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【手続補正書】
【提出日】平成28年7月4日(2016.7.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択的に作動されるフィーチャを含む第１の装置、
を有するアクセサリ使用可能装置において、
前記第１の装置が、インテロゲーションに応じて、アクセサリ装置からのフィードバックが、前記第１の装置と前記アクセサリ装置との間の適合性を決定するように測定されるように前記アクセサリ装置をインテロゲートするインテロゲーションソースを含み、
前記選択的に作動されるフィーチャは、特定の適合性が前記第１の装置と前記アクセサリ装置との間に存在する場合にのみ、タスクを実行するように使用可能にされ、
前記装置は、前記第１の装置及び前記アクセサリ装置が互いに対して所定の空間的関係を持つ場合のみに前記特定の適合性が存在することを決定し、前記空間的関係は、前記アクセサリ使用可能装置により実行される処置に対する前記アクセサリ使用可能装置の適切なアライメントを保証する、
アクセサリ使用可能装置。
【請求項２】
前記第１の装置が、紫外線（ＵＶ）消毒装置を含み、前記選択的に作動されるフィーチャが、ＵＶ源を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記第１の装置が、前記ＵＶ源のフラッシュの特性を測定するＵＶ検出器を含む、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記アクセサリ装置が、包帯又はバンデージを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項５】
前記インテロゲーションソースが、無線周波数識別（ＲＦＩＤ）リーダを含み、前記アクセサリ装置が、ＲＦＩＤタグを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項６】
前記インテロゲーションソースが、発光素子を含み、前記アクセサリ装置が、認識可能パターンを含む、請求項１に記載の装置。
【請求項７】
前記認識可能パターンが、バーコード、インクパターン及び/又は表面質感の１つを含む、請求項６に記載の装置。
【請求項８】
前記発光素子が可視光を含み、前記認識可能パターンが可視である、請求項６に記載の装置。
【請求項９】
前記インテロゲーションソースが、紫外線発光素子を含み、前記アクセサリ装置が、光輝性材料を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１０】
前記インテロゲーションソースが、第１の接点構成を含み、前記アクセサリ装置が、第２の接点構成を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１１】
前記インテロゲーションソースが、一次コイル構成を含み、前記アクセサリ装置が、二次コイル構成を含む、請求項１に記載の装置。
【請求項１２】
前記アクセサリ装置からのフィードバックが、前記アクセサリ装置に対する前記第１の装置の距離又は位置の一方を測定するのに使用される、請求項１に記載の装置。
【請求項１３】
前記選択的に作動されるフィーチャに関連付けられたパラメータを記憶するメモリ装置を有する、請求項１に記載の装置。
【請求項１４】
装置間の適合性を決定するシステムにおいて、前記システムが、
選択的に作動されるフィーチャを含む第１の装置と、
第２の装置であって、前記第２の装置の特性を識別する識別機構を含む、第２の装置と、
を有し、
前記第１の装置が、インテロゲーションに応じて、前記第１の装置と前記第２の装置との間の適合性を決定するように前記識別機構からのフィードバックが測定されるように、前記第２の装置をインテロゲートするインテロゲーションソースを含み、
前記選択的に作動されるフィーチャは、前記第１の装置と前記第２の装置との間に適合性が存在する場合にのみタスクを実行するように使用可能にされ、
前記システムは、前記第１の装置と前記第２の装置との間に所定の空間的関係が存在する場合のみに前記第１の装置と前記第２の装置との間に適合性が存在することを決定し、前記空間的関係は、実行される処置に対する前記第１の装置及び前記第２の装置の適切なアライメントを保証する、
システム。
【請求項１５】
装置使用を可能にするために適合性を決定する方法において、前記方法が、
インテロゲーションソースを使用してアクセサリ装置の識別機構をインテロゲートし、前記識別機構からフィードバックを生成するステップと、
選択的に作動されるフィーチャを持つ第１の装置と前記アクセサリ装置との間の適合性を決定するように前記フィードバックを測定するステップと、
前記フィードバック信号が適合性を示す場合に、前記選択的に作動されるフィーチャを使用可能にするステップと、
を有し、
前記第１の装置及び前記アクセサリ装置は、前記フィードバック信号が適合性を示すためには、互いに対して所定の空間的関係を持たなくてはならず、前記空間的関係は、実行される処置に対する前記第１の装置及び前記第アクセサリ装置の適切なアライメントを保証する、
方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月2日(2016.8.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
発光装置であって、
発光するように構成された上部金属電極を有するマイクロキャビティ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）装置と、
前記上部金属電極と直接隣接するように配置された、１．８超の屈折率を有するキャッピング層と、
前記キャッピング層と隣接するように配置された光取り出しフィルムと、
を備える、発光装置。
【請求項２】
発光装置のアレイを備える、アクティブマトリックス有機発光ダイオード（ＡＭＯＬＥＤ）装置であって、
各発光装置は、
発光するように構成された上部金属電極を有するマイクロキャビティ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）装置と、
前記上部金属電極と直接隣接するように配置された、１．８超の屈折率を有するキャッピング層と、
前記発光装置の前記アレイの上に配置された光取り出しフィルムであって、前記光取り出しフィルムは前記キャッピング層と隣接する、光取り出しフィルムと
を含む、アクティブマトリックス有機発光ダイオード（ＡＭＯＬＥＤ）装置。
【請求項３】
複数の発光装置を備える画像表示装置であって、
各発光装置は、
発光するように構成された上部金属電極を有するマイクロキャビティ有機発光ダイオード（ＯＬＥＤ）装置と、
前記上部金属電極と直接隣接するように配置された、１．８超の屈折率を有するキャッピング層と、
前記複数の発光装置の上に配置された光取り出しフィルムであって、前記光取り出しフィルムは前記キャッピング層と隣接する、光取り出しフィルムと、
前記発光装置をそれぞれ起動することができる電子回路と
を含む、画像表示装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月16日(2016.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プラズマによって物体を処理するためのシステムであって、当該システムは：
