(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
化粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも：
（ａ）組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量のジベンゾイルメタン誘導体の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び
（ｂ）組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又は皮膚用組成物。
【請求項２】
化粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも：
（ａ）組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量のジベンゾイルメタン誘導体の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、
（ｂ）組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量の１,３,５-トリアジン誘導体の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び
（ｃ）組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又は皮膚用組成物。
【請求項３】
ジベンゾイルメタン誘導体が：
−  ２-メチルジベンゾイルメタン
−  ４-メチルジベンゾイルメタン
−  ４-イソプロピルジベンゾイルメタン
−  ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン
−  ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン
−  ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン
−  ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン
−  ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン
−  ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
から選択されることを特徴とする、請求項１又は２に記載の組成物。
【請求項４】
ジベンゾイルメタン誘導体が、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
ジベンゾイルメタン誘導体が、４-イソプロピルジベンゾイルメタンであることを特徴とする請求項３に記載の組成物。
【請求項６】
１,３,５-トリアジン誘導体が、次の式（Ｉ）：
【化１】
0003893336.tif 000012
｛上式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３基は同一でも異なっていてもよく、次の式（ＩＩ）：
【化２】
0003893336.tif 000013
（上式中：
−  Ｘａは同一でも異なっていてもよく、酸素又は-ＮＨ-基を示し；
−  Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；末端のＯＨ基がメチル化された１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基；次の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)：
【化３】
0003893336.tif 000014
［上式中：
−  Ｒ１は水素又はメチル基であり；
−  Ｒ２はＣ１-Ｃ９アルキル基であり；
−  ｑは０〜３の整数であり；
−  ｒは１〜１０の整数であり；
−  ＡはＣ４-Ｃ８アルキル基又はＣ５-Ｃ８シクロアルキル基であり；
−  Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ８アルキル基；Ｃ５-Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１-Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基から選択される］
の基から選択される）
の基から選択される｝
に相当する請求項２ないし５の何れか１項に記載の組成物。
【請求項７】
式(Ｉ)の化合物が、Ａ１、Ａ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであって、次の特徴：
−  Ｘａ−Ｒａ基の１つが：一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；
−  他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；
の全てを有するものから選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項８】
式(Ｉ)の化合物が、Ａ１、Ａ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであって、次の特徴：
−  １又は２つのＸａ−Ｒａ基が：直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；
他の１つ又は他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；
の全てを有するものから選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項９】
式(Ｉ)の化合物が、２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-４,６-ビス[ｐ-(２'エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ]-１,３,５-トリアジンであり、次の式：
【化４】
0003893336.tif 000015
［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示し、Ｒはtert-ブチル基を示す］
に相当する、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
