(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するために使用されるパターン形成手段を支持するための第１のオブジェクト・テーブルと、基板を保持するための第２のオブジェクト・テーブルと、投影ビームのための真空ビーム経路を生成するための、第１のガス排出手段を備えた真空チャンバと、パターンが形成されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、前記真空チャンバ内で少なくとも１つの自由度で可動な構成要素にユーティリティを提供するための管路と、を有するリソグラフィ投影装置であって、
前記管路は、可撓性金属ベローを有するとともに、前記可撓性金属ベローを重力に平行な第１の方向の両側から支持しかつ第１の方向に垂直な第２及び第３の方向への前記可撓性金属ベローの案内を可能にするための一対の可撓性プレートを有するものである、
リソグラフィ投影装置。
【請求項２】
前記管路は、前記可撓性プレートを前記可撓性金属ベローと接続するための接続要素を有するものである、
請求項１に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項３】
前記接続要素は、高い熱伝導を有する金属からなるものである、
請求項２に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項４】
前記第２及び第３の方向での前記可撓性プレートの柔軟性が、その全長にわたって変化するものである、
請求項１から３の何れか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項５】
前記管路は、前記管路のために必要な空間を制限するために、前記管路の一部分に固定ベンドを有するものである、
請求項１から４の何れか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項６】
前記管路は、前記管路の振動を減衰させるための減衰手段に接続されるものである、
請求項１から５の何れか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項７】
前記減衰手段は、マグネット・プレートによって提供される磁場の影響下で減衰する渦電流ダンパである、
請求項６に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項８】
前記管路は、前記管路の振動を防止するためのサブフレームを有するものである、
請求項１から７の何れか一項に記載のリソグラフィ投影装置。
【請求項９】
リソグラフィ装置を用いたデバイス製造方法であって、放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われている基板を提供するステップと、真空チャンバに真空を提供するステップと、放射線システムを使用して、前記真空チャンバを通して放射線の投影ビームを投影するステップと、パターン形成手段を使用して投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、パターンが形成された放射線の投影ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分に投影するステップと、を含むデバイス製造方法において、
前記真空チャンバ内の少なくとも第１の方向に可動な少なくとも１つの構成要素に、可撓性金属ベローを有する管路を通してユーティリティを提供するステップと、
一対の可撓性プレートを用いて、前記可撓性金属ベローを重力に平行な第１の方向の両側から支持するステップと、
前記可撓性プレートを用いて、第１の方向に垂直な第２及び第３の方向への前記可撓性金属ベローの案内を可能にするステップと、をさらに含む、
デバイス製造方法。
【請求項１０】
減衰手段を用いて、管路の振動を減衰させるステップをさらに含む、
請求項９に記載のデバイス製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ケーブル、ホース、またはパイプを通して、真空チャンバ内の可動構成要素に、電力、水、制御信号、およびガスなどのユーティリティを提供するための管路に関するものである。より詳細には、本発明は、そのようなデバイスを、
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
