【手続補正書】
【提出日】平成28年2月17日(2016.2.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１９０】
2015516389.tif 000001
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として、調製する方法であって；
式（Ｉ）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
ここで該方法は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１３）：
【化１９１】
2015516389.tif 000002
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、上で定義されたような式（Ｉ）の化合物を提供する工程を包含し、式（１３）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりである、
方法。
【請求項２】
前記式（１３）の化合物を標準的なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理する工程の前に、脱保護工程をさらに包含し、該脱保護工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２）：
【化１９６】
2015516389.tif 000003
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱保護条件下で処理して、上記のような式（１３）の化合物を提供する工程を包含し、式（１２）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
式（１２）の化合物を適切な脱保護条件下で処理する前に、再結晶工程をさらに包含し、該際結晶工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１）：
【化１９９】
2015516389.tif 000004
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な再結晶条件下で処理して、上記のような式（１２）の化合物を提供する工程を包含し、式（１１）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
式（１１）の化合物を適切な再結晶条件下で処理する前に、Ｃ−アルキル化工程をさらに包含し、該Ｃ−アルキル化工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（９）：
【化２０２】
2015516389.tif 000005
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１０）：
【化２０３】
2015516389.tif 000006
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（１１）の化合物を提供する工程を包含し、式（９）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
式（９）の化合物を式（１０）の化合物で処理する前に、脱ヒドロキシル工程をさらに包含し、該脱ヒドロキシル工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（８）：
【化２０６】
2015516389.tif 000007
化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、上記のような式（９）の化合物を提供する工程を包含し、式（８）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記式（８）の化合物を適切な脱ヒドロキシル条件下で処理する前に、保護工程をさらに包含し、該保護工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（６）：
【化２０９】
2015516389.tif 000008
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（７）：
【化２１０】
2015516389.tif 000009
の化合物で適切な保護条件下で処理して、上記のような式（８）の化合物を提供する工程を包含し、
式（６）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりであり、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
式（６）の化合物を式（７）の化合物で処理する前に、Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程をさらに包含し、該Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程は、以下の下位工程：
（ａ）式（４）：
【化２１３】
2015516389.tif 000010
の化合物を、式（５）：
【化２１４】
2015516389.tif 000011
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬で、適切な条件下で処理して、中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物を形成する下位工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（５）において、Ｘは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、そしてＲはアルキルである、下位工程、
（ｂ）式（３）：
【化２１５】
2015516389.tif 000012
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、上記下位工程ａ）において形成した該中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で、適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で処理して、上記のような式（６）の化合物を提供する下位工程であって、
式（３）において、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりである、下位工程
を包含する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
式（３）の化合物を前記中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で処理する前に、Ｎ−アルキル化工程をさらに包含し、該Ｎ−アルキル化工程は、式（１）：
【化２２０】
2015516389.tif 000013
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（２）：
【化２２１】
2015516389.tif 000014
の化合物で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（３）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりであり、
式（２）において、Ｘはハロであり、そしてＲ１は、式（Ｉ）の化合物について請求項１において上で定義されたとおりである、
請求項７に記載の方法。
【請求項９】
式（Ｉ）：
【化２２４】
2015516389.tif 000015
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として調製する方法であって、
式（Ｉ）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４および各Ｒ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
該方法は、以下の工程：
（ａ）式（１）：
【化２２５】
2015516389.tif 000016
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を式（２）：
【化２２６】
2015516389.tif 000017
の化合物で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、式（３）：
【化２２７】
2015516389.tif 000018
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１）において、ｐおよびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（２）において、Ｒ１は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＸはハロであり、
式（３）において、ｐ、Ｒ１およびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、工程；
（ｂ）式（３）の化合物を適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で、式（４）：
【化２２８】
2015516389.tif 000019
の化合物を式（５）：
【化２２９】
2015516389.tif 000020
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬で適切な条件下で処理することにより形成された中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（６）：
【化２３０】
2015516389.tif 000021
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を形成する工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（５）において、Ｒはアルキルであり、そしてＸは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、
式（６）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりである、工程；
（ｃ）式（６）の化合物を、式（７）：
【化２３１】
2015516389.tif 000022
の化合物で、適切な保護条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（８）：
【化２３２】
2015516389.tif 000023
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基であり、
式（８）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、工程；
（ｄ）式（８）の化合物を、適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（９）：
【化２３３】
2015516389.tif 000024
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（９）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、工程；
（ｅ）式（９）の化合物を、式（１０）：
【化２３４】
2015516389.tif 000025
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１）：
【化２３５】
2015516389.tif 000026
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１０）において、Ｐｇ２は酸素保護基であり、そしてＸはハロであり、
式（１１）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、工程；
（ｆ）式（１１）の化合物を適切な再結晶条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２）：
【化２３６】
2015516389.tif 000027
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１２）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、工程；
