(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板の搬送空間において雰囲気の流通を遮断するために基板の搬送空間に形成された仕切り領域と、収納領域との間で遮断部材を移動させて前記仕切り領域を開閉する仕切り開閉手段を備えた基板処理装置において、
前記仕切り開閉手段は、
前記遮断部材を複数の分割遮断部材に分割するとともに、
前記仕切り領域を閉じるように前記各分割遮断部材ごとに割り当てられた各配置位置と、前記各分割遮断部材ごとに設けた各収納領域との間で、前記各分割遮断部材をそれぞれ移動させる移動手段を備え、かつ、
前記各収納領域に前記各分割遮断部材を収納したとき、少なくとも一部の分割遮断部材同士は、分割遮断部材の遮断面に向かって見て、それら分割遮断部材の遮断面の少なくとも一部が重複した状態で各々の収納領域に収納されるように前記各収納領域を設けて構成し、
かつ、
前記複数の分割遮断部材を構成する第１の分割遮断部材と第２の分割遮断部材とを前記仕切り領域内に配置する前記第１の分割遮断部材の第１の配置位置と前記第２の分割遮断部材の第２の配置位置とを、前記仕切り領域内に並べて割り当て、
前記第１の分割遮断部材と前記第２の分割遮断部材とをそれぞれ収納する第１の収納領域と第２の収納領域とを、前記仕切り領域に対して分割遮断部材の遮断面に沿った一側方側の位置に設け、
前記移動手段は、前記第１の分割遮断部材の一端部を中心に、第１の分割遮断部材の遮断面に向かって見て、前記第２の配置位置を通過するように前記第１の分割遮断部材を回動させて、前記第１の配置位置と前記第１の収納領域との間で前記第１の分割遮断部材を移動させるとともに、前記第２の分割遮断部材の一端部を中心に、第２の分割遮断部材の遮断面に向かって見て、前記第１の配置位置を通過するように前記第２の分割遮断部材を回動させて、前記第２の配置位置と前記第２の収納領域との間で前記第２の分割遮断部材を移動させるように構成したことを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
基板を処理する処理槽がそれぞれ設けられた複数の処理部と、
各処理部の上方空間を水平移動して、基板を各処理部に搬送する基板搬送機構と、
を備え、
前記仕切り領域は、前記処理部に設けられた各処理槽の上方空間の間とすることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体ウエハや液晶表示器用のガラス基板、フォトマスク用のガラス基板、光ディスク用の基板などの基板を処理する基板処理装置に係り、特には、装置内における雰囲気の流通の遮断などを行うための、所定の仕切り領域と収納領域との間で遮断部材を移動させて仕切り領域を開閉する仕切り開閉手段を備えた基板処理装置の改良技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
この種の基板処理装置として、例えば、図１３に示すように、複数枚の基板を一括して処理するための複数の処理槽１００Ａ、１００Ｂを備えた装置がある。この装置では、各処理槽１００Ａ、１００Ｂに処理液が貯留され、複数枚の基板が、各処理槽１００Ａ、１００Ｂに貯留された処理液内に順次浸漬させて処理される。複数枚の基板は、各処理槽１００Ａ、１００Ｂの上方空間で、図示しない基板搬送機構によって一括して保持され、搬送方向１０１に沿って搬送されるようになっている。
【０００３】
ところで、処理槽１００Ａの上方空間の雰囲気には、処理槽１００Ａに貯留された処理液の成分が含まれ、一方、処理槽１００Ｂの上方空間の雰囲気には、処理槽１００Ｂに貯留された処理液の成分が含まれる。各処理槽１００Ａ、１００Ｂに貯留される処理液が同一である場合には特に問題はないが、各処理槽１００Ａ、１００Ｂに貯留される処理液が異なる場合、処理槽１００Ａの上方空間の雰囲気と処理槽１００Ｂの上方空間の雰囲気とが混じり合って化学反応を起こし、基板に悪影響を与えることもある。
【０００４】
そこで、この種の装置には、処理槽１００Ａの上方空間と処理槽１００Ｂの上方空間との間における雰囲気の流通の遮断を行うために、処理槽１００Ａの上方空間と処理槽１００Ｂの上方空間との間を仕切り領域ＳＡとして、この仕切り領域を開閉する仕切り開閉機構を備えている。すなわち、処理槽１００Ａから処理槽１００Ｂへ基板を搬送するときだけ、仕切り領域ＳＡを開き、それ以外は仕切り領域ＳＡを閉じて、処理槽１００Ａの上方空間の雰囲気と処理槽１００Ｂの上方空間の雰囲気とが混じり合うことを抑制する。
【０００５】
このような仕切り開閉機構を備えた従来の基板処理装置は、例えば、特開平１０−３３５２８５号公報などに開示されている。すなわち、図１３、図１４に示すように、仕切り領域ＳＡと収納領域ＰＡとの間で１つの遮断部材１１０を移動させて仕切り領域ＳＡを開閉するように構成している。なお、仕切り領域ＳＡと収納領域ＰＡとの間の遮断部材１１０の移動は、例えば、図１３、図１４（ａ）に示すように、直線移動でなされるものや、図１４（ｂ）に示すように、１つの軸芯Ｊ周りでの回動動作によってなされるものなどがある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、このような構成を有する従来例の場合には、次のような問題がある。
従来装置は、仕切り領域ＳＡにおいて必要とされる遮断面積を有する遮断面１１１を持つ１つの遮断部材１１０を、仕切り領域ＳＡと収納領域ＰＡとの間で移動させて仕切り領域ＳＡを開閉しているので、収納領域ＰＡとして、遮断部材１１０の遮断面１１１方向に、仕切り領域ＳＡと同等の面積の領域を確保しなければならない。また、図１４（ｂ）に示す回動動作によって遮断部材１１０を移動させる構成では、それに加えてさらに、遮断部材１１０を回動させるための斜線で示す余分な移動領域ＩＡも確保しなければならない。
【０００７】
