Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偽造防止デバイスとして有用な視覚的表示アセンブリであって、
レンズのアレイを含む第１の表面と、前記第１の表面と反対側の第２の表面とを備える透明材料のフィルムと、
前記第２の表面に近接する印刷画像と、を備え、
前記印刷画像が、２つの直交軸に対してインタレースされた１つまたは複数の画像のフレームのピクセルを備え、
前記印刷画像は、垂直のＰＯＶから表示された画像が、第１の記号のセットと、第２の記号のセットとを含むように適合されており、
前記垂直のＰＯＶから第１の軸を中心として前記アセンブリが回転されたときに表示される画像において、前記第１および第２の記号のセットが反対方向に移動し、
前記フレームは、各々、前記１つまたは複数の画像の異なる視点（ＰＯＶ）を備え、
前記フレームは、前記２つの直交軸のうちの第１の直交軸に沿った少なくとも３つのＰＯＶを提供するフレームを含み、
前記フレームは、さらに、前記２つの直交軸のうちの第２の直交軸に沿った前記３つのＰＯＶの各々に対応する少なくとも２つの追加のＰＯＶを含む、アセンブリ。
【請求項２】
前記印刷画像は、前記垂直のＰＯＶから前記第１の軸に直交する第２の軸を中心として前記アセンブリが回転されたときに表示される画像において、前記第１および第２の記号が前記第２の軸に直交する単一の方向に移動するように適合されている、請求項１に記載のアセンブリ。
【請求項３】
偽造防止デバイスとして有用な視覚的表示アセンブリであって、
レンズのアレイを含む第１の表面と、前記第１の表面と反対側の第２の表面とを備える透明材料のフィルムと、
前記第２の表面に近接する印刷画像と、を備え、
前記印刷画像が、２つの直交軸に対してインタレースされた１つまたは複数の画像のフレームのピクセルを備え、
前記印刷画像は、垂直のＰＯＶから表示された画像が、第１の記号のセットと、第２の記号のセットとを含むように適合されており、前記垂直のＰＯＶから第１の軸を中心として前記アセンブリが回転されたときに表示される画像において、前記第１および第２の記
号のセットが前記アセンブリの前記第１の軸と平行な単一の方向に移動する、アセンブリ。
【請求項４】
前記印刷画像は、前記垂直のＰＯＶから前記第１の軸に直交する第２の軸を中心として前記アセンブリが回転されたときに表示される画像において、前記第１および第２の記号が前記第２の軸に平行な単一の方向に移動するように適合されている、請求項３に記載のアセンブリ。
【請求項５】
紙幣および製品ラベル上の偽造防止デバイスとして有用な視覚的表示アセンブリであって、
レンズのアレイを含む第１の表面と、前記第１の表面と反対側の第２の表面とを備える透明材料のフィルムと、
前記第２の表面に近接する印刷画像と、を備え、
前記印刷画像が、２つの直交軸に対してインタレースされた１つまたは複数の画像のフレームのピクセルを備え、
前記印刷画像が、壁紙パターンとオーバレイ・パターンとを含み、前記壁紙パターンが、複数のＰＯＶから可視であり、前記オーバレイ・パターンが、前記複数のＰＯＶを通じて異なる可視性の範囲を有する、アセンブリ。
【請求項６】
偽造防止デバイスを製造する方法であって、
画像フレームの行列の２軸インタレースを定義する印刷ファイルを生成する工程と、
第１の表面上にレンズのアレイを備える透明フィルムを設ける工程と、
前記印刷ファイルに基づいて、前記第１の表面と反対側の第２の表面上にインク層を配置する工程と、を備え、
前記アレイの前記レンズは、円形または四角形ベースのレンズであり、平行な行および平行な列内で整列されるように前記アレイ内に収容されており、
前記印刷ファイルを生成する工程は、インタレース画像を設ける工程を含み、該インタレース画像は、レンズの前記アレイを通して見られたときに第１および第２の画像要素を提供し、前記偽造防止デバイスが第１の軸を中心として回転されたとき、第１および第２の画像要素は互いに異なる方向に移動する、方法。
【請求項７】
前記第１および第２の画像要素が、前記偽造防止デバイスが前記第１の軸と直交する第２の軸を中心として回転されたときに互いに対して同様な方向に移動する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
偽造防止デバイスを製造する方法であって、
画像フレームの行列の２軸インタレースを定義する印刷ファイルを生成する工程と、
第１の表面上にレンズのアレイを備える透明フィルムを設ける工程と、
前記印刷ファイルに基づいて、前記第１の表面と反対側の第２の表面上にインク層を配置する工程と、を備え、
前記アレイの前記レンズは、円形または四角形ベースのレンズであり、平行な行および平行な列内で整列されるように前記アレイ内に収容されており、
前記印刷ファイルを生成する工程が、インタレース画像を設ける工程を含み、該インタレース画像は、レンズの前記アレイを通して見られたときに第１および第２の画像要素を提供し、前記偽造防止デバイスが第１の軸を中心として回転されたとき、第１および第２の画像要素は互いに一致する方向に移動し、前記一致する方向は前記第１の軸と平行である、方法。
【請求項９】
前記第１および第２の画像要素が、前記偽造防止デバイスが前記第１の軸と直交する第２の軸を中心として回転されたときに互いに対して第２の一致する方向に移動し、前記一
致する方向は前記第２の軸と平行である、請求項８に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月14日(2015.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
幅が０．１ｍｍから１００ｍｍまでで、長さが０．５ｍｍから５００ｍｍまでで、厚さが０．２ｍｍから５ｍｍまでであるレンズを含み、
前記レンズは、７６０ｎｍから２５００ｎｍまでの波長を有する光を６０％超透過し、
前記レンズは、ポリマー及び着色成分を含み、
前記ポリマーは、ポリイミド、ポリフェニレンスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリスルホン、及びポリエーテルエーテルケトン、及びこれらの組み合わせからなる群から選択された、１８０℃よりも高いガラス転移温度を有する高熱ポリマーを含み、
前記着色成分は、（ａ）少なくとも２つの有機染料、（ｂ）少なくとも１つの有機染料及び１つの有機顔料、（ｃ）少なくとも２つの有機顔料、又は（ｄ）これらの組み合わせを含み、
前記レンズは、少なくとも０．２ｍｍから５．０ｍｍまでの肉厚において、透明かつ寸法安定性を有し、（ａ）６０℃、相対湿度６０％の事前条件に１２０時間さらされ、（ｂ）つづいて、２６０℃のピーク温度を有する鉛フリーはんだ試験を３０秒まで実行された後も、透明かつ寸法安定性を有するままである
ことを特徴とする物品。
【請求項２】
前記高熱ポリマーは、ポリイミドであり、
前記ポリイミドは、
（Ａ）酸二無水物／ジアミンの組、
（Ｂ）塩素置換フタル酸無水物、ジアミン、及びジヒドロキシフェノール塩、又は、
（Ｃ）（Ａ）及び（Ｂ）の群から選択された組み合わせ
に由来する構造単位を含み、
前記（Ａ）の酸二無水物／ジアミンの組は、
（ｉ）オキシジフタル酸無水物及びジアミノジフェニルスルホン、又は、
（ｉｉ）オキシジフタル酸無水物、３，３，ビスフェノールＡ二無水物、４，４，ビスフェノールＡ二無水物、及び前記の酸無水物からなる群から選択された酸二無水物、及び、メタ−フェニレンジアミン、パラ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、オキシジアニリン、及び前記のジアミンの組み合わせからなる群から選択されたジアミン
