(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ロッドの下端に設けられたフッ素樹脂製のダイアフラムと、前記ダイアフラムが密着・離間する弁座と、前記弁座に連通する流入路及び流出路と、前記弁座及び、前記流入路、前記流出路が形成されたフッ素樹脂製のボディと、前記弁座の周りを取り囲んで前記ボディに形成されたシール溝と、を有し、
前記ダイアフラムの周縁部に、軸方向に突出して形成され、前記シール溝に対応する、周縁突出部を備え、前記周縁突出部の厚みＷ０は、前記シール溝の幅Ｗ２に対して嵌合可能に厚く、前記周縁突出部を前記シール溝に圧入することで、前記シール溝の内壁部の厚みＷ３側を押圧しつつ、シリンダと前記ボディとで挟着することにより外部シールを行う薬液制御弁において、
前記周縁突出部の内側側面で、内径方向に凸に形成された第１環状突起を備え、
前記周縁突出部の厚みＷ０は、前記シール溝の幅Ｗ２よりも薄く形成される一方、前記第１環状突起を含む前記周縁突出部の厚みＷ１は、前記シール溝の幅Ｗ２よりも厚く形成され、
前記周縁突出部を前記シール溝に圧入させた状態では、前記第１環状突起の突出部を含む厚みＷ１は、前記シール溝の幅Ｗ２までつぶされ、前記第１環状突起が前記シール溝の側面の一部を押圧することにより、前記周縁突出部に発生する内部応力にピーク値を持たせる一方で、
前記シール溝の内壁部の厚みＷ３に対して、前記シール溝の幅Ｗ２は約２割程度に設定することを特徴とする薬液制御弁。
【請求項２】
請求項１に記載する薬液制御弁において、
前記第１環状突起を含めた前記周縁突出部の厚みＷ１に対して、前記シール溝の幅Ｗ２は約８割程度に設定されていること、を特徴とする薬液制御弁。
【請求項３】
請求項１又は請求項２に記載する薬液制御弁であって、
前記弁座の周りを取り囲んだ第２環状突起を前記ボディの挟着面に形成させたこと、を特徴とする薬液制御弁。
【請求項４】
請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載する薬液制御弁であって、
前記周縁突出部と前記シリンダの挟着面との間に弾性シール部材を介在させたこと、を特徴とする薬液制御弁。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか一つに記載する薬液制御弁であって、
半導体製造装置の薬液を制御することを、を特徴とする薬液制御弁。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体製造装置などの薬液を制御する薬液制御弁に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、半導体製造装置の薬液を制御するために使用される薬液制御弁には、例えば、図８の断面図に示すようなものがある。そこで、図８の薬液制御弁１の構成について説明する。ベースプレート２に固設されたボディ３には、流入路３１及び流出路３２が形成されている。この点、流入路３１の一端には接続ナット７を螺着した流入ポート６が形成され、流出路３２の一端には接続ナット５を螺着した流出ポート４が形成されている。また、ボディ３の上面にある流入路３１の他端には弁座１９が形成されており、さらに、弁座１９の周りを取り囲むようにしてシール溝２１が形成されている。
【０００３】
一方、ピストンロッド１０を内装したシリンダ９の上部には、通気ポート１４を設けたカバー１３が取り付けられている。そして、カバー１３とピストンロッド１０とで形成されたシリンダ９の上部空間には、ピストンロッド１０を下方向へ付勢するスプリング１２が内挿されている。また、ピストンロッド１０の下端にはダイアフラム８が螺設されている。この点、ダイアフラム８の外周には周縁突出部２２が形成されている。そして、ダイアフラム８の周縁突出部２２をボディ３のシール溝２１に圧入しつつ、ダイアフラム８の周縁突出部２２を挟んだ状態でシリンダ９とボディ３とで取り付けることにより、ダイアフラム８を固定する。
【０００４】
従って、ボディ３の操作ポート１１を介してシリンダ９の下部空間に圧縮空気を給気すると、スプリング１２の付勢力と圧縮空気の圧力とのバランスにより、ピストンロッド１０が上方向に移動し、ピストンロッド１０の下端に設けられたダイアフラム８が弁座１９から離間する。一方、ボディ３の操作ポート１１を介してシリンダ９の下部空間から圧縮空気を排気すると、スプリング１２の付勢力と圧縮空気の圧力とのバランスにより、ピストンロッド１０が下方向に移動し、ピストンロッド１０の下端に設けられたダイアフラム８が弁座１９に密着する。これにより、弁座１９を介して流入ポート６から流出ポート４に流す薬液を制御することが可能となる。
