【手続補正書】
【提出日】平成28年2月19日(2016.2.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式(I)の化合物、又はその塩、水和物を含む溶媒和物、アイソトポログ、もしくは多形:
【化１】
2015507023.tif 000001
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換(C1-C6)アルキル、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、(C3-C18)シクロアルキル、(C3-C6)シクロアルコキシ、シアノ、-CF3、又は(C3-C18)シクロアルキル-(C1-C6)アルコキシ、或いはそれらのアイソトポログであり;かつR3は、(C1-C6)アルキル、又はそのアイソトポログである)を調製する方法であって;
式(II)のエナミン、又はその塩もしくはアイソトポログ:
【化２】
2015507023.tif 000002
を、(1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体の存在下、水素化により還元する工程を含む、前記方法。
【請求項２】
(A) 前記金属触媒がロジウムを含有するか、又は該金属触媒がRh(cod)2OTfであり；
(B) 前記キラル配位子又はキラル金属触媒/配位子錯体が、(S,R)-t-Bu Josiphos、Josiphos SL-J011-2、(S,S)-Me-Duphos、(S,S)-Chiraphos、(R)-Phanephos、(R)-Ru(OAc)2(DM-segphos)、[(R,R)-Me-BPE]Rh(cod)BF4、(R)-C3-TunePhos、(R)-[Rh(cod)TCFP]BF4、又はそれらの立体異性体であり；
(C) 前記キラル配位子が(S,R)-t-Bu Josiphosであり；
(D) 触媒の投入量が0.05mol％〜5mol％であり；
(E) 該キラル配位子対該金属触媒のモル比が3:1〜1:1であり；
(F) 水素圧が15psig〜250psigであり；
(G) 溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、若しくはそれらの混合物であるか、又は該溶媒が2,2,2-トリフルオロエタノールであり；或いは
(H) 反応温度が50℃である、
請求項1記載の方法。
【請求項３】
式(I)の化合物、又はその塩、水和物を含む溶媒和物、アイソトポログ、もしくは多形:
【化３】
2015507023.tif 000003
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換(C1-C6)アルキル、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、(C3-C18)シクロアルキル、(C3-C6)シクロアルコキシ、シアノ、-CF3、又は(C3-C18)シクロアルキル-(C1-C6)アルコキシ、或いはそれらのアイソトポログであり;かつR3は、(C1-C6)アルキル、又はそのアイソトポログである)を調製する方法であって;
(a)式(II)のエナミン、又はその塩もしくはアイソトポログ:
【化４】
2015507023.tif 000004
を、アシル化試薬と反応させて、式(III)のN-アシルエナミン、又はそのアイソトポログ:
【化５】
2015507023.tif 000005
(式中、Rは、水素;それ自体1以上のハロゲンで任意に置換された、(C1-C6)アルキル;又は1以上のハロゲンで任意に置換された、5〜10員アリールもしくはヘテロアリール;或いはそれらのアイソトポログである)を形成させる工程;
(b)該式(III)のN-アシルエナミンを、(1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体の存在下、水素化により還元して、式(IV)のN-アシルアミノスルホン、又はそのアイソトポログ:
【化６】
2015507023.tif 000006
を形成させる工程;並びに
(c)該式(IV)のN-アシルアミノスルホン、又はそのアイソトポログを、式(I)のアミノスルホン、又はその塩もしくはアイソトポログに変換する工程
を含む、前記方法。
【請求項４】
Rが、それ自体1以上のハロゲンで任意に置換された、(C1-C6)アルキルであるか、又はRがCF3である、請求項3記載の方法。
【請求項５】
(A) 工程(b)の前記金属触媒がロジウムを含有するか、又は工程(b)の前記金属触媒がRh(cod)2OTfであり；
(B) 工程(b)の前記キラル配位子又はキラル金属触媒/配位子錯体が、(S,R)-t-Bu Josiphos、Josiphos SL-J011-2、(S,S)-Me-Duphos、(S,S)-Chiraphos、(R)-Phanephos、(R)-Ru(OAc)2(DM-segphos)、[(R,R)-Me-BPE]Rh(cod)BF4、(R)-C3-TunePhos、(R)-[Rh(cod)TCFP]BF4、又はそれらの立体異性体であり；
