(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材表面に形成される硬質皮膜であって、
基材側に形成される第１層の組成は、
（Ａｌx Ｔｉ1−x ）（Ｎy Ｃ1−y ）
但し０．２５≦ｘ≦０．７５，０．６≦ｙ≦１
であり、
表面側に積層された第２層の組成は
（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎu Ｃ1-u ）
但し、ｐ，ｑ，ｒは０．２０≦ｐ，０．２０≦ｑ，
０．１≦ｒ≦０．５，ｐ＋ｑ＋ｒ＝１を満足し、０．６≦ｕ≦１
であることを特徴とする耐摩耗性に優れた硬質皮膜。
【請求項２】
請求項１に記載の前記第１層と前記第２層の間に、４ａ，５ａ，６ａ族の金属からなる中間層を５００ｎｍ以下の厚みで形成されてなることを特徴とする耐摩耗性に優れた硬質皮膜。
【請求項３】
請求項１に記載の前記第１層と前記第２層の間に、Ａｌx Ｔｉy Ｖz （但し、０．２０≦ｘ≦０．７５，０．２０≦ｙ≦０．７５，０≦ｚ≦０．５，ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）からなる中間層を５００ｎｍ以下の厚みで形成されてなることを特徴とする耐摩耗性に優れた硬質皮膜。
【請求項４】
皮膜全体の厚さが、０．８〜５０μｍである請求項１〜３のいずれかに記載の硬質皮膜。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の硬質皮膜が形成されてなる硬質皮膜被覆部材。
【請求項６】
請求項１〜４のいずれかに記載の硬質皮膜が２０μｍ以下の厚さで形成されてなる切削工具。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、フライス加工，切削加工，穿孔加工等の加工に使用される切削工具の表面被覆材、或は金型，軸受け，ダイス，ロールなど高硬度が要求される耐摩耗部材の表面被覆材、もしくは成形機用スクリューやシリンダ等の耐熱・耐食部材の表面被覆材として有用な硬質皮膜に関し、更には該硬質皮膜を被覆することによって優れた耐摩耗性を発揮する硬質皮膜被覆部材に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
高速度工具や超硬合金工具など高い耐摩耗性が要求される切削工具は、工具の基材表面にＴｉＮやＴｉＣＮ等の硬質皮膜を形成することにより耐摩耗性の向上が図られている。
【０００３】
また、上記硬質皮膜より一層優れた耐摩耗性を発揮する皮膜として、（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜が開発され、高硬度材の切削や、高速切削に用いる工具に使用されている。
【０００４】
更に、硬質皮膜の開発は上記（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎ膜の様な３元系の複合材料にとどまらず、４元系の複合材料による耐摩耗性改善技術も提案されている。例えば、特開平３−１２０３５４号，特開平１０−１８０２４号，特公平５−８８３０９号，特開平１０−２３７６２８号公報等に開示されている（Ｔｉ，Ａｌ，Ｖ）Ｎ系の膜がある。但し、この硬質皮膜は、Ｓ５０Ｃ等の炭素鋼に代表される低硬度鋼材の切削においては優れた耐摩耗性を示すが、基材との密着性に乏しく剥離し易いことから、ＴｉＮの中間層を挿入したり、膜厚方向にＡｌとＶの組成を変化させる傾斜組成化を図ることによって密着性の改善が試みられている。しかしながら、これらの改善技術を用いても密着性は十分ではなく、またＳＫＤ６１等の焼入れ鋼といった高硬度鋼材の切削では、むしろ（Ｔｉ，Ａｌ）Ｎよりも耐摩耗性が劣ることが指摘されていた。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は上記事情に着目してなされたものであって、耐摩耗性及び密着性に優れた硬質皮膜と、上記硬質皮膜が形成された硬質皮膜被覆部材を提供しようとするものである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を達成した本発明とは、基材表面に形成される硬質皮膜であって、
