(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
印刷ローラ（９５）を、被印刷パターンを表わす複数のスタンプくぼみ（１０５１）を表面に有する弾性樹脂材料のスタンプ層（９５１）で被覆するステップと、
カラーインクを包含する複数のカラーローラ（９４１）を、それぞれ前記複数のスタンプくぼみ（１０５１）のうち各前記カラーローラに対応するものに整合する位置に開口部を有するふた層（１０１０）で被覆するステップと、
前記印刷ローラ（９５）と前記複数のカラーローラ（９４１）とを、前記開口部が対応する前記スタンプくぼみ（１０５１）への通路を開くように位置合わせをして接触させるステップと、
前記複数のカラーローラ（９４１）が前記通路を介して、それぞれ包含する前記カラーインクを選択的に通過させて、前記複数のスタンプくぼみ（１０５１）のうち各前記カラーローラに対応する前記スタンプくぼみを対応する前記カラーインク（１０４０）で順次選択的に充填するステップと、
クリーニング・ローラ（９４５）によって前記印刷ローラ（９５）の表面をふき取るステップと、
外力および前記スタンプ層の弾性力の下に、前記スタンプ層の表面を印刷媒体（９６，１０６０）の表面に表面形状に密接して接触させると同時に前記スタンプくぼみの開口の周りを封止し、前記印刷媒体への前記カラーインクの転写を前記開口に接触した媒体部分に制限するステップと、
を含む多色カラーの印刷方法。
【請求項２】
前記スタンプ層が０．２５Ｘ１０６  ないし５Ｘ１０６  ダイン／ｃｍ２のヤング係数を有する樹脂材料から成る請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記樹脂材料がポリブチルジエン、ポリジメチルシロキサン、ポリアクリルアミド、ポリブチルスチレンおよびそのコポリマーまたはブロックポリマーから成る群から選択される請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記カラーインク充填ステップが個別の前記スタンプくぼみを前記複数種類の個別のカラーインクで充填するステップを含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記スタンプ層の表面を表面形状に密接して接触するのに先立って少なくとも２種類のカラーインクを１つの前記スタンプくぼみ内で混合するステップを含む請求項１に記載の方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、多色カラーを位置合わせの必要性無しに単一の印刷ステップで印刷する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
集積回路（ＩＣ）および超小型機械装置の出現以来、その大量生産のために光リソグラフィが非常に重要なものになっている。すなわち、その便利さ、並列操作、解像度によって巨大な市場が作られている。貯蔵および消費の要求を満たすために必要なかなり小さい寸法の装置の製作では、プロセスが回折によって主に設定された基本限界に着実に近づくと、可視光がますます問題になってくる。このような認識がきっかけとなって、ＵＶ、Ｘ線、電子ビーム、走査プローブ（ＳＰ）リソグラフィにおける熱心な研究が始まった。このような方法は高い解像度をもたらすが、成功度は様々であり、その経済性はよく見ても依然として不確実なままである。このような不確実さの理由としては、波長依存現象による制限、電子ビームおよびＳＰリソグラフィの書込み速度の遅さ、適切なレジストおよびマスクを探す際の難しさなどがある。
【０００３】
現行リソグラフィの別個かつ関連の制限は、書き込むべき所望のリソグラフィ・パターンによって規定された領域の層を改変または変質するために必要なプロセスの複雑さであり、現在のリソグラフィは、基板の他の領域を保護するためにマスクを使用してプラズマからあるいは液相または気相からの反応材料のバルク転写に依存している。
【０００４】
リソグラフィに関する代替手法は、A. KumarおよびG. M. WhitesidesによるAppl. Phys. Lett. 1993, 63, 2002-2004に公表されている。マイクロコンタクト・スタンプ・リソグラフィと呼ばれるこのプロセスでは、所望のパターンのネガによってマスタのポリ（ジメチルシロキサン）（ＰＤＭＳ）にレプリカを鋳造することにより、スタンプが製作される。リソグラフィに使用するマイクロコンタクト・スタンプの既知の一例では、ＰＤＭＳスタンプがアルカンチオール、ヘキサデカンチオールと結合され、スタンプと金基板との過渡的な接触により金に転写する。このチオールは、自動非親和反応で金と共有結合する。すなわち、チオールは、金基板の濡れ性を改変し、バルク液相の拡散を防止し、その結果、転写単層を弾性スタンプの隆起領域と基板との接触領域に制限する。このようなチオールの存在により、アルカンチオールの単層によって保護されていない金を選択的に除去するシアン化物／酸素エッチングを使用した金の後続リソグラフィ処理が可能になる。このシステムでは金のフィーチャを１ミクロンまで複製することが可能であるが、その範囲は依然として有用材料の特定の一部分、すなわち、チオールと金に限定されている。
