(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
感光性有機成分、５０重量％粒子径が２〜４．０μｍ、トップサイズが３０μｍ以下、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０−７／Ｋであるガラス材料、ならびに１０重量％粒子径（Ｄ１０）が０．４〜２μｍ、５０重量％粒子径（Ｄ５０）が１〜３μｍ、９０重量％粒子径（Ｄ９０）が３〜８μｍおよびトップサイズ１０μｍ以下の粒度分布を持ち、ガラス転移点が６００〜７００℃、軟化点が６００〜８５０℃の高融点ガラスを含有する感光性ペーストを基板上に塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像し、焼成することによって隔壁を形成するプラズマディスプレイ用基板の製造方法であって、該隔壁の炭素含有量が０．１重量％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項２】
隔壁の高さが６０〜１６０μｍ、隔壁の線幅が２０〜１００μｍであることを特徴とする請求項１記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項３】
隔壁のピッチが８０〜４６０μｍであることを特徴とする請求項２記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項４】
隔壁が、平均屈折率１．５〜１．８のガラス材料から構成されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項５】
隔壁を構成するガラス材料が、次の組成からなることを特徴とする請求項１〜４いずれか１項記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
酸化リチウム：３〜１０重量％
酸化珪素：１０〜３０重量％
酸化ホウ素：２０〜４０重量％
酸化バリウム：２〜１５重量％
酸化アルミニウム：１０〜２５重量％
【請求項６】
前記ガラス材料の平均屈折率ｎ１、該高融点ガラスの平均屈折率ｎ２が、次の式を満たすことを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
−０．０５≦ｎ１−ｎ２≦０．０５
【請求項７】
前記高融点ガラスが平均屈折率１．５〜１．８であることを特徴とする請求項６記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
【請求項８】
高融点ガラスが下記組成から構成されていることを特徴とする請求項６または７記載のプラズマディスプレイ用基板の製造方法。
酸化珪素  ：１５〜５０重量％
酸化ホウ素  ：  ５〜４０重量％
酸化アルミニウム  ：１０〜５０重量％
酸化バリウム  ：  ２〜１５重量％
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、プラズマディスプレイパネルやプラズマアドレス液晶ディスプレイなどの基板に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）は液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、かつ大型化が容易であることから、ＯＡ機器および広報表示装置などの分野に浸透している。また、高品位テレビジョンの分野などでの進展が非常に期待されている。このような用途の拡大に伴って、精細で多数の表示セルを有するカラーＰＤＰが注目されている。
【０００３】
ＰＤＰは、前面ガラス基板と背面ガラス基板との間に設けられた放電空間内で対向するアノードおよびカソード電極間にプラズマ放電を生じさせ、上記放電空間内に封入されているガスから発生した紫外線を、放電空間内の蛍光体にあてることにより表示を行うものである。この場合、放電の広がりを一定領域に抑え、表示を規定のセル内で行わせると同時に、かつ均一な放電空間を確保するために隔壁（障壁、リブともいう）が設けられている。
【０００４】
これらの隔壁は、通常背面ガラス基板にガラスからなる絶縁ペーストをスクリーン印刷法で印刷・乾燥し、この印刷・乾燥工程を１０〜１５回繰り返して所定の高さにした後、焼成して形成している。しかしながら、通常のスクリーン印刷法では、特にパネルサイズが大型化した場合に、予め前面基板上に形成された放電電極と絶縁ガラスペーストの印刷場所との位置合わせが難しく、位置精度が得られ難いという問題がある。しかも１０〜１５回ガラスペーストを重ね合わせ印刷を行うことになるため、隔壁および壁体の側面エッジ部の波打ちや裾の乱れが生じ、高さの精度が得られないため、表示品質が悪くなり、また作業性が悪い、歩留まりが低いなどの問題もある。特に、線幅が狭く、ピッチの小さな高精細な隔壁パターンを形成する場合には、隔壁底部がペーストのチクソトロピー性により滲みやすく、シャープで残渣のない隔壁形成が難しくなる問題がある。
【０００５】
ＰＤＰの大面積化、高解像度化に伴い、このようなスクリーン印刷による方法では、高アスペクト比、高精細の隔壁の製造がますます技術的に困難となり、かつコスト的に不利になってきている。
【０００６】
これらの問題を改良する方法として、特開平１−２９６５３４号公報、特開平２−１６５５３８号公報、特開平５−３４２９９２号公報、特開平６−２９５６７６号公報では、隔壁を感光性ペーストを用いてフォトリソグラフィ技術により形成する方法が提案されている。しかしながら、これらの方法では、感光性絶縁ペーストのガラス含有量が少ないために焼成後に緻密な隔壁が得られなかったり、感光性ペーストの感度や解像度が低いという問題があった。このために高アスペクト比の隔壁を得る為には、スクリーン印刷・露光・現像の工程を繰り返し行うことが必要であった。しかし、印刷・露光・現像を繰り返し行うのでは、依然として位置合わせの問題が生じたり、コストの問題があり限界があった。
【０００７】
