(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基台の側面の複数箇所に設けられた支持腕を支持するＶ型ブロックと、前記Ｖ型ブロックとスペーサを介して連結されたレベリングブロック機構と、基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、上面に前記レベリングブロック機構を備えた上部水平保持リングと、同じく基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、前記上部水平保持リングをベアリングを介して支持する下部水平保持リングと、前記下部水平保持リングに設けられた支持脚とから成る水平支持手段を備え、
上部水平保持リングの直径線上にπrad対称の配置で２箇所設けられた位置決め調整用プレートと、前記位置決め調整用プレートの外側面へ前記直径線方向に当たる１本の押しボルト、及び前記直径線方向と直角な向きで位置決め調整用プレートの両側面に当たる２本の押しボルトと、そして、下部水平保持リングに固定されて立ち上がり前記３本の押しボルトを支持するアーム部とから成る回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段を備えて成り、
前記水平支持手段のレベリングブロック機構によって基台の高さ及び水平度の調整が行われ、前記位置調整手段の押しボルトの操作によって基台の回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整が行われることを特徴とする、基台の位置決め装置。
【請求項２】
基台の側面の複数箇所に設けられた支持腕を支持するＶ型ブロックと、前記Ｖ型ブロックとスペーサを介して連結されたレベリングブロック機構と、基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、上面に前記レベリングブロック機構を備えた上部水平保持リングと、同じく基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、前記上部水平保持リングをその回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段を介して支持する下部水平保持リングと、前記下部水平保持リングに設けられた支持脚とから成る水平支持手段を備え、
前記回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段は、上部水平保持リングの下面の複数箇所に設けられたスライド部材が、回転方向スライドガイドへ回転可能に嵌め込まれ、前記回転方向スライドガイドの外周面に設けられたラックと噛み合うウオームギア軸が上部水平保持リング側に設置されて成る回転方向スライド機構と、前記回転方向スライド機構の下面に設けられたスライド部材が、Ｘ方向スライドガイドへ移動可能に嵌め込まれ調整ボルトでＸ方向への位置調整が可能に構成されたＸ方向スライド機構と、前記Ｘ方向スライド機構の下面に設けられたスライド部材が、Ｙ方向スライドガイドへ移動可能に嵌め込まれ調整ボルトでＹ方向への位置調整が可能に構成されたＹ方向スライド機構とで構成されており、
前記回転方向スライド機構のウオームギア軸を回転して回転調整が行われ、Ｘ方向の調整ボルト又はＹ方向の調整ボルトを回してＸ・Ｙ二次元方向への位置調整が行われ、前記水平支持手段のレベリングブロック機構によって基台の高さ及び水平度の調整が行われることを特徴とする、基台の位置決め装置。
【請求項３】
Ｖ型ブロックは、上部水平保持リングの円周方向に２π／３radの等間隔で３箇所に配置されていることを特徴とする、請求項１又は２に記載した基台の位置決め装置。
【請求項４】
Ｖ型ブロック、レベリングブロック機構、及びベアリング又は回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段、並びに支持脚は、同一中心線上に配置されていることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一に記載した基台の位置決め装置。
【請求項５】
支持脚には、球座が内蔵されていることを特徴とする、請求項１又は２、若しくは請求項４に記載した基台の位置決め装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、精密機械装置等の基台を、現地で高精度に位置決め固定するために用いられる基台の位置決め装置の技術分野に属する。
【０００２】
【従来の技術】
工場加工などで用意した精密機械装置等の基台を、現地で位置決め固定するために用いられる基台の位置決め装置は、基台を高精度に、且つ素早く位置決め固定できるように、「高さ」、「水平度」、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位（水平面内）」、「回転変位（水平面内）」といった、それぞれ異なる条件を同時に調整できる構成であることが望ましい。
