(57)【要約】【課題】本発明は、Ｘ線センサーの感度層の膜厚ムラによる感度ムラを抑制することである。【解決手段】そしてこの目的を達成するために本発明は、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板１７と、このＸ線透過性基板１７の他面側に順次設けた薄膜状電極１８、正孔注入阻止層１９、感度層２０、電子注入阻止層２１からなる光電変換膜と、この光電変換膜の薄膜状電極１８にターゲット電圧を印加するターゲット電圧印加部３４と、を備え、前記薄膜状電極１８は複数に分割されるとともに、前記ターゲット電圧印加部３４は前記分割された薄膜状電極１８に対向した感度層２０の感度に応じたターゲット電圧を印加する構成としている。【選択図】図６
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、このＸ線透過性基板の他面側に順次設けた  薄膜状電極、正孔注入阻止層、感度層、電子注入阻止層からなる光電変換膜と、
この光電変換膜の薄膜状電極にターゲット電圧を印加するターゲット電圧印加部と、を備え、前記薄膜状電極は複数に分割されるとともに、前記ターゲット電圧印加部は前記分割された薄膜状電極に対向した感度層の感度に応じたターゲット電圧を印加する構成としたＸ線センサー。
【請求項２】
前記ターゲット電圧印加部が前記分割された薄膜状電極に印加するターゲット電圧を記録した記録部を設けた請求項１に記載のＸ線センサー。
【請求項３】
前記電子注入阻止層の感度層とは反対側に、電子源を設けた請求項１または２に記載のＸ線センサー。
【請求項４】
取り付け基板の表面上に電子源を設け、この電子源上にＸ線透過性基板を、電子注入阻止層を下面側にして配置した請求項３に記載のＸ線センサー。
【請求項５】
蒸着源とＸ線透過性基板の光電変換膜成膜面が対向し、それらの一方を、前記Ｘ線透過性基板の面に平行な平行面内で一方向に移動させて少なくとも感度層の成膜を行い、薄膜状電極は移動方向に長辺となるように帯状に分割されていることを特徴とする請求項１から４のいずれか一つに記載のＸ線センサー。
【請求項６】
Ｘ線透過性基板側より面内に均一なＸ線を照射する第１工程と、
分割された薄膜状電極に一定のターゲット電圧を印加した状態で、分割された薄膜状電極から出力される電気信号を評価する第２工程と、
分割された薄膜状電極からの電気信号の値が等しくなるようにそれぞれの薄膜状電極に印加するターゲット電圧を調整する第３工程と、
を備えたＸ線センサーのキャリブレーション方法。
【請求項７】
前記第３工程で調整されたターゲット電圧を記録部に記録する第４工程を備えた請求項６に記載のＸ線センサーのキャリブレーション方法。
【請求項８】
Ｘ線源と、このＸ線源に所定間隔おいて対向配置したＸ線センサーを備え、前記Ｘ線センサーとして、請求項１から５のいずれか一つに記載のＸ線センサーを用いたＸ線診断装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、例えば、Ｘ線センサーと、Ｘ線センサーのキャリブレーション方法と、このＸ線センサーを用いたＸ線診断装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
Ｘ線診断装置は、Ｘ線源と、このＸ線源に所定間隔おいて対向配置したＸ線センサーとを備え、Ｘ線源から放射したＸ線を人体に照射、通過させることにより、Ｘ線センサーで人体内部の状態を目視可能とするものである。
【０００３】
したがって、そのＸ線照射量はできるだけ少ないほうが好ましく、そのためには、逆にＸ線センサーの感度を高める必要がある。
【０００４】
そこで、注目されるのが、照射された光により電荷を発生させるとともに、この電荷を増幅させる感度層を設ける技術である（例えば下記特許文献１）。
【０００５】
すなわち、この技術は、Ｘ線透過性基板と、このＸ線透過性基板の一面側に順次設けた薄膜状電極、正孔注入阻止層、感度層、電子注入阻止層とを備え、前記感度層で、電荷を発生させるとともに、この電荷を増幅させることにより、少ない光量でも感度よく撮像ができるようにしたものであった。
