(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ａ）
0003989554.tif 000031
式中、
Ａは５−７環原子の複素環式基を表し、かつ、該複素環式基にはＯ、ＮおよびＳからなる群より選ばれる１−３個のヘテロ原子が存在し、
Ｒ1は、水素またはフルオロであり、
Ｒ2は、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシまたはオキソ基であり、
そしてｐは０、１または２であり、
Ｚは、炭素または窒素を表し、そしてＺが窒素である時、点線は単結合であり、そしてＺが炭素である時、点線は単または二重結合であり、
Ｒ3およびＲ4は、独立して水素またはＣ1-4アルキルであり、
ｎは１または２の値を有し、
Ｒ5はハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1-4アルコキシまたはＣ1-4アルキルであり、そしてｑは０、１、２または３であり、
Ｙはフェニル、フラニルまたはチエニルであり、これらの基はヒドロキシ、ハロゲン、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4アルキル、シアノ、アミノカルボニル、モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルアミノカルボニルからなる群より選ばれる１−３個の置換基で置換されてもよい、
で表される化合物またはその塩。
【請求項２】
Ａがフェニル基と一緒に式ｂ−ｍの基
0003989554.tif 000032
式中、Ｒ1および（Ｒ2）pは請求項１おける式（ａ）について定義した意味を有し、そしてｎは１であり、Ｒ3、Ｒ4、（Ｒ5）q、ＹおよびＺは請求項１おける式（ａ）について定義した意味を有する、
で表されることを特徴とする、請求項１に記載の化合物またはその塩。
【請求項３】
Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置換された式（ｂ）の基または式（ｌ）の基を表し、そしてＹが請求項１に述べたように置換されてもよいフェニルであり、そしてＺが窒素であることを特徴とする、請求項２に記載の化合物またはその塩。
【請求項４】
Ｒ3およびＲ4が水素であり、ｑが０であるか、またはｑが１、２もしくは３である時Ｒ5がヒドロキシ、メトキシもしくはハロゲンであり、そしてＹが請求項３で定義した意味を有することを特徴とする、請求項３に記載の化合物またはその塩。
【請求項５】
Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置換された式（ｌ）の基であり、ｑが０であり、そしてＹがフェニルであることを特徴とする、請求項４に記載の化合物またはその塩。
【請求項６】
Ｒ1が水素であり、下記式で表される請求項５に記載の化合物：
0003989554.tif 000033
【請求項７】
請求項１に記載の化合物の製造方法であって、
ａ）式（ｎ）
0003989554.tif 000034
の化合物を、式
0003989554.tif 000035
式中、Ｘは脱離基である、
の化合物と反応させることによるか、あるいは
ｂ）式（ｎ）の化合物を式
0003989554.tif 000036
の化合物およびホルムアルデヒドと反応させることによるか、あるいは
ｃ）式（ｎ）の化合物を式
0003989554.tif 000037
の化合物と反応させ、続いてケト−基を還元することを特徴とし、上記各式における基もしくは原子を表す記号で定義されていないものは、請求項１の式（ａ）について定義した意味を有する、上記方法。
【請求項８】
請求項１に記載の化合物の製造方法であって、
式
0003989554.tif 000038
の化合物を式：Ｙ−Ｂｒで表される化合物と反応させることを特徴とし、上記各式における基もしくは原子を表す記号は、請求項１の式（ａ）について定義した意味を有する、上記方法。
【請求項９】
請求項１に記載の化合物の製造方法であって、
式
0003989554.tif 000039
の化合物を式：Ｂ（ＯＨ）2−Ｙで表される化合物と反応させることを特徴とし、上記各式における基もしくは原子を表す記号は、請求項１の式（ａ）について定義した意味を有する、上記方法。
【発明の詳細な説明】
本発明は、興味深い薬理学的特性を有する一群の新規ピペラジンおよびピペリジン化合物に関する。
式（ａ）
0003989554.tif 000002
式中、
−Ａは５−７環原子の複素環式基を表し、ここで基Ｏ、ＮおよびＳからの１−３個のヘテロ原子が存在し、
−Ｒ1は、水素またはフルオロであり、
−Ｒ2は、Ｃ1-4アルキル、Ｃ1-4アルコキシまたはオキソ基であり、そしてｐは０、１または２であり、