【０００３】
しかしながら、従来の基台の位置決め装置は、「高さ」又は「Ｘ・Ｙ二次元方向変位（水平面内）」等の各条件を単独で調整できるだけで、それぞれ異なる条件を同時に調整できる構成でない。
【０００４】
そのため、それぞれ異なる条件を調整しながら、基台を高精度に、且つ迅速に位置決め固定することは、不可能であった。
【０００５】
【本発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、「高さ」、「水平度」、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位（水平面内）」、「回転変位（水平面内）」といった、それぞれ異なる条件を調整でき、基台を高精度に、且つ迅速に位置決め固定できる基台の位置決め装置を提供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記従来技術の課題を解決するための手段として、請求項１に記載した発明に係る基台の位置決め装置は、
基台の側面の複数箇所に設けられた支持腕を支持するＶ型ブロックと、前記Ｖ型ブロックとスペーサを介して連結されたレベリングブロック機構と、基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、上面に前記レベリングブロック機構を備えた上部水平保持リングと、同じく基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、前記上部水平保持リングをベアリングを介して支持する下部水平保持リングと、前記下部水平保持リングに設けられた支持脚とから成る水平支持手段を備え、
上部水平保持リングの直径線上にπrad対称の配置で２箇所設けられた位置決め調整用プレートと、前記位置決め調整用プレートの外側面へ前記直径線方向に当たる１本の押しボルト、及び前記直径線方向と直角な向きで位置決め調整用プレートの両側面に当たる２本の押しボルトと、そして、下部水平保持リングに固定されて立ち上がり前記３本の押しボルトを支持するアーム部とから成る回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段を備えて成り、
前記水平支持手段のレベリングブロック機構によって基台の高さ及び水平度の調整が行われ、前記位置調整手段の押しボルトの操作によって基台の回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整が行われることを特徴とする。
【０００７】
請求項２に記載した発明に係る基台の位置決め装置は、
基台の側面の複数箇所に設けられた支持腕を支持するＶ型ブロックと、前記Ｖ型ブロックとスペーサを介して連結されたレベリングブロック機構と、基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、上面に前記レベリングブロック機構を備えた上部水平保持リングと、同じく基台の水平断面の外径よりも若干大きな内径を有し、前記上部水平保持リングをその回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段を介して支持する下部水平保持リングと、前記下部水平保持リングに設けられた支持脚とから成る水平支持手段を備え、
前記回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段は、上部水平保持リングの下面の複数箇所に設けられたスライド部材が、回転方向スライドガイドへ回転可能に嵌め込まれ、前記回転方向スライドガイドの外周面に設けられたラックと噛み合うウオームギア軸が上部水平保持リング側に設置されて成る回転方向スライド機構と、前記回転方向スライド機構の下面に設けられたスライド部材が、Ｘ方向スライドガイドへ移動可能に嵌め込まれ調整ボルトでＸ方向への位置調整が可能に構成されたＸ方向スライド機構と、前記Ｘ方向スライド機構の下面に設けられたスライド部材が、Ｙ方向スライドガイドへ移動可能に嵌め込まれ調整ボルトでＹ方向への位置調整が可能に構成されたＹ方向スライド機構とで構成されており、
前記回転方向スライド機構のウオームギア軸を回転して回転調整が行われ、Ｘ方向の調整ボルト又はＹ方向の調整ボルトを回してＸ・Ｙ二次元方向への位置調整が行われ、前記水平支持手段のレベリングブロック機構によって基台の高さ及び水平度の調整が行われることを特徴とする。
【０００８】
請求項３記載の発明は、請求項１又は２に記載した基台の位置決め装置において、
Ｖ型ブロックは、上部水平保持リングの円周方向に２π／３radの等間隔で３箇所に配置されていることを特徴とする。
