Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月30日(2016.5.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上にシリコン層を形成する方法であって、
処理チャンバ内に基板を搬送する工程と、
シリコン系ガス及び不活性ガスを有し、実質的に水素ガスを有さないガス混合物を処理チャンバ内に供給する工程であって、ガス混合物は、不活性ガスの基板の表面積当たりの体積流量が、シリコン系ガスの基板の表面積当たりの体積流量の約１．８倍〜約７９倍であるガス混合物を供給する工程と、
ガス混合物を点火してプラズマ化するためにＲＦ電力を印加する工程と、
プラズマの存在下で基板上にアモルファスシリコン層を形成する工程と、
アモルファスシリコン層が基板上に形成された後の基板を処理チャンバ内で摂氏約４５０度〜摂氏約５００度の温度に５分未満の間、インサイチューで熱処理する工程と、
主に＜１１１＞と＜２２０＞に結晶面を有する多結晶シリコン層を形成するためにアモルファスシリコン層をレーザアニーリングする工程を含む方法。
【請求項２】
レーザアニーリングする工程が、基板を摂氏約１００度〜摂氏約１５００度の温度に加熱する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項３】
ＲＦ電力を印加する工程が、１５００ワット未満のＲＦソース電力を供給する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項４】
ガス混合物を供給する工程が、処理圧力を約０．５トール〜約５トールに維持する工程を含む請求項１記載の方法。
【請求項５】
酸化ケイ素層を形成するための方法であって、
処理チャンバ内にシリコン系ガス、不活性ガス、及び酸素含有ガスを有するガス混合物を供給する工程であって、ガス混合物は、不活性ガスの基板の表面積当たりの体積流量が、シリコン系ガスの基板の表面積当たりの体積流量の約１１倍〜約８０倍であるガス混合物を供給する工程と、
ガス混合物を点火してプラズマ化するためにＲＦ電力を印加する工程と、
基板上に酸化ケイ素層を形成する工程と、
酸化ケイ素層が基板上に形成された後の基板を処理チャンバ内で摂氏約４５０度〜摂氏約５００度の温度に５分未満の間、インサイチューで熱処理する工程を含む方法。
【請求項６】
シリコン系ガスはシランを含む請求項５記載の方法。
【請求項７】
酸素含有ガスはＯ２を含む請求項６記載の方法。
【請求項８】
酸素含有ガスはＮ２Ｏを含む請求項６記載の方法。
【請求項９】
シリコン系ガスはＴＥＯＳを含む請求項５記載の方法。
【請求項１０】
酸素含有ガスはＮ２Ｏを含む請求項９記載の方法。
【請求項１１】
ガス混合物は、不活性ガスの基板の表面積当たりの体積流量が、酸素含有ガスの基板の表面積当たりの体積流量の約０．６倍〜約１．７倍である請求項５記載の方法。
【請求項１２】
シリコン系ガスはシランを含む請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
酸素含有ガスはＯ２又はＮ２Ｏを含む請求項１１記載の方法。
【請求項１４】
ガス混合物は、酸素含有ガスの基板の表面積当たりの体積流量が、シリコン系ガスの基板の表面積当たりの体積流量の約１１倍〜約７２倍である請求項１１記載の方法。
【請求項１５】
ガス混合物は、酸素含有ガスの基板の表面積当たりの体積流量が、シリコン系ガスの基板の表面積当たりの体積流量の約１１倍〜約７２倍である請求項５記載の方法。
【請求項１６】
基板と、
基板上に配置され、実質的に水素を含まない酸化ケイ素層を含むゲート絶縁層と、
ゲート絶縁層上に配置され、ＩｎＧａＺｎＯ、ＩｎＧａＺｎＯＮ、ＺｎＯ、ＺｎＯＮ、ＺｎＳｎＯ、ＣｄＳｎＯ、ＧａＳｎＯ、ＴｉＳｎＯ、ＣｕＡｌＯ、ＳｒＣｕＯ、ＬａＣｕＯＳ、ＧａＮ、ＩｎＧａＮ、ＡｌＧａＮ、又はＩｎＧａＡｌＮのうちの少なくとも１つを含むアクティブチャネルと、
アクティブチャネル上に配置されたソース・ドレイン電極と、
ソース・ドレイン電極層上に配置され、実質的に水素を含まない酸化ケイ素層を含むパッシベーション層を含み、実質的に水素を含まない酸化ケイ素層は、
処理チャンバ内にシリコン系ガス、不活性ガス、及び酸素含有ガスを有するガス混合物を供給する工程であって、ガス混合物は、不活性ガスの基板の表面積当たりの体積流量が、シリコン系ガスの基板の表面積当たりの体積流量の約１１倍〜約８０倍であるガス混合物を供給する工程と、
ガス混合物に点火してプラズマ化するＲＦ電力を印加する工程と、
基板上に実質的に水素を含まない酸化ケイ素層を形成する工程と、
酸化ケイ素層が基板上に形成された後の基板を処理チャンバ内で摂氏約４５０度〜摂氏約５００度の温度に５分未満の間、インサイチューで熱処理する工程によって作られる金属酸化物ＴＦＴデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月1日(2016.3.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
空気流構造体に結合された複数のコンピュータ装置を備え、前記複数のコンピュータ装置は全て、前記空気流構造体によって同時に冷却されるように構成されている、コンピューティングエンタープライズ。
【請求項２】
前記空気流構造体は、受け装置を備え、
前記受け装置は、（１）トレイ、（２）シェルフ、（３）引き出し、及び（４）管のうち少なくとも１つを有する、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項３】
前記複数のコンピュータ装置が全て前記受け装置に結合されている、請求項２に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項４】
前記空気流構造体は、熱の散逸を可能にするとともに熱の散逸を促進し、前記コンピュータ装置を冷却するよう構成されたダンピングシステムを有する、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項５】
前記ダンピングシステムは、前記複数のコンピュータ装置のそれぞれのための１つ以上のダンパーを備える、請求項４に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項６】
前記１つ以上のダンパーは、手動で調整される、請求項５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項７】
前記１つ以上のダンパーは、関連付けられた１つ以上の前記コンピュータ装置の熱に応じて自動的に調整される、請求項５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項８】
前記１つ以上のダンパーは、前記関連付けられた１つ以上の前記コンピュータ装置によって調整される、請求項７に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項９】
前記空気流構造体が、１つ以上の前記コンピュータ装置における暖かい空気の流出を促すように構成されている、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１０】
前記空気流構造体が、１つ以上の前記コンピュータ装置に冷たい空気を流入させるように構成されている、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１１】