を含み、
前記（Ｂ）のジアミンは、メタ−フェニレンジアミン、パラ−フェニレンジアミン、ジアミノジフェニルスルホン、オキシジアニリン、及び前記のジアミンの組み合わせからなる群から選択される
ことを特徴とする請求項１に記載の物品。
【請求項３】
前記物品は、３８０ｎｍから７００ｎｍまでの波長を有する光を１５％未満透過し、７００ｎｍ超から７６０ｎｍまでの波長を有する光を１５％超透過することを特徴とする請求項２に記載の物品。
【請求項４】
前記ポリイミドは、第１のポリイミドポリマーであり、
前記レンズは、ポリマーブレンドを形成する第２のポリイミドポリマーを更に含み、
前記ポリマーブレンドは、層間剥離のない混和性のポリマーブレンドである
ことを特徴とする請求項２に記載の物品。
【請求項５】
前記第１のポリイミドポリマーは、オキシジフタル酸無水物及びジアミノジフェニルスルホンに由来する構造単位を含み、
前記第２のポリイミドポリマーは、（ｉ）３，３，ビスフェノール二無水物及びジアミノジフェニルスルホン、（ｉｉ）４，４，ビスフェノールＡ二無水物及びメタフェニレンジアミン、（ｉｉｉ）４，４，ビスフェノールＡ二無水物及びパラ−フェニレンジアミン、（ｉｖ）４，４，ビスフェノール二無水物及びジアミノジフェニルスルホン、及び（ｖ）上記の酸二無水物／ジアミンの組の組み合わせからなる群から選択された酸二無水物／ジアミンの組に由来する構造単位を含む
ことを特徴とする請求項４に記載の物品。
【請求項６】
前記第１のポリイミドポリマーは、３，３，ビスフェノール二無水物及びジアミノジフェニルスルホンに由来する構造単位を含み、
前記第２のポリイミドポリマーは、（ｉ）４，４，ビスフェノールＡ二無水物及びメタフェニレンジアミン、（ｉｉ）４，４，ビスフェノールＡ二無水物及びパラ−フェニレンジアミン、（ｉｉｉ）４，４，ビスフェノール二無水物及びジアミノジフェニルスルホン、及び（ｉｖ）前記の酸二無水物／ジアミンの組の組み合わせからなる群から選択される酸二無水物／ジアミンの組に由来する構造単位を含む
ことを特徴とする請求項４に記載の物品。
【請求項７】
前記第１のポリイミドの量は、５０〜９０重量％であり、
前記第２のポリイミドの量は、１〜５０重量％であり、
熱可塑性組成物は、更に、充填材、補強材、添加材、及びそれらの組み合わせからなる群から選択された成分を０〜７０重量％含み、
前記第１のポリイミド、前記第２のポリイミド、及び前記成分は、総量で１００重量％であることを特徴とする請求項４に記載の物品。
【請求項８】
組成物は、ポリイミド以外の少なくとも１つのポリマーを更に含み、
前記少なくとも１つのポリマーは、ポリエステル、ポリエステルカーボネート、ポリスルホン、ポリエーテルスルホン、ポリベンゾイミダゾール、ポリケトン、及びそれらのポリマーの組み合わせからなる群から選択される
ことを特徴とする請求項２に記載の物品。
【請求項９】
前記物品は、光学送受信機の構成要素であることを特徴とする請求項２に記載の物品。
【請求項１０】
前記レンズは、組成物の総量を基準として、２０重量％未満のポリケトンを更に含むことを特徴とする請求項２に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月28日(2016.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
非ヒト哺乳動物において繁殖成績を向上させるための、リコンビナントＦＳＨ（ｒＦＳＨ）類似体又はｒＦＳＨ類似体を含む組成物の使用であって、前記ｒＦＳＨ類似体を卵胞同期化後に単回投与で前記非ヒト哺乳動物に投与する、使用。
【請求項２】
約０．０１μg〜約５mgに含まれる用量範囲で、ｒＦＳＨを単回投与で投与する、請求項１に記載の使用。
【請求項３】
約１μg〜２mg、好ましくは約１０μg〜１mgに含まれる用量範囲で、ｒＦＳＨを単回投与で投与する、請求項２に記載の使用。
【請求項４】
５０μg又は１００μgの用量で、ｒＦＳＨを単回投与で投与する、請求項３に記載の使用。
【請求項５】
全身投与によって、好ましくは筋肉内投与によって、より好ましくは注射によって、前記ｒＦＳＨを投与する、請求項１〜４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項６】
前記ｒＦＳＨ類似体が、非ヒト哺乳動物ＦＳＨアルファ鎖の配列を有するアルファサブユニットと、該アルファ鎖と同じ種の非ヒト哺乳動物ＦＳＨベータ鎖の配列を有するベータサブユニットとを含み、前記アルファサブユニット及びベータサブユニットがペプチドリンカーによって共有結合されている、請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項７】
ｒＦＳＨ類似体が、有蹄動物リコンビナントＦＳＨ類似体、好ましくは、ペプチドリンカーによって共有結合されたウシアルファサブユニット及びウシベータサブユニットを含むウシリコンビナントＦＳＨ類似体である、請求項６に記載の使用。
【請求項８】
アルファサブユニットが、配列番号１と少なくとも９５％相同の配列を含むポリペプチドであり、ベータサブユニットが、配列番号２と少なくとも９５％相同の配列を含むポリペプチドである、請求項７に記載の使用。
【請求項９】
ペプチドリンカーが、ヒト絨毛性ゴナドトロピンカルボキシ末端ペプチド（ＣＴＰ）である、請求項６〜８のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１０】
ペプチドリンカーが、配列Ｇ４Ｓを含む、請求項６〜８のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１１】
ｒＦＳＨが、配列番号３と少なくとも９５％の相同性を有するアミノ酸配列を含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１２】
排卵時近くに、好ましくはｒＦＳＨ投与の２〜７日後、より好ましくは４〜６日後に、前記非ヒト哺乳動物を授精させることをさらに含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１３】
好ましくは排卵時近くに、より好ましくはｒＦＳＨ類似体投与の２〜７日後、さらにより好ましくは４〜６日後に、前記非ヒト哺乳動物から卵母細胞を採取することをさらに含む、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１４】
前記ｒＦＳＨを少なくとも１つのプロスタグランジンと組み合わせて注射する、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１５】
前記ｒＦＳＨをプロゲスターゲンに基づく処理と組み合わせて注射する、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１６】
（ａ）卵胞同期化処理された非ヒト哺乳動物、例えば有蹄動物、又は非ヒト哺乳動物群、例えば有蹄動物群を提供すること；
（ｂ）約０．０１μg〜約５mgに含まれる用量範囲で、好ましくは注射によって、より好ましくは筋肉内注射によって、単回用量のｒＦＳＨ類似体を前記非ヒト哺乳動物又は非ヒト哺乳動物群に投与すること；及び
（ｃ）場合により、好ましくは排卵時近くに、より好ましくは投与工程（ｂ）の２〜７日後、さらにより好ましくは４〜６日後に、好ましくは人工授精によって該非ヒト哺乳動物若しくは非ヒト哺乳動物群を授精させること、又は該非ヒト哺乳動物若しくは非ヒト哺乳動物群から卵母細胞を採取すること
