(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
低融点可溶合金をヒュ−ズエレメントとする温度ヒュ−ズにおいて、低融点可溶合金の合金組成が、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの１００重量部に、ＣｕまたはＮｉの０．０１〜３．５重量部、またはＣｕとＡｇとの合計０．０１〜３．５重量部が添加された組成であることを特徴とする合金型温度ヒュ−ズ。
【請求項２】
不可避的不純物を含有する請求項１記載の合金型温度ヒューズ。
【請求項３】
作動温度が６５℃〜７５℃である請求項１または２記載の合金型温度ヒューズ。
【発明の詳細な説明】
【産業上の利用分野】
【０００１】
本発明は、作動温度が６５℃〜７５℃の合金型温度ヒュ−ズに関するものである。
【従来の技術】
【０００２】
合金型温度ヒュ−ズにおいては、フラックスを塗布した低融点可溶合金片をヒュ−ズエレメントとしており、保護すべき電気機器に取り付けて使用され、電気機器が異常時に発熱すると、その発生熱により低融点可溶合金片が液相化され、その溶融金属が既溶融フラックスとの共存のもとで表面張力により球状化され、球状化の進行により分断されて機器への通電が遮断される。
【０００３】
上記低融点可溶合金に要求される要件の一つは、固相線と液相線との間の固液共存域が狭いことである。
すなわち、通常、合金においては、固相線と液相線との間に固液共存域が存在し、この領域においては、液相中に固相粒体が分散した状態にあり、液相様の性質も備えているために、上記の球状化分断が発生する可能性があり、従って、液相線温度（この温度をＴとする）以前に固液共存域に属する温度範囲（ΔＴとする）で、低融点可溶合金片が球状化分断される可能性がある。而して、かかる低融点可溶合金片を用いた温度ヒュ−ズにおいては、ヒュ−ズエレメント温度が（Ｔ−ΔＴ）〜Ｔとなる温度範囲で動作するものとして取り扱わなければならず、ΔＴが小であるほど、すなわち、固液共存域が狭いほど、温度ヒュ−ズの作動温度範囲のバラツキを小として、温度ヒュ−ズをそれだけ厳格に所定の設定温度で作動させることができる。従って、温度ヒュ−ズのヒュ−ズエレメントとして使用される合金には、固液共存域が狭いことが要求される。
【０００４】
更に、上記低融点可溶合金に要求される要件の一つは、電気抵抗が低いことである。
すなわち、低融点可溶合金片の抵抗に基づく平常時の発熱による温度上昇をΔＴ'とすると、その温度上昇がないときに較べ、実質上、作動温度がΔＴ'だけ低くなり、ΔＴ'が高くなるほど、作動誤差が実質的に高くなる。従って、温度ヒュ−ズのヒュ−ズエレメントとして使用される合金には、比抵抗が低いことが要求される。
【０００５】
従来、作動温度６５℃〜７５℃の合金型温度ヒュ−ズのヒュ−ズエレメントとしては、７０℃共晶のＢｉ−Ｐｂ−Ｓｎ−Ｃｄ合金（Ｂｉ５０％、Ｐｂ２６．７％、Ｓｎ１３．３％、Ｃｄ１０％。％は重量比率である。以下、同じ）が知られているが、生体系に有害な金属（Ｐｂ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ｔｌ等）であるＰｂやＣｄを含有しており、近来の地球規模での要請である環境保全に適応しない。
また、近来の電気・電子機器の小型化に対応しての合金型温度ヒュ−ズの小型化に伴う、ヒュ−ズエレメントの極細線化（３００μｍ程度）には、Ｂｉの含有量が多く脆弱であるために、かかる極細線の線引き加工が困難であり、しかも、かかる極細線ヒュ−ズエレメントのもとでは、その合金組成の比較的高い比抵抗と極細線化とが相俟って、抵抗値が著しく高くなる結果、上記ヒュ−ズエレメントの自己発熱による作動不良が避けられない。
【０００６】
また、７２℃共晶のＩｎ−Ｂｉ合金（Ｉｎ６６．３％、Ｂｉ３３．７％）も知られているが、５３℃〜５６℃の間で固相変態を生じ、この温度が作動温度６５℃〜７５℃との相対関係から機器の平常時運転時にヒュ−ズエレメントが長期的に曝される温度であるため、ヒュ−ズエレメントに固相変態に起因して歪が発生し、その結果、ヒュ−ズエレメントの抵抗値が増大し、ヒュ−ズエレメントの自己発熱による作動不良が懸念される。
