(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成る足温浴器において、
前記足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段と、
前記足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段と、
前記電解水生成手段と気泡発生手段を制御する制御手段とを備え、
該制御手段は、前記電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うと共に、前記気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段による１回当たりの電解水生成時間を延長することを特徴とする足温浴器。
【請求項２】
足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成る足温浴器において、
前記足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段と、
前記足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段と、
前記電解水生成手段と気泡発生手段を制御する制御手段とを備え、
該制御手段は、前記電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うと共に、前記気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段により電解水を生成する周期を短縮することを特徴とする足温浴器。
【請求項３】
前記足浴槽内に足が挿入されたことを検出する足検出手段を備え、前記制御手段は、該足検出手段の出力に基づき、前記足浴槽内に足が存在することを条件として前記電解水生成手段による間欠的な電解水の生成を行うことを特徴とする請求項１又は請求項２の足温浴器。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、湯を用いて足を温める足専用の温浴器に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来の足温浴器は、例えば特開２００１−２５８９８６号公報に示されている。即ち、この種の足温浴器は両足が挿入可能な寸法容積を有する足浴槽内に水を貯溜し、この水を加熱して所定温度の湯とする。そして、この湯中に両足（素足）を浸漬すると、足の皮膚を通して人体が加温され、血液の流れにより全身に熱が伝えられて血行が良くなり、疲労回復と健康維持に役立つことが知られている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このように、足温浴器の足浴槽の湯内には足（素足）が浸漬されるため、この足の皮膚に付着している種々の雑菌や汚れが湯中に解け出す。そのため、足浴槽内の湯中には雑菌が繁殖し易く、頻繁な湯の交換と足浴槽の清掃が必要となると共に、繁殖した雑菌に足の皮膚が罹患する危険性もあった。
【０００４】
本発明は、係る従来の技術的課題を解決するために成されたものであり、足浴槽内における雑菌の繁殖を防止若しくは抑制し、衛生的な足温浴器を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項1又は請求項2の足温浴器は、足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成るものであって、足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段と、足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段と、電解水生成手段と気泡発生手段を制御する制御手段とを備え、この制御手段は、電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うと共に、気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段による１回当たりの電解水生成時間を延長することを特徴とする。
又は、気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段により電解水を生成する周期を短縮することを特徴とする。
