(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ発振器と、
互いに直交する平面内を走査する２個の走査光学系およびスキャンレンズの組合せにより構成されて前記レーザ発振器が出力するレーザ光の照射位置を指令された互いに直交するＸ方向とＹ軸方向の任意の座標位置に位置決めする走査装置と、
レーザ光を照射されたプリント基板から発生する光を検出する検出器と、
再加工用レーザ発振器と、
前記再加工用レーザ発振器が出力するレーザ光を選択的に検査用のレーザ発振器のレーザ光と同一の光軸をもってプリント基板に照射するためのレーザ光路切替器と、
を有し、
前記レーザ光路切替器は、不良判定された止まり穴または溝加工部に前記再加工用レーザ発振器が出力するレーザ光を照射し、不良部の修正を行うことを特徴とするプリント基板の検査装置。
【請求項２】
レーザ発振器と、
互いに直交する平面内を走査する２個の走査光学系およびスキャンレンズの組合せにより構成されて前記レーザ発振器が出力するレーザ光の照射位置を指令された互いに直交するＸ方向とＹ軸方向の任意の座標位置に位置決めする走査装置と、
レーザ光を照射されたプリント基板から発生する光を検出する検出器と、
前記レーザ発振器が出力するレーザ光のビーム径を変化させるコリメーション機構と、
を有し、
不良判定された止まり穴部または溝加工部に対して前記コリメーション機構によって検査時に比してビーム径を小さくしたレーザ光を照射し、不良部の修正を行うことを特徴とするプリント基板の検査装置。
【請求項３】
前記プリント基板に施す止まり穴または溝加工部の座標位置を記憶するとともに記憶した座標位置へ前記走査装置によるレーザ光の照射位置を位置決め制御する制御部と、前記検出器の出力信号に基づいて各座標位置における検査結果の良否を判断する判定部と、をさらに有することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項４】
前記レーザ発振器が出力するレーザ光を集光する集光手段と、
前記レーザ発振器と前記集光手段との間に設けられた像転写光学系およびマスク部材と、
をさらに有することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項５】
検査対象のプリント基板に照射するレーザ光のビーム径を前記止まり穴の径または溝加工部の溝幅に対して小さくすることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項６】
前記判定部は、検査対象の一つの止まり穴または溝加工部に対して複数の位置にレーザ光をスポット照射して検査結果の良否を判断することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項７】
前記判定部は、前記止まり穴部または溝加工部を十字に走査して検査結果の良否を判断することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項８】
前記検出器は、光学的素子をアレイ状に配置し、前記各光学的素子より信号を出力するものであることを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項９】
カメラと、前記プリント基板からの反射光の光路の途中に設けられ前記プリント基板からの反射光を前記検出器と前記カメラとに分光する分光器とをさらに有することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１０】
前記レーザ発振器が出力するレーザ光およびプリント基板からの反射光の伝搬を選択的に遮断する光遮断手段をさらに有することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１１】
検査開始前に実測した検査対象のプリント基板の樹脂部の光強度および良品穴の光強度に基づいて予め検査結果の良否判定値を設定し、前記判定部は、前記良否判定値を用いて検査結果の良否を判断することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１２】
検査開始前に実測した検査対象のプリント基板の光強度に基づいて、前記レーザ発振器の故障の自己診断を行うことを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１３】
前記レーザ発振器が出力するレーザ光の強度を検出するレーザ検出器をさらに有し、前記判定部は、前記検出器の出力信号および前記レーザ検出器の出力信号に基づいて検査結果の良否を判断することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１４】
所定位置に固定された試料片にレーザ光を照射して照射位置を検出し、光学系の誤差補正を行うことを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１５】
温度検出手段または湿度検出手段をさらに有し、前記温度検出手段により検出される温度あるいは前記湿度検出手段により検出される湿度が所定値以上変化すれば、光学系の誤差補正を行うことを特徴とする請求の範囲第１４項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１６】
所定時間が経過する度に光学系の誤差補正を定期的に行うことを特徴とする請求の範囲第１４項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１７】
不良部が存在する座標位置を記憶し、一枚のプリント基板の検査終了後に不良部の加工を実施することを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１８】
前記レーザ発振器が出力するレーザ光のビーム径を変化させるコリメーション機構をさらに有し、不良判定された止まり穴部または溝加工部に対して前記コリメーション機構によって検査時に比してビーム径を小さくしたレーザ光を照射し、不良部の修正を行うことを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項１９】
不良部近傍にある炭化部を起点として不良部の加工を実施することを特徴とする請求の範囲第１８項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項２０】
補正用加工基板に加工を施し、この加工位置を検出して光学系の誤差補正を行うことを特徴とする請求の範囲第１項または第２項記載のプリント基板の検査装置。
【請求項２１】
円環形状または十字形状の加工を施し、この加工位置を検出して光学系の誤差補正を行うことを特徴とする請求の範囲第２０項記載のプリント基板の検査装置。
【発明の詳細な説明】
技術分野
