(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの浮遊ゲートメモリセル（１０）をソフトプログラミングするための方法であって、前記メモリセルが制御ゲート（１３）、ソース（１１）、およびドレイン（１３）を有し、前記セルが前記制御ゲートと基板（２３）との間に印加されたハードプログラミング電圧によってハードプログラム可能な方法であって、次の工程、
次によって特定ドレイン電圧を決定すること：
前記ソースおよび前記基板を基準電圧につなぐこと、
前記ハードプログラミング電圧の３０％から６０％の範囲内のソフトプログラミング電圧を前記制御ゲートに供給すること、および
前記ドレインへ流入する電流を測定しながら、前記ドレインへ前記基準電圧から増大する電圧を供給すること、
前記特定ドレイン電圧が、前記ドレインへ流入する前記電流がピークに到達した時点での前記増大する電圧値に等しいかそれよりも小さく決定されること、および
次によって前記セルをソフトプログラミングすること：
前記基板の電圧から測って、約１ボルトと第２電圧と前記特定ドレイン電圧との和よりも小さい第１電圧を前記ドレインへ供給すること、
前記基板の電圧から測って、前記特定ドレイン電圧よりも小さい、前記第２電圧を前記ソースへ供給すること、
前記基板から測って、前記ソフトプログラミング電圧よりも大きくない第３電圧を前記制御ゲートへ供給すること、
を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法であって、２個以上のメモリセルを同時にソフトプログラミングすることをさらに含む方法。
【請求項３】
請求項２に記載の方法であって、複数メモリセルのアレイを同時にソフトプログラミングすることをさらに含む方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の方法であって、
前記ソースの領域と前記ドレインの領域と間の前記基板中に形成されたチャンネル領域（２４）を有する少なくとも１個のメモリセルを与えて該メモリセルの浮遊ゲートが前記チャンネル領域のほぼ全体を覆うようにすること
をさらに含む方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれかに記載の方法であって、ランプ状電圧を前記制御ゲートへ供給することをさらに含む方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、電気的に消去可能で電気的にプログラミング可能な読み出し専用メモリ（ＥＥＰＲＯＭ）アレイのような不揮発性集積回路メモリアレイに関するものであり、更に詳細には、それらのアレイの浮遊ゲートメモリセルをプログラミングするための方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
ホットキャリア注入によるプログラミングを採用したＥＥＰＲＯＭについては、ファウラー・ノルトハイムトンネリングによるプログラミングと対比させて、次の論文に述べられている：（ａ）ＩＥＤＭ１９８５においてマケルジー（Ｓ．Ｍｕｋｈｅｒｊｅｅ）等によって発表された論文，”単一トランジスタＥＥＰＲＯＭセルとそれを用いた５１２Ｋ  ＣＭＯＳ  ＥＥＰＲＯＭ（Ａ  ＳｉｎｇｌｅＴｒａｎｓｉｓｔｏｒ  ＥＥＰＲＯＭ  ｃｅｌｌ  ａｎｄ  ｉｔｓ  ｉｍｐｌｅｍｅｎｔａｔｉｏｎ  ｉｎ  ａ  ５１２Ｋ  ＣＭＯＳ  ＥＥＰＲＯＭ）”（論文集の頁６１６−６１９）、および（ｂ）ＩＳＳＣＣ１９８９においてキネット（Ｖ．Ｋｙｎｅｔｔ）等によって発表された論文，”９０ｎｓ  １００Ｋの消去／プログラミングサイクルを有するメガビットフラッシュメモリ（Ａ  ９０ｎｓ１００Ｋ  Ｅｒａｓｅ／Ｐｒｏｇｒａｍ  Ｃｙｃｌｅ  Ｍｅｇａｂｉｔ  Ｆｌａｓｈ  Ｍｅｍｏｒｙ）”（論文集の頁１４０−１４１）。文献（ａ）の内容は米国特許第４，６９８，７８７号でも議論されている。
【０００３】
従来技術のホットキャリア注入法を用いて”ハード”にプログラミングを行う場合、基板電圧（ＶSUB 、それは多分０Ｖ）に等しい基準電圧がプログラムされるセルのソースへ与えられ、多分６Ｖから８Ｖである第１の正電圧ＶDDがドレインへ与えられ、そして多分１２Ｖである第２の正電圧ＶP1が制御ゲートへ与えられる。このような条件のもとでは、ソースとドレインとの間のチャンネルは高度に導電的になりドレイン拡散と基板（チャンネル）との間の接合は逆バイアスされるが、ソース拡散と基板との間の接合は逆バイアスされない。ドレイン拡散へ到達した電子は２つの電界の影響を受ける。１つは逆バイアスされたドレイン拡散接合に付随するものであり、もう１つは制御ゲートから浮遊ゲートへ結合される正電圧に付随するものである。これらの電界によって電子（ホットキャリア）は浮遊ゲートへ注入される。
【０００４】
