(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
（Ａ）下記一般式（１）
【化１】
0003901577.tif 000014
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一または異種の炭素数１〜１０の１価炭化水素基を示す。Ｒ5、Ｒ6は互いに同一または異種の炭素数１〜５０の有機基を示し、Ｒ5、Ｒ6のうち少なくとも一方は、アクリル構造またはメタクリル構造を一つ以上含む。）
で表される（メタ）アクリル官能基を有するシルフェニレン化合物と、（Ｂ）光重合開始剤とを含むことを特徴とする光硬化性シルフェニレン組成物。
【請求項２】
（Ａ）一般式（１）で表される（メタ）アクリル官能基を有するシルフェニレン化合物１００重量部に対し、（Ｂ）光重合開始剤を０．０００１〜１０重量部含むことを特徴とする請求項１記載の光硬化性シルフェニレン組成物。
【請求項３】
更に、光増感剤、無機酸化物、顔料、染料、シランカップリング剤から選ばれる１種または２種以上の成分を含有することを特徴とする請求項１または２に記載の光硬化性シルフェニレン組成物。
【請求項４】
一般式（１）で表される（メタ）アクリル官能基を有するシルフェニレン化合物が、下記一般式（２）
【化２】
0003901577.tif 000015
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一または異種の炭素数１〜１０の１価炭化水素基を示す。）
で表される１，４−ビス（クロロシリル）ベンゼンと、下記一般式（３）および（４）
Ｒ5−ＯＨ                              （３）
Ｒ6−ＯＨ                              （４）
（式中、Ｒ5、Ｒ6は互いに同一または異種の炭素数１〜５０の有機基を示し、Ｒ5、Ｒ6のうち少なくとも一方は、アクリル構造またはメタクリル構造を一つ以上含む。）
で表されるアルコールとを反応させることにより得られるものであることを特徴とする請求項１乃至３のいずれか１項に記載のシルフェニレン光硬化性組成物。
【請求項５】
請求項１乃至４のいずれか１項に記載の光硬化性シルフェニレン組成物を硬化させてなる、光硬化性シルフェニレン組成物の硬化物。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、（メタ）アクリル官能基を有するシルフェニレン化合物と光重合開始剤とを含む光硬化性シルフェニレン組成物、およびその硬化物に関する。
【０００２】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】
アクリレートモノマーやオリゴマーは、光や熱によって重合反応を起こす性質を持ち、コーティング剤や接着剤、注型剤、光硬化性インキなどにおいて単体および反応性希釈剤として幅広い分野で使用されている。
【０００３】
従来より、所望の用途に応じ、アクリレートモノマーやオリゴマーの硬化性、希釈性、柔軟性、相溶性等や、その硬化物の耐熱性、耐湿性、耐候性（耐光性）、表面改質性等々の特性を向上させるために、種々の分子骨格に（メタ）アクリル基を導入した種々の（メタ）アクリレートモノマーやオリゴマーが開発されてきている。
しかし、従来のアクリレートモノマーやオリゴマーの硬化物は、いまだ耐熱性、耐湿性が十分でなく、例えばシリコーン変性（即ち、オルガノシロキサン変性）アクリレートモノマーやシリコーン変性アクリレートポリマーは耐熱性に優れるものの、耐湿性や機械的特性に問題があった。
【０００４】
本発明は、以上のような事情を考慮してなされたものであって、光硬化させた際に耐湿性に優れ、かつ機械的特性等に優れた硬化物を与えるシルフェニレン組成物、および、その硬化物を提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】
本発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結果、シルフェニレン骨格に（メタ）アクリル基（即ち、アクリル基および／またはメタクリル基を意味する。以下同様）を付与した下記一般式（１）のシルフェニレン化合物と光重合開始剤とを含む光硬化性シルフェニレン組成物に光照射することによって、透明で耐湿性、耐熱性、耐水性、耐光性、機械的特性等に優れる硬化物が得られることを見出し、本発明をなすに至った。
すなわち、本発明は、〔１〕下記一般式（１）で表される（メタ）アクリル官能基を有するシルフェニレン化合物と、光重合開始剤とを含む光硬化性シルフェニレン組成物を提供する。
また、本発明は、〔２〕〔１〕のシルフェニレン組成物を硬化させてなる、シルフェニレン組成物の硬化物を提供する。
【０００６】
【発明の実施の形態】
以下、本発明につき更に詳しく説明する。