式(Ｉ)の化合物が、Ａ１、Ａ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴：
−  Ｘａが同一で、酸素原子を示し；
−  Ｒａが同一でも異なっていてもよく、末端のＯＨ基がメチル化され、１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基又はＣ６−Ｃ１２アルキル基である；
の全てを有するものから選択される、請求項６に記載の組成物。
【請求項１１】
式(Ｉ)の化合物が、２,４,６-トリス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-１,３,５-トリアジンであり、次の式：
【化５】
0003893336.tif 000016
［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示す］
に相当する、請求項１０に記載の組成物。
【請求項１２】
ＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域で活性のある他の有機遮蔽剤をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１１の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１３】
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤が、アントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；式(Ｉ)のもの以外のトリアジン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；イミダゾリン；ビス-ベンズアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；メチレンビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール誘導体；遮蔽ポリマー及び遮蔽シリコーン；α-アルキルスチレンから誘導される二量体；４,４-ジアリールブタジエン、及びその混合物から選択される、請求項１２に記載の組成物。
【請求項１４】
有機ＵＶ遮蔽剤が、次の化合物：
−  サリチル酸エチルヘキシル、
−  オクトクリレン、
−  フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
−  ４-メチルベンジリデンショウノウ、
−  フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
−  テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
−  アニソトリアジン、
−  ２,４,６-トリス-(ジイソブチル-４'-アミノ-ベンザルマロナート)-ｓトリアジン、
−  ベンゾフェノン-３、
−  ベンゾフェノン-４、
−  ベンゾフェノン-５、
−  ｎ-ヘキシル-２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)-安息香酸
−  メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
−  ドロメトリゾールトリシロキサン、
及びそれらの混合物から選択されることを特徴とする、請求項１３に記載の組成物。
【請求項１５】
被覆された又は被覆されていない金属酸化物顔料又はナノ顔料を更に含有することを特徴とする、請求項１ないし１４の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１６】
前記顔料又はナノ顔料が、被覆されていても又は被覆されていなくてもよい、酸化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、酸化ジルコニウム及び酸化セリウム、及びその混合物から選択されることを特徴とする請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
皮膚を人工的に日焼け及び／又は褐色化させるための少なくとも１種の薬剤をさらに含有することを特徴とする請求項１ないし１６の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１８】
脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、軟化剤、酸化防止剤、遊離基捕捉剤、乳濁剤、安定剤、柔軟剤、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、着色剤から選択される少なくとも１種のアジュバンドを更に含有することを特徴とする請求項１ないし１７の何れか１項に記載の組成物。
【請求項１９】
ヒトの表皮を保護するための組成物又は抗日光組成物であり、非イオン性の小胞体分散液、又はエマルションの形態とされることを特徴とする請求項１ないし１８の何れか１項に記載の組成物。
【請求項２０】
水中油型エマルション、クリーム、ミルク、ゲル、クリームゲル、懸濁液、分散体、パウダー、チューブ状固体、ムース又はスプレーの形態とされることを特徴とする請求項１９に記載の組成物。
【請求項２１】
睫毛、眉毛又は皮膚用のメークアップ組成物であり、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、又はエマルション、懸濁液又は分散体の形態とされることを特徴とする請求項１ないし２０の何れか１項に記載の組成物。
【請求項２２】
紫外線から毛髪を保護するための組成物であり、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態であることを特徴とする請求項１ないし２１の何れか１項に記載の組成物。
【請求項２３】
請求項１ないし２２に記載された少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法であって、前記ジベンゾイルメタン誘導体に、組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組合せることからなることを特徴とする方法。
【請求項２４】