−Ｚは、炭素または窒素を表し、そしてＺが窒素である時は点線は単結合であり、そしてＺが炭素である時は単または二重結合であり、
−Ｒ3およびＲ4は、独立して水素またはＣ1-4アルキルであり、
−ｎは１または２の値を有し、
−Ｒ5はハロゲン、ヒドロキシ、Ｃ1-4アルコキシまたはＣ1-4アルキルであり、そしてｑは０、１、２または３であり、
−Ｙはフェニル、フラニルまたはチエニルであり、これらの基はヒドロキシ、ハロゲン、Ｃ1-4アルコキシ、Ｃ1-4アルキル、シアノ、アミノカルボニル、モノ−またはジ−Ｃ1-4アルキルアミノカルボニルの群の１−３個の置換基で置換されてもよい、
の化合物およびそれらの塩が興味深い薬理学的特性を有することが見いだされた。
本発明に従い好適な化合物は、式中、Ａがフェニル基と一緒に式ｂ−ｍの基
0003989554.tif 000003
ここで、Ｒ1および（Ｒ2）p、ｎは１であり、Ｒ3、Ｒ4、（Ｒ5）q、ＹおよびＺは上記意味を有する、
を表す式（ａ）の化合物、ならびにそれらの塩である。
特に好適であるのは、Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置換されている式（ｂ）の基または式（ｌ）の基を表し、そしてＹが上記のように置換されてもよいフェニルであり、そして式中、ｎが１であり、Ｒ3およびＲ4が水素であり、Ｒ5がヒドロキシ、メトキシまたはハロゲンであり、ｑが０または１であり、Ｚが窒素である式（ａ）の化合物およびそれらの塩である。
特に好適であるのは、Ａがフェニル基と一緒に、オキソ基によりヘテロ環が置換された式（ｌ）の基であり、ｑが０であり、そしてＹがフェニルである式（ａ）の化合物およびそれらの塩である。
欧州特許出願公開第0650964号明細書から、フェニル基および／または複素環式基および／またはピペラジン基で置換され得る式
0003989554.tif 000004
式中、
Ｒ0はＣ1-4アルキルである、
の化合物は、5-HTレセプターと結合することにより中枢神経系に作用することが知られている。特に、これらの化合物は5-HTレセプターのサブタイプ、すなわち5-HT1Aおよび5-HT1Dレセプターに結合する。
驚くべきことには、本発明の化合物がドパミンＤ2およびセロトニン5-HT1Aレセプターの両方に高い親和性（両レセプター型について7.0-9.5pKi範囲）を示すことがここに見いだされた。この組み合わせは、精神分裂病および他の精神障害に有用であり、そしてすべての疾患症状（例えば陽性症状、陰性症状および認知欠如）の処置に、より完全な処置を可能とするかもしれない。
これらの化合物は、ドパミンＤ2-、Ｄ3-およびＤ4-レセプターで、部分的なアゴニストまたはアンタゴニストのいずれかとして、変化する活性を表す。幾つかの化合物は、マウスにおいてアゴニスト−様の効果をドパミンレセプターで表すが、それらはモルホリン−誘導化登攀行動を強力に弱める（ED50値＜１mg/kg p.o）。この化合物は5-HT1Aレセプターアゴニストとして変化する活性を表し、そしてセロトニンの行動症候群の外観を異なる強さで誘導する。
これらの化合物は、臨床的に関連性のある抗精神病薬（例えば、条件回避反応；Van der Heyden & Bradford,Behav.Brain Res.,1988,31:61-67）、抗鬱薬（例えば、低反応率分化強化；van Hestら、Psychopharmacology,1992,107:474-479）および抗不安薬（例えば、ストレス−誘導化発声の抑制；van der Poelら、Psychopharmacology,1989,97:147-148）に感受性の治療モデルで活性である。
臨床的に関連性のあるドパミンＤ2レセプターアンタゴニストとは対照的に、記載した化合物は齧歯類に強硬症を誘導する傾向が低く、しかもそれ自体は、現存する抗精神病薬よりも錐体外路の副作用を誘導することが少ないようである。
これらの化合物に固有の5-HT1Aレセプターアゴニズムは、錐体外路効果を誘導する性質の減少、ならびに抗鬱薬または抗不安薬のいずれかに感受性の行動性モデルで観察される治療効果の原因であり得る。
これらの化合物は、ドパミン作用系またはセロトニン作用系のいずれか、例えばパーキンソン病、攻撃、不安障害、自閉症、めまい、鬱、認知または記憶障害、そして特に精神分裂病または他の精神障害での妨害により引き起こされる中枢神経系の影響または疾患を処置するために価値があるようである。
これらの化合物と医薬的に許容できる酸付加塩を形成できる適当な酸は、例えば塩酸、硫酸、リン酸、硝酸、ならびにクエン酸、フマル酸、マレイン酸、酒石酸、酢酸、安息香酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸およびナフタレン−スルホン酸のような有機酸である。
