(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平坦基板上にレーザ光吸収薄膜層と該レーザ光吸収薄膜層上の透明層とを積層し、
前記透明層を介して前記レーザ光吸収薄膜層へ吸収させる加工用レーザ光の注入パルスエネルギーを、レーザ光入射方向下流側の前記レーザ光吸収薄膜層と前記平坦基板との界面の平坦面が露出できる最大注入パルスエネルギーと同じかより小さく、且つレーザ光入射方向上流側の透明層を除去できる最小入力パルスエネルギーと同じかより大きくし、この加工用レーザ光を前記透明層を介して前記レーザ光吸収薄膜層に吸収させることを特徴とする立体構造体の加工方法。
【請求項２】
前記レーザ光吸収薄膜層は前記平坦基板より熱拡散が高速であることを特徴とする請求項１に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項３】
前記加工用レーザ光は１パルスの照射により前記透明層の加工用レーザ光が透過した部分と前記レーザ光吸収薄膜層の加工用レーザ光が入射した部分とを共に除去することを特徴とする請求項１又は２に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項４】
前記平坦基板上に該平坦基板より熱拡散が低速な断熱層を積層した後に、該断熱層上に前記レーザ光吸収薄膜層を積層することを特徴とする請求項１又は３に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項５】
前記レーザ光吸収薄膜層と前記透明層とは交互に複数対積層され、前記加工用レーザ光は、１パルス照射につき１対のレーザ光吸収薄膜層及び透明層を除去し、１パルスずつ選択的に照射をすることにより、深さが異なる除去部分を形成することを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項６】
前記加工用レーザ光は、エキシマレーザ光、固体レーザ光又はこれらの高調波光等のパルス幅が１００ｎｓ以下のレーザ光であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の立体構造体の加工方法。
【請求項７】
前記透明層は異なる厚さの透明層を備えることを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項８】
前記加工用レーザ光の照射をマスクパターンの転写により行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項９】
前記平坦基板、レーザ光吸収薄膜層及び透明層から構成される積層体の位置と前記加工用レーザ光の照射位置との相対的な位置を変えて加工することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の立体構造体の加工方法。
【請求項１０】
前記加工用レーザ光を円形パターン状に集光して前記レーザ光吸収薄膜層に吸収させることを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項１１】
前記加工用レーザ光を線状に集光して前記レーザ光吸収薄膜層に吸収させることを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法。
【請求項１２】
平坦基板と、該平坦基板に向けて加工用レーザ光を透過する透明層と、前記平坦基板と前記透明層との間に配置され、前記加工用レーザ光のエネルギーを吸収するレーザ光吸収薄膜層とを積層して備え、
前記透明層側から入射した前記加工用レーザ光が前記レーザ光吸収薄膜層に吸収されることにより前記透明層及び前記レーザ光吸収薄膜層の一部が除去された除去部と、前記レーザ光吸収薄膜層のレーザ光入射方向下流側に積層されている界面が除去されずに露出している除去部の底面とを備え、
前記平坦基板と前記レーザ光吸収薄膜層との間に前記平坦基板より熱拡散が低速な断熱層が積層されていることを特徴とする立体構造体。
【請求項１３】
前記レーザ光吸収薄膜層と前記透明層とは交互に複数対積層され、深さが異なる除去部分が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の立体構造体。
【請求項１４】
前記透明層は異なる厚さの透明層を備えていることを特徴とする請求項１３に記載の立体構造体。
【請求項１５】
前記レーザ光吸収薄膜層は金属薄膜であることを特徴とする請求項１２〜１４の何れかに記載の立体構造体。
【請求項１６】
前記透明層は、ポリマーを薄膜状に形成したものであることを特徴とする請求項１２〜１５の何れかに記載の立体構造体。
【請求項１７】
前記透明層は前記レーザ光吸収薄膜層より熱拡散が低速なセラミックスであることを特徴とする請求項１２〜１５の何れかに記載の立体構造体。
【請求項１８】
前記積層体はマスクパターンの転写により加工されていることを特徴とする請求項１２〜１７の何れかに記載の立体構造体。
【請求項１９】
請求項１２〜１８の何れかに記載の立体構造体の表面に反射膜を形成したことを特徴とする立体構造体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レーザビームの照射により被加工材料に直接微細な形状を形成する、立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法及び立体構造体に関し、特にレーザ光１パルスで加工部底面が平滑でかつ加工深さ制御性の高い立体的形状を形成するためのものに関する。
特に微細形状を必要とされる高精度部品形成を目的とし、光ディスクの記録ピット形成、その原盤である光ディスク成形用スタンパの形成方法、マルチレベル回折格子や回折型ホログラムなどの光学素子およびその原盤の作製方法、マイクロマシン、マイクロセンサー等の立体形状加工法、マイクロ構造体形成法、等の微細立体デバイスに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来、微細部品の高精度な立体的形状加工法としては、フォトリソグラフィを用いたエッチング技術が主に用いられてきた。これはレジスト材料に対して光を選択的に照射し、溶液処理することにより所望のパターンを形成し、そのレジストを利用して全面にエッチングを行い、そのレジスト以外の領域を選択的に除去する方法である。即ち、上記レジスト塗布から露光、定着、現像、被加工物のエッチング、レジスト除去の一連の作業により、加工部と被加工部の２つの領域を形成する。立体的な形状を作製する場合には、被加工物に対して新たにレジスト塗布を行い、加工位置形成部の精密な位置合わせをした後上記プロセスを繰り返し行う。
【０００３】
この従来のフォトリソグラフィによるエッチング工法での問題点は、レジスト処理、露光、現像、べーク等の複雑なプロセスが必要であり、プロセスが複雑で多くの処理を必要とする。また、露光プロセスでは露光量によりレジストパターンが変化するため厳密かつ均一な露光強度（時間）制御をする必要がある。
また、位置により深さが変わるような立体的加工では複数のマスクを使用して形状を制御する必要があり高価なマスクを多数作製する必要があった。
また、深さを場所ごとに制御する場合には一度加工した基板に対して再度精密な位置あわせをする必要があり、さらに、一部が加工されている材料への露光は平面の基板に比べ露光条件が変化することがある。
また、一部が立体的に加工された基板上へのレジストの塗布は、材料の凹凸により均一塗布が困難である。
【０００４】
微細部品の高精度な立体的形状加工法の他の例としては、レーザ加工による方法が用いられてきた。この従来のレーザ加工法による金属加工では、ＣＯ2 やＮｄ：ＹＡＧレーザの基本波などの高強度のレーザが用いられてきた。
【０００５】
近年は微細化の実現と、より高精度な加工を行うため、ＹＡＧ、ＹＬＦ、ＹＶＯ４レーザなどの第二、第三高調波が用いられている。
また微細加工用のレーザ光源としては、エキシマレーザに代表される紫外、短パルスレーザが用いられる。
【０００６】
これは、代表値として波長１５７ｎｍから３０９ｎｍで、パルス幅が数ｎｓから数十ｎｓのレーザであり、特に同波長に対して吸収の高い高分子に対して、その熱拡散長に比較して非常に短いパルスのレーザによって照射部を除去するため、加工部の精度が高く熱的損傷が少ない工法として知られている。
また近年金属等の微細加工法としてフェムト秒レーザを用いた手法が知られている。これは代表値として数十フェムト秒から数百フェムト秒のパルス幅を有するレーザを用いた加工法であり、代表的な光源にＴｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザがあげられる。これらは金属やセラミクス等多くの材料に対して微細で高精度な加工が可能であることが知られ、たとえば以下の論文、あるいは発明者である熊谷、緑川による以下論文に詳しい。
Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ａ  ６３，  １０９−１１５  （１９９６）
応用物理  ６７（９），  １０５１  （１９９８）
Ｏ  Ｐｌｕｓ  Ｅ  ２１（９），  １１３０  （１９９９）
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、従来のレーザ加工法によれば、例えばＣＯ2 やＹＡＧレーザによる加工は、基本的に熱加工であり、高分子などの低融点材料はレーザ照射部付近が容易に熱変形、溶融してしまうため高精度加工が困難であった。また金属加工の場合においても、金属の早い熱伝播のため、加工部周辺に熱影響層が現れ、また金属の溶融、再固着による加工部周辺の形状悪化がみられる。これらの場合ともに加工部底面は熱変質のため表面精度は悪く、溶融痕の形状が現れてしまう。
【０００８】
またエキシマレーザやＹＡＧレーザの高調波による加工では一般的にそのレーザ波長に対して吸収の高い材料のみでしか加工が困難であり、通常それは一部の高分子材料に限定される。その一部の材料の加工においてもレーザ加工部底面を均一の高さで平面性高く加工するのは困難であり、また高価な光学系を用いて厳密にビーム形状を制御する必要があった。この場合均一化光学素子によりマスク位置で強度を均一にしたレーザビームを縮小投影して加工する必要があるが、マスクの回折や分割したビームの干渉等により、均一な底面を有する立体的加工は困難であり、特に光学素子に必要とされる数十ｎｍオーダーの加工底面の平坦化は困難であった。
【０００９】
