(57)【要約】【課題】高い気密性を有する中空成形体および中空成形体の製造方法を提供する。【解決手段】容器２と前記容器２を密閉する蓋３とをレーザー溶着させてなる中空成形体１であって、前記容器２および前記蓋３は、熱可塑性樹脂を含む形成材料の射出成形体であり、それぞれ射出成形時のゲート跡２ｘ，３ｘを有し、前記熱可塑性樹脂は、溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有し、前記容器２のゲート跡３ｘが、前記中空成形体１の外側となる位置であって、前記容器２の底面の形状の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にあり、前記蓋３のゲート跡３ｘが、前記蓋３の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にある中空成形体１。【選択図】図１
2013203047.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
容器と前記容器を密閉する蓋とをレーザー溶着させてなる中空成形体であって、
前記容器および前記蓋は、熱可塑性樹脂を含む形成材料の射出成形体であり、それぞれ射出成形時のゲート跡を有し、
前記熱可塑性樹脂は、溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有し、
前記容器のゲート跡が、前記中空成形体の外側となる位置であって、前記容器の底面の形状の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にあり、
前記蓋のゲート跡が、前記蓋の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にある中空成形体。
【請求項２】
前記容器の底部の平均肉厚ＴＢと、前記容器の側壁の平均肉厚ＴＷとが、下記式（Ｉ）を満たす請求項１に記載の中空成形体。
４ＴＢ≧ＴＷ＞３／４ＴＢ  …（Ｉ）
【請求項３】
前記底面の形状が多角形であり、
前記容器のゲート跡が、前記底面の角を中心として、前記底面の角から前記容器の隣接する角までの距離の６分の１以内の領域にあり、
前記蓋のゲート跡が、前記蓋の上面および下面では、前記上面および前記下面の角を中心として、それぞれの角から同じ面内の前記蓋の隣接する角までの距離の６分の１以内の領域にあり、
前記蓋の側面では、前記蓋の上面および下面の隣接する角同士を結ぶ稜線から、対向する稜線までの距離の６分の１以内の領域にある請求項１または２に記載の中空成形体。
【請求項４】
外形形状が直方体である請求項１から３のいずれか１項に記載の中空成形体。
【請求項５】
前記熱可塑性樹脂が液晶ポリエステルである請求項１から４のいずれか１項に記載の中空成形体。
【請求項６】
溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有する熱可塑性樹脂を含む形成材料を用いて、容器と蓋とを射出成形する工程と、
前記容器の開口部を前記蓋で閉じ、前記容器と前記蓋との接触部をレーザー溶着する工程と、を有し、
前記射出成形する工程において、前記容器を、前記容器の底面の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置で、かつ前記容器を前記蓋で閉じた中空成形体の外側となる位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形し、
前記蓋を、前記蓋の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形する中空成形体の製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、中空成形体および中空成形体の製造方法に関するものである。
【背景技術】
【０００２】
従来、内部に収容空間を有し、気密に密閉された樹脂製の成形体（以下、中空成形体と称することがある）が知られている。このような成形体の具体例としては、絶縁性を有する容器内部に電子回路などの部品を封入し、キャップ（蓋）で密閉する中空パッケージを挙げることができる。
【０００３】
このような中空成形体を製造する方法としては、容器とキャップとをレーザー溶着で一体化する方法が知られている（例えば、特許文献１参照）。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−２３５４８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
このような中空成形体では、内部に封入する部品が大気中の水分や酸素により破損することを防ぐために、高い気密性が要求されることがあり、従来知られたものと比べ、さらなる改善が求められていた。
【０００６】
本発明はこのような事情に鑑みてなされたものであって、高い気密性を有する中空成形体を提供することを目的とする。また、このような中空成形体の製造方法を提供することをあわせて目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００７】
上記の課題を解決するため、本発明の一態様は、容器と前記容器を密閉する蓋とをレーザー溶着させてなる中空成形体であって、前記容器および前記蓋は、熱可塑性樹脂を含む形成材料の射出成形体であり、それぞれ射出成形時のゲート跡を有し、前記熱可塑性樹脂は、溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有し、前記容器のゲート跡が、前記中空成形体の外側となる位置であって、前記容器の底面の形状の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にあり、前記蓋のゲート跡が、前記蓋の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にある中空成形体を提供する。
【０００８】
本発明の一態様においては、前記容器の底部の平均肉厚ＴＢと、前記容器の側壁の平均肉厚ＴＷとが、下記式（Ｉ）を満たすことが望ましい。