そのため、装置内に組み込む部材（処理液の貯留タンクなど）の配置や、装置内の配線、配管、メンテナンスエリアの確保などを行う上で制約が大きくなり、装置が大型化したり、メンテナンスエリアが確保し難くなったり、メンテナンス作業が行い難くなるなどの問題を招いている。
【０００８】
本発明は、このような事情に鑑みてなされたものであって、仕切り領域において必要とされる遮断面積を遮断することができるとともに、収納領域など仕切り領域を開くために必要な領域を小さくすることができる基板処理装置を提供することを目的とする。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
本発明は、このような目的を達成するために、次のような構成をとる。
すなわち、請求項１に記載の発明は、基板の搬送空間において雰囲気の流通を遮断するために基板の搬送空間に形成された仕切り領域と、収納領域との間で遮断部材を移動させて前記仕切り領域を開閉する仕切り開閉手段を備えた基板処理装置において、前記仕切り開閉手段は、前記遮断部材を複数の分割遮断部材に分割するとともに、前記仕切り領域を閉じるように前記各分割遮断部材ごとに割り当てられた各配置位置と、前記各分割遮断部材ごとに設けた各収納領域との間で、前記各分割遮断部材をそれぞれ移動させる移動手段を備え、かつ、前記各収納領域に前記各分割遮断部材を収納したとき、少なくとも一部の分割遮断部材同士は、分割遮断部材の遮断面に向かって見て、それら分割遮断部材の遮断面の少なくとも一部が重複した状態で各々の収納領域に収納されるように前記各収納領域を設けて構成し、かつ、前記複数の分割遮断部材を構成する第１の分割遮断部材と第２の分割遮断部材とを前記仕切り領域内に配置する前記第１の分割遮断部材の第１の配置位置と前記第２の分割遮断部材の第２の配置位置とを、前記仕切り領域内に並べて割り当て、前記第１の分割遮断部材と前記第２の分割遮断部材とをそれぞれ収納する第１の収納領域と第２の収納領域とを、前記仕切り領域に対して分割遮断部材の遮断面に沿った一側方側の位置に設け、前記移動手段は、前記第１の分割遮断部材の一端部を中心に、第１の分割遮断部材の遮断面に向かって見て、前記第２の配置位置を通過するように前記第１の分割遮断部材を回動させて、前記第１の配置位置と前記第１の収納領域との間で前記第１の分割遮断部材を移動させるとともに、前記第２の分割遮断部材の一端部を中心に、第２の分割遮断部材の遮断面に向かって見て、前記第１の配置位置を通過するように前記第２の分割遮断部材を回動させて、前記第２の配置位置と前記第２の収納領域との間で前記第２の分割遮断部材を移動させるように構成したことを特徴とするものである。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、上記請求項１に記載の基板処理装置において、基板を処理する処理槽がそれぞれ設けられた複数の処理部と、各処理部の上方空間を水平移動して、基板を各処理部に搬送する基板搬送機構と、を備え、前記仕切り領域は、前記処理部に設けられた各処理槽の上方空間の間とすることを特徴とするものである。
【００１１】
【作用】
請求項１に記載の発明の作用は次のとおりである。
仕切り領域を閉じるための遮断部材を複数の分割遮断部材に分割する。移動手段は、仕切り領域を閉じるように各分割遮断部材ごとに割り当てられた各配置位置と、各分割遮断部材ごとに設けた各収納領域との間で、各分割遮断部材をそれぞれ移動させる。
【００１２】
各分割遮断部材が、それぞれに割り当てられた配置位置に配置されると仕切り領域は閉じた状態になり、各々の収納領域に収納されると仕切り領域は開いた状態になる。
【００１３】
そして、各収納領域に各分割遮断部材を収納したとき、少なくとも一部の分割遮断部材同士は、分割遮断部材の遮断面に向かって見て、それら分割遮断部材の遮断面の少なくとも一部が重複した状態で各々の収納領域に収納されるように各収納領域を設けている。
【００１４】
遮断面の少なくとも一部が重複した状態で収納領域に収納される分割遮断部材同士は、全ての分割遮断部材同士でもよいし、複数の分割遮断部材のうちの一部の分割遮断部材同士でもよいし、複数の分割遮断部材を複数のグループに分けた場合の各グループ内の分割遮断部材同士でもよい。
【００１５】
また、複数の分割遮断部材を構成する２つの分割遮断部材を第１、第２の分割遮断部材として以下のように構成する。なお、この請求項２に記載の発明は、分割遮断部材を２つだけで構成する場合に限らず、例えば、分割遮断部材を３つで構成し、そのうちの２つの分割遮断部材を第１、第２の分割遮断部材として以下のように構成してもよいし、分割遮断部材を４つで構成し、２つの分割遮断部材ずつ２つのグループに分けて、各グループごとに以下のように構成してもよい。
【００１６】
すなわち、第１の分割遮断部材と第２の分割遮断部材とを仕切り領域内に配置する第１の分割遮断部材の第１の配置位置と第２の分割遮断部材の第２の配置位置とを、仕切り領域内に並べて割り当て、第１の分割遮断部材と第２の分割遮断部材とをそれぞれ収納する第１の収納領域と第２の収納領域とを、前記仕切り領域に対して分割遮断部材の遮断面に沿った一側方側の位置に設ける。なお、この第１の収納領域と第２の収納領域とは、各収納領域に各分割遮断部材を収納したとき、分割遮断部材の遮断面に向かって見て、第１、第２の分割遮断部材の遮断面の少なくとも一部が重複した状態で各々収納されるように設けている。
【００１７】
そして、移動手段は、第１の分割遮断部材の一端部を中心に、第１の分割遮断部材の遮断面に向かって見て、第２の配置位置を通過するように第１の分割遮断部材を回動させて、第１の配置位置と第１の収納領域との間で第１の分割遮断部材を移動させるとともに、第２の分割遮断部材の一端部を中心に、第２の分割遮断部材の遮断面に向かって見て、第１の配置位置を通過するように第２の分割遮断部材を回動させて、第２の配置位置と第２の収納領域との間で第２の分割遮断部材を移動させる。
【００１８】
【発明の実施の形態】
以下、図面を参照して本発明の実施の形態を説明する。