【０００５】
また、半導体製造装置で使用される制御対象の薬液の性質を考慮して、ダイアフラム８やボディ３など接液する部品の材質には、フッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥなど）が用いられている。
【０００６】
さらに、ダイアフラム８とボディ３との間の外部シール性は、半導体製造装置で使用される制御対象の薬液の性質を考慮すれば、最も重要な事項の一つである。この点、図９に示すように、かかる外部シール性は、ダイアフラム８の周縁突出部２２をボディ３のシール溝２１に圧入した際、弾性力を有するダイアフラム８の周縁突出部２２が径方向に圧縮されることにより、すなわち、ダイアフラム８の周縁突出部２２がその厚さＷ１からシール溝２１の幅Ｗ２につぶされることにより、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内部に発生する応力（以下、「シール応力」という）で確保していた。
【０００７】
尚、図９は、ダイアフラム８の周縁突出部２２がシール溝２１に圧入された状態を示しているが、説明の便宜上、ダイアフラム８の周縁突出部２２は、シール溝２１の幅Ｗ２につぶされる以前の厚さＷ１で示されている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年、半導体製造装置の高集積化が進むにつれて高浸透性の薬液を扱うことが多くなり、高浸透性の薬液には、ふっ酸などの危険なものも含まれていることから、外部シール構造に対し、更なる安全性の確保が望まれるようになってきた。
【０００９】
この点、更なる安全性を確保するためには、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内部に発生する「シール応力」を大きくすればよく、それには、ダイアフラム８の周縁突出部２２の幅Ｗ１を厚くして、ダイアフラム８の周縁突出部２２をボディ３のシール溝２１に圧入した際に、ダイアフラム８の周縁突出部２２のつぶし代を大きくすることが考えられる。しかし、このとき、フッ素樹脂製のボディ３に形成されたシール溝２１の内壁側面１５を内側に押す力も大きくなり、かかる力をシール溝２１の内壁側面１５の全面で受けて、シール溝２１の内壁部４１が内側に傾斜する状態になるので、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内部に発生する「シール応力」を、期待したほどに大きくすることはできなかった。そこで、シール溝２１の内壁部４１が内側に傾斜しないように、上記事項に加えて、かかる内壁部４１の幅Ｗ３を厚くすることが考えられるが、このとき、薬液制御弁１の全体の大きさが以前のものと変わらない条件であれば、流路面積（弁座１９や、流入路３１、流出路３２の断面積）を小さくしなければならないので、流量能力が低下するといった弊害が生じることになる。
【００１０】
そこで、本発明は、上述した問題点を解決するためになされた薬液制御弁であって、流量能力を維持しつつ、外部シール構造の更なる安全性を確保することを課題とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
この課題を解決するために成された請求項１に係る発明は、ロッドの下端に設けられたフッ素樹脂製のダイアフラムと、前記ダイアフラムが密着・離間する弁座と、前記弁座に連通する流入路及び流出路と、前記弁座及び、前記流入路、前記流出路が形成されたフッ素樹脂製のボディと、前記弁座の周りを取り囲んで前記ボディに形成されたシール溝と、を有し、前記ダイアフラムの周縁突出部を前記シール溝に圧入しつつ前記シリンダと前記ボディとで挟着することにより外部シールを行う薬液制御弁において、前記ダイアフラムの周縁突出部の側面に形成された第１環状突起を備え、前記ダイアフラムの周縁突出部を前記シール溝に圧入させた状態では、前記第１環状突起が前記シール溝の側面の一部を押圧することにより、前記ダイアフラムの周縁突出部に発生する内部応力にピーク値を持たせる一方で、前記シール溝の内壁部の厚みと前記シール溝の幅との和を変更することなく、前記シール溝の幅を狭くすることにより前記シール溝の内壁部を厚みを増やしたこと、を特徴としている。
【００１２】
