(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式Ｉで示される金属錯体化合物。
【化１】
0003867302.tif 000020
〔式中、Ｙは置換位置に隣接して窒素原子、硫黄原子または酸素原子を有するヘテロ環基、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｚはヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基から選ばれる置換基をパラ位に有するアリール基、ヘテロ環基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アルキルスルホンアミド基から選ばれる基を表す。Ｍ1はＮｉまたはＣｕの塩を表す。nは２または３を表す。〕
【請求項２】
上記一般式Ｉで示される化合物が下記一般式IIで示されることを特徴とする請求項１記載の金属錯体化合物。
【化２】
0003867302.tif 000021
〔式中、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アルキルスルホンアミド基から選ばれる基を表す。Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、各々水素原子またはアルキル基を表す。Ｍ2はＮｉまたはＣｕの塩を表す。〕
【請求項３】
基板上に請求項１記載の一般式Ｉ、または請求項２記載の一般式IIで示される金属錯体化合物の少なくとも1種を記録層として有することを特徴とする光記録媒体。
【請求項４】
光源として半導体レーザを用いて、基板を通して書き込みと読みだしを行うことを特徴とする請求項３記載の光記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、色素として優れた特性を有する新規な金属錯体化合物及び該化合物を光吸収物質として用いた光記録媒体に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
染料や顔料として知られている色素は、繊維の染色材、樹脂や塗料の着色材、写真、印刷、複写機、プリンターにおける画像形成材、カラーフィルターの光吸収材等様々な用途で広範に利用されている。これら色素の共通課題として吸収波長、波形の最適化、及びモル吸光係数の向上、耐光性、耐熱性を始めとする保存性の向上等が上げられる。フルカラー、または３原色を形成するためにはイエロー、マゼンタ、シアンの３種の色素が必要となるが、特に良好な吸収特性、及び保存安定性を有するシアン色素が望まれている。
【０００３】
一方、近年、情報量の急速な増大に伴い、大容量の光記録媒体が脚光を浴びている。安価な半導体レーザにより容易に、かつ高密度に情報記録できる有機光記録媒体には、赤色から近赤外領域の光を吸収する長波長吸収色素が利用されている。従来、種々の色素の中から吸収、反射特性に優れたシアニン色素がこの用途に用いられてきたが、耐光性等の保存性が低いため、経時で情報が失われたり、書き込めなくなる欠点があった。
【０００４】
このような問題を解決するために、例えば米国特許第3,432,300号、同4,050,938号、公開特許公報昭60-118748号、同昭63-199248号、同平2-300288号等に光安定剤、あるいは光安定化方法が記載されているが、十分な保存安定性を得るには至っていない。
【０００５】
また、公開特許公報昭64-44786号、同平2-76884号、同平5-17701号には保存安定性に優れた金属キレート色素が記載されているが、吸収波長が長波長過ぎるため光記録媒体等の用途に用いることはできない。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の第一の目的は、上記色素の課題、特にモル吸光係数が高く、耐光性に優れた色素を提供することにある。本発明の第二の目的は、光記録装置に使用される半導体レーザに適合した吸収を有し、モル吸光係数が高く、かつ耐光性に優れた色素を用いることにより光記録特性、保存安定性に優れた光記録媒体を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記目的は、下記の構成により達成される。
【０００８】
