(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリエステル層Ａ、ポリエステル層Ｂおよび皮膜層Ｃをこの順で積層した積層フィルムであって、ポリエステル層Ｂは平均粒径が５０〜１０００ｎｍの不活性粒子Ｂを０．００１〜１重量％含有し、ポリエステル層Ａは不活性粒子を含有しないか、不活性粒子Ｂよりも平均粒径の小さい不活性粒子を含有し、皮膜層Ｃは（１）最低造膜温度（ＭＦＴ）が２０〜１００℃のアクリル樹脂２０〜６０重量％、（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０〜１２０℃のポリエステル２０〜６０重量％、（３）平均粒径が１０〜８０ｎｍの不活性粒子Ｃ１〜２０重量％および（４）界面活性剤１〜３０重量％からなることを特徴とする積層ポリエステルフィルム。
【請求項２】
皮膜層Ｃの厚み（Ｔｃ）と不活性粒子Ｃの平均粒径（Ｄｃ）とが、以下の式を満足する請求項１に記載の積層ポリエステルフィルム。
【数１】
0003942410.tif 000006
【請求項３】
不活性粒子Ｂが、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、カオリンおよびクレーからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子である請求項１に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項４】
ポリエステル層Ａと接していないポリエステル層Ｂの表面は、十点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が３０〜３００ｎｍの範囲にある請求項１に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項５】
ポリエステル層Ｂと接していないポリエステル層Ａの表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍの範囲にある請求項１に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項６】
ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しない請求項１〜５のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項７】
ポリエステル層Ａが平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１〜０．２重量％含有する請求項１〜５のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項８】
ポリエステル層Ｂと接していないポリエステル層Ａの表面に、皮膜層Ｄが積層されている請求項１に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項９】
皮膜層Ｄは、平均粒径が１０〜５０ｎｍで体積形状係数が０．１〜π／６の不活性粒子Ｄを０．５〜３０重量％含有する請求項８に記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項１０】
磁気記録媒体のベースフィルムに用いる請求項１〜９のいずれかに記載の積層ポリエステルフィルム。
【請求項１１】
請求項１〜９のいずれに記載の積層ポリエステルフィルムと、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ側の表面に設けられる磁性層とからなる磁気記録媒体。
【請求項１２】
磁性層が強磁性金属薄膜層である請求項１１に記載の磁気記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は積層ポリエステルフィルムおよび磁気記録媒体に関する。さらに詳しくは電磁変換特性、走行耐久性に優れた磁気記録媒体、特にデジタル信号を記録・再生する強磁性金属薄膜型磁気記録媒体（例えばデジタルビデオカセットテープ、データストレージテープなど）のベースフィルムとして有用な積層ポリエステルフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
近年、磁気記録媒体の高密度記録化の進歩はめざましく、例えば強磁性金属薄膜を真空蒸着やスパッタリングなどの物理沈着法またはメッキ法により非磁性支持体上に形成させた強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の開発および実用化が進められている。具体的には、Ｃｏの蒸着テープ（特開昭５４―１４７０１０号公報）やＣｏ―Ｃｒ合金からなる垂直磁気記録媒体（特開昭５２―１３４７０６号公報）が提案されている。
【０００３】
従来の塗布型磁気記録媒体（磁性粉末を有機高分子バインダーに混入し、非磁性支持体上に塗布してなる磁気記録媒体）は、磁性層の厚みが２μm程度と厚いことから、記録波長が長く、記録密度が低い。これに対し、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体における金属薄膜（磁性層）は、厚みが０．２μm以下と非常に薄いことから、記録波長が短く、従来の塗布型磁気記録媒体に比べ記録密度が高くなっている。
【０００４】
ところで、磁性層の厚みが薄くなると、磁気記録層の表面性に非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が影響しやすくなる。そのため、従来の塗布型磁気記録媒体に比べ、金属薄膜を設けた磁気記録媒体は、非磁性支持体（ベースフィルム）の表面状態が非常に影響しやすくなってきている。すなわち、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の場合、非磁性支持体の表面状態が、そのまま金属薄膜の表面凹凸として発現し、それが記録・再生信号の雑音の原因となる。したがって、強磁性金属薄膜型磁気記録媒体の場合、非磁性支持体の表面は、できるだけ平滑であることが望ましい。
【０００５】
一方、非磁性支持体の製膜、加工工程での搬送、巻き取り、巻出しといったハンドリングの観点からは、フィルムが滑り性に優れることが好ましい。フィルム表面が平滑過ぎると、フィルムフィルム相互の滑り性が悪化し、かつまた表面に傷が生じ易くなり、製品歩留りの低下、ひいては製造コストの上昇をきたす。したがって、製造コストという観点では、非磁性支持体の表面はできるだけ粗いことが好ましい。
【０００６】
また、金属薄膜型磁気記録媒体の場合には、金属薄膜とベースフィルムとの密着性を良好にするため、金属薄膜成形前に、イオンボンバード処理と呼ばれる、ベースフィルム表面をイオンにより活性化する処理を行なう。そして、金属薄膜成形時には、フィルム表面にかなり高温の熱がかかり、ベースフィルムが融解したり、機械特性などの物性が低下しないように、フィルムの背面を冷却する。この背面冷却には、通常、ドラム状冷却体にベースフィルムを巻き付け方法が採用されるが、その際、ドラム表面に金属薄膜が形成されないようにベースフィルム両端をマスキングする。
【０００７】
したがって、上記蒸着工程を通過したフィルムロールの両端部には、このマスキングによって金属薄膜の形成されなかった部分が、イオンボンバード処理によって表面活性化された状態のままで、長手方向に連続的に存在する。そして、この部分は、ロール状に巻き上げられた状態では、反対面側と高い力で接触することになり、ブロッキングを引き起しやすくなる。金属薄膜型磁気記録媒体を製造する際には、金属薄膜を蒸着した後に、バックコート層および必要に応じてトップコート層を設けるが、これらの加工工程において上記ブロッキングが発生していると、ベースフィルムの切断やしわが発生しやすくなり、収率が大幅に低下してしまうという問題が生じる。このようなブロッキングを防ぐためにも、非磁性支持体の表面は粗い方が好ましい。
【０００８】
このように、非磁性支持体の表面は、電磁変換特性という観点からは平滑であることが要求され、他方ハンドリング性、製造コスト、ブロッキング防止の観点からは、粗いことが要求される。
【０００９】
上記のような相反する要求を満たすため、２つの層からなり、一方の層の表面よりも他方の層の表面を粗くした積層フィルム（例えば特公平１−２６３３８号）が提案されている。しかし、この積層フィルムは、粗面層の高い突起が平坦面層の表面に転写したり、粗面層に添加した大きな粒子による平坦面層への突き上げ効果により、磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が悪化するという問題を抱えている。
【００１０】
更に、一方の層に易滑性を付与する方法として、アクリル系樹脂、ポリエステル樹脂およびアクリル−ポリエステル系樹脂から選ばれる少なくとも一種の樹脂とセルロース系樹脂、および粗面化物質を主成分とする組成物からなる薄膜層が特許公報第２５４３６２１号において提案されている。しかしながら、このフィルムは、特にセルロース系樹脂の存在によると考えられる薄膜層のひだの形成をコントロールすることが難しく、安定した品質の易滑層が得られにくいという問題がある。更に、通常フィルムの生産性を向上させるために、その生産において生じた様々な余剰フィルムを再溶融し、チップ化したものをフィルム生産工程において再利用するが、上記の薄膜層が塗布されたフィルムの場合、薄膜層の熱分解によると考えられる着色や異物の生成が顕著になり、問題がある。
【００１１】