従来の方法を用いてフラッシュＥＥＰＲＯＭを消去する場合、ドレイン列ラインは浮遊状態にされ（高インピーダンスへつながれ）、ワードラインは基準電位へつながれ、そしてソースラインは高い正電圧（約＋１０Ｖから＋１５Ｖ）へつながれる。このような条件のもとで、ゲート酸化物領域を横切って生ずる電界はファウラー・ノルトハイムトンネリング電流を生じ、それによって浮遊ゲートからソースへ電荷が転送されて各メモリセルが消去される。
【０００５】
従来技術のフラッシュＥＥＰＲＯＭに関する１つの問題点はフラッシュ消去操作後のスレッショルド電圧分布が拡がることである。この広い分布は、少なくとも部分的にはゲート絶縁体中に捕らえられた正孔によるか、あるいはホットな正孔が浮遊ゲートへ注入されることによって発生するものと考えられている。フラッシュＥＥＰＲＯＭで生ずる別の１つの問題はセルの過剰消去（ｏｖｅｒ−ｅｒａｓｕｒｅ）である。過剰消去されたセルは正の電荷を持ち、浮遊ゲート下のチャンネルを導電性にする。この過剰消去された導電性セルは並列接続されたそのセル列中の他のセルを短絡させる。過剰消去を補償する１つの方法は、分割ゲートを用いてフラッシュＥＥＰＲＯＭセルを形成することである。その他の方法には、例えば、１９９２年７月２１日付けの米国特許第５，１３２，９３５号や１９９２年８月１６日付けの米国特許第５，１２２，９８５号およびそこに引用されたものに述べられているような別のプログラミングおよび消去の工程を適用することである。上記の２つの特許はフラッシュ消去されたセルのスレッショルド電圧分布を圧縮（ｃｏｍｐａｃｔｉｏｎ）する、あるいは狭くすることに関するものであって、両特許はテキサスインスツルメンツ社に譲渡されている。
【０００６】
フラッシュ消去手順を実行した後に正のスレッショルド電圧が狭い分布を持つことは好ましいことである。消去されたスレッショルド電圧の狭い分布を得るために、１つのフラッシュ消去方法では実際の消去工程を実行する前に完全なフラッシュプログラミング工程を要求する。別の１つの方法では、ＥＥＰＲＯＭセルのすべてをプログラミングした後に光の消去パルスをステップ的に供給することを要求し、各ステップ毎にセルのすべてが消去されたかどうかをチェックしている。更に別の１つの方法では、消去されたスレッショルド電圧の最終的な狭い分布に到達するために、消去工程の後に”ソフトな”フラッシュプログラム工程を実行することを要求する。
【０００７】
プログラムされたスレッショルド電圧の分布を狭くする、あるいは”圧縮する”ためのいくつかの方法が提案されている。それらの方法の１つは、ワードラインストレスを利用して浮遊ゲート中へ電子をファウラー・ノルトハイム注入させるものである。この方法は、ＩＥＤＭ１９９２において小山（Ｏｙａｍａ）等によって発表された論文，”６４Ｍｂおよびそれ以上の容量を有する３．３Ｖフラッシュメモリ用の新規な消去技術（Ａ  Ｎｏｖｅｌ  Ｅｒａｓｉｎｇ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ｆｏｒ  ３．３Ｖ  Ｆｌａｓｈ  Ｍｅｍｏｒｙ  ｗｉｔｈ  ６４Ｍｂ  Ｃａｐａｃｉｔｙ  ａｎｄ  Ｂｅｙｏｎｄ）”（論文集の頁２４．５．１−２４．５．４）に述べられている。この方法を用いた場合、ビットラインのリーク電流の大きさには制限がない。しかし、この方法は通常のプログラミング電圧よりも高いゲート電圧を必要とする。そのような高いゲート電圧は、従って、誘電体要素中の電界を下げるか、あるいはそれらの誘電体要素を強化する特別な製造工程を必要とする。
【０００８】
提案されている第２の方法はゲート中へのホット電子注入に依存するものである。この方法はＩＥＤＭ１９９１において山田（Ｙａｍａｄａ）等によって発表された論文，”単純なスタック化ゲートフラッシュＥＥＰＲＯＭ用の自己収斂的な消去方式（Ａ  Ｓｅｌｆ−Ｃｏｎｖｅｒｇｅｎｃｅ  Ｅｒａｓｉｎｇ  Ｓｃｈｅｍｅ  ｆｏｒ  ａ  Ｓｉｍｐｌｅ  Ｓｔａｃｋｅｄ  Ｇａｔｅ  Ｆｌａｓｈ
ＥＥＰＲＯＭ）”（論文集の頁１１．４．１−１１．１．４）に述べられている。この第２の方法では、ビットラインが６から７Ｖの電圧にバイアスされ、ソースはアース（基板電圧、または０Ｖ）へつながれ、他方、制御ゲートへは低い電圧（０から２Ｖ）が供給される。この第２の方法を用いる場合、ホット正孔がゲートへ注入される可能性があり、それによってドレイン列ラインのリークが増大し、圧縮の目的を損なわれるかも知れない。
【０００９】
最近、ソースを基板に相対的に正電圧にバイアスして、チャンネルのホット電子を用いてＥＰＲＯＭをプログラミングする方法が提案されている。そのような方法のうちの３つ変形が、１９９３年６月８日付けの米国特許第５，２１８，５７１号、１９９４年３月１５日付けの米国特許第５，２９５，０９５号、および１９９３年１１月２日付けの米国特許第５，２５８，９４９号に述べられている。更に、プログラムされる１つのセルまたは複数セルのソース−基板接合を逆バイアスすることによって圧縮のゲート電流効率を高めるようにＥＰＲＯＭをプログラミングするための方法が、これもテキサスインスツルメンツ社に譲渡された１９９３年１０月４日付けの米国特許出願第０８／０８５，４２７号に述べられている。この出願の中で、逆バイアス状態がプログラムされる個々のセルのチャンネル電流を制限し、そしてフラッシュプログラミング圧縮工程におけるアレイ全体のチャンネル電流を制限している。この特許出願に述べられた制御ゲートの電圧は非常に低い。制御ゲート電圧が低いため、チャンネル電流も小さい。従って、ホット正孔注入は本質的に排除される。酸化物ゲート絶縁体への損傷を最小化することで、セル損傷が生ずるまでの書き込み−消去サイクル数は増大し、従って、メモリアレイの寿命が延びる。しかし、この特許出願に述べられたプログラミング操作に必要な時間はかなり長いものとなる。
