(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
水平方向に突出して基板の下側縁を支持する支持部と、前記支持部によって支持された前記基板が倒れるのを阻止する阻止部とを有し、当該各部によって前記基板を立てた状態で保持する保持部材を一対備え、これら保持部材同士で前記基板の受け渡しを行う基板受渡機構であって、一方の前記支持部と、他方の前記支持部とが平面視において互いに嵌り合うよう当該各支持部を構成する事によって、両者が同一の前記基板を同時に支持し得るようにすると共に、一方の前記支持部が、他方の前記支持部によって支持されている前記基板を、下方からすくい上げる如く前記各保持部材同士が相対移動する基板受渡機構において、
前記阻止部は、前記基板の左右両側面を把持する左右一対の把持部材を有し、前記一対の把持部材は、当該左右方向に開閉自在に構成されてあり、一方の前記保持部材における前記一対の把持部材と、他方の前記保持部材における前記一対の把持部材とが側面視において互いに嵌り合うよう当該各把持部材を構成する事によって、両者が同一の前記基板を同時に把持し得るように構成されて成る事を特徴とする基板受渡機構。
【請求項２】
前記基板受渡機構は、一対の保持部材の一方を、姿勢を保持したまま前後方向に進退する進退機構と鉛直方向に昇降させる昇降機構を具備している事を特徴とする請求項１に記載の基板受渡機構。
【請求項３】
請求項１または２のいずれかに記載の基板受渡機構において、前記基板受渡機構の一方の保持部材が旋廻可能である事を特徴とする基板受渡機構。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれかに記載の基板受渡機構において、前記基板はフォトマスク基板であり、一方の前記保持部材は、前記フォトマスク基板を搬送する搬送台車に昇降自在に搭載されると共に、他方の前記保持部材は、前記フォトマスク基板に現像、エッチング、
洗浄その他の所定の処理を施す処理装置に固定される事を特徴とする基板受渡機構。
【請求項５】
請求項４に記載の基板受渡機構を用いて前記フォトマスク基板の受け渡しを行う工程を含む事を特徴とするフォトマスクの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、基板の受け渡しを行う技術に関し、より詳細には、フォトマスク等の製造においてフォトマスクの製造基板に傷やパーティクルを付着させずに当該基板の受け渡しを行う技術に関する。
【０００２】
【従来の技術】
半導体素子や液晶表示装置の製造において、フォトリソグラフィー工程ではフォトマスクが使用される。フォトマスクは、概略次の様な工程を経て製作される。即ち、先ず成膜装置により、石英ガラス等から成る透光性基板上にクロム膜を成膜する。次いで、スピンコータやＣａｐコータ等の塗布装置により、クロム膜上にレジストを塗布する。次いで、レーザ描画装置、電子線描画装置、或いは露光装置等により、当該レジスト膜に所定のパターンを描画（露光）する。次いで、レジスト現像装置により、現像を行う。次いで、エッチング装置により、クロム膜をエッチングする。次いで、洗浄装置により、レジスト膜の剥離及び基板の洗浄を行う。しかる後、欠陥検査装置により、遮光膜パターンの欠如を検査し、パタン修正装置を用いて遮光膜パタンの修正を行う事により製品としてのフォトマスクを得る。
【０００３】
ところで、前述した成膜装置、塗布装置、描画装置、露光装置、レジスト現像装置、エッチング装置、洗浄装置、欠陥検査装置、パタン修正装置などの各装置（以下、「処理装置」と総称する。）は、各々個別の位置に配置されている。従って、フォトマスクの製造過程においては、製造途中で得られるフォトマスクの素材基板を、次の工程を担う処理装置まで搬送する必要がある。
従来、そのような処理装置間における素材基板の搬送は、製造ラインのフレキシビリティやコストメリット等を勘案して作業者の人手により行われていた。
【０００４】
一方、近時では、液晶ディスプレイ（LCD）、フラットパネルディスプレイ（FPD）、プラズマパネルディスプレイ（PDP）、薄膜トランジスタ（TFT）、カアラーフィルタ（CF）等の大型化に伴い、これらの製造には例えば５００[ｍｍ]×７５０[ｍｍ]以上の大型のフォトマスクが使用される様になってきており、フォトマスクの製造過程において当該素材基板を人手により搬送するのが困難な場合が生じてきた。
【０００５】
この様な状況に鑑みて、特開平１１−２０２４７３号公報には、搬送台車を用いて素材基板を搬送する事が開示されている。具体的には、この搬送台車によれば、素材基板の上下両側面を回転ロールで挟持しつつ当該回転ロールを転がすことにより、処理装置との間で素材基板の受け渡しを行えるので、素材基板の準備を効率的に行うことができ、作業者の負担が軽減されることとなる。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、上記のような従来の技術では、回転ロールを転がしつつ素材基板の受け渡しを行うので、素材基板と回転ロールとの接触部分においてパーティクル（塵）が発生し、それが素材基板に付着してしまうと云う問題を生じていた。すなわち、素材基板にパーティクルが付着した場合には、微細なパタンのフォトエッチング等に失敗し、歩留まりの低下を招くこととなる。
