(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
リターデーション値が４０００ｎｍ以上の一軸延伸高分子フィルム（１１）の、少なくとも片方の面に非晶質である透明導電性薄膜（１２）を形成してなる透明導電性フィルム（１）であって、かつ一軸延伸高分子フィルム（１１）と非晶質である透明導電性薄膜（１２）との付着力が１５ｇ／１５ｍｍ以上であることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項２】
請求項１記載の一軸延伸高分子フィルム（１１）が一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムであることを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項３】
請求項１記載の透明導電性フィルム（１）の透明導電性薄膜（１２）を形成していない面に反射防止処理層（ＡＲ）を積層したことを特徴とする透明導電性フィルム。
【請求項４】
請求項１記載の透明導電性フィルム（１）を少なくとも片方のパネル板に有する一対のパネル板であって、透明導電性薄膜（１２）が対向するようにスペーサーを介して配置してなることを特徴とする透明タッチパネル。
【請求項５】
請求項４記載の透明タッチパネルを上側偏光板（４）と液晶パネル（５）の間に、配設してなることを特徴とする液晶表示素子。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、液晶表示素子の上側偏光板と液晶パネルの間に配置する使い方をするプラスチックフィルムを用いた透明導電性フィルム、およびこれを用いた透明タッチパネルに関するものであり、殊に、タッチパネルに用いた際のペン入力耐久性に優れたものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラスチックフィルム上に透明かつ低抵抗な化合物薄膜を形成した透明導電性フィルムは、従来、その導電性を利用した用途、例えば、液晶ディスプレイ、ＥＬディスプレイ、エレクトロクロミックディスプレイなどの表示素子の電極、太陽電池などの光電変換素子の窓電極、電磁波シールドの電磁波遮蔽膜、あるいは透明タッチパネルなどの入力装置の電極として広く使用される。
【０００３】
従来公知の透明導電層としては、金、銀、白金、パラジウムなどの貴金属薄膜と、酸化インジウム、酸化スズ、酸化インジウム−スズ、酸化亜鉛などの酸化物半導体薄膜とが知られている。
【０００４】
近年、携帯情報端末の普及により、入力や操作性の簡便さが要求され、表示画面上の任意の点を押圧することにより入力できるペン入力タイプが広く用いられるようになってきている。ペン入力の方式としては、静電容量方式や光センサー方式、タッチパネル方式が知られている。特に、タッチパネル方式は、位置検出がアナログ的であり、高分解能であることや、周辺装置がコンパクトにできることなどの特徴があり、ワープロ、パソコン、電子手帳等、携帯用や個人用の情報端末に多く使われてきている。
【０００５】
上記のタッチパネルの用途に用いられる透明導電性フィルムは、基本的には導電層（殊にＩＴＯ層）／高分子フィルムの層構成を有し、透明タッチパネルとして使用するときは、２枚の透明導電性フィルムの導電層側をスペーサを介いて対向配置して用いる。
【０００６】
ところで、通常の透明タッチパネルは、液晶表示素子の最上面に重ね合わせて用いる使い方をするため、透明性、機械的性質、表面平滑性、耐溶剤性、耐スクラッチ性、非透湿性、コストなどの総合性能を考慮して二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いるのが一般的である。
【０００７】
この透明タッチパネルにおいては、通常、液晶表示素子の最上面に重ね合わせて用いられるため、光の反射を少なくすることによる視認性の向上、表示装置全体の軽量化やペン入力により導電性が劣化しないなどの耐久特性が求められている。
【０００８】
光の反射を少なくすることによる視認性の向上を目的としては、透明タッチパネルの上面に更に反射防止フィルムを設置する方法や、透明導電性フィルムの導電層の反対側の面に、反射防止層をドライコート法やウェットコート法により設ける方法が、提案されている。
【０００９】
また、同様に視認性を向上させるために、例えば、特開平８−１５５９８８号、特開平８−１６１１１６号等で提案されているような、光等方性を有する透明導電性フィルムを用い、透明タッチパネルを液晶表示素子の偏光板の下に設置する方法が提案されている。
