(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
複屈折膜に紫外線を照射することにより複屈折膜を透過する光の直交偏光間位相差を部分的に異ならせて形成し、当該複屈折膜を透過したコヒーレント光の偏光状態に変化を与えることにより情報記録することを特徴とする、光記録方法。
【請求項２】
前記直交偏光間位相差は、少なくとも３段階とすることにより多値符号記録することを特徴とする請求項１に記載の光記録方法。
【請求項３】
前記複屈折膜は配向した液晶性高分子膜であり、当該配向した液晶性高分子膜に照射時間及び又は照射強度を異ならせて紫外線を照射することにより複屈折膜を透過する光に直交偏光間位相差変化を形成することを特徴とする、請求項１又は２に記載の光記録方法。
【請求項４】
前記照射時間は、非照射と少なくとも２つ以上の異なる時間幅、又は、非照射を含まない少なくとも３つ以上の異なる時間幅、及び／又は、前記照射強度は、非照射と少なくとも２つ以上の異なる照射強度、又は、非照射を含まない少なくとも３つ以上の異なる照射強度とし、少なくとも３段階の直交偏光間位相差変化を形成して多値符号記録することを特徴とする請求項３に記載の光記録方法。
【請求項５】
前記光記録により得られる透過光又は往復透過による反射光は、複屈折膜の複屈折率と膜厚との積の変化に比例する直交偏光間位相差を有することを特徴とする請求項１乃至４の何れか一つに記載の光記録方法。
【請求項６】
紫外線照射により透過する光の直交偏光間位相差を異にする部分が形成される複屈折膜であって、当該直交偏光間位相差の場所による変化により情報を記録する光記録媒体。
【請求項７】
少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化による多値符号を記録したことを特徴とする請求項６に記載の光記録媒体。
【請求項８】
前記複屈折膜は配向した液晶性高分子膜であり、当該液晶性高分子膜は異なる照射時間及び／又は異なる照射強度の紫外線照射による透過光の直交偏光間位相差の場所による変化を有することを特徴とする、請求項６又は７に記載の光記録媒体。
【請求項９】
少なくとも２つ以上の異なる照射時間幅及び／又は少なくとも２つ以上の異なる照射強度の紫外線照射により形成された少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化による多値符号が記録されたことを特徴とする請求項８に記載の光記録媒体。
【請求項１０】
前記液晶性高分子膜は、配向膜を備えることを特徴とする請求項８又は９に記載の光記録媒体。
【請求項１１】
光記録媒体に紫外線を照射して透過光の直交偏光間位相差を部分的に異ならせて形成し、当該透過光の直交偏光間位相差の場所による変化により情報書き込みを行うことを特徴とする、光記録装置。
【請求項１２】
少なくとも３つ以上の異なる透過光の直交偏光間位相差変化により多値符号を書き込むことを特徴とする請求項１１に記載の光記録装置。
【請求項１３】
前記透過光の直交偏光間位相差変化は、配向した液晶性高分子膜に照射時間及び／又は照射強度を異ならせて紫外線を照射することにより形成することを特徴とする、請求項１１又は１２に記載の光記録装置。
【請求項１４】
非照射と少なくとも２つ以上の異なる時間幅又は非照射を含まない少なくとも３つ以上の異なる時間幅、及び／又は、非照射と少なくとも２つ以上の異なる照射強度又は非照射を含まない少なくとも３つ以上の異なる照射強度で紫外線を照射することにより、少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化を形成して多値符号を書き込むことを特徴とする請求項１３に記載の光記録装置。
【請求項１５】
紫外線照射で形成される透過光の直交偏光間位相差が変化した部分を有し、当該透過光の直交偏光間位相差の場所による変化により情報を記録する複屈折膜を含む光記録媒体に光を照射し、当該光記録媒体の透過光又は往復透過による反射光から、複屈折率と膜厚との積の変化に比例する出射光の直交偏光間位相差を検出することにより情報読み出しを行うことを特徴とする、光記録再生装置。
【請求項１６】
少なくとも３段階の直交偏光間位相差を検出することにより多値符号を読み出すことを特徴とする請求項１５に記載の光記録再生装置。
【請求項１７】
紫外線照射により液晶性高分子膜に形成した、液晶性高分子膜を透過する光の直交偏光間位相差変化により情報書き込みを行う書き込み手段と、