を含む、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１７】
（ａ）非ヒト哺乳動物、例えば有蹄動物、又は非ヒト哺乳動物群、例えば有蹄動物群を処理し、卵胞同期化すること；
（ｂ）約０．０１μg〜約５mgに含まれる用量範囲で、好ましくは注射によって、より好ましくは筋肉内注射によって、単回用量のｒＦＳＨ類似体を前記非ヒト哺乳動物又は非ヒト哺乳動物群に投与すること；及び
（ｃ）場合により、好ましくは排卵時近くに、より好ましくは投与工程（ｂ）の２〜７日後、さらにより好ましくは４〜６日後に、好ましくは人工授精によって該非ヒト哺乳動物若しくは非ヒト哺乳動物群を授精させること、又は該非ヒト哺乳動物若しくは非ヒト哺乳動物群から卵母細胞を採取すること
を含む、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１８】
卵胞同期化が、好ましくは、プロスタグランジン、プロゲスターゲン及び／又はＧｎＲＨによる非ヒト哺乳動物のホルモン処理によって得られる、請求項１６〜１７のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１９】
卵胞同期化が、プロゲスターゲン及びプロスタグランジンＰＧＦ２アルファの組み合わせの投与によって得られる、請求項１８に記載の使用。
【請求項２０】
卵胞同期化が、卵胞アブレーションによって得られる、請求項１６〜１７のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２１】
前記類似体が、１つ又は複数の賦形剤又は担体と共に組成物中に製剤化されている、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２２】
非ヒト哺乳動物が、好ましくは、ウシ、ヒツジ又はウマから選択される、有蹄動物であり、より好ましくはウシである、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２３】
ウシ又はウシの群において繁殖成績を向上させるための方法であって、
（ａ）卵胞同期化を誘導するのに有効な量で、プロスタグランジン、プロゲスターゲン及び／又はＧｎＲＨを該ウシ又は該ウシ群の少なくとも２つのメンバーに投与すること、及び
（ｂ）リコンビナントＦＳＨ類似体１０μg〜１mgを単回投与で該卵胞同期化ウシに投与すること
を含む、方法。
【請求項２４】
非ヒト哺乳動物において過剰排卵を誘導することによって繁殖成績を向上させる、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２５】
非ヒト哺乳動物において妊娠を向上させることによって繁殖成績を向上させる、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２６】
前記非ヒト哺乳動物において排卵率を向上させることによって繁殖成績を向上させる、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の使用。
【請求項２７】
非ヒト哺乳動物において繁殖成績を向上させるための方法であって、リコンビナントＦＳＨ（ｒＦＳＨ）類似体又はｒＦＳＨ類似体を含む組成物を前記非ヒト哺乳動物に投与することを含み、前記ｒＦＳＨ類似体を卵胞同期化後に単回投与で前記非ヒト哺乳動物に投与する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ａ）ｉ）パーフルオロ（アルキルビニルエーテル）１５〜６０モル％の共重合単位と、
ｉｉ）ニトリル基を有する硬化部位モノマー０．１〜５モル％の共重合単位と、
ｉｉｉ）ｉ＋ｉｉ＋ｉｉｉの総モルパーセントが１００となるような残りの共重合単位であるテトラフルオロエチレンと、
を含むパーフルオロエラストマー；および、
Ｂ）パーフルオロエラストマー１００重量部につき６０重量部を超えるＢａＳＯ4；
を含む、
硬化パーフルオロエラストマー物品。
【請求項２】
パーフルオロエラストマー１００重量部につきＢａＳＯ4を７０〜１００重量部含む、請求項１に記載の硬化パーフルオロエラストマー物品。
【請求項３】
前記ＢａＳＯ4が、平均粒径０．５〜５ミクロンを有する、請求項１に記載の硬化パーフルオロエラストマー物品。
【請求項４】
前記硬化部位モノマーが
ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ（ＣＦ2）n−ＣＮ      
（式中、ｎ＝２〜１２、好ましくは２〜６である）；
ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ［ＣＦ2−ＣＦＣＦ3−Ｏ］n−ＣＦ2−ＣＦＣＦ3−ＣＮ      
（式中、ｎ＝０〜４、好ましくは０〜２である）；
ＣＦ2＝ＣＦ−［ＯＣＦ2ＣＦＣＦ3］x−Ｏ−（ＣＦ2）n−ＣＮ      
（式中、ｘ＝１〜２であり、ｎ＝１〜４である）；
ＣＦ2＝ＣＦ−Ｏ−（ＣＦ2）n−Ｏ−ＣＦ（ＣＦ3）ＣＮ      
（式中、ｎ＝２〜４である）；
ＣＦ2＝ＣＦＯＣＦ2ＣＦ（ＣＦ3）ＯＣＦ2ＣＦ2ＣＮ；
およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項１に記載の硬化パーフルオロエラストマー物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年11月4日(2016.11.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
次の構成成分
ａ）少なくとも１つのフッ素化ポリマーであって、前記少なくとも１つのフッ素化ポリマーのそれぞれが独立して：
次式
【化１】
2016502581.tif 000001
により表される少なくとも１つの二価基Ａ
（式中、Ｒ１は独立して、Ｈ又はメチルを表し、Ｘは独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、Ｌ１は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、Ｒｆｌは独立して、一価ペルフッ素化有機基を表す）、
次式
【化２】
2016502581.tif 000002
により表される少なくとも１つの二価基Ｂ
（式中、Ｌ２は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、ｋは１〜４の範囲の整数を表し、Ｒ２は独立して、Ｈ又は１〜１８個の炭素原子を有するアルキル基を表し、ｆは独立して、３〜２００の範囲の整数（端点を含む）を表す）、
次式
【化３】
2016502581.tif 000003
により表される少なくとも１つの二価基Ｃ
（式中、Ｌ３は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、各Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３は、独立して加水分解性基又は１〜１０個の炭素原子を有するヒドロカルビル基を表し、但し、Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３のうち少なくとも１つは加水分解性基である）、を含む、少なくとも１つのフッ素化ポリマーと、
ｂ）カチオン性硬化剤と、を含む、硬化性防汚組成物。
【請求項２】
硬化性汚防組成物の使用方法であって、前記方法が、
