(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
特定波長の光の照射によって屈折率が上昇する材料からなる部位を備えた光ファイバの側面から、該光ファイバの長さ方向にそって所定の周期で前記特定波長の光を照射し、該照射部分の屈折率を上昇させることによって、当該屈折率上昇部が、複数、所定の周期で間欠的に配列したグレーティング部を有する光ファイバグレーティングを製造する方法であって、
前記複数の屈折率上昇部を形成するにあたり、光の照射方向を光ファイバの長手方向に順次変更し、前記グレーティング部全体に亘って光の照射量を光ファイバの長手方向に沿って積分した結果が、光ファイバの円周方向において光が均等となるように光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法。
【請求項２】
請求項１に記載の光ファイバグレーティングの製造方法において、前記光を照射する工程は、前記光ファイバの側面をその円周方向に分割し、その１つの分割面に対して光を照射させる工程と、グレーティング周期にしたがって照射位置を移動させて、次の分割面に対して光を照射させる工程とを備え、これらの工程を順に繰り返すことにより、前記光ファイバの側面を１周して光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法。
【請求項３】
請求項２に記載の光ファイバグレーティングの製造方法において、前記分割面が４つであることを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法。
【請求項４】
請求項１に記載の光ファイバグレーティングの製造方法において、複数の反射鏡を用いることにより、光ファイバの円周方向において均等に光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法。
【請求項５】
請求項１に記載の光ファイバグレーティングの製造方法において、光ファイバ及び照射する光の一方または両方を光ファイバ軸に沿って回転させることにより、光ファイバの円周方向において均等に光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法。
【請求項６】
請求項１に記載の光ファイバグレーティングの製造方法に用いる光ファイバグレーティングの製造装置であって、
光ファイバを保持する保持手段と、該光ファイバに特定波長の光を照射する照射手段とを備え、
前記保持手段が、前記光ファイバをその円周方向に回転させる回転機構を備えていることを特徴とする光ファイバグレーティングの製造装置。
【請求項７】
請求項４に記載の光ファイバグレーティングの製造方法に用いる光ファイバグレーティングの製造装置であって、複数の反射鏡と、該反射鏡に光を照射するための照射手段と、該反射鏡により反射される光の光路上に光ファイバを配置して保持するための保持手段と、前記反射鏡と該保持手段の少なくとも一方を前記光ファイバの長手方向に移動させるための移動手段とを備えていることを特徴とする光ファイバグレーティング製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光情報通信分野で用いられる光ファイバグレーティングの製造方法および製造装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
光ファイバグレーティングは特定波長の光を減衰または反射させる特性を備えた光学素子である。
光ファイバグレーティングとしては、例えば紫外線誘起型（以下、ＵＶ誘起型と示す）のものが知られている。ＵＶ誘起型の光ファイバグレーティングは、ゲルマニウムが添加された石英ガラス（以下、ゲルマニウム添加石英ガラスと略記する）に２４０ｎｍ付近の特定波長の紫外光を照射すると屈折率が上昇する現象を利用するもので、従来例えば以下のような手順によって製造されていた。
【０００３】
