(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長範囲の第１の再生光で情報再生がなされる第１の情報層を有する第１の光透過性基板と、６１５ｎｍ〜６５５ｎｍの波長範囲の第２の再生光で情報再生がなされる第２の情報層を有する第２の光透過性基板とが、上記第１の光透過性基板の上記第１の情報層が形成された側とは反対側と上記第２の光透過性基板の上記第２の情報層を有する側とが重ね合わされて透明接着材料によって接合されて１枚の光ディスクとされ、
上記第１の光透過性基板及び上記第２の光透過性基板がプラスティック基板より成り、
上記第２の情報層を有する上記第２の光透過性基板の背面側から、上記第１の再生光と上記第２の再生光とが照射され、
上記第１の情報層は、上記第１の再生光に対する反射率が９０%以上の金属反射膜を有し、
上記第２の情報層は、上記第１の再生光に対する屈折率ｎｓ１と、上記第２の再生光に対する屈折率ｎｓ２のそれぞれの実数部での比ｎｓ２／ｎｓ１が、１．０５以上で、かつ上記第１の再生光に対する屈折率の虚数部が、０．０５以下の半透明反射膜を有し、
該半透明反射膜は、その膜厚が、２２ｎｍ以下とされ、アモルファスＳｉＨ、アモルファスＳｉＯ、アモルファスＳｉＨＯのいずれかのアモルファス膜よりなる
ことを特徴とする多層光ディスク。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、多層光ディスク特に２層の情報層が重ね合わされて１枚のディスクとして形成された光ディスクに係わる。
【０００２】
【従来の技術】
近年、情報記録媒体において、大容量の情報を扱うことの要求が益々高まっているが、この場合においても、目的とする情報を、ランダムアクセスして再生することができるように、大容量の光ディスクの必要性が高まっている。
【０００３】
このような大容量の情報を扱うことのできる光ディスクとして、多層光ディスクの提案、特に２層の情報層が重ね合わされて、すなわち積層されて１枚のディスクとして形成された光ディスクの提案がなされている。
【０００４】
この多層光ディスクとしては、種々のものが提案されているが、１つに、金属反射膜がコートされた第１の情報層と、反射率、透過率等の分光特性に波長依存性を有する半透明反射膜がコートされた第２の情報層とを有し、２つの異なる波長の第１および第２の再生光を用いて、これら第１および第２の情報層からの情報の読み出しを行うようにした多層光ディスクの提案がなされている（特開平２−２２３０３０号公報、特開平８−３３９５７４号公報参照）。
【０００５】
このような、第１および第２の情報層を有し、第１および第２の再生光を用いてその再生を行う多層光ディスクにおいて、例えば第１の再生光として、従来汎用の例えば再生専用のコンパクトディスク（ＣＤ）の再生プレーヤにおける波長範囲の再生光によって再生ができるようにして、多層光ディスク構成とするにもかかわらず、一方の情報層に関しては通常のＣＤと同様の再生プレーヤによって再生が可能な構成とすることが提案されている。
【０００６】
この第１および第２の情報層が積層された光ディスクは、例えば図１にその一例の概略断面図を示すように、例えば第１の光透過性基板１ｆの表面に形成された第１の情報ピット２ｆに金属反射膜３ｆが被着されてなる第１の情報層４ｆと、第２の光透過性基板１ｓの表面に形成された第２の情報ピット２ｓに半透明反射膜３ｓが被着されてなる第２の情報層４ｓとが、第１の光透過性基板１ｆの第１の情報層４ｆが形成された側とは反対側の面と第２の光透過性基板１ｓの第２の情報層４ｓが形成された側の面とを透明接着材料５によって接合して構成される。
【０００７】
