(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする光学フィルム。
0003959999.tif 000017
〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ1〜Ｒ5は水素原子、ハロゲン原子又は置換基（アルキル基、アルケニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、イミド基、シリル基、アルキルチオ基、アリールチオ基）を表し、また、隣接するＲ1〜Ｒ4が互いに連結して５〜７員の環を形成しても良い、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ7ＣＯ−を表し、Ｒ6は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表し、Ｒ7は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。〕
【請求項２】
前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤が、下記一般式（２）で表される紫外線吸収剤であることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
0003959999.tif 000018
〔式中、ｎ、Ｒ1〜Ｒ6及びＸは、前記一般式（１）に記載のそれらと同義である。〕
【請求項３】
下記一般式（３）で表される紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーを含有することを特徴とする光学フィルム。
0003959999.tif 000019
〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ8〜Ｒ12は水素原子、ハロゲン原子又は置換基（アルキル基、アルケニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、イミド基、シリル基、アルキルチオ基、アリールチオ基）を表し、また、隣接するＲ8〜Ｒ11が互いに連結して５〜７員の環を形成しても良い、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ14−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ14ＣＯ−を表し、Ｒ13は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表し、Ｒ14は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ8〜Ｒ14で表される基のいずれか一つは重合性基を部分構造として有する。〕
【請求項４】
前記一般式（３）で表される紫外線吸収モノマーが、下記一般式（４）で表される紫外線吸収モノマーであることを特徴とする請求項３に記載の光学フィルム。
0003959999.tif 000020
〔式中、ｎ、Ｒ8〜Ｒ13及びＸは、前記一般式（３）に記載のそれらと同義である。〕
【請求項５】
前記一般式（３）及び（４）で表される紫外線吸収モノマーが、下記一般式（５）で表される紫外線吸収モノマーであることを特徴とする請求項３又は４に記載の光学フィルム。
0003959999.tif 000021
〔式中、ｎは０〜３の整数を表し、Ｒ15〜Ｒ19は水素原子、ハロゲン原子又は置換基（アルキル基、アルケニル基、ヘテロ環基、アルコキシ基、アリールオキシ基、ヘテロ環オキシ基、アシルオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、カルバモイル基、アミノ基、アルキルアミノ基、アニリノ基、アシルアミノ基、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基、スルファモイルアミノ基、スルホニル基、スルファモイル基、スルホニルアミノ基、ウレイド基、イミド基、シリル基、アルキルチオ基、アリールチオ基）を表し、また、隣接するＲ15〜Ｒ18が互いに連結して５〜７員の環を形成しても良い、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ21−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ21ＣＯ−を表し、Ｒ20は水素原子、アルキル基、アルケニル基、アルキニル基又はアリール基を表し、Ｒ21は水素原子、アルキル基又はアリール基を表す。但し、Ｒ20で表される基は重合性基を部分構造として有する。〕
【請求項６】
前記紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３０，０００以下であることを特徴とする請求項３〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項７】
前記紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることを特徴とする請求項３〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項８】
前記紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１種含有することを特徴とする請求項３〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項９】
セルロースエステルを含有することを特徴とする請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１０】
一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素微粒子を含有することを特徴とする請求項１〜９のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１１】
膜厚が２０〜６５μｍであることを特徴とする請求項１〜１０のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【請求項１２】
請求項１〜１１に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
【請求項１３】
請求項１〜１１に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学用途に利用される光学フィルムに関し、特に、液晶表示装置等に用いられる偏光板用保護フィルム、位相差フィルム、視野角拡大フィルム、プラズマディスプレイに用いられる反射防止フィルムなどの各種機能フィルム、又、有機ＥＬディスプレイ等で使用される各種機能フィルム等にも利用することができる光学フィルムとそれに用いる紫外線吸収性ポリマーに関するものである。更に詳しくは、特定の構造を有する紫外線吸収剤を含み、不要な着色がなく、色再現性に優れ、耐久性、耐光性にも優れた光学フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置と紫外線吸収性ポリマーに関する。
【０００２】
【従来の技術】
上述の技術分野で用いられている光学フィルムは、紫外線を含む光に晒されると分解が促進され強度低下を引き起こすと同時に、変色により透明度が低下するという問題を抱えていた。この為、高い透明性の求められる光学フィルムでは、予めベンゾトリアゾール系化合物或いはベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、サリチル酸系化合物の紫外線吸収剤を混入させることで紫外線による劣化を防止していた。しかしながら、これら従来の紫外線吸収剤の多くは溶解性が低い為に、ブリードアウトが生じ易い、フィルム上で析出し易い、ヘイズが上昇し透明性が低下する、更には、加熱加工時の蒸散により添加量が減少し紫外線吸収能が低下するとともに、製造工程が汚染されてしまう等、様々な問題を有していた。
【０００３】
紫外線吸収剤に重合性基を導入し、単独重合もしくは共重合を行って、紫外線吸収性ポリマーとすることで、それらの欠点を解消しようとする試みが、特開昭６０−３８４１１号、同６２−１８１３６０号、特開平３−２８１６８５号、同７−９０１８４号公報に記載されている。また、光学フィルムとして、偏光板用保護フィルムに紫外線吸収性ポリマーを含有させた例が、特開平６−１４８４３０号公報に記載されている。
【０００４】
それら記載された紫外線吸収性ポリマーは、確かにブリードアウト及び析出防止、蒸散防止等にはある程度効果があったが、紫外線吸収能力が十分ではなく、所望の紫外線吸収性能を得るためには多量の添加量が必要であり、それら紫外線吸収性ポリマーを多量に添加した場合、樹脂との相溶性が十分ではなく、十分な透明度が得られない、或いはフィルム自身が黄色く着色してしまう、或いは長期間保存した場合、紫外線吸収能力が低下するなどの問題を抱えており、光学フィルムとして実用化するのは困難であった。
【０００５】
光学フィルムに求められる特性としては、３８０ｎｍ以下の紫外光を十分に遮断すると同時に、４００ｎｍより長波の光を十分に透過することが求められており、様々な紫外線吸収剤が提案されている。
【０００６】
例えば、２′−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤にアミド基、カルバモイル基、エステル基、アシルオキシ基が置換した紫外線吸収剤は、例えば、米国特許第３，００４，８９６号、同第３，１５９，６４６号、同第３，７６１，２７２号、同第３，３９９，１７３号公報等に記載されているが、アミド基、カルバモイル基、エステル基、アシルオキシ基がフェノール環上に置換されていたり、それらの紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーを光学フィルムに用いる例はこれまで知られていなかった。また、紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーと樹脂との相溶性に関しては、何ら示唆されておらず、更に、これらの特許に具体的に記載された紫外線吸収性ポリマーは、乳化重合によって作られたポリマーラテックスであって、これらは合成樹脂との相溶性が悪く、特に、セルロース系樹脂と相溶せず、光学フィルム用途として用いるには至っていないのが現状である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、上記課題に鑑みてなされたものであり、その目的は光学フィルム用途としての分光吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優れ、十分な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れた紫外線吸収剤、及び紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーを含有する光学フィルム及びそれを用いた偏光板と表示装置とそれに用いる紫外線吸収性ポリマーを提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本願発明者らは、上記課題を解決することができる紫外線吸収剤を含む光学フィルムについて鋭意検討した結果、その詳しい理由は解明されていないが、特定の構造及び物性を有する紫外線吸収剤を用いることにより、分光吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優れるなど、十分な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れることを見出した。
【０００９】
詳しくは、本発明者らは、鋭意研究の結果、２′−ヒドロキシフェニルベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤のベンゾトリアゾール環上に特定の置換基（例えば、アミド基、カルバモイル基、エステル基、アシルオキシ基等）が置換した場合に、優れた特性を有することを見いだした。
【００１０】
更に、これら特定の置換基を有するモノマーから誘導されるポリマーを用いることにより、更に良好な特性、例えば、高分子化によるブリードアウトの抑制、蒸散による工程汚染の低減等の効果を有することを見いだし、本発明に至った次第である。
【００１１】
即ち、本発明の上記目的は、以下の手段により達成された。
１．前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種を含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１２】
２．前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤が、前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤であることを特徴とする前記１項に記載の光学フィルム。
【００１３】