【０００６】
本発明によれば、足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成る足温浴器において、足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段を備えているので、足浴槽内に次亜塩素酸を供給して雑菌の繁殖を防止若しくは抑制し、衛生的な足温浴効果を達成することができるようになる。また、足の皮膚表面の除菌も行える効果がある。
【０００７】
特に、電解水生成手段を制御する制御手段を備え、この制御手段は、電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うので、足温浴の間、湯中の次亜塩素酸を所定の濃度で維持し、温浴中の雑菌の繁殖防止・抑制と足の除菌効果を支障無く発揮させることが可能となるものである。
【００１１】
さらに、足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段を備えているので、気泡により足をマッサージし、また、効率的に足と次亜塩素酸との接触を図ることができるようになる。特に、制御手段は、当該気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段による１回当たりの電解水生成時間を延長したり電解水を生成する周期を短縮することにより、より多くの電解水を生成するようにするので、足との接触により分解が促進される次亜塩素酸の濃度を支障無く維持することが可能となるものである。
【００１４】
請求項３の発明の足温浴器は、上記各発明において足浴槽内に足が挿入されたことを検出する足検出手段を備え、制御手段は、この足検出手段の出力に基づき、足浴槽内に足が存在することを条件として電解水生成手段による間欠的な電解水の生成を行うことを特徴とする。
【００１５】
請求項３の発明によれば、上記各発明に加えて足浴槽内に足が挿入されたことを検出する足検出手段を備え、制御手段は、この足検出手段の出力に基づき、足浴槽内に足が存在することを条件として電解水生成手段による間欠的な電解水の生成を行うようにしたので、足浴槽内に足が存在しないときには電解水の生成を停止し、次亜塩素酸の濃度が必要以上に上昇してしまうことを防止すると共に、省エネ化も図ることが可能となるものである。
【００１６】
【発明の実施の形態】
以下、図面に基づき本発明の実施形態を詳述する。図１は本発明の実施例の足温浴器１の斜視図、図２は足温浴器１の操作パネル２を除く俯瞰図、図３は足温浴器１の縦断側面図をそれぞれ示している。各図において、実施例の足温浴器１は、上面に開口を有する略矩形状の外枠３と、この外枠３の開口内に取り付けられ、上面に開口する略矩形状の内箱４とから構成され、この内箱４内が上面に開口した足浴槽６とされている。
【００１７】
内箱４の外面と外枠３間には断熱材７が設けられており、この断熱材７に形成された溝を利用して、内箱４の外面には加熱手段としての電気ヒータ８が図４に示す如く蛇行状に添設されている。外枠３の手前側上面には操作パネル２が構成されている。この操作パネル２の内側（下側）には、内箱４との間に電装室９が構成され、この電装室９内上部に後述する制御装置１１が収納されると共に、前記電気ヒータ８の端部も電装室９内に引き入れられている。
【００１８】
図５は気泡発生手段としての気泡発生装置１２を示している。この気泡発生装置１２は、図２の如く足浴槽６内底部に着脱自在に敷設されて多数の吐出孔１３・・・が上面に形成された底敷き部１４と、モータ１６にて駆動されるシロッコファン（送風機）１７と、このシロッコファン１７の吐出側と底敷き部１４内とを連通する上下のダクト１８から構成されている（尚、図１、図３では底敷き部１４が取り外されている）。
【００１９】
このうち、モータ１６、シロッコファン１７及びダクト１８は電装室９内に収納されており、底敷き部１４はこのダクト１８の下端開口１８Ａに着脱自在に連結される。そして、モータ１６によりシロッコファン１７が運転されると、操作パネル２に形成された吸気孔１９から空気（外気）が吸引され、ダクト１８に吐出される。ダクト１８に吐出された空気は底敷き部１４内に入り、複数の吐出孔１３・・から足浴槽６内に気泡となって吐出される。
【００２０】