処理すべき物体が配置されるような支持体を含む真空処理チャンバ（１０）と；
少なくとも２つのサブアセンブリ（２１，２２）であって、各サブアセンブリは、プラズマの生成を可能にするような少なくとも１つのプラズマ源（２１０，２２０）を含んでおり、サブアセンブリ（２１，２２）の各プラズマ源（２１０，２２０）には、高周波出力Ｐｉ及び流量ｎｉのガスｉが独立して供給される、サブアセンブリと；を有しており、
一方のサブアセンブリ（２１）によって生成したプラズマは、他方のサブアセンブリ（２２）によって生成されたプラズマとは異なる化学的性質の、部分的にイオン化されたガス又はガス混合物で構成され、
各サブアセンブリは、処理すべき前記物体の特定の異なる領域を処理する、
システム。
【請求項２】
サブアセンブリ（２１，２２）の各プラズマ源（２１０，２２０）は：
ガス導入システム（２５）と；
プラズマに不活性な材料で作られた放電チャンバ（２１０，２２０）と；
高周波（ＲＦ）出力を前記放電チャンバへ結合するための装置（２６）と；
ガス排出口（２７）と；を有する、
請求項１に記載のシステム。
【請求項３】
制御装置は、各サブアセンブリ（２１，２２）に特有の高周波出力Ｐｉ及び／又はガス流量ｎｉを適用することによる特定のパラメータに依存して、各サブアセンブリ（２１，２２）を制御する、
請求項１又は２に記載のシステム。
【請求項４】
各サブアセンブリ（２１，２２）は、前記サブアセンブリ（２１，２２）の各プラズマ源（２１０，２２０）のガス導入口（２５）に接続された前記サブアセンブリに特有のガス導入口を含む、
請求項１乃至３のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項５】
各サブアセンブリ（２１，２２）は、前記サブアセンブリ（２１，２２）の各プラズマ源（２１０，２２０）の結合装置（２６）に接続された導体要素を含む、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項６】
前記サブアセンブリ（２１，２２）は、同心リングに沿って配置されている、
請求項１乃至５のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項７】
前記サブアセンブリは、（２１，２２）は、並列に配置されている、
請求項1乃至６のいずれか一項に記載のシステム。
【請求項８】
各サブアセンブリは、少なくとも２つのプラズマ源（２１０，２１１，２２０，２２１）を有しており、各プラズマ源は、直列に配置された２つの放電チャンバを有する、
請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
少なくとも２つの異なる材料（Ａ，Ｂ）を含む複合物体（３）の選択的プラズマ処理プロセスであって、該プロセスによって、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の処理システムが実行され、前記プロセスは、以下のステップを含む：
第１のサブアセンブリ（２１）により第１プラズマを生成して、第１プラズマを用いて物体（３）を処理するステップと；
第２のサブアセンブリ（２２）により第２プラズマを生成して、第２プラズマを用いて物体（３）を処理するステップと；を含む、
プロセス。
【請求項１０】
前記プラズマを生成するステップは、交互に、或いは部分的に又は全体的に重複させて繰り返される、
請求項９に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記プラズマを生成するステップは、多くとも２５％だけ前記プラズマを生成するステップを部分的に重複させて繰り返される、
請求項９又は１０に記載のプロセス。
【請求項１２】
複合物体（３）のエッチング処理を構成する請求項９乃至１１のいずれか一項に記載のプロセスであって、複合物体（３）は、異なる材料（Ａ，Ｂ）から構成される少なくとも２つの層を含んでおり、材料（Ａ）の層は、材料（Ｂ）の層を少なくとも部分的に覆っており、前記プロセスは；
材料Ｂを表面に含む前記物体（３）の少なくとも第１領域（３１）の第１プラズマを用いる第１処理であって、該第１処理は、第１プラズマを用いて、材料Ｂのパッシベーション層又は活性層を構成する、第１処理と；
材料Ａを表面に含む前記物体（３）の少なくとも第２領域（３２）の第２プラズマを用いる第２処理であって、該第２処理は、第２プラズマを用いて、材料Ａを部分的に又は全体的に除去するステップから構成される、第２処理と；を含んでおり、
材料Ａが全体的に除去されたときに、材料Ｂを表面に含む領域（３２）の形成をもたらすことができ、
前記プロセスは、第１プラズマを用いて活性化又は不動態化のステップを行うか、或いは第２プラズマを用いて除去するステップのいずれかで開始することができる、
プロセス。
【請求項１３】
第１及び第２処理は、材料Ａの所望の除去が得られるまで、第１及び第２処理のシーケンスを複数回繰り返すように、０．５秒〜１２０秒の間で、好ましくは２〜３０秒の間で周期的に変化するように、交互に実行される、
請求項１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
除去の継続時間に対する、活性化又はパッシベーション・ステップの継続時間の比が、０．１〜１０の間、好ましくは０．５〜２の間で変化する、
請求項１２又は１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
第１の材料（Ａ）は、窒化ケイ素Ｓｉ３Ｎ４であり、第２の材料（Ｂ）は、酸化物ケイ素ＳｉＯ２である、
請求項１２乃至１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１６】
請求項１２乃至１５のいずれか一項に記載のように規定されたプロセスによって得ることができるエッチング複合物体（３）。
【請求項１７】
集積回路ウェハ、又はフラットスクリーン用基板、又は太陽電池用基板、又は電子プリントデバイス用基板から構成される、請求項１６に記載の複合物体（３）。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月1日(2016.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
選択的にライン電圧を照明負荷に供給する、照光制御システムでのニュートラルを有さないコントローラの漏れ電流用のバイパス経路を提供するためのデバイスであって、
ダミー負荷と、
前記ニュートラルを有さないコントローラの出力端子で前記ライン電圧を感知する電圧センサと、
選択的に前記ダミー負荷を前記照明負荷と並列に接続するバイパススイッチと、
前記感知されたライン電圧がローである時には、前記バイパススイッチを作動させ、前記ダミー負荷を前記照明負荷と並列に接続して、前記漏れ電流用のバイパス経路を提供し、前記感知されたライン電圧がハイに移行した時には、遅延期間後に、前記バイパススイッチを作動停止させて、前記照明負荷と並列の状態から前記ダミー負荷を切断するスイッチコントローラと、
前記感知されたライン電圧がローからハイに移行したのに応答して、前記遅延期間を設ける遅延タイマと、
を備える、デバイス。
【請求項２】
前記遅延期間後に前記バイパススイッチを作動停止させることは、前記ダミー負荷が、前記遅延期間中に前記漏れ電流用の前記バイパス経路を引き続き提供することを可能にし、その間に、前記照明負荷によって引き込まれる電流が、前記ニュートラルを有さないコントローラの動作に十分な量まで増加する、請求項１に記載のデバイス。
