(57)【要約】【課題】フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルタ基板やＴＦＴ基板の製造ラインで使用されるガラス基板のオリフラを、ガラス基板を停止させることなく識別できる機能を有する搬送装置を提供すること。【解決手段】フラットパネルディスプレイに用いられる基板の製造ラインで使用される基板搬送装置であり、少なくとも、基板搬送機構と、基板頂点部の形状識別機構と、を備えており、前記形状識別機構は、少なくとも前記製造ラインの流れ方向に直交する方向の前記基板の二つの辺に沿って設けられたセンサであることを特徴とする基板搬送装置。【選択図】図１
2013131523.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フラットパネルディスプレイに用いられる基板の製造ラインで使用される基板搬送装置であり、少なくとも、
前記製造ラインの流れ方向に基板を搬送する基板搬送機構と、
基板頂点部の形状識別機構と、を備えており、
前記形状識別機構は、少なくとも前記製造ラインの流れ方向に直交する方向の前記基板の二つの辺に沿って設けられたセンサであることを特徴とする基板搬送装置。
【請求項２】
前記センサが接触式変位センサであることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置。
【請求項３】
請求項２に記載の搬送装置に使用される接触式変位センサの形状識別方法であって、
少なくとも、基板が製造ラインの流れの方向に進むにつれて、まず進行方向側にある前記基板の２つの頂点の形状を測定できる位置に備えられた２つの接触式変位センサが基板に接触する直前から予め設定した時間だけ計測し、更に、前記基板の進行方向とは逆の側にある２つの頂点の形状を同様にして計測し、計測したデータを前記基板の４つの頂点に対応させ、かつ、経過した時間に対応させて記憶する計測工程と、
前記計測工程で記憶したデータと、予め記憶してあるデータとを照合することにより、前記基板の４つの頂点についての形状を判定する形状判定工程と、
から成ることを特徴とする接触式変位センサの形状識別方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液晶表示装置などのフラットパネルディスプレイの製造に使用されるガラス基板の頂点部に形成されるオリエンテーションフラット（以後、オリフラと称する。）の認識機能を備えた搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
オリフラは、四角いガラス基板の４つの頂点の少なくとも１つの頂点をカットしたものであり、その形状や形成した頂点の位置によって、ガラス基板の厚さやメーカーの識別を行う目的で形成される。メーカーを識別することは、ガラス基板の材質を識別することに相当するものであり、異なった材質のガラス基板が混入することを防ぐために必要なことである。また、例えば特許文献１に開示されているように、製造プロセスに投入する時の、ガラス基板の表裏を含めた向きを確認する為にも使用されている。
【０００３】
この様な目的でガラス基板に形成されるオリフラであるが、例えば、従来の液晶表示装置用カラーフィルタの製造ラインにおいては、製造ラインに流れているガラス基板のオリフラの確認の為に、カメラによる画像の取り込みを行う間、短時間でもガラス基板または製造ラインを一時的に止める必要があった。このため、製造ラインのタクトタイムは、長くなるという問題があった。
【０００４】
また、異なるガラス基板が混入していた場合には、やはり製造ラインを止めて、そのガラス基板を排除しなくてはならない為、生産能力が低下するという問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開平１１−２９５７０９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
