(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
板状の圧電性を有する物質の少なくとも１面に、所望の周波数特性を与える電極パターンを形成した圧電素子をエッチングして周波数特性調整する圧電素子の周波数調整方法であって、
前記圧電素子のエッチングは、放電電極により生じたプラズマを前記圧電素子に接触させ、
前記圧電素子を前記周波数特性が所定状態になるまで、前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離を、エッチングレートが極大値近傍となるように選定し、前記圧電素子のエッチングを行う粗調整ステップと、
前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離を、エッチングレートの極値を避けた安定領域となるように選定し、前記粗調整ステップよりも低速に前記圧電素子のエッチングを行う微調整ステップと、を連続して行うことを特徴とする圧電素子の周波数特性調整方法。
【請求項２】
板状の圧電性を有する物質の少なくとも１面に、所望の周波数特性を与える電極パターンを形成した圧電素子をエッチングして周波数特性調整する圧電素子の周波数調整方法であって、
前記圧電素子のエッチングは、放電電極により生じたプラズマを前記圧電素子に接触させ、
前記圧電素子を前記周波数特性が所定状態になるまで、前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離を、エッチングレートが極大値近傍となるように選定し、前記圧電素子のエッチングを行う粗調整ステップと、
前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離を、エッチングレートの極値を避けた安定領域となるように選定し、前記粗調整ステップよりも低速に前記圧電素子のエッチングを行う微調整ステップと、を同一処理手段により順次行うことを特徴とする圧電素子の周波数特性調整方法。
【請求項３】
前記圧電素子の周波数特性を測定しながら前記粗調整ステップ及び前記微調整ステップを行い、前記粗調整ステップでは、測定値が所定値になったときに前記微調整ステップに移行し、前記微調整ステップでは、測定値が目標値になったときにエッチングを停止することを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の圧電素子の周波数特性調整方法。
【請求項４】
圧電素子をエッチングして周波数を調整する圧電素子の周波数特性調整装置であって、
プラズマを発生させるための放電電極を有するエッチング手段と、
前記エッチング手段のエッチング強度を調整するエッチング調整手段と、
前記エッチング調整手段を制御することにより、前記圧電素子を前記周波数特性が所定状態になるまで、前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離を、エッチングレートが極大値近傍となるように選定し、前記圧電素子のエッチングを行う粗調整ステップと、前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離を、エッチングレートの極値を避けた安定領域となるように選定し、前記粗調整ステップよりも低速に前記圧電素子のエッチングを行う微調整ステップと、を順次行わせる制御手段と、を有することを特徴とする圧電素子の周波数特性調整装置。
【請求項５】
前記圧電素子の周波数特性を測定する周波数測定手段を有し、前記制御手段は、前記粗調整ステップでは測定値が所定値になったときに前記微調整ステップに移行し、前記微調整ステップでは測定値が目標値になったときにエッチングが停止されるように制御することを特徴とする請求項４に記載の圧電素子の周波数特性調整装置。
【請求項６】
前記エッチング手段は、プラズマを発生させるための放電電極を有し、前記放電電極がアルミニウムを主成分とする金属で構成されていることを特徴とする請求項４又は請求項５に記載の圧電素子の周波数特性調整装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は圧電素子の周波数特性調整方法及び装置に係り、特に、圧電素子をエッチングしながら周波数特性を調整する技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、水晶などの圧電体を用いた圧電素子は、クロック等の基準信号を生成するための回路や発振回路、信号フィルタなどに用いられている。特に、信号の高周波数化に伴い弾性表面波素子が用いられるようになってきている。このような弾性表面波素子等の圧電素子については、共振周波数等の周波数特性を高精度化及び安定化させることが望まれている。しかし、圧電素子の製造工程におけるばらつきにより個々の素子は周波数特性にばらつきが生じるため、個々の圧電素子の周波数特性を調整し高精度化および安定化させることが必要である。
