(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料を載置するステージ部を有し、前記ステージ部は、前記ステージ部の内部に流体を供給する供給接続口と、前記ステージ部の内部から前記流体を排出する排出接続口と、を備えたステージ装置において、
前記供給接続口に接続され、前記ステージ部に前記流体を供給する流体供給路と、前記排出接続口に接続され、前記供給された流体を回収する流体回収路と、を備え、
前記流体供給路は、前記流体回収路の前記流体が流通する流通路内に設けられていることを特徴とするステージ装置。
【請求項２】
前記ステージ部は移動可能であり、
前記流体供給路と前記流体回収路とは、前記ステージ部の移動に伴い変形することを特徴とする請求項１記載のステージ装置。
【請求項３】
さらに前記ステージ部の移動を案内するガイド部を備え、
前記流体は気体であって、
該気体は、前記ステージ部と前記ガイド部との両者の間に供給されることを特徴とする請求項２記載のステージ装置。
【請求項４】
前記ステージ部は、所定の気体配分及び所定の気圧により定められる所定雰囲気中に設置され、
前記流体回収路は、前記所定雰囲気に対して異なる雰囲気に接続されていることを特徴とする請求項３記載のステージ装置。
【請求項５】
前記流体回収路の内側の圧力は、前記所定雰囲気の圧力よりも低いことを特徴とする請求項３又は４記載のステージ装置。
【請求項６】
前記ステージ部には、前記流体供給路からの気体を前記ステージ部と前記ガイド部との両者の間に噴出させる静圧パッドと、前記流体回収路に接続されかつ前記静圧パッドを囲むように溝部が設けられていることを特徴とする請求項３、４、又は５記載のステージ装置。
【請求項７】
さらに前記流体回収路とは異なる独立気体回収路を備え、
前記溝部とは異なる第２の溝部を備え、
前記溝部は前記流体回収路に接続され、前記第２の溝部は前記独立気体回収路に接続されていることを特徴とする請求項６記載のステージ装置。
【請求項８】
前記流体回収路又は前記独立気体回収路に各々接続されている前記溝部及び前記第２の溝部のうち、前記静圧パッドに近い溝部における吸引力が、前記静圧パッドに遠い溝部の吸引力より大きく設定されていることを特徴とする請求項７記載のステージ装置。
【請求項９】
試料を載置するステージ部を有し、前記ステージ部は、前記ステージ部の内部に流体を供給する供給接続口と、前記ステージ部の内部から前記流体を排出する排出接続口とを備え、真空環境内で前記基板の表面を処理する基板処理装置において、
前記供給接続口に接続され、前記ステージ部に前記流体を供給する流体供給路と、前記排出接続口に接続され、前記供給された気体を回収する流体回収路とを備え、
前記流体供給路は、前記流体回収路の前記流体が流通する流通路内に設けられることを特徴とする基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、移動可能なステージ部を備え、このステージ部に対して流体の供給、回収を行うステージ装置に関するものである。また、半導体ウェーハ等の基板を処理するフォトリソグラフィ工程や検査工程において、電子ビーム等を利用し真空雰囲気の作業環境内に基板を載置したステージを動作させるような基板処理装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
従来、上記のようなステージ装置若しくは基板処理装置としては、図５に示すようなものが提案されている。これは、真空容器１、エアステージ２、ステージ定盤３、気体供給路４、気体回収路５、独立気体回収路６と、エアパッド２ａ、このエアパッド２ａから噴出する気体の排気口として形成されている第一ガードリング２ｂ及び第二ガードリング２ｃとから概略構成されているものである。このうち、エアパッド２ａ、第一ガードリング２ｂ、第二ガードリング２ｃとはエアステージ２の下面に設けられているとともに、それぞれ気体供給路４、気体回収路５、独立気体回収路６と接続されている。
【０００３】