この発明は、レーザビームによるプリント基板の検査装置に関し、特に、積層プリント配線板に設けられるブラインドバイヤホールや加工溝の底面に残留した未除去材料の検出、厚さ測定等の検査をレーザビームによって光学的に行うプリント基板の検査装置に関するものである。
背景技術
最近の電子機器の高性能化に伴い、配線の高密度化が要求されている。この要求を満たすために、プリント基板の多層化、小型化が進んでいる。
積層プリント配線板では、ブラインドバイヤホール（ＢＶＨ）と呼称される穴径１５０μｍ程度の層間導通接続用の微細止まり穴の形成が必須となる。現在のドリル加工では、φ０．２ｍｍ以下の穴明け、ならびに止り穴加工は困難であることに加え、高密度プリント基板では絶縁層の厚さが１００μｍ以下となり、この薄層では、深さの制御を行うことが困難であり、ドリル加工では微細ＢＶＨ形成は不可能となっている。
ドリル加工に代わるＢＶＨ形成方法として、レーザビームを応用する方法が注目されている。この加工方法は、プリント基板を形成する絶縁材料である樹脂やガラス繊維と、導体層である銅に対する光エネルギの吸収率の差を利用したものである。
レーザ光の光源としては、炭酸ガスレーザが一部実用化されている。例えば、銅は炭酸ガスレーザ光をほとんど反射するため、第２２図（ａ）に示されているように、銅箔ａの所定位置に必要な穴径による銅箔除去部ｂをエッチング等により形成し、この銅箔除去部ｂに対してレーザ光Ｌを照射することにより、樹脂やガラス繊維等による絶縁基板部ｃを分解・除去し、第２２図（ｂ）に示されているように、微細加工穴ｄを形成することができる。
また、第２３図に示されているように、穴加工部の内部（絶縁基板内部）に内層銅箔ｅを予め積層しておけば、絶縁部材の分解除去は内層銅箔ｅで停止するため、内層銅箔ｅで確実に停止する止まり穴ｆを形成できる。
しかし、第２３図に示されているように、内層銅箔ｅで停止する止まり穴ｆを炭酸ガスレーザで加工した場合、十分にレーザビームを照射しても厚さ１μｍ以下の絶縁部材である樹脂が内層銅箔ｅ上に残留するため、レーザ加工後に、残留樹脂を過マンガン酸などでエッチングして残留樹脂を完全に除去する後処理が必要になる。
加工穴が１００μｍ程度まで小さくなると、エッチング液が穴内部に行き渡り難くなるため、レーザ加工条件等の不良によって残留樹脂の厚さが１μｍを超えて厚くなったりすると、残留樹脂を完全に除去できない穴が発生する。この状態で、メッキを施してＢＶＨを形成すると、メッキ膜と内層銅箔の間に一部樹脂が残留したままになり、熱サイクル等により応力がかかると、残留樹脂部分を起点としてメッキ膜が剥がれてしまう。このため、レーザ加工後には止まり穴の残留樹脂の厚みの検査が必要となる。
この種の検査を光学的に行う検査装置として、第２４図に示されているように、光学顕微鏡を使用するものが知られている。この検査装置は、光源１００による照明用の白色光をビームスプリッタ１０１により対物レンズ１０２を経由してプリント基板Ｗに照射し、プリント基板Ｗからの反射光を対物レンズ１０２により拡大した倒立実像Ｅａを結像レンズ１０３の前方に作り、その実像ＥｂをＣＣＤカメラ１０４によって撮像する。
光学顕微鏡の照明光である白色光が残留樹脂の表面に照射されると、一部は反射されるが、その他は残留樹脂を透過して底部の内層銅箔にまで達し、反射されるため、銅箔上の厚さの薄い樹脂に対して、白色光を照明光として照射すると、大部分の反射光が内部銅箔から戻ってくるため、残留樹脂の存在を識別することが困難になる。
このため、光学顕微鏡を用いた検査装置では、１０μｍ程度以上の樹脂が残っている場合には検出できても、数μｍ程度の残留樹脂の検出については検出精度が悪く、量産ラインにおける検査には不向きで、メッキ後に加工部を切断・研磨後断面観察により残留樹脂の厚さを検査するしかなく、検査する時間がかかると共に全数検査ができないと云う課題があった。
プリント基板の光学的検査装置として、紫外レーザ光によるものが、日本国特許庁の公開特許公報（特開平７−８３８４１号）に示されている。この光学的検査装置は、第２５図に示されているように、紫外レーザ光源２００と、コリメートレンズ２０１と、ミラー２０２と、ビームスプリッタ２０３と、モータ駆動の回転多面鏡２０４と、スキャンレンズ２０５と、再結像用レンズ２０６と、ピンホール部材２０７と、フォトマル（光電子増倍管）２０８とを有している。
上述の光学的検査装置は、紫外レーザ光源が発生するレーザ光をコリメーションレンズ２０１によって拡大し、拡大したレーザ光をミラー２０２、ビームスプリッタ２０３を経由して回転多面鏡４６に導き、回転多面鏡４６によって走査し、スキャンレンズ２０５により検査対象のプリント基板Ｗ上に集光する。
レーザ光の照射によりプリント基板Ｗから発生した紫外光は入射経路を逆にたどって再帰的に帰還され、光路中に配置されたビームスプリッタ２０３により再起反射検知系に導かれる。この紫外反射光は、再結像用レンズ２０６によって結像される。再結像用レンズ２０６の結像面では検査対象のプリント基板Ｗのレーザ光の照射点近傍の画像が観察される。この結像面に置かれたピンホール部材２０７により中央部分のみを分離し、フォトマル２０８で検出する。
上述の光学的検査装置では、プリント基板上の全体を走査して止り穴や溝加工部の検出し、検査を行うから、検査に時間がかかると云う課題があった。これは、回転多面鏡を使用しているためであり、指令される位置にレーザ光を持っていくことができないと云う欠点があったからである。
また、反射光による検出のため、検査対象のプリント基板の傾きに検査結果が左右されたり、結像面にマスク（ピンホール部材）を配置し、その中心部の光を抜き出して、反射光の検出を実施するため、輝度が低すぎたりして確実な残留樹脂の検出が難しかった。
この発明は、上述のような問題点を解消するためになされたもので、非破壊で、銅箔上の残留樹脂を確実に高精度に高速で検出できる信頼性の高いプリント基板の検査装置、さらには未除去材料の再除去を行う再加工機能を具備したプリント基板の検査装置を提供することを目的としている。
発明の開示
この発明は、レーザ発振器と、前記レーザ発振器が出力するレーザ光の照射位置を指令された互いに直交するＸ方向とＹ軸方向の任意の座標位置に位置決めできる走査装置と、レーザ光を照射されたプリント基板から発生する光を検出する検出器とを有するプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、走査装置によりレーザ光の照射位置を指令された任意の座標位置に即座に設定することができる。
また、この発明は、前記走査装置が、互いに直交する回転軸による２個のガルバノミラーと、スキャンレンズとの組合せにより構成されているプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、レーザ光の照射位置が２個のガルバノミラーとスキャンレンズとの組合せにより高精度に設定される。