また、従来の搬送台車では、回転ロールの位置が固定されていたので、同一サイズの素材基板しか保持できない。従って、基板サイズの設計変更等を行う毎に、異なる搬送台車を用意する必要があり、この点について改善の余地があった。
【０００７】
本発明は、上記の事情に鑑み成されたものであり、傷やパーティクルを付着させることなく基板の受け渡しを行う基板受渡機構を提供する事を目的とする。
また、本発明は、異なるサイズの基板を同一の搬送台車を用いて受け渡す技術を提供する事を目的とする。
【０００８】
【課題を解決するための手段】
本発明の基板受渡機構は、水平方向に突出して基板の下側縁を支持する支持部と、前記支持部によって支持された前記基板が倒れるのを阻止する阻止部とを有し、当該各部によって前記基板を立てた状態で保持する保持部材を一対備え、これら保持部材同士で前記基板の受け渡しを行う基板受渡機構であって、一方の前記支持部と、他方の前記支持部とが平面視において互いに嵌り合うよう当該各支持部を構成する事によって、両者が同一の前記基板を同時に支持し得るようにすると共に、一方の前記支持部が、他方の前記支持部によって支持されている前記基板を、下方からすくい上げる如く前記各保持部材同士が相対移動するようにした事を特徴とする。
【０００９】
ここで、「基板を立てた状態」とは、基板が鉛直方向に直立している状態、或いは鉛直方向に対して傾斜している状態を云う。
【００１０】
本発明の基板受渡機構によれば、一方の支持部と、他方の支持部とが平面視において互いに嵌り合うよう当該各支持部を構成する事によって、両者が同一の基板を同時に支持し得ると共に、一方の支持部が、他方の支持部によって支持されている基板を、下方からすくい上げる如く各保持部材同士が相対移動するので、基板の受け渡しの際に、当該基板と保持部材との接触面積を最小限に抑えることができる。しかも、当該接触箇所では両者の間に摩擦等が生じる懸念はない。これにより、受け渡しの際に、基板に傷やパーティクルが付着するのが抑制される。
【００１１】
本発明の具体的な態様においては、前記阻止部を、前記基板の左右両側面を把持する左右一対の把持部材とし、前記一対の把持部材は、当該左右方向に開閉自在に構成し、一方の前記保持部材における前記一対の把持部材と、他方の前記保持部材における前記一対の把持部材と、が側面視において互いに嵌り合うよう当該各把持部材を構成する事によって、両者が同一の前記基板を同時に把持し得るように構成するのが好ましい。
【００１２】
本発明の具体的な態様によれば、各々の保持部材が、基板の下端縁を支持部によって支持すると共に、当該基板の左右両側面を把持部材によって把持するので、これを安定した状態で保持できる。また、各々の把持部材は、左右方向に自在に開閉するので、サイズの異なる基板を保持できる。
一方の保持部材によって保持されている基板を他方の保持部材に受け渡す際には、予め当該他方の保持部材の把持部材を開いておき、双方の支持部材が当該基板を同時に支持し得るようにこれら保持部材同士を相対向させる。次いで、当該一方の保持部材を開くと共に、当該他方の把持部材を閉じる。このとき、双方の把持部材は、側面視において互いに嵌り合うよう構成されているので、互いに干渉する事は無い。次いで、当該他方の支持部が、当該一方の支持部によって支持されている基板を、下方からすくい上げる如く各保持部材同士を相対移動させる。かくして、一方の保持部材から他方の保持部材に基板が移載される。このように、基板の受け渡しを行う過程で双方の把持部材が左右方向に自在開閉するので、同一の基板受渡機構で以って異なるサイズの基板の受け渡しを行える。
【００１３】
また、本発明の更に具体的な態様においては、前記基板をフォトマスク基板とし、一方の前記保持部材を前記フォトマスク基板を搬送する搬送台車に昇降自在に搭載すると共に、他方の前記保持部材を前記フォトマスク基板に現像、エッチング、洗浄その他の所定の処理を施す処理装置に固定するのが好ましい。
なお、ここでフォトマスク基板とは、ガラス基板その他の透光性基板や、透光性基板に遮光膜が成膜されて成るフォトマスクブランク等の様なフォトマスクの製造途中の素材基板、及びフォトマスクそのものを云う。
【００１４】
本発明の更に具体的な態様によれば、一方の前記保持部材を前記フォトマスク基板を搬送する搬送台車に昇降自在に搭載すると共に、他方の前記保持部材を前記フォトマスク基板に現像、エッチング、洗浄その他の所定の処理を施す処理装置に固定するので、各々の処理装置に保持部材を昇降させる手段を搭載する必要が無くなり、各処理装置側の構成を簡略化できる。
【００１５】
また、本発明のフォトマスクの製造方法は、前記基板受渡機構を用いて前記フォトマスク基板の受け渡しを行う工程を含む事を特徴とする。
【００１６】