前記空気流構造体が閉環境であり、該空気流構造体の内部に空気の圧力を与えることで空気流を生じさせる、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１２】
前記複数のコンピュータ装置は、水平又は垂直に前記空気流構造体に結合されている、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１３】
前記空気流構造体が管状構成である、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１４】
前記空気流構造体が、空気導入用の流入口と、暖められた空気を逃すための流出口とを有する、請求項１に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１５】
複数のコンピュータ装置を保持する構造体を備え、該構造体は内部チャネルを有し、該内部チャネルの内部に空気流を形成し、
前記複数のコンピュータ装置は、
前記内部チャネルの空気流によって前記複数のコンピュータ装置の全てが同時に冷却されるように、前記構造体に取り付けられる、コンピューティングエンタープライズ。
【請求項１６】
前記構造体の内部チャネルが、（１）トレイ、（２）シェルフ、（３）引き出し、及び（４）管の少なくとも１つの一部である、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１７】
前記構造体が、熱の散逸を可能にするとともに熱の散逸を促進し、前記コンピュータ装置を冷却するよう構成されたダンピングシステムを有する、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１８】
前記ダンピングシステムは、前記複数のコンピュータ装置のそれぞれのための１つ以上のダンパーを備える、請求項１７に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項１９】
前記１つ以上のダンパーは、関連付けられた１つ以上の前記コンピュータ装置によって調整される、請求項１８に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項２０】
前記構造体が、１つ以上の前記コンピュータ装置における暖かい空気の流出を促し、他の目的のために使用されるように構成されている、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項２１】
前記構造体が、１つ以上の前記コンピュータ装置に冷たい空気を流入させるように構成されている、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項２２】
前記構造体が閉環境であり、該構造体の内部に空気の圧力を与えることで空気流を生じさせる、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項２３】
前記構造体が管状構成である、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【請求項２４】
前記構造体が馬車−車輪型の構造である、請求項１５に記載のコンピューティングエンタープライズ。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月10日(2015.11.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１７】
前記光学読取可能コード用支持体が、前記記号シーケンスに少なくとも沿って連続的に延在する基盤構造（５００）と、前記基盤構造の表面に局所的に付加され又は形成される不連続な離散的光吸収部分（５２８、６２８）とを具備し、前記不連続な離散的光吸収部分が、前記光吸収面を形成し、前記基盤構造（５００）が、前記離散的光吸収部分によって占められる表面領域の外側に前記光反射面（４１０〜４１４、６１０〜６１５）を形成し、前記離散的光吸収部分（４００〜４０３、６００〜６０４）が、前記離散的光吸収部分によって占められる前記表面領域の外側の前記基盤構造の光反射率よりも低い光反射率をもたらすように構成される、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の光学読取可能コード用支持体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００９６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００９６】
図９は、図４の円周断面図で本発明の光学的に読取可能な支持体３０の好ましい形態を示す。コード支持体３０は、読取可能（外部）側Ａ及び非読取可能（内部）側Ｂを備える。支持体の読取可能側Ａにおいて、支持体は、連続する光反射面４１０〜４１４及び光吸収面４００〜４０３を備える。光反射面４１０〜４１４は、いくつかの重畳された層を備える基盤構造５００によって形成される一方、光吸収面４００〜４０３は、基板構造上に塗布される光吸収材料の不連続な離散的部分、好ましくはインク層５２８の離散部分を、局所的な外周領域において基板構造上に重ねることによって形成される。基盤構造は、好ましくはアルミニウム（又はアルミニウムの合金）である金属の、好ましくは一体式の、層５１０を備え、この層の上に、好ましくはイソシアネート又はポリエステルで作られる透明なポリマ下塗り剤５１５が塗布される。金属、例えばアルミニウム層の厚さは、カプセルの収容構造（例えば、本体及びリム）内への支持体の成形性に関する決定的要因となりうる。成形性の理由から、アルミニウム層は、４０ミクロンと２５０ミクロンの間であることが好ましく、５０ミクロンと１５０ミクロンの間であることが最も好ましい。これらの範囲内では、アルミニウムの厚さは、特にカプセルがリム上に密着されたガスバリヤを備える場合に、カプセル内の原材料の鮮度を保つためのガスバリヤ特性をもたらすこともできる。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月25日(2015.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
テストを行うのに使用されるテストアセンブリであって、
サンプルとプローブを加熱するように構成された加熱システムを備え、前記加熱システムは、
ステージ平面と、前記ステージ平面に渡って分布されたステージ加熱素子とを有し、前記ステージ平面上に配置されたサンプルを加熱するように構成され、前記ステージ加熱素子は、第１のステージ平面エッジから第２のステージ平面エッジへと、及び、第１のステージ平面端から第２のステージ平面端へと、前記ステージ平面を覆うステージヒータと、
前記ステージ平面と結合した前記サンプルをテストするように構成されたプローブに結合されたプローブ加熱素子を有する、前記プローブを加熱するように構成されたプローブヒータと、
前記ステージヒータと結合したステージと、
前記プローブヒータと結合したトランスデューサアセンブリと、を含むことを特徴とするテストアセンブリ。
【請求項２】
前記ステージは、複数自由度に従って、前記ステージ平面を移動させるように構成された複数自由度ステージであることを特徴とする請求項１に記載のテストアセンブリ。
【請求項３】
