(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記の一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のスルホコハク酸型アニオン性界面活性剤、
（Ｂ）下記の一般式（Ｉ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のグリコールエーテル化合物、
（Ｃ）下記の一般式（ＩＩ−１）で表されるグリコールモノエーテル化合物と、下記の一般式（ＩＩ−２）で表わされるグリコールジエーテル化合物、
（Ｄ）下記の一般式（ＩＩＩ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上の炭化水素化合物、及び
（Ｅ）水を必須成分として含有することを特徴とするピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物。
【化１】
0004026790.tif 000010
（式中、Ｒ1−Ｏは分岐鎖又は第二、第三アルコール残基であって、
Ｒ1は炭素数３〜９のアルキル基又はアルケニル基を示し、
Ａ1は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、
ｎは１〜１０の数を示す。
尚、ｎが２以上の場合、ポリオキシアルキレン鎖は同一のアルキレンオキシドが単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもどちらでも良く、また、混合付加の場合の形態もランダム付加でもブロック付加でもどちらでも良い）
【化２】
0004026790.tif 000011
（式中、
Ｒ2'は炭素数１〜９の直鎖アルキル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜９の直鎖アルキル基を示し、
Ｒ3は炭素数１〜９の直鎖アルキル基を示し、
Ｒ2とＲ3の基に含まれる炭素数の合計が４〜１２であり、
Ａ2は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、
ｎは１〜２０の数を示す。
尚、ｎが２以上の場合、ポリオキシアルキレン鎖は同一のアルキレンオキシドが単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもどちらでも良く、また、混合付加の場合の形態もランダム付加でもブロック付加でもどちらでも良い）
【化３】
0004026790.tif 000012
（式中、ｘは６〜３０の数を、ｙは６〜５０の数を示す）
【化４】
0004026790.tif 000013
【化５】
0004026790.tif 000014
【化６】
0004026790.tif 000015
（式中、Ｒ4〜Ｒ8は炭素数３〜２２のアルキル基又は炭素数３〜２２のアルケニル基を示し、Ｍは対イオンでアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアミン化合物の塩を示す）
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ピッチ洗浄剤組成物に関し、詳しくは光学ガラスに付着したピッチ洗浄、更に詳しくはレンズ加工時におけるレンズ保持に用いるピッチ、あるいは加工面を保護する目的で使われる保護膜の洗浄における洗浄剤に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般的にレンズ加工においては、所定の球面を形成させるために研削工程や研磨工程、芯取り工程等がある。そのため各加工工程でレンズを保持台に固定する際にピッチや接着剤が使用される。また、研磨工程が終了した製品はその面を保護する目的でアスファルト系ピッチや特殊樹脂が保護膜として塗布される。
【０００３】