３．前記一般式（３）で表される紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーを含有することを特徴とする光学フィルム。
【００１４】
４．前記一般式（３）で表される紫外線吸収モノマーが、前記一般式（４）で表される紫外線吸収モノマーであることを特徴とする前記３項に記載の光学フィルム。
【００１５】
５．前記一般式（３）及び（４）で表される紫外線吸収モノマーが、前記一般式（５）で表される紫外線吸収モノマーであることを特徴とする前記３又は４項に記載の光学フィルム。
【００１６】
６．前記紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３０，０００以下であることを特徴とする前記３〜５項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００１７】
７．前記紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることを特徴とする前記３〜６項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００１８】
８．前記紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１種含有することを特徴とする前記３〜７項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００１９】
９．セルロースエステルを含有することを特徴とする前記１〜８項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００２０】
１０．一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素微粒子を含有することを特徴とする前記１〜９項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００２１】
１１．膜厚が２０〜６５μｍであることを特徴とする前記１〜１０項のいずれか１項に記載の光学フィルム。
【００２２】
１２．前記１〜１１項に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする偏光板。
【００２３】
１３．前記１〜１１項に記載の光学フィルムを用いることを特徴とする表示装置。
【００３０】
以下、本発明について更に詳しく説明する。
請求項１に係る発明では、光学フィルムが前記一般式（１）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種を含有することが特徴であり、また請求項２に係る発明では、光学フィルムが前記一般式（２）で表される紫外線吸収剤の少なくとも１種を含有することが特徴である。
【００３１】
以下、本発明に係る一般式（１）、一般式（２）で表される紫外線吸収剤について、説明する。
【００３２】
前記一般式（１）において、ｎは０〜３の整数を表し、ｎが２以上の時、複数のＲ5同士は同じであっても異なっていても良く、また互いに連結して５〜７員の環を形成していても良い。
【００３３】
Ｒ1〜Ｒ5は、各々水素原子、ハロゲン原子又は置換基を表す。ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、好ましくはフッ素原子、塩素原子である。また、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アルケニル基（例えば、ビニル基、アリル基、３−ブテン−１−イル基など）、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、ヘテロ環基（例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、ヘテロ環オキシ基（例えば、１−フェニルテトラゾール−５−オキシ基、２−テトラヒドロピラニルオキシ基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、ニトロ基、スルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド基、ベンゼンスルホンアミド基など）、スルファモイルアミノ基（例えば、ジメチルスルファモイルアミノ基など）、スルホニル基（例えば、メタンスルホニル基、ブタンスルホニル基、フェニルスルホニル基など）、スルファモイル基（例えば、エチルスルファモイル基、ジメチルスルファモイル基など）、スルホニルアミノ基（例えば、メタンスルホニルアミノ基、ベンゼンスルホニルアミノ基など）、ウレイド基（例えば、３−メチルウレイド基、３，３−ジメチルウレイド基、１，３−ジメチルウレイド基など）、イミド基（例えば、フタルイミド基など）、シリル基（例えば、トリメチルシリル基、トリエチルシリル基、ｔ−ブチルジメチルシリル基など）、アルキルチオ基（例えば、メチルチオ基、エチルチオ基、ｎ−ブチルチオ基など）、アリールチオ基（例えば、フェニルチオ基など）等が挙げられるが、好ましくは、アルキル基、アリール基である。
【００３４】
一般式（１）において、Ｒ1〜Ｒ5で表される各基が、更に置換可能な基である場合、更に置換基を有していてもよく、また、隣接するＲ1〜Ｒ4が互いに連結して５〜７員の環を形成していてもよい。
【００３５】
Ｒ6は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アリール基又はヘテロ環を表すが、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。また、上記アルキル基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００３６】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることができ、これらは無置換でも、置換されていても良い。
【００３７】
アルケニル基としては、例えば、ビニル基、アリル基、１−メチル−２−プロペニル基、３−ブテニル基、２−ブテニル基、３−メチル−２−ブテニル基、オレイル基などが挙げられるが、好ましくはビニル基、１−メチル−２−プロペニル基である。
【００３８】
アルキニル基としては、例えば、エチニル基、ブタジイル基、フェニルエチニル基、プロパルギル基、１−メチル−２−プロピニル基、２−ブチニル基、１，１−ジメチル−２−プロピニル基などが上げられるが、好ましくは、エチニル基、プロパルギル基である。
【００３９】
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、上記アリール基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００４０】
ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ6として、好ましくはアルキル基である。
【００４１】
一般式（１）において、Ｘは−ＣＯＯ−、−ＣＯＮＲ7−、−ＯＣＯ−又は−ＮＲ7ＣＯ−を表す。
【００４２】
Ｒ7は水素原子、アルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はヘテロ環基を表すが、アルキル基としては、例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基、アミル基、イソアミル基、ヘキシル基などが挙げられる。かかるアルキル基は、更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アリール基（例えば、フェニル基、ナフチル基、ｐ−トリル基、ｐ−クロロフェニル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００４３】
シクロアルキル基としては、例えば、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、ノルボルニル基、アダマンチル基などの飽和環式炭化水素を挙げることができ、これらは無置換でも、置換されていても良い。
【００４４】
アリール基としては、例えば、フェニル基、ナフチル基、アントラニル基などが挙げられるが、かかるアリール基は更にハロゲン原子、置換基を有していてもよく、ハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、沃素原子などが挙げられ、置換基としては、例えば、アルキル基（例えば、メチル基、エチル基、イソプロピル基、ヒドロキシエチル基、メトキシメチル基、トリフルオロメチル基、ｔ−ブチル基など）、アシル基（例えば、アセチル基、プロパノイル基、ブチロイル基など）、アルコキシ基（例えば、メトキシ基、エトキシ基、イソプロポキシ基、ｎ−ブトキシ基など）、アリールオキシ基（例えば、フェノキシ基など）、アミノ基、アルキルアミノ基（例えば、メチルアミノ基、エチルアミノ基、ジエチルアミノ基など）、アニリノ基（例えば、アニリノ基、Ｎ−メチルアニリノ基など）、アシルアミノ基（例えば、アセチルアミノ基、プロピオニルアミノ基など）、ヒドロキシル基、シアノ基、カルバモイル基（例えば、メチルカルバモイル基、エチルカルバモイル基、ジメチルカルバモイル基など）、アシルオキシ基（例えば、アセトキシ基、ピバロイルオキシ基、ベンゾイルオキシ基など）、アルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル基など）、アリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル基など）が挙げられる。
【００４５】
ヘテロ環基としては、例えば、ピリジル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズチアゾリル基、ベンズオキサゾリル基等が挙げられる。Ｒ7として、好ましくは水素原子である。
【００４６】
前記一般式（２）において、ｎ、Ｒ1〜Ｒ5及びＲ6、Ｒ7は、それぞれ一般式（１）のｎ、Ｒ1〜Ｒ5及びＲ6、Ｒ7と同義である。
【００４７】
以下、本発明で好ましく用いられる一般式（１）又は（２）で表される紫外線吸収剤の代表例を例示するが、これらに限定されるものではない。
【００４８】
【化６】
0003959999.tif 000002
【００４９】
【化７】
0003959999.tif 000003
【００５０】
【化８】
0003959999.tif 000004
【００５１】
【化９】
0003959999.tif 000005
【００５２】
請求項３に係る発明では、光学フィルムが前記一般式（３）で表される紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーを含有することが特徴であり、また請求項４に係る発明では、光学フィルムが前記一般式（４）で表される紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーを含有することが特徴であり、更に請求項５に係る発明では、前記一般式（３）及び（４）で表される紫外線吸収モノマーが、前記一般式（５）で表される紫外線吸収モノマーであることが特徴である。
【００５３】
本発明者らは、前記一般式（１）又は（２）で示されるようなベンゾトリアゾール環にオキシカルボニル基、アミド基、カルバモイル基、アシルオキシ基を有する構造の紫外線吸収剤を用いることにより、分光吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優れるなど、十分な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れることを見出したが、更に鋭意検討を進めた結果、類似の構造を有する紫外線吸収性ポリマーにおいても、同様に分光吸収性能に優れ、着色が無く透明性に優れるなど、十分な紫外線吸収能力を有し、長期耐候性に優れることも見出した。
【００５４】
以下、本発明に係る一般式（３）〜（５）で表される紫外線吸収性モノマーについて、詳細に説明する。
【００５５】
一般式（３）及び（４）において、ｎ、Ｒ8〜Ｒ12、Ｒ13及びＲ14は、それぞれ一般式（１）及び（２）のｎ、Ｒ1〜Ｒ5、Ｒ6及びＲ7と同義であり、同様に、一般式（５）において、ｎ、Ｒ15〜Ｒ19及びＲ21は、それぞれ一般式（１）及び（２）のｎ、Ｒ1〜Ｒ5、Ｒ6及びＲ7と同義である。
【００５６】
一般式（３）、（４）で表される紫外線吸収性モノマーのＲ8〜Ｒ14で表される基のいずれか一つは重合性基を部分構造として有する。また、一般式（５）で表される紫外線吸収性モノマーのＲ20で表される基は重合性基を部分構造として有する。
【００５７】
