(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
液化ガスが、噴霧によってクライオスタット容器内に運び込まれ、その際、固体の結晶が形成され、これらの結晶が、スラッシュになるようにクライオスタット容器内に存在する液化ガスと混合し又は混合される、液化ガスからスラッシュを製造する方法において、液体粒子が、その圧力を少なくとも回りを囲む空気圧力の値に設定しかつ液体粒子の凍結点の下の温度を有するガス雰囲気内に圧力をかけて釈放され、又は侵入するので、液体粒子が、直接固体結晶になるように凍結し又は結晶化することを特徴とする、液化ガスからスラッシュを製造する方法。
【請求項２】
噴霧が、とくにノズル（１５ａ）、渦又は混合室等を含む噴霧装置（２，１２）によって行なわれることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
噴霧が、少なくとも部分的に圧力をかけてノズル（２）、渦又は混合室等に供給されるガスによって行なわれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
このガスが、供給される液化ガスのガス状の相に相当することを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
噴霧装置（２，１２）に供給される液化ガスが、噴霧過程の前及び／又はその間に、ガス状の冷却媒体によって冷却されることを特徴とする、請求項１ないし４の１つに記載の方法。
【請求項６】
噴霧が、少なくとも部分的に冷たいガス雰囲気内に液化ガスが出る際に行なわれることを特徴とする、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項７】
冷たいガス雰囲気内における圧力が、噴霧装置（２，１２）のノズル（１５ａ）の出口横断面に相当する臨界圧力より低く設定されていることを特徴とする、請求項１ないし６の１つに記載の方法。
【請求項８】
生じたスラッシュが、新しいスラッシュの製造の間に、少なくとも大体において連続的に取出されることを特徴とする、請求項１ないし７の１つに記載の方法。
【請求項９】
スラッシュの取出しが、その密度の定常的な測定を介して調整されることを特徴とする、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
液化ガスが液体水素であることを特徴とする、請求項１ないし９の１つに記載の方法。
【請求項１１】
噴霧装置に供給される液体水素が、ヘリウムガスの供給により冷却されることを特徴とする、請求項１ないし１０の１つに記載の方法。
【請求項１２】
冷たいガス雰囲気がヘリウムガス雰囲気であることを特徴とする、請求項１ないし１１の１つに記載の方法。
【請求項１３】
クライオスタット容器が、部分的に液化ガスによって満たされており、この液化ガスが、スラッシュになるように固体結晶と混合され、その際、クライオスタット容器内に、供給される液化ガスから液体粒子を形成する噴霧装置が配置されており、この噴霧装置が、容器内にある液化ガスの上において液体粒子をガス雰囲気内に釈放する、とくに請求項１ないし１２の１つに記載の方法を実施するクライオスタット容器によって液化ガスからスラッシュを製造する装置において、ガス雰囲気内の圧力が、少なくとも回りを囲む空気圧力に相当し、かつガス雰囲気が、液体粒子の凍結点の下の温度を有することを特徴とする、とくに請求項１ないし１２の１つに記載の方法を実施するクライオスタット容器によって液化ガスからスラッシュを製造する装置。
【請求項１４】
噴霧装置（２，１２）が、ノズル（１５ａ）、渦又は混合室等を含むことを特徴とする、請求項１３に記載の装置。
【請求項１５】
噴霧装置が、圧力をかけたガスを供給する供給導管（２ａ）を有することを特徴とする、請求項１３又は１４に記載の装置。
【請求項１６】
噴霧装置のノズル（２）の出口横断面の大きさによって、噴霧圧力が、冷たいガス雰囲気内における圧力を上回ることを特徴とする、請求項１３ないし１５の１つに記載の装置。
【請求項１７】
