(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光材料処理装置の処理タンクに貯留した処理液を循環する処理液循環構造であって、
前記処理タンクに続く配管から２系統に分岐した配管のそれぞれに設けた、前記処理液を前記処理タンクから吸い出すポンプと、
前記２系統に分岐した配管の一方に設けた、処理液の比重と、弁体の比重との関係で前記一方の配管の流路を開閉する逆止弁と、
を備えたことを特徴とする処理液循環構造。
【請求項２】
前記一方の配管に、前記処理タンクから吸引した前記処理液を冷却する冷却手段を備えており、前記２系統に分岐した配管のうち他方の配管に設けたポンプのみの作動時に前記逆止弁により前記一方の配管の流路を閉鎖することを特徴とする請求項１記載の処理液循環構造。
【請求項３】
前記逆止弁を、前記一方の配管における鉛直方向成分を含む方向に延びる配管に設け、内方空間に前記処理液の比重よりも大きい比重の弁体を配し、前記逆止弁の下方に連通する配管の開口を前記弁体の自重によって閉鎖すると共に、前記下方に連通する配管から前記内方空間に流入する前記処理液によって押し上げて前記開口を開放することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の処理液循環構造。
【請求項４】
前記逆止弁を、前記一方の配管における鉛直方向成分を含む方向に延びる配管に設け、内方空間に満たされた前記処理液の比重よりも小さい比重の弁体を配し、前記逆止弁の上方に連通する配管の開口を前記弁対に加わる浮力によって閉鎖すると共に、前記逆止弁の上方に連通する配管から前記内方空間に流入する前記処理液によって前記弁体を押し下げて前記開口を開放することを特徴とする請求項１又は請求項２記載の処理液循環構造。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、感光材料を処理する処理液を貯留する感光材料処理装置の処理タンクにおいて、処理液を循環するための処理液循環構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】
感光材料処理装置では、画像露光をした感光材料を搬送しながら、この感光材料を処理液に浸漬したり、水平搬送する感光材料の表面に処理液を吹き付けるなどして、複数の処理液によって処理する。
【０００３】
例えば、感光性平版印刷版（以下「ＰＳ版」と言う）を処理する感光材料処理装置（ＰＳ版プロセッサー）では、ＰＳ版を現像液に浸漬して現像処理をした後、水洗水で水洗処理をして版面保護のためのガム液等の不感脂化処理液を塗布する不感脂化処理を行なう。
【０００４】
このようなＰＳ版プロセッサーにおいて、特に現像液等は処理をする適性な温度が常温よりも高いため、ヒータを現像液等の中に配置して加熱するようにしている。現像液の温度は、温度センサにより検出され、この温度センサの検出値に基づいてヒータがオン・オフ制御される。また、加熱した現像液に温度むらが生じないように、現像液を循環するための第１の循環系の配管を設けている。
【０００５】
一方、現像液の温度が高すぎる場合、逆に冷却する必要がある。そこで、前記第１の循環系配管とは別に、現像液を循環させ、この循環途中で現像液を冷却する第２の循環系配管を設けることが提案されている。
【０００６】
この場合、何れの循環系配管も現像槽から現像液を取り出すため、一部を共通化することで、配管構造の簡略化を図ることができる。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、それぞれの循環系配管には、ポンプが設けられており、一方のポンプのみ作動させる場合、他方の循環系配管において逆流することがある。このような逆流は、前記加熱した現像液の温度むら防止のための循環と、冷却のための循環と、の間で相互に悪影響を及ぼすことになるため、それぞれの循環系配管に弁（電磁弁等）を設け、ポンプが作動しない循環系配管を閉塞する必要があった。このため、部品点数の増加を招き、また、弁の開閉のための作業（制御）が必要となり、作業が煩雑となる。
【０００８】
本発明は上記事実を考慮し、簡単な構造で２系統の配管の共通化を図り、かつ相互に独立してポンプが作動しても、相手側に逆流等の悪影響を及ぼすことを防止することができる処理液配管構造を得ることが目的である。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
請求項１に係る発明は、感光材料処理装置の処理タンクに貯留した処理液を循環する処理液循環構造であって、前記処理タンクに続く配管から２系統に分岐した配管のそれぞれに設けた、前記処理液を前記処理タンクから吸い出すポンプと、前記２系統に分岐した配管の一方に設けた、処理液の比重と、弁体の比重との関係で前記一方の配管の流路を開閉する逆止弁と、を備えたことを特徴としている。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、前記請求項１に記載の発明において、前記一方の配管に、前記処理タンクから吸引した前記処理液を冷却する冷却手段を備えており、前記２系統に分岐した配管のうち他方の配管に設けたポンプのみの作動時に前記逆止弁により前記一方の配管の流路を閉鎖することを特徴としている。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、前記請求項１又は請求項２に記載の発明において、前記逆止弁を、前記一方の配管における鉛直方向成分を含む方向に延びる配管に設け、内方空間に前記処理液の比重よりも大きい比重の弁体を配し、前記逆止弁の下方に連通する配管の開口を前記弁体の自重によって閉鎖すると共に、前記下方に連通する配管から前記内方空間に流入する前記処理液によって押し上げて前記開口を開放することを特徴としている。