【０００７】
そこで、本発明者は、作動温度が６５℃〜７５℃の範囲で、有害金属を含有せず、ヒュ−ズエレメント径をほぼ３００μｍφ程度に極細化し得、自己発熱をよく抑えて正確に作動させ得る合金型温度ヒュ−ズとして、Ｂｉ２５〜３５％、Ｓｎ２．５〜１０％、残部Ｉｎの合金組成をヒューズエレメントとすることを提案した（特開２００１−２９１４５９号公報）。
この合金型温度ヒュ−ズにおいては、前記配合量のＩｎ及びＢｉにより融点が７０℃付近に仮設定されると共に細線の線引きに必要な適度の延性が与えられ、Ｓｎの配合により固相線温度と液相線温度の範囲が６５℃〜７５℃に最終的に設定されると共に比抵抗が低く設定される。Ｓｎ配合量の下限が２．５％、未満では、Ｓｎ量が不足して前記した固相変態を有効に防止し得ず、またＳｎ配合量の上限が１０％、を越えると、融点６２℃のＩｎ−Ｂｉ−Ｓｎ共晶組織（Ｉｎ５８％、Ｂｉ２９％、Ｓｎ１３％）が出現し、固相線温度と液相線温度の範囲を６５℃〜７５℃におさめ得ない。
この組成では、比抵抗の高いＢｉに対し、比抵抗の低いＩｎ、Ｓｎの総量が多いために全体の比抵抗を充分に低くでき、３００μｍφという極細線のもとでも、ヒュ−ズエレメントの低抵抗を容易に達成でき（２５〜３５μΩ・ｃｍ）、作動温度６５℃〜７５℃の低温側に固相変態が発生することがなくて作動温度６５℃〜７５℃に対する機器の平常運転時の温度でのヒュ−ズエレメントの固相変態に起因しての抵抗値変化も排除できるから、温度ヒュ−ズの作動温度を７０℃を基準として±５℃以内の範囲に設定できる。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記ヒューズエレメントの合金組成では、Ｉｎが７２．５％、〜５５％、というように組成の大半を占め、Ｉｎが高価であるために、コストアップが避けられない。
【０００９】
前記温度ヒューズにおいては、機器のヒートサイクルにより繰返し加熱・冷却される。そのヒートサイクル時、ヒューズエレメントの熱膨張係数をα、温度上昇をΔｔ、ヤング率をＥとすると、弾性範囲内であれば、α・Δｔ・Ｅの熱応力を発生し、α・Δｔの圧縮歪を受けるが、上記合金組成（Ｂｉ２５〜３５％、Ｓｎ２．５〜１０％、残部Ｉｎ）では、Ｉｎの多量含有（５５％〜７２．５％）のために、弾性限界が小さく、圧縮歪α・Δｔよりも小さい歪で合金組織内の異相界面で大きなすべりが発生する。このすべりの繰返しにより断面積及びエレメント線長が変化し、ヒューズエレメント自体の抵抗値が不安定になる。すなわち、耐熱安定性を保証し難い。
【００１０】
本発明の目的は、ヒューズエレメントの合金組成にＩｎ−Ｓｎ−Ｂｉ系を用い、作動温度６５℃〜７５℃の範囲で、環境保全の要請を充足し、ヒュ−ズエレメント径をほぼ３００μｍφ程度に極細化し得、自己発熱をよく抑え得、しかも耐熱安定性を良好に保証できる合金型温度ヒュ−ズを提供することにある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る合金型温度ヒュ−ズは、低融点可溶合金をヒュ−ズエレメントとする温度ヒュ−ズにおいて、低融点可溶合金の合金組成が、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの１００重量部に、ＣｕまたはＮｉの０．０１〜３．５重量部、またはＣｕとＡｇとの合計０．０１〜３．５重量部が添加された組成であることを特徴とする。
【００１２】
上記において、各原料地金の製造上及びこれら原料の溶融撹拌上生じる不可避的不純物を含有することが許容される。
【００１３】
上記合金型温度ヒュ−ズの作動温度は６５℃〜７５℃である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
本発明に係る合金型温度ヒュ−ズにおいて、ヒュ−ズエレメントには、外径２００μｍφ〜６００μｍφ、好ましくは２５０μｍφ〜３５０μｍφの円形線、または当該円形線と同一断面積の扁平線を使用できる。
【００１５】
