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【手続補正書】
【提出日】平成28年8月2日(2016.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生分解性エラストマーグローブであって、
ａ）  アクリロニトリルブタジエン系ゴムラテックス；
ｂ）  アルカリ安定化剤；
ｃ）  金属酸化物架橋剤；および
ｄ）  カルボン酸化合物を含む生分解剤
を含む組成物から形成され、
生分解剤非存在下での実質的に同一な参照エラストマーグローブの生分解速度よりも大きな、ＡＳＴＭ  Ｄ５５１１試験基準に従って測定される生分解速度を示す、
上記生分解性エラストマーグローブ。
【請求項２】
アルカリ安定化剤が１００乾燥部のアクリロニトリルブタジエン系ゴムあたり０部超〜約２．０部の量で存在する、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項３】
アルカリ安定化剤が水酸化アルカリを含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項４】
アルカリ安定化剤がアンモニアを含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項５】
組成物が約８．５〜約１０．５の範囲のｐＨを有する、請求項４に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項６】
アクリロニトリルブタジエン系ゴムラテックスがカルボキシル化されている、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項７】
金属酸化物架橋剤が酸化亜鉛または酸化マグネシウムである、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項８】
金属酸化物架橋剤が１００乾燥部のアクリロニトリルゴムあたり０部超〜約５．０部の量で存在する、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項９】
金属酸化物架橋剤が酸化亜鉛を含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１０】
生分解剤が１００乾燥部のアクリロニトリルブタジエン系ゴムあたり０部超〜約２．０部の量で存在する、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１１】
カルボン酸化合物が５〜１８炭素の鎖長を有し、かつ生分解剤が化学誘引性化合物；グルタル酸またはその誘導体；および膨潤剤をさらに含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１２】
エラストマーグローブが硫化されている、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１３】
生分解性エラストマーグローブを生成するための方法であって、
ａ．  所定のサイズおよび形を有するグローブ形成剤を得ること；
ｂ．  グローブ形成剤の少なくとも一表面部分を凝固剤と接触させることで、グローブ形成剤の表面部分上に少なくとも一部分の凝固剤コーティングを得ること；
ｃ．  凝固剤コーティングを乾燥させること；
ｄ．  その表面上に乾燥した少なくとも部分的な凝固剤コーティングを有するグローブ形成剤を、
ｉ．  アクリロニトリルブタジエン系ゴムラテックス；
ｉｉ．  アルカリ安定化剤；
ｉｉｉ．  金属酸化物架橋剤；および
ｉｖ．  カルボン酸化合物を含む生分解剤
を含む組成物でコーティングすること；
ｅ．  ステップｄ）のコーティングを硬化させることで、生分解剤非存在下での実質的に同一な参照エラストマーグローブ材料の生分解速度よりも大きな、ＡＳＴＭ  Ｄ５５１１試験基準に従って測定される生分解速度を示すエラストマーグローブ材料を得ること、
を含む、上記方法。
【請求項１４】
生分解性エラストマーグローブを生成するための方法であって、
ａ．  所定のサイズおよび形を有し、少なくとも部分的に支持材で覆われているグローブ形成剤を得ること；
ｂ．  ステップａ）の支持材の少なくとも一部を、
ｉ．  アクリロニトリルブタジエン系ゴムラテックス；
ｉｉ．  アルカリ安定化剤；
ｉｉｉ．  金属酸化物架橋剤；および
ｉｖ．  カルボン酸化合物を含む生分解剤
を含む組成物と接触させることによって、支持材上に前記組成物の第一コーティングを得ること；
ｃ．  第一コーティングを少なくとも部分的に固化させること；
ｄ．  ステップｂ）およびｃ）を順に「ｎ」回繰り返し、ここで「ｎ」は１以上の整数であり、それによって、生分解剤非存在下での実質的に同一な参照エラストマーグローブ材料の生分解速度よりも大きな、ＡＳＴＭ  Ｄ５５１１試験基準に従って測定される生分解速度を示す、支持されたエラストマーグローブ材料を得ること、
を含む、上記方法。
【請求項１５】
カルボン酸化合物がグルタル酸またはヘキサデカン酸化合物であり、かつ生分解剤がフラノン化合物、感覚受容性膨潤剤またはそれらの組み合わせをさらに含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１６】
生分解剤が化学走性剤をさらに含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１７】
生分解剤が相溶化剤をさらに含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１８】
生分解剤が、アクリロニトリルブタジエン系ゴムを消化することが可能な微生物をさらに含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【請求項１９】
生分解剤が膨潤剤をさらに含む、請求項１に記載の生分解性エラストマーグローブ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月22日(2016.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ａ）少なくとも１つのベンゾキサジン化合物、および
ｂ）ポリカルボン酸（チオ）エステルまたはポリカルボン酸アミドから選択される少なくとも１つのリン含有ポリマー
を含有する重合性組成物であって、リン含有ポリマーは一般式（Ｉ）：
【化１】
2015532673.tif 000001
［式中、Ｒａ、Ｒｂ、Ｒｃ、Ｒｄ、Ｒｅ、Ｒｆ、ＲｇおよびＲｈは独立して、水素、アルキル、アリール、アルコキシ、アリールオキシ、アラルキル、ハロゲン、シアニド、チオール、アミン、カルボキシルまたはアシルから選択される］
で示される少なくとも１つの構成要素を含む、重合性組成物。
【請求項２】
リン含有ポリマーは、カルボキシル基、ヒドロキシル基、アミン基、チオール基、ホスフィン酸基またはホスホン酸基から独立して選択される１つ以上の末端官能基を有することを特徴とする、請求項１に記載の重合性組成物。
【請求項３】
リン含有ポリマーは、一般式（ＩＩ）：
【化２】