請求項１ないし２２に記載されたジベンゾイルメタン誘導体の存在下における、請求項１ないし２２に記載の少なくとも１種の１,３,５-トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法であって、前記トリアジン誘導体に、組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％の含有量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組合せることからなることを特徴とする方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、化粧品的に許容可能な支持体に、少なくとも：(ａ)１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ遮蔽剤、及び(ｂ)１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを含有することを特徴とする、特に、皮膚及びは毛髪を光防御することを意図した、局所使用用の化粧品用又は皮膚用組成物に関する。
また、本発明は、ＵＶ線に関して少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための、前記ジベンゾイルメタン誘導体に有効量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組み合わせることからなる方法に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
２８０ｎｍと４００ｎｍの間の波長の光線によりヒトの表皮は日焼けし、特にＵＶ-Ｂ線として知られている２８０と３２０ｎｍの間の波長の光線により、皮膚は自然なサンタン状態の形成を害するサンバーン及び紅斑を生じる。これらの理由、並びに美観的な理由によって、この自然な日焼けを調節して皮膚の色を調節するための手段に対してコンスタントな需要があり；このＵＶ-Ｂ線は遮蔽すべきである。
また、３２０ｎｍと４００ｎｍの間の波長を持ち、皮膚の日焼けを引き起こすＵＶ-Ａ線も、特に敏感肌又は太陽光線に絶えずさらされている肌の場合において、好ましくない変化を誘発する傾向にあることが知られている。ＵＶ-Ａ線は、特に、皮膚の弾力性を喪失させ、しわを出現せしめ、時期尚早の老化を導く原因となるものである。それらは、紅斑反応の惹起を促進し、ある個体においてはこの反応を増幅し、光毒又は光アレルギー反応の原因にさえなりうる。しかして、例えば皮膚の自然な弾力性の保持のような美的及び美容的理由から、益々多くの人々が皮膚へのＵＶ-Ａ線の影響をコントロールすることを望んでいる。よって、ＵＶ-Ａ線も遮蔽することが望ましい。
【０００３】
従って、全てのＵＶ線スペクトルから皮膚及び毛髪を最も完全に、最も効果的に保護できるようにするために、ＵＶＡの領域で活性のある遮蔽剤とＵＶＢの領域で活性のある遮蔽剤の組み合わせが、抗日光用組成物の製造に一般的に使用される。
この点に関し、現在特に有効な種類のＵＶ-Ａ遮蔽剤はジベンゾイルメタン誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンであり、これは高い固有の吸収力を有するものである。これらジベンゾイルメタン誘導体は、現在ではそれ自体、ＵＶ-Ａ領域に活性のある遮蔽剤としてよく知られている製品であり、特に仏国特許出願公開第２３２６４０５号及び仏国特許公開第２４４０９３３号、並びに欧州特許出願公開第０１１４６０７号に記載され；さらに、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンは、ホフマン ラ ロシュ社(Hoffmann La Roche)から「パルソール(Parsol)1789」の商品名で現在市販されている。
しかしながら、ジベンゾイルメタン誘導体は、紫外線(特にＵＶ-Ａ)に比較的敏感な生成物である、すなわち、より特定的には、それらは、この紫外線の作用下で程度の差はあれ素早く劣化してしまうという好ましくない傾向を有していることが知見されている。よって、ジベンゾイルメタン誘導体がその性質上さらされることとなる紫外線に対して光化学的安定性を大幅に欠いているため、太陽にさらされている長い間、確実に一定して保護し続けることはできず、使用者は、ＵＶ線から皮膚を有効に保護するためには、短い時間間隔で規則的に繰り返し塗布しなければならない。
【０００４】
１,３,５-トリアジン誘導体は、ＵＶ-Ｂ領域、また更にはＵＶ-Ａ領域において、関連する置換基の性質に依存してこれらの化合物に高い活性があるという事実により、抗日光用化粧品に特に所望される。それらは、特に、米国特許出願第４３６７３９０号、欧州特許公開第８６３１４５号、同第５１７１０４号、同第５７０８３８号、同第５０７６９１号、同第７９６８５１号、同第７７５６９８号、同第８７８４６９号及び同第９３３３７６号に記載され、特に次の：
−  ２,４,６-トリス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン又はＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｔ１５０」の商品名で販売されている「エチルヘキシルトリアゾン」（ＩＮＣＩ名）、
−  ２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-４,６-ビス[(ｐ-(２'エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン又はシグマ３Ｖ社(Sigma 3V)から「ユバソーブ(Uvasorb)ＨＥＢ」の商品名で販売されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン」（ＩＮＣＩ名）が知られている。
しかしながら、出願人は、これらの１,３,５-トリアジン誘導体がジベンゾイルメタン誘導体、特に４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタンの存在下にある場合、紫外線下でそれらがかなりの化学分解を被るという欠点を有することを発見した。これらの条件の下では、２つの遮蔽剤の組み合わせは、もはや皮膚及び毛髪の長期的広範の抗日光防御を提供しない。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】
