【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年9月28日(2016.9.28)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（1）の(l，2，3-トリアゾリル)スルホニル誘導体。
【化１】
2015512442.tif 000001
ここで
R1は置換可能な位置に下記の基で置換されてもよいアリールまたは複素環基から選ばれる。：アミノ、シアノ、ハロゲン、ニトロ、アルキル、デューテロアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、(シクロアルキル)アルキル、アルコキシアルキル、カルボキシアルキル、(アルコキシカルボニル)アルキル、アルコキシカルボニル(アミノ)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、(アルキルスルホニル)アルキル、(アリールスルホニル)アルキル、アリールアルキル、アルケニル、アリールアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アシルオキシ、アロイルオキシ、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、アミノカルボニル、(複素環）カルボニル、アリールオキシカルボニル、(複素環）オキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アミノスルホニル、(アルキルカルボニル)アミノスルホニル、アリールスルホニル、低級アルキルスルホニルオキシ；
または、R1はアルキル、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリールアルキル、アリールオキシアルキル、(アルキルカルボニル)アルキル、(アミノカルボニル)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、ハロアルコキシまたはアリールオキシである。；
または、R1はNR3R4で表されるアミノであり、
R3がＨ、アルキル、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、アルキルカルボニル(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、アリールオキシ、または、アミノアルコキシであり、
R4はＨ、アルキル、デューテロアルキル、(シクロアルキル)アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アリールアルキル、アロイルアルキル、アリールオキシアルキル、ヘテロアリールオキシ(低級)アルキル、5-員または６員複素環アルキル、アルキルカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アリールオキシカルボニルアルキル、ヘテロアリールオキシカルボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノスルホニルアルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシ(アミノ)アルキル、カルボキシ(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノアルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、複素環(低級)アルキル、アルケニル、アリール置換のアルケニル、アリール、5-員または６員複素環基、アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、(複素環)カルボニル、アルキルスルホニル、(シクロアルキル)アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、または、アミノスルホニルであり、
R3とR4が一緒になって任意にジアルキルアミノメチレンアミノ、1-(ジアルキルアミノ)エチリデンアミノ、1-ピペリジニル、モルホリノ、3-チアゾリジニル、1，2，3-トリアゾール-1-イル、2-ピペリドン-l-イルまたは2，6-ピペリジンジオン-l-イルである。
R2は置換可能な位置に１〜５の下記のラジカルで置換されてもよいアリール、ヘテロアリールまたはヘテロサイクルから選ばれる。上記ラジカルは下記を含むグループから選ばれる。：アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、(シクロアルキル)アルキル、シアノアルキル、デューテロアルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アリールアルキル、アリールオキシアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノスルホニルアルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アリールオキシカルボニルアルキル、カルボキシ(アミノ)アルキル、アルコキシカルボニル(アミノ)アルキル、アリールオキシカルボニル(アミノ)アルキル、アミノカルボニル(アミノ)アルキル、カルボキシ(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ヒドロキシ)アルキル、アリールオキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、(複素環）オキシアルキル、ハロ(低級)アルキル、低級アルケニル、アリールアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、デューテロアルコキシ、アシルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、(複素環）カルボニル、アリールアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、(複素環）オキシカルボキシル、アミノカルボニル、低級アルキルスルファニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、(シクロアルキル)アルキルスルホニル、アミノスルホニル、(アミノメチレン)スルファモイル、低級アルキルスルホニルオキシ
【請求項２】
R1はNR3R4で表されるアミノであり、R3とR4の定義は上記のとおり。