硬化性汚防組成物を、海洋船舶の船体、錨、桟橋、ドック、ケーソン、侵襲的医療装置、非侵襲的医療装置、手すり、ドアノブ、カウンタートップ、膜支持フレーム、熱交換器、マイクロエレクトロケミカル薬物送達装置、製紙機械、液体保持のためのタンク、送水管、配管器具、及び海中養殖装置からなる群から選択される基材の表面の少なくとも一部分に塗布する工程と、
前記硬化性汚防組成物を少なくとも部分的に硬化させる工程と、を含み、前記硬化性汚防組成物は、
ａ）少なくとも１つのフッ素化ポリマーであって、前記少なくとも１つのフッ素化ポリマーのそれぞれが独立して：
次式
【化４】
2016502581.tif 000004
により表される少なくとも１つの二価基Ａ
（式中、Ｒ１は独立して、Ｈ又はメチルを表し、Ｘは独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、Ｌ１は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、Ｒｆｌは独立して、一価ペルフッ素化有機基を表す）、
次式
【化５】
2016502581.tif 000005
により表される少なくとも１つの二価基Ｂ
（式中、Ｌ２は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、ｋは１〜４の範囲の整数を表し、Ｒ２は独立して、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル基のＨを表し、ｆは独立して、３〜２００の範囲の整数（端点を含む）を表す）、
次式
【化６】
2016502581.tif 000006
により表される少なくとも１つの二価基Ｃ
（式中、Ｌ３は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、各Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３は独立して、加水分解性基又は１〜７個の炭素原子を有するアルキル基を表し、但し、Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３のうち少なくとも１つは加水分解性基である）を含む、少なくとも１つのフッ素化ポリマーと、
ｂ）カチオン性硬化剤と、を含む、硬化性防汚組成物の使用方法。
【請求項３】
表面を有する基材を含む物品であって、前記表面の少なくとも一部分がその上に防汚コーティングを有しており、前記基材は、海洋船舶の船体、錨、桟橋、ドック、ケーソン、侵襲的医療装置、非侵襲的医療装置、手すり、ドアノブ、カウンタートップ、膜支持フレーム、熱交換器、マイクロエレクトロケミカル薬物送達装置、製紙機械、液体保持のためのタンク、送水管、配管器具、及び海中養殖装置からなる群から選択され、前記防汚コーティングは、少なくとも部分的に硬化した硬化性防汚組成物を含み、かつ、前記硬化性防汚組成物は以下の構成成分：
ａ）少なくとも１つのフッ素化ポリマーであって、前記少なくとも１つのフッ素化ポリマーのそれぞれが独立して：
次式
【化７】
2016502581.tif 000007
により表される少なくとも１つの二価基Ａ
（式中、Ｒ１は独立して、Ｈ又はメチルを表し、Ｘは独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、Ｌ１は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、Ｒｆｌは独立して、一価ペルフッ素化有機基を表す）、
次式
【化８】
2016502581.tif 000008
により表される少なくとも１つの二価基Ｂ
（式中、Ｌ２は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、ｋは１〜４の範囲の整数を表し、Ｒ２は独立して、１〜１８個の炭素原子を有するアルキル基のＨを表し、ｆは独立して、３〜２００の範囲の整数（端点を含む）を表す）、
次式
【化９】
2016502581.tif 000009
により表される少なくとも１つの二価基Ｃ
（式中、Ｌ３は独立して、共有結合又は二価有機連結基を表し、各Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３は独立して、加水分解性基又は１〜７個の炭素原子を有するアルキル基を表し、但し、Ｙ１、Ｙ２、及びＹ３のうち少なくとも１つは加水分解性基である）を含む、少なくとも１つのフッ素化ポリマーと、
ｂ）カチオン性硬化剤と、を含む、表面を有する基材を含む物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月6日(2016.9.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ペンダント（メタ）アクリロイル基及び任意のペンダントヒドロキシル基を有する（メタ）アクリレートコポリマーを含む接着剤であって、
前記（メタ）アクリレートコポリマーが、５０，０００ダルトン〜６００，０００ダルトンの重量平均分子量を有し、かつ少なくとも６，０００ダルトンに等しい（メタ）アクリロイル基間の平均分子量を有する、接着剤。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月7日(2016.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
鋼ストリップ上にAl-Zn-Mg-Siの被覆を形成するために、鋼ストリップ上にAl-Zn-Si-Mg合金被覆を形成する方法であって、
鋼ストリップを溶融Al-Zn-Si-Mg合金浴に浸漬して、前記鋼ストリップの露出面に前記合金の被覆を形成する工程と、
被覆ストリップを冷却水で冷却する工程であって、冷却水のpHをpH5〜9の範囲に制御することを含む、冷却する工程と、
を含む方法。
【請求項２】
前記冷却する工程は、冷却水の前記pHを8未満に制御することを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記冷却する工程は、冷却水の前記pHを7未満に制御することを含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記冷却する工程は、冷却水の前記pHを、6を超えるように制御することを含む、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を25〜80℃の範囲に制御することを含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を70℃未満に制御することを含む、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を60℃未満に制御することを含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を55℃未満に制御することを含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を50℃未満に制御することを含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を45℃未満に制御することを含む、請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を、30℃を超えるように制御することを含む、請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記冷却する工程は、冷却水の温度を、40℃を超えるように制御することを含む、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
