(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成した所定の膜厚を有する感光性樹脂の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって前記感光性樹脂表面に皺状凹凸形状を形成し、前記皺状凹凸形状上に光反射膜を形成してこれを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、前記感光性樹脂の下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素が該同一の凹凸パターン要素が連続して３つ以上繰り返されないように配置されるとともに、前記皺状凹凸形状が前記凹凸パターン要素の配置に沿うことを特徴とする反射型液晶表示装置。
【請求項２】
上記２つ以上の線状の凹凸パターン要素が組み合わされて繰り返し基本パターンを構成し、前記繰り返し基本パターンを繰り返すことによって上記基板上に凹凸パターンを形成したことを特徴とする請求項１記載の反射型液晶表示装置。
【請求項３】
上記皺状凹凸形状の平均傾斜角の標準偏差が、上記反射板の面内で２°以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項４】
上記基板が、アクティブ素子を形成した基板であり、且つ、上記凹凸パターン要素が前記アクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成されていることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載の反射型液晶表示装置。
【請求項５】
上記凹凸パターン要素によって構成される凹凸パターンが、赤色画素、緑色画素、及び、青色画素毎に互いに異なっていることを特徴とする請求項１乃至４のいずれか１項に記載の反射型液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は反射型液晶表示装置に関するものであり、特に、反射型液晶表示装置における拡散反射板の表面に形成する皺状凹凸形状を方向性をもって形成するための構成に特徴のある反射型液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、各種の情報処理端末における画像表示手段として、カラー液晶表示装置が用いられているが、そのなかでも反射型液晶表示装置はバックライトを使用しないため、薄型、軽量および低消費電力が可能であるという特長がある。
【０００３】
この様な、反射型液晶表示装置は、大きく分けて、光シャッター層、色付け層、及び、光反射層の３層から構成されるが、周囲光を効率良く利用して明るい表示を得ることが最も重要である。
【０００４】
これらの３つの層の中でも、特に、光反射層は光の利用効率だけでなく視角特性等にも大きな影響を与えるので、光反射層の最適化が明るい反射型液晶表示装置を実現する上で最も重要となり、近年、明るい光反射層を得る検討がなされているので、ここで、図１１及び図１２を参照して従来の反射型液晶表示装置を説明する。
【０００５】
図１１参照
図１１は、従来の反射型液晶表示装置の概略的断面図であり、ＴＦＴ３２を形成したＴＦＴ基板３１側に複数の凹凸を面内に散りばめて構成した拡散反射板３３を設け、このＴＦＴ基板３１と、カラーフィルタ３５を介して透明電極３６を設けた対向基板３４とを対向させ、両者の間に液晶を注入して液晶層３７とすることによって、反射型液晶表示装置の基本構造が構成されている（必要ならば、特開平１１−２９５７５０号公報参照）。
【０００６】
次に、図１２を参照して、拡散反射板の製造方法の一例（必要ならば、特開平９−２５８２１８号公報参照）を説明する。
図１２（ａ）参照
まず、ガラス基板４１上にレジストを塗布してレジスト層４２を形成したのち、フォトマスク４３を介して紫外線４４を照射することによって、所定領域に対応する領域を露光する。
【０００７】
図１２（ｂ）参照
次いで、フォトマスク４３を除去したのち、レジスト層４２を現像することによって、レジストパターン４５を形成する。
図１２（ｃ）参照
次いで、レジストパターン４５をベーク処理して、レジストをリフローすることよって凸状のレジストパターン４６に変換する。
【０００８】
図１２（ｄ）参照
次いで、全面に金属膜を蒸着して、反射膜４７とすることによって拡散反射体を形成していた。
この様な拡散反射板においては、凹凸の密度、径、振幅、形、傾斜角等を制御することで光の利用効率を高めることができ、様々な検討がなされている。
【０００９】
