【手続補正書】
【提出日】平成28年3月17日(2016.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
装置であって、
物品の表面上に光子を放射するように構成される２個の光子エミッタと、
前記物品の前記表面における特徴から散乱した光子を検出する間、振動を最小限にするように構成されるフラッシュランプと、
前記物品の前記表面における特徴から散乱した光子を受け取るように構成される複数の光子検出器を含む光子検出器アレイと、
前記物品の前記表面における前記特徴をマッピングするためのマッピング手段とを含み、
前記マッピング手段は、前記２個の光子エミッタにそれぞれ対応する、前記物品の前記表面における前記特徴の２つのマップを提供し、
前記装置は、前記特徴の光子散乱強度分布に基づいて、前記物品の前記表面の前記特徴を特徴決定するための特徴決定手段をさらに含む、装置。
【請求項２】
前記２個の光子エミッタは前記装置の同じ側に位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記２個の光子エミッタは、異なる角度で前記物品の前記表面上に光子を放射するように位置決めされる、請求項１に記載の装置。
【請求項４】
前記２個の光子エミッタのうち第１の光子エミッタは、３０°以上の照射角で前記物品の前記表面上に光子を放射するように位置決めされ、前記２個の光子エミッタのうち第２の光子エミッタは、３０°未満の照射角で前記物品の前記表面上に光子を放射するように位置決めされる、請求項３に記載の装置。
【請求項５】
前記マッピング手段は、前記光子検出器アレイから受け取った信号から前記物品の前記表面における特徴をマッピングするための１つ以上のコンピュータまたは同等なデバイスを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項６】
前記特徴決定手段は、前記２つのマップのうち第１のマップを前記２つのマップのうち第２のマップと対比させるように構成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項７】
前記２個の光子エミッタは、第１の組の光子と第２の組の光子とを放射するように構成され、前記特徴決定手段は、前記物品の前記表面における特徴から散乱した前記第１の組の光子に対応する前記光子検出器アレイからの信号を、前記物品の前記表面における特徴から散乱した前記第２の組の光子に対応する前記光子検出器アレイからの信号と対比させるように構成される、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項８】
前記光子検出器アレイに結合されるテレセントリックレンズと、１つ以上の追加的な光子エミッタとをさらに含み、前記マッピング手段は、前記１つ以上の追加的な光子エミッタにそれぞれ対応する前記物品の前記表面における前記特徴の１つ以上の追加的なマップを提供する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の装置。
【請求項９】
装置であって、
物品の表面における特徴から散乱した光子を受け取るように構成される光子検出器アレイと、
前記特徴の光子散乱強度分布に基づいて、前記物品の前記表面における前記特徴を特徴決定するための特徴決定手段とを含み、
前記特徴決定手段は、前記物品の前記表面における特徴から散乱した２組の光子に対応する光子検出器アレイからの信号を対比させるように構成され、
前記２組の光子は、異なる場所にある光子エミッタからそれぞれ生じ、
前記光子エミッタは、前記物品の前記表面における特徴から散乱した光子を検出する間、振動を最小限にするように構成されるフラッシュランプを含む、装置。
【請求項１０】
テレセントリックレンズをさらに含み、前記テレセントリックレンズは前記光子検出器アレイに結合される、請求項９に記載の装置。
【請求項１１】
前記光子エミッタのうち第１の光子エミッタは、前記２組の光子のうち第１の組の光子を放射するように構成され、前記光子エミッタのうち第２の光子エミッタは、前記２組の光子のうち第２の組の光子を放射するように構成される、請求項９に記載の装置。
【請求項１２】
前記第１の光子エミッタは、３０°以上の照射角で前記物品の前記表面上に光子を放射するように位置決めされる、請求項１１に記載の装置。
【請求項１３】