また、この発明は、プリント基板に止まり穴や溝加工を施した座標位置を記憶し、記憶されている座標位置に前記走査装置によってレーザ光の照射位置を制御する制御部と、前記検出器の出力信号に基づいて各座標位置における検査結果の良否を判断する判定部とを具備しているプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、制御部によって記憶されている座標位置に応じて走査装置によるレーザ光の照射位置を制御し、判定部が検出器の出力信号に基づいて各座標位置における検査結果の良否を判断する。
また、この発明は、前記レーザ発振器が出力するレーザ光を集光する集光手段と、前記レーザ発振器と前記集光手段との間に設けられた像転写光学系およびマスク部材とを有しているプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、真円など、マスク部材の穴形状と同形状のビーム形状をもってレーザ光をプリント基板に照射することができる。
また、この発明は、検査対象のプリント基板に照射するレーザ光のビーム径を止まり穴の径や溝加工部の溝幅に対して小さくするプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、位置決め誤差が多少あってもレーザ光が止まり穴や溝加工部よりはみ出すことがなく、正確な検査を行うことができる。
また、この発明は、検査対象の一つの止まり穴や溝加工部に対して複数の位置にレーザ光をスポット照射して良否判断するプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、一つの止まり穴に対して複数箇所にレーザ光をスポット照射して正確な検査を行うことができる。
また、この発明は、止まり穴部や溝加工部を十字に走査して良否判断するプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、止まり穴部や溝加工部の全体を走査かることなく良否判断することができる。
また、この発明は、前記検出器が、光学的素子をアレイ状に配置され、各光学的素子より信号を出力するものであるプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、検出器によって検査対象のプリント基板よりの反射光による画像によって良否判断することが可能になる。
また、この発明は、カメラと、プリント基板からの反射光の光路の途中に設けられプリント基板からの反射光を前記検出器と前記カメラとに分光する分光器とを有しているプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、カメラによって検査対象のプリント基板よりの反射光による画像によって良否判断することが可能になると、。
また、この発明は、レーザ発振器が出力するレーザ光およびプリント基板からの反射光の伝搬を選択的に遮断する光遮断手段を有しているプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、レーザ光が不必要にプリント基板に照射されたり、プリント基板のからの反射光がレーザ発振器側に入射することを回避できる。
また、この発明は、検査開始前に実測した検査対象のプリント基板の樹脂部の光強度と良品穴の光強度より良否判定値を設定するプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、プリント基板の樹脂部の種類やレーザ光の強度低下等に拘わらず、良否判定が正確に行われる。
また、この発明は、検査開始前に実測した検査対象のプリント基板の光強度よりレーザ発振器等の故障の自己診断を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、検査開始前に、検査対象のプリント基板の光強度よりレーザ発振器等の故障の自己診断することができる。
また、この発明は、レーザ発振器が出力するレーザ光の強度を検出するレーザ検出器を有し、前記検出器が出力する信号と前記レーザ検出器が出力信号より良否判断を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、レーザ光の強度低下等に拘わらず良否判定が正確に行われる。
また、この発明は、所定位置に固定された試料片を有し、前記試料片にレーザ光を照射して照射位置を検出して光学系の誤差補正を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、光学系の誤差補正を自動的に行うことができる。
また、この発明は、温度検出手段、湿度検出手段を有し、前記温度検出手段により検出される温度あるいは前記湿度検出手段により検出される湿度が所定値以上変化すれば、光学系の誤差補正を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、温度あるいは湿度が所定値以上変化すれば、光学系の誤差補正が自動的に行われる。
また、この発明は、所定時間が経過する度に光学系の誤差補正を定期的に行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、所定時間が経過する度に光学系の誤差補正が自動的に行われる。
また、この発明は、再加工用レーザ発振器と、前記再加工用レーザ発振器が出力するレーザ光を選択的に検査用のレーザ発振器のレーザ光と同一の光軸をもってプリント基板に照射するためのレーザ光路切替器とを有し、不良判定された止まり穴部等の加工部に前記再加工用レーザ発振器が出力するレーザ光を照射し、不良部の修正を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、検査装置上で不良部の修正を正確に行うことができる。
また、この発明は、不良部が存在する座標位置を記憶し、一枚のプリント基板の検査終了後に不良部の加工を実施するプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、検査装置上で不良部の修正を正確に、しかも効率よく行うことができる。
また、この発明は、レーザ発振器が出力するレーザ光のビーム径を変化させるコリメーション機構を有し、不良判定された止まり穴部等の加工部に対して前記コリメーション機構によって検査時に比してビーム径を小さくしたレーザ光を照射し、不良部の修正を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、再加工用レーザ発振器を必要とすることなく、検査装置上で不良部の修正を正確に行うことができる。
また、この発明は、不良部近傍にある炭化部を起点として不良部の加工を実施するプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、さほどビーム径を絞ることなく、検査装置上で不良部の修正を正確に行うことができる。
