【手続補正書】
【提出日】平成28年3月10日(2016.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１種の希土類元素を回収するプロセスであって、
（ｉ）少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタル並びに（ｉｉ）少なくとも１種の鉄イオンを含む酸性組成物を得る工程と；
抽出剤、イオン交換（echange）樹脂によって及び／又は前記組成物を還元剤と反応させることによって前記酸性組成物から前記少なくとも１種の鉄イオンを少なくとも部分的に取り出し、それによって前記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した組成物を得る工程と；
前記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した前記組成物を沈殿剤と反応させ、その結果、そのように形成された沈殿物中に含まれる第１の希土類元素及び場合によって第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程と；
前記沈殿物を回収する工程と
を含むプロセス。
【請求項２】
前記酸性組成物が（ｉ）前記少なくとも１種の希土類元素及び場合によって前記少なくとも１種のレアメタル並びに（ｉｉ）ＦｅＣｌ３を含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
前記抽出剤が、トリブチルホスフェート、ジ−２−エチルヘキシルリン酸（ＨＤＥＨＰ）、ビス（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィン酸及び２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシルエステルから選ばれる、請求項１に記載のプロセス。
【請求項４】
前記酸性組成物をＦｅ（０）と反応させ、それによってＦｅ３＋の含有率が低下した組成物を得る、請求項１から３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
前記第１の希土類元素がスカンジウムである、請求項１から４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
前記第１のレアメタルがガリウムである、請求項１から４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
前記沈殿剤が、シュウ酸、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、請求項１から６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
前記沈殿剤がシュウ酸である、請求項１から６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
前記第１の希土類元素及び前記第１のレアメタルが、２未満のｐＨ値の維持により実質的に選択的に沈殿される、請求項１から８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
前記第１の希土類元素及び前記第１のレアメタルが、約＋３８０ｍＶの酸化還元電位の維持により実質的に選択的に沈殿される、請求項１から８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１１】
前記沈殿物を浸出し浸出溶液を得る工程をさらに含む、請求項１から１０のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１２】
前記沈殿物がＨＣｌで浸出される、請求項１１に記載のプロセス。
【請求項１３】
前記浸出溶液が抽出剤でさらに抽出され、その結果、前記第１の希土類元素及び前記第１のレアメタルを実質的に選択的に抽出し、装填した有機相を得る、請求項１１又は１２に記載のプロセス。
【請求項１４】
前記装填した有機相を洗浄溶液で洗浄し、その結果、前記第１の希土類元素を回収し洗浄された有機相を得る工程をさらに含む、請求項１３に記載のプロセス。
【請求項１５】
前記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した前記組成物を前記沈殿剤と反応させ、その結果、少なくとも１種のさらなる希土類元素並びに前記第１の希土類元素及び前記第１のレアメタルを含む前記沈殿物を含む液体を得、前記液体を前記沈殿物から分離する工程をさらに含む、請求項７に記載のプロセス。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
本発明は以下を提供する。
［１］少なくとも１種の希土類元素を回収するプロセスであって、
（ｉ）少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタル並びに（ｉｉ）少なくとも１種の鉄イオンを含む酸性組成物を得る工程と；
抽出剤、イオン交換（echange）樹脂によって及び／又は上記組成物を還元剤と反応させることによって上記酸性組成物から上記少なくとも１種の鉄イオンを少なくとも部分的に取り出し、それによって上記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した組成物を得る工程と；
上記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した上記組成物を沈殿剤と反応させ、その結果、第１の希土類元素及び場合によって第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程と
を含むプロセス。
［２］上記酸性組成物が（ｉ）上記少なくとも１種の希土類元素及び場合によって上記少なくとも１種のレアメタル並びに（ｉｉ）ＦｅＣｌ３を含む、上記［１］に記載のプロセス。
［３］上記抽出剤が、トリブチルホスフェート、ジ−２−エチルヘキシルリン酸（ＨＤＥＨＰ）、ビス（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィン酸及び２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシルエステルから選ばれる、上記［１］又は［２］に記載のプロセス。
［４］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［１］又は［２］に記載のプロセス。
［５］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［１］又は［２］に記載のプロセス。
［６］上記酸性組成物をＦｅ（０）と反応させ、それによってＦｅ３＋の含有率が低下した組成物を得る、上記［１］から［５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［７］上記第１の希土類元素がスカンジウムである、上記［１］から［６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［８］上記酸性組成物が少なくとも１種のレアメタルを含む、上記［１］から［７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９］上記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程を含む、上記［８］に記載のプロセス。
［１０］上記第１のレアメタルがガリウムである、上記［１］から［９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１１］上記沈殿剤が、シュウ酸、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、上記［１］から［１０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１２］上記沈殿剤がＣａＣＯ３である、上記［１］から［１０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルが、２未満のｐＨ値の維持により実質的に選択的に沈殿される、上記［１］から［１２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１４］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルが、約１から約２の値にｐＨを維持することにより実質的に選択的に沈殿される、上記［１］から［１２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１５］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルが、約＋３８０ｍＶの酸化還元電位の維持により実質的に選択的に沈殿される、上記［１］から［１２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６］上記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、そのように形成された沈殿物中に含まれる第１の希土類元素及び第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させ、上記沈殿物を回収する工程を含む、上記［１］から［１５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１７］上記沈殿物を浸出し浸出溶液を得る工程をさらに含む、上記［１６］に記載のプロセス。