基材側に形成される第１層の組成は、
（Ａｌx Ｔｉ1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ）
但し０．２５≦ｘ≦０．７５，０．６≦ｙ≦１
であり、
表面側に積層された第２層の組成は
（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎu Ｃ1-u ）
但し、ｐ，ｑ，ｒは０．２０≦ｐ，０．２０≦ｑ，
０．１≦ｒ≦０．５，ｐ＋ｑ＋ｒ＝１を満足し、０．６≦ｕ≦１
であることを要旨とするものである。
【０００７】
更に、請求項１に記載の前記第１層と前記第２層の間に、４ａ，５ａ，６ａ族の金属（Ｔｉ，Ｚｒ，Ｈｆ，Ｖ，Ｎｂ，Ｔａ，Ｃｒ，Ｍｏ，Ｗ）からなる中間層を５００ｎｍ以下の厚みで形成するか、或いはＡｌx Ｔｉy Ｖz （但し、０．２０≦ｘ≦０．７５，０．２０≦ｙ≦０．７５，０≦ｚ≦０．５，ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）からなる中間層を５００ｎｍ以下の厚みで形成すれば、より優れた密着性が得られるので望ましい。
【０００８】
上記皮膜全体の厚さは、０．８〜５０μｍとすることが望ましく、本発明に係る上記硬質皮膜が形成されたなる硬質皮膜被覆部材は、優れた耐摩耗性を発揮する。尚、上記硬質皮膜を工具上に形成する場合には、２０μｍ以下の厚さとすることが望ましい。
【０００９】
【発明の実施の形態】
本発明者らは、耐摩耗性及び密着性に優れた硬質皮膜の開発を目的として、鋭意研究を重ねた。その結果、基材表面に形成される硬質皮膜において、
基材側に（Ａｌx Ｔｉ1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ）
但し０．２５≦ｘ≦０．７５，０．６≦ｙ≦１
で第１層を形成し、その上に形成する第２層の組成を、
（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎu Ｃ1-u ）
但し、ｐ，ｑ，ｒは０．２０≦ｐ，０．２０≦ｑ，
０．１≦ｒ≦０．５，ｐ＋ｑ＋ｒ＝１を満足し、０．６≦ｕ≦１
とすれば、非常に耐摩耗性に優れた硬質皮膜を基材上に密着性良く形成できることを見出し、本発明に想到した。
【００１０】
本発明に係る硬質皮膜が、優れた密着性を発揮する理由は、（Ａｌx Ｔｉ1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ）の皮膜からなる第１層を、基材と（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎu Ｃ1-u ）膜の間に形成することにより応力が緩和されるからであると考えられる。
【００１１】
本発明において、基材側に形成される第１層の組成は、
（Ａｌx Ｔｉ1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ）
但し０．２５≦ｘ≦０．７５，０．６≦ｙ≦１
とすることが必要である。
【００１２】
本発明において、ｘの範囲を０．２５以上０．７５以下に限定した理由は、以下の通りである。ＴｉＣＮの結晶構造は、金属元素であるＴｉ原子と、非金属元素であるＣ原子またはＮ原子とが３次元的に交互に並んだ岩塩（ＮａＣｌ）型構造をとっている。このＴｉＣＮにＶやＡｌを添加していくと、ＶやＡｌは岩塩型構造を組んでいるＴｉＣＮのＴｉのサイトに置換型で入ると考えられるが、ＶやＡｌはＴｉよりも原子半径が小さいために、ＶやＡｌの添加量が増加すると共に（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）の格子定数は小さくなる。一方、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）も岩塩型構造をとっており、Ａｌの添加量が増えると、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の格子定数は小さくなる。