(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基材フィルムの一方の面に、（ａ）厚さ２〜２０μｍのハードコート層を有すると共に、他方の面に、（ｂ）屈折率が１.４７〜１.５６の範囲にある厚さ２〜２０μｍの電離放射線による硬化樹脂層、及び（ｃ）金属酸化物を含む屈折率が１.６５〜１.７２の範囲にある厚さ４０〜２５０ｎｍの電離放射線による硬化樹脂層が順に積層されてなるハードコートフィルムであって、（ｃ）層上に、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム、アンチモンドーブ酸化錫、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物及び金、銀若しくは銅の金属から選ばれた厚さ５〜１００ｎｍの透明導電性薄膜を設けて、タッチパネルのタッチ側プラスチック基板として用いることを特徴とするハードコートフィルム。
【請求項２】
（ｃ）層における金属酸化物が、酸化ジルコニウム及び／又はアンチモンドープ酸化錫である請求項１記載のハードコートフィルム。
【請求項３】
（ｃ）層上に、厚さ５〜１００ｎｍの錫ドープ酸化インジウム膜を有する請求項１又は２記載のハードコートフィルム。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、ハードコートフィルムに関する。さらに詳しくは、本発明は、抵抗膜方式のタッチパネル用として用いられ、屈折率調整層を設けることで、ハードコート性能を低下させることなく、画像の表示性や視認性を向上させたタッチパネル用ハードコートフィルムに関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、市場が増大している携帯用の情報端末への入力装置として、タッチパネルが利用されている。このタッチパネルは、ディスプレイ画面を直接指、ペンなどで触れることによってデータを入力する装置である。
上記タッチパネルは、現在約９割が抵抗膜方式を採用している。該抵抗膜方式のタッチパネルは、一般に透明プラスチック基材の片面に錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）膜などの透明導電性薄膜を積層したタッチ側プラスチック基板と、ガラスなどの透明基材の片面にＩＴＯ膜などの透明導電性薄膜を積層したディスプレイ側透明基板とを、絶縁スペーサを介して、各透明導電性薄膜が向き合うように対向配置させた構造を有している。
そして、入力は、ペンや指でタッチ側プラスチック基板のタッチ入力面（透明導電性薄膜側とは反対側の面をいう。以下、同様）を押圧し、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜と、ディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜とを接触させて行う。
しかしながら、このような抵抗膜方式タッチパネルにおいては、入力操作を繰り返すことにより、すなわちタッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜とディスプレイ側透明基板の透明導電性薄膜との接触を繰り返すことにより、タッチ側プラスチック基板の透明導電性薄膜が摩耗したり、クラックが発生したり、さらには基材から剥離してしまうなどの問題が生じる。そこで、このような問題を解決するために、一般に透明プラスチック基材と透明導電性薄膜との間に、合成樹脂からなるハードコート層を設けることが行われている。
しかしながら、代表的な透明導電性薄膜であるＩＴＯ膜の屈折率は約２であり、一方、合成樹脂からなるハードコート層の屈折率は１.４〜１.６程度であることから、該ＩＴＯ膜によって、短波長側の光が反射し、タッチ側プラスチック基板が黄色みを帯びるという現象が発生する。その結果、表示画像の視認性が低下したり、カラー表示のタッチパネルの場合、本来の色が若干変化し、表示性が低下するなど、好ましくない事態を招来する。
