(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）酸解離性基として下記一般式（１）で表される基を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基自体および／または該酸解離性基中の基Ｒ4 が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、および
（Ｂ）４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートおよび／または４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラメチレンチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートを必須成分とする感放射線性酸発生剤
を含有する感放射線性樹脂組成物。
【化１】
0003997588.tif 000020
〔一般式（１）において、Ｒ1 およびＲ2 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示すか、あるいはＲ1 とＲ2 とが相互に結合して３〜６員環の環状アルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、Ｒ4 は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感放射線性樹脂組成物に関わり、さらに詳しくは、ＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザー等の遠紫外線、シンクロトロン放射線等のＸ線、電子線等の荷電粒子線の如き各種の放射線を使用する微細加工に有用な化学増幅型レジストとして好適に使用することができる感放射線性樹脂組成物に関する。
【０００２】
【従来の技術】
集積回路素子の製造に代表される微細加工の分野においては、より高い集積度を得るために、最近では０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工技術が必要になるとされている。
従来のリソグラフィープロセスにおいては、一般に放射線としてｉ線等の近紫外線が用いられているが、近紫外線ではサブクオーターミクロンレベルの微細加工が極めて困難であると言われている。
そこで、０．２０μｍ以下のレベルでの微細加工を可能とするために、より波長の短い放射線の利用が検討されている。このような短波長の放射線としては、例えば、水銀灯の輝線スペクトル、エキシマレーザーに代表される遠紫外線、Ｘ線、電子線等を挙げることができるが、これらのうち、特にＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）あるいはＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）が注目されている。
このようなエキシマレーザーによる照射に適した感放射線性樹脂組成物として、酸解離性官能基を有する成分と放射線の照射（以下、「露光」という。）により酸を発生する成分（以下、「酸発生剤」という。）とによる化学増幅効果を利用した組成物（以下、「化学増幅型感放射線性組成物」という。）が数多く提案されている。
このような化学増幅型感放射線性組成物としては、例えば、特公平２−２７６６０号公報には、カルボン酸のｔ−ブチルエステル基またはフェノールのｔ−ブチルカーボナート基を有する重合体と酸発生剤とを含有する組成物が提案されている。この組成物は、露光により発生した酸の作用により、重合体中に存在するｔ−ブチルエステル基あるいはｔ−ブチルカーボナート基が解離して、該重合体がカルボキシル基あるいはフェノール性水酸基からなる酸性基を有するようになり、その結果、レジスト被膜の露光領域がアルカリ現像液に易溶性となる現象を利用したものである。
ところで、従来の化学増幅型感放射線性組成物の多くは、フェノール系樹脂をベースにするものであるが、このような樹脂の場合、放射線として遠紫外線を使用する場合、樹脂中の芳香族環に起因して遠紫外線が吸収されるため、露光された遠紫外線がレジスト被膜の下層部まで十分に到達できないという欠点があり、そのため露光量がレジスト被膜の上層部では多く、下層部では少なくなり、現像後のレジストパターンが上部が細く下部にいくほど太い台形状になってしまい、十分な解像度が得られないなどの問題があった。その上、現像後のレジストパターンが台形状となった場合、次の工程、即ちエッチングやイオンの打ち込みなどを行う際に、所望の寸法精度が達成できず、問題となっていた。しかも、レジストパターン上部の形状が矩形でないと、ドライエッチングによるレジストの消失速度が速くなってしまい、エッチング条件の制御が困難になる問題もあった。
レジストパターンの形状は、レジスト被膜の放射線透過率を高めることにより改善することができる。例えば、ポリメチルメタクリレートに代表される（メタ）アクリレート系樹脂は、遠紫外線に対しても透明性が高く、放射線透過率の観点から非常に好ましい樹脂であり、例えば特開平４−２２６４６１号公報には、メタクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性樹脂組成物が提案されている。しかしながら、この組成物は、微細加工性能の点では優れているものの、芳香族環をもたないため、ドライエッチング耐性が低いという欠点があり、この場合も高精度のエッチング加工を行うことが困難であり、放射線に対する透明性とドライエッチング耐性とを兼ね備えたもとのは言えない。
一方、化学増幅型感放射線性組成物からなるレジストについて、放射線に対する透明性を損なわないで、ドライエッチング耐性を改善する方策の一つとして、組成物中の樹脂成分に、芳香族環に代えて脂環族環を導入する方法が知られており、例えば特開平７−２３４５１１号公報には、脂環族環を有する（メタ）アクリレート系樹脂を使用した化学増幅型感放射線性樹脂組成物が提案されている。
しかしながら、従来の化学増幅型感放射線性樹脂組成物では、酸解離性官能基として、酸により比較的解離し易い基（例えば、テトラヒドロピラニル基等のアセタール系官能基）あるいは酸により比較的解離し難い基（例えば、ｔ−ブチルエステル基やｔ−ブチルカーボネート基等のｔ−ブチル系官能基）が一般に用いられており、前者の酸解離性官能基を有する樹脂成分を用いる場合、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状は良好であるが、組成物としての保存安定性に難点があり、また後者の酸解離性官能基を有する樹脂成分を用いる場合は、逆に保存安定性は良好であるが、レジストの基本物性、特に感度やパターン形状が損なわれるという欠点がある。特に近年、特開平８−３０５０２３号公報に、一般式-COOC(R1)(R2)-CH(R3)-C0R4(但し、R1、R2、R3およびR4は、直鎖状または分岐状の（置換）アルキル基、脂環式炭化水素基およびそれらから誘導された基である。）で表される基からなる酸解離性官能基を有する主剤重合体を含有する化学増幅型感放射線性樹脂組成物が提案されているが、この組成物は、レジストパターンの基板からの剥離や割れの防止を主眼点とするものであり、特に組成物としての保存安定性については全く検討されていない。
そこで、放射線に対する透明性が高く、かつドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等に優れるのみならず、組成物としての保存安定性にも優れた化学増幅型感放射線性樹脂組成物の開発が求められている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、活性放射線、例えばＫｒＦエキシマレーザーあるいはＡｒＦエキシマレーザーに代表される遠紫外線、に感応する化学増幅型レジストとして、組成物としての保存安定性が優れ、かつ放射線に対する透明性が高く、しかもドライエッチング耐性、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れた感放射線性樹脂組成物を提供することにある。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明によると、前記課題は、
（Ａ）酸解離性基として下記一般式（１）で表される基を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、該酸解離性基自体および／または該酸解離性基中の基Ｒ4 が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂、および
（Ｂ）４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートおよび／または４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラメチレンチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートを必須成分とする感放射線性酸発生剤
を含有する感放射線性樹脂組成物、
【０００５】
【化１】
【０００６】
〔一般式（１）において、Ｒ1 およびＲ2 は相互に独立に水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示すか、あるいはＲ1 とＲ2 とが相互に結合して３〜６員環の環状アルキル基を示し、Ｒ3 は水素原子または炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示し、Ｒ4 は炭素数１〜６の直鎖状、分岐状もしくは環状のアルキル基を示す。〕、
によって達成される。
【０００７】
以下、本発明を詳細に説明する。
樹脂（Ａ）
本発明における（Ａ）成分は、酸解離性基として前記一般式（１）で表される基（以下、「酸解離性基（１）」という。）を有するアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂であって、酸解離性基（１）自体および／または酸解離性基（１）中の基Ｒ4 が解離したときアルカリ可溶性となる樹脂（以下、「樹脂（Ａ）」という。）からなる。
ここで、樹脂（Ａ）における酸解離性基（１）自体および／または酸解離性基（１）中の基Ｒ4 が解離する態様をより具体的に示すと、下記（ｉ）〜（iii)の場合がある。
（ｉ）酸解離性基（１）中に存在するエステル結合（−ＣＯＯＲ4)中の酸素原子と基Ｒ4 との結合が酸の作用により解離して、下記一般式（２）で表される基を生成する場合。
【０００８】
【化２】
0003997588.tif 000002
【０００９】
（ii) 酸解離性基（１）自体と酸解離性基（１）に隣接する原子との結合が酸の作用により解離して、フェノール性水酸基（ナフトール性水酸基を含む。以下同様。）あるいはカルボキシル基を生成する場合。
（iii)前記（ｉ）と（ii) の反応が同時に生じる場合。
【００１０】
樹脂（Ａ）としては、例えば、下記する樹脂（Ａ−Ｉ）あるいは樹脂（Ａ−II) を挙げることができる。
樹脂（Ａ−Ｉ）は、フェノール性水酸基、カルボキシル基等の酸性官能基を１種以上含有するアルカリ可溶性樹脂中の該酸性官能基の水素原子を、１種以上の酸解離性基（１）で置換した構造を有し、それ自体としてはアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂である。
また、樹脂（Ａ−II) は、主鎖に脂環式骨格を有し、かつ側鎖に基−ＣＯＯＺ( 但し、Ｚは酸解離性基（１）を示す。）を有する、それ自体としてはアルカリ不溶性またはアルカリ難溶性の樹脂である。
ここで、「アルカリ不溶性またはアルカリ難溶性」とは、樹脂（Ａ）を含有する感放射線性樹脂組成物を用いて形成されるレジスト皮膜からレジストパターンを形成する際に採用されるアルカリ現像条件下で、当該レジスト被膜の代わりに、樹脂（Ａ）のみを用いた被膜を現像したときに、当該被膜の初期膜厚の５０％以上が現像後に残存する性質を意味する。
【００１１】
酸解離性基（１）の具体例としては、
（メトキシカルボニルメチル）メチル基、（エトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）メチル基、（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）メチル基、（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）メチル基、（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）メチル基、（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）メチル基、（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）メチル基、（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）メチル基等の｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝メチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）エチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）エチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）エチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）エチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）エチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝エチル基；
【００１２】
１−（メトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（エトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）プロピル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）プロピル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝プロピル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−メチルエチル基；
【００１３】
１−（メトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ブチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）ブチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝ブチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−メチルプロピル基；
【００１４】
１−（メトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ペンチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）ペンチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝ペンチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルブチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−メチルブチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチルプロピル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−エチルプロピル基；
【００１５】
１−（メトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ヘキシル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）ヘキシル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝ヘキシル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルペンチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−メチルペンチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチルブチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−エチルブチル基；
【００１６】
１−（メトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）ヘプチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）ヘプチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝ヘプチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルヘキシル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−メチルヘキシル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−エチルペンチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−エチルペンチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−プロピルブチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝−１−プロピルブチル基；
【００１７】
１−（メトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロペンチル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝シクロペンチル基；
１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（エトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｎ−プロポキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｎ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｉ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｓｅｃ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｎ−ペンチルオキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｎ−ヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（シクロペンチルオキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基等の１−｛（シクロ）アルコキシカルボニルメチル｝シクロヘキシル基；
【００１８】
｛１−（メトキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（エトキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝メチル基、｛１−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝メチル基等の〔１−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕メチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝エチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝エチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕エチル基；
【００１９】
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝プロピル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝プロピル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕プロピル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝−１−メチルエチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕−１−メチルエチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝ブチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝ブチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕ブチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝−１−メチルプロピル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕−１−メチルプロピル基；
【００２０】
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝シクロペンチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕シクロペンチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル｝シクロヘキシル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝エチル〕シクロヘキシル基；
【００２１】
｛１−（メトキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（エトキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝メチル基、｛１−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝メチル基等の〔１−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕メチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝エチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝エチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕エチル基；
【００２２】
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝プロピル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝プロピル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕プロピル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルエチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕−１−メチルエチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝ブチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝ブチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕ブチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝−１−メチルプロピル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕−１−メチルプロピル基；
【００２３】
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝シクロペンチル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕シクロペンチル基；
１−｛１’−（メトキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（エトキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｎ−プロポキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｉ−プロポキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｎ−ブトキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（シクロペンチルオキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基、１−｛１’−（シクロヘキシルオキシカルボニル）プロピル｝シクロヘキシル基等の１−〔１’−｛（シクロ）アルコキシカルボニル｝プロピル〕シクロヘキシル基
等を挙げることができる。
【００２４】
これらの酸解離性基（１）のうち、
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、
１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（エトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）−１−メチルプロピル基、
１−（メトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（エトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｉ−プロポキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロペンチル基、
１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（エトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基、１−（シクロヘキシルオキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基