後述する様な耐摩耗性で優れた性能を示す（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎ，Ｃ）の組成範囲（０．２０≦ｐ，０．２０≦ｑ，０．１≦ｒ≦０．５）における（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）の格子定数と、ｘの範囲が０．２５以上０．７５以下の（Ａｌx ，Ｔｉ1-x）（Ｎ，Ｃ）の格子定数とが近い値を示すため、同じ岩塩型構造をとる（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）と（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の格子のミスマッチが小さくなり、このため（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）の応力が緩和され優れた密着性を示すと考えられる。更にｘの範囲が０．２５以上０．７５以下では、（Ａｌ，Ｔｉ）（Ｎ，Ｃ）の硬度も最も高くなり、優れた耐摩耗性を示す。また、ｘの値が０．７５を超えると、（Ａｌx Ｔｉ1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ）の結晶構造が立方晶（岩塩型結晶構造）から第２層の（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）と異なる六方晶に変化して、十分な密着力が得られなくなると共に、硬度も大幅に低下してしまう。なお、より高い密着性及び硬度を得る上で、ｘの範囲は０．４０≦ｘ≦０．７０が望ましく、０．５６≦ｘ≦０．６５であればより望ましい。
【００１３】
またｙの値は、０．６未満では、（Ａｌx Ｔｉ1-x ）（Ｎy Ｃ1-y ）膜の靭性が低下し、十分な密着力が得られないので０．６≦ｙ≦１とすることが必要である。
【００１４】
本発明において、第２層の組成は、
（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎu Ｃ1-u ）
但し、ｐ，ｑ，ｒは０．２０≦ｐ，０．２０≦ｑ，
０．１≦ｒ≦０．５，ｐ＋ｑ＋ｒ＝１を満足し、０．６≦ｕ≦１
とすることが必要である。
【００１５】
第２層の組成範囲を上記の通り設定した理由は、後述する実施例からも分かる様に、上記のｐ，ｑ，ｒ，ｖの範囲において膜硬度は高くなり、本発明の効果を十分に発揮することができるからである。尚、ｐ／ｑの値が１．０以上１．６以下であると、より高い硬度が得られるので望ましい。
【００１６】
またｕの値が０．６未満では、（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎu Ｃ1-u ）膜の靭性が低下し、十分な密着力が得られなくなるので、０．６≦ｕ≦１であることが必要である。
【００１７】
更に、請求項１に記載の前記第１層と前記第２層の間に、４ａ，５ａ，６ａ族の金属またはＡｌx Ｔｉy Ｖz （但し、０．２０≦ｘ≦０．７５，０．２０≦ｙ≦０．７５，０≦ｚ≦０．５，ｘ＋ｙ＋ｚ＝１）からなる中間層を形成すれば、より優れた密着性が得られるので望ましい。
【００１８】
本発明において、上記第１層と第２層の中間層として４ａ，５ａ，６ａ族の金属を用いることにより皮膜が優れた密着性を発揮する理由は、これらの金属は、▲１▼融点が１６００℃以上と高いからであり、低融点の金属を用いると中間層形成時に溶融塊ができて平滑に薄膜を形成することができないが、上記の高融点金属を蒸発源として用いて中間層を形成すれば溶融塊が発生し難く平滑で均一な膜を得ることができること、▲２▼活性金属であり、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎや（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）との親和性が高いこと、▲３▼（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎや（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）に比べ軟らかいために、これらの膜の応力を緩和する効果があること等の理由により、より強い密着力が得られるからである。
