(57)【要約】【課題】基板処理装置の点検作業やメンテナンス作業の容易化を図ること。【解決手段】本発明では、作業用の踏み台（２２）を設けた基板処理装置（１）において、筺体（２）の内側上部に形成され、基板（３）を処理するための処理機構を構成する部材を収容した上部収容空間（１３）と、前記筺体（２）の内側下部に形成され、前記処理機構を構成する部材を収容した下部収容空間（１４）と、前記上部収容空間（１３）と前記下部収容空間（１４）との間に形成され、前記踏み台（２２）を収容した踏み台収容空間（２３）とを有することにした。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
作業用の踏み台を設けた基板処理装置において、
筺体の内側上部に形成され、基板を処理するための処理機構を構成する部材を収容した上部収容空間と、
前記筺体の内側下部に形成され、前記処理機構を構成する部材を収容した下部収容空間と、
前記上部収容空間と前記下部収容空間との間に形成され、前記踏み台を収容した踏み台収容空間と、
を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記踏み台を折畳み可能に形成して、前記踏み台収容空間に前記踏み台を前記筺体の外側に引出し可能に収容したことを特徴とする請求項１に記載の基板処理装置。
【請求項３】
前記上部収容空間及び／又は前記下部収容空間と前記踏み台収容空間との間に隔壁を形成したことを特徴とする請求項１又は請求項２に記載の基板処理装置。
【請求項４】
前記踏み台を前記上部収容空間に沿って水平方向にスライド移動可能に構成したことを特徴とする請求項１〜請求項３のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項５】
前記踏み台収容空間の外側部分に前記踏み台をスライド移動させるためのレールを配設するとともに、前記踏み台収容空間の内側部分に前記上部収容空間と前記下部収容空間とに連通する部材を配設したことを特徴とする請求項４に記載の基板処理装置。
【請求項６】
前記上部収容空間及び前記下部収容空間の前側に前記基板の搬入及び搬出を行うための基板搬入出室を形成するとともに、前記上部収容空間及び前記下部収容空間と前記基板搬入出室との間に前記基板の受渡しを行うための基板受渡台を形成し、前記基板受渡台の側方に前記踏み台収容空間を形成したことを特徴とする請求項１〜請求項５のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項７】
前記上部収容空間及び前記下部収容空間に基板を処理液で処理するための基板液処理機構を収容したことを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。
【請求項８】
前記上部収容空間に基板を処理液で処理するための基板液処理機構を収容するとともに、前記下部収容空間に前記基板液処理機構へ処理液を供給するための処理液供給機構を収容したことを特徴とする請求項１〜請求項６のいずれかに記載の基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、作業用の踏み台を設けた基板処理装置に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来より、半導体部品やフラットパネルディスプレイなどを製造する場合には、半導体ウエハや液晶基板などの基板に対して洗浄処理やエッチング処理などの各種処理を施すために基板処理装置が用いられている。
【０００３】
基板処理装置は、略矩形箱型状の筺体の前端部に複数枚の基板を収容したキャリアを載置する基板搬入出台を形成し、筺体の内側前方部に基板の搬入及び搬出を行うための基板搬入出室を形成するとともに、筺体の内側後方部に基板の処理を行うための基板処理室を形成している。
【０００４】
基板処理室は、筺体の内側上部に上部収容空間を形成するとともに、筺体の内側下部に下部収容空間を形成している。そして、上部収容空間及び下部収容空間に、基板の処理を行うために必要な処理機構（基板液処理機構や処理液供給機構や基板搬送機構など）を構成する各種部材を収容している（たとえば、特許文献１参照。）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２００８−３４４９０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