【０００９】
請求項４記載の発明は、請求項１〜３のいずれか一に記載した基台の位置決め装置において、
Ｖ型ブロック、レベリングブロック機構、及びベアリング又は回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段、並びに支持脚は、同一中心線上に配置されていることを特徴とする。
【００１０】
請求項５記載の発明は、請求項１又は２、若しくは請求項４に記載した基台の位置決め装置において、
支持脚には、球座が内蔵されていることを特徴とする。
【００１４】
【本発明の実施形態、及び実施例】
以下に、請求項１及び請求項３〜５に記載した発明に係る基台の位置決め装置を図１〜図４に基づいて説明する。
【００１５】
この位置決め装置１は、水平支持手段１ａと回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１ｂを備えて成り、工場などで高精度に研磨加工して、現地に搬入されたコンクリート造の基台２を、精密機械装置等の基台として、所定の位置へ正確に位置決め固定するために用いられる。
【００１６】
図１は、位置決め装置１の水平支持手段１ａが、基台２を支持している状態を示している。図２は、前記水平支持手段１ａを構成する各部品の構造関係を示している。
【００１７】
水平支持手段１ａは、基台２の複数箇所に設けられた支持腕３を支持するＶ型ブロック４と、前記Ｖ型ブロック４と複数枚のスペーサ５…を介して連結されたレベリングブロック機構６と、基台２の水平断面の外径より若干大きな内径を有し、上面に前記レベリングブロック機構６を備えた上部水平保持リング７と、同じく基台２の水平断面の外径より若干大きな内径を有し、前記上部水平保持リング７を水平方向に追従可能なオイレスベアリング８を介して支持する下部水平保持リング９と、前記下部水平保持リング９に設けられた支持脚１０とで構成されている。
【００１８】
前記Ｖ型ブロック４、レベリングブロック機構６、及びオイレスベアリング８、並びに支持脚１０は、図２に示すように、垂直な同一中心線上に配置されている（請求項４記載の発明）。そのため、基台２を安定して支持することができる。しかも、前記支持脚１０には、床板１１の傾斜を吸収する球座１０ａが内蔵されており、基台２を一層安定して支持できる構成とされている（請求項５記載の発明）。
【００１９】
上記Ｖ型ブロック４は、図３に示すように、基台２を安定に支持することができる必要最小限の個数として、上部水平保持リング７の円周方向に２π／３rad（１２０°）の等間隔で３箇所に配置されている（請求項３記載の発明）。そのため、前記基台２には、予めＶ型ブロック４の配置に合わせて、支持腕３の取付け金物１２が円周方向に２π／３radの等間隔で３箇所に埋め込まれており、前記取付け金物１２に、支持腕３が必要に応じて取り付けられている（図１を参照）。
【００２０】
前記Ｖ型ブロック４の直下に配置されたレベリングブロック機構６は既知の構成とされている。具体的には、下側ブロック６ａの上側傾斜面と、上側ブロック６ｂの下側傾斜面とを突き合わせ、前記下側ブロック６ａをボルト６ｃによって移動させ、上側ブロック６ｂの高さを変える構成とされている。したがって、前記各レベリングブロック機構６のボルト６ｃを操作して、レベリングブロック機構６上に支持された基台２を鉛直方向へ移動させ、同基台２の研磨面（上面）の高さ及び水平度の調整が行われる。なお、レベリングブロック機構６の高さ調整の範囲を超える場合は、Ｖ型ブロック４とレベリングブロック機構６との間に設けられたスペーサ５の抜き差しによって上記の調整が行われる。
【００２１】
上部水平保持リング７、及び下部水平保持リング９は、共に基台２の水平断面の外径より若干大きな内径を有する構成とされている。ここで、基台２の水平断面の外径より若干大きな内径とは、図３に示すように、基台２が下部水平保持リング９内を水平方向へ移動することができ、且つ基台２を上下の水平保持リング７、９内へ容易に挿入できる程度に、基台２の外径から間隔Ｓが確保された大きさを云う。
【００２２】
図３は、水平支持手段１ａと回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１ｂとの平面配置を具体的に示している。図４は、前記位置調整手段１ｂを構成する各部材の構造関係を示している。
【００２３】
回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１ｂは、上部水平保持リング７の直径線上（Ｘ方向）にπrad（１８０°）対称の配置で２箇所設けられた位置決め調整用プレート１３、１３と、前記位置決め調整用プレート１３の外側面１３ａに当たる押しボルト１４、及び前記直径線方向と直角な向き（Ｙ方向）で位置決め調整用プレート１３の両側面１３ｂ、１３ｃに当たる押しボルト１４、１４と、そして、下部水平保持リング９の外縁に固定されて鉛直上方へ立ち上がり前記３本の押しボルト１４‥を支持するアーム部１５とで構成されている。
