(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
切断された端部において低下した反射率を有する複数の光ファイバを整列させるための装置であって、
第１と第２の光ファイバ（105-107）であって、それらの光ファイバ端部が並んで配置されて、前記光ファイバの軸に対して９０度とは異なる角度で切断されている、第１と第２の光ファイバ（105-107）と、
１つ又は複数の他の光学素子（133-135）と、
上部プレート（112）と、
下部プレート（102）と、
締め付け手段と、
光学平板（146）を配置するための配置手段（131、132）とを含み、
前記下部プレート（102）が、整列溝（104）の組を含み、各溝（104）が対応する光ファイバのそれぞれを受容し、前記光ファイバ（105-107）が、前記上部プレートによって前記整列溝の底に押しつけられた場合に、互いに対して、及び前記１つ又は複数の他の光学素子（133-135）に対して所定の位置を占めるように前記整列溝（104）が配置され、
前記締め付け手段が、前記光ファイバを前記整列溝の底に押しつけるように、前記上部プレート（112）と下部プレート（102）を互いに押しつけるように設計されており、
前記光学平板の一方の面が、前記光ファイバのコアと同じ屈折率を備えた接着層によって、前記第１と第２の光ファイバの研磨されていない端部に結合されている、光ファイバを整列させるための装置。
【請求項２】
前記配置手段（131、132）が、前記下部プレート（102）内へ延びる切断部からなる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の装置を含む、光ファイバアセンブリ。
【請求項４】
前記第１と第２の光ファイバの一方を出る光が、第１のレンズ（164）、光学要素（162）、第２のレンズ（165）を通り、前記第２のレンズ（165）によって更なる光ファイバ（163）に結像するように、前記第１と第２の光ファイバ（105-107）の配置がなされている、請求項３に記載の光ファイバアセンブリ。
【請求項５】
前記光学要素が、光アイソレータ（406）、及び波長分割多重化装置（405）を含む、請求項４に記載の光ファイバアセンブリ。
【請求項６】
前記光学平板の非接着表面が反射防止材料で被覆される、請求項３〜５の何れかに記載の光ファイバアセンブリ。
【請求項７】
前記光学素子（133-135）の１つがレンズである、請求項３に記載の光ファイバアセンブリ。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、光ファイバを利用したシステムに関するものであり、とりわけ、光ファイバを整列するための改良された装置とその応用に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
多くの用途で光伝送システムが利用されている。光ファイバによって、１つの地点からもう１つの地点に光を伝送するための低コストの方法が得られる。さらに、光ファイバによれば、従来の光学装置によって得られる直線経路より複雑な幾何学形状を有する経路を介した伝送が可能になる。
【０００３】
光学伝送システムには多くの利点があるが、１つのファイバからの光にフィルタをかけたりその他の処理を加えた後もう１つの光ファイバに結合しなければならない場合には、顕著に問題が生じる。光が第１の光ファイバを出て、ある種の光学素子を通過し、その後、第２の光ファイバ内に再結像するシステムについて考察してみることにする。先行技術のシステムの場合、ガラスと空気の界面からの反射が光ファイバを伝搬して戻るのを阻止するため、第１の光ファイバの端部が該光ファイバの軸に対して９０度とは異なる角度で切断される。さらに、切断工程の結果生じる欠損部分によって逆行伝搬する反射が発生するのを阻止するため、切断した光ファイバを研磨しなければならない。最後に、反射をさらに抑制するため、切断し、研磨した端部に反射防止被覆剤が施される。この方法による各切断端部の処理コストは、光が光ファイバから出て、空気中を通過しなければならないシステムの利用に制約を課す。
【０００４】
こうしたシステムに関するもう１つの問題は、光ファイバ間において必要とされる高度の整列から生じるものである。単一モード光ファイバの場合、１ミクロンのオーダの公差で端部を整列しなければならない。さらに、光ファイバは、回転の視点からの制約も受けなければならない。一方の光ファイバが空間内において正しく固定されていたとしても、もう一方の光ファイバは、前記一方の光ファイバの固定端に対して自由度２の回転と自由度３の空間並進が可能である。整列の正確さが高度になると、このタイプのシステムのコストは大幅に高騰する。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
