドロタルサイトは、下記の化合物の少なくとも一つである。
（ａ）焼成されたハイドロタルサイト、
（ｂ）焼成され、次いで少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤で処理してこれが層間に導入された（ｉｎｔｅｒｃａｌａｔｅｄ）ハイドロタルサイト（以下、層間された焼成ハイドロタルサイトという。）、
（ｃ）少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤で処理してこれが層間に導入されたハイドロタルサイト（以下、層間されたハイドロタルサイトという。）。
【０００６】
本発明に関しては、焼成ハイドロタルサイト（ａ）よりもむしろ更に層間されていてよいハイドロタルサイト（ｂ）が有利に使用される。
【０００７】
本発明に従い充填剤として使用されるハイドロタルサイトが少なくとも１種の１価陽イオン、例えばＬｉ及び少なくとも１種の３価陽イオンを含有できるとしても、それは、通常、むしろ少なくとも１種の２価陽イオン及び少なくとも１種の３価陽イオンを含有する。ここに、２価陽イオン対３価陽イオンのモル比は１〜８、好ましくは２〜６である。
【０００８】
２価陽イオンは、特にＭｇ、Ｎｉ、Ｚｎ又はＣｏであり得る。
３価陽イオンは、例えばＡｌ、Ｇａ、Ｆｅ又はＣｒであり得る。
有利には、２価陽イオンはＭｇであり、３価陽イオンはＡｌである（マグネシウムアルミニウムハイドロタルサイト）。この場合に、Ｍｇ／Ａｌのモル比は一般に１．５〜５、好ましくは２〜４、特に２〜４である。
【０００９】
出発物質のハイドロタルサイト（即ち、焼成も層間もされていない）は、当業者に知られた任意の方法により製造することができる。しかして、それは、例えば、上記した二つのタイプの陽イオン（この場合には、少なくとも１種の２価陽イオン（又は１価陽イオン）及び少なくとも１種の３価陽イオン）を含む容器の底部液に炭酸ナトリウムを添加して中和することにより得ることができる。反応媒体の温度は５０〜９５℃、特に６０〜９０℃に保持し、ｐＨは例えば１０〜１２であることができる。
【００１０】
出発物質のハイドロタルサイトは、水よりなる容器の底部液に、２種の陽イオンの酸塩を含む溶液（又は２種の陽イオンの酸塩をそれぞれ含む２種の溶液）、炭酸ナトリウム溶液及び水酸化ナトリウム溶液（後者は特にｐＨを特に１０〜１２，例えば１１の値に調節するのに供される）を同時に添加することによって得ることができる。同時添加の期間は、３０〜９０分間、例えば４５〜６０分間であってよい。反応媒体の温度は２５〜９５℃に保持することができる。特に、同時添加中の温度は、２５〜３５℃、例えばほぼ３０℃に保持することができる。この同時添加が終了したならば、温度は８５〜９５℃に、例えばほぼ９０℃に上昇させ、特に１〜３時間、例えば２時間保持することができる。
【００１１】
出発物質のハイドロタルサイトは、例えば、式：ＭｇＣＯ3・５Ｍｇ（ＯＨ）2・２Ａｌ（ＯＨ）3・ｙＨ2Ｏ（ｙ≧０、例えばｙ＝４である）の塩基性炭酸マグネシウムアルミニウムであってよい。
【００１２】
本発明と関連して使用されるハイドロタルサイト、特に焼成ハイドロタルサイト（ａ）、層間されていてよいハイドロタルサイト（ｂ）は、好ましくは、１００〜３００ｍ2／ｇ、一般に１２０〜２２０ｍ2／ｇ、特に１３０〜２００ｍ2／ｇのＢＥＴ比表面積を有する。それは例えば１５０〜１８０ｍ2／ｇである。ＢＥＴ表面積は、Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  ｔｈｅ  Ａｍｅｒｉｃａｎ  ｓｏｃｉｅｔｙ  Ｖｏｌ．６、ｐ．３０９（１９３８年２月）に記載され且つ標準規格  ＮＦ  Ｔ４５００７（１９８７年１１月）に相当するブルナウエル・エメット・テラーの方法により決定される。
【００１３】