噴霧装置（２，１２）が、ガス状の冷却媒体を供給する少なくとも１つの供給導管（２ｂ，１７）を有することを特徴とする、請求項１３ないし１６の１つに記載の装置。
【請求項１８】
噴霧装置（１２）が、圧力をかけてガス状の冷却媒体を供給するガスノズル（１８）を有することを特徴とする、請求項１７に記載の装置。
【請求項１９】
噴霧装置（１２）が、ガス状の冷却媒体のためにガスガイド円錐体（１３ｂ）を有し、このガスガイド円錐体が、ノズル（１５ａ）の範囲に流出ギャップ（１６）等を形成することを特徴とする、請求項１３ないし１７の１つに記載の装置。
【請求項２０】
冷たいガス雰囲気を形成するガスの供給部が、とくにシャワー状に配置された複数の入口開口（３）を有することを特徴とする、請求項１３ないし１９の１つに記載の装置。
【請求項２１】
装置が、製造課程の間に形成されたスラッシュを取出しかつ液化ガスの量を補充する装置を有することを特徴とする、請求項１３ないし２０の１つに記載の装置。
【請求項２２】
装置が、スラッシュの密度を測定する装置を有し、この装置によってスラッシュの取出しが調整されることを特徴とする、請求項２１に記載の装置。
【請求項２３】
液化ガスが液体水素であることを特徴とする、請求項１３ないし２２の１つに記載の装置。
【請求項２４】
噴霧装置に供給される圧力をかけられたガスが水素であることを特徴とする、請求項１５又は２３に記載の装置。
【請求項２５】
冷却媒体がヘリウムガスであることを特徴とする、請求項１５又は１７に記載の装置。
【請求項２６】
冷たいガス雰囲気が、ヘリウムガスによって形成されることを特徴とする、請求項１３ないし２５の１つに記載の装置。
【請求項２７】
装置が、複数の噴霧装置（１２）を有し、これらの噴霧装置が、なるべくリング状に配置されていることを特徴とする、請求項１３ないし２６の１つに記載の装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
対象となる発明は、液化ガスが、噴霧によってクライオスタット容器内に運び込まれ、その際、固体の結晶が生じ、これらの結晶が、スラッシュになるようにクライオスタット容器内において存在する液化ガスと混合し又は混合される、液化ガスからスラッシュを製造する方法に関する。さらに本発明は、液化ガスからスラッシュを製造する装置に関する。
【０００２】
水素（Ｈ２）は、その小さな分子量及びその大きな燃焼熱のために、高エネルギーのロケット燃料組合せに推進剤として適している。液体水素（ＬＨ２）は、低温燃料に所属し、かつ駆動ユニットに適用する際に、タンクの相応する断熱を必要とする。水素とのつきあいの際、特別な安全予防処置を調えなければならない。水素に対して点火の危険は、その高い拡散速度のため、他の推進剤よりも大きい。燃焼又は爆発を開始するために、すでに小さな火花（例えば静電帯電による）で十分である。
【０００３】
空間運搬システムのできるだけ重量及び空間を節約する構成様式の要求によって、駆動ガス、水素の貯蔵のために、ガスの液化、及び低い温度における液体水素のそれ以上の圧縮が考慮され、かつ最終的にスラッシュ−４０−６０重量％の結晶含有量を含む液体水素と混合された水素結晶−を使用することが提案されている。スラッシュは、高い密度、高い冷却維持及び良好な流動特性のような一連の望ましい特性をまとめている。それ故にこれらの特性に基づいて、液化ガスのスラッシュは、宇宙空間任務のための低温冷却媒体として適しているが、地上の用途にも適している。
【０００４】
水素スラッシュを製造することができる方法は、すでに開発されており、その際、これらの方法に、文献においてもすでに種々に記載された凍結−露−技術、及びアウゲル方法が所属する。
【０００５】