(C) 工程(b)の該キラル配位子が(R,R)-Me-Duphosであり；
(D) 工程(b)の前記触媒の投入量が0.05mol％〜5mol％であり；
(E) 工程(b)の該キラル配位子対該金属触媒のモル比が3:1〜1:1であり；
(F) 工程(b)の前記水素圧が15psig〜250psigであり；
(G) 工程(b)の前記溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、又はそれらの混合物であるか、又は工程(b)の該溶媒が2,2,2-トリフルオロエタノールであり；或いは
(H) 工程(b)の前記反応温度が50℃である、
請求項3又は4記載の方法。
【請求項６】
式(I)の化合物、又はその塩、水和物を含む溶媒和物、アイソトポログ、もしくは多形:
【化７】
2015507023.tif 000007
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換(C1-C6)アルキル、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、(C3-C18)シクロアルキル、(C3-C6)シクロアルコキシ、シアノ、-CF3、又は(C3-C18)シクロアルキル-(C1-C6)アルコキシ、或いはそれらのアイソトポログであり;かつR3は、(C1-C6)アルキル、又はそのアイソトポログである)を調製する方法であって;
(a)式(V)のケトン、又はそのアイソトポログ:
【化８】
2015507023.tif 000008
を、アンモニア又はアンモニウム塩と反応させて、式(II)のエナミン、又はその塩もしくはアイソトポログ:
【化９】
2015507023.tif 000009
を形成させる工程;
(b)該式(II)のエナミン、又はその塩もしくはアイソトポログを任意に単離する工程;並びに
(c)該式(II)のエナミン、又はその塩もしくはアイソトポログを、(1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体の存在下、水素化により還元する工程
を含む、前記方法。
【請求項７】
(A) 工程(a)の前記アンモニウム塩が酢酸アンモニウムであり；
(B) 工程(c)の前記金属触媒がロジウムを含有するか、又は工程(c)の該金属触媒がRh(cod)2OTfであり；
(C) 工程(c)の前記キラル配位子又はキラル金属触媒/配位子錯体が、(S,R)-t-Bu Josiphos、Josiphos SL-J011-2、(S,S)-Me-Duphos、(S,S)-Chiraphos、(R)-Phanephos、(R)-Ru(OAc)2(DM-segphos)、[(R,R)-Me-BPE]Rh(cod)BF4、(R)-C3-TunePhos、(R)-[Rh(cod)TCFP]BF4、又はそれらの立体異性体であり；
(D) 工程(c)の該キラル配位子が(S,S)-Me-Duphosであり；
(E) 工程(c)の前記触媒の投入量が0.05mol％〜5mol％であり；
(F) 工程(c)の該キラル配位子対該金属触媒のモル比が3:1〜1:1であり；
(G) 工程(c)の前記水素圧が15psig〜250psigであり；
(H) 工程(c)の前記溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、又はそれらの混合物であるか、又は工程(c)の該溶媒が2,2,2-トリフルオロエタノールであり；或いは
(I) 工程(c)の前記反応温度が50℃である、
請求項6記載の方法。
【請求項８】
式(I)の化合物、又はその塩、水和物を含む溶媒和物、アイソトポログ、もしくは多形:
【化１０】
2015507023.tif 000010
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換(C1-C6)アルキル、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、(C3-C18)シクロアルキル、(C3-C6)シクロアルコキシ、シアノ、-CF3、又は(C3-C18)シクロアルキル-(C1-C6)アルコキシ、或いはそれらのアイソトポログであり;かつR3は、(C1-C6)アルキル、又はそのアイソトポログである)を調製する方法であって;
(a)式(V)のケトン、又はそのアイソトポログ:
【化１１】
2015507023.tif 000011
を、
(i) (1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体存在下の水素化；
(ii) 転移試薬並びに(1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体存在下の転移水素化；
(iii) ボラン試薬及びキラルオキサザボロリジン存在下のボラン還元；
(iv) 還元試薬、ルイス酸、及びポリマー担持キラルスルホンアミドの存在下で；