真空容器１には、その側壁に主排気管１ａと該主排気管１ａの延長端に接続された図示しない真空排気ポンプとが備えられ、これらにより真空容器１内部は所望の真空度に設定される。真空容器１が所定の真空状態とされれば、エアパッド２ａには、気体供給路４を介して圧縮空気が、図中矢印Ｂにて示されるように供給される。これにより、エアステージ２下面からは空気が吹き出し、エアステージ２に自身を浮上させる力が作用することになる。この場合、エアステージ２の重量とエアパッド２ａによる空気の噴出力とがつりあうように、その噴出力は設定される。したがって、エアステージ２は、図５の矢印Ａに示すように、ステージ定盤３に対して相対的な移動が可能となる。そして、供給されたエアーはガードリング２ｂ及びガードリング２ｃ、これらにそれぞれ接続された気体回収路５及び独立気体回収路６を介して、図中矢印Ｃ、Ｄにて示すように真空容器１外部へと排気される。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ところで、上記のような真空容器１内に設けられるエアステージ装置においては、気体供給路４と真空容器１側壁との継手Ｘ、又は気体供給路４とエアステージ２上面との継手Ｙ等を設ける必要がある。したがって、当該継手Ｘ、Ｙ部分からエアーがリークすることがあり、真空容器１内の真空度を低下させることがあった。
【０００５】
また、気体供給路４は、図５に示すように、エアステージ２が可動であることに対応して伸縮自在な樹脂等の材料で構成されている。このため、真空容器１内部に配置された気体供給路４表面に付着したガスが、真空容器１の真空度の増加にともなって放出され、結果真空容器１の真空度を低下させることがあった。
【０００６】
上記のように真空容器１内の真空度が低下すると、当該真空容器１内でのステージ部に載置された基板の処理に悪影響を及ぼすことになる。例えば、この真空容器１が電子ビームを利用した露光装置に適用されることを考えれば、真空容器１内での真空度の低下は、電子のもつエネルギを基板上で有効に利用することができなくなることを意味し、露光を効果的に実施することが不可能になる。また、走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）に適用された場合を考えると、真空度の低下は、像の鮮明さを損なうこととなったり、電子を放出させるフィラメントの焼損等の装置故障原因を招く等の不具合が発生することが考えられる。
【０００７】
本発明は上記事情に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、ステージに流体を供給するための流体供給路を備えたものにおいて、この流体供給路から発生するリークや放出ガスが、真空容器内雰囲気の汚染を引き起こさないようにするためのステージ装置及び基板処理装置を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明は、上記の課題を解決するために以下の手段をとった。
すなわち、請求項１記載のステージ装置は、試料を載置するステージ部を有し、前記ステージ部は、前記ステージ部の内部に流体を供給する供給接続口と、前記ステージ部の内部から前記流体を排出する排出接続口とを備えたステージ装置において、前記供給接続口に接続され、前記ステージ部に前記流体を供給する流体供給路と、前記排出接続口に接続され、前記供給された流体を回収する流体回収路とを備え、前記流体供給路は、前記流体回収路の前記流体が流通する流通路内に設けられていることを特徴とするものである。
【０００９】
これによれば、流体供給路から何らかの理由で漏洩した流体は、流体回収路にとどまり、その漏洩した流体はステージ部に供給された流体とともに流体回収路で回収されることになる。
【００１０】
請求項２記載のステージ装置は、前記ステージ部は移動可能であり、前記流体供給路と前記流体回収路とは、前記ステージ部の移動に伴い変形することを特徴とする。
【００１１】
これによれば、流体供給路と流体回収路とは、ステージ部の移動に伴い、変形することでステージ部の移動を制限することがない。また、ステージ部の移動に伴い流体供給路が変形した際の流体の漏れも流体回収路で覆われているため外部への飛散も抑えられる。
【００１２】
請求項３記載のステージ装置は、さらに前記ステージ部の移動を案内するガイド部を備え、前記流体は気体であって、該気体は、前記ステージ部と前記ガイド部との両者の間に供給されることを特徴とする。
【００１３】
これによれば、ステージ部とガイド部との間には気体が供給され、ステージ部の動きは滑らかなものとなる。また、流体の外部への飛散も抑えられる。
【００１４】
請求項４記載のステージ装置は、前記ステージ部が所定の気体配分及び所定の気圧により定められる所定雰囲気中に設置され、前記流体回収路は、前記所定雰囲気に対して異なる雰囲気に接続されていることを特徴とする。
【００１５】