また、ベースフィルム内部の触媒残渣（微粒子）によって表面平滑性が低下するのを防止する方策として、平滑面層の原料としてゲルマニウム化合物を重合触媒とし、特定量のゲルマニウムとリンを含有するポリエステルを使用した積層フィルム（例えば特開平１２−１５６９５号）が提案されている。しかし、この積層フィルムでも、フィルム製造時あるいは先述の金属薄膜加工工程において粗面層表面からの突起の脱落やオリゴマーなど、異物のブリードアウトが生じ、各製造工程でこれら異物が平滑面層の平滑性を低下させるという問題を抱えている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、このような従来技術の欠点を解消し、耐ブロッキング性、耐削れ性および加工適性に優れ、金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに優れた電磁変換特性を奏する積層ポリエステルフィルムおよびそれを用いた磁気記録媒体を提供することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
本発明の目的は、本発明によれば、ポリエステル層Ａ、ポリエステル層Ｂおよび皮膜層Ｃをこの順で積層した積層フィルムであって、ポリエステル層Ｂは平均粒径が５０〜１０００ｎｍの不活性粒子Ｂを０．００１〜１重量％含有し、ポリエステル層Ａは不活性粒子を含有しないか、不活性粒子Ｂよりも平均粒径の小さい不活性粒子を含有し、皮膜層Ｃは（１）最低造膜温度（ＭＦＴ）が２０〜１００℃のアクリル樹脂２０〜６０重量％、（２）ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０〜１２０℃のポリエステル２０〜６０重量％、（３）平均粒径が１０〜８０ｎｍの不活性粒子Ｃ１〜２０重量％および（４）界面活性剤１〜３０重量％からなる積層ポリエステルフィルムによって、達成される。
【００１４】
また、本発明の積層ポリエステルは、その好ましい態様として、（１）皮膜層Ｃの厚み（Ｔｃ）と不活性粒子Ｃの平均粒径（Ｄｃ）とが、以下の式
【００１５】
【数２】
０．３≦Ｔｃ／Ｄｃ≦０．８
を満足すること、（２）不活性粒子Ｂが、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素、カオリンおよびクレーからなる群から選ばれる少なくとも１種の粒子であること、（３）ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａと接していない表面は、十点平均粗さ（ＷＲｚＢ）が３０〜３００ｎｍの範囲にあること、（４）ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接していない表面は、中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍの範囲にあること、（５）ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しないこと、（６）ポリエステル層Ａが平均粒径３０〜４００ｎｍの不活性粒子Ａを０．００１〜０．２重量％含有すること、（７）ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接していない表面に、皮膜層Ｄが積層されていることまたは（８）皮膜層Ｄは、平均粒径が１０〜５０ｎｍで体積形状係数が０．１〜π／６の不活性粒子Ｄを０．５〜３０重量％含有することのすくなくともいずれかを具備する積層ポリエステルフィルムの包含する。
【００１６】
さらにまた、本発明によれば、本発明の積層ポリエステルフィルムと、その片面に設けられる磁性層とからなり、特に磁性層が強磁性金属薄膜層である磁気記録媒体も提供される。
【００１７】
【発明の実施の形態】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂを積層し、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａと接していない表面に皮膜層Ｃを積層した積層フィルムである。なお、説明の便宜上、ポリエステル層Ｂを層Ｂ、ポリエステル層Ａを層Ａ、ポリエステル層Ｂのポリエステル層Ａと接していない表面をポリエステル層Ｂ表面、ポリエステル層Ａのポリエステル層Ｂと接していない表面をポリエステル層Ａ表面と称することがある。
【００１８】
本発明の積層ポリエステルフィルムの最大の特徴は、磁気テープを製造する際に、ベースフィルムの諸特性が経時的に劣化するのを防止するため、磁性層を設ける側と反対の面、すなわち、ポリエステル層Ｂ表面に、特定の皮膜層Ｃを設けたことにある。そして、この皮膜層Ｃによって、Ｂ層が極めて平坦であっても、製品化した後の剥離時に発生する放電が抑制され、層Ａの平滑性が損なわれないのである。
【００１９】
まず、本発明の積層フィルムを構成する皮膜層Ｃについて、以下に説明する。
【００２０】
皮膜層Ｃは、最低造膜温度（ＭＦＴ）が２０〜１００℃のアクリル樹脂を２０〜６０重量％含有することが必要である。ＭＦＴが下限より低いと、耐ブロッキング性が大きく劣り、一方、上限を超えると、皮膜が完全に熱硬化しないため表面が荒れ、製膜工程での削れなどが発生する。MFTのより好ましい範囲としては、３０〜９５℃、更に好ましくは、４０〜９０℃である。また、アクリル樹脂の含有量が、下限より少ないと、後述するアンチブロッキング剤として皮膜層Ｃに添加するフィラーとの親和性が低下し、フィラーの脱落が起こりやすくなる。その結果、脱落したフィラーの転写による電磁気特性の低下やフィラーの脱落によって耐ブロッキング性が低下する。他方、アクリル樹脂の含有量が上限を超えると、接着性が増加するためか、耐ブロッキング性が不十分となる。好ましいアクリル樹脂の含有量は、２５〜５５重量％である。
【００２１】
皮膜層Ｃを構成するアクリル樹脂は特に限定されるものでなく、単一成分でも、２成分以上からなる共重合組成でも良い。好ましいアクリル樹脂は、アクリル酸、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸ブチル、アクリル酸ナトリウム、アクリル酸アンモニウム、２−ヒドロキシエチルアクリレート、メタクリル酸、メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸ナトリウム、メタクリル酸アンモニウム、２−ヒドロキシエチルメタクリレート、グリシジルメタクリレート、アクリルメタクリレート、ビニルスルホン酸ナトリウム、メタリルスルホン酸ナトリウム、アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールメタクリルアミドなどのモノマーから重合されたものである。本発明で使用するアクリル樹脂は、そのＭＦＴの性能に影響ない範囲で、例えばスチレン、酢酸ビニル、アクリロニトリル、メタクリルニトリル、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ジビニルベンゼンなどの他の不飽和単量体と含有するものであってもよい。また、アクリル樹脂は、ポリエステル、ポリウレタン、シリコーン、エポキシ、フェノール樹脂などとブロック重合体またはグラフト重合体などの構造で共重合したものでもよい。
【００２２】
また、本発明における被膜層Ｃは、ガラス転移温度（Ｔｇ）が５０〜１２０℃のポリエステルを２０〜６０重量％含有することが必要である。Ｔｇが下限より低いと、耐ブロッキング性が大きく劣り、一方上限を超えると、得られる皮膜層Ｃの表面が返って粗くなってしまい、電磁機特性が低下する。このＴｇのより好ましい範囲としては、６０〜１１０℃、更に好ましくは６５〜１００℃である。また、皮膜層Ｃ中のポリエステルの含有量が２０重量％に満たないと耐ブロッキング性に劣ることになり、６０重量％を超えると、皮膜層Ｃに含有される不活性粒子Ｃが脱落しやすくなり、磁気記録媒体とした際の電磁気特性が乏しいものとなる。好ましいポリエステルの含有量は、３０〜５５重量％である。
【００２３】
皮膜層Ｃに含有させるポリエステルとしては、テレフタル酸、イソフタル酸、フタル酸、２，６―ナフタレンジカルボン酸、ヘキサヒドロテレフタル酸、４，４′―ジフェニルジカルボン酸、フェニルインダンジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、５―Ｎａスルホイソフタル酸、トリメリット酸、ジメチロールプロピオン酸などのカルボン酸成分と、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ネオペンチルグリコール、１，４―ブタンジオール、１，６―ヘキサンジオール、１，４―シクロヘキサンジメタノール、グリセリン、トリメチロールプロパン、ビスフェノールＡのアルキレンオキシド付加物などのヒドロキシ化合物成分とからなるポリエステルを挙げることができる。特に、本発明で目的とするＴｇのポリエステルを得やすいことから、カルボン酸成分としては、２，６−ナフタレンジカルボン酸が好ましい。また、該ポリエステルは、さらに親和性を付与することが必要な場合、ポリエステル中にＳＯ3Ｎａ基やＣＯＯＮａ基を導入してもよく、またポリエーテル成分を導入してもよい。
【００２４】
さて従来よりアクリル系樹脂およびポリエステル系樹脂に更にセルロース系樹脂を組み合わせた薄膜層を塗布する事によって良好な易滑層が得られる事が特開平４−１４４７３４号公報などで提案されていたが、フィルムの生産性向上および薄膜層の品質安定性向上の観点から、新たな技術の発明が求められていた。本発明者が検討したところ、セルロース系樹脂を単に除去した場合は薄膜層の強度が低下してしまい、フィルム生産工程および金属薄膜層形成工程において、後述するアンチブロッキング剤として皮膜層Ｃに添加するフィラーの脱落のみならず、本薄膜層自体の削れが多量に発生し、更に平坦層への異物の付着転写が生じ磁気記録媒体としたときの電磁変換特性が悪化するという問題が発生する事が分かった。そして、本発明者が更に鋭意検討した結果、アクリル樹脂の最低造膜温度（ＭＦＴ）とポリエステル樹脂のガラス転移温度（Ｔｇ）のパラメータを特定の範囲に限定し、また夫々の配合比を最適化することで充分な強度を持つ薄膜層が形成でき、易滑性を付与しながら品質の安定化および生産性の向上が図れることを見出すに至った。アクリル樹脂のパラメータとしてＭＦＴが最適なのは、詳細は不明であるがアクリル成分が本易滑層の地肌の表面性を決定し、かつ後述するアンチブロッキング剤として皮膜層Ｃに添加するフィラーとの親和性を決定する因子として大きく影響しているためと予想される。一方、ポリエステル樹脂のパラメータとしてＴｇが最適なのは、これについても詳細はいまだ明らかにはなっていないが、ポリエステル樹脂が本易滑層の地肌の強度を決定する因子として作用しているためと推定される。