また、この発明は、補正用加工基板に加工を施し、この加工位置を検出して光学系の誤差補正を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、正用加工基板に加工を施し、この加工位置を検出して光学系の誤差補正を行うことができる。
また、この発明は、円環形状や十字形状の加工を施し、この加工位置を検出して光学系の誤差補正を行うプリント基板の検査装置を提供することができる。
したがって、加工穴の口径が小さくても、これの加工位置を検出して光学系の誤差補正を行うことができる。
発明を実施するための最良の形態
この発明をより詳細に説述するために、添付の図面に従ってこれを説明する。この検査装置は、レーザ発振器１と、レーザ発振器１が出力するレーザ光のビーム径を調節するコリメートレンズ２と、像転写光学系３と、蛍光遮断のフィルタ４と、マスク板５と、レーザ発振器１から出るレーザ光を反射して蛍光の透過するダイクロイックミラー６と、レーザ光をＹ軸方向へ走査させるための第１のガルバノミラー７と、レーザ光をＸ軸方向へ走査させるための第２のガルバノミラー８と、第１のガルバノミラー７と第２のガルバノミラー８によってＹ軸方向、Ｘ軸方向に走査されたレーザ光を検査対象のプリント基板Ｗ上に集光させるｆθレンズ等によるスキャンレンズ９と、検査対象のプリント基板Ｗを載置されるＸＹテーブル装置（ＸＹステージ）１０と、レーザ光を照射されたプリント基板Ｗからダイクロイックミラー６を通過してくる蛍光の波長を選択するためのフィルタ１１と、蛍光を再結像させる再結像用レンズ１２と、再結像用レンズ１２の通過後の焦点面にあって不必要な情報をカットするピンホール部材１３と、ピンホール部材１３を通過した蛍光を検出する蛍光検出器１４と、制御部１５と、判定部１６とを有している。
第１のガルバノミラー７と第２のガルバノミラー８とは、回転軸が互いに直交しており、この第１、第２の２枚のガルバノミラー７、８とスキャンレンズ９の組み合わせにより、互いに共働して、レーザ光の照射位置を互いに直交するＸ方向とＹ軸方向の任意の座標位置に可変設定する。
制御部１６は、中央処理室に設定されている上位コンピュータ１７からの指令により、レーザ発振器１、第１のガルバノミラー７、第２のガルバノミラー８、ＸＹテーブル装置１０の動作を制御する。
判定部１６は、蛍光検出器１４より蛍光強度信号を入力し、蛍光強度が良品判定値以下であるか否かの判別により良否判定処理を行い、その判定結果を上位コンピュータ１７へ伝送する。
この発明によるプリント基板用の検査装置は、樹脂部や止まり穴や溝加工部の樹脂残り部にレーザ光が照射されると、第２図（ａ）に示されているように、蛍光が発生することを応用したものである。第２図（ｂ）に示されているように、蛍光はレーザ光の波長より長い波長（一般には可視光）の光を発する。ダイクロイックミラー６は、レーザ発振器１が出力するレーザ光を反射するが、それ以外の波長の光線は透過するように構成されている。また、フィルタ１１は蛍光検出器１４に入る光を検査対象の波長だけを選択する場合に用いる。
従来、蛍光観察のためには、紫外光の方が同一レーザパワーでは蛍光強度が高く観察できるため、紫外光が一般には使われていたが、紫外光は石英ガラスなど特殊な光学系を使わないと、吸収が大きく、損失が大きく、光学系が高価になると云う欠点があると云うことから、我々の実験では、レーザ発振器１は波長４７３ｎｍ、３０ｍＷの２ωの固体レーザを使用した。
レーザ発振器１側のフィルタ４には波長が４５０〜４９０ｎｍの光を透過させるものを使用し、ダイクロイックミラー６は４９５ｎｍ以下を反射するものを使用した。蛍光検出側のフィルタ１１は５２０ｎｍ以下を透過させないものとした。プリント基板上の止まり穴の加工には炭酸ガスレーザを使用した。
炭酸ガスレーザのショット数を変化させて、水銀ランプ光の場合とレーザ光を利用した場合とで蛍光の光強度（表では露光時間（秒）で記載しているので光強度は数値の逆数となる）をデスミア処理以前に比較したものが表１である。
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このプリント基板では、ショット数７パルス加工後にデスミア処理して残留樹脂残りが観測されなかったものである。プリント基板の止まり穴底部の樹脂残りが０．２μｍ〜０．６μｍ程度であれば、後工程のデスミア処理にて残留樹脂を除去できることが確認されている。
表１によると、水銀ランプ光の場合には、不良品も良品もほとんど変わらない光強度を示しているが、レーザ光を使用した場合には、不良品と良品とで１０倍程度の蛍光強度差が出ていることがわかる。
従来例で説明した通り、正常に加工が完了しても止まり穴底部に１μｍ未満の樹脂残りが発生してしまう。単色性と位相の合ったレーザ光は波長程度のごく薄い樹脂であってもレーザ光を吸収して蛍光が発生するが、位相の揃っていない水銀ランプ光などでは、光が薄い樹脂を通過してしまうため蛍光が発生せず、検査ができないし、全体的に蛍光自体の強度も低すぎるため、判定が難しいことが判明した。
穴底部にある０．６μｍ程度の樹脂残りはデスミア処理後に除去できるため、不良ではないが、それ以上、樹脂残りが厚い場合には、デスミア処理で取り除けないので、炭酸ガスレーザでの加工後、デスミア処理前に加工不良の検出をするのに有効であることが判明した。
我々の実験では、波長４７３ｎｍのレーザ光を使用したため、実質０．５μｍ以上の樹脂残りが十分検出できることになる。
また、ピンホール部材１３は従来のものとは異なり、配置位置を像転写面ではなく、焦点面に配置した。このため、蛍光強度の低下はなく目的とする蛍光以外の光をカットできるため、Ｓ／Ｎ比の高い高感度な検査ができる利点がある。
特開平７−８３８４１号公報に開示されているようなものでは、検査対象物に対してレーザ光を回転多面鏡により走査することが示されているが、これではプリント基板全体を走査しなければならないので時間が非常にかかる。また、回転多面体とスキャンレンズだけの組み合わせでは、スキャンレンズは大きくてもφ２００ｍｍであるため、１２０ｍｍ×１２０ｍｍ程度の領域しかカバーすることができない。
これ以上の領域をカバーするには、スキャンレンズとプリント基板の距離を１０〜１００倍に大きくしなければならず、スキャンレンズの焦点距離も１０〜１００倍となり、プリント基板上のスポットサイズが大きくなり、蛍光の検出が困難となる。このスポットサイズでも検出するには、レーザ光のパワーが１００〜１万倍も必要となるので、一般のプリント基板６００ｍｍ×５００ｍｍのサイズを網羅することは困難である。
この発明による検査装置では、第１、第２の２枚のガルバノミラー７、８を使用して、走査光学系を構成しているため、止まり穴や溝加工部の対象とするプリント基板Ｗ上の座標位置を上位コンピュータ１７に予め登録しておくことにより、ラスタスキャンのような手法を取る必要がなく、最初からレーザ光の照射位置を止まり穴または溝加工部に設定し、検査することができる。これにより、高速に検査することが可能になる。
