(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下に積層形成した磁気ヘッド素子において、
前記記録用ヘッドは、前記再生用ヘッドの平坦に研磨された上部シールド部上に形成されていること、
前記上部シールド部上に形成された記録用磁気ギャップ上に、第１のアライメントマーカが薄膜形成されていること、
この第１のアライメントマーカは、少なくとも前記記録用磁気ギャップ上での厚膜形成時の位置合わせ用マーカーとして作用する、膜厚方向に角部をもつ立体構造体であること、及び、
この第１のアライメントマーカー上に積層された上部コアの表層に、該第１のアライメントマーカーを型枠とする第２のアライメントマーカが形成されていること、
を特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項２】
請求項１記載の磁気ヘッド素子において、前記第１のアライメントマーカが、前記記録用磁気ギャップ上に形成されるメッキ下地膜を用いて形成されていることを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項３】
請求項１または２記載の磁気ヘッド素子において、前記第１のアライメントマーカは、角部を有する凸状の立体構造体であることを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項４】
請求項１または２記載の磁気ヘッド素子において、前記第１のアライメントマーカは、角部を有する凹状の立体構造体であることを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項５】
請求項１記載の磁気ヘッド素子において、前記第２のアライメントマーカは、前記第１のアライメントマーカの形状に倣った立体構造体であることを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項６】
請求項１記載の磁気ヘッド素子において、前記上部シールド部は、前記記録用ヘッドの下部コアと前記再生用ヘッドの間を磁気シールドする磁気シールド層とを兼ねるものであることを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項７】
請求項１記載の磁気ヘッド素子において、前記上部シールド部は前記記録用ヘッドの下部コアであり、該上部シールド部の下層に、前記再生用ヘッドと前記記録用ヘッドとを磁気シールドする磁気シールド層を設けたことを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項８】
請求項１記載の磁気ヘッド素子において、前記記録用磁気ギャップ上に異なるパターンのアライメントマーカが併設されていることを特徴とする磁気ヘッド素子。
【請求項９】
請求項１ないし８のいずれか１項に記載の磁気ヘッド素子を有することを特徴とする磁気ヘッド。
【請求項１０】
再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下に積層形成した磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記再生用ヘッドの上部シールド部を平坦に研磨する工程と、
前記平坦化された上部シールド部上に前記記録用ヘッドの磁気ギャップを形成する工程と、
前記記録用磁気ギャップ上に書込み用コイルを形成するメッキ下地膜をもって第１のアライメントマーカを形成する工程と、
この第１のアライメントマーカ上に厚膜を積層することにより、該厚膜の表層に該第１のアライメントマーカを型枠とする第２のアライメントマーカを形成する工程と、
を有することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【請求項１１】
請求項１０記載の磁気ヘッド素子の製造方法において、
前記第１のアライメントマーカを凸又は凹状の立体構造体として形成することを特徴とする磁気ヘッド素子の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【技術分野】
本発明は、再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下に積層形成した磁気ヘッド素子及びその製造方法、前記磁気ヘッド素子を用いた磁気ヘッドに関するものである。