本発明でいう重合性基とは、不飽和エチレン系重合性基又は二官能系重縮合性基を意味するが、好ましくは不飽和エチレン系重合性基である。不飽和エチレン系重合性基の具体例としては、ビニル基、アリル基、アクリロイル基、メタクリロイル基、スチリル基、アクリルアミド基、メタクリルアミド基、シアン化ビニル基、２−シアノアクリルオキシ基、１，２−エポキシ基、ビニルベンジル基、ビニルエーテル基などが挙げられるが、好ましくは、ビニル基、アクリロイル基、メタクリロイル基アクリルアミド基、メタクリルアミド基である。また、重合性基を部分構造として有するとは、上記重合性基が直接、もしくは２価以上の連結基によって結合していることを意味し、２価以上の連結基とは、例えば、アルキレン基（例えば、メチレン、１，２−エチレン、１，３−プロピレン、１，４−ブチレン、シクロヘキサン−１，４−ジイルなど）、アルケニレン基（例えば、エテン−１，２−ジイル、ブタジエン−１，４−ジイルなど）、アルキニレン基（例えば、エチン−１，２−ジイル、ブタン−１，３−ジイン−１，４−ジイルなど）、少なくとも一つの芳香族基を含む化合物から誘導される連結基（例えば、置換もしくは無置換のベンゼン、縮合多環炭化水素、芳香族複素環、芳香族炭化水素環集合、芳香族複素環集合など）、ヘテロ原子連結基（酸素、硫黄、窒素、ケイ素、リン原子など）が挙げられるが、好ましくは、アルキレン基、及び、ヘテロ原子で連結する基である。これらの連結基は更に組み合わせて複合基を形成してもよい。
【００５８】
請求項６に係る発明では、紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマーの重量平均分子量が２，０００以上３０，０００以下であることが特徴であり、好ましくは５，０００以上２０，０００以下である。
【００５９】
本発明に係る紫外線吸収性ポリマーの重量平均分子量は、公知の分子量調節方法で調整することができる。そのような分子量調節方法としては、例えば四塩化炭素、ラウリルメルカプタン、チオグリコール酸オクチル等の連鎖移動剤を添加する方法等が挙げられる。重合温度は通常室温から１３０℃、好ましくは５０℃から１００℃で行われる。
【００６０】
本発明に係る紫外線吸収性ポリマーは、紫外線吸収性モノマーのみの単重合体であっても、他の重合性モノマーとの共重合体であってもよいが、共重合可能な他の重合性モノマーとしては、例えば、スチレン誘導体（例えば、スチレン、α−メチルスチレン、ｏ−メチルスチレン、ｍ−メチルスチレン、ｐ−メチルスチレン、ビニルナフタレンなど）、アクリル酸エステル誘導体（例えば、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ｉ−ブチル、アクリル酸ｔ−ブチル、アクリル酸オクチル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸ベンジルなど）、メタクリル酸エステル誘導体（例えば、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ｉ−ブチル、メタクリル酸ｔ−ブチル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル等）、アルキルビニルエーテル（例えば、メチルビニルエーテル、エチルビニルエーテル、ブチルビニルエーテルなど）、アルキルビニルエステル（例えば、ギ酸ビニル、酢酸ビニル、酪酸ビニル、カプロン酸ビニル、ステアリン酸ビニルなど）、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、イタコン酸、アクリロニトリル、メタクリロニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、アクリルアミド、メタクリルアミドなどの不飽和化合物が挙げられる。好ましくは、アクリル酸メチル、メタクリル酸メチル、酢酸ビニルである。
【００６１】
請求項８に係る発明では、紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマー以外の共重合成分が、親水性のエチレン性不飽和モノマーを少なくとも１種含有することが特徴である。
【００６２】
親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、親水性で分子中に重合可能な不飽和二重結合を有するもので有れば特に制限されず、例えば、アクリル酸或いはメタクリル酸等の不飽和カルボン酸、若しくはヒドロキシル基又はエーテル結合を有する、アクリル酸若しくはメタクリル酸エステル（例えば、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、メタクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピル、２，３−ジヒドロキシ−２−メチルプロピルメタクリレート、アクリル酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸２−エトキシエチル、アクリル酸ジエチレングリコールエトキシレート、アクリル酸３−メトキシブチルなど）、アクリルアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチル（メタ）アクリルアミド等の（Ｎ−置換）（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルオキサゾリドン等が挙げられる。
【００６３】
親水性のエチレン性不飽和モノマーとしては、水酸基若しくはカルボキシル基を分子内に有する（メタ）アクリレートが好ましく、メタクリル酸２−ヒドロキシエチル、メタクリル酸２−ヒドロキシプロピル、アクリル酸２−ヒドロキシエチル、アクリル酸２−ヒドロキシプロピルが特に好ましい。
【００６４】
これらの重合性モノマーは、１種、または２種以上併用して紫外線吸収性モノマーと共重合させることができる。
【００６５】
本発明に係る紫外線吸収性共重合ポリマーの重合方法は、特に問わないが、従来公知の方法を広く採用することができ、例えば、ラジカル重合、アニオン重合、カチオン重合などが挙げられる。ラジカル重合法の開始剤としては、例えば、アゾ化合物、過酸化物等が挙げられ、アゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）、アゾビスイソブチル酸ジエステル誘導体、過酸化ベンゾイル、過酸化水素などが挙げられる。重合溶媒は特に問わないが、例えば、トルエン、クロロベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、ジクロロエタン、クロロホルムなどのハロゲン化炭化水素系溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサン等のエーテル系溶媒、ジメチルホルムアミド等のアミド系溶媒、メタノール等のアルコール系溶媒、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル系溶媒、アセトン、シクロヘキサノン、メチルエチルケトンなどのケトン系溶媒、水溶媒等が挙げられる。溶媒の選択により、均一系で重合する溶液重合、生成したポリマーが沈澱する沈澱重合、ミセル状態で重合する乳化重合、懸濁状態で重合する懸濁重合を行うこともできる。但し、乳化重合によって得られる紫外線吸収性ラテックスは光学フィルム用途として適していない。
【００６６】
上記紫外線吸収性モノマー、これと共重合可能な重合性モノマー及び親水性のエチレン性不飽和モノマーの使用割合は、得られる紫外線吸収性共重合ポリマーと他の透明ポリマーとの相溶性、光学フィルムの透明性や機械的強度に対する影響を考慮して適宜選択される。
【００６７】
請求項７に係る発明では、紫外線吸収性モノマーから誘導されるポリマー中の紫外線吸収性モノマーの含有量が１〜７０質量％であることが特徴であり、好ましくは、５〜６０質量％である。紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が１質量％未満の場合、所望の紫外線吸収性能を満たそうとした場合に多量の紫外線吸収性ポリマーを使用しなければならず、ヘイズの上昇或いは析出などにより透明性が低下し、フィルム強度を低下させる要因となる。一方、紫外線吸収性ポリマーにおける紫外線モノマーの含有量が７０質量％を超えた場合、他のポリマーとの相溶性が低下するため、透明な光学フィルムを得ることができない。また、溶媒に対する溶解度が低くなり、フィルム作製の際の作業性、生産性が劣る。
【００６８】
親水性エチレン性不飽和モノマーは、上記紫外線吸収性共重合体中に、０．１〜５０質量％含まれることが好ましい。０．１質量％以下では、親水性エチレン性不飽和モノマーによる相溶性の改良効果が現れず、５０質量％より多いと共重合体の単離精製が困難となる。親水性エチレン性不飽和モノマーの更に好ましい含量は０．５〜２０質量％である。紫外線吸収性モノマー自身に親水性基が置換している場合、親水性の紫外線吸収性モノマーと、親水性エチレン性不飽和モノマーの合計の含量が上記範囲内であることが好ましい。
【００６９】
紫外線吸収性モノマー及び親水性モノマーの好ましい含有量を満たすために、両者に加え、更に分子中に親水性基を有さないエチレン性不飽和モノマーを共重合させることが好ましい。
【００７０】
紫外線吸収性モノマー及び（非）親水性エチレン性不飽和モノマーは、各々２種以上混合して共重合させても良い。
【００７１】
以下、本発明に好ましく用いられる紫外線吸収性モノマーの代表例を例示するが、これらに限定されるものではない。
【００７２】
【化１０】
0003959999.tif 000006
【００７３】
【化１１】
0003959999.tif 000007
【００７４】
【化１２】
0003959999.tif 000008
【００７５】
【化１３】
0003959999.tif 000009
【００７６】
【化１４】
0003959999.tif 000010
【００７７】
【化１５】
0003959999.tif 000011
【００７８】
【化１６】
0003959999.tif 000012
【００７９】
本発明に用いられる紫外線吸収剤、紫外線吸収性モノマー及びその中間体は公知の文献を参照して合成することができる。例えば、米国特許第３，０７２，５８５号、同３，１５９，６４６号、同３，３９９，１７３号、同３，７６１，２７２号、同４，０２８，３３１号、同５，６８３，８６１号、ヨーロッパ特許第８６，３００，４１６号、特開昭６３−２２７５７５号、同６３−１８５９６９号、Ｐｏｌｙｍｅｒ  Ｂｕｌｌｅｔｉｎ．Ｖ．２０（２）、１６９−１７６及びＣｈｅｍｉｃａｌ  Ａｂｓｔｒａｃｔｓ  Ｖ．１０９、Ｎｏ．１９１３８９などを参照して合成することができる。
【００８０】
本発明に係る紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーは、他の透明ポリマーに混合する際に、必要に応じて低分子化合物もしくは高分子化合物、無機化合物などを一緒に用いることもできる。例えば、本発明に係る紫外線吸収剤と他の低分子紫外線吸収剤とを同時に他の透明ポリマーに混合したり、本発明に係る紫外線吸収性ポリマーと他の低分子紫外線吸収剤とを、同時に他の透明ポリマーに混合することも好ましい態様の一つである。同様に、酸化防止剤、可塑剤、難燃剤などの添加剤を同時に混合することも好ましい態様の一つである。
【００８１】
光学フィルムへの本発明に係る紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの添加方法は、光学フィルム中に含有させてもよいし、光学フィルム上に塗布してもよい。光学フィルム中に含有させる場合、直接添加しても良いが、生産性の優れるインライン添加が好ましい。インライン添加は、予め有機溶媒（例えば、メタノール、エタノール、メチレンクロライドなど）に溶解させた後、インラインミキサー等でドープ組成中に添加する方法である。
【００８２】
本発明に係る紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーの使用量は、化合物の種類、使用条件などにより一様ではないが、紫外線吸収剤である場合には、光学フィルム１ｍ2当たり０．２〜３．０ｇが好ましく、０．４〜２．０が更に好ましく、０．５〜１．５が特に好ましい。また、紫外線吸収ポリマーである場合には、光学フィルム１ｍ2当たり０．６〜９．０ｇが好ましく、１．２〜６．０が更に好ましく、１．５〜３．０が特に好ましい。
【００８３】
更に、液晶劣化防止の観点から、波長３８０ｎｍ以下の紫外線吸収性能に優れ、かつ、良好な液晶表示性の観点から、４００ｎｍ以上の可視光吸収が少ないものが好ましい。本発明においては、特に、波長３８０ｎｍでの透過率が８％以下であることが好ましく、４％以下がさらに好ましく、１％以下であることが特に好ましい。
【００８４】
また、本発明においては、従来公知の紫外線吸収剤も併せて用いることもできる。従来公知の紫外線吸収剤としては、特に限定されないが、例えば、サリチル酸系紫外線吸収剤（フェニルサリシレート、ｐ−ｔｅｒｔ−ブチルサリシレート等）或いはベンゾフェノン系紫外線吸収剤（２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４，４′−ジメトキシベンゾフェノン等）、ベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤（２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−アミル−フェニル）ベンゾトリアゾール等）、シアノアクリレート系紫外線吸収剤（２′−エチルへキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−２−シアノ−３−（３′，４′−メチレンジオキシフェニル）−アクリレート等）、トリアジン系紫外線吸収剤、或いは特開昭５８−１８５６７７号、同５９−１４９３５０号記載の化合物、ニッケル錯塩系化合物、無機粉体などが挙げられる。