そして、第２の光透過性基板１ｓの背面側から、第１の再生光Ｌｆとして、従来汎用の例えば再生専用のコンパクトディスク（ＣＤ）の再生プレーヤにおける再生光の波長範囲７７０ｎｍ〜８３０ｎｍ（以下第１の波長という）のレーザー光を照射して第１の情報層４ｆの情報の再生を行い、第２の再生光Ｌｓとして、これより波長が短く、量産化が可能な半導体レーザーの６１５ｎｍ〜６５５ｎｍの波長範囲（以下第２の波長という）のレーザー光を、第２の情報層４ｓにフォーカシングさせるように照射することによって第２の情報層４ｓの情報の再生がなされる。
【０００８】
このような光ディスクを用いて、情報の再生を行う場合、第１の情報層４ｆから高品位の再生信号を得るには、
(i) 第１の波長による第１の再生光Ｌｆに対する金属反射膜３ｆの反射率Ｒｆ1 が高いこと、
(ii)第２の情報層４ｓにおけるこの第１の波長の光に対する透過率Ｔｓ1 ができるだけ高いこと、つまり第１の波長の光に対する光吸収率Ａｓ1 ができるだけ小さく、第１の波長の光に対する反射率Ｒｓ1 ができるだけ小さいこと
である。
また、第２の情報層４ｓから高品位の再生信号を得るには、
(iii) 第２の波長による第２の再生光Ｌｓに対する半透明反射膜３ｓの反射率Ｒｓ2 が高いこと
である。
(iv)  したがって、上述の(ii)および(iii) から、第２の情報層４ｓの半透明反射膜３ｓは、Ｒｓ2 −Ｒｓ1 ができるだけ大（Ｒｓ2 がＲｓ1 よりできるだけ大）である特性を有することが望まれる。
【０００９】
このような、第２の情報層４ｓの半透明反射膜３ｓを構成する材料としては、シリコン（Ｓｉ）や、誘電体の多層膜構成を採ることが提案されている。
上記(ii)で挙げたように、第１の波長の光に対する光吸収率ができるだけ小さいことが要求されることから、Ｓｉによる場合結晶性にすぐれた薄膜として成膜されることが望まれるが、このＳｉを光透過性基板、特に量産性、コスト等においてすぐれたポリカーボネート（ＰＣ）等のプラスチック基板上にすぐれた膜質をもって成膜することは、このプラスティック基板の耐熱性の問題から制約がある。
また、誘電体の多層膜構成とする場合は、単層膜の成膜に比して製造工程がきわめて煩雑となり、コスト高を来すという問題がある。
【００１０】
また、光透過性基板としては、価格、信頼性、量産性等の上から、主としてポリカーボネート（ＰＣ）によって構成される。しかしながら、この場合、ガラスに比し複屈折がかなり大きいという問題がある。この複屈折は、主として基板の極く薄い表面層（厚さ数十μｍ程度の部分）に集中しており、基板厚さには依存しないことが知られている。したがって、この複屈折は、光透過性基板の厚さによらず、単にこの表面を、目的とする再生光が何回通過するかによるものであり、図１に示した２枚の光透過性基板１ｓおよび１ｆが用いられる場合は、第１の情報層３ｆの再生光は２枚の光透過性基板１ｓおよび１ｆの両面の表面層を通過することになり、複屈折の影響は単層の場合の２倍となる。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上述した第１および第２の情報層の積層による多層ディスクにおいて、より高品位な再生がなされるようにする。
【００１２】
ところで、このような光ディスクにおいて、高品位の再生信号を得ることができるようにするには、第１の波長の光に対する反射率が７０％以上とすることが望まれる。この値は、汎用のコンパクトディスクＣＤでの規格値で高い再生信号を得る１つの指標とすることができる。また、第２の波長の光に対する反射率は、１８％〜３０％であることが望まれる。この値は、いわゆるＤＶＤ（Digital Versatile Disc）の２層ディスクでの規格値で高品位の再生信号を得る１つの指標とすることができる。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明による多層光ディスクは、第１の情報層と、第２の情報層とが重ね合わされて１枚の光ディスクとされた構成を有するものである。そして、その第１の情報層は、７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長範囲（第１の波長）の第１の再生光に対する反射率が９０％以上の金属反射膜を有し、第２の情報層は、上記第１の再生光に対する屈折率ｎｓ1 と、６１５ｎｍ〜６５５ｎｍの波長範囲（第２の波長）の第２の再生光に対する屈折率ｎｓ2 のそれぞれの実数部での比ｎｓ2 ／ｎｓ1 が、１．０５以上である半透明反射膜を有する構成とする。