本発明の化合物は、液体または固体キャリアー材料のような補助物質を使用して、通例の方法により投与剤形に形成することができる。
本発明の化合物は、以下に記載する多数の方法（ＡからＥ）に従い得ることができる。これらの方法で使用するピペラジン、ホモピペラジンおよびピペリジンはＩ−ＨからＸIX−Ｈとして示し、ここでＩからＸIXは以下の基を表す：
0003989554.tif 000005
本発明の化合物の製造で使用するピペリジンＸVIII−ＨからＸIX−Ｈ（図Ａ１）の合成は、国際公開第94-GB1507号明細書に記載されている手法に準じる。
本発明の化合物の製造で使用するピペラジン（図１Ａ）の合成は、XI−Ｈ、ＸIII−ＨおよびＸＶ−Ｈ（以下参照）を除き、欧州特許出願公開第01890612号明細書に記載されている。
ホモピペラジンXI−ＨおよびピペラジンＸIII−ＨおよびＸＶ−Ｈは新規であり、そしてそれらの製造を以下に与える（スキームＡ．ｉからＡ．iii）。
製造XI−Ｈ：
0003989554.tif 000006
製造ＸIII−Ｈ：
0003989554.tif 000007
工程１−３（スキームＡ．iii）：
7-ニトロ-インドールは、S.M.Parmerterら、J.Am.Chem.Soc.80,（1958）,4621-2により記載された。工程１、２および３は、欧州特許出願公開第0650964号明細書に記載された合成と同様に行った。
製造ＸＶ−Ｈ；
0003989554.tif 000008
スキームＡ．ｉの工程１−３、およびスキームＡ．iiiの工程１は、実施例に詳細に記載し、そしてスキームＡ．iiiの工程２および３の手法は、欧州特許出願公開第0189612号明細書に記載されているものと同様である。
化合物Ｉ−ＨからＸIX−ＨのＮ−Ｈ部分のＨ−原子は、５つの異なる化学的方法（Ａ、Ｂ、Ｃ、ＤおよびＥ、以下を参照にされたい）で基Ｑにより置換することができ、その結果、本発明の化合物を生成する。図Ａ２では、Ｑ１−Ｑ３４の意味を与える。
0003989554.tif 000009
0003989554.tif 000010
合成経路Ａ
化合物Ａ１−Ａ１４およびＡ１６−Ａ２８は、スキームＡ１（以下を参照にされたい）に描いた合成に従い製造した。ピペラジン（Ｉ−ＨからVI−ＨおよびＶIII−ＨからＸVII−Ｈ）を、アセトニトリル中で塩基として作用するEt（ｉ-Pr）2Nを用いて、場合によってはKIを加えて、Ｑ−Ｘ（Ｘ＝Cl、Br、OMs）と反応させた。Et3Nは、Et（iPr）2Nの代わりに使用できる。
0003989554.tif 000011
以下の合成経路Ｂ−Ｅは、ピペラジンの合成に限定されず、ピペリジンの製造にも使用できる。
合成経路Ｂ．
化合物は、スキームＢ１（以下を参照にされたい）に描いた合成に従い製造することもできる。ピペラジンＩ−Ｈを、2-フェニル−フェノールおよびホルムアルデヒドとEtOH中で反応させた。
0003989554.tif 000012
合成経路Ｃ．
化合物Ｃ１−Ｃ４は、スキームＣ１（以下を参照にされたい）に描いた合成に従い製造できる。フェニルピペラジンを、幾つかのメタ−置換されたフェニル安息香酸クロライドと反応させて、対応するアミドを生成した。このアミドは引を続き、LiAlH4により化合物Ｃ１−Ｃ４に還元した。
0003989554.tif 000013
化合物Ｃ２およびＣ３は、スキームＣ２に描いたように製造した。
0003989554.tif 000014
合成経路Ｄ．
化合物Ｄ１−Ｄ１８およびＤ２１−Ｄ２３は、スキームＤ１（以下を参照にされたい）に描いた合成に従い製造した。アリールボロン酸を、塩基性条件下で触媒量のPd（PPh3）4の存在中で芳香族臭化物と反応させた。このいわゆる「スズキ（Suzuki）」反応は、Ｃ−Ｃ結合した最終生成物Ｄを生じる。
0003989554.tif 000015
化合物Ｄ１９およびＤ２０は、スキームＤ２に描いた変更合成に従い製造した。
0003989554.tif 000016
上記のスズキ反応を行った後、さらなる加水分解工程で保護ベンジル基を標準的手法（例えば、熱く濃いHCl）により除去する、例えば手法Ｅ２（スキームＥ２）も参照にされたい。
合成経路Ｅ．
化合物Ｅ２およびＥ３は、スキームＥ１に描く合成に従い製造した。中間体は異なるが、合成経路Ｄに記載したものと同じスズキ反応をここでも適用する。
0003989554.tif 000017
化合物Ｅ１は、スキームＥ２に描く変更合成に従い製造した。スキームＥ１に描いた合成に加えた工程は、保護ベンジル基の加水分解であった。
0003989554.tif 000018
式（ａ）の化合物および多数の中間体化合物の製造を、これから以下の実施例で詳細に記載する。
実施例１
