(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１、第２および第３強磁性体層の積層を有する磁気センサであって、第１および第２非磁性導電材料層によってそれぞれ第１層および第３層から分離され、かつ外部磁界によって磁化が変化する軟質磁性材料から作られる第２層を有する磁気抵抗と、磁気抵抗を横切る方向に測定電流を供給するための手段とを備え、第１層および第３層の一方が捕捉方向に捕捉磁化を有し、一方、他の層が磁気抵抗を横切る測定電流により配向する磁化を有し、測定電流が供給されるときに第１および第３の強磁性体層が平行な磁化となるように電流が流れる方向及び捕捉方向が設定されていることを特徴とする磁気センサ。
【請求項２】
外部磁界が無い場合には第２層が測定方向に対して本質的に垂直の磁化を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気センサ。
【請求項３】
非磁性材料が銅、銀および金の中から選択されることを特徴とする請求項１に記載の磁気センサ。
【請求項４】
非磁性材料層が厚さ１〜５ｎｍの範囲にあることを特徴とする請求項１に記載の磁気センサ。
【請求項５】
捕捉磁化を有する層が異方性希土類を含むコバルトと鉄とを基材とする高飽和保磁力合金から作られることを特徴とする請求項１に記載の磁気センサ。
【請求項６】
積層が、補足磁化を有する層に接触して該層の磁化を遮断する反強磁性体層を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気センサ。
【請求項７】
積層が、各強磁性層と隣接する各非磁性層との間にそれぞれコバルト含有材料から作られる分離層を有することを特徴とする請求項１に記載の磁気センサ。
【請求項８】
分離層が０≦ｘ≦０．３の合金Ｃｏ(1-x) Ｆｅx であることを特徴とする請求項７に記載の磁気センサ。
【請求項９】
磁気抵抗を横切る電流により配向する磁化を有する第１強磁性体層と、導電性非磁性体層と、第２軟質強磁性体層と、第２導電性非磁性体層と、捕捉磁化を有する第３強磁性体層とを基板上に連続的に蒸着することにより積層を得るとともに、磁化容易軸を提供するために第２軟質強磁性体層の蒸着中に測定方向に対して本質的に垂直に磁界を印加することを特徴とする請求項１に記載の磁気センサの製造工程。
【請求項１０】
各層が陰極スパッタリングによって蒸着されることを特徴とする請求項９に記載の工程。
【請求項１１】
第３強磁性層上にＦｅ50Ｍｎ50反強磁性合金層の蒸着を行ない、積層を反強磁性層のネール温度を越える温度に加熱し、測定方向に対し平行に磁界を印加することによって冷却することを特徴とする請求項９に記載の工程。
【請求項１２】
基板への第１強磁性体層の蒸着に先立って、タンタル層が基板上に成形されることを特徴とする請求項９に記載の工程。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
概して本発明は、磁束または磁界検出器、より詳しくは、たとえば磁気支持体に記録される読取情報に使用するタイプの磁気抵抗センサに関する。マイクロエレクトロニクスの方法を使用しながら薄層または成形フィルムに製造される本発明に記載の磁気抵抗センサは、特に数Ａ／ｍから数１０００Ａ／ｍまでの磁界の測定に適している。また、本発明は導体近傍における有効磁界から前記導体に流れる電流の決定と、磁気抵抗コンパスの製造または種々のポジションセンサの製造に使用することができる。
【０００２】
【従来の技術】