走査領域の限界については、回転多面体使用の場合と同レベルであるが、プリント基板Ｗを、例えば、第３図に示されているように、５０ｍｍ×５０ｍｍ程度のガルバノミラー走査領域Ａ１、Ａ２  …Ａｎに区切り、一つの領域終了毎につぎの領域へＸＹテーブル装置１０のＸＹ移動によりプリント基板Ｗを移動させ、つぎの領域検査を開始するようにすれば、プリント基板全領域を走査することができる。
もちろん、さらに高速化をねらう場合には、ＸＹテーブル装置１０とガルバノミラー７、８とを同時に動かして検出すればよい。
なお、上述の実施の形態では、ガルバノミラー（ガルバノスキャナ）を例に挙げて説明したが、ＡＯ（音響光学素子）やＥＯ（電磁気光学素子）などを使用して走査しても同様の効果がある。
第１図に示されている検査装置では、レーザ発振器１の後段に、コリメートレンズ２を配置し、その後に像転写光学系３と、中心に通り穴を有するマスク板５とが配置されている。
つぎに、像転写光学系３とマスク板５とが配置されている理由を説明する。レーザ発振器１が、例えば半導体レーザであったり、スラブ型のレーザであったりする場合には、レーザビームの強度分布は必ずしも縦横が同一ではなく、異なった発散角を持ったり、縦横のＭ２値（集光性能）が違ったりする。この場合、レーザ光をそのまま伝搬させて、スキャンレンズ９で集光させると、焦点位置ではレーザ光の特性がそのままでて楕円になったりする。像転写光学系３とマスク４はそのような場合に使用する。
レーザ光は像転写光学系３にてマスク板５の穴径より若干大きくなるように構成する。マスク板８にてレーザ光は裾を着られるようになる。つまり、マスク出口ではマスクの穴形状のレーザ光が得られる。マスクからスキャンレンズまでの距離をＬａ、スキャンレンズとプリント基板との距離をＬｂとし、スキャンレンズ８の焦点距離をｆとすると、
（１／Ｌａ）＋（１／Ｌｂ）＝１／ｆ
となるような位置に再びマスク穴の形状と相似形状のビームが得られる。例えば、マスク板５の穴形状が真円であれば、プリント基板上には真円のレーザ光を照射できることになる。
一般に、異なる装置間で同一座標を検出するための機構として、第４図に示されているように、プリント基板Ｗに２箇所以上の位置決め孔Ｗａを設け、その位置決め孔Ｗａにテーブル側より位置決めピン１０ａを差し込んで位置決めする方法が取られている。この位置決めでは１０μｍ程度の位置決め誤差が生じる。また、ガルバノミラーなどの走査系の位置決め誤差が１０〜２０μｍ、テーブルの位置決め誤差が５μｍ程度であり、全体で約３０μｍ程度の位置決め誤差が発生することは避けられない。。
プリント基板Ｗ上に照射されるレーザ光のビーム径が止まり穴ｆの径より大きい場合には、第５図（ａ）に示されているような位置にレーザ光が照射され、検査が行われる場合が発生する。この場合には、良品の止まり穴であっても穴周辺の樹脂部からの蛍光が蛍光検出器１４に入射されることになり、良品の判断が難しくなる。
しかし、例えば、口径が１００μｍの穴を上述のような精度の検査装置で検出する場合には１００μｍ−３０μｍ＝７０μｍ以下のビーム径でレーザ光プリント基板Ｗに照射すれば、第５図（ｂ）に示されているように、止まり穴ｆからレーザ光がはみ出すことがなく、良品、不良品の判断が安定してできる。よって信頼性の高い検査装置が得られる。溝加工部の場合には、ビーム径を溝幅より小さくすればよい。
また、ビーム径を小さくすれば、単位当たりの光密度が大きくなり、蛍光強度も強くなり、Ｓ／Ｎ比が上がり、信頼性が高くなるという利点も発生する。
止まり穴の樹脂残りの形態には第６図（ａ）〜（ｃ）に示されているような種類がある。第６図（ａ）は正常品を示しているが、正常品でも１μｍ程度の樹脂残りは銅箔上にある。第６図（ｂ）は止まり穴の一部は正常であるが、ある部分は残存樹脂の厚みが大きく、デスミア処理では除去することが難しい。第６図（ｃ）は全体に樹脂残りの厚みが大きく、デスミア処理で全く取れない不良品である。
第６図（ｂ）に示されている止まり穴の場合には、メッキをすれば導通するので、良品とすることができるが、１箇所だけのレーザ光照射の検査の場合、樹脂残り部だけを検査してしまい、不良品となってしまうことがある。
このことに対して、一つの止まり穴に対して１箇所にのみレーザ光を照射して検査を行うのではなく、第７図に示されているように、ビーム径をもっと小さくして、一つの止まり穴ｆに対して複数箇所▲１▼〜▲３▼にレーザ光をスポット照射して検査するように構成する。
１箇所だけのレーザ光照射の検査では、第６図（ｂ）の樹脂残り部だけを検査してしまい、不良品となってしまうことがあるが、一つの止まり穴ｆに対して複数箇所▲１▼〜▲３▼にレーザ光をスポット照射して検査し、第８図に示されているように、各照射位置での蛍光強度を判定器１６ａ〜１６ｃで判定し、その判定結果をＯＲゲート１６ｄに入力し、ＯＲゲート１６ｄの出力によって、複数箇所のうち１箇所でも良品判定があれば、該当する止まり穴は良品であると判定することができる。
また、これ以外に、樹脂残りが穴の１／３を占めると、不良としなければならない場合には、該当する止まり穴をレーザ光で照射する数カ所のうち２／３が良品である場合に、当該止まり穴が良品であると判定するようにしてもよい。このような処理により、歩留まりが向上し、信頼性の高い検査が行われる。
上述のような構成は、特に、プリント基板をダイレクト加工する場合に有効であるが、コンフォーマル加工等の場合、基板の位置決めが大きくずれたり、ガルバノミラー７、８の精度があまりよくなかったりして、照射位置と止り穴位置が大きくずれる場合もあり得る。
コンフォーマル加工の場合は、照射面に銅基板があることになり、蛍光が発しないので良品と間違えてしまうことがある。こういう場合には、複数照射する位置を穴径に対して十分大きい距離だけ離して照射することも必要である。
また、コンフォーマル加工した基板でも、ダイレクト加工した基板であっても、どちらでも、最少の時間で検査ができるように、１つの止り穴に対して１箇所だけ照射するのか、複数箇所照射するのか設定でき、かつ、複数箇所の距離も、穴径や加工方法に応じて設定変更ができるように構成されていればよい。
また、検査する穴加工部の位置情報を元に、第９図（ａ）に示されているように、止まり穴ｆの穴径に対応した距離だけ十字に走査し、この走査により得られる蛍光強度の信号１、信号２より良否判定を行うこともできる。
この検査では、穴部全てを走査するわけではないため、高速に走査できるとともに、第９図（ｂ）に示されているように、止まり穴ｆの加工位置がずれている場合には、信号１、信号２よりずれ量も測定することができる。