【００１４】
あるいは、第２の情報層は、上記第１の再生光に対する屈折率の虚数部が０．０５以下の半透明反射膜を有する構成とする。
【００１５】
上述の本発明構成による光ディスクは、その第１および第２の情報層に関して第１および第２の再生光によって高品位の再生を行うことができ、第１の情報層に関しては、汎用のＣＤプレーヤによっても、高品位再生を行うことができるようになされたものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明による多層光ディスクは、第１の情報層と、第２の情報層とが重ね合わされて１枚の光ディスクとされた構成とする。
この光ディスクは、例えば図１で示したように、それぞれ第１および第２の情報層２ｆおよび２ｓが形成された第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓを重ね合わせ透明接着材料５によって接合した構成とすることができる。
【００１７】
第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓは、それぞれ例えばポリカーボネート（ＰＣ）等のプラスティックを用いて射出成型によって成形し、この成形と同時に、成型金型のキャビティ内に配置されたスタンパ、例えばニッケルスタンパによってそれぞれの一主面に第１および第２の情報層４ｆおよび４ｓの情報ピット２ｆおよび２ｓを転写成形し、各他方の主面を平滑な面として形成する。あるいは、第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓを、ＰＣ等のプラスティックによる平滑基板として形成し、その各一主面に、例えば紫外線硬化樹脂の塗布、スタンパの押圧、硬化処理によるいわゆる２Ｐ法（Photopolymerization 法) によって情報ピット２ｆおよび２ｓを形成することもできる。
【００１８】
第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓは、その例えば射出成型時の金型温度、圧力、圧力保持時間等の選定によって、その複屈折が、５０ｎｍ以下の基板として構成する。
【００１９】
そして、第１の光透過性基板１ｆの第１の情報ピット２ｆの形成面上に、金属反射膜３ｆを、全面的に、蒸着、スパッタリング等によって被着して、第１の情報層４ｆを形成する。また、この第１の情報層４ｆ上を覆って全面的に保護膜６を被着形成する。
第２の光透過性基板１ｓの第２の情報ピット２ｓの形成面上には、全面的に半透明反射膜３ｓが被着されて第２の情報層４ｓが形成される。
【００２０】
これら、第１の光透過性基板１ｆの第１の情報層４ｆが形成された側とは反対側の面と、第２の光透過性基板１ｓの第２の情報層４ｓが形成された側の面とを例えば紫外線硬化樹脂による透明接着材料５によって接合して多層光ディスクを構成する。
【００２１】
この構成において、第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓは、これらの厚さの総和が、１．１〜１．３ｍｍに選定される。例えば第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓの各厚さを０．６ｍｍとし、透明接着材料５の厚さを０．０５ｍｍとして全体の厚さを１．２５ｍｍとすることが望ましい。
【００２２】
