(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
真空容器内に配置した陰極構体と、この陰極構体から放射する電子ビームが軌道面上の焦点に入射しＸ線を放出する陽極ターゲットと、この陽極ターゲットと一体に回転する回転体と、この回転体とともに前記陽極ターゲットを回転可能に支持し、前記回転体との間に軸受が設けられた固定体とを具備した回転陽極型Ｘ線管において、前記陽極ターゲットおよび前記回転体と一体で回転する反跳電子トラップを前記軌道面の外側に設けたことを特徴とする回転陽極型Ｘ線管。
【請求項２】
反跳電子トラップが、陽極ターゲットの軌道面と真空容器に設けたＸ線窓とを結ぶ出力Ｘ線の進路上に位置する請求項１記載の回転陽極型Ｘ線管。
【請求項３】
反跳電子トラップが陽極ターゲットの軌道面を囲む筒状部分を有する請求項１記載の回転陽極型Ｘ線管。
【請求項４】
反跳電子トラップがＸ線を透過する材料で形成されている請求項１ないし請求項３のいずれか１つに記載の回転陽極型Ｘ線管。
【請求項５】
Ｘ線を透過する材料は、グラファイトおよびＣＦＣ、ベリリウム、ベリリア、Ｂ、ＢＮ、Ｂ4Ｃの中の１つを主とする材料である請求項４記載の回転陽極型Ｘ線管。
【請求項６】
管軸方向にみて陽極ターゲットよりも陰極構体側に、前記陽極ターゲットおよび回転体と一体で回転する反跳電子トラップを軌道面の内側に設けた請求項１記載の回転陽極型Ｘ線管。
【請求項７】
固定体の内部に冷却媒体が流れる流路が形成されている請求項１ないし請求項６のいずれか１つに記載の回転陽極型Ｘ線管。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は回転陽極型Ｘ線管に関する。
【０００２】
【従来の技術】
回転陽極型Ｘ線管は、真空容器内に配置した円盤状陽極ターゲットを回転支持機構によって回転可能に支持し、高速で回転する陽極ターゲットに対して電子ビームを照射し、陽極ターゲットからＸ線を放出させる構造になっている。陽極ターゲットを回転可能に支持する回転支持機構は、互いに嵌合する回転体および固定体から構成され、回転体と固定体の嵌合部分に軸受が設けられている。
【０００３】
回転陽極型Ｘ線管の軸受には、ボールベアリングのようなころがり軸受、あるいは、軸受面にらせん溝を形成し、ガリウム（Ｇａ）やガリウムーインジウムー錫（Ｇａ−Ｉｎ−Ｓｎ）合金などの液体金属潤滑剤を軸受間隙に満たした動圧式すべり軸受が用いられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
回転陽極型Ｘ線管は、陰極から放出された電子が、陰極および陽極ターゲット間の電位勾配で加速集束され、たとえば１２０〜１５０ｋｅＶのエネルギーを持って、Ｘ線発生源となる焦点を陽極ターゲット上に形成する。高エネルギーの電子が陽極ターゲット上に衝突すると、電子は急速に減速し陽極ターゲットからＸ線が放出される。
【０００５】
陽極ターゲットに衝突する電子の運動エネルギーのうち、１％程度のわずかな部分がＸ線に変換される。残りのエネルギーは熱に変換され、陽極ターゲットを加熱する。電子の衝突で発生する陽極ターゲットの熱は、回転陽極型Ｘ線管を高性能化するために、電子ビーム出力を大きくしてＸ線の放出量を増加させる場合、あるいは、Ｘ線を頻繁に放出させる場合、Ｘ線を長時間にわたって連続的に放出させる場合などに障害になる。
【０００６】
また、陽極ターゲットに衝突した電子は約５０％が後方に散乱する。後方に散乱した電子（以下、反跳電子と記す）は、陽極ターゲットの表面から一度遠ざかる。その後、陰極と陽極間の電位勾配によって陽極ターゲット側に加速され、反跳電子のほとんどが焦点から離れた陽極ターゲットの表面に再び衝突する。再衝突した反跳電子は陽極ターゲットを加熱させる。また、利用しないＸ線（以下、焦点外Ｘ線と記す）を放出させ、Ｘ線画像の明瞭度が損なわれる。