【０００２】
【従来技術及びその問題点】
磁気ヘッドには、再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下方向に積層形成した構造のものが在る。
【０００３】
この種の磁気ヘッドは、先ず基板（ウェハ）上に再生用ヘッドを形成し、その工程が終了した段階で前記再生用ヘッドの上層に形成された上部シールド部を化学的機械的研磨法（ＣＭＰ）を用いて平坦化し、その平坦化された前記上部シールド部上に前記記録用ヘッドを形成している。これは、再生用ヘッド上に記録用ヘッドを形成する構造の場合には、再生用ヘッドの上部シールド部の表面の凹凸が記録用ヘッドのコアの凹凸となり、記録用ヘッドの性能を低下（記録ギャップの歪み）となる。そのため、記録用ヘッドの形成前に上部シールド部の上面を平坦化する必要がある。
【０００４】
さらに、この種の磁気ヘッド素子を製造するには、基板（ウェハ）上に磁気ヘッドを構成する構成要素の層を多層に渡って積層する技術を用いて製造するものである。そのため、各層に形成される構成要素間の相対的な位置決めを行う必要があり、各層には位置決め用マーカとして機能するアライメントマーカが設けられる。
【０００５】
このアライメントマーカを形成する方法は種々開発されており、その一例として特願平６−５２８５０号公報には、薄膜磁気ヘッドの基礎をなす基板（ウェハ）にアライメントマーカを形成する方法が開示されている。
【０００６】
特願平６−５２８５０号公報に開示された方法では、再生用ヘッドと記録用ヘッドとをそれぞれ別体の基板（ウェハ）上に個別に形成する場合には適合するものであるが、1枚の基板上に再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下に積層して形成する構造の磁気ヘッドに適用することは不可能である。何故ならば、前記ＣＭＰ研磨を行なった上部シールド部の平坦面上にメッキ膜が形成され、このメッキ膜で前記アライメントマーカが被覆される。このメッキ膜は、不透明な材料であるため、アライメントマーカを透視することができなくなり、そのためアライメントマーカとしての機能を果たさなくなるからである。
【０００７】
これを解決するために、平坦化された後に前記上部シールド部上に記録用磁気ギャップを形成し、その磁気ギャップ上にアライメントマーカを形成することが考えられる。この場合、アライメントマーカとしては特公平４−８８５０号公報に開示されているようにレジスト液が用いられる。
【０００８】
上述した方法では、磁気ヘッド内に組み込まれるレジストと兼用して使用され安定化を図るため、熱を加えた後にＵＶ光照射の処理を行なう。そのため、結果としてレジストからなるアライメントマーカの形状にダレが生じる。このダレ形状のアライメントマーカにメタル膜を形成した場合、浮き彫りとなるメタル膜のアライメントマーカの形状にもダレが生じてしまい、アライメントマーカとして適合しないという問題がある。
【０００９】
これを解決するため、上部コアに開口を設けて下層のメッキ膜を除去することが考えられるが、上部コアが厚膜であるために、上部コアの加工用ミリング法を用いて上部コアに開口部を設けることができないものであり、上部コアに開口を形成するために新たな工程を増加しなければならず、製造工程が複雑になるという問題が生じることとなる。
【００１０】
さらに特公平４−８８５０号公報に開示されているようにレジストをアライメントマーカとして用いた場合、上部コアをベーク処理する際の熱でアライメントマーカが収縮し、その収縮現象により上部コア内にボイド等の欠陥が発生して耐水性を阻害してしまうこととなる。
【００１１】
さらに前記収縮現象によりアライメントマーカの形状が湾曲性を帯びる、いわゆるダレが生じて位置決め精度を低下させてしまうこととなる。このダレが生じたアライメントマーカを型枠として上部コアの表層に新たなアライメントマーカを形成した場合に、アライメントマーカのダレが増幅されてしまい、前記新たなアライメントマーカの位置精度をさらに低下させることとなり、記録用ヘッドをなす上下層の構成要素を正確に位置決めして積層することが不可能となり、ひいては記録用ヘッドの性能を低下させることとなる。
【００１２】
【発明の目的】
本発明の目的は、記録用ヘッドをなす上下層の構成要素を正確に位置決めするためのアライメントマーカをもつ磁気ヘッド素子及びその製造方法、前記磁気ヘッド素子を用いた磁気ヘッドを得ることにある。
