【手続補正書】
【提出日】平成27年12月22日(2015.12.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記を含む二酸化チタン顔料の製造方法。
（１）二酸化チタン粒子を製造すること；及び
（２）下記ステップを含む方法によって該二酸化チタン粒子を二酸化チタン凝集体へと形成すること
（ａ）該二酸化チタン粒子を凝集器の中に仕込むステップ、
（ｂ）凝集器の中で、疎水性有機処理剤を二酸化チタン粒子に噴霧することによって該処理剤を該二酸化チタン粒子と混合するステップ、
（ｃ）該凝集器を作動させて該二酸化チタン粒子を二酸化チタン凝集体へと形成するステップ。
【請求項２】
前記二酸化チタン粒子が塩素法によって生成される、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記二酸化チタン粒子が硫酸塩法によって生成される、請求項１記載の方法。
【請求項４】
前記二酸化チタン粒子が約0.1 μｍ〜約0.5 μｍの一次粒子径を有する粉末の形態である、請求項１記載の方法。
【請求項５】
前記二酸化チタン粒子を前記凝集器中に投入する前に、前記二酸化チタン粒子から塊が除かれる、請求項１記載の方法。
【請求項６】
前記二酸化チタン粒子を上流側の振動篩を通すことによって、前記二酸化チタン粒子から塊が除かれる、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記上流の振動篩が約7 〜約16の米国（U.S.）メッシュサイズを有する、請求項６記載の方法。 
【請求項８】
前記処理剤が、シラン、ポリシロキサン、飽和脂肪酸塩、不飽和脂肪酸塩、ホスホン酸及びその誘導体、並びにこれらの混合物から選ばれる、請求項１記載の方法。
【請求項９】
前記処理剤が、シラン、ポリシロキサン及びこれらの混合物から選択される、請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記シランが下記式を有するシランである、請求項９記載の方法。
Rn-Si-X4-n
ここで、Rはアルキル基、アリール基、又はアルキルアリール基であり、
Xはハロゲン、ヒドロキシ又はアルコキシ基であり、及び
nは１〜３である。
【請求項１１】
前記シランが、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルメチルジクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、オクチルメチルジクロロシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ヘキシルメチルジメトキシシラン、オクチルメチルジメトキシシラン、ヘキシルメチルジエトキシシラン、オクチルメチルジエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、及びこれらの混合物から選択される、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記ポリシロキサンが下記式を有するポリシロキサンである、請求項９記載の方法。
X-(R1R2SiO)n-Y
ここで、R1 及び R2は水素、アルキル基またはアリール基であり、
Xは水素又はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル基又はアリール基であり、
Yは水素又はアルキル基、又はアリール基であり、及び
nは1〜2000である。
【請求項１３】
前記ポリシロキサンが、ポリハイドロジェンメチルシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルキルシロキサン（ここでアルキル基はC1〜 C18である）、ポリフェニルメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、及びこれらの混合物から選択される、請求項１２記載の方法。
【請求項１４】
前記処理剤がｎ−オクチルトリエトキシシラン、ポリ（ハイドロジェンメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン）、及びこれらの混合物から選択される、請求項９記載の方法。
【請求項１５】
前記処理剤がポリ（ハイドロジェンメチルシロキサン）である、請求項１４記載の方法。
【請求項１６】
前記処理剤が、前記二酸化チタン粒子の重量に基づき約0.1重量% 〜約2.0重量%の量で、前記凝集器内で前記二酸化チタン粒子と混合される、請求項１記載の方法。
【請求項１７】
前記処理剤が、平均液滴サイズが100 μｍ以下の液状スプレーの形態で、前記二酸化チタン粒子上にスプレーされる、請求項１記載の方法。
【請求項１８】
前記凝集器がロータリーミキサーである、請求項１記載の方法。
【請求項１９】
前記ロータリーミキサーがパンペレタイザーである、請求項１８記載の方法。
【請求項２０】
前記パンペレタイザーが、水平面に対して或る角度で下側に傾けられる、請求項１９記載の方法。
【請求項２１】
前記二酸化チタン凝集体が前記凝集器から下流の振動篩へと運ばれる、請求項１記載の方法。
【請求項２２】
前記下流の振動篩が、約2〜約10の米国（U.S.）メッシュサイズを有する、請求項２１記載の方法。
【請求項２３】
前記二酸化チタン凝集体が約200 μｍ〜約800 μｍの平均凝集体サイズを有する、請求項１記載の方法。
【請求項２４】
前記方法が、連続ベースで実施される、請求項１記載の方法。
【請求項２５】
下記を含む、連続ベースで二酸化チタン顔料を製造する方法。