【００２５】
さらにまた、皮膜層Cは、平均粒径１０〜８０ｎｍの不活性粒子（以下、皮膜層Ｃに含まれる不活性粒子を、不活性粒子Ｃと称することがある。）を１〜２０重量％含有していることが必要である。平均粒径が下限より小さいと、フィルムの滑り性向上が不充分であることがあり、一方上限を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が低下する。好ましい不活性粒子Cの平均粒径（ＤC）は、１２〜６５ｎｍ、さらには１５〜５５ｎｍである。また、含有量が下限よりと、フィルムの滑り性向上が不充分となり、一方上限を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が低下する。好ましい不活性粒子Cの含有量は、皮膜層C（塗液の固形分）に対し、４〜１８重量％、さらには５〜１５重量％である。
【００２６】
不活性粒子Cは、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステルなどの樹脂からなる有機粒子、または、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウムなどからなる無機粒子が好ましい。これらのなかでも、架橋シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリカ粒子、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が好ましい。
【００２７】
また、不活性粒子Ｃ（Ｄｃ）の平均粒径は、皮膜層Ｃの厚み（Ｔｃ）に対して、以下の式を満足することが耐ブロッキング性と耐削れ性を両立できることから好ましい。
【００２８】
【数３】
０．３≦Ｔｃ／Ｄｃ≦０．８
Ｔｃ／Ｄｃが下限に満たないと耐削れ性が劣りやすく、一方、上限を超えるとブロッキング性が大きく低下しやすい。特に好ましいＴｃ／Ｄｃは、０．４〜０．７の範囲である。
【００２９】
本発明における皮膜層Ｃは、界面活性剤を１〜３０重量％含有することが必要である。皮膜層Ｃ中の界面活性剤としては、陰イオン型、陽イオン型、非イオン型のいずれを用いてもよく、特に非イオン型が好ましい。非イオン型界面活性剤としては、エステル型、エーテル型、アルキルフェノール型のものが挙げられる。界面活性剤の皮膜中の割合が下限より少ないと、極端に塗工性が悪くなり磁気記録媒体としたときにヘッドとの走行耐久性が不足する。一方、界面活性剤の皮膜中の割合が上限を超えると皮膜層の耐熱性が低下する。好ましい界面活性剤の皮膜中の割合は、２重量％以上２８重量％以下である。
【００３０】
本発明における皮膜層Ｃは、本発明の効果を損なわない範囲であれば、所望により他の成分、例えば安定剤、分散剤、ＵＶ吸収剤、増粘剤、離型剤などを添加されていてもよい。
【００３１】
以下、本発明を、さらに詳しく説明する。
【００３２】
前記層Ａを形成するポリエステルＡおよび前記層Ｂを形成するポリエステルＢは、それぞれ脂肪族ポリエステル、芳香族ポリエステルが挙げられ、特に芳香族ポリエステルが好ましい。具体的な芳香族ポリエステルとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンイソフタレート、ポリテトラメチレンテレフタレート、ポリ−１，４−シクロヘキシレンジメチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート（ポリエチレン−２，６−ナフタレンジカルボキシレート）などを例示できる。これらのうち、ポリエチレンテレフタレートとポリエチレン−２，６−ナフタレートが特に好ましい。
【００３３】
また、前記ポリエステルＡおよびＢは、ホモポリエステルであっても、コポリエステルであっても良い。コポリエステルの場合、例えば、ポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートの共重合成分としては、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチルグリコール、ポリエチレングリコール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコールなどの他のジオール成分、アジピン酸、セバシン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸（ただし、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合）、２，６−ナフタレンジカルボン酸（ただし、ポリエチレンテレフタレートの場合）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸などの他のジカルボン酸成分、ｐ−オキシエトキシ安息香酸などのオキシカルボン酸成分などが挙げられる。これら共重合成分の量は、ポリエステルの繰返し単位のモル数を基準として、２０モル％以下、さらには１０モル％以下であることが好ましい。
【００３４】
さらにトリメリット酸、ピロメリット酸、ペンタエリスリトールなどの３官能以上の多官能化合物を共重合させることも出来る。これらの多官能化合物の共重合量は、ポリエステルの繰返し単位のモル数を基準として、ポリマーが実質的に線状である量、例えば２モル％以下が好ましい。ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート以外の他のポリエステルがコポリエステルである場合の共重合成分についても、上記と同様に考えるとよい。
【００３５】
前記ポリエステルには、さらに、本発明の効果を損なわない程度であれば、顔料、染料、酸化防止剤、帯電防止剤、光安定剤、遮光剤（例えばカーボンブラック、酸化チタンなど）の如き添加剤を必要に応じて含有させることができる。
【００３６】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ、層Ｂが同じポリエステルからなるのが好ましいが、異なるポリエステルからなってもよい。例えば、層Ａ、層Ｂが共にポリエチレンテレフタレートまたはポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムが好ましいが、層Ａ（または層Ｂ）がポリエチレンテレフタレート、層Ｂ（または層Ａ）がポリエチレン−２，６−ナフタレートからなる積層フィルムであってもよい。
【００３７】
前記ポリエステル層Ａを形成するポリエステルＡは、従来から知られている方法で製造することができる。例えば、ポリエチレンテレフタレートはテレフタル酸とエチレングリコールとをエステル化反応またはジメチルテレフタレートとエチレングリコールとをエステル交換反応せしめ、次いで反応生成物を重縮合せしめる方法で製造することができる。また、この方法（溶融重合）により得られたポリエステルＡは、必要に応じて固相状態での重合方法（固相重合）により、さらに重合度の高いポリマーとすることができる。
【００３８】
ポリエステルＡを製造する際、それ自体公知の触媒を好適に用いることができる。具体的には、溶融重合でのエステル交換触媒としてはマンガン、カルシウム、マグネシウム、チタンの酸化物、塩化物、炭酸塩、カルボン酸塩などが好ましく、特に酢酸塩即ち、酢酸マンガン、酢酸カルシウム、酢酸マグネシウム、酢酸チタンが好ましく挙げられる。また、重縮合触媒としては、アンチモン化合物、チタン化合物、ゲルマニウム化合物が挙げられる。特にアンチモン化合物を重合触媒として用いる場合は、三酸化アンチモン、五酸化アンチモン、酢酸アンチモンが好ましい。また、チタン化合物を重合触媒として用いる場合は、有機チタン化合物が好ましく、例えば特開平５−２９８６７０号に記載されているものを挙げることができる。更に詳しくは、チタンのアルコラートや有機酸塩、テトラアルキルチタネートと芳香族多価カルボン酸またはその無水物との反応物などが好ましく、特にチタンテトラブトキシド、チタンイソプロポキシド、蓚酸チタン、酢酸チタン、安息香酸チタン、トリメリット酸チタン、および、テトラブチルチタネートと無水トリメリット酸との反応物が好ましい。さらにまた、ゲルマニウム化合物を重合触媒として用いる場合は、例えば特許２７９２０６８号に記載されているものを挙げることができる。更に詳しくは、（イ）無定形酸化ゲルマニウム、（ロ）結晶性ゲルマニウム、（ハ）酸化ゲルマニウムをアルカリ金属またはアルカリ土類金属もしくはそれらの化合物の存在下にグリコールに溶解した溶液、および（ニ）酸化ゲルマニウムを水に溶解し、これにグリコールを加え水を留去して調製した酸化ゲルマニウムのグリコール溶液が好ましい。
【００３９】
ところで、ポリエステルＡは、熱安定性を維持するために、従来ポリエステルの製造工程で添加されるリン化合物を含有させることが好ましい。このリン化合物は特に限定されないが、正リン酸、亜リン酸、トリメチルホスフェート、トリエチルホスフェート、トリ-ｎ-ブチルホスフェートが好ましく挙げられる。
【００４０】
