(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式（Ｉ）
【化１】
0004006608.tif 000039
［式中、Ｘ1は水素原子を表わし、Ｐ1及びＰ2はそれぞれ独立的にメチレン基又はエチレン基を表わし、Ｚ1は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表わし、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表わし、ｊは０又は１の整数を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、Ｒはシアノ基を表わし、６員環Ａ及びＣが、１，４−フェニレン基を表し、６員環Ｂは、式
【化２】
0004006608.tif 000040
（式中、Ｗはハロゲン原子又はメチル基を表わし、ｍは１〜４の整数を表わす。）で表わされる６員環を表わす。］で表わされることを特徴とする液晶性（メタ）アクリレート化合物。
【請求項２】
一般式（Ｉ）
【化３】
0004006608.tif 000041
［式中、Ｘ1は水素原子を表わし、Ｐ1及びＰ2はそれぞれ独立的にメチレン基又はエチレン基を表わし、Ｚ1は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表わし、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−、ｊは０又は１の整数を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、Ｒは一般式（II）
【化４】
0004006608.tif 000042
（式中、Ｘ2は水素原子を表わし、Ｐ3及びＰ4はそれぞれ独立的にメチレン基又はエチレン基を表わし、Ｚ2は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表わし、ｋはそれぞれ独立的に０又は１の整数を表わす。）で表わされる基を表わし、６員環Ａ、Ｂ及びＣは１，４−フェニレン基を表す液晶性アクリレート化合物。
【請求項３】
請求項１又は２記載の一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート化合物を含有し、液晶相を示すことを特徴とする液晶組成物。
【請求項４】
少なくとも２つの６員環を有する液晶骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸又はメタクリル酸エステルである単官能アクリレート又は単官能メタクリレートを含有する請求項３記載の液晶組成物。
【請求項５】
単官能アクリレート又は単官能メタクリレートが一般式（III）
【化５】
0004006608.tif 000043
（式中、Ｘ3は水素原子又はメチル基を表わし、ｒは０又は１の整数を表わし、６員環Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立的に、
【化６】
0004006608.tif 000044
（式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）で表わされる６員環を表わし、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−、又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を表わし、Ｙ5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わす。）で表わされる化合物である請求項４記載の液晶組成物。
【請求項６】
少なくとも２０℃〜３０℃の温度範囲で液晶相を発現する請求項３、４又は５記載の液晶組成物。
【請求項７】
請求項３〜６のいずれか１項に記載の液晶組成物の重合体から構成されることを特徴とする光学異方体。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、光学、表示、記録材料、液晶ディスプレイの光学補償板や偏光プリズム材料として利用される新規な液晶性（メタ）アクリレート化合物、該化合物を液晶組成物及びこれを用いた光学異方体に関する。
【０００２】
【従来の技術】
液晶ディスプレイ素子の表示品位の向上と軽量化に応える光学補償板等の光学異方体の作製を可能にする技術として、本発明者等は、特開平８−３１１１号公報に、少なくとも２つの６員環を有する液晶性骨格を部分構造として有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルを含有し、室温において液晶性を示す重合性液晶組成物を配向させた状態において光重合して得られる内部の配向構造が制御された光学異方体を提案した。この公報に記載の重合性液晶組成物は、低分子化合物から構成され、その粘度も低く、所望の配向状態を迅速に達成することができるという長所を有している。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、該重合性液晶組成物をガラスやプラスチック等の基板に塗布する場合には、均一な厚みをもって塗布するのが困難という問題があった。
【０００４】
本発明が解決しようとする課題は、光学異方体として有用な材料であって、迅速に所望の配向状態となり、かつ、ガラスやプラスチック基板への良好な塗布性を示す重合性液晶性化合物及び該化合物を含有する重合性液晶組成物を提供することにある。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者等は、液晶性（メタ）アクリレート化合物の化学構造と、ガラス基板やプラスチック基板への塗布性との相関について鋭意検討した結果、特定の化学構造を有する液晶性（メタ）アクリレート化合物により、上記課題を解決できることを見出し、本発明を完成するに至った。
【０００６】
即ち、本発明は上記課題を解決するために、
（１）一般式（Ｉ）
【０００７】
【化６】
0004006608.tif 000002
【０００８】