前記ステージアダプタをステージアセンブリと結合するように構成されたステージアセンブリ結合フィーチャと、
前記ステージヒータを前記ステージアダプタと結合するように構成されたステージヒータ結合フィーチャとを含み、前記ステージヒータ結合フィーチャは、前記ステージヒータの前記ステージ平面から距離を置いて配置されている、
ステージアダプタを備える
ことを特徴とする請求項１に記載のテストアセンブリ。
【請求項４】
前記ステージヒータ結合フィーチャは、
圧縮テスト構成において、前記プローブに直交する方向に、あるいは、
引っ張りテスト構成において、前記プローブに平行な方向に、
前記ステージ平面を方向付けることを特徴とする請求項３に記載のテストアセンブリ。
【請求項５】
前記ステージ平面は、４００℃より高い温度に達するように構成されていることを特徴とする請求項１に記載のテストアセンブリ。
【請求項６】
テストするのに使うための加熱システムであって、
ステージ平面と、
前記ステージ平面に渡って分布され、前記ステージ加熱素子は、第１のステージ平面エッジから第２のステージ平面エッジへと、及び、第１のステージ平面端から第２のステージ平面端へと、前記ステージ平面を覆うステージ加熱素子と、
前記ステージ平面の対向する側の２以上の支持マウントと、
前記ステージ平面から前記２以上の支持マウントの第１のマウントへ広がる第１のブリッジと、
前記ステージ平面から前記２以上の支持マウントの第２のマウントへ広がる第２のブリッジと、
を含むステージヒータを備えることを特徴とする加熱システム。
【請求項７】
前記ステージヒータは、前記ステージ加熱素子と共に伸張する温度検出素子を含むことを特徴とする請求項６に記載の加熱システム。
【請求項８】
前記２以上の支持マウントは、前記第１と第２のブリッジによって、前記ステージ平面から横方向に隙間をあけて配置されており、前記第１と第２のブリッジは、熱伝達の方向に、前記ステージ平面あるいは、前記２以上の支持マウントのいずれかの断面積より小さい、前記２以上の支持マウントに向かう熱伝達の方向に直交する断面における断面積を有することを特徴とする請求項６に記載の加熱システム。
【請求項９】
ステージアダプタを備え、前記ステージアダプタは、
アダプタ体と、
前記アダプタ体と結合され、前記ステージアダプタをステージアセンブリに結合するように構成されたステージアセンブリ結合フィーチャと、
前記アダプタ体と結合され、前記ステージヒータを前記ステージアダプタに結合するように構成されたステージヒータ結合フィーチャと、を含むことを特徴とする請求項６に記載の加熱システム。
【請求項１０】
テストアセンブリでサンプルをテストする方法であって、
ステージヒータ上のサンプルを加熱することを含み、前記サンプルを加熱することは、ステージ平面に渡って分布され、第１のステージ平面エッジから第２のステージ平面エッジへと、及び、第１のステージ平面端から第２のステージ平面端へと、前記ステージ平面を覆うステージ加熱素子で、前記ステージ平面を加熱することを含み、前記ステージ平面は、前記サンプルと結合され、
プローブヒータで、プローブを加熱することを含み、前記プローブヒータは、前記プローブと結合され、
前記加熱されたプローブを前記加熱されたサンプルと結合することによって、前記サンプルをテストすることを備える、ことを特徴とする方法。
【請求項１１】
前記サンプルを加熱することは、前記ステージ平面に渡って分布される前記ステージ加熱素子に従って、前記ステージ平面の全体に渡って熱を分布させることを含む、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記サンプルを加熱することは、前記ステージ平面を、２以上の支持マウントが、１５０℃以下の温度に受動的に加熱される間、１１００℃より高い温度に加熱することを含む、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１３】
前記サンプルと前記プローブの加熱を、テストの前に実質的に同じ温度に制御することを備える、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１４】
テストすることは、前記加熱されたプローブで、前記サンプルの、インデンテーションテスト、圧縮テスト、引っ張りテスト、あるいは引っかきテストの１以上を行なうことを含む、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【請求項１５】
テストすることは、前記サンプルと電気的に繋がる２以上の電気的接触で、前記サンプルを電気的にテストすることを含む、ことを特徴とする請求項１０に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
エチレン系ポリマーであって、以下の特性：（ａ）≧２．０ｄｇ／分のメルトインデックス（Ｉ２）；（ｂ）Ｍｗ（ａｂｓ）対Ｉ２の関係：Ｍｗ（ａｂｓ）＜Ａ＋Ｂ（Ｉ２）、式中Ａ＝２．４０×１０５ｇ／モル及びＢ＝−８．００×１０３（ｇ／モル）／（ｄｇ／分）；及び（ｃ）Ｇ’ （Ｇ”＝５００Ｐａ、１７０℃にて）対Ｉ２の関係：Ｇ’≧Ｃ＋Ｄ（Ｉ２）、式中Ｃ＝１２７．５Ｐａ及びＤ＝−１．２５Ｐａ／（ｄｇ／分）であり、前記Ｇ’は貯蔵弾性率を表し、前記Ｇ”は損失弾性率を表す；を含み、  前記エチレン系ポリマーが、ポリエチレンホモポリマー又はエチレン系コポリマーから選択される、エチレン系ポリマー。
【請求項２】
エチレン系ポリマーであって、以下の特性：（ａ）≧２．０ｄｇ／分のメルトインデックス（Ｉ２）；（ｂ）Ｇ’ （Ｇ”＝５００Ｐａ、１７０℃にて）対Ｉ２の関係：Ｇ’≧Ｃ＋Ｄ（Ｉ２）、式中Ｃ＝１２７．５Ｐａ及びＤ＝−１．２５Ｐａ／（ｄｇ／分）であり、前記Ｇ’は貯蔵弾性率を表し、前記Ｇ”は損失弾性率を表す；（ｃ）クロロホルム抽出可能性（Ｃｌｅｘｔ）対Ｇ’の関係：Ｃｌｅｘｔ．≦Ｅ＋ＦＧ’、式中、Ｅ＝０．２０重量％及びＦ＝０．０６０重量％／Ｐａ；及び（ｄ）以下の関係：ｗ＜Ｉ＋Ｊ（Ｉ２）、式中、Ｉ＝０．０８０、及びＪ＝−４．００×１０−３分／ｄｇを満たす、「ポリマーの総重量を基にしてＧＰＣ（ａｂｓ）によって決定される１０６ｇ／モルより大きい分子量の重量分画（ｗ）」；を含み、  前記エチレン系ポリマーが、ポリエチレンホモポリマー又はエチレン系コポリマーから選択される、エチレン系ポリマー。
【請求項３】
前記ポリマーがさらに、（ｄ）クロロホルム抽出可能性（Ｃｌｅｘｔ）対Ｇ’の関係：Ｃｌｅｘｔ．≦Ｅ＋ＦＧ’、式中Ｅ＝０．２０重量％及びＦ＝０．０６０重量％／Ｐａを含む請求項１のエチレン系ポリマー。
【請求項４】
前記エチレン系コポリマーのコモノマーが、酢酸ビニル、アクリル酸アルキル、ＣＯ、アクリル酸、カルボン酸含有コモノマー、又はモノオレフィンから選択される請求項１から３のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項５】
前記コモノマーが、コポリマーの重量に基づいて０．５〜１０重量％コモノマーの量で存在する請求項４に記載のエチレン系ポリマー。
【請求項６】
前記ポリマーが、エチレン系ポリマーのモノマー単位の総モルに基づいて３０モルｐｐｍ未満の架橋剤及び／又は架橋能を持つコモノマーを含む請求項１から５のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項７】
前記ポリマーが、ポリマーの重量を基にして≦４．５重量％のヘキサン抽出可能レベルを有する請求項１から６のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項８】