また、第９図（ｃ）に示されているように、止まり穴ｆが十字に引っかからなければ、不良と判断でき、ずれ量が許容値以上である場合も不良とも判断することができる。また、十字に走査した蛍光分布により、樹脂残りや穴形状（テーパ度合いなど）を測定できるため、穴加工部や溝加工部の良否判断をさらに詳細にチェックすることもできる。
レーザ発振器１の出力が何らかの要因（外気温、温度、光学系の寿命や汚れ）で変動することがあり、それに伴い蛍光の強度が変化する。レーザ出力が大きく落ちた場合、蛍光が大きく落ちるため、良品と誤判断する可能性がある。また、蛍光の強度は樹脂の成分によっても大きく変化するため、検査に移る前に検査しておく必要がある。さらに、プリント基板製造ラインによっては、プリント基板の樹脂がＦＲ−４、エポキシやポリイミド等、多種多様な基板が製造ラインを流れることがあり、当該基板での蛍光強度を認知しておく必要がある。
これらのことに対処すべく、プリント基板上の製品としては必要にない場所に予め良品穴を設けておき、樹脂部の蛍光の光強度と良品穴との光強度を該当するプリント基板の検査に入る前に検査し、これらの光強度を判定部１６にストアし、その２つの光強度より良品判定値（閾値）を適正設定することができる。
第１０図に示されているフローチャートを参照してこの発明による検査装置によるプリント基板の検査処理手順を説明する。
まず、ロボットのようなプリント基板搬入装置によって検査対象のプリント基板ＷをＸＹテーブル装置１０上に搬入し（ステップＳ１）、ピン方式やビジョンセンサ等により位置決めセットする（ステップＳ２）。
つぎに、プリント基板Ｗ上の製品としては必要にない場所に設けられている良品穴における蛍光の光強度と樹脂部の蛍光の光強度を測定し、これらの光強度を判定部１６にストアし、判定部１６において、その２つの光強度より良品判定値を自動設定する（ステップＳ３）。
つぎに、位置決めセットされたプリント基板Ｗの最初に検査する止まり穴位置を読み出し、ガルバノミラー指令によって第１、第２のガルバノミラー７、８を動かしてその止まり穴位置にレーザ光を照射し（ステップＳ５）、蛍光検出器１４によって蛍光検出を行う（ステップＳ６）。
この蛍光検出値と判定部１６に設定された良品判定値（記憶値）との比較を判定部１６にて行い、良否判定を行う（ステップＳ７）。
この良否判定完了後に、検査する全ての止まり穴についての検査が終了しているをチェックし（ステップＳ８）、全終了でなければ、つぎに検査する止まり穴位置を読み出し（ステップＳ９）、その位置が現在のガルバノミラーの走査領域内に存在するか否かを判別する（ステップＳ１０）。領域内であれば、そのままステップＳ５に戻ってガルバノミラー指令によって第１、第２のガルバノミラー７、８を動かしてその止まり穴位置にレーザ光を照射し（ステップＳ５）、蛍光検出器１４によって蛍光検出を行う（ステップＳ６）。
これに対し、領域外であれば、つぎに検査する止まり穴位置がガルバノミラーの走査領域内に入る位置にまで、ＸＹテーブル装置１０を動かし（ステップＳ１１）、この後にステップＳ５に戻ってガルバノミラー指令によって第１、第２のガルバノミラー７、８を動かしてその止まり穴位置にレーザ光を照射し（ステップＳ５）、蛍光検出器１４によって蛍光検出を行う（ステップＳ６）。
また、検査前の光強度計測において、光強度の信号によってはレーザ出力のダウン、レーザ発振器１の故障、検出器１４の検出感度の低下や故障を判断することができ、この場合には、メッセージを表示したり、機器を停止するように構成すれば、自己診断機能を保持する信頼性の高い検査装置が得られる。
第１１図は、この発明によるプリント基板用の検査装置の実施の形態２を示している。なお、第１１図において、第１図に示されているもの同等あるいは同一の構成要件には、第１図に付けた符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
この実施の形態では、ＣＣＤ素子などから構成された画像を検出するカメラ２０と、再結像用レンズ１２と蛍光検出器１４との間にあって検出光を分光する分光器２１と、像転写光学系３とダイクロイックミラー６との間にあってレーザ発振器１が出力するレーザ光のビーム径を変更するビーム径調整レンズ２２とが設けられている。
この実施の形態では、ビーム径調整レンズ２２によってプリント基板上の止まり穴の径と同じか、それにより大きい径のレーザ光をプリント基板Ｗに照射することができる。
蛍光検出器１４は蛍光強度だけを検出するだけであるが、カメラ２０は蛍光を画像として認識することができる。分光器２１は、例えばハーフミラーのようなもので構成され、蛍光検出器１４とカメラ２０のそれぞれにプリント基板Ｗからの蛍光を分岐するので、蛍光検出器１４とカメラ２０とで同時に計測が可能になる。
つまり、同一箇所の計測が、第１の実施の形態と同じように測定し、レーザ光を穴全体に照射することにより、カメラ２０で画像としても測定が可能である。カメラ２０の画像データは判定部１６にて穴加工の良否が判断されるようになっているので、蛍光検出器１４とカメラ２０とで同時に測定できる。同時に測定し、両方とも良品と判断したときのみ、当該穴部が良品と判断することができるので、非常に冗長性の高いシステムを構成することが可能となる。
ハーフミラー２１は、カメラ２０あるいは蛍光検出器１４のどちらか一方が測定できるように、シャッタのような光路切換手段であってもよい。
また、ビーム径調整レンズ２２はカメラ測定時にはレーザ光路中に挿入、蛍光検出器１４での測定時には非挿入といった具合に制御することにより、カメラ測定時にプリント基板Ｗに照射させるレーザ光のビーム径を変更して判定の精度を向上することができる。
第１２図は、この発明によるプリント基板用の検査装置の実施の形態３を示している。なお、第１２図においても、第１図に示されているもの同等あるいは同一の構成要件には、第１図に付けた符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
この実施の形態では、実施の形態１のものに、レーザ発振器１のレーザ光路の途中に、一部反射で残りを透過させるハーフミラー２３と、ハーフミラー２３で反射されたレーザ光の強度を検出するレーザ検出器２４とが追加されている。
ハーフミラー２３の反射率は、例えば１０％以下であり、レーザ発振器１から出るレーザ光の出力をレーザ検出器２４によって疑似的にモニタできる。
レーザ検出器２４が出力するレーザ検出信号Ｉ０は判定部１６へ送られ、同時に蛍光検出器１４から蛍光強度信号Ｉ１が判定部へ送られる。
蛍光強度は、基板に照射される出力に一義的に対応するので、判定値Ｉは、
Ｉ＝Ｉ１／Ｉ０
で表される。この判定値Ｉが第１３図に示されているように、判定レベル値ＩＳを超えた場合には不良品として判断される。
また、Ｉ０が初期値に比べて一定水準以上低下した場合には、レーザ発振器１の故障として判定部１６にて判断される。
上述のような構成によれば、レーザ発振器１の出力変化によるプリント基板検査の誤診断を防止するともに、レーザ発振器１の診断も行えるため、信頼性のある検査が行われるようになる。