上記従来の基板処理装置においては、基板処理室の上部収容空間に収容した処理機構の点検作業やメンテナンス作業を行う場合に、筺体の外側方に作業用の踏み台を設置し、作業者が踏み台に昇って作業を行う必要がある。
【０００７】
そのため、従来の基板処理装置では、基板処理装置の設置場所とは別に作業用の踏み台を格納しておくための格納場所が必要となる。
【０００８】
また、作業時に踏み台を格納場所と基板処理装置の設置場所との間で往復移動させなければならず、作業が煩雑なものとなるとともに、踏み台の移動時に踏み台と基板処理装置や他の装置とが衝突して基板処理装置や他の装置などを破損させてしまうおそれがある。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
そこで、本発明では、作業用の踏み台を設けた基板処理装置において、筺体の内側上部に形成され、基板を処理するための処理機構を構成する部材を収容した上部収容空間と、前記筺体の内側下部に形成され、前記処理機構を構成する部材を収容した下部収容空間と、前記上部収容空間と前記下部収容空間との間に形成され、前記踏み台を収容した踏み台収容空間とを有することにした。
【００１０】
また、前記踏み台を折畳み可能に形成して、前記踏み台収容空間に前記踏み台を前記筺体の外側に引出し可能に収容することにした。
【００１１】
また、前記上部収容空間及び／又は前記下部収容空間と前記踏み台収容空間との間に隔壁を形成することにした。
【００１２】
また、前記踏み台を前記上部収容空間に沿って水平方向にスライド移動可能に構成することにした。
【００１３】
また、前記踏み台収容空間の外側部分に前記踏み台をスライド移動させるためのレールを配設するとともに、前記踏み台収容空間の内側部分に前記上部収容空間と前記下部収容空間とに連通する部材を配設することにした。
【００１４】
また、前記上部収容空間及び前記下部収容空間の前側に前記基板の搬入及び搬出を行うための基板搬入出室を形成するとともに、前記上部収容空間及び前記下部収容空間と前記基板搬入出室との間に前記基板の受渡しを行うための基板受渡台を形成し、前記基板受渡台の側方に前記踏み台収容空間を形成することにした。
【００１５】
また、前記上部収容空間及び前記下部収容空間に基板を処理液で処理するための基板液処理機構を収容することにした。
【００１６】
また、前記上部収容空間に基板を処理液で処理するための基板液処理機構を収容するとともに、前記下部収容空間に前記基板液処理機構へ処理液を供給するための処理液供給機構を収容することにした。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、作業用の踏み台を基板処理装置の設置場所とは別の場所に格納するための格納空間や踏み台の移動作業が必要なくなり、基板処理装置の点検作業やメンテナンス作業などが容易となるとともに、踏み台と基板処理装置等との衝突による基板処理装置等の破損を防止することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】基板処理装置を示す平面図。
【図２】同側面図。
【図３】各収容空間を示す正面模式図。
【図４】踏み台の収納状態を示す正面断面図。
【図５】踏み台の設置方法を示す正面図。
【図６】踏み台の設置状態を示す正面図（ａ）、側面図（ｂ）。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下に、本発明に係る基板処理装置の具体的な構成について図面を参照しながら説明する。
【００２０】
図１及び図２に示すように、基板処理装置１は、略矩形箱型状の筺体２の前端部に基板３（ここでは、半導体ウエハ。）を複数枚（たとえば、25枚。）まとめてキャリア４で搬入及び搬出するための基板搬入出台５を形成している。
【００２１】
この基板搬入出台５には、最大で複数個（ここでは、４個。）のキャリア４を左右に間隔をあけて載置できる。
【００２２】