それは、一般に、１００〜３００ｍ2／ｇ、特に１２０〜２１０ｍ2／ｇ、殊に１３０〜１９０ｍ2／ｇのＣＴＡＢ比表面積を有する。それは例えば１５０〜１８０ｍ2／ｇである。ＣＴＡＢ表面積は、標準規格  ＮＦ  Ｔ４５００７（１９８７年１１月、５．１２）に従って決定される外部表面積である。
【００１４】
使用される焼成ハイドロタルサイトは、好ましくは、ハイドロタルサイト（これを“出発物質のハイドロタルサイト”という）を少なくとも２５０℃、特に少なくとも３００℃の温度で焼成処理することによりもたらされる。焼成温度は、好ましくは３００〜６００℃、更に好ましくは３００〜５５０℃である。それは例えば３００〜５００℃、特に３５０〜５００℃である。
【００１５】
この焼成ハイドロタルサイトは有利に脱炭酸される。事実、脱炭酸は、一般に、焼成処理自体によって達成される。
【００１６】
使用される焼成ハイドロタルサイトは、一般に、０．３未満（脱炭酸されたハイドロタルサイト）、好ましくは０．２５未満の炭酸陰イオン／３価陽イオンのモル比を示す。この比は例えばせいぜい０．１５である。
【００１７】
少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤を焼成ハイドロタルサイトの構造内に、その使用前に、層間に導入できること（ｉｎｔｅｒｃａｌａｔｉｏｎ）を認識されたい。
【００１８】
これを実施するために、焼成ハイドロタルサイトは、少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤の溶液と、特に５０〜９０℃の温度で例えば１〜４時間混合することができる。得られた懸濁液は、次いで遠心分離することができ、遠心分離ケーキは、特にオーブンで４０〜６０℃の間である温度で乾燥することができる。有利には、層間操作中に激しい条件、特に窒素によるフラッシングに頼ることは必要ではない。
【００１９】
焼成ハイドロタルサイトは、再炭酸化することなく乾燥大気中で長時間貯蔵することができ、このことは層間段階を容易にさせる。
【００２０】
これが好ましい別法を構成しないとしても、少なくとも１種の陰イオン性界面活性剤により層間されたハイドロタルサイトも本発明と関連して使用することができる。
このような層間されたハイドロタルサイトは、特に、水よりなる容器の底部液に、２種の陽イオンの酸塩を含む溶液（又は２種の陽イオンの酸塩をそれぞれ含む２種の溶液）、陰イオン性界面活性剤の溶液及び水酸化ナトリウム溶液（後者はｐＨを特に１０〜１２，例えば１１の値に調節するのに供される）を同時に添加することによって得ることができる。同時添加の期間は、３０〜９０分間、例えば４５〜６０分間であってよい。反応媒体の温度は２５〜９５℃に保持することができる。特に、同時添加中の温度は、２５〜３５℃、例えばほぼ３０℃に保持することができる。この同時添加が終了したならば、温度は８５〜９５℃に、例えばほぼ９０℃に上昇させ、特に１〜３時間、例えば２時間保持することができる。
【００２１】
層間されたハイドロタルサイトを形成させるのに使用され又は好ましくは（層間された焼成ハイドロタルサイトを形成するために）焼成ハイドロタルサイトの無機板状物の間に導入できる界面活性剤は、一般にハイドロタルサイトの３価陽イオン（例えばＡｌ）に関して錯化する陰イオン性の極性部分（ヘッド）を有する。
この界面活性剤の陰イオン性の極性部分は、通常、アルカリ金属又はアルカリ土類金属の燐酸塩、ホスホン酸塩、カルボン酸塩、スルホン酸塩、硫酸塩又はこはく酸塩である。
【００２２】
この陰イオン性界面活性剤は、例えば下記のものから選ばれる。
【００２３】
