(57)【要約】【課題】  変位量の低下の小さな液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子を提供する。【解決手段】  圧電体層７０および前記圧電体層７０に設けられた電極を具備する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドＩであって、前記圧電体層７０は、ニッケル酸ランタン膜の上方に設けられ、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、前記圧電素子の電流電圧特性における電流のピーク位置が２８Ｖ〜３２Ｖの範囲にある。【選択図】  図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
圧電体層および前記圧電体層に設けられた電極を具備する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドであって、
前記圧電体層は、ニッケル酸ランタン膜の上方に設けられ、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、
前記圧電素子の電流電圧特性における電流のピーク位置が２８Ｖ〜３２Ｖの範囲にあることを特徴とする液体噴射ヘッド。
【請求項２】
請求項１に記載の液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置。
【請求項３】
圧電体層と前記圧電体層に設けられた電極とを具備する圧電素子であって、
前記圧電体層は、ニッケル酸ランタン膜の上方に設けられ、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、
前記圧電素子の電流電圧特性における電流のピーク位置が２８Ｖ〜３２Ｖの範囲にあることを特徴とする圧電素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
圧電素子を用いた液体噴射ヘッドとしては、例えば、インク滴を吐出するノズル開口と連通する圧力発生室の一部を振動板で構成し、この振動板を圧電素子により変形させて圧力発生室のインクを加圧してノズル開口からインク滴を吐出させるインクジェット式記録ヘッドがある。このようなアクチュエーターでは、高密度に配置するために、小さな駆動電圧で大きな歪みを得ることができる圧電素子、すなわち変位の大きな圧電素子が求められている。
【０００３】
このような圧電素子は、長期間に亘る使用により変位量が低下してしまうという問題がある。このため、実使用前に、実使用持の電圧より高電圧の電圧を印加するエージング処理を行って変位量の低下を図り、その後の実使用の際の変位量の低下を低減することが行われている（特許文献１など参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２０２８４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
かかるエージング処理は、破壊の有無を確認するなどの信頼性を確認するスクリーニングの目的もあり広く用いられているが、エージング処理により変位量は低下してしまうため、更なる改善が求められている。
【０００６】
なお、このような問題は、インクジェット式記録ヘッドに代表される液体噴射ヘッドに限定されず、他の圧電素子においても同様に存在する。
【０００７】
本発明はこのような事情に鑑み、長期使用によっても変位量の低下の小さな液体噴射ヘッド、液体噴射装置及び圧電素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
上記課題を解決する本発明の態様は、圧電体層および前記圧電体層に設けられた電極を具備する圧電素子を備えた液体噴射ヘッドであって、前記圧電体層は、ニッケル酸ランタン膜の上方に設けられ、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、前記圧電素子の電流電圧特性における電流のピーク位置が２８Ｖ〜３２Ｖの範囲にあることを特徴とする液体噴射ヘッドにある。
かかる態様では、エージング処理による変位量の低下が小さく、変位特性に優れた圧電素子を備える液体噴射ヘッドとすることができる。
【０００９】
本発明の他の態様は、上記液体噴射ヘッドを具備することを特徴とする液体噴射装置にある。
かかる態様では、変位特性に優れた圧電素子を具備するため、信頼性に優れた液体噴射装置を実現することができる。
【００１０】
