(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス発生装置と、
前記ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末を前記ガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置と、
前記滑沢剤粉末吐出装置から吐出させ、前記ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末を、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置と、
前記滑沢剤塗布装置から噴霧された滑沢剤粉末を吸引する吸引手段と、前記滑沢剤粉末吐出装置から前記滑沢剤塗布装置までの任意の位置で滑沢剤粉末の濃度を測定する噴霧量測定装置と、さらに前記吸引手段で吸引する風量を調整する手段とを備え、
前記ガス発生装置が、窒素ガス、ヘリウムガスおよびアルゴンガスのいずれか１以上を発生させるガス発生装置であり、
さらに前記噴霧量測定装置が測定した滑沢剤粉末の量と前記吸引手段で吸引する風量から算出した前記吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度に基づいて、前記吸引手段で吸引する風量を調整することで、前記吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下に調整するようにした、錠剤の製造装置。
【請求項２】
前記吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を、３０ｇ／ｍ３以下としたことを特徴とする、請求項１に記載の錠剤の製造装置。
【請求項３】
前記ガス発生装置から、脈動振動ガスを発生させるようにした、請求項１または２に記載の錠剤の製造装置。
【請求項４】
帯電防止手段を更に備える、請求項１〜３のいずれかに記載の錠剤の製造装置。
【発明の詳細な説明】
技術分野
本発明は、錠剤の製造方法及び錠剤の製造装置に関し、より特定的には、いわゆる外部滑沢法を工業的採算ベースで実施できるとともに、そのような錠剤の製造方法を実施する上での粉塵爆発対策も十分に施された錠剤の製造方法及びそのような錠剤の製造方法を実施するのに適した錠剤の製造装置に関する。
背景技術
近時、錠剤内部に含まれる滑沢剤粉末の量を減らしたり、錠剤内部に滑沢剤粉末を一切含ませないようにしたりすることで、錠剤の崩壊時間を速くし、唾液と接触することで、口腔内で崩壊するようにした口腔内速崩壊錠剤が注目されている。
このような口腔内速崩壊錠剤の製造方法としては、ロータリ式打錠機の臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に滑沢剤粉末を塗布し、滑沢剤粉末が材料接触表面に塗布された臼、上杵及び下杵を用いて、成形材料を圧縮成形することで錠剤を製造する錠剤の製造方法（いわゆる、外部滑沢法）が既に提案されている（例えば、特公昭４１−１１２７３号公報や、特開昭５６−１４０９８号公報や、特開平７−１２４２３１号公報を参照）。
特公昭４１−１１２７３号公報に記載の錠剤の製造方法は、錠剤化すべき材料の所定量を臼内に充填する工程と、臼内に充填された材料を上下１組の杵を用いて圧縮して、錠剤化する工程と、錠剤を排出する工程とを備える、錠剤の製造方法において、臼内に成形材料を充填する工程の前段の工程として、臼の上方所定位置に、滑沢剤を噴射する噴射ノズルを設置し、噴射ノズルが設置された位置にきた臼に対応して設けられた上杵の下端面（以下、本明細書では、「上杵の下端面」を「上杵の材料接触表面」という。）及び下杵の上端面（以下、本明細書では、「下杵の下端面」を「下杵の材料接触表面」という。）に対して、噴射用ノズルから滑沢剤を噴射させて、滑沢剤を塗布し、その後、臼内に成形材料を充填し、臼内に充填された成形材料を、滑沢剤が材料接触表面に塗布された上杵と、滑沢剤が材料接触表面に塗布された下杵とを用いて圧縮し、錠剤を製造するようにしている。
また、特開昭５６−１４０９８号公報に記載される、錠剤の製造方法は、臼内に成形材料を充填する工程の前段工程において、臼の上方所定位置に、滑沢剤を散布する散布器、及び、エアを噴射するノズルを設け、散布器が設置された位置にきた臼に、散布器内に滑沢剤を散布することで、臼に対応して設けられた下杵の材料接触表面に滑沢剤を載置した後、ノズルが設けられた位置で、ノズルから下杵に対して圧縮エアを噴射して、下杵の材料接触表面上に載置されている滑沢剤を上方へ吹き飛ばして離散させ、この離散した滑沢剤を臼の内周面（以下、本明細書では、「臼の内周面」を「臼の材料接触表面」という。尚、「臼の材料接触表面」は、厳密には、臼の内周面であって、臼内に所定の位置まで挿入されている下杵の材料接触表面より上の部分を意味する。）や上杵の材料接触表面に付着させ、その後、臼の材料接触表面、上杵の材料接触表面及び下杵の材料接触表面に滑沢剤が塗布された、臼、上杵及び下杵を用いて、成形材料を圧縮して錠剤を製造するようにしている。
また、特開平７−１２４２３１号公報に記載の錠剤の製造方法は、臼内に成形材料を充填する工程の前段工程において、臼の上方に、空気脈動波発生装置が接続され、且つ、滑沢剤を噴射する噴射用ノズルが設置された散布室を設置し、散布室が設置された位置にきた臼に、空気脈動波発生装置を駆動して、散布室内に空気脈動波を発生させるとともに、噴射用ノズルから滑沢剤を臼の材料接触表面、上杵の材料接触表面、及び、下杵の材料接触表面に塗布した後、臼内に成形材料を充填し、その後、材料接触表面に滑沢剤が塗布された上杵と、材料接触表面に滑沢剤が塗布された下杵とにより、成形材料を圧縮して錠剤を製造するようにしている。
しかしながら、上述した特公昭４１−１１２７３号公報や、特開昭５６−１４０９８号公報や、特開平７−１２４２３１号公報に開示されている錠剤の製造方法は、いずれも、実験的又は少量の錠剤を製造する方法としては、実施可能であるものの、工業的生産採算ベースにのるように、長時間、安定して錠剤を製造する方法としては、尚、改善の余地がある。
のみならず、本発明者等は、工業的生産採算ベースにのるような大型の錠剤の製造装置を完成した場合、そのような錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造する際に、滑沢剤粉末が粉塵爆発を引き起こす虞れがあるのではないかということを危惧するに至った。
発明の開示
本発明は、以上の問題を解決するためになされたものであって、工業的生産ベースにのるように、長時間、安定して錠剤を製造する方法を提供することのみならず、工業的生産ベースにのるような大型の錠剤の製造装置を作製した場合でも、粉塵爆発の虞れのない、錠剤の製造方法、及びそのような錠剤の製造方法を実施するのに適した錠剤の製造装置を提供することを目的としている。
本発明者等は、口腔内で唾液に接触すると口腔内で直ちに錠剤が崩壊する口腔内速崩壊錠剤を始めとする目的とする部位で直ちに崩壊する速崩壊錠剤や、そのような速崩壊錠剤を製造するための錠剤の製造装置の開発に長年携わっているが、今般、工業的採算ベースで実施できる錠剤の製造装置を完成するに至った。
更に、本発明者等は、錠剤の製造装置を用いて、いわゆる外部滑沢錠剤を量産した場合には、そのような錠剤を製造する際に、粉体材料を使用するため、錠剤の製造装置やこの錠剤の製造装置の周辺（例えば、この錠剤の製造装置が設置されている工場内）において、粉塵爆発が生じる虞れがあると考えるに至った。
そこで、本発明者等は、工業的採算ベースで実施できる錠剤の製造装置に粉塵爆発対策を検討するために、粉塵爆発が生じる要因について分析した。
図３６は、粉塵爆発が生じる要因を説明する要因特性図である。
図３６より明らかなように、粉塵爆発は、酸素の存在、可燃物の存在及び着火源の３条件がそろうと起きる一方、これらの３条件の一つでも不足すると起きない。
そこで、本発明者等は、本発明者等が完成した、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に滑沢剤粉末を塗布し、滑沢剤粉末が材料接触表面に塗布された臼、上杵及び下杵を用いて、成形材料を圧縮成形するようにした新規な工業的採算ベースで実施できる錠剤の製造方法、及びこの新規な錠剤の製造方法を実施する錠剤の製造装置に、粉塵爆発が生じる３条件を除去する対策を施すことで、本発明を完成するに至った。
請求項１に記載の錠剤の製造方法は、ガス発生手段からガスを発生するガス発生ステップと、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散する滑沢剤粉末吐出装置に、ガス発生手段から発生させたガスを供給し、滑沢剤粉末吐出装置から、ガス発生手段から発生させたガス中に、滑沢剤粉末を吐出し、混合し、分散させる滑沢剤分散ステップと、滑沢剤分散ステップにおいて、ガスに混和し分散させた滑沢剤粉末を臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置に気力輸送する滑沢剤粉末気力輸送ステップと、滑沢剤塗布装置から、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面にガスに混和し分散させた滑沢剤粉末を吹き付けて、塗布する滑沢剤粉末塗布ステップと、滑沢剤粉末が材料接触表面に塗布された臼、上杵及び下杵を用いて、成形材料を圧縮成形する打錠ステップとを備え、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を爆発下限界濃度以下とした。
ここで、本明細書で用いる用語、「滑沢剤」は、例えば、ステアリン酸、ステアリン酸アルミニウム、ステアリン酸カルシウム、ステアリン酸マグネシウム，ショ糖脂肪酸エステル，フタル酸ステアリルナトリウム、タルク等の、成形材料を圧縮成形（打錠）する際、臼と杵との間の摩擦を減少させ、成形される錠剤に、スティッキングやキャッピングやラミネーティング等の打錠障害が生じるのを防ぐために添加されるステアリン酸系の添加物を意味する。
また、本明細書で用いる用語、「爆発限界酸素濃度」は、爆発に十分な濃度の可燃物（本明細書では、滑沢剤粉末）が存在する環境下において、着火エネルギーを与えたときに粉塵爆発が発生しない上限の酸素の濃度を意味する。
また、「ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散する滑沢剤粉末吐出装置」は、滑沢剤粉末を吐出する機構をガスに依存しており、且つ、滑沢剤粉末を吐出する際に用いるガス中に、滑沢剤粉末を、混和し分散させるようにした滑沢剤粉末吐出装置を意味する。
より特定的に説明すると、「ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末を、ガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置」は、例えば、滑沢剤粉末収容部の底に、貫通孔を有する弾性体膜を設け、この貫通孔を有する弾性体膜上に載置した滑沢剤粉末を、貫通孔を有する弾性体膜の下方に、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）を流すことで、貫通孔を有する弾性体膜を、その中心を振動の腹とし、その周辺部を振動の節として、上下に振動させることで、弾性体膜に設けられている貫通孔から、この貫通孔を有する弾性体膜上に載置した滑沢剤粉末を、吐出し、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流している、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）中に、貫通孔を有する弾性体膜を振動させることで、弾性体膜に設けられている貫通孔から吐出させた滑沢剤粉末を、混和し、分散させるようにした新規な装置をその具体例として挙げることができる。
この種の装置では、貫通孔を有する弾性体膜の振動の振幅や周波数は、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流す、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）の性質（圧力、流量等）に依存して一義的に決まり、弾性体膜に設けられている貫通孔から排出される滑沢剤粉末の吐出量は、貫通孔の大きさ・形状を一定にした場合は、弾性体膜の振動の振幅や周波数によって一義的に決まるため、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流す、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）の状態を一定にすれば、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流す、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）中に、滑沢剤粉末が、常に、一定の濃度で、混和し、分散して、気力輸送されることになる。
また、本明細書で用いる用語、「ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置」は、ガス発生手段、滑沢剤粉末吐出装置、滑沢剤塗布装置及びこれらの装置をこの順に気密に連結している導管を意味する。
また、「滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度」は、滑沢剤粉末塗布装置から排出されたガスが空気（酸素を含む通常の空気）と交じり合う環境にある空間のガス中の酸素の濃度、より特定的に説明すると、滑沢剤塗布装置の上杵塗布用滑沢剤噴霧口と上杵の材料接触面との間の空間や、滑沢剤塗布装置の下杵塗布用滑沢剤噴霧口、臼及び臼内に所定の位置まで挿入されている下杵により形成される空間のガス中の酸素の濃度を意味する。
この錠剤の製造方法では、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散させるようにしているので、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスを一定にしている限り、一定量のガスに対して、一定量の滑沢剤粉末を混和し、分散させることができる。
このように、この錠剤の製造方法では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。
即ち、この錠剤の製造方法では、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの発生量（流量、圧力等）を決定すれば、後は、ガスの発生量（流量、圧力等）を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造方法を用いれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じない量となるように、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの発生量（流量、圧力等）を調整すれば、後は、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの（流量、圧力等）を一定に維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造方法は、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造方法として適している。
のみならず、この錠剤の製造方法では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の酸素の濃度を、爆発下限界酸素濃度以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内において、粉塵爆発を生じない。
及び／又は、この錠剤の製造方法において、滑沢剤塗希装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発下限界酸素濃度以下とした場合には、滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じない。
請求項２に記載の錠剤の製造方法は、請求項１に記載の錠剤の製造方法の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を１４％以下としたことを特徴とする。
この錠剤の製造方法は、滑沢剤粉末の爆発下限界酸素濃度を具体的に規定するものであり、この錠剤の製造方法では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の酸素の濃度を１４％以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内において、粉塵爆発を生じない。
及び／又は、この錠剤の製造方法では、滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を１４％以下としているので、滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じない。
尚、滑沢剤粉末塗布ステップにおいて、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じないようにするためには、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍の酸素の濃度は、１３％以下であることがより好ましく、１２％以下であることが更により好ましく、１２％以下であることが尚一層好ましい。
一方、粉塵爆発を生じないようにするための爆発限界酸素濃度は、理想的には、０％であるので、粉塵爆発を生じないようにするための爆発限界酸素濃度の下限は、０％以上であることは、言うまでもない。
請求項３に記載の錠剤の製造方法は、請求項１に記載の錠剤の製造方法の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を８％以下とした。
労働省産業安全研究所は、静電気安全指針において、爆発下限界酸素濃度が１３％以上１４％以下の範囲にある場合、粉塵爆発が生じないようにするためには、酸素の濃度を８％以下に維持することを推奨している。
この錠剤の製造方法では、爆発下限界酸素濃度を１４％以下の範囲にある場合を想定し、労働省産業安全研究所の静電気安全指針をクリアするように、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を８％以下としているので、粉塵爆発が生じない。
尚、労働省産業安全研究所は、静電気安全指針において、爆発下限界酸素濃度が１１％以上１２％以下の範囲にある場合、粉塵爆発が生じないようにするためには、酸素の濃度を５％以下に維持することを推奨している。
従って、労働省産業安全研究所の静電気安全指針を考慮した場合には、この錠剤の製造方法における、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度は、５％以下とするのが更に好ましい。
尚、ガス中に含まれる酸素の濃度下限は、０％以上であることは、言うまでもない。
請求項４に記載の錠剤の製造方法は、ガス発生手段からガスを発生するガス発生ステップと、ガス発生手段から発生させたガスを、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散する滑沢剤粉末吐出装置に供給し、滑沢剤粉末吐出装置から、ガス発生手段から発生させたガス中に、滑沢剤粉末を吐出し、混合し、分散させる滑沢剤分散ステップと、滑沢剤分散ステップにおいて、ガスに混和し分散させた滑沢剤粉末を臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置に気力輸送する滑沢剤粉末気力輸送ステップと、滑沢剤塗布装置から、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面にガスに混和し分散させた滑沢剤粉末を吹き付けて、塗布する滑沢剤粉末塗布ステップと、滑沢剤粉末が材料接触表面に塗布された臼、上杵及び下杵を用いて、成形材料を圧縮成形する打錠ステップと、滑沢剤粉末塗布ステップにおいて、滑沢剤塗布装置から、ガスに混和し分散させた状態で、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に吹き付けられた滑沢剤粉末中、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面へ塗布されなかった余剰の滑沢剤粉末を吸引手段を用いて吸引する、余剰滑沢剤粉末吸引ステップとを備え、吸引手段内の滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下とした。
ここで、本明細書で用いる用語、「爆発下限界濃度」は、大気中において十分な着火エネルギーを与えた時に可燃物（本明細書では、滑沢剤粉末）が火災伝播を生じる最低濃度を意味する。
また、「吸引手段内の滑沢剤粉末の濃度」は、より具体的に説明すると、吸引手段を構成する部材装置中、空気とガスとが混合したガス中に滑沢剤粉末が混和し、分散した状態になっている部品内の滑沢剤粉末の濃度、例えば、吸引ダクト（導管）内の滑沢剤粉末の濃度を意味する。
この錠剤の製造方法は、ガス発生ステップ、滑沢剤分散ステップ及び打錠ステップの各々として、請求項１に記載の錠剤の製造方法のガス発生ステップ、滑沢剤分散ステップ及び打錠ステップの各々と、同様のステップを備えている。
したがって、この錠剤の製造方法は、請求項１に記載の錠剤の製造方法と同様、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造方法として適している。
のみならず、この錠剤の製造方法では、余剰滑沢剤粉末吸引ステップにおいて、吸引手段内の滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下としているので、吸引手段内において、粉塵爆発を生じない。
請求項５に記載の錠剤の製造方法は、請求項４に記載の錠剤の製造方法の、滑沢剤粉末の濃度を７０ｇ／ｍ3以下としたことを特徴とする。
この錠剤の製造方法は、吸引手段内の滑沢剤粉末の爆発下限界濃度を具体的に規定するものであり、この錠剤の製造方法では、余剰滑沢剤吸引ステップにおいて、吸引手段内の滑沢剤粉末の濃度を、爆発下限界濃度以下の濃度、即ち、７０ｇ／ｍ3以下、好ましくは、５０ｇ／ｍ3以下にしているので、吸引手段内において、粉塵爆発を生じない。
請求項６に記載の錠剤の製造方法は、請求項１〜５のいずれかに記載の錠剤の製造方法の、滑沢剤分散ステップおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、不燃性ガスを用いた。
ここで、本明細書において用いる用語、「不燃性ガス」は、空気から一定量の酸素（Ｏ2）ガスを除去した窒素（Ｎ2）ガスを主成分とするガスや、窒素（Ｎ２）ガスや、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス等の不活性ガスを意味する。
この錠剤の製造方法では、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、不燃性ガスを用いているので、滑沢剤粉末を混和し分散させているガスが、空気と交じり合わない場所（装置内）において、一切、粉塵爆発を生じない。
請求項７に記載の錠剤の製造方法は、請求項１〜６のいずれかに記載の錠剤の製造方法の、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、脈動振動ガスを用いた。
この錠剤の製造方法では、滑沢剤粉末吐出装置として、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散する滑沢剤粉末吐出装置を用いている。
したがって、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、脈動振動ガスを用いた場合、滑沢剤粉末吐出装置から吐出される滑沢剤粉末の吐出量は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等に依存する。
即ち、この錠剤の製造方法では、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給する脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にすれば、一定のガスの量に対して、常に、一定量の滑沢剤粉末を混和し分散できるようにしているので、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給することができる。
このように、この錠剤の製造方法では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。
即ち、この錠剤の製造方法を用いれば、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を同じ条件で塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を決定すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造方法を用いれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じない量となるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を調整すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にし、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造方法を用いれば、工業的生産採算ベースにのって、錠剤（外部滑沢錠剤）を製造することができる。
請求項８に記載の錠剤の製造方法は、請求項１〜７のいずれかに記載の錠剤の製造方法を実施する装置に帯電防止手段を設けた。
配管内や構成装置内をガスに混和し分散した滑沢剤粉末が移動させると、配管や構成装置が静電気を帯び、この配管や構成装置に帯電した静電気を放置すれば、火花が発生し、この静電気による火花が、粉塵爆発の引き金になる虞れがある。
この錠剤の製造方法では、静電気による火花が発生しないようにするために、請求項１〜７のいずれかに記載の錠剤の製造方法を実施する装置に帯電防止手段を設けているので、静電気による火花が発生しない。
これにより、この錠剤の製造方法を用いれば、粉塵爆発が生じない。
尚、帯電防止手段としては、手っ取り早くは、滑沢剤粉末気力輸送ステップを実施する装置を接地（アース）すればよい。また、帯電防止手段として、カチオン活性剤等の静電防止剤溶液又は静電防止剤を含んだ塗料を、少なくとも、滑沢剤粉末気力輸送ステップを実施する装置に塗布するようにしてもよい。
請求項９に記載の錠剤の製造装置は、ガス発生装置と、ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末を前記ガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置と、滑沢剤粉末吐出装置から吐出され、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末を、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置と、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は前記滑沢剤塗布装置の近傍のガス中の酸素濃度を測定する酸素濃度測定装置とを備え、酸素濃度測定装置が測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内又は前記滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素濃度を調整するようにした。
ここで、本明細書で用いる用語、「ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末を、ガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置」は、滑沢剤粉末を吐出する機構をガスに依存しており、且つ、滑沢剤粉末を吐出する際に用いるガス中に、滑沢剤粉末を、混和し分散させるようにした滑沢剤粉末吐出装置を意味する。
より特定的に説明すると、「ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末を、ガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置」は、例えば、滑沢剤粉末収容部の底に、貫通孔を有する弾性体膜を設け、この貫通孔を有する弾性体膜上に載置した滑沢剤粉末を、貫通孔を有する弾性体膜の下方に、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）を流すことで、貫通孔を有する弾性体膜を、その中心を振動の腹とし、その周辺部を振動の節として、上下に振動させることで、弾性体膜に設けられている貫通孔から、この貫通孔を有する弾性体膜上に載置した滑沢剤粉末を、吐出し、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流している、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）中に、貫通孔を有する弾性体膜を振動させることで、弾性体膜に設けられている貫通孔から吐出させた滑沢剤粉末を、混和し、分散させるようにした新規な装置をその具体例として挙げることができる。
