(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一対の被溶接材を接触させた状態で加圧して溶接するフラッシュバット溶接機において、前記一対の被溶接材の接触部分を被うカバーを備えたスパッタ回収装置が設けられており、
前記カバーは、
前記一対の被溶接材の接触部分の両側方に配置された一対の側方カバーと、
該一対の側方カバー間に設けられ、上方に飛散するスパッタを受け止める上部カバーとを備えており、
該上部カバーは、その側面を前記一対の側方カバー内面に接触させた状態で昇降するスクレーパである
ことを特徴とするフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【請求項２】
前記カバーの下方に、前記スクレーパの下面と平行な方向に移動可能に設けられた、スクレーパ清掃部を備えており、
前記スクレーパが降下したときに、前記スクレーパ清掃部が、その上端縁を前記スクレーパの下面に接触させた状態で移動する
ことを特徴とする請求項１記載のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【請求項３】
前記カバー内面に、水膜が形成された
ことを特徴とする請求項１記載のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【請求項４】
前記フラッシュバット溶接機が、前記一対の被溶接材をそれぞれ保持する一対の電極を備えており、
前記スクレーパが、その前面および背面を前記一対の電極の互いに対向する面に接触させた状態で昇降する
ことを特徴とする請求項１記載のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【請求項５】
前記一対の側方カバーにおける前記一対の電極の両側方に位置する内面が、鉛直面に形成されており、
前記一対の電極の互いに対向する面が、鉛直面に形成されている
ことを特徴とする請求項４記載のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【請求項６】
前記フラッシュバット溶接機が、前記一対の被溶接材をそれぞれ保持する一対の電極を備えており、
前記一対の側方カバーは、シャッタ状に形成されており、
該一対の側方カバーが、前記一対の電極の側面に沿って移動可能に設けられており、
該一対の側方カバーを移動させると、該一対の側方カバーが前記一対の電極によって保持された前記一対の被溶接材の高さに出没する
ことを特徴とする請求項１記載のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【請求項７】
前記一対の側方カバーが、平板状の部材であり、
各側方カバーが、鉛直に配設された
ことを特徴とする請求項６記載のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置に関する。一対の電極にそれぞれ保持された一対の被溶接材同士を接触させて、フラッシュバット溶接を行う溶接機において、一対の被溶接材間に通電したときには、両者の接触面から溶融金属（以下、スパッタという）が周囲に飛散する。このスパッタは、非常に高温かつ高エネルギーを有するので、周囲の機器に溶着して、その機器の故障発生の原因となったり、また、人体に接触すると火傷を起こすなど、非常に危険である。本発明はかかるスパッタが周囲に飛散することを防ぐためのフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ビレットを所定の断面形状に成形する連続圧延設備では、順次供給されるビレットの軸方向両端部同士をフラッシュバット溶接機によって溶接してから、圧延機に送り成形している。このため、圧延機には、とぎれることなく連続してビレットが供給されるので、圧延作業を効率良く行うことができる。
ところが、フラッシュバット溶接を行うと、その溶接部からはスパッタが飛散するので、従来は、ビレット同士を接触させた部分の周囲に、衝立状のカバーを設けて、スパッタが周囲に飛散することを防いでいた。
しかし、このような衝立状のカバーでは、ビレット同士を接触させた部分を完全に被うことができないため、カバーがない部分からスパッタが周囲に飛び散るという問題がある。また、カバー内壁に当たったスパッタがカバーの内壁や電極等に付着すると機械の絶縁不良を発生させる原因となるため、スパッタを定期的に除去しなければならない。すると、スパッタ除去作業の度に圧延作業を停止させなければならず圧延作業の効率が悪くなるという問題がある。
【０００３】
上記のごとき問題を解決する技術として、特開２０００−１２６８９７（従来例１）に記載された技術がある。