ところで、屈折率が約２のＩＴＯ膜とハードコート層との間に、屈折率を調整する層を設けることで、色目が変化することは、学術的にも知られたことである。しかしながら、ハードコート性能を低下させることなく、あるいはヘイズ値や全光線透過率などの光学特性を損なうことなく、屈折率調整層を設けることは、これまでできないのが実状であった。ハードコート性能が低下すると、ペン入力タイプの場合、筆圧によりハードコート層及びＩＴＯ膜に傷が入りやすくなるし、ヘイズ値が上昇したり、全光線透過率が低下すると、視認性が低下するのを免れない。そのため、ＩＴＯ膜の厚みを薄くして対応することが試みられたが、この場合十分な導電性が得られないという問題があった。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、このような事情のもとで、抵抗膜方式タッチパネルにおけるタッチ側プラスチック基板として用いられるハードコートフィルムであって、ハードコート性能を低下させることなく、あるいはヘイズ値や全光線透過率を損なうことなく、表示性及び視認性などを向上させ得るタッチパネル用ハードコートフィルムを提供することを目的としてなされたものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、前記の優れた機能を有するハードコートフィルムを開発すべく鋭意研究を重ねた結果、基材フィルムのＩＴＯ膜を設ける側のハードコート層上に、このハードコート層の屈折率と該ＩＴＯ膜の屈折率の中間的な屈折率を有するハードコート層を設けることにより、その目的を達成し得ることを見出し、この知見に基づいて本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１）基材フィルムの一方の面に、（ａ）厚さ２〜２０μｍのハードコート層を有すると共に、他方の面に、（ｂ）屈折率が１.４７〜１.５６の範囲にある厚さ２〜２０μｍの電離放射線による硬化樹脂層、及び（ｃ）金属酸化物を含む屈折率が１.６５〜１.７２の範囲にある厚さ４０〜２５０ｎｍの電離放射線による硬化樹脂層が順に積層されてなるハードコートフィルムであって、（ｃ）層上に、酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム、アンチモンドーブ酸化錫、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物及び金、銀若しくは銅の金属から選ばれた厚さ５〜１００ｎｍの透明導電性薄膜を設けて、タッチパネルのタッチ側プラスチック基板として用いることを特徴とするハードコートフィルム、
（２）（ｃ）層における金属酸化物が、酸化ジルコニウム及び／又はアンチモンドープ酸化錫である第１項記載のハードコートフィルム、及び
（３）（ｃ）層上に、厚さ５〜１００ｎｍの錫ドープ酸化インジウム膜を有する第１項又は第２項記載のハードコートフィルム、
を提供するものである。
【０００５】
【発明の実施の形態】
本発明のタッチパネル用ハードコートフィルムにおける基材フィルムとしては特に制限はなく、従来タッチパネル用として使用されている公知の透明プラスチックフィルムの中から適宣選択して用いることができる。このようなプラスチックフィルムとしては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリブチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレートなどのポリエステルフィルム、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、ジアセチルセルロースフィルム、トリアセチルセルロースフィルム、アセチルセルロースブチレートフィルム、ポリ塩化ビニルフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビニルアルコールフィルム、エチレン−酢酸ビニル共重合体フィルム、ポリスチレンフィルム、ポリカーボネートフィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリスルホンフィルム、ポリエーテルエーテルケトンフィルム、ポリエーテルスルホンフィルム、ポリエーテルイミドフィルム、ポリイミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリアミドフィルム、アクリル樹脂フィルム等を挙げることができる。
この基材フィルムの厚さとしては特に制限はないが、通常２０〜３００μｍ、好ましくは５０〜２５０μｍの範囲である。この厚さが２０μｍ未満では機械的強度が不足し、タッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなりすぎ、耐久性が不十分となるおそれがあり、一方３００μｍを超えるとタッチパネルに用いた際に、フィルムを変形させるためのペン荷重が大きくなり、好ましくない。