［１８］上記沈殿物がＨＣｌで浸出される、上記［１７］に記載のプロセス。
［１９］上記ＨＣｌが約５から約１５ｍｏｌ／Ｌの濃度を有する、上記［１８］に記載のプロセス。
［２０］上記浸出溶液が抽出剤でさらに抽出され、その結果、上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを実質的に選択的に抽出し、装填した有機相を得る、上記［１７］から［１９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２１］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［２０］に記載のプロセス。
［２２］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［２０］に記載のプロセス。
［２３］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートでありイソデカノールの存在下にある、上記［２０］に記載のプロセス。
［２４］上記装填した有機相を洗浄溶液で洗浄し、その結果、上記第１の希土類元素を回収し洗浄された有機相を得る工程をさらに含む、上記［２０］から［２３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２５］上記洗浄溶液が、約２から約１２ｍｏｌ／Ｌの濃度のＨＣｌを含む酸性水溶液である、上記［２４］に記載のプロセス。
［２６］上記洗浄溶液が、約１：１の洗浄溶液：装填した有機相の比で使用される、上記［２４］又は［２５］に記載のプロセス。
［２７］上記洗浄された有機相をストリッピング溶液でストリッピングし、その結果、上記第１のレアメタルを回収する工程を含む、上記［２４］から［２６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８］上記ストリッピング溶液が水である、上記［２７］に記載のプロセス。
［２９］上記ストリッピング溶液が、約１：２のストリッピング溶液：装填した有機相の比で使用される、上記［２７］又は［２８］に記載のプロセス。
［３０］上記少なくとも１種の鉄イオンの含有率が低下した上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、少なくとも１種のさらなる希土類元素並びに上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを含む上記沈殿物を含む液体を得、上記液体を上記沈殿物から分離する工程をさらに含む、上記［１３］から［２８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３１］上記液体を別の沈殿剤と反応させ、その結果、別の沈殿物を得、上記別の沈殿物を回収する工程をさらに含む、上記［３０］に記載のプロセス。
［３２］上記液体を上記別の沈殿剤と約７．８から約８．２のｐＨで反応させる、上記［３１］に記載のプロセス。
［３３］上記液体を上記別の沈殿剤と約７．９から約８．１のｐＨで反応させる、上記［３１］に記載のプロセス。
［３４］約＋３４０ｍＶに酸化還元電位を維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［３１］から［３３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３５］約＋３８０ｍＶに酸化還元電位を維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［３１］から［３３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３６］約５０から約７０℃の温度を維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［３１］から［３５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３７］上記別の沈殿剤が、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、上記［３１］から［３６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３８］上記別の沈殿剤がＣａＣＯ３である、上記［３１］から［３６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［３９］上記別の沈殿物を浸出し、第２の希土類元素を含む浸出溶液を得る工程をさらに含む、上記［３１］から［３８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［４０］上記別の沈殿物がＨＣｌで浸出される、上記［３９］に記載のプロセス。
［４１］上記第２の希土類元素を含む上記浸出溶液を抽出剤で抽出し、その結果、上記第２の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む装填した有機相、並びに少なくとも１種の軽希土類元素を含む水相を得る、上記［３９］又は［４０］に記載のプロセス。
［４２］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸である、上記［４１］に記載のプロセス。
［４３］上記抽出剤が灯油中のジ（エチルヘキシル）ホスホン酸である、上記［４１］に記載のプロセス。
［４４］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［４１］から［４３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［４５］上記装填した有機相を酸性洗浄溶液で処理することによって上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［４１］から［４３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［４６］上記洗浄溶液が１Ｎ ＨＣｌを含む、上記［４５］に記載のプロセス。
［４７］上記第３の希土類元素がセリウムである、上記［４５］又は［４６］に記載のプロセス。
［４８］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相を酸性ストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第２の希土類元素を含むストリップ液を得、上記ストリップ液を回収する工程をさらに含む、上記［４５］から［４７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［４９］上記ストリップ液が３．５Ｎ ＨＣｌを含む、上記［４８］に記載のプロセス。
［５０］上記第２の希土類元素を含む上記ストリップ液を抽出剤で処理し、その結果、第４の希土類元素及び場合によって第５の希土類元素を上記ストリップ液から実質的に選択的に抽出し、上記少なくとも第２の希土類元素を含む抽残物を得る工程を含む、上記［４８］又は［４９］に記載のプロセス。
［５１］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［５０］に記載のプロセス。
［５２］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［５０］に記載のプロセス。
［５３］上記第４の希土類元素がジスプロシウムである、上記［５０］から［５２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［５４］上記第５の希土類元素がエルビウムである、上記［５０］から［５３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［５５］上記第４の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含む有機相をストリップ溶液と反応させ、その結果、上記第４（fifth）の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［５０］から［５４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［５６］上記ストリップ溶液が水である、上記［５５］に記載のプロセス。
［５７］上記第２の希土類元素がイットリウムである、上記［４１］から［５６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［５８］上記第２の希土類元素を含む上記浸出溶液を抽出剤で抽出し、その結果、上記第２の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む装填した有機相、及び少なくとも１種の軽希土類元素を含む抽残物を得る、上記［３９］から［４０］に記載のプロセス。
［５９］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［５８］に記載のプロセス。
