(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
被処理物に付着した処理液をエアーの圧力で除去するエアーナイフにおいて、
一端から圧縮空気が導入され他端が所定方向に傾斜した傾斜部を介して下端面に開放する空間部が形成されたナイフ本体と、
このナイフ本体の傾斜部にスペーサを介して設けられその一対の側面と上記傾斜部の一対の内面との間に上記空間部に供給された圧縮空気を所定方向に向けて噴射する一対のスリットを上記ナイフ本体の厚さ方向に離間しかつ上記ナイフ本体の長手方向に沿って形成するスリット部材と
を具備したことを特徴とするエアーナイフ。
【請求項２】
上記一対のスリットは、同じ方向に向って傾斜していることを特徴とする請求項１記載のエアーナイフ。
【請求項３】
上記一対のスリットは、逆方向に向って傾斜していることを特徴とする請求項１記載のエアーナイフ。
【請求項４】
処理槽を有し、この処理槽に搬入される被処理物にエアーナイフから噴出される圧縮空気を吹き付けて乾燥処理する処理装置において、
上記エアーナイフは請求項１に記載された構成であることを特徴とする乾燥槽処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は被処理物に付着した処理液を除去するためのエア−ナイフおよびそのエア−ナイフを用いた処理装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
たとえば、液晶表示装置や半導体装置の製造工程においては、被処理物としての液晶用ガラス基板や半導体ウエハなどの基板に回路パタ−ンを形成する成膜プロセスやフォトプロセスがある。これらのプロセスにおいては、上記基板をそれぞれの処理室で順次異なる処理液で処理することがある。
【０００３】
そのような場合、最初の処理室で用いられた処理液が、上記基板に付着してつぎの処理室に持ち込まれたり、その持ち込まれた処理液が他の処理液に混合するのを防止するために、基板が最初の処理室からつぎの処理室に搬送される際、上記基板にエア−ナイフによって圧縮空気を吹き付けて除去乾燥し、上記処理液が他の処理室に持ち込まれたり、他の処理液と混合するのを防止するようにしている。
【０００４】
従来、図６（ａ），（ｂ）に示すように、基板１に付着した処理液２を確実に乾燥処理するため、搬送ローラ３によって矢印方向に搬送される上記基板１の上下面に対向してそれぞれエア−ナイフ４を先端が基板１の搬送方向後端側に向くよう傾斜させ、かつ基板１の搬送方向に対して交差する幅方向に対しても図６  （ｂ）に示すよう所定の角度で傾斜させて配置し、その先端から圧縮空気を噴射させることで、上記基板１の上下面から処理液を除去するようにしている。
【０００５】
エアーナイフ４を搬送方向後端側に向けて傾斜させることで、基板１に付着した処理液２を図６（ａ）に矢印で示す基板１の搬送方向の後端側へ吹き寄せて除去することが可能となる。しかしながら、エアーナイフ４の先端から噴出される圧縮空気は、その長手方向全長にわたって均一な圧力で噴射されるものでなく、しかも基板の幅方向における処理液の付着量が均一でないなどのことによって処理液が確実に除去乾燥されずに部分的に残留したり、十分に乾燥されないなどのことがある。
【０００６】
そこで、図７（ａ），（ｂ）に示すように基板１の上下面に、それぞれ２つのエアーナイフ４を基板の搬送方向に対して所定の間隔で離間させて配置し、基板１の上下面に圧縮空気を二段階で噴射することで、処理液２の除去乾燥を行うようにしている。つまり、第一段のエアーナイフ４で処理液２を基板１から除去し、第二段のエアーナイフ４で残留する処理液２の除去や除去された部分の乾燥を行うようにしている。
【０００７】
このように、基板１の上下面にそれぞれ２つのエアーナイフ４を配置すれば、１つの場合に比べて処理液２の除去乾燥を確実に行うことが可能となる。しかしならが、基板１の上下面にそれぞれ２つのエアーナイフ４を配置しなければならないことによって構成の複雑化を招いたり、２つのエアーナイフを配置するスペースを確保するために装置が大型化するなどのことがあり、さらに使用するエアーナイフの数が多くなることでコストの増大を招くなどのことがあった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
このように、被処理物に付着した処理液を確実に除去乾燥するために、従来は被処理物の上下面にそれぞれ２つのエアーナイフを所定間隔で離間させて配置するようにしていたので、装置の大型化やコストの増大を招くなどのことがあった。
【０００９】
この発明は装置の大型化やコストの増大を招くなどのことなく被処理物から処理液を良好に除去乾燥させることができるようにしたエアーナイフおよびそれを用いた処理装置を提供することにある。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は被処理物に付着した処理液をエアーの圧力で除去するエアーナイフにおいて、