凍結露技術において、三重点レベルに冷却される液体水素は、真空の発生によって蒸発され、その際、液体水素の表面に水素結晶が生じる。真空圧力は、三重点圧力のわずかに上及びわずかに下の値において周期的に変化し、その際、三重点圧力の下の圧力において、水素結晶のゆるいマトリクスが形成され、三重点圧力のわずかに上の圧力において、水素が結晶に凝縮し、かつ固体粒子が液体内に沈む。この方法の所定の利点は、必要な技術的装備の比較的簡単なことにある。しかしながらこの方法において、スラッシュの製造は、負圧において行なわれるので、所定の安全性の危険が存在する。なぜなら意図しない空気の吸入、したがって爆発性の水素−酸素−混合気の発生が、排除できないからである。生産量も、ほぼ液体水素の冷却プロセスによって制限されており、この水素は、冷たいヘリウムの又はガス混合気、ヘリウム−ネオンの吹き込みによる間接的な冷却によって所定の量の液体水素の蒸発によって行なわれる。１日あたり少なくとも数トンの必要な多くの量は、これまでこの方法によって経済的にひきあう費用で製造できない。さらに水素スラッシュの品質の改善のために、これを１ないし２日老化できることが必要である。
【０００６】
水素スラッシュを製造する前記の第２の方法、アウゲル方法において、液体水素内にある中空シリンダは、ヘリウムガスにより水素の凍結点より下の温度に冷却される。構成は、シリンダの内壁に固体水素が形成でき、この水素が、回転させられるスクリュによって定常的にかき取られるようになっている。装置の下側部分において、このようにして生じた水素結晶は、スラッシュになるように液体水素と混合される。この方法は、凍結露方法に対して、負圧によって動作する必要がないので、ここに存在する安全性の危険は存在しないという利点を有するが、これまでこの方法は、実験室量の製造のためにしか利用できなかった。この方法にしたがって動作しかつ水素スラッシュの工業的な製造に適した装置は、必要な機械的な費用及びこれに結び付いたコストのため、おそらくほとんど実現不可能である。さらにこの方法にしたがって製造された水素スラッシュは、１ないし２日の期間の間、老化プロセスを受けなければならない。
【０００７】
初めに挙げたような方法は、ヨーロッパ特許出願公開第０６４１９８１号明細書により公知である。ここでは水素スラッシュを“スプレイ−凍結−方法”にしたがって水素スラッジ発生器内において製造し、この水素スラッジ発生器がクライオスタット容器を含み、このクライオスタット容器内においてポンプを介して真空が発生されることが提案される。この真空内に、散布装置を介して液体水素が運び込まれる。散布によって粒子から熱が奪われるので、これは即座に蒸発し、かつ霧が生じ、この霧は、少なくとも部分的に凍結し、又は結晶化する。水素スラッジの製造速度は、とりわけ負圧の維持にも強力に依存する。さらに生じる結晶の品質は、大幅に異なっていてもよく、とくに大きな結晶の形成を阻止することができない。それ故に生じたスラッシュ内において回転する刃等を介してあまりに大きな粒子の分割を行なうことも考慮されている。
【０００８】
この時、本発明は、負圧の適用を避けることができ、かつさらに多くのスラッシュ量を製造することができる、液化ガスからスラッシュを製造する、とくに水素スラッシュを製造するという課題を設定した。その上さらに例えばスラッシュの老化のための時間消費を減少することができ、かつ導管、弁等における生じたスラッシュの流動品質を改善するように、生じたスラッシュの品質を改善することが可能であるようにする。さらに本発明の課題は、かなりの程度まで減少した機械的費用によって前記の目的を同様に達成可能である、この方法の適用に適しかつ動作確実でありかつ工業的尺度でスラッシュの製造を可能にする装置を開発することにある。
【０００９】
本発明によれば、設定された課題は、次のようにして解決される。すなわち液体粒子が、その圧力を少なくとも回りを囲む空気圧力の値に設定しかつ液体粒子の凍結点の下の温度を有するガス雰囲気内に圧力をかけて釈放され、又は侵入するので、液体粒子が、直接固体結晶になるように凍結し又は結晶化する。
【００１０】
それ故に本発明による方法は、比較的短い期間内における粒子の凍結又は結晶化を保証する。したがって生じた固体粒子の形は、早期には丸く、かつ増大した密度を有する品質適に良好なスラッシュが生じる。早期に丸い形によって、さらにスラッシュの高い密度及び良好な流動特性を保証するために、老化は全く又はわずかしか必要ない。さらにスラッシュの製造のために、負圧は必要ないので、水素スラッシュを製造する場合、安全性の危険はかなり減少している。