これによれば、ステージ部が所定雰囲気中に設置されているということから、例えば、当該ステージ部を囲うような容器が存在し、この容器内が真空状態、加圧状態、又はある気体によりパージ（置換）された状態等になっている場合のように、流体回収路にもれることを流体回収路により防ぐことができる。さらに、流体回収路は所定雰囲気とは異なる雰囲気に接続されているので、流体供給路から漏洩した流体は所定雰囲気内に混入することはない。
【００１６】
請求項５記載のステージ装置は、前記流体回収路の内側の圧力が前記所定雰囲気の圧力よりも低いことを特徴とする。
【００１７】
これによれば、被覆管の内側の圧力は、容器の雰囲気の圧力よりも低い状態となり、流体供給路から漏洩した流体回収路の流体は容器内に混入しにくくなる。
【００１８】
請求項６記載のステージ装置は、前記ステージ部には、前記流体供給路からの気体を前記ステージ部と前記ガイド部との両者の間に噴出させる静圧パッドと、前記流体回収路に接続されかつ前記静圧パッドを囲むように溝部が設けられていることを特徴とする。
【００１９】
これによれば、流体供給路には気体が流れ、それが静圧パッドから噴出されることになる。また、流体回収路は、前記静圧パッドを囲む溝部と接続されている。したがって、静圧パッドより噴出した気体は、この溝部を排気口として回収されることとなる。
【００２０】
請求項７記載のステージ装置は、さらに前記流体回収路とは異なる独立気体回収路を備え、前記溝部とは異なる第２の溝部を備え、前記溝部は前記流体回収路に接続され、前記第２の溝部は前記独立気体回収路に接続されていることを特徴とする。
【００２１】
これによれば、静圧パッドから噴出した気体は、複数の溝部で回収されることになる。複数の溝部の少なくとも一つの溝部に接続された流体回収路で気体の漏れを防ぐことができる。さらに独立気体回収路を設けているので、回収力に差をつけることが可能である。
【００２２】
請求項８記載のステージ装置は、前記流体回収路又は前記独立気体回収路に各々接続されている前記溝部及び前記第２の溝部のうち、前記静圧パッドに近い溝部における吸引力が、前記静圧パッドに遠い溝部の吸引力より大きく設定されていることを特徴とする。
【００２３】
これによれば、静圧パッドより噴出した気体は、この静圧パッドに近い溝部で強い吸引力により吸われ、残りの気体を静圧パッドに遠い溝部で回収することになる。
【００２４】
請求項９記載の基板処理装置は、試料を載置するステージ部を有し、前記ステージ部は、前記ステージ部の内部に流体を供給する供給接続口と、前記ステージ部の内部から前記流体を排出する排出接続口とを備え、真空環境内で前記基板の表面を処理する基板処理装置において、前記供給接続口に接続され、前記ステージ部に前記流体を供給する流体供給路と、前記排出接続口に接続され、前記供給された気体を回収する流体回収路とを備え、前記流体供給路は、前記流体回収路の前記流体が流通する流通路内に設けられることを特徴とする。
【００２５】
これによれば、基板を処理する環境が真空中であって、基板を載置するステージ部に気体を供給する時に、流体供給路から何らかの理由で漏洩した気体は、真空管胸中に飛散するようなことなく流体回収路にとどまり、その漏洩した気体はステージ部に供給された気体とともに流体回収路で回収されることになる。
【００２６】
【発明の実施の形態】
以下では、本発明の実施の形態について、図を参照して説明する。なお、以下の説明で参照する図面においては、従来技術等の説明で参照した図面に使用した符号であって、本実施形態においても同一の対象を指すものについては、同一の符号を付して説明することとする。
【００２７】
ステージ装置Ｔは、図１に示すように、真空容器１と、その内部に設けられるエアステージ（ステージ部）２、ステージ定盤（ガイド部）３、気体供給路（流体供給路）４、気体回収路（流体回収路）５、独立気体回収路６等を主な構成要素としている。真空容器１は、この図に示すように、略直方体形状に成形されている。この真空容器１の下方には、この容器内部の気体を排気するための主排気管１ａが接続されている。主排気管１ａの延長端には、図示しない真空容器排気用ポンプ系が繋がれている。真空容器１内部は、この真空容器排気用ポンプ系により所定の真空度（圧力）となるように設定される。なお、このポンプ系の構成は、本発明においては特に限定されるものではなく、ターボ分子ポンプ、デフュージョンポンプ、ロータリーポンプ等、真空容器１内の必要な真空度に対応させて任意の構成としてよい。
【００２８】