【００２４】
前記位置決め調整用プレート１３は、取付け用プレート１６から垂直に立ち上がり、同位置決め調整用プレート１３の移動を直接に上部水平保持リング７に伝達できるように、上部水平保持リング７の上面へ強固にボルト接合で固定されている。
【００２５】
アーム部１５の上部は、前記位置決め調整用プレート１３の外側面１３ａ及び側面１３ｂ、１３ｃを囲む３側面を有する、コの字形状とされている。前記各３側面にはそれぞれネジ孔（図示を省略）が設けられ、前記の各ネジ孔へ押しボルト１４‥をネジ込むと、その先端部が位置決め調整用プレート１３の外側面１３ａ及び側面１３ｂ、１３ｃに当たる構成とされている。
【００２６】
前記アーム部１５の下部は、下部水平保持リング９で反力をとりながら、押しボルト１４が位置決め調整用プレート１３を押し出せるように、前記下部水平保持リング９の外縁に強固にボルト接合で固定されている。
【００２７】
よって、一方の位置決め調整用プレート１３の外側面１３ａに先端部が当たる押しボルト１４を緩めると共に、下部水平保持リング９で反力をとりながら他方の位置決め調整用プレート１３の外側面１３ａに先端部が当たる押しボルト１４を締め込むと、上部水平保持リング７はオイレスベアリング８によって下部水平保持リング９上を水平方向へ移動可能な構成とされているので、上部水平保持リング７の位置決め調整用プレート１３はＸ方向へ押し出される。その結果、上部水平保持リング７上に支持された基台２をＸ方向へ位置移動させることができる。
【００２８】
また、Ｙ方向に向かって配置された２本の押しボルト１４、１４を緩めると共に、前記押しボルト１４、１４と、それぞれ位置決め調整用プレート１３、１３を挟んで向かい合うように配置された押しボルト１４、１４を締め込むと、上部水平保持リング７の位置決め調整用プレート１３、１３はＹ方向へ押し出される。その結果、上部水平保持リング７上に支持された基台２をＹ方向へ位置移動させることができる。
【００２９】
更に、一方の位置決め調整用プレート１３の側面１３ｂ又は１３ｃに先端部が当たる押しボルト１４と、同押しボルト１４と基台２の水平断面の中心点Ｏを中心とする点対称の位置に配置され、他方の位置決め調整用プレート１３の側面１３ｃ又は１３ｂに先端部が当たる押しボルト１４を緩める。それと共に、前記緩めた押しボルト１４、１４と、それぞれ位置決め調整用プレート１３、１３を挟んで向かい合うように配置された押しボルト１４、１４を締め込むと、上部水平保持リング７の位置決め調整用プレート１３、１３は回転方向へ押し出される。その結果、上部水平保持リング７上に支持された基台２を回転方向へ位置移動させることができる。
【００３０】
そして、基台２の位置が決まり、すべての押しボルト１４…を強固に締め込むと、上部水平保持リング７の位置決め調整用プレート１３、１３は原位置に固定される。その結果、上部水平保持リング７に支持された基台２を確実に位置固定できる。
【００３１】
したがって、上記構成の水平支持手段１ａと回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１ｂとを備えて成る基台の位置決め装置１は、「高さ」、「水平度」、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位」、「回転変位」といった、それぞれ異なる条件を調整できる。そのため基台２の位置決め固定を高精度に、且つ迅速に行うことができる。
【００３２】
次に、請求項２及び請求項３〜５に記載した発明に係る基台の位置決め装置を図５〜図１０に基づいて説明する。
【００３３】
この位置決め装置１７も、上記の位置決め装置１と同様に、水平支持手段１７ａと回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１７ｂを備えて成る。
【００３４】
図５は、位置決め装置１７の水平支持手段１７ａが、コンクリート造の基台２を支持している状態を示している。図６は、前記水平支持手段１７ａを構成する各部品の構造関係を示している。
【００３５】
水平支持手段１７ａは、基台２の複数箇所に設けられた支持腕３を支持するＶ型ブロック４と、前記Ｖ型ブロック４と複数枚のスペーサ５…を介して連結されたレベリングブロック機構６と、基台２の水平断面の外径より若干大きな内径を有し、前記レベリングブロック機構６を備えた上部水平保持リング７と、同じく基台２の水平断面の外径より若干大きな内径を有し、前記上部水平保持リング７の回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１７ｂを介して支持する下部水平保持リング９と、前記下部水平保持リング９に設けられた支持脚１０とで構成されている。即ち、上記の第１実施例における水平支持手段１ａの上部水平保持リング７と下部水平保持リング９との間に、オイレスベアリング８に代えて、位置調整手段１７ｂが設置された構成である。