（ｇ）式（１２）の化合物を適切な脱保護条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１３）：
【化２３７】
2015516389.tif 000028
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１３）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりである、工程；
（ｈ）式（１３）の化合物を適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、上で定義されたような式（Ｉ）の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として提供する工程、
を包含する、方法。
【請求項１０】
エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１）：
【化２３８】
2015516389.tif 000029
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であって、式（１１）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は独立して、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個の置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は独立して−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は独立して、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖である、
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
【請求項１１】
単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２）または式（１３）：
【化２４１】
2015516389.tif 000030
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であって、式（１２）および式（１３）において：
各ｐおよびｒは独立して、１、２、３または４であり；
各Ｐｇ１およびＰｇ２は独立して、酸素保護基であり；
各Ｒ１は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいは各Ｒ１は独立して、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいは各Ｒ１は独立して、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個の置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいは各Ｒ１は独立して−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいは各Ｒ１は独立して、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖である、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
【請求項１２】
式（Ｉ）：
【化２４６】
2015516389.tif 000031
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として調製する方法であって；
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
ここで該方法は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２）：
【化２４７】
2015516389.tif 000032
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（２）：
【化２４８】
2015516389.tif 000033
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（Ｉ）の化合物を提供する工程を包含し、
式（２２）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（２）において、Ｘはハロであり、そしてＲ１は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、
方法。
【請求項１３】
前記式（２２）の化合物の前記式（２）の化合物での処理の前に、脱保護工程をさらに包含し、該脱保護工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２１）：
【化２５７】
2015516389.tif 000034
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な窒素脱保護条件下で処理して、上記のような式（２２）の化合物を提供する工程を包含し、
式（２１）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１２において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記式（２１）の化合物の脱保護の前に、分子内環化工程をさらに包含し、該分子内環化工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０）：
【化２６１】
2015516389.tif 000035
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、上記のような式（２１）の化合物を提供する工程を包含し、式（２０）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１２において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記式（２０）の化合物の標準的なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下での処理の前に、脱保護工程をさらに包含し、該脱保護工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９）：
【化２６５】
2015516389.tif 000036
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱保護条件下で処理して、上記のような式（２０）の化合物を提供する工程を包含し、式（１９）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１２において定義されたとおりであり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記式（１９）の脱保護の前に、Ｃ−アルキル化工程をさらに包含し、該工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８）：
【化２６９】
2015516389.tif 000037
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１０）：
【化２７０】
2015516389.tif 000038
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（１９）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１８）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１２において定義されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基であり、
式（１０）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ２は酸素保護基である、
請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記式（１８）の化合物の前記式（１０）の化合物での処理の前に、脱ヒドロキシル工程をさらに包含し、該脱ヒドロキシル工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７）：
【化２７４】
2015516389.tif 000039
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、上記のような式（１８）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１７）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１２において定義されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
式（１７）の化合物を適切な脱ヒドロキシル条件下で処理する前に、保護工程をさらに包含し、該保護工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６）：
【化２７８】
2015516389.tif 000040
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（７）：
【化２７９】
2015516389.tif 000041
の化合物で、適切な保護条件下で処理して、上記のような式（１７）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１６）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について請求項１２において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基であり、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、
請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
前記式（１６）の化合物を式（７）の化合物で処理する前に、Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程をさらに包含し、該Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程は、以下の下位工程：
（ａ）式（４）：
【化２８３】
2015516389.tif 000042
の化合物を式（５）：
【化２８４】
2015516389.tif 000043
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬で、適切な条件下処理して、中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物を形成する工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（５）において、Ｘは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、そしてＲはアルキルである、下位工程；
（ｂ）式（１５）：
【化２８５】
2015516389.tif 000044
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、上記下位工程ａ）において形成された該中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で、適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で処理して、上記のような式（１６）の化合物を提供する下位工程であって、
式（１５）において、ｐおよびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、下位工程
を包含する、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記式（１５）の化合物の前記Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物での処理の前に、保護工程をさらに包含し、該保護工程は、式（１）：
【化２９０】
2015516389.tif 000045
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１４）：