そこで特開平８−５０８１１号公報では、ガラス微粒子と感光性有機成分を必須とする感光性ガラスペースト法を用いて、隔壁を１回の露光で形成する方法が提案されている。しかしながら、この方法では、ピッチが２００μm以下、隔壁の線幅が５０μm以下の高精細隔壁を作製する際、感光性ペースト中のガラス微粒子と感光性有機成分の割合によっては、線幅の太り、所望の線幅が得られない、または現像残りが発生し、いわゆる残膜が発生したり、パターン形成性が悪いという問題があった。また、焼成時に有機成分が消失し難く、いわゆる脱バインダー性が悪く、剥がれ、着色の原因になったり、焼成時の収縮が大きくなり、所望の高さの隔壁を得るためにパターン形成時の高さが高く必要になり、パターン形成時のマージンが小さく、歩留まりが悪くなるという問題があった。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
さらに、感光性ペーストがパターン形成の工程で優れた特性を示す成分組み合わせであっても、次の焼成工程において問題を生じることがある。すなわち、パターンを形成しているガラス微粒子と光反応で硬化している有機成分は、焼成工程において溶融や熱分解の作用を受けるが、感光性ペースト中のガラス微粒子と感光性有機成分の割合によっては、有機成分がガラス溶融物中に閉じ込められて炭化するという現象などにより、焼成されたパターンが褐色や黒色に着色したり、パターンが基板から剥がれたりするという問題が発生し、欠陥のない隔壁パターンが得られなかった。
【０００９】
そこで、本発明は上記した従来技術の問題点を改良し、高アスペクト比かつ高精細であり、着色や剥がれなどの欠陥のない隔壁を有するプラズマディスプレイ用基板を提供することをその目的とするものである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
前記した本発明の目的は、感光性有機成分、５０重量％粒子径が２〜４．０μｍ、トップサイズが３０μｍ以下、ガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０−７／Ｋであるガラス材料、ならびに１０重量％粒子径（Ｄ１０）が０．４〜２μｍ、５０重量％粒子径（Ｄ５０）が１〜３μｍ、９０重量％粒子径（Ｄ９０）が３〜８μｍおよびトップサイズ１０μｍ以下の粒度分布を持ち、ガラス転移点が６００〜７００℃、軟化点が６００〜８５０℃の高融点ガラスを含有する感光性ペーストを基板上に塗布し、フォトマスクを介して露光し、現像し、焼成することによって隔壁を形成するプラズマディスプレイ用基板の製造方法であって、該隔壁の炭素含有量が０．１重量％以下であることを特徴とするプラズマディスプレイ用基板の製造方法によって達成される。
【００１１】
【発明の実施の形態】
本発明において、隔壁の炭素含有量が０．１重量％を超えると、隔壁が褐色を呈する。褐色化するとパネル放電時に、紫外線が蛍光体にあたり励起されて発光する際、隔壁に吸収されて輝度、コントラストが低下する。また、隔壁を形成する後述の感光性ペーストの選定が不適切であって隔壁の炭素含有量が０. １重量％を超える結果になると、隔壁の焼成時に有機成分の蒸発がスムーズに起こらず、いわゆる脱バインダー性不良となり、基板や誘電体層から隔壁が剥がれたり、隔壁曲がりの発生・蛇行する原因となる。さらに、放電電圧の経時変化が大きくなり、輝度低下や放電特性の低下が起こる。本発明においては炭素含有量が０．０３重量％以下であることが好ましい。
【００１２】
なお炭素含有量はＪＩＳ  Ｚ  ２６１５−１９７９（金属材料の炭素定量方法通則）に準拠するものであり、管状電気抵抗炉加熱ー赤外線吸収法を用いて測定したものである。赤外線吸収法は、試料を酸素気流中で加熱し、炭素を充分に二酸化炭素とし、燃焼ガス中の水分を除去した後、赤外線吸収セルに導き、二酸化炭素による赤外線吸収量を積分法または循環法で測定する方法であり、原則として炭素０．００１重量％以上の試料に適用される。測定装置はＨＯＲＩＢＡ製ＥＭＩＡ−８１０型である。その校正には、ＪＳＳ１５５−１２（鉄鋼）を用い、標準値０．０４１％に対して、０．０４１１％を検出することを確認している。測定試料は、隔壁粉末１００ｍｇを用い、繰り返し数２で測定した。測定値の単位は重量％である。
【００１３】
また本発明において、隔壁の高さ６０〜１６０μｍ、隔壁の線幅２０〜１００μｍ、隔壁のピッチ８０〜４６０μｍであると、隔壁が高アスペクト比かつ高精細のプラズマディスプレイとなる点で好ましい。
【００１４】
基板上に隔壁を形成する方法としては、例えば次の方法が挙げられる。すなわち、ガラス材料と感光性有機成分を必須とする感光性ペーストを基板上に塗布し、フォトリソグラフィ法で露光し隔壁パターンを形成した後、焼成する方法である。
【００１５】
この時基板としてはガラス基板が好ましく使用される。
【００１６】
また感光性ペーストに関し、本発明者らによって、高アスペクト比で高精細なパターン形成のためには、ガラス材料と感光性有機成分との屈折率を近似させること、ガラス材料であるガラス微粒子の平均粒子径を規制すること、ガラス微粒子による光の散乱や不要な光反応を抑制するために紫外線吸光剤を添加することなどが有効であることが明らかになっている。
【００１７】
このため本発明においては、ガラス材料の平均屈折率と感光性有機成分の平均屈折率の差が０．１以下であることが好ましい。ガラス材料と感光性有機成分の平均屈折率の差を０．１以下とすることにより、光の散乱を抑制することができる。ガラス材料と感光性有機成分の平均屈折率の差が０．１を越えると、ペースト内部で光散乱が生じ、高精度のパターン加工を行う点で好ましくない。なお本発明において感光性有機成分は、ペーストを塗布・乾燥した後に残るものからガラス材料を除いたものであり、光重合開始剤、増感剤およびその他の添加物を含むものを意味する。
【００１８】
また、一般に絶縁体として用いられるガラス材料は、１．５〜１．９程度の屈折率を有しているのに対し、一般的な有機成分の屈折率は１．４５〜１．７程度であるため屈折率を整合するために、本発明においてはガラス材料の平均屈折率を１．５〜１．８にするのが好ましい。より好ましくは１．５〜１．６５である。ガラス微粒子個々の屈折率のバラツキが小さいことも光散乱低減には重要なことであり、成分組成の均一化が必要である。
【００１９】
ガラス材料の平均屈折率を１．５〜１．８にすることによって、感光性有機成分との屈折率を整合しやすくなり、感光性ペーストの光線透過率向上（散乱や反射の抑制）に結びつき、照射された光が塗布膜の最下部まで直進的に透過する割合が増加するので高精度のパターン形成が可能になる。
【００２０】