このヒュ−ズエレメントの合金のベースは、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉ、好ましくは、Ｉｎ３９〜４２％、Ｓｎ１１〜１６％、残部Ｂｉであり、基準組成は、Ｉｎ４０％、Ｓｎ１４％、Ｂｉ４６％であり，その液相線温度は７２℃、固液共存域巾は３℃である。
【００１６】
本発明に係る温度ヒューズにおいては、ヒューズエレメントに、（１）環境保全上有害金属を含まないＩｎ−Ｓｎ−Ｂｉ系を使用し、（２）前記したヒートサイクルに対する熱的安定性を保証するためにＩｎの配合重量を５０％、より少なくし、（３）作動温度を６５℃〜７５℃とする融点を有し、かつ前記した作動温度範囲のバラツキを充分に小さくするために、固液共存巾ΔＴをたかだか４℃程度に抑え、（４）３００μｍφ程度の細線線引きを可能とし、（５）抵抗値を充分に低くしてジュール発熱による作動誤差を抑えるために、ヒューズエレメントの合金組成をＩｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉとしている。
【００１７】
本発明においては、Ｉｎを３７％〜４３％の範囲内の重量比率で制御し、ＳｎとＢｉとを前記範囲内の重量比率で混在させることにより、低温固相変態点の発生無く、６５℃〜７５℃の作動温度を満たす融点に設定でき、かつ固液共存巾を４℃以内に抑えることができる。Ｉｎ量が３７％、未満では、融点８１℃のＢｉ−Ｉｎ−Ｓｎ共晶組織（Ｂｉ５７．５％、Ｉｎ２５．２％、Ｓｎ１７．３％）が出現し、また、Ｉｎ量が４３％を越えると、融点６２℃のＢｉ−Ｉｎ−Ｓｎ共晶組織（Ｉｎ５１％、Ｂｉ３２．５％、Ｓｎ１６．５％、）が出現して所望の動作温度を得ることができず、かつ固液共存巾を４℃以内に納めることができない。
本発明において、Ｓｎ量を１０％〜１８％とする理由は、Ｂｉ量を制御して融点を約７０℃付近に設定すること、及び強度が低く延性が非常に大きいＩｎと、強度が大きく脆性が非常に大きいＢｉが形成する合金について、約３００μｍφという細線線引き加工を可能とするように延性を補完することにある。Ｓｎ量が１０％未満であれば、作動温度を６５℃〜７５℃に設定できないばかりか、前記延性補完を満足に達成し得ず前記細線加工が困難になり、Ｓｎ量が１８％を越えれば、Ｂｉ量の減少によって強度が低下すると共に延性が過多となり、加工歪に対する抵抗力が極端に小さくなって前記細線加工が困難になる。
【００１８】
本発明において、ＣｕまたはＮｉまたはＣｕとＡｇとを０．０１〜３．５重量部添加する理由は、合金の比抵抗をより一層に低くしてジュール発熱による作動誤差をより厳格に抑えること、作動温度６５℃〜７５℃を実質的に変えることなく、固液共存巾ΔＴを一層に狭くして作動温度のバラツキをより厳格に抑えること、細線加工に必要な強度と延性を更に付与して加工性をより一層に高めること等にある。添加量を０．０１〜３．５重量部とする理由は、０．０１重量部未満では前記効果を満足に達成できず、３．５重量部を越えると融点が変動して作動温度を６５℃〜７５℃に設定し得ないことにある。
【００１９】
本発明に係る温度ヒュ−ズのヒュ−ズエレメントは、合金母材の線引きにより製造され、断面丸形のまま、または、さらに扁平に圧縮加工して使用できる。
【００２０】
図１は、本発明に係るテ−プタイプの合金型温度ヒュ−ズを示し、厚み１００〜３００μｍのプラスチックベ−スフィルム４１に厚み１００〜２００μｍの帯状リ−ド導体１，１を接着剤または融着により固着し、帯状リ−ド導体間に線径２５０μｍφ〜５００μｍφのヒュ−ズエレメント２を接続し、このヒュ−ズエレメント２にフラックス３を塗布し、このフラックス塗布ヒュ−ズエレメントを厚み１００〜３００μｍのプラスチックカバ−フィルム４１の接着剤または融着による固着で封止してある。
【００２１】
本発明に係る合金型温度ヒュ−ズは、ケ−スタイプ、基板タイプ、樹脂ディツピングタイプの形式で実施することもできる。
図２は筒型ケ−スタイプを示し、一対のリ−ド線１，１間にヒューズエレメント２を接続し、該ヒューズエレメント２上にフラックス３を塗布し、このフラックス塗布ヒューズエレメント上に耐熱性・良熱伝導性の絶縁筒４、例えば、セラミックス筒を挿通し、該絶縁筒４の各端と各リ−ド線１との間を常温硬化の封止剤５、例えば、エポキシ樹脂で封止してある。
