(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
フッ素樹脂絶縁層を備えるプリプレグをそれぞれ複数積層して形成された複数のコア材が、接着用フィルムを介して相互に積層された多層回路基板であって、各コア材を厚さ方向に貫通するビアホールに充填された導電材の先端にコア材表面からの高さが接着用フィルムの厚さ寸法よりも大きく突出させてテーパ状に形成された膨出部が設けられ、導電材の端面が、接着用フィルムに予め形成された貫通穴を通して対面するコア材表面の接続用電極面に密着すると共に、上記貫通穴の内周が導電材の先端側外周に隙間なく密着した状態に形成されており、貫通穴の穴径をＤ、ビアホールの穴径をｄとするとき、０．５＜Ｄ／ｄ＜１．０であることを特徴とする多層回路基板。
【請求項２】
上記接着用フィルムがフッ素樹脂から成ることを特徴とする請求項１の多層回路基板。
【請求項３】
上記プリプレグにおけるフッ素樹脂中に誘電率６以上の無機フィラーが分散されていることを特徴とする請求項１又は２の多層回路基板。
【請求項４】
フッ素樹脂よりも熱伝導率が大きな材質特性を有するセラミック材料が含まれた熱伝導層がさらに積層されていることを特徴とする請求項１、２又は３の多層回路基板。
【請求項５】
フッ素樹脂絶縁層を備えるプリプレグをそれぞれ複数積層して複数のコア材を作製し、これらコア材を、接着用フィルムを介して相互に積層し加熱圧着して一体化する多層回路基板の製造法であって、コア材を厚さ方向に貫通するビアホールに導電材を充填すると共に導電材の先端にコア材表面からの高さが接着用フィルムの厚さ寸法よりも大きく突出させてテーパ状に形成する膨出部を設ける一方、接着用フィルムにおける各ビアホールに対応する箇所に貫通穴を形成し、貫通穴の穴径をＤ、ビアホールの穴径をｄとするとき、０．５＜Ｄ／ｄ＜１．０として、貫通穴に導電材の膨出部を挿入させて各コア材を積層し加熱圧着することを特徴とする多層回路基板の製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フッ素樹脂絶縁層を備えるプリプレグを用いて製造される多層回路基板およびその製造法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
上記のようにフッ素樹脂を用いて製造された回路基板は、誘電率や誘電正接が小さいために、高周波用基板や超高速コンピュータ用基板等として使用されている。このような回路基板の製造法の一例が特開平7-323501号公報に記載されている。その製造法においては、図４（ａ）に示すように、まずガラスクロス基材４１に例えばＰＴＦＥ等のフッ素樹脂４２を含浸保持させてプリプレグ４３を作製し、このプリプレグ４３を、同図（ｂ）に示すように複数枚重ね合わせ、さらに少なくとも片面に銅箔等の金属箔４４を重ねて加熱圧着することによってコア材４５が作製される。その後、金属箔４４が所定の配線パターンにエッチングされて、金属配線層が形成されている。
【０００３】
なお上下両面に金属箔４４が設けられる場合には、さらに厚さ方向に貫通するビアホール（図示せず）が穿設され、このビアホールに例えば銀ペーストなどの導電材を充填して、上下の金属配線層を相互に導通させるようになっている。
【０００４】
さらに、上記のようなコア材４５を複数積層して多層回路基板を作製する場合には、図５に示すように、各コア材４５間に接着用フィルム４６を介装して加熱圧着し、一体化する方法が上記公報に開示されている。このときの接着用フィルム４６は、例えばコア材４５におけるフッ素樹脂がＰＴＦＥの場合には、これよりも融点の低いフッ素樹脂、例えばＰＦＡを用いて作製され、これの融点（３００℃〜３１０℃）よりも高温に加熱して圧着される。これにより、各コア材４５がフッ素樹脂を用いて作製されたもの（以下、フッ素樹脂基板という）であっても、これらが接着用フィルム４６を介して相互に接合一体化した多層回路基板が作製される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のようなフッ素樹脂基板を用いて製造される多層回路基板においては、図６に示すように、前記したビアホールに充填した導電材５１による金属配線層５２・５２間の導通は、各コア材４５内でしか取ることができず、接着用フィルム４６を挟んで隣接するコア材４５間では金属配線層５２間の導通が取れないために、各金属配線層での回路設計の自由度が制限されるという問題を生じている。