前記ポリマーがポリエチレンホモポリマーである請求項１から３のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項９】
前記ポリマーが、エチレン系コポリマーであり、前記エチレン系コポリマーのコモノマーが、酢酸ビニル、アクリル酸アルキル、ＣＯ、アクリル酸、カルボン酸含有コモノマー、又はモノオレフィンから選択される請求項１から７のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項１０】
前記ポリマーが、≧Ｇ＋Ｈ（Ｉ２）の重量平均分子量Ｍｗ（ａｂｓ）を有し、式中、Ｇ＝１．６０×１０５ｇ／モル及びＨ＝−８．００×１０３（ｇ／モル）（ｄｇ／分）である請求項１から９のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項１１】
前記ポリマーが≦２０ｇ／１０分のＩ２を有する請求項１から１０のいずれかに記載のエチレン系ポリマー。
【請求項１２】
請求項１から１１のいずれかに記載のエチレン系ポリマーを含む組成物。
【請求項１３】
前記組成物が、温度＝２９０℃、コーティング重量＝２５ｇ／ｍ２及びライン速度＝３０ｍ／分にて≦１５０ｍｍの「ネックイン」を有する請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
請求項１２又は１３に記載の組成物から形成される少なくとも１つの成分を含む物品。 
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１８】  本発明はまた、以下の特性：（ａ）≧２．０ｄｇ／分のメルトインデックス（Ｉ２）と；（ｂ）Ｇ’対Ｉ２の関係：Ｇ’≧Ｃ＋Ｄ（Ｉ２）、式中Ｃ＝１２７．５Ｐａ及びＤ＝−１．２５Ｐａ／（ｄｇ／分）と；（ｃ）クロロホルム抽出可能性（Ｃｌｅｘｔ）対Ｇ’の関係：Ｃｌｅｘｔ．≦Ｅ＋ＦＧ’、式中Ｅ＝０．２０重量％及びＦ＝０．０６０重量％／Ｐａと；（ｄ）以下の関係：ｗ＜Ｉ＋Ｊ（Ｉ２）、式中、Ｉ＝０．０８０、及びＪ＝−４．００×１０−３分／ｄｇを満たす、「ポリマーの総重量を基にして１０６ｇ／モルより大きい分子量の、及びＧＰＣ（ａｂｓ）によって決定される重量分画（ｗ）」を含むエチレン系ポリマーも提供する。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】  第２の態様では、本発明は、以下の特性：（ａ）≧２．０ｄｇ／分のメルトインデックス（Ｉ２）と；（ｂ）Ｇ’対Ｉ２の関係：Ｇ’≧Ｃ＋Ｄ（Ｉ２）、式中Ｃ＝１２７．５Ｐａ及びＤ＝−１．２５Ｐａ／（ｄｇ／分）と；（ｃ）クロロホルム抽出可能性（Ｃｌｅｘｔ）対Ｇ’の関係：Ｃｌｅｘｔ．≦Ｅ＋ＦＧ’、式中Ｅ＝０．２０重量％及びＦ＝０．０６０重量％／Ｐａと；（ｄ）以下の関係：ｗ＜Ｉ＋Ｊ（Ｉ２）、式中、Ｉ＝０．０８０、及びＪ＝−４．００×１０−３分／ｄｇを満たす、「ポリマーの総重量を基にして１０６ｇ／モルより大きい分子量の、及びＧＰＣ（ａｂｓ）によって決定される重量分画（ｗ）」を含むエチレン系ポリマーを提供する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】  一実施形態では、ポリマーは、「ポリマーの総重量を基にして１０６ｇ／モルより大きい分子量の」、及び以下の関係：ｗ＜Ｉ＋Ｊ（Ｉ２）、式中、Ｉ＝０．０８０、及びＪ＝−４．００×１０−３分／ｄｇを満たす「ＧＰＣ（ａｂｓ）によって決定される重量分画（ｗ）」を有する。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月17日(2015.12.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリイミド樹脂組成物であって、
前記ポリイミド樹脂組成物の重量を基準として、
約０．５重量パーセント（ｗｔ％）〜約１０ｗｔ％の窒化ホウ素；
約１０ｗｔ％〜約６０ｗｔの黒鉛；および
約３０ｗｔ％〜約８５ｗｔ％のポリイミド樹脂を含んでなり、前記ポリイミド樹脂が、前記窒化ホウ素を封入し、かつ前記黒鉛を封入する、ポリイミド樹脂組成物。
【請求項２】
前記窒化ホウ素が、約０．７マイクロメーターの平均粒径を有する請求項１に記載のポリイミド樹脂組成物。
【請求項３】
前記窒化ホウ素が、六方晶系形態を有する請求項１に記載のポリイミド樹脂組成物。
【請求項４】
前記ポリイミドが、３，３’，４，４’−ビフェニル二無水物と、ｐ−フェニレンジアミンとｍ−フェニレンジアミンの７０／３０混合物とから形成される請求項１に記載のポリイミド樹脂組成物。
【請求項５】
請求項１に記載の組成物を含んでなる物品。
【請求項６】
前記物品が、ブッシング、スペーサ、バルブ  シールリング、およびワッシャーからなる群から選択される請求項５に記載の物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７０】
様々な実施形態が、本明細書に記載されるが、様々な実施形態、それらにおける変形形態または修正形態が当業者により作製され、本発明の範囲内であることを、明細書から理解するだろう。さらに、多くの修正形態が、本発明の要旨を逸脱しない範囲で特定の状況または材料を本発明の教示に適合させるように、作製されてもよい。従って、本発明は、本発明を実行するために企図される最良な方法として開示される特定の実施形態に限定されるのではなく、本発明は、添付の請求項の範囲内に含まれる全ての実施形態を含むだろうことを、意図する。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
１．ポリイミド樹脂組成物であって、
前記ポリイミド樹脂組成物の重量を基準として、
約０．５重量パーセント（ｗｔ％）〜約１０ｗｔ％の窒化ホウ素；
約１０ｗｔ％〜約６０ｗｔの黒鉛；および
約３０ｗｔ％〜約８５ｗｔ％のポリイミド樹脂を含んでなり、前記ポリイミド樹脂が、前記窒化ホウ素を封入し、かつ前記黒鉛を封入する、ポリイミド樹脂組成物。
２．前記窒化ホウ素が、約０．７マイクロメーターの平均粒径を有する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
３．前記窒化ホウ素が、六方晶系形態を有する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
４．前記窒化ホウ素が、約１ｗｔ％〜約３ｗｔ％の範囲で存在する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
５．前記窒化ホウ素が、約３ｗｔ％で存在する４に記載のポリイミド樹脂組成物。
６．約０．５ｗｔ％〜約５ｗｔ％の窒化ホウ素；約４３ｗｔ％〜約５０ｗｔ％の黒鉛；および約４７ｗｔ％〜約５０ｗｔ％のポリイミド樹脂を含んでなる１に記載のポリイミド樹脂組成物。
７．約３ｗｔ％の窒化ホウ素、約４７ｗｔ％の黒鉛、および約５０ｗｔ％のポリイミド樹脂を含んでなる１に記載のポリイミド樹脂組成物。
８．前記ポリイミドが、３，３’，４，４’−ビフェニル二無水物と、ｐ−フェニレンジアミンとｍ−フェニレンジアミンの７０／３０混合物とから形成される１に記載のポリイミド樹脂組成物。