【００１０】
また、ペン入力により導電性が劣化しないなどの耐久特性の向上としては、例えば、１２０μｍ以下の厚さの透明プラスチック上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の透明基体と貼りあわせた透明導電性フィルム（特開平２−６６８０９号）が提案されている。
【００１１】
また、透明なプラスチックフィルム上に有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルム（特開昭６０−１３１７１１号）が提案されている。
【００１２】
【発明が解決しようとする課題】
最近、透明タッチパネルを配設した液晶表示機器において、光の反射を少なくすることによる視認性の向上、表示装置全体の軽量化、また、ペン入力により導電性が劣化しないなどの耐久性の向上が要求されるようになってきている。そのため、通常の液晶表示素子の最上面に重ね合わせて用いる方法では、光の反射を少なくすることによる視認性の向上には、自ずと限界があり、また、部品点数、層数の増加による、表示面の輝度の低下、重量増といった問題がある。
【００１３】
前述の視認性を向上させるため方法として提案されている、光等方性を有する透明導電性フィルムを用い、透明タッチパネルを液晶表示素子の偏光板の下に設置する方法では、光等方性を有するベースフィルムに用いる必要があるため、通常の二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムは用いることができず、製造コストが高くなる問題がある。
【００１４】
また、前述のペン入力により導電性が劣化しないなどの耐久性を向上させるため方法として提案されている、透明プラスチック上に透明導電性薄膜を形成し、粘着剤層で他の透明基体と貼りあわせた透明導電性フィルムを用いる方法では、ペン入力に対する耐久性は十分ではない。また、粘着剤を用いて貼り合わせるため、貼り合わせ時にゴミなどの異物が混入し、光学欠点の多い透明導電性フィルムとなってしまう。
【００１５】
また、透明なプラスチックフィルム上に有機ケイ素化合物の加水分解により生成された層を設け、さらに透明導電性薄膜を積層した透明導電性フィルムを用いる方法では、この透明導電性フィルムは、耐久性を得るために透明導電性薄膜を製膜した後に１５０℃程度の熱処理を行い、結晶質の透明導電性薄膜としている。このため、タッチパネル作製時の透明導電性薄膜のエッチング特性が極めて悪く、透明タッチパネルの製造コストが高いものになる。
【００１６】
従って、本発明は、上記課題を解決しようとするものであり、透明タッチパネル用の透明導電性フィルムにおいて、視認性を低下させることがなく、しかも、ペン入力耐久性等の性質を兼ね備え、更に低コストで製造できる透明タッチパネル用透明導電性フィルムを提供することを目的としている。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決するために鋭意検討した結果、特定のリターデーション値を有する一軸延伸高分子フィルム上に非晶質である透明導電性薄膜を形成した透明導電性フィルムを、液晶パネルと上側偏光板の間に配設することにより、上記目的を達成できることを見出し、本発明に至った。
【００１８】
即ち、本発明は、リターデーション値が４０００ｎｍ以上の一軸延伸高分子フィルム（１１）の少なくとも片方の面に非晶質である透明導電性薄膜（１２）を形成した透明導電性フィルム（１）であって、かつ一軸延伸高分子フィルム（１１）と非晶質である透明導電性薄膜（１２）との付着力が１５ｇ／１５ｍｍ以上である透明導電性フィルム。あるいは、該透明導電性フィルムの透明導電性薄膜を形成していない面に反射防止処理層（ＡＲ）を積層した透明導電性フィルム。
【００１９】
また、透明導電性フィルム（１）の一軸延伸高分子フィルム（１１）がポリエチレンテレフタレートフィルムである透明導電性フィルム。
【００２０】
また、該透明導電性フィルムを有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜（１２）が対向するようにスペーサーを介して配置してなる透明タッチパネル。
該透明タッチパネルを上側偏光板（４）と液晶パネル（５）の間に配置してなる液晶表示素子。
【００２１】
以下、本発明について詳細に説明する。
【００２２】
