(57)【要約】【課題】基板の搬送に関する設備のコストを低減することができるとともに、単位時間当たりの処理数、処理面積を向上させることができるイオン注入装置を提供する。【解決手段】イオン注入室１が、帯状のイオンビームが照射されるイオンビーム照射部１２と、前記イオンビームの短辺方向に対して前記基板トレイの短手方向が横切るように当該基板トレイＴを搬送する第１搬送機構Ｈ１と、を具備し、前記ロードロック室２内に設けられており、複数の基板トレイＴを保持可能であるとともに、前記基板トレイＴを長手方向に移動させて前記第１搬送機構Ｈ１上へと搬送する第２搬送機構Ｈ２を備えた。【選択図】図1
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
複数の基板を保持する基板トレイが搬入口から搬入され、所定圧力に減圧された後で、搬出口から前記基板トレイが搬出されるロードロック室と、
前記ロードロック室から搬出された前記基板トレイに保持されている基板に対してイオンビームが照射されるイオン注入室と、を備え、
前記基板トレイが、長尺状に形成されており、その長手方向に沿って前記複数の基板が１列又は複数列並べて保持されており、
前記イオン注入室が、帯状のイオンビームが照射されるイオンビーム照射部と、前記イオンビームの短辺方向に対して前記基板トレイの短手方向が横切るように当該基板トレイを第１搬送方向に搬送する第１搬送機構と、を具備し、
前記ロードロック室が、その室内に複数の基板トレイを保持可能であるとともに、前記第１搬送機構に対して前記基板トレイの長手方向が横切るように当該基板トレイを第２搬送方向に搬送する第２搬送機構を備えたことを特徴とするイオン注入装置。
【請求項２】
前記第２搬送機構が、基板トレイを上下方向に並べて保持する基板トレイ保持部と、
前記基板トレイ保持部を上下方向に移動させて、当該基板トレイ保持部に保持されている基板トレイのうちの１つを前記搬出口の高さに合わせる上下位置設定機構と、
前記搬出口の高さに設けられており、前記搬出口の高さに合わされた基板トレイに対して接触して水平平面内を前記長手方向に移動させるローラ機構と、から構成された請求項１記載のイオン注入装置。
【請求項３】
前記ロードロック室が一対設けられており、一方のロードロック室から前記イオン注入室に基板トレイが搬出されている間に、他方のロードロック室に対して基板トレイが搬入されて、内部が減圧されるように構成されている請求項１又は２記載のイオン注入装置。
【請求項４】
イオンビームが照射された基板トレイが前記第１搬送機構から搬入され、大気圧まで戻された後で前記基板トレイが外部へと搬出されるアンロードロック室を１対更に備え、
一方のアンロードロック室から外部に基板トレイが搬出されている間に、他方のアンロードロック室に対して基板トレイが搬入されて、内部が大気圧に戻されるように構成されている請求項１、２又は３記載のイオン注入装置。
【請求項５】
前記アンロードロック室から基板トレイを搬出し、イオンビームが照射された基板を取り出す基板取り出し部と、
空になった基板トレイに対してイオンビームの照射されていない基板を充填し、前記ロードロック室に搬入する基板充填部と、を更に備えた請求項４記載のイオン注入装置。
【請求項６】
前記第１搬送機構が、前記基板トレイを短手方向に移動させるベルトコンベアを備えたものである請求項４又は５記載のイオン注入装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は基板に対してイオン注入を行うための装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
半導体基板等の特性を所望のものに調節する場合、例えばイオンビームを基板に対して照射してイオンを注入する事が行われている。イオンビームが基板に対して照射されるイオン注入室は高い真空度を保つ必要があるため、大気圧中にある基板をイオン注入室に搬入する前に、イオン注入室に隣接して設けられるロードロック室において、大気圧から真空へと減圧した後にイオン注入室内に基板を搬入すること事が行われている。
【０００３】
