(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
材質劣化環境におかれて亀裂進展が助長されるセンサ要素を備えた亀裂進展センサにおいて、
前記センサ要素は、中空の円筒体よりなり、前記円筒体の内部に軸方向の圧縮荷重が加えられた心棒が内挿され、この心棒に加えた圧縮荷重に対する反力を用いて前記円筒体の両端に引っ張り荷重が加えられており、前記円筒体に前記引っ張り荷重による応力集中が生じる亀裂発生点が設けてあることを特徴とする亀裂進展センサ。
【請求項２】
前記円筒体は、両端に前記荷重受けとなるキャップが固着され、これらのキャップの底部には、前記円筒体の内部の前記心棒に軸方向から圧縮荷重を加えるねじが取付けられ、前記心棒に加わる軸方向の圧縮による反力が軸方向の引っ張り荷重となって前記ねじから前記キャップを介して前記円筒体に加わる構成となっている請求項１記載の亀裂進展センサ。
【請求項３】
前記円筒体は、両端に前記荷重受けとなるキャップが取付けられ、前記心棒は前記円筒体の長さより長くして少なくとも一端外周にねじがきられており、このねじを介して前記心棒が前記キャップのうち一方のキャップの底部に設けたねじ孔を通して前記円筒体の内部にねじ込まれ、このねじ込みにより該心棒の先端がもう一方のキャップの底部を押圧することで前記円筒体に軸方向の引っ張り荷重が加わる構成となっている請求項１記載の亀裂進展センサ。
【請求項４】
前記円筒体の内部には、前記心棒のほかにスプリングが内挿されて、このスプリングの荷重も前記円筒体両端の前記キャップの底部に加わるように構成されている請求項２又は３記載の亀裂進展センサ。
【請求項５】
前記心棒は、前記円筒体と熱膨張係数が同一或いはそれよりも大きい材料よりなる請求項１ないし４のいずれか１項記載の亀裂進展センサ。
【請求項６】
前記心棒を電気的に発熱あるいは加熱する手段を備えている請求項１ないし５のいずれか１項記載の亀裂進展センサ。
【請求項７】
材質劣化環境におかれて亀裂進展が助長されるセンサ要素を備えた亀裂進展センサにおいて、
前記センサ要素は、中空の円筒体で、前記円筒体の内部には、ねじり荷重を該円筒体に与えるための心棒が内挿され、前記円筒体の両端には、前記心棒にねじり荷重を加える機構が該円筒体の両端と掛かり合うようにして取付けられており、前記円筒体に前記ねじり荷重の応力集中が生じる亀裂発生点が設けてあることを特徴とする亀裂進展センサ。
【請求項８】
前記亀裂発生点は、スリット、溝、ピンホールのいずれか一つである請求項１ないし７のいずれか１項記載の亀裂進展センサ。
【請求項９】
前記スリットの一端の応力拡大係数を小さくするストップホールが形成されて、このストップホールがない側のスリット一端から亀裂進展が始まるようにした請求項８記載の亀裂進展センサ。
【請求項１０】
前記センサ要素の亀裂が進展するリガメント部に予めサイドグループを加工しておく請求項１ないし９のいずれか１項記載の亀裂進展センサ。
【請求項１１】
前記センサ要素は、該センサ要素の亀裂進展度から間接的に健全性が評価される評価対象機器と同じ材料であるか、または評価対象機器と同材料で劣化させてある請求項１ないし１０のいずれか１項記載の亀裂進展センサ。
【請求項１２】
前記センサ要素と、前記引っ張り荷重又はねじり荷重を加える機構との組立体は、カプセルに収容され、該カプセルに環境中の流体を引き込むための窓が設けられている請求項１ないし１１のいずれか１項記載の亀裂進展センサ。
【請求項１３】
原子炉の炉水環境に請求項１ないし１２のいずれか１項に記載した亀裂進展センサを設け、このセンサを用いて炉水環境中の亀裂進展速度を測定することを特徴とする亀裂進展量測定システム。
【請求項１４】
原子炉の炉水環境に請求項１〜６、８のいずれか１項に記載された円筒体型の亀裂進展センサを設け、その円筒体の内面に電位差法の測定系に用いる電流印加点と電位測定点が配設され、これらの測定系に用いる電気リード線がセンサ一端から電気配管ジョイントを介して外部にまとめて導かれていることを特徴とする亀裂進展量測定システム。
【請求項１５】
前記センサ要素における前記亀裂発生点及び亀裂進展させる箇所を挟まない箇所の温度変動に伴う電位差の変化を検出してセンサ要素周りの温度評価を行う手段と、この温度評価に用いる電位差を用いて、前記電位差法の亀裂長さ測定系によって検出した電位差を温度補正する手段と、を備えた請求項１４記載の亀裂進展量測定システム。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、構造物に腐食等の材質劣化をもたらす環境の評価やその環境中の構造物の健全性評価等に使用される亀裂進展（亀裂成長）センサ及び亀裂進展量測定システムに関する。
背景技術
構造材料を寿命間際まで最大限使用することは、資源の有効活用、経費節減という観点から有効である。構造材料を寿命間際まで使用するためには、構造材料の損傷や劣化の状態を監視することが必要である。特に構造物にダメージを与えるような環境中での構造物の材料特性変化、及びその環境自体をモニタリングすることは、機器の安全な運転に必要である。
現状では、例えば原子力発電プラントの水質評価の場合、次に述べるような従来例がある。
例えば、特開平６−２７３３１０号公報では配管の座、または測定対象部位に直接溶存酸素濃度計、導電率計、亀裂進展センサ、腐食電位センサ、ｐＨセンサ等の測定センサを取付け、実機環境を評価している。この公知例の中では、亀裂進展センサに関しての詳細な記述は見られない。
また、特開平７−２８０７９４号公報に記載の評価法は、対象の装置から直接水をサンプリングするための配管を設け、そこから採取した水の成分を測定して水質評価を行なっている。水の成分は腐食電位計、溶存酸素濃度計を用いて測定し、そこに水素注入装置等を具備させることにより水質の調整も可能になる。
特許第２６８０６９７号に報告されている水質評価方法は、基準溶液と炉水との電位差を測定し、その電位差から溶存酸素濃度、導電率、炉水中に含まれるイオン濃度等を評価している。照射に伴う材料特性の変化は監視用試験片を予め炉内に挿入しておき、定期的にその試験片を取り出し、実際に材料強度を試験することにより評価している。
また、水質等の環境評価や環境における構造材料の健全性を評価する手段として、二重片持ち梁型（ダブルカンチレバー型）試験片を用いた亀裂進展センサがある。
このタイプの亀裂進展センサは、２本の梁を平行に近い状態で並べて梁同士の一端は結合し、この梁の結合箇所いわゆる付け根（ルート）に予めひび割れ（亀裂）を形成し、上記結合箇所と反対側の梁間に梁を押し広げる荷重を与えておくことにより、強制的に環境助長割れ（応力腐食割れ）による亀裂を進展させ、その亀裂進展速度から水質等の環境自体および環境中での構造材料の特性を間接的に評価するものである。
例えば、特開平６−３２３９６８号公報では、攻撃的な使用環境の構造部品に対する損傷の測定と監視を行うためのセンサ及びその製造方法に関するものであり、センサの形状は二重片持ち梁型で、梁と梁との間に楔，クランプまたはボルトを用いて梁に押し広げる荷重を与え、この荷重と腐食環境により梁同士の結合部の亀裂を進展させている。