なお本発明におけるガラス材料の屈折率測定は、ベッケ法により行うものとする。特に、３５０〜５５０ｎｍの範囲の波長の光で測定することが好ましい。さらには、ｉ線（３６５ｎｍ）もしくはｇ線（４３６ｎｍ）での屈折率測定が好ましい。
【００２１】
また、焼成工程において、光硬化反応の結果で形成された有機成分３次元硬化物の熱分解とガラス微粒子の溶融が並行して進行すると考えられ、これらがバランスよく進行しない場合には、パターンの変形や着色、基板からの剥がれなどの欠陥が発生することになる。このためガラス微粒子成分の熱的特性であるガラス転移点や軟化点が重要となる。
【００２２】
ガラス基板上への焼き付けは、低温で行うことが好ましいので、この点からガラス材料は低融点を有するものが望ましいが、組み合わせる感光性有機成分の熱分解性とのバランスが悪いと、前記のような欠陥が生じてくる。
【００２３】
このような問題をペーストの脱バインダー性で評価し、感光性有機成分に組み合わせるガラス材料の熱特性を検討した結果、本発明においてガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０-7／Ｋであることが好ましく、ガラス転移点が４８０〜５１０℃、軟化点が５１０〜５４０℃がより好ましい。このような熱特性を有するガラス材料と感光性有機成分とを適宜選択し組み合わせることにより、および／または感光性有機成分を構成する後述の感光性モノマ、感光性オリゴマ、感光性ポリマを適宜選択し組み合わせることにより、隔壁の炭素含有量を０．１重量％以下とすることが容易であり、焼成における着色（褐色化）や基板からの剥がれが発生しない。
【００２４】
またガラス微粒子の熱特性を上記の範囲に限定することにより、通常焼成工程で炭化などのトラブルを起こしやすい感光性モノマ成分をも感光性成分として使用可能となる。このような感光性モノマの中には、感光性ペーストの感度や解像度を高く保つのに有効な成分があるので、その使用範囲の広がることは隔壁作製において非常に有効である。
【００２５】
特に、熱膨張係数が前記の範囲であると、ガラス基板に主として用いられる高歪み点ガラスの熱膨張係数（８０〜９０×１０-7／Ｋ）との整合性を保持され、プラズマディスプレイパネルの作製における後工程および実用条件下での種々の熱履歴によるガラス基板と隔壁の熱膨張係数の不適合による反りに起因する種々の問題を効果的に回避することができ、優れた特性のディスプレイを提供することができる。
【００２６】
また、このような熱特性に加えて、ガラス材料が１０重量％粒子径が１μｍ以下、９０重量％粒子径が９μｍ以下、平均粒子径２〜３．５μｍ、トップサイズ３０μｍ以下である粒度分布を有するガラス微粒子であることが、焼成工程における欠陥の発生を防止する点で好ましい。
【００２７】
上記したガラス微粒子を用いることによって、分散性が向上し凝集しにくくなり、気泡の残存がなくなりペースト中の有機成分に対するガラス材料の充填率が向上すると推定される。その結果、ペーストの全光線透過率や直進透過率向上（散乱や反射の抑制）に結びつき、露光時に照射された光が塗布膜の最下部まで直進的に透過する割合が増加し、光硬化が充分行われるため、高精度の隔壁パターン形成が可能になる。
【００２８】
なお上記粒子径の測定は、レーザー回折・散乱法を用いることが簡便に測定でき好ましい。たとえば、粒度分布計ＨＲＡ９３２０−Ｘ１００（マイクロトラック社製）を用いた場合の測定条件は下記の通りである。
【００２９】
試料量    ：１ｇ
分散条件  ：精製水中で１〜１．５分間超音波分散、分散しにくい場合は０．２％ヘキサメタリン酸ナトリウム水溶液中で行う。
【００３０】
粒子屈折率：ガラス種類によって変更（リチウム系１．６、ビスマス系１．８８）
溶媒屈折率：１．３３
測定数    ：２回
本発明において好ましく用いられるガラス材料の組成としては次に示すものが挙げられる。
【００３１】
酸化リチウム        ：  ３〜１０重量％
酸化珪素            ：１０〜３０重量％
酸化ホウ素          ：２０〜４０重量％
酸化バリウム        ：  ２〜１５重量％
酸化アルミニウム    ：１０〜２５重量％
上記の組成において、酸化リチウムの代わりに、酸化ナトリウム、酸化カリウムを用いてもよいが、ペーストの安定性の点では酸化リチウムが好ましい。これらのアルカリ金属酸化物の含有により、熱軟化温度、熱膨張係数のコントロールが容易になるのみならず、ガラス材料の平均屈折率を低くすることができるため、感光性有機成分との屈折率差を小さくすることが容易になる。酸化カリウムを用いた場合は、比較的少量の添加でも屈折率の制御ができる利点があることから、酸化リチウムと酸化カリウムの添加が有効である。この場合、ガラス材料中にアルカリ金属酸化物を合計で３〜１０重量％含有することが好ましい。
【００３２】
酸化珪素（ＳｉＯ2）は１０〜３０重量％の範囲で配合することが好ましく、１０重量％未満の場合は隔壁の緻密性、強度や安定性が低下し、また熱膨張係数が所望の値から外れ、ガラス基板とのミスマッチが起こり易い。また、３０重量％を越えると、軟化点が高くなりガラス基板への焼き付けの点で好ましくない。
【００３３】
酸化ホウ素（Ｂ2Ｏ3）は２０〜４０重量％の範囲で配合することが好ましい。酸化ホウ素はガラス材料を８００〜１２００℃付近の温度で溶融するため、およびガラスペーストの焼き付け温度を酸化珪素が多い場合でも電気絶縁性、強度、熱膨張係数、隔壁の緻密性などの電気、機械および熱的特性を損なうことのないように焼き付け温度を５４０〜６１０℃の範囲に制御するために配合される。２０重量％未満では隔壁の強度が低下し、ガラス材料の安定性が低下する点で好ましくなく、４０重量％を超えるとガラス材料の安定性が低下する点で好ましくない。
【００３４】
酸化バリウム（ＢａＯ）は２〜１５重量％の範囲で配合することが好ましい。２重量％未満では、ガラス焼き付け温度および電気絶縁性を制御するのが難しくなり、また、１５重量％を超えるとガラス材料の安定性や隔壁の緻密性が低下する点で好ましくない。
【００３５】
酸化アルミニウム（Ａｌ2Ｏ3）は１０〜２５重量％の範囲で配合するのが好ましい。酸化アルミニウムはガラス材料の歪み点を高めるために添加される。１０重量％未満では隔壁の強度が低下し、２５重量％を超えるとガラス材料の耐熱温度が高くなり過ぎてガラス基板上に焼き付けが難しい点で好ましくない。また、６００℃以下の温度では緻密な隔壁を得られ難くなる。