図８は従来例１のフラッシュバット溶接機用スパッタカバーの概略説明図である。図８に示すように、従来例１のフラッシュバット溶接機用スパッタカバーは、上カバー110 と下カバー120 とから構成されており、この上カバー110 と下カバー120 によってビレットＢ同士の溶接接合部分を完全に被っている。そして、各側壁111 ，121 を傾斜して形成し、その内面に水を流して、水の膜を形成している。そして、上カバー110 の前壁および背壁は、その外面に形成された水冷パイプによって冷却されている。
このため、側壁111 ，121 に向かって飛んできたスパッタは水膜によって冷却されてから側壁111 ，121 に接触する。しかも、側壁111 ，121 は傾斜して形成されているから、スパッタが側壁111 ，121 に衝突するときの衝突力をそらすことができる。よって、飛散してきたスパッタが側壁111 ，121 に付着することを防ぐことができる。また、上カバー110 の前壁および背壁は冷却パイプによって冷却されており、その温度が低くなっているので、スパッタが付着することを防ぐことができる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
しかるに、従来例１のフラッシュバット溶接機用カバーには以下の（ｉ）〜(iii) に示す問題がある。
（ｉ）上記のように、水膜によってスパッタを冷却したり、側壁を傾斜させることによってスパッタの衝突力をそらしたりすれば、粒径が小さく温度も比較的低いスパッタであれば側壁111 ，121 に付着することを防ぐことができる。しかし、粒径が大きく温度が非常に高いスパッタが飛散した場合には、そのスパッタを完全に冷却することはできないし、スパッタが側壁111 ，121 に衝突するときの衝突力も大きくなるので、このようなスパッタは側壁111 ，121 に付着してしまう。すると、付着したスパッタを除去するためには、従来のカバーと同様に、圧延作業を停止してスパッタ除去作業を行う必要があるという問題がある。
（ii）従来例１では、カバーそのものの内面に付着するスパッタを少なくすることはできるが、ビレットＢを支持する電極にスパッタが付着することを防ぐことはできない。このため、電極に付着したスパッタを除去するスパッタ除去作業のサイクルタイムは、結局、従来の溶接機とあまり変らない。したがって、スパッタを除去のために圧延作業を停止させる時間はそれほど短縮できないので、圧延作業の効率化を十分に図ることができないという問題がある。
(iii) 複数のストランドを有する連続圧延設備の場合、一のストランドにおいてビレットＢ同士を溶接している間も、隣接するストランドにはビレットＢが送られている。ところが、従来例１のカバーは、その側壁111 ，121 は傾斜しているため、その幅が広くなっており、従来例１のカバーを用いて溶接箇所を被った場合には、側壁111 ，112 が隣接するビレットＢに接触してしまう可能性がある。
【０００５】
本発明はかかる事情に鑑み、周囲にスパッタが飛散することを防ぐことができ、機械を停止させることなく機械に付着したスパッタを除去することができ、作業の効率化を図ることができ、しかも装置をコンパクトにすることができるフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置を提供することを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、一対の被溶接材を接触させた状態で加圧して溶接するフラッシュバット溶接機において、前記一対の被溶接材の接触部分を被うカバーを備えたスパッタ回収装置が設けられており、前記カバーは、前記一対の被溶接材の接触部分の両側方に配置された一対の側方カバーと、該一対の側方カバー間に設けられ、上方に飛散するスパッタを受け止める上部カバーとを備えており、該上部カバーは、その側面を前記一対の側方カバー内面に接触させた状態で昇降するスクレーパであることを特徴とする。
請求項２のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、請求項１記載の発明において、前記カバーの下方に、前記スクレーパの下面と平行な方向に移動可能に設けられた、スクレーパ清掃部を備えており、前記スクレーパが降下したときに、前記スクレーパ清掃部が、その上端縁を前記スクレーパの下面に接触させた状態で移動することを特徴とする。
請求項３のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、請求項１記載の発明において、前記カバー内面に、水膜が形成されたことを特徴とする。
請求項４のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、請求項１記載の発明において、前記フラッシュバット溶接機が、前記一対の被溶接材をそれぞれ保持する一対の電極を備えており、前記スクレーパが、その前面および背面を前記一対の電極の互いに対向する面に接触させた状態で昇降することを特徴とする。