９．成形物品の形態において、前記物品が、ＡＳＴＭ  Ｇ  １３３−０５（２００５）によって決定されるとき、約４２７℃で、約１，３７１×１０-8立方インチ〜約２，３３８×１０-8立方インチの範囲の摩耗体積減少を有する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
１０．成形物品の形態において、ｃ物品が、ＡＳＴＭ  Ｇ  １３３−０５（２００５）によって決定されるとき、約４２７℃で、約１，６２４×１０-8立方インチの平均摩耗体積減少を有する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
１１．前記組成物が、圧縮機の少なくとも一部分に存在する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
１２．前記組成物が、自動車エンジンまたはタービンエンジンに存在する１に記載のポリイミド樹脂組成物。
１３．１に記載の組成物を含んでなる物品。
１４．前記物品が、ブッシング、スペーサ、バルブ  シールリング、およびワッシャー  圧縮機の一部、自動車エンジンの構成部品、タービンエンジンの構成部品からなる群から選択される１３に記載の物品。
１５．６に記載の組成物を含んでなる物品。
１６．前記物品が、ブッシング、スペーサ、バルブ  シールリング、およびワッシャーからなる群から選択される１５に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月11日(2015.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
目的のポリペプチドをコードする製剤化された修飾ｍＲＮＡを含む、医薬組成物または診断用組成物。
【請求項２】
薬理効果が、
（ａ）薬理効果を生ずることが知られている治療剤に関連する前記薬理効果よりも高い；
（ｂ）目的のポリペプチドをコードする製剤化されていない修飾ｍＲＮＡを含む組成物が生じる薬理効果よりも高い；
（ｃ）目的のポリペプチドをコードする製剤化されている非修飾ｍＲＮＡを含む組成物が生じる薬理効果よりも高い；または、
（ｄ）疾患、障害、病状または感染の治療上有効な結果をもたらす；
請求項１に記載の医薬組成物または診断用組成物。
【請求項３】
疾患、障害、病状または感染の治療上有効な結果をもたらす前記薬理効果が、細胞数の変化、血清化学の改変、酵素活性の改変、ヘモグロビンの増加およびヘマトクリットの増加からなる群より選択される、請求項２に記載の医薬組成物または診断用組成物。
【請求項４】
目的のポリペプチドを哺乳動物細胞においてインビトロで産生する方法であって、前記哺乳動物細胞を、目的のポリペプチドをコードする修飾ｍＲＮＡを含む緩衝製剤と接触させることを含む、方法。
【請求項５】
緩衝製剤が、
（ａ）食塩水、リン酸緩衝食塩水および乳酸リンゲル液からなる群より選択される；または、
（ｂ）１〜１０ｍＭのカルシウム濃度を有する；
請求項４に記載の方法。
【請求項６】
修飾ｍＲＮＡが精製されたＩＶＴ転写物を含む、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記製剤はナノ粒子、ポリ（酪酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）マイクロスフ
ェア、リピドイド、リポプレックス、リポソーム、ポリマー、（単糖を含む）炭水化物、カチオン性脂質、フィブリンゲル、フィブリンヒドロゲル、フィブリン糊、フィブリンシーラント、フィブリノゲン、トロンビン、速やかに排出される脂質ナノ粒子（ｒｅＬＮＰｓ）およびそれらの組合せからなる群より選択される、請求項４〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
修飾ｍＲＮＡを含む製剤がナノ粒子であり、前記ナノ粒子は少なくとも１つの脂質を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
脂質がＤＬｉｎ−ＤＭＡ、ＤＬｉｎ−Ｋ−ＤＭＡ、９８Ｎ１２−５、Ｃ１２−２００、ＤＬｉｎ−ＭＣ３−ＤＭＡ、ＤＬｉｎ−ＫＣ２−ＤＭＡ、ＤＯＤＭＡ、ＰＬＧＡ、ＰＥＧ、ＰＥＧ−ＤＭＧおよびペグ化脂質からなる群より選択される、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
脂質がカチオン性脂質である、請求項８または９に記載の方法。
【請求項１１】
脂質の修飾ｍＲＮＡに対する重量比が１０：１から３０：１である、請求項８に記載の方法。
【請求項１２】
修飾ｍＲＮＡを含むナノ粒子製剤の平均寸法が６０〜２２５ｎｍである、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
修飾ｍＲＮＡを含むナノ粒子製剤のＰＤＩが０．０３〜０．１５である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
脂質のゼータ電位がｐＨ７．４で−１０〜＋１０である、請求項８に記載の方法。
【請求項１５】
修飾ｍＲＮＡを含むナノ粒子製剤が融合性脂質、コレステロールおよびＰＥＧ脂質をさらに含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１６】
修飾ｍＲＮＡを含むナノ粒子製剤がモル比５０：１０：３８．５：１．５〜３．０（カチオン性脂質：融合性脂質：コレステロール：ＰＥＧ脂質）を有する、請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
ＰＥＧ脂質がＰＥＧ−ｃ−ＤＯＭＧおよびＰＥＧ−ＤＭＧから選択され、融合性脂質がＤＳＰＣである、請求項１５または１６に記載の方法。
【請求項１８】
修飾ｍＲＮＡを含む製剤がポリ（酪酸−グリコール酸共重合体）（ＰＬＧＡ）マイクロスフェアである、請求項７に記載の方法。
【請求項１９】
修飾ｍＲＮＡを含むＰＬＧＡマイクロスフェア製剤が、
（ａ）寸法が４〜２０μｍである；
（ｂ）４８時間で修飾ｍＲＮＡの５０％未満を放出する；または、
（ｃ）血清中で安定である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
安定性が９０％血清中の非製剤化修飾ｍＲＮＡに対し決定される、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
負荷重量パーセントが少なくとも０．０５％、少なくとも０．１％、少なくとも０．２％、少なくとも０．３％または少なくとも０．４％である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
ＰＬＧＡマイクロスフェア中修飾ｍＲＮＡの封入効率が少なくとも５０％、少なくとも７０％、少なくとも９０％または少なくとも９７％である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
製剤が第２修飾ｍＲＮＡ、任意選択で第３修飾ｍＲＮＡをさらに含む、請求項７に記載の方法。
【請求項２４】
修飾ｍＲＮＡを含む製剤が、速やかに排出される脂質ナノ粒子を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項２５】
速やかに排出される脂質ナノ粒子が、ｒｅＬＮＰ脂質、融合性脂質、コレステロールおよびＰＥＧ脂質をモル比５０：１０：３８．５：１．５（ｒｅＬＮＰ脂質：融合性脂質：コレステロール：ＰＥＧ脂質）で含む、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
