【手続補正書】
【提出日】平成28年10月7日(2016.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゼオライト材料の後処理の方法であって、
（ｉ）ゼオライト材料の骨格構造がＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含み、Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素であり、ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択される、ゼオライト材料を準備する工程と、
（ｉｉ）（ｉ）において準備したゼオライト材料を、
（ａ）最大限でも５のｐＨを有する、有機酸及び／又は無機酸を含む水溶液により処理する工程と、
（ｂ）（ａ）から得られたゼオライト材料を、５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有し、かつ、少なくとも９０質量％の水を含む液体水性系により処理する工程と  を含む方法で処理する工程とを含み、
（ａ）における水溶液のｐＨ及び（ｂ）における液体水性系のｐＨをｐＨ感受性ガラス電極を用いて測定する、方法。
【請求項２】
（ｉｉ）による方法が、
（ａ）ゼオライト材料を最大限でも５のｐＨを有する水溶液により処理する工程と、
（ｂ）（ａ）から得られたゼオライト材料を５．５〜８の範囲のｐＨ及び少なくとも７５℃の温度を有する液体水性系により処理する工程と、
（ａ）（ｂ）から得られたゼオライト材料を最大限でも５のｐＨを有する水溶液により処理する工程と
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
（ａ）の後、ゼオライト材料を、５．５〜８の範囲のｐＨ及び７５℃未満の範囲の温度を有する液体水性系による処理にかける、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
（ａ）において、水溶液が、シュウ酸、酢酸、クエン酸、メタンスルホン酸及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される有機酸、及び／又は、リン酸、硫酸、塩酸、硝酸及びそれらの２つ以上の混合物からなる群から選択される無機酸を含む、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
（ａ）において、水溶液が０〜５の範囲のｐＨを有する、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
（ａ）において、ゼオライト材料を水溶液により２０℃〜１００℃の範囲の温度で処理する、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
（ａ）において、ゼオライト材料を水溶液により１０分〜１２時間の範囲の期間にわたり処理する、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
（ｂ）において、ゼオライト材料を液体水性系により８０℃〜１８０℃の範囲の温度で処理する、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
（ｂ）において、ゼオライト材料を液体水性系により０．５時間〜２４時間の範囲の期間にわたり処理する、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（ｂ）において、ゼオライト材料に対する液体水性系の質量比が２０：１〜２：１の範囲にある、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
（ｂ）において、液体水性系が少なくとも９９質量％の水を含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
（ｉｉ）において（ｂ）の後に、ゼオライト材料を乾燥及び／又は焼成処理する、請求項１から１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
（ａ）による水溶液及び／又は（ｂ）による液体水性系が少なくとも１種の有機酸の少なくとも１種の塩及び／又は少なくとも１種の無機酸の少なくとも１種の塩を含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
少なくとも１種の塩がアンモニウム塩であり、（ｉ）において準備されるゼオライト材料がそのナトリウム型として準備される、請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
（ｉ）におけるゼオライト材料を準備する工程が、
（１）種結晶並びにＹＯ２の少なくとも１つの源及びＸ２Ｏ３の少なくとも１つの源を含む混合物を調製する工程と、
（２）（１）において調製した混合物からゼオライト材料を結晶化する工程と
を含む、
有機鋳型を用いない合成方法を含み、
（１）において用いる種結晶が（ｉ）において準備されるゼオライト材料の骨格構造を有するゼオライト材料を含む、請求項１から１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
（ｉ）において準備するゼオライト材料がＬＥＶ、ＣＨＡ、ＭＦＩ、ＭＷＷ、ＢＥＡ骨格構造を有する、請求項１から１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
（ｉ）においても（ｉｉ）においても（ｉｉ）の後においても、ゼオライト材料を水蒸気処理、好ましくは蒸気処理にかけない、請求項１から１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