パルス幅がサブピコからピコ秒であるＴｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザでのアブレーション加工の場合は、金属材料に対しても高精度な加工が可能であることが知られているが、この場合も前記アブレーションと同様その加工底面を平滑に加工するには高価な平坦加工用光学系を準備する必要がある。またこれらレーザは通常ビーム横モードがシングルモードでマスクの回折やビーム同士の干渉を起こしやすく、スペックルパターンにより加工面の平滑性が低下する問題やレーザの偏光に起因した微細周期が発生し、その平滑な加工面を得ることが困難であることが明らかとなってきている。
【００１０】
また、従来のレーザによる薄膜層の加工としては、フォトマスク修正のための金属除去法が知られている。この金属除去法は、ガラス基板上に蒸着した金属薄膜の上面からレーザ光を照射し、その金属膜を溶融、気化することにより選択的に除去する手法である。
また立体的な構造作製としては、レーザ吸収材料を積層した手法である特開平１０−２２３５０４号公報、透明材料を用いた特開平１０−１３７９５３号公報、特開平１０−３１９２２１号公報があげられる。前者はエレクトロルミネッセンス素子の透明薄膜の除去法を示し、レーザアブレーションによる除去のエネルギーにより、上面の透明層の除去を行う。後者は反射型光学素子の作製法に関し、透過したレーザでのアブレーションによる反射膜の除去方法を示している。
【００１１】
しかしながら、従来のレーザアブレーションを用いた薄膜加工法においても、加工上面薄膜層の除去は可能であるが、加工部底面の表面粗度に関しては上記レーザアブレーションの状態と変わらないものといえる。また吸収のみで構成された材料の場合は、レーザ１照射により深い加工をすることが困難であり、深い加工を行った場合熱影響により加工部の品位が低下してしまう問題があった。また下面の吸収層を用いて上面を除去する手法では吸収層での加工も進むため立体的に深さ制御することが困難であるかあるいはレーザ光を多数回照射して深さを制御する必要があった。この場合立体的形状を光学デバイスで利用できるナノメータオーダーでの制御は困難であった。
【００１２】
そこで、本発明は、これら従来のレーザ加工での課題を解決し、特に光学デバイスとして利用可能な平滑面を有する微小な立体形状を有する、立体構造体の加工方法、立体形状品の製造方法及び立体構造体を提供することをその目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために請求項１の発明は、平坦基板上にレーザ光吸収薄膜層と該レーザ光吸収薄膜層上の透明層とを積層し、
前記透明層を介して前記レーザ光吸収薄膜層へ吸収させる加工用レーザ光の注入パルスエネルギーを、レーザ光入射方向下流側の前記レーザ光吸収薄膜層と前記平坦基板との界面の平坦面が露出できる最大注入パルスエネルギーと同じかより小さく、且つレーザ光入射方向上流側の透明層を除去できる最小入力パルスエネルギーと同じかより大きくし、この加工用レーザ光を前記透明層を介して前記レーザ光吸収薄膜層に吸収させることを特徴とする立体構造体の加工方法である。
また、請求項２の発明は、前記レーザ光吸収薄膜層は前記平坦基板より熱拡散が高速であることを特徴とする請求項１に記載の立体構造体の加工方法である。
また、請求項３の発明は、前記加工用レーザ光は１パルスの照射により前記透明層の加工用レーザ光が透過した部分と前記レーザ光吸収薄膜層の加工用レーザ光が入射した部分とを共に除去することを特徴とする請求項１又は２に記載の立体構造体の加工方法である。
【００１４】
また、請求項４の発明は、前記平坦基板上に該平坦基板より熱拡散が低速な断熱層を積層した後に、該断熱層上に前記レーザ光吸収薄膜層を積層することを特徴とする請求項１又は３に記載の立体構造体の加工方法である。
また、請求項５の発明は、前記レーザ光吸収薄膜層と前記透明層とは交互に複数対積層され、前記加工用レーザ光は、１パルス照射につき１対のレーザ光吸収薄膜層及び透明層を除去し、１パルスずつ選択的に照射をすることにより、深さが異なる除去部分を形成することを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法である。
また、請求項６の発明は、前記加工用レーザ光は、エキシマレーザ光、固体レーザ光又はこれらの高調波光等のパルス幅が１００ｎｓ以下のレーザ光であることを特徴とする請求項１〜５の何れかに記載の立体構造体の加工方法である。
【００１５】
また、請求項７の発明は、前記透明層は異なる厚さの透明層を備えることを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法である。
また、請求項８の発明は、前記加工用レーザ光の照射をマスクパターンの転写により行うことを特徴とする請求項１又は２に記載の立体構造体の加工方法である。
また、請求項９の発明は、前記平坦基板、レーザ光吸収薄膜層及び透明層から構成される積層体の位置と前記加工用レーザ光の照射位置との相対的な位置を変えて加工することを特徴とする請求項１〜８の何れかに記載の立体構造体の加工方法である。
【００１６】
また、請求項１０の発明は、前記加工用レーザ光を円形パターン状に集光して前記レーザ光吸収薄膜層に吸収させることを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法である。
また、請求項１１の発明は、前記加工用レーザ光を線状に集光して前記レーザ光吸収薄膜層に吸収させることを特徴とする請求項３に記載の立体構造体の加工方法である。
【００１９】
また、請求項１２の発明は、平坦基板と、該平坦基板に向けて加工用レーザ光を透過する透明層と、前記平坦基板と前記透明層との間に配置され、前記加工用レーザ光のエネルギーを吸収するレーザ光吸収薄膜層とを積層して備え、
前記透明層側から入射した前記加工用レーザ光が前記レーザ光吸収薄膜層に吸収されることにより前記透明層及び前記レーザ光吸収薄膜層の一部が除去された除去部と、前記レーザ光吸収薄膜層のレーザ光入射方向下流側に積層されている界面が除去されずに露出している除去部の底面とを備え、
前記平坦基板と前記レーザ光吸収薄膜層との間に前記平坦基板より熱拡散が低速な断熱層が積層されていることを特徴とする立体構造体である。
【００２１】
また、請求項１３の発明は、前記レーザ光吸収薄膜層と前記透明層とは交互に複数対積層され、深さが異なる除去部分が形成されていることを特徴とする請求項１２に記載の立体構造体である。
また、請求項１４の発明は、前記透明層は異なる厚さの透明層を備えていることを特徴とする請求項１３に記載の立体構造体である。
また、請求項１５の発明は、前記レーザ光吸収薄膜層は金属薄膜であることを特徴とする請求項１２〜１４の何れかに記載の立体構造体である。
【００２２】
また、請求項１６の発明は、前記透明層は、ポリマーを薄膜状に形成したものであることを特徴とする請求項１２〜１５の何れかに記載の立体構造体。
また、請求項１７の発明は、前記透明層は前記レーザ光吸収薄膜層より熱拡散が低速なセラミックスであることを特徴とする請求項１２〜１５の何れかに記載の立体構造体である。
また、請求項１８の発明は、前記積層体はマスクパターンの転写により加工されていることを特徴とする請求項１２〜１７の何れかに記載の立体構造体である。
また、請求項１９の発明は、請求項１２〜１８の何れかに記載の立体構造体の表面に反射膜を形成したことを特徴とする立体構造体である。
【００２３】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
［第１実施形態］
図１は本発明の第１実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
図１に示すように、この立体構造体５は、ガラス基板、Ｓｉ基板、ＳＵＳ基板等の表面が平坦に形成されている平坦基板１と、平坦基板１上に積層されているレーザ光吸収薄膜層２と、レーザ光吸収薄膜層２に向けて加工用レーザ光４を透過する透明層３とを備えている。なお、平坦基板１がＳＵＳ基板のとき、レーザ光吸収薄膜層として、Ａｌ、Ｃｕ、Ｎｉ等が使用できる。
【００２４】
さらに、立体構造体５は、透明層３側から入射した加工用レーザ光４がレーザ光吸収薄膜層２に吸収されることにより透明層３及びレーザ光吸収薄膜層２の一部が除去された微小な除去部と、レーザ光吸収薄膜層２のレーザ光入射方向下流側に積層されている界面、即ち本実施形態では平坦基板１の表面の平坦面Ｈが除去されずに露出している除去部の底面とを備えている。
【００２５】
図１に示すように、第１実施形態のレーザ加工方法では、加工用レーザ光４に対して吸収の高い材料でかつ熱伝導の高い材料を薄膜状に形成したレーザ光吸収薄膜層２を平坦基板１上に積層する。その後、レーザ光吸収薄膜層２の上に加工用レーザ光４に対して透過性の高い透明材料層である透明層３を積層する。平坦基板１および透明層３は熱伝導度がレーザ光吸収薄膜層２よりも低い材料から構成されていることが望ましい。
【００２６】
その後この積層体に対して透明層３側から加工用レーザ光４を照射する。加工用レーザ光４は透明層３を透過しその大部分のエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２の表面で吸収されるように、これら２層の膜厚あるいはレーザ光強度を調整する。
【００２７】
この吸収されたエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２内を伝播しそれによりレーザ光吸収薄膜層２の急激な温度上昇がおき、その結果、結合が弱い平坦基板１とレーザ光吸収薄膜層２との界面からレーザ光吸収薄膜層２の除去が起き、レーザ光吸収薄膜層２と同時にあるいは連続的に透明層３を除去する。レーザ光吸収薄膜層２及び透明層３の加工用レーザ光４の照射部分が除去された結果、平坦基板１の表面の平坦面Ｈが露出する。即ち除去部分の底面が平坦な立体構造体５が作製される。
【００２８】
通常のレーザ熱加工では、レーザ光を吸収した材料の熱拡散により照射領域から等方的に温度上昇が起きる。このとき除去は材料の温度がその溶融温度あるいは蒸発温度になった領域からおき、一般的に照射表面から底面にかけてレーザビーム強度に対応するような形状でかつ周囲に熱変質層が現れた加工痕となる。
【００２９】
本発明に係る第１実施形態によれば、レーザ光吸収薄膜層２を薄い層状に形成することで、加工用レーザ光４のエネルギーを選択的にレーザ光吸収薄膜層２のみに与えることが可能となる。通常レーザ光を吸収する吸収層が厚い場合には熱拡散により熱変質や溶融痕がレーザ照射部周囲あるいは加工部底面に残るが、薄膜化することでこれら熱的変質領域を非常に狭くすることが可能となる。
【００３０】