【０００６】
つまり、接着用フィルム４６を通して導通を取るためには、例えば、導電材５１の端部をコア材４５の表面から突起状に突出した形状とし、この突起部が加熱圧着時に接着用フィルム４６を突き破って、対面する金属配線層５２の接続電極面に接するようにすることが考えられる。
【０００７】
しかしながら、前記のようにフッ素樹脂から成る接着用フィルム４６は、その融点以上に加熱しても溶融粘度が非常に高く、例えば前記ＰＦＡは３８０℃で１０5〜１０6ポアズである。このため、導電材５１の端部に上記のような突起部を設けても、接着用フィルム４６を完全には突き破らせ難い。したがって、導電材５１と金属配線層５２との接着面積が充分に確保されず、良好な電気導通性を得ることができない。
【０００８】
しかもこの場合は、電気的接触が不十分となるだけでなく、接着用フィルム４６における導電材５１に対応する部分の周辺が、上記のような突起部の形状に応じて当初に変形隆起し、このため、導電材５１の外周付近の層間接着が確実になされずに層間隙間が発生し易いという問題も生じる。このような層間隙間が発生すると、層間接着強度の低下はもちろん、このような隙間部分にメッキ液や雰囲気水が浸透して吸水率が上昇したり、はんだ耐熱性が低下する。
【０００９】
本発明は、上記した問題点に鑑みなされたものであって、その目的は、接着用フィルムを挟んでフッ素樹脂基板（コア材）を積層して形成される多層回路基板であっても、隣接するコア材の各金属配線層間の導通をより確実に取ることが可能であり、これによって回路設計の自由度を向上し得ると共に、さらに、より信頼性の高い多層回路基板およびその製造法を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
そこで本発明の請求項１の多層回路基板は、フッ素樹脂絶縁層を備えるプリプレグをそれぞれ複数積層して形成された複数のコア材が、接着用フィルムを介して相互に積層された多層回路基板であって、各コア材を厚さ方向に貫通するビアホールに充填された導電材の端面が、接着用フィルムに予め形成された貫通穴を通して対面するコア材表面の接続用電極面に密着すると共に、上記貫通穴の内周が導電材の先端側外周に隙間なく密着した状態に形成されていることを特徴としている。
【００１１】
この構成によれば、ビアホールに充填された導電材の端部が、接着用フィルムに予め形成された貫通穴を通して、対面するコア材表面の接続用電極面に密着するので、導電材と接続用電極面との確実な電気的導通状態が得られる。したがって、接着用フィルムを挟んで隣接するコア材間でも導通が取られるので、各コア材の表面に設けられる金属配線層の回路設計の自由度が向上する。
【００１２】
しかも上記では、接着用フィルムに予め形成された貫通穴の内周と導電材の先端側外周との間に隙間がない密着状態となっているので、メッキ液や雰囲気水の浸透がなく、したがってはんだ耐熱性等が向上して、より信頼性の高い多層回路基板として提供することができる。
【００１３】
なお、本明細書での「接続用電極面」については、これを、対面するコア材表面の金属配線層に設けられている接続用導電パターン（ランド）とした構成に限定されるものではなく、例えば対面するコア材の同軸箇所にビアホールが形成されている場合には、このビアホールに充填されている導電材の端面を接続用電極面として、両コア材の各導電材の端面同士が接着用フィルムの貫通穴を通して相互に接続された構成としても良い。
【００１４】