等が好ましい。
【００２５】
また、樹脂（Ａ）は、酸解離性基（１）以外の酸解離性基（以下、「他の酸解離性基」という。をさらに含有することができる。
他の酸解離性基としては、例えば、ｔ−ブチル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、アセチル基、１−メトキシエチル基、１−エトキシエチル基、１−ｎ−ブトキシエチル基、１−ｎ−ペンチルオキシエチル基、テトラヒドロピラニル基、メチルテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、メチルテトラヒドロフラニル基、３−オキソ−１−メチルブチル基、３−オキソ−１，１−ジメチルブチル基、３−オキソ−１−ｉ−プロピルブチル基、下記一般式（３）で表されるラクトン基（以下、「ラクトン基（３）」という。）、下記一般式（４）で表されるラクトン基（以下、「ラクトン基（４）」という。）等を挙げることができる。
【００２６】
【化３】
0003997588.tif 000003
【００２７】
〔一般式（３）において、Ｒ5 は水素原子、メチル基またはエチル基を示す。〕
【００２８】
【化４】
0003997588.tif 000004
【００２９】
〔一般式（４）において、Ｒ6 は水素原子、メチル基またはエチル基を示す。〕これらの他の酸解離性基のうち、ｔ−ブチル基、ｔ−ブトキシカルボニル基、１−エトキシエチル基、テトラヒドロピラニル基、メチルテトラヒドロピラニル基、テトラヒドロフラニル基、メチルテトラヒドロフラニル基、３−オキソ−１−メチルブチル基、３−オキソ−１，１−ジメチルブチル基、３−オキソ−１−ｉ−プロピルブチル基、ラクトン基（３）、ラクトン基（４）等が好ましい。
【００３０】
以下、樹脂（Ａ−Ｉ）および樹脂（Ａ−II) について、順次説明する。
樹脂（Ａ−Ｉ）は、例えば、
（イ）予め製造したアルカリ可溶性樹脂に１種以上の酸解離性基（１）を導入する方法、
（ロ）酸解離性基（１）を有する１種以上の重合性不飽和化合物を（共）重合する方法、
（ハ）酸解離性基（１）を有する１種以上の重縮合性成分を（共）重縮合する方法
等により製造することができる。
【００３１】
前記（イ）の方法に使用されるアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、酸性官能基を有する繰返し単位を１種以上有する付加重合系樹脂あるいは重縮合系樹脂を挙げることができる。
前記付加重合系のアルカリ可溶性樹脂における酸性官能基を有する繰返し単位としては、例えば、下記する酸性官能基を有する重合性不飽和化合物中の重合性不飽和結合が開裂した単位を挙げることができる。
ｏ−ヒドロキシスチレン、ｍ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｏ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｍ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、ｐ−カルボキシメチルスチレン、ｐ−（２−カルボキシエチル）スチレン、ｐ−カルボキシメトキシスチレン、ｐ−（２−カルボキシエトキシ）スチレン、ｐ−カルボキシメチルカルボニルオキシスチレン、ｐ−（２−カルボキシエチル）カルボニルオキシスチレン等の（α−メチル）スチレン誘導体；
２−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、３−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、５−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、６−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、７−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、８−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン、２−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、３−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、４−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、５−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、６−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、７−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、８−ヒドロキシ−１−イソプロペニルナフタレン、２−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、３−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、４−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、５−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、６−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、７−カルボキシ−１−ビニルナフタレン、８−カルボキシ−１−ビニルナフタレン等のビニルナフタレン誘導体あるいはイソプロペニルナフタレン誘導体；
【００３２】
（メタ）アクリル酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、シトラコン酸、メサコン酸、けい皮酸等の不飽和カルボン酸類；
（メタ）アクリル酸２−カルボキシエチル、（メタ）アクリル酸２−カルボキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−カルボキシプロピル、（メタ）アクリル酸４−カルボキシブチル、下記一般式（５）で表される化合物（以下、「（メタ）アクリル酸エステル（５）」という。）等の不飽和カルボン酸のカルボキシル基含有エステル類等。
【００３３】
【化５】
0003997588.tif 000005
【００３４】
〔一般式（５）において、Ｒ7 は水素原子またはメチル基を示す。〕
これらの重合性不飽和化合物のうち、ｐ−ヒドロキシスチレン、ｐ−ヒドロキシ−α−メチルスチレン、ｐ−カルボキシスチレン、（メタ）アクリル酸、（メタ）アクリル酸エステル（５）等が好ましい。
【００３５】
付加重合系のアルカリ可溶性樹脂は、酸性官能基を有する繰返し単位のみから構成されていてもよいが、得られる樹脂がアルカリ可溶性である限り、他の重合性不飽和化合物の重合性不飽和結合が開裂した繰返し単位を１種以上含有することができる。
前記他の重合性不飽和化合物としては、例えば、
スチレン、α−メチルスチレン、４−ｔ−ブチルスチレン、４−ｔ−ブチル−α−メチルスチレン、４−クロロスチレン、４−クロロ−α−メチルスチレン、４−メトキシスチレン、４−メトキシ−α−メチルスチレン、１−ビニルナフタレン、４−メチル−１−ビニルナフタレン、５−メチル−１−ビニルナフタレン、１−イソプロペニルナフタレン、４−クロロ−１−ビニルナフタレン、５−クロロ−１−ビニルナフタレン、４−メトキシ−１−ビニルナフタレン、５−メトキシ−１−ビニルナフタレン等のビニル芳香族化合物；
（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピルのほか、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル等のエステル基中に脂環式骨格を有する（メタ）アクリル酸エステル等の（メタ）アクリル酸エステル類類；
酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル等のビニスエステル類；
（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレインニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラコンニトリル、イタコンニトリル等の不飽和ニトリル化合物；
（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド等の不飽和アミド化合物；
Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール等の他の含窒素ビニル化合物
等を挙げることができる。
【００３６】
これらの他の重合性不飽和化合物のうち、スチレン、α−メチルスチレン、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル等が好ましい。
【００３７】
また、前記重縮合系のアルカリ可溶性樹脂は、１種以上のフェノール類と１種以上のアルデヒド類とを、場合により他の繰返し単位を形成しうる重縮合成分とともに、酸性触媒の存在下、水媒質中または水と親水性溶媒との混合媒質中で重縮合することによって製造することができる。
前記フェノール類としては、例えば、フェノール、ｏ−クレゾール、ｍ−クレゾール、ｐ−クレゾール、２，３−キシレノール、２，４−キシレノール、２，５−キシレノール、３，４−キシレノール、３，５−キシレノール、２，３，５−トリメチルフェノール、３，４，５−トリメチルフェノール、レゾルシノール、カテコール、ピロガロール、１−ナフトール、２−ナフトール等を挙げることができ、また前記アルデヒド類としては、例えば、ホルムアルデヒド、トリオキサン、パラホルムアルデヒド、ベンズアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピルアルデヒド、フェニルアセトアルデヒド等を挙げることができる。
付加重合系および重縮合系のアルカリ可溶性樹脂における酸性官能基を有する繰返し単位の含有率は、該繰返し単位および他の繰返し単位の種類により一概に規定できないが、通常、１０〜１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％である。
【００３８】
（イ）の方法における酸解離性基（１）の導入は、前記アルカリ可溶性樹脂中の酸性官能基を、例えば、下記一般式（６）で表される反応を経て合成される三級アルコールを用い、常法によりエステル化またはエーテル化することより実施することができる。
【００３９】
【化６】
0003997588.tif 000006
【００４０】
〔一般式（６）において、Ｒ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 は、それぞれ一般式（１）におけるＲ1 、Ｒ2 、Ｒ3 およびＲ4 と同義である。〕
また、（ロ）の方法に使用される酸解離性基（１）を有する重合性不飽和化合物としては、例えば、前記（イ）の方法で例示した酸性官能基を有する重合性不飽和化合物中の該酸性官能基の水素原子を、酸解離性基（１）で置換した化合物を挙げることができ、（ハ）の方法に使用される酸解離性基（１）を有する重縮合性成分としては、例えば、前記（イ）の方法で例示したフェノール類のフェノール性水酸基の水素原子を酸解離性基（１）で置換した化合物とアルデヒド類とを挙げることができる。
（ロ）あるいは（ハ）の方法に使用される酸解離性基（１）を有する重合性不飽和化合物あるいは酸解離性基（１）を有する重縮合性成分は、例えば、それらの酸解離性基を水素原子に置換した化合物を、前記式（６）で表される反応を経て合成される三級アルコールを用い、常法によりエステル化またはエーテル化することより合成することができる。
（ロ）の方法において、全重合性不飽和化合物に対する酸解離性基（１）を有する重合性不飽和化合物の使用割合は、酸解離性基（１）を有する重合性不飽和化合物および他の重合性不飽和化合物の種類により一概に規定できないが、通常、１０〜１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％であり、また（ハ）の方法において、全重縮合性成分に対する酸解離性基（１）を有する重縮合性成分の使用割合は、酸解離性基（１）を有する重縮合性成分および他の重縮合性成分の種類により、一概に規定できないが、通常、１０〜１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％である。
（イ）の方法における付加重合系のアルカリ可溶性樹脂を製造する際の重合および（ロ）の方法における重合は、例えば、ラジカル重合開始剤、アニオン重合触媒、配位アニオン重合触媒、カチオン重合触媒等を適宜に選定し、塊状重合、溶液重合、沈澱重合、乳化重合、懸濁重合、塊状−懸濁重合等の適宜の重合方法により実施することができる。
【００４１】
本発明における好ましい樹脂（Ａ−Ｉ）の具体例としては、下記のものを挙げることができる。
４−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、
４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、
４−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体、
４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシ｝スチレン／ｐ−ヒドロキシスチレン共重合体