【００８５】
本発明に係る紫外線吸収剤と共に用いられる従来公知の紫外線吸収剤としては、透明性が高く、偏光板や液晶素子の劣化を防ぐ効果に優れたベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤やベンゾフェノン系紫外線吸収剤が好ましく、不要な着色がより少ないベンゾトリアゾール系紫外線吸収剤が、特に好ましい。
【００８６】
また、本発明においては、従来公知の紫外線吸収性ポリマーを用いることもできる。従来公知の紫外線吸収性ポリマーとしては、特に限定されないが、例えば、ＲＵＶＡ−９３（大塚化学製）を単独重合させたポリマー及びＲＵＶＡ−９３と他のモノマーとを共重合させたポリマーなどが挙げられる。具体的には、ＲＵＶＡ−９３とメチルメタクリレートを３：７の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−３０Ｍ、５：５の比（質量比）で共重合させたＰＵＶＡ−５０Ｍなどが挙げられる。
【００８７】
次いで、本発明の光学フィルムの詳細について説明する。
本発明の光学フィルムとしては、特に限定されるものではなく、公知の透明樹脂フィルムの中から適宜選択して用いることができる。この様な透明プラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレートやポリエチレンナフタレートの様なポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、セルロースアセテートプロピオネートフィルム、セルロースアセテートブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフィルム、ポリスチレンフィルム、シンジオタクチックポリスチレン系フィルム、ノルボルネン樹脂フィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリアリレートフィルム、ポリメチルメタアクリレートフィルム、ポリアクリレートフィルム、ポリオレフィン系ノルボルネン樹脂フィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルフォンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルフォンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィルム、アクリルフィルムを挙げることができるが、本発明においては、特にセルローストリアセテートフィルムの他に、セルロースジアセテート、セルロースアセテートブチレート、セルロースアセテートフタレート、セルロースプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートプロピオネートブチレートなどのセルロースエステルフィルムを用いることが好ましい。
【００８８】
請求項９に係る発明では、光学フィルムとして、セルロースエステルを含有していることが特徴である。
【００８９】
次いで、本発明の好ましい態様であるセルロースエステルフィルムの製造方法について説明する。
【００９０】
本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造に用いられる好ましい製膜工程としては、下記に示す溶解工程、流延工程、溶媒蒸発工程、剥離工程、乾燥工程及び巻き取り工程からなる。以下に、各々の工程について説明する。
【００９１】
（溶解工程）
本発明において、セルロースエステル溶液のことを、セルロースエステルドープ又は単にドープという。溶解工程とは、セルロースエステルのフレークに、後述の良溶媒を主とする有機溶媒に溶解釜中でフレークを攪拌しながら溶解し、ドープを形成する工程である。
【００９２】
本発明では、ドープ中の固形分濃度は１５質量％以上とすることが好ましく、特に１８〜３５質量％のものが好ましく用いられる。
【００９３】
ドープ中の固形分濃度が高すぎるとドープの粘度が高くなりすぎ、流延時にシャークスキンなどが生じてフィルム平面性が劣化する場合があるので、３５質量％以下であることが望ましい。
【００９４】
ドープ粘度は、１０〜５０Ｐａ・ｓの範囲に調整されることが好ましい。
溶解には、常圧で行う方法、好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）の沸点以下で行う方法、上記の良溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、冷却溶解法で行う方法、高圧で行う方法等種々の溶解方法等がある。良溶媒の沸点以上の温度で、かつ沸騰しない圧力をかけて溶解する方法としては、４０．４〜１２０℃で０．１１〜１．５０ＭＰａに加圧することで発泡を抑え、かつ、短時間に溶解することができる。
【００９５】
本発明に用いられるセルロースエステルとしては、セルロースの低級脂肪酸エステルが好ましく用いられる。
【００９６】
セルロースエステルの低級脂肪酸エステルにおける低級脂肪酸とは、炭素原子数が６以下の脂肪酸を意味し、例えば、セルロースアセテート、セルロースプロピオネート、セルロースブチレート等、又特開平１０−４５８０４号、同８−２３１７６１号、米国特許第２，３１９，０５２号等に記載されているセルロースアセテートプロピオネート、セルロースアセテートブチレート等の混合脂肪酸エステルなどがセルロースの低級脂肪酸エステルの例として挙げられる。特に好ましくは、総置換度が２．５５〜２．８５のセルロースエステルが好ましく用いられる。
【００９７】
上記脂肪酸の中でも、セルロースアセテート、セルロースアセテートプロピオネートが好ましく用いられるが、本発明に係るセルロースエステルフィルムの場合には、フィルム強度の観点から、特に重合度２５０〜４００のものが好ましく用いられる。
【００９８】
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、総置換度が２．５〜３．０のセルロースエステルが好ましく用いられるが、特に総置換度が２．５５〜２．８５のセルロースエステルが好ましく用いられる。総置換度が２．５５以上になると本発明に係る一般式（１）で示される紫外線吸収剤を含むフィルムの機械強度が増加し、２．８５以下になるとセルロースエステルの溶解性が向上したり、異物の発生が低減されるため、より好ましい。
【００９９】
セルロースアセテートプロピオネートの場合、アセチル基置換度をＸ、プロピオニル基置換度をＹとすると
２．５５≦Ｘ＋Ｙ≦２．８５
１．５≦Ｘ≦２．４
の範囲にあるものが好ましく用いられる。
【０１００】
セルロースエステルは、綿花リンターから合成されたセルロースエステルと木材パルプから合成されたセルロースエステル、それ以外の原料から合成されたセルロースエステルを単独或いは混合して用いることができる。
【０１０１】
ドープを調製する際に使用される溶媒としては、セルロースエステルを溶解できる溶媒であれば特に限定はされないが、又単独で溶解できない溶媒であっても他の溶媒と混合することにより、溶解できるものであれば使用することができる。一般的には、良溶媒であるメチレンクロライドとセルロースエステルの貧溶媒からなる混合溶媒を用い、かつ混合溶媒中には貧溶媒を４〜３０質量％含有するものが好ましく用いられる。
【０１０２】
使用できる良溶媒としては、例えば、メチレンクロライド、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、アセトン、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、１，４−ジオキサン、シクロヘキサノン、ギ酸エチル、２，２，２−トリフルオロエタノール、２，２，３，３−ヘキサフルオロ−１−プロパノール、１，３−ジフルオロ−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−メチル−２−プロパノール、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２−プロパノール、２，２，３，３，３−ペンタフルオロ−１−プロパノール、ニトロエタン等を挙げることができるが、メチレンクロライド等の有機ハロゲン化合物、ジオキソラン誘導体、酢酸メチル、酢酸エチル、アセトン等が好ましい有機溶媒（即ち、良溶媒）として挙げられる。酢酸メチルを用いると、得られるフィルムのカールが少なくなるため特に好ましい。
【０１０３】
セルロースエステルの貧溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール等の炭素原子数１〜８のアルコール、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、酢酸エチル、酢酸プロピル、モノクロルベンゼン、ベンゼン、シクロヘキサン、テトラヒドロフラン、メチルセロソルブ、エチレングリコールモノメチルエーテル等を挙げることができ、これらの貧溶媒は単独もしくは２種以上を適宜組み合わせて用いることができる。
【０１０４】
本発明に係るセルロースエステルフィルムの製造において、セルロースエステルを溶解する際に冷却溶解法を用いることも好ましい。冷却溶解方法としては、例えば、特開平９−９５５３８号、同９−９５５４４号、同９−９５５５７号に記載の方法を使用することができる。又、特開平１１−２１３７９号に記載の高圧溶解方法も好ましく使用できる。
【０１０５】
溶解後のセルロースエステル溶液（ドープ）を濾材で濾過した後、脱泡してポンプで次工程に送ることが好ましく、又、その際、ドープ中には、可塑剤、酸化防止剤、紫外線吸収剤、染料、微粒子等が、適宜添加される。
【０１０６】
これらの添加物は、セルロースエステル溶液の調製の際に、セルロースエステルや溶媒と共に添加してもよいし、溶液調製中や調製後に添加してもよい。
【０１０７】
本発明の光学フィルムには、可塑剤を添加することができる。これらは本発明に係る一般式（１）で表される紫外線吸収剤と併用することができる。
【０１０８】
用いることのできる可塑剤としては、例えば、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤などを用いることができるがこれらに限定されるものではない。リン酸エステル系では、例えば、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等があり、フタル酸エステル系としては、例えば、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ブチルベンジルフタレート、ジベンジルフタレート、ブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等があり、クエン酸エステル系可塑剤としては、例えば、トリエチルシトレート、トリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリエチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−ブチルシトレート、アセチルトリ−ｎ−（２−エチルヘキシル）シトレート等を好ましく用いることができる。
【０１０９】
これらの可塑剤は、単独で用いてもよく、また必要に応じて２種類以上を併用して用いてもよい。又、可塑剤の使用量は、セルロースエステルに対して１〜３０質量％含有させることができ、好ましくは２〜２５質量％、特に好ましくは１０〜２０質量％である。
【０１１０】
本発明の光学フィルムにおいては、上記可塑剤の他にも可塑剤と同様の作用を示す添加剤が含有させることができる。これらの添加剤としては、例えば、セルロースエステルフィルムを可塑化することのできる低分子有機化合物であれば、可塑剤と同様の効果を得ることができる。これらの成分は可塑剤に比べ直接フィルムを可塑化する目的で添加されるものではないが、量に応じて上記可塑剤と同様の作用を示す。
【０１１１】
又、本発明においては、フィルムの色味を調整するために、例えば、青色染料等を添加剤として用いてもよい。好ましい染料として、アンスラキノン系染料が挙げられる。アンスラキノン系染料は、アンスラキノンの１位から８位迄の位置に任意の置換基を有することができる。好ましい置換基としては、置換されてもよいアニリノ基、ヒドロキシル基、アミノ基、ニトロ基、又は水素原子が挙げられる。これらの染料のフィルムへの添加量は、フィルムの透明性を維持するため０．１〜１０００μｇ／ｍ2、好ましくは１０〜１００μｇ／ｍ2である。
【０１１２】