（ａ）融合性脂質がＤＳＰＣであり、ＰＥＧ脂質がＰＥＧ−ｃ−ＤＯＭＧである；または
（ｂ）ｒｅＬＮＰ脂質が、内部エステルを有するＤＬｉｎ−ＤＭＡ、末端エステルを有するＤＬｉｎ−ＤＭＡ、内部エステルを有するＤＬｉｎ−ＭＣ３−ＤＭＡ、および末端エステルを有するＤＬｉｎ−ＭＣ３−ＤＭＡからなる群より選択される；または
（ａ）および（ｂ）の両方である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
全脂質の修飾ｍＲＮＡに対する重量比が１０：１から３０：１である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２８】
修飾ｍＲＮＡを含む製剤がリピドイドを含み、脂質がＣ１２−２００および９８Ｎ１２−５からなる群より選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項２９】
修飾ｍＲＮＡを含む製剤がポリマーであり、前記ポリマーは、ヒドロゲルまたは外科用シーラントの層でコーティングされ、被覆され、囲包され、封入され、またはそれを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項３０】
ポリマーがＰＬＧＡ、エチレン酢酸ビニル、ポロクサマーおよびＧＥＬＳＩＴＥ（登録商標）からなる群より選択される、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
ポリマー、ヒドロゲルまたは外科用シーラントの追加の層をさらに含む、請求項３０に記載の方法。
【請求項３２】
修飾ｍＲＮＡが、キャップ０、キャップ１、ＡＲＣＡ、イノシン、Ｎ１−メチル−グアノシン、２’フルオロ−グアノシン、７−デアザ−グアノシン、８−オキソ−グアノシン、２−アミノ−グアノシン、ＬＮＡ−グアノシンおよび２−アジド−グアノシンからなる群より選択される少なくとも１つの５’末端キャップを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項３３】
５’末端キャップがキャップ１である、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
修飾ｍＲＮＡが少なくとも２つの修飾を含む、請求項３３に記載の方法。
【請求項３５】
少なくとも２つの修飾が、５−メチルシチジン、シュードウリジンおよび１−メチル−シュードウリジンからなる群より独立して選択される、請求項３４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月25日(2015.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｔｏｌｌ様受容体（ＴＬＲ）に媒介される転移促進反応を阻害するための医薬組成物であって、少なくとも１つのｍｉＲ−２１および／またはｍｉＲ−２９ａ遺伝子産物を含み、ここで当該ｍｉＲ−２１および／またはｍｉＲ−２９ａ遺伝子産物は、がん細胞においてＴＬＲに媒介される転移促進反応を阻害するのに十分な量で存在する、前記医薬組成物。
【請求項２】
ｍｉＲ−２１および／またはｍｉＲ−２９ａ遺伝子産物が、アンチセンスｍｉＲ−２１および／またはアンチセンスｍｉＲ−２９ａを含む、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項３】
ｍｉＲ−２１および／またはｍｉＲ−２９ａ遺伝子産物が、ロックド核酸ａｎｔｉ−ｍｉＲ−２１阻害剤および／またはロックド核酸ａｎｔｉ−ｍｉＲ−２９ａ阻害剤を含む、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項４】
発現される前記ＴＬＲがＴＬＲ７またはＴＬＲ８である、請求項１に記載の医薬組成物。
【請求項５】
がん転移を改善するための医薬組成物であって、少なくとも１種類の医薬的に許容できるキャリヤーまたは賦形剤中に少なくとも１種類のロックド核酸ａｎｔｉ−２１阻害剤および少なくとも１種類のロックド核酸ａｎｔｉ−２９ａ阻害剤を含む、前記医薬組成物。
【請求項６】
さらに追加の化学療法化合物を含む、請求項５に記載の医薬組成物。
【請求項７】
対象ががん転移の危険性を有するか否かに関する検出を補助する方法であって、以下の工程：
ａ．対照と比較した相対的なｍｉＲ−２１およびｍｉＲ−２９ａの発現を同定し、そして
ｂ．前記対象が対照と比較して増大したｍｉＲ−２１およびｍｉＲ−２９ａの発現を有する場合、前記対象において増大したがん転移の危険性があると診断し、または
ｃ．前記対象が対照と比較して増大したｍｉＲ−２１およびｍｉＲ−２９ａの発現を有しない場合、前記対象において増大したがん転移の危険性がないと診断する；
を含む、前記方法。
【請求項８】
さらに診断に基づいて予後を決定することを含む、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
さらに以下の工程：
ａ．対象から得られた試験試料からｍｉＲ−２１  ＲＮＡおよびｍｉＲ−２９ａ  ＲＮＡを逆転写して標的オリゴデオキシヌクレオチドのセットを提供し；
ｂ．前記標的オリゴデオキシヌクレオチドをｍｉＲ−２１特異的およびｍｉＲ−２９ａ特異的プローブオリゴヌクレオチドを含むマイクロアレイにハイブリダイズさせて前記試験試料に関するハイブリダイゼーションプロファイルを提供し；そして
ｃ．工程（ｂ）のプロファイルを対照と比較する；
を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記がんが、ルイス肺癌；扁平上皮癌；非小細胞肺癌；小細胞肺癌；からなる群より選択される肺がんである、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
前記がんが、肺胞性基底上皮腺癌；肺腺癌；結腸腺癌；子宮頸部腺癌、前立腺腺癌；乳腺癌；食道腺癌、膵臓腺癌；および胃腺癌；からなる群より選択される腺癌である、請求項１〜６のいずれか１項に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月11日(2015.12.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
それを必要とするヒト対象における鉄レベルの変化と関連する障害を治療、改善または予防するための、ヘプシジンへの結合親和性を有するリポカリンムテインまたはその断片を含む薬学的組成物であって、
該リポカリンムテインまたはその断片が、該対象における鉄のバイオアベイラビリティを増加させることができ、
鉄レベルの変化と関連する障害が、貧血、炎症による貧血、慢性炎症性貧血、鉄欠乏性貧血、鉄負荷性貧血、敗血症、遺伝性ヘモクロマトーシス、慢性腎疾患(CKD)に伴う貧血、癌に伴う貧血(AC)、化学療法誘発性貧血(CIA)、またはESA抵抗に関連した貧血であり、
該リポカリンムテインが、SEQ ID NO:1のアミノ酸に対して少なくとも90％の配列同一性または相同性を有し、および
該リポカリンムテインの該断片が、該リポカリンムテインと比較してN末端および/またはC末端のアミノ酸の少なくとも1つを欠失している、
薬学的組成物。
【請求項２】
前記リポカリンムテインが、成熟hNGALの線状ポリペプチド配列の位置36、40、41、49、52、68、70、72、73、77、79、81、96、100、103、106、125、127、132、および/または134に対応する位置において、SEQ ID NO:1に示されるムテインと同じアミノ酸を有する、請求項１に記載の薬学的組成物。