エアステージ２とステージ定盤３とは、互いにそれぞれの対向面２ｑ、３ｑを向かい合わせるように近接して設置されている。図１の場合、エアステージ２は、ステージ定盤３の上方に載置されるような形態とされている。すなわち、エアステージ２下面とステージ定盤３上面とが、それぞれの部材における対向面２ｑ、３ｑとなる。エアステージ２の対向面２ｑ中心には、エアパッド（静圧パッド）２ａが、そしてこのエアパッド２ａ周囲を囲むように第一ガードリング（溝部）２ｂ、第二ガードリング（溝部）２ｃが設けられている。このうちエアパッド２ａは、その材質として多孔質のセラミックスが使用されている。また、第一ガードリング２ｂと第二ガードリング２ｃとは、図２に示すように、それぞれエアパッド２ａを中心とした同心円状の溝として設けられている。
【００２９】
これらエアパッド２ａ、第一ガードリング２ｂ、及び第二ガードリング２ｃには、それぞれ気体供給路４、気体回収路５、及び独立気体回収路６が接続されている。
【００３０】
気体供給路４は、図１に示すように、樹脂材料から構成されたチューブ４ａをその構成要素としている。気体供給路４のうち、エアパッド２ａに直接的に連通するのはエアステージ２内部に設けられた連絡路２４ａであり、この連絡路２４ａと前記したチューブ４ａとは、やはりエアステージ２内部に設けられた供給接続口２４に継手４ｃを介して接続されている。また、チューブ４ａの一部は、図１に示すように、伸縮自在なスパイラル構造４ｄとされている。この気体供給路４は、真空容器１外部からエアステージ２内部に気体を供給するために設けられている。本実施形態においては、この気体は圧縮空気であり、これがエアパッド２ａにおいて噴出されてエアステージ２とステージ定盤３の間、すなわち対向面２ｑ、３ｑ間に供給されることにより、当該エアステージ２を浮上させる動力源となる。
【００３１】
気体回収路５の経路は、第一ガードリング２ｂから、エアステージ２内部に設けられた排気室２ｄを介してエアステージ２側面に設けられた排出接続口２５に連通する管路２５ａと、その排出接続口２５から真空容器１側壁に通づるベローズ５ｃ、そして真空容器１外部の配管５ｅから構成されたものとなっている。なお、排出接続口２５と真空容器１側壁の排気口には、それぞれフランジ５ｂ、５ｄが設けられている。図１からわかるとおり、気体回収路５は真空容器１とは異なる雰囲気と接続されていることになる。本実施形態においては、配管５ｅの図示しない延長端に、真空排気ポンプ系が繋がれている。このポンプ系の働きにより気体回収路５の内側の圧力は、真空容器１内部の圧力よりも低い状態とされる。このことにより、第一ガードリング２ｂにおいては、エアステージ２とステージ定盤３との対向面２ｑ、３ｑ間に供給された空気を吸引する力が働く。つまり、ここに存在する空気は、第一ガードリング２ｂを排気口として真空容器１外部に排気されることになる。
【００３２】
ところで、気体供給路４と気体回収路５の両者の配置形態は、図１に示すように、前者が後者の内部に収められたような形態、つまり、気体供給路４が、気体回収路５における気体の排気方向の流れが存在する気体の流通路内に設けらているような形態となっている。より具体的に言えば、気体供給路４における継手４ｃ以降の部分、すなわちチューブ４ａが、気体回収路５を構成するところの排気室２ｄ、フランジ５ｂ、ベローズ５ｃ、フランジ５ｄ、配管５ｅの内部を挿通するような形態となっている。今の説明と図１からわかるとおり、前記した供給接続口２４は排気室２ｄ内に設けられるようになっている。
【００３３】
なお、チューブ４ａの延長端は、配管５ｅ内から外部に引き出され、さらにその先は、図示しないエアーコンプレッサに繋がれている。なお、配管５ｅとチューブ４ａとが交差する部分は、図示していないが既知の方法によって、外部環境と気体の出入りがないような適当な措置がとられている。また、気体供給路４におけるスパイラル構造４ｄと気体回収路５におけるベローズ５ｃとは、同一の箇所に配置されるようにされている。ちなみに、これらスパイラル構造４ｄ及びベローズ５ｃは、エアステージ２の移動にともなって、気体供給路４及び気体回収路５が共に無理なく変形するように設けられているものである。
【００３４】