４ＴＢ≧ＴＷ＞３／４ＴＢ  …（Ｉ）
【０００９】
本発明の一態様においては、前記底面の形状が多角形であり、前記容器のゲート跡が、前記底面の角を中心として、前記底面の角から前記容器の隣接する角までの距離の６分の１以内の領域にあり、前記蓋のゲート跡が、前記蓋の上面および下面では、前記上面および前記下面の角を中心として、それぞれの角から同じ面内の前記蓋の隣接する角までの距離の６分の１以内の領域にあり、前記蓋の側面では、前記蓋の上面および下面の隣接する角同士を結ぶ稜線から、対向する稜線までの距離の６分の１以内の領域にあることが望ましい。
【００１０】
本発明の一態様においては、外形形状が直方体であることが望ましい。
【００１１】
本発明の一態様においては、前記熱可塑性樹脂が液晶ポリエステルであることが望ましい。
【００１２】
また、本発明の一態様は、溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有する熱可塑性樹脂を含む形成材料を用いて、容器と蓋とを射出成形する工程と、前記容器の開口部を前記蓋で閉じ、前記容器と前記蓋との接触部をレーザー溶着する工程と、を有し、前記射出成形する工程において、前記容器を、前記容器の底面の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置で、かつ前記容器を前記蓋で閉じた中空成形体の外側となる位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形し、前記蓋を、前記蓋の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形する中空成形体の製造方法を提供する。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、高い気密性を有する中空成形体を提供することができる。また、このような中空成形体の製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】本実施形態の中空成形体の一例を示す模式図である。
【図２】本実施形態の中空成形体を製造可能な容器および蓋の説明図である。
【図３】容器および蓋のゲート跡の位置による効果を説明する図である。
【図４】容器および蓋のゲート跡の位置による効果を説明する図である。
【図５】直方体形状を呈する容器のゲート跡の好適な位置を示す模式図である。
【図６】直方体形状を呈する蓋のゲート跡の好適な位置を示す模式図である。
【図７】容器の概略断面図である。
【図８】蓋の概略断面図である。
【図９】レーザー溶着に用いる溶着装置を説明する模式図である。
【図１０】レーザー溶着の工程図である。
【図１１】実施例および比較例で成形した容器および蓋の形状を示す模式図である。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
［中空成形体］
本実施形態の中空成形体は、容器と前記容器を密閉する蓋とをレーザー溶着させてなる中空成形体であって、前記容器および前記蓋は、熱可塑性樹脂を含む形成材料の射出成形体であり、それぞれ射出成形時のゲート跡を有し、前記熱可塑性樹脂は、溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有し、前記容器のゲート跡が、前記中空成形体の外側となる位置であって、前記容器の底面の形状の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にあり、前記蓋のゲート跡が、前記蓋の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にあるものである。
以下、順に説明する。
【００１６】
図１は、本実施形態の中空成形体の一例を示す模式図であり、図１（ａ）は分解斜視図、図１（ｂ）は概略断面図である。図１（ａ）（ｂ）に示すように、本実施形態の中空成形体１は、射出成形により成形された成形体である容器２と蓋３とを有している。本実施形態の中空成形体１において、容器２と蓋３とは、レーザー溶着法を用いて接合されるものである。
【００１７】
容器２は、底部２１と、底部２１に交差する側壁２２とで囲まれ、一面に開口部２３が形成された収容空間Ｓを有する成形体である。容器２の形状は、収容空間Ｓに収容する部品の形状に応じて適宜設定することができる。例えば、一般に直方体の形状を有する半導体素子を収容空間Ｓに収容する場合は、図１（ａ）（ｂ）に示すように、直方体の底部２１と直交する側壁２２とを有し、収容空間Ｓを直方体形状とすることが好ましい。その他、円柱状の外形や、底面の形状が多角形である多角柱状の外形を有する中空成形体としてもよい。さらには、円錐台や多角錘台の外形を有する中空成形体としても構わない。
【００１８】
容器２には、レーザー光を吸収しエネルギーを熱に変換する着色剤が含有されている。この着色剤としては、カーボンブラック、モノアゾ染料、アントラキノン染料、ペリレン染料、フタロシアニン染料、ニグロシン染料、チタン黒、黒色酸化鉄、黄色酸化鉄、赤色酸化鉄、カドミウム黄、ニッケルチタン黄、ストロンチウム黄、含水酸化クロム、酸化クロム、アルミン酸コバルト、ウルトラマリン青などが挙げられ、１種または２種以上を使用してもよい。これらの中でも、耐熱性が高いことから、カーボンブラック、チタン黒、黒色酸化鉄が好ましい。
【００１９】
このような着色剤は、容器２の全量（１００質量部）に対して、０．０１質量部以上１０質量部以下含まれていることが好ましく、０．０５質量部以上５質量部以下含まれていることがより好ましい。
【００２０】
また、容器２には、本発明の効果を損なわない範囲で、無機フィラーや種々の添加剤などが含有されていてもよい。
【００２１】
なお、容器２の射出成形時に、収容空間Ｓと容器２の外部とを接続する端子を側壁２２に埋め込むこともできる。例えば、あらかじめ端子形状に加工したリードフレームを金型にインサートした後、射出成形することにより、外部接続端子を有する容器２とすることができる。