【００１３】
【発明の概要】
本発明は、再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下に積層形成した磁気ヘッド素子において、記録用ヘッドは、再生用ヘッドの平坦に研磨された上部シールド部上に形成されていること、上部シールド部上に形成された記録用磁気ギャップ上に、第１のアライメントマーカが薄膜形成されていること、この第１のアライメントマーカは、少なくとも記録用磁気ギャップ上での厚膜形成時の位置合わせ用マーカーとして作用する、膜厚方向に角部をもつ立体構造体であること、及び、この第１のアライメントマーカー上に積層された上部コアの表層に、該第１のアライメントマーカーを型枠とする第２のアライメントマーカが形成されていることを特徴としている。
【００１４】
第１のアライメントマーカは、記録用磁気ギャップ上に形成されるメッキ下地膜を用いて形成されていることが望ましい。
【００１５】
また第１のアライメントマーカは、角部を有する凸状の立体構造体、或いは角部を有する凹状の立体構造体であることが望ましい。
【００１６】
第２のアライメントマーカは、記録用磁気ギャップ上の第１のアライメントマーカの形状に倣った立体構造体であることが望ましい。
【００１７】
上部シールド部は、記録用ヘッドの下部コアと再生用ヘッドの間を磁気シールドする磁気シールド層とを兼ねていてもよい。または、上部シールド部は記録用ヘッドの下部コアであり、該上部シールド部の下層に、再生用ヘッドと記録用ヘッドとを磁気シールドする磁気シールド層を設けたものであってもよい。記録用磁気ギャップ上には、複数の異なるパターンのアライメントマーカを併設することができる。
【００１８】
また本発明は、磁気ヘッドの態様によれば、上記いずれかの磁気ヘッド素子を有することを特徴としている。
【００１９】
さらに本発明は、再生用ヘッドと記録用ヘッドとを上下に積層形成した磁気ヘッド素子の製造方法の態様によれば、再生用ヘッドの上部シールド部を平坦に研磨する工程と、平坦化された上部シールド部上に記録用ヘッドの磁気ギャップを形成する工程と、記録用磁気ギャップ上に書込み用コイルを形成するメッキ下地膜をもって第１のアライメントマーカを形成する工程と、この第１のアライメントマーカ上に厚膜を積層することにより、該厚膜の表層に該第１のアライメントマーカを型枠とする第２のアライメントマーカを形成する工程とを有することを特徴としている。
【００２０】
第１のアライメントマーカは、凸又は凹状の立体構造体として形成することが好ましい。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図示例と共に説明する。
【００２３】
図1は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子を示す分解斜視図である。図２は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子から切出した磁気ヘッドをスライダに装着して、記録媒体にデータの再生及び記録を行う状態を示す図である。図３は、本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子を示す断面図である。
【００２４】
図１、図２及び図３に示す実施形態の磁気ヘッド素子は、再生用ヘッド１と記録用ヘッド２とを上下（膜厚方向）に積層形成した構造のものである。
【００２５】
再生用ヘッド１は、基板（ウェハ）３上に形成された下部シールド膜４と、再生用磁気ギャップ５と、磁区を区画するバイアス膜７と、記録媒体Ｄのトラック方向の両端に前記バイアス膜７が配置されたＭＲ素子６と、前記ＭＲ素子６に生じる抵抗変化をピックアップする電極８と、再生用磁気ギャップ９と、再生用磁気ギャップ９上に形成された上部シールド部１０とを順に積層した構造に構成されている。
【００２６】
そして再生用ヘッド１は、ＭＲ素子６の両端に接続した対をなす電極８、８にピックアップ電流を流しながら電極８、８間の電圧を観測し、電極８、８間の電圧変動としてＭＲ素子６の抵抗値変化を検知し、記録媒体Ｄのトラックに書き込まれた記録データを再生する。ここに、ＭＲ素子６は、記録媒体Ｄに近づいた状態で記録媒体Ｄが移動すると、記録媒体Ｄの磁化方向により抵抗変化が生じるＭＲ効果を備えており、ＭＲ素子６としては、異方性磁気抵抗効果（ＡＭＲ）或いは巨大磁気抵抗効果（ＧＭＲ）をもつ磁気効果素子等が用いられる。