【００１２】
請求項４に記載の発明は、前記請求項１に記載の発明において、前記逆止弁を、前記一方の配管における鉛直方向成分を含む方向に延びる配管に設け、内方空間に満たされた前記処理液の比重よりも小さい比重の弁体を配し、前記逆止弁の上方に連通する配管の開口を前記弁対に加わる浮力によって閉鎖すると共に、前記逆止弁の上方に連通する配管から前記内方空間に流入する前記処理液によって前記弁体を押し下げて前記開口を開放することを特徴としている。
【００１３】
請求項１に記載の発明によれば、２系統の配管のうち処理タンクに続く配管を共通化し、一方の系統による処理液の流動時に他方の系統の配管で逆流が生じないように逆止弁を設けたため、互いに悪影響を及ぼすことなく、２系統の配管を適用することができる。ここで、逆止弁は、通常市販されているばね等を用いた構造物ではなく、弁体の比重と処理液の比重との関係で管路を開閉することができる簡単な構造とした。これにより、配管の共通化によるメリット（配管の簡略化による部品点数の削減及び軽量化）を充分発揮することができる。
【００１４】
請求項２に記載の発明によれば、前記２系統の配管の一方が、処理液を冷却するための配管であるため、この配管が逆流すると処理液の温度が大幅に変化し、仕上がりの画質にも大きく影響する。このため、逆止弁を、この一方の配管に設けることで、処理液の冷却過多を防止することができる。
【００１５】
逆止弁の構造としては、請求項３に記載のように、鉛直方向成分を含む方向に延びる配管に設けられ、内方空間に処理液の比重よりも大きい比重の弁体を配し、通常は自重によって下方の管路を閉鎖すると共に、この下方から流入してくる処理液の勢いで管路が開放する構造と、請求項４のように、鉛直方向成分を含む方向に延びる配管途中に設けられ、内方空間に処理液の比重よりも低い比重の弁体を配し、通常は前記内方空間に充満している処理液から弁体に加わる浮力によって上方の管路を閉鎖すると共に上方の管路から流入してくる処理液の勢いで上方管路のを開放する構造のものがあり、取付位置に応じて選択すればよい。前記鉛直方向成分を含む配管としたのは、弁体の比重を利用するためであり、鉛直方向の配管が最も好ましい。
【００１６】
【発明の実施の形態】
図１には、本実施の形態に係る処理液温調装置２００が示されている。
【００１７】
処理タンク２０２には、感光材料等の被処理部材を処理するための処理液２０４が貯留されている。
【００１８】
処理液２０４は、処理するときの適温があり、この適温に維持するための手段として、処理タンク２０２内には、ヒータユニット２０６が設置されている。
【００１９】
ヒータユニット２０６は、棒状の発熱部２０６Ａを備えており、この発熱部２０６Ａへ防水用配管２０６Ｂ内で電気的配線を施すことによって、発熱部２０６Ａを発熱させることができる。処理液２０４は、この発熱部２０６Ａの発熱によって加熱される。
【００２０】
また、処理タンク２０２内には、温度センサ２０８が配設されている。温度センサ２０８の検出部は、処理タンク２０２の処理液中２０４にあり、処理液２０４の平均的な温度を検出することができる位置に配置されている。すなわち、ヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａの接近しすぎず、かつ遠すぎない位置に配置されている。
【００２１】
この温度センサ２０８によって検出された処理液２０４の温度は、温調制御部（図示省略）に入力されるようになっている。この温調制御部には、前記ヒータユニット２０６を通電、非通電（オン・オフ）するためのドライバ（図示省略）も接続されている。ここで、温調制御部では、温度センサ２０８からの検出温度に基づいて、ヒータユニット２０６のオン・オフ制御を実行している。
【００２２】
本実施の形態では、処理液２０４の調整温度が３０℃であり、このときのヒータユニット２０６のオンタイミングは２９．９℃以下、オフタイミングは３０．１℃以上である。
【００２３】
ところで、ヒータユニット２０６のオン・オフ制御のみで処理液２０４が調整温度（３０℃）に安定すればよいが、オン・オフ制御の特性上、オーバシュートが存在するため、処理液２０４は、ある温度幅（振幅）で正弦波状の温度特性となる。
【００２４】
これを抑制するために、処理タンク２０２には、冷却手段の一部を構成する循環パイプ２１０を配設している。
【００２５】
循環パイプ２１０は、後述する配管構成により、処理タンク２０２内の処理液２０４を所定の流量で循環させる役目を有している。この処理液の循環によって処理タンク２０２内の処理液２０４の温度むらを軽減することができる。
【００２６】
本実施の形態では、この処理液循環用の配管系に処理液２０４を冷却する手段を装備しており、前記温度センサ２０８からの検出温度に基づいて循環・循環停止（後述するポンプ２１２のオン・オフ）を実行している。本実施の形態では、処理液２０４の調整温度が３０℃の場合に、３０．５℃以上で循環オン、２９．９℃以下で循環オフとしている。
【００２７】
以下、処理液循環兼冷却配管構造を説明する。
【００２８】
図１に示される如く、処理タンク２０２の底部には、処理液２０４を処理タンク２０２から排出するための排出口２１４が設けられ、この排出口２１４から排出された処理液２０４は、配管３００及び配管２１６に分岐されている。
【００２９】
配管３００の先端はポンプ３０２の流入口３０２Ａに接続されており、このポンプ３０２の作動により、処理液２０４は配管３０２を通って、ポンプ３０２の吐出口３０２Ｂへと流動し、この吐出口３０２Ｂに接続された配管３０４によって、再度処理タンク２０２へ戻されるようになっている。すなわち、配管３００、ポンプ３０２及び配管３０４は、第１の系統の配管を構成しており、処理タンク２０２内の処理液２０４を循環する役目を有している。