本発明の新規光硬化性シルフェニレン組成物は、（Ａ）（メタ）アクリル官能基を有するシルフェニレン化合物と、（Ｂ）光重合開始剤とを含むものである。（メタ）アクリル基を有するシルフェニレン化合物は、下記一般式（１）で示されるもので、シルフェニレン骨格を中心としてその両端若しくは一端に重合性を示す上で重要な役割を果たす（メタ）アクリル基を含んでいるものである。
【０００７】
【化３】
0003901577.tif 000002
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一または異種の炭素数１〜１０の１価炭化水素基を示す。Ｒ5、Ｒ6は互いに同一または異種の炭素数１〜５０の有機基を示し、Ｒ5、Ｒ6のうち少なくとも一方は、アクリル構造またはメタクリル構造を一つ以上含む。）
【０００８】
この式（１）のシルフェニレン化合物は、下記一般式（２）
【化４】
0003901577.tif 000003
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一または異種の炭素数１〜１０の１価炭化水素基を示す。）
で表される１，４−ビス（クロロシリル）ベンゼンと、下記一般式（３）および（４）
Ｒ5−ＯＨ                              （３）
Ｒ6−ＯＨ                              （４）
（式中、Ｒ5、Ｒ6は互いに同一または異種の炭素数１〜５０の有機基を示し、Ｒ5、Ｒ6のうち少なくとも一方は、アクリル構造またはメタクリル構造を一つ以上含む。）
で表されるアルコールとを反応させることにより製造することができる。
【０００９】
ここで、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4は同一または異種の炭素数１〜１０の１価炭化水素基を示す。このような１価炭化水素基の代表例としては、例えばメチル、エチル、ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｓｅｃ−ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、ｉ−オクチル、ｔ−オクチル、２−エチルヘキシル、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、１−メチルシクロペンチル、１−メチルシクロヘキシル、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキシル、ノニル、デシル等のアルキル基、ビニル、アリル、プロペニル、ブテニル、ヘキセニル、シクロヘキセニル等のアルケニル基などが挙げられる。
【００１０】
Ｒ5、Ｒ6は炭素数１〜５０の有機基を示し、Ｒ5、Ｒ6のうち少なくとも一方は、アクリル構造またはメタクリル構造を一つ以上含む。Ｒ5、Ｒ6は同一であってもよく、従って、上記一般式（３）、（４）の化合物は互いに同一であってもよい。
アクリル構造またはメタクリル構造を一つ以上含む炭素数１〜５０の有機基は、例えば、（メタ）アクリル基（好ましくは（メタ）アクリロキシ基を１個以上、通常１〜１２個、好ましくは１〜６個、より好ましくは１〜３個含有し、該（メタ）アクリロキシ基以外のエーテル構造、エステル構造、ジオルガノシリル構造、またはヒドロキシ基を１個以上（好ましくは１〜５個、但し、エーテル構造については、好ましくは１〜１０個程度）含有してもよい、炭素原子数が４〜５０個、好ましくは５〜３０個、より好ましくは５〜２０個程度の、飽和または不飽和の脂肪族または芳香族１価炭化水素基などが挙げられるが、ヒドロキシ基は好ましくは含有しないものが望ましい。また、ジオルガノシリル構造は、Ｒ5、Ｒ6の末端に位置して隣接酸素原子と結合していること（すなわち、ジオルガノシロキシ構造であること）が好ましい。
【００１１】
このような、アクリル構造またはメタクリル構造を１つ以上含む炭素数１〜５０の有機基としては、下記のアルコールに由来する１価の有機基を例示することができる。
【００１２】
すなわち、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（またはアクリレート）、２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、４−ヒドロキシブチルメタクリレート（またはアクリレート）、ペンタエリスリトールトリメタクリレート（またはトリアクリレート）、グリセリン−１，３−ジメタクリレート、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、ジエチレングリコールモノメタクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（