【化２９１】
2015516389.tif 000046
の化合物で、適切な窒素保護条件下で処理して、上記のような式（１５）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１）において、ｐおよびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（１４）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
式（Ｉ）：
【化２９３】
2015516389.tif 000047
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として調製する方法であって；
式（Ｉ）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
ここで該方法は、以下の工程：
（ａ）式（１）：
【化２９４】
2015516389.tif 000048
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１４）：
【化２９５】
2015516389.tif 000049
の化合物で、適切な窒素保護条件下で処理して、式（１５）：
【化２９６】
2015516389.tif 000050
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（１４）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ３は窒素保護基であり、
式（１５）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｂ）式（１５）の化合物を適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で、式（４）：
【化２９７】
2015516389.tif 000051
の化合物の、式（５）：
【化２９８】
2015516389.tif 000052
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬での、適切な条件下での処理から形成された中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６）：
【化２９９】
2015516389.tif 000053
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（５）において、Ｒはアルキルであり、そしてＸは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、
式（１６）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｃ）式（１６）の化合物を式（７）：：
【化３００】
2015516389.tif 000054
の化合物で、適切な保護条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７）：
【化３０１】
2015516389.tif 000055
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基であり、
式（１７）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｄ）式（１７）の化合物を適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８）：
【化３０２】
2015516389.tif 000056
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１８）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｅ）式（１８）の化合物を式（１０）：
【化３０３】
2015516389.tif 000057
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９）：
【化３０４】
2015516389.tif 000058
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１０）において、Ｐｇ２は酸素保護基であり、そしてＸはハロであり、
式（１９）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｆ）式（１９）の化合物を適切な脱保護条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０）：
【化３０５】
2015516389.tif 000059
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって；
式（２０）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｇ）式（２０）の化合物を適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２１）：
【化３０６】
2015516389.tif 000060
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（２１）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｈ）式（２１）の化合物を適切な窒素脱保護条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２）：
【化３０７】
2015516389.tif 000061
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（２２）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、工程；ならびに
（ｉ）式（２２）の化合物を、式（２）：
【化３０８】
2015516389.tif 000062
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉ）の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（２）において、Ｘはハロであり、そしてＲ１は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、工程
を包含する、方法。
【請求項２２】
単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９）の化合物、式（２０）の化合物、式（２１）の化合物または式（２２）の化合物：
【化３０９】
2015516389.tif 000063
またはその薬学的に受容可能な塩であって；
式（１９）、式（２０）、式（２１）および式（２２）において：
各ｐおよび各ｒは独立して、１、２、３または４であり；
各Ｐｇ１およびＰｇ２は独立して、酸素保護基であり；
各Ｐｇ３は窒素保護基であり；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４および各Ｒ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；そして
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖である、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８８】
本発明のこれらおよび他の局面は、以下により詳細に記載される。
本発明の実施形態において、例えば以下の項目が提供される。
（項目１）
式（Ｉ）：
【化１９０】
2015516389.tif 000064
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として、調製する方法であって；
式（Ｉ）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
ここで該方法は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１３）：
【化１９１】
2015516389.tif 000065
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、上で定義されたような式（Ｉ）の化合物を提供する工程を包含し、式（１３）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりである、
方法。
（項目２）
前記式（Ｉ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉａ）：
【化１９２】
2015516389.tif 000066
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（Ｉａ）において、ｑは、１または２であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記式（Ｉａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉａ１）：
【化１９３】
2015516389.tif 000067
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目２に記載の方法。
（項目４）
前記式（１３）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１３ａ）：
【化１９４】
2015516389.tif 000068
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１３ａ）において、ｑは、１または２であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記式（１３ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１３ａ１）：
【化１９５】
2015516389.tif 000069
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目４に記載の方法。
（項目６）
前記式（１３）の化合物を標準的なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理する工程の前に、脱保護工程をさらに包含し、該脱保護工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２）：
【化１９６】
2015516389.tif 000070
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱保護条件下で処理して、上記のような式（１３）の化合物を提供する工程を包含し、式（１２）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、項目１に記載の方法。
（項目７）
前記式（１２）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２ａ）：
【化１９７】
2015516389.tif 000071
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１２ａ）において、ｑは、１または２であり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、項目６に記載の方法。
（項目８）
前記式（Ｉ２ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２ａ１）：
【化１９８】
2015516389.tif 000072
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１２ａ１）において、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、項目７に記載の方法。
（項目９）
式（１２）の化合物を適切な脱保護条件下で処理する前に、再結晶工程をさらに包含し、該際結晶工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１）：
【化１９９】
2015516389.tif 000073
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な再結晶条件下で処理して、上記のような式（１２）の化合物を提供する工程を包含し、式（１１）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、項目６に記載の方法。