2015532673.tif 000002
［式中、ｎは２〜１０，０００の整数であり、ＸおよびＸ’は独立して-Ｏ-、-Ｓ-または-ＮＨ-から選択され、Ａは１〜１００個の炭素原子を有する三価化合物基であり、Ｂは２〜１００個の炭素原子を有する二価化合物基である］
で示される１つ以上の構成単位を有することを特徴とする、請求項１または２に記載の重合性組成物。
【請求項４】
式（ＩＩ）におけるＢは、アルキレン基、ポリオキシアルキレン基、アリーレン基またはそれらの組み合わせから選択される直鎖または分岐化合物基であることを特徴とする、請求項３に記載の重合性組成物。
【請求項５】
リン含有ポリマーは、一般式（ＩＩＩ）：
【化３】
2015532673.tif 000003
［式中、ｎ’は２〜１０００の整数であり、ｕおよびｕ’は独立して１〜１０の整数を意味し、Ａは１〜１００個の炭素原子を有する三価化合物基であり、ＲａおよびＲｂは独立して水素、アルキルまたはアシルから選択される］
で示される化合物であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項６】
リン含有ポリマーは、２５，０００ｇ／ｍｏｌ〜１００，０００ｇ／ｍｏｌの数平均分子量（Ｍｎ）を有することを特徴とする、請求項１〜５のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項７】
リン含有ポリマーのリン含量が５〜１２重量％であることを特徴とする、請求項１〜６のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項８】
重合性組成物の全リン含量が０．０１〜１．５重量％であることを特徴とする、請求項１〜７のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項９】
リン含有ポリマーはポリカルボン酸エステルであることを特徴とする、請求項１〜８のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項１０】
・重合性ベンゾキサジン化合物の含量が、重合性組成物の総量に基づいて２０〜９９．５重量％であること、および／または
・リン含有ポリマーの含量が、重合性組成物の総量に基づいて０．１〜１０重量％であること
を特徴とする、請求項１〜９のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項１１】
重合性組成物はハロゲンを実質的に含まないことを特徴とする、請求項１〜１０のいずれかに記載の重合性組成物。
【請求項１２】
請求項１〜１１のいずれかに記載の重合性組成物の重合生成物。
【請求項１３】
重合生成物は、繊維の層または束を封入しており、繊維の層または束は、硬化前の請求項１〜１１のいずれかに記載の重合性組成物で処理されたものであることを特徴とする、請求項１２に記載の重合生成物。
【請求項１４】
ａ）繊維の層または束を供給する工程；
ｂ）請求項１〜１１のいずれかに記載の重合性組成物を供給する工程；
ｃ）繊維の層または束を重合性組成物で処理することにより複合系を製造する工程；
ｄ）場合により、複合系から過剰量の重合性組成物を除去する工程；および
ｅ）複合系を高温および好ましくは高圧に付すことにより重合反応を行う工程
を含む、請求項１３に記載の重合生成物の製造方法。
【請求項１５】
請求項１〜１１のいずれかに記載の重合性組成物を含んでなる、接着剤、シーラントまたは塗料。
【請求項１６】
請求項１〜１１のいずれかに記載の重合性組成物または請求項１２に記載の重合生成物を含んでなる、電子的構成要素。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６４】
本発明の１つの好ましい態様では、本発明の重合生成物は、繊維の層または束を封入しており、その繊維は、硬化（重合）前の本発明の重合性組成物で処理されたものである。後の硬化により、繊維強化複合材料が得られる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６５】
従って本発明の別の対象は、本発明の重合性組成物の重合生成物（重合生成物では、本発明の重合性組成物が繊維の層または束を封入しており、この繊維は硬化前の前記組成物で処理されたものである）の製造方法に関する。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月29日(2016.7.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
Ｖ２Ｏ５を≧３０モル％かつ≦６０モル％；
Ｐ２Ｏ５を≧５モル％かつ≦２０モル％；
ＺｎＯを≧０モル％かつ≦１０モル％；
Ｂｉ２Ｏ３を≧０モル％かつ≦５モル％；
Ｆｅ２Ｏ３を≧１０モル％かつ≦２５モル％；
ＴｉＯ２を≧５モル％かつ≦２０モル％；
ＴｅＯ２を≧５モル％かつ≦２０モル％；
を含み；
ＴｉＯ２＋Ｆｅ２Ｏ３が２０モル％〜３５モル％の範囲内であることを特徴とするアンチモンフリーガラス。
【請求項２】
Ｖ２Ｏ５が≧３０モル％かつ≦４０モル％であり；
Ｐ２Ｏ５が≧５モル％かつ≦１５モル％である
ことを特徴とする請求項１に記載のアンチモンフリーガラス。
【請求項３】
Ｖ２Ｏ５が≧３５モル％かつ≦４０モル％であり；
Ｐ２Ｏ５が≧８モル％かつ≦１０モル％であり；
ＺｎＯが≧３モル％かつ≦７モル％である
ことを特徴とする請求項１に記載のアンチモンフリーガラス。
【請求項４】
前記ガラスが：
Ｖ２Ｏ５を４０モル％；
Ｐ２Ｏ５を１０モル％；
ＺｎＯを５モル％；
Ｆｅ２Ｏ３を１５モル％；
ＴｉＯ２を１５モル％；および
ＴｅＯ２を１５モル％
の組成を有することを特徴とする請求項１に記載のアンチモンフリーガラス。
【請求項５】
前記アンチモンフリーガラスがＴｇ≦３５０℃であることを特徴とする請求項１〜４のいずれか一項に記載のアンチモンフリーガラス。
【請求項６】
ガラスパッケージであって：
第１のガラス板と；
第２のガラス板と；
前記第１のガラス板を前記第２のガラス板に結合させて、それらの間の気密シールを形成するフリットと；
を含み、前記フリットが：
Ｖ２Ｏ５を≧３０モル％かつ≦６０モル％；
Ｐ２Ｏ５を≧５モル％かつ≦２０モル％；
ＺｎＯを≧０モル％かつ≦１０モル％；
Ｂｉ２Ｏ３を≧０モル％かつ≦５モル％；
Ｆｅ２Ｏ３を≧１０モル％かつ≦２５モル％；
ＴｉＯ２を≧５モル％かつ≦２０モル％；
ＴｅＯ２を≧５モル％かつ≦２０モル％；
含み；
ＴｉＯ２＋Ｆｅ２Ｏ３が２０モル％〜３５モル％の範囲内であるアンチモンフリーガラスを含むことを特徴とするガラスパッケージ。
【請求項７】
Ｖ２Ｏ５が≧３０モル％かつ≦４０モル％であり；
Ｐ２Ｏ５が≧５モル％かつ≦１５モル％である
ことを特徴とする請求項６に記載のガラスパッケージ。
【請求項８】
Ｖ２Ｏ５が≧３５モル％かつ≦４０モル％であり；
Ｐ２Ｏ５が≧８モル％かつ≦１０モル％であり；
ＺｎＯが≧３モル％かつ≦７モル％である
ことを特徴とする請求項６に記載のガラスパッケージ。
【請求項９】
前記アンチモンフリーガラスがＴｇ≦３５０℃であることを特徴とする請求項６に記載のガラスパッケージ。
【請求項１０】