【００３６】
上記成分に加え、酸化亜鉛、酸化カルシウム、酸化マグネシウムなども含むことができる。
【００３７】
この時、酸化亜鉛（ＺｎＯ）は１．５〜１０重量％の範囲で含まれることが好ましい。１．５重量％未満では、隔壁の緻密性向上に効果がない。１０重量％を超えると、ガラス基板上に焼き付けする温度が低くなり過ぎて制御できなくなり、また隔壁の絶縁抵抗が低くなるので好ましくない。
【００３８】
酸化カルシウム（ＣａＯ）は、ガラス材料を溶融し易くするとともに熱膨張係数を制御する点で、２〜１０重量％の範囲で配合することが好ましい。２重量％より少ないと、歪み点が低くなり過ぎる。
【００３９】
酸化マグネシウム（ＭｇＯ）は、ガラス材料を溶融し易くするとともに熱膨張係数を制御するために１〜１０重量％の範囲で含まれることが好ましい。１０重量％を超えるとガラス材料が失透し易くなる点で好ましくない。
【００４０】
また、ガラス材料中に、酸化チタン、酸化ジルコニウムなども含有することができるが、その量は１０重量％未満であることが好ましい。酸化ジルコニウムは、耐酸性が優れているためペーストのポットライフ延長に効果がある。また、ガラス転移点、軟化点および電気絶縁性を制御するのに効果がある。
【００４１】
本発明においては、感光性ペーストのガラス材料を、前記したガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０-7／Ｋであるガラス材料に無機微粒子を加えたものとすることもできる。すなわち、前記したガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃かつ熱膨張係数７５〜９０×１０-7／Ｋであるガラス材料４０〜９５重量％、無機微粒子を５〜６０重量％含有するガラス成分とすると、感光性ガラスペースト法において、パターン形成後の焼成時の収縮率が小さくなり、隔壁パターンの形状保持性や精度が向上する。また、熱膨張係数の制御がしやすくなり、ガラス基板との密着強度が向上する。さらに、屈折率の制御が容易になるのでパターン形成性が向上する。
【００４２】
無機微粒子としては、アルミナ、ジルコニア、ムライト、コーディエライト、スピネル、チタニア、ムライトおよびガラスからなる群より選ばれた少なくとも一種のフィラーが挙げられる。
【００４３】
無機微粒子が５重量％未満では、感光性ペースト法で隔壁を形成する場合に、焼成収縮率を低くしたり、熱膨張係数を制御する効果が少ない。
【００４４】
また、無機微粒子の含有量が６０重量％を越えると、焼成後の隔壁が緻密性の点で劣るものとなり、隔壁が低強度になり、隔壁が剥がれたり脱落するなどの欠陥が発生することがある。また、隔壁中に、微量水分の吸着や有機成分が残留し、放電特性の低下を引き起こすことがある。
【００４５】
特に無機微粒子が、ガラス転移点が６００〜７００℃、軟化点が６００〜８５０℃の高融点ガラスであること好ましい。
【００４６】
高融点ガラスの平均屈折率は１．５〜１．８であることが好ましく、１．５〜１．６８がより好ましい。これは、感光性ペースト中の感光性化合物をはじめとする感光性有機成分との屈折率を整合しやすくなり、感光性ペーストの透過率向上（散乱や反射の防止）に結びつくため、高精度のパターン形成が容易になるためである。
【００４７】
また、前記したガラス転移点４５０〜５５０℃、軟化点５００〜６００℃のガラス材料の平均屈折率ｎ１と高融点ガラスの平均屈折率ｎ２が、次の式を満たすことが好ましい。
【００４８】
−０．０５≦ｎ１−ｎ２≦０．０５
この範囲にあると、感光性ペースト中の感光性有機成分との屈折率整合が容易になり、隔壁パターン性が向上するので好ましい。
【００４９】
前記した条件を満足する高融点ガラスとしては、酸化珪素、酸化アルミニウムを１０重量％以上含有するガラス微粒子が好ましく挙げられ、これらの合計量が５０重量％以上であることが、必要な熱特性を持たせるのに有効である。
【００５０】
一例としては、次の組成の高融点ガラスが挙げられる。
【００５１】
ＳｉＯ2         ：１５〜５０重量％
Ｂ2 Ｏ3         ：  ５〜４０重量％
Ａｌ2Ｏ3        ：１０〜５０重量％
ＢａＯ          ：  ２〜１５重量％
また、高融点ガラスの粒子径は、Ｄ１０が０．４〜２μｍ、Ｄ５０が１〜３μｍ、Ｄ９０が３〜８μｍおよびトップサイズ１０μｍ以下の粒度分布を持つものを使用するのが好ましい。この範囲にすることによって焼成収縮率を低くすることができ、かつ低気孔率の隔壁を作製する上で好ましい。また隔壁上部の長手方向の凹凸を２μｍ以下にすることができる。高融点ガラスに大きい粒子径の粉末を用いると、気孔率が上昇するばかりでなく、隔壁上部の凹凸が拡大し、誤放電を引き起こすことから好ましくない。
【００５２】
ここで、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０は、それぞれ、粒径の小さいガラス粉末から１０体積％、５０体積％、９０体積％のガラスの粒子径である。
【００５３】
なお高融点ガラスは、例えば、所定の配合組成となるように各成分を混合し、９００〜１４００℃で溶融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕し、上記した粒径のものとして使用できる。
【００５４】
一方ガラス材料の作製法としては、例えば原料である酸化リチウム、酸化珪素、酸化アルミニウム、酸化ホウ素、酸化バリウムおよび酸化亜鉛を所定の配合組成となるように混合し、８００〜１２００℃で溶融後、急冷し、ガラスフリットにしてから粉砕して１〜５μｍの微細な微粒子とすることができる。原料は高純度の炭酸塩、酸化物、水酸化物などを使用できる。また、ガラス微粒子の種類や組成によっては９９．９９％以上の超高純度なアルコキシドや有機金属の原料を使用し、ゾル・ゲル法で均質に作製した微粒子を使用すると高電気抵抗で緻密な気孔の少ない、高強度な隔壁が得られる点で好ましい。
【００５５】
上記において使用されるガラス材料の粒子径は、作製しようとする隔壁の線幅や高さを考慮して選ばれるが、５０重量％粒子径（平均粒子径、Ｄ５０）が２〜４．０μｍ、トップサイズ３０μｍ以下であることが好ましい。さらに、１０重量％粒子径（Ｄ１０）が０．６〜１．５μｍ、９０重量％粒子径（Ｄ９０）が４〜１０μｍ、トップサイズ２５μｍ以下、比表面積１．５〜３．０ｍ2／ｇを有していることが好ましい。より好ましくは平均粒子径２．０〜３．５μｍ、比表面積１．５〜３．０ｍ2／ｇである。