［６０］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［５８］又は［５９］に記載のプロセス。
［６１］上記装填した有機相を酸性洗浄溶液で処理することによって上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［５８］から［６０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［６２］上記洗浄溶液が約１Ｎから約２ＮのＨＣｌを含む、上記［６１］に記載のプロセス。
［６３］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第２の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［６１］又は［６２］に記載のプロセス。
［６４］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［６４］に記載のプロセス。
［６５］上記第２の希土類元素を含む上記ストリップ液が抽出剤で抽出され、その結果、第４の希土類元素及び場合によって第５の希土類元素を取り出し、それによって上記第２の希土類元素を含む抽残物、並びに上記第４の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含む装填した有機相を得る、上記［６３］又は［６４］に記載のプロセス。
［６６］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［６５］に記載のプロセス。
［６７］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［６５］に記載のプロセス。
［６８］上記第２の希土類元素を含む上記抽残物を回収する工程を含む、上記［６５］から［６７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［６９］上記第２の希土類元素がイットリウムである、上記［６５］から［６８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［７０］上記第４の希土類元素がジスプロシウムである、上記［６５］から［６９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［７１］上記第５の希土類元素がエルビウムである、上記［６５］から［７０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［７２］上記第４の希土類元素及び上記第５の希土類元素を含む上記装填した有機相をストリッピング溶液と反応させ、その結果、上記第４の希土類元素及び上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［６５］から［７１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［７３］上記ストリッピング溶液が水である、上記［７２］に記載のプロセス。
［７４］上記ストリップ液を抽出剤と反応させ、その結果、上記ストリップ（strop）液から上記第５の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、それによって上記第４の希土類元素を含む抽残物及び上記第５の希土類元素を含む装填した有機相を得る工程をさらに含む、上記［７２］又は［７３］に記載のプロセス。
［７５］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［７４］に記載のプロセス。
［７６］上記第５の希土類元素を含む上記装填した有機相から上記抽残物を分離し、上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、そこから不純物を取り出し、次いで上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［７４］又は［７５］に記載のプロセス。
［７７］上記洗浄溶液が約２Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［７６］に記載のプロセス。
［７８］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［７６］又は［７７］に記載のプロセス。
［７９］上記抽残物を酸化剤と反応させ、その結果、上記第３の希土類元素を酸化する、上記［５８］から［６０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［８０］上記酸化剤が次亜塩素酸ナトリウムを含む、上記［７９］に記載のプロセス。
［８１］上記抽残物を酸化剤と約０．５から約１．５のｐＨで反応させる、上記［７９］又は［８０］に記載のプロセス。
［８２］沈殿物の形態である上記酸化した第３の希土類元素を上記抽残物から取り出し、それによって第６の希土類元素を含む濾液を得る工程をさらに含む、上記［７９］から［８１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［８３］上記濾液を抽出剤と反応させ、その結果、上記濾液から上記第６の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、それによって上記第６の希土類元素を含む装填した有機相並びに第７の希土類元素及び第８の（eight）希土類元素を含む別の抽残物を得、上記第６の希土類元素を含む上記装填した有機相を上記抽残物から分離する工程をさらに含む、上記［８２］に記載のプロセス。
［８４］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［８３］に記載のプロセス。
［８５］上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第６の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［８３］又は［８４］に記載のプロセス。
［８６］上記洗浄溶液が約０．５Ｍから約１．５ＭのＨＣｌを含む、上記［８５］に記載のプロセス。
［８７］上記ストリッピング溶液が約２Ｍから約３ＭのＨＣｌを含む、上記［８５］又は［８６］に記載のプロセス。
［８８］上記第６の希土類元素がユーロピウムである、上記［８３］から［８７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［８９］上記第７の希土類元素がプラセオジムである、上記［８３］から［８８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９０］上記第８（eigth）の希土類元素がネオジムである、上記［８３］から［８８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９１］還元剤によって上記第６の希土類元素を還元する工程をさらに含む、上記［８３］から［９０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９２］上記還元剤が亜鉛（０）である、上記［９１］に記載のプロセス。
［９３］上記第６の希土類元素を硫酸ナトリウムと反応させ、その結果、その硫酸塩誘導体を沈殿物の形態で得、上記沈殿物を回収する工程をさらに含む、上記［８３］から［９２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９４］上記第７の希土類元素及び上記第８の（eight）希土類元素を含む上記抽残物を抽出剤と反応させ、その結果、上記第８の（eight）希土類元素を上記抽残物から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第８の（eight）希土類元素を含む装填した有機相及び上記第７の希土類元素を含む抽残物を得、上記第８の（eight）希土類元素を含む上記装填した有機相を上記抽残物から分離する工程をさらに含む、上記［８３］から［９２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［９５］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［９４］に記載のプロセス。
［９６］上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第８の（eight）希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［９４］又は［９５］に記載のプロセス。
［９７］上記洗浄溶液が約２Ｍから約３ＭのＨＣｌを含む、上記［９６］に記載のプロセス。
［９８］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［９６］又は［９７］に記載のプロセス。
［９９］少なくとも１種の希土類元素を回収するプロセスであって、
（ｉ）少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタルを含む酸性組成物を得る工程と；
上記組成物を沈殿剤と反応させ、その結果、第１の希土類元素及び場合によって第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程と