【００２２】
蓋３は、平面視で容器２と同じ形状を有する板状の成形体である。図では、蓋３は、平面視矩形の容器２と同じく、平面視矩形の形状を有している。また、蓋３において容器２と面する側には、中央部に容器２の開口部２３に嵌合する凸部３１が設けられている。図では、容器２の開口部２３の形状に合わせて、凸部３１も平面視矩形の形状を有している。
【００２３】
なお、本実施形態では、蓋３の形状が、容器２の平面視形状や開口部２３の形状に応じて、同じ平面視形状とすることとしているが、容器２と蓋３との平面視形状が異なることとしてもよい。また、蓋３の中央部が上に盛り上がっていてもよく、窪んでいてもよい。もちろん、図で示した蓋３のような凸部３１を有さない、平板状の蓋を用いることとしても構わない。
【００２４】
なお、蓋３には、本発明の効果を損なわない範囲で、無機フィラーや種々の添加剤などが含有されていてもよい。
【００２５】
容器２と蓋３とは、容器２の開口部２３に蓋３の凸部３１が嵌合した状態で、容器２の側壁２２の頂部２４と、蓋３の凸部３１の周囲（周縁部３２）と、を接触させ、接触部がレーザー溶着法を用いて接合されている。本実施形態の中空成形体においては、レーザー溶着法で容器２および蓋３を溶着する場合、それぞれ一部を溶融させて接合させる。そのため、容器２および蓋３は、融点または流動開始温度が同一の形成材料を用いることが好ましく、上記着色剤の添加の有無以外は同じ材料を用いることがより好ましい。
【００２６】
本実施形態の容器２および蓋３の形成材料としては、主鎖骨格に芳香環を有し、構造が直線状となる樹脂材料を用いることができる。このような樹脂材料は、流動時に配向しやすいが、本実施形態の中空成形体では、このような樹脂材料を用いて、高い気密性を有する中空成形体とすることができる。
【００２７】
用いることができる樹脂材料として、具体的には、ポリカーボネート樹脂、芳香族ポリアミド、ポリフェニレンエーテル樹脂、ポリフェニレンスルフィド樹脂、ポリスルホン樹脂、ポリアリレート樹脂、ポリエーテルイミド樹脂、ポリエーテルスルホン樹脂、ポリエーテルケトン樹脂、液晶ポリエステル、ポリアミドイミド樹脂、ポリイミド樹脂などを例示することができるが、これらの中でも、流動性、耐熱性、剛性およびガスバリア性が良好であることから液晶ポリエステルが好ましい。
【００２８】
（液晶ポリエステル）
本実施形態の中空成形体の形成材料として使用可能な液晶ポリエステルは、溶融状態で液晶性を示す液晶ポリエステルであり、４５０℃以下の温度で溶融するものであることが好ましい。なお、液晶ポリエステルは、液晶ポリエステルアミドであってもよいし、液晶ポリエステルエーテルであってもよいし、液晶ポリエステルカーボネートであってもよいし、液晶ポリエステルイミドであってもよい。液晶ポリエステルは、原料モノマーとして芳香族化合物のみを用いてなる全芳香族液晶ポリエステルであることが好ましい。
【００２９】
液晶ポリエステルの典型的な例としては、
（Ｉ）芳香族ヒドロキシカルボン酸と、芳香族ジカルボン酸と、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、を重合（重縮合）させてなるもの
（ＩＩ）複数種の芳香族ヒドロキシカルボン酸を重合させてなるもの
（ＩＩＩ）芳香族ジカルボン酸と、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンからなる群から選ばれる少なくとも１種の化合物と、を重合させてなるもの
（ＩＶ）ポリエチレンテレフタレート等のポリエステルと、芳香族ヒドロキシカルボン酸と、を重合させてなるもの
が挙げられる。ここで、芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジカルボン酸、芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンは、それぞれ独立に、その一部又は全部に代えて、その重合可能な誘導体が用いられてもよい。
【００３０】
芳香族ヒドロキシカルボン酸及び芳香族ジカルボン酸のようなカルボキシ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、カルボキシ基をアルコキシカルボニル基又はアリールオキシカルボニル基に変換してなるもの（エステル）、カルボキシ基をハロホルミル基に変換してなるもの（酸ハロゲン化物）、及びカルボキシ基をアシルオキシカルボニル基に変換してなるもの（酸無水物）が挙げられる。
芳香族ヒドロキシカルボン酸、芳香族ジオール及び芳香族ヒドロキシアミンのようなヒドロキシ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、ヒドロキシ基をアシル化してアシルオキシル基に変換してなるもの（アシル化物）が挙げられる。
芳香族ヒドロキシアミン及び芳香族ジアミンのようなアミノ基を有する化合物の重合可能な誘導体の例としては、アミノ基をアシル化してアシルアミノ基に変換してなるもの（アシル化物）が挙げられる。
【００３１】
液晶ポリエステルは、下記一般式（１）で表される繰返し単位（以下、「繰返し単位（１）」ということがある。）を有することが好ましく、繰返し単位（１）と、下記一般式（２）で表される繰返し単位（以下、「繰返し単位（２）」ということがある。）と、下記一般式（３）で表される繰返し単位（以下、「繰返し単位（３）」ということがある。）と、を有することがより好ましい。
【００３２】
（１）−Ｏ−Ａｒ１−ＣＯ−
（２）−ＣＯ−Ａｒ２−ＣＯ−
（３）−Ｘ−Ａｒ３−Ｙ−
（式中、Ａｒ１は、フェニレン基、ナフチレン基又はビフェニリレン基であり；Ａｒ２及びＡｒ３は、それぞれ独立にフェニレン基、ナフチレン基、ビフェニリレン基又は下記一般式（４）で表される基であり；Ｘ及びＹは、それぞれ独立に酸素原子又はイミノ基であり；前記Ａｒ１、Ａｒ２及びＡｒ３中の一つ以上の水素原子は、それぞれ独立にハロゲン原子、アルキル基又はアリール基で置換されていてもよい。）
（４）−Ａｒ４−Ｚ−Ａｒ５−