また、特開平７−１６７７６４号公報では、梁と梁との間にベローズを挿入し、ベローズに高圧のガスまたは流体を流し込むことで、梁に押し広げる荷重を加えるようにしている。
これらのダブルカンチレバー型試験片を用いた亀裂進展技術は、水質等の環境を評価すると同時に、その水質環境に曝されている材料についても同時に評価できる利点がある。
上記したように、従来の亀裂進展センサは、二重片持ち梁型試験片を用い、梁を押し広げる荷重を梁に与えて環境助長割れによる亀裂を進展（成長）させているが、二重片持ち梁の構造から上記荷重が一定ならば、亀裂が進展するにつれて亀裂長さの先端に働く拡大応力係数が減少し、亀裂進展速度が亀裂長さによって大きく変化してしまい、また亀裂進展が早目に停止してしまう傾向が生じる。これを解消するためには、亀裂進展を与える荷重付加機構や梁の長さを大形化しなければならない。
また、二重片持ち梁型試験片に一定荷重を負荷後、このセンサを炉内に挿入セットした場合、センサの亀裂が停止してしまうと特開平６−３２３９６８号公報に記載のような応力負荷機構では回復することができずセンサとしての寿命がその段階で終わってしまう。また、炉内に挿入することを考慮するとセンサの小型化や、遠隔的な荷重の制御や亀裂進展の活性化制御が望まれる。
このような荷重制御の課題を解決するために、既述したように二重片持ち梁型試験片に加える荷重機構としてベローズを採用し、このベローズを水圧等により開閉制御してを負荷応力を制御することもできるが、センサの小型化という課題については未解決である。また、水圧やガス圧により荷重を制御するため、新たな圧力境界を形成し、その圧力境界の信頼性を確保する必要がある。また、構造物において起こる可能性がある損傷のひとつが表面での亀裂なのに対して、これらのセンサは亀裂を進展させる部位が表面より隙間部に近い環境である。
本発明の目的は、特に亀裂進展センサについて、従来提案されている二重片持ち梁型試験片を用いたものと構造の全く異なる新しいタイプのセンサを提案することで、設備への装着性に優れた小形で信頼性が高い亀裂進展センサ及び亀裂進展測定システムを提供することにある。また、小形を保持しつつ遠隔から亀裂進展の活性化を図り得る亀裂進展センサも提供する。
発明の開示
（１）本発明の基本的な構成は、材質劣化環境におかれて亀裂進展が助長されるセンサ要素を備えた亀裂進展センサにおいて、
前記センサ要素は、軸方向の両端部から軸方向に引っ張り荷重が加えられ或るいは軸方向の両端部からねじり荷重が加えられる構造をなし、このセンサ要素に前記引っ張り荷重或るいはねじり荷重による応力集中が生じる亀裂発生点が設けた点にある。ここで、亀裂発生点は、スリット，溝，ピンホール等が考えられる。
上記構成によれば、センサ要素に引っ張り荷重或るいはねじり荷重をかけることで亀裂発生点に応力集中が加わり、環境助長割れ（応力腐食割れ）による亀裂を進展させることが可能になる。この亀裂進展速度から水質等の環境評価や環境中の構造物の特性評価等が行われる。
本発明は、構造的には、従来の二重梁型構造と異なり、小さな単一体（例えば円筒体やプレート形状）のセンサ要素を採用でき、しかも、このセンサ要素に軸方向に引っ張り荷重又はねじり荷重を加える機構を内挿或るいは外挿してセンサ要素両端にこれらの荷重が加わる構成とすることで、機構部品の実装スペースをさほど要さず、合理的な実装構造を実現でき、センサ全体の小形化を図り得る。
例えば、前記センサ要素は、中空の円筒体で、前記円筒体の内部には、軸方向の引っ張り荷重を該円筒体に与えるための心棒又は／及びスプリングが内挿され、前記円筒体の両端には、前記引っ張り荷重を受ける荷重受けが設けられたものや、
前記センサ要素は、両端にばね荷重を受ける荷重受けを有するプレートで、前記プレートには、軸方向の引っ張り荷重を該プレートに与えるためのスプリングが外挿され、該スプリングの両端を前記荷重受けで受ける構造としたものがある。
また、ねじり荷重を加える構造としては、例えば、センサ要素は、中空の円筒体で、前記円筒体の内部には、ねじり荷重を該円筒体に与えるための心棒（トーションバー）が内挿され、前記円筒体の両端には、前記心棒にねじり荷重を加える機構が該円筒体の両端と掛かり合うようにして取付けられたものを提案する。（２）また、亀裂進展センサのセンサ要素として中空の円筒体を用い、この円筒体内に円筒体端部に引っ張り荷重を与える心棒を内挿したタイプについて、その心棒に熱膨張係数の大きい材料を用い、これを電気的に発熱させ或いは加熱する手段を設けて、その発熱或いは加熱制御を断続的に実施して心棒を伸縮させることで、亀裂進展部に遠隔制御により活性化を与え（この点については、実施例で詳述する）、センサの寿命を最大限に引き出すことが可能になる。
そのほか、心棒の熱伸縮制御にかえて、引っ張り荷重を心棒とスプリングの組合せで構成すれば、スプリングの伸縮による荷重調整により、亀裂が進展してもほぼ一定の荷重を負荷することが可能となり、センサを長期間使用することが可能となる。
（３）さらに、上記（１），（２）の亀裂進展センサに電位差法を適用可能したシステムとして、次のように構成したものを提案する。
すなわち、材質劣化環境におかれて亀裂進展が助長される亀裂進展センサの亀裂長を電位差法により測定して、環境評価あるいは環境中の構造物の健全性の評価を行う亀裂進展量測定システムにおいて、
前記亀裂進展センサは、軸方向の両端部から軸方向に引っ張り荷重が加えられ或るいは軸方向の両端部からねじり荷重が加えられるセンサ要素を備え、このセンサ要素に前記引っ張り荷重或るいはねじり荷重による応力集中が生じる亀裂発生点が設けてあり、このセンサ要素の亀裂発生点及び／又は亀裂進展する箇所を挾んだ位置に前記電位差法の測定系に用いる電流供給点と電位測定点を配設したことを特徴とする。
発明を実施するための最良の形態
本発明の実施の形態を図面に示した実施例により説明する。
第１図は、本発明の第１実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図、第２図はその部品の分解斜視図であり、例えば、水質モニタリングや構造物評価に用いられる。
本実施例に係る亀裂進展センサ１は、センサ要素を構成する中空の円筒体１１に軸方向の両端部から引っ張り荷重を加えるタイプのものである。
第１図に示すように、円筒体（センサ要素）１１の軸方向の中央部に周方向に延びるスリット１０が形成されている。スリット１０は、円筒体１０全周の途中で途切れるように形成され、スリット１０の両端は、円筒体１１に軸方向の引っ張り荷重が加わったときにその応力集中が生じる箇所となり亀裂発生点となる。この場合の亀裂（ひび割れ）は、スリット１０の周方向の延長線上（図２に示すようにスリット１０の両端の間で亀裂進展する箇所であり、以下、この延長線上をリガメント部或いは亀裂進展箇所と称することもある）１０ａに生じる。
円筒体１１の内部には、該円筒体１１より幾分サイズを短くした心棒１２が内挿され、円筒体１１の両端外周には、おねじ１１ａが切ってあり、おねじ１１ａに軸方向の引っ張り荷重受けとなるキャップ１３がねじ固着により取付けられている。
キャップ１３の底部（端面）１３ａの中央には、心棒１２とほゞ同径のねじ孔（めねじ）１３ｂが設けられ、このねじ孔１３ｂにねじ１４ａ，１４ｂが取付けられている。