本発明のフォトマスクの製造方法によれば、基板受渡機構を用いてフォトマスク基板の受け渡しを行うので、フォトマスク基板に傷やパーティクルが付着するのを最小限に抑えることができる。これにより、歩留まりを向上できる。
【００１７】
【発明の実施の形態】
以下、図１乃至図１０を参照して本発明の実施の形態について説明する。
[第１の実施の形態]
先ず、本発明が適用されたフォトマスク製造ラインの全体構成について説明する。図１は、フォトマスク製造ラインを例示する鳥瞰概略図である。図１において、符号１から符号８はそれぞれ処理装置を示し、符号Ｌは床面に敷設されたレールガイドを示し、符号１００は搬送台車を示す。
【００１８】
図１に示す様に、各々の処理装置１，２，３，４…は、それぞれ所定位置に配置されている。そして、当該各装置をつなぐ様にレールガイドＬが敷設されており、そのレールガイドＬに沿って、フォトマスク基板を搬送する搬送台車１００を手押しにより移動させる事ができる様に成っている。
なお、ここに云うフォトマスク基板とは、フォトマスクの原板である透光性基板、透光性基板の表面に遮光膜が成膜されて成るフォトマスクブランク、遮光膜の上にレジスト膜が積層されて成る基板、その他のフォトマスク製造過程で得られる製造途中の素材基板、及びフォトマスクの総称である。
【００１９】
具体的には、処理装置１から処理装置８はそれぞれ、成膜装置、塗布装置、露光装置、レジスト現像装置、エッチング装置、洗浄装置、欠陥検査装置、パタン修正装置であり、搬送台車１００を用いてこの順にフォトマスク基板の搬送を行うようにしたものである。
即ち、フォトマスクの製造過程において、搬送台車１００は、処理装置１によって処理されて成るフォトマスクブランクを当該処理装置１から受け取り、受け取ったフォトマスクブランクを保持しつつ処理装置２まで搬送し、次いで処理装置２に当該フォトマスクブランクを渡す。以下同様にして、搬送台車１００は、或処理装置で処理されたフォトマスク基板を当該或処理装置から受け取り、受け取ったフォトマスク基板を、次の工程を担う処理装置まで搬送し、次いで当該処理装置に当該フォトマスク基板を渡す。
【００２０】
次に、搬送台車１００について説明する。搬送台車１００は、図２に示す様に、四隅にそれぞれローラキャスタ１１，１２，１３，１４が取り付けられた平面視矩形の底面パネル２０を基礎として構成されている。この底面パネル２０の相対面する左右両側面にはそれぞれ側面パネル３１，３２が立設されており、これら側面パネル３１，３２の上端には梁材４１，４２が架け渡されている。
そして、この搬送台車１００の前方及び後方は開口しており、当該何れかの開口部を介してフォトマスク基板Ｗの受け渡しが行われる様に成っている。
【００２１】
フォトマスク基板Ｗの受け渡しは、側面パネル３１と側面パネル３２の間に配置された受渡ユニット５０によって行われる。受渡ユニット５０は、水平に配置されたターンテーブル５１と、このターンテーブル５１上に載置された保持部材５２とを含んで構成されている。
【００２２】
ターンテーブル５１は、平面視において円形をなしており、図示せぬボールベアリング等によって当該周方向に自在に回転するよう構成されている。
【００２３】
このターンテーブル５１上に載置された保持部材５２は、図３（ａ）に示す様に、水平方向に突出したフォーク部材５２１と、鉛直方向に延びる背凭板５２２と、によって側面視略Ｌ字状に構成されて成る。フォーク部材５２１によってフォトマスク基板Ｗを支持する支持部を構成し、背凭板５２２によって、フォトマスク基板Ｗが倒れるのを阻止する阻止部を構成している。
即ち、保持部材５２は、フォーク部材５２１によってフォトマスク基板Ｗの下側縁を支持すると共に、背凭板５２２によってフォトマスク基板Ｗの背部上端縁を受け止める事により、当該フォトマスク基板Ｗを立て掛けた状態で保持するものである。
【００２４】
フォーク部材５２１は、図４（ａ）に示す様に、一端が背凭板５２２に固着され、他端が自由端とされた複数の突出片５２１ａ，５２１ｂから成る。これら突出片５２１ａ，５２１ｂは、所定間隔を隔てて断続的に配されている。即ち、フォーク部材５２１は、フォトマスク基板Ｗの下側縁の一部のみを支持する。
【００２５】
また、各々の突出片５２１ａ，５２１ｂの自由端部には、フォトマスク基板Ｗの下端縁を係止する係止手段としての凸部５２１ｃ，５２１ｄがそれぞれ設けられている。これにより、フォトマスク基板Ｗの下端縁が凸部５２１ｃ，５２１ｄによって係止されるので、当該フォトマスク基板Ｗの下端縁が各突出片５２１ａ，５２１ｂの当該突端方向に滑り落ちる事が阻止される。
【００２６】
また、受渡ユニット５０は、図示はしないが、保持部材５２の姿勢を保ったまま、当該保持部材５２を前後方向に進退させる進退機構を具備している。具体的には、この進退機構によって、フォーク部材５２１の裏面がターンテーブル５１の表面に摺接しながら保持部材５２全体が前後方向に自在に摺動する様に成っている。
ここで、搬送台車１００の前方或いは後方は開口しているので、保持部材５２を前後方向に摺動させる事によって、フォーク部材５２１を搬送台車１００の開口部から完全に突出させる事ができる（図３（ｂ）参照）。