(v) 酵母又は真菌の存在下での、酵母又は真菌媒介性不斉還元
(vi) シラン並びに(1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体の存在下のヒドロシリル化
により還元して、式(VI)のヒドロキシルスルホン、又はそのアイソトポログ:
【化１２】
2015507023.tif 000012
を形成させる工程;並びに
(b)該式(VI)のヒドロキシスルホン、又はそのアイソトポログを、式(I)のアミノスルホン、又はその塩もしくはアイソトポログに変換する工程
を含む、前記方法。
【請求項９】
工程(a)において：
方法(a)(i)において：
(A) 工程(a)の前記金属触媒がルテニウムを含有するか、又は工程(a)の前記金属触媒がRuCl(p-シメン)であり；
(B) 工程(a)の前記キラル配位子又はキラル金属触媒/配位子錯体が、(S)-Ru(OAc)2(BINAP)、(S)-Ru(OAc)2(DM-SEGPHOS)、RuCl(p-シメン)[(S,S)-Ts-DPEN]、RuCl2[(R)-(DM-SEGPHOS)][(R,R)-(DPEN)]、RuCl2[(R)-(Phanephos)][(S,S)-(DPEN)]、RuCl2[(R)-DM-BINAP][(R,R)-DPEN]、又はそれらの立体異性体であり；
(C) 工程(a)の該キラル金属触媒/配位子錯体がRuCl(p-シメン)[(S,S)-Ts-DPEN]であり；
(D) 工程(a)の前記触媒の投入量が0.05mol％〜5mol％であり；
(E) 工程(a)の該キラル配位子対該金属触媒のモル比が3:1〜1:1であり；
(F) 工程(a)の前記水素圧が15psig〜450psigであり；
(G) 工程(a)の前記溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、又はそれらの混合物であるか、又は工程(a)の前記溶媒がイソプロパノールであり；
(H) 工程(a)の前記反応温度が50℃であり；或いは
(I) 工程(a)が添加剤の存在下で行われ、ここで、該添加剤が、アミン、ピリジン、ピリジンN-オキシド、イミダゾール、アルコキシド、ハライド、又はそれらの組合せであるか、又は該添加剤がt-BuOKであり；
方法(a)(ii)において：
(A) 工程(a)の該金属触媒がルテニウムを含有するか、又は工程(a)の該金属触媒がRuCl(p-シメン)であり；
(B) 工程(a)の該キラル配位子又はキラル金属触媒/配位子錯体が、(S)-Ru(OAc)2(BINAP)、(S)-Ru(OAc)2(DM-SEGPHOS)、RuCl(p-シメン)[(S,S)-Ts-DPEN]、RuCl2[(R)-(DM-SEGPHOS)][(R,R)-(DPEN)]、RuCl2[(R)-(Phanephos)][(S,S)-(DPEN)]、RuCl2[(R)-DM-BINAP][(R,R)-DPEN]、又はその立体異性体であり；
(C) 工程(a)の該キラル金属触媒/配位子錯体がRuCl(p-シメン)[(S,S)-Ts-DPEN]であり；
(D) 工程(a)の該触媒の投入量が0.05mol％〜5mol％であり；
(E) 工程(a)の該キラル配位子対該金属触媒のモル比が3:1〜1:1であり；
(F) 工程(a)の前記転移試薬がギ酸-トリエチルアミン錯体であり；
(G) 工程(a)の該溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、又はそれらの混合物であるか、又は工程(a)の該溶媒がアセトニトリルであり；或いは
(H) 工程(a)の該反応温度が20℃〜25℃であり；
方法(a)(iii)において：
(A) 工程(a)において、前記ボラン試薬がN-エチル-N-イソプロピルアニリン-ボラン錯体であり；
(B) 工程(a)において、前記式(V)の化合物対前記ボラン試薬のモル比が3:1〜1:3であり；
(C) 工程(a)において、前記キラルオキサザボロリジンがCBS-オキサザボロリジンであり；
(D) 工程(a)において、該キラルオキサザボロリジンの投入量が0.025mol％〜20mol％であり；
(E) 工程(a)の該溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、及びそれらの混合物であるか、又は工程(a)の該溶媒がテトラヒドロフランであり；或いは
(F) 工程(a)の該反応温度が25℃であり；
方法(a)(iv)において：
(A) 工程(a)において、前記還元試薬が、NaBH4、又はNaBH(OAc)3であり；
(B) 工程(a)において、前記式(V)の化合物対該還元試薬のモル比が3:1〜1:3であり；
(C) 工程(a)において、前記ルイス酸が、Me3SiCl、又はBF3・OEt2であり；
(D) 工程(a)において、前記式(V)の化合物対前記ルイス酸のモル比が約3:1〜約1:3であり；
(E) 工程(a)において、前記ポリマー担持キラルスルホンアミドが、次式の化合物:
【化１３】
2015507023.tif 000013
であり；或いは
