(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数形成された配線板の製造法であって、
１Ａ．絶縁基板の第一の金属層の上に、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の金属層からなる帯状パタ−ンを形成する工程、
１Ｂ．前記帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程を備えることを特徴とする配線板の製造法。
【請求項２】
平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数形成された配線板の製造法であって、
２Ａ．絶縁基板に第一の金属層を形成する工程、
２Ｂ．第二の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程、
２Ｃ．第二の金属層による帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする配線板の製造法。
【請求項３】
平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数以上形成された配線板の製造法であって、
３Ａ．絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層を備える金属層を形成する工程、
３Ｂ．第二の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状のパタ−ンを形成する工程、
３Ｃ．第二の金属層による帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする配線板の製造法。
【請求項４】
平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数以上形成された配線板の製造法であって、
４Ａ．絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層と第二の金属層に対し選択エッチング可能な第三の金属層を備える金属層を形成する工程、
４Ｂ．第三の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程、
４Ｃ．帯状パタ−ンが形成された箇所以外に露出する第二の金属層をエッチング除去した後、帯状パタ−ンの平面配線の間隙領域部の第三、第二の金属層をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする配線板の製造法。
【請求項５】
平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数以上形成された配線板の製造法であって、
５Ａ．絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層と第二の金属層に対し選択エッチング可能な第三の金属層を備える金属層を形成する工程、
５Ｂ．第三の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程、
５Ｃ．帯状パタ−ンの平面配線の間隙領域部の第三、第二の金属層をエッチング除去すると共に、第二、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第二、第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする配線板の製造法。
【請求項６】
５Ｃ工程の後、露出する第二の金属層をエッチング除去する工程を備える請求項５記載の配線板の製造法。
【請求項７】
請求項１〜６記載の方法により製造されたバンプ付配線を備えた配線板を用意し、バンプと半導体チップ電極を対向させて接続する工程を備えることを特徴とする半導体パッケ−ジの製造法。
【請求項８】
請求項１〜６記載の方法により製造されたバンプ付配線が形成された配線板であって、平面配線は半導体チップ搭載領域内に形成されたものであり前記平面配線が形成される絶縁基板には貫通孔が設けられている配線板を準備し、半導体チップを半導体チップ電極とバンプと対向させて接続し搭載する工程、前記貫通孔で前記平面配線と導通する外部接続端子部を形成する工程を備えることを特徴とする半導体パッケ−ジの製造法。
【請求項９】