本発明の他の態様は、圧電体層および前記圧電体層に設けられた電極を具備する圧電素子であって、前記圧電体層は、ニッケル酸ランタン膜の上方に設けられ、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含むペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなり、前記圧電素子の電流電圧特性における電流のピーク位置が２８Ｖ〜３２Ｖの範囲にあることを特徴とする圧電素子にある。
かかる態様では、変位特性に優れた圧電素子とすることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】実施形態１に係る記録ヘッドの概略構成を示す分解斜視図である。
【図２】実施形態１に係る記録ヘッドの平面図及び断面図である。
【図３】試験例１の結果を示すＩ−Ｖ曲線である。
【図４】試験例２の結果を示すグラフである。
【図５】本発明の一実施形態に係る記録装置の概略構成を示す図である。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
（実施形態１）
図１は、本発明の実施形態１に係る液体噴射ヘッドの一例であるインクジェット式記録ヘッドの分解斜視図であり、図２は、図１の平面図及びそのＡ−Ａ′線断面図である。
【００１３】
図示するように、流路形成基板１０は、本実施形態では面方位（１１０）のシリコン単結晶基板からなり、その一方の面には、振動板を構成する二酸化シリコンからなる厚さ０．５〜２μｍの弾性膜５０が形成されている。
【００１４】
流路形成基板１０には、一方の面とは反対側の面となる他方面側から異方性エッチングすることにより、圧力発生室１２が形成されている。そして、複数の隔壁１１によって区画された圧力発生室１２が同じ色のインクを吐出する複数のノズル開口２１が並設される方向に沿って並設されている。以降、この方向を圧力発生室１２の並設方向、又は第１方向と称し、これと直交する方向を第２方向と称する。また、流路形成基板１０の圧力発生室１２の第２方向の一端部側には、インク供給路１４と連通路１５とが隔壁１１によって区画されている。また、連通路１５の一端には、各圧力発生室１２の共通のインク室（液体室）となるマニホールド１００の一部を構成する連通部１３が形成されている。すなわち、流路形成基板１０には、圧力発生室１２、インク供給路１４、連通路１５及び連通部１３からなる液体流路が設けられている。
【００１５】
インク供給路１４は、圧力発生室１２の第２方向一端部側に連通し且つ圧力発生室１２より小さい断面積を有する。例えば、本実施形態では、インク供給路１４は、マニホールド１００と各圧力発生室１２との間の圧力発生室１２側の流路を幅方向に絞ることで、圧力発生室１２の幅より小さい幅で形成されている。なお、このように、本実施形態では、流路の幅を片側から絞ることでインク供給路１４を形成したが、流路の幅を両側から絞ることでインク供給路を形成してもよい。また、流路の幅を絞るのではなく、厚さ方向から絞ることでインク供給路を形成してもよい。さらに、各連通路１５は、インク供給路１４の圧力発生室１２とは反対側に連通し、インク供給路１４の幅方向（第１方向）より大きい断面積を有する。本実施形態では、連通路１５を圧力発生室１２と同じ断面積で形成した。
【００１６】
すなわち、流路形成基板１０には、圧力発生室１２と、インク供給路１４と、連通路１５とが複数の隔壁１１により区画されて設けられている。また、流路形成基板１０の圧力発生室１２の一方面は、振動板を構成する弾性膜５０によって画成されている。
【００１７】
一方、流路形成基板１０の圧力発生室１２等の液体流路が開口する一方面側には、各圧力発生室１２のインク供給路１４とは反対側の端部近傍に連通するノズル開口２１が穿設されたノズルプレート２０が、接着剤や熱用着フィルム等を介して接合されている。なお、ノズルプレート２０は、例えば、ガラスセラミックス、シリコン単結晶基板、ステンレス鋼等からなる。
【００１８】
一方、流路形成基板１０の開口面とは反対側には、上述したように、二酸化シリコンからなり厚さが例えば、約１．０μｍの弾性膜５０が形成され、この弾性膜５０上には、例えば、酸化ジルコニウム（ＺｒＯ２）等からなる絶縁体膜５５が積層形成されている。
【００１９】
また、絶縁体膜５５上には、第１電極６０と、第１電極６０の上方に設けられて厚さが３μｍ以下、好ましくは０．３〜１．５μｍの薄膜である圧電体層７０と、圧電体層７０の上方に設けられた第２電極８０とが、積層形成されて、圧電素子３００を構成している。なお、ここで言う上方とは、直上だけでなく、間に他の部材が介在した状態も含むものである。ここで、圧電素子３００は、第１電極６０、圧電体層７０、及び第２電極８０を含む部分をいう。