一方、本発明の請求項２の多層回路基板は、請求項１の回路基板における接着用フィルムがフッ素樹脂から成ることを特徴としており、このような構成であれば誘電特性が損なわれず、したがってより好適な高周波特性が維持される。また請求項３のように、プリプレグにおけるフッ素樹脂中に誘電率６以上の無機フィラーが分散された構成であれば、全体的な誘電率が適度に大きくなって、より小型の機器に好適な多層回路基板として提供することができる。
【００１５】
また請求項４のように、フッ素樹脂よりも熱伝導率が大きな材質特性を有するセラミック材料が含まれた熱伝導層をさらに積層した構成とすれば放熱効果も改善されるので、この多層回路基板に組付けられる電気部品の過熱が抑えられて、全体的な信頼性がさらに高くなる。
【００１６】
一方、本発明の請求項５の多層回路基板の製造法は、フッ素樹脂絶縁層を備えるプリプレグをそれぞれ複数積層して複数のコア材を作製し、これらコア材を、接着用フィルムを介して相互に積層し加熱圧着して一体化する多層回路基板の製造法であって、コア材を厚さ方向に貫通するビアホールに導電材を充填すると共に導電材の先端にコア材表面からの高さが接着用フィルムの厚さ寸法よりも大きく突出する膨出部を設ける一方、接着用フィルムにおける各ビアホールに対応する箇所に貫通穴を形成し、貫通穴に導電材の膨出部を挿入させて各コア材を積層し加熱圧着することを特徴としている。
【００１７】
このような製造法によれば、複数のコア材を積層して加熱圧着する際に、導電材先端の膨出部は、その高さが接着用フィルムの厚さよりも大きいことから、加圧方向に押し潰されて径方向への拡がり変形を生じる。これにより、この変形した膨出部の外周が、予め形成されている貫通穴の内面に隙間なく密着するようにすることができる。この結果、導電材と、その端部が対面するコア材表面の接続用電極面との電気的導通状態がより確実に得られ、これによって、金属配線層の回路設計の自由度が向上する。また、貫通穴の内周と導電材の先端側外周との間に隙間がない密着状態となるので、より信頼性の高い多層回路基板として製造することができる。
【００１８】
この場合、請求項６のように、貫通穴の穴径をＤ、ビアホールの穴径をｄとするとき、０．５＜Ｄ／ｄ＜１．０となるようにすることが好ましい。このように貫通穴の穴径Ｄを小さくしておくことにより、導電材の膨出部が拡径変形する際に、その外周が貫通穴の内面に接してさらに拡がる状態になって、膨出部と貫通穴との間に隙間の無い密着状態をより確実に得ることができる。
【００１９】
一方、請求項７のように、導電材の膨出部をテーパ状に形成しておけば、コア材間に接着用フィルムを介装して積層配置する際に、上記のテーパ部を貫通穴に容易に挿入させて所定の位置決め状態とすることができ、これによって製造が容易になる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
次に、本発明の一実施形態における多層回路基板について、図面を参照しつつ詳細に説明する。本実施形態に係る多層回路基板は、図２に示すように、後述するコア材１を複数枚、図の場合には３枚積層した構造に形成されている。各コア材１の図において上方側の面には、例えば銅箔を用いて形成された金属配線層２がそれぞれ設けられている。なお、図において最下層のコア材１には、図において下面にも金属配線層２が設けられている。
【００２１】
各コア材１は、間に配置された接着用フィルム３を介して相互に接合一体化されている。そして各コア材１には、銀ペースト等から成る導電材４が充填されたビアホール８が設けられ、各導電材４によって、各上下の金属配線層２間の電気的接続が与えられている。
【００２２】
次に、上記構成の多層回路基板の製造法について説明する。コア材１は、図３（ａ）に示すようなプリプレグ５を複数積層して形成される。このプリプレグ５は、フッ素樹脂粒子、例えば平均粒径０.2〜０.5μｍのＰＴＦＥ粒子を分散させた水性ディスパージョンにガラスクロス基材６を浸漬し、このガラスクロス基材６にＰＴＦＥ樹脂を含浸させて、樹脂の融点よりも低い温度、例えばＰＴＦＥの場合には、その融点３２７℃よりも低い３００℃程度で乾燥する処理を繰返して形成される。このような処理により、未シンター状態のフッ素樹脂７の保持量が６０〜９６vol ％、例えば７６vol ％で、厚さが４０μｍ程度のプリプレグ５が形成される。
