【手続補正書】
【提出日】平成28年2月12日(2016.2.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影露光装置の照明系と投影レンズの間にパターンが該投影レンズの物体平面の領域に配置されるようにマスクを保持する段階と、
基板を該基板の感放射線面が前記物体平面に対して光学的に共役である前記投影レンズの像平面の領域に配置されるように保持する段階と、
前記マスクの照明領域を前記照明系によって供給される照明放射線で照明する段階と、
前記投影レンズを用いて前記照明領域内に位置する前記パターンの一部を前記基板での像視野上に投影する段階と、
を含み、
前記像視野内の像発生に寄与する投影放射線の全ての光線が、前記投影レンズ内で光クイバーを形成する、
マスクのパターンの少なくとも１つの像で感放射線基板を露光するための投影露光方法であって、
前記光クイバーは、３次元空間内の空間領域であって、少なくとも１つの連続的な光線が、この領域の点の各々を物体側使用開口の物体視野から像側使用開口の像視野に通過することによって定められる空間領域であり、
前記光クイバーの特性を表す少なくとも１つの光クイバーパラメータを決定する段階と、
前記光クイバーパラメータを考慮して前記投影露光装置の動作を制御する段階と、
を特徴とする投影露光方法。
【請求項２】
前記光クイバーの少なくとも１つの特性が、マニピュレータの駆動によって変更されることを特徴とする請求項１に記載の投影露光方法。
【請求項３】
前記光クイバーを変更するためのマニピュレータの感受性が、動作制御系のメモリに格納され、
感受性が、マニピュレータでの定められた作動値変化と前記投影露光装置の結像品質に対する得られる効果との間の関係を表し、
前記投影露光装置の前記動作は、前記感受性を考慮して制御され、
マニピュレータの作動値変化が、前記感受性を考慮して作動値極限値よりも低い大きさに制限される、
ことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の投影露光方法。
【請求項４】
前記光クイバーに対して横断方向に延びる測定面が、該光クイバーが形態、位置、及びサイズに関して定められた交差面の領域内で該測定面と交差するように選択され、
前記交差面内の前記投影放射線の強度に依存する少なくとも１つの交差面特性が、光クイバーパラメータを決定する目的で決定される、
ことを特徴とする請求項１から請求項３のいずれか１項に記載の投影露光方法。
【請求項５】
前記交差面の前記形態が決定され、光クイバー形態パラメータが、そこから導出され、及び／又は
基準座標系に対する前記交差面の前記位置が決定され、光クイバー位置パラメータが、そこから導出され、及び／又は
前記交差面の前記サイズが決定され、光クイバーサイズパラメータが、そこから導出され、及び／又は
前記交差面内の強度分布の重心が決定され、光クイバー重心パラメータが、そこから導出される、
ことを特徴とする請求項４に記載の投影露光方法。
【請求項６】
少なくとも２つの交差面特性が、時間的に近接して又は同時に決定され、対応する光クイバーパラメータが、互いに計算上で考慮されることを特徴とする請求項４及び請求項５のいずれか１項に記載の投影露光方法。
【請求項７】
光クイバー特性が、交差面の重心の位置の決定を実施し、それに基づいて、該交差面の縁部曲線と該重心の間の距離を表す縁部曲線関数を方位角の関数として決定することによって決定され、
前記縁部曲線関数は、解析され、
前記縁部曲線関数のフーリエ解析が、前記解析中に実施される、
ことを特徴とする請求項４から請求項６のいずれか１項に記載の投影露光方法。
【請求項８】
光学要素の光学面が、前記測定面として選択され、
光クイバーパラメータが、前記光学要素上に入射している投影放射線の結果として可変である前記光学面の少なくとも１つの特性を測定することによって決定され、
局所温度分布が、測定面として選択された前記光学面で測定され、少なくとも１つの交差面特性が、そこから決定される、