弱磁界の検出と、特に磁気支持体に記録される読取情報のために使用される磁気抵抗センサの操作は、磁気抵抗の自発異方性効果として公知の効果に基づくものであることが知られている。ニッケル、コバルトおよび鉄、さらにその合金のような強磁性遷移金属に生ずる前記効果は、磁気抵抗要素に流れる測定電流の方向と材料の磁化方向との間の角度の関数として磁性材料の抵抗率の変化から成る。前記効果のより詳しい説明に関しては、Ｄ．Ａ．Ｔｈｏｍｐｓｏｎ他、ＩＥＥＥ「Ｔｒａｎｓ．Ｍａｇ．Ｍａｇ−ＩＩ」、１０３９頁、１９７５年を参考にすることができる。磁性材料の抵抗率Δρ／ρの相対的な変化は、固体強磁性遷移金属において磁界が約１０００Ａ／ｍの場合、周囲温度において４〜５％に達することがある。しかし、この大きさは、前記同材料が厚さ約１５〜３０ｎｍの成形フィルムに蒸着されるとき、１〜２％に低減される。この厚さの範囲は、マイクロエレクトロニクス素子の製造手順に従って製造される現行の磁気抵抗センサに使用されている。したがって、前記センサの感度は限られている。同様に該センサの応答は、電流の方向と磁化方向との間の角度の余弦の二乗に比例して抵抗率が変化する事実の結果として非線形になる。
【０００３】
磁気センサに使用されるその他の効果は「巨大磁気抵抗効果」または「スピンバルブ効果」の名称のもとに知られている。この効果は、強磁性遷移金属層と非磁性金属層の交替によって形成される多層構造の中で発生し、かつ測定される外部磁界の影響下で連続した強磁性層の相対的な磁化配向性における変化に関連している。この効果は構造体の抵抗率の変化をもたらす。ＩＥＥＥ「Ｔｒａｎｓｌａｔｉｏｎ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｎ  ｍａｇｎｅｔｉｃｓ  ｉｎ  Ｊａｐａｎ」、第７巻第９号、１９９２年９月、多層磁気抵抗」Ｈ．ＹａｍａｍｏｔｏおよびＴ．Ｓｈｉｎｊｏ著  ６７４〜６８４頁、並びにＢ．Ｄｉｅｎｙ「磁性体・磁性材料ジャーナル」（Ｊｏｕｒｎａｌ  ｏｆ  Ｍａｇｎｅｔｉｓｍ  ａｎｄ  Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｍａｔｅｒｉａｌｓ）第１３６号、１９９４年  ３３５〜３５９頁には、この現象をより詳しく説明している。
【０００４】
同様に米国特許第４９４９０３９号明細書には、極く一般的な方法で磁界センサを生産するためのこの磁気抵抗効果の適用を記載している。また、磁性材料および非磁性材料として使用される材料は、電子のスピンに依存する該電子の拡散が磁性材料と非磁性材料との間の境界面で発生するように選択する必要のあることが述べられている。
【０００５】
「Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｒｅｖｉｅｗ  Ｂ」第４３巻第１号、１９９１年１月１日「軟質強磁性多層内の巨大磁気抵抗」（Ｇｉａｎｔ  ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ  ｉｎ  ｓｏｆｔ  ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒｓ）  Ｂ．Ｄｉｅｎｙ他著、１２９７〜１３００頁は、次のような整然としたスピンバルブ構造を記述している。すなわち、シリコン基板、第１ＮｉＦｅ強磁性層、銅非磁性層、第２ＮｉＦｅ強磁性層およびＦｅＭｎ反強磁性層である。このスピンバルブ構造は、一貫して本質的に、非磁性金属によって磁気的に結合かつ分離されていない２つの強磁性層を含む。
【０００６】
第１磁性層の磁化は「自由」磁性層と呼ばれるが、これは適用される磁界の流れに対して自由であるのに対し、第２層の磁化は、反強磁性層との異方性交換により捕捉される。したがって、適用磁界が変化するとき、２つの磁性層の磁化の相対的方向が変化する。これは同様に構造の抵抗変化をもたらし、適用磁界が１０００Ａ／ｍ未満のとき周囲温度において数パーセントにすることができる。
