(57)【要約】      （修正有）【課題】優れた電気伝導度と、優れた耐久性を確保することができるタッチパネルの製造方法の提供。【解決手段】本発明によるタッチパネル１００は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の一面に微細パターンに形成された第１電極パターン１２０と、第１電極パターン１２０と一体に形成された第１配線１６０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の他面に微細パターンに形成された第２電極パターン１３０と、第２電極パターン１３０と一体に形成された第２配線１７０と、透明基板１１０の一面と第１電極パターン１２０との間、及び透明基板１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルター層１４０と、を含むものである。【選択図】図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板の一面に微細パターンに形成された第１電極パターンと、
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記透明基板の一面に前記第１電極パターンと一体に形成された第１配線と、
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記透明基板の他面に微細パターンに形成された第２電極パターンと、
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記透明基板の他面に前記第２電極パターンと一体に形成された第２配線と、
前記透明基板の一面と前記第１電極パターンとの間、及び前記透明基板の他面と前記第２電極パターンとの間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルター層と、
を含むことを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記透明基板に備えられた制御部をさらに含み、
前記第１配線と前記第２配線は、前記制御部に連結されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記制御部は、
前記透明基板の一面に備えられた第１制御部と、
前記透明基板の他面に備えられた第２制御部と、を含み、
前記第１配線は、前記第１制御部に連結され、
前記第２配線は、前記第２制御部に連結されることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記透明基板は、
前記第１電極パターンと前記第２電極パターンが形成されたベース部と、
前記ベース部から突出して形成された突出部と、を含み、
前記第１配線と前記第２配線は、前記突出部にまで延長して形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記光学フィルター層は、紫外線を遮断することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記光学フィルター層は、紫外線のうちＩ線、Ｈ線またはＧ線を遮断することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１４】
前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１６】
前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記第１配線の線幅または前記第２配線の線幅は、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記第１配線のピッチまたは前記第２配線のピッチは、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１９】
前記第１電極パターンと前記第１配線は、同一の銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含むように形成され、
前記第２電極パターンと前記第２配線は、同一の銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含むように形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２０】
（Ａ）透明基板の一面または両面に光を選択的に遮断する光学フィルター層を形成する段階と、
（Ｂ）前記透明基板の一面に前記光学フィルター層を形成した場合、前記光学フィルター層と前記透明基板の他面に銀塩乳剤層を形成し、前記透明基板の両面に前記光学フィルター層を形成した場合、前記光学フィルター層に銀塩乳剤層を形成する段階と、
（Ｃ）前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して前記透明基板を基準に、一面に銀を含む第１電極パターンと第１配線とを一体に形成し、他面に銀を含む第２電極パターンと第２配線とを一体に形成する段階と、
を含むことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項２１】
前記透明基板に制御部を備える段階をさらに含み、
前記第１配線と前記第２配線は、前記制御部に連結されることを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２２】
前記制御部は、
前記透明基板の一面に備えられた第１制御部と、
前記透明基板の他面に備えられた第２制御部と、を含み、
前記第１配線は前記第１制御部に連結され、
前記第２配線は前記第２制御部に連結されることを特徴とする請求項２１に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２３】
前記透明基板は、
前記第１電極パターンと前記第２電極パターンが形成されたベース部と、
前記ベース部から突出して形成された突出部と、を含み、
前記（Ｃ）段階で、
前記第１配線と前記第２配線は、前記突出部にまで延長して形成されることを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２４】
前記（Ｂ）段階で、
前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２６】
前記（Ａ）段階で、
前記光学フィルター層は、紫外線を遮断することを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記（Ａ）段階で、
前記光学フィルター層は、紫外線のうちＩ線、Ｈ線またはＧ線を遮断することを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２８】
前記（Ａ）段階で、
前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２９】
前記（Ａ）段階で、