ことを特徴とする請求項４から請求項７のいずれか１項に記載の投影露光方法。
【請求項９】
前記選択された測定面は、放射線伝達方向に第１のマニピュレータの下流に配置され、該第１のマニピュレータのアクチュエータの操作される様々な変化が、該測定面で決定された少なくとも１つの光クイバーパラメータに依存する方式で制御されることを特徴とする請求項４から請求項８のいずれか１項に記載の投影露光方法。
【請求項１０】
１次放射線源の１次放射線を受光し、かつ照明領域内でマスク（Ｍ）上に向けられる照明放射線（ＩＬＲ）を発生させるための照明系（ＩＬＬ）と、
投影放射線を用いて前記照明領域に位置するパターンの一部を基板での像視野上に投影するための投影レンズ（ＰＯ）であって、該像視野内の像発生に寄与する該投影放射線の全ての光線が、該投影レンズ内に光クイバー（ＬＫ）を形成する前記投影レンズ（ＰＯ）と、
前記パターンが前記投影レンズの物体平面（ＯＳ）の領域に配置されるように前記マスクを前記照明系と該投影レンズの間に保持するためのマスク保持デバイス（ＲＳＴ）と、
前記基板を該基板の感放射線面が前記物体平面に対して光学的に共役である前記投影レンズの像平面（ＩＳ）の領域に配置されるように保持するための基板保持デバイス（ＷＳＴ）と、
を含むマスクのパターンの少なくとも１つの像で感放射線基板を露光するための投影露光装置であって、
光クイバーは、３次元空間内の空間領域であって、少なくとも１つの連続的な光線が、この領域の点の各々を物体側使用開口の物体視野から像側使用開口の像視野に通過することによって定められる空間領域であり、
前記光クイバーの特性を表す少なくとも１つの光クイバーパラメータを決定するための光クイバー検出系と、
前記光クイバーパラメータを考慮して投影露光装置の動作を制御するように構成された動作制御系と、
を特徴とする投影露光装置。
【請求項１１】
前記動作制御系の制御記号によって駆動することができる少なくとも１つのマニピュレータを特徴とする請求項１０に記載の投影露光装置。
【請求項１２】
前記光クイバーを変更するためのマニピュレータの感受性が、前記動作制御系のメモリに格納され、
感受性が、マニピュレータで定められた作動値変化と投影露光装置の結像品質に対する得られる効果との間の関係を表し、
前記動作制御系は、投影露光装置の前記動作を前記感受性を考慮して制御することができるように設計され、
マニピュレータの作動値変化を前記感受性を考慮して作動値極限値よりも低い大きさに制限することができる、
ことを特徴とする請求項１１に記載の投影露光装置。
【請求項１３】
前記光クイバーは、形態、位置、及びサイズに関して定められた交差面の領域内で該光クイバーに対して横断方向に延びる測定面と交差し、
光クイバーパラメータを決定するためのデバイスが、前記交差面内の前記投影放射線の強度に依存する少なくとも１つの交差面特性を決定するように構成され、
交差面特性が、
前記交差面の形態、
基準座標系に対する前記交差面の位置、
前記交差面のサイズ、
前記交差面内の強度分布の重心、
の群から選択される、
ことを特徴とする請求項１１又は請求項１２に記載の投影露光装置。
【請求項１４】
前記光クイバー検出系は、前記光クイバーを取り囲んで該光クイバーの円周の周りに配分された複数の感光検出器（ＤＥＴ）を含む配置を有する少なくとも１つの光クイバー検出デバイス（ＬＫＤ）を有し、及び／又は
光クイバー検出デバイス（ＬＫＤ）の感光検出器（ＤＥＴ）が、それらが前記光クイバー（ＬＫ）の外側でそれらの直近を伝播する、望ましくない放射線部分として迷光及び超開口光を含む外光を検出することができるように配置される、
ことを特徴とする請求項１１及び請求項１３のいずれか１項に記載の投影露光装置。
【請求項１５】
前記動作制御系は、請求項１から請求項９のいずれか１項に記載の投影露光方法が実施されるように投影露光装置を制御するように構成されることを特徴とする請求項１０から請求項１４のいずれか１項に記載の投影露光装置。