しかし、上述のフォトリソグラフィを用いた方法ではプロセスが煩雑であり、露光量、現像時間、ベーク温度等のプロセス条件により形状が変化することで反射特性が大きく変化し、製造プロセスのマージンが非常に狭い問題があった。
【００１０】
そこで、本発明者等は、新しい拡散反射板の製造方法を提案しているので（必要ならば、特願２００１−１０１７５５号参照）、図１３を参照して説明する。
図１３（ａ）参照
まず、ＴＦＴ基板５１上に感光性樹脂層５２を形成したのち、紫外線５３を照射し、感光性樹脂層５２の厚さ方向または面内方向に収縮率等の熱的変形特性の分布を持たせる。
【００１１】
図１３（ｂ）参照
次いで、熱処理を施すことによって感光性樹脂層５２の表面に皺状凹凸形状５４を形成する。
図１３（ｃ）参照
次いで、全面に金属層を蒸着することによって、皺状凹凸形状５４の上に反射膜５５を形成するものである。
【００１２】
この本発明者等が提案した方法によれば、マスクパターンによる露光や現像といったフォトリソグラフィの工程を必要としないため、プロセスが大幅に簡略化されるため、安定かつ高い反射率を実現できる反射電極を形成することが可能になった。
【００１３】
しかし、この方式で発生する皺状凹凸形状５４はランダムな方向に発生するので、これを制御するために感光性樹脂層５２の下にパターンを形成する方法も合わせて提案している。
【００１４】
図１４（ａ）乃至（ｅ）参照
図１４（ａ）乃至（ｅ）は、皺状凹凸形状５４の方向性を制御するために感光性樹脂層５２の下に形成した凹凸パターンの形状を示す平面図であり、各凹凸パターンはＴＦＴ形成時のバスライン等の成膜・パターニング工程を利用して形成するものであり、これにより特定の皺状凹凸形状５４を形成することが可能となり、反射光に指向性を持たせることができた。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、指向性を持たせた反射板を用いた反射型液晶表示装置はギラツキが激しく、紙と比較して非常に表示が見づらいという問題がある。
【００１６】
したがって、本発明は、反射板からの反射光に指向性を持たせながらも、ギラツキ感を無くすことを目的とする。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
図１は本発明の原理的構成の説明図であり、この図１を参照して本発明における課題を解決するための手段を説明するが、図１（ａ）は凹凸パターンを示す平面図であり、また、図１（ｂ）は断面図である。
図１（ａ）及び（ｂ）参照
上記の課題を解決するために、本発明は、基板１上に形成した所定の膜厚を有する感光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって感光性樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、皺状凹凸形状６上に光反射膜７を形成してこれを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、感光性樹脂５の下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が該同一の凹凸パターン要素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように配置されるとともに、皺状凹凸形状６が前記凹凸パターン要素２，３の配置に沿うことを特徴とする。
【００１８】
この様にマクロでみれば規則的ではあるが、ミクロには不規則なパターンからなる凹凸パターンを基板１上に設けることによって、感光性樹脂５層の熱収縮に伴って表面に形成される皺状凹凸形状６を凹凸パターンに沿うように形成することができ、それによって、反射光に指向性を持たせることができるとともに、ギラツキ感を低減することができる。
なお、この場合、皺状凹凸形状６は凹凸パターン要素２，３の配置に厳密に沿っている必要はなく、反射光に指向性を持たせることができるとともに、ギラツキ感を低減する効果が得られる限りは多少ずれていても問題はない。
【００１９】
また、この場合、２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が組み合わされて繰り返しパターン要素２，３を構成し、前記繰り返しパターン要素２，３を繰り返すことによって全体の凹凸パターンを形成することが望ましく、それによって、凹凸パターンの設計工程が簡素化される。
【００２０】
また、この場合の皺状凹凸形状６の平均傾斜角の標準偏差を、反射板の面内で２°以下にすることが望ましく、それによって、ギラツキ感を確実に低減することができる。