独立気体回収路６の経路は、先に述べた気体回収路５とほぼ同様な構成とされている。すなわち、第二ガードリング２ｃから管路２６ａを通じて、エアステージ２側面に至り、そこからベローズ６ｃにより真空容器１側壁へ、そして真空容器１外部の配管６ｅに接続されたものとなっている。また、エアステージ２側面と真空容器１側壁にフランジ６ｂ、６ｄが設けられていること、また、配管６ｅの図示しない延長端に、真空排気ポンプ系が接続されていることも先の気体回収路５と同様である。ただし、独立気体回収路６は、その名が意味するとおり、気体回収路５とは独立の関係にある。すなわち、第二ガードリング２ｃから配管６ｅにつながる真空排気ポンプ系に至るまでの構成と、第一ガードリング２ｂから配管５ｅにつながる真空排気ポンプ系に至るまでの構成とは、互いに独立とされている。
【００３５】
本実施形態において、この独立気体回収路６と先の気体回収路５との関係における大きな相違点は、前記した気体供給路４をその内部に備えているかいないかということであるが、その他に、両者につなげられる真空排気ポンプ系の構成も異なるものとされている。すなわち、気体回収路５に接続されている真空排気ポンプ系の吸引力の方が、独立気体回収路６に接続されている真空排気ポンプ系のそれよりも、大きく設定されている。具体的には、独立気体回収路６の方には、さきの主排気管１ａに接続されたものと同様な構成の真空排気ポンプ系が接続される一方、気体回収路５の方には、大気圧からの吸引が可能な吸引力の大きいロータリポンプを利用する。このような構成とされるのは、エアパッド２ａから噴出された空気を、真空容器１内に拡散させないために、よりエアパッド２ａに近い第一ガードリング２ｂ部分において、より多くの空気を真空容器１外部へ排出するためである。
【００３６】
このような構成となるステージ装置Ｔは、気体供給路４から圧縮空気が静圧パッド２ａから噴出することによって、エアステージ２を浮上させることとなり、図１中矢印Ａに示すように、図面にて左右への移動が自在となる。なお、このとき、エアステージ２の運動を安定したものとするために、図示しないエアステージ用ガイドがその運動方向に沿って設けられている。また、このエアステージ用ガイドは、場合によっては図１に示す矢印Ａに示す方向と紙面に対して直交するような方向、すなわち、紙面に垂直な方向に移動が可能なようなエアステージ用ガイドを設けてもよい。
【００３７】
また、上記のようなステージ装置Ｔは、例えば、電子ビームを光源とした極細線パターンの露光を可能とする基板処理装置Ｖの一部として使用される。ちなみに、電子ビームを利用する際に真空が必要となるのは、放出された電子が空気を構成する分子に散乱されるのを避け、十分な平均自由工程を保障し、電子のもつエネルギを基板上で有効に活用するためである。
【００３８】
この場合において、エアステージ２上方には図示しない基板（試料）が載置され、そのさらに上方に、パターンが形成されたマスク、電子ビーム銃（これらも共に不図示）等がそれぞれ設けられることになる。これらマスクや電子ビーム銃は、真空容器１内で可動あるいは固定されていてもよいが、これら各機構による露光の方法そのものは、基本的に通常の光源を利用したものと原理自体は同様である。すなわち、電子ビーム銃から放出された電子がマスク上の該当するパターン領域を通過、基板上を露光し所望の回路パターン等を焼き付けることになる。このとき、基板はその上面のショット領域に対応してエアステージ２とともに移動することになる。
【００３９】
なお、基板処理装置Ｖを使用するものとしては、上記のような電子ビームを光源として利用するものの他に、軟Ｘ線、イオンビーム等を利用するものもある。さらに、露光装置以外においても、上記のような可動部材を内部に備えた基板処理装置Ｖは、各種検査装置、走査型電子顕微鏡等でも利用可能である。
【００４０】
以下では、上記の構成となるステージ装置Ｔ若しくは基板処理装置Ｖの作用及び効果について説明する。
まず、真空容器１内を所望の真空度となるよう、主排気管１ａから真空容器排気用ポンプ系により排気を行う。所望の真空度に達したら、チューブ４ａに図示しないエアーコンプレッサより圧縮した空気を、図１矢印Ｂに示すように導入し、エアステージ２のエアパッド２ａに空気を供給する。エアパッド２ａに達した空気はステージ定盤３の上面に対して噴出されることになり、この反作用によってエアステージ２には浮力が働く。したがって、エアステージ２とステージ定盤３との対向面２ｑ、３ｑの間には薄い空気層が形成されるから、互いの相対運動が可能となり、かつ円滑なものとなる。
【００４１】