この種の装置では、貫通孔を有する弾性体膜の振動の振幅や周波数は、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流す、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）の性質（圧力、流量等）に依存して一義的に決まり、弾性体膜に設けられている貫通孔から排出される滑沢剤粉末の吐出量は、貫通孔の大きさ・形状を一定にした場合は、弾性体膜の振動の振幅や周波数によって一義的に決まるため、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流す、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）の状態を一定にすれば、貫通孔を有する弾性体膜の下方に流す、気力輸送用のガス流（このガス流は、定常圧流であっても、脈動振動波流であってもよい。）中に、滑沢剤粉末が、常に、一定の濃度で、混和し、分散して、気力輸送されることになる。
また、本明細書で用いる用語、「ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置」は、ガス発生手段、滑沢剤粉末吐出装置、滑沢剤塗布装置及びこれらの装置をこの順に気密に連結している導管を意味する。
また、「滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度」は、滑沢剤塗布装置から排出されたガスが空気（酸素を含む通常の空気）と交じり合う環境にある空間のガス中の酸素の濃度、より特定的に説明すると、滑沢剤塗布装置の上杵塗布用滑沢剤噴霧口と上杵の材料接触面との間の空間や、滑沢剤塗布装置の下杵塗布用滑沢剤噴霧口、臼及び臼内に所定の位置まで挿入されている下杵により形成される空間のガス中の酸素の濃度を意味する。
また、ガス発生装置からは、不燃性ガスを発生させるようにする。
この錠剤の製造装置では、ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置を用いているので、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を一定にしている限り、一定量のガスに対して、一定量の滑沢剤粉末を混和し、分散させることができる。
このように、この錠剤の製造装置では、常に、一定の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。
この結果、この錠剤の製造装置を用いれば、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を決定すれば、後は、ガスの発生量（流量、圧力等）を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造装置を用いれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上件及び下杵にギシツキを生じない量となるように、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を調整すれば、後は、ガス発生装置から発生させるガスの（流量、圧力等）を一定に維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造装置は、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造装置として好適に用いることができる。
のみならず、この錠剤の製造装置では、酸素濃度測定装置が測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生装置から発生させるガス量を調整するようにしている。
従って、ガス発生装置から発生させるガスとして、不燃性ガスを用いた場合には、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在する空気や、滑沢剤塗布装置の近傍の空気（酸素を含む通常の空気）を不燃性ガスにより置換することができる。
ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在する空気の全部又は一部、及び／又は、滑沢剤塗布装置の近傍の空気（酸素を含む通常の空気）の全部又は一部を不燃性ガスにより置換し、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量や、滑沢剤塗布装置の近傍の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量を減らせば、滑沢剤塗布装置内の空間や、滑沢剤塗布装置の上杵塗布用滑沢剤噴霧口と上杵の材料接触面との間の空間や、滑沢剤塗布装置の下杵塗布用滑沢剤噴霧口、臼及び臼内に所定の位置まで挿入されている下杵により形成される空間において、粉塵爆発が生じることを防ぐことができる。
即ち、この錠剤の製造装置では、酸素濃度測定装置が測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生装置から発生させるガス量を調整することで、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量や、滑沢剤塗布装置の近傍の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量を減らすことができるように構成しているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置の周辺において、粉塵爆発が生じることを防ぐことができる。
請求項１０に記載の錠剤の製造装置は、請求項９に記載の錠剤の製造装置の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発限界酸素濃度以下とした。
この錠剤の製造装置では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、ガス発生装置から発生させるガス量により、爆発限界酸素濃度以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発が生じない。
請求項１１に記載の錠剤の製造装置は、請求項９に記載の錠剤の製造装置の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素濃度を１４％以下とした。
この錠剤の製造装置は、滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発下限界酸素濃度を具体的に規定するものであり、この錠剤の製造装置では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発限界酸素濃度以下、即ち、酸素の濃度を１４％以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じない。
尚、粉塵爆発を生じないようにするためには、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度は、１３％以下にすることがより好ましく、１２％以下にすることが更により好ましく、１２％以下にすることが尚一層好ましい。
一方、粉塵爆発を生じないようにするための爆発限界酸素濃度は、理想的には、０％であるので、粉塵爆発を生じないようにするための爆発限界酸素濃度の下限は、０％以上であることは、言うまでもない。
請求項１２に記載の錠剤の製造装置は、請求項９に記載の錠剤の製造装置の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素濃度を８％以下とした。
労働省産業安全研究所は、静電気安全指針において、爆発限界酸素濃度が１３％以上１４％以下の範囲にある場合、粉塵爆発が生じないようにするためには、酸素の濃度を８％以下に維持することを推奨している。
この錠剤の製造装置では、爆発下限界酸素濃度を１４％以下の範囲にある場合を想定し、労働省産業安全研究所の静電気安全指針をクリアするように、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を８％以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発が生じない。
尚、労働省産業安全研究所は、静電気安全指針において、爆発限界酸素濃度が１１％以上１２％以下の範囲にある場合、粉塵爆発が生じないようにするためには、酸素の濃度を５％以下に維持することを推奨している。
従って、労働省産業安全研究所の静電気安全指針を考慮した場合には、この錠剤の製造装置の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度は、５％以下とするのが更に好ましい。
尚、粉塵爆発を防ぐためには、この錠剤の製造装置の、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度は、理想的には、０％であるので、粉塵爆発を生じないようにするための、この錠剤の製造方法の滑沢剤粉末塗布ステップにおける滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度下限は、０％以上であることは、言うまでもない。
請求項１３に記載の錠剤の製造装置は、ガス発生装置と、ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末を前記ガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置と、滑沢剤粉末吐出装置から吐出され、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末を、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置と、滑沢剤塗布装置から噴霧された滑沢剤粉末を吸引する吸引手段と、吸引手段に設けられ、吸引手段により吸引された滑沢剤粉末の濃度を測定する滑沢剤粉末濃度測定装置とを備え、滑沢剤粉末濃度測定装置が測定した滑沢剤粉末の濃度に基づいて、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を調整するようにした。
この錠剤の製造装置では、滑沢剤塗布装置から噴霧された滑沢剤粉末を吸引手段を用いて、直ちに吸引するようにしているので、例えば、滑沢剤塗布装置の上杵用滑沢剤噴霧口から上杵の材料接触面に噴霧された滑沢剤粉末が、滑沢剤塗布装置の周辺に飛散することがないため、滑沢剤塗布装置の周辺において、粉塵爆発が生じることがない。
のみならず、この錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末濃度測定装置が測定した滑沢剤粉末の濃度に基づいて、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を調整できるようにしているので、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下とすれば、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内において、粉塵爆発が生じない。
請求項１４に記載の錠剤の製造装置は、請求項１３に記載の錠剤の製造装置の、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下とした。
この錠剤の製造装置では、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下としているので、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）において、粉塵爆発を生じない。
請求項１５に記載の錠剤の製造装置の、請求項１３に記載の錠剤の製造装置の、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の爆発下限界濃度が、７０ｇ／ｍ3以下であることを特徴とする。
この錠剤の製造装置は、請求項１４に記載の錠剤の製造装置の、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の爆発下限界濃度を具体的に規定するものであり、この錠剤の製造装置では、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度以下の濃度、即ち、７０ｇ／ｍ3以下、好ましくは、５０ｇ／ｍ3以下にしているので、この錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造すれば、錠剤の製造装置内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）において粉塵爆発を生じることがない。
請求項１６に記載の錠剤の製造装置は、請求項９〜１５のいずれかに記載の錠剤の製造装置のガス発生装置から、不燃性ガスを発生させるようにした。
この錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末を混和し分散するガスとして、不燃性ガスを用いるようにしているので、ガス発生手段から前記滑沢剤塗布装置までの装置内において、粉塵爆発を生じない。
請求項１７に記載の錠剤の製造装置は、請求項９〜１６のいずれかに記載の錠剤の製造装置の、ガス発生装置から、脈動振動ガスを発生させるようにした。
この錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末を混和し分散するガスとして、脈動振動ガスを用い、ガス内に混和し分散する滑沢剤粉末の量を脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等に依存させている。
即ち、この錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末を混和し分散する際に用いる脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にすれば、一定のガスの量に対して、常に、一定量の滑沢剤粉末を混和し分散できるようにしているので、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給することができる。
このように、この錠剤の製造装置では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を同じ条件で塗布できる。
即ち、この錠剤の製造方法を用いれば、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を決定すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造すれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じない量となるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を調整すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造装置を用いれば、工業的生産採算ベースにのって、錠剤（外部滑沢錠剤）を製造することができる。
請求項１８に記載の錠剤の製造装置は、ガス発生装置と、ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末をガス発生装置から発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置と、滑沢剤粉末吐出装置から吐出させ、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末を、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置と、滑沢剤塗布装置から噴霧された滑沢剤粉末を吸引する吸引手段からなり、滑沢剤粉末吐出装置から滑沢剤塗布装置までの任意の位置で滑沢剤粉末の濃度を測定する噴霧量測定装置とを備え、噴霧量測定装置が測定した滑沢剤粉末の量と前記吸引手段で吸引する風量から、滑沢剤粉末濃度を算出し吸引する風量を調整をするとともに、滑沢剤粉末濃度が爆発下限界濃度に達した場合は、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末の量が爆発下限界濃度以下になるように調整するようにした。
この錠剤の製造装置では、噴霧量測定装置により、滑沢剤粉末濃度を監視し、滑沢剤粉末濃度が爆発下限界濃度に達した場合には、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末の量を爆発下限界濃度以下になるように調整するようにしているので、粉塵爆発を生じない。
請求項１９に記載の錠剤の製造装置は、請求項１８に記載の錠剤の製造装置の、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下とした。
この錠剤の製造装置では、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下にしているので、吸引手段内において、粉塵爆発が生じない。
請求項２０に記載の錠剤の製造装置は、請求項１８に記載の錠剤の製造装置の、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を、７０ｇ／ｍ3以下としたことを特徴とする。
この錠剤の製造装置は、請求項１９に記載の錠剤の製造装置の、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の爆発下限界濃度を具体的に規定するものであり、この錠剤の製造装置では、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度以下の濃度、即ち、７０ｇ／ｍ3以下、好ましくは、５０ｇ／ｍ3以下にしているので、この錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造すれば、錠剤の製造装置内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）において粉塵爆発を生じることがない。
請求項２１に記載の錠剤の製造装置は、請求項１８又は請求項１９に記載の錠剤の製造装置の、ガス発生装置から、不燃性ガスを発生させるようにした。
この錠剤の製造方法では、ガス発生装置から、不燃性ガスを発生させるようにているので、滑沢剤粉末を混和し分散させているガスが、空気と交じり合わない場所（装置内）において、一切、粉塵爆発を生じない。
請求項２２に記載の錠剤の製造装置は、請求項１８〜２１のいずれかに記載の錠剤の製造装置の、ガス発生装置から、脈動振動ガスを発生させるようにした。
この錠剤の製造方法では、請求項７に記載の錠剤の製造装置と同様、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給する脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にすれば、一定のガスの量に対して、常に、一定量の滑沢剤粉末を混和し分散できるようにしているので、請求項７に記載の錠剤の製造装置と同様の効果を奏する。
請求項２３に記載の錠剤の製造装置は、請求項９〜２２のいずれかに記載の錠剤の製造装置が、帯電防止手段を更に備える。
この錠剤の製造装置では、静電気による火花が発生しないようにするために、帯電防止手段を設けているので、静電気による火花が発生しない。
これにより、この錠剤の製造装置を用いれば、錠剤を製造する工程において、粉塵爆発が生じない。
【図面の簡単な説明】
図１は、本発明に係る錠剤の製造装置の一例を概略的に示す構成図である。
図２は、図１に示す錠剤の製造装置の制御装置に格納されている第１のプログラムを概略的に説明するフローチャートである。
図３は、図１に示す錠剤の製造装置の制御装置に格納されている第２のプログラムを概略的に説明するフローチャートである。
図４は、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度の具体的な値と、爆発限界酸素濃度の具体的な値とを求めるために、（株）環境衛生研究所で行った試験方法及び、試験結果の抜粋である。
図５は、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度の具体的な値と、爆発限界酸素濃度の具体的な値とを求めるために、（株）環境衛生研究所で行った試験方法及び、試験結果の抜粋である。
図６は、図１に示す錠剤の製造装置に用いる酸素除去装置の好ましい酸素除去能力を例示的に説明するグラフである。
図７は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す構成図である。
図８は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す構成図である。
図９は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す構成図である。
図１０は、図２に示す錠剤の製造装置を概略的に示す全体構成図である。
図１１は、正圧の脈動ガス振動波を例示的に説明する説明図である。
図１２は、滑沢剤粉末吐出装置を概略的に示す説明図である。
図１３は、滑沢剤貯蔵用ホッパーを更に詳しく説明する説明図であり、図１３（ａ）は、滑沢剤貯蔵用ホッパーを概略的に示す斜視図であり、また、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）に示す滑沢剤貯蔵用ホッパーの要部を概略的に示す平面図である。
図１４は、弾性体膜を概略的に示す平面図である。
図１５は、滑沢剤粉末吐出装置で用いる弾性体膜取付具に、弾性体膜を取り付けた状態を概略的に示す斜視図である。
図１６は、図１５に示す弾性体膜取付具の構成を概略的に示す分解斜視図である。
図１７は、図１５に示す弾性体膜取付具の構成を概略的に示す断面図である。
図１８は、分散室を平面視した場合の、分散室に設ける脈動ガス振動波供給口の位置を模式的に示す平面図であり、図１８（ａ）は、分散室に対する、脈動ガス振動波供給口の好ましい取付位置を説明する説明図であり、図１８（ｂ）は、分散室に対する、脈動ガス振動波供給口の実質的な取付可能位置を説明する説明図である。
図１９は、分散室を平面視した場合の、分散室に設ける脈動ガス振動波供給口と排出口との位置を模式的に説明する図であり、図１９（ａ）は、分散室に対する、脈動ガス振動波供給口と排出口との好ましい取付位置を説明する説明図であり、図１９（ｂ）は、分散室に対する、脈動ガス振動波供給口と排出口との実質的な取付可能位置を説明する説明図である。
図２０は、滑沢剤粉末吐出装置の滑沢剤貯蔵用ホッパーに設けられてるガス噴射手段及び材料切出弁の動作を模式的に示す説明図である。
図２１は、制御装置の記憶部に予め記憶されている、ガス噴射手段及び材料切出弁の動作プログラムを概略的に示すフローチャートである。
図２２は、分散室に、正圧の脈動ガス振動波を供給した際に、弾性体膜及びバイパス管の動作について模式的に説明する説明図である。
図２３は、本発明で用いる外部滑沢式打錠機で用いられているロータリ型打錠機を概略的に示す平面図である。
図２４は、図２４中に示す滑沢剤塗布装置を更に拡大して概略的に示す平面図である。
図２５は、図２４中、ＸＸＩＶ−ＸＸＩＶ線に従う、滑沢剤塗布装置の構成を概略的に示す断面図である。
図２６は、図１０に示す吸引手段（滑沢剤吸引装置）の部分を中心にして拡大して概略的に示す構成図である。
図２７は、脈動ガス振動波発生装置の構成を、概略的に示す断面図である。
図２８は、脈動ガス振動波発生装置の他例を概略的に示す説明図である。
図２９は、脈動ガス振動波発生装置の他の例を概略的に説明する分解斜視図である。
図３０は、本発明で用いる外部滑沢式打錠機の滑沢剤粉末吐出装置で用いる弾性体膜の他の例を概略的に示す平面図である。
図３１は、図１に示す錠剤の製造装置を概略的に示す全体構成図である。
図３２は、図８に示す錠剤の製造装置を概略的に示す全体構成図である。
図３３は、図９に示す錠剤の製造装置を概略的に示す全体構成図である。
図３４は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の１例を概略的に示す全体構成図である。
図３５は、図３４中に示す噴霧量測定装置を概略的に示す構成図である。
図３６は、粉塵爆発が生じる要因を説明する要因特性図である。
発明を実施するための最良の形態
以下、本発明について、図面を参照しながら更に詳しく説明する。
（発明の実施の形態１）
図１は、本発明に係る錠剤の製造装置の一例を概略的に示す構成図である。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａは、ガス発生装置Ｇと、ガス発生装置Ｇから発生させたガスに依存して滑沢剤粉末をガス発生装置Ｇから発生させたガス中に吐出し、混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置５１と、滑沢剤粉末吐出装置５１から吐出され、ガス発生装置Ｇから発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末を、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に噴霧する滑沢剤塗布装置９１と、滑沢剤塗布装置９１の近傍のガス中に含まれる酸素濃度を測定する酸素濃度測定装置１３１ａと、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１迄の装置内の酸素の濃度を測定する酸素濃度測定装置１３１ｂ、１３１ｃとを備える。
尚、酸素濃度測定装置１３１ｂ、１３１ｃは、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１迄の装置の気密性が十分に保証されておれば、敢えて、設ける必要はない。
また、図１中、８１で示される装置は、ロータリ型打錠機である。
また、図１中、１２１で示される装置は、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａの全体を制御・統括する制御装置を示している。
ガス発生装置Ｇは、ブロアー１１１と、ブロアー１１１を駆動することにより、ブロアー１１１から導管Ｔｍ内へ送り出される空気中の酸素を除去する酸素除去装置１１２を備える。
ブロアー１１１と制御装置１２１との間は、信号線で接続されており、制御装置１２１からブロアー１１１の駆動量を制御できるようになっている。
酸素除去装置１１２としては、滑沢剤塗布装置９１から、ロータリ型打錠機８１の臼（図２３に示す臼３２・・・を参照）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の材料接触表面へ滑沢剤粉末を塗布する際の、噴霧流量の最大値及び制御流量の最大値を合計した流量の圧縮空気をブロアー１１１から発生させた際に、ブロアー１１１から発生させた圧縮空気中に含まれる酸素濃度を、爆発限界酸素濃度に比較して、十分に低くすることができる装置であれば、種々の装置を用いることができる。
また、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、ブロアー１１１、導管Ｔ０、酸素除去装置１１２、導管Ｔｍ、滑沢剤粉末吐出装置５１、導管Ｔ２及び滑沢剤塗布装置９１までは、気密系にされている。
より具体的に説明すると、ブロアー１１１の送風口には、導管Ｔ０の一端が気密に接続され、導管Ｔ０の他端には、酸素除去装置１１２の供気口が気密に接続され、酸素除去装置１１２の排気口には、導管Ｔｍの一端が気密に接続され、導管Ｔｍの他端には、滑沢剤粉末吐出装置５１のガス供給口（図１２に示すガス供給口５５ａ）が気密に接続され、滑沢剤粉末吐出装置の排出口（図１２に示す排出口５５ｂ）には導管Ｔ２の一端が気密に接続され、導管Ｔ２の他端には、滑沢剤噴霧装置９１の滑沢剤導入口が気密に接続されており、ブロアー１１１の吸気口から滑沢剤噴霧装置９１の上杵塗布用滑沢剤噴霧口（図２３、図２４及び図２５に示す上杵塗布用滑沢剤噴霧口９４）までのガス経路が気密にされている。
また、酸素除去装置１１２は、例えば、鉄粉等の脱酸素剤が充填されたカラムを備えており、空気をカラム内に通過させることで、空気中の酸素を除去できるようになっている。
酸素濃度測定装置１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃの各々としては、例えば、酸素分析計（製品名：モデル１１００、商品名：ｃｅｒａｍａｔｅｃ、アドバンスド  イオニック  テクノロジイズ社製、輸入販売：愛知産業株式会社）等の公知の酸素濃度測定装置を用いる。
酸素濃度測定装置１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃとしては、上記に例示したような酸素分析計のように、装置に警報発令酸素濃度を入力しておけば、装置が、警報発令酸素濃度以上の酸素濃度を検出した際に、装置自らが警報を発令するような装置であってもよい。
また、酸素濃度測定装置１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃの各々が検出した検出値を、制御装置１２１に送り、制御装置１２１側で、警報発令酸素濃度を入力したり、酸素濃度測定装置１３１ａ、１３１ｂ、１３１ｃの各々が、警報発令酸素濃度以上の酸素濃度を検出した際に、警報を発令するようにしてもよい。
ブロアー１１１を駆動することにより、ブロアー１１１から導管Ｔ０内へ送り出される空気は、酸素除去装置１１２により酸素が除去された後、導管Ｔｍを介して、滑沢剤粉末吐出装置５１へ送られる。
滑沢剤粉末吐出装置５１は、導管Ｔｍを介して供給される、酸素除去装置１１２により酸素が除去されたガスに依存して滑沢剤粉末を、ガス中に吐出し、混和し分散させるようになっている。
