(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
一般式
【化１】
0003922607.tif 000029
（式中、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンと６０〜８５％硫酸水溶液を溶媒の存在下で反応させることを特徴とする、
一般式
【化２】
0003922607.tif 000030
（式中、ｎは前記に同じ。）
で示されるｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの製造法。
【請求項２】
溶媒がテトラヒドロフランまたはアルコール系溶媒であることを特徴とする、請求項１に記載の製造法。
【請求項３】
一般式
【化３】
0003922607.tif 000031
（式中、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼン。
【請求項４】
一般式
【化４】
0003922607.tif 000032
（式中、Ｘは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゼンマグネシウムハライドと一般式
【化５】
0003922607.tif 000033
（式中、Ｘは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示し、ｎは１から６の整数を示す。）
で示されるアルキルハライドとをハロゲン化銅の存在下で反応させることを特徴とする、
【化６】
0003922607.tif 000034
（式中、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンの製造法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、医薬、農薬および液晶の中間体として有用なｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの製造法およびその前駆体となる新規なｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンに関する。
【０００２】
【従来の技術】
これまでｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの合成法については次の▲１▼〜▲９▼などに記載されている。
【０００３】
▲１▼Ｏｒｇ．Ｓｙｎｔｈ．（オーガニック  シンセシス）第１巻  第１７５頁〜第１７６頁（１９４１）には、アルキルベンゼンをスルホン化し、これをアルカリ溶融してｐ−ヒドロキシアルキルベンゼンを得る方法が記載されている。この方法は、大量に目的化合物を合成できるが、原料のアルキルベンゼンのアルキル基の炭素数がＣ３〜７の化合物が入手しがたい。
【０００４】
▲２▼Ｉｚｖ．Ａｋａｄ．Ｎａｕｋ  Ｇｒｕｚ．ＳＳＲ，Ｓｅｒ．Ｋｈｉｍ．（イズベスギア  アカデミイ  ナウク  グルジア  ＳＳＲ，セリヤ  キミチェスカヤ）第１２巻Ｎｏ．３第２３７頁〜第２４０頁（１９８６）には、フェノールをアルキルハライドでアルキル化してｐ−ヒドロキシアルキルベンゼンを得る方法が記載されている。この方法は、目的化合物がパラ、オルソ体の混合物となり、収率（パラ体２８％、オルソ体５３％）も純度も低い。
【０００５】
▲３▼Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（ジャーナル  オブ  アメリカン  ケミカルソサイエティ）第７１巻第１２６５頁〜第１２６８頁（１９４９）には、フェノールを塩化アルミニウムの存在下、アルキル酸クロライドでアシル化し、これをクレメンゼン還元してｐ−ヒドロキシアルキルベンゼンを合成する方法が記載されている。この方法では、フェノールのアシル化に使用するアルキル酸クロライドが取り扱いにくく、しかも入手しがたい。
【０００６】
▲４▼Ｂｕｌｌ．ｓｏｃ．ｃｈｉｍ．（ブリチン  デラ  ソシエテ  シミック）［４］第４９巻、第１２１３頁〜第１２２２頁（１９３１）、
▲５▼Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．（ジャーナル  オブ  ケミカル  ソサイエティ）第２１４３頁〜第２１４５頁（１９４８）、
▲６▼Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．第７１巻第１２６５頁〜第１２６８頁（１９４９）、および
▲７▼Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．第７４巻第４６２７頁〜第４６２９頁（１９５２）には、ｐ−もしくはｍ−メトキシアルキルベンゼンに酢酸、４８％臭化水素酸水溶液を加え、臭化水素ガスを吹き込みながら３日間還流させて、ｐ−もしくはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンを得る方法が記載されている。この方法では、ｐ−もしくはｍ−メトキシアルキルベンゼンの脱メチル化反応は、臭化水素酸、ヨウ化水素酸あるいはトリフルオロ酢酸などを用いて還流する厳しい条件が必要である。また、還流時に臭化水素ガスが発生し、溶媒である酢酸の処理が必要になるなど、実用上難点が多い。
【０００７】
また、ｐ−およびｍ−メトキシアルキルベンゼンの脱メチル化反応は、アルキル基がｎ−プロピル基を例にとると、後記の比較例１に示すとおり、本発明と同様な反応条件（６５％硫酸の使用）でも進行しない。
【０００８】
また、本発明のｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンに関連する化合物の脱ｔｅｒｔ−ブチル化反応に関する技術としては次のものが知られている。
【０００９】
▲８▼特開平２−１３８１４２号公報には、４０〜５０％硫酸などの脱ｔｅｒｔ−ブチル化剤をｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェネチルアルコールに作用させてｔｅｒｔ−ブチル基を離脱させ、ｐ−またはｍ−ヒドロキシフェネチルアルコールを得る製法が記載されている。
【００１０】
しかしながら、後記の比較例２、３に示すとおり、上記▲８▼の方法と同様な反応条件（５０％硫酸の使用）を、例えば本発明で用いるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ペンチルベンゼンに適用しても、目的とするｐ−またはｍ−ヒドロキシ−ｎ−ペンチルベンゼンはほとんど得られない。
【００１１】