所望のパターンに従って投影ビームにパターンを形成するために使用されるパターン形成手段を支持するための第１のオブジェクト・テーブルと、
基板を保持するための第２のオブジェクト・テーブルと、
投影ビームのための真空ビーム経路を生成するための、第１のガス排出手段を備えた真空チャンバと、
パターンを形成されたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
真空チャンバ内にある少なくとも１つの自由度で可動な構成要素にユーティリティを提供するための管路と、
を備えたリソグラフィ投影装置内に組み込むことに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
本明細書で使用される用語「パターニング手段（パターン形成手段）」は、基板のターゲット部分に形成するパターンに対応したパターンを付けられた断面を入射放射線ビームに与えるために使用することができる手段を表すものと広く解釈すべきである。用語「光バルブ」をこの文脈で使用することもできる。一般に、前記パターンは、集積回路やその他のデバイス（以下参照）などターゲット部分に作成されるデバイス内の特定の機能層に対応している。このようなパターニング手段の例としては、次のようなものが挙げられる。
（１）マスク。マスクの概念はリソグラフィの分野でよく知られており、二相、交流位相シフト、減衰位相シフトなどのタイプのマスク、ならびに様々なハイブリッド・タイプのマスクを含む。放射線ビーム中にそのようなマスクを配置することにより、マスク上のパターンに従って、マスクに衝突する放射線の選択的透過（透過性マスクの場合）または反射（反射性マスクの場合）が生じる。マスクの場合、支持構造は通常マスク・テーブルであり、マスク・テーブルは、入射放射線ビームにおける所望の位置にマスクを保持することができることを保証し、かつ必要であればマスクをビームに対して移動することができることも保証する。
（２）プログラム可能ミラー・アレイ。そのようなデバイスの一例は、粘弾性制御層および反射表面を有するマトリックス・アドレス可能な表面である。そのような装置の背後にある基本原理は、（例えば）反射表面のアドレスされた領域が入射光を回折光として反射し、アドレスされていない領域が入射光を非回折光として反射することである。適切なフィルタを使用して、非回折光を反射ビームからフィルタ除去し、後ろに回折光のみを残すことができる。このようにすると、マトリックス・アドレス可能表面のアドレス指定パターンに従ってビームにパターンを付けられるようになる。プログラム可能ミラー・アレイの代替実施形態は、小さなミラーのマトリックス構成を使用することであり、ミラーはそれぞれ、適切な局所電場を印加することによって、または圧電作動手段を使用することによって、軸に関して個別に傾けることができる。ここでもやはり、ミラーはマトリックス・アドレス可能であり、そのため、アドレスされたミラーは、アドレスされていないミラーと異なる方向に入射放射ビームを反射する。このようにすると、反射されたビームは、マトリックス・アドレス可能ミラーのアドレス・パターンに従ってパターンを付けられる。必要なマトリックス・アドレス指定は、適切な電子手段を使用して実施することができる。本明細書で上述したどちらの状況でも、パターニング手段は、１つまたは複数のプログラム可能ミラー・アレイを備えることができる。本明細書で言及するミラー・アレイに関するより多くの情報は、例えば参照により本明細書に組み込む米国特許第５２９６８９１号および米国特許第５５２３１９３号、ならびにＰＣＴ特許出願ＷＯ９８／３８５９７号およびＷＯ９８／３３０９６号から得ることができる。プログラム可能ミラー・アレイの場合、前記支持構造を、例えばフレームまたはテーブルとして実現することができ、必要に応じて固定することも、可動にすることもできる。
（３）プログラム可能ＬＣＤアレイ。そのような構成の一例は、参照により本明細書に組み込む米国特許第５２２９８７２号に与えられている。上と同様に、この場合の第１のオブジェクト・テーブルも、例えばフレームまたはテーブルとして実施することができ、必要に応じて固定することも、可動にすることもできる。
話を簡単にするために、この本明細書ではここから先、いくつかの箇所でマスクおよびマスク・テーブルに関わる例に特に注目することがある。しかし、そのような例で論じられる一般的な原理は、本明細書で上述したパターニング手段の、より広い文脈で見るべきである。