［式中、Ｘ1 は水素原子又はメチル基を表わし、Ｐ1及びＰ2はそれぞれ独立的に炭素原子数１から１８の２価の炭化水素基を表わし、Ｚ1 は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表わし、Ｙ1及びＹ2はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−、 −ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−又は−ＯＯＣＣＯＯ−を表わし、ｊは０又は１の整数を表わし、ｎは０又は１の整数を表わし、Ｒは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子数１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基、アルケニルオキシ基又は一般式（II）
【０００９】
【化７】
0004006608.tif 000003
【００１０】
（式中、Ｘ2 は水素原子又はメチル基を表わし、Ｐ3及びＰ4はそれぞれ独立的に炭素原子数１から１８の２価の炭化水素基を表わし、Ｚ2 は−ＣＯＯ−又は−ＯＣＯ−を表わし、ｋはそれぞれ独立的に０又は１の整数を表わす。）
で表わされる基を表わし、
６員環Ａ、Ｂ及びＣはそれぞれ独立的に、式
【００１１】
【化８】
0004006608.tif 000004
【００１２】
（式中、Ｗはハロゲン原子又はメチル基を表わし、ｍは１〜４の整数を表わす。）
で表わされる６員環を表わし、ｎは０又は１を表わす。］
で表わされる液晶性（メタ）アクリレート化合物、
【００１３】
（２）上記一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート化合物を含有し、液晶相を示す液晶組成物
及び
【００１４】
（３）上記（２）に記載の液晶組成物の重合体から構成される光学異方体
を提供する。
【００１５】
【発明の実施の形態】
一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート化合物の構造上の特徴は、６員環Ａ、Ｂ、Ｃ及び連結基Ｙ1、Ｙ2から構成される剛直な液晶骨格の末端に位置するフレキシブルなスペーサー部分において、（メタ）アクリロイルオキシ基に含まれるエステル基以外に少なくとも一つのエステル結合を有する点にある。これにより、１分子あたり多数のエステル基が存在することによる粘度の増大と、多数のカルボニル基の分極構造によりガラス表面等への親和性が増大する結果、良好な塗布性が得られるものと考えられる。
【００１６】
本発明の一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート化合物（以下、本発明の化合物という。）は、例えば、以下の方法によって合成することができる。
【００１７】
一般式（IV）
【００１８】
【化９】
0004006608.tif 000005
【００１９】
（式中、Ｐ1、Ｐ2、Ｚ1、Ｙ1、Ｙ2、Ｒ、ｊ、ｎ、６員環Ａ、Ｂ及びＣは、一般式（Ｉ）におけるものと同じものを表わす。）
で表わされる化合物の水酸基、又は、一般式（Ｖ）
【００２０】
【化１０】
0004006608.tif 000006
【００２１】
（式中、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3、Ｐ4、Ｚ1、Ｚ2、Ｙ1、Ｙ2、ｊ、ｋ、ｎ、６員環Ａ、Ｂ及びＣは、一般式（Ｉ）におけるものと同じものを表わす。）
で表わされる化合物の水酸基を、例えば、
【００２２】
(1) トリエチルアミンの如き塩基存在下で（メタ）アクリロイルクロリドの如き（メタ）アクリル酸の酸ハロゲン化物との反応によりエステル化させる方法、
(2) 酸触媒存在下で（メタ）アクリル酸との反応によりエステル化させる方法、
(3) ジシクロヘキシルカルボジイミドの如き縮合剤を用いて（メタ）アクリル酸との反応によりエステル化させる方法
により製造することができる。
【００２３】
また、一般式（VI）
【００２４】
【化１１】
0004006608.tif 000007
【００２５】
（式中、Ｙ1、Ｙ2、ｎ、Ｒ、６員環Ａ、Ｂ及びＣは、一般式（Ｉ）におけるものと同じものを表わす。）
で表わされる化合物の水酸基、又は一般式（VII）
【００２６】
【化１２】
0004006608.tif 000008
【００２７】
（式中、Ｙ1、Ｙ2、ｎ、６員環Ａ、Ｂ及びＣは、一般式（Ｉ）におけるものと同じものを表わす。）
で表わされる化合物の水酸基を、一般に市販されているカルボキシル基を有する化合物、例えば、式
【００２８】
【化１３】
0004006608.tif 000009
【００２９】
で表わされる化合物（東亞合成株式会社製の「Ｍ−５６００」）、式
【００３０】
【化１４】
0004006608.tif 000010
【００３１】
で表わされる化合物（共栄社化学株式会社製の「ＨＯＡ−ＭＳ」）
とを (1)ジシクロヘキシルカルボジイミドの如き縮合剤を用いてエステル化させる方法、 (2)カルボキシル基をハロゲン化アシル基に変換した後に、エステル化させる方法、により製造することができる。
【００３２】
本発明の化合物に迅速なる光重合性を要求する場合、本発明の一般式（Ｉ）で表わされる化合物は、一般式（Ｉ）において、Ｘ1及びＸ2が、メチル基よりも水素原子である化合物が好ましい。
【００３３】
また、本発明の化合物は、発明の目的から、単体として液晶相、特にネマチック相、スメクチックＡ相、スメクチックＣ相を示すことが好ましい。一般式（Ｉ）において、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3及びＰ4は、それぞれ独立的に、炭素原子数１〜１８の２価の炭化水素基を選択することができるが、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3及びＰ4が、炭素原子数が６以上である化合物は、液晶性が発現しにくくなる傾向にあるため、Ｐ1、Ｐ2、Ｐ3及びＰ4が、それぞれ独立的に、炭素原子数１〜６のアルキレン基である化合物が好ましく、炭素原子数１〜２のアルキレン基である化合物が特に好ましい。
【００３４】
また、一般式（Ｉ）において、ｎが０である化合物は、液晶性が発現しにくくなる傾向にあるため、ｎが１である化合物が好ましい。また、環Ａ、Ｂ及びＣは、化合物の屈折性を大きくすることができるため、１，４−フェニレン基であることが好ましい。また、化合物の転移温度を調節し、誘電率の大きさを調節する目的で、１，４−フェニレン基の１〜４個の水素原子がハロゲン原子やメチル基で置換された化合物が好ましい。
【００３５】
本発明の液晶組成物は、通常この技術分野で液晶相と認識される相を示す組成物であれば特に制限なく用いることができる。そのような液晶組成物の中でも、液晶相として、ネマチック相、スメクチックＡ相、（カイラル）スメクチックＣ相、コレステリック相を発現するものが好ましい。また、（カイラル）スメクチックＣ相を示す場合には、該（カイラル）スメクチックＣ相の上の温度領域でスメクチックＡ相を、スメクチックＡ相を示す場合には、該スメクチックＡ相の上の温度領域でネマチック相を、それぞれ発現する液晶組成物は、良好な一軸の配向特性が得られるので好ましい。