また、式（１）化合物のｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの前駆体であるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼン［式（４）化合物］の類似化合物としては次の▲９▼、▲４▼に記載されている。
【００１２】
▲９▼米国特許第４４４７６５２号明細書には、溶剤、抗酸化剤などに有用なｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシメチルベンゼンなどのアルキルアリールエーテルが下記の反応式により行われることが記載されている。
【化７】
0003922607.tif 000002
（式中、Ｒは水素原子またはアルキル基などを示し、Ｒ´はアルキル基を示す。）
【００１３】
▲４▼前記したＢｕｌｌ．ｓｏｃ．ｃｈｅｍ［４］第４９巻第１２１３頁〜第１２２２頁（１９３１）には医薬の中間体として有用なｐ−メトキシアルキルベンゼンが下記の反応により得られることが記載されている。
一般式
【化８】
0003922607.tif 000003
（式中、Ｒはメチル基、エチル基、プロピル基、ヘキシル基、イソブチル基を示し、Ｒ´はエチル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、イソペンチル基を示す。）
【００１４】
【発明が解決しようとする課題】
本発明は、これら従来の方法にかわり、原料としてｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンを用い、ｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの工業的に有利な製造方法を提供することを目的としている。
【００１５】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記の課題を解決するために鋭意検討した。その結果、原料としてｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンを用い、これを硫酸と反応させることにより、容易に脱ｔｅｒｔ−ブチル化反応が完結し、しかもこのときアルコール系溶媒またはテトラヒドロフランを溶媒として加えることにより、４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチルアルキルベンゼンなどの副生が抑制され、高収率で高純度のｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンが得られることがわかった。
【００１６】
したがって、第１の本発明の要旨とするところは、
一般式
【化９】
0003922607.tif 000004
（式中、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示される、ｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンと６０〜８５％硫酸水溶液とを溶媒の存在下で反応させることを特徴とする、
一般式（１）
【化１０】
0003922607.tif 000005
（式中、ｎは前記に同じ。）
で示されるｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの製造法にある。
【００１７】
また、第１の本発明において、溶媒としてテトラヒドロフランまたはアルコール系溶媒を使用することにより、ｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンを高収率、高純度で得られることを見いだした。
【００１８】
したがって、第２の本発明の要旨とするところは、溶媒がテトラヒドロフランまたはアルコール系溶媒であることを特徴とする、第１の本発明の製造法にある。
【００１９】
さらに、第１の本発明においてｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの原料として有用で新規なｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンを見いだした。
【００２０】
したがって、第３の本発明の要旨とするところは、
一般式（４）
【化１１】
0003922607.tif 000006
（式中、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンにある。
【００２１】
また、第４の本発明の要旨とするところは、
一般式（２）
【化１２】
0003922607.tif 000007
（式中、Ｘは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゼンマグネシウムハライドと一般式（３）
【化１３】
0003922607.tif 000008
（式中、Ｘは塩素原子、臭素原子または沃素原子を示し、ｎは１から６の整数を示す。）
で示されるアルキルハライドとをハロゲン化銅の存在下で反応させることを特徴とする、一般式（４）
【化１４】
0003922607.tif 000009
（式中、ｎは１〜６の整数を示す。）
で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンの製造法にある。
【００２２】
【発明の実施の形態】
以下に、本発明のｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの製造法をさらに詳しく説明する。
【００２３】
本発明のｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼン［式（１）化合物］の製造法を反応式で示すと次のとおりである。
【００２４】
【化１５】
0003922607.tif 000010
（式中、Ｘ、ｎは前記に同じ。）
【００２５】
式（１）化合物の原料である式（４）化合物は新規化合物であり、次のようにして得られる。
【００２６】
（ａ）ｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼン［式（４）化合物の合成］
＜式（２）化合物の合成＞