【００３０】
一方、配管２１６は、円筒形フィルタ２１８の底部に位置するフィルタ流入口２１８Ａに接続されている。
【００３１】
なお、この配管２１６は分岐され、分岐された側の配管２２０は、ストップバルブ２２２を介して解放されている。
【００３２】
フィルタ２１８の周面には、フィルタ２１８内で処理液２０４に含まれるゴミ等が取り除かれた処理液２０４が流出する流出口２１８Ｂが設けられ、この流出口２１８Ｂは、配管２２４を介してポンプ２１２の流入口２１２Ａに接続されている。
【００３３】
ポンプ２１２は、所謂羽根車構造であり、軸芯部に流入した処理液２０４を、遠心力によって内周面方向へ移動させる。ポンプ２１２の周面には、接線方向に沿った流出口２１２Ｂが設けられており、内周面という移動方向の制限がなくなった処理液２０４が流出口２１２Ｂから勢いよく流出する構造となっている。
【００３４】
このポンプ２１２の流出口２１２Ｂは、配管２２６を介して熱交換部２２８の流入口２２８Ａに接続されている。
【００３５】
この配管２２６が、ポンプ２１２に接続される部分は鉛直方向に延びており、この鉛直配管部分に本発明の実施の形態に係る逆止弁３０６が設けられている。逆止弁３０６の内部構造については詳述するが、機能としてはポンプ２１２から流出する処理液２０４は円滑に流動し、配管２２６からポンプ２１２へと逆流しようとする処理液２０４の流動を防止するものである。
【００３６】
配管２２６は、熱交換部２２８へ配管されている。熱交換部２２８は、箱型の冷却タンク２３０と、この冷却タンク２３０内に配設された循環パイプ被冷却部としての螺旋状の熱交換パイプ２３２とで構成されている。この熱交換パイプ２３２の上位側開口は、前記熱交換部２２８の流入口２２８Ａに接続されており、下位側開口は、前記流入口２２８Ａに対して同一面の対角線上に設けられた流出口２２８Ｂに接続されている。
【００３７】
すなわち、ポンプ２１２から吐出された処理液２０４は、熱交換パイプ２３２の上位開口から熱交換部２２８へ入り込み、下位開口から排出されることになる。
【００３８】
冷却タンク２３０には、冷却装置（チラー）２３４との間での循環（配管２３６、２３８による）によって冷却水が常に貯留されている。このため、処理液２０４は熱交換パイプ２３２を通過することによって降温冷却される。
【００３９】
また、この冷却タンク２３０には、冷却水排出口２３０Ａが設けられている。この冷却水排出口２３０Ａは、冷却タンク２３０内の冷却水を廃棄する場合に用いられるものであり、この冷却水排出口２３０Ａには、廃棄用の配管２４０が接続されている。この廃棄用の配管２４０の途中にはストップバルブ２４２が設けられており、通常は閉じられている。
【００４０】
熱交換部２２８の流出口２２８Ｂは、配管２４４を介して処理タンク２０２の外側の側部に配設されたチャンバー２４６の流入口２４６Ａに接続されている。このチャンバー２４６の流出口２４６Ｂは、処理タンク２０２内に配設された循環パイプ２１０の一端が接続されている。
【００４１】
循環パイプ２１０は、直線状で、処理タンク２０２内において前記ヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａの軸線と平行に、かつ接近して配置されている。また、循環パイプ２１０の前記発熱部２０６Ａに向けられた周面には、軸線方向に沿って複数の小孔２１０Ａが設けられ、この小孔２１０Ａから冷却された循環を終えた処理液２０４が噴出するようになっている。なお、上記構造のため、噴出する処理液（冷却された後の処理液）２０４は、発熱部２０６Ａに直接吹き付けられることになる。
【００４２】
なお、熱交換部２２８の流出口２２８Ｂに接続された配管２４４は、途中で分岐されており、この分岐された配管２４８は、ストップバルブ２５０を介して開放されている。
（逆止弁３０６の構造）
図４には、逆止弁の内部構造が示されている。
【００４３】
逆止弁３０６は円筒形のケーシング３０８を備え、両端面には接続用配管口３１０、３１２が一体形成されている。
【００４４】
ケーシング３０８の内部は２層中空構造（中空槽３１４、３１６）となっており、その容積分布は上槽が約１／４、下槽が約３／４を占めている。両方の中空槽３１４、３１６を仕切る仕切り部材３１８には、複数の貫通孔３２０が設けられており、処理液の流通が可能となっている。
【００４５】
下側（大容量側）の中空槽３１６には、球状の弁体３２２が収容されている。この弁体３２２の比重は、処理液２０４の比重よりも大きいため、中空槽３１４、３１６に処理液２０４が充満されていようがいまいが、下方の配管口３１２の開口部３１２Ａを閉塞している。なお、開口部３１２Ａは、基部側周縁が弁体３２２に線接触するように面取り加工が施されている。
【００４６】
ここで、前記ポンプ２１２の作動により下側の配管口３１２から処理液２０４が勢いよく流入しようとすると、弁体３２２はこの勢いに負け、図４の想像線の如く、開口部３１２Ａを開放する。これにより、処理液２０４は、中空槽３１６、３１４を通過して、上側の配管口３１０の開口部３１０Ａから流出することができる。
【００４７】
ここで、ポンプ２１２側に処理液２０４が吸引される力が生じたとき、弁体３２２は、配管口３１２の開口部３１２Ａを閉塞するため、ケーシング３０８内の処理液２０４が配管口３１２を通してポンプ２１２側に流れ出す。このような逆流を防止することができる。
【００４８】