また、この基材フィルムは、その表面に設けられる層との密着性を向上させる目的で、所望により片面又は両面に、プライマー処理、あるいは酸化法や凹凸化法などにより表面処理を施すことができる。上記酸化法としては、例えばコロナ放電処理、クロム酸処理（湿式）、火炎処理、熱風処理、オゾン・紫外線照射処理などが挙げられ、凹凸化法としては、例えばサンドブラスト法、溶剤処理法などが挙げられる。これらの表面処理法は基材フィルムの種類に応じて適宜選ばれるが、一般にはコロナ放電処理法が効果及び操作性などの面から、好ましく用いられる。
【０００６】
本発明のハードコートフィルムにおいては、前記基材フィルムの一方の面に、（ａ）層としてハードコート層が設けられる。このハードコート層には、その形成用塗工液として、熱硬化型樹脂組成物及び電離放射線硬化型樹脂組成物のいずれも用いることができる。なお、本発明でいう電離放射線とは、電磁波又は荷電粒子線の中でエネルギー量子を有するもの、すなわち、紫外線又は電子線などを指す。
上記、熱硬化型樹脂組成物としては、特に制限はなく、従来公知のものの中から、適宜選択して用いることができる。この熱硬化型樹脂組成物は、一般に熱硬化性樹脂を基本成分とし、さらに所望により他の樹脂及び硬化剤などを含有するものである。該熱硬化性樹脂としては、一般に分子量２００〜２,０００,０００程度のものが用いられる。
上記熱硬化性樹脂としては、例えば炭素−炭素二重結合やグリシジル基を有するアクリレート系重合体、不飽和ポリエステル、イソプレン重合体、ブタジエン重合体、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂などが挙げられる。これらは単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
また、他の樹脂としては、ビニル樹脂、ウレタン樹脂、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、ポリイミド、ニトリル樹脂、シリコーン樹脂などが挙げられる。これらの樹脂は、塗工液の粘度を調節したり、ハードコート層に所望の物性を付与するために用いられるものであり、単独で用いても、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
さらに、硬化剤としては、例えばジベンゾイルペルオキシド、ジラウロイルペルオキシド、ｔ−ブチルぺルオキシベンゾエート、ジ−２−エチルヘキシルペルオキシジカーボネートなどの有機過酸化物、２,２'−アゾビスイソブチロニトリル、２,２'−アゾビス−２−メチルブチロニトリル、２,２'−アゾビスジメチルバレロニトリルなどのアゾ化合物、トリレンジイソシアネート、ジフェニルメタンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネートなどのポリイソシアネート化合物、フェニレンジアミン、ヘキサメチレンテトラミン、イソホロンジアミン、ジアミノジフェニルメタンなどのポリアミン類、ドデセニル無水コハク酸、無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸などの酸無水物、２−メチルイミダゾール、２−エチルイミダゾール、２−フェニルイミダゾールなどのイミダゾール類やジシアンジアミド、ｐ−トルエンスルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸などのルイス酸、ホルムアルデヒドなどが挙げられる。これらの硬化剤は、使用する熱硬化性樹脂の種類に応じて適宜選択される。
【０００７】
また、この熱硬化型樹脂組成物には、所望により、ハードコート層の防眩性、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、耐熱性などの向上を図る目的で、例えばシリカ、アルミナ、水和アルミナなどの各種フィラーを添加してもよい。さらに、各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤なども添加することができる。
一方、電離放射線硬化型樹脂組成物としては、例えば光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマーと所望により光重合開始剤などを含むものを挙げることができる。上記光重合性プレポリマーには、ラジカル重合型とカチオン重合型があり、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーとしては、例えばポリエステルアクリレート系、エポキシアクリレート系、ウレタンアクリレート系、ポリオールアクリレート系などが挙げられる。ここで、ポリエステルアクリレート系プレポリマーとしては、例えば多価カルボン酸と多価アルコールの縮合によって得られる両末端に水酸基を有するポリエステルオリゴマーの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより、あるいは、多価カルボン酸にアルキレンオキシドを付加して得られるオリゴマーの末端の水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。エポキシアクリレート系プレポリマーは、例えば、比較的低分子量のビスフェノール型エポキシ樹脂やノボラック型エポキシ樹脂のオキシラン環に、（メタ）アクリル酸を反応しエステル化することにより得ることができる。ウレタンアクリレート系プレポリマーは、例えば、ポリエーテルポリオールやポリエステルポリオールとポリイソシアネートの反応によって得られるポリウレタンオリゴマーを、（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。さらに、ポリオールアクリレート系プレポリマーは、ポリエーテルポリオールの水酸基を（メタ）アクリル酸でエステル化することにより得ることができる。これらの光重合性プレポリマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよい。
【０００８】
一方、カチオン重合型の光重合性プレポリマーとしては、エポキシ系樹脂が通常使用される。このエポキシ系樹脂としては、例えばビスフェノールやノボラック樹脂などの多価フェノール類にエピクロルヒドリンなどでエポキシ化した化合物、直鎖状オレフィン化合物や環状オレフィン化合物を過酸化物などで酸化して得られた化合物などが挙げられる。
また、光重合性モノマーとしては、例えば１,４−ブタンジオールジ（メタ）アクリレート、１,６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、ネオペンチルグリコールアジペートジ（メタ）アクリレート、ヒドロキシピバリン酸ネオペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート、ジシクロペンタニルジ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジシクロペンテニルジ（メタ）アクリレート、エチレンオキシド変性リン酸ジ（メタ）アクリレート、アリル化シクロヘキシルジ（メタ）アクリレート、イソシアヌレートジ（メタ）アクリレート、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、プロピレンオキシド変性トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレート、トリス（アクリロキシエチル）イソシアヌレート、プロピオン酸変性ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、カプロラクトン変性ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレートなどの多官能アクリレートが挙げられる。これらの光重合性モノマーは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、前記光重合性プレポリマーと併用してもよい。
【０００９】
一方、所望により用いられる光重合開始剤としては、ラジカル重合型の光重合性プレポリマーや光重合性モノマーに対しては、例えばベンゾイン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ベンゾイン−ｎ−ブチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、アセトフェノン、ジメチルアミノアセトフェノン、２,２−ジメトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２,２−ジエトキシ−２−フェニルアセトフェノン、２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、２−メチル−１−［４−(メチルチオ)フェニル］−２−モルフォリノ−プロパン−１−オン、４−（２−ヒドロキシエトキシ）フェニル−２（ヒドロキシ−２−プロプル）ケトン、ベンゾフェノン、ｐ−フェニルベンゾフェノン、４,４'−ジエチルアミノベンゾフェノン、ジクロロベンゾフェノン、２−メチルアントラキノン、２−エチルアントラキノン、２−タ−シャリ−ブチルアントラキノン、２−アミノアントラキノン、２−メチルチオキサントン、２−エチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、２,４−ジメチルチオキサントン、２,４−ジエチルチオキサントン、ベンジルジメチルケタール、アセトフェノンジメチルケタール、ｐ−ジメチルアミン安息香酸エステルなどが挙げられる。