また、請求項２に係る発明は、ロッドの下端に設けられたフッ素樹脂製のダイアフラムと、前記ダイアフラムが密着・離間する弁座と、前記弁座に連通する流入路及び流出路と、前記弁座及び、前記流入路、前記流出路が形成されたフッ素樹脂製のボディと、前記弁座の周りを取り囲んで前記ボディに形成されたシール溝と、を有し、前記ダイアフラムの周縁突出部を前記シール溝に圧入しつつ前記シリンダと前記ボディとで挟着することにより外部シールを行う薬液制御弁において、前記シール溝の側面に形成された第１環状突起を備え、前記ダイアフラムの周縁突出部を前記シール溝に圧入させた状態では、前記第１環状突起が前記ダイアフラムの周縁突出部の側面の一部を押圧することにより、前記ダイアフラムの周縁突出部に発生する内部応力にピーク値を持たせる一方で、前記シール溝の内壁部の厚みと前記シール溝の幅との和を変更することなく、前記シール溝の幅を狭くすることにより前記シール溝の内壁部を厚みを増やしたこと、を特徴としている。
【００１３】
また、請求項３に係る発明は、請求項１又は請求項２に記載する薬液制御弁であって、前記弁座の周りを取り囲んだ第２環状突起を前記ボディの挟着面に形成させたこと、を特徴としている。
【００１４】
また、請求項４に係る発明は、請求項１乃至請求項３のいずれか一つに記載する薬液制御弁であって、前記ダイアフラムの周縁突出部と前記シリンダの挟着面との間に弾性シール部材を介在させたこと、を特徴としている。
【００１５】
また、請求項５に係る発明は、請求項１乃至請求項４のいずれか一つに記載する薬液制御弁であって、半導体製造装置の薬液を制御することを、を特徴としている。
【００１６】
このような特徴を有する本発明の薬液制御弁では、ダイアフラムの周縁突出部をシール溝に圧入させた状態では、ダイアフラムの周縁突出部の側面又はシール溝の側面に形成された第１環状突起をもって、シール溝の側面の一部又はダイアフラムの周縁突出部の側面の一部を押圧することにより、ダイアフラムの周縁突出部に発生する内部応力にピーク値を持たせて、外部シールの「シール応力」を、シール溝の側面の一部又はダイアフラムの周縁突出部の側面の一部に集中して作用させることにより確保しており、さらに、シール溝の内壁部の厚みとシール溝の幅との和が従来技術のものと同じなので、流路面積（弁座や、流入路、流出路の断面積）が小さくなることはないが、シール溝の幅を狭くしてシール溝の内壁部の厚みを増やしているので、外部シールの「シール応力」のピーク値が大きなものであっても、フッ素樹脂製のシール溝が大きく変形することがなく、流量能力を維持しつつ、外部シール構造の更なる安全性を確保できる。
【００１７】
また、本発明の薬液制御弁において、弁座の周りを取り囲んだ第２環状突起をボディの挟着面に形成させれば、外部シールが二重シール構造となるので、外部シール構造の更なる安全性の向上に役立つ。
【００１８】
さらに、本発明の薬液制御弁において、ダイアフラムの周縁突出部とシリンダの挟着面との間に弾性シール部材を介在させれば、高温の薬液を制御することにより、フッ素樹脂製のボディやダイアフラムが収縮し、ボディとシリンダでダイアフラムを挟持する力が弱まっても、弾性シール部材の弾性力で補うことができるので、制御対象の薬液の取扱温度領域を高温側に広げることができる。
【００１９】
尚、本発明の薬液制御弁が制御対象とする薬液には、例えば、半導体製造装置で使用される薬液がある。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の第１実施の形態を図面を参照にして説明する。第１実施の形態の薬液制御弁の構成は、後述する外部シール構造を除いて、従来技術の欄で説明した図８の薬液制御弁１の構成と同一である。そこで、同一の構成については、同一の符号を付して説明を省略し、異なった点を中心に説明する。
【００２１】
第１実施の形態の薬液制御弁１の外部シール構造は、図１に示すように、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内側側面に形成され、シール溝２１の幅Ｗ２より大きい厚みＷ１を持つ第１環状突起２３を備えたことと、従来技術の薬液制御弁１の外部シール構造（図９参照）と比べて、シール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３とシール溝２１の幅Ｗ２との和（Ｗ３＋Ｗ２）を変更することなく、シール溝２１の幅Ｗ２を狭くすることによりシール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３を増やしたことよりなる。
【００２２】