【００５６】
上記のような粒度分布をもったガラス微粒子を用いることにより、ガラス材料の充填性が向上し、感光性ペースト中のガラス材料比率を増加させても気泡を巻き込むことが少なくなり、余分な光散乱が小さいため、好ましい隔壁パターン形状が形成できる。
【００５７】
ガラス微粒子の粒度が上記範囲より小さいと比表面積が増えるため、ガラス微粒子が凝集し易くなり、有機成分内への分散性が下がるため、気泡を巻き込みやすくなる。そのため光散乱が増え、隔壁中央部の太り、底部の硬化不足が生じやすい。またガラス微粒子の粒度が上記範囲より大きくても、粉末のかさ密度が下がるため充填性がさがり、感光性有機成分の量が不足し気泡を巻き込みやすくなり、やはり光散乱を起こしやすくなる。特に平均粒子径が２．０μｍ未満、比表面積が３．０ｍ2／ｇを超えると、微粒子が細かくなり過ぎて、露光時に光が散乱されて非露光部分を硬化することがある。
【００５８】
それに対し、ガラス微粒子の粒度分布が上記範囲にあると、ガラス材料充填比率が高いので焼成収縮率が低くなり、焼成時にパターン形状が崩れず、隔壁形状が安定して得られる。また紫外線露光時に光が十分透過し、上下で線幅差のない均一な隔壁パターンが得られる。
【００５９】
本発明における感光性ペーストにあっては、前記したガラス材料、もしくはガラス材料と無機微粒子／感光性有機成分の混合比は６０／４０〜９０／１０（重量比）であることが好ましい。より好ましくは６５／３５〜８５／１５（重量比）である。ここで感光性有機成分とは、感光性官能基を有するモノマおよびオリゴマもしくはポリマを示し、光重合開始剤、増感剤およびその他必要に応じて添加される成分を意味する。
【００６０】
ガラス材料、もしくはガラス材料および無機微粒子の割合が６０より少なくなると、焼成時に有機成分が消失し難く、形成された隔壁の着色や剥がれの原因になり好ましくない。また、高精細隔壁パターン形成時には、感光性有機成分が多いと、隔壁線幅に太りがみられ所望の線幅が得られ難くなる。さらに、焼成時の収縮が大きく、所望の高さを得るためには焼成前のパターンを高くすることが必要になり、形成時のマージンが小さくなる。
【００６１】
ガラス材料、もしくはガラス材料および無機微粒子の割合が９０より多いと、ペースト中に気泡が入り易くなり、光散乱の原因となり、線幅が太り好ましくない。また、感光性有機成分から構成される３次元硬化した樹脂成分が少ないことに起因して、パターン全体として硬化が不十分となり、パターン形成時に基板との密着性が劣り剥がれ易い。
【００６２】
次に感光性有機成分について説明する。
【００６３】
本発明においては、感光性有機成分とは、感光性ペーストからガラス材料や無機微粒子を除いた部分のことであり、好ましくは感光性ペースト中に１０〜４０重量％、より好ましくは１５〜３５重量％含まれるものであり、感光性モノマ、感光性オリゴマ、感光性ポリマのうち少なくとも１種から選ばれた感光性成分の他に、バインダー、光重合開始剤、増感剤、増感助剤、紫外線吸光剤、重合禁止剤、可塑剤、増粘剤、酸化防止剤、分散剤、その他必要に応じた添加剤から構成される。感光性成分としては、感光性モノマおよび感光性オリゴマもしくは感光性ポリマを混合して用いることが好ましい。
【００６４】
感光性ペーストの感度や解像度は、主として感光性有機成分に依存するものであり、これらの有機成分は、パターン形成における露光・現像の工程において重要な役割を担うと共に、次の焼成工程においては、速やかに熱分解して消失する必要がある。従って、感光性有機成分は、感光性ペーストとしての必要特性に加え、熱分解特性に優れたものでなければならない。
【００６５】
本発明においては、感光性モノマとしては、活性な炭素ー炭素二重結合を有する化合物が挙げられ、官能基として、ビニル基、アリル基、アクリレート基、メタクリレート基、アクリルアミド基を有する単官能および多官能化合物が好ましい。多官能アクリレート化合物および／または多官能メタクリレート化合物を感光性有機成分中に１０〜８０重量％含有することが好ましい。多官能アクリレート化合物および／または多官能メタクリレート化合物としては多様な種類の化合物が開発されているので、それらから反応性、屈折率などを考慮して選択することが可能である。選択の基準としては、ペーストの安定性、塗布性などの特性が良好か、感度、解像度の優れたパターンが形成できるかなどがあるが、一方、焼成した後のガラス成分で形成されたパターン状物を褐色や黒色に着色させたり、その特性に影響を与えたりしないという条件が加えられる。
【００６６】
また感光性有機成分の屈折率を制御する方法として、感光性モノマの屈折率を制御する方法が簡便であるため、感光性モノマの屈折率が１．５５〜１．８であることが好ましい。この点から感光性モノマとしては、ベンゼン環、ナフタレン環などの芳香環や硫黄原子を含有するアクリレートもしくはメタクリレートモノマが好ましく挙げられる。
【００６７】
さらに感光性成分として、光反応で形成される硬化物の物性の向上やペーストの粘度の調整などの役割を果たすと共に、未露光部の現像性をコントロールする機能を果たす成分として感光性オリゴマもしくはポリマが含まれることが好ましく、これらについても感光性モノマと同様の特性が必要である。加えて感光性オリゴマもしくはポリマは、感光性ペーストの塗布性にも関与する成分であり、ガラス微粒子を分散させるバインダーの役割も要求される。さらに感光性オリゴマもしくはポリマも焼成工程において速やかに熱分解して除去されることが必要であり、主鎖分子構造としては熱分解し易い構造を選ぶことが好ましい。
【００６８】
このような感光性オリゴマもしくはポリマとしては、炭素ー炭素二重結合を有する化合物から選ばれた成分の重合または共重合により得られた炭素連鎖の骨格を有するものが挙げられる。共重合するモノマとしては、不飽和カルボン酸などが、パターン露光後に未露光部分をアルカリ水溶液で容易に現像できる点で好ましく挙げられる。
【００６９】
不飽和カルボン酸の具体的な例として、アクリル酸、メタクリル酸、イタコン酸、クロトン酸、マレイン酸、フマル酸、ビニル酢酸またはこれらの酸無水物などが挙げられる。
【００７０】