より具体的には特許文献１に示されるような、３００×３００ｍｍ程度の大きさを有する基板に対してイオン注入を行うためのイオン注入装置では、ロードロック室が真空に減圧されると、ロードロック室の外壁に形成された基板を搬出するための搬出口のシャッタが開放され、その後、イオン注入室内に設けられている真空搬送用ロボットによりロードロック室内から基板が取り出される。そして、前記真空搬送用ロボットは、前記注入室内に設けられている搬送用ベルトコンベアにロードロック室から取り出した基板を載置するように構成されている。このように、ロードロック室に１枚ずつ基板を搬入して減圧し、減圧が完了する度に一枚ずつ搬送ロボットによりイオン注入室内のベルトコンベアに載置して、1枚ずつ基板に対してイオンを連続注入できるように構成されている。
【０００４】
ところで、太陽電池用基板のようにイオン注入により特性の調整が行われていなかったものについても、次世代の太陽電池基板においては細かな特性調整を行うためにイオン注入の適用が研究されている。
【０００５】
しかしながら、上述したような一般の基板に対して用いられているイオン注入装置をそのまま用いようとすると太陽電池用基板等に対する要求から以下のような問題が生じる。
【０００６】
まず、太陽電池用基板は今までイオン注入が施されていた基板に対してサイズが小さく、例えば１５０×１５０ｍｍ程度の大きさを有するものが多く、単純に上述したイオン注入装置を用いると、単位時間当たりにイオン注入できる基板の面積が小さくなってしまい、スループットが低下することになる。
【０００７】
さらに、太陽電池用基板は通常の基板に比べて単価を低く設定したいという要求が強く、製造設備についても従来のイオン注入装置程はコストをかける事が難しい。
【０００８】
これらの点を言い換えると、イオン注入装置としての値段は抑えるとともに、スループットを従来よりも向上させることができ、最終製品である太陽電池について性能は向上させるとともに、価格も抑えられることがイオン注入装置に対して求められている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】特開２０１０−２８７４１６号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上述したような問題点を一挙に解決することを目的としたものであり、イオン注入装置における特に基板の搬送に関する設備のコストを低減することができるとともに、単位時間当たりの処理数、処理面積を向上させることができるイオン注入装置を提供する。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
すなわち、本発明のイオン注入装置は、複数の基板を保持する基板トレイが搬入口から搬入され、所定圧力に減圧された後で、搬出口から前記基板トレイが搬出されるロードロック室と、前記ロードロック室から搬出された前記基板トレイに保持されている基板に対してイオンビームが照射されるイオン注入室と、を備え、前記基板トレイが、長尺状に形成されており、その長手方向に沿って前記複数の基板が１列又は複数列並べて保持されており、前記イオン注入室が、帯状のイオンビームが照射されるイオンビーム照射部と、前記イオンビームの短辺方向に対して前記基板トレイの短手方向が横切るように当該基板トレイを第１搬送方向に搬送する第１搬送機構と、を具備し、前記ロードロック室が、その室内に複数の基板トレイを保持可能であるとともに、前記第１搬送機構に対して前記基板トレイの長手方向が横切るように当該基板トレイを第２搬送方向に搬送する第２搬送機構を備えたことを特徴とする。
【００１２】
このようなものであれば、複数の基板を基板トレイにおいて列に並べて保持させるとともに、前記第１搬送機構により帯状のイオンビームの短辺方向に対して前記基板トレイの短手方向が横切るように移動させるので、複数枚の基板に対して同時にイオンビームを照射してイオン注入を行うことができる。しかも、イオンビームの短辺方向に対して基板トレイを短手方向が横切るようにしているので、基板トレイの長手方向を横切らせる場合に比べてイオンビームの照射時間も短くすることができる。従って、従来に比べて単位時間当たりの基板に対するイオンビームの照射面積及び処理量を構造させることができ、スループットを高めることができる。