これらのピッチや保護膜の洗浄には従来より、フロンや、トリクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、メチレンクロライド等の塩素系溶剤が使用されていた。しかし、近年の環境問題を背景にこれらの塩素系溶剤を使用しない洗浄剤の開発が活発化し、例えば特開平６−９３２９５号公報、特開平６−２４０２９５号公報、特開平６−２５８６０７号公報、特開平８−２５４６０２号公報、特開平９−２４１６８５号公報にその技術を見ることができる。特開平６−２４０２９５号公報、特開平６−２５８６０７号公報及び特開平８−２５４６０２号公報に見られる技術はアロマティック系有機溶剤、シクロパラフィン系有機溶剤に代表される有機溶剤の組み合わせによる非水系洗浄剤組成物にてピッチやワックスを溶解せしめる洗浄技術であり、常に引火性を危惧される問題点を有した洗浄技術である。また、特開平６−９３２９５号公報及び特開平９−２４１６８５号公報に見られる技術は界面活性剤を併用することにより、水の含有を可能にし、準水系あるいは水系の洗浄剤とし、引火点を消滅させ、洗浄力とすすぎ性の両立を図る技術である。
【０００４】
上記これらの技術に基づく準水系洗浄剤組成物や水系洗浄剤組成物もピッチやワックスに対して一定の洗浄力を保持していることは明確であり、また水ですすぐことを考慮し、非イオン性界面活性剤を用いて洗浄剤の改質が行われ、すすぎ性に対して効果を上げていることも事実である。
【０００５】
しかしながら、近年、これらの塩素系溶剤代替洗浄剤に対する産業界の取り組み方の活発化によって、上記技術により構築された洗浄剤の、特にすすぎ性の劣化に対しての欠点も明らかにされ、その欠点克服のための新たな要求品質が出てきている。
【０００６】
ここで述べるすすぎ性とは以下の意味を示す。一般的にレンズなどの光学部品洗浄は、まず、洗浄液中で超音波などの機械力を付加して汚れを洗浄し、続いて清浄な水で満たされたすすぎ槽（一般的にはイオン交換水）によって、部品に付着している洗浄剤をすすぎ落とす。この際、部品に付着して洗浄剤がすすぎ槽に持ち込まれる。
【０００７】
前記公報技術に見られるように一般的にピッチやワックスの洗浄剤成分として用いられるのは水不溶性あるいは水難溶性の溶剤成分である。これらの成分は組成物中では非イオン性界面活性剤を介在して安定化されている。しかし、すすぎ槽に持ち込まれた瞬間、この洗浄液は大量の水と接することになる。その結果、安定化されていた溶剤成分は可溶化状態を保ちきれずに、結果としてすすぎ水表面に油膜として拡散する。
【０００８】
このような状態になると、すすぎ槽から部品を引き上げた際、油膜が清浄な表面に再付着し目的の清浄度の部品を得ることが不可能になる。
【０００９】
また、溜めすすぎ槽によらずシャワーすすぎで行う場合でも、部品上に部分的に界面活性剤の希薄領域が形成されるため、同様な現象が起こり部品表面が激しく汚染される。
【００１０】
尚、非イオン性界面活性剤を全く使用しない非水系洗浄剤に比較して界面活性剤の効果は見られるが、このように、すすぎ性において特異な現象を起こすことによって洗浄剤として使用に耐えられない商品となってしまう。界面活性剤として非イオン性界面活性剤を用いた上記洗浄剤組成物の欠点である。
【００１１】
さらに、特開平７−１５０１９２号公報及び特開平８−２３１９９３号公報には、アニオン界面活性剤と溶剤とを用いたピッチ用洗浄剤が、特定の溶剤成分との組み合わせによる非水系洗浄剤の他に水系洗浄剤としても開示され、液安定性や粘度低下性能を確保するための溶剤の安定化剤としてアニオン界面活性剤が利用されている。
【００１２】
これらの技術による洗浄剤組成物も非イオン性界面活性剤を利用した洗浄剤組成物と同様にある一定の洗浄力は保有している。しかしながら、特定の溶剤成分との組み合わせである、これらの技術では、低温での洗浄性、より短時間での洗浄性という要求に対して満足なものではなく、高洗浄力高すすぎ性水系洗浄剤への技術変換が求められている。
【００１３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、非水系炭化水素系溶剤や準水系洗浄剤、従来の水系洗浄剤に替わり、洗浄力はもとより、すすぎ性、及び安全性に優れた新規なピッチ用水系洗浄剤組成物を提供することを目的とする。
【００１４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、このような欠点を克服し、且つ液安定性の優れた高洗浄力洗浄剤の開発に検討を重ねた結果、アニオン性界面活性剤、特定のグリコールエーテル及び炭化水素系溶剤を必須成分として使用することによって、すすぎ性に対して特異的に作用し、液安定性に優れ、かつ水を含有するにもかかわらず高洗浄力を発揮できる目的のピッチ洗浄用水系洗浄剤組成物を得ることに成功した。
【００１５】