請求項５のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、請求項４記載の発明において、前記一対の側方カバーにおける前記一対の電極の両側方に位置する内面が、鉛直面に形成されており、前記一対の電極の互いに対向する面が、鉛直面に形成されていることを特徴とする。
請求項６のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、請求項１記載の発明において、前記フラッシュバット溶接機が、前記一対の被溶接材をそれぞれ保持する一対の電極を備えており、  前記一対の側方カバーは、シャッタ状に形成されており、該一対の側方カバーが、前記一対の電極の側面に沿って移動可能に設けられており、該一対の側方カバーを移動させると、該一対の側方カバーが前記一対の電極によって保持された前記一対の被溶接材の高さに出没することを特徴とする。
請求項７のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置は、請求項６記載の発明において、前記一対の側方カバーが、平板状の部材であり、各側方カバーが、鉛直に配設されたことを特徴とする。
【０００７】
請求項１の発明によれば、カバーによって、被溶接材同士を溶接したときに発生するスパッタが周囲に飛散することを防ぐことができる。そして、そのスパッタが一対の側方カバー内面に付着しても、スクレーパを移動させれば、スクレーパによって一対の側方カバー内面に付着したスパッタを掻き落とすことができる。よって、溶接作業を停止させることなく一対の側方カバーを清掃することができるので、溶接作業の効率化を図ることができる。しかも、スクレーパが上方に飛散するスパッタを受け止めるカバーの役割も兼ねているので、スパッタ飛散防止専用の上部カバーを設ける必要がない。よって、装置の構造を簡単にすることができ、装置をコンパクトにすることができる。
請求項２の発明によれば、スクレーパの下面にスパッタが付着しても、そのスパッタをスクレーパ清掃部によって掻き落とすことができる。したがって、スクレーパによるスパッタ除去能力が低下することを防ぐことができる。
請求項３の発明によれば、スパッタがカバー内面に接触する前にスパッタを冷却することができるので、カバー内面に付着するスパッタを低減させることができる。
請求項４の発明によれば、スクレーパを移動させれば、一対の側方カバー内面だけでなく一対の電極における互いに対向する面、つまり一対の電極の被溶接材同士の接触部分に向いた面に付着したスパッタも掻き落とすことができる。また、一対の電極間に被溶接材が位置しない時間を設け、その時間にスクレーパを移動させれば、溶接作業を停止させなくても一対の電極における互いに対向する面を清掃できるので、溶接作業の効率化を図ることができる。
請求項５の発明によれば、一対の電極の互いに対向する面および一対の側方カバーの内面がすべて鉛直面に形成されているから、各面におけるスパッタを確実に掻き落とすことができる。したがって、作業の効率化を図ることができ、スパッタ除去作業の時間を短縮することができる。
請求項６の発明によれば、側方カバーを移動させれば、側方カバーを被溶接材の水平位置から退避させることができる。このため、複数のストランドを有する設備に設けた場合、側方カバーを退避させておけば、フラッシュバット溶接機を一のストランドから他のストランドに移動させるときに側方カバーが邪魔にならない。
請求項７の発明によれば、スパッタ回収装置の幅を狭くできるので、装置をコンパクトにすることができる。したがって、複数のストランドを有する圧延装置などに使用しても、側方カバーを移動させたときに、隣接するストランドに保持されている被溶接材に側方カバーが接触することを防ぐことができる。
【０００８】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施形態を図面に基づき説明する。
図５および図６はフラッシュバット溶接機１０を備えた連続加工設備１の概略説明図である。図７は図５のVII-VII 線矢視図である。
まず、本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０を説明する前に、本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０を備えたフラッシュバット溶接機１０およびこのフラッシュバット溶接機１０を備えた連続加工設備１を説明する。
【０００９】
図５および図６において、符号Ｂ１は図示しないビレット供給装置（図５および図６では右方に配置されている）から供給されるビレットを示しており、符号Ｂ２は図示しない連続圧延装置等の連続加工装置（図５および図６では左方に配置されている）に供給されるビレットを示している。また、符号Ｂは、ビレットＢ１とビレットＢ２が溶接され、ビレット供給装置から連続加工装置までが一続きとなったビレットを示している。
