(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板に処理を施す処理部と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、一方の搬送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有する基板処理装置により、前記処理部と前記各搬送機構のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、
実際に処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
一方の搬送機構が基板を受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機構が他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動に要する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動作に要する第３の空間とを含む一方の搬送機構のリソースのうち、前記第２の空間を干渉空間のリソースとして定義し、
あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使用し、
次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前記干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めるとともに、前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同じだけ前記干渉空間のリソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記処理部は、純水洗浄処理部と薬液処理部を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記複数個の搬送機構は、
待機位置と処理部との間を移動して、この間で基板を搬送する主搬送機構と、
前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間で基板を受け渡しするとともに、前記処理部にて基板を処理する処理位置と非処理位置の間で基板を搬送する副搬送機構と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項４】
請求項２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
前記複数個の搬送機構は、
待機位置と処理部との間を移動して、この間で基板を搬送する主搬送機構と、
前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間で基板を受け渡しするとともに、前記薬液処理部と前記純水洗浄処理部との間で基板を移動させ、かつ前記薬液処理部と前記純水洗浄処理部とにおいて基板を処理する処理位置と非処理位置とにわたって昇降させる副搬送機構と、
を備えていることを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項５】
請求項２ないし４のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、
各リソースの使用タイミングの決定は、各ロットのレシピに基づいて行なわれ、
前記レシピは、前記薬液処理部での薬液処理の後に前記純水洗浄処理部での水洗処理を施す処理を含むことを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成方法。
【請求項６】
基板に処理を施す処理部と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、一方の搬送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有する基板処理装置により、前記処理部と前記各搬送機構のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、
実際に処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、
一方の搬送機構が基板を受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機構が他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動に要する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動作に要する第３の空間とを含む一方の搬送機構のリソースのうち、前記第２の空間を干渉空間のリソースとして定義し、
あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使用し、