本発明における透明導電性フィルムは、構成する基材フィルムが一軸延伸高分子フィルムであることを特徴とする透明導電性フィルムであり、また、基材フィルムの少なくとも片面に透明導電性薄膜が形成されていることを特徴とする透明導電性フィルムであり、更には、上記透明導電性フィルムを用いることを特徴とする透明タッチパネルであり、次の方法によって製造することができる。但し、この方法に限定されるものではない。
【００２３】
本発明における一軸延伸高分子フィルム（１１）とは、有機高分子を溶融押出しをして、必要に応じ、長方形または幅方向に延伸、冷却、熱固定を施したフィルムであり、有機高分子としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエチレンテフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレート、ナイロン６、ナイロン４、ナイロン６６、ナイロン１２、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリエーテルサルファン、ポリエーテルエーテルケトン、ポリカーボネート、ポリアリレート、ポリアクリル、セルロースプロピオネート、ポリ塩化ビニール、ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール、ポリエーテルイミド、ポリフェニレンスルフィド、ポリフェニレンオキサイド、ポリスチレン、シンジオタクチックポリスチレン、ノルボルネン系ポリマーなどがあげられる。また、これらの有機高分子は他の有機重合体を少量共重合したり、ブレンドしたりしてもよい。これらのうちポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン−２，６−ナフタレート、ポリプロピレンテレフタレートなどのポリエステルフィルムが最も好ましく用いられる。
【００２４】
また、一軸延伸高分子フィルムは、リタデーション値が４０００ｎｍ以上、殊に５０００ｎｍ以上のフィルムが好ましい。４０００ｎｍ以上あれば可視光領域において干渉縞の間隔が十分広がるため、光学的に等方であるのと同様になる。しかし、４０００ｎｍよりも小さい場合には、干渉縞が液晶表示パネルに表れて、表示品位が低下する。また可視光線透過率は、７５％以上のものが用いられる。ここで、リタデーション値とは、フィルム上の直交する二軸の屈折率の異方性（△N=｜Nx−Ny｜）とフィルム厚ｄとの積（△N ×d ）である。一軸延伸ポリエステルフィルムとしては、単層のみならず、複層であってもよい。
【００２５】
本発明における一軸延伸高分子フィルムの厚みは、１０μｍを越え、３００μｍの範囲にあることが好ましく、とくに好適には５０〜２００μｍの範囲にあるのがよい。１０μｍ以下では機械的強度が不足し、特にタッチパネルに用いた際のペン入力に対する変形が大きくなり過ぎ、耐久性が十分でなくなる。一方、３００μｍを越えると、タッチパネルに用いた際のペン入力時の荷重を大きくする必要があり、好ましくない。
【００２６】
本発明における透明導電性薄膜としては、透明性、及び導電性をあわせもつ材料であれば特に制限はないが、代表的なものとしては、酸化インジウム、酸化亜鉛、酸化スズ、インジウム−スズ複合酸化物、スズ−アンチモン複合酸化物、亜鉛−アルミニウム複合酸化物、インジウム−亜鉛複合酸化物等の薄膜がある。これらの化合物薄膜は、適当な作成条件とすることで、透明性と導電性をあわせもつ透明導電性薄膜となることが知られている。
【００２７】
透明導電性薄膜の膜厚としては、４０〜８０００Åの範囲が好ましく、さらに好ましくは５０〜５０００Åである。透明導電性薄膜の膜厚が４０Åよりも薄い場合、連続した薄膜になりにくく良好な導電性を示さない。また、８０００Åよりも厚い場合、透明性の低下をきたす。
【００２８】
透明導電性薄膜の作成方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法、スプレー法、ゾル−ゲル法などが知られており、上記材料の種類および必要膜厚に応じて適宜の方法を用いることが出来る。
【００２９】
例えばスパッタリング法の場合、化合物を用いた通常のスパッタリング法、あるいは、金属ターゲットを用いた反応性スパッタリング法等が用いられる。この時、反応性ガスとして、酸素、窒素、水蒸気等を導入したり、オゾン添加、イオンアシスト等の手段を併用してもよい。また、本発明の目的を損なわない範囲で、基板に直流、交流、高周波などのバイアスを印加してもよい。
【００３０】
非晶質の透明導電性膜を製膜するためには、基板である一軸延伸高分子フィルムの製膜時の温度を１００℃以下にする必要が有る。また、蒸着法、ＣＶＤ法などの他の作成方法においても同様である。
