【手続補正書】
【提出日】平成28年6月1日(2016.6.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビームパターン投影デバイスであって、
焦点距離および光軸を有するレンズと、
前記光軸に沿って前記レンズから略１倍の焦点距離離れて位置する出力面を有する第１の光源アレイであって、それにより前記第１の光源アレイの前記出力面上の複数の点からの光は前記レンズによって実質的にコリメートされ、前記第１の光源アレイの出力は第１の複数の可能なビームパターンから第１の調整可能なビームパターンを生成するために制御可能であり、前記第１の複数の可能なビームパターンの各々は前記第１の光源アレイ内の各光源のパワーレベルに関連付けられる、第１の光源アレイと
を含み、
前記ビームパターン投影デバイスは、前記第１の光源アレイによって生成される前記第１の調整可能なビームパターンをある距離を置いて投影するように構成され、
前記第１の光源アレイは、対応する第１のリフレクタアレイを含み、
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々と、前記第１のリフレクタアレイ内のリフレクタの各々との間の１対１の対応が存在する、ビームパターン投影デバイス。
【請求項２】
前記第１のリフレクタアレイ内の前記リフレクタのうちの１つまたは複数がエテンデュ保存型リフレクタを含む、請求項１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項３】
前記第１の光源アレイの前記出力面は、前記エテンデュ保存型リフレクタの前記第１のリフレクタアレイの出力面に対応する、請求項２に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項４】
前記第１のリフレクタアレイ内の各リフレクタは、光ビームを対応する光源から前記レンズの開口部サイズまで実質的に導くように構成される、請求項１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項５】
前記第１のリフレクタアレイ内の各リフレクタは、光ビームを対応する光源から前記レンズの受光錐まで実質的に導くように構成される、請求項１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項６】
焦点を調整するための機構を含まない、請求項１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項７】
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々の出力は、別個に制御可能である、請求項１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項８】
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々は、オン状態とオフ状態との間で別個に制御可能である、請求項７に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項９】
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々は、前記オン状態と前記オフ状態との間のパワーレベルの範囲を有するように別個に制御可能である、請求項８に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１０】
前記第１の複数の可能なビームパターンから前記第１の調整可能なビームパターンを選択するために、前記第１の光源アレイの前記出力を制御するためのコントローラをさらに含む、請求項１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１１】
ビームパターン投影デバイスであって、
焦点距離および光軸を有するレンズと、
前記光軸に沿って前記レンズから略１倍の焦点距離離れて位置する出力面を有する第１の光源アレイであって、それにより前記第１の光源アレイの前記出力面上の複数の点からの光は前記レンズによって実質的にコリメートされ、前記第１の光源アレイの出力は第１の複数の可能なビームパターンから第１の調整可能なビームパターンを生成するために制御可能であり、前記第１の複数の可能なビームパターンの各々は前記第１の光源アレイ内の各光源のパワーレベルに関連付けられる、第１の光源アレイと
前記レンズから略１倍の焦点距離離れて位置する少なくとも１つの第２の光源アレイであって、前記第２の光源アレイの出力は、第２の複数の可能なビームパターンから第２のビームパターンを生成するために制御可能である、第２の光源アレイと、
前記第１の光源アレイからの光と、前記第２の光源アレイからの光とを合成するための合成用光学要素と、
を含み、
前記ビームパターン投影デバイスは、前記第１の光源アレイによって生成された前記第１の調整可能なビームパターンをある距離を置いて投影するように構成される、ビームパターン投影デバイス。
【請求項１２】
前記合成用光学要素は、ビームスプリッタを含む、請求項１１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１３】
前記第１の光源アレイ内の前記光源は、第１の色の光を出力するように構成され、前記第２の光源アレイ内の前記光源は、前記第１の色と異なる第２の色の光を出力するように構成される、請求項１１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１４】
前記第２の光源アレイは、対応するリフレクタの第２のアレイを含む、請求項１１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１５】
前記第１の複数の可能なビームパターンから前記第１の調整可能なビームパターンを選択するために、前記第１の光源アレイの前記出力を制御し、前記第２の複数の可能なビームパターンから前記第２のビームパターンを選択するために、前記第２の光源アレイの前記出力を制御するためのコントローラをさらに含む、請求項１１に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１６】