前記直交偏光間位相差変化により情報書き込みされた液晶性高分子膜に紫外線よりも長い光を照射し、前記直交偏光間位相差と膜厚との積の変化に比例する透過光又は往復透過による反射光の直交偏光間位相差を検出することにより情報読み出しを行う読み出し手段とを備えることを特徴とする、光記録再生装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は光記録に関し、特に多値記録が可能な光記録に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の光ディスクの記録では、記録情報に基づいてピットが形成された光ディスクにレーザー光を照射し、反射光の強弱からピットの有無を読み出す２値記録が行われている。この記録方式では、ピットの大きさをレーザー光の波長程度にまで小さくすることによって大容量の情報を高密度で記録し再生することができる。この記録容量及び記録密度は主にピット幅やピット間隔に依存しており、このピット幅やピット間隔を微細化して大容量化あるいは高密度化するには、物理的あるいは加工上で限りがあるため、従来の記録方式では記録容量や記録密度はいずれ限界に達すると予想される。この記録容量や記録密度の限界を打開するために、近接場記録方式や波長多重方式による超高密度記録が提案されている。
【０００３】
記録密度が限界に達した後、さらに高密度化するための手法として、信号強度を多値符号化する多値記録方式が考えられている。この信号強度を多値化する多値記録方式では、ピットの深さを多段階に形成し、このピットの深さを光波の回折現象による反射光強度変化として記録するものが考えられている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
この回折による強度変化を用いる方法では、ピット深さが波長の４分の１程度（例えば、０．１９５μｍ）で強度変化が最大となるため、このピット深さをさらに細分化して多値化するには非常に高精度にピット深さを制御する必要がある。しかしながら、ピットの加工精度等によって高密度化が抑えられるため、一つのピットに数段階の情報しか記録することができない。
【０００５】
そこで、本発明は前記した従来の問題点を解決し、光記録において高い記録密度を可能とすることを目的とし、また、高密度の多値符号記録を可能とすることを目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
本発明は、光強度に代えてコヒーレントな光波の直交偏光間位相差を用い、入射光と出射光の偏光状態が異なるように記録媒体に透過する光の直交偏光間位相差の場所による変化を形成することにより高い記録密度を可能とし、また、多段階で位相差を形成することにより高密度の多値符号記録を可能とする。
【０００７】
本発明による光記録は、本出願の発明者が知見した、複屈折膜、特に液晶性高分子膜に紫外線を照射することにより、透過する光の直交偏光間位相差が変化する現象に基づくものであり、記録方法、記録媒体、及び記録装置の各態様とすることができる。
【０００８】
本発明の一態様である光記録方法は、複屈折膜に透過した光の直交偏光間位相差を紫外線照射により部分的に異ならせて形成し、この透過光の直交偏光間位相差変化により情報記録する。透過光の直交偏光間位相差変化は、少なくとも３段階とすることにより多値符号記録することができる。複屈折膜は配向した液晶性高分子膜とし、この配向した液晶性高分子膜に照射時間あるいは照射強度を異ならせて紫外線を照射することにより透過光の直交偏光間位相差変化を形成する。
【０００９】
ここで、照射時間あるいは照射強度は、非照射部分を含めて多値符号を記録する場合には、少なくとも２つ以上の異なる時間幅あるいは照射強度で紫外線を照射することによって、少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化を形成し、また、非照射部分を含まず多値符号を記録する場合には、少なくとも３つ以上の異なる時間幅あるいは照射強度で紫外線を照射することによって、少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化を形成する。
【００１０】
また、光記録した複屈折膜にその複屈折主軸に対してほぼ４５°傾けた直線偏光を入射させると、得られる透過光又は往復透過による反射光は複屈折率と膜厚との積の変化に比例する直交偏光間の位相差を有して出射する。この出射光の直交偏光間位相差は記録情報を表すものとなる。