【請求項３】
非経口経路または経口経路を介して投与されるものである、請求項1または2に記載の薬学的組成物。
【請求項４】
皮内、皮下、筋肉内、もしくは静脈内注射または注入技術によって投与されるものである、請求項1〜3のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項５】
1日2回まで、1日1回まで、1日おきに1回まで、2日おきに1回まで、週に2回まで、週に1回まで、隔週に1回まで、または月に1回まで投与されるものである、請求項1〜4のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項６】
0.1〜1mg/kg、0.1〜40mg/kg、1〜20mg/kg、1〜10mg/kg、3〜20mg/kg、および1〜3mg/kgからなる群より選択される投与量レベルで、それを必要とする対象に毎回投与されるものである、請求項1〜5のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項７】
前記リポカリンムテインが、SEQ ID NO:6に示される軽鎖可変領域およびSEQ ID NO:7に示される重鎖可変領域を有するヘプシジン特異的モノクローナル抗体へのヘプシジンの結合を阻害することができる、請求項1〜6のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項８】
前記リポカリンムテインが、それぞれSEQ ID NO:6および7に示される軽鎖可変領域および重鎖可変領域を有する抗体と、ヘプシジンへの結合について競合する、請求項1〜7のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項９】
前記リポカリンムテインが、該ムテインの血清中半減期を延長する化合物にコンジュゲートされている、請求項1〜8のいずれか一項に記載の薬学的組成物。
【請求項１０】
血清中半減期を延長する前記化合物が、ポリアルキレングリコール分子、ヒドロエチルデンプン、タンパク質ドメイン、免疫グロブリンのFc部、免疫グロブリンのCH3ドメイン、免疫グロブリンのCH4ドメイン、アルブミン結合ペプチド、およびアルブミン結合タンパク質からなる群より選択される、請求項9に記載の薬学的組成物。
【請求項１１】
前記リポカリンムテインが、鉄のバイオアベイラビリティを増加させることができ、および前記リポカリンムテインが、コンジュゲートされたムテインである、請求項9または請求項10に記載の薬学的組成物。
【請求項１２】
前記リポカリンムテインが、ポリアルキレングリコール分子にコンジュゲートされ、該ポリアルキレングリコールがポリエチレン(PEG)またはその活性化誘導体である、請求項11に記載の薬学的組成物。
【請求項１３】
ポリエチレン(PEG)が分子量30キロダルトンである、請求項12に記載の薬学的組成物。
【請求項１４】
a. 約50〜350mg/mlのリポカリンムテイン；
b. 約1〜100mMの、pH5.5〜8を提供する緩衝剤；
c. 約1〜500mMの安定剤または2種以上の安定剤の混合物；
d. 約0.01〜0.08％の非イオン性界面活性剤；および
e. 有効量の少なくとも1種のヒアルロニダーゼ酵素
を含有する、それを必要とする対象における鉄のバイオアベイラビリティを増加させることができる、請求項1〜13のいずれか一項に規定される少なくとも1種のリポカリンムテインの高度に濃縮された安定な薬学的製剤。
【請求項１５】
それを必要とする対象における鉄のバイオアベイラビリティを増加させることができるリポカリンムテインまたはその断片もしくは変異体を用いた治療に適している障害を治療する方法であって、該障害を治療するのに有効な量を該対象に投与する段階を含む方法
で使用するための、請求項14に記載の製剤。
【請求項１６】
請求項14に記載の製剤を含有する1つまたは複数のバイアルと、該製剤を患者に皮下投与するための注射器具とを含む、キット。
【請求項１７】
ヘプシジンへの結合親和性を有するリポカリンムテインまたはその断片であって、
該リポカリンムテインまたはその断片が、対象における鉄のバイオアベイラビリティを増加させることができ、
該リポカリンムテインが、SEQ ID NO:1のアミノ酸に対して少なくとも90％の配列同一性または相同性を有し、および
該リポカリンムテインの該断片が、該リポカリンムテインと比較してN末端および/またはC末端のアミノ酸の少なくとも1つを欠失している、
リポカリンムテインまたはその断片。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月14日(2015.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
トロンビンのエキソサイト１領域に特異的に結合する単離された抗体分子。
【請求項２】
トロンビン活性を阻害する、請求項１に記載の抗体分子。
【請求項３】
最小限の止血の阻害および／または最小限の出血を引き起こす、請求項２に記載の抗体分子。
【請求項４】
止血を阻害せずおよび／または出血を引き起こさない、請求項２または３に記載の抗体分子。
【請求項５】
配列番号５のアミノ酸配列、あるいは配列番号５の配列に１つ以上のアミノ酸が置換、削除または挿入された配列を有するＨＣＤＲ３を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項６】
配列番号４のアミノ酸配列、あるいは配列番号４の配列に１つ以上のアミノ酸が置換、削除または挿入された配列を有するＨＣＤＲ２を含む、請求項５に記載の抗体分子。
【請求項７】
配列番号３のアミノ酸配列、あるいは配列番号３の配列に１つ以上のアミノ酸が置換、削除または挿入された配列を有するＨＣＤＲ１を含む、請求項５または６に記載の抗体分子。
【請求項８】
配列番号２の配列、あるいは配列番号２の配列に１つ以上のアミノ酸が置換、削除または挿入された配列を有するＶＨドメインを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項９】
それぞれ配列番号７、８および９の配列、あるいは、それぞれ配列番号７、８および９の配列に、１つ以上のアミノ酸が置換、削除または挿入された配列を有するＬＣＤＲ１、ＬＣＤＲ２およびＬＣＤＲ３を含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項１０】
配列番号６の配列、あるいは配列番号６の配列に１つ以上のアミノ酸が置換、削除または挿入された配列を有するＶＬドメインを含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項１１】
それぞれ、配列番号３、４および５の配列を有するＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２およびＨＣＤＲ３を含むＶＨドメイン、ならびにそれぞれ配列番号７、８および９の配列を有するＬＣＤＲ１、ＬＣＤＲ２およびＬＣＤＲ３を含むＶＬドメインを含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項１２】
配列番号２のアミノ酸配列を有するＶＨドメインおよび配列番号６のアミノ酸配列を有するＶＬドメインを含む、請求項１１に記載の抗体分子。
