【手続補正書】
【提出日】平成28年11月9日(2016.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２２８】
本明細書に引用される特許、特許文献、及び刊行物の完全な開示内容は、あたかもそれぞれが個々に組み込まれたのと同様に、それら全体が参照により組み込まれる。本開示の範囲及び趣旨を逸脱することなく本開示に対する様々な改変及び変更が可能であることは当業者には明らかであろう。本開示は本明細書に記載される説明的実施形態及び実施例によって不要に限定されるものではない点、更にこうした実施例及び実施形態はあくまで一例として示されるものであって本開示の範囲は以下の特許請求の範囲によってのみ限定されるものである点は理解されるはずである。本発明の実施態様の一部を以下の項目１−２８に記載する。
［１］
物品であって、
パターン化基板であって、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含み、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する、パターン化基板と、
前記基板の表面及び前記無機導電性配線の少なくとも一部に隣接した重合されたアクリレートマトリックスを含む層であって、前記重合されたアクリレートマトリックスが前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する層と、を備える、物品。
［２］
前記重合されたアクリレートマトリックスが、その中に分散された無機ナノ粒子を含む、項目１に記載の物品。
［３］
前記無機ナノ粒子が、前記重合されたアクリレートマトリックス中に６０体積百分率以下の量で存在する、項目２に記載の物品。
［４］
前記無機ナノ粒子が、ジルコニア、チタニア、ＺｎＳ、ＺｎＯ、酸化スズ、酸化アンチモン、又はこれらの組合せを含む、項目２に記載の物品。
［５］
前記無機ナノ粒子が、表面変性した無機ナノ粒子である、項目２に記載の物品。
［６］
表面変性した無機ナノ粒子が、シラン官能基、ヒドロキシウレア官能基、酸性官能基、又はこれらの組合せを含む表面変性剤を含む、項目５に記載の物品。
［７］
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±５％である屈折率を有する、項目１に記載の物品。
［８］
前記重合されたアクリレートマトリックスが、（メタ）アクリレートモノマー、（メタ）アクリルアミドモノマー、（メタ）アクリレート−官能性オリゴマー、（メタ）アクリルアミド−官能性オリゴマー、ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマー、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリレート由来のオリゴマー又はポリマー基、無機ナノ粒子上の（メタ）アクリルアミド由来のオリゴマー又はポリマー基、又はこれらの組合せの１つ以上から形成される、項目１に記載の物品。
［９］
前記重合されたアクリレートマトリックスが芳香族基を含む、項目１に記載の物品。
［１０］
前記無機導電性配線が、インジウムスズ酸化物、ドープＺｎＯ、又はアンチモンスズ酸化物を含む、項目１に記載の物品。
［１１］
前記基板が、ガラス、ポリエチレンテレフタレート、シクロオレフィンコポリマー、ポリカーボネート、ポリメチルメタクリレート、又は偏光子フィルムを含む、項目１に記載の物品。
［１２］
前記基板が、レンズ、タッチセンサー、発光型ディスプレイ、又は光反射型ディスプレイから選択される透明なディスプレイ基板であるか、又はその一部である、項目１に記載の物品。
［１３］
物品の製造方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、
重合されたアクリレートマトリックスを、前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することと、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
［１４］
前記重合されたアクリレートマトリックスを適用することが、積層体を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することを含み、前記積層体が
光学的に透明な接着剤を含む層と、
光学的に透明な接着剤を含む前記層に隣接する重合されたアクリレートマトリックスを含む層と、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが前記パターン化基板表面と前記光学的に透明な接着剤との間に配置されるように、前記積層体が配置される、項目１３に記載の方法。
［１５］
コーティングの方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料が各々屈折率を有する基板を準備することと、
重合性アクリレートマトリックスを含むコーティング組成物を、前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、
前記重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することと、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
［１６］
光学的に透明な接着剤を前記コーティング表面上に適用することを更に含み、前記重合性アクリレートマトリックスを重合することが、前記光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる、項目１５に記載の方法。
［１７］
コーティングの方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板を準備することと、
コーティング組成物を前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用して、コーティング表面を形成することと、
前記重合性アクリレートマトリックスを重合して、重合されたアクリレートマトリックスを含む層を形成することと、
を含み、
前記コーティング組成物が、
Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む重合性アクリレートマトリックスと、
前記重合性アクリレートマトリックス中に分散された無機ナノ粒子と、
開始剤とを含む、方法。
［１８］
光学的に透明な接着剤を前記コーティング表面上に適用することを更に含み、前記重合性アクリレートマトリックスを重合することが、前記光学的に透明な接着剤を適用する前又は後に行われる、項目１７に記載の方法。
［１９］
物品であって、
基板表面を含む基板であって、前記基板が、ガラス、ＩＴＯでパターン化されたガラス、非プライマー処理ＰＥＴ、及びシクロオレフィンコポリマーから選択される、基板と、
前記基板上に配置された重合されたアクリレートマトリックスであって、Ｎ−ヒドロキシウレア官能基を含む、重合されたアクリレートマトリックスと、を含み、
前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が前記コーティングの前記基板への接着を促進する、物品。
［２０］
前記Ｎ−ヒドロキシウレア官能基が、重合性又は重合されたアクリレートマトリックスの１つ以上のモノマー中の官能基として提供される、項目１９に記載の物品。
［２１］
積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
［２２］
前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、項目２１に記載の積層体。
［２３］
前記分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが、接着剤である、項目２２に記載の積層体。
［２４］
前記接着剤が、感圧性接着剤及び熱活性接着剤のうちの少なくとも１つである、項目２３に記載の積層体。
［２５］
積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む第１の層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する高屈折率材料を含む第２の層と、
高屈折率材料を含む前記第２の層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
［２６］
前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、項目２５に記載の積層体。
［２７］
前記分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスが、接着剤である、項目２６に記載の積層体。
［２８］
前記接着剤が、感圧性接着剤及び熱活性接着剤のうちの少なくとも１つである、項目２７に記載の積層体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品であって、
パターン化基板であって、無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含み、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する、パターン化基板と、
前記基板の表面及び前記無機導電性配線の少なくとも一部に隣接した重合されたアクリレートマトリックスを含む層であって、前記重合されたアクリレートマトリックスが前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する層と、を備える、物品。
【請求項２】
前記重合されたアクリレートマトリックスが、その中に分散された無機ナノ粒子を含む、請求項１に記載の物品。
【請求項３】
物品の製造方法であって、
無機導電性配線を隣接して有する基板表面を含むパターン化基板であって、前記基板及び前記配線の前記無機材料がそれぞれ屈折率を有する基板を準備することと、
重合されたアクリレートマトリックスを、前記パターン化基板表面の少なくとも一部に適用することと、を含み
前記重合されたアクリレートマトリックスが、前記基板及び前記配線の前記無機材料の屈折率の平均の±１０％以内にある屈折率を有する、方法。
【請求項４】
積層体であって、
第１のライナーと、
前記第１のライナーに隣接する高屈折率材料を含む層と、
高屈折率材料を含む前記層に隣接する低屈折率材料を含む層と、
低屈折率材料を含む前記層に隣接する第２のライナーと、を含む、積層体。
【請求項５】
前記低屈折率材料が光学的に透明な接着剤であり、前記高屈折率材料が、分散された任意の無機ナノ粒子を含む重合されたアクリレートマトリックスである、請求項４に記載の積層体。