尚、滑沢剤粉末吐出装置５１の構成及び動作については、後程、詳しく説明するので、ここでは、詳述するのを省略する。
滑沢剤粉末吐出装置５１により、酸素除去装置１１２により酸素が除去されたガス中に吐出され、混和し分散した滑沢剤粉末は、導管Ｔ２を介して滑沢剤塗布装置９１へ送られる。
滑沢剤塗布装置９１は、ロータリ型打錠機８１の回転テーブル３４上の所定の位置（図２３に示す滑沢剤噴霧ポイントＲ１）に設けられている。
導管Ｔ２を介して、酸素が除去されたガス中に混和し分散した状態で滑沢剤塗布装置９１へ送られた滑沢剤粉末は、滑沢剤塗布装置９１に送り込まれてきているロータリ型打錠機８１の回転テーブル３４に設けられている複数の臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の材料接触表面、複数の臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の各々に対応して設けられている上杵３１・・・の材料接触表面、及び、複数の臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の各々に対応して設けられている下杵３３・・・の材料接触表面の各々に順次塗布される。
尚、滑沢剤塗布装置９１の構成及び動作については、後程、詳しく説明するので、ここでは、詳述するのを省略する。
更に、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａは、吸引手段１０１と、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａとを備えている。
吸引手段１０１は、集塵機１０２と、吸引ダクト（導管）Ｔ３とを備える。
そして、吸引手段１０１（より特定的に説明すると、集塵機１０２）を駆動すれば、吸引ダクト（導管）Ｔ３内に吸引されてきた滑沢剤粉末が集塵機１０２内に設けられている集塵フィルター（図示せず。）に集塵されるようになっている。
集塵機１０２と制御装置１２１との間は、信号線（図示せず。）を介して、信号のやりとりができるようになっており、制御装置１２１から集塵機１０２を駆動したり、停止したり、駆動量を所望の駆動量に制御できるようになっている。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、吸引手段１０１を駆動すると、滑沢剤塗布装置９１から、複数の臼の材料接触表面、複数の臼の各々に対応して設けられている上杵の材料接触表面、及び、複数の臼の各々に対応して設けられている上杵の材料接触表面の各々に吹き付けられた滑沢剤粉末の中、余剰の滑沢剤粉末は、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１により吸引除去されるようになっている。
滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａ（図２６に示す散乱式粉体濃度測定手段１０３ａ）は、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の吸引ダクト（導管Ｔ３（より特定的に説明すると、図２６に示す分岐管Ｔ３ａ））の途中に設けられており、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａにより、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１を駆動した際に、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の吸引ダクト（導管Ｔ３（より特定的に説明すると、図２６に示す分岐管Ｔ３ａ））内の粉体（滑沢剤粉末）の濃度を測定できるようになっている。
この例では、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した検出値は、制御装置１２１に送られる。
また、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、図１に示すように、ブロアー１１１、酸素除去装置１１２、制御装置１２１、滑沢剤粉末吐出装置５１、ロータリ型打錠機８１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を接地（アース）することで、ブロアー１１１、酸素除去装置１１２、制御装置１２１、滑沢剤粉末吐出装置５１、ロータリ型打錠機８１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々に静電気が帯電することを防ぐための帯電防止手段を設けている。
この例では、ブロアー１１１、酸素除去装置１１２、制御装置１２１、滑沢剤粉末吐出装置５１、ロータリ型打錠機８１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を接地（アース）した例を示しているが、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａに静電気が帯電することを防ぐためには、ブロアー１１１、酸素除去装置１１２、制御装置１２１、滑沢剤粉末吐出装置５１、ロータリ型打錠機８１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の全てを必ずしも接地（アース）する必要はなく、これらの装置の少なくとも１以上を接地（アース）すればよい。
また、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａに静電気が帯電することを防ぐためには、必要により、導管Ｔｍ、Ｔ２又はＴ３等を接地（アース）するようにしてもよく、あるいは、ブロアー１１１、酸素除去装置１１２、制御装置１２１、滑沢剤粉末吐出装置５１、ロータリ型打錠機８１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１、導管Ｔｍ、Ｔ２又はＴ３等にカチオン活性剤等の静電防止剤溶液又は静電防止剤を含んだ塗料を塗布する等の帯電防止処理を施すようにしてもよい。
更に、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、制御装置１２１に、第１の安全装置を設けている。
第１の安全装置は、制御装置１２１に設けられた第１の警報装置を備える。
制御装置１２１の演算処理部の記憶部には、第１の警報装置を動作させるための第１のプログラムが格納されている。
図２は、第１のプログラムを概略的に説明するフローチャートである。
この第１のプログラムは、酸素の濃度に関するしきい値として、少なくとも、大小２つのしきい値Ｖｔｈ３ａ、Ｖｔｈ２ａと、大小２つのしきい値Ｖｔｈ３ａ、Ｖｔｈ２ａの中、小さいほうの一方のしきい値Ｖｔｈ２以下の値を有する正常運転可能酸素濃度しきい値（例えば、正常運転可能酸素濃度しきい値＝５％）Ｖｔｈ１ａとを有している。
大小２つのしきい値Ｖｔｈ３ａ、Ｖｔｈ２ａの中、小さい方の一方のしきい値Ｖｔｈ２ａは、警報を発報するか否かの判断をする際に用いる酸素濃度のしきい値（以下、「警報発報酸素濃度しきい値」という。）として設けられているしきい値であり、爆発下限界酸素濃度に比べて十分に低い酸素の濃度の値（例えば、一方のしきい値Ｖｔｈ２ａ＝１１％）になっている。
２つのしきい値Ｖｔｈ３ａ、Ｖｔｈ２ａの中、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａよりも大きい方の他方のしきい値Ｖｔｈ３ａは、運転中の錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａを自動停止するか否かの判断をする際に用いる酸素濃度のしきい値（以下、「自動運転停止酸素濃度しきい値」という。）として設けられているしきい値であり、爆発限界酸素濃度又はこれよりやや小さい値（例えば、他方のしきい値Ｖｔｈ３ａ＝１４％）になっている。
この第１のプログラムは、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａの電源が投入された後、一旦、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した検出値が、正常運転可能酸素濃度しきい値（例えば、正常運転可能酸素濃度しきい値＝５％）Ｖｔｈ１ａ以下となった時点から警戒動作を開始するようになっている（図２中、ステップ３ａ、ステップ６ａ、ステップ１０ａ及びステップ１２ａを参照）。
そして、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、第１のプログラムにより、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａを用いて錠剤を製造する際に、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一旦、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａ以下の値として設けられている正常運転可能酸素濃度しきい値Ｖｔｈ１ａ以下の値になった後（ステップ３ａを参照）、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａになれば（ステップ６ａを参照）、制御装置１２１に設けられている警報装置（図示せず。）から警報を出力して、操作者等に、粉塵爆発の可能性があることを警告（ｗａｒｎｉｎｇ）するようにしている（ステップ９ａを参照）。
尚、第１の警報装置（図示せず。）としては、制御装置１２１に警報ブザーを設け、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａになれば、警報ブザーが鳴動するような装置であっても、制御装置１２１に警報ランプを設け、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａになれば、警報ランプが点灯又は点滅するような装置であっても、あるいは、制御装置１２１に警報ブザーと警報ランプの双方を設け、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａになれば、警報ブザーが鳴動するとともに、警報ランプが点灯又は点滅するような装置であってもよい。
また、第１の警報装置（図示せず。）としては、酸素濃度測定装置１３１ａに、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａを予め入力しておけば、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａになった際に、酸素濃度測定装置１３１ａ自らが、警報ブザーが鳴動し及び／又は警報ランプが点滅するようなものであってもよい。
また、この例では、この錠剤の製造装置Ｓａを使用する作業者等の利便性を考慮して、第１の警報装置（図示せず。）に、更に、安全確認ランプ（図示せず。）を設け、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、正常運転可能酸素濃度しきい値Ｖｔｈ１ａ以下になった時点で、安全確認ランプ（図示せず。）が点灯し（ステップ３ａ及びステップ５ａを参照）、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａになれば、安全確認ランプ（図示せず。）が消灯するようにしている（ステップ６ａ及びステップ８ａを参照）。
また、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、第１のプログラムにより、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａを用いて錠剤を製造する際に、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一旦、一方のしきい値Ｖｔｈ２ａ以下の値として設けられている正常運転可能酸素濃度しきい値（例えば、正常運転可能しきい値＝５％）Ｖｔｈ１ａ以下の値になった後、他方のしきい値（自動運転停止酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ３ａになれば、ガス発生装置Ｇ（より特定的に説明すると、ガス発生装置Ｇを構成するブロアー１１１）、吸引手段１０１（より特定的に説明すると、吸引手段１０１を構成する集塵機１０２）及びロータリ型打錠機８１を自動的に停止するようにしている（ステップ１２ａ、ステップ１３ａ及びステップ１４ａを参照）。
更に、この第１のプログラムでは、ガス発生装置Ｇ（より特定的に説明すると、ガス発生装置Ｇを構成するブロアー１１１）の駆動を開始してからタイマー▲１▼が所定時間を経過する迄に、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、正常運転可能酸素濃度しきい値（例えば、正常運転可能しきい値＝５％）Ｖｔｈ１ａ以下の値にならなければ、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａの運転を自動停止するようにしている（ステップ４ａを参照）。
また、制御装置１２１に設ける第１の警報装置（図示せず。）を運転するための第１のプログラムに設ける一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａは、他方のしきい値（自動運転停止酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ３ａより小さい値であれば、特に限定されないが、用いる滑沢剤粉末の爆発限界酸素濃度に対応する労働省産業安全研究所の静電気安全指針が推奨する酸素濃度以下から選択される値であれば、特に限定されることはない。が、通常は、安全を見越して、用いる滑沢剤粉末の爆発限界酸素濃度の１／２程度の値を選択すればよい。
更に、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、制御装置１２１に、第２の安全装置を設けている。
図３は、第２のプログラムを概略的に説明するフローチャートである。
第２の安全装置は、制御装置１２１に設けられた第２の警報装置を備える。
制御装置１２１の演算処理部の記憶部には、第２の警報装置を動作させるための第２のプログラムが格納されている。
この第２のプログラムは、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度に関するしきい値として、少なくとも、大小２つのしきい値Ｖｔｈ３ｂ、Ｖｔｈ２ｂと、大小２つのしきい値Ｖｔｈ３ｂ、Ｖｔｈ２ｂの中、小さいほうの一方のしきい値Ｖｔｈ２ｂ以下の値を有する正常運転可能爆発下限界濃度しきい値（例えば、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値＝２５ｇ／ｍ3）Ｖｔｈ１ｂとを有している（Ｖｔｈ１＜Ｖｔｈ２ｂ）。
２つのしきい値Ｖｔｈ３ｂ、Ｖｔｈ２ｂの中、小さい方の一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂは、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度に比べて十分に低い滑沢剤粉末の濃度の値（例えば、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂ＝滑沢剤粉末の爆発下限界濃度の１／２の値）になっている（Ｖｔｈ１＜Ｖｔｈ２ｂ＜Ｖｔｈ３ｂ）。
２つのしきい値Ｖｔｈ３ｂ、Ｖｔｈ２ｂの中、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂよりも大きい方の他方のしきい値（自動運転停止爆発下限界濃度しきい）Ｖｔｈ３ｂは、爆発下限界濃度又はこれよりやや小さい値（例えば、他方のしきい値（自動運転停止爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ３ｂ＝７０ｇ／ｍ3）になっている。
この第２のプログラムは、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａの電源が投入された後（ステップ１ｂを参照）、一旦、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した検出値が、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値（例えば、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ１ｂ以下となった時点から警戒動作を開始するようになっている（ステップ３ｂ、ステップ６ｂ及びステップ１２ｂを参照）。
そして、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、第２のプログラムにより、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａを用いて錠剤を製造する際に、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、一旦、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂ以下の値として設けられている正常運転可能酸素濃度しきい値Ｖｔｈ１ｂ以下の値になった後、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂになれば（ステップ６ｂを参照）、制御装置１２１に設けられている警報装置（図示せず。）から警報を出力して、操作者等に、粉塵爆発の可能性があることを警告（ｗａｒｎｉｎｇ）するようにしている（ステップ９ｂを参照）。
尚、第２の警報装置（図示せず。）としては、制御装置１２１に警報ブザーを設け、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂになれば、警報ブザーが鳴動するような装置であっても、制御装置１２１に警報ランプを設け、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂになれば、警報ランプが点灯又は点滅するような装置であっても、あるいは、制御装置１２１に警報ブザーと警報ランプの双方を設け、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂになれば、警報ブザーが鳴動するとともに、警報ランプが点灯又は点滅するような装置であってもよい。
また、この錠剤の製造装置Ｓａでは、この錠剤の製造装置Ｓａを使用する作業者等の利便性を考慮して、第２の警報装置（図示せず。）に、更に、安全確認ランプ（図示せず。）を設け、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出し滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値Ｖｔｈ１ｂ以下になった時点（ステップ３ｂを参照）で、安全確認ランプ（図示せず。）が点灯し（ステップ４ｂを参照）、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂになれば（ステップ６ｂを参照）、安全確認ランプが消灯するようにしている（ステップ８ｂを参照）。
また、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは、第２のプログラムにより、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａを用いて錠剤を製造する際に、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一旦、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂ以下の値として設けられている正常運転可能爆発下限界濃度しきい値（例えば、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値＝１２．５ｇ／ｍ3）Ｖｔｈ１ｂ以下の値になった後、他方のしきい値（自動運転停止爆発下限界濃度しきい）Ｖｔｈ３ｂになれば、ガス発生装置Ｇ（より特定的に説明すると、ガス発生装置Ｇを構成するブロアー１１１）、吸引手段１０１及びロータリ型打錠機８１を自動的に停止するようにしている（ステップ１２ｂ及びステップ１４ｂを参照）。
更に、この第２のプログラムでは、吸引手段１０１（より特定的に説明すると、吸引手段１０１を構成する集塵機１０２）の駆動を開始してからタイマー▲３▼が所定時間を経過する迄に、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値（例えば、正常運転可能爆発下限界濃度しきい値＝１２．５ｇ／ｍ3）Ｖｔｈ１ｂ以下の値にならなければ、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａの運転を自動停止するようにしている（ステップ４ｂを参照）。
この錠剤の製造装置Ｓａでは、ガス発生装置Ｇから発生させたガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガス発生装置Ｇから発生させたガスに混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置を用いているので、ガス発生装置Ｇから発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を一定にしている限り、一定量のガスに対して、一定量の滑沢剤粉末を混和し、分散させることができる。
このように、この錠剤の製造装置Ｓａでは、常に、一定の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置９１に供給するようにしているので、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。
この結果、この錠剤の製造装置Ｓａを用いれば、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を決定すれば、後は、ガスの発生量（流量、圧力等）を一定にするだけで、常に、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造装置Ｓａを用いれば、一旦、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・にギシツキを生じない量となるように、ガス発生装置Ｇから発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を調整すれば、後は、ガス発生装置から発生させるガスの（流量、圧力等）を一定に維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造装置Ｓａは、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造装置として好適に用いることができる。
のみならず、この錠剤の製造装置Ｓａでは、滑沢剤塗布装置９１の近傍のガス中に含まれる酸素濃度を測定する酸素濃度測定装置１３１ａを設け、酸素濃度測定装置１３１ａが測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生装置Ｇから発生させるガス量を調整するようにしている。
従って、ガス発生装置Ｇから発生させるガスとして、不燃性ガスを用いた場合には、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内、即ち、この例では、導管Ｔ０、酸素除去装置１１２、導管Ｔｍ、滑沢剤粉末吐出装置５１、導管Ｔ２及び滑沢剤塗布装置９１内の空間や、滑沢剤塗布装置９１の近傍の空気（酸素を含む通常の空気）を不燃性ガスにより置換することができる。
ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置９１の近傍の空気（酸素を含む通常の空気）の全部又は一部を不燃性ガスにより置換し、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置９１の近傍の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量を減らせば、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置９１の上杵塗布用滑沢剤噴霧口（図２０に示す上杵塗布用滑沢剤噴霧口９４）と上杵３１の材料接触面との間の空間や、滑沢剤塗布装置９１の下杵塗布用滑沢剤噴霧口（図２５に示す下杵塗布用滑沢剤噴霧口９１ｂ）、臼３２及び臼３２内に所定の位置まで挿入されている下杵３３により形成される空間において、粉塵爆発が生じることを防ぐことができる。
即ち、この錠剤の製造装置Ｓａでは、酸素濃度測定装置１３１ａが測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生装置Ｇから発生させるガス量を調整することで、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置９１の近傍の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量を減らすことができるように構成しているので、ガス発生装置Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置９１の周辺において、粉塵爆発が生じることを防ぐことができる。
のみならず、この錠剤の製造装置Ｓａでは、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが測定した滑沢剤粉末の濃度に基づいて、吸引手段１０１（より具体的には、吸引ダクト（導管））Ｔ３内に送り込む滑沢剤粉末の濃度を調整できるようにしているので、吸引手段１０１（より具体的には、吸引ダクト（導管））Ｔ３内に送り込む滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下とすれば、この錠剤の製造装置の吸引手段１０１（より具体的には、吸引ダクト（導管））Ｔ３内において粉塵爆発が生じない。
また、この錠剤の製造装置Ｓａでは、錠剤の製造装置Ｓａに、帯電防止手段を設けているので、錠剤の製造装置Ｓａに静電気が帯電しない。
これにより、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて錠剤を製造すれば、錠剤の製造装置Ｓａが静電気を帯びることがないので、静電気による火花が発生しないため、粉塵爆発が生じない。
次に、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａの動作について説明する。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａを用いて、錠剤を製造する際には、錠剤の原料となる、粉体材料を準備する。
次に、錠剤の原料となる、粉体材料をロータリ型打錠機８１の粉体材料貯蔵ホッパー（図示せず。）内に収容する。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１に滑沢剤粉末を収容する。
次に、制御装置１２１の電源を投入し、酸素濃度測定装置１３１ａ及び滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａの各々を動作状態にする。
次に、ロータリ型打錠機８１を駆動状態にし、回転テーブル３４、複数の上杵３１・・・、及び、複数の下杵３４・・・を回転駆動する。
次に、ブロアー１１１、酸素除去装置１１２、及び、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１を駆動させる。
この時、制御装置１２１からブロアー１１１の駆動量を調整することで、酸素濃度測定装置１３１ａが検出する検出値（酸素の濃度）が、爆発下限界濃度より十分低い濃度となったことを確認する。
より具体的に説明すると、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａには、制御装置１２１に設けられている第１の安全装置の安全確認ランプが点灯したかどうかを確認する。
ブロアー１１１を駆動し、滑沢剤粉末吐出装置５１に、酸素除去装置１１２により酸素が除去されたガスを供給すると、滑沢剤粉末吐出装置５１へ供給されるガスの供給量、供給圧力及び／又は流量等に応じて、当該ガス中に、滑沢剤粉末が吐出され、混和し、分散した状態になって、滑沢剤塗布装置９１へ送られる。
滑沢剤塗布装置９１へ、酸素が除去されたガスに混和し、分散した状態になって送られた滑沢剤粉末は、ロータリ型打錠機８１の回転テーブル３４、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の回転により、滑沢剤塗布装置９１に送り込まれてきた臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の各々の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の各々の材料接触表面の各々に対して、順次、噴霧される。
以上の工程により、ロータリ型打錠機８１の回転テーブル３４、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の回転により、滑沢剤塗布装置９１に送り込まれてきた臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の各々の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の各々の材料接触表面の各々に、順次、滑沢剤粉末が塗布される。