アンチモンフリーガラスであって、
Ｖ２Ｏ５を≧３０モル％かつ≦６０モル％；
Ｐ２Ｏ５を≧５モル％かつ≦２０モル％；
ＺｎＯを≧０モル％かつ≦１０モル％；
Ｂｉ２Ｏ３を≧０モル％かつ≦５モル％；
Ｆｅ２Ｏ３を≧１０モル％かつ≦２５モル％；
ＴｉＯ２を≧５モル％かつ≦２０モル％；
ＴｅＯ２を≧５モル％かつ≦２０モル％；
を含むアンチモンフリーガラスと、
ＣＴＥ低下充填剤と、
を含み、
ＴｉＯ２＋Ｆｅ２Ｏ３が２０モル％〜３５モル％の範囲内であることを特徴とするフリット。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月14日(2016.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ワイヤレス通信の方法であって、
タイミングアドバンス値を変更するためのコマンドを受信するステップと、
指定された期間中に参照タイミングアドバンス値と比較してタイミングアドバンス値がしきい値量を超えて変化するとき、エラー状態を宣言するステップと
を含む方法。
【請求項２】
前記エラー状態を宣言すると、現在のタイミングアドバンス値を維持するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
現在のコマンドが前に受信したタイミングアドバンス値の方向とは異なる方向を有するタイミングアドバンス値を含むとき、エラー状態から復元するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記参照タイミングアドバンス値を維持するステップをさらに含む、請求項3に記載の方法。
【請求項５】
リセット期間内に別の誤りが宣言されないとき、前記参照タイミングアドバンス値を更新するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記エラー状態を宣言すると、送信電力を維持または増大するステップをさらに含む、請求項1に記載の方法。
【請求項７】
前記タイミングアドバンス値の前記変化が初期化後以降の一定期間後に測定される、請求項1に記載の方法。
【請求項８】
初期化が、ハンドオーバ、新しい呼の初期化、またはチャネルリソース再構成を含む、請求項7に記載の方法。
【請求項９】
ワイヤレス通信のための装置であって、
タイミングアドバンス値を変更するためのコマンドを受信するための手段と、
指定された期間中に参照タイミングアドバンス値と比較してタイミングアドバンス値がしきい値量を超えて変化するとき、エラー状態を宣言するための手段と
を備える装置。
【請求項１０】
現在のコマンドが前に受信したタイミングアドバンス値の方向とは異なる方向を有するタイミングアドバンス値を含むとき、前記エラー状態から復元するための手段をさらに備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１１】
前記エラー状態を宣言すると、現在のタイミングアドバンス値を維持するための手段を備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１２】
現在のコマンドが前に受信したタイミングアドバンス値の方向とは異なる方向を有するタイミングアドバンス値を含むとき、前記エラー状態から復元するための手段を備える、請求項9に記載の装置。
【請求項１３】
前記参照タイミングアドバンス値を維持するための手段を備える、請求項12に記載の装置。
【請求項１４】
メモリと、
前記メモリに結合されるとともに、受信するための手段および宣言するための手段を提供するように構成された、少なくとも1つのプロセッサと
を備える、請求項9から13のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１５】
ワイヤレスネットワークにおけるワイヤレス通信のためのコンピュータプログラムであって、実行されると、請求項1から8のいずれか一項に記載の方法を行うプログラムコードを含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月21日(2016.9.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
センサーアレイを走査するステップと、
前記センサーアレイのアレイキャパシタンスを検出するステップと、
前記アレイキャパシタンスを解析するステップと、
前記アレイキャパシタンスにおけるアレイキャパシタンス値のパターンが耳の存在を示すと判断するステップと、
前記アレイキャパシタンス値のパターンが、以前に取得された耳パターンデータに一致するかどうかを判断するステップと、
前記アレイキャパシタンス値のパターンが、前記以前に取得された耳パターンデータに一致する場合、デバイス動作を呼び出すステップと
を含む方法。
【請求項２】
i)前記センサーアレイが、投影容量性タッチセンサーアレイであること、
ii)前記呼び出されたデバイス動作が、モバイルデバイスをアンロックすること、
iii)前記デバイス動作が、セルフォン動作であること、
のうち１つまたは複数を含む、請求項1に記載の方法。
【請求項３】
iii)は、
i)前記セルフォン動作が、前記セルフォンの少なくとも1つのスピーカーを制御すること
ii)前記セルフォン動作が、前記セルフォンのボイス認識機能を制御することを含む、
のうち１つまたは複数を含む、請求項2に記載の方法。
【請求項４】
センサーデバイスからセンサー信号を受信するステップと、
前記センサー信号が前記耳の存在を示すかどうかを判断するステップと
をさらに含む、請求項2または3に記載の方法。
【請求項５】
投影容量性タッチセンサーアレイと、
論理システムと
を備えるモバイルデバイスであって、前記論理システムは、
前記センサーアレイを走査すること、
前記センサーアレイのアレイキャパシタンスを検出すること、
前記アレイキャパシタンスを解析すること、
前記アレイキャパシタンスが耳の存在を示すと判断すること、
前記アレイキャパシタンス値のパターンが、以前に取得された耳パターンデータに一致するかどうかを判断すること、および
前記耳の存在が示される場合、デバイス動作を呼び出すこと
を行うために構成される、モバイルデバイス。
【請求項６】
前記モバイルデバイスが、セルフォンを含み、前記デバイス動作が、セルフォン動作である、請求項5に記載のモバイルデバイス。
【請求項７】
i)前記モバイルデバイスが、1つまたは複数のスピーカーを含み、前記セルフォン動作が、前記1つまたは複数のスピーカーのうちの少なくとも1つのスピーカーを制御することを含むこと、
ii)前記セルフォン動作が前記セルフォンをアンロックすることを含むこと、
iii)前記セルフォン動作が、前記セルフォンのボイス認識機能を制御することを含むこと、
のうち１つまたは複数を含む、請求項6に記載のモバイルデバイス。
【請求項８】
i)において、前記セルフォン動作が、耳タッチゾーンの面積、または、前記セルフォンに加えられている力の量に従って、前記1つまたは複数のスピーカーのうちの少なくとも1つのスピーカーを制御することを含む、請求項7に記載のモバイルデバイス。
【請求項９】
ジェスチャー検出の方法であって、
