【手続補正書】
【提出日】平成28年8月31日(2016.8.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリアミド溶液であって、
当該ポリアミド溶液は、芳香族コポリアミド及び有機溶媒を含み、
前記芳香族コポリアミドは少なくとも２つの繰り返し単位を含み、前記繰り返し単位の少なくとも１つは、１つ以上のフリーカルボン酸基を有し、
前記カルボン酸含有繰り返し単位の量は、繰り返し単位全体の１モル％よりも多く、３０モル％よりも少ない、ポリアミド溶液。
【請求項２】
前記有機溶媒は極性溶媒又は１つ以上の極性溶媒を含む混合溶媒である、請求項１に記載のポリアミド溶液。
【請求項３】
前記芳香族コポリアミドは、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される繰り返し構造を含む、請求項１または２に記載のポリアミド溶液：
【化１】
2016500128.tif 000001
ｎ＝１から４、
Ｘは、前記芳香族コポリアミド中の前記繰り返し構造（Ｉ）のモル分率であって、Ｘは７０％から９９％であり、Ｙは前記芳香族コポリアミド中の前記繰り返し構造（ＩＩ）のモル分率であって、Ｙは１％から３０％であり、
Ａｒ1は
【化２】
2016500128.tif 000002
からなる群から選択され、ｐ＝４、ｑ＝３、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール又はハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ1は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ2は
【化３】
2016500128.tif 000003
からなる群から選択され、ｐ＝４、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ2は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ3は、
【化４】
2016500128.tif 000004
からなる群から選択され、ｍ＝１又は２、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
【請求項４】
前記繰り返し構造（Ｉ）は、４，４'−ジアミノジフェン酸又は３，５―ジアミノ安息香酸を少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させることにより形成される、請求項３に記載のポリアミド溶液。
【請求項５】
前記芳香族コポリアミドは、複数の前記繰り返し構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を含み、Ａｒ1、Ａｒ2、及びＡｒ3は同一であるか又は異なる、請求項３または４に記載のポリアミド溶液。
【請求項６】
前記繰り返し構造（ＩＩ）は、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルベンジジン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオリン、９，９−ビス（３−フルオロ−４−アミノフェニル）フルオリン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメトキシルベンジジン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルジフェニルエーテル、ビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ベンゼン、及びビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ビフェニルからなる群から選択される芳香族ジアミンを少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させることにより形成される、請求項３から５のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項７】
前記有機溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、又は、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ），およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）から選択される少なくとも１つを含む、請求項１から６のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項８】
前記少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドは、テレフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジクロリド、２，６−ナフタル酸ジクロリド、及び４，４，−ビフェニルジカルボニルジクロリドからなる群から選択される、請求項４から６のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項９】
前記芳香族コポリアミドの末端の−ＣＯＯＨ基及び−ＮＨ2基の一方又は双方はエンドキャップされている、請求項１から８のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項１０】
支持材に塗布し、前記支持材上にポリアミドフィルムを形成するために用いられる、請求項１から１０のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項１１】
請求項１から１０のいずれかに記載のポリアミド溶液を、支持材に塗布する工程と、
前記支持材上にポリアミドフィルムを成膜する工程と、
前記ポリアミドフィルム上に、ディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子を形成する工程と、
を含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項１２】