この点、図２の表に示すように、シール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３は、従来技術のもの（図９参照）と比べて、１．４倍に増やしている。また、シール溝２１の幅Ｗ２は、従来技術のシール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３（図９参照）の０．３倍である一方、従来技術のもの（図９参照）は、従来技術のシール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３（図９参照）の０．７倍もある。すなわち、シール溝２１の幅Ｗ２は、従来技術のもの（図９参照）と比べて、３／７倍に減らしている。
【００２３】
そして、図１の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２をボディ３のシール溝２１に圧入した際、弾性力を有するダイアフラム８の周縁突出部２２が径方向に圧縮されることにより、すなわち、ダイアフラム８の周縁突出部２２の第１環状突起２３がその厚さＷ１からシール溝２１の幅Ｗ２につぶされることにより、「シール応力」を、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内部に発生する応力で確保する。
【００２４】
このとき、つぶし代を「（Ｗ１−Ｗ２）／Ｗ１×１００」と定義すれば、図２の表に示すように、図１の外部シール構造においては２０（％）となるが、図９の従来技術のものにおいては１０（％）となるので、図１の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内部に発生する応力が大きいことがわかる。
【００２５】
すなわち、図１の外部シール構造では、ダイアフラム８の周縁突出部２２をシール溝２１に圧入させた状態では、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内側側面に形成された第１環状突起２３をもって、シール溝２１の内壁側面１５の一部を押圧することにより、ダイアフラム８の周縁突出部２２に発生する内部応力にピーク値を持たせて、外部シールの「シール応力」を、シール溝２１の内壁側面１５の一部に集中して作用させることにより確保している。
さらに、シール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３とシール溝２１の幅Ｗ２との和（Ｗ３＋Ｗ２）が従来技術のものと同じなので（図９参照）、流路面積（弁座１９や、流入路３１、流出路３２の断面積）が小さくなることはないが（図８参照）、図２の表に示すように、シール溝２１の幅Ｗ２を狭くしてシール溝２１の内壁部４１の厚みＷ３を増やしているので、外部シールの「シール応力」のピーク値が大きなものであっても、フッ素樹脂製のシール溝２１が大きく変形することがない。
よって、流量能力を維持しつつ、外部シール構造の更なる安全性を確保できる。
【００２６】
尚、図１は、ダイアフラム８の周縁突出部２２がシール溝２１に圧入された状態を示しているが、説明の便宜上、ダイアフラム８の周縁突出部２２及びその第１環状突起２３は、シール溝２１の幅Ｗ２につぶされる以前（の厚さＷ１）で示されている。実際は、ダイアフラム８の周縁突出部２２及びその第１環状突起２３は、例えば、図３に示すように、シール溝２１につぶされる。
【００２７】
以下、本発明の第２実施の形態を図面を参照にして説明する。第２実施の形態の薬液制御弁の構成は、上述した第１実施の形態の薬液制御弁１の外部シール構造（図１参照）を２重シールとし、図３に示すように、弁座１９の周りを取り囲んだ第２環状突起２５を、シール溝２１の内壁部４１の上面、すなわち、ボディ３の挟着面２４に形成させている。さらに、図３の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間にＯリング２７（「弾性シール部材」に相当するもの）を介在させている。
【００２８】
すなわち、図３の外部シール構造においては、弁座１９の周りを取り囲んだ第２環状突起２５をボディ３の挟着面２４に形成させており、外部シールが二重シール構造となるので、外部シール構造の更なる安全性の向上に役立つ。
【００２９】