【００３６】
水平支持手段１７ａは、レベリングブロック機構６上で基台２を支持する構成に変わりなく、レベリングブロック機構６によって基台２の研磨面の高さ及び水平度の調整が行われる。
【００３７】
なお、本実施例の水平支持手段１７ａも、Ｖ型ブロック４が、上部水平保持リング７の円周方向に２π／３radの等間隔で３箇所に配置されている。しかも、前記Ｖ型ブロック４、レベリングブロック機構６、回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１７ｂ及び支持脚１０は、基台２を安定して支持するために、垂直な同一中心線上に配置され、前記支持脚１０に床板１１の傾斜を吸収する球座１０ａが設けられている（図６及び図７を参照、請求項３〜５記載の発明）。
【００３８】
上記回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１７ｂは、回転方向スライド機構１８、Ｘ方向スライド機構１９及びＹ方向スライド機構２０で構成されている。
【００３９】
図８、９は、位置調整手段１７ｂの回転方向スライド機構１８を示している。
【００４０】
前記回転方向スライド機構１８は、Ｖ型ブロック４‥の直下の３箇所であって、上部水平保持リング７の下面に設けられたスライド部材１８ａ‥が、それぞれ回転方向スライドガイド１８ｂ‥に回転可能に嵌め込まれている。一つの回転方向スライドガイド１８ｂの外周面にラック２１が設けられており、このラック２１と噛み合うウオームギア軸２２が、取付け部材２３によって上部水平保持リング７の下面に強固に固定されている。
【００４１】
前記ウオームギア軸２２を回転すると、ウオームギア２２ａがラック２１上を前進又は後進移動し、上部水平保持リング７の下面に設けられたスライド部材１８ａ‥が、それぞれ回転方向スライドガイド１８ｂ‥に沿って回転移動する。よって、１本のウオームギア軸２２の操作で、簡単に上部水平保持リング７を回転方向へ移動させることができ、上部水平保持リング７上に支持された基台２を回転方向へ位置移動させることができる。
【００４２】
図１０は、位置調整手段１７ｂのＸ方向スライド機構１９と、Ｙ方向スライド機構２０を示している。
【００４３】
前記Ｘ方向スライド機構１９は、各回転方向スライドガイド１８ｂの下面に設けられたスライド部材１９ａが、それぞれＸ方向スライドガイド１９ｂへ移動可能に嵌め込まれている。一つのスライド部材１９ａに、Ｘ方向へ貫通するネジ孔（図示を省略）が設けられ、同ネジ孔にスライド部材１９ａの送りネジとなる調整ボルト２４がネジ込まれている。
【００４４】
Ｙ方向スライド機構２０は、上記Ｘ方向スライドガイド１９ｂの下面に設けられたスライド部材２０ａが、それぞれＹ方向スライドガイド２０ｂへ移動可能に嵌め込まれている。一つ（図示例では、調整ボルト２４が設けられたスライド部材１９ａの直下）のスライド部材２０ａに、Ｙ方向へ貫通するネジ孔（図示を省略）が設けられ、同ネジ孔にスライド部材２０ａの送りネジとなる調整ボルト２５がネジ込まれている。
【００４５】
要するに、既知のＸ・Ｙテーブルと同様な構成とされている。
【００４６】
よって、Ｘ・Ｙ二次元方向へ１本ずつ配置された調整ボルト２４、２５を操作すると、簡単に上部水平保持リング７をＸ・Ｙ二次元方向へ移動させることができ、上部水平保持リング７上に支持された基台２をＸ・Ｙ二次元方向へ位置移動させることができる。
【００４７】
したがって、上記構成の水平支持手段１７ａと回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１７ｂを備えて成る基台の位置決め装置１７も、「高さ」、「水平度」、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位」、「回転変位」といった、それぞれ異なる条件を調整できる。そのため基台２の位置決め固定を高精度に、且つ迅速に行うことができる。特に、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位」、「回転変位」は、各方向へ、それぞれ配置された１本の調整ボルトの操作によって、簡単に行うことができ、上記の位置決め装置１よりも操作が簡単である。
【００４８】
なお、上記位置決め装置１、１７のＶ型ブロック４は、上部水平保持リング７の円周方向へ２π／３radの等間隔で３箇所に配置されているが、この限りではない。要するに、安定して基台２を支持できるように配置されていれば良く、個数、配置は特に限定されない。
【００４９】