【０００３】
上記のように圧電素子の周波数特性を高精度化又は安定化させる方法としては、従来、特開平７−３０３５５号、特開平９−５５６３６号、特開平１１−３０８０６５号などに記載された方法が挙げられる。
【０００４】
特開平７−３０３５５号には、圧電素子と放電電極との間に局所的なプラズマを発生させ、圧電素子の表面をエッチングすることにより、圧電素子の周波数特性を調整する方法が記載されている。
【０００５】
また、特開平９−５５６３６号には、弾性表面波素子をエッチング位置に搬送し、ここで、弾性表面波素子にプラズマを照射して、弾性表面波素子の周波数特性を測定しながら、測定された周波数が所望の値になるまでエッチングして、その後、搬出する方法が記載されている。
【０００６】
特開平１１−３０８０６５号には、発振周波数を監視しながら水晶振動子に大気圧下で反応ガスを吹き付けてエッチングし、発振周波数が基準値になるとエッチングを停止する方法が記載されている。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、近年の圧電素子の高周波数化に伴って、周波数特性の高精度化及び安定化に対する要請はますます高まってきており、上記のような方法で周波数の調整を行う場合、効率的に調整処理を行おうとすれば、エッチングレートを高くする必要があるため、周波数特性の充分な精度や再現性を得ることができず、また、周波数特性の充分な精度や再現性を得るためには、エッチングレートの小さい条件で処理を行う必要があるため、手間がかかることにより、処理効率が低下するという問題点がある。
【０００８】
そこで本発明は上記問題点を解決するものであり、その課題は、弾性表面波素子等の圧電素子の周波数を調整する場合において、周波数特性の充分な精度や再現性を確保することができると同時に、処理効率を高めることのできる新規の方法及びこれに用いることのできる装置を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】
上記課題を解決するために本発明の圧電素子の周波数特性調整方法は、前記圧電素子をエッチングして周波数特性を調整する圧電素子の周波数調整方法であって、前記圧電素子を前記周波数特性が所定状態になるまでエッチングを行う粗調整ステップと、この後に前記圧電素子を前記粗調整ステップよりも低速にエッチングを行う微調整ステップとを連続して行うことを特徴とする。
【００１０】
この発明によれば、高速でエッチングを行う粗調整ステップの後に、低速でエッチングを行う微調整ステップを連続して行うことにより、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率とを両立させることが可能になるとともに、周波数調整を迅速かつ容易に行うことが可能になる。
【００１１】
また、本発明の別の圧電素子の周波数特性調整方法は、前記圧電素子をエッチングして周波数特性を調整する圧電素子の周波数調整方法であって、前記圧電素子を前記周波数特性が所定状態になるまでエッチングを行う粗調整ステップと、この後に前記圧電素子を前記粗調整ステップよりも低速にエッチングを行う微調整ステップとを同一処理手段により順次行うことを特徴とする。
【００１２】
この発明によれば、高速でエッチングを行う粗調整ステップの後に、低速でエッチングを行う微調整ステップを同一処理手段により順次行うことにより、別の処理手段を用いて両ステップを行う必要がなくなるので、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率とを両立させることが可能になるとともに、周波数調整を迅速かつ容易に行うことが可能になる。
【００１３】
本発明において、前記圧電素子の周波数特性を測定しながら前記粗調整ステップ及び前記微調整ステップを行い、前記粗調整ステップでは、測定値が所定値になったときに前記微調整ステップに移行し、前記微調整ステップでは、測定値が目標値になったときにエッチングを停止することが好ましい。
【００１４】
この発明によれば、圧電素子の周波数特性を測定しながら、粗調整ステップでは測定値が所定値になったときに微調整ステップに移行し、微調整ステップでは測定値が目標値になったときにエッチングを停止するようにしているので、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率とを更に高次元で両立させることが可能になる。