本発明におけるポリエステル層Ａは、実質的に粒子を含有しないものでも、不活性粒子（以下、ポリエステル層Ａに含有される不活性粒子を不活性粒子Ａと称することがある。）を含有するものでもよい。ポリエステル層Ａが実質的に粒子を含有しない場合、磁気記録媒体としたとき優れた電磁変換特性が得られ、電磁変換特性に悪影響を与えない範囲で不活性粒子Ａを含有させると、走行耐久性を向させることができる。なお、不活性粒子Ａは、ポリエステルＢに含有される不活性粒子（以下、ポリエステル層Ｂに含有される不活性粒子を不活性粒子Ｂと称することがある。）よりも平均粒径が小さいことが必要である。
【００４１】
不活性粒子Ａを含有させる場合の、好ましい不活性粒子Ａの形状は、後述する体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、さらには０．２〜π／６、特に０．４〜π／６である。また、好ましい不活性粒子Ａの平均粒径（ｄＡ）は３０〜４００ｎｍ、さらには４０〜２００ｎｍ、特に５０〜１００ｎｍである。平均粒径ｄＡが下限より小さいと、フィルムの滑り性向上が不充分であることがあり、一方上限を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。さらにまた、前記不活性粒子ＡをポリエステルＡに含有させる場合の、好ましい不活性粒子Ａの含有量は、ポリエステル層Ａの重量を基準として、０．００１〜０．２重量％、さらには０．０１〜０．１重量％、特に０．０２〜０．０６重量％である。含有量が下限より少ないと、不活性粒子の添加によるフィルムの滑り性向上効果があまり発揮されず、一方上限を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。
【００４２】
本発明における好ましい不活性粒子Ａとしては、例えば（１）耐熱性ポリマー粒子（例えば、架橋シリコーン樹脂、架橋ポリスチレン、架橋アクリル樹脂、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリイミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステルなどからなる粒子）、（２）金属酸化物（例えば、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、酸化マグネシウム、酸化亜鉛、酸化ジルコニウムなど）、（３）金属の炭酸塩（例えば、炭酸マグネシウム、炭酸カルシウムなど）、（４）金属の硫酸塩（例えば、硫酸カルシウム、硫酸バリウムなど）、（５）炭素（例えば、カーボンブラック、グラファイト、ダイアモンドなど）、および（６）粘土鉱物（例えば、カオリン、クレー、ベントナイトなど）などの１種以上からなる微粒子が挙げられる。これらのうち、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂粒子、ポリアミドイミド樹脂粒子、その他酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、合成炭酸カルシウム、硫酸バリウム、ダイアモンドまたはカオリンからなる微粒子が好ましく、特に、架橋シリコーン樹脂粒子、架橋ポリスチレン樹脂粒子、酸化アルミニウム（アルミナ）、二酸化チタン、二酸化ケイ素または炭酸カルシウムからなる微粒子である。これらは１種または２種以上のものを使用してもよい。
【００４３】
前記不活性粒子Ａとして平均粒径の違う２種以上の粒子を用いる場合は、小さい平均粒径の第２、第３の粒子（微細粒子）として、例えばコロイダルシリカ、α、γ、δ、θなどの結晶形態を有するアルミナなどの微粒子を用いることが好ましい。また、平均粒径（ｄＡ）を有する不活性粒子Ａとして例示した粒子種のうち、平均粒径の小さい微細粒子も、第２、第３の粒子（微細粒子）として用いることができる。
【００４４】
本発明におけるポリエステル層Ｂを形成するポリエステルＢは、ポリエステルＡと同様な方法で製造することができる。ポリエステルＢを製造する際に用いる触媒は、それ自体公知の触媒を用いることができ、ポリエステルＡで例示したものを同様に好ましい触媒として挙げられる。また、前記ポリエステルＡと同様に、ポリエステルＢもリン化合物を含有させることが好ましい。
【００４５】
前記ポリエステル層Ａ，Ｂのポリマーの固有粘度は、フィルムの物理特性（例えば、ヤング率など）の点から、０．４５以上であることが好ましい。
【００４６】
本発明におけるポリエステル層Ｂは、ポリエステル層Ａに含有される不活性粒子Ａより平均粒径の大きな不活性粒子Ｂを含有する必要がある。この不活性粒子Ｂの平均粒径が不活性粒子Ａよりも小さい場合、フィルム製造工程および金属薄膜成形工程でのブロッキングなどの問題が生じる。
【００４７】
該不活性粒子Ｂの平均粒径（ｄＢ）は、５０〜１，０００ｎｍ、好ましくは１００〜８００ｎｍ、さらに好ましくは１５０〜７００ｎｍ、特に好ましくは２００〜６００ｎｍである。また、不活性粒子Ｂの含有量は、ポリエステル層Ｂの重量を基準として、０．００１〜１重量％、好ましくは０．００５〜０．８重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．６重量％、特に好ましくは０．０１〜０．２重量％である。前記不活性粒子Ｂの平均粒径が下限より小さい、または含有量が下限より少ないと、フィルムの巻取り性、耐ブロッキング性が不良となる。一方、この平均粒径が上限より大きいか、または含有量が上限を超えると、反対面（ポリエステル層Ａ表面）への突起の形状転写や、層Ａの下からの突起の突き上げによって電磁変換特性を悪化させる。
【００４８】
好ましい不活性粒子Ｂとしては、上記不活性粒子Ａと同じ種の粒子が挙げられる。この粒子は、１種または２種以上のものを使用してよい。また、水酸基を粒子表面上に多く有する不活性粒子は、ポリエステルＢの末端カルボキシル基との反応でポリエステルＢと高い親和性を発現しやすく、ポリエステル層Ｂからの不活性粒子Ｂの脱落を防止できることから好ましい。特に好ましい不活性粒子Ｂは、架橋シリコーン樹脂、架橋アクリル樹脂、架橋ポリエステル、酸化アルミニウム、二酸化チタン、二酸化ケイ素（シリカ）、カオリンおよびクレーから選ばれる少なくとも１種である。
【００４９】
また、ポリエステル層Ｂは、不活性粒子Ｂ以外に該不活性粒子Ｂよりも平均粒径が小さい、第２、第３の粒子（微細粒子）を含有してもよい。この微細粒子の平均粒径は、好ましくは５〜４５０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４００ｎｍ、特に好ましくは３０〜３５０ｎｍである。また、第２、第３の粒子（微細粒子）の含有量は、ポリエステル層Ｂに対し、好ましくは０．００５〜１重量％、さらに好ましくは０．０１〜０．７重量％、特に好ましくは０．０２〜０．５重量％である。
【００５０】
ところで、ポリエステル層Ｂ表面の十点平均粗さ（ＷＲｚＢ）は、３０〜３００ｎｍ、さらには４０〜２５０ｎｍ、特に５０〜２００ｎｍであることが好ましい。ＷＲｚＢが下限より小さいと、積層フィルムのハンドリング性が不十分になりやすく、またブロッキング改良効果も不十分となりやすい。一方、ＷＲｚＢが上限を超えると、反対側の磁性層を設ける側の面（ポリエステル層Ａの面）への突起の形状転写が大きくなり、電磁変換特性を損なうことがあり、好ましくない。
【００５１】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、磁気テープとした場合の諸特性向上のため、磁性層を設ける側の面、すなわち、ポリエステル層Ａ表面に、皮膜層Ｄを設けることが好ましい。皮膜層Ｄは、平均粒径１０〜５０ｎｍ、体積形状係数０．１〜π／６の不活性粒子（以下、皮膜層Ｄに含まれる不活性粒子を不活性粒子Ｄと称することがある。）を０．５〜３０重量％含有していることが好ましい。
【００５２】
該皮膜層Ｄを形成する樹脂としては、例えば水性ポリエステル樹脂、水性アクリル樹脂、水性ポリウレタン樹脂などが好ましく挙げられ、特に水性ポリエステル樹脂が好ましい。具体的な水性ポリエステル樹脂としては、酸成分が、例えばイソフタル酸、フタル酸、１，４−シクロヘキサンジカルボン酸、２，６−ナフタレンジカルボン酸、４，４′−ジフェニルジカルボン酸、アジピン酸、セバシン酸、ドデカンジカルボン酸、コハク酸、５−スルホイソフタル酸ナトリウム、２−スルホテレフタル酸カリウム、トリメリット酸、トリメシン酸、トリメリット酸モノカリウム塩、ｐ−ヒドロキシ安息香酸などの多価カルボン酸の少なくとも１種より主としてなり、グリコール成分が、例えばエチレングリコール、ジエチレングリコール、プロピレングリコール、１，４−ブタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール、ｐ−キシリレングリコール、ジメチロールプロパン、ビスフェノールＡのエチレンオキサイド付加物などの多価ヒドロキシ化合物の少なくとも１種より主としてなるポリエステル樹脂が好ましい。また、ポリエステル鎖にアクリル重合体鎖を結合させたグラフトポリマーまたはブロックコポリマー、あるいは２種のポリマーがミクロな粒子内で特定の物理的構成（ＩＰＮ（相互侵入高分子網目）型、コアシェル型など）を形成したアクリル変性ポリエステル樹脂であってもよい。この水性ポリエステル樹脂としては、水に溶解、乳化、微分散するタイプを自由に用いることができ、特に水に乳化、微分散するタイプのものが好ましい。また、皮膜層Ｄを形成する樹脂は、親水性を高めるために、分子内に例えばスルホン酸塩基、カルボン酸塩基、ポリエーテル単位などが導入されていてもよい。
【００５３】
前記皮膜層Ｄに含有させる不活性粒子Ｄとしては、特に限定されないが、塗液中で沈降しにくい、比較的低比重のものが好ましい。例えば、架橋シリコーン樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン、メラミン−ホルムアルデヒド樹脂、芳香族ポリアミド樹脂、ポリアミドイミド樹脂、架橋ポリエステル、全芳香族ポリエステルなどの樹脂からなる有機粒子、二酸化ケイ素（シリカ）、炭酸カルシウムなどからなる無機粒子が好ましく挙げられる。なかでも、架橋シリコーン樹脂粒子、アクリル樹脂粒子、シリカ粒子、コアシェル型有機粒子（コア：架橋ポリスチレン、シェル：ポリメチルメタクリレートの粒子など）が好ましく挙げられる。