上記した側鎖にカルボキシル基などの酸基を有するオリゴマもしくはポリマの酸価は３０〜１５０、好ましくは５０〜１２０の範囲になるようにコントロールすることが好ましい。酸価が１５０を越えると、現像許容幅が狭くなる。また、酸価が３０未満になると未露光部の現像液に対する溶解性が低下する傾向がある。
【００７１】
本発明において、感光性オリゴマもしくはポリマとしては、特に、分子内にカルボキシル基と炭素−炭素二重結合を含有する重量平均分子量５００〜１０万のオリゴマもしくはポリマを用いることが最も好ましいが、炭素−炭素二重結合を導入するには、上記のようなカルボキシル基を側鎖に有するオリゴマもしくはポリマに、グリシジル基やイソシアネート基を有するエチレン性不飽和化合物やアクリル酸クロライド、メタクリル酸クロライドまたはアリルクロライドを付加反応させる方法が適用される。アルカリ水溶液による現像性のためのカルボキシル基数と、オリゴマもしくはポリマを感光性にするエチレン性不飽和基数とは、反応条件により自由に選択することができる。
【００７２】
感光性有機成分として、さらにバインダー成分を含むことも可能であり、バインダーとしては、ポリビニルアルコール、ポリビニルブチラール、メタクリル酸エステル重合体、アクリル酸エステル重合体、それらの共重合体などを用いることができる。
【００７３】
また、前記感光性モノマ、感光性オリゴマもしくはポリマ、バインダーはいずれも活性光線のエネルギー吸収能力はないので、光反応を開始するためには光重合開始剤や増感剤を加える必要がある。
【００７４】
感光性ペーストによるパターン形成は、露光された部分の感光性成分（モノマ、オリゴマ、ポリマ）を重合および架橋させて現像液に不溶性にすることであり、用いる感光性を示す官能基はラジカル重合性であるため、光重合開始剤はラジカル種を発生するものから選んで用いられる。光重合開始剤には、１分子系直接開裂型、イオン対間電子移動型、水素引き抜き型、２分子複合系など機構的に異なる種類があるが、本発明においては、１分子系直接開裂型から選ばれた化合物を用いることが好ましい。例えば、ベンゾインアルキルエーテルやα，α−ジメトキシ−α−モルフォリノアセトフェノン，α，α−ジメトキシ−α−フェニルアセトフェノンなどが挙げられる。また、過酸化物、ホスフィンオキシド、硫黄化合物、ハロゲン化合物なども用いられる。これらを１種または２種以上使用することができる。光重合開始剤は、通常、感光性成分に対して０．０５〜１０重量％、より好ましくは、０．１〜１０重量％の範囲で添加されるが、本発明においては、感光性ペースト中のガラス材料の量を考慮して、感光性成分に対し２〜１０重量％用いるのが好ましい。
【００７５】
さらに、光重合開始剤と共に増感剤を使用し、感度を向上させたり（化学増感）、反応に有効な波長範囲を拡大する（分光増感）ことができる。増感剤の作用機構にも種々のものがあるが、三重項増感剤と称されるものが最もよく使われる。具体的には、炭化水素系化合物、アミノ・ニトロ化合物、キノン類、キサントン類、アンスロン類、ケトン類、有機色素類が挙げられ、これらの中には光重合開始剤としての作用を有するものも含まれている。本発明においては、キサントン類から選ばれた化合物が好ましく使用され、２，４−ジエチルチオキサントン、イソプロピルチオキサントンなどが例示される。これらは１種または２種以上使用することができる。
【００７６】
増感剤を感光性ペーストに添加する場合、通常その添加量は感光性成分に対して０．０５〜１０重量％、より好ましくは０．１〜１０重量％であるが、本発明においては、ガラス材料の量を考慮して、感光性成分に対して２〜１０重量％用いるのが好ましい。
【００７７】
光重合開始剤および増感剤が、少な過ぎると十分な感度が得られないが、多くすることによって感度を高めることは可能であるが、硬化した部分の重合度合いが十分に高くならず、露光部の残存率が小さくなるおそれがあり、また、パターン間での不要な硬化が発生して残膜が形成されるなどの不都合が起こる。光重合開始剤と増感剤を適量ずつ使用することが適度の感度で優れた形状を示すパターンを形成するのに必要である。
【００７８】
さらに感光性ペースト中に紫外線吸光剤を添加することが、狭ピッチで、線幅が細く、高い隔壁すなわち優れた形状のパターン加工のために有効である。紫外光の吸収効果の高い化合物を添加することによって高アスペクト比、高精細、高解像度が得られる。紫外線吸光剤としては有機系染料からなるもの、中でも３５０〜４５０ｎｍの波長範囲で高い吸光係数を有するものが好ましく用いられる。
【００７９】
具体的にはアゾ系染料、アミノケトン系染料、キサンテン系染料、キノリン系染料、アントラキノン系染料、ベンゾフェノン系染料、ジフェニルシアノアクリレート系染料、トリアジン系染料、ｐ−アミノ安息香酸系染料などが使用できる。これらの中でも、アゾ系およびベンゾフェノン系染料が好ましい。有機系染料は紫外線吸光剤として添加した場合にも、焼成後の絶縁膜中に残存しないので絶縁特性の低下を少なくできるので好ましい。
【００８０】
紫外線吸光剤としての有機系染料の添加量は、感光性ペースト中に分散されるガラス材料と無機微粒子の総和に対して０．０５〜０．５重量％であることが好ましい。この紫外線吸光剤は、予め有機溶媒に溶解した溶液を作製し、それをペースト作製時に混練する方法や該染料溶液中にガラス微粒子を混合し乾燥する方法がある。後者の方法ではガラス微粒子の個々の粒子表面に有機染料膜をコートしたいわゆるカプセル状のガラス粉末が作製できる。これにより、ガラス微粒子の界面における反射が抑制され、不要な光反応が阻止されるので、パターンの太りや残膜発生が防止されるものと推定される。
【００８１】
さらに感光性ペーストには、必要に応じて、保存時の熱安定性を向上させるための重合禁止剤、アクリル系共重合体の酸化を防ぐための酸化防止剤、その他可塑剤などを加えることができる。
【００８２】
感光性ペーストは、例えば、ガラス微粒子、紫外線吸光剤、感光性モノマ、感光性オリゴマもしくはポリマ、光重合開始剤、増感剤、その他の添加剤および溶媒などの各種成分を所定の組成となるように調合した後、３本ローラや混練機で均質に混合分散し作製される。ペーストの粘度はガラス微粒子、感光性成分、増粘剤、有機溶媒、可塑剤などの添加割合で調整されるが、その範囲は２０００〜２０万ｃｐｓ（センチ・ポイズ）である。例えば、ガラス基板への塗布をスクリーン印刷法で１回塗布して膜厚１０〜２０μｍを得るには５万〜２０万ｃｐｓが好ましい。スピンコート法には２０００〜５０００ｃｐｓ、ブレードコーター法やダイコーター法などを用いる場合は１万〜２万ｃｐｓが好ましいので、塗布方法に応じて有機溶媒を使用し、粘度を調整して塗布することが好ましい。