等のスチレン系樹脂；
４−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝−１−ビニルナフタレン／４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン共重合体、
４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝−１−ビニルナフタレン／４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン共重合体、
４−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシ｝−１−ビニルナフタレン／４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン共重合体、
４−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシ｝−１−ビニルナフタレン／４−ヒドロキシ−１−ビニルナフタレン共重合体
等のビニルナフタレン系樹脂；
【００４２】
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
【００４３】
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
（メタ）アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
【００４４】
下記一般式（７）で表される重合性不飽和化合物（以下、「重合性不飽和化合物（７）」という。）／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸共重合体、
【００４５】
【化７】
0003997588.tif 000007
【００４６】
〔一般式（７）において、Ｒ8 は水素原子またはメチル基を示し、Ｗは１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル基、１−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基または１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル基を示す。〕
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸共重合体、
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸アダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
重合性不飽和化合物（７）／（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体
等の（メタ）アクリル系樹脂。
【００４７】
次に、樹脂（Ａ−II) としては、例えば、下記一般式（８）で表される繰返し単位（以下、「繰返し単位（８）」という。）を有するノルボルネン系樹脂（以下、「ノルボルネン系樹脂（８）」という。）を挙げることができる。
【００４８】
【化８】
0003997588.tif 000008
【００４９】
〔一般式（８）において、αおよびβは相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基または炭素数１〜１０の１価のハロゲン化炭化水素基を示し、ＸおよびＹは相互に独立に水素原子、ハロゲン原子、炭素数１〜１０の１価の炭化水素基、炭素数１〜１０の１価のハロゲン化炭化水素基または基−ＣＯＯＺ( 但し、Ｚは酸解離性基（１）を示す。）を示し、かつＸおよびＹの少なくとも一方は基−ＣＯＯＺであり、ｎは０または１である。〕
ノルボルネン系樹脂（８）は、例えば、
（ニ）予め製造したノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂に１種以上の酸解離性基（１）を導入する方法、
（ホ）繰返し単位（８）に対応する１種以上のノルボルネン系化合物（以下、「ノルボルネン系化合物（８）」という。）を（共）重合する方法
等により製造することができる。
【００５０】
（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂としては、例えば、下記する酸性官能基を有するノルボルネン系化合物の不飽和結合が開裂した繰返し単位を含有する樹脂を挙げることができる。
５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−エチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ｎ−プロピル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
６−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
６−エチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
６−ｎ−プロピル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｎ−プロピル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
９−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
９−エチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
９−ｎ−プロピル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン等。
【００５１】
これらのノルボルネン系化合物のうち、５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン等が好ましい。
【００５２】
（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂は、酸性官能基を有する前記ノルボルネン系化合物の不飽和結合が開裂した繰返し単位のみから構成されていてもよいが、得られる樹脂がアルカリ可溶性である限り、他の繰返し単位を１種以上含有することができる。
このような他の繰返し単位としては、例えば、下記する他の重合性不飽和化合物の重合性不飽和結合が開裂した繰返し単位を挙げることができる。
ノルボルネン（ビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン）、
５−メトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−エトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシメチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−エチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、
【００５３】
テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−エチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００５４】
８−フルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ジフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−ペンタフルオロエチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９，９−テトラフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９，９−テトラキス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
【００５５】
８，８−ジフルオロ−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−トリフルオロメトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，８，９−トリフルオロ−９−ペンタフルオロプロポキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−フルオロ−８−ペンタフルオロエチル−９，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジフルオロ−８−ヘプタフルオロイソプロピル−９−トリフルオロメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−クロロ−８，９，９−トリフルオロテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８，９−ジクロロ−８，９−ビス（トリフルオロメチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−（２’，２’，２’−トリフルオロカルボキシエチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、
８−メチル−８−（２’，２’，２’−トリフルオロカルボキシエチル）テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン
等のノルボルネン系化合物；
【００５６】
ジシクロペンタジエン、トリシクロ[ ５．２．１．０2,6 ] デカ−８−エン、トリシクロ[ ５．２．１．０2,6 ] デカ−３−エン、トリシクロ[ ４．４．０．１2,5 ] ウンデカ−３−エン、トリシクロ[ ６．２．１．０1,8 ] ウンデカ−９−エン、トリシクロ[ ６．２．１．０1,8 ] ウンデカ−４−エン、テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10．０1,6 ] ドデカ−３−エン、８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10．０1,6 ] ドデカ−３−エン、８−エチリデンテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,12 ]ドデカ−３−エン、８−エチリデンテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10．０1,6 ] ドデカ−３−エン、ペンタシクロ[ ６．５．１．１3,6 ．０2,7 ．０9,13 ]ペンタデカ−４−エン、ペンタシクロ[ ７．４．０．１2,5 ．１9,12．０8,13 ]ペンタデカ−３−エン等の他の重合性脂環式化合物；
【００５７】
（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸１−メチルアダマンチル、（メタ）アクリル酸アダマンチルメチル、（メタ）アクリル酸カルボキシトリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸カルボキシテトラシクロデカニル、（メタ）アクリル酸シクロプロピル、（メタ）アクリル酸シクロペンチル、（メタ）アクリル酸シクロヘキシル、（メタ）アクリル酸シクロヘキセニル、（メタ）アクリル酸４−メトキシシクロヘキシル、（メタ）アクリル酸２−（シクロプロピルオキシカルボニル）エチル、（メタ）アクリル酸２−（シクロペンチルオキシカルボニル）エチル、（メタ）アクリル酸２−（シクロヘキシルオキシカルボニル）エチル、（メタ）アクリル酸２−（シクロヘキセニルオキシカルボニル）エチル、（メタ）アクリル酸２−｛（４’−メトキシシクロヘキシル）オキシカルボニル｝エチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル等の（メタ）アクリル酸エステル類；
α−ヒドロキシメチルアクリル酸メチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸エチル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸ｎ−プロピル、α−ヒドロキシメチルアクリル酸ｎ−ブチル等のα−ヒドロキシメチルアクリル酸エステル類；
無水マレイン酸、酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、酪酸ビニル、（メタ）アクリロニトリル、α−クロロアクリロニトリル、クロトンニトリル、マレインニトリル、フマロニトリル、メサコンニトリル、シトラコンニトリル、イタコンニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール等。
【００５８】