【００１５】
本発明において、前記圧電素子のエッチングは、放電電極により生じたプラズマを前記圧電素子に接触させて行うことが好ましい。
【００１６】
この発明によれば、本発明においてプラズマにより圧電素子をエッチングすることによって、より高精度に周波数特性を調整することが可能になる。
【００１７】
本発明において、前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離は、前記粗調整ステップにおいてエッチングレートが極大値近傍になり、前記微調整ステップにおいてエッチングレートの極値を避けた安定領域となるように選定されることが好ましい。
【００１８】
この発明によれば、粗調整ステップにおけるエッチングレートを大きくすることができるとともに、微調整ステップにおけるエッチングレートを小さくして制御性を向上させることができ、しかもエッチングレートそのものを安定させることが可能になるので、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率の向上とを共により高めることが可能になる。
【００１９】
なお、上記各発明においては、粗調整ステップと微調整ステップとを同一のエッチング装置を用いてエッチング条件のみを変えることにより連続して行うことが望ましい。これにより、異なる装置で順次処理を行ったり、エッチング手段を変えて処理を行ったりする場合に較べて処理作業の煩雑さや処理時間を低減でき、装置の大型化や設備コストの増大を抑制することが可能になる。
【００２０】
次に、本発明の圧電素子の周波数特性調整装置は、圧電素子をエッチングして周波数特性を調整する圧電素子の周波数特性調整装置であって、前記圧電素子をエッチングするためのエッチング手段と、前記エッチング手段のエッチング強度を調整するエッチング調整手段と、前記エッチング調整手段を制御することにより、前記圧電素子を前記周波数特性が所定状態になるまでエッチングを行う粗調整ステップと、この後に前記圧電素子を前記粗調整ステップよりも低速にエッチングを行う微調整ステップとを順次行わせる制御手段とを有することを特徴とする。
【００２１】
この発明によれば、高速でエッチングを行う粗調整ステップの後に、低速でエッチングを行う微調整ステップを行うようにしていることにより、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率とを両立させることが可能になる。特に、制御手段でエッチング調整手段を制御することによって、上記粗調整ステップと微調整ステップとを順次実施するようにしているため、粗調整ステップと微調整ステップとを別々の装置で行ったり、別々のエッチング手段で行ったりする必要がなくなるので、煩雑な作業が不要になるとともに、装置の小型化や設備コストの低減を図ることができる。
【００２２】
本発明において、前記圧電素子の周波数特性を測定する周波数測定手段を有し、前記制御手段は、前記粗調整ステップでは測定値が所定値になったときに前記微調整ステップに移行し、前記微調整ステップでは測定値が目標値になったときにエッチングが停止されるように制御することが好ましい。
【００２３】
この発明によれば、圧電素子の周波数特性を測定しながら、粗調整ステップでは測定値が所定値になったときに微調整ステップに移行し、微調整ステップでは測定値が目標値になったときにエッチングを停止するようにしているので、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率とを更に高次元で両立させることが可能になる。
【００２４】
本発明において、前記エッチング手段は、プラズマを発生させるための放電電極を有し、前記プラズマにより前記圧電素子のエッチングを行うことが好ましい。
【００２５】
本発明において、前記エッチング手段は、プラズマを発生させるための放電電極を有し、前記放電電極がアルミニウムを主成分とする金属で構成されていることが好ましい。
【００２６】
本発明において、前記プラズマを発生させるための放電電極と圧電素子との距離は、前記粗調整ステップにおいてエッチングレートが極大値近傍になり、前記微調整ステップにおいてエッチングレートの極値を避けた安定領域となるように選定されることが好ましい。
【００２７】
