(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光源と組合わせて照明装置に使用される反射鏡であって、結晶化ガラスからなる反射基材に高屈折率物質と低屈折率物質を交互に積層した赤外線を透過し可視光を反射する光学的多層膜を被覆した反射鏡において、前記結晶化ガラスが、質量百分率で、ＳｉＯ2５８〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １８〜２５％、Ｌｉ2Ｏ０．５〜２．５％、Ｎａ2Ｏ０〜２％、Ｋ2Ｏ０〜２％、ＭｇＯ２．４〜５％、ＣａＯ０〜０．３％、ＢａＯ０．１〜２％、ＺｎＯ０．１〜７％、ＴｉＯ2０．１〜７％、ＺｒＯ2０．５〜７％、Ｐ2Ｏ5０〜３％、Ｂ2Ｏ3０〜３％およびＳｂ2Ｏ3０．１〜２．５％、フッ素（Ｆ）０．０１〜３質量％を含有し、β−石英固溶体を主結晶とする透明結晶化ガラスからなり、かつ前記結晶化ガラスの１ｍｍ厚における平行透過率が７６０〜２５００ｎｍの波長範囲に渡って７５％以上の透過率を有することを特徴とする反射鏡。
【請求項２】
前記透明結晶化ガラスが０．５〜２質量％のフッ素（Ｆ）を含有することを特徴とする請求項２記載の反射鏡。
【請求項３】
前記β−石英固溶体の結晶粒径が４００ｎｍ以下であることを特徴とする請求項１または２に記載の反射鏡。
【請求項４】
光源と組合わせて照明装置に使用される反射鏡であって、結晶化ガラスからなる反射基材に高屈折率物質と低屈折率物質を交互に積層した赤外線を透過し可視光を反射する光学的多層膜を被覆した反射鏡において、前記結晶化ガラスが、質量百分率で、ＳｉＯ2５８〜７０％、Ａｌ2Ｏ3  １８〜２５％、Ｌｉ2Ｏ０．５〜２．５％、Ｎａ2Ｏ０〜２％、Ｋ2Ｏ０〜２％、ＭｇＯ２．４〜５％、ＣａＯ０〜０．３％、ＢａＯ０．１〜２％、ＺｎＯ０．１〜７％、ＴｉＯ2０．１〜７％、ＺｒＯ2０．５〜７％、Ｐ2Ｏ5０〜３％、Ｂ2Ｏ3０〜３％およびＳｂ2Ｏ3０．１〜２．５％、フッ素（Ｆ）０．０１〜３質量％を含有し、β−石英固溶体を主結晶とし、前記β−石英固溶体の結晶粒径が４００ｎｍ以下であり、かつ前記結晶化ガラス１ｍｍ厚における平行透過率が７６０〜２５００ｎｍの波長範囲に渡って７５％以上の透過率を有することを特徴とする反射鏡。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は照明器具において光源と組合わせて使用される反射鏡に関するものである。本明細書で使用する単なる『％』表示は質量％を表すものである。
【０００２】
【従来技術】
照明装置において、光源に使用するランプが高輝度のものになるほどランプからの発熱も著しく、ランプと組合わせて使用される反射鏡も著しく加熱される。特に、近年はランプの高輝度化と小形化が進んでおり、ランプから照射される赤外線により反射鏡に５５０℃を越える部分が生じるようになってきている。通常、反射鏡は基材とその表面にコーティングされた反射膜からなり、そのいずれもが反射鏡の耐熱性に影響を与えるものである。基材部分の耐熱特性について検討すると、使用可能温度と耐熱衝撃性の二つが重要となる。基材として使用されるガラスの場合、使用可能温度はガラス転移点以下となるため、パイレックス（コーニング社の登録商標）級ガラスでも５５０℃以下でしか使用できず、耐熱衝撃性はムク棒（直径５ｍｍ）による試験でも温度差２５０℃が限界であるから、上記したような過酷な条件では使用することが難しくなってきた。また、基材の耐熱限界によってランプや反射鏡の小形化が制限されてしまうことも危惧される。
【０００３】
これら耐熱特性に耐えうる材料としては、特公平７−９２５２７号に開示されている着色結晶化ガラスがある。特公平７−９２５２７号公報に開示されている技術は、反射基材にβ−スポジュウメン固溶体もしくはβ−ユークリプタイト固溶体を含有する結晶化ガラスを使用して反射基材に光散乱性を付加し、ランプから照射される赤外線を反射基材内部で散乱させ、反射基材の背面中央部近傍の局所的温度上昇を回避できるものである。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