【請求項３】
前記遅延期間が約２秒である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項４】
前記遅延期間が所定の期間である、請求項１に記載のデバイス。
【請求項５】
前記遅延期間が、前記遅延タイマによってリアルタイムで又は準リアルタイムで決定される、請求項１に記載のデバイス。
【請求項６】
前記遅延タイマがＲＣ回路を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項７】
前記バイパススイッチが、電界効果トランジスタ（ＦＥＴ）、金属酸化物半導体電界効果トランジスタ（ＭＯＳＦＥＴ）、絶縁ゲートバイポーラトランジスタ（ＩＧＢＴ）、又はバイポーラ接合トランジスタ（ＢＪＴ）を備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項８】
前記スイッチコントローラが、マイクロプロセッサ又はマイクロコントローラを備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項９】
前記マイクロプロセッサが、前記バイパススイッチに提供されたパルス幅変調（ＰＷＭ）信号のデューティサイクルを調節し、前記平均漏れ電流に対応する所望のレートで前記バイパススイッチを開位置と閉位置との間でサイクルさせることによって、前記遅延期間中に、前記ニュートラルを有さないコントローラの平均漏れ電流を制御する、請求項８に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記マイクロプロセッサが、更に、前記遅延期間後に、前記ダミー負荷制御期間中に、前記バイパススイッチに提供された前記ＰＷＭ信号のデューティサイクルを更に調節し、前記平均漏れ電流に対応する別の所望のレートで前記バイパススイッチを開位置と閉位置との間でサイクルさせることによって、前記ニュートラルを有さないコントローラの平均漏れ電流を制御し、
前記遅延期間中のＰＷＭ信号の前記デューティサイクルが、前記ダミー負荷制御期間中の前記ＰＷＭ信号の前記デューティサイクルよりも高く、前記遅延期間中に、前記ダミー負荷制御期間中よりも高い前記ニュートラルを有さないコントローラの平均漏れ電流を生じる、
請求項９に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記ニュートラルを有さないコントローラが、プログラム可能なスイッチを備える、請求項１に記載のデバイス。
【請求項１２】
前記ニュートラルを有さないコントローラが、前記プログラム可能なスイッチの動作を制御するためのワイヤレス信号を受信するワイヤレス受信機を更に備える、請求項１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
選択的に照明負荷を電圧源に接続するニュートラルを有さないコントローラの漏れ電流用のバイパス経路を提供するための方法であって、
前記ニュートラルを有さないコントローラの出力部でライン電圧を感知するステップと、
前記感知されたライン電圧がローであり、前記照明負荷が前記電圧源から切断されていることを示す時には、バイパススイッチを作動させ、ダミー負荷を前記照明負荷と並列に接続するステップと、
前記感知されたライン電圧がハイに移行し、前記照明負荷が前記ニュートラルを有さないコントローラを介して前記電圧源に接続されていることを示す時には、遅延期間後に、バイパススイッチを作動停止させて、前記照明負荷と並列な状態から前記ダミー負荷を切断するステップとを含み、前記遅延期間中に、前記バイパススイッチが引き続き作動され、前記遅延期間が、前記ニュートラルを有さないコントローラの動作のための最小供給電流を前記照明負荷が引き込むことを可能にするステップと
を含む、方法。
【請求項１４】
前記ニュートラルを有さないコントローラが、前記感知されたライン電圧がローである時に前記漏れ電流が前記バイパス経路を通って流れることを必要とし、前記感知されたライン電圧がハイである時に最小供給電流を必要とする、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記感知されたライン電圧がハイに移行した後に、前記遅延期間を決定するステップを更に含む、請求項１３に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月1日(2016.7.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの適合可能な光出力特性を有する光出力を生成する複数のＬＥＤと、
前記複数のＬＥＤに電気的に結合され、受信された照明構成データに従って前記少なくとも１つの適合可能な光出力特性を制御するコントローラと、
前記照明構成データを受信して前記照明構成データを前記コントローラに送信するＲＦＩＤリーダーと
を含み、
前記照明構成データは、所定の照明構成データのセットから選択され、前記ＬＥＤの特定の照明実装への統合に応じて受信され、前記特定の照明実装に固有である、適合可能なＬＥＤベース照明ユニット。
【請求項２】
前記コントローラと通信する少なくとも１つのＲＦＩＤタグを更に含み、前記ＲＦＩＤタグは前記照明構成データを保存し、前記ＬＥＤの前記特定の照明実装への統合に応じて前記照明構成データを前記ＲＦＩＤリーダーに送信する、請求項１に記載の適合可能なＬＥＤベース照明ユニット。
【請求項３】
前記少なくとも１つの適合可能な光出力特性は、動的光出力特性を含む、請求項１に記載の適合可能なＬＥＤベース照明ユニット。
【請求項４】
前記少なくとも１つの適合可能な光出力特性は、前記照明構成データに従って制御される調光を含む、請求項１に記載の適合可能なＬＥＤベース照明ユニット。
【請求項５】
少なくとも選択的に所定の照明構成データを送信する照明構成送信機と、
複数のＬＥＤを有するＬＥＤベース照明ユニットと、
前記複数のＬＥＤに電気的に結合されるコントローラと
を含み、
前記コントローラは、
特定の照明実装を示す照明実装データを受信し、
受信された前記照明実装データに基づき、前記照明構成送信機に、複数の所定の照明構成のうちのある所定の照明構成に関連付けられた所定の照明構成データをリクエストし、
前記照明構成送信機から前記所定の照明構成データを受信し、
前記ＬＥＤの少なくとも１つの光出力特性を調整して前記所定の照明構成を達成し、当該所定の照明構成は受信された照明構成データに関連付けられ、
前記照明実装データは、前記ＬＥＤの前記特定の照明実装への統合に応じて受信される、適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項６】
前記照明実装データ及び前記照明構成データは、ルックアップテーブルにおいて互いに関連付けられる、請求項５に記載の適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項７】
前記照明実装データは、特定の照明器具、照明器具タイプ、照明器具形状、及び特定の照明効果のうちの少なくとも１つを含む、請求項５に記載の適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項８】
前記照明構成送信機は記憶媒体である、請求項５に記載の適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項９】