【００１１】
本発明による方法の別の特徴によれば、液体粒子は、液化ガスの噴霧によってとくに簡単に形成される。
【００１２】
噴霧のために設けられた噴霧装置は、きわめて簡単に構成でき、かつ例えば少なくとも１つのノズル又は渦又は混合室等を含むことができる。
【００１３】
噴霧過程は、少なくとも部分的に圧力をかけて噴霧装置に供給されるガスによって簡単な様式で行なうことができ、このガスは、なるべく供給される液化ガスのガス状の相に相当する。
【００１４】
その際、噴霧装置に供給される液化ガスは、噴霧過程の前及び／又はその間に、ガス状の冷却媒体によって冷却することができる。追加的な冷却は、結晶化の期間の短縮に作用する。
【００１５】
圧力をかけて供給されるガスによる噴霧に加えて又はその代わりに、方法は、噴霧が、少なくとも部分的に冷たいガス雰囲気内に液化ガスが出る際に行なわれるように構成することもできる。
【００１６】
この場合、噴霧装置から出る液体ビームのできるだけ最適な噴霧、擬似的にはじけを保証するために、冷たいガス雰囲気内における圧力は、噴霧装置の出口横断面に相当する臨界圧力より低く設定される。
【００１７】
安全性の危険をできるだけ小さく維持するために、さらに結晶化が行なわれる冷たいガス雰囲気内における圧力は、少なくとも回りを囲む空気圧力に相当し、とくに回りを囲む空気圧力のわずかに上の値を有するように設定される。
【００１８】
生じたスラッシュが、新しいスラッシュの製造の間に、少なくとも大体において連続的に取出すことができることは、本発明による方法においてとくに有利である。その際、スラッシュの取出しが、その密度の定常的な測定を介して調整されることは望ましく、このことは、取出されるスラッシュの等しく維持される品質を保証する。
【００１９】
本発明による方法は、低温推進剤として大きくなった意味を有する水素スラッシュの製造にとくに良好に適している。
【００２０】
噴霧装置に供給される冷却媒体として、この場合に、ヘリウムガスが適している。
【００２１】
液体粒子を凍結する又は結晶化する冷たいガス雰囲気として、有利なように相応して低い温度で利用することができるヘリウムガス雰囲気が使用される。
【００２２】
対象となる発明は、クライオスタット容器が、部分的に液化ガスによって満たされており、この液化ガスが、スラッシュになるように固体結晶と混合され、その際、クライオスタット容器内に、供給される液化ガスから液体粒子を形成する噴霧装置が配置されており、この噴霧装置が、容器内にある液化ガスの上において液体粒子をガス雰囲気内に釈放する、クライオスタット容器によって液化ガスからスラッシュを製造する装置にも関する。
本発明による装置は、ガス雰囲気内の圧力が、少なくとも回りを囲む空気圧力に相当し、かつガス雰囲気が、液体粒子の凍結点の下の温度を有することを特徴とする。
【００２３】
したがって本発明による装置は、比較的短い期間内に結晶を形成することを簡単に保証し、これらの結晶が品質適に高級なスラッシュを保証する。
【００２４】
噴霧装置は、とくに簡単に構成することができ、かつとくにノズル、渦又は混合室等を含むことができる。
【００２５】
供給される液化ガスの噴霧を保証するために、種々の可能性を利用することができる。噴霧装置が、圧力をかけたガスを供給する供給導管を有し、このガスが、したがって噴霧装置内において噴霧を引起こす構成は、とくに簡単である。
【００２６】
別の構成変形において、ここに設定される圧力が、噴霧装置の外の冷たいガス雰囲気内において支配的な圧力より高いように、噴霧装置のノズルの出口横断面が構成される。このような構成において、噴霧装置から出る際のビームのはじけ、したがって生じる液体粒子の最適な渦形成を行なうことができる。
【００２７】
結晶化時間をできるだけ短く維持するために、噴霧装置は、ガス状の冷却媒体を供給する少なくとも１つの別の供給導管を有する。渦又は混合室を有する構成において、噴霧空間内への冷却媒体の供給は、とくに有利である。
【００２８】