【００２３】
次に、同図（ｂ）に示すように、上記のプリプレグ５を複数枚、例えば３枚重ね合わせ、さらに上面（前記図２における最下層のコア材１の場合には上下両面）に、厚さが例えば１８μｍ程度の電解銅箔2'を配置し、加熱圧着することにより、少なくとも片面に銅箔2'を備えるコア材１が形成される。なお、このときの圧着は、例えばフッ素樹脂７が前記のようにＰＴＦＥの場合、その融点３２７℃よりも高温の３８０℃に加熱し、面圧５０kgf/cm2で１時間程度加圧することによって行われ、これによって厚さが１００μｍ程度のコア材１が作製される。
【００２４】
次いで、同図（ｃ）に示すように、コア材１の所定の箇所に、厚さ方向に貫通するビアホール８が形成される。このビアホール８の形成は、ドリルによる穿孔や、レーザビームによる孔加工によって行われる。そして、各ビアホール８に、同図（ｄ）に示すように、例えば銀粉を樹脂に分散させた銀ペースト等を印刷法等によって埋め込んで硬化させた導電材４が充填される。
【００２５】
その後、コア材１表面の電解銅箔2'に対する回路形成が行われる。この回路形成には公知の方法、例えばフォトレジストを銅箔2'上に塗工して回路パターンの露光、現像、エッチングを行う方法などが採用されて、前記した金属配線層２が形成される。
【００２６】
次いで、各ビアホール８に埋め込まれた導電材４に対し、金属配線層２が設けられていない側の端部に、図１（ａ）に示すように、コア材１の裏面から突出する形状の膨出部４ａが銀ペースト７を後付けして形成される。この膨出部４ａは、例えば、先端側に向かうほど径小となるテーパ状の外周面を備え、かつ、先端面がほぼ平坦とされた円錐台形状に形成されている。また、その突出高さｈを、後述する接着用フィルム３の厚さ寸法よりも大きくした形状として、この膨出部４ａが形成される。
【００２７】
このような膨出部４ａを端部に有する導電材４が埋め込まれた複数のコア材１が、厚さ４０μｍ程度のＰＦＡ等のフッ素樹脂から成る接着用フィルム３をそれぞれ間に挟んで積み重ねられ、例えば３５０℃の加熱温度、面圧３０kgf/cm2、加圧時間３０分程度の条件で加熱圧着される。
【００２８】
このとき、接着用フィルム３には、上層のコア材１の各ビアホール８に対応する位置にそれぞれ貫通穴９が形成されている。この貫通穴９は、その穴径をＤとし、ビアホール８の穴径をｄとするとき、０.5＜Ｄ／ｄ＜１.0、より好ましくは０.7＜Ｄ／ｄ＜０.9の関係を満たす寸法で形成されている。なお、貫通穴９の上端エッジ部側は、上方に向かうほど径大となるテーパ部９ａを有する形状に形成されている。
【００２９】
このような接着用フィルム３を間に挟んで各コア材１が加圧成形される際には、まず、同図（ｂ）に示すように、各ビアホール８に充填されている導電材４の膨出部４ａの下端側が、接着用フィルム３の貫通穴９に挿入された状態に位置決めされる。そして、上下からの加圧が進行するのに伴って、膨出部４ａの下端面が下側のコア材１上面の金属配線層２、さらに詳しくは、上記ビアホール８に対応する箇所に形成されている接続用導電パターン（ランド）から成る接続用電極面に当接し、以降は、この導電材４に対して上下方向の圧縮力が作用する。
【００３０】
このような圧縮力によって膨出部４ａは拡径状に変形し、これに伴って、同図（ｃ）に示すように、膨出部４ａの外周面が貫通穴９の内周面に密着した状態となり、以降は、この密着状態で、貫通穴９の径も膨出部４ａによって押し拡げられながら、この部位の変形が進行する。
【００３１】
なお、このときの圧着成形は、フッ素樹脂から成る接着用フィルム３の融点以上、例えばＰＦＡの場合には、３５０℃程度に加熱して行われる。このときの加熱熱量は、熱伝導率も大きな導電材４を通して内部へと好適に伝達され、したがって、導電材４の膨出部４ａ周辺の接着用フィルム３も充分に高温に加熱されて、膨出部４ａの変形に伴う貫通穴９の拡径変形がスムーズに進行する。
【００３２】