・式：Ｒ−ＣＨ（ＳＯ3Ｍ）−ＣＯＯＲ’（ここで、ＲはＣ8〜Ｃ20、特にＣ10〜Ｃ16アルキル基を表わし、Ｒ’はＣ1〜Ｃ6、特にＣ1〜Ｃ3アルキル基を表わし、Ｍはアルカリ金属陽イオン（特に、ナトリウム、カリウム又はリチウム）、置換若しくは非置換アンモニウム（メチル−、ジメチル−、トリメチル−又はテトラメチル−アンモニウム、ジメチルピペリジニウムなど）陽イオン又はアルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなど）から誘導される陽イオンを表わす）のスルホン酸塩アルキルエステル。このスルホン酸塩アルキルエステルは、好ましくはＲ基がＣ14〜Ｃ16基であるスルホン酸塩アルキルエステルである。
【００２４】
・式：ＲＯＳＯ3Ｍ（ここで、ＲはＣ5〜Ｃ24、特にＣ10〜Ｃ18アルキル又はヒドロキシルアルキル基を表わし、Ｍは水素原子又は上記のような陽イオンを表わす）のアルキル硫酸塩又はこれらのエトキシル化（ＥＯ）及び（又は）プロポキシル化（ＰＯ）誘導体であって平均して０．５〜３０個、特に０．５〜１０個のＥＯ及び（又は）ＰＯ単位を有するもの。
【００２５】
・式：ＲＣＯＮＨＲ’ＯＳＯ3Ｍ（ここで、ＲはＣ2〜Ｃ22、特にＣ6〜Ｃ20アルキル基を表わし、Ｒ’はＣ2〜Ｃ3アルキル基を表わし、Ｍは水素原子又は上記のような陽イオンを表わす）のアルキルアミド硫酸塩又はこれらのエトキシル化（ＥＯ）及び（又は）プロポキシル化（ＰＯ）誘導体であって平均して０．５〜６０個のＥＯ及び（又は）ＰＯ単位を有するもの。
【００２６】
・飽和又は不飽和のＣ8〜Ｃ24、特に14〜Ｃ20脂肪酸塩、Ｃ9〜Ｃ20アルキルベンゼンスルホン酸塩、第一若しくは第二Ｃ8〜Ｃ22アルキルスルホン酸塩、アルキルグリセリンスルホン酸塩、スルホン化ポリカルボン酸、パラフィンスルホン酸塩、Ｎ−アシル−Ｎ−アルキルタウリン酸塩、アルキル燐酸塩、イセチオン酸塩、アルキルこはく酸塩、アルキルスルホこはく酸塩、スルホこはく酸塩のモノエステル若しくはジエステル、Ｎ−アシルサルコシネート、アルキルグリコシド硫酸塩若しくはポリエトキシカルボン酸塩であって、陽イオンがアルカリ金属（特に、ナトリウム、カリウム又はリチウム）、置換若しくは非置換アンモニウム（メチル−、ジメチル−、トリメチル−又はテトラメチル−アンモニウム、ジメチルピペリジニウムなど）残基又はアルカノールアミン（モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミンなど）から誘導される残基であるもの。
特に、アルカリ金属オレイン酸塩、例えばオレイン酸カリウムが挙げられる。
【００２７】
本発明により使用されるハイドロタルサイトの基本成分は、通常小板状で、一般に六方晶小板状で存在する。それらの最大寸法は５０〜３００ｎｍ、好ましくは１００〜２００ｎｍであることができる。
【００２８】
焼成及び（又は）層間されたハイドロタルサイト、有利には焼成ハイドロタルサイト（ａ）、更に層間されていてもよいハイドロタルサイト（ｂ）が充填剤、特に補強充填剤として使用されていて、本発明の別の主題をなす重合体組成物は、一般に、１種以上の重合体又は共重合体、特に１種以上のエラストマー、特に好ましくは−１５０℃〜＋３００℃、例えば−１５０〜＋２０℃の少なくとも一つのガラス転移温度を示す熱可塑性エラストマーを基材とする。
【００２９】
可能な重合体としてジエン重合体、特にジエンエラストマーを挙げることができる。
例えば、天然ゴム、少なくとも１個の不飽和を含む脂肪族若しくは芳香族単量体（例えば、特にエチレン、プロピレン、ブタジエン、イソプレン若しくはスチレン）から誘導される重合体若しくは共重合体、ポリ（アクリル酸ブチル）又はその他のブレンドが挙げられる。また、シリコーンエラストマー、官能基付与されたエラストマー（例えば、ハイドロタルサイトの表面と反応できる官能基により官能化された）、ハロゲン化重合体も挙げられる。ポリアミドも挙げられる。  重合体（共重合体）は、塊状重合体（共重合体）、重合体（共重合体）ラテックス又は重合体（共重合体）を水若しくは任意のその他の適当な液状分散体に溶解してなる溶液であることができる。