噴霧装置の有利な構成変形において、ガス状の冷却媒体は、圧力をかけてガスノズルを介して供給され、かつ噴霧装置内においてガスガイド円錐体内に導かれ、このガスガイド円錐体が、ノズルの範囲に流出ギャップを形成する。それ故にこの構成においてガスビームは、冷却媒体として使われるだけでなく、これは、ノズルから出る液体粒子及び生じた結晶粒子の渦形成にも貢献する。
【００２９】
クライオスタット容器内におけるかなりの程度まで均一に冷たいガス雰囲気を保証するために、冷たいガス雰囲気を形成するガスの供給のために容器が、とくにシャワー状に配置された複数の入口開口を有すると、有利である。このことは、場合によっては望まれる圧力変化もとくに急速に可能にする。
【００３０】
本発明による装置によれば、装置が、製造課程の間に形成されたスラッシュを取出しかつ液化ガスの量を補充する装置を備えることができるので、スラッシュの連続的な製造が可能である。取出されるスラッシュの良好な品質を保証するために、装置は、スラッシュの密度を測定する装置を有し、この装置を介してスラッシュの取出しが調整される。
【００３１】
装置は、液化した水素から水素スラッシュを製造するためにとくに有利に使用することができる。
【００３２】
その際、噴霧装置内における噴霧に供給される圧力をかけられたガスが、なるべく同様に水素である。
【００３３】
供給される液体水素のための冷却媒体として、この場合、ヘリウムガスがとくに良好に適している。
【００３４】
クライオスタット容器内における冷たいガス雰囲気のためにも、必要な低い温度の保証のため、ヘリウムガスがとくに適している。
【００３５】
本発明による装置は、そのまま大量のスラッシュを製造することができる製造設備に構成することができ、ここにおいて例えば複数の噴霧装置が使用され、これらの噴霧装置は、例えばリング等になるようにまとめられている。
【００３６】
今度は概略的な表示で装置の実施例を図示する図面によって本発明のその他の特徴、利点及び詳細を詳細に説明する。
【００３７】
スラッシュを製造する、とくに水素スラッシュを製造する本発明による方法において、特殊なスプレイ方法が問題になり、ここにおいて液体水素の噴霧された粒子からスラッシュの固体結晶成分が製造される。液体水素の噴霧のために、なるべく高い圧力を受けたガス状の媒体、例えばガス状の水素が使用され、その際、噴霧された水素粒子の流れは、冷たい（ほぼ１１Ｋ）ヘリウムの雰囲気内に侵入し又は膨張する。ここにおいて固体の水素結晶が生じ、これらの水素結晶は、システム内にある液体水素（三重点水素、１３．８Ｋ）の表面に沈積しかつ沈下する。その際、結晶粒子の増大する割合を有する、したがって増大する密度及び品質を有する水素スラッシュが生じる。
【００３８】
図２における概略的な表示は、本発明による噴霧装置２を利用して噴霧過程を構成する種々の可能性を説明している。
【００３９】
ここにおいて横断面においてトランペット形に収縮する噴霧装置２に、液体水素（ＬＨ２）が供給され、かつ連通口範囲に配置されたここには特別に図示しないノズルに運ばれる。冷却媒体として、必要な量にしてガス状のヘリウム（ＧＨｅ）が供給される。噴霧装置２の連通口範囲の前の供給導管２ａを介して、圧力をかけたガス状の水素（ＧＨ２）が供給され、それにより液体水素は、少なくとも部分的に噴霧される。ガス状の水素の圧力及び量の相応する制御によって、かなりの程度までの又は完全な噴霧を行なうことができる。ガス状の水素の代わりに又はこれに加えて、別の供給導管２ｂを介して、生じる粒子を同時に冷却するガス状のヘリウムも噴霧のために使用することができる。生じた水素粒子（Ｈ２粒子）は、ノズルから冷たいヘリウムガス雰囲気内に出た後に膨張し、かつここにおいて凍結するので、水素結晶が生じる。
【００４０】
結晶化は短い期間しか必要としないので、生じる粒子の形は、早期には丸い。このことは、生じる粒子の品質に、例えばその流動特性にきわめて望ましい作用を有し、生じるスラッシュの老化を必要としないか又は比較的短期的な老化しか必要としない。
【００４１】
ノズルに供給される液体水素（ＬＨ２）は、それにしたがってＮＢＰＬＨ２（通常沸点液体水素２０Ｋ、１ｂａｒ）としてのその状態とＴＰＬＨ２（三重点液体水素１３．８Ｋ、０．０７ｂａｒ）としてのその状態との間にある任意の液体状態にして供給することができる。