ところで、この逆止弁３０６は、ばね等の付勢力で開口ブ３１２Ａを閉塞していないため、完全な閉塞とはならない。言いかえればケーシング３０８からポンプ２１２側への若干の漏れがある。しかし、この漏れは、処理タンク２０２中の処理液２０４の温度等に大きな影響を及ぼすものではないため、逆流防止という点では全く問題はない。これに対して、清掃等のために配管内の処理液２０４を全て廃棄するような場合、逆止弁３０６に若干の漏れがあることにより、完全閉塞による配管内の処理液残留がなく、かえって好結果となり得る。
【００４９】
以下に本実施の形態の作用を説明する。
（温調制御）
図２に示される如く、例えば常温（約２０℃）からヒータユニット２０６をオンさせつづけ（図２の矢印Ａ）、３０．１℃となった時点でヒータユニット２０６をオフする（図２の矢印Ｂ）。このとき、ヒータユニット２０６がオフになっても、余熱により処理液２０４は加熱し続けられオーバーシュートしていく。このオーバーシュートにより処理液２０４の温度が３０．５℃なると、ポンプ２１２がオンして処理液２０４の循環が開始される（図２矢印Ｃ）。
【００５０】
処理液２０４が循環するとき、熱交換部２２８の熱交換パイプ２３２を通過し、このときに冷却水によって処理液２０４が冷却された後、処理タンク２０２へ戻される。冷却された処理液２０４は、小孔２１０Ａから発熱部２０６Ａに向けて噴出するため、発熱部２０６Ａの余熱が急激に減少し、オーバーシュートを軽減する。これにより、処理液２０４は３０．５℃を若干超えた時点がピークとなり、従来のように３１．０℃までオーバーシュートせずに降温傾向となる。
【００５１】
次に、処理液２０４が循環されて冷却された処理液２０４によって徐々に温度低下していき、２９．９℃になると、循環のためのポンプ２１２がオフし、同時にヒータユニット２０６をオンさせる。これにより、処理液２０４は、２９．９℃を若干下回った程度で昇温傾向に転換する。
【００５２】
このように、本実施の形態では、処理液２０４自体を循環させ、かつこの循環中に冷却し、さらに、冷却した処理液２０４をヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａに向かって直接噴出する構造とすると共に、ヒータユニット２０６のオフへの切替えの温度と、循環のためのポンプ２１２のオンへの切替えの温度とに差を設けることによって、従来の温度特性（図２の鎖線参照）に比べて、時間軸（横軸）の各位置における温度特性の傾きを小さくし、かつオーバーシュート幅（振幅）を少なくすることができる。従って、処理液２０４の温度を安定させることができる。
（処理液２０４の廃液）
処理タンク２０２内の処理液２０４は、定期的に交換することになっている。
この場合、循環系（冷却系）の配管内に処理液２０４が滞留していると、処理液２０４に含まれる薬剤が固化、析出し、配管路を塞いでしまうことがあり得る。
このため、処理液の交換時には、当該配管内の処理液２０４を完全に廃棄する必要がある。
【００５３】
そこで、本実施の形態では、螺旋状の熱交換部２２８の処理液流入口２２８Ａを上位側として、流出口２２８Ｂを下流側としたため、ポンプ２１２の停止中にストップバルブ２２０、２５０を開放すると、ポンプ２１２の上流側及び下流側共に配管路が開放され、処理液２０４を自重で完全に廃棄することができる。
（逆流防止）
図８の配管図は、第１の系統の配管（処理液循環配管)側のポンプ３０２を作動し、第２の系統の配管（冷却循環配管)側のポンプ２１２を非作動とした場合に、必要な流れ（矢印ａ参照）の他に不要な流れ（矢印ｂ参照）を防止するため、電磁弁３２４を設けたものである。このような電磁弁３２４を設けることで、第１の系統と第２の系統の配管の一部を共通化して部品点数の削減を行う意味がなくなり、逆に電磁弁３２４の開閉制御が付加されることになる。
【００５４】
そこで、本実施の形態では、図９の配管図（図１に対応する）に示される如く、鉛直方向とされた配管２２６に弁体３２２の比重と、処理液２０４の比重との関係に基づいて、第の系統の配管に設けられたポンプ２１２より下流側で循環パイプ２１０までの配管に自動的に開閉する簡易的な逆止弁３０６（図４参照）を設けた。ここで、弁体３２２としては、処理液２０４の比重より大きい比重のものを用いる。
【００５５】
この構造において、第２の系統のポンプ２１２を非作動とし、第１の系統の配管に設けられたポンプ３０２を作動させて、処理タンク２０２内の処理液２０４を循環させようとすると、図４に示される如く、逆止弁３０６の下側の配管口３１２から処理液２０４を吸い出す力が加わる。このとき、弁体３２２は、下側の開口部３１２Ａを自重により閉塞するため、逆流が防止され、熱交換ブ２２８によって冷却されえた処理液２０４がポンプ３０２によって循環する処理液２０４に混入しえしまって処理タンク２０２内の処理液２０４の温度が急激に低下してしまうのが防止される。
【００５６】
一方、第２の系統の配管に設けられたポンプ２１２が作動すると、下側の配管口３１２から逆止弁３０６内に勢いよく処理液２０４が流入することになる。弁体３２２はこの勢いで、図４の想像線の如く移動し、開口部３１２Ａが開口し、処理液２０４は円滑に逆止弁３０６を通過して熱交換ブ２２８へと至る。
【００５７】
このように、本実施の形態の逆止弁３０６では、内部の弁体３２２の比重と、処理液２０４の比重との関係で、自動的に逆流を防止することができるため、電磁弁３２４（図８参照）のように電気的な制御を要したり、人手による弁の開放作業を要したりすることがなく、作業性を低下させることがない。
【００５８】
また、簡易的な弁体３２２であるがゆえの漏れもあるが、これが、配管内の処理液の廃棄には、逆に必要な構造となり、完全に処理液を配管内から抜き取ることができる。
（逆止弁の変形例）