バンプと半導体チップ電極の接続を異方導電フィルムを介して行う請求項７又は８記載の半導体パッケ−ジの製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、突起状バンプを介して他のデバイス等に接続したり、試験等で一時的に接触させたりするバンプ付き配線基板の製造方法に関する。また、半導体チップをフェイスダウンで配線基板に搭載してなる半導体パッケ−ジの製造法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来より配線上にバンプをつけた配線付き配線基板が提案されている。配線板上にバンプを形成する方法として一般的に用いられている方法は例えば次の通りである。
すなわち、図３に示したように（ａ）絶縁基板２上に銅箔１が貼られた処理基板１９を用意する。（ｂ）めっき用レジスト３をフォトリソ法でバンプとなるべき部分を開口させて形成する。（ｃ）その配線板の銅箔上にに銅めっき、ニッケルめっき、金めっき等によりバンプ４を形成する。（ｄ）このバンプを形成する際に使用したレジストを剥離し、（ｅ）フォトリソ法で配線を形成する方法である。従来法では、バンプは図４に示すようにバンプパッドより小さくなるように配置されている。
一方半導体実装の分野では、半導体チップの端子数の増加や実装面積の低減要請に伴い、チップのフェース面を接続する基板面に向けたフリップチップ（フェースダウン）実装が使われはじめている。フリップチップ実装においては、半導体チップ上にバンプを形成する方法が一般に行われている。バンプ形成法としては、ウェハー電極上にバリア層、半田層を蒸着し、還元雰囲気炉等に通すことで半田バンプを形成する方法、スタッドバンプ等により金バンプを形成する方法などがある。半田バンプの場合はリフローによって、金バンプの場合は導電性ペースト、異方導電フィルム、圧接などの方法によって接続される。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
このように従来からのバンプ付き配線板形成法では、バンプを配線上にめっきで形成させるために、フォトリソ工程での精密な位置合わせが要求される。図２に示したように通常はバンプ形成する部分の配線を大きくしたバンプパッドを設けることが行われるが、図２に示すような端部等で発生する位置ずれが大きくなるとバンプが配線上にのらないなどの不良が発生する。バンプパッドを大きする方法でもよいが、配線密度が高い場合にはフォトリソ工程の限界があるために配線設計が困難になる。また、バンプを小さくする方法も考えられるが、小さいバンプを形成することはフォトリソ工程に限界があったり、バンプめっきの析出不良が発生したりするために困難である。また、バンプを必要以上に小さくすることは、他の基板や半導体チップとの接触や接続面積を小さくすることになり好ましくない。
まためっきで形成する従来からの方法では、無電解めっきを用いると析出速度を上げることが難しいため、高さのあるバンプを作製することが困難である。また電気めっきを用いると、バンプ高さを揃えることが困難であるため、他の基板や半導体チップとの接続・接触不良が発生するなどの問題がある。
一方フリップチップ実装においては、従来からの半導体チップ上にバンプを形成する方法ではバンプ形成コストが高いため、低コストなバンプ形成方法が望まれている。
本発明は、配線上に高さ精度のよいバンプを形成したバンプ付き配線板の製造法を安価に提供するものである。また、高さ精度がよい等の利点により、フリップチップ実装に適したバンプ付き配線板の製造法及び基板とバンプ間の接続信頼性の高い半導体パッケージの製造法を提供するものである。
【０００４】
【課題を解決するための手段】
本発明はこれらの問題に鑑みなされたもので、本発明の配線基板の少なくとも一表面配線上にバンプが形成されているバンプ付き配線基板の製造法は、バンプ領域帯を形成する工程及び配線パターンを形成する工程を含み、バンプ領域帯と配線パターンを交差させることによって、交差した箇所にバンプ形成することを特徴とするものである。
【０００５】
本発明の配線板の製造法は、平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数形成された配線板の製造法であって、
１Ａ．絶縁基板の第一の金属層の上に、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の金属層からなる帯状パタ−ンを形成する工程、
１Ｂ．前記帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程を備えることを特徴とする。
【０００６】