【００３６】
本発明の液晶組成物は、液晶相の温度領域で紫外線を照射して、組成物中の（メタ）アクリレート化合物を重合させる。本発明の液晶組成物は、室温付近、即ち、少なくとも２０〜３０℃の温度範囲で液晶相を発現するものが好ましい。例えば、（カイラル）スメクチックＣ相で本発明の液晶組成物に紫外線を照射して、組成物中の（メタ）アクリレート化合物を重合させる場合、室温付近、即ち、少なくとも２０〜３０℃の温度範囲で（カイラル）スメクチックＣ相を発現するものが好ましい。
【００３７】
本発明の液晶組成物中の一般式（Ｉ）で表わされる化合物の割合は、ガラスやプラスチック基板への良好な塗布性能を確保するために、２重量％以上であることが好ましい。本発明の液晶組成物中の一般式（Ｉ）で表わされる化合物の割合が２重量％よりも少ない場合、塗布性能が低下する傾向にあるので好ましくない。
【００３８】
また、本発明の液晶組成物には、一般式（Ｉ）で表わされる化合物以外の化合物であって、分子中に、通常この技術分野において液晶骨格と認められる骨格と重合性官能基とを同時に有する重合性の液晶化合物（以下、その他の重合性液晶化合物という。）を、９８重量％以下の濃度で、特に制限なく添加することができる。
【００３９】
液晶骨格は、少なくとも２つ又は３つの６員環を有するものが特に好ましい。重合性官能基としては、例えば、（メタ）アクリロイルオキシ基、エポキシ基、ビニルエーテル基、シンナモイル基、ビニル基等を挙げることができるが、これらの中でも良好な光重合特性が得られることから、アクリロイルオキシ基が特に好ましい。一分子中に複数の重合性官能基を有する多官能の重合性液晶化合物の場合には、重合性官能基の種類が異なっていても良い。例えば、一分子中に２つの重合性官能基を有する２官能の重合性液晶化合物の場合、一方の重合性官能基がアクリロイルオキシ基、もう一方の官能基がメタアクリロイルオキシ基又はビニルエーテル基であっても良い。２官能の重合性液晶化合物は、多くの種類が知られており、一般に、これらを重合させた場合には、良好な耐熱性及び強度特性を得られることから、好適に用いることができる。そのような２官能の重合性液晶化合物としては、例えば、以下の式（１）〜（１０）に挙げた化合物が挙げられるが、本発明の液晶組成物に併用することができるその他の重合性液晶化合物は、これらに限定されるものではない。
【００４０】
【化１５】
0004006608.tif 000011
【００４１】
（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表わし、Ｘはハロゲン原子、シアノ基又はメチル基を表わし、ｓは２〜１２の整数を表わす）。
【００４２】
さらに本発明の液晶組成物には、一分子中に一つの重合性官能基を有する単官能の重合性液晶化合物を添加することもできる。そのような単官能の重合性液晶化合物としては、例えば、以下の式（１１）〜（５６）で表わされる化合物が挙げられるが、本発明の液晶組成物において使用することができるその他の重合性液晶化合物は、これらに限定されるものではない。
【００４３】
【化１６】
0004006608.tif 000012
【００４４】
【化１７】
0004006608.tif 000013
【００４５】
【化１８】
0004006608.tif 000014
【００４６】
【化１９】
0004006608.tif 000015
【００４７】
（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表わし、Ｙは水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わし、ｓは２から１２の整数を表わす。）
【００４８】
さらにまた、本発明の液晶組成物には、室温付近、即ち、少なくとも２０〜３０℃の温度範囲において、液晶相の発現を容易にし、かつ、液晶組成物の光重合物の耐熱性及び強度特性の確保を図ることを目的として、分子中に、少なくとも２つの６員環を有する液晶骨格を有する環状アルコール、フェノール又は芳香族ヒドロキシ化合物のアクリル酸エステル又はメタクリル酸エステルの如き単官能（メタ）アクリレートを含有させることもできる。
【００４９】
このような単官能（メタ）アクリレートは、（メタ）アクリロイルオキシ基と液晶骨格との間に、アルキレン基又はオキシアルキレン基等の液晶の技術分野でスペーサーと呼ばれる柔軟性の連結基が存在しないため、このような単官能（メタ）アクリレートを重合させて得られる重合体の主鎖には、スペーサーを介さず直接剛直な液晶骨格が結合し、液晶骨格の熱運動は、高分子主鎖により制限されることが予想される。その結果、耐熱性及び強度特性に優れた重合体が得られることが期待できる。また、分子内には、分子形状的に液晶性を低下させてしまう（メタ）アクリロイルオキシ基が一つ存在するのみであるので、液晶を発現させる温度範囲の制御においても、分子内に複数の（メタ）アクリロイルオキシ基を有する化合物より容易になる。このよう単官能（メタ）アクリレートとしては、例えば、一般式（III）
【００５０】
【化２０】
0004006608.tif 000016
【００５１】
（式中、Ｘ3は水素原子又はメチル基を表わし、ｒは０又は１の整数を表わし、６員環Ｄ、Ｅ及びＦはそれぞれ独立的に、
【００５２】
【化２１】
0004006608.tif 000017
【００５３】
（式中、ｐは１〜４の整数を表わす。）
で表わされる６員環を表わし、Ｙ3及びＹ4はそれぞれ独立的に、単結合、−ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ2Ｏ−、−ＯＣＨ2−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−（ＣＨ2）4−、−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−、 −ＯＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−、−ＣＨ＝ＣＨ−ＣＨ2ＣＨ2−又は−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2Ｏ−を表わし、 Ｙ5は水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭素原子１〜２０のアルキル基、アルコキシ基、アルケニル基又はアルケニルオキシ基を表わす。）