近年では、より高輝度のランプが開発されていると共に、小形化の要求からランプと反射鏡をより接近させて配置するため、５５０℃よりも高い６００℃以上の耐熱特性が要求されるようになっている。しかしながら、前記着色結晶化ガラス反射基材は、ランプから照射される赤外線を反射基材内部で散乱させてしまうので、反射基材自体に熱が蓄積されやすく、この熱が反射基材の歪みや破損の原因となっていた。また、反射基材に熱が蓄熱されることにより、反射基材に被覆されている多層膜の剥離の原因ともなっていた。さらに、この反射鏡を装置に組み込んだ場合、反射鏡背面の赤外線の方向性が一定しないので、装置内部での放熱対策を取りにくいなどの欠点があった。特に、近年需要が増加している液晶プロジェクターなどの映写装置では、高出力ハロゲンランプやＨＩＤ（高出力放電ランプ）を光源として反射鏡とともに筐体内に配設して用いられているため、放熱対策の良否が装置の小形化や信頼性に大きく影響することとなる。また、これらランプの反射鏡に使用される反射基材の構成元素に、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3を多く含む場合、ガラスが“冷めやすく”成形時に粘度が高くなるので成形が困難であった。
【０００５】
そこで、本発明は照明装置に使用される反射鏡において、反射基材の破損の防止と、この反射基材に被覆される多層膜の剥離を防止できる反射鏡を提供することを第一の目的とし、さらに反射基材の成形を容易にした反射鏡を提供することを第二の目的とする。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために、本発明は、光源と組合わせて照明装置に使用される赤外線を透過し可視光を反射する多層膜を被覆した反射鏡において、反射鏡に使用する反射基材を透明結晶化ガラスとした。反射基材を透明結晶化ガラスとしたことにより、ランプから照射される赤外線を直線的に効率良く反射基材の後方へ透過させることができる。したがって、反射基材には赤外線による熱が蓄積されにくくなり、反射基材の破損の防止と反射基材に被覆される多層膜の剥離を防ぐことが可能となる。ここで、本発明でいう『透明結晶化ガラス』とは、必ずしも可視光全域を透過する必要はなく、少なくとも近赤外線（７６０ｎｍ〜２５００ｎｍ）を効率良く透過できるものをいう。すなわち、結晶を析出する前のガラスが着色ガラスであろうとなかろうと、結晶を析出させた後のガラスが少なくとも近赤外線を効率良く透過できれば良いのである。
【０００７】
また、本発明の透明結晶化ガラスの主結晶をβ−石英固溶体とし、さらに、このβ−石英固溶体の結晶粒径を４００ｎｍ以下とした。結晶粒径が結晶化ガラスの透明性に影響を大きく関与しているため、結晶粒径を４００ｎｍ以下としたことにより、結晶化ガラスを透明とすることができ、かつランプから照射される赤外線を直線的に効率良く反射基材の後方へ透過させることができる。結晶粒径の好ましい大きさは３００ｎｍ以下であり、さらに好ましくは１００ｎｍ以下である。
【０００８】
さらに本発明は、反射鏡に使用する透明結晶化ガラスを質量百分率で、ＳｉＯ2５８〜７０％、Ａｌ2Ｏ3１８〜２５％、Ｌｉ2Ｏ０．５〜２．５％、Ｎａ2Ｏ０〜２％、Ｋ2Ｏ０〜２％、ＭｇＯ２．４〜５％、ＣａＯ０〜０．３％、ＢａＯ０．１〜２％、ＺｎＯ０．１〜７％、ＴｉＯ2０．１〜７％、ＺｒＯ2０．５〜７％、Ｐ2Ｏ5０〜３％、Ｂ2Ｏ3０〜３％およびＳｂ2Ｏ3０．１〜２．５％、フッ素（Ｆ）０．０１〜３質量％を含有するものとした。
【００１０】
請求項２に対応する発明は、請求項１記載の透明結晶化ガラスの組成に、０．５〜２質量％のフッ素（Ｆ）を含有するものとした。