モバイルデバイスのセンサーアレイを走査するステップと、
前記センサーアレイからのセンサー信号を検出するステップと、
前記センサー信号を解析するステップと、
前記センサー信号が耳ジェスチャーを示すかどうかを判断するステップであって、前記耳ジェスチャーは、耳スワイプ、耳回転、および耳の動きからなるグループから選択されるステップと、
前記耳ジェスチャー指示に基づいて、デバイス動作を呼び出すステップと
を含む方法。
【請求項１０】
i)前記センサーアレイが、投影容量性タッチセンサーアレイであり、前記センサー信号が、キャパシタンス信号であること、
ii)前記デバイス動作が、セルフォン動作であること、
iii)前記デバイス動作が、スピーカーフォンモードに切り替えること、標準オーディオモー
ドに切り替えること、オーディオ出力デバイスの音量を調節すること、オーディオ出力デバイスの指向性を調節すること、マイクロフォンの指向性を調節すること、耳を認識すること、左耳を検出すること、右耳を検出すること、特定の耳を認識すること、耳認識をPINとして使用すること、セルフォンにアクセスすること、セルフォンをアンロックすること、通話を受けること、通話を開始すること、通話を終了すること、ボイス認識機構をオンにすること、ボイス認識機構をオフにすること、耳の特徴的パターンおよび顔の一部分を認識すること、耳ジェスチャーを学習すること、ならびに、耳位置を追跡することからなるグループから選択されること、
iv)前記耳ジェスチャーが、耳タッチ、耳押付け、耳圧力、耳位置、および耳距離からなるグループから選択されること、
v)前記モバイルデバイスの補足センサーデバイスから、補足センサー信号を受信するステップと、
前記補足センサー信号を用いて、前記耳の存在を検証するステップと
をさらに含むこと、
のうち１つまたは複数を含む、請求項9に記載の方法。
【請求項１１】
ii)において、
前記セルフォン動作が、前記セルフォンの少なくとも1つのスピーカーの音量レベルを修正するか、または、
前記セルフォン動作が、前記セルフォンのボイス認識機能を変更する、
請求項10に記載の方法。
【請求項１２】
v)において、前記補足センサー信号が、前記モバイルデバイスの圧力センサー、赤外線(IR)センサー、加速度計、ジャイロスコープ、向きセンサー、またはカメラからの、1つまたは複数の信号を含む、請求項10に記載の方法。
【請求項１３】
ソフトウェアを記憶した非一時的媒体であって、前記ソフトウェアは、次の動作を実行するようにモバイルデバイスを制御するための命令を含み、前記動作は、
前記モバイルデバイスの投影容量性タッチセンサーアレイを走査すること、
前記センサーアレイからのキャパシタンス信号を検出すること、
前記キャパシタンス信号を解析すること、
前記キャパシタンス信号が耳ジェスチャーを示すかどうかを判断することであって、前記耳ジェスチャーは、耳スワイプ、耳回転、および耳の動きからなるグループから選択されること、および
前記耳ジェスチャー指示に基づいて、デバイス動作を呼び出すこと
である、非一時的記録媒体。
【請求項１４】
前記デバイス動作が、セルフォン動作である、請求項13に記載の非一時的記録媒体。
【請求項１５】
i)前記セルフォン動作が、前記セルフォンの少なくとも1つのスピーカーの音量レベルを修正すること、
ii)前記セルフォン動作が、前記セルフォンをアンロックすること、または、
iii)前記セルフォン動作が、前記セルフォンのボイス認識機能を変更すること、
のうち１つまたは複数を含む、請求項14に記載の非一時的記録媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月18日(2016.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
縦軸と、プレクリンプの直径と、少なくとも２つの結合要素によって互いに接続された一対のリング要素と、を有するポリマースキャフォールドを提供する工程と、
少なくとも６個のひだを有するバルーンを超えるプレクリンプの直径を有する前記スキャフォールドを配置する工程と、
前記バルーンに前記スキャフォールドをクリンプする工程と、を備え、
前記クリンプする工程は、
前記プレクリンプの直径から第１の直径まで前記スキャフォールドの直径を縮小させることと、ここで、前記バルーンは、前記スキャフォールドの直径が前記第１の直径まで縮小させられるまで膨張させられず、
滞留期間の間、前記第１の直径に前記スキャフォールドを維持することと、
前記第１の直径から最終的なクリンプ直径まで前記スキャフォールドの直径を縮小させることと、を含む、医療デバイスを作るための方法。
【請求項２】
前記バルーンは、９個、１２個若しくは１５個のひだ、又は９個から１５個の間のひだを有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記プレクリンプの直径は、前記最終的なクリンプ直径の少なくとも２倍である、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記バルーンは、第１のクリンプ直径まで前記スキャフォールドの直径が縮小された後に、膨張させられる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１の直径は、前記プレクリンプの直径の少なくとも約５０％である、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記スキャフォールドは、前記第１の直径に至るまで前記スキャフォールドの直径が縮小される前に、膨張させられない、請求項４に記載の方法。
【請求項７】
前記最終的なクリンプ直径まで前記スキャフォールドがクリンプされる際に前記ひだが維持されるように、前記第１の直径は、前記膨張させられたバルーンの前記ひだが部分的にのみ開くような直径である、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記バルーンは、名目上のバルーンの膨張圧の約２０〜８０％、又は前記バルーンの過膨張された若しくは最大の膨張圧の約１０〜３０％まで膨張させられる、請求項１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６３】
上述の詳細な説明に照らして、本発明にこれらの修正が加えられ得る。特許請求の範囲において使用された用語は、本発明を明細書に開示された特定の実施形態に限定するように解釈されるべきではない。むしろ、発明の範囲は特許請求の範囲によってもっぱら決定されるべきであり、これはクレーム解釈の確立された理論に従って解釈されるべきである。
以下に、出願当初の特許請求の範囲に記載の事項を、そのまま、付記しておく。
［１］  バルーンにクリンプされたポリマースキャフォールドを備え、前記スキャフォールドは縦軸と複数のリング要素とを有し、ここで、一対のリング要素は、少なくとも２個の結合要素によって互いに接続されており、
前記バルーンは、前記バルーンが膨張させられたときに前記スキャフォールドを一様に拡張させるように、少なくとも６個のひだを有するように形成されている、医療デバイス。
［２］  前記バルーンは６個から１５個の間のひだを有する、［１］に記載の医療デバイス。