【０００６】
また、感度層の膜厚ムラにより感度変化が起きるため、膜厚ムラを少なくするため、蒸着方法として膜厚補正板を用いる技術がある。（例えば下記特許文献２）
この技術は相対的に一方向に移動する蒸着源と基板との間に膜厚を補正するための膜厚補正板を設けることにより、膜厚が厚くなるところの開口幅を狭くし、膜厚の均一化を図ったものであった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００７】
【特許文献１】特開昭６３−３０４５５１号公報
【特許文献２】特開２００７−２２７３５９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００８】
上記従来のＸ線センサーの課題は、感度ムラが原因となり、Ｘ線の映像情報が正確に取得できないことであった。
【０００９】
前述したように、従来のＸ線センサーの構成においては、Ｘ線の強度に応じた映像情報を取り出す場合には、薄膜状電極にターゲット電圧を印加し、電子源は、光電変換膜を画素ごとに走査していき、そのときに流れる電流を、薄膜状電極を介して取り出すことで、Ｘ線の強度に応じた映像情報を得ていた。
【００１０】
このような場合においては、Ｘ線センサーの光電変換膜は、感度層の感度によってＸ線の強度を感知する構成となっているが、この感度層の膜厚のばらつきによって、感度ムラが発生してしまい、その結果、Ｘ線の強度に応じた映像情報に感度ムラが発生してしまうのであった。
【００１１】
膜厚を補正する技術として、上記特許文献２のように感度層の膜厚のばらつきを少なくするため、蒸着方法として膜厚補正板を用いる技術があるが、蒸着源や基板のセット位置ズレや、成膜中の蒸着材料の減少に伴い蒸着源からの蒸着材料の飛散形状が変化するため、十分に膜厚を均一となるよう補正することは困難である。
【００１２】
そこで本発明は、感度層の感度ムラを低減することで、Ｘ線の映像情報を正確に取得することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【００１３】
そしてこの目的を達成するために本発明のＸ線センサーは、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、このＸ線透過性基板の他面側に順次設けた薄膜状電極、正孔注入阻止層、感度層、電子注入阻止層からなる光電変換膜と、この光電変換膜の薄膜状電極にターゲット電圧を印加するターゲット電圧印加部と、を備え、前記薄膜状電極は複数に分割されるとともに、前記ターゲット電圧印加部は前記分割された薄膜状電極に対向した感度層の感度に応じたターゲット電圧を印加する構成としたものであり、これにより所期の目的を達成するものである。
【発明の効果】
【００１４】
以上のように、本発明のＸ線センサーは、一面側がＸ線入射面となったＸ線透過性基板と、このＸ線透過性基板の他面側に順次設けた薄膜状電極、正孔注入阻止層、感度層、電子注入阻止層からなる光電変換膜と、この光電変換膜の薄膜状電極にターゲット電圧を印加するターゲット電圧印加部と、を備え、前記薄膜状電極は複数に分割されるとともに、前記ターゲット電圧印加部は前記分割された薄膜状電極に対向した感度層の感度に応じたターゲット電圧を印加する構成としたものであり、感度層の感度ムラを低減することで、Ｘ線の映像情報が正確に取得することができる。
【００１５】
すなわち、本発明においては、薄膜状電極を複数に分割し、それぞれの薄膜状電極に対向した感度層の感度に応じたターゲット電圧が、それぞれの薄膜状電極に印加される構成であるため、例えば、感度層の膜厚のばらつきがあっても、感度ムラを低減することができるのである。
【００１６】