前記照明構成送信機はＲＦＩＤタグである、請求項５に記載の適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項１０】
前記所定の照明構成データは、一次所望照明構成データと二次デフォルト照明構成データとを含む、請求項５に記載の適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項１１】
前記コントローラは、前記所定の照明構成を達成するために、前記ＬＥＤの個別のＬＥＤグループの光出力特性を個別に調整する、請求項５に記載の適合可能なＬＥＤベース照明システム。
【請求項１２】
ＬＥＤベース照明ユニットを特定の照明実装に適合させる方法であって、
特定の照明実装を示す照明実装データを受信するステップと、
前記照明実装データに対応する所定の照明構成データをリクエストするステップと、
前記所定の照明構成データを受信するステップと、
受信された照明構成データに関連付けられた所定の照明構成を達成するために、ＬＥＤベース照明ユニットのＬＥＤの少なくとも１つの光出力特性を調整するステップと
を含む、方法。
【請求項１３】
前記照明実装データは、特定の照明器具、照明器具タイプ、照明器具形状、及び特定の照明効果のうちの少なくとも１つを含む、請求項１２に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月24日(2016.2.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
−導電体を含むトラックであって、前記導電体は、給電用及び位置決定用に前記トラック沿いにＤＣ電力を分配するために前記トラックの長さに沿って配置される、トラックと、
−前記トラックに取り付けられ、前記導電体に電気接続される電気デバイスであって、前記電気デバイスの位置における前記導電体のうちの少なくとも１つの電圧を測定するための電圧測定ユニットを含む、電気デバイスと、
−前記測定電圧に基づいて前記電気デバイスの位置を決定するための位置決定システムと、
−前記導電体のうちの少なくとも１つにＤＣ電力を供給するために、前記導電体のうちの当該少なくとも１つに電気接続されるＤＣ電源システムと
を含む、ＤＣ配電システムであって、
前記導電体は、給電用に第１のＤＣ電力を分配するための第１の導電体と、基準導電体と、位置決定用に第２のＤＣ電力を分配するための第２の導電体とを含み、前記電圧測定ユニットは前記基準導電体と前記第２の導電体との間の電圧を測定し、
前記ＤＣ電源システムは、位置決定用に使用されるＤＣ電力を供給するために、電圧が測定される前記第２の導電体に定電圧を供給し、前記位置決定システムは、測定された電圧と、前記第２の導電体に印加される前記定電圧との比に基づいて位置を決定するか、又は
前記ＤＣ電源システムは、位置決定用に使用されるＤＣ電力を供給するために、電圧が測定される前記第２の導電体に定電流を供給し、前記位置決定システムは、測定された電圧、前記第２の導電体に印加される定電流、及び電圧が測定される前記少なくとも１つの導電体の単位長さあたりの抵抗値に基づいて位置を決定する、ＤＣ配電システム。
【請求項２】
前記ＤＣ電源システムは、前記第２のＤＣ電力を供給する位置電力源を含む、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項３】
前記第１の導電体は、前記第１の導電体上に供給される前記第１のＤＣ電力を使用して前記第２の導電体上に前記第２のＤＣ電力を供給するために前記第２の導電体に電気接続される、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項４】
前記ＤＣ配電システムは複数の前記電気デバイスを含み、前記ＤＣ電源システムは位置決定用に前記第２の導電体にＤＣ電力を供給するための複数の位置電力供給ユニットを含み、前記位置電力供給源は前記電気デバイスに割り当てられ、前記位置決定システムは、前記複数の電気デバイスの第１の電気デバイス及び第２の電気デバイスのうちの一方に割り当てられた前記位置電力供給ユニットが前記第２の導電体にＤＣ電力を供給し、前記第１及び第２の電気デバイスの他方によって測定された電圧に基づいて、前記第２の電気デバイスの位置に対する前記第１の電気デバイスの位置を決定する、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項５】
前記ＤＣ電源システムは、給電用及び位置決定用に同じ導電体上で同じＤＣ電力を供給する、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項６】
前記トラックは複数のトラックセグメントによって形成され、前記電気デバイスは前記複数のトラックセグメントのうちのあるトラックセグメントに取り付けられ、前記電気デバイスの位置を決定することにより、前記電気デバイスが取り付けられている前記トラックセグメントの前記トラック内の位置が決定される、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項７】
前記ＤＣ配電システムは、決定された位置に基づいて前記電気デバイス及び前記ＤＣ電源システムの少なくとも１つを制御するための制御システムを更に含む、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項８】
前記ＤＣ配電システムは、設置者が追加の電気デバイスを設置するのを補助するための設置補助ユニットを更に含み、前記設置補助ユニットは、前記トラックに既に取り付けられている前記電気デバイスの決定された位置に基づいて前記追加の電気デバイスのための前記トラック上の好ましい設置位置を決定する、請求項１に記載のＤＣ配電システム。
【請求項９】
請求項１に記載のＤＣ配電システムに使用される位置決定システムであって、測定された電圧に基づいて前記電気デバイスの位置を決定する、位置決定システムであって、
前記位置決定システムは、測定された電圧と、前記第２の導電体に印加される前記定電圧との比に基づいて位置を決定するか、又は
前記位置決定システムは、測定された電圧、前記第２の導電体に印加される定電流、及び電圧が測定される前記少なくとも１つの導電体の単位長さあたりの抵抗値に基づいて位置を決定する、位置決定システム。
【請求項１０】
請求項１に記載のＤＣ配電システム内のトラック沿いの電気デバイスの位置を決定するための位置決定方法であって、当該方法は、
−前記トラックの長さに沿って配置された前記トラックの前記導電体を使用することにより、給電用及び位置決定用に前記トラック沿いにＤＣ電力を分配するステップであって、前記ＤＣ電力は、前記ＤＣ電源システムによって、給電用に第１のＤＣ電力を分配するための第１の導電体と、基準導電体と、位置決定用に第２のＤＣ電力を分配するための第２の導電体とに供給される、ステップと、
−前記電気デバイスの前記電圧測定ユニットにより、前記トラックに取り付けられ、前記導電体に電気接続される前記電気デバイスの位置において、前記導電体のうちの少なくとも１つの電圧を測定するステップであって、前記電圧測定ユニットは、前記基準導電体と前記第２の導電体との間の電圧を測定する、ステップと、
−前記位置決定システムにより、前記測定電圧に基づいて前記電気デバイスの位置を決定するステップと
を含み、
前記ＤＣ電源システムは、位置決定用に使用されるＤＣ電力を供給するために、電圧が測定される前記第２の導電体に定電圧を供給し、前記位置決定システムは、測定された電圧と、前記第２の導電体に印加される前記定電圧との比に基づいて位置を決定するか、又は