【００２７】
また記録用ヘッド２は、上部シールド部（下部コア）１０と上部コア１６との間に、記録用磁気ギャップ１２と、書込み用コイル１３と、絶縁膜１５とが積層された構造に構成されている。
【００２８】
そして記録用ヘッド２は、書込み用コイル１３に記録用電流を通電することにより、上部シールド部（下部コア）１０と上部コア１６とを磁化して記録媒体Ｄのトラックへのデータ書込みを行う。上部コア１６の先端は、記録媒体Ｄのトラック幅Ｔｗ（図２参照）に合わせて狭い幅に形成され、この狭い幅の部分が磁気記録用の磁気ポール１６ａとして機能する。この磁気ポール１６ａに対応して上部シールド部（下部コア）１０の一部が磁気記録用の磁気ポール１０ａとして機能する。
【００２９】
さらに前記記録用ヘッド２は、前記再生用ヘッド１の平坦に研磨された上部シールド部１０上に形成されている。前記上部シールド部１０上に形成された記録用磁気ギャップ１２上にアライメントマーカ１４が形成されている。
【００３０】
前記アライメントマーカ１４は、基板（ウェハ）上の磁気ヘッド形成領域１７ａから隔離した、磁気ヘッドの構成に影響を与えない隔離領域１７ｂに形成され、少なくとも前記記録用磁気ギャップ１２上での厚膜形成時の位置合わせ用マーカとして作用する、膜厚方向（図１の上下方向）に角部１４ｂをもつ凸状の立体構造体として構成されている。なお、図１の実施形態では、前記厚膜は前記記録用ヘッド２の上部コア１６である。また図１に示す実施形態では、アライメントマーカ１４に、上部コア１６に新たなアライメントマーカ１４ａ（図４参照）を形成する際の型枠として作用させているが、アライメントマーカ１４は記録用磁気ギャップ１２上での厚膜形成時の位置合わせ用マーカとしてのみ作用するものであってもよい。またアライメントマーカ１４は異なるパターンのものが併設されていてもよい。
【００３１】
前記アライメントマーカ１４は、前記記録用磁気ギャップ１２上に隆起した角部１４ｂを備えており、図１に示す実施形態のアライメントマーカ１４は、薄膜で形成している。この実施形態では、アライメントマーカ１４は、前記記録用磁気ギャップ１２上に形成される書込み用コイル１３のメッキ下地膜（図４参照；薄膜）Ｍを用いて段差状に構成して角部１４ｂを備えた構造に形成している。
【００３２】
アライメントマーカ１４には、Ｃｕ（メッキ膜）等の導電性材料が用いられる。また上部コア１６には、ＣｏＺｒＴａ、ＣｏＺｒＮｂ、ＮｉＦｅ等が用いられる。またアライメントマーカ１４は、書込み用コイル１３を形成するためのメッキ下地膜Ｍを使って形成するものであり、５００Å〜１５００Åの膜厚で形成する。また上部コア１６は４μｍ〜５μｍの膜厚で形成する。
【００３３】
以上のように、アライメントマーカ１４は上層の積層膜、例えば上部コア１６に対して薄膜として形成され、角部１４ｂを有するものである。そのため、アライメントマーカ１４上に上部コア１６を積層した場合にも、アライメントマーカ１４の角部１４ｂに接する上部コア１６にダレ等が発生することがなく、鋭利な角部１４ｂ′をもつアライメントマーカ１４ａを上部コア１６に形成することができる。さらにアライメントマーカ１４は薄膜であるから、角部１４ｂを監視して位置きめを行なう場合、アライメントマーカ１４の側面等での光反射等に影響を受けることがない。
【００３４】
図１の実施形態ではアライメントマーカ１４を四角柱の角型形状に形成しているが、これに限定されるものではなく、角部１４ｂをもつ角型形状であれば、いずれのものでもよい。また角部１４ｂをもつ円柱形状のものであってもよい。なお、図１に実施形態ではアライメントマーカ１４は上部コア１６を成膜する際の位置決め用マーカとして用いている。
【００３５】
さらに図４に示すように前記アライメントマーカ１４上に厚膜の上部コア１６を積層形成することにより、上部コア１６の表層に下層のアライメントマーカ１４を型枠とする第２のアライメントマーカ１４ａが凸状に隆起して形成される。
【００３６】
前記第２のアライメントマーカ１４ａは、前記記録用磁気ギャップ１２上の前記アライメントマーカ１４の形状に倣った段差構造を有しており、前記２つのアライメントマーカ１４ａは、膜厚方向に角部１４ｂ′を備えた凸構造になっている。
【００３７】