尚、この進退機構は、例えばラックとピオニオン等によって実現できる。
【００２７】
更に、受渡ユニット５０は、図示はしないが、保持部材５２の姿勢を保ったまま、当該保持部材５２を鉛直方向に昇降させる昇降機構を具備している。具体的には、この昇降機構によって、ターンテーブル５１を昇降させる事により、当該ターンテーブル５１に載置された保持部材５２を昇降できる様に成っている。
尚、この昇降機構は、ラックとピオニオン或いはボールネジ等によって実現できる。
【００２８】
また、図２に示す様に、床パネル２０の左右両側面には、それぞれガイドバー６１，６２が固着されている。このガイドバー６１，６２は、レールガイドＬを構成する案内溝に嵌っている。従って、これらガイドバー６１，６２が案内溝の内壁に案内されるので、作業者は、レールガイドＬに沿って搬送台車１００を手押しする事ができる。
【００２９】
次に、処理装置１，２，３…側の構成について説明すると、図３（ｂ）に示す様に、各処理装置１，２，３…には、それぞれ保持部材２００が固定されている。
保持部材２００は、前述した保持部材５２と対をなすもので、この保持部材２００と受渡ユニット５０とによって基板受渡機構を構成している。
即ち、保持部材２００は、図３（ｂ）及び図４（ｂ）に示す様に、水平方向に延びるフォーク部材２０１と、鉛直方向に延びる背凭板２０２とにより側面視Ｌ字状に構成されて成る。
【００３０】
但し、フォーク部材２０１は、図４（ｂ）に示す様に、３つの突出片２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃから成る。当該各突出片も、所定間隔を隔てて断続的に配されている。但し、これら突出片２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃは、平面視において前述した各突出片５２１ａ，５２１ｂと嵌り合うように配置されており、これによって、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とで同一のフォトマスク基板Ｗを同時に保持できる様に成っている。
即ち、フォーク部材２０１は、フォトマスク基板Ｗの下側端のうち、前述した突出片５２１ａ，５２１ｂによっては支持されない部分を支持するものである。
【００３１】
また、各々の突出片２０１ａ，２０１ｂ，２０１ｃの自由端部には、フォトマスク基板Ｗの下端縁を係止する係止手段としての凸部２０１ｄ，２０１ｅ，２０１ｆがそれぞれ設けられている。
【００３２】
以上説明したフォトマスク製造ラインでは、次の様にして搬送台車１００と処理装置１，２，３…との間でフォトマスク基板Ｗの受け渡しが行われる。図５は、フォトマスク基板の受け渡し態様を模式的に示す。
【００３３】
先ず、作業者は、フォトマスク基板Ｗを保持した搬送台車１００をレールガイドＬに沿って処理装置１まで手押しする。搬送台車１００を処理装置１まで搬送した場合には、搬送台車１００の前方或いは後方の開口部が、処理装置１側の保持部材２００を臨むようレールガイドＬが敷設されている。
尚、このとき側面視において、搬送台車１００側のフォーク部材５２１は、処理装置１側のフォーク部材２０１よりも上方に位置している（図５（ａ）参照）。
【００３４】
次いで、作業者は、保持部材５２を保持部材２００に向かって摺動させる。このとき、図３（ｂ）に示す様に、側面視において、フォトマスク基板Ｗの下端縁が、フォーク部材２０１の凸部２０１ｄ，２０１ｅ，２０１ｆよりも背凭板２０２側に位置するまで保持部材５２を摺動させる（図５（ｂ）参照）。
【００３５】
次いで、作業者は、保持部材５２を下降させ、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが同じ高さになったら当該下降を一端停止する。その過程で、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが嵌り合い、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗが同時に支持される。
この状態で、作業者は、背凭板５２２に立て掛けられているフォトマスク基板Ｗを背凭板２０２に立て掛ける（図５（ｃ）参照）。
【００３６】
次いで、作業者は、保持部材５２を更に下降させる。これにより、フォーク部材２０１が、フォーク部材５２１によって支持されているフォトマスク基板Ｗを下方からすくい上げる如く、これらフォーク部材２０１，５２１同士が相対移動することとなって、保持部材５２によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除され、保持部材２００側にフォトマスク基板Ｗが移載される（図５（ｄ）参照）。
ここで、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とは、平面視において互いに嵌り合うよう構成されているので、当該各突出片は互いに干渉せずに離合する。
【００３７】
次いで、作業者は、保持部材５２を後退させ、これを搬送台車１００に収める（図５（ｅ）参照）。