前記ＤＣ電源システムは、位置決定用に使用されるＤＣ電力を供給するために、電圧が測定される前記第２の導電体に定電流を供給し、前記位置決定システムは、測定された電圧、前記第２の導電体に印加される定電流、及び電圧が測定される前記少なくとも１つの導電体の単位長さあたりの抵抗値に基づいて位置を決定する、方法。
【請求項１１】
請求項１に記載のＤＣ配電システム内のトラック沿いの電気デバイスの位置を決定するためのコンピュータプログラムであって、当該コンピュータプログラムが前記ＤＣ配電システムを制御するコンピュータ上で実行されたとき、請求項１に記載のＤＣ配電システムに請求項１０に記載の位置決定方法のステップを実行させるプログラムコード手段を含む、コンピュータプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月6日(2016.6.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
デジタル制御システムでアナログプロセス警報を構成するための方法であって、
前記デジタル制御システム内で、１つまたは複数のテンプレートを作成するステップであり、各テンプレートが、アナログプロセス変数に関連する対応する１つまたは複数のアナログ警報副変数の１つまたは複数のエイリアス名を含む、ステップと、
ヒューマンマシンインターフェースを介して、前記デジタル制御システム内の前記アナログプロセス変数に関連する処理ロジックを視覚化するアナログ警報仮想ブロック図をユーザに提供するステップと、
前記１つまたは複数のテンプレートからテンプレートを選択するための要求を前記ユーザから受信するステップと、
アナログ警報副変数の名称の異なる部分の置換えを用いて、前記テンプレートの選択に基づいて、前記アナログプロセス警報の前記対応する１つまたは複数のアナログ警報副変数の前記１つまたは複数のエイリアス名を自動的に生成するステップであり、前記１つまたは複数のエイリアス名が前記アナログプロセス変数で直接に定義される、ステップと
を含む、方法。
【請求項２】
警報条件が生じたことを判定するステップと、
前記判定に基づいて、前記デジタル制御システムのオペレータに１つまたは複数の通知を選択的に提供するステップと、
をさらに含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記警報条件が生じたという前記判定に基づいて、プロセスの有効化、セットポイント値の提供、時間遅延値の提供、および警報フラグ変数の設定のアクションのうちの１つまたは複数のアクションを実行するステップをさらに含む、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記警報条件が、予期せぬ動作値を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記１つまたは複数の通知が、音声、表示灯、および警報リストのうちの１つまたは複数を含む、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記テンプレートの作成が、
オペレータに、構成ダイアログボックスを提供するステップと、
前記オペレータから、前記副変数の前記１つまたは複数のエイリアス名を含む入力データを受信するステップと、
前記１つまたは複数のエイリアス名をデジタル制御システムデータベースに保存するステップと、
を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記副変数が、入力と、出力と、パラメータとのアナログ警報プロパティのうちの１つまたは複数のアナログ警報プロパティと関連し、前記オペレータは、前記構成ダイアログボックスを使用してアナログ警報プロパティを設定することができる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記１つまたは複数のエイリアス名が、特定の命名規則と対応する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
前記１つまたは複数のテンプレートの各々が、特定の命名規則に対応する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記アナログ警報仮想ブロック図が、インテリジェントブロック形状を有するブロックの形で提供される、請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
デジタル制御システムでアナログプロセス警報を構成するためのシステムであって、
前記デジタル制御システム内で１つまたは複数のテンプレートを作成するように構成されたロジックエディタであり、各テンプレートが、アナログプロセス変数に関連する対応する１つまたは複数のアナログ警報副変数の１つまたは複数のエイリアス名を含む、ロジックエディタと、
前記デジタル制御システム内の前記アナログプロセス変数に関連する処理ロジックを視覚化するアナログ警報仮想ブロック図をユーザに提供するように、および前記１つまたは複数のテンプレートからテンプレートを選択するための要求を前記ユーザから受信するように構成された、ヒューマンマシンインターフェースと、
アナログ警報副変数の名称の異なる部分の置換えを用いて、前記テンプレートの選択に基づいて、前記アナログプロセス警報の前記対応する１つまたは複数のアナログ警報副変数の前記１つまたは複数のエイリアス名を自動的に生成するように構成されたテンプレートジェネレータであり、前記１つまたは複数のエイリアス名が前記アナログプロセス変数で直接に定義される、テンプレートジェネレータと、
を備える、システム。
【請求項１２】
前記アナログプロセス変数に関連する前記処理ロジックが、警報条件が生じたことを判定するものであり、前記判定に基づいて、前記デジタル制御システムのオペレータに１つまたは複数の通知を選択的に提供する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１３】
前記アナログプロセスに関連する前記処理ロジックが、プロセスの有効化、セットポイント値の提供、時間遅延値の提供、および警報フラグ変数の設定のアクションのうちの１つまたは複数のアクションを実行するようにさらに構成された、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１４】
前記警報条件が、予期せぬ動作値を含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１５】
前記１つまたは複数の通知が、音声、表示灯、および警報リストのうちの１つまたは複数を含む、請求項１２に記載のシステム。
【請求項１６】
前記テンプレートジェネレータが、
オペレータに構成ダイアログボックスを提供する、
前記オペレータから、前記副変数の前記１つまたは複数のエイリアス名を含む入力データを受信する、および、
前記１つまたは複数のエイリアス名をデジタル制御システムデータベースに保存する
ように構成された、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１７】