更には、前記Ｘ線センサーのターゲット電圧をキャリブレーションする際には、Ｘ線透過性基板側より面内に均一なＸ線を照射する第１工程と、分割された薄膜状電極に一定のターゲット電圧を印加した状態で、分割された薄膜状電極から出力される電気信号を評価する第２工程と、分割された薄膜状電極からの電気信号の値が等しくなるようにそれぞれの薄膜状電極に印加するターゲット電圧を調整する第３工程と、を備えたので、感度層の感度に対応したターゲット電圧のキャリブレーションが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１７】
【図１】本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置の構成図
【図２】本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置のブロック図
【図３】本発明の実施の形態にかかるＸ線センサーの外観を示す斜視図
【図４】本発明の実施の形態にかかるＸ線センサーの断面図
【図５】同Ｘ線センサーの正面図
【図６】同Ｘ線センサーの制御ブロック図
【図７】同Ｘ線センサーの特性図
【図８】本発明の実施の形態にかかるＸ線センサーの成膜方法
【図９】本発明の一実施形態を示すＸ線センサーの検査時の制御ブロック図
【図１０】その制御工程のフローチャート
【発明を実施するための形態】
【００１８】
以下、本発明にかかるＸ線センサー、およびそのＸ線センサーを用いたＸ線診断装置の実施の一形態について、添付図面を交えて説明する。なお添付図面は、理解を容易にするために模式的な図を示している。
【００１９】
まず、この実施の形態にかかるＸ線診断装置の全体構成について、図１および図２を用いて説明する。
【００２０】
図１は本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置の構成図である。図１に示すように、Ｘ線診断装置は、Ｘ線源１と、Ｘ線源１から所定の間隔をおいて対向配置されるＸ線センサー２とを備え、Ｘ線源１から放射したＸ線を撮像対象者３に照射し、その撮像対象者３を透過したＸ線をＸ線センサー２に入射させることにより、撮像対象者３の内部の状態を可視化とするものである。
【００２１】
具体的には、側面視したときの形状が略半円状のアーム４の一端にＸ線源１が設けられ、アーム４の他端にＸ線センサー２が設けられている。このようにしてＸ線源１とＸ線センサー２が所定の間隔をおいて対向配置されている。したがってアーム４によって、ベッド５に横たわった撮像対象者３を挟んでＸ線源１とＸ線センサー２とを対向配置させることができるので、Ｘ線源１から照射されて撮像対象者３を透過したＸ線を、Ｘ線センサー２で検出することができる。
【００２２】
アーム４は、装置本体６に回動自在に取り付けられている。装置本体６は、アーム４を回動させる駆動装置（図示せず）を内蔵している。このようにすることで、撮像対象者３の内部の状態を様々な角度から可視化することが可能となる。
【００２３】
図２は本発明の実施の形態にかかるＸ線診断装置のブロック図である。
【００２４】
図２に示すように、Ｘ線源１はＸ線制御部７に接続されており、Ｘ線制御部７はコントローラ８に接続されている。コントローラ８は、Ｘ線診断装置全体の動作を統括的に制御するものである。Ｘ線制御部７は、コントローラ８からの指令信号に従って、Ｘ線源１によるＸ線の照射動作やＸ線の照射量を制御する。
【００２５】
Ｘ線センサー２は画像処理部９に接続されている。画像処理部９は、Ｘ線センサー２から取り出された電気信号（光電変換信号）を検出して画像処理する。画像処理部９により処理された信号はコントローラ８に送信される。コントローラ８は、Ｘ線センサー２が検出したＸ線の光量（強度）に基づく画像、すなわち撮像対象者３の内部の状態を表示する画像をモニタ１０に映し出す。
【００２６】
またＸ線センサー２は、電子源制御部１１にも接続されている。この電子源制御部１１もコントローラ８に接続されている。電子源制御部１１は、コントローラ８からの指令信号に従って、後述する電子源による電子線の照射動作や電子線の照射量を制御する。
【００２７】