（式中、Ａｒ４及びＡｒ５は、それぞれ独立にフェニレン基又はナフチレン基であり；Ｚは、酸素原子、硫黄原子、カルボニル基、スルホニル基又はアルキリデン基である。）
【００３３】
Ａｒ１、Ａｒ２又はＡｒ３で表される前記基にある水素原子と置換可能なハロゲン原子としては、フッ素原子、塩素原子、臭素原子及びヨウ素原子が挙げられる。
【００３４】
Ａｒ１、Ａｒ２又はＡｒ３で表される前記基にある水素原子と置換可能なアルキル基の例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓ−ブチル基、ｔ−ブチル基、ｎ−ヘキシル基、ｎ−へプチル基、２−エチルヘキシル基、ｎ−オクチル基、ノニル基及びｎ−デシル基等が挙げられ、その炭素数は、１〜１０であることが好ましい。
【００３５】
Ａｒ１、Ａｒ２又はＡｒ３で表される前記基にある水素原子と置換可能なアリール基の例としては、フェニル基、ｏ−トリル基、ｍ−トリル基、ｐ−トリル基等のような単環式芳香族基、１−ナフチル基及び２−ナフチル基等のような縮環式芳香族基が挙げられ、その炭素数は、６〜２０であることが好ましい。
【００３６】
Ａｒ１、Ａｒ２またはＡｒ３で表される前記基の水素原子がこれらの基で置換されている場合、その数は、Ａｒ１、Ａｒ２又はＡｒ３で表される前記基毎に、それぞれ独立に、好ましくは１個または２個であり、より好ましくは１個である。
【００３７】
前記アルキリデン基の例としては、メチレン基、エチリデン基、イソプロピリデン基、ｎ−ブチリデン基及び２−エチルヘキシリデン基等が挙げられ、その炭素数は１〜１０であることが好ましい。
【００３８】
繰返し単位（１）は、所定の芳香族ヒドロキシカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位（１）としては、Ａｒ１がｐ−フェニレン基であるもの（ｐ−ヒドロキシ安息香酸に由来する繰返し単位）、及びＡｒ１が２，６−ナフチレン基であるもの（６−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸に由来する繰返し単位）が好ましい。
【００３９】
繰返し単位（２）は、所定の芳香族ジカルボン酸に由来する繰返し単位である。繰返し単位（２）としては、Ａｒ２がｐ−フェニレン基であるもの（テレフタル酸に由来する繰返し単位）、Ａｒ２がｍ−フェニレン基であるもの（イソフタル酸に由来する繰返し単位）、Ａｒ２が２，６−ナフチレン基であるもの（２，６−ナフタレンジカルボン酸に由来する繰返し単位）、及びＡｒ２がジフェニルエ−テル−４，４’−ジイル基であるもの（ジフェニルエ−テル−４，４’−ジカルボン酸に由来する繰返し単位）が好ましい。
【００４０】
繰返し単位（３）は、所定の芳香族ジオール、芳香族ヒドロキシルアミン又は芳香族ジアミンに由来する繰返し単位である。繰返し単位（３）としては、Ａｒ３がｐ−フェニレン基であるもの（ヒドロキノン、ｐ−アミノフェノール又はｐ−フェニレンジアミンに由来する繰返し単位）、及びＡｒ３が４，４’−ビフェニリレン基であるもの（４，４’−ジヒドロキシビフェニル、４−アミノ−４’−ヒドロキシビフェニル又は４，４’−ジアミノビフェニルに由来する繰返し単位）が好ましい。
【００４１】
繰返し単位（１）の含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量（液晶ポリエステルを構成する各繰返し単位の質量をその各繰返し単位の式量で割ることにより、各繰返し単位の物質量相当量（モル）を求め、それらを合計した値）に対して、好ましくは３０モル％以上、より好ましくは３０〜８０モル％、さらに好ましくは４０〜７０モル％、特に好ましくは４５〜６５モル％である。
【００４２】
繰返し単位（２）の含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは３５モル％以下、より好ましくは１０〜３５モル％、さらに好ましくは１５〜３０モル％、特に好ましくは１７．５〜２７．５モル％である。
【００４３】
繰返し単位（３）の含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは３５モル％以下、より好ましくは１０〜３５モル％、さらに好ましくは１５〜３０モル％、特に好ましくは１７．５〜２７．５モル％である。
【００４４】
例えば、液晶ポリエステルが繰返し単位（１）、繰返し単位（２）および繰返し単位（３）から構成される場合には、繰返し単位（１）の含有率が３０モル％以上８０モル％以下、繰返し単位（２）の含有率が１０モル％以上３５モル％以下、繰返し単位（３）の含有率が１０モル％以上３５モル％以下であることが好ましい。
【００４５】
液晶ポリエステルは、繰返し単位（１）の含有量が多いほど、溶融流動性、耐熱性、強度・剛性が向上し易いが、あまり多いと、溶融温度や溶融粘度が高くなり易く、成形に必要な温度が高くなり易い。
【００４６】
繰返し単位（２）の含有量と繰返し単位（３）の含有量との割合は、［繰返し単位（２）の含有量］／［繰返し単位（３）の含有量］（モル／モル）で表して、好ましくは０．９／１〜１／０．９、より好ましくは０．９５／１〜１／０．９５、さらに好ましくは０．９８／１〜１／０．９８である。
【００４７】
なお、液晶ポリエステルは、繰返し単位（１）〜（３）を、それぞれ独立に２種以上有してもよい。また、液晶ポリエステルは、繰返し単位（１）〜（３）以外の繰返し単位を有してもよいが、その含有量は、液晶ポリエステルを構成する全繰返し単位の合計量に対して、好ましくは１０モル％以下、より好ましくは５モル％以下である。
【００４８】
液晶ポリエステルは、繰返し単位（３）として、Ｘ及びＹがそれぞれ酸素原子であるものを有すること、すなわち、所定の芳香族ジオールに由来する繰返し単位を有することが好ましく、繰返し単位（３）として、Ｘ及びＹがそれぞれ酸素原子であるもののみを有することがより好ましい。このようにすることで、液晶ポリエステルは、溶融粘度が低くなり易い。
【００４９】