【００１２】
ここで、透明結晶化ガラス組成の限定理由を以下に述べる。ＳｉＯ2はガラスを形成する主成分であるが、含有量が５８％未満では熱膨脹係数が大きくなり耐熱性が低下し、かつ得られる結晶化ガラスの結晶粒径が粗大化し、透明な結晶化ガラスが得られにくくなるからである。また、含有量が７０％を越えてしまうと、ガラスの溶融性が悪化し、生成する結晶粒径の均質化が困難となってしまう。好ましくは、６０〜６４％である。
【００１３】
Ａｌ2Ｏ3の含有量が１８％未満では分相傾向が強くなってガラスが失透しやすくなり、かつ結晶の析出が困難となってしまう。また、含有量が２５％を越えてしまうと、溶融温度を高くしなければガラスの溶融が困難となってしまう（溶融温度が低い場合ガラス中に脈理が生じやすくなる）。好ましくは、２０〜２３％である。
【００１４】
Ｌｉ2Ｏの含有量が０．５％未満ではガラスの溶融性が悪く、結晶の析出が困難となり、含有量が５％を越えると析出する結晶粒径が粗大化し、所望とする結晶を得ることができなくなる。好ましくは、１〜２．５％である。
【００１５】
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＢａＯおよびＺｎＯは、必須成分については含有量が下限値未満であると結晶の析出が困難となり、それぞれの含有量が上限値を越えると失透傾向が強くなり、得られる結晶化ガラスの結晶粒径が粗大化してしまう。好ましくは、ＭｇＯで１．５〜４％であり、ＣａＯで０．１〜０．２％であり、ＢａＯで０．４〜１．５％である。
【００１６】
ＴｉＯ2およびＺｒＯ2は結晶核形成剤として作用する成分であり、それぞれの含有量が、下限値未満では結晶核が少なくなりすぎてしまい結晶の析出が困難になり、上限値を越えると結晶核が多くなりすぎて結晶核の成長速度にバラツキが生じてしまい、析出する結晶中に粗大化した結晶が含まれるようになり、結晶化ガラスに失透が生じてしまう。好ましくは、ＴｉＯ2で１．５〜５％であり、ＺｒＯ2で１〜４％である。
【００１７】
Ｎａ2ＯおよびＫ2Ｏはガラスの溶融性を向上させるものであるが、それぞれの含有量が、上限値を越えると結晶粒径が粗大化し、失透しやすくなる。
【００１８】
Ｓｂ2Ｏ3は清澄剤として使用されるが、その含有量が０．１％未満であると、清澄作用が得られず、含有量が２．５％を越えてしまうと発泡の原因となってしまう。好ましくは、０．５〜２％である。
【００１９】
フッ素（Ｆ）はガラスの粘性を低下させるために含有させるが、含有量が３％を越えると、結晶粒径が粗大化し、失透しやすくなり、０．０１未満であると成形性を改善することができなくなる。好ましくは、０．０３〜１．５％である。
【００２０】
Ｐ2Ｏ5およびＢ2Ｏ3はガラスの粘性を低下させるために含有させてもよいが、それぞれの含有量が上限値を越えると、結晶粒径が粗大化し、失透しやすくなる。好ましくは、Ｐ2Ｏ5で０．３〜１％であり、Ｂ2Ｏ3で０．３〜１．５％である。
【００２１】
本発明は、上記反射鏡において、反射基材の平行透過率が７６０〜２５００ｎｍの波長範囲に渡って７５％以上の透過率を有するものとした。このように、近赤外線域の平行透過率の最低値を７５％以上としたことにより、反射基材に蓄積される熱を減少させることができる。７６０〜２５００ｎｍの波長範囲での最低平行透過率が７５％未満であると、反射基材に被覆されている多層膜に対する熱負荷が増加し、多層膜の寿命を短くしてしまう。ここで、本発明でいう『平行透過率』とは、赤外分光法によって測定されたものであって、測定の際に反射基材によって散乱された光を積分球などを用いて集光させるなどの手段を行わずに測定した透過率のことである。
【００２２】