装置本体６に内蔵されているアーム４を回動させる駆動装置（図示せず）は移動制御部１３に接続されており、移動制御部１３はコントローラ８に接続されている。移動制御部１３は、コントローラ８からの指令信号に従って、アーム４の回動動作を制御する。
【００２８】
コントローラ８には、さらに入力部１４が接続されている。コントローラ８は、入力部１４から入力された指令に従って、Ｘ線診断装置全体の動作を統括的に制御する。
【００２９】
続いて、この実施の形態にかかるＸ線センサー２について、図３ないし図６を用いて説明する。図３は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の外観を示す斜視図であり、図４は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の断面図であり、図５は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の光電変換膜であるターゲット部１２の正面図であり、図６は本発明の実施の形態にかかるＸ線センサー２の制御ブロック図である。
【００３０】
以下、Ｘ線センサー２の光電変換膜については、ターゲット部と称して説明を行う。
【００３１】
図３および図４に示すように、Ｘ線センサー２は、平面視したときの形状が矩形状の取り付け基板１５を備える。また図４に示すように、取り付け基板１５の主面上には、同じく矩形状の電子源１６が設けられており、その電子源１６の上部には、ターゲット部１２が配置されている。
【００３２】
ターゲット部１２は、Ｘ線入射面となったＸ線透過性基板１７と、このＸ線透過性基板１７のＸ線入射面の裏面側に順次設けた薄膜状電極１８と、正孔注入阻止層１９、電荷増倍機能を持つ光導電性の感度層２０と、電子注入阻止層２１と、より構成されている。
【００３３】
ターゲット部１２の感度層２０の主成分は、ａ−Ｓｅ（アモルファスセレン）で構成されている。また、薄膜状電極１８と、ＣｅＯ２（酸化セリウム）より形成された正孔注入阻止層１９と、感度層２０との接合により、外部からの正孔注入が阻止され、また、Ｓｂ２Ｓ３（三硫化アンチモン）より形成された電子注入阻止層２１と、感度層２０との接合により、外部からの電子注入が阻止される構造となっている。
【００３４】
ここで、薄膜状電極１８は複数に帯状に分割されており、それぞれの薄膜状電極１８はそれぞれ異なる電源２４が印加され、光電変換膜信号を検出する。
【００３５】
Ｘ線透過性基板１７は、図４に示すように、電子注入阻止層２１が電子源１６に向くように、取り付け基板１５に対して対向配置される。これにより、電子源１６は電子注入阻止層２１側の面に向けて電子線を照射することができる。
【００３６】
そして、ターゲット部１２と電子源１６は、Ｘ線の照射エネルギーを光電変換可能とするために、図３に示すように、本体ケース２ａ内に真空密封された状態で構成されている。
【００３７】
再び図６に戻って説明を続けると、電子源１６には、Ｘ走査ドライバ２８と、Ｙ走査ドライバ２９が接続され、これらのＸ走査ドライバ２８と、Ｙ走査ドライバ２９には、前記コントローラ８が接続されている。つまり、電子源１６は、Ｘ走査ドライバ２８と、Ｙ走査ドライバ２９により、Ｘ線透過性基板１７の下面に対して電子線を走査するようにしている。
【００３８】
また、この電子線の加速のためにグリッド２７が設けられおり、このグリッド２７も、コントローラ８が接続されている。さらに、薄膜状電極１８には、＋電源２４と、コントローラ８が接続されている。
【００３９】
あとで、詳細に説明するが、本実施形態においては、この図５に示すように薄膜状電極１８は複数に帯状に分割されており、それぞれの薄膜状電極１８はそれぞれ異なる電源２４が印加される構成としたことも特徴的なことである。
【００４０】
次に図６を用いて、Ｘ線センサー２の動作について説明する。
【００４１】
まず、ターゲット部１２の薄膜状電極１８は、+５〜２０ｋＶ程度の電源２４に接続される。
【００４２】