ねじ１４ａ，１４ｂは、心棒１２に軸方向から圧縮荷重を加えるためのもので、円筒体１１両端のキャップ１３を通してねじ１４ａ，１４ｂをねじ込むことで、ねじ１４ａ，１４ｂが心棒１２を軸方向両端から挾んで圧縮荷重を加える。
本例の亀裂進展センサ１は、上記した心棒１２に加わる軸方向の圧縮による反力が軸方向の引っ張り荷重となってねじ１４ａ，１４ｂから両キャップ１３を介して円筒体１１に作用する。すなわち、心棒１２、キャップ１３、ねじ１４ａ，１４ｂが引っ張り荷重をセンサ要素１１に加える荷重印加機構を構成する。
これらの部品１２，１３，１４は一つの組立体になって、部品飛散防止用の円筒形カプセル１８に収納されている。カプセル１８の両端外周にはおねじ１８ａが切られ、おねじ１８ａを介してカプセル１８両端を閉ざすキャップ１９がねじ固着により取付られている。
カプセル１８内には、腐食環境中の流体、例えば水をカプセル１８内に引き込むための窓（ここでは流水窓２７と称する）が設けられている。流水窓２７は種々の態様が考えられるが、本例では第２図に示すように、多数の孔をカプセル１８内に配設することで構成している。
ここで、心棒１２や円筒体１１の材質は、ステンレス鋼等が考えられる。
本実施例のセンサ組立てを第２図を用いて説明する。
最初に円筒体１１内に心棒１２を挿入し、円筒体１１両端に荷重受け用のキャップ１３を取り付ける。次にキャップ１３の中央部に荷重印加用のねじ１４（１４ａ，１４ｂ）を取付ける。その際、ねじ１４のうち片方（例えば１４ｂ）を適度な位置までキャップ１３にねじ込んだ後、反対側のねじ１４ａをねじ込む。ねじ１４ａの先端が円筒体１１内の心棒１２に到達した後も更にねじ１４ａを進入させると、心棒１２がねじ１４ａ，１４ｂによって圧縮される。心棒１２に十分な強度を有する材料を用いると、心棒１２はねじ１４ａ，１４ｂから受ける荷重をそのまま反力としてねじ１４ａ，１４ｂに与える。心棒１２からの反力は、既述したようにねじ１４ａ，１４ｂからキャップ（荷重受け）１３を介して円筒体（センサ要素１１に伝達される。
次いで、円筒体１１，心棒１２，キャップ１３，ねじ１４の組立体をカプセル１８に内挿して、カプセル１８の両端にキャップ１９をねじ固着により取り付ける。なお、キャップ１３やキャップ１９の取付けは、溶接，かしめ，圧入等の固着方法であってもよい。
本実施例によれば、円筒体１１に一様に引っ張り荷重が加わり、それよってスリット１０の両端間に応力集中が生じて、リガメント部１０ａにおける応力腐食われによる亀裂進展が助長される。本実施例のタイプは、例えば定期点検のようなときに、センサ１を取り出して亀裂進展を電子顕微鏡等で観察することで、その亀裂進展度合いを知ることができ、その亀裂進展度合いから環境水やその中に構造物等の評価が可能になる。例えば、亀裂進展センサ１を水質モニタリングセンサとして使用し、一定期間評価対象の水質に曝し、その期間における亀裂進展量を定期点検時にモニタリングする場合である。この場合には、遠隔監視を不要とするので、特に監視システムに必要な電気的な配線は不要である。
なお、亀裂進展を常時必要に応じて遠隔監視したい場合には、電位差測定法が採用され、それによって測定した信号を電気的配線を介して外部に導く必要があるが、この例については、第３図〜第５図の実施例にて後述する。
心棒１２からの反力は長手方向（軸方向）に延びる方向であるので、円筒体１１にはスリット１０を長手方向に広げるような引っ張り荷重が作用する。高温の環境で亀裂進展センサ１を使用する場合には、円筒体１１のクリープ対処が必要であると考えられる。すなわち、円筒体１１と心棒１２の熱膨張係数を比較したとき、心棒１２の熱膨張係数が小さい場合は、温度変化による熱膨張差により円筒体１１のスリット１０及び亀裂先端部をはじめ円筒体１１の応力が緩和する。応力が緩和した結果、スリット１０のリガメント部１０ａの亀裂進展は停止し、センサとしての働きを失う。そのため、心棒１２は円筒体１１と同じ材料または円筒体１１より熱膨張係数の大きい材料を用いる。
心棒１２に円筒体１１と異なる材料を用いた場合、心棒１２と円筒体１１との間に腐食電位差が生じ、それにより亀裂進展が加速される可能性がある。そのような場合には、心棒１２に絶縁性の被覆を施すことによって、腐食電位差による亀裂進展の加速を防ぐことが可能である。この絶縁性の被覆は、例えばジルコニウム表面に酸化膜を十分な厚さに成長させたジルコニウム管により心棒１２を覆うようなものが考えられる。
本実施例によれば、亀裂進展センサ１の形状を円筒状にし、センサ要素１１に引っ張り荷重を加える機構をセンサ要素１１内部に設置することによりセンサを小形化することが可能になる。また、亀裂進展させるセンサ要素１１の形状を円筒状にすることにより、実際の構造物と同じ表面亀裂進展のモニタリングが可能になる。
これらのセンサ構成部品は、カプセル１８内に収容することにより、亀裂センサの部品が供用期間中に離散することはない。
また、センサ要素１１を円筒形にすることにより、スリット１０以外で応力の特異場は形成されず、スリット１０周りに一様な応力場を形成することが可能である。
さらに、センサ要素１１の寸法を変化させることにより、センサ１を任意の寸法にできる。例えば、円筒形センサ要素１１の長さを長くすることが可能な位置においては、その長さを増すことにより、亀裂進展に伴い亀裂進展部に加えられる荷重が緩和される。
ここで、本発明の第２実施例を第３図から第５図を用いて説明する。
第３図は、本発明に係る亀裂進展センサ１の円筒体１１に生じた環境助長割れによる亀裂進展量（亀裂長さ）を電位差法を用いて測定するようにした亀裂進展量測定システムの配線例を示す。
亀裂進展量測定システムは、センサ要素を構成する円筒体１１に電位場を形成するための電流を印加する電流印加装置３０、電流印加装置３０によって発生した電位場を測定する電位測定装置３１、電流印加装置３０及び電位測定装置３１を制御し、測定履歴および測定結果を記録する制御装置３２、電流印加装置３０と円筒体１１を接続する電流印加用配線３３、電位測定装置３１と円筒体１１を接続する電位測定用配線３４から構成される。
制御装置３２から電流印加装置３０へ所定の電流を印加（供給）するよう出力命令が出される。その命令を受けて電流印加装置３０から電流印加用配線３３を介して円筒体１１に電流が印加される。円筒体１１の電流印加点に接続する電流印加用配線３３の端子（電流印加端子，電流供給端子等と称される）は円筒体１１の内面で、スリット（亀裂発生点）１０及びそのリガメント部（亀裂進展箇所）１０ａを挟んで対称な位置、例えば３５ａと３５ｃ，３５ｂと３５ｄに示すように任意の数だけ接続される。
亀裂長さ測定系の電位差測定用配線３４の円筒体１１に対する接続位置（電位測定点）の端子（電位差測定端子）も、円筒体１１の内面で、スリット１０及びリガメント部１０ａを挟んで対称な位置、例えば３６ａと３６ｂ，３６ｅと３６ｆ，３６ｃと３６ｄ，３６ｇと３６ｈ（図示せず）にあり、また、これらの電位測定用配線３４の接続位置３６ａ〜３６ｈは電流印加用配線３３の接続位置より軸方向の内側に位置している。これらの接続位置の数は任意である。
