(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ファイバの側面に紫外光を照射して該光ファイバにグレーティングを形成するに際し、
前記紫外光を分割し、分割した紫外光毎にその干渉縞を形成して複数本の光ファイバ、若しくは光ファイバの互いに異なる複数の箇所にそれぞれ照射するとともに、
前記光ファイバに形成するグレーティングの少なくとも１つの中心波長をシフトさせた状態で該光ファイバの光学特性をモニタし、この光学特性の変化から前記光ファイバへの前記紫外光の照射による前記グレーティングの形成速度を求め、この形成速度に応じて前記グレーティングの形成に要する前記紫外光の最適照射時間を算出して前記光ファイバへの前記紫外光の照射時間を制御することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項２】
位相マスクを介して紫外光を回折させた干渉縞を光ファイバの側面に照射して該光ファイバにグレーティングを形成するに際し、
前記位相マスクを保持するマスク固定部、およびこのマスク固定部に保持された位相マスクに対して光ファイバを位置決めして装着するクランパを備えた複数のマスクアライナを準備し、前記紫外光を光学素子を介して分割して上記各マスクアライナにそれぞれ導いて、前記光ファイバに形成するグレーティングの少なくとも１つの中心波長をシフトさせた状態で該光ファイバの光学特性をモニタし、この光学特性の変化から前記光ファイバへの前記紫外光の照射による前記グレーティングの形成速度を求め、この形成速度に応じて前記グレーティングの形成に要する前記紫外光の最適照射時間を算出して前記光ファイバへの前記紫外光の照射時間を制御しながら、上記各マスクアライナにそれぞれ保持された光ファイバに一括してグレーティングを形成することを特徴とするファイバグレーティングの製造方法。
【請求項３】
光ファイバの側面に紫外光を照射して該光ファイバにグレーティングを形成するファイバグレーティングの製造装置であって、
位相マスクを保持するマスク固定部、およびこのマスク固定部に保持された位相マスクに対して光ファイバを位置決めして装着するとともに、前記光ファイバに形成するグレーティングの中心波長をシフトさせるクランパを備えた複数のマスクアライナと、
前記紫外光を分割して前記各マスクアライナにそれぞれ導く光学素子と、
前記光学素子に導く紫外光を遮断する光路遮断機および／または前記光学素子にて分割された複数の紫外光の各光路に設けられて、前記各マスクアライナに導かれる紫外光をそれぞれ選択的に遮断する光路遮断器と、
前記各光ファイバの前記グレーティングによる光学特性をそれぞれモニタする光学測定器と、
前記光学測定器にて求められた前記各光ファイバの前記グレーティングによる反射特性に応じて前記各光路遮断器を個別に作動させて前記各マスクアライナへの紫外光の導入を停止制御する製造制御部と、
を具備したことを特徴とするファイバグレーティングの製造装置。
【請求項４】
前記製造制御部は、前記光学測定器にて求められる前記各光ファイバの前記グレーティングによる光学特性の変化から該グレーティングの形成速度をそれぞれ求め、これらの各形成速度に応じて前記グレーティングの形成に要する前記紫外光の最適照射時間をそれぞれ算出して前記各光路遮断器の作動タイミングをそれぞれ制御するものであることを特徴とする請求項３に記載のファイバグレーティングの製造装置。
【請求項５】
前記光学素子は、紫外光の照射光路に部分的に挿入されて該紫外光を物理的に分割するミラー、または前記紫外光の照射光路に挿入されて該紫外光を強度的に分割するビームスプリッタからなることを特徴とする請求項３または４に記載のファイバグレーティングの製造装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複数本の光ファイバ、若しくは光ファイバの互いに異なる箇所にそれぞれ効率的に、しかも精度良くグレーティングを形成することのできるファイバグレーティングの製造装置および製造方法に関する。
【０００２】
【関連する背景技術】
光ファイバ増幅器においては、狭い波長間隔で波長多重化された光信号を分波するべく、或いはレーザモジュールにおける波長安定化を目的としてファイバグレーティングが用いられる。この種のファイバグレーティングは、光ファイバにおけるコアの屈折率を、例えば数百ｎｍ〜数μｍのピッチで縞状に変化させてグレーティング（回折格子）を形成することにより実現される。
【０００３】
このようなファイバグレーティングは、例えば図７に示すように定盤１上に設けたマスクアライナ２に光ファイバＦを装着し、レーザ光源３からマスクアライナ２に導かれるレーザ光Ｌの干渉縞を上記光ファイバＦの側面に照射して該光ファイバ（コア）Ｆの屈折率を所定のピッチで変化させることで製造される。
