(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
所定の波長範囲内の光波に対するフィルタ機能をもたらす電極構造体（Ｃ）を有する電気的制御可能フィルタ装置（１０、２０、３０、３０’）であって、
電極構造体（Ｃ）は、同一の構成の複数の連続的な電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）を含み、各素子は、それぞれ第１の電極（Ａ）と第２の電極（Ｂ）を含み、前記電極は、共通に給電される複数のフィンガを含み、第１の電極（Ａ）のフィンガ（ａ１、．．．、ａｎ）と第２の電極（Ｂ）のフィンガ（ｂ１、．．．、ｂｎ）は、１本又は複数のグループ化されたｍａ本（ｍａ≧１）の第１の電極（Ａ）のフィンガ（ａ１、．．．、ａｎ）とこれに隣接して対向配置される１本又は複数のグループ化されたｍｂ本（ｍｂ≧１）の第２の電極（Ｂ）のフィンガ（ｂ１、．．．、ｂｎ）とが繰り返して交互に対向して配置され、
電極構造体（Ｃ）は、複数の電極素子がそれぞれ電気的に分離され独立して電気的制御を受けるように、電気光学基板上またはその中に配置された光学導波路（２）および前記電極に給電する手段を含む導波路構造に接続されて配置され、
電極構造体（Ｃ）は、さらに、無給電時には異なる電極（Ａ、Ｂ）に配置された隣接するフィンガの周期により付与された受動グレーティング周期Λ０を有し、所定の波長範囲内の光波に対するフィルタとして動作せず、
各電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）はΛ１＝（ｍａ＋ｍｂ）・Λ０で表される給電時のグレーティング周期Λ１を有し、
電極に給電する手段は、複数の連続的な電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）のそれぞれの第１の電極（Ａ１、．．．、Ａｎ）および第２の電極（Ｂ１、．．．、Ｂｎ）に別個に給電可能であり、各電極素子の給電に所定の周期性をもたせるとともに隣接する電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）の間隔を調整することにより定まる給電の周期長に対応する空間周波数と、前記グレーティング周期Λ１に対応する空間周波数との合成空間周波数に対応する複数の異なる離散的な実効グレーティング周期Λｅｆｆに基づく動作を行うようにした、前記フィルタ装置。
【請求項２】
請求項１記載のフィルタ装置であって、前記グレーティング周期Λ１は、ほぼ２・Λ０であり、前記フィルタ装置は、波長
【数１】
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の波に対してブラッグ反射器として動作することを特徴とする前記フィルタ装置。
【請求項３】
請求項１記載のフィルタ装置であって、前記グレーティング周期Λ１は、４・Λ０、８・Λ０、３・Λ０または６・Λ０であることを特徴とする前記フィルタ装置。
【請求項４】
請求項１から３のいずれかに記載のフィルタ装置であって、第１の電極（Ａ）と第２の電極（Ｂ）は、異なる電圧で給電されることを特徴とするフィルタ装置。
【請求項５】
請求項１から４のいずれかに記載のフィルタ装置であって、電極構造体の電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）は、交互極性を有し、連続する第１の電極（Ａ１、．．．、Ａｎ）は、隣接する電極素子（Ａ１、Ａ２；Ａ３、Ａ４；Ａ５、Ａ６；．．．）において互いに異なる極性を有する電圧により給電され、連続する第２の電極（Ｂ１、．．．、Ｂｎ）は、前記電圧とは異なる電圧により給電されることを特徴とするフィルタ装置。
【請求項６】
請求項１から４のいずれかに記載のフィルタ装置であって、等しく給電される２つの電極素子（Ａ１、Ａ２；Ａ５、Ａ６；．．．）とは異なる電圧で等しく給電される２つの電極素子（Ａ３、Ａ４；Ａ７、Ａ８；．．．）が続くことを特徴とするフィルタ装置。
【請求項７】
請求項１から４のいずれかに記載のフィルタ装置であって、電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）間における隣接する電極のフィンガ間（ａｎ、ｂ１）の距離と電極素子（Ｃ１、．．．、Ｃｎ）の隣接するフィンガ間の距離（Λ０）とが異なることを特徴とするフィルタ装置。