また、本発明の光学フィルムには、マット剤として微粒子を加えることが好ましい。本発明に使用される微粒子としては無機化合物として、例えば、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成珪酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることができる。微粒子は、ケイ素を含むものが濁度が低くなる点で好ましく、請求項４に係る発明では、一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素微粒子を用いることが特徴である。特に、本発明の光学フィルムでは、二酸化珪素の微粒子を含むことにより、本発明に係る紫外線吸収剤と二酸化珪素の微粒子を含むセルロースエステル溶液を用いて流延製膜することによって、セルロースエステル溶液中の微粒子の凝集に起因した異物故障が著しく低減されるため、特に好ましい。
【０１１３】
二酸化珪素微粒子の一次粒子平均径としては、５〜１６ｎｍがより好ましく、５〜１２ｎｍがさらに好ましい。一次粒子の平均径が小さい方がヘイズが低く好ましい。また、見かけ比重は９０〜２００ｇ／リットルが好ましく、１００〜２００ｇ／リットルが更に好ましい。見かけ比重が大きい程、高濃度の分散液を作ることが可能になり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１１４】
マット剤の添加量は１ｍ2当たり０．０１〜１．０ｇが好ましく、０．０３〜０．３ｇが更に好ましく、０．１０〜０．１８ｇが特に好ましい。
【０１１５】
二酸化珪素微粒子としては、例えば、日本アエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ  Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられ、この中でも、ＡＥＲＯＳＩＬ２００Ｖ、Ｒ９７２Ｖが一次平均粒子径が２０ｎｍ以下であり、かつ見かけ比重が７０ｇ／リットル以上である二酸化珪素の微粒子であり、光学フィルムの濁度を低く保ちながら、摩擦係数をさげる効果が大きいため特に好ましい。
【０１１６】
また、酸化ジルコニウムの微粒子としては、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。また、ポリマーの例として、シリコーン樹脂、弗素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることができる。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することができる。
【０１１７】
これら微粒子は、通常平均粒径が０．０１〜１．０μｍの二次粒子を形成させることが好ましく、０．１〜０．８μｍがさらに好ましく、０．２〜０．５μｍが最も好ましい。これらの微粒子はフィルム中では、一次粒子の凝集体として存在しフィルム表面に０．０１〜１．０μｍの凹凸を形成させる。これらの微粒子の含有量は、光学フィルムに対して０．００５〜０．３質量％が好ましく、０．０５〜０．２質量％が好ましく、０．１〜０．２質量％が最も好ましい。
【０１１８】
本発明光学フィルムを得るため、微粒子の分散液を調製する方法としては、例えば、以下に示す３つの方法が挙げられる。
【０１１９】
〔調製方法Ａ〕
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行い、微粒子分散液を調製した後、これをドープ液に加えて撹拌する方法。
【０１２０】
〔調製方法Ｂ〕
溶剤と微粒子を撹拌混合した後、分散機で分散を行い、微粒子分散液を調製し、これとは別に溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに上記微粒子分散液を加えて撹拌して微粒子添加液を調製した後、これをインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法。
【０１２１】
〔調製方法Ｃ〕
溶剤に少量のセルロースエステルを加え、撹拌溶解する。これに微粒子を加えて分散機で分散を行い、微粒子添加液を調製した後、これをインラインミキサーでドープ液と十分混合する方法。
【０１２２】
調製方法Ａは、二酸化珪素微粒子の分散性に優れ、調製方法Ｃは二酸化珪素微粒子が再凝集しにくい点で優れているが、中でも、調製方法Ｂは二酸化珪素微粒子の分散性と、二酸化珪素微粒子が更に再凝集しにくい等、両方に優れている点で好ましい調製方法である。
【０１２３】
〈分散方法〉
二酸化珪素微粒子を溶剤などと混合して分散する際、二酸化珪素の濃度は５〜３０質量％であることが好ましく、１０〜２５質量％が更に好ましく、１５〜２０質量％が最も好ましい。分散濃度は高い方が、添加量に対する液濁度は低くなる傾向があり、ヘイズ、凝集物が良化するため好ましい。
【０１２４】
使用される溶剤は、低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。低級アルコール以外の溶媒として、特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。
【０１２５】
このようにして得られたドープを用い、以下に説明する流延工程を経てセルロースエステルフィルムを作製することができる。
【０１２６】
（流延工程）
上記工程で調製したドープを、加圧型定量ギヤポンプを通して加圧ダイに送液し、流延位置において、無限に移送する無端の金属ベルト或いは回転する金属ドラムの流延用支持体（以降、単に支持体ということもある）上に、加圧ダイからドープを流延する工程である。流延用支持体の表面は鏡面となっている。
【０１２７】
その他の流延する方法としては、例えば、流延されたドープ膜をブレードで膜厚を調節するドクターブレード法、或いは逆回転するロールで膜厚を調節するリバースロールコーターによる方法等があるが、口金部分のスリット形状を調整でき、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、例えば、コートハンガーダイやＴダイ等があるが、何れも好ましく用いられる。
【０１２８】
製膜速度を上げるため、加圧ダイを流延用支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して塗布してもよい。或いは、ダイの内部をスリットで分割し、組成の異なる複数のドープ液を同時に流延して、積層構造のセルロースエステルフィルムを得ることもできる。
【０１２９】
このように、得られたドープをベルト又はドラム等の支持体上に流延し、製膜するが、本発明においては、特に、ベルトを用いた溶液流延製膜法が、特に有効である。これは、後述のように支持体上での乾燥条件を細かく調整することが容易な点にある。
【０１３０】
（溶媒蒸発工程）
流延用支持体上にドープを流延し、形成されたドープ膜（以下、ウェブともいう）を流延用支持体上で加熱し、溶媒を蒸発させる工程である。溶媒を蒸発させるには、ウェブ表面側から風を吹かせる方法及び／又は支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏面から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が、乾燥効率の点で好ましい。また、それらを組み合わせる方法も好ましい。流延後、支持体上のウェブは、４０〜１００℃の雰囲気下で、支持体上で乾燥させることが好ましい。４０〜１００℃の雰囲気に維持するには、この温度の温風をウェブ上面に当てるか、あるいは赤外線等の手段により加熱することが好ましい。
【０１３１】
本発明の光学フィルムは、流延から３０〜９０秒以内でウェブを支持体から剥離することが好ましい。３０秒未満で剥離すると、フィルムの面品質が低下するだけでなく、透湿性の点でも好ましくない。逆に、９０秒を越えて乾燥させると、剥離性の悪化などにより面品質の低下や、フィルムに強いカールが発生するため好ましくない。
【０１３２】
（剥離工程）
支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で支持体から剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると、剥離し難かったり、逆に支持体上で充分に乾燥させてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。
【０１３３】
支持体上の剥離位置における温度は、好ましくは１０〜４０℃であり、更に好ましくは１１〜３０℃である。剥離位置におけるウェブの残留溶媒量は２５〜１２０質量％が好ましく、更に好ましくは４０〜１００質量％である。
【０１３４】
本発明に係るウェブの残留溶媒量は、下記式で定義される。
残留溶媒量＝（ウェブの加熱処理前質量−ウェブの加熱処理後質量）／（ウェブの加熱処理後質量）×１００％
尚、残留溶媒量を測定する際の加熱処理とは、１１５℃で１時間の加熱処理を行うことを表す。
【０１３５】
上記のように剥離時の残留溶媒量を調整するには、流延後の流延用支持体の表面温度を制御し、ウェブからの有機溶媒の蒸発を効率的に行えるように、流延用支持体上の剥離位置における温度を上記の温度範囲に設定することが好ましい。支持体温度を制御するには、伝熱効率のよい伝熱方法を使用するのがよく、例えば、液体による裏面伝熱方法が好ましい。
【０１３６】
輻射熱や熱風等による伝熱方法は支持体温度のコントロールが難しく、好ましい方法とはいえないが、ベルト（支持体）マシンにおいて、移送するベルトが下側に来た所の温度制御には、緩やかな風でベルト温度を調節することができる。
【０１３７】
支持体の温度は、加熱手段を分割することによって、部分的に支持体温度を変えることができ、流延用支持体の流延位置、乾燥部、剥離位置等異なる温度とすることができる。
【０１３８】
製膜速度を上げる方法（例えば、残留溶媒量ができるだけ多いうちに剥離するため製膜速度を上げることができる）として、残留溶媒が多くとも剥離できるゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。ゲル流延法には、ドープ中にセルロースエステルに対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。又、ドープ中に金属塩を加える方法もある。支持体上でゲル化させ膜を強くすることによって、剥離を早め製膜速度を上げることもできる。
【０１３９】
残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易く、経済速度と品質との兼ね合いで剥離残留溶媒量を決められる。支持体とフィルムを剥離する際の剥離張力は、通常１９６〜２４５Ｎ／ｍで剥離が行われるが、剥離の際にシワが入り易い場合、１９０Ｎ／ｍ以下で剥離することが好ましく、更には、剥離できる最低張力〜１６７Ｎ／ｍ、次いで、最低張力〜１３７Ｎ／ｍで剥離することが好ましいが、特に好ましくは、最低張力〜１００Ｎ／ｍで剥離することである。剥離張力が低いほど、面内リターデーションＲ０が低く保てるため好ましい。面内リターデーションＲ０は２０ｎｍ未満であることが好ましく、更には、１０ｎｍ未満、次いで、５ｎｍ未満であることが好ましいが、最も好ましくは０〜１ｎｍである。
【０１４０】
本発明において、面内リターデーションＲ０は、例えば、自動複屈折率計ＫＯＢＲＡ−２１ＡＤＨ（王子計測機器（株）製）を用いて、５９０ｎｍの波長において、三次元屈折率測定を行い、得られた屈折率ｎｘ、ｎｙ、ｎｚから算出することができる。又、膜厚方向のリターデーション値Ｒｔは０〜３００ｎｍのものが得られ、更に好ましくは０〜１５０ｎｍ、より好ましくは０〜７０ｎｍのものが用途に応じて好ましく得られる。Ｒ０及びＲｔは、下式により求めることができる。
【０１４１】
Ｒ０＝（ｎｘ−ｎｙ）×ｄ
Ｒｔ＝〔（ｎｘ−ｎｙ）／２−ｎｚ〕×ｄ
本発明に係るセルロースエステルフィルムは、遅相軸方向と製膜方向とのなす角度θ（ラジアン）と面内方向のレターデーションＲ０が下記の関係にあり、特に偏光板用保護フィルム等の光学フィルムとして好ましく用いられる。
【０１４２】
Ｐ≦１−ｓｉｎ２（２θ）ｓｉｎ２（πＲ０／λ）
Ｐ＝０．９９９９
ｎｘはフィルム面内の遅相軸方向の屈折率、ｎｙはフィルム面内の進相軸方向の屈折率、ｎｚはフィルムの厚み方向の屈折率であり、ｄはフィルムの膜厚（ｎｍ）である。θはフィルム面内の遅相軸方向と製膜方向（フィルムの直尺方向）とのなす角度（°ラジアン）、λは上記ｎｘ、ｎｙ、ｎｚ、θを求める三次元屈折率測定の際の光の波長５９０ｎｍ、πは円周率である。
【０１４３】
（乾燥工程）
乾燥工程は、ウェブを千鳥状に配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、あるいはクリップ又はピンでウェブの両端を保持して搬送するテンター装置を用いて、巾保持しながらウェブを乾燥する工程である。乾燥工程における搬送張力も、可能な範囲で低めに維持することがＲ０が低く維持できるため好ましく、１９０Ｎ／ｍ以下であることが好ましく、更に好ましくは１７０Ｎ／ｍ以下であり、更に好ましくは１４０Ｎ／ｍ以下であり、１００〜１３０Ｎ／ｍであることが特に好ましい。特に、フィルム中の残留溶媒量が少なくとも５質量％以下となるまで上記搬送張力以下に維持することが効果的である。
【０１４４】