次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前記干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めるとともに、前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同じだけ前記干渉空間のリソースを使用することを特徴とする基板処理装置のスケジュール作成プログラム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は、半導体ウエハや液晶表示装置用のガラス基板（以下、単に基板と称する）に所定の処理を施す基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムに係り、特に各ロットを順次に処理する際に各リソースを使用するタイミングを決定する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
薬液処理部と純水洗浄処理部と複数個の搬送ロボットとを備え、一方の搬送ロボットと他方の搬送ロボットとが干渉する領域を有する基板処理装置の従来からのスケジュール作成方法としては、以下の方法が挙げられる。
【０００３】
第１の方法は、一方の搬送ロボットと他方の搬送ロボットを含む複数個の搬送ロボットのうち、先に動作を始めたものが動作完了するのを待って、次の搬送ロボットが動作を開始するというものである。このように複数個の搬送ロボットが同時に動作しないようにすることにより、それらが干渉することを防止している。
【０００４】
第２の方法は、搬送の前に行なわれている処理において、その処理が完了する時点の一定時間前より、例えば、薬液処理部から純水洗浄処理部に基板を搬送する処理を優先させるために、一方の搬送ロボットの動作を停止させておき、他方の搬送ロボットを優先的に動作させるというものである。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
すなわち、第１の方法は、例えば、薬液処理部から純水洗浄処理部に基板を搬送する時点において、それを行なう他方の搬送ロボットよりも先に一方の搬送ロボットが動作し始めていた場合には、薬液処理部から基板を搬送させることができず、その基板に対して薬液処理が過剰に行なわれてしまうという問題が生じる。
【０００６】
また、第２の方法は、第１の方法により発生する上記の問題を防止することができる一方、薬液処理部にある基板の処理を優先するあまり、他のロットの流れを妨げることがあるという問題がある。
【０００７】
この発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、搬送機構同士が実際に干渉する空間を考慮しつつ処理の開始前に予めスケジューリングすることによって過剰処理を防止することができるとともに、他ロットの流れを妨げることを防止できる基板処理装置のスケジュール作成方法及びそのプログラムを提供することを目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
この発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板に処理を施す処理部と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、一方の搬送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有する基板処理装置により、前記処理部と前記各搬送機構のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、実際に処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、一方の搬送機構が基板を受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機構が他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動に要する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動作に要する第３の空間とを含む一方の搬送機構のリソースのうち、前記第２の空間を干渉空間のリソースとして定義し、あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使用し、次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前記干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めるとともに、前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同じだけ前記干渉空間のリソースを使用することを特徴とするものである。
【０００９】
（削除）
【００１０】
（削除）
