(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光透過性の絶縁フィルムの下面に光透過性電極層が形成された上電極基板と、外周に形成された接着層で上記上電極基板と貼合わせられ、光透過性の絶縁フィルムの上面に形成された光透過性電極層が上記上電極基板の光透過性電極層と所定の間隔を空けて対向し、熱収縮率が０．１％以下である下電極基板と、上面に上記下電極基板の下面全面が貼付され、熱収縮率が０．３％以下でかつ上記下電極基板との熱収縮率の差が０．２％以下の支持体からなる透明タッチパネルの製造方法であって、上記上電極基板を、加熱または常温でのフォーミング加工を行って中央部が上方に突出する状態のものとして予め形成しておき、上記支持体に上記下電極基板を貼付した後で、上記上電極基板を上記下電極基板に重ね合わせてその外周位置を加熱加圧して上記接着層を介して上記上電極基板と上記下電極基板を貼付して完成させる透明タッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子手帳や複写機等の各種電子機器の操作部に使用される透明タッチパネルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、透明タッチパネルにおいて、上下２枚のガラスに設けた光透過性電極層を対向させたガラス：ガラスタイプのものから、軽く割れにくい、上下２枚の樹脂フィルムを対向させたフィルム：フィルムタイプのものが多く用いられるようになっている。
【０００３】
このような従来のフィルム：フィルムタイプの透明タッチパネルについて、図６〜図９を用いて説明する。
【０００４】
なお、構成を判り易くするために、各図面は厚さ方向の寸法を拡大して表している。
【０００５】
図６は従来の透明タッチパネルの断面図、図７は同分解斜視図であり、同図において、１は熱収縮率が０．２〜０．４％のポリエチレンテレフタレート等の透明な絶縁フィルム１Ａの下面に酸化インジウム錫（以下ＩＴＯと記載する）等の光透過性電極層１Ｂが形成された上電極基板、２は同じくポリエチレンテレフタレート等の透明な絶縁フィルム２Ａの上面にＩＴＯ等の光透過性電極層２Ｂが形成された下電極基板で、この上面にエポキシやシリコン等からなる複数のドットスペーサ３が印刷形成され、下電極基板２の上面外周には絶縁層４と接着層５が塗布形成され、この接着層５によって光透過性電極層１Ｂと２Ｂが所定の間隔を空けて対向し上電極基板１と下電極基板２が貼合わされている。
【０００６】
そして、６は光透過率が９０％前後と光透過性に優れ、熱収縮率が０．５〜０．７％のポリ−４−メチルペンテン−１やポリフェニレンオキサイド等の支持体で、この上面に下電極基板２が下面全面に塗布形成された粘着層７によって貼付されて、透明タッチパネル８が構成されている。
【０００７】
以上のような構成の透明タッチパネル８の製造方法について説明すると、まず、図８（ａ）に示すように、固定型９の上面に粘着層７の下面に離形紙７Ａが貼付された下電極基板２を載置し、上電極基板１を光透過性電極層１Ｂと光透過性電極層２Ｂが対向するように重ね合わせた後、上方からヒーターを備えた可動型１０が下降して上電極基板１と下電極基板２が加熱加圧され、接着層５によって上電極基板１と下電極基板２の貼合わせが行われる。
【０００８】
次に、図８（ｂ）に示すように、下電極基板２の粘着層７の下面に貼付された離形紙７Ａを剥離した後、図８（ｃ）に示すように、粘着層７によって支持体６に下電極基板２の下面全面が貼付されて、透明タッチパネル８が完成する。
【０００９】
そして、この透明タッチパネル８は、図９（ａ）に示すように、下方に液晶表示体１１を配置して電子機器に装着され、透明タッチパネル８の上電極基板１や下電極基板２、支持体６を通して、液晶表示体１１に表示された文字や記号、絵柄等が視認できるように構成されるものである。