前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする請求項２０に記載のタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスのような様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を用いてテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の機能を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報入力が可能な機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を超えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ；ＬＣＤ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、ＥＬ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）のような画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが映像表示装置を見ながら所望の情報を選択できるようにするために利用される機器である。
【０００６】
また、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁気方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、弾性表面波方式（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ；ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ）及びインフラレッド方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このように様々な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に用いられるが、現在最も広い分野で用いられるものは、抵抗膜方式タッチパネルと静電容量方式タッチパネルである。
【０００７】
このようなタッチパネルは、通常電極パターンをインジウム−スズ酸化物（ＩＴＯ；Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）で形成する。しかし、ＩＴＯの場合、電気伝導度が低いだけでなく、原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）が希土類金属で高価であり、今後、１０年内に枯渇が予想されるため需給が円滑でないという短所がある。さらに、ＩＴＯで形成した電極パターンは、脆性破壊が発生しやすいため耐久性に劣るという問題点が存在する。
【０００８】
このような理由により、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極パターンを形成しようとする研究が活発に進められている。しかし、金属を利用しながら電気伝導度と耐久性を全て満たして商業化するための電極パターンの形成方法は開発されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記のような問題点を解決するために導き出されたものであり、本発明の目的は、銀塩乳剤層を露光／現像して銀を含む電極パターンを形成することにより、ＩＴＯを代替すると共に、電気伝導度に優れたタッチパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルは、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板の一面に微細パターンに形成された第１電極パターンと、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記透明基板の一面に前記第１電極パターンと一体に形成された第１配線と、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記透明基板の他面に微細パターンに形成された第２電極パターンと、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記透明基板の他面に前記第２電極パターンと一体に形成された第２配線と、前記透明基板の一面と前記第１電極パターンとの間、及び前記透明基板の他面と前記第２電極パターンとの間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルター層と、を含んで構成される。
【００１２】
ここで、前記透明基板に備えられた制御部をさらに含み、前記第１配線と前記第２配線は、前記制御部に連結されることを特徴とする。
【００１３】
また、前記制御部は、前記透明基板の一面に備えられた第１制御部と、前記透明基板の他面に備えられた第２制御部と、を含み、前記第１配線は、前記第１制御部に連結され、前記第２配線は、前記第２制御部に連結されることを特徴とする。
【００１４】
また、前記透明基板は、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンが形成されたベース部と、前記ベース部から突出して形成された突出部と、を含み、前記第１配線と前記第２配線は、前記突出部にまで延長して形成されることを特徴とする。
【００１５】
また、前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする。
【００１６】
また、前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする。
【００１７】
また、前記光学フィルター層は、紫外線を遮断することを特徴とする。
【００１８】
また、前記光学フィルター層は、紫外線のうちＩ線、Ｈ線またはＧ線を遮断することを特徴とする。
【００１９】
また、前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする。
【００２０】
また、前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする。
【００２１】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする。
【００２２】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする。
【００２３】
また、前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする。
【００２４】
また、前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする。
【００２５】
また、前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする。
【００２６】
また、前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする。
【００２７】
また、前記第１配線の線幅または前記第２配線の線幅は、５０μｍ以下であることを特徴とする。
【００２８】
また、前記第１配線のピッチまたは前記第２配線のピッチは、５０μｍ以下であることを特徴とする。
【００２９】