R2は未置換もしくは置換可能な位置に１〜５の下記のラジカルで置換されるアリール若しくは複素環から選ばれる：アルキル、デューテロアルキル、ハロ(低級）アルキル、ハロゲン、シアノ、アミノ、ヒドロキシ、低級アルコキシ、アミノカルボニル、低級アルキルスルホニル、アミノスルホニル
である請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
R2は4-メチルスルホニルフェニル、4-(アセチルスルファモイル)フェニル、3-インドール、4，6-ジ-ターシャリー-ブチル-5-ヒドロキシ-ピリミジン-2-イル、または3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル、
R3はＨ、ヒドロキシ、低級アルキル、デューテロアルキル、低級アルコキシ、アリールオキシ、ハロゲン(低級)アルキル、ヒドロキシ(低級)アルキル、アルコキシ(低級)アルキ
ル、アミノ(低級)アルキル、低級アルケニル、アリールカルボニル、アルキルカルボニル、
R4はＨ、アルキル、デューテロアルキル、フルオロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノアルキル、アリールアルキル、アリールオキシアルキル、アルケニル、アリールアルケニル、アリール、ヘテロサイクル基、アルキルカルボニル、
である請求項２に記載の化合物。
【請求項４】
R2は3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル、
R3はＨ、
R4はメチルである請求項３に記載の化合物。
【請求項５】
下記の群から選ばれる請求項１に記載の化合物。：
4- [4-(ベンゼンスルホニル)- 1H-トリアゾール-5-イル]-2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-フェノール、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-[4-(2-ヒドロキシエチルスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]フェノール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-ヒドロキシ-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
N-シクロプロピル-5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-[4-(2-フルオロエチルスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]フェノール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-(2，2，2-トリフルオロエチル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メトキシ-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-(4-メチルスルホニル-1H-トリアゾール-5-イル)フェノール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
3-[4-(ベンゼンスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]-1H-インドール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-エチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
4- (ベンゼンスルホニル)-5-(4-メチルスルホニルフェニル)-1H-トリアゾール
【請求項６】
式（１）の化合物の有効量及び不活性キャリヤーを含む医薬組成物。
【化２】
2015512442.tif 000002
ここで
R1は、置換可能な位置に下記の基で置換されてもよいアリールまたは複素環から選ばれる。：アミノ、シアノ、ハロゲン、ニトロ、アルキル、デューテロアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、(シクロアルキル)アルキル、アルコキシアルキル、カルボキシアルキル、(アルコキシカルボニル)アルキル、アルコキシカルボニル(アミノ)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、(アルキルスルホニル)アルキル、(アリールスルホニル)アルキル、アリールアルキル、アルケニル、アリールアルケニル、
アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アシルオキシ、アロイルオキシ、カルボキシ、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、アミノカルボニル、(複素環）カルボニル、アリールオキシカルボニル、(複素環）オキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アミノスルホニル、(アルキルカルボニル)アミノスルホニル、アリールスルホニル、低級アルキルスルホニルオキシ；
または、R1はアルキル、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリールアルキル、アリールオキシアルキル、(アルキルカルボニル)アルキル、(アミノカルボニル)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、ハロアルコキシ、または、アリールオキシ；
または、R1はNR3R4で表されるアミノであり、
R3はＨ、アルキル、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、アルキルカルボニル(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、アリールオキシ、またはアミノアルコキシである。
