【手続補正書】
【提出日】平成28年3月10日(2016.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性組成物を多孔質支持体に塗布する工程および前記硬化性組成物を硬化させる工程を含む、膜を調製するためのプロセスであって、
前記硬化性組成物が、
ａ）硬化性イオン化合物、
ｂ）第一の架橋剤、
ｃ）第二の架橋剤、
ｄ）不活性溶剤、および
ｅ）所望により含んでいてもよいフリーラジカル開始剤
を含み、前記第二の架橋剤が８０℃未満の融点を有する、前記プロセス。
【請求項２】
前記第一の架橋剤が、少なくとも２つのアクリル基を含み、前記第二の架橋剤が、少なくとも２つのアクリル基を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記第一の架橋剤が、少なくとも２つのアクリルアミド基を含む、請求項１または請求項２に記載のプロセス。
【請求項４】
前記硬化性イオン化合物が、アクリルアミド基を含む、請求項１〜請求項３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記硬化性組成物が、２５重量％未満の成分ｄ）を含む、請求項１〜請求項４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記硬化性組成物中に存在する架橋剤の総量が、少なくとも１７重量％である、請求項１〜請求項５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記硬化性組成物が、ｆ）非硬化性塩をさらに含む、請求項１〜請求項６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記硬化性組成物が、
１）２０〜８０重量％の硬化性イオン化合物、
２）５〜６０重量％の架橋剤、および
３）５〜４５重量％の不活性溶剤
を含み、
前記硬化性組成物が少なくとも２つの架橋剤を含み、および８０℃未満の融点を有する架橋剤の含量が２から２５重量％である、
請求項１〜請求項７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記硬化性組成物が、紫外線を使用して硬化される、請求項１〜請求項８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
請求項１〜請求項９のいずれか一項に記載のプロセスによって得た膜。
【請求項１１】
１）２０〜８０重量％の硬化性イオン化合物、
２）５〜６０重量％の架橋剤、および
３）５〜４５重量％の不活性溶剤
を含む硬化性組成物であって、
少なくとも２つの架橋剤を含み、８０℃未満の融点を有する架橋剤の含量が２〜２５重量％である、硬化性組成物。
【請求項１２】
請求項１０に記載の膜を１つ以上含む、電気透析もしくは逆電気透析ユニット、電気脱イオンモジュール、連続電気脱イオンモジュール、通液型キャパシタ、燃料電池、拡散透析装置、膜蒸留モジュールまたは膜・電極接合体。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３１】
表５からわかるように、本発明による実施例１９は、比較例１０および１１より高い選択透過性および低い水透過性を有した。
以下に本発明の例示的態様を例挙する。
＜１＞硬化性組成物を多孔質支持体に塗布する工程および前記組成物を硬化させる工程を含む、膜を調製するためのプロセスであって、
前記組成物が、
ａ）硬化性イオン化合物、
ｂ）第一の架橋剤、
ｃ）第二の架橋剤、
ｄ）不活性溶剤、および
ｅ）所望により含んでいてもよいフリーラジカル開始剤
を含み、前記第二の架橋剤が８０℃未満の融点を有する、前記プロセス。
＜２＞前記第一の架橋剤が、少なくとも２つのアクリル基を含む、＜１＞に記載のプロセス。
＜３＞前記第一の架橋剤が、少なくとも２つのアクリルアミド基を含む、＜１＞または＜２＞に記載のプロセス。