また、前記第１電極パターンと前記第１配線は、同一の銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含むように形成され、前記第２電極パターンと前記第２配線は、同一の銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含むように形成されることを特徴とする。
【００３０】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法は、（Ａ）透明基板の一面または両面に光を選択的に遮断する光学フィルター層を形成する段階と、（Ｂ）前記透明基板の一面に前記光学フィルター層を形成した場合、前記光学フィルター層と前記透明基板の他面に銀塩乳剤層を形成し、前記透明基板の両面に前記光学フィルター層を形成した場合、前記光学フィルター層に銀塩乳剤層を形成する段階と、（Ｃ）前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して前記透明基板を基準に、一面に銀を含む第１電極パターンと第１配線とを一体に形成し、他面に銀を含む第２電極パターンと第２配線とを一体に形成する段階と、を含んで構成される。
【００３１】
ここで、前記透明基板に制御部を備える段階をさらに含み、前記第１配線と前記第２配線は、前記制御部に連結されることを特徴とする。
【００３２】
また、前記制御部は、前記透明基板の一面に備えられた第１制御部と、前記透明基板の他面に備えられた第２制御部と、を含み、前記第１配線は前記第１制御部に連結され、前記第２配線は前記第２制御部に連結されることを特徴とする。
【００３３】
また、前記透明基板は、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンが形成されたベース部と、前記ベース部から突出して形成された突出部と、を含み、前記（Ｃ）段階で、前記第１配線と前記第２配線は、前記突出部にまで延長して形成されることを特徴とする。
【００３４】
また、前記（Ｂ）段階で、前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする。
【００３５】
また、前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする。
【００３６】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルター層は、紫外線を遮断することを特徴とする。
【００３７】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルター層は、紫外線のうちＩ線、Ｈ線またはＧ線を遮断することを特徴とする。
【００３８】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする。
【００３９】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルター層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする。
【発明の効果】
【００４０】
本発明によると、銀塩乳剤層を露光／現像して銀を含む電極パターンを形成することにより、ＩＴＯを代替すると共に、優れた電気伝導度を具現することができるだけでなく、脆性破壊が発生しないため、優れた耐久性を確保することができるという長所がある。
【００４１】
また、本発明によると、光学フィルター層を使用することにより、透明基板の両面に形成された銀塩乳剤層に露光を行っても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層に影響を及ぼすことを防止することができる効果がある。
【００４２】
更に、本発明によると、第１電極パターンと第１配線とが一体に形成され、第２電極パターンと第２配線とを一体に形成することにより、製造工程を簡素化することができ、リードタイム（Ｌｅａｄ  Ｔｉｍｅ）を短縮することができる。
【図面の簡単な説明】
【００４３】
【図１Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図１Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図２Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの平面図である。
【図２Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの平面図である。
【図２Ｃ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの平面図である。
【図３Ａ】図１Ａに図示された第１、第２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｂ】図１Ａに図示された第１、第２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｃ】図１Ａに図示された第１、第２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｄ】図１Ａに図示された第１、第２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図４】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、第２電極パターンの平面図である。
【図５】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、第２電極パターンの平面図である。
【図６】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、第２電極パターンの平面図である。
【図７Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図７Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図８Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図８Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図９Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図９Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図１０Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図１１Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【図１１Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００４４】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００４５】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００４６】