【００５４】
前記不活性粒子Ｄの平均粒径（ｄＤ）は１０〜５０ｎｍ、好ましくは１２〜４５ｎｍ、さらに好ましくは１５〜４０ｎｍである。この平均粒径が１０ｎｍ未満であると、フィルムの滑り性向上が不充分であることがあり、一方５０ｎｍを超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがある。
【００５５】
前記不活性粒子Ｄの形状は、後述の体積形状係数（ｆ）が０．１〜π／６、好ましくは０．２〜π／６、さらに好ましくは０．４〜π／６であるものである。
【００５６】
なお、体積形状係数（ｆ）がπ／６である粒子の形状は、球（真球）である。すなわち、体積形状係数（ｆ）が０．４〜π／６のものは、実質的に球ないしは真球、ラグビーボールのような楕円球を含むものであり、不活性粒子Ｄとして好ましい。体積形状係数（ｆ）が０．１未満の粒子、例えば薄片状の粒子では、走行耐久性が低下してしまうので好ましくない。
【００５７】
前記不活性粒子Ｄの含有量は、皮膜層Ｄ（塗液の固形分）に対し、０．５〜３０重量％、好ましくは２〜２０重量％、さらに好ましくは３〜１０重量％である。この含有量が下限より少ないと、フィルムの滑り性向上が不充分であることがあり、一方上限を超えると、磁気記録媒体の電磁変換特性が不良となることがあるため好ましくない。
【００５８】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ポリエステル層Ａ側の表面（皮膜層Ｄがない場合はポリエステル層Ａ表面、皮膜層Ｄがある場合は、皮膜層Ｄのポリエステル層Ａと接していない表面）の中心面平均粗さ（ＷＲａＡ）が０．１〜４ｎｍであることが好ましく、さらに好ましくは０．２〜３．５ｎｍ、特に好ましくは０．３〜３．０ｎｍ、もっとも好ましくは０．４〜２．５ｎｍである。このＷＲａＡが下限より小さいと、滑り性が悪くフィルムの製造が極めて困難であり、一方ＷＲａＡが上限を超えると、電磁変換特性が悪化するので好ましくない。該表面粗さ（ＷＲａＡ）は、ポリエステル層Ａに含有させる不活性粒子Ａの粒径と量、また皮膜層Ｄを設けた場合は不活性粒子Ｄの粒径と量によって調整できる。
【００５９】
本発明における積層ポリエステルフィルムは、フィルム全体の厚みが通常２μｍ以上８μｍ未満、好ましくは２．5〜７．５μｍである。また、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂの厚みの比は、好ましくは層Ｂの厚みが積層フィルム全体の厚みの１／５０〜１／２、さらに好ましくは１／３０〜１／３、特に好ましくは１／２０〜１／４の範囲である。皮膜層Ｃの厚みは、通常１〜１００ｎｍ、好ましくは２〜５０ｎｍ、さらに好ましくは３〜１０ｎｍ、特に好ましくは３〜８ｎｍである。
【００６０】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、ヘッドタッチや走行耐久性といった磁気記録媒体とした際の各種性能を向上させつつ、同時に薄膜化を達成できることから、縦方向および横方向のヤング率がそれぞれ通常４５００Ｎ／ｍｍ2以上および６０００Ｎ／ｍｍ2以上、好ましくは４８００Ｎ／ｍｍ2以上および６８００Ｎ／ｍｍ2以上、さらに好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ2以上および８０００Ｎ／ｍｍ2以上、特に好ましくは５５００Ｎ／ｍｍ2以上および１００００Ｎ／ｍｍ2以上である。
【００６１】
また、ポリエステル層Ａ、Ｂの結晶化度は、ポリエステルがポリエチレンテレフタレートの場合は３０〜５０％、ポリエチレン−２，６−ナフタレートの場合は２８〜３８％であることが好ましい。結晶化度が下限を下回ると、熱収縮率が大きくなりやすく、一方上限を上回るとフィルムの耐摩耗性が悪化しやすく、ロールやガイドピン表面と摺動した場合に白粉が生じやすくなる。
【００６２】
つぎに、本発明の積層ポリエステルフィルムを製造する方法について、説明する。
【００６３】
本発明の積層ポリエステルフィルムは、従来からそれ自体公知の方法で製造することができる。そのうち、ポリエステル層Ａとポリエステル層Ｂとの積層は、共押出し法により製造するのが好ましく、また、皮膜層Ｃと皮膜層Ｄの積層は塗布法により行うのが好ましい。
【００６４】
具体的には、例えば、押出し口金内または口金以前（一般に、前者はマルチマニホールド方式、後者はフィードブロック方式と呼ぶ）で不活性粒子Ｂを微分散、含有させたポリエステルＢ（エステルワックス（部分ケン化したものも含む）を含有させていてもよい。）と、不活性粒子を含有しないか、不活性粒子Ａを含有するポリエステルＡとを、それぞれ高精度ろ過したのち、溶融状態にて積層複合し、上記好適な厚み比の積層構造となし、次いで口金より融点（Ｔｍ）〜融点よりも７０高い温度（Ｔｍ＋７０℃）でフィルム状に共押出ししたのち、４０〜９０℃の冷却ロールで急冷固化し、未延伸積層フィルムを得る。その後、該未延伸積層フィルムを常法に従い、一軸方向（縦方向または横方向）に（Ｔｇ−１０）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度（ただし、Ｔｇ：ポリエステルのガラス転移温度）で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸し、次いで上記延伸方向とは直交する方向（一段目延伸が縦方向の場合には、二段目延伸は横方向となる）に（Ｔｇ）〜（Ｔｇ＋７０）℃の温度で２．５〜８．０倍の倍率で、好ましくは３．０〜７．５倍の倍率で延伸する。さらに、必要に応じて、縦方向および／または横方向に再度延伸してもよい。すなわち、２段、３段、４段あるいは多段の延伸を行ってもよい。全延伸倍率としては、通常９倍以上、好ましくは１０〜３５倍、さらに好ましくは１２〜３０倍である。ここでいう、縦方向とはフィルムの製膜方向を、横方向とはフィルムの厚み方向と製膜方向に直交する方向を意味する。また、本発明において、縦方向を長手方向、横方向を巾方向と称することがある。
【００６５】
このようにして得られた二軸配向フィルムは、（Ｔｇ＋７０）〜（Ｔｍ−１０）℃の温度、例えば、ポリエチレンテレフタレートフィルムの場合、１８０〜２５０℃で熱固定結晶化することによって、優れた寸法安定性が付与される。その際、熱固定時間は１〜６０秒が好ましい。なお、積層ポリエステルフィルムの製造に際し、ポリエステルＡ、Ｂに所望により上記不活性粒子以外の添加剤、例えば安定剤、着色剤、溶融ポリマーの固有抵抗調整剤などを添加含有させてもよい。
【００６６】
本発明におけるポリエステル層Ａへの皮膜層Ｃの積層は、水性塗液を塗布する方法で行うのが好ましい。塗布は最終延伸処理を施す以前のポリエステル層Ａの表面に行い、塗布後にはフィルムを少なくとも一軸方向に延伸するのが好ましい。この延伸の前ないし途中で皮膜は乾燥される。その中で、塗布は、未延伸積層フィルムまたは縦（一軸）延伸積層フィルム、特に縦（一軸）延伸積層フィルムに行うのが好ましい。塗布方法としては特に限定されないが、例えばロールコート法、ダイコート法などが挙げられる。
【００６７】
前記塗液、特に水性塗液の固形分濃度は、０．２〜８重量％、さらに０．３〜６重量％、特に０．５〜４重量％であることが好ましい。そして、水性塗液には、本発明の効果を妨げない範囲で、他の成分、例えば他の界面活性剤、安定剤、分散剤、紫外線吸収剤、増粘剤などを添加することができる。
【００６８】
もう一つの本発明である磁気記録媒体について、以下に説明する。
【００６９】
本発明の磁気記録媒体は、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ表面、好ましくは皮膜層Ｄのポリエステル層Ａと接していない表面に、磁性層、特に、真空蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングなどの方法により、鉄、コバルト、ニッケル、クロムまたはこれらを主成分とする合金もしくは酸化物よりなる強磁性金属薄膜層（磁性層）を形成したものである。金属薄膜層の厚さは１００〜３００ｎｍであるものが好ましい。
【００７０】
また本発明の磁気記録媒体は、強磁性金属薄膜層の表面に、目的、用途、必要に応じてダイアモンドライクカーボン（ＤＬＣ）などの保護層、含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらに必要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用蒸着型磁気記録媒体としてすることができる。この蒸着型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用Ｈｉ８、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ用磁気テープ媒体として極めて有用であり、特にデジタルビデオテープ用途に使用すると優れた結果を得ることができ、好適である。またデータストレージテープ用途にしても優れた結果を得ることができ、好適である。
【００７１】