一般的にはコアがゲルマニウム添加石英ガラスからなり、クラッドが石英ガラスからなる光ファイバを用意する。なお、最近はコアとクラッドの両方またはクラッドがゲルマニウム添加石英ガラスからなる光ファイバを用いて光ファイバグレーティングを製造する場合もある。
ついで、水素雰囲気中にこの光ファイバを放置し、水素ガス浸漬処理を行って紫外光に対する屈折率変動の感受性を高める。
さらに、干渉露光法、位相マスク法、強度マスク法、集光したビームで直接露光する操作を繰り返す方法（ステップバイステップ法）などの公知の方法によって、光ファイバの側面に、一方向から、この光ファイバの長さ方向にそって所定の周期で紫外光を照射すると、露光された部分の光ファイバの屈折率が上昇し、複数の屈折率上昇部が所定の周期で間欠的に配列し、光ファイバの長さ方向にそって屈折率が周期的に変動しているグレーティング部が形成される。
その後、脱水素処理を行い、好ましくはさらに加熱エージングを行って光ファイバグレーティングを得る。加熱エージングは光ファイバグレーティングの長期安定性を向上させる目的で行われる。
【０００４】
なお、このグレーティング部の屈折率変化の周期（以下、グレーティング周期という）が比較的短いものにおいては、コアを入射方向と同方向に進行する特定波長の光を反射して減衰させるいわゆる反射型の特性が得られる。一方、グレーティング周期が比較的長いものにおいては、コアを入射方向と同方向に進行する特定波長の光を、同じ方向に進行するクラッドモードに結合させて減衰させるいわゆる放射型の特性が得られる。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来の製造方法においては、どのようなタイプのものであっても光ファイバグレーティングの挿入損失の偏波依存性の劣化を伴うことがわかった。挿入損失の偏波依存性（以下、ＰＤＬと示す）は光ファイバを伝搬する光を構成するふたつの偏波成分間の挿入損失の差である。
このＰＤＬの劣化の原因には、大きく分けて以下の２つがあると考えられている。
１つ目は、光ファイバにおいて、偏波成分間の実効屈折率が異なることによって生じる偏波モード分散（以下、ＰＭＤと示す）である。その原因は光ファイバのコアのわずかな楕円化や偏心である。このＰＭＤの影響は、偏心や楕円化の少ない光ファイバを選択することなどによって、ある程度低減することができる。
【０００６】
２つ目は、紫外光露光工程において生じる屈折率変化が不均一であることである。
図１２（ａ）〜図１２（ｄ）は、従来の紫外光露光工程における屈折率変化を示した説明図である。
図１２（ａ）は屈折率を上昇させる部分の１カ所に、光ファイバ３の側面に向かって一方向（Ａ方向）から紫外光を照射している状態を示した斜視図である。図１２（ｂ）は、このようにして形成した屈折率上昇部３ａについて、この紫外光の照射強度に起因する光ファイバ３の断面における屈折率変化を示したものである。紫外光の照射位置に近い程、紫外光の強度が大きいため、屈折率上昇量が大きく、光ファイバ３の断面に屈折率の分布が生じる。
【０００７】
一方、ここで、光ファイバ３の進行方向をｚ軸方向、光ファイバ３の断面において直交する２つの方向をｘ軸方向、ｙ軸方向とする。
光ファイバ３に照射する紫外光の偏光状態が光ファイバ３の屈折率の上昇自体に複屈折を生じることが知られている。すなわち、照射した紫外光の電界の向きと同方向の電界を持つ導波光に対する屈折率の上昇が紫外光の電界と垂直な向きの電界を持つ導波光に対する屈折率の上昇よりも高くなる。
図１２（ｃ）に示したようにＡ方向から照射した紫外光の電界はｙ軸成分とｚ軸成分とに分けて考えることができる。それらのうち、ｙ軸成分の電界によって生じる屈折率変化が、光ファイバ３を導波する導波光に対して複屈折を持つ。すなわち、屈折率変化はｘ軸方向に電界をもつ導波光（便宜的にＸ偏波成分と呼ぶ）より、ｙ軸方向に電界をもつ導波光（便宜的にＹ偏波成分と呼ぶ）に対して大きくなる。
図１２（ｄ）はこのときに導入される屈折率変化の異方性を示した説明図である。大きな屈折率変化を生じる偏波成分の向きを太線矢印で示している。