一般に、本発明の目的は、光ファイバ相互を整列するための改良された装置を提供することにある。
【０００６】
本発明のもう１つの目的は、端部の研磨を必要としない、切断された光ファイバ端部の反射率を低下させるための装置及び方法を提供することにある。
【０００７】
本発明のさらにもう１つの目的は、先行技術による整列機構よりもはるかに低いコストで大量生産可能な光ファイバ整列装置を提供することにある。
【０００８】
当該技術の熟練者には、下記の本発明の実施例及び添付の図面から本発明の以上の目的及びその他の目的が明らかになるであろう。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、所定の位置において複数の光ファイバ相互を整列するための装置から構成される。該装置には、上部プレートと、第１の組をなす整列溝を備えた下部プレートが含まれており、各光ファイバ毎に１つずつ対応するこうした整列溝が設けられている。光ファイバが、上部プレートによって整列溝の底に押しつけられると、互いに対して正しい位置につくように、整列溝の配置が施されている。切断された光ファイバからの反射を抑制するため、これらの光ファイバは、光ファイバの軸に対して９０度とは異なる角度をなして切断され、また、切断された端部は、光ファイバと同じ屈折率の接着層によって光学平板に結合され、この結果、切断プロセスによって導入される不完全部分のために光が反射して光ファイバに戻るのが阻止される。従って、先行技術のシステムにおいて用いられた研磨ステップが回避される。本発明の望ましい実施例の場合、光学平板には、その非接着表面に反射防止材料も含まれている。下部プレートは、マイクロマシン加工及び集積回路製造において用いられるのと同様のフォトリソグラフィによるエッチング技法を利用して製造するのが望ましい。これによって、下部プレートの大量生産が可能になり、同時に、高い集光効率を得るのに必要とされる厳格な公差を維持することが可能になる。下部プレートの整列溝には、下部プレートのそれ以外の整列溝に助けられて、さまざまな光学素子を取り付けることも可能である。
【００１０】
【実施例】
本発明は、レンズ１６による第１の光ファイバ１２からの光が第２の光ファイバ１４へ結像することを示す図１を参照することによってより容易に理解することが可能になる。上述のように、各光ファイバの端部は、ガラスと空気の界面において発生した反射が光ファイバを伝搬して戻らないように処理しなければならない。この処理は、一般に、１８で示すように光ファイバの軸に対して９０度とは異なるある角度で端部を切断することと、端部を研磨することと、さらに、端部に反射防止被覆剤を施すことから構成される。いくつかの光ファイバについて相互位置決めを実施しなければならない場合には、各端部の切断、研磨、及び、被覆が必要になる。
【００１１】
次に、いくつかの光ファイバを相互に整列させ、反射の抑制のため、端部に不活性化処理を施すための本発明による装置を示した図２、３、及び、４を参照する。必要とされる整列の公差は、各スロットの底部に押しつけられると、光ファイバ相互の適正な整列がとれるように位置決めされたスロット１０４を含む、基台１０２によって得られる。例示の光ファイバが１０５〜１１０で示されている。光ファイバは、基台１０２に接合するのが望ましい上部プレート１１２によってスロット１０４に押しつけられる。基台１０２を製作する方法については、さらに詳細に後述する。
【００１２】
図２〜図４に示す実施例の場合、各光ファイバ対の間に介在する光学素子がブロック１３３〜１３５によって示されている。光学素子を指定した実施例についてはさらに詳細に後述する。
【００１３】
次に、光がガラスと空気の界面において反射し、光ファイバに沿って戻らないようにするため、光ファイバの端部に処理を施す方法を示した図４を参照する。上部プレートによって光ファイバを下部基台に押しつけて固定した後、上部プレート１１２を切り通すことにより、各光ファイバを所望の角度で切断する。１３１及び１３２で示すように、切断部は基台１０２内にまで達している。切り通しによって、各光ファイバは正確な角度で切断される。留意しておくべきは、鋸による１回の切り通しで複数の光ファイバが切断されるということである。先行技術のシステムとは対照的に、切り通し後、光ファイバ端部の研磨は行われない。代わりに、プレート１４６が、透明なセメント層１４５を用いて光ファイバ端部に接合される。セメントの屈折率は、単一モード・光ファイバの場合、光ファイバのコアの屈折率と整合するように選択される。光ファイバがＧＲＩＮレンズの場合、屈折率は、ＧＲＩＮレンズの中心領域の屈折率と整合するように選択される。プレート１４６は、セメント層と同じ屈折率の材料から製作される。従って、プレート１４６のセメント層に接触する側または切断された光ファイバのかき傷がセメント層によって消去される。プレート１４６のセメント層とは接触していない表面１４７には、さらに反射を抑制するため、反射防止材料による被覆を施すことが望ましい。