図１は本発明の一実施例に係る基板処理装置の全体的な構成を示す平面図であり、図２は図１のＡ−Ａ矢視断面図、図３は図１のＢ−Ｂ矢視断面図、図４は仕切り領域と第１、第２の配置位置と第１、第２の収納領域との位置関係を示す図である。
【００１９】
この実施例装置は、複数枚の基板Ｗ（基板群ＷＧ）を一括して処理することができるバッチ式の処理装置であり、キャリアストッカ１や、基板移載ロボット２、姿勢転換ロボット３、基板受渡しロボット４、基板搬送機構５、処理部６Ａ〜６Ｄ、仕切り開閉手段に相当する仕切り開閉機構７などを備えている。
【００２０】
キャリアストッカ１は、複数枚の基板Ｗを収容するキャリアＣを搬送したり、一時保管したりするためのもので、キャリアＣを一時的に保管するキャリア保管部（図示せず）や、キャリアＣを搬送するキャリア搬送機構１０などを備えている。キャリア搬送機構１０は、キャリア保管部と、キャリアＣを搬入／搬出する搬入搬出位置Ｐ１と、基板移載ロボット２がキャリアＣに対する各基板Ｗの取り出し／収容を行う移載位置Ｐ２との間で、キャリアＣを搬送する。なお、このキャリアストッカ１内では、各基板Ｗが水平姿勢で収納された状態でキャリアＣを扱う。
【００２１】
基板移載ロボット２は、移載位置Ｐ２に置かれたキャリアＣから、未処理の基板Ｗを取り出して姿勢転換ロボット３に引き渡したり、姿勢転換ロボット３から処理済の基板Ｗを受け取って移載位置Ｐ２に置かれたキャリアＣに収納したりする複数枚の基板Ｗの移載動作を行う。なお、この基板移載ロボット２による基板Ｗの移載動作も、基板Ｗを水平姿勢にして行われる。
【００２２】
姿勢転換ロボット３は、複数枚の基板Ｗを平行に並べて保持した状態で水平軸周りで回動させて、各基板Ｗが水平姿勢で垂直方向に並べられた状態と、垂直姿勢で水平方向に並べられた状態との間で姿勢転換する。
【００２３】
基板受渡しロボット４は、垂直姿勢で水平方向に並べられた基板群ＷＧを、姿勢転換ロボット３と基板搬送機構５（挟持機構５ａ）との間で受け渡す。なお、この基板受渡しロボット４による基板Ｗの受渡しや、後述する基板搬送機構５による基板Ｗの搬送、各処理部６Ａ〜６Ｄでの処理は、基板Ｗを垂直姿勢にして行われる。
【００２４】
基板搬送機構５は、一対の挟持機構５ａと、挟持機構５ａを各処理部６Ａ〜６Ｄの並び方向に水平移動させる水平移動機構部５ｂとを備え、垂直姿勢で水平方向に並べられた基板群ＷＧを挟持機構５ａで一括挟持して各処理部６Ａ〜６Ｄの上方空間を水平移動し、各基板Ｗを各処理部６Ａ〜６Ｄに順次搬送する。
【００２５】
処理部６Ａ〜６Ｃは、処理液を貯留し、その処理液内に基板群ＷＧを浸漬させて複数枚の基板Ｗを一括して処理液で処理する処理槽１１Ａ〜１１Ｃをそれぞれ備えるとともに、基板群ＷＧを保持し、一括して昇降させる昇降機構１２をそれぞれ備えている。昇降機構１２は、基板搬送機構５の挟持機構５ａから未処理の基板群ＷＧを受け取って処理槽１１Ａ〜１１Ｃに浸漬させたり、処理済の基板群ＷＧを処理槽１１Ａ〜１１Ｃから引き上げて基板搬送機構５の挟持機構５ａに引き渡したりする。
【００２６】
処理部６Ｄは、基板群ＷＧを回転させて乾燥させる処理を行う。この処理部６Ｄにも、上記昇降機構１２と同様の動作を行う図示しない昇降機構を備え、基板搬送機構５の挟持機構５ａと処理部６Ｄ内との間の基板群ＷＧの受渡しを行うように構成している。
【００２７】
基板搬送機構５の水平移動機構部５ｂと、各処理部６Ａ〜６Ｄの上方空間（基板群ＷＧの搬送空間）との間には仕切り１３が設けられ、上記基板群ＷＧの搬送空間とメンテナンスエリア１４との間とも仕切り１５が設けられている。
【００２８】
また、基板搬送機構５の水平移動機構部５ｂが配置された空間と上記基板群ＷＧの搬送空間との天井部分には、粉塵除去用などのフィルター１６と、気体を下方に送り出すファン１７とを有するファンフィルターユニット１８が配設され、基板搬送機構５の水平移動機構部５ｂが配置された空間と上記基板群ＷＧの搬送空間とに清浄な気体が流下されるようになっている。
【００２９】
本実施例では、各処理槽１１Ａ〜１１Ｃに貯留される処理液の種類が全て異なるものとして、処理槽１１Ａの上方空間と処理槽１１Ｂの上方空間との間における雰囲気の流通の遮断と、処理槽１１Ｂの上方空間と処理槽１１Ｃの上方空間との間における雰囲気の流通の遮断とを行うために、処理槽１１Ａの上方空間と処理槽１１Ｂの上方空間との間と、処理槽１１Ｂの上方空間と処理槽１１Ｃの上方空間との間とをそれぞれ仕切り領域ＳＡとし、各仕切り領域ＳＡごとにそれぞれ仕切り開閉機構７を設けている。
【００３０】
詳細は後述するが、各仕切り開閉機構７はそれぞれ、仕切り領域ＳＡを閉じる遮断部材を、複数（本実施例では２つ）の分割遮断部材（第１の分割遮断部材２０Ａ及び第２の分割遮断部材２０Ｂ）に分割し、仕切り領域ＳＡを閉じるように各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂごとに割り当てられた各配置位置（図１ないし図３で各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが実線で示された状態の位置であって、図４のＳＡ１、ＳＡ２）と、仕切り領域ＳＡから外れた領域に各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂごとに設けた各収納領域（図２、図３で各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが二点鎖線で示された状態の位置であって、図４のＰＡ１、ＰＡ２）との間で、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂをそれぞれ移動させる移動手段に相当する第１、第２の移動機構（詳細は後述する）を備えて構成し、かつ、図３、図４に示すように、各収納領域ＰＡ１、ＰＡ２に各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを収納したとき、各分割遮断部材同士２０Ａ、２０Ｂは、遮断面２１に向かって見て、それら分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１の少なくとも一部が重複した状態で各々の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２に収納されるように各収納領域ＰＡ１、ＰＡ２を設けて構成されている。