又本発明の配線板の製造法は、平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数形成された配線板の製造法であって、
２Ａ．絶縁基板に第一の金属層を形成する工程、
２Ｂ．第二の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程、
２Ｃ．第二の金属層による帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする。
【０００７】
又本発明の配線板の製造法は、平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数以上形成された配線板の製造法であって、
３Ａ．絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層を備える金属層を形成する工程、
３Ｂ．第二の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状のパタ−ンを形成する工程、
３Ｃ．第二の金属層による帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする。
【０００８】
又本発明の配線板の製造法は、平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数以上形成された配線板の製造法であって、
４Ａ．絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層と第二の金属層に対し選択エッチング可能な第三の金属層を備える金属層を形成する工程、
４Ｂ．第三の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程、
４Ｃ．帯状パタ−ンが形成された箇所以外に露出する第二の金属層をエッチング除去した後、帯状パタ−ンの平面配線の間隙領域部の第三、第二の金属層をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする。
【０００９】
又本発明の配線板の製造法は、平面配線上に突起状バンプが形成されたバンプ付配線が複数以上形成された配線板の製造法であって、
５Ａ．絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層と第二の金属層に対し選択エッチング可能な第三の金属層を備える金属層を形成する工程、
５Ｂ．第三の金属層によって、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程、
５Ｃ．帯状パタ−ンの平面配線の間隙領域部の第三、第二の金属層をエッチング除去すると共に、第二、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第二、第一の金属層をエッチングして形成する工程
を備えることを特徴とする。
５Ｃ工程の後、露出する第二の金属層をエッチング除去するようにすることもできる。
【００１０】
本発明の半導体パッケージの製造法は、上記のの方法により製造されたバンプ付配線を備えた配線板を用意し、バンプと半導体チップ電極を対向させて接続する工程を備えることを特徴とする。
本発明の半導体パッケージの製造法は、上記の方法により製造されたバンプ付配線が形成された配線板であって、平面配線は半導体チップ搭載領域内に形成されたものであり前記平面配線が形成される絶縁基板には貫通孔が設けられている配線板を準備し、半導体チップを半導体チップ電極とバンプと対向させて接続し搭載する工程、前記貫通孔で前記平面配線と導通する外部接続端子部を形成する工程を備えるようにすることができる。
上記本発明の半導体パッケージの製造法において、バンプと半導体チップ電極の接続を異方導電フィルムを介して行うことができる。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明におけるバンプ付き配線板は、通常のプリント配線板の平面配線板上に突起状バンプが形成されたものである。