これらの他の重合性不飽和化合物のうち、ノルボルネン（ビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン）、５−メトキシカルボニルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、５−ヒドロキシメチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン、８−メトキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ヒドロキシメチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン、（メタ）アクリル酸ノルボルニル、（メタ）アクリル酸イソボルニル、（メタ）アクリル酸トリシクロデカニル、（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル、（メタ）アクリル酸ジシクロペンテニル、（メタ）アクリル酸アダマンチル、（メタ）アクリル酸メチル、（メタ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸ｎ−プロピル、（メタ）アクリル酸ｎ−ブチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシエチル、（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、（メタ）アクリル酸３−ヒドロキシプロピル、無水マレイン酸、マレインニトリル、フマロニトリル、（メタ）アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド、クロトンアミド、マレインアミド、フマルアミド、メサコンアミド、シトラコンアミド、イタコンアミド、Ｎ−ビニル−ε−カプロラクタム、Ｎ−ビニルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール等が好ましい。
【００５９】
（ニ）の方法における酸解離性基（１）の導入は、例えば、前記ノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂中の酸性官能基を、前記式（６）で表される反応を経て合成される三級アルコールを用い、常法によりエステル化することより実施することができる。
（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂中の酸性官能基を有するノルボルネン系化合物に由来する繰返し単位の含有率は、該繰返し単位および他の繰返し単位の種類により一概に規定できないが、通常、１０〜１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％である。
また、（ホ）の方法に使用されるノルボルネン系化合物（８）は、例えば、（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂について例示した酸性官能基を有するノルボルネン系化合物中の該酸性官能基を、前記式（６）で表される反応を経て合成される三級アルコールを用い、常法によりエステル化することより合成することができる。
（ホ）の方法においては、ノルボルネン系化合物（８）のみを（共）重合させてもよいが、場合により他の重合性不飽和化合物を共重合させることもできる。
このような他の重合性不飽和化合物としては、例えば、（ニ）の方法に使用されるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂について例示した酸性官能基を有するノルボルネン系化合物や他の重合性不飽和化合物と同様の化合物を挙げることができる。
（ホ）の方法において、全重合性不飽和化合物に対するノルボルネン系化合物（８）の使用割合は、ノルボルネン系化合物（８）および他の重合性不飽和化合物の種類により一概に規定できないが、通常、１０〜１００モル％、好ましくは１５〜１００モル％である。
また、樹脂（Ａ−II) においては、繰返し単位（８）と他のノルボルネン系化合物に由来する繰返し単位との合計含有率が、通常、２０モル％以上、好ましくは３０モル％以上、さらに好ましくは４０モル％以上であることが望ましく、それにより、ドライエッチング耐性が特に優れた感放射線性樹脂組成物を得ることができる。
【００６０】
（ニ）の方法におけるノルボルネン系アルカリ可溶性樹脂を製造する重合および（ホ）の方法における重合は、例えば、ヒドロパーオキシド類、ジアルキルパーオキシド類、ジアシルパーオキシド類、アゾ化合物等のラジカル重合開始剤を使用し、適当な溶媒中で実施することができる。
重合に使用される溶媒としては、例えば、ｎ−ペンタン、ｎ−ヘキサン、ｎ−ヘプタン、ｎ−オクタン、ｎ−ノナン、ｎ−デカン等のアルカン類；シクロヘキサン、シクロヘプタン、シクロオクタン、デカリン、ノルボルナン等のシクロアルカン類；ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン、クメン等の芳香族炭化水素類；クロロブタン類、ブロモヘキサン類、ジクロロエタン類、ヘキサメチレンジブロミド、クロロベンゼン等のハロゲン化炭化水素類；酢酸エチル、酢酸ｎ−ブチル、酢酸ｉ−ブチル、プロピオン酸メチル等の飽和カルボン酸エステル類；テトラヒドロフラン、１，２−ジメトキシエタン、１，２−ジエトキシエタン等のエーエル類等を挙げることができる。
これらの溶媒は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６１】
本発明における好ましい樹脂（Ａ−II) の具体例としては、下記のものを挙げることができる。
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−メチル−５−カルボキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン共重合体、
【００６２】
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−メチル−８−カルボキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン共重合体、
【００６３】
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸テトラシクロデカニル共重合体、
【００６４】
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸／（メタ）アクリル酸２−ヒドロキシプロピル共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10
]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
【００６５】
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−〔｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
【００６６】
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（メトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
【００６７】
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ｔ−ブトキシカルボニル−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／８−ヒドロキシ−８−メチルテトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／無水マレイン酸共重合体、
８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカ−３−エン／５−ヒドロキシ−５−メチルビシクロ[ ２．２．１] ヘプト−２−エン／無水マレイン酸共重合体等。
【００６８】
樹脂（Ａ）中の酸解離性基（１）の導入率（酸解離性基（１）と遊離の酸性官能基との合計数に対する酸解離性基（１）の数の割合）は、酸解離性基（１）および繰返し単位の種類により一概には規定できないが、通常、１５〜１００モル％、好ましくは２０〜１００モル％である。
また、樹脂（Ａ）のゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算重量平均分子量（以下、「Ｍｗ」という。）は、感放射線性樹脂組成物の所望の特性に応じて変わるが、好ましくは２，０００〜１００，０００、さらに好ましくは３，０００〜６０，０００である。この場合、樹脂（Ａ）のＭｗが２，０００未満では、製膜性が低下する傾向があり、一方１００，０００を超えると、レジストとしての現像性、解像度等が低下する傾向がある。
また、樹脂（Ａ）の分散度（Ｍｗ／Ｍｎ；但し、Ｍｎはゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）によるポリスチレン換算数平均分子量である。）は、好ましくは１〜５、さらに好ましくは１〜３である。
本発明において、樹脂（Ａ）は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
【００６９】
酸発生剤（Ｂ）
本発明における（Ｂ）成分は、４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネートおよび／または４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラメチレンチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネートを必須成分とし、露光により酸を発生する感放射線性酸発生剤（以下、「酸発生剤（Ｂ）」という。）からなる。
酸発生剤（Ｂ）は、露光により発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中に存在する酸解離性基を解離させ、その結果レジスト被膜の露光部がアルカリ現像液に易溶性となり、ポジ型のレジストパターンを形成する作用を有するものである。
また、本発明においては、他の感放射線性酸発生剤（以下、単に「他の酸発生剤」という。）を併用することができる。
他の酸発生剤としては、オニウム塩、ハロゲン含有化合物、ジアゾケトン化合物、スルホン化合物、スルホン酸化合物等を挙げることができる。
これらの他の酸発生剤の例としては、下記のものを挙げることができる。
オニウム塩：
オニウム塩としては、例えば、ヨードニウム塩、スルホニウム塩（テトラヒドロチオフェニウム塩を含む。）、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩、ピリジニウム塩等を挙げることができる。
好ましいオニウム塩の具体例としては、
ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムノナフルオロｎ−ブタンスルホネート、ジフェニルヨードニウムピレンスルホネート、ジフェニルヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、ジフェニルヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムノナフルオロｎ−ブタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムドデシルベンゼンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムナフタレンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムヘキサフルオロアンチモネート、
トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムノナフルオロｎ−ブタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムヘキサフルオロアンチモネート、トリフェニルスルホニウムナフタレンスルホネート、トリフェニルスルホニウムカンファースルホネート、
（４−ヒドロキシフェニル）ベンゼンメチルスルホニウムトルエンスルホネート、シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、（４−ヒドロキシフェニル）ベンジルメチルスルホニウムトルエンスルホネート、
１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−シアノ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ニトロ−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メチル−１−ナフチルジエチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、
【００７０】
４−メトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシメトキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（１’−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２’−メトキシエトキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−メトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−エトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｎ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｉ−プロポキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｎ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ｔ−ブトキシカルボニルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２’−テトラヒドロフラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−（２’−テトラヒドロピラニルオキシ）−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、４−ベンジルオキシ−１−ナフチルテトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（１’−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート
等を挙げることができる。
【００７１】
ハロゲン含有化合物：
ハロゲン含有化合物としては、例えば、ハロアルキル基含有炭化水素化合物、ハロアルキル基含有複素環式化合物等を挙げることができる。
好ましいハロゲン含有化合物の具体例としては、フェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、メトキシフェニル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン、ナフチル−ビス（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン等の（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン誘導体や、１，１−ビス（４’−クロロフェニル）−２，２，２−トリクロロエタン等を挙げることができる。
ジアゾケトン化合物：
ジアゾケトン化合物としては、例えば、１，３−ジケト−２−ジアゾ化合物、ジアゾベンゾキノン化合物、ジアゾナフトキノン化合物等を挙げることができる。
好ましいジアゾケトンの具体例としては、１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホニルクロリド、１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホニルクロリド、２，３，４，４’−テトラヒドロキシベンゾフェノンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、１，１，１−トリス（４’−ヒドロキシフェニル）エタンの１，２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステルまたは１，２−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル等を挙げることができる。
スルホン化合物：
スルホン化合物としては、例えば、β−ケトスルホン、β−スルホニルスルホンや、これらの化合物のα−ジアゾ化合物等を挙げることができる。
好ましいスルホン化合物の具体例としては、４−トリスフェナシルスルホン、メシチルフェナシルスルホン、ビス（フェニルスルホニル）メタン等を挙げることができる。
スルホン酸化合物：
スルホン酸化合物としては、例えば、アルキルスルホン酸エステル、アルキルスルホン酸イミド、ハロアルキルスルホン酸エステル、アリールスルホン酸エステル、イミノスルホネート等を挙げることができる。
好ましいスルホン酸化合物の具体例としては、ベンゾイントシレート、ピロガロールのトリストリフルオロメタンスルホネート、ニトロベンジル−９，１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホネート、トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドトリフルオロメタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート等を挙げることができる。
【００７２】
これらの他の酸発生剤のうち、特に、ジフェニルヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェニル）ヨードニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジシクロヘキシル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、ジメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート、１−（１’−ナフチルアセトメチル）テトラヒドロチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート、トリフルオロメタンスルホニルビシクロ[ ２．２．１ ]ヘプト−５−エン−２，３−ジカルボジイミド、Ｎ−ヒドロキシスクシイミドトリフルオロメタンスルホネート、１，８−ナフタレンジカルボン酸イミドトリフルオロメタンスルホネート等が好ましい。
本発明において、他の酸発生剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
酸発生剤（Ｂ）の使用量は、レジストとしての感度および現像性を確保する観点から、樹脂（Ａ）１００重量部に対して、通常、０．１〜１０重量部、好ましくは０．５〜７重量部である。この場合、酸発生剤（Ｂ）の使用量が０．１重量部未満では、感度および現像性が低下する傾向があり、一方１０重量部を超えると、放射線に対する透明性が低下して、矩形のレジストパターンを得られ難くなる傾向がある。
【００７３】
各種添加剤
本発明においては、さらに、露光により酸発生剤から生じた酸のレジスト被膜中における拡散現象を制御し、非露光領域での好ましくない化学反応を抑制する作用を有する酸拡散制御剤を配合することができる。
このような酸拡散制御剤を使用することにより、組成物の貯蔵安定性がより向上し、またレジストとして解像度がさらに向上するとともに、露光から現像までの引き置き時間（ＰＥＤ）の変動によるレジストパターンの線幅変化を抑えることができ、プロセス安定性がさらに改善される。
酸拡散制御剤としては、レジストパターンの形成工程中の露光や加熱処理により塩基性が変化しない含窒素有機化合物が好ましい。
このような含窒素有機化合物としては、例えば、下記一般式（９）
【００７４】
【化９】
0003997588.tif 000009
【００７５】
〔一般式（９）において、Ｒ9 、Ｒ10およびＲ11は相互に独立に、水素原子、アルキル基、アリール基またはアルキル基を示す。〕で表される化合物（以下、「含窒素化合物（Ｉ）」という。）、同一分子内に窒素原子を２個有するジアミノ化合物（以下、「含窒素化合物（II）」という。）、窒素原子を３個以上有するジアミノ重合体（以下、「含窒素化合物（III)」という。）、アミド基含有化合物、ウレア化合物、含窒素複素環化合物等を挙げることができる。
含窒素化合物（Ｉ）としては、例えば、ｎ−ヘキシルアミン、ｎ−ヘプチルアミン、ｎ−オクチルアミン、ｎ−ノニルアミン、ｎ−デシルアミン等のモノアルキルアミン類；ジ−ｎ−ブチルアミン、ジ−ｎ−ペンチルアミン、ジ−ｎ−ヘキシルアミン、ジ−ｎ−ヘプチルアミン、ジ−ｎ−オクチルアミン、ジ−ｎ−ノニルアミン、ジ−ｎ−デシルアミン等のジアルキルアミン類；トリエチルアミン、トリ−ｎ−プロピルアミン、トリ−ｎ−ブチルアミン、トリ−ｎ−ペンチルアミン、トリ−ｎ−ヘキシルアミン、トリ−ｎ−ヘプチルアミン、トリ−ｎ−オクチルアミン、トリ−ｎ−ノニルアミン、トリ−ｎ−デシルアミン等のトリアルキルアミン類；アニリン、Ｎ−メチルアニリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、２−メチルアニリン、３−メチルアニリン、４−メチルアニリン、４−ニトロアニリン、ジフェニルアミン、トリフェニルアミン、１−ナフチルアミン等の芳香族アミン類等を挙げることができる。
【００７６】
含窒素化合物（II）としては、例えば、エチレンジアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、テトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン、４，４’−ジアミノジフェニルメタン、４，４’−ジアミノジフェニルエーテル、４，４’−ジアミノベンゾフェノン、４，４’−ジアミノジフェニルアミン、２，２−ビス（４’−アミノフェニル）プロパン、２−（３’−アミノフェニル）−２−（４’−アミノフェニル）プロパン、２−（４’−アミノフェニル）−２−（３’−ヒドロキシフェニル）プロパン、２−（４’−アミノフェニル）−２−（４’−ヒドロキシフェニル）プロパン、１，４−ビス［１’−（４''−アミノフェニル）−１' −メチルエチル］ベンゼン、１，３−ビス［１' −（４''−アミノフェニル）−１' −メチルエチル］ベンゼン等を挙げることができる。
【００７７】
含窒素化合物（III)としては、例えば、ポリエチレンイミン、ポリアリルアミン、ジメチルアミノエチルアクリルアミドの重合体等を挙げることができる。
前記アミド基含有化合物としては、例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、プロピオンアミド、ベンズアミド、ピロリドン、Ｎ−メチルピロリドン等を挙げることができる。
前記ウレア化合物としては、例えば、尿素、メチルウレア、１，１−ジメチルウレア、１，３−ジメチルウレア、１，１，３，３−テトラメチルウレア、１，３−ジフェニルウレア、トリブチルチオウレア等を挙げることができる。
前記含窒素複素環化合物としては、例えば、イミダゾール、ベンズイミダゾール、４−メチルイミダゾール、４−メチル−２−フェニルイミダゾール等のイミダゾール類；ピリジン、２−メチルピリジン、４−メチルピリジン、２−エチルピリジン、４−エチルピリジン、２−フェニルピリジン、４−フェニルピリジン、Ｎ−メチル−４−フェニルピリジン、ニコチン、ニコチン酸、ニコチン酸アミド、キノリン、８−オキシキノリン、アクリジン等のピリジン類のほか、ピラジン、ピラゾール、ピリダジン、キノザリン、プリン、ピロリジン、ピペリジン、モルホリン、４−メチルモルホリン、ピペラジン、１，４−ジメチルピペラジン、１，４−ジアザビシクロ［２．２．２］オクタン等を挙げることができる。
【００７８】
これらの含窒素有機化合物のうち、含窒素化合物（Ｉ）、含窒素複素環化合物等が好ましい。また、含窒素化合物（Ｉ）の中では、トリアルキルアミン類が特に好ましく、含窒素複素環化合物の中では、ピリジン類が特に好ましい。
前記酸拡散制御剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
酸拡散制御剤の配合量は、樹脂（Ａ）１００重量部当り、１５重量部以下、好ましくは１０重量部以下、さらに好ましくは５重量部以下である。この場合、酸拡散制御剤の配合量が１５重量部を超えると、レジストとしての感度や露光部の現像性が低下する傾向がある。なお、酸拡散制御剤の配合量が０．００１重量部未満では、プロセス条件によっては、レジストとしてのパターン形状や寸法忠実度が低下するおそれがある。
【００７９】
また、酸拡散制御剤以外の添加剤としては、塗布性、現像性等を改良する作用を示す界面活性剤を挙げることができる。
前記界面活性剤としては、例えば、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル、ポリオキシエチレンオクチルフェニルエーテル、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル、ポリエチレングリコールジラウレート、ポリエチレングリコールジステアレート等のノニオン系界面活性剤のほか、以下商品名で、ＫＰ３４１（信越化学工業製）、ポリフローＮｏ．７５，同Ｎｏ．９５（共栄社油脂化学工業製）、エフトップＥＦ３０１，同ＥＦ３０３，同ＥＦ３５２（トーケムプロダクツ製）、メガファックスＦ１７１，同Ｆ１７３（大日本インキ化学工業製）、フロラードＦＣ４３０，同ＦＣ４３１（住友スリーエム製）、アサヒガードＡＧ７１０，サーフロンＳー３８２，同ＳＣー１０１，同ＳＣー１０２，同ＳＣー１０３，同ＳＣー１０４，同ＳＣー１０５，同ＳＣー１０６（旭硝子製）等を挙げることができる。
これらの界面活性剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
界面活性剤の配合量は、樹脂（Ａ）と酸発生剤（Ｂ）との合計１００重量部に対して、通常、２重量部以下である。
また、前記以外の添加剤としては、ハレーション防止剤、接着助剤、保存安定化剤、消泡剤等を挙げることができる。
【００８０】
組成物溶液の調製
本発明の感放射線性樹脂組成物は、通常、その使用に際して、全固形分濃度が、例えば５〜５０重量％、好ましくは１０〜２５重量％となるように、溶剤に溶解したのち、例えば孔径０．２μｍ程度のフィルターでろ過することによって、組成物溶液として調製される。
前記組成物溶液の調製に使用される溶剤としては、例えば、
２−ブタノン、２−ペンタノン、３−メチル−２−ブタノン、２−ヘキサノン、４−メチル−２−ペンタノン、３−メチル−２−ペンタノン、３，３−ジメチル−２−ブタノン、２−ヘプタノン、２−オクタノン等の直鎖状ケトン類；
シクロペンタノン、３−メチル−２−シクロペンタノン、シクロヘキサノン、２−メチルシクロヘキサノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン、イソホロン等の環状ケトン類；
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｉ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノ−ｔ−ブチルエーテルアセテート等のプロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類；