また、本発明の磁気記録媒体は、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｄの表面に、鉄または鉄を主成分とする針状微細磁性粉（メタル粉）をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、さらに必要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用メタル塗布型磁気記録媒体とすることもできる。また、必要に応じてポリエステル層Ａまたは皮膜層Ｃの表面に、上記メタル粉含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。このメタル塗布型磁気記録媒体は、アナログ信号記録用８ミリビデオ、Ｈｉ８、βカムＳＰ、Ｗ−ＶＨＳ、ディジタル信号記録用ディジタルビデオカセットレコーダー（ＤＶＣ）、データ８ミリ、ＤＤＳＩＶ、ディジタルβカム、Ｄ２、Ｄ３、ＳＸなど用磁気テープ媒体として極めて有用である。
【００７２】
さらにまた、本発明の磁気記録媒体は、積層ポリエステルフィルムのポリエステル層Ａ、好ましくは皮膜層Ｄの表面に、酸化鉄または酸化クロムなどの針状微細磁性粉、またはバリウムフェライトなどの板状微細磁性粉をポリ塩化ビニル、塩化ビニル・酢酸ビニル共重合体などのバインダーに均一に分散し、磁性層厚みが１μｍ以下、好ましくは０．１〜１μｍとなるように塗布し、さらに必要により、ポリエステル層Ｂの磁性層とは反対側の表面に、公知の方法でバックコート層を設けることにより、特に短波長領域での出力、Ｓ／Ｎ、Ｃ／Ｎなどの電磁変換特性に優れ、ドロップアウト、エラーレートの少ない高密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体とすることもできる。また、必要に応じて、ポリエステル層Ａまたは皮膜層Ｃの表面に、上記酸化物粉末含有磁性層の下地層として微細な酸化チタン粒子などを含有する非磁性層を磁性層と同様の有機バインダー中に分散し、塗設することもできる。この酸化物塗布型磁気記録媒体は、ディジタル信号記録用データストリーマー用ＱＩＣなどの高密度記録用酸化物塗布型磁気記録媒体として有用である。
【００７３】
本発明における磁気記録媒体は、上述のように、磁性層形成面の反対面に、固体微粒子および結合剤からなり、必要に応じて各種添加剤を加えた溶液を塗布することにより形成されるバックコート層を設けてもよいが、この固体微粒子、結合剤、添加剤は公知のものを使用でき、特に限定されない。該バックコート層の厚さは０．３〜１．５μｍであることが好ましい。
【００７４】
上述のＷ−ＶＨＳはアナログのＨＤＴＶ信号記録用ＶＴＲであり、またＤＶＣはディジタルのＨＤＴＶ信号記録用として適用可能なものである。それゆえ、本発明の積層ポリエステルフィルムは、これらＨＤＴＶ対応ＶＴＲ用磁気記録媒体に極めて有用なベースフィルムと言うことができる。
【００７５】
【実施例】
以下、実施例を挙げて本発明をさらに具体的に説明するが、本発明はこれら実施例により限定されるものではない。なお、実施例および比較例における「部」および「％」は、特に断らない限り重量部および重量％である。また、本発明における物性値および特性は、それぞれ下記の方法で測定し、かつ定義されるものである。
【００７６】
（１）固有粘度
オルソクロロフェノール溶媒中３５℃で測定した値から求める。
【００７７】
（２）最低造膜温度（ＭＦＴ）
温度勾配板にサンプル液（アクリル樹脂を２０重量％分散させた水分散体）を乗せて、膜を形成する最低温度を目視で決定する。
【００７８】
（３）ガラス転移温度（Ｔｇ）
ＤＳＣ測定用パンに１０ｍｇのサンプルを入れ、２９０℃加熱ステージ上で５分間加熱溶融後、すばやく試料パンを氷の上に敷いたアルミ箔上で急冷固化し、Ｄｕ  Ｐｏｎｔ  Ｉｎｓｔｒｕｍｅｎｔｓ  ９１０  ＤＳＣを用い、昇温速度２０℃／分でＴｇを求める。
【００７９】
（４）粒子の平均粒径（Ｉ）（平均粒径：６０ｎｍ以上）
株式会社島津製作所製「ＣＰ−５０型セントリヒューグル  パーティクル  サイズ  アナライザー（Centrifugal Particle Size Analyzer）」を用いて測定する。得られる遠心沈降曲線を基に算出した各粒径の粒子とその存在量との積算曲線から、５０マスパーセントに相当する粒径「等価球直径」を読み取り、この値を上記平均粒径（ｎｍ）とする（「粒度測定技術」日刊工業新聞社発行、１９７５年、頁２４２〜２４７）。
【００８０】
（５）粒子の平均粒径（II）（平均粒径：６０ｎｍ未満）
小突起を形成する平均粒径６０ｎｍ未満の粒子は、光散乱法を用いて測定する。すなわち、ニコンプインストゥルメント株式会社（Nicomp Instruments Inc.）製の商品名「NICOMP MODEL 270 SUBMICRON PARTICLE SIZER」により求められる全粒子の５０％の点にある粒子の「等価球直径」をもって、平均粒径（ｎｍ）とする。
【００８１】
（６）体積形状係数（ｆ）
走査型電子顕微鏡により、用いたサイズに応じた倍率にて各粒子の写真を撮影し、画像解析処理装置ルーゼックス５００（日本レギュレーター社製）を用い、投影面最大径を粒子の平均粒径（Ｄ）（μｍ）として求め、また粒子の体積（Ｖ）（μｍ3）を算出し、下記式（II）により計算する。
【００８２】
【数４】
ｆ＝Ｖ／Ｄ3        ・・・・・（II）
【００８３】
（７）ポリエステル層Ａおよび層Ｂの厚みならびにフィルム全体の厚み
フィルム全体の厚みはマイクロメーターにてランダムに１０点測定し、その平均値を用いる。ポリエステル層Ａおよび層Ｂの層厚については、薄いポリエステル層の層厚みを下記に述べる方法にて測定し、厚いポリエステル層の層厚みは、全厚みより皮膜層および薄いポリエステル層の層厚を引き算して求める。すなわち、二次イオン質量分析装置（SIMS）を用いて、被覆層を除いた表層から深さ５０００ｎｍの範囲のフィルム中の粒子の内最も高濃度の粒子に起因する金属元素（Ｍ+）とポリエステルの炭化水素（Ｃ+）の濃度比（Ｍ+／Ｃ+）を粒子濃度とし、表面から深さ５０００ｎｍまで厚さ方向の分析を行う。表層では表面という界面のために粒子濃度は低く、表面から遠ざかるにつれて粒子濃度は高くなる。本発明の場合、粒子濃度は一旦安定値１になったのち、上昇して安定値２になる場合と、単調に減少する場合とがある。この分布曲線をもとに、前者の場合は、（安定値１＋安定値２）／２の粒子濃度を与える深さをもって、また後者の場合は粒子濃度が安定値１の１／２になる深さ（この深さは安定値１を与える深さよりも深い）をもって、薄いポリエステル層の厚み（μｍ）とする。
測定条件は、以下のとおりである。
【００８４】
（ａ）測定装置
二次イオン質量分析装置（SIMS）：パーキン・エルマー株式会社
（PERKIN ELMER INC.）製、「6300」
（ｂ）測定条件
一次イオン種：Ｏ2+
一次イオン加速電圧：１２ｋＶ
一次イオン電流：２００ｎＡ
ラスター領域：４００μｍ□
分析領域：ゲート３０％
測定真空度：６．０×１０-9Torr
E−GUNN：０．５ｋＶ−３．０Ａ
なお、表層から５，０００ｎｍの範囲に最も多く存在する粒子がシリコーン樹脂以外の有機高分子粒子の場合はSIMSでは測定が難しいので、表面からエッチングしながらFT−IR（フーリエトランスフォーム赤外分光法）、粒子によってはＸＰＳ（Ｘ線光電分光法）などで上記同様の濃度分布曲線を測定し、層厚（μｍ）を求める。
【００８５】
（８）皮膜層Ｃ、Ｄの厚み
フィルムの小片をエポキシ樹脂にて固定成形し、ミクロトームにて約６００オングストロームの厚みの超薄切片（フィルムの流れ方向に平行に切断する）を作成した。この試料を透過型電子顕微鏡（株式会社日立製作所製：H−800型）にて観察し、皮膜層Ｃの境界面を探して皮膜層の厚み（ｎｍ）を求める。
【００８６】
（９）中心面平均粗さ（ＷＲａ）
WYKO株式会社製の非接触三次元粗さ計、商品名「TOPO−3D」を用いて、測定倍率４０倍、測定面積２４２μｍ×２３９μｍ（０．０５８ｍｍ2）の条件にて測定を行い、表面粗さのプロフィル（オリジナルデータ）を得た。上記粗さ計内蔵ソフトによる表面解析により、下式によって定義される中心面平均粗さ（ＷＲａ）を得る。
【００８７】
【数５】
0003942410.tif 000002
【００８８】
また、Ｚjkは、測定方向（２４２μｍ）、それと直行する方向（２３９μｍ）を、それぞれＭ分割、Ｎ分割したときの各方向のｊ番目、ｋ番目の位置における三次元粗さチャート上の高さである。
【００８９】
（１０）十点平均粗さ（ＷＲｚ）
上記（９）のＷＲａの測定で用いたのと同じ測定器を用い、同じ条件で測定して得られたデーターから、同粗さ計内臓のソフトによる表面解析により、ピーク（Ｈｐ）の高い方から５点と谷（Ｈｖ）の低い方から５点をとった平均値を求めＷＲｚとする。
【００９０】
【数６】
0003942410.tif 000003
【００９１】
（１１）ヤング率
東洋ボールドウィン株式会社製の引っ張り試験機、商品名「テンシロン」を用いて、温度２０℃、湿度５０％に調節された室内において、長さ３００ｍｍ、幅１２．７ｍｍの試料フィルムを１０％／分のひずみ速度で引っ張り、引っ張り応力−ひずみ曲線の初めの直線部分を用いて下記式（Ｖ）によって計算する。
【００９２】
【数７】
Ｅ＝Δσ／Δε      ・・・・・（Ｖ）
ここで、Ｅはヤング率、Δσは直線上の２点間の元の平均断面積による応力差、Δεは同じ２点間のひずみ差である。
【００９３】
（１２）耐削れ性
幅１２．７ｍｍにスリットしたフィルムを、直径２ｍｍのＳＵＳ製ガイドピンを被膜層Ｃの面に対し角度４０°の条件で引っ掛け、張力３０ｇ、速度１５０ｍ／分で５０ｍ走行させたときに、ガイドピンに付着した削れ粉の堆積の幅を顕微鏡写真撮影（×１６０倍）して求める。
【００９４】
削れ粉の堆積の幅で以下のように判断する。削れ粉の堆積幅が小さいほど、削れ性に優れている。
○：０．３０ｍｍ未満
△：０．３０ｍｍ以上０．５０ｍｍ未満
×：０．５０ｍｍ以上
【００９５】
（１３）耐ブロッキング性
２枚のフィルムの被膜層Ｃ形成面側と、他方の表面（Ａ面）を重ね合せ、これに３５℃×８０％ＲＨの雰囲気下にて、無荷重下１０時間放置する。その後、同一雰囲気下にて１５Ｎ／ｍｍ2の荷重下で２４時間処理し、５ｃｍ幅の短冊状に切り取り、引張り試験機にてブロッキングさせた２枚のフィルムを１００ｍ／分の速度で剥離し、フィルムのＡ面を微分干渉顕微鏡で９５０倍で５視野観察し、以下の基準で評価する。