また基板上に吸収層のみを形成したものの加工では、高精度加工の実現のためには、上記等方的熱拡散のためレーザ１パルス照射による除去量を少なくする必要があるが、本発明の場合、レーザ光吸収薄膜層２上に透明層３を設けることにより、レーザ１パルス照射での除去量を増加させることが可能となる。
【００３１】
また透明層３を設けることにより、レーザ１パルス照射での除去量を透明層３の厚みにより可変することが可能となる。
このとき除去は平坦基板１とレーザ光吸収薄膜層２との界面で起きるため、除去された部分の底面である平坦面Ｈの平滑性は平坦基板１の平滑性に依存し、表面が平滑な平坦基板１を用意することで、底面の平坦な高精度立体加工された立体構造体５が実現できる。
【００３２】
通常の高分子のレーザアブレーション加工では光吸収層に熱拡散の低い高分子等を用いる。しかしながらこの場合レーザ加工部は入力レーザ強度分布に大きく依存した形態となる。たとえばガウス型ビームを加工部に照射した場合、加工部はそのガウス型ビーム形状に近い形状となり、平坦な加工部を得ることは困難であった。
【００３３】
しかし本発明によれば、図１に示すように、レーザ照射部から高速に膜内を熱拡散しかつ除去が熱拡散層であるレーザ光吸収薄膜層２と平坦基板１との界面において選択的になされるため、レーザ強度分布に依存しない平滑面を得ることが可能となる。
【００３４】
本発明ではレーザ１パルスによる領域の一括除去が可能であることから従来のレーザアブレーションに比べ高速な除去加工の実現が可能となる。
また加工深さが初期の膜厚により決定されるため、高精度な加工深さ制御が実現できる。
【００３５】
［実施例１］
本発明の実施例１に係るレーザ加工方法を図１に沿って示す。
図１に示すように、上面の積層面が平面に形成されているガラス基板、Ｓｉ基板等の平坦基板１上、本実施例ではガラス基板上にＮｉ薄膜等のレーザ光吸収薄膜層２を積層する。その上面にアクリル樹脂層、ＩＴＯ膜等の光透過層である透明層３を積層する。この積層体に対して透明層３上からある強度に調整した加工用レーザ光４を空間選択的に照射する。
【００３６】
前記加工用レーザ光４のある強度とは、レーザ光吸収薄膜層２においてレーザ光のほとんどのエネルギーが吸収される強度である。即ち、透明層３を介してレーザ光吸収薄膜層２へ吸収させる加工用レーザ光４の注入パルスエネルギーＥ０を、レーザ光入射方向下流側の界面である平坦面Ｈが露出でき、且つ平坦面Ｈに損傷を与えない最大注入パルスエネルギーＥ１と同じかより小さく、且つレーザ光入射方向上流側の透明層３を除去できる最小入力パルスエネルギーＥ２と同じかより大きくし、この加工用レーザ光４を透明層３を介してレーザ光吸収薄膜層２に吸収させる。換言すれば、注入パルスエネルギーＥ０、最大注入パルスエネルギーＥ１及び最小入力パルスエネルギーＥ２の関係がＥ２≦Ｅ０≦Ｅ１を満たすことが必要である。
【００３７】
この強度の加工用レーザ光４を照射したとき、レーザ光吸収薄膜層２では熱拡散により加工用レーザ光４のエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２内を伝播し、レーザ光吸収薄膜層２が高温となる。このときレーザ光吸収薄膜層２と平坦基板１との界面から剥離がおき、レーザ光吸収薄膜層２の蒸発、剥離と同時に透明層３の除去を起こす。
その結果、レーザ照射部でレーザ光吸収薄膜層２及び透明層３のみの除去が達成され、平坦基板１の平坦な表面が露出して除去部分の底面が平滑性の保たれた平坦面Ｈとなり、立体構造体５を得ることができ、立体的な形状加工が実現される。
【００３８】
［第２実施形態］
図２は本発明の第２実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
図２に示すように、この立体構造体５は、ガラス基板、Ｓｉ基板、ＳＵＳ基板等の表面が平坦に形成されている平坦基板１と、平坦基板１上に積層されている断熱層６と、断熱層６上に積層されているレーザ光吸収薄膜層２と、レーザ光吸収薄膜層２に向けて加工用レーザ光４を透過する透明層３とを備えている。
【００３９】
さらに、第２実施形態の立体構造体５は、透明層３側から入射した加工用レーザ光４がレーザ光吸収薄膜層２に吸収されることにより透明層３及びレーザ光吸収薄膜層２の一部が除去された微小な除去部と、レーザ光吸収薄膜層２のレーザ光入射方向下流側に積層されている界面、即ち本実施形態では断熱層６の表面の平坦面Ｈが除去されずに露出している除去部の底面とを備えている。
【００４０】
図２に示すように、第２実施形態のレーザ加工方法では平坦基板１上に表面が平滑になるように第一材料層としての断熱層６を積層する。これは断熱材料の塗布、スピンコート、ディッピング、蒸着等の方法により実現できる。その上面に加工用レーザ光４に対して吸収の高い材料でかつ熱伝導の高い材料からなるレーザ光吸収薄膜層２を積層する。さらにレーザ光吸収薄膜層２の上面に加工用レーザ光４に対して透過性の高い透明材料層としての透明層３を断熱層６と同様の方法により積層する。断熱層６および透明層３の各材料は熱伝導度がレーザ光吸収薄膜層２を構成する材料よりも低いものであることが望ましい。
【００４１】
その後、この積層体に対して透明層３側から加工用レーザ光４を照射する。加工用レーザ光４は透明層３を透過しその大部分のエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２の表面で吸収されるように、これら２層の膜厚あるいはレーザ光強度を調整する。
【００４２】
このレーザ光吸収薄膜層２に吸収されたエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２内を伝播し、それによりレーザ光吸収薄膜層２の急激な温度上昇がおき、結果結合が弱い平坦基板１とレーザ光吸収薄膜層２との界面からレーザ光吸収薄膜層２の材料の除去が起き、レーザ光吸収薄膜層２と同時にあるいは連続的に透明層３を除去する。
【００４３】
第２実施形態によれば、第１実施形態の効果に加え、断熱層６を付加することで平坦基板１の材料の選択幅が増し、より平坦度の低い材料の利用が可能となる。
さらに断熱層６として例えばセラミック材料に代表される耐熱材料を用いることで、加工用レーザ光４の照射加工部底面の加工精度を高めたまま、加工用レーザ光４の強度を高くし、加工用レーザ光４の１パルス照射による除去量を向上させることが可能となる。
また断熱層６として例えばポリイミドに代表される高分子などの低熱伝導材料を用いることで、効果的にレーザ光吸収薄膜層２の温度上昇を誘起することが可能となり、低エネルギーでの高速加工が可能となる。
【００４４】
［実施例２］
本発明の実施例２に係るレーザ加工方法を図２に沿って示す。
図２に示すように、上面の積層面が平面に形成されているガラス基板、Ｓｉ基板等の平坦基板１、本実施例ではガラス基板上に平坦基板１より熱拡散率の低いポリイミド等の低熱拡散率材料からなる断熱層６を層状に塗布する。その平坦な断熱層６の上面にＡｌ薄膜、Ｃｕ薄膜、Ｎｉ薄膜等の金属膜等のレーザ光吸収薄膜層２を積層する。本実施例ではＮｉ薄膜とした。そのレーザ光吸収薄膜層２の上面に、例えばアクリル樹脂、ＩＴＯ膜などの光透過層である透明層３を積層する。
【００４５】
この積層体に対して透明層３上からある強度に調整したフェムト秒チタンサファイアレーザ光（フェムト秒Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ光）等の加工用レーザ光４を空間選択的に照射する。この照射によりレーザ光吸収薄膜層２において加工用レーザ光４のほとんどのエネルギーが吸収され、その後あるいはレーザ照射中の熱拡散によりそのエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２内を伝播し、レーザ光吸収薄膜層２が高温となる。このとき断熱層６で熱拡散は制限され、その結果、レーザ光吸収薄膜層２が断熱層６から剥離される。このときレーザ光吸収薄膜層２の蒸発、剥離と同時に透明層３の除去を起こす。
その結果、レーザ照射部でレーザ光吸収薄膜層２及び透明層３のみの除去が達成され、断熱層６の平坦な表面が露出して除去部分の底面が平滑性が保たれた平坦面Ｈとなり、立体構造体５を得ることができ、立体的な形状加工が実現される。
【００４６】
［第３実施形態］
図３は本発明の第３実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
図３に示すように、この立体構造体７は、ガラス基板、Ｓｉ基板、ＳＵＳ基板等の表面が平坦に形成されている平坦基板１と、平坦基板１上に積層されているレーザ光吸収薄膜層２ａと、レーザ光吸収薄膜層２ａ上に積層され、レーザ光吸収薄膜層２ａに向けて加工用レーザ光４を透過する透明層３ａと、透明層３ａ上に積層されているレーザ光吸収薄膜層２ｂと、レーザ光吸収薄膜層２ｂ上に積層され、レーザ光吸収薄膜層２ｂに向けて加工用レーザ光４を透過する透明層３ｂと、透明層３ｂ上に積層されているレーザ光吸収薄膜層２ｃと、レーザ光吸収薄膜層２ｃ上に積層され、レーザ光吸収薄膜層２ｃに向けて加工用レーザ光４を透過する透明層３ｃとを備えている。
【００４７】
さらに、立体構造体７は、透明層３ｃ側から入射した１回目の加工用レーザ光４ａがレーザ光吸収薄膜層２ｃに吸収されることにより透明層３ｃ及びレーザ光吸収薄膜層２ｃの一部が除去された微小な除去部（図３の左側の除去部）と、レーザ光吸収薄膜層２ｃのレーザ光入射方向下流側に積層されている界面、即ち本実施形態では透明層３ｂの表面の平坦面Ｈが除去されずに露出している除去部の底面（図３の左側の底面）とを備えている。
【００４８】
また、さらに、立体構造体７は、透明層３ｂ側から入射した２回目の加工用レーザ光４ｂがレーザ光吸収薄膜層２ｂに吸収されることにより透明層３ｂ及びレーザ光吸収薄膜層２ｂの一部が除去された微小な除去部（図３の中央の除去部）と、レーザ光吸収薄膜層２ｂのレーザ光入射方向下流側に積層されている界面、即ち本実施形態では透明層３ａの表面の平坦面Ｈが除去されずに露出している除去部の底面（図３の中央の底面）とを備えている。
【００４９】
また、さらに、立体構造体７は、透明層３ａ側から入射した３回目の加工用レーザ光４ｃがレーザ光吸収薄膜層２ａに吸収されることにより透明層３ａ及びレーザ光吸収薄膜層２ａの一部が除去された微小な除去部（図３の右側の除去部）と、レーザ光吸収薄膜層２ａのレーザ光入射方向下流側に積層されている界面、即ち本実施形態では平坦基板１の表面の平坦面Ｈが除去されずに露出している除去部の底面（図３の右側の底面）とを備えている。
【００５０】