ポリアミドフィルムを成膜する前記工程が、溶液キャスト法により実施される、請求項１１に記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項１３】
前記支持材が、ガラス、金属、シリコン、または樹脂からなる、請求項１１または１２に記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項１４】
ポリアミドフィルム上に、ディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子を形成する前記工程の後、前記支持材を剥離する工程をさらに含む、請求項１１から１３のいずれかに記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項１５】
フィルムの形態に成膜した後、当該フィルムのガラス転移温度の９０％以上の温度、または２８０℃以上の温度で加熱することにより当該フィルムを硬化して架橋ポリアミドフィルムを形成するために用いられるポリアミド溶液であって、
当該ポリアミド溶液は、芳香族コポリアミド及び有機溶媒を含み、
前記芳香族コポリアミドは少なくとも２つの繰り返し単位を含み、前記繰り返し単位の少なくとも１つは、１つ以上のフリーカルボン酸基を有し、
前記カルボン酸含有繰り返し単位の量は、繰り返し単位全体の１モル％よりも多く、３０モル％よりも少ない、ポリアミド溶液。
【請求項１６】
前記有機溶媒は極性溶媒又は１つ以上の極性溶媒を含む混合溶媒である、請求項１５に記載のポリアミド溶液。
【請求項１７】
前記芳香族コポリアミドは、下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される繰り返し構造を含む、請求項１５または１６に記載のポリアミド溶液：
【化１】
2016500128.tif 000005
ｎ＝１から４、
Ｘは、前記芳香族コポリアミド中の前記繰り返し構造（Ｉ）のモル分率であって、Ｘは７０％から９９％であり、Ｙは前記芳香族コポリアミド中の前記繰り返し構造（ＩＩ）のモル分率であって、Ｙは１％から３０％であり、
Ａｒ1は
【化２】
2016500128.tif 000006
からなる群から選択され、ｐ＝４、ｑ＝３、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール又はハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ1は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ2は
【化３】
2016500128.tif 000007
からなる群から選択され、ｐ＝４、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ2は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ3は、
【化４】
2016500128.tif 000008
からなる群から選択され、ｍ＝１又は２、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
【請求項１８】
前記繰り返し構造（Ｉ）は、４，４'−ジアミノジフェン酸又は３，５―ジアミノ安息香酸と少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドとを反応させることにより形成される、請求項１７に記載のポリアミド溶液。
【請求項１９】
前記芳香族コポリアミドは、複数の前記繰り返し構造（Ｉ）及び（ＩＩ）を含み、Ａｒ1、Ａｒ2、及びＡｒ3は同一であるか又は異なる、請求項１７または１８に記載のポリアミド溶液。
【請求項２０】
前記繰り返し構造（ＩＩ）は、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルベンジジン、９，９−ビス（４−アミノフェニル）フルオリン、９，９−ビス（３−フルオロ−４−アミノフェニル）フルオリン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメトキシルベンジジン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルジフェニルエーテル、ビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ベンゼン、及びビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ビフェニルからなる群から選択される芳香族ジアミンを少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させることにより形成される、請求項１７から１９のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項２１】
前記有機溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、又は、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）から選択される少なくとも１つ含む、請求項１５から２０のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項２２】
前記少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドは、テレフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジクロリド、２，６−ナフタル酸ジクロリド、及び４，４，−ビフェニルジカルボニルジクロリドからなる群から選択される、請求項１８から２０のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項２３】
前記芳香族コポリアミドの末端の−ＣＯＯＨ基及び−ＮＨ2基の一方又は双方はエンドキャップされている、請求項１５から２２のいずれかに記載のポリアミド溶液。
【請求項２４】
請求項１５から２３のいずれかに記載のポリアミド溶液を、支持材に塗布する工程と、
前記支持材上にポリアミドフィルムを成膜する工程と、
前記ポリアミドフィルムを、当該ポリアミドフィルムのガラス転移温度の９０％以上の温度、または２８０℃以上の温度で加熱、硬化させて、架橋ポリアミドフィルムを得る工程と、