【０００３】
リソグラフィ投影装置は、例えば集積回路（ＩＣ）の製造に使用することができる。そのような場合、パターニング手段は、ＩＣの個々の層に対応する回路パターンを生成することができ、このパターンを、感光性材料（レジスト）の層で被覆されている基板（シリコン・ウェハ）上のターゲット部分（例えば１つまたは複数のダイを備える）に結像することができる。一般に、単一のウェハが、１度に１つずつ投影システムによって連続的に照射される隣接ターゲット部分の回路網全体を含む。マスク・テーブル上のマスクによるパターニングを採用する現行装置では、２つの異なるタイプの装置に区分することができる。１つのタイプのリソグラフィ投影装置では、各ターゲット部分が、マスク・パターン全体を一括してターゲット部分に露光することによって照射される。そのような装置は、一般にウェハ・ステッパと呼ばれる。代替装置（一般にステップ・アンド・スキャン装置と呼ばれる）では、各ターゲット部分は、所与の基準方向（「スキャン」方向）に投影ビーム下でマスク・パターンを漸次スキャンし、それと同時にこの方向に平行に、または反平行に基板テーブルを同期してスキャンすることによって照射される。一般に、投影システムが倍率Ｍ（通常Ｍ＜１）を有するので、基板テーブルがスキャンされる速度Ｖは、マスク・テーブルがスキャンされる速度のＭ倍となる。ここに記述したリソグラフィ・デバイスに関するより多くの情報は、例えば参照により本明細書に組み込む米国特許第６０４６７９２号から得ることができる。
【０００４】
リソグラフィ投影装置を使用する製造プロセスでは、（例えばマスクにおける）パターンが、感光性材料（レジスト）の層によって少なくとも部分的に覆われた基板上に結像される。このイメージング・ステップの前に、基板にプライミング、レジスト・コーティング、ソフト・ベークなど様々な処置を施すことができる。露光後に、露光後ベーク（ＰＥＢ）、現像、ハード・ベーク、および結像されたフィーチャの測定／検査など他の処置を基板に施すこともできる。この一連の処置は、デバイス、例えばＩＣの個々の層にパターンを付けるための基礎として使用される。次いで、そのようなパターン付けされた層に、エッチング、イオン注入（ドーピング）、メタライゼーション、酸化、化学機械研磨など様々なプロセスを施すことができる。これらは全て、個々の層を完成させるためのものである。複数の層が必要な場合、手順全体、またはその変形が、各新たな層ごとに繰り返されなければならない。最終的に、デバイスのアレイが基板（ウェハ）上に存在することになる。次いで、これらのデバイスを、ダイシングやソーイングなどの技法によって互いに分離し、個々のデバイスを、例えばキャリアに取り付けたり、またはピンなどに接続することができる。そのようなプロセスに関するさらに詳しい情報は、例えば参照により本明細書に組み込むピーター・ファン・ツァント（Ｐｅｔｅｒ  ｖａｎ  Ｚａｎｔ）の著書「マイクロチップの製造；半導体処理のための実用ガイド（Ｍｉｃｒｏｃｈｉｐ  Ｆａｂｒｉｃａｔｉｏｎ：Ａ  Ｐｒａｃｔｉｃａｌ  Ｇｕｉｄｅ  ｔｏ  Ｓｅｍｉｃｏｎｄｕｃｔｏｒ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ）」第３版，マグローヒル出版社，１９９７，ＩＳＢＮ０−０７−０６７２５０−４から得ることができる。
【０００５】
話を簡単にするために、本明細書では、投影システムを以後「レンズ」と呼ぶ場合がある。しかし、この用語は、例えば屈折光学系、反射光学系、反射屈折光学系を含めた様々なタイプの投影システムを包含するものとして広く解釈すべきである。また、放射線システムは、放射線の投影ビームを指向し、成形し、または制御するためのこれら設計タイプのいずれかに従って動作する構成要素を含むことができ、そのような構成要素も以下で総称して、または個別に「レンズ」と呼ぶ場合がある。さらに、リソグラフィ装置は、２つ以上の基板テーブル（および／または２つ以上のマスク・テーブル）を有するタイプのものであってよい。そのような「多ステージ」デバイスでは、追加のテーブルを並列に使用することができ、あるいは１つまたは複数のテーブルに関して予備ステップを行い、一方同時に１つまたは複数の他のテーブルを露光することができる。２ステージ・リソグラフィ装置は、例えば、参照により本明細書に組み込む米国特許第５９６９４４１号およびＷＯ９８／４０７９１号に記載されている。