前記冷却する工程は、前記冷却水に酸を添加することにより前記pHを制御することを含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
前記ストリップを冷却する工程は、前記冷却水の化学成分を制御することを含む、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記ストリップを冷却する工程は、前記冷却水に酸を添加することにより、化学成分および前記pHを制御することを含む、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
前記冷却する工程は水焼き入れ工程を含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記冷却する工程は閉ループを含み、当該閉ループでは、前記被覆ストリップに水を供給し、水を回収して冷却し、そしてその冷却した水を前記被覆ストリップの冷却のために戻す、という回路を通して水が循環する、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
前記冷却する工程は開ループを含み、当該開ループでは、冷却水は、冷却塔から前記被覆ストリップに供給され、回収され、そして前記冷却塔を通して再循環される、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記冷却する工程は、前記被覆ストリップを30〜55℃の温度範囲に冷却するように、操作条件を制御することを含む、請求項１〜１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
溶融めっき工程の前に、前記ストリップを清浄にするためにストリップを前処理する工程と、
前記被覆ストリップを圧延する工程と、
前記被覆ストリップを不動態化溶液で処理する工程と、
前記被覆ストリップを巻き取る工程と、のいずれか１つ以上を含む別の工程を含んでいる、請求項１〜１９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２１】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は、0.3重量%を超えるMgを含む、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２２】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は1.0重量%を超えるMgを含む、請求項１〜２１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２３】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は1.3重量%を超えるMgを含む、請求項１〜２２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２４】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は1.5重量%を超えるMgを含む、請求項１〜２３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２５】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は3重量%未満のMgを含む、請求項１〜２４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２６】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は2.5重量%を超えるMgを含む、請求項１〜２５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２７】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は1.2重量%を超えるSiを含む、請求項１〜２６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２８】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は2.5重量%未満のSiを含む、請求項１〜２７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２９】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は、Al、Zn、SiおよびMgの元素を、重量%で以下の範囲で含む、請求項１〜２８のいずれか１項に記載の方法。
Zn:  30〜60%
Si:  0.3〜3%
Mg:  0.3〜10%
残部  Alおよび不可避不純物
【請求項３０】
前記Al-Zn-Si-Mg合金は、Al、Zn、SiおよびMgの元素を、重量%で以下の範囲で含む、請求項１〜２９のいずれか１項に記載の方法。
Zn:  35〜50%
Si:  1.2〜2.5%
Mg:  1.0〜3.0%
残部  Alおよび不可避不純物
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月7日(2016.6.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
摺動エレメント、特に、コーティングを含む少なくともひとつの摺動面を有するピストンリングであって、前記コーティングは、内側から外側に向かって、金属含有接着層およびＤＬＣ層を備え、前記ＤＬＣ層は、
接着層から隣接するＤＬＣ被覆層へ延在し、かつ、９８．５原子パーセント以上の炭素含有量、０．５原子パーセント未満の酸素含有量および／または０．５原子パーセント未満の水素含有量および／または０．５原子パーセント未満の窒素含有量、ならびに、１と３の間の炭素のｓｐ２／ｓｐ３比を有するＤＬＣメイン層と、
前記ＤＬＣメイン層から前記摺動エレメントの表面に向かって延在し、前記ＤＬＣメイン層に比べより低い炭素含有量および／またはより高い酸素含有量および／またはより高い水素含有量を有し、金属および／または金属酸化物を有し、ならびに、１と３の間の炭素のｓｐ２／ｓｐ３比を有するＤＬＣ被覆層と、
を備えることを特徴とする摺動エレメント。
【請求項２】
前記ＤＬＣ層は、１．０５から２の炭素のｓｐ２／ｓｐ３比を有する、ことを特徴とする請求項１に記載の摺動エレメント。
【請求項３】
前記ＤＬＣ被覆層は、鉄および／または酸化鉄を含む、請求項１または２に記載の摺動エレメント。
【請求項４】
前記酸化鉄は、ＦｅＯおよび／またはＦｅ３Ｏ４である、請求項３に記載の摺動エレメント。
【請求項５】
前記ＤＬＣ被覆層は、３０原子パーセント以下の鉄含有量を有する、請求項３または４に記載の摺動エレメント。
【請求項６】
前記ＤＬＣ被覆層は、２５原子パーセント以上の炭素含有量を有する、請求項１から５のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項７】
前記ＤＬＣ被覆層は、５０原子パーセント以下の酸素含有量を有する、請求項１から６のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項８】