【０００７】
上記したように反跳電子は、利用可能なＸ線の発生に寄与せず、陽極ターゲットを加熱しＸ線管の高性能化を妨げる。
【０００８】
そこで、反跳電子を捕捉するシールド構造体を陰極と陽極ターゲット間に配置し、反跳電子による陽極ターゲットの加熱を減少させる方法がある（米国特許第４３０９６３７号明細書および特表平１１−５１０９５５号公報参照）。
【０００９】
これらの方法は、シールド構造体を比較的薄い金属壁で構成し、反跳電子が衝突する面と反対側の面を冷却媒体で冷却する構造になっている。反跳電子の衝突で発生するシールド構造体の熱は、熱伝導によって冷却壁面に伝熱し、冷却媒体によって熱交換される。
【００１０】
上記の方法は、シールド構造体に発生する熱が冷却媒体による熱交換の能力を上回ると、金属壁部分の温度が上昇する。温度の上昇が大きくなると、金属壁の表面が溶融し、あるいは、金属壁から真空管内に不所望のガスを発生させ、耐電圧性能が低下する。
【００１１】
そのため、シールド構造体を用いる方法は、ＣＴ装置など高出力のＸ線撮影装置への適用が困難になっている。たとえば連続７２ｋＷの出力をもつＣＴ装置に適用する場合、捕捉される反跳電子の割合が８０％と仮定すると、約２９ｋＷの熱を冷却媒体に直接伝達する必要がある。しかし、現状のＣＴ装置は、油冷却装置の最大の冷却性能は１０ｋＷに満たず、シールド構造体の採用が困難になっている。
【００１２】
また、特開２０００−２００６９５号公報には、反跳電子を捕捉するために、真空外囲器の外面の一部に、Ｘ線透過窓接合用の穴を含んだ形状の熱蓄積アセンブリを設ける方法が開示されている。この熱蓄積アセンブリは、内部に熱交換チャンバを設け、熱交換チャンバ内に冷却媒体を流して熱蓄積アセンブリを冷却する構造となっている。
【００１３】
熱蓄積アセンブリを用いる方法は、熱蓄積アセンブリが固定された構造であるため、反跳電子が衝突する領域の表面温度が局部的に高くなる。また、Ｘ線照射窓への反跳電子の衝撃を防止することが困難であり、熱交換チャンバを設けるため構造が複雑になる。
【００１４】
この発明は、上記の欠点を解消し、反跳電子による加熱を抑え、良好な回転特性を有する回転陽極型Ｘ線管を提供することを目的とする。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
この発明は、真空容器内に配置した陰極構体と、この陰極構体から放射する電子ビームが軌道面上の焦点に入射しＸ線を放出する陽極ターゲットと、この陽極ターゲットと一体に回転する回転体と、この回転体とともに前記陽極ターゲットを回転可能に支持し、前記回転体との間に軸受が設けられた固定体とを具備した回転陽極型Ｘ線管において、前記陽極ターゲットおよび前記回転体と一体で回転する反跳電子トラップを前記軌道面の外側に設けたことを特徴とする。
【００１６】
【発明の実施の形態】
本発明の実施形態について、その主要部分を抜き出した図１を参照して説明する。符号１０は真空容器で、図１の場合、その接地側容器部分のみが示されている。真空容器１０の一部にＸ線窓１０ａが設けられている。真空容器１０内に円盤状陽極ターゲット１１が配置され、陽極ターゲット１１は回転支持機構１２によって回転可能に支持されている。回転支持機構１２はたとえば有底円筒状の回転体１３およびこの回転体１３内側に嵌合する固定体１４から構成され、陽極ターゲット１１はその回転体１３の部分に連結している。
【００１７】
たとえば陽極ターゲット１１の内側に肉厚の薄い環状の肉薄部１５が形成され、また、回転体１３の外周部分に環状の突出部１６が形成され、陽極ターゲット１１の肉薄部１５と回転体１３の突出部１６がたとえば複数のねじ１７で固定されている。陽極ターゲット１１の一部たとえば図示上面の外周部分に、外側の方が低い傾斜面が環状に形成され、その傾斜面にＸ線を放出する軌道面１８が環状に設けられている。
【００１８】