R4はＨ、アルキル、デューテロアルキル、(シクロアルキル)アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アリールアルキル、アロイルアルキル、アリールオキシアルキル、ヘテロアリールオキシ(低級)アルキル、5-員または６員ヘテロサイクルアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アリールオキシカルボニルアルキル、ヘテロアリールオキシカルボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノスルホニルアルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシ(アミノ)アルキル、カルボキシ(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノアルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、アルケニル、アリール置換のアルケニル、アリール、5-員または６員ヘテロサイクル、アルキルカルボニル、シクロアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、(複素環）カルボニル、アルキルスルホニル、(シクロアルキル)アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、またはアミノスルホニル、
R3とR4は一緒になって、任意にジアルキルアミノメチレンアミノ、1-(ジアルキルアミノ)エチリデンアミノ、1-ピペリジニル、モルホリノ、3-チアゾリジニル、1，2，3-トリアゾール-1-イル、2-ピペリドン-l-イル、或は2，6-ピペリジンジオン-l-イルである；
R2は置換可能な位置に１〜５の下記のラジカルで置換されてもよいアリール、ヘテロアリール或は複素環グループである。上記ラジカルは下記を含むグループから選ばれる。：アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、(シクロアルキル)アルキル、シアノアルキル、デューテロアルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アリールアルキル、アリールオキシアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノスルホニルアルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アリールオキシカルボニルアルキル、カルボキシ(アミノ)アルキル、アルコキシカルボニル(アミノ)アルキル、アリールオキシカルボニル(アミノ)アルキル、アミノカルボニル(アミノ)アルキル、カルボキシ(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ヒドロキシ)アルキル、アリールオキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、(複素環）オキシアルキル、ハロ(低級)アルキル、低級アルケニル、アリールアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、カルボキシ、アルコキシ、ハロアルコキシ、デューテロアルコキシ、アシルオキシ、アリールオキシ、ヘテロアリールオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、
ヘテロアリールカルボニル、(複素環）カルボニル、アリールアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、(複素環）オキシカルボキシル、アミノカルボニル、低級アルキルスルファニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、(シクロアルキル)アルキルスルホニル、アミノスルホニル、(アミノメチレン)スルファモイル、あるいは低級アルキルスルホニルオキシ
【請求項７】
式（1）の化合物は下記の群から選ばれる請求項６に記載の医薬組成物。：
4- [4-(ベンゼンスルホニル)- 1H-トリアゾール-5-イル]-2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-フェノール、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-[4-(2-ヒドロキシエチルスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]フェノール、
5- (3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-ヒドロキシ-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
N-シクロプロピル-5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-[4-(2-フルオロエチルスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]フェノール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-(2，2，2-トリフルオロエチル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メトキシ-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-(4-メチルスルホニル-1H-トリアゾール-5-イル)フェノール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
3-[4-(ベンゼンスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]-1H-インドール、
5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-エチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
4-(ベンゼンスルホニル)-5-(4-メチルスルホニルフェニル)-1H-トリアゾール
【請求項８】
式（1）の化合物は5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミドである請求項７に記載の医薬組成物。
【請求項９】
炎症により引き起こされる病気若しくは炎症性要素が原因である病気の治療用又は予防用の請求項６に記載の医薬組成物。
【請求項１０】
式（1）の化合物は5-(3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミドである請求項９に記載の医薬組成物。
【請求項１１】
式（２ｂ）の化合物。
【化３】
2015512442.tif 000003
ここで
R2は、置換可能な位置に１〜５の下記のラジカルで置換されてもよいアリールまたは複