この状態において、ターゲット部１２のＸ線入射面側（図６の上方）よりＸ線２３が入射すると、感度部２０内部で光電変換により正孔と電子対が生成され、薄膜状電極１８にプラスの高電圧が印加されているため、そのうちの正孔が電子源１６側にイオン衝突を繰り返しながら移動し、ターゲット部１２の電子源１６側（図６の下方）の感度層面には、入射Ｘ線の強度に応じて生成、増倍された正孔の２次パターンが形成される。
【００４３】
次に、この正孔の２次パターンを電流値として読み取るために、電子源１６の電子ビーム２６からターゲット部１２の下面に設けられた電子注入阻止層２１に向けて、画素ごとに走査して、電子を放出することになる。
【００４４】
ここで、図５を用いて、薄膜状電極１８の構成について説明する。
【００４５】
まず、薄膜状電極１８は、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）等の薄膜状電極で形成されたものであり、複数に分割された帯状に設けられている。それぞれの薄膜状電極１８には、ターゲット電圧印加部３４（図６参照）からそれぞれ異なる電源２４ａから２４ｆが接続されており、ターゲット電圧Ｖｈ１からＶｈ６が印加されている。
【００４６】
これらのターゲット電圧は、分割された薄膜状電極１８に対向した感度層の感度に応じたターゲット電圧を印加する構成としている。
【００４７】
図６においては、まず電子ビーム２６から電子が点順次で放出され、この電子は電子注入阻止層２１に入射し、この電子注入阻止層２１上方近傍の膜内に生成された正孔と、電子注入阻止層２１より入射した電子が結合したときに流れる電流を、点順次で電子を放出した電子源の上部の薄膜状電極１８より読み出している。
【００４８】
Ｘ線撮影においてはターゲット部１２の撮像エリア全体を電子ビーム２６により点順次で走査し、それぞれの帯状に分割した薄膜状電極１８からの信号電流を光電変換膜信号検出部３２より読み出し、この信号電流を画像情報に変換して、撮像エリア全体のＸ線画像を構成する。
【００４９】
このような構成において、分割されたそれぞれの薄膜状電極１８には、ターゲット電圧印加部３４からそれぞれ異なる電源２４ａから２４ｆが接続されており、ターゲット電圧Ｖｈ１からＶｈ６が印加されている。
【００５０】
これらのターゲット電圧は、分割された薄膜状電極１８に対向した感度層２０の感度に応じたターゲット電圧を印加する構成としている。
【００５１】
このように、薄膜状電極を複数に分割し、それぞれの薄膜状電極に対向した感度層の感度に応じたターゲット電圧を、それぞれの薄膜状電極に印加される構成とすることで、例えば、感度層の膜厚のばらつきがあっても、感度ムラを低減することができるのである。
【００５２】
さらには、ターゲット電圧印加部３４は、記録部３３に記録された分割された薄膜状電極１８に対するターゲット電圧を読み取って、そのターゲット電圧を対応する薄膜状電極１８に印加する構成にしても良い。
【００５３】
より具体的な効果については図７で示す、薄膜状電極１８から膜厚深さ方向の電圧の分布を用いて説明する。
【００５４】
まず、図７（ａ）ではターゲット部１２の薄膜状電極１８が分割されずに一枚物の場合、薄膜状電極１８全体には同一のターゲット電圧が印加されるため、電圧一定となる。ここで、感度層２０の厚い場所と薄い場所が存在すると、厚い場所に比べ薄い場所においては、その傾きである電界強度が大きくなる。ターゲット部１２の感度は電界強度の影響が大きいため、感度ムラとなってしまう。
【００５５】
一方、図７（ｂ）ではターゲット部１２の薄膜状電極１８が帯状に分割されているため、感度層２０の厚い場所と薄い場所でターゲット電圧を調整することにより、傾きである電界強度を一定にすることができ、感度層２０の膜厚ムラによる感度ムラを低減することができる。
【００５６】