上記マスクアライナ２は、例えば図８に示すように一対のクランプ５,５間に張架された光ファイバＦのグレーティング形成位置を規定するファイバ固定部６と、光ファイバＦに形成するグレーティングのパターンに応じてレーザ光Ｌの照射パターン（干渉縞）を変化させる位相マスク（図示せず）が取り付けられるマスク固定部７とからなる。このマスク固定部７は、ファイバ固定部６との相対的な位置関係が調整されて設けられて、上記位相マスクを介したレーザ光Ｌの干渉縞を光ファイバ３に照射する役割を担う（位相格子法）。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで従来においては、ファイバグレーティングの製造効率を高めるべく、例えば図８に示すように一対のクランプ５,５間に複数本（この例では４本）の光ファイバＦを平行に張架し、これらの各光ファイバＦに一括して前記位相マスクを介してレーザ光Ｌを照射するようにしている。この際、各光ファイバＦに加える張力をそれぞれ個別に調整することも行われている。
【０００５】
しかしながら複数本の光ファイバＦに対するレーザ光Ｌの照射開始とその停止が同時に行われるので、光ファイバＦの特性の微妙なバラツキに起因して各光ファイバＦに形成されるグレーティングが不揃いとなることが否めない。これ故、光学特性（反射特性）を一定に揃えたグレーティングを、効率的に安定に、しかも歩留り良く形成することが困難であると言う問題がある。
【０００６】
本発明はこのような事情を考慮してなされたもので、その目的は、例えば複数本の光ファイバに対して、それぞれ所定の光学特性を備えたグレーティングを一括して効率的に形成することのできるファイバグレーティングの製造装置および製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上述した目的を達成するべく本発明に係るファイバグレーティングの製造方法は、光ファイバの側面に紫外光を照射して該光ファイバにグレーティングを形成するに際して、前記紫外光を分割し、分割した紫外光毎にその干渉縞を形成して複数本の光ファイバ、若しくは光ファイバの互いに異なる複数の箇所にそれぞれ照射することを特徴としている（請求項１）。
【０００８】
好ましくは、位相マスクを介して紫外光を回折させた干渉縞を光ファイバの側面に照射して該光ファイバにグレーティングを形成するに際して、前記位相マスクを保持するマスク固定部、およびこのマスク固定部に保持された位相マスクに対して光ファイバを位置決めして装着するクランパを備えた複数のマスクアライナを準備し、前記紫外光を光学素子を介して分割して上記各マスクアライナにそれぞれ導いて上記各マスクアライナにそれぞれ保持された光ファイバに一括してグレーティングを形成してなることを特徴としている（請求項２）。
【０００９】
この際、前記光ファイバの光学特性をモニタし、この光学特性の変化から前記光ファイバへの前記紫外光の照射によるグレーティングの形成速度を求め、この形成速度に応じて前記グレーティングの形成に要する前記紫外光の最適照射時間を算出して前記光ファイバへの前記紫外光の照射時間を制御することが好ましい（請求項３）。
【００１０】
また本発明に係るファイバグレーティングの製造装置は、位相マスクを介して紫外光を回折させた干渉縞を光ファイバの側面に照射して該光ファイバにグレーティングを形成するものであって、
特に前記位相マスクを保持するマスク固定部、およびこのマスク固定部に保持された位相マスクに対して光ファイバを位置決めして装着するクランパを備えて複数本の光ファイバを個別に装着する複数のマスクアライナと、光源から出力された所定ビーム幅の紫外光を、複数本の紫外光に分割して上記各マスクアライナにそれぞれ個別に導く光学素子とを備えたことを特徴としている（請求項４）。
【００１１】
好ましくは上記光学素子は、紫外光の照射光路にそのビーム幅方向から部分的に挿入されて該紫外光を物理的に分割するミラー、または前記紫外光の照射光路に挿入されて該紫外光を強度的に分割するビームスプリッタからなる。尚、ビームスプリッタを用いて紫外光を強度的に分割した場合には、分割された紫外光をレンズを介して集光してそのビーム強度を高めることが望ましい（請求項５）。
【００１２】
また本発明に係るファイバグレーティングの製造装置は、更に前記光学素子にて分割された複数の紫外光の各光路に設けられて、前記各マスクアライナに導かれる紫外光をそれぞれ選択的に遮断する光路遮断器および／または前記光学素子に導く紫外光を遮断する光路遮断機を備えることを特徴としている（請求項６）。そして上記各光路遮断器を個別に作動させて前記各マスクアライナにそれぞれ導く紫外光を個々に遮断することで、複数本の光ファイバに対するグレーティングの形成時間（レーザ光の照射時間）を互いに独立に制御することを可能とする。
【００１３】