エアパッド２ａには、エアステージ２とステージ定盤３との対向面２ｑ、３ｑ間における上記のような薄い空気層を形成、維持するために、気体供給路４を通じて絶え間なく空気が送り込まれる。しかし、このままでは真空容器１内の真空度の低下を招くため、適度な空気層を維持するために、送り込まれた空気のうち剰余分を排気しなければならない。ガードリング２ｂ、２ｃは、これを実現するためエアステージ２の対向面２ｑにおける排気口として働く。つまり、この剰余分の空気は、これらガードリング２ｂ、２ｃから、管路２５ａ、２６ａを通り、ベローズ５ｃ、６ｃ等から構成される気体回収路５、独立気体回収路６を通じて、図１矢印Ｃ、Ｄに示すように排気されることになる。これにより、対向面間には適当な厚さの空気層を維持することが可能となる。
【００４２】
ところで、上記の気体供給路４は、その経路途中においてチューブ４ａとエアステージ２内部の連絡路２４ａとの供給接続口２４に継手４ｃが設けられていた。気体供給路４に送り込まれる気体は高圧の空気であるから、この継手４ｃのような場所からは、いわゆるリークが発生しやすい。しかし、この気体供給路４は、上で説明したように気体回収路５の内部に配置された形態となっている。したがって、継手４ｃの部分から万一リークが発生しても、気体回収路５内に働いている吸引力により、このリークにより発生したガスは、速やかに真空容器１外部へと排出されることになる。つまり、真空容器１内部を汚染することがない。また、気体供給路４であるところのチューブ４ａ表面に付着したガスが放出した際にも、そのガスは上記と同様に気体回収路５内を通って、真空容器１外部へと排出される。したがって、これによっても真空容器１内部を汚染することがない。
【００４３】
このように、気体供給路４を原因として発生するリークやチューブ４ａ外表面からのガス放出等は、気体回収路５がその発生したガスを真空容器１外部へと排気することから、真空容器１内部を汚染する恐れは回避することができる。つまり、真空容器１内部は常に好適な真空度に保持することが可能となる。ちなみに、本実施形態における気体供給路４の設置形態は、従来の例と比較してわかるように真空容器１側壁と気体供給路４との接続部を設ける必要がなくなっている（図５中の継手Ｘ参照）。このことも、真空容器１内部の真空度を一定に保つには好都合であることは容易にわかる。
【００４４】
その他、本実施形態における効果としては、以下のようなものが挙げられる。まず、気体の供給及び回収とを行う機構が、上記のように同軸上に存在している形態となっていることから、場所をとらないコンパクトなステージ装置Ｔ若しくは基板処理装置Ｖを提供することができる。また、気体供給路４と気体回収路５におけるスパイラル構造４ａ及びベローズ５ｃの存在により、当該気体供給路４及び気体回収路５はそのエアステージ２の動きを制限することがないため、円滑なエアステージ２の移動が保障される。さらに、エアステージ２下面に設けられた二つのガードリング２ｂ、２ｃ、及びこれら各々に接続され、異なる吸引力の真空排気ポンプ系を備えたそれぞれ独立の気体回収系（気体回収路５、独立気体回収路６）の存在により、エアパッド２ａから噴出した空気を効率的に回収することができる。
【００４５】
以下本実施形態に関する補足事項について述べる。
まず、上記したエアステージ２内部には、第一ガードリング２ｂから排気室２ｄに至る（排気室２ｄそのものは含まず）部分までの管路２５ａが設けられていたが、本発明においては、この部分の管路２５ａを必ずしも設ける必要はない。この場合においては、気体回収路５は、対向面２ｑ、３ｑ間の空気を排気する機能を失うこととなるが、気体供給路４に起因して発生した気体、すなわち継手４ｃからリークした空気やチューブ４ａ表面から放出したガスの排出機能はそのまま存続している。したがって、真空容器１内部を汚染するようなことはない。また、この状況に加えて、場合によっては、気体回収路５に真空容器１外で接続されている真空排気ポンプ系を設けずに、真空容器１外の大気圧雰囲気に気体回収路５を接続するような形態としてもよい。このとき、気体回収路５内に気体供給路４からリークした空気等が強制的に排気されるということもなくなるが、この空気は依然として気体回収路５の内部に留まる。したがって、この場合もやはり真空容器１内部を汚染するようなことはない。いずれにしても、気体回収路５は、真空容器１内で、気体供給路４をその内部に配置するような形態とされ、真空容器１内部の真空度を低下させることがないような配慮がされていればよい。
【００４６】