その結果、Ｘ偏波成分とＹ偏波成分との間の伝搬定数の差が大きくなり、ＰＤＬが劣化する。なお、ｚ軸方向の電界成分をもつ紫外光による屈折率変化の影響は、Ｘ偏波成分とＹ偏波成分に対して等価なので、ここで考慮する必要はない。図１３は光ファイバ３の長さ方向にそって、所定の周期でＡ方向のみから紫外光を照射してグレーティング部を形成したときの偏波成分毎の屈折率の変化を示したグラフである。Ｘ偏波成分とＹ偏波成分との間に屈折率変化量の差が生じていることが明らかである。
【０００８】
図１４はこの製造方法によって製造した光ファイバグレーティングの光学特性の一例を示したグラフである。
この例の光ファイバグレーティングの製造において、光ファイバは、コアがゲルマニウム添加石英ガラスからなり、クラッドが石英ガラスからなる１．５５μｍ帯用のカットオフシフト光ファイバ（株式会社フジクラ製）を用いた。また、グレーティング周期２９５μｍ、グレーティング長（グレーティング部の長さ）３５ｍｍの、いわゆる放射型の光ファイバグレーティングを製造した。なお、ここでグレーティング周期は、ファイバグレーティングの透過スペクトルにおいて阻止率（透過損失値）が最大となる波長（以下「最大阻止波長」という）が１５３０．０ｎｍとなるように２９５μｍの付近で微調整を行った。また、露光量は最大阻止波長における透過損失値が４．０ｄＢとなるように、紫外光のパワー及び紫外光照射時間を適宜調整した。
なお、紫外光を照射するための光源としては、ＫｒＦエキシマレーザ、Ａｒ−ＳＨＧ（アルゴン−光第２高周波発生装置）などが用いられる。
このグラフにおいて、ＰＤＬを示すグラフにはふたつのピークが生じているが、一般に最も大きいピークの値をＰＤＬ最悪値とする。この例の光ファイバグレーティングのＰＤＬ最悪値は０．１７ｄＢである。
【０００９】
このようなＰＤＬの劣化の問題を改善するために、文献１*1には以下に示す方法が提案されている。
＊ 1：Optics Letter V. 19, n. 16, pp. 1260-1262 (Aug. 15, 1994)
【００１０】
図１５（ａ）〜図１５（ｄ）はこの方法の説明図であって、図１２（ａ）〜図１２（ｄ）に示した方法と異なるのは、図１５（ａ）に示したように、光ファイバ３の側面に、一方向（Ａ方向）から紫外光を照射するとともに、このＡ方向と対向する方向（Ｂ方向）から紫外光を照射する点であった。
その結果、図１５（ｂ）に示したように、紫外光の照射強度に起因する光ファイバ３の断面における屈折率の偏りの問題は解決することができた。
【００１１】
しかしながら、この方法においても図１５（ｃ）に示したように、Ａ方向から照射する紫外光がｙ軸方向とｚ軸方向に偏光していると、Ｂ方向から照射する紫外光もｙ軸方向とｚ軸方向に偏光しているため、Ｙ偏波成分の屈折率変化がＸ偏波成分における屈折率変化よりも大きくなる。
図１５（ｄ）はこのときに導入される屈折率変化の異方性を示した説明図である。大きな屈折率変化を生じる偏波成分の向きを太線矢印で示している。
図１６はＡ方向とＢ方向の２方向から紫外光を照射した以外は上述の例と同様にして製造した光ファイバグレーティングの光学特性を示したグラフである。ＰＤＬ最悪値は約０．１２ｄＢであり、図１４に示したものよりもやや小さくなっている。しかしながら、その値は十分に小さいとは言い難く、さらなる改善が要求されていた。
【００１２】
本発明は前記事情に鑑みてなされたもので、ＰＤＬが改善された光ファイバグレーティングを得ることを目的とする。
具体的にはＵＶ誘起型の光ファイバグレーティングにおいて、紫外光の偏光に起因する複屈折を低減することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決するために、以下のような解決手段を提案する。
第１の発明は、光ファイバグレーティングの製造方法は、特定波長の光の照射によって屈折率が上昇する材料からなる部位を備えた光ファイバの側面から、該光ファイバの長さ方向にそって所定の周期で前記特定波長の光を照射し、該照射部分の屈折率を上昇させることによって、当該屈折率上昇部が、複数、所定の周期で間欠的に配列したグレーティング部を有する光ファイバグレーティングを製造する方法であって、