回転体１３の図示上部に円板状の反跳電子トラップ１９がたとえば複数のねじ２０で固定されている。反跳電子トラップ１９の側壁部分１９ａはたとえば上面の方が下面よりも径が大きい傾斜面に形成されている。側壁部分１９ａのたとえば下端は陽極ターゲット１１の軌道面１８が形成する環状領域の内端よりも小さくその内側に位置している。
【００１９】
回転体１３および固定体１４の嵌合部分の所定領域に動圧式すべり軸受が設けられている。たとえば回転体１３の内周面と固定体１４の外周面との間に、軸受面が管軸ｍに平行なラジアル方向の動圧式すべり軸受２１Ｒが設けられている。また、回転体１３の底面と固定体１４の端面との間に軸受面が管軸ｍに直交するスラスト方向の動圧式すべり軸受２１Ｓが設けられている。動圧式すべり軸受２１Ｒ、２１Ｓは、たとえば軸受面の一方にらせん溝を形成し、このらせん溝の部分に液体金属潤滑剤を供給する構成になっている。
【００２０】
また、固定体１４の内部に穴２２が形成され、穴２２の中にパイプ２３が配置されている。このとき、矢印Ｙで示すように、冷却媒体がパイプ２３内を上昇し、その後、パイプ２３の外側を下降する冷却媒体用通路が形成される。
【００２１】
また、陽極ターゲット１１の軌道面１８に対向して、反跳電子トラップ１９が設けられた側に電子ビームを発生する陰極構体２４が配置されている。陰極構体２４はたとえばマルチフォーカス構造で、電子ビームを発生する陰極２４ａおよびグリッド電極２４ｂなどから構成されている。グリッド電極２４ｂは絶縁物２４ｃを介して陰極２４ａの周囲に取り付けられている。
【００２２】
マルチフォーカス構造はＣＴ装置で使用される回転陽極型Ｘ線管などに用いられている。たとえば複数の電子放出部いわゆるフィラメントが陰極２４ａに設けられ、使用条件に応じて電子放出部が切り替えられる。電子放出部を切り替えた場合、それぞれの電子放出部から発生する電子が陽極ターゲット１１上のほぼ同一の位置に焦点を形成するように、グリット電極２４ｂの電圧が切り替えに合わせて調整される。
【００２３】
陰極構体２４は、軌道面１８上のＸ線焦点に接する面Ｓに垂直な垂直線ｓよりもＸ線窓１０ａ側に傾いて配置され、陰極構体２４が発生する電子ビームｅは管軸ｍに対し傾けた向きに放出される。このとき、反跳電子トラップ１９の外側面１９ａが電子ビームｅの進行方向とほぼ平行し、反跳電子トラップ１９が形成する電界は電子ビームｅを直進させる。
【００２４】
上記した配置の場合、図２に示すように、たとえば軌道面上に形成されるＸ線焦点Ｆに接する面をＳ、電子の中心ビームがＸ線焦点Ｆに入射する入射方位ベクトルをｅ、Ｘ線を取り出すＸ線出力方位ベクトルをｘ、面ＳのＸ線焦点Ｆ上に垂直に落下する垂直方位ベクトルをｓとした場合、入射方位ベクトルｅと垂直方位ベクトルｓがなす角度θがターゲット角度ψすなわちＸ線出力方位ベクトルｘと面Ｓがなす角度以上に設定されている。
【００２５】
また、たとえば陰極構体２４を起点とするＸ線焦点Ｆまでの入射方位ベクトルｅの面Ｓへの投影ｅ0 と、たとえばＸ線焦点Ｆを起点とするＸ線窓までのＸ線出力方位ベクトルｘのＳ面への投影ｘ0 とのなす角度φが９０°以下に設定されている。ここでは、投影ｅ0 と投影ｘ0 が一致する場合に角度φ＝０°となる。
【００２６】
上記の構成において、陽極ターゲット１１を高速で回転させ、陰極構体２４が発生する電子ビームｅの焦点Ｆを陽極ターゲット１１の軌道面１８上に形成し、Ｘ線を放出させる。このＸ線は矢印Ｘ（図１）で示すように進み真空容器１０のＸ線窓１０ａから取り出される。
【００２７】
このとき、陽極ターゲット１１に対する電子ビームｅの衝突で、符号Ｅ（図１）で示すように反跳電子が発生する。反跳電子Ｅは、互いに電気的に接続され同じ値の高電位に設定された陽極ターゲット１１および反跳電子トラップ１９によって捕捉される。
【００２８】