また、吸引手段１０１を駆動すると、滑沢剤塗布装置９１から、ロータリ型打錠機８１の回転テーブル３４、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の回転により、滑沢剤塗布装置９１に送り込まれてきた臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の各々の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の各々の材料接触表面に対して順次、噴霧された滑沢剤粉末の中、臼（図２３に示す複数の臼３２・・・）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の各々の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の各々の材料接触表面に付着しなかった余剰の滑沢剤粉末が、吸引手段１０１によって、空気とともに吸引される。
吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の吸引ダクト（導管Ｔ３（より特定的に説明すると、図２６に示す分岐管Ｔ３ａ））の途中に設けられており、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａにより、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１を駆動した際に、吸引ダクト内の粉体（滑沢剤粉末）の濃度が測定される。
この時、制御装置１２１からブロアー１１１の駆動量及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１を駆動量を調整することで、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出する検出値（滑沢剤粉末の濃度）が、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度に比べて、十分に小さい値である、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂの濃度以下となるように調整する。
次に、ロータリ型打錠機８１の粉体材料貯蔵ホッパー（図示せず。）内に収容されている粉体材料を、臼３２・・・の各々と、臼３２・・・の各々内に所定の位置まで挿入されている下杵３３・・・の各々とにより形成される空間の各々に供給する。
次に、滑沢剤粉末が塗布された材料接触表面を有する臼３２・・・の各々、滑沢剤粉末が塗布された材料接触表面を有する下杵３３・・・の各々、滑沢剤粉末が塗布された材料接触表面を有する上杵３１・・・の各々を用いて、順次、圧縮成形（打錠）し、錠剤を製造する。
この時、製造される錠剤を観察する。
そして、必要により、製造される錠剤の表面に付着する滑沢剤粉末の付着量を減らすため、制御装置１２１から吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の駆動量を大きくする等の調整し、臼３２・・・の各々の材料接触表面、下杵３３・・・の各々の材料接触表面、及び、上杵３１・・・の各々の材料接触表面へ塗布する滑沢剤粉末の塗布量を減らす。
この錠剤の製造装置Ｓａでは、以上のような調整を終了した後、上記で決定した条件で、工業的生産ベースで、本格的に、錠剤を製造する。
尚、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、同じ成形材料から同じ大きさ・形状の錠剤を製造する場合であって、ロータリ型打錠機８１の構成や、駆動量等を変更しない場合には、上記で決定した条件を、制御装置１２１の記憶部に記憶させておけば、２回目以降の錠剤の製造を簡単に開始することができる。
この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、錠剤を製造している途中において、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ２ａ以上になれば、安全確認ランプが消灯し、第１の警報装置（図示せず。）から警報を出力するようにして、操作者等に、粉塵爆発の可能性があることを警告（ｗａｒｎｉｎｇ）するようにしている。
これにより、操作者等は、第１の警報装置（図示せず。）から警報が出力された時点で、錠剤の製造装置Ｓａの点検・補修をすることで、錠剤を製造している途中において、この錠剤の製造装置Ｓａ内やその周辺において、粉塵爆発が生じるのを未然に防ぐことができる。
更に、この錠剤の製造装置Ｓａでは、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、錠剤を製造している途中において、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した酸素の濃度（検出値）が、他方のしきい値（自動運転停止酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ３ａになれば、ガス発生装置Ｇ（より特定的に説明すると、ガス発生装置Ｇを構成するブロアー１１１）、吸引手段１０１及びロータリ型打錠機８１を自動的に停止するようにしているので、この錠剤の製造装置Ｓａ内やその周辺において、粉塵爆発が生じない。
また、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、錠剤を製造している途中において、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末の濃度（検出値）が、一方のしきい値（警報発報爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ２ｂ以上になれば、安全確認ランプが消灯し、第２の警報装置（図示せず。）から警報を出力するようにして、操作者等に、粉塵爆発の可能性があることを警告（ｗａｒｎｉｎｇ）するようにしている。
これにより、操作者等は、第２の警報装置（図示せず。）から警報が出力された時点で、錠剤の製造装置Ｓａの点検・補修をすることで、錠剤を製造している途中において、この錠剤の製造装置Ｓａ内やその周辺において、粉塵爆発が生じるのを未然に防ぐことができる。
更に、この錠剤の製造装置Ｓａでは、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、錠剤を製造している途中において、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した滑沢剤粉末濃度（検出値）が、他方のしきい値（自動運転停止爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ３ｂになれば、ガス発生装置Ｇ（より特定的に説明すると、ガス発生装置Ｇを構成するブロアー１１１）、吸引手段１０１及びロータリ型打錠機８１を自動的に停止するようにしているので、この錠剤の製造装置Ｓａ内やその周辺において、粉塵爆発が生じない。
この錠剤の製造方法では、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散させるようにしているので、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスを一定にしている限り、一定量のガスに対して、一定量の滑沢剤粉末を混和し、分散させることができる。
このように、この錠剤の製造方法では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。
即ち、この錠剤の製造方法では、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの発生量（流量、圧力等）を決定すれば、後は、ガスの発生量（流量、圧力等）を一定にするだけで、常に、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造方法を用いれば、一旦、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・にギシツキを生じない量となるように、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの発生量（流量、圧力等）を調整すれば、後は、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの（流量、圧力等）を一定に維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造方法は、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造方法として適している。
のみならず、この錠剤の製造方法では、ガス発生手段Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内のガス中に含まれる酸素の濃度を爆発下限界酸素濃度以下としているので、ガス発生手段Ｇから滑沢剤塗布装置９１までの装置内において、粉塵爆発を生じない。
また、滑沢剤塗布装置９１の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発下限界酸素濃度以下としているので、滑沢剤塗布装置９１の近傍においても、粉塵爆発を生じない。
のみならず、この錠剤の製造方法では、余剰滑沢剤粉末吸引ステップにおいて、吸引手段１０１（より特定的に説明すると、吸引手段１０１を構成する吸引ダクト（導管）Ｔ３）内の滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下としているので、吸引手段１０１（より特定的に説明すると、吸引手段１０１を構成する吸引ダクト（導管）Ｔ３）内において、粉塵爆発を生じない。
のみならず、この錠剤の製造装置Ｓａでは、帯電防止手段を設けているので、静電気による火花が発生しない。これにより、この錠剤の製造装置を用いれば、錠剤を製造する工程において、粉塵爆発が生じない。
また、この錠剤の製造装置Ｓａでは、第１の警報装置（図示せず。）を設け、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、錠剤を製造している際に、酸素濃度測定装置１３１ａが検出した検出値が、他方のしきい値（自動運転停止酸素濃度しきい値）Ｖｔｈ３ａ以上になれば、錠剤の製造装置Ｓａを、直ちに、自動停止するようにしているので、この錠剤の製造装置を用いれば、錠剤を製造する工程において、粉塵爆発が生じない。
また、この錠剤の製造装置Ｓａでは、第２の警報装置（図示せず。）を設け、この錠剤の製造装置Ｓａを用いて、錠剤を製造している際に、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａが検出した検出値が、他方のしきい値（自動運転停止爆発下限界濃度しきい値）Ｖｔｈ３ｂ以上になれば、錠剤の製造装置Ｓａを、直ちに、自動停止するようにしているので、この錠剤の製造装置を用いれば、錠剤を製造する工程において、粉塵爆発が生じない。
次に、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度の具体的な値と、爆発限界酸素濃度の具体的な値とについて説明する。
図４及び図５は、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度の具体的な値と、爆発限界酸素濃度の具体的な値とを求めるために、（株）環境衛生研究所（所在地：静岡県浜松市新都田１−６−２）で行った試験方法及び試験結果の抜粋である。
試料としては、医薬品の錠剤を製造する際に通常用いられている滑沢剤粉末、即ち、ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ）が用いられた。
この試験は、爆発試験、着火エネルギー試験及び爆発限界酸素濃度試験の３種類の試験により構成されている。
爆発試験は、３０リットルの容量を有する球形の爆発試験装置を使用し、着火源として火薬（１０ｋＪ）を使用して行われた。
この爆発試験は、３０リットルの容量を有する球形の爆発試験装置内の粉塵の濃度を、１２５ｇ／ｍ3、２５０ｇ／ｍ3、５００ｇ／ｍ3及び７５０ｇ／ｍ3の４種類の濃度にして、４種類の濃度の各々について行われた。
爆発試験の環境は、温度が２１℃であり、湿度が２１％であった。
粉塵の濃度が１２５ｇ／ｍ3、２５０ｇ／ｍ3、５００ｇ／ｍ3及び７５０ｇ／ｍ3の各々における最大圧力上昇速度（ｂａｒ／ｓｅｃ）は、９６７．３、１０９９．５、１０２８．０及び８２２．５であった。
また、粉塵の濃度が１２５ｇ／ｍ3、２５０ｇ／ｍ3、５００ｇ／ｍ3及び７５０ｇ／ｍ3の各々におけるＫｓｔ（ｂａｒ・ｍ／ｓｅｃ）は、３００．６、３４１．６、３１９．４及び２５５．６であった。
また、粉塵の濃度が１２５ｇ／ｍ3、２５０ｇ／ｍ3、５００ｇ／ｍ3及び７５０ｇ／ｍ3の各々におけるＫｓｔ（ｂａｒ・ｍ／ｓｅｃ）値に基づいて、爆発クラスは、「３」であると評価された。
また、粉塵の濃度が１２５ｇ／ｍ3、２５０ｇ／ｍ3、５００ｇ／ｍ3及び７５０ｇ／ｍ3の各々における最大爆発圧力（ｂａｒ）は、７．７１、８．６８、８．１２及び７．４１であった。
また、着火エネルギー試験は、吹き上げ式着火エネルギ測定装置を使用して行われた。
この着火エネルギー試験は、吹き上げ式着火エネルギ測定装置内の粉塵の濃度を、２５０ｇ／ｍ3、５００ｇ／ｍ3及び７５０ｇ／ｍ3の３種類の濃度にして、３種類の濃度の各々について行われた。
試料は、デシケータ中に２４時間放置し、十分に乾燥させたものを使用した。
吹き上げ式着火エネルギ測定装置内の粉塵の濃度が２５０ｇ／ｍ3の条件下における着火エネルギは、０．３ｍＪ＜着火エネルギ＜１ｍＪであった。
以上の爆発試験及び着火エネルギ試験の結果から、試料は、爆発の激しさが特に大きい粉じんであり、着火エネルギも１ｍＪ（以下）と低いため、静電気による着火・爆発の危険性がある、という評価がなされた。
また、試料は、ガスバーナーの火炎上で燃えるため、試料を取り扱う設備付近の火気に注意が必要である、という評価がなされた。
従来は、ステアリン酸マグネシウム及びこれに類する滑沢剤粉末を使用する小型装置（例えば、小規模実験装置）には暴爆対策を施す必要があるという認識はされていなかったが、今回の試験結果から、ステアリン酸マグネシウム及びこれに類する滑沢剤粉末を使用する装置、特に、ステアリン酸マグネシウム及びこれに類する滑沢剤粉末の使用量が多くなる工業的生産ラインで用いられる大型装置等には、暴爆対策を十分に施す必要がある、ということが明らかになった。
爆発限界酸素濃度試験の試験条件、試験方法及び試験装置の概略は、図４に示されている。
まず、爆発限界酸素濃度試験で用いる試験装置の概要について説明する。
試験装置は、図４中、３．装置概略の欄に図示されている。
即ち、爆発限界酸素濃度試験で用いる試験装置は、コンプレッサーと、４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクと、窒素ボンベと、１．３リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクと、ハルトマン式爆発試験装置とを備える。４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクとコンプレッサーとは導管で接続されており、コンプレッサーを駆動することで発生させた空気が４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクへ供給されるようになっている。また、４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクと窒素ボンベとは導管で接続されており、窒素ボンベから発生させた窒素ガスが４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクへ供給されるようになっている。
以上の構成により、コンプレッサーの駆動量と、窒素ボンベから放出する窒素ガスの放出量を適宜調整することで、４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンク内のガス中に含まれる酸素濃度を種々変えることができるようになっている。
また、４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクには導管が接続されている。この導管は、途中で、２つの導管に分岐し、一方の分岐管は、１．３リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクに接続され、他方の分岐管は、ハルトマン式爆発試験装置に上方に設けられたパージ用ノズルに接続されている。
また、他方の分岐管の途中には、バルブ（パージ用バルブ）が設けられている。
また、１．３リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクには導管の一端が接続されている。１．３リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクにその一端が接続された導管の他端は、ハルトマン式爆発試験装置の試料皿の下方位置に設けられている。
１．３リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクと、ハルトマン式爆発試験装置とをつなぐ導管の途中には、ソレノイドバルブが設けられている。
ハルトマン式爆発試験装置は、ガラス製の筒状形状のケース（以下、「爆発円筒」という。）を備え、爆発円筒内に、下方から上方に、順に、試料を収容する試料皿、放電電極及び着火目印線が設けられた構成になっている。
着火目印線は、放電電極の上方に、放電電極から１００ｍｍ離れた位置に設けられている。
また、放電電極には、高圧電流が供給されるようになっており、放電電極に、高圧電流を流せば、放電電極から放電が生じるようになっている。
爆発円筒の上部には、フィルターが挟み込めるようになっている。
また、パージ用ノズルは、爆発円筒の上部から下部まで入れることができるようになっている。
次に、爆発限界酸素濃度試験の試験条件の概要について説明する。
爆発限界酸素濃度試験の試験条件は、図４中、１．試験条件の欄に示されている。
即ち、爆発限界酸素濃度試験は、以下の条件で行われた。
▲１▼爆発限界酸素濃度試験は、常温、常圧で行われた。
▲２▼希釈気体として、窒素（Ｎ２）が用いられた。
▲３▼酸素濃度は、最高２１％とし、１８％、１５％、１２％で行い、１２％で試料が爆発する場合には、更に、１％ずつ酸素濃度を下げて実験を行い、試料が爆発しない酸素濃度になれば、その濃度より１％酸素の濃度が高い酸素濃度で、試料が爆発するかしないかを観察した。
▲４▼試料は、ふるい分けせずに試験に使用した。
▲５▼上記▲３▼の酸素濃度で、試料が爆発するかしないかを観察することで、試料の爆発限界酸素濃度を求めた。
次に、爆発限界酸素濃度試験の試験方法の概要について説明する。
爆発限界酸素濃度試験の試験方法は、図４中、２．試験方法の欄に示されている。
即ち、爆発限界酸素濃度試験は、以下の方法で行われた。
▲１▼まず、試験機内の粉塵が所定濃度となるように試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））をはかり取り、この試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））を試料皿に均等に置いた。
この爆発限界酸素濃度試験は、試験機内の粉塵の濃度を、適宜、変更して行われた。
▲２▼次に、爆発円筒をセットし、爆発円筒の上部に、フィルターを挟み込んだ後、フィルターを突き破るようにして、パージ用ノズルは、爆発円筒の上部から下部まで入れた。
▲３▼次に、４０リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクとパージ用ノズルとの間をつないでいる分岐管の途中に設けられているバルブ（パージ用バルブ）を開き、所定の酸素濃度のガスを爆発円筒内に送り込み、爆発円筒内の空気を、所定の酸素濃度のガスに置換した。
▲４▼次に、パージ用ノズルを爆発円筒から引き抜き、爆発円筒の上部をフィルターによりシールする。
▲５▼次に、ソレノイドバルブを開き、１．３リットル（Ｌｉｔｅｒ）タンクにその一端が接続され、ハルトマン式爆発試験装置の試料皿の下方位置に設けられている導管の他端から、所定の酸素濃度のガスを０．７０Ｋｇｆ／ｃｍ2の圧力で供給し、試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））を爆発円筒内に分散させた後、放電電極に高圧電流を流して、放電電極から放電を行い、この時に、爆発円筒内に分散させた試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））が着火したか否かを目視で観察した。
▲６▼爆発円筒内に分散させた試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））が着火したか否かの判断は、放電電極の上方に、放電電極から１００ｍｍ離れた位置に設けられている着火目印線を、放電電極からの放電により、爆発円筒内に分散させた試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））が着火した炎の上端が超えた場合を着火と判断した。
爆発限界酸素濃度試験の試験結果は、図５中、４．試験結果の欄に示されている。
図５中、４．試験結果の欄に示されているテーブル及びグラフから、試料（ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ））の爆発限界酸素濃度は、温度が２０℃以上２１℃以下の範囲で、湿度が、２１％以上３５％以下の場合には、１１％以上１２％以下であることが明らかになった。
次に、上記と同様の爆発限界酸素濃度試験を、試料として、ステアリン酸カルシウム（日本薬局方品：日本油脂社製、粒子径：１０μｍ））を用いて行った所、試料（ステアリン酸カルシウム（日本薬局方品：日本油脂社製、粒子径：１０μｍ））の爆発限界酸素濃度は、温度が２０℃以上２１℃以下の範囲で、湿度が、２１％以上３５％以下の場合には、１３％以上１４％以下であることが明らかになった。
次に、労働省産業安全研究所の静電気安全指針を見た所、爆発限界酸素濃度が１３％以上１４％以下の場合には、粉塵爆発を防ぐためには、酸素濃度を８％以下で管理することが望ましく、また、爆発限界酸素濃度が１１％以上１２％以下の場合には、粉塵爆発を防ぐためには、酸素濃度を５％以下で管理することが望ましい、とされていることが判った。
また、ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ）の爆発下限界濃度（ｇ／ｍ3）を調べた所、ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ）の酸素濃度２１％気体中では、爆発下限界濃度（ｇ／ｍ3）は、３０ｇ／ｍ3以上５０ｇ／ｍ3以下であることが判った。
また、同様にステアリン酸カルシウム（日本薬局方品：日本油脂社製、粒子径：１０μｍ）の爆発下限界濃度（ｇ／ｍ3）を調べた所、ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ）の爆発下限界濃度（ｇ／ｍ3）は、６０ｇ／ｍ3以上７０ｇ／ｍ3以下であることが判った。
その後、各種の滑沢剤粉末（粒子径：１０μｍ）についても爆発限界酸素濃度試験と爆発下限界濃度について調査した所、他の滑沢剤粉末（粒子径：１０μｍ）の爆発限界酸素濃度及び爆発下限界濃度の各々は、ステアリン酸マグネシウム（日本薬局方品：純正化学社製、粒子径：１０μｍ）やステアリン酸カルシウム（日本薬局方品：日本油脂社製、粒子径：１０μｍ）の爆発限界酸素濃度及び爆発下限界濃度の各々と近似していることが判った。
次に、この錠剤の製造装置Ｓａを構成する酸素除去装置１１２に求められる酸素除去能力について例示的に説明する。
酸素除去装置１１２としては、その酸素除去能力が、通常、工業的生産採算ベースで錠剤を製造する際に、滑沢剤塗布装置９１から、ロータリ型打錠機８１の臼（図２３に示す臼３２・・・を参照）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の材料接触表面へ滑沢剤粉末を塗布する際に用いるガス中の酸素濃度を、爆発限界酸素濃度より十分に低い濃度にすることができる酸素除去能力が必要とされる。
通常、工業的生産採算ベースで錠剤を製造する際には、滑沢剤塗布装置９１から、ロータリ型打錠機８１の臼（図２３に示す臼３２・・・を参照）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の材料接触表面へ滑沢剤粉末を塗布するには、噴霧流量として、最大で、約５０ＮＬ／分（ｍｉｎ．）が必要とされ、制御流量として、最大で、約７０ＮＬ／分（ｍｉｎ．）が必要とされる。
尚、滑沢剤塗布装置９１から、ロータリ型打錠機８１の臼（図２３に示す臼３２・・・を参照）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の材料接触表面へ滑沢剤粉末を塗布する際の、噴霧流量の最大値及び制御流量の最大値は、本発明者等が、通常、工業的生産採算ベースで錠剤を製造することができる市販のロータリ型打錠機を用い、本発明に係る錠剤の製造装置Ｓａを組み立てて、実際に、種々の錠剤を製造してみて、錠剤を製造する際に、製造される錠剤に、スティッキングや、ラミネーティングや、キャッッピング等の打錠障害が生じないようにするために必要な、滑沢剤塗布装置９１から、ロータリ型打錠機８１の臼（図２３に示す臼３２・・・を参照）の各々の材料接触表面、上杵３１・・・の材料接触表面、及び、下杵３３・・・の材料接触表面への噴霧流量及び制御流量に安全係数として、１．２を乗じた値である。
このような噴霧流量と制御流量とを合計した圧縮空気（流量＝１２０ＮＬ／分（ｍｉｎ．））をブロアー１１１から発生させ、市販の種々の酸素除去装置を通過させた結果、この例で用いている酸素除去装置１１２は、流量＝１２０ＮＬ／分（ｍｉｎ．）中に含まれる酸素の濃度を、０．５％以下とできることが判った。
尚、錠剤の製造装置Ｓａを構成する酸素除去装置１１２としては、図６のグラフに示すような酸素除去能力以上の能力を持った酸素除去装置を用いるのが好ましいことを付記しておく。
次に、錠剤の製造装置Ｓａを実際に組み立て、錠剤の製造装置Ｓａを用いて実際に錠剤を製造し、この時の錠剤の製造装置Ｓａ内及びその周辺の酸素濃度、滑沢剤粉末濃度を測定した。
尚、図１中、酸素濃度測定装置１３１ｄは、錠剤の製造装置Ｓａの吸引手段１０１を構成する吸引ダクト（導管）Ｔ３内の酸素濃度を測定するために設けたものである。
錠剤の製造装置Ｓａの酸素除去装置１１２付近の装置内の酸素濃度は、酸素濃度測定装置１３１ｃによって測定できる。
また、錠剤の製造装置Ｓａの滑沢剤粉末吐出装置５１付近の装置内の酸素濃度は、酸素濃度測定装置１３１ｂによって測定できる。
また、錠剤の製造装置Ｓａの滑沢剤塗布装置９１付近の酸素濃度は、酸素濃度測定装置１３１ａによって測定できる。
また、錠剤の製造装置Ｓａの集塵経路付近の装置内の酸素濃度は、酸素濃度測定装置１３１ｄによって測定できる。
また、図１中、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ｂ、１０３ｃ、１０３ｄは、錠剤の製造装置Ｓａ内の滑沢剤粉末の濃度を測定するために設けたものである。
錠剤の製造装置Ｓａの酸素除去装置１１２付近の装置内の滑沢剤粉末の濃度は、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ｄによって測定できる。
また、錠剤の製造装置Ｓａの滑沢剤粉末吐出装置５１付近の装置内の滑沢剤粉末の濃度は、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ｃによって測定できる。
また、錠剤の製造装置Ｓａの滑沢剤塗布装置９１付近の滑沢剤粉末の濃度は、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ｂによって測定できる。
また、錠剤の製造装置Ｓａの集塵経路付近の装置内の酸素濃度は、滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａによって測定できる。
以上の錠剤の製造装置Ｓａを用いて、上述した製造方法に従って、製造される錠剤に打錠障害が生じていない錠剤を工業的生産採算ベースで製造した。
ブロアー１１１を駆動して、ブロアー１１１から圧縮空気（流量＝１００ＮＬ／分（ｍｉｎ．））を発生させた。
酸素除去装置１１２付近の装置内の酸素濃度は、０．５％以下であった。
また、酸素除去装置１１２付近の装置内の粉末の濃度は、０ｇ／ｍ3であった。
また、酸素除去装置１１２付近の装置への静電気の帯電は観察されなかった。
以上の結果から、酸素除去装置１１２付近では、酸素濃度が爆発限界酸素濃度に比べて著しく低く、粉末（可燃物）は、存在しておらず、しかも、酸素除去装置１１２付近の装置への静電気の帯電は観察されなかったため、粉体爆発が生じることがない、ことが明らかになった。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１付近の装置内の酸素濃度は、０．５％以下であった。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１付近の粉末の濃度は、３３．５ｇ／ｍ3であった。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１付近の装置への静電気の帯電は観察されなかった。
以上の結果から、滑沢剤粉末吐出装置５１付近では、粉末の濃度は、爆発下限界濃度よりも高くなっているが、酸素濃度が爆発限界酸素濃度に比べて著しく低く、しかも、滑沢剤粉末吐出装置５１付近の装置への静電気の帯電は観察されなかったため、粉体爆発が生じることがない、ことが明らかになった。
また、滑沢剤塗布装置９１付近の酸素濃度は、０．５％以下であった。