更に本発明に係るファイバグレーティングの製造装置は、前記各光ファイバのグレーティングによる光学特性をそれぞれモニタする光学測定器と、この光学測定器にて求められた前記各光ファイバの前記グレーティングによる光学特性に応じて前記各光路遮断器を個別に作動させて前記各マスクアライナへの紫外光の導入を停止制御する製造制御部とを備えることを特徴としている（請求項７）。
【００１４】
好ましくは上記製造制御部は、前記光学測定器にて求められる前記各光ファイバの前記グレーティングによる光学特性の変化から該グレーティングの形成速度をそれぞれ求め、これらの各形成速度に応じて前記グレーティングの形成に要する前記紫外光の最適照射時間を算出して前記各光路遮断器の作動タイミングをそれぞれ制御するものとして実現される（請求項８）。
【００１５】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施形態に係るファイバグレーティングの製造装置とその製造方法について、位相格子法によるグレーティングの形成を例に説明する。
図１は第１の実施形態に係るファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成を示す図で、２ａ,２ｂ,２ｃは定盤１上に設けられた複数（この例では３個）のマスクアライナである。これらの各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃは、３本の光ファイバＦをそれぞれ個別に装着してレーザ光Ｌの照射によるグレーティングの形成に供するものであり、前述したように光ファイバＦを保持する一対のクランプ５,５、クランプ５,５間に張架された光ファイバＦのグレーティング形成位置を規定するファイバ固定部６、および位相マスクが取り付けられるマスク固定部７とからなる。
【００１６】
しかしてエキシマレーザ等からなるレーザ光源３が出力する所定のビーム幅の紫外波長域のレーザ光（紫外光）Ｌは、定盤１上に所定の光学的配置関係を以て設置された複数のミラー１０,１１,１２,１３を介して複数のレーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３に分割され、前記マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ個別に導かれて前記各光ファイバＦに対するグレーティングの形成に供せられるようになっている。
【００１７】
即ち、レーザ光源３から出力された所定のビーム幅のレーザ光Ｌは、ミラー１０により全反射されてその光軸を直角方向に変化させ、前記マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃの配列方向に導かれている。このレーザ光Ｌの照射光路には、前記各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ対応して設けられた第１〜第３のミラー１１,１２,１３が、その端部を該レーザ光Ｌのビーム幅方向からそれぞれ部分的に挿入して、前記レーザ光Ｌの光軸に対して４５°の角度をなして設けられている。
【００１８】
具体的には、レーザ光Ｌの照射光路の最上流に位置する第１のミラー１１は、レーザ光Ｌの照射光路にそのビーム幅の１／３の幅まで挿入されており、レーザ光Ｌの１／３だけを物理的に反射することで分割レーザ光Ｌ１を直角方向に取り出し、この分割レーザ光Ｌ１をマスクアライナ２ａに導いている。そして残された２／３のレーザ光については、そのまま直進させている。
【００１９】
また前記レーザ光Ｌの照射光路の２段目に位置する第２のミラー１２は、該レーザ光Ｌの照射光路に対してそのビーム幅の２／３の幅まで、換言すれば前記第１のミラー１１により直角方向に分割されることなく直進するレーザ光Ｌのビーム幅の１／２の幅まで挿入されている。そして第１のミラー１１の側部から直進してくるレーザ光Ｌの１／２を、即ち、レーザ光源３から出力されたレーザ光Ｌの１／３だけを物理的に反射することでその分割レーザ光Ｌ２を直角方向に取り出し、この分割レーザ光Ｌ２をマスクアライナ２ｂに導いている。
【００２０】
そして前記レーザ光Ｌの照射光路の最終段に位置する第３のミラー１３は、該レーザ光Ｌの照射光路に対してそのビーム幅の全幅に亘って挿入されており、前記第１および第２のミラー１１,１２によって直角方向に分割されることなく直進してきたレーザ光Ｌを、つまりレーザ光源３から出力されたレーザ光Ｌの中の残された１／３を物理的に反射することでその分割レーザ光Ｌ３を直角方向に取り出し、この分割レーザ光Ｌ３をマスクアライナ２ｃに導いている。
【００２１】
即ち、レーザ光Ｌの照射光路に部分的に挿入された第１および第２のミラー１１,１２によって上記レーザ光Ｌが物理的に３つのレーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３に分割され、前記各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ導入されるようになっている。尚、レーザ光源３で定盤１の側部に設けた場合には、ミラー１０を用いてレーザ光Ｌの光軸を直角に折り返すことは不要であり、またマスクアライナ２ｃをレーザ光Ｌの光軸方向に設けた場合には、第３のミラー１３が不要となることは言うまでもない。