図３に示すように、第３実施形態のレーザ加工方法では平坦基板１上に加工用レーザ光に対して吸収の高い材料でかつ熱伝導の高い材料を薄膜状に形成したレーザ光吸収薄膜層２ａを平坦基板１上に積層する。次に、レーザ光吸収薄膜層２ａの上に加工用レーザ光に対して透過性の高い透明層３ａを積層する。さらに透明層３ａの上面にレーザ光吸収薄膜層２ｂ、透明層３ｂを交互に少なくとも２層以上積層する。平坦基板１および透明層３ａ〜３ｃの材料は熱伝導度がレーザ光吸収薄膜層２の材料よりも低いものであることが望ましい。
【００５１】
その後、この積層体に対して透明層３ｃ側から加工用レーザ光４ａを、本実施形態では３箇所に照射する。加工用レーザ光４ａは透明層３ｃを透過しその大部分のエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２ｃの表面で吸収されるようにこれら最上面側の２層の膜厚あるいは加工用レーザ光強度を調整する。
【００５２】
この吸収された加工用レーザ光４ａのエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２ｃ内を伝播しそれによりレーザ光吸収薄膜層２ｃの急激な温度上昇がおき、結果結合が弱いレーザ光吸収薄膜層２ｃと透明層３ｂとの界面から材料の除去が起き、レーザ光吸収薄膜層２ｃと同時にあるいは連続的に透明層３ｂを除去する。
【００５３】
さらに、本実施形態では中央と右側との同一場所に再度加工用レーザ光４ｂを１パルス照射することでレーザ光吸収薄膜層２ｂおよび透明層３ｂを除去する。このように加工用レーザ光を選択的に照射することで、加工領域の深さをデジタル的に制御し、加工部底面が平滑な平坦面Ｈを有する立体的微小構造体としての立体構造体を製造する。
【００５４】
なお、上記実施形態では、立体構造体７を作製するために、加工用レーザ光を３箇所、２箇所、１箇所の順で照射したが、最も深く除去すべき部分に対応する１箇所、最も深く除去すべき部分及び次に深く除去すべき部分に対応する２箇所、最も深く除去すべき部分、次に深く除去すべき部分及びその次に深く除去すべき部分に対応する３箇所の順で照射しても立体構造体７を作製することができ、照射順序は適宜変更することができる。また、上記実施形態では３つの除去部を形成する場合について説明したが、３つ以外の除去部を形成する場合にも同様に選択的に照射することで行うことができる。
【００５５】
以上のように第３実施形態によれば、レーザ照射数により加工深さをデジタル的に制御することが可能となる。
これはフォトリソグラフィプロセスにおいて行われる基板除去後の再位置設定の必要がなく、レーザ加工位置の制御あるいは基板の移動等の手段のみにより、空間選択的に所望の立体形状の形成が可能となる。
これにより例えばマルチバイナリの回折光学素子や加工位置のコンピュータ制御によるホログラム光学素子の作製等に利用することが可能となる。
【００５６】
［実施例３］
図３に示すように、平坦基板１であるガラス基板上にレーザ光吸収薄膜層２ａであるＮｉ薄膜を例えば５０ｎｍ程度スパッタし、その上面に透明層３ａであるＩＴＯ膜を例えば１００ｎｍ程度スパッタする。さらに透明層３ａの上面に同じくレーザ光吸収薄膜層２ｂであるＮｉをスパッタし、さらに透明層３ｂであるＩＴＯ膜を同一の厚みで付加し、これを繰り返すことで多層膜構造の積層体を作製する。
【００５７】
この積層体に対して透明層３ｃ上からある強度に調整したフェムト秒Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ光等の加工用レーザ光を空間選択的に照射する。レーザ光吸収薄膜層２ｃにおいて加工用レーザ光４ａのほとんどのエネルギーが吸収され、その後あるいはレーザ照射中の熱拡散によりそのエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２ｃ内を伝播し、レーザ光吸収薄膜層２ｃが高温となる。これによりレーザ光照射１パルスにて最上層のＩＴＯとその下層のＮｉ膜とを除去する。その後照射位置を変え、レーザ光を中間層のＩＴＯとその下層のＮｉ膜に照射する。このとき膜はパルス数に応じて除去され、前記除去部の穴深さの２倍の深さの立体形状を作製する。さらに照射位置を変え、レーザ照射数を変化させる事により、多様な深さを有する立体構造体７が作製される。
【００５８】
［第４実施形態］
図４は本発明の第４実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
図４に示すように、この立体構造体９は、図３に示した第３実施形態の立体構造体に比べて、層構成は同一であり、膜厚のみ異なっている。また、第４実施形態の立体構造体の加工方法も第３実施形態の立体構造体の加工方法と同様である。
【００５９】
第３実施形態と異なる点は、積層体を作製する際に、一つのレーザ光吸収薄膜層とある一つの透明層の膜厚を変化させる点にある。これは例えば光学素子として用いる参照用レーザ光の波長をλとした場合、第一層を１／２λ、二層を１／４λ等に設定する等の処理に対応する。このとき平坦基板１および透明層３ａ、３ｂ、８は熱伝導度がレーザ光吸収薄膜層よりも低いものであることが望ましい。
【００６０】
その後、この積層体に対して透明層８側から加工用レーザ光４ａを照射する。加工用レーザ光４ａは透明層８を透過しその大部分のエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２ｃ表面で吸収されるようこれら最表面側の２層の膜厚あるいはレーザ光強度を調整する。
【００６１】
この吸収されたエネルギーがレーザ光吸収薄膜層２ｃ内を伝播しそれによりレーザ光吸収薄膜層２ｃの急激な温度上昇がおき、結果結合が弱いレーザ光吸収薄膜層２ｃの下面側の透明層３ｂとレーザ光吸収薄膜層２ｃとの界面からレーザ光吸収薄膜層２ｃの除去が起き、レーザ光吸収薄膜層２ｃと同時にあるいは連続的に透明層８を除去する。
【００６２】
さらに同一部分に再度レーザ光を１パルス照射することで除去したレーザ光吸収薄膜層２ｃの下面側に隣接する透明層３ｂ及びレーザ光吸収薄膜層２ｂを除去する。
このように、加工用レーザ光を選択的に照射することで、加工領域の深さをデジタル的に制御し、加工部底面が平滑である立体的微小構造体を製造する。
【００６３】
第４実施形態によれば、透明層の厚みを初期段階で制御することにより、加工用レーザ光のレーザ照射強度を変化させることなく、加工深さの制御範囲を広くすることが可能となる。
これにより、空間的位置により深さの異なる素子をレーザ照射数のみによりアナログ的に制御することが可能となり。また例えば深さにより特性が変わる位相変調素子等を一つの基板上に空間選択的に作製することが可能となる。
【００６４】
［実施例４］
図４に示すように、平坦基板１であるガラス基板上にレーザ光吸収薄膜層２ａであるＮｉ薄膜をスパッタし、レーザ光吸収薄膜層２ａの上に第一の透明膜としての透明層３ａを付加する。このとき例えばレーザ光吸収薄膜層２ａと透明層３ａの合計の厚さをある光波長λに対して１／４λとする。その後さらに同一の厚みでレーザ光吸収薄膜層２ｂと透明層３ｂとを積層する、さらに第三の吸収層としてのレーザ光吸収薄膜層２ｃと透明層８とを積層する。このとき透明層８の厚みを変化させ、第三の吸収層としてのレーザ光吸収薄膜層２ｃと第三の透明層としての透明層８との合計の厚みを上記光波長に対して１／２λとする。
【００６５】
このように層により膜厚の異なる多層膜構造を作製する。この積層体に対して透明層８上からある強度に調整したフェムト秒Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ光等の加工用レーザ光４ａを空間選択的に照射する。レーザ光吸収薄膜層２ｃにおいて加工用レーザ光４ａのほとんどのエネルギーが吸収され、その後あるいはレーザ照射中の熱拡散によりそのエネルギーが膜内を伝播し、レーザ光吸収薄膜層２ｃが高温となる。これによりレーザ光照射１パルスにて一カ所の膜の除去を行う。その後レーザ照射位置、レーザ照射数を制御することにより、空間選択的に膜の除去を行う。このとき透明層８のみの厚みを変化させたため、照射エネルギーは大幅に変化することなく深さの異なった立体構造体９を作製することができる。この立体構造体９はある参照波長λに対して空間的に位相を変化させることができ、波面制御素子として利用可能となる。これは例えば１／２波長板と１／４波長板との効果を同一基板上に集積して作製するなどの応用が可能である。
【００６６】
［第５実施形態］
第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法において、レーザ光吸収薄膜層をＮｉ、Ａｌ、Ａｕ等の金属材料からなる金属薄膜層とする。このとき金属薄膜層を構成する金属材料は蒸着、スパッタ、ＣＶＤ等の方式により数ｎｍから数百ｎｍ程度の膜厚とする。
【００６７】
金属材料は紫外から可視、赤外領域で幅広い波長に対して表面近傍で吸収が高いことで知られている。このとき金属の光の吸収長（光浸透長）Ｄは、複素誘電率κ、吸収係数α、波長λにより次式（１）で示されることが知られている。
（１）Ｄ＝α-1＝λ／４πκ
【００６８】
代表的な金属に対してこの光浸透長を波長の関数として図５に示す。このように金属材料は幅広い領域にたいして、数十ｎｍといった非常に狭い領域で吸収される。また金属材料の熱伝播は非常に高速であることが知られており、その時の熱伝搬距離（熱拡散長）Ｌは、熱拡散率ｄとしたとき、経過時間τの関数として次式（２）で示されることが知られている。
（２）Ｌ＝√（ｄτ）
【００６９】
このように熱伝搬が高く、表面で光が吸収されることから金属薄膜を例えば数十ｎｍ程度積層した層では、光照射により高速に金属薄膜層が熱的に励起され高温となる。このとき金属薄膜層は他の材料に挟まれているためその材料層の間で熱が蓄積され、結果金属薄膜層と接合している平坦面を有する層から熱的に剥離され、結果金属薄膜層と透明層のみが除去される。このとき材料厚は数十ｎｍオーダーであることからその熱伝播領域もその程度とすることができ、ほぼレーザ照射位置近傍での高精度な加工が可能となる。
金属は、薄膜として材料に付加することが容易な材料であり、かつその作製コストも非常に安価であるメリットがある。
【００７０】
［第６実施形態］
第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、特に透明薄膜としての透明層を加工用レーザ光のレーザ波長に対して透明な高分子材料から構成する。これは例えば可視から近赤外の加工用レーザ光を用いる場合には、アクリル樹脂、ペット樹脂、ポリイミド樹脂等を用いることが可能である。また紫外域の加工用レーザ光の場合にはフッ素含有高分子、透過率の高いアクリル樹脂、透過率の高いポリカーボネート樹脂等を用いることできる。
