(57)【要約】【課題】ＩＴＯに代替可能でありながらも、優れた電気伝導度が実現できるだけでなく、脆性破壊が発生しないため、優れた耐久性を確保することができるとともに、透明基板の両面に形成された銀塩乳剤層に露光を行っても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層に影響を与えることを防止することができるタッチパネル及びその製造方法を提供する。【解決手段】本発明によるタッチパネル１００は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の一面に微細パターンに形成された第１電極パターン１２０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の他面に微細パターンに形成された第２電極パターン１３０と、透明基板１１０の一面と第１電極パターン１２０との間及び透明基板１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成され、光を選択的に遮断する光学フィルタ層１４０と、を含む。【選択図】図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板の一面に微細パターンに形成された第１電極パターンと、
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板の他面に微細パターンに形成された第２電極パターンと、
前記透明基板の一面と前記第１電極パターンとの間及び前記透明基板の他面と前記第２電極パターンとの間のうち少なくとも一つに形成され、光を選択的に遮断する光学フィルタ層と、
を含むことを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記第１電極パターンの微細パターンは第１四角形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記第２電極パターンの微細パターンは第２四角形が繰り返されるメッシュ構造であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記第１四角形と前記第２四角形は同一の菱形であり、前記第１四角形の中心が前記第２四角形の頂点に対応するように配置され、前記第２四角形の中心が前記第１四角形の頂点に対応するように配置されることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記第１四角形の頂点から前記第２四角形と交差する点までの前記第１四角形の長さまたは前記第２四角形の頂点から前記第１四角形と交差する点までの前記第２四角形の長さは、２００〜５００μｍであることを特徴とする請求項６に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記光学フィルタ層は、紫外線を遮断することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記光学フィルタ層は、紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１４】
前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１６】
前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、長方形、菱形、円形または楕円形が繰り返されるメッシュ構造であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１９】
前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２０】
前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２１】
前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、ダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２２】
前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、５５〜６５度で交差することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２３】
前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは長方形または菱形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記長方形または前記菱形の一辺の長さは１５０〜８００μｍであることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２４】
（Ａ）透明基板の一面または両面に光を選択的に遮断する光学フィルタ層を形成する段階と、
（Ｂ）前記透明基板の一面に前記光学フィルタ層を形成した場合は、前記光学フィルタ層と前記透明基板の他面に銀塩乳剤層を形成し、前記透明基板の両面に前記光学フィルタ層を形成した場合は、前記光学フィルタ層に銀塩乳剤層を形成する段階と、
（Ｃ）前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像することにより、前記透明基板を基準として両方に、銀を含む第１電極パターン及び第２電極パターンを微細パターンに形成する段階と、
を含むことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項２５】
前記（Ｂ）段階で、前記銀塩乳剤層は銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２６】
前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は３〜７μｍであることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２８】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンはバー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２９】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンはトゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３０】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンはダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３１】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは５５〜６５度で交差することを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３２】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは長方形、菱形、円形または楕円形が繰り返されるメッシュ構造であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３３】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは長方形または菱形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記長方形または前記菱形の一辺の長さは１５０〜８００μｍであることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３４】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンは第１四角形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記第２電極パターンの微細パターンは第２四角形が繰り返されるメッシュ構造であって、前記第１四角形と前記第２四角形は同一の菱形であり、前記第１四角形の中心が前記第２四角形の頂点に対応するように配置され、前記第２四角形の中心が前記第１四角形の頂点に対応するように配置されることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３５】
前記第１四角形の頂点から前記第２四角形と交差する点までの前記第１四角形の長さまたは前記第２四角形の頂点から前記第１四角形と交差する点までの前記第２四角形の長さは、２００〜５００μｍであることを特徴とする請求項３４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３６】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は１５０Ω／□以下であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３７】
前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３８】
前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３９】
前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４０】
前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層は紫外線を遮断することを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４１】
前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層は紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４２】