【００１９】
また、上記第１層と第２層の中間層としてＡｌＴｉＶ合金を用いることにより硬質皮膜が優れた密着性を示すのは、合金Ａｌx Ｔｉy Ｖz を、基材と（Ａｌp Ｔｉq Ｖr ）（Ｎu Ｃ1-u ）膜の間に形成することで、▲１▼応力が緩和されること、▲２▼第１層のＡｌＴｉＶ合金が第２層の（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）膜の生成核となり親和性を増すこと、▲３▼ＡｌＴｉＶ合金と（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）の界面に拡散層ができること等の理由から、より強い密着力が得られるからであると考えられる。
【００２０】
ＡｌＴｉＶ合金層の組成比については、第２層の（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）（Ｎ，Ｃ）膜の金属元素の組成比と近いものが密着力向上の観点から望ましいので、第２層中のＡｌ，Ｔｉ，Ｖ比と同じ範囲にすることが望ましい。但し、Ｖ量（ｚの値）に関しては、Ｖが高価であり、またｚ＝０でも十分な密着力が得られることから０≦ｚ≦０．５とすればよい。
【００２１】
但し、本発明に係る中間層は表面側の第２層に比べると軟らかく、中間層が厚過ぎると、切削等による摩擦抵抗に耐え切れず剥離が発生する場合があるので、中間層は５００ｎｍ以下とすることが望ましい。
【００２２】
本発明に係る硬質皮膜の厚さは、薄過ぎると耐摩耗性が不十分となるので皮膜全体の厚さで０．８μｍ以上が望ましく、一方厚過ぎると膜自体にクラックが入り易くなって強度が不十分となるので皮膜全体の厚さは５０μｍ以下とすることが望ましい。尚、第１層の厚みは、十分な密着性を得るためには０．０１μｍ以上が望ましく、更に十分な耐摩耗性を発揮させるには０．４μｍ以上であることが望ましい。一方、第２層の厚みは、十分な耐摩耗性を得る上で、０．４μｍ以上とすることが望ましい。
【００２３】
また、本発明に係る硬質皮膜を形成する方法としては、アークイオンプレーティング法を採用することが推奨される。その理由は、イオン化効率を高くすることや反応性を高めること、又は基板にバイアス電圧を印加することなどによって一層密着性の優れた皮膜を得ることができるからである。またカソードとして目的とする組成比の合金ターゲットを用いれば、皮膜組成のコントロールが容易であり推奨される。
【００２４】
尚、本発明の硬質皮膜は切削工具の表面に形成することにより非常に優れた効果を発揮するが、皮膜が厚過ぎると切れ味が低下しチッピング等が発生するので、切削工具に適用する場合には、皮膜の厚さを２０μｍ以下とすることが望ましい。
【００２５】
また、本発明は硬質皮膜を被覆する基材の材質を限定するものではないが、基材表面に密着性よく被覆して優れた耐摩耗性を発揮させるためには、超硬合金，高速度工具鋼，ダイス鋼，サーメットまたはセラミック等の硬質物質が適している。
【００２６】
以下実施例について説明するが、本発明は下記の実施例に限定されるものではなく、前・後記の趣旨に徴して適宜変更することは本発明の技術的範囲に含まれる。
【００２７】
【実施例】
実施例１
超硬チップをアークイオンプレーティング装置内に置き、真空排気を行い、ヒータによって炉内雰囲気温度を約４００℃で６０分間保持した。その後、ワークに−１５０Ｖのバイアス電圧を印加すると共に、炉内に高純度のＮ2 ガスまたはＮ2 ／ＣＨ4 混合ガスを７．０×１０-3ｔｏｒｒとなるまで導入し、種々の組成を有するＴｉＡｌカソードを用いてアーク放電を行い、表１に示す組成の第１層を成膜した。その後、種々の組成を有するＡｌＴｉＶカソードを用いてアーク放電を行い、表１に示す組成の第２層を成膜した。また一部の例では、上記第１層と第２層の間に、４ａ，５ａ，６ａ族の金属層またはＡｌＴｉ（Ｖ）合金層を形成した。