手法Ａ１（スキームＡ１）；1.0g（4.3ミリモル）のピペラジンIII−Ｈおよび1.2g（4.7ミリモル）のＱ１−Ｂｒを、20mlのCH3CNに加えた後、0.52g（5.1ミリモル）のEt3Nおよび少量のKIを加えた。反応混合物を撹拌し、そして16時間、窒素雰囲気下で還流した。混合物を冷却した後、溶媒を真空で除去し、残った残渣をCH2C12に溶解し、そして続いて0.5N NaOHおよび塩水（２×）で洗浄した。有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去した後、溶媒を真空下で除去して残渣を生じた。この残渣はフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：CH2Cl2/MeOH 99/1）の後に、化合物Ａ１１（遊離塩基、表１））を生じた。続いて残渣をエーテルに溶解し、これに１当量の１N HCl/EtOHを加えた。沈殿が生じ、そして0.98g（2.3ミリモル、52％）の純粋なＡ１１．HClを得た。融点228−30℃。1H-NMR（CDCl3,δ）:2.18（m,2H）,3.09（広い,2H）,3.3-3.7（広い クラスター,6H）,4.21（m,4H）,4.30（s,2H）,6.59（dd,J=1および8 Hz,1H）,6.71（dd,J=1および8 Hz,1H）,6.82（t,J=8 Hz,1H）,7.37（m,1H）,7.47（m,2H）,7.53（t,J=8 Hz,1H）,7.62-7.74（クラスター,4H）,7.90（t,J=2 Hz,1H）,12,9（広い,1H）．
上記の合成に従い、化合物Ａ１−Ａ１４およびＡ１６−Ａ２８を同様に製造し、まとめについては表Ａ１を参照にされたい。化合物Ａ１５は手法５と同様に、化合物Ａ１４からLiAlH4/THFを用いて還元することにより製造した（以下を参照にされたい、Ａ１４の還元は室温の代わりに還流温度で行った）。
0003989554.tif 000019
経路Ａで使用する中間体
中間体Ｑ−Ｘ：
Ｑ２−ＯＨ、Ｑ３−ＯＨおよびＱ５−ＯＨからＱ９−ＯＨは：実施例（Ｑ２−ＯＨ）、スキームＡ２を参照にされたい；アリールボロン酸を、芳香族臭化物と塩基性条件下で触媒量のPd（PPh3）4の存在下で反応させた。このいわゆる「スズキ」反応で、Ｃ−Ｃ結合した中間体Ｑ−ＯＨを生じた。適用したボロン酸は、対応する臭化物を介して容易に得ることができる；例えば一般的手法については、D.Janietzら、Synthesis,（1993）33.および本明細書に引用した技術文献を参照にされたい。
手法Ａ２（スキームＡ２）：
0003989554.tif 000020
10mlのジメトキシ-エタンを窒素雰囲気下で還流した後、溶媒を冷却した。続いて0.85ml（1.43g、8.8ミリモル）の2-ブロモ-チオフェンを加え、そして窒素を溶液に10分間通した。次に0.4g（0.35ミリモル、0.04eq）のPd（PPh3）4を溶液に加えた。10分間撹拌した後、8.5mlの2N Na2CO3/H2Oを、そして次に1.25g（8.2ミリモル）の3-（ヒドロキシメチル）-フェニルボロン酸（約２mlのEtOHに溶解した）を反応混合物に加えた。この反応混合物を加熱し、そして４時間還流した後、加熱を止め、反応は室温でさらに16時間撹拌した。形成した沈殿をCelite上で濾過し、そしてフィルターをEtOAc/H2Oで洗浄した。濾液をEtOAcで抽出し、合わせた有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去した後、溶媒の蒸発後の濾液から2.1gの油が生成した。フラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液メチル-tert-ブチル-エーテル／ヘキサン1／1）により、0.85g（4.5ミリモル、51％）の所望の生成物Ｑ２−ＯＨを得た。
同様に、以下のメタ−置換されたベンジルアルコールＱ−ＯＨを、以下の表Ａ２に与える芳香族臭化物およびボロン酸の組み合わせから製造した。
0003989554.tif 000021
表Ａ２に掲げたすべてのＱ−ＯＨは、標準的手法を通してそれらの対応するメシレートへ成功裏に転換された（例えばMsClおよびEt3N、EtOAc中）。しかしＱ８−ＯＨおよびＱ９−ＯＨの場合は、対応するメシレートは得られず、２N HClを用いた処理により対応するクロライドＱ８−ClおよびＱ９−Clを得た。この２つの化合物も、スキームＡ１に描いた反応で優れたアルキル化剤であった。
中間体Ｑ１−Ｂｒ、スキームＡ３を参照のこと：
メタ-フェニル-トルエン（Ｓ1＝Ｈ）を、N-ブロモ-スクシンイミド（NBS）の作用により、触媒量のジベンゾイルペルオキシドの存在下での臭化に供した。
0003989554.tif 000022
