(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
相対向する第１および第２の透明絶縁基板と、
前記第１および第２の透明絶縁基板間に充填された液晶からなる液晶層と、
前記第１および第２の透明絶縁基板の全周縁部における各透明絶縁基板間に設けられて前記液晶層が漏出するのを防ぐシール材と、
前記第１の透明絶縁基板上の前記シール材の形成領域上に形成された補助層と、
前記補助層を覆って形成される平坦化絶縁膜と、を備え、
前記シール材の形成領域上の前記補助層には少なくとも１本以上のスリットが前記第１および第２の透明絶縁基板の辺に沿って形成され、そのスリットから露出した前記第１の透明絶縁基板と前記平坦化絶縁膜とが直接密着しているとともに、前記スリットは前記各透明絶縁基板の角部を除く前記各透明絶縁基板の周縁部に形成されている液晶表示装置。
【請求項２】
請求項１に記載の液晶表示装置において、
前記補助層には前記スリットが複数形成され、それらスリット間が突条を成している液晶表示装置。
【請求項３】
請求項１または２に記載の液晶表示装置において、
前記補助層はアルミニウム合金から成る液晶表示装置。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、
前記平坦化絶縁膜はアクリル系樹脂から成る液晶表示装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は液晶表示装置に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
図５は、従来の液晶表示装置の一部断面図である。
ガラス材から成る相対向する各透明絶縁基板１１，１２の間には、液晶が充填された液晶層１３が設けられている。透明絶縁基板１１上には、配線層を形成するアルミニウム合金膜１４、アクリル系樹脂から成る平坦化絶縁膜１５、ポリイミド系樹脂から成る配向膜１６が積層形成されている。透明絶縁基板１２上には、ＩＴＯ（Indium Tin Oxide）から成る透明電極１７、ポリイミド系樹脂から成る配向膜１８が積層形成されている。各透明絶縁基板１１，１２の端部間には、各透明絶縁基板１１，１２間から液晶層１３が漏出するのを防ぐために、エポキシ系樹脂から成るシール材１９が設けられている。すなわち、シール材１９は、各透明絶縁基板１１，１２の周縁部において、各透明絶縁基板１１，１２の各配向膜１６，１８間に形成されている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】
シール材１９は各透明絶縁基板１１，１２の全周縁部に設けられている。そのシール材１９が設けられた透明絶縁基板１１の領域（シール形成領域）上には、アルミニウム合金膜１４がベタに形成されている。
【０００４】
ここで、ガラス材から成る透明絶縁基板１１とアクリル系樹脂から成る平坦化絶縁膜１５との密着強度が高いのに対して、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５との密着強度は低い。そのため、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５とは剥離しやすく、そのような剥離が生じると液晶表示装置に表示不良が発生することになる。特に、透明絶縁基板１１の周縁部のシール形成領域にはシール材１９の下地を平坦にするために、補助層がアルミニウム合金膜１４と一体でベタに形成されている。そのため、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５との剥離は透明絶縁基板１１の周縁部のシール形成領域で生じやすい。
【０００５】
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであって、その目的は、絶縁基板と補助層との剥離を防止することにより、表示不良の発生をも防止することが可能な液晶表示装置を提供することにある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】
請求項１に記載の発明は、相対向する第１および第２の透明絶縁基板と、第１および第２の透明絶縁基板間に充填された液晶からなる液晶層と、第１および第２の透明絶縁基板の全周縁部における各透明絶縁基板間に設けられて液晶層が漏出するのを防ぐシール材と、第１の透明絶縁基板上のシール材の形成領域上に形成された補助層と、補助層を覆って形成される平坦化絶縁膜と、を備え、シール材の形成領域上の補助層には少なくとも１本以上のスリットが第１および第２の透明絶縁基板の辺に沿って形成され、そのスリットから露出した第１の透明絶縁基板と平坦化絶縁膜とが直接密着しているとともに、前記スリットは前記各透明絶縁基板の角部を除く前記各透明絶縁基板の周縁部に形成されていることをその要旨とする。
【０００８】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の液晶表示装置において、補助層にスリットが複数形成され、それらスリット間が突条を成していることをその要旨とする。
【０００９】
請求項３に記載の発明は、請求項１または２に記載の液晶表示装置において、補助層はアルミニウム合金から成ることをその要旨とする。
【００１０】
請求項４に記載の発明は、請求項１〜３のいずれか１項に記載の液晶表示装置において、平坦化絶縁膜はアクリル系樹脂から成ることをその要旨とする。
【００１１】
【発明の実施の形態】
以下、本発明を具体化した一実施形態を図面に従って説明する。尚、本実施形態において、従来の形態と同じ構成部材については符号を等しくしてその詳細な説明を省略する。
【００１２】
図１は、本実施形態の液晶表示装置の一部断面図である。図２は、本実施形態の液晶表示装置における透明絶縁基板１１の平面図である。