【００１０】
【発明の解決しようとする課題】
従来技術は、過剰消去されたセルを空乏化から回復させ、同時にそれらのセルの酸化物ゲート絶縁体に対して損傷を与えずにスレッショルド電圧分布を狭くすることのできるプログラミング操作を含んではいるが、従来技術はプログラミング操作の迅速な完了を許容するようにこれらの仕事すべてをこなすことのできる方法は含んでいない。迅速なプログラミング操作は、数多くの読み出しおよび消去操作を必要とするような用途におけるメモリアレイの利用効率を高める。
【００１１】
メモリセルアレイをフラッシュプログラムするために使用された場合、本発明のプログラミング方法は、ゲート絶縁体の劣化を最小化するようにしながら、正のスレッショルド電圧の比較的狭い分布を迅速に達成する。
【００１２】
本方法はここに、プログラミング操作を実行するために必要な時間を短縮するのに十分高い制御ゲート電圧の使用を許容する。同時に、ソースおよびドレイン電圧は基板電流を制限するように選ばれる。基板電流はホット正孔生成の直接的な指標であるから、基板電流を制限することによって正孔によるゲート絶縁体の劣化は減少する。ゲート絶縁体の劣化が最小化される結果、そのデバイスの寿命内で、より多数回の書き込み−消去サイクルが実行できることになる。この圧縮方法は自己制約的である。メモリアレイ全体あるいはメモリアレイの１セクターの圧縮の間に、主要なスレッショルド電圧集団に移動はない。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
１個または複数個の浮遊ゲートメモリセルをソフトプログラミングするための本長寿命化方法は、基板およびソースを基準電圧へつなぎ、次に、制御ゲートへソフトプログラミング電圧を供給することを含む。このソフトプログラミング電圧は、セルをハードプログラムするために使用される電圧の３０％から６０％の範囲内にある。ドレインへ流入する電流を測定しながら、増大する電圧がドレインへ印加される。ドレインへ流入する電流が最初のピークに達する時の、増大するドレイン電圧値に等しいかあるいはそれよりも低い電圧が、特定ドレイン電圧として選ばれる。基板を基準電圧として、前記特定ドレイン電圧よりわずかに低いかあるいはそれよりも大きくない第１電圧をドレインに供給し、ソースに対しては前記特定ドレイン電圧よりも低い、非負の第２電圧を供給し、更に、制御ゲートに対してはソフトプログラミング電圧よりも大きくない第３電圧を供給することによって、そのセルがソフトプログラムされる。
【００１４】
【発明の実施の形態】
図１を参照すると、メモリチップの一部として一体化されたメモリセルアレイの例が、本発明の方法の利用を説明する目的で示されている。各セルは、ソース１１、ドレイン１２、浮遊ゲート１３、制御ゲート１４を有する浮遊ゲートトランジスタ１０である。セル１０の１つの行中の制御ゲート１４の各々はワードライン１５へつながれ、ワードライン１５の各々はワードラインデコーダ１６へつながれている。セル１０の１つの行中のソース１１の各々はソースライン１７へつながれている。セル１０の１つの列中のドレイン１２の各々はドレイン列ライン１８へつながれている。ソースライン１７の各々は共通列ライン１７ａによって列デコーダ１９へつながれ、ドレイン列ライン１８の各々は列デコーダ１９へつながれている。
【００１５】
読み出しモードでは、ワードラインデコーダ１６が、ライン２０ｒ上のワードライン番地信号と、読み出し／書き込み／消去の制御回路２１（あるいはマイクロプロセッサ２１）からの信号とに応答して、選ばれたワードライン１５へ予め選ばれた正の電圧ＶCC（約＋５Ｖ）を供給し、選ばれなかったワードライン１５へは低電圧（アースまたはＶSUB ）を供給するように機能する。列デコーダ１９は、予め選ばれた正電圧ＶSEN （約＋１Ｖ）を少なくとも選ばれたドレイン列ライン１８へ供給し、ソースライン１７へは低電圧（０Ｖ）を供給するように機能する。列デコーダ１９はまた、番地ライン２０ｄ上の信号に応答して、選ばれたセル１０の選ばれたドレイン列ライン１８をデータ入／出力端子（ＤＡＴＡ  ＩＮ／ＯＵＴ）へつなぐように機能する。選ばれたドレイン列ライン１８および選ばれたワードライン１５へつながれたセル１０の導通または非導通状態が、ＤＡＴＡ  ＩＮ／ＯＵＴ端子２２へつながれたセンス増幅器（図示されていない）によって検出される。
【００１６】