前記架橋ポリアミドフィルム上に、ディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子を形成する工程と、
を含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項２５】
ポリアミドフィルムを成膜する前記工程が、溶液キャスト法により実施される、請求項２４に記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項２６】
前記支持材が、ガラス、金属、シリコン、または樹脂からなる、請求項２４または２５に記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項２７】
架橋ポリアミドフィルム上に、ディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子を形成する前記工程の後、前記支持材を剥離する工程をさらに含む、請求項２４から２６のいずれかに記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項２８】
架橋ポリアミドフィルムを得る前記工程が、前記ポリアミドフィルムを、前記ポリアミドフィルムのガラス転移温度の９０％〜１１０％の温度で加熱する工程を含む、請求項２４から２７のいずれかに記載のディスプレイ用素子、光学用素子、または照明用素子の製造方法。
【請求項２９】
請求項１から１０および請求項１５から２３のいずれかに記載のポリアミド溶液を製造する方法であって、
ａ）少なくとも１つが１つ以上のフリーカルボン酸基を含む２つ以上の芳香族ジアミンの混合物を、カルボン酸含有ジアミンの量がジアミン混合物全体の１モル％よりも多く、３０モル％よりも少なくなるように形成する工程と、
ｂ）前記芳香族ジアミン混合物を有機溶媒に溶解させる工程と、
ｃ）前記ジアミン混合物を少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させて、塩酸及び芳香族コポリアミドを生成する工程と、
ｄ）試薬を用いて前記塩酸を取り除き、前記芳香族コポリアミドと前記有機溶媒とを含むポリアミド溶液を得る工程とを含む方法。
【請求項３０】
前記有機溶媒は極性溶媒又は１つ以上の極性溶媒を含む混合溶媒である、請求項２９に記載の方法。
【請求項３１】
請求項２９または３０に記載の方法であって、
前記芳香族ジアミンの少なくとも１つは、下記一般式（ＩＩＩ）で示される方法：
【化５】
2016500128.tif 000009
ｎ＝１から４、Ａｒは
【化６】
2016500128.tif 000010
からなる群から選択され、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
【請求項３２】
前記芳香族コポリアミドは、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し構造を複数含み、Ａｒ1、Ａｒ2、及びＡｒ3は同一であるか又は異なる、請求項２９から３１のいずれかに記載の方法。
【化７】
2016500128.tif 000011
ｎ＝１から４、
Ｘは、前記芳香族コポリアミド中の前記繰り返し構造（Ｉ）のモル分率であって、Ｘは７０％から９９％であり、Ｙは前記芳香族コポリアミド中の前記繰り返し構造（ＩＩ）のモル分率であって、Ｙは１％から３０％であり、
Ａｒ1は
【化８】
2016500128.tif 000012
からなる群から選択され、ｐ＝４、ｑ＝３、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール又はハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ1は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ2は
【化９】
2016500128.tif 000013
からなる群から選択され、ｐ＝４、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ2は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ3は、
【化１０】
2016500128.tif 000014
からなる群から選択され、ｍ＝１又は２、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
【請求項３３】
前記有機溶媒は、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、又は、クレゾール、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、およびＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）から選択される少なくとも１つを含む、請求項２９から３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
前記カルボン酸基を含む芳香族ジアミンは、４，４'−ジアミノジフェン酸又は３，５―ジアミノ安息香酸である、請求項２９から３３のいずれかに記載の方法。
【請求項３５】
前記芳香族ジアミンは、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルベンジジン、９，９−ビス（４アミノフェニル）フルオリン、９，９−ビス（３−フルオロ−４−アミノフェニル）フルオリン、４，４'−ジアミノ−２，２'ビストリフルオロメトキシルベンジジン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルジフェニルエーテル、ビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ベンゼン、及びビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ビフェニルからなる群から選択される、請求項２９から３４のいずれかに記載の方法。
【請求項３６】