図５には、逆止弁３０６の変形例が示されている。この逆止弁４０６は、弁体４２２の比重が処理液２０４の比重よりも小さいため、処理液２０４に対して浮力を持つことになる。
【００５９】
逆止弁４０６は処理タンク２０２の下方に配置されているので、中空槽４１４、４１６には処理液２０４が充満しており、上側の配管口４１０の開口部４１０Ａを閉塞することになる。
【００６０】
このため、下側の配管口４１２の開口部４１２Ａから流入する処理液２０４の上側の開口部４１０Ａからの流出を防止することになる。
【００６１】
図１０の配管図は、図８に示した比較例の変形例であり、第１の系統の配管（処理液循環配管）側のポンプ３０２を作動し、第２の系統の配管（冷却循環配管)側のポンプ２１２を非作動とした場合に、必要な流れ（矢印ｃ参照）の他に不要な流れ（矢印ｄ参照）を防止するため、電磁弁３２４を設けたものである。このような電磁弁３２４を設けることで、第１の系統と第２の系統の配管の一部を共通化して部品点数の削減を行う意味がなくなり、逆に電磁弁３２４の開閉制御が付加されることになる。
【００６２】
そこで、図１１の配管図に示される如く、鉛直方向とされた配管２４４に弁体４２２の比重と、処理液の比重との関係に基づいて、第２の系統の配管に設けられたポンプ２１２より下流側で循環パイプ２１０までの配管に自動的に開閉する簡易的な逆止弁４０６（図５参照）を設けた。
【００６３】
この構造において、第２の系統のポンプ２１２を非作動とし、第１の系統の配管に設けたポンプ３０２を作動させて処理タンク２０２内の処理液２０４を循環させようとすると、図５に示される如く、逆止弁４０６の上側の配管口４１０から処理液２０４を吸い出す力が加わる。しかし、弁体４２２は、中空槽４１４、４１６に充満している処理液２０４から受ける浮力により、上側の開口部４１０Ａを閉塞するため逆流が防止され、熱交換部２２８によって冷却された処理液２０４がポンプ３０２によって循環して処理液２０４に混入して処理タンク２０２内の処理液２０４の温度が急激に低下してしまうことが防止される。
【００６４】
一方、第２の系統の配管に設けられたポンプ２１２が作動すると共に、弁体４２２の浮力より強い力で中空槽４１６に処理液２０４が流れ込んで弁体４２２を押し下げ、配管２４４から逆止弁４０６内に勢いよく処理液２０４が流入することになる。弁体４２２は、この処液２０４が流入する勢いで、図６の想像線の如く移動し、開口部４１０Ａが開口し、処理液２０４は円滑に逆止弁４０６を通過して循環パイプ２１０へと至る。
【００６５】
なお、本実施の形態では、開口部３１２Ａ、４１０Ａの周縁を面取りしたが、図６（Ａ）に示される如く、弁体３２２，４２２が嵌り込まなければ（線接触であれば）面取りを施さなくてもよい。また、図６（Ｂ）に示される如く、逆側の面に面取りを施して開口部３１２Ａ（４１０Ａ）が鋭角を成すようにしてもよい。
【００６６】
また、本実施の形態では、弁体３２２、４２２を球形状としたが、図７（Ａ）に示されるような円柱（先端部テーパ形状）形状、図７（Ｂ）に示されるような円錐形状、図７（Ｃ）に示されるようなたまご形状であってもよい。
【００６７】
なお、図９の配管図では、逆止弁３０６をポンプ２１２と熱交換部２２８との間の配管に設けたが、逆止弁３０６は熱交換部２２８と循環パイプ２１０との間の配管に設けてもよい。この逆止弁３０６によって図９に示した逆止弁３０６と同様の効果を得ることができる。
【００６８】
また、図１２に示すように、熱交換部２２８から続く配管の先端に設けたチャンバー２４６に代えて、処理液２０４より比重の小さい弁体４２２を用いた逆止弁４０６を設け、逆止弁４０６に続いて循環パイプ２１０を取り付けるようにしてもよい。これによって図１１に示した逆止弁４０６と同様の効果を得ることができる。
【００６９】
また、図１１の配管図において、逆止弁４０６の中空槽４１６の位置が処理タンク２０２内に貯留された処理液２０４の液面の位置になるように逆止弁４０６を配管２１６に配置してもよい。これによって、中空槽４１６の途中まで処理液２０４が満たされ、処理液２０４の上方は空気で満たされている。ここで、ポンプピ３０２を非作動状態とし、ポンプ２１２を作動させると、中空槽４１６内の処理液２０４が下側の配管口４１２から排出されるため、液面が下がり弁体４２２による開口部４１０Ａの閉塞が解除される。これにより、処理液２０４は円滑に逆止弁４０６を通過して熱交換部２２８へと至る。
【００７０】
さらに、処理液と比重の違う弁体３２２、４２２を備えた逆止弁３０６、４０６を用いて、熱交換部２２８によって冷やされた処理液が逆流しないようにしたが、冷やされた処理液に限らず逆流しては困る処理液の逆流の防止を図るために、これらの逆止弁３０６、４０６を用いてもよい。
【００７１】
【実施例】
以下に第１の実施の形態で説明した温調装置の適用例を示す。この実施例では、上記第１の実施の形態で説明した温調装置２００を感光性平版印刷版処理装置（以下「ＰＳ版プロセッサー」に適用したものである。
【００７２】
温調が必要は処理液２０４とは、主に後述する現像部２２の現像槽２４に貯留された現像液である。
（ＰＳ版プロセッサー１０の全体構造）
図３に示される如く、ＰＳ版プロセッサー１０は、図示しない焼付装置によって画像焼付けが行なわれた感光性平版印刷版（以下「ＰＳ版１２」と言う）を現像液で処理する。
【００７３】
ＰＳ版プロセッサー１０は、ＰＳ版１２を現像液で処理するための現像部２２と、現像液による処理の終了したＰＳ版１２の表面の洗浄と不感脂化処理を行なうフィニッシャー部２６とが設けられている。現像部２２は、現像槽２４を備えており、フィニッシャー部２６は、第１フィニッシャー槽２８、第２フィニッシャー槽３０を備えている。
【００７４】