を含むプロセス。
［１００］上記第１の希土類元素がスカンジウムである、上記［９９］に記載のプロセス。
［１０１］上記酸性組成物が少なくとも１種のレアメタルを含む、上記［９９］又は［１００］に記載のプロセス。
［１０２］上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程を含む、上記［１０１］に記載のプロセス。
［１０３］上記第１のレアメタルがガリウムである、上記［９９］から［１０２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０４］上記沈殿剤が、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、上記［９９］から［１０３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０５］上記沈殿剤がＣａＣＯ３である、上記［９９］から［１０３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０６］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルを２未満のｐＨ値の維持により実質的に選択的に沈殿させる、上記［９９］から［１０５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０７］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルを約１から約２の値にｐＨを維持することにより実質的に選択的に沈殿させる、上記［９９］から［１０５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０８］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルを約＋３８０ｍＶの酸化還元電位の維持により実質的に選択的に沈殿させる、上記［９９］から［１０７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１０９］上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、そのように形成された沈殿物中に含まれる、第１の希土類元素及び第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させ、上記沈殿物を回収する工程を含む、上記［９９］から［１０８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１１０］上記沈殿物を浸出し浸出溶液を得る工程をさらに含む、上記［１０９］に記載のプロセス。
［１１１］上記沈殿物がＨＣｌで浸出される、上記［１１０］に記載のプロセス。
［１１２］上記ＨＣｌが約５から約１５ｍｏｌ／Ｌの濃度を有する、上記［１１１］に記載のプロセス。
［１１３］上記浸出溶液が抽出剤でさらに抽出され、その結果、上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを実質的に選択的に抽出し、装填した有機相を得る、上記［１１０］から［１１２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１１４］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［１１３］に記載のプロセス。
［１１５］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［１１３］に記載のプロセス。
［１１６］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートでありイソデカノールの存在下にある、上記［１１３］に記載のプロセス。
［１１７］上記装填した有機相を洗浄溶液で洗浄し、その結果、上記第１の希土類元素を回収し洗浄された有機相を得る工程をさらに含む、上記［１１３］から［１１６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１１８］上記洗浄溶液が、約２から約１２ｍｏｌ／Ｌの濃度でＨＣｌを含む酸性水溶液である、上記［１１７］に記載のプロセス。
［１１９］上記洗浄溶液が、約１：１の洗浄溶液：装填した有機相の比で使用される、上記［１１７］又は［１１８］に記載のプロセス。
［１２０］上記洗浄された有機相をストリッピング溶液でストリッピングし、その結果、上記第１のレアメタルを回収する工程をさらに含む、上記［１１７］から［１１９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１２１］上記ストリッピング溶液が水である、上記［１２０］に記載のプロセス。
［１２２］上記ストリッピング溶液が、約１：２のストリッピング溶液：装填した有機相の比で使用される、上記［１２０］又は［１２１］に記載のプロセス。
［１２３］上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、少なくとも１種のさらなる希土類元素を含む液体、並びに上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを含む上記沈殿物を得、上記沈殿物から上記液体を分離する工程をさらに含む、上記［１１０］から［１２２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１２４］上記液体を別の沈殿剤と反応させ、その結果、別の沈殿物を得、上記別の沈殿物を回収する工程をさらに含む、上記［１２３］に記載のプロセス。
［１２５］上記液体を上記別の沈殿剤と約７．８から約８．２のｐＨで反応させる、上記［１２４］に記載のプロセス。
［１２６］上記液体を上記別の沈殿剤と約７．９から約８．１のｐＨで反応させる、上記［１２４］に記載のプロセス。
［１２７］酸化還元電位を約＋３４０ｍＶに維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［１２４］から［１２６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１２８］酸化還元電位を約＋３８０ｍＶに維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［１２４］から［１２６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１２９］約５０から約７０℃の温度を維持することによって、上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［１２４］から［１２８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３０］上記別の沈殿剤が、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、上記［１２４］から［１２９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３１］上記別の沈殿剤がＣａＣＯ３である、上記［１２４］から［１２９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３２］上記別の沈殿物を浸出し、第２の希土類元素を含む浸出溶液を得る工程をさらに含む、上記［１２４］から［１３１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３３］上記別の沈殿物がＨＣｌで浸出される、上記［１３２］に記載のプロセス。
［１３４］上記第２の希土類元素を含む上記浸出溶液が抽出剤で抽出され、その結果、上記第２の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む装填した有機相、及び少なくとも１種の軽希土類元素を含む水相を得る、上記［１３２］又は［１３３］に記載のプロセス。
［１３５］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸である、上記［１３４］に記載のプロセス。
［１３６］上記抽出剤が、灯油中のジ（エチルヘキシル）ホスホン酸である、上記［１３４］に記載のプロセス。
［１３７］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［１３４］から［１３６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３８］上記装填した有機相を酸性洗浄溶液で処理することによって上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［１３４］から［１３７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１３９］上記洗浄溶液が１Ｎ ＨＣｌを含む、上記［１３８］に記載のプロセス。
［１４０］上記第３の希土類元素がセリウムである、上記［１３８］又は［１３９］に記載のプロセス。