また、上記の実施形態では、エアパッド２ａが、エアステージ２の対向面２ｑに一つだけ設けられているものに関するステージ装置Ｔ若しくは基板処理装置Ｖについての説明を行ったが、本発明はこの事例に限定されるものではない。例えば、エアパッド２ａが複数設けられているような形態であってもよい。この場合、各エアパッド２ａに気体供給路４が接続されるとともに、そのそれぞれを中心としたガードリング２ｂ、２ｃが形成されている。このとき、気体供給路４のチューブ４ａ延長端に設けられるエアーコンプレッサーは、各エアパッド２ａに関して共通のものを使用してもよいし、それぞれ独立した形態となっていてもよい。同様に、複数のガードリング２ｂに接続される、やはり複数の気体回収路５延長端に設けられる真空排気ポンプ系は、各々で共通のものを使用してもよいし、独立としてもよい。これは独立気体回収系６にも同様に言えることである。ちなみに、エアステージ２全面にわたって設けられる複数のエアパッド２ａは、その面上でバランスよく配置されることが好ましいことは言うまでもない。
【００４７】
さらに、エアパッド２ａをエアステージ２の上下それぞれの面に対して設けるようにしたものであってもよい。この場合においては、エアステージ２上面に近接するような新たな対向面をもつステージ定盤が別途用意される。また、このときエアステージ２のバランスをとるためには、さきの例のようにエアステージ２の重量とエアパッド２ａとの空気噴出力とがつり合うように調整するのではなく、エアステージ２上下面それぞれに設けられたエアパッド２ａの空気噴出力を調整してエアステージ２のバランスをとることになる。また、このときの気体回収系も上記複数のエアパッド２ａを設ける例と同様に、それぞれのエアパッド２ａに対応するように設ける。
【００４８】
加えて、エアパッド２ａの周囲を囲うガードリング２ｂ、２ｃは、二本に限られるものではない。つまり、三本以上であってもよい。また、ガードリング２ｂ、２ｃは、円形状の溝でなくてもよく、例えば、正方形状、三角形状等であっても問題ない。要はエアパッド２ａを囲うような溝であって、これが該エアパッド２ａから噴出する空気を吸入する排気口として働くような能力を備えたものであればよい。
【００４９】
また、本実施形態においてはエアパッド２ａをエアステージ２面に応用する場合について述べたが、例えば、図３、図４に示すように、シャフト軸Ｓ外表面の周方向にエアーパッドＳａを複数配置して軸受回転機構に適用したようなものであってもよい。このエアーパッドＳａは、エアステージ２面に利用された平坦面をもつものではなく湾曲面をもつものとなる。これによれば、この湾曲面と軸受１００内周面との対向部分において空気層が形成され、互いの相対的な運動を円滑なものとする。ちなみに、図３、図４に示す場合では、エアーパッドＳａに接続される気体供給路（流体供給路）４０はすべてのエアーパッドＳａと並列に接続されており、その延長端では、図示しない共通のエアーコンプレッサーが繋がれている。また、気体回収系として、シャフト軸Ｓ内部にその軸方向に延在する気体回収路（流体回収路）５０が設けられ、各エアーパッドＳａを正方形状にて囲むようなガードリング５０ａが形成されている。このガードリング５０ａは環状とはされていないが、さきに述べたガードリング２ｂ、２ｃと同様な目的で形成されていることは言うまでもない。そして、上記気体供給路４０は、気体回収路５０の内部に位置するような形態となっており、気体供給路４０に由来したリーク等により発生するガスは、ただちに排気されることになる。
【００５０】
最後に、本実施形態においてはエアステージ２に圧縮空気が供給されるものとなっていたが、本発明はこのことに特にこだわるものではない。例えば、エアステージ２に何らかの理由により冷却が必要であって、冷却水を供給するような場合においても本発明の適用が可能である。すなわち、この場合、前記した気体供給路４及び気体回収路５の代用として、冷却水を供給する流体供給路と、当該流体供給路を内部に配置する流体回収路が用意されることになる。また、エアステージ２が設置される雰囲気は、真空雰囲気に限る必要はない。例えば、加圧状態とされた容器や、またある気体によりパージされた状態となっているような容器内にエアステージ２が設置されるような状況も、本発明の概念の範囲内である。
【００５１】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１記載のステージ装置は、流体供給路が流体回収路の流体が流通する流通路内に設けられている。このことから、流体供給路から何らかの理由で漏洩した流体は、外部へ飛散するようなことなく流体回収路にとどまり、その漏洩した流体はステージ部に供給された流体とともに流体回収路で回収されることになる。したがって、流体がステージ部周囲を汚染するようなことがなく清浄な作業環境を提供することが可能となる。さらに、コンパクトなステージ装置を提供することが可能となる。