乾燥の手段は、ウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代わりにマイクロウェーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は、でき上がりのフィルムの平面性を損ね易い。高温による乾燥は、残留溶媒が８質量％以下から行うことが好ましい。全体を通し、乾燥温度は、概ね４０〜２５０℃で行われる。特に４０〜１６０℃で乾燥させることが好ましい。
【０１４５】
流延用支持体面から剥離した後の乾燥工程では、溶媒の蒸発によってウェブは巾方向に収縮しようとする。高温度で急激に乾燥するほど収縮が大きくなる。
【０１４６】
この収縮を可能な限り抑制しながら乾燥することが、でき上がったフィルムの平面性を良好にする上で好ましい。この観点から、例えば、特開昭６２−４６６２５号に示されているような、乾燥全工程或いは一部の工程を巾方向にクリップ又はピンでウェブの巾両端を巾保持しつつ乾燥させる方法（テンター方式と呼ばれる）、中でも、クリップを用いるテンター方式、ピンを用いるピンテンター方式が好ましく用いられる。
【０１４７】
このとき、幅手方向の延伸倍率は０％〜１００％であることが好ましく、偏光板保護フィルムとして用いる場合は、５％〜２０％が更に好ましく、８％〜１５％が最も好ましく、位相差フィルムとして用いる場合は、１０％〜４０％が更に好ましく、２０％〜３０％が最も好ましい。延伸倍率によってＲ０をコントロールすることが可能で、延伸倍率が高い方ができ上がったフィルムの平面性に優れるため好ましい。
【０１４８】
テンターを行う場合のウェブの残留溶媒量は、テンター開始時に２０〜１００質量％であるのが好ましく、かつウェブの残留溶媒量が１０質量％以下になるまでテンターをかけながら乾燥を行うことが好ましく、更に好ましくは５質量％以下である。
【０１４９】
テンターを行う場合の乾燥温度は、３０〜１５０℃が好ましく、５０〜１２０℃が更に好ましく、７０〜１００℃が最も好ましい。乾燥温度の低い方が紫外線吸収剤、可塑剤などの蒸散が少なく、工程汚染に優れ、乾燥温度の高い方がフィルムの平面性に優れる。本発明に係る一般式（１）で表される紫外線吸収剤は、乾燥温度が高い場合でも、蒸散しにくいため、テンター乾燥温度が高く、延伸倍率の高い製造条件のときに、その効果が顕著発揮される。
【０１５０】
又、フィルムの乾燥工程においては、支持体より剥離したフィルムを更に乾燥し、残留溶媒量を０．５質量％以下にすることが好ましく、更に好ましくは０．１質量％以下であり、更に好ましくは０〜０．０１質量％以下とすることである。
【０１５１】
フィルム乾燥工程では、一般に、ロール懸垂方式か上記のようなピンテンター方式でフィルムを搬送しながら乾燥する方式が採られる。フィルムを乾燥させる手段は、特に制限なく、一般的に熱風、赤外線、加熱ロール、マイクロ波等で行う。簡便さの点で熱風で行うのが好ましい。乾燥温度は４０〜１５０℃の範囲で３〜５段階の温度に分けて、段々高くしていくことが好ましく、８０〜１４０℃の範囲で行うことが寸法安定性を良くするため更に好ましい。
【０１５２】
溶液流延製膜法では、流延直後から乾燥までの工程において、乾燥装置内の雰囲気を、空気とするのもよいが、窒素ガスや炭酸ガス、アルゴン等の不活性ガス雰囲気で行ってもよい。ただし、乾燥雰囲気中の蒸発溶媒の爆発限界の危険性は、常に考慮されなければならないことは勿論のことである。
【０１５３】
（巻き取り工程）
ウェブ中の残留溶媒量が２質量％以下となってから、乾燥されたセルロースエステルフィルムとして巻き取る工程であり、残留溶媒量を０．４質量％以下にすることにより、寸法安定性の良好なフィルムを得ることができる。
【０１５４】
巻き取り方法は、一般に使用されているものを用いればよく、例えば、定トルク法、定テンション法、テーパーテンション法、内部応力一定のプログラムテンションコントロール法等があり、それらを適宜選択して使いわければよい。
【０１５５】
膜厚の調節には、所望の厚さになるように、ドープ濃度、ポンプの送液量、ダイの口金のスリット間隙、ダイの押し出し圧力、流延用支持体の速度等をコントロールするのがよい。又、膜厚を均一にする手段として、膜厚検出手段を用いて、プログラムされたフィードバック情報を上記各装置にフィードバックさせて調節するのが好ましい。
【０１５６】
本発明の光学フィルムの膜厚は、使用目的によって異なるが、仕上がりフィルムとして、通常５〜５００μｍの範囲にあり、更に１０〜２５０μｍの範囲が好ましく、特に液晶画像表示装置用フィルムとしては１０〜１２０μｍの範囲が用いられる。請求項５に係る発明では、光学フィルムの膜厚が２０〜６５μｍの薄いフィルムであることが特徴であり、この膜厚の範囲とすることにより、透湿性とともに寸法安定にも優れる。
【０１５７】
本発明でいう透湿度とは、ＪＩＳ  Ｚ  ０２０８に記載の方法で測定された値で定義する。透湿度は２０〜２５０ｇ／ｍ2・２４時間であることが好ましいが、特に２０〜２００ｇ／ｍ2・２４時間であることが好ましい。透湿性が、２５０ｇ／ｍ2・２４時間を超えた場合では偏光板の耐久性が著しく低下し、逆に２０ｇ／ｍ2・２４時間未満では、偏光板製造時の接着剤に使われている水等の溶媒が乾燥しにくくなり、乾燥時間が長くなるため好ましくない。より好ましくは２５〜２００ｇ／ｍ2・２４時間である。
【０１５８】
又、本発明の光学フィルムでは、８０℃、９０％ＲＨにおける質量変化を少なくすることで、寸法安定性を更に改善することができる。
【０１５９】
本発明の光学フィルムでは、８０℃、９０％ＲＨで４８時間加熱処理した前後での質量変化率が、±２％以内とすることがより好ましく、これによって、透湿度が改善された薄膜フィルムでありながら、寸法変化率も優れたセルロースエステルフィルムを得ることができる。
【０１６０】
本発明の光学フィルムは、８０℃、９０％ＲＨ雰囲気下で４８時間加熱処理した際の寸法変化率は、ＭＤ方向（フィルムの製膜方向）、ＴＤ方向（フィルムの幅手方向）共に±０．５％以内であることが好ましく、更に±０．３％以内であることが好ましく、更に±０．１％以内であることが好ましく、更に±０．０５％以内であることが好ましい。本発明でいう寸法変化率とは、温度や湿度の条件が過酷な状況でのフィルム縦方向及び横方向の寸法変化を表す特性値である。具体的には加熱条件、加湿条件、熱湿条件にフィルムを置いて強制劣化としての、縦、横の寸法変化を測定する。例えば、測定しようとするフィルム試料について、幅手方向１５０ｍｍ×長手方向１２０ｍｍサイズに断裁し、該フィルム表面に、幅手方向及び長手方向それぞれに１００ｍｍ間隔で２カ所、カミソリ等の鋭利な刃物で十文字型の印を付ける。該フィルムを２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間以上調湿し、工場顕微鏡で処理前の幅手方向及び長手方向のそれぞれの印間距離Ｌ1を測定する。次に、試料を電気恒温槽中で、高温高湿（条件；８０℃、９０％ＲＨ）の環境下で４８時間放置をする。再び、試料を２３℃、５５％ＲＨの環境下で２４時間調湿し、工場顕微鏡で処理後の幅手方向及び長手方向のそれぞれの印間距離Ｌ2を測定する。この処理前後の変化率を次式によって求める。
【０１６１】
寸法変化率（％）＝（Ｌ2−Ｌ1）／Ｌ1×１００
式中、Ｌ1は処理前の印間距離、Ｌ2は処理後の印間距離を表す。
【０１６２】
また、１０５℃で５時間処理したときの寸法変化率は、ＭＤ方向、ＴＤ方向共に±０．５％以内であることが好ましく、更に±０．３％以内であることが好ましく、更に±０．１％以内であることが好ましく、更に±０．０５％以内であることが好ましい。
【０１６３】
本発明の光学フィルムは、抗張力がＭＤ方向、ＴＤ方向共に９０〜１７０Ｎ／ｍｍ2であることが好ましく、特に１２０〜１６０Ｎ／ｍｍ2であることが好ましい。また、含水率としては０．１〜５％が好ましく、０．３〜４％がより好ましく、０．５〜２％であることが更に好ましい。
【０１６４】
本発明の光学フィルムは、透過率が９０％以上であることが望ましく、更に好ましくは９２％以上であり、更に好ましくは９３％以上である。又、ヘイズは０．５％以下であることが好ましく、特に０．１％以下であることが好ましく、０％であることが更に好ましい。
【０１６５】
本発明の光学フィルムにおいては、カール値は絶対値が小さい方が好ましく、変形方向は、＋方向でも、−方向でもよい。カール値の絶対値は３０以下であることが好ましく、更に好ましくは２０以下であり、１０以下であることが特に好ましい。尚、カール値は、曲率半径（１／ｍ）で表される。
【０１６６】
以下、本発明の光学フィルムの溶液流延製膜法による製造方法について、図を用いて、更に詳細に説明する。
【０１６７】
図１は、フィルムの溶液流延製膜法の好ましい一例を示す模式図である。図１（ａ）は流延後、ロール搬送・乾燥工程で乾燥する場合の模式図である。図１（ｂ）は流延後、ロール搬送・乾燥工程で乾燥し、その後テンター搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の模式図である。図１（ｃ）は流延後、テンター搬送・乾燥工程で乾燥し、その後ロール搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の模式図である。図１（ｄ）は流延後、ロール搬送・乾燥工程で乾燥し、その後テンター搬送・乾燥工程で乾燥し、その後ロール搬送・乾燥工程で乾燥を行う場合の模式図である。
【０１６８】
尚、本発明において、テンター搬送・乾燥工程及びロール搬送・乾燥工程を含む工程とは、支持体から剥離されたフィルムを乾燥して巻き取る迄の工程のどこかに、フィルムの乾燥伸縮率を調整するテンター搬送・乾燥工程及びロール搬送・乾燥工程を有する工程をいう。テンター搬送・乾燥工程とはテンター搬送装置で搬送しながら同時に乾燥を行い、乾燥伸縮率を調整する工程を言い、ロール搬送・乾燥工程とはロール搬送装置で搬送しながら同時に乾燥を行い、乾燥伸縮率を調整する工程をいう。
【０１６９】
図１において、１はエンドレスで走行する支持体を示す。支持体としては鏡面帯状金属が使用されている。２はセルロースエステル樹脂を溶媒に溶解したドープを、支持体１に流延するダイスを示す。３は支持体１に流延されたドープが固化したフィルムを剥離する剥離点を示し、４は剥離されたフィルムを示す。５はテンター搬送・乾燥工程を示し、５１は排気口を示し、５２は乾燥風取り入れ口を示す。尚、排気口５１と乾燥風取り入れ口５２は逆であっても良い。６は張力カット手段を示す。張力カット手段としてはニップロール、サクションロール等が挙げられる。尚、張力カット手段６は各工程間に設けてもかまわない。
【０１７０】
８はロール搬送・乾燥工程を示し、８１は乾燥箱を示し、８２は排気口を示し、８３は乾燥風取り入れ口を示す。なお、排気口８２と乾燥風取り入れ口８３は逆であっても良い。８４は上部搬送用ロールを示し、８５は下部搬送用ロールを示す。該搬送用ロール８４、８５は上下で一組で、複数組から構成されている。７は巻き取られたロール状のフィルムを示す。
【０１７１】
図１（ｄ）で示される工程において、テンター搬送・乾燥工程５の前のロール搬送・乾燥工程を第１ロール搬送・乾燥工程と呼び、テンター搬送・乾燥工程５の後のロール搬送・乾燥工程を第２ロール搬送・乾燥工程と呼ぶ。なお、図１（ａ）〜（ｄ）では示されていない冷却工程を、巻き取る前に必要に応じて設けても良い。
【０１７２】
本発明においては、上述した何れの溶液流延製膜法による形態でセルロースエステルフィルムを製造しても構わない。
【０１７３】
本発明の光学フィルムは、良好な透湿性、寸法安定性等から液晶表示用部材、詳しくは偏光板用保護フィルムに用いられるのが好ましい。特に、透湿度と寸法安定性に対してともに厳しい要求のある偏光板用保護フィルムにおいて、本発明の光学フィルムは好ましく用いられる。
【０１７４】
本発明に係る偏光板は、一般的な方法で作製することができる。例えば、光学フィルム或いはセルロースエステルフィルムをアルカリケン化処理し、ポリビニルアルコールフィルムをヨウ素溶液中に浸漬、延伸して作製した偏光膜の両面に、完全ケン化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせる方法がある。アルカリケン化処理とは、水系接着剤の濡れを良くし、接着性を向上させるために、セルロースエステルフィルムを高温の強アルカリ液中に漬ける処理のことをいう。
【０１７５】
本発明の光学フィルムには、ハードコート層、防眩層、反射防止層、防汚層、帯電防止層、導電層、光学異方層、液晶層、配向層、粘着層、接着層、下引き層等の各種機能層を付与することができる。これらの機能層は塗布或いは蒸着、スバッタ、プラズマＣＶＤ、大気圧プラズマ処理等の方法で設けることができる。
【０１７６】
このようにして得られた偏光板が、液晶セルの片面又は両面に設けられ、これを用いて、本発明の液晶表示装置が得られる。
【０１７７】
本発明の光学フィルムからなる偏光板用保護フィルムを用いることにより、薄膜化とともに、耐久性及び寸法安定性、光学的等方性に優れた偏光板を提供することができる。更に、本発明の偏光板或いは位相差フィルムを用いた液晶表示装置は、長期間に亘って安定した表示性能を維持することができる。
【０１７８】
本発明の光学フィルムは、反射防止用フィルム或いは光学補償フィルムの基材としても使用できる。
【０１７９】
【実施例】
以下、実施例により本発明の態様を具体的に説明するが、本発明はこれらにより限定されるものではない。なお、以下に記載の「部」は「質量部」を表す。