上記のビレットＢ、ビレットＢ１およびビレットＢ２は、ビレット供給装置から連続加工装置、つまり、図５および図６において右から左に送られる。
また、符号Ｒ１は、前記ビレット供給装置と前記連続加工装置との間の地面に、前記ビレットＢ１，Ｂ２の送り方向と平行に設けられた送り方向レールを示している。
【００１０】
図５および図６に示すように、前記送り方向レールＲ１には、フラッシュバット溶接機１０が載せられている。このフラッシュバット溶接機１０は、その可動ベース１１の下端に車輪11r を有しており、この車輪11r によって送り方向レールＲ１の軸方向に沿って移動可能に設けられている。つまり、フラッシュバット溶接機１０は、前記ビレット供給装置と前記連続加工装置の間を移動することができるのである。
【００１１】
図５および図７に示すように、このフラッシュバット溶接機１０は、前記ビレットＢ１の先端部を保持する上流側電極１８と、前記ビレットＢ２の後端部を保持する下流側電極１９とを備えている。
この上流側電極１８は、上電極18a と下電極18b から構成されており、この上電極18a および下電極18b を、それぞれ上電極移動用シリンダ１６および下電極移動用シリンダ１７によって互いに接近離間させることによってビレットＢ１を保持することができる。
また、下流側電極１９も、上流側電極１８と同様に、上電極19a と下電極19b から構成されており、それぞれ上電極移動用シリンダ１６および下電極移動用シリンダ１７によって互いに接近離間させることによってビレットＢ２を保持することができる。
【００１２】
このため、ビレットＢ１の先端とビレットＢ２の後端を接触させた状態において、フラッシュバット溶接機１０の上流側電極１８および下流側電極１９によってビレットＢ１およびビレットＢ２を保持し、上流側電極１８と下流側電極１９との間に通電すれば、ビレットＢ１とビレットＢ２とをフラッシュバット溶接して、一続きの連続したビレットＢとすることができる。
しかも、フラッシュバット溶接機１０を、ビレットＢ１等の送り速度と同じ速度でビレット供給部から連続加工装置に向かって移動させ、その移動中にビレットＢ１とビレットＢ２とを溶接すれば、連続加工装置へのビレットＢ２の供給を停止することなくビレットＢ１とビレットＢ２を溶接することができる。
【００１３】
なお、上流側電極１８および下流側電極１９の内面、つまり互いに対向する面は、それぞれ鉛直かつ平坦な面に形成されている。しかも、上電極18a の内面と下電極18b の内面、および上電極19a の内面と下電極19b の内面は、それぞれ同じ鉛直面上に位置するように形成されているが、その理由は後述する。
【００１４】
また、連続加工装置が複数のビレットＢを同時に加工するような場合には、図６に示すように、フラッシュバット溶接機１０を備えた連続加工設備１にはビレットを通過させる経路（以下、ストランドＳという）が複数列設けられる。
図５〜図７に示すように、このような複数のストランドＳを有する連続加工設備１に設けられるフラッシュバット溶接機１０は、前記車輪11r が下端に設けられた可動ベース１１と、前記上流側電極１８および下流側電極１９および後述するフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０が取り付けられた溶接部１２とから構成され、溶接部１２が、可動ベース１１に対して、フラッシュバット溶接機１０の移動方向と直交する方向に移動可能に設けられる。
具体的には、可動ベース１１の上面にはストランド変更用レールＲ２が設けられ、このストランド変更用レールＲ２は、その軸方向がフラッシュバット溶接機１０の移動方向と直交するように配設される。そして、このストランド変更用レールＲ２上に溶接部１２が載せられており、溶接部１２は、その下端に車輪12r を有しているから、この車輪12r によってストランド変更用レールＲ２の軸方向に移動することができる。
【００１５】
このため、溶接部１２をストランド変更用レールＲ２に沿って移動させればビレットＢ１とビレットＢ２とを溶接するストランドＳを変更することができる。つまり、１つのフラッシュバット溶接機１０で複数のストランドＳを通過するビレットＢ１，Ｂ２を溶接することができるのである。
【００１６】
さて、本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０について説明する。