【００２１】
また、この様な凹凸パターンをＴＦＴ等のアクティブ素子を設けたアクティブマトリクス型液晶表示装置に形成する場合には、補助容量配線ＣS 等のアクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成することが望ましく、それによって、凹凸パターン要素２，３の製造工程と電極パターンの形成工程を兼ねることができるので、製造工程が簡素化される。
【００２２】
また、この様な凹凸パターンをカラー液晶表示装置に形成する場合には、波長が長くなるほど液晶層の屈折率が小さくなるため、ＲＧＢ毎に異なった凹凸パターンとすることが望ましく、特に、基本パターン４における凹凸パターン要素２，３の配列方向に沿った傾斜を、長波長画素において短波長画素より大きくすることが望ましく、それによって、反射光の角度特性を各画素において均一化することができる。
【００２３】
【発明の実施の形態】
ここで、図２乃至図７を参照して、本発明の第１の実施の形態の反射型液晶表示装置を説明する。
図２（ａ）参照
図２（ａ）は、凹凸パターンを示す概略的平面図であり、透明ガラスからなる基板１１上に、厚さが、例えば、１００ｎｍのＩＴＯからなる互いに異なった方位を有する４つの凹凸パターン要素１２〜１５を配置して繰り返しパターン１６を形成し、この繰り返しパターン１６を図において右側方向に繰り返すことによって全体の凹凸パターンを形成する。
【００２４】
なお、各凹凸パターン要素１２〜１５の一例を挙げると、長さａ，ｂは、例えば、ａ＝ｂ＝１０μｍ、幅ｅはｅ＝３μｍ、また、凹凸パターン要素１２，１４の傾斜角ｃは、ｃ＝１５°、また、凹凸パターン要素１３，１５の傾斜角ｄは、ｄ＝４５°である。
【００２５】
次いで、図示は省略するものの、上記の図１２と同様の工程によって、まず、レジストＡＦＰ−７５０（クラリアント・ジャパン社製商品名）を、厚さが、例えば、２μｍになるように塗布したのち、９０℃で２０分間のプリベークを行い、レジスト層内の溶媒を除去する。
【００２６】
次いで、全面に紫外線を２６００ｍＪ／ｃｍ2 照射して、レジスト層に熱的変形特性の分布を持たせた後、２００℃で６０分間のベークを行ってレジスト層の表面に皺状凹凸形状を発生させ、次いで、全面に厚さが、例えば、２００ｎｍのＡｌ膜を蒸着して反射膜を形成することによって、本発明の第１の実施の形態の拡散反射板が完成する。
【００２７】
図２（ｂ）参照
図２（ｂ）は、上記の本発明の第１の実施の形態の拡散反射板（サンプル１）の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、滑らかな曲線状パターンからなる規則正しい表面パターンが見られ、特段のギラツキは見られなかった。
【００２８】
次に、図３を参照して、より規則的なパターンを配置したサンプル２と、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３からなる比較例を説明するが、パターンが異なるだけで製造工程自体は第１の実施の形態と全く同様である。
図３（ａ）参照
図３（ａ）は、図２（ａ）に示した各凹凸パターン要素１２〜１５を規則正しく配列した繰り返しパターン１７からなるものであり、各凹凸パターン要素１２〜１５自体の構成ａ〜ｅは上記の第１の実施の形態と全く同様である。
【００２９】
図３（ｂ）参照
図３（ｂ）は、図３（ａ）のサンプル２の拡散反射板の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、この場合、方位が異なる直線パターン領域からなる規則正しい表面パターンが見られ、かなりのギラツキが感じられた。
【００３０】
図３（ｃ）参照
図３（ｃ）は、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３の拡散反射板の表面の反射膜の顕微鏡像を模写したものであり、この場合にはレジスト層表面のランダムな皺状凹凸形状に対応してランダムなパターンが見られ、特段のギラツキは見られなかった。
【００３１】
この様に、本発明の第１の実施の形態においては、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることで曲線状のパターンが得られることがわかった。
【００３２】
図４（ａ）参照
図４（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の拡散反射板の反射率の方位角依存性を示す図であり、上述のサンプル２及びサンプル３の反射率の方位角依存性も合わせて示してある。
【００３３】
