(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
外周にゴム層が形成された軸体および塗膜形成用溶液を準備する工程と、上記ゴム層付きの軸体を略垂直にした状態でゴム層の外周面に塗膜形成用溶液を螺旋状に塗布する工程と、上記塗膜形成用溶液を塗布したゴム層付きの軸体を乾燥し、軸体のゴム層の外周面に上記塗膜形成用溶液からなる塗膜層を形成する工程とを備え、上記塗膜形成用溶液が塗膜形成用のマトリックス成分、下記の（Ａ）および（Ｂ）成分を含有していることを特徴とする導電ロールの製造方法。
（Ａ）平均粒径１．５〜１２μｍの範囲に設定されている非導電性大径粒子。
（Ｂ）平均粒径０．１〜０．８μｍの範囲に設定されている非導電性小径粒子。
【請求項２】
上記（Ｂ）成分の含有量が、上記マトリックス成分１００重量部に対して、５〜１５０重量部の範囲に設定されている請求項１記載の導電ロールの製造方法。
【請求項３】
請求項１または２記載の導電ロールの製造方法により得られる導電ロール。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、複写機やプリンター等の電子写真装置に用いられる現像ロール等の導電ロールの製造方法およびそれにより得られる導電ロールに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、電子写真複写装置による複写はつぎのようにして行われる。すなわち、軸中心に回転する感光ドラムの外周面に原稿像を静電潜像として形成し、これにトナーを付着させてトナー像を形成することにより行われる。このようにして感光ドラム表面に形成された静電潜像にトナー像を形成させる方法の一例として、現像ロールを用いた方式が採られている。すなわち、現像ロール表面に付着したトナーを摩擦帯電させ、感光ドラム表面の静電潜像に対して、電気的吸引力を応用して移行させることにより、感光ドラム表面にトナー像を形成することが行われる。このトナー像が、複写紙上に定着されることにより複写が行われる。
【０００３】
上記現像ロールは、これまでは、芯金からなる軸体と、その外周に形成されたゴム層とから構成されており、ゴム層の表面をショットブラスト，研磨等で疎面化することが行われていた。しかし、近年、現像ロールの低硬度化の要求が高まり、ゴム層が低硬度化したことから、ゴム層に対するショットブラスト加工等が難しくなり、上記ゴム層の上に、粗さ形成用の充填材を含有した塗膜を形成することが行われている。
【０００４】
特に、最近では、上記塗膜に関し、現像ロール自体の耐圧性を高めるため、カーボンブラック等の導電剤を用いずに電気抵抗を高くする要求がある。このため、粗さ形成用の充填材として非導電性粒子を用い、この粒子を調整し、表面粗さを調整することが行われる。このような非導電性粒子を含む塗膜は、例えば、ロールコート法により、つぎのようにして形成される。すなわち、図５に示すように、軸体の外周にゴム層が形成されたベースロール３１を垂直にし、それを周方向に回転させながらその外周面に、非導電性粒子入りの塗膜形成用溶液をもつ塗布ローター（図示せず）を接しさせ、上方から下方に向かって相対的に移動させることにより、塗布部３２を形成する。この状態で、しばらく放置すると、螺旋状塗布部と塗布部の間の地肌の部分３３に、それより上方の塗布部の溶液が、液垂れし塗布部化する。ついで乾燥を行う。このようにしてベースロール３１の外周の全体に塗膜面が形成される。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】
このようにして塗膜を形成すると、場合によって、螺旋状塗布部と塗布部の間の地肌の部分の塗膜の膜厚と、塗布部の塗膜の膜厚と、に差が生じ、塗膜全体が均一厚にならず、塗膜が凹凸になり、その結果、塗膜表面の粗面も均一にならないという問題が生じた。
【０００６】
本発明は、このような事情に鑑みなされたもので、ロール外周面の塗膜の膜厚が均一で、しかも表面粗さも均一な導電ロールの製造方法およびそれにより得られる導電ロールの提供をその目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
上記の目的を達成するため、本発明は、外周にゴム層が形成された軸体および塗膜形成用溶液を準備する工程と、上記ゴム層付きの軸体を略垂直にした状態でゴム層の外周面に塗膜形成用溶液を螺旋状に塗布する工程と、上記塗膜形成用溶液を塗布したゴム層付きの軸体を乾燥し、軸体のゴム層の外周面に上記塗膜形成用溶液からなる塗膜層を形成する工程とを備え、上記塗膜形成用溶液が塗膜形成用のマトリックス成分、下記の（Ａ）および（Ｂ）成分を含有している導電ロールの製造方法を第１の要旨とし、それによって得られた導電ロールを第２の要旨とする。
（Ａ）平均粒径１．５〜１２μｍの範囲に設定されている非導電性大径粒子。
（Ｂ）平均粒径０．１〜０．８μｍの範囲に設定されている非導電性小径粒子。
【０００８】
すなわち、本発明者らは、上記塗膜の厚みむらの発生について一連の研究を重ねた。その結果、上記塗膜の厚みむらの発生は、螺旋状塗布部形成後の液垂れと密接な関係があることを突き止め、さらに研究を重ねた。この研究の過程で、上記液垂れに際し、塗布に用いる溶液中の粒子の粒径が大きく影響し、塗膜の粗面を形成する特定粒径の大径粒子とそれよりも小径の粒子とを組み合わせると、液垂れが円滑に行われ、その過程で上記大径粒子の周りに小径粒子が配位して大径粒子の偏在が防止されることとなるため、均一厚の塗膜が得られるようになることを見出し、本発明に到達した。
