(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
硫黄含有化合物を含む炭化水素原料油を水素化精製する装置であって、
第１触媒層および第２触媒層と、
第１触媒層と第２触媒層との間に位置し、第１触媒層から流出した液体成分を一時的に保持するための保持部材と、
水素供給源と、
水素供給源に連結され且つ、保持部材と第２触媒層との間の空間に設けられて、水素供給源からの水素を保持部材に保持された液体成分と第２触媒層とに同時に導入するための水素導入部と、
保持部材と第１触媒層の間に存在する分離空間と、
分離空間に設けられて分離空間を満たす気体成分を排出するガス排出口とを備え、
水素導入部から導入された水素が第１水素ガス流と第２水素ガス流を有し、第１水素ガス流が第１触媒層から流出する液体成分に対して向流で保持部材内を通過し、第２水素ガス流が保持部材から流出する液体成分と並流で第２触媒層に導入される水素化精製装置。
【請求項２】
水素導入部が保持部材の下流側であって且つ第２触媒層の上流側に配置されていることを特徴とする請求項１に記載の水素化精製装置。
【請求項３】
第１触媒層、第２触媒層及び保持部材が単一の反応器内に収容されていることを特徴とする請求項１に記載の水素化精製装置。
【請求項４】
上記保持部材は、液体成分の排出口を有し且つ液体成分を溜めるトレーであることを特徴とする請求項１に記載の水素化精製装置。
【請求項５】
上記保持部材は、液体成分が内部を通過することができる充填材であることを特徴とする請求項１に記載の水素化精製装置。
【請求項６】
上記炭化水素原料油は、９０％留出温度が２５０℃以上の炭化水素油であることを特徴とする請求項１に記載の水素化精製装置。
【請求項７】
硫黄含有化合物を含む炭化水素原料油を少なくとも２つの触媒層を用いて水素化精製する方法であって、
炭化水素原料油を水素とともに第１触媒層に導入し、
第１触媒層から流出した液体成分を保持部材に一時的に保持し、
保持部材に溜められた液体成分を、第１触媒層から流出する液体成分に対して向流の第１水素ガス流でストリッピングし、
保持部材と第１触媒層の間に存在する分離空間から気体成分を排出し、
ストリッピングされた液体成分を、該液体成分に対して並流の第２水素ガス流とともに第２触媒層に導入することを含む水素化精製方法。
【請求項８】
第１水素ガス流と第２水素ガス流が、第１触媒層と第２触媒層との間に設けられている水素導入部から導入されることを特徴とする請求項７に記載の水素化精製方法。
【請求項９】
第１触媒層から流出した液体成分を、一時的に保持部材を用いて保持することを特徴とする請求項７に記載の水素化精製方法。
【請求項１０】
第１水素ガス流及び第２水素ガス流を、上記保持部材と第２触媒層との間に導入することを特徴とする請求項９に記載の水素化精製方法。
【請求項１１】
上記保持部材が、液体排出口を有し、且つ液体成分を溜めるトレーであることを特徴とする請求項９に記載の水素化精製方法。
【請求項１２】
上記保持部材が、液体成分が充填材内部を通過可能な充填材であることを特徴とする請求項９に記載の水素化精製方法。
【請求項１３】
上記炭化水素原料油が、９０％留出温度が２５０℃以上の炭化水素油であることを特徴とする請求項７に記載の水素化精製方法。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、灯油、軽油などの石油中間留分の水素化精製に関し、特には、硫黄分が１５０ｐｐｍ以下のような超低硫黄分の中間留分を得るための水素化精製装置および水素化精製方法に関する。
背景技術
硫黄分が５００ｐｐｍ以下のような低硫黄分軽油を得るための代表的な水素化精製方法として、原料油を水素と混合及び加熱し、複数の触媒層中にそれぞれ充填された水素化精製用触媒と接触させて水素化精製を行う方法が知られている。この方法において複数の触媒層の間にさらに水素が導入される場合もある。ところが、触媒層の出口付近の水素化精製された炭化水素中では、水素化精製により生じる硫化水素、アンモニアなどの不純物濃度が上昇するために、硫黄、窒素などの含量を充分に低減する水素化精製は難しい。硫化水素、アンモニアなどは触媒反応を阻害するために、活性を著しく低下させる。このため、米国特許第５，７０５，０５２号、５，７２０，８７２号に開示されたように、触媒層が設けられた反応塔とは別の容器内にて水素化精製された炭化水素中に溶解した硫化水素、アンモニアガスをストリップすることが行われている。