【００２２】
さて前記各ミラー１１,１２,１３を介して分割されて前記マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ導かれる分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の各光路上には、その光路内に選択的に介挿されて上記各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の前記マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃへの伝播（照射）を阻止する光路遮断器１４,１５,１６がそれぞれ設けられている。これらの各光路遮断器１４,１５,１６は、図２に示すように光路遮断器コントローラ（製造制御部）１７によりその作動がそれぞれ個別に制御されるものである。尚、ミラー１１,１２,１３を用いて分割する前のレーザ光を一括して遮断する光路遮断器３０を、光源３とミラー１０との間、またはミラー１０とミラー１１との間に設けておくことも可能である。
【００２３】
この光路遮断器コントローラ１７は、この製造装置における全体的な製造動作の制御を司るパーソナルコンピュータ１８の管理の下で作動する。そして光路遮断器コントローラ１７は、基本的には前記レーザ光源３の作動に伴うレーザ光Ｌの射出開始に伴って前記各光路遮断器１４,１５,１６をそれぞれ開き、前記各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を前記マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃに導入して光ファイバＦに対するグレーティングの形成を開始させる。そして各光ファイバＦにそれぞれ所定の光学特性（反射特性）を有するグレーティングが形成されたとき、前記光路遮断器１４,１５,１６を個別に閉じることで分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３をそれぞれ遮断し、これによってグレーティング形成処理を終了させるものとなっている。尚、全ての光ファイバＦに対するグレーティングの形成が完了した場合には、レーザ光源３からのレーザ光Ｌの出力自体が停止制御される。
【００２４】
ここで上記光路遮断器１４,１５,１６による分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の遮断動作について説明すると、マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ装着されてグレーティングの形成に供せられる光ファイバＦには、光スイッチ１９を介して光学測定器２０が選択的に接続されるようになっている。この光学測定器２０は、例えばサーキュレータ（図示せず）を介して前記各光ファイバＦに所定の計測光（レーザ光）を導入し、該光ファイバＦに形成されるグレーティングにより反射された計測光を上記サーキュレータを介して検出することで、その反射光強度からグレーティングの反射特性（反射率）を計測する機能を備える。
【００２５】
そしてこの実施形態においては、光スイッチ１９を介して光学測定器２０に選択的に接続する光ファイバＦを所定の周期で巡回的に切り換えることで、各光ファイバＦにそれぞれ形成されるグレーティングの各反射特性を時分割処理により並列的に検出するものとなっている。尚、光スイッチ１９を用いることなく、各光ファイバＦに個々に対応した光学測定器２０を用いて各光ファイバＦにそれぞれ形成されるグレーティングの反射特性を個別に計測するようにしても良いことは言うまでもない。
【００２６】
しかして前述したパーソナルコンピュータ１８は、上記光学測定器２０を用いて計測される各光ファイバＦのグレーティングの反射特性の変化から、前記各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の照射によるグレーティングの形成速度（いわゆるレーザ光によるグレーティングの書き込み速度）をそれぞれ求めている。そしてこれらの各光ファイバＦにおけるグレーティングの形成速度に従って、前記各光ファイバＦに所定の光学特性（反射特性）を持つグレーティングの形成に要する前記レーザ光Ｌの最適照射時間を算出し、前記光路遮断器１４,１５,１６による分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の遮断動作タイミング（レーザ光の照射停止タイミング）を求めている。前述した光遮断器コントローラ１７は、このようにして求められる遮断動作タイミングに従ってその作動がそれぞれ制御され、各光ファイバＦへの分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の照射時間を制御している。