また図１に示す構造では、前記上部シールド部１０は前記記録用ヘッド２の下部コアをなすものであり、上部シールド部（下部コア）１０上に記録用磁気ギャップ１２を形成したが、この構造に限定されるものではない。すなわち、上部シールド部１０と記録用磁気ギャップ１２との間に磁気シールド層を設け、この磁気シールド層により前記再生用ヘッド１と前記記録用ヘッド２とを磁気シールドする構造にしてもよい。
【００３８】
また上述した磁気ヘッド素子の基板（ウェハ）から隔離領域１７ｂが切離され、磁気ヘッド形成領域１７ａの積層体が磁気ヘッドとして切出される。この磁気ヘッドは図２のスライダ１８に取付けられる。
【００３９】
以上のように前記アライメントマーカ１４は、前記記録用磁気ギャップ１２上での厚膜形成時の位置合わせ用マーカ、及び該厚膜に積層膜を形成する際の位置合わせ用マーカの型枠として作用する、角部１４ｂをもつ立体構造体として構成されているため、この角部１４ｂを位置きめの基準として位置きめを行なうことができ、正確な位置きめを行なうことができる。さらに、アライメントマーカ１４を使って上層のアライメントマーカ１４ａを形成する場合にも、角部１４ｂを使って上層のアライメントマーカ１４ａを正確に形成することができる。また第２のアライメントマーカ１４ａは従来のようにダレが生じることがなく、アライメントマーカ１４ａを確実に認識して上層の積層膜を正確に積層することができ、ひいては磁気ヘッドの性能を向上させることができる。
【００４０】
さらに前記アライメントマーカ１４は、前記記録用磁気ギャップ１２上に形成される書込み用コイル１３のメッキ下地膜（図４参照）Ｍを用いて形成すれば、前記アライメントマーカ１４の形成を、書込み用コイル１３のメッキ下地膜Ｍの形成と同一工程で行うことができ、製造工程の増加を回避することができる。さらにはアライメントマーカ１４がメッキ下地膜Ｍで形成するため、レジストを使用する場合のようにボイド等の欠陥が発生することがなく、かつ耐水性を向上させることができる。さらにアライメントマーカ１４をメッキ下地膜Ｍを用いて形成することにより、レジストを用いた場合と比較して著しくダレ等の発生を防止することができる。さらに、書込み用コイル１３のメッキ下地膜Ｍをミリング加工する際に、アライメントマーカ１４の膜厚方向の角部１４ｂを略直角に形成することができ、位置決めの標識として最適となる。
【００４１】
図１に示す前記アライメントマーカ１４は、角部１４ｂを有する凸状の立体構造体として形成したが、これに限定されるものではない。すなわち、図５に示すようにアライメントマーカ１４は、角部１４ｂを有する凹状の立体構造体として形成してもよい。この場合、記録用磁気ギャップ１２に形成した凹状のアライメントマーカ１４上に上層膜、例えば上部コア１６を積層させると、上部コア１６の表層に、下層のアライメントマーカ１４を型枠として第２のアライメントマーカ１４ａが凹状の立体構造体として浮き彫りに形成される。
【００４２】
図６は、本発明の他の実施形態を示す断面図である。図３及び図６に示すように、記録用磁気ギャップ１２上に書込み用コイル１３が形成されるが、この場合、記録用磁気ギャップ１２上での書込み用コイル１３の位置決めをするためにギャップデイプス用絶縁層１８ａが形成される。そして、ギャップデイプス用絶縁層１８ａが形成された後に、書込み用コイル１３が形成される。本発明では、書込み用コイル１３のメッキ下地膜Ｍ（図４参照）を使ってアライメントマーカ１４を形成するものである。
【００４３】
書込み用コイル１３を形成するにあたっては、先ずギャップデイプス用絶縁層１８ａの位置決め用のアライメントマーカ２０が磁気ギャップ１２上に形成される。そして、このアライメントマーカ２０を使って磁気ギャップ１２上にギャップデイプス用絶縁層１８ａが形成される。このアライメントマーカ２０は、レジストを使用して形成されたアライメントマーカであり、ＵＶ照射されて残るレジストである。このため、アライメントマーカ２０の端部にはダレが生じる。したがって、このダレが生じたアライメントマーカ２０上に、本発明におけるアライメントマーカ１４を形成することには問題がある。そこで、この実施形態では図６に示すように、記録用磁気ギャップ１２上に異なるパターンのアライメントマーカ１４、２０を併設している。すなわち、レジストからなるアライメントマーカ２０の位置を避け、書込み用コイル１３を形成するためのメッキ下地膜Ｍを使ってアライメントマーカ１４を磁気ギャップ１２上に形成する。