まず、式（４）化合物の出発原料である、一般式（２）の化合物は、活性化した金属マグネシウムを無水テトラヒドロフラン中でかき混ぜながらｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゼンハライドを４０℃ないし還流温度で滴下し、更に１〜８時間の撹拌を続けることで得られる。反応に使用する金属マグネシウムは市販のテープ状あるいは削り状をｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシベンゼンハライドに対して１〜２倍モル程度使用するが、反応開始に先立って、金属マグネシウムの活性化を目的に窒素雰囲気あるいは減圧条件でかき混ぜたり、微量の沃素あるいは沃化メチル、臭化メチル、ジブロモエタンなどを添加することは、グリニャール反応を円滑に進めるうえで有効である。反応溶媒はテトラヒドロフランやジエチルエーテル単独あるいはベンゼンやトルエンなどの混合系であっても同様の結果を得ることができる。
【００２７】
＜式（４）化合物の合成＞
一般式（４）の化合物は、トルエンに希釈した式（３）化合物にハロゲン化銅触媒を加え、かき混ぜながら式（２）のグリニャール試薬を６０〜８０℃の温度で滴下し、更に１〜２時間の撹拌を続けることで得られる。式（２）化合物のＸはハロゲン原子で、塩素、臭素、沃素である。同様に式（３）化合物のＸもハロゲン原子で、塩素、臭素、沃素であるが、反応性の高い臭素、沃素を用いたほうが収率がよい。また、使用されるハロゲン化銅触媒のハロゲン原子としては塩素、臭素、沃素などである。有用なハロゲン化銅触媒としては、塩化第一銅、臭化第一銅、沃化第一銅、塩化リチウム・塩化第二銅錯体などであり、好ましくは塩化第一銅である。使用する触媒の量は、式（２）化合物に対して１０-3〜１０-1モル倍量、好ましくは１０-2〜１０-1モル倍量を使用する。
【００２８】
反応終了後、塩化アンモニウム水溶液などで加水分解し、有機層を分離する。この有機層を分離後、溶媒を留去し、減圧蒸留すると、目的とする式（４）で示されるｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンが得られる。
【００２９】
式（４）化合物のｎは１〜６であり、具体的には、エチル基、ｎ−プロピル基、ｎ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−ヘプチル基などが挙げられる。
【００３０】
式（４）化合物の製造例を実施例１〜９に示した。
【００３１】
（ｂ）ｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼン［式（１）化合物］の合成一般式（１）の化合物は、式（４）化合物に対して１／２〜等量の溶媒で希釈した式（４）化合物に、６０〜８５％、好ましくは６５〜７５％濃度の硫酸水溶液を０〜３０℃、好ましくは１５〜２５℃の温度で滴下し、更に３〜５時間、好ましくは３〜４時間の撹拌を続けることにより得られる。硫酸濃度は約５０％以下に低くなると反応速度が遅く、約９０％以上に高くなると副生物が多くなる。したがって、硫酸濃度は前記のとおり、６０〜８５％の範囲内で使用すればよい。ここで使用される硫酸の量は、ｐ−またはｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシアルキルベンゼンに対して等モル量である。
【００３２】
溶媒としてはメタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、イソプロパノール、ｎーブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノールなどのアルコール系の溶媒またはテトラヒドロフランが挙げられるが、テトラヒドロフランが最も好ましい。
【００３３】
式（１）化合物の製造例を実施例１０〜１８に示した。
【００３４】
次に実施例および比較例を示して本発明をさらに具体的に説明する。
【００３５】
実施例１  ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルベンゼン［式（４）化合物のｎが１の場合］の製造
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた四頚フラスコを窒素置換し、これにマグネシウム２４．３ｇ（１モル）と少々の臭化エチルを入れて撹拌しつつ還流するまで加熱し、マグネシウムを活性化した。次いでｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼン９２．３ｇ（０．５モル）をテトラヒドロフラン２４０ｍｌに溶解して７０℃で５時間かけて滴下ロートより滴下した。滴下後７０℃で２時間撹拌し、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを得た。このグリニャール試薬をトルエン５５ｍｌで希釈したエチルブロマイド５４．５ｇ（０．５モル）と塩化第一銅２．５ｇ（０．０２５モル）中に６０〜７０℃で３時間かけて滴下し、更に同温度で２時間撹拌した。次いでこの反応液中に塩化アンモニウム水溶液を加えてマグネシウム塩を取り除き、溶媒を留去した後、減圧蒸留し、７９℃／５ｍｍＨｇの留分としてｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルベンゼン６７．７ｇ（収率７５％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．６％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００３６】
【表１】
0003922607.tif 000011
【００３７】
【化１６】
0003922607.tif 000012
【００３８】
実施例２  ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼン［式（４）化合物のｎが２の場合］の製造
還流冷却器、温度計、滴下ロートおよび攪拌機を備えた四頚フラスコを窒素置換し、これにマグネシウム２４．３ｇ（１モル）と少々の臭化エチルを入れて撹拌しつつ還流するまで加熱し、マグネシウムを活性化した。次いでｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼン９２．３ｇ（０．５モル）をテトラヒドロフラン２４０ｍｌに溶解して７０℃で５時間かけて滴下ロートより滴下した。滴下後７０℃で２時間撹拌し、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを得た。このグリニャール試薬をトルエン５５ｍｌで希釈したｎ−プロピルブロマイド６１．５ｇ（０．５モル）と塩化第一銅２．５ｇ（０．０２５モル）中に６０〜７０℃で３時間かけて滴下し、更に同温度で２時間撹拌した。次いでこの反応液中に塩化アンモニウム水溶液を加えてマグネシウム塩を取り除き、溶媒を留去した後、減圧蒸留し、９１〜９２℃／４ｍｍＨｇの留分としてｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼン７３．２ｇ（収率７５％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．５％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００３９】