（項目１０）
前記式（１１）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１ａ）：
【化２００】
2015516389.tif 000074
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１１ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、項目９に記載の方法。
（項目１１）
前記式（１１ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１ａ１）：
【化２０１】
2015516389.tif 000075
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１１ａ１）において、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、項目１０に記載の方法。
（項目１２）
式（１１）の化合物を適切な再結晶条件下で処理する前に、Ｃ−アルキル化工程をさらに包含し、該Ｃ−アルキル化工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（９）：
【化２０２】
2015516389.tif 000076
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１０）：
【化２０３】
2015516389.tif 000077
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（１１）の化合物を提供する工程を包含し、式（９）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、項目９に記載の方法。
（項目１３）
前記式（９）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（９ａ）：
【化２０４】
2015516389.tif 000078
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（９ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、項目１２に記載の方法。
（項目１４）
前記式（９ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（９ａ１）：
【化２０５】
2015516389.tif 000079
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（９ａ１）において、Ｐｇ１は酸素保護基である、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
前記相間移動触媒が、キニジンの第四級アンモニウム塩またはシンコニンの第四級アンモニウム塩である、項目１２に記載の方法。
（項目１６）
式（９）の化合物を式（１０）の化合物で処理する前に、脱ヒドロキシル工程をさらに包含し、該脱ヒドロキシル工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（８）：
【化２０６】
2015516389.tif 000080
化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、上記のような式（９）の化合物を提供する工程を包含し、式（８）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、項目１２に記載の方法。
（項目１７）
前記式（８）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（８ａ）：
【化２０７】
2015516389.tif 000081
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（８ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、項目１６に記載の方法。
（項目１８）
前記式（８ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（８ａ１）：
【化２０８】
2015516389.tif 000082
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（８ａ１）において、Ｐｇ１は酸素保護基である、項目１７に記載の方法。
（項目１９）
前記式（８）の化合物を適切な脱ヒドロキシル条件下で処理する前に、保護工程をさらに包含し、該保護工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（６）：
【化２０９】
2015516389.tif 000083
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（７）：
【化２１０】
2015516389.tif 000084
の化合物で適切な保護条件下で処理して、上記のような式（８）の化合物を提供する工程を包含し、
式（６）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、
項目１６に記載の方法。
（項目２０）
前記式（６）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（６ａ）：
【化２１１】
2015516389.tif 000085
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（６ａ）において、ｑは、１または２であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、項目１９に記載の方法。
（項目２１）
前記式（６ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（６ａ１）：
【化２１２】
2015516389.tif 000086
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目２０に記載の方法。
（項目２２）
式（６）の化合物を式（７）の化合物で処理する前に、Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程をさらに包含し、該Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程は、以下の下位工程：
（ａ）式（４）：
【化２１３】
2015516389.tif 000087
の化合物を、式（５）：
【化２１４】
2015516389.tif 000088
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬で、適切な条件下で処理して、中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物を形成する下位工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（５）において、Ｘは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、そしてＲはアルキルである、下位工程、
（ｂ）式（３）：
【化２１５】
2015516389.tif 000089
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、上記下位工程ａ）において形成した該中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で、適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で処理して、上記のような式（６）の化合物を提供する下位工程であって、
式（３）において、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、下位工程
を包含する、項目１９に記載の方法。
（項目２３）
前記式（３）の化合物は、式（３ａ）：
【化２１６】
2015516389.tif 000090
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（３ａ）において、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、項目２２に記載の方法。
（項目２４）
前記式（３ａ）の化合物は、式（３ａ１）：
【化２１７】
2015516389.tif 000091
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目２３に記載の方法。
（項目２５）
前記式（４）の化合物は、式（４ａ）：
【化２１８】
2015516389.tif 000092
の化合物であり、式（４ａ）において、ｑは、１または２である、項目２２に記載の方法。
（項目２６）
前記式（４ａ）の化合物は、式（４ａ１）：
【化２１９】
2015516389.tif 000093
である、項目２５に記載の方法。
（項目２７）
式（３）の化合物を前記中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で処理する前に、Ｎ−アルキル化工程をさらに包含し、該Ｎ−アルキル化工程は、式（１）：
【化２２０】
2015516389.tif 000094
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（２）：
【化２２１】
2015516389.tif 000095
の化合物で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（３）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりであり、
式（２）において、Ｘはハロであり、そしてＲ１は、式（Ｉ）の化合物について項目１において上で定義されたとおりである、
項目２２に記載の方法。
（項目２８）
前記式（１）の化合物は、式（１ａ）：
【化２２２】
2015516389.tif 000096
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目２７に記載の方法。
（項目２９）
前記式（２）の化合物は、式（２ａ）：
【化２２３】
2015516389.tif 000097
の化合物であり、
式（２ａ）において、Ｘはハロである、項目２７に記載の方法。
（項目３０）
式（Ｉ）：
【化２２４】
2015516389.tif 000098
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として調製する方法であって、
式（Ｉ）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４および各Ｒ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
該方法は、以下の工程：
（ａ）式（１）：
【化２２５】
2015516389.tif 000099
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を式（２）：
【化２２６】
2015516389.tif 000100
の化合物で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、式（３）：
【化２２７】
2015516389.tif 000101
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１）において、ｐおよびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（２）において、Ｒ１は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＸはハロであり、
式（３）において、ｐ、Ｒ１およびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、工程；
（ｂ）式（３）の化合物を適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で、式（４）：
【化２２８】
2015516389.tif 000102
の化合物を式（５）：
【化２２９】
2015516389.tif 000103