すなわち、本発明は、（Ａ）アニオン性界面活性剤、（Ｂ）下記の一般式（Ｉ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のグリコールエーテル化合物、（Ｃ）下記の一般式（ＩＩ−１）で表されるグリコールモノエーテル化合物と、下記の一般式（ＩＩ−２）で表わされるグリコールジエーテル化合物、（Ｄ）下記の一般式（ＩＩＩ）  で表される化合物の中から選ばれる１種以上の炭化水素化合物、及び（Ｅ）水を必須成分として含有することを特徴とするピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物を提供する。
【００１６】
【化７】
Ｒ1−Ｏ−(Ａ1Ｏ)n−Ｈ             （Ｉ）
（式中、Ｒ1−Ｏ は分岐鎖又は第二、第三アルコール残基であって、Ｒ1 は炭素数３〜９のアルキル基又はアルケニル基を示し、Ａ1 は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、ｎは１〜１０の数を示す。尚、ｎが２以上の場合、ポリオキシアルキレン鎖は同一のアルキレンオキシドが単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもどちらでも良く、また、混合付加の場合の形態もランダム付加でもブロック付加でもどちらでも良い）
【００１７】
【化８】
Ｒ2'−Ｏ−（Ａ2Ｏ）ｎ−Ｈ  （ＩＩ−１）
Ｒ2−Ｏ−（Ａ2Ｏ）ｎ−Ｒ3  （ＩＩ−２）
（式中、
Ｒ2'は炭素数１〜９の直鎖アルキル基を示し、
Ｒ2は炭素数１〜９の直鎖アルキル基を示し、
Ｒ3は炭素数１〜９の直鎖アルキル基を示し、
Ｒ2とＲ3の基に含まれる炭素数の合計が４〜１２であり、
Ａ2は炭素数２〜４のアルキレン基を示し、
ｎは１〜２０の数を示す。
尚、ｎが２以上の場合、ポリオキシアルキレン鎖は同一のアルキレンオキシドが単独で付加していても、２種以上のアルキレンオキシドが混合して付加していてもどちらでも良く、また、混合付加の場合の形態もランダム付加でもブロック付加でもどちらでも良い）
【００１８】
【化９】
ＣxＨy                            (III)
（式中、ｘは６〜３０の数を、ｙは６〜５０の数を示す）
【００１９】
前記ピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物において、（Ａ）アニオン性界面活性剤は下記の一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のスルホコハク酸型アニオン性界面活性剤である。
【００２０】
【化１０】
0004026790.tif 000002
【００２１】
【化１１】
0004026790.tif 000003
【００２２】
【化１２】
0004026790.tif 000004
【００２３】
（式中、Ｒ4 〜Ｒ8 は炭素数３〜２２のアルキル基又は炭素数３〜２２のアルケニル基を示し、Ｍは対イオンでアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアミン化合物の塩を示す）
【００２４】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明の洗浄剤組成物として規定される各化合物について詳細な説明を行う。
【００２８】
（Ａ）成分であるアニオン性界面活性剤は、前記のように下記の一般式（ＩＶ）〜（ＶＩ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のスルホコハク酸型アニオン界面活性剤である。
【００２９】
【化１３】
0004026790.tif 000005
【００３０】
【化１４】
0004026790.tif 000006
【００３１】
【化１５】
0004026790.tif 000007
【００３２】
（式中、Ｒ4 〜Ｒ8 は炭素数３〜２２のアルキル基又は炭素数３〜２２のアルケニル基を示し、Ｍは対イオンでアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム又はアミン化合物の塩を示す）
【００３３】