上記のように加圧成形が進行し、同図（ｄ）に示すように、接着用フィルム３と上下の各コア材１との間の層間隙間がなくなった状態になると、以降は、接着用フィルム３は、その全体にわたって上下のコア材１によって上下に挟み込まれ、これによって拡径方向への流動が拘束される。したがって、貫通穴９の周辺も移動が拘束されて、それ以上の拡径変形を生じ難くなり、以降は、導電材４はビアホール８内およびこれに連なる貫通穴９内で上下に押し固められる。これによって導電材４の密度が上昇し、この結果、ビアホール８を通して、より抵抗率の小さな層間導電路が形成される。
【００３３】
こうして、所定温度−時間の加熱圧着成形を行うことによって、前記図２に示した多層回路基板が作製される。したがって、この多層回路基板では、ビアホール８に充填された導電材４の端部が、接着用フィルム３に予め形成された貫通穴９を通して、対面するコア材１表面の接続用電極面に確実に密着する。これによって、接着用フィルム３を挟んで上下の金属配線層２間の導通も得られる構造になっているので、各金属配線層２での回路設計の自由度が向上する。また、回路基板自体もより小型化することができる。
【００３４】
しかも上記では、接着用フィルム３に予め形成された貫通穴９の内周と導電材４の先端側外周との間に隙間がない密着状態となっているので、メッキ液や雰囲気水の浸透がなく、したがってはんだ耐熱性等が向上して、より信頼性の高い多層回路基板となっている。
【００３５】
以上の説明のように、本実施形態においては、接着用フィルム３を用いてフッ素樹脂基板を多層化する場合でも、ビアホール８に埋め込まれた導電材４と金属配線層２の接続電極面との接触面積を接着用フィルム３を通して充分に確保することができ、これによって、所望の導電特性を得ることができる。
【００３６】
特に、ビアホール８の穴径、すなわち、これに充填された導電材４およびその端部の膨出部４ａの外径ｄと、接着用フィルム３の貫通穴９の穴径Ｄとの関係が０.5＜Ｄ／ｄ＜１.0に設定されているので、膨出部４ａがフィルム貫通穴を楔の原理により押し拡げながら加熱圧着が行われことになる。これにより、導電材４の膨出部４ａ外周とフィルム貫通穴内周との間に隙間が生じることがない。この結果、当該隙間にメッキ液や雰囲気水が入り込むことによる吸水率上昇が可及的に生じることがなく、はんだ耐熱性に優れた多層回路基板とすることができる。また、金属配線層２とコア材１との間にも層間隙間が生じることがないため、剥離強度にも優れたものとなる。
【００３７】
なお、ビアホール８の穴径ｄよりもフィルム貫通穴の穴径Ｄが大きい（Ｄ／ｄ＞１.0）と、熱圧着時に、導電材４の膨出部４ａが押しつぶされる際、フィルム貫通穴の内周面に達するまで膨出部４ａが流動して拡径する。このため、この膨出部４ａに適切な加圧力が発生せず、導電特性が低下する場合がある。一方、ビアホール８の穴径ｄよりもフィルム貫通穴の穴径Ｄが小さすぎる（０.5＞Ｄ／ｄ）と、接続電極面への導電材４の接触面積を充分に確保できない場合がある。
【００３８】
さらに上記実施形態では、導電材４の膨出部４ａは少なくとも先端側がテーパ状に形成され、また、接着用理フィルム３の貫通穴９の上端エッジ部もテーパ状に形成されていることから、コア材１間に接着用フィルム３を介装して積層配置する際に、上記のテーパ部を貫通穴９に容易に挿入させて所定の位置決め状態とすることができ、これによって製造が容易になる。
【００３９】
以上に、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上記形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更することが可能である。例えば上記では、プリプレグ５を形成する際のフッ素樹脂７としてＰＴＦＥを用いた例を示したが、ＰＴＦＥ以外にも、例えばＰＦＡやＰＣＴＦＥ、ＦＥＰ、ＰＶｄＦ、ＰＶＦ、ＥＴＦＥ、ＥＣＴＦＥなどを用いることも可能であり、また、これらを組み合わせて用いることも可能である。特に、ＰＴＦＥをガラスクロス基材６に保持させた後、その表面側にさらにＰＦＡ層を設けてプリプレグ５を形成すれば、各プリプレグ５間、さらに各コア１間の接着強度がさらに優れた多層回路基板を作製することができる。