次いで、作業者は、搬送台車１００を所定位置まで復帰させる（図５（ｆ）参照）。
【００３８】
以上、搬送台車１００から処理装置１へのフォトマスク基板Ｗの移載について説明したが、処理装置１から搬送台車１００へのフォトマスク基板Ｗの移載も同様にして行われる。
【００３９】
即ち、作業者は、空の状態の搬送台車１００をレールガイドＬに沿って処理装置１まで手押しする。このとき側面視において、搬送台車１００側のフォーク部材５２１は、処理装置１側のフォーク部材２０１よりも下方に位置している。
【００４０】
次いで、作業者は、フォトマスク基板Ｗの下端縁が、フォーク部材５２１の凸部５２１ｃ、５２１ｄよりも背凭板５２２側に位置するまで、保持部材５２を保持部材２００に向かって摺動させる。
【００４１】
次いで、作業者は、保持部材５２を上昇させ、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが同じ高さになったら当該下降を一端停止する。その過程で、フォーク部材５２１とフォーク部材２０１とが嵌り合い、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗが同時に支持される。この状態で、作業者は、背凭板２０２に立て掛けられているフォトマスク基板Ｗを背凭板５２２に立て掛ける。
【００４２】
次いで、作業者は、保持部材５２を更に上昇させる。これにより、フォーク部材５２１が、フォーク部材２０１によって支持されているフォトマスク基板Ｗを下方からすくい上げる如く移動することとなって、保持部材２００によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除され、保持部材５２側にフォトマスク基板Ｗが移載される。次いで、作業者は、保持部材５２を後退させ、これを搬送台車１００に収める。次いで、作業者は、搬送台車１００を次の工程を担う処理装置２まで手押しする。
【００４３】
本実施の形態においては、次の様な効果が得られる。
（１）各保持部材５２，２００はそれぞれ、フォーク部材５２１，２０１によってフォトマスク基板Ｗの下端縁を支持し、背凭板５２２，２０２によってフォトマスク基板Ｗの上端縁を受けとめる事により、フォトマスク基板Ｗを立て掛けた状態で保持するので、これとフォトマスク基板Ｗとの接触面積を最小限に抑えることができる。即ち、各保持部材は、フォトマスク基板Ｗの端縁のみに接触する。しかも、当該接触箇所においては、摩擦等を発生する懸念が無い。これにより、フォトマスク基板Ｗへの傷或いはパーティクルの付着を防止できる。
【００４４】
（２）保持部材５２，２００は、フォトマスク基板Ｗの上端縁と下端縁のみを支える事によって、これを立て掛けた状態で保持するので、フォーク部材と背凭板とによって安定して保持できる範囲であれば、様々なサイズのフォトマスク基板を保持できる。また、これにより、保持部材５２，２００同士で、様々なサイズのフォトマスク基板の受け渡しが可能となる。
【００４５】
（３）フォーク部材５２１と、フォーク部材２０１とが平面視において互いに嵌り合うよう構成する事によって、両者が同一のフォトマスク基板Ｗを同時に支持し得るようにすると共に、一方のフォーク部材が、他方のフォーク部材によって支持されている基板を、下方からすくい上げる如く各フォーク部材２０１，５２１同士が相対的に昇降するようにしたので、受け渡しの際におけるフォトマスク基板Ｗと保持部材との接触面積を最小限に抑える事ができる。これにより、傷やパーティクルを付着させることなく基板の受け渡しを行うことができる。
【００４６】
（３）搬送台車１００の前後両方向を開口すると共に、保持部材５２をターンテーブルによって旋廻自在に構成したので、処理装置同士が向かい合わせのレイアウトの場合には、搬送台車１００全体を取り回す必要が無くなる。これにより、製造効率が向上する。即ち、図１に示す様に、処理装置６と処理装置７とは向かい合わせのレイアウトである。この場合、作業者は、フォトマスク基板Ｗを処理装置６から搬送台車１００に移載した後、当該搬送台車１００の姿勢を保ったまま、保持部材５２のみを１８０度回転させ、処理装置７に臨ませることにより、フォトマスク基板Ｗを処理装置７に移載させることができる。
【００４７】
（４）搬送台車１００をガイドレールＬに沿って移動させることとして、当該稼動エリアを限定したので、搬送台車１００が処理装置などに衝突する事が確実に回避される。また、これにより、搬送台車１００の移動ルートと作業者の動線を確実に分離できるので、製造ラインの安全性を向上できる。
【００４８】
尚、フォーク部材２０１とフォーク部材５２１とは、これらの自由端部分が平面視において嵌まり合い、且つ、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗを同時に支持できれば、その形状は特に限定されない。従って、図６に示す様に、両者の突出片の本数を適宜変更する事もできる。
また、何れか一方のフォーク部材は、少なくとも１つの突出片によって構成できる。この場合、他方のフォーク部材の突出片は、少なくとも２つのフォーク部材によって構成できる。