またはヘキサ）アクリレート（またはメタクリレート）、４−メタクリロキシ−２−ヒドロキシベンゾフェノン、３−（４−メチルフェノキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート、ソルビトールペンタメタクリレート（またはアクリレート）、ポリエチレングリコールモノメタクリレート（またはアクリレート）、２−（４−ベンゾイル−３−ヒドロキシフェノキシ）エチルアクリレート、カプロラクトン−２−（メタクリロイロキシ）エチルエステル、ジカプロラクトン−２−（アクリロイロキシ）エチルエステル、ペンタエリスリトールジアクリレートモノステアレート、２−メチルアクリリックアシッド−４−ヒドロキシフェニルエステル、３−（パーフルオロ−３−メチルブチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−（パーフルオロ−５−メチルヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−（パーフルオロ−７−メチルオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−（パーフルオロ−８−メチルデシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−（パーフルオロブチル）−２−ヒドロキシプロピルアクリレート、３−（パーフルオロヘキシル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−（パーフルオロオクチル）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、３−（アクリロイロキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、２−ヒドロキシプロピル−２−（メタクリロイロキシ）エチルフタレート、１，４−シクロヘキサンジメタノールモノアクリレート（またはメタクリレート）、３−（メタクリロイロキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート（またはアクリレート）、２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート（またはメタクリレート）、メタクリロキシ（またはアクリロキシ）メチルジメチルシラノール、メタクリロキシ（またはアクリロキシ）プロピルジメチルシラノール、メタクリロキシ（またはアクリロキシ）プロピルメチルフェニルシラノール、メタクリロキシ（またはアクリロキシ）プロピルジフェニルシラノールなどが挙げられる。
【００１３】
また、２，３−ジヒドロキシプロピルメタクリレート（もしくはアクリレート）、ビスフェノールＡジグリシジルジメタクリレート（またはアクリレート）などの（メタ）アクリル基を含有するジオール類、更に（メタ）アクリル基を含有する多ヒドロキシ基を有する化合物（トリオール類など）においても同様の反応でシルフェニレン骨格に（メタ）アクリル官能基を結合させることが可能である。しかし、この場合は、分子量の異なる複数の化合物が得られる。
【００１４】
一方、アクリル構造またはメタクリル構造を含まない有機基としては、好ましくは上記Ｒ1〜Ｒ4と同様の炭素数１〜１０の１価炭化水素基が挙げられ、アルコールの例としては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｉ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔ−ブタノール、ｔ−ペンタノール、ｉ−オクタノール、ｔ−オクタノール、２−エチルヘキサノール、シクロペンタノール、シクロヘキサノール、シクロヘプタノール、シクロオクタノール、１−メチルシクロペンタノール、１−メチルシクロヘキサノール、１−メチル−４−ｉ−プロピルシクロヘキサノール、ノナノール、デカノール、アリルアルコールなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。なお、アクリル構造、メタアクリル構造を含まないアルコールの使用量は、一般式（２）の化合物１モルに対して０〜１．２モルとすることができる。
【００１５】
また、一般式（２）で表される１，４−ビス（クロロシリル）ベンゼンと一般式（３）および一般式（４）で表されるアルコールとの反応において、一般式（３）で表されるアルコールと一般式（４）で表されるアルコールの総量は、一般式（２）で表される１，４−ビス（クロロシリル）ベンゼン１モルに対して、１．５〜２．５モル、特に１．８〜２．２モル使用して行うことが好ましい。アルコールの仕込み量が大きすぎると未反応のアルコールが多量に残存し、精製上、不利となる場合があり、仕込量が小さすぎると副反応が進行し、目的物以外の化合物が生じやすくなる場合がある。