また、内箱４の電装室９側の壁面には矩形状の開口２３が形成されており、この開口２３には複数のスリット２１・・が形成されたスリット部材２４が取り付けられている。このスリット部材２４に対応する位置の内箱４の外面には電極箱２２が取り付けられている。図６は内箱４の内側からスリット部材２４を見た図を示しており、図７は電極箱２２部分の内箱４の拡大縦断側面図、図８は電極箱２２の縦断正面図を示している。
【００２１】
電極箱２２は内箱４側が開口した略矩形容器状を呈しており、内箱４の開口２３を外側から塞ぐようにゴムパッキン３１を介してネジ３２、３２により内箱４に取り付けられている。この電極箱２２内には、上下の保持部３３、３４に電解水生成手段を構成する合計三枚の電極３６、３７、３８が所定の間隔を存して保持され、各電極３６、３７、３８には電極箱２２の上からリード線３９・・が接続されている。このリード線３９・・は前記制御装置１１に接続される。
【００２２】
この場合、電極３６と電極３８には同一の極性の電位が印加され、それらの間の電極３７には逆極性の電位が印加されて水の電気分解を行う。尚、実施例では３枚の電極を設けたが、少なくとも一対の電極が設けられていればよいものである。尚、４１はスリット部材２４の下側に形成された排水孔であり、電極箱２２内の水を排出する際には、この排水孔４１から足浴槽６内に円滑に排出できるようになる。
【００２３】
また、電極箱２２の上壁には電極箱２２内に位置して水位検出手段としてのフロートスイッチ４２と残留塩素濃度検出手段としての残留塩素濃度センサ４３が設けられている。フロートスイッチ４２は、例えば足浴槽６内に注入された水に電極３６〜３８が全て没する一定の水位となる高さ（実施例では足浴槽６の底面（底敷き部１４）から約１７ｃｍの高さ）の位置に配置されている。また、残留塩素濃度センサ４３は足浴槽６に注入されて電極箱２２内に流入した水の導電率から残留塩素濃度を検出して出力するものである。
【００２４】
更に、スリット部材２４に隣接する内箱４の内面には、温度検出手段としてのサーミスタ２６と、足検出手段としての光センサ２７が取り付けられている。サーミスタ２６は足浴槽６内の水（湯）の温度に基づいて負特性で抵抗値が変化する素子である。また、光センサ２７は足浴槽６内に足が存在することで受光量が変化するものである。
【００２５】
次に、図９は前記操作パネル２の正面図を拡大して示している。操作パネル２には、上部に＋２８℃〜＋３３℃までの設定温度を表示するためのＬＥＤ４６〜５１が並べられており、更にその左には電解完了までのスタンバイ状態を表示するためのスタンバイＬＥＤ５２が設けられている。また、これらＬＥＤの左右には設定温度を上下に変更設定するためのダウンスイッチ５３とアップスイッチ５４が設けられている。
【００２６】
操作パネル２の下部には、左から運転タイマスイッチ５６、５分、１０分、１５分、２０分の運転時間表示ＬＥＤ５７〜６０、エアースイッチ６１及びエアー発生ＬＥＤ６２、除菌モードＬＥＤ６３、ノーマルモードＬＥＤ６４、モードスイッチ６６、運転スイッチ６７及び運転ＬＥＤ６８が設けられている。
【００２７】
運転スイッチ６７は押すとＯＮして運転ＬＥＤ６８が点灯し、もう一度押すとＯＦＦして運転ＬＥＤ６８が消灯する。運転モードは初期状態ではノーマルモードであり、ノーマルモードＬＥＤ６４が点灯し（除菌モードＬＥＤ６３は消灯）、モードスイッチ６６を一度押すと除菌モードとなって除菌モードＬＥＤ６３が点灯する（ノーマルモードＬＥＤ６４は消灯）。エアースイッチ６１は一度押すとモータ１６によりシロッコファン１７が運転されてエアー発生ＬＥＤ６２が点灯し、もう一度押すとシロッコファン１７が停止してエアー発生ＬＥＤ６２が消灯する。運転タイマスイッチ５６は初期状態では１５分となっており、１５分の運転表示ＬＥＤ５９のみが点灯する。そして、一度押すと２０分となって２０分の運転表示ＬＥＤ６０のみの点灯に切り替わり、更に一度押すと５分となって５分の運転表示ＬＥＤ５７のみの点灯に切り替わり、更に一度押すと１０分となって１０分の運転表示ＬＥＤ５８のみの点灯に切り替わる。
【００２８】
温度設定に関しては、初期状態は＋３０℃となり、アップスイッチ５４を一回押すごとに１度ずつ設定温度が上昇して最終的に＋３３℃まで上げることができる。従って、初期状態ではＬＥＤ４８が点灯しており、アップスイッチ５４を押すごとにＬＥＤ４９、ＬＥＤ５０、ＬＥＤ５１へと順次点灯するＬＥＤが切り替わる。逆にダウンスイッチ５３を押すごとに１度ずつ設定温度は降下して最終的に＋２８℃まで下げられる。そして、ダウンスイッチ５３を押すごとにＬＥＤ４７、ＬＥＤ４６へと順次点灯するＬＥＤが切り替わる。