第一の発明の実施の形態を説明する。絶縁基板に第一の金属層を形成する。この金属層は、後に平面配線を形成するものである。材質としては、銅、ニッケル、金、すず、鉛、それらを含む４２アロイ等等の合金など、実質的に電気配線として用いるにたる導電性があればよい。厚みは特に問わないが、２μｍ以上７５μｍ以下などが選択される。また、材質の異なる多層構成のものでもよい。第一の金属層は接着性のある絶縁層に金属を熱板プレス、ロールラミネート等により接着してもよいし、めっき、蒸着により形成してもよい。絶縁基板の材質としてはポリイミド、エポキシフィルム、液晶ポリマー等のフィルム基材、ガラスクロスや各種無機フィラーとポリイミド、エポキシ樹脂等による複合材料、酸化アルミニウム、酸化シリコン、窒化アルミニウム、窒化シリコン等によるセラミック材料等、実質的に絶縁性があれば材質は問わない。絶縁基板は単独の絶縁基板であってもよいが、内層回路を有するものであってもよい。次に、第二の金属層による帯状パターンを形成する。帯状パターンは後工程で形成される平面配線上及びそれに隣接する平面配線の間隙部を含む領域に突起状バンプの幅で、アディティブ法（めっき）により形成する。突起状バンプの幅とは、突起状バンプの外形を構成する２組の幅の内、後にエッチングして形成される隣接する平面配線間の間隙と接する平面配線に沿う方向のものである。第二の金属の材質としては、第一の金属と同様に、銅、ニッケル、金、アルミニウム、すず、鉛、それらを含む合金、４２アロイ等、実質的に電気配線として用いるにたる導電性があればよい。第一の同一金属を選択してもよいが、異なる種類でもよい。次に配線形成を行う。このとき、前記の帯状パターンのうち、平面配線の間隙部をエッチング除去する。結果として、第二の金属による突起状バンプは、帯状パターンと平面配線が交差した部分に形成される。バンプの形状は特に問わないが、正方形、長方形などが用いられる。大きさとしては、例えばチップのアルミ電極やチップに設けられた金、はんだ等による突起などとの接続する場合やチップの電極に接触させて検査等に用いる場合には、３０μｍ角程度から２００μｍ角程度の大きさが選択される。また配線板や液晶用基板の検査や接続等に用いられる場合には、５０μｍ角から１０００μｍ角程度が選択される。また、バンプの高さは、第二金属層の厚みに相当するが、平面配線のうねりや面粗さに対して実質的に突起となっていればよい。通常は、高さ約３μｍ以上ある突起であり、他の配線板や半導体チップと接続したり、接触して導通させるためには、高さ５μｍ以上が好ましい。
【００１２】
第二の実施の形態では、絶縁層上に第一の金属層と第二の金属層からなる金属層を絶縁基板上に形成する。これらの金属層の材質としては第一の実施の形態のものと同様であり、熱板プレス、めっき、蒸着等により形成される。本実施の形態では、第二金属層の材質は、第一金属層に対し選択エッチング性の高い条件（エッチング液、温度など）がある組み合わせを選択する。この選択エッチング性の高い条件（選択エッチング条件）においては、［第二金属層のエッチングレート]が［第一金属層のエッチングレート]に対して３倍以上あることが好ましく、より大きいほど望ましい。次にこの選択エッチング条件にて第二金属をエッチングし帯状パターンを形成する。この帯状パターンは、第一の実施の形態でめっきにて形成したものと同様である。以下の工程は、第一の実施の形態と同様に行われる。
【００１３】
第三の実施の形態では、絶縁基板に第一の金属層と第一の金属層に対し選択エッチング可能な中間金属層と中間金属層に対し選択エッチング可能な第二の金属層を備える金属層を形成した。第一金属層、第二金属層及び中間金属層は、例えば、銅、ニッケル、金、アルミニウム、すず、鉛、それらを含む合金、４２アロイ等、実質的に電気配線として用いるにたる導電性があればよい。これら第一／中間／第二金属層の組み合わせとしては、例えば、銅／ニッケル／銅、銅／アルミニウム／銅などが選択される。次に第二の金属層を中間層より選択エッチング性が高い条件でエッチングし、帯状パターンを形成する。帯状パターンの配置等は第一の実施の形態と同様である。次に、露出した中間層を第一の金属層より選択エッチング性が高い条件でエッチングする。次に配線形成を行う。このとき、前記の帯状パターンのうち、平面配線の間隙部をエッチング除去する。
【００１４】
第四の実施の形態としては、第三の実施の形態で中間層をエッチング除去する前に配線形成を行う。このとき、中間層、第一金属層を別個の条件でエッチングしてもよいし、同一の条件でエッチングしてもよい。
【００１５】
第五の実施の形態としては、第四の実施の形態の後、露出した中間層を第一の金属層より選択エッチング性が高い条件でエッチングする。
【００１６】