【００１３】
さらに、前記ロードロック室は内部に複数の基板トレイを保持できるので、複数の基板トレイに対して一度に減圧を行うことができ、従来のようにイオン注入を行う基板に対して一枚ずつ減圧を繰り返すのに比べて処理時間を短縮することができる。また、前記ロードロック室内に設けられた第２搬送機構により前記基板トレイを前記イオン注入室内の前記第１搬送機構まで移動させるようにしているので、高価な真空用ロボットにより基板をピックアップして第１搬送機構に載置する必要が無いので、イオン注入装置の製造コストを低減することができる。加えて、第２搬送機構は、前記基板トレイを長手方向に移動させることにより前記第１搬送機構まで搬送するように構成されているので、移動の際に振動等が生じても姿勢変化を生じにくくすることができる。従って、第２搬送機構に精密な動作を要求しなくても、基板トレイに保持されている基板が大きくずれたり、はずれたりすることがなく、安価に構成することができる。
【００１４】
加えて、前記第１搬送機構では基板トレイは短手方向に移動するように構成されているのに対して、前記第２搬送機構では基板トレイを長手方向に移動するように構成されており、それぞれの移動方向を異ならせているので、前記第１搬送機構に対して基板トレイを供給する前記第２搬送機構及び前記ロードロック室を複数設けることがしやすい。つまり、イオンビーム照射部の処理能力等に応じて前記第２搬送機構及び前記ロードロック室の数を増減させることで、所望のスループットを達成することができる。
【００１５】
前記ロードロック室の容積を必要最小限にするとともに、前記第２搬送機構の構造を簡単なものにして製造コストを低減できるようにするには、前記第２搬送機構が、基板トレイを上下方向に並べて保持する基板トレイ保持部と、前記基板トレイ保持部を上下方向に移動させて、当該基板トレイ保持部に保持されている基板トレイのうちの一つを前記搬出口の高さに合わせる上下位置設定機構と、前記搬出口の高さに設けられており、前記搬出口の高さに合わされた基板トレイに対して接触して水平平面内を前記長手方向に移動させるローラ機構と、から構成されたものであればよい。このようなものであれば、例えば多関節の真空用ロボット等により基板トレイを前記イオン注入室内に搬入する場合、非常に多くの箇所についてシールを施さねばならず製造コストが高騰していたところを、ローラ機構や上下位置設定機構等の回転用シールのみを施せばよく製造コストを抑えることができる。
【００１６】
イオン注入される基板のスループットをより高めやすくするには、前記ロードロック室が一対設けられており、一方のロードロック室から前記イオン注入室に基板トレイが搬出されている間に、他方のロードロック室に対して基板トレイが搬入されて、内部が減圧されるように構成されているものであればよい。このようなものであれば、一方のロードロック室から前記イオン注入室内に基板トレイが搬入されている間に時間のかかる減圧処理を行うことができるので、途切れなく基板トレイをイオン注入室内に搬入することができるので、減圧に関する待ち時間を無くし、スループットを向上できる。
【００１７】
前記ロードロック室での処理能力の向上に合わせて、イオン注入の終了した基板を滞りなく取り出せるようにするには、イオンビームが照射された基板トレイが前記第１搬送機構から搬入され、大気圧まで戻された後で前記基板トレイが外部へと搬出されるアンロードロック室を１対更に備え、一方のアンロードロック室から外部に基板トレイが搬出されている間に、他方のアンロードロック室に対して基板トレイが搬入されて、内部が大気圧に戻されるように構成されているものであればよい。
【００１８】
イオン注入装置において基板トレイを使い回せるようにして、よりスループットを向上させられるようにするには、前記アンロードロック室から基板トレイを搬出し、イオンビームが照射された基板を取り出す基板取り出し部と、空になった基板トレイに対してイオンビームの照射されていない基板を充填し、前記ロードロック室に搬入する基板充填部と、を更に備えたものであればよい。