また、本実施の形態の薬液制御弁１は、従来技術の欄で指摘したように、ダイアフラム８やボディ３など接液する部品の材質にフッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥなど）が用いられているが、この点、フッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥ）は、図６（ＰＴＦＥに対するもの）及び図７（ＰＦＡに対するもの）の表に示すような線膨張係数を有するので、制御対象の薬液が高温であると、フッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥなど）製のボディ３やダイアフラム８が収縮し、ボディ３とシリンダ９でダイアフラム８を挟持する力が弱まる可能性がある。
【００３０】
しかしながら、図３の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間にＯリング２７を介在させており、高温の薬液を制御することにより、フッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥなど）製のボディ３やダイアフラム８が収縮し、ボディ３とシリンダ９でダイアフラム８を挟持する力が弱まっても、Ｏリング２７の弾性力で補うことができるので、制御対象の薬液の取扱温度領域を高温側に広げることができる。
【００３１】
尚、図３の外部シール構造は、図１の外部シール構造を前提とするものであるから、上述した図１の外部シール構造の作用・効果も有するものである。
【００３２】
以下、本発明の第３実施の形態を図面を参照にして説明する。第３実施の形態の薬液制御弁の構成は、上述した第１実施の形態の薬液制御弁１の外部シール構造（図１参照）に対し、図４に示すように、弁座１９の周りを取り囲んだ第２環状突起２５を、シール溝２１の内壁部４１の上面、すなわち、ボディ３の挟着面２４に形成させている。さらに、図４の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間にダイアフラム２８（「弾性シール部材」に相当するもの）を介在させている。
この点、かかるダイアフラム２８の外周部は、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間に挟まれ、かかるダイアフラム２８の内周部は、ピストンロッド１０とダイアフラム８との間に挟まれる。
【００３３】
すなわち、図４の外部シール構造においては、弁座１９の周りを取り囲んだ第２環状突起２５をボディ３の挟着面２４に形成させており、外部シールが二重シール構造となるので、外部シール構造の更なる安全性の向上に役立つ。
【００３４】
また、図４の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間にダイアフラム２８を介在させており、高温の薬液を制御することにより、フッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥなど）製のボディ３やダイアフラム８が収縮し、ボディ３とシリンダ９でダイアフラム８を挟持する力が弱まっても、ダイアフラム２８の弾性力で補うことができるので、制御対象の薬液の取扱温度領域を高温側に広げることができる。
【００３５】
尚、図４の外部シール構造は、図１の外部シール構造を前提とするものであるから、上述した図１の外部シール構造の作用・効果も有するものである。
【００３６】
以下、本発明の第４実施の形態を図面を参照にして説明する。第４実施の形態の薬液制御弁の構成は、上述した第１実施の形態の薬液制御弁１の外部シール構造（図１参照）に対し、図５に示すように、弁座１９の周りを取り囲んだラビリンス２９を、シール溝２１の内壁部４１の上面、すなわち、ボディ３の挟着面２４に形成させている。さらに、図５の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間にＯリング２７（「弾性シール部材」に相当するもの）を介在させている。
【００３７】
すなわち、図５の外部シール構造においては、弁座１９の周りを取り囲んだラビリンス２９をボディ３の挟着面２４に形成させており、外部シールが二重シール構造となるので、外部シール構造の更なる安全性の向上に役立つ。
【００３８】
また、図５の外部シール構造においては、ダイアフラム８の周縁突出部２２とシリンダ９の挟着面２６との間にＯリング２７を介在させており、高温の薬液を制御することにより、フッ素樹脂（ＰＦＡ，ＰＴＦＥなど）製のボディ３やダイアフラム８が収縮し、ボディ３とシリンダ９でダイアフラム８を挟持する力が弱まっても、Ｏリング２７の弾性力で補うことができるので、制御対象の薬液の取扱温度領域を高温側に広げることができる。
【００３９】
尚、図５の外部シール構造は、図１の外部シール構造を前提とするものであるから、上述した図１の外部シール構造の作用・効果も有するものである。