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬で適切な条件下で処理することにより形成された中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（６）：
【化２３０】
2015516389.tif 000104
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を形成する工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（５）において、Ｒはアルキルであり、そしてＸは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、
式（６）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりである、工程；
（ｃ）式（６）の化合物を、式（７）：
【化２３１】
2015516389.tif 000105
の化合物で、適切な保護条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（８）：
【化２３２】
2015516389.tif 000106
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基であり、
式（８）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、工程；
（ｄ）式（８）の化合物を、適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（９）：
【化２３３】
2015516389.tif 000107
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（９）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、工程；
（ｅ）式（９）の化合物を、式（１０）：
【化２３４】
2015516389.tif 000108
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１）：
【化２３５】
2015516389.tif 000109
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１０）において、Ｐｇ２は酸素保護基であり、そしてＸはハロであり、
式（１１）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、工程；
（ｆ）式（１１）の化合物を適切な再結晶条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２）：
【化２３６】
2015516389.tif 000110
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１２）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、工程；
（ｇ）式（１２）の化合物を適切な脱保護条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１３）：
【化２３７】
2015516389.tif 000111
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１３）において、ｐ、ｒ、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりである、工程；
（ｈ）式（１３）の化合物を適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、上で定義されたような式（Ｉ）の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として提供する工程、
を包含する、方法。
（項目３１）
エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１１）：
【化２３８】
2015516389.tif 000112
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であって、式（１１）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は独立して、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個の置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は独立して−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は独立して、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖である、
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３２）
以下の式（１１ａ）：
【化２３９】
2015516389.tif 000113
を有し、式（１１ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、項目３０において上で定義されたとおりであり、そしてＰｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目３１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３３）
以下の式（１１ａ１）：
【化２４０】
2015516389.tif 000114
を有し、式（１１ａ１）において、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目３２に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３４）
単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１２）または式（１３）：
【化２４１】
2015516389.tif 000115
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であって、式（１２）および式（１３）において：
各ｐおよびｒは独立して、１、２、３または４であり；
各Ｐｇ１およびＰｇ２は独立して、酸素保護基であり；
各Ｒ１は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいは各Ｒ１は独立して、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいは各Ｒ１は独立して、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個の置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいは各Ｒ１は独立して−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいは各Ｒ１は独立して、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖である、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３５）
以下の式（１２ａ）：
【化２４２】
2015516389.tif 000116
を有し、式（１２ａ）において、ｑは、１または２であり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、項目３４において上で定義されたとおりである、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目３４に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３６）
以下の式（１２ａ１）：
【化２４３】
2015516389.tif 000117
を有し、式（１２ａ１）において、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基である、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目３５に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３７）
以下の式（１３ａ）：
【化２４４】
2015516389.tif 000118
を有し、式（１３ａ）において、ｑは、１または２であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、項目３４において上で定義されたとおりである、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目３４に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３８）
以下の式（１３ａ１）：
【化２４５】
2015516389.tif 000119
を有する、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目３７に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目３９）
式（Ｉ）：
【化２４６】
2015516389.tif 000120
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として調製する方法であって；
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
ここで該方法は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２）：
【化２４７】
2015516389.tif 000121
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（２）：
【化２４８】
2015516389.tif 000122
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（Ｉ）の化合物を提供する工程を包含し、
式（２２）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（２）において、Ｘはハロであり、そしてＲ１は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、
方法。
（項目４０）
前記式（Ｉ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉａ）：
【化２４９】
2015516389.tif 000123
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（Ｉａ）において、ｑは、１または２であり、そしてｐ、Ｒ１およびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりである、項目３９に記載の方法。
（項目４１）
前記式（Ｉａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉａ１）：
【化２５０】
2015516389.tif 000124
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目４０に記載の方法。
（項目４２）
前記式（Ｉａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉａ２）：
【化２５１】
2015516389.tif 000125
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目４０に記載の方法。
（項目４３）
前記式（２）の化合物は、式（２ａ）：
【化２５２】
2015516389.tif 000126
の化合物であり、式（２ａ）において、Ｘはハロである、項目３９に記載の方法。
（項目４４）
前記式（２）の化合物は、式（２ｂ）：
【化２５３】
2015516389.tif 000127
の化合物であり、式（２ｂ）において、Ｘはハロである、項目３９に記載の方法。
（項目４５）
前記式（２２）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２ａ）：
【化２５４】
2015516389.tif 000128