本実施形態において、図５に示した従来の形態と異なるのは、シール材１９が設けられた透明絶縁基板１１の領域（シール形成領域）上に形成されたアルミニウム合金膜１４に、複数のスリット１４ａが形成されている点にある。すなわち、各透明絶縁基板１１，１２の全周縁部にはシール材１９が設けられており、そのシール材１９の下側の透明絶縁基板１１のシール形成領域上には、複数のスリット１４ａによって突条１４ｂを成すアルミニウム合金膜１４が形成されている。
【００１３】
次に、本実施形態の作用および効果について説明する。
ガラス材から成る透明絶縁基板１１とアクリル系樹脂から成る平坦化絶縁膜１５との密着強度が高いのに対して、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５との密着強度は低い。そのため、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５とは剥離しやすく、そのような剥離が生じると液晶表示装置に表示不良が発生する。
【００１４】
しかし、本実施形態においては、透明絶縁基板１１の周縁部のアルミニウム合金膜１４に複数のスリット１４ａが形成されており、そのスリット１４ａからは透明絶縁基板１１が露出している。つまり、各スリット１４ａにおいて、透明絶縁基板１１と平坦化絶縁膜１５とは、アルミニウム合金膜１４を介すことなく直接密着している。そのため、透明絶縁基板１１の周縁部のシール形成領域において、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５とが剥離するのを確実に防止することができる。その結果、アルミニウム合金膜１４と平坦化絶縁膜１５との剥離が原因で液晶表示装置に表示不良の発生するのを回避することができる。
【００１５】
図３に、本実施形態のアクティブマトリックス方式液晶表示装置のブロック構成を示す。
画素部（液晶パネル）１０１には各走査線（ゲート配線）Ｇ1 …Ｇn,Ｇn+1 …Ｇm と各データ線（ドレイン配線）Ｄ1 …Ｄn,Ｄn+1 …Ｄm とが配置されている。各ゲート配線Ｇ1 〜Ｇm と各ドレイン配線Ｄ1 〜Ｄm とはそれぞれ直交し、その直交部分に画素１０２が設けられている。そして、各ゲート配線Ｇ1 〜Ｇm はゲートドライバ１０３に接続され、ゲート信号（走査信号）が印加されるようになっている。また、各ドレイン配線Ｄ1 〜Ｄm はドレインドライバ（データドライバ）１０４に接続され、データ信号（ビデオ信号）が印加されるようになっている。これらのドライバ１０３，１０４によって周辺駆動回路部１０５が構成されている。そして、各ドライバ１０３，１０４のうち少なくともいずれか一方を画素部１０１と同一基板１１上に形成した液晶表示装置は、一般にドライバ一体型（ドライバ内蔵型）液晶表示装置と呼ばれる。尚、ゲートドライバ１０３が、画素部１０１の両側に設けられている場合もある。また、ドレインドライバ１０４が、画素部１０１の両側に設けられている場合もある。
【００１６】
図４に、ゲート配線Ｇn とドレイン配線Ｄn との直交部分に設けられている画素１０２の等価回路を示す。
画素１０２は、画素駆動素子としてのＴＦＴ（Thin Film Transistor）１０６、液晶セルLC、補助容量（蓄積容量または付加容量）SCから構成されている。ゲート配線Ｇn にはＴＦＴ１０６のゲートが接続され、ドレイン配線Ｄn にはＴＦＴ１０６のドレインが接続されている。そして、ＴＦＴ１０６のソースには、液晶セルLCの表示電極（画素電極）と補助容量SCとが接続されている。この液晶セルLCと補助容量SCとにより、前記信号蓄積素子が構成される。液晶セルLCの対向電極（表示電極の反対側の電極。共通電極とも呼ばれる）には電圧Ｖcom が印加されている。一方、補助容量SCにおいて、ＴＦＴのソースと接続される側の電極（以下、蓄積電極という）の反対側の電極（以下、補助容量電極という）には定電圧ＶR が印加されている。この液晶セルLCの対向電極は、文字どおり全ての画素１０２に対して共通した電極となっている。そして、液晶セルLCの表示電極と対向電極との間には静電容量が形成されている。尚、補助容量SCの補助容量電極は、隣のゲート配線Ｇn+1 と接続されている場合もある。
【００１７】
本実施形態の液晶表示装置においては、突条１４ｂを成すアルミニウム合金膜１４によって各配線Ｇ1 〜Ｇm ，Ｄ1 〜Ｄm が形成されている。そのため、各配線Ｇ1 〜Ｇm ，Ｄ1 〜Ｄm を別個に形成する場合に比べて、透明絶縁基板１１の面積を小さくすることが可能になり、その分だけ材料コストを低減することができる。
【００１８】
尚、上記実施形態は以下のように変更してもよく、その場合でも同様の作用および効果を得ることができる。
（１）アルミニウム合金膜１４を各種高融点金属膜などの他の金属膜に置き代える。
【００１９】
（２）平坦化絶縁膜１５の材質をアクリル系樹脂ではなく、他の絶縁材料（酸化シリコン、ＳＯＧ（Spin On Glass ），各種シリケートガラス（ＢＳＧ、ＰＳＧ，ＢＰＳＧなど）、窒化シリコン、各種有機絶縁物など）に置き代える。
【００２０】
【発明の効果】
以上詳述したように本発明によれば、絶縁基板と補助層との剥離を防止することにより、表示不良の発生をも防止することが可能な液晶表示装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】一実施形態の一部断面図。
【図２】一実施形態の平面図。
【図３】一実施形態のブロック構成図。
【図４】一実施形態の画素の等価回路図。
【図５】従来の形態の一部断面図。
【符号の説明】
１１…第１の透明絶縁基板
１２…第２の透明絶縁基板
１３…液晶層
１４…アルミニウム合金膜
１４ａ…スリット
１４ｂ…突条
１５…平坦化絶縁膜
１９…シール材
Ｄ1 〜Ｄm …データ線（ドレイン配線）
Ｇ1 〜Ｇm …走査線（ゲート配線）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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