前記ＤＬＣ被覆層の表面は以下の炭素酸素結合特性を有する、請求項１から７のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
Ｃ−Ｏ結合    ２０原子パーセントから３０原子パーセント
Ｃ＝Ｏ結合    ８原子パーセントから３０原子パーセント、
Ｏ−Ｃ＝Ｏ結合    ６原子パーセントから１０原子パーセント
【請求項９】
前記ＤＬＣ被覆層の表面のＣ＝Ｏ結合は、１０原子パーセントから１５原子パーセントである、請求項８に記載の摺動エレメント。
【請求項１０】
前記コーティングの表面に配置された金属および／または金属酸化物は、５から４０％の表面部分を有する、請求項１から９のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１１】
前記コーティングの表面に配置された金属および／または金属酸化物は、５から２５％の表面部分を有する、請求項１０に記載の摺動エレメント。
【請求項１２】
前記ＤＬＣ被覆層は、２μｍ以下の厚さを有する、請求項１から１１のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１３】
前記ＤＬＣ被覆層は、１μｍ以下の厚さを有する、請求項１２に記載の摺動エレメント。
【請求項１４】
前記ＤＬＣメイン層は、５μｍから４０μｍの厚さを有する、請求項１から１３のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１５】
前記金属含有量および／または酸素含有量および／または前記水素含有量は、前記ＤＬＣ被覆層から外側に向かって増加する、請求項１から１４のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１６】
前記ＤＬＣ層は、１８００から３５００ＨＶ０．０２の硬度を有する、請求項１から１５のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１７】
前記ＤＬＣ層は、１５０から３２０ＧＰａの弾性係数を有する、請求項１から１６のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１８】
前記ＤＬＣ層は、平均粗さの深さＲｚが２μｍ未満であり、減少したピークの高さＲｐｋが０．１５μｍ未満である、請求項１から１７のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項１９】
前記ＤＬＣ層は、平均粗さの深さＲｚが１μｍ未満であり、減少したピークの高さＲｐｋが０．１μｍ未満である、請求項１８に記載の摺動エレメント。
【請求項２０】
前記接着層は０．０５から１．０μｍの厚さを有する、請求項１から１９のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項２１】
前記接着層は、クロムまたはチタンを含む、請求項１から２０のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【請求項２２】
前記摺動エレメントの基材は、鋳鉄または鋼である、請求項１から２１のいずれか一項に記載の摺動エレメント。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月27日(2016.9.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１８００°Ｆ／４５ｋｓｉ（９８２℃／３１０ＭＰａ）において４０００サイクル以上の持続ピーク低サイクル疲労寿命を示す組成物であって、以下の（ａ）〜（ｃ）から選択される組成を有する組成物。
（ａ）６．４重量％のアルミニウム、
５．５重量％のタンタル、
６．０重量％のクロム、
４．０重量％のタングステン、
２．０重量％のモリブデン、
４．０重量％のレニウム、
７．５重量％のコバルト、
０．２０重量％のハフニウム、
０．０２重量％の炭素、
０．００４重量％のホウ素、
残部のニッケル及び不可避不純物からなる組成、
（ｂ）６．０重量％のアルミニウム、
６．５重量％のタンタル、
４．５重量％のクロム、
５．０重量％のタングステン、
２．５重量％のモリブデン、
４．０重量％のレニウム、
１２重量％のコバルト、
０．２０重量％のハフニウム、
０．０２重量％の炭素、
０．００４重量％のホウ素、
残部のニッケル及び不可避不純物からなる組成、
（ｃ）５．８重量％のアルミニウム、
７．０重量％のタンタル、
４．５重量％のクロム、
６．０重量％のタングステン、
２．５重量％のモリブデン、
３．５重量％のレニウム、
１０重量％のコバルト、
０．２０重量％のハフニウム、
０．０２重量％の炭素、
０．００４重量％のホウ素、
残部のニッケル及び不可避不純物からなる組成。
【請求項２】
１８００°Ｆ／４５ｋｓｉ（９８２℃／３１０ＭＰａ）において５０００サイクル以上の持続ピーク低サイクル疲労寿命を示す、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
２０００°Ｆ／２０ｋｓｉ（１０９３℃／１３８ＭＰａ）において１５０時間以上の破断寿命を示す、請求項１又は請求項２に記載の組成物。
【請求項４】
２０００°Ｆ／２０ｋｓｉ（１０９３℃／１３８ＭＰａ）において２００時間以上の破断寿命を示す、請求項１乃至請求項３のいずれか１項に記載の組成物。
【請求項５】
請求項１乃至請求項４のいずれか１項に記載の組成物からなる物品。
【請求項６】
単結晶部品をなす、請求項５に記載の物品。
【請求項７】
前記単結晶部品がガスタービンの動翼（１０）をなす、請求項６に記載の物品。
【請求項８】
ノズル、シュラウド、スプラッシュプレート及び燃焼器部品から選択されるガスタービンエンジン部品をなす、請求項５に記載の物品。
【請求項９】
一方向凝固部品をなす、請求項５に記載の物品。
【請求項１０】
前記一方向凝固部品がガスタービンの動翼（１０）をなす、請求項９に記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月17日(2016.10.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス注入抽出装置であって、
プレートであって、プレートの厚みを貫通する複数の開孔を有し、前記複数の開孔の各開孔は開孔壁を有する、プレートと、
複数のチューブであって、各チューブは前記複数の開孔のうちの１つの中に部分的に配置され、前記チューブの各々の配置された部分は、それが配置されている前記開孔の前記開孔壁の少なくとも一部から間隔を保ち、それによって、前記開孔壁の少なくとも一部と前記チューブの前記配置された部分との間に隙間を形成する、複数のチューブと、
前記チューブの各々と流体結合されたガス供給と、
前記隙間の各々と流体結合された真空源とを含む、ガス注入抽出装置。
【請求項２】
前記開孔は断面が六角形である、請求項１に記載のガス注入抽出装置。
【請求項３】
前記チューブのうちの少なくともいくつかは、共通ガス供給に流体結合されているか、
前記隙間のうちの少なくともいくつかは、共通真空源に流体結合されている、のうちの少なくとも１つである、請求項１に記載のガス注入抽出装置。
【請求項４】
処理チャンバであって、
処理容積を囲み、かつ、前記処理容積の中に配置された基板支持体を有するチャンバ本体と、
前記基板支持体に対向して配置された、請求項１から３のいずれか一項に記載の前記ガス注入抽出装置とを備える、処理チャンバ。
【請求項５】