上記のような水素化精製装置において、水素と原料油は並流で触媒と接触するが、例えば、日本国特許第２６１７１５８号に記載のように、触媒中を流れる液状炭化水素（原料油）に対して向流に水素を触媒に流入させることにより、流出物中に溶解した硫化水素、アンモニア不純物を除去する方法が知られている。
しかし、軽油留分の水素化精製において、硫黄分を１５０ｐｐｍ以下、特には５０ｐｐｍ以下とするためには、上記のような従来の装置及び方法では対処することは困難である。特に、前述の水素と原料油を向流で触媒と接触させる水素化精製装置は、安定に操業できるガス流量及び原料油流量の許容範囲が狭いため、運転が容易ではないという問題がある。
発明の開示
本発明の第１の目的は、従来の水素化精製方法よりも一層低硫黄化、低窒素化、低アロマ化が可能な水素化精製方法を提供することにある。
本発明の第２の目的は、簡単な構造であり、また既存の水素化精製装置を容易に改造することにより製造することができる水素化精製装置を提供することにある。
本発明の第１の態様に従えば、硫黄含有化合物を含む炭化水素原料油を水素化精製する装置であって、
第１触媒層および第２触媒層と、
第１触媒層と第２触媒層との間に位置し、第１触媒層から流出した液体成分を一時的に保持するための保持部材と、
水素供給源と、
水素供給源に連結され、水素供給源からの水素を保持部材に保持された液体成分と第２触媒層に同時に導入するための水素導入部とを備える水素化精製装置が提供される。
本発明の水素化精製装置では、第１触媒層と第２触媒層との間に設けた保持部材に、第１触媒層から流出した液体成分を保持しておき、そこに水素導入部から水素を導入して液体成分中の硫化水素及びアンモニアをストリップすることができる。このストリッピングにより、第２触媒層での水素化精製は硫化水素、アンモニアなどの不純物が含まれていない雰囲気で開始することができ、超低硫黄分、超低窒素分あるいは低アロマ分の水素化精製品が得られる。水素導入部からの水素はまた第２触媒層に供給される。それゆえ、本発明の装置では、ストリッピング用の水素と第２触媒層での水素化精製用水素とを水素供給源から同時に供給することができるために、簡単な装置構成で硫化水素及びアンモニアなどの不純物を容易に除去することができる。
本発明の装置において、水素導入部が保持部材の下流側であって且つ第２触媒層の上流側に配置されていることが好ましい。このように水素導入部を配置させることにより、導入された水素の一部は保持部材の方に上昇させ、水素の残部は保持部材から流出した液体成分とともに第２触媒層に向かわせることができる。
本発明の装置において、第１触媒層、第２触媒層及び保持部材が単一の反応器内に収容されていることが望ましい。このように構成すると第１触媒層及び第２触媒層を備える慣用の水素化精製装置を容易に改良して本発明の装置を製造することができる。この場合に、水素導入部は保持部材と第２触媒層との間に設けられ得る。
上記保持部材は、液体成分の排出口を有し且つ液体成分を溜めるトレーにしてよく、例えば、バルブトレー、シーブトレー、キャップトレーにし得る。あるいは、上記保持部材は、液体成分が内部を通過することができる充填材にし得る。
本発明の第２の態様に従えば、硫黄含有化合物を含む炭化水素原料油を少なくとも２つの触媒層を用いて水素化精製する方法であって、
炭化水素原料油を水素とともに第１触媒層に導入し、
第１触媒層から流出した液体成分を、水素導入部から供給される第１水素ガス流でストリッピングし、
ストリッピングされた液体成分を、上記水素導入部から供給される第２水素ガス流とともに第２触媒層に導入することを含む水素化精製方法が提供される。
本発明の方法では、ストリッピング用の水素と水素化精製用の水素を共用することができるために、水素化精製プラントを簡単な構造で且つ低コストで製造することが可能となる。
本発明の方法において、上記水素導入部が、第１触媒層と第２触媒層との間に設けられて得る。また、第１触媒層から流出した液体成分を、一時的に保持部材を用いて保持することが望ましい。この場合、第１水素ガス流及び第２水素ガス流を、上記保持部材と第２触媒層との間に導入し得る。