【０００５】
このようなリソグラフィ・プロセスでは、いずれの場合も環境に対して潜在的に相当な脅威をもたらすいくつかの薬品を使用する。したがって、ＩＣ工場内の従業員と周辺に住む住民をこのような薬品に触れる可能性から十分保護するために相当な努力が払われている。また、ＩＣ製造の廃棄物と残留物を安全に処分するために莫大な資源が投じられている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、接触ベースのリソグラフィに有用な反応のタイプ、転写材料、基板の範囲の制限を回避し、レジストの介在塗布を行わない基板の直接処理の新戦略を実証することにある。
【０００７】
本発明の他の目的は、多色カラーを位置合わせの必要性無しに単一のステップで印刷する方法を提供することである。
【０００８】
上記のように、リソグラフィ・プロセスは印刷分野でも使用されている。特に、カラー印刷は、半導体素子用のリソグラフィで見られるようにいくつかの単独印刷ステップ中に位置合せに関して同様の問題に直面することが分かっている。４色カラー印刷では、シアン、マジェンタ、黄色、黒の各色が４つの個別の印刷ローラに塗布され、このローラが４つの単独印刷ステップで紙にリソグラフィ・パターンを転写する。４つの印刷ステップ間の位置合せにより、最大解像度と、特に安くて低品質の紙上のカラー・イメージの品質が制限される。印刷は、安い紙上での不良位置合せ（〜０．１ｍｍ）かつ不良イメージ品質か、または高品質の紙上での優良位置合せ（〜０．０１ｍｍ）かつ優良イメージ品質のいずれかで行うことができる。ラスター寸法は、位置合せに適合してなければならず、したがって、低品質の紙の場合は＞０．１ｍｍ（＜３００ｄｐｉ）、最高品質の紙の場合は＞０．０１ｍｍ（＜３０００ｄｐｉ）になる。これに対して、写真複製は、ミクロン程度（＜０．００１ｍｍ）の粒子サイズで行うことができる。したがって、高品質印刷では、数メートルに渡って１０ミクロンの許容誤差を維持できるような高価な機器を必要とする。
したがって、特に、複数のカラーを印刷するために必要な位置合せ手順を促進するために、従来のカラー印刷手順を改良することが本発明の他の目的であると見なされる。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、弾性スタンプのマイクロコンテナの選択的充填プロセスを単一のプリント・マスタに適用する構想ことにより、請求の範囲に記載した方法およびスタンプによって達成される。
ここで使用する基板という用語は、リソグラフィ・プロセスによって変質または変形すべき材料の層の同義語として使用する。反応という用語は、化学反応、エッチングまたは溶解反応、ならびに拡散などの物理プロセスによる改変などを含むものとする。変形可能または弾性層は、１０４、より好ましくは、０．２５＊１０６〜５＊１０６ダイン／ｃｍ２という範囲のヤング係数を有する層として定義されることが好ましい。この特性を有する適当な材料としては、ポリ（ブチルジエン）、ポリ（ジメチルシロキサン）、ポリ（アクリルアミド）、ポリ（ブチルスチレン）、およびそのコポリマーまたはブロックポリマーなどが考えられる。２つの表面同士の共形接触は、両方の面のでこぼこに対処するものである。スタンプは、弾性層に加え、サポート構造または剛性材料の層あるいはその両方を含むことができる。本発明によるスタンプは、基本的に平らな形に制限されるものではない。これは、ローラまたは半球など、その他の形状を取ることもできる。
本発明によるプロセスは、エッチングなどの化学反応またはドーパントの拡散のいずれかによって基板材料を変形させる。したがって、改変すべき基板または層は、大気、プラズマにさらされないか、または反応基板またはドーパントを含むバルク溶液に浸漬されない。本発明は、浸漬または湿潤したスタンプによる接触印刷によって、反応基板またはドーパントが基板の表面に転写されることを特徴とする。  この反応は、いくつかの方法により所望のリソグラフィ・パターンに制限することができる。
【００１０】
本発明の第１の変形態様では、スタンプは、所望の精度範囲内で平らな表面を有し、その結果、そのサポート表面全体に沿って基板と接触する。このスタンプは、反応物をスタンプと基板との境界面に厳密に制限する。反応物は周囲には一切放出されない。パターン規模の反応は、パターン領域だけが後で塗布される反応物の影響を受けるように前のリソグラフィ・ステップで基板をパターン化するか、またはスタンプから基板の一部を覆うマスクを使用し、残りの未保護部分だけを反応物にさらすことにより、達成される。
【００１１】
境界面層自体の内部では、前のリソグラフィ・ステップまたはマスクによって反応物から保護されていない基板領域で反応が始まる。基板の他の領域は不活性であるかまたは保護されているが、このような領域では、非常に短い期間後にスタンプから基板への反応物の転写が停止する。反応によってマスクがエッチングで除去される場合、反応物が露出時間内に保護領域で基板と接触しないようにその厚さを選ぶように注意する必要がある。基板の未保護領域は、ただちにマスク内の穴から反応物にさらされる。