この発明によれば、粗調整ステップにおけるエッチングレートを大きくすることができるとともに、微調整ステップにおけるエッチングレートを小さくして制御性を向上させることができ、しかもエッチングレートそのものを安定させることが可能になるので、圧電素子の周波数特性の精度及び再現性と、処理効率の向上とを共に高めることが可能になる。
【００２８】
次に、本発明の圧電素子は、上記いずれかの周波数調整方法によって周波数調整が行われたものである。
【００２９】
また、本発明の弾性表面波素子は、上記いずれかの周波数調整方法によって周波数調整が行われたものである。
【００３０】
さらに、本発明の圧電素子は、上記いずれかの周波数調整装置によって周波数調整が行われたものである。
【００３１】
また、本発明の弾性表面波素子は、上記いずれかの周波数調整装置によって周波数調整が行われたものである。
【００３２】
【発明の実施の形態】
次に、添付図面を参照して本発明に係る圧電素子の周波数特性調整方法及び装置の実施形態について詳細に説明する。
【００３３】
図１は、本発明に係る圧電素子の周波数特性調整装置の全体構成を示す概略構成図である。この装置１０は、チャンバー１１と、放電電極１２と、この放電電極１２に対向配置された放電電極１４とを有する。放電電極１２と放電電極１４との間には、電源回路１８から供給される交流電力がマッチングボックス１９を介して供給される。絶縁材１３は放電電極１２と１４の間を絶縁するものである。また、放電電極１４は、チャンバー１１を介して回路に接続されている。放電電極１４には開口部１４ａが設けられている。
【００３４】
放電電極１２，１４は、アルミニウムで構成されていることが好ましい。アルミニウムは後述するフッ化ガス等でエッチングされにくいとともに、エッチング後の圧電素子に周波数シフトなどの特性不良が生ずることを防止することができる。例えば、ステンレス材を用いた場合にはスパッタリングによりＮｉやＣｒ等が圧電素子に付着し、処理後に生ずる周波数シフトの原因になる。
【００３５】
放電電極１４の開口部１４ａには、チャンバー１１内に配置された支持部材１５が対向配置されている。支持部材１５上には弾性表面波素子等の圧電素子２１が配置され、この圧電素子２１に導電接触するプローブ１５ａ，１５ｂが設けられ、これらのプローブ１５ａ，１５ｂは、ネットワークアナライザ等で構成される検出装置１７に接続されている。例えば、圧電素子２１に一対の電極（例えばアルミニウム電極）が形成されている場合には、上記プローブ１５ａ，１５ｂを一対の電極に接触させた状態とする。これによって、検出装置１７により圧電素子２１の周波数特性を測定することが可能になる。
【００３６】
また、支持部材１５をチャンバー１１内において移動させることのできる駆動機構１５ｃが設けられている。この駆動機構１５ｃにより、放電電極１４と、上記支持部材１５上に配置された圧電素子との間隔を調整することができるようになっている。
【００３７】
さらに、圧電素子２１の放電電極１２，１４側には、必要に応じてマスク１５ｄが配置される。このマスク１５ｄは圧電素子２１を押えるワーク押えを兼ねていてもよい。
【００３８】
上記の検出装置１７は、制御装置２０に接続されている。本実施形態の場合、検出装置１７は、支持部材１５上に配置された圧電素子２１の周波数特性を測定し、この周波数特性の特性周波数（例えば、共振周波数など）に対応する検出データを出力するように構成されている。なお、周波数特性としては、上記の特性周波数に限らず、周波数特性に依存する種々のパラメータ、例えば、周波数ピークの半値幅、分散値、積分値、温度係数などであっても構わない。
【００３９】
制御装置２０は、上記検出装置１７からの検出データを受け、この検出データと、内部にて設定された設定値との関係に応じて電源回路１８を制御するように構成されている。より具体的に述べると、上記検出データによって表される特性周波数が所定値Ｆｓになった場合には切換制御信号を出力し、上記の電源回路１８を制御してチャンバー１１内の放電電極１２と１４との間の放電状態を切り換える切換制御信号を出力する。また、上記の特性周波数が目標値Ｆｘになった場合には停止制御信号を出力し、上記の電源回路１８を制御してチャンバー１１内の放電電極１２と１４との間の放電を停止させる。
【００４０】
上記の放電電極１２と１４との間にはシャッタ装置１６が配置されている。このシャッタ装置１６は、可動に構成されたシャッタ板１６ａを有し、このシャッタ板１６ａを放電電極１２と１４との間に繰り出させることによって放電を停止させ、プラズマを消滅させることができるように構成されている。
【００４１】