【００２９】
次に、図１０は制御装置１１の電気回路図を示している。制御装置１１は制御手段としての汎用のマイクロコンピュータ７１により構成されており、このマイクロコンピュータ７１には前記光センサ２７の端子電圧出力と、フロートスイッチ４２の接点出力と、サーミスタ２６の端子電圧出力と、残留塩素濃度センサ４３の出力が入力されている。７２は記憶手段としての読み書き可能なＥＥＲＯＭから成るメモリであり、マイクロコンピュータ７１に接続されている。
【００３０】
７３は操作パネル２の各ＬＥＤ４６〜５１、５２、５７〜６０、６２〜６４の点灯制御回路であり、７４は操作パネル２の各スイッチ５３、５４、５６、６１、６６、６７から構成されるスイッチ回路で、何れもバッファ７６を介してマイクロコンピュータ７１に接続されている。電極３６〜３８はバッファ７７、通電制御回路７８を介してマイクロコンピュータ７１に接続されている。７９はマイクロコンピュータ７１によりトランジスタで通電制御されるリレーコイルであり、８１はマイクロコンピュータ７１に接続されたブザーである。
【００３１】
操作パネル２の運転スイッチ６７は更に商用交流電源回路に接続されており、この運転スイッチ６７の後段には＋５Ｖ、＋１２Ｖ、＋３５Ｖの直流電圧を生成する電源回路８２と、電気ヒータ８及びシロッコファン１７のモータ１６が接続されている。この場合、電気ヒータ８にはマイクロコンピュータ７１によってトランジスタ８３、８４によりゲートが制御されるトライアック８６が直列に接続され、このトライアック８６により通電が位相制御される。また、シロッコファン１７のモータ１６には前記リレーコイル７９の接点（常開接点）７９Ａが直列に接続され、この接点７９Ａにより運転がＯＮ−ＯＦＦ制御される。
【００３２】
以上の構成で、本発明の足温浴器１の動作を説明する。図１１、図１２は制御装置１１のマイクロコンピュータ７１の制御動作を説明するフローチャートである。マイクロコンピュータ７１はステップＳ１で操作パネル２の運転スイッチ６７が押されたか判断しており、押されていなければステップＳ２に進んで運転を停止している。使用者が足浴槽６内に水を注入し、例えば足浴槽６の底面（実際には底敷き部１４）に足を載せた状態で足首の高さとなる水位まで満たしたものとする。尚、水はスリット２１などから電極箱２２内にも流入する。そして、この水位では電極３６〜３８は全て没し、フロートスイッチ４２もＯＮする。この状態で運転スイッチ６７が押されたものとすると、マイクロコンピュータ７１は運転ＬＥＤ６８を点灯すると共に、ステップＳ１からステップＳ３に進んで現在のモードがノーマルモードか否かを判断する。
【００３３】
（１）ノーマルモード運転
今、モードスイッチ６６が押されていないものとすると、初期状態では運転モードはノーマルモードであるので、マイクロコンピュータ７１はノーマルモードＬＥＤ６４を点灯し、ステップＳ３からステップＳ４に進んで電極３６〜３８への通電を停止する（ＯＦＦ）。次に、ステップＳ５でフロートスイッチ４２がＯＮしているか否か判断し、前述の如くフロートスイッチ４２がＯＮしているものとすると、ステップＳ７に進む。
【００３４】
尚、足浴槽６内にフロートスイッチ４２がＯＮする水位（電極３６〜３８が全て没する水位）まで水が注入されていないときには、マイクロコンピュータ７１はステップＳ５からステップＳ６に進み、マイクロコンピュータ７１がその機能として有する除菌タイマをリセットしてステップＳ１に戻る。即ち、フロートスイッチ４２により一定の水位を規定して、この水位以下では運転を開始しない。これにより、後述する制御における電気ヒータ８の空焚きや水の無い状態で通電されることによる電極３６〜３８の劣化を防止できるようになると共に、後述する電極３６〜３８による電解によって発生する次亜塩素酸の濃度が足浴槽６内において上がり過ぎることを防止できるようになる。
【００３５】
一方、ステップＳ７でマイクロコンピュータ７１は足浴槽６内の水温制御を実行する。この水温制御でマイクロコンピュータ７１は、トライアック８６により電気ヒータ８の通電を位相制御することにより、足浴槽６内の水を加熱して湯を生成すると共に、足浴槽６内の水温を検出して抵抗値が変化するサーミスタ２６の端子電圧出力に基づき、アップダウンスイッチ５４、５３で設定された設定温度（＋２８℃〜＋３３℃までの何れかの温度）に湯の温度を調節・維持する。そして、マイクロコンピュータ７１は足浴槽６内の湯の温度が設定温度となったところで前記ブザー８１を鳴動させる。