前記複数の屈折率上昇部を形成するにあたり、光の照射方向を光ファイバの長手方向に順次変更し、前記グレーティング部全体に亘って光の照射量を光ファイバの長手方向に沿って積分した結果が、光ファイバの円周方向において光が均等となるように光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法である。
第２の発明は、請求項１に記載の光ファイバグレーティングの製造方法において、前記光を照射する工程は、前記光ファイバの側面をその円周方向に分割し、その１つの分割面に対して光を照射させる工程と、グレーティング周期にしたがって照射位置を移動させて、次の分割面に対して光を照射させる工程とを備え、これらの工程を順に繰り返すことにより、前記光ファイバの側面を１周して光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法である。
第３の発明は、前記第１の発明において、前記分割面が４つであることを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法である。
第４の発明は、前記第１の発明において、複数の反射鏡を用いることにより、光ファイバの円周方向において均等に光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法である。
第５の発明は、前記第１の発明において、光ファイバ及び照射する光の一方または両方を光ファイバ軸に沿って回転させることにより、光ファイバの円周方向において均等に光を照射することを特徴とする光ファイバグレーティングの製造方法である。
第６の発明は、前記第１の光ファイバグレーティングの製造方法に用いる光ファイバグレーティングの製造装置であって、
光ファイバを保持する保持手段と、該光ファイバに特定波長の光を照射する照射手段とを備え、前記保持手段が、前記光ファイバをその円周方向に回転させる回転機構を備えていることを特徴とする光ファイバグレーティングの製造装置である。
第７の発明は、前記第４の光ファイバグレーティングの製造方法に用いる光ファイバグレーティングの製造装置であって、複数の反射鏡と、該反射鏡に光を照射するための照射手段と、該反射鏡により反射される光の光路上に光ファイバを配置して保持するための保持手段と、前記反射鏡と該保持手段の少なくとも一方を前記光ファイバの長手方向に移動させるための移動手段とを備えていることを特徴とする光ファイバグレーティングの製造装置である。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１（ａ）〜図１（ｄ）は本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の一例を示したものである。
本発明においては、図１（ａ）に示したように屈折率上昇部３ａを形成する部分の光ファイバ３の側面全体に均等に紫外光を照射して屈折率上昇部３ａを形成する。すなわち、図１５（ａ）に示した方法と同様にＡ方向とこれに対向するＢ方向から紫外光を照射するとともに、Ａ方向とＢ方向に直交するＣ方向からも紫外光を照射し、かつこのＣ方向に対応する方向（Ｄ方向）からも紫外光を照射する。換言すれば、光ファイバ３の側面を光ファイバ３の長さ方向と平行に切り分けて円周方向に４等分し、これらの４等分した部分にそれぞれ均等に紫外光を照射することにより、光ファイバ３の円周方向全体に紫外光を均等に照射する。
また、光の照射方向を光ファイバの長手方向に順次変更し、グレーティング部全体に亘って光の照射量を光ファイバの長手方向に沿って積分した結果が、光ファイバの円周方向において光が均等となるように光を照射してもよい。
【００１５】
その結果、図１（ｂ）に示したように、光ファイバ３の断面において、紫外光の照射強度に起因する屈折率の不均一化は生じない。
また、図１（ｃ）に示したように、Ａ方向とＢ方向から照射する紫外光が光ファイバ３のｙ軸方向とｚ軸方向に偏光していると、Ａ方向とＢ方向に直交するＣ方向とＤ方向の紫外光の偏光はｘ軸方向とｚ軸方向となる。