手法Ａ３（スキームＡ３）：
Ｑ１−Ｂｒ：３g（29.8ミリモル）の3-フェニル-トルエンおよび5.3g（29.8ミリモル）のN-ブロモ-スクシンイミド（NBS）を、30mlのCCl4に溶解した。少量のジベンゾイルペルオキシドを加え、そして反応混合物を10時間還流した。この期間、過剰な少量のジベンゾイルペルオキシドを加えた。冷却した後、反応混合物をCCl4および水で希釈した。この二相系を２N NaOHでアルカリ性とし、その後に撹拌した。有機層を１N NaOHおよび水で洗浄し、そして続いてMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去した後、真空で溶媒を除去して8.0gの残渣を得た。この残渣をカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：Et2O／石油エーテル1／9）により精製し、5.3g（21.5ミリモル、72％）の純粋な中間体Ｑ１−Ｂｒを得た。
Ｑ１０−Ｂｒの場合には、所望の2-フルオロ-5-フェニル-トルエン（Ｓ1＝Ｆ）をフェニルボロン酸および2-フルオロ-5-ブロモ-トルエンから、手法Ａ２に準じてスズキ反応を介して製造した。スキームＡ３を参照にされたい。
Ｑ４；
実施例（Ｑ４−ＯＨ）、スキームＡ４を参照にされたい：
Mel/KOtBuの作用による3-フェニル-4-ヒドロキシ-安息香酸（製造に関しては米国特許第4873367号明細書を参照にされたい）のジ−メチル化で、対応するメトキシ-安息香酸メチルエステルを生成し、これを次にＱ４−ＯＨに還元できた（LiAlH4）。
手法Ａ４（スキームＡ４）：
工程１：4.0g（19ミリモル）の3-フェニル-4-ヒドロキシ-安息香酸を、70mlのDMFに溶解し、これに4.6g（41ミリモル）のKOtBuを加え、そして混合物を30分間撹拌した。この期間の後、3.0g（21ミリモル）のMelを加え、そして反応混合物を室温で14時間撹拌し、この間、Melの第２当量を加えた。溶媒を真空で除去して残渣を残し、これをEtOAcに溶解した。この溶液を２N NaOHと震盪した。有機画分をNa2SO4で乾燥した。乾燥剤および溶媒を除去した後、3.65g（16.0ミリモル、84％）のかなり純粋な3-フェニル-4-メトキシ-安息香酸メチルエステルを得た。このバッチをさらに精製することなく手法Ａ５に記載の還元に使用した。
0003989554.tif 000023
手法Ａ５（スキームＡ４）：
工程２：0.68g（18ミリモル）のLiAlH4を、20mlの乾燥THFに加え、そして窒素雰囲気下で撹拌した。続いて3.65g（16.0ミリモル）の3-フェニル-4-メトキシ-安息香酸メチルエステル（60mlの乾燥THFに溶解したもの）を、LiAlH4/THF混合物に滴下した。撹拌を室温で１時間続行した。反応混合物を冷却（氷／水）し、そしてTHFと混合した0.7mlの水を加え、そしてに1.4mlの２N NaOHを加えた。次に混合物を10分間還流し、その後、塩を取り出すために濾過した。塩を熱THFで洗浄し、そして洗浄液を濾液と合わせた。溶媒を真空下で除去すると、3.1g（14.5ミリモル、90％）のかなり純粋なＱ４−ＯＨを得た。このバッチをさらに精製することなくメシレートＱ４−ＭＯｓの製造に使用し、これを次にスキームＡ１に示した反応で使用し、最終的に化合物Ａ８を得た。
実施例２
手法Ｂ１（スキームＢ１）：
3.74g（17.0ミリモル）のピペラジンＩ−Ｈおよび3.0g（17.0ミリモル）の2-フェニル-フェノールを、80mlの無水EtOHに溶解した。溶液を撹拌している間、2.0ml（24.0ミリモル）の37％CH2O/H2Oを加え、撹拌を48時間続行した。この期間の後、反応混合物を真空下で濃縮して残渣を得、これをフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液CH2Cl2／石油エーテル1／1）にかけた。最初に、未反応の2-フェニル-フェノール部分が単離され、溶出液を100％CH2Cl2からCH2Cl2／MeOH 99／１に変えることにより、1.70g（4.2ミリモル、25％）の化合物Ｂ１を遊離塩基として得た。融点:174−5℃。1H-NMR（CDCl3,δ）:2.65（クラスター,8H）,3.83（s、2H）,4.27（m,4H）,6.48（dd,J=1.5およびJ=8 Hz,1H）,6.59（dd,J=1.5およびJ=8 Hz,1H）,6.76（t,J=8Hz,1H）,6.87（t,J=8 Hz,1H）,7.05（dd,J=1.5およびJ=8 Hz,1H）,7.28（dd,J=1.5およびJ=8 Hz,1H）,7.32（m,1H）,7.42（t,J=8 Hz 2H）,7.61（m,2H）,11.4（広い s,1H）.