【００３１】
このように構成したことにより、仕切り領域ＳＡにおいて必要とされる遮断面積を遮断することができるとともに、第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２を合わせた全収納領域ＰＡ（図４参照）の、遮断面２１方向の面積を小さくすることができ、収納領域ＰＡ１、ＰＡ２をコンパクトに構成することができる。
【００３２】
次に、本発明の要部である仕切り開閉機構７の詳細な構成を、図１ないし図８を参照して説明する。図５は仕切り開閉機構の外観を示す斜視図であり、図６は分割遮断部材が移動時に通過する開口側から見た拡大断面図、図７は図６のＣ−Ｃ矢視断面図、図８は駆動室側から見た拡大断面図である。
【００３３】
本実施例では、仕切り１３、１５やファンフィルターユニット１８、各処理部６Ａ〜６Ｄの上面などで囲まれた矩形の仕切り領域ＳＡを開閉するために、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂは、遮断面２１が略矩形である板状の部材で構成している。
【００３４】
また、図３ないし図５に示すように、本実施例では、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが仕切り領域ＳＡに配置されたとき、遮断面２１に向かって見て、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１が上下に並んで配置されるように、仕切り領域ＳＡ内に配置する第１の分割遮断部材２０Ａの配置位置（第１の配置位置）ＳＡ１と、第２の分割遮断部材２０Ｂの配置位置（第２の配置位置）ＳＡ２とは、遮断面２１に向かって見て、仕切り領域ＳＡ内に上下方向に並べて割り当てている。
【００３５】
なお、本実施例では、後述するように、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間に隙間が形成された状態で、各配置位置ＳＡ１、ＳＡ２への配置、各収納領域ＰＡ1 、ＰＡ２への収納、及び、それらの間の移動を行うように構成しており、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ２とは、遮断面２１に向かって見て、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１が若干重複するように設定している。
【００３６】
また、第１の収納領域ＰＡ１と第２の収納領域ＰＡ２とを、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ１との並び方向に沿った仕切り領域ＳＡの一側方側に設けている。なお、この第１の収納領域ＳＡ１と第２の収納領域ＳＡ２とは、各収納領域ＳＡ１、ＳＡ２に各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを収納したとき、遮断面２１に向かって見て、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１の少なくとも一部が重複した状態で各々収納されるように設けている。
【００３７】
そして、第１の分割遮断部材２０Ａを第１の配置位置ＳＡ１と第１の収納領域ＰＡ１との間で移動させる第１の移動機構２２Ａは、第１の分割遮断部材２０Ａの一端部を中心に、遮断面２１に向かって見て、第２の配置位置ＳＡ２を通過するように第１の分割遮断部材２０Ａを回動させて、第１の配置位置ＳＡ１と第１の収納領域ＰＡ１との間で第１の分割遮断部材２０Ａを移動させ、第２の分割遮断部材２０Ｂを第２の配置位置ＳＡ２と第２の収納領域ＰＡ２との間で移動させる第２の移動機構２２Ｂは、第２の分割遮断部材２０Ｂの一端部を中心に、遮断面２１に向かって見て、第１の配置位置ＳＡ１を通過するように第２の分割遮断部材２０Ｂを回動させて、第２の配置位置ＳＡ２と第２の収納領域ＰＡ２との間で第２の分割遮断部材２０Ｂを移動させるように構成している。
【００３８】
より具体液には、第１の分割遮断部材２０Ａを回動させる際の第１の回動軸芯Ｊ１を、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ１との並び方向に沿った仕切り領域ＳＡの一側方付近で、かつ、第２の配置位置ＳＡ２及び第２の収納位置ＰＡ２から離れた側の第１の配置位置ＳＡ１及び第１の収納位置ＰＡ１の端部付近に設定し、その第１の回動軸芯Ｊ１周りで、第１の分割遮断部材２０Ａの一端部（本実施例では、第１の分割遮断部材２０Ａの一つの頂点付近の端部）を中心に、遮断面２１に向かって見て、第２の配置位置ＳＡ２を通過する軌跡をとる回動方向に回動させるとともに、第２の分割遮断部材２０Ｂを回動させる際の第２の回動軸芯Ｊ２を、第１の配置位置ＳＡ１と第２の配置位置ＳＡ１との並び方向に沿った仕切り領域ＳＡの一側方付近で、かつ、第１の配置位置ＳＡ１及び第１の収納位置ＰＡ１から離れた側の第２の配置位置ＳＡ２及び第２の収納位置ＰＡ２の端部付近に設定し、その第２の回動軸芯Ｊ２周りで、第２の分割遮断部材２０Ｂの一端部（本実施例では、第２の分割遮断部材２０Ｂの一つの頂点付近の端部）を中心に、遮断面２１に向かって見て、第１の配置位置ＳＡ１を通過する軌跡をとる回動方向に回動させるように構成している。
【００３９】