【００１０】
また、図９（ｂ）に示すように、液晶表示体１１に表示された文字や記号、絵柄等を選択して透明タッチパネル８の上電極基板１の上面を押圧操作すると、上電極基板１が撓んで光透過性電極層１Ｂが下電極基板２の光透過性電極層２Ｂに接触することによって、液晶表示体１１の表示等の切替えが行われ、押圧力を除去すると上電極基板１の弾性復帰力によって図９（ａ）の状態に復帰するものであった。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記従来の透明タッチパネルにおいては、支持体６が光透過性には優れているものの、熱収縮率が０．５〜０．７％と絶縁フィルム製の上電極基板１や下電極基板２に比べて大きなものであるため、熱収縮によって支持体６に反りが発生し、この上面に貼付された下電極基板２にも反りが生じると共に、接着層５により下電極基板２の外周と貼合わされた上電極基板１にはうねりが発生し、上電極基板１と下電極基板２の間隔が一定ではなくなり、間隔の小さくなった箇所に視認性を阻害する干渉縞模様（以下、ニュートンリングと記載する）が発生するため、液晶表示体１１に表示される文字や記号、絵柄等が見づらくなり視認性が劣化するという課題があった。
【００１２】
本発明は、このような従来の課題を解決するものであり、熱による反りやうねりによるニュートンリングの発生を防止し、良好な視認性の得られる透明タッチパネルを製造することができる透明タッチパネルの製造方法を提供することを目的とするものである。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明による透明タッチパネルの製造方法は、熱収縮率が０．１％以下の下電極基板と、熱収縮率が０．３％以下でかつ下電極基板との熱収縮率の差が０．２％以下の支持体によって透明タッチパネルを構成するようにした上で、上電極基板を、加熱または常温でのフォーミング加工を行って中央部が上方に突出する状態のものとして予め形成しておき、上記支持体に上記下電極基板を貼付した後で、上記上電極基板を上記下電極基板に重ね合わせてその外周位置を加熱加圧して上記上電極基板と上記下電極基板を貼付して完成させるようにするものである。
【００１４】
これにより、ニュートンリングの発生を防止し、視認性の良好な透明タッチパネルを製造することができる透明タッチパネルの製造方法を得ることができる。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の請求項１に記載の発明は、光透過性の絶縁フィルムの下面に光透過性電極層が形成された上電極基板と、外周に形成された接着層で上記上電極基板と貼合わせられ、光透過性の絶縁フィルムの上面に形成された光透過性電極層が上記上電極基板の光透過性電極層と所定の間隔を空けて対向し、熱収縮率が０．１％以下である下電極基板と、上面に上記下電極基板の下面全面が貼付され、熱収縮率が０．３％以下でかつ上記下電極基板との熱収縮率の差が０．２％以下の支持体からなる透明タッチパネルの製造方法であって、上記上電極基板を、加熱または常温でのフォーミング加工を行って中央部が上方に突出する状態のものとして予め形成しておき、上記支持体に上記下電極基板を貼付した後で、上記上電極基板を上記下電極基板に重ね合わせてその外周位置を加熱加圧して上記接着層を介して上記上電極基板と上記下電極基板を貼付して完成させる透明タッチパネルの製造方法としたものであり、支持体と下電極基板として熱収縮率及びその差が小さいものを用いたため、熱収縮による各々の反りが小さくなると共に、上記下電極基板が上記支持体に貼付された状態での全体の反りも小さくなり、かつ、上記支持体に上記下電極基板を貼付した後に上記下電極基板に対して上電極基板を貼付するようにしたため、上記下電極基板との貼合わせ時の加熱加圧による上記上電極基板の反りやうねりが小さくなり、さらに、上記上電極基板を予め中央部が上方に突出する状態のものに形成しておいて貼付するようにしたため、うねりや反りが生じても中央部の間隔を端部の間隔と同等以上に保つことができて、それらによってニュートンリングの生じにくい、視認性の良好な透明タッチパネルを製造することができるという作用を有する。