素環基から選ばれる。上記ラジカルは下記のグループから選ばれる。：ヒドロキシ、ハロゲン、カルボキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アルキル、アリール、(シクロアルキル)アルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、アリールオキシ(低級)アルキル、(アルキルカルボニル)アルキル、(アミノカルボニル)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、(アミノスルホニルアミノ)アルキル、カルボキシアルキル、アルコキシアルキル、(アルコキシカルボニル)アルキル、(アリールオキシカルボニル)アルキル、カルボキシ(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アリールオキシカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、アミノスルホニルアミノ、低級アルキルスルホニルオキシ、低級アルコキシ、アリールオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、(複素環）カルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、(複素環）オキシカルボニル、アミノカルボニル、低級アルキルスルファニル、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、(シクロアルキル)スルホニル、アミノスルホニル、N-(アミノメチレン)スルファモイル
R3はＨ、ヒドロキシ、アルキル、アリール、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、アシル(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、低級アルケニル、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、アリールオキシである。
R4はＨ、アルキル、デューテロアルキル、(シクロアルキル)アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノアルキル、アリールアルキル、アリールオキシアルキル、(複素環）アルキル、アリールアルケニル、アルキルスルホニル、アリールスルホニル、アミノスルホニル、カルボキシ、アルキルカルボニル、(シクロアルキル)アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アミノカルボニル、アリールカルボニル、(複素環）カルボニル、(アルキルカルボニル)アルキル、(アルコキシカルボニル)アルキル、(アミノカルボニル)アルキル、（アミノスルホニル）アルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシ(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、ヘテロサイクル(低級)アルキル、アルケニルまたは複素環である。
R3とR4は一緒になってアミノメチレンアミノ、1-アミノエチリデンアミノ、1-ピペリジニル、モルホリノ、3-チアゾリジニル、1，2，3-トリアゾール-1-イル、2-ピペリドン-l-イルまたは2，6-ピペリジンジオン-l-イル、
R5はアルキルまたはアリールである。
【請求項１２】
R2は置換可能な位置に１〜５の下記のラジカルで置換されてもよいアリールまたは複素環基から選ばれる。上記ラジカルは下記のグループから選ばれる。：アルキル、デューテロアルキル、ハロアルキル、ハロゲン、低級アルコキシ、低級アルキルチオ、低級アルキルスルフィニル、低級アルキルスルホニル、アミノスルホニル、アミノスルホニルアミノ、ヒドロキシ、シアノ、ニトロ、アミノ、アミノカルボニル、
R5は低級アルキルまたはアリールから選ばれる請求項１１に記載の化合物。
【請求項１３】
R2は3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル、
R3はＨ、
R4はＨ、メチルまたはデューテロメチル、
R5はフェニルである請求項１２に記載の化合物。
【請求項１４】
R2は3，5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシフェニル、
R3とR4はＨ、
R5はフェニルである請求項１３に記載の化合物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
本発明は式（１）の化合物に関する。
【化２５】
2015512442.tif 000004
ここで
R1はアリールまたは複素環基選ばれるが、それらに限られなく、アリールまたは複素環基が置換可能な位置に１つまたは複数のラジカルで置換されることができる。こういうラジカルは下記のグループから選ばれるが、それらだけに限定しない：アミノ、シアノ、ハロゲン、ニトロ、アルキル、デューテロアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、(サイクルアルキル)アルキル、アルコキシアルキル、カルボキシルアルキル、(アルコキシカルボキシル)アルキル、アルコキシカルボキシル(アミノ)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、(アルキルスルホニル)アルキル、(アリールスルホニル)アルキル、アリールアルキル、アルケニル、アリールアルケニル、アリール、様々でアリール、ヒドロキシ、アルコキシ、アシルオキシ、アリールアシルオキシ、カルボキシル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールカルボニル、アリールアルキルカルボニル、アミノカルボニル、(複数環)カルボニル、アリールオキシカルボニル、(複数環)オキシカルボニル、アルキルスルファニル、アルキルスルフィニル、アルキルスルホニル、アミノスルホニル、(アルキルカルボニル)アミノスルホニル、アリールスルホニルと低級アルキルスルホニルオキシ；
R1は下記のグループから選ばれるが、それらだけに限定しない：アルキル、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリール・アルキル、アロイルオキシアルキル、(アルキルカルボニル)アルキル、(アミノカルボニル)アルキル、(アミノスルホニル)アルキル、カルボキシルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノ(ハロ)アルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、複数環(低級)アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、ハロアルコキシとアロイルオキシ；