フラッシュ消去モードの間、列デコーダ１９はすべてのドレイン列ライン１８を浮遊状態（”オフ”状態にバイアスされた電界効果トランジスタのように高インピーダンスへつながれた状態）に残すように機能してもよい。ワードラインデコーダ１６はすべてのワードライン１５を基準電位ＶSUB へつなぐように機能する。ＶSUB はアースでよい。列デコーダ１９はまた、すべてのソースライン１７に対して高い正の電圧ＶEE（約＋１０Ｖから＋１５Ｖ）を供給するように機能する。これらの消去電圧は、浮遊ゲート１３から電荷を転送させてメモリセル１０を消去するファウラー・ノルトハイムトンネリング電流を発生させるのに十分な強度の電界をゲート酸化物領域に生成させる。ワードライン１５上の電位は０Ｖであるので、セル１０は消去時には非導通状態に留まる。このことと、ドレイン１２が浮遊しているという事実のために、チャンネルホットキャリアは生成されない。
【００１７】
従来技術の書き込みまたはプログラミングモードでは、ワードラインデコーダ１６はライン２０ｒ上のワードライン番地信号と、読み出し／書き込み／消去の制御回路２１（またはマイクロプロセッサ２１）からの信号とに応答して、選ばれた制御ゲート１４を含む選ばれたワードライン１５上へ予め選ばれた第１のプログラミング電圧ＶP1（約＋１２Ｖ）を供給するように機能するであろう。列デコーダ１９もまた、第２のプログラミング電圧ＶP2（約＋５から＋１０Ｖ）を、選ばれたドレイン列ライン１８、従って選ばれたセル１０のドレイン１２へ供給するように機能するであろう。従来技術の方法では、ソースライン１７は基準電位ＶSUB へつながれる。それはアースでよい。選ばれなかったドレイン列ライン１８はすべて基準電位ＶSUB へつながれるか、あるいは浮遊状態におかれる。これらのプログラミング電圧は選ばれたメモリセル１０のチャンネル中に高電流（ドレイン１２からソース１１への）状態を作りだし、その結果、ドレイン−チャンネル接合付近にチャンネルホット電子およびなだれ降伏電子を発生させ、それらがチャンネル酸化物を横切って選ばれたセル１０の浮遊ゲート１３へ注入される。プログラミング時間は、チャンネル領域に相対的に（ＶP1を０Ｖとして）約−２Ｖから−６Ｖの負のプログラム電荷で以て浮遊ゲート１３をプログラムするのに十分長く選ばれる。例示の実施例に従って作製されたメモリセルに関しては、制御ゲート１４／ワードライン１５と浮遊ゲート１３との間の結合係数は約０．６である。従って、選ばれた制御ゲート１４を含む選ばれたワードライン１５上の、例えば１２Ｖの従来技術のプログラミング電圧ＶP1は、選ばれた浮遊ゲート１３上へ約＋７．２Ｖの電圧を与える。浮遊ゲート１３（約＋７．２Ｖにある）とアースされた（約０Ｖ）ソースライン１７との間の電位差は、ソース１１と浮遊ゲート１３との間のゲート酸化物を横切って、選ばれたまたは選ばれなかったセル１０の浮遊ゲート１３を充電するファウラー・ノルトハイムトンネリング電流を引き起こすのには不十分である。選ばれたセル１０の浮遊ゲート１３はプログラミング時に注入されるホット電子で以て充電され、その電子は、制御ゲート１４上に正の読み出し電圧が供給されている状態で、選ばれたセル１０の浮遊ゲート１３下のソース−ドレイン経路を非導通状態にし、その状態が”零”ビットとして読み出される。選ばれなかったセル１０は、導通状態に留まる浮遊ゲート１３下のソース−ドレイン経路を有し、それらのセル１０は”１”ビットとして読み出される。
【００１８】
本発明に従えば、フラッシュプログラム圧縮モード（これは従来技術のフラッシュ消去サイクルに続くであろう）において、ワードラインデコーダ１６はライン２０ｒ上のワードライン番地信号と、読み出し／書き込み／消去の制御回路２１（またはマイクロプロセッサ２１）からの信号とに応答して、ワードライン１５のすべてへ予め選ばれた第１のプログラミング電圧ＶP1（約＋１Ｖから＋４Ｖ）を与えるように機能するであろう。列デコーダ１９もまた、すべてのドレイン列ライン１８上へ第２のプログラミング電圧ＶP2（約＋６Ｖから＋７Ｖ）を与えるように機能することができる。すべてのソースライン１７は第３のプログラミング電圧ＶP3（約＋１Ｖから＋２Ｖ）まで持ち上げられる。これらのプログラミング電圧は、選ばれたメモリセル１０のチャンネル中に比較的低い電流（ドレイン１２からソース１１への）を発生させ、その結果、チャンネル酸化物を横切ってセル１０の浮遊ゲート１３へ注入されるなだれ降伏電子およびチャンネルホット電子を作り出す。プログラミング時間は、浮遊ゲート１３のすべてからすべての正電荷を除去し、スレッショルド電圧ＶT 分布を圧縮するのに十分なだけ長く選ばれる。この時間長は１秒のオーダーであり、これは充電電流が非常に小さいため、従来技術の方法に比べてずっと長いものになっている。しかし、この時間の間にアレイ全体がプログラムされる。もちろん、小さいプログラミング電圧ＶP1はソース１１と浮遊ゲート１３との間のゲート酸化物を横切ってセル１０の浮遊ゲート１３を充電するために十分なファウラー・ノルトハイムトンネリング電流を引き起こしはしない。しかし、セル１０の浮遊ゲート１３はプログラミングの間に注入されるホット電子で以てゆっくりと充電される。
【００１９】