本出願人は、驚くべきことに、上述したジベンゾイルメタン誘導体に、１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを有効量組合せると、これら同様のジベンゾイルメタン誘導体の光化学安定性(すなわち光安定性)を大幅にかつ顕著に改善することができることを見出した。更に、出願人はまた、ジベンゾイルメタン誘導体と少なくとも１種の１,３,５-トリアジン誘導体の組み合わせを含む組成物に、１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを導入すると、完全に著しく、該組成物中のこの１,３,５-トリアジン誘導体の光安定性を改善し、よってこれらの組成物の全体的な効果を改善することが可能になることを見出した。
【０００６】
従って、本発明の主題の１つによれば、化粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも：
（ａ）ジベンゾイルメタン誘導体の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び
（ｂ）有効量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又は皮膚用組成物が提案される。
本発明の主題はまた、前記ジベンゾイルメタン誘導体と有効量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組み合わせることからなる、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法にある。
本発明の他の主題は、化粧品的に許容可能な支持体中に、少なくとも：
（ａ）ジベンゾイルメタン誘導体の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び
（ｂ）１,３,５-トリアジン誘導体の少なくとも１種のＵＶ遮蔽剤、及び
（ｃ）有効量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン
を含むことを特徴とする、局所使用のための化粧品用又は皮膚用組成物からなる。
【０００７】
本発明の主題はまた、有効量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを添加することからなる、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体の存在下で少なくとも１種の１,３,５-トリアジン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するための方法にある。
最後に、本発明の他の主題は、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体を含む化粧品用又は皮膚用組成物の調製において、含有される前記ジベンゾイルメタン誘導体の紫外線に対する安定性を改善するための、１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンの使用にある。
最後に、本発明の主題はまた、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体及び少なくとも１種の１,３,５-トリアジン誘導体を含む化粧品用又は皮膚用組成物の調製において、含有される前記１,３,５-トリアジン誘導体の紫外線に対する安定性を改善するための、１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンの使用にある。
【０００８】
「本発明に従う有効量の１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン」という表現は、光防御化粧品用組成物のジベンゾイルメタン誘導体（又は１,３,５-トリアジン誘導体）の光安定性において認識可能な又は有意な改善を得るのに十分な量を意味する。この使用されるべき光安定剤の最少量は、組成物に選択される化粧品的に許容可能な支持体の性質に大きく依存するが、光安定性測定の標準的な試験によって難なく測定されうる。
本発明の他の特徴、態様及び利点は、以下の詳細な記載を読むことにより明らかになるであろう。
【０００９】
１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン化合物は、次の式：
【化６】
0003893336.tif 000002
に相当する。
１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン化合物は、好ましくは本発明の組成物中に、組成物の全重量に対して０．１重量％〜１５重量％、より好ましくは０．２重量％〜１０重量％の割合で存在する。
既述のとおり、本発明の文脈において光安定化されることを意図するジベンゾイルメタン誘導体は、それ自体よく知られている生産物であり、特に上述の文献仏国特許公開第２３２６４０５号、同２４４０９３３号及び欧州特許公開第０１１４６０７号に記載され、その文献の教示は、これらの生産物の実際の定義に関するということから、開示により本説明に全て取り込む。
【００１０】
本発明において、一又は複数のジベンゾイルメタン誘導体が使用されることは明らかである。
本発明において特に適切なジベンゾイルメタン誘導体としては、これらに限定されるものではないが：
−  ２-メチルジベンゾイルメタン
−  ４-メチルジベンゾイルメタン
−  ４-イソプロピルジベンゾイルメタン
−  ４-tert-ブチルジベンゾイルメタン
−  ２,４-ジメチルジベンゾイルメタン
−  ２,５-ジメチルジベンゾイルメタン
−  ４,４'-ジイソプロピルジベンゾイルメタン
−  ４,４'-ジメトキシジベンゾイルメタン
−  ４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２-メチル-５-イソプロピル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２-メチル-５-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２,４-ジメチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
−  ２,６-ジメチル-４-tert-ブチル-４'-メトキシジベンゾイルメタン
を特に挙げることができる。
【００１１】
上述したジベンゾイルメタン誘導体の中でも、４-(tert-ブチル)-４'-メトキシジベンゾイルメタンが本発明において特に最も好ましく使用され、特にホフマン ラ ロシュ(Hoffmann la Roche)社から「パルソール1789」の商品名で販売され、この遮蔽剤は次の構造式：
【化７】
0003893336.tif 000003