【００２２】
図３はケ−スタイプラジアル型を示し、並行リ−ド導体１，１の先端部間にヒュ−ズエレメント２を溶接により接合し、ヒュ−ズエレメント２にフラックス３を塗布し、このフラックス塗布ヒュ−ズエレメントを一端開口の絶縁ケ−ス４、例えばセラミックスケ−スで包囲し、この絶縁ケ−ス４の開口をエポキシ樹脂等の封止剤５で封止してある。
【００２３】
図４は基板タイプを示し、絶縁基板４、例えばセラミックス基板上に一対の膜電極１，１を導電ペ−スト（例えば銀ペ−スト）の印刷焼付けにより形成し、各電極１にリ−ド導体１１を溶接等により接続し、電極１，１間にヒュ−ズエレメント２を溶接により接合し、ヒュ−ズエレメント２にフラックス３を塗布し、このフラックス塗布ヒュ−ズエレメントを封止剤５例えばエポキシ樹脂で被覆してある。
【００２４】
図５は樹脂ディツピングラジアルタイプを示し、並行リ−ド導体１，１の先端部間にヒュ−ズエレメント２を溶接により接合し、ヒュ−ズエレメント２にフラックス３を塗布し、このフラックス塗布ヒュ−ズエレメントを樹脂液ディッピングにより絶縁封止剤例えばエポキシ樹脂５で封止してある。
【００２５】
また、通電式発熱体付きヒュ−ズ、例えば、基板タイプの合金型温度ヒュ−ズの絶縁基板に抵抗体（膜抵抗）を付設し、機器の異常時、抵抗体を通電発熱させ、その発生熱で低融点可溶合金片を溶断させる抵抗付きの基板型ヒュ−ズの形式で実施することもできる。
【００２６】
上記のフラックスには、通常、融点がヒュ−ズエレメントの融点よりも低いものが使用され、例えば、ロジン９０〜６０重量部、ステアリン酸１０〜４０重量部、活性剤０〜３重量部を使用できる。この場合、ロジンには、天然ロジン、変性ロジン（例えば、水添ロジン、不均化ロジン、重合ロジン）またはこれらの精製ロジンを使用でき、活性剤には、ジエチルアミンの塩酸塩や臭化水素酸塩等を使用できる。
【００２７】
【実施例】
以下の実施例及び比較例の作動温度の測定においては、試料形状を基板型、試料数を５０箇とし、０．１アンペアの電流を通電しつつ、昇温速度１℃／分のオイルバスに浸漬し、溶断による通電遮断時のオイル温度を測定した。
また、自己発熱の影響の有無については、試料数を５０箇とし、通常の定格電流（１〜２Ａ）のもとで判断した。
更に、ヒートサイクルに対するヒューズエレメントの抵抗値変化の有無ついては、試料数を５０箇とし、３０分間５０℃加熱、３０分間−４０℃冷却を１サイクルとするヒートサイクル試験を５００サイクル行なったのちの抵抗値変化を測定して判断した。
【００２８】
〔参考例１〕
Ｉｎ４０％、Ｓｎ１４％、Ｂｉ４６％、の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。
この線の比抵抗を測定したところ、４８μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、小型の基板型温度ヒュ−ズを作製した。フラックスには、ロジン８０重量部，ステアリン酸２０重量部，ジエチルアミン臭化水素酸塩１重量部の組成物を使用し、被覆材には、常温硬化型のエポキシ樹脂を使用した。
この実施例品について、作動温度を測定したところ、７２℃±２℃の範囲内であった。
また、通常の定格電流のもとで、自己発熱の影響の無いことを確認した。
更に、ヒートサイクルによるヒューズエレメントの問題となるような抵抗値変化は認められなかった。
なお、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの範囲内であれば、前記の細線線引き性、低比抵抗性、耐熱安定性を充分に保証でき、作動温度を７０℃±５℃の範囲内におさめ得ることを確認した。
【００２９】
〔参考例２〕
Ｉｎ３８．６％、Ｓｎ１３．５％、Ｂｉ４４．５％、Ａｇ３．４％、の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。この線の比抵抗を測定したところ、４１μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様に基板型温度ヒュ−ズを作製した。