この本発明による多層光ディスクに対する第１の情報層４ｆの情報の読み出しすなわち再生は、図１に示すように、第２の光透過性基板１ｓの背面側から、第１の波長の第１の再生光Ｌｆ、例えば従来汎用の例えば再生専用のＣＤプレーヤにおける再生光の波長範囲７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの半導体レーザー光を照射して金属反射膜３ｆによる反射光によって再生する。
また、第２の情報層４ｓの情報の再生は、第２の波長による第２の再生光Ｌｓ、すなわち６１５ｎｍ〜６５５ｎｍの波長範囲半導体レーザー光を、同様に、第２の光透過性基板１ｓの背面側から、第２の情報層４ｓにフォーカシングさせるて、これよりの反射光によって再生信号を得る。
【００２３】
そして、特に本発明においては、第１の情報層４ｆを構成する金属反射膜３ｆを、７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長範囲の第１の再生光に対する反射率が９０％以上となる金属反射膜によって構成する。
この金属反射膜３ｆを構成する金属は、例えばＡｕ、Ａｇ、Ｃｕもしくはこれの合金を、蒸着、スパッタリング等によって形成し得る。この金属反射膜３ｆの膜厚は、確実に高い反射率を得ることができる５０ｎｍ以上好ましくは７０ｎｍ以上とする。
【００２４】
この金属反射膜３ｆ上に形成する保護膜６は、紫外線硬化樹脂を塗布硬化することによって構成できる。
【００２５】
第２の情報層４ｓを構成する半透明反射膜３ｓは、第１の波長の光に対する透過率Ｔｓ1 が高く、つまり第１の波長の光に対する光吸収率Ａｓ1 が小さく、第１の波長の光に対する反射率Ｒｓ1 が小さく、かつ第２の波長による第２の再生光Ｌｓに対する反射率Ｒｓ2 、すなわちＲｓ2 −Ｒｓ1 を大にする。具体的には薄膜においては、屈折率が大であれば反射率が大きく、屈折率が小であれば反射率が小さいことから、半透明反射膜３ｓにおける第１および第２の波長の光に対する屈折率をｎｓ1 およびｎｓ2 とするとき、ｎｓ2 ／ｎｓ1 を大きく、特に各屈折率ｎｓ1 および屈折率ｎｓ2 のそれぞれの実数部での比ｎｓ2 ／ｎｓ1 を、１．０５以上とする。
【００２６】
また、半透明反射膜３ｓは、第１の再生光に対する屈折率の虚数部が０．０５以下の半透明反射膜材料によって構成される。
【００２７】
半透明反射膜３ｓは、アモルファスＳｉＨ、アモルファスＳｉＯ、アモルファスＳｉＮの単体材料、もしくはこれらとアモルファスＳｉのうちの２以上の混合材料の例えばＳｉ（ＨＯ）、Ｓｉ（ＨＮＯ）のアモルファス膜の単層膜構造として構成する。
またはＧｅ、アモルファスＧｅ、アモルファスＧｅＨ、アモルファスＧｅＯ、アモルファスＧｅＮ、もしくはこれら２以上の混合材料の例えばＧｅ（ＨＮＯ）のアモルファス膜、あるいはアモルファスＳｉＧｅ、アモルファスＳｉＧｅＨ、アモルファスＳｉＧｅＯ、アモルファスＳｉＧｅＮ、もしくはこれら２以上の混合材料であるＳｉＧｅ（ＨＯＮ）のアモルファス膜より構成し得る。
【００２８】
また、この半透明反射膜３ｓの厚さは、２２ｎｍ以下、すなわち後述する分光特性の膜厚依存性における所要の反射率を得ることができる膜厚許容値が得られる、膜厚が小さい側のゾーン１において形成することが好ましい。
【００２９】
次に、半透明反射膜３ｓの実施例について説明する。この半透明反射膜３ｓは、例えば結晶珪素（Ｓｉ）あるいは多結晶珪素を原材料としたスパッタリングあるいは真空蒸着法によって、アモルファスＳｉ（以下ａ−Ｓｉと記す）膜として形成し、その膜形成時に当たって、酸素あるいは水素を混入する。
例えば真空蒸着による場合、この蒸着を行う真空チャンバー内を、例えば１０-4Ｐａオーダーに達する程度の高い真空度にして後、微量の酸素、あるいは水素、またはその両方を導入して、第２の光透過性基板１ｓの第２の情報ピット２ｓが形成された面に、蒸着を行って目的とする半透明反射膜３ｓを形成する。