本発明においては、上記一般式（IV）〜（VI）で表される化合物の中でも、特に一般式（IV）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のスルホコハク酸アルキルエステル型界面活性剤が望ましく、さらに望ましくは一般式（IV）においてアルキル基又はアルケニル基がジイソブチル、ジアミル、ジヘキシル、ジオクチル（ジ２−エチルヘキシル）であるジアルキルエステル型スルホコハク酸塩が望ましい。
【００３４】
これらのアニオン性界面活性剤は洗浄力を向上させるばかりでなく、すすぎ性向上剤として特異的に作用する。
【００３５】
（Ａ）成分は、組成物中に０．５〜５０重量％、好ましくは１〜２０重量％の割合で配合することが好ましい。この範囲を逸脱すると、液安定性効果やすすぎ効果が失われたり、製品の粘度が上昇する等の不具合が生じる。
【００３６】
（Ｂ）成分である上記一般式（Ｉ）で表される化合物の中から選ばれる１種以上のグリコールエーテル化合物において、アルキレンオキサイドの平均付加モル数であるｎとしては１〜４モルが特に好ましく、アルキレンオキサイドはエチレンオキサイドが特に好ましい。（Ｂ）成分としては、例えば、グリコールモノイソプロピルエーテル、グリコールモノイソブチルエーテル、グリコールモノ−ｓｅｃ−ブチルエーテル、グリコールモノ−ｔｅｒｔ−ブチルエーテル、グリコールモノイソアミルエーテル、グリコールモノ−ｓｅｃ−アミルエーテル、グリコールモノ−ｔｅｒｔ−アミルエーテル、グリコールモノメチルアミルエーテル、グリコールモノ−２−エチルブチルエーテル、グリコールモノ−２−ヘプチルエーテル、グリコールモノ−３−ヘプチルエーテル、グリコールモノ−２−オクチルエーテル、グリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、グリコールモノ−３，５，５−トリメチルヘキシルエーテル等が挙げられる。これらの中でも、エチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−２−エチルヘキシルエーテルが特に好ましく、さらに、グリコールエーテル単品の引火点が１００℃以上の化合物の中から選択することにより、引火点の危惧のない安全性の高い水系洗浄剤とすることができる。
【００３７】
（Ｂ）成分は、液安定性、特に組成物の低温安定性向上に特異的な効果を示し、組成物中に１〜４０重量％、好ましくは５〜３０重量％の割合で配合することが好ましい。この範囲を逸脱すると、液安定性効果が失われたり、洗浄力が不足したりする等の不具合が生じる。
【００３８】
（Ｃ）成分である上記一般式（ＩＩ−１）で表されるグリコールモノエーテルとしては、エチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、トリエチレングリコールモノ−ｎ−プロピルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、トリエチレングリコールモノ−ｎ−ブチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル、ジエチレングリコールモノ−ｎ−ヘキシルエーテル等が挙げられる。
【００３９】
（Ｃ）成分である上記一般式（ＩＩ−２）で表されるグリコールジエーテルとしては、エチレングリコールジメチルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、エチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル、ジエチレングリコールジ−ｎ−ブチルエーテル等が挙げられる。
【００４１】
これらのグリコールモノエーテル化合物の中でも、洗浄力を向上させるためには末端エーテル残基の合計炭素数（Ｒ2＋Ｒ3）が４〜１２であり、４〜８のグリコールエーテル化合物が好ましい。また、グリコールモノエーテルとグリコールジエーテルとを併用することが、洗浄力及び液安定性のバランスの点から好ましい。
【００４２】
さらに、これらグリコールエーテル化合物の中でも、グリコールエーテル単品の引火点が１００℃以上の化合物の中から選択することが好ましく、引火点の危惧のない安全性の高い水系洗浄剤とすることができる。グリコール部分はエチレンオキシド又はプロピレンオキシドの付加により形成されることが好ましく、その付加モル数ｎは１〜１０が好適である。
【００４３】
（Ｃ）成分は、洗浄性、特に、樹脂系保護膜の洗浄力向上に特異的な効果を示し、組成物中に１〜７０重量％、好ましくは５〜５０重量％の割合で配合することが好ましい。この配合量の範囲を逸脱すると洗浄力が発揮されなかったり、経済的に不利になる。