また、基板処理装置１は、筺体２の内側前方部に基板３の搬入及び搬出を行うための基板搬入出室６を形成するとともに、筺体２の内側後方部に基板３の処理を行うための基板処理室７を形成している。なお、基板処理室７は、基板３の洗浄処理を行うものであってもよく、基板３の露光処理やエッチング処理や研磨処理を行うものなどであってもよい。
【００２３】
基板搬入出室６には、基板搬入出台５に載置したキャリア４と基板処理室７との間で基板３の搬入や搬出を行うための基板搬入出装置８を収容している。
【００２４】
基板処理室７には、前端中央上部に基板３の受渡しを行うための基板受渡台９を形成するとともに、基板３の処理を行うために必要な処理機構（ここでは、基板３を洗浄液やリンス液などの処理液で処理するための基板液処理機構10、基板液処理機構10に処理液を供給するための処理液供給機構11、基板液処理機構10に基板３を搬送するための基板搬送機構12など）を構成する各種部材を収容している。なお、処理機構は、基板３を液体状の処理剤で処理するものに限られず、ガス状の処理剤で処理するものであってもよい。
【００２５】
そして、基板処理装置１は、基板搬入出装置８を用いて、キャリア４に収容された処理前の基板３を所定のキャリア４から取出して基板処理室７の基板受渡台９へと搬入するとともに、基板処理室７で処理した基板３を基板受渡台９から受取って所定のキャリア４へと搬出する。
【００２６】
また、基板処理装置１は、図３に模式的に示すように、基板処理室７に処理機構を収容するために、筺体２の内側上部に上部収容空間13を形成するとともに、筺体２の内側下部に下部収容空間14を形成している。
【００２７】
上部収容空間13は、中央部に前後に伸延する上部中央収容空間15を形成し、上部中央収容空間15の前端部に基板受渡台９を形成するとともに、基板受渡台９の後方に基板搬送機構12を収容している。
【００２８】
また、上部収容空間13は、左右側部に前後に伸延する上部左側収容空間16及び上部右側収容空間17を形成し、上部左側収容空間16及び上部右側収容空間17にそれぞれ水平方向に複数台（ここでは、５台）の基板液処理機構10を並べて収容している。
【００２９】
下部収容空間14は、中央部に前後に伸延する下部中央収容空間18を形成するとともに、左右側部に前後に伸延する下部左側収容空間19及び下部右側収容空間20を形成し、下部左側収容空間19及び下部右側収容空間20に処理液供給機構11をそれぞれ収容している。この下部収容空間14に収容した処理液供給機構11は、上部収容空間13に収容した基板液処理機構10に配管21を介して接続している。なお、下部中央収容空間18に基板搬送機構12を収容するとともに、下部左右側収容空間19,20に基板液処理機構10を収容するようにしてもよい。
【００３０】
さらに、基板処理装置１は、上部収容空間13と下部収容空間14との間に作業用の踏み台22を収容するための踏み台収容空間23を形成している。
【００３１】
踏み台収容空間23は、図４に示すように、上部収容空間13及び下部収容空間14との間に隔壁24,25を形成している。これにより、踏み台収容空間23と上部収容空間13又は下部収容空間14とを隔壁24,25で隔離し、基板３の処理に影響を及ぼす塵などが踏み台収容空間23から上部収容空間13又は下部収容空間14へと侵入するのを防止するとともに、踏み台22を腐食させる薬液雰囲気などが上部収容空間13又は下部収容空間14から踏み台収容空間23へと侵入するのを防止している。なお、図４及び図５に示すように、上側の隔壁24の上方には、上部収容空間13に収容された処理機構を点検やメンテナンスするための開閉扉26が設けられており、下側の隔壁25の下方には、下部収容空間14に収容された処理機構を点検やメンテナンスするための開閉扉27が設けられている。
【００３２】
この踏み台収容空間23は、上部左側収容空間16と下部左側収容空間19との間に左側踏み台収容空間28を形成するとともに、上部右側収容空間17と下部右側収容空間20との間に右側踏み台収容空間29を形成している。なお、踏み台収容空間23は、上部中央収容空間15と下部中央収容空間18との間の中央踏み台収容空間39に形成してもよい。
【００３３】
そして、踏み台収容空間23は、左右側踏み台収容空間28,29の前端部、すなわち、基板受渡台９の左右側方部分に踏み台22をそれぞれ収容している。