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２２ａ）において、ｑは、１または２であり、そしてｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりである、項目３９に記載の方法。
（項目４６）
前記式（２２ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２ａ１）：
【化２５５】
2015516389.tif 000129
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目４５に記載の方法。
（項目４７）
前記式（２２ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２ａ２）：
【化２５６】
2015516389.tif 000130
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩である、項目４５に記載の方法。
（項目４８）
前記式（２２）の化合物の前記式（２）の化合物での処理の前に、脱保護工程をさらに包含し、該脱保護工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２１）：
【化２５７】
2015516389.tif 000131
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な窒素脱保護条件下で処理して、上記のような式（２２）の化合物を提供する工程を包含し、
式（２１）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目３９に記載の方法。
（項目４９）
前記式（２１）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての式（２１ａ）：
【化２５８】
2015516389.tif 000132
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２１ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目４８に記載の方法。
（項目５０）
前記式（２１ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２１ａ１）：
【化２５９】
2015516389.tif 000133
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２１ａ１）において、Ｐｇ３は窒素保護基である、項目４９に記載の方法。
（項目５１）
前記式（２１ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２１ａ２）：
【化２６０】
2015516389.tif 000134
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２１ａ２）において、Ｐｇ３は窒素保護基である、項目４９に記載の方法。
（項目５２）
前記式（２１）の化合物の脱保護の前に、分子内環化工程をさらに包含し、該分子内環化工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０）：
【化２６１】
2015516389.tif 000135
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、上記のような式（２１）の化合物を提供する工程を包含し、式（２０）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
項目４８に記載の方法。
（項目５３）
前記式（２０）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０ａ）：
【化２６２】
2015516389.tif 000136
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２０ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目５２に記載の方法。
（項目５４）
前記式（２０ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０ａ１）：
【化２６３】
2015516389.tif 000137
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２０ａ１）において、Ｐｇ３は窒素保護基である、項目５３に記載の方法。
（項目５５）
前記式（２０ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０ａ２）：
【化２６４】
2015516389.tif 000138
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（２０ａ２）において、Ｐｇ３は窒素保護基である、項目５３に記載の方法。
（項目５６）
前記式（２０）の化合物の標準的なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下での処理の前に、脱保護工程をさらに包含し、該脱保護工程は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９）：
【化２６５】
2015516389.tif 000139
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱保護条件下で処理して、上記のような式（２０）の化合物を提供する工程を包含し、式（１９）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
項目５２に記載の方法。
（項目５７）
前記式（１９）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９ａ）：
【化２６６】
2015516389.tif 000140
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１９ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目５６に記載の方法。
（項目５８）
前記式（１９ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９ａ１）：
【化２６７】
2015516389.tif 000141
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１９ａ１）において、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目５７に記載の方法。
（項目５９）
前記式（１９ａ）の化合物は、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９ａ２）：
【化２６８】
2015516389.tif 000142
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１９ａ２）において、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目５７に記載の方法。
（項目６０）
前記式（１９）の脱保護の前に、Ｃ−アルキル化工程をさらに包含し、該工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８）：
【化２６９】
2015516389.tif 000143
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１０）：
【化２７０】
2015516389.tif 000144
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、上記のような式（１９）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１８）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基であり、
式（１０）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ２は酸素保護基である、
項目５６に記載の方法。
（項目６１）
前記式（１８）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８ａ）：
【化２７１】
2015516389.tif 000145
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１８ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６０に記載の方法。
（項目６２）
前記式（１８ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８ａ１）：
【化２７２】
2015516389.tif 000146
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１８ａ１）において、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６１に記載の方法。
（項目６３）
前記式（１８ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８ａ２）：
【化２７３】
2015516389.tif 000147
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１８ａ２）において、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６１に記載の方法。
（項目６４）
前記相間移動触媒は、キニジンの第四級アンモニウム塩またはシンコニンの第四級アンモニウム塩である、項目６０に記載の方法。
（項目６５）
前記式（１８）の化合物の前記式（１０）の化合物での処理の前に、脱ヒドロキシル工程をさらに包含し、該脱ヒドロキシル工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７）：
【化２７４】
2015516389.tif 000148
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、上記のような式（１８）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１７）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
項目６０に記載の方法。
（項目６６）
前記式（１７）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７ａ）：
【化２７５】
2015516389.tif 000149
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１７ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６５に記載の方法。
（項目６７）
前記式（１７ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７ａ１）：
【化２７６】
2015516389.tif 000150
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１７ａ１）において、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６６に記載の方法。
（項目６８）
前記式（１７ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７ａ２）：
【化２７７】
2015516389.tif 000151
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１７ａ２）においてＰｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６６に記載の方法。
（項目６９）
式（１７）の化合物を適切な脱ヒドロキシル条件下で処理する前に、保護工程をさらに包含し、該保護工程は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６）：
【化２７８】
2015516389.tif 000152
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（７）：
【化２７９】