また、上記チャンバー１１には、ガス供給装置２２から圧電素子２１に対して反応性を有する反応ガス、例えば、ＣＦ４，Ｃ２Ｆ６，ＨＦ，Ｆ２，ＣＯＦ２などのハロゲンを含む（ハロゲン化合物で構成される）各種ガスなどを必要に応じて他の酸素や不活性ガスなどと混合して供給する。また、チャンバー１１には排気装置２３が接続され、処理中においてはチャンバー１１内が所定の圧力に保たれる。
【００４２】
図２は、上記の装置１０を用いて圧電素子２１をエッチングする過程を示すグラフである。ここで、縦軸は圧電素子２１の共振周波数（発振周波数）を示し、横軸は時間を示す。まず、チャンバー１１内の上記支持部材１５上に圧電素子２１を配置し、チャンバー１１内の圧力を排気装置２３により所定圧力に保持しながら、ガス供給装置２２から上記の反応ガスを導入する。なお、チャンバー１１内の圧力としては、例えば、０．１〜４００［Ｐａ］、好ましくは１〜１００［Ｐａ］とする。この圧力は反応ガスの種類や組成、圧電素子２１の種類などに応じて設定する。そして、上記放電電極１２と１４との間に高周波電圧を供給し、シャッタ板１６ａを開いて放電させ、プラズマを発生させる。プラズマは放電電極１４の開口部１４ａから圧電素子２１に照射され、エッチングが開始される。放電周波数も適宜であるが、例えば１３．５６ＭＨｚである。
【００４３】
上記エッチング過程の当初は、比較的エッチングレートが高くなる条件で粗調整ステップが実行される。粗調整ステップＴｓ１においては、電源回路１８から放電電極１２，１４に供給される電力を大きく、例えば２００Ｗとする。この粗調整ステップにおけるエッチングレートは、例えば３００〜４００［ｐｐｍ／ｓｅｃ］である。
【００４４】
上記エッチング中において、検出装置１７は、例えば０．０５［ｓｅｃ］毎にサンプリングを行い、圧電素子２１の特性周波数、例えば共振周波数を測定し、出力データを制御装置２０に送出する。この検出装置１７はネットワークアナライザ等で構成できる。そして、この特性周波数が所定値Ｆｓに到達したとき、粗調整ステップＴｓ１が終了し、制御装置２０は、電源回路１８に切換制御信号を送出し、電源回路１８から供給される電力を低下させる。例えば、電源回路１８から供給される電力を上記の２００Ｗから８０Ｗに切り換える。そして、上記の粗調整ステップよりも小さなエッチングレートでエッチングが行われる微調整ステップＴｓ２に移行する。ただし、一般に、粗調整ステップＴｓ１から微調整ステップＴｓ２への移行に際しては、パワーの切り換えに必要な切換時間Ｔｄが存在するので、粗調整ステップＴｓ１の本来の高いエッチングレートでエッチングが行われる期間Ｔｘ１は、粗調整ステップＴｓ１よりも切換時間Ｔｄだけ遅れた時点まで継続し、その後、微調整ステップＴｓ２の本来の低いエッチングレートでエッチングが行われるのは、切換時間Ｔｄだけ遅れた期間Ｔｘ２となる。
【００４５】
なお、この粗調整ステップＴｓ１から微調整ステップＴｓ２への移行に際して、シャッタ板１６ａを一時的に繰り出させ、放電電極１２と１４との間のプラズマを消失させた状態で電力の切り換えを行い、この切り換えが完了してからシャッタ板１６ａを開くようにしてもよい。これによって、粗調整ステップＴｓ１の終了と共に一時的にエッチングが停止され、その後、低いエッチングレートで微調整ステップＴｓ２が開始される。この場合には、切換期間におけるプラズマの不安定性に起因する不具合の発生を防止することができる。
【００４６】
微調整ステップにおけるエッチングレートは、粗調整ステップ時よりも大きく低下し、例えば８０〜１００［ｐｐｍ／ｓｅｃ］となる。そして、特性周波数が目標値Ｆｘに到達したときに、シャッタ板１６ａを繰り出させ、エッチングを停止させる。このエッチングの停止は、電力供給の遮断の他、例えば、シャッタ板１６ａを繰り出させて放電電極１２，１４間を遮断することなどにより行うことができる。
【００４７】
本実施形態では、上記のように、エッチングレートの高い粗調整ステップを実施した後に、エッチングレートの低い微調整ステップを実施することにより、処理効率を低下させずに、圧電素子の特性周波数の高精度化及び安定化を図ることが可能になっている。また、一つのエッチング手段、すなわち、放電電極１２，１４によるプラズマ発生手段のみで圧電素子の周波数特性の粗調整と微調整とを連続して行うことができる（すなわち、粗調整ステップと微調整ステップとを同一の処理手段により順次行うことができる）ので、圧電素子を別の装置に移し替えたり、装置内の別の放電電極の近傍に圧電素子を移動させたりするなどの煩雑な作業が不要になり、また、放電電極の組を複数設けることなどによる装置１０の大型化や複数の装置（例えば粗調整用装置と微調整用装置）が必要になることなどによる設備コストの増大を回避することができる。
【００４８】