１．下記一般式Ｉで示される金属錯体化合物。
【０００９】
【化３】
0003867302.tif 000002
【００１０】
式中、Ｙは置換位置に隣接して窒素原子、硫黄原子または酸素原子を有するヘテロ環基、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｚはヒドロキシル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アルコキシ基から選ばれる置換基をパラ位に有するアリール基、ヘテロ環基を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4は、各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アルキルスルホンアミド基から選ばれる基を表す。Ｍ1はＮｉまたはＣｕの塩を表す。nは２または３を表す。
【００１１】
２．上記一般式Ｉで示される化合物が下記一般式IIで示されることを特徴とする前記１項記載の金属錯体化合物。
【００１２】
【化４】
0003867302.tif 000003
【００１３】
式中、Ｘはハロゲン原子を表す。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10は各々水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アルキルスルホンアミド基から選ばれる基を表す。Ｒ5、Ｒ6及びＲ7は、各々水素原子またはアルキル基を表す。Ｍ2はＮｉまたはＣｕの塩を表す。
【００１４】
３．基板上に前記１記載の一般式Ｉ、または前記２記載の一般式IIで示される金属錯体化合物の少なくとも１種を記録層として有することを特徴とする光記録媒体。
【００１５】
４．光源として半導体レーザを用いて、基板を通して書き込みと読みだしを行うことを特徴とする前記３項記載の光記録媒体。
【００１６】
以下に本発明の金属錯体化合物について詳細に説明する。
【００１７】
本発明の金属錯体化合物は２ないし３個の色素分子と１個の２価金属塩との結合により形成される。結合の詳細は必ずしも明らかではないが、一般式Ｉにおいて主環のイミダゾール環中のＮ原子の孤立電子対とＭ1による２ないし３個の配位結合、更にヘテロ環基中の窒素原子、硫黄原子または酸素原子とＭ1との間の２ないし３個の配位結合により４配座または６配座の金属錯体が形成されると考えられる。
【００１８】
本発明者らによる特開平７−３３７４６号には、類似の構造で、オルト位にスルホンアミド基等の解離性置換基を有するフェニル基と金属原子間のイオン結合、及び他の基と金属原子間の配位結合による６配座の色素が記載されているが、本発明は上記解離性置換基を排除し、Xにハロゲン原子を導入することにより吸収極大がより短波長で、かつモル吸光係数の更に高い色素が得られる。
【００１９】
上記一般式Ｉにおいて、Ｙで表される、置換位置に隣接して窒素原子、硫黄原子または酸素原子を有するヘテロ環基の例としては、1-ピラゾリル基、2-ピリジル基、2-ベンズチアゾリル基、2-イミダゾリル基、2-ピペラジル基、2-ベンズイミダゾリル基、2-オキサゾリル基等が挙げられる。Ｙの好ましくは、1-ピラゾリル基、2-ピリジル基である。
【００２０】
Ｘのハロゲン原子の例としては、塩素原子、フッ素原子等を挙げることができる。
【００２１】
Ｚの例としては、4-ヒドロキシフェニル基、3,5-ジクロロ-4-ヒドロキシフェニル基、4-アミノフェニル基、4-(N-メチルアミノ)フェニル基、4-(N-エチルアミノ)フェニル基、4-(N-ヘキシルアミノ)フェニル基、4-(N-ドデシルアミノ)フェニル基、4-(N,N-ジメチルアミノ)フェニル基、4-(N,N-ジエチルアミノ)フェニル基、4-(N,N-ジヘキシルアミノ)フェニル基、4-(N-エチル-N-メチルスルホンアミドエチルアミノ)フェニル基、4-(N,N-ジエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N,N-ジヘキシルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N-エチル-N-メタンスルホンアミドエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N-エチル-N-ヒドロキシエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N-エチル-N-メトキシエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N,N-ジメトキシエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-メトキシフェニル基、3,5-ジクロロ-4-メトキシフェニル基、3,5-ジクロロ-4-オクチルオキシフェニル基、4-アニリノフェニル基、4-アセトアミドフェニル基、4-イソプロピルアミドフェニル基、4-ベンズアミドフェニル基、4-メチルスルホンアミドフェニル基、4-オクチルスルホンアミドフェニル基、2-(3-メチル-5-N,N-ジエチルアミノ)ピリジル基等を挙げることができる。Ｚの好ましくは、4-(N,N-ジエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N-エチル-N-メタンスルホンアミドエチルアミノ)-2-メチルフェニル基、4-(N-エチル-N-メトキシエチルアミノ)-2-メチルフェニル基等のパラフェニレンジアミン誘導体構造を有するものである。
【００２２】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で表される基がハロゲン原子である時の例としては、塩素原子、フッ素原子等を挙げることができ、アルキル基である時の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、i-ブチル基、t-ブチル基等を挙げることができ、アルコキシ基である時の例としては、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基等を挙げることができ、アシルアミノ基である時の例としては、アセトアミド基、ベンズアミド基等を挙げることができ、アルキルスルホンアミド基である時の例としては、メチルスルホンアミド基、エチルスルホンアミド基、トリフルオロメチルスルホンアミド基等を挙げることができる。
【００２３】
上記Ｙ及びＺは必要に応じて更に他の置換基を有することが可能である。
【００２４】
Ｍ1がＮｉ又はＣｕの塩であるときの例としては、上記金属原子の酢酸塩、過塩素酸塩、ハロゲン塩、フッ化ホウソ塩、フッ化リン塩、アセチルアセトン塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩等が挙げられる。ｎの好ましくは２である。
【００２５】
本発明の金属錯体化合物の中でも色素としての吸収・反射特性、保存安定性、錯体形成の容易性等から一般式IIに示す構造が更に好ましい。
【００２６】
一般式IIにおいてＸで表される基は一般式Ｉ中のＸで表される基と同様の例を挙げることができる。
【００２７】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10で表される基がハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基、アシルアミノ基、アルキルスルホンアミド基から選ばれる基を表すときの例としては、一般式Ｉ中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で示した各基と同様の例を挙げることができる。Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3及びＲ4で表される基の好ましくは、全てが水素原子であるか、またはいずれか一つがハロゲン原子、アルキル基、アルコキシ基で、他は水素原子である時であり、Ｒ2がハロゲン原子で他は水素原子である時が更に好ましい。
【００２８】
Ｒ8、Ｒ9、及びＲ10で表される基の好ましくは、Ｒ8、Ｒ9及びＲ10の全てがアルキル基である時、またはＲ8、Ｒ10がアルキル基で、かつＲ9が水素原子である時である。Ｒ8、Ｒ10がアルキル基で、かつＲ9が水素原子である時が更に好ましい。Ｒ5、Ｒ6及びＲ7で表される基がアルキル基である時の例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、i-プロピル基、i-ブチル基、t-ブチル基等を挙げることができる。更にこれらに置換基を有する場合の例としては、メトキシエチル基、メチルスルホンアミドエチル基等が挙げられる。Ｒ5の好ましくはメチル基である。Ｒ6及びＲ7の好ましくはエチル基、または更に置換基を有するエチル基である。
