【手続補正書】
【提出日】平成28年9月26日(2016.9.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の反射面（２１，３２１）と第２の反射面（８１，３８１）との間の移動と回転との少なくとも一方を測定するための多軸微分干渉計（１）であって、
前記測定は、少なくとも３対のビームを使用して実行され、
各対は、前記第１の反射面（２１，３２１）に射出される測定ビーム（Ｍｂ）と、前記第２の反射面（８１，３８１）に射出される基準ビーム（Ｒｂ）とによって形成され、
干渉計（１）は、第１の光学モジュール（２０）と、第２の光学モジュール（４０）と、第３の光学モジュール（６０）とを具備し、各光学モジュール（２０，４０，６０）は、それぞれのコヒーレントビームを受光して、これらから前記３対の１つを生成するように構成され、
前記光学モジュール（２０，４０，６０）の各々は、
ｉ）それぞれのコヒーレントビームを前記測定ビーム（Ｍｂ）及び対応する前記基準ビーム（Ｒｂ）に分割するためのビームスプリッタ（３０１，４０１）と、
ｉｉ）前記第１の反射面（２１，３２１）によって反射された前記測定ビーム（Ｍｂ）を、前記第２の反射面（８１，３８１）によって反射されたその関連する基準ビーム（Ｒｂ）と結合して対応する結合ビーム（Ｃｂ）にするためのビーム結合器（３０１，４０１）と、
ｉｉｉ）前記結合ビーム（Ｃｂ）を受光するためのビーム受光器（３０５，３０６，３０７，３０８，３０９，３１０，３１１，４０８）とを具備し、
前記光学モジュール（２０，４０，６０）は、横並びスタックを形成するようにスタックで配置され、これにより、多軸微分干渉計は、微分干渉計スタックモジュールを形成し、
前記３つの光学モジュール（２０，４０，６０）は、前記測定ビーム（Ｍｂ）を非同一平面上に、かつ平行に射出するように配置されている多軸微分干渉計（１）。
【請求項２】
前記光学モジュール（２０，４０，６０）は、同じ形態を有する請求項１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項３】
全ての光学モジュール（２０，４０，６０）が、前記光学モジュールの各々が前記測定ビームを通過させるための開口と前記基準ビームを通過させるための開口とを有するように非対称であるように向けられたこれらのそれぞれの開口（１２１，１２２，１４１，１４２，１６１，１６２）を有し、
各光学モジュール（２０，４０，６０）内で、前記開口は、線の上に配置され、前記開口の各々は、前記線に沿った前記光学モジュールのハウジングの最も近いそれぞれのエッジから異なる距離（ｄ５，ｄ６）で配置され、
前記第１の光学モジュール（２０）及び前記第３の光学モジュール（６０）は、同じ回転向きで微分干渉計に配置され、前記第２の光学モジュール（４０）は、前記向きに対して１８０度回転され、前記開口を含む面に平行な平面に配置されている請求項１又は２に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項４】
前記第１の光学モジュール及び前記第３の光学モジュールは、同一の構造であり、
前記第２の光学モジュールは、異なる構造であり、
構造の差は、各光学モジュールの前記基準ビーム及び対応する前記測定ビームを射出するための開口間の距離で規定され、この距離は、同一の構造の前記第１の光学モジュール及び前記第３の光学モジュールに対しては等しく、前記第２の光学モジュールに対しては異なる請求項１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項５】
各光学モジュールの前記ビームスプリッタは、単一のコヒーレントビームを対応する測定及び基準ビームに分割するための寸法を有する請求項１ないし４のいずれか１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項６】
前記光学モジュール（２０，４０，６０）の前記ビーム受光器は、各々、
前記結合ビーム（Ｃｂ）を第１の分割ビームと第２の分割ビームとに分割するための無偏光ビームスプリッタ（３０５）を具備し、各分割ビームは、前記基準ビーム（Ｒｂ）と前記測定ビーム（Ｍｂ）との成分を含み、
前記第１の分割ビームを、第１の偏光を有する第１の偏光ビームと、第２の偏光を有する第２の偏光ビームとに分割するための第１の偏光ビームスプリッタ（３０６）と、
前記第２の分割ビームを、第３の偏光を有する第３の偏光ビームと、第４の偏光を有する第４の偏光ビームとに分割するための第２の偏光ビームスプリッタ（３０７）と、
前記無偏光ビームスプリッタ（３０５）と前記第１の偏光ビームスプリッタ（３０６）との間に、又は前記無偏光ビームスプリッタ（３０５）と前記第２の偏光ビームスプリッタ（３０７）との間に配置された半波長板（３２０）と、
前記第１の偏光ビーム、第２の偏光ビーム、第３の偏光ビーム及び第４の偏光ビームのビームパワーをそれぞれ検出するための第１の検出器（３０８）、第２の検出器（３０９）、第３の検出器（３１０）及び第４の検出器（３１１）とを具備する請求項５に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項７】
前記光学モジュールは、互いに取り付けられている請求項１ないし６のいずれか１に記載の多軸微分干渉計。
【請求項８】
前記第１の光学モジュール（２０）と前記第２の光学モジュール（４０）との間に配置された第１のアライメント体（８０）と、前記第２の光学モジュール（４０）と前記第３の光学モジュール（６０）との間に配置された第２のアライメント体（８１）との少なくとも一方をさらに具備する請求項１ないし７のいずれか１に記載の多軸微分干渉計。
【請求項９】