【請求項８】
請求項１から７のいずれかに記載のフィルタ装置であって、フィルタ装置は、給電時に能動光フィルタ（２０）を形成することを特徴とするフィルタ装置。
【請求項９】
請求項８に記載のフィルタ装置であって、フィルタ装置は、ＤＦＢあるいはＤＢＲレーザに適用されることを特徴とするフィルタ装置。
【請求項１０】
請求項１から９のいずれかに記載のフィルタ装置において、前記導波路構造の光学導波路は異なる屈折率を有する２つの光学導波路を含んで格子型方向性結合器（３０）を形成し、導波路間の結合は、導波路間の波数の差、｜Δｋ（ω）｜が
【数２】
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のときに発生することを特徴とするフィルタ装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、請求項１の第１の部分による電気的に制御可能なフィルタ装置に関する。この装置は光学的分野だけでなく、マイクロ波の分野にも用途がある。導波路の形をとる光フィルタの場合、これらのフィルタは、たとえばエッチングによって導波路に密着する２つの絶縁体の間の境界表面にグレーティング得らえるような方法で製造されることがほとんどであった。フィルタの構造体を得る別の方法は、電極でグレーティングを形成させる方法である。多くの場合、グレーティングを調整（tunable ）できるだけでなくグレーティングの強さを制御できることが望ましいが、このことは導波路モードの実効屈折率等が変化しなければならないことを意味している。
【０００２】
【従来の技術】
冒頭に述べたような装置は公知である。しかし、これらの装置は、電極が存在するということだけによってグレーティングが導入されるという方法で動作しているのである。フィルタのグレーティング効果は、電力供給（electrical feeding）により制御できる効果よりも大きい場合がある。これの重要なことはグレーティングを「動作停止」にできないことである。これはグレーティングの強さも制御できないことを意味している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
欧州特許出願ＥＰ−Ａ−０  ２６７  ５５７によれば、エッチングされたグレーティングを含んでいるＤＦＢレーザー（分布帰還型レーザ）が知られている。いわゆる分割型電極構造体（divided electrode structure ）を使用すると、電流の注入を制御することができるので周期を修正することができ、固定的な（the predominating ）グレーティング部分に影響を及ぼすことができる。しかし、グレーティングは常に存在しているので、それを動作停止にすることはできない。米国出願ＵＳ−Ａ−４  ００８  ９４７には電気光学的スイッチあるいは電気光学的変調器が示されており、電圧の印加によりグレーティングを作成することができるようになっている。しかし、このグレーティングは調整（tune）できず、周期性（periodicity ）を変更できない。通常いわゆるＤＦＢレーザおよびＤＢＲレーザ（分布ブラッグ反射型レーザ）は導波路の形をした光フィルタを使用するが、上に説明したように、たとえばグレーティングは導波路に密着した２つの絶縁体の間の境界表面にエッチングされている。このようにグレーティングは、グレーティングの周期がλ／２の場合ブラッグ反射器として動作する。しかし、グレーティングを調整したいとすれば導波路モードの実効屈折率の変更が必要となり、このことは多くの問題が生じることになる。またグレーティングの強さを制御することには大きな困難が伴う。エッチングされたグレーティングの代わりに、周期的な電極構成を介した電気的方法により誘起する（実数部及び／或いは虚数部の）屈折率の周期的変化によってグレーティングの強さを制御することができる。屈折率は、たとえば電気光学的効果あるいは電荷キャリアの注入によっても影響を受ける。しかし、上に説明したように、この電極によりグレーティング効果を生じるが、この効果は非常に強いので電気的に制御可能な希望するグレーティング効果を越えてしまい、グレーティングの効果を完全に除くこともグレーティングを「動作停止」にすることも不可能になる。