【００４０】
また、上記ではＰＦＡから成る接着フィルム３を用いた例を挙げたが、この接着フィルム３としても、上記した他のフッ素樹脂やこれらを組み合わせた材料、さらにはフッ素樹脂以外の材料を用いて作製することも可能である。また、ビアホール８に埋め込む導電材４としては、前記した銀ペーストの他、例えば銅ペーストなどのその他の導電ペーストを用いて形成しても良い。
【００４１】
一方、プリプレグ５を形成する際のフッ素樹脂７中に、誘電率６以上の無機フィラーが分散された構成としても良い。これにより、全体的な誘電率が適度に大きくなって、移動体通信機器などの携帯用機器に好適な多層回路基板として提供することができる。
【００４２】
すなわち、高周波を利用した通信機器に組込まれる回路基板としては、通常、低誘電率の基板が使用されるが、小型化のためには、適度に誘電率の高い回路基板が要望されている。なぜなら、回路素子は概して使用電磁波（伝播電磁波）の波長が長いほど大きくなり、また比誘電率εrの誘電体中を伝播する電磁波の波長λは、λ＝λ0/（εr)0.5（但し、λ0:真空中の伝播波長）となるため、回路基板の誘電率が大きいほど回路の小型化を図ることが可能となる。
【００４３】
そこで、上記のような無機フィラーをフッ素樹脂７中に含ませることで、より小型の機器に好適な多層回路基板として提供することができる。このような無機フィラーとして、例えば二酸化チタンやチタン酸バリウム、チタン酸ストロンチウム、チタン酸カルシウム等を使用することができる。
【００４４】
さらに、回路基板全体の放熱効果を改善するために、フッ素樹脂よりも熱伝導率が大きなセラミック材料、例えば上記した二酸化チタン等を所望の熱伝導率が得られるように含有させて形成した熱伝導層をさらに積層して構成することも可能である。このような層を設けずに形成したフッ素樹脂基板での熱伝導率は０.4〜０.5Ｗ／ｍ／Ｋ程度であるが、上記のようなセラミック材料を含ませることにより、熱伝導率を０.8〜１.0Ｗ／ｍ／Ｋまで大きくすることができる。
【００４５】
このような熱伝導層を設けることによって、例えばこの回路基板に発熱量が大きな電気部品が取付けられた場合でも、その周辺に熱が蓄熱されることなく回路基板全体を通して放熱される。このような放熱効果が得られることによって、この多層回路基板に組付けられる電気部品の過熱が抑えられ、これら電気部品を含む全体的な信頼性をさらに向上することができる。
【００４６】
一方、上記実施形態においては、導電材４の膨出部４ａを円錐台形状に形成した例を示したが、この膨出部４ａの形状は、例えば外周が回転放物面となるようなその他の形状とすることも可能である。さらに上記実施形態においては、ガラスクロス基材６にフッ素樹脂７を含浸保持させて形成されたプリプレグ５を用いたが、このようなプリプレグとして例えばフッ素樹脂シートを用いることも可能である。
【００４７】
また上記実施形態においては、図１に、対面するコア材表面の金属配線層２に設けられた接続用導電パターン（ランド）を接続用電極面とした図を示して、この接続用電極面への導電材４の接続過程を説明したが、例えば、図２中の左側部分に示されているように、各コア材１間で同軸上にビアホール８が形成されている場合には、金属配線層２を介することなく、各下側のコア材１のビアホール８に充填されている導電材４の上端面を接続用電極面とみなして、上下の各導電材４の端面同士が接着用フィルム３の貫通穴を通して相互に接続された構成とすることも可能である。
【００４８】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に限定されるものでもない。
【００４９】
実施例１
純水にＰＴＦＥを６０wt％分散させた三井デュポンフロロケミカル（株）製のＰＴＦＥディスパージョン（品名:3443J）に、質量４８g/m2のＥガラスクロスを含浸し、ドクターバーにて最適量を塗布し、１００℃にて水分を乾燥させた後、３００℃でベーキングして界面活性剤を揮発させ、Ｅガラスクロス上に未シンター状態のＰＴＦＥ層を形成した。この工程を３回繰り返すことによって、樹脂量７３wt％のＰＴＦＥ未シンタープリプレグを得た。