［３］  前記スキャフォールドは、隣接するリング要素間に形成された少なくとも２つのクローズドセルを有し、及びクローズドセル毎のために少なくとも３個のひだがある、［１］に記載の医療デバイス。
［４］  前記スキャフォールドは、前記バルーンにクリンプされるときに、前記スキャフォールドの前記直径の少なくとも２倍である前記スキャフォールドのプレクリンプの略直径を有するように、二軸的に拡張された半結晶性ポリマーチューブから形成され、
ここにおいて、前記クリンプされた直径を有する前記スキャフォールドは、前記チューブが、前記プレクリンプの略直径まで二軸的に拡張されたときに形成されるポリマー鎖配向を有する、［１］に記載の医療デバイス。
［５］  前記スキャフォールドが３つの結合要素を有するとともに前記バルーンが９個、１２個若しくは１５個のひだ又は９個から１５個の間のひだを有し、又は前記スキャフォールドが２つの結合要素有するとともに前記バルーンが９個、１２個若しくは１５個のひだ又は９個から１５個の間のひだを有する、［４］に記載の医療デバイス。
［６］  前記バルーンは縦軸を有し、及び前記ひだは前記縦軸にわたって延びる、［１］に記載の医療デバイス。
［７］  前記ひだは熱硬化されたひだである、［６］に記載の医療デバイス。
［８］  前記ひだは前記バルーンの周囲にらせん状に巻き付けられている、［７］に記載の医療デバイス。
［９］  縦軸と、プレクリンプの直径と、少なくとも２つの結合要素によって互いに接続された一対のリング要素と、を有するポリマースキャフォールドを提供する工程と、
少なくとも６個のひだを有して形成されたバルーンを提供する工程と、
前記バルーンに前記スキャフォールドをクリンプする工程と、を備え、
前記クリンプする工程は、
前記プレクリンプの直径から第１の直径まで前記スキャフォールドの直径を縮小させることと、
滞留期間の間、前記第１の直径に前記スキャフォールドを維持することと、
前記第１の直径から最終的なクリンプ直径まで前記スキャフォールドの直径を縮小させることと、を含む、医療デバイスを作るための方法。
［１０］  前記バルーンは、９個、１２個若しくは１５個のひだ、又は９個から１５個の間のひだ
を有する、［９］に記載の方法。
［１１］  前記プレクリンプの直径は、前記最終的なクリンプ直径の少なくとも２倍である、［９］に記載の方法。
［１２］  前記バルーンは、第１のクリンプ直径まで前記スキャフォールドの直径が縮小された後に、膨張させられる、［９］に記載の方法。
［１３］  前記第１の直径は、前記プレクリンプの直径の少なくとも約５０％である、［１２］に記載の方法。
［１４］    前記スキャフォールドは、前記第１の直径に至るまで前記スキャフォールドの直径が縮小される前に、膨張させられない、［１２］に記載の方法。
［１５］  前記最終的なクリンプ直径まで前記スキャフォールドがクリンプされる際に前記ひだが維持されるように、前記第１の直径は、前記膨張させられたバルーンの前記ひだが部分的にのみ開くような直径である、［９］に記載の方法。
［１６］  前記バルーンは、名目上のバルーンの膨張圧の約２０〜８０％、又は前記バルーンの過膨張された若しくは最大の膨張圧の約１０〜３０％まで膨張させられる、［９］に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月22日(2016.4.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトまたは動物または植物の表面領域を、低温大気圧プラズマを用い誘電体バリア表面放電を形成することによって治療するための装置であって、少なくとも１つの高電圧ケーブルと、少なくとも１つのアースケーブルと、少なくとも１つのプラズマ源と、少なくとも１つのガス供給部と、少なくとも１つの接地電極と、少なくとも１つの高電圧電極とを有する装置であって、
前記高電圧電極は、フレキシブルなワイヤまたは導電性の繊維から作製され、前記ワイヤまたは繊維は、伸縮自在な絶縁層によって被覆されており、形成すべき誘電体バリア放電のための誘電体として用いられ、前記高電圧電極は、治療すべき身体エリアまたは表面の輪郭に同時に適合する構成において、
前記高電圧電極のための絶縁層としてポリイミドが用いられ、前記絶縁層はフレキシブルな電極を等間隔で取り囲まれ、５ｋＶないし１０ｋＶの絶縁耐力を有する
ことを特徴とする装置。
【請求項２】
芳香族ポリイミドが使用される、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記高電圧電極のための絶縁層としてＰｏｌｙ（４，４’−オキシジフェニレン−ピロメリトイミド）が用いられる、ことを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記芳香族ポリイミドは無機充填剤を含む、ことを特徴とする請求項２に記載の装置。
【請求項５】
前記絶縁層としてカプトン（登録商標）−ＣＲが使用される、ことを特徴とする請求項３又は４に記載の装置。
【請求項６】
導電性、ガス透過性かつフレキシブルな素材が、接地電極として機能する、ことを特徴とする請求項１に記載の装置。
【請求項７】
接地電極として導電性織物平面構造体が機能し、前記織物平面構造体は、織物素材を作製するための既知の方法によって製造される、
ことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記織物平面構造体は、織られ、編まれ、撚り合わされ、または毛編みされている、ことを特徴とする請求項６に記載の装置。
【請求項９】
装置が少なくとも１つのガスノズルを有する、ことを特徴とする請求項１から８のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１０】
前記ガス供給部は遮断装置により遮断することができ、これにより封鎖された容積内で小型空調の条件の下で治療すべき表面上で治療を行うことができる、ことを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記プラズマ源の電極構成体はガス透過性であり、それにより前記電極構成体を通して治療すべき表面上にガス流を形成することができる、ことを特徴とする請求項１から９のいずれか一項に記載の装置。
【請求項１２】
請求項１から１１の少なくとも一項に記載の装置を有する、皮膚領域に施与するための絆創膏、マンシェットまたは傷口カバー。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
電気モータ又は発電機のステータ又はロータであって、
突出部を有する環状支持体と、
コイル巻線を支持するよう構成される歯と、を備え、
前記歯は、前記突出部を収容する凹部を含み、
前記突出部及び前記凹部は、前記突出部が前記凹部に収容される際の前記凹部及び前記突出部の隣接面にくぼみ又は溝が形成されるよう構成され、
前記凹部及び突出部の隣接面に形成された前記くぼみ又は溝の間に、前記歯を前記支持体に保持するための材料が配置される、ステータ又はロータ。
【請求項２】
前記環状支持体は、各突出部が歯の凹部に収容される複数の突出部を備え、