【００１２】
この新しい反応プロセスは、スタンプ材料、スタンプに塗布するために反応に関与するもの、レジスト材またはマスクを適切に選択することによって制御される。このプロセスは、スタンプによって反応ゾーンに供給される反応物の量、スタンプに加えられる圧力、接触時間、スタンプと基板との境界面での温度によってさらに制御される。このようなパラメータを調節することにより、たとえば、エッチング反応の浸透深さをエッチングすべき層の厚さに適合させることが可能になる。特に、基板の第１の分子層がスタンプによって供給された反応物と反応するときに発生するセルフパッシベーションを利用し、その下の基板材料用の保護層を形成することができる。このパッシベーション層の厚さが拡散によって左右されるので、非常に便利なことに反応プロセスを温度によって制御することができる。また、反応ゾーンを制限するために自動非親和反応を使用することもできる。改変すべき層が薄い場合、たとえば、１００ｎｍ未満の場合にこの新しいプロセスを適用できることは好ましいことである。
【００１３】
本発明の他の好ましい実施例では、基板の表面上に所望のパターンを複製するようにスタンプの表面をパターン化することにより、反応がリソグラフィ・パターンに制限される。スタンプ上のパターンのフィーチャは、突出部として形成され、反応物で浸漬または湿潤される。本発明のこの実施例の利点の１つは、基板上に所望のパターンを形成するためにマスクまたは保護コーティングが一切不要であることである。反応物は、改変すべき基板領域に制限されるので、反応剤の塗布量が削減される。パターンは、電子ビーム・リソグラフィ、ＵＶ−ＶＩＳリソグラフィ、走査プローブ顕微鏡を使用したリソグラフィ（ＳＰＭリソグラフィ）を含む既知のリソグラフィ・プロセス、Kumar他に記載された方法、または本明細書に記載するスタンプ・リソグラフィ・プロセスを使用することによって、スタンプに書き込むことができる。本発明のこの実施例のもう１つの利点は、フォトレジスト・コーティングを塗布する必要なしに、材料、特に薄膜ディスプレイに使用されているような有機材料を直接改変できることである。  反応剤は、基板に所望のフィーチャをエッチングするために使用するエッチング液であることが好ましい。さらに別の好ましい実施例では、スタンプのパターン化表面が触媒を帯びており、その結果、触媒が存在する近接領域に反応ゾーンを制限する。
【００１４】
本発明のさらに別の実施例では、表面同士の共形接触を使用してパターン転写するための新しい手法を使用する。これまでの実施例では、スタンプの表面が反応物を帯びていたが、本発明のこの実施例では、理想的なことに、表面には反応物質がなく、むしろ、ウェル、トレンチ、くぼみ、またはへこみなどのマイクロコンテナに反応物が満たされている。このようなマイクロコンテナは、所望のマイクロコンテナのネガを含むリソグラフィで形成されたマスタのレプリカとして、任意の複雑さのパターンでしかもマスタの突出部のサイズによって設定された個々の容積で、形成することができる。このようなマイクロコンテナは、エラストマから優先的に形成されるが、エッチング液、反応物、または後続の並列科学処理のための材料を保持する。このような容器内の物質は、容器内外の差別的湿潤を使用して所定の位置に保持されることが好ましい。たとえば、その内部を親水性にし、周囲の表面領域を疎水性にすることによって、容器の内部に物質を制限する。
【００１５】
弾性マイクロコンテナのアレイが表面に接触すると、ChaudhuryおよびWhitesides（Science 1992, Vol. 255, 1230-1232）が記載するように、マイクロコンテナを形成する起伏間のエラストマ領域が基板と分子接触する。この分子接触または共形接触により、マイクロコンテナと基板との間がしっかり封止され、マイクロコンテナの中身はマイクロコンテナの開口部のみを通って基板を侵食することになる。処理ステップの制限は、Kumar他に記載された自動非親和反応によるのではなく、エラストマと基板との分子シールの結果発生するので、金、アルミニウム、シリコン、チタン酸ストロンチウム、プラスチック、ガラスを含みかつこれらに限定されない広範囲の反応物と処理戦略が様々な基板上で可能である。マイクロコンテナを使用する直接処理ではレジスト層を必要としないので、この形式のリソグラフィは、既知のスタンピングに基づく接触リソグラフィや、光または電子ビームに基づく他の従来のリソグラフィより単純なものになる。マイクロコンテナは接触に依存するので、光の波長は、この技法により最終的な解決を達成する際の制限にはならない。
【００１６】