【００３６】
次に、ステップＳ８でエアースイッチ６１が押されたか否か判断し、押されていなければステップＳ１１に進む。ステップＳ１１ではエアースイッチ６１が押されたか、若しくは、光センサ２７が足浴槽６内に足が挿入されたことを検出したか否かを判断する。今、ブザー８１が鳴ったことで使用者が足浴槽６内に足を挿入したものとすると、ステップＳ１２に進んでマイクロコンピュータ７１がその機能として有する運転タイマの計時（減算）を開始する。この運転タイマは初期状態では前述の如く１５分であるが、運転タイマスイッチ５６の操作で前述の如く５分〜２０分の範囲で５分置きに設定することができる。
【００３７】
そして、ステップＳ１３で運転タイマの減算が終了したか否か判断し、終了していなければステップＳ７に戻る。ここで、使用者によりエアースイッチ６１が押されると、マイクロコンピュータ７１はエアー発生ＬＥＤ６２を点灯すると共に、ステップＳ８からステップＳ９に進んでリレーコイル７９に通電し、接点７９Ａを閉じてシロッコファン１７のモータ１６を運転する（ＯＮ）。これにより、気泡発生装置１２の底敷き部１４の吐出孔１３・・・から足浴槽６内に気泡が吐出され、足浴槽６内の湯を撹拌すると共に、足のマッサージを行う。
【００３８】
また、マイクロコンピュータ７１はステップＳ１０に進んで湯の設定温度を１ｄｅｇ上げる（例えば、設定温度が＋３０℃であった場合には＋３１℃とする）。これにより、気泡発生で温度低下が促進される足浴槽６内の湯を快適な温度に支障無く維持することができるようになる。尚、足が足浴槽６内に挿入されていないときに係るエアースイッチ６１が押された場合にも、マイクロコンピュータ７１はステップＳ１１からステップＳ１２に進んで運転タイマの減算を開始する。
【００３９】
そして、運転タイマの減算開始から例えば１５分が経過し、運転タイマの減算が終了すると、ステップＳ１３からステップＳ１に戻って運転を停止する。
【００４０】
（２）除菌モード運転
次に、運転スイッチ６７が押されてからモードスイッチ６６が一度押されて運転モードが除菌モードとされたものとすると、マイクロコンピュータ７１は除菌モードＬＥＤ６３を点灯し、ステップＳ３からステップＳ１４、ステップＳ１５と進んで前述同様にフロートスイッチ４２がＯＮしているか否か判断する。そして、前述の如くフロートスイッチ４２がＯＮしているものとすると、ステップＳ１７に進む。
【００４１】
尚、足浴槽６内にフロートスイッチ４２がＯＮする水位（電極３６〜３８が全て没する水位）まで水が注入されていないときには、前述同様にマイクロコンピュータ７１はステップＳ１５からステップＳ１６に進み、除菌タイマをリセットしてステップＳ１に戻る。即ち、フロートスイッチ４２により一定の水位を規定して、この水位以下では運転を開始しないことにより、電気ヒータ８の空焚きや水の無い状態で通電されることによる電極３６〜３８の劣化を防止し、後述する電解によって発生する次亜塩素酸の濃度が足浴槽６内において上がり過ぎることを防止する。
【００４２】
一方、ステップＳ１７でマイクロコンピュータ７１は前述の除菌タイマのカウントが終了しているか判断する。この時点では勿論除菌タイマのカウントは終了していないので、マイクロコンピュータ７１はステップＳ１８に進み、除菌タイマが計時中か否か判断する。今、除菌タイマは計時中でないものとすると、ステップＳ１９に進んで除菌タイマの計時を開始する。
【００４３】
尚、マイクロコンピュータ７１はこのステップＳ１９で残留塩素濃度センサ４３が出力する足浴槽６内の水中の残留塩素濃度に基づき、電極３６〜３８による後述する電気分解で発生する次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）の足浴槽６内における濃度が約１ｐｐｍとなるように除菌タイマの時間をセットする。足の温浴には１ｐｐｍ乃至２ｐｐｍの範囲の次亜塩素酸濃度が好適であるが、標準的な残留塩素濃度の場合、実施例の足浴槽６内に一定量の水が注入された状態で、電極３６〜３８による電気分解で発生する次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）の足浴槽６内における濃度は例えば５０秒（立ち上がり時間を含む）で約１ｐｐｍとなる。