【００２７】
尚、光学測定器２０においては、上述したようにグレーティングの反射特性を検出することに代えて、例えばグレーティングによる反射光のプロフィールを測定してその波形を判定したり、所定レベル以上の反射光が得られる波長域（バンド幅）を求める等して、グレーティングの形成度合いを判定するものであっても良い。逆にグレーティングを通過する光の成分を検出して該グレーティングの形成度合いを判定することも可能である。
【００２８】
かくして上述した如く構成されたファイバグレーティングの製造装置および製造方法によれば、レーザ光源３から出力された所定ビーム幅のレーザ光Ｌを第１〜第３のミラー１１,１２,１３を用いて物理的に３つの分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３に分割し、これらの各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３をマスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ個別に導いて、各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ装着された光ファイバＦにグレーティングを形成するので、１本のレーザ光Ｌを有効に活用して複数のグレーティング形成処理を同時に効率的に進めることができる。しかも物理的に分割した分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を、光路遮断器１４,１５,１６を用いてそれぞれ独立に照射制御することができるので、前記各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ装着された光ファイバＦの特性にバラツキがあっても、その特性のバラツキに応じてグレーティングの形成をそれぞれ個別に制御することができる。従って個々の光ファイバＦの特性のバラツキに拘わることなく、所定の光学特性（反射特性）を有するグレーティングを高品質に形成することができる。
【００２９】
また逆に、複数の光ファイバＦにそれぞれ形成するグレーティングの光学特性（反射特性）を変える場合であっても、マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにそれぞれ導く分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を光路遮断器１４,１５,１６を用いて個別に制御することができるので、互いに異なる光学特性（反射特性）を有するグレーティングを高品質に、しかも効率的に形成することが可能となる。これ故、各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃ毎に、所定の光学特性（反射特性）を有する一定品質のグレーティングを形成することができ、その製造歩留りの大幅な向上を図ることが可能となる。
【００３０】
ところで上述した実施形態においては、ミラー１１,１２,１３を用いてレーザ光Ｌを、そのビーム幅方向に物理的に分割して分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を形成したが、ビームスプリッタを用いてレーザ光Ｌを強度的に分割することも可能である。ちなみに上記ビームスプリッタは、入射光を所定の割合で反射すると共に、残された成分を透過する光学特性を備えた光学素子からなる。
【００３１】
従ってこのようなビームスプリッタを用いる場合には、例えば図３に示すように第２のミラー１２に代えて透過率が１／２（反射率が１／２）のビームスプリッタ１２ａをレーザ光Ｌの照射光路に介挿すれば良い。或いは図４に示すように第１のミラー１１に代えて透過率が２／３（反射率が１／３）のビームスプリッタ１１ａを前記レーザ光Ｌの照射光路にそれぞれ介挿し、更に第２のミラー１２に代えて透過率が１／２（反射率が１／２）のビームスプリッタ１２ａを前記レーザ光Ｌの照射光路に介挿するようにすれば良い。但し、最終段のミラー１３については、その上流側で分割された分割レーザ光Ｌ２の残りである分割レーザ光Ｌ３を反射してマスクアライナ２ｃに導く機能を備えるだけで良いので、ビームスプリッタに代えることは不利である。
【００３２】