＜４＞前記第二の架橋剤が、少なくとも２つのアクリル基を含む、＜１＞〜＜３＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜５＞前記第二の架橋剤が、少なくとも２つのアクリレート基を含む、＜１＞〜＜４＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜６＞前記硬化性イオン化合物が、アクリルアミド基を含む、＜１＞〜＜５＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜７＞前記硬化性イオン化合物が、第四級アンモニウム、スルホ、ホスファトおよびカルボキシから選択されるイオン基を含む、＜１＞〜＜６＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜８＞前記硬化性イオン化合物が、第四級アンモニウムおよびスルホ基から選択されるイオン基を含む、＜１＞〜＜７＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜９＞前記組成物が、２５重量％未満の成分ｄ）を含む、＜１＞〜＜８＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１０＞前記組成物中に存在する架橋剤の総量が、少なくとも１７重量％である、＜１＞〜＜９＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１１＞前記組成物が、ｆ）非硬化性塩をさらに含む、＜１＞〜＜１０＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１２＞前記非硬化性塩が、塩化リチウム、臭化リチウム、硝酸リチウム、ヨウ化リチウム、塩素酸リチウム、チオシアン酸リチウム、水酸化リチウム、チオシアン酸アンモニウム、塩化アンモニウム、ヨウ化アンモニウム、硝酸アンモニウム、塩化ナトリウム、臭化ナトリウム、硝酸ナトリウム、チオシアン酸ナトリウム、硝酸カルシウム、チオシアン酸カルシウム、臭化カルシウム、塩化マグネシウム、臭化マグネシウム、硝酸マグネシウム、チオシアン酸マグネシウム、チオシアン酸カリウム、塩素酸カリウム、および２つ以上のかかる塩を含む混合物から選択される、＜１１＞に記載のプロセス。
＜１３＞前記不活性溶剤が、３０重量％未満の不活性有機溶剤を含み、および一切の残存不活性溶剤が、水である、＜１＞〜＜１２＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１４＞前記組成物が、
１）２０から８０重量％の硬化性イオン化合物、
２）５から６０重量％（さらに好ましくは８から４５重量％）の架橋剤、および
３）５から４５重量％の不活性溶剤
を含み、
前記組成物が少なくとも２つの架橋剤を含み、および８０℃未満の融点を有する架橋剤の含量が２から２５重量％である、
＜１＞〜＜１３＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１５＞（ｉ）前記第一の架橋剤が、少なくとも２つのアクリルアミド基を含む、
（ｉｉ）前記第二の架橋剤が、少なくとも２つのアクリル基を含む、
（ｉｉｉ）前記組成物が、２５重量％未満の成分ｄ）を含む、
（ｉｖ）前記組成物中に存在する架橋剤の総量が、少なくとも１７重量％である、
（ｖ）所望により前記組成物が無機塩をさらに含んでいてもよく、および
（ｖｉ）所望により前記不活性溶剤が、３０重量％未満の不活性有機溶剤を含み、一切の残存不活性溶剤が水であってもよい、
＜１＞〜＜１４＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１６＞前記組成物が、紫外線を使用して硬化される、＜１＞〜＜１５＞のいずれか一項に記載のプロセス。
＜１７＞  ＜１＞〜＜１６＞のいずれか一項に記載のプロセスによって得ることができる膜。
＜１８＞
１）２０から８０重量％の硬化性イオン化合物、
２）５から６０重量％の架橋剤、および
３）５から４５重量％の不活性溶剤
を含む硬化性組成物であって、
少なくとも２つの架橋剤を含み、８０℃未満の融点を有する架橋剤の含量が２から２５重量％である、硬化性組成物。
＜１９＞
４）０．０１から１０重量％のフリーラジカル開始剤、および
５）０から５０重量％の非硬化性塩
をさらに含む、＜１８＞に記載の硬化性組成物。
＜２０＞不活性有機溶剤を含まない、＜１８＞または＜１９＞に記載の硬化性組成物。
＜２１＞前記第一の架橋剤が、少なくとも２つのアクリルアミド基を含み、および前記第二の架橋剤が、少なくとも２つのアクリレート基を含む、＜１８＞から＜２０＞のいずれか一項に記載の硬化性組成物。
＜２２＞  ＜１７＞に記載の１つ以上の膜を含む、電気透析もしくは逆電気透析ユニット、電気脱イオンモジュール、連続電気脱イオンモジュール、通液型キャパシタ、燃料電池、拡散透析装置、膜蒸留モジュールまたは膜・電極接合体。