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図であり、図２Ａ〜図２Ｃは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの平面図である。
【００４７】
図１Ａ〜図２Ｃに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の一面に微細パターンに形成された第１電極パターン１２０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の一面に第１電極パターン１２０と一体に形成された第１配線１６０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の他面に微細パターンに形成された第２電極パターン１３０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の他面に第２電極パターン１３０と一体に形成された第２配線１７０と、透明基板１１０の一面と第１電極パターン１２０との間、及び透明基板１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルター層１４０と、を含む構成を有する。
【００４８】
前記透明基板１１０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成される領域を提供する機能を有する。ここで、透明基板１１０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を支持できる支持力と、画像表示装置から提供される画像をユーザが認識できるように、透明性とを有しなければならない。上述の支持力と透明性を考慮して、透明基板１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。また、透明基板１１０は、必要に応じて可撓性（ｆｌｅｘｉｂｉｌｉｔｙ）を有してもよい。
【００４９】
一方、図２Ｃに図示されたように、透明基板１１０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成されるベース部１１５と、ベース部１１５から突出して形成された突出部１１７とを含むことができる。ここで、突出部１１７は、従来のフレキシブルプリント回路基板（ＦＰＣＢ；Ｆｌｅｘｉｂｌｅ  Ｐｒｉｎｔｅｄ  Ｃｉｒｃｕｉｔ  Ｂｏａｒｄ）を代替るための構成を有し、詳細な説明は後述する。一方、図面上の突出部１１７の形状は、四角形であるが、必ずしもこれに限定されるものではなく、別に備えられる制御部との連結を考慮して様々な形状に変形することができることは言うまでもない。
【００５０】
前記第１電極パターン１２０（図１Ａまたは図１Ｂ参照）と第２電極パターン１３０は、ユーザがタッチする際に信号を発生させて制御部でタッチ座標を認識できるようにする機能を有するものであり、第１電極パターン１２０は、透明基板１１０の一面に形成され、第２電極パターン１３０は、透明基板１１０の他面に形成される。ここで、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像してパターニングすることにより形成される（∴銀を含む）。
【００５１】
また、第１配線１６０と第２配線１７０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０から電気的信号を受信する機能を有するものであり、第１配線１６０は、第１電極パターン１２０と一体に透明基板１１０の一面に形成され、第２配線１７０は、第２電極パターン１３０と一体に透明基板１１０の他面に形成される。ここで、第１配線１６０と第２配線１７０は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像してパターニングすることにより形成される（∴銀を含む）。この際、第１配線１６０は、第１電極パターン１２０と一体に形成され、第２配線１７０は、第２電極パターン１３０と一体に形成される。このように、第１配線１６０を第１電極パターン１２０と一体に形成し、第２配線１７０を第２電極パターン１３０と一体に形成することにより、製造工程を簡素化することができ、リードタイム（Ｌｅａｄ  Ｔｉｍｅ）を短縮することができる。さらに、第１、第２配線１６０、１７０と第１、第２電極パターン１２０、１３０の接合工程を省略することができるため、第１、第２配線１６０、１７０と第１、第２電極パターン１２０、１３０との間の段差発生や接合不良の問題を予め防止することができるという効果がある。
【００５２】
更に、図２Ｂに図示されたように、透明基板１１０には、コントローラ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）の一種である制御部１９０が備えられてもよい。この際、第１配線１６０と第２配線１７０は、透明基板１１０に備えられた制御部１９０に直接連結される。このように、第１配線１６０と第２配線１７０が透明基板１１０に備えられた制御部１９０に直接連結されるため、従来のフレキシブルプリント回路基板を省略することができる。例えば、制御部１９０は、透明基板１１０の一面に備えられた第１制御部１９５と、透明基板１１０の他面に備えられた第２制御部１９７とを含むことができる。この際、第１配線１６０は、第１制御部１９５に連結され、第２配線１７０は、第２制御部１９７に連結される。
【００５３】
または、図２Ｃに図示されたように、透明基板１１０に第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成されたベース部１１５から突出された突出部１１７が形成されてもよい。この際、第１配線１６０と第２配線１７０は、突出部１１７にまで延長して形成される。このように、第１配線１６０と第２配線１７０が突出部１１７にまで延長して形成されることにより、第１配線１６０と第２配線１７０を別に備えられた制御部に直接連結することができ、それにより、従来のフレキシブルプリント回路基板を代替することができる。
【００５４】
一方、第１、第２電極パターン１２０、１３０と第１、第２配線１６０、１７０を形成する銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３（図８Ａまたは図８Ｂ参照）及びバインダー１５５を含む。ここで、前記銀塩１５３は、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＦ、ＡｇＩ）などの無機銀塩であるか酢酸銀などの有機銀塩であってもよい。また、前記バインダー１５５は、銀塩１５３を均一に分散させ、銀塩乳剤層１５０と光学フィルター層１４０との間または銀塩乳剤層１５０と透明基板１１０との間の接着力を強化させるものであり、ゼラチン、ポリビニールアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニールピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉などの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキシド、ポリビニールアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどであってもよい。このようなバインダー１５５は、官能基のイオン性に応じて中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