【表２】
0003922607.tif 000013
【００４０】
【化１７】
0003922607.tif 000014
【００４１】
実施例３  ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ブチルベンゼン［式（４）化合物のｎが３の場合］の製造
実施例２のｎ−プロピルブロマイドをｎ−ブチルブロマイド６８．５ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を９５℃／３ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ブチルベンゼン７５．３ｇ（収率７２％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．７％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００４２】
【表３】
0003922607.tif 000015
【００４３】
【化１８】
0003922607.tif 000016
【００４４】
実施例４  ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ペンチルベンゼン［式（４）化合物のｎが４の場合］の製造
実施例２のｎ−プロピルブロマイドをｎ−ペンチルブロマイド７５．５ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を１１３℃／４ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ペンチルベンゼン８７ｇ（収率７８％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．８％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００４５】
【表４】
0003922607.tif 000017
【００４６】
【化１９】
0003922607.tif 000018
【００４７】
実施例５  ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン［式（４）化合物のｎが５の場合］の製造
実施例２のｎ−プロピルブロマイドをｎ−ヘキシルブロマイド８２．５ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を１１９℃／２ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン９６．５ｇ（収率８１％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．４％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００４８】
【表５】
0003922607.tif 000019
【００４９】
【化２０】
0003922607.tif 000020
【００５０】
実施例６  ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘプチルベンゼン［式（４）化合物のｎが６の場合］の製造
実施例２のｎ−プロピルブロマイドをｎ−ヘプチルブロマイド８９．６ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を１３７℃／５ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘプチルベンゼン９５．７ｇ（収率７６％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．６％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００５１】
【表６】
0003922607.tif 000021
【００５２】
【化２１】
0003922607.tif 000022
【００５３】
実施例７  ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルベンゼン［式（４）化合物のｎが１の場合］の製造
実施例２のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼンをｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼンに代えて調製したｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを使用し、ｎ−プロピルブロマイドをエチルブロマイド５４．５ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を７３℃／５ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルベンゼン６５．２ｇ（収率７２％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．５％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００５４】
【表７】
0003922607.tif 000023
【００５５】
【化２２】
0003922607.tif 000024
【００５６】
実施例８  ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ブチルベンゼン［式（４）化合物のｎが３の場合］の製造
実施例２のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼンをｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼンに代えて調製したｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを使用し、ｎ−プロピルブロマイドをｎ−ブチルブロマイド６８．５ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を１０６℃／５ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキ−ｎ−ブチルベンゼン７９．４ｇ（収率７６％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．７％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００５７】