電流印加用配線３３を介して円筒体１１に電流が流れると、電流印加用配線取付位置（電流印加端子）３５ａと３５ｃ、または３５ａと３５ｄ、または３５ｂと３５ｃ、または３５ｂと３５ｄの間に円筒体１１の電気抵抗により電位差が発生する。特にスリット１０周りでは円筒体１１の断面積（電流通路面積）が小さくなるため抵抗が大きくなり、比較的大きな電位差が発生する。円筒体１１のリガメント部１０ａにおける亀裂が進展すると、スリット１０周りの円筒体１１の断面積が更に小さくなり電位が変化する。その時の電位差測定系の配線取付位置（電位測定点）の端子３６ａとスリット１０及びリガメント部１０ａを軸方向に挟んだ位置の電位差測定系の端子（電位測定点）３６ｂ、３６ｆ、３６ｄ、３６ｈとの電位差の変化を配線３４を介して電位測定装置３１により測定する。同時に、電位差測定系の端子（電位測定点）３６ｃ、３６ｅ、３６ｇに関しても３６ａと同様にスリット１０及びリガメント部１０ａを軸方向に挟んだ位置の電位差測定系の端子３６ｂ、３６ｆ、３６ｄ、３６ｈとのそれぞれの電位変化を配線３４を介して電位測定装置３１を用いて測定する。
制御装置３２では電位測定装置３１から読みとった電位差から亀裂長さを計算し、単位時間当たりの亀裂進展量を求める。
本実施例では、センサ要素におけるスリット（亀裂発生点）１０及びリガメント部１０ａ（亀裂進展させる箇所）を挾まない箇所の温度変動に伴う電位差の変化を検出しており（ここでは、この温度変動に伴う電位差検出に後述のように亀裂長さ測定系の端子３６ｂ，３６ｆ，３６ｄ，３６ｈを利用しているが、別に専用端子を設けて検出してもよい）、さらに、制御装置３２は、上記の端子３６ｂ，３６ｆ，３６ｄ，３６ｈの端子間で検出した電位差からセンサ要素周りの温度評価を行う手段と、この温度評価に用いる電位差を用いて、前記電位差法の亀裂長さ測定系によって検出した亀裂長さ評価の電位差を温度補正する手段を備えている。具体的には次の通りである。
亀裂進展センサ１（センサ要素）周りの温度を測定する場合には、電位測定点３６ｂ、３６ｆ、３６ｄ、３６ｈのように軸方向に同じ位置に取り付けられた端子間の電位から評価可能である。制御装置３２は、その位置３６ｂ，３６ｆ，３６ｄ，３６ｈでの電位差と亀裂長さ評価用に測定した電位差（例えば３６ａ，３６ｃ，３６ｅ，３６ｇのそれぞれに対する３６ｂ，３６ｆ，３６ｄ，３６ｈの電位差）の比からき裂進展長さを評価することにより、温度変動の効果の少ない精度良い亀裂長さ測定が可能になる。これを詳述すれば、次の通りである。
電位測定端子３６ｂ，３６ｆ，３６ｄ，３６ｈの端子間による電位測定は、それらの端子間に亀裂を挾んでいないので亀裂進展に伴う電位変化はない。しかし、実際に測定すると、３６ｂ，３６ｆ，３６ｄ，３６ｈの端子間でも電位差があり、またその電位差は変化する。これは、温度変化により亀裂進展センサ１の材料自体の抵抗が変化するために生じるものである。したがって、これらの端子間の電位差を測定すれば温度変化を測定することが可能である。
亀裂長さ評価用の電位測定端子間、例えば端子３６ｂ−３６ｃ間で測定された電位差は、温度変化があるような環境では、
電位変化＝亀裂長さによる電位変化＋温度変化による電位変化
である。したがって同じ亀裂長さでも、温度が変化すれば見かけ上、亀裂の伸び縮みが観測されることになる。そこで、電位差の比を亀裂長さと温度変化の電位差から無次元量を定義する。
電位差比＝亀裂長さによる電位差／温度による電位差
ここで、亀裂長さによる電位差は、亀裂長さ評価に用いた測定端子間の電位差であり、温度による電位差は、温度評価に用いた端子間の電位差である。
この電位差比から、温度変化の影響を小さくし、亀裂長さを精度良く評価することが可能である。
第７図の符号１４５は、本実施例に係る円筒型の亀裂進展センサにおいて、電位差測定法を採用した場合の電位変化と亀裂進展量の較正曲線である。ちなみち、符号１４６は、一般の亀裂進展試験や破壊靱性試験に用いるＣＴ型試験片（コンパクトテンション型試験片となる小プレートに引っ張り荷重を加えてその亀裂進展試験や破壊靱性試験を行なうもの）に電位差法を採用した場合の電位変化と亀裂進展量の較正曲線、符号１４７は、ＤＣＢ型試験片（ダブルカンチレバー型試験片）に電位差測定法を採用した場合の電位変化と亀裂進展量の較正曲線である。
本実施例の較正曲線は、従来のＤＣＢ型試験片よりも線形に近づけることができる。
第４図は、亀裂進展センサ１の心棒１２を遠隔から電熱制御してセンサ要素（円筒体）１１の亀裂進展の活性化を図る技術に関する説明図である。
亀裂進展センサ１を配置した水質環境が緩和し、亀裂が停止すると、そこに酸化皮膜が形成されていき、これが再度亀裂進展させる状況（水質環境悪化）になった場合に亀裂進展を妨げる原因となるので、この酸化皮膜を剥がしたり、亀裂進展を故意的に誘って亀裂先端を活性化させる必要がある。
人が簡単にアクセスすることが可能な環境に挿入された亀裂進展センサ１の場合は、人の手によって荷重印加用のねじ１４を回すことにより、センサ要素１１に印加される引っ張り荷重の増減（除荷負荷）を繰り返すことで、亀裂先端に物理的刺激（ストレス）を加えて酸化皮膜を剥離（除去）したり、亀裂進展を故意的に誘うこと、いわゆる亀裂進展の活性化が可能となる。一方、人がアクセスできないような環境に亀裂進展センサ１が配置された場合、遠隔操作によるセンサ要素１１への除荷負荷が必要となる。そこで、除荷負荷を遠隔から実施（亀裂先端の活性化）するために、心棒１２を伸縮させるための構造の例を第４図に示す。
遠隔からセンサ要素１１に除荷負荷を実施する場合には心棒１２に予め電熱（ヒータ）用リード線２４を取付けておく。
上記リード線２４を用いて心棒１２を伸縮させる方法は、（ａ）に示すように心棒１２に電流を断続的に印加し、心棒１２自体を発熱，冷熱の繰り返しにより伸縮させる方法や、（ｂ）に示すようにリード線２４に通じる電熱線２４′を心棒１２に巻いて電熱線２４′を断続的に発熱させ、電熱線２４′からの熱を心棒１２に伝達し、心棒１２を加熱，冷熱させることで伸縮させる方法が考えられる。
（ａ）の場合には、心棒１２の電気抵抗をリード線２４より高くする必要がある。例えば、リード線２４にニッケルを用いた場合は心棒１２にステンレス鋼を用いること等が考えられる。
（ｂ）の場合には、用リード線２４よりも電熱線２４′の電気抵抗を高めるものであり、リード線２４と電熱線２４′を同一材質の導線を用いた場合には、電熱線２４′の断面積をリード線２４よりも小さくして心棒１２付近で発熱させている。また、心棒１２に予め電熱線２４′を巻くための溝２６をある決まった間隔で加工しておくことにより、心棒１２の軸方向に均一な温度分布の加熱が可能になる。
上記のように心棒１２を伸縮させることで、センサ要素１１のリガメント部１０ａに応力振幅（ストレス）が加わることで、亀裂進展の活性化が遠隔制御により可能になる。
心棒１２の両端には絶縁抵抗２５が設けてある。これは、電熱用リード線２４と亀裂長さを測定するための電気系（第３図）の配線（計測系リード線）３３や３４とを隔離するためのものである。すなわち、絶縁抵抗２５がない場合には、心棒１２，キャップ１３，円筒体１１を介してリード線２４と配線３３，３４とが短絡してしまうために、そのような事態にならないように心棒１２の両端に絶縁抵抗２５を設ける。この絶縁抵抗はキャップ１３の内面に形成してもよい。