に相当する。
【００１２】
本発明の他の好ましい他のジベンゾイルメタン誘導体は、４-イソプロピルジベンゾイルメタン、メルク社(Merck)から「ユーソレックス(Eusolex)8020」の名称で販売される遮蔽剤であり、次の構造式：
【化８】
0003893336.tif 000004
に相当する。
ジベンゾイルメタン誘導体は、本発明に係る組成物中に、組成物の全重量に対して０．１〜１５重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の含有量で存在しうる。
【００１３】
本発明において使用されうる１,３,５-トリアジン誘導体としては、特に次の式（Ｉ）：
【化９】
0003893336.tif 000005
｛上式中、Ａ１、Ａ２及びＡ３基は同一でも異なっていてもよく、次の式（ＩＩ）：
【化１０】
0003893336.tif 000006
（上式中：
−  Ｘａは同一でも異なっていてもよく、酸素又は-ＮＨ-基を示し；
−  Ｒａは同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；末端のＯＨ基がメチル化された１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基；次の式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)：
【化１１】
0003893336.tif 000007
［上式中：
−  Ｒ１は水素又はメチル基であり；
−  Ｒ２はＣ１-Ｃ９アルキル基であり；
−  ｑは０〜３の整数であり；
−  ｒは１〜１０の整数であり；
−  ＡはＣ４-Ｃ８アルキル基又はＣ５-Ｃ８シクロアルキル基であり；
−  Ｂは直鎖状又は分枝状のＣ１-Ｃ８アルキル基；Ｃ５-Ｃ８シクロアルキル基；一又は複数のＣ１-Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいアリール基から選択される］
の基から選択される）
の基から選択される｝
に相当するものを使用することができる。
【００１４】
１,３,５-トリアジン誘導体の第１の特に好ましいファミリーは、特に欧州特許出願公開第０５１７１０４号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴：
−  Ｘａ−Ｒａ基の１つが：一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；
−  他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていてもよい、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基を示す；
を有する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン類である。
【００１５】
本発明に係る１,３,５-トリアジン誘導体の第２の特に好ましいファミリーは、特に欧州特許公開第０５７０８３８号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴：
−  １又は２つのＸａ−Ｒａ基が：直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である；
から選択されるＲａを有する−ＮＨ−Ｒａ基を示し；
他の又は他の２つのＸａ−Ｒａ基が：同一でも異なっていてもよく、水素；アルカリ金属；一又は複数のアルキル又はヒドロキシアルキル基で置換されていてもよいアンモニウム基；直鎖状又は分枝状のＣ１−Ｃ１８アルキル基；一又は複数のＣ１−Ｃ４アルキル基で置換されていてもよいＣ５−Ｃ１２シクロアルキル基；上述した式(ＩＩＩ)、(ＩＶ)又は(Ｖ)の基、ここで：
−  ＢがＣ１−Ｃ４アルキル基であり；
−  Ｒ２がメチル基である：
から選択されるＲａを有する−Ｏ−Ｒａ基である；
を有する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン類である。
この第２の特に好ましいファミリーの１,３,５-トリアジン誘導体は、２-[(ｐ-(tert-ブチルアミド)アニリノ]-４,６-ビス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ]-１,３,５-トリアジン、又はシグマ(Sigma)3V社から「ユビヌル(Uvinul)ＨＥＢ」の商品名で販売されている「ジエチルヘキシルブタミドトリアゾン」であり、次の式：
【化１２】
0003893336.tif 000008
［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示し、Ｒはtert-ブチル基を示す］
に相当する。
【００１６】
本発明において使用されうる化合物の第３の特に好ましいファミリーは、特に米国特許公開第４７２４１３７号公報に記載されているもので、Ａ１、Ａ２及びＡ３が式(ＩＩ)のものであり、次の特徴：
−  Ｘａが同一で、酸素原子を示し；
−  Ｒａが同一でも又は異なっていてもよく、末端のＯＨ基がメチル化され、１〜６のエチレンオキシド単位を含むポリオキシエチレン化基又はＣ６−Ｃ１２アルキル基である；
を有する式(Ｉ)に相当する１,３,５-トリアジン誘導体である。
本発明に係る１,３,５-トリアジン誘導体の第３の特に好ましいファミリーは、２,４,６-トリス[ｐ-(２'-エチルヘキシル-１'-オキシカルボニル)アニリノ］-１,３,５-トリアジン、又は特にＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｔ１５０」の商品名で販売されている「エチルヘキシルトリアゾン」であり、次の式：
【化１３】
0003893336.tif 000009
［上式中、Ｒ'は２-エチルヘキシル基を示す］
に相当する。
１,３,５-トリアジン誘導体は、組成物の全重量に対して、一般的に０．１〜１５重量％、好ましくは０．５〜１０重量％の範囲の含有量で、本発明の組成物中に存在する。
【００１７】
本発明の組成物は、水溶性又は脂溶性、もしくは一般的に使用されている化粧品用溶媒に不溶である、他の付加的なＵＶ-Ａ及び／又はＵＶ-Ｂ領域で活性のある有機ＵＶ遮蔽剤(吸収剤)を含有してもよい。