【０１８０】
実施例１
以下に、本発明に係る紫外線吸収性モノマーとそれから誘導されるポリマーの合成例を示す。
【０１８１】
（合成例１）
２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−２）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０１８２】
３０．７ｇの２−アミノ−ｐ−クレゾールを２５０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸８３ｍｌを加えた。これに、３５ｍｌの水に溶解させた１７．２ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、この溶液を、３６．１ｇのｍ−フェニレンジアミン塩酸塩水溶液５００ｍｌ中に０℃で加えた。この溶液を０℃に保ちながら、１７０ｇの酢酸ナトリウムを２５０ｍｌの水に溶解させた水溶液を滴下した後、５℃で２時間、更に、室温で２時間撹拌した。反応液のｐＨをアンモニア水で８に調整した後、沈殿物をろ過し、よく水洗した。
【０１８３】
ろ過した沈殿物４８．４ｇを、３００ｍｌのメタノールに溶解させ、１５０ｇの硫酸銅５水和物を３６０ｍｌの水と６００ｍｌのアンモニア水に溶解させた水溶液を加えた後、９５℃で２時間撹拌した。冷却後、沈殿物をろ過し、濾液が透明になるまで水洗した。ろ過した沈殿物を５モル／Ｌの塩酸水溶液５００ｍｌ中で１時間撹拌した後、ろ過し、再び２００ｍｌの水に溶解させ、アンモニア水でｐＨ８に調整した。これをろ過、水洗、乾燥後、酢酸エチルから再結晶を行うことで、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾールが得られた。
【０１８４】
１２．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−メチルフェニル）−５−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノンとを、７０℃で１１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶かした溶液に６．３ｇの炭酸水素ナトリウムを加えた。この溶液に、１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶かしたメタクリル酸クロリドを６０℃で３０分かけて滴下した。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、エチレングリコールモノメチルエーテルで再結晶を行うことで例示化合物ＭＵＶ−２である２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１８５】
（合成例２）
２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（ＰＵＶ−２）を下記に示す方法に従って合成した。
【０１８６】
テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成例１で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．２０ｇを加えた。窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿を濾取し、４０℃で真空乾燥した。９．４ｇの灰白色紛状重合体であるＰＵＶ−２を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均分子量が７，４００であることを確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶ吸収スペクトルから、該共重合体が２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。該重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。
【０１８７】
（合成例３）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−１９）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０１８８】
２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。この溶液に、１７．３ｇの４−ｔ−ブチルフェノールを水５０ｍｌとエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中に、炭酸カリウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃で滴下した。この溶液を０℃に保ちながら１時間、更に室温で１時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成した沈殿物をろ過した後、よく水洗した。
【０１８９】
ろ過した沈殿を５００ｍｌの１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加えた後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和して中性とした。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥後、酢酸エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うことにより、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１９０】
次いで、１０．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノン、４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００ｍｌ中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間加熱灌流を行う。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行うことで、例示化合物ＭＵＶ−１９である２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０１９１】
（合成例４）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（ＰＵＶ−１９）を下記に記載の方法に従って合成した。
【０１９２】
テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成例３で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１４ｇを加えた。窒素雰囲気下で９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して、９．１ｇの灰白色紛状重合体であるＰＵＶ−１９を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均分子量８６００のものであると確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体が、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。
【０１９３】
（合成例５）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−４）を、以下に記載の方法に従って合成した。
【０１９４】
４１．２ｇの２−アミノ−ｐ−ｔ−ブチルフェノールを２５０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸８３ｍｌを加えた。３５ｍｌの水に溶解させた１７．２ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、この溶液を、３６．１ｇのｍ−フェニレンジアミン塩酸塩水溶液５００ｍｌ中に０℃で加えた。この溶液を０℃に保ちながら、１７０ｇの酢酸ナトリウムを２５０ｍｌの水に溶解させた水溶液を滴下した後、５℃で２時間、更に、室温で２時間撹拌した。反応液のｐＨをアンモニア水で８に調整した後、沈殿物をろ過し、よく水洗した。
【０１９５】
ろ過した沈殿物５４．９ｇを３００ｍｌのメタノールに溶解させ、１５０ｇの硫酸銅５水和物を３６０ｍｌの水と６００ｍｌのアンモニア水に溶解させた水溶液を加えた後、９５℃で２時間撹拌した。冷却後、沈殿物をろ過し、濾液が透明になるまで水洗した。ろ過した沈殿物を５モル／Ｌの塩酸水溶液５００ｍｌ中で１時間撹拌した後、ろ過し、再び２００ｍｌの水に溶解させ、アンモニア水でｐＨを８に調整した。これをろ過、水洗、乾燥後、酢酸エチルから再結晶を行うことで、２（２′−ヒドロキシ−５′ｔ−ブチル−フェニル）−５−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾールを得た。
【０１９６】
次いで、１４．１ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−５−アミノ−２Ｈベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノンとを、７０℃で１１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶かした溶液に６．３ｇの炭酸水素ナトリウムを加えた。この溶液に、１０ｍｌのテトラヒドロフランに溶かしたメタクリル酸クロリドを６０℃で３０分かけて滴下した。反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、エチレングリコールモノメチルエーテルで再結晶を行うことで、例示化合物ＭＵＶ−４である２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールを得ることができた。
【０１９７】
（合成例６）
２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（ＰＵＶ−４）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０１９８】
テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成例５で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチルフェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１７ｇを加えた。窒素雰囲気下、９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して９．４ｇの灰白色紛状重合体のＰＵＶ−４を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均分子量７９００のものであることを確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体が２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−ｔ−ブチル−フェニル）−５−メタクリロイルアミノ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。
【０１９９】
（合成例７）
２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール（例示化合物ＭＵＶ−１７）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０２００】
２０．０ｇの３−ニトロ−４−アミノ−安息香酸を１６０ｍｌの水に溶かし、濃塩酸４３ｍｌを加えた。２０ｍｌの水に溶解させた８．０ｇの亜硝酸ナトリウムを０℃で加えた後、０℃のまま２時間撹拌した。この溶液に、１２．４ｇのｐ−クレゾールを水５０ｍｌとエタノール１００ｍｌに溶解させた溶液中に、炭酸カリウムで液性をアルカリ性に保ちながら０℃で滴下した。この溶液を０℃に保ちながら１時間、更に室温で１時間撹拌した。反応液を塩酸で酸性にし、生成した沈殿物をろ過した後、よく水洗した。
【０２０１】
ろ過した沈殿物を５００ｍｌの１モル／ＬのＮａＯＨ水溶液に溶解させ、３５ｇの亜鉛粉末を加えた後、４０％ＮａＯＨ水溶液１１０ｇを滴下した。滴下後、約２時間撹拌し、ろ過、水洗し、濾液を塩酸で中和した。析出した沈殿物をろ過、水洗、乾燥した後、酢酸エチルとアセトンの混合溶媒で再結晶を行うことにより、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０２０２】