【０００９】
【発明の実施の形態】
つぎに、本発明の実施の形態を説明する。
【００１０】
本発明に係る現像ロールは、例えば、図１に示すように、芯金（軸体）１ａの外周面にベースゴム層１ｂが形成され、上記ベースゴム層１ｂの外周面に、特定粒径の非導電性粒子とそれよりも小径の非導電性粒子とを含み、膜厚が均一で表面が粗面になっている塗膜層５が形成されて構成されている。
【００１１】
上記芯金１ａは特に制限するものではなく、例えば、金属製の中実体からなる芯金や、内部を中空にくり抜いた金属製の円筒体等が用いられる。そして、その材質としては、ステンレス、アルミニウム等があげられる。上記芯金１ａ上に、必要に応じて、接着剤、プライマー等を塗布してもよく、また上記接着剤、プライマー等は必要に応じて導電化してもよい。
【００１２】
上記芯金１ａの外周面に形成されるベースゴム層１ｂの形成材料としては、例えばエチレン−プロピレン−ジエンゴム（ＥＰＤＭ）、スチレン−ブタジエンゴム（ＳＢＲ）、シリコーンゴム、ポリウレタン系エラストマー等があげられる。この材料には、導電剤やシリコーンオイル等の各種の添加剤が適宜に配合される。導電剤としては、カーボンブラック、グラファイト、チタン酸カリウム、酸化鉄、ｃ−ＴｉＯ2 、ｃ−ＺｎＯ、ｃ−ＳｎＯ2 （ここで「ｃ−」は導電性を有するという意味）等の各種のものがあげられる。また、シリコーンオイルとしては、ジメチルシリコーンオイル等の各種のものがあげられる。なかでも、上記ベースゴム層１ｂの形成材料としては、低硬度でへたりが少ないという点から、導電性シリコーンゴムを用いることが好ましい。
【００１３】
上記ベースゴム層１ｂ（図１）の外周面に形成される塗膜層５の形成材料としては、マトリックス成分と、平均粒径が特定の範囲に設定されている非導電性大径粒子と、非導電性小径粒子とがあげられる。
【００１４】
上記マトリックス成分材料としては、特に限定はなく、例えば、ウレタン樹脂、ポリアミド樹脂等の樹脂材料やゴム材料があげられ、これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。なかでも、耐摩耗性の点で、ウレタン樹脂が好適に用いられる。
【００１５】
上記非導電性大径粒子および非導電性小径粒子としては、シリカ、ウレタン粉末、ポリアミド粉末、フッ素樹脂粉末等があげられる。これらは、単独で用いてもよいし、２種以上併用してもよい。なかでも、トナーを高帯電化させる等のできるシリカが好適に用いられる。
【００１６】
上記非導電性大径粒子は、主として塗膜層の表面を粗面にする目的で用いられるものであり、その平均粒径は、１．５〜１２μｍの範囲に設定される。より好ましくは、４〜６μｍの範囲である。また、非導電性小径粒子は、上記大径粒子の周りを埋め大径粒子の偏在を防ぐ作用をすると考えられるもので、その平均粒径が０．１〜０．８μｍの範囲に設定される。より好ましくは、０．２〜０．４μｍの範囲である。すなわち、上記大径粒子と小径粒子の粒径が上記の範囲を外れると、螺旋状塗布部の液垂れが円滑に行われず、得られる塗膜層の膜厚が均一にならず凹凸を生じ、それによって塗膜層表面の粗面も均一にならなくなるからである。なお、上記大径および小径粒子の形状としては球状が好ましいが、楕円状であっても差し支えない。また、上記両径粒子の形状が球状ではなく、楕円状や偏平状等のように一律に粒径が定まらない場合には、母集団から任意にとりだした試料について、各粒子の最長径と最短径の単純平均値を平均粒径とする。
【００１７】
上記非導電性大径粒子の配合割合は、上記マトリックス成分１００重量部（以下「部」と略す）に対して５〜２０部の範囲に設定することが好ましい。より好ましくは８〜１５部の範囲である。この範囲を外れると、所望の表面粗さの塗膜層が得られなくなる傾向がみられるからである。また、非導電性小径粒子の配合割合は、上記マトリックス成分１００部に対して５〜１５０部の範囲に設定されていることが好ましい。より好ましくは２０〜８０部の範囲である。すなわち、上記両径粒子の配合割合が上記の範囲を外れると、螺旋状塗布部の液垂れが非円滑的になるとともに大径粒子の周りに配位する小径粒子の量が過不足になり、均一な塗膜厚および粗面の塗膜層が得られにくくなる傾向がみられるからである。
【００１８】
そして、上記の塗膜層形成材料は、有機溶媒と共に混合され、塗膜形成用溶液（通常、懸濁液）として使用に供される。上記有機溶媒としては、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メタノール、トルエン、イソプロピルアルコール、メチルセロソルブ、ジメチルホルムアミド等があげられる。これらは単独でもしくは２種以上併せて用いられる。特にメチルエチルケトンを用いることがマトリックス成分の溶解性の点で好ましく、このような塗膜形成用溶液は粘度を０．０５〜０．０６Ｐａ・ｓにすることが、塗工性等の点で好ましい。
【００１９】