【０００７】
約４％の電気抵抗変動の低い値は、約１０7 Ａ／ｃｍ2 の値に達する測定電流によって作られる磁界効果のもとで「自由」層の磁化の自己バイアスまたは自動分極のために、測定電流がスピンバルブ構造を横切る時さらに低減される。
【０００８】
したがって、このタイプの構造では高感度の測定を実施することはできない。
【０００９】
「Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｒｅｖｉｅｗ  Ｂ」第４３巻第１号、１９９１年１月１日「軟質強磁性多層内の巨大磁気抵抗」（Ｇｉａｎｔ  ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ  ｉｎ  ｓｏｆｔ  ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒｓ）  Ｂ．Ｄｉｅｎｙ他著、１２９７〜１３００頁により、被測定磁界は「自由」磁性層の磁化容易軸に対して平行に加えられ、前記軸は第２磁性層の捕捉方向と自体平行に存在する。これは事実上、構造体の抵抗の「階段状」の応答をもたらす。
【００１０】
米国特許第５２８７２３８号は、同じくスピンバルブ効果を利用した磁気抵抗センサに関するが、これは二重スピンバルブ構造である。この構造体は非磁性金属によって他の１つから分離されている３つの磁性層を含む。２つの外部強磁性層の磁化は、それぞれ組込まれる隣接する反強磁性体層との異方性交換により他の１つに固定かつ平行に保持される。中心磁性層は軟質磁性材料から成形され、該中心磁性層の磁化は、適用磁界が無いとき、２つの外層の層に対して本質的に垂直に配向される。この構造体は、単スピンバルブよりも高い振幅をもつ磁気抵抗効果を提供する。しかし、第１磁性層の磁化の異方性交換により捕捉することは困難である。
【００１１】
「Ｐｈｙｓｉｃａｌ  ｒｅｖｉｅｗ  Ｂ」第４３巻第１号、１９９１年１月１日「軟質強磁性多層内の巨大磁気抵抗」（Ｇｉａｎｔ  ｍａｇｎｅｔｏ−ｒｅｓｉｓｔａｎｃｅ  ｉｎ  ｓｏｆｔ  ｆｅｒｒｏｍａｇｎｅｔｉｃ  ｍｕｌｔｉｌａｙｅｒｓ）  Ｂ．Ｄｉｅｎｙ他著、１２９７〜１３００頁に使用されている反強磁性体は、その異方性交換特性が良好なためにＦｅＭｎ合金である。この特性は、ＦｅＭｎがその立方晶層に中心面（ｃｆｃ）を有する場合にのみ発生する。したがって、ＦｅＭｎ層にこの特性を与えるためにＮｉＦｅ下層を準備する必要があり、二重スピンバルブの第１強磁性層の良好な捕捉が得られる。この結果、ＦｅＭｎ層を該層のｃｆｃ結晶層の中に獲得する必要があり、このような構造の生産を複雑にしている。更に、測定電流の一部はＮｉＦｅ下層に誘導されるが、これは磁気抵抗効果に寄与せずに、磁界効果のもとで抵抗変化の振幅が低減される。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、前述の欠点を受けず、適用する外部磁界効果のもとで高い抵抗変化を有する良好な感度をもち、スピンバルブ構造の強磁性層内の測定電流によって作られる自己バイアス現象の不利な効果を克服することができ、単純な構造を有する磁気抵抗と、極めて安定した磁気センサを提供することを目的とする。
【００１６】
【問題を解決するための手段】