で表わされる化合物が挙げられる。
【００５４】
このような単官能（メタ）アクリレートの具体的な例としては、以下の式（５７）〜（６７）で表わされる化合物が挙げられるが、本発明の液晶組成物において使用することができる単官能（メタ）アクリレートはこれらに限定されるものではない。
【００５５】
【化２２】
0004006608.tif 000018
【００５６】
【化２３】
0004006608.tif 000019
【００５７】
（式中、シクロヘキサン環はトランスシクロヘキサン環を表わし、数字は相転移温度を表わし、相転移温度におけるＣは結晶相、Ｎはネマチック相、Ｓはスメクチック相、Ｉは等方性液体相をそれぞれ表わす。）
【００５８】
また、本発明の液晶組成物には、重合性官能基を有していない液晶化合物を用途に応じて添加することもできる。例えば、本発明の液晶組成物から成る重合体を表示素子と用いる場合、あるいは温度によって屈折率を変化させたい場合には、組成物中に重合性官能基を有していない液晶化合物を３０〜９８重量％の範囲で併用することもできる。また、本発明の液晶組成物から成る重合体を温度によって屈折率を変化させることが好ましくない場合、あるいは耐熱性や機械的特性を重視する場合には、本発明の液晶組成物中に重合性官能基を有していない液晶化合物を３０重量％未満の範囲で併用することもできる。
【００５９】
また、本発明の液晶組成物には、重合性官能基を有する化合物であって、液晶性を示さない化合物も添加することができる。このような化合物としては、通常、この技術分野で高分子形成性モノマーあるいは高分子形成性オリゴマーとして認識されるものであれば特に制限なく使用することができるが、アクリレート化合物、メタクリレート化合物、ビニルエーテル化合物が特に好ましい。
【００６０】
以上のように、本発明の液晶組成物には、一般式（Ｉ）で表わされる液晶性（メタ）アクリレート以外に、重合性官能基を有する液晶化合物、重合性官能基を有さない液晶化合物、液晶性を示さない重合性化合物を適宜組み合わせて添加してもよいが、少なくとも得られる液晶組成物の液晶性が失われないように各成分の添加量を調整する必要がある。
【００６１】
更に本発明の液晶組成物には、その重合反応性を向上させることを目的として、熱重合開始剤、光重合開始剤の重合開始剤を添加することもできる。
【００６２】
熱重合開始剤としては、例えば、過酸化ベンゾイル、ビスアゾブチロニトリル等が挙げられる。また、光重合開始剤としては、例えば、ベンゾインエーテル類、ベンゾフェノン類、アセトフェノン類、ベンジルケタール類等が挙げられる。熱重合開始剤あるいは光重合開始剤を添加する場合の添加量は、液晶組成物に対して１０重量％以下が好ましく、５重量％以下が特に好ましく、０．５〜１．５重量％の範囲が更に好ましい。
【００６３】
また、本発明の液晶組成物には、その保存安定性を向上させるために、安定剤を添加することもできる。使用できる安定剤としては、例えば、ヒドロキノン、ヒドロキノンモノアルキルエーテル類、第三ブチルカテコール等が挙げられる。安定剤を使用する場合の添加量は、液晶組成物に対して１重量％以下が好ましく、０．５重量％以下が特に好ましい。
【００６４】
また、本発明の液晶組成物には、液晶骨格の螺旋構造を内部に有する重合体を得ることを目的として、カイラル（光学活性）化合物を添加することもできる。そのような目的で使用するカイラル化合物は、それ自体が液晶性を示す必要は無く、また重合性官能基を有していても、有していなくても良い。また、その螺旋の向きは、重合体の使用用途によって適宜選択することができる。そのようなカイラル化合物としては、例えば、光学活性基としてコレステリル基を有するペラルゴン酸コレステロール、ステアリン酸コレステロール、光学活性基として２−メチルブチル基を有するビーディーエイチ社（ＢＤＨ社；イギリス国）製の「ＣＢ−１５」、「Ｃ−１５」、メルク社（ドイツ国）製の「Ｓ−１０８２」、チッソ社製の「ＣＭ−１９」、「ＣＭ−２０」、「ＣＭ」；光学活性基として１−メチルヘプチル基を有するメルク社製の「Ｓ−８１１」、チッソ社製の「ＣＭ−２１」、「ＣＭ−２２」等をを挙げることができる。カイラル化合物を添加する場合の好ましい添加量は、液晶組成物の用途によるが、重合して得られる重合体の厚み（ｄ）を重合体中での螺旋ピッチ（Ｐ）で除した値（ｄ／Ｐ）が０．１〜２０の範囲となる量が好ましい。
【００６５】
また、本発明の液晶組成物を偏光フィルムや配向膜の原料、又は印刷インキ及び塗料等として利用する場合には、その目的に応じて金属、金属錯体、染料、顔料、色素、界面活性剤、ゲル化剤、紫外線吸収剤、抗酸化剤、イオン交換樹脂、酸化チタンの金属酸化物等を添加することもできる。
【００６６】
本発明の光学異方体は、本発明の液晶組成物を配向させた状態において、重合させることにより製造することができる。例えば、表面を布等でラビング処理した基板、もしくは有機薄膜を形成した基板表面を布等でラビング処理した基板、あるいはＳｉＯ2 を斜方蒸着した配向膜を有する基板上に担持させるか、基板間に挟持させた後、本発明の液晶を重合させる方法が挙げられる。その他の配向処理方法としては、液晶組成物の流動配向の利用や、電場又は磁場の利用を挙げることができる。これらの配向手段は単独で用いても、また組み合わせて用いても良い。その中でも基板表面を布等でラビング処理した基板を用いる方法は、その簡便性から特に好ましい。
【００６７】
基板を構成する材料は、有機材料、無機材料を問わずに用いることができる。基板の材料となる有機材料としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート、ポリイミド、ポリアミド、ポリメタクリル酸メチル、ポリスチレン、ポリ塩化ビニル、ポリテトラフルオロエチレン、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリアリレート、ポリスルホン、トリアセチルセルロース、セルロース、ポリエーテルエーテルケトン等が挙げられ、また、無機材料としては、例えば、シリコン、ガラス、方解石等が挙げられる。
【００６８】
これらの基板を布等でラビングすることによって適当な配向性を得られない場合、公知の方法に従ってポリイミド薄膜又はポリビニルアルコール薄膜等の有機薄膜を基板表面に形成し、これを布等でラビングしても良い。また、通常のツイステッド・ネマチック（ＴＮ）素子又はスーパー・ツイステッド・ネマチック（ＳＴＮ）素子で使用されているプレチルト角を与えるポリイミド薄膜は、光学異方体内部の分子配向構造を更に精密に制御することができることから、特に好ましく。