【００３０】
該重合体組成物は、硫黄により加硫することができ（この場合には加硫物が得られる）又は特に過酸化物により架橋することができる。
【００３１】
沈降シリカのようなその他の化合物、特に高分散性化合物も、充填剤として随意に使用することができる。この場合に、沈降シリカの重量での使用量はハイドロタルサイトの重量に関して少ない量であってよいが、ハイドロタルサイトの使用量に関して同じでも又はそれよりも多くてもよい。この場合、ハイドロタルサイトとシリカは、重合体に対して混合物として又は別個に導入することができる。しかし、重合体組成物は、しばしば、充填剤として沈降シリカを含まず及び（又は）充填剤は焼成及び（又は）層間されたハイドロタルサイトから完全に構成される。
【００３２】
一般に、重合体組成物は、更に、少なくとも１種のカップリング剤及び（又は）少なくとも１種の被覆剤を含む。また、それらは中でも酸化防止剤を含む。
【００３３】
本発明は、特に、焼成ハイドロタルサイトを使用する場合には、加硫状態での重合体組成物の性質を害することなく、重合体組成物に使用すべきカップリング剤の量を特に削減するのを可能にさせることができる。
【００３４】
重合体組成物におけるハイドロタルサイトの重量割合は、相当に広い範囲で変動できる。それは、通常、重合体の量の４〜８０％、特に２０〜８０％、例えば３０〜７０％を占める。重合体組成物が充填剤として沈降シリカを含まないとき及び（又は）充填剤が焼成及び（又は）層間されたハイドロタルサイトから完全に構成されるときは、重量割合は重合体の量の２０〜８０％、例えば３０〜７０％を示す。
【００３５】
また、本発明は、上記した重合体組成物を基材とした（特に、上記の加硫物を基材とした）最終物品に関する。
タイヤカバー、特にサイドウオール及びタイヤトレッドストリップが挙げられる。焼成ハイドロタルサイトはタイヤ内部ゴムに使用することができる。それは、特にその不透過性（特に空気に対する）を向上させることができ、このことはハロブチルエラストマー（例えば、クロルブチル又はブロムブチルエラストマー）を使用すること及び（又は）その代わりに天然ゴムを主に使用することを回避させることができる。
【００３６】
また、最終物品としては、床仕上げ材、靴底、乗物カタピラトラックの部品、空中ケーブルのローラ、家庭電化製品のシール、液体又はガス管のシール、ブレーキ系統のシール、外装、ケーブル、伝動ベルト、ガス遮断材又は難燃性材料も挙げられる。
【００３７】
下記の実施例は本発明を例示するもので、その範囲を制限するものではない。
【００３８】
例１
カップリング剤を欠いている２種の重合体組成物：
・一つは、ＢＥＴ比表面積が１５０ｍ2／ｇで、密度が２．１ｇ／ｃｍ3である高分散性の沈降シリカＺ１１６５ＭＰ（ロディア社製）を含むもの（参照組成物Ｒ１）、
・他は、ＢＥＴ比表面積が１６０ｍ2／ｇで、密度が２．８ｇ／ｃｍ3である焼成ハイドロタルサイト（サッド・シミエ社製、商品名ＥＸＭ７０１）を含むもの（組成物Ｃ１）
を製造する。
【００３９】
【表１】
0003964208.tif 000002
（１）溶液状で合成したスチレン−ブタジエン共重合体（ブナ  ＶＳＬ５５２５−１タイプ）で、２７．３％の油を含む。
（２）Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン
（３）Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド
【００４０】