【００１４】
注目すべきは、プレート１４６が、１つの光学的にフラットな表面、すなわち、表面１４７を備えていさえすればよい安価な素子であるということである。従って、装置１００は、光ファイバ端部を研磨し、反射防止材料で被覆を施したシステムのコストに比べると大幅に少ないコストで製作することが可能である。実験で明らかになったところによれば、本発明の反射防止システムは、従来の端部を切断し、研磨したシステムシステムと同様良好に機能する。従って、本発明によれば、コストをかなり削減して、先行技術の便益が得られる。
【００１５】
基台１０２は、従来のフォトリソグラフィ技法を利用して製造可能である。こうした技法によれば、必要な整列の精度が得られるし、大量生産が容易である。Ｖ溝をシリコンまたはセラミックに設けるための技法は、マイクロマシン加工技術において周知のところである。例えば、シリコン基板の場合、ＫＯＨエッチング液を用いることが可能である。ＫＯＨによれば、（１１１）面のエッチング率が極めて低いので、エッチング・プロセスが実質的に（１１１）面において停止する異方性エッチングが可能になる。従って、（１００）シリコン・ウェーハ上において、エッチング・マスクが（１１０）方向に向けられる結果として、互いに精確に７０．５３°の角度で交差する２つの（１１１）面によって形成される、Ｖ字形溝が生じる。Ｖ字形溝の深さは、マスク開口部の幅だけによって決まる。従って、２次元リソグラフィを用いることによって、精密な３次元Ｖ字形溝構造を形成することが可能である。
【００１６】
精密な固定整列機構を有する光学プラットフォームを大量生産することが可能なので、本発明をいくつかの光学素子に用いることができる。多くの用途では、第１の光ファイバに沿って進行する光には、引き続き、第２の光ファイバに沿って進行する前に、何らかの光学素子によって、フィルタリング、偏向、または、他の処理を加えなければならない。こうした処理を行うための一般的装置が図５に１６０で示されている。光ファイバ１６１に沿って進行する光は、レンズ１６４によって平行化され、光学素子１６２を通過する。素子１６２を出る光は、第２のレンズ１６５によって集光され、このレンズによって出力光ファイバ１６３内にその光が結像する。反射が光ファイバ１６１に沿って戻らないようにするため、光学素子１６２の表面に対する垂線が光ファイバ１６１の光学軸に対してある角度をなすように、光学素子１６２の位置決めが行われる。素子１６２と空気の屈折率が異なるため、この角変位によって、素子１６２を出る光は、素子１６２の厚さと屈折率によって決まる量だけ光ファイバ１６１の光学軸に対して変位する。上述のように、高い集光効率を維持するには、光ファイバ１６３の整列を厳密に制御しなければならない。
【００１７】
先行技術の光学処理システムの場合、異なる各光学素子毎に光ファイバを整列するコストは、極めて高いものになる。本発明によれば、非常に正確に整列した光ファイバ及び光学素子を多数生産するための手段が得られることになり、従って、本発明による整列プラットフォームは先行技術に対する重要な改良となる。
【００１８】
すなわち、本発明を利用することによって、４つの光ファイバまたはそのうちの幾つかの間において進行する光に処理を施すための汎用光学プラットフォームの製作が可能になる。図６の２００に、こうしたプラットフォームの平面図が示されている。プラットフォーム２００は、光ファイバ２０２〜２０５からの光に処理を施す。光は光ファイバの任意のどれかを介してプラットフォームに出入りすることが可能である。光ファイバに出入りする光は、対応するレンズによって結像されるか、あるいは、平行化される。光ファイバ２０２〜２０５に対応するレンズが、それぞれ、２１２〜２１５で示されている。実際の光の処理は、２２１〜２２５で示される５つの光学素子の１つ以上に施される被覆によって実施される。
【００１９】
プラットフォーム２００を利用すれば、光ファイバ２０２及び２０４のような互いに向かい合った２つの光ファイバ間を進行する光にフィルタリングまたは偏向を施すことが可能である。また、プラットフォーム２００を利用すれば、これらの光ファイバに対して直角に配置された光ファイバを利用することによって、ビーム分割器または波長分割多重化装置を構成することも可能である。