本発明のフラッシュプログラミングの方法は、すべてのセル１０を消去の前にプログラムするために、または１つのセル、あるいは１行あるいは１列のセルをプログラムするために使用される。この方法は既に述べた圧縮方法と類似しており、異なる点は、プログラムされるセルのゲート電圧が、上述の約＋１Ｖから＋４Ｖの代わりに、多分＋１０Ｖという第１のプログラミング電圧ＶP1へランプ状に変化するということである。単に、すべての正電荷を除去し、および／あるいは電圧スレッショルドＶT を圧縮すること以上に、浮遊ゲートはチャンネル領域に相対的に約−２Ｖから−６Ｖという負のプログラム電荷で以てプログラムされる。ここでも、時間長は、非常に小さい充電電流のために、従来技術の方法と比べてずっと長い。しかし、全体的なチップのプログラム時間は同程度である。
【００２０】
便宜的に、読み出し、書き込み、および消去の電圧を次の表１に与えてある。
【００２１】
【表１】
0003869891.tif 000002
【００２２】
図２は図１のメモリセルアレイ中に用いられる型の典型的な浮遊ゲートセル１０の断面図である。ソース１１およびドレイン１２は半導体基板２３中への不純物拡散によって形成される。半導体基板２３はソース１１およびドレイン１２拡散とは逆の伝導形の不純物を有している。ソース１１は典型的には２つの形の不純物の拡散によって形成される。ソース１１とドレイン１２との間の基板２３エリアはセルのチャンネル２４である。浮遊ゲート１３はゲート絶縁体２５によってチャンネル２４から絶縁された多結晶シリコンの層から形成される。図１のワードライン１５の一部である多結晶シリコン制御ゲート１４は中間レベルの絶縁体２６によって浮遊ゲート１３から絶縁されている。
【００２３】
本発明はメモリセル１０に関する試験構造に対する実験から得られるデータを参照することによって最もうまく説明することができよう。試験構造は実際の浮遊ゲート１３と、それらの浮遊ゲート１３から中間レベル絶縁体２６によって絶縁された制御ゲート１４とを備えたセル１０を有する。制御ゲート１４多結晶シリコン、ソース１１導体、およびドレイン１２導体へつながれたプローブに対して電圧を供給することによってプログラミングが実行される。
【００２４】
プログラミングおよび／または圧縮時にゲート酸化物２５中へ注入されるホットな正孔はゲート酸化物２５に対する損傷の原因になる。ゲート酸化物２５に対する損傷は、実効的にメモリセル１０の寿命内に実行される書き込み／消去サイクルの数を減らす。
【００２５】
ホット正孔注入による酸化物２５損傷を減らすために、プログラミングおよび／または圧縮時に生成されるホットな正孔の数を減らすことが必要である。この仕事は圧縮時にドレインへ与えるプログラミング電圧ＶDSを従来技術の６Ｖ−７Ｖから約４．１Ｖの電圧へ下げることによって達成される。
【００２６】
特別な単一層多結晶シリコンデバイスに対する実験の結果、４．１Ｖのドレイン電圧は：
１）圧縮時に酸化物損傷を引き起こさないか、あるいは最小化する。このことはａ）圧縮時の基板電流ＩSUB をモニタする（基板電流ＩSUB の値はどのくらいの数のホットな正孔が生成されているかの直接的な指標である）こと、およびｂ）圧縮の前後においてポリ１デバイスのサブスレッショルド勾配を測定すること、
によって証明できる。
２）良好で効率的な圧縮を実現する。
ことが分かった。
【００２７】
図３は、２レベルの多結晶シリコンを備えて形成された単一セル１０の、制御ゲート１３へ５Ｖを、ソースと基板とへ０Ｖを与え、ドレイン電圧ＶDSを０Ｖから６Ｖへランプ状に変化させた時の、ドレイン電流／ドレイン電圧（ＩDS／ＶDS）曲線を示す。制御ゲート電圧ＶCGは５Ｖに選ばれた。これは、その値がセルをハードプログラムすることのない程度に十分低いが（ハードプログラミングのための制御ゲート電圧ＶCGは約１２Ｖである）、効率的に（短時間で）圧縮を行うためには十分高いからである。図３の曲線から、最も大きいドレイン電流ＩDSである約１１μＡを与える曲線上の点から、ドレイン電圧ＶDSが４．１Ｖに選ばれた。
【００２８】
図３で、ソース電圧ＶS は基板電圧に相対的に０Ｖにあり、その結果ドレイン電流ＩDSは約１１μＡになる。しかし、ソース電圧ＶS を増やすことによってドレイン電流ＩDSをより好ましい値へ減らすこともできる。１１μＡというドレイン電流ＩDSは容易に供給することができる値で、圧縮時間は１つのセルについてほんの数ミリ秒であるが、もし複数個のセルを圧縮するとなると、もっとずっと大きいドレイン電流ＩDSが必要になる。例えば、もし１０２４個のセルを含む１つの列のセルの各々が同じ１１μＡを引き出すとすれば、必要とされる全ドレイン電流は約１１ｍＡよりも大きくなるであろう。もしこの全ドレイン電流を電源ＶDDが供給できなければ、ソース電圧ＶS を増大させて、圧縮時に必要とされるドレイン電流ＩDSを下げるようにしなければならない。ソース電圧ＶS を増大させ、ドレイン電流ＩDSを低下させるために支払うコストは、圧縮時間の増大である。
【００２９】