また、双方のフォーク部材を、多数の突出片によって櫛歯状に構成し、フォトマスク基板の受け渡しの際には、これらが互いに噛み合うようにしてもよい。
また、双方のフォーク部材が充分な隙間をもって嵌まり合うようにしてもよいし、殆ど隙間の無い状態で嵌まり合うようにしてもよい。
【００４９】
〔第２の実施の形態〕
以下、第２の実施の形態について、第１の実施の形態と重複する構成については、同一符号を用いて説明する。
第２の実施の形態は、搬送台車１００に代えて、垂直保持方式の搬送台車（VCT;Vertical Cramp Trolley）を採用したものである。
【００５０】
図７に示す様に、垂直保持方式の搬送台車３００は、四隅にそれぞれローラキャスタ７１，７２，７３，７４が取り付けられた底面パネル８０を基礎として構成されている。この底面パネル８０の側面には、側面パネル８１，８２，８３が平面視においてコ字状をなすよう立設されている。即ち、この搬送台車３００ではその前面のみが開口している。
【００５１】
また、各側面パネル８１，８２，８３によって取り囲まれるように、受渡ユニット９０が配置されている。この受渡ユニット９０は、保持部材９１と、保持部材９１を前後方向に進退させる進退機構（図示せず）と、保持部材９１を昇降させる昇降機構（図示せず）と、を含んで構成されている。
【００５２】
保持部材９１は、鉛直方向に起立し基部を構成する背板９１１と、この背板の下端から当該法線方向に突出する複数の基板受けローラ９１２ａ，９１２ｂ，９１２ｃ，９１２ｄから成る支持部９１２と、フォトマスク基板Ｗの左右両側面を把持する阻止部としてのクランパ９１３と、により構成されている。
【００５３】
各々の基板受けローラは、略円柱状の本体部より成る。本体部は、当該円柱の中心軸回りに自在に回転するようになっている。また、図８に示す様に、基板受けローラ９１２ａ，９１２ｂ，９１２ｃ，９２１ｄの本体部には夫々、係止手段としての凹溝９１２ｄ，９１２ｅ，９１２ｆ，９１２ｇが全周に亘って形成されている。当該凹溝の幅は、フォトマスク基板Ｗの板厚に略等しい。従って、この凹溝にフォトマスク基板Ｗの下側面を嵌合させる事ができる。これにより、フォトマスク基板Ｗを安定して保持できる。
尚、溝の形状はフォトマスク基板Ｗが嵌まり得るものであれば特に限定されないが、フォトマスク基板Ｗの下側面を嵌合させた際に、フォトマスク基板Ｗのエッジが当接しないような形状が好ましい。
【００５４】
クランパ９１３は、図９（ａ）に示す様に、左右一対の把持部９１３１，９１３２と、当該各把持部９１３１，９１３２を左右方向に開閉させる開閉機構（図示せず）と、を備えて成る。
左方の把持部９１３１は、鉛直方向に沿って所定間隔（ピッチ）を隔てて均等に配置された複数の係止部材９１３１ａ，９１３１ｂ，９１３１ｃ，９１３１ｄより成り、右方の把持部９１３２は、同じく鉛直方向に沿って所定間隔を隔てて均等に配置された複数の係止部材９１３２ａ，９１３２ｂ，９１３２ｃ，９１３２ｄより成る。これら把持部９１３１，９１３２同士が側面投影視において重なり合うよう各々の係止部材が配置されている。
【００５５】
また、これら把持部９１３１，９１３２は、図示せぬ開閉機構によって、互いに近づく方向、或いは互いに遠ざかる方向に均等に変位する。詳細には、開閉機構は、把持部９１３１，９１３２を互いに連動させて、同じストロークで変位させるセンタリング機能を有している。
従って、図９（ｂ）に示す様に、異なるサイズのフォトマスク基板Ｗ´を把持する場合であっても、両サイドから均等にクランプが行われ、当該フォトマスク基板Ｗ´は、その中心軸と、背板９１１の中心軸とが正面視において一致する位置にセンタリングされる。これにより、フォトマスク基板の位置決めを確実かつ容易に行える。
なお、センタリングの際には、フォトマスク基板が支持部９１２上を移動するが、このとき基板受けローラ９１２ａ，９１２ｂ，９１２ｃが回転するので、フォトマスク基板の下側面に摩擦が発生することはない。
【００５６】
また、各々の処理装置１，２，３…側には、保持部材９１と対をなす保持部材４００が適宜位置に固定されている。この保持部材４００と、受渡ユニット９０とによって基板受渡機構を構成している。
保持部材４００は、保持部材９１と同様に構成されて成るもので、鉛直方向に起立した背板４０１と、この背板４０１の下端から当該法線方向に突出する複数の基板受けローラから成る支持部４０２と、フォトマスク基板Ｗの左右両側面を把持するクランパ４０３と、により構成されている。
【００５７】
クランパ４０３は、左右一対の把持部と、当該各把持部を左右方向に開閉させる開閉機構（図示せず）と、を備えて成る。双方の把持部は、鉛直方向に沿って配置された複数の係止部材より成り、これらは側面投影視において重なり合うよう配置されている。
【００５８】
但し、このクランパ４０３は、側面視において、搬送台車側のクランパ９１３と、嵌り合うよう構成されている（図１０（ｃ）参照）。
従って、両者のクランパ４０３，９１３が同一のフォトマスク基板Ｗを同時に把持し得るように成っている。