【００１１】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記処理部は、純水洗浄処理部と薬液処理部を備えていることを特徴とするものである。
【００１２】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記複数個の搬送機構は、待機位置と処理部との間を移動して、この間で基板を搬送する主搬送機構と、前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間で基板を受け渡しするとともに、前記処理部にて基板を処理する処理位置と非処理位置の間で基板を搬送する副搬送機構と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１３】
請求項４に記載の発明は、請求項２に記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、前記複数個の搬送機構は、待機位置と処理部との間を移動して、この間で基板を搬送する主搬送機構と、前記処理部に付設され、前記主搬送機構との間で基板を受け渡しするとともに、前記薬液処理部と前記純水洗浄処理部との間で基板を移動させ、かつ前記薬液処理部と前記純水洗浄処理部とにおいて基板を処理する処理位置と非処理位置とにわたって昇降させる副搬送機構と、を備えていることを特徴とするものである。
【００１４】
請求項５に記載の発明は、請求項２ないし４のいずれかに記載の基板処理装置のスケジュール作成方法において、各リソースの使用タイミングの決定は、各ロットのレシピに基づいて行なわれ、前記レシピは、前記薬液処理部での薬液処理の後に前記純水洗浄処理部での水洗処理を施す処理を含むことを特徴とするものである。
【００１５】
請求項６に記載の発明は、基板に処理を施す処理部と基板を搬送する複数個の搬送機構とを備え、一方の搬送機構が他方の搬送機構と干渉する領域を有する基板処理装置により、前記処理部と前記各搬送機構のリソースを使用しながら複数のロットを処理する際に、各リソースの使用タイミングを決定する基板処理装置のスケジュール作成プログラムにおいて、実際に処理を開始する前に各リソースの使用タイミングを予め作成するとともに、一方の搬送機構が基板を受け取る動作に要する第１の空間と、一方の搬送機構が他方の搬送機構の近傍を通って移動先に向かう移動に要する第２の空間と、一方の搬送機構が基板を渡す動作に要する第３の空間とを含む一方の搬送機構のリソースのうち、前記第２の空間を干渉空間のリソースとして定義し、あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構のリソースと前記干渉空間のリソースとを使用し、次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機構のリソースの使用タイミングを、前記干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めるとともに、前記他方の搬送機構のリソースを使用する時間と同じだけ前記干渉空間のリソースを使用することを特徴とするものである。
【００１６】
【作用】
請求項１に記載の発明の作用は次のとおりである。
すなわち、あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機構と干渉する領域に相当する干渉空間のリソースを使用する。次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構が干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めてそのリソースを使用するようにスケジューリングする。したがって、他方の搬送機構は、一方の搬送機構がそのリソースを使用完了するまで動作開始を待つ必要がなく、干渉空間のリソースの使用が終わった時点で動作開始させることができる。また、実際の処理の前に予め各リソースの使用タイミングを作成するので、基板の処理が正常に行なわれるようにできる。
【００１７】
なお、本願発明における「リソース」(resource)とは、純水洗浄処理部、薬液処理部、乾燥処理部、塗布処理部、メッキ処理部、エッチング処理部などの処理部や、基板の搬送に係る搬送機構などのことを示す。
【００１８】
また、一方の搬送機構リソースは、基板を受け取るのに要する第１の空間と、他方の搬送機構近傍を通過して移動先に向かうのに要する第２の空間と、基板を渡すのに要する第３の空間とを含むものであり、干渉空間とはそのうちの第２の空間に相当するものである。
【００１９】
さらに、他方の搬送機構が動作する際には、一方の搬送機構と干渉する領域を使用するので、干渉空間のリソースを使用するものとしてスケジュール作成を行なう。
【００２０】
請求項２に記載の発明によれば、処理部として純水洗浄処理部と薬液処理部を有する基板処理装置で上記のようなスケジュール作成を行なう。
【００２１】
請求項３に記載の発明によれば、主搬送機構と副搬送機構とを備えた複数個の搬送機構を有する基板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を行なう。