【００５５】
また、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３とバインダー１５５の他にも溶媒や染料などの添加剤をさらに含んでもよい。具体的に、溶媒は、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類など）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒であってもよい。
【００５６】
一方、第１電極パターン１２０の面抵抗や第２電極パターン１３０の面抵抗は、厚さを調節したり銀塩乳剤層１５０の銀含量を調節してタッチパネル１００に適するように１５０Ω／□以下であってもよい。より具体的に、第１、第２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であってもよい。ここで、第１、第２電極パターン１２０、１３０の面抵抗を０．１〜５０Ω／□に形成する理由は、第１、第２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が０．１Ω／□以下である場合、銀塩１５３の量が多すぎて透明性が低下する恐れがあるためであり、第１、第２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が５０Ω／□以上である場合、電気伝導度が低くて活用度が低下するためである。但し、第１、第２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、必ずしも前記数値に制限されるものではない。
【００５７】
また、図３Ａ〜図３Ｄは、図１Ａに図示された第１、第２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図であり、これを参照して第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の構成について具体的に説明する。図３Ａに図示されたように、第１、第２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、面抵抗が増加しすぎることを防止するために３μｍ以上であることが好ましく、ユーザに視覚的に識別されることを防止するために、７μｍ以下であることが好ましい。即ち、第１、第２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、３〜７μｍであることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００５８】
また、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、長方形（図３Ａ参照）、菱形（図３Ｂ参照）、円形（図３Ｃ参照）または楕円形（図３Ｄ参照）が繰り返されるメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造であってもよい。即ち、第１、第２電極パターン１２０、１３０は、両方とも格子状で交差するメッシュ構造であってもよい。
【００５９】
一方、図２Ａの拡大図に図示されたように、第１配線１６０と第２配線１７０の線幅Ｘ及びピッチＰ（隣接した配線間の間隔）は、それぞれ５０μｍ以下であってもよい。
【００６０】
また、図４〜図６は、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、第２電極パターンの平面図である。
【００６１】
図４〜図６に図示されたように、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ、図４参照）、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ、図５参照）またはダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ、図６参照）にパターニングされてもよい。
【００６２】
具体的に、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされてもよい（図４参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに垂直方向に形成されてもよい。また、必要に応じて、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０のうち何れか一つの幅は、相対的に広いバー型にパターニングされ、他のものは、幅が相対的に狭いバー型にパターニングされてもよい（通常、Ｂａｒ  ａｎｄ  Ｓｔｒｉｐ  Ｔｙｐｅに定義される構成）。
【００６３】
また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされてもよい（図５参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、一方向に平行な多数の三角形に形成される。また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに重畳しないように、第１電極パターン１２０は、２電極パターン１３０の間に挿入され、第２電極パターン１３０は、１電極パターン１２０に挿入される構成を有してもよい。
【００６４】
更に、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、ダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされてもよい（図６参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、検知部１３７ａ、１３７ｂと連結部１３９ａ、１３９ｂとで構成され、連結部１３９ａ、１３９ｂを介して第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに垂直方向に連結されてもよい。また、第１電極パターン１２０の検知部１３７ａと第２電極パターン１３０の検知部１３７ｂは、互いに重畳しないように配置してもよい。
【００６５】
但し、上述したように、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０をバー型、トゥース型またはダイヤモンド型にパターニングすることは例示に過ぎず、これに限定されるものではなく、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、当業界に公知された全てのパターンにパターニングされることができることは言うまでもない。
【００６６】
また、第１電極パターン１２０の厚さまたは第２電極パターン１３０の厚さは、特に限定されず、適した透過率を確保するために１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。
【００６７】