【００１９】
前記第１搬送機構を安価に構成するための具体例としては、前記第１搬送機構が、前記基板トレイを短手方向に移動させるベルトコンベアを備えたものであるが挙げられる。
【発明の効果】
【００２０】
このように本発明によれば、前記基板トレイを前記第１搬送機構まで搬送する第２搬送機構が前記ロードロック室内に設けられているので、高価な真空用ロボットを用いることなく、製造コストを低減することができる。また、帯状のイオンビームの短辺方向に対して前記基板トレイの短手方向が横切るように前記第１搬送機構は駆動するので、複数の基板に同時にイオンビームを照射することができ、単位時間当たりの処理枚数を増加させてスループットを向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【００２１】
【図１】本発明の一実施形態にかかるイオン注入装置の全体構成を示す模式図。
【図２】同実施形態における基板トレイの構造を示す模式図。
【図３】同実施形態におけるロードロック室の構造を示す模式的斜視図。
【図４】同実施形態におけるロードロック室からイオン注入室への基板トレイ搬出時の動作を示す模式的斜視図。
【図５】同実施形態における上下位置設定機構の動作を示す模式的斜視図。
【図６】同実施形態における上下位置設定機構の動作を示す模式的側面図。
【図７】同実施形態におけるロードロック室内への基板トレイ搬入時の動作を示す模式的斜視図。
【図８】同実施形態におけるロードロック室及びアンロードロック室への基板トレイの搬出、搬入を示すタイミングチャート。
【発明を実施するための形態】
【００２２】
本発明の一実施形態について図面を参照しながら説明する。
【００２３】
本実施形態のイオン注入装置１００は、太陽電池用の小型基板Ｓに対してイオン注入を行うためのものであり、複数の基板Ｓを一列に並べて基板トレイＴで保持し、この基板トレイＴごとイオンビームを横切らせることで、複数の基板Ｓに対して同時にイオン注入を行うようにしてある。
【００２４】
図１に示すイオン注入装置１００は、基板トレイＴが、基板トレイ充填部５、ロードロック室２、イオン注入室１、アンロードロック室３、基板取り出し部４、の順番で循環するように構成してある。各部における動作について簡単に説明すると、まず、前記基板充填部５において、空の基板トレイＴに対してイオン注入前の基板Ｓが充填される。次に、前記ロードロック室２内に大気圧中にある基板トレイＴを複数収容した後に、所定圧力まで減圧する。そして、前記イオン注入室１内に基板トレイＴが搬入されて、イオンビームが照射された後、前記アンロードロック室３に収容された後大気圧まで戻される。最後に前記基板取り出し部４において、イオン注入の済んだ基板Ｓが基板トレイＴから取り出されてカセットに収容されるとともに、空になった基板トレイＴは前記基板充填部５で再度使用される。
【００２５】
各部の構成について簡単に説明すると、前記イオン注入室１は、一方向にのみ第１搬送機構Ｈ１により基板トレイＴが搬送されるようにしてあり、その搬送途中に設けられたイオンビーム照射部から照射される帯状のイオンビーム（リボン状のイオンビーム）を基板トレイＴが横切ることで、イオン注入が行われるようにしてある。
【００２６】
このイオン注入室１に対して対称となるように前記基板トレイ充填部５、前記ロードロック室２、前記アンロードロック室３、基板取り出し部４が設けてあり、基板トレイＴの循環ループが２つ形成されるようにしてある。すなわち、イオン注入室１以外はそれぞれ１対ずつ設けてあることになる。また、本実施形態のイオン注入装置１００は、各部への基板トレイＴの搬入、搬出に関する制御を司る制御機構（図示しない）を備えている。なお、以下の説明では、イオン注入室１における基板トレイＴの搬送方向である第1搬送方向をX軸方向、水平面内においてX軸に垂直な方向であり、ロードロック室２から第1搬送機構H１へと基板トレイTが搬送される方向である第２搬送方向をY軸と定義して説明に用いることとする。ここで、図１から明らかなように、第２搬送方向は第１搬送方向に対して交差するように設定してある。すなわち、同一平面内において第１搬送方向と第２搬送方向とが同方向とならないようにしてある。