(F) 工程(a)において、前記ポリマー担持キラルスルホンアミドの投入量が約1mol％〜約50mol％であり；
方法(a)(v)において：
(A) 工程(a)において、前記酵母又は真菌が、パン酵母又はクルブラリア・ルナータであり；
方法(a)(vi)において：
(A) 工程(a)において、前記シランが、ポリメチルヒドロシラン、又はジフェニルシランであり；
(B) 工程(a)において、該式(V)の化合物対該シランのモル比が3:1〜1:3であり；
(C) 工程(a)において、該金属触媒が、ロジウム、亜鉛、又は銅を含有し；或いは
(D) 工程(a)において、該触媒の投入量が0.05mol％〜5mol％である、
請求項8記載の方法。
【請求項１０】
工程(b)において、前記式(VI)のヒドロキシスルホン中のヒドロキシル基がアジドに置換されている、請求項8又は9記載の方法。
【請求項１１】
式(I)の化合物、又はその塩、水和物を含む溶媒和物、アイソトポログ、もしくは多形:
【化１４】
2015507023.tif 000014
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換(C1-C6)アルキル、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、(C3-C18)シクロアルキル、(C3-C6)シクロアルコキシ、シアノ、-CF3、又は(C3-C18)シクロアルキル-(C1-C6)アルコキシ、或いはそれらのアイソトポログであり;かつR3は、(C1-C6)アルキル、又はそのアイソトポログである)を調製する方法であって;
(a)式(V)のケトン、又はそのアイソトポログ:
【化１５】
2015507023.tif 000015
をN-アシルヒドラジンと反応させて、式(VII)の化合物、又はそのアイソトポログ:
【化１６】
2015507023.tif 000016
(式中、Rは、水素;それ自体1以上のハロゲンで任意に置換された、(C1-C6)アルキル;又は1以上のハロゲンで任意に置換された、5〜10員アリールもしくはヘテロアリール;或いはそれらのアイソトポログである)を形成させる工程;
(b)該式(VII)の化合物、又はそのアイソトポログを、(1)金属触媒及びキラル配位子、又は(2)キラル金属触媒/配位子錯体の存在下、水素化により還元して、式(VIII)の化合物、又はそのアイソトポログ:
【化１７】
2015507023.tif 000017
を形成させる工程;並びに
(c)該式(VIII)の化合物、又はそのアイソトポログを、式(I)のアミノスルホン、又はその塩もしくはアイソトポログに変換する工程
を含む、前記方法。
【請求項１２】
Rが、それ自体1以上のハロゲンで任意に置換された、5〜10員アリール又はヘテロアリールであるか、又はRがフェニルである、請求項11記載の方法。
【請求項１３】
式(I)の化合物、又はその塩、水和物を含む溶媒和物、アイソトポログ、もしくは多形:
【化１８】
2015507023.tif 000018
(式中、R1及びR2は、各々独立に、水素、ハロゲン、置換もしくは非置換(C1-C6)アルキル、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、(C3-C18)シクロアルキル、(C3-C6)シクロアルコキシ、シアノ、-CF3、又は(C3-C18)シクロアルキル-(C1-C6)アルコキシ、或いはそれらのアイソトポログであり;かつR3は、(C1-C6)アルキル、又はそのアイソトポログである)を調製する方法であって;
式(II)のエナミン、又はその塩もしくはアイソトポログ:
【化１９】
2015507023.tif 000019
を、ボラン試薬及びキラル配位子の存在下、ボラン還元により還元する工程
を含む、前記方法。
【請求項１４】
(A) 前記ボラン試薬がボランN,N-ジエチルアニリンであり；
(B) 前記式(II)の化合物対該ボラン試薬のモル比が3:1〜1:3であり；
(C) 前記キラル配位子が、(1R,2S)-アミノインダノール、又はその立体異性体であり；
(D) 前記式(II)の化合物対前記キラル配位子のモル比が3:1〜1:3であり；あるいは
(E) 前記溶媒が、酢酸エチル、ジエチルエーテル、テトラヒドロフラン、1,4-ジオキサン、アセトニトリル、ジクロロメタン、クロロホルム、N-メチルピロリジノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルスルホキシド、ギ酸、酢酸、メタノール、エタノール、イソプロパノール、2,2,2-トリフルオロエタノール、又はそれらの混合物であるか、又は該溶媒がテトラヒドロフランである、
請求項13記載の方法。
【請求項１５】
(A) R1及びR2が、置換もしくは非置換(C1-C6)アルコキシ、又はそれらのアイソトポログであり、又は
(B) R1が、OMe、又はそのアイソトポログであり、R2が、OEt、又はそのアイソトポログであり、かつR3が、Me、又はそのアイソトポログである、
請求項1〜14のいずれか一項記載の方法。