図４は単一レベルの多結晶シリコンを備えたデバイスの、上述の条件下での圧縮前のサブスレッショルド勾配を示す。図５は図４と同じセルの圧縮後のサブスレッショルド勾配を示す。これらの図面は消去前後の試験構造のスレッショルド電圧ＶT を決定するための方法を示している。その方法は制御ゲート電圧ＶCGを０Ｖから＋４Ｖまで変えた時のドレイン電流ＩDSと相互コンダクタンスＧM とを測定するものである。制御ゲート電圧ＶCGが約＋０．４Ｖに達するまではドレイン電流ＩDSが流れ始めない、すなわち過剰消去がないことを示していることに注意されたい。図４および図５の相互コンダクタンスＧM のグラフはドレイン電流ＩDSの変化を制御ゲート電圧ＶCGの変化で割ったものを示している。ＧM 曲線のピークにおける制御ゲート電圧ＶCGは典型的なセル１０のスレッショルド電圧ＶT に対応する。
【００３０】
上の単一レベル多結晶シリコンデバイスに関する圧縮条件は、４．１Ｖのドレイン電圧ＶDS、３．３Ｖの浮遊ゲート電圧ＶFG（これは容量性結合比率０．６を有する浮遊ゲートセル１０へ与えられる、ハードプログラミング電圧１２Ｖの３０％から６０％の範囲にある５．５Ｖという制御ゲート電圧ＶCGと等価である）、１．５Ｖのソース電圧ＶS 、および０Ｖの基板電圧ＶSUB を１００秒間である。図４および図５から分かるように、圧縮の前後にサブスレッショルド電流にほとんど変化がない。このことは酸化物に損傷がないことを示している。
【００３１】
図６は２．１７Ｖという紫外域のスレッショルド電圧ＶTUV を有する浮遊ゲートセル１０に関するサブスレッショルド電流曲線ＩDS1 を示す。図６の浮遊ゲートセル１０はプログラムされ、次に、０．６８Ｖのスレッショルド電圧ＶT へ消去されて、新しいサブスレッショルド電流ＩDS2 が図７に示されている。図７のセルは次に、４．１Ｖのドレイン電圧ＶDS、５．５Ｖの制御ゲート電圧ＶCG、１．５Ｖのソース電圧ＶS 、および０Ｖの基板電圧ＶSUB で１０ミリ秒間圧縮される。圧縮後のサブスレッショルド電流ＩDS3 が図８に示されている。圧縮後のスレッショルド電圧ＶT は２．１９Ｖと測定され、これは紫外域のスレッショルド電圧ＶTUV に近い。
【００３２】
もしチップに対して印加できる電圧に制限があれば、圧縮時のバイアス条件はそれらの制限を考慮して図９および表２に示すように修正することができる。図９は単一レベルの多結晶シリコンデバイスに関するドレイン電流ＩDS対浮遊ゲート電圧ＶFGの曲線であり、ソース電圧ＶS として０．７５Ｖ、０．８５Ｖ、および０．９５Ｖが与えられており、ドレイン電圧ＶDSとしては４．９Ｖが与えられている。図９は一群のセルを圧縮するための適当な制御ゲート電圧ＶCG、ドレイン電流ＩDS、およびソース電圧ＶS を選ぶ際のガイドとして利用することができる。明らかなように、ドレイン電圧ＶDSは制御ゲート上の下限電圧の制限を補償するように４．１Ｖから４．９Ｖへ増加させている。
【００３３】
【表２】
0003869891.tif 000003
圧縮の間：  ＶDS＝４．９Ｖ、ＶSUB ＝０Ｖ
容量性結合率  ＝０．６
【００３４】
表２は単一レベル多結晶シリコンデバイスに関するドレイン電流ＩDSの測定結果を示しており、浮遊ゲート電圧ＶFGは１．５Ｖに設定され（これは容量性結合率が０．６であれば、制御ゲート１３へ印加できる最大電圧と考えられる２．５Ｖの制御ゲート電圧ＶCGと等価である）、３つの異なるソース電圧ＶS で以て異なる過剰消去条件を想定した場合を示してある。表２から分かるように、異なる過剰消去条件に対して異なるドレイン電流ＩDS値が得られている。例えば、もし印加されたソース電圧ＶS が０．７５Ｖであって、セル１０が過剰消去されてスレッショルド電圧ＶT が０．０Ｖであれば、このセル１０の圧縮時に必要なドレイン電流ＩDSは２１μＡである。しかし、もし１つの列の１０２４個の同様に過剰消去されたセル１０を圧縮する必要があれば、２１ｍＡ以上の合計のドレイン電流が必要になる。もし電源が２１ｍＡのドレイン電流ＩDSを供給することができなければ、ソース電圧ＶS は０．９５Ｖへ増大させられよう。この結果、（表２に示したように）１０２４個の同様に過剰消去されたセル１０の列全体を圧縮するために必要なドレイン電流ＩDSの合計はほんの５ｍＡとなる。
【００３５】
【表３】
0003869891.tif 000004
【００３６】
表３は表２のそれらと類似の条件下で、５個の浮遊ゲートメモリセル１０に対して消去および圧縮操作を施したシーケンスを示す。表３において、約２Ｖの紫外域スレッショルド電圧ＶTUV を有する浮遊ゲートメモリ試験セル１０が圧縮電圧を１００ないし１０００ミリ秒の範囲に亘って印加されている。表３の第３列が示すように、紫外域のスレッショルド電圧ＶTUV は１０００ミリ秒間の圧縮の後にも変化していない。このことは、主流を占めるセルの紫外域スレッショルド電圧ＶTUV がこれらの圧縮条件下で変化しないことを意味している。表３の５個の浮遊ゲートメモリセル１０は消去され、第５列に与えられたその消去されたスレッショルド電圧ＶT は０．８９Ｖから１．３２Ｖの範囲にある。第６列は各セルに対する各種圧縮の時間を示し、第７列はそれらの各種圧縮時間からの結果として得られるスレッショルド電圧ＶT を与えている。