【０００６】
リソグラフィ装置では、基板上に像を形成することができるフィーチャのサイズが、投影放射線の波長によって制限される。より高いデバイス密度、したがってより高い動作速度を有する集積回路を生成するために、より小さなフィーチャの像を形成できることが望まれる。最新のリソグラフィ投影装置は、水銀ランプまたはエキシマ・レーザによって発生される紫外光を採用するが、約１３ｎｍの、より短い波長の放射線を使用することが提案されてきた。そのような放射線は、極紫外線（ＥＵＶ）または軟Ｘ線と呼ばれ、取り得る放射源には、レーザ発生プラズマ源、放出プラズマ源、または電子貯蔵リングからのシンクロトロン放射が含まれる。シンクロトロン放射を使用するリソグラフィ投影装置の概要設計は、ＪＢマーフィー（ＪＢ  Ｍｕｒｐｈｙ）等の「Ｘ線放射線リソグラフィのためのシンクロトロン放射線源およびコンデンサ（Ｓｙｎｃｈｒｏｔｒｏｎ  ｒａｄｉａｔｉｏｎ  ｓｏｕｒｃｅｓ  ａｎｄ  ｃｏｎｄｅｎｓｅｒｓ  ｆｏｒ  ｐｒｏｊｅｃｔｉｏｎ  ｘ−ｒａｙ  ｌｉｔｈｏｇｒａｐｈｙ）」、ＡｐｐｌｉｅｄＯｐｔｉｃｓ  Ｖｏｌ．３２  Ｎｏ．２４  ｐｐ６９２０−６９２９（１９９３）に記載されている。
【０００７】
他の提案されている放射線タイプには、電子ビームおよびイオン・ビームが含まれる。リソグラフィでの電子ビームの使用に関するさらに詳しい情報は、例えば、ＵＳ５，０７９，１１２およびＵＳ５，２６０，１５１、ならびにＥＰ−Ａ−０９６５８８８から得ることができる。これらのタイプのビームは、マスク、基板、および光学構成要素を含むビーム経路が高真空で維持されるという要件をＥＵＶと共有する。これは、ビームの吸収および／またはスキャッタリングを防止するためであり、そのような荷電粒子ビームには通常約１０-6ミリバール未満の全圧が必要である。他の場合、ＥＵＶ放射線を使用する装置では、全真空圧は、１０-3〜１０-5ミリバールであればよい。ＥＵＶ放射線に関する光学要素は、表面上への炭素層の堆積によって汚損される場合があり、これは、炭化水素分圧が通常はできるだけ低く、例えば１０-8または１０-9ミリバール未満に保たれるという追加の要件を課す。
【０００８】
高真空での作業は、真空内に配置しなければならない構成要素に対するかなり煩雑な条件を課す。真空チャンバ内部の構成要素に関して、汚染物質、ならびに脱ガス全体、すなわち材料自体からの脱ガスと、表面上に吸着されるガスからの脱ガスとの両方を最小限に抑えるか、または無くする材料を使用すべきである。オブジェクト・ホルダが必要とする所望の移動の度合に関して、管路を、十分に柔軟性をもつようにプラスチック材料から作成することができることが判明している。しかし、上述した汚染物質の脱ガスが生じるため、これらのタイプの材料はしばしば、真空チャンバ内の真空に有害である。真空適用例に適したより良いプラスチック（例えばテフロン（登録商標））が存在する。しかし、真空を通して導く必要がある多数のケーブルおよびラインが、汚染物質の脱ガスに対する大きな表面積を提供する。例えばプラスチック管路が使用されるとき、１０-8または１０-9ミリバール未満の炭化水素分圧を得るのは困難である。さらに、管路からの漏れの危険が、その使用を非実用的なものにする。管路の使用を減らすことができるようにすることが非常に望ましい。しかし、基板、マスク、および移送ステージの従来の設計は、非常に複雑であり、多数のセンサおよび駆動構成を採用し、それら全てが、水およびガスを搬送するため、および電気配線を保護するための多数の管路を必要とする。
【０００９】
この問題を回避するために、真空雰囲気内の動作流体またはガスの供給および排出のためのステンレス材料からなる金属パイプを使用することがＵＳ４，９９３，６９６号で提案されている。ここでは、２つの隣接するパイプを継手によって互いに結合することができ、継手は、パイプの一方の他方に対する揺動可能運動を可能にするように構成されている。この（金属）パイプは、ナイロン管路のような脱ガスを受けない。継手の欠点は、真空環境内の流体またはガスに関して完全に閉じられた継手を設計することが非常に困難であることである。したがって、継手を介しての真空環境へのガスの漏れが存在する可能性があり、これが真空環境を汚染する。
【００１０】