上記図１に示した本発明に係る導電ロールは、例えば、つぎのようにして製造することができる。すなわち、まず、上記ベースゴム層１ｂ形成材料用の各成分をニーダー等の混練機で混練し、ベースゴム層１ｂ形成材料を作製する。ついで、円筒状金型の中空部に、金属製芯金１ａをセットし、上記円筒状金型と芯金１ａとの空隙部に、上記ベースゴム層１ｂ形成材料を注型した後、金型を蓋し、加熱して、ベースゴム層１ｂ形成材料を架橋させる。その後、上記円筒状金型から脱型することにより、芯金１ａの外周面にベースゴム層１ｂが形成されてなるベースロールを製造する。
【００２０】
他方、上記塗膜層形成用の各材料を準備し、これらを、ボールミル，ロール等の混練機を用いて混練し、この混合物に有機溶剤を加えて混合、攪拌することにより、塗膜形成用溶液を作製する。
【００２１】
そして、図２に示すように、ベースロール１を軸体中心に円周方向に回転させながら、その外周面に、軸中心に回転するペイントロール２５を接しさせ、その状態でペイントロール２５を矢印のように下方に移動させ、ベースロール１の外周面に螺旋状に塗膜形成溶液を塗布する。
【００２２】
上記図２の塗布装置を図３でより詳しく説明する。図３において、１０は基台９に立設された保持プレート、１１は溝付きガイドレール、１２はスライド体、１３はガイドレール１１の溝に沿って移動する左右一対の嵌合凸部、１４はスライド体１２から延びる突出片、１４ａはそこに設けられた雌ねじ穴、１５はそれらに螺合する雄ねじ軸、１７は保持プレート１０の支持体１６に設けられ雄ねじ軸１５を駆動する変速モータ、１９はスライド体１２に設けられたモータ、１９ａはそのモータ１９の回転軸であり、ベースロール１の芯金の上端部に連結する構造になっている。１８はセンターピンで、その先端部でベースロール１の芯金の下端部を回転自在に支持する。１８ａはセンターピンを上下にスライドさせベースロール１を着脱するねじである。これらによりベースロール１が周方向に回転しながら上下（軸方向）に移動するようになっている。２１は塗膜形成用溶液タンク、２２はモータでペイントロール２５を回転駆動する。２３は支持台、２４は支持脚である。この装置は先に述べたように、ベースロール１を周方向に回転させながら、その外周面にペイントロール２５を接しさせ、その状態でペイントロール２５を下方に移動させてその外周面に螺旋状に塗膜形成用溶液を塗布する。
【００２３】
この螺旋状塗布部を図４（ａ）に示す。図において、１はベースロール（図では、その要部を拡大している）、２は螺旋状塗布部、３はベースロール１の地肌部（塗膜形成用溶液の塗布されていないベースゴム層の表面部分）、４は小径粒子、６は大径粒子である。そして、この状態で暫く放置すると、螺旋状塗布部の溶液が液垂れし、図４（ｂ）のように地肌部３を被覆し全体に均一な状態となる。そして、この状態で上記塗布装置から外し乾燥することにより、目的とする塗膜層５が形成される。この場合、上記液垂れにより、大径粒子６の周囲に小径粒子４が配位し大径粒子６の偏在を防ぐことから、塗膜層５全体が均質になり、表面の粗さも均一になる。このようにして得られた導電ロールの塗膜層５の体積抵抗率は、１．０×１０8 〜１．０×１０14Ω・ｃｍの範囲に設定されていることが好ましい。
【００２４】
そして、上記導電ロールにおいて、上記両径の粒子はいずれも非導電性粒子であるため、得られる塗膜層５は、高抵抗層となる。そのため、上記塗布層が形成された現像ロール等の導電ロールの耐圧性は上がる。したがって、上記ロールを電子写真複写機に組み込んで使用すると、上記塗膜層５との作用と相まってトナー搬送量にむらがなくなり、均一な濃度の画像を得ることができる。
【００２５】
つぎに、この発明を現像ロールに応用した実施例について比較例と併せて説明する。
【００２６】
【実施例１】
〔ベースロールの作製〕
まず、芯金としてアルミニウム製芯金を準備し、上記芯金の外周面に接着剤を塗布した。ついで、円筒状金型の中空部に、上記芯金をセットし、円筒状金型と芯金との空隙部に、シリコーンゴムコンパウンドを注型した後、金型に蓋をし、これを加熱（１８０℃×１５分）して、シリコーンゴムコンパウンドを加硫し、その後脱型して、ベースゴム層付き芯金（ベースロール）を作製した。
【００２７】
〔塗膜形成用溶液の作製〕
つぎに、市販のウレタン樹脂１００部と、市販の平均粒径１．５μｍのシリカ１０部と、平均粒径０．３μｍのシリカ５部とを、混練機（ロール）を用いて混練し、この混合物にＭＥＫ２００部を加えて混合、攪拌することにより、塗膜形成用溶液を作製した。上記溶液の粘度は、０．０５Ｐａ・ｓに調製された。
【００２８】
〔現像ロールの作製〕
上記ベースロールを図３に示す装置に掛けて、ベースゴム層の外周面に、塗膜形成用溶液を螺旋状に塗布した後、乾燥および加熱処理を行ない、ベースゴム層の外周面に塗膜層を形成した。このようにして、芯金の外周面にベースゴム層が形成され、さらにその外周面に塗膜層が形成されてなる現像ロールを作製した。
【００２９】
【実施例２】
平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を２０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３０】
【実施例３】
平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を５０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３１】