R1は更にNR3R4のアミノで表される。その中
R3がヒドリド、アルキル、デューテロアルキル、シアノアルキル、ハロ(低級)アルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アミノ(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、アルキルカルボニル(低級)アルキル、アリール(低級)アルキル、低級アルケニル、ヒドロキシ、低級アルコキシ、デューテロアルコキシ、アロイルオキシ、アミノアルコキシであり、かつ
R4は下記のグループから選ばれるが、それらだけに限定しない：ヒドリド、アルキル、デューテロアルキル、(サイクルアルキル)アルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アルコキシアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アリール・アルキル、アミノアルキル、アロイルオキシアルキル、ヘテロアロイルオキシ(低級)アルキル、5-員または６員複素環基アルキル、アルキルカルボニルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アリールオキシカルボニルアルキル、ヘテロアリールオキシカルボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノスルホニルアルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシル(アミノ)アルキル、カルボキシル(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノアルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、複数環(低級)アルキル、アルケニル、アリール置換のアルケニル、アリールまたは5-員または６員複素環基、アルキルカルボニル、アルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、サイクルアルキルカルボニル、アリールカルボニル、(複数環)カルボニル、アルキルスルホニル、(サイクルアルキル)アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、アミノスルホニルであり、かつ、
R3とR4が合わせてジアルキルアミノメチレンアミノ、1-(2アルキルアミノ)エチリデン・アミノ、１つまたは多数の他のヘテロ原子サイクルを構成する。例えば、1-ピペリジン基、モルホリノ、3-チアゾールアルキル、1、2，3-トリアゾリ-1-ルなど、かつここで炭素原子サイクルはカルボニルの形式で存在し、例えば2-ピペリドン-1-イルまたは2、6-ピペリジンディオン-1-イル；
R2はアリール、ヘテロアリールまたは複素環グループから選ばれるが、それらだけに限定しない。アリール、ヘテロアリールまたは複素環基が置換可能な位置に１つまたは複数のラジカルで置換されることができる。こういうラジカルは下記のグループから選ばれるが、それらだけに限定しない：アミノ、ハロゲン、シアノ、ニトロ、アルキル、(サイクルアルキル)アルキル、シアノアルキル、デューテロアルキル、ハロアルキル、ヒドロキシアルキル、アミノアルキル、アルコキシアルキル、アリール・アルキル、アロイルオキシアルキル、アルキルカルボニルアルキル、アミノカルボニルアルキル、アミノスルホニルアルキル、アミノスルホニル(アミノ)アルキル、カルボキシルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、アリールオキシカルボニルアルキル、カルボキシル(アミノ)アルキル、アルコキシカルボニル(アミノ)アルキル、アリールオキシカルボニル(アミノ)アルキル、アミノカルボニル(アミノ)アルキル、カルボキシル(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ハロ)アルキル、アルコキシカルボニル(ヒドロキシ)アルキル、アリールオキシカルボニル(ハロ)アルキル、アミノカルボニル(ハロ)アルキル、複数環(低級)アルキル、（複素環）オキシアルキル、ハロは(低級)アルキル、低級アルケニル、アリールアルケニル、アリール、ヘテロアリール、ヒドロキシ、カルボキシル、アルコキシ、ハロアルコキシ、デューテリウムに代わってアルコキシ、アシルオキシ、アロイルオキシ、ヘテロアロイルオキシ、アルキルカルボニル、アリールカルボニル、ヘテロアリールカルボニル、(複数環)カルボニル、アリールアルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、(複数環)オキシーカルボキシル、アミノカルボニル、低級アルキルスルファニル、低級アルキル亜スルホニル、低級アルキルスルホニル、アリールスルホニル、ヘテロアリールスルホニル、(サイクルアルキル)アルキルスルホニル、アミノスルホニル、(アミノメチレン)アンモニア・スルホニルと低級アルキルスルホニルオキシ、及び式（1）化合物薬理学的に許容される塩類。本説明書の上記と以降の説明において、発明の範囲内に含まれるいろいろな定義の適当な例は、以下に詳細に説明される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８９】
好ましい式（1）の化合物は下記のとおり：
4- [4-(ベンゼンスルホニル)- 1H-トリアゾール-5-イル]-2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-フェノール、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-[4-(2-ヒドロキシエチルスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]フェノール、
5- (3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-ヒドロキシ-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
N-シクロプロピル-5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-[4-(2-フルオロエチルスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]フェノール、