また、カチオン重合型の光重合性プレポリマーに対する光重合開始剤としては、例えば芳香族スルホニウムイオン、芳香族オキソスルホニウムイオン、芳香族ヨードニウムイオンなどのオニウムと、テトラフルオロボレート、ヘキサフルオロホスフェート、ヘキサフルオロアンチモネート、ヘキサフルオロアルセネートなどの陰イオンとからなる化合物が挙げられる。これらは１種用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよく、また、その配合量は、前記光重合性プレポリマー及び／又は光重合性モノマー１００重量部に対して、通常０.２〜１０重量部の範囲で選ばれる。
また、この電離放射線硬化型樹脂組成物には、前記の熱硬化型樹脂組成物と同様に、所望により、ハードコート層の防眩性、曲げ弾性率の向上、体積収縮率の安定化、耐熱性などの向上を図る目的で、例えばシリカ、アルミナ、水和アルミナなどの各種フィラーを添加してもよい。さらに、各種添加剤、例えば酸化防止剤、紫外線吸収剤、光安定剤、帯電防止剤、レベリング剤、消泡剤なども添加することができる。
【００１０】
本発明においては、（ａ）層のハードコート層形成用塗工液として、前記熱硬化型樹脂組成物又は電離放射線硬化型樹脂組成物を含む塗工液を調製する。この塗工液の調製には必要に応じ適当な有機溶剤を用いることができる。
この際用いる溶剤としては、例えばヘキサン、ヘプタン、シクロヘキサンなどの脂肪族炭化水素、トルエン、キシレンなどの芳香族炭化水素、塩化メチレン、塩化エチレンなどのハロゲン化炭化水素、メタノール、エタノール、プロパノール、ブタノールなどのアルコール、アセトン、メチルエチルケトン、２−ペンタノン、イソホロンなどのケトン、酢酸エチル、酢酸ブチルなどのエステル、エチルセロソルブなどのセロソルブ系溶剤などが挙げられる。
このようにして調製された塗工液の濃度、粘度としては、コーティング可能な濃度、粘度であればよく、特に制限されず、状況に応じて適宜選定することができる。
次に、前記基材フィルムの一方の面に、上記塗工液を、従来公知の方法、例えばバーコート法、ナイフコート法、ロールコート法、ブレードコート法、ダイコート法、グラビアコート法などを用いて、コーティングして塗膜を形成させ、乾燥後、熱硬化型樹脂組成物を用いる場合には、加熱して該塗膜を硬化させることにより、また電離放射線硬化型樹脂組成物を用いる場合には、電離放射線を照射して該塗膜を硬化させることにより、ハードコート層を形成させる。
前記電離放射線としては、前述したように紫外線や電子線などが用いられる。上記紫外線は、高圧水銀ランプ、ヒュージョンＨランプ、キセノンランプなどで得られ、照射量は、通常１００〜５００mJ／cm2であり、一方電子線は、電子線加速器などによって得られ、照射量は、通常１５０〜３５０kVである。この電離放射線の中では、特に紫外線が好適である。なお、電子線を使用する場合は、重合開始剤を添加することなく、硬化膜を得ることができる。
【００１１】
本発明においては、このようにして形成された（ａ）層のハードコート層は、鉛筆硬度で２Ｈ以上が好ましい。２Ｈより低い硬度では耐擦傷性の点で不十分となるおそれがある。また、該ハードコート層の厚さは２〜２０μｍの範囲で選定される。この厚さが２μｍ未満では耐擦傷性が不十分となるし、２０μｍを超えると該（ａ）層にクラックが発生することがあり、また生産性の面で不利となる。このハードコート層の厚さは２〜１５μｍの範囲が好ましく、特に３〜１０μｍの範囲が好ましい。