【００２９】
Ｍ2で表されるＮｉまたはＣｕの塩としては酢酸塩、過塩素酸塩、ハロゲン塩、フッ化ホウソ塩、フッ化リン塩、アセチルアセトン塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩等が挙げられる。過塩素酸塩、フッ化ホウソ塩、フッ化リン塩、アセチルアセトン塩が好ましく、更にＮｉの塩が好ましい。
【００３０】
本発明の金属錯体化合物は分子量あたりの吸光度が高いことが利点であるため、分子量としては1500以下が好ましく、更に好ましくは1300以下である。
【００３１】
以下に本発明の金属錯体化合物の具体例を示す。
【００３２】
【化５】
0003867302.tif 000004
【００３３】
【化６】
0003867302.tif 000005
【００３４】
【化７】
0003867302.tif 000006
【００３５】
【化８】
0003867302.tif 000007
【００３６】
【化９】
0003867302.tif 000008
【００３７】
【化１０】
0003867302.tif 000009
【００３８】
【化１１】
0003867302.tif 000010
【００３９】
【化１２】
0003867302.tif 000011
【００４０】
【化１３】
0003867302.tif 000012
【００４１】
【化１４】
0003867302.tif 000013
【００４２】
本発明の化合物は、例えばBeilstein２３、２４、２５巻、及びBerichte３４巻６３９、同２９巻２１０３、同９２巻５５０等に記載されているイミダゾールの合成法を参考にして、Ｍと結合可能な置換基を導入したイミダゾール誘導体を合成し、更にパラ−アミノフェノール、パラ−フェニレンジアミン誘導体等との酸化カップリング反応等によりアゾメチン色素を得る。
【００４３】
適当な溶媒に前記アゾメチン色素を溶解し金属塩、例えば酢酸Ｎｉ、酢酸Ｃｕ、塩化Ｎｉ、塩化Ｃｕ、アセチルアセトンＮｉ塩等の無機塩あるいは有機塩を加えることにより本発明の金属錯体化合物が得られる。
【００４４】
本発明の金属錯体化合物は必要に応じ重合可能な置換基を導入することにより高分子とすることができる。また、構造式中に油溶性基、親水性基の導入により、色素溶液、LB（ラングミュアーブロジェット）膜形成、オイルを用いた分散、あるいはマイクロカプセル等さまざまな形態に加工することが可能である。
【００４５】
本発明の化合物は単独または併用、あるいは他の色素と組み合わせて光記録媒体、繊維の染色剤、樹脂や塗料の着色材、印刷インキ、カラー複写機、カラープリンター、感熱記録材料等における画像形成材、個体撮像管やカラー液晶のフィルター染料等様々な用途に使用できる。
【００４６】
本発明の金属錯体化合物に種々の保存性改良材を加えて保存性を更に改良することも可能である。例えば、ベンズトリアゾリルフェノール誘導体等の紫外線吸収材、β-カロテン、トコフェロール誘導体、ハイドロキノン誘導体、スピロインダン誘導体、フェノール誘導体、アミン誘導体、チオエーテル誘導体、Niジチオール誘導体、Niフェナンスロリン誘導体、Niベンジリデンアニリン誘導体等の酸化防止材、及び光安定材が挙げられ、単独でも２種以上を混合して添加してもよい。
【００４７】
次に、本発明の金属錯体化合物を用いた光記録媒体について説明する。
【００４８】
本発明の光記録媒体を構成する基板としては、記録・再生に用いるレーザ光の波長領域（700〜900nm）において実質的に透明（透過率が80％以上）であることが必要とされる。基板の形状としては、通常のコンパクトディスクとして用いる場合において、厚さ1.2mm程度、直径80〜120mm程度とされる。基板を構成する材料としては、例えばポリメチルメタクリレート樹脂、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリサルフォン樹脂、メチルペンテンポリマー等の透明性樹脂、ガラスなどが挙げられる。
【００４９】
なお、基板の外表面、内表面、内・外周面には、必要に応じて酸素遮断性被膜が形成されていてもよい。
【００５０】