［１４１］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相を酸性ストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第２の希土類元素を含むストリップ液を得、上記ストリップ液を回収する工程をさらに含む、上記［１３８］から［１４０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１４２］上記ストリップ液が３．５Ｎ ＨＣｌを含む、上記［１４１］に記載のプロセス。
［１４３］上記第２の希土類元素を含む上記ストリップ液を抽出剤で処理し、その結果、第４の希土類元素及び場合によって第５の希土類元素を上記ストリップ液から実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む抽残物を得る工程を含む、上記［１４１］又は［１４２］に記載のプロセス。
［１４４］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［１４３］に記載のプロセス。
［１４５］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［１４３］に記載のプロセス。
［１４６］上記第４の希土類元素がジスプロシウムである、上記［１４３］から［１４５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１４７］上記第５の希土類元素がエルビウムである、上記［１４３］から［１４６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１４８］上記第４の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含む有機相をストリップ溶液と反応させ、その結果、上記第４（fifth）の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［１４３］から［１４７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１４９］上記ストリップ溶液が水である、上記［１４８］に記載のプロセス。
［１５０］上記第２の希土類元素がイットリウムである、上記［１３４］から［１４９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１５１］上記第２の希土類元素を含む上記浸出溶液が抽出剤で抽出され、その結果、上記第２の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む装填した有機相、及び少なくとも１種の軽希土類元素を含む抽残物を得る、上記［１３２］又は［１３３］に記載のプロセス。
［１５２］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［１５１］に記載のプロセス。
［１５３］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［１５１］又は［１５２］に記載のプロセス。
［１５４］上記装填した有機相を酸性洗浄溶液で処理することによって上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［１５１］から［１５３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１５５］上記洗浄溶液が約１Ｎから約２ＮのＨＣｌを含む、上記［１５４］に記載のプロセス。
［１５６］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第２の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［１５４］又は［１５５］に記載のプロセス。
［１５７］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［１５６］に記載のプロセス。
［１５８］上記第２の希土類元素を含む上記ストリップ液が抽出剤で抽出され、その結果、第４の希土類元素及び場合によって第５の希土類元素を取り出し、それによって上記第２の希土類元素を含む抽残物、並びに上記第４の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含む装填した有機相を得る、上記［１５６］又は［１５７］に記載のプロセス。
［１５９］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［１５８］に記載のプロセス。
［１６０］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［１５８］に記載のプロセス。
［１６１］上記第２の希土類元素を含む上記抽残物を回収する工程を含む、上記［１５８］から［１６０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６２］上記第２の希土類元素がイットリウムである、上記［１５８］から［１６０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６３］上記第４の希土類元素がジスプロシウムである、上記［１５８］から［１６２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６４］上記第５の希土類元素がエルビウムである、上記［１５８］から［１６２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６５］上記第４の希土類元素及び上記第５の希土類元素を含む上記装填した有機相をストリッピング溶液と反応させ、その結果、上記第４の希土類元素及び上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［１５８］から［１６４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１６６］上記ストリッピング溶液が水である、上記［１６５］に記載のプロセス。
［１６７］上記ストリップ液を抽出剤と反応させ、その結果、上記第５の希土類元素を上記ストリップ（strop）液から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第４の希土類元素を含む抽残物、及び上記第５の希土類元素を含む装填した有機相を得る工程をさらに含む、上記［１６５］又は［１６６］に記載のプロセス。
［１６８］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［１６７］に記載のプロセス。
［１６９］上記第５の希土類元素を含む上記装填した有機相から上記抽残物を分離し、上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［１６７］又は［１６８］に記載のプロセス。
［１７０］上記洗浄溶液が約２Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［１６９］に記載のプロセス。
［１７１］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［１６９］又は［１７０］に記載のプロセス。
［１７２］酸化剤と上記抽残物を反応させ、その結果、上記第３の希土類元素を酸化する、上記［１５１］から［１５３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１７３］上記酸化剤が次亜塩素酸ナトリウムを含む、上記［１７２］に記載のプロセス。
［１７４］上記抽残物を酸化剤と約０．５から約１．５のｐＨで反応させる、上記［１７２］又は［１７３］に記載のプロセス。
［１７５］沈殿物の形態である上記酸化した第３の希土類元素を上記抽残物から取り出し、それによって第６の希土類元素を含む濾液を得る工程をさらに含む、上記［１７２］から［１７４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１７６］上記濾液を抽出剤と反応させ、その結果、上記第６の希土類元素を上記濾液から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第６の希土類元素を含む装填した有機相並びに第７の希土類元素及び第８の（eight）希土類元素を含む別の抽残物を得、上記第６の希土類元素を含む上記装填した有機相を上記抽残物から分離する工程をさらに含む、上記［１７５］に記載のプロセス。
［１７７］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［１７６］に記載のプロセス。
［１７８］上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第６の希土類元素を含むストリップ液を得る、上記［１７６］又は［１７７］に記載のプロセス。
［１７９］上記洗浄溶液が約０．５Ｍから約１．５ＭのＨＣｌを含む、上記［１７８］に記載のプロセス。
［１８０］上記ストリッピング溶液が約２Ｍから約３ＭのＨＣｌを含む、上記［１７８］又は［１７９］に記載のプロセス。