当該（ａ）層のハードコート層には、防眩性を付与する目的で、表面に凹凸形状を形成させることができる。この凹凸形状を形成するには、例えば熱硬化型又は電離放射線硬化型樹脂組成物を塗工後、この未硬化層表面に凹凸形状を有する賦形フィルムをラミネートし、該未硬化層を熱硬化処理又は電離放射線による硬化処理したのち、上記賦形フィルムを剥離する方法などを用いることができる。本発明のハードコートフィルムにおいては、基材フィルムの前記（ａ）層のハードコート層が設けられている側の反対側の面に、（ｂ）層として、屈折率が１.４７〜１.５６の範囲にある、電離放射線による硬化樹脂層が設けられる。この（ｂ）層の屈折率が上記範囲を逸脱すると、ＩＴＯ膜を積層した場合に生じる黄色みを抑制する本発明の効果が十分に発揮されにくい。
本発明においては、当該（ｂ）層の厚さは、２〜２０μｍの範囲で選定される。この厚さが２μｍ未満ではハードコート性能が不十分であるし、２０μｍを超えると該（ｂ）層にクラックが発生することがあり、また生産性の面でも不利となる。この（ｂ）層の厚さは２〜１５μｍの範囲が好ましく、特に３〜１０μｍの範囲が好ましい。
前記（ｂ）層には、その形成用塗工液として、電離放射線硬化型樹脂組成物が用いられる。この電離放射線硬化型樹脂組成物としては、前記（ａ）層のハードコート層において説明した電離放射線硬化型樹脂組成物の中から、硬化樹脂層の屈折率が１.４７〜１.５６の範囲にあるものを、適宜選択して用いることができる。なお、当該（ｂ）層の形成方法については、後で説明する。
【００１２】
本発明のハードコートフィルムにおいては、前記（ｂ）層上に、（ｃ）層として、金属酸化物を含む屈折率が１.６５〜１.７２の範囲にある、電離放射線による硬化樹脂層が設けられる。
前記金属酸化物としては、例えば酸化ジルコニウム、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、酸化チタン、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、酸化タンタル、酸化錫、酸化ニオブなどの微粒子を挙げることができる。これらの金属酸化物は、１種を単独で用いてもよいし、２種以上を組み合わせて用いてもよいが、これらの中で、特に酸化ジルコニウム及びＡＴＯが好適である。この金属酸化物としては、平均粒径が１０〜２００ｎｍの範囲にあるもの、特に１０〜８０ｎｍの範囲にあるものが好ましく用いられる。
本発明においては、当該（ｃ）層における金属酸化物の含有量としては、該（ｃ）層の屈折率が１.６５〜１.７２の範囲にあればよく、特に制限されず、使用する金属酸化物の屈折率及び硬化樹脂の屈折率などに応じて、適宜選定されるが、通常、硬化樹脂１００重量部に対し、２００〜６００重量部程度である。（ｃ）層の屈折率が上記範囲を逸脱すると、ＩＴＯ膜を積層した場合に生じる黄色みを抑制する本発明の効果が十分に発揮されない。
当該（ｃ）層の厚さは、４０〜２５０ｎｍの範囲で選定される。この厚さが４０ｎｍ未満のものは形成しにくいし、２５０ｎｍを超える厚い層は必要でなく、むしろ経済的に不利となる。該（ｃ）層の好ましい厚さは４０〜２００ｎｍ、より好ましい厚さは５０〜１５０ｎｍの範囲である。
当該（ｃ）層には、その形成用塗工液として、硬化樹脂層の屈折率が１.６５〜１.７２の範囲になるように、前記金属酸化物を含む電離放射線硬化型樹脂組成物が用いられる。この電離放射線硬化型樹脂組成物としては、前記（ａ）層のハードコート層において説明した電離放射線硬化型樹脂組成物の中から、適宜選択して用いることができる。
【００１３】
本発明においては、前記（ｂ）層及び（ｃ）層の形成は、以下に示す方法で行うのが有利である。
まず、基材フィルムの（ａ）層であるハードコート層側とは反対側の面に、（ｂ）層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を照射してハーフキュア状態に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合には、光量は、通常５０〜１５０ｍＪ／cm2程度である。次いで、このようにして形成されたハーフキュア状態の硬化層上に、（ｃ）層形成用塗工液をコーティングして塗膜を形成させ、電離放射線を十分に照射し、前記（ｂ）層と共に完全に硬化させる。この際、紫外線を照射する場合、光量は、通常４００〜１０００ｍＪ／cm2程度である。
このようにして、基材フィルムの（ａ）層側とは反対側の面に、層間密着性がよく、かつハードコート性能に優れる（ｂ）層及び（ｃ）層が順次形成される。このような構成の本発明のハードコートフィルムは、ハードコート性能を低下させることなく、あるいはヘイズ値や全光線透過率などの光学特性を損なうことなく、前記（ｃ）層上にＩＴＯ膜を積層した場合に従来生じていた黄色みを抑制することができ、タッチパネルに用いた際に、画像の表示性や視認性を向上させることができる。