前述の目的を達成するために、本発明は、第１、第２および第３強磁性体層の積層を有する磁気センサであって、第１および第２非磁性導電材料層によってそれぞれ第１層および第３層から分離され、かつ外部磁界によって磁化が変化する軟質磁性材料から作られる第２層を有する磁気抵抗と、磁気抵抗を横切る方向に測定電流を供給するための手段とを備え、第１層および第３層の一方が捕捉方向に捕捉磁化を有し、一方、他の層が磁気抵抗を横切る測定電流により配向する磁化を有し、測定電流が供給されるときに第１および第３の強磁性体層が平行な磁化となるように電流が流れる方向及び捕捉方向が設定されていることを特徴とする。
【００１７】
用語「捕捉磁化」とは、測定されるべき磁界の全範囲にわたり実質的に一定に残留する磁化を意味する。
【００１８】
ここに提議する構造は、２つの磁性層のみを有するスピンバルブ構造よりも顕著に大きな磁気抵抗振幅を提供する。２つの磁性層の代わりに３つの磁性層が存在する結果として、磁気抵抗の振幅は単スピンバルブ構造よりも５０〜１００％高くなる。さらに、前記構造中の第２自由磁性層は、多層磁気抵抗を通って流れる電流層のほぼ中心にある。したがって、測定電流によって作られる分極磁界は前記層のところで実質上ゼロになり、この結果、高い電流密度の中で同様に高い保磁率をもつことができる。
【００１９】
さらに、この構造体は、米国特許第５２８７２３８号明細書に記載された二重スピンバルブ構造と比較して、外部磁性材料層の１つを捕捉するために必要なＮｉＦｅ下層と第１ＦｅＭｎ層の蒸着を避けている。これは製造を容易にする。同様に、ＮｉＦｅとＦｅＭｎ下層との除去は、磁気抵抗効果に参与しない前記２つの下層内の電流誘導を除去するためにより大きな磁気抵抗効果の振幅を可能にする。
【００２０】
本発明の態様の一つに従って、外部磁界が無い場合の第２層は、測定される磁界において磁気抵抗のより線形性の応答の達成を可能にする測定方向に対して実質的に垂直の磁化をもつことができる。
【００２１】
第１および第３強磁性層の１つの捕捉磁化は、最大保持力を与え、それにより所望の方向に前記層の磁化の「遮断」を可能にする異方性希土類を含むコバルトと鉄を基材とする合金から前記層を作ることにより達成することができる。
【００２２】
別の可能性は、強磁性層と接触して反強磁性体層を設けることであり、異方性交換により該強磁性層の磁化の遮断を行う。
【００２３】
本発明の別の態様にしたがって、積層は同様に各強磁性層と隣接する各非磁性層との間にそれぞれコバルト含有材料から作られる分離層または空隙層を有することもできる。コバルトまたは多量にコバルトを含む合金の前記層は、磁気抵抗効果のさらなる改良を可能にする。
【００２５】
本発明の磁気センサは、磁気抵抗を横切る電流により配向する磁化を有する第１強磁性体層と、非磁性導電材料層と、第２軟質強磁性体層と、第２非磁性導電材料層と、捕捉磁化を有する第３強磁性体層とを基板上に順次蒸着することにより積層を得るとともに、磁化容易軸を提供するための第２軟質強磁性体層の蒸着中の測定方向に対して本質的に垂直に磁界を印加する工程にしたがって製造することができる。
【００２６】
その他の特徴および利点は、添付図面を参照しながらこれのみに限定しない以下の実施態様の説明から推測することができる。
【００２７】
【発明の実施の形態】
図１に示したように、磁気抵抗の多層構造は、本質的に複数の原子面と約数１０ナノメータとの間の厚さを有する強磁性遷移金属（鉄、コバルト、ニッケルまたはこれらの合金）を基材とした３つの層１０、２０および３０を含む。前記３つの磁性層は、２つの非磁性良導金属層１５、２５によって分離され、前記金属層の厚さは前記分離層を横切り弱結合される磁性層の磁化に適さなければならないが、非磁性金属を通過する電子の自由平均通路をはるかに下回る。前述の２つの条件に対応する厚さの範囲は約１〜５ｎｍまで延びる。
【００２８】