【００２０】
圧電素子３００は、一般的には、何れか一方の電極を共通電極とし、他方の電極をそれぞれ独立する個別電極とする。本実施形態では、圧電素子３００の実質的な駆動部となる各圧電体能動部の個別電極として第１電極６０を設け、複数の圧電体能動部に共通する共通電極として第２電極８０を設けるようにした。ここで、両電極への電圧の印加により圧電歪みが生じる部分を圧電体能動部といい、圧電体能動部から連続するが第１電極６０と第２電極８０に挟まれておらず、電圧駆動されない部分を圧電体非能動部という。
【００２１】
なお、上述した例では、弾性膜５０、絶縁体膜５５、及び第１電極６０が圧電素子３００と共に変形する振動板として作用するが、勿論これに限定されるものではなく、例えば、弾性膜５０及び絶縁体膜５５を設けずに、第１電極６０のみが振動板として作用するようにしてもよい。例えば、弾性膜５０のみを振動板とした場合、絶縁体膜５５を設けた場合よりも剛性が低いため、変位量を大きくすることができる。
【００２２】
ここで、図２（ｂ）に示すように、本実施形態の第１電極６０は、例えば、白金からなる配線層６１と、配線層６１上に形成されたニッケル酸ランタン層（ＬＮＯ層）６２との二層から構成されるものである。
【００２３】
かかるニッケル酸ランタン層６２は、所定のニッケル酸ランタン膜形成用組成物、具体的には、少なくとも酢酸ランタン、酢酸ニッケル、酢酸、及び水を混合して混合溶液を得た後、混合溶液を加熱することにより得られたニッケル酸ランタン膜形成用組成物を用いて化学溶液法により形成されているものである。化学溶液法（ＣＳＤ法：Chemical Solution Deposition）とは、ニッケル酸ランタン膜形成用組成物を塗布してニッケル酸ランタン前駆体膜を形成する工程と、ニッケル酸ランタン前駆体膜を加熱することにより結晶化させてニッケル酸ランタン膜を形成する工程と、を備えるものであり、例えば、ゾル−ゲル法、ＭＯＤ法等が挙げられる。このニッケル酸ランタン膜形成用組成物により形成されたニッケル酸ランタン膜は、（００１）面又は（１００）面に優先配向（自然配向）する。
【００２４】
上述したように、ニッケル酸ランタン層６２は、結晶の配向面が（００１）面又は（１００）面に優先配向（自然配向）している。ニッケル酸ランタンとしては、ＬａＮｉＯ３、Ｌａ３Ｎｉ２Ｏ６、ＬａＮｉＯ２、Ｌａ２ＮｉＯ４、Ｌａ３Ｎｉ２Ｏ７、Ｌａ４Ｎｉ３Ｏ１０等が挙げられ、本実施形態では、ＬａＮｉＯ３を用い、（００１）面に優先配向したものとした。
【００２５】
そして、上述したニッケル酸ランタン膜形成用組成物を用いて化学溶液法により形成されたニッケル酸ランタン層６２は、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含みペロブスカイト型構造を有する圧電体層７０の配向制御層として機能する。このニッケル酸ランタン層６２は、例えば、チタンからなる配向制御層と比較して、圧電体層７０の配向率を著しく向上させることができる。すなわち、ニッケル酸ランタン層６２は、チタンからなる配向制御層と比較して、配向制御性が著しく高いものである。さらに、ニッケル酸ランタン層６２は、チタンのように低誘電率層となることがなく、圧電素子３００の圧電特性の低下を抑制することができる。また、ニッケル酸ランタン層６２は、例えば、スパッタリング法により形成されたニッケル酸ランタン層や、他のニッケル酸ランタン膜形成用組成物を用いて化学溶液法により形成されたニッケル酸ランタン層と比較して、圧電体層７０の配向率を著しく向上させることができるが、スパッタリング法などの気相法により成膜してもよい。
【００２６】
また、本実施形態では、配線層６１は、白金からなる白金層としたが、これに限定されず、例えば、イリジウム、酸化イリジウムを含む酸化イリジウム層、白金層と酸化イリジウム層の積層構造等が挙げられる。
【００２７】
配線層６１の厚さは特に限定されないが、例えば、１０〜３００ｎｍ程度とすればよい。また、ニッケル酸ランタン層６２の厚さも特に限定されないが、例えば１０〜１００ｎｍ程度とすればよい。本実施形態では、配線層６１の厚さを１００ｎｍとし、ニッケルランタン層の厚さを４０ｎｍとした。
【００２８】
また、圧電体層７０は、Ｐｂ、Ｔｉ及びＺｒを少なくとも含みペロブスカイト型構造を有する複合酸化物からなるものである。圧電体層７０としては、例えば、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）や、これにニオブ、ニッケル、マグネシウム、ビスマス又はイットリウム等の金属を添加したリラクサ強誘電体等が用いられる。本実施形態の圧電体層７０は、チタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）からなる。