また、滑沢剤塗布装置９１付近の粉末の濃度は、３３．３ｇ／ｍ3であった。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１付近の装置への静電気の帯電は観察されなかった。
以上の結果から、滑沢剤塗布装置９１付近では、粉末の濃度は、爆発下限界濃度よりも高くなっているが、酸素濃度が爆発限界酸素濃度に比べて著しく低く、しかも、滑沢剤塗布装置９１付近の装置への静電気の帯電は観察されなかったため、粉体爆発が生じることがない、ことが明らかになった。
集塵経路付近の装置内の酸素濃度は、２１％であった。
また、集塵経路付近の装置内の粉末の濃度は、０．９１ｇ／ｍ3であった。
また、集塵経路付近の装置への静電気の帯電は観察されなかった。
以上の結果から、集塵経路付近では、酸素濃度は、爆発限界酸素濃度に比べて高くなっているが、粉末（可燃物）は、爆発下限界濃度よりも十分に低く維持され、しかも、集塵経路付近の装置への静電気の帯電は観察されなかったため、粉体爆発が生じることがない、ことが明らかになった。
（発明の実施の形態２）
図７は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す構成図である。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂは、ガス発生装置Ｇａとして、図１に示すガス発生装置Ｇに、更に、脈動ガス振動波発生装置４１を接続した装置を用いている。
より詳しく説明すると、ガス発生装置Ｇａは、ブロアー１１１と、ブロアー１１１を駆動することにより、ブロアー１１１から導管Ｔｍ内へ送り出される圧縮空気中の酸素を除去する酸素除去装置１１２と、脈動ガス振動波発生装置４１とを備える。
脈動ガス振動波発生装置４１は、ブロアー１１１を駆動することにより発生させ、酸素除去装置１１２により、酸素が除去されたガスを脈動ガス振動波（図１１（ａ）及び図１１（ｂ）の各々に例示するような一定の周期で脈動するガス）に変換する装置である。
脈動ガス振動波発生装置４１と制御装置１２１とは、信号線（図示せず。）を介して信号のやりとりができるようになっており、制御装置１２１から、脈動ガス振動波発生装置４１を駆動したり、停止したり、駆動量を制御することで、所望の周波数、所望の波形を有する脈動ガス振動波を発生できるようになっている。
尚、脈動ガス振動波発生装置４１の構成及び脈動ガス振動波については、後ほど、詳しく説明するので、ここでの詳しい説明は省略する。
また、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂでは、ブロアー１１１、導管Ｔ０、酸素除去装置１１２、導管Ｔｍ、脈動ガス振動波発生装置４１、導管Ｔ１、滑沢剤粉末吐出装置５１、導管Ｔ２及び滑沢剤塗布装置９１までは、気密系にされている。
より具体的に説明すると、ブロアー１１１の送風口には、導管Ｔ０の一端が気密に接続され、導管Ｔ０の他端には、酸素除去装置１１２の供気口が気密に接続され、酸素除去装置１１２の排気口には、導管Ｔｍの一端が気密に接続され、導管Ｔｍの他端には、脈動ガス振動波発生装置４１のガス供給ポート（図３２に示すガス供給ポート４２ａを参照）が気密に接続され、脈動ガス振動波発生装置４１のガス排出ポート（図３２に示すガス排出ポート４２ｂ）には、導管Ｔ１の一端が密に接続され、導管Ｔ１の他端には、滑沢剤粉末吐出装置５１の空気供給口（図１２に示すガス供給口５５ａ）が気密に接続され、滑沢剤粉末吐出装置の排出口（図１２に示す排出口５５ｂ）には導管Ｔ２の一端が気密に接続され、導管Ｔ２の他端には、滑沢剤噴霧装置９１の滑沢剤導入口が気密に接続されており、ブロアー１１１の吸気口から滑沢剤噴霧装置９１の上杵塗布用滑沢剤噴霧口（図２６に示す上杵塗布用滑沢剤噴霧口９４）までのガス流通経路が気密にされている。
滑沢剤粉末吐出装置５１へ脈動振動ガスを供給する際には、脈動ガス振動波発生装置（図３２に示す脈動ガス振動波発生装置４１を参照）を駆動することで、ブロアー１１１を駆動することにより、ブロアー１１１から導管Ｔｍ内へ送り出され、酸素除去装置１１２により酸素が除去されたガスを、脈動振動ガスに変換し、このようにして変換された脈動振動ガスを滑沢剤粉末吐出装置５１に供給する。
このように、脈動ガス振動波発生装置４１を設けた場合にあっては、脈動ガス振動波発生装置（図７に示す脈動ガス振動波発生装置４１を参照）から発生させる脈動振動ガスの周期、振幅は、制御装置１２１により制御できるようになる。
即ち、滑沢剤粉末吐出装置５１から吐出される滑沢剤粉末の量は、滑沢剤粉末吐出装置５１に脈動振動ガスを供給する場合にあって、ブロアー１１１の駆動量を一定にした場合には、滑沢剤粉末吐出装置５１に供給する脈動振動ガスの周波数に依存するようになっている。
従って、滑沢剤粉末吐出装置５１に供給する脈動振動ガスの周波数を高くすると滑沢剤粉末吐出装置５１から吐出される滑沢剤粉末の吐出量を多くすることができるので、滑沢剤噴霧装置９１へ高濃度の滑沢剤粉末を供給することができる。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１に供給する脈動振動ガスの周波数を低くすると滑沢剤粉末吐出装置５１から吐出される滑沢剤粉末の吐出量を少なくすることができるので、滑沢剤噴霧装置９１へ低濃度の滑沢剤粉末を供給することができる。
尚、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂの他の構成は、図１に示した錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａと同様であるので、ここでの説明は、省略する。
次に、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂの動作について説明する。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂを用いて、錠剤を製造する際には、錠剤の原料となる、粉体材料を準備する。
次に、錠剤の原料となる、粉体材料をロータリ型打錠機８１の粉体材料貯蔵ホッパー（図示せず。）内に収容する。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１に滑沢剤粉末を収容する。
次に、制御装置１２１の電源を投入し、酸素濃度測定装置１３１ａ及び滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａの各々を動作状態にする。
次に、ロータリ型打錠機８１を駆動状態にし、回転テーブル３４、複数の上杵３１・・・、及び、複数の下杵３４・・・を回転駆動する。
次に、ブロアー１１１、脈動ガス振動波発生装置４１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を所望の駆動量で駆動させる。
尚、この錠剤の製造装置Ｓｂの動作は、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂを動かす際に、ブロアー１１１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を所望の駆動量で駆動する以外に、脈動ガス振動波発生装置４１を所望の駆動量で駆動し、滑沢剤塗布装置９１への滑沢剤粉末の供給量が少ない場合には、ブロアー１１１の駆動量を変化させない場合であっても、脈動ガス振動波発生装置４１の駆動量を上げれば、滑沢剤塗布装置９１への滑沢剤粉末の供給量を増加させることができるようになっており、また、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂを停止させる際（自動運転停止させる場合を含む。）に、ブロアー１１１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を停止させる以外に、脈動ガス振動波発生装置４１を停止させるようにしている以外は、錠剤の製造装置Ｓａの動作と同様であるので、ここでの説明は、省略する。
（発明の実施の形態３）
図８は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す構成図である。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃは、ガス発生装置Ｇａとして、不燃性ガス発生装置１１１ａを用い、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａでは必須の構成装置であった酸素除去装置１１２を設けていない以外は、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａと、同様の構成になっているので、相当する部材装置については、相当する参照符号を付して、その説明を省略する。
不燃性ガス発生装置１１１ａとしては、例えば、窒素（Ｎ２）ガス、ヘリウム（Ｈｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス等の不活性ガス等の不燃性ガスが詰められたガスボンベを用いる。
また、図８中、ｖ１１１ａで示す部材は、不燃性ガス発生装置１１１ａから滑沢剤粉末吐出装置５１へ供給する不燃性ガスの流量、圧力を調整するためのバルブである。
尚、この例では、バルブｖ１１１ａとして、ソレノイド等を用いた電磁バルブを使用している。このバルブｖ１１１ａと制御装置１２１とは、信号線（図示せず。）を介して信号のやりとりができるようになっており、制御装置１２１から信号を送出することで、バルブｖ１１１ａの開閉量を制御することで、不燃性ガス発生装置１１１ａから発生させる不燃性ガスの流量、圧力を調整できるようにしている。
次に、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃの動作について説明する。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃを用いて、錠剤を製造する際には、錠剤の原料となる、粉体材料を準備する。
次に、錠剤の原料となる、粉体材料をロータリ型打錠機８１の粉体材料貯蔵ホッパー（図示せず。）内に収容する。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１に滑沢剤粉末を収容する。
次に、制御装置１２１の電源を投入し、酸素濃度測定装置１３１ａ及び滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａの各々を動作状態にする。
次に、ロータリ型打錠機８１を駆動状態にし、回転テーブル３４、複数の上杵３１・・・、及び、複数の下杵３４・・・を回転駆動する。
次に、不燃性ガス発生装置１１１ａに設けられているバルブｖ１１１ａを所望の開口量にし、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を所望の駆動量で駆動させる。
尚、この錠剤の製造装置Ｓｃの動作は、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃを動かす際に、不燃性ガス発生装置１１１ａに設けられているバルブｖ１１１ａを所望の開口量にし、また、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃを停止させる際（自動運転停止させる場合を含む。）に、バルブｖ１１１ａを閉じる以外は、錠剤の製造装置Ｓａの動作と同様であるので、ここでの説明は、省略する。
（発明の実施の形態４）
図９は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す構成図である。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｄは、ガス発生装置Ｇｂとして、不燃性ガス発生装置１１１ａを用いた錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂのガス発生装置Ｇａに、更に、脈動ガス振動波発生装置４１を接続した装置を用いている以外は、図８に示す錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃと同様であるので、相当する部材装置については、相当する参照符号を付して、その説明を省略する。
次に、この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｄの動作について説明する。
この錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｄを用いて、錠剤を製造する際には、錠剤の原料となる、粉体材料を準備する。
次に、錠剤の原料となる、粉体材料をロータリ型打錠機８１の粉体材料貯蔵ホッパー（図示せず。）内に収容する。
また、滑沢剤粉末吐出装置５１に滑沢剤粉末を収容する。
次に、制御装置１２１の電源を投入し、酸素濃度測定装置１３１ａ及び滑沢剤粉末濃度測定装置１０３ａの各々を動作状態にする。
次に、ロータリ型打錠機８１を駆動状態にし、回転テーブル３４、複数の上杵３１・・・、及び、複数の下杵３４・・・を回転駆動する。
次に、不燃性ガス発生装置１１１ａに設けられているバルブｖ１１１ａを所望の開口量にし、脈動ガス振動波発生装置４１及び吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を所望の駆動量で駆動させる。
尚、この錠剤の製造装置Ｓｃの動作は、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃを動かす際に、不燃性ガス発生装置１１１ａに設けられているバルブｖ１１１ａを所望の開口量にし、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を所望の駆動量で駆動する以外に、脈動ガス振動波発生装置４１を所望の駆動量で駆動し、滑沢剤塗布装置９１への滑沢剤粉末の供給量が少ない場合には、バルブｖ１１１ａの開口量を変化させない場合であっても、脈動ガス振動波発生装置４１の駆動量を上げれば、滑沢剤塗布装置９１への滑沢剤粉末の供給量を増加させることができるようになっており、また、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂを停止させる際（自動運転停止させる場合を含む。）に、バルブｖ１１１ａを閉じた状態にし、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の各々を停止させる以外に、脈動ガス振動波発生装置４１を停止させるようにしている以外は、錠剤の製造装置Ｓｃの動作と同様であるので、ここでの説明は、省略する。
次に、本発明に係る錠剤の製造装置Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄを構成している部材装置の構成について、詳しく説明する。
尚、以下の説明では、本発明に係る錠剤の製造装置Ｓａ、Ｓｂ、Ｓｃ、Ｓｄの中、錠剤の製造装置Ｓｂの構成を中心に説明する。
（錠剤の製造装置Ｓｂを構成する部材装置の説明）
図１０は、錠剤の製造装置（以下、単に、「外部滑沢式打錠機」という。）Ｓｂを概略的に示す全体構成図である。
この外部滑沢式打錠機Ｓｂは、脈動ガス振動波発生装置４１と、滑沢剤粉末吐出装置５１と、ロータリ型打錠機８１と、ロータリ型打錠機８１の所定の位置に設けられた、滑沢剤塗布装置９１と、滑沢剤塗布装置９１から噴霧された滑沢剤の中、余分な滑沢剤を除去する滑沢剤吸引装置１０１と、ブロアー１１１と、酸素除去装置１１２と、この外部滑沢式打錠機Ｓの全体を制御・統括する制御装置１２１とを備える。
この外部滑沢式打錠機Ｓでは、ブロアー１１１と脈動ガス振動波発生装置４１との間は、導管Ｔｍにより接続されており、ブロアー１１１を駆動することにより発生させた圧縮空気が、酸素除去装置１１２により、圧縮空気中に含まれる酸素が除去された後、脈動ガス振動波発生装置４１に供給されるようになっている。
脈動ガス振動波発生装置４１と、滑沢剤粉末吐出装置５１との間は、導管Ｔ１により接続されている。そして、脈動ガス振動波発生装置４１は、導管Ｔｍを介して送られてきた酸素が除去された圧縮ガスを、正圧の脈動ガス振動波に変換して、導管Ｔ１に供給するようになっている。
図１１は、正圧の脈動ガス振動波を例示的に説明する説明図である。
ここに、「脈動ガス振動波」は、圧力が変動する空気の波を意味する。
また、「正圧」は、外部滑沢式打錠機Ｓの外の圧力（大気圧）に比べ、圧力が高いことを意味する。
また、導管Ｔ１に供給される、正圧の脈動ガス振動波は、図１１（ａ）に示すように、脈動ガス振動波の振幅の山が、正圧で、谷が、大気圧の脈動ガス振動波であってもよく、また、図１１（ｂ）に示すように、脈動ガス振動波の振幅の山と谷とがともに正圧の脈動ガス振動波であってもよい。
滑沢剤粉末吐出装置５１と、滑沢剤塗布装置９１との間は、導管Ｔ２により接続されている。
滑沢剤粉末吐出装置５１は、導管Ｔ１を介して、正圧の脈動ガス振動波が供給されると、正圧の脈動ガス振動波に、滑沢剤粉末を、定量的に混和し、分散し、滑沢剤粉末が定量的に混和し、分散された、正圧の脈動ガス振動波を、導管Ｔ２に供給するようになっている。
導管Ｔ２に、正圧の脈動ガス振動波とともに供給された、滑沢剤粉末は、導管Ｔ２内を、正圧の脈動ガス振動波により気力輸送されて、滑沢剤塗布装置９１内へと供給され、滑沢剤塗布装置９１内に収容されている、上杵３１の表面（下面）Ｓ３１、臼３２の表面（内周面）Ｓ３２及び下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に、順次、吹き付けられるようになっている。
滑沢剤塗布装置９１と、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１との間は、導管Ｔ３により接続されている。
そして、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１を駆動すれば、導管Ｔ３を介して、滑沢剤塗布装置９１内において、上杵３１の表面（下面）Ｓ３１、臼３２の表面（内周面）Ｓ３２及び下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に吹き付けられた、滑沢剤粉末の中、余分な滑沢剤粉末が、導管Ｔ３を介して、吸引除去されるようにされている。
次に、外部滑沢式打錠機Ｓを構成する、各部材装置について、更に詳しく説明する。
図１２は、滑沢剤粉末吐出装置を概略的に示す説明図である。
この滑沢剤粉末吐出装置５１は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２と、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料排出口５２ａに気密に接続された筒状体５３と、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料排出口５２ａに開閉可能に設けられた材料切出弁５４と、筒状体５３の底面をなすように設けられた弾性体膜Ｅｔと、筒状体５３の下方に、弾性体膜Ｅｔを介在させて気密に接続された分散室５５とを備える。
また、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内には、その材料排出口５２ａの近傍位置に、ガス噴射手段５６、５６が設けられている。
図１３は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２を更に詳しく説明する説明図であり、図１３（ａ）は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２を概略的に示す斜視図であり、また、図１３（ｂ）は、図１３（ａ）に示す滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の要部を概略的に示す平面図である。
ガス噴射手段５６、５６の各々は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の内周面に概ね接線方向に、設けられている。
より具体的に説明すると、ガス噴射手段５６、５６の各々は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２のコーン部５２ｄの領域の、材料排出口５２ａの上方の外周側の位置に、材料排出口５２ａに対し、概ね、接線方向に設けられている。
尚、図１２及び図１３では、ガス噴射手段５６が、２個設けられた例を示したが、ガス噴射手段５６の数は、２個に限られず、１個であってもよく、又、３個以上設けられていてもよい。また、ガス噴射手段５６を２個以上設ける場合にあっては、ガス噴射手段５６・・・の各々のガス吹出口５６ａ・・・は、ガス吹出口５６ａ・・・の各々からを噴射されるガスが同一回転方向を向くように設ける。
また、図１２中、５２ｃで示す部材は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料投入口５２ｂに、着脱自在に設けられる、蓋体を示している。
この例では、蓋体５２ｃは、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料投入口５２ｂに、気密に取り付けられるようになっている。
滑沢剤貯蔵用ホッパー５２には、大気と連通するように設けられた導管Ｔ４が接続されている。
更に、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２と導管Ｔｍとは、導管Ｔ５により接続されている。導管Ｔ５の途中には、開閉バルブｖ２と、圧力調節弁ｖｐ２とが設けられている。
尚、導管Ｔ５の途中に設けられている、Ｆ１で示す部材装置は、導管Ｔ５内に供給される空気中のダストを除去するフィルターを示している。尚、フィルターＦ１は、必要により設けられる部材である。
ガス噴射手段５６、５６の各々と、導管Ｔｍとは、導管Ｔ６により接続されている。尚、図１２では、ガス噴射手段５６、５６の一方のガス噴射手段５６への導管Ｔ６の接続状態のみを示し、他方のガス噴射手段５６への導管Ｔ６の接続状態についての図示は、省略している。
導管Ｔ６の途中には、圧力調節弁ｖｐ３が設けられている。
尚、導管Ｔ６の途中に設けられている、Ｆ２で示す部材装置は、導管Ｔ６内に供給される空気中のダストを除去するフィルターを示している。尚、フィルターＦ２は、必要により設けられる部材である。
この例では、材料切出弁５４は、弁体５４ｂと、弁体５４ｂを上下に移動させる開閉駆動手段（アクチュエータ）５４ａとを備える。
材料切出弁５４の開閉駆動は、空気によって行われるようになっている。
即ち、材料切出弁５４と、導管Ｔｍとは、導管Ｔ７により接続されている。
この導管Ｔ７は途中で分岐して２本の分岐管Ｔ７ａ、Ｔ７ｂにされ、材料切出弁５４の開閉駆動手段（アクチュエータ）５４ａに接続されている。
導管Ｔ７の途中には、切換バルブｖ３が設けられ、この例では、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が開いた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が閉じた状態にすれば、材料切出弁５４の弁体５４ｂが下方に移動して、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料排出口５２ａを開いた状態にし、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ｂ側が開いた状態にし、分岐管Ｔ７ａを閉じた状態にすれば、材料切出弁５４の弁体５４ｂが上方に移動して、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料排出口５２ａを閉じた状態にするようにされている。
尚、分岐管Ｔ７ａ、Ｔ７ｂの各々の途中に設けられている、Ｆ３で示す部材は、導管Ｔ７内に供給される空気中のダストを除去するフィルターを示している。尚、フィルターＦ３、Ｆ３は、必要により設けられる部材である。
次に、弾性体膜Ｅｔの構成について説明する。
図１４は、弾性体膜Ｅｔを概略的に示す平面図である。
弾性体膜Ｅｔは、シリコーンゴム等の合成ゴム等の弾性材料で製されており、その中央に貫通孔Ｅｔａを有する。この例では、弾性体膜Ｅｔの貫通孔Ｅｔａは、スリット形状にされている。
弾性体膜Ｅｔは、筒状体５３と分散室５５との間に、弾性体膜取付具５１を用いて取り付けられている。
図１５は、滑沢剤粉末吐出装置５１で用いる弾性体膜取付具に、弾性体膜を取り付けた状態を概略的に示す斜視図であり、図１６は、図１５に示す弾性体膜取付具の構成を概略的に示す分解斜視図であり、また、図１７は、図１５に示す弾性体膜取付具の構成を概略的に示す断面図である。
この弾性体膜取付具６１は、台座６２と、突き上げ部材６３と、押さえ部材６４とを備える。
台座６２には、中空ｈ１が設けられており、中空ｈ１の外周には、突き上げ部材６３を載置するための、リング状の載置面Ｓ１が設けられている。更に、台座６２には、中空ｈ１をリング状に取り囲むようにＶ溝Ｄｖが設けられている。
突き上げ部材６３は、中空ｈ２を有する。この例では、突き上げ部材６３は、図１７に示すように、その下面に、段差部Ｑ１が設けられており、台座６２上に、突き上げ部材３を載置すると、段差部Ｑ１が、台座６２の載置面Ｓ１上に位置するようにされている。
また、この例では、突き上げ部材６３を台座６２上に載置した際に、突き上げ部材６３の段差部Ｑ１より下方に延設するように設けられている下方延設部Ｑ２が、台座６２の中空ｈ１内に収まるようにされている。即ち、突き上げ部材６３の下方延設部Ｑ２は、その外径Ｄ２が、台座６２の中空ｈ１の内径Ｄ１に等しいか、やや小さい寸法に精密加工されている。
更に、この例では、突き上げ部材６３は、その上方部Ｑ３の外周に、断面視した場合、上側から下側が広がる傾斜面が設けられている。
押さえ部材６４は、中空ｈ３を有する。また、押さえ部材６４の、台座６２に向き合う表面Ｓ４には、台座６２の表面に設けられたＶ溝Ｄｖに嵌まり合うように、リング形状の、Ｖ字形状の突起Ｃｖが設けられている。
尚、図１５及び図１６中、６５で示す部材は、ボルト等の締付手段を示している。
また、図１６中、ｈ４で示す孔は、台座６２に形成された、締付手段６５の固定孔を、また、ｈ６で示す孔は、押さえ部材６４に形成された、締付手段６５の固定孔を、各々、示している。また、図１６中、ｈ５で示す孔は、台座６２に形成され、目的とする装置へ、弾性体膜取付具６１を、ボルト等の固定手段（図示せず。）により取り付けるための固定孔を、また、ｈ７で示す孔は、押さえ部材６４に形成され、目的とする装置へ、弾性体膜取付具６１を、ボルト等の固定手段（図示せず。）により取り付けるための固定孔を、各々、示している。
この例では、押さえ部材６４の中空ｈ３の内径Ｄ４は、突き上げ部材６３の外径Ｄ３に等しいか、やや大きい寸法に精密加工されている。
次に、この弾性体膜取付具６１に弾性体膜Ｅｔを取り付ける手順について説明する。
弾性体膜取付具６１に弾性体膜Ｅｔを取り付ける際には、まず、台座６２の表面に、突き上げ部材６３を載置する。
次いで、突き上げ部材６３上に、弾性体膜Ｅｔを載置する。
次に、突き上げ部材６３及び弾性体膜Ｅｔをともに覆うように、突き上げ部材６３上に押さえ部材６４を載置する。この時、台座６２に形成された固定孔ｈ４・・・の各々と、押さえ部材６４に形成された固定孔ｈ６・・・の各々とを整列させるようにする。
次に、ボルト等の締付手段６５・・・の各々を、固定孔ｈ４・・・、及び、固定孔ｈ６・・・の各々に螺合等することで、台座６２に対して、押さえ部材４を締め付けていく。
この弾性体膜取付具６１では、台座６２上に載置した突き上げ部材６３上に、弾性体膜Ｅｔを載置し、押さえ部材６４を台座６２に対して締め付けていくと、弾性体膜Ｅｔは、突き上げ部材６３により、押さえ部材６４方向に突き上げられる。この結果、弾性体膜Ｅｔは、押さえ部材６４方向により突き上げられることで、弾性体膜Ｅｔの内側から外周側に引き伸ばされる。
最初のうちは、突き上げ部材６３により、引き伸ばされた弾性体膜Ｅｔは、突き上げ部材６３の外周面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３を形成する面（内周面）との間の隙間を介して、台座６２の表面に設けられているＶ溝Ｄｖと、押さえ部材６４の、台座６２に向き合う表面に設けられているＶ字形状の突起Ｃｖとの間に嵌挿されていく。
更に、ボルト等の締付手段６５・・・の各々により、押さえ部材６４を台座６２に対して締め付けていくと、弾性体膜Ｅｔは、突き上げ部材６３により、押さえ部材６４方向に突き上げられた状態のまま、突き上げ部材６３の外周面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３の内周面との間に、挟持される。且つ、突き上げ部材６３により、押さえ部材６４方向により突き上げられることで、弾性体膜Ｅｔの内側から外周側に引き伸ばされた部分が、台座６２の表面に設けられているＶ溝Ｄｖと、押さえ部材６４の、台座６２に向き合う表面に設けられているＶ字形状の突起Ｃｖとの間に、挟持される。
即ち、この弾性体膜取付具６１では、台座６２上に載置した突き上げ部材６３上に、弾性体膜Ｅｔを載置し、押さえ部材６４を台座６２に対して締め付けていくと、弾性体膜Ｅｔが、突き上げ部材６３により、押さえ部材６４方向に突き上げられ、これにより、弾性体膜Ｅｔが、その内方側から外周側に引き伸ばされた状態にされ、更に、このようにして、突き上げ部材６３により引き伸ばされた弾性体膜Ｅｔの外周部分が、台座６２の表面に設けられたＶ溝Ｄｖと、押さえ部材６４の、台座６２に向き合う表面に設けられたＶ字形状の突起Ｃｖに挟持される結果、この弾性体膜取付具６１では、台座６２上に載置した突き上げ部材６３上に、弾性体膜Ｅｔを載置し、押さえ部材６４を台座６２に対して締め付けていくという簡単な操作で、弾性体膜Ｅｔを、均等に張った状態にすることができる。
更に、この弾性体膜取付具６１では、突き上げ部材６３の外周に、断面視した場合、上側から下側が広がる傾斜面Ｑ３を設けている。