各突出部及びこれが収容される凹部が、これら凹部及び突出部の隣接面に形成されるくぼみまたは溝を有するよう構成され、
前記くぼみまたは溝の間に、前記複数の歯を前記支持体に保持するための材料が配置される、請求項１に記載のステータ又はロータ。
【請求項３】
前記材料が、硬化ポリマー、ポリウレタンポッティング材、又はシリコンポッティング材である、請求項１又は２に記載のステータ又はロータ。
【請求項４】
前記硬化ポリマーがエポキシ樹脂である、請求項３に記載のステータ又はロータ。
【請求項５】
前記凹部及び前記突出部の隣接面に形成される前記くぼみ又は溝が、前記環状支持体に対して半径方向略同一の位置にある、請求項１〜請求項４の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項６】
前記突出部及びこれが収容される前記凹部が、前記凹部と前記突出部との隣接面の第１対及び前記凹部と前記突出部との隣接面の第２対に形成されるくぼみ又は溝を有するように構成された、請求項１〜請求項５の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項７】
前記隣接面の第１対と、前記隣接面の第２対が前記突出部及び前記凹部を挟んで互いに反対側の面にある、請求項６に記載のステータ又はロータ。
【請求項８】
前記材料が前記凹部及び前記突出部の前記隣接面に形成される前記くぼみ又は溝の間に配置された後に硬化するよう構成されるか、
前記突出部が前記環状支持体から径方向外側に延びるか、
前記環状支持体が積層体の積層によって形成されるか、又は、
前記歯が積層体の積層によって形成される、請求項１〜請求項７の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項９】
前記歯がコイル巻線を支持する前にオーバーモールドされる、請求項１〜請求項８の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項１０】
前記オーバーモールドによって形成された層は、複数の歯の側面に形成される射出成形プラスチック層であって、前記歯の第１の側面の前記射出成形プラスチック層に形成された第１の間隙と、前記射出成形プラスチック層に形成された第１の間隙に形成された第１の絶縁要素と、を有し、
前記射出成形プラスチック層及び前記第１絶縁要素は、前記歯が前記コイル巻線から電気絶縁されるよう構成される、請求項９に記載のステータ又はロータ。
【請求項１１】
前記第１の絶縁要素の表面に、当該第１の絶縁要素が前記前記射出成形プラスチック層に形成される第１の間隙に配置される際に前記材料が前記歯の凹部に流入できるようにするための溝が設けられている、請求項１０に記載のステータ又はロータ。
【請求項１２】
前記環状支持体は、突出部の少なくとも一方側に凹部を有し、且つ歯の側面要素が前記凹部内に取り付けられることによって歯の接線方向の動きが抑制される、請求項１〜請求項１１の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項１３】
前記突出部及び歯が、前記環状支持体の中心点から径方向外側に、当該環状支持体から離れる向きに延びる、請求項１〜請求項１２の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項１４】
前記突出部及び前記歯が、前記環状支持体から当該環状支持体の中心点に向かって径方向内向きに延びる、請求項１〜請求項１２の何れかに記載のステータ又はロータ。
【請求項１５】
ステータ又はロータを製造する方法であって、
複数の歯及び環状支持体を提供し、
前記各歯は、表面にくぼみ又は溝を有する凹部を含み、前記環状支持体は、当該環状支持体の周りに配置される複数の突出部を有し、当該複数の突出部は表面にくぼみ又は溝を有しており、
前記複数の歯のそれぞれの周りにコイル巻線を配置し、
前記凹部の表面に形成されたくぼみ又は溝及び前記突出部の表面に形成されたくぼみ又は溝が隣接面となるよう前記突出部を各歯の凹部内に取り付け、
前記隣接面に形成された前記くぼみ又は溝に材料を配置し、
前記材料が、前記隣接面に形成された前記くぼみ又は溝に配置された後に硬化するよう構成され、これによって、前記歯を前記支持体に保持する、ステータ又はロータを製造する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月13日(2016.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第２面を照明し、それによって、照明される前記第２面からの反射を介して間接照明を供給するための照明装置であり、
光源と、
光を出力するための出射面、及び前記光源からの光を前記出射面の方へ反射するための凹状反射面を持つ光学構造部とを有する照明装置であって、
前記光学構造部が、前記反射面からの光を全内部反射及び／又は屈折によって向け直すために前記出射面に配設される複数のプリズム素子を有し、
前記プリズム素子を通過せずに前記出射面を通して出力される光の大部分が、前記第２面に対する垂線に対する角度幅であって、４５度乃至９０度の範囲内である角度幅を規定する方向範囲内で、前記第２面の方へ出力されるように、前記出射面、前記反射面及び前記光源が配設され、
前記プリズム素子によって向け直された光の大部分が、前記第２面に対する垂線に対する角度幅であって、０度乃至８０度の範囲内である角度幅を規定する方向範囲内で、前記第２面の方へ出力されるように、前記プリズム素子、前記出射面、前記反射面及び前記光源が配設される照明装置。
【請求項２】
前記反射面による反射の前に前記光源からの光をコリメートするための手段を更に有する請求項１に記載の照明装置。
【請求項３】
コリメートされた前記光が前記反射面によって反射される前の前記コリメートされた光のコリメーション度の半値全幅が、６０度乃至３０度の幅の中に含まれる請求項２に記載の照明装置。
【請求項４】
前記光学構造部が、光透過性固体ボディを有する請求項１乃至３のいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項５】
前記ボディが、前記光源からの光が、光をコリメートするための手段を供給するように前記ボディに入るときにより細いビームになるよう屈折されるように設定されている屈折率を持つ請求項４に記載の照明装置。 
【請求項６】
前記反射面が、前記光源からの光をコリメートするように湾曲している請求項１乃至５のいずれか一項に記載の照明装置。 
【請求項７】
前記反射面によってコリメートされた光のコリメーション度の半値全幅が、１５度未満である請求項５に記載の照明装置。
【請求項８】
前記光学構造部の前記反射面が、前記光源からの光を全内部反射によって向け直すよう適応される請求項１乃至７のいずれか一項に記載の照明装置。
【請求項９】
前記出射面が、前記反射面によって反射された光の平均方向に対して横方向の面内に延在する請求項１乃至８のいずれか一項に記載の照明装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月27日(2016.7.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光取出し下部構造及びダイオード上部構造を有する有機発光ダイオードにおいて、