【００２９】
圧電体層７０は、ペロブスカイト構造、すなわちＡＢＯ３型構造を有する複合酸化物であることが好ましい。なお、ペロブスカイト構造は、Ａサイトは酸素が１２配位しており、また、Ｂサイトは酸素が６配位して８面体（オクタヘドロン）をつくっている構造である。
【００３０】
上述したように、所定のニッケル酸ランタン膜形成用組成物を用いて化学溶液法により形成されたニッケル酸ランタン層６２上に、圧電体層７０を設けることにより、後述するように（試験例等参照）、変位特性に優れた圧電素子３００とすることができる。
【００３１】
第２電極８０としては、Ｉｒ，Ｐｔ，タングステン（Ｗ），タンタル（Ｔａ），モリブデン（Ｍｏ）等の各種金属の何れでもよく、また、これらの合金や、酸化イリジウム等の金属酸化物が挙げられる。
【００３２】
このような各圧電素子３００の第２電極８０には、インク供給路１４側の端部近傍から引き出され、流路形成基板１０の絶縁体膜５５上に延設された金（Ａｕ）等のリード電極９０がそれぞれ接続されている。このリード電極９０を介して各圧電素子３００に選択的に電圧が印加される。
【００３３】
本実施形態の圧電素子３００は、その電流電圧特性で電流のピークを有し、ピーク位置が２８Ｖ〜３２Ｖの範囲にある。このような電流電圧特性が得られるように、ニッケル酸ランタン層６２上に圧電体層７０を設けることにより、エージング処理による変位量の低下が低減し、結果的に変位量の大きな圧電素子３００が実現できる。
【００３４】
ここで、圧電素子３００の電流電圧特性は、圧電体層７０の下地の種類、圧電体層７０の組成、焼成温度などの製造条件により変化するので、下地は、ニッケル酸ランタン層とし、圧電体層７０を成膜した後、圧電素子３００として電流電圧特性を測定して確認する以外にないが、圧電体層７０の組成や製造条件を決定すれば、本発明の範囲に包含する圧電素子３００を容易に製造することができる。
【００３５】
例えば、後述する試験例で示すように、圧電素子のＰｂの含有量の変化で電流電圧特性の電流のピーク位置が変化し、後述する製造条件では、Ｚｒ／Ｔｉ＝５２／４８とし、Ｐｂ／（Ｚｒ＋Ｔｉ）＝１．１８〜１．２１とＰｂ過剰とした組成のチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）は、電流のピーク位置が２８〜３２Ｖに位置し、エージング処理による変位量の低下が他の組成のチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）と比較して著しく小さいことが確認された。
【００３６】
このような圧電素子３００が形成された流路形成基板１０上、すなわち、第１電極６０、絶縁体膜５５及びリード電極９０上には、マニホールド１００の少なくとも一部を構成するマニホールド部３１を有する保護基板３０が接着剤３５を介して接合されている。このマニホールド部３１は、本実施形態では、保護基板３０を厚さ方向に貫通して圧力発生室１２の幅方向に亘って形成されており、上述のように流路形成基板１０の連通部１３と連通されて各圧力発生室１２の共通のインク室となるマニホールド１００を構成している。
【００３７】
また、保護基板３０の圧電素子３００に対向する領域には、圧電素子３００の運動を阻害しない程度の空間を有する圧電素子保持部３２が設けられている。圧電素子保持部３２は、圧電素子３００の運動を阻害しない程度の空間を有していればよく、当該空間は密封されていても、密封されていなくてもよい。
【００３８】
このような保護基板３０としては、流路形成基板１０の熱膨張率と略同一の材料、例えば、ガラス、セラミック材料等を用いることが好ましく、本実施形態では、流路形成基板１０と同一材料のシリコン単結晶基板を用いて形成した。
【００３９】
また、保護基板３０には、保護基板３０を厚さ方向に貫通する貫通孔３３が設けられている。そして、各圧電素子３００から引き出されたリード電極９０の端部近傍は、貫通孔３３内に露出するように設けられている。
【００４０】
また、保護基板３０上には、並設された圧電素子３００を駆動するための駆動回路１２０が固定されている。この駆動回路１２０としては、例えば、回路基板や半導体集積回路（ＩＣ）等を用いることができる。そして、駆動回路１２０とリード電極９０とは、ボンディングワイヤー等の導電性ワイヤーからなる接続配線１２１を介して電気的に接続されている。