一方、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成され、銀塩乳剤層１５０を露光する際に近接式（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光器または接触式（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光器を利用することができ、これに関する詳細な説明は、製造方法で後述する。
【００６８】
前記光学フィルター層１４０（図１Ａまたは図１Ｂ参照）は、光を選択的に遮断（反射または吸収する）して、透明基板１１０の両面に形成された銀塩乳剤層１５０を露光しても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止する機能を有する。ここで、光学フィルター層１４０は、透明基板１１０の一面と第１電極パターン１２０との間、及び透明基板１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成される。即ち、光学フィルター層１４０は、透明基板１１０を中心に両面に形成されたり（図１Ａ参照）、一面に形成されるものである（図１Ｂ参照）。
【００６９】
具体的に、光学フィルター層１４０は、銀塩乳剤層１５０を露光する際に照射される光を選択的に遮断する。従って、露光の際に照射される光を考慮して光学フィルター層１４０が遮断する光を決定する。ここで、露光の際に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長であってもよく、露光の際に紫外線（波長が約１０〜３９７ｎｍ）が照射されると、光学フィルター層１４０は紫外線を選択的に遮断するように形成する。より具体的に、露光の際に紫外線のうちＩ線（波長が３６５ｎｍ）、Ｈ線（４０５ｎｍ）またはＧ線（４３６ｎｍ）が照射されると、光学フィルター層１４０は、Ｉ線、Ｈ線またはＧ線のみを選択的に遮断するように形成する。このように、光学フィルター層１４０が露光の際に照射される光を選択的に遮断することにより、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止することができる。さらに、光学フィルター層１４０は、露光の際に照射される光を除いたほとんどの光を通過させるため、実際透明性を有して、タッチパネル１００の視認性を低下させない。
【００７０】
一方、光学フィルター層１４０は、ＵＶ遮断用無機物やＵＶ遮断用有機物で形成してもよい。ここで、ＵＶ遮断用無機物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、二酸化チタン（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物であってもよく、ＵＶ遮断用有機物はベンゾフェノン（Ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）、ベンゾトリアゾール（Ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ）、サリチル酸（Ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）、アクリロニトリル（Ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、有機ニッケル化合物などであってもよい。但し、上述した物質は例示に過ぎず、本発明の権利範囲はこれに制限されるものではない。
【００７１】
一方、上述したように、透明基板１１０、第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０及び光学フィルター層１４０を含むタッチパネル１００は、画像表示装置で提供する画像をユーザが認識できるように、透過率が８５％以上であることが好ましい。また、タッチパネル１００の透過率を８５％以上に具現するために、第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０の開口率を調節してもよい。この際、第１電極パターン１２０または第２電極パターン１３０の開口率は、９５％以上であってもよい。
【００７２】
また、本発明によるタッチパネル１００は、透明基板１１０を基準に両面に第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成されるため、自己静電容量方式（Ｓｅｌｆ  Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）タッチパネルまたは相互静電容量方式（Ｍｕｔｕａｌ  Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）タッチパネルに活用することができる。
【００７３】
また、本発明によるタッチパネル１００は、第１電極パターン１２０と第１配線１６０が同一の銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含むように形成され、第２電極パターン１３０と前記第２配線１７０が同一の銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含むように形成される。結果、第１電極パターン１２０と第１配線１６０及び第２電極パターン１３０と第２配線１７０は、それぞれ同一の銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して同時に形成することができるため、製造工程を単純化することができる効果がある。
【００７４】
図７Ａ〜図１１Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に説明するための工程断面図である。
【００７５】
図７Ａ〜図１１Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、（Ａ）透明基板１１０の一面または両面に光を選択的に遮断する光学フィルター層１４０を形成する段階と、（Ｂ）透明基板１１０の一面に光学フィルター層１４０を形成した場合、光学フィルター層１４０と透明基板１１０の他面に銀塩乳剤層１５０を形成し、透明基板１１０の両面に光学フィルター層１４０を形成した場合、光学フィルター層１４０に銀塩乳剤層１５０を形成する段階と、（Ｃ）銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して透明基板１１０を基準に、一面に銀を含む第１電極パターン１２０と第１配線１６０とを一体に形成し、他面に銀を含む第２電極パターン１３０と第２配線１７０とを一体に形成する段階と、を含む構成である。
【００７６】
先ず、図７Ａまたは図７Ｂに図示されたように、透明基板１１０に光学フィルター層１４０を形成する段階である。ここで、光学フィルター層１４０は、後述する段階で銀塩乳剤層１５０を露光する際に光を選択的に遮断して互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止する機能を有する。従って、光学フィルター層１４０は、露光の際に使用される光を考慮して遮断する光を決定する。露光の際に照射される光は可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長であってもよく、露光の際に紫外線（波長が約１０〜３９７ｎｍ）が照射されると、光学フィルター層１４０は、紫外線を選択的に遮断するように形成する。より具体的に、露光の際に紫外線のうちＩ線（波長が３６５ｎｍ）、Ｈ線（４０５ｎｍ）またはＧ線（４３６ｎｍ）が照射されると、光学フィルター層１４０は、Ｉ線、Ｈ線またはＧ線のみを選択的に遮断するように形成する。