また、記録層が形成される基板上には、トラッキング用のグルーブが形成されていることが好ましい。
【００５１】
本発明の金属錯体化合物を用いた記録層は、レーザ光の波長領域における消衰係数kが光記録媒体の記録層として好ましいものとなり、記録のために好適な光吸収性と再生のために好適な反射率とを兼ね備えたものとなる。ここに、レーザ光の波長領域における記録層の消衰係数kが過大である場合には、反射率の低下を招き、反射光による再生を十分良好に行うことができない。また、消衰係数kが過小である場合には、通常の記録パワーによって記録を行うことが困難となる。消衰係数kの好ましくは0.01から0.1である。
【００５２】
一方、レーザ光の波長領域における記録層の屈折率n（複素屈折率の実部）としては1.8〜4.0であることが好ましい。
【００５３】
なお、本発明の光記録媒体を構成する記録層には、他の種類の色素化合物、各種樹脂、界面活性材、帯電防止剤、分散材、酸化防止剤、架橋材などが含まれていてもよい。
【００５４】
記録層は、基板の一面上に形成されていてもよく、基板の両面上に形成されていてもよい。また、記録層の厚さとしては、通常500〜3000Åが好ましい。
【００５５】
基板上に記録層を形成するための方法としては特に限定されるものではなく、例えばスピンコーティング法、浸せきコーティング法、スプレーコーティング法、ブレードコーティング法、ローラーコーティング法、ビードコーティング法、マイヤーコーティング法、カーテンコーティング法など各種の方法を適用することができる。
【００５６】
また、記録層の形成にあたって用いる溶媒としては、例えばシクロヘキサノン等のケトン系溶媒、酢酸ブチル等のエステル系溶媒、エチルセロソルブ等のエーテル系溶媒、アルコール系溶媒、トルエン等の芳香族系溶媒、ハロゲン化アルキル系溶媒などを挙げることができる。
【００５７】
記録層上には反射層が形成されていてもよい。反射層としては、例えばＡｕ、Ａｌ−Ｍｇ合金、Ａｌ−Ｎｉ合金、Ａｇ、ＰｔおよびＣｕ等の反射率の高い金属を用い、蒸着、スパッタ等の手段によって形成することができる。反射層の厚さは500Å以上であることが好ましい。
【００５８】
反射層上には、例えば紫外線硬化樹脂等からなる保護膜が形成されていてもよい。保護膜の厚さとしては０．１〜１００μm程度とされ、その硬度が２５℃における鉛筆硬度でＨ〜８Ｈであることが好ましい。
【００５９】
記録層と反射層の間には、これらを密着させるための接着層が設けられていてもよい。接着層の厚さは10〜300Åであることが望ましい。
【００６０】
本発明の光記録媒体の記録、再生を行う光源としては、固体レーザ、ガスレーザ、色素レーザ、半導体レーザが考えられるが、コンパクトディスクに見られるように安価、小型、低消費電力等の観点から半導体レーザが好ましい。
【００６１】
本発明の化合物は特に高い記録感度を有していることから、630nmないし830nmの半導体レーザが好適である。
【００６２】
【実施例】
以下に本発明の金属錯体化合物の合成例及び本発明の化合物を光記録媒体に用いた実施例を示すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００６３】
実施例１
合成例１（例示化合物（１２）の合成）
（反応スキーム）
【００６４】
【化１５】
0003867302.tif 000014
【００６５】
原料のアミジン（１）８０ｇとブロムアセトフェノン（２）４０ｇをクロロホルム１００ｍｌに溶解し２時間加熱還流を行った。水洗、乾燥後溶媒を留去し、酢酸エチルとヘキサンの混合溶媒から再結晶を行い目的の中間体（３）を２２ｇ得た。ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルにより目的物であることを確認した。２０ｇの中間体（３）、及び２０ｇの４−（Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノ）−２−メチルアニリンを酢酸エチル２００ｍｌに溶解した。これに炭酸カリウム４０ｇを水１００ｍｌに溶解した溶液を加えた後、２０ｇの過硫酸アンモニウムを溶解した５０ｍｌの水溶液を滴下した。１時間反応後析出した結晶を減圧濾過し更に水洗、メタノール洗浄後乾燥し９ｇの目的物色素（４）を得た。ＮＭＲ、ＭＡＳＳスペクトルにより目的物であることを確認した。メタノール３０ｍｌに５ｇの色素（４）を溶解し、更に１．７ｇの酢酸Ｎｉ４水和物を加えた後に、更に０．８ｇのテトラフルオロボレートナトリウム塩を加えた。溶媒を留去後、メタノールから再結晶を行い目的物金属錯体の例示化合物（１２）を４ｇ得た。ＩＲ、及び元素分析値から目的物であることを確認した。