アレイ内の各マイクロコンテナの容積は互いに無関係なので、基板に対して局部的に転写される材料の量はマイクロコンテナのサイズに抑えられ、隣接領域で様々な程度まで処理を行うことができる。したがって、マイクロコンテナによって、不均一トポロジが必要な応用分野で基板に対して従来の３次元処理を行うことができる。マイクロコンテナの中身は互いに無関係なので、アレイ内の１つのサブセットのマイクロコンテナは１つのタイプの薬品を保持することができ、他のサブセットの容器は他の薬品を保持する。このタイプのマイクロコンテナの差別的充填は、基礎をなすマイクロコンテナに応じて調節した開口部を備えたパターン化した弾性のふたを使用して、容易に達成される。このようなふたのパターンにより、マイクロコンテナに選択的にアクセスすることができ、その結果、一連のパターン化したふたを使用して差別的に容器が充填される。したがって、様々な薬品または薬品の組合せを伴うマイクロコンテナの中身は単一処理ステップで同時に基板に転写される。
【００１７】
このため、本発明のこの実施例では、スタンプの表面のへこみまたはくぼみを反応に関与するものを貯蔵するためのマイクロコンテナとして使用するが、この表面はいかなる薬品も帯びていない。スタンプが基板の表面に押し付けられたときに反応ゾーンがスタンプの表面の突出部によって本質的に封止されることは、本発明のこの実施例の主な利点と見なされる。この方法には、既知の方法および上記の実施例に比べ、改善された解像度を引き渡すという潜在能力がある。本発明のこの実施例の使用は、表面の改変に限定されないが、基板に材料を付着させるために十分応用することができる。形状の調節などの選択的充填手順の使用によるかまたはマイクロコンテナの各面の特性を改変するか、あるいは上記のように選択した容器を覆うためにマスクまたはふたを使用することにより、様々な材料を基板に同時に接触させることができる。リソグラフィ・プロセスの加速に加え、この実施例は、超伝導素子用の新しい化合物または薬品などの多数のサンプルの同時調製、スクリーニング、またはテストにも応用することができる。さらに、弾性スタンプのマイクロコンテナの選択的充填は、従来のカラー印刷にも有利に使用できることが分かっている。
【００１８】
さらに、本明細書に記載した方法を基板の表面にドーパントを転写するために使用することが企図されている。スタンプと基板との境界面を加熱することにより、ドーパントは基板のバルク材料内に拡散する。この方法は耐熱マトリックスまたはスタンプ材料を必要とする。しかし、スタンプの加熱は、低温で基板材料内に拡散する非常に高濃度のドーピング剤を転写することによって、回避することができる。その後、スタンプは除去され、ドーパントがより深く基板のバルク材料内に拡散するように基板が加熱される。
【００１９】
本発明に特有と思われる上記およびその他の新規の特徴は、請求の範囲に記載する。しかし、本発明自体ならびに好ましい使用態様と、その他の目的および利点については、以下に示す実施例の詳細な説明を添付図面に関連して読むと最もよく理解できるだろう。
【００２０】
【実施例】
第１Ａ図および第１Ｂ図を参照すると、同図には本発明による第１の例が示されており、この例では、エタノール中のヘキサデカンチオール溶液でインクを付けたパターン化スタンプを使用して、ヘキサデカンチオールの保護層１１０が金の基本層１０１に転写されている。この手順の詳細については、上記の先行技術に記載されている。その後、ほぼ平らな接触域を備えた別のスタンプ１５をシアン化物（ＣＮ）と水酸化カリウム（ＫＯＨ）の混合物１４で湿潤する。スタンプ１５を基板１０上まで下げることにより、この薬品が保護コーティング１１０と接触する。スタンプは、固体ベース・プレート１５１と、弾性ポリマーであるポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）の層１５２とを含み、この層が基板のでこぼこを吸収する。ＰＤＭＳ層１５２は、それが酸または反応プラズマと短時間接触することによって親水性にした後で、エッチング液１４で湿潤する。コーティング１１０と接触した状態で、エッチング・プロセスは未保護領域１１１から始まり、残りのコーティングは少なくとも大部分はエッチング液１４に対して不活性のままになる。エッチング・プロセスが終了すると、スタンプ１５は持ち上げられ、残骸を除去するために基板は水ですすがれる。すすぎ後の基板は第１Ｂ図に示す。未保護領域では、金の層１０１が約１０ｎｍ／分の速度で除去される。既知のどのエッチング・プロセスよりも、このプロセスの方が環境に放出するエッチング液の量がかなり少なくなっている。
【００２１】
本発明によるエッチング・プロセスの別の例を第２Ａ図に示す。この例では、パターンはパターン化表面層２５２を備えたスタンプ２５によってエッチング液２４とともに基板２０に転写されるので、パターン化コーティングまたはマスクが一切不要である。パターン化層２５２は、パターン化フォトレジスト層のレプリカとして製作される。ＰＤＭＳエラストマは、このフォトレジスト層の上で硬化し、次に適当な基板２５１に固着し、フォトレジストを剥離する。この方法を使用すると、ミクロン未満のリソグラフィ・パターンを複製することができる。スタンプ３５のパターンは、硝酸（ＨＮＯ３）と塩酸（ＨＣｌ）との混合物２４で慎重に湿潤する。突出パターン・フィーチャを湿潤または浸漬するために必要なエッチング液の量は、前の例より少なくなる。エッチングのため、スタンプは金で覆ったシリコン基板３０としっかり接触させる。エッチング後、第２Ｂ図に示すように、金のパターン２１０がシリコン２０１の表面上に残される。