【００４０】
尚、本発明は上記実施の形態に限定されるものでなく、その趣旨を逸脱しない範囲で様々な変更が可能である。
例えば、上記実施の形態の薬液制御弁１の外部シール構造では、図１に示すように、第１環状突起２３を、ダイアフラム８の周縁突出部２２の内側側面に形成させているが、シール溝２１の内壁側面１５に形成させてもよい。
【００４１】
また、第１環状突起２３を、ダイアフラム８の周縁突出部２２の外側側面、又は、シール溝２１の外壁側面に形成してもよい。
【００４２】
また、上記実施の形態の薬液制御弁１の外部シール構造では、ピストンロッド１０（「ロッド」に相当するもの）が上・下方向に移動することにより、ピストンロッド１０の下端に設けられたダイアフラム８が弁座１９に密着・離間するものであったが、この点、その下端にダイアフラム８を設けた「ロッド」が、ソレノイドやモータなどで、上・下方向に移動するものであってもよい。
【００４３】
【発明の効果】
本発明の薬液制御弁では、ダイアフラムの周縁突出部をシール溝に圧入させた状態では、ダイアフラムの周縁突出部の側面又はシール溝の側面に形成された第１環状突起をもって、シール溝の側面の一部又はダイアフラムの周縁突出部の側面の一部を押圧することにより、ダイアフラムの周縁突出部に発生する内部応力にピーク値を持たせて、外部シールの「シール応力」を、シール溝の側面の一部又はダイアフラムの周縁突出部の側面の一部に集中して作用させることにより確保しており、さらに、シール溝の内壁部の厚みとシール溝の幅との和が従来技術のものと同じなので、流路面積（弁座や、流入路、流出路の断面積）が小さくなることはないが、シール溝の幅を狭くしてシール溝の内壁部の厚みを増やしているので、外部シールの「シール応力」のピーク値が大きなものであっても、フッ素樹脂製のシール溝が大きく変形することがなく、流量能力を維持しつつ、外部シール構造の更なる安全性を確保できる。
【００４４】
また、本発明の薬液制御弁において、弁座の周りを取り囲んだ第２環状突起をボディの挟着面に形成させれば、外部シールが二重シール構造となるので、外部シール構造の更なる安全性の向上に役立つ。
【００４５】
さらに、本発明の薬液制御弁において、ダイアフラムの周縁突出部とシリンダの挟着面との間に弾性シール部材を介在させれば、高温の薬液を制御することにより、フッ素樹脂製のボディやダイアフラムが収縮し、ボディとシリンダでダイアフラムを挟持する力が弱まっても、弾性シール部材の弾性力で補うことができるので、制御対象の薬液の取扱温度領域を高温側に広げることができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施の形態の薬液制御弁の外部シール構造を示した断面図である。
【図２】本発明の第１実施の形態及び従来技術の薬液制御弁のつぶし代などを比較した表である。
【図３】本発明の第２実施の形態の薬液制御弁の外部シール構造を示した断面図である。
【図４】本発明の第３実施の形態の薬液制御弁の外部シール構造を示した断面図である。
【図５】本発明の第４実施の形態の薬液制御弁の外部シール構造を示した断面図である。
【図６】本発明の第１〜第４実施の形態の薬液制御弁において、ダイアフラムの材質（ＰＴＦＥ）の線膨張係数を示した表である。
【図７】本発明の第１〜第４実施の形態の薬液制御弁において、ボディの材質（ＰＦＡ）の線膨張係数を示した表である。
【図８】本発明の第１〜第４実施の形態及び従来技術の薬液制御弁の断面図である。
【図９】従来技術の薬液制御弁の外部シール構造を示した断面図である。
【符号の説明】
１  薬液制御弁
３  ボディ
８  ダイアフラム
９  シリンダ
１０  ピストンロッド
１５  シール溝の内壁側面
１９  弁座
２１  シール溝
２２  ダイアフラムの周縁突出部
２３  第１環状突起
２４  ボディの挟着面
２５  第２環状突起
２６  シリンダの挟着面
２７  Ｏリング
２８  ダイアフラム
４１  シール溝の内壁部
【図１】
0003867995.tif 000002
【図２】
0003867995.tif 000003
【図３】
0003867995.tif 000004
【図４】
0003867995.tif 000005
【図５】
0003867995.tif 000006
【図６】
0003867995.tif 000007
【図７】
0003867995.tif 000008
【図８】
0003867995.tif 000009
【図９】
0003867995.tif 000010