【００２２】
請求項４に記載の発明によれば、処理部として純水洗浄処理部と薬液処理部とを備えるとともに、主搬送機構と、処理部に付設された副搬送機構を備えた複数個の搬送機構を有する基板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を行なう。
【００２３】
請求項５に記載の発明によれば、薬液処理を行なった後に水洗処理を行なう処理を対象にして上記のようなスケジュール作成を行なう。
【００２４】
請求項６に記載の発明によれば、あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には、他方の搬送機構と干渉する領域に相当する干渉空間のリソースを使用する。次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、一方の搬送機構が干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めてそのリソースを使用する。したがって、他方の搬送機構は、一方の搬送機構がそのリソースを使用完了するまで動作開始を待つ必要がなく、干渉空間のリソースの使用が終わった時点で動作させ始めることができる。
【００２５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照してこの発明の一実施例を説明する。
図１及び図２は本発明の一実施例に係り、図１は実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図であり、図２はそのブロック図である。
【００２６】
この基板処理装置は、例えば、基板Ｗに対して薬液処理及び純水洗浄処理及び乾燥処理を施すための装置である。基板Ｗは複数枚（例えば２５枚）がカセット１に対して起立姿勢で収納されている。未処理の基板Ｗを収納したカセット１は、投入部３に載置される。投入部３は、カセット１を載置される載置台５を二つ備えている。基板処理装置の中央部を挟んだ投入部３の反対側には、払出部７が配備されている。この払出部７は、処理済みの基板Ｗをカセット１に収納してカセット１ごと払い出す。このように機能する払出部７は、投入部３と同様に、カセット１を載置するための二つの載置台９を備えている。
【００２７】
投入部３と払出部７に沿う位置には、これらの間を移動可能に構成された第１搬送機構１１が配置されている。第１搬送機構１１は、投入部３に載置されたカセット１ごと複数枚の基板Ｗを第２搬送機構１３に対して搬送する。
【００２８】
第２搬送機構１３は、収納されている全ての基板Ｗをカセット１から取り出した後、第３搬送機構１５に対して全ての基板Ｗを搬送する。また、第３搬送機構１５から処理済みの基板Ｗを受け取った後に、基板Ｗをカセット１に収容して第１搬送機構１１に搬送する。
【００２９】
第３搬送機構１５は、基板処理装置の長手方向に向けて移動可能に構成されている。その第２搬送機構１３側には、突出した２本の支持アーム１５ａが配備されている。上述したように第２搬送機構１３との間で基板Ｗを受け渡しする際には、その支持アーム１５ａを介して行なう。なお、第３搬送機構１５は、通常、図１に示す待機位置に移動している。
【００３０】
上記第３搬送機構１５の移動方向における最も手前側には、複数枚の基板Ｗを低圧のチャンバ内に収納して乾燥させるための乾燥処理部１７が配備されている。
【００３１】
第３搬送機構１５の移動方向であって上記乾燥処理部１７に隣接する位置には、第１処理部１９が配備されている。この第１処理部１９は、複数枚の基板Ｗに対して純水洗浄処理を施すための純水洗浄処理部２１を備えているとともに、複数枚の基板Ｗに対して薬液処理を施すための薬液処理部２３を備えている。また、これらの間で基板Ｗを搬送する第１副搬送機構２５を備えている。
【００３２】
第１副搬送機構２５は、縦断面形状がＬの字状で、基板Ｗを起立姿勢で保持する保持アーム２５ａを備えている。第１副搬送機構２５は、第１処理部１９内での基板搬送の他に、第３搬送機構１５との間で基板Ｗを受け渡しする。第１副搬送機構２５は、純水洗浄処理部２１の上方に位置する「非処理位置」では、第３搬送機構１５との間で基板Ｗを受け取ったり渡す動作が行なわれる一方、薬液処理部２３の上方に位置する「非処理位置」では、基板Ｗの受け渡しは行なわれない。また、基板Ｗを処理する際には、第１副搬送機構２５は、純水洗浄処理部２１や薬液処理部２３の槽内に位置する「処理位置」にまで下降する。
【００３３】
なお、保持アーム２５ａが純水洗浄処理部２１や薬液処理部２３の「非処理位置」にある場合においては、上記の第３搬送機構１５の支持アーム１５ａと干渉する場合がある。つまり、第１副搬送機構２５は、第３搬送機構１５との間で基板Ｗの受け渡しをする際などには、第３搬送機構１５が第１移載領域ＩＬ１に移動するが、このときに保持アーム２５ａが非処理位置にあると、第３搬送機構１５の支持アーム１５ａが干渉する。
【００３４】