別の解決策が、欧州特許出願第１０５２５４９号によって提案されている。この文献では、管路は、可動オブジェクト・テーブルに堅く接続された中空パイプを通して提供され、そのパイプを使用して、真空チャンバ外部から前記テーブルへ運動を伝える。パイプは中空であり、パイプ内部の圧力は、真空チャンバ外部の圧力に等しい。真空チャンバの壁とパイプとの間で、差圧排気シールを使用して、真空チャンバへの空気の漏れを防止し、同時に、オブジェクト・テーブルの移動を可能にしている。
【００１１】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、真空チャンバ内の管路に使用される材料の脱ガスによる問題が大幅に減少したリソグラフィ投影装置を提供することである。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明によれば、
放射線の投影ビームを提供するための放射線システムと、
所望のパターンに従って投影ビームにパターンを付すパターン形成手段を支持するための第１のオブジェクト・テーブルと、
基板を保持するための第２のオブジェクト・テーブルと、
投影ビームのための真空ビーム経路を生成するための、第１のガス排出手段を備えた真空チャンバと、
パターン付けされたビームを基板のターゲット部分に投影するための投影システムと、
前記真空チャンバ内の少なくとも１つの自由度で可動な構成要素にユーティリティを提供するための管路と、を備えるリソグラフィ投影装置であって、
管路が可撓性の金属ベローを有することを特徴とするリソグラフィ装置が提供される。
【００１３】
用語「管路」は、可動構成要素にユーティリティを輸送するために使用されるケーブルおよび管を指す。より具体的には、用語「管路」は、電源コード、信号キャリア、（例えばテーブル内の気体軸受にガスを供給するための）ガス管、クーラント管などの要素を指す。マスク・テーブルおよび／または基板テーブル、および／または関連モータおよび／またはセンサを含む真空チャンバ内部の可動構成要素を、この様式で、真空チャンバ外部のフレームに接続することができる。
【００１４】
可撓性金属ベローは、実質的に気密であり、同時に、構成要素の移動を可能にするのに十分な柔軟性を有する。可撓性金属ベローの金属表面は、大きな脱ガスを受けず、それと同時に簡単に洗浄可能であり、そのため、可撓性金属ベローの表面上に吸着される任意の汚染物質に伴う問題を生じない。さらに、可撓性金属ベローを備える管路は、米国特許第４，９９３，６９６号で提案されている可動継手を有するパイプ、および欧州特許公告第１０５２５４９号で提案されている差圧排気シールに比べて非常に軽量である。可撓性金属ベローはまた、上述した従来技術で提案されている解決策よりもいくぶん良い自由度を簡単に可能にする。
【００１５】
管路は、その一部分に固定ベンド（固定屈曲部分）を備えていても良く、それによって構成要素の動作中に管路の残りの部分の曲げ量を制限することができる。可撓性金属ベローが使用中に長時間曲がっている場合、可撓性金属ベローはその強度を弱め、漏れを生じる場合がある。この問題は、金属ベローの使用中の曲げを最小半径に制限することによって緩和される。ベローに関するこの最小半径要件は、ベローのために機械内に多大な空間を必要とする場合がある。管路の特定の部分に固定ベンドを有することによって、管路の残りの部分の曲げが使用中に制限され、最小半径要件が緩められる。前記特定の部分で大きな度合の曲げが固定され、それにより、その部分での金属ベローの摩耗はほとんど生じなくなる。
【００１６】
管路を、管路の振動を減衰させるための減衰手段に接続することができる。管路の振動は、可動構成要素の位置に影響を及ぼす可能性があり、この影響はできるだけ避けるべきである。
【００１７】
本発明の第２の観点によれば、
放射線感光材料の層で少なくとも部分的に覆われた基板を提供するステップと、
真空チャンバに真空を提供するステップと、
前記真空チャンバを通して放射線システムを使用して放射線の投影ビームを投影するステップと、
パターン形成手段を使用して投影ビームの断面にパターンを与えるステップと、
パターンを形成された放射線の投影ビームを放射線感光材料の層のターゲット部分に投影するステップと、を含むデバイス製造方法であって、
可撓性金属ベローを通して、前記真空チャンバ内の少なくとも第１の方向に可動な少なくとも１つの構成要素に、管路を通してユーティリティを提供するステップをさらに含むことを特徴とするデバイス製造方法が提供される。
【００１８】