【００６９】
また、電場によって配向状態を制御する場合には、電極層を有する基板を使用する。この場合、電極上に前述のポリイミド薄膜等の有機薄膜を形成するのが好ましい。
【００７０】
さらに、ラビングに代わる配向処理方法として、光配向法を用いることもできる。この方法は、ポリビニルシンナメート等の分子内に光二量化反応する官能基を有する有機薄膜、光で異性化する官能基を有する有機薄膜又はポリイミド等の有機薄膜に、偏光した光、好ましくは偏光した紫外線を照射することによって、配向膜を形成するものである。この光配向法に光マスクを適用することにより配向のパターン化が容易に達成できるので、光学異方体内部の分子配向も精密に制御することが可能となる。
【００７１】
本発明の液晶組成物を重合させる方法としては、迅速な重合の進行が望ましいので、紫外線又は電子線等のエネルギーを照射することによって光重合させる方法が好ましい。光重合させる際の光源としては、偏光光源を用いても良いし、非偏光光源を用いても良い。また、液晶組成物を２枚の基板間に挟持させて状態で光重合を行なう場合には、少なくとも照射面側の基板は適当な透明性が与えられていなければならない。また、照射時の温度は、本発明の液晶組成物の液晶状態が保持される温度範囲内であることが好ましい。特に、光重合によって光学異方体を製造しようとする場合には、意図しない熱重合の誘起を避ける意味からも可能な限り室温に近い温度、即ち２０〜３０℃の温度で重合させることが好ましい。
【００７２】
重合によって得られた本発明の光学異方体は、初期の特性変化を軽減し、安定的な特性発現を図ることを目的として熱処理を施すこともできる。熱処理の温度は５０〜２５０℃の範囲で、また熱処理時間は３０秒〜１２時間の範囲が好ましい。
【００７３】
このような方法によって製造される本発明の光学異方体は、基板から剥離して用いても、剥離せずに用いても良い。
【００７４】
【実施例】
以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に詳細に説明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定されるものではない。
【００７５】
（実施例１）液晶性アクリレート化合物の合成（１）
４，４’−ビフェノール３．０ｇ、式
【００７６】
【化２４】
0004006608.tif 000020
【００７７】
で表わされる化合物（共栄社化学株式会社製の「ＨＯＡ−ＭＳ」）７．７ｇ、４−ピロリジノピリジン１．６ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｍｌから成る混合物に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド１０．０ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、４０℃で１時間反応させた後、反応液を室温まで冷却した。次に、反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル２００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物１２．１ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：２、Ｒｆ＝０．４９）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製して、式（ａ）
【００７８】
【化２５】
0004006608.tif 000021
【００７９】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ａ）８．２ｇを得た。この液晶性アクリレート化合物（ａ）の融点は２９℃であった。
【００８０】
（実施例２）液晶性アクリレート化合物の合成（２）
２−ヒドロキシエチルアクリレート２．６ｇ、トリエチルアミン４．２ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合物を５℃に冷却しながら撹拌し、この混合物に、反応液の温度が１５℃以下に保ちながら、式（ｂ）
【００８１】
【化２６】
0004006608.tif 000022
【００８２】
で表わされる化合物５．０ｇ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３時間反応液を撹拌しながら反応させた。反応終了後、飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性になるまで希塩酸を加え、さらに酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物５．９ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びｎ−ヘキサンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：３、Ｒｆ＝０．５４）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製して、式（ｃ）
【００８３】
【化２７】
0004006608.tif 000023
【００８４】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ｃ）４．６ｇ得た。この化合物は、室温で等方性液体相を示した。
【００８５】
（実施例３）液晶性アクリレート化合物の合成（３）
４−シアノ−４’−ヒドロキシビフェニル２５．０ｇ、実施例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」３０．５ｇ、ジメチルアミノピリジン５．５ｇ及びテトラヒドロフラン２００ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド３６．０ｇ及びテトラヒドロフラン７０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水５００ｍｌを加えた。反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加え、析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル５００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物４５．４ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びｎ−ヘキサンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：ｎ−ヘキサン＝１：１、Ｒｆ＝０．４６）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し、更にエタノールから再結晶させて精製して、式（ｄ）