【００１１】
本発明の他の態様である光記録媒体は、紫外線照射により形成される透過光の直交偏光間位相差変化を異にする部分を有する複屈折膜であって、この透過光の直交偏光間位相差の場所による変化により情報を記録するものであり、少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化とすることで多値符号を記録することができる。
【００１２】
複屈折膜は配向した液晶性高分子膜とし、この液晶性高分子膜に異なる照射時間あるいは照射強度で紫外線をすることにより、照射による透過光に直交偏光間位相差を変化させる。ここで、液晶性高分子膜には、少なくとも２つ以上の照射時間幅あるいは異なる照射強度の紫外線照射により少なくとも３段階の透過光に直交偏光間位相差変化による多値符号が記録される。液晶性高分子膜は配向膜を備える構成とすることができる。なお、配向膜はラビングにより液晶性高分子膜を配向させることができる。
【００１３】
本発明のさらに別の態様である光記録装置は、情報を書き込む構成、情報を読み出す構成、及び情報の書き込みと読み出しを行う構成を含む。
情報を書き込む構成において、光記録装置は光記録媒体に紫外線を照射することによって透過した光の直交偏光間位相差変化を部分的に異ならせて形成し、この透過光の直交偏光間位相差変化により情報書き込みを行い、少なくとも３つ以上の異なる透過光の直交偏光間位相差変化により多値符号を書き込む。
【００１４】
ここで、透過光の直交偏光間位相差変化は、配向した液晶性高分子膜に照射時間あるいは照射強度を異ならせて紫外線を照射することにより形成する。非照射と少なくとも２つ以上の異なる時間幅あるいは照射強度、又は、非照射を含まない少なくとも３つ以上の異なる時間幅あるいは照射強度で紫外線を照射することにより、少なくとも３段階の透過光の直交偏光間位相差変化を形成して多値符号を書き込むことができる。
【００１５】
また、情報を読み出す構成において、紫外線照射により透過した光の直交偏光間位相差変化が形成された部分を有し、この透過光の直交偏光間位相差変化により情報を記録する複屈折膜を含む光記録媒体に紫外線よりも波長の長い光を照射し、複屈折率と膜厚との積の変化に比例する透過光又は往復透過による反射光の直交偏光間位相差を検出することにより情報読み出しを行い、少なくとも３段階の直交偏光間位相差を検出することにより多値符号を読み出す。
【００１６】
また、情報の書き込み及び読み出しを行う構成において、紫外線照射で液晶性高分子膜に形成した透過光の直交偏光間位相差変化により情報書き込みを行う書き込み手段と、透過光の直交偏光間位相差変化により情報書き込みされた液晶性高分子膜に光を照射し、複屈折率と膜厚との積変化に比例する透過光又は往復透過による反射光の直交偏光間位相差を検出することにより情報読み出しを行う読み出し手段とを備える。
【００１７】
本発明の光記録によれば、ピット深さによる光強度に代えて、透過光の直交偏光間位相差変化を用いて記録を行うことによって、ピット深さを細分化する際のピット深さの制御が不要となり、また、ピット加工の加工精度に伴う多値化に対する制限が緩和される。
【００１８】
また、検出される反射光や透過光の直交偏光間位相差は、液晶性高分子膜に形成した複屈折率と液晶性高分子膜の膜厚との積の変化に比例するため、複屈折率と液晶性高分子膜の膜厚との積を大きくすることによって大きな直交偏光間位相差を形成することができ、多値記録の段階数を容易に増加させることができる。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を、図を参照しながら詳細に説明する。
図１は本発明の光記録の概要を説明するための概略図である。
本発明の光記録は、光強度に代えて光波の直交偏光間位相差を用い、入射光と出射光の直交偏光間位相差が異なるように記録媒体に紫外線を照射して記録を行うものであり、多段階で位相差を形成することにより多値の符号記録が可能となる。本発明は、光の位相変化を利用するために異方性材料で構成される複屈折膜を用いる。
【００２０】
複屈折膜は直交する複屈折主軸の屈折率ｎｅとｎｏが異なる。図１（ａ）において、この複屈折膜に直線偏光あるいは円偏光を入射させると、この複屈折主軸の屈折率の差による複屈折率により、直交する偏光軸間に異なる位相差が与えられ、入射偏光に対して出射偏光に位相差（直交偏光間位相差）が生じる。この位相差Δφは複屈折率（ｎｅ−ｎｏ）と透過光の伝搬距離Ｌの積で表される。
Δφ＝ｋ０（ｎｅ−ｎｏ）Ｌ