圧縮空気が導入される空間部が形成されたナイフ本体を有し、このナイフ本体には一端が上記空間部に連通し他端がナイフ本体の下端側に開放して上記圧縮空気を噴出する一対のスリットが上記ナイフ本体の厚さ方向に離間しかつ上記ナイフ本体の長手方向に沿って形成されていることを特徴とする。
【００１１】
【課題を解決するための手段】
請求項１の発明は、被処理物に付着した処理液をエアーの圧力で除去するエアーナイフにおいて、
一端から圧縮空気が導入され他端が所定方向に傾斜した傾斜部を介して下端面に開放する空間部が形成されたナイフ本体と、
このナイフ本体の傾斜部にスペーサを介して設けられその一対の側面と上記傾斜部の一対の内面との間に上記空間部に供給された圧縮空気を所定方向に向けて噴射する一対のスリットを上記ナイフ本体の厚さ方向に離間しかつ上記ナイフ本体の長手方向に沿って形成するスリット部材と
を具備したことを特徴とする。
【００１２】
請求項３の発明は、請求項１の発明において、上記一対のスリットは、逆方向に向って傾斜していることを特徴とする。
【００１３】
請求項４の発明は、処理槽を有し、この処理槽に搬入される被処理物にエアーナイフから噴出される圧縮空気を吹き付けて乾燥処理する処理装置において、
上記エアーナイフは請求項１に記載された構成であることを特徴とする。
【００１４】
請求項１乃至請求項３の発明によれば、ナイフ本体に圧縮空気が供給される空間部に連通した一対のスリットを形成したことで、１つのエアーナイフによって２つのエアーナイフと同等の機能を備えることができる。
【００１５】
請求項４の発明によれば、請求項１に記載されたエアーナイフを用いることで、大型化や構成の複雑化を招くことなく処理装置を構成することができる。
【００１６】
【実施の形態】
以下、この発明の一実施の形態を図１乃至図３を参照して説明する。図３に示す処理装置は処理槽１１を備えている。この処理槽１１は上面が開放した箱型状をなしていて、その一側には搬入口１２が形成され、他側には搬出口１３が形成されている。
【００１７】
処理槽１１の内部、搬入口１２側の外部及び搬出口１３側の外部にはそれぞれ搬送機構を構成するローラ１４が同じ高さレベルで回転自在に配設されている。これらローラ１４は図示しない駆動源によって回転駆動されるようになっている。それによって、上記処理槽１１内には上記搬入口１２から被処理物としての半導体ウエハや液晶用ガラス基板などの基板１５が搬入され、矢印方向へ搬送されるようになっている。
【００１８】
処理槽１１に搬入される基板１５はその前工程で薬液や純水などの処理液によって処理されており、その上下面には処理液Ｌが付着している。処理槽１１には上記基板１５の上下面に対向してそれぞれ基板１５の幅寸法よりもわずかに長尺なエアーナイフ１６が配設され、このエアーナイフ１６によって処理液Ｌが後述するように除去乾燥されるようになっている。
【００１９】
上記エアーナイフ１６は図１と図２に示すように直方体状のナイフ本体１７を有する。このナイフ本体１７には、その上端面に一端が開放した空間部１８が形成されている。この空間部１８の他端はナイフ本体１７の厚さ方向一端側に傾斜した傾斜部１９を介して上記ナイフ本体１７の下端面に開放している。
【００２０】
上記ナイフ本体１７の上端面にはパッキング２１を介して供給ヘッド２２が気密に接合され、ねじ２３によって固定されている。この供給ヘッド２２は中空状をなしていて、その下端面には内部空間を上記空間部１８に連通させる開口部２４が形成されている。
【００２１】
上記供給ヘッド２２の一側面にはその内部空間に連通する複数の接続口体２５が所定間隔で設けられている。各接続口体２５にはＬ字状の供給短管２６が接続され、この供給短管２６には図示しない圧縮空気の供給ホースが接続されるようになっている。
【００２２】
上記ナイフ本体１７の傾斜部１９には、この傾斜部１９の厚さ寸法よりも薄い帯板状のスリット部材２８が長手方向両端部の両側面に所定の厚さのスペーサ２７を介在させて装着されている。このスペーサ２７はねじ２９によって上記ナイフ本体１７に固定されている。それによって、上記スリット部材２８の両側面と上記傾斜部１９の内側面との間には、ナイフ本体１７の長手方向ほぼ全長にわたる一対のスリット３１が同じ方向に所定の角度で傾斜して平行に形成されている。
【００２３】
したがって、供給配管２６から供給された圧縮空気は図２に矢印で示すように流れて一対のスリット３１から噴出するようになっている。
【００２４】
上記構成のエアーナイフ１６は、ローラ１４によって搬送される基板１５の上面と下面とにそれぞれ１つずつ配設されている。すなわち、各エアーナイフ１６は、スリット３１を基板１５の板面に対向させるとともにスリット３１を基板１５の後端側に向って傾斜させ、さらにナイフ本体１７の長手方向が基板１５の搬送方向に対して所定の角度をなす状態で配設されている。
【００２５】