本明細書では、本発明による装置のＩＣ製造での使用に特に言及する場合があるが、そのような装置が多くの他の可能な適用例も有することをはっきりと理解されたい。例えば、集積光学系、磁区メモリ用の誘導および検出パターン、液晶表示パネル、薄膜磁気ヘッドなどの製造に使用することができる。そのような代替適用例の文脈では、本明細書における用語「焦点板」、「ウェハ」、または「ダイ」の使用を、より一般的な用語「マスク」、「基板」、および「ターゲット部分」でそれぞれ置き代えられるものとみなすべきであることを当業者は理解されよう。
【００１９】
本発明およびそれに付随する利点を、例示実施形態および添付概略図面を参照して以下に説明する。
【００２０】
【発明の実施の形態】
（実施形態１）
図１は、本発明を採用するためのリソグラフィ投影装置１を模式的に示す。本装置は、
放射線（例えば、ＵＶもしくはＥＵＶ放射線、電子、またはイオン）の投影ビームＰＢを供給するための放射線システムＬＡ、ＩＬと、
マスクＭＡ（例えば、レチクル）を保持するための第１のオブジェクト（マスク）ホルダを備え、かつ要素ＰＬに対してマスクを正確に位置決めするための第１の位置決め手段ＰＭに接続された第１のオブジェクト・テーブル（マスク・テーブル）ＭＴと、
基板Ｗ２（例えば、レジスト被覆シリコン・ウェハ）を保持するための第２のオブジェクト（基板）ホルダを備え、かつ要素ＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第２の位置決め手段Ｐ２Ｗに接続された第２のオブジェクト・テーブル（基板テーブル）Ｗ２Ｔと、
基板Ｗ３（例えば、レジスト被覆シリコン・ウェハ）を保持するための第３のオブジェクト（基板）ホルダを備え、かつ要素ＰＬに対して基板を正確に位置決めするための第３の位置決め手段Ｐ３Ｗに接続された第３のオブジェクト・テーブル（基板テーブル）Ｗ３Ｔと、
マスクＭＡの照射部分の像を、基板Ｗのターゲット部分に形成するための投影システム（「レンズ」）ＰＬ（例えば、屈折または反射屈折系、ミラー群、あるいはフィールド・デフレクタのアレイ）とを備える。
【００２１】
放射線システムは、放射線のビームを生成する放射線源ＬＡを備える（例えば、ストレージ・リングまたはシンクロトロン内の電子ビーム経路の周りに提供されるアンジュレータまたはウィグラ、プラズマ源、電子またはイオン・ビーム源、水銀ランプ、あるいはレーザ）。このビームは、照明システムＩＬ内に含まれる様々な光構成要素を横切るように進められ、それにより結果として得られるビームＰＢが、断面で所望の形状および強度分布を有する。
【００２２】
ビームＰＢはその後、マスク・テーブルＭＴ上のマスク・ホルダに保持されているマスクＭＡに交差する。ビームＰＢは、マスクＭＡによって選択的に反射（または透過）された後、「レンズ」ＰＬを通過し、レンズＰＬが、基板Ｗ２、Ｗ３のターゲット部分にビームＰＢの焦点を合わせる。位置決め手段Ｐ２Ｗ、Ｐ３Ｗおよび干渉計変位測定手段ＩＦによって、基板テーブルＷ２Ｔ、Ｗ３Ｔを、例えばビームＰＢの経路内に様々なターゲット部分を位置決めするように正確に移動することができる。同様に、位置決め手段ＰＭおよび干渉計変位測定手段ＩＦを使用して、例えばマスク・ライブラリからマスクＭＡを機械的に検索した後、または走査運動中に、ビームＰＢの経路に対してマスクＭＡを正確に位置決めすることができる。従来、オブジェクト・テーブルＭＴ、Ｗ２Ｔの移動は一般に、図１には明示していない長ストローク・モジュール（粗い位置決め）と短ストローク・モジュール（精密位置決め）とを用いて実現される。
【００２３】
図示した装置は、２つの異なるモードで使用することができる。
（１）ステップ・モードでは、マスク・テーブルＭＴが本質的に静止して保たれ、マスク・イメージ全体が、ターゲット部分に１度に（すなわちただ１回の「フラッシュ」で）投影される。次いで、基板テーブルＷ２Ｔがｘおよび／またはｙ方向にシフトされ、それにより別のターゲット部分をビームＰＢによって照射することができる。
（２）スキャン・モードでは、所与のターゲット部分がただ１回の「フラッシュ」で露光されない点を除き、本質的に同じシナリオが適用される。１回のフラッシュで露光するのではなく、マスク・テーブルＭＴが速度ｖで所与の方向（いわゆる「スキャン方向」、例えばＹ方向）に移動可能であり、それにより投影ビームＰＢがマスク・イメージ全体にわたってスキャンするようになっている。それと並行して、基板テーブルＷ２Ｔが、速度Ｖ＝Ｍｖで同方向または逆方向に同時に移動される。ここでＭはレンズＰＬの倍率である（例えばＭ＝１／４または１／５）。このようにすると、分解能を損なわずに、比較的大きなターゲット部分を露光することができる。