なお、上述の実施の形態では、レーザ検出器２４はレーザ発振器１近傍に設けたが、レーザ発振器１からプリント基板Ｗとの間のレーザ光路のどの位置にあっても同様の効果が得られる。
第１４図は、この発明によるプリント基板用の検査装置の実施の形態４を示している。なお、第１４図においても、第１図に示されているもの同等あるいは同一の構成要件には、第１図に付けた符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
この実施の形態では、再結像用レンズ１２に代えて像転写レンズ２５が設けられ、蛍光検出器として、ＣＣＤなどフォトダイオードをアレイ上に並べた構成のイメージセンサ型の蛍光検出器２６が設けられている。蛍光検出器２６の蛍光検出面器２６ａには像転写レンズ２５によってプリント基板Ｗ上の画像が像転写される。
レーザ光は止まり穴に対して例えば同程度の径になるようにコリメートレンズ２が調整され、蛍光検出器２６では線形の蛍光強度の分布画像が得られ、例えばアレイ状の検出器の信号をそれぞれ同時に出力させると、第１５図に示されているような信号が得られる。
実施の形態１の説明で述べたとおり、位置決め誤差が生じるため、止まり穴位置にレーザ光が正確に合致するわけではない。第６図（ｂ）に示されているような止まり穴の場合には、１０×１０のアレイのうち、例えば２×２以上の領域が良品判定されれば、該当止まり穴は良品だと判断できる。
上述のような構成のレーザ検査装置では、歩留まりが向上し、検査信頼性が高くなる効果がある。
第１６図は、この発明によるプリント基板用の検査装置の実施の形態５を示している。なお、第１６図においても、第１図に示されているもの同等あるいは同一の構成要件には、第１図に付けた符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
この実施の形態は、スキャンレンズ９の光学的歪みによる照射位置補正を行う補正系として、ＸＹテーブル装置１０の所定位置に固定設置された試料片２６と、試料片２６の照射位置を検出するビジョンセンサ２７が追加されており、上位コンピュータ１７はビジョンセンサ２７が出力する信号を入力する。
また、検査装置の環境温度を検出する温度センサ３５と、検査装置の環境湿度を検出する湿度センサ３６とが設けられており、上位コンピュータ１７は温度センサ３５により検出される検査装置の環境温度と湿度センサ３６により検出される検査装置の環境湿度の信号を入力する。
試料片２６は、例えば、第１７図（ａ）に示されているように、小基板２６ａに残留蛍光を発する塗料２６ｂを塗布したものであり、ガルバノミラー７、８によって試料片２６上を例えば３×３のポイントを打ち、残留蛍光が発している間にＸＹテーブル装置１０を動かして９つのポイントをビジョンセンサ２７で見に行き、位置を補正する。
ガルバノミラー７、８とスキャンレンズ９の組み合わせでレーザ光を走査させる場合、スキャンレンズ９は光学的に歪みのないものを製作するのは困難であるから、第１８図（ａ）に示されているように、樽型歪曲収差（Ｂａｒｒｅｌ  Ｄｉｓｔｏｒｔｉｏｎ）などの光学的歪みが発生することを避けることができない。また、この歪みは環境温度、湿度やスキャンレンズの劣化状況により変化することが判明している。
ガルバノミラー７、８には角度指令を出すため、第１８図（ｂ）に示されているように、指令値が正方形であれば、湾曲した走査を行うことになる。
これらの歪みを補正するため、検査開始前に予め決められたポイントを走査してて、その位置と機械座標との位置を合わせておく必要がある。また、光学歪みは環境や経時的な変化もあるので、この位置合わせ、すなわち照射位置補正は定期的に実施する必要がある。
このことに対して、上述のような補正系を有していることにより、随時、照射位置補正を実施でき、常に目的位置にレーザ光を照射することができるから、止まり穴の樹脂残りを正確に判断することができる信頼性の高い検査を行うことができる。
スキャンレンズの劣化などによる光学歪みの経時的な変化は、上位コンピュータ１７が内蔵しているタイマにより時間計測を行い、予め定められた所定時間が経過する度に、光学系の誤差補正、すなわち照射位置補正を定期的に自動的に行うことができる。
また、上位コンピュータ１７は温度センサ３５により検出される検査装置の環境温度と湿度センサ３６により検出される検査装置の環境湿度の信号を取り込むから、温度センサ３５により検出される環境温度あるいは湿度センサ３６により検出される環境湿度が所定値以上変化すれば、光学系の誤差補正、すなわち照射位置補正を自動的に行うことができる。
また、変形例として、実施形態２の蛍光検出器２６をビジョンセンサ２７と入れ替え、検出しても良い。
また、試料片２６は第１７図（ｂ）に示されているように、あらかじめ目的とする位置にのみスポット状に蛍光塗料２６ｃを塗布し、蛍光検出器２６で蛍光強度を検出しながら蛍光検出器２６の出力信号が最大になるように補正を実施することもできる。
第１９図は、この発明によるプリント基板用の検査装置の実施の形態６を示している。なお、第１９図においても、第１図に示されているもの同等あるいは同一の構成要件には、第１図に付けた符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
この実施の形態では、ダイクロイックミラー６と第１のガルバノミラー７との間に、レーザ発振器１が出力するレーザ光およびプリント基板Ｗからの反射光の伝搬を選択的に遮断する光遮断手段として液晶シャッタ２８が設けられている。
走査している間は、レーザ光は樹脂部の上を通過しているため、レーザ光が樹脂部に当たり、強い蛍光を出し、それが検出系やレーザ発振器１の方へ戻ってきて、長期的に蛍光検出器１４やレーザ発振器１にダメージを与える場合がある。
レーザ発振器１の側にフィルタ４の設置により、蛍光からの防御をすることができる。しかしながら検出器のほうは防御できない。そのため、非検出時はレーザ光を基板上に当てないようにする。
また、強い蛍光強度差を求めるあまり、ハイパワーのレーザを使用すれば、何らかの要因により樹脂を加工してしまう場合が考えられる。止まり穴部や溝加工部位外の場所を加工してしまうと、プリント基板の短絡や不良発生の原因になりかねない。この場合も、止まり穴部位外の非検出部ではレーザ光をプリント基板に照射しないようにする。
レーザ光をオフする方法としては、制御部１５からの信号によってレーザ励起のための発光ダイオードやランプへの電流をカットする方法以外に、液晶シャッタ２８により光学的に遮断することもできる。
第２０図は、この発明によるプリント基板用の検査装置の実施の形態６を示している。なお、第２０図においても、第１図、第１６図に示されているもの同等あるいは同一の構成要件には、第１図、第１６図に付けた符号と同一の符号を付けて、その説明を省略する。