反跳電子の衝撃で発生する反跳電子トラップ１９の熱は熱伝導で全体に蓄積され、反跳電子トラップ１９の温度が上昇する。この熱の一部は反跳電子トラップ１９の熱輻射作用により放散される。また、熱の一部は、回転体１３からスラスト方向の動圧式すべり軸受２１Ｓなどを介して固定体１４に伝熱し、固定体１４内を流れる冷却媒体たとえば絶縁油への緩やかな熱伝達作用で放散される。
【００２９】
上記したように、比較的短時間に高いパワーで発生した反跳電子の衝撃による熱は反跳電子トラップ１９に蓄積され、その後、Ｘ線の照射が中断される比較的長時間の間に緩やかに放散される。したがって、軸受部分における急激な温度上昇が回避され、良好な軸受機能が維持される。
【００３０】
上記した構成の場合、陰極構体２４は、軌道面１８に接する面Ｓ上でＸ線焦点Ｆに垂直な方向よりもＸ線窓１０ａ側に位置し、角度φ（図２）を９０°以下に設定している。この場合、反跳電子の多くが反跳電子トラップ１９に向い、Ｘ線窓１０ａに向う反跳電子が減少する。その結果、Ｘ線窓１０ａの温度上昇が抑えられる。
【００３１】
また、電子の中心ビームが面Ｓに入射する入射路と面Ｓに垂直な線ｓとがなす入射角度θをターゲット角度ψよりも大きくしている。この場合、反跳電子が広い範囲に分布し、反跳電子によって衝撃される反跳電子トラップ１９表面の温度分布が均一化し、局所的な温度上昇が防止される。
【００３２】
たとえば、図３（ａ）の符号Ｐに示すように、入射角度θがターゲット角度ψよりも小さく、入射方向ＩＮが面Ｓに垂直の場合（θ＝０°）、反跳電子の分布は電子ビームが入射する面Ｓの垂直方向に集中する。一方、図３（ｂ）の符号Ｑで示すように、入射角度θがターゲット角度ψよりも大きく、入射方向ＩＮが面Ｓに対して傾いている場合（θ＝６０°）は、焦点Ｆ近傍における反跳電子の数密度分布は、入射電子が正反射する方向を最大にして全般になだらかな分布となる。反跳電子は電界の影響によって曲がるようなことがないため、焦点から離れた位置でも、反跳電子の分布Ｑはなだらかな分布となる。その結果、反跳電子によって衝撃される反跳電子トラップ１９表面の温度分布が均一化する。
【００３３】
また、反跳電子トラップ１９は回転する構造になっている。この場合、反跳電子の衝撃を受ける反跳電子トラップ１９の面積が実質的に増加したことと等価になり、温度上昇が抑えられる。
【００３４】
また、反跳電子トラップ１９に黒化皮膜を設け、あるいは、複数の凹凸溝を形成して表面積を大きくすれば、放熱特性が向上し、より効率よく熱を放散できる。また、反跳電子トラップ１９のＸ線焦点Ｆに対向する側の表面を耐熱性の高い材料で構成すれば、高温時の溶融や有害ガスの発生を少なくできる。
【００３５】
耐熱性の高い材料としては、ニオブおよびニオブ合金、モリブデン、モリブデン合金、タンタル、タンタル合金、タングステン、タングステン合金、レニウム、レニウム合金の中の一つを主とする材料が使用される。
【００３６】
また、反跳電子トラップ１９のＸ線焦点Ｆに対向する側の表面を粗くすれば、反跳電子の衝撃によって発生する２次散乱電子の陽極ターゲット１１側への戻りを低減できる。また、反跳電子トラップ１９のＸ線焦点Ｆに対向する側の表面を原子番号が４５以下の材料で被覆すれば、反跳電子の衝撃で発生する２次散乱電子の数を減少できる。
【００３７】
次に、本発明の他の実施形態について図４を参照して説明する。図４は、図１に対応する部分に同じ符号を付し重複する説明を一部省略する。また、図４以下では真空容器を省略している。
【００３８】
この実施形態の場合、陰極構体２４が集束電極４１やフィラメント４２などから構成されている。集束電極４１の平坦な前面４３に集束溝４４が設けられ、集束溝４４の内部にフィラメント４２が配置されている。集束電極４１の前面４３は陽極ターゲット１１の軌道面１８に対し傾いた配置になっている。図示左側に位置するＸ線窓（図示せず）側の方が軌道面１８たとえば出力用Ｘ線の進行路に接近している。この場合、Ｘ線窓に向う反跳電子は前面４３のＸ線窓側端部が形成する電界によって陽極ターゲット１１方向に戻され、Ｘ線窓の過熱が防止される。