【００８６】
【化２８】
0004006608.tif 000024
【００８７】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ｄ）３３．６ｇを得た。この化合物の融点は８７℃であった。
【００８８】
（実施例４）液晶性アクリレートの合成（４）
式（ｅ）
【００８９】
【化２９】
0004006608.tif 000025
【００９０】
で表わされる化合物（ｅ）３．０ｇ、実施例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」９．３ｇ、ジメチルアミノピリジン１．２ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｍｌから成る混合物に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド８．８ｇ及びテトラヒドロフラン４０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物１０．８ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：２、Ｒｆ＝０．５４）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し、更にエタノールから再結晶させて精製して、式（ｆ）
【００９１】
【化３０】
0004006608.tif 000026
【００９２】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ｆ）０．７ｇを得た。この化合物の融点は７８℃であった。
【００９３】
（実施例５）液晶性アクリレートの合成（５）
メチルヒドロキノン２．２ｇ、ピリジン１０．０ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合物に、反応液の温度を４０℃以下に保ちながら、４−アセトキシ安息香酸クロリド１１．０ｇ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３時間反応液を撹拌した。次に、反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた後、酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物１３．８ｇを得た。この粗生成物を、エタノールから再結晶させて、式（ｇ）
【００９４】
【化３１】
0004006608.tif 000027
【００９５】
で表わされる化合物（ｇ）８．５ｇを得た。
【００９６】
化合物（ｇ）８．５ｇ及びテトラヒドロフラン５０ｍｌから成る混合液を撹拌しながら、これに、ベンジルアミン１６ｍｌを３０分おきに４回に分けて滴下した。滴下終了後、更に１時間室温で撹拌した。この反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加えた後、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加え、さらに酢酸エチル７０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物１３．８ｇを得た。この粗生成物を、トルエンから再結晶させて、式（ｈ）
【００９７】
【化３２】
0004006608.tif 000028
【００９８】
で表わされる化合物（ｈ）３．０ｇを得た。
【００９９】
化合物（ｈ）２．０ｇ、実施例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」３．６ｇ、ジメチルアミノピリジン０．４ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合物に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド３．４ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水７０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した後、酢酸エチル８０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物５．９ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：１、Ｒｆ＝０．６７）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製して、式（ｉ）
【０１００】
【化３３】
0004006608.tif 000029
【０１０１】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ｉ）３．７ｇを得た。この化合物は室温で等方性液体相を示した。
【０１０２】
（実施例６）液晶性アクリレートの合成（６）
ヒドロキノン２．５ｇ、ピリジン８．９ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を４０℃以下に保ちながら、４−アセトキシ安息香酸クロリド１２．０ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３時間反応液を撹拌した。この反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた後、さらに酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物５．５ｇを得た。この粗生成物をエタノールから再結晶させて精製して、式（ｊ）
【０１０３】
【化３４】
0004006608.tif 000030
【０１０４】
で表わされる化合物（ｊ）３．８ｇを得た。
【０１０５】