【００２７】
各部について詳述する。
【００２８】
前記基板トレイＴは、図２に示すように長尺状をなす概略平直方体形状のものであり、その表面に太陽電池用の基板Ｓと、マスクＭとを収容する凹部Ｔ１が長手方向に一列に並べて形成してあるものである。より具体的には、前記凹部Ｔ１は表面側から視て概略正方形上のものであり、中央部に前記基板Ｓと略同形状の正方形の深穴と、前記深穴と中心を同じくする正方形状の浅穴とから構成してあり、前記深穴には基板Ｓが収容され、浅穴にマスクＭを収容するようにしてある。すなわち、前記凹部Ｔ１には、まず基板Ｓが収容され、その基板Ｓの上部にマスクＭにより蓋がされるようにしてある。図１に示しているように、この基板トレイＴは、ロードロック室２からイオン注入室１に移動する場合は、基板Ｓの並んでいる長手方向（長尺方向）に移動させられ、イオン注入が行われるイオン注入室１内では、基板Ｓの短手方向（短尺方向）に移動させられるようにしてある。
【００２９】
前記基板トレイ充填部５は、図１に示すようにイオン注入室１の第１搬送機構Ｈ１に対して線対称となるように両側にそれぞれ設けてあり、大気圧中において空の基板Ｓに対してイオン注入を行う基板Ｓ及びマスクＭを充填するロボットである。このロボットは、後述するロードロック室２に対して基板Ｓが充填された基板トレイＴの搬入も行うように構成してある。このロボットに関しては大気圧中で用いられるものであるので、真空中で用いられるロボットほどは精密なシールなどは施されていない安価なものを用いている。
【００３０】
前記ロードロック室２は、図３に示すように概略直方体形状の部屋であり、基板トレイＴが６枚搬入されると、搬入口２４と搬出口２５の両方のシャッタを閉じたうえで、大気圧から前記イオン注入室１の気圧である所低圧力まで減圧するものである。そして、このロードロック室２は、その内部に複数の基板トレイＴを保持可能であり、一度に複数枚の基板トレイＴが収容された状態で一気に減圧するものであるとともに、前記基板トレイＴを長手方向に移動させて前記第１搬送機構Ｈ１上へと搬送する第２搬送機構Ｈ２を備えている。より具体的には、前記基板充填部５から基板トレイＴが搬入される際には、図４に示すように基板トレイＴの短手方向をX軸方向に沿って移動させて搬入し、搬出する際は図５に示すように前記基板トレイＴの長手方向をY軸方向に沿って移動させるように設置してある。
【００３１】
前記第２搬送機構Ｈ２は、図３に示すように片持ち棚状の基板トレイＴを上下方向に並べて保持する基板トレイ保持部２１と、前記基板トレイ保持部２１を下側から上下方向に移動させて、当該基板トレイ保持部２１に保持されている基板トレイＴのうちの一つを前記搬出口２５の高さに合わせる上下位置設定機構２２と、前記搬出口２５の高さに設けられており、前記搬出口２５の高さに合わされた基板トレイＴに対して接触して水平平面内を前記長手方向に移動させる２つのローラ２３１を備えたローラ機構２３と、から構成してある。
【００３２】
前記基板トレイ保持部２１は、ローラ機構２３における２つのローラ２３１の設置間隔よりも短い長さ寸法を有した概略平直方体形状の基板トレイ載置棚２１１が上下方向に６枚等間隔で設けてある。そして、最下部に設けてある２つのローラ２３１と略同じ長さ寸法を有する概略平直方体形状のベース板２１２と、前記基板トレイ載置棚２１１のロードロック室２の搬入口２４とは反対側の側面を連結する背板２１３により棚状を形成してある。
【００３３】
前記上下位置設定機構２２は、図示しない駆動装置により、前記ベース板２１２に接続されたシャフトのロードロック室２内における突出量を変更することで前記基板トレイ保持部２１の高さを変更するものである。すべての基板トレイ載置棚２１１に基板トレイＴが載置されている場合には、図３に示すように前記シャフトの室内への突出量を最大にしてある。
【００３４】