0003989554.tif 000024
実施例３
手法Ｃ１（スキームＣ１）：
工程１：窒素雰囲気下で、0.8g（3.4ミリモル）の3-（3-メトキシ-フェニル）安息香酸を、15mlの乾燥THFに0.65mlのEt3Nと一緒に溶解した。溶液を０℃に冷却し、そして撹拌しながら0.42mlのi-ButO（CO）Clを加えた。30分後、0.71g（3.2ミリモル）のＩ−Ｈ（５mlの乾燥THFに溶解したもの）を前の溶液に加えた。反応混合物を室温とし、そして撹拌を16時間続行した。この期間の後、反応混合物を２N NaOHで処理し、続いて２相系をEtOAcで抽出した。有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で除いた後、残渣が残り、これをカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：EtOAc／石油エーテル1／1）にかけた。収量：0.75g（1.7ミリモル、52％）の対応するアミドを得た。
工程２：0.9gのLiAlH4を20mlの乾燥THFに懸濁し、この懸濁液を還流温度にした後、0.7g（1.6ミリモル）のアミド（工程１の生成物、15mlの乾燥THFに溶解したもの）を懸濁液に加えた。還流を15分間続行した後、反応混合物を冷却（氷／水）し、そして0.9gのH2Oを慎重に滴下した。続いて、1.8mlの2N NaOHおよび0.9gのH2Oを加えた後、混合物を再度20分間、還流温度とした。室温に冷却し、そして濾過すると残渣が残り、これをEtOAcで洗浄した。合わせた濾液および洗浄液をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空で除去した後、残渣が残り、これをカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：EtOAc）にかけた。収量：0.57g（1.4ミリモル、85％）の純粋な遊離塩基Ｃ１を得た。これをEtOAcに溶解し、１当量の1N HCl/MeOHを加えることによりそのHCl塩に転換し、0.50gの純粋なＣ１.HClを得た。融点:165-7（分解）。1H-NMR（CDCl3,δ）:3.24（広い,2H）,3.42-3.58（クラスター,4H）,3.64-3.84（広い,2H）,3.90（s,3H）,4.26（m,4H）,4.30（s,2H）,6.67（広い d,J=8 Hz,2H）,6.79（t,J=8,1H）,6.93（m,1H）,7.23（m,2H）,7.38（t,J=8 Hz,1H）,7.52（t,J=8Hz,1H）,7.65（広い d,J=8 Hz,1H）,7.69（広い d,J=8 Hz,1H）,7.92（広い s,1H）,13.2（広い,1H）。
手法Ｃ２（スキームＣ２）：
工程１および２：これらの反応は、手法１、工程１および２（スキームＣ１）に準じた。
工程３：1.1g（2.4ミリモル）の酢酸エステルを、150mlのEtOHに15mlのH2Oと共に懸濁した後、1.5g（37.5ミリモル）のNaOHを加えた。反応混合物を16時間撹拌した後、EtOHを真空下で除去した。残りの画分を飽和NH4Cl溶液で処理し、そしてCH2Cl2で抽出した。合わせた有機画分を飽和NaHCO3溶液で洗浄し、そしてMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で除去した後、対応する純粋なフェノール誘導体を含有する0.97g（2.3ミリモル、97％）の残渣が残った。
工程４：0.98g（2.3ミリモル）のフェノール誘導体（工程３で得たもの）を、15mlのアセトンに溶解し、これに1.5gの粉末化K2CO3を加えた。撹拌しながら、0.3mlの（CH3）2S04を加えた後、反応混合物を２時間還流した。反応混合物が室温に達した後、溶媒を真空下で除去した。残りの画分に、30mlのH2Oを加え、続いて混合物を45分間煮沸した。混合物を冷却した後、CH2Cl2を用いた抽出を行い、有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で除去した後、0.95g（2.2ミリモル、96％）の対応する純粋なO-メチル化フェノール性誘導体の残渣が残った。
化合物Ｃ４の合成は、Ｃ２に記載した合成と同様であった。
表Ｃには、化合物をまとめる。
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経路Ｃで使用する中間体
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3-（3-メトキシ-フェニル）-安息香酸（スキームＣ３）を、W.G.Daubenら、J.Am.Chem.Soc.,75,（1953）,4969-73により記載された手法に準じて製造した。3-フェニル-4-アセトキシ-安息香酸（スキームＣ３）は、3-フェニル-4-ヒドロキシ-安息香酸から標準的手法（スキームＣ３を参照にされたい）により製造した。この化合物の合成は、米国特許第4873367号明細書に記載された。
実施例４
手法Ｄ１（スキームＤ１）：