【００５０】
このプリプレグを２枚重ねてその上下に福田金属箔粉工業（株）製厚さ１８μｍの電解銅箔（品名：CF-T9ST)を配置し、その上下をＳＵＳ３０４の鏡板、さらにクッション材ではさみ、真空プレスにて３８０℃−１時間加熱圧着して、多層板用コア材を得た。
【００５１】
このようなコア材を４枚作製し、それぞれマイクロドリルでφ０.6mmの穴（ビアホール）を開け、その穴に、銀粉を熱硬化性樹脂に分散させた銀ペーストを印刷法にて埋め込んだ。その後、４枚のコア材中の２枚については、片方の銅箔をエッチングにより全面除去し、他方の銅箔は全面残して外層側コア材とし、残りの２枚については、片方の銅箔をエッチングにより全面除去し、他方の銅箔はそれぞれ所望のパターンをエッチングして内層側コア材とした。
【００５２】
そして、各コア材中に埋め込んだ銀ペーストにおける銅箔を全面除去した側の端部に、さらに銀ペーストを円錐台状に付けた。次いで、２枚の内層側コア材の上下にそれぞれ外層側コア材を配置し、また、各コア材間に厚さ４０μｍのＥＴＦＥフィルム（三フッ化フィルム）を介装して積み重ね、２１０℃−３０kgf/cm2で３０分加熱圧着して多層回路基板を作製した。
【００５３】
このときのＥＴＦＥフィルムとして、各上層側のコア材における銀ペーストを埋め込んだ穴位置と同じ位置に、φ０.5mmの穴を予め開けたものを用いた。
【００５４】
実施例２
実施例１において、ＥＴＦＥフィルムに予め開ける穴の径をφ０.3５mmとした以外は実施例１と同様にして、多層回路基板を作製した。
【００５５】
実施例３
平均粒径１.0μｍ、比重４.9のTiO2粒子を適量の界面活性剤の存在下で、平均粒径０.2〜０.5μｍ、比重２.1３−２.2２、比誘電率２.1のＰＴＦＥ中に配合比約５０ vol％で均一に混合して水性ディスパージョンを得た。
この水性デスパージョンを用いてプリプレグを作製した以外は実施例１と同様にして、多層回路基板を作製した。
【００５６】
比較例１
実施例１におけるＥＴＦＥフィルムとして穴開けを行っていないものを用いた以外は実施例１と同様にして、多層回路基板を作製した。
【００５７】
比較例２
実施例１において、ＥＴＦＥフィルムに予め開ける穴の径をφ０.2mmとした以外は実施例１と同様にして、多層回路基板を作製した。
【００５８】
比較例３
実施例１において、ＥＴＦＥフィルムに予め開ける穴の径をφ０.8mmとした以外は実施例１と同様にして、多層回路基板を作製した。
【００５９】
実施例１〜３および比較例１〜３で得られた各多層回路基板の誘電率、誘電正接、吸水率、はんだ耐熱性、およびビアホールに埋め込んだ銀ペーストと金属配線パターンとの導通抵抗を以下の測定法に従って測定した。結果を表１に示している。
【００６０】
測定方法
(1) 誘電率および誘電正接
誘電率および誘電正接はJIS C 6481の試験方法5.12に従って測定した。
(2) 吸水率（wt％）
吸水率はJIS C 6481の試験方法5.14に従って測定した。
(3) はんだ耐熱性
ハンダ耐熱性はJIS C 6481（5.5 はんだ耐熱性）に基づく試料を作製し、その試料をプレッシャークッカ処理後、２６０℃のはんだ槽に１分間浸漬して引き上げた後の試料について、その表面状態を観察しながら白点を計数した。ここで、白点が０〜５個の場合を良とし、６〜１０個は可、１１個以上は不可とした。
(4) 導通抵抗
導通抵抗は、各多層回路基板における表裏面に各々全面残されている銅箔のセンター同士にミリΩメータのメータ端子を当て、これら表裏の銅箔間の抵抗値を測定した。一方、ビアホールに銀ペーストを埋め込む替わりに、スルーホールメッキを施して各層間を電気的に接続させた多層板を上記同様に作製し、この多層板について上記同様の抵抗値を測定して、基準抵抗値とした。各実施例１〜３・比較例１〜３について、基準抵抗値を１００としたときに１００〜１１０の場合を○、１１０〜１５０の場合を△、１５０を超える場合を×とした。
【００６１】
【表１】
0003867496.tif 000002
【００６２】