［１８１］上記第６の希土類元素がユーロピウムである、上記［１７６］から［１８０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８２］上記第７の希土類元素がプラセオジムである、上記［１７６］から［１８１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８３］上記第８（eigth）の希土類元素がネオジムである、上記［１７６］から［１８２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８４］還元剤によって上記第６の希土類元素を還元する工程をさらに含む、上記［１７６］から［１８３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８５］上記還元剤が亜鉛（０）である、上記［１８４］に記載のプロセス。
［１８６］上記第６の希土類元素を硫酸ナトリウムと反応させ、その結果、沈殿物の形態でその硫酸塩誘導体を得、上記沈殿物を回収する工程をさらに含む、上記［１７６］から［１８５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８７］上記第７の希土類元素及び上記第８の（eight）希土類元素を含む上記抽残物を抽出剤と反応させ、その結果、上記第８の（eight）希土類元素を上記抽残物から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第８の（eight）希土類元素を含む装填した有機相及び上記第７の希土類元素を含む抽残物を得、上記第８の（ｅｉｇｈｔ）希土類元素を含む上記装填した有機相を上記抽残物から分離する工程をさらに含む、上記［１７６］から［１８６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１８８］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［１８７］に記載のプロセス。
［１８９］上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第８の（ｅｉｇｈｔ）希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［１８７］又は［１８８］に記載のプロセス。
［１９０］上記洗浄溶液が約２Ｍから約３ＭのＨＣｌを含む、上記［１８９］に記載のプロセス。
［１９１］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［１８９］又は［１９０］に記載のプロセス。
［１９２］上記酸性組成物をイオン交換樹脂で前処理又は処理し、その結果、不純物を取り出す工程をさらに含む、上記［１］から［１９１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１９３］少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタルを上記酸性組成物から抽出する前に、上記酸性組成物をイオン交換樹脂で処理し、その結果、不純物をそこから少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［１］から［１９２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１９４］上記プロセスによって抽出された上記少なくとも１種の希土類元素及び場合によって上記少なくとも１種のレアメタルをプラズマトーチにより処理し、その結果、上記少なくとも１種の希土類元素及び場合によって上記少なくとも１種のレアメタルをさらに高純度化する工程をさらに含む、上記［１］から［９２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［１９５］少なくとも１種の希土類元素を回収するプロセスであって、
（ｉ）少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタルを含む酸性組成物；並びに（ｉｉ）少なくとも１種の金属イオンを得る工程と；
抽出剤、イオン交換（echange）樹脂によって及び／又は上記組成物を還元剤と反応させることによって上記少なくとも１種の金属イオンを上記酸性組成物から少なくとも部分的に取り出し、それによって上記少なくとも１種の金属イオンの含有率が低下した組成物を得る工程と；
上記少なくとも１種の金属イオンの上記含有率が低下した上記組成物を沈殿剤と反応させ、その結果、第１の希土類元素及び場合によって第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程と
を含むプロセス。
［１９６］上記酸性組成物が（ｉ）上記少なくとも１種の希土類元素及び上記少なくとも１種のレアメタルを含む、上記［１９５］に記載のプロセス。
［１９７］上記抽出剤が、トリブチルホスフェート、ジ−２−エチルヘキシルリン酸（ＨＤＥＨＰ）、ビス（２，４，４−トリメチルペンチル）ホスフィン酸及び２−エチルヘキシルホスホン酸モノ−２−エチルヘキシルエステルから選ばれる、上記［１９５］又は［１９６］に記載のプロセス。
［１９８］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［１９５］又は［１９６］に記載のプロセス。
［１９９］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［１９５］又は［１９６］に記載のプロセス。
［２００］上記少なくとも１種の金属イオンが、少なくとも１種のアルミニウムイオン、少なくとも１種の亜鉛イオン、少なくとも１種の銅イオン、少なくとも１種のニッケルイオン、少なくとも１種のマグネシウムイオン、少なくとも１種のチタンイオン及び／又は少なくとも１種の鉄イオンを含む、上記［１９５］から［１９９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０１］上記第１の希土類元素がスカンジウムである、上記［１９５］から［２００］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０２］上記酸性組成物が少なくとも１種のレアメタルを含む、上記［１９５］から［２０１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０３］上記少なくとも１種の金属イオンの上記含有率が低下した上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程を含む、上記［２０２］に記載のプロセス。
［２０４］上記第１のレアメタルがガリウムである、上記［１９５］から［２０３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０５］上記沈殿剤が、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、上記［１９５］から［２０４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０６］上記沈殿剤がＣａＣＯ３である、上記［１９５］から［２０４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０７］上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルを２未満のｐＨ値の維持により実質的に選択的に沈殿させる、上記［１９５］から［２０６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０８］約１から約２の値にｐＨを維持することによって上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる、上記［１９５］から［２０６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２０９］約＋３８０ｍＶの酸化還元電位を維持することによって上記第１の希土類元素及び場合によって上記第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる、上記［１９５］から［２０６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２１０］上記少なくとも１種の金属イオンの含有率が低下した上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、そのように形成された沈殿物に含まれる第１の希土類元素及び第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させ、上記沈殿物を回収する工程を含む、上記［１９５］から［２０９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２１１］上記沈殿物を浸出し浸出溶液を得る工程をさらに含む、上記［２１０］に記載のプロセス。
［２１２］上記沈殿物がＨＣｌで浸出される、上記［２１１］に記載のプロセス。
［２１３］上記浸出溶液が抽出剤でさらに抽出され、その結果、上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを実質的に選択的に抽出し、装填した有機相を得る、上記［２１１］又は［２１２］に記載のプロセス。
［２１４］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［２１３］に記載のプロセス。
［２１５］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［２１３］に記載のプロセス。