【００４２】
液体水素（ＬＨ２）の噴霧は、水素ビームがノズルから出る際に擬似的にはじけることによって、噴霧装置２の相応する構成の際及び圧力比の相応する設定の際、少なくとも部分的にノズルから出る際にも行なうことができる。このようにしてヘリウムガス雰囲気内における水素粒子の最適な渦形成が行なわれる。この“はじけ”は、ヘリウムガス雰囲気内の圧力がノズルの出口横断面に相当する臨界圧力より下に低下することによって達成される。その際、ノズルの、とくに出口における横断面の及び圧力比のようなその他のパラメータの相応する構造的な構成によって、噴霧過程は、ノズルから出る際に完全に行なうことができる。
【００４３】
図３は、本発明による噴霧装置１２のいくらか具体的に構成された別の可能な変形を示している。噴霧装置１２は、ハウジング１３を含み、このハウジングは、とくに円筒形に構成されたベース部分１３ａ及び円錐台形のガスガイド部分１３ｂからなり、これらの部分の間に中間部分１３ｃ、一種の板がある。噴霧すべき低温液体、ここでは液体水素は、導管１４を介して噴霧装置１２に供給され、かつハウジング１３の内部においてノズル支持体１５を通ってノズル１５ａに導かれ、ここにおいて超臨界流出によってビームのはじけが行なわれる。
【００４４】
ノズル１５ａは、円錐台形のガスガイド部分１３ｂの上側の一層狭い端部範囲の範囲にあり、その際、この部分１３ｂは、ここでは閉じているのではなく、ノズル１５ａ又はノズル支持体１５と上側ハウジング縁との間に流出ギャップ１６が形成されている。
【００４５】
ハウジング１３のベース部分１３ａは、導管１４又はノズル支持体１５の回りに冷却ガスのためのリング通路を形成しており、この冷却ガスは、圧力をかけて別の導管１７を介して通路内に導入される。ここにおいて冷却ガスは、とくにガス状のヘリウム（ＧＨｅ）であり、このヘリウムは、低温液体のものより低い温度を有する。
【００４６】
ベース部分１３ａ内におけるリング通路から冷却ガスは、複数のガスノズル１８を介して円錐台形のガスガイド部分１３ｂの内部に押され、かつここにおいて流出ギャップ１６に流れ、ここにおいて冷却周面としてノズル１５ａから出る液体粒子ビームの回りにある。その際、ガスビームは、液体粒子の追加的な渦形成にも貢献する。
【００４７】
ノズル１５ａは、同様に液体ビームの渦形成に貢献するら旋穴を備えていることができる。追加的に必要に応じて投入可能な加熱装置１９によってノズル１５ａの出口開口のわずかに前の範囲において、低温液体が凍結しないことを保証することができる。
【００４８】
水素の噴霧は、渦又は混合室内においても行なうことができ、ここにおいて噴霧のためのガス及び冷却媒体（ヘリウムガス）も流入する。その際、ここにおいて粒子は、冷却媒体に混合され、かつすでに凍結点の近くにある温度で噴霧装置から出る。
【００４９】
水素粒子の急速な結晶化を引起こす冷却は、この時、一方において出る際に行なわれる膨張により、かつ他方において噴霧された水素粒子が侵入するヘリウムガス雰囲気の温度によって保証される。前記のように、これに関連して、噴霧装置又は混合室内にすでに冷たいヘリウムガスが導入されると望ましい。
【００５０】
ヘリウムガス雰囲気内に生じる水素結晶は、液体水素（ＴＰＬＨ２、１３．８Ｋ、ほぼ０．０７ｂａｒ）の表面上に沈下し、液体水素と混合し、かつこれとともに上昇した品質を有するスラッシュになる。スラッシュの一時的な機械的な混合は、その流動品質の改善に貢献する。
【００５１】
製造されたスラッシュの混合又はミックスは、その意図に反した固体化も防止する。混合の代わりに、ガスノズルを介してスラッシュに導入されるヘリウムガス流、又は固体化に抗する加熱装置も使用することができる。
【００５２】
この時、図１は、本発明による方法にしたがって動作する装置の基本構成変形を概略的に示している。装置は、クライオスタット容器１を含み、その壁は、相応して断熱されている（真空断熱及び特別のＬＮ２ビーム保護による超断熱）。容器１の上側範囲に、ほぼ１１Ｋの温度で供給されるガス状のヘリウムのための供給導管が、蓋を通して設けられている。その際、供給導管は、なるべく一種のリング通路に連通しており、ここからシャワーの様式の複数の開口３を介して、ヘリウムガスの流入を行なうことができる。