【００４４】
一方、水中の残留塩素濃度が高い場合には、電気分解による次亜塩素酸の発生が活発化し、逆に低い場合には次亜塩素酸の発生が少なくなるので、マイクロコンピュータ７１は注入された水の残留塩素濃度に基づき、濃度が低い場合には前記５０秒を所定時間延長し、逆に濃度が高い場合には５０秒を短縮して、除菌タイマ時間をセットする。これにより、足浴槽６内の次亜塩素酸濃度を精度良く適切な値（約１ｐｐｍ）に制御できるようになる。尚、電気分解による次亜塩素酸の発生は水の温度によっても変化してくるので、ここにおける除菌タイマの時間セットには水温を加味してもよい。
【００４５】
このようにステップＳ１９で除菌タイマの時間（ここでは５０秒にセットされたものとする）をセットし、計時を開始してマイクロコンピュータ７１はステップＳ２０に進み、通電制御回路７８により電極３６〜３８に通電を開始する。この場合、前述の如く電極３６、３８には同一の極性の電位が印加され、それらに対向する電極３７には逆極性の電位が印加される。これにより、電極箱２２内では電気分解が行なわれて電解水が生成され、更に、スリット２１・・を介して足浴槽６内と電極箱２２内との間で水が行き来することにより、足浴槽６内には電解水が供給される。
【００４６】
この電解水は弱アルカリ性の性質を有する。電極箱２２内の電解水中には活性酸素が発生しているとともに、次亜塩素酸（ＨＣｌＯ）および次亜塩素酸イオン（ＣｌＯ-）が発生している。以下に、係る電気分解の化学式を（１）〜（４）で示す。
【００４７】
陽極側となる電極における化学反応：
２Ｈ2Ｏ→４Ｈ+＋Ｏ2↑＋４ｅ-                    ・・・（１）
２Ｃｌ-→Ｃｌ2＋２ｅ-                           ・・・（２）
Ｈ2Ｏ＋Ｃｌ2←→ＨＣｌＯ＋Ｈ+＋Ｃｌ-            ・・・（３）
（このうち、Ｏ2とＣｌ2は大気へ）
陰極側となる電極における化学反応：
２Ｈ2Ｏ＋２ｅ-→Ｈ2↑＋２ＯＨ-                  ・・・（４）
（このうち、Ｈ2は大気へ）
【００４８】
次に、マイクロコンピュータ７１はステップＳ１７に戻り除菌タイマがカウント終了しているか判断し、未だ５０秒経過していないので、ステップＳ１８に進み、除菌タイマが計時中か判断する。そして、ここでは計時中であるのでステップＳ２１に進み、マイクロコンピュータ７１はスタンバイＬＥＤ５２を０．１秒間隔で点滅（赤色）させる。これによって、使用者に除菌待機状態であることを示す。そして、５０秒の電気分解が終了すると足浴槽６内の次亜塩素酸濃度は前述の約１ｐｐｍとなる。この時点で除菌タイマのカウントは終了するので、マイクロコンピュータ７１はステップＳ１７からステップＳ２２に進み、電極３６〜３８への通電を停止して、次に、足浴槽６内の水温制御を実行する。
【００４９】
この水温制御でマイクロコンピュータ７１は、前述と同様にトライアック８６により電気ヒータ８の通電を位相制御することにより、足浴槽６内の水を加熱して湯を生成すると共に、サーミスタ２６の端子電圧出力に基づき、アップダウンスイッチ５４、５３で設定された設定温度に湯の温度を調節・維持する。そして、マイクロコンピュータ７１は足浴槽６内の湯の温度が設定温度となったところで前述同様にブザー８１を鳴動させる。
【００５０】
ここで、足浴槽６内の水の温度が高いと、電極３６〜３８による電気分解で生成される次亜塩素酸の濃度が上がってしまうが、上述の如く電極３６〜３８による水の電気分解により足浴槽６内に次亜塩素酸を含む電解水を供給してから足浴槽６内を加熱して湯を生成するようにしているので、足浴槽６内の次亜塩素酸濃度を適切な値（約１ｐｐｍ）に維持できるようになる。
【００５１】
次に、ステップＳ２３でエアースイッチ６１が押されたか否か判断し、押されていなければステップＳ２６に進む。ステップＳ２６では光センサ２７が足浴槽６内に足が挿入されたことを検出したか否か判断しており、今、ブザー８１が鳴ったことで使用者が足浴槽６内に足を挿入したものとすると、マイクロコンピュータ７１はステップＳ２６からステップＳ２７に進んで次亜塩素酸の間欠発生制御を実行する。
【００５２】