【００４４】
（Ｄ）成分である上記一般式(III) で表される化合物の中から選ばれる１種以上の炭化水素化合物としては、パラフィン又はオレフィン系炭化水素化合物、芳香族炭化水素化合物、アルキルベンゼン系炭化水素化合物、アルキルナフタレン系炭化水素化合物等が挙げられる。パラフィン系炭化水素又はオレフィン系炭化水素は、それぞれ炭素数６〜１４が好ましい。さらに、オレフィン系炭化水素としては、特にα−オレフィンが好ましい。アルキルベンゼン系炭化水素又はアルキルナフタレン系炭化水素は、アルキル基の炭素数６〜１４が好ましい。
【００４５】
これらの化合物はそれぞれ単独で使用しても良いが、２種類以上を適宜に組み合わせても良い。
【００４６】
これら炭化水素系溶剤の中でも特に好ましいのは、パラフィン系炭化水素であり、更に溶剤単品の引火点が１００℃以上の化合物の中から選択することにより、液安定性が良好で引火点の危惧のない安全性の高い水系洗浄剤とすることができる。
【００４７】
（Ｄ）成分は、組成物中に０．５〜５０重量％、好ましくは１〜２０重量％の割合で配合することが好ましい。配合量が不足した場合は洗浄効果がみられず、また、多すぎた場合は液安定性の劣化、すすぎ性の劣化が見られるようになる。
【００４８】
本発明の洗浄剤組成物は、（Ｅ）成分である水を必須成分として含有する。ここで用いられる水は清浄な水であれば特に規定されないが、一般的にはイオン交換水や蒸留水が用いられる。（Ｅ）成分は、組成物中に１〜９５重量％、好ましくは２０〜７０重量％の割合で配合することが好ましい。水の含有量が少ないと引火点を発生させる危惧があり、また多すぎると洗浄性不良を招く。
【００４９】
本発明では、上記（Ａ）〜（Ｅ）成分以外に洗浄性やすすぎ性に影響を及ぼさない範囲で任意成分としてその他の界面活性剤や液安定化剤、洗浄ビルダー等を配合することが可能である。
【００５０】
界面活性剤としては、特に限定はされずに非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤が挙げられる。非イオン性界面活性剤の具体例を以下に例示する。ここで、ｐはアルキレンオキシドの平均付加モル数を示す。アルキレンオキシドとしてはエチレンオキシド、プロピレンオキシド、ブチレンオキシド又はこれらの混合付加物が用いられる。
【００５１】
（１）ポリオキシアルキレン（ｐ＝３〜４０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ10〜Ｃ22）エーテル
（２）ポリオキシアルキレン（ｐ＝３〜４０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ6 〜Ｃ12）フェニルエーテル
（３）ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５〜４０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ10〜Ｃ22）アミン
（４）ポリオキシアルキレン（ｐ＝０．５〜５０）アルキルまたはアルケニル（Ｃ10〜Ｃ22）アミド
（５）エチレンオキシド・プロピレンオキシドブロック付加物（プルロニック型界面活性剤）
（６）アルキル（Ｃ6〜Ｃ22）アミンオキシド
（７）アルキル（Ｃ6〜Ｃ22）アミドアミンオキシド
【００５２】
これら非イオン性界面活性剤の中で、特に好ましいものはポリオキシエチレン（ｐ＝１０〜３０）アルキル（Ｃ10〜Ｃ16）エーテルやアルキル（Ｃ8 〜Ｃ14）アミンオキシドである。
【００５３】
また、両性界面活性剤としては、ラウリルベタイン、ステアリルベタイン、オクチルベタイン、ラウリルベタインアミン、ラウリン酸アミドアルキルベタイン、ラウリルカルボキシメチルヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタイン等が挙げられる。
【００５４】
これら非イオン性界面活性剤や両性界面活性剤を添加する場合は、必須成分である（Ａ）成分との重量比率が、（Ａ）成分／任意成分の界面活性剤＝９／１〜２／８の範囲が望ましい。この範囲を逸脱するとすすぎ性が極端に劣化し、当初の目的を達し得なくなる。
【００５５】