この実施例品について、作動温度を測定したところ、７１℃±１℃の範囲内であった。
また、通常の定格電流のもとで、自己発熱の影響の無いことを確認した。
更に、ヒートサイクルによるヒューズエレメントの問題となるような抵抗値変化は認められなかった。
なお、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの１００重量部、Ａｇ０．０１〜３．５重量部の範囲内であれば、前記の細線線引き性、低比抵抗性、耐熱安定性を充分に保証でき、作動温度を７０℃±４℃の範囲内におさめ得ることを確認した。
【００３０】
〔実施例１〕
Ｉｎ３９．７％、Ｓｎ１３．９％、Ｂｉ４５．７％、Ｃｕ０．７％、の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。
この線の比抵抗を測定したところ、４２μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様に基板型温度ヒュ−ズを作製した。
この実施例品について、作動温度を測定したところ、７１℃±１℃の範囲内であった。
また、通常の定格電流のもとで、自己発熱の影響の無いことを確認した。
更に、ヒートサイクルによるヒューズエレメントの問題となるような抵抗値変化は認められなかった。
なお、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの１００重量部、Ｃｕ０．０１〜３．５重量部の範囲内であれば、前記の細線線引き性、低比抵抗性、耐熱安定性を充分に保証でき、作動温度を７０℃±４℃の範囲内におさめ得ることを確認した。
【００３１】
〔実施例２〕
Ｉｎ３９．７％、Ｓｎ１３．９％、Ｂｉ４５．７％、Ｎｉ０．７％、の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。
この線の比抵抗を測定したところ、４７μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様に基板型温度ヒュ−ズを作製した。
この実施例品について、作動温度を測定したところ、７１℃±１℃の範囲内であった。
また、通常の定格電流のもとで、自己発熱の影響の無いことを確認した。
更に、ヒートサイクルによるヒューズエレメントの問題となるような抵抗値変化は認められなかった。
なお、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの１００重量部、Ｎｉ０．０１〜３．５重量部の範囲内であれば、前記の細線線引き性、低比抵抗性、耐熱安定性を充分に保証でき、作動温度を７１℃±４℃の範囲内におさめ得ることを確認した。
【００３２】
〔実施例３〕
Ｉｎ３８．６％、Ｓｎ１３．５％、Ｂｉ４４．５％、，Ａｇ２．７％、Ｃｕ０．７％、の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。
この線の比抵抗を測定したところ、３８μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様に基板型温度ヒュ−ズを作製した。
この実施例品について、作動温度を測定したところ、７０℃±１℃の範囲内であった。
また、通常の定格電流のもとで、自己発熱の影響の無いことを確認した。
更に、ヒートサイクルによるヒューズエレメントの問題となるような抵抗値変化は認められなかった。
なお、Ｉｎ３７〜４３％、Ｓｎ１０〜１８％、残部Ｂｉの１００重量部、ＡｇとＣｕとの合計０．０１〜３．５重量部の範囲内であれば、前記の細線線引き性、低比抵抗性、耐熱安定性を充分に保証でき、作動温度を７１℃±４℃の範囲内におさめ得ることを確認した。
【００３３】
〔比較例１〕
Ｂｉ５０％、Ｐｂ２６．７％、Ｓｎ１３．３％、Ｃｄ１０％の合金組成の母材を使用し、実施例と同様にして直径３００μｍφへの線引きを試みたが、断線が多発した。そこで、１ダイスについての引落率を５．０％として線引き率を下げ、線引き速度を２０ｍ／ｍｉｎにして線引き速度を低速にすることにより加工歪軽減のもとで線引きを試みたが、多数断線が発生し、加工できなかった。