【００３１】
一軸延伸高分子フィルムと透明導電性薄膜との接着性をさらに向上させるために、透明導電性薄膜を製膜する前に一軸延伸高分子フィルム上を表面処理することが有効である。具体的な手法としては、サンドブラストやエンボス加工により表面積を増加させる物理的表面粗面化処理法や、カルボニル基やカルボキシル基、水酸基を一軸延伸高分子フィルム上に増加するために、グローまたはコロナ放電を照射する放電処理法、水酸基、カルボニル基などの極性基を増加させるために、酸またはアルカリで一軸延伸高分子フィルムを処理する化学薬品処理法などが挙げられる。これらのうち、一軸延伸高分子フィルムと透明導電性薄膜との接着性への寄与、経時安定性、処理コストの点から、酸性またはアルカリ性水溶液による一軸延伸高分子フィルムの表面処理法が適している。
【００３２】
酸性水溶液としては、重クロム酸ナトリウムと硫酸の混合水溶液であるクロム酸混液や塩酸水溶液などが用いられ、アルカリ性水溶液としては、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液などが用いられる。
【００３３】
また、透明導電性フィルムの透明導電性薄膜を設けた面の反対側の面に、タッチパネルに用いた際に可視光線の透過率をさらに向上させるために、反射防止処理層（ＡＲ）を設けてもよい。この反射防止処理層（ＡＲ）には、基材フィルムの屈折率とは異なる屈折率を有する材料を単層もしくは２層以上の積層するのが好ましい。単層構造の場合、基材フィルムよりも小さな屈折率を有する材料を用いるのがよい。また、２層以上の多層構造とする場合は、基材フィルムと隣接する層は、基材フィルムよりも大きな屈折率を有する材料を用い、この上の層にはこれよりも小さな屈折率を有する材料を選ぶのがよい。このような反射防止処理層（ＡＲ）を構成する材料としては、有機材料でも無機材料でも上記の屈折率の関係を満足すれば特に限定されないが、例えば、CaF2, MgF2, NaAiF4, SiO2, SiO2, ThF4, ZrO2, Nd2O3, SnO2, TiO2, CeO2, ZnS, In2O3 などの誘電体が好ましく用いられる。
【００３４】
この反射防止処理層（ＡＲ）を積層する方法としては、真空蒸着法、スパッタリング法、ＣＶＤ法、イオンプレーティング法などのドライコーティングプロセスでも、グラビア方式、リバース方式、ダイ方式などのウェットコーティングプロセスでもよい。
【００３５】
さらに、この反射防止処理層（ＡＲ）の積層に先立って、前処理として、コロナ放電処理、プラズマ処理、スパッタエッチング処理、電子線照射処理、紫外線照射処理、プライマ処理、易接着処理などの公知の処理を施してもよい。
【００３６】
また、本発明の目的を損なわない範囲で、透明導電性フィルムの傷付きを防止する目的で、透明導電性フィルムの透明導電性薄膜を設けた面の反対側の面に、ハードコート処理層を設けてもよい。
【００３７】
図２に、本発明の透明タッチパネルを組み込んだ液晶表示素子の１例を示す。透明導電性薄膜を有する一対のパネル板を、透明導電性薄膜が対向するようにスペーサーを介して配置してなる透明タッチパネルにおいて、一方のパネル板に本発明の透明導電性フィルムを用いたものである。この透明タッチパネルは、透明導電性フィルム側より、ペンにより文字入力したときに、ペンからの押圧により、対向した透明導電性薄膜同士が接触し、電気的にＯＮになり、ペンのタッチパネル上での位置を検出できる。このペン位置を連続的かつ正確に検出することで、ペンの軌跡から文字を入力できる。この際、ペン接触側のパネル板が本発明の透明導電性フィルムであるため、ペン入力耐久性に優れるため、長期にわたって安定なタッチパネルとなる。
【００３８】
なお、図２において、もう一方のパネル板は、ガラス板の透明基板の上に透明導電性薄膜を積層したものであるが、本発明の透明導電性フィルムを使用してもよい。また、液晶ガラス基板の配向膜設置面の反対側の面上に透明導電性薄膜を積層したものでもよい。
【００３９】
また、該透明導電性フィルムを用いた透明タッチパネルは、透明タッチパネルとして液晶パネルと上偏光板の間に配設できることにより、表面反射が低く抑えられ、更に、液晶表示部と位置検出部の間隔が狭められることにより、位置検出精度の向上もできる。
【００４０】
実施例
次に実施例をあげて本説明をさらに説明する。以下「部」とあるのは重量部である。
【００４１】
実施例１