化合物（ｉ）３．８ｇ及びテトラヒドロフラン４０ｍｌから成る混合液に、ベンジルアミン６ｍｌを３０分おきに３回に分けて滴下した。滴下終了後、室温にて１時間反応液を撹拌した。この反応液に飽和食塩水６０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた後、さらに酢酸エチル５０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物５．１ｇを得た。この粗生成物をトルエンから再結晶させて精製して、式（ｋ）
【０１０６】
【化３５】
0004006608.tif 000031
【０１０７】
で表わされる化合物（ｋ）２．６ｇを得た。
【０１０８】
化合物（ｋ）２．６ｇ、実施例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」４．８ｇ、ジメチルアミノピリジン０．６ｇ及びテトラヒドロフラン３０ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド４．６ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水７０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル８０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物５．９ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びトルエンから成る混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：１、Ｒｆ＝０．６７）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し、更にエタノールから再結晶させて精製して、式（ｌ）
【０１０９】
【化３６】
0004006608.tif 000032
【０１１０】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ｌ）４．８ｇを得た。化合物（ｌ）の相転移温度は、Ｓｘ相（帰属不明のスメクチック相）−Ｎ相（ネマチック相）転移温度が９６℃、Ｎ相−Ｉ相（等方性液体相）転移温度が１０２℃であった。
【０１１１】
（実施例７）液晶性アクリレートの合成（７）
４，４’−ビフェノール２５．０ｇ、ピリジン１．０ｇ及びテトラヒドロフラン２５０ｍｌから成る混合物に、無水酢酸１３．７ｇを１０分かけて滴下した。滴下終了後、４時間加熱環流させた。反応液を室温まで冷却した後、飽和食塩水１０００ｍｌ及び酢酸エチル４００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物４７．０ｇを得た。この粗生成物をメタノールから再結晶させ、更にトルエンから５回再結晶させて精製して、式（ｍ）
【０１１２】
【化３７】
0004006608.tif 000033
【０１１３】
で表わされる化合物（ｍ）８．１ｇを得た。
【０１１４】
化合物（ｍ）４．０ｇ、ピリジン３．４ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を４０℃以下に保ちながら、４−アセトキシ安息香酸クロリド５．４ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温にて３時間反応液を撹拌した。この反応液に飽和食塩水１００ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた後、さらに酢酸エチル１００ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物９．１ｇを得た。この粗生成物をエタノールから再結晶させて精製して、式（ｎ）
【０１１５】
【化３８】
0004006608.tif 000034
【０１１６】
で表わされる化合物（ｎ）２．７ｇを得た。
【０１１７】
化合物（ｎ）２．７ｇ及びテトラヒドロフラン１０ｍｌから成る混合液に、ベンジルアミン４ｍｌを３０分おきに３回に分けて滴下した。滴下終了後、室温で１時間反応液を撹拌した。反応液に飽和食塩水６０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた後、さらに酢酸エチル５０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物４．１ｇを得た。この粗生成物をトルエンから再結晶させて精製して、式（ｏ）
【０１１８】
【化３９】
0004006608.tif 000035
【０１１９】
で表わされる化合物（ｏ）２．０ｇを得た。
【０１２０】
化合物（ｏ）２．０ｇ、実施例１で使用した「ＨＯＡ−ＭＳ」４．２ｇ、ジメチルアミノピリジン０．５ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る混合液に、反応液の温度を３０℃以下に保ちながら、ジシクロヘキシルカルボジイミド４．０ｇ及びテトラヒドロフラン２０ｍｌから成る溶液を滴下した。滴下終了後、室温で５時間反応液を撹拌した後、反応液に飽和食塩水７０ｍｌを加え、反応液の水層が弱酸性となるまで希塩酸を加えた。析出したジシクロヘキシル尿素をガラスフィルターによって濾別した後、濾液に酢酸エチル８０ｍｌを加えて抽出を行った。有機層を水洗した後、酢酸エチルを減圧留去して粗生成物６．４ｇを得た。この粗生成物を、酢酸エチル及びトルエンの混合溶媒（容量比で酢酸エチル：トルエン＝１：１、Ｒｆ＝０．７１）を展開溶媒とするシリカゲルカラムクロマトグラフィーを用いて精製し、更にエタノールから再結晶させて精製して、式（ｐ）
【０１２１】
【化４０】
0004006608.tif 000036
【０１２２】
で表わされる液晶性アクリレート化合物（ｐ）３．２ｇを得た。化合物（ｐ）の相転移温度は、Ｃ相（結晶相）−Ｓｃ相（スメクチックＣ相）転移温度が５７℃、Ｓｃ相−Ｎ相（ネマチック相）転移温度が９３℃、Ｎ相−Ｉ相（等方性液体相）転移温度が１０１℃であった。
【０１２３】
（実施例８）液晶組成物の調製（１）
実施例６で得た液晶性アクリレート化合物（ｌ）５０重量部及び実施例７で得た液晶性アクリレート化合物（ｐ）５０重量部からなる液晶組成物（ａ）を調製した。この液晶組成物（ａ）は８６〜９４℃の温度範囲でネマチック相を示した
。
【０１２４】
次に、式（５７）
【０１２５】
【化４１】
0004006608.tif 000037
【０１２６】
で表わされる化合物５０重量部及び式（６０）
【０１２７】
【化４２】
0004006608.tif 000038
【０１２８】
で表わされる化合物５０重量部からなる液晶組成物（ｂ）を調製した。この液晶組成物（ｂ）は、室温で液晶相を示し、ネマチック相−等方性液体相の相転移温度は４６℃であった。