なお、ｎｅ及びｎｏは複屈折膜の直交する各屈折主軸方向の屈折率であり、透過光の伝搬距離Ｌは複屈折膜の膜厚であり、ｋ０は真空中の伝搬定数を表している。
【００２１】
本発明はこの直交偏光間の位相差を用いて記録を行うものであり、複屈折膜を制御することによって、２値の記録だけでなく多値記録を行う。図１（ｂ）において、複屈折膜ａ，ｂ，ｃの各複屈折膜の直交する各屈折主軸方向の屈折率の差（複屈折率）と膜厚との積が異なる場合には、入射偏光に対する各出射偏光にはそれぞれ直交偏光間位相差Δφa，Δφb，Δφcが生じ、これらの直交偏光間位相差は各複屈折膜の複屈折率に応じた値となる。したがって、複屈折膜の透過光の直交偏光間位相差変化を情報に応じて制御することにより情報記録を行うことができ、出射偏光の直交偏光間位相差を検出することにより記録情報を読み出すことができる。
【００２２】
本発明の光記録は、配向した液晶性高分子膜に紫外線を照射すると透過光の直交偏光間位相差が変化し、その直交偏光間位相差変化は紫外線の照射時間に依存するという、本出願の発明者が新たに発見した現象に基づくものであり、配向した液晶性高分子膜に照射する紫外線の照射時間あるいは照射強度を制御することにより液晶高分子膜を透過した光の直交偏光間位相差を制御し、これによって多値を含む光記録を行う。
【００２３】
本発明による光記録の手順について図２のフローチャート、及び図３の液晶性高分子膜の断面概念図を用いて説明する。
複屈折膜として、分子の向きを一定方向に配向させた液晶性高分子膜を用い、この液晶性高分子膜に紫外線を照射する。図３（ｂ）は、記録媒体１の一例を示し、基板２の上に設けた配向膜３と液晶性高分子膜４を備える。
【００２４】
この記録媒体１に対して、図３（ｃ）に示すように、照射時間あるいは照射強度を異ならせて紫外線を照射する。この照射された紫外線は、記録媒体１の液晶性高分子膜４及び配向膜３を透過し、光を透過させたときの直交偏光間位相差に変化を生じさせる。図３（ｃ）において、照射時間ｔa，ｔb，…，ｔeの紫外線照射によって液晶性高分子膜４の変化部分をそれぞれ５a，５b，…，５eで示している（ステップＳ１）。
【００２５】
紫外線を照射した後、この記録媒体１に読み出し光を照射し（ステップＳ２）、透過光あるいは往復透過による反射光の直交偏光間位相差を検出する。図３（ｄ）において、紫外線を照射しなかった部分及び紫外線照射部５a，５b，…，５eを透過した透過光の直交偏光間位相差は、各変化部分に応じてΔφ０，Δφa，Δφb，…，Δφeとなる。
紫外線の照射時間と透過光の直交偏光間位相差とを一対一に対応させることにより、紫外線の照射時間によって多値符号による情報記録を行うことができる。
【００２６】
図４（ａ）は、液晶性高分子膜に直線偏光紫外線を照射したときの、照射時間と透過光の直交偏光間位相差との関係を測定した測定例である。なお、図４は、配向した膜厚１．３２μｍ、初期の複屈折膜が０．２０の液晶性高分子膜に、波長２４４ｎｍ、出力８０ｍＷ、スポット径１．６５ｍｍの紫外線レーザ（連続光）を照射時間を変えて照射したものを用い、この液晶性高分子膜にＨｅ−Ｎｅレーザ光（波長６３３ｎｍ）をその偏光方向が配向方向に対して４５°の角度で入射させたときの透過光の直交偏光間位相差を偏光子回転法で測定した測定例である。
【００２７】
図４に示す測定例によれば、照射時間が１８０［ｍｉｎ］までほぼ直線的に位相差が減少し、紫外線照射前に液晶性高分子膜が持つ２．６［ｒａｄ］から０．２［ｒａｄ］まで２．４［ｒａｄ］（０．７６π）の大きな位相差変化が得られる。
【００２８】
なお、この実験例では、照射した紫外線は直線偏光でその偏光方向は液晶性高分子の配向方向に平行としているが、偏光方向を配向方向に垂直に照射した場合でも得られる位相差は同じであり、偏光方向による差は認められなかった。図４（ｂ）は、紫外線の偏光方向を液晶性高分子膜の配向方向に対して平行と垂直に照射した各場合の照射時間に対する直交偏光間位相差の測定結果例である。この測定結果において、実線は液晶の配向方向と平行に紫外線を照射した場合であり、破線は液晶の配向方向と垂直に紫外線を照射した場合を示している。この測定結果の差は、主に紫外線レーザーの出力変動に基づくものであり、偏光方向による差違はないと言える。
【００２９】