前記少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドは、テレフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジクロリド、２，６−ナフタル酸ジクロリド、及び４，４，−ビフェニルジカルボニルジクロリドからなる群から選択される、請求項２９から３５のいずれかに記載の方法。
【請求項３７】
前記工程（ｃ）の前に又は最中に前記試薬を前記芳香族ジアミン混合物に添加する、請求項２９から３６のいずれかに記載の方法。
【請求項３８】
前記試薬と前記塩酸との反応によって揮発性生成物が形成される、請求項２９から３７のいずれかに記載の方法。
【請求項３９】
前記試薬は有機中和試薬である、請求項２９から３８のいずれかに記載の方法。
【請求項４０】
前記試薬は酸化プロピレンである、請求項２９から３９のいずれかに記載の方法。
【請求項４１】
前記芳香族コポリアミドの末端の−ＣＯＯＨ基及び−ＮＨ2基の一方又は双方をエンドキャップする工程をさらに含む、請求項２９から４０のいずれかに記載の方法。
【請求項４２】
前記ポリアミド溶液は、無機塩の存在なしに製造される、請求項２９から４１のいずれかに記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ポリアミド溶液、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法、およびポリアミド溶液の製造方法
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
［表示装置、光学装置、照明装置］
本開示は、その態様において、本開示にかかるディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を用いた表示装置、光学装置、又は照明装置に関し、また、それらの製造方法に関する。これらに限定されないが、前記表示装置としては、撮像素子などが挙げられ、光学装置としては、光／電気複合回路などが挙げられ、照明装置としては、ＴＦＴ−ＬＣＤ、ＯＥＬ照明などが挙げられる。
以下、参考形態の例を付記する。
１．芳香族コポリアミド及び溶媒を含み、
前記芳香族コポリアミドは少なくとも２つの繰り返し単位を含み、前記繰り返し単位の少なくとも１つは、１つ以上のフリーカルボン酸基を有し、
前記カルボン酸含有繰り返し単位の量は、繰り返し単位全体の約１モル％よりも多く、約３０モル％よりも少ない、ポリアミド溶液。
２．前記溶媒は極性溶媒又は１つ以上の極性溶媒を含む混合溶媒である、１に記載の溶液。
３．芳香族コポリアミド及び溶媒を含み、
前記芳香族コポリアミドは、少なくとも２つの下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される繰り返し単位を含む、ポリアミド溶液。
【化１】
2016500128.tif 000015
ｎ＝１から４、
前記コポリアミドを極性非プロトン溶媒に溶解できるようにＸとＹとの比が選択され、
Ａｒ1は
【化２】
2016500128.tif 000016
からなる群から選択され、ｐ＝４、ｑ＝３、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール又はハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ1は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ2は
【化３】
2016500128.tif 000017
からなる群から選択され、ｐ＝４、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ2は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ3は、
【化４】
2016500128.tif 000018
からなる群から選択され、ｍ＝１又は２、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
４．前記カルボン酸含有繰り返し単位は、４，４'−ジアミノジフェン酸又は３，５―ジアミノ安息香酸を少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させることにより形成される、１から３のいずれかに記載の溶液。
５．Ｘは繰り返し構造（Ｉ）のモル分率であって、Ｘは７０％から９９％であり、Ｙは繰り返し構造（ＩＩ）のモル分率であって、Ｙは１％から３０％である、３又は４に記載の溶液。
６．前記コポリマーは、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位を複数含み、Ａｒ1、Ａｒ2、及びＡｒ3は同一であるか又は異なる、３から５のいずれかに記載の溶液。
７．少なくとも１つの繰り返し単位は、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルベンジジン、９，９−ビス（４アミノフェニル）フルオリン、９，９−ビス（３−フルオロ−４−アミノフェニル）フルオリン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメトキシルベンジジン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルジフェニルエーテル、ビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ベンゼン、及びビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ビフェニルからなる群から選択される芳香族ジアミンを少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させることにより形成される、１から６のいずれかに記載の溶液。
８．前記溶媒は、メタノール、エタノール、プロパノール、イソプロパノール（ＩＰＡ）、ブタノール、アセトン、メチルエチルケトン（ＭＥＫ）、メチルイソブチルケトン（ＭＩＢＫ）、トルエン、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）、又は、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ），Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を少なくとも１つ含む混合溶媒、それらの組み合わせ、又はそれらの極性溶媒を少なくとも１つ含む混合溶媒である、１から７のいずれかに記載の溶液。