前記第１のアライメント体（８０）と前記第２のアライメント体（８１）との少なくとも一方は、硬化された接着剤と、テーパ状のくさび（１８３）との少なくとも一方を含む請求項８に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１０】
前記基準ビーム（Ｒｂ）は、前記測定ビーム（Ｍｂ）に対応する形態で射出される請求項１ないし９のいずれか１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１１】
前記測定ビームは、Ｌ字形態で射出され、前記測定ビームのうち第１の測定ビーム及び第２の測定ビームが第１の平面に広がり、前記測定ビームのうち前記第２の測定ビーム及び第３の測定ビームが前記第１の平面に垂直な第２の平面に広がり、前記基準ビームは同じ形態で射出される請求項１０に記載の多軸微分干渉計。
【請求項１２】
前記光学モジュール（２０，４０，６０）は、これらのそれぞれの基準ビーム（Ｒｂ）が同一平面上に射出されるように配置されている請求項１ないし１０のいずれか１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１３】
前記光学モジュールの各々は、前記光学モジュールの外面を形成するハウジングを有する請求項１ないし１２のいずれか１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１４】
前記第１の光学モジュールの前記ハウジングは、前記第２の光学モジュールの前記ハウジングの第１の平らな側面に面している平らな側面を有し、
前記第２の光学モジュールの前記ハウジングは、前記第１の平らな側面の反対側の、前記第３の光学モジュールの前記ハウジングの平らな側面に面している第２の平らな側面を有する請求項１３に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１５】
近隣の光学モジュールの側面は、前記光学モジュールがスタックで配置されたときに互いに適合して形成されるように、突出部及び対応する切り欠きを有する請求項１３に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１６】
前記光学モジュールの前記ハウジングは、ほぼ等しい外寸と形状との少なくとも一方を有する請求項１３ないし１５のいずれか１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１７】
前記測定ビーム及び前記基準ビームは、これらビームを平行に向けるように与えられる偏光スプリッタ（３０１）とプリズム（３０２）とを使用して生成され、各光学モジュールは、光学素子（３０１，３０２，３０３；３０５，３０６，３０７）が装着される平らな面（３３７）が設けられたハウジング（３２３；１２３；１４３；１６３；２３；４３；６３）を有し、前記ハウジングの各々は、直方体形状であることを特徴とする請求項１ないし１６のいずれか１に記載の多軸微分干渉計（１）。
【請求項１８】
フレーム（４）と、
前記フレーム（４）に装着され、ターゲット上に投影するための光学カラム（３６）と、
前記光学カラム（３６）に対して前記ターゲットを移動するためのターゲットキャリア（６６）とを具備し、
前記ターゲットキャリア（６６）には、第１の反射面（２１）が設けられ、前記光学カラム（３６）には、第２の反射面（８１）が設けられ、
前記第１の反射面（２１）と前記第２の反射面（８１）との間の相対移動と回転との少なくとも一方を測定するための請求項１ないし１７のいずれか１に記載の微分干渉計（１）を具備するリソグラフィシステム。
【請求項１９】
多軸微分干渉計（１）を組み立てる方法であって、
第１の光学モジュール（２０）と、第２の光学モジュール（４０）と、第３の光学モジュール（６０）とを与える工程を具備し、前記光学モジュールの各々は、
ｉ）それぞれのコヒーレントビームを測定ビーム（Ｍｂ）及び対応する基準ビーム（Ｒｂ）に分割するためのビームスプリッタ（３０１，４０１）と、
ｉｉ）複数の反射面のうち一方の反射面（２１，３２１）によって反射された測定ビーム（Ｍｂ）を、複数の反射面のうち他方の反射面（８１，３８１）によって反射されたその関連する基準ビーム（Ｒｂ）と結合して対応する結合ビーム（Ｃｂ）にするためのビーム結合器（３０１，４０１）と、
ｉｉｉ）前記結合ビーム（Ｃｂ）を受光するためのビーム受光器（３０５，３０６，３０７，３０８，３０９，３１０，３１１，４０８）とを具備し、
この方法は、さらに、
前記３つの対応する測定ビーム（Ｍｂ）をほぼ平行かつ同一平面上に射出するために前記光学モジュール（２０，４０，６０）をスタックで配置する工程と、
前記第１の光学モジュール（２０）と前記第２の光学モジュール（４０）との間に接着剤（８０）を塗布し、前記接着剤（８０）が硬化する前に前記第１の光学モジュール（２０）と前記第２の光学モジュール（４０）とを互いにアライメントさせる工程とをさらに具備する方法。
【請求項２０】
前記第２の光学モジュール（４０）と前記第３の光学モジュール（６０）との間にさらなる接着剤（８１）を塗布し、前記さらなる接着剤（８１）が硬化する前に前記第２の光学モジュール（４０）と前記第３の光学モジュール（６０）とを互いにアライメントさせる工程をさらに具備する請求項１９に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
一実施の形態では、前記第１のアライメント体は、テーパ状のくさびを有する。同様に、一実施の形態では、前記第２のアライメント体は、テーパ状のくさびを有する。両実施の形態について、特に、硬化された接着剤と組み合わせて、これは、丈夫で十分にアライメントされた微分干渉計の構成を与える。