このようにｘ軸方向とｙ軸方向の両方から露光することにより、図１（ｄ）に示したように、Ｘ偏波成分とＹ偏波成分の両方に対する屈折率変化を等しくすることができる。なお、上述のように図中太線矢印は大きな屈折率変化を生じる偏波成分の向きを示している。
【００１６】
図２は、光の照射方法以外は上述の例と同様にして製造した光ファイバグレーティングの光学特性を示したグラフである。すなわち、光ファイバ３の長さ方向において、図１（ａ）に示したようにＡ、Ｂ、Ｃ、Ｄの４方向から紫外光を照射して屈折率上昇部３ａを形成する操作を、所定の周期で繰り返して製造した光ファイバグレーティングの光学特性を示したものである。
この例の光ファイバグレーティングのＰＤＬ最悪値は０．０８ｄＢであり、上述の図１４、図１６に示した例と比較して小さな値が得られている。
なお、ＰＤＬは上述のようにＰＭＤによっても生じるため、完全に零にすることは困難である。
【００１７】
図３は、図１（ａ）に示した方法（グラフ中には「回転露光」と記載）、図１２（ａ）に示した方法（グラフ中には「通常露光」と記載）、図１５（ａ）に示した方法（グラフ中には「両面露光」と記載）によって製造した光ファイバグレーティングのＰＤＬを測定した結果をまとめたものである。縦軸の度数はサンプル数を示している。
このグラフからわかるように、本発明の製造方法によって製造した光ファイバグレーティングにおいては、ＰＤＬの値が小さく、かつそのばらつきが少ない。特に、実質的に同一の光学特性で、かつ光ファイバグレーティングの材料として用いている光ファイバが同種のものである場合、光ファイバグレーティングにおいてはＰＤＬの分布の標準偏差は測定誤差程度となり、ＰＤＬの絶対値と比較してその５分の１以下となることがわかった。よって、本発明の製造方法により、安定した特性の光ファイバグレーティングを量産できることがわかる。
【００１８】
図４〜図７は本発明の光ファイバグレーティングの製造方法に適した光ファイバグレーティングの製造装置を示した概略構成図である。
図４中、符号１は板状の露光台であり、その上面には所定の間隔をあけてふたつのファイバクランプ２Ａ、２Ｂが設けられ、これらのファイバクランプ２Ａ、２Ｂに光ファイバ３が保持されるようになっている。そして、これらのファイバクランプ２Ａ、２Ｂには図示しない回転機構が設けられており、この回転機構を作動させることによって、光ファイバ３を、その中心軸が移動しないように、円周方向に所定の角度だけ回転させることができるようになっている。回転機構としては、例えばステッピングモータによる回転駆動方式などを例示することができる。
なお、このファイバクランプ２Ａ、２Ｂによって保持された光ファイバ３の両端は光学測定装置４に接続され、光ファイバグレーティングの光学特性をモニターしながら製造操作が行われるようになっている。
【００１９】
このように光ファイバ３をファイバクランプ２Ａ、２Ｂに保持した状態で、図５に示したように、光源（図示せず）からマスク５を介して紫外光を照射すると、マスク５の下方に所定周期の光の強度分布が生じ、光ファイバ３の長さ方向に所定の周期で紫外光が照射され、光ファイバ３の長さ方向に間欠的に配置された複数の屈折率上昇部が一度に形成される。マスク５としては、グレーティング周期が１μｍ以下のグレーティング周期が短い光ファイバグレーティングを製造する場合は位相マスクが用いられ、グレーティング周期が１０μｍ以上のグレーティング周期が比較的長い光ファイバグレーティングを製造する場合は、いわゆる強度マスクが用いられる。
このように光ファイバ３の側面に一方向から紫外光を照射した後、ファイバクランプ２Ａ、２Ｂに設けられた回転機構によって光ファイバ３を円周方向に９０度回転させて同様に紫外光を照射する操作を繰り返し、光ファイバ３の円周方向全体に均等に紫外光を照射して光ファイバグレーティングを製造する。
【００２０】
図６は屈折率上昇部を１カ所ずつ形成する、いわゆるステップバイステップ法に係る製造装置を示したものである。
図中符号６は全反射ミラー、符号７はレンズである。これら全反射ミラー６、レンズ７はミラー・レンズ台８ａに取り付けられ、このミラー・レンズ台８ａは移動装置８ｂに取り付けられている。