【００１６】
一般式（２）で表される１，４−ビス（クロロシリル）ベンゼンと一般式（３）および一般式（４）で表されるアルコールとの反応は、通常有機溶媒中で行われる。このような有機溶媒としては、例えば、ＴＨＦ、トルエン、アセトン等が挙げられる。また、本反応は脱ＨＣｌ反応であり、アミンによりＨＣｌをアンモニウム塩としてトラップすることが好ましい。アミンとしては、公知のアミンを用いることができ、例えば、トリエチルアミンなどが挙げられる。アミンの使用量は、一般式（２）のシルフェニレン化合物１モルに対し、通常２．０〜２．４モルである。本反応は、通常、遮光し、室温（例えば０〜４５℃、好ましくは５〜４０℃）で行えばよい。しかし、（メタ）アクリル基を有するため、反応温度の上昇には注意する必要がある（当反応は発熱反応である）。
【００１７】
このようにして、一般式（１）で表される（メタ）アクリル基含有シルフェニレン化合物が得られる。該（メタ）アクリル基含有シルフェニレン化合物は、（メタ）アクリル官能基を有しており、通常は光重合開始剤を加えて光重合させることができる。
【００１８】
本発明に使用する光重合開始剤としては、光を照射することにより重合を開始させ得るものであれば特に制限はない。例えば、１−［４−（２−ヒドロキシ）フェニル］−２−ヒドロキシ−２−メチル−１−プロパン−１−オン、１−ヒドロキシシクロヘキシルフェニル−ケトン、２，２−ジメトキシ−１，２−ジフェニルエタン−１−オン、２，４，６−トリメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキサイド、２，４，６−トリメチルベンゾイルフェニルエトキシホスフィンオキサイド、２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１，２−ヒドロキシ−２−メチル−１−フェニルプロパン−１−オン、２−メチル−１−［４−メチルチオフェニル］−２−モルフォリノプロパン−１−オン、ベンゾインメチルエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインイソブチルエーテル、ベンゾインイソプロピルエーテル、ビス（２，４，６−トリメチルベンゾイル）−フェニルホスフィンオキサイド、２−ヒドロキシ−２−メチル−［４−（１−メチルビニル）フェニル］プロパノールオリゴマー、イソプロピルチオキサントン、ｏ−ベンゾイル安息香酸メチル、［４−（メチルフェニルチオ）フェニル］フェニルメタン、２，４−ジエチルチオキサントン、２−クロロチオキサントン、ベンゾフェノン、エチルアントラキノン、４，４'−ビスジエチルアミノベンゾフェノン、１，４−ジベンゾイルベンゼン、２−ベンゾイルナフタレン、４−ベンゾイルビフェニル、４−ベンゾイルジフェニルエーテル、アクリル化ベンゾフェノン、ジベンゾイル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸エチルエステル、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸イソアミルエチルエステルなどが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００１９】
光重合開始剤の配合量は、前記化合物（１）である（メタ）アクリル基含有シルフェニレン１００重量部に対し、０．０００１〜１０重量部が好ましく、０．００１〜５重量部がより好ましく、０．００１〜３重量部が更に好ましい。光重合開始剤の配合量は多すぎても少なすぎても硬化が不完全となる場合がある。
【００２０】
本発明の組成物は、前記（１）成分および光重合開始剤が含まれていればよく、本組成物の特性を損なわない範囲内で必要に応じ、更にその他の成分を添加してもよい。
その他の成分としては、例えば、光重合開始剤の感度を高める働きを持つ光増感剤、機械的特性を向上せしめる働きを持つ、シリカ、アルミナ、チタニアなどの無機酸化物、染色や特定波長吸収を可能とせしめる働きを持つ、有機・無機の顔料や染料、接着性を向上せしめる働きを持つシランカップリング剤等が挙げられる。必要に応じ、これらを複数種組み合わせて添加してもよい。
【００２１】
本発明の光硬化性シルフェニレン組成物を得る際の、各成分の配合方法に特に制限はない。例えば、溶液状態で組成物の各成分を混合し、溶剤を蒸発させても良いし、溶媒を用いずにミキサー中にて配合しても良い。各成分の配合順序についても特に制限はない。
【００２２】
本発明のシルフェニレン組成物の硬化物は、上記光硬化性シルフェニレン組成物に光を照射することにより得られるものである。
照射する光は、照射することによって上記光硬化性シルフェニレン組成物を硬化させ得る光であれば特に制限はないが、例えば、遠紫外線（波長：例えば１９３ｎｍ，２５３ｎｍ）、ｉ線（波長：３６５ｎｍ）、ｇ線（波長：４３６ｎｍ）、ｈ線（波長：４０５ｎｍ）等の紫外線が好適に用いられる。