次に、図８を用いてターゲット１２の感度層２０の成膜方法について説明する。図８は感度層２０を真空蒸着方式で成膜する時の状態を示した図であり、図８（ａ）は断面図、図８（ｂ）は下面図である。まず、真空容器内（図示せず）に円板形状からなるターンテーブル３１が回転中心を中心として自転可能に設置されており、ターンテーブル３１の周上には成膜されるＸ線透過性基板１７を成膜面が下を向くようにセットするための孔が空けられている。前記セット用の孔に帯状に分割された薄膜状電極１８および正孔注入阻止層１９を成膜後のＸ線透過性基板１７が前記薄膜状電極１８の長辺が周方向を向き、成膜面が下を向くようにセットされ、Ｘ線透過性基板１７の下側には、感度層を真空蒸着するにあたって蒸着材料であるセレンを入れるための蒸着ボート３０が配置される。前記蒸着ボート３０には電極（図示せず）が繋がっており、更に真空容器外の蒸着電源（図示せず）に繋がっている。
【００５７】
ここで、感度層２０の成膜においては、Ｘ線透過性基板１７および蒸着ボート３０をセットしたあと、真空容器内を真空状態にするため真空引きを行う。真空容器内の圧力が１×１０-3［Ｐａ］以下の真空度になったら、ターンテーブル３１を回転させた状態で、蒸着電源により蒸着ボート３０に電流を流すことにより、蒸着ボート３０の抵抗値により加熱され、蒸着ボート３０内のセレン材料の温度が上昇し、蒸着ボート３０上部の孔から気化したセレン材料が飛び出し、蒸着ボート３０上部にあるＸ線透過性基板１６にセレン材料がアモルファス状態で成膜される。成膜中は、ターンテーブル３１は自転しているため、ターンテーブル３１の周上に配置された、Ｘ線透過性基板１６は蒸着ボート３０上を通過するときのみに成膜が行われ、それ以外は成膜されない。
【００５８】
感度層２０としてアモルファス状セレンが必要であるが、アモルファス状のセレンは熱に弱く、５０℃以上の高温になると結晶化してしまう。そこで、感度層２０の成膜においては、ターンテーブル３１を回転させながら成膜することにより、Ｘ線透過性基板１７が高温となっている蒸着ボート３０上に存在する時間を間欠化することにより、蒸着ボート３０からの輻射熱により、結晶化することなくアモルファス状のセレンの成膜を可能としている。
【００５９】
また、蒸着ボート３０からの蒸着材料であるセレンが成膜される膜厚分布は、一般的に略同心円上に分布し、中心ほど厚く端に行くほど薄くなるため、膜厚補正板（図示せず）を用いて中心部の開口幅を狭くし、端部を広くして膜厚の均一化を図っている。しかし、膜厚分布は蒸着ボート３０の温度や蒸着ボート３０内の材料の残量などにより変化し、また、蒸着ボート３０とＸ線透過性基板１７のセットズレにより、最適な膜厚補正板の開口部形状が変わるため、膜厚補正板のみで大面積かつ厚膜である感度層２０の膜厚均一化を図ることは困難である。本成膜方法においては、Ｘ線透過性基板１７が回転成膜により、蒸着ボート３０上を周状に通過しながら成膜されるため、同一円周上の膜厚は略均一になる。
【００６０】
ここで、前記したようにＸ線透過性基板１７上に成膜されたれ帯状に分割した薄膜状電極１８の長辺が周方向を向くようにセットされているため、膜厚分布が同一帯状の薄膜状電極１８内で略均一となる。
【００６１】
ここで、図６および図７を用いてＸ線センサーの感度補正方法について説明する。図６において感度層２０が両端に行くほど薄くなる場合、同一ターゲット電圧では端部の電界強度が大きくなるため、図７（ｂ）の様にターゲット電圧を下げて電界強度が同じになるように、ターゲット電圧の調整を行う。具体的には、図６のターゲット電圧をＶｈ３＞Ｖｈ２＞Ｖｈ１およびＶｈ４＞Ｖｈ２＞Ｖｈ１とすることによりターゲット１２全体の電界強度を一定にすることができ、感度部２０の膜厚ムラによる感度ムラの低減が可能となる。
【００６２】
また、実施例では電界強度を６０から１００Ｖ／ｕｍと感度が電界強度に大きく影響する場合を想定して、電界強度を一定にして感度ムラの低減を図った説明をしているが、膜厚ムラが大きく、更に電界強度が６０Ｖ／ｕｍ以下のように、電界強度より感度層２０でのＸ線吸収量の影響が大きい場合は、逆に感度層２０厚さが薄いときはターゲット電圧を上げて感度向上を図る必要があり、いずれの場合も、帯状に分割した薄膜状電極１８に印加するターゲット電圧を調整することにより、感度層２０の膜厚ムラによる感度ムラを低減することができる。