そのため、本実施例の第１の移動機構２２Ａは、第１の回動軸芯Ｊ１周りで回動可能に支持され、かつ、第１の分割遮断部材２０Ａの一端部に一端側を固定した第１の回動軸部材２３Ａを、第１の駆動源２４Ａにより、第２の回動軸芯Ｊ２に対向するθ（略９０°）の回動範囲で回動させることで、第１の配置位置ＳＡ１と第１の収納領域ＰＡ１との間で第１の分割遮断部材２０Ａを移動させている。また、第２の移動機構２２Ｂも同様に、第２の回動軸芯Ｊ２周りで回動可能に支持され、かつ、第２の分割遮断部材２０Ｂの一端部に一端側を固定した第２の回動軸部材２３Ｂを、第２の駆動源２４Ｂにより、第１の回動軸芯Ｊ１に対向するθ（略９０°）の回動範囲で回動させることで、第２の配置位置ＳＡ２と第２の収納領域ＰＡ２との間で第２の分割遮断部材２０Ｂを移動させている。
【００４０】
このように構成したことにより、図４に示すように、遮断面２１に向かって見て、第１の分割遮断部材２０Ａの移動領域の一部と第２の分割遮断部材２０Ｂの移動領域の一部を重複させ、第１の分割遮断部材２０Ａの移動領域及び第２の分割遮断部材２０Ｂの移動領域の殆ど全てを、第１、第２の配置位置ＳＡ１、ＳＡ２及び第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２からなる領域内に収めることができる。従って、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させるための特別な移動領域を殆ど設ける必要もなくなり、仕切り領域ＳＡを開くために必要な領域をさらに小さくすることができる。
【００４１】
なお、第１、第２の回動軸芯Ｊ１、Ｊ２の位置や、第１、第２の回動軸芯Ｊ１、Ｊ２周りで回動させる第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの一端部の位置を適宜に調節することで、第１の分割遮断部材２０Ａの移動領域及び第２の分割遮断部材２０Ｂの移動領域を、第１、第２の配置位置ＳＡ１、ＳＡ２及び第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２からなる領域内に完全に収めることもでき、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させるための特別な移動領域を完全に無視するように構成することもできる。
【００４２】
本実施例では、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成しているが、それ以外にもモーターなどで構成することもできる。なお、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成すると以下のような利点がある。
【００４３】
例えば、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをモーターで構成した場合、通常、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に直交する方向に、モーターの回転軸を配置することになるが、モーター自体は、通常、モーターの回転軸方向の寸法が長いので、モーターを配置する関係で、仕切り開閉機構７は、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に直交する方向の寸法が大きくなる。また、モーターを駆動するための大きなドライバも配置しなければならないので、仕切り開閉機構７が大型化することになる。これに対して、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成した場合、エアシリンダの長手方向となるロッド２５の伸縮方向を、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に平行な方向に配置することができるので、仕切り開閉機構７は、分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に直交する方向の寸法を小さくすることできる。また、エアシリンダを駆動（ロッド２５を伸縮駆動）するためには、エアの給排管や電磁弁などを配設する必要であるが、エアの給排管は配置の自由度が高く、電磁弁は小型である。従って、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂをエアシリンダで構成すると、仕切り開閉機構７を小型化することができる。
【００４４】
ここで、エアシリンダ２４Ａ（２４Ｂ）により回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）を回動させる原理を、図６ないし図８を参照して簡単に説明する。
【００４５】
すなわち、回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）から側方に突出された突起片２６と、エアシリンダ２４Ａ（２４Ｂ）のロッド２５の先端部を、回動軸芯Ｊ１（Ｊ２）と平行な軸芯Ｑ１（Ｑ２）周りで回動自在に連結する。これにより、ロッド２５を伸縮すると、突起片２６を押し出したり引き戻したりして、軸芯Ｊ１（Ｊ２）周りで回動可能に支持されている回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）を軸芯Ｊ１（Ｊ２）周りで回動させることができる。ここで、回動軸部材２３Ａ（２３Ｂ）の回動の際に、軸芯Ｑ１（Ｑ２）は、図８のＱＲ１（ＱＲ２）に示すような軌跡で移動するので、軸芯Ｑ１（Ｑ２）がこの軌跡ＱＲ１（ＱＲ２）で移動できるように、エアシリンダ２４Ａ（２４Ｂ）の基端部は軸芯Ｒ１（Ｒ２）周りで回動自在に支持している。
【００４６】
また、本実施例では、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂを配置する駆動室２７と、第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２を設ける収納室２８とを完全に分離している。
【００４７】