図１は本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０が設けられたフラッシュバット溶接機１０の概略説明図である。図２は図１のII−II線概略断面矢視図である。図１および図２に示すように、本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０は、前記フラッシュバット溶接機１０に設けられたものであり、このフラッシュバット溶接機１０によってビレットＢ１とビレットＢ２とをフラッシュバット溶接したときに発生するスパッタが周囲に飛散することを防ぐためのものである。
とくに、本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０は、スパッタの飛散を防ぐだけでなく、周囲の部材に付着したスパッタを、フラッシュバット溶接機１０を備えた連続加工設備１における溶接作業を停止させることなく除去できるようにしたことが特徴である。
【００１７】
図３は図２のIII-III 線概略断面矢視図である。図１および図３に示すように、前記上流側電極１８および下流側電極１９の両側方（図２では左右）には、上下一対のシャッタ２１，２２が設けられている。上シャッタ２１および下シャッタ２２は、平板状の部材であり、その内面、つまり電極１８，１９側の面が鉛直面になるように配設されている。しかも、上シャッタ２１の内面および下シャッタ２２の内面は、それぞれ同じ鉛直面上に位置するように形成されている。
この上シャッタ２１は、その前端および後端が前後一対の上シャッタ移動用シリンダ２３，２３のロッドの先端に取り付けられている。この上シャッタ移動用シリンダ２３は、そのロッドの軸方向が鉛直下向きに配設されている。
一方、下シャッタ２２は、その前端および後端が前後一対の下シャッタ移動用シリンダ２４，２４のロッドの先端に取り付けられている。この下シャッタ移動用シリンダ２４は、そのロッドの軸方向が鉛直上向きに設けられている。
【００１８】
このため、上シャッタ移動用シリンダ２３および下シャッタ移動用シリンダ２４によって、上下一対のシャッタ２１，２２を接近させれば、上流側電極１８および下流側電極１９、つまりビレットＢ１とビレットＢ２とを溶接する部分の側方を外部から遮蔽することができる。
逆に、上下一対のシャッタ２１，２２を離間させれば、上下一対のシャッタ２１，２２を、ビレットＢの水平位置よりも、上方および下方にそれぞれ退避させることができる。すると、溶接部１２を一のストランドＳから他のストランドＳに移動させるときに、上下一対のシャッタ２１，２２がビレットＢに接触しない。よって、フラッシュバット溶接機１０の溶接部１２がストランドＳ間を移動するときに、上下一対のシャッタ２１，２２が邪魔にならない。
【００１９】
また、上シャッタ２１および下シャッタ２２は平板であるからその厚さが薄く、左右の上下一対のシャッタ２１，２２の外面同士の距離を短くできる。しかも、上シャッタ移動用シリンダ２３および下シャッタ移動用シリンダ２４は、その軸方向が鉛直に配設されているから、上シャッタ２１および下シャッタ２２を、その内面を鉛直面に保ったまま、上下に昇降させることができる。
このため、フラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０の幅およびその可動範囲を狭くできるので、装置をコンパクトにすることができる。よって、複数のストランドＳを有する場合であっても、上下一対のシャッタ２１，２２が、隣接するストランドＳに保持されているビレットＢに接触することを防ぐことができる。
【００２０】
つぎに、スパッタ除去手段３０を説明する。
図４は図１のIV−IV線概略断面矢視図である。図３および図４に示すように、前記上流側電極１８、下流側電極１９および両側方の上シャッタ２１で囲まれた空間には、スパッタ除去手段３０のスクレーパ３１が設けられている。このスクレーパ３１は、その左右両側面は、両側方の上シャッタ２１の内面に接触するように設けられており（図４参照）、スクレーパ３１の前面および後面は、それぞれ上流側電極１８の上電極18a の内面および下流側電極１９の上電極19a 内面に接触するように設けられている（図３参照）。
【００２１】
このスクレーパ３１の上端は、スクレーパ移動用シリンダ３２のロッドの先端に取り付けられている。このスクレーパ移動用シリンダ３２は、そのロッドの軸方向が鉛直下向きに配設されている。
【００２２】
このため、スクレーパ移動用シリンダ３２を伸縮させれば、スクレーパ３１を鉛直方向に沿って上下に昇降させることができる。そして、両側方の上シャッタ２１の内面、上流側電極１８の上電極18a の内面および下流側電極１９の上電極19a 内面は全て鉛直面に形成されているから、スクレーパ３１を鉛直方向に沿って昇降させれば、スクレーパ３１を、その外周面を両側方の上シャッタ２１の内面、上流側電極１８の上電極18a の内面および下流側電極１９の上電極19a 内面に接触させたまま移動させることができる。