また、スパッタリングによるときは、そのスパッタリングを行うチャンバー内に導入されるＡｒ等の不活性ガスの他に、同様に微量の酸素、あるいは水素、またはその両方を導入していわゆる反応性スパッタリングを行って目的とする半透明反射膜３ｓを形成する。
【００３０】
尚、Ｓｉが、酸素や水素と完全に反応した後には、ＳｉＯ2 あるいはＳｉＨ4 となることが知られているが、本発明における半透明反射膜３ｓの形成においては、このように完全な反応がなされるものではなく、Ｓｉ原子とＳｉ原子とが共有結合していない、いわゆるダングリングボンドに、酸素や水素を結合させた構造として光の吸収を抑制するものであり、このための酸素や水素の添加は、Ｓｉ原子に対して酸素や水素の割合が２〜３０原子％程度に選定される。
【００３１】
このようにして、第１および第２の情報層４ｓおよび４ｆがそれぞれ形成された第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓは、第１の光透過性基板１ｆの第１の情報層４ｆが形成された側とは反対側の面と第２の光透過性基板１ｓの第２の情報層４ｓが形成された側の面とを透明接着材料５によって接合される。
【００３２】
この透明接着材料５による接合は、例えば半透明反射膜３ｓ上に、液状の紫外線硬化樹脂による透明接着材料５を塗布し、両基板１ｆおよび１ｓを、互いに所定の位置関係に設定して重ねた状態で、紫外線照射を行って透明接着材料５を硬化してその接合を行う。
【００３３】
次に、半透明反射膜３ｓの光学的特性について考察する。
この場合、それぞれＰＣ基板のそれぞれ凹凸のない鏡面による一主面上に、本発明構成におけるアモルファスＳｉＯ（ａ−ＳｉＯ）、アモルファスＳｉＨ（ａ−ＳｉＨ）、アモルファスＳｉＨＯ（ａ−ＳｉＨＯ）、更に比較のためのアモルファスＳｉ（ａ−Ｓｉ）、結晶Ｓｉをそれぞれ成膜し、これに前述した他方の基板との接合に用いる紫外線硬化樹脂による保護膜を３０μｍの厚さに塗布した各試料を作製した。また、これら試料において、それぞれの成膜の膜厚を１０ｎｍ〜１００ｎｍの範囲で形成し、その膜厚測定と、光透過率および反射率から波長７８０ｎｍと波長６５０ｎｍとにおける複素屈折率を求めた。その結果を、下記表１に示す。なお、表１に結晶Ｓｉについても比較例として例示したが、この値については、文献値を用いた。また、表１に、各試料について、その屈折率の実数部の比ｎ2 ／ｎ1 も合せて示した。
【００３４】
【表１】
0003867347.tif 000002
【００３５】
表１に基く屈折率を用いて、各成膜材料を第２の情報層の半透明反射膜とした場合の、第１の情報層の波長７８０ｎｍに対する反射率Ｒ1 と、第２の情報層の波長６５０ｎｍに対する反射率Ｒ2 を計算によって求めた。この場合、第１の情報層の金属反射膜３ｆを、厚さ１００ｎｍのＡｕ膜によって構成した場合を想定し、第１の光透過性基板１ｆとこの金属反射膜３ｆとの界面での反射率を９５％とした。各試料についての計算による分光特性の膜厚依存をそれぞれ図２〜図６に示した。すなわち、図２はａ−ＳｉＯの場合、図３はａ−ＳｉＨの場合、図４はａ−ＳｉＨＯの場合、図５は酸素および水素を含まないａ−Ｓｉの場合、図６は結晶Ｓｉのである。
【００３６】
図６の結晶Ｓｉの場合、その膜厚が０から厚くなるにつれ、反射率Ｒ1 が減少して、Ｒ2 が増加する。そして、厚さが１３ｎｍ付近でＲ1 ＞７０％、かつＲ2 ＞１８％となり（以下この厚さ領域をゾーン１と呼称する）、冒頭に述べた指標を満たすことから、良好な再生信号が得られる。そして、更に膜厚が増加し、１３０ｎｍ付近で、再び上記条件Ｒ1 ＞７０％、かつＲ2 ＞１８％となる（以下この厚さ領域をゾーン２と呼称する）。そして、この増減が繰返されるが、この第２のゾーンより厚い領域では、製造上の問題から実用的には回避されることが望ましい。そこで、各単層材料におけるゾーン１および２で、所望の反射率Ｒ1 ＞７０％、かつＲ2 ＞１８％が得られる膜厚の上限と下限の範囲と、その中心からの割合を膜厚許容値〔％〕として括弧内に示した。