９．前記少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドは、テレフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジクロリド、２，６−ナフタル酸ジクロリド、及び４，４，−ビフェニルジカルボニルジクロリドからなる群から選択される、４から８のいずれかに記載の溶液。
１０．前記芳香族ポリアミドの末端の−ＣＯＯＨ基及び−ＮＨ2基の一方又は双方はエンドキャップされている、１から９のいずれかに記載の溶液。
１１．ａ）芳香族コポリアミド溶液を支持材へ塗布する工程と、
ｂ）前記塗布工程（ａ）後に、ポリアミドフィルムを前記支持材上に形成する工程と、
ｃ）ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を前記ポリアミドフィルムの表面上に形成する工程とを含む、ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法に用いるためのものである、１から１０のいずれかに記載の溶液。
１２．芳香族コポリアミド溶液の製造方法であって、
ａ）少なくとも１つが１つ以上のフリーカルボン酸基を含む２つ以上の芳香族ジアミンの混合物を、カルボン酸含有ジアミンの量がジアミン混合物全体の約１モル％よりも多く、約３０モル％よりも少なくなるように形成する工程と、
ｂ）前記芳香族ジアミン混合物を溶媒に溶解させる工程と、
ｃ）前記ジアミン混合物を少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させて、塩酸及びポリアミド溶液を生成する工程と、
ｄ）試薬を用いて前記塩酸を取り除く工程とを含む方法。
１３．前記溶媒は極性溶媒又は１つ以上の極性溶媒を含む混合溶媒である、１に記載の方法。
１４．芳香族コポリアミド溶液の製造方法であって、
芳香族ジアミンの混合物を、少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと溶媒中で反応させてポリアミドを形成する工程を含み、前記ポリアミドの骨格に沿ってカルボキシル基が組み込まれ、前記ジアミンの少なくとも１つは、下記一般式（ＩＩＩ）で示されるペンダントカルボン酸基を含む方法。
【化５】
2016500128.tif 000019
ｎ＝１から４、Ａｒは
【化６】
2016500128.tif 000020
からなる群から選択され、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
１５．前記カルボン酸含有ジアミンのモル％は、前記ジアミン混合物全体の約１モル％よりも大きく、約３０モル％よりも小さい、１２から１４のいずれかに記載の方法。
１６．前記コポリマーは、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位を複数含み、Ａｒ1、Ａｒ2、及びＡｒ3は同一であるか又は異なる、１４に記載の方法。
【化７】
2016500128.tif 000021
ｎ＝１から４、
前記コポリアミドを極性非プロトン溶媒に溶解できるようにＸとＹとの比が選択され、
Ａｒ1は
【化８】
2016500128.tif 000022
からなる群から選択され、ｐ＝４、ｑ＝３、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール又はハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ1は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ2は
【化９】
2016500128.tif 000023
からなる群から選択され、ｐ＝４、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ2は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ3は、
【化１０】
2016500128.tif 000024
からなる群から選択され、ｍ＝１又は２、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
１７．前記溶媒は、クレゾール、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、又は、クレゾール、キシレン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）、ブチルセロソルブ、メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、エチレングリコールモノブチルエーテル、プロピレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノブチルエーテル、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセタミド（ＤＭＡｃ）、Ｎ−メチル−２−ピロリドン（ＮＭＰ）、ジメチルスルホキシド（ＤＭＳＯ）又はＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド（ＤＭＦ）を少なくとも１つ含む混合溶媒、それらの組み合わせ、又はそれらの極性溶媒を少なくとも１つ含む混合溶媒である、１２から１６のいずれかに記載の方法。
１８．前記カルボン酸基を含むジアミンは、４，４'−ジアミノジフェン酸又は３，５―ジアミノ安息香酸である、１２又は１３に記載の方法。
１９．前記芳香族ジアミンは、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルベンジジン、９，９−ビス（４アミノフェニル）フルオリン、９，９−ビス（３−フルオロ−４−アミノフェニル）フルオリン、４，４'−ジアミノ−２，２'ビストリフルオロメトキシルベンジジン、４，４'−ジアミノ−２，２'−ビストリフルオロメチルジフェニルエーテル、ビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ベンゼン、及びビス−（４−アミノ−２−トリフルオロメチルフェニルオキシル）ビフェニルからなる群から選択される、１２から１８のいずれかに記載の方法。