ＰＳ版プロセッサー１０には、処理タンク１８が配置されており、この処理タンク１８を複数の隔壁２０によって仕切ることにより、現像槽２４、第１フィニッシャー槽２８及び第２フィニッシャー槽３０が形成されている。処理タンク１８は、複数の隔壁２０が樹脂の一体成形によって形成されている。なお、図１では、処理タンク１８の形状を模式的に示している。
【００７５】
ＰＳ版プロセッサー１０の外板パネル１４の上部開口を覆う蓋部４０には、現像部２２とフィニッシャー部２６との間にＰＳ版１２を挿入するリエントリー用の副挿入口３８が設けられている。この副挿入口３８は、現像液による処理を除く処理、すなわち、フィニッシャー部２６で洗浄と不感脂化処理を行なうためのＰＳ版１２の挿入用となっている。
【００７６】
現像部２２へのＰＳ版１２の挿入側には、一対のゴム製搬送ローラ３２が配設されており、画像が焼付けられたＰＳ版１２は、外板パネル１４から突設された挿入台１６上に載置され、挿入口３４からこの一対の搬送ローラ３２の間へ挿入されるようになっている。なお、ＰＳ版プロセッサー１０によって処理されるＰＳ版１２は、両面に感光層が形成されており、挿入口３４からＰＳ版プロセッサー１０内へ挿入されるようになっている。
【００７７】
一対の搬送ローラ３２は、挿入口３４へＰＳ版１２が挿入されたことを、挿入口３４の近傍に設けた図示しない検出器により検出すると作動する図示しない駆動手段の駆動力によって回転し、挿入されたＰＳ版１２を挟持して、ＰＳ版１２を水平方向に対して約１５°〜３１°の角度傾斜させながら現像部２２へ送り込むようになっている。
【００７８】
現像部２２には、上方が開口され底部中央部が下方へ向けて突出された略逆山形状の現像槽２４が設けられており、この現像槽２４には、処理液としてＰＳ版１２を処理する現像液が貯留される。また、現像槽２４内には、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った下側にガイド板１００が配設されている。
ガイド板１００は、ＰＳ版１２の搬送方向に沿った上流側と下流側とに２分割されており、その間には、串ローラ１１１が配置されている。搬送ローラ３２によって送り込まれたＰＳ版１２は、ガイド板１００の上面に沿って案内搬送される。
【００７９】
ガイド板１００には、複数のコロローラ（小型ローラ）１０２が取り付けられている。コロローラ１０２は、ガイド板１００の上面に沿って搬送されるＰＳ版１２と接触することにより回転し、ＰＳ版１２にガイド板１００の上面と接触する摺動による傷つきの発生を防止している。
【００８０】
ガイド板１００は、現像槽２４の底部に沿って逆山形形状に配置されており、現像槽２４には、このガイド板１００の最低位置を挟んだ上流側及び下流側のそれぞれに、ブラシローラ１０４、１０６が配置されている。このブラシローラ１０４、１０６は、ガイド板１００上を案内されるＰＳ版１２の上面に対向されている。また、現像槽２４内には、ガイド板１００の下流側に、ＰＳ版１２の下面に対向するブラシローラ１０８が配設されている。
【００８１】
ブラシローラ１０４、１０６、１０８は、図示しない駆動手段の駆動力によってＰＳ版１２の搬送方向に沿って回転駆動されるようになっている。ＰＳ版１２は、現像液に浸漬されることにより、感光層が露光画像に応じて膨潤するようになっており、ブラシローラ１０４、１０６、１０８は、膨潤した不要な感光層をＰＳ版１２の表面から掻き落とす役目を有している。なお、ＰＳ版１２が片面（上面）にのみ感光層を有するときには、ブラシローラ１０４、１０６によってＰＳ版１２の版面（上面）側の不要な感光層を除去し、ＰＳ版１２が両面に感光層を有するときには、ブラシローラ１０４、１０６によってＰＳ版１２の表面側の不要な感光層を除去すると共に、ブラシローラ１０８によって裏面（下面）側の感光層が除去される。
【００８２】
ＰＳ版１２から不要な感光層を掻き落とすブラシローラ１０４、１０６、１０８の機能を十分に発揮させるためには、ＰＳ版１２を所定の押圧力でこれらのブラシローラ１０４、１０６、１０８に押圧する必要がある。このため、ブラシローラ１０４、１０６には、串ローラ１１１及びコロローラ１０２が設けられているガイド板１００が対向し、ブラシローラ１０８には、串ローラ１１０が対向して配置されている。これにより、ブラシローラ１０４、１０６、１０８のそれぞれは所定の押圧力で、ＰＳ版１２に接触しながら回転するようになっている。
【００８３】
ブラシローラ１０８の下流側には、ＰＳ版１２の裏面に対向する串ローラ１１２が配設され、さらに、現像部２２の最下流には、一対のゴム製搬送ローラ１１４が配設されている。ブラシローラ１０８と串ローラ１１０の間を通過したＰＳ版１２は、串ローラ１１２に案内されて現像槽２４の現像液中から送り出されて一対のスクイズローラ１１４の間へ送り込まれる。
【００８４】
現像部２２には、現像槽２４内の現像液の液面を覆う液面蓋５０が配置されている。この液面蓋５０は、下面が現像液の液面より下方となるように配置され、現像液の液面と空気との接触面積を極力少なくすることにより、空気中の炭酸ガスによる現像液の劣化や現像液中の水分の蒸発を防止している。
【００８５】
ＰＳ版１２の搬送方向に沿った液面蓋５０の両端には、ブレード１１６が取り付けられている。上流側のブレード１１６は、対で配置されている上方の搬送ローラ３２に接触されており、下流側のブレード１１６は、対で配置されている上方の搬送ローラ１１４に接触されており、これにより、現像液が外気にさらされるのを防止している。
【００８６】
また、排出口３６をＰＳ版１２が通過しない時は、シャッター１７２を閉状態にすると共に、現像部２２の上方をカバー４０で覆って、カバー４０の下面に液面蓋５０の上端に対応して設けた溝４１に液面蓋５０の上端を嵌入状態にすることにより、現像部２２内の空気の流動を抑えて、この空気中の炭酸ガスによる現像液の劣化を防止している。