【００２４】
本発明によるリソグラフィ投影装置では、第１および第２のオブジェクト・テーブルの少なくとも１つが、真空チャンバ２０内に提供される。真空チャンバ２０内部の真空は、真空排気手段、例えばポンプを用いて生成される。
【００２５】
図２は、本発明による管路を示す概略平面図である。２つの管路Ｃ２およびＣ３が、それぞれ基板テーブルＷ２ＴおよびＷ３Ｔを、ケーブル・シャトルＣＳ２およびＣＳ３にそれぞれ接続する。ケーブル・シャトルＣＳ２およびＣＳ３は、ケーブル・シャトルに対するテーブルの位置を検出する検出器を有することによってＸ方向でそれぞれのテーブルに追従し、この検出器は、Ｘ方向でテーブルがケーブル・シャトルから離れるように移動する場合にケーブル・シャトルに位置を調節させ、それによりシャトルが基板テーブルに追従するようにしている。管路Ｃ２およびＣ３が、Ｙ方向での基板テーブルＷ２ＴおよびＷ３Ｔの移動を可能にする。基板テーブルＷ３ＴおよびＷ２Ｔは、マグネット・プレートＭＰ内の磁石アレイと、基板テーブルＷ２ＴおよびＷ３Ｔ内のコイルとから構成される、基板テーブルの移動および浮揚のためのプレーナ・モータによって位置決めされる。
【００２６】
図２に示されるように、どちらのテーブルも単一管路を有し、しかし、より低次の設計を可能にするので、二重管路を有することが有利であると考えられる。このため、追加の管路を、示された管路の内側に取り付けることができる。両管路を、基板テーブルの移動中に互いに近づかないように固定ベンドで互いに結合することができる。
【００２７】
両基板テーブルＷ３ＴとＷ２Ｔは、Ｙ方向でそれぞれのケーブル・シャトルに向けて移動し、その後、Ｘ方向に移動して互いにすれ違うことによって位置を交換することができる。テーブルの交換中、ケーブル・シャトルもＸ方向に移動する。
【００２８】
管路は、管路Ｃ２またはＣ３の特定の部分でＢＲ２およびＢＲ３によって提供される固定ベンドを備えることができ、構成要素Ｗ２ＴまたはＷ３Ｔの移動中に管路Ｃ２またはＣ３の残りの部分の曲げの量を制限する。使用中に可撓性金属ベローが頻繁に曲がる場合に、可撓性金属ベローはその強度を弱める可能性があり、漏れを生じる可能性がある。この問題は、金属ベローの使用中の曲げを最小半径に制限することによって緩和される。ベローに関する最小半径要件は、ベローのために機械内で多大な空間を必要とする可能性がある。管路Ｃ２またはＣ３の特定の部分に固定ベンドＢＲ２またはＢＲ３を有することによって、管路の残りの部分の曲げが使用中に制限されて、最小半径要件が緩められる。前記固定ベンドＢＲ２またはＢＲ３で大きな度合の曲げが固定され、それにより、その部分での金属ベローの摩耗がほとんど生じない。これはまた、摩耗を防止する助けとなり、それと同時に、非真空リソグラフィ投影装置で使用される非金属材料の管路に関する空間要件を緩めることができる。このとき、管路をプラスチックまたはゴムから作成することができる。
【００２９】
管路の振動を、管路Ｃ２またはＣ３にアルミニウム材料を提供することによって減衰させることができる。アルミニウムはダンパとして働く。これは、マグネット・プレートＭＰの磁場が、アルミニウム内部で渦電流を生じ、これが熱を発生する管路Ｃ２またはＣ３の振動を減衰させるからである。固定ベンドＢＲ２またはＢＲ３は、この目的でアルミニウムを備えることができる。可撓性金属ベローＦＢ（図３参照）を管路プレートＣＰと接続するために使用される接続要素ＣＥも、同じ目的でアルミニウムから作成することができる。接続要素ＣＥは、管路ＣのＺ方向での剛性を高め、それにより可撓性金属ベローＦＢの分離（ｓａｃｋｉｎｇ）が回避される。
【００３０】
管路プレートＣＰを使用して、Ｚ方向での剛性を管路に与え、それと同時にＸおよびＹ方向にいくらかの柔軟性を与える。管路プレートＣＰの長さにわたって柔軟性を変えて、管路Ｃの柔軟性を局所的に調節することもできる。管路Ｃの特定の部分での管路プレートＣＰの柔軟性が、ＸおよびＹ方向での前記特定の部分での可撓性ベローＦＢの曲げの度合に影響を及ぼす。一般に、可撓性ベローＦＢは、固定ワールドに接続される位置付近に、すなわち基板テーブルＷ２Ｔまたはケーブル・シャトルＣＳ２付近の管路Ｃ２に、最大曲げ部分を有する。それらの位置付近で管路プレートＣＰに余剰な剛性を追加することによって、可撓性ベローＦＢの全長にわたって曲げをより良く分割することができ、それにより可撓性ベローの摩耗が、前記長さにわたってより良く分割され、全体の寿命がより長くなる。管路プレートＣＰへの余剰剛性の追加は、プレートの外側寸法を変えることによって、または穴を作成することにより管路プレートＣＰを脆弱化することによって行うことができる。可撓性ベローＦＢの摩耗が最大である管路Ｃに沿った位置を求めるために実験を行うことができ、その位置で管路プレートＣＰに剛性を追加することによって、摩耗をより良く分割することができる。