前記第２の光子エミッタは、３０°未満の照射角で前記物品の前記表面上に光子を放射するように位置決めされる、請求項１１に記載の装置。
【請求項１４】
前記特徴決定手段は、タイプおよびサイズに関して物品の表面特徴を特徴決定するための１つ以上のコンピュータまたは同等なデバイスを含む、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【請求項１５】
前記装置は、前記物品の前記表面における前記特徴をマッピングするためのマッピング手段をさらに含み、前記マッピング手段は、前記光子エミッタにそれぞれ対応する、前記物品の前記表面における前記特徴のマップを提供する、請求項９〜１３のいずれか１項に記載の装置。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
装置は、随意に装置の同じ側に配置された一対の光子エミッタ（たとえば図１Ａおよび図１Ｂの光子エミッタ１１０Ａおよび１１０Ｂ参照）を含み得る。各光子エミッタは、異なる距離および／または異なる角度で異なる時間に（たとえば連続した撮像のために連続的に）物品の表面上に光子を放射し得る。このような装置における一対の光子エミッタは、第１の光子エミッタ（たとえば図１Ａおよび図１Ｂの光子エミッタ１１０Ａ）が物品の表面に関して比較的高い角度で位置決めされ得、第２の光子エミッタ（たとえば図１Ａおよび図１Ｂの光子エミッタ１１０Ｂ）が物品の表面に関して比較的低い角度で位置決めされ得るように構成され得る。いくつかの実施形態では、たとえば、第１の光子エミッタは、３０°、３５°、４０°、４５°、５０°、５５°、６０°、６５°、７０°、７５°、８０°、または８５°の比較的高い角度で位置決めされ得、当該角度は視射角である。いくつかの実施形態では、たとえば、第１の光子エミッタは、９０°、８５°、８０°、７５°、７０°、６５°、６０°、５５°、５０°、４５°、４０°、または３５°以下の比較的高い角度で位置決めされ得、当該角度は視射角である。第１の光子エミッタが物品の表面に関して配置され得る比較的高い角度を説明するために上記の組合せを使用してもよい。いくつかの実施形態では、たとえば、第１の光子エミッタは、３０°以上および９０°以下（すなわち３０°と９０°との間）、たとえば３０°以上５０°以下（すなわち３０°と５０°との間）および３０°以上４０°以下（すなわち３０°と４０°との間）を含む３０°以上および６０°以下（すなわち３０°と６０°との間）の比較的高い角度で配置され得、当該角度は視射角である。いくつかの実施形態では、たとえば、第２の光子エミッタは、０°、５°、１０°、１５°、２０°または２５°以上の比較的低い角度で位置決めされ得、当該角度は視射角である。いくつかの実施形態では、たとえば、第２の光子エミッタは、３０°、２５°、２０°、１５°、１０°または５°以下の比較的低い角度で位置決めされ得、当該角度は視射角である。第２の光子エミッタが物品の表面に関して配置され得る比較的低い角度を説明するために上記の組合せを使用してもよい。いくつかの実施形態では、たとえば、０°以上および３０°以下（すなわち０°と３０°との間）、たとえば０°以上２０°以下（すなわち０°と２０°との間）、０°以上１０°以下（すなわち０°と１０°との間）、および３°以上７°以下（すなわち３°と７°との間）を含む０°以上２５°以下（すなわち０°と２５°との間）の比較的低い角度で配置され得、当該角度は視射角である。一対の光子エミッタの第１の光子エミッタを物品の表面に関して比較的高い角度で、一対の光子エミッタの第２の光子エミッタを物品の表面に関して比較的低い角度で配置することにより、本願明細書に記載されるように物品における表面特徴からの光子の差分散乱が可能となり、図１Ａおよび図１Ｂの差分表面特徴マップ１６０Ａおよび１６０Ｂといった本願明細書に記載される差分マップを生成することが可能となる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３８】