液晶ポリエステルは、これを構成する繰返し単位に対応する原料モノマーを溶融重合させ、得られた重合物（プレポリマー）を固相重合させることにより、製造することが好ましい。これにより、耐熱性や強度・剛性が高い高分子量の液晶ポリエステルを操作性良く製造することができる。溶融重合は、触媒の存在下で行ってもよく、この場合の触媒の例としては、酢酸マグネシウム、酢酸第一錫、テトラブチルチタネート、酢酸鉛、酢酸ナトリウム、酢酸カリウム、三酸化アンチモン等の金属化合物や、４−（ジメチルアミノ）ピリジン、１−メチルイミダゾール等の含窒素複素環式化合物が挙げられ、含窒素複素環式化合物が好ましく用いられる。
【００５０】
液晶ポリエステルは、その流動開始温度が、好ましくは２７０℃以上、より好ましくは２７０℃以上４００℃以下、さらに好ましくは２８０℃以上３８０℃以下である。流動開始温度が高いほど、耐熱性や強度・剛性が向上し易いが、あまり高いと、溶融させるために高温を要し、成形時に熱劣化しやすくなったり、溶融時の粘度が高くなり、流動性が低下したりする。
【００５１】
なお、流動開始温度は、フロー温度又は流動温度とも呼ばれ、毛細管レオメーターを用いて、９．８ＭＰａ（１００ｋｇｆ／ｃｍ２）の荷重下、４℃／分の速度で昇温しながら、液晶ポリエステルを溶融させ、内径１ｍｍ及び長さ１０ｍｍのノズルから押し出すときに、４８００Ｐａ・ｓ（４８０００ポイズ）の粘度を示す温度であり、液晶ポリエステルの分子量の目安となるものである（小出直之編、「液晶ポリマー−合成・成形・応用−」、株式会社シーエムシー、１９８７年６月５日、ｐ．９５参照）。
【００５２】
（ゲート跡）
容器２と蓋３とは、それぞれ中空成形体１の外側となる位置に射出成形時のゲート跡を有している。図１（ａ）に示す容器２には、側壁の外面２９の下部であって角の近傍に射出成形時のゲート跡２ｘがある。また、蓋３には、側面３９の角の近傍に射出成形時のゲート跡３ｘがある。本実施形態の中空成形体１においては、このような位置にゲート跡を有する容器２及び蓋３を用いていることができる。
【００５３】
なお、本実施形態の中空成形体１を製造するための容器、蓋としては、ゲート跡が図１に示したような位置にあるものに限定されるものではない。図２は、本実施形態の中空成形体１を製造可能な容器および蓋の説明図であり、ゲート跡の位置を説明する図である。図２（ａ）は容器について底面側から見た概略斜視図、図２（ｂ）は蓋について上面側から見た概略斜視図、図２（ｃ）は蓋について下面側から見た概略斜視図である。
【００５４】
図２（ａ）に示すように、本実施形態の中空成形体１を構成する容器２においては、ゲート跡が、容器２の底面の重心Ｇ１から底面２５の外周までの距離Ｌ１を基準として、重心Ｇ１から距離Ｌ１の３分の２以内の領域ＡＲ１を除く位置にある。図２（ａ）においては、容器２のゲート跡が位置してはならない領域ＡＲ１を色づけして示している。
【００５５】
また、図２（ｂ）に示すように、本実施形態の中空成形体１を構成する蓋３の上面３３ａにおいては、ゲート跡が、上面３３ａの重心Ｇ２から上面３３ａの外周までの距離Ｌ２を基準として、重心Ｇ２から距離の３分の２以内の領域を除いた位置にある。図２（ｂ）においては、蓋３のゲート跡が位置してはならない領域ＡＲ２を色づけして示している。
【００５６】
さらに、図２（ｃ）に示すように、本実施形態の中空成形体１を構成する蓋３の下面３３ｂにおいては、ゲート跡が、蓋３の下面３３ｂの重心Ｇ３から下面３３ｂの外周までの距離Ｌ３を基準として、重心Ｇ３から距離の３分の２以内の領域を除いた位置にある。図２（ｃ）においては、蓋３のゲート跡が位置してはならない領域ＡＲ３を色づけして示している。
【００５７】
なお、容器２および蓋３において、これらのような位置にゲート跡がある場合、容器２および蓋３が、これらのゲート跡の位置に対応したゲートを有する金型を用いて、射出成形されたことを意味している。
【００５８】
図３、４は、容器および蓋のゲート跡の位置による効果を説明する図である。図３は、図２で示す領域ＡＲ１，ＡＲ２内にゲート跡がある場合を示す模式図であり、図４は、図２で示す領域ＡＲ１，ＡＲ２の外側にゲート跡がある場合を示す模式図である。図４で示す容器および蓋は、図１で示したものに相当する。なお、図３，４においては、成形時の溶融樹脂の流れを矢印で示している。
【００５９】
まず、図３に示すように、容器２Ａの底面の中心となる位置にゲート位置（図中、符号２ｙで示す）を設定した金型を用いて射出成形すると、溶融樹脂は、ゲートから放射状に広がった後、例えば符号α１で示す矢印のように、側壁２２Ａの頂部２４Ａに向かって流れる。一方、蓋３Ａの上面３３Ａの中心にゲート位置（図中、符号３ｙで示す）を設定した金型を用いて射出成形すると、溶融樹脂は、ゲートから放射状に広がり、例えば符号β１で示す矢印のように周縁部３２Ａに向かって流れる。
【００６０】
すると、符号α１、β１で示す矢印のように、容器２Ａと蓋３Ａとを溶着する部分である、容器２Ａの頂部２４Ａと、蓋３Ａの周縁部３２Ａとにおいて、成形時の樹脂の流動方向が交差する部分が多く発生することとなる。
【００６１】
本実施形態の中空成形体で形成材料として用いる樹脂は、溶融時に樹脂の流動方向に配向して固化する。そのため、図３に示すようなゲート位置の場合、容器２Ａと蓋３Ａとを溶着する部分である、容器２Ａの頂部２４Ａと、蓋３Ａの周縁部３２Ａとにおいて、互いの樹脂の配向方向が異なっていることとなる。発明者らは、樹脂がこのような配向状態となっている部材同士を溶着させた場合には、溶着部分の強度が出にくく、結果、破損しやすく気密性が低い中空成形体となることを見出した。
【００６２】
一方、図４に示すように、容器２のゲート跡２ｘとなる位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形すると、溶融樹脂は、ゲートに対して対角側の角（符号２６）に向けて流れる。すると、側壁２２の頂部２４の近傍を流動する樹脂の多くは、符号α２で示す矢印のように、頂部２４に沿って頂部２４の面方向に流動する。
【００６３】
また、蓋３のゲート跡３ｘとなる位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形すると、溶融樹脂は、ゲートに対して対角側の角（符号３４）に向けて流れる。すると、周縁部３２の近傍を流動する樹脂の多くは、符号β２で示す矢印のように、蓋３の外周に沿って流動する。