【００６６】
以下に本発明の金属錯体化合物の分光吸収特性を示す。
【００６７】
（分光吸収特性）
本発明の金属錯体化合物（１）、（５）、（１２）及び比較として下記の特開平７−３３７４６号に記載されたイミダゾール系金属錯体色素（Ａ）のアセトン中での分光吸収特性を表１に示す。
【００６８】
【化１６】
0003867302.tif 000015
【００６９】
【表１】
0003867302.tif 000016
【００７０】
表１から明らかなように本発明の例示化合物は比較と比べ、いずれも吸収極大がシアン色素としてより好ましい波長域にあり、かつ、εの大きい優れた色素であることが分かる。
【００７１】
実施例２
（光記録媒体としての評価）
以下に示す手順で薄膜での吸収極大、耐光性、光記録特性等の評価を行った。
【００７２】
（１）記録層の形成
本発明の例示化合物（１）、（５）、（１２）及び下記の示す比較化合物（Ｂ）、（Ｃ）を各１ｇ秤量し、５０ｍｌのシクロヘキサノンに溶解した。塗布液を、スピンコーティング法によりガラス基板（厚さ１．１ｍｍ、直径８０ｍｍ）上に塗布し、８０℃で３０分間乾燥することにより当該ガラス基板上に厚さ１０００Å前後の記録層を形成した。
【００７３】
【化１７】
0003867302.tif 000017
【００７４】
（２）耐光性試験
キセノンフェードメータ（スガ試験機  製）を用い、各試料の記録層にキセノン光を照射し、照射後における色素残存率を測定した。ここで、照射条件としては、記録層表面の照度を７万ルクス、照射時の温度を４３℃、照射時間を３０時間とした。また、色素残存率は、色素の最大吸収波長の光透過率をキセノン光照射前後で測定して下記の式から求めた。
【００７５】
式）    色素残存率＝（１００−Ｔ）／（１００−Ｔ0）
〔ただし、Ｔ0はキセノン光照射前の透過率、Ｔはキセノン光照射後の透過率を表す。〕
結果を表２に示す。
【００７６】
【表２】
0003867302.tif 000018
【００７７】
表２の結果から明らかなように、本発明の金属錯体化合物を用いた記録媒体である試料Ｎｏ．１ないし３はシアニン色素を使用した比較の試料４と同等の吸収極大を有し、かつ比較に比べ色素残存率が高く、優れた耐光性を有することが分かる。
【００７８】
一方、本発明とは異なる金属錯体化合物を用いた試料５は吸収極大が長波長過ぎて光記録媒体としては適さないことが分かる。
【００７９】
実施例３
（光記録媒体の製造、及び評価）
直径５インチのグルーブつきポリカーボネート基板上に本発明の金属錯体化合物（１２）を用いて記録層を塗布し、反射層（Ａｕ、厚さ１０００Å）、保護膜（紫外線硬化樹脂、厚さ５μｍ）を定法にしたがって順次形成し、本発明の光記録媒体（６）を製造した。
【００８０】
比較として、前記比較化合物（Ｂ）を記録層に用いて同様に光記録媒体（７）を製造した。反射率を測定したところ、光記録媒体（６）、及び（７）の両者とも７０％以上を示した。これらの試料に７８０ｎｍの半導体レーザによりパワーを変化させて情報記録し、０．８ｍＷで再生を行った。また、実施例２で用いたキセノンフェードメータを使用し、７万ルクス、３０時間の光曝射を行った後に同様の記録再生実験を行った。
【００８１】
表３にその結果を示す。
【００８２】
【表３】
0003867302.tif 000019
【００８３】
結果から明らかなように、本発明の光記録媒体（６）はＣＤ規格を満足する良好な記録・再生を行うことができた他、特に耐光性に優れた安定した記録・再生特性を有することが明らかとなった。
【００８４】
一方、比較の光記録媒体（７）はレーザの再生光で反射率が低下し、再生不良を起こした他、キセノンフェードメータによる光曝射でも記録できなくなる現象がみられた。
【００８５】
【発明の効果】
本発明の金属錯体化合物は、モル吸光係数が高く、耐光性に優れた色素であり、これらを光記録媒体に用いることにより、使用される半導体レーザに適合した吸収を有し、良好な記録・再生を行うことができ、特に耐光性に優れた安定した記録・再生特性が得られた。