前記ローラ機構２３は、前記基板トレイＴの長手方向の長さ寸法と略同じ間隔で設けられた２つのローラ２３１と各ローラ２３１をそれぞれ回転させるモータと、から構成してある。図４に示すように各ローラ２３１に前記基板トレイＴが接触した状態で各ローラ２３１を回転させることにより、前記イオン注入室１と連通する前記搬出口２５を通して、前記第１搬送機構Ｈ１上に基板トレイＴを搬出するものである。そして、１枚の基板トレイＴが搬出されると、５に示すように、その上の基板トレイ載置棚２１１に載置されている基板トレイＴを前記ローラ２３１に接触するように、前記上下位置設定機構２２が前記基板トレイ保持部２１の高さを一段下げるようにしてある。この動作は、すべての基板トレイＴがロードロック室２内からイオン注入室１へと搬出されるまで繰り返される。
【００３５】
前記イオン注入室１は、図１及び図４に示すようにイオンビームの照射に適した高真空の状態に保たれた部屋であり、帯状のイオンビームが照射されるイオンビーム照射部と、前記イオンビームの短辺方向に対して前記基板トレイＴの短手方向が横切るように当該基板トレイＴを搬送する第１搬送機構Ｈ１と、をその内部に備えたものである。
【００３６】
図１に示すように前記イオンビーム照射部は、前記第１搬送機構Ｈ１において略中央部において長辺方向がY軸方向に沿うようにイオンビームを照射するものである。このイオンビーム照射部は、例えば、直下を基板トレイＴが横切る際にのみイオンビームを照射するようにしてもよいし、常時イオンビームを照射しているものであってもよい。
【００３７】
前記第１搬送機構Ｈ１は、図１及び図４に示すように基板トレイＴの短手方向をX軸方向に沿って移動さえる１対のベルトコンベア１１と、前記ベルトコンベア１１の一端に設けられ、前記ロードロック室２から基板トレイＴが搬入される際にY軸方向への移動を補助する搬入補助ローラ１１１と、前記ベルトコンベア１１のもう一端に設けられ、前記アンロードロック室３への基板Ｓを搬入するために基板トレイＴの長手方向をY軸方向に沿って移動させるための搬出補助ローラ１１２とを備えている。
【００３８】
前記ベルトコンベア１１、搬入補助ローラ１１１、搬出補助ローラ１１２、前記ロードロック室２のローラ機構２３の上端は略同じ高さに設定してあり、前記基板トレイＴを移動させる際に大きな段差が生じないように構成してある。
【００３９】
前記アンロードロック室３は、図３、図４、図５、図６、図７に示してあるロードロック室２と同じ構造を有するものであり、基板トレイＴの搬入及び搬出に関する移動方向が前記ロードロック室２とは逆向きになっているものである。そして、基板トレイＴが６枚収容されると、前記イオン注入室１と連通する搬入口２４のシャッタを閉じたうえで、室内を大気圧に開放するようにしてある。
【００４０】
前記基板取り出し部４は、図１に示すように前記アンロードロック室３から一枚ずつ基板トレイＴを取り出し、前記基板トレイＴに保持されており、イオン注入の済んだ基板Ｓを取り出してカセットに収容するロボットである。すべての基板Ｓを基板トレイＴから取り出し終えるとこのロボットは隣接する基板充填部５側に空の基板トレイＴを載置し、再び使用される準備も行う。
【００４１】
このように構成されたイオン注入装置１００において、それぞれ１対ずつ設けられた前記ロードロック室２、及び、前記アンロードロック室３における基板トレイＴの搬入、搬出に関する動作について説明する。なお、この動作の説明におけるロードロック室２、アンロードロック室３について区別が必要な場合は、図１においてイオン注入室１の上側にあるものには第１を、下側にあるものについては第２を付与して区別することとする。また、図８に示す１周期分のタイミングチャートを参照しながら説明を行う。
【００４２】
図８に示すように各ロードロック室２は、一方のロードロック室２から前記イオン注入室１に基板トレイＴが搬出されている間に、他方のロードロック室２に対して基板トレイＴが搬入されて、内部が減圧されるように構成してある。つまり、いずれかのロードロック室２から常に基板トレイＴがイオン注入室１に搬入できるように、段取りと搬出のタイミングが交互となるようにしてある。
【００４３】