付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、特にアントラニラート類；サリチル酸誘導体；ショウノウ誘導体；ベンゾフェノン誘導体；β,β-ジフェニルアクリラート誘導体；ベンゾトリアゾール誘導体；ベンザルマロナート誘導体；ベンズイミダゾール誘導体；上記した式（Ｉ）のもの以外のトリアジン誘導体；イミダゾリン；欧州特許第６６９３２３号及び米国特許第２４６３２６４号に記載されているビス-ベンズアゾリル誘導体；ｐ-アミノ安息香酸(ＰＡＢＡ)誘導体；米国特許第５２３７０７１号、米国特許第５１６６３５５号、英国特許出願第２３０３５４９号、独国特許出願第１９７２６１８４号及び欧州特許出願第８９３１１９号に記載されているメチレンビス(ヒドロキシフェニル)ベンゾトリアゾール誘導体；国際公開第９３／０４６６５号に特に記載されているような遮蔽シリコーン及び遮蔽ポリマー；α-アルキルスチレンから誘導される二量体、例えば独国特許出願第１９８５５６４９号に記載されているもの、４,４-ジアリールブタジエン、例えば欧州特許出願第０９６７２００号及び独国特許出願第１９７５５６４９号に記載されているもの（本説明の内容の不可欠な部分をなす）から選択される。
【００１８】
ＵＶ-Ａ活性及び／又はＵＶ-Ｂ活性のある付加的な有機遮蔽剤の例としては、ＩＮＣＩ名で以下の標記する次のものが挙げられうる：
パラ-アミノ安息香酸誘導体：
−  ＰＡＢＡ、
−  エチルＰＡＢＡ、
−  エチルジヒドロキシプロピルＰＡＢＡ、
−  特にＩＳＰ社から「エスカロール(Escalol)５０７」の名称で販売されているエチルヘキシル-ジメチルＰＡＢＡ、
−  グリセリルＰＡＢＡ、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌル(Uvinul)Ｐ２５」の名称で販売されているＰＥＧ-２５ＰＡＢＡ。
【００１９】
サリチル酸誘導体：
−  ロナ(Rona)／ＥＭインダストリー社から「ユーソレックス(Eusolex)ＨＭＳ」の名称で販売されているホモサラート(Homosalate)、
−  ハーマンアンドレイマー社(Haarmann and Reimer)から「ネオ・ヘリオパン(Neo Heliopan)ＯＳ」の名称で販売されているサリチル酸エチルヘキシル、
−  スケル社(Scher)から「ディプサル(Dipsal)」の名称で販売されているジプロピレングリコールサリチラート、
−  ハーマンアンドレイマー社から「ネオ・ヘリオパンＴＳ」の名称で販売されているＴＥＡサリチラート。
【００２０】
β,β-ジフェニルアクリラート誘導体：
−  特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ５３９」の商品名で販売されているオクトクリレン(Octocrylene)、
−  特に、ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＮ３５」の商品名で販売されているエトクリレン(Etocrylene)。
【００２１】
ベンゾフェノン誘導体：
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌル４００」の商品名で販売されているベンゾフェノン-１、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤ５０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-２、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-３又はオキシベンゾン、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＭＳ４０」の商品名で販売されているベンゾフェノン-４、
−  ベンゾフェノン-５、
−  ノルクアイ社(Norquay)から「ヘリソーブ(Helisorb)１１」の商品名で販売されているベンゾフェノン-６、
−  アメリカン・シアナミド社(American Cyanamid)社から「スペクトラ-ソーブ(Spectra-Sorb)ＵＶ-２４」の商品名で販売されているベンゾフェノン-８、
−  ＢＡＳＦ社から「ユビヌルＤＳ-４９」の商品名で販売されているベンゾフェノン-９、
−  ベンゾフェノン-１２。
【００２２】
ベンジリデンショウノウ誘導体：
−  メルク社から「ユーソレックス6300」の名称で販売されている４-メチルベンジリデンショウノウ、
−  シメックス社(Chimex)から「メキソリル(Mexoryl)ＳＤ」の名称で製造されている３-ベンジリデンショウノウ、
−  シメックス社から「メキソリルＳＬ」の名称で製造されているベンジリデンショウノウスルホン酸、
−  シメックス社から「メキソリルＳＯ」の名称で製造されているメト硫酸ショウノウベンズアルコニウム、
−  シメックス社から「メキソリルＳＸ」の名称で製造されているテレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
−  シメックス社から「メキソリルＳＷ」の名称で製造されているポリアクリルアミドメチルベンジリデンショウノウ。
【００２３】
ベンズイミダゾール誘導体：
−  特に、メルク社から「ユーソレックス２３２」の商品名で販売されているフェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
−  ハーマンアンドレイマー社から「ネオ ヘリオパンＡＰ」の商品名で販売されているフェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム。
【００２４】
トリアジン誘導体：
−  チバガイギー社から「チノソーブＳ」の商品名で販売されているアニソトリアジン、
−  ２,４,６-トリス-(ジイソブチル-４'-アミノ-ベンザルマロナート)-ｓトリアジン。
【００２５】
ベンゾトリアゾール誘導体：
−  チバ・スペシャリティー・ケミカル社から「チノソーブ(Tinosorb)Ｍ」の商品名で水性分散液におけるマイクロ化形態のものとして、もしくはフェアマウント・ケミカル(Fairmount Chemical)社から「ミキシム(Mixxim)ＢＢ／１００」の商品名で固体形態のものとして販売されているメチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
−  ロ−ディア・シミー社(Rhodia Chimie)から「シラトリゾール(Silatrizole)」の名称で販売されているドロメトリゾール(Drometrizole)トリシロキサン。
【００２６】
アントラニル酸誘導体：
−  ハーマンアンドレイマー社から「ネオ ヘリオパンＭＡ」の商品名で販売されているアントラニル酸メンチル。