【００２０】
上述の機能は、全て、光学素子２２１〜２２５に異なる光学被覆剤を用いることによっ実現可能である。これらの光学素子は、透明で平坦であることが望ましい。光学素子２２１〜２２５に対する被覆剤がなければ、光ファイバ２０２を出た光が光ファイバ２０４内において結像されるように、光ファイバの整列がとられる。同様に、光ファイバ２０５を出る光は、光ファイバ２０３内に結像される。最後に、光ファイバ２０２を出て、光学素子２２５から反射される光が、光ファイバ２０３内に結像される。この整列は、光が各種光学素子を通過することによって生じるビームのずれを考慮に入れている。留意すべきは、光学素子２２１〜２２４の位置決めは、その表面から反射した光がそれを生じた光ファイバに結像しないように行うのが望ましいということである。
【００２１】
各種素子を取り付けるプラットフォームは、上述のように製造するのが望ましい。あらゆる用途において、該光学素子の５つを、全て、適正位置につける必要がある。どんな特殊な用途にたいして、必要な光学処理を施した薄膜によって、１つ以上の光学素子が被覆される。例えば、ビーム分割器を製作すべき場合には、光学素子２２５の表面に部分反射被覆剤が施される。光ファイバ２０２と２０４の間において、フィルタリングまたは偏向操作を実施すべき場合には、光学素子２２１または２２３の表面に被覆剤が施される。この被覆剤は、光学素子よりもはるかに薄いので、被覆剤を施した素子の厚さの違いによって生じるずれは無視することが可能である。従って、多くの用途に単一の大量生産された光学アセンブリを用いることが可能であり、新規の各用途毎に装置の整列を行う必要がない。
【００２２】
プラットフォーム２００の上述の実施例では、隣接する光学素子から独立したレンズを利用して、対応する光ファイバ内における光学素子からの光の結像が行われた。しかし、当該技術の熟練者には明らかなように、平坦でない光学素子が許容可能な場合には、レンズと光学素子を結合することが可能である。
【００２３】
本発明による光学整列プラットフォームを利用することによって有利に製作することが可能な光学処理装置が、他にもいくつか存在する。例えば、光増幅器はこうしたプラットフォームで製作することが可能である。一般的な光増幅器の動作の仕方については、先行技術に基づくエルビューム添加光ファイバ等（以下、添加光ファイバと称する）を用いた光増幅器３００の実施例に関する略図である図７を参照することによって、より容易に理解することが可能になる。光増幅器３００は、入力光ファイバ３０２によって入力される光信号を増幅する。入力光ファイバ３０２の入力側は、光アイソレータ３０３によって分離されている。光は、添加光ファイバ・ループにおいて増幅され、励起レーザ３０４及び３０６によって励起される。励起光は、波長分割多重化装置（ＷＤＭ）３０９及び３１０によってループ３０５に結合される。次に、ループ３０５からの増幅された光にフィルタ３０８でフィルタリングを施して、励起周波数の光が除去される。入力光ファイバ３０２の出力端部は、アイソレータ３０７によって入力光ファイバ３０２の出力側の素子から分離される。光アイソレータは、光が添加光ファイバ・ループ３０５において１つの方向にしか進行しないことを保証することによって、増幅器におけるレーシングを防止する。
【００２４】
次に、添加光ファイバ４０４で受信した信号を増幅するための、添加光ファイバを用いる光増幅器に関する本発明による実施例の略図である図８を参照する。増幅された光信号は、出力光ファイバ４１０に結合される。入力光ファイバ４０２で受信する光信号は、球レンズ４０３によって平行化され、アイソレータ４０６及びＷＤＭ４０７の通過後、添加光ファイバ４０４に入る。励起レーザ４０８からの光が、ＷＤＭ４０７の表面から反射され、やはり、添加光ファイバ４０４のこの端部に入る。光アイソレータ４０６は、図７に示すアイソレータ３０３及び３０７と類似の機能を実施する。光信号は、添加光ファイバ４０４を通過する際に増幅される。増幅信号は、球レンズ４１２によって出力光ファイバ４１０内に結像される。
【００２５】
添加光ファイバ４０４の励起を改善するため、本発明の望ましい実施例には第２の励起レーザ４０９及びＷＤＭ４０５が含まれる。第２の励起システムによって、添加光ファイバは両端からの励起が可能になる。光アイソレータ４０６は、励起レーザ４０９からの光が出力光ファイバ４１０を通って漏出するのを防止する。
【００２６】