本発明の方法において、第２水素ガス流を、ストリッピングされた液体成分とともに且つ該液体成分に対して並流に第２触媒層に導入し得る。本発明の方法において、上記炭化水素原料油が、９０％留出温度が２５０℃以上の炭化水素油であることが好ましい。
本発明の方法は、さらに、第１触媒層から生じた気体成分及びストリッピングにより生じた気体成分を除去することを含み得る。第１触媒層の生成物から硫化水素、アンモニアなどの不純物が含まれる気体成分を取り除き、また、液体成分を新鮮な水素でストリッピングするので、第２触媒層での水素化精製は硫化水素、アンモニアなどの不純物が含まれていない雰囲気で行うことができ、超低硫黄分、超低窒素分あるいは低アロマ分の水素化精製品が得られる。
発明を実施するための最良の形態
［原料油］
本発明の原料油となる炭化水素原料油は、石油や石油代替となる石炭液化油などから分留などの精製工程を経て得られたものである。具体的には、９０％留出温度が、２５０℃以上、特に３００〜４００℃程度の中間留分、ディーゼル燃料用の軽油基材が好ましく用いられる。ディーゼル燃料用の軽油基材の代表的な性状は、１０％留出温度が２２０〜３００℃、５０％留出温度が２６０〜３４０℃、９０％留出温度が３２０〜３８０℃である。このような原料油としては、原油を常圧蒸留して得られる直留軽油留分、重質留分に熱を加えてラジカル反応を主体にした反応により得られた軽質留分である熱分解油、中間留分や重質留分をゼオライト系触媒により接触分解する際に得られる接触分解油などを用いることができる。なお、留出温度は、ＪＩＳＫ  ２２５４［燃料油蒸留試験方法」による値である。
［原料油および水素の注入口］
本発明に用いる水素化精製用反応器の上流部分には、原料油および水素の注入口が設けられている。原料油、水素の注入口はそれぞれ別に設けてもよいが、通常、原料油と水素の混合物が加熱され、反応器に導入される。
［触媒層］
本発明には、少なくとも２層の固定床触媒層を用いる。これらは、複数の反応器に収められていてもよいが、１つの反応容器に収められている方が好ましい。
第１触媒層および第２触媒層に用いる触媒としては、アルミナ担体に周期律表第６族金属元素の少なくとも１種類、特に好ましくはモリブデンまたはタングステンを金属元素換算で約５〜３０重量％と、第８族非貴金属元素の少なくとも１種、特に好ましくはニッケルまたはコバルトのいずれかあるいはこの両元素をその合計量として金属元素換算で１〜１０重量％担持させることが好ましい。これらの金属に加えて、燐をリン元素換算で０．１〜８重量％担持した触媒を用いることが好ましい。特に、第２触媒層に用いる触媒において、担体は、アルミナ以外に、シリカアルミナ、チタニアアルミナ、ゼオライトなどの酸性度の高い複合酸化物を含ませることもでき、金属成分として第８族貴金属元素を担持させることもできる。
［保持部材］
本発明の装置は、第１触媒層と第２触媒層との間に位置し、第１触媒層から流出した液体成分を一時的に保持するための保持部材を有する。保持部材は、例えば、２つの触媒層間の空間に設けたバルブトレー、シーブトレー、キャップトレーなどのトレーにし得る。このトレーは、液相の炭化水素油を滞留させることができ、その滞留させた炭化水素油によりトレー上部の空間に存在する気体成分をトレー下部の空間へ通さず、逆に、トレー下部の空間の気体成分を上部空間へ通すことができる。上記のような液体を溜めるためのトレーの代わりに、ラシヒリングなどの充填物を充填した充填層を設けても良い。なお、保持部材は第１触媒層を通過した気体成分と液体成分を分離する分離手段としても機能する。
上記保持部材に溜められた液体成分に、水素ガスを供給することによりストリッピングを実行して硫化水素やアンモニアなどの不純物を液体成分から除去することができる。ストリッピングのための水素ガス流量を調整するために、保持部材の上部空間および／または下部空間の圧力を調整する手段を付加することが好ましい。このような手段としては、ストリッピングガスの流量が一定になるように、上部空間からの気体成分の抜き出しを制御する、または、下部空間への水素の導入量を制御することができる。
［ストリッピング］