このとき透明層は液状樹脂のスピンコートあるいはディッピング等により膜厚を制御して作製することができる。
【００７１】
このように透明材料層として高分子を用いることにより、安価に膜厚を制御した透明層を形成することが可能となる。これらの材料は液状のものを膜厚保持制御して作製した後、熱あるいは光により硬化することができ、その膜厚を広い範囲で制御することが可能となる。
さらに材料の選択幅が広いため、加工用レーザ光に対して透明性が高く、さらに熱的変質の少ない材料を選択して用いることが容易であり、安価な構成とすることが可能となる。
【００７２】
［第７実施形態］
第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、透明層にセラミックスを用いる。透明セラミック材料としてはＩＴＯや酸化チタン等の材料を用いることができる。この透明層はスパッタ等の手法により膜厚を制御して配置する。
【００７３】
透明層にセラミックスを用いることで、熱的損傷を低減した高精度な加工が可能となる。またこれら材料は加工レーザ光に対して高い透過率を有する材料を容易に選択できる。
さらにこれらの材料はスパッタ等によりｎｍオーダーで制御して膜形成することが可能であり、より高精度な加工深さ制御が可能となる。
また多層膜とした場合、金属よりも融点が大幅に高いため、金属への入射レーザエネルギーを大幅に上げることが可能となり、レーザ光１パルスにより、除去量を大きくすることが可能となる。
また加工時の熱変質も少ないため、より高品位な加工が可能となる。
【００７４】
［第８実施形態］
図６は本発明の第８実施形態に係る立体構造体の加工装置を示す図、図７は本発明の第８実施形態に係る立体構造体の加工装置の制御フローチャートを示す図、図８は本発明の第８実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【００７５】
図６に示すようにこの加工装置は、加工用レーザ光３２を出射するレーザ加工装置３１と、レーザ装置３１から出射した加工用レーザ光３２の一部を透過するフォトマスク等のマスク３８と、マスク３８を移動するマスク移動ステージ５２と、マスク３８を透過した加工用レーザ光３２を反射するミラー３７と、ミラー３７により反射した加工用レーザ光３２のパターン像を縮小投影する集光レンズ３９と、実施形態１〜７の被加工物である積層体５１を支持する移動ステージ４１と、レーザ装置３１、移動ステージ４１及び移動ステージ５２を制御するコンピュータ５３とを備えている。
【００７６】
図７に示すように、コンピュータ５３により、ステップＳ１では、加工サンプルである積層体５１を所定位置に固定し、ステップＳ２では、移動ステージ４１により積層体５１を加工位置に移動し、ステップＳ３では移動ステージ５２によりマスク３８を所定位置に移動する。
次に、ステップＳ４では、レーザ装置３１から加工用レーザ光３２を出射して積層体５１に除去部を加工する。
次に、ステップＳ５では、レーザ照射が終了かどうかを判定し、終了でない場合にはステップＳ２に戻って、移動ステージ４１を移動することにより、次の加工位置に積層体５１を移動する。
ステップＳ６では、形状作製して終了する。
【００７７】
このように第８実施形態では、第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、加工用レーザ光の照射を金属エッチングあるいはクロム金属膜蒸着等によるマスク３８を用い、縮小投影、コンタクト法等により、マスクパターンに対応した加工パターンを形成する。
【００７８】
本構成によるレーザ加工方法において、図８（Ｂ）に示すように、加工用レーザ光４は空間選択的にレーザ光吸収薄膜層２によって吸収される。レーザ光吸収薄膜層２での光エネルギーの吸収とその後の熱拡散により、レーザ照射部の温度上昇からレーザ光吸収薄膜層２とその上面に配置された透明層３との除去が可能となる。このときマスク形状を選択することによりレーザ光１パルス照射により、多様な形状の除去が可能となる。
【００７９】
通常エキシマレーザのアブレーション加工などにおいては数ｍｍ角程度領域のフォトマスク上に形成された形状を１／３から１／５倍程度に縮小投影して被加工物表面に照射して、被加工物の加工を行う。
【００８０】
このときレーザ光の不均一さやマスクエッジでの回折の効果等により照射位置では強度に空間的分布を生じてしまう。これを均一化するために、高価な多数の光学系を調整し分布の均一化を図っている。レーザ強度分布が不均一の場合には、従来のレーザアブレーション法ではレーザ照射強度分布に応じた立体的形状が、レーザ照射部に現れる。しかし本実施形態の方法では熱的に拡散した薄膜全体の除去となるため、レーザ加工部底面を平滑とした加工が可能となる。
【００８１】
また従来のレーザアブレーション法では加工部の平滑性を高めるためには高価なレンズ系を用いて、マスク開口エッジ部で回折や干渉によるビーム形状の変化をなくし、ビームを平滑にする必要があったが、本実施形態の方法ではこれら回折や干渉による形状分布がある場合でも、その照射領域を一括して、平坦性を保ちながら空間選択的に除去することが可能となる。
このとき被加工物をステージ等で位置制御することで、広い領域を連続して加工する事が可能となる。
【００８２】
［実施例８］
図８に本実施形態によるマスク形状の転写による立体形状加工方法（図８（Ｂ））と従来のアブレーションでの除去方法（図８（Ａ））の違いを示す。
薄膜構造体としての積層体に対して、従来のレーザアブレーション加工を行った場合、図８（Ａ）に示すように、基板１Ｐ上の吸収層２Ｐのアブレーション作用により透明層３Ｐの除去は可能となるが、その際加工部底面１０ａには照射強度分布に近い加工痕や吸収材料層の熱特性、高分子の配向特性等によりあれた面が形成される。
【００８３】
それに対して本実施例によれば、レーザ光吸収薄膜層２でのエネルギーはレーザ光吸収薄膜層２内を伝播して急速にレーザ光吸収薄膜層２が高温化する。これにより平坦基板１からの高速な剥離がおき、透明層３とともにレーザ光吸収薄膜層２が除去される。
【００８４】
このときレーザ光吸収薄膜層２は照射部全体が剥離されるため、平坦基板１の平滑な平坦面１１ａが除去部の底面として露出し、平滑な加工が可能となる。
例えば加工幅を数ミクロンとし、レーザ光吸収薄膜層２を数十ナノメートル程度とすれば、熱伝播による加工幅の増加は無視できる程度と考えることができ、高精度な加工が実現可能となる。
【００８５】
［第９実施形態］
図９は本発明の第９実施形態に係る立体構造体の加工装置を示す図、図１０は本発明の第９実施形態に係る立体構造体の加工装置の制御フローチャートを示す図、図１１は本発明の第９実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【００８６】
図９に示すようにこの加工装置は、加工用レーザ光３２を出射するレーザ装置３１と、レーザ装置３１に備えるポッケルスセル３１ａと、レーザ装置３１から出射した加工用レーザ光３２の一部を透過するフォトマスク等のマスク３８と、マスク３８を移動する移動ステージ５２と、マスク３８を透過した加工用レーザ光３２を反射するミラー３７と、ミラー３７により反射した加工用レーザ光３２のパターン像を縮小投影するレンズ３９と、実施形態１〜７の被加工物である積層体５１を支持する移動ステージ４１と、レーザ装置３１、移動ステージ４１及び移動ステージ５２を制御するコンピュータ５３とを備えている。
【００８７】
図１０に示すように、コンピュータ５３により、ステップＳ１では、加工サンプルである積層体５１を所定位置に固定し、ステップＳ２では、移動ステージ４１により積層体５１を加工位置に移動し、ステップＳ３では移動ステージ５２によりマスク３８を所定位置に移動する。
次に、ステップＳ４では、ポッケルスセル３１ａを制御してレーザ装置３１から加工用レーザ光３２を出射して積層体５１に除去部を加工する。
次に、ステップＳ５では、レーザ照射が終了かどうかを判定し、終了でない場合にはステップＳ２に戻って、移動ステージ４１を移動することにより、次の加工位置に積層体５１を移動する。
ステップＳ６では、形状作製して終了する。
【００８８】
この実施形態はマスク投影型のレーザ加工方式であり、フォトマスク３８に透過型液晶マスクや反射型ミラー素子等を用いることにより、空間選択的にレーザ照射位置を変化させる。レーザ照射とマスク開口形状とを同期をとって制御することで、加工形状の制御をおこなう。
【００８９】
第９実施形態のマスクでは、たとえば加工用レーザ光に対して透過率の高い透過型液晶と加工用レーザを同期させ、第一レーザ光照射時のマスク形状と第二レーザ光照射時のマスク形状を変化させる。
このとき可変用マスクとしては、これ以外にプロジェクタで用いられる反射型ミラーアレイ素子を該レーザ光に対して反射率を高くした素子等を用いることも可能である。
これら構成により、たとえばレーザ照射位置を変えることにより、同一箇所に多数回のレーザ照射した領域は深く、照射しない場所は加工されないといった深さをデジタル的に制御した加工が可能となる。
このとき加工用レーザ光は同一の形状で照射するだけでよく、複数のマスクを連続的に変える場合にくらべ、高速化、低コスト化が可能となる。
【００９０】
［実施例９］
図１１に液晶型透過型マスクを用いた実施例を示す。
図１１（Ａ）に示す加工用レーザ光強度分布１２により加工用レーザ光を透過型液晶マスク１３ａに照射する。透過型液晶マスク１３ａは加工用レーザ光の偏光と透過型液晶マスク照射後に偏光ビームスプリッタ等を設けることによりマスク透過後のレーザ強度を空間的に変化させることができる。このとき液晶の配向面を制御することにより、強度を透過光の最大値からほぼ０の値まで変化させることが可能である。本実施例ではマスク透過後の強度を最大、最小の二値としているが、これは加工状態が最適となるよう任意の値とすることができる。
【００９１】
この透過光を被加工物１４ａ表面に縮小投影して、第一レーザ光により一つの立体的パターンを形成する。その後図１１（Ｂ）に示すように、第二レーザ光照射までの時間内にマスク形状を変化させ第二のマスク形状１３ｂとする。この第二のマスク形状１３ｂを透過した加工用レーザ光により被加工物１４ｂの除去を行う。このとき第一レーザ光と第二レーザ光の照射位置が同一の箇所は２層の加工が進み、一方のみの照射位置では表面第一層のみの除去がおきる。これを図１１（Ｃ）に示すように繰り返し行うことで、被加工物１４ｃぶ立体的な形状を作製する。
透過型液晶マスク１３ａは高速な形状変化が可能であり、この透過光量の変化とレーザ照射タイミングを同期させる事により、任意な形状を高速に作製することが可能となる。
このとき多数のマスクを必要とせず、安価に立体的形状を作製することが可能となる。