【００８３】
この時使用される有機溶媒としては、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、ブチルセロソルブ、メチルエチルケトン、ジオキサン、アセトン、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、イソブチルアルコール、イソプロピルアルコール、テトラヒドロフラン、ジメチルスルフォキシド、γ−ブチロラクトンなどやこれらのうちの１種以上を含有する有機溶媒混合物が用いられる。
【００８４】
次に、上記感光性ペーストを用いた本発明のプラズマディスプレイ用基板の製造法について具体例を挙げて説明する。
【００８５】
先ず、ガラス基板に感光性ペーストを塗布する。塗布方法としては、スクリーン印刷法、バーコーター法、ロールコーター法、ダイコーター法、ドクターブレード法など一般的な方法を用いることができる。塗布厚みは、塗布回数、スクリーン印刷のスクリーンメッシュ、ペーストの粘度を選ぶことによって調整できる。
【００８６】
感光性ペーストを必要に応じて表面処理したガラス基板上または誘電体層を形成した上に塗布した後、露光装置を用いて露光を行う。露光は通常のフォトリソグラフィ技術で行われるように、フォトマスクを介して行われる。この際にフォトマスクを感光性ペーストの塗布膜表面に密着する方法あるいは一定の間隔をあけて行うプロキシミティー露光法のいずれを用いてもよい。
【００８７】
露光に使用される活性光線は、紫外線が最も好ましく、その光源として、例えば、低圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、ハロゲンランプなどが使用される。超高圧水銀灯を光源とした平行光線を用いプロキシミティー露光機を用いるのが一般的である。露光条件は感光性ペーストの塗布厚みによって異なるが、１〜１００ｍＷ/ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯を用いて２０秒〜３０分間露光を行う。
【００８８】
露光後、露光部分と未露光部分の現像液に対する溶解度差を利用して、現像を行うが、この場合、浸漬法、スプレー法、ブラシ法などが用いられる。現像液には、感光性ペースト中の有機成分、特に感光性オリゴマもしくはポリマが溶解可能な溶液を用いる。本発明に用いる感光性ペーストの感光性オリゴマもしくはポリマは、先に述べたとおりカルボキシル基を側鎖に有することが好ましく、この場合はアルカリ水溶液で現像することができる。
【００８９】
アルカリ水溶液としては水酸化ナトリウム、炭酸ナトリウム、水酸化カルシウムの水溶液などが使用できるが、有機アルカリ水溶液を用いた方が焼成時にアルカリ成分を除去し易いので好ましい。
【００９０】
有機アルカリとしては、一般的なアミン化合物を用いることができる。具体的には、テトラメチルアンモニウムヒドロキサイド、トリメチルベンジルアンモニウムヒドロキサイド、モノエタノールアミン、ジエタノールアミンなどが挙げられる。アルカリ水溶液の濃度は０．０５〜１重量％が好ましく、０．１〜０．５重量％がより好ましい。アルカリ濃度が低すぎれば可溶部が完全に除去されず、アルカリ濃度が高すぎれば、露光部のパターンを剥離させたり、侵食したりするおそれがある。現像時の温度は、２０〜５０℃で行うことが工程管理上好ましい。
【００９１】
感光性ペーストの塗布膜から露光・現像の工程を経て形成された隔壁パターンは、次に焼成炉で焼成され、有機成分を熱分解して完全に除去し、同時にガラス成分を溶融させて無機ガラス材料からなる隔壁を形成する。焼成雰囲気や温度は、ペーストや基板の特性によって異なるが、例えば空気中のような酸素含有雰囲気下で焼成される。焼成炉は、バッチ式の焼成炉やベルト式の連続焼成炉を用いことができる。
【００９２】
前記のような熱特性を有するガラス成分からなる感光性ペーストを用いて、隔壁を形成することにより、隔壁の炭素含有量が０．１重量％以下となり、高アスペクト比かつ高精細であり、着色や剥がれなどの欠陥のない隔壁を有するプラズマディスプレイ用基板を容易に製造することができる。
【００９３】
以下、本発明を実施例を用いて具体的に説明する。ただし、本発明はこれに限定されるものではない。なお、実施例中の濃度は断りのない場合は重量％である。
【００９４】
また実施例中の略記号は次のものを意味するものとする。
【００９５】
Ｘ−４００７：４０％メタクリル酸、３０％メチルメタクリレート、３０％    スチレンからなる共重合体のカルボキシル基に対して０．４当量のグリシジルメタクリレートを付加重合させた重量平均分子量４３０００、          酸価９５の感光性ポリマ。
【００９６】
ＭＧＰ４００：次の化学式で示される化合物。
【００９７】
【化１】
0003959811.tif 000002
ＧＸ        ：次の化学式で示される化合物。
【００９８】
【化２】
0003959811.tif 000003
ＩＣ−３６９：Ｉｒｇａｃｕｒｅ−３６９（チバ・ガイギー社製品）
２−ベンジル−２−ジメチルアミノ−１−（４−モルフォリノフェニル）ブタノン−１
ＤＥＴＸ−Ｓ：２，４−ジエチルチオキサントン
【００９９】
【実施例】
参考例１
感光性ペーストを、次の組成比（乾燥塗布膜ベースの値）で作製した。
【０１００】
ガラス微粒子は、組成（分析値）が、酸化リチウム６．７％、酸化珪素２２％、酸化ホウ素３２％、酸化バリウム３．９％、酸化アルミニウム１９％、酸化亜鉛２．２％、酸化マグネシウム５．５％、酸化カルシウム４．１％のものを用意した。
【０１０１】
なおこのガラス微粒子のガラス転移点は４９７℃、軟化点は５３０℃、熱膨張係数７５×１０-7／Ｋ、Ｄ１０、Ｄ５０、Ｄ９０、トップサイズはそれぞれ、０．９μm、２．６μm、７．５μm、２２μmであった。また比表面積は１．９２ｍ2／ｇ、屈折率は１．５９であった。
【０１０２】
この組成のガラス微粒子に対して、紫外線吸光剤をコーティング処理した。紫外線吸光剤としては、スダンＩＶ（アゾ系有機染料  東京化成工業（株）製）をガラス微粒子に対して０．０８％使用した。
【０１０３】