このようにビームスプリッタ１１ａ,１２ａを用いて分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を形成するようにその光学系を構成した場合であっても、これらの分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３をマスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃに対してそれぞれ個別に導くことで、先の実施形態と同様な効果が奏せられる。尚、ビームスプリッタ１１ａ,１２ａを用いてレーザ光Ｌを分割した場合には、各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の強度が低下するので、図３および図４にそれぞれ示すように各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３の照射光路に縮小レンズ系２１,２２,２３をそれぞれ介挿し、そのビーム幅を絞り込むことで所定の強度を確保するように、その光学系を構成することが望ましい。これらの縮小レンズ系２１,２２,２３については、分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３のビーム幅を絞り込む凸レンズと、ビーム幅が絞り込まれた分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を再び平行光束に変換する凹レンズとにより構成するようにすれば良い。尚、ビーム幅を絞り込む方向については特に限定されず、縦・横のいずれの方向であっても良い。
【００３３】
この際、上記各縮小レンズ系２１,２２,２３をそれぞれその光軸方向に調整可能に設けておけば、光ファイバＦに対する焦点調整が可能となるので、これによって光ファイバＦに照射する分割レーザ光の強度をそれぞれ微調整し、ファイバーグレーティングの書き込み速度を調整することが可能となる。またこのような微調整機能を備えることで、各マスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃにおける位相マスクの汚れ等に起因するファイバーグレーティングの書き込み速度のバラツキを調整することが可能となる等の利点がある。
【００３４】
ところで上記各実施形態に係るファイバーグレーティングの製造装置は、複数本の光ファイバＦ毎に１つのマスクアラナ２ａ,２ｂ,２ｃを設け、光ファイバＦの１箇所にグレーティングを形成するように構成したが、例えば図５に示すように１本の光ファイバＦの複数箇所（この例では２箇所）に同時にグレーティングを形成する装置として実現することも可能である。
【００３５】
即ち、図５に示すように複数（この例では６個）のマスクアライナ２ａ,２ｂ,２ｃ,〜２ｆを準備し、隣接して組をなす２つのマスクアライナ（２ａ,２ｂ）（２ｃ,２ｄ）（２ｅ,２ｆ）毎に１本の光ファイバＦをそれぞれ装着する。そしてレーザ光源３から発せられたレーザ光Ｌを、上記各マスクアライナ２ａ,２ｂ,〜２ｆのそれぞれに対応する６本の分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２，〜Ｌ６に分割し、これらの各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２，〜Ｌ６を上記各マスクアライナ２ａ,２ｂ,〜２ｆにそれぞれ導くように構成する。この場合には、例えば第１〜第６のミラー１１ｘ,１１ｙ,１２ｘ,１２ｙ,１３ｘ,１３ｙを、前記レーザ光Ｌの照射光路にそのビーム幅の１／６ずつ順次挿入して、上記レーザ光Ｌを順に１／６ずつ分割するように、その光学系を構成すれば良い。そして各分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２，〜Ｌ６の照射光路に光路遮断器１４ｘ,１４ｙ,１５ｘ,１５ｙ,１６ｘ,１６ｙをそれぞれ介挿し、分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２，〜Ｌ６をそれぞれ独立に遮断し得るように構成する。
【００３６】
ちなみに各光ファイバＦにそれぞれ形成する２つのグレーティングの光学特性（反射特性）を計測するに際しては、例えば組をなす２つのマスクアライナ（２ａ,２ｂ）（２ｃ,２ｄ）（２ｅ,２ｆ）の一方における光ファイバＦの張力を変える等してその反射中心波長をシフトする。そして、例えば中心波長の異なる２種類の計測光を用いて各光ファイバＦに同時に形成される２つのグレーティングの各光学特性（反射特性）を同時に計測するようにすれば良い。尚、或る波長帯域を持った高原を用いれば、互いに異なる特性を持つファイバグレーティングをそれぞれ計測することは、勿論可能である。また１本の光ファイバに同じ特性のグレーティングを形成した場合には、一方のグレーティングに加える張力を買えて、その中心波長をシフトするようにすればその測定が可能である。
【００３７】
このように装置を構成すれば、１本の光ファイバＦの２箇所に同時にグレーティングを形成する場合であっても、各グレーティングの光学特性をそれぞれ安定に制御することが可能となる。またこの際、上述したように光ファイバＦに加える張力によるグレーティングの光学特性（反射特性）の変化を予め計測しておけば、この変化特性に従ってグレーティングの形成を制御することができるので、最終的には所定の光学特性（反射特性）を有するグレーティングを高品質に形成することができる。従って１本の光ファイバＦに対する複数箇所でのグレーティングの同時形成により、その製造効率を更に高めることが可能となる。