このような構成の処理装置においては、前工程で処理されて処理液Ｌが付着した基板１５が処理槽１１の搬入口１２からその内部に搬送されてきて、エアーナイフ１６に対向位置すると、まず上記エアーナイフ１６の搬入口１２側に位置するスリット３１から噴射される圧縮空気によって上記基板１５の上下面に付着した処理液Ｌが除去され、ついで基板１５が搬送されることによって上記エアーナイフ１６の搬出口１３側に位置するスリット３１から噴出される圧縮空気によって最初に処理液が除去された部分に圧縮空気が再度、噴射される。
【００２６】
すなわち、基板１５は同じ部分が二度にわたる圧縮空気の噴射を受けることになるから、最初の噴射で処理液Ｌが確実に除去されなくとも、二度目の噴射で確実に除去され、さらには乾燥されることになるから、上記基板１５からの処理液Ｌの除去乾燥処理を確実に行うことができる。
【００２７】
上記エアーナイフ１６には２つのスリット３１が形成されているから、１つのエアーナイフ１６が従来の２つのエアーナイフと同等の機能を有することになる。したがって、従来であれば基板１５の乾燥処理を確実に行うために、基板１５の上下面に対向するようそれぞれ２つのエアーナイフを配置しなければならなかったが、この発明のエアーナイフ１６を用いれば、基板の１５の上下面に対向するようそれぞれ１つずつ配置すればよいから、構成の簡略化や処理装置の小型化を計ることができ、さらにはコストの低減を図ることもできる。
【００２８】
図４と図５はこの発明の他の実施の形態のエアーナイフ１６Ａを示す。なお、上記一実施の形態と同一部分には同一記号を付して説明を省略する。すなわち、この実施の形態のエアーナイフ１６Ａはナイフ本体１７Ａに形成された空間部１８の他端が漸次拡幅するテーパ状のスカート部３５を介して上記ナイフ本体１７Ａの下端面に開放している。
【００２９】
上記スカート部３５には、このスカート部３５の開き角度とほぼ同じ角度の頂角を有する三角柱状のスリット部材３６が装着されている。このスリット部材３６の頂角を挟む２つの側面の長手方向両端部にはそれぞれスペーサ３７が接合固定され、そしてこのスリット部材３６はナイフ本体１７Ａの外面から螺合されたねじ３８によって固定されている。
【００３０】
それによって、上記スカート部３５の両側内面とスリット部材３６の２つの側面との間には上記スペーサ３７の厚さに相当する一対のスリット３１Ａがナイフ本体１７Ａの長手方向ほぼ全長にわたり、しかも異なる方向に傾斜して形成されている。
【００３１】
上記構成のエアーナイフ１６Ａによれば、上記一実施の形態と同様、２つのスリット３１Ａを有するから、１つのエアーナイフで２つのエアーナイフと同等の機能を有することになる。
【００３２】
一対のスリット３１Ａが異なる方向を向いているという点で上記一実施の形態のエアーナイフ１６と構成が異なるが、一方のスリット３１Ａから噴射される圧縮空気によって基板１５に付着した処理液Ｌを除去し、他方のスリット３１Ａから噴射される圧縮空気によって基板１５に残留する処理液Ｌを乾燥させたり、処理液Ｌが除去された基板１５の表面を乾燥させることができる。したがって、機能的には上記一実施の形態のエアーナイフ１６とほとんど異なることはない。
【００３３】
【発明の効果】
請求項１乃至請求項３の発明によれば、ナイフ本体に圧縮空気が供給される空間部を形成するとともに、この空間部に連通する一対のスリットを形成するようにした。
【００３４】
そのため、２つのスリットを有するエアーナイフは、１つで２つのエアーナイフと同等の機能を備えることができるから、被処理物から処理液を良好に除去乾燥させることができるばかりか、２つのエアーナイフを用いる場合に比べて構成の簡略化や小型化あるいはコストの低減などを計ることができる。
【００３５】
請求項４の発明によれば、請求項１に記載されたエアーナイフを用いることで、大型化や構成の複雑化を招くことなく処理装置を構成することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  この発明の一実施の形態のエアーナイフを示す分解斜視図。
【図２】  同じく組立て状態の縦断面図。
【図３】  同じく処理装置の概略的構成図。
【図４】  この発明の第２の実施の形態を示すエアーナイフの分解斜視図。
【図５】  同じく組立て状態の縦断面図。
【図６】  （ａ）は１つのエアーナイフによって基板の乾燥処理を行う従来の方法を示す側面図、（ｂ）は同じく平面図。
【図７】  （ａ）は２つのエアーナイフによって基板の乾燥処理を行う従来の方法を示す側面図、（ｂ）は同じく平面図。
【符号の説明】
１１…処理槽
１５…基板（被処理物）
１６…エアーナイフ
１７…ナイフ本体
１８…空間部
３１…スリット。
【図１】
0003964556.tif 000002
【図２】
0003964556.tif 000003
【図３】
0003964556.tif 000004
【図４】
0003964556.tif 000005
【図５】
0003964556.tif 000006
【図６】
0003964556.tif 000007
【図７】
0003964556.tif 000008