さらに本発明は、結晶化ガラスからなる反射基材に高屈折率物質と低屈折率物質を交互に積層した赤外線を透過し可視光を反射する光学的多層膜を被覆した反射鏡において、前記結晶化ガラスの平行透過率が７６０〜２５００ｎｍ（近赤外線）の波長範囲に渡って７５％以上の透過率を有するものとした。このように近赤外線域の平行透過率の最低値を７５％以上とする特性を結晶化ガラスに付加することにより、ランプから照射される赤外線を効率良く反射基材の後方へ透過させることができる。したがって、反射基材に赤外線による熱が蓄積されにくくなる。７６０〜２５００ｎｍの波長範囲での最低平行透過率が７５％未満であると、反射基板に被覆されている多層膜に対する熱負荷が増加し、多層膜の寿命を短くしてしまう。
【００２６】
請求項２に対応する発明は、請求項１記載の透明結晶化ガラスの組成に、０．５〜２質量％のフッ素（Ｆ）を含有するものとした。
【００２９】
【発明の実施の形態】
（実施の形態１）この実施の形態の反射基材は、酸化物換算でＳｉＯ2５８〜７０％、Ａｌ2Ｏ3１８〜２５％、Ｌｉ2Ｏ０．５〜２．５％、Ｎａ2Ｏ０〜２％、Ｋ2Ｏ０〜２％、ＭｇＯ２．４〜５％、ＣａＯ０〜０．３％、ＢａＯ０．１〜２％、ＺｎＯ０．１〜７％、ＴｉＯ2０．１〜７％、ＺｒＯ2０．５〜７％、Ｓｂ2Ｏ3０．１〜２．５％を含有し、かつフッ素（Ｆ）を０．０１〜３％を含有したものを原ガラスとする、または、この組成の他にＰ2Ｏ5０〜３質量％もしくはＢ2Ｏ3０〜３質量％を加えたものを原ガラスとする。そして、この原ガラスを溶融しプレス成形などで反射基材に成形し徐冷後、１次熱処理し結晶核生成を行う。次いで、結晶核生成温度より高い温度で２次熱処理し、主結晶として結晶粒径４００ｎｍ以下のβ−石英固溶体を析出させる。この結晶の析出により原ガラスの状態では、３５〜５５×１０-7／℃であった熱膨張係数が１０〜２５×１０-7／℃という低い熱膨張係数を有する耐熱性に優れた透明結晶化ガラスの反射基材となる。
【００３０】
上記したそれぞれの実施の形態の反射基材の７６０〜２５００ｎｍの赤外域の平行透過率は、７５％以上であり反射基材の温度上昇を招く赤外線を効率よく透過させることができる。そして、この反射基材に高屈折率物質と低屈折率物質を交互に積層し、赤外線を透過し可視光を反射する多層膜を被覆した反射鏡を形成した。
【００３１】
液晶プロジェクタ等の映写装置では、投射像全面にわたって均一な照度が求められる。面照度の均一性に関しては、反射鏡の設計および反射面精度による影響も少なくない。反射面精度が悪いと照度ムラの原因になるため、従来は要求品質により成形後反射面を研磨する等の後加工を行なって精度向上を図っている。
【００３２】
本発明にかかる透明結晶化ガラスは作業点が低く、成形性に優れるため、金型設計に忠実な成形精度が得られ、成形後の加工を含めた生産性向上が可能である。
【００３３】
【実施例】
本発明の実施例を表１に示す。
【表１】
0003998231.tif 000002
【００４５】
（実施例１）反射基材の組成が酸化物換算でＳｉＯ２６２％、Ａｌ２Ｏ３２１．５％、Ｌｉ２Ｏ２．５％、ＭｇＯ３．５％、ＺｎＯ２％、ＴｉＯ２３％、ＺｒＯ２０．４％、ＢａＯ１％、Ｎａ２Ｏ１％、Ｋ２Ｏ０．５％、ＣａＯ０．１％、Ｓｂ２Ｏ３０．５％、Ｐ２  Ｏ５１％、Ｂ２Ｏ３１％を含有し、かつフッ素（Ｆ）０．０３％を含む原ガラスとなるように原料を調合する。そして、調合した原料を１５５０℃で溶融しガラス化させた後に、プレス成型により反射基材を形成し徐冷する。そして、この反射基材を常温から毎分１０℃の昇温速度で６５０℃まで昇温し、６５０℃で２時間保持する１次熱処理で結晶核の生成を行う。その後、毎分１０℃の昇温速度で７５０℃まで昇温し、７５０℃で２時間保持する２次熱処理で結晶を析出させ、毎分２℃の降温速度で冷却し、得られた反射基材は透明であった。また、このガラスは構成元素のＳｉＯ２とＡｌ２Ｏ３とを合量で８３．５％含むが、フッ素（Ｆ）を含有させているため、１２４８℃で１０３．０  Ｐａ・ｓ、１５５０℃で１０１．０  Ｐａ・ｓとなるので、作業点が１０００℃近傍となり、ガラスが冷めることなくプレス成形を行うことができ、プレス金型への負担が軽くタンク炉での連続成形が可能である。したがって、生産性の向上を図ることができる。