【００６４】
すると、符号α２、β２で示す矢印のように、容器２と蓋３とを溶着する部分である、容器２の頂部２４と、蓋３の周縁部３２とにおいて、成形時の樹脂の流動方向が同方向となる部分が多く発生することとなる。このような箇所では、互いの樹脂の配向方向がそろっていることとなる。発明者らは、このような樹脂配向状態の容器２と蓋３とを溶着させた場合には、溶着部分の強度が出やすく、結果、破損しにくく気密性が高い中空成形体とすることができることを見出した。
【００６５】
図５は、直方体形状を呈する容器のゲート跡の好適な位置（すなわち、成形時のゲート位置の好適な位置）を示す模式図である。
【００６６】
図５に示すように、容器２は、容器２のゲート跡が、容器２の底面２５側の角２７を中心として、底面２５側の角２７から隣接する角までの距離の６分の１以内の領域にあることが好ましい。図では、容器２においてゲート跡が位置すると好ましい領域を、符号２８で示している。なお、図５では、容器２の幅、奥行き、高さを、それぞれ符号Ｗ，Ｄ，Ｈ１で示している。
【００６７】
また、図６は、直方体形状を呈する蓋のゲート跡の好適な位置（すなわち、成形時のゲート位置の好適な位置）を示す模式図である。
【００６８】
図に示すように、蓋３の上面３３ａおよび下面３３ｂでは、蓋３のゲート跡が、蓋３の上面３３ａ側の角３５を中心として、上面３３ａ側の角３５から隣接する角までの距離の６分の１以内、および蓋３の下面３３ｂ側の角３６を中心として、下面３３ｂ側の角３６から隣接する角までの距離の６分の１以内の領域であって、円弧または楕円弧で囲まれる領域にあることが好ましい。さらには、蓋のゲート跡は、気密性を高める観点から、容器と蓋との接触部分以外の領域にあることが好ましい。
【００６９】
また、蓋３の側面３９では、蓋３のゲート跡が、蓋３の上面３３ａおよび下面３３ｂの隣接する角同士を結ぶ稜線（例えば、符号３７で示す稜線）から、対向する稜線までの距離の６分の１以内の領域にあることが好ましい。
【００７０】
図では、蓋３においてゲート跡が位置すると好ましい領域を、符号３８で色づけして示している。なお、図６では、蓋３の幅、奥行き、高さを、それぞれ符号Ｗ，Ｄ，Ｈ２で示している。
【００７１】
容器２および蓋３において、これらの位置にゲート跡がある場合、容器２および蓋３が、これらの位置にゲートが配置された金型を用いて射出成形されたことを意味する。このような成形体（容器２、蓋３）では、容器２と蓋３とを溶着する部分である、容器２の頂部２４と、蓋３の周縁部３２とにおいて、成形時の樹脂の流動方向が同方向となる部分が多く発生し、樹脂の配向方向が揃いやすくなる。そのため、容器２と蓋３とを溶着させた場合に、溶着部分の強度が出やすく、結果、破損しにくく気密性が高い中空成形体とすることができる。また、このように角近傍から樹脂を射出して成形する場合、目的とする中空成形体の外形形状が本実施形態のように直方体であると、容器２と蓋３とを溶着する部分において樹脂の配向方向が揃いやすく好ましい。
【００７２】
図７は、容器２の概略断面図である。ゲート位置は、射出成形の金型の割り位置に応じて定まるところ、図に示す容器２においては、底面２５の端部であって側壁の外面２９の面方向（符号Ｌ）、底面２５の端部であって底面方向（符号Ｍ）、底部２１の収容空間Ｓ側の面と同じ高さであって底面方向（符号Ｎ）に樹脂を射出する位置のゲートを例示することができる。また、側壁２２の頂部２４において頂部２４の面方向に樹脂を流動させるという観点からは、頂部２４と同じ高さであって頂部２４の面方向（符号Ｘ）に樹脂を射出する位置のゲートであってもよい。
【００７３】
なお、容器２は、底部２１の平均肉厚ＴＢと、側壁２２の平均肉厚ＴＷとは、以下の式（Ｉ）に示す関係を示すことが好ましい。
４ＴＢ≧ＴＷ＞３／４ＴＢ  …（Ｉ）
【００７４】
ＴＢとＴＷとは、好ましくは４ＴＢ≧ＴＷ≧ＴＢである。ＴＢとＴＷとがＴＷ＞３／４ＴＢであると、容器２においてウェルドラインが底部２１に位置しにくくなり、ウェルドラインが底部２１にあることで発生しやすい気密の漏れを防止し、所望の樹脂の配向状態を得ることができる。また、４ＴＢ≧ＴＷであると、容器２に反りが発生しにくい。
【００７５】
図８は、蓋３の概略断面図である。周縁部３２の厚みＴＦは、図７に示す側壁２２の頂部２４の幅をＬＡとすると、ＬＡに対して、０．２≦ＴＦ／ＬＡ≦１であることが好ましく、０．２≦ＴＦ／ＬＡ≦０．５であることがより好ましい。ＴＦ／ＬＡ≧０．２であると、得られる中空成形体の強度が十分なものとなる。ＴＦ／ＬＡ≦１であると、側壁２２の頂部２４に達する光量の減衰を抑制できる。これは、レーザー溶着時に周縁部３２を透過させるレーザー光は、一部が周縁部３２で散乱しレーザー光の光線軸と交差する方向に照射される成分が増えるところ、ＴＦ／ＬＡ≦１であると、散乱したとしてもレーザー光が広がる前に頂部２４に照射されやすいためである。
【００７６】
なお、蓋３においてレーザー光を照射しない凸部３１は、平均厚みＴＲが、周縁部３２の厚みＴＦに対し、０．８≦ＴＦ／ＴＲ≦１．２であることが好ましい。ＴＦ／ＴＲ≦１．２であると溶着部の溶着強度や気密性が出やすく、０．８≦ＴＦ／ＴＲであると蓋３での反りの発生を抑制することができる。
本実施形態の中空成形体は、以上のような構成となっている。
【００７７】
［中空成形体の製造方法］
本実施形態の中空成形体の製造方法は、溶融状態の流動方向に配向して固化する性質を有する熱可塑性樹脂を含む形成材料を用いて、容器と蓋とを射出成形する工程と、前記容器の開口部を前記蓋で閉じ、前記容器と前記蓋との接触部をレーザー溶着する工程と、を有し、前記射出成形する工程において、前記容器を、前記容器の底面の重心から前記底面の外周までの距離を基準として、前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置で、かつ前記容器を前記蓋で閉じた中空成形体の外側となる位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形し、前記蓋を、前記蓋の上面および下面の平面視形状の重心から、それぞれの面における平面視形状の外周までの距離を基準として、それぞれの面の前記重心から前記距離の３分の２以内の領域を除いた位置にゲート位置を設定した金型を用いて射出成形するものである。