第六の実施の形態について説明する。第一から第五の実施の形態で述べた方法によりバンプ付き配線板を形成する。このとき、前記配線の少なくとも一部はチップ搭載領域に形成されている。また、チップ搭載領域の配線下部の樹脂の一部分に開口部がある。この開口部は外部接続用端子穴である。次に露出した配線及びバンプの表面には無電解ニッケルめっき及び金めっきを施す。次にチップのアルミニウム電極とバンプを対向させ、加圧しながら熱及び／又は超音波によりバンプ上の金とアルミニウムを金属接合させる。このとき配線板上の接合部以外の箇所に接着フィルムや接着用ペーストを配置しておき、接合とともにチップとの接着性をもたせると接合部の信頼性が高くなる。接着材の硬化を促進したり、揮発分除去などのために、熱処理や紫外線硬化などの後処理を行ってもよい。必要に応じてエポキシ樹脂と無機フィラー等を主成分にする半導体パッケージ用封止材により、樹脂封止を行ってもよい。また、バンプとチップのアルミ電極とを接合させたあと、チップと配線板の間にがん浸性の高い液状の未硬化樹脂（アンダーフィル材）をがん浸させ、熱や紫外線等により硬化させてもよい。また、チップのアルミ電極上に金などをめっき、ボールボンディング等により形成させておいてもよい。次に開口部に半田ボールを搭載する。半田ボールはフラックスを塗布した後に開口部に挿入させ、窒素リフロー装置で半田を溶融させて配線と接合する。
【００１７】
第七の実施の形態について説明する。第六の実施の形態と同様、バンプ付き配線板を形成し、配線及びバンプの表面には無電解ニッケルめっき及び金めっきを施す。このとき、前記配線の少なくとも一部はチップ搭載領域に形成されている。また、チップ搭載領域の配線下部の樹脂の一部分に開口部がある。この開口部は外部接続用端子穴である。次に露出した配線及びバンプの表面には無電解ニッケルめっき及び金めっきを施す。次に、未硬化のエポキシ樹脂中に導電性粒子を分散させた異方導電性フィルムをバンプや配線を含むチップ搭載領域上に適度な温度、圧力を加えて仮接着する。これは、フィルムを所定の位置に仮固定する意味がある。次に、チップのアルミ電極面をバンプ付きの配線板のバンプと対向させて、前記異方導電性フィルムを介して一定の圧力・温度を加えながら、接着とともに接続させる。次に開口部に半田ボールを搭載する。半田ボールはフラックスを塗布した後に開口部に挿入させ、窒素リフロー装置で半田を溶融させて配線と接合する。
【００１８】
第八の実施の形態について説明する。絶縁基板の第一の金属層の上に、後工程で第一の金属層をエッチングして形成される平面配線上部と隣接する平面配線の間隙部を含む領域に、突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ンを形成する工程を、第一の金属層の上に突起状バンプの幅で一連の帯状パタ−ン形状のエッチングレジストを形成し、エッチングにより行うことができる。この後前記帯状パタ−ンの平面配線の間隙部の領域をエッチング除去すると共に、第一の金属層による平面配線を含む所定の配線パタ−ンを第一の金属層をエッチングして形成する。
【００１９】
【実施例】
本発明の具体例を図面に基づき説明する。図１に本発明のバンプ付き配線基板の製造方法の一例を断面図で示す。図２に図１のそれぞれの工程に対応させた平面図の一例を示す。絶縁基板（日立化成工業（株）製、Ｅ−６７９）２上に金属箔が形成された処理基板を用意する（図１及び図２（ａ））。金属箔は第二の金属層（材質：銅、厚み：５μｍ）７、中間金属層（材質：ニッケル、厚み：１８μｍ）８、第一の金属層（材質：銅、厚み：５μｍ）９の三層箔（日本電解製、特注品）とした。金属箔の材質構成、厚みは一例にすぎない。次に、アルカリエッチング液対応のフォトレジスト（日立化成工業（株）製、フォテックＨＮ６４０）を通常のフォトリソ工程によって、バンプ領域帯１０部をマスクするようにエッチングレジストを形成した。次にアルカリエッチング液（メルテックス（株）製、Ａプロセス）を用いてバンプ形成層を選択的にエッチングし、帯状パターン１０を形成した。エッチング条件としては例えば液温４０℃、スプレー圧力１．２ｋｇｆ／ｃｍ２とした。このエッチング液、条件は一例にすぎなく、本実施例で使用した三層構成の場合、ニッケルに比べて銅の溶解速度が著しく高いエッチング液、条件を選択するのがよい。このような工程を経て、帯状パターン以外の箇所に中間バリア層が露出される。マスクとして用いたレジストは水酸化カリウム３ｗｔ％溶液（液温３８℃）にて除去する（図１及び図２（ｂ））。次に中間金属層を酸性エッチング液（メルテックス（株）製、メルストリップＮ９５０）を用いて選択的にエッチング除去し、第一の金属層を露出させた（図１及び図２（ｃ））。このエッチング液や条件も該アルカリエッチング液と同様に一例にすぎない。また、中間金属層をそのまま用いる場合や、２層構成の金属箔を使用した場合はこの工程が省略される。次にバンプ領域帯を形成したのと同様に、フォトリソ工程を用いて配線を形成する。