組成物は、エラストマーを容積が７５ｃｍ3に等しい密閉式ミキサー（ブラベンダー型）において、２段階で、６０ｒｐｍのブレード平均速度で、１１０℃の温度が得られるまで、熱機械的に加工処理し、これらの段階に続いて密閉式ミキサー（ブラベンダー型）で実施される促進段階を、次いで外部ミキサーにより実施される最終仕上げ段階を実施することにより製造する。
組成物の加硫は、相当するブレンドの加硫速度に調節する。
【００４１】
組成物の性質を以下で測定するが、測定は下記の標準規格及び（又は）方法に従って実施した（加硫組成物について）。
加硫の性質
標準規格  ＮＦ  Ｔ４３０１５
特に、最小トルク（Ｔｍｉｎ）及び最大トルク（Ｔｍａｘ）を測定するためにモンサント１００Ｓ流動計を使用する。
Ｔｓ２は、配合の制御が可能である時間に相当する。重合体はＴｓ２から硬化する（加硫の開始）。
Ｔ９０は、加硫の９０％が実施された後の時間に相当する。
機械的性質
・引張（モジュラス）：標準規格  ＮＦ  Ｔ４６００２
ｘ％モジュラスは、ｘ％の引張歪みで測定された応力に相当する。
・ショアＡ硬度：標準規格  ＡＳＴＭ  Ｄ２２４０
考慮中の値は、力を加えて１５秒後に決定する。
動的性質
真の（Ｇ’）及び虚の（Ｇ”）のモジュラス並びにＧ”対Ｇ’の比として定義される損失正接（ｔａｎδ）を質量分析装置（ビスコアナライザーＶＡ２０００、メトラビド  ＲＤＳ社製）で種々の歪み度及び種々の温度で測定する。二つのタイプの試験は、歪みの走査には、組成物の非線形性（ペイン効果）を決定するために設定された温度及び設定された周波数で、また温度の走査には、設定された歪み及び設定された周波数で実施する。
歪みの走査のための試験条件は、以下の通りである。
試験片は、形状が平行六面体である（ほぼ長さ６ｍｍ、幅４ｍｍ、厚み２．５ｍｍ）。大きさを増大させる正弦歪みを５Ｈｚの一定周波数で加える。Ｇ’、Ｇ”及びｔａｎδをそれぞれの歪み度で評価する。以下において、ΔＧ’は、０．００１の剪断条件下での歪みで測定されたモジュラスＧ’と１の剪断条件下での歪みで測定されたモジュラスＧ’との間の差をいい、またｔａｎδｍａｘは歪みの関数として損失正接の最大に相当する。
温度の走査のための試験条件は次の通りである。
試験片は、形状が平行六面体である（ほぼ長さ１５ｍｍ、幅６ｍｍ、厚み２．５ｍｍ）。５０μに等しい一定の大きさの正弦歪みを１０Ｈｚの一定周波数で引っ張り条件下に加え、温度上昇速度は１℃／分とし、Ｇ’、Ｇ”及びｔａｎδをそれぞれの温度で評価する。
【００４２】
本発明に従う組成物Ｃ１は、参照組成物Ｒ１と比べて、有益な性質の妥協を示すことが分かる。
参照組成物Ｒ１と匹敵できる加硫速度では、組成物Ｃ１はモジュラスの面からみて一層著しい強化をもたらす。
更に、この強化効果は、全ての低い歪みについて認識できる。強化の面からみて組成物Ｃ１と同じ挙動を提供するためには、参照組成物Ｒ１については少なくとも６００％の歪みが達成されねばならない。
組成物Ｃ１の場合には、僅かに高い大きさのモジュラスの低下（ペイン効果）は、歪みの関数として最大ｔａｎδの低下を伴う。従って、この組成物は、機械的エネルギーの一層少ない散逸源である。この利点は、低い散逸を要求する用途に使用することができる。
組成物Ｃ１は、参照組成物Ｒ１について得られたものよりも高いガラス様真モジュラス（Ｇ’）を示すが、類似の又は僅かに低い散逸を維持する。これらの特性は、ほぼ０℃で散逸性を保持しながらガラス状態で剛性又はゴム状態で剛性並びにエネルギーの低い散逸を要求する用途に使用することができる。
【００４３】
【表２】
0003964208.tif 000003
【００４４】
例２
３種の重合体組成物：
・一つは、例１で使用したのと同等の沈降シリカ及びカップリング剤を含むもの（参照組成物Ｒ２）、
・他方の二つは、それぞれ、例１で使用したのと同等の焼成ハイドロタルサイト及びカップリング剤を含むもの（組成物Ｃ２及びＣ３）
を製造する。
【００４５】
【表３】
0003964208.tif 000004