【００３７】
【表２】
0003867347.tif 000003
【００３８】
この場合、実用的見地から望ましい許容値は、±５％程度であり、このことから、ａ−ＳｉＨ、ａ−ＳｉＨＯ、更に結晶Ｓｉを用いることが好ましいことが分かる。しかしながら、結晶Ｓｉは冒頭に述べたように、光透過性基板上に成膜することが困難であって実用的ではない。また、図５のａ−Ｓｉは、図６と比較して明らかなように、結晶Ｓｉに比し光吸収が大きくなるために実用的な膜厚の許容値が比較的小さい。これに比し、酸素が混入されたａ−ＳｉＯでは、ａ−Ｓｉに比して７８０ｎｍでの吸収が小さくなったこと、およびｎ2 ／ｎ1 が大きくなったことによって、ゾーン２での反射率Ｒ1 が高くなり、これによって、ゾーン２で膜厚の許容値が±５％より高い値を示している。同様に水素が混入されたａ−ＳｉＨについても同様に吸収の減少、およびｎ2 ／ｎ1 が酸素混入より大となったことによってゾーン１においても、充分な膜厚許容値が得られた。そして、このように膜厚の小さいゾーン１においても、充分な膜厚許容値が得られることは、この膜厚の小さいゾーン１において半透明反射膜３ｓを形成することができることから、成膜時間の短縮化等から実用上の利益が大きい。更に、酸素および水素の双方が混入されたａ−ＳｉＨＯによれば、更に吸収が減少することによって、ゾーン１および２においてその膜厚許容値が更に拡大されていて、より製造上有利性を増すものである。
【００３９】
表１および表２からわかるように、第２の情報層４ｓを構成する半透明反射膜３ｓとしては、吸収を表す屈折率の虚数部の値が７８０ｎｍで、０．０５以下であることが望ましい。また、実数部屈折率比ｎ２／ｎ１すなわち第２の情報層４ｓとしてのｎｓ１／ｎｓ２は、１．０５以上であることが望ましいことがわかる。
【００４０】
そして、因みに、第１の情報層４ｆの金属反射膜３ｆを、例えば従来におけるＡｌにより構成した場合は、各材料膜におけるＲ1 の値が、図２〜図６におけるＲ1 の値に、それぞれ波長７８０ｎｍに対するＡｌの反射率８１％と、Ａｕの同様の反射率９５％との比、すなわち０．８５を乗じる値となる。すなわち、Ａｌ反射膜の場合、Ａｕ反射膜に比してＲ1 が１５％低くなることから、厚膜許容値を大きくすることができない。
【００４１】
尚、上述した例では、第２の情報層４ｓの半透明反射膜３ｓを、ａ−Ｓｉ系において酸素、水素あるいはその双方を導入した構成材料によって構成した場合であるが、前記Ｇｅ、ＳｉＧｅ、あるいはａ−Ｇｅ系、またはａ−ＳｉＧｅ系、そしてこれらに同様に酸素、水素あるいはその双方を導入した構成材料によって構成して同様の効果を得ることができるものである。
【００４２】
上述したように、本発明によれば、第１の情報層４ｆの金属反射膜３ｆと、第２の情報層４ｓを構成する半透明反射膜３ｓの各光学的特性の特定によって、第２の情報層４ｓに対する第２の波長の第２の再生光に対しては、光ディスクにおいて、指標とされる１８％以上をもって導出することから、品位にすぐれた再生信号を得ることができ、同時に、第１の波長の第１の再生光に対しては、第２の情報層４ｓを充分透過し、かつ金属反射膜３ｆを９０％以上としたことから、第１の情報層４ｆに向かう第１の再生光が、第２の情報層３ｓで幾分減少しても、充分高い効率をもって反射導出することができることから、この第１の再生光による第１の情報層４ｆからの情報の再生についても品位にすぐれた再生信号を得ることができる。
【００４３】
そして、この第１の波長の第１の再生光は、７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長範囲であることから、例えば汎用のＣＤプレーヤを用いることができる。つまり、第１の情報層４ｆの再生を可能にするものである。
【００４４】