【表８】
0003922607.tif 000025
【００５８】
【化２３】
0003922607.tif 000026
【００５９】
実施例９  ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン［式（４）化合物のｎが５の場合］の製造
実施例２のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼンをｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシクロロベンゼンに代えて調製したｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシフェニルマグネシウムクロライドを使用し、ｎ−プロピルブロマイドをｎ−ヘキシルブロマイド８２．５ｇ（０．５モル）に代え、目的物を得る減圧条件を１３１℃／４ｍｍＨｇとした以外は実施例２に準じて行い、ｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン９４．９ｇ（収率８０％、ガスクロマトグラフィー分析純度９８．８％）を得た。このものの元素分析値とＮＭＲスペクトルは次のとおりである。
【００６０】
【表９】
0003922607.tif 000027
【００６１】
【化２４】
0003922607.tif 000028
【００６２】
実施例１０  ｐ−ヒドロキシエチルベンゼン［式（１）化合物のｎが１の場合］の製造
攪拌機の付いた５００ｍｌ容量の四頚フラスコにｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルベンゼン８９．１ｇ（０．５モル）とテトラヒドロフラン６６．８ｇを入れ、２０〜２５℃で６５％硫酸水溶液７５．４ｇを滴下して、３時間撹拌した。反応後に水９０ｍｌを２５℃以下で滴下し、続いてトルエン８０ｍｌを加えた。これを分液し、水層を除去した後、有機層に１０％炭酸ソーダ水溶液７０ｇを加えて中和し、更に水７０ｍｌで洗浄した後、有機層の溶媒を留去して、粗ｐ−ヒドロキシエチルベンゼンを得た。
【００６３】
このとき、４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−エチルベンゼンはガスクロマトグラフィーの分析値で、ｐ−ヒドロキシエチルベンゼンの生成量に対して０．６％であった。次いで真空蒸留によって沸点９０℃／６ｍｍＨｇの留分として５９．１ｇ（ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％、収率９６．５％）を得た。
【００６４】
このようにして得たｐ−ヒドロキシエチルベンゼンの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外線吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
【００６５】
実施例１１  ｐ−ヒドロキシ−ｎ−プロピルベンゼン［式（１）化合物のｎが２の場合］の製造
攪拌機の付いた５００ｍｌ容量の四頚フラスコにｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼン９６．２ｇ（０．５モル）とテトラヒドロフラン７２．２ｇを入れ、２０〜２５℃で６５％硫酸水溶液７５．４ｇを滴下して、３時間撹拌した。反応後に水９０ｍｌを２５℃以下で滴下し、続いてトルエン８０ｍｌを加えた。これを分液し水層を除去した後、有機層に１０％炭酸ソーダ水溶液７０ｇを加えて中和し、更に水７０ｍｌで洗浄した後、有機層の溶媒を留去して、粗ｐ−ヒドロキシ−ｎ−プロピルベンゼンを得た。
【００６６】
このとき、４−ヒドロキシ−３−ｔｅｒｔ−ブチル−ｎ−プロピルベンゼンはガスクロマトグラフィーの分析値で、ｐ−ヒドロキシ−ｎ−プロピルベンゼンの生成量に対して０．５％であった。次いで真空蒸留によって沸点９７℃／４ｍｍＨｇの留分として６５．１ｇ（ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％、収率９５．５％）を得た。
【００６７】
このようにして得たｐ−ヒドロキシ−ｎ−プロピルベンゼンの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外線吸収スペクトルは標品の値にそれぞれ一致した。
【００６８】
実施例１２  ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ブチルベンゼン［式（１）化合物のｎが３の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ブチルベンゼン１０３．２ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を７７．４ｇにして２０〜２５℃で７０％硫酸水溶液７０．１ｇで行い、目的物を得る減圧条件を１０１℃／４ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ブチルベンゼン７２．３ｇ（収率９６．２％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％）を得た。
【００６９】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００７０】
実施例１３  ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ペンチルベンゼン［式（１）化合物のｎが４の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ペンチルベンゼン１１０．２ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を８２．７ｇにして２０〜２５℃で７０％硫酸水溶液７０．１ｇで行い、目的物を得る減圧条件を１１９℃／５ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ペンチルベンゼン７８．４ｇ（収率９５．４％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％）を得た。