前記複数のチューブのうちの少なくともいくつかは、共通ガス供給に流体結合されているか、
前記隙間のうちの少なくともいくつかは、共通真空源に流体結合されている、のうちの少なくとも１つである、請求項４に記載の処理チャンバ。
【請求項６】
ガス注入抽出装置を有する処理チャンバであって、
処理容積を囲み、かつ、前記処理容積の中に配置された基板支持体を有するチャンバ本体と、
前記基板支持体の支持面に対向して前記チャンバ本体の中に配置された、第１ガス注入抽出装置とを備え、前記第１ガス注入抽出装置は、
前記基板支持体の前記支持面の少なくとも一部の上方に延在する第１ガス注入導管、
前記第１ガス注入導管に隣接し、かつ、前記基板支持体の前記支持面の少なくとも一部の上方に延在する第１ガス抽出導管、
前記基板支持体の近位の領域に一又は複数のガスを提供するために、前記第１ガス注入導管に流体結合された第１ガス供給、及び、
前記第１ガス抽出導管に流体結合された第１真空源を備える、処理チャンバ。
【請求項７】
更に、
前記基板支持体の前記支持面に対向して前記チャンバ本体の中に配置された、第２ガス注入抽出装置を備え、前記第２ガス注入抽出装置は、
前記基板支持体の前記支持面の少なくとも一部の上方に延在する第２ガス注入導管、
前記第２ガス注入導管に隣接し、かつ、前記基板支持体の前記支持面の少なくとも一部の上方に延在する第２ガス抽出導管、
前記基板支持体の近位の第２領域に一又は複数のガスを提供するために、前記第２ガス注入導管に流体結合された第２ガス供給、及び、
前記第２ガス抽出導管と流体結合された第２真空源を備える、請求項６に記載の処理チャンバ。
【請求項８】
前記第１ガス注入導管と抽出導管、及び、前記第２ガス注入導管と抽出導管は、共線である、請求項７に記載の処理チャンバ。
【請求項９】
前記第１ガス注入導管は前記第２ガス抽出導管と共線であり、かつ、前記第２ガス注入導管は前記第１ガス抽出導管と共線である、請求項８に記載の処理チャンバ。
【請求項１０】
前記第１真空源と前記第２真空源とは共通真空源である、請求項７から９のいずれか一項に記載の処理チャンバ。
【請求項１１】
更に、
前記基板支持体の前記支持面に対向して、前記チャンバ本体の中に配置された第３と第４のガス注入抽出装置をさらに備え、前記第３と第４のガス注入抽出装置は、前記第１と第２のガス注入抽出装置の間に配置され、前記第３と第４のガス注入抽出装置はそれぞれ、
前記基板支持体の前記支持面の少なくとも一部の上方に延在する第３と第４のガス注入導管、
前記第３と第４のそれぞれのガス注入導管に隣接し、かつ、前記基板支持体の前記支持面の少なくとも一部の上方に延在する第３と第４のガス抽出導管、
前記基板支持体の近位の第３及び第４の領域に一又は複数のガスをそれぞれ提供するために、前記第３と第４のガス注入導管にそれぞれ流体結合された第３と第４のガス供給、及び、
前記第３と第４のガス抽出導管にそれぞれ流体結合された第３と第４の真空源を備える、請求項７から９のいずれか一項に記載の処理チャンバ。
【請求項１２】
前記第１、第２、第３、及び第４の真空源は共通真空源である、請求項１１に記載の処理チャンバ。
【請求項１３】
前記第１と第２のガス供給は、基板上に材料層を堆積させるための処理ガス供給であり、前記第３と第４のガス供給は不活性ガス供給である、請求項１２に記載の処理チャンバ。
【請求項１４】
処理チャンバの処理容積内の基板支持体上に配置された基板を処理する方法であって、
前記基板の少なくとも一部の上方に延在するガス注入導管を介して、前記処理容積に第１ガスを提供することと、
前記ガス注入導管に隣接して配置され、かつ、前記基板の少なくとも一部の上方に延在するガス抽出導管を介して、前記処理容積から、少なくともいくらかの余剰第１ガス、及び、あらゆる処理副生成物を除去することと、
前記基板の少なくとも一部の上方に延在する第２ガス注入導管を介して、前記処理容積に第２ガスを提供することと、
前記第２ガス注入導管に隣接して配置され、かつ、前記基板の少なくとも一部の上方に延在する第２ガス抽出導管を介して、前記処理容積から、少なくともいくらかの余剰第２ガス、及び、あらゆる処理副生成物を除去することを含む、方法。
【請求項１５】
前記第１ガスは原子層堆積プロセスのための前駆体ガスを含み、前記第２ガスは、前記前駆体ガスと反応して前記基板上に材料層を形成するための、対応する還元体を含む、請求項１４に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００７】
いくつかの実施形態では、処理チャンバの処理容積内の基板支持体上に配置された基板を処理する方法が提供され、方法は、基板の少なくとも一部の上方に延在するガス注入導管を介して、処理容積に第１ガスを提供することと、ガス注入導管に隣接して配置され、かつ、基板の少なくとも一部の上方に延在するガス抽出導管を介して、処理容積から、少なくともいくらかの余剰第１ガス、及び、あらゆる処理副生成物を除去することと、基板の少なくとも一部の上方に延在する第２ガス注入導管を介して、処理容積に第２ガスを提供することと、第２ガス注入導管に隣接して配置され、かつ、基板の少なくとも一部の上方に延在する第２ガス抽出導管を介して、処理容積から、少なくともいくらかの余剰第２ガス、及び、あらゆる処理副生成物を除去することを含む。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月27日(2016.10.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
(Gd3-x-yLuxCey)(Al5-zGaz-aLua)O12により表される組成を有し実質的にセラミック又は多結晶の構造を備え、300ns未満の減衰時間を有するガーネットシンチレータ材料であって、ｘは0〜0.6の範囲内であり、ｙは0.003〜0.03の範囲内であって0.1モル％〜1.0モル％の範囲内のセリウムの量に対応し、ｚは1.5〜3.5の範囲内であり、ａは0〜0.3の範囲内である、シンチレータ材料。
【請求項２】
当該シンチレータ材料の母材が(Gd2.7-yLu0.3Cey)(Al2.5Ga2.47Lu0.03)O12により表された組成を有するガーネットであり、ｙは0.003〜0.03の範囲内であって0.1モル％〜1.0モル％の範囲内のセリウムの量に対応する、請求項１に記載のシンチレータ材料。
【請求項３】
300ns未満の減衰時間を有する、請求項２に記載のシンチレータ材料。
【請求項４】
前記組成が、当該組成物密度が５〜８g/cm3の範囲内となるように制御される、請求項１ないし３の何れか一項に記載のシンチレータ材料。
【請求項５】
光検出器に光学的に通じる請求項１ないし４の何れか一項に記載のシンチレータ材料を有する、ガンマ光子検出器。
【請求項６】
前記光検出器が５cm2未満の作用面積を有する、請求項５に記載のガンマ光子検出器。
【請求項７】
ガンマ光子受信面積が５cm2未満である、請求項５に記載のガンマ光子検出器。
【請求項８】
前記光検出器が光増倍管（ＰＭＴ）検出器である、請求項５ないし７の何れか一項に記載のガンマ光子検出器。
【請求項９】
前記ＰＭＴ検出器のピーク光応答性が４５０ｎｍ〜７００ｎｍの範囲内にある、請求項８に記載のガンマ光子検出器。
【請求項１０】
前記光検出器が固体半導体光検出器である、請求項５ないし７の何れか一項に記載のガンマ光子検出器。
【請求項１１】
前記固体半導体光検出器が構造n+-i-p+を有するシリコン検出器であり、n+層がp+層より前記シンチレータ材料との界面の近くに配置される、請求項１０に記載のガンマ光子検出器。
【請求項１２】