○：転写異物や皮膜層の剥がれが全く認められない
△：転写異物や皮膜層の剥がれが一部認められる
×：転写異物や皮膜層の剥がれが一面にある、もしくは破断発生
【００９６】
（１４）巻き取り性
スリット時の巻き取り条件を最適化したのち、幅６００ｍｍ×１２，０００ｍのサイズで、３０ロールを速度１００ｍ／分でスリットし、スリット後のフィルム表面に、ブツ状、突起やシワのないロールを良品として、以下の基準にて巻き取り性を評価する。
◎：良品ロールの本数２８本以上
○：良品ロールの本数２５〜２７本
×：良品ロールの本数２４本以下
【００９７】
（１５）磁気テープの製造および特性（電磁変換特性）評価
積層ポリエステルフィルムの皮膜層Ｃの表面に、真空蒸着法により、コバルト１００％の強磁性薄膜を０．２μｍの厚みになるように２層（各層厚約０．１μｍ）形成する。形成した強磁性薄膜の表面にダイヤモンドライクカーボン（DLC）膜、さらに含フッ素カルボン酸系潤滑層を順次設け、さらにポリエステル層Ａの表面に、公知の方法でバックコート層を設ける。その後、８ｍｍ幅にスリットし、市販の８ｍｍビデオカセットにローディングした。次いで、下記の市販の機器を用いてテープの特性（Ｃ／Ｎ）を測定する。
【００９８】
（ａ）使用機器
８ｍｍビデオテープレコーダー（ソニー株式会社製、商品名「EDV−6000」）
ノイズメーター（株式会社シバソク製）
（ｂ）測定方法
記録波長０．５μｍ（周波数約７．４ＭＨｚ）の信号を記録し、その再生信号の６．４ＭＨｚと７．４ＭＨｚの値の比をそのテープのＣ／Ｎとし、市販８ｍｍビデオ用蒸着テープのＣ／Ｎを０ｄＢとし、相対値で評価する。
◎：市販テープ対比＋３ｄＢ以上
○：市販テープ対比＋２ｄＢ以上〜＋３ｄＢ未満
△：市販テープ対比−２ｄＢ以上〜＋２ｄＢ未満
×：市販テープ対比−２ｄＢ未満
【００９９】
［実施例１］
２，６ナフタレンジカルボン酸ジメチル１００部とエチレングリコール７０部の混合物に、エステル交換触媒として酢酸マンガン・4水塩０．０２５部を添加し、内温を１５０℃から徐々に上げながらエステル交換反応を行った。エステル交換反応が９５％となった時点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹拌した後、エチレングリコール２．５部中で無水トリメリット酸０．８部とテトラブチルチタネート０．６５部を反応せしめた液（チタン含有率は１１重量％）０．０１４部を添加した。さらに滑剤（不活性粒子Ａ）として平均粒径６０ｎｍの球状シリカ（体積形状係数０．５）を０．０３％（ポリマーに対し）添加して充分撹拌した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．６０のポリエステルＡ用のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ａ１）を得た。
【０１００】
さらに、上記のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ａ１）の製造方法と同様の方法でエステル交換反応を行い、エステル交換反応が９５％となった時点で、安定剤として亜リン酸を０．０１部添加し、充分撹拌した後、三酸化アンチモン０．０３部添加した。系内に混入した水を充分留出させた後、滑剤（不活性粒子Ｂ）として、平均粒径３００ｎｍのシリコーン粒子および平均粒径１００ｎｍのθ型アルミナを、樹脂中にそれぞれ０．０５％および０．２％添加して充分撹拌した後、次いで反応生成物を重合反応器に移し、高温真空下（最終内温２９５℃）にて重縮合を行い、固有粘度０．７０のポリエステル層Ｂ用のポリエチレン−２，６−ナフタレート（ＰＥＮ）（樹脂Ｂ１）を得た。この際、本ポリマー中のアンチモン残存量は２５０ｐｐｍであった。
【０１０１】
得られた樹脂Ａ１および樹脂Ｂ１を、それぞれ１７０℃で６時間乾燥後、２台の押し出し機に供給し、溶融温度２８０〜３００℃にて溶融し、平均目開き１１μｍの鋼線フィルターで高精度ろ過したのち、マルチマニホールド型共押出しダイを用いて、ポリエステル層Ａの片面にポリエステル層Ｂを積層させ、急冷して厚さ８９μｍの未延伸積層ポリエステルフィルムを得た。
【０１０２】
得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１３５℃にて３．６倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。次いで縦延伸フィルムのポリエステル層Ａ表面に、下記に示す組成（固形分換算）の皮膜層Ｄ用の水性塗液（全固形分濃度１．０％）をキスコート法により乾燥後の厚みが８ｎｍとなるように塗布した。
【０１０３】
皮膜層Ｄ用の塗液の組成（固形分換算）
（１）アクリル−ポリエステルバインダー（６０％）：ポリエステル成分(テレフタル酸（５５モル％）、イソフタル酸（４０モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（５モル％）／エチレングリコール（８０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（２０モル％）)、アクリル成分（メチルメタクリレート（７５モル％）、グルシジルメタクリレート（２０モル％）、ｎ−ブチルアクリレート（５モル％））、および、ポリエステル成分／アクリル成分の繰返し単位のモル比は３／７
（２）不活性粒子D（７％）：アクリルフィラー（平均粒径３０ｎｍ、体積形状係数０．４０、日本触媒株式会社製、エポスター）
（３）界面活性剤Ｘ（３％）：ノニオンNS−208.5（日本油脂株式会社製）
（４）界面活性剤Ｙ（３０％）：ノニオンNS−240（日本油脂株式会社製）
また、同時にポリエステル層Ｂ表面に下記に示す組成（固形分換算）の皮膜層Ｃ用の水性塗液（全固形分濃度２．０％）をキスコート法により、乾燥後の厚みが２０ｎｍになるように塗布した。
【０１０４】
皮膜層Ｃ用の塗液の組成（固形分換算）
（１）ポリエステルバインダー（ａ１）(５５％)：２，６−ナフタレンジカルボン酸（８０モル％）、イソフタル酸（１５モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（５モル％）／エチレングリコール（７０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（３０モル％）
（２）アクリルバインダー(ｂ１)（３０％）:メチルメタクリレート（６０モル％）、グルシジルメタクリレート（２０モル％）、ｎ−ブチルアクリレート（２０モル％）
（３）アクリル粒子(５％)：平均粒径５０ｎｍ
（４）界面活性剤（１０％）：ノニオンＮＳ−２０８．５（日本油脂製）
続いてステンターに供給し、１５５℃にて横方向に５．７倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを、２００℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み４．４μｍで、ポリエステル層Ｂの厚みが０．６μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムのポリエステル層Ａおよび層の厚みについては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。このフィルムの皮膜層Ｃ側の表面から測定した表面粗さＷＲａは１．３ｎｍ、このフィルムのヤング率は縦方向５５００Ｎ／ｍｍ2、横方向１０５００Ｎ／ｍｍ2であった。得られた積層フィルムおよびこれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０５】
［実施例２、３］
ポリエステル層Ａに粒子を含有させないようにし（樹脂Ａ２）、ポリエステル層Ｂに含有させる不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に示すとおり変更した（樹脂Ｂ２、樹脂Ｂ３）以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびこれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０６】
［実施例４］
皮膜層Ｃ用の塗液を以下の組成のものに変更する以外は実施例３と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびこれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
皮膜層Ｃ用の塗液の組成（固形成分換算）
（１）ポリエステルバインダー（ａ２）（５５％）：テレフタル酸（９５モル％）、イソフタル酸（２モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（３モル％）／エチレングリコール（７０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（３０モル％）
（２）アクリルバインダー(ｂ２)（２５％）：メチルメタクリレート（８０モル％）、グルシジルメタクリレート（１０モル％）、ｎ−ブチルアクリレート（１０モル％）
（３）アクリル粒子（１０％）：平均粒径５０ｎｍ
（４）界面活性剤（１０％）：ノニオンＮＳ−２０８．５（日本油脂製）
【０１０７】
［実施例５］
皮膜層Ｃ用の塗液を構成する組成のうち、アクリルバインダーを以下の組成のものに変更する以外は実施例３と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびこれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１０８】