【００４４】
次に図４を用いて実施形態に係る磁気ヘッド素子の製造方法を工程順に説明する。
【００４５】
図４は、既に再生用ヘッド１が形成された状態から記録用ヘッド２を製造する工程を示すものである。先ず図４（ａ）に示すように、前記再生用ヘッド１の上部シールド部１０の上面を化学的機械的研磨法（ＣＭＰ）を用いて平坦に研磨する。
【００４６】
次に図４（ｂ）に示すように、前記平坦化された上部シールド部１０上に記録用ヘッド２の磁気ギャップ１２を形成する。
【００４７】
引続いて図４（ｂ）に示すように、記録用磁気ギャップ１２上に書込み用コイルを形成するメッキ下地膜（薄膜）Ｍを形成する。
【００４８】
次に図４（ｃ）に示すように、基板（ウェハ）の磁気ヘッド形成領域１７ａと隔離領域１７ｂとのメッキ下地膜Ｍ上にパターニング用の図示しないマスクを形成し、イオン照射によるミリング加工を行う。
【００４９】
この工程では、磁気ヘッド形成領域１７ａ内のメッキ下地膜Ｍは書込み用コイル１３の形状にミリング加工する。また隔離領域１７ｂ内のメッキ下地膜Ｍは角型（或いは円柱）のアライメントマーカ１４の形状にミリング加工する。
【００５０】
前記アライメントマーカ１４は、角型形状にミリング加工されることにより、複数の平面を立体的に組合せた立体構造体として形成され、膜厚方向（図４の上下方向）に角部１４ｂをもつこととなる。
【００５１】
さらに図４（ｄ）に示すように、所定の形状にパターニングされたアライメントマーカ１４上に上部コア１６を形成する。上部コア１６を積層する際に上部コア１６の表層には、アライメントマーカ１４を型枠としてアライメントマーカ１４ａが新たに隆起して形成される。このアライメントマーカ１４ａは上部コア１６上に積層形成される上層の積層パターン、例えばバンプパターン、パッドパターンを積層形成する際の位置決め用マーカとして用いられる。
【００５２】
以上のように前記アライメントマーカ１４は、書込み用コイル１３のメッキ下地膜（薄膜）Ｍをミリング加工してアライメントマーカとして形成されるため、アライメントマーカ１４は膜厚方向に角部１４ｂをもつ立体構造体として構成され、従来のようにダレが生じることがなく、アライメントマーカ１４を確実に認識して位置決めを正確に行うことができ、ひいては磁気ヘッド素子の性能を向上させることができる。
【００５３】
さらに前記アライメントマーカ１４を、前記記録用磁気ギャップ１２上に書込み用コイル１３のメッキ下地膜（薄膜）Ｍを利用して形成することにより、このメッキ下地膜Ｍの形成と同一工程で行うことができ、製造工程の増加を回避することができる。さらにはアライメントマーカ１４がベーク処理の影響を受けることがなく、従来のようにボイド等が発生することがなく、耐水性を向上させることができる。
【００５４】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、記録用ヘッドをなす上下層の構成要素を正確に位置決めするためのアライメントマーカを形成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子を示す分解斜視図である。
【図２】本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子から切出した磁気ヘッドをスライダに装着して、記録媒体にデータの再生及び記録を行う状態を示す図である。
【図３】本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子を示す断面図である。
【図４】本発明の実施形態に係る磁気ヘッド素子の製造方法を工程順に示す断面図である。
【図５】アライメントマーカの他の例を示す断面図である。
【図６】アライメントマーカの他の例を示す断面図である。
【符号の説明】
１  再生用ヘッド
２  記録用ヘッド
１０  上部シールド部
１２  記録用磁気ギャップ
１４  １４ａ  アライメントマーカ
１４ｂ  １４ｂ′  角部
Ｍ  メッキ下地膜
【図１】
0003930266.tif 000002
【図２】
0003930266.tif 000003
【図３】
0003930266.tif 000004
【図４】
0003930266.tif 000005
【図５】
0003930266.tif 000006
【図６】
0003930266.tif 000007