この傾斜面Ｑ３は、この弾性体膜取付具６１では、重要な要素になっているので、この作用について、以下に詳しく説明する。
即ち、この弾性体膜取付具６１では、突き上げ部材６３の外周に、断面視した場合、上側から下側が広がる傾斜面Ｑ３を設けているので、弾性体膜Ｅｔは、押さえ部材６４方向により突き上げられることで、弾性体膜Ｅｔの内側から外周側に引き伸ばされた部分が、台座６２の表面に、リング状に設けられているＶ溝Ｄｖと、押さえ部材６４の、台座６２に向き合う表面に、リング状に設けられているＶ字形状の突起Ｃｖとの間に、移行し易い。
より具体的に説明すると、突き上げ部材６３の傾斜面Ｑ３の外径が、押さえ部材６４の中空ｈ３の内径Ｄ４より十分に小さい関係にある時は、弾性体膜Ｅｔは、突き上げ部材６３の傾斜面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３を形成している表面との間の隙間（間隔）が十分にあるため、突き上げ部材６３により、弾性体膜Ｅｔの内側から外側に引き伸ばされた部分は、この隙間（間隔）を通って、台座６２の表面に、リング状に設けられているＶ溝Ｄｖ方向へ、たやすく、誘導される。
また、突き上げ部材６３の外周に設けられている傾斜面Ｑ３は、断面視した場合、上側から下側が広がるようにされているので、突き上げ部材６３により、弾性体膜Ｅｔの内側から外側に引き伸ばされた部分は、この傾斜面Ｑ３の表面に沿って、台座６２の表面に、リング状に設けられているＶ溝Ｄｖ方向へ誘導される。
そして、ボルト等の締付手段６５・・・の各々を、固定孔ｈ４・・・、及び、固定孔ｈ６・・・の各々に螺合等して、台座６２に対して、押さえ部材６４を締め付けていくことで、突き上げ部材６３の傾斜面Ｑ３の外径が、押さえ部材６４の中空ｈ３の内径Ｄ４に次第に接近し、突き上げ部材６３の傾斜面Ｑ３の傾斜面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３を形成している表面との間の隙間（間隔）が、概ね、弾性体膜Ｅｔの厚み（肉厚）程度になると、弾性体膜Ｅｔは、突き上げ部材６３の傾斜面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３を形成している表面との間に挟持されることになる。
以上の作用によっても、この弾性体膜取付具６１では、台座６２上に載置した突き上げ部材６３上に、弾性体膜Ｅｔを載置し、その後、ボルト等の締付手段６５・・・の各々を用いて、押さえ部材６４を台座６２に対して締め付けていくという簡単な操作で、弾性体膜Ｅｔを、均等に張った状態にすることができる。
また、ボルト等の締付手段６５・・・の各々を用いて、押さえ部材６４を台座６２に対して締め付けていくと、突き上げ部材６３の外周の傾斜面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空の内周面との間隔が次第に狭くなり、突き上げ部材６３の外周面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３の内周面との間に、しっかりと挟持されるため、押さえ部材６４を台座６２に締め付けた後において、弾性体膜Ｅｔが弛むことがない。
また、この弾性体膜取付具６１では、弾性体膜Ｅｔを取り付ければ、弾性体膜Ｅｔが、突き上げ部材６３の傾斜面Ｑ３と、押さえ部材６４の中空ｈ３を形成している表面との間と、押さえ部材６４の、台座６２に向き合う表面に、リング状に設けられているＶ字形状の突起Ｃｖと、台座６２に、リング状に設けられているＶ字形状の溝Ｄｖとの間とに、２重にロックされた状態になるため、押さえ部材６４を台座６２に締め付けた後において、弾性体膜Ｅｔが弛むことがない。
この滑沢剤粉末吐出装置５１では、弾性体膜Ｅｔを取り付けた弾性体膜取付具６１の押さえ部材６４を筒状体５３の下部に気密に取り付け、台座６２を分散室５５の上部に気密に取り付けている。
また、この滑沢剤粉末吐出装置５１は、図１０に示すように、分散室５５と筒状体５３との間にバイパス管Ｔｖを備えている。このバイパス管Ｔｖは、分散室５５内の圧力と筒状体５３の圧力との平衡を速く達成するために設けられているものである。
また、下部筒体部５３ｂには、図１２に示すように、下部筒体部５３ｂの弾性体膜Ｅｔ上に堆積貯留する滑沢剤粉末の量を検出するレベルセンサー７１が付設されている。レベルセンサー７１は、赤外線や可視光線等の光を発光する発光素子７１ａと、発光素子７１ａより照射された光を受光する受光素子７１ｂとを備える。発光素子７１ａと、受光素子７１ｂとは、下部筒体部５３ｂを挟むようにして、対向配置されている。
そして、レベルセンサー７１を設ける位置（弾性体膜Ｅｔからレベルセンサー７１の設けられる位置の高さ）Ｈｔｈで、下部筒体部５３ｂ内の弾性体膜Ｅｔ上に堆積貯留される滑沢剤粉末の量を検出できるようになっている。
即ち、下部筒体部５３ｂ内の弾性体膜Ｅｔ上に堆積貯留される滑沢剤粉末の量が、レベルセンサー７１を設ける位置（弾性体膜Ｅｔからレベルセンサー７１の設けられる位置の高さ）Ｈｔｈを超えると、発光素子７１ａから照射された光が、滑沢剤粉末により遮られ、受光素子７１ｂで受光できなくなる（オフになる。）ので、この時、下部筒体部５３ｂ内の弾性体膜Ｅｔ上に堆積貯留される滑沢剤粉末の弾性体膜Ｅｔ上からの高さＨが、高さＨｔｈを超えていることが検出できる（Ｈ＞Ｈｔｈ）。
また、下部筒体部５３ｂ内の弾性体膜Ｅｔ上に堆積貯留される滑沢剤粉末の量が、レベルセンサー７１を設ける位置（弾性体膜Ｅｔからレベルセンサー７１の設けられる位置の高さ）Ｈｔｈ未満になると、発光素子７１ａから照射された光が、受光素子７１ｂで受光できる（オンになる。）ので、この時、下部筒体部５３ｂ内の弾性体膜Ｅｔ上に堆積貯留される滑沢剤粉末の弾性体膜Ｅｔ上からの高さＨが、高さＨｔｈ未満になっていることが検出できる（Ｈ＜Ｈｔｈ）。
この例では、材料切出弁５４は、レベルセンサー７１の検出値に応じて、上下に移動して、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の排出口５２ａを閉じたり、開いたりできるようになっている。より詳しく説明すると、滑沢剤粉末吐出装置５１では、滑沢剤粉末吐出装置５１を駆動している間、レベルセンサー７１の発光素子７１ａを点灯した状態にしておき、発光素子７１ａから照射された光を、受光素子７１ｂで受光できなくなる（オフになる。）と、材料切出弁５４を上方に移動させて、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の排出口５２ａを閉じ、発光素子７１ａから照射された光を、受光素子７１ｂで受光すると（オンになる。）と、材料切出弁５４を下方に移動させて、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の排出口５２ａを、受光素子７１ｂで受光できなくなる（オフになる。）まで、開いた状態にすることで、滑沢剤粉末吐出装置５１を駆動している間、下部筒体部５３ｂ内の弾性体膜Ｅｔ上に、常に、概ね一定量の滑沢剤粉末が貯留堆積するようにしてある。
分散室５５は、その内部において、正圧の脈動ガス振動波が旋回流になり易いように、その内部の形状が、概ね円筒形状にされている。尚、ここでは、分散室５５の内部の形状が、概ね円筒形状にされている例を示しているが、分散室５５の内部の形状は、その内部において、正圧の脈動ガス振動波が旋回流になり易い形状にされていればよく、その内部の形状は、必ずしも、概ね円筒形状にされている場合に限定されることはない。
また、筒状体５３の下部筒体部５３ｂは、透明な樹脂で製されている。より特定的に説明すると、下部筒体部５３ｂは、例えば、ガラス、アクリル樹脂、ポリカーボネート樹脂等の光透過性を有する材料で製されている。
尚、下部筒体部５３ｂは、ポリカーボネート樹脂で製されていることが好ましく、更には、その内周面が、鏡面加工されていることが好ましい。
これは、下部筒体部５３ｂを、ポリカーボネート樹脂で製し、その内周面が、鏡面加工した場合には、他の材料を用いた場合に比べ、下部筒体部５３ｂの内周面に粉体材料が付着し難く、レベルセンサー７１の検出精度が高くなるからである。
また、分散室５５には、その下方の位置に、分散室５５の内周面の概ね接線方向に、脈動ガス振動波供給口５５ａが設けられ、その上方の位置に、分散室５５の内周面の概ね接線方向に、排出口５５ｂが設けられている。脈動ガス振動波供給口５５ａには、導管Ｔ５が接続されており、また、排出口５５ｂには、導管（例えば、図１２に示す導管Ｔ６を参照。）が接続されるようになっている。
また、再び、図１２を参照しながら説明すると、分散室５５には、その下方の位置に、分散室５５の内周面の概ね接線方向に、脈動ガス振動波供給口５５ａが設けられ、その上方の位置に、分散室５５の内周面の概ね接線方向に、排出口５５ｂが設けられている。
分散室５５の脈動ガス振動波供給口５５ａと脈動ガス振動波発生装置４１との間は、導管Ｔ１により接続されており、脈動ガス振動波発生装置４１を駆動すれば、脈動ガス振動波発生装置４１から発生した、正圧の脈動ガス振動波が、導管Ｔ１を介して、分散室５５内に供給されるようになっている。
また、排出口５５ｂと、滑沢剤塗布装置（図１０に示す滑沢剤塗布装置９１）との間は、導管（図１０に示す導管Ｔ２）により接続されている。
次に、分散室５５に設ける脈動ガス振動波供給口５５ａの位置について、図１８を用いて、更に、詳しく説明する。
図１８は、分散室５５を平面視した場合の、分散室５５に設ける脈動ガス振動波供給口５５ａの位置を模式的に示す平面図であり、図１８（ａ）は、分散室５５に対する、脈動ガス振動波供給口５５ａの好ましい取付位置を説明する説明図であり、図１８（ｂ）は、分散室５５に対する、脈動ガス振動波供給口５５ａの実質的な取付可能位置を説明する説明図である。
尚、図１８（ａ）及び図１８（ｂ）の各々に、曲線で示す矢印は、分散室５５内に発生する、正圧の脈動ガス振動波の旋回流の向きを模式的に示している。
分散室５５内に、正圧の脈動ガス振動波の旋回流を発生させるためには、分散室５５に対して、脈動ガス振動波供給口５５ａは、分散室５５の内周面に対して、概ね、接線方向（図１８（ａ）中、破線Ｌｔで示される方向）に設けられていることが好ましい。
しかしながら、脈動ガス振動波供給口５５ａは、図１８（ａ）に示すように、分散室５５の内周面に対して、概ね、接線方向に設けられている必要はなく、脈動ガス振動波供給口５５ａは、分散室５５内に、支配的な１個の旋回流を形成できる限り、図１８（ｂ）に示すように、分散室５５の内周面に対して、概ね、接線方向（例えば、図１８（ｂ）中、破線Ｌｔで示される方向）と等価な方向（即ち、分散室５５の内周面の接線方向（例えば、図１８（ｂ）中、破線Ｌｔ）に平行な方向）に設けられていてもよい。
尚、脈動ガス振動波供給口５５ａを、図１８（ｂ）中に、想像線Ｌｃで示すように、分散室５５の中心線方向に設けた場合には、分散室５５内の形状が、概ね円筒形状の場合には、いずれが支配的とも言えない２個の旋回流が発生するので、このような方向に設けるのは、分散室５５内に、正圧の脈動ガス振動波の旋回流を発生させることを考慮した場合には、あまり好ましいとは、言えない。
次いで、分散室５５に設ける脈動ガス振動波供給口５５ａと排出口５５ｂとの位置関係について、図１９を用いて、詳しく説明する。
図１９は、分散室５５を平面視した場合の、分散室５５に設ける脈動ガス振動波供給口５５ａと排出口５５ｂとの位置を模式的に説明する図であり、図１９（ａ）は、分散室５５に対する、脈動ガス振動波供給口５５ａと排出口５５ｂとの好ましい取付位置を説明する説明図であり、図１９（ｂ）は、分散室５５に対する、脈動ガス振動波供給口５５ａと排出口５５ｂとの実質的な取付可能位置を説明する説明図である。
尚、図１９（ａ）及び図１９（ｂ）の各々に、曲線で示す矢印は、分散室５５内に発生する、正圧の脈動ガス振動波の旋回流の向きを模式的に示している。
分散室５５に、排出口５５ｂを、図１９（ａ）に示すような位置に設けた場合には、分散室５５内に発生する、脈動ガス振動波の旋回流の向き（空気の進行方向）と逆方向に排出口５５ｂが設けられる関係になり、この場合には、排出口５５ｂにおける、空気に分散させて流動化させた滑沢剤粉末の排出効率を低く設定できる。
これとは逆に、排出口５５ｂにおける、空気に分散させて流動化させた滑沢剤粉末の排出効率を高くしたい場合には、図１９（ｂ）に例示的に示す、排出口５５ｂ１又は排出口５５ｂ２のように、分散室５５内に発生する、正圧の脈動ガス振動波の旋回流の向きと順方向に排出口５５ｂを設けるのが好ましい。
尚、分散室５５は、その内部において、正圧の脈動ガス振動波が旋回流になり易いように、その内部の形状が、概ね円筒形状にされている。尚、ここでは、分散室５５の内部の形状が、概ね円筒形状にされている例を示しているが、分散室５５の内部の形状は、その内部において、正圧の脈動ガス振動波が旋回流になり易い形状にされていればよく、その内部の形状は、必ずしも、概ね円筒形状にされている場合に限定されることはない。
尚、図１２中、７２で示す部材装置は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力を測定する圧力センサーを、また、７３で示す部材装置は、筒状体５３内の圧力を測定する圧力センサーを示している。
また、外部滑沢式打錠機Ｓでは、図１０に示すように、制御装置１２１と、各部材装置ｖ１、ｖ２、ｖ３、ｖ５、ｖ６、ｖ７、ｖｐ１、ｖｐ２、ｖｐ３、４１、７１、７２、７３、１０２、１１１の各々との間が、信号線により接続されており、制御装置１２１からの指令信号によって、各部材装置ｖ１、ｖ２、ｖ３、ｖ５、ｖ６、ｖ７、ｖｐ１、ｖｐ２、ｖｐ３、４１、７１、７２、７３、７１、１０２、１１１の各々を駆動したり、停止したり、所定量に調節したりすることができるようにされている。
次に、この滑沢剤粉末吐出装置５１の動作について説明する。
図２０は、滑沢剤粉末吐出装置５１の滑沢剤貯蔵用ホッパー５２に設けられてるガス噴射手段５６、５６及び材料切出弁５４の動作を模式的に示す説明図であり、図２１は、制御装置１２１の記憶部に予め記憶されている、ガス噴射手段５６、５６及び材料切出弁５４の動作プログラムを概略的に示すフローチャートである。
この滑沢剤粉末吐出装置５１では、材料切出弁５４の開閉は、以下の動作手順によって行われる。
まず、初期状態では、滑沢剤粉末吐出装置５１の材料切出弁５４は、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２の材料排出口５２ａを閉じた状態にされている。
作業者は、まず、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内に、滑沢剤粉末を貯蔵し、材料投入口５２ｂに、蓋体５２ｃを取り付ける（図２０（ａ）を参照）。
次に、ブロアー１１１を駆動する。とともに、脈動ガス振動波発生装置４１の回転カム４５を指定の回転速度で回転させることにより、導管Ｔ１内に、所定の流量、圧力、周波数、所望の波形の正圧の脈動ガス振動波を供給する。
また、圧力調節弁ｖｐ１、ｖｐ２、ｖｐ３、ｖｐ４の各々を、適宜、調節する。
開閉バルブｖ１、ｖ２、ｖ３の各々は、初期状態においては、閉じられた状態にされている。
次に、レベルサンサー７１をオンにし（ステップ１を参照。）、圧力センサー７２、７３を各々オンにする（ステップ２、３を参照）。
すると、上述したように、レベルサンサー７１の発光素子７１ａから照射された光が、受光素子７１ｂで受光される。受光素子７１ｂが、発光素子７１ａから照射された光を受光したという信号は、制御装置１２１へ送られる。
制御装置１２１は、受光素子７１ｂから、発光素子７１ａから照射された光を受光したという信号を受信すると、筒状体５４内の弾性体膜Ｅｔ上の滑沢剤粉末の高さＨは、しきい値Ｈｔｈ未満であると判断する（ステップ４を参照。）。
この場合、制御装置１２１は、ステップ６において、開閉バルブｖ１を開き、圧力調節バルブｖｐ３が所定時間開いた状態にする。これにより、ガス噴射手段５６、５６から、所定時間、ガスが噴射され、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内に貯留した滑沢剤粉末中に固結部が生じていたとしても、この固結部が崩される（図２０（ｂ）を参照）。
圧力センサー７２が測定した、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）と、圧力センサー７３が測定した、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）とは、制御装置１２１へと送られる。
制御装置１２１は、ガス噴射手段５６、５６から、所定時間、ガスが噴射された信号（圧力調節バルブｖｐ３が所定時間開いた後、再び、閉じられた信号）を受信すると、ガス噴射手段５６、５６から、所定時間、ガスが噴射された後の、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）と、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）とを比較する（ステップ７を参照。）。
制御装置１２１は、ステップ７において、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）と、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）とが等しい（Ｐｒ５２＝Ｐｒ５３）と判断した場合には、材料切出弁５４を開いた状態にする。即ち、この例では、制御装置（図示せず。）は、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が開いた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が閉じた状態にする。
これにより、材料切出弁５４が開いた状態になり、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内に貯留されている滑沢剤粉末が、筒状体５３へと排出される（図２０（ｃ）を参照）。
制御装置１２１は、その後、レベルサンサー７１の発光素子７１ａから照射された光を、受光素子７１ｂが、受光しなくなったという信号を受信すると、材料切出弁５４を閉じた状態にする。即ち、この例では、制御装置１２１は、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が閉じた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が開いた状態にする（ステップ１０を参照。）。
これにより、材料切出弁５４が閉じた状態になる（図２０（ａ）を参照）。
また、制御装置１２１は、ステップ７において、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）が、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）に比べて高いと判断した場合（Ｐｒ５２＞Ｐｒ５３）には、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）が、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）に等しくなるまで、開閉バルブｖ１を開いた状態にし、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）が、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）に概ね等しくなると、開閉バルブｖ１を再び閉じた状態にする（以上については、ステップ７及びステップ８を参照。）。その後、制御装置１２１は、ステップ７において、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）と、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）とが等しい（Ｐｒ５２＝Ｐｒ５３）と判断した場合には、材料切出弁５４を開いた状態にする。即ち、この例では、制御装置１２１は、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が開いた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が閉じた状態にする（ステップ１０を参照）。
その後、制御装置１２１は、その後、レベルサンサー７１の発光素子７１ａから照射された光を、受光素子７１ｂが、受光しなくなったという信号を受信すると、材料切出弁５４を閉じた状態にする。即ち、この例では、制御装置１２１は、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が閉じた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が開いた状態にする（ステップ５を参照。）。
また、制御装置１２１は、ステップ７において、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）が、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）に比べて低いと判断した場合（Ｐｒ５２＜Ｐｒ５３）には、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）が、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）に等しくなるまで、開閉バルブｖ２を開いた状態にし、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ５２）が、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）に等しくなると、開閉バルブｖ２を再び閉じた状態にする（以上については、ステップ７及びステップ８を参照。）。その後、制御装置１２１は、ステップ７において、滑沢剤貯蔵用ホッパー５２内の圧力（Ｐｒ２）と、筒状体５３内の圧力（Ｐｒ５３）とが等しい（Ｐｒ５２＝Ｐｒ５３）と判断した場合には、材料切出弁５４を開いた状態にする。即ち、この例では、制御装置（図示せず。）は、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が開いた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が閉じた状態にする。
制御装置１２１は、その後、レベルサンサー７１の発光素子７１ａから照射された光を、受光素子７１ｂが、受光しなくなったという信号を受信すると、材料切出弁５４を閉じた状態にする。即ち、この例では、制御装置１２１は、切換バルブｖ３を、分岐管Ｔ７ａ側が閉じた状態にし、分岐管Ｔ７ｂ側が開いた状態にする（ステップ５を参照。）。
図２２は、分散室５５に、正圧の脈動ガス振動波を供給した際に、弾性体膜Ｅｔ及びバイパス管Ｔｖの動作について模式的に説明する説明図である。
脈動ガス振動波発生装置４１を駆動すると、導管Ｔ１内へ、所望の流量、圧力、波長、波形の、正圧の脈動ガス振動波を供給される。
導管Ｔ１内へ供給された、正圧の脈動ガス振動波は、脈動ガス振動波供給口５５ａから分散室５５内に供給される。
分散室５５内に供給された、正圧の脈動ガス振動波は、分散室５５内で、下方から上方に向かって、竜巻のような渦巻き流のように旋回する、正圧の脈動ガス振動波となり、排出口５５ｂから排出される。
この分散室５５内において発生した、旋回する、正圧の脈動ガス振動波は、脈動ガス振動波としての性質は失われていないため、弾性体膜Ｅｔは、正圧の脈動ガス振動波の周波数、振幅、波形に従って振動する。
例えば、分散室５５内に送り込まれる、正圧の脈動ガス振動波が山の状態になり、分散室５５内の圧力Ｐｒ５５が、筒状体５３内の圧力Ｐｒ５３に比べて高くなった場合（圧力Ｐｒ５５＞圧力Ｐｒ５３）には、弾性体膜Ｅｔは、図２２（ａ）に示すように、その中央部が上方に湾曲した形状に弾性変形する。
この時、貫通孔Ｅｔａは、断面視した場合、貫通孔Ｅｔａの上側が開いた、概ねＶ字形状になり、このＶ字形状になった貫通孔Ｅｔａ内に、筒状体５３内の弾性体膜Ｅｔ上に貯留した滑沢剤粉末の一部が落下する。
また、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、筒状体５３と分散室５５との間の空気流通路を、弾性体膜Ｅｔに設けた貫通孔Ｅｔａと、バイパス管Ｔｖとの２系統にしているので、空気は、流通し易い方を通じて、筒状体５３と分散室５５との間を流れる。
即ち、図２２（ａ）に示したように、弾性体膜Ｅｔの貫通孔Ｅｔａを通じて、分散室５５から筒状体５３へ空気が流入する際には、バイパス管Ｔｖ内に、筒状体５３から分散室５５へと流れる気流が発生するため、弾性体膜Ｅｔの貫通孔Ｅｔａを通じて、分散室５５から筒状体５３へ空気が流入が、スムーズに行われる。
次いで、分散室５５内に送り込まれる、正圧の脈動ガス振動波が、その振幅の谷側に移行するにつれ、弾性体膜Ｅｔは、その復元力により、その中央が上方向に湾曲した形状から、元の状態に戻ってくる。この時、貫通孔Ｅｔａの形状も、上側が開いた、概ねＶ字形状から元の形状に戻るが、貫通孔Ｅｔａが、上側が開いた、概ねＶ字形状になった際に、貫通孔Ｅｔａ内に落下した、滑沢剤粉末が、貫通孔Ｅｔａに挟み込まれた状態になる（図２２（ｂ）を参照）。
この装置５１では、筒状体５３と分散室５５との間の空気流通路を、弾性体膜Ｅｔに設けた貫通孔Ｅｔａと、バイパス管Ｔｖの２系統にしているので、空気は、流通し易い方を通じて、筒状体５３と分散室５５との間を流れる。
即ち、図２２（ｂ）に示したような状態にあって、貫通孔Ｅｔａが閉塞している場合にあっても、バイパス管Ｔｖを通じて、筒状体５３から分散室５５へと空気が流れるため、分散室５５の圧力と筒状体５３の圧力とが、速やかに平衡状態になる。
次いで、分散室５５内に供給されている、正圧の脈動ガス振動波が、その振幅の谷になり、分散室５５の圧力が、低くなると、弾性体膜Ｅｔは、その中央が下方向に湾曲した形状に、弾性変形する。この時、貫通孔Ｅｔａは、断面視した場合、下側が開いた、概ね逆Ｖ字形状になる。そして、貫通孔Ｅｔａが、概ね逆Ｖ字形状になった際に、貫通孔Ｅｔａ内に挟み込まれていた、粉体材料が、分散室５５内に落下する（図２２（ｃ）を参照）。
この装置５１では、筒状体５３と分散室５５との間の空気流通路を、弾性体膜Ｅｔに設けた貫通孔Ｅｔａと、バイパス管Ｔｖの２系統にしているので、空気は、流通し易い方を通じて、筒状体５３と分散室５５との間を流れる。
即ち、図２２（ｃ）に示したような状態にあって、弾性体膜Ｅｔが、その中央が下方に湾曲した形状となり、筒状体５３の体積が大きくなった際には、バイパス管Ｔｖを通じて、分散室５５から筒状体５３へ、空気が流れ込むため、貫通孔Ｅｔａを通じての、分散室５５から筒状体５３への空気の流れ込みは、生じない。これにより、貫通孔Ｅｔａを通じて、分散室５５への滑沢剤粉末の排出が、安定して、定量的に、行われる。
このように、この装置５１では、バイパス管Ｔｖを、分散室５５と筒状体５３との間に設けるという構成を採用した結果、分散室５５内に、正圧の脈動ガス振動波を供給した際に、筒状体５３内の圧力と分散室５５内の圧力とが平衡になるのに要する時間が速くなり、正圧の脈動ガス振動波の振動に対して、弾性体膜Ｅｔの上下の振動の応答性が、優れている。この結果、貫通孔Ｅｔａを通じて行われる粉体の排出が、上手く行われる。
また、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、弾性体膜Ｅｔの、その中央部を振動の腹として、外周部を振動の節とする、上下方向の振動は、分散室５５内へ供給される、正圧の脈動ガス振動波の周波数、振幅、波形に従って、一義的に振動する。
従って、分散室５５内へ供給される、正圧の脈動ガス振動波を一定にしている限り、常に、一定量の滑沢剤粉末が、弾性体膜Ｅｔの貫通孔Ｅｔａを通じて、分散室５５内へ精度良く排出されるので、この滑沢剤粉末吐出装置５１を用いれば、滑沢剤粉末を、一定濃度で安定して、滑沢剤塗布装置９１に供給できる。
また、この滑沢剤粉末吐出装置５１には、分散室５５内へ供給する正圧の脈動ガス振動波の周波数、振幅、波形を制御すれば、目的とする場所（装置等）に供給する粉体材料の量を容易に変更することができるという利点をも合わせ持っている。
更に、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、分散室５５内において、正圧の脈動ガス振動波を、下方から上方に向かう旋回流にしているので、分散室５５内に排出された滑沢剤粉末中に、たとえ、凝集により粒径の大きい粒子が含まれていたとしても、その多くは、分散室５５内を旋回している、正圧の脈動ガス振動波に巻き込まれることにより、小さな粒径になるまで砕かれ、分散される。
また、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、分散室５５内において、正圧の脈動ガス振動波を、下方から上方に向かう旋回流にしているため、分散室５５は、サイクロンと同様の、分粒機能を有している。
これにより、概ね所定の粒径の滑沢剤粉末が、排出口５５ｂから、導管Ｔ２内へと排出される。
即ち、凝集した粒径の大きい粒子は、分散室５５内の下方の位置を旋回し続け、分散室５５内を旋回している、正圧の脈動ガス振動波に巻き込まれることにより、凝集塊が分散されつつ所定の粒径まで調整されてから、排出口５５ｂから導管Ｔ２内へと排出されるため、大粒の滑沢剤粉末が、滑沢剤塗布装置９１内へと噴霧されることがない。
また、排出口５５ｂに接続された導管Ｔ２内へ供給された滑沢剤粉末は、この導管Ｔ２の他端ｅ２まで、正圧の脈動ガス振動波により気力輸送されることになる。
これにより、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、導管内の粉体材料を、一定流量の定常圧空気により気力輸送するような装置に見られるような、導管内における、粉体材料の堆積現象や、導管内における、粉体材料の吹き抜け現象が発生し難い。