一方で層１０および２０と、他方で層２０および３０との間にそれぞれ配設される層１５および２５は、銅、銀または金から成ることが好ましい。しかし、この選択は、たとえばアルミニウムまたはプラチナのような他の良導金属を除外するものではない。
【００２９】
この場合において前記効果は、層１０、２０および３０が他の１つの層に対して平行の磁化を有する状態に対応するいわゆる平行状態から、層１０および３０の磁化が平行であるが、層２０の磁化が層１０および３０の磁化に対して本質的に逆のいわゆる逆平行状態に各層の配向性が変化するとき、重要な抵抗率の変化をもたらす。
【００３０】
層３０の磁化は、たとえば被測定磁界または測定磁界に対して平行の方向に遮断されながら捕捉される。捕捉は反強磁性層４０による異方性交換効果によって保証される。層４０は、層３０上に蒸着される反強磁性ＦｅＭｎ層またはフェリ磁性ＴｂＣｏ層である。層３０の磁気捕捉は同様に以下に記述する他の手段によっても得ることができる。
【００３１】
層２０は、軟質磁性材料層であり、その磁化方向は、磁気抵抗に印加される被測定磁界によって容易に修正することができる。これは、たとえば組成Ｎｉ80Ｆｅ20のパーマロイ層である。
【００３２】
本発明の磁気抵抗を含むセンサの線形応答を得るために、層２０の磁化は、磁気抵抗に印加される外部磁界がゼロのとき、測定方向に対して整列し本質的に垂直であることが好ましい。層２０の磁化の前記の好ましい自発配向方向は、層２０の磁化容易軸が磁気抵抗の最大長手方向に対して平行のところで磁気抵抗の形状異方性効果から生じさせることができる。用語「磁化容易軸」は、ゼロ磁界における材料の磁化の自発配向方向に対応する軸である。
【００３３】
以下に記述するように、好ましい方向は同様に層２０の形成中に付与することもできる。
【００３４】
ニッケル、鉄および好ましくはコバルトを基材とする合金から作られる層１０は、磁気抵抗内に流れる電流が無いときには捕捉されない磁化を有する。しかし、電流（ここでは測定電流）が磁気抵抗を通して流れるとき、層１０の磁化は、磁気抵抗内の電流によって作られる磁界効果にもとづき、層３０の磁化に対して本質的に平行の方向に配向される。図１の矢印１、２および３は、それぞれ適用外部磁界が無い場合と、測定電流Ｊがある場合における層１０、２０および３０の磁石の配向性を示す。矢印２′は、測定される磁界Ｈがある場合の層２０の磁化を示す。
【００３５】
矢印１は、測定電流Ｋの効果にもとづく層１０の分極を示す。この効果は、図２でより良く理解できるが、ここでは長方形１００が、該長方形の最大長手方向と開始端に対して垂直に、すなわち測定電流Ｊに対して垂直に多層磁気抵抗の横断面を表す。長方形１００は同様に磁気抵抗を通過する測定電流Ｊの均質層を表す。
【００３６】
測定電流Ｊが、５・１０6 〜５・１０7 Ａ／ｃｍ2 の典型的な電流密度ｊで磁気抵抗を通って流れるとき、前記電流は、測定に望ましい磁界Ｈの強度のオーダと良好に比較することができるセンサ内の磁界Ｂを生じさせる。したがって、電流密度が多層構造全体の厚さを越える均質層１００を形成する仕方で材料（＝Ｊ）内で均質であると仮定すると、磁界は縦行面Ｐにおいて、すなわち、外部表面に対して平行の面と、多層構造の厚さの半分に位置する面および磁気抵抗の外部側面１００ａおよび１００ｂ上で該面の最大値に達するために前記縦行面Ｐから離れて移動しながら直線的に増加する面においてゼロとなる。アンペアの積分法則を用いると、
【００３７】
【数１】
0003949745.tif 000002
【００３８】
は、ｚ（ｚ＝０縦行面に対応）において電流層によって作られる磁界がＨ（ｚ）＝ｊｚとして変化することを示している。たとえば、ｊ＝２・１０7 Ａ／ｃｍ2 の時、Ｈ（ｚ）＝０．２ｚであり、ｚは単位ｋＡ／ｍにおけるＨ（ｚ）で、ナノメータで表わされる。したがって、多層系の全厚さがｅ＝２０ｎｍのとき、表面１００ａまたは１００ｂにおける磁界は、