【００５３】
すでに述べたように容器１の下側範囲に、液体水素４があり、この液体水素を通って噴霧装置２も導かれている。このことは、噴霧装置２の追加的な冷却の利点を有する。窓５を介して結晶化過程の観察を行なうことができる。
【００５４】
供給されるガス状のヘリウムによって、液体水素４又は生じるスラッシュの上の容器１内における圧力は、なるべく１ｂａｒのわずかに上に維持される。このことは、場合によっては存在する漏れによる空気の吸入が不可能なので、安全性の危険を減少する。さらに過圧弁６を設けることができ、この過圧弁は、例えば１．１ｂａｒの所定の内部圧力の際に応答する。
【００５５】
水素粒子が結晶化までに容器１内にどのくらい遠くに投出されるかは、シャワー状に流入するヘリウムの圧力の調節によって調整することができる。その際、上からのガス状ヘリウムと下から到来するＧＨ２／ＬＨ２流との間に、バランスが設定される。容器の下側部分に、生じた水素スラッシュ（ＳＬＨ２）のための取出し装置７があり、この水素スラッシュは、定常的に後から製造される。生じたスラッシュの密度の監視と測定によって、取出される量の調整を行なうことができる。同時に相応する供給導管を介して図示しない様式で、容器１内における液体水素が補充されることが保証される。それ故にスラッシュの連続的な製造が可能である。したがってスラッシュの取扱いの際にも、溶融したスラッシュの簡単かつ迅速な補償（置き換え）が保証されている。
【００５６】
さらに本発明による装置は、図示しない熱交換器を含む。熱交換器は、ガス相で存在する媒体を噴霧すべき低温液体（例えばＬＨ２）に変換するために設けられ、このことは、水素の場合、液体ヘリウム（ＬＨｅ）によって行なわれる。他の熱交換器は、とくに同様に液体ヘリウム（ＬＨｅ）を使用して、熱いガス状の媒体（例えばＧＨｅ）を冷たいガス状の媒体に冷却する。冷たいガス状の媒体（例えばＧＨｅ冷たい）は、一方において前記のシャワーのためにかつ他方において噴霧装置のために利用される。
【００５７】
その基本的な構成について説明した装置は、さらに多くの量の水素スラッシュを製造する完全な装置になるように構成することができる。このことは、例えば複数の噴霧装置を例えばリング状にまとめることにより簡単に可能である。
【００５８】
図４は、複数の、ここでは１５の噴霧装置１２のきわめて望ましい配置を平面図で示している。その際、スラッシュ製造装置は、噴霧装置１２を収容するとくに真空断熱されかつ相応してビーム保護された円筒形のハウジング２０を含み、このハウジング内に同心的な配置で、噴霧装置１２の２つのリングが収納されている。これらそれぞれのリングに対して、低温液体及び冷却ガスのためのリング状の供給導管２１が設けられている。製造されたスラッシュの収集のために、中央のここには示されていないスラッシュ流出部を設けることができる。
【００５９】
本発明による方法によればかつ場合によっては相応して整合された装置によって、水素スラッシュの製造の他に、他の液化ガス、例えば窒素からスラッシュの造を行なうこともでき、ここではスラッシュは、長期間運搬の際の低温冷却媒体として利用され、又は酸素からも製造を行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  簡単化して示す本発明による液化ガスからスラッシュを製造する装置の断面図であり、その際、本発明は、水素スラッシュの製造によって説明される。
【図２】  図１に示された噴霧装置の可能な基本的構成を示す図である。
【図３】  噴霧装置のいくらか具体化された他の構成を示す長手断面図である。
【図４】  中間の大きさの製造装置のための複数の噴霧装置の可能な配置を示す平面図である。
【図１】
0004006617.tif 000002
【図２】
0004006617.tif 000003
【図３】
0004006617.tif 000004
【図４】
0004006617.tif 000005