【００２８】
得られた試験片について、マイクロビッカース硬度計により荷重０．９８Ｎにおける硬度を測定した。各組成ごとに５回の測定を行い、平均を算出した。結果は表１に示す。
【００２９】
【表１】
0003934263.tif 000002
【００３０】
本発明例であるＮｏ．１〜７及びＮｏ．１３〜２０は硬度が高い。
Ｎｏ．８〜１１は第２層の組成が本発明範囲を満足しない場合の比較例であり、いずれも硬度が低い。Ｎｏ．１２は、硬質皮膜の膜厚が厚過ぎる場合の比較例であり、皮膜が割れてしまい硬度の測定はできなかった。
【００３１】
Ｎｏ．２１，２２は従来例であり、Ｎｏ．２１では硬度が低く、Ｎｏ．２２では皮膜が割れてしまい硬度の測定はできなかった。
【００３２】
実施例２
平坦な超硬基板上に、実施例１と同様の方法で、表２に示す組成及び膜厚の層構成を有する硬質皮膜を形成した。皮膜の組成は、電子プローブＸ線マイクロアナリシス及びオージェ電子分光法により確認した。
【００３３】
得られた試験片を用いてスクラッチテストを行い、夫々の皮膜の密着性を評価した。具体的には膜損傷時のＡＥ信号の変化とテスト後の光学顕微鏡観察によって皮膜が損傷した荷重を密着力とした。結果は各サンプル３回のスクラッチテストの平均であり、表２に示す。
【００３４】
【表２】
0003934263.tif 000003
【００３５】
本発明例であるＮｏ．１〜７では臨界荷重が高く、超硬基板上に形成された硬質皮膜の密着性が非常に優れている。更に、第１層と第２層の間に、本発明に係る中間層を有する本発明例Ｎｏ．１２〜１９は、より優れた密着性を示している。
【００３６】
Ｎｏ．８〜１０は第１層の組成が本発明範囲を満足しない場合の比較例であり、いずれも密着力が小さい。Ｎｏ．１１は、硬質皮膜の膜厚が厚過ぎる場合の比較例であり、密着性が非常に乏しい。Ｎｏ．２０は中間層のＡｌ含有量が多過ぎ、またＮｏ．２１は中間層の厚さが厚過ぎる場合の比較例であり、いずれの密着性も低い。
【００３７】
Ｎｏ．２２〜２４は従来例であり、Ｎｏ．２２，２３は第１層が形成されておらず、Ｎｏ．２４は第１層としてＴｉＮが形成されている従来例であるが、いずれも本発明例に比べて硬質皮膜の密着性が大幅に劣ることが分かる。
【００３８】
実施例３
耐摩耗性の評価を目的として、ボールオンディスク試験を実施した。ボールとしては、鏡面仕上げした直径１０ｍｍの超硬球の表面に実施例１と同様の方法により表３に示す組成及び層を有する皮膜を形成した超硬球を用い、Ｓ５５Ｃ製のディスクに対し、荷重１０Ｎ、摺動速度１ｍ／sec 、温度５００℃、摺動距離５００ｍの条件で摺動試験を行い、摩耗量と摩擦係数を測定した。なお摩耗量は超硬球に生じた摺動痕の幅をとった。結果は表３に示す。
【００３９】
【表３】
0003934263.tif 000004
【００４０】
Ｎｏ．１〜７，Ｎｏ．１７〜２４は本発明例であり、Ｎｏ．８〜１６，Ｎｏ．２５〜２６は比較例、Ｎｏ．２７〜２９は従来例である。本発明例は比較例及び従来例に対し、摩耗量が非常に小さいことが分かる。これは本発明に係る硬質皮膜の密着性が優れるためであると考えられる。
【００４１】
実施例４
超硬合金製ボールエンドミル（径５Ｒ）に対し、実施例１と同様の方法により表４に組成及び膜厚を示す硬質皮膜を形成し、切削試験を行った。切削試験に用いた被削材はＳ５５Ｃであり、切削速度は９８ｍ／ｍｉｎ、送りは１刃あたり０．０５ｍｍ、切り込み量はピックフィード０．５ｍｍ、軸方向切り込みは４．０ｍｍで、エアブローしながらダウンカットにて切削を行い、切削長５０ｍを加工した後の先端部と境界部の摩耗量を測定した。結果は表４に示す。
【００４２】
【表４】
0003934263.tif 000005
【００４３】
Ｎｏ．１〜７，Ｎｏ．１７〜２４は本発明例であり、Ｎｏ．８〜１６，Ｎｏ．２５〜２６は比較例、Ｎｏ．２７〜２９は従来例である。本発明例は、先端部と境界部のいずれにおいても比較例及び従来例と比べて摩耗量が非常に小さく、優れた耐摩耗性を発揮することが分かる。