【００８７】
また、液面蓋５０の下面には、ＰＳ版１２の搬送方向上流側と下流側の端部に串ローラ１１８、１２０が取り付けられている。これらの串ローラ１１８、１２０は、現像槽２４内を搬送されるＰＳ版１２が液面蓋５０と接触するのを防止している。これにより、ＰＳ版１２の搬送中に、ＰＳ版１２に若干の弛みが生じた場合でも、ＰＳ版１２の上面が、感光層を損傷させるほど硬い液面蓋５０に当接してしまうことがない。
【００８８】
対で配置されているスクイズローラ１１４は、図示しない駆動手段の駆動力によって回転するようになっており、これにより、ＰＳ版１２はスクイズローラ１１４によって現像液が絞り取られた後、次工程であるフィニッシャー部２６へ送り出される。
【００８９】
フィニッシャー部２６は、ＰＳ版１２の搬送方向に沿って第１フィニッシャー槽２８と第２フィニッシャー槽３０が設けられている。第１フィニッシャー槽２８及び第２フィニッシャー槽３０のそれぞれには、ＰＳ版１２の表面を洗浄するための水洗水と不感脂化処理するためのフィニッシャー液（例えばガム液）が貯留される。
【００９０】
現像部２２に隣接する第１フィニッシャー槽２８内には、２対の搬送ローラ５２、５３が配設されている。これらの搬送ローラ５２、５３は、図示しない駆動手段の駆動力によって回転駆動して、現像部２２から送り込まれたＰＳ版１２を挟持して略水平に搬送する。
【００９１】
搬送ローラ５２と搬送ローラ５３の間には、ＰＳ版１２の上面及び下面に対向してスプレーパイプ５６、１２２が配設されている。スプレーパイプ５６、１２２は、搬送ローラ５２、５３の軸線方向、すなわち、ＰＳ版１２の搬送方向に沿って設けられ、ＰＳ版１２に対向する位置に所定間隔で図示しない吐出口が形成されている。この吐出口は、スプレーパイプ５６、１２２の中空の内部に達しており、図示しないポンプによって第１フィニッシャー槽２８内の水洗水が汲み上げられてスプレーパイプ５６、１２２内に供給されることにより、この水洗水がＰＳ版１２の上面及び下面へ向けて吐出される。
【００９２】
スプレーパイプ５６、１２２から吐出されてＰＳ版１２に付着した水洗水は、ＰＳ版１２が一対の搬送ローラ５３に挟持されることにより、ＰＳ版１２の上面及び下面に均一に延ばされた後、ＰＳ版１２の表面から絞り落とされる。これにより、ＰＳ版１２の表面に付着して残っている現像液が洗い落とされる。
【００９３】
第２のフィニッシャー槽３０内には、一対の搬送ローラ５８が設けられている。ＰＳ版１２は、第１フィニッシャー槽２８の搬送ローラ５３によって一対の搬送ローラ５８の間へ送り込まれるようになっている。この搬送ローラ５３と搬送ローラ５８との間では、搬送ローラ５８の方が低位置になるようにＰＳ版１２が水平方向に対して僅かに傾斜された状態で搬送されるようになっている。
【００９４】
第２フィニッシャー槽３０内には、搬送ローラ５８の上流側にスプレーパイプ１２４が設けられている。このスプレーパイプ１２４は、ＰＳ版１２の上面に対向して搬送ローラ５８の軸線に沿った配置され、ＰＳ版１２に対向する位置に所定の間隔で吐出口が形成されている。
【００９５】
また、スプレーパイプ１２４の下方には、ＰＳ版１２の下面に対向して流出ユニット１２６が配置されている。この流出ユニット１２６には、ＰＳ版１２の幅方向に沿って所定の間隔で内部と連通するスリットが形成されている。
【００９６】
スプレーパイプ１２４及び流出ユニット１２６のそれぞれには、第２フィニッシャー槽３０内に貯留されているフィニッシャー液が図示しないポンプによって汲み上げられて供給されるようになっている。スプレーパイプ１２４は、このフィニッシャー液を吐出口からＰＳ版１２の上面へ向けて吐出するようになっている。これにより、ＰＳ版１２の上面にフィニッシャー液が均一に塗布される。
【００９７】
一対の搬送ローラ５８は、図示しない駆動手段の駆動力によって回転するようになっており、フィニッシャー部２６で不感脂化処理の終了したＰＳ版１２は、一対の搬送ローラ５８によって搬送されて、排出口３６から排出される。
【００９８】
フィニッシャー部２６の下流側には、乾燥装置１５０が配設されており、排出口３６が乾燥装置１５０への挿入口となっており、ＰＳ版１２は、排出口３６から排出されることにより乾燥装置１５０内へ送り込まれる。
【００９９】
なお、本発明が適用されるＰＳ版プロセッサー１０としては、乾燥装置１５０を設けずに、不感脂化処理の終了したＰＳ版１２をそのまま排出するものであっても良い。
【０１００】
支持ローラ１７０及び搬送ローラ１５２及びモルトンローラ１５４は、図示しない駆動手段の駆動力によって回転駆動するようになっており、排出口３６から乾燥装置１５０内に送り込まれたＰＳ版１２は、支持ローラ１７０によって下面側が支持されながら搬送された後、搬送ローラ１５２及びモルトンローラ１５４に挟持搬送されて、排出口１５８から排出される。
【０１０１】
乾燥装置１５０内には、支持ローラ１７０と搬送ローラ１５２の間及び搬送ローラ１５２とモルトンローラ１５４の間に吹出しダクト１６０が配置されている。吹出しダクト１６０は、ＰＳ版１２の上面側及び下面側のそれぞれに対向して対で配置されている。
【０１０２】
吹出しダクト１６０は、長手方向がＰＳ版１２の幅方向に沿って配置されており、ＰＳ版１２に対向する面に、長手方向がＰＳ版１２の幅方向に沿ったスリット状の吹出し口１６２が形成されている。この吹出しダクト１６０は、長手方向の一端側が閉塞されており、他端側から図示しない乾燥風発生手段によって発生された乾燥風が供給されるようになっている。吹出しダクト１６０内に供給された乾燥風は、吹出し口１６２からＰＳ版１２の上面及び下面へ向けて吹出される。