【００６３】
更には、実施例では電子源１６を点順次でターゲット部１２の全面を１点ずつ読み取り、光電変換膜信号を検出する方式で説明を行ったが、各帯状の薄膜状電極ごとに電子源１６を点順次で並列で読み取ることにより読み取り速度をあげることができる。
【００６４】
図９に、Ｘ線センサーの膜厚ムラによる感度ムラ補正のためのキャリブレーション工程の制御ブロック図を示す。
【００６５】
Ｘ線センサーの複数に分割された帯状のそれぞれの薄膜状電極１８に対して、同一のターゲット電圧（６０Ｖ／ｕｍ〜１００Ｖ／ｕｍの電界となる電圧）が印加された状態で、ターゲット１２のＸ線透過性基板１７側より全面にＸ線を一様に入射させる。この状態において、感度層２０に入射したＸ線の強度に応じた電気信号が、電子源１６よりＸ走査ドライバ２８とＹ走査ドライバ２９を経由してコントローラ８によって複数に分割された帯状の薄膜状電極１８のそれぞれより読み出され、また、映像信号としてモニタ１０に表示される。
【００６６】
この結果、Ｘ線センサーの感度が高いところは光電変換膜信号が大きく、逆に感度が低いところは、光電変換信号が小さくなり、モニタ１０の表示画面には、感度の高いところは輝度が高く白く、感度が低いところは輝度が低く黒っぽくなる。ここで、各帯状の薄膜状電極１８内の平均の光電変換膜信号を算出し、それぞれの薄膜状電極１８間での光電変換信号の平均値を比較し、コントローラ８により光電変換信号の平均が高い薄膜状電極１８のターゲット電圧を低くし、逆に光電変換信号の平均値が低い薄膜状電極１８のターゲット電圧を高く調整し、Ｘ線センサー全体としての感度ムラを低減する。
【００６７】
以上の工程をフローチャートで示したものを図１０に示す。
Ｘ線透過性基板側より面内に均一なＸ線を照射する第１工程（Ｓ１）と、分割された薄膜状電極に一定のターゲット電圧を印加した状態で、分割された薄膜状電極から出力される電気信号を評価する第２工程（Ｓ２）と、分割された薄膜状電極からの電気信号の値が等しくなるようにそれぞれの薄膜状電極に印加するターゲット電圧を調整する第３工程（Ｓ３）と、調整されたターゲット電圧を記録部に記録する第４工程（Ｓ４）を備えたものとなっている。
【００６８】
つまり、本実施形態においては、薄膜状電極１８を複数の帯状に分割し、それぞれの薄膜状電極１８には感度層厚さに応じたターゲット電圧を印加することにより、感度層２０の膜厚ムラが生じた場合でも感度ムラを低減することができる。更に、蒸着ボート３０とＸ線透過性基板１７のターゲット１２面が対向し、それらの一方を、Ｘ線透過性基板１７の面に平行な平行面内で一方向に移動させて少なくとも感度層２０の成膜を行い、薄膜状電極１８は移動方向に長辺となるように帯状に分割されていることにより、各帯状の薄膜状電極１８内での感度層２０の膜厚ムラを少なくすることができ、より効果的に感度ムラを低減することができる。
したがって、Ｘ線センサーとそれを用いたＸ線診断装置への適用が大いに期待されるものである。
【符号の説明】
【００６９】
１  Ｘ線源
２  Ｘ線センサー
３  撮像対象者
４  アーム
５  ベッド
６  装置本体
７  Ｘ線制御部
８  コントローラ
９  画像処理部
１０  モニタ
１１  電子源制御部
１２  ターゲット部
１３  移動制御部
１４  入力部
１５  取り付け基板
１６  電子源
１７  Ｘ線透過性基板
１８  薄膜状電極
１９  正孔注入阻止層
２０  感度層
２１  電子注入阻止層
２２  電子入射電極
２３  Ｘ線
２４  電源
２６  電子ビーム
２７  グリッド
２８  Ｘ走査ドライバ
２９  Ｙ走査ドライバ
３０  蒸着ボート
３１  ターンテーブル
３２  光電変換膜信号検出部
３３  記録部
３４  ターゲット電圧印加部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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