留意すべきは、単一の光アイソレータ４０６は、図７に示す光増幅器に関して上述の２つのアイソレータの機能を実施するということである。従って、安価な大量生産プラットフォームで組立可能な光増幅器が得られるだけでなく、光増幅器４００によって、光アイソレータの１つが省かれることにもなる。留意すべきは、図７に示すタイプの光増幅器における光アイソレータのコストは、こうした増幅器のコストのかなりの部分を占めるということである。従って、本発明のこの実施例によれば、先行技術の光増幅器に対して追加利点が得られる。
【００２７】
本発明による光増幅器の代替実施例が図９に５００で示されている。この実施例では、光が添加光ファイバ５０４において１方向だけにしか進行しないことを保証するため、２つの光アイソレータ５３１及び５３２が利用されているが、光増幅器４００とは対照的に、この実施例では１つの励起レーザしか必要としない。入力光は、入力光ファイバ５０２において受信され、増幅された光信号は、出力光ファイバ５１０を通って出てゆく。添加光ファイバ５０４は、アイソレータ５３１及び５３２を介して増幅器に結合されている。添加光ファイバは、ＷＤＭ５２２を介して添加光ファイバ５０４に結合された励起レーザ５２５によって励起される。
【００２８】
レンズ５２０〜５２３によって、必要な結像機能が得られる。レンズ５２０−５２１は、入力光ファイバ５０２からの光を添加光ファイバ５０４に結合し、添加光ファイバ５０４から出る光を出力光ファイバ５１０に結合する。レンズ５２３は、励起光を添加光ファイバ５０４内に結像する。
【００２９】
以上の説明及び添付の図面から、当該技術の熟練者には本発明に対する各種修正が明らかになるであろう。従って、本発明を制限するのは付属の請求の範囲に限られるものとするが、本発明の理解を容易にするため、本発明の実施態様のいくつかを下記に記す。
【００３０】
（実施態様１）
所定の位置において複数の光ファイバを相互に整列させるための装置において、
上部プレートと、前記光ファイバのそれぞれにひとつづつ対応する整列溝の第１の組を備えた下部プレートとを備え、前記光ファイバが、前記上部プレートによって前記整列溝の底に押しつけられて相互に所定の位置を占めるように前記整列溝が配置されるとともに、前記上部プレートによって前記光ファイバが前記整列溝に押しつけられるように、前記上部プレートと下部プレートを締め付けるための手段が設けられていることを特徴とする光ファイバ整列装置。
【００３１】
（実施態様２）
前記光ファイバの少なくとも１つが、前記光ファイバの軸に対してある角度で切断されており、前記切断された端部が、前記光ファイバと同じ屈折率を備えた接着層によって光学平板に結合されることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列装置。
（実施態様３）
前記光学平板の一方の表面が反射防止材料で被覆されることを特徴とする実施態様２に記載の光ファイバ整列装置。
（実施態様４）
前記下部プレートにおける前記整列溝が、前記下部プレートにフォトリソグラフィによるエッチング施すことによって作成されることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列装置。
【００３２】
（実施態様５）
さらに、前記下部プレートが、前記光ファイバに対して光学素子を位置決めするための手段を備えることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列装置。
（実施態様６）
前記光学素子がレンズであることを特徴とする実施態様５に記載の光ファイバ整列装置。
（実施態様７）
前記光ファイバの１つを出る光が、第１のレンズ、光学素子、第２のレンズを通り、前記第２のレンズによって前記光ファイバのもう１つにイメージを形成する ように、前記光ファイバの配置がなされていることを特徴とする実施態様１に記載の光ファイバ整列装置。
（実施態様８）
前記光学素子が光アイソレータ及び波長分割多重化装置を有することを特徴とする、実施態様７に記載の光ファイバ整列装置。
【００３３】
（実施態様９）
それぞれ、変更装置に光を伝導するか、または、変更装置から光を伝導するようになっている第１と第２、第３、第４の光ファイバと、それぞれ、第１及び第２、第３、第４の光ファイバに対応する第１及び第２、第３、第４の光学素子と、それぞれ、第１及び第２、第３、第４の光ファイバに対応する第１及び第２、第３、第４のレンズと第５の光学素子とを備え、前記光ファイバを出て第１の方向から前記レンズに入る光が、該レンズによって平行化され、第２の方向から該レンズに入る平行光が、対応する前記光ファイバに焦点を結ぶように、前記各レンズに対応する前記光ファイバに対して前記各レンズの位置決めがなされており、前記第１の光ファイバに入る光が、第１及び第３、第５の光学素子を横断し、前記第３の光ファイバに焦点を結ぶように、第１と第３の光ファイバの位置決めがなされ、第２の光ファイバに入る光が、第２と第４、第５の光学素子を横断し、前記第４の光ファイバに焦点を結ぶように、第２と第４の光ファイバの位置決めがなされ、前記第５の光学素子の表面が反射性の場合、該反射性の度合に応じて、第１の光ファイバを出た光の一部が、第５の光学素子の表面で反射されて第４の光ファイバに送り込まれるように第５の光学素子の位置決めが施され、前記光学素子の１つの少なくとも１つの表面が被覆剤で被覆されており該被覆剤がそれに当たる光の方向及び成分を変更するようになっていることを特徴とする、