【０００４】
【課題を解決する手段】
本発明の目的は、請求の範囲の請求項１の第１の部分による電気的に制御可能なフィルタ装置で、調整可能なだけでなくグレーティングの強さを制御することが可能なフィルタ装置を提供することである。また、このフィルタ装置は、たとえば、グレーティング効果が除去されるようにグレーティングを動作不能にするため、グレーティングを「動作停止」にすることが可能である。本発明の別の目的は、比較的簡単でかつ製造コストが廉い装置を提供することである。さらに、本発明の目的は、融通性があり、多数の異なる方法で変更できる装置を提供することである。本発明のさらに別の目的は、マイクロ波など別の波と同様に光の波に使用できる装置を提供することである。これらの目的と同時に他の目的を達成する装置は、請求項１を特徴づける部分の特性によって与えられている。
【０００５】
本発明の有利な一実施例は上記の通り形成されているので、この実施例はブラッグ反射器として動作する。本発明の別の実施例によれば、この装置は、たとえば能動光フィルタのように、能動的である。更に別の実施例は方向性結合器の形をとる用途に関している。
【０００６】
さらに別の実施例は副請求項によって与えられている。
【０００７】
【実施例】
以下、添付の図面を参照して、限定した説明とならないように解説して本発明を詳細に説明する。
【０００８】
図１は、電気的に制御可能なフィルタ装置１０の単純化した実施例を示す。電気的に制御可能なフィルタ装置１０には電極構成（electrode configuration）を有する導波路が含まれているが、この電極構成は以下に示すように形成されている。すなわち、この電極構成は、それぞれ第１の電極Ａと第２の電極Ｂを含む電極素子Ｃを含み、電極Ａ、Ｂはそれぞれ多数の電極フィンガａ１、ａ２、．．．、ｂ１、ｂ２、．．．を含み、各フィンガがフィンガの間に入るように、あるいはフィンガが重なるような方法（interdigital or interlocking manner）で配列されている。また電極構造体はいくつかの電極素子、あるいはさらに多数の電極素子を含んでも良い。本実施例においては、単純化するために、Ｃは１つあるいはそれ以上の電極素子を表すことにする。電極Ａ、Ｂが同電位であるか、あるいは電力が供給されていなければ、いわゆるブラッグ波長λＢの約１／４、すなわちλＢ／４の周期となる受動的グレーティング周期Λ０が求められる。この周期のグレーティングは本質的に波の伝搬に影響を与えない。すなわち、グレーティングは不動作あるいは動作停止になっている。しかし、電極Ａ、Ｂにそれぞれ異なる電圧が印加されると、実効グレーティング周期Λ１を持つグレーティングが求められる。Λ１は約λＢ／２に等しく、λＢはいわゆるブラッグ波長である。この場合、強い反射が得られるので、この強さは初期値（０）から上方に電気的に制御される。このように、電圧を印加しなければ反射は得られないが、電圧を印加すればブラッグ反射が得られる。図２ａ、図２ｂでは装置はより詳細に示されている。この場合、装置は電気光学的な構造、つまり電気光学的基板により電気光学的効果に基づいた構造になっている。図２ａに電極素子Ｃが示されているが、Ｃは第１の電極Ａと第２の電極Ｂを含み、第１と第２の電極Ａ、Ｂはそれぞれ多数の電極フィンガａ１、ａ２、．．．、ｂ１、ｂ２、．．．を含み、電極Ａ、Ｂは電圧源Ｖ０に接続され、この回路には接点遮断器が含まれている。図２ａは、下方に光導波路２のある電極構造体と、たとえばＬｉＮｂＯ３（ニオブ酸リチウム）の基板１を示す。勿論別の材料を使用することも可能である。図２ｂには装置の横方向の断面が示されているが、屈折率ｎ１の（たとえばＬｉＮｂＯ３の）基板の中を屈折率ｎ２の光導波路２が走っている。金属を含む電極素子Ｃの形をした電極構造体は最上部に配置されている。受動フィルタを形成するこの特定実施例においては、屈折率ｎ１は屈折率ｎ２にほぼ等しくても良く、たとえば２．２でも良いであろう。両屈折率の差、ｎ１−ｎ２はおおそ１０−２でよく、場合によっては多少大きくても良い。導波路２は、約０．５〜２ミクロンの厚さで幅は約５ミクロンであるが、これらの値は単に例として与えられたものである。本装置の長さはセンチメートルのオーダーの大きさである。