【０１２９】
液晶組成物（ａ）５０重量部及び液晶組成物（ｂ）５０重量部からなる液晶組成物（ｃ）を調製した。液晶組成物（ｃ）は３５〜６４℃の温度範囲でネマチック相を示した。
【０１３０】
（実施例９）液晶組成物の調製（２）
実施例３で得た液晶性アクリレート（ｄ）１０重量部及び実施例８で調製した液晶組成物（ｂ）９０重量部からなる液晶組成物（ｄ）を調製した。液晶組成物（ｄ）は、室温で液晶相を示し、ネマチック相−等方性液体相の相転移温度は４３℃であった。
【０１３１】
（実施例１０）光学異方体の作製（１）
実施例８で調製した液晶組成物（ｃ）９９重量部に光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイギー社製）１重量部を溶解させた。これをセルギャップ１０ミクロンの透明ガラス製ＴＮ（ツイステッドネマチック）セルに注入したところ、良好なＴＮ配向が得られているこをが偏光顕微鏡観察により確認できた。このセルに、３８℃において高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射し、液晶組成物を光重合させた。セルを偏光顕微鏡で観察したところ、ＴＮ配向が均一に固定化された光学異方体が得られていることが確認できた。次に、セルのガラスを取り外すことにより、１枚のガラスの上に担持された厚さ１０ミクロンのＴＮ配向構造を有する光学異方体を得た。この光学異方体は１５０℃で１００時間加熱しても、ＴＮ配向構造が保持されることがわかった。
【０１３２】
（実施例１１）光学異方体の作製（２）
実施例９で調製した液晶組成物（ｄ）９９重量部に光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」１重量部を溶解させた。これをセルギャップ１０ミクロンの透明ガラス製ＴＮセルに注入したところ、良好なＴＮ配向が得られていることを偏光顕微鏡観察により確認できた。このセルに、２５℃において高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射し、液晶組成物を光重合させた。セルを偏光顕微鏡で観察したところ、ＴＮ配向が均一に固定化された光学異方体が得られていることが確認できた。次に、セルのガラスを取り外すことにより、１枚のガラスの上に担持された厚さ１０ミクロンのＴＮ配向構造を有する光学異方体を得た。この光学異方体は１５０℃で１００時間加熱しても、ＴＮ配向構造が保持されることがわかった。
【０１３３】
（実施例１２）光学異方体の作製（３）
厚さ１mmで２０mm×２０mmの透明ガラス基板に、ポリイミド配向剤「ＡＬ−１２５４」（日本合成ゴム社製）を２０００回転／分でスピンコートした後、１５０℃で１時間乾燥させることにより、ガラス基板上にポリイミド薄膜を形成した。このポリイミド薄膜をラビングマシーン「ＲＭ−５０」［イーシーエイチ社（ＥＨＣ社）製］を用いてラビングすることにより、ポリイミド配向膜とした。
【０１３４】
このようにして得たポリイミド配向膜付きガラス基板に、実施例８で調製した液晶組成物（ｃ）９９重量部に光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイギー社製）１重量部を添加したものを１０００回転／分でスピンコートした。このスピンコートした基板に、窒素気流下４０℃において高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射し、液晶組成物を光重合させた。この基板を偏光顕微鏡で観察したところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方体が得られていることを確認できた。また、この基板を２枚の偏光板の間に挟んだところ、基板の全面にわたって均一な干渉色が観察され、均一な厚みをもった光学異方体が得られたことを確認できた。また、この基板を１５０℃で加熱しても、固定化された均一な配向状態はそのまま保持されていることがわかった。
【０１３５】
（比較例１）
実施例１２において、液晶組成物（ｃ）に代えて、実施例８で調製した液晶組成物（ｂ）を用いた以外は、実施例１２と同様にして光学異方体を作製した。得られた光学異方体を偏光顕微鏡で観察したところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方体が得られているのが確認できた。しかしながら、これを２枚の偏光板の間に挟んだところ、基板の全面にわたる均一な干渉色が観察されず、光学異方体の膜厚が均一でないことが確認された。
【０１３６】
（実施例１３）光学異方体の作製（４）
厚さ２．０mmで２０mm×２０mmのポリカーボネート基板の光軸方向と同一方向にラビングマシーン「ＲＭ−５０」（ＥＨＣ社製）を用いてラビング処理した。ラビング処理したポリカーボネート基板に、実施例９で調製した液晶組成物（ｄ）９９重量部に光重合開始剤「ＩＲＧ−６５１」（チバガイギー社製）１重量部を添加したものを５００回転／分でスピンコートした。このスピンコートした基板に、窒素気流下２５℃において高圧水銀ランプを用いて５００ｍＪ／cm2 の紫外線を照射し、液晶組成物を光重合させた。この基板を偏光顕微鏡で観察したところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方体が得られているのが確認できた。また、この基板を２枚の偏光板の間に挟んでところ、基板の全面にわたって均一な干渉色が観察され、均一な厚みをもった光学異方体が得られたことを確認できた。また、この基板を１００℃で加熱しても、固定化された均一な配向状態はそのまま保持されていた。
【０１３７】
（比較例２）
実施例１３において、液晶組成物（ｄ）に代えて、実施例６で調製した液晶組成物（ｂ）を用いた以外は、実施例１３と同様にして光学異方体を作製した。得られた光学異方体を偏光顕微鏡で観察したところ、均一な一軸配向が固定化された光学異方体が得られていることが確認できた。しかしながら、これを２枚の偏光板の間に挟んだところ、基板の全面にわたる均一な干渉色が観察されず、光学異方体の膜厚が均一でないことが確認された。
【０１３８】
【発明の効果】
本発明の液晶性（メタ）アクリレート化合物及びそれを含有する液晶組成物は、プラスチックやガラス基板への塗布性に優れているので、塗布等の手段によって位相差フィルム等の光学異方体を作製する材料として有用である。また、本発明の液晶性（メタ）アクリレート化合物を含有する液晶組成物を用いて作製した光学異方体は、配向の均一性及び膜厚の均一性に優れており、位相差フィルム等への応用に適している。