【００２０】
以下、本発明の実施の形態について、図１〜図５を用いて説明する。
なお、構成を判り易くするために、各図面は厚さ方向の寸法を拡大して表している。
【００２１】
また、従来の技術の項で説明した構成と同一構成の部分には同一符号を付して詳細な説明を省略する。
【００２２】
（実施の形態１）
図１は本発明の第１の実施の形態による透明タッチパネルの断面図、図２は同分解斜視図であり、同図において、透明な絶縁フィルム２１Ａの下面にＩＴＯ等の光透過性電極層２１Ｂを形成した上電極基板２１と、同じく透明な絶縁フィルム２２Ａの上面に光透過性電極層２２Ｂを形成した下電極基板２２が接着層５によって接着され、光透過性電極層２１Ｂと２２Ｂが所定の間隔を空けて対向していることは従来の技術の場合と同様であるが、上電極基板２１の絶縁フィルム２１Ａには、ポリエチレンテレフタレート等の透明な樹脂が用いられ、その熱収縮率は０．４％以下でかつ下電極基板２２との熱収縮率の差が０．３％以下となっている。
【００２３】
そして、２３は光透過率が８５〜９０％、熱収縮率が０．３％以下でかつ下電極基板２２との熱収縮率の差が０．２％以下のポリカーボネイトやポリエーテルスルホン、アクリル、ノルボルネン、アクリルニトリルスチレン等の支持体で、この支持体２３の上面に熱収縮率が０．１％の下電極基板２２の下面全面が粘着層７により貼付されて、透明タッチパネル２４が構成されている。
【００２４】
なお、この透明タッチパネル２４が下方に液晶表示体１１を配置して電子機器に装着され、上電極基板２１や下電極基板２２、支持体２３を通して、液晶表示体１１に表示された文字や記号、絵柄等が視認できるように構成されることや、上電極基板２１を押圧すると、上電極基板２１が撓んで下電極基板２２と接触し、光透過性電極２１Ｂと光透過性電極２２Ｂの電気的接続が行われることは従来の技術の場合と同様である。
【００２５】
以上のような本実施の形態による透明タッチパネルと、比較用の従来の透明タッチパネルを、各々熱収縮率の異なる下電極基板２２や支持体２３、上電極基板２１を組合わせて製作し、これらを７０℃の高温環境下に１００時間放置した後、ニュートンリングの発生の有無を確認した。
【００２６】
この結果について、（表１）を用いて説明する。
【００２７】
【表１】
0004026221.tif 000002
【００２８】
なお、透明タッチパネルの外形寸法は９０×１４０ｍｍとし、下電極基板２２の絶縁フィルム２２Ａには材厚０．１７５ｍｍのポリエチレンテレフタレート、同じく上電極基板２１にも材厚０．１７５ｍｍのポリエチレンテレフタレートを用い、支持体２３には材厚１．０ｍｍのノルボルネンとポリカーボネイト及び比較用にポリ−４−メチルペンテン−１を用いた。
【００２９】
（表１）から明らかなように、支持体２３に熱収縮率が０．７％のポリ−４−メチルペンテン−１を用いたものにはニュートンリングが発生するのに対し、下電極基板２２に熱収縮率が０．１％のポリエチレンテレフタレートを用い、支持体２３に熱収縮率が０．３％のポリカーボネイト或いは０．１％のノルボルネンを用いたものには、ニュートンリングの発生が見られず視認性の良好なものとなっている。
【００３０】
また、上電極基板２１に熱収縮率が０．１％のポリエチレンテレフタレートを用いた場合には、支持体２３に熱収縮率が０．１％のノルボルネンを用いれば、下電極基板２２の熱収縮率が０．４％であっても、ニュートンリングの発生を防止することができた。