本発明のハードコートフィルムを、タッチパネルにおけるタッチ側プラスチック基板として用いる場合には、前記（ｃ）層上に、透明導電性薄膜が設けられる。この透明導電性薄膜としては、透明性と導電性を有するものであればよく、特に制限されず、例えば酸化インジウム、酸化錫、酸化亜鉛、錫ドープ酸化インジウム（ＩＴＯ）、アンチモンドープ酸化錫（ＡＴＯ）、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物、金、銀、銅などの金属やその合金などからなる単層又は２層以上の積層構造のものが挙げられる。これらの中で、透明性、導電性、環境安定性、回路加工性などの点からＩＴＯ膜が好適である。
この透明導電性薄膜の厚さとしては、成膜性、導電性、透明性などの点から、５〜１００ｎｍの範囲が好ましく、特に１５〜５０ｎｍの範囲が好適である。
【００１４】
また、前記透明導電性薄膜の形成方法としては特に制限はなく、真空蒸着法、スパッタリング法、イオンプレーティング法などのＰＶＤ法（物理的気相蒸着法）や、ＣＶＤ法（化学的気相蒸着法）などの乾式プロセス、あるいはスプレー法やゾル−ゲル法などの湿式プロセスを用いることができるが、薄膜の均一性などの点から、乾式プロセス、特に真空蒸着法及びスパッタリング法が好ましい。
このようにして形成された透明導電性薄膜がＩＴＯ膜である場合、その屈折率は約２である。したがって、前記（ｃ）層を設けずに、（ｂ）層上に直接ＩＴＯ膜を形成した場合、得られたハードコートフィルムは短波長側の光が反射して、黄色みを帯びることになる。本発明は、前記（ｃ）層として、ＩＴＯ膜の屈折率と（ｂ）層の屈折率の中間である屈折率が１.６５〜１.７２の範囲にある層を設けることにより、該短波長側の光の反射を少なくし、黄色みを帯びることを抑制したものである。
【００１５】
【実施例】
次に、本発明を実施例により、さらに詳細に説明するが、本発明は、これらの例によってなんら限定されるものではない。
なお、ハードコートフィルムの性能は、下記の方法に従って評価した。
（１）全光線透過率及びヘイズ値
日本電色工業(株)製ヘイズメーター「ＮＤＨ−２０００」を使用して測定した。
（２）耐擦傷性
スチールウール＃００００を用い、（ａ）層面を荷重９.８×１０-3Ｎ／mm2で５往復擦った後に目視観察し、下記の判定基準で評価した。
○：傷が付かない
×：傷が付く
（３）透過ｂ*（黄色み評価）
日本電色工業(株)製の同時側光方式分光式色差計「ＳＱ−２０００」を使用し、測定した。透過ｂ*が大きいほど、黄色みが強い。
【００１６】
実施例１
（１）多官能アクリル系樹脂の混合物［荒川化学工業(株)製、商品名「ビームセット５７７」、固形分濃度１００％］１００重量部に、光開始剤［チバ・スペシャリティケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア１８４」］５重量部を添加し、さらに全体の濃度が５０重量％になるようにトルエンで希釈して、（ａ）層形成用塗工液を調製した。
次に、厚さ１８８μｍのポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）フィルム［東洋紡績(株)製、商品名「Ａ４３００」］の一方の面に、上記の（ａ）層形成用塗工液を、完全硬化後の厚さが５μｍになるようにマイヤーバーＮｏ８にて塗布したのち、これに紫外線を光量３００mJ／cm2で照射して、（ａ）層のハードコート層を形成した。
（２）多官能アクリル系樹脂の混合物［荒川化学工業(株)製、商品名「ビームセット５７７」、固形分濃度１００％］１００重量部に、光開始剤［チバ・スペシャリティケミカルズ(株)製、商品名「イルガキュア１８４」］２重量部を添加し、さらに全体の濃度が５０重量％になるようにトルエンで希釈して、（ｂ）層形成用塗工液を調製した。
次に、前記（１）の工程で形成したハードコート層の反対側の面に、上記の（ｂ）層形成用塗工液を、完全硬化後の厚さが５μｍになるようにマイヤーバーＮｏ８にて塗布したのち、これに紫外線を光量８０mJ／cm2で照射して、ハーフキュア状態に硬化させ、ハードコート層を形成した。
（３）酸化ジルコニウム含有紫外線硬化型アクリル系コート剤［ＪＳＲ(株)製、商品名「デソライトＫＺ７２５２Ｃ」、酸化ジルコニウムの平均粒径７０ｎｍ、固形分濃度４６重量％］をイソブチルアルコールで希釈し、固形分濃度２重量％の（ｃ）層形成用塗工液を調製した。