本発明の第１の実施の形態においては、方位４５°〜１３５°の範囲内に反射光が集光し、しかも、ほぼ均一の明るさが実現されていることが理解される。
一方、サンプル２の場合には、方位４５°、７５°、１０５°、及び、１３５°に鋭いピークが見られる。
また、サンプル３の場合には、方位に依存しない反射特性が得られている。
【００３４】
図４（ｂ）参照
図４（ｂ）は、上記の反射率の測定方法を示す図であり、作製した各サンプルの反射膜に対向するように、厚さが、例えば、１００ｎｍのＩＴＯを形成した０．７ｍｍ厚のガラス基板を対向させ、両者の間にイマージョンオイル（屈折率１．５２）を注入した状態で、各方位角φについて、入射角３０°の平行光を入射させて、０°方向に設けたディテクタで反射光の強度を測定した。
【００３５】
次に、図４（ａ）における反射特性の原因を調べるために反射膜の表面形状を測定したので、図５を参照して説明する。
図５（ａ）参照
図５（ａ）は、各サンプルにおけるＭＲＳ粗さの方位角依存性を示す図であり、本発明の第１の実施の形態においては、方位４５〜１３５°の範囲で、約９°の高い傾斜が得られていることがわかった。
【００３６】
それに対し、サンプル２においては、鋭いピークの反射光が得られた方位のみに大きな傾斜が存在するのがわかる。
一方、ＩＴＯをパターニングしないサンプル３においては、全ての方位においてほぼ８°の高い傾斜が見られた。
【００３７】
したがって、本発明の第１の実施の形態の様に、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることでＲＭＳ粗さの方位依存性を緩和し、しかも特定の方位角範囲にだけ大きな傾斜を持たせることができた。
【００３８】
図５（ｂ）及び（ｃ）参照
図５（ｂ）及び（ｃ）は、上述のＲＭＳ粗さの測定方法の説明図であり、図５（ｂ）に示す測定しようとする方位φについて、表面を段差計等で測定すると図５（ｃ）に示すような曲線が得られる。
この曲線における測定点Ａ（ｘa ，ｙa ，ｚa ）とその隣の測定点Ｂ（ｘb ，ｙb ，ｚb ）とを結ぶ直線の傾斜角θABを、複数（ｎ箇所）の測定箇所について求め、これらの２乗平均をＲＭＳ粗さを定義した。即ち、
ＲＭＳ粗さ＝｛（１／ｎ）×ΣθAB2 ｝1/2 
となる。
【００３９】
次に、問題となるギラツキの原因を調べたので図６を参照して説明する。
なお、ギラツキ度は、心理物理量として、白紙と鏡とを参照して、
5 ：金属的な強いぎらつきを感じる
4 ：強いぎらつき有り
3 ：少しぎらつき有り（白っぽい）
2 ：わずかにぎらつき有り（白く感じる）
1 ：ぎらつき感無し（白い）
の５段階評価を行った。
【００４０】
この様なギラツキ度を上記の各サンプルについて測定してみると、本発明の第１の実施の形態の場合にはギラツキ度２、サンプル２の場合はギラツキ度５、サンプル３についてはギラツキ度１であった。
【００４１】
図６（ａ）参照
図６（ａ）は、本発明の第１の実施の形態の場合にギラツキ度が低い理由を表す図であり、図４（ａ）に示す様に、第１の実施の形態においては反射光の方位依存が小さいことから、いずれの反射光もほぼ同じ明るさを持つため、ギラツキ度が小さいと考えられる。
【００４２】
図６（ｂ）参照
図６（ｂ）は、サンプル２においてギラツキ度が高い理由を表す図であり、図４（ａ）に示す様に、サンプル２では反射光の方位依存が激しいために、特定の条件を満たす反射光は非常に明るいがその条件を満たさない反射光は非常に明るさが乏しく、場所により反射光の明暗が激しくなり、ギラツキ度が大きくなると考えられる。
【００４３】
そこで、各種の凹凸パターンを用いて反射膜を作製し、表面のＲＭＳ粗さを測定して反射膜内のＲＭＳ粗さのばらつき（標準偏差）を調べたので、図７を参照して説明する。
図７参照
図７は、ギラツキ度とＲＭＳ粗さの標準偏差の相関関係を示す図であり、ＲＭＳ粗さの標準偏差が大きいほどギラツキ度が大きくなることがわかり、標準偏差を２°以下に抑えると、ぎらつき度が３以下になり、ほとんどぎらつきを感じないことがわかる。
【００４４】
以上、説明したように、本発明の第１の実施の形態においては、ある凹凸パターン要素の周囲に方位が異なる他の凹凸パターン要素を配置させることでＲＭＳ粗さの方位依存性を緩和し、しかも特定の方位角範囲にだけ大きな傾斜を持たせることができるので、ギラツキを生じることなく、反射光を有効に利用することができる。
【００４５】
次に、図８を参照して、本発明の第１の実施の形態の反射型液晶表示装置の拡散反射板を形成するための凹凸パターンの変形例を説明する。
図８（ａ）乃至（ｅ）参照