撮像領域を有すると共に、請求項５ないし１１の何れか一項に記載のガンマ光子検出器を少なくとも２つ有するＰＥＴ撮像システムであって、前記ガンマ光子検出器は前記撮像領域の半径方向周囲に配置されて、該撮像領域からのガンマ光子を受信する、ＰＥＴ撮像システム。
【請求項１３】
飛行時間（ＴＯＦ）型ＰＥＴ撮像システムである、請求項１２に記載のＰＥＴ撮像システム。
【請求項１４】
撮像領域を有するＰＥＴ撮像システムであって、
前記撮像領域の半径方向周囲に配置されて、該撮像領域からガンマ光子を受信する複数のガンマ光子検出器、
を有し、
各ガンマ光子検出器は、光増倍管光検出器と光学的に通じる請求項１ないし４の何れか一項に記載のシンチレータ材料を有し、
当該ＰＥＴ撮像システムが３３cm2未満のガンマ光子読出面積を有する、
ＰＥＴ撮像システム。
【請求項１５】
撮像領域を有するＰＥＴ撮像システムであって、
前記撮像領域の半径方向周囲に配置されて、該撮像領域からガンマ光子を受信する複数のガンマ光子検出器、
を有し、
各ガンマ光子検出器は、固体半導体光検出器と光学的に通じる請求項１ないし４の何れか一項に記載のシンチレータ材料を有し、
当該ＰＥＴ撮像システムが１０cm2未満のガンマ光子読出面積を有する、
ＰＥＴ撮像システム。
【請求項１６】
撮像領域内の放射性トレーサの分布を示すＰＥＴ画像を発生する方法であって、
被検体に放射性トレーサを投与するステップと、
前記放射性トレーサを投与した後、所定の取り込み期間の間待つステップと、
前記被検体の少なくとも一部を請求項１２ないし１５の何れか一項に記載のＰＥＴ撮像システムにより撮像するステップと、
を有する、方法。
【請求項１７】
少なくとも１つのガンマ光子を検出する方法であって、
請求項１ないし３の何れか一項に記載のシンチレータ材料により少なくとも１つのガンマ光子を受入するステップと、
前記シンチレータ材料により発生されたシンチレーション光を、該シンチレータ材料と光学的に通じる光検出器により検出するステップと、
前記少なくとも１つの受入されたガンマ光子に応答して、前記光検出器から電気的出力を発生するステップと、
を有する、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月3日(2016.8.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）３０〜９０重量部のシリコーンポリマー、
ｂ）１０〜７０重量部のシリケート粘着付与剤、及び
ｃ）０．１〜５重量部のハロメチル−１，３，５−トリアジンからなり、これらの合計が１００重量部である、放射線硬化性接着剤組成物であって、
前記シリコーンポリマーが、式（Ｉ）又は式（ＩＩ）で表される化合物から選択される、放射線硬化性接着剤組成物。
【化１】
2016502580.tif 000001
［式中、Ｒ３がそれぞれ独立に、アルキル、アリール又はアルコキシ基であり、
Ｒ４が、Ｈ、アルキル、アリールもしくはアルコキシ基であるか、エポキシ、アミンもしくはヒドロキシ基を含む官能性基であるか、又は−Ｓｉ（Ｒ３）２Ｒ５であり、
Ｒ５が、Ｈ、アルキル、アリールもしくはアルコキシ基であるか、エポキシ、アミンもしくはヒドロキシ基を含む官能性基であるか、又は−Ｓｉ（Ｒ３）２Ｒ５であり、
Ｒ６が、Ｈ、アルキル、アリールもしくはアルコキシ基であるか、エポキシ、アミンもしくはヒドロキシ基を含む官能性基であるか、又は−Ｓｉ（Ｒ３）２Ｒ５であり、
ｙが０〜２０であり、
ｘが少なくとも１０である。］
【化２】
2016502580.tif 000002
［式中、各Ｒ７が独立に、アルキル、アルコキシ、アリール又は官能性基であり、ただし、少なくとも１つのＲ７が、ヒドリド基、アミン基、ヒドロキシ基及びエポキシ基からなる群から選択される官能性基であり、残りのＲ７が非官能性基であり、かつｚが少なくとも１０であることを条件とする。］
【請求項２】
前記ハロメチル−１，３，５−トリアジンが下記式のものである、請求項１に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【化３】
2016502580.tif 000003
［式中、Ａは、モノ−、ジ−又はトリハロメチルであり、
Ｂが、Ａ、−Ｎ（Ｒ１）２、−ＯＲ１、Ｒ１、Ｌ−Ｒ増感剤又は−Ｌ−ＲＰＩであり、Ｒ１がアルキル又はアリールであり、
Ｚが、共役発色団、Ｌ−Ｒ増感剤又は−Ｌ−ＲＰＩであり、
Ｌが、共有結合又は（ヘテロ）ヒドロカルビル連結基であり、
Ｒ増感剤が化学線を吸収することができる増感剤部分であり、
ＲＰＩが、化学線に曝露されるとフリーラジカル重合又はイオン鎖重合を開始できる光開始剤残基である。］
【請求項３】
Ａ及びＢがトリクロロメチルである、請求項２に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項４】
Ｚがアリール基である、請求項２に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項５】
Ｚが、下記式のものである、請求項４に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【化４】
2016502580.tif 000004
［式中、各Ｒ８が独立に、Ｈ、アルキル又はアルコキシであり、かつ１〜３個の前記Ｒ８がＨである。］
【請求項６】
Ｚが、下記式のものである、請求項２に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【化５】
2016502580.tif 000005
［式中、各Ｒ９が独立に、Ｈ、アルキル又はアルコキシである。］
【請求項７】
Ｚが、Ｌ−Ｒ増感剤であり、
Ｌが、トリアジン核の前記発色団が直接に共有結合で又は共役結合を介して前記増感剤部分Ｒ増感剤の前記発色団に付着されないことを条件として、前記増感剤部分を前記トリアジン核に連結する（ヘテロ）ヒドロカルビル基を示し、
Ｒ増感剤が、シアニン基、カルボシアニン基、スチリル基、アクリジン基、多環式芳香族炭化水素基、ポリアリールアミン基又はアミノ置換カルコン基を示す、請求項２に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項８】
Ｚが、Ｌ−ＲＰＩ［式中、Ｌが、前記増感剤部分をトリアジン核に連結する（ヘテロ）ヒドロカルビル基を示し、ＲＰＩが水素−抽出型の光開始剤基を示す。］である、請求項２に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項９】
前記シリコーンがポリ（ジアルキルシロキサン）である、請求項１に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項１０】
前記シリコーンがヒドロキシ末端ポリ（ジアルキルシロキサン）である、請求項１に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項１１】
前記シリコーンがアミン末端ポリ（ジアルキルシロキサン）である、請求項１に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項１２】
前記シリコーンが３０，０００〜２０×１０６センチストークスの動粘度係数を有する、請求項１に記載の放射線硬化性接着剤組成物。
【請求項１３】
基材上に、請求項１に記載の放射線硬化性接着剤組成物を含む、硬化済み接着剤コーティング。
【請求項１４】
周波数１Ｈｚにおけるモジュラスが３×１０６ダイン／ｃｍ未満である、請求項１３に記載の硬化済み接着剤コーティング。