（１）溶液状で合成したスチレン−ブタジエン共重合体（ブナ  ＶＳＬ５５２５−１タイプ）で、２７．３％の油を含む。
（２）充填剤／重合体カップリング剤（デガッサ社販売）
（３）Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン
（４）Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド
【００４６】
組成物Ｃ３は、参照組成物Ｒ２及び組成物Ｃ２とほぼ同じ容積レベルの充填剤を含む。しかし、そのカップリング剤のレベルは、上記の沈降シリカと同じ理論的レベルの充填剤被覆が得られるように、焼成ハイドロタルサイトの重量及び比表面積に調節する。
【００４７】
組成物は、エラストマーを容積が３５０ｃｍ3に等しい密閉式ミキサー（ブラベンダー型）において、２段階で、６０ｒｐｍのブレード平均速度で、１４０℃の温度が得られるまで、熱機械的に加工処理し、これらの段階に続いて密閉式ミキサー（ブラベンダー型）で実施される促進段階を、次いで外部ミキサーにより実施される最終仕上げ段階を実施することにより製造する。
組成物の加硫は、相当するブレンドの加硫速度に調節する。
【００４８】
組成物の性質を以下で測定するが、測定は、機械的性質については例１で示した標準規格及び（又は）方法に従って（加硫組成物について）、また流動学的性質については下記のように実施した。
流動学的性質
ムーニー粘稠度：標準規格  ＮＦ  Ｔ４３００５
（ムーニー粘度計を使用して１００℃でムーニー粘度（１＋４）の測定）
【００４９】
【表４】
0003964208.tif 000005
【００５０】
本発明に従う組成物Ｃ２及びＣ３は参照組成物Ｒ２と比べて有益な性質の妥協を示すことが分かる。
【００５１】
例３
２種の重合体組成物：
・一つは、例１で使用したのと同等の沈降シリカ及びカップリング剤を含むもの（参照組成物Ｒ３）、
・他は、例１で使用したのと同等の焼成ハイドロタルサイト及びカップリング剤を含むもの（組成物Ｃ４）
を製造する。
【００５２】
【表５】
0003964208.tif 000006
（１）溶液状で合成したスチレン−ブタジエン共重合体（ブナ  ＶＳＬ５５２５−１タイプ）で、２７．３％の油を含む。
（２）充填剤／重合体カップリング剤（デガッサ社販売）
（３）Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン
（４）Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド
【００５３】
組成物は、エラストマーを容積が７５ｃｍ3に等しい密閉式ミキサー（ブラベンダー型）において、１段階で、５２ｒｐｍのブレード平均速度で、１１０℃の温度が得られるまで、熱機械的に加工処理し、この段階に続いて密閉式ミキサー（ブラベンダー型）で実施される促進段階を、次いで外部ミキサーにより実施される最終仕上げ段階を実施することにより製造する。
組成物の加硫は、相当するブレンドの加硫速度に調節する。
組成物の性質を以下で測定するが、測定は、例１で示した標準規格及び（又は）方法に従って（加硫組成物について）実施した（歪み及び引張強さは標準規格  ＮＦ  Ｔ４６００２に従って測定した）。
【００５４】
【表６】
0003964208.tif 000007
【００５５】
本発明に従う組成物Ｃ４は参照組成物Ｒ３のものよりも全体的に優秀である性質の妥協を示すことが分かる。
匹敵できる（事実、更に良好でさえある）加硫速度及び強化性を示しながら（１００％及び３００％モジュラス）、組成物Ｃ４は、向上された究極の性質（引張強さ及び破断点歪み）を有した。