図８（ａ）乃至（ｅ）は、本発明の第１の実施の形態の凹凸パターンの変形例を示す平面図であり、反射光に指向性を持たせるとともに、ギラツキ感を生じさせないパターンの例であり、パターンは直線に限らず、曲線、ジグザグ等が可能である。
いずれの場合にも、マクロで見ると規則性を有するものの、ミクロに見た場合には、程度の問題はあるものの規則性を有さないパターンである。
【００４６】
次に、図９を参照して、実際の素子配置と凹凸パターンの配置を示した本発明の第２の実施の形態を説明する。
図９参照
図９は、本発明の第２の実施の形態のアクティブマトリクス型の反射型液晶表示装置の要部平面図であり、アクティブ素子としてのＴＦＴ２１、ＴＦＴ２１に接続するゲートバスライン２２、データバスライン２３、及び、画素電極２４からなる画素において、補助容量電極２５を形成する際に、補助容量電極２５を形成するために堆積させた導電膜をパターニングする際に、方位が互いに異なる４つの凹凸パターン要素２６〜２９からなる凹凸パターンを同時に形成したものである。
【００４７】
この本発明の第２の実施の形態においては、補助容量電極２５と凹凸パターン要素２６〜２９とを同じ工程で形成しているので、プロセス数を増加させずに凹凸パターンを形成でき、それによって、所望の皺状凹凸形状を得ることが可能になる。
【００４８】
次に、図１０を参照して、カラー反射型液晶表示装置に関する本発明の第３の実施の形態を説明する。
図１０（ａ）乃至（ｃ）参照
図１０（ａ）乃至（ｃ）は、それぞれ本発明の第３の実施の形態の反射型液晶表示装置のＲ画素、Ｇ画素、及び、Ｂ画素に対応する凹凸パターンの説明図であり、図１０（ａ）に示すＲ画素における凹凸パターン要素の配列方向（図においては垂直方向）に対する傾斜が、図１０（ｃ）に示すＢ画素における凹凸パターン要素の配列方向（図においては垂直方向）に対する傾斜より大きくなっており、図１０（ｂ）に示すＧ画素においてはその中間である。
【００４９】
これは、波長が長くなるほど液晶層の屈折率が小さくなるため、反射板で反射された光が空気層に出る際に、スネルの法則によってＲ、Ｇ、Ｂの順番で射出角が小さくなって、反射光の角度特性が不均一になるが、凹凸パターンを上記の様にＲＧＢ毎に変えることによって反射光の角度特性の波長依存性を補償することができ、それによって、全ての画素について反射光の角度特性を均一化することができる。
【００５０】
以上、本発明の実施の形態を説明してきたが、本発明は実施の形態に記載した構成に限られるものではなく、各種の変更が可能である。
例えば、上記第２の実施の形態の説明においては、凹凸パターン要素を補助容量電極の形成工程を利用して形成しているが、ゲートバスライン或いはデータバスライン等の他の配線層の形成工程を利用して形成しても良いものである。
【００５１】
また、上記の各実施の形態及び変形例に示した凹凸パターンは一例であり、示した凹凸パターンに限られるものではなく、マクロで見た場合に規則性があり、それによって、反射光の指向性がえられ、ミクロでみた場合には不規則であり、それによって、ギラツキ度を発生させないパターンであれば良い。
【００５２】
例えば、図８に示した各パターニングにおいては、各凹凸パターン要素は、配列方向に沿って同じ凹凸パターン要素が連続していないが、２つ程度は連続しても良いものである。
【００５３】
また、上記の各実施の形態においては、各凹凸パターン要素は同じ形状の基本パターン要素の方位を変えたものとして形成しているが、基本パターン要素の形状が互いに異なるようにしても良いものであり、さらには、形状と方位の両方が異なる複数の凹凸パターン要素を組み合わせて凹凸パターンを形成しても良いものである。
【００５４】
ここで、再び、図１を参照して、改めて本発明の詳細な特徴を説明する。
図１（ａ）及び（ｂ）参照
（付記１）  基板１上に形成した所定の膜厚を有する感光性樹脂５の少なくとも厚さ方向または面内方向に熱的変形特性の分布を持たせた後、熱処理によって前記感光性樹脂５表面に皺状凹凸形状６を形成し、前記皺状凹凸形状６上に光反射膜７を形成してこれを反射板として用いた反射型液晶表示装置において、前記感光性樹脂５の下に方位または形状の少なくとも一方が異なる２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が該同一の凹凸パターン要素２，３が連続して３つ以上繰り返されないように配置されるとともに、前記皺状凹凸形状６が前記凹凸パターン要素２，３の配置に沿うことを特徴とする反射型液晶表示装置。
（付記２）  上記２つ以上の線状の凹凸パターン要素２，３が組み合わされて繰り返し基本パターン４を構成し、前記繰り返し基本パターン４を繰り返すことによって上記基板１上に凹凸パターンを形成したことを特徴とする付記１記載の反射型液晶表示装置。