また、図１の構成において、第１の情報層４ｓに対する第１の再生光は、第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓによる４回の表面通過がなされるが、上述したように、その複屈折を５０ｎｍ以下としたことによって従来におけるＣＤや、ＤＶＤにおける複屈折の値１００ｎｍに比して遜色のない等価な生成信号を得ることができる。
【００４５】
尚、上述した例では、２枚の光透過性基板を用いた場合であるが、ある場合は、１枚の光透過性基板上に、共に２Ｐ法によって第１および第２の情報層のピット形成を行うとか、一方の情報層のピット形成を光透過性基板の射出成型と同時に形成して、他方の情報層のピットを２Ｐによって形成することもできるなど、図示の例に限られるものではなく、種々の変形変更が可能である。
【００４６】
【発明の効果】
上述したように、本発明構成によれば、第１の情報層４ｆの金属反射膜３ｆと、第２の情報層４ｓを構成する半透明反射膜３ｓの各光学的特性の特定によって、第２の情報層４ｓに対する第２の波長の第２の再生光に対しては、指標とされる１８％以上をもって導出することから、品位にすぐれた再生信号を得ることができ、同時に、第１の波長の第１の再生光に対しては、第２の情報層４ｓを充分透過し、かつ金属反射膜３ｆを９０％以上としたことから、第１の情報層４ｆに向かう第１の再生光が、第２の情報層３ｓで幾分減少しても、充分高い効率をもって反射導出することができることから、この第１の再生光による第１の情報層４ｆからの情報の再生についても品位にすぐれた再生信号を得ることができる。
【００４７】
そして、この第１の波長の第１の再生光は、７７０ｎｍ〜８３０ｎｍの波長範囲であることから、例えば汎用のＣＤプレーヤを用いることができる。つまり、第１の情報層４ｆの再生を可能にするものである。
【００４８】
また、図１の構成において、第１の情報層４ｓに対する第１の再生光は、第１および第２の光透過性基板１ｆおよび１ｓによる４回の表面通過がなされるが、上述したように、その複屈折を５０ｎｍ以下としたことによって従来におけるＣＤや、ＤＶＤにおける複屈折の値１００ｎｍに比して遜色のない等価な生成信号を得ることができる。
【００４９】
また、本発明構成においては、第２の情報層４ｆを、単層膜によって構成するので、その製造が誘電体膜を多層に積層する構造を採る場合に比してその設計、製造の簡易化、したがって、生産性の向上をはかることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明および従来の多層光ディスクの一例の概略断面図である。
【図２】本発明による多層光ディスクの半透明反射膜の構成の説明に供するアモルファスＳｉＯの反射率の波長依存性を示す図である。
【図３】本発明による多層光ディスクの半透明反射膜の構成の説明に供するアモルファスＳｉＨの反射率の波長依存性を示す図である。
【図４】本発明による多層光ディスクの半透明反射膜の構成の説明に供するアモルファスＳｉＨＯの反射率の波長依存性を示す図である。
【図５】本発明による多層光ディスクの半透明反射膜の構成の説明に供するアモルファスＳｉの反射率の波長依存性を示す図である。
【図６】本発明による多層光ディスクの半透明反射膜の構成の説明に供する結晶Ｓｉの反射率の波長依存性を示す図である。
【符号の説明】
１ｆ  第１の光透過性基板、１ｓ  第２の光透過性基板、２ｆ  第１の情報ピット、２ｓ  第２の情報ピット、３ｆ  金属反射膜、３ｓ  半透明反射膜、４ｆ第１の情報層、４ｓ  第２の情報層、５  透明接着材料、６  保護膜、Ｌｆ  第１の再生光、Ｌｓ  第２の再生光
【図１】
0003867347.tif 000004
【図２】
0003867347.tif 000005
【図３】
0003867347.tif 000006
【図４】
0003867347.tif 000007
【図５】
0003867347.tif 000008
【図６】
0003867347.tif 000009