物品の表面特徴の質的特徴決定に関して、質的特徴決定は、物品上の表面特徴のタイプ（たとえば粒子、ステイン、スクラッチ、ボイドなど）の決定を含み、該決定は、光子散乱強度分布の分析によって行われ得るがこれに限定はされない。本願明細書に記載されるように、装置は一対の光子エミッタ（たとえば広域スペクトル、偏光していない光、偏光した単色の光などを放射するように構成された一対の光子エミッタ）を含み得、第１の光子エミッタは、物品の表面に関して比較的高い角度で位置決めされ得、第２の光子エミッタは、物品の表面に関して比較的低い角度で位置決めされ得る。表面特徴のタイプに依存して、第１の光子エミッタの下に生成される表面特徴についての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタの下に生成される表面特徴についての光子散乱強度分布は、ほぼ同じであってもよいし、異なっていてもよい。たとえば図７の物品１５０の表面１５２上の粒子タイプの特徴１５４Ａに関しては、第１の光子エミッタ（比較的高い角度）の下に生成される粒子についての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタ（比較的低い角度）の下に生成される粒子についての光子散乱強度分布は、ほぼ同じであってもよいし、第１の光子エミッタの下に生成される粒子についての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタの下に生成される粒子についての光子散乱強度分布の比率について約１であってもよい。たとえば図７のボイドタイプの特徴１５４Ｂに関しては、第１の光子エミッタ（比較的高い角度）の下に生成されるボイドについての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタ（比較的低い角度）の下に生成されるボイドについての光子散乱強度分布は、第２の光子エミッタの下に生成されるボイドについての光子散乱強度分布（たとえば図８Ｂのボイドタイプの特徴１５４Ｂの近接画像を参照）が第１の光子エミッタの下に生成されるボイドについての光子散乱強度分布（たとえば図８Ｂの同じボイドタイプの特徴１５４Ｂの近接画像を参照）と比較してごく小さいかまたは無視でき得る程度に異なっていてもよい。そのため、第１の光子エミッタ（比較的高い角度）の下に生成されるボイドについての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタの下に生成されるボイドについての光子散乱強度分布の比率は、非常に大きいかまたは数学的に不定であってもよい。別の例では、図７の特徴１５４Ｃは、リムを有するボイドまたは粒子にごく近接したボイドと考えられ得、第１の光子エミッタ（比較的高い角度）の下に生成される特徴１５４Ｃについての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタ（比較的低い角度）の下に生成される特徴１５４Ｃについての光子散乱強度分布の比率は、第１の光子エミッタの下の特徴１５４Ｃについて生成される光子散乱強度分布が、粒子について生成される光子散乱強度分布と同様であってもよく、第２の光子エミッタの下の特徴１５４Ｃについて生成される光子散乱強度分布が、ボイドの光子散乱強度分布より大きいが粒子の光子散乱強度分布未満であり得るという点で若干異なっていてもよい。そのため、第１の光子エミッタ（比較的高い角度）の下に生成される特徴１５４Ｃについての光子散乱強度分布および第２の光子エミッタの下に生成される特徴１５４Ｃについての光子散乱強度分布の比率は、１より大きいか、またはそうでなければ上記の粒子およびボイドの比率の間であり得る。比較的高い角度の光子エミッタおよび比較的低い角度の光子エミッタの下に生成される上記の光子散乱強度分布は、図１Ａおよび図１Ｂの差分表面特徴１６０Ａおよび１６０Ｂといった、本願明細書に記載される差分マップを生成するために、情報、情報の一部を提供し得るか、または他の方法で組込まれ得る。そのため、いくつかの実施形態において、物品の１つ以上の表面特徴の質的特徴決定は、第１の光子エミッタ（比較的高い角度）の下に生成される第１のマップを生成するのに用いられる情報を、第２の光子エミッタ（比較的低い角度）の下に生成される第２のマップを生成するのに用いられる情報と対比させること、または第１の光子エミッタの下に生成される第１のマップを、第２の光子エミッタの下に生成される第２のマップと対比させることを含み得る。量的特徴決定とともに、このような質的特徴決定情報は、複数の物品に亘って分類整理され得、このような特徴が物品の性能を低下させ得る表面および／または表面下の欠陥を含む場合は、製造傾向を修正するために使用され得る。