【００４１】
また、このような保護基板３０上には、封止膜４１及び固定板４２とからなるコンプライアンス基板４０が接合されている。ここで、封止膜４１は、剛性が低く可撓性を有する材料（例えば、厚さが６μｍのポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）フィルム）からなり、この封止膜４１によってマニホールド部３１の一方面が封止されている。また、固定板４２は、金属等の硬質の材料（例えば、厚さが３０μｍのステンレス鋼（ＳＵＳ）等）で形成される。この固定板４２のマニホールド１００に対向する領域は、厚さ方向に完全に除去された開口部４３となっているため、マニホールド１００の一方面は可撓性を有する封止膜４１のみで封止されている。
【００４２】
このような本実施形態のインクジェット式記録ヘッドでは、図示しない外部インク供給手段と接続したインク導入口からインクを取り込み、マニホールド１００からノズル開口２１に至るまで内部をインクで満たした後、駆動回路１２０からの記録信号に従い、圧力発生室１２に対応するそれぞれの第１電極６０と第２電極８０との間に電圧を印加し、弾性膜５０、絶縁体膜５５、第１電極６０及び圧電体層７０をたわみ変形させることにより、各圧力発生室１２内の圧力が高まりノズル開口２１からインク滴が吐出する。
【００４３】
以下、試験例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。
（試験サンプル１〜６）
上述した実施形態の構成で、ニッケル酸ランタン層６２を除いて配線層６１上に、Ｚｒ／Ｔｉ＝５２／４８とし、Ｐｂ／（Ｚｒ＋Ｔｉ）＝１．１８となる組成のチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）からなる圧電体層７０を形成したものを試験サンプル１とした。
【００４４】
また、上述した実施形態と同様に、ニッケル酸ランタン層６２上に、Ｚｒ／Ｔｉ＝５２／４８とし、Ｐｂ／（Ｚｒ＋Ｔｉ）を、１．１２、１．１５、１．１８、１．２１としたチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）からなる圧電体層７０を形成したものを試験サンプル２〜５とした。
【００４５】
さらに、上述した実施形態の構成で、ニッケル酸ランタン層（ＬＮＯ）６２上に、Ｚｒ／Ｔｉ＝４６／５４とし、Ｐｂ／（Ｚｒ＋Ｔｉ）＝１．１８となる組成のチタン酸ジルコン酸鉛（ＰＺＴ）からなる圧電体層７０を形成したものを試験サンプル６とした。
【００４６】
（試験例１）Ｉ−Ｖ曲線測定
試験サンプル１〜６の各圧電素子について、ヒューレットパッカード社製「４１４０Ｂ」を用い、室温（２５℃）でＨｏｌｄ Ｔｉｍｅを０．５秒、ＤｅｌａｙＴｉｍｅを２秒に設定し、２Ｖ毎に電圧を印加して、電流密度と電圧との関係（Ｉ−Ｖ曲線）を求めた。試験サンプル１〜６の結果を図３に示す。また、Ｉ−Ｖ曲線の電流密度のピーク電圧を表１に示す。
【００４７】
この結果、試験サンプル１ではピーク電圧が観察されず、また、試験サンプル２〜６ではピーク電圧の位置が異なることがわかった。
【００４８】
（試験例２）エージング後の変位量測定
試験サンプル１〜６の圧電素子について、４５Ｖ電圧を０．５時間連続印加するエージングを行った後、エージング後の初期と、最大電圧が２５Ｖの通常の駆動波形を１９０億回印加後において、グラフテック社製の変位測定装置（レーザードップラー変位計）を用い室温（２５℃）で、電極面積２７３００μｍ２のパターンを用いて、周波数１ｋＨｚで−２〜２５Ｖの電圧を印加して、変位量を求めた。駆動パルス印加後の変位量はエージング後の初期を基準とした変化率（低下率）で表した。この結果を表１に示す。
また、試験例１のピーク電圧と変位量の変化率との関係を図４に示す。
【００４９】
この結果、試験サンプル４、５では、変化率が著しく小さいことがわかった。また、試験サンプル４、５は、ニッケル酸ランタン（ＬＮＯ）層上に圧電体層が設けられ、ピーク電圧は２８Ｖ、３２Ｖであるが、ニッケル酸ランタン（ＬＮＯ）層上に圧電体層が設けられ、ピーク電圧が２６Ｖの試験サンプル６では変化率が１９％と大きかった。
【００５０】
この結果、圧電体層７０の下地はニッケル酸ランタン層であり、電流電圧特性の電流密度のピーク電圧が２８Ｖ〜３２Ｖの場合、エージング後の変位量の変化が著しく小さいことがわかった。すなわち、この場合、実使用時において、変位が安定した状態で長期間に亘って使用できることがわかった。
【００５１】
【表１】
2013162064.tif 000003
【００５２】
（他の実施形態）