すなわち、外壁で囲まれた容器内を、隔壁２９、３０で２つの部屋に分離し、一方の部屋を駆動室２７とし、他方の部屋を収納室２８としている。収納室２８側の外壁には、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが移動時に通過する開口３１が形成され、駆動室２７側の外壁（開口３１と反対側の外壁）には、エアの給排管を導出するための開口（図示せず）が設けられている。
【００４８】
第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂは、収納時の第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂと、第１、第２の駆動源２４Ａ、２４Ｂとの間に設けられた隔壁２９を貫通して、この隔壁２９に対してそれぞれ第１、第２の回動軸芯Ｊ１、Ｊ２周りで回動自在に支持されている。
【００４９】
また、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂを隔壁２９に回動自在に貫通すると、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂの周囲にリング状の隙間３２が残るが、本実施例では、この隙間３２も回転シール機構でシールしている。すなわち、この隙間３２の外周を覆うように先端部が隔壁２９に固定された部材３３（隔壁２９の面でもよい）に密着した柔軟なシール部材３４を第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂに取り付けて回転シール機構を構成している。これにより、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂの回動の際もシール部材３４は、その先端部が部材３３に密着した状態を維持して第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂと一体的に回動し、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３の回動時も上記隙間３２をシールすることができる。
【００５０】
このように、駆動室２７と収納室２８とを完全に分離したことにより、処理槽１１Ａ〜１１Ｃで扱われる薬液などの雰囲気が、開口３１や収納室２８を介して駆動室２７内に入り込むことを防止でき、薬液などで駆動源２４Ａ、２４Ｂが腐食されることを防止できる。逆に、駆動源２４Ａ、２４Ｂからの発塵が収納室２８や開口３１を介して基板群ＷＧの搬送空間や処理槽１１Ａ〜１１Ｃなどに流出することも防止でき、基板Ｗの汚染も防止することができる。
【００５１】
ところで、本実施例では、隔壁２９からの第１、第２のエアシリンダ２４Ａ、２４Ｂの距離を同じにし、第１、第２の回動軸部材２３Ａ、２３Ｂの長さを違えて、第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間に隙間が形成された状態で、各配置位置ＳＡ１、ＳＡ２への配置、各収納領域ＰＡ1 、ＰＡ２への収納、及び、それらの間の移動を行うように構成し、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１が擦れないようにしている。これにより、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１が擦れて発塵が起きることがなく、基板Ｗの汚染を防止することができる。
【００５２】
ここで、本実施例の構成では、仕切り領域ＳＡに配置された各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの間には、遮断面２１に直交する方向に隙間が形成される。しかしながら、本実施例では、ファンフィルターユニット１８によって、仕切り領域ＳＡに配置された第１、第２の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂに対して上方から下方に向けて清浄な気体が流下されているので、図９（ａ）に示すように、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って清浄な気流ＡＲが流下し、この気体ＡＲの流下により形成されるエアカーテンで、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの間の隙間３５を閉じられて、雰囲気の流通を遮断することができる。また、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って流下する清浄な気流ＡＲによって、処理槽１１Ａ〜１１Ｃの上方空間に漂う薬液などの雰囲気が、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に触れることも防止でき、薬液などにより各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが腐食されることも防止することができる。
【００５３】
なお、各仕切り領域ＳＡ付近に流下する気流ＡＲは、その流速を速くする方が上記エアカーテンによる遮断をより効果的に達成することが期待できる。そこで、図２に示すように、ファンフィルターユニット１８内のファン１７（気体供給手段）が、少なくとも各仕切り領域ＳＡの上方に配置されるように構成し、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って流す（流下する）気流ＡＲの流速を任意に調節できるように構成することが好ましい。
【００５４】