そして、光源（図示せず）から出射した紫外光を全反射ミラー６にて反射させ、レンズ７を介して絞り込むことによって光ファイバ３上に集光させる。そして、ファイバクランプ２Ａ、２Ｂに設けられた回転機構によって光ファイバ３を９０度回転させて同様に紫外光を照射する操作を繰り返し、光ファイバ３の円周方向に均等に紫外光を照射する。
ついで、移動装置８ｂによってミラー・レンズ台８ａを所定距離、光ファイバ３の長さ方向にそって移動させ、同様の操作を繰り返して光ファイバグレーティングを製造する。
【００２１】
図７に示した製造装置は、図６に示した装置において、ミラー・レンズ台８ａを移動させるかわりに露光台１に移動装置９が取り付けられたものである。
ミラー・レンズ台８ａのかわりに移動装置９によって露光台１を移動させて光ファイバ３への光の照射位置を変化させる以外は図６に示したものと同様にして光ファイバグレーティングを製造することができる。
【００２２】
なお、上述の説明においては、光ファイバ３の側面を４分割し、紫外光の照射方向（光ファイバ３の露光方向）を４方向としたが、光ファイバ３の円周方向の全体に均等に紫外光を照射することができればこれに限定するものではない。
【００２３】
図８は本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示したものである。
この方法においては、光ファイバ３の側面を、光ファイバ３の円周方向において４分割し、この分割した部分のひとつに、一方向（Ｅ方向）から紫外光を照射して１段目の屈折率上昇部３ａを形成し、ついで、光ファイバ３の長さ方向にそって所定のグレーティング周期にしたがって照射位置を移動し、かつ照射方向を９０度回転させて、Ｆ方向から紫外光を照射して２段目の屈折率上昇部を形成する。
さらに同様にして照射位置を移動し、照射方向を９０度回転させたＧ方向に変更して３段目の屈折率上昇部３ａを形成し、さらに同様にしてＨ方向から紫外光を照射して４段目の屈折率上昇部３ａを形成する。
【００２４】
その結果、１段目〜４段目の屈折率上昇部３ａ、３ａ…を形成するにあたって、紫外光は、光ファイバ３の円周を１周して光ファイバ３に照射されたことになり、１段目〜４段目の屈折率上昇部３ａ、３ａ…において生じたそれぞれの光ファイバ３の断面における屈折率の偏りや複屈折は相互にうち消され、ＰＤＬの劣化を防ぐことができる。
この場合は、光ファイバ３に４方向から紫外光を照射して４つの屈折率上昇部３ａを形成する操作を１周期とし、この周期を所定のグレーティング長が得られるまで繰り返して光ファイバグレーティングを製造する。なお、目的を達成することができれば紫外光の照射方向の数はこれに限定するものではない。
この方法には、例えば図６、図７に示した装置が好適である。すなわち、１段目の屈折率上昇部３ａを形成した後、光ファイバ３の長さ方向にそって紫外光の照射位置を移動させるとともに、光ファイバ３を円周方向に所定の角度回転させて紫外光を照射して次の屈折率上昇部３ａを形成する。このような操作を繰り返してグレーティング部を形成することができる。
【００２５】
図９は、本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示したもので、図中符号１０は放物面鏡である。放物面鏡１０は底面に開口する中空ドーム型のもので、その内面が鏡面になっている。この例においては、この放物面鏡１０の頂点に設けられた孔１０ａに光ファイバ３を挿通し、放物面鏡１０の中空部の中心に光ファイバ３を配置する。そして、放物面鏡１０の開口１０ｂ側から紫外光を照射すると、放物面鏡１０内の鏡面において紫外光が反射し、光ファイバ３の円周方向の全体に集光し、ひとつの屈折率上昇部３ａが形成される。
ついで、所定のグレーティング周期にしたがって、光ファイバ３または放物面鏡１０の少なくとも一方を光ファイバ３の長さ方向にそって移動し、同様の操作を繰り返して光ファイバグレーティングを製造する。
【００２６】