したがって、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、分散室５５の排出口５５ｂから、導管Ｔ２内へ排出された当初の滑沢剤粉末の濃度が維持された状態で、滑沢剤粉末が、導管Ｔ２の他端ｅ２から排出されるので、導管Ｔ２の他端ｅ２から噴霧される滑沢剤粉末の定量性を精密にコントロールすることができる。
更に、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、滑沢剤粉末吐出装置５１を動かしている間、弾性体膜Ｅｔ上に、常に、概ね、一定量（レベルセンサー７１を設ける位置（弾性体膜Ｅｔからレベルセンサー６２の設けられる位置の高さＨｔｈ））の滑沢剤粉末が存在するようにしているので、弾性体膜Ｅｔの貫通孔Ｅｔａから排出される滑沢剤の排出量が、弾性体膜Ｅｔ上に存在する、滑沢剤粉末の量が変動することで、変動するという現象が生じない。これによっても、この滑沢剤粉末吐出装置５１は、滑沢剤塗布装置９１へ、一定量の滑沢剤粉末を、安定して供給することができる。
また、この滑沢剤粉末吐出装置５１を用いれば、分散室５５内に、たとえ、凝集した大粒の粉体材料が排出されたとしても、その大部分が、分散室５５内を旋回している、正圧の脈動ガス振動波に巻き込まれることにより、凝集塊が分散されつつ所定の粒径まで調整されて排出口５５ｂから、導管Ｔ２内へと排出されるため、分散室５５内に、凝集した大粒の粉体材料が堆積し難い。
これにより、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、滑沢剤粉末吐出装置５１を、長時間、駆動しても、分散室５５内に、滑沢剤粉末が堆積することが殆ど無いため、分散室５５内を清掃する作業回数を減らすことができる。
したがって、この滑沢剤粉末吐出装置５１を備える外部滑沢式打錠機Ｓは、外部滑沢式打錠機Ｓを用いて、連続打錠を行っている最中に、分散室５５内を清掃する作業が、殆ど不要となるために、外部滑沢式打錠機Ｓを用いれば、外部滑沢錠剤（錠剤の内部に、滑沢剤を含まない錠剤）を、効率良く、製造することができる。
のみならず、この滑沢剤粉末吐出装置５１では、弾性体膜Ｅｔを、図１５、図１６及び図１７に示した弾性体膜取付具６１を用いることにより、張った状態にしているので、弾性体膜Ｅｔの弛みが原因となって、この滑沢剤粉末吐出装置５１の定量性が損なわれることもない。
尚、以上のような弾性体膜Ｅｔの貫通孔Ｅｔａを通じて行われる、分散室５５内への滑沢剤粉末の排出は、この滑沢剤粉末吐出装置５１の分散室５５内へ、正圧の脈動ガス振動波を供給している間、繰り返し行われる。
次に、ロータリ型打錠機８１の構成について説明する。
図２３は、ロータリ型打錠機８１を概略的に示す平面図である。
尚、ロータリ型打錠機８１としては、通常のロータリ型打錠機を用いている。即ち、このロータリ型打錠機８１は、回転軸に対して回転可能に設けられた回転テーブル３４と、複数の上杵（図１０に示す上杵３１・・・を参照。）と、複数の下杵（図１０に示す下杵３３・・・を参照。）とを備える。
回転テーブル３４には、複数の臼３２・・・が形成されており、複数の臼３２・・・の各々に対応するように、組となる上杵３１・・・と、下杵３３・・・とが設けられており、複数の上杵３１・・・と、複数の下杵３３・・・と、複数の臼３２・・・とは、同期して回転するようになっている。
また、複数の上杵３１・・・は、カム機構（図示せず。）によって、所定の位置で、回転軸の軸方向に上下に移動可能にされており、また、複数の下杵３３・・も、カム機構（図１０に示すカム機構３５を参照。）によって、所定の位置で、回転軸の軸方向に上下に移動可能にされている。
尚、図１０及び図２３中、３６で示す部材装置は、成形材料を臼３２・・・の各々内に充填するフィードシューを、３７で示す部材装置は、臼３２・・・の各々内に充填された成形材料を一定量にするための摺り切り板を、又、３８で示す部材装置は、製造された錠剤ｔを排出シュート３９へ排出するために設けられている錠剤排出用スクレーパを、各々、示している。
また、図２３中、Ｒ１で示す位置は、滑沢剤噴霧ポイントであり、この外部滑沢式打錠機Ｓでは、滑沢剤噴霧ポイントＲ１に、滑沢剤塗布装置９１が設けられている。より詳しく説明すると、滑沢剤塗布装置９１は、回転テーブル３４上に固定的に設けられており、回転テーブル３４、複数の上杵３１・・・、及び、複数の下杵３３・・・が回転することで、滑沢剤塗布装置９１に順次収容される、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の表面に、滑沢剤が塗布されるようになっている。尚、滑沢剤塗布装置９１における、臼３２・・・、上杵３１・・・及び下杵３３・・・の各々の表面への滑沢剤の塗布については、後ほど、詳しく説明する。
また、図２３中、Ｒ２で示す位置は、成形材料充填ポイントであり、成形材料充填ポイントＲ２において、フィードシュー３６により、臼３２及び臼３２内に所定の位置まで挿入されている下杵３３により形成されている空間内に、成形材料ｍが充填されるようになっている。
また、図２３中、Ｒ３で示す位置は、予備打錠ポイントであり、予備打錠ポイントＲ３において、臼３２及び下杵３３により形成されている空間内に充填され、摺り切り板３７によりこすり削られることで、所定の量にされた成形材料が、組となる上杵３１と下杵３３により、予備打錠されるようになっている。
また、図２３中、Ｒ４で示す位置は、本打錠ポイントであり、本打錠ポイントＲ４において、予備打錠された成形材料が、組となる上杵３１と下杵３３により、本格的に圧縮され、錠剤ｔに圧縮成形されるようになっている。
また、図２３中、Ｒ５で示す位置は、錠剤排出ポイントであり、錠剤排出ポイントＲ５において、下杵３３の上面が臼３２の上端まで挿入されることで、臼３２外に排出された錠剤ｔが、錠剤排出用スクレーパ３８により、排出シュート３９へ排出されるようになっている。
次に、滑沢剤塗布装置９１の構成について詳しく説明する。
図２４は、図２３中に示す滑沢剤塗布装置９１を更に拡大して概略的に示す平面図であり、また、図２５は、図２４中、ＸＸＩＶ−ＸＸＩＶ線に従う、滑沢剤塗布装置９１の構成を概略的に示す断面図である。
この滑沢剤塗布装置９１は、ロータリ型打錠機８１の回転テーブル３４上の所定の位置に、固定的に設けられるものである。
滑沢剤塗布装置９１の回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）Ｓ９１ａは、回転テーブル３４の表面Ｓ３４に接しているか微小な距離を離すようにされており、回転テーブル３４は、底面Ｓ９１ａに摺動するか、殆ど隙間の無い状態で回転するようにされている。
また、滑沢剤塗布装置９１は、その外表面Ｓ９１ｂに、導管Ｔ２を接続する、滑沢剤導入口９１ａを有する。
滑沢剤導入口９１ａより供給された、正圧の空気脈動波気流中に分散された滑沢剤粉末は、滑沢剤塗布装置９１を貫通する貫通孔９１ｈを通って、滑沢剤塗布装置９１の、回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）に送られ、貫通孔９１ｈの排出口９１ｂから、回転テーブル３４の臼３４内に所定の位置まで挿入された下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に吹き付けられるようになっている。
また、この例では、貫通孔９１ｈの排出口９１ｂから、空気に分散された滑沢剤粉末を下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に、概ね、垂直方向に吹き付けるようにしてある。
滑沢剤塗布装置９１の、回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）Ｓ９１ａには、貫通孔９１ｈの排出口９１ｂより、回転テーブル３４の回転方向と逆方向に、溝９２が形成されている。
下杵３３の表面（上面）Ｓ３３へ堆積した余分な滑沢剤粉末は、滑沢剤粉末とともに送られてくる空気により吹き飛ばされ、その一部が臼３２の表面（内周面）Ｓ３２に付着するようになっている。
更に、滑沢剤粉末は、滑沢剤粉末とともに送られてくる空気とともに、滑沢剤塗布装置９１の回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）に形成された溝９２と、回転テーブル３４の表面とにより形成される管部を通って、回転テーブル３４の回転方向と逆方向に送られるようになっている。
滑沢剤塗布装置９１の、回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）に設けられた溝９２の端部は、この滑沢剤塗布装置９１の回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）側に設けられた中空室９３につながっている。
中空室９３の上方には、滑沢剤塗布装置９１を貫通するようにスリット部９４が形成されている。
滑沢剤塗布装置９１の外表面側には、スリット部９４に沿って、回転テーブル３４の回転に同期して回転している上杵３１・・・を順次収容する上杵収容部９５が、上杵３１・・・の回転軌道に沿って形成されている。
上杵収容部９５の幅Ｗ９５は、上杵３１の直径に等しいか、これよりやや大きい大きさにされている。
また、スリット部９４の上方には、吸引ヘッド９６が設けられている。
尚、図２５中、９１ａは、導管Ｔ２が接続される接続口を示している。
吸引ヘッド９６の吸引口Ｈの大きさは、スリット部９４の全体を覆う大きさにされており、且つ、スリット部９４の形状と概ね相似の形状を有している。
この結果、吸引手段（図１０に示す集塵機１０２）を駆動させると、スリット部９４の一端ｅｓから他端ｅｅまでの間に、下方から上方に向かう気流が、一律に且つ均一に発生するようになっている。
これにより、錠剤を製造する際に、重力の関係により、滑沢剤粉末が付着し難い上杵３１の表面（下面）Ｓ３１に、上杵３１が、上杵収容部９５内を、スリット部９４の一端ｅｓから他端ｅｅまで移動する間に、時間をかけて滑沢剤粉末が付着されるようになっている。
更に、この例では、滑沢剤塗布装置９１の、滑沢剤噴霧ポイントの下流（成形材料充填ポイントの上流位置）に、回転テーブル３４上にあふれている滑沢剤粉末Ｌや、下杵３３の表面（上面）Ｓ３３及び臼３２の周側面Ｓ４３に余分に付着している滑沢剤粉末Ｌを除去するための滑沢剤吸引部９７を備えている。
滑沢剤吸引部９７には、ブロア等の吸引手段（図示せず。）が接続されており、吸引手段（図示せず。）を駆動すれば、その吸引口９７ａから、回転テーブル３４の臼３２の周辺に付着している余分な滑沢剤粉末、及び、臼３２のの表面（内周面）Ｓ３２や、下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に余分に付着・堆積している滑沢剤粉末を吸引除去できるようになっている。
吸引口９７ａは、回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）に、スリット形状（長尺形状）に設けられており、その長さ方向が、回転テーブル３４の外周から概ね中心方向に向いており、吸引口９７ａが、臼３２の部分を跨ぐように設けられている。
且つ、吸引口９７ａと排出口９１ｂとの距離は、臼３２の直径Ｄ３２より、やや大きい間隔を隔てるように設けられている。
これにより、滑沢剤吸引部９７に接続されているブロア等の吸引手段（図示せず。）を駆動すれば、常に、回転テーブル３４の臼３２の周辺が常にクリーンな状態に保たれるようになっている。その結果、回転テーブル３４の臼３２の周辺に付着している滑沢剤粉末が、臼３２内に落下することがないので、錠剤内部に滑沢剤粉末Ｌを一切含まない外部滑沢錠剤を連続的に打錠することができるようになっている。
次に、吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の構成について詳しく説明する。
図２６は、図１０に示す吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１の部分を中心にして拡大して概略的に示す構成図である。
吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０１は、集塵機１０２と、集塵機１０２に接続された、導管Ｔ３とを備える。
導管Ｔ３は、滑沢剤塗布装置９１の吸引ヘッド９６に接続されている。
また、導管Ｔ３は、途中で、２つの分岐管Ｔ３ａ、Ｔ３ｂにされ、更に、途中で、１本の導管Ｔ３ｃにまとめられてから、集塵機１０２に接続されている。
分岐管Ｔ３ａには、滑沢剤塗布装置９１に近い方から集塵機１０２方向に、開閉バルブｖ５と、光散乱式粉体濃度測定手段１０３ａが設けられている。
光散乱式粉体濃度測定手段１０３ａ替わりに、光透過式測定装置１０５を用いてもよい。
測定セル１０４は、石英等で製されており、分岐管Ｔ７ａの途中に接続されている。
光散乱式測定装置１０５は、レーザー光線を照射するレーザ光線照射系装置１０５ａと、レーザ光線照射系装置１０５ａから照射され、被検出体により散乱した光を受光する散乱光受光系装置１０５ｂとを備え、Ｍｉｅ理論に基づいて、被検出体の流量、粒径、粒度分布及び濃度等を測定できるようになっている。この例では、レーザ光線照射系装置１０５ａと、散乱光受光系装置１０５ｂとは、測定セル１０４を挟むようにして、概ね対向配置されており、測定セル１０４の部分で、分岐管Ｔ３ａ内を流れる粉体（この例では、滑沢剤粉末）の流量、粒径、粒度分布及び濃度等を測定できるようにされている。
また、分岐管Ｔ３ｂには、開閉バルブｖ６が設けられている。
また、導管Ｔ７ｃには、開閉バルブｖ７が設けられている。
吸引手段（滑沢剤吸引装置）１０２を用いて、滑沢剤塗布装置９１内の、滑沢剤粉末の濃度を調節する際には、開閉バルブｖ５と開閉バルブｖ７とを開いた状態にし、導開閉バルブｖ６を閉じた状態にし、集塵機１０２を駆動する。
また、脈動ガス振動波発生装置４１及び滑沢剤粉末吐出装置５１を各々駆動することで、導管Ｔ２の先端ｅ２から、正圧の脈動ガス振動波に混和し、分散した、滑沢剤粉末を、正圧の脈動ガス振動波とともに、滑沢剤塗布装置９１内に供給する。
すると、滑沢剤塗布装置９１内に供給された滑沢剤粉末の一部は、滑沢剤塗布装置９１内に送り込まれてきている、上杵３１・・・の各々の表面（下面）Ｓ３１、下杵３３・・・の各々の表面（上面）Ｓ３３、及び、臼３２・・・の各々の内周面Ｓ３２への塗布に用いられるが、余分な滑沢剤粉末は、吸引ヘッドから、導管Ｔ３、分岐管Ｔ３ａ及び導管Ｔ３ｃを通って、集塵機１０２へと吸引される。
このとき、光散乱式粉体濃度測定手段１０３ａを構成する光透過式測定装置１０５を駆動させることで、測定セル１０４内、即ち、分岐管Ｔ３ａ内を流れる滑沢剤粉末の流量、粒径、粒度分布及び濃度等を測定する。
尚、以上のような操作を行っていると、測定セル１０４の内周面に、滑沢剤粉末が付着し、光透過式測定装置１０５が、測定セル１０４の内周面に付着した滑沢剤粉末の影響を受けて、分岐管Ｔ３ａ内を流れる、滑沢剤粉末の流量等を正確に測定できなくなるという問題が生じる。かかる場合には、光透過式測定装置１０５の測定値から、測定セル１０４の内周面に付着した滑沢剤粉末の影響分（ノイズ）を除去する補正が必要になるが、この装置１０２では、測定セル１０４の内周面に付着した滑沢剤粉末の影響分（ノイズ）を測定する際には、集塵機１０２を駆動した状態に維持して、開閉バルブｖ５を閉じ、開閉バルブｖ６を開いた状態にする。すると、吸引ヘッドＨから、導管Ｔ３内に吸引された、滑沢剤粉末は、分岐管Ｔ３ｂ及び導管Ｔ３ｃを通って、集塵機１０２へと吸引され、分岐管Ｔ３ａ内へは、滑沢剤粉末が通らなくなる。
この時、光散乱式測定装置１０５を駆動させれば、測定セル１０４へ付着している滑沢剤粉末の影響分（ノイズ）を測定できる。
この測定セル１０４へ付着している滑沢剤粉末の影響分（ノイズ）の測定値は、例えば、制御装置１２１の記憶手段に一時記憶させる。
その後、集塵機１０２を駆動した状態に維持して、開閉バルブｖ５を開き、開閉バルブｖ６を閉じた状態にし、分岐管Ｔ３ａ内へ、滑沢剤粉末を通すようにし、粉体濃度測定装置１０３ａを駆動し、分岐管Ｔ３ａ内を通る、滑沢剤粉末の流量等を測定し、予め、制御装置１２１の記憶手段に記憶させている、補正プログラムと、粉体濃度測定装置１０３ａへ付着している滑沢剤粉末の影響分（ノイズ）の測定値とに基づいて、光透過式測定装置１０５の測定値から、測定セル１０４へ付着している滑沢剤粉末の影響分（ノイズ）を除去した補正値を算出し、この補正値に基づいて、集塵機１０２の駆動量や、脈動ガス振動波発生装置２１の回転速度または／及び供給空気量駆動量を、適宜、調節することで、滑沢剤塗布装置９１内の滑沢剤粉末の濃度等を調節する。またその替わりに光透過式測定装置１３１を用いて、その測定値に基づいて、集塵機１０２の駆動量や、脈動ガス振動波発生装置７１の駆動量を、適宜、調節することで、滑沢剤塗布装置９１内の滑沢剤粉末の濃度等を調節してもよい。
次に、この外部滑沢式打錠機Ｓｂを用いて、錠剤を製造する工程を概略的に説明する。
尚、ここでは、外部滑沢式打錠機Ｓｂが正常運転している場合を中心に説明する。
まず、制御装置１２１に所定の動作条件を入力する。
また、滑沢剤貯留ホッパー５２内に、滑沢剤粉末を収容する。
また、ロータリ型打錠機８１のフィードシュー３６に、成形材料を貯留する。
次に、ロータリ型打錠機８１を駆動させるとともに、集塵機１０２を駆動する。
また、必要により、滑沢剤吸引部９７に接続されている吸引手段（図示せず。）を駆動する。
次に、制御装置１２１に入力された動作条件で、ブロアー１１１を駆動する。
とともに、脈動ガス振動波発生装置４１の回転カム４５を所定の回転速度で駆動させることにより、導管Ｔ１内へ、所定の流量、圧力、周波数、波形の正圧の脈動ガス振動波を供給する。
ここで、制御装置１２１に設けられている第１の警報装置（図示せず。）の安全確認ランプの点灯を確認する。
次に、レベルセンサー７１を動作状態にする。
レベルセンサー７１を動作状態にすると、図２２及び図２３に示した動作で、ガス噴射手段５６、５６及び材料切出弁５４が動作して、弾性体膜Ｅｔ上に、所定量の滑沢剤粉末が貯留される。
また、脈動空気発生装置４１より発生させた、正圧の脈動ガス振動波が、分散室５５に供給されることで、弾性体膜Ｅｔが上下に振動し、弾性体膜Ｅｔに設けられた貫通孔Ｅｔａを通じて、分散室５５内に、滑沢剤粉末は排出される。
分散室５５内に排出された滑沢剤粉末は、分散室５５内を旋回している、正圧の脈動ガス振動波に混和し、分散され、排出口５５ｂから導管Ｔ２内へと排出される。
導管Ｔ２内へ排出された、正圧の脈動ガス振動波に混和し、分散された、滑沢剤粉末は、導管Ｔ２内を、正圧の脈動ガス振動波により気力輸送され、滑剤噴霧室９１へと送られる。
滑沢剤塗布装置９１へ送られた滑沢剤粉末は、正圧の脈動ガス振動波とともに、滑沢剤導入口９１ａから、貫通孔９１ｈを通って、排出口９１ｂから、回転テーブル３４の回転によって、滑沢剤噴霧ポイントＲ１の位置にきている臼３２内に、所定の位置まで挿入された下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に吹き付けられる。
下杵３３の表面（上面）Ｓ３３へ堆積した余分な滑沢剤粉末は、滑沢剤粉末Ｌとともに送られてくる空気により吹き飛ばされ、その一部が臼３２の表面（内周面）Ｓ３２に付着する。
更に、滑沢剤粉末は、滑沢剤粉末とともに送られてくる空気とともに、滑沢剤塗布装置９１の回転テーブル３４に対向する側の表面（底面）に形成された溝９２と、回転テーブル３４の表面とにより形成される管部を通って、回転テーブル３４の回転方向と逆方向に送られ、中空室９３内へと供給される。
中空室９３内へと供給された滑沢剤粉末は、集塵機１０２を駆動させることにより、スリット部９４の上方に万遍なく発生させている、下方から上方に向かう気流に乗って、吸引ヘッド９６の吸引口Ｈ内へと移動する。
この時、上杵収容部９５を通過する、上杵３１の下面Ｓ３１に、上杵３１が、スリット部９４の一端ｅｓから他端ｅｅまで移動する間に滑沢剤粉末が付着する。
尚、余分な滑沢剤粉末は、吸引ヘッド９６を通じて除去される。
次に、回転テーブル３４の回転により、滑沢剤噴霧ポイントＲ１の下流に送られた臼３２、及び、回転テーブル３４の回転と同期するようにして、滑沢剤噴霧ポイントの下流に送られた下杵３３は、滑沢剤吸引部９７の吸引口９７ａの下を通る際に、回転テーブル３４の臼３２の周辺に付着している滑沢剤粉末と、臼３２の表面（内周面）Ｓ３２及び下杵３３の表面（上面）Ｓ３３に付着している余分な滑沢剤粉末が除去される。
次に、成形材料充填ポイントＲ２において、表面Ｓ３３に滑沢剤粉末が均一に塗布された下杵３３が所定の位置まで挿入され、表面（内周面）Ｓ３２に均一に滑沢剤粉末が塗布された臼３２内に、混合物（成形材料）が充填される。
その後、摺り切り板３７により、余分な混合物が除かれた後、予備打錠ポイントＲ３で、表面（下面）Ｓ３１に滑沢剤粉末が均一に塗布された上杵３１、表面（上面）Ｓ３３に滑沢剤粉末が均一に塗布された下杵３３、及び、表面（内周周面）Ｓ３２に滑沢剤粉末が均一に塗布された臼３２により、混合物（成形材料）が、予備圧縮された後、更に、本打錠ポイントＲ４で圧縮成形されて発泡剤ｔとなり、錠剤排出ポイントＲ５で、以上のようにして製造された錠剤ｔが、順次、排出シュート３９へ排出される。
そして、混合物（成形材料）を圧縮成形する際に、杵３１、３３の表面に均一に形成した滑沢剤粉末や、臼３２の表面に均一に形成した滑沢剤粉末の一部、又は、場合によっては、全部が、製造される錠剤ｔの表面に転写された発泡剤が製造される。
作業者は、排出シュート３９に排出された錠剤ｔ・・・を観察する。
そして、錠剤ｔ・・・に、スティッキングやキャッピングやラミネーティング等の打錠障害が発生したものが含まれている場合には、例えば、ブロアー１１１の駆動量や、集塵機１０２の駆動量等を、適宜、調節したり、脈動ガス振動波発生装置４１の駆動量を、適宜、調整（通常は、駆動量を上げて、脈動ガス振動波周波数を高くする。）したりすることによって、滑沢剤塗布装置９１内の滑沢剤粉末の濃度を高くなるように調節して、製造される錠剤ｔ・・・に、スティッキングやキャッピングやラミネーティング等の打錠障害が発生する頻度を低下させるようにする。更には、弾性体膜Ｅｔを、貫通孔Ｅｔａのサイズの大きいものに取り替えても良い。
この外部滑沢式打錠機Ｓｂは、以上のような優れた効果を有するため、この外部滑沢式打錠機Ｓｂを用いれば、従来、工業的な生産ベースでは製造するのが困難であった、錠剤（より特定的に規定すると、外部滑沢錠）を、工業的な生産採算ベースで、安定して、大量生産することができる。
一方、製造される錠剤ｔ・・・に、スティッキングやキャッピングやラミネーティング等の打錠障害は、発生していない場合であっても、錠剤ｔ・・・の組成を分析し、錠剤の組成中、滑沢剤の量が、予定量に比べ多くなっている場合には、例えば、ブロアー１１１の駆動量や、集塵機１０２の駆動量等を、適宜、調節したり、脈動ガス振動波発生装置４１の駆動量を適宜、調節（通常は、脈動ガス振動波発生装置４１の駆動量を低くし、脈動ガス振動波の周波数を低くする。）したりするとによって、滑沢剤塗布装置９１内の滑沢剤粉末の濃度が一定になるように調節し、上杵３１・・・の各々の表面、下杵３３・・・の各々の表面、及び、臼３２・・・の各々の表面に、塗布される滑沢剤粉末の量を一定になるように調節することで、上杵３１・・・の各々の表面、下杵３３・・・の各々の表面、及び、臼３２・・・の各々の表面から、錠剤ｔ・・・の各々の表面に転写される滑沢剤粉末の量を減らすようにする。更には、弾性体膜Ｅｔを、貫通孔Ｅｔａのサイズの小さいものに取り替えても良い。
次に、脈動ガス振動波発生装置４１の構成について更に詳しく説明する。
図２７は、脈動ガス振動波発生装置４１の構成を、概略的に示す断面図である。
脈動ガス振動波発生装置４１は、空気供給ポート４２ａと、空気排出ポート４２ｂとを備える中空室４２と、中空室４２内に設けられた弁座４３と、弁座４３を開閉するための弁体４４と、弁座４３に対して弁体４４を開閉させるための回転カム４５とを備える。
空気供給ポート４２ａには、導管Ｔｍが接続されており、また、空気排出ポート４２ｂには、導管Ｔ１が接続される。
また、図２７中、４２ｃで示す部分は、中空室４２に、必要により設けられる、圧力調整ポートを示しており、圧力調整ポート４２ｃには、圧力調整バルブｖ８が、大気との導通・遮断をするように設けられている。
弁体４４は、軸体４４ａを備え、軸体４４ａの下端には、回転ローラ４６が回転可能に設けられている。
また、脈動ガス振動波発生装置４１の装置本体４１ａには、弁体４４の軸体４４ａを、気密に且つ上下方向に移動可能に収容するための、軸体収容孔ｈ４１が形成されている。
回転カム４５は、内側回転カム４５ａと、外側回転カム４５ｂとを備える。内側回転カム４５ａ及び外側回転カム４５ｂの各々には、回転ローラ４６の概ね直径分の距離を隔てるようにして、所定の凹凸パターンが形成されている。
回転カム４５は、滑沢剤粉末の物性に応じて、滑沢剤粉末が混和し、分散し易い凹凸パターンを有するものが用いられる。
回転カム４５の内側回転カム４５ａとの外側回転カム４５ｂとの間には、回転ローラ４６が、回転可能に、嵌挿されている。
尚、図２７中、ａｘで示す部材は、モータ等の回転駆動手段（図１０に示す回転駆動手段４１Ｍ）の回転軸を示しており、回転軸ａｘには、回転カム４５が、交換可能に取り付けられるようになっている。
次に、脈動ガス振動波発生装置４１により、導管Ｔ１内へ、正圧の脈動ガス振動波を供給する方法について説明する。
導管Ｔ１内へ、正圧の脈動ガス振動波を供給する際には、まず、回転駆動手段４７の回転軸ａｘに、滑沢剤粉末の物性に応じて、滑沢剤粉末が混和し、分散し易い凹凸パターンを有する回転カム４５を取り付ける。
次に、ブロアー１１１を駆動することにより、導管Ｔ０内へ、圧縮空気を供給する。
導管Ｔ０内へ供給された圧縮空気は、酸素除去装置１１２を通過する際に、圧縮空気中に含まれる酸素（Ｏ2）が除去され、不燃性ガスとなり、導管Ｔｍ内へ供給される。
導管Ｔｍ内へ供給された定常圧流の不燃性ガスは、流量調節弁ｖｐ４が設けられている場合にあっては、流量調節弁ｖｐ４により、所定の流量に調整された後、空気供給ポート４２ａから中空室４２内へと供給される。
また、ブロアー１１１を駆動するとともに、回転駆動手段４７を駆動することで、回転駆動手段４７の回転軸ａｘに取り付けた回転カム４５を所定の回転速度で回転させる。
これにより、回転ローラ４６が、所定の回転速度で回転駆動している回転カム４５の内側回転カム４５ａとの外側回転カム４５ｂとの間で、回転し、回転カム４５に設けられている凹凸パターンに従って、再現性良く、上下運動する結果、弁体４４が、回転カム４５に設けられている凹凸パターンに従って、弁座４３を開閉する。
また、中空室４２に、圧力調整ポート４２ｃや圧力調整バルブｖ８が設けられている場合にあっては、圧力調整ポート４２ｃに設けられている圧力調整バルブｖ８を適宜調整することにより、導管Ｔ１に供給する、正圧の脈動ガス振動波の圧力を調節する。
以上の操作により、導管Ｔ１に、正圧の脈動ガス振動波が供給される。
尚、導管Ｔ１内に供給される正圧の脈動ガス振動波の波長は、回転カム４５に設けられている凹凸パターン及び／又は回転カム４５の回転速度により、適宜調節される。また、正圧の脈動ガス振動波の波形は、回転カム４５に設けられている凹凸パターンにより、調節することができ、正圧の脈動ガス振動波の振幅は、ブロアー１１１の駆動量を調節したり、圧力調節弁ｖｐ４が設けられている場合にあっては、圧力調節弁ｖｐ４を調節したり、更に、圧力調整ポート４２ｃや圧力調整弁バルブｖ８が設けられている場合にあっては、圧力調整ポート４２ｃに設けられている圧力調整バルブｖ８を適宜調整したり、又は、これらを組み合わせて調節すること等により調節できる。
尚、外部滑沢式打錠機Ｓで用いる脈動ガス振動波発生装置は、脈動ガス振動波発生装置４１に限られることはなく、他の脈動ガス振動波発生装置を用いることもできる。
図２８は、そのような脈動ガス振動波発生装置の他例を概略的に示す説明図である。
この脈動ガス振動波発生装置４１Ａは、脈動ガス振動波発生装置４１とは、以下の構成以外は、同様の構成であるので、相当する部材装置については、相当する参照符号を付して、その説明を省略する。
脈動ガス振動波発生装置４１Ａは、円筒形の筒状体１３２と、筒状体１３２内の中空室１３３を概ね２分割するように、筒状体１３２の中心軸を回転軸１３２ａとして、回転軸１３２ａに取り付けられたロータリ弁１３３とを備える。回転軸１３２ａは、電動モータ等の回転駆動手段（図示せず。）により、所定の回転速度で回転するようになっている。
筒状体１３２の外周壁には、導管Ｔｍと、導管Ｔ１とが、所定の隔たりを設けて、接続されている。
脈動ガス振動波発生装置４１Ａを用いて、導管Ｔ１内に、所望の正圧の脈動ガス振動波を供給する際には、ブロアー１１１を駆動して、導管Ｔｍ内に、所定の圧縮空気を供給する。流量制御バルブｖｐ４が設けられている場合にあっては、流量制御バルブｖｐ４を適宜調節することで、導管Ｔｍ内へ供給する圧縮空気の流量を調節する。
また、電動モータ等の回転駆動手段（図示せず。）により、回転軸１３２ａを所定の回転速度で回転させることで、回転軸１３２ａに取り付けられたロータリ弁１３３を所定の回転速度で回転させる。
すると、例えば、ロータリ弁１３３が実線で示すような位置にあるときは、導管Ｔｍと、導管Ｔ１とが導通状態になっているので、ブロアー１１１より発生させた圧縮空気は、導管Ｔｍから導管Ｔ１へと供給される。
また、例えば、ロータリ弁１３３が想像線で示すような位置にあるときは、導管Ｔｍと、導管Ｔ１とが、ロータリ弁１３３により、遮断された状態になる。
この時、筒状体１３２内の、ロータリ弁１３３により仕切られた一方の空間Ｓａには、導管Ｔｍから圧縮空気が供給され、この空間Ｓａでは空気の圧縮が行われる。
一方、筒状体１３２内の、ロータリ弁１３３により仕切られた一方の空間Ｓｂでは、空間Ｓｂ内に蓄えられていた圧縮空気が、導管Ｔ１内へと供給される。
このような動作が、ロータリ弁１３３の回転により繰り返し行われることにより、導管Ｔ５ｂ内へ、正圧の脈動ガス振動波が送られる。
また、図２９は、脈動ガス振動波発生装置の他の例を概略的に説明する分解斜視図である。