第１処理部１９に隣接して第２処理部２７が配備されている。この第２処理部２７は、第１処理部１９と同じ構成であり、純水洗浄処理部２９と、薬液処理部３１と、保持アーム３３ａを備えた第２副搬送機構３３とを備えている。なお、第２副搬送機構３３の保持アーム３３ａが「非処理位置」あり、第３搬送機構１５が第２移載領域ＩＬ２に位置している場合には、第３搬送機構１５の支持アーム１５ａが干渉する。
【００３５】
第２搬送機構１３に付設されているカセット洗浄部３５は、上述した第２搬送機構１３が全ての基板Ｗを取り出した後、空になったカセット１を洗浄する機能を有する。
【００３６】
なお、上述した第３搬送機構１５が本発明における一方の搬送機構及び主搬送機構に相当し、第１副搬送機２５と第２副搬送機構３３とが本発明における他方の搬送機構に相当する。また、純水洗浄処理部２１及び薬液処理部２３と純水洗浄処理部２９及び薬液処理部３１とが本発明における処理部に相当する。
【００３７】
上記のように構成されている基板処理装置は、図２のブロック図に示すように制御部３７によって統括的に制御される。
【００３８】
制御部３７は、ＣＰＵなどから構成されており、以下に説明するスケジュール作成プログラムに相当する手順に基づき、レシピに応じて上述した各構成のリソースの使用タイミングを実際に処理を開始する前に予め決定する。その後、実際に基板Ｗを処理するにあたり、作成されたスケジュールに基づき各リソースを使用してレシピに応じた処理を基板Ｗに対して施す。
【００３９】
記憶部３９には、この基板処理装置のユーザによって予め作成され、基板Ｗをどのようにして処理するかを規定した複数種類のレシピと、スケジュール作成プログラムと、作成されたスケジュールを実行する処理プログラム等が予め格納されている。また、第１搬送機構１１等の各リソースに関する情報が予め記憶されており、さらに作成されたスケジュールも記憶される。
【００４０】
上述した第１移載領域ＩＬ１及び第２移載領域ＩＬ２は、基板処理装置における第１搬送機構１１などのリソースとは性質が異なるものであるが、第３搬送機構１５が、第１副搬送機構２５及び第２副搬送機構３３との間で干渉する可能性のある干渉空間としての、純水洗浄処理部２１及び薬液処理部２３の近傍である第１移載領域ＩＬ１と、純水洗浄処理部２９及び薬液処理部３１の近傍である第２移載領域ＩＬ２とについても干渉空間のリソースとして定義している。つまり、制御部３７は、スケジュールを作成するために第３搬送機構１５等のリソースをどのようなタイミングで制御するかを決定するが、第３搬送機構１５を使用する際には、それ自身を使用するのはもちろんのこと、第１移載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２のリソースをも使用することが特徴的になっている。
【００４１】
なお、本発明における干渉空間に相当する第１移動領域ＩＬ１は、純水洗浄処理部２１に隣接する乾燥処理部１７の空間を含めて定義してもよい。
【００４２】
なお、図３に示すタイムチャートを参照しながらスケジュール作成プログラムに相当する手順について説明するが、理解を容易にするためにレシピのうちの一部だけを例に採って説明する。この例では、同じレシピで二つのロットが並行して処理されてゆく場合について説明する。
【００４３】
具体的に処理を説明すると、第１ロット（図３中に白色矩形で示す）の基板Ｗが薬液処理部２３で薬液処理され、続いて第１副搬送機構２５を介して純水洗浄処理部２１に搬送された後に純水洗浄処理されるというものである。これと並行して、第２ロット（図３中にハッチングした矩形で示す）の基板Ｗが第２搬送機構１３から第３搬送機構１５に搬送され、純水洗浄処理部２９にて純水洗浄処理が施される。
【００４４】
なお、第１ロットが本発明における「次なるロット」に相当し、第２ロットが「あるロット」に相当する。
【００４５】
上記の処理動作について詳細に説明する。
時間ｔ０〜ｔ３にわたり、第１ロットの基板Ｗが薬液処理部２３のリソースをレシピに応じた時間だけステップＳ１０で使用する。これにより第１ロットの基板Ｗに対して薬液処理が行なわれる。
【００４６】
これに並行して、第２ロットの基板Ｗが、第２搬送機構１３のリソースをステップＳ２０で時間ｔ０〜ｔ１にわたり使用した後、第３搬送機構１５のリソースをステップＳ２２で時間ｔ１〜ｔ４にわたり使用する。つまり、図１に示す待機位置にある第３搬送機構１５が第２搬送機構１３から第２ロットの基板Ｗを受け取り（時間ｔ１）、移動先に移動した後、純水洗浄処理部２９に対して第２ロットの基板Ｗを移載する（時間ｔ４）。このとき第２ロットは、第３搬送機構１５のリソースを使用するとともに、第３搬送機構１５が第１移載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２を通るので、これらのリソースも時間ｔ２〜ｔ３にわたってステップＳ２２ａで使用する。
【００４７】
なお、厳密には、第１処理部１９と第２処理部２７の近傍を通過するタイミングが異なるので、第１移載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２のリソースを使用するタイミングもずれる。つまり、時間ｔ２〜ｔ３の前半で第１移載領域ＩＬ１のリソースを使用し、後半で第２移載領域ＩＬ２を使用することになる。しかし、このように厳密に分けるとスケジュール作成の負荷が大きくなる割には効率化が図れないので、この例では同じタイミングで両リソースを使用している。