図１は本発明の透明導電性フィルムの一例を模式的に示した断面図であり、また、図２はその透明導電性フィルムを用いて作製した液晶表示素子の一例を模式的に示した断面図である。
【００４２】
ポリエチレンテレフタレートを水冷却した回転急冷ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを幅方向に90℃で 4.0倍延伸した。さらに、 220℃で熱固定し、続いて 200℃で４％リラックスして46μｍの一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。
【００４３】
得られた一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、表面の汚れを除去するために洗浄剤（商品名：スキャット20-X、第一工業製薬（株）社製）の10vol ％水溶液中に２分間浸漬し、さらに表面に残存している洗浄剤を洗浄するために純水の流水中に２分間浸漬した。純水中から引き上げた一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに窒素ガスを吹き付け、水分を乾燥させた。この一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、 300Å厚、酸化スズ含有率20重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜した。この時、真空度は１×10-3 Torr とし、ガスとしてAr 60sccm, O2 2sccm 流した。また製膜中、一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの温度は20℃とした。
【００４４】
得られた透明導電性フィルムを一方のパネル板として用い、他方のパネル板として、ガラス基板上に上記と同等の方法で 400Å厚の透明導電性薄膜を形成したものを用いた。この２枚のパネル板を透明導電性薄膜が対向するように、直径30μｍのエポキシビーズを介して、配置し透明タッチパネルを作製した。
【００４５】
次に得られた透明タッチパネルを、図２の様に液晶表示素子の液晶パネルと上側偏光板の間に組み込んで液晶表示素子を作製した。
【００４６】
実施例２
実施例１と同様にして得られた一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、洗浄後、40℃、0.5mol/Lの水酸化ナトリウム水溶液中に２分間浸漬し、さらに表面に残存している水酸化ナトリウムを洗浄するために純水の流水中に２分間浸漬した。純水中から引き上げた一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムに窒素ガスを吹き付け、水分を乾燥させた。この一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム上に、実施例１と同様にして、透明導電性薄膜を製膜した。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【００４７】
実施例３
実施例１と同様にして得られた一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを、洗浄後、重クロム酸ナトリウム１部、硫酸10部、水30部からなるクロム酸混液中を40℃に保ち、２分間浸漬し、さらに表面の残存物を洗浄するために純水の流水中に２分間浸漬した。純水中から引き上げたフィルムに窒素ガスを吹き付け、水分を乾燥させた。このフィルム上に、インジウム−スズ複合酸化物をターゲットに用いて、高周波マグネトロンスパッタリング法で、 300Å厚、酸化スズ含有率35重量％のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を透明導電性薄膜として製膜した。この時、真空度は１×10-3 Torr とし、ガスとしてAr 60sccm, O2 3sccm 流した。また製膜中、一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの温度は20℃とした。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【００４８】
実施例４