【００３９】
【数２】
0003949745.tif 000003
【００４０】
であり、測定される１〜ｋＡ／ｍの磁界と比較することができる。
【００４１】
図２に暗示した位置にある層２０が、磁気抵抗を通して流れる電流Ｊの層の中心付近にあるとき、前記中心磁性層上の測定電流によって作られる磁界は、測定に望ましい磁界と比較してゼロまたは微弱になる。したがって、中心層２０の磁化は測定される適用外部磁界の変化に容易に従うことができる。
【００４２】
しかし、表面１００ｂに接する層１０上に、測定電流によって生成する強い磁界がある。この磁界は、前記層の磁化に作用し、かつ測定方向に対して本質的に平行の方向に配向する。
【００４３】
しかし、通常の測定電流の値に関しては、自発分極磁界（Ｈ）が、捕捉層３０の磁化方向に影響を及ぼすにはあまりに低すぎる。
【００４４】
電流の流れは層３０の磁化方向または初期捕捉方向に選択することができるため、この結果、層１０および３０の磁化は、たとえば約２・１０7 Ａ／ｍ2 の測定電流がある場合と外部磁界が無い場合においては実質的に平行である。
【００４５】
図３は、測定される磁界の関数としての磁気抵抗の端子電圧の変化を示す。端子７０、７２は、たとえば図４または図５に見ることができる。磁界Ｈが約１ｋＡ／ｍのとき、３つの磁性層１０、２０、３０の磁化は平行である。したがって、磁気抵抗の抵抗率は最小となり、これが最少端子電圧Ｖmin をもたらす。磁界Ｈが約−１ｋＡ／ｍのとき、層２０の磁化は、本質的に他の層に対して平行に残留する層１０および３０の磁化に対して逆になる。磁界Ｈの値が増加するとき、抵抗率は数パーセント減少し、これが同様に約１ｍＶの電圧低減をもたらす。２つの電圧限度値Ｖmax とＶmin との間の電圧変化は本質的に線形である。ゼロ磁界と比較したときの若干の非対称性は、層１５および２０の非磁性金属を通して層２０と層１０および３０との間の電磁結合が残留するときに存在することがある。前述のような電磁結合は磁性体の厚さが薄い場合に存在することが知られている。しかし、層１５および２５の材料と、実質的には低温で蒸着される銅および銀、さらに金により、前記結合は２ｎｍを越える前記層の厚さとともに急激に減少する。
【００４６】
図４および図５は、２つの変更態様を使用した本発明の磁気抵抗の構造の細部を示す。これらの図は、同様に本発明の磁気抵抗の生産工程における層の形成順序の一例を示す。
【００４７】
同一要素または同類要素は、図面に対応する符号で表す。
【００４８】
図４の例において、磁気抵抗はシリコン基板６の上に形成される。この基板から出発し、順々に各層の符号、特性および厚さを表１に例示した方法で示す。
【００４９】
【表１】
0003949745.tif 000004
【００５０】
磁気抵抗の各層は、たとえば陰極スパッタリングによって成形することができる。
【００５１】
層１５と２５を構成するために銀が使用されるとき、前記層の良好な構造を得るためには、基板を液体窒素で冷却することが好ましい。符号は、たとえばフランス特許第２６９８９６５号との関連でつけることができる。すでに述べたように、層１５と２５は、同様に基板の冷却が不用な銅または金から作ることができる。しかし、これらの材料は、加熱後徐冷操作中に銀ほど良好な熱的安定性を示さない。
【００５２】
本発明に従えば、層２０の蒸着中に測定方向に対して本質的に垂直の磁界が印加される。この約８００〜８０００Ａ／ｍ（１０〜１００Ｏｅ）の磁界は、「中心」層２０内の磁化容易軸の誘導を可能にする。
【００５３】