【００９２】
［第１０実施形態］
図１２は本発明の第１０実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
この第１０実施形態は、第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、加工用レーザ光を集光して照射し円形のパターンをレーザ光１パルス照射により得る。このときレーザ光の強度を可変できる手段により照射位置での強度を調整する。
薄膜構造体としての積層体は移動ステージ上に配置され、移動ステージによって加工位置を高速に制御する。
このとき加工用レーザ光はガウス型分布であることが望ましく、加工用レーザ光の集光には加工位置とレンズ表面との距離が長い対物レンズを用いることが望ましい。
またレーザ加工位置でのレーザ照射方向での位置ずれをなくすよう、移動手段にフォーカス調整機構を有することが望ましい。
【００９３】
第１０実施形態による加工方法では、レーザ光としてシングルモードレーザにおいて一般的なガウス型強度分布を有する加工用レーザ光を集光してレーザ光吸収薄膜層表面に照射する。このとき照射位置はリニアステージや回転ステージ等により制御され、加工用レーザ光と同期してその位置が決定される、またレーザ照射位置方向も同様にレーザ光吸収薄膜層方向に対してレーザ照射と同期して制御される。
これによりガウス型レーザ光が集光されて、レーザ光吸収薄膜層表面に照射される。このとき薄膜内で熱が拡散し、レーザ光吸収薄膜層の高温化により、下面との剥離がおきる。このとき加工形態は、レーザ光吸収薄膜層と透明層のみの除去がおきるため、円柱状の加工あととなり、底面の平滑な穴加工が可能となる。
このときレーザ光照射強度を調整することにより薄膜の光吸収領域およびエネルギーおよび薄膜の熱伝播範囲を調整することが可能となり、これにより穴径の調整が可能となる。
レーザ照射と同期して材料を移動することにより、連続的な穴形状の作製が可能となり、高速に移動しながら加工することで、多数個の立体形状を高速に加工することが可能となる。
【００９４】
［実施例１０］
集光によるエネルギーによる加工形状変化に関して図１２を用いて説明する。
本実施例によるレーザ加工においては、レーザ光吸収薄膜層の除去をその膜の高温化により達成する。この場合レーザ光吸収薄膜層および透明層の除去を行うためには入射レーザ光強度をあるしきい値以上にする必要がある。
このしきい値エネルギーより高い部分ではレーザ光吸収薄膜層の剥離がおき、それ以外の領域では剥離は起きないため、入射光を例えばガウス型の強度分布を有するレーザ光の集光により行うと、その加工領域をレーザ強度により制御することが可能となる。
【００９５】
例えば図１２（Ａ）においてレーザ光強度分布をガウシアン型として被加工物表面に照射すると、その加工しきい値以上の領域の除去が起きて立体構造体１５ａが作製される。このレーザ強度を強度調整手段により低下させ図１２（Ｂ）の照射強度とすると、しきい値以上の領域のみが加工されるため、図１２（Ａ）の立体構造体１５ａに比べて微少な加工を実現した立体構造体１５ｂを作製することが可能となる。
さらに強度を調整し、レーザ光強度の最大値をしきい値付近とすることで図１２（Ｃ）に示すように通常の露光法では実現困難であるレーザビーム幅より微細な立体構造体１５ｃを作製することが可能となる。
【００９６】
［第１１実施形態］
図１３は本発明の第１１実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
この第１１実施形態は、第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、加工用レーザ光を例えばシリンドリカルレンズの組み合わせ等により片側集光してライン上のビームを作製し、レーザ光吸収薄膜層表面に空間選択的に照射する。被加工物である積層体はステージ等の移動手段によりレーザ光と同期して移動される。
レーザ光照射と移動とを繰り返し行うことで、加工部底面が平滑な連続的な加工形状を得る。
【００９７】
第１１実施形態による加工方法では、加工用レーザ光を制御して照射部表面に線上のパターンを照射する。このときレーザ照射強度は、例えば図１３（Ａ）に示すように、短軸方向にガウス形状、長軸方向は均一な強度分布とする。このレーザ強度を有する加工用レーザ光がレーザ光吸収薄膜層表面に照射と薄膜内で熱が拡散し、レーザ光吸収薄膜層の高温化により、下面との剥離がおきる。このとき加工形態は、レーザ光吸収薄膜層と透明層のみの除去がおきるため、形状が四角で底面の平滑な穴加工が可能となる。
この加工形状は、膜厚方向全体の剥離を利用するため、ガウス型レーザを入射した場合でも底面の平滑な形状となる。
【００９８】
このときレーザ光照射強度を調整することによりレーザ光吸収薄膜層の光吸収領域、エネルギーおよびレーザ光吸収薄膜層の熱伝播範囲を調整することが可能となり、これにより加工幅の調整が可能となる。
レーザ照射と同期して積層体を移動することにより、連続的な穴形状の作製が可能となり、高速に移動しながら加工することで、線状の加工形態を得ることが可能となる。
これを利用することで、回折型光学素子であるグレーティングの作製が可能であり、多層膜に対して位置調整を行って加工することで、マルチレベル回折格子の作製が被加工物の移動のみにより作製することが容易となる。
【００９９】
［実施例１１］
加工用レーザ光はシリンドリカルレンズあるいはミラー等により整形されて加工位置において、図１３（Ａ）に示す加工用レーザ光の強度分布１６を有するビームとする。そのビームをスキャンするあるいは被加工物を移動するなどして、連続して加工用レーザ光を空間選択的に照射する。このときレーザ光照射タイミングと照射位置との移動手段は同期して制御され、所望の位置に加工用レーザ光をライン状に照射する。
加工ピッチを数百ミクロンから数ミクロン程度とすることで、例えば図１３（Ｂ）に示すようなマルチバイナリ型回折格子１７、あるいはその型を作製することができる。
【０１００】
［第１２実施形態］
この第１２実施形態は、第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、加工用レーザ光としてパルス幅が１００ｎｓ以下であるエキシマレーザや、Ｎｄ：ＹＡＧ、Ｎｄ：ＹＬＦ等の固体レーザの基本波をＱスイッチングしたり、例えば非線形光学媒質に入射させることによりその光高調波を用いる。これらは現在容易に入手可能な高出力のレーザ光源である。また、光吸収層の膜厚は照射レーザ幅以下にすることが望ましい。
【０１０１】
特に加工用レーザ光に１００ｎｓ以下の光源を有するレーザを用いる。これにより、熱拡散領域を狭くすることが可能となる。
材料中の熱伝播による熱拡散速度は、上述したように式（１）により与えられることが知られている。これにより照射時間τ秒後の熱拡散距離は熱拡散率ｄとするとＬとなる。
ここでパルス幅を１００ｎｓ以下とすることで、レーザ照射中の通常のセラミックス、高分子材料等でレーザ光吸収薄膜層内の熱拡散距離を１ミクロン以下とすることができる。そのためこの幅以上の加工用レーザ光による熱拡散範囲を制限することが可能となり、熱的拡散による変形を低減することが可能となる。
【０１０２】
レーザ光吸収薄膜層をこの熱拡散距離Ｌ以下とし、レーザ照射領域をそれ以上とすることで、レーザ照射位置周辺のみの高精度な薄膜除去および、立体的加工が可能となる。
加工用レーザ光の照射領域をサブミクロンから数百ミクロン程度とし、膜厚をサブミクロン程度とすることで、レーザ照射領域とほぼ同等の領域の加工底面を平滑とした立体的形状を得ることが可能となる。
【０１０３】
［実施例１２］
上記拡散式（１）はある瞬間に与えられたエネルギーが経過時間後にどれだけ広がったかを示す。材料による熱拡散率表を次の表１に示す。
【０１０４】
【表１】
0004006994.tif 000002
【０１０５】
ここでは代表的な金属とガラス、高分子について通常温度での熱拡散率ｄを示している。
上記材料での上記式から得られた熱拡散範囲をまとめて次の表２に示す。
【０１０６】
【表２】
0004006994.tif 000003
【０１０７】
このように加工用レーザ光のパルス幅を１００ｎｓ以下とすることで代表的な材料でパルス幅内の熱拡散範囲を＜１μｍ以下とすることができる。ここで材料の膜厚をこれ以下とすることで、レーザ光吸収薄膜層の厚み方向には熱が完全に伝播し、その熱による剥離が可能となる。
これにより高精度な平坦面を有する立体構造体の加工が可能となる。
【０１０８】
［第１３実施形態］
この第１３実施形態は、第１実施形態〜第４実施形態のレーザ加工方法と同様の加工方法であり、特に加工用レーザ光として、そのパルス幅がサブピコ秒であるＴｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザおよびその高調波、Ｎｄ：ＹＡＧレーザなどの固体レーザ、あるいはその高調波を用い、レーザ光吸収薄膜層の材料として、Ｎｉ、Ａｕ、Ａｌなどの金属膜を用いる。この金属膜の膜厚は該レーザ光の光浸透長以上でかつその数倍程度であることが望ましい。
【０１０９】
第１３実施形態の構成では、レーザに１ｐｓ以下の極短パルスレーザ光を用いる。このレーザ光は近年開発が進んでおり、代表的レーザにＴｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザがある。このレーザは標準的に数１０ｆｓから２００ｆｓ程度のパルス幅を持ち、８００ｎｍ付近の中心波長で発振する。
【０１１０】
このような極短パルスレーザにおいては、特に材料への照射時間が短いことから熱的変質を抑制した高精度加工が可能であることが知られている。これら加工特性に関しては例えば次の参考文献に示されている（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ａ  ６３，  １０９−１１５  （１９９６））。
【０１１１】
レーザパルス幅が短いことから金属などの熱伝導の高速な材料に対しても、アブレーション加工可能なことで知られている。
また金属材料は紫外から近赤外領域で広い吸収を有する材料であり、その光吸収が極表面層でおきることが知られている。代表的な金属の光浸透長を図５に示した。また各波長の表面での反射率を図１４に示す。ここで金属の反射された以外のエネルギーは表面近傍で吸収され、図５の浸透長で示される範囲で高速に熱に変換される。
このときピコ秒以下の時間領域では、上記文献に示されるように電子温度と格子温度が均一でない、２温度拡散式により記述されることが明らかになってきている。
【０１１２】
このときレーザ光のエネルギーは数ピコ秒程度で格子系へと熱として拡散し、レーザ照射領域の除去がおきる。