この次亜塩素酸の間欠発生制御でマイクロコンピュータ７１は、図１３に示す如く周期ＴＣ（実施例では３分）、通電時間ＴＡとして電極３６〜３８に間欠的に通電し、間欠的な電解水の生成を繰り返し行う。これにより、足浴槽６内で足などに接触して絶えず分解されている次亜塩素酸の濃度を適切な値（１ｐｐｍ）に維持する。ここで、水の残留塩素濃度が通常の値の場合、１回当たりの通電時間ＴＡ（電解水生成時間）は５０秒（立ち上がり時間含む）となるが、マイクロコンピュータ７１は前述の残留塩素濃度センサ４３で検出した残留塩素濃度に基づいて通電時間ＴＡを決定する。即ち、残留塩素濃度が高い場合には通電時間ＴＡを前記５０秒より短くし、低い場合には長くして足浴槽６内の次亜塩素酸濃度が前述の約１ｐｐｍとなるように調整する。これにより、間欠的な電解により生成される次亜塩素酸の濃度を的確に制御することが可能となる。
【００５３】
このように足浴槽６内に次亜塩素酸を含む電解水を供給し、その後も間欠通電によって次亜塩素酸濃度を維持するので、足浴槽６内の雑菌の繁殖を防止若しくは抑制し、衛生的な足温浴効果を達成することができるようになる。また、足の皮膚表面の除菌も行えるので、水虫の予防や快癒、悪臭の発生防止にも効果を奏する。
【００５４】
特に、マイクロコンピュータ７１は足が挿入された後、間欠的に電解水の生成を行うので、足温浴の間、湯中の次亜塩素酸を適切な濃度で維持し、温浴中の雑菌の繁殖防止・抑制と足の除菌効果を支障無く発揮させることが可能となる。また、光センサ２７の検出に基づき、足浴槽６内に足が存在することを条件として電極３６〜３８による間欠的な電解水の生成を行うので、足浴槽６内に足が存在しないときには電解水の生成を行わず、次亜塩素酸の濃度が必要以上に上昇してしまうことを防止し、省エネ化も図れるようになる。
【００５５】
次に、マイクロコンピュータ７１はステップＳ２８でエアースイッチ６１が押されたか、若しくは、光センサ２７が足浴槽６内に足が挿入されたことを検出したか否かを判断する。今、上述の如く使用者が足浴槽６内に足を挿入したものとすると、ステップＳ２９に進んで前記運転タイマの計時（減算）を開始する。この運転タイマは初期状態では前述の如く１５分であるが、運転タイマスイッチ５６の操作で前述の如く５分〜２０分の範囲で５分おきに設定することができる。
【００５６】
そして、ステップＳ３０で運転タイマの減算が終了したか否か判断し、終了していなければステップＳ２２に戻る。ここで、使用者によりエアースイッチ６１が押されると、マイクロコンピュータ７１は前述同様にエアー発生ＬＥＤ６２を点灯すると共に、ステップＳ２３からステップＳ２４に進んでリレーコイル７９に通電し、接点７９Ａを閉じてシロッコファン１７のモータ１６を運転する（ＯＮ）。これにより、気泡発生装置１２の底敷き部１４の吐出孔１３・・・から足浴槽６内に気泡が吐出され、足浴槽６内の湯中の次亜塩素酸を撹拌すると共に、足のマッサージを行う。
【００５７】
また、マイクロコンピュータ７１はステップＳ１０に進んで湯の設定温度を前述の如く１ｄｅｇ上げる。これにより、気泡発生で温度低下が促進される足浴槽６内の湯を快適な温度に支障無く維持することができるようになる。
【００５８】
更に、ステップＳ２７における次亜塩素酸の間欠発生制御において、マイクロコンピュータ７１は上述の如くエアースイッチ６１が押されて足浴槽６内に気泡が発生している場合、前述の１回当たりの通電時間ＴＡ（電解水生成時間）を延長する。これにより、より多くの電解水が生成されるようになるので、足との接触により分解が促進される次亜塩素酸の濃度を支障無く維持することが可能となる。
【００５９】
尚、このように通電時間ＴＡを延長する代わりに、周期ＴＣを短縮してもよい。それによっても、より多くの電解水を生成できるようになるので、足との接触により分解が促進される次亜塩素酸の濃度を支障無く維持できるようになる。
【００６０】
ここで、足が足浴槽６内に挿入されていないときに係るエアースイッチ６１が押された場合にも、マイクロコンピュータ７１はステップＳ２８からステップＳ２９に進んで運転タイマの減算を開始する。
【００６１】
そして、運転タイマの減算開始から例えば１５分が経過し、運転タイマの減算が終了すると、ステップＳ３０からステップＳ１に戻って運転を停止するものである。ここで、マイクロコンピュータ７１は電極３６〜３８への通電時間を積算し、電源が切断された場合にもメモリ７２に保持している。そして、この通電時間が例えば６０分に達すると、電極３６、３８と電極３７に印加する電位の極性を切り換える。これにより、陰極となる電極表面に硬度成分（カルシウムやマグネシウムなど）が付着して電解効率が低下する不都合を抑制する。