また、例えば、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１に直交する方向に各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを接離する接離手段を設けて、仕切り領域ＳＡ（第１、第２の配置位置ＳＡ１、ＳＡ２）に配置されたときには、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間の隙間を無くすように各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを配置し、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを各配置位置ＳＡ１、ＳＡ２と各収納領域ＰＡ１、ＰＡ２との間で移動する際は、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間に隙間を形成した状態で各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの遮断面２１が擦れないように移動させるように構成してもよい。
【００５５】
ただし、本実施例のように仕切り領域ＳＡに気流ＡＲを流す場合は、上述した変形例のように、仕切り領域ＳＡに配置されたときに、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間の隙間を無くすように各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを配置するよりも、本実施例のように、仕切り領域ＳＡに配置されたときに、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの対向する側の各遮断面２１の間に隙間が形成されて各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを配置する方が好ましい。
【００５６】
すなわち、上記変形例の構成の場合、図９（ｂ）に示すように、第１の分割遮断部材２０Ａの下端部付近と、第２の分割遮断部材２０Ｂの上端部付近とに形成される段差によって、流下される気流ＡＲに乱流ＲＲが形成され、この乱流ＲＲによって、処理槽１１Ａ〜１１Ｃの上方空間に漂う薬液などの雰囲気を巻き込んで、薬液が各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に触れ、薬液などにより各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂが腐食されることが起こり易くなる。これに対して、本実施例の構成では、図９（ａ）に示すように、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの各遮断面２１に沿って流れる清浄な気流ＡＲが乱れ難く、上述した乱流ＲＲなどが発生し難く、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの腐食を起き難くすることができる。
【００５７】
なお、移動手段は、上記実施例の構成に限定されない。例えば、図１０に示すように、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを直線移動させて、各配置位置ＳＡ１、ＳＡ２と各収納領域ＰＡ１、ＰＡ２との間で、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させることも可能である。
【００５８】
ただし、図１０に示すように、移動手段を直線移動する機構で構成すると、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させるための移動領域ＩＡ１、ＩＡ２の一部が、斜線で示すように、第１、第２の配置位置ＳＡ１、ＳＡ２及び第１、第２の収納領域ＰＡ１、ＰＡ２からなる領域からはみ出るので、仕切り領域ＳＡを開くために必要な領域が大きくなる。また、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを直線移動させるためには、移動方向に沿って配設されたガイド軸に、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂに連結された部材を摺動させて各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させることになるので、広範囲にわたって発塵し、発塵量も多くなる。これに対して、上記実施例の構成では、上述したように各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを移動させるための特別な移動領域ＩＡ１、ＩＡ２を殆ど必要とせず、また、各分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂの移動に伴って摺動して変動する部材及びその部材の変動量が少なく、それだけ発塵を少なくすることもできる。従って、図１０に示すように構成するよりも上記実施例のように構成する方が好ましい。
【００５９】
また、上記実施例では、仕切り領域ＳＡを閉じる遮断部材を２つの分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂに分割して構成したが、３つ以上の分割遮断部材に分割してもよい。
【００６０】
３つ以上の分割遮断部材に分割する場合、例えば、図１１（ａ）に示すように、遮断面２１に向かって見て、収納時に全ての分割遮断部材２０Ａ〜２０Ｃ同士で遮断面２１が重複するように構成してもよいし、図１１（ｂ）に示すように、遮断面２１に向かって見て、収納時に一部の分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂだけ遮断面２１が重複するように構成してもよし、図１２に示すように、遮断面２１に向かって見て、グループ分けされた分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂ同士、及び分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄ同士で、それぞれ収納時に遮断面２１が重複するように構成してもよい。
【００６１】