２０．前記少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドは、テレフタル酸ジクロリド、イソフタル酸ジクロリド、２，６−ナフタル酸ジクロリド、及び４，４，−ビフェニルジカルボニルジクロリドからなる群から選択される、１２から１９のいずれかに記載の方法。
２１．前記反応工程（ｃ）の前に又は最中に前記試薬を前記混合物に添加する、１２から２０のいずれかに記載の方法。
２２．前記試薬と前記塩酸との反応によって揮発性生成物が形成される、１２から２１のいずれかに記載の方法。
２３．前記試薬は有機中和試薬である、１２から２２のいずれかに記載の方法。
２４．前記試薬は酸化プロピレンである、１２から２３のいずれかに記載の方法。
２５．前記ポリアミドの末端の−ＣＯＯＨ基及び−ＮＨ2基の一方又は双方をエンドキャップする工程をさらに含む、１２から２４のいずれかに記載の方法。
２６．前記芳香族コポリアミド溶液は、無機塩の存在なしに製造される、１から１５のいずれかに記載の方法。
２７．前記芳香族コポリアミド溶液は、
ａ）芳香族コポリアミド溶液を支持材へ塗布する工程と、
ｂ）前記塗布工程（ａ）後にポリアミドフィルムを前記支持材上に形成する工程と、
ｃ）ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を前記ポリアミドフィルムの表面上に形成する工程とを含むディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法に用いるためのものである、１２から２６のいずれかに記載の方法。
２８．ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法であって、
ａ）少なくとも１つが１つ以上のフリーカルボン酸基を含む２つ以上の芳香族ジアミンの混合物を、カルボン酸含有ジアミンの量がジアミン混合物全体の約１モル％よりも多く、約３０モル％よりも少なくなるように形成する工程と、
ｂ）前記芳香族ジアミン混合物を溶媒に溶解させる工程と、
ｃ）前記ジアミン混合物を少なくとも１つの芳香族二酸ジクロリドと反応させて、塩酸及びポリアミド溶液を生成する工程と、
ｄ）試薬を用いて前記塩酸を取り除い芳香族コポリアミド溶液を得る工程と、
ｅ）芳香族コポリアミド溶液を支持材へ塗布する工程と、
ｆ）前記塗布工程（ｅ）後にポリアミドフィルムを前記支持材上に形成する工程と、
ｇ）ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を前記ポリアミドフィルムの表面上に形成する工程とを含む、方法。
２９．前記溶媒は極性溶媒又は１つ以上の極性溶媒を含む混合溶媒である、２８に記載の方法。
３０．ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子の製造方法であって、
Ａ）芳香族コポリアミド溶液を支持材へ塗布する工程と、
Ｂ）前記塗布工程（Ａ）後にポリアミドフィルムを前記支持材上に形成する工程と、
Ｃ）ディスプレイ用素子、光学用素子、又は照明用素子を前記ポリアミドフィルムの表面上に形成する工程とを含み、
前記芳香族コポリアミド溶液は芳香族コポリアミド及び溶媒を含み、
前記芳香族コポリアミドは、少なくとも２つの下記一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）で示される繰り返し単位を含む、方法。
【化１１】
2016500128.tif 000025
ｎ＝１から４、
Ａｒ1は
【化１２】
2016500128.tif 000026
からなる群から選択され、ｐ＝４、ｑ＝３、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール又はハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ1は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ2は
【化１３】
2016500128.tif 000027
からなる群から選択され、ｐ＝４、Ｒ6、Ｒ7、Ｒ8は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ2は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基であり、
Ａｒ3は、
【化１４】
2016500128.tif 000028
からなる群から選択され、ｔ＝１から３、Ｒ9、Ｒ10、Ｒ11は、水素、ハロゲン（フッ化物、塩化物、臭化物、及びヨウ化物）、アルキル、ハロゲン化アルキル等の置換アルキル、ニトロ、シアノ、チオアルキル、アルコキシ、ハロゲン化アルコキシ等の置換アルコキシ、アリール、ハロゲン化アリール等の置換アリール、アルキルエステル、及び置換アルキルエステル、並びにその組み合せからなる群から選択され、Ｇ3は、共有結合、ＣＨ2基、Ｃ（ＣＨ3）2基、Ｃ（ＣＦ3）2基、Ｃ（ＣＸ3）2基（但しＸはハロゲン）、ＣＯ基、Ｏ原子、Ｓ原子、ＳＯ2基、Ｓｉ（ＣＨ3）2基、９，９−フルオレン基、置換９，９−フルオレン、及びＯＺＯ基からなる群から選択され、Ｚは、フェニル基、ビフェニル基、パーフルオロビフェニル基、９，９−ビスフェニルフルオレン基、及び置換９，９−ビスフェニルフルオレン等のアリール基又は置換アリール基である。
３１．Ｘは繰り返し構造（Ｉ）のモル分率であって、Ｘは７０％から９９％であり、Ｙは繰り返し構造（ＩＩ）のモル分率であって、Ｙは１％から３０％である、３０に記載の方法。
３２．前記コポリマーは、構造（Ｉ）及び（ＩＩ）の繰り返し単位を複数含み、Ａｒ1、Ａｒ2、及びＡｒ3は同一であるか又は異なる、３０又は３１に記載の方法。
３３．前記工程（ｆ）の後に及び／又は最中に前記フィルムを硬化させる工程をさらに含み、
該工程において、前記フィルムの硬化温度を、少なくとも約２８０℃及び／又は前記フィルムのガラス転移温度の約９０％から約１１０％で少なくとも約３分間維持する、２８に記載の方法。
３４．前記支持材上に形成された前記表示用素子、前記光学用素子、又は前記照明用素子を前記支持材から剥離する工程（ｈ）をさらに含む、２８から３３のいずれかに記載の方法。