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-(2、2、2-トリフルオロエチル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メトオキシ-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-(4-メチルスルホニル-1H-トリアゾール-5-イル)フェノール、
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、
3-[4-(ベンゼンスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]-1H-インドール、
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-エチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド、及び
4- (ベンゼンスルホニル)-5-(4-メチルスルホニルフェニル)-1H-トリアゾール。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００９７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００９７】
実例2
2，6-ジ-ターシャリー-ブチル-4-(4-メチルスルホニル-1H-トリアゾール-5-イル)フェノール
（化合物1e、スキーム2）
丸底のフラスコに4-[2、2-ジ(メチルスルホニル)ビニル]-2,6-ジ-ターシャリー-ブチル-フェノール（0.292g、0.752mmol）、ナトリウムアジド（80mg、1.23mmol）と2-甲酸素アルコール（2mL）を入れる。この混合物を105℃〜110℃で20分間攪拌する。この間に原料が無くなった（TLC、1:2酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.66；TLC、1:19メチル・アルコール-ジクロロメタン、Rf0.95）。攪拌しながら溶液を冷却して、それに水を少しずつ滴下して希釈し、濁っているものになる。引き続き攪拌して、初めの結晶に至る。それから水を添加して、白色水晶形の懸濁液が出てから30分を攪拌した後で冷凍する。固体を濾過後、水を用いて水で洗い流して、乾燥させる。この固体をアルコール-水で再結晶させ、得られる懸濁液を濾過して、水を用いて固体を水で洗い流して60℃のもとで、恒常の重さに達する。対象化合物は白色の材料である。0.175g；TLC，1:2酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.18；TLC，1:19メチル・アルコール-ジ塩化メチル、Rf0.39；1H-NMR（300MHz，CDC13）δ1.47（9H，s），3.33（3H，s），5.53（1H，s），7.70（2H，s）。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１００
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１００】
実例5
1-(ベンゼンスルホニル)-N-メチル-スルフォンアミド
（化合物3f、R3= H、R4= CH3、スキーム6）
N-メチル-1-フェニルスルホニル-メタンスルフォンアミド（5.43g、25mmol）のメタノール溶液(100mL)を撹拌しながら氷浴で冷却し、それにオゾン（23g）の水（100mL）溶液を加えた。5分後氷浴を取り除いて、室温下に14時間引き続き攪拌する。得られた懸濁液は62gの重量まで減圧下で濃縮され、水で100gの重さまで希釈する。この結晶の懸濁液を濾過して、濾餅を水で洗浄、乾燥してタイトル化合物を提供する。3.64g，融点116℃。メチル・アルコール-水の再結晶を通した後に、融点118℃−119℃；TLC（1:1酢酸エチル-ヘキサン）Rf0.34；1H-NMR（300MHz，CDCl3）δ2.92（3H，d，J=5.4Hz），4.58（2H，s），5.10（1H，br s），7.61（2H，t，J=8Hz），7.73（1H、dd、J=8と8Hz）、7.98（2H，d，J=8Hz）。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０１】
実例6
1-(ベンゼンスルホニル)-2-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-エチルスルフォンアミド
（化合物2h、R3= H、R4= CH3、スキーム6）
ディーンスタークトラップと電磁撹拌器を装備した丸底フラスコに、1-(ベンゼンスルホニル)-N-メチル-スルフォンアミド（1.73g、6.9mmol）、4-ヒドロキシ-3,5-ジ-t-ブチル-ベンゼンホルムアルデヒドの半分水合物（化合物4a、1.75g、7.2mmol）、プロピオ酸（21mL）、トルエン（14mL）と1-メチルピペラジン（0.5g）を入れる。フラスコを145℃で18時間攪拌する。得られた暗い色の溶液を室温まで冷却して、それから酢酸エチル（200mL）と水（100mL）の平衡を達する。有機層を水（150mL）、飽和重炭酸ナトリウムの溶液で2度（毎回100mL）水で洗浄してから蒸発する。得られた褐色の混合物を1:1ジクロロメタン-ヘキサンを用いてシリカゲルクロマトグラフィーで精製する。移動相を1:4酢酸エチル-ヘキサンに変更して、タイトルの化合物は2つの幾何異性体のほぼ等しい混合物としての溶出された。1.23 g；TLC（1:4酢酸エチル-ヘキサン）Rf 0.22；1H-NMR（300 MHz，CDCl3）δ 1.41（9H，s），1.48（9H，s），2.63（3H，d），2.88（3H，d），5.07（1H，m），5.35（1H，m），6.80（1H，s），6.85（1H，s），7.42（2H，m），7.50-7.64（4H，m），7.61（1H，s），7.82（1H，s），7.95（4H，m），8.25（1H，s），8.45（1H，s）。この混合物を直接次のステップで用いる。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０２】
実例7
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド
（化合物1i、R3= H、R4= CH3、スキーム6）