【００７７】
このように、光学フィルター層１４０で紫外線やＩ線、Ｈ線またはＧ線を遮断するために、光学フィルター層１４０は、ＵＶ遮断用無機物やＵＶ遮断用有機物で形成してもよい。具体的に、ＵＶ遮断用無機物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、二酸化チタン（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物であってもよく、ＵＶ遮断用有機物は、ベンゾフェノン（Ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）、ベンゾトリアゾール（Ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ）、サリチル酸（Ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）、アクリロニトリル（Ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、有機ニッケル化合物などであってもよい。一方、光学フィルター層１４０にＵＶ遮断用無機物を用いる場合、光学フィルター層１４０は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、蒸着（Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などにより形成してもよい。また、光学フィルター層１４０にＵＶ遮断用有機物を利用する場合、光学フィルター層１４０は、ダイキャスティング（Ｄｉｅ  Ｃａｓｔｉｎｇ）、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、オフセット印刷法（Ｏｆｆ−ｓｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、バーコティング（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）などにより形成してもよい。
【００７８】
一方、光学フィルター層１４０は、透明基板１１０の一面や他面のうち少なくとも一つにのみ形成しても銀塩乳剤層１５０を露光する際に光を遮断して互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止することができる。従って、図７Ａに図示されたように、光学フィルター層１４０は、必ずしも透明基板１１０の両面に形成しなければならないものではなく、図７Ｂに図示されたように、透明基板１１０の一面や他面のうち少なくとも一つにのみ形成してもよい。以下、図８Ａ、図９Ａ、図１０Ａ、及び図１１Ａは、透明基板１１０の両面に光学フィルター層１４０を形成した構成を基準に図示したものであり、図８Ｂ、図９Ｂ、図１０Ｂ、及び図１１Ｂは、透明基板１１０の一面に光学フィルター層１４０を形成した構成を基準に図示したものである。
【００７９】
次に、図８Ａまたは図８Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を形成する段階である。前記段階で透明基板１１０の両面に光学フィルター層１４０を形成した場合、透明基板１１０の両面に形成された光学フィルター層１４０に銀塩乳剤層１５０を形成し（図８Ａ参照）、透明基板１１０の一面に光学フィルター層１４０を形成した場合、光学フィルター層１４０と透明基板１１０の他面に銀塩乳剤層１５０を形成する（図８Ｂ参照）。ここで、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３及びバインダー１５５を含む。具体的に、前記銀塩１５３は、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＦ、ＡｇＩ）などの無機銀塩であるか酢酸銀などの有機銀塩であってもよい。また、前記バインダー１５５は、ゼラチン、ポリビニールアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニールピロリドン（ＰＶＰ）、澱粉などの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキシド、ポリビニールアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどであってもよい。なお、図面上の銀塩１５３は、本発明を容易に理解するために強調して図示したものであり、実際の大きさや濃度などを示すものではない。また、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３とバインダー１５５のほかにも溶媒や染料などの添加剤をさらに含んでもよい。
【００８０】
一方、銀塩乳剤層１５０は、ダイキャスティング（Ｄｉｅ  Ｃａｓｔｉｎｇ）、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、オフセット印刷法（Ｏｆｆ−ｓｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、バーコティング（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）を用いて形成してもよい。
【００８１】
また、銀塩乳剤層１５０を形成した後、熱風乾燥、ＩＲ乾燥または自然乾燥などにより銀塩乳剤層１５０を乾燥してもよい。
【００８２】
次に、図９Ａ〜図１１Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して、銀を含む第１電極パターン１２０と第１配線１６０とを一体に形成し、銀を含む第２電極パターン１３０と第２配線１７０とを一体に形成する段階である。即ち、透明基板１１０を基準に、一面に第１電極パターン１２０と第１配線１６０とを一体に形成し、他面に第２電極パターン１３０と第２配線１７０とを一体に形成するものである。
【００８３】
具体的に、図９Ａまたは図９Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光する段階である。前記段階で、透明基板１１０を基準に両面に銀塩乳剤層１５０を形成したため、本段階では、透明基板１１０を基準に両面で露光を行う。この際、露光は、透明基板１１０を基準に両面で同時に行うか、一面ずつ順に行ってもよい。一方、露光の際に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長であってもよく、通常紫外線を用いる。より具体的に、高圧水銀放電の際に相対強度（Ｒｅｌａｔｉｖｅ  Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）が大きいＩ線（３６５ｎｍ）、Ｈ線（４０５ｎｍ）またはＧ線（４３６ｎｍ）を用いて露光してもよく、このうち、精密な露光のために相対的に波長が短いＩ線を選択してもよい。
【００８４】