この実施の形態では、未除去材料の再除去を行う再加工系が追加されている。再加工系は、再加工用レーザ発振器３０と、コリメーションレンズ３１と、転写光学系３２と、マスク板３３とを有し、ガルバノミラーに対するレーザ光路中にレーザ光路切替器３４が選択的に組み込まれる構造になっている。再加工用レーザ発振器３０は、樹脂加工用のレーザであり、炭酸ガスレーザであったり、固体レーザであったりする。
検査用のレーザ発振器１により、プリント基板Ｗを検査している時に、ある止まり穴部にて不良であると判定されると、レーザ光路切替器３４をレーザ光路中に挿入し、再加工用レーザ発振器３０よりレーザ光を出力する。
検査用のレーザ発振器１のレーザ光と再加工用レーザ発振器３０のレーザ光とは光軸が互い重畳され、プリント基板Ｗ上の同一ポイントに照射され、プリント基板Ｗに未除去材料の再除去する加工を施す。
この加工が完了すれば、レーザ光路切替器３４をレーザ光路より取り除き、検査用のレーザ発振器１が出力するレーザ光によって再度止まり穴部を検査し、良品となれば、つぎの検査位置へ移行する。
上述のように、検査装置上で、不良部の修正ができるので、歩留まりが改善される。
なお、上述の説明では、不良検出直後に再加工用レーザ発振器３０を使用して再加工を実施するようにしたが、一枚のプリント基板Ｗを全ポイントを検査し、不良の位置を上位コンピュータ１７等によって記憶しておき、一枚のプリント基板Ｗの検査終了後に記憶された不良部の加工のために再加工用レーザ発振器３０を切替使用し、再加工を実施しても同様の効果が期待できる。
また、我々の実験では、蛍光検出に使用していた４７３ｎｍ、３０ｎＷのレーザ光を焦点位置のスポットサイズをφ１μｍ程度まで集光させると、樹脂の加工ができることが判明した。そこで、コリメートレンズ２を調節してスキャンレンズ入射径を大きくすれば、樹脂部でのビーム径が小さくなり、加工できる。また、この状態では、蛍光検査はできないので、蛍光検査時にはコリメートレンズ２を調節して樹脂部でのビーム径を１０μｍ以上にして検査する。コリメートレンズ２を調節することにより、検査したり、再加工したりすることができる。
このことにより、２台のレーザ発振器１、３０を使わず、１台のレーザ発振器１で再加工もできるので、イニシャルコストが安く、歩留まりを改善できる。
なお、加工時は１μｍで、検査時は１０μｍ程度としたが、これはレーザ光が４７３ｎｍで３０ｍＷの場合の例であり、レーザ出力が大きくなると、当然、加工できる径は大きくてもよくなる。加工するビーム径はなるべく大きい方がよい。これは、たとえば、１μｍのビームでφ１００μｍの止まり穴の再加工するためには、ガルバノミラーを１００回走査させることになるので時間がかかるためである。
また、加工できないくらいのビーム径でも炭酸ガスレーザで加工した後の炭化層を加工起点にすれば、加工が開始することが判明した。よって再加工時間短縮には、多少ビーム径を大きくして、炭化している部分を起点として加工することが有効である。
上述のように、基板自体に加工が可能である場合には、定期的に補正用加工基板をラインに流し、補正用加工基板を加工し、ビジョンセンサ２７で観測して位置補正を実施することができる。
ただし、検査用のレーザ発振器１と再加工用レーザ発振器３０からでるレーザ光の波長が異なる場合には、スキャンレンズ９も波長依存性があるので、両方において別々の補正を実施する必要がある。この補正により、検査用のレーザ発振器１と再加工用レーザ発振器３０のレーザ光軸が完全に重畳されていることも確認できる。
なお、加工穴が１μｍ程度となると、ビジョンセンサ２７等では検出できないから、第２１図（ａ）、（ｂ）に示されているように、ビジョンセンサ２７が判別できるように、円環ｇや十字ｈのような模様を基板上に描くと、判別が容易になる。
産業上の利用可能性
以上のように、この発明にかかるレーザビームによるプリント基板の検査装置は、積層プリント配線板に設けられるブラインドバイヤホールや加工溝の光学的な検査に適している。
【図面の簡単な説明】
第１図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態１を示す構成図であり、第２図（ａ）は、樹脂残り部にレーザ光が照射されると蛍光による反射光が生じる様子を模式的に示す説明図であり、第２図（ｂ）は、レーザ光の波長と蛍光の波長との関係を示すグラフであり、第３図は、ガルバノミラーによる走査領域の区分けを示す説明図であり、第４図は、検査対象のプリント基板の位置決め構造を示す斜視図であり、第５図（ａ）、（ｂ）は、それぞれ止まり穴とレーザ光との位置関係を示す説明図であり、第６図（ａ）〜（ｃ）は、止まり穴の樹脂残りの形態を模式的に示す説明図であり、第７図は、一つの止まり穴の複数箇所にレーザ光をスポット照射する様子を模式的に示す説明図であり、第８図は、一つの止まり穴の複数箇所にレーザ光をスポット照射する場合の信号処理回路を示す論理回路図であり、第９図（ａ）〜（ｃ）は、十字走査した場合の信号出力と止まり穴の位置誤差の関係を示す説明図であり、第１０図は、プリント基板の検査処理手順を示すフローチャートであり、第１１図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態２を示す構成図であり、第１２図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態３を示す構成図であり、第１３図は、判定レベル値と判定値との関係を示すグラフであり、第１４図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態４を示す構成図であり、第１５図は、イメージセンサ型の検出器の信号出力特性を示すグラフであり、第１６図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態５を示す構成図であり、第１７図（ａ）、（ｂ）は、位置誤差補正用の試料片を示す斜視図であり、第１８図（ａ）、（ｂ）は、走査系による光学歪みの形態を示す説明図であり、第１９図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態６を示す構成図であり、第２０図は、この発明によるプリント基板の検査装置の実施の形態７を示す構成図であり、第２１図（ａ）、（ｂ）は、光学歪みを補正するための加工模様を示す斜視図であり、第２２図は、プリント基板のレーザ加工を模式的に示す説明図であり、第２３図は、止まり穴のレーザ加工を模式的に示す説明図であり、第２４図は、従来のプリント基板の検査装置を示す構成図であり、第２５図は、従来のプリント基板の検査装置を示す構成図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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