なお、図１１、図１２中の、符号ＳＡ３、ＳＡ４は、分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄそれぞれに割り当てた仕切り領域ＳＡ内の配置位置であり、ＰＡ３、ＰＡ４は、分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄそれぞれの収納領域、Ｊ３、Ｊ４は、分割遮断部材２０Ｃ、２０Ｄそれぞれの移動の際の回動軸芯である。
【００６２】
また、例えば、図１１に示すように、３つ以上の分割遮断部材２０のうちの２つの分割遮断部材２０Ａ、２０Ｂを上記実施例のように構成してもよいし、例えば、図１２に示すように、複数の分割遮断部材２０を２つの分割遮断部材２０ずつにグループ分けして、各グループごとに上記実施例のように構成し、上記実施例を複数組備えて仕切り領域ＳＡを閉じるように構成してもよい。
【００６３】
また、遮断面２１に向かって見て、遮断面２１を重複させて収納する分割遮断部材同士は、収納時に、各分割遮断部材の遮断面２１の一部だけが重複するように構成してもよいし、各分割遮断部材の遮断面２１の全体が完全に重複するように構成してもよい。
【００６４】
さらに、ある分割遮断部材の収納領域は、上記実施例や変形例の図に示すように、その分割遮断部材に割り当てた仕切り領域内の配置位置と隣接するように設けてもよいが、本発明はそれに限定されず、ある分割遮断部材の収納領域を、その分割遮断部材に割り当てた仕切り領域内の配置位置から離れた位置や、配置位置と一部が重複する位置などに設けてもよい。
【００６５】
また、複数の分割遮断部材の遮断面は、全て同じ形状で同じ大きさである必要はなく、仕切り領域ＳＡの形状や大きさなどに応じて、形状や大きさが種々に異なる遮断面を持つ複数の分割遮断部材で構成してもよい。
【００６６】
また、上記実施例では、複数の処理槽１１Ａ〜１１Ｃの上方空間の間を仕切り領域ＳＡとして、その仕切り領域ＳＡの開閉に本発明を適用する場合を例に採ったが、本発明はこのような適用形態に限定されない。例えば、チャンバで囲まれた基板処理部と、そのチャンバの外側に設けられた基板搬送空間とを備え、チャンバに形成された基板搬入搬出口を介して基板搬送空間から基板処理部内に対する基板の搬入搬出を行うように構成された基板処理装置において、基板搬入搬出口を仕切り領域としてその仕切り領域（基板搬入搬出口）を開閉する場合などにも本発明を適用することができる。
【００６７】
また、上記実施例は、基板を一括して処理するバッチ式の基板処理装置を例に採ったが、本発明はこれに限定されず、基板を１枚ずつ処理する枚葉式の基板処理装置にも本発明を適用することができる。
【００６８】
【発明の効果】
以上の説明から明らかなように、請求項１に記載の発明によれば、仕切り領域を閉じる遮断部材を複数の分割遮断部材に分割し、これら各分割遮断部材の収納時に、分割遮断部材の遮断面に向かって見て、少なくとも一部の分割遮断部材同士の遮断面の少なくとも一部が重複した状態で収納領域に収納されるように構成したので、仕切り領域において必要とされる遮断面積を遮断することができるとともに、収納領域を小さくすることができる。
【００６９】
また、複数の分割遮断部材を構成する第１の分割遮断部材と第２の分割遮断部材とをそれぞれ回動させて、各配置位置と各収納領域との間を移動させ、このとき、第１の分割遮断部材の移動領域の一部と第２の分割遮断部材の移動領域の一部を重複させ、第１の分割遮断部材の移動領域及び第２の分割遮断部材の移動領域の殆ど全てを、第１、第２の配置位置及び第１、第２の収納領域からなる領域内に収めることができるように構成したので、第１、第２の分割遮断部材を移動させるための特別な移動領域を設ける必要もなくなり、仕切り領域を開くために必要な領域をさらに小さくすることができる。
【００７０】
また、例えば、第１、第２の分割遮断部材を直線移動させる場合に比べて、第１、第２の分割遮断部材の移動に伴う発塵を少なくすることができ、基板の汚染なども抑制することができる。
【００７１】
さらに、第１、第２の分割遮断部材を回動させる部分を回転シールするだけで、移動手段を構成する駆動源（アクチュエアータ）と、第１、第２の分割遮断部材とを完全に分離することも可能になり、薬液などの雰囲気で移動手段の駆動源が腐食されることを防止できるとともに、駆動源からの発塵で基板が汚染されることも防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施例に係る基板処理装置の全体的な構成を示す平面図である。
【図２】図１のＡ−Ａ矢視断面図である。
【図３】図１のＢ−Ｂ矢視断面図である。
【図４】仕切り領域と第１、第２の配置位置と第１、第２の収納領域との位置関係を示す図である。
【図５】仕切り開閉機構の外観を示す斜視図である。
【図６】仕切り開閉機構を分割遮断部材が移動時に通過する開口側から見た拡大断面図である。
【図７】図６のＣ−Ｃ矢視断面図である。
【図８】仕切り開閉機構を駆動室側から見た拡大断面図である。
【図９】仕切り領域に気流を流下させる場合に各分割部材の分割部分に隙間を形成した状態と隙間を無くした状態とで気流の流れを比較した図である。
【図１０】移動手段の変形例を示す図である。
【図１１】分割遮断部材を３つで構成する場合の変形例を示す図である。
【図１２】分割遮断部材を４つで構成する場合の変形例を示す図である。
【図１３】従来装置の要部構成を示す斜視図である。
【図１４】従来の仕切り開閉機構の概略構成を示す図である。
【符号の説明】
７：仕切り開閉機構
２０Ａ〜２０Ｄ：分割遮断部材
２１：遮断面
２２Ａ、２２Ｂ：移動機構
２４Ａ、２４Ｂ：駆動源（エアシリンダ）
Ｗ：基板
ＳＡ：仕切り領域
ＳＡ１〜ＳＡ４：各分割遮断部材に割り当てられた仕切り領域内の配置位置
ＰＡ１〜ＰＡ４：各分割遮断部材の収納領域
Ｊ１〜Ｊ４：各分割遮断部材の回動軸芯
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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