次に、上記した位置決め装置を利用して実施する、基台の位置決め方法を、図１１〜図１３に基づいて説明する。図１１〜図１３は、前記位置決め方法の実施形態を概略的に示している。なお、図１２及び図１３の図示例の位置決め装置には、水平支持手段１ａのレベリングブロック機構６によって基台２の高さ及び水平度の調整を行うことができ、位置調整手段１ｂの押しボルト１４の操作によって基台２の回転及びＸ・Ｙ二次元方向への調整を行うことができる位置決め装置１を使用している。
【００５０】
先ず、床板１１上には、図１１に示したように、複数の基台２…の通り芯線Ｔ上にトランシット２６と基準ターゲット２７とを配置する。
【００５１】
床板１１の複数箇所には、図１２に示したように、基台２を設置するための基台固定孔１１ａが設けられている。その基台固定孔１１ａの外縁に沿って位置決め装置１を配置し、基台２を支持する。因みに、前記基台２の研磨面（上面）には、直径線上（図３ではＸ方向）の２箇所に後述する計測用定規を位置決め固定する孔２８、２８が設けられており、前記基台２を位置決め装置１の上下の水平保持リング７、９内に挿入セット（支持）した時に、基台２の研磨面に設けた孔２８が概ね通り芯線Ｔ上に配置されるような位置に、位置決め装置１を予め配置しておく。
【００５２】
前記位置決め装置１で支持した基台２の研磨面に設けた孔２８を用いて計測用定規２９を、基台２の研磨面上に位置決め固定（配置）する。具体的には、前記計測用定規２９は、孔２８に挿入するピン（図示を省略）を２箇所に設けた座板３０と、前記座板３０の中央位置に垂直に設けたバーコードスケール３１と、同座板３０の両端部に設けた２個のターゲット３２、３２とで構成している。その座板３０のピンを、基台２の研磨面に設けた孔２８へ嵌め込んで、計測用定規２９を研磨面の直径線上に位置決め固定する。よって、非常に精度良く計測用定規２９を位置決め固定できる。
【００５３】
前記バーコードスケール３１の目盛りを読み取るデジタルレベル測定器３３を、基台２の近傍位置に設置する。なお、基台２の近傍位置に、デジタルレベル測定器３３を設置するのは、バーコードスケール３１の目盛りの読みとり誤差を小さくするためである。そのため、図１１に示すように基台２を複数個設置するときには、デジタルレベル測定器３３の設置位置を適当な間隔で盛り替えながら、研磨面上に配置したバーコードスケール３１の目盛りを読みとる。バーコードスケール３１は、デジタルレベル測定器３３の方向に常に正しく向くことができるようにするために、座板３０に対して水平面内の自由な方向に回転できる機構になっている。
【００５４】
そして、上記基台の位置決め装置１、トランシット２６、基準ターゲット２７、計測用定規２９、デジタルレベル測定器３３を用いて基台２の高さ、水平度、回転及びＸ・Ｙ二次元方向への調整を行う。
【００５５】
具体的には、図１２Ａ、Ｂに示すように、前記デジタルレベル測定器３３でバーコードスケール３１の目盛りを読みとり、基台２が所定の高さレベルとなるように、水平支持手段１ａの全てのレベリングブロック機構６‥のレベル調整をして、全体的に基台２を鉛直方向へ上昇又は下降移動させる。その一方で、研磨面上にＸ・Ｙ二方向の測定が可能な電子水準器３４を設置し、前記電子水準器３４を用いて基台２の研磨面が水平となるように、各レベリングブロック機構６のレベル調整をして、基台２の研磨面の水平度を維持させる。
【００５６】
更に、図１３Ａ、Ｂに示すように、通り芯線Ｔ上に設けたトランシット２６の視準線を基準ターゲット２７のセンターラインに一致させて基準通り芯線Ｔ’を設定する。前記基準通り芯線Ｔ’（視準線）と、基台２の研磨面上のターゲット３２、３２のセンターラインＬ、Ｌ’とのズレを、トランシット２６で測量する。そのズレを修正するように、既に詳細は上述したので省略するが、回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１ｂの押しボルト１４を操作して、上部水平保持リング７の位置決め調整用プレート１３を押し出し、上部水平保持リング７上に支持した基台２を回転及びＸ・Ｙ二次元方向へ移動させる。
【００５７】
なお、隣接する基台２、２の間隔をスケールで測量し、所定の間隔となるように、回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段１ｂの押しボルト１４を操作して、更に基台２をＸ方向へ移動させることも行われる。
【００５８】
そして、位置決め装置１のすべての押しボルト１４…を強固に締め込み、基台２の位置決め固定が完了すると、基台２の下部と基台固定孔１１ａとの隙間にグラウト材（図示を省略）を注入して基台２を床板１１に固定し、位置決め装置１を撤去する。
【００５９】
したがって、上記した基台の位置決め方法は、従来では不可能であった、「高さ」、「水平度」、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位」、「回転変位」といった、それぞれ異なる条件を調整することができる。そのため、高精度に、且つ迅速に基台の位置決め固定を行うことができる。