上記表に示されているように、実施例１〜３では、はんだ耐熱性と導通抵抗とのいずれの特性も良好であるのに対し、比較例１〜３では、両特性とも劣った結果となっている。さらに比較例１の多層回路基板について、ビアホール内の導電ペーストと下層の銅箔パターンとの接続領域の断面を顕微鏡で観察したところ、導電ペーストが接着用フィルムを殆ど貫通しておらず、また、導電ペースト先端が押しつけられた部分周辺の接着用フィルムが変形隆起して、隙間が生じているのが認められた。このため、この比較例１は、上記表中に示されているように、はんだ耐熱性と導通抵抗とのいずれも劣ったものになっている。
【００６３】
また、比較例２についても上記同様の断面観察を行ったところ、接着用フィルムに形成した穴径が小さいために、接着用フィルムに上記同様の変形隆起に伴う隙間が少なからず生じているのが認められた。このため、この比較例２も充分なはんだ耐熱性が得られず、さらに、導電ペーストと下層の銅箔パターンとの接合面積が小さいために、導通抵抗も比較的大きなものとなっている。
【００６４】
一方、比較例３においては、接着用フィルムに形成した穴径が大きく、このため、この穴内で押し潰された導電ペースト先端部外周と、穴の内周との間に隙間が生じているのが認められた。このため、上記表中に記載のようにはんだ耐熱性に劣ったものとなっており、またこの場合には、加熱圧着時に導電ペースト先端側に上記穴内で拡がり変形を生じるだけで、この部分が充分に押し固められてはいないため、導通抵抗特性も良好なものとはなっていない。
【００６５】
これに対し、接着用フィルムの穴径Ｄを０.5＜Ｄ／ｄ＜１.0に設定して作製した実施例１〜３では、それぞれ、導電ペースト先端側が、接着用フィルムの穴内に隙間無く充填されて下層の銅箔パターンに接合していることが認められ、また、層間隙間の生じておらず、これによって、はんだ耐熱性と導通抵抗とのいずれの特性にも優れた多層回路基板となっている。
【００６６】
【発明の効果】
以上のように、本発明によれば、フッ素樹脂基板を用いて多層化する場合でも、ビアホールに充填された導電材と金属配線層とが、接着用フィルムを通して確実に導通接続され、また、この接続部周辺に隙間の無い構成となっているので、金属配線層での回路設計の自由度が向上し、また、信頼性の向上した多層回路基板として提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態における多層回路基板の製造過程におけるコア材と接着用フィルムとの関係を示すもので、同図（ａ）は、コア材のビアホールに設けられた導電材と接着用フィルムとの関係を示す要部断面模式図、同図（ｂ）は、熱圧着時の初期状態を示す要部断面模式図、同図（ｃ）は、同図（ｂ）の後の状態を示す要部断面模式図、同図（ｄ）は熱圧着時の最終的な状態を示す要部断面模式図である。
【図２】上記多層回路基板の断面模式図である。
【図３】上記多層回路基板の製造過程を示すもので、同図（ａ）は当初に作製されるプリプレグの断面模式図、同図（ｂ）は上記プリプレグを積層して形成されるコア材の断面模式図、同図（ｃ）はコア材にビアホールを形成した状態を示す断面模式図、同図（ｄ）はビアホールに導電材を埋め込んだ状態を示す断面模式図である。
【図４】従来の回路基板の製造過程を示すもので、同図（ａ）は当初に作製されるプリプレグの断面模式図、同図（ｂ）は上記プリプレグを積層して形成される回路基板の断面模式図である。
【図５】従来の多層回路基板の製造法を示す断面模式図である。
【図６】従来のビアホールを通して層間接続を行った多層回路基板の断面模式図である。
【符号の説明】
１    コア材
２    金属配線層
３    接着用フィルム
４    導電材
４ａ  膨出部
５    プリプレグ
６    ガラスクロス基材
７    フッ素樹脂
８    ビアホール
９    貫通穴
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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