本段階で、透明基板１１０を基準に両面にマスク１８０を配置した後、銀塩乳剤層１５０に選択的に光を照射すると、光を照射した部分の銀塩乳剤層１５０では、銀塩１５３が光エネルギーにより感光され、いわゆる潜像と定義される微小な銀核が生成される。結果、露光により光を照射した部分にのみ選択的に銀核が生成される。このように、光を照射した部分は、最終的に第１電極パターン１２０、第１配線１６０、第２電極パターン１３０、第２配線１７０が形成される。従って、本段階では、具現しようとする第１電極パターン１２０、第１配線１６０、第２電極パターン１３０、第２配線１７０を考慮して選択的に露光しなければならない。
【００８５】
一方、上述したように、透明基板１１０を基準に両面で露光を行っても、光学フィルター層１４０が露光の際に照射される光を遮断するため（矢印参照）、銀塩乳剤層１５０は、透明基板１１０を基準に反対面で照射される光の影響を受けない。従って、最終的に形成しようとする第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の微細パターンが相違しても、露光の際に銀塩乳剤層１５０は、透明基板１１０を基準に反対面で行われる露光の影響を受けず、精密に第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を形成することができる。
【００８６】
また、銀塩乳剤層１５０を露光する場合、近接式（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光器または接触式（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光器を用いてもよく、近接式（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光器または接触式（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光器は、相対的にタクトタイム（Ｔａｃｔ  ｔｉｍｅ）が短いため、生産性を向上させることができるだけでなく、大量生産に適するという長所がある。
【００８７】
次に、図１０Ａまたは図１０Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を現像する段階である。本段階は、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給して金属銀１５７を還元させるものである。この際、銀塩１５３や現像液から提供される銀イオンは、現像液中の還元剤によって銀核を触媒として金属銀１５７に還元される。前記段階で、光を照射した部分にのみ選択的に銀核が生成されたため、本段階でも光を照射した部分にのみ選択的に金属銀１５７が還元される。
【００８８】
一方、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給する方法は、当業界に公知された全ての方法を用いてもよい。例えば、現像液に銀塩乳剤層１５０を浸漬したり、現像液を銀塩乳剤層１５０にスプレーで噴射したり、現像液を蒸気状で銀塩乳剤層１５０に接触させる方法などにより銀塩乳剤層１５０に現像液を供給してもよい。
【００８９】
更に、銀塩乳剤層１５０を現像した後、水で洗浄したり、高圧のエア（Ａｉｒ）を使用して現像液を除去してもよい。
【００９０】
次に、図１１Ａまたは図１１Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０に定着過程を施す段階である。ここで、定着過程は、銀塩乳剤層１５０に定着液を供給して銀に還元されていない銀塩１５３を除去することである。このように、銀に還元されていない銀塩１５３を除去すると、銀塩１５３が除去された部分には、ゼラチンなどのバインダー１５５のみが残存する。
【００９１】
結果、銀塩乳剤層１５０のうち露光／現象により、金属銀１５７に還元された部分が第１電極パターン１２０、第１配線１６０、第２電極パターン１３０及び第２配線１７０になり、定着過程により銀塩１５３が除去された部分は、バインダー１５５のみが残存して透明になる。
【００９２】
上述したように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像した後、定着過程により、第１電極パターン１２０と第１配線１６０とを一体に形成してもよく、第２電極パターン１３０と第２配線１７０とを一体に形成してもよい。
【００９３】
一方、図２Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、透明基板１１０にコントローラ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）の一種である制御部１９０を備える段階をさらに含んでもよい。この場合、第１配線１６０と第２配線１７０は、透明基板１１０に備えられた制御部１９０に直接連結される。このように、第１配線１６０と第２配線１７０が透明基板１１０に備えられた制御部１９０に直接連結されるため、従来のフレキシブルプリント回路基板を省略することができる。例えば、制御部１９０は、透明基板１１０の一面に備えられた第１制御部１９５と透明基板１１０の他面に備えられた第２制御部１９７とを含んでもよい。この際、第１配線１６０は、第１制御部１９５に連結され、第２配線１７０は、第２制御部１９７に連結される。
【００９４】
または、図２Ｃに図示されたように、透明基板１１０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成されるベース部１１５と、ベース部１１５から突出して形成された突出部１１７とを含んでもよい。この場合、第１配線１６０と第２配線１７０を突出部１１７にまで延長して形成することにより、第１配線１６０と第２配線１７０を別に備えられた制御部に直接連結することができ、それにより従来のフレキシブルプリント回路基板を代替することができる。
【００９５】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【００９６】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【００９７】
本発明は、ＩＴＯを代替すると共に、電気伝導度に優れたタッチパネル及びその製造方法に適用可能である。
【符号の説明】
【００９８】
１００  タッチパネル
１１０  透明基板
１１５  ベース部
１１７  突出部
１２０  第１電極パターン
１３０  第２電極パターン
１３７ａ、１３７ｂ  検知部
１３９ａ、１３９ｂ  連結部
１４０  光学フィルター層
１５０  銀塩乳剤層
１５３  銀塩
１５５  バインダー
１５７  金属銀
１６０  第１配線
１７０  第２配線
１８０  マスク
１９０  制御部
１９５  第１制御部
１９７  第２制御部
Ｗ  微細パターンの線幅
Ｘ  第１、２配線の線幅
Ｐ  第１、２配線のピッチ
【図１Ａ】
2013131199.tif 000003
【図１Ｂ】
2013131199.tif 000004
【図２Ａ】
2013131199.tif 000005
【図２Ｂ】
2013131199.tif 000006
【図２Ｃ】
2013131199.tif 000007
【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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