［２１６］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートでありイソデカノールの存在下にある、上記［２１３］に記載のプロセス。
［２１７］上記装填した有機相を洗浄溶液で洗浄し、その結果、上記第１の希土類元素を回収し洗浄された有機相を得る工程をさらに含む、上記［２１４］から［２１６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２１８］上記洗浄溶液が、約２から約１２ｍｏｌ／Ｌの濃度のＨＣｌを含む酸性水溶液である、上記［２１７］に記載のプロセス。
［２１９］上記洗浄溶液が、約１：１の洗浄溶液：装填した有機相の比で使用される、上記［２１７］又は［２１８］に記載のプロセス。
［２２０］上記洗浄された有機相をストリッピング溶液でストリッピングし、その結果、上記第１のレアメタルを回収する工程をさらに含む、上記［２１７］から［２１９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２２１］上記ストリッピング溶液が水である、上記［２２０］に記載のプロセス。
［２２２］上記ストリッピング溶液が約１：２のストリッピング溶液：装填した有機相の比で使用される、上記［２２０］又は［２２１］に記載のプロセス。
［２２３］上記少なくとも１種の金属イオンの含有率が低下した上記組成物を上記沈殿剤と反応させ、その結果、少なくとも１種のさらなる希土類元素を含む液体並びに上記第１の希土類元素及び上記第１のレアメタルを含む上記沈殿物を得、上記液体を上記沈殿物から分離する工程をさらに含む、上記［２０７］から［２２２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２２４］上記液体を別の沈殿剤と反応させ、その結果、別の沈殿物を得、上記別の沈殿物を回収する工程をさらに含む、上記［２２３］に記載のプロセス。
［２２５］上記液体を上記別の沈殿剤と約７．８から約８．２のｐＨで反応させる、上記［２２４］に記載のプロセス。
［２２６］上記液体を上記別の沈殿剤と約７．９から約８．１のｐＨで反応させる、上記［２２４］に記載のプロセス。
［２２７］約＋３４０ｍＶに酸化還元電位を維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［２２４］から［２２６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２２８］約＋３８０ｍＶに酸化還元電位を維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［２２４］から［２２６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２２９］約５０から約７０℃の温度を維持することによって上記液体を上記別の沈殿剤と反応させる、上記［２２４］から［２２８］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２３０］上記別の沈殿剤が、ＮａＯＨ、ＭｇＯ、ＣａＣＯ３及びその混合物から選ばれる、上記［２２４］から［２２９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２３１］上記沈殿剤がＣａＣＯ３である、上記［２２４］から［２２９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２３２］上記別の沈殿物を浸出し、第２の希土類元素を含む浸出溶液を得る工程をさらに含む、上記［２２４］から［２３１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２３３］上記別の沈殿物がＨＣｌで浸出される、上記［２３２］に記載のプロセス。
［２３４］上記第２の希土類元素を含む上記浸出溶液が抽出剤で抽出され、その結果、上記第２の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む装填した有機相、及び少なくとも１種の軽希土類元素を含む水相を得る工程をさらに含む、上記［２３２］又は［２３３］に記載のプロセス。
［２３５］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸である、上記［２３４］に記載のプロセス。
［２３６］上記抽出剤が灯油中のジ（エチルヘキシル）ホスホン酸である、上記［２３４］に記載のプロセス。
［２３７］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［２３４］から［２３６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２３８］上記装填した有機相を酸性洗浄溶液で処理することによって上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［２３４］から［２３６］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２３９］上記洗浄溶液が１Ｎ ＨＣｌを含む、上記［２３８］に記載のプロセス。
［２４０］上記第３の希土類元素がセリウムである、上記［２３８］又は［２３９］に記載のプロセス。
［２４１］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相を酸性ストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第２の希土類元素を含むストリップ液を得、上記ストリップ液を回収する工程をさらに含む、上記［２３８］から［２４０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２４２］上記ストリップ液が３．５Ｎ ＨＣｌを含む、上記［２４１］に記載のプロセス。
［２４３］上記第２の希土類元素を含む上記ストリップ液を抽出剤で処理し、その結果、第４の希土類元素及び場合によって第５の希土類元素を上記ストリップ液から実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む抽残物を得る工程を含む、上記［２４１］又は［２４２］に記載のプロセス。
［２４４］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［２４３］に記載のプロセス。
［２４５］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［２４３］に記載のプロセス。
［２４６］上記第４の希土類元素がジスプロシウムである、上記［２４３］から［２４５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２４７］上記第５の希土類元素がエルビウムである、上記［２４３］から［２４５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２４８］上記第４の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含む有機相をストリップ溶液と反応させ、その結果、上記第４（fifth）の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［２４３］から［２４７］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２４９］上記ストリップ溶液が水である、上記［２４８］に記載のプロセス。
［２５０］上記第２の希土類元素がイットリウムである、上記［２３４］から［２４９］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２５１］上記第２の希土類元素を含む上記浸出溶液を抽出剤で抽出し、その結果、上記第２の希土類元素を実質的に選択的に抽出し、上記第２の希土類元素を含む装填した有機相、及び少なくとも１種の軽希土類元素を含む抽残物を得る、上記［２３２］又は［２３３］に記載のプロセス。
［２５２］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［２５１］に記載のプロセス。
［２５３］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［２５１］又は［２５２］に記載のプロセス。
［２５４］上記装填した有機相を酸性洗浄溶液で処理することによって上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相から第３の希土類元素を少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［２５１］から［２５３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２５５］上記洗浄溶液が約１Ｎから約２ＮのＨＣｌを含む、上記［２５４］に記載のプロセス。
［２５６］上記第２の希土類元素を含む上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第２の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［２５４］又は［２５５］に記載のプロセス。
［２５７］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［２５６］に記載のプロセス。