【００４６】
この反射基材をＸ線回折装置により分析したところ回折パターンから、β−石英固溶体が主結晶として析出されていた。また、β−石英固溶体の結晶粒径を走査型電子顕微鏡により観察したところ、最大の結晶粒径のものでも１００ｎｍを越えるものは見られなかった。熱膨脹係数（５０−２５０℃）は、結晶化前４１×１０-7／℃であったものが、結晶化後２０×１０-7／℃となり、耐熱衝撃性は６００℃以上を示した。
【００４７】
なお、耐熱衝撃性の評価は電気炉で１時間所定温度加熱した後、３０℃以下の水中に投入、急冷した際に破損、クラックが生じたか否かを判断することで行った。本実施例では電気炉の温度を６００℃としても反射基板に破損およびクラックが発生しなかったものである。
【００４８】
また、反射基板を１ｍｍ厚にスライス、研磨した後、分光光度計を用いて平行透過率を測定したところ、７６０〜２５００ｎｍの波長範囲で８２％以上の透過率を有していた（図１参照）。
【００４９】
そして、反射基材の内面に高屈折率物質としてＴｉＯ2、低屈折率物質としてＳｉＯ2を使用し、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2交互多層膜を真空蒸着法により被覆し、反射鏡を得た。そして、この反射鏡の平行透過率を測定したところ、７６０〜２５００ｎｍの波長範囲で８２％以上の透過率を有していた。
【００５０】
この実施例の反射鏡に１００ＷのＨＩＤランプを組み込み点灯試験（サンプル数１０個）を行ったところ、１０００時間点灯後も全てのサンプルで、反射基材に被覆された多層膜には膜剥がれなどの異常が見られなかった。
【００５６】
さらに、フッ素（Ｆ）をガラス中に１％、２％含有したものを実施例２および３として表１中に示した。これら実施例は、反射基材の組成がそれぞれ表１中の原ガラスとなるように原料を調合する。そして、調合した原料を１５５０℃で溶融しガラス化させた後に、プレス成型により反射基材を形成し徐冷する。そして、この反射基材を常温から毎分２０℃の昇温速度で７００℃まで昇温し、７００℃で１時間保持する１次熱処理で結晶核の生成を行う。その後、毎分２０℃の昇温速度で８００℃まで昇温し、８００℃で１時間保持する２次熱処理で結晶を析出させたものであり、構成元素にＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3とを合量で８３．４％、８４％含有しているが、フッ素（Ｆ）を１％、２％含有しているので、成形性は良好であった。また、結晶化後の熱膨張係数が１８×１０-7／℃、２２×１０-7／℃となり、耐熱衝撃性は６００℃以上を示し、平行透過率も７５％以上あり多層膜に膜剥がれも生じなかった。
【００５７】
本発明の反射鏡を照明装置に使用した場合、ランプから照射される赤外線はランプから直線的に反射鏡背面に透過するので、反射鏡背面部位に熱伝導率の優れた材料（例えば金属など）からなる放熱板などを配設しファンなどで放熱板をクーリングすることで効果的な放熱対策を取ることができる。
【００５８】
なお、上記した実施例では高屈折率物質にＴｉＯ2を用いたが、Ｔａ2Ｏ5、Ｓｂ2Ｏ3、ＨｆＯ2、ＳｎＯ2、Ｉｎ2Ｏ3などを用いても良い。また、低屈折率物質についてもＳｉＯ2以外にも、Ａｌ2Ｏ3、ＷＯ3、ＭｇＯなどを用いても良い。
【００５９】