【請求項１３】
それぞれ、配列番号３、４および５の配列を有するＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２およびＨＣＤＲ３を含むＶＨドメイン、ならびにそれぞれ配列番号７、８および９の配列を有するＬＣＤＲ１、ＬＣＤＲ２およびＬＣＤＲ３を含むＶＬドメインを含む、トロンビンのエキソサイト１領域に特異的に結合する単離された抗体分子。
【請求項１４】
グリコシル化部位を消去する１つ以上の置換、削除または挿入を含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項１５】
Ｎ２８またはＳ３０に置換を導入する変異によりグリコシル化部位が消去される、配列番号６のアミノ酸配列を有するＶＬドメイン中を含む、請求項１４に記載の抗体分子。
【請求項１６】
エキソサイト１への結合について、請求項５〜１３のいずれか１項に記載の抗体分子と競合する抗体分子。
【請求項１７】
全抗体である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項１８】
ＩｇＡまたはＩｇＧである、請求項１７に記載の抗体分子。
【請求項１９】
抗体の断片である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項２０】
モノクローナル抗体である、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の抗体分子。
【請求項２１】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の抗体分子および医薬的に許容される賦形剤を含む、医薬組成物。
【請求項２２】
トロンビン介在性の状態の治療に使用するための医薬の製造における請求項１〜２０のいずれか１項に記載の抗体分子の使用。
【請求項２３】
トロンビン介在性の状態は血栓性の状態である、請求項２２に記載の使用。
【請求項２４】
血栓性の状態は、血栓症または塞栓症である、請求項２３に記載の使用。
【請求項２５】
トロンビン介在性の状態は、炎症、感染症、腫瘍の増殖、腫瘍の転移または認知症である、請求項２２に記載の使用。
【請求項２６】
請求項１〜２０のいずれか１項に記載の抗体分子を含む、トロンビン介在性の状態を治療するための医薬組成物。
【請求項２７】
トロンビン介在性の状態は血栓性の状態である、請求項２６に記載の医薬組成物。
【請求項２８】
血栓性の状態は、血栓症または塞栓症である、請求項２７に記載の医薬組成物。
【請求項２９】
トロンビン介在性の状態は、炎症、感染症、腫瘍の増殖、腫瘍の転移または認知症である、請求項２６に記載の医薬組成物。
【請求項３０】
トロンビンのエキソサイト１エピトープに対する抗体抗原結合ドメインを製造する方法であって、当該方法は；
（１）ＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２およびＨＣＤＲ３を含む親ＶＨドメインのアミノ酸配列中に１つ以上のアミノ酸を付加、削除、置換または挿入することにより、親ＶＨドメインのアミノ酸配列変異体であるＶＨドメインを設け、
ここで、親ＶＨドメインＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２およびＨＣＤＲ３はそれぞれ配列番号３、４および５のアミノ酸配列を有し、
（２）場合により、このようにして設けたＶＨドメインを、１つ以上のＶＬドメインと結合して１つ以上のＶＨ／ＶＬの組み合わせを設け；そして
（３）親ＶＨドメインのアミノ酸配列変異体である前記ＶＨドメインまたは１つもしくは複数のＶＨ／ＶＬの組み合わせを検査して、トロンビンのエキソサイト１エピトープに対する抗体抗原結合ドメインを同定する、
ことを含む、トロンビンのエキソサイト１エピトープに対する抗体抗原結合ドメインを製造する方法。
【請求項３１】
トロンビンのエキソサイト１エピトープに特異的に結合する抗体分子を製造する方法であって、当該方法は；
ＶＨドメインをコードする出発核酸または各々がＶＨドメインをコードする核酸の出発レパートリーを設け、ここで、１つまたは複数のＶＨドメインは、置換されるべきＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２および／またはＨＣＤＲ３を含むか、あるいはＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２および／またはＨＣＤＲ３コード領域を欠くかのいずれかであり；
前記出発核酸または出発レパートリーを、それぞれ配列番号３、４および５のアミノ酸配列を有するＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２、および／またはＨＣＤＲ３のアミノ酸配列の変異をコードするかまたは当該変異により生産した１つまたは複数の供与核酸に結合して、前記１つまたは複数の供与核酸が出発核酸または出発レパートリーのＣＤＲ１、ＣＤＲ２および／またはＣＤＲ３領域に挿入されるようにすることで、ＶＨドメインをコードする核酸の生成レパートリーを設け；
前記生成レパートリーの核酸を発現させて生成ＶＨドメインを生産し；
場合により、前記生成ＶＨドメインを１つ以上のＶＬドメインと結合し；
トロンビンのエキソサイト１に結合する抗体分子であって、生成ＶＨドメインそして場合によりＶＬドメインを含む抗体分子を選択し；そして
前記抗体分子またはそれをコードする核酸を回収する、
ことを含む、トロンビンのエキソサイト１エピトープに特異的に結合する抗体分子を製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月30日(2015.11.30)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）で表される化合物。
ＨＳ−Ｌ−Ｙ−Ｏ−Ｑ−Ｏ−Ｙ−Ｌ−ＳＨ
（Ｉ）
［式中、各Ｙは、独立して単結合又はカルボニル基であり、
各Ｌは、独立してアルキレン又はヘテロアルキレンであり、
Ｑは、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）又は式（Ｉ−３）の二価基である。］
【化１】
2015501838.tif 000001
【請求項２】
ａ）エポキシ樹脂と、ｂ）式（Ｉ）で表される第１硬化剤と、を含む、硬化性組成物。
ＨＳ−Ｌ−Ｙ−Ｏ−Ｑ−Ｏ−Ｙ−Ｌ−ＳＨ
（Ｉ）
［式中、各Ｙは、独立して単結合又はカルボニル基であり、
各Ｌは、独立してアルキレン又はヘテロアルキレンであり、
Ｑは、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）又は式（Ｉ−３）から選択される二価基である。］
【化２】
2015501838.tif 000002
【請求項３】
第１基材と、前記第１基材に隣接して配置される硬化済み組成物と、を含む物品であって、
前記硬化済み組成物が、ａ）エポキシ樹脂と、ｂ）式（Ｉ）で表される第１硬化剤と、を含む硬化性組成物の反応生成物を含む、物品。
ＨＳ−Ｌ−Ｙ−Ｏ−Ｑ−Ｏ−Ｙ−Ｌ−ＳＨ
（Ｉ）
［式中、各Ｙは、独立して単結合又はカルボニル基であり、
各Ｌは、独立してアルキレン又はヘテロアルキレンであり、
Ｑは、式（Ｉ−１）、式（Ｉ−２）又は式（Ｉ−３）の二価基である。］
【化３】
2015501838.tif 000003