【００６２】
尚、実施例では気泡発生装置１２により足浴槽６内に気泡を発生させたが、それに限らず、ポンプにより足浴槽６内に循環水流を発生させてもよい。また、実施例では示した各濃度や時間などの値をそれに限られるものでは無く、足浴槽６の容量や電極３６〜３８の電解能力などに応じて適宜決定されるものとする。
【００６３】
【発明の効果】
以上詳述した如く本発明によれば、足浴槽内に足浴用の湯を貯溜して成る足温浴器において、足浴槽内の水を電気分解することにより次亜塩素酸を含む電解水を生成する電解水生成手段を備えているので、足浴槽内に次亜塩素酸を供給して雑菌の繁殖を防止若しくは抑制し、衛生的な足温浴効果を達成することができるようになる。また、足の皮膚表面の除菌も行える効果がある。
【００６４】
特に、電解水生成手段を制御する制御手段を備え、この制御手段は、電解水生成手段により間欠的に電解水の生成を行うので、足温浴の間、湯中の次亜塩素酸を所定の濃度で維持し、温浴中の雑菌の繁殖防止・抑制と足の除菌効果を支障無く発揮させることが可能となるものである。
【００６６】
さらに、足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段を備えているので、気泡により足をマッサージし、また、効率的に足と次亜塩素酸との接触を図ることができるようになる。特に、制御手段は、当該気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段による１回当たりの電解水生成時間を延長し、より多くの電解水を生成するようにするので、足との接触により分解が促進される次亜塩素酸の濃度を支障無く維持することが可能となるものである。
【００６７】
請求項２の発明によれば、足浴槽内に気泡を発生させる気泡発生手段を備えているので、同様に気泡により足をマッサージし、また、効率的に足と次亜塩素酸との接触を図ることができるようになる。特に、制御手段は、当該気泡発生手段により気泡を発生させる場合、電解水生成手段により電解水を生成する周期を短縮し、より多くの電解水を生成するようにするので、足との接触により分解が促進される次亜塩素酸の濃度を支障無く維持することが可能となるものである。
【００６８】
請求項３の発明によれば、上記各発明に加えて足浴槽内に足が挿入されたことを検出する足検出手段を備え、制御手段は、この足検出手段の出力に基づき、足浴槽内に足が存在することを条件として電解水生成手段による間欠的な電解水の生成を行うようにしたので、足浴槽内に足が存在しないときには電解水の生成を停止し、次亜塩素酸の濃度が必要以上に上昇してしまうことを防止すると共に、省エネ化も図ることが可能となるものである。
る。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の実施例の足温浴器の斜視図である。
【図２】図１の足温浴器の俯瞰図である。
【図３】図１の足温浴器の縦断側面図である。
【図４】図１の足温浴器の内箱の一部と電気ヒータの斜視図である。
【図５】図１の足温浴器の気泡発生装置の斜視図である。
【図６】図１の足温浴器のスリット部分の内箱の正面図である。
【図７】図１の足温浴器の電極箱部分の拡大縦断側面図である。
【図８】図１の足温浴器の電極箱の縦断正面図である。
【図９】図１の足温浴器の操作パネルの正面図である。
【図１０】図１の足温浴器の制御装置の電気回路図である。
【図１１】図１０の制御装置のマイクロコンピュータの動作を説明するフローチャートである。
【図１２】同じく図１０の制御装置のマイクロコンピュータの動作を説明するフローチャートである。
【図１３】図１の足温浴器による次亜塩素酸の間欠発生制御を説明するタイミングチャートである。
【符号の説明】
１  足温浴器
２  操作パネル
３  外枠
４  内箱
６  足浴槽
８  電気ヒータ
１１  制御装置
１２  気泡発生装置
２６  サーミスタ
２７  光センサ
３６〜３８  電極
４２  フロートスイッチ
４３  残留塩素濃度センサ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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