【００３１】
例えば接続要素ＣＥをアルミニウムなど高い熱伝導を有する金属から作成することにより、そのような接続要素はヒート・シンクとして作用することができる。接続要素に接続された、基板テーブルへの電源コードまたは信号ワイヤとして働く銅ワイヤによって発生される熱を、次いで、金属ベロー内に流れる冷却媒体（例えば水）に簡単に伝えることができる。管路に沿っていくつかの接続要素ＣＥを使用することによって、一定の熱分布パターンがワイヤに沿ってより小さな温度差で生じ、真空チャンバ内部のより良い温度制御を可能にする。
【００３２】
図４は、本発明による可撓性金属ベローＦＢの断面図である。ベローは、内部ＢＩに電気配線または水管ＥＷを備えることができる。ベロー自体は、ベローに柔軟性を与える波形ＷＦを有する金属から作成される。
【００３３】
基板テーブルの移動時に管路（Ｃ１またはＣ２）の質量の影響をフィードフォワード補償することができる。これは、力の影響の較正によって、またはこの力の影響を計算するアルゴリズムを作成することによって行うことができる。別法として、力センサを、基板テーブルと管路の間で使用することができ、力センサは、管路に対して基板テーブルによって及ぼされる力を測定し、位置決め手段によって及ぼされる力を調節することによってその力をフィードバック補償する。そのようなフィードバック・システムに関するさらに詳しい情報は、参照により本明細書に組み込まれる欧州特許出願ＥＰ１０１８６６９号から得ることができる。
【００３４】
（実施形態２）
図５は、本発明の第２の実施形態を示す。この図では、図２の基板テーブルＷ２Ｔおよび管路Ｃ２が、サブフレームＳＦを備えている。サブフレームＳＦが、回転点ＲＰ１で基板テーブルＷ２Ｔに接続され、回転点ＲＰ２に固定ベンドＢＲ２を有し、回転点ＲＰ３にケーブル・シャトルＣＳ２を有する。サブフレームＳＦが２つのレッグを備え、これは、互いに関してＲＰ２の周りで回転する。サブフレームＳＦは、特定の位置で剛性様式で移動中に固定ベンドを位置決めし、それにより振動が低減される。
【００３５】
本発明を、好ましい実施形態に関して上述した。しかし、本発明が上の説明によって制限されないことを理解されたい。特に、本発明は、真空チャンバ内に収容されるリソグラフィ装置のウェハ・ステージに関して上述した。しかし、本発明が、装置内のマスク・テーブルまたは任意の可動ミラーに同様に適用可能であることを容易に理解されよう。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明を採用するためのリソグラフィ投影装置を示す図である。
【図２】本発明による可撓性金属ベローを採用するための管路を示す概略平面図である。
【図３】図２に示される管路の斜視図である。
【図４】本発明による、図２および図３の管路内で使用する可撓性金属ベローの断面図である。
【図５】本発明の第２の実施形態による管路の概略図である。
【符号の説明】
ＩＦ  干渉測定手段
ＬＡ、ＩＬ  放射線システム
ＭＡ  マスク（レチクル）
ＭＴ  第１のオブジェクト・テーブル（マスク・テーブル）
Ｗ２Ｔ  第２のオブジェクト・テーブル（基板テーブル）
Ｗ３Ｔ  第３のオブジェクト・テーブル（基板テーブル）
ＰＢ  投影ビーム
ＰＭ  第１の位置決め手段
Ｐ２Ｗ  第２の位置決め手段
Ｐ３Ｗ  第３の位置決め手段
ＰＬ  投影システム
Ｗ２、Ｗ３  基板
ＢＲ２、ＢＲ３  固定ベンド
Ｃ２、Ｃ３  管路
ＣＥ  接続要素
ＣＳ２、ＣＳ３  ケーブル・シャトル
【図１】
0003971701.tif 000002
【図２】
0003971701.tif 000003
【図３】
0003971701.tif 000004
【図４】
0003971701.tif 000005
【図５】
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