同様に各アンロードロック室３は、前記イオン注入室１から一方のアンロードロック室３に基板トレイＴが搬入されている間に、他方のアンロードロック室３の大気解放、基板トレイＴの外部への搬出、減圧の工程が行われているように構成してある。つまり、いずれかのアンロードロック室３には、イオン注入室１から常に基板トレイＴが搬入されるようにしてある。
【００４４】
また、図８に示すように、第１ロードロック室２から基板トレイＴが搬出されているタイミングと、第１アンロードロック室３に基板Ｓが搬入されるタイミングと、は同期するようにしてあり、イオン注入室１内において前記基板トレイＴが滞留しないようにしてある。第２ロードロック室２及び第２アンロードロック室３についても同様である。
【００４５】
このように本実施形態のイオン注入装置１００によれば、ロードロック室２内に第２搬送機構Ｈ２が設けてあるので、前記ロードロック室２内から基板トレイＴを取り出し、前記イオン注入室１内の第１搬送機構Ｈ１に基板トレイＴを載置するための真空ロボットを用いる必要がない。したがって、真空雰囲気中での使用を前提とした高度なシール等を施したロボットを用いる必要がないので、イオン注入装置１００の搬送にかかわる部分に関して製造コストを低減することができる。
【００４６】
また、前記基板トレイＴを長尺状の板体として、その長尺方向に一列に並べて基板Ｓを保持するようにして、一度のイオンビームの照射で複数の基板Ｓにイオン注入が行えるようにしていること、及び、帯状のイオンビームの短辺方向に対して基板トレイＴの短手方向が横切るように第１搬送機構Ｈ１の搬送方向を定めてあるので、単位時間当たりの処理数、処理面積を多くして、スループットを向上させることができる。
【００４７】
さらに、前記ロードロック室２には複数枚の基板トレイＴを収容可能であるため、一度に減圧を行うことができ、一枚ずつ減圧する場合に比べて処理時間を短縮することができる。また、第２搬送機構Ｈ２は、基板トレイＴを長手方向に移動させて第１搬送機構Ｈ１まで搬送するように構成してあるので、前記ロードロック室２と前記イオン注入室１との間にわずかな段差等があったとしても姿勢変化が生じにくく、保持されている基板Ｓを安全に搬入することができる。
【００４８】
その他の実施形態について説明する。
【００４９】
前記実施形態では、ロードロック室及びアンロードロック室が１対ずつ設けてあったが、更に複数設けても構わないし、１つであっても構わない。すなわち、イオン注入に係る時間に基づいて、前記イオン注入室内に導入するべき基板トレイの数に合わせて決めればよい。
【００５０】
前記実施形態では、太陽電池用の基板に対してイオン注入を行うものであったがその他の用途に用いても構わない。例えば、太陽電池用基板のようにそれほどイオン注入中等にそれほど清浄度を保つ必要が無く、前記ロードロック室内にローラ等の駆動機構を設けても問題が生じにくい用途であるのが好ましい。
【００５１】
その他本発明の趣旨に反しない限りにおいて、様々な変形や実施形態の組み合わせを行っても構わない。
【符号の説明】
【００５２】
１００・・・イオン注入装置
１    ・・・イオン注入室
Ｈ１  ・・・第１搬送機構
１２  ・・・イオンビーム照射部
２    ・・・ロードロック室
Ｈ２  ・・・第２搬送機構
２１  ・・・基板トレイ保持部
２２  ・・・上下位置設定機構
２３  ・・・ローラ機構
３    ・・・アンロードロック室
Ｔ    ・・・基板トレイ
Ｓ    ・・・基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
2013131367.tif 000005
【図４】
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【図５】
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【図６】
2013131367.tif 000008
【図７】
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【図８】
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