しかも、上シャッタ２１の内面と下シャッタ２２の内面は同じ鉛直面上にあり、各電極１８，１９の上電極18a ,19aの内面と下電極18b ,19bの内面も同じ鉛直面上にあるから、スクレーパ３１の外周面を両側方の下シャッタ２２の内面、上流側電極１８の下電極18bの内面および下流側電極１９の下電極19b 内面に接触させたまま移動させることもできる。
つまり、スクレーパ３１の外周面に、上流側電極１８の内面、下流側電極１９の内面および上下一対のシャッタ２１，２２の内面（以下、単に上流側電極１８等の内面という）を摺動させることができる。
【００２３】
よって、スパッタ除去手段３０によれば上流側電極１８等の内面にスパッタが付着しても、スクレーパ３１を上流側電極１８等の内面に沿って移動させれば、スクレーパ３１によって上流側電極１８等の内面に付着したスパッタを全て同時に掻き落とすことができる。
しかも、上流側電極１８等の内面に付着したスパッタを全て同時に掻き落とすことができるから、作業の効率化を図ることができ、スパッタ除去作業の時間を短縮することができる。
【００２４】
さらに、一対の電極１８，１９間にビレットＢが位置しない時間を設け、その時間にスクレーパ３０を移動させれば、溶接作業を停止させなくても上流側電極１８等の内面を清掃できるので、溶接作業の効率化を図ることができる。例えば、フラッシュバット溶接機１０がストランドＳを移動する途中や、移動した後、溶接作業を行う前にスクレーパ３１を昇降させれば、溶接作業を停止させることなく上流側電極１８等の内面を清掃することができるのである。
【００２５】
さらに、スクレーパ３１は、その外周面が、常に上流側電極１８、下流側電極１９および上下一対のシャッタ２１，２２の内面等の全てに接触しているから、上流側電極１８と下流側電極１９の間の空間、つまりビレットＢ１とビレットＢ２を溶接する空間を覆うことができる。つまり、ビレットＢ１，Ｂ２を溶接したときに発生するスパッタのうち、上方に周囲に飛散するスパッタをスクレーパ３１によって受け止めることができる。
したがって、スクレーパ３１が上方に飛散するスパッタを受け止めるカバーの役割も兼ねているので、スパッタ飛散防止専用の上部カバーを別途設ける必要がないので、装置の構造を簡単にすることができ、装置をコンパクトにすることができる。
【００２６】
上記の上下一対のシャッタ２１，２２およびスクレーパ３１が、特許請求の範囲にいうカバーを構成しており、スクレーパ移動用シリンダ３２が特許請求の範囲にいう昇降手段である。
【００２７】
また、図示しないが、前記上シャッタ２１には、その内部に冷却水を流す冷却水通路が設けられている。そして、上シャッタ２１の内面における上端部には、冷却水通路の水を上シャッタ２１の内面に沿って流下させるための冷却水排出孔が設けられている。
このため、前記冷却水排水孔から水を流出させると、上シャッタ２１の内面には水の膜が形成され、上シャッタ２１と下シャッタ２２が接近しているときには、この水は下シャッタ２２の内面も流れて下シャッタ２２の内面にも水の膜が形成される。よって、この水の膜によって、スパッタが上下一対のシャッタ２１，２２の内面に接触する前に、スパッタを冷却することができるので、上下一対のシャッタ２１，２２内面に付着するスパッタを低減させることができる。
【００２８】
なお、図示しないが、上シャッタ２１だけでなく、下シャッタ２２、上流側電極１８および下流側電極１９には、いずれも冷却水を流すための冷却水通路が設けられ、各部材の温度が必要以上に上昇することを防いでいる。そして、この冷却作用によっても、上流側電極１８等の内面にスパッタが付着することを防いでいる。
【００２９】
図４に示すように、前記上流側電極１８および下流側電極１９の下方には、スクレーパ清掃部３５の移動シリンダ３７が設けられている。この移動シリンダ３７は、その軸方向がスクレーパ３１の下面と平行に配設されており、そのロッドの先端には、連結部材３８が取り付けられている。この連結部材３８には、連結ロッド36b の一端が取り付けられている。この連結ロッド36b は、前記移動シリンダ３７の軸方向と平行に配設されており、その他端には掻き取り部材３６が取り付けられている。
この掻き取り部材３６は、その上端縁の高さが、前記スパッタ除去手段３０のスクレーパ３１が最下端まで下降したときにおけるスクレーパ３１の下面の高さと同じになるように配設されている。そして、この掻き取り部材３６の幅は、前記上流側電極１８の内面と下流側電極１９の内面との間の間隔と同じとなるように設けられている。
【００３０】
このため、移動シリンダ３７を伸縮させれば、連結部材３８と連結ロッド36b を介して、掻き取り部材３６をスクレーパ３１の下面と平行に移動させることができる。しかも、掻き取り部材３６の上端縁の高さがスクレーパ３１が最下端まで下降したときにおけるスクレーパ３１の下面の高さと同じになるように配設されているので、スクレーパ３１を下降させた状態で移動シリンダ３７によって掻き取り部材３６を移動させれば、掻き取り部材３６を、その上端縁がスクレーパ３１の下面に接触した状態で移動させることができる。つまり、掻き取り部材３６の上端縁がスクレーパ３１の下面を摺動させることができる。