上記した亀裂先端の活性化法としては、その他に、圧電振動子を心棒１２の軸方向に組み込み、圧電振動子に直接通電させ、その振動を用いて振幅荷重を与え、亀裂進展を活性化させることも可能である。
なお、亀裂進展活性化のほかに、上記した第４図の心棒加熱方式によれば、加熱電流を制御することにより心棒１２の伸び率（熱膨張度合い）を変えることができ、それによって、センサ要素１１に加えられる引っ張り荷重を遠隔制御により変えることができる。
この引っ張り荷重遠隔制御方式を採用することで、途中で亀裂長さ先端の応力拡大係数が減少した場合には（応力拡大係数は第３図の亀裂進展測定量を監視して、その履歴から把握できる）、心棒１２を加熱するために電流を増やし、心棒１２の熱膨張度合いを大きくして、センサ要素１１の応力拡大係数を高め、引っ張り荷重を高める方向に調整することも可能になる。
従来の二重片持ち梁型センサでは、亀裂長さ先端の応力拡大係数が減少した場合には、梁間に介在させたベローズを水圧または空圧により遠隔制御して応力拡大係数を高める荷重制御を実施するため、新たに圧力境界を形成し、センサのためのセンサが必要となる機構であった。これに対して、本実施例のように心棒１２の伸びを利用してセンサ要素１１に加わる引っ張り荷重を制御するば、上記した従来センサの課題を解消できる。
第５図は上記した電位差測定法（第３図の亀裂進展量測定法）や電気的な心棒１２の加熱制御（第４図の亀裂進展活性化，引っ張り荷重制御のほか電気振動子利用も含む）の少なくとも一つを採用した場合、その電気配線の配管ジョイントを設けた亀裂進展センサの実施例に係る断面図、第６図はその分解斜視図である。なお、第５図、第６図には、作図の便宜上、第３図，第４図に示した電気配線について図示を省略している。
本実施例に係る亀裂進展センサの構成は、基本的には、第１実施例と同様の構造であり、相違する点は、電気配線用配管１５、配管ジョイント１６、配管ジョイント用の締め付けナット１７等の部品を用意して、これらの部品を亀裂進展センサ１に装備したものである。
心棒１２に圧縮荷重を加えるねじ１４のうち一方のねじ１４ａには、電気配線を導くための孔２００及び２０１が形成されている。孔２００は、ねじ１４ａの頭からねじの軸方向の途中位置までに穿設されており、孔２０１は孔２００の位置から半径方向に向って複数穿設され、ねじ１４ａをキャップ１３にねじ込んだときに孔２０１の開口がセンサ要素１１内に臨むようにねじ１４ａの外周面に開口している。
孔２００の少なくとも一端（ねじ１４ａの頭側）には、めねじ２０３がきってあり、めねじ２０３に配管ジョイント１６をねじ込むことで、センサ要素（円筒体）１１と配管ジョイント１６が一つの組立体を構成している。
電気配線用配管１５は、カプセルキャップ１９の底部（端面）に設けた孔２０を通して荷重印加用ねじ１４ａに取り付けた配管ジョイント１６に導かれ、配管ジョイント１６のスリット付きねじ部１６ａをナット１７で締め付けることで、配管１５が配管ジョイント１６に固定される。センサ要素１１に対して電位測定や心棒１２を加熱する電気配線は、配管ジョイント１６に設けた孔２０１，孔２００及び配管ジョイント１６，配管１５を介して外部に引き出される。
第８図は、本発明の第３実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図である。図中、既述した実施例と同一符号は同一或いは共通する要素を示す（第９図以降も同様である）。
本実施例において、既述した第１実施例と相違する点は、センサ要素（円筒体）１１に引っ張り荷重を加える手段である。
すなわち、本実施例は、円筒体１１の内部にスプリング２８（ここでは一例としてコイルスプリングを例示する）を内挿し、このスプリング２８を円筒体１１の両端に取り付けたキャップ（荷重受け）１３のねじ込みにより圧縮させて、その反力である引っ張り荷重がキャップ１３を介して円筒体１１の軸方向に加わるようにしてある。このような構成においても、スプリング２８を介してセンサ要素（円筒体）１１のスリット１０の両端に応力集中を生じ、リガメント部１０ａに環境助長割れによる亀裂を進展させることが可能になる。
本実施例によれば、第１の実施例同様の効果を奏し、また、亀裂が進展しても亀裂長さ先端の応力拡大係数を簡易な構成により保持し、長期にわたる亀裂進展動作を保証する。
なお、本実施例においても、電位差法により亀裂進展量を測定する場合には、第３図に示した配線構造を採用し、第５図及び第６図に示すような電気配線用配管１５，配管ジョイント１６，ジョイント用ナット１７を用いた構造にすることができる。
第９図は本発明の第４実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図である。
本実施例は、センサ要素（円筒体）１１に引っ張り荷重を加える方式として、第１実施例の心棒方式と第３実施例のスプリング方式を併用する。
すなわち、本実施例では、センサ要素１１内には、心棒１２とスプリング２８が内挿され、センサ要素１１に加えられる軸方向の引っ張り荷重は、心棒１２の圧縮による反力（引っ張り荷重）とスプリング２８のばね力で複合的に生成されて、キャップ（荷重受け）１３を介してセンサ要素１１に加えられる。
本実施例によれば、既述した第１、第３実施例と同様の効果を奏するほかに、より大きな引っ張り荷重をセンサを大形化することなく確保でき、しかも長期にわたる亀裂進展のための応力拡大係数の維持を保証することができる。
第１０図は本発明の第５実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図、第１１図はそのうちの中心部であるセンサ要素組立体を取り出しキャップ１３を緩めた斜視図である。
本実施例に係るセンサ要素（円筒体）１１は、円筒体１１の両端に荷重受けとなるキャップ１３がねじ固着により取付けられる。このうち、一方のキャップ１３の底部１３ａにねじ孔１３ｂが設けられ、もう一方のキャップ１３の底部１３ａには、ねじ孔１３ｂが設けられていない。
心棒１２は、円筒体１１の長さより長くして少なくとも一端外周にねじ１２ａがきられており、このねじ１２ａを介して心棒１２が一方のキャップ１３の底部に設けたねじ孔１３ｂを通してねじ込まれる。１２ｂは心棒１２一端に設けたねじ頭である。心棒１２のねじ込みにより心棒先端がもう一方のキャップ１３の底部に突き当たるまで円筒体１１内部に挿入され、この心棒１２によりキャップ１３に荷重をかけて円筒体１１に引っ張り荷重が作用するようになっている。
本実施例の組立ては、最初に円筒体１１の両端にキャップ１３を取付け、その後にねじ付き心棒１２を一方のキャップ１３を通して円筒体１１にねじ込んでいく。このようにして組み立てられた荷重印加機構付きセンサ要素は、カプセル１８内に収納される。
本実施例においても、既述した実施例と同様の効果を奏することができる。
第１２図に今まで述べた実施例のスリット部１０の端部に加わる引っ張り荷重と亀裂進展量の関係を示す。