【００３４】
踏み台22は、図４及び図５に示すように、上側の隔壁24の端縁下部に上下部収容空間13,14に沿って伸延する上側のレール30を取付け、下側の隔壁25の端縁上部に上下部収容空間13,14に沿って伸延する下側のレール31を取付け、これら上下一対のレール30,31の間に矩形枠状の支持体32をスライド移動可能に取付けている。
【００３５】
また、踏み台22は、支持体32に天板33を出し入れ可能に取付け、天板33の外側縁部に取手34を取付けている。
【００３６】
さらに、踏み台22は、天板33の上部に左右一対の転落防止バー35,36を起倒可能に取付けるとともに、天板33の下部に折畳み式の梯子37を起倒可能に取付けている。なお、左右の転落防止バー35,36の上端部間には、転落防止用のチェーン38が取付けられる。
【００３７】
これにより、基板処理装置１は、上部収容空間13と下部収容空間14との間に形成された踏み台収容空間23に折畳み可能に形成した踏み台22を筺体２の外側に引出し可能に収容している。なお、踏み台収容空間23は、着脱可能なカバー40で被覆している。
【００３８】
踏み台22は、図５及び図６に示すように、天板33に転落防止バー35,36及び梯子37を倒伏させ状態で踏み台収容空間23に収容されている。この踏み台22は、使用時には、カバー40を外した状態で踏み台収容空間23から筺体２の外側に引出し、その後、倒伏する転落防止バー35,36を上方へ向けて起立させ、折り畳まれた梯子37を下方へ向けて起立させるとともにヒンジ41を開いて設置する。
【００３９】
また、踏み台22は、上部収容空間13や下部収容空間14に沿って水平方向にスライド移動可能となっており、所定の位置で筺体２の外側に引き出して設置することができる。上部収容空間13の内部に収容した処理機構や開閉扉26ごとに１台の踏み台22を踏み台収容空間23に収容してもよいが、１台の踏み台22をスライド移動可能に設けることで、１台の踏み台22だけで上部収容空間13に収容した全ての処理機構の点検作業やメンテナンス作業を行うことができる。特に、踏み台収容空間23の外側端縁部に踏み台22をスライド移動させるためのレール30,31を配設することで、踏み台収容空間23の内側部分に上部収容空間13と下部収容空間14とを連通する部材（ここでは、配管21）を収容しても部材と踏み台22との干渉を防止することができる。スライド移動可能な踏み台22は、踏み台収容空間23の内部であればいずれの場所に収容してもよいが、基板受渡台９の側方に収容することで上部収容空間13と下部収容空間14とを連通する部材との干渉を防止することができる。
【００４０】
以上に説明したように、上記基板処理装置１は、基板３を処理するための処理機構を構成する部材を収容した上部収容空間13を筺体２の内側上部に形成するとともに、処理機構を構成する部材を収容した下部収容空間14を筺体２の内側下部に形成し、これら上部収容空間13と下部収容空間14との間に、折畳み可能に形成した踏み台22を筺体２の外側に引出し可能に収容した踏み台収容空間23を形成している。
【００４１】
そのため、上記構成の基板処理装置１では、作業用の踏み台22を格納するための格納空間が基板処理装置１の設置場所とは別の場所に設ける必要がなく、また、踏み台22の移動作業が必要なくなり、基板処理装置１の点検作業やメンテナンス作業などが容易となるとともに、踏み台22と基板処理装置１等との衝突による基板処理装置１等の破損を防止することができる。また、踏み台22を折畳み可能に形成することで、折畳み収容空間23をコンパクト化することができ、基板処理装置１の大型化を抑制することができる。
【符号の説明】
【００４２】
１  基板処理装置
２  筺体
３  基板
６  基板搬入出室
７  基板処理室
９  基板受渡台
10  基板液処理機構
11  処理液供給機構
12  基板搬送機構
13  上部収容空間
14  下部収容空間
22  踏み台
23  踏み台収容空間
24,25  隔壁
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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