窒素雰囲気下で、0.4g（2.8ミリモル）の4-ブロモ-フェノールを５mlのトルエンに溶解した。この溶液に、５mlの熱EtOHに溶解した97.5mg（0.084ミリモル、0.03eq）のPd（PPh3）4、2.8mlの2N Na2CO3および1.0g（2.8ミリモル）のボロン酸ｄ１（Ｓ5＝Ｈ）を加えた。生成した混合物を90℃で４時間、激しく撹拌した。反応混合物が室温に達した後、この溶液をEtOAcおよび少量の水で希釈した。次にEtOAcを用いて抽出を行い、合わせた有機画分を塩水で洗浄し、そしてMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、引き続いて溶媒を真空で除去した後、1.52gの残渣が残り、これをカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液EtOAc／石油エーテル１／１）にかけた。収量：0.53g（1.3ミリモル、47％）の純粋な遊離塩基Ｄ２２を得た。この遊離塩基をその二−HCl塩に転換し（EtOAc／エーテルから結晶化）、Ｄ２２.2HClを得た。融点：222-7℃。1H-NMR（d6-DMSO/CDCl3,4/1δ）:3.14-3.30（広い クラスター,4H）,3.34-3.56（広い クラスター,4H）,4.23（m,4H）,4.42（d,J=4 Hz,2H）,6.46-6.58（クラスター,2H）,6.73（t,J=8Hz,1H）,6.89（m,2H）,7.47（t,J=7 Hz,1H）,7.52-7.66（クラスター,4H）,7.99（t,J=1 Hz,1H）,9.40（広い、OH N+H H2O）,11.5（広い,1H）。
上記の合成に従い、以下の化合物を製造した（表Ｄ）。
0003989554.tif 000027
経路Ｄで使用する中間体
スキームＤ１およびＤ２で使用する臭化物は、標準的方法により容易に入手でき、あるいは市販されている。スキームＤ１およびら２で適用するボロン酸は、対応する臭化物（スキームＤ３）を介して容易に得ることができ、一般的な手法に関してはD.Janietzら、Synthesis,（1993）,33およびそこに引用した技術文献を参照にされたい。
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使用した臭化物（Ｓ5＝Ｈ、OCH2Ph、スキームＤ３）は、手法Ｅ３（スキームＥ３）に記載の手法に準じて合成される。
実施例５
手法Ｅ１（スキームＥ１）；
5.1g（12.0ミリモル）の1-［（2-メトキシ-5-ブロモ-フェニル）メチル］-4-（2,3-ジヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-5-イル）ピペラジンを、20mlのトルエンに溶解し、これに12mlの2N Na2CO3/H2Oおよび0.45g（0.39ミリモル、0.03eq）のPd（PPh3）4を加えた。次に温めた３mlのEtOHに溶解した1.46g（12.0ミリモル）のフェニル-ボロン酸をこの溶液に加えた。反応混合物を85℃の温度で激しく撹拌した。４時間後、二相反応混合物を室温とした後、有機（トルエン）画分を分離した。水層をEtOAcで抽出した。合わせたトルエン−およびEtOAc画分を水および塩水でそれぞれ洗浄した後、有機画分をNa2SO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、続いて溶媒を真空で除去した後、残渣が残り、これをカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液EtOAc／石油エーテル１／２）にかけた。単離した純粋な遊離塩基Ｅ２を、EtOAc／EtOH 1／1に溶解し、そしてこの溶液を１当量の１NHCl/EtOHに溶解し、そしてこの溶液を１当量の１N HCl/EtOHで処理した。収量：1.43g（3.2ミリモル、26％）のＥ２．HCl。融点：240-2℃（分解）。
1H-NMR（d6-DMSO/CDCl3,4/1δ）:3.1-3.3（クラスター,4H）,3.48（クラスター,4H）,3.93（s,3H）,4.23（m,4H）,4.41（d,J=5 Hz,2H）,6.48（dd,J=1 Hz,J=8 Hz,1H）,6.55（dd,J=1 Hz,J=8 Hz,1H）,6.73（t,J=8 Hz,1H）,7.20（d,J=9 Hz,1H）,7.32（m,1H）,7.40（t,J=8 Hz,2H）,7.71（m,2H）,7.75（dd,J=2 Hz,J=9 Hz,1H）,8.04（d,J=2 Hz,1H）,11.1（広い,1Ｈ）.
手法Ｅ２（スキームＥ２）：
3.0g（5.9ミリモル）のO-ベンジル保護化合物Ｅ１を、35mlの濃HClに溶解した後、混合物を撹拌し、還流温度にした。45分間後、過剰量の30ml濃HClを加え、そして還流をさらに45分間続行した。この期間の後、反応混合物を室温とし、そして溶媒を真空下で除去した。残渣を飽和NaHCO3溶液で処理し、そしてこれをEtOAcで抽出した。有機画分を塩水で洗浄し、そして続いてMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして続いて溶媒を真空で除去した後、残った残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液CH2Cl2／MeOH 95/5）にかけた。Ｅ１の遊離塩基を単離し、そして１N HCl／EtOHで処理することにより、そのHCl塩に転換した。EtOH／H2Oからの再結晶により1.45g（3.2ミリモル、54％）の純粋なＥ１.HClを得た。
上述した化合物を表Ｅにまとめる。
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経路Ｅで使用する中間体
