【手続補正書】
【提出日】平成28年10月7日(2016.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト材料の後処理の方法であって、
（ｉ）ゼオライト材料の骨格構造がＸ２Ｏ３及びＹＯ２を含み、Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素であり、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２のモル比が０．０２：１より大きく、
ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、
ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択される、
ＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト材料を準備する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において準備したゼオライト材料を液体溶剤系で処理して、それにより最大でも０．０２：１のＸ２Ｏ３：ＹＯ２のモル比を有するゼオライト材料を得、ゼオライト材料を液体溶剤系から少なくとも部分的に分離する工程であって、
液体溶剤系が水、一価アルコール、多価アルコール及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される、
工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）から得られたゼオライト材料を５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有する液体水性系で処理する工程であって、
液体水性系の含水率が５０質量％より大きい、
工程と
を含み、（ｉｉｉ）で用いる水性系のｐＨをｐＨ感受性ガラス電極を用いて決定する、方法。
【請求項２】
ＹがＳｉであり、ＸがＢである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ｉ）において、ゼオライト材料の骨格構造の少なくとも９５質量％がＸ２Ｏ３及びＹＯ２からなる、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
（ｉ）において、Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２のモル比が少なくとも０．０３：１である、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
（ｉｉ）の前に、（ｉ）において準備したゼオライト材料を噴霧乾燥にかける、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
（ｉｉ）の前に、（ｉ）において準備したゼオライト材料を焼成にかける、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
焼成を４００〜７００℃の範囲の温度で、１〜１０時間の範囲の期間にわたり行う、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
（ｉｉ）において、液体溶剤系が水、メタノール、エタノール、プロパノール、エタン−１，２−ジオール、プロパン−１，２−ジオール、プロパン−１，３−ジオール、プロパン−１，２，３−トリオール及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
（ｉｉ）において、処理を５０〜１２５℃の範囲の温度で、６〜２０時間の範囲の期間にわたり行う、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
（ｉｉ）において、処理を還流下で行う、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
（ｉｉ）で得られるゼオライト材料が最大でも０．０１：１のＸ２Ｏ３：ＹＯ２のモル比を有する、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
（ｉｉｉ）の前に、（ｉｉ）から得られたゼオライト材料を噴霧乾燥にかける、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
（ｉｉ）から得られるゼオライト材料が粉末の形である、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
（ｉｉｉ）の前に、（ｉｉ）で得られたゼオライト材料を焼成にかける、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
焼成を４００〜７００℃の範囲の温度で、１〜１０時間の範囲の期間にわたり行う、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
（ｉｉｉ）において、ゼオライト材料を０．５〜２４時間の範囲の期間にわたり液体水性系により処理する、請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
（ｉｉｉ）において、ゼオライト材料を７５〜２００℃の範囲の温度で液体水性系により処理する、請求項１から１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
（ｉｉｉ）で用いる液体水性系が６〜７．５の範囲のｐＨを有する、請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
（ｉｉｉ）において、液体水性系のゼオライト材料に対する質量比が３５：１〜５：１の範囲にある、請求項１から１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
（ｉｉｉ）において、液体水性系が少なくとも９０質量を含む、請求項１から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
（ｉｉｉ）において、ゼオライト材料を、自己生成圧力下で閉鎖系内で液体水性系により処理する、請求項１から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
（ｉｉｉ）から得られたゼオライト材料を焼成にかける、請求項１から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
焼成を３５０〜６００℃の範囲の温度で、１〜１０時間の範囲の期間にわたり行う、請求項２２に記載の方法。
【請求項２４】
（ｉ）の後及び／又は（ｉｉ）の後及び／又は（ｉｉｉ）の後に、ゼオライト材料を焼成の前に乾燥にかける、請求項１から２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
（ｉｉｉ）の前にもその実施中にもその後にも、ゼオライト材料を蒸気処理にかけず、及び／又は（ｉｉｉ）の実施中にもその後にも、ゼオライト材料を５．５より低い若しくは８より高いｐＨを有する水溶液による処理にかけず、（ｉｉｉ）で用いる水性系のｐＨをｐＨ感受性ガラス電極を用いて決定する、請求項１から２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
ＢＥＡ骨格構造を有するゼオライト材料であって、骨格構造がＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含み、Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素であり、前記ゼオライト材料が最大でも０．００２：１のＸ２Ｏ３：ＹＯ２のモル比及び最大でも７質量％の水取込み量を有し、ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、ゼオライト材料が３７０１ｃｍ−１〜３７４１ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯及び３５００ｃｍ−１〜３５５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯を示すＩＲスペクトルを有し、第２の吸収帯の強度に対する第１の吸収帯の強度の比が１．４〜２．６の範囲にある、ゼオライト材料。
【請求項２７】
Ｘ２Ｏ３：ＹＯ２のモル比が０．０００５：１〜０．００２：１の範囲にあり、水取込み量が最大でも６質量％である、請求項２６に記載のゼオライト材料。
【請求項２８】
ＸＲＤ分析により決定される、少なくとも６０％の結晶化度、ＤＩＮ６６１３１に従って決定される、最大でも６００ｍ２／ｇの比表面積、並びに３７０１ｃｍ−１〜３７４１ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯及び３５００ｃｍ−１〜３５５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯を示すＩＲスペクトルを有し、第２の吸収帯の強度に対する第１の吸収帯の強度の比が１．５〜２．５の範囲にある、請求項２６又は２７に記載のゼオライト材料。
【請求項２９】
ＹがＳｉであり、ＸがＢである、請求項２６から２８のいずれか一項に記載のゼオライト材料。
【請求項３０】
粉末の形である、請求項２６から２９のいずれか一項に記載のゼオライト材料。
【請求項３１】
請求項１から２５のいずれか一項に記載の方法により得ることができる又は得られた、ゼオライト材料。
【請求項３２】
請求項２６から３１のいずれか一項に記載のゼオライト材料を触媒として、触媒担体又は触媒成分として使用する方法。