25mL丸底フラスコに、1-(ベンゼンスルホニル)-2-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-N-メチル-エチルスルフォンアミド（0.97g、2.08mmol）、2-メトキシエタノール（5mL）とナトリウムアジド（70mg、2.6mmol）を入れる。混合物を105-110℃で80分間攪拌する。出発原料の消失（TLC、1:1酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.80）と産物（Rf0.47、細長スポット）の生成をTLCを通じて反応の進度を監視する。この褐色溶液に水を徐々に滴下し、希釈して、産物が粘り気の固体として沈殿させる。この混合物を数時間で冷蔵して、上澄み液をデカントし、得られた褐色の固体を60℃で20torrで乾燥する。得られた物は少量のジクロロメタンの中で溶解して、1:3酢酸エチル-ヘキサンで希釈して、それから1:3酢酸エチル-ヘキサンを移動相をとして用いてフラッシュのクロマトグラムで精製する。暗い色の不純物の後に出た産物バンドの物を蒸発する。残渣は酢酸エチルで取り上げ、濾過して再度蒸発し、ジクロロメタン- サイクルヘキサンから結晶化させた。得られた卵の殻色の固体を濾過し、サイクルヘキサンとアルキルで水で洗い流して、それから酢酸エチル-サイクルヘキサンで再結晶をさせた。この物をメチル・アルコールに溶解して、少しずつ水を添加することで結晶が得られ、この結晶ををまず少量の40%メチル・アルコール、それから水で洗い流して、70℃、25torrで48時間乾燥して、対象化合物が得られた。0.3221g;；1H-NMR（300MHz，CDC13）δ1.48（9H，s），2.87（3H，d，J=5Hz），4.90（1H，br s），5.52（1H，s），7.69（2H，s），11.9（1H，br s）。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０５】
実例10
5-(3.5-ジ-ターシャリー-ブチル-4-ヒドロキシ-フェニル)-1H-トリアゾール-4-スルフォンアミド
（化合物1i、R3= R4= H、スキーム6）
電磁撹拌器、ディーンスタークトラップ、窒素ガス流す装置と回流装置を装備した丸底フラスコに、ベンゼンスルホニルスルフォンアミド（1.05g、4.46mmol）、4-ヒドロキシ-3、5-ジ-t-ブチル-ベンゼンホルムアルデヒドの半分水合物（化合物4a、1.17g、4.80mmol）2-メトキシエタノール（18mL）、トルエン（9mL）とモルモルホリノアセテト（0.7g）を入れる。トラップの中でトルエンを入れて、フラスコを135℃で19時間攪拌する。トルエンを蒸発し、浴の温度を100℃に減って、ナトリウムアジド（0.52g、8mmol）を添加する。この混合物を100℃で2時間攪拌して、室温に冷却した後、ca.3mLのブラインを含む水（30mL）及び酢酸エチル（60mL）で平衡する。有機層を少量のブラインを含む水（15mL）洗浄してから更に1:1のブライン-水（10mL）塩水-水(10mL)で洗浄、乾燥、蒸発して茶色の油を得た。このものが結晶化して茶色の結晶になる。これをジクロロメタンでに溶かして、いくつか不溶分結晶を濾過により除去し、濾液をシリカゲルクロマトグラフィーで精製する。いくつかの色の不純物はジクロロメタンで溶出される。移動相を1:4酢酸エチル-ヘキサンに変更し、更に色の物質を溶出する。次に、移動相を1:2酢酸エチル-ヘキサンに変更し、産物を溶出した。産物を含む溶出液を合わせて蒸発した。残渣を最小量の酢酸エチルで溶解し、その溶液を少しサイクルヘキサンで希釈して、セライトの浅層に通して濾過する。濾液を少量までに蒸発して、サイクルヘキサンで希釈して室温下に結晶させる。この固体を酢酸エチル-サイクルヘキサンの再結晶する。得られる懸濁液は濾過をして、サイクルヘキサンで洗い流して乾燥する。0.85g。この固体を酢酸エチル-サイクルヘキサンの再結晶して、サイクルヘキサン、それからペンタンで洗浄して乾燥する(0.72g)。このものがメタノールに再溶解、濾過、濃縮させてから、水で希釈させると結晶化してプリズムになる。この懸濁液を冷蔵して、得られた固体を濾過した。この結晶性固体を水で洗浄し、室温で二日間乾燥した後、70℃、25torrで6時間更に乾燥してタイトルの化合物を提供する。0.70g；1H-NMR（500MHz，DMSO-d6）δ1.40，（9H，s），7.32（1H，s），7.66（2H，s），7.73（2H，s）。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０６】
実例11
3- [2、2-ビス(ベンゼンスルホニル)ビニル]-1H-インドール
（化合物2g、スキーム4）
電磁撹拌器、ディーンスタークトラップ、窒素ガス流す装置と回流装置を装備した丸底フラスコに、ベンゼンスルホニルメチルスルホニルベンゼン（0.290g、2mmol、TLC、1:1酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.6）、1H-インドール-3-ホルムアルデヒド（化合物0.290g、2mmol）、プロピオ酸（5mL）、トルエン（5mL）とN-メチルピペラジン（0.14g）を入れる。この混合物を145℃の熱浴の中で18時間攪拌する。混合物を冷却して、それから1:1酢酸エチル-ヘキサン（35mL）と水（20mL）で平衡する。有機層を水（20mL）、飽和重炭酸ナトリウム溶液（25mL）とブライン（5mL）で洗浄する。この溶液を乾燥（硫酸ナトリウム）、濃縮した後、茶褐色のシロップが得られ、それはすぐ固体化した。この材料（0.85g）をジクロロメタンで溶解して、1:1ジクロロメタン-ヘキサンを移動相として、シリカゲルクロマトグラフィーで精製する。移動相を4:1:5ジクロロメタン-酢酸エチル-ヘキサンに変更し、少量の未反応のベンゼンスルホニルメチルスルホニルベンゼン（TLC、1:1酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.60）を先に溶出し、それから産物（TLC、1:1酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.49）、未反応の1H-インドール-3-ホルムアルデヒド（TLC、1:1酢酸エチル-ヘキサン、Rf0.32）を溶出した。産物を含む溶出液を合わせて蒸発して、得られる残りの物をジクロロメタン-ヘキサンで再結晶して、結晶をペンタンで洗浄して、対象化合物が褐色の針形の結晶として得られた。0.42g；1H-NMR（300MHz，CDCl3）δ7.34（3H，m），7.37-7.49（3H，m），7.49-7.64（3H，m），7.87（1H，m），8.03（4H，m），8.88（1H，d，J=5Hz），8.98（1H，s），9.00（1H，br）。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０７】
実例12