【００３８】
尚、本発明は上述した各実施形態に限定されるものではない。例えばレーザ光源３から出力されたレーザ光Ｌに対する分割数は、マスクアライナ２の数に応じて定めれば良いものであり、複数のミラーとビームスプリッタとを適宜組み合わせて上記レーザ光Ｌを所定の強度で分割するようにすれば良い。また各マスクアライナ２にそれぞれ装着する位相マスクについては、同一仕様のものであっても良いが、複数の光ファイバＦにそれぞれ形成するグレーティングの仕様に応じた互いに異なるものであっても良い。更に１本の光ファイバＦの３箇所以上に同時にグレーティングを形成することも勿論可能である。
【００３９】
またここでは位相マスクを用いて紫外光の干渉縞を形成する位相格子法を例に説明したが、複数に分割した紫外光を更にそれぞれ２分割し、これらの２分割した紫外光を互いに干渉させて光ファイバＦの側面に照射してグレーティングを形成することも可能である（二光束干渉法）。この場合には、図６に例示するように、ミラー１１,１２,１３を介して分割された３つの分割レーザ光Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３を、それぞれビームスプリッタ３１,３２,３３を介して２分割する。そして対をなす２分割レーザ光Ｌ１ａ,Ｌ１ｂ,Ｌ２ａ,Ｌ２ｂ,Ｌ３ａ,Ｌ３ｂ毎にミラー３４,３５,３６,３７,３８,３９をそれぞれ介して反射させ、その反射光が各光ファイバＦの照射位置においてそれぞれ干渉するように、その光学系を設定すれば良い。
【００４０】
このような二光束干渉法を採用して光ファイバＦにグレーティングを形成する場合であっても本発明を同様に適用することができ、先の実施形態と同様な作用効果を奏し得る。この場合、前述した干渉マスクが不要であり、また各光ファイバＦに対するレーザ光（紫外光）の照射角度を調整することによってグレーティングの周期（ピッチ）を個々に調整可能なことは言うまでもない。
【００４１】
その他、本発明はその要旨を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【００４２】
【発明の効果】
以上説明したように本発明によれば、複数本の光ファイバのそれぞれにグレーティングを形成するに際して、上記各光ファイバをそれぞれ装着したマスクアライナに対応してレーザ光を分割して導き、また分割したレーザ光を光路遮断器を用いてそれぞれ独立に遮断制御することができるので、例えば光ファイバの特性のバラツキに拘わりなく所定の光学特性を有するグレーティングを高品質に製造することができる。しかもその製造効率を高めることができ、製造歩留りの向上を図り得る等の実用上多大なる効果が奏せられる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１の実施形態（位相格子法）に係るファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成図。
【図２】図１に示す製造装置の制御系の構成例を示す図。
【図３】本発明の第２の実施形態に係るファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成図。
【図４】本発明の第３の実施形態に係るファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成図。
【図５】本発明の第４の実施形態に係るファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成図。
【図６】本発明の第５の実施形態（二光束干渉法）に係るファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成図。
【図７】従来のファイバグレーティングの製造装置の要部概略構成図。
【図８】ファイバグレーティングの製造装置に組み込まれるマスクアライメントの概略構成を示す図。
【符号の説明】
１  定盤
２,２ａ,２ｂ,〜２ｆ  マスクアライナ
１０,１１,１２,１３  ミラー
１１ａ,１２ａ  ビームスプリッタ
１４,１５,１６  光路遮断器
１７  光路遮断器コントローラ
１８  パーソナルコンピュータ
１９  光スイッチ
２０  光学測定器
２１,２２,２３  縮小レンズ系
３０  光路遮断器
Ｆ  光ファイバ
Ｌ  レーザ光
Ｌ１,Ｌ２,Ｌ３  分割レーザ光
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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