本発明の課題は、フラットパネルディスプレイに用いられるカラーフィルタ基板やＴＦＴ基板の製造ラインで使用されるガラス基板のオリフラを、ガラス基板または製造ラインを停止させることなく、識別できる機能を有する搬送装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記課題を解決する手段として、請求項１に記載の発明は、フラットパネルディスプレイに用いられる基板の製造ラインで使用される基板搬送装置であり、少なくとも、
前記製造ラインの流れ方向に基板を搬送する基板搬送機構と、
基板頂点部の形状識別機構と、を備えており、
前記形状識別機構は、少なくとも前記製造ラインの流れ方向に直交する方向の前記基板の二つの辺に沿って設けられたセンサであることを特徴とする基板搬送装置である。
【０００８】
また、請求項２に記載の発明は、前記センサが接触式変位センサであることを特徴とする請求項１に記載の基板搬送装置である。
【０００９】
また、請求項３に記載の発明は、請求項２に記載の搬送装置に使用される接触式変位センサの形状識別方法であって、
少なくとも、基板が製造ラインの流れの方向に進むにつれて、まず進行方向側にある前記基板の２つの頂点の形状を測定できる位置に備えられた２つの接触式変位センサが基板
に接触する直前から予め設定した時間だけ計測し、更に、前記基板の進行方向とは逆の側にある２つの頂点の形状を同様にして計測し、計測したデータを前記基板の４つの頂点に対応させ、かつ、経過した時間に対応させて記憶する計測工程と、
前記計測工程で記憶したデータと、予め記憶してあるデータとを照合することにより、前記基板の４つの頂点についての形状を判定する形状判定工程と、
から成ることを特徴とする接触式変位センサの形状識別方法である。
【発明の効果】
【００１０】
本発明のオリフラの識別機能を有する搬送装置をカラーフィルタ基板やＴＦＴ基板の製造ラインに使用される搬送装置として使用することにより、これらの基板の全数について基板を停止させることなく、オリフラが形成されている位置と形状を識別することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】本発明の搬送装置を基板が流れる方向とは直交する断面で見た概略断面図。
【図２】基板にオリフラが形成された例を示す概略図。
【図３】搬送装置に取り付けられた接触式変位センサの出力の経時的変化の様子の例を示したグラフで、（１）は図２でＡと記した基板の頂点の形状に対応した接触式変位センサの出力と経過時間の関係を示すグラフ、（２）は図２でＤと記した基板の頂点の形状に対応した接触式変位センサの出力と経過時間の関係を示すグラフ、（３）は図２でＢと記した基板の頂点の形状に対応した接触式変位センサの出力と経過時間の関係を示すグラフ、（４）は図２でＣと記した基板の頂点の形状に対応した接触式変位センサの出力と経過時間の関係を示すグラフ。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
本発明の搬送装置を、図を用いて詳しく説明する。
図１は、本発明の搬送装置を基板が流れる方向とは直交する断面で見た概略断面図である。一般に搬送装置は、各処理装置の間にあって、基板を搬送する役割を果している。例えば液晶表示装置に使用されるカラーフィルタの製造ラインにおいては、露光装置から搬出された露光済の基板は、搬送装置によって搬送され、次の処理装置である現像装置に搬送され、現像装置に搬入される。
【００１３】
基板のサイズが大型化するのに伴い、現像装置の内部では、製造ラインの流れの方向と直交する方向に斜めに傾けて処理する方法が採用されるようになっているのが通常である。図１は、このことを示す例であり、シャフト４に搬送コロ３が適宜配置されており、シャフト４が斜めに保持されている搬送装置の状況の例を示しているが、斜めに保持されることに限定している訳ではない。基板は、その状態で現像装置に搬入され、現像処理が実施される。
【００１４】
本発明の搬送装置には、従来の搬送装置には設けられていない形状識別機構またはその具体例としての接触式変位センサ２が図１に示した様に、製造ラインの流れの方向と直交する方向に、少なくとも２つ設置されている。ここで、接触式変位センサ２が設けられている例を示したが、オリフラの形状が識別できるセンサであれば使用することが可能である。
【００１５】