【００４８】
なお、上記のステップＳ２２のうち時間ｔ１〜ｔ２にわたる時間Ｔ１は、第３搬送機構１５が第２搬送機構１３から第２ロットの基板Ｗを受け取る動作に要する、待機位置に相当する第１の空間における動作時間に相当し、時間ｔ２〜ｔ３にわたる時間Ｔ２は、第３搬送機構１５が第１処理部１９と第２処理部２７の前を通って純水洗浄処理部２９の前に移動するのに要する第２の空間における動作時間に相当する。また、時間ｔ３〜ｔ４にわたる時間Ｔ３は、第３搬送機構１５が第２ロットの基板Ｗを第２副搬送機構３３に対して渡す動作に要する第３の空間における動作時間に相当する。
【００４９】
ステップＳ２２の途中である時間ｔ３において、第１ロットの基板Ｗの薬液処理であるステップＳ１０が規定時間に達する。すると、第１ロットは、第２ロットのために使用されている第３搬送機構１５が終了する時間ｔ４まで待つことなく、第１移載領域ＩＬ１と第２移載領域のリソースが使用を終えるタイミングに合わせて、第１副搬送機構２５のリソース使用開始時期を時間ｔ３に早め、時間ｔ５までステップＳ１２で使用する。これにより、第１ロットの基板Ｗが薬液処理部２３から純水洗浄処理部２１に移動される（時間ｔ３〜ｔ５）。なお、このとき第１副搬送機構２５の保持アーム２５ａが非処理位置にあるので、第１副搬送機構２５のリソースを使用するとともに、同じ時間ｔ３〜ｔ５にわたって第１移載領域ＩＬ１のリソースをステップＳ１２ａで使用する。
【００５０】
その後、第２ロットは、時間ｔ４〜ｔ８にわたり純水洗浄処理部２９のリソースをステップＳ２４で使用する。また、時間ｔ６〜ｔ７にわたり、第１副搬送機構２５に対向していた第３搬送機構１５が待機位置に戻るために第３搬送機構１５のリソースがステップＳ２６で使用されるとともに、第３搬送機構１５が第１移載領域ＩＬ１と第２移載領域ＩＬ２を通るので、これらリソースも時間ｔ６〜ｔ７にわたってステップＳ２６ａで使用される。なお、このときの第２副搬送機構３３の動作については、説明の都合上省略してある。第１ロットは、時間ｔ５〜ｔ９にわたり純水洗浄処理部２１のリソースをステップＳ１４で使用する。
【００５１】
このようなスケジュールを予め作成しておき、記憶部３９に記憶しておく。そして、実際にロットの処理を開始する際に、そのスケジュールを処理プログラムが実行して実際にロット単位の基板Ｗを処理してゆく。
【００５２】
上述したように、第２ロットが第３搬送機構１５を使用する場合には第１移動領域ＩＬ１又は／及び第２移動領域ＩＬ２を使用し、第１ロットが第１副搬送機構２５又は第２副搬送機構３３を使用する場合には、第１移動領域ＩＬ１又は／及び第２移動領域ＩＬ２の使用が終了するタイミングにまで早めてそのリソースを使用するようにスケジューリングする。このように、干渉する空間のリソースの使用が終わった時点で第１副搬送機構２５又は第２副搬送機構３３の動作を始めることにより、効率的に搬送を行なうことができる。
【００５３】
また、予め各リソースの使用タイミングを作成するので、基板の処理が正常に行なわれるように制御できる。そのため基板に対して過剰処理が施されるのを防止できるとともに、他のロットの流れを妨げることが防止できる。
【００５４】
＜従来第１の方法との比較＞
【００５５】
図４に示すタイムチャートは、本発明（図４（ａ））と従来技術で説明した第１の方法（図４（ｂ））とを比較したものである。
このように従来技術では、第３搬送機構１５の動作終了を待つ必要があることから待ち時間（図４（ｂ）の黒塗り部）が生じて、薬液処理部２３における過剰処理が生じる恐れがある。一方、本発明によると待ち時間が生じないので、過剰処理が防止できるとともに、第１ロットの基板Ｗの純水洗浄処理を開始するまでの時間をＴＡ時間早めることができる。
【００５６】
＜従来第２の方法との比較＞
【００５７】
図５は、本発明（図５（ａ））と従来技術で説明した第２の方法（図５（ｂ））とを比較するタイムチャートである。
従来技術では、薬液処理部２３からの第１ロットの基板Ｗを第１副搬送機構２５で搬送するのを優先するために、第１のロットが薬液処理部２３で処理を終える予定時刻から所定時間までの範囲にわたってインターロックをかけて第３搬送機構１５の動作を禁止する。その結果、薬液処理部２３での過剰処理を防止することができるものの、待ち時間（図５（ｂ）の黒塗り部）が生じて他のロットの処理に悪影響を及ぼす。その一方、本発明によると、待ち時間が生じないので、他ロットへの影響を抑制でき、第２ロットの基板Ｗの純水洗浄処理を開始するまでの時間をＴＢ時間早めることができる。
【００５８】
なお、上記の説明においては理解の容易のために、搬送に係るレシピの一部だけを例に採って説明した。本発明は、予め処理の前にスケジュールを作成してから実際の処理を行なうのであれば適用可能であるが、そのなかでも次のようなスケジュール作成方法が好適である。
【００５９】