【００２２】
第３Ａ図および第３Ｂ図が示す例でもパターン化スタンプを使用する。本発明のこの例では、白金の層３４によってパターンが覆われている。シリコン基板３０１は、アジ化物を末端基とする単層（１６−アジドヘキサデカンチオール，ＨＳ−（ＣＨ２）１６−Ｎ３）３１０によって覆われている。白金被覆スタンプ３５は、水素で飽和したイソプロパノールの溶液中でシリコン基板３０と接触する。白金が表面３１１に直接接触する場合のみ、白金触媒３４によって覆われた突出部と基板との過渡的な接触により、アジ化物の官能基がアミンに転換される。この触媒反応はパターン化表面のすべての部分で同時に起こるので、任意の大きさの領域３１１上で有効な転換を確実に行うためには、１秒で十分である。比較のため、アミノを末端基とするチオールからなるリソグラフィ・パターンを生成するための方法であって、Science 268 (1995), 272-273に公表されたMuller他の方法は、本質的に逐次であり、金属触媒を位置決めするためにＳＴＭ制御に依存するが、１００ｍｍ２の領域を転換するのに１２６分を必要とする。
【００２３】
直接化学反応の応用を制御するための代替方法は、第４Ａ図および第４Ｂ図に示すようにマイクロコンテナ４５３に反応物４４を充填する方法である。このようなマイクロコンテナは、スタンプ４５の表面４５２のウェル、トレンチ、へこみまたはくぼみである。反応物溶液はスタンプの表面を汚染しないが、スタンプの表面にパターン化したウェルまたはトレンチ内に付着する。マイクロコンテナ４５３は、ミクロン未満の範囲で少なくとも１つの寸法、すなわち、長さ、幅、または深さを備えていることが好ましい。スタンプの弾性マトリックス４５２に組み込まれているため、すべてのマイクロコンテナを同時に基板の表面と接触させることが可能である。このようなマイクロコンテナを充填するための特に便利な方法は、表面の濡れ性の差に基づいてこのような容器に液体を自動集成する方法である。たとえば、マイクロコンテナが親水性のベースまたは側壁を含み、スタンプの周囲の表面を疎水性にすることができる。したがって、液体は、親水性領域の毛管力によって保持され、せん断力などによって疎水性領域から容易に除去される。
【００２４】
このような容器は、第５Ａ図に示すような複合スタンプ構造を使用して、優先的に実現することができる。この複合スタンプは２層の材料を含み、マイクロコンテナ５５３のベースを形成する第１の層５５１は親水性であり、マイクロコンテナ５５４の側壁とスタンプの表面を形成する第２の層５５２は疎水性である。この表面は、第５Ａ図に示すように水溶液５４によって湿潤される。
【００２５】
本発明のこの変形態様のさらに他の実施例では、予備成形されたマイクロコンテナの濡れ性は、マスク５１を介し、露出領域の化学的特性を変化させるような反応種の蒸気またはプラズマ５４１に容器をさらすことによって、直接制御される（第５Ｂ図）。マスクは、この蒸気またはプラズマの直接通過のための開口部５１１をもたらすか、あるいは表面または反応ガスを活性化するような光の選択的通過を可能にし、このガスは表面を改変するために使用する。マスク５１は、基礎をなすスタンプと共形接触し、その結果、漏れ止めシールを確立するような、適切な開口部を備えたエラストマから優先的に作られる。
【００２６】
別の表面に押し付けられたときに漏れ止めシールを形成するための弾性層の特性は、マイクロコンテナを備えたスタンプ５５が基板５０と接触するときにも利用される。スタンプの表面は、マスクとして機能し、共形接触が行われている表面を保護し、それをマイクロコンテナの中身５４から封止する。スタンプ上の適度な鉛直力により、液体フィルムの表面が基板とパターン接触し、プロセスが開始される（第５Ｃ図）。マイクロコンテナの充填物が、たとえば、エッチング剤からなる場合、基板の露出領域にはくぼみが残される（第５Ｄ図）。
【００２７】
同様に、層５５１がイオンまたは金属導体である場合、電気化学プロセスを実行できるはずである。パターン化電極を調製する便利な方法は、金属、導電性ポリマー、またはイオン・ゲルの上にエラストマの薄いパターン化層を形成する方法である。このエラストマの薄い層は、この場合も最下部の電極と基板との間に共形接触をもたらし、その結果、漏れ止めシールをもたらし、これらの領域を同時に電気的に絶縁する。
【００２８】
エッチング液の浸透深さ、または一般にこの方法によって誘発される表面反応の影響は、マイクロコンテナの充填容積によってさらに制御することができる。このタイプの制御の結果、第６Ａ図に示すように、充填レベルが変化するかまたは深さが変化するトレンチ６５２が形成されたスタンプ設計が得られる。この新しいプロセスは、単一リソグラフィ処理ステップを使用して基板６０に完全に３次元のトポロジまたはプロファイルを形成するための方法を提供する（第６Ｂ図）。