第１２図中の曲線１２０は、第１図、第５図、第８図、及び第１０に示したねじ１４、またはスプリング２８またはねじ付き心棒１２によってセンサ要素に一定の変位を与える荷重印加方式の特性曲線であり、変位一定型曲線と称せられる。曲線１２１は、従来例の特開平７−１６７７６４号公報に示されるようにダブルカンチレバーに加わる荷重をベローズの圧力制御により亀裂が進展してもほゞ一定に保つ方式の特性曲線であり、荷重制御型の曲線と称せられる。
また、曲線１２２は、第９図の実施例のようにねじ１４及びスプリング２８によりセンサ要素に一定の変位を与えるねじ−ばね複合荷重印加方式の特性曲線である。
荷重制御型特性１２１の特徴は、亀裂が進展してもある一定以上の荷重を負荷しておくことが可能であるため、センサ１を最終破断まで有効に活用することが可能である。その反面、最終的には亀裂進展センサ１が破断してしまうこと、亀裂の進展が早いため、センサの寿命が短い等の課題もある。
変位一定型特性１２０の特徴は、センサの亀裂進展に伴いスリット部１０での荷重が小さくなるため、センサが最終破断まで到達するのが困難である。したがって、センサを最終破断に至れない分だけ寿命が短くなるが、上記特性１２１の従来例に比較して亀裂進展の速度を遅くしてセンサの寿命向上を図り得る。また、センサ１の炉内への飛散等に関する問題は非常に小さい。
ねじ−ばね複合荷重印加方式の特性１２２によれば、亀裂進展による荷重の低下を押さえ、しかも亀裂進展速度も速すぎず、センサ寿命を最も向上させることができる。
第１３図に上記実施例に用いる円筒形のセンサ要素１１の他の加工例を示す。
第１３図（ａ）は、センサ要素１１のリガメント部（亀裂進展部）１０ａに予めサイドグルーブ（周方向に延びる条溝）１１０を設けたものである。
このようにすれば、亀裂進展センサの安定した亀裂進展とその亀裂進展速度の精度良い評価が可能になる。
また、第１３図（ｂ）は、センサ要素１１におけるスリット１０の片端部にスリットよりも孔径が拡がるストップホール１１１を設けたものである。
このようにすれば、ストップホール１１１のある側のスリット端部の応力拡大係数が小さくなるため、ストップホール１１１とは逆のスリット端部側に亀裂進展がすすむ。片端のみに亀裂が進展することで、センサ要素１１での亀裂進展部が長くなるため、センサを長期間使用することが可能になる。
第１４図に、センサ要素１１に形成する応力集中による亀裂発生点として、スリットに代わるものを例示した。第１４図（ａ）では、亀裂発生点を溝１３５により構成した。溝１３５の形状は種々のものが考えられるが、一例として円形溝と細い線溝の組合せを例示している。第１４図（ｂ）は亀裂発生点としてピンホール１３６により構成したものを例示した。
これらの亀裂発生点の形態を種々変化させることにより亀裂進展部における応力集中の程度を変化させることが可能である。この場合の応力集中は、スリット、溝、ピンホールの順に大きい。これらの使い分けは、例えば、材料への影響が小さく、亀裂進展速度が非常に小さい環境、短期間に精度よく環境の変化を評価したい場合には応力集中係数の大きいスリットを用いる。また、照射等、材料そのものの特性を変化させ、安定した亀裂進展方向が得られない場合には、溝を用いることにより、亀裂進展方向を強制的に決定する。また、環境が非常に劣悪で亀裂進展速度が非常に速いと考えられる環境においてはピンホールを用いれば、センサの寿命を延ばすことができる。
第１５図は本発明の第６実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図である。本実施例では、センサ要素については今まで述べた円筒体に代わり、平板型にした。
すなわち、センサ要素１１は、両端にばね荷重を受ける荷重受け１３を有するプレート（平板）１１′よりなり、プレート１１′には、軸方向の引っ張り荷重を該プレートに与えるためのスプリング２８が外挿され、スプリング２８の両端を荷重受け１３で受ける構造とした。プレート１１′の軸方向の中央位置に前記引っ張り荷重による応力集中が生じる亀裂発生点、例えばスリット１０が設けてある。
プレート１１′は、その両端に円筒形のねじ部１１ｃが設けられ、このねじ部１１ｃにばね受け１３となるキャップがねじ込みにより取り付けられている。
センサ要素１１，スプリング２８，ばね受け（キャップ）１３の組み立ては、カプセル１８内に収納されている。
本実施例においては、スプリング２８のばね荷重がキャップ１３を介してプレート１１′に加わることで、プレート１１′に引っ張り荷重が印加され、スリット１０の両端に応力集中が加わるものであり、それにより亀裂進展が助長される。
今まで述べてきた実施例は、センサ要素１１に軸方向の引っ張り荷重を加える方式の亀裂進展センサであったが、引っ張り荷重に代えてセンサ要素１１にねじり荷重を加えて亀裂進展を助長させることも可能である。
第１６図にその一例（第７実施例）を示す。第１６図は、亀裂進展センサ１のうち、カプセル１８については図示省略してセンサ要素１１とそれにねじり荷重を印加する機構についてのみ例示する分解斜視図である。
センサ要素１１は、中空の円筒体で、円筒体１１の内部には、ねじり荷重を該円筒体に与えるための心棒（トーションバー）１５０が内挿され、円筒体１１の両端には、心棒１５０にねじり荷重を加える機構（１５１及び１５３）が円筒体１１の両端と掛かり合うようにして取付けられている。
本実施例では、ねじり荷重の印加機構が次のようにして構成されている。以下、その機構について、センサの組立てと併せて説明する。
心棒１２は、円筒体１１よりも長くしてあり、その両端に差し込み溝１５０ａが設けられている。円筒体１１の両端外周には、ねじり荷重を印加するためのキャップ１５１をねじ込むためのねじ１１ａが切られている。また、円筒体１１の両端には、ねじり荷重を固定するためのスリット１５４ａ，１５４ｂが形成されている。スリット１５４ａとスリット１５４ｂは、互いに周方向に位置をずらしてある。キャップ１５１には、その内周に円筒体１１のねじ１１ａにねじ込むためのめねじ部１５１ｄが形成され、底部１５１ａには、心棒１５０の端部を受け入れる孔１５１ｂと、ねじり荷重固定用の留め具（板材）１５３を差し込ませるためのスリット１５１ｃが形成されている。スリット１５ｃは孔１５１の径とクロスするようにして設けてある。
円筒体１１の軸方向の中央には、応力集中が加わる亀裂発生点となるスリット１５２が周方向のラインに対して４５度の傾きで設けてある。
これらの部品を組み立てる場合には、最初に、心棒１５０に一方のキャップ１５１、円筒体１１、もう一方のキャップ１５１の順番でこれらの部品１５１及び１１を挿入する。
次いで、一方のキャップ１５１（いずれのキャップでもよいが、ここでは、図の左側のキャップとする）を円筒体１１の一端にねじ込む。このねじ込みは、キャップ１５１に設けたスリット１５１ｃと、心棒１５０に設けたスリット１５０ａと、円筒体１１に設けたスリット１５４ａとが最終的に方向一致するようにして行なわれ、これらのスリット１５１ｃ，１５０ａ，１５４ａに一方の留め具１５３を押し込み固定する。