【００７８】
まず、容器および蓋は、上述したように、所定の領域を除いた位置に設定したゲートから射出成形して形成する。次いで、得られた容器と蓋とを、容器の開口部を蓋で閉じるように接触させた後、接触部をレーザー溶着して形成する。
【００７９】
図９は、レーザー溶着に用いる溶着装置を説明する模式図である。
図に示す溶着装置１００は、レーザー溶着すべき容器２および蓋３を載置する載置台１０１と、容器２および蓋３を載置台１０１との間で挟持するヒートシンク１０２と、開口部１０３ａを有しヒートシンク１０２を抑える枠体１０３と、を備えている。枠体１０３の開口部１０３ａには、光透過性材料で形成された透明部材が嵌合していてもよい。
【００８０】
載置台１０１は、金属材料や無機材料などの材料を用いて形成された板状の部材である。
【００８１】
ヒートシンク１０２は、後述するレーザー光の透過率が５０％以上であるとともに、熱伝導率が１Ｗ／ｍＫ以上であるものである。ヒートシンク１０２は、レーザー光の透過率が９０％以上であると好ましい。また、熱伝導率が５Ｗ／ｍＫ以上であると好ましい。このようなヒートシンク１０２の形成材料としては、例えば、透明アルミナ、透明ベリリア、透明マグネシウム、石英ガラス、サファイア、シリコン等を挙げることができる。
【００８２】
載置台１０１は、ばねや油圧シリンダーのような昇降機１０４により昇降自在に設けられており、載置台１０１と枠体１０３とは、複数（図では４本）の支柱１０５で接続されている。図では、昇降機１０４が油圧シリンダーであることとして示している。
【００８３】
また、レーザー光を射出するレーザー光源１０６は、水平方向に走査可能に設けられ、載置台１０１の方向（下方向）にレーザー光を射出可能に設けられている。レーザー光源１０６は、光学ミラー、光ファイバー、レンズなどを用いることにより、レーザー光を微小領域に選択的に照射したり、レーザー光の焦点距離をずらして照射したりするなど、用途に応じてレーザー光の伝達経路を変えることができる構成であるとよい。
【００８４】
レーザー光源１０６から照射するレーザー光の種類としては、色素レーザー、エキシマレーザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウムーネオンレーザーなどの気体レーザー、ルビーレーザー、ＹＡＧレーザーなどの固体レーザー、半導体レーザー等が挙げられる。これらの中でも、８００〜１２００ｎｍの範囲の波長を有するレーザー光が、容器２および蓋３を劣化させず、容器２と蓋３とを安定的に溶着させることができるため好ましい。
【００８５】
なお、図に示す溶着装置１００では、昇降機１０４が接続された載置台１０１を昇降する構成としたが、載置台１０１とヒートシンク１０２との離間距離を相対的に変化させることが可能であれば、他の構成も採用できる。例えば、載置台１０１を固定し、ヒートシンク１０２と枠体１０３とを昇降させる構成としても構わない。
【００８６】
図１０は、レーザー溶着の工程図である。
まず、図１０（ａ）に示すように、必要に応じて容器２の収容空間Ｓに半導体素子などを収容した後、容器２および蓋３を重ね合わせ、載置台１０１に載置する。
【００８７】
次いで、昇降機１０４により載置台１０１を上昇させる。載置台１０１の上昇により、蓋３がヒートシンク１０２に当接し、容器２および蓋３は載置台１０１と枠体１０３との間に挟持され加圧される。これにより、容器２および蓋３が密着し固定される。この際の圧力は、容器２および蓋３の形状を損なわないためにも、１０ＭＰａ以下が好ましい。なお、載置台１０１と容器２の間に、シリコーンゴムなどで形成された弾性部材を挟むこととしてもよい。
【００８８】
次いで、図１０（ｂ）に示すように、レーザー光源１０６から容器２と蓋３との接触部にレーザー光ＬＢを照射する。レーザー光ＬＢのエネルギーは、容器２の分解・劣化や変形を抑制するため、１００Ｗ以下であるとよい。また、レーザー光源１０６の走査速度は、２ｍｍ／秒以上が好ましい。
【００８９】
レーザー光ＬＢは、蓋３を透過して容器２に照射される。容器２にはレーザー光ＬＢを吸収し発熱する着色剤が含有されているため、容器２における蓋３との接触部にレーザー光ＬＢが照射されたときに、接触部が加熱され容器２および蓋３が互いに溶融する。その後、溶融した樹脂が冷却され固化することにより、容器２が蓋３で密閉された本実施形態の中空成形体１を得ることができる。
【００９０】
その際、本実施形態の容器２と蓋３との接触部では、樹脂の配向方向がそろっている部分が多いため、溶着部分の強度が出やすく、結果、破損しにくく気密性が高い中空成形体１とすることができる。
本実施形態の中空成形体の製造方法は、以上のような構成となっている。
【００９１】
以上のような構成の中空成形体によれば、高い気密性を有する中空成形体を提供することができる。
【００９２】
また、以上のような製造方法によれば、高い気密性を有する中空成形体を容易に製造することができる。
【００９３】
なお、本実施形態の中空成形体は、内部の収容空間に半導体素子を封入することにより、半導体素子収納用ケースとして使用することができる。その他、半導体素子以外にも、イメージセンサー、加速度センサーなどのセンサー、振動子などを封入した電子部品収納用ケースとして使用することもできる。
【実施例】
【００９４】
以下、本発明の実施例について説明する。なお、本発明は実施例に限定されるものではない。
【００９５】
［実施例１〜６、比較例１〜６］
着色剤を含有する液晶ポリエステル（住友化学製、スミカスーパーＬＣＰ  Ｅ６８０８ＴＨＦ  ＢＺ、流動開始温度３０６℃、分解開始温度４９９℃）を射出成形して容器を成形し、着色剤を含有しない液晶ポリエステル（住友化学製、スミカスーパーＬＣＰ  Ｅ６８０８ＴＨＦ  Ｚ、流動開始温度３０６℃、分解開始温度４９９℃）を射出成形して蓋を成形した。容器と蓋との形状は図１に示すものと同様のものである。