［２５８］上記第２の希土類元素を含む上記ストリップ液を抽出剤で抽出し、その結果、第４の希土類元素及び場合によって第５の希土類元素を取り出し、それによって上記第２の希土類元素を含む抽残物、並びに上記第４の希土類元素及び場合によって上記第５の希土類元素を含む装填した有機相を得る、上記［２５６］又は［２５７］に記載のプロセス。
［２５９］上記抽出剤がトリブチルホスフェートである、上記［２５８］に記載のプロセス。
［２６０］上記抽出剤が灯油中のトリブチルホスフェートである、上記［２５８］に記載のプロセス。
［２６１］上記第２の希土類元素を含む上記抽残物を回収する工程を含む、上記［２５８］から［２６０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２６２］上記第２の希土類元素がイットリウムである、上記［２５８］から［２６１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２６３］上記第４の希土類元素がジスプロシウムである、上記［２５８］から［２６２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２６４］上記第５の希土類元素がエルビウムである、上記［２５８］から［２６３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２６５］上記第４の希土類元素及び上記第５の希土類元素を含む上記装填した有機相をストリッピング溶液と反応させ、その結果、上記第４の希土類元素及び上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［２５８］から［２６４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２６６］上記ストリッピング溶液が水である、上記［２６５］に記載のプロセス。
［２６７］上記ストリップ液を抽出剤と反応させ、その結果、上記第５の希土類元素を上記ストリップ（strop）液から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第４の希土類元素を含む抽残物、及び上記第５の希土類元素を含む装填した有機相を得る工程をさらに含む、上記［２６５］又は［２６６］に記載のプロセス。
［２６８］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［２６７］に記載のプロセス。
［２６９］上記第５の希土類元素を含む上記装填した有機相から上記抽残物を分離し、上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第５の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［２６７］又は［２６８］に記載のプロセス。
［２７０］上記洗浄溶液が約２Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［２６９］に記載のプロセス。
［２７１］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［２６９］又は［２７０］に記載のプロセス。
［２７２］上記抽残物を酸化剤と反応させ、その結果、上記第３の希土類元素を酸化する、上記［２５１］から［２５３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２７３］上記酸化剤が次亜塩素酸ナトリウムを含む、上記［２７２］に記載のプロセス。
［２７４］上記抽残物を約０．５から約１．５のｐＨで酸化剤と反応させる、上記［２７２］又は［２７３］に記載のプロセス。
［２７５］沈殿物の形態である酸化した第３の希土類元素を上記抽残物から取り出し、それによって第６の希土類元素を含む濾液を得る工程をさらに含む、上記［２７２］から［２７４］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２７６］上記濾液を抽出剤と反応させ、その結果、上記第６の希土類元素を上記濾液から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第６の希土類元素を含む装填した有機相並びに第７の希土類元素及び第８の（eight）希土類元素を含む別の抽残物を得、上記第６の希土類元素を含む上記装填した有機相を上記抽残物から分離する工程をさらに含む、上記［２７５］に記載のプロセス。
［２７７］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［２７６］に記載のプロセス。
［２７８］上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第６の希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［２７６］又は［２７７］に記載のプロセス。
［２７９］上記洗浄溶液が約０．５Ｍから約１．５ＭのＨＣｌを含む、上記［２７８］に記載のプロセス。
［２８０］上記ストリッピング溶液が約２Ｍから約３ＭのＨＣｌを含む、上記［２７８］又は［２７９］に記載のプロセス。
［２８１］上記第６の希土類元素がユーロピウムである、上記［２７６］から［２８０］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８２］上記第７の希土類元素がプラセオジムである、上記［２７６］から［２８１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８３］上記第８（eigth）の希土類元素がネオジムである、上記［２７６］から［２８２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８４］還元剤によって上記第６の希土類元素を還元する工程をさらに含む、上記［２７６］から［２８３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８５］上記還元剤が亜鉛（０）である、上記［２８４］に記載のプロセス。
［２８６］上記第６の希土類元素を硫酸ナトリウムと反応させ、その結果、沈殿物の形態のその硫酸塩誘導体を得、上記沈殿物を回収する工程をさらに含む、上記［２７６］から［２８５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８７］上記第７の希土類元素及び上記第８の（eight）希土類元素を含む上記抽残物を抽出剤と反応させ、その結果、上記第８の（eight）希土類元素を上記抽残物から実質的に選択的に抽出し、それによって上記第８の（eight）希土類元素を含む装填した有機相及び上記第７の希土類元素を含む抽残物を得、上記第８の（eight）希土類元素を含む上記装填した有機相を上記抽残物から分離する工程をさらに含む、上記［２７６］から［２８５］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２８８］上記抽出剤がジ（エチルヘキシル）ホスホン酸又はジ−（２−エチルヘキシル）リン酸である、上記［２８７］に記載のプロセス。
［２８９］上記装填した有機相を洗浄溶液で処理し、その結果、不純物をそこから取り出し、次いで、上記装填した有機相をストリッピング溶液で処理し、その結果、上記第８の（eight）希土類元素を含むストリップ液を得る工程をさらに含む、上記［２８７］又は［２８８］に記載のプロセス。
［２９０］上記洗浄溶液が約２Ｍから約３ＭのＨＣｌを含む、上記［２８９］に記載のプロセス。
［２９１］上記ストリッピング溶液が約３Ｍから約４ＭのＨＣｌを含む、上記［２８９］又は［２９０］に記載のプロセス。
［２９２］上記少なくとも１種の金属イオンが、アルミニウム、鉄、亜鉛、銅、ニッケル、マグネシウム及びチタンから選ばれる金属のイオンである、上記［１９５］から［２９１］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２９３］上記酸性組成物をイオン交換樹脂で前処理又は処理し、その結果、不純物を取り出す工程をさらに含む、上記［１９５］から［２９２］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２９４］少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタルを上記酸性組成物から抽出する前に、上記酸性組成物をイオン交換樹脂で処理し、その結果、不純物をそこから少なくとも部分的に取り出す工程をさらに含む、上記［１９５］から［２９３］のいずれか一項に記載のプロセス。
［２９５］プラズマトーチによって、上記プロセスによって抽出された上記少なくとも１種の希土類元素及び場合によって上記少なくとも１種のレアメタルを処理し、その結果、上記少なくとも１種の希土類元素及び場合によって上記少なくとも１種のレアメタルをさらに高純度化する工程をさらに含む、上記［１９５］から［２９４］のいずれか一項に記載のプロセス。
一態様によると、少なくとも１種の希土類元素を回収するプロセスであって、
（ｉ）少なくとも１種の希土類元素及び場合によって少なくとも１種のレアメタルを含む酸性組成物を得る工程と；
組成物を沈殿剤と反応させ、その結果、第１の希土類元素及び場合によって第１のレアメタルを実質的に選択的に沈殿させる工程と
を含むプロセスが提供される。