本発明では、レーザ光吸収薄膜層である金属材料層を薄膜としてその熱拡散領域を制限する。これにより金属での熱拡散範囲は限定され、低エネルギーで金属膜の平坦面からの除去が可能となる。
【０１１３】
特に通常の金属では拡散長が大きいためレーザ照射位置から除去幅が広がってしまうが、パルス幅をサブピコ秒とすることで代表的な金属においても、その拡散幅を１ミクロン以下とすることが可能となる。
【０１１４】
Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ光は近赤外光であり、高分子や透明セラミックス等多くの透明材料を利用することが可能となり、吸収材料としても安価で作製が容易な金属を用いることが可能となる利点もある。
これはその高調波である可視光でも同様であり、第二高調波を用いることで、微細化が可能となりかつ安価で高精度な対物レンズ等の光学素子を利用することが可能となる。
【０１１５】
［第１４実施形態］
第１実施形態から第１３実施形態に記載の加工方法により作製した素子を用い、その複製を作製する。具体的にはたとえば、素子表面に金属膜を付加し、電鋳法によりその逆型を作製する。これを型とし成形法等で高分子材料に転写することにより、その複製を作製する。複製は再度その複製を作製して型として用いることも可能である。
このようなプロセスを用いることで加工形状と同等の形状、あるいは逆形状を他の材料に対して作製する。
【０１１６】
第１４実施形態の立体形状加工方法では上記実施形態により作製された、立体形状を有する構造体に対して電鋳法等によりその複製を作製する。さらにこの金属複製材料を用いて高分子材料やガラス材料を成形法等で複製を作製する。これは成形に限らず、２Ｐ法で用いられる光硬化樹脂に対する型やゾルゲル法で用いる型等への利用も可能である。
これにより、加工材料とは異なる材料に対して立体的形状を作製する事が可能となる。たとえば透明高分子の成形型に利用することで、被加工材料が透過しない材料であっても、複製により透過型素子を作製できるメリットがある。
またレーザ加工では広い領域全体を加工する場合には多くの時間を必要とし、コストが高くなる問題があるが、金型を作製し、その複製を作ることで、高速に大量に立体構造体を作製することが可能となる。
【０１１７】
［実施例１４］
図１５は本発明の第１４実施形態に係る立体形状品の製造方法を示す図である。
図１５では本方式による構造体複製方式の工程例を示す。
図１５（Ａ）に示すように、先ず構造体作製のための薄膜付加工程を行う。
次に、図１５（Ｂ）に示すように、加工用レーザによる立体的構造体加工を行う。
【０１１８】
次に、図１５（Ｃ）に示すように、電鋳のための表面電極作製用金属膜１８のスパッタ１８を行う。
次に、図１５（Ｄ）に示すように、電鋳法による金属Ｎｉ層１９を付加する。
次に、図１５（Ｅ）に示すように、加工体よりＮｉ原盤を剥離する。
次に、図１５（Ｆ）に示すように、Ｎｉ原盤を成形用原盤とし、樹脂材２０の成型を行う。材料はポリカーボネート等を利用することで透明構造体とすることができる。また光効果樹脂を用いることでＵＶ光による転写法（２Ｐ法）による複製も可能である。
以上のようにして図１５（Ｇ）に示すように、レーザ加工と同一形状の構造体を安価に複製することが可能となる。
【０１１９】
［第１５実施形態］
本実施形態１４記載の複製作製法と同様であり、その複製を光ディスクのスタンパに用いる。これは特に、図１６に示すように、円盤状に光ディスクのピットＰ、グルーブにあたる領域を第１実施形態から第４実施形態の方法により作製し、たとえばＮｉ薄膜スパッタ、Ｎｉ膜電鋳、膜剥離のプロセスにより光ディスク用スタンパとすることが可能となる。
【０１２０】
従来の光ディスクスタンパではガラス基板上に感光体材料をスピナー等により塗布し、ベークした後Ｈｅ−Ｃｄレーザ等のＵＶレーザにより、感光体材料を露光し、定着、現像し、感光体材料の立体的パターンを作製し、さらにそれに金属膜を付加し、電鋳、剥離のプロセスにより、一枚のスタンパを作製していた。
このとき特に露光と定着、現像の条件設定が困難であり、洗浄時の汚れの問題や、溶剤等による環境の問題があった。
【０１２１】
本実施形態による形状加工方法では、加工用レーザ光の走査のみにより直接形状を作製するため、従来の複雑な工程を簡潔化することが可能となる。また、通常の露光方式では、感光体材料を用いその材料に対して感度の高い紫外域のレーザを用いる必要があったが、本方法では透明層とレーザ光吸収薄膜層とを多くの材料から選択して用いることが可能となる。
さらに立体的な加工をレーザ光１パルス照射により行うことが可能であることから、低エネルギー光による高速加工が可能となる。
【０１２２】
［実施例１５］
図１６は本発明の第１５実施形態に係る、立体形状品の一例である光ディスク用スタンパ原盤を示す図である。
図１６では本発明による光ディスク用スタンパ原盤の例を示す。
図１６に示すように、ガラス基板である平坦基板１上にレーザ光吸収薄膜層２を付加し、その上面に透明層３を付加する。この表面に高ＮＡの対物レンズにより集光した加工用レーザ光を短時間照射し、その１パルス照射により一つのピットＰを形成する。基板は回転ステージにより高速に回転させ、またリニアステージにより円周方向に移動させることにより連続的に形状を作製する。このとき材料層の厚みは透明層３と金属材料層であるレーザ光吸収薄膜層２との合計で読みとり信号波長の１／４程度とすることが望ましい。
【０１２３】
このとき加工用レーザは回転・移動手段と同期をとって照射タイミングを調整する。加工用レーザ光は穴サイズにあわせて強度を調整し照射することとする。
このときレーザ光を分割して制御することで多数穴を一度に作製したり、多数の原盤を同時に加工することが可能である。
また本実施形態の方法により作製された原盤は、その複製を作製することで、複製物を同様にスタンパとして利用することが可能である。
【０１２４】
［第１６実施形態］
本実施形態１４記載の複製作製法であり、その複製を回折型光学素子のマスター加工に用いる。これは特に平坦基板状に多数の穴形状を第１実施形態から第４実施形態の方式により作製し、加工位置をステージ等の移動手段により制御することで、マルチレベルの回折素子やコンピュータにより計算した形状を加工することで位相変調型回折格子の立体的形状を作製する。
このとき透明層と吸収層をあわせた厚みは光学素子への照射光の波長λに対してλ／ｎ程度の厚みとする。
【０１２５】
従来の回折型光学素子はたとえば露光によるレジストパターン形成手段とエッチング手段とを多数回組み合わせて、複数の高さ分布を有する形状を作製していた。このとき加工位置は、複数のマスクを位置合わせして行いその制御が複雑で高精度な位置あわせが必要で、プロセスコストが高くなる問題があった。
【０１２６】
本実施形態による形状加工方法では、加工用レーザ光の走査のみにより直接形状を作製するため、従来の複雑な工程を簡潔化することが可能となる。
また通常の露光方式では、感光体材料を用いその材料に対して感度の高い紫外域のレーザを用いる必要があったが、本実施形態の方法では透明層とレーザ吸収薄膜層とを多くの材料から選択して用いることが可能となる。
【０１２７】
さらに立体的な形状の加工深さをレーザ照射数により制御することで、立体的に形状を制御することができ、本加工物に対して金属膜付加、電鋳等を行うことで、容易に回折素子、バイナリ光学素子の母型を作製することが可能となる。
【０１２８】
［第１７実施形態］
この実施形態のレーザ加工装置は、加工用レーザ光と、１／２波長と、偏光ビームスプリッタあるいはＮＤフィルタ等のレーザ光の強度調整手段と、レンズ、ミラー等のレーザ光形成手段とを備えて構成され、空間的にレーザ光照射位置を限定し、第１実施形態から第１６実施形態のレーザ加工方法に用いるレーザ加工装置である。
【０１２９】
レーザ装置の内部あるいは外部にはシャッター等のレーザ照射数を制御する手段を設けることが望ましく、レーザ光は被加工物を固定する移動ステージに同期して照射されることが望ましい。
【０１３０】
このレーザ加工装置により従来の加工装置で問題であった加工底面の平滑な立体的形状を有する構造体の加工を行うことが可能となる。
またレーザ照射を制御することで、立体的な形状加工が容易となる。またステージを移動して加工することが可能であるため。大面積の加工が可能となる。
【０１３１】
［実施例１７］
図１７は本発明の第１７実施形態に係る立体構造体の加工装置を示す図、図１８は本発明の第１７実施形態に係る立体構造体の加工装置の要部を示す図、図１９は本発明の第１７実施形態に係る立体構造体の加工装置の制御フローチャートを示す図である。
【０１３２】
図１７に示すように、レーザ加工装置３１から出射された加工用レーザ光３２は外部シャッタ３３で照射時間を制御して１／２波長板３４に入射される。ここで１／２波長板３４を回転することで、加工用レーザ光３２の偏光面と１／２波長板３４の軸方向が変化し、その後の偏光ビームスプリッタ３５によってビーム強度が調整される。ビーム強度を調整された加工用レーザ光３２はその後のレンズ系としての整形レンズ３６やミラー系３７によりビーム形状を整形、伝送されマスク３８上に照射される。このマスク３８を透過した加工用レーザ光３２は集光レンズ３９により縮小投影され、薄膜付加材料である被加工物としての積層体４０表面に結像される。被加工材料としての積層体４０は移動ステージ４１等により加工位置を制御される。このとき加工位置での加工形態を観察するため、観察用照明４２を設置した観察装置を配置し、ＣＣＤカメラ４３等によりその形状を観察することも可能である。
本システムにより、容易に複雑な立体的形状の加工が可能となる。
【０１３３】
図１８に示すようにこの加工装置は、加工用レーザ光３２を出射するレーザ装置３１と、レーザ装置３１に備えるポッケルスセル３１ａと、レーザ装置３１から出射した加工用レーザ光３２を走査するガルバノミラー５４と、ガルバノミラー５４で走査された加工用レーザ光３２を一定速度で走査するｆθレンズ５６と、実施形態１〜７の被加工物である積層体５１を支持する移動ステージ４１と、レーザ装置３１、移動ステージ４１及びガルバノミラーコントローラ５５を介してガルバノミラー５４を制御するコンピュータ５３とを備えている。
【０１３４】
図１９に示すように、コンピュータ５３により、ステップＳ１では、加工サンプルである積層体５１を所定位置に固定し、ステップＳ２では、ポッケルスセル３１ａを制御してレーザ装置３１から加工用レーザ光３２を出射し、ステップＳ３ではガルバノミラー５４及びｆθレンズ５６により加工位置を走査して積層体５１に除去部を加工する。
次に、ステップＳ４では、レーザ照射を終了させ、ステップＳ５では、形状作製して終了する。