2015516389.tif 000153
の化合物で、適切な保護条件下で処理して、上記のような式（１７）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１６）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基であり、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基である、
項目６５に記載の方法。
（項目７０）
前記式（１６）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６ａ）：
【化２８０】
2015516389.tif 000154
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１６ａ）において、ｑは、１または２であり、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目６９に記載の方法。
（項目７１）
前記式（１６ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６ａ１）：
【化２８１】
2015516389.tif 000155
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１６ａ１）において、Ｐｇ３は窒素保護基である、項目７０に記載の方法。
（項目７２）
前記式（１６ａ）の化合物は、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６ａ２）：
【化２８２】
2015516389.tif 000156
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１６ａ２）において、Ｐｇ３は窒素保護基である、項目７０に記載の方法。
（項目７３）
前記式（１６）の化合物を式（７）の化合物で処理する前に、Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程をさらに包含し、該Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加工程は、以下の下位工程：
（ａ）式（４）：
【化２８３】
2015516389.tif 000157
の化合物を式（５）：
【化２８４】
2015516389.tif 000158
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬で、適切な条件下処理して、中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物を形成する工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、
式（５）において、Ｘは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、そしてＲはアルキルである、下位工程；
（ｂ）式（１５）：
【化２８５】
2015516389.tif 000159
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、上記下位工程ａ）において形成された該中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で、適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で処理して、上記のような式（１６）の化合物を提供する下位工程であって、
式（１５）において、ｐおよびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、下位工程
を包含する、項目６９に記載の方法。
（項目７４）
前記式（１５）の化合物は、式（１５ａ）：
【化２８６】
2015516389.tif 000160
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１５ａ）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、項目７３に記載の方法。
（項目７５）
前記式（４）の化合物は、式（４ａ）：
【化２８７】
2015516389.tif 000161
の化合物であり、式（４ａ）において、ｑは、１または２である、項目７３に記載の方法。
（項目７６）
前記式（４ａ）の化合物は、式（４ａ１）：
【化２８８】
2015516389.tif 000162
の化合物である、項目７５に記載の方法。
（項目７７）
前記式（４ａ）の化合物は、式（４ａ２）：
【化２８９】
2015516389.tif 000163
の化合物である、項目７５に記載の方法。
（項目７８）
前記式（１５）の化合物の前記Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物での処理の前に、保護工程をさらに包含し、該保護工程は、式（１）：
【化２９０】
2015516389.tif 000164
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１４）：
【化２９１】
2015516389.tif 000165
の化合物で、適切な窒素保護条件下で処理して、上記のような式（１５）の化合物を提供する工程を包含し、
式（１）において、ｐおよびＲ２は、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（１４）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、
項目７３に記載の方法。
（項目７９）
前記式（１）の化合物は、式（１ａ）：
【化２９２】
2015516389.tif 000166
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩であり、式（１ａ）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について項目３９において定義されたとおりである、項目７８に記載の方法。
（項目８０）
式（Ｉ）：
【化２９３】
2015516389.tif 000167
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物として調製する方法であって；
式（Ｉ）において：
ｐおよびｒは各々独立して、１、２、３または４であり；
Ｒ１は、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アリール、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロシクリル、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）２−Ｒ５、−Ｒ９−Ｓ（Ｏ）ｍ−Ｒ５（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ９−Ｐ（Ｏ）（ＯＲ５）２、または−Ｒ９−Ｏ−Ｒ９−ＯＲ５であるか；
あるいはＲ１は、−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ６）Ｒ７によって置換されたアラルキルであり、ここで：
Ｒ６は、水素、アルキル、アリールもしくはアラルキルであり；そして
Ｒ７は、水素、アルキル、ハロアルキル、−Ｒ９−ＣＮ、−Ｒ９−ＯＲ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールもしくはヘテロアリールアルキルであるか；
またはＲ６およびＲ７は、これらが結合している窒素と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルもしくはＮ−ヘテロアリールを形成し；
そしてここで、Ｒ６およびＲ７についての各アリール基、アラルキル基、シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基は、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、アラルキルであり、該アラルキルは、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、ハロ、ハロアルキル、アルキル、ニトロ、シアノ、アリール、アラルキル、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されているか；
あるいはＲ１は、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１２）Ｃ（Ｏ）Ｒ１１または−Ｒ９−Ｎ（Ｒ１０）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ１０）Ｒ１１であり、ここで：
各Ｒ１０は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたはヘテロアリールであり；
各Ｒ１１は、水素、アルキル、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ９−ＯＣ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ９−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ９−ＯＲ５、または−Ｒ９−ＣＮであり；そして
Ｒ１２は、水素、アルキル、アリール、アラルキルまたは−Ｃ（Ｏ）Ｒ５であり；
そしてここで、Ｒ１０およびＲ１１についての各アリール、アラルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールおよびヘテロアリールアルキルは、アルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ハロ、ハロアルキル、ニトロ、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ５、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールからなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得るか；
あるいはＲ１は、ヘテロシクリルアルキルまたはヘテロアリールアルキルであり、ここで該ヘテロシクリルアルキル基または該ヘテロアリールアルキル基は、オキソ、アルキル、ハロ、ハロアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４（ここでｍは０、１もしくは２である）、−Ｒ８−ＣＮ、または−Ｒ８−ＮＯ２からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換されており；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４およびＲ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；そして
各Ｒ９は、直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖であり；
ここで該方法は、以下の工程：
（ａ）式（１）：
【化２９４】
2015516389.tif 000168
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を、式（１４）：
【化２９５】
2015516389.tif 000169
の化合物で、適切な窒素保護条件下で処理して、式（１５）：
【化２９６】
2015516389.tif 000170
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（１４）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ３は窒素保護基であり、
式（１５）において、ｐおよびＲ２はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｂ）式（１５）の化合物を適切なＧｒｉｇｎａｒｄ反応条件下で、式（４）：
【化２９７】
2015516389.tif 000171
の化合物の、式（５）：
【化２９８】
2015516389.tif 000172
のＧｒｉｇｎａｒｄ試薬での、適切な条件下での処理から形成された中間Ｇｒｉｇｎａｒｄ付加生成物で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１６）：
【化２９９】
2015516389.tif 000173