フォトレジストは日立化成工業（株）製、フォテックＨＮ６４０を用いた。また、エッチング液は塩化第二鉄水溶液（液温３８℃、ボーメ度４０）を用いた。ここで使用したエッチング液及び条件ではニッケル、銅ともに十分にエッチング可能であるものを選択した一例にすぎない。このように配線形成すると同時に先程形成したバンプ領域帯と交差する部分にバンプが形成されたバンプ付き配線基板となる（図１及び図２（ｄ））。さらに一つの処理基板に多数個作製した場合は、各々の個片（図１及び図２（ｅ））に分割される。図３は図１及び図２の方法により作製したバンプつき配線基板を用いて半導体パッケージを作製する一例を示したものである。ここで、図３（ａ）のポリイミド基板１２は接着材付きのポリイミドフィルム（日立化成工業（株）製、ＭＣＦ−５５１０Ｉ）を用いた。また半田ボール搭載穴１１は、図１及び図２（ａ）に先立ちドリルで穴をあけた接着材付きのポリイミドフィルムを作製しておき金属箔にプレスして作製した。穴の形成法としては、パンチング加工、レーザ加工などもあり、金属箔にフィルムを接着した後に穴開けしてもよい。また、バンプ４及び配線５の表面には無電解ニッケルめっき５μｍ及び金めっき０．５μｍを形成した。これに異方導電性フィルム１３（日立化成工業（株）製、��Ｃ８３０１）を搭載し、温度１００℃、圧力３ｋｇｆ／ｃｍ２、加圧時間５秒で仮接着した（図３（ｂ））。次に半導体チップのアルミ端子と基板上のバンプを対向させ、位置合わせを行い所定位置にチップを搭載し、温度１８０℃、圧力１５ｋｇｆ／ｃｍ２、加圧時間２０秒の条件で本圧着した（図３（ｃ））。その後、通常の半田ボール搭載装置を用いて半田ボール穴にフラックスをぬって半田ボール（ボール径４５０μｍ）を搭載した後、窒素雰囲気リフロー炉（最高温度：２３０℃）にてボールを溶融させて外部接続端子を作製し、半導体パッケージが得られた。チップと基板との接続抵抗を調べたところ、初期１０ミリオーム以下であり、熱サイクル試験（条件：ー４０℃／１２５℃）１０００サイクルによっても接続部の抵抗上昇は全くみられなかった。また、バンプ間距離３０μｍにおける試験基板での高温加湿バイアス試験を１５００時間実施したが、各バンプ間の絶縁抵抗は１０８オーム以上のレベルであり、接続部の接続抵抗も１０ミリオームと一定であった。
【００２０】
【発明の効果】
本発明によるバンプ付き基板は、このように配線板のエッチングプロセスで形成されるために安価に製造することが可能となる。
また、配線密度が上がった場合や処理基板が大型化した場合でも配線上に確実にバンプが形成することが可能である。結果として、歩留まりの向上も期待できる。
絶縁基板上に第一の金属層と第一の金属層と選択エッチング可能な第二の金属層を形成しておき、第二の金属層を選択エッチングすることによりバンプを形成することができるので、工法が簡素化されるだけではなく、エッチングによりバンプを形成するためにバンプの高さばらつきを小さくすることができる。このため、これらのバンプを利用して他の半導体チップや配線板と接続や接触導通させる場合の接続抵抗のばらつき、接続不良、ヒートサイクル後の接続不良等を低減できる。特に、バンプの高さばらつきが小さいことにより、微粒子樹脂中に分散させた異方導電性フィルムを利用して半導体と接続する方法が利用でき、信頼性の高い安価な小型パッケージが実現する。
また、中間金属層を挿入することでバンプを構成する金属と配線を形成する金属の種類や組み合わせを増やすことができ、様々な要求特性に対応できる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明のバンプ付き基板の製造法の断面図。
【図２】本発明のバンプ付き基板の製造法の平面図。
【図３】本発明のバンプ付き基板を用いた半導体パッケージ製造法の断面図。
【図４】従来のバンプ付き基板の製造法を示す断面図。
【図５】従来のバンプ付き基板のバンプ配置を説明する平面図。
【符号の説明】
１  銅箔
２  絶縁基板
３  めっきレジスト
４  バンプ
５  配線
６  バンプパッド
７  第二の金属層
８  中間金属層
９  第一の金属層
１０  帯状パターン
１１  半田ボール搭載穴
１２  ポリイミド基板
１３  異方導電性フィルム
１４  チップ
１５  チップ端子部（アルミ端子）
１６  チップ表面絶縁層
１７  半導体チップ
１８  外部接続端子（半田ボール）
１９  処理基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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