【実施例４】
平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を８０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３２】
【実施例５】
平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を１００部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３３】
【実施例６】
平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ２０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３４】
【実施例７】
平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ５０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３５】
【実施例８】
平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ８０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３６】
【実施例９】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３７】
【実施例１０】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を２０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３８】
【実施例１１】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を５０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００３９】
【実施例１２】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を８０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４０】
【実施例１３】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を１００部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４１】
【実施例１４】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ２０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４２】
【実施例１５】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ５０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４３】
【実施例１６】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ８０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４４】
【実施例１７】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４５】
【実施例１８】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を２０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４６】
【実施例１９】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を５０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４７】
【実施例２０】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を８０部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４８】
【実施例２１】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカの配合割合を１００部とする以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００４９】
【実施例２２】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ２０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００５０】
【実施例２３】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ５０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００５１】
【実施例２４】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカに代えて、平均粒径０．８μｍのシリカ８０部を配合する以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００５２】
【比較例１】
平均粒径０．３μｍのシリカを配合しない以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００５３】
【比較例２】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径５μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカを配合しない以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００５４】
【比較例３】
平均粒径１．５μｍのシリカに代えて、平均粒径１１μｍのシリカ１０部を配合し、かつ、平均粒径０．３μｍのシリカを配合しない以外は実施例１と同様にして、塗膜形成用溶液を作製した。そして、実施例１と同様にして、現像ロールを作製した。
【００５５】
このようにして得られた各現像ロールについて、下記の基準に従い、表面粗さ（Ｒｚ）、粗さの差、軸方向うねりについて比較評価を行い、その結果を、下記の表１〜表４に示した。
【００５６】
〔表面粗さ（Ｒｚ）〕
現像ロール表面の表面粗さ（周方向）を、サーフコム（東京精密社製）にて、ＪＩＳ  Ｂ  ０６０１に準拠して測定した。Ｒｚは、凸凹に直角な平面で切断したとき、その切り口に現れる輪郭（これを断面曲線という）から、所定の波長より長い表面うねり成分をカットオフした粗さ曲線より求められる十点平均粗さであることを示す。なお、「密部」および「疎部」とは、大径シリカの分散状態を示す。
【００５７】
〔粗さの差〕
上記密部の表面粗さ（Ｒｚ）から疎部の表面粗さ（Ｒｚ）を引いて算出した。
【００５８】
〔軸方向うねり〕
軸方向における、現像ロール表面の凸部から凹部までの高低差（うねり）を測定した。
【００５９】
【表１】
0003925014.tif 000002
【００６０】
【表２】
0003925014.tif 000003
【００６１】
【表３】
0003925014.tif 000004
【００６２】
【表４】
0003925014.tif 000005
【００６３】
上記表１〜表４の結果から、実施例品の現像ロールは、軸方向うねりが小さく塗膜の膜厚が均一であり、また、表面粗さも、密部と粗部との差が小さく、塗膜層表面の粗面度も均質であることがわかる。これに対して大径シリカのみで、小径シリカとの併用をしていない比較例品は、上記各項目について実施例品よりも劣っている。
【００６４】
【発明の効果】
以上のように、本発明の導電ロールの製法は、粗さ形成粒子として平均粒径が特定の範囲に設定されている非導電性大径粒子（Ａ成分）とこれよりも小径の非導電性小径粒子（Ｂ成分）とを併用して塗膜形成用溶液をつくり、これを、略垂直状態にした軸体外周面に螺旋状に塗布乾燥して塗膜層を形成する。そのため、ベースゴム層の外周面において螺旋状の塗膜形成用溶液塗布部から塗布液の一部がその下側の地肌の部分（上記溶液の塗布されていないベースゴム層の表面部分）に対して円滑に液垂れして地肌上にも上記溶液が上記塗布部と同様に塗布されることとなる。そのため、得られる塗膜層の厚みが均一的になる。また、上記液垂れの際、大径粒子の周りに小径粒子が配位して大径粒子の偏在が防がれ、大径粒子の偏在にもとづく凹凸や塗膜層表面の粗度のばらつきが防止され、塗膜層表面に均一な粗面が形成されるようになる。そして、このようにして得られた導電ロールは、塗膜層が均一状で粗面も均一状であることから、きわめて優れた特性を備えている。そのうえ、上記（Ａ）成分および（Ｂ）成分は非導電性粒子であるため、得られる塗膜層は、高抵抗層となる。その結果、上記塗膜層が形成された導電ロールの耐圧性は上がり、それを、例えば現像ロールとして電子写真複写機に組み込んで使用すると、上記塗膜層の優れた特性と相まって、トナー搬送量にむらがなくなり、均一な濃度の画像を得られるといった効果を奏するようになる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の現像ロールの一例を示す断面図である。
【図２】本発明に用いる塗布装置の概略説明図である。
【図３】塗布装置の詳細を示す斜視図である。
【図４】本発明の現像ロールの塗膜層形成状態を示す要部拡大図であって、（ａ）はベースロール外周面に螺旋状に塗膜形成用溶液を塗布した直後の状態を示す要部拡大図であり、（ｂ）は上記溶液が液垂れした後乾燥した状態を示す要部拡大図である。
【図５】ロールコート法による、ロール表面への塗膜形成用溶液の塗布状態を示す模式的説明図である。
【符号の説明】
１  ベースロール
２  塗布部
４  小径粒子
５  塗膜層
６  大径粒子
【図１】
0003925014.tif 000006
【図２】
0003925014.tif 000007
【図３】
0003925014.tif 000008
【図４】
0003925014.tif 000009
【図５】
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