【００９６】
図１１は、実施例および比較例で成形した容器および蓋の形状を示す模式図である。図１１（ａ）（ｂ）は、容器の概略斜視図および断面図であり、図１１（ｃ）（ｄ）は、蓋の概略斜視図および断面図である。
【００９７】
作成した容器の寸法は、外寸（Ｗａ×Ｄａ×Ｈａ）が８．６ｍｍ×８．６ｍｍ×１．４４ｍｍ、収容空間内寸（Ｗｂ×Ｄｂ×Ｈｂ）６．８ｍｍ×６．８ｍｍ×０．９４ｍｍであった。
蓋の寸法は、９ｍｍ×９ｍｍ角（Ｗｃ×Ｄｃ）、内側の凸部の厚み（Ｈｃ）は０．３５ｍｍ、周縁部の厚み（Ｈｄ）は０．３ｍｍ、幅（Ｗｄ）は１．２ｍｍであった。
【００９８】
溶着装置の載置台の上に、容器を蓋で閉じた状態で容器と蓋とを載置し、さらに蓋に石英ガラスからなるヒートシンクを載置した状態で、ばねで付勢して容器、蓋、ヒートシンクを互いに密着させた。容器と蓋との接触部に、レーザー発振器（（株）ファインディバイス製、ＦＤ−２００−５０）から、１０ｍｍ／秒の速度で走査させながらレーザー光（波長９４０ｎｍ、焦点におけるレーザー径０．２ｍｍ、レーザー出力９．７Ｗ）を照射した。その際、レーザー光の焦点の中心が、容器の側壁の頂部における中心線を通るように照射しながら走査した。
その後、容器および蓋を冷却し中空成形体を得た。中空成形体は合計１０個作製した。
【００９９】
中空成形体は、以下の方法（バブルリークテスト）で気密性を確認した。
【０１００】
（バブルリークテスト）
１２５℃に加温したフロリナート中に、中空成形体を浸漬させ、１分間の間に気泡の発生の有無を確認し、気泡の発生がなければ合格とした。合格数が０〜３のものは「×」、合格数が４〜６のものは「△」、合格数が７〜１０のものは「○」と評価し、「×」のものを不合格と評価した。
【０１０１】
［実施例７］
容器の外寸のうち高さ（Ｈａ）を１．１９ｍｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして中空成形体を作製し、気密性の評価を行った。
【０１０２】
［実施例８］
容器の外寸のうち高さ（Ｈａ）を１．８４ｍｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして中空成形体を作製し、気密性の評価を行った。
【０１０３】
［実施例９］
容器の外寸のうち高さ（Ｈａ）を２．１４ｍｍとしたこと以外は、実施例１と同様にして中空成形体を作製し、気密性の評価を行った。
【０１０４】
実施例１〜９および比較例１〜６において、容器のゲート跡は、図に示す符号Ａ〜Ｄのいずれかに位置していた。符号Ａ〜Ｄのゲート位置は、詳しくは以下のような位置であった。また、射出成形に用いた金型において、ゲート径は０．３ｍｍであった。
Ａ：ゲート中心が、容器の垂直方向の稜線（符号２００）上であって、容器底面から０．２５ｍｍの位置となるように設定されたゲートの位置
Ｂ：ゲート中心が、容器側壁の中間位置（稜線２００から１／２Ｄａの位置）であって、容器底面から０．２５ｍｍの位置となるように設定されたゲートの位置
Ｃ：ゲート中心が、容器底面の角近傍であって２辺からの距離が０．７ｍｍの位置となるように設定されたゲートの位置
Ｄ：ゲート中心が、容器底面の中心となるように設定されたゲートの位置
【０１０５】
また、実施例１〜９および比較例１〜６において、蓋のゲート位置は、図に示す符号Ｉ〜IIIのいずれかに位置していた。符号Ｉ〜IIIのゲート位置は、詳しくは以下のような位置であった。また、射出成形に用いた金型において、ゲート径は０．２ｍｍであった。
Ｉ：ゲート中心が、蓋の垂直方向の稜線（符号３００）上であって、図１１（ｄ）に符号３１０で示す基準面から０．１５ｍｍ上方の位置となるように設定されたゲートの位置
II：ゲート中心が、蓋側壁の中間位置（稜線３００から１／２Ｄｃの位置）であって、基準面３１０から０．１５ｍｍの位置となるように設定されたゲートの位置
III：ゲート中心が、蓋上面の中心となるように設定されたゲートの位置
【０１０６】
実施例１〜９および比較例１〜６において、得られた中空成形体についてのバブルリークテストの結果を表１に示す。
【０１０７】
【表１】
2013203047.tif 000003
【０１０８】
評価の結果、比較例１〜６のように、ゲート跡が容器の底面中心となる成形条件（条件Ｄ）、または蓋の上面中心となる成形条件（条件III）の部材のいずれかを用いた中空成形体は、気密性が低くなった。
【０１０９】
対して、実施例１〜９のように、容器のゲート跡が条件Ａ〜Ｃのもの、および蓋のゲート位置が条件Ｉ、IIのものを用いた中空成形体は、高い気密性を有することが分かった。
【０１１０】
さらに、容器の底部の肉厚（ＴＢ）と側壁の肉厚（ＴＷ）とが、４ＴＢ≧ＴＷ≧ＴＢを満たす実施例７，８の中空成形体は、この関係を満たさない実施例９の中空成形体よりも、高い気密性を有することが分かった。
【０１１１】
これらの結果から、本発明の中空成形体は気密性が高いものとなることが確かめられ、本発明の中空成形体の製造方法では、気密性が高い中空成形体を提供できることが分かった。
【符号の説明】
【０１１２】
１…中空成形体、２…容器、２ｘ…ゲート跡、３…蓋、３ｘ…ゲート跡、２１…底部、２２…側壁、２３…開口部、２４…頂部、２５…底面、２７…角、２８…領域、２９…外面、３１…凸部、３２…周縁部、３３ａ…上面、３５，３６…角、３７…稜線、３８…領域、３９…側面、１００…溶着装置、１０１…載置台、１０２…ヒートシンク、１０３ａ…開口部、１０３…枠体、１０４…昇降機、１０５…支柱、１０６…レーザー光源、ＡＲ１…領域、ＡＲ２…領域、Ｇ１…重心、Ｇ２…重心、Ｌ１…距離、Ｌ２…距離、Ｓ…収容空間
【図１】
2013203047.tif 000004
【図２】
2013203047.tif 000005
【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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