3-[4-(ベンゼンスルホニル)-1H-トリアゾール-5-イル]-1H-インドール
（化合物1h、スキーム4）
電磁撹拌器、窒素ガス流す装置と回流装置を装備した丸底フラスコに、3-[2、2-ビス(ベンゼンスルホニル)ビニル]-1H-インドール（0.41g、0.968mmol）、ナトリウムアジド（0.1g、1.5mmol）と2-メトキシエタノール（3mL）を入れる。この混合物を105-110℃の熱浴の中で3時間攪拌する。反応混合物を室温までに冷却して、それから酢酸エチル-ヘキサン（15mL）と水（20mL）で平衡する。有機層を水（5mL）で二回、ブライン（5mL）一回で洗浄、乾燥（硫酸ナトリウム）して、濃縮した。残りの油状の物は1:4酢酸エチル-ヘキサンの中で部分的に懸濁させて、それから十分なジクロロメタンを添加して結晶化を引き起こした。これにヘキサンを添加して、得られた懸濁液を加熱して、ジクロロメタンを除いて、それからまず室温までに冷却し、更に冷蔵庫の中で１晩冷却する。母液をデカントして、ペンタンで残りの茶褐色の結晶（0.23g）を洗浄する。このものを1:3→1:2→1:1の段階的な勾配の酢酸エチル-ヘキサンを用いてシリカゲルカラムを通過による脱色する。得られた晶形の残り物を酢酸の酢酸メチルの中で溶解して、サイクルヘキサンを添加して、それから濃縮して、少量のジクロロメタンで希釈して、回流の状態までに加熱して、酢酸エチルを添加する。得られた溶液を濃縮して、サイクルヘキサンで希釈して、冷蔵庫の中で結晶する。母液をデカントして、得られた固体を先に1:1ジクロロメタン-ヘキサンペンタンで、それからペンタンで洗浄して、対象化合物は浅い稲わらの色の固体として得られた。0.204g；TLC（1:1、酢酸エチル-ヘキサン）Rf0.44；融点の109℃は110℃；1H-NMR（500MHz，DMSO-d6）δ7.12（1H，t，J=7.5），7.21（1H，t，J=7.5 Hz），7.5（1H，d，J=7.5Hz），7.59（2H、dd、J=7と7.5Hz）、7.69（1H，t，J=7Hz），7.89（2H，d，J =7.5Hz），8.09（1H，br），11.71（1H，br），15.97（1H，br)。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０８】
実例13
1-[2、2-ビス(ベンゼンスルホニル)ビニル]-4-メチルチオ-ベンゼン
（化合物2f、スキーム3）
電磁撹拌器、ディーンスタークトラップ、窒素ガス流す装置と回流装置を装備した丸底フラスコに、ベンゼンスルホニルメチルスルホニルベンゼン（0.5927g、2mmol）、4-メチルチオ・ベンゼンホルムアルデヒドに入るを吹く(0.3044g、2mmol)、プロピオ酸（6mL）、トルエン（4mL）とN-メチルピペラジン（0.14g）を入れる。この混合物を145℃熱浴の中で14時間攪拌する。反応混合物を室温までに冷却して、それから1:1の酢酸エチル-ヘキサン（35mL）と水（20mL）で平衡する。有機層を水（20mL）で洗浄して、それから飽和重炭酸ナトリウムの溶液（約25mL）で洗浄する。弱いアルカリ性の水層を捨てて、有機層をブライン（5mL）で洗い、乾燥、濃縮して、茶褐色のシロップが得られ、それは置くと固体化した。この固体を十分な量のジクロロメタンで溶かして、1:6の酢酸エチル-ヘキサンを含む移動相としてを使用してクロマトグラフィーで精製する。非常に暗いバンドは第一画分に溶出した。1:4と1:2の酢酸エチル-ヘキサンを用いてクロマトグラフィーを引き続き使うと、Rf0.53の産物を未反応のアルデヒド（Rf0.80）とジスルフォン（Rf0.33、TLC 1:2酢酸エチル-ヘキサン）から分離することができた。産物を含む溶出液を合わせて、容器の中の結晶と一緒に集まる。混合物を濃縮して残りの物がジクロロメタン-ヘキサンで再結晶して、対象化合物を提供する。0.17g；融点170℃，1H-NMR（300MHz，CDCl3）δ2.52（3H，s），7.20（2H，m），7.38（2H，m），7.50-7.69（6H，m），7.78（2H，m），8.03（2H，m），8.56（1H，s）。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１０９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１０９】
実例14
4- (ベンゼンスルホニル)-5-(4-メチルチオ・フェニル)-1H-トリアゾール
（化合物1f、スキーム3）
電磁撹拌器、窒素ガス流す装置と回流装置を装備した丸底フラスコに、1-[2、2-ビス(ベンゼンスルホニル)ビニル]-4-メチルチオ-ベンゼン（0.2714g、0.63mmol）に入って、ナトリウムアジド（65mg、1mmol）と2-メトキシエタノール（2mL）を入れる。この混合物を105-110℃の熱浴の中で20分間攪拌する。反応混合物を室温までに冷却して、水（約6mL）を少しずつ滴下して沈殿物を形成する。この黄土色の懸濁液を一晩攪拌し、濾過して、フィルター ケーキを水で徹底的に洗浄して、乾燥する。残渣はジクロロ メタンでとられた、溶液を濾過して、濾液をサイクルヘキサンで希釈し、濃縮すると少結晶性のもの（0.18g）を与え、これを少量のアセトンに溶解して、水で希釈して結晶化を誘発する。母液をデカンテーションによって得られた結晶を乾燥して、タイトルの化合物(0.1752g)を得た。融点の148℃；TLC（酢酸エチル）Rf0.67，ストリーク。このものは、直接次のステップで使用される。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１１０】
実例15
4- (ベンゼンスルホニル)-5-(4-メチルスルホニルフェニル)-1H-トリアゾール
（化合物1g、スキーム3）
丸底フラスコに、上記の実例で得られる4-(ベンゼンスルホニル)-5-(4-メチルチオ・フェニル)-1H-トリアゾール（0.1657g、0.50mmol）を入る。この材料をメタノール（2 mL）とアセトン（0.5mL）の混合溶液の中に溶解して、これに水（2.5mL）の中に溶解したオゾン（0.461g、1.5mmol過硫酸）の溶液を添加する。混合物を24時間攪拌した後、部分的に蒸発してから、水を用いて希釈する。得られた懸濁液を濾過して、フィルター ケーキを水で洗浄して、再び水の中に懸濁して、濾過して、乾燥すると目的対象化合物を得た。対象化合物は浅い稲わらの色の粉末（0.17g）である；1H-NMR（500 MHz，DMSO-d6）δ3.30（3H，s），7.64（2H，t，J=7.5Hz），7.76（1H，t，J =7.5Hz），7.92（2H，d，J=7.5Hz），8.00（2H，d，J=8.5Hz），8.09（2H，d，J=8.5Hz）。