実施例１と同様にして作製した一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルム／インジウム−スズ複合酸化物薄膜からなる積層体のインジウム−スズ複合酸化物薄膜を形成した面と反対側の面上に厚さ 730Åで屈折率1.89のY2O3を設け、さらに厚さ1200Åで屈折率2.3 のTiO2を設け、さらに厚さ 940Åで屈折率1.46のSiO2を、それぞれ高周波スパッタリング法で製膜し、反射防止処理層（ＡＲ）とした。このそれぞれの誘電体薄膜を製膜する時、いずれも真空度は１×10-3 Torrとし、ガスとしてAr 55sccm, O2 5sccm 流した。また、基板は製膜中、加熱もしくは冷却せず、室温のままとした。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【００４９】
実施例５
一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの代わりに、ポリエチレン−２，６−ナフタレートを水冷却した回転急冷ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、未延伸フィルムを作製し、この未延伸フィルムを幅方向に 110℃で 4.0倍延伸した。さらに、230 ℃で熱固定し、続いて 210℃で４％リラックスし47μｍの一軸延伸ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを得た。この一軸延伸ポリエチレン−２，６−ナフタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様にして、透明導電性薄膜を製膜し、透明導電性フィルムを作製した。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【００５０】
比較例１
ポリエチレンテレフタレートを水冷却した回転急冷ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、未延伸フィルムを作製した。この未延伸フィルムを幅方向に90℃で 3.8倍延伸して48μｍの一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを得た。この一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様に実施した。
【００５１】
比較例２
一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムの代わりに、ポリエチレンテレフタレートを水冷却した回転急冷ドラム上にフィルム形成ダイを通して押出し、未延伸フィルムを作製し、この未延伸フィルムを長手方向に 3.2倍延伸した後、幅方向に 3.5倍延伸し、 230℃で熱固定した50μｍの二軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを用いた以外は、実施例１と同様に実施した。
【００５２】
比較例３
透明タッチパネルを、液晶表示素子の最上面（上側偏光板の上）に組み込んで液晶表示素子を作製した以外は、実施例１と同様に実施した。
【００５３】
比較例４
実施例１と同様にして46μｍの一軸延伸ポリエチレンテレフタレートフィルムを作製した。このフィルムの一方の面に有機ケイ素化合物のブタノール、イソプロパノール混合アルコール系溶液（濃度１重量％）を塗工した後、100 ℃、１分で乾燥した。この後、有機ケイ素化合物上に実施例１同様にして、インジウム−スズ複合酸化物薄膜からなる透明導電性薄膜を基板温度 120℃で製膜した。この積層体をさらに 150℃、10時間、加熱処理を行った。また、この透明導電性フィルムを用い、実施例１と同様にして液晶表示素子を作製した。
【００５４】
以上の実施例１〜５および比較例１〜４の透明導電性フィルムについて、光線透過率、表面抵抗率、エッチング時間、透明導電性薄膜の電子線回折像、基材フィルム／透明導電性薄膜の付着力を下記の方法で測定した。また、実施例１〜５および比較例１〜４の透明導電性フィルムをもちいて作製した透明タッチパネルについて、ペン入力耐久試験を実施した。
【００５５】
＜表面抵抗率＞
JIS K 7194に準拠した４端子法にて測定した。測定機としては、三菱化学（株）製：Lotest AMCP-T400を用いた。
【００５６】
＜光線透過率＞
JIS K 7105に準拠した積分球式光線透過率法にて測定した。測定機としては、日本電色工業（株）製：NDH-1001DPを用いた。
【００５７】
＜付着力測定＞