図２は、オリフラが形成されたガラス基板１の例を示した。Ａはオリフラが形成された頂点、Ｂ、Ｃ、Ｄはオリフラが形成されていない頂点である。図２の矢印の方向は、ガラス基板１が流れる方向を示している。図示していないが、図２で示した頂点ＡとＢ側の頂点の形状を計測するための形状識別機構または接触式変位センサと、頂点ＣとＤ側の頂点の形状を計測するための形状識別機構または接触式変位センサが、少なくとも１個づつ配置されている。
【００１６】
図３は、接触式変位センサの出力の例を示したものである。図３（１）は図２の頂点Ａに対応した出力の経時的変化の様子を示したグラフである。頂点Ａ、Ｂ側に設置された接触式変位センサは、ガラス基板１が接触するまでは、変位が任意のある一定の値を出力しているが、基板が接触し始めると、オリフラの形状に従って変位が計測される。図２の頂点Ａの場合は、接触式変位センサの図示していない変位を計測する部分がガラス基板１によって押し込まれることになる。その場合の出力がマイナス方向に変化するとして示している。頂点Ａの形状が、直線的に変化する場合、接触式変位センサ２の出力も直線的にマイナス方向に変化する。それから、頂点Ｂがある辺に到達すると、接触式変位センサ２の出力の変化は止まり、任意の一定値を保持して、時間が経過する。
【００１７】
図３（２）は、図２の頂点Ｄに対応する接触式変位センサ２の出力の例を示したものである。頂点Ｄの形状は直角をなしている。この頂点Ｄに接触式変位センサ２にガラス基板１が接触する前は、接触式変位センサ２はある一定の出力を示しているが、頂点Ｄが接触すると、接触式変位センサ２の変位を計測する部分が基板１によって押し込まれるため、ある一定値の変位を示すようになる。接触式変位センサ２の変位を計測する部分の大きさによって、頂点Ｄのような直角をなす頂点に対応した接触式変位センサ２の出力の経時的
変化の様子は異なる。接触式変位センサ２の変位を計測する部分が十分小さい場合は、図３（２）に示したようにほぼ直角なグラフを描くが、計測する部分がガラス基板１の頂点の大きさと同等であって、例えば、円形をしたものであれば、グラフの直角に変化する部分は、円弧を描くグラフになる。
【００１８】
図３（３）は、図２の頂点Ｂに対応する接触式変位センサ２の出力の例を示したものである。頂点Ｂの形状は直角をなしている。この頂点Ｂに接触式変位センサ２にガラス基板１が接触する前は、接触式変位センサ２はある一定の出力を示しているが、頂点Ｂに到達した後は、接触式変位センサ２の計測をする部分は、ガラス基板１に接触する前と同じフリーな状態に戻り、ある一定の任意の出力を示す。接触式変位センサ２の出力は、図３（２）の時とは逆にプラスに変化する。
【００１９】
図３（４）は、図２の頂点Ｃに対応する接触式変位センサ２の出力の例を示したものである。図３（３）と同等のグラフである。これは、接触式変位センサ２の計測をする部分が、押し込まれた状態からフリーな状態に戻るためであり、接触式変位センサ２の出力はプラスの方向に変化するためである。
【００２０】
図２のガラス基板の形状と図３（１）〜（４）を対比すると、オリフラが形成されている頂点Ａとオリフラが形成されていない頂点Ｂ、Ｃ、Ｄの接触式変位センサの出力を示すグラフは明らかに異なり、オリフラ形成されている頂点Ａを識別できることが分かる。
【００２１】
また、図３（１）〜（４）のグラフは、ガラス基板１のどの頂点に対応するものであるかについては、予め明らかであるので、ガラス基板１のどの位置にオリフラが形成されているかが、明らかになる。
【００２２】
また、図３（１）〜（４）のグラフから、オリフラのサイズとオリフラの形状についても、オリフラの形状とオリフラを形成してある頂点の位置と接触式変位センサのグラフ予め記憶させておくことにより、ガラス基板の品種を特定することが可能となる。
【符号の説明】
【００２３】
１・・・ガラス基板
２・・・接触式変位センサ
３・・・搬送コロ
４・・・シャフト
Ａ・・・オリフラが形成された頂点
Ｂ・・・オリフラが形成されていない頂点
Ｃ・・・オリフラが形成されていない頂点
Ｄ・・・オリフラが形成されていない頂点
【図１】
2013131523.tif 000003
【図２】
2013131523.tif 000004
【図３】
2013131523.tif 000005