光導波路２は屈折率ｎ２を有しているが、こび屈折率は基板１の屈折率ｎ１を若干上回っており、それ自体が公知の方法であるＴｉＩｎ（チタン、インジウム）の拡散あるいはＬｉＮｂＯ３基板のプロトン交換により製造される。本装置は以下のような方法で機能する。すなわち、（図２ａに示す）接点遮断器が断になっていると、上に説明した通り、周期Λ���のグレーティングになるが、これは波長４Λ０の光波には影響を与えない。接点遮断器が接続されると、周期性Λ１のグレーティングが誘起され、波長λが２λ１に等しい波に強い影響を与える。電極に対する給電方法に依存して、フィルタは多数の異なる離散的な周波数に同調することができる。一例として、自由波長Λ０が１．５ミクロンにほぼ等しいとすると、λは１．５ミクロンにほぼ等しくなり、Λ１は０．５ミクロンにほぼ等しくなる。
【０００９】
図３ａ、図３ｂに、電荷キャリア注入方法を利用して能動フィルタあるいはレーザを形成するフィルタ装置が示されている。この種類のフィルタ装置２０の電極構造体は、前に示した実施例の電極構造と本質的には同一でよいが、相違点は、公知の電子的機能を持つ導波路２’にある。図３ａは、電圧源Ｖ０に接続されたフィルタ装置２０を横方向断面図で示している。本装置は電極構造体Ｃ’を含んでいるが、後で説明するように電極構造体Ｃ’は１つあるいはそれ以上の電極素子を含んでも良い。さらに本装置は公知のように下部電極Ｄを含んでいる。この図において、基板１’は屈折率ｎ１’を有しており、これは公知のように絶縁層（isolating layer）あるいは半絶縁層（semi-isolating layer）４’の屈折率ｎ２にほぼ等しい。本装置の構造は通常の半導体レーザのいわゆる埋め込み型ヘテロ接合（buried heterostrucure）により形成されている。重要なことは、ここに示す実施例では電極構造Ｃと活性層２’の間の間隔が比較的小さいことである。活性層２’は屈折率ｎ２を有しており、これは活性層２’の両側に配列されている半導体層３’、３’の屈折率ｎ３より大きく、つぎに基板１’の屈折率ｎ１’と絶縁層あるいは半絶縁層４’の屈折率ｎ４よりもそれぞれ大きい屈折率を有する。活性層２’は特に量子ウェル（quantum wells）あるいは量子細線（quantum wires）の形をとることができる．活性部あるいは活性層が十分に薄ければ、量子細線が得られる。図３ｂに、図３ａによるフィルタ装置２０の長さ方向の図が示されているが、電極Ａ、Ｂの交互の電極フィンガａ１、ｂ１、ａ２、ｂ２は、実効グレーティング周期Λ１を有している。ここに示す実施例においては、電極Ａ（電極フィンガａ１、ａ２、．．．．．）は電流が給電されているが、この電流は電極Ｂ（電極フィンガｂ１、ｂ２、．．．．．）に給電される電流よりも小さい。代わりに（alternatively）（関係するフィンガのある）電極Ａは自由になったままとなる。ギャップ４’は、たとえば半絶縁体あるいは半導体材料あるいは酸化物を含む絶縁ギャップを形成するが、層１’、２’、３’は半導体材料を含み、注入は活性層２’におこなわれる。一例として、波長λ０が約１．５ミクロンとすれば、λは約０．５ミクロンでΛ１は０．２５ミクロンとなるであろう。ここ説明したフィルタ装置２０の全長は長くても約０．１ミリメートル〜１ミリメートルである。数値は単なる例である。（ここでは更に説明しないが）本発明の一実施例によれば、本フィルタ装置は、異なる離散的周波数に対する同調だけでなく、公知のように連続的に変わる屈折率が存在するいわゆる連続同調も実行する。
【００１０】
代替実施例によれば、本フィルタ装置はグレーティング型方向性結合器（frating assisted directional coupler）の形態をとることもできる。図４ａにフィルタ装置３０が非常に模式的に示されており、このフィルタ装置にはそれぞれ第１と第２の導波路７、８が含まれている。導波路７、８の上部には電極構造体が配列されているが、ここでは、この電極構造体は上に説明したことと本質的に同様な電極素子Ｃの形をしている。図４ｂも同様にフィルタ装置３０の横方向断面が示されている。フィルタ装置３０は、屈折率がそれぞれｎ7 、ｎ8 異なる導波路７、８を含んでいる。導波路７、８は、その上に電極構造体が配列されており、屈折率がｎ1'' の基板１’’の中に配列されている。導波路７、８は同じではないから、同じ周波数、ω／２πで、導波路７、８はそれぞれ異なる伝搬定数、すなわち、ｋ7 （ω）＝２π／λ7 （ω）およびｋ8 （ω）＝２π／λ8 （ω）をもつことになる。