【００５９】
本実施の形態では、次の様にして搬送台車３００と処理装置１，２，３…との間でフォトマスク基板Ｗの受け渡しが行われる。図１０は、フォトマスク基板Ｗの受け渡し態様を模式的に示す。
【００６０】
先ず、作業者は、フォトマスク基板Ｗを保持した搬送台車３００をレールガイドＬに沿って処理装置１まで搬送する。搬送台車３００を処理装置１まで搬送した場合には、搬送台車３００の開口部が処理装置１側の保持部材４００を臨み、且つ、背板９１１の中心軸と、背板４０１の中心軸が揃うように搬送台車３００がガイドレールＬによって位置決めされる。
尚、このとき平面視において、搬送台車３００側の支持部９１２は、処理装置１側の支持部４０２よりも上方に位置している（図１０（ａ）参照）。
また、処理装置側のクランパ４０３は、完全に開いた状態とされている。詳細には、クランパ４０３の把持部材同士の間隔が、クランパ９１３の把持部材９１３１，９３１２同士の間隔よりも広い状態となっている。
【００６１】
次いで、作業者は、保持部材９１を保持部材４００に向かって摺動させる。このとき、平面視において双方の支持部９１２，４０２の凹溝が一直線上に並ぶ状態まで保持部材９１を保持部材４００に近接させる（図１０（ｂ）参照）。
【００６２】
次いで、作業者は、保持部材９１を下降させ、これと保持部材４００とが同じ高さになったら当該下降を一端停止する。その過程で、支持部９１２と、４０２とが嵌り合い、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗが同時に支持される。
この状態で、作業者は、先ずクランパ４０３を閉じ、次いでクランパ９１３を開く。即ち、クランパ９１３による把持を排除して、クランパ４０３によってフォトマスク基板Ｗを把持する。このとき、双方のクランパ４０３，９１３は、側面視において互いに嵌り合うよう構成されているので、互いに干渉せずに離合する（図１０（ｃ）参照）。
【００６３】
次いで、作業者は、保持部材９１を更に下降させる。かくして、支持部４０２が、支持部９１２によって支持されているフォトマスク基板Ｗを下方からすくい上げる如く、これら支持部４０２，９１２同士が相対移動することとなって、保持部材９１によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除され、保持部材４００側にフォトマスク基板Ｗが移載される。
ここで、支持部４０２と支持部９１２とは、平面視において互いに嵌り合うよう構成されているので、当該各支持部４０２，９１２は互いに干渉せずに離合する（図１０（ｄ）参照）。
【００６４】
次いで、作業者は、保持部材９１を後退させ、これを搬送台車３００に収める（図１０（ｅ）参照）。
次いで、作業者は、搬送台車３００を所定位置まで復帰させる（図１０（ｆ）参照）。
【００６５】
以上、搬送台車３００から処理装置１へのフォトマスク基板Ｗの移載について説明したが、処理装置１から搬送台車３００へのフォトマスク基板Ｗの移載も同様にして行われる。
【００６６】
即ち、作業者は、空の状態の搬送台車３００をレールガイドＬに沿って処理装置１まで手押しする。このとき側面視において、搬送台車３００側の支持部９１２は、処理装置１側の支持部４０２よりも下方に位置している。
また、搬送台車３００側のクランパ９１３は、完全に開いた状態とされている。詳細には、クランパ９１３の把持部材９１３１，９１３２同士の間隔が、クランパ４０３の把持部材同士の間隔よりも広い状態となっている。
【００６７】
次いで、作業者は、平面視において双方の支持部９１２，４０２の凹溝が一直線上に並ぶ状態となるまで保持部材９１を保持部材４００に向かって摺動させる。
【００６８】
次いで、作業者は、保持部材９１を上昇させ、支持部９１２と支持部４０２とが同じ高さになったら当該上昇を一端停止する。その過程で、支持部９１２と支持部４０２とが嵌り合い、両者によって同一のフォトマスク基板Ｗが同時に支持される。
この状態で、作業者は、先ずクランパ９１３を閉し、次いでクランパ４０３を開く。即ち、クランパ４０３による把持を解除して、クランパ９１３によってフォトマスク基板Ｗを把持する。
【００６９】
次いで、作業者は、保持部材９１を更に上昇させる。これにより、支持部９１２が、支持部４０２によって支持されているフォトマスク基板Ｗを下方からすくい上げる如く移動することとなって、保持部材４００によるフォトマスク基板Ｗの保持が解除され、保持部材９１側にフォトマスク基板Ｗが移載される。次いで、作業者は、保持部材９１を後退させ、これを搬送台車３００に収める。次いで、作業者は、搬送台車３００を次の工程を担う処理装置２まで手押しする。
【００７０】
本実施の形態によれば、次の様な効果が得られる。
（１）保持部材９１の昇降及びクランパ４０３，９１１の開閉によってフォトマスク基板Ｗの移載を行えるので、搬送台車３００と処理装置との間でフォトマスク基板Ｗを受け渡す際には、作業者がフォトマスク基板Ｗを直接触る事が無い。従って、フォトマスク基板Ｗにパーティクルが付着するのを一層確実に回避できる。