Ｙが４価元素であり、Ｘが３価元素であり、ＹがＳｉ、Ｓｎ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｇｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択され、ＸがＡｌ、Ｂ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｆｅ及びそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択される、ＹＯ２及びＸ２Ｏ３を含む骨格構造を有し、
３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、
第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．１〜０．９の範囲にある、ＩＲスペクトルによって特徴づけられる、ゼオライト材料。
【請求項２０】
ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３モル比が２０：１〜６０：１の範囲にある、請求項１９に記載のゼオライト材料。
【請求項２１】
水取込み量が最大限でも２０質量％である、請求項１９又は２０に記載のゼオライト材料。
【請求項２２】
ＩＲスペクトルが３７３０ｃｍ−１〜３７５０ｃｍ−１の範囲に極大を有する第１の吸収帯と、３６００ｃｍ−１〜３７００ｃｍ−１の範囲に極大を有する第２の吸収帯とを示し、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が０．２〜０．８の範囲にある、請求項１９又は２１に記載のゼオライト材料。
【請求項２３】
ＹがＳｉであり、ＸがＡｌである、請求項１９から２２のいずれか一項に記載のゼオライト材料。
【請求項２４】
ＬＥＶ、ＣＨＡ、ＭＦＩ、ＭＷＷ、ＢＥＡ骨格構造を有する、請求項１９から２３のいずれか一項に記載のゼオライト材料。
【請求項２５】
ＹがＳｉであり、ＸがＡｌであり、ゼオライト材料が脱アルミニウム化ゼオライトベータである、請求項１９から２４のいずれか一項に記載のゼオライト材料。
【請求項２６】
請求項１から１８のいずれか一項に記載の方法により得られる若しくは得られた請求項１９から２５のいずれか一項に記載のゼオライト材料、又は請求項１から１８のいずれか一項に記載の方法により得られる若しくは得られたゼオライト材料。
【請求項２７】
触媒工程における触媒として請求項１９から２６のいずれか一項に記載のゼオライト材料を使用する方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００４】
蒸気処理は、様々な選択的反応における水蒸気に対するゼオライトの活性及び安定性を増大させるためにしばしば用いられる。例えば、ＥＰ００１３４３３３Ａ１は、Ｓｉ／Ａｌ比を増加させることによりゼオライトの活性を増加させるための蒸気処理の使用方法を教示している。この蒸気処理は、Ｓｉ／Ａｌ比に影響を及ぼすだけでなく、ゼオライトの酸性／塩基性及び親水性／疎水性にも影響を及ぼす。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４６】
本発明の処理（ｉｉ）による方法により、ＹＯ２：Ｘ２Ｏ３のモル比の増加を有するゼオライト材料を得ることができたことが見いだされた。さらに、得られたゼオライト材料が水取込み量により判断された疎水性の維持又はわずかな低下を示すことが見いだされた。驚くべきことに、前記の得られたゼオライト材料は、例えば、（ａ）に規定されるような酸処理によるが、本発明の（ｂ）に規定されるような追加の処理を用いない、ゼオライト材料骨格構造からのＸの除去のための従来の浸出法によってのみ得られたゼオライト材料と比較した場合、ＸＲＤ測定により決定された結晶化度の増加を有する。より驚くべきことに、このように得られた前記ゼオライト材料が、第１の吸収帯が３７３０〜３７５０ｃｍ−１の範囲にその極大を有し、前記第１の吸収帯が表面シラノール基に帰せられ、第２の吸収帯が３６００〜３７００ｃｍ−１の範囲にその極大を有し、前記第２の吸収帯がシラノールネストに帰せられ、第１の吸収帯のピーク高さに対する第２の吸収帯のピーク高さの比が処理（ｉｉ）による方法の後に１未満に有意に低下している、ゼオライト材料のＩＲスペクトルにより明らかなように、低下した濃度の内部欠陥を含むことが見いだされた。再び、本発明の意味の範囲内で、「表面シラノール」又は「表面シラノール基」という用語は、Ｚｅｃｃｈｉｎａら、Ｊ．Ｐｈｙｓ．Ｃｈｅｍ．１９９２、９６、４９９１〜４９９７頁に記載されているように、水素結合性でなく、例えば、シリカライトのＩＲスペクトルにおけるその特性吸収が３６５０〜３８００ｃｍ−１の範囲に見いだされるＳｉ−ＯＨ基を好ましくは意味する。より詳細には、ゼオライト材料の所定のＩＲスペクトルの評価により得られる第１の吸収帯に対する第２の吸収帯の強度比は、所定のゼオライト材料におけるシラノールネストの相対濃度に関する、及び特にゼオライト材料の処理による、例えば、その酸処理の結果としてのシラノールネスト濃度の変化に関する信頼できる指標となる。より詳細には、第１の吸収帯に対する第２の吸収帯の強度比の低下は、ゼオライト材料におけるシラノールネストの相対濃度の低下を示すのに対して、その増加は、したがってシラノールネストの相対濃度の増加を反映する。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３４】
引用文献
ＥＰ００１３４３３３Ａ１
ＷＯ０２／０５７１８１Ａ２
ＷＯ２００９／０１６１５３Ａ２