【００２９】
このような３Ｄ構造形成の別の例としては、基板の上に固体材料を付着させる化学反応または電気化学反応がある。マイクロコンテナ内の反応物の容積とマイクロコンテナの形状の両方を使用すると、その結果得られるフィーチャの形を決定することができる。
【００３０】
新しい接触プロセスを使用すると、基板上の構造の構築または除去に加え、基板の露出領域における濡れ性あるいはドーパント濃度または化学的同一性のような材料特性を改変することができる。というのは、反応のタイプは、反応に関与するもの、すなわち、所与の基板ではへこみまたはマイクロコンテナの充填物にのみ依存するからである。化学反応用の上記の新規容器は、液体を必要とするプロセスに加え、広範囲の基板タイプ上でガス、ゲル、固体を必要とするプロセスにも適用可能である。容器の容積は、反応の程度とタイプを厳密かつ柔軟に制御する。また、容器の形状はパターン化転写を制御する。
【００３１】
さらに、第７Ａ図ないし第７Ｄ図に概略を示すように、後で基板７０に転写するために予備成形した固体部分７４の明確な自動集成にマイクロコンテナを使用することが企図されている。このような固体の形状認識は、マイクロコンテナの壁面７５２および底面７５３の選択的改変によってさらに洗練できるはずである。たとえば、固体上の親水性／疎水性の面７４１により、マイクロコンテナの同様の親水性／疎水性の整合面７５３とともに、この固体の事前配向が強化されるはずである。特定の配位子／受容体複合体の使用により、さらに洗練されるはずである。ＤＮＡの相補鎖は、マイクロコンテナ内に配向されたように予備成形固体を取り付けるための「接着剤」として使用する、このタイプの配位子／受容体間の相互作用の特に確固たる例を示す。固体７４自体は、基板７０に転写する前に付着または反応プロセスによってマイクロコンテナ内で成形できるはずである（第７Ｃ図、第７Ｄ図）。
【００３２】
これまでの説明では、固有のマイクロコンテナの容積内で実行される不均一反応を中心にしてきた。しかし、このようなマイクロコンテナの選択的充填により、様々な反応を同時に実行することもさらに可能である。この選択的充填は、第８Ａ図ないし第８Ｃ図に示すように、マイクロコンテナのアレイの上にパターン化した「ふた」８１を配置することにより、達成することができる。このようなパターン化したふたの開口部８１１により、マイクロコンテナのサブセットへガス、液体、または固体を選択的に通過させることができる。開口部のサイズを制御することにより、様々なマイクロコンテナ内への材料の流れが単一処理ステップで制御される。パターン化したふた８１を変更すると、マイクロコンテナの代替サブセットへのアクセスが可能になり（第８Ｂ図、第８Ｃ図）、その結果、アレイ全体が差別的に充填される。
【００３３】
第８図の例では、アレイの３つの隣接するマイクロコンテナのそれぞれが異なる物質で充填されている。これらの物質は、たとえば、光の放射が異なる蛍光体にすることができる。容器の中身は、さらに処理するか、または基板に直接転写することができる。追加のマスキング・ステップにより、メッキ溶液の移転または噴出源からの蒸発による差別的な１組の電気接点が得られるはずである。ふたとパターンは１ミクロン未満の解像度で生成できるので、この方法は、高密度のフラット・パネルの製造などに使用することができる。
【００３４】
弾性スタンプのマイクロコンテナの選択的充填は、従来のカラー印刷にも適用することができる。上記の選択的充填プロセスを使用する場合は、黒とともに、シアン、マジェンタ、黄色の各色を帯びた４通りのプリント・マスタの代わりに、マイクロコンテナを備えたプリント・マスタが１つだけ必要になる。
印刷プロセスのセットアップの概略については、第９図および第１０図に示す。印刷マスタ・ローラ９５は、マイクロコンテナを含む弾性層９５１を備えているが、マスタ・ローラの直径の半分を有する４つのカラー・ローラ９４１〜９４４と、４つのクリーニング・ローラ９４５とに囲まれている。各カラー・ローラは、ふた層９１を介してシアン、マジェンタ、黄色、黒の各色を印刷ローラ９５に移転する。ふた層には、印刷ローラのマイクロコンテナのみに通じる開口部があり、それぞれのカラーで充填されている。クリーニング・ローラ９４５は印刷ローラの表面をふき取る。マイクロコンテナの装填後、それぞれの中身が用紙９６に転写される。
【００３５】
したがって、カラー印刷は１つのステップで行われるので、マスタと４つのふたローラとの間を除き、位置合せの必要性はほとんど除去される。この位置合せについては、両方のタイプのローラ上の互いに対応する突出部とへこみなど、自動または固有位置合せ手段の使用が可能である。
【００３６】
充填および印刷手順については、第１０Ａ図ないし第１０Ｆ図にさらに示す。これらの図は、印刷ローラ９５の中心軸と４つのカラー・ローラ９４１〜９４４のそれぞれの中心軸とを含む平面を、両方のローラ間のそれぞれの接触線に沿って示している。各カラー（黒を含む）１０４０ごとに、カラー・ローラのふた層１０１０が印刷マスタ・ローラ１０５０内のそれぞれのマイクロコンテナ１０５１への通路を開く。第１０図のマイクロコンテナは、各種のカラーを区別するために異なる形状になっている。第１０Ｅ図および第１０Ｆ図は、用紙バンド１０６０へのカラー転写を示している。