【００７１】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００７２】
実施例１４  ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン［式（１）化合物のｎが５の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン１１７．２ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を８７．９ｇにして２０〜２５℃で７５％硫酸水溶液６５．４ｇで行い、目的物を得る減圧条件を１３３℃／５ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン８４．４ｇ（収率９４．６％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％）を得た。
【００７３】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００７４】
実施例１５  ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ヘプチルベンゼン［式（１）化合物のｎが６の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘプチルベンゼン１２４．２ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を９３．２ｇにして２０〜２５℃で７５％硫酸水溶液６５．４ｇで行い、目的物を得る減圧条件を１２４℃／３ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｐ−ヒドロキシ−ｎ−ヘプチルベンゼン９０．９ｇ（収率９４．３％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．８％）を得た。
【００７５】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００７６】
実施例１６  ｍ−ヒドロキシエチルベンゼン［式（１）化合物のｎが１の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシエチルベンゼン８９．１ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を６６．８ｇ目にして２０〜２５℃で６５％硫酸水溶液７５．４ｇで行い、目的物を得る減圧条件を９５℃／１０ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｍ−ヒドロキシエチルベンゼン５８．９ｇ（収率９６．２％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％）を得た。
【００７７】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００７８】
実施例１７    ｍ−ヒドロキシ−ｎ−ブチルベンゼン［式（１）化合物のｎが３の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ブチルベンゼン１０３．２ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を７７．４ｇにして２０〜２５℃で７０％硫酸水溶液７０．１ｇで行い、目的物を得る減圧条件を１１０℃／７ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｍ−ヒドロキシ−ｎ−ブチルベンゼン７１．７ｇ（収率９５．３％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％）を得た。
【００７９】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００８０】
実施例１８    ｍ−ヒドロキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン［式（１）化合物のｎが５の場合］の製造
実施例１１のｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−プロピルベンゼンをｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン１１７．２ｇ（０．５モル）に代え、またテトラヒドロフランの量を８７．９ｇにして２０〜２５℃で７５％硫酸水溶液６５．４ｇで行い、目的物を得る減圧条件を１３２℃／５ｍｍＨｇとした以外は実施例１１に準じて行い、ｍ−ヒドロキシ−ｎ−ヘキシルベンゼン８４．９ｇ（収率９４．９％、ガスクロマトグラフィー分析純度９９．９％）を得た。
【００８１】
このものの元素分析値、ＮＭＲスペクトル、赤外吸収スペクトルは標品のそれぞれの値に一致した。
【００８２】
比較例１
前記した文献▲４▼、▲５▼、▲６▼、▲７▼に準じて、攪拌機の付いた５００ｍｌ容量の四頚フラスコにｐ−メトキシ−ｎ−プロピルベンゼン７５．１ｇ（０．５モル）とテトラヒドロフラン５６．３ｇを入れ、２０〜２５℃で６５％硫酸水溶液７５．４ｇを滴下して、３時間撹拌した。撹拌後のｐ−ヒドロキシ−ｎ−プロピルベンゼンへの反応変換率は０％であった。
【００８３】
比較例２
前記した文献▲８▼に準じて、攪拌機の付いた１００ｍｌ容量の四頚フラスコにｐ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ペンチルベンゼン２２．０ｇ（０．１モル）とテトラヒドロフラン１６．５ｇを入れ、２０〜２５℃で５０％硫酸水溶液１９．６ｇを滴下して、２０〜３５℃で３時間撹拌した。撹拌後の反応変換率は３．２％であった。
【００８４】
比較例３
前記した文献▲８▼に準じて、撹拌機の付いた１００ｍｌ容量の四頚フラスコにｍ−ｔｅｒｔ−ブトキシ−ｎ−ペンチルベンゼン２２．０ｇ（０．１モル）とテトラヒドロフラン１６．５ｇを入れ、２０〜２５℃で５０％硫酸水溶液１９．６ｇを滴下して、２０〜３５℃で３時間撹拌した。撹拌後の反応変換率は４．９％であった。
【００８５】
【発明の効果】
本発明のｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンの製造方法によれば、簡単な操作で医薬、農薬および液晶の合成中間体として有用なｐ−またはｍ−ヒドロキシアルキルベンゼンが高収率、高純度で得られる。