スキームＥ１に描いたスズキ反応に使用した臭化物は、フェニル-ピペラジンおよび所望の置換された3-ブロモ-フェニル-メチル-Ｘ中間体（式中、ＸはCl、BrまたはOMsを表してよい）から合成できる（スキームＥ３を参照にされたい）。
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手法Ｅ３（スキームＥ３）：
6.6g（23.0ミリモル）の（2-メトキシ-5-ブロモ-フェニル）-メチル-ブロミドおよび5.4g（21ミリモル）のＩ−Ｈ.HClを、80mlのCH3CNに加えた後、5.2g（51.0ミリモル）のEt3Nおよび少量のKIを加えた。反応混合物を撹拌し、還流温度に16時間維持した。この時間の後、反応混合物を濾過し、そして濾液を真空下で濃縮した。残渣をカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液EtOAc／石油エーテル１／２）にかけ、最終的に5.1g（12.2ミリモル、58％）の純粋な1-（2-メトキシ-5-ブロモ-フェニル）メチル］-4-（2,3-ジヒドロ-1,4-ベンゾジオキシン-5-イル）ピペラジンを得た。
適用したボロン酸は、対応する臭化物を通して容易に得ることができ、一般的な手法に関してはD.Janietzら、Synthesis,（1993）,33および本明細書に引用した技術文献を参照にされたい。
スキームＡ．ｉによる中間体XI-Ｈの製造
工程１（スキームＡ．ｉ）：
5.1g（25ミリモル）の1-（フェニルメチル）-ヘキサヒドロ-5H-1,4-ジ-アゼピン-5-オン（製造に関してはDickermanら、J.Org.Chem.,19,（1954）,1855-61を参照にされたい）および7.39g（37.5ミリモル）の7-ブロモベンズフランを、3.45（25ミリモル）の乾燥K2CO3および0.48g（2.5ミリモル）のCulと共にフラスコに入れ、そして120℃で90時間、混合物を撹拌しながら加熱した。反応混合物を室温とした後、40mlのトルエンを加えた。この懸濁液をCeliteで濾過し、残渣を温めたトルエンで洗浄した。合わせた洗浄液および濾液を真空で蒸発させ、12.4gの茶色い油を得た。これをCH2Cl2で希釈し、そして２Ｎ NaOH、NaHCO3（飽和）および水でそれぞれ処理した。有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で蒸発させた後、11.7gの茶色い油が残った。この残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：CH2Cl2／MeOH 98／2）にかけ、そして5.7g（83％）の所望の生成物を得た。
工程２（スキームＡ．ｉ）：
40mlの乾燥THFに溶解した5.9g（18.6ミリモル）の工程１の生成物を、2.14g（55.8ミリモル）のLiAlH4混合物（100mlのEt2O中）に滴下し、撹拌を３時間続行した。この期間の後、反応混合物をそれぞれ2.1mlのH2O（THF中）、4.2mlの2N NaOHそして2.4mlのH2Oで処理した。撹拌を２時間続行した後、混合物をCeliteで濾過し、残渣をそれぞれTHFそしてCH2Cl2で洗浄した。合わせた洗浄液および濾液を、真空で蒸発させて5.4gの茶色い油を得た。この残渣をフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：CH2Cl2／MeOH 98／1）にかけ、そして4.83g（85％）のジアゼピン同族体を得た。
工程３（スキームＡ．ｉ）：
4.83g（15.8ミリモル）の工程２の生成物を、65mlの1,2-ジクロロエタンに撹拌しながら溶解した。窒素雰囲気下、２−４℃で、25mlの1,2-ジクロロエタンに溶解した2.3g（15.8ミリモル）のCl（CO）O（CHCl）CH3（「ACE-クロライド）」を、前の溶液に10分間で滴下した。次に反応混合物を10時間還流した。この時間の後、反応混合物を真空で濃縮し、5.1gの残渣が残った。これをMeOHで希釈し、そして得られた溶液を16時間還流した。反応混合物を室温とした後、溶媒を真空下で除去して4.2gの残漬を得、これをフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：CH2Cl2／MeOH／NH4OH 92／7.5／0.5）にかけた。収量：2.8g（82％）の1-（7-ベンズフラニル）-ヘキサ-ヒドロ-1,4-ジアゼピン。
ＸＶ−Ｈの製造、スキームＡ．iiiを参照にされたい：
工程１（スキームＡ．iii）
3.94g（21.9ミリモル）の7-ニトロ-2-ベンゾキサゾリノン（この化合物の製造に関しては、欧州特許出願公開第0189612号明細書およびそこに引用されている技術文献を参照にされたい）を、40mlのDMSOに溶解した後、1.72gの85％粉末化KOH（26.2ミリモル）を加えた。撹拌および冷却（水）しながら、６mlのDMSOに溶解した3.72g（26.2ミリモル）のMelを10分間にわたって滴下した。撹拌を室温で16時間続行し、この間に過剰量のMel（0.5g）を加えた。反応が完了した後、反応混合物を水で希釈した後、CH2Cl2で抽出を行った。合わせた有機画分を、水および塩水でそれぞれ洗浄した後、有機画分をMgSO4で乾燥した。乾燥剤を除去し、そして溶媒を真空下で除去した後、4.1gの固体残渣が残った。これのフラッシュカラムクロマトグラフィー（SiO2、溶出液：CH2Cl2）により、3.6g（85％）の純粋な3-メチル-7-ニトロ-2-ベンゾキサゾリノンを得た。