【００３１】
このように本実施の形態によれば、各々の熱収縮率及び熱収縮率の差が小さな下電極基板２２と支持体２３を用いることによって、下電極基板２２及び支持体２３の各々の熱収縮による反りが小さくなると共に、下電極基板２２が支持体２３に貼付された状態での全体の反りも小さくなるため、ニュートンリングの発生が防止され、下方に配置された液晶表示体１１の文字や記号、絵柄等の視認性が良好な透明タッチパネルを得ることができるものである。
【００３２】
また、上電極基板２１を熱収縮率が小さく、下電極基板２２との熱収縮率の差も小さなものとすることによって、接着層５によって外周が貼合わされた下電極基板２２の反りによるうねり或いは熱収縮による上電極基板２１自体の反りが小さくなるため、さらにニュートンリングの発生を防止し、視認性を向上させることができる。
【００３３】
なお、光透過率が９０％であるアクリルやノルボルネンは別として、支持体２３にポリカーボネイトやポリエーテルスルホン、アクリルニトリルスチレン等を用いた場合、従来使用していたポリ−４−メチルペンテン−１等に比べ、光透過率は８５％前後とやや低くなるが、電子機器の表示部の透明なカバー等には、光透過率７０〜８０％のものが通常使用されており、実使用上問題のない光透過性を維持できるものである。
【００３４】
また、曲げ弾性率が１３０ｋｇｆ／ｍｍ2であるポリ−４−メチルペンテン−１等に対し、曲げ弾性率が２３０ｋｇｆ／ｍｍ2のポリカーボネイトや２６０ｋｇｆ／ｍｍ2のポリエーテルスルホン、３００ｋｇｆ／ｍｍ2のアクリルや３００ｋｇｆ／ｍｍ2のノルボルネン或いはさらに曲げ弾性率が３８５ｋｇｆ／ｍｍ2のアクリルニトリルスチレンを支持体２３として用いることによって、上電極基板２１を押圧操作する際に大きな力が加えられても、上電極基板２１及び下電極基板２２の極端な撓みを支持体２３によって防止することができるため、上下電極基板２１，２２の変形による光透過性電極２１Ｂ，２２Ｂの割れや破断を防ぐことができると共に、透明タッチパネル２４の下方に配置された液晶表示体１１が支持体２３に押さえられ、液晶表示体１１に表示される文字や記号、絵柄の滲みによる視認性劣化を防止することができる。
【００３５】
なお、以上の説明では支持体２３に用いる樹脂として、ポリカーボネイトやポリエーテルスルホン、アクリル、ノルボルネン、アクリルニトリルスチレンを例として説明したが、電子機器の表示操作部である透明タッチパネルに対する指や樹脂製のペンでの押圧加重は通常１００〜２００ｇであり、透明タッチパネルの外形寸法を通常使用される１００〜２００ｍｍ角前後とした場合、曲げ弾性率が２００ｋｇｆ／ｍｍ2以上であれば撓みを防止することができるため、これ以上の曲げ弾性率を有し光透過性や熱収縮性に優れたものであれば、支持体２３に他の樹脂を用いても本発明の実施が可能なことは勿論である。
【００３６】
（実施の形態２）
図３（ａ）〜図３（ｃ）は本発明の第２の実施の形態による透明タッチパネルの製造方法を説明する断面図であり、図３（ａ）に示すように、下電極基板２２の光透過性電極層２２Ｂ上面にドットスペーサ３や絶縁層４、接着層５が形成されていることや、絶縁フィルム２２Ａ下面に塗布された粘着層７の下面に離形紙７Ａが貼付されていることは実施の形態１の場合と同様である。
【００３７】
そして、この下電極基板２２の粘着層７に貼付された離形紙７Ａを剥離した後、これを図３（ｂ）に示すように、粘着層７によって支持体２３の上面全面に貼付し、次に、図３（ｃ）に示すように、下電極基板２２が貼付けられた支持体２３を固定型９の上面に載置し、この上に上電極基板２１を光透過性電極層２１Ｂと光透過性電極層２２Ｂが対向するように重ね合わせた後、上方からヒーターを備えた可動型１０が下降して上電極基板２１や下電極基板２２が加熱加圧され、接着層５によって上電極基板２１と下電極基板２２の貼合わせが行われる。