皮膜層Ｃ用の塗液の組成（固形成分換算）
（１）ポリエステルバインダー（ａ１）（５５％）：２，６−ナフタレンジカルボン酸（８０モル％）、イソフタル酸（１５モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（５モル％）／エチレングリコール（７０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（３０モル％）
（２）アクリルバインダー（ｂ３）（３０％）：メチルメタクリレート（９５モル％）、グルシジルメタクリレート（３モル％）、ｎ−ブチルアクリレート（２モル％）
（３）アクリル粒子（５％）：平均粒径５０ｎｍ
（４）界面活性剤（１０％）：ノニオンＮＳ−２０８．５（日本油脂製）
【０１０９】
［実施例６］
皮膜層Ｃ用の塗液を以下の組成のものに変更する以外は実施例５と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびこれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
皮膜層Ｃ用の塗液の組成（固形成分換算）
（１）ポリエステルバインダー（ａ３）（４５％）：テレフタル酸（９５モル％）、イソフタル酸（２モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（３モル％）／エチレングリコール（８０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（２０モル％）
（２）アクリルバインダー（ｂ３）（４０％）：メチルメタクリレート（９５モル％）、グルシジルメタクリレート（３モル％）、ｎ−ブチルアクリレート（２モル％）
（３）アクリル粒子（５％）：平均粒径５０ｎｍ
（４）界面活性剤（１０％）：ノニオンＮＳ−２０８．５（日本油脂製）
【０１１０】
［実施例７］
皮膜層Ｃ用の塗液を構成する組成のうち、フィラーを以下の組成のものに変更する以外は実施例３と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびこれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
皮膜層Ｃ用の塗液の組成（固形成分換算）
（１）ポリエステルバインダー（ａ１）（５５％）：２，６−ナフタレンジカルボン酸（８０モル％）、イソフタル酸（１５モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（５モル％）／エチレングリコール（７０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（３０モル％）
（２）アクリルバインダー（ｂ１）（３０％）：メチルメタクリレート（８０モル％）、グルシジルメタクリレート（１０モル％）、ｎ−ブチルアクリレート（５モル％）
（３）ポリスチレン粒子（５％）：平均粒径５０ｎｍ
（４）界面活性剤（１０％）：ノニオンＮＳ−２０８．５（日本油脂製）
【０１１１】
［実施例８］
ポリエステル層Ａおよびポリエステル層Ｂにおける２，６−ナフタレンジカルボン酸ジメチルの代わりにジメチルテレフタレートを同モル量使用した以外は、実施例１と同様にしてポリエステル層Ａおよび層Ｂ用のポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）（樹脂Ａ３、Ｂ４）を得た。固有粘度は樹脂Ａ３は０．６０、樹脂Ｂ４は０．６７であった。
【０１１２】
この樹脂Ａ３、Ｂ４を、それぞれ１７０℃で３時間乾燥後、実施例１と同様にして、各層厚みを調整し、厚さ８９μｍの未延伸積層熱可塑性樹脂フィルムを得た。
【０１１３】
得られた未延伸フィルムを予熱し、さらに低速・高速のロール間でフィルム温度１００℃にて３．３倍に延伸し、急冷して縦延伸フィルムを得た。更に実施例１と同じ組成の皮膜層Ｃ用および皮膜層Ｄ用の水性塗液（全固形分濃度１．０％）を実施例１と同様に塗布した。
【０１１４】
続いてステンターに供給し、１１０℃にて横方向に４．２倍に延伸した。得られた二軸延伸フィルムを、２２０℃の熱風で４秒間熱固定し、全厚み６．４μｍ、熱可塑性樹脂層Ｂの厚み１．０μｍの積層二軸配向ポリエステルフィルムを得た。このフィルムの熱可塑性樹脂層Ａおよび層Ｂの厚みについては、２台の押し出し機の吐出量により調整した。このフィルムの塗膜層Ｃ側の表面から測定した表面粗さＷＲａは、１．７ｎｍ、このフィルムのヤング率は縦方向５０００Ｎ／ｍｍ2、横方向７０００Ｎ／ｍｍ2であった。得られた積層フィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
【０１１５】
［比較例１］
ポリエステル層Ｂに塗布される皮膜層Ｃに含有されるアクリルバインダー、ポリエステルバインダーおよび界面活性剤の割合を表１に示す通り変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは、フィルム走行時の皮膜層Ｃ中の不活性粒子Ｃが脱落する頻度が増加し、反対面への転写も多数起こったりしたため、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１１６】
［比較例２］
ポリエステル層Ｂに塗布される皮膜層Ｃに含有されるアクリルバインダーおよびポリエステルバインダーの組成を以下に示すように変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表１に示す。
（１）ポリエステルバインダー（ａ４）（５５％）：テレフタル酸（８０モル％）、イソフタル酸（１０モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（１０モル％）／エチレングリコール（８０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（２０モル％）
（２）アクリルバインダー(ｂ４)（３０％）：メチルメタクリレート（６０モル％）、グルシジルメタクリレート（５モル％）ｎ−ブチルアクリレート（３５モル％）
得られたフィルムは、ブロッキング性が劣り、巻き返しなどでポリエステル層Ａの表面が荒れるために磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１１７】
［比較例３］
ポリエステル層Ｂに塗布される皮膜層Ｃに含有されるアクリルバインダーの組成を以下に示すように変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１１８】
アクリルバインダー(ｂ５)（５５％）：メチルメタクリレート（９８モル％）、グルシジルメタクリレート（２モル％）
得られたフィルムは、耐削れ性が劣り、フィルム製造工程で発生した削れ物がフィルム表面に付着するために、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。
【０１１９】
［比較例４］
ポリエステル層Ｂに塗布される皮膜層Ｃに含有されるアクリルバインダーおよびポリエステルバインダーの割合を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１２０】
得られたフィルムは、耐ブロッキング性が劣り、特に磁気テープ製造工程において切断が発生し、電磁変換特性の良好な磁気テープが得られなかった。
【０１２１】
［比較例５］
ポリエステル層Ｂに塗布される皮膜層Ｃに含有されるポリエステルバインダーの組成を以下に示すように変更する以外は実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１２２】
ポリエステルバインダー（ａ５）（５５％）：２，６−ナフタレンジカルボン酸（９５モル％）、イソフタル酸（４モル％）、５−ナトリウムスルホイソフタル酸（１モル％）／エチレングリコール（４０モル％）、シクロヘキサンジメタノール（４０モル％）、ビスフェノールＡエチレンオキシド２モル付加物（２０）
得られたフィルムは皮膜層Ｃの表面が荒れたため、電磁変換特性の良好な磁気テープが得られなかった。
【０１２３】
［比較例６］
皮膜層Ｃ中に含有させるアクリル粒子を、平均粒径が８ｎｍのものに変更する以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは、反対面同士のブロッキングが起こりやすく、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。得られたフィルムのおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１２４】
［比較例７］
ポリエステル層Ｂに含有させる不活性粒子Ｂの種類、平均粒径、添加量を表１に示すように変更する以外は、実施例１と同様にして積層ポリエステルフィルムを得た。得られたフィルムは、Ｂ層側の突起の反対面への形状転写の程度が強く、磁気テープにした際、十分な電磁変換特性を得ることができなかった。得られたフィルムおよびそれを用いた強磁性薄膜蒸着型磁気テープの特性を表２に示す。
【０１２５】
【表１】
0003942410.tif 000004
【０１２６】
【表２】
0003942410.tif 000005
【０１２７】
表１および表２から明らかなように、本発明による積層ポリエステルフィルムは、片面が非常に平坦で、反対面からのフィラーの転写も少なく、優れた電磁変換特性を示すとともに、巻き取り性が極めて良好である。一方、本発明の要件を満たさないものは、これらの特性を同時に満足できない。
【０１２８】
【発明の効果】
本発明によれば、耐ブロッキング性、耐削れ性、巻き取り性、加工適性に優れ、特に金属蒸着薄膜型磁気記録媒体としたときに電磁変換特性に優れた積層ポリエステルフィルムを得ることができる。