次いで、もう一方のキャップ１５１（ここでは、図の右側のキャップ）を円筒体１１の他端に数回転ねじ込み、キャップ１５１のスリット１５１ｃと心棒１５０のスリット１５０ａとが方向一致する位置でキャップ１５１のねじ込みを一旦停止させて、もう一方の留め具１５３をスリット１５１ｃとスリット１５０ａに押し込む。この状態で右側のキャップ１５１にねじ込み力を加えると留め具１５３を介して心棒１５０がねじられ、心棒１５０の右側端のスリット１５０ａ及び右側のキャップ１５１のスリット１５１ｃが円筒体１１のスリット１５４ｂにきた位置でさらに留め具１５３をスリット１５４ｂに掛かるように押し込む。
このようにすれば、心棒１５０にはねじり荷重が加えられ、そのねじり荷重の反力が留め具１５３を介して円筒体１１にねじり荷重として加えられる。ねじり荷重の大きさの調整は、心棒１５０のねじれ度合いすなわちセンサ要素両端に設けたスリット１５４ａ，１５４ｂの周方向の相対的なずれ量（角度）により決定される。
スリット１０の加工方向を４５°方向とし、ねじりの荷重を印加することにより、スリット１０にせん断応力が生じ、亀裂は４５°方向に進展する。この場合、亀裂進展に伴うねじりによる荷重の応力緩和は非常に小さいので、スリット１０を垂直に導入した時と比較して、一度決めた荷重で亀裂進展期間を長くすることが可能であり、亀裂進展センサとして有効である。
第１７図に亀裂進展センサ１の適用例として、原子力発電所内の水質をモニタする場合について示す。
第１７図は沸騰水型原子力発電プラントを模式的に示している。圧力容器５０内の水は燃料集合体６９により加熱される。蒸気となった水はタービン５７に送られ、タービン５７を回転し、発電する。タービン５７を通過した蒸気は復水器５６によって水に戻され、給水ポンプ５５によって再度圧力容器５０に戻される。圧力容器５０内では、圧力容器５０内部の水を撹拌するために再循環ポンプ５４、再循環系配管６１、ジェットポンプ５３を介して圧力容器５０の底部へ水を強制的に送り込む。
原子力発電所の場合、水質をモニタすることが望まれる位置は、燃料集合体６９周りや圧力容器５０の底部の水質である。これは、水に含まれる酸素および水の分解によって生じるラジカル種、過酸化水素等が、燃料集合体６９周りや圧力容器５０の底部の機器に影響を与える可能性があるからである。
評価対象機器に近く、亀裂進展センサ（水質モニタリングセンサ）１を設置することが可能な位置の例としては、中性子計測管５１、ボトムドレン配管５９、ＩＣＭ案内管６６、ほう酸水注入口６７が考えられる。その他にも各構造物に対応した治具を作製することにより、亀裂進展センサ１を取付けることが可能である。
亀裂進展センサ１の取付けは可能であるが、き裂長さを測定するための配線の引回しが困難な場所には、亀裂進展センサ１をセンサ格納容器６０に格納するか、または直接，炉内構造物に固定し、一定期間放置後、定検時等に亀裂進展センサ１を取り出し、き裂長さを測定する。
センサ格納容器６０は炉内の任意の場所に設置される。例えば、上部格子板６５の円周端部に固定する、または模擬燃料集合体に固定する等が考えられる。また、亀裂進展センサ１を直接固定する場合は、例えば上部格子板、炉心支持板、給水スパージャ、ジェットポンプ等に取り付けられている吊込み治具、フローバッフル等に取り付けることが考えられる。測定されたき裂長さから評価される水質は、亀裂進展センサ１を放置した期間の平均的な水質である。
第１８図は、亀裂進展センサ１を中性子計測管５２に適用した例である。第１８図の（ａ）は中性子計測管５２の一部を断面して示す図、（ｂ）はそのＡ−Ａ′断面図、（ｃ）はそのＢ−Ｂ′断面図である。
本例では亀裂進展センサ１を複数配設し、電位差計測法を用いて亀裂進展を測定する。１５ｂ，１５ｃは、これらの計測等に使用される電気配線用の配管である。中性子計測管５２の断面形状は、第１８図（ｂ），（ｃ）に示すように菱形の各辺に曲率を持つような形状をしている。
亀裂進展センサ１の構成は既述した実施例のいずれかと同じであり、また、電位差測定システムを採用している。
ここで、センサ要素を収納するカプセル１８の両端は、キャップ１９により閉じられおり、キャップ１９（１９ｂ，１９ａ）の形状を中性子計測管５２の断面形状と同じにし、さらに断面方向の大きさも中性子計測管５２とほぼ同じ大きさにする。原子力発電プラント内部に設置するため、キャップ１９はカプセル１８にねじ込まれた後、溶接によってカプセル１８に取り付けられる。
カプセルキャップ１９の横断面形状を、中性子計測管５２と同じ形にすることにより、キャップ１９及びカプセル１８が中性子計測管５２内で回転するのを防止し、さらにキャップ１９を溶接により固定することにより、亀裂進展センサ１がプラント運転中に炉内に飛散することを確実に防止できる。
原子力発電所のように、亀裂進展センサ１をセットした後、一定期間はセンサ１と接触できないような場合には、センサの寿命を考慮して、第１８図（ａ）に示すように、亀裂進展センサ１を複数本用意し、各センサ１に熱膨張係数の異なる材質の心棒１２を組み込んで、中性子計測管５２に挿入しておくことが望ましい。
各センサ１ごとの心棒１２の熱膨張係数を異ならせることで、センサ１の亀裂発生点（例えばスリット１０）に作用する応力レベルが変化し、結果的にスリット１０の応力拡大係数が変化する。応力拡大係数が異なると、同じ水質でも亀裂進展速度が異なるため、一本のセンサで水質をモニタリングするよりも長い期間水質をモニタリングすることが可能になる。
なお、第１７図および第１８図に示すように、亀裂進展センサ１を中性子計測管５２内に縦列に設置する場合、中性子計測管５２内で配線用配管１５を配置するスペースの確保が困難である。そこで、カプセルキャップ１９に配管固定穴７０を予備も含めて複数本加工しておく。
このようにすることで、第１８図に示すように、亀裂進展センサ１から引出される配線用配管１５ｂは他の亀裂進展センサ１のカプセルキャップ１９ａ及び１９ａ′の各配管固定穴７０を通すように設置される。
同様に、配線用配管１５ｃはカプセルキャップ１９ｂ、１９ａ、１９ａ′に加工されている配管固定穴７０を通るように設置される。配管固定穴７０を通るように配線用配管１５を設置すると、中性子計測管５２に亀裂進展センサ１を複数個設置できると同時に、複数個設置された亀裂進展センサ１が各々のセンサ１の配線用配管１５に固定されるため、炉内に設置した際の亀裂進展センサ１の揺れ防止に効果がある。
第１９図に、亀裂進展センサ１を炉底部のドレン配管５９に適用した例について示す。亀裂進展センサ１の構成は、既述した実施例のいずれか一つと同じものである。亀裂進展センサ１のカプセル１８の片端は、フランジ８０に直接溶接し、固定している。
ドレン配管５９に限らず、亀裂進展センサ１を取付ける場合、フランジ８０に直接，センサ１を取り付けることにより、フランジ８０の取り外しが直接，亀裂進展センサ１の脱着になるため、着脱に伴う作業性が改善されると同時に、フランジ８０に予めセンサ類を取り付けた後、配管に設置することができるので、設置に伴う不良が減少し、センサの信頼性が確保できる。
フランジ８０に設置する亀裂進展センサ１は、複数本設置するか、または腐食電位を測定する腐食電位センサ６４と併せて設置する。
またその他の水質計測機器、例えば導電率計、溶存酸素濃度計を同時に設置することが可能である。ここで、亀裂進展センサ１を複数本取付ける目的は、上記中性子計測管５２の場合と同様に、亀裂進展センサ１の心棒１２に、センサごとに熱膨張係数の異なる材質を用いることにより、亀裂進展速度に幅を持たせ、長期間水質をモニタリングすることを可能にするためである。