この場合は、例えば、放物面鏡１０と、この放物面鏡１０の内面に光を照射する光源と、この放物面鏡１０内に光ファイバ３を配置して保持する保持手段（図示せず）と、前記放物面鏡１０と保持手段の少なくとも一方を前記光ファイバ３の長さ方向に移動させる移動手段（図示せず）から構成した光ファイバグレーティング製造装置を用いて光ファイバグレーティングを製造することができ、保持手段に回転機構を設ける必要はない。
【００２７】
図１０は、本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示したものであり、図１０（ａ）は光ファイバの長手方向に対して垂直な方向から見た図であり、図１０（ｂ）は、図１０（ａ）に示した装置を光ファイバの断面側から見た図である。図１０中、符号１１は凹面反射鏡である。この凹面反射鏡１１は複数配置され、それぞれが同一点上に焦点を有するように配置され、光ファイバと同じ側の面が鏡面である。この例においては、凹面反射鏡１１の焦点位置に光ファイバ３を配置する。そして、凹面反射鏡１１の開口１１ｂ側から紫外光を照射すると、凹面反射鏡１１の鏡面において紫外光が反射し、光ファイバ３の円周に沿った方向から集光し、一つの屈折率上昇部３ａが形成される。なお、本発明の目的を達成することができれば、凹面反射鏡１１を配置する数はこれに限定されるものではない。また、紫外光は光ファイバ３の長手方向に集光されればよく、凹面反射鏡１１は凹面円筒鏡であってもよい。
その後、所定のグレーティング周期に従って、光ファイバ３または凹面反射鏡１１の少なくとも一方を光ファイバ３の長手方向に沿って移動し、同様の操作を繰り返して光ファイバグレーティングを製造する。
【００２８】
この例では、例えば、凹面反射鏡１１と、この凹面反射鏡１１の内面に光を照射するための光源と、この凹面反射鏡１１の焦点位置に光ファイバ３を配置して保持するための保持手段（図示せず）と、前記凹面反射鏡１１と保持手段の少なくとも一方を前記光ファイバ３の長手方向に移動させる移動手段（図示せず）から構成される光ファイバグレーティング製造装置を用いて光ファイバグレーティングを製造することができ、保持手段を回転機構に設ける必要はない。
【００２９】
図１１は、本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示したものであり、図１１（ａ）は光ファイバの長手方向に対して垂直な方向から見た図であり、図１１（ｂ）は、図１１（ａ）に示した装置を光ファイバの断面側から見た図である。図１１中、符号１２は反射鏡であり、符号１３は、凸レンズである。この反射鏡１２と凸レンズ１３は複数配置され、それぞれが同一点上に焦点を有するように配置され、反射鏡１２の光ファイバと同じ側の面が鏡面である。この例においては、凸レンズ１３の焦点位置に光ファイバ３を配置する。そして、反射鏡１２の開口１２ｂ側から紫外光を照射すると、反射鏡１２の鏡面において紫外光が反射し、凸レンズ１３により紫外光が光ファイバ３の円周に沿った方向から集光し、一つの屈折率上昇部３ａが形成される。なお、本発明の目的を達成することができれば、反射鏡１２及び凸レンズ１３を配置する数はこれに限定されるものではない。また、紫外光は光ファイバ３の長手方向に集光されればよく、凸レンズ１３は凸型円筒レンズであってもよい。
その後、所定のグレーティング周期に従って、光ファイバ３または反射鏡１２及び凸レンズ１３の少なくとも一方を光ファイバ３の長手方向に沿って移動し、同様の操作を繰り返して光ファイバグレーティングを製造する。
【００３０】
この例では、例えば、反射鏡１２と、この反射鏡１２の内面に光を照射するための光源と、この反射鏡１２の焦点位置に光ファイバ３を配置して保持するための保持手段（図示せず）と、前記反射鏡１２と保持手段の少なくとも一方を前記光ファイバ３の長手方向に移動させる移動手段（図示せず）から構成される光ファイバグレーティング製造装置を用いて光ファイバグレーティングを製造することができ、保持手段を回転機構に設ける必要はない。
【００３１】
【発明の効果】