イミダゾリン誘導体：
−  エチルヘキシルジメトキシベンジリデンジオキソイミダゾリンプロピオナート。
ベンザルマロナート誘導体：
−  ホフマン ラ ロシュ社から「パルソールＳＬＸ」の商品名で販売されているベンザルマロナート官能基を有するポリオルガノシロキサン。
【００２７】
特により好ましい付加的な有機ＵＶ遮蔽剤は、次の化合物：
−  サリチル酸エチルヘキシル、
−  オクトクリレン、
−  フェニルベンズイミダゾールスルホン酸、
−  ４-メチルベンジリデンショウノウ、
−  フェニルジベンズイミダゾールテトラスルホン酸二ナトリウム、
−  テレフタリリデンジショウノウスルホン酸、
−  アニソトリアジン、
−  ２,４,６-トリス-(４'アミノ-ベンザルマロナートジイソブチル)-ｓ-トリアジン、
−  ベンゾフェノン-３、
−  ベンゾフェノン-４、
−  ベンゾフェノン-５、
−  メチレンビス(ベンゾトリアゾリル)テトラメチルブチルフェノール、
−  ｎ-ヘキシル-２-(４-ジエチルアミノ-２-ヒドロキシベンゾイル)-安息香酸
−  ドロメトリゾールトリシロキサン、
及びそれらの混合物から選択される。
【００２８】
さらに、本発明の化粧品用組成物は、被覆された又は被覆されていない金属酸化物の顔料又はナノ顔料(一次粒子の平均粒径：一般に５ｎｍ〜１００ｎｍ、好ましくは１０ｎｍ〜５０ｎｍ)、例えば、酸化チタン(非晶質又はルチル型及び／又はアナターゼ型結晶)、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム又は酸化セリウムのナノ顔料を含有することができ、これらは全てそれ自体よく知られているＵＶ光防御剤である。さらに、標準的な被覆剤はアルミナ及び／又はステアリン酸アルミニウムである。このような、被覆された又は被覆されていない金属酸化物のナノ顔料は、特に欧州特許公開第０５１８７７２号及び欧州特許公開第０５１８７７３号に記載されている。
またさらに、本発明の組成物は、皮膚をタンニング状態及び／又は褐色にする薬剤(自己タンニング剤)、例えばジヒドロキシアセトン(ＤＨＡ)を含有し得る。
本発明の組成物は、また特に、脂肪物質、有機溶媒、イオン性又は非イオン性の増粘剤、軟化剤、酸化防止剤、遊離基捕捉剤、乳濁剤、安定剤、柔軟剤、シリコーン類、α-ヒドロキシ酸、消泡剤、保湿剤、ビタミン類、昆虫忌避剤、香料、防腐剤、界面活性剤、抗炎症剤、サブスタンスＰアンタゴニスト、フィラー、ポリマー、噴霧剤、塩基性化又は酸性化剤、着色剤、又は化粧品に通常使用されている任意の他の成分、特に、エマルションの形態の抗日光組成物を製造するためのものから選択される標準的な化粧品用アジュバンドを含有することができる。
【００２９】
脂肪物質は、油又はロウ又はそれらの混合物からなるものであってよく、直鎖状又は環状の脂肪酸、脂肪アルコール及び脂肪酸エステル類、例えば安息香酸、トリメリト酸及びヒドロキシ安息香酸誘導体を含み得る。油は、動物性、植物性、鉱物性及び合成油、特に液状ワセリン、液状パラフィン、揮発性又は非揮発性シリコーン油、イソパラフィン、ポリオレフィン、フルオロ油及びペルフルオロ油から選択されうる。同様に、ロウは、既に知られている動物性、化石、植物性、鉱物性及び合成ロウから選択されうる。
有機溶媒としては、低級アルコール及びポリオールを挙げることができる。
言うまでもなく、当業者であれば、本発明の組成物に本質的に関連する有利な特性、特に光安定性が、考えられる添加により悪影響を受けないか、実質的に受けないように留意して、この又はこれらの任意の付加的な化合物及び／又はその量を選択するであろう。
【００３０】
本発明の組成物は、当業者によく知られた技術、特に、水中油型又は油中水型のエマルションの調製のための技術により調製され得る。
これらの組成物は、特に、単一エマルション又は複合エマルション(Ｏ／Ｗ、Ｗ／Ｏ、Ｏ／Ｗ／Ｏ又はＷ／Ｏ／Ｗ)の形態、例えばクリーム、ミルク、ゲル、クリーム-ゲル、パウダー又は固体状チューブの形態であってもよく、また、任意にエアゾールとして包装されてもよく、ムース又はスプレーの形態であってもよい。
エマルションである場合、このエマルションの水相は、公知の方法（バンガム(Bangham)、スタンディッシュ(Standish)及びワトキンス(Watkins)、J. Mol. Biol. 13, 238(1965)、仏国特許第２３１５９９１号及び仏国特許第２４１６００８号）により調製される非イオン性の小胞体分散液を含有してもよい。
【００３１】
本発明の化粧品用組成物は、紫外線からヒトの表皮又は毛髪を保護するための組成物として、抗日光組成物として又はメークアップ製品として使用することができる。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からヒトの表皮を保護するために、あるいは抗日光組成物として使用される場合、それは、溶媒又は脂肪物質に懸濁又は分散した形態、非イオン性の小胞体分散液の形態、又はエマルション、好ましくは水中油型エマルションの形態、例えばミルク又はクリーム、又は膏薬、ゲル、クリームゲル、チューブ状固体、パウダー、スティック、エアゾールムース又はスプレーの形態とされ得る。
本発明の化粧品用組成物が、ＵＶ線からの毛髪の保護用に使用される場合、それは、シャンプー、ローション、ゲル、エマルション又は非イオン性の小胞体分散液の形態とすることができ、また、例えばシャンプーの前又は後、染色又は脱色の前又は後、パーマネントウエーブ又は毛髪をまっすぐにする前、間又は後に適用されてすすがれる組成物、毛髪のスタイリング用又はトリートメント用のローション又はゲル、ドライヤー乾燥用又はヘアセット用のローション又はゲル、又はパーマネントウェーブ用、ストレートパーマ用、染色用又は脱色用の組成物を構成し得る。
組成物が、睫毛、眉毛又は皮膚用のメークアップ用製品、例えば、表皮用トリートメントクリーム、ファンデーション、チューブ状口紅、アイシャドウ、フェイスパウダー、マスカラ又はアイライナーとして使用される場合、それは、固体状又はペースト状、無水又は水性の形態、例えば、水中油型又は油中水型のエマルション、非イオン性の小胞体分散液又は懸濁液とされ得る。
【００３２】
指針として、水中油型エマルション型の支持体を有する本発明の抗日光組成物処方において、水相(特に親水性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して、一般的に５０〜９５重量％、好ましくは７０〜９０重量％、油相(特に親油性の遮蔽剤を含有する)は、全組成物に対して５〜５０重量％、好ましくは１０〜３０重量％、(共)乳化剤(類)は、全組成物に対して０．５〜２０重量％、好ましくは２〜１０重量％である。