以上、本発明の一実施形態について説明したが、本発明は上述したものに限定されるものではない。例えば、実施形態１では、第１電極６０が配線層６１を備えるものとしたが、配線層６１を設けなくてもよい。
【００５３】
また、流路形成基板１０として、シリコン単結晶基板を例示したが、特にこれに限定されず、例えば、ＳＯＩ基板、ガラス等の材料を用いるようにしてもよい。
【００５４】
これら実施形態のインクジェット式記録ヘッドは、インクカートリッジ等と連通するインク流路を具備する記録ヘッドユニットの一部を構成して、インクジェット式記録装置に搭載される。図５は、そのインクジェット式記録装置の一例を示す概略図である。
【００５５】
図５に示すインクジェット式記録装置ＩＩにおいて、インクジェット式記録ヘッドＩを有する記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、インク供給手段を構成するカートリッジ２Ａ及び２Ｂが着脱可能に設けられ、この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３は、装置本体４に取り付けられたキャリッジ軸５に軸方向移動自在に設けられている。この記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂは、例えば、それぞれブラックインク組成物及びカラーインク組成物を吐出するものとしている。
【００５６】
そして、駆動モーター６の駆動力が図示しない複数の歯車およびタイミングベルト７を介してキャリッジ３に伝達されることで、記録ヘッドユニット１Ａ及び１Ｂを搭載したキャリッジ３はキャリッジ軸５に沿って移動される。一方、装置本体４にはキャリッジ軸５に沿ってプラテン８が設けられており、図示しない給紙ローラーなどにより給紙された紙等の記録媒体である記録シートＳがプラテン８に巻き掛けられて搬送されるようになっている。
【００５７】
なお、上述した実施形態では、液体噴射ヘッドの一例としてインクジェット式記録ヘッドを挙げて説明したが、本発明は広く液体噴射ヘッド全般を対象としたものであり、インク以外の液体を噴射する液体噴射ヘッドにも勿論適用することができる。その他の液体噴射ヘッドとしては、例えば、プリンター等の画像記録装置に用いられる各種の記録ヘッド、液晶ディスプレイ等のカラーフィルターの製造に用いられる色材噴射ヘッド、有機ＥＬディスプレイ、ＦＥＤ（電界放出ディスプレイ）等の電極形成に用いられる電極材料噴射ヘッド、バイオｃｈｉｐ製造に用いられる生体有機物噴射ヘッド等が挙げられる。
【００５８】
また、本発明にかかる圧電素子は、液体噴射ヘッドに用いられる圧電素子に限定されず、その他のデバイスにも用いることができる。その他のデバイスとしては、例えば、超音波発信器等の超音波デバイス、超音波モーター、温度−電気変換器、圧力−電気変換器、強誘電体トランジスター、圧電トランス、赤外線等の有害光線の遮断フィルター、量子ドット形成によるフォトニック結晶効果を使用した光学フィルター、薄膜の光干渉を利用した光学フィルター等のフィルター等が挙げられる。また、センサーとして用いられる圧電素子、強誘電体メモリーとして用いられる圧電素子にも本発明は適用可能である。圧電素子が用いられるセンサーとしては、例えば、赤外線センサー、超音波センサー、感熱センサー、圧力センサー、焦電センサー、及びジャイロセンサー（角速度センサー）等が挙げられる。
【符号の説明】
【００５９】
Ｉ  インクジェット式記録ヘッド（液体噴射ヘッド）、II  インクジェット式記録装置（液体噴射装置）、  １０  流路形成基板、  １２  圧力発生室、  １３  連通部、  １４  インク供給路、  １５  連通路、  ２０  ノズルプレート、  ２１  ノズル開口、  ３０  保護基板、  ４０  コンプライアンス基板、  ５０  弾性膜、  ５５  絶縁体膜、  ６０  第１電極、  ７０  圧電体層、  ８０  第２電極、  ９０  リード電極、  １００  マニホールド、  １２０  駆動回路、  ３００  圧電素子
【図１】
2013162064.tif 000004
【図２】
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【図４】
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【図５】
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【図３】
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