【００３８】
そして、この後、可動型１０が上昇し上電極基板２１から離れると、加えられた熱が上電極基板２１と下電極基板２２の他に支持体２３によっても放熱され、透明タッチパネルが完成する。
【００３９】
このように本実施の形態によれば、各々の熱収縮率差の小さな上電極基板２１、下電極基板２２及び支持体２３を用いると共に、上下電極基板２１，２２に比べ厚さの大きな支持体２３に下電極基板２２を貼付した後に、上電極基板２１と下電極基板２２を加熱加圧して貼付することによって、上電極基板２１、下電極基板２２に加え、支持体２３によっても加熱後の放熱が行われるため、上電極基板２１及び下電極基板２２の熱による反りやうねりを小さくすることができ、ニュートンリングの発生を防止し、視認性の良好な透明タッチパネルを製作することができるものである。
【００４０】
また、図４に示すように、透明タッチパネルを組立てる前に、上電極基板２５に加熱または常温でのフォーミング加工を行って、中央部を上下の光透過性電極の間隔と同程度上方に突出させ、中央部の間隔を端部に比べて大きくした状態で、可動型２６を用いて上電極基板２５と下電極基板２２を加熱加圧して貼合わせることによって、上電極基板２５及び下電極基板２２にうねりや反りが生じても中央部の間隔を端部の間隔と同等以上に保つことができるため、ニュートンリングの発生を防止し、さらに視認性の良好な透明タッチパネルを得ることができる。
【００４１】
なお、以上の説明では、下電極基板２２下面全面に塗布形成された粘着層７によって、下電極基板２２と支持体２３の貼合わせを行う構成について説明したが、図５に示すように、絶縁フィルム２７Ａの上下面に粘着層２７Ｂ，２７Ｃが塗布されたスペーサ２７を介して、下電極基板２２と支持体２３を貼合わせる構成としても、本発明の実施が可能なことは勿論である。
【００４２】
また、下電極基板２２と支持体２３を貼合わせる際、ローラー等を用いて加圧しながら下電極基板２２を支持体２３に貼合わせることによって、粘着層７や粘着層２７Ｂ，２７Ｃ内の空気を除去できるため、粘着層内に残留する微細な気泡を低減でき、さらに透明タッチパネルの視認性を高め、より高品位なものとすることができる。
【００４３】
【発明の効果】
以上のように本発明の透明タッチパネルの製造方法によれば、ニュートンリングの発生を防止し、視認性の良好な透明タッチパネルを製造することができるという有利な効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施の形態による透明タッチパネルの断面図
【図２】同分解斜視図
【図３】本発明の第２の実施の形態による透明タッチパネルの断面図
【図４】同断面図
【図５】同断面図
【図６】従来の透明タッチパネルの断面図
【図７】同分解斜視図
【図８】同断面図
【図９】同断面図
【符号の説明】
３  ドットスペーサ
４  絶縁層
５  接着層
７  粘着層
７Ａ  離形紙
９  固定型
１０，２６  可動型
１１  液晶表示体
２１，２５  上電極基板
２１Ａ，２５Ａ  絶縁フィルム
２１Ｂ，２５Ｂ  光透過性電極層
２２  下電極基板
２２Ａ  絶縁フィルム
２２Ｂ  透過性電極層
２３  支持体
２４  透明タッチパネル
２７  スペーサ
２７Ａ  絶縁フィルム
２７Ｂ，２７Ｃ  粘着層
【図１】
0004026221.tif 000003
【図２】
0004026221.tif 000004
【図３】
0004026221.tif 000005
【図４】
0004026221.tif 000006
【図５】
0004026221.tif 000007
【図６】
0004026221.tif 000008
【図７】
0004026221.tif 000009
【図８】
0004026221.tif 000010
【図９】
0004026221.tif 000011