このように処理したガラス微粒子７０重量部に、感光性有機成分として、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）１５重量部、感光性モノマ（ＭＧＰ４００）１５重量部、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）３重量部および増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）１．８重量部を配合し感光性ペーストを作製した。
【０１０４】
感光性ペーストは、有機成分の各成分および紫外線吸光剤をコート処理したガラス微粒子を混合し、３本ローラーで混練するという手順で作製した。粘度はγ−ブチロラクトンの量で調整したが、ペースト中の溶媒量は１０〜４０％になるように調整した。
【０１０５】
次に高歪み点ガラス基板ＰＤ−２００（旭硝子製）上に、得られた感光性ペーストをスクリーン印刷により、均一に塗布し、パターン形成用サンプルを作製した。塗布膜にピンホールなどの発生をなくすために塗布・乾燥を数回繰り返し行い、乾燥厚みが１８０μｍになるように塗布した。途中の乾燥は８０℃で１０分間行った。所定の厚みに塗布した後、８０℃で４０分乾燥した。
【０１０６】
次にプラズマディスプレイ用の隔壁パターン形成を目的としたフォトマスク（ストライプ状パターン、パターンピッチ１５０μｍ、線幅２０μｍ）を介してパターン形成用サンプルに露光ギャップ３０μｍで露光を行った。露光は、５０ｍＷ／ｃｍ2の出力の超高圧水銀灯で１Ｊ／ｃｍ2の紫外線露光を行った。その後、モノエタノールアミンの０．２％水溶液をシャワーで３００秒間かけることにより現像し、さらに、シャワースプレーを用いて水洗浄し、光硬化していないスペース部分を除去してガラス基板上にストライプ状の隔壁パターンを形成した。
【０１０７】
隔壁パターンの加工を終了したガラス基板を８０℃で１５分乾燥した後、加熱速度２００℃／時間で５７０℃まで昇温し、その温度で１５分間保持して隔壁を形成した。焼成により約３０％程度の収縮が生じた。
【０１０８】
途中、感光性ペーストの塗布膜に対してマスク露光・現像を行って形成したパターンの形状を電子顕微鏡観察したところ、断面形状は下部に向かってやや広がった台形状であり、頂部の巾は４０μｍであった。スペース部分に残膜はなく高アスペクト比の隔壁パターンが得られた。
【０１０９】
また焼成した後に得られる隔壁中の炭素含有量を分析したところ、全炭素量は、０．０４２重量％であり、白色の隔壁が得られ、剥がれ等の欠点は見られなかった。
【０１１０】
参考例２
感光性ペーストを、次の組成比（乾燥塗布膜ベースの値）で作製した。
【０１１１】
まず、ガラス微粒子として、組成（分析値）が、酸化リチウム４．５％、酸化珪素１５％、酸化ホウ素３０％、酸化バリウム１１％、酸化アルミニウム１１％、酸化亜鉛６．７％、酸化マグネシウム９．１％、酸化カルシウム８．６％のものを用意した。
このガラス微粒子は実施例１で用いたものと成分は類似しているが、酸化リチウムなどの量が異なり、従ってガラス転移点は４８６℃、軟化点は５２３℃であり、熱膨張係数８５×１０-7／Ｋ、屈折率は１．５９であった。粒径はＤ１０、Ｄ５０、Ｄ９０、トップサイズは順に０．９μｍ、２．３μm、７．６μm、２２μmであった。さらに比表面積は２ｍ2／ｇであった。
【０１１２】
この組成のガラス微粒子に対して、紫外線吸光剤をコーティング処理したものを使用した。紫外線吸光剤としてはスダンＩＶ（アゾ系有機染料  東京化成工業（株）製）をガラス微粒子に対して０．１％使用した。
【０１１３】
このように処理したガラス微粒子７０重量部に、有機成分として、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）１５重量部、感光性モノマ（ＧＸ）１５重量部、光重合開始剤（ＩＣ−３６９）３重量部および増感剤（ＤＥＴＸ−Ｓ）１．８重量部を配合した。ここで用いた感光性モノマＧＸは、感度の高い感光性ペーストを与えるものであるが、ガラス転移点が低いガラス微粒子と組み合わせた感光性ペーストでは焼成工程で隔壁の着色を起こし易い成分である。
【０１１４】
上記の組成のガラス微粒子と組み合わせたこの感光性ペーストを用いて参考例１と同様に処理してパターン化と焼成を行った結果、着色がなく、剥がれも発生しないことが確認された。得られた隔壁の炭素含有量の分析値は０．０８８重量％であり、ほぼ白色であった。
【０１１５】
実施例１
ガラス粉末８０重量％に対して、無機フィラーを２０重量％入れた以外は参考例１と同様に行った。
【０１１６】
無機フィラーは組成がＳｉＯ2 ３８％、Ｂ2Ｏ3  ９％、ＢａＯ ５％、Ａｌ2Ｏ3  ３５％、ＺｎＯ  ３％、ＭｇＯ  ５％、ＣａＯ  ５％、平均粒径２．７μｍ、屈折率１．５８、球状、ガラス転移点が６５２℃である高融点ガラスを用いた。
【０１１７】
焼成温度を１０℃上げた以外は、参考例１と同様にして、パターン化と焼成を行ったところ、着色がなく、剥がれも発生しないことが確認された。得られた隔壁の炭素含有量の分析値は０．０３重量％であり、ほぼ白色であった。
【０１１８】
参考例３
ガラス粉末８０重量％に対して、無機フィラーを２０重量％入れた以外は参考例１と同様に行った。
【０１１９】
無機フィラーには平均粒径０．２４μmのチタニアを用いた。
【０１２０】
焼成温度を１０℃上げた以外は、参考例１と同様にして、パターン化と焼成を行ったところ、着色がなく、剥がれも発生しないことが確認された。得られた隔壁の炭素含有量の分析値は０．０２重量％であり、ほぼ白色であった。
【０１２１】
比較例
有機成分として、感光性ポリマ（Ｘ−４００７）７．５重量部、感光性モノマ（ＧＸ）２２．５重量部にした以外は参考例２と同様に行った。
【０１２２】
パターン化と焼成を行った結果、黒色化し、剥がれが発生した。
【０１２３】
得られた隔壁の炭素含有量を測定したところ、０．２重量％であった。
【０１２４】
【発明の効果】
本発明のプラズマディスプレイ用基板は、隔壁が形成された基板であって、該隔壁の炭素含有量が０．１重量％以下であるため、高アスペクト比かつ高精度のパターン加工が可能であり、隔壁には着色や剥がれ等の欠点がなく優れたプラズマディスプレイ用基板である。
【０１２５】
このため本発明のプラズマディスプレイ用基板を用いてプラズマディスプレイパネルを製造すると、高い輝度を示すと共に効率の高い放電特性を示し、寿命も長い優れた製品が得られる。