【０１０３】
フィニッシャー液が塗布されてい乾燥装置１５０内に送り込まれたＰＳ版１２は、吹出しダクト１６０から乾燥風が吹き付けられることによりフィニッシャー液が乾燥されたのち、排出口１５８から排出される。なお、排出口３６には、ＰＳ版プロセッサー１２がＰＳ版１２の処理を行なうときに開放されるシャッター１７２が設けられており、ＰＳ版１２の非処理時に排出口３６を閉鎖することにより乾燥装置１５０から乾燥風がフィニッシャー部２６内へ入り込むのを防止している。
（本実施の形態の適用と対応）
上記構成のＰＳ版プロセッサー１０の現像部２２の現像槽２４は、本実施の形態で説明した処理タンク２０２に相当する。
【０１０４】
また、ヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａ及び循環パイプ２１０は、ガイド板１００と、現像槽２４の底部との間に配置することによって、ＰＳ版１２の搬送を妨げることはない。
【０１０５】
また、熱交換部２２８、チラー２３４及びフィルタ２１８やポンプ２１２は、現像部２２の下方に配置すればよい。すなわち、現像部２２、フィニッシャー部２６及び乾燥部１５０で構成される筐体は、枠状の架台の上端に支持されており、床面との間には空間がある。通常この空間には電気制御盤やバルブ等が配設されたり、補充液タンク等が配設されており、これらと同様に上記構成部品を配設すればよい。
【０１０６】
以上説明したように、本実施の形態では、ヒータユニット２０６の発熱部２０６Ａに対して、循環パイプ２１０の小孔２１０Ａを対向させて配置し、循環によって冷却された処理液を直接発熱部２０６Ａへ向けて噴出させるようにし、ヒータユニット２０６のオフへの切替えの温度と、ポンプ２１２のオンへの切替えのための温度しきい値と、に差を持たせたため、オーバーシュートが軽減されると共に、温度上昇及び温度下降時の傾きを和らげることができ、処理液の温度を安定させることができる。
【０１０７】
また、ＰＳ版プロセッサー１０外への処理液の排出時には、配管系の全ての配管路内に滞留している処理液を自重によって簡単に排出することができるため、滞留によって生じる、処理液に含まれる薬剤の固化、析出を防止でき、配管路内を常にクリーンにすることができる。
【０１０８】
なお、本実施の形態に係る温調装置は、ＰＳ版プロセッサー１０の現像部２２の現像液に限らず、フィニッシャー部２６の水洗水またはフィニッシャー液等の他の処理液の温調（温度調整）にも適用可能であるし、銀塩写真フィルムや印画紙等、他の感光材料の現像処理や定着処理のための処理液の温調にも適用可能である。
【０１０９】
また、本実施の形態に係る温調装置は、処理タンク２０２内にヒータユニット２０６及びヒータユニンット２０６に向けて低温の処理液を吐出する循環パイプ２１０１を設けたが、これに限らずヒータユニット２０６と循環パイプ２１０を処理タンク２０２に通用するタンク内等に設けて、このタンク内等で処理タンク２０２から引き込んだ処理液を温調して再び処理タンク２０２に戻すようにしてもよい。
【０１１０】
また、広く処理液を用いて処理する構成において、処理液を単純なオン・オフ制御で温調し、かつオーバーシュートを軽減することが望ましい装置であれば、適用可能である。
【０１１１】
【発明の効果】
以上説明した如く本発明に係る処理液配管構造は、簡単な構造で２系統の配管の共通化を図り、かつ相互に独立してポンプが作動しても、相手側に逆流等の悪影響を及ぼすことを防止することができるという優れた効果を有する。
【図面の簡単な説明】
【図１】本実施の形態に係る温調装置の概略図である。
【図２】  温調時のヒータユニットと循環用ポンプの動作状態を示すタイミングチャートである。
【図３】本実施の形態で説明した温調装置が適用可能なＰＳ版プロセッサーの実施例を示す概略構成図である。
【図４】本実施の形態に係る逆止弁の内部構造を示す断面図である。
【図５】変形例に係る逆止弁の内部構造を示す断面図である。
【図６】（Ａ）及び（Ｂ）は、逆止弁の開口部周縁の変形例を示す断面図である。
【図７】（Ａ）乃至（Ｃ）は逆止弁の弁体の変形例を示す斜視図である。
【図８】本実施の形態の比較対象となる２系統配管図である。
【図９】本実施の形態に係る配管の概略図である。
【図１０】変形例の比較対象となる２系統配管図である。
【図１１】変形例に係る配管の概略図である。
【図１２】変形例に係る配管の概略図である。
２００    温調装置
２０２    処理タン
２０４    処理液
２０６    ヒータユニット
２０６Ａ        発熱部
２０８    温度センサ
２１０    循環パイプ
２１０Ａ    小孔
２１２    ポンプ
２１８    フィルタ
２２８    熱交換部
２３２    熱交換パイプ
２３６    チラー
３００    配管
３０２    ポンプ
３０４    配管
３０６    逆止弁
３１４、３１６    中空槽
３１８    仕切り板
３２２    弁体
４０６    逆止弁
４１４、４１６    中空槽
４１８    仕切り板
４２２    弁体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
0004005281.tif 000008
【図８】
0004005281.tif 000009
【図９】
0004005281.tif 000010
【図１０】
0004005281.tif 000011
【図１１】
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【図１２】
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