【００３７】
ここに示した実験データはドレイン１２に対する特定のバイアス条件、およびソース１１に対するその他のバイアス条件について述べている。多くの場合、ソース１１とドレイン１２に対する一般的なバイアス条件は反対にしても同じ結果を得ることができる。従って、特許請求の範囲を含む本文中で使用されている”ソース”および”ドレイン”という用語は互いに置き換えることが可能である。
【００３８】
本発明は１つの例示実施例に関して説明してきたが、この説明は限定的な意図のものではない。本明細書の説明を参考にすれば、例示実施例に対する各種の修正が、本発明のその他の実施例とともに当業者には明らかになろう。本発明の特許請求の範囲はそのような修正や実施例のすべてを、本発明のスコープに含まれるものとして包含するように解釈されるべきである。
【００３９】
以上の説明に関して更に以下の項を開示する。
（１）少なくとも１つの浮遊ゲートメモリセルをソフトプログラミングするための長寿命化方法であって、前記メモリセルが制御ゲート、ソース、ドレイン、および基板を有し、前記セルが前記制御ゲートと前記基板との間に印加されたハードプログラミング電圧によってハードプログラムできるようになった方法であって、次の工程、
次によって特定ドレイン電圧を決定すること：
前記ソースおよび前記基板を基準電圧へつなぐこと、
前記ハードプログラムミング電圧の３０％から６０％の範囲内のソフトプログラミング電圧を前記制御ゲートへ供給すること、および
前記ドレインへ流入する電流を測定しながら、前記ドレインへ前記基準電圧から増大する電圧を供給すること、
前記特定ドレイン電圧が、前記ドレインへ流入する前記電流が第１のピークに到達した時点での前記増大する電圧値に等しいかそれよりも小さい電圧であること、および
次によって前記セルをソフトプログラミングすること：
前記基板の電圧から測って、約１ボルトと第２電圧と前記特定ドレイン電圧との和よりも小さい第１電圧を前記ドレインへ供給すること、
前記基板の電圧から測って、前記特定ドレイン電圧よりも小さい、非負の前記第２電圧を前記ソースへ供給すること、および
前記基板から測って、前記ソフトプログラミング電圧よりも大きくない第３電圧を前記制御ゲートへ供給すること、
を含む方法。
【００４０】
（２）第１項記載の方法であって、２個以上のセルが同時にプログラムされるようになった方法。
【００４１】
（３）第１項記載の方法であって、前記アレイ中の前記メモリセルのすべてが前記方法を使用することによって同時にプログラムされるようになった方法。
【００４２】
（４）第１項記載の方法であって、前記メモリセルが更に前記ソースと前記ドレイン間の前記基板中にチャンネルを含み、前記メモリセルの浮遊ゲートが前記メモリセルの前記チャンネル全体を覆っている方法。
【００４３】
（５）少なくとも１つの浮遊ゲートメモリセルをソフトプログラミングするための長寿命化方法であって、前記メモリセルが制御ゲート、ソース、ドレイン、および基板を有し、前記セルが前記制御ゲートと前記基板との間に印加されたハードプログラミング電圧によってハードプログラムできるようになった方法であって、次の工程、
前記基板の電圧から測って、約１ボルトと第２電圧と前記特定ドレイン電圧の和よりも小さい第１電圧を前記ドレインへ供給すること、
前記基板の電圧から測って、前記特定ドレイン電圧よりも小さい、非負の前記第２電圧を前記ソースへ供給すること、および
前記基板の電圧から測って、ソフトプログラミング電圧よりも大きくない第３電圧を前記制御ゲートへ供給すること、
を含み、
前記ソフトプログラム可能な電圧が前記ハードプログラミング電圧の３０％から６０％の範囲内にあり、
前記特定ドレイン電圧が、前記ソースおよび前記基板を基準電圧へつなぎ、前記ソフトプログラミング電圧を前記制御ゲートへ供給し、次に前記ドレインへ流入する電流を測定しながら、前記ドレインへ前記基準電圧から増大する電圧を供給することによって、前記ドレインへの流入電流が第１のピークに到達した時点での前記増大する電圧値に等しいかそれよりも小さい電圧であるように決定される方法。
【００４４】
（６）第５項記載の方法であって、２個以上のセルが同時にプログラムされるようになった方法。
【００４５】
（７）第５項記載の方法であって、前記アレイ中の前記メモリセルのすべてが前記方法を使用することによって同時にプログラムされるようになった方法。
【００４６】
（８）第５項記載の方法であって、前記メモリセルが更に、前記ソースと前記ドレイン間の前記基板中にチャンネルを含み、前記メモリセルの浮遊ゲートが前記メモリセルの前記チャンネル全体を覆っている方法。
【００４７】
（９）少なくとも１つの浮遊ゲートメモリセルをソフトプログラミングするための長寿命化方法であって、前記メモリセルが制御ゲート、ソース、ドレイン、および基板を有し、前記セルが前記制御ゲートと前記基板との間に印加されたハードプログラミング電圧によってハードプログラムできるようになった方法であって、次の工程、
前記基板の電圧から測って、約１ボルトと第２電圧と前記特定ドレイン電圧との和よりも小さい第１電圧を前記ドレインへ供給すること、