【００２３】
【実施例】
以下、実施例および比較例を示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は下記の実施例に制限されるものではない。なお、ＵＶは紫外線を示す。
【００２４】
粘度測定
ＪＩＳ  Ｚ規格の液体の粘度測定法（毛細管粘度計を使用）に準じて、２３℃において測定を行った。
【００２５】
硬さ測定
ＪＩＳ  Ｋ規格の硬さ測定法（Ｄｕｒｏｍｅｔｅｒ  ｔｙｐｅ  Ｄを使用）に準じて測定を行った。
【００２６】
吸水率測定
ＪＩＳ  Ｋ規格の煮沸吸水率測定法に準じて測定を行った。
【００２７】
耐熱性試験
２００℃の乾燥機内で５００時間加熱し、表面の様子を観察することで評価した。
【００２８】
透湿度測定
ＪＩＳ  Ｚ規格の透湿度試験方法（カップ法）に準じて温度４０℃、相対湿度９０％にて測定した。
【００２９】
［実施例１］
１，４−ビス（ジメチルクロロシリル）ベンゼン０．２０モルをテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）２５０ｍｌに溶解し撹拌しておき（溶液▲１▼）、３−（アクリロイロキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート０．２０モル、イソプロピルアルコール０．２０モル、およびトリエチルアミン０．４４モルをＴＨＦ１５０ｍｌに撹拌混合したもの（溶液▲２▼）を溶液▲１▼に室温で添加した。反応溶液はＥｔ3ＮＨ+Ｃｌ-の析出により白濁し、溶液温度は２０℃から４０℃まで上昇した。室温雰囲気中で２時間撹拌した後、吸引濾過にてアンモニウム塩を取除き、濾過液をロータリーエバポレーターにて、留分が出なくなるまで加熱減圧処理（５０℃、１ｍｍＨｇ）をし、シルフェニレン化合物（５）を得た。化合物（５）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。
【００３０】
【化５】
0003901577.tif 000004
【００３１】
シルフェニレン化合物（５）１００重量部に対して、光重合開始剤２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノンを１重量部入れ、均一に混合し、光硬化性シルフェニレン組成物（６）を得た。物性値は表１の通りであった。
光硬化性シルフェニレン組成物（６）にＵＶ照射装置（メタルハライドランプ使用）により紫外線（２００ｍＪ）を照射し透明な硬化物を得た。物性値は表２の通りであった。
【００３２】
［実施例２］
実施例１と同様の操作を行った。１，４−ビス（ジメチルクロロシリル）ベンゼン０．２０モルとシクロヘキサンジメタノールモノアクリレート０．２０モルと３−（アクリロイロキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート０．２０モルを反応させ、シルフェニレン化合物（７）を得た。化合物（７）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。シルフェニレン化合物（７）１００重量部に対し光重合開始剤（２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノン）を１重量部添加した光硬化性シルフェニレン組成物（８）を得た。物性値は表１の通りであった。
【００３３】
光硬化性シルフェニレン組成物（８）をＵＶ照射（２００ｍＪ）により硬化させた硬化物の物性値は表２の通りであった。
【００３４】
【化６】
0003901577.tif 000005
【００３５】
［実施例３］
実施例１と同様の操作を行った。１，４−ビス（ジメチルクロロシリル）ベンゼン０．２０モルと３−（アクリロイロキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート０．４０モルとを反応させシルフェニレン化合物（９）を得た。化合物（９）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。シルフェニレン化合物（９）１００重量部に対し光重合開始剤（２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノン）を１重量部添加した光硬化性シルフェニレン組成物（１０）得た。物性値は表１の通りであった。
光硬化性シルフェニレン組成物（１０）をＵＶ照射（２００ｍＪ）により硬化させた硬化物の物性値は表２の通りであった。
【００３６】
【化７】
0003901577.tif 000006
【００３７】
［実施例４］