【００３９】
次に、本発明の他の実施形態について図５を参照して説明する。図５は、図４に対応する部分に同じ符号を付し重複する説明を一部省略する。
【００４０】
この実施形態の場合、集束電極４１の前面４３が軌道面１８にほぼ平行な平坦面４３ａとＸ線窓側が陽極ターゲット１１側に張り出した傾斜面４３ｂから構成されている。この場合も、Ｘ線窓の方向に向う反跳電子は集束電極４１の傾斜面４３ｂが形成する電界によって陽極ターゲット１１方向に戻され、Ｘ線窓の過熱が防止される。
【００４１】
次に、本発明の他の実施形態について図６を参照して説明する。図６は、図１に対応する部分に同じ符号を付し重複する説明を一部省略する。
【００４２】
この実施形態の場合、陽極ターゲット１１の内側の肉薄部１５が回転体１３の上端部にたとえば複数のねじ１７で固定されている。また、陽極ターゲット１１の図示下方たとえば陰極構体２４と反対側に位置する回転体１３の外周部に高融点材料で形成された支持部材６１が固定されている。
【００４３】
支持部材６１は円板部６２およびこの円板部６２から陽極ターゲット１１の側面に沿って管軸ｍ方向に伸びる円筒部６３から構成されている。この場合、円板部６２の内側に肉厚の薄い環状の肉薄部６４が形成され、また、回転体１３の外周部分に環状の突出部６５が形成され、支持部材６１の肉薄部６４と回転体１３の突出部６５がたとえば複数のねじ６６で固定されている。そして、円筒部６３の図示上部たとえば陰極構体２４側に筒状の反跳電子トラップ６７が固定されている。反跳電子トラップ６７は、たとえば軌道面１８よりも外側に位置し、かつ、軌道面１８からＸ線窓に進むＸ線出力Ｘの進路を塞ぐ形に位置し、Ｘ線を透過しやすい材料で形成されている。
【００４４】
Ｘ線を透過しやすい材料としては、グラファイト、ＣＦＣ（Ｃａｒｂｏｎ  Ｆｉｂｅｒ  Ｃｏｍｐｏｓｉｔｅ）、ベリリウム、ベリリア、Ｂ、ＢＮ、Ｂ4 Ｃの中の一つを主とする材料が使用される。
【００４５】
この場合、図２に示したように、たとえば軌道面１８上に形成されるＸ線焦点Ｆに接する面をＳ、電子の中心ビームがＸ線焦点Ｆに入射する入射方位ベクトルをｅ、Ｘ線を取り出すＸ線出力方位ベクトルをｘ、面ＳのＸ線焦点Ｆに垂直な垂直方位ベクトルをｓとした場合に、垂直方位ベクトルｓと入射方位ベクトルｅがなす角度θはターゲット角度ψ以上に設定されている。また、入射方位ベクトルｅの面Ｓへの投影ｅ0 とＸ線出力方位ベクトルｘの面Ｓへの投影ｘ0 とのなす角度φが９０°以上に設定されている。
【００４６】
この場合、図１の構造に比べてＸ線窓に向う反跳電子の量が多くなる。しかし、Ｘ線窓の前に位置する反跳電子トラップ６７によって反跳電子が捕捉され、Ｘ線窓の加熱が防止される。また、反跳電子トラップ６７は回転する構造になっているため、反跳電子の衝撃を受ける面積が実質的に増加したと等価になり、反跳電子トラップ６７表面の温度上昇が抑えられる。
【００４７】
また、Ｘ線窓の前方に反跳電子トラップ６７が位置している。そのため、Ｘ線窓に対する反跳電子の衝撃が回避される。
【００４８】
なお、入射方位ベクトルｅの面Ｓへの投影ｅ0 とＸ線出力方位ベクトルｘの面Ｓへの投影ｘ0 とのなす角度φを１８０°、あるいは、この近傍に設定すればＸ線窓方向に向うＸ線が増大しＸ線出力が大きくなる。
【００４９】
次に、本発明の他の実施形態について図７を参照して説明する。図７は図６に対応する部分には同じ符号を付し重複する説明を一部省略する。
【００５０】
この実施形態の場合、陰極構体２４は図４の場合と同様、集束電極４１などから構成されている。集束電極４１の前面４３は全体が平坦に形成されている。また、前面４３の一部に集束溝４４が設けられ、集束溝４４の内部にフィラメント４２が配置されている。この場合、集束電極４１の前面４３は軌道面１８とほぼ平行し、回転体１３の図示上部に、図１の反跳電子トラップとほぼ同様の構造の陰極側反跳電子トラップ７１がたとえばねじ７２で固定されている。