を含み、
前記特定ドレイン電圧が、前記ソースおよび前記基板を基準電圧へつなぎ、前記ハードプログラムミング電圧の３０から６０％の範囲内にあるソフトプログラミング電圧を前記制御ゲートへ供給し、次に前記ドレインへ流入する電流を測定しながら、前記ドレインへ前記基準電圧から増大する電圧を供給することによって、前記ドレインへの流入電流が第１のピークに到達した時点での前記増大する電圧値に等しいかそれよりも小さい電圧であるように決定され、更に、
前記基板の電圧から測って、前記特定ドレイン電圧よりも小さい、非負の前記第２電圧を前記ソースへ供給すること、および
前記基板の電圧から測って、前記ソフトプログラミング電圧よりも大きくない第３電圧を前記制御ゲートへ供給すること、
を含む方法。
【００４８】
（１０）第９項記載の方法であって、前記メモリセルの２個以上が前記方法を使用することによって同時にプログラムされるようになった方法。
【００４９】
（１１）第５項記載の方法であって、前記アレイ中の前記メモリセルのすべてが前記方法を使用することによって同時にプログラムされるようになった方法。
【００５０】
（１２）第５項記載の方法であって、前記メモリセルが更に、前記ソースと前記ドレイン間の前記基板中にチャンネルを含み、前記メモリセルの浮遊ゲートが前記メモリセルの前記チャンネル全体を覆っている方法。
【００５１】
（２３）少なくとも１つの浮遊ゲートメモリセル１０をソフトプログラミングするための長寿命化された方法は、基板およびソース１１を基準電圧へつなぐこと、次に、前記セルをハードプログラムするために使用される電圧の３０％から６０％の範囲にあるソフトプログラミング電圧を制御ゲート１３へ供給すること、を含む。ドレイン１２へ流入する電流を測定しながら、増大する電圧をドレイン１２へ供給する。ドレイン１２へ流れ込む電流が第１のピークに達する時のドレイン１２電圧値に等しいかそれよりも小さい特定のドレイン１２電圧が選ばれる。基板を基準電圧に設定し、前記特定ドレイン１２電圧に等しいかそれよりもわずかに小さい第１電圧をドレイン１２へ供給すること、前記特定ドレイン１２電圧よりも小さい、非負の第２電圧をソース１１へ供給すること、および前記ソフトプログラミング電圧より大きくない第３電圧を制御ゲート１３へ供給することによって、セル１０がソフトプログラムされる。
【図面の簡単な説明】
【図１】メモリセルアレイの、部分的にブロック図で示した電気回路図。
【図２】図１のメモリセルアレイに使用される型の典型的な浮遊ゲートセルの断面図。
【図３】制御ゲートに約＋５Ｖをつなぎ、ソースをアースへつなぎ、基板を０Ｖとして、１セル試験構造のドレイン−ソース間の電圧を変化させた時のドレイン電流の変化を示す図。
【図４】上述の条件下で、単一レベル多結晶シリコンを有するデバイスの圧縮前のサブスレッショルド勾配を示す図。
【図５】ドレイン電圧ＶDSを４．１Ｖ、浮遊ゲート電圧ＶFGを３．３Ｖ、ソース電圧ＶS を１．５Ｖ、および基板電圧ＶSUB を０Ｖに１００秒間保った圧縮後の図４と同じセルのサブスレッショルド勾配を示す図。
【図６】２．１７Ｖの紫外域スレッショルド電圧を有する浮遊ゲートセルに関するサブスレッショルド勾配曲線（ＩDS1 ）を表わす図。
【図７】０．６８Ｖのスレッショルド電圧ＶT へプログラムおよび消去された後の図６の浮遊ゲートセルに関するサブスレッショルド勾配曲線（ＩDS2 ）、および比較のための図６のサブスレッショルド勾配曲線（ＩDS1 ）を表わす図。
【図８】ドレイン電圧ＶDSを４．１Ｖ、制御ゲート電圧ＶCGを５．５Ｖ、ソース電圧ＶS を１．５Ｖ、および基板電圧ＶSUB を０Ｖに１０ミリ秒間保った圧縮後の図６および図７の浮遊ゲートセルに関するサブスレッショルド勾配曲線（ＩDS3 ）と、圧縮後のスレッショルド電圧ＶT が約２．１９Ｖであり、それが紫外域スレッショルド電圧ＶTUV に近いことを示す図。
【図９】ソース電圧ＶS を０．７５Ｖ、０．８５Ｖ、および０．９５Ｖとし、ドレイン電圧ＶDSを４．９Ｖとした時の、単一レベル多結晶シリコンデバイスに関する浮遊ゲート電圧ＶFG対ドレイン電流ＩDSの関係、および一群のセルを圧縮するための制御ゲート電圧ＶCG、ドレイン電流ＩDS、およびソース電圧ＶS の適切な選択を示す図。
【符号の説明】
１０  浮遊ゲートトランジスタ
１１  ソース
１２  ドレイン
１３  浮遊ゲート
１４  制御ゲート
１５  ワードライン
１６  ワードラインデコーダ
１７  ソースライン
１７ａ  共通列ライン
１８  ドレイン列ライン
１９  列デコーダ
２０ｒ  ライン
２０ｄ  番地ライン
２１  読み出し／書き込み／消去制御回路
２２  データ入／出力端子（ＤＡＴＡ  ＩＮ／ＯＵＴ）
２３  基板
２４  チャンネル
２５  ゲート絶縁体
２６  中間レベル絶縁体
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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