【００３１】
よって、スクレーパ清掃部３５によれば、スクレーパ３１の下面にスパッタが付着していても、そのスパッタを掻き取り部材３６によって掻き落とすことができる。したがって、スクレーパ３１によるスパッタ除去能力が低下することを防ぐことができる。
【００３２】
上記のごとく、本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０によれば、周囲にスパッタが飛散することを防ぐことができ、機械を停止させることなく機械に付着したスパッタを除去することができ、作業の効率化を図ることができ、しかも装置をコンパクトにすることができる。
【００３３】
【発明の効果】
請求項１の発明によれば、カバーによって、被溶接材同士を溶接したときに発生するスパッタが周囲に飛散することを防ぐことができる。そして、そのスパッタが一対の側方カバー内面に付着しても、スクレーパを移動させれば、スクレーパによって一対の側方カバー内面に付着したスパッタを掻き落とすことができる。よって、溶接作業を停止させることなく一対の側方カバーを清掃することができるので、溶接作業の効率化を図ることができる。しかも、スクレーパが上方に飛散するスパッタを受け止めるカバーの役割も兼ねているので、スパッタ飛散防止専用の上部カバーを設ける必要がない。よって、装置の構造を簡単にすることができ、装置をコンパクトにすることができる。
請求項２の発明によれば、スクレーパの下面にスパッタが付着しても、そのスパッタをスクレーパ清掃部によって掻き落とすことができる。したがって、スクレーパによるスパッタ除去能力が低下することを防ぐことができる。
請求項３の発明によれば、スパッタがカバー内面に接触する前にスパッタを冷却することができるので、カバー内面に付着するスパッタを低減させることができる。
請求項４の発明によれば、スクレーパを移動させれば、一対の側方カバー内面だけでなく一対の電極における互いに対向する面、つまり一対の電極の被溶接材同士の接触部分に向いた面に付着したスパッタも掻き落とすことができる。また、一対の電極間に被溶接材が位置しない時間を設け、その時間にスクレーパを移動させれば、溶接作業を停止させなくても一対の電極における互いに対向する面を清掃できるので、溶接作業の効率化を図ることができる。
請求項５の発明によれば、一対の電極の互いに対向する面および一対の側方カバーの内面がすべて鉛直面に形成されているから、各面におけるスパッタを確実に掻き落とすことができる。したがって、作業の効率化を図ることができ、スパッタ除去作業の時間を短縮することができる。
請求項６の発明によれば、側方カバーを移動させれば、側方カバーを被溶接材の水平位置から退避させることができる。このため、複数のストランドを有する設備に設けた場合、側方カバーを退避させておけば、フラッシュバット溶接機を一のストランドから他のストランドに移動させるときに側方カバーが邪魔にならない。
請求項７の発明によれば、スパッタ回収装置の幅を狭くできるので、装置をコンパクトにすることができる。したがって、複数のストランドを有する圧延装置などに使用しても、側方カバーを移動させたときに、隣接するストランドに保持されている被溶接材に側方カバーが接触することを防ぐことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施形態のフラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置２０が設けられたフラッシュバット溶接機１０の概略説明図である。
【図２】図１のII−II線概略断面矢視図である。
【図３】図２のIII-III 線概略断面矢視図である。
【図４】図１のIV−IV線概略断面矢視図である。
【図５】フラッシュバット溶接機１０を備えた連続加工設備１の概略説明図である。
【図６】フラッシュバット溶接機１０を備えた連続加工設備１の概略説明図である。
【図７】図５のVII-VII 線矢視図である。
【図８】従来例１のフラッシュバット溶接機用スパッタカバーの概略説明図である。
【符号の説明】
１０      フラッシュバット溶接機
１８      上流側電極
１９      下流側電極
２０      フラッシュバット溶接機用スパッタ回収装置
２１      上シャッタ
２２      下シャッタ
３０      スパッタ除去手段
３１      スクレーパ
３５      スクレーパ清掃部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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