脈動ガス振動波発生装置４１Ｂは、円筒形の筒状体１４２と、筒状体１４２内に、回転可能に設けられた回転弁体１４３とを備える。
筒状体１４２は、一方端１４２ｅが開口し、他方端が、蓋体１４２ｄにより閉じられた構造になっており、その側周面には、吸気口１４２ａと、送波口１４２ｂとを備える。
吸気口１４２ａには、ブロアー１１１に接続される導管Ｔｍが接続され、送波口１４２ｂには、滑沢剤粉末吐出装置５１に接続される導管Ｔ１が接続される。
尚、図２９中、１４２ｃで示す部分は、回転弁体１４３を枢着する回転軸受け孔を示している。
回転弁体１４３は、中空ｈ１５を有する円筒形状をしており、その側周面Ｓ１４３には、開口部ｈ１６が設けられている。また、回転弁体１４３は、一方端１４３ｅが、開口しており、他方端が、蓋体１４３ｂにより閉じられた構造になっている。
また、回転弁体１４３は、その回転中心軸に、回転軸１４４が延設されている。回転軸１４４には、電動モータ等の回転駆動手段（図示せず。）が接続されており、回転駆動手段（図示せず。）を駆動すると、回転弁体１４３が、回転軸１４４を中心にして回転するようになっている。
回転弁体１４３の側周面Ｓ１４３の外径は、筒状体１４２の内径に概ね一致しており、回転弁体１４３を、筒状体１４２内に収容し、回転弁体１４３を回転させると、回転弁体１４３の側周面Ｓ１４３が、筒状体１４２の内周面に沿って摺動するようになっている。
尚、図２９中、１４３ｃで示す部分は、筒状体１４２の蓋体１４２ｂに設けられている回転軸受け孔１４２ｃに回転可能に収容される回転軸を示している。
回転弁体１４３は、筒状体１４２内に、回転軸１４３ｃを回転軸受け孔１４２ｃに取り付けた状態で、回転可能に設けられている。
この脈動ガス振動波発生装置４１Ｂを用いて、導管Ｔ１内に、所望の正圧の脈動ガス振動波を供給する際には、ブロアー１１１を駆動して、導管Ｔｍ内へ圧縮空気を供給する。
また、電動モータ等の回転駆動手段（図示せず。）により、回転軸１４４を所定の回転速度で回転させることで、回転弁体１４３を所定の回転速度で回転させる。
すると、例えば、回転弁体１４３の開口部ｈ１６が、送波口１４２ｂの位置にある時には、導管Ｔｍと導管Ｔ１とが導通状態になり、この時、導管Ｔ１に圧縮空気が送り出される。
また、例えば、回転弁体１４３の側周面Ｓ１４３が、送波口１４２ｂの位置にある時は、導管Ｔｍと導管Ｔ１との間が、側周面Ｓ１４３により遮断されるので、この時、導管Ｔ１に圧縮空気が送り出されない。
このような動作が、回転弁体１４３の回転により繰り返し行われることにより、導管Ｔ１内へ、正圧の脈動ガス振動波が送られる。
上述した外部滑沢式打錠機Ｓの脈動ガス振動波発生装置としては、図２７に示す脈動ガス振動波発生装置４１、図２８に示す脈動ガス振動波発生装置４１Ａ、及び、図２９に示す脈動ガス振動波発生装置４１Ｂのいずれをも用いることができる。しかしながら、正圧の脈動ガス振動波には、減衰する性質があるため、この減衰する性質を考慮した場合には、脈動ガス振動波発生装置から、オンオフがはっきりした切れの良い、正圧の脈動ガス振動波を発生する方が好ましい。このようなオンオフがはっきりした切れの良い、正圧の脈動ガス振動波を発生するには、どちらかというと、図２８や図２９に例示するようなロータリ型の脈動ガス振動波変換装置４１Ａ、４１Ｂよりも、図２７に示すような回転カム型の脈動ガス振動波変換装置４１を用いる方が好ましい。
尚、上記した発明の実施の形態では、弾性体膜として、１個の貫通孔Ｅｔａを有する弾性体膜Ｅｔを用いたものについて説明したが、弾性体膜は、１個の貫通孔Ｅｔａを有する弾性体膜Ｅｔに限られず、図３０に示すような、複数の貫通孔Ｅｔａ・・・を有する弾性体膜Ｅｔ’を用いてもよい。
尚、上記した外部滑沢式打錠機及びこの装置を用いた杵３１、３３及び臼３２の各々の表面への滑沢剤の塗布方法は、本発明に係る錠剤の製造装置として、単に、好ましい例を示したに過ぎず、杵３１、３３及び臼３２の各々の表面に必要最小限の滑沢剤粉末を均一に塗布することができる限り、他の装置や他の塗布方法を用いることができることを付記しておく。
また、ここでは、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂを中心にして説明したが、図３１に示すように、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂから脈動ガス振動波発生装置４１を取り去れば、図１に示す錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓａとなり、図３２に示すように、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂから、酸素除去装置１１２と脈動ガス振動波発生装置４１とを取り去り、ブロアー１１１の代わりに、不燃性ガス発生装置１１１ａを設ければ、図８に示す錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｃとなる。
また、図３３に示すように、錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｂのブロアー１１１の代わりに、不燃性ガス発生装置１１１ａを設け、酸素除去装置１１２を取り去れば、図９に示す錠剤の製造装置（外部滑沢式打錠機）Ｓｄとなる。
また、図３４は、本発明に係る錠剤の製造装置の他の一例を概略的に示す全体構成図である。
この錠剤の製造装置Ｓｅは、以下の構成を除けば、図３１に示す錠剤の製造装置Ｓａと同様であるので、錠剤の製造装置Ｓｅの構成部材装置中、錠剤の製造装置Ｓａの構成部材装置に相当する構成部材装置については、錠剤の製造装置Ｓａの構成部材装置に付した参照符号と同様の参照符号を付して、その説明を省略する。
この錠剤の製造装置Ｓｅは、図３４に示すように、吸引ダクト１０３に吸引手段（集塵機１０２）を取り付け、吸引手段（集塵機１０２）と、滑沢剤粉末吐出装置５１（より具体的には、分散室５５の排出口５５ｂ）から滑沢剤塗布装置８１までの任意の位置で滑沢剤粉末の濃度を測定する噴霧量測定装置１３１とを備える。
図３５は、噴霧量測定装置１３１の構成を概略的に示す構成図である。
噴霧量測定装置１３１は、装置本体部１３１ａと、導管Ｔ２に接続される滑沢剤粉末供給管１３２と、レーザ光線照射系装置１３４ａと受光系装置１０５ｂを備える。
この例では、レーザ光線照射系装置１０５と、散乱光受光系装置１３４ｂとは、滑沢剤粉末供給管１３２を挟むようにして、概ね対向配置されている。
また、噴霧量測定装置１３１は、パージガス供給管ｈ１３１、ｈ１３１を備える。
パージガス供給管ｈ１３１、ｈ１３１の各々は、光透過管ｈ１３１ａ、ｈ１３１ａと、ガス供給管ｈ１３１ｂ、ｈ１３１ｂとを備える。
光透過管ｈ３１ａ、ｈ１３１ａの各々は、装置本体部１３１ａを貫通するように設けられ、装置本体部１３１ａの外周面の各々には、光透過窓１３３、１３３が設けられている。
ガス供給管ｈ１３１ｂ、ｈ１３１ｂの各々は、光透過管ｈ３１ａ、ｈ１３１ａの各々の途中の位置で接続されている。
また、ガス供給管ｈ１３１ｂ、ｈ１３１ｂの各々には、導管Ｔｍから分岐したパージガス供給管（図３４に示すパージガス供給管Ｔｐ）が分岐して接続されている。
そして、この噴霧量測定装置１３１では、光透過管ｈ３１ａ、ｈ１３１ａの部分で、滑沢剤粉末供給管１３２内を流れる粉体（この例では、滑沢剤粉末）の量を測定できるようにされている。
この錠剤の製造装置Ｓｅでは、噴霧量測定装置１３１により、滑沢剤粉末供給管１３２内を流れる滑沢剤粉末濃度を監視し、量を監視し、制御盤１２１にて吸引風景と滑沢剤粉末の量から滑沢剤濃度を演算して滑沢剤粉末濃度が爆発下限界濃度に達した場合には、ガス発生装置１１１から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末の量を爆発下限界濃度以下になるように調整するようにし、粉塵爆発が生じないようにする。
また、噴霧量測定装置１３１により、滑沢剤粉末供給管１３２内を流れる滑沢剤粉末の、吸引手段（集塵機１０２）内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下にすることで、吸引手段（集塵機１０２）内において、粉塵爆発が生じないようにする。
尚、図３４に示す錠剤の製造装置Ｓｅでは、ガス発生手段１１１として、ブロアー１１１を用い、ブロアー１１１から発生させた圧縮空気中の酸素を酸素除去装置１１２により除去するようにした例を示したが、ブロアー１１１及び酸素除去装置１１２の代わりに、図３３に示す錠剤の製造装置Ｓｄのように、不燃性ガス発生装置１１１ａを用いても良い。
産業上の利用分野
以上、詳細に説明したように、請求項１に記載の錠剤の製造方法では、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散させるようにしているので、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスを一定にしている限り、一定量のガスに対して、一定量の滑沢剤粉末を混和し、分散させることができる。このように、この錠剤の製造方法では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。即ち、この錠剤の製造方法では、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの発生量（流量、圧力等）を決定すれば、後は、ガスの発生量（流量、圧力等）を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。この結果、この錠剤の製造方法を用いれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じない量となるように、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの発生量（流量、圧力等）を調整すれば、後は、滑沢剤粉末を混和し分散させるガスの（流量、圧力等）を一定に維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。即ち、この錠剤の製造方法は、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造方法として適している。
のみならず、この錠剤の製造方法では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の酸素の濃度を、爆発下限界酸素濃度以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内において、粉塵爆発を生じない。
及び／又は、この錠剤の製造方法において、滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発下限界酸素濃度以下とした場合には、滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じない。
請求項２に記載の錠剤の製造方法では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の酸素の濃度を１４％以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内において、粉塵爆発を生じない。及び／又は、この錠剤の製造方法では、滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を１４％以下としているので、滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じない。
請求項３に記載の錠剤の製造方法では、爆発下限界酸素濃度を１４％以下の範囲にある場合を想定し、労働省産業安全研究所の静電気安全指針をクリアするように、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を８％以下としているので、粉塵爆発が生じない。
請求項４に記載の錠剤の製造方法は、ガス発生ステップ、滑沢剤分散ステップ及び打錠ステップの各々として、請求項１に記載の錠剤の製造方法のガス発生ステップ、滑沢剤分散ステップ及び打錠ステップの各々と、同様のステップを備えている。したがって、この錠剤の製造方法は、請求項１に記載の錠剤の製造方法と同様、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造方法として適している。
のみならず、この錠剤の製造方法では、余剰滑沢剤粉末吸引ステップにおいて、吸引手段内の滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下としているので、吸引手段内において、粉塵爆発を生じない。
請求項５に記載の錠剤の製造方法では、余剰滑沢剤吸引ステップにおいて、吸引手段内の滑沢剤粉末の濃度を、爆発下限界濃度以下の濃度、即ち、７０ｇ／ｍ3以下、好ましくは５０ｇ／ｍ3以下にしているので、吸引手段内において、粉塵爆発を生じない。
請求項６に記載の錠剤の製造方法では、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、不燃性ガスを用いているので、滑沢剤粉末を混和し分散させているガスが、空気と交じり合わない場所（装置内）において、一切、粉塵爆発を生じない。
請求項７に記載の錠剤の製造方法では、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、脈動振動ガスを用いている。また、この錠剤の製造方法では、滑沢剤粉末吐出装置として、ガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガスに混和し分散する滑沢剤粉末吐出装置を用いている。したがって、滑沢剤粉末吐出装置に供給するガスとして、脈動振動ガスを用いた場合、滑沢剤粉末吐出装置から吐出される滑沢剤粉末の吐出量は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等に依存する。即ち、この錠剤の製造方法では、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給する脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にすれば、一定のガスの量に対して、常に、一定量の滑沢剤粉末を混和し分散できるようにしているので、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給することができる。このように、この錠剤の製造方法では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。即ち、この錠剤の製造方法を用いれば、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を同じ条件で塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を決定すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。この結果、この錠剤の製造方法を用いれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じない量となるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を調整すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。即ち、この錠剤の製造方法を用いれば、工業的生産採算ベースにのって、錠剤（外部滑沢錠剤）を製造することができる。
請求項８に記載の錠剤の製造方法では、静電気による火花が発生しないようにするために、請求項１〜７のいずれかに記載の錠剤の製造方法を実施する装置に帯電防止手段を設けているので、静電気による火花が発生しない。これにより、この錠剤の製造方法を用いれば、粉塵爆発が生じない。
請求項９に記載の錠剤の製造装置では、ガス発生装置から発生させたガスに依存して滑沢剤粉末をガス中に吐出し、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散させる滑沢剤粉末吐出装置を用いているので、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を一定にしている限り、一定量のガスに対して、一定量の滑沢剤粉末を混和し、分散させることができる。
このように、この錠剤の製造装置では、常に、一定の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できる。
この結果、この錠剤の製造装置を用いれば、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を決定すれば、後は、ガスの発生量（流量、圧力等）を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造装置を用いれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じない量となるように、ガス発生装置から発生させるガスの発生量（流量、圧力等）を調整すれば、後は、ガス発生装置から発生させるガスの（流量、圧力等）を一定に維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。即ち、この錠剤の製造装置は、工業的生産採算ベースにあった、錠剤（外部滑沢錠剤）の製造装置として好適に用いることができる。
のみならず、この錠剤の製造装置では、酸素濃度測定装置が測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生装置から発生させるガス量を調整するようにしている。
従って、ガス発生装置から発生させるガスとして、不燃性ガスを用いた場合には、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在する空気や、滑沢剤塗布装置の近傍の空気（酸素を含む通常の空気）を不燃性ガスにより置換することができる。
ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在する空気の全部又は一部、及び／又は、滑沢剤塗布装置の近傍の空気（酸素を含む通常の空気）の全部又は一部を不燃性ガスにより置換し、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量や、滑沢剤塗布装置の近傍の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量を減らせば、滑沢剤塗布装置内の空間や、滑沢剤塗布装置の上杵塗布用滑沢剤噴霧口と上杵の材料接触面との間の空間や、滑沢剤塗布装置の下杵塗布用滑沢剤噴霧口、臼及び臼内に所定の位置まで挿入されている下杵により形成される空間において、粉塵爆発が生じることを防ぐことができる。
即ち、この錠剤の製造装置では、酸素濃度測定装置が測定した酸素濃度に基づいて、ガス発生装置から発生させるガス量を調整することで、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量や、滑沢剤塗布装置の近傍の空間に存在するガス中に含まれる酸素の量を減らすことができるように構成しているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内の空間や、滑沢剤塗布装置の周辺において、粉塵爆発が生じることを防ぐことができる。
請求項１０に記載の錠剤の製造装置では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、ガス発生装置から発生させるガス量により、爆発限界酸素濃度以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発が生じない。
請求項１１に記載の錠剤の製造装置では、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を、爆発限界酸素濃度以下、即ち、酸素の濃度を１４％以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発を生じない。
請求項１２に記載の錠剤の製造装置では、爆発下限界酸素濃度を１４％以下の範囲にある場合を想定し、労働省産業安全研究所の静電気安全指針をクリアするように、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍のガス中に含まれる酸素の濃度を８％以下としているので、ガス発生手段から滑沢剤塗布装置までの装置内及び／又は滑沢剤塗布装置の近傍において、粉塵爆発が生じない。
請求項１３に記載の錠剤の製造装置では、滑沢剤塗布装置から噴霧された滑沢剤粉末を吸引手段を用いて、直ちに吸引するようにしているので、例えば、滑沢剤塗布装置の上杵用滑沢剤噴霧口から上杵の材料接触面に噴霧された滑沢剤粉末が、滑沢剤塗布装置の周辺に飛散することがないため、滑沢剤塗布装置の周辺において、粉塵爆発が生じることがない。
のみならず、この錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末濃度測定装置が測定した滑沢剤粉末の濃度に基づいて、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を調整できるようにしているので、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下とすれば、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内において、粉塵爆発が生じない。
請求項１４に記載の錠剤の製造装置では、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下としているので、吸引手段内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）において、粉塵爆発を生じない。
請求項１５に記載の錠剤の製造装置では、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度以下の濃度、即ち、７０ｇ／ｍ3以下、好ましくは５０ｇ／ｍ3以下にしているので、この錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造すれば、錠剤の製造装置内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）において粉塵爆発を生じることがない。
請求項１６に記載の錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末を混和し分散するガスとして、不燃性ガスを用いるようにしているので、ガス発生手段から前記滑沢剤塗布装置までの装置内において、粉塵爆発を生じない。
請求項１７に記載の錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末を混和し分散するガスとして、脈動振動ガスを用い、ガス内に混和し分散する滑沢剤粉末の量を脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等に依存させている。
即ち、この錠剤の製造装置では、滑沢剤粉末を混和し分散する際に用いる脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にすれば、一定のガスの量に対して、常に、一定量の滑沢剤粉末を混和し分散できるようにしているので、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給することができる。
このように、この錠剤の製造装置では、常に、一定量の濃度の滑沢剤粉末を滑沢剤塗布装置に供給するようにしているので、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を同じ条件で塗布できる。
即ち、この錠剤の製造方法を用いれば、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に常に一定量の滑沢剤粉末を塗布できるので、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が最適になるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を決定すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持することができる。
この結果、この錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造すれば、一旦、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量が、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下枠にギシツキを生じない量となるように、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を調整すれば、後は、脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にするだけで、常に、臼、上杵及び下杵の各々の材料接触表面に塗布する滑沢剤粉末の量を最適になるように維持するだけで、製造される錠剤に、スティッキングや、キャッピングや、ラミネーティングといったような打錠障害や、臼、上杵及び下杵にギシツキを生じることなく、長時間、安定して、錠剤を製造することができる。
即ち、この錠剤の製造装置を用いれば、工業的生産採算ベースにのって、錠剤（外部滑沢錠剤）を製造することができる。
請求項１８に記載の錠剤の製造装置では、噴霧量測定装置により、滑沢剤粉末量を監視し、滑沢剤量と吸引量から滑沢剤濃度を演算し、その演算結果が爆発下限界濃度に達した場合には、ガス発生装置から発生させたガスに混和し分散した滑沢剤粉末の量を爆発下限界濃度以下になるように調整するようにしているので、粉塵爆発を生じない。
請求項１９に記載の錠剤の製造装置では、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を爆発下限界濃度以下にしているので、吸引手段内において、粉塵爆発が生じない。
請求項２０に記載の錠剤の製造装置では、吸引手段内に送り込まれる滑沢剤粉末の濃度を、滑沢剤粉末の爆発下限界濃度以下の濃度、即ち、７０ｇ／ｍ3以下、好ましくは、５０ｇ／ｍ3以下にしているので、この錠剤の製造装置を用いて錠剤を製造すれば、錠剤の製造装置内（より特定的に説明すると吸引手段の吸引ダクト内）において粉塵爆発を生じることがない。
請求項２１に記載の錠剤の製造方法では、ガス発生装置から、不燃性ガスを発生させるようにているので、滑沢剤粉末を混和し分散させているガスが、空気と交じり合わない場所（装置内）において、一切、粉塵爆発を生じない。
請求項２２に記載の錠剤の製造方法では、請求項７に記載の錠剤の製造装置と同様、滑沢剤分散ステップにおいて、滑沢剤粉末吐出装置に供給する脈動振動ガスの周波数、振幅及び波形等を一定にすれば、一定のガスの量に対して、常に、一定量の滑沢剤粉末を混和し分散できるようにしているので、請求項７に記載の錠剤の製造装置と同様の効果を奏する。
請求項２３に記載の錠剤の製造装置では、静電気による火花が発生しないようにするために、帯電防止手段を設けているので、静電気による火花が発生しない。
これにより、この錠剤の製造装置を用いれば、錠剤を製造する工程において、粉塵爆発が生じない。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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【図２１】
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【図２２】
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【図２３】
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【図２４】
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【図２５】
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【図２６】
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【図２７】
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【図２８】
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【図２９】
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【図３０】
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【図３１】
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【図３２】
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【図３３】
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【図３４】
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【図３５】
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【図３６】
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