【００３７】
この実施例の変形態様では、それぞれの中身が用紙に転写される前にそれぞれの容器内でカラー混合が行われるように、同一組のマイクロコンテナへのアクセスを可能にする様々なカラー・ドラム上のふたによってカラー混合が行われる。
【００３８】
転写したカラーの量はマイクロコンテナの直径だけでなくその深さによって決定することもできるので、印刷イメージの最大コントラストを強化することができる。マイクロコンテナの直径比が１：８の場合の典型的なコントラストは、６４ではなく、５１２である。マイクロコンテナのサイズは、自動位置合せによる０．３ミクロンから３ミクロンの範囲で変化することができる。この結果、十分カラー写真の範囲内である８５００ｄｐｉの解像度と１：１０００のコントラストが得られる。このような機器の許容誤差と精度に関する要件は、従来の計器より厳しいものであるが、４つのインク・ローラを備えた１組の印刷ローラに限定される。
【００３９】
本発明の主な関心事である接触リソグラフィにより、半導体製作のプロセスの大部分を印刷状のステップに削減することができるので、スタンプは、輸送媒体に取り付けられたウェハに接触する印刷ローラの形状を取ることができる。特に、フラット・パネルのポリマーＬＥＤディスプレイの印刷など、自動位置合せ前の粗位置合せ精度が１０ミクロンを上回る必要がない応用分野は、上記の用紙の印刷と同様にこのプロセスで処理できるはずである。
【００４０】
本明細書に記載するマイクロコンテナの概念の有用性を実証するもう１つの例は、治療薬など、液体および固体材料の調製およびスクリーニングの分野に見られる。効力が分かっている単一薬品は、同様のクラスまたは異なるクラスの化合物からなる他の薬品とともに使用すると、さらに有効性が増す（毒性が低下する）場合が多い。選択的または差別的な充填により、このような広範囲の組合せを調製することができ、最適混合物を求めて効果的な探索が可能になる。この探索は、目標の溶液をすべてのマイクロコンテナに均一に加え、検定を行うことにより、マイクロコンテナの容積内で直接行われる。組合せアレイの調製またはスクリーニングのためには、スタンプ表面の各種領域を覆う一連のふたが必要になる。このような１組のふたは、マイクロコンテナの半分、４分の１、８分の１などを覆うことができる。
【００４１】
たとえば、前記一連のふたを使用して、各マイクロコンテナ内の超伝導化合物用の先駆物質の量と組成を変化させることにより、結果的に得られる固体（焼結または別の反応による）は、先駆物質の元の開始濃度を反映した化学量を備えているはずである。このようなバルク固体の重要な材料特性（超伝導性、弾性率、反射能、結晶度など）は組成によって著しく影響を受けることが分かっているので、この方法は、単一パラメータの系統的変化を含む化合物の「ライブラリ」を合成するための実用的な方法をもたらすものである。その後のプロセス・ステップでは、これらのサンプルは、それぞれが１つのマイクロコンテナの中身であり、この基板をマイクロコンテナのスタンプの表面に押し付けることにより、パターンとして基板に転写することができる。各化合物を金属接点と接触させることにより、超伝導体の臨界温度およびその他のパラメータのバッチ測定を行うことができる。
【００４２】
各種の反応を順番に行わなければならない既知のプロセスと比較すると、いくつかの反応を同時に実行する可能性により、同時プロセスの固有の位置合せが行われ、必要な機器が削減される。また、マイクロコンテナの存在により、隣接するマイクロコンテナとの十分な間隔を備えた組合せ合成も可能になる。最終表面上で行われるプロセスの数が削減されるので、処理時間量と汚染に対する感受性が低減される。
【００４３】
本発明の上記の実施例と代替実施例のいくつかを組み合わせた例を以下に示す。このようなフィーチャのネガを使ってシリコン・マスタ上にポリジメチルシロキサン（ＰＤＭＳ）のプレポリマーを注ぎ、そのポリマーを硬化することにより、深さが３００ｎｍで直径が１０マイクロメートルの規則的な円形くぼみのアレイを備えたマイクロコンテナ・プレートが形成される。同時に、円形くぼみのアレイに合わせた１組のパターン化開口部を有する第２のシリコン基板が調製される。これらの開口部は、１０マイクロメートルであるこのシリコン・ウェハの厚さ全体を横切り、穴あきシリコンふたを形成する。このシリコンふたは、２ナノメートルの厚さの熱酸化物によって保護された単結晶であるが、これは酸すすぎによって親水性表面として維持される。
【００４４】