本実施形態では、放電電極１４と圧電素子２１との間隔Ｇ（図１参照）を駆動機構１５ｃによって調整することができるように構成されている。間隔Ｇは、圧電素子１２へのプラズマの作用を決定する重要なパラメータである。供給される電力が異なることから、上記粗調整ステップと微調整ステップとではプラズマの発生状態が相互に異なるので、エッチングレートの間隔Ｇによる依存性もまた、粗調整ステップと微調整ステップとで相互に異なる。
【００４９】
この場合、粗調整ステップにおいてはエッチング効率が最も重要であるので、間隔Ｇをエッチングレートの極大値が得られる間隔に設定することによって、効率的にエッチング処理を行うことができる。これに対して、微調整ステップではエッチングの制御性が最も重要であることから、間隔Ｇをエッチングレートの極大値が得られる間隔からシフトさせ、エッチングレートは低いけれども、エッチングレートの変化（エッチングレートの間隔Ｇに対する依存性を示すグラフの傾斜角）が少なく、より安定したエッチングが行われる値に設定することが好ましい。
【００５０】
ところで、上述のように、粗調整ステップと微調整ステップとでは相互にプラズマの発生状態が異なるので、上記のエッチングレートの間隔Ｇに対する依存性もまた相互に異なるものとなる。したがって、粗調整ステップにおけるエッチングレートの極大値が得られる間隔と、微調整ステップにおけるエッチングレートの極大値が得られる間隔とは、通常、相互に異なるものとなる。
【００５１】
本実施形態では、上記の状況を鑑みて、上記の間隔Ｇを、粗調整ステップにおいてはエッチングレートの極大値が得られる間隔であり、微調整ステップにおいてはエッチングレートの極大値から外れた、よりエッチングレートの安定した間隔であるように設定するようにしている。これにより、粗調整ステップではより大きなエッチングレートが得られるので処理効率をさらに高めることができる一方、微調整ステップではエッチングレートがより小さくなってエッチング量の制御性を高めることができるとともに、プラズマ状態の不安定性等に起因するエッチングレートの変動を抑制することができる。
【００５２】
上記の間隔Ｇを設定する場合には、例えば、粗調整ステップのエッチング条件で予め測定したエッチングレートと間隔Ｇとの間の依存性と、微調整ステップのエッチング条件で予め測定したエッチングレートと間隔Ｇとの間の依存性とを共に実験により測定しておき、上記のような関係、すなわち、粗調整ステップにおいてはエッチングレートの極大値が得られる間隔であることと、微調整ステップにおいてはエッチングレートの極大値から外れた、よりエッチングレートの安定した領域にあることの双方を満たす値を求め、この値に間隔Ｇを上記駆動機構１５ｃ等を用いて合せるように調整すればよい。本実施形態では、上記間隔Ｇを２〜６ｍｍの範囲内に設定している。
【００５３】
本発明においては、圧電素子に対するエッチングによる周波数特性の調整に際して、粗調整ステップと微調整ステップとを連続して行うことが可能になるため、或いは、粗調整ステップと微調整ステップとを同一の処理手段により順次行うことが可能になるため、迅速に調整を行うことができるとともに、別の処理装置や別の処理電極にて処理を行う段取りが不要となり、装置構成を複雑化することなく、また、圧電素子の搬送作業なども不要とすることができる。
【００５４】
尚、本発明の圧電素子の周波数調整方法及び装置は、上述の図示例にのみ限定されるものではなく、本発明の要旨を逸脱しない範囲内において種々変更を加え得ることは勿論である。例えば、反応ガスの種類、圧力、電力、間隔Ｇなどは、圧電素子の種類（水晶、ＢａＴｉＯ３、ＺｎＯなど）によって適宜に選定することができる。
【００５５】
【発明の効果】
以上、説明したように本発明によれば、圧電素子の周波数特性の高精度化及び安定化と、調整作業の処理効率の向上とを両立することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】  本発明に係る圧電素子の周波数特性の調整方法に用いる装置の実施形態の構成を示す概略構成図である。
【図２】  圧電素子の周波数特性の調整工程における周波数の時間変化を示すグラフである。
【符号の説明】
１０・・・調整装置、１１・・・チャンバー、１２・・・放電電極、１３・・・絶縁材、１４・・・放電電極、１５・・・支持部材、１６・・・シャッタ装置、１７・・・検出装置、１８・・・電源回路、１９・・・マッチングボックス、２０・・・制御装置、２１・・・圧電素子、２２・・・ガス供給装置、２３・・・排気装置
【図１】
0004003491.tif 000002
【図２】
0004003491.tif 000003