実効グレーティング周期Λeff を持つ電極構造体によって構成される電極Ａ、Ｂによって誘起するグレーティングは、ｋ7 （ω）−ｋ8 （ω）＝ｋg の条件のとき導波路７、８の間で結合を生じさせる。ここにｋg は波数（wave number ）であり、この波数は±２π／Λeff でなければならない。前の実施例と同様に、フィルタ装置３０は電極Ａ、Ｂを介して制御される。しかしある場合には、上述したような電極のあることによって結合が発生することを回避するため、電極の周期性Λ0 は望ましい最小グレーティング周期性Λeff よりもかなり小さくなければならない。この問題点を解決するために、図４ｃに模式的に示すように電極あるいは電極フィンガをグループにして配列しても良く、実効グレーティング周期が電極フィンガのグループの間で形成されるように配列しても良い。
【００１１】
図５ａにフィルタ装置３０’の別の実施例が示されている。各電極フィンガは、別々に給電あるいは制御される電極を形成している。
【００１２】
ここでは２つの導波路の間の結合に必要な（長い）グレーティング周期が使用されている。このグレーティング周期は２つの導波路の波の伝搬定数の差によって与えられ、通常ＤＦＢレーザのグレーティング周期の４０〜１００倍である。電極の周期はグレーティング周期の分数で良く、各電極フィンガは別々に給電あるいは制御されるのであるから、「正弦波形（sinus-shaped）グレーティング」を得ることができ、その周波数は強さと同様に調整可能である。
【００１３】
使用できる周波数の間の間隔は、電極周期とグレーティング周期との間の関係によって与えられる。すなわち、使用される平均光周波数に導波路が結合する周期である。しかし、電極構造体が存在するだけで前進波と後進波の間の結合が発生するのであるから、電極周期はＤＦＢレーザに対する周期と同じであってはならない。
【００１４】
図５ｂで、±ｎ、ｎ＝０、±１．．．は電圧あるいは電流レベルを意味し、Λeff は正弦波曲線の周期を意味している。たとえばグレーティングを方形波が得られるような方法で制御しても良い。
【００１５】
以下に説明することは、電極構造体を長さ方向にに分割して、電極構造体が多数の電極素子、Ｃ１、Ｃ２、Ｃ３、Ｃ４、．．．含むようにする方法である。ここで異なる電極素子はそれぞれ異なる方法で配列されあるいは給電されるから、たとえば離散的な数の導波路に同調可能なフィルタ装置を得ることができる。図６ａは、それぞれが第１と第２の電極、Ａ1 、Ｂ1 ；Ａ2 、Ｂ2 ；Ａ3 、Ｂ3 ；Ａ4 、Ｂ4 ；．．．．を含み、各第１と第２の電極は電極フィンガ、ａ11、ａ12、ａ13、ａ14とｂ11、ｂ12、ｂ13、ｂ14等を含む多数の電極素子、Ｃ１、Ｃ２、．．．を示す。その他の電極素子も上と同様になっている。
【００１６】
図６ａに示す実施例において、第１の電極Ａ１、Ａ２、．．．は交互に＋、−がつけられているが、対応する第２の電極Ｂ１、Ｂ２、．．．はこれと反対の符合がつけられている。ある場合には、電極素子は、電極素子周期（electorodeelemnt period）と呼ぶ周期により交互に給電され、この場合には電極素子周期は２である。つぎにプラス（＋）は、マイナスがつけられている電極よりも大きい電流が供給され（あるいは電圧が印加され）ている電極であることを意味しており、マイナスがつけられている電極はプラスがつけられている電極よりも小さい電流が供給されているか、給電されていないことを意味している。図６ａに示す極性によると、実効グレーティング周期が求められ、これはΛｅｆｆが２・Λ０の約８／７あるいは８／９であって、２つの周期が求められることになる。電極がどのように給電されるかに依存して、異なる実効グレーティング周期が求められる。たとえば、普通のＤＦＢレーザは１０００以上のグレーティング周期を含んでいるから、これから考えても非常に多くの異なる変形が可能性であり、たとえば最小の相対的同調（smallest relative tuning）は約１／（周期の数）である。
【００１７】
図６ｂには電極素子の給電に関する別の実施例が示されており、電極素子はグループが２つの場合の方法と同様に給電されている。すなわち、電極素子の２つの第１の電極が１つかつ同一の方法で給電されれば、電極素子のその後には別々に給電される２つの第１の電極が続く（Λｅｆｆはおよそ２・Λ０の１６／１５（と１６／１７）である）。