このように、線引きによる細線加工が実質上不可であるために、回転ドラム式紡糸法により直径３００μｍφの細線を得た。
この細線の比抵抗を測定したところ、６１μΩ・ｃｍであった。
この細線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様にして基板型温度ヒュ−ズを作製し、作動温度を測定したところ、融点（７０℃）を大きく越えても作動しないものが多数認められた。
この理由は、回転ドラム式紡糸法のために、ヒュ−ズエレメントの表面に厚い酸化皮膜の鞘が形成され、鞘内部の合金が溶融されても鞘が溶融されずに分断に至らないためと推定される。
【００３４】
〔比較例２〕
Ｉｎ６６．３％、Ｂｉ３３．７％の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。この線の比抵抗を測定したところ、３７μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様に基板型温度ヒュ−ズを作製し、実施例と同様にして、作動温度を測定したところ、６０℃付近で作動するものから７４℃付近で作動するものが存在し、作動温度の顕著なバラツキが認められた。７４℃付近での作動は本来の溶断に基づく作動であるが、６０℃付近で作動は固相変態に起因するものと推定される。
【００３５】
〔比較例３〕
Ｉｎ６３．５％、Ｓｎ３．８％、Ｂｉ３２．７％の合金組成の母材を線引きして直径３００μｍφの線に加工した。１ダイスについての引落率を６．５％、とし、線引き速度を４５ｍ／ｍｉｎとしたが、断線は皆無であった。この線の比抵抗を測定したところ、３２μΩ・ｃｍであった。
この線を長さ４ｍｍに切断してヒュ−ズエレメントとし、実施例１と同様に基板型温度ヒュ−ズを作製し、作動温度を測定したところ、７１℃±１℃の範囲内であった。
また、通常の定格電流のもとで、自己発熱の影響の無いことを確認した。
しかし、５００回ヒートサイクルによる耐熱試験では、大きな抵抗値変化の発生したものがあり、分解してヒュ−ズエレメントを観察したところ、ヒュ−ズエレメントの部分的な断面積減少及びエレメント線長増大が認められた。この理由は、Ｉｎの多量含有のために、弾性限界が小さく、ヒュ−ズエレメントが熱応力で降伏されて合金組織内にすべりが生じ、このすべりの繰返しにより断面積及びエレメント線長が変化して、ヒュ−ズエレメント自体の抵抗値が変動したと推定される。
【００３６】
【発明の効果】
本発明によれば、生体系に安全なＢｉ−Ｉｎ−Ｓｎ系の低融点可溶合金母材の容易な線引き加工で得た３００μｍφクラスの極細線ヒュ−ズエレメントを用い、動作温度が６５℃〜７５℃で、かつ自己発熱による作動誤差を充分に防止でき、しかも、Ｉｎの充分に抑えられた添加量のために優れた耐熱安定性を保証できる合金型温度ヒュ−ズを提供できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る合金型温度ヒュ−ズの一例を示す図面である。
【図２】  本発明に係る合金型温度ヒュ−ズの上記とは別の例を示す図面である。
【図３】  本発明に係る合金型温度ヒュ−ズの上記とは別の例を示す図面である。
【図４】  本発明に係る合金型温度ヒュ−ズの上記とは別の例を示す図面である。
【図５】  本発明に係る合金型温度ヒュ−ズの上記とは別の例を示す図面である。
【符号の説明】
１              リード導体または電極
２              ヒューズエレメント
３              フラックス
４              絶縁体
５              封止剤
【図１】
0004001757.tif 000002
【図２】
0004001757.tif 000003
【図３】
0004001757.tif 000004
【図４】
0004001757.tif 000005
【図５】
0004001757.tif 000006