（付記３）  上記皺状凹凸形状６の平均傾斜角の標準偏差が、上記反射板の面内で２°以下であることを特徴とする付記１または２に記載の反射型液晶表示装置。
（付記４）  上記基板１が、アクティブ素子を形成した基板１であり、且つ、上記凹凸パターン要素２，３が前記アクティブ素子或いは配線を構成する電極材料によって形成されていることを特徴とする付記１乃至３のいずれか１に記載の反射型液晶表示装置。
（付記５）  上記アクティブ素子が薄膜トランジスタであり、且つ、上記電極材料が補助容量電極を形成する電極材料であることを特徴とする付記４記載の反射型液晶表示装置。
（付記６）  上記凹凸パターン要素２，３によって構成される凹凸パターンが、赤色画素、緑色画素、及び、青色画素毎に互いに異なっていることを特徴とする付記１乃至５のいずれか１に記載の反射型液晶表示装置。
（付記７）  上記凹凸パターンが複数の凹凸パターン要素２，３を一方向に配列した基本パターンの繰り返しからなるとともに、各基本パターンにおける凹凸パターン要素２，３の配列方向に対する傾斜が、長波長画素において短波長画素より大きくなっていることを特徴とする付記６記載の反射型液晶表示装置。
【００５５】
【発明の効果】
本発明によれば、感光性樹脂を熱収縮させて表面に皺状凹凸形状を形成する際に、下地にマクロで見た場合に規則性があり、且つ、ミクロでみた場合には不規則な凹凸パターンを形成しているので、反射光に指向性を与えるとともに、特定の方向への鋭い反射によるギラツキ感を低減することができ、それによって、高輝度に表示品質に優れた反射型液晶表示装置の実現に寄与することろが大きい。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の原理的構成の説明図である。
【図２】本発明の第１の実施の形態の説明図である。
【図３】比較例の説明図である。
【図４】本発明の第１の実施の形態の反射板の反射特性の説明図である。
【図５】本発明の第１の実施の形態の反射板のＲＭＳ粗さの説明図である。
【図６】本発明の第１の実施の形態の反射板の低ギラツキ度の原因の説明図である。
【図７】本発明の第１の実施の形態の反射板のギラツキ度のＲＭＳ粗さ依存性の説明図である。
【図８】本発明の第１の実施の形態の凹凸パターンの変形例の説明図である。
【図９】本発明の第２の実施の形態の反射型液晶表示装置の説明図である。
【図１０】本発明の第３の実施の形態の反射型液晶表示装置の説明図である。
【図１１】従来の反射型液晶表示装置の概略的断面図である。
【図１２】従来の拡散反射板の製造工程の説明図である。
【図１３】従来の他の拡散反射板の製造工程の説明図である。
【図１４】従来の凹凸パターンの説明図である。
【符号の説明】
１  基板
２  凹凸パターン要素
３  凹凸パターン要素
４  繰り返し基本パターン
５  感光性樹脂
６  皺状凹凸形状
７  反射膜
１１  基板
１２  凹凸パターン要素
１３  凹凸パターン要素
１４  凹凸パターン要素
１５  凹凸パターン要素
１６  繰り返しパターン
１７  繰り返しパターン
２１  ＴＦＴ
２２  ゲートバスライン
２３  データバスライン
２４  画素電極
２５  補助容量電極
２６  凹凸パターン要素
２７  凹凸パターン要素
３１  ＴＦＴ基板
３２  ＴＦＴ
３３  拡散反射板
３４  対向基板
３５  カラーフィルタ
３６  透明電極
３７  液晶層
４１  ガラス基板
４２  レジスト層
４３  フォトマスク
４４  紫外線
４５  レジストパターン
４６  レジストパターン
４７  反射膜
５１  ＴＦＴ基板
５２  感光性樹脂層
５３  紫外線
５４  皺状凹凸形状
５５  反射膜
【図１】
0003974787.tif 000002
【図２】
0003974787.tif 000003
【図３】
0003974787.tif 000004
【図４】
0003974787.tif 000005
【図５】
0003974787.tif 000006
【図６】
0003974787.tif 000007
【図７】
0003974787.tif 000008
【図８】
0003974787.tif 000009
【図９】
0003974787.tif 000010
【図１０】
0003974787.tif 000011
【図１１】
0003974787.tif 000012
【図１２】
0003974787.tif 000013
【図１３】
0003974787.tif 000014
【図１４】
0003974787.tif 000015