保持部材上に保持または滞留させる炭化水素油は、水素でストリッピングされる。好ましくは、炭化水素油層の底部から気泡状の水素を導入することでストリッピングを行う。導入する水素は、硫化水素濃度が低いことが好ましく、通常５００容量ｐｐｍ以下、特には、１００容量ｐｐｍ以下の濃度である。
［上部空間］
保持部材と、第１触媒層の間には上部空間（「分離空間」ともいう）が存在する。第１触媒層から流れ出る炭化水素、水素、硫化水素、アンモニアなどの内、液体成分は保持部材上に滞留し、その気体成分は上部空間を満たす。また、保持部材において液体成分をストリッピングした水素およびそれにより生じた気体成分も上部空間に流れ込む。
［ガス排出口］
上部空間を満たす気体成分を外部へ導出するガス排出口（「ガス排出口」ともいう）が上部空間には設けられている。排出口からは、気化している炭化水素、水素、硫化水素、アンモニアなどが取り出される。通常、取り出された気体成分は、冷却され、炭化水素油を液化して、硫化水素、アンモニアなどの不純物やメタンなどの炭化水素ガスを含む水素と分離される。分離された不純物を含む水素は、硫化水素、アンモニアなどの不純物を除去して、リサイクルされる。
［下部空間］
保持部材と第２触媒層の間には下部空間が設けられている。下部空間には、水素導入部が設けられており、水素導入部から下部空間内に水素が導入される。この水素は、保持部材でのストリッピングに用いられ、また、保持部材から下方に流れ出る炭化水素油と混合されて、第２触媒層に流れる。第２触媒層への流れを均一にするために、水素導入部と第２触媒層の間にディストリビュータートレーのような分散手段を設けることが好ましい。
［生成物の出口］
第２触媒層の下部には、生成物の出口が設けられている。第２触媒層からは、硫化水素などを含む水素と水素化精製された炭化水素油が流れ出し、これらの生成物は、通常、冷却されて、硫化水素などを含む水素ガスと炭化水素油に分離される。分離された硫化水素を含む水素は、硫化水素などを除去して、リサイクルされる。
［反応器］
本発明の２つの触媒層、保持部材、注入口、上部空間、下部空間、ガス排出口、水素導入部、生成物出口などを複数の容器に分けて収納することも可能であるが、一つの反応器に収容することが好ましい。特に、慣用的な反応器を改造して用いる場合には、ガス排出口及び水素導入部は、反応器壁面に単一の貫通口を設け、その貫通口とガス排出口及び水素導入部とを連結するのが望ましい。単一の貫通口を設けることで、反応器の改造部分を減らすことが可能となる。慣用的な反応器に冷却用水素を導入するために貫通口が設けられている場合には、この貫通口にガス排出口及び水素導入部を連結することができる。これにより、新たな貫通口を設ける改造工程を省くことができる。
［水素化精製］
本発明を用いた水素化精製の運転条件は、液空間遠度：０．１〜１０［ｈｒ−１］、好ましくは０．１〜２．０［ｈｒ−１］、水素／油比：１００〜２０００［Ｌ／Ｌ］、好ましくは２００〜５００［Ｌ／Ｌ］、水素圧力：２０〜２００ｋｇ／ｃｍ２、好ましくは４０〜１００ｋｇ／ｃｍ２、反応温度は、使用する触媒に依存するが、通常２２０〜４５０℃、特には３００〜４００℃が通常用いられる。
本発明により軽油基材留分を水素化精製した場合には、硫黄分が１５０ｐｐｍ以下、好ましくは５０ｐｐｍ以下となる。さらに、硫黄分が１５０ｐｐｍ以下であり、全アロマ分が２５容量％以下、特には２０容量％以下で、かつ、２環以上のアロマ分が２容量％以下、特には１容量％以下とすることが可能となる。また、通常窒素分は、１ｐｐｍ以下とすることができ、３環以上のアロマ分が０．２容量％以下、特には０．１容量％以下とすることができる。
本発明においてストリッピングに用いる水素は、主成分として水素を含むガスであればよく、水素を８０〜９０モル％含む混合ガス、例えば、メタンとの混合ガスでも良い。
実施例
以下、本発明の水素化精製装置及び水素化精製方法の実施例を、図面を参照しながら、具体的に説明するが、本発明は実施例に限定されるものではない。
第１実施例
図１に示した水素化精製装置において、原料油１０は、ポンプ１１で加圧され、熱交換器１２で予熱され、水素ガス２０と混合された後、加熱炉１３で水素化精製に必要な温度に加熱される。加熱された原料油と水素ガスからなる混合流体は、円筒状の反応器３０の上端に設けられた注入口３１にフィードされ、第１のディストリビュータートレー３２により均一に分散され、水素化精製触媒が充填された第１触媒層３３へ下降する。混合流体中の原料油は、水素の存在下で部分的に水素化精製され、その中間生成物が第１触媒層３３の下端から流出する。