前記副変数が、入力と、出力と、パラメータとのアナログ警報プロパティのうちの１つまたは複数のアナログ警報プロパティに関連し、前記オペレータは、前記構成ダイアログボックスを使用して前記アナログ警報プロパティを設定することができる、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１８】
前記１つまたは複数のエイリアス名が、特定の命名規則に対応する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項１９】
前記１つまたは複数のテンプレートの各々が、特定の命名規則に対応する、請求項１１に記載のシステム。
【請求項２０】
１つまたは複数のプロセッサによって実行されるときに、前記１つまたは複数のプロセッサに
デジタル制御システム内で、１つまたは複数のテンプレートを作成するステップであり、各テンプレートが、アナログプロセス変数に関連する対応する１つまたは複数のアナログ警報副変数の１つまたは複数のエイリアス名を含む、ステップと、
ユーザに、ヒューマンマシンインターフェースを介して、前記デジタル制御システム内の前記アナログプロセス変数に関連する処理ロジックを視覚化するアナログ警報仮想ブロック図を提供するステップと、
前記１つまたは複数のテンプレートからテンプレートを選択するための要求を前記ユーザから受信するステップと、
アナログ警報副変数の名称の異なる部分の置換えを用いて、前記テンプレートの選択に基づいて、アナログプロセス警報の前記対応する１つまたは複数のアナログ警報副変数の前記１つまたは複数のエイリアス名を自動的に生成するステップであり、前記１つまたは複数のエイリアス名が前記アナログプロセス変数で直接に定義される、ステップと、
を前記１つまたは複数のプロセッサに行わせる、前記デジタル制御システム内で前記アナログプロセス警報を構成するための命令を有する、非一時的プロセッサ可読媒体。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月27日(2016.6.27)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸素含有物質をオレフィンに転化する方法であって、
（１）１種または複数種のエーテルを含むガス流を用意する工程と、
（２）（１）で用意されたガス流を触媒と接触させる工程であって、接触が４３０〜７００℃の範囲の温度で行われる工程と、
（３）触媒を再生のためにか焼する工程と、
（４）１種または複数種のエーテルを含むガス流を用意する工程と、
（５）（４）で用意されたガス流を再生した触媒と接触させる工程と
を含み、触媒は、
−  支持体基材と、
−  前記基材上に配置された層と
を含み、前記層はＭＦＩ、ＭＥＬおよび／またはＭＷＷ構造タイプの１種または複数種のゼオライトを含み、
支持体基材はセラミックおよび／または金属性物質を含む方法。
【請求項２】
支持体基材の形が顆粒、ペレット、網目、環、球、円柱、円筒、モノリス、ならびにそれらの２種以上の混合物および／または組合せからなる群から選択される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
１種または複数種のモノリスがハニカム、組紐、発泡体およびそれらの２つ以上の組合せからなる群から選択される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
１種または複数種のゼオライトがＭＦＩ構造タイプである、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
触媒が、ＭＦＩ、ＭＥＬおよび／またはＭＷＷ構造タイプの１種または複数種のゼオライトを、コーティングされた支持体基材の体積に対して総添加量０．００５〜１ｇ／ｃｍ３で含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
（１）によるガス流が１種または複数種のジ（Ｃ１〜Ｃ３）アルキルエーテルを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
（１）によるガス流中のエーテルの含有量が全体積に対して３０〜１００体積％の範囲である、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
（１）によるガス流が１種または複数種の脂肪族アルコールの脱水反応の前駆体から得ることができる、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
（１）によるガス流中の含水量が全体積に対して５〜６０体積％の範囲である、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
（２）による接触が０．１〜１０バールの範囲の圧力で行われる、請求項１から９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
連続法である、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
（２）による接触における空間速度が０．５〜５０ｈ−１の範囲である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
連続法が中断なしに行われたときの触媒の実用寿命が１５〜２００時間の範囲である、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
（３）におけるか焼が２００〜１１００℃の範囲の温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
（３）におけるか焼が０．２５〜３０時間行われる、請求項１または１４に記載の方法。
【請求項１６】
工程（３）〜（５）が１回〜１０００回繰り返される、請求項１、１４または１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
（ｉ）支持体基材ならびにＭＦＩ、ＭＥＬおよび／またはＭＷＷ構造タイプの１種または複数種のゼオライトを用意する工程と、
（ｉｉ）ＭＦＩ、ＭＥＬおよび／またはＭＷＷ構造タイプの１種または複数種のゼオライトおよび１種または複数種の溶媒を含む混合物を製造する工程と、
（ｉｉｉ）（ｉｉ）で得られた混合物を均質化する工程と、
（ｉｖ）支持体基材を（ｉｉｉ）で得られた均質化された混合物でコーティングする工程と、
（ｖ）（ｉｖ）で得られたコーティングされた支持体基材を乾燥する工程と、
（ｖｉ）（ｉｖ）または（ｖ）で得られたコーティングされた支持体基材をか焼する工程と
を含む方法で触媒を得ることができる、請求項１から１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
（ｖ）における乾燥が５０〜２２０℃の範囲の温度で行われる、請求項１７に記載の方法。
【請求項１９】
（ｖｉ）におけるか焼が３００〜８５０℃の範囲の温度で行われる、請求項１７または１８に記載の方法。
【請求項２０】
（ｉｉ）で製造された混合物が、アルコール、水、２種以上のアルコールの混合物、および水と１種以上のアルコールとの混合物からなる群から選択される１種または複数種の溶媒を含む、請求項１７から１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
（ｉｉ）で製造された混合物の固形物濃度が１０〜７５質量％の範囲である、請求項１７から２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