【０１３５】
［第１８実施形態］
この実施形態では、上記実施形態のレーザ加工方法により作製された、一部に平坦面を有する立体的形状を有する構造体である。代表的サイズは加工幅がサブミクロンから数百ミクロン、加工深さが数ｎｍから数ミクロン程度の構造体である。これらは透明層と加工用レーザ光に対する吸収層からなる。
またこれらを上記実施形態の手法により複製をとることにより同一形状の高分子あるいはガラス等の立体的形状を有する素子とすることができる。
【０１３６】
本構成により作製された素子は、底面に平坦部を有する立体的形状とすることが可能であり、たとえば深さを光の波長オーダーとすることで透過型光学素子として機能することが可能となる。
また立体的加工によるマイクロマシン用デバイスやマイクロセンサー等の作製も可能となる。
本実施形態により得られた素子は複雑なプロセスを利用せず、真空プロセス等を利用しないため、大型化が可能であり、大型光学素子や大面積デバイスの作製に対してメリットがある。
【０１３７】
［第１９実施形態］
上記実施形態のレーザ加工方法により作製された、一部に平坦面を有する立体的形状を有する構造体あるいはその複製した構造体に対して、少なくとも一面に蒸着、スパッタ法等によりＡｌなどの反射膜を設けた素子とする。
代表的サイズは加工幅がサブミクロンから数百ミクロン、加工深さが数ｎｍから数ミクロン程度の構造体で少なくとも一面に反射層を有する。
【０１３８】
本構成により作製された素子は、底面に平坦部を有する立体的形状とすることが可能であり、たとえば深さを光の波長オーダーとすることで反射型光学素子として機能することが可能となる。
従来の手法による反射光学素子は複雑な工程を必要としたが、本方式ではレーザ光による直接立体形状加工と最終段での反射膜付加だけでよいため、安価に高精度な反射型光学素子を得ることができる。
なお、本発明は上記実施例に限定されるものではない。即ち、本発明の骨子を逸脱しない範囲で種々変形して実施することができる。
【０１３９】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１の発明によれば、光学デバイスとして利用可能な平坦面を有する微少な立体形状を備える立体構造体の加工方法を得ることができる。
請求項２の発明によれば、レーザ光吸収薄膜層は平坦基板より熱拡散が高速なので、レーザ光吸収薄膜層と平坦基板との剥離が促進される。
請求項３の発明によれば、加工用レーザ光の１パルス照射と前記透明層及びレーザ光吸収薄膜層の合計厚さ分の加工深さとが対応しているので、従来のレーザアブレーションに比べて高速であり、深さ制御も極めて高精度である。
【０１４０】
請求項４の発明によれば、平坦基板とレーザ光吸収薄膜層との間に断熱層を積層するので、平坦基板の基板材料の選択の幅が広がり、例えば平坦度の低い材料層であっても平坦基板として使用することができる。
請求項５の発明によれば、レーザ光照射パルス数により加工深さをデジタル的に制御することができるので、例えば、マルチバイナリの回折光学素子、ホログラム光学素子等の光学素子を作製することができる。
請求項６の発明によれば、熱拡散領域を狭くすることができる。
【０１４１】
請求項７の発明によれば、透明層の厚みを初期段階で制御することにより、レーザ光照射強度を変化させることなく、加工深さの制御範囲を広くすることが可能となる。これにより、空間的位置により深さの異なる素子をレーザ照射数のみによりアナログ的に制御することが可能となり、また例えば深さにより特性が変わる位相変調素子等を一つの基板上に空間選択的に作製することが可能となる。
請求項８の発明によれば、マスクパターンの縮小投影露光、コンタクト露光等によりマスクパターンに対応した加工パターンを形成することができる。
請求項９の発明によれば、加工用レーザ光の照射位置を変えて加工するので、多様な形状の立体構造体を得ることができる。
【０１４２】
請求項１０によれば、丸穴形状の除去部分を形成することができる。
請求項１１の発明によれば、線形状の除去部分を形成することができ、回折型光学素子やマルチレベル回折格子を作製することができる。
【０１４５】
請求項１２の発明によれば、光学デバイスとして利用可能な平坦面を有する微少な立体形状を備え、平坦基板とレーザ光吸収薄膜層との間に断熱層を積層するので、平坦基板の基板材料の選択の幅が広がり、例えば平坦度の低い材料層であっても平坦基板として使用することができる立体構造体を得ることができる。
【０１４７】
請求項１３の発明によれば、マルチバイナリの回折光学素子、ホログラム光学素子等の光学素子を得ることができる。
請求項１４の発明によれば、深さにより特性が変わる位相変調素子等の立体構造体を得ることができる。
請求項１５の発明によれば、金属は、薄膜として材料に付加することが容易な材料であり、かつその作製コストも非常に安価であるという利点がある。
【０１４８】
請求項１６の発明によれば、透明層としてポリマーを用いているので、膜厚を制御した透明層を安価に形成することができる。
請求項１７の発明によれば、高精度な加工深さ制御が可能となり、除去量を多くすることができ、さらにより高品位な加工が可能となる。
請求項１８の発明によれば、多様な形状の立体構造体を得ることができる。
請求項１９の発明によれば、レーザ光により直接形状を形成するため、従来の複雑な工程と比べて簡略化した工程で反射型光学素子を製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の第１実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図２】本発明の第２実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図３】本発明の第３実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図４】本発明の第４実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図５】本発明の第５、１３実施形態に係る、光浸透長と波長との関係を示す図である。
【図６】本発明の第８実施形態に係る立体構造体の加工装置を示す図である。
【図７】本発明の第８実施形態に係る立体構造体の加工装置の制御フローチャートを示す図である。
【図８】本発明の第８実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図９】本発明の第９実施形態に係る立体構造体の加工装置を示す図である。
【図１０】本発明の第９実施形態に係る立体構造体の加工装置の制御フローチャートを示す図である。
【図１１】本発明の第９実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図１２】本発明の第１０実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図１３】本発明の第１１実施形態に係る立体構造体の加工方法を示す図である。
【図１４】紫外から近赤外域の波長における代表的金属の反射率を示す図である。
【図１５】本発明の第１４実施形態に係る立体形状品の製造方法を示す図である。
【図１６】本発明の第１５実施形態に係る、立体形状品の一例である光ディスク用スタンパ原盤を示す図である。
【図１７】本発明の第１７実施形態に係る立体構造体の加工装置を示す図である。
【図１８】本発明の第１７実施形態に係る立体構造体の加工装置の要部を示す図である。
【図１９】本発明の第１７実施形態に係る立体構造体の加工装置の制御フローチャートを示す図である。
【符号の説明】
１  平坦基板（ガラス基板、Ｓｉ基板、ＳＵＳ基板）
２  レーザ光吸収薄膜層（Ｎｉ薄膜）
２ａ〜２ｃ  レーザ光吸収薄膜層（Ｎｉ薄膜）
３  透明層（アクリル樹脂層、ＩＴＯ膜等）
３ａ〜３ｃ  透明層（アクリル樹脂層、ＩＴＯ膜等）
４  加工用レーザ光（フェムト秒Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ光等）
４ａ〜４ｆ  加工用レーザ光（フェムト秒Ｔｉ：Ｓａｐｐｈｉｒｅレーザ光等）
５  立体構造体
６  断熱層（低熱拡散率層、ポリイミド層等）
７  立体構造体
８  透明層（アクリル樹脂層、ＩＴＯ膜等）
９  立体構造体
１０  従来の立体構造体
１０ａ  底面
１１  本発明の立体構造体
１１ａ  平坦面
１２  加工用レーザ光の強度分布
１３ａ  透過型液晶マスク
１３ｂ  第二のマスク形状
１４ａ〜１４ｃ  被加工物
１５ａ〜１５ｃ  立体構造体
１６  加工用レーザ光の強度分布
１７  マルチバイナリ型回折格子
１８  表面電極作製用金属膜
１９  金属Ｎｉ層
２０  樹脂材
３１  レーザ加工装置（加工用レーザ光発生手段）
３２  加工用レーザ光
３３  外部シャッタ
３４  １／２波長板（加工用レーザ光調整手段）
３５  偏光ビームスプリッタ（加工用レーザ光調整手段）
３６  整形レンズ
３７  反射ミラー
３８  マスク
３９  集光レンズ
４０  積層体（被加工物）
４１  移動ステージ
４２  観察用照明
４３  ＣＣＤカメラ
５１  積層体（被加工物）
５２  マスク移動ステージ
５３  コンピュータ
５４  ガルバノミラー
５５  ガルバノミラーコントローラ
５６  ｆθレンズ
Ｈ  平坦面
Ｐ  ピット
【図１】
0004006994.tif 000004
【図２】
0004006994.tif 000005
【図３】
0004006994.tif 000006
【図４】
0004006994.tif 000007
【図５】
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【図６】
0004006994.tif 000009
【図７】
0004006994.tif 000010
【図８】
0004006994.tif 000011
【図９】
0004006994.tif 000012
【図１０】
0004006994.tif 000013
【図１１】
0004006994.tif 000014
【図１２】
0004006994.tif 000015
【図１３】
0004006994.tif 000016
【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
0004006994.tif 000019
【図１７】
0004006994.tif 000020
【図１８】
0004006994.tif 000021
【図１９】
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