次いで、８．６５ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと０．１ｇのハイドロキノン、４．６ｇの２−ヒドロキシエチルメタクリレート、０．５ｇのｐ−トルエンスルホン酸とをトルエン１００ｍｌ中に加え、エステル管を備えた反応容器で１０時間加熱灌流を行った。次いで、反応溶液を水中に注ぎ、析出した結晶をろ過、水洗、乾燥し、酢酸エチルで再結晶を行うことで、例示化合物ＭＵＶ−１７である２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールが得られた。
【０２０３】
（合成例８）
２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルとの共重合体（ＰＵＶ−１７）を、下記に記載の方法に従って合成した。
【０２０４】
テトラヒドロフラン８０ｍｌに、上記合成例７で合成した４．０ｇの２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールと６．０ｇのメタクリル酸メチルとを加え、次いで、アゾイソブチロニトリル１．１６ｇを加えた。窒素雰囲気下、９時間加熱還流した。テトラヒドロフランを減圧留去した後、２０ｍｌのテトラヒドロフランに再溶解し、大過剰のメタノール中に滴下した。析出した沈殿物を濾取し、４０℃で真空乾燥して９．１ｇの灰白色紛状重合体のＰＵＶ−１７を得た。この共重合体は、標準ポリスチレンを基準とするＧＰＣ分析により、重量平均分子量９２００のものであることを確認した。また、ＮＭＲスペクトル及びＵＶスペクトルから、上記共重合体が２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾールとメタクリル酸メチルの共重合体であることを確認した。上記重合体の組成は略、２（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）−５−カルボン酸−（２−メタクリロイルオキシ）エチルエステル−２Ｈ−ベンゾトリアゾール：メタクリル酸メチル＝４０：６０であった。
【０２０５】
なお、本発明に係る他の紫外線吸収剤及び紫外線吸収性ポリマーも、上記と同様の方法に準じて合成及び重合することにより得ることができる。
【０２０６】
実施例２
《光学フィルム試料の作製》
以下に示す方法に従って、光学フィルム（トリアセテートフィルムともいう）１〜１０を作製した。
【０２０７】
〔光学フィルム１の作製〕
（酸化珪素分散液の調製）
アエロジルＲ−９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製：一次粒子の平均粒子径１６ｎｍ、見掛け比重９０ｇ／リットル）                      １５質量部
エタノール                                                ８５質量部
上記各添加剤を、ディゾルバー型攪拌機で３０分間撹拌混合した後、マントンゴーリン型高圧分散機で分散を行った。分散後の液濁度は１０５ｐｐｍであり、数平均粒子径は０．１８μｍであった。
【０２０８】
（インライン添加液Ａの調製）
紫外線吸収剤（例示化合物ＵＶ−１１）                      １１質量部
リンター綿から合成されたセルローストリアセテート            ４質量部
メチレンクロライド                                      １００質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完全に溶解した後、濾過した。これに、上記酸化珪素分散液の２０質量部を撹拌しながら加え、さらに３０分間撹拌した後、アドバンテック東洋（株）のポリプロピレンワインドカートリッジフィルターＴＣＷ−ＰＰＳ−２０Ｎで濾過し、インライン添加液Ａを調製した。インライン添加液Ａ中の微粒子の数平均粒子径は０．２５μｍであった。
【０２０９】
（ドープ液Ａの調製）
リンター綿から合成されたセルローストリアセテート          ８５質量部
木材パルプから合成されたセルローストリアセテート          １５質量部
トリフェニルフォスフェイト                            １１．５質量部
メチレンクロライド                                      ４７５質量部
エタノール                                                ５０質量部
以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら、完全に溶解し、安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、ドープ液Ａを調製した。
【０２１０】
（フィルム製膜）
製膜ライン中で、日本精線（株）製のファインメットＮＦ（絶対濾過精度５０μｍ、１５μｍ、５μｍの順に順次濾過精度を上げて使用）でドープ液Ａを濾過した。一方、インライン添加液の送液ライン中で、日本精線（株）製のファインメットＮＦ（絶対濾過精度５０μｍ、１５μｍ、５μｍの順に順次濾過精度を上げて使用）によりインライン添加液Ａを濾過した。濾過したドープ液Ａ１００質量部に対し、濾過したインライン添加液Ａを２．２質量部加えて、インラインミキサー（東レ社製静止型管内混合機  Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分混合し、次いで、ベルト流延装置を用い、温度３３℃、１５００ｍｍ幅でステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体で、残留溶媒量が８０％になるまで溶媒を蒸発させ、剥離張力１２７Ｎ／ｍでステンレスバンド支持体上から剥離した。剥離したセルローストリアセテートフィルムを１５５０ｍｍ幅に断裁し、その後、テンターで幅方向に１０％延伸しながら、７０℃の乾燥温度で乾燥させ、その後、１２０℃と１３５℃との各乾燥ゾーンを多数のロールで搬送させながら乾燥を終了させ、１３３０ｍｍ幅にスリッティングして、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ５μｍのナーリング加工をエアー面側に施して、セルローストリアセテートフィルムである光学フィルム１を作製した。光学フィルム１の膜厚は４０μｍ、巻数は４０００ｍであった。
【０２１１】
〔光学フィルム２〜１０の作製〕
上記光学フィルム１の作製において、インライン添加液Ａ中の紫外線吸収剤の種類及び添加量を、表１に記載のように変更した以外は同様にして、光学フィルム２〜１０を作製した。
【０２１２】
【化１７】
0003959999.tif 000013
【０２１３】
《光学フィルム試料の評価》
以上のようにして作製した光学フィルム１〜１０について、下記に記載の方法に従って、フィルム特性の各評価を行った。
【０２１４】
〔ＵＶ吸収性能の評価〕
Ｓｐｅｃｔｒｏｐｈｏｔｏｍｅｔｅｒ  Ｕ−３２００（日立製作所製）を用い、各光学フィルムの分光吸収スペクトルを測定し、４００ｎｍと３８０ｎｍに於ける透過率を求め、以下のようにランク分けを行った。各ランクにおいて、４００ｎｍの透過率は高い程優れており、３８０ｎｍの透過率は低い程優れている。
【０２１５】
（４００ｎｍ透過率）
Ａ：透過率８０％以上
Ｂ：透過率７０％以上８０％未満
Ｃ：透過率６０％以上７０％未満
Ｄ：透過率６０％未満
（３８０ｎｍ透過率）
Ａ：透過率５％未満
Ｂ：透過率５％以上８％未満
Ｃ：透過率８％以上１０％未満
Ｄ：透過率１０％以上
〔ヘイズの測定〕
以下の方法に従い、２方法によるヘイズ（失透度）測定を行った。
【０２１６】
（１枚値の測定）
各光学フィルム１枚を、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定した。
【０２１７】
（３枚値の測定）
各光学フィルム３枚を重ね合わせ、ＡＳＴＭ−Ｄ１００３−５２に従って、東京電色工業（株）社製Ｔ−２６００ＤＡを使用して測定した。
【０２１８】
〔耐久性：ブリードアウトの評価〕
各光学フィルムを、８０℃、９０％ＲＨの高温高湿雰囲気下で１０００時間放置後、光学フィルム表面のブリードアウト（結晶析出）の有無を目視観察を行い、下記に記載の基準に従ってブリードアウトの評価を行った。
【０２１９】
◎：光学フィルム表面にブリードアウトの発生が全く認められない
○：光学フィルム表面で、部分的なブリードアウトが僅かに認められる
△：光学フィルム表面で、全面に亘りブリードアウトが僅かに認められる
×：光学フィルム表面で、全面に亘り明確なブリードアウトが認められる
〔耐光性の評価〕
以下に記載の方法に従い、各光学フィルムのアルカリケン化処理を行った後、偏光板を作製し、未処理試料の平行透過率（Ｈ0）と直行透過率（Ｈ90）を測定し、下式に従って偏光度を算出した。その後、各々の偏光板をサンシャインウェザーメーター５００時間、ＵＶカットフィルター無しでの条件で強制劣化処理を施した後、再度、劣化処理後の平行透過率（Ｈ0′）と直行透過率（Ｈ90′）を測定し、下式に従って偏光度Ｐ0、Ｐ500を算出し、偏光度変化量を下記式により求めた。
【０２２０】
〈アルカリケン化処理〉
ケン化工程：２モル／ＬＮａＯＨ    ５０℃  ９０秒
水洗工程  ：      水              ３０℃  ４５秒
中和工程  ：１０質量％ＨＣｌ      ３０℃  ４５秒
水洗工程  ：      水              ３０℃  ４５秒
上記条件で各試料を、ケン化、水洗、中和、水洗の順に行い、次いで８０℃で乾燥を行った。
【０２２１】
〈偏光板の作製〉
厚さ１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、沃素１ｋｇ、ホウ酸４ｋｇを含む水溶液１００ｋｇに浸漬し、５０℃で６倍に延伸して偏光膜を作った。この偏光膜の両面に、上記アルカリケン化処理を行った試料を、完全ケン化型ポリビニルアルコール５％水溶液を粘着剤として各々貼り合わせ偏光板を作製した。
【０２２２】
〈偏光度Ｐ0、Ｐ500の算出〉
偏光度Ｐ0＝〔（Ｈ0−Ｈ90）／（Ｈ0＋Ｈ90）〕1/2×１００
偏光度Ｐ500＝〔（Ｈ0′−Ｈ90′）／（Ｈ0′＋Ｈ90′）〕1/2×１００
偏光度変化量＝Ｐ0−Ｐ500
Ｐ0：強制劣化前の偏光度
Ｐ500：強制劣化処理５００時間後の偏光度
〈耐光性の判定〉
以上のようにして求めた偏光度変化量を、以下に記載の基準に則り判定し、耐光性の評価を行った。
【０２２３】
◎：偏光度変化量１０％未満
○：偏光度変化量１０％以上２５％未満
×：偏光度変化量２５％以上
以上により得られた結果を表１に示す。
【０２２４】
【表１】
0003959999.tif 000014
【０２２５】
表１より明らかなように、本発明に係る紫外線吸収剤を含有した本発明の光学フィルムは、比較例に対し、ＵＶ吸収性能、ヘイズ特性、耐久性及び耐光性のいずれにおいても優れていることが判る。
【０２２６】
実施例３
《光学フィルム試料の作製》
実施例２に記載の光学フィルム１の作製において、インライン添加液Ａ中の紫外線吸収剤（例示化合物ＵＶ−１１）を、表２に記載の紫外線吸収剤ポリマー及びその添加量とした以外は同様にして、光学フィルム１０１〜１０８を作製し、実施例２に記載の方法に従い、ＵＶ吸収性能の評価、ヘイズの測定、耐久性（ブリードアウトの評価）及び耐光性の評価を行い、得られた結果を表２に示す。
【０２２７】
なお、表２に記載の比較化合物３のＰＵＶは、比較化合物３：メチルメタクリル酸との共重合体（質量比３０：７０）を実施例１に記載の方法に準じて調製した。
【０２２８】
【化１８】
0003959999.tif 000015
【０２２９】
【表２】
0003959999.tif 000016
【０２３０】
表２より明らかなように、実施例の結果と同様に本発明に係る紫外線吸収剤ポリマーを含有した本発明の光学フィルムは、比較例に対し、ＵＶ吸収性能、ヘイズ特性、耐久性及び耐光性のいずれにおいても優れていることが判る。
【０２３１】
実施例４
反射型ＴＦＴカラー液晶表示装置を搭載した市販の携帯機器（シャープ製  パーソナルモバイルツール  Ｚａｕｒｕｓ  型名：ＭＩ−Ｌ１）の偏光板を注意深く剥離し、ここに実施例２、３で作製した各偏光板を、偏光方向を合わせて液晶表示パネルに張り付けた。それぞれの液晶表示パネルについて、目視にてコントラストを評価した結果、本発明の偏光板を用いた液晶表示パネルは、比較例の偏光板を用いた液晶表示パネルに対し長期間に渡って、高いコントラストが維持され、不自然な黄色みも無く、色再現性に優れていることが確認された。
【０２３２】
【発明の効果】
本発明により、紫外部の吸収特性、透明性、耐久性（ブリードアウト故障）及び耐光性に優れた光学フィルムとそれを用いた偏光板及び表示装置を提供することができた。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明で用いることのできる光学フィルムの溶液流延製膜法の好ましい一例を示す模式図である。
【符号の説明】
１  支持体
２  ダイス
４  フィルム
５  テンター搬送・乾燥工程
６  張力カット手段
８  ロール搬送・乾燥工程
８４  上部搬送用ロール
８５  下部搬送用ロール
【図１】
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