（ｉｉｉ）における均質化が撹拌、混練、アジテーション、振動またはそれらの２つ以上の組合せによって行われる、請求項１７から２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
（ｉｖ）におけるコーティングがスプレーコーティングおよび／またはウォッシュコーティングで行われる、請求項１７から２２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２４】
工程（ｉｖ）が１回または複数回繰り返される、請求項１７から２３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月2日(2016.3.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
治療上有効な量の生体適合性増量剤を含有する、被験体の肛門部に投与して被験体における便失禁を治療するための医薬組成物。
【請求項２】
被験体の肛門管壁に投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
被験体の括約筋内に（intersphincterically）投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
被験体の肛門括約筋または肛門括約筋の周辺の領域に投与される、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
肛門管壁の粘膜下層に投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項６】
歯状線から約1 mm〜5 cm、約5 mm〜2 cm、または約2 mm〜20 mmに投与される、請求項５に記載の組成物。
【請求項７】
歯状線から約2 mm〜20 mmに、肛門管の周囲に分布する少なくとも4つの位置に投与される、請求項５に記載の組成物。
【請求項８】
少なくとも4つの位置が互いに均等な間隔で分布している、請求項７に記載の組成物。
【請求項９】
少なくとも4つの位置が互いに均等な間隔でない、請求項７に記載の組成物。
【請求項１０】
少なくとも4つの位置のうち複数が、残りの位置と比べてより近くに分布している、請求項９に記載の組成物。
【請求項１１】
少なくとも4つの位置が集まっている、請求項７に記載の組成物。
【請求項１２】
肛門管壁の粘膜下層の少なくとも2〜4つの位置への注入によって投与される、請求項５に記載の組成物。
【請求項１３】
肛門管壁の粘膜下層のおよそ4つの位置への注入によって投与される、請求項５に記載の組成物。
【請求項１４】
歯状線の約5 mm上部または少なくとも約5 mm上部に投与される、請求項５に記載の組成物。
【請求項１５】
１回につき少なくとも4か所の注入で2回、被験体に投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項１６】
2回の注入が、歯状線から同一の距離で、肛門管壁の粘膜下層に投与される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１７】
2回の注入が、歯状線から異なる距離で、肛門管壁の粘膜下層に投与される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項１８】
1回目の注入が歯状線から約5 mmに投与され、2回目の注入が歯状線から約4 mmに投与される、請求項１７に記載の組成物。
【請求項１９】
2回の注入が、肛門部の同一の位置（same location）に投与される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項２０】
2回の注入が、肛門部の離れた位置に投与される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項２１】
2回の注入が、肛門部の同一の位置に、歯状線から異なる距離で投与される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項２２】
２回目の注入部位が、1回目の注入部位に対して約1〜5 mmの距離で投与される、請求項１５に記載の組成物。
【請求項２３】
超音波誘導を用いて被験体に投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項２４】
ヒアルロン酸ナトリウム、デキストラノマー（dextranomer）、またはヒアルロン酸ナトリウムおよびデキストラノマーを含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項２５】
（i）全組成物の0.05〜50％（w/w）の擬塑性ポリマー担体；ならびに（ii）デキストラノマーを含む水不溶性、生体適合性、および生分解性の組織増大物質、を含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項２６】
擬塑性ポリマー担体が、グリコサミノグリカン、ヒドロキシルエチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、キサンタンガム、およびアルギン酸からなる群より選択される、請求項２５に記載の組成物。
【請求項２７】
グリコサミノグリカンがヒアルロン酸である、請求項２６に記載の組成物。
【請求項２８】
デキストラノマーがマイクロビーズの形態で存在する、請求項２４に記載の組成物。
【請求項２９】
任意選択で持続放出剤型で、治療的活性成分を更に含有する、請求項１に記載の組成物。
【請求項３０】
注入によって投与される、請求項１に記載の組成物。
【請求項３１】
治療を必要とする被験体が、以前に保存療法（conservation therapy）に失敗したかどうかで選択されうる、請求項1に記載の組成物。
【請求項３２】
保存療法が、食事療法、繊維療法、および下痢の治療のための薬物療法である、請求項３１に記載の組成物。
【請求項３３】
被験体が妊娠の可能性のない女性である、請求項1に記載の組成物。
【請求項３４】
被験体が、妊娠の可能性はあるが、医学的に許容されうる避妊法を用いており、処理に対して即座に陰性の尿妊娠検査結果を有する女性である、請求項1に記載の組成物。
【請求項３５】
被験体が、（a）妊娠もしくは授乳中の人、（b）炎症性腸疾患を有する人、（c）免疫不全疾患を有する人、もしくは免疫抑制療法を受けている人、（d）以前、骨盤領域に放射線治療を受けた人、（e）重篤な粘膜もしくは全層の直腸脱を有する人、（f）膿腫、裂溝、敗血症、出血、直腸炎、および感染症を含む活動性の肛門直腸疾患を有する人、（g）肛門直腸の閉鎖症、腫瘍、狭窄症、もしくは奇形を有する人、（h）直腸ヘルニアを有する人、（i）直腸静脈瘤を有する人、（j）肛門直腸領域に既存のインプラントを有する人、（k）ヒアルロン酸アレルギーのある人、（l）歯状線の10 cm以内に直腸もしくは肛門の吻合を有する人、（m）不安定な精神状態を有する人、または（n）出血性疾患を有する人を除く、請求項1に記載の組成物。
【請求項３６】
被験体が、24か月より長期にわたって再介入（reintervention）から免れたままである、またはデバイス関連有害事象の発生から免れたままである、請求項１に記載の組成物。
【請求項３７】