【００１８】
しかし、これは実施例として与えられたに過ぎない。異なるグループとすることも可能である。すなわち、グループはいろいろな方法で配列できるのであり、電極に対して別々に給電しても、あるいは個別に給電しても良いのである。
【００１９】
図６ｃには、電極素子あるいは電極に対してそれぞれ給電できる方法を示す別の実施例が示されている。この実施例においては、各電極素子は１つかつ同一の方法で給電されている。図６ａ〜図６ｃに示す実施例においては、電極素子は相互に関連して配列されているので、電極周期性は常に一定である。しかし、図７に示すような電極周期性に変更することも可能である。ここでは、たとえば異なる電極素子Ｃ１、Ｃ２に属する２つの電極フィンガａ14、ｂ21の間の間隔は、１つの電極素子に含まれる電極フィンガの間の間隔Λ0 ／２の半分にできるであろう。本実施例においては、（図６ａに関連して）前に説明した重複は本質的にもはや存在しないが、同調させることのできる波長の数は制限される。
【００２０】
本発明を通じて、フィルタの強さを制御すると同時にフィルタを同調させることが可能であり、かつ異なる空間周波数を電気的に合成することができると言うことができる。本発明の用途は、たとえば信号処理や大規模ＷＤＭ用の可変調フィルタあるいはＷＤＭ用の同調型レーザなど多数の異なる分野に見いだすことができるであろう。
【００２１】
１つの有利な実施例では本装置はチップに配列されるが、この実施例によれば、含める多数の接続を処理し、かつこれを制御するプロセッサは、同一チップに集積できるであろう。
【００２２】
本発明は、ここに示した実施例に限定されないことは勿論であるが、本発明は請求の範囲内でも多数の方法で自由に変更できるのである。電極構造体および電極の組合わせは多数の異なる形態をとっても良いし、またこれらに対する給電も多数の異なる方法で実行しても良い。また多数の異なる材料を使用することができるし、同調可能な波長の数を変更することもできるのである。
【図面の簡単な説明】
【図１】導波路および電極素子を含むフィルタ装置を模式的に示す図。
【図２】図１の装置であって、電気光学的用途において受動的フィルタを形成するを装置を模式的に示す図であって、（ａ）は電気光学的用途において受動的フィルタを形成するを装置を模式的に示す図、（ｂ）は（ａ）の装置の平面図。
【図３】能動フィルタあるいはレーザを形成する装置を模式的に示す図であって、（ａ）は能動フィルタあるいはレーザを形成する装置の断面を模式的に示す図、（ｂ）は（ａ）の装置の縦方向の図。
【図４】２つの導波路を含むグレーティング型方向性結合器を形成する実施例を模式的に示す図であって、（ａ）は２つの導波路を含むグレーティング型方向性結合器を形成する実施例を模式的に示す図、（ｂ）は（ａ）の単純化された断面図、（ｃ）はグレーティング型方向性結合器のグループに配列された電極構造体の結合を模式的に示す図。
【図５】グレーティング型方向性結合器の代替実施例を示す図であって、（ａ）はグレーティング型方向性結合器の代替実施例を示す図、（ｂ）は（ａ）の装置に給電する例を模式的に示す図。
【図６】交互に給電される連続電極素子を有する分割型電極構造体の実施例を模式的に示す図であって、（ａ）は交互に給電される連続電極素子を有する分割型電極構造体の実施例を模式的に示す図、（ｂ）はどちらかに給電される電極構造体を有する別の分割型電極構造体を示す図、（ｃ）は分割型電極構造体に給電する別の実施例を模式的に示す図。
【図７】電極の周期性を変更する例を模式的に示す図。
【符号の説明】
１、１’、１’’  基板
２、７、８  光導波路
１０、２０、３０  フィルタ装置
２’  活性層
３’  半導体層
４’  絶縁体層
Ａ  第１の電極
Ｂ  第２の電極
Ｃ  電極構造体
Ｄ  下部電極
ａii  第１の電極の電極フィンガ
ｂii  第２の電極の電極フィンガ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
0003878224.tif 000009
【図７】
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