（１）二酸化チタン粒子を塩素法又は硫酸塩法で製造すること；及び
（２）前記二酸化チタン粒子を下記工程を含む方法によって二酸化チタン凝集体へと形成すること
（ａ）二酸化チタン粒子をロータリーミキサーへと投入する工程；
（ｂ）疎水性有機処理剤を、該処理剤を前記ロータリーミキサー内の前記二酸化チタン粒子上にスプレーすることによって、前記二酸化チタン粒子と混合する工程であって、前記処理剤はシラン及びポリシロキサンから選ばれる、工程：
（ｃ）ロータリーミキサーを作動させて前記二酸化チタン粒子を二酸化チタン凝集体へと形成する工程。
【請求項２６】
前記二酸化チタン粒子を前記ロータリーミキサーへと投入する前に、前記二酸化チタン粒子から塊が除かれる、請求項２５記載の方法。
【請求項２７】
前記処理剤が、シラン、ポリシロキサン、飽和脂肪酸塩、不飽和脂肪酸塩、ホスホン酸及びその誘導体、並びにこれらの組合せから選択される、請求項２５記載の方法。
【請求項２８】
前記処理剤がシラン、ポリシロキサン、及びこれらの混合物から選択される、請求項２７記載の方法。
【請求項２９】
前記処理剤がｎ−オクチルトリエトキシシラン、ポリ（ハイドロジェンメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン）、及びこれらの混合物から選択される、請求項２８記載の方法。
【請求項３０】
前記処理剤がポリ（ハイドロジェンメチルシロキサン）である、請求項２９記載の方法。
【請求項３１】
前記処理剤が、前記二酸化チタン粒子の重量に基づき約0.1重量% 〜約2.0重量%の量で、前記ロータリーミキサー内で前記二酸化チタン粒子と混合される、請求項２５記載の方法。
【請求項３２】
二酸化チタン顔料の加工性を、二酸化チタン顔料のレオロジー特性を損なうことなく向上する方法であって、下記を含む方法。
（ａ）二酸化チタン粒子を凝集器へと投入すること；
（ｂ）疎水性有機処理剤を前記凝集器内の前記二酸化チタン粒子上にスプレーすることによって、該処理剤を前記二酸化チタン粒子と混合すること：
（ｃ）前記凝集器を作動させて前記二酸化チタン粒子から二酸化チタン凝集体を形成すること；及び
（ｄ）前記二酸化チタン凝集体を前記凝集器から外へ運び出すこと。
【請求項３３】
前記二酸化チタン粒子を前記凝集器へと投入する前に、前記二酸化チタン粒子から塊が除かれる、請求項３２記載の方法。
【請求項３４】
前記粒子が上流の、約7〜約16の米国（U.S.）メッシュサイズを有する振動篩を通されることによって、前記二酸化チタン粒子から塊が除かれる、請求項３３記載の方法。
【請求項３５】
前記処理剤が、シラン、ポリシロキサン、飽和脂肪酸塩、不飽和脂肪酸塩、ホスホン酸及びその誘導体、並びにこれらの組合せから選択される、請求項３２記載の方法。
【請求項３６】
前記処理剤がシラン、ポリシロキサン、及びこれらの混合物から選択される、請求項３５記載の方法。
【請求項３７】
前記シランが下記式を有するシランである、請求項３６記載の方法。
Rn-Si-X4-n
ここで、Rはアルキル基、アリール基、又はアルキルアリール基であり、
Xはハロゲン、ヒドロキシ又はアルコキシ基であり、及び
nは１〜３である。
【請求項３８】
前記シランが、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルメチルジクロロシラン、オクチルトリクロロシラン、オクチルメチルジクロロシラン、プロピルトリメトキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、オクチルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、オクチルトリエトキシシラン、ヘキシルメチルジメトキシシラン、オクチルメチルジメトキシシラン、ヘキシルメチルジエトキシシラン、オクチルメチルジエトキシシラン、アミノプロピルトリメトキシシラン、アミノプロピルトリエトキシシラン、及びこれらの混合物から選択される、請求項３７記載の方法。
【請求項３９】
前記ポリシロキサンが下記式を有するポリシロキサンである、請求項３６記載の方法。
X-(R1R2SiO)n-Y
ここで、R1 及び R2は水素、アルキル基またはアリール基であり、
Xは水素又はヒドロキシ基、アルコキシ基、アルキル基又はアリール基であり、
Yは水素又はアルキル基、又はアリール基であり、及び
nは1〜2000である。
【請求項４０】
前記ポリシロキサンが、ポリハイドロジェンメチルシロキサン、ポリジメチルシロキサン、ポリアルキルシロキサン（ここでアルキル基はC1〜 C18である）、ポリフェニルメチルシロキサン、ポリジフェニルシロキサン、及びこれらの混合物から選択される、請求項３９記載の方法。
【請求項４１】
前記処理剤がｎ−オクチルトリエトキシシラン、ポリ（ハイドロジェンメチルシロキサン）、ポリ（ジメチルシロキサン）、及びこれらの混合物から選択される、請求項３６記載の方法。
【請求項４２】
前記処理剤がポリ（ハイドロジェンメチルシロキサン）である、請求項４１記載の方法。
【請求項４３】
前記処理剤が、前記二酸化チタン粒子の重量に基づき約0.1重量% 〜約2.0重量%の量で、前記凝集器内で前記二酸化チタン粒子と混合される、請求項３２記載の方法。
【請求項４４】
前記処理剤が、平均液滴サイズが100 μｍ以下の液状スプレーの形態で、前記二酸化チタン粒子上にスプレーされる、請求項３２記載の方法。
【請求項４５】
前記凝集器がロータリーミキサーである、請求項３２記載の方法。
【請求項４６】
前記ロータリーミキサーがパンペレタイザーである、請求項４５記載の方法。
【請求項４７】
前記方法が、連続ベースで実施される、請求項３２記載の方法。