（比較例１）反射基材の酸化物組成をＳｉＯ2  ５３％、Ａｌ2Ｏ3  ２１％、Ｌｉ2Ｏ  ２％、ＭｇＯ  ５％、ＺｎＯ  ４％、ＴｉＯ2  ４％、ＺｒＯ2  ４％、ＢａＯ  ３％、Ｎａ2Ｏ  ２％、Ｋ2Ｏ  １％、ＣａＯ  ０．１％およびＳｂ2Ｏ3  １．５％を含む原ガラスとなるように原料を調合する。そして、調合した原料を１５５０℃で溶融しガラス化させた後に、プレス成型により反射基材を形成し徐冷する。そして、この反射基材を常温から毎分１５℃の昇温速度で７５０℃まで昇温し、７５０℃で１時間保持する１次熱処理で結晶核の生成を行う。その後、毎分１５℃の昇温速度で８５０℃まで昇温し、８５０℃で１時間保持する２次熱処理で結晶を析出させ、毎分２℃の降温速度で冷却し、得られた反射基材は乳白色であった。
【００６０】
この反射基材をＸ線回折装置により分析したところ回折パターンから、β−石英固溶体が主結晶として析出されていたが、この結晶粒径を走査型電子顕微鏡により観察したところ、結晶粒径のほとんどが４００ｎｍを越えていた。熱膨脹係数（５０−２５０℃）は、結晶化前３８×１０-7／℃であったものが、結晶化後２６×１０-7／℃となり、耐熱衝撃性は５００℃以上を示した。
【００６１】
また、反射基板を１ｍｍ厚にスライス、研磨した後、分光光度計を用いて平行透過率を測定したところ、７６０〜２５００ｎｍの波長範囲で透過率が７５％以上を示したのは、約１９８０〜約２１５０ｎｍの範囲と、約２２３０〜約２４５０ｎｍの範囲だけであった（図２参照）。
【００６２】
そして、反射基材の内面に高屈折率物質としてＴｉＯ2、低屈折率物質としてＳｉＯ2を使用し、ＴｉＯ2−ＳｉＯ2交互多層膜を真空蒸着法により被覆し、反射鏡を得た。この反射鏡の平行透過率を測定したところ７６０〜２５００ｎｍの波長範囲では上記した反射基材と同様な透過率を得た。
【００６３】
この比較例１の反射鏡に１００ＷのＨＩＤランプを組み込み点灯試験を行ったところ、１０００時間点灯後の反射基材に被覆された多層膜には膜剥がれなどの異常が見られるものが発生していた。
【００６４】
（比較例２）反射基材の組成が酸化物換算でＳｉＯ2  ７０．５％、Ａｌ2Ｏ3２３％、Ｌｉ2Ｏ  １．５％、ＭｇＯ  ２％、ＺｎＯ  ０．５％、ＴｉＯ2  １％、Ｎａ2Ｏ  ０．５％、ＣａＯ  ０．１％、Ｓｂ2Ｏ3  ０．５％、Ｐ2Ｏ5  ０．２％およびＢ2Ｏ3  ０．２％を含む原ガラスとなるように原料を調合する。そして、調合した原料を１６５０℃で溶融しガラス化させた後に、プレス成型により反射基材を形成し徐冷する。そして、この反射基材を常温から毎分１５℃の昇温速度で７５０℃まで昇温し、７５０℃で１時間保持する１次熱処理で結晶核の生成を行う。その後、毎分１５℃の昇温速度で８５０℃まで昇温し、８５０℃で１時間保持する２次熱処理で結晶を析出させ、毎分２℃の降温速度で冷却し、得られた反射基材は透明であった。さらに、このガラスは構成元素のＳｉＯ2とＡｌ2Ｏ3とを合量で９３．５％含むため、１４５５℃で１０3.0 Ｐａ・ｓとなり、１７００℃で１０1.0 Ｐａ・ｓとなるので、作業点が１２５０℃近傍となり、保温対策等を行ってもプレス成形時の成形性が悪くなり、仮に、タンク炉での連続成形を行った場合でも、プレス金型に供給するガラスの温度が高くなるためプレス金型の寿命が短くなり生産性も低下してしまう恐れがある。
【００６５】
【発明の効果】
本発明の反射鏡は反射基材に透明結晶化ガラスを使用しているため、ランプから照射される赤外線を効率良く透過できるので、反射基材および反射基材表面に被覆された多層膜の熱的負担を軽減することができる。また、本発明の透明結晶化ガラスは耐熱衝撃性にも優れているため、光源に用いられるランプの高輝度化、高効率化に対応でき、さらに小形化も可能となった。合わせて反射鏡背面に透過する赤外線の処理のしやすさ（放熱対策のとりやすさ）から、本発明の反射鏡を内蔵する映写装置の小形化、高信頼性化にも貢献できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の実施例１の反射基材の透過率曲線である。
【図２】  比較例１の反射基材の透過率曲線である。
【図１】
0003998231.tif 000003
【図２】
0003998231.tif 000004