【００５１】
上記した構成の場合、陽極ターゲット１１に衝突し後方に散乱される反跳電子は、回転する反跳電子トラップ６７および回転する陰極側反跳電子トラップ７１の両方で補足される。
【００５２】
次に、本発明の他の実施形態について図８を参照して説明する。図８は図７に対応する部分には同じ符号を付し重複する説明を一部省略する。
【００５３】
この実施形態は、反跳電子トラップ６７が陽極ターゲット１１の外周部に固定されている。この場合も、回転する反跳電子トラップ６７および回転する陰極側反跳電子トラップ７１の両方で反跳電子が補足される。
【００５４】
次に、本発明の他の実施形態について図９を参照して説明する。図９は図７に対応する部分に同じ符号を付し重複する説明を一部省略する。
【００５５】
この実施形態は、支持部材６１の円板部６２が陽極ターゲット１１の裏面たとえば陰極構体２４と反対側の面に接合されている。この場合も、回転する反跳電子トラップ６７および回転する陰極側反跳電子トラップ７１の両方で反跳電子が補足される。
【００５６】
また、上記した各実施形態の場合、反跳電子トラップの外周部たとえば反跳電子が衝突する近傍は熱交換チャンバが設けられない実質的に中実の構造になっている。そのため反跳電子トラップの構造が簡単になる。
【００５７】
また、上記の各実施形態の場合、動作時、陰極に陰極電圧を印加し、真空容器に金属容器電圧を印加し、反跳電子トラップおよび陽極ターゲットに陽極電圧が印加される。この場合、陰極電圧を−７０ｋＶ、金属容器電圧を０ｋＶ、陽極電圧を＋７０ｋＶに設定する中性点接地、あるいは、陰極電圧を−１４０ｋＶ、金属容器電圧を０ｋＶ、陽極電圧を０ｋＶに設定する陽極接地が採用される。
【００５８】
【発明の効果】
本発明によれば、反跳電子による加熱を抑え、良好な回転特性を有する回転陽極型Ｘ線管が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【図２】陽極ターゲットの軌道面における電子ビームおよびＸ線出力などの関係を説明するための模式図である。
【図３】陽極ターゲットで発生する反跳電子の分布を説明するための特性図である。
【図４】本発明の他の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【図５】本発明の他の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【図６】本発明の他の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【図７】本発明の他の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【図８】本発明の他の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【図９】本発明の他の実施形態を説明するための概略の断面図である。
【符号の説明】
１０…真空容器
１０ａ…Ｘ線窓
１１…陽極ターゲット
１２…回転支持機構
１３…回転体
１４…固定体
１５…陽極ターゲットの薄肉部
１６…回転体の突出部
１７…ねじ
１８…軌道面
１９…反跳電子トラップ
２０…ねじ
２１Ｒ…ラジアル方向の動圧式すべり軸受
２１Ｓ…スラスト方向の動圧式すべり軸受
２２…穴
２３…パイプ
ｅ…電子ビーム
ｍ…管軸
Ｓ…陽極ターゲット上の軌道面に接する面
ｓ…面Ｓに対する垂直線
Ｆ…Ｘ線焦点
Ｘ…Ｘ線出力
Ｅ…反跳電子
【図１】
0003910468.tif 000002
【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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