前記ダイオード上部構造が、合わせて上部構造導波路を定めるための、カソードと、アノードと、前記カソードと前記アノードの間に配された有機発光半導体材料とを有し、
前記光取出し下部構造が、ガラス基板と、前記ガラス基板の導波路面上に分散する複数の離散光取出し導波路素子と、前記離散光取出し導波路素子と前記ガラス基板の前記導波路面上に広がる光放出マトリックスとを有し、
前記離散光取出し導波路素子が、導波路素子終端点の間を、前記上部構造導波路によって定められる光伝搬方向に沿って延びるものであり、
前記光放出マトリックスが、前記光取出し下部構造の前記ダイオード上部構造が係合する側の平坦性を高め、かつ、前記離散光取出し導波路素子の前記導波路素子終端点に光放出サイトを設けるために、異なる厚さで広げられ、
動作において、前記ダイオード上部構造の前記有機発光半導体材料内で発した光が前記光取出し下部構造の前記離散導波路素子に結合されるように、前記上部構造導波路及び前記光取出し下部構造が構成され、それぞれの結合モードは、光学モードが前記上部構造導波路から前記光取出し下部構造の前記離散光取出し導波路素子の１つに結合されるに必要な伝搬距離として定義される近似結合長で特徴づけられ、
前記導波路素子終端点の間の前記離散光取出し導波路素子の大半の直線の長さが前記結合長の５倍をこえない、
ことを特徴とする有機発光ダイオード。
【請求項２】
前記離散光取出し導波路素子の大半の前記導波路素子終端点の間に延びる長さが、ほぼ２０μｍより小さく、
前記光放出マトリックスの屈折率η(Ｐ)が、前記上部構造導波路の実効屈折率ηeff(Ｏ)及び前記離散光取出し導波路素子の実効屈折率ηeff(ＷＧ)より、少なくともほぼ０.２は小さく、
前記上部構造導波路の厚さｘ(Ｏ)と、前記離散光取出し導波路素子及び前記光放出マトリックスの複合厚さｘ(ＷＧ＋Ｐ)との、前記光伝搬方向と直交する方向の差が、ほぼ１.５μｍより小さく、
前記上部構造導波路の前記光伝搬方向と直交する方向における前記離散光取出し導波路素子からの離隔距離が、ほぼ１.５μｍより小さい、
ことを特徴とする請求項１に記載の有機発光ダイオード。
【請求項３】
前記上部構造導波路の実効屈折率ηeff(Ｏ)と、前記離散光取出し素子の実効屈折率ηeff(ＷＧ)と、前記光放出マトリックスの屈折率η(Ｐ)とが以下の関係、
１.６≧η(Ｐ)≧１.３
２.０≧ηeff(Ｏ)≧１.７
ηeff(ＷＧ)＞１.７
|ηeff(Ｏ)−ηeff(ＷＧ)｜≦０.３
ηeff(Ｏ)−η(Ｐ)≧０.２
を満たすことを特徴とする請求項２に記載の有機発光ダイオード。
【請求項４】
前記上部構造導波路の実効屈折率ηeff(Ｏ)と、前記離散光取出し素子の実効屈折率ηeff(ＷＧ)と、前記光放出マトリックスの屈折率η(Ｐ)と、前記ガラス基板の屈折率η(Ｇ)とが以下の関係、
１.６≧η(Ｐ)≧１.３
２.０≧ηeff(Ｏ)≧１.７
ηeff(ＷＧ)＞１.７
１.６≧η(Ｇ)≧１.４
|η(Ｐ)−η(Ｇ)｜＜０.２
|ηeff(Ｏ)−ηeff(ＷＧ)｜≦０.３
ηeff(Ｏ)−η(Ｐ)≧０.２
を満たすことを特徴とする請求項２または３に記載の有機発光ダイオード。
【請求項５】
前記結合長が、前記上部構造導波路と前記光取出し下部構造の前記離散導波路素子の選ばれた１つを隔てる距離の関数であり、
前記離散光取出し導波路素子の前記光伝搬方向と直交する方向に沿う前記上部構造導波路からの離隔距離が、ほぼ０.５μｍ以下であり、
前記近似結合長が、２０μｍ以下であり、
前記離散光取出し導波路素子の大半の前記導波路素子終端点間の直線の長さが、ほぼ２０μｍ以下である、
ことを特徴とする請求項２から４のいずれか１項に記載の有機光発光ダイオード、
【請求項６】
ダイオード上部構造及び光取出し下部構造を有する有機発光ダイオードにおいて、
前記ダイオード上部構造が、合わせて上部構造導波路を定めるためのカソードと、アノードと、前記カソード及び前記アノードの間に配された有機発光半導体材料とを有し、
前記光取出し下部構造が、ガラス基板と、前記ガラス基板の導波路面上に分散する複数の離散光取出し導波路素子と、前記離散光取出し導波路素子と前記ガラス基板の前記導波路面上に広がる光放出マトリックスとを有する、
前記離散光取出し導波路素子の大半の前記上部構造導波路によって定められる光伝搬方向に沿って導波路素子終端点の間に延びる長さが、ほぼ２０μｍより小さく、
前記光放出マトリックスが、前記光取出し下部構造の前記ダイオード上部構造が係合する側の平坦性を高め、かつ、前記離散光取出し導波路素子の前記導波路素子終端点に光放出サイトを設けるために、異なる厚さで広げられ、
前記光放出マトリックスの屈折率η(Ｐ)が、前記上部構造導波路の実効屈折率ηeff(Ｏ)及び前記離散光取出し導波路素子の実効屈折率ηeff(ＷＧ)より、少なくともほぼ０.２は小さく、
前記上部構造導波路の実効屈折率ηeff(Ｏ)と、前記離散光取出し導波路素子の実効屈折率ηeff(ＷＧ)との差が、ほぼ０.３以下であり、
前記上部構造導波路の厚さｘ(Ｏ)と、前記離散光取出し導波路素子及び前記光放出マトリックスの複合厚さｘ(ＷＧ＋Ｐ)との、前記光伝搬方向と直交する方向に沿う差が、ほぼ１.５μｍより小さく、
前記上部構造導波路の前記光伝搬方向と直交する方向における前記離散光取出し導波路素子からの離隔距離が、ほぼ１.５μｍより小さい、
ことを特徴とする有機発光ダイオード。
【請求項７】
表示デバイスにおいて、請求項１から６のいずれか１項に記載の有機発光ダイオードを１つ以上組み込んでいる表示デバイス。
【請求項８】
請求項１から６のいずれか１項に記載の有機発光ダイオードの形成方法において、
ａ．基板上に離散光取出し導波路素子を形成する工程と、
ｂ．前記離散光取出し導波路素子上に光放出マトリックスを形成する工程と、
ｃ．前記光放出マトリックス上にダイオード上部構造を形成する工程と、
ｄ．必要に応じて、前記ダイオード上部構造上に封入層を形成する工程と、
を含み、
前記ダイオード上部構造は、
ｉ． カソード、
ii． アノード、及び
iii．前記カソードと前記アノードの間に配された有機発光半導体材料、
を有すことを特徴とする方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２２】
本発明は、図面を参照して以下により詳細に記述される。
【図１】短絡遮断スイッチの一部の斜視図を示す。
【図２】短絡遮断スイッチの負荷電流路の側断面図を示す。
【図３】負荷電流路の平面図を示す。
【図４】負荷電流路の斜視図を示す。
【図５】短絡遮断スイッチの負荷電流路の分離区域の平面図を示す。
【図６】他の実施形態に係る分離区域の斜視図を示す。
【図７】他の実施形態に係る分離区域の平面図を示す。
【図８】切断プランジャを備える短絡遮断スイッチの一部の斜視図を示す。
【図９】第１の位置にある切断プランジャの断面図を示す。
【図１０】所定の切断領域を切断している第２の位置にある切断プランジャの断面図を示す。
【図１１】負荷電流路の所定の切断領域が切断された後の切断プランジャの断面図を示す。