【００６０】
なお、図１２及び図１３の実施例では、位置決め装置１を用いているが、前述した位置決め装置１７でも同様に実施できる。
【００６１】
また、上記実施形態では、バーコードスケール３１とデジタルレベル測定器３３を使用しているが、この限りではない。スケールとレベル測定器を使用しても同様に実施できる。
【００６２】
【本発明の奏する効果】
請求項１〜５に記載した発明に係る基台の位置決め装置は、支持する基台の高さ及び水平度の調整が可能な水平支持手段と、基台の回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置移動が可能な位置調整手段とを備えて成るから、この位置決め装置を使用して基台の位置決め固定を行うと、従来では不可能であった、「高さ」、「水平度」、「Ｘ・Ｙ二次元方向変位」、「回転変位」といった、それぞれ異なる条件を調整することができ、そのため基台の位置決め固定を高精度に、且つ迅速に行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  請求項１及び請求項３〜５に記載した発明に係る基台の位置決め装置の水平支持手段が、基台を支持している状態を示した縦断面図である。
【図２】  水平支持手段を構成する各部品の構造関係図である。
【図３】  図１のＩ−Ｉ矢視図である。
【図４】  図３のII−II矢視断面図である。
【図５】  請求項２〜５に記載した発明に係る基台の位置決め装置の水平支持手段が、基台を支持している状態を示した縦断面図である。
【図６】  水平支持手段を構成する各部品の構造関係図である。
【図７】  図５のIII−III矢視図である。
【図８】  図５のIV−IV矢視断面図である。
【図９】  図８のＶ−Ｖ矢視断面図である。
【図１０】  図５のVI−VI矢視断面図である。
【図１１】  基台の通り芯線上にトランシットと基準ターゲットを設置して基台の位置決めを行う方法を示した概略図である。
【図１２】  （Ａ）は、基台の高さ及び水平度の調整を概略的に示した立面図である。（Ｂ）は、（Ａ）の平面図である。
【図１３】  （Ａ）は、基台の回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整を概略的に示した立面図である。（Ｂ）は、（Ａ）の平面図である。
【符号の説明】
１、１７            基台の位置決め装置
１ａ、１７ａ        水平支持手段
１ｂ、１７ｂ        回転及びＸ・Ｙ二次元方向への位置調整手段
２                  基台
３                  支持腕
４                  Ｖ型ブロック
５                  スペーサ
６                  レベリングブロック機構
７                  上部水平保持リング
８                  オイレスベアリング
９                  下部水平保持リング
１０                支持脚
１０ａ              球座
１１                床板
１３                位置決め調整用プレート
１４                押しボルト
１５                アーム部
１８                回転方向スライド機構
１８ｂ              回転方向スライドガイド
１９                Ｘ方向スライド機構
１９ｂ              Ｘ方向スライドガイド
２０                Ｙ方向スライド機構
２０ｂ              Ｙ方向スライドガイド
１８ａ、１９ａ、２０ａ  スライド部材
２１                ラック
２２                ウオームギア軸
２４、２５          調整ボルト
２６                トランシット
２７                基準ターゲット
２８                孔
２９                計測用定規
３１                バーコードスケール
３２                ターゲット
３３                デジタルレベル測定器
３４                電子水準器
Ｔ                  基台の通り芯線
Ｔ’                基準通り芯線
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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