本明細書の最初に挙げたように、本発明の主題の１つは、紫外線、特に太陽光線から皮膚及び／又は毛髪を保護することを意図した化粧品用又は皮膚用組成物の製造における上述した組成物の用途にある。
本発明の他の主題は、ＵＶ線に対する少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体の安定性を改善するための、前記ジベンゾイルメタン誘導体と、有効量の上述した１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを組合せることからなる方法にある。
本発明の他の主題は、少なくとも１種のジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ遮蔽剤を含有する化粧品用又は皮膚用組成物の調製において、前記ジベンゾイルメタン誘導体のＵＶ線に対する安定性を改善するために、上述した１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタンを使用することからなる。
【００３３】
ここで本発明を例証し、限定するものではない具体例を付与する。
実施例１
ジベンゾイルメタン誘導体の光安定性を、１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン（Ｘ）の量を変化させたいくつかの処方で研究した。これらの処方に共通する支持体は次の通りである：
支持体  １                            重量％
安息香酸C12/15アルキル（ウィトコノール      １５．００
(Witconol)ＴＮ−ウィトコ社）
ブチルメトキシジベンゾイルメタン              ２
（パルソール1789−ホフマン ラ ロシュ社）
１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-         ｘ
５-tert-ブチルフェニル)ブタン
（ミキシム(Mixxim)AO-30−フェアモント
ケミカル社(Fairmount Chemical)）
オキシエチレン化(200 EO)アクリル酸／          ３．３３
イタコン酸モノステアリルコポリマー
（ストラクチャー(Structure)2001−ナショナル
スターチ社）
トリエタノールアミン                          ０．４５
防腐剤                                        １．２０
脱塩水                                    １００にする量
【００３４】
測定方法
各処方について、３つのテストサンプルと３つの対照サンプルとを調製した。２ｍｇ／ｃｍ２の処方物を、ポリメタクリル酸メチルプレート上に、スパチェラで配した。テストプレートを、ＵＶ-Ａ照明として：３．０２×１０−３Ｗ／ｃｍ２、及びＵＶ-Ｂ照明として：２．１×１０−４Ｗ／ｃｍ２のキセノンランプを具備するサンテストヘレウス(Sun Test Heraus)機に、１時間３９分間暴露し、コントロールプレートを同じ温度(３８〜４０℃)で同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わりに、各々のプレートを５０ｇのエタノールに浸し、良好な抽出を確保するためにそれらを１５分間超音波で処理することによって、遮蔽剤を抽出した。得られた溶液をＵＶ分光測定で分析した。各々のテスト処方において、暴露後の残留ブチルメトキシジベンゾイルメタン量を、暴露サンプルの吸光度（ＯＤ）の非暴露吸光度（ＯＤ）に対する比率として得た。機械はブチルメトキシジベンゾイルメタン：λｍａｘ＝３５８ｎｍに相当する最大吸光度に設定する。
【００３５】
得られた結果を表１にまとめる。
【表１】
0003893336.tif 000010
【００３６】
実施例２
ブチルメトキシジベンゾイルメタンの存在下でのオクチルトリアゾンの光安定性を、１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-５-tert-ブチルフェニル)ブタン（Ｘ）の量を変化させたいくつかの処方で研究した。これらの処方に共通する支持体は次の通りである：
支持体  １                            重量％
安息香酸C12/15アルキル（ウィトコノール      １５．００
ＴＮ−ウィトコ社）
ブチルメトキシジベンゾイルメタン              ０．５
（パルソール1789−ホフマン ラ ロシュ社）
１,１,３-トリス(２-メチル-４-ヒドロキシ-         ｘ
５-tert-ブチルフェニル)ブタン
（ミキシム(Mixxim)AO-30−フェアモント
ケミカル社）
オクチルトリアゾン（ユビヌルT150−ＢＡＳＦ社）１．５
オキシエチレン化(200 EO)アクリル酸／          ３．３３
イタコン酸モノステアリルコポリマー
（ストラクチャー2001−ナショナルスターチ社）
トリエタノールアミン                          ０．４５
防腐剤                                        １．２０
脱塩水                                    １００にする量
【００３７】
各処方について、３つのテストサンプルと３つの対照サンプルとを調製した。２ｍｇ／ｃｍ２の処方を、ポリメタクリル酸メチルプレート上に、スパチェラで配した。テストプレートを、ＵＶ-Ａ照明として：３．０２×１０−３Ｗ／ｃｍ２、及びＵＶ-Ｂ照明として：２．１×１０−４Ｗ／ｃｍ２のキセノンランプを具備するサンテストヘレウス機に、１時間３９分間暴露し、コントロールプレートを同じ温度(３８〜４０℃)で同じ時間、暗所で保管した。この時間の終わりに、各々のプレートを５０ｇのエタノールに浸し、良好な抽出を確保するためにそれらを１５分間超音波で処理することによって、遮蔽剤を抽出した。得られた溶液をＵＶ分光測定で分析した。各々のテスト処方において、暴露後のブチルメトキシジベンゾイルメタンの残量とオクチルトリアゾンの残量を、暴露サンプルの各々の吸光度（ＯＤ）のそれぞれのフィルターに相当する非暴露吸光度（ＯＤ）に対する比率として得た。機械は、各フィルター：ブチルメトキシジベンゾイルメタン：λｍａｘ＝３５８ｎｍ、オクチルトリアゾン：λｍａｘ＝３１２ｎｍに相当する最大吸光度に設定する。
【００３８】
得られた結果を表２にまとめる。
【表２】
0003893336.tif 000011