【００５２】
請求項２記載のステージ装置は、移動可能なステージ部に接続され、流体供給路と流体回収路とはステージ部の移動にともない変形する。この変形によりステージ部の移動が制限されることなく、流体がステージ部周囲を汚染するようなことがなく、コンパクトなステージ装置を提供することが可能となる。
【００５３】
請求項３記載のステージ装置は、ステージ部とステージ部の移動を案内するガイド部とを備え、ステージ部とガイド部との両方の間に気体を供給する。これにより、ステージ部はガイド部に対して円滑な動作を行うとともに、流体供給路から供給された気体は流体回収路で回収される。また、流体供給路から漏れた気体に対しても流体回収路で回収されることになり、気体がステージ部周囲を汚染するようなことがなく清浄な作業環境を提供することが可能となる。
【００５４】
請求項４記載のステージ装置は、ステージ部が所定雰囲気中に設置され、流体回収路が前記所定雰囲気に対して異なる雰囲気に接続されている。これにより、回収した気体がステージ部のある所定雰囲気中に拡散することなく、気体がステージ部周囲を汚染するようなことがなく清浄な作業環境を提供することが可能となる。
【００５５】
請求項５記載のステージ装置は、流体回収路の内側の圧力が所定雰囲気中の圧力よりも低いことから、流体供給路で供給された気体を気体回収路に導くことになる。したがって、ステージ部周囲の清浄な環境を保持することに貢献する。
【００５６】
請求項６記載のステージ装置は、前記ステージ部に静圧パッド、及びこの静圧パッドを囲む溝部が設けられている。また、この溝部は、前記流体回収路に接続されている。これらのことから、流体供給路から供給された気体は静圧パッドから噴出し、この噴出した気体は溝部により回収されることになる。したがって、ステージ部とガイド部との両者の間に供給される気体を効率的に供給及び回収することが可能となる。
【００５７】
請求項７記載のステージ装置は、ステージ部に溝部と第２の溝部とが形成され、溝部が流体回収路に接続され、第２の溝部が独立気体回収路に接続されている。これにより溝部毎に吸引力を変えることができる。
【００５８】
請求項８記載のステージ装置は、前記流体回収路又は前記独立気体回収路に各々接続されている前記溝部及び前記第２の溝部のうち、前記静圧パッドに近い溝部における吸引力が、前記静圧パッドに遠い溝部の吸引力より大きくされていることから、静圧パッドに近い溝部で気体が流体回収路に導かれ、周辺でその残りを回収することになる。したがって、静圧パッドに供給される気体を効率的に回収することが可能となる。
【００５９】
請求項９記載の基板処理装置は、基板を載置するステージ部が真空中にあって、流体供給路が流体回収路の気体が流通する流通路内に設けられている。このことから、流体供給路から何らかの理由により漏洩した気体は、外部へ飛散するようなことなく流体回収路に留まり、その漏洩した気体はステージ部に供給された気体とともに流体回収路で回収されることになる。したがって、気体がステージ部周囲を汚染するようなことがなく、清浄な作業環境を提供することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明にかかる実施形態の基板処理装置を示す断面図である。
【図２】  図１に示した基板処理装置におけるステージの対向面を示す正面図である。
【図３】  図１、図２に示す実施形態とは別の形態を示す斜視断面図である。
【図４】  図３に示す実施形態の断面視した正面図である。
【図５】  従来の基板処理装置を示す断面図である。
【符号の説明】
２  エアステージ（ステージ部）
２ａ、Ｓａ  エアパッド（静圧パッド）
２ｂ  第一ガードリング（溝部）
２ｃ  第二ガードリング（溝部）
３  ステージ定盤（ガイド部）
４、４０  気体供給路（流体供給路）
５、５０  気体回収路（流体回収路）
６  独立気体回収路（気体回収系）
２４  供給接続口
２５  排出接続口
Ｔ  ステージ装置
Ｖ  基板処理装置
Ｓ  シャフト（ガイド部）
１００  軸受（ステージ部）
５０ａ  ガードリング（溝部）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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