すなわち、基板に処理を施すための処理部を複数個備えた基板処理装置によって複数のロットを処理するにあたり、複数の処理工程を含むレシピに基づいて各々のロットを各処理部で順次に処理するために各ロットの処理順序を決定する基板処理装置のスケジュール作成方法において、いずれかのロットについて最初の処理工程を配置した後、各ロットの次なる処理工程のうち、各々の前の処理工程における終了予定時刻が最も早いロットに対する処理工程を次の処理工程として配置するのである。
【００６０】
この方法における処理工程とは、上述した第１ロットの薬液処理部２３における処理と、第１副搬送機構２５における処理と、純水洗浄処理部２１における処理とを含む工程であり、第２ロットの第２搬送機構１３における処理と、第３搬送機構１５における処理と、純水洗浄処理部２９における処理とを含む工程のことである。
【００６１】
この方法によれば、予めスケジュールすることで前の処理工程の後作業と、その後の処理工程の前作業とを重複させて配置することができるとともに、配置可能な処理工程のうち前の処理工程が早く終わるロットの処理工程を次の処理工程として選択して配置することで、次の処理工程が終了するまでの時間を短縮することができる。したがって、基板処理装置の処理部を有効利用することができるので、待機時間を抑制して稼働率を向上することができる。
【００６２】
また、本発明は基板処理装置であればどのような処理を施す装置であっても適用することができる。例えば、基板に対してフォトレジスト被膜を被着する装置や、基板の表面に導電膜を被着するエッチング装置などであってもよい。
【００６３】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、あるロットが一方の搬送機構を使用する場合には干渉空間のリソースを使用し、次なるロットが他方の搬送機構を使用する場合には、干渉空間のリソースの使用を終了するタイミングにまで早めてそのリソースを使用するようにスケジューリングする。このように、干渉空間のリソースの使用が終わった時点で他方の搬送機構の動作を始めることにより、効率的に搬送を行なうことができる。
【００６４】
また、予め各リソースの使用タイミングを作成するので、基板の処理が正常に行なわれるように制御できる。そのため基板に対して過剰処理が施されるのを防止できるとともに、他のロットの流れを妨げることが防止できる。
【００６５】
また、基板の受け渡し動作時を除き、一方の搬送機構が他方の搬送機構近傍を通過して移動先に向かう移動時間を干渉空間としてスケジュール作成時に考慮することで、他方の搬送機構の動作開始時を早めることが可能である。
【００６６】
さらに、他方の搬送機構が動作する際には、そのリソースに加えて干渉空間のリソースを使用するようにスケジュールを作成することができる。
【００６７】
請求項２に記載の発明によれば、処理部として純水洗浄処理部と薬液処理部を有する基板処理装置で上記のようなスケジュール作成を行なうことにより、基板に対して効率的に薬液処理を施すことができる。
【００６８】
請求項３に記載の発明によれば、主搬送機構と副搬送機構とを備えた複数個の搬送機構を有する基板処理装置にて、上記のようなスケジュール作成を行なうことで効率的に基板を処理することができる。
【００６９】
請求項４に記載の発明によれば、処理部として純水洗浄処理部と薬液処理部とを備えるとともに、主搬送機構と副搬送機構を備えた複数個の搬送機構を有する基板処理装置にて上記のようなスケジュール作成を行なうことによって、効率的に基板を処理することができる。
【００７０】
請求項５に記載の発明によれば、薬液処理を行なった後に水洗処理を行なう処理を対象にして上記のようなスケジューリングを行なうことにより、より適切に処理を行なうことができる。
【００７１】
請求項８に記載の発明によれば、プログラムとして上記の請求項１と同様の効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図１】  実施例に係る基板処理装置の概略構成を示した平面図である。
【図２】  実施例に係る基板処理装置の概略構成を示したブロック図である。
【図３】  スケジュール例の一部を示すタイムチャートである。
【図４】  本発明と従来例（第１の方法）を比較するタイムチャートである。
【図５】  本発明と従来例（第２の方法）を比較するタイムチャートである。
【符号の説明】
１１  …  第１搬送機構
１３  …  第２搬送機構
１５  …  第３搬送機構（一方の搬送機構、主搬送機構）
１５ａ  …  支持アーム
１７  …  乾燥処理部
２１  …純水洗浄処理部（処理部）
２３  …  薬液処理部（処理部）
２５  …  第１副搬送機構（他方の搬送機構）
２５ａ  …  保持アーム
３３  …  第１副搬送機構（他方の搬送機構）
３３ａ  …  保持アーム
ＩＬ１  …  第１移載領域（干渉空間）
ＩＬ２  …  第２移載領域（干渉空間）
３７  …  制御部
【図１】
0003960761.tif 000002
【図２】
0003960761.tif 000003
【図３】
0003960761.tif 000004
【図４】
0003960761.tif 000005
【図５】
0003960761.tif 000006