実施例１と同様の操作を行った。１，４−ビス（ジメチルクロロシリル）ベンゼン０．２０モルと２−ヒドロキシ−３−フェノキシプロピルアクリレート０．４０モルを反応させ、シルフェニレン化合物（１１）を得た。化合物（１１）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。シルフェニレン化合物（１１）１００重量部に対し光重合開始剤（２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノン）を１重量部添加した光硬化性シルフェニレン組成物（１２）を得た。物性値は表１の通りであった。
光硬化性シルフェニレン組成物（１２）をＵＶ照射（２００ｍＪ）により硬化させた硬化物の物性値は表２の通りであった。
【００３８】
【化８】
0003901577.tif 000007
【００３９】
［実施例５］
実施例１と同様の操作を行った。１，４−ビス（ジメチルクロロシリル）ベンゼン０．２０モルと２−ヒドロキシエチルメタクリレート０．４０モルとを反応させ、シルフェニレン化合物（１３）を得た。化合物（１３）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。シルフェニレン化合物（１３）１００重量部に対し光重合開始剤（２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノン）を１重量部添加した光硬化性シルフェニレン組成物（１４）を得た。物性値は表１の通りであった。
光硬化性シルフェニレン組成物（１４）をＵＶ照射（２００ｍＪ）により硬化させた硬化物の物性値は表２の通りであった。
【００４０】
【化９】
0003901577.tif 000008
【００４１】
［実施例６］
実施例１と同様の操作を行った。１，４−ビス（ジメチルクロロシリル）ベンゼンと２−ヒドロキシエチルアクリレート０．４０モルを反応させ、シルフェニレン化合物（１５）を得た。化合物（１５）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。シルフェニレン化合物（１５）１００重量部に対し光重合開始剤（２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノン）を１重量部添加した光硬化性シルフェニレン組成物（１６）を得た。物性値は表１の通りであった。
光硬化性シルフェニレン組成物（１６）をＵＶ照射（２００ｍＪ）により硬化させた硬化物の物性値は表２の通りであった。
【００４２】
【化１０】
0003901577.tif 000009
【００４３】
実施例１〜６で得られた光硬化物について耐熱性試験を行った。硬化物表面にクラックの発生は見られなかった。
【００４４】
［比較例１］
シロキサン骨格を持つ下記化合物（１７）を合成した。合成は、１，４−ビス（ジメチリルクロロシリル）ベンゼンの代わりに、１，３−ビス（ジクロロメチルシリルエチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサンを用い、実施例１と同様の操作を行った。１，３−ビス（ジクロロメチルシリルエチル）−１，１，３，３−テトラメチルジシロキサン０．２０モルと３−（アクリロイロキシ）−２−ヒドロキシプロピルメタクリレート０．８０モルとを反応させ、シロキサン化合物（１７）を得た。化合物（１７）に含まれる主成分の構造式は下図の通りである。
【００４５】
【化１１】
0003901577.tif 000010
【００４６】
シロキサン化合物（１７）１００重量部に対して、光重合開始剤（２−ハイドロキシ−２−メチルプロピオフェノン）を１重量部入れ、均一に混合し、光硬化性シロキサン組成物（１８）を得た。物性値は表１の通りであった。
光硬化性シロキサン組成物（１８）をＵＶ照射（２００ｍＪ）により硬化させた硬化物の物性値は表２の通りであった。
【００４７】
【表１】
0003901577.tif 000011
【表２】
0003901577.tif 000012
【００４８】
実施例１〜６ならびに比較例１で作成した、光硬化性シルフェニレン組成物および光硬化性シロキサン組成物の硬化物について、透湿度を測定した。結果を表３に示す。
【００４９】
【表３】
0003901577.tif 000013
【００５０】
光硬化性シルフェニレン組成物より得られる硬化物の方が、シロキサン骨格を有する光硬化性シロキサン化合物より得られる硬化物よりも透湿度が低く、耐湿性が高いことがわかった。
【００５１】
【発明の効果】
本発明の光硬化性シルフェニレン組成物は、光照射を加えることにより硬化物を与え、得られる硬化物は透湿性、ガス透過性が低く、かつ機械的特性に優れることから、半導体素子のコーティング材、ポッティング材、また、電気電子部品および光部品の保護材、コーティング材、ポッティング材、接着剤などの用途に非常に有用である。