ガラス基板上にサポートされたＰＤＭＳマイクロコンテナ・プレートは、３軸機械アライナを使用して前述のシリコンふたの開口部に位置合せされる。位置合せすると、サポートされているＰＤＭＳマイクロコンテナ・プレートは、それ自体の重みによってシリコンふたと接触できるようになり、弾性プレートとふたとの間に剥離可能な接着相互作用が発生する。このアセンブリは、裏返しにされ、ｒｆウォータ・プラズマ（１０−２ミリバールＨ２Ｏ／Ａｒ）に１５分間さらすためにチャンバ内に置かれ、その結果、マイクロコンテナの内部は親水性になるが、シリコンふたによってマスクされた容器間の領域は親水性にならない。
【００４５】
アセンブリはチャンバから取り出され、１０％緩衝ＨＦの滴がシリコンふたの開口部の上に直接置かれる。容器は毛管作用によって充填され、超音波による短時間（１０秒）の処理（超音波処理）によって一貫した充填が確実に行われる。アライナ内にマイクロコンテナ・プレートを保持するガラス・サポートを固定し、シリコン・ウェハを静かに持ち上げることにより、ふたが取り外される。厚さ２０ｎｍの化学酸化物を含むシリコン・ウェハは、十分な力（約０．００５Ｎ／ｃｍ２）によってマイクロコンテナプレートと接触し、ＰＤＭＳマイクロコンテナの厚さが１％変形することにより、マイクロコンテナ内の液体がシリコン基板に接触する。この反応は３０秒間続行することができ、シリコン・ウェハから圧力が解放され、ウェハが取り出され、水ですすがれる。
【００４６】
エッチングした酸化物層により、第１図に関連して説明したベースにさらした後で基礎をなすシリコンの差別的なエッチングを可能にするのに適したパターン化マスクが得られる。ＳｉＯ２保護層を開くために使用するＨＦの容積は、１つの穴につき約１００フェムトリットルまたは１００万個の穴につき０．１マイクロリットルである。基板のパターン化酸化物層は、１：１のイソプロパノール／（３０％ＫＯＨ水）に浸漬され、弾性率が１０５ダイン／ｃｍ２のＰＤＭＳから作ったパターンなし親水性スタンプに３０分間さらされる。この反応は、酸化物層の開口部のパターンと一致するパターン状に深さ２００ｎｍの１組の穴をシリコンにエッチングするために、７０℃で１分間続行することができる。この「バルク」処理ステップで必要になるのは、わずか数百マイクロリットルである。
【００４７】
上記の方法の延長として、高さが変化するシリコン突出部を含むウェハの上で弾性率が５＊１０６ダイン／ｃｍ２のＰＤＭＳを硬化することにより、マイクロコンテナスタンプが形成される。したがって、スタンプ内のマイクロコンテナは、第６図に示すマスタの突出部の高さを反映した様々な容積を備えている。上記のように、パターン化した穴あきふたが形成され、マイクロコンテナプレートに接触し、親水性になる。マイクロコンテナには、１０％ＫＯＨの水溶液が充填される。緩衝ＨＦに１分間さらすことによってその熱酸化物が除去されたパターンなしシリコン・ウェハは、マイクロコンテナプレートに接触し、０．００５Ｎ／ｃｍ２の力で保持される。基礎をなすシリコンの溶解は、最も深い容器内のＫＯＨの容積を使い果たすまで続行することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施例によるエッチング・プロセスの概略を示す図である。
【図２】本発明の第２の実施例によるエッチング・プロセスの概略を示す図である。
【図３】本発明の第３の実施例による触媒反応の概略を示す図である。
【図４】マイクロコンテナを使用する、本発明の第４の実施例によるエッチング・プロセスの概略を示す図である。
【図５】本発明の第４の実施例の変形態様によるエッチング・プロセスの概略を示す図である。
【図６】様々な深さのマイクロコンテナを使用する、本発明の第４の実施例の変形態様によるエッチング・プロセスの概略を示す図である。
【図７】基板上の選択的付着のためにマイクロコンテナを使用する、第４の実施例の変形態様によるプロセスの概略を示す図である。
【図８】基板上の選択的付着のためにマイクロコンテナを使用する、第４の実施例の変形態様による別のプロセスの概略を示す図である。
【図９】カラー印刷用の用紙上の選択的付着のためにマイクロコンテナを使用する、第４の実施例の変形態様によるプロセスの使い方の概略を示す図である。
【図１０】カラー印刷用の用紙上の選択的付着のためにマイクロコンテナを使用する、第４の実施例の変形態様によるプロセスの使い方の概略を示す図である。
【符号の説明】
９１  ふた層
９５    印刷マスタ・ローラ
９６    印刷媒体
９４４−９４４  カラー・ローラ
９４５        クリーニング・ラー
９５１  変形可能な層
１０１０  ふた層
１０４０  カラー
１０５０  印刷マスタ・ローラー
１０５１  マイクロコンテナ
１０６０  用紙
【図１】
0003989380.tif 000002
【図２】
0003989380.tif 000003
【図３】
0003989380.tif 000004
【図４】
0003989380.tif 000005
【図５】
0003989380.tif 000006
【図６】
0003989380.tif 000007
【図７】
0003989380.tif 000008
【図８】
0003989380.tif 000009
【図９】
0003989380.tif 000010
【図１０】
0003989380.tif 000011