ビームパターン投影デバイスであって、
近視野ビームパターンを形成するために複数の光ビームのうちのいずれかを制御可能に生成するための複数の光生成手段と、
前記複数の光生成手段によって生成される前記複数の光ビームの発散を低減し、遠視野ビームパターンが前記近視野ビームパターンに対応するように前記複数のビームを変換するための収束手段であって、前記収束手段は、焦点距離に関連付けられており、前記複数の光ビームの各々を実質的にコリメートするために前記複数の光生成手段から１倍の焦点距離離れて位置する、収束手段と、
を含み、
前記ビームパターン投影デバイスは、前記複数の光生成手段によって前記複数のビームパターンのうちのいずれが生成されても、ある距離を置いて投影するように構成され、
前記複数の光生成手段は、光を反射するための対応する複数の光反射手段を含み、
前記複数の光生成手段の各々と前記複数の光反射手段の各々との間の１対１の対応が存在する、
ビームパターン投影デバイス。
【請求項１７】
前記複数の光生成手段は光源アレイを含み、前記収束手段はレンズを含み、前記複数の光反射手段はエテンデュ保存型リフレクタのアレイを含む、請求項１６に記載のビームパターン投影デバイス。
【請求項１８】
ビームパターン投影デバイスを作製する方法であって、
焦点距離および光軸を有するレンズを提供するステップと、
出力面を有する光源アレイを提供するステップであって、前記光源アレイの出力は第１の複数のビームパターンのうちのいずれかを生成するために制御可能である、ステップと、
前記光源アレイによって前記第１の複数のビームパターンのうちのいずれが生成されても、前記ビームパターン投影デバイスがある距離を置いて投影することができるように、前記光源アレイの前記出力面上の複数の点からの光が前記レンズによって実質的にコリメートされるように、前記光源アレイの前記出力面を前記光軸に沿って前記レンズから略１倍の焦点距離離れて配置するステップと、
を含み、
第１の光源アレイは、対応する第１のリフレクタアレイを含み、
前記第１の光源アレイ内の光源の各々と、前記第１のリフレクタアレイ内のリフレクタの各々との間の１対１の対応が存在する、方法。
【請求項１９】
前記第１のリフレクタアレイ内の前記リフレクタのうちの１つまたは複数がエテンデュ保存型リフレクタを含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２０】
前記第１の光源アレイの前記出力面は、エテンデュ保存型リフレクタの前記第１のリフレクタアレイの出力面に対応する、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記第１のリフレクタアレイ内の各リフレクタは、光ビームを対応する光源から前記レンズの開口部サイズまで実質的に導くように構成される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２２】
前記第１のリフレクタアレイ内の各リフレクタは、光ビームを対応する光源から前記レンズの受光錐まで実質的に導くように構成される、請求項１８に記載の方法。
【請求項２３】
前記ビームパターン投影デバイスは、その焦点を調整するための機構を含まない、請求項１８に記載の方法。
【請求項２４】
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々の出力は、別個に制御可能である、請求項１８に記載の方法。
【請求項２５】
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々は、オン状態とオフ状態との間で別個に制御可能である、請求項２４に記載の方法。
【請求項２６】
前記第１の光源アレイ内の前記光源の各々は、前記オン状態と前記オフ状態との間のパワーレベルの範囲を有するように別個に制御可能である、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記第１の複数のビームパターンから第１のビームパターンを選択するために、前記第１の光源アレイの前記出力を制御するためのコントローラをさらに含む、請求項１８に記載の方法。
【請求項２８】
ビームパターン投影デバイスを作製する方法であって、
焦点距離および光軸を有するレンズを提供するステップと、
出力面を有する光源アレイを提供するステップであって、前記光源アレイの出力は第１の複数のビームパターンのうちのいずれかを生成するために制御可能である、ステップと、
前記光源アレイによって前記第１の複数のビームパターンのうちのいずれが生成されても、前記ビームパターン投影デバイスがある距離を置いて投影することができるように、前記光源アレイの前記出力面上の複数の点からの光が前記レンズによって実質的にコリメートされるように、前記光源アレイの前記出力面を前記光軸に沿って前記レンズから略１倍の焦点距離離れて配置するステップと、
少なくとも１つの第２の光源アレイを提供するステップと、
前記第２の光源アレイを前記レンズから略１倍の焦点距離離れて配置するステップであって、前記第２の光源アレイの出力は、第２の複数のビームパターンを生成するために制御可能である、ステップと、
第１の光源アレイからの光と、前記第２の光源アレイからの光とを合成するための合成用光学要素を提供するステップと、
を含む、方法。
【請求項２９】
前記合成用光学要素は、ビームスプリッタを含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３０】
前記第１の光源アレイは、第１の色の光を出力するように構成され、前記第２の光源アレイは、前記第１の色と異なる第２の色の光を出力するように構成される、請求項２８に記載の方法。
【請求項３１】
前記第２の光源アレイは、対応するリフレクタの第２のアレイを含む、請求項２８に記載の方法。
【請求項３２】
前記第１の複数のビームパターンから第１のビームパターンを選択するために、前記第１の光源アレイの前記出力を制御し、前記第２の複数のビームパターンから第２のビームパターンを選択するために、前記第２の光源アレイの前記出力を制御するためのコントローラを提供するステップをさらに含む、請求項２８に記載の方法。