なお、液晶性高分子膜の配向は、例えばラビングした液晶性高分子膜を成膜することによって形成することができる。図５は配向した液晶性高分子膜の製作工程の一例を説明するためにフローチャートである。石英基板（例えば、厚さ０．５ｍｍ，直径７５ｍｍφ）の基板上に配向材料としてポリイミド（例えば、膜厚０．８μｍ）を成膜し（ステップＳ１１）、一方向にラビングする（ステップＳ１２）。その上に液晶性高分子膜（主鎖型ポリエステル系液晶性高分子，溶媒：Ｎ−メチル−２ピロリドン）をスピンコートにより成膜する（膜厚は例えば１．３μｍ）（ステップＳ１３）。
【００３０】
液晶性高分子は１５０℃以上で流動を開始するため、６０℃の加熱によって溶媒を揮発させた後（ステップＳ１４）、２２０℃でベイクするとラビングした方向に分子が配向する（ステップＳ１５）。
【００３１】
次に、紫外線照射による情報記録の書き込み、及び読み出しについて、図６及び図７を用いて説明する。
図６は、記録媒体に書き込みを行う構成例を説明するための図である。記録媒体１１に対して、入射光側に紫外線の光源１０、偏光板１３、及び照射強度制御手段１２を配置する。偏光板１３は、光源１０から発せられた紫外線を任意の方向の直線偏向あるいは円偏光にする。照射強度制御手段１２は、記録情報に基づき、符号化された照射強度に従って記録媒体１１に照射する紫外線の照射強度を制御する。このとき、記録媒体１１上における紫外線の照射位置は、図示しない移動機構によって、各照射毎に所定ピッチ分順に移動される。
【００３２】
図７は、記録媒体に書き込まれた情報を読み出す構成例を説明するための図であり、回転偏光子法を用いた例を示している。なお、図７では透過光を用いて読み出しを行う構成について示しているが、反射光を用いて読み出しを行う構成とすることもできる。
【００３３】
記録媒体２１に対して、入射光側に光源２０及びλ／２板２２を配置し、入射直線偏光をラビング方向に対してほぼ４５°に入射させる。また、記録媒体２１に対して、出射光側に回転自在な偏光子２３，パワーメータ２４，及び信号処理手段２５を配置し、偏光子２３を回転させたときの出射光強度をパワーメータ２４で測定する。図８は偏光子の回転角に対する出射光強度の一例を示している。光源２０は例えばＨｅ−Ｎｅレーザを用い、波長が０．６３３μｍの光を用いることができる。
【００３４】
パワーメータ２４で測定される出射光強度は、偏光子２３の回転角に対してｓｉｎ関数の２乗で表されるため、信号処理手段２５において測定データを最小二乗法を用いてｓｉｎ関数の２乗に近似して求める。記録媒体に記録される位相差は、例えば出射光強度のピーク位置における偏光子の回転角度の差で求めることができる。求めた出射光強度によって得られる位相差による信号列は、記録媒体１に符号化された信号列であるため、復号化手段２６によって復号することで記録情報を読み出すことができる。
【００３５】
なお、図８に示す出射光強度例では、偏光子がπ回転する間に二つのピークが現れるため、例えば、偏光子の回転角度と出射光強度との間に一対一の関係が成り立つ偏光子の回転角度範囲のみを使用することで、偏光子の回転角度を特定することができる。
【００３６】
また、偏光子の回転角度範囲をπとして測定する場合には、記録媒体１と偏光子２３との間にλ／４板２７を配置する。λ／４板は位相差を決定するために必要な出射楕円偏光の回転方向を求めるために挿入するものであり、楕円偏光を直線偏光に変換したときのλ／４の進相軸の角度と入射直線偏光の角度を比較することで回転方向を求めることができる。
【００３７】
なお、図７に示す構成例では、偏光子を回転する構成であるが、多値符号に対応する位相差に応じて出力を得るため、４分の１波長板と偏光子を組合わせ、この４分の１波長板と偏光子の透過光の出射光強度をパワーメータ２４で測定する構成とすることもできる。このいわゆるセナルモン法を応用した構成によれば、偏光板を回転させるための機械的機構を用いることなく構成することができる。
【００３８】
本発明では、配向された液晶性高分子膜を用いた記録媒体への情報記録において、照射時間又は照射強度の段階数、記録媒体における透過光の直交偏光間位相差変化の段階数、透過光の直交偏光間位相差の段階数、及び直交偏光間位相差を読み出すための識別段階数はそれぞれ関連しており、情報記録を行う多値のビット数に応じて定まる。
【００３９】