第１触媒層３３の下側には、上部空間３４を隔てて、バルブトレー３５が設けられている。第１触媒層３３の下端から流出した中間生成物の内、ガス成分は上部空間に、そして、液体成分は、バルブトレー３５上に溜められる。バルブトレーの構造は、後に詳述する。
バルブトレー３５の下側には、下部空間３６を隔てて、第２のディストリビュータートレー３７が設けられている。下部空間３６には、水素導入部である水素用ノズル４０により、水素ガスが導入される。導入された水素ガスの一部分は、上昇してバルブトレー３５上の液体成分中で気泡となり、溜められた液体成分と向流接触して、液体成分に含まれる硫化水素などのガス成分をストリッピングする。ストリッピングに用いられたガスは、上部空間３４において、第１触媒層３３からのガス成分と混ざる。上部空間３４には、ガス排出口となる抜き出しノズル５０が設けられており、この混合されたガス成分を反応器３０の外部へ抜き出す。
ストリッピングされた液体成分は、バルブトレー３５から下部空間３６へ流出し、水素用ノズル４０からの水素ガスと混合されて、第２のディストリビュータートレー３７を経て、水素化精製触媒が充填された第２触媒層３８へ下降する。液体成分は、水素の存在下でさらに水素化精製され、その生成物が第２触媒層３８の下端から流出し、反応器３０の下端に設けられた導出口３９から取り出される。
取り出された生成物は、熱交換器１２において原料油により冷却され、さらに、熱交換器６０により冷却される。冷却された生成物は、高圧分離槽６１にフィードされ、水素化精製された液体成分は、高圧分離槽６１の底部６２から取り出され、生成油６４となる。また、抜き出しノズル５０から抜き出した成分も液化して生成油６４となる。
抜き出しノズル５０から抜き出したガス成分は、水素ガス２０により熱交換器５１において冷却され、さらに、熱交換器５２において冷却されて、高圧分離槽５３にフィードされる。抜き出したガス成分のうち、水素化精製された炭化水素油は、冷却により液化し、高圧分離槽５３の底部５４から取り出され、生成油６４となる。また、脱硫活性を高めるためには、必要に応じて、この炭化水素の一部分をポンプ５８で加圧して水素用ノズル４０へ導入し、第２ディストリビュータトレイ３７を介して第２の触媒層に供給し得る。
抜き出したガス成分のうち、硫化水素などを含む水素成分は、高圧分離槽５３の頂部５５から取り出され、流量計５６、流量調整弁５７を経て、水素回収装置２１へ送られる。この水素成分の流量により、バルブトレー３５でのストリッピングを調整できる。適当なストリッピングが可能な流量となるように、流量計５６の指示により、流量調整弁５７を制御する。
硫化水素などを含む水素成分は、高圧分離槽５３の頂部５５から、また、高圧分離槽６１の頂部６３から、水素回収装置２１へ送られる。水素回収装置２１で硫化水素などの不純物が取り除かれた水素は、リサイクル水素としてコンプレッサー２２で加圧される。加圧されたリサイクル水素の一部分は、図示しない水素製造工程で得られたメイクアップ水素２３と混合され、水素用ノズル４０から下部空間３６へ送られ、バルブトレー３５でのストリッピングおよび第２触媒層３８での水素化精製に用いられる。
その他の加圧されたリサイクル水素は、熱交換器５１により予熱された水素ガス２０となり、予熱された原料油１０と混合されて、第１触媒層３３での水素化精製に用いられる。
図２を用いてバルブトレー３５近傍の構造をさらに説明する。反応器３０の内部において、第１触媒層３３の下端は、トレイ３３ａにより触媒粒子を保持しており、その下側にバルブトレー３５が設けられている。バルブトレー３５は、仕切り板３５ａに液体成分の排出口となる複数の孔が形成されており、各孔にバルブ３５ｂが上下摺動可能に設けられている。ノズル４０から下部空間３６に供給された水素の圧力により各バルブ３５ｂが上方に持ち上げられると、バルブ３５ｂと仕切り板３５ａの孔との間に隙間が生じ、この隙間から水素ガスがバルブトレー３５上に溜まった液体成分からなる液層１００内を通って浮上する。これにより、液体成分は水素ガスにより効率よくストリッピングされる。一方、液体成分はその隙間を通って下部空間３６に落下する。