以上説明したように本発明においては、光の照射強度に起因する光ファイバの断面の屈折率の分布や、光の偏光によって生じる光ファイバの複屈折を抑制することができるため、製造過程におけるＰＤＬの劣化を防ぐことができる。その結果、ＰＤＬの値が小さく、かつ複数の光ファイバグレーティングを製造した場合にＰＤＬのばらつきが少ない光ファイバグレーティングの製造方法および製造装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  図１（ａ）〜図１（ｄ）は、本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の一例の説明図であって、図１（ａ）は光ファイバの側面に向かって紫外光を照射している状態を示した斜視図、図１（ｂ）は光ファイバの断面における紫外光の照射強度に起因する屈折率の変化を示した説明図、図１（ｃ）は紫外光の偏光を示した説明図、図１（ｄ）は図１（ｃ）に示した偏光によって生じる屈折率の異方性の説明図である。
【図２】  図１（ａ）〜図１（ｄ）に示した方法で製造した光ファイバグレーティングの光学特性の一例を示したグラフである。
【図３】  製造方法の異なる光ファイバグレーティングの光学特性を比較したグラフである。
【図４】  本発明の光ファイバグレーティングの製造装置の一例を示した概略構成図である。
【図５】  本発明の光ファイバグレーティングの製造装置の一例（位相マスク法）を示した概略構成図である。
【図６】  本発明の光ファイバグレーティングの製造装置の一例を示した概略構成図である。
【図７】  本発明の光ファイバグレーティングの製造装置の一例を示した概略構成図である。
【図８】  本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示した説明図である。
【図９】  本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示した説明図である。
【図１０】  本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示した説明図である。
【図１１】  本発明の光ファイバグレーティングの製造方法の他の例を示した説明図である。
【図１２】  図１２（ａ）〜図１２（ｄ）は、従来の光ファイバグレーティングの製造方法の説明図であって、図１２（ａ）は光ファイバの側面に向かって一方向から紫外光を照射している状態を示した斜視図、図１２（ｂ）は光ファイバの断面における紫外光の照射強度に起因する屈折率の変化を示した説明図、図１０（ｃ）は紫外光の偏光を示した説明図、図１２（ｄ）は図１２（ｃ）に示した偏光によって生じる屈折率の異方性の説明図である。
【図１３】  図１２（ａ）〜図１２（ｄ）に示した従来の方法によって製造した光ファイバグレーティングの屈折率変化を示したグラフである。
【図１４】  図１２（ａ）〜図１２（ｄ）に示した従来の製造方法によって製造した光ファイバグレーティングの光学特性の一例を示したグラフである。
【図１５】  図１５（ａ）〜図１５（ｄ）は、光ファイバの側面に対向する２方向から紫外光を照射して光ファイバグレーティングを製造する方法の説明図であって、図１５（ａ）は紫外光の照射方向の説明図、図１５（ｂ）は光ファイバの断面における紫外光の照射強度に起因する屈折率の変化を示した説明図、図１５（ｃ）は紫外光の偏光を示した説明図、図１５（ｄ）は図１５（ｃ）に示した偏光によって生じる屈折率の異方性の説明図である。
【図１６】  図１５（ａ）〜図１５（ｄ）に示した従来の製造方法によって製造した光ファイバグレーティングの光学特性の一例を示したグラフである。
【符号の説明】
１…露光台（保持手段）、２Ａ、２Ｂ…ファイバクランプ（保持手段）、
３…光ファイバ、４…光学測定装置、５…マスク、６…全反射ミラー、
７…レンズ、８ａ…ミラー・レンズ台、８ｂ…移動装置（移動手段）、
９…移動装置（移動手段）、１０…放物面鏡、１１…凹面反射鏡、
１２…反射鏡、１３…凸レンズ。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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