次に、前記（２）の工程で形成したハーフキュア状態のハードコート層上に、上記の（ｃ）層形成用塗工液を、完全硬化後の厚さが７０ｎｍになるようにマイヤーバーＮｏ３にて塗布したのち、これに紫外線を光量５００mJ／cm2照射して、該ハーフキュア状態のハードコート層と共に完全硬化させ、ＰＥＴフィルムの（ａ）層とは反対側の面に、屈折率１.５３の（ｂ）層及び屈折率１.６９の（ｃ）層を順に形成させて、目的のハードコートフィルムを作製した。このハードコートフィルムの性能を第１表に示す。
また、前記（ｃ）層上に、スパッタリングにより厚さ３０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、このハードコートフィルムの透過ｂ*値を測定した。この結果も第１表に示す。なお、該ＩＴＯ膜の屈折率は２である。
【００１７】
実施例２
実施例１（３）の工程において、（ｃ）層形成用塗工液の代わりに、下記に示す塗工液を用いた以外は、実施例１と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製した。（ｃ）層の厚さは７０ｎｍ、屈折率は１.６８であった。
このハードコートフィルムの性能及び実施例１と同様にＩＴＯ膜を設けたハードコートフィルムの透過ｂ*を第１表に示す。
〈（ｃ）層形成用塗工液の調製〉
アンチモンドーブ酸化錫（ＡＴＯ）の分散液［大日本インキ化学工業(株)製、商品名「ＴＡ−０１Ｄ」、ＡＴＯの平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度１０重量％］１００重量部に、紫外線硬化型アクリル系樹脂［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００％］３.３重量部を添加し、さらに全体の固形分濃度が２重量％になるようにイソブタノールで希釈して、（ｃ）層形成用塗工液を調製した。
【００１８】
比較例１
実施例１において、（３）の工程を施さず、（ｃ）層を設けなかったこと以外は、実施例１と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製した。このハードコートフィルムの性能を第１表に示す。
また、（ｂ）層上に、スパッタリングにより厚さ３０ｎｍのＩＴＯ膜を形成し、このハードコートフィルムの透過ｂ*値を測定した。この結果も第１表に示す。
比較例２
実施例１（３）の工程において、（ｃ）層形成用塗工液の代わりに、下記に示す塗工液を用いた以外は、実施例１と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製した。（ｃ）層の厚さは７０ｎｍ、屈折率は１.７４であった。
このハードコートフィルムの性能及び実施例１と同様にＩＴＯ膜を設けたハードコートフィルムの透過ｂ*値を第１表に示す。
〈（ｃ）層形成用塗工液の調製〉
酸化チタン分散液［大日本インキ化学工業(株)製、商品名「ＴＦ−１４Ｄ」、酸化チタンの平均粒径６０ｎｍ、固形分濃度１０重量％］１００重量部に、紫外線硬化型アクリル系樹脂［大日精化工業(株)製、商品名「セイカビームＥＸＦ−０１Ｌ（ＮＳ）」、固形分濃度１００％］２.５重量部を添加し、さらに全体の固形分濃度が２重量％になるようにイソブタノールで希釈して、（ｃ）層形成用塗工液を調製した。
比較例３
実施例１（３）の工程において、（ｃ）層形成用塗工液の代わりに、下記に示す塗工液を用いた以外は、実施例１と同様に実施して、ハードコートフィルムを作製した。（ｃ）層の厚さは７０ｎｍ、屈折率は１.６２であった。
このハードコートフィルムの性能及び実施例１と同様にＩＴＯ膜を設けたハードコートフィルムの透過ｂ*値を第１表に示す。
〈（ｃ）層形成用塗工液の調製〉
五酸化アンチモン含有紫外線硬化型アクリル系樹脂［触媒化成工業(株)製、商品名「ＥＬＣＯＭ  Ｐ−４５７５」、五酸化アンチモンの平均粒径４０ｎｍ、固形分濃度３０重量％］に、全体の固形分濃度が２重量％になるように１−メトキシ−２−プロパノールで希釈して、（ｃ）層形成用塗工液を調製した。
【００１９】
【表１】
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【００２０】
【発明の効果】
本発明のハードコートフィルムは、タッチパネルにおけるタッチ側プラスチック基板用に用いられるものであって、屈折率調整層を設けることにより、ハードコート性能を低下させることなく、あるいはヘイズ値や全光線透過率などの光学特性を損なうことなく、ＩＴＯ膜を積層した場合に従来生じていた黄色みを抑制することができ、タッチパネルの画像表示性や視認性を向上させることができる。