２−ヒドロキシプロピオン酸メチル、２−ヒドロキシプロピオン酸エチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−プロピル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｎ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｉ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｓｅｃ−ブチル、２−ヒドロキシプロピオン酸ｔ−ブチル等の２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類のほか、
ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロヘキサノール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテルアセテート、プロピレングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチルエーテル、プロピレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トルエン、キシレン、２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオン酸エチル、エトキシ酢酸エチル、ヒドロキシ酢酸エチル、２−ヒドロキシ−３−メチル酪酸メチル、３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルアセテート、３−メチル−３−メトキシブチルプロピオネート、３−メチル−３−メトキシブチルブチレート、酢酸エチル、酢酸ｎ−プロピル、酢酸ｎ−ブチル、アセト酢酸メチル、アセト酢酸エチル、３−メトキシプロピオン酸メチル、３−エトキシプロピオン酸エチル、ピルビン酸メチル、ピルビン酸エチル、Ｎ−メチルピロリドン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、ベンジルエチルエーテル、ジヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、カプロン酸、カプリル酸、１−オクタノール、１−ノナノール、ベンジルアルコール、酢酸ベンジル、安息香酸エチル、しゅう酸ジエチル、マレイン酸ジエチル、γ−ブチロラクトン、炭酸エチレン、炭酸プロピレン等を挙げることができる。
【００８１】
これらの溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができるが、就中、環式ケトン類、直鎖状ケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類および２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類が好ましく、特に環式ケトン類と、直鎖状ケトン類、プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート類および２−ヒドロキシプロピオン酸アルキル類の群から選ばれる少なくとも１種との混合溶剤が好ましい。
【００８２】
レジストパターンの形成方法
本発明の感放射線性樹脂組成物は、特に化学増幅型ポジ型レジストとして有用である。
前記化学増幅型ポジ型レジストにおいては、露光により酸発生剤（Ｂ）から発生した酸の作用によって、樹脂（Ａ）中の酸解離性基（１）自体および／または酸解離性基（１）中の基Ｒ4 が解離してフェノール性水酸基あるいはカルボキシル基に変換される反応を生じ、その結果レジストの露光部のアルカリ現像液に対する溶解性が高くなり、該露光部がアルカリ現像液によって溶解、除去され、ポジ型のレジストパターンが得られる。
本発明の感放射線性樹脂組成物からレジストパターンを形成する際には、感放射線性樹脂組成物を、回転塗布、流延塗布、ロール塗布等の適宜の塗布手段によって、例えば、シリコンウエハー、アルミニウムで被覆されたウエハー等の基板上に塗布することにより、レジスト被膜を形成し、場合により予めプレベークを行ったのち、所定のレジストパターンを形成するように該レジスト被膜に露光する。その際に使用される放射線としては、ＡｒＦエキシマレーザー（波長１９３ｎｍ）あるいはＫｒＦエキシマレーザー（波長２４８ｎｍ）が好ましい。
本発明においては、露光後に加熱処理（以下、「露光後ベーク」という。）を行うことが好ましい。この露光後ベークにより、前記酸解離性基の変換反応が円滑に進行する。露光後ベークの加熱条件は、感放射線性樹脂組成物の配合組成によって変わるが、通常、３０〜２００℃、好ましくは５０〜１７０℃である。
本発明においては、感放射線性樹脂組成物の潜在能力を最大限に引き出すため、例えば特公平６−１２４５２号公報等に開示されているように、使用される基板上に有機系あるいは無機系の反射防止膜を形成しておくこともでき、また環境雰囲気中に含まれる塩基性不純物等の影響を防止するため、例えば特開平５−１８８５９８号公報等に開示されているように、レジスト被膜上に保護膜を設けることもでき、あるいはこれらの技術を併用することもできる。
【００８３】
次いで、露光されたレジスト被膜を現像することにより、所定のレジストパターンを形成する。
現像に使用される現像液としては、例えば、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、けい酸ナトリウム、メタけい酸ナトリウム、アンモニア水、エチルアミン、ｎ−プロピルアミン、ジエチルアミン、ジ−ｎ−プロピルアミン、トリエチルアミン、メチルジエチルアミン、ジメチルエチルアミン、トリエタノールアミン、テトラメチルアンモニウムヒドロキシド、ピロール、ピペリジン、コリン、１，８−ジアザビシクロ−［５．４．０］−７−ウンデセン、１，５−ジアザビシクロ−［４．３．０］−５−ノネン等のアルカリ性化合物の少なくとも１種を溶解したアルカリ性水溶液が好ましい。
前記アルカリ性水溶液の濃度は、通常、１０重量％以下である。この場合、アルカリ性水溶液の濃度が１０重量％を超えると、未露光部も現像液に溶解し、好ましくない。
また、前記アルカリ性水溶液からなる現像液には、例えば有機溶剤を添加することもできる。
前記有機溶剤の具体例としては、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノン、３−メチル−２−シクロペンタノン、２，６−ジメチルシクロヘキサノン等のケトン類；メチルアルコール、エチルアルコール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブチルアルコール、ｔ−ブチルアルコール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、１，４−ヘキサンジオール、１，４−ヘキサンジメチロール等のアルコール類；テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル類；酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸ｉ−アミル等のエステル類；トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類や、フェノール、アセトニルアセトン、ジメチルホルムアミド等を挙げることができる。
これらの有機溶剤は、単独でまたは２種以上を混合して使用することができる。
有機溶剤の使用量は、アルカリ性水溶液に対して、１００容量％以下が好ましい。この場合、有機溶剤の使用量が１００容量％を超えると、現像性が低下し、露光部の現像残りが著しくなり、好ましくない。
また、アルカリ性水溶液からなる現像液には、界面活性剤等を適量添加することもできる。
なお、アルカリ性水溶液からなる現像液で現像したのちは、一般に、水で洗浄して乾燥する。
【００８４】
【発明の実施の形態】
以下、実施例を挙げて、本発明の実施の形態をさらに具体的に説明する。但し、本発明は、これらの実施例に何ら制約されるものではない。ここで、部および％は、特記しない限り重量基準である。
実施例および比較例における各測定・評価は、下記の要領で行った。
Ｍｗ：
東ソー（株）製ＧＰＣカラム（Ｇ２０００HXL ２本、Ｇ３０００HXL １本、Ｇ４０００HXL １本）を用い、流量１．０ミリリットル／分、溶出溶媒テトラヒドロフラン、カラム温度４０℃の分析条件で、単分散ポリスチレンを標準とするゲルパーミエーションクロマトグラフィー（ＧＰＣ）により測定した。
保存安定性：
組成物溶液をシリコンウエハー上にスピンコートにより塗布し、１４０℃に保持したホットプレート上で９０秒間プレベークして作製した膜厚１μｍのレジスト被膜を、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で１分間現像し、水洗し、乾燥したのち、膜厚を測定した。これを、初期残膜厚とする。
また、組成物溶液を５０℃の恒温槽に保持し、保持後の組成物溶液から毎日、前記と同様にしてレジスト皮膜の作製、現像、水洗および乾燥を行ったのち、保持後の残膜厚を測定した。
このとき、初期残膜厚に対する保持後の残膜厚の変化率が５０％を超えるのに要する日数を求めて、保存安定性の尺度とした。この日数が大きいほど、保存安定性が良好であることを示す。
放射線透過率：
組成物溶液を石英ガラス上にスピンコートにより塗布し、９０℃に保持したホットプレート上で６０秒間プレベークして得た膜厚１μｍのレジスト被膜について、波長１９３ｎｍにおける吸光度から、透過率を算出して、遠紫外線領域における透明性の尺度とした。
相対エッチング速度：
組成物溶液をシリコンウエハ上にスピンコートした乾燥膜厚０．５μｍの被膜に対して、ＰＭＴ社製ドライエッチング装置（Pinnacle8000）を用い、エッチングガスをＣＦ4 とし、ガス流量７５ｓｃｃｍ、圧力２．５ｍＴｏｏｒ、出力２５００Ｗの条件でドライエッチングを行い、エッチング速度を測定して、クレゾールノボラック樹脂からなる被膜のエッチング速度に対する相対値により、相対エッチング速度を評価した。エッチング速度の小さいほど、ドライエッチング耐性に優れることを意味する。
感度：
組成物溶液をシリコーンウエハー上にスピンコートしたのち、１４０℃に保持したホットプレート上で９０秒間プレベークを行って、膜厚０．５μｍのレジスト被膜を形成した。このレジスト被膜に、（株）ニコン製ＡｒＦエキシマレーザー露光装置（レンズ開口数０．５５、露光波長１９３ｎｍ）により、マスクパターンを介して露光した。次いで、９０℃に保持したホットプレート上で９０秒間露光後ベークを行ったのち、２．３８％テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液により、２５℃で１分間現像し、水洗し、乾燥して、ポジ型レジストパターンを形成した。その際、線幅０．１８μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）を１対１の線幅に形成する露光量を最適露光量とし、この最適露光量を感度とした。
解像度：
最適露光量で露光したときに解像される最小のレジストパターンの寸法を解像度とした。
現像性：
スカムや現像残りの程度を、走査型電子顕微鏡を用いて調べた。
パターン形状：
線幅０．２０μｍのライン・アンド・スペースパターン（１Ｌ１Ｓ）の方形状断面の下辺寸法Ｌ1 と上下辺寸法Ｌ2 とを走査型電子顕微鏡により測定し、
０．８５≦Ｌ2 ／Ｌ1 ≦１を満足し、かつパターン形状が裾を引いていない場合を、パターン形状が“良好”であるとした。
【００８５】
【実施例】
〔酸解離性基（１）を有する三級アルコールの合成〕
合成例１
３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチルの合成
亜鉛９．５ｇ、ヨウ素１．１ｇをフラスコに入れ、内部を窒素置換したのち、７０℃に加温して攪拌した。続いて、アセトン／ブロモ酢酸メチル＝５．０ｇ／１９．６ｇ混合溶液を１時間かけて添加したのち、７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、水５０ｍｌを添加し、さらに酢酸エチル２００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去して、３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル８．６ｇを得た。
【００８６】
合成例２
１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノールの合成
亜鉛９．５ｇ、ヨウ素１．１ｇをフラスコに入れ、内部を窒素置換したのち、７０℃に加温して攪拌した。続いて。シクロヘキサノン／ブロモ酢酸ｔ−ブチル＝８．４ｇ／２５ｇ混合溶液を１時間かけて添加したのち、７０℃で５時間攪拌して反応させた。反応終了後、水５０ｍｌを添加し、さらに酢酸エチル２００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去して、１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノール１４ｇを得た。
【００８７】
〔酸解離性基（１）を有する重合性不飽和化合物の合成〕
合成例３
３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル    ５６．８ｇ
下記式（１０）で表される化合物            １１９ｇ
トリフルオロ酢酸無水物                      ９０．４ｇ
をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン３００ｍｌを加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置換して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間撹拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ3 水溶液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチル５００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１１）で表される化合物１４５ｇを得た。この化合物を、エステル化合物（ａ）とする。
【００８８】
【化１０】
0003997588.tif 000010
【００８９】
【化１１】
0003997588.tif 000011
【００９０】
0003997588.tif 000012
をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン５０ｍｌを加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置換して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間撹拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ3 水溶液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチル２００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１２）で表される８−〔｛１’−（メトキシカルボニルメチル）−１’−メチルエトキシ｝カルボニル〕テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカン−３−エン１２３．７ｇを得た。この化合物を、エステル化合物（ｂ）とする。
【００９１】
【化１２】
0003997588.tif 000013
【００９２】
合成例５
３−ヒドロキシ−３−メチルブタン酸メチル    ６８．２ｇ
トリエチルアミン                            ６８ｇ
をフラスコに入れ、無水ジクロロメタン２００ｍｌを加えて溶解させたのち、０℃で１０分間撹拌した。続いて、アクリル酸クロリド５６ｇを２時間かけて添加したのち、反応液を室温に戻し、３時間撹拌して反応させた。反応終了後、トリエチルアミンの塩酸塩をろ別したのち、ろ液に水５０ｍｌを添加し、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、ジクロロメタンを減圧留去して、下記式（１３）で表されるアクリル酸｛１−（メトキシカルボニルメチル）−１−メチルエチル｝６０ｇを得た。この化合物を、エステル化合物（ｃ）とする。
【００９３】
【化１３】
0003997588.tif 000014
【００９４】
合成例６
１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノール    ９２．１ｇ
前記式（１０）で表される化合物                          １１９ｇ
トリフルオロ酢酸無水物                                    ９０．４ｇ
をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン３００ｍｌを加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置換して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間撹拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ3 水溶液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチル５００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１４）で表される化合物を得た。この化合物を、エステル化合物（ｄ）とする。
【００９５】
【化１４】
0003997588.tif 000015
【００９６】
0003997588.tif 000016
をフラスコに入れ、無水テトラハイドロフラン５０ｍｌを加えて溶解させたのち、フラスコ内を乾燥空気で置換して、１０℃で８０分間撹拌し、さらに室温で８時間撹拌して反応させた。反応終了後、飽和ＮａＨＣＯ3 水溶液を反応液が中性になるまで添加し、さらに酢酸エチル２００ｍｌを添加したのち、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、酢酸エチルを減圧留去して、下記式（１５）で表される８−｛１’−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシルオキシカルボニル｝テトラシクロ[ ４．４．０．１2,5 ．１7,10 ]ドデカン−３−エン１７０ｇ１５０ｇを得た。この化合物を、エステル化合物（ｅ）とする。
【００９７】
合成例８
１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキサノール  １１０．５ｇ
トリエチルアミン                                          ６８ｇ
をフラスコに入れ、無水ジクロロメタン２００ｍｌを加えて溶解させたのち、０℃で１０分間撹拌した。続いて、アクリル酸クロリド５６ｇを２時間かけて添加したのち、反応液を室温に戻し、３時間撹拌して反応させた。反応終了後、トリエチルアミンの塩酸塩をろ別したのち、ろ液に水５０ｍｌを添加し、分液ロートを用いて水層を分離した。続いて、有機層に水５０ｍｌを加えて水層を分離する操作を３回行って、有機層を十分洗浄した。続いて、有機層に無水硫酸マグネシウムを添加して乾燥したのち、ジクロロメタンを減圧留去して、アクリル酸｛１−（ｔ−ブトキシカルボニルメチル）シクロヘキシル｝８０ｇを得た。この化合物を、エステル化合物（ｆ）とする。
【００９８】
〔樹脂（Ａ）の製造〕
重合例１
エステル化合物（ａ）          ２６．１ｇ
アクリル酸トリシクロデカニル  １５ｇ
アゾイソブチロニトリル          ０．２ｇ
ｔ−ドデシルメルカプタン        ０．１ｇ
を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１８，０００の白色の樹脂３５ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物（ａ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシクロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ５０モル％および５０モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-1）とする。
【００９９】
重合例２
エステル化合物（ｂ）    ３２．２ｇ
無水マレイン酸            ９．４ｇ
アゾイソブチロニトリル    ３．３ｇ
を１，２−ジエトキシエタン４０ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが６，０００の白色の樹脂２０ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物（ｂ）に由来する繰返し単位および無水マレイン酸に由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ４５モル％および５５モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-2）とする。
【０１００】
重合例３
エステル化合物（ｃ）          １９．８ｇ
アクリル酸トリシクロデカニル  ２１．９ｇ
アゾイソブチロニトリル          ０．２ｇ
ｔ−ドデシルメルカプタン        ０．１ｇ
を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１５，０００の白色の樹脂１５ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物（ｃ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシクロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ５５モル％および４５モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-3）とする。
【０１０１】
重合例４
エステル化合物（ｄ）          ３１．５ｇ
アクリル酸トリシクロデカニル  １５ｇ
アゾイソブチロニトリル          ０．２ｇ
ｔ−ドデシルメルカプタン        ０．１ｇ
を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１５，０００の白色の樹脂３７ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物（ｄ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシクロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ４５モル％および５５モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-4）とする。
【０１０２】
重合例５
エステル化合物（ｅ）    ４０．５ｇ
無水マレイン酸            ９．４ｇ
アゾイソブチロニトリル    ３．３ｇ
を１，２−ジエトキシエタン４０ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが３，０００の白色の樹脂２２ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物（ｅ）に由来する繰返し単位および無水マレイン酸に由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ５０モル％および５０モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-5）とする。
【０１０３】
重合例６
エステル化合物（ｆ）          ２８．５ｇ
アクリル酸トリシクロデカニル  ２１．９
アゾイソブチロニトリル          ０．２ｇ
ｔ−ドデシルメルカプタン        ０．１ｇ
を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが１２，０００の白色の樹脂１７ｇを得た。この樹脂は、エステル化合物（ｆ）に由来する繰返し単位およびアクリル酸トリシクロデカニルに由来する繰返し単位の含有率が、それぞれ５０モル％および５０モル％であった。この樹脂を、樹脂（Ａ-6）とする。
【０１０４】
比較重合例１
アクリル酸テトラヒドロピラニル    １８．２８ｇ
アクリル酸トリシクロデカニル      ２５ｇ
アゾイソブチロニトリル          ０．２ｇ
ｔ−ドデシルメルカプタン        ０．１ｇ
を１，２−ジエトキシエタン１００ｍｌに溶解し、反応温度６５℃で５時間撹拌して反応させた。反応終了後、反応液を大量のメタノール中に投与して、ポリマーを再沈殿させたのち、減圧乾燥して、Ｍｗが２０，０００の白色の樹脂１５ｇを得た。この樹脂を、樹脂（ａ-1）とする。
【０１０５】
実施例１〜７、比較例１〜２
前記各重合例で製造した樹脂、酸発生剤（Ｂ）および溶剤を混合して、均一溶液としたのち、孔径０．２μｍのメンブランフィルターでろ過して、表１に示す組成（但し、部は重量に基づく。）の組成物溶液を調製して、各種評価を行った。
評価結果を、表１および表２に示す。
各実施例および比較例中の酸発生剤（Ｂ）および溶剤の種類は、下記のとおりである。
酸発生剤（Ｂ）
Ｂ-1：シクロヘキシルメチル（２−オキソシクロヘキシル）スルホニウムトリフルオロメタンスルホネート
Ｂ-2：トリフェニルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート
Ｂ-3：４−ヒドロキシ−１−ナフチルジメチルスルホニウムトリフルオロメタンスルホネート
Ｂ-4：４−ヒドロキシ−１−ナフチルテトラメチレンチオフェニウムトリフルオロメタンスルフォネート
Ｂ-5：４−ｎ−ブトキシ−１−ナフチルテトラメチレンチオフェニウムトリフルオロメタンスルホネート
溶剤
Ｃ-1：２−ヘプタノン
Ｃ-2：２−ヒドロキシプロピオン酸エチル
【０１０６】
【表１】
0003997588.tif 000017
【０１０７】
【表２】
0003997588.tif 000018
【０１０８】
【発明の効果】
本発明の感放射線性樹脂組成物は、保存安定性が優れ、化学増幅型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、かつ解像度に優れるとともに、ドライエッチング耐性、感度、パターン形状等にも優れており、今後さらに微細化が進行すると予想される半導体デバイスの製造に極めて好適に使用することができる。
【化１５】
0003997588.tif 000019