【００７１】
（２）保持部材９１，４００においては、フォトマスク基板Ｗの下側面が凹溝に嵌まると共に、フォトマスク基板Ｗの左右両側面がクランパによって把持されるので、フォトマスク基板Ｗを安定した状態で保持できる。特に、搬送台車３００では、搬送中においてフォトマスク基板Ｗを常に安定させることができる。
【００７２】
（３）各々のクランパ４０３，９１３は、センタリング機能を有するので、異なるサイズのフォトマスク基板Ｗを把持できるのは勿論、これらを常に所定位置に位置決めできる。従って、保持部材９１，４００は、様々なサイズのフォトマスク基板を安定してバランスよく保持できる。
【００７３】
（４）搬送台車３００は、フォトマスク基板Ｗを垂直な状態で保持するので、これを立て掛けた状態で保持する搬送台車１００に比較して、その幅をスリムにできる。また、フォトマスク基板Ｗを垂直に保持することによって、仮にフォトマスク基板Ｗが可撓性を有するものであっても、これが自重で撓みにくくなる。
【００７４】
以上、本発明の好適な実施の形態について説明したが、本発明の技術思想はこれに限られない。
例えば、何れの実施の形態においても、搬送台車側の保持部材が昇降する様にしたが、搬送台車側の保持部材と処理装置側の保持部材とが相対的に昇降すれば、フォトマスク基板Ｗの受け渡しを行える。従って、処理装置側の保持部材が昇降するようにしてもよいし、搬送台車側及び処理装置側の双方の保持部材が昇降するようにしてもよい。
【００７５】
また、前述した昇降機構、進退機構、開閉機構、或いはターンテーブルの回転は、人力に基づいて保持部材を移動させるものであってもよいし、モータ等の駆動力によって自動的に保持部材を移動させるものであってもよい。人力によって保持部材を移動させる場合は搬送台車の構造を簡素化できると共にこれを安価に実現でき、モータ等の駆動力によって保持部材を移動させる場合は作業者の労力を著しく軽減できる。
また、前述した昇降機構、進退機構、開閉機構、及びターンテーブルの回転等の各動作は、一台の垂直多関節型ロボット（ハンドリング装置）で担う事もできる。
【００７６】
また、搬送台車１００，３００は作業者による手押しで移動するものとしたが、搬送台車にモータ等を搭載してこれを電気的に制御することにより、フォトマスク基板Ｗの搬送を自動化することもできる。このようにして、所謂インタロックを構築した場合には、安全面を強化することができる。
また、凹溝９１２ｄ，９１２ｅ，９１２ｆ，９１２ｇに代えてＶ状の溝等を形成することとしてもよい。
【００７７】
【発明の効果】
以上説明した様に、本発明によれば、第１に傷やパーティクルを付着させることなく基板の受け渡しを行う事が実現され、第２に異なるサイズの基板を同一の搬送台車を用いて受け渡す事が実現される。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明が適用されたフォトマスク製造ラインの鳥瞰概略図である。
【図２】第１の実施の形態による搬送台車を示す斜視概略図である。
【図３】第１の実施の形態による搬送台車を示す側面図であり、（ａ）はフォトマスク基板の搬送時、（ｂ）はフォトマスク基板の受渡時における状態を示す。
【図４】（ａ）は搬送台車側の保持部材を上方から見下ろした図、（ｂ）は処理装置側の保持部材を上方から見下ろした図である。
【図５】第１の実施の形態におけるフォトマスク基板の受け渡し態様を説明する為の図である。
【図６】フォーク部材の他の形状を示す図である。
【図７】第２の実施の形態による搬送台車を示す斜視概略図である。
【図８】基板受けローラの側面図である。
【図９】第２の実施の形態による保持部材の動作を説明する為の図である。
【図１０】第２の実施の形態におけるフォトマスク基板の受け渡し態様を説明する為の図である。
【符号の説明】
１，２，３，４，５，６，７，８      処理装置
５０，９０      受渡ユニット
５２，２００；９１，４００      保持部材
１００，３００      搬送台車
２０２，５２２      背凭れ板（阻止部材）
４０２，９１２      支持部
４０３，９１３      クランパ（阻止部材，把持部材）
５２１，２０１      フォーク部材（支持部）
Ｗ      フォトマスク基板（基板）
【図１】
0003976531.tif 000002
【図２】
0003976531.tif 000003
【図３】
0003976531.tif 000004
【図４】
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【図５】
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【図６】
0003976531.tif 000007
【図７】
0003976531.tif 000008
【図８】
0003976531.tif 000009
【図９】
0003976531.tif 000010
【図１０】
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