図４に示したように、磁気抵抗は同様に細長形状、たとえば棒の長さが前記磁化容易軸に対して平行となるのが好ましい棒形状を有する。したがって、形状異方性効果は、同様に磁性層２０の磁化容易軸に沿って前記磁性層の配向性に寄与する。図４または図５の例において、測定電流は棒の最大長手方向に沿って流れる。
【００５４】
層３０の磁化は、所望の捕捉方向、すなわち測定方向に対して本質的に平行に磁界を印加して構造体を冷却することに続いて、Ｆｅ50Ｍｎ50層４１のネール温度直上の温度、即ち約２００℃、に構造体を加熱することにより層２０の磁化容易軸に対して垂直に配向および捕捉することができる。ネール温度は、反強磁性体のスピンが逆平行配置にされる温度より下の温度であることを指摘できる。特に、米国特許出願第６２５３４３号は参考として言及しておくことにする。
【００５５】
図５に対応する本発明の変更態様に従うと、磁気抵抗は反強磁性層４０をもたない。この層４０を除くことにより、磁気抵抗の構造は結果的に図４の構造に類似する。しかし、図４の層３０に対応する層３０′は、磁化が約１０ｋＡ／ｍを下回るあらゆる外部磁界の影響を受けない高保磁体層である。層３０′は、たとえば、サマリウム、ネオジム、テルビウムおよびジスプロシウムの中から選択された異方性希土類を添加した鉄およびコバルト合金である。
【００５６】
層の有無を選択できる層１１、１６、２１および２６は、本発明の改良の範囲に含まれる。厚さ０．２〜１ｎｍの０≦ｘ≦０．３のコバルトまたはＣｏ1-x Ｆｅx 合金の前記各層は、層２０の飽和磁界またはヒステリシスを増大しないで巨大磁気抵抗効果の振幅を顕著に増大させることを可能にする。
【００５７】
本発明による別の改良は、Ｃｏ70Ｆｅ30のようなコバルトまたはコバルトに富む合金によって層１０および３０の材料を置換することを含む。しかし、層２０はなお軟質磁性材料である。
【００５８】
前述のような磁気抵抗は、磁気抵抗センサの製造に使用することができる。図４に図示した結合７０、７２の場合においては、これらは長手方向に考慮された磁気抵抗端に配置することができる。前記結合は、図示していない測定回路の各結合の接続を可能にする。
【００５９】
約２・１０7 Ａ／ｃｍ2 の測定電流は、層２０の磁化に対して本質的に垂直に層１０の磁化を配向させるために適した約１６００Ａ／ｍ（２０Ｏｅ）の磁界を層１０に作ることを可能にする。この後、センサ内の測定電流の方向は、層１０および３０の磁化が平行となるように選択される。
【００６０】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、適用する外部磁界効果のもとで高い抵抗変化を有する良好な感度を持ち、磁気抵抗の操作が、スピンバルブ構造の強磁性層内の測定電流によって作られる自己バイアス現象の不利な効果を克服し、極めて安定した磁気抵抗センサを提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の磁気抵抗の主機能層の分解図。
【図２】磁気抵抗内の測定電流によって作られる磁界の図解表示。
【図３】測定される磁界の関数としての本発明の磁気抵抗の端子電圧変化を示す特性曲線。
【図４】本発明の磁気抵抗の図解磁区。
【図５】図４と比較した変化様態を示す本発明の磁気抵抗の図解磁区。
【符号の説明】
１５、２５  非磁性体層
１０、２０、３０  強磁性体層
【図１】
0003949745.tif 000005
【図２】
0003949745.tif 000006
【図３】
0003949745.tif 000007
【図４】
0003949745.tif 000008
【図５】
0003949745.tif 000009