クエン酸塩、リン酸塩、ケイ酸塩、エチレンジアミン四酢酸塩等の洗浄ビルダーを配合する場合は、０．００１〜２重量％、好ましくは０．０１〜０．５重量％の割合で配合することが好ましい。この範囲を逸脱すると添加効果が見られなかったり液分離等の不都合が発生する。
【００５６】
液安定性や粘度特性を保持するためのエチレングリコール、プロピレングリコール等のグリコール類、メタノール、エタノール等の低級アルコール類、トルエンスルホン酸塩、キシレンスルホン酸塩等のハイドロトロープ剤を配合する場合は、組成物中に０．１〜５重量％、好ましくは１〜２重量％の割合で配合することが好ましい。さらには目的に応じてベンゾトリアゾール、ｔ−ブチル安息香酸塩等の防錆剤を配合することが可能であり、配合量は組成物中に０．００５〜１重量％の割合で配合することが好ましい。
【００５７】
本発明の洗浄剤組成物は、水で希釈して水溶液として使用することも可能であるが、一般的には組成物そのままの濃度で洗浄する。
【００５８】
【実施例】
実施例１〜６、参考例７および８ならびに比較例１〜９
表１及び表２に示す各洗浄剤組成物を調製し、以下の方法及び判定基準を用いて各種項目について評価した。その結果を表１及び表２に示す。
【００５９】
（１）液安定性評価▲１▼
調製された各洗浄剤の原液における曇点を測定し、以下の評価点に従って評価する。評価は○以上が合格である。
液安定性評価▲１▼（曇点）
◎・・・５０℃以上
○・・・４０℃以上５０℃未満
△・・・３０℃以上４０℃未満
×・・・３０℃未満あるいは白濁又は分離
【００６０】
（２）液安定性評価▲２▼
調製された各洗浄剤の原液を５℃恒温槽に３０日間静置し、安定性を以下の評価点に従って評価する。評価は○が合格である。
液安定性評価▲２▼
○・・・均一透明
×・・・白濁又は分離が見られる
【００６１】
（３）洗浄力評価
市販のピッチ（九重電気製Ｒ．Ｗ−９９）を加熱溶解し、直径２０ｍｍの硝子製レンズ表面に付着させる。室温に冷却しピッチを完全に固化させ、被洗浄サンプルとする。用意した洗浄剤組成物の原液を用い、３０℃、３分間超音波洗浄を行う（超音波洗浄器：５０ｋＨｚ  ２００ｗ  サン電子工業製  ＳＣ−２０型）。被洗浄パネルを取り出し、２０℃イオン交換水中で１分間、同条件で超音波すすぎを行う。さらに、１０５℃恒温乾燥器で６０分乾燥を行う。乾燥終了後、光源下レンズ表面を観察し、ピッチの残留を以下の評価基準に従って評価する。評価は○以上が合格である。
洗浄性評価（ピッチの残留）
◎・・・完全洗浄される。
○・・・ほとんど洗浄される。
△・・・少し洗浄される。
×・・・全く洗浄されない。
【００６２】
（４）すすぎ性評価▲１▼
用意した洗浄剤組成物の原液中にスライドグラスを浸漬させ、表面に洗浄剤を付着させる。あらかじめ準備した清浄なイオン交換水（２０℃）３００ｍｌの入ったビーカーに洗浄剤の付着したスライドグラスを浸漬し、１０回イオン交換水中を出し入れし、すすぎを行う。この時のすすぎ性を目視で評価し、以下の評価点に従ってすすぎ性評価▲１▼としての評価を行う。評価は○以上が合格である。
すすぎ性評価▲１▼（スライドグラス上の油性成分の残留）
◎・・・油性成分の残留が全く見られない。
○・・・      〃        ほとんど見られない。
△・・・      〃        少し見られる。
×・・・      〃        激しい。
【００６３】
（５）すすぎ性評価▲２▼
あらかじめ準備した清浄なイオン交換水（２０℃）３００ｍｌの入ったビーカーに用意した各洗浄剤組成物の原液をスポイトで一滴滴下する。この時のイオン交換水表面を目視で観察し、油膜の生成度合いを以下の評価点に従ってすすぎ性評価▲２▼として評価を行う。評価は○以上が合格である。
すすぎ性評価▲２▼（すすぎ液表面での油膜形成）
◎・・・油膜形成が全く見られない。
○・・・    〃    ほとんど見られない。
△・・・    〃    少し見られる。
×・・・    〃    激しい。
【００６４】
【表１】
0004026790.tif 000008
上記表１中、２−ＥＨは２−エチルヘキシルの略であり、ＰＯＥはポリオキシエチレンの略である（表２も同様）。
【００６５】
【表２】
0004026790.tif 000009
【００６６】
【発明の効果】
本発明のピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物は、ピッチやワックスに対する優れた洗浄性と、優れた液安定性及びすすぎ性とを有する新規なピッチ洗浄用液体洗浄剤組成物である。