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（４）において、ｒおよびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上で定義されたとおりであり、
式（５）において、Ｒはアルキルであり、そしてＸは、ヨード、ブロモまたはクロロであり、
式（１６）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｃ）式（１６）の化合物を式（７）：：
【化３００】
2015516389.tif 000174
の化合物で、適切な保護条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１７）：
【化３０１】
2015516389.tif 000175
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（７）において、Ｘはハロであり、そしてＰｇ１は酸素保護基であり、
式（１７）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｄ）式（１７）の化合物を適切な脱ヒドロキシル条件下で処理して、エナンチオマーのラセミ混合物として、またはエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１８）：
【化３０２】
2015516389.tif 000176
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１８）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、Ｐｇ１は酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｅ）式（１８）の化合物を式（１０）：
【化３０３】
2015516389.tif 000177
の化合物で、相間移動触媒の存在を含む適切なＣ−アルキル化条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９）：
【化３０４】
2015516389.tif 000178
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（１０）において、Ｐｇ２は酸素保護基であり、そしてＸはハロであり、
式（１９）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、Ｐｇ１およびＰｇ２は各々独立して、酸素保護基であり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｆ）式（１９）の化合物を適切な脱保護条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２０）：
【化３０５】
2015516389.tif 000179
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって；
式（２０）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｇ）式（２０）の化合物を適切なＭｉｔｓｕｎｏｂｕ反応条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２１）：
【化３０６】
2015516389.tif 000180
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（２１）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりであり、そしてＰｇ３は窒素保護基である、工程；
（ｈ）式（２１）の化合物を適切な窒素脱保護条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（２２）：
【化３０７】
2015516389.tif 000181
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（２２）において、ｐ、ｒ、Ｒ２およびＲ３はそれぞれ、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、工程；ならびに
（ｉ）式（２２）の化合物を、式（２）：
【化３０８】
2015516389.tif 000182
の化合物またはその薬学的に受容可能な塩で、適切なＮ−アルキル化条件下で処理して、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（Ｉ）の化合物またはその薬学的に受容可能な塩を提供する工程であって、
式（２）において、Ｘはハロであり、そしてＲ１は、式（Ｉ）の化合物について上に記載されたとおりである、工程
を包含する、方法。
（項目８１）
単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、式（１９）の化合物、式（２０）の化合物、式（２１）の化合物または式（２２）の化合物：
【化３０９】
2015516389.tif 000183
またはその薬学的に受容可能な塩であって；
式（１９）、式（２０）、式（２１）および式（２２）において：
各ｐおよび各ｒは独立して、１、２、３または４であり；
各Ｐｇ１およびＰｇ２は独立して、酸素保護基であり；
各Ｐｇ３は窒素保護基であり；
各Ｒ２は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝Ｎ−ＣＮ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であり；
そしてここで、Ｒ２についての該シクロアルキル基、シクロアルキルアルキル基、アリール基、アラルキル基、アラルケニル基、ヘテロシクリル基、ヘテロシクリルアルキル基、ヘテロアリール基およびヘテロアリールアルキル基の各々は、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、および−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４からなる群より選択される１個または１個より多くの置換基によって必要に応じて置換され得、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ２は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、アリール、ヘテロシクリルおよびヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ２は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ３は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、アルコキシ、ハロ、ハロアルキル、ハロアルケニル、ハロアルコキシ、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、アラルケニル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、−Ｒ８−ＣＮ、−Ｒ８−ＮＯ２、−Ｒ８−ＯＲ５、−Ｒ８−Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｓ（Ｏ）ｍＲ４、−ＯＳ（Ｏ）２ＣＦ３、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｃ（Ｒ４）２Ｃ（Ｏ）Ｒ５、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｒ８−Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｒ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）ＯＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｏ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｓ）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＲ４、−Ｎ（Ｒ５）Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｒ８−Ｓ（Ｏ）ｎＮ（Ｒ４）Ｒ５、−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（＝ＮＲ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５、および−Ｎ（Ｒ５）Ｃ（Ｎ＝Ｃ（Ｒ４）Ｒ５）Ｎ（Ｒ４）Ｒ５からなる群より選択され、ここで各ｍは独立して、０、１、または２であり、そして各ｎは独立して、１または２であるか；
あるいは任意の２個の隣接するＲ３は、これらが直接結合している隣接する炭素環原子と一緒になって、シクロアルキル、ヘテロシクリル、アリールまたはヘテロアリールから選択される縮合環を形成し得、そして他のＲ３は、存在する場合、上で定義されるとおりであり；
各Ｒ４および各Ｒ５は独立して、水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、ハロアルキル、アルコキシアルキル、シクロアルキル、シクロアルキルアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロシクリル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリール、およびヘテロアリールアルキルからなる群より選択されるか；
あるいはＲ４およびＲ５の各々が同じ窒素原子に結合している場合、Ｒ４およびＲ５は、これらが結合している窒素原子と一緒になって、Ｎ−ヘテロシクリルまたはＮ−ヘテロアリールを形成し得；そして
各Ｒ８は、直接結合、あるいは直鎖もしくは分枝鎖のアルキレン鎖、直鎖もしくは分枝鎖のアルケニレン鎖、または直鎖もしくは分枝鎖のアルキニレン鎖である、
化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目８２）
式（１９ａ）、式（２０ａ）、式（２１ａ）または式（２２ａ）：
【化３１０】
2015516389.tif 000184
を有し、式（１９ａ）、式（２０ａ）、式（２１ａ）および式（２２ａ）において、各ｑは独立して、１または２であり、各Ｐｇ１および各Ｐｇ２は独立して、酸素保護基であり、各Ｐｇ３は窒素保護基であり、そして各ｐ、各Ｒ２および各Ｒ３は、項目８０において上で定義されたとおりである、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目８１に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目８３）
式（１９ａ１）または式（１９ａ２）：
【化３１１】
2015516389.tif 000185
を有し、式（１９ａ１）および式（１９ａ２）において、各Ｐｇ１および各Ｐｇ２は独立して、酸素保護基であり、そして各Ｐｇ３は窒素保護基であり、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目８２に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目８４）
式（２０ａ１）または式（２０ａ２）：
【化３１２】
2015516389.tif 000186
を有し、式（２０ａ１）および式（２０ａ２）において、各Ｐｇ３は独立して、窒素保護基である、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目８２に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目８５）
式（２１ａ１）または式（２１ａ２）：
【化３１３】
2015516389.tif 000187
を有し、式（２１ａ１）および式（２１ａ２）において、各Ｐｇ３は独立して、窒素保護基である、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目８２に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。
（項目８６）
式（２２ａ１）または式（２２ａ２）：
【化３１４】
2015516389.tif 000188
を有する、単離された（Ｓ）−エナンチオマーとして、または８０％より高い（Ｓ）−エナンチオマーのエナンチオマー過剰率を有するエナンチオマーの非ラセミ混合物としての、項目８２に記載の化合物またはその薬学的に受容可能な塩。