40μｍ厚のアイオノマーフィルムをポリエステル系接着剤を用いて、75μｍ厚のポリエチレンテレフタレートフィルムにラミネートした付着力測定用積層体を作製した。この付着力測定用積層体のアイオノマー面と透明導電性フィルムの透明導電性薄膜面を対向させ、 130℃でヒートシールした。この積層体を付着力測定用積層体と透明導電性フィルムとを 180度剥離法で剥離し、この剥離力を付着力とした。この時の剥離速度は1000mm／分とした。
【００５８】
＜エッチング時間＞
10cm×1cm のサイズに切り出した透明導電性フィルムの両端にテスターを接続し、抵抗を測定しながら、40℃、20％硫酸水溶液中に浸漬し、抵抗が10ＭΩ以上となる時間をエッチング時間とした。
【００５９】
＜電子線回折＞
プラスチックフィルムおよび硬化性高分子硬化層を溶解し、透明導電性薄膜の単独膜を得るために、透明導電性フィルムを1,1,1,3,3,3 −ヘキサフルオロイソプロパノール中に２日間浸漬する。溶液中の透明導電性薄膜をマイクログリッドに乗せ、溶液を乾燥させるために１日間風乾した。この試料の電子線回折像を透過型電子顕微鏡（日本電子（株）製：JEM-2010）にて測定した。電子線の条件は、加速電圧200kV 、波長0.0025nmで行った。この回折像から透明導電性薄膜が結晶質であるか、非晶質であるかを測定した。
【００６０】
＜ペン入力耐久性試験＞
まず、ペン入力試験前のリニアリティ測定を以下のようにして実施した。
本発明の透明導電性フィルムを100mm ×100mm に切り出し、透明導電性薄膜形成面の両端辺に幅５mmの電極を銀ペーストを塗布して作成した。この電極間に定電圧電源により5Vを印加し、サンプルの中心部50mm×50mmの範囲を縦横１mm間隔で（x1, y1) 〜（x50, y50) の2500点について電圧Vi,j（i,j=１〜50）を測定した。
各電圧測定点での理論電圧Ui,j=V1,1+(V50,50-V1,1)/50×(j-1) からのズレをΔi,j=(Vi,j-Ui,j)/Ui,jで定義し、このΔi,j の絶対値の最大値をリニアリティと定義した。
【００６１】
ペン入力試験前のリニアリティを測定した透明導電性フィルムを用い、実施例および比較例に記載されているようにしてタッチパネルを作製した。透明導電性フィルムで構成されたパネル板側から、ポリアセタール樹脂からなるペン先半径0.8mm のタッチペンを用いて、リニアリティ測定を行った部位に、プロッタ（ローランド（株）製：DXY-1150）により、２cm角サイズのカタカナのア〜ンまでの文字を200,000 字の筆記を行い、ペン入力試験を行った。この時、ペン荷重250 ｇｆ、文字筆記速度 2,000字／時間とした。
【００６２】
ペン入力試験後の透明導電性フィルムのリニアリティを前述と同様の手法で測定し、リニアリティが3％を越えた筆記字数をペン入力耐久性とした。
【００６３】
実施例１〜７、および比較例１〜４についての測定結果を表１に示す。
【００６４】
【表１】
0003947950.tif 000002
【００６５】
【発明の効果】
本発明の透明導電性フィルムは、一軸延伸高分子フィルムを用いることによって、推測ではあるが、通常の二軸延伸高分子フィルムに比較して、フィルム表面近傍のポリマーの結晶性が低下するために、接着性を改善するためのプライマー処理や透明導電性薄膜を製膜後に加熱処理等をすることなく、一軸延伸高分子フィルムと非晶質である透明導電性薄膜との積層体としての層間付着力が極めて高い値を示すと考えられる。また、その付着力は１５ｇ／１５ｍｍ以上あるため、ペン入力用タッチパネルに用いた際に、ペンの押圧で対向の透明導電性薄同士が強く接触しても透明導電性薄膜に剥離、クラックが生じることがなく、ペン入力耐久性に極めて優れた透明導電性フィルムとなる。さらには、非晶質である透明導電性薄膜を形成した透明導電性フィルムであるため、導電性、透明性およびエッチング特性に極めて優れた透明導電性フィルムとなる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明の透明導電性フィルムの一例を模式的に示した断面図である。
【図２】  図１の透明導電性フィルムを用いて作製した液晶表示素子の一例を模式的に示した断面図である。
【符号の説明】
１  透明導電性フィルム
２  ガラス板
３  ビーズ
４  偏光板
５  液晶パネル
１１  一軸延伸ポリエステルフィルム
１２  透明導電性薄膜
【図１】
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【図２】
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