【００４４】
実施例５
実施例４と同じ超硬合金製ボールエンドミル（径５Ｒ）に対し、実施例１と同様の方法により表４に組成及び膜厚を示す硬質皮膜を形成し、ＳＫＤ６１（硬さ：ＨＲＣ５２）を被削材として切削試験を行った。切削試験における切削速度は３０８ｍ／ｍｉｎ、送りは１刃あたり０．０５ｍｍ、切り込み量はピックフィード０．５ｍｍ、軸方向切り込みは４．０ｍｍで、エアブローしながらダウンカットにて切削を行い、切削長１００ｍを加工した後の先端部と境界部の摩耗量を測定した。結果は表５に示す。
【００４５】
【表５】
0003934263.tif 000006
【００４６】
Ｎｏ．１，２は本発明例であり、Ｎｏ．３，４は従来例である。本発明例は、（Ａｌ，Ｔｉ）Ｎからなる第１層の上に（Ａｌ，Ｔｉ，Ｖ）Ｎを形成することで、ＳＫＤ６１の様な硬い被削材に対しても優れた性能を示すことが分かる。
【００４７】
実施例６
高速度鋼製ＪＩＳ標準ストレートドリル（外径φ６．０ｍｍ）に対し、実施例１と同様の方法により表６に示す硬質皮膜を形成し、切削試験を行った。被削材としてはＳ５０Ｃを用い、切削速度３０ｍ／ｍｉｎ、送り０．１８ｍｍ／ｒｅｖ．、切削油はエマルションという切削条件にて穴深さ１６ｍｍの貫通穴を穿孔し、寿命までの穴明け数を調べた。各皮膜につき３本の切削試験を行い、穴明け数の平均を算出した。結果は表６に示す。
【００４８】
【表６】
0003934263.tif 000007
【００４９】
Ｎｏ．１〜７，Ｎｏ．１７〜２４は本発明例であり、Ｎｏ．８〜１６，Ｎｏ．２５〜２６は比較例、Ｎｏ．２７〜２９は従来例である。本発明例は、比較例及び従来例と比べて大幅に寿命が改善されていることが分かる。これは、本発明に係る皮膜を形成したドリルでは、耐摩耗性及び密着性が非常に優れているからであると考えられる。
【００５０】
実施例７
炭窒化チタン基サーメット製フライス加工用チップ（ＳＤＫＮ４２，ＪＩＳＰ１０）に対し、実施例１と同様の方法により表７に示す硬質皮膜を形成し、切削試験を行った。切削試験に用いた被削材はＳ５０Ｃであり、切削速度は２００ｍ／ｍｉｎ、送りは１刃あたり０．１５ｍｍ、切り込み量は２．０ｍｍ、乾式にて切削を行い、切削長５０ｍでの逃げ面摩耗幅を測定した。結果は表７に示す。
【００５１】
【表７】
0003934263.tif 000008
【００５２】
Ｎｏ．１〜７，Ｎｏ．１７〜２４は本発明例であり、Ｎｏ．８〜１６，Ｎｏ．２５〜２６は比較例、Ｎｏ．２７〜２９は従来例である。本発明例は、比較例及び従来例と比べて逃げ面摩耗幅が非常に小さく、優れた耐摩耗性を発揮し、長寿命であることが分かる。
【００５３】
実施例８
Ａｌ2 Ｏ3 −ＴｉＣセラミックス製の旋削加工用チップに対し、実施例１と同様の方法により表８に示す硬質皮膜を形成し、連続旋削加工での切削試験を行った。切削試験に用いた被削材はＦＣＤ４５であり、切削速度は３００ｍ／ｍｉｎ、送りは０．１５ｍｍ／回転、切り込み量は０．３ｍｍ、乾式にて切削を行い、切削長５０ｍでの逃げ面摩耗幅を測定した。結果は表８に示す。
【００５４】
【表８】
0003934263.tif 000009
【００５５】
Ｎｏ．１〜７，Ｎｏ．１７〜２４は本発明例であり、Ｎｏ．８〜１６，Ｎｏ．２５〜２６は比較例、Ｎｏ．２７〜２９は従来例である。本発明例は、比較例及び従来例と比べて逃げ面摩耗幅が非常に小さく、優れた耐摩耗性を発揮し、長寿命であることが分かる。
【００５６】
【発明の効果】
本発明は以上の様に構成されているので、これまでに開発してきた硬質皮膜の優れた特性を生かしつつ、一段と優れた耐摩耗性及び密着性を発揮する硬質皮膜を提供することが可能となり、更には高い耐摩耗性が要求される部材に上記硬質皮膜を密着性良く被覆した硬質皮膜被覆部材が提供できることとなった。
【００５７】
特に切削工具に使用する場合には、本発明皮膜の優れた密着性により、低硬度材の切削においては従来例よりも優れた耐摩耗性が得られると共に、高硬度材の切削においても十分な耐摩耗性が得られ、低硬度材から高硬度材まで切削が可能な切削工具が提供できることとなった。