更に、組成物Ｃ４は、組成物Ｒ３のものよりももっと有益な動的性質、この場合には、より低い大きさのモジュラスの低下及び歪みの関数としての最大ｔａｎδの相当な低下（機械的エネルギーの非常に低い散逸）を有する。
【００５６】
例４
例１で使用したものと同等の焼成ハイドロタルサイトを含み、ハイドロタルサイトの重量に関して４．４％のカップリング剤の重量含有量を示す重合体組成物（組成物Ｃ５）を製造する。
その性質を、例１で使用したのと同等の沈降シリカを含み且つシリカの重量に関して８％のカップリング剤含有量を示す例３で製造した参照組成物Ｒ３と比較する。
【００５７】
【表７】
0003964208.tif 000008
（１）溶液状で合成したスチレン−ブタジエン共重合体（ブナ  ＶＳＬ５５２５−１タイプ）で、２７．３％の油を含む。
（２）充填剤／重合体カップリング剤（デガッサ社販売）
（３）Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン
（４）Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド
【００５８】
組成物Ｃ５は、例３におけるように製造する。
組成物の性質を以下で測定するが、測定は、例１及び３で示した標準規格及び（又は）方法に従って（加硫組成物について）実施した。
【００５９】
【表８】
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【００６０】
本発明に従う組成物Ｃ２及びＣ３は、参照組成物Ｒ３中のカップリング剤に関して削減された量のカップリング剤にもかかわらず、特に有益な性質の妥協を示すことが分かる。
【００６１】
例５
２種の重合体組成物：
・一つは、例１で使用したのものと同等の沈降シリカと例１で使用したものと同等の焼成ハイドロタルサイト（これらは９０／１０の重量比である）及びカップリング剤を含むもの（組成物Ｃ６）、
・他は、例１で使用したのものと同等の沈降シリカと例１で使用したものと同等の焼成ハイドロタルサイト（これらは５０／５０の重量比である）及びカップリング剤を含むもの（組成物Ｃ７）
を製造する。
それらの性質を、例１で使用したものと同等の沈降シリカ及びカップリング剤を含む例３で製造した参照組成物Ｒ３と比較する。
【００６２】
【表９】
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（１）溶液状で合成したスチレン−ブタジエン共重合体（ブナ  ＶＳＬ５５２５−１タイプ）で、２７．３％の油を含む。
（２）充填剤／重合体カップリング剤（デガッサ社販売）
（３）Ｎ−（１，３−ジメチルブチル）−Ｎ’−フェニル−ｐ−フェニレンジアミン
（４）Ｎ−シクロヘキシル−２−ベンゾチアジルスルフェンアミド
【００６３】
組成物Ｒ３、Ｃ６及びＣ７は、実質的に同じ容積レベルの充填剤を含む。
組成物Ｃ６及びＣ７は例３におけるように製造する。
組成物の性質を以下で測定するが、測定は、例１及び３で示した標準規格及び（又は）方法に従って（加硫組成物について）実施した。
【００６４】
【表１０】
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【００６５】
本発明に従う組成物Ｃ６及びＣ７は参照組成物Ｒ３のものよりも全体的に優秀である性質の妥協を示すことが分かる。
匹敵できる（事実、更に良好でさえある）加硫速度及び強化性を示しながら、組成物Ｃ６及びＣ７は、向上された究極の性質（引張強さ及び破断点歪み）を有する。
更に、組成物Ｃ６及びＣ７は、組成物Ｒ３のものよりももっと有益な動的性質、この場合には、より低い大きさのモジュラスの低下及び歪みの関数としての最大ｔａｎδの相当な低下（機械的エネルギーの非常に低い散逸）を有する。これは焼成ハイドロタルサイトが沈降シリカに関して小割合で存在する（組成物Ｃ６）ときでさえもそうである。