光信号変更装置。
（実施態様１０）
被覆剤によって生じる変更が、該被覆剤に当たる光の波長によって決まることを特徴とする実施態様９に記載の光信号変更装置。
【００３４】
（実施態様１１）
増幅される所定の波長の光信号を受けるための入力光ファイバと、第１の励起光源と、前記光信号の前記波長の光が、前記第１の励起光源による励起が可能な、添加光ファイバの第１の端部から出るのを妨げないようにして、前記第１の励起光源からの前記光の焦点を前記添加光ファイバ内に結ぶための第１の波長分割多重化手段と、前記添加光ファイバの第２の端部を出る光を出力光ファイバに結合するための手段と、前記添加光ファイバにおける光の移動方向を制限するための光学アイソレーション手段から構成され、前記光アイソレータ手段が前記添加光ファイバの前記第１の端部と第２の端部の間に配置されることを特徴とする、光増幅器。
【００３５】
（実施態様１２）
さらに、第２の励起光源と、前記光信号の前記波長の光が、前記添加光ファイバの第２の端部に入るのを妨げないようにして、前記第２の励起光源からの前記光の焦点を前記添加光ファイバの前記第２の端部内に結ぶための第２の波長分割多重化手段から構成されることを特徴とする実施態様１１に記載の光増幅器。
【図面の簡単な説明】
【図１】第１の光ファイバからの光が第２の光ファイバ内において結像される用途における光ファイバ端部の前処理を示す図である。
【図２】本発明による光ファイバ整列装置の平面図である。
【図３】図２に示す光ファイバ整列装置のライン１２０−１２１に沿った断面図である。
【図４】図２に示す光ファイバ整列装置のライン１２２−１２３に沿った断面図である。
【図５】光学処理素子によって導入される整列の問題を示す光学処理装置の断面図である。
【図６】本発明による汎用平行化プラットフォームの平面図である。
【図７】従来の光増幅器の略図である。
【図８】本発明による光増幅器の実施例の１つに関する平面図である。
【図９】本発明による光増幅器のもう１つの実施例に関する平面図である。
【符号の説明】
１２    第１の光ファイバ
１４    第２の光ファイバ
１６    レンズ
１００  装置
１０２  基台
１０４  スロット
１０５  光ファイバ
１０６  光ファイバ
１０７  光ファイバ
１０８  光ファイバ
１０９  光ファイバ
１１０  光ファイバ
１１２  上部プレート
１４５  セメント層
１４６  プレート
１４７  表面
１６０  装置
１６１  光ファイバ
１６２  素子
１６３  光ファイバ
１６４  レンズ
１６５  第２のレンズ
２００  プラットフォーム
２０２  光ファイバ
２０３  光ファイバ
２０４  光ファイバ
２０５  光ファイバ
２１２  レンズ
２１３  レンズ
２１４  レンズ
２１５  レンズ
２２１  光学素子
２２２  光学素子
２２３  光学素子
２２４  光学素子
２２５  光学素子
３００  光増幅器
３０２  入力光ファイバ
３０３  光アイソレータ
３０４  励起レーザ
３０５  添加光ファイバ・ループ
３０６  励起レーザ
３０７  光アイソレータ
３０８ フィルタ
４００  光増幅器
４０２  入力光ファイバ
４０３  球レンズ
４０４  添加光ファイバ
４０６  光アイソレータ
４０７  ＷＤＭ
４０８  励起レーザ
４０９  励起レーザ
４１０  出力光ファイバ
４１２  球レンズ
５００  光増幅器
５０２  入力光ファイバ
５０４  添加光ファイバ
５１０  出力光ファイバ
５２０  レンズ
５２１  レンズ
５２２  ＷＤＭ
５２３  レンズ
５２５  励起レーザ
５３１  光アイソレータ
５３２  光アイソレータ
【図１】
0003902680.tif 000002
【図２】
0003902680.tif 000003
【図３】
0003902680.tif 000004
【図４】
0003902680.tif 000005
【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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