腐食電位センサ６４と併せて設置することにより、従来までの水質評価指標である腐食電位と、亀裂進展センサ１が設置されている環境中における構造材料のき裂進展速度との対応がとれる。
再循環系配管６８に取付ける場合も、同様な方法でモニタリング可能である。
第２０図に亀裂進展センサ１をＩＣＭ案内管６６に適用した例について示す。第２０図の（ａ）はＩＣＭ（Ｉｎ  Ｃｏｒｅ  ｍｏｎｉｔｏｒｉｎｇ）案内管６６の部分正面図、（ｂ）はそのＡ−Ａ′断面図である。
亀裂進展センサ１の構成は既述した実施例のいずれか一つと同様である。ＩＣＭ案内管６６位置での特徴は、第１７図のジェットポンプ５３から炉水が吐出される付近に設置されているため、炉水が高流速になっていることである。
高流速場での水質評価は、従来技術では困難である。例えば、ＤＣＢ試験片では、カンチレバー間の狭い空間を高流速が入るのが無理であり、高流速場での水質評価を困難にしている。
亀裂進展センサ１では、カプセル１８を外したりしてセンサ要素１１をそのままＩＣＭ案内管６６に配置することで（カプセル１８がある場合には、その流水窓を通して）、高流速流体をセンサ要素１１周囲に流すことができ、積極的に高流速場に曝すことが可能になる。
通常、ＩＣＭ案内管６６内には中性子計測用のセンサを炉心に設置するための装置が全体を占めているため、亀裂進展センサ１を設置することは不可能である。そこで、あえてプラントの運転に影響を与えない中性子計測用のセンサを取り除き、水質モニタリングセンサ１用に空洞のＩＣＭ案内管６６をつくる。ＩＣＭ案内管６６を単に空洞化しただけでは中性子案内管６６内の炉水は澱んでいるため、炉水を積極的にＩＣＭ案内管６６に導くように高流速水案内窓９１をＩＣＭ案内管６６の側面に加工する。
本実施例では、積極的に亀裂進展部であるセンサ要素１１を高流速環境に曝す方法として、カプセル１８の代わりに、ＩＣＭ案内管６６内面に、亀裂進展センサ１を挟み込むように高流速用フィルタ９０を取付ける。高流速用フィルタ９０は、水流方向に蜂の巣状に最大でも心棒１２より小さい穴が加工してあり、炉水の流れの妨げにならないようにすると同時に、カプセル１８と同等の役割を持つ。
ＩＣＭ案内管６６に亀裂進展センサ１（水質モニタリングセンサ）を取り付けることにより、亀裂長さを測定するための計測用配線は、従来、中性子計測用センサの配線を引き出していた部分に容易に取り付けることが可能である。
高流速水案内窓９１によりＩＣＭ案内管６６の外面よりは小さいが、高流速環境を形成することが可能になる。
亀裂進展センサ１は、ＩＣＭ案内管６６内の炉水の流れ方向に平行に取り付けられる。亀裂進展センサ１を炉水の流れに対して垂直に取り付けた場合、高流速であるためセンサ１を支持するために非常に大きな支持具が必要となる。
第２１図に亀裂進展センサ１を再循環系配管６１から分岐させた水質計測用配管６２に設置されている水質試験槽６３に設置した例について示す。第２１図の（ａ）は水質試験槽６３付近を示す開披断面図、（Ｂ）はそのＢ−Ｂ′断面図である。炉水の流れは第２１図中の矢印である。
亀裂進展センサ１の構成は、既述した実施例のいずれか一つと同じである。また設置方法は第１９図のボトムドレン配管５９に設置した時と同じである。また、腐食電位センサ６４と併せて亀裂進展センサ１を設置することにより、従来までの水質評価指標である腐食電位と、亀裂進展センサ１が設置されている環境中における構造材料のき裂進展速度との対応がとれる。
水質試験槽６３を用いることによる効果は、水質試験槽６３を圧力容器より十分離れた人の立ち入りが可能な位置に設置することにより、随時水質モニタリングセンサ１の状態を直接監視できる点である。
第２２図に亀裂進展センサ１をジェットポンプ５３の吊具１００に取付けた例について示す。亀裂進展センサ１の構造は既述した実施例のいずれか一つである。亀裂進展センサ１はＵ字の留具１０１により保持されている。センサ１のカプセル１８にはＵ字留具１０１を掛け回すためのＵ字留具用の溝１０３が形成され、この溝１０３にＵ時留め具１０１が嵌まり合っている。また、カプセルキャップ１９にはセンサ誘導用アイボルト１０２を固定するためのねじが予め加工されている。
Ｕ字留具を固定するためのナット１０６を締め付けることにより、亀裂進展センサ１がセンサ支持板１０５とＵ字留具１０１の間に挾み込まれ、センサ支持板直下に亀裂進展センサ１が半径方向に固定される。また亀裂進展センサ１は、Ｕ字留具固定用の溝１０３により、センサ１の軸方向に固定される。従って、亀裂進展センサ１は、ジェットポンプ吊具１００の穴に固定されるため、運転中に水質モニタリングセンサ１が炉内に飛散することは無い。
産業上の利用可能性
以上のように本発明によれば、実機構造物が曝されている水質環境およびその環境中での構造材料の環境助長割れ特性をモニタリングすることが可能である。特に従来提案されている二重片持ち梁型試験片を用いたものと構造の全く異なる新しいタイプのセンサを提案することで、設備への装着性に優れた小形で信頼性が高い亀裂進展センサ及び亀裂進展測定システムを提供することにある。
また、小形を保持しつつ遠隔から亀裂進展の活性化を図り得る亀裂進展センサも実現することができる。
【図面の簡単な説明】
第１図は本発明の第１実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図、第２図は第１実施例の分解斜視図、第３図は本発明の第２実施例に係る亀裂進展センサと亀裂進展測定システムの組合せを一部断面して示す構成図、第４図は上記実施例に使用する心棒の加熱機構を示す斜視図、第５図は本発明の第２実施例に係る亀裂進展センサの縦断面図、第６図は本発明の第２実施例の分解斜視図、第７図は亀裂進展センサに電位差測定法を適用した場合の較正曲線を従来例と比較して示す説明図、第８図は本発明の第３実施例に係る縦断面図、第９図は本発明の第４実施例に係る縦断面図、第１０図は本発明の第５実施例に係る縦断面図、第１１図は本発明の第５実施例に係る亀裂進展センサからセンサ要素の組立体を取り出した斜視図、第１２図は亀裂進展センサの従来例と本発明の荷重−亀裂進展量特性を示す図、第１３図は上記実施例に用いる円筒型センサ要素の別の態様を示す斜視図、第１４図は上記実施例に用いる円筒型センサ要素の別の態様を示す斜視図、第１５図は本発明の第５実施例に係る縦断面図、第１６図は本発明の第６実施例に係る分解斜視図、第１７図は本発明の亀裂進展センサ及び亀裂測定システムを原子力発電プラントに適用した図、第１８図は本発明の亀裂進展センサを中性子計測管内に配置した状態を示す説明図、第１９図は本発明の亀裂進展センサをドレン配管内に配置した状態を示す説明図、第２０図は本発明の亀裂進展センサをＩＣＭ案内管に配置した状態を示す説明図、第２１図は本発明の亀裂進展センサを水質試験槽内に配置した状態を示す説明図、第２２図は本発明の亀裂進展センサを吊込み治具に配置した状態を示す説明図である。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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