ストリッピングに用いた水素ガスおよび第１触媒層３３から流出したガス成分を反応器３０から取り出す抜き出しノズル５０は、反応器３０の側壁を貫き、上部空間３４で開口している。抜き出しノズル５０の開口部の上方には、中間生成物の液体成分が直接に開口に入らないようにフード５０ａを設けている。
バルブトレー３５の下側の下部空間３６には、バルブトレー３５でのストリッピングと、第２触媒層３８での水素化精製に用いられる水素を供給するための水素用ノズル４０が、反応器３０の側壁を貫通している。水素用ノズル４０は、その側壁に多くの開口を有する管であり、下部空間３６に水素ガスを分散して注入し、バルブトレー３５を通過した液体成分と均一に接触させる。
この液体成分は、第２のディストリビュータートレー３７で溜められて、均一な流量となって、第２触媒層３８に供給される。第２のディストリビュータートレー３７は、仕切り板３７ａに複数のチムニー３７ｂを設けた構造である。各チムニー３７ｂは、円筒状であり、その側壁に開口３７ｄが形成されているので、チムニー内に溜められた液体成分は、その開口３７ｄから第２触媒層３８へ均一に流れる。バルブトレー３５を通過した液体成分が、直接に第２触媒層３８に到達しないように、チムニー３７ｂの上方にはフード３７ｃを設けている。
第２実施例
図３を用いて本発明の水素化精製装置の別の具体例を説明する。図３に示したバルブトレー３５近傍の構造は、図２に示した構造とほぼ同一であるが、抜き出しノズル５０の配置において異なる。すなわち、図３の抜き出しノズル５０は、水素用ノズル４０が反応器３０の側壁を貫通している貫通口４０ａを貫通して反応器３０の内部に導入され、さらに、バルブトレー３５の仕切り板３５ａを貫通して上部空間３４へ延びている。この構造では反応器３０への貫通口の数を少なくできるので、慣用の水素化精製に用いられていた反応器を容易に改造して本発明の装置を製造することができる。
第３実施例
図４を用いて本発明の水素化精製装置の変形例を説明する。図３に示した水素化精製装置は、図１及び２に示したバルブトレーを充填材層１１０に変更した以外は、実施例１の装置と同様である。充填材層１１０としては、例えば、複数の開孔を有する底板上にラシヒリングなどを堆積して充填することができる。第１触媒層３３から流出した液体成分は充填材層１１０を通る間、その下方から上昇してくる水素と向流接触してストリッピングが効率よく行われる。
以上、本発明の水素化精製装置及び方法を実施例により具体的に説明してきたが、本発明はそれらに限定されず、当業者が想い付く種々の変形及び改良を含み得る。実施例１及び２では、水素ノズル４０をバルブトレー３５の下方空間に配置したが、それらの代わりに水素導入部となる水素ノズル噴出孔を備えるプレートをバルブトレー３５の位置に設けてもよい。このプレートは、内部に水素供給路を有し、プレートの上下面に水素供給路と連通する複数の水素噴出孔を有する。プレートの上面に形成された水素噴出孔はストリッピング用の水素をプレート上の液体成分に供給することができる。プレートの下面に形成された水素噴出孔は第２触媒層に水素化精製用の水素を供給することができる。また、プレートに、水素供給路と干渉しないように複数の貫通孔を設け、これらの貫通孔を通じて液体成分をプレート上からプレート下方の下部空間に落下させることができる。
あるいは、別の例として、図２及び３に示した水素ノズル４０を下部空間３６内で第１管及び第２管に分岐させ第１管を仕切り板３５ａ上に配置することができる。水素導入部はその一部分を保持部材の内部に設けることもできる。この場合、バルブ３５ｂは省略し得る。一方、第２管は図２及び３の水素ノズル４０と同じ位置に配置し得る。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明の実施例に従う水素化精製装置を説明するための図である。
図２は、実施例の反応器の一部分を説明する断面図である。
図３は、図２に示した反応器の一部分の変形例を説明する断面図である。
図４は、図２に示した反応器の一部分の変形例を説明する断面図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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