例えば、情報記録を行う多値のビット数を３ビットとする場合には、記録媒体上に少なくとも３つの異なる透過光の直交偏光間位相差変化の状態を形成する必要がある。例えば、紫外線を照射しない部分を含むときには、記録媒体における透過光の直交偏光間位相差変化は少なくとも２段階で記録する必要があり、紫外線を照射しない部分を含まないときには、記録媒体における透過光の直交偏光間位相差変化は少なくとも３段階で記録する必要がある。また、透過光の直交偏光間位相差の段階数も３段階であるため、直交偏光間位相差を読み出すためにはこの位相差を少なくとも３段階で識別する機能を要する。したがって、上記した記録媒体に書き込みを行う構成例では、紫外線の照射時間あるいは照射強度を２段階あるいは３段階で制御し、また、記録媒体に書き込まれた情報を読み出す構成例では、記録媒体に記録された３ビット情報を読み取るために、直交偏光間位相差を３段階で識別する。
【００４０】
なお、前記の例では、記録媒体と、書き込み用の紫外線あるいは読み出し用の入射光との相対的な位置を変更する機構については省略しているが、これらの相対的な位置の変更は、記録媒体に入射する光、あるいは記録媒体に何れか一方あるいは両方を移動させることで行うことができる。
また、前記の例では、透過光を用いた構成例について説明しているが、反射光を用いた構成例についても同様に構成することができる。
【００４１】
本発明に使用される液晶性高分子としては、各種の主鎖型液晶性高分子、側鎖型液晶性高分子、またはこれらの混合物等を用いることができる。主鎖型液晶性高分子としては、ポリエステル系、ポリアミド系、ポリカーボネート系、ポリイミド系、ポリウレタン系、ポリベンズイミダゾール系、ポリベンズオキサゾール系、ポリベンズチアゾール系、ポリアゾメチン系、ポリエステルアミド系、ポリエステルカーボネート系、ポリエステルイミド系の液晶性高分子、またはこれらの混合物等が挙げられる。これらの中でも液晶性を与えるメソゲン基とポリメチレンユニット、ポリエチレンオキシドユニット、ポリシロキサンユニット等の屈曲鎖とが交互に結合した半芳香族系ポリエステル系液晶性高分子や、屈曲鎖のない全芳香族系ポリエステル系液晶性高分子が望ましい。
【００４２】
また、側鎖型液晶性高分子としては、ポリアクリレート系、ポリメタクリレート系、ポリビニル系、ポリシロキサン系、ポリエーテル系、ポリマロネート系、ポリエステル系等の直鎖状又は環状構造の骨格鎖を有する物質に側鎖としてメソゲン基が結合した液晶性高分子、またはこれらの混合物等が挙げられる。これらの中でも、骨格鎖に屈曲鎖からなるスペーサーを介して液晶性を与えるメソゲン基が結合した側鎖型液晶性高分子や、主鎖および側鎖の両方にメソゲンを有する分子構造の液晶性高分子が望ましい。
【００４３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明の光記録によれば、高い記録密度を可能とすることができ、また、直交偏光間の位相差変化を０［ｒａｄ］〜π［ｒａｄ］まで大きな範囲で変化させ得るので、高密度の多値符号記録を可能とすることができる。
【００４４】
さらに、本発明の光記録によれば、記録媒体にピット深さ等の物理的な加工を要しないため、加工精度によって多値記録の記録段数が制限されることなく高密度な記録を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の光記録の概要を説明するための概略図である。
【図２】本発明による光記録の手順を説明するためのフローチャートである。
【図３】本発明の記録媒体における液晶性高分子膜を説明するための断面概念図である。
【図４】液晶性高分子膜に紫外線を照射したときの、照射時間と透過光の直交偏光間位相差との関係を測定した測定例である。
【図５】配向した液晶性高分子膜の製作工程の一例を説明するためのフローチャートである。
【図６】本発明の記録媒体に書き込みを行う構成例を説明するための図である。
【図７】本発明の記録媒体に書き込まれた情報を読み出す構成例を説明するための図である。
【図８】偏光子の回転角に対する出射光強度の一例を示す図である。
【符号の説明】
１，１１，２１…記録媒体
２…基板
３…配向膜
４…液晶性高分子膜
５ａ〜５ｅ…変化部
１０…紫外線光源
１２…照射強度制御手段
２０…光源
２２…λ／２板
２３…偏光子
２４…パワーメータ
２５…信号処理手段
２６…復号化手段
ａ，ｂ，ｃ…複屈折膜
【図１】
0003995149.tif 000002
【図２】
0003995149.tif 000003
【図３】
0003995149.tif 000004
【図４】
0003995149.tif 000005
【図５】
0003995149.tif 000006
【図６】
0003995149.tif 000007
【図７】
0003995149.tif 000008
【図８】
0003995149.tif 000009