【図１２】負荷電流路の所定の切断領域が切断された後の切断プランジャの別の断面図を示す。
【図１３】分離区域及び切断プランジャを下から見た図を示す。
【図１４】他の実施形態に係る分離区域及び切断プランジャを下から見た図を示す。
【図１５】前記切断プランジャの断面図を示す。
【図１６】切断プランジャと短絡遮断スイッチのハウジングの一部の断面図を示す。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
前記負荷電流路（１００）は、第１の導体区域（１１０）と第２の導体区域（１２０）を含み、
前記中心部（２３０）を含む分離区域（２００，１２００，２２００，３２００）は、前記負荷電流路（１００）において前記第１の導体（１１０）と前記第２の導体（１２０）との間に配置される請求項１に記載の短絡遮断スイッチ（１０）。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項３】
前記導体区域（１１０，１２０）及び前記分離区域（２００，１２００，２２００，３２００）は、それらが１つ又は複数の部品によって形成されるように構成される請求項２に記載の短絡遮断スイッチ（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月25日(2016.7.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
極紫外レーザ光源のバースト発射中に、液滴発生器から連続的なターゲット材料液滴がレーザ照射されることになっている１次焦点からのプッシュアウトを事前補償する方法であって、前記レーザ光源は、軸線方向位置における液滴毎の変化を補正するためのフィードバックメカニズムを含み、
初期ターゲット位置へと誘導される複数の液滴をバースト中に感知する段階と、
前記感知された液滴の各々に対して軸線方向位置を計算する段階と、
前記フィードバックメカニズムによってなされた軸線方向位置における何れかの補正を、前記液滴の各々に対して前記計算された軸線方向位置から差し引くことにより、感知された液滴の各々に対する補正されていない液滴位置を推定する段階と、
前記バーストが終了した後に、前記補正されていない液滴位置に基づいて事前補償補正を計算する段階と、
前記事前補償補正に基づいて更新ターゲット位置を計算する段階と、
後続バースト中にターゲット材料の液滴を前記更新ターゲット位置に送出するために前記液滴発生器を再位置決めするように１つ又は複数のアクチュエータに指令する段階と、
を含む、方法。
【請求項２】
前記バーストは、連続バーストモード内で発射された約０．５秒以上の長いバーストである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記バーストは、ストロボスコープバーストモード内で発射された短いバーストである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記初期ターゲット位置は、１次焦点である、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記感知された液滴の各々に対する前記軸線方向位置は、ｚ軸に沿った位置である、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
前記バースト内の前記１つ又はそれよりも多くの液滴の各々に対する前記軸線方向位置は、前記バースト内の前記１つ又はそれよりも多くの液滴の各々に対するｙ軸に沿った位置である、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記事前補償補正は、学習利得に基づいている、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
前記１つ又はそれよりも多くのアクチュエータは、微細移動アクチュエータである、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記１つ又はそれよりも多くのアクチュエータのうちの少なくとも１つが、粗移動アクチュエータである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
極紫外レーザ光源のバースト発射中にターゲット材料液滴の１次焦点からのプッシュアウトを事前補償するためのシステムであって、前記レーザ光源は、軸線方向位置における液滴毎の変化を補正するためのフィードバックメカニズムを含み、
複数の連続的なターゲット材料液滴を発生させるための液滴発生器と、
初期ターゲット位置へと誘導される複数の液滴をバースト中に感知するためのセンサと、
１つ又はそれよりも多くの軸コントローラであって、
前記感知された液滴の各々に対して軸線方向位置を計算し、
前記フィードバックメカニズムによってなされた軸線方向位置における何れかの補正を、前記液滴の各々に対して前記計算された軸線方向位置から差し引くことにより、感知された液滴の各々に対する補正されていない液滴位置を推定し、
前記バーストが終了した後に、前記補正されていない液滴位置に基づいて事前補償補正を計算し、
前記事前補償補正に基づいて更新ターゲット位置を計算し、かつ、
後続バースト中にターゲット材料の液滴を前記更新ターゲット位置に送出するために前記液滴発生器を再位置決めするための指令を生成する、コントローラと、
前記生成された指令に基づいて前記液滴発生器を位置決めする１つ又はそれよりも多くのアクチュエータと、
を備える、システム。
【請求項１１】
前記バーストは、連続バーストモード内で発射された約０．５秒以上の長いバーストである、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
前記バーストは、ストロボスコープバーストモード内で発射された短いバーストである、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１３】
前記初期ターゲット位置は、１次焦点である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１４】
前記感知された液滴の各々に対する前記軸線方向位置は、ｚ軸に沿った位置である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１５】
前記バースト内の前記１つ又はそれよりも多くの液滴の各々に対する前記軸線方向位置は、前記バースト内の前記１つ又はそれよりも多くの液滴の各々に対するｙ軸に沿った位置である、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１６】
前記事前補償補正は、学習利得に基づいている、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１７】
前記１つ又はそれよりも多くのアクチュエータのうちの少なくとも一つが、微細移動アクチュエータである、請求項１０に記載のシステム。
【請求項１８】
前記１つ又はそれよりも多くのアクチュエータのうちの少なくとも１つが、粗移動アクチュエータである、請求項１０に記載のシステム。