被験体が、治療後24か月超経過後に便失禁に関する生活の質（Fecal Incontinence Quality of Life）（Rockwood調査票（instrument））の良好な結果、良好なクリーブランド・クリニック・フロリダの便失禁スコア（Cleveland Clinic Florida Fecal Incontinence Score）、良好な包括的自覚効果スコア（Global Perceived Effect Score）、または良好な便失禁再介入時間スコア（Time to Fecal Incontinence Reintervention score）を有し、前記治療が有効であることを示している、請求項１に記載の組成物。
【請求項３８】
治療後24か月超経過後に相対的な解剖学的安定性または最小限の局所移動を示し、前記治療が有効であることを示している、請求項１に記載の組成物。
【請求項３９】
治療後24か月超経過後に他の身体部分もしくは系への移動をほとんどまたはまったく示さず、前記治療が有効であることを示している、請求項１に記載の組成物。
【請求項４０】
被験体が、治療後24か月超経過後に生体適合性増量剤に関連した実質的な感染を示さず、前記治療が有効であることを示している、請求項１に記載の組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月5日(2016.8.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトプロタンパク質転換酵素サブチリシン／ケキシン９型（ＰＣＳＫ９）を結合する、単離された抗体またはその抗原結合性フラグメントであって、ここで：
（ａ）抗体またはそのフラグメントは、表面プラズモン共鳴によって測定して、酸性ｐＨよりも中性ｐＨで少なくとも１３倍大きな親和性によってＰＣＳＫ９を結合する；
（ｂ）表面プラズモン共鳴によって測定して、２５℃でＰＣＳＫ９に結合する該抗体または抗原結合性フラグメントの酸性／中性ＫD比が約１２．５を超える；
（ｃ）表面プラズモン共鳴によって測定して、２５℃でＰＣＳＫ９に結合する該抗体または抗原結合性フラグメントの酸性／中性ＫD比が約７．５を超える；
（ｄ）表面プラズモン共鳴によって測定して、２５℃でＰＣＳＫ９に結合する該抗体または抗原結合性フラグメントの酸性／中性ｔ１／２比が約０．１４未満である；
（ｅ）２５℃および酸性ｐＨで約４．５分未満の解離半減期（ｔ１／２）によってＰＣＳＫ９を結合する単離された抗体またはその抗原結合性フラグメントであって、該抗体またはその抗原結合性フラグメントが、２５℃および中性ｐＨで約３５分を超えるｔ１／２によってＰＣＳＫ９を結合する；
（ｆ）表面プラズモン共鳴によって測定して、中性ｐＨでＰＣＳＫ９に結合する抗体のｔ１／２よりも少なくとも１０倍短いｔ１／２によって酸性ｐＨでＰＣＳＫ９を結合する；
（ｇ）酸性ｐＨよりも中性ｐＨで少なくとも１２倍より大きな親和性によってＰＣＳＫ９を結合する、単離された抗体またはその抗原結合性フラグメントであって、該抗体またはその抗原結合性フラグメントが、中性ｐＨでＰＣＳＫ９に結合する抗体のｔ１／２よりも少なくとも１０倍短いｔ１／２によって酸性ｐＨでＰＣＳＫ９を結合する；
（ｈ）表面プラズモン共鳴によって測定して、２５℃でＰＣＳＫ９に結合する該抗体または抗原結合性フラグメントの酸性／中性ＫD比が、３．０から８．０の間である；
または
（ｉ）表面プラズモン共鳴によって測定して、約３５分未満かつ約１０．５分を超えるｔ１／２によって、ｐＨ６．０および２５℃でＰＣＳＫ９を結合する抗体またはそのフラグメントであり；
そしてここで、前記抗体またはその抗原結合性フラグメントが、３つの重鎖相補性決定
領域（ＨＣＤＲ１、ＨＣＤＲ２およびＨＣＤＲ３）および３つの軽鎖相補性決定領域（ＬＣＤＲ１、ＬＣＤＲ２およびＬＣＤＲ３）を含み、
該ＨＣＤＲ１が、配列番号：２２０を含み、
該ＨＣＤＲ２が、配列番号：２２２を含み、
該ＨＣＤＲ３が、配列番号：２２４または７８８を含み、
該ＬＣＤＲ１が、配列番号：８０２を含み、
該ＬＣＤＲ２が、配列番号：２３０を含み、および
該ＬＣＤＲ３が、配列番号：２３２を含む；
上記単離された抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項２】
前記抗体またはその抗原結合性フラグメントが、酸性ｐＨよりも中性ｐＨで少なくとも１４倍、または少なくとも１５倍大きな親和性によってＰＣＳＫ９を結合する、請求項１の（ａ）に記載の単離された抗体または抗原結合性フラグメント。
【請求項３】
前記抗体またはその抗原結合性フラグメントが、２５℃および酸性ｐＨで約２分未満、または約１．５分未満の解離半減期（ｔ１／２）によってＰＣＳＫ９を結合し、該抗体またはその抗原結合性フラグメントが、２５℃および中性ｐＨで約３５分を超えるｔ１／２によってＰＣＳＫ９を結合する、請求項１の（ｅ）に記載の単離された抗体または抗原結合性フラグメント。
【請求項４】
前記抗体またはその抗原結合性フラグメントが、中性ｐＨでｈＰＣＳＫ９に結合する抗体のｔ１／２よりも少なくとも１５倍、または少なくとも２０倍短いｔ１／２によって酸性ｐＨでＰＣＳＫ９を結合する、請求項１の（ｆ）に記載の単離された抗体または抗原結合性フラグメント。
【請求項５】
酸性ｐＨでの抗体またはその抗原結合性フラグメントのＰＣＳＫ９／ＬＤＬＲ遮断ＩＣ50値よりも少なくとも３６倍より小さいＩＣ50によって中性ｐＨで、ＰＣＳＫ９と低密度リポタンパク質受容体（ＬＤＬＲ）との間の相互作用を遮断する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の単離された抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項６】
前記抗体またはその抗原結合性フラグメントを約１０ｍｇ／ｋｇの単回投与で対象に投与したとき、血清ＬＤＬ−Ｃがベースラインから少なくとも３３％低下し、該血清ＬＤＬ−Ｃの低下が、投与後、少なくとも２６日間、または少なくとも３３日間持続する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の単離された抗体または抗原結合性フラグメント。
【請求項７】
前記抗体またはその抗原結合性フラグメントを約１０ｍｇ／ｋｇの単回投与で対象に投与したとき、血清ＬＤＬ−Ｃがベースラインから少なくとも１５％低下し、該血清ＬＤＬ−Ｃの低下が、投与後、少なくとも４２日間、または少なくとも５５日間持続する、請求項１〜６のいずれか１項に記載の単離された抗体または抗原結合性フラグメント。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の単離された抗体または抗原結合性フラグメントであって、
（ａ）ＨＣＶＲが、配列番号：２１８を含み、そしてＬＣＶＲが、Ｌ３０Ｈのアミノ酸置換を含む配列番号：２２６の変異体を含む；
または
（ｂ）ＨＣＶＲが、Ｄ１０６Ｈのアミノ酸置換を含む配列番号：２１８の変異体を含み、そしてＬＣＶＲが、Ｌ３０Ｈのアミノ酸置換を含む配列番号：２２６の変異体を含む；
上記単離された抗体または抗原結合性フラグメント。
【請求項９】
薬剤に使用するための請求項１〜８のいずれか１項に記載の単離された抗体またはその
抗原結合性フラグメント。
【請求項１０】
高コレステロール血症の治療に使用するための、または血清ＬＤＬ−Ｃレベルを低下させるための、請求項１〜８のいずれか１項に記載の単離された抗体もしくはその抗原結合性フラグメント、または請求項１〜８のいずれか１項に記載の単離された抗体もしくはその抗原結合性フラグメントを含む医薬組成物。