前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層はＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４３】
前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層はＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４４】
前記（Ｃ）段階で、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４５】
前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする請求項２４に記載のタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、ポータブル伝送装置、その他の個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスなどの様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を利用してテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進行により、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の役割を担当しているキーボード及びマウスだけでは、効率的な製品の駆動が困難であるという問題点がある。従って、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報を入力することができる機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を越えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（ＬＣＤ；Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ）、ＰＤＰ（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ）、Ｅｌ（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ）などの平板ディスプレイ装置及びＣＲＴ（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ）などの画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが画像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために利用される機器である。
【０００６】
一方、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、表面弾性波方式（ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ；Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ）及び赤外線方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このような多様な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在もっとも幅広い分野で用いられている方式は、抵抗膜方式及び静電容量方式のタッチパネルである。
【０００７】
このようなタッチパネルは、通常、ＩＴＯ（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ、インジウム−スズ酸化物）を用いて電極パターンを形成する。しかし、ＩＴＯの場合、電気伝導度が低いだけでなく、その原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）は、希土類金属で高価であり、今後１０年以内に枯渇が予想されているため、需給が円滑ではないという欠点がある。さらに、ＩＴＯで形成した電極パターンは、脆性破壊が発生しやすいため耐久性が劣るという問題点が存在する。
【０００８】
このような理由から、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極パターンを形成しようとする研究が活発に行われている。しかし、金属を用いながらも、電気伝導度及び耐久性の両方を満足させて実用化できる電極パターンの形成方法は、未だに開発されていない状況である。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は上記のような問題点を解決するために導き出されたものであり、本発明の目的は、銀塩乳剤層を露光／現像して銀を含む電極パターンを形成することにより、ＩＴＯに代替可能でありながらも、電気伝導度に優れたタッチパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルは、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板の一面に微細パターンに形成された第１電極パターンと、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板の他面に微細パターンに形成された第２電極パターンと、前記透明基板の一面と前記第１電極パターンとの間及び前記透明基板の他面と前記第２電極パターンとの間のうち少なくとも一つに形成され、光を選択的に遮断する光学フィルタ層と、を含んで構成される。
【００１２】
ここで、前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする。
【００１３】
また、前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする。
【００１４】
また、前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする。
【００１５】
また、前記第１電極パターンの微細パターンは、第１四角形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記第２電極パターンの微細パターンは、第２四角形が繰り返されるメッシュ構造であることを特徴とする。
【００１６】
また、前記第１四角形と前記第２四角形は、同一の菱形であり、前記第１四角形の中心が前記第２四角形の頂点に対応するように配置され、前記第２四角形の中心が前記第１四角形の頂点に対応するように配置されることを特徴とする。
【００１７】
また、前記第１四角形の頂点から前記第２四角形と交差する点までの前記第１四角形の長さまたは前記第２四角形の頂点から前記第１四角形と交差する点までの前記第２四角形の長さは、２００〜５００μｍであることを特徴とする。
【００１８】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする。
【００１９】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする。
【００２０】
また、前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする。
【００２１】
また、前記光学フィルタ層は、紫外線を遮断することを特徴とする。
【００２２】
また、前記光学フィルタ層は、紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする。
【００２３】
また、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする。
【００２４】
また、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする。
【００２５】
また、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする。
【００２６】
また、前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする。
【００２７】
また、前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする。
【００２８】
また、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、長方形、菱形、円形または楕円形が繰り返されるメッシュ構造であることを特徴とする。
【００２９】
また、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする。
【００３０】
また、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする。
【００３１】
また、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、ダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする。
【００３２】
また、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、５５〜６５度で交差することを特徴とする。
【００３３】
また、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、長方形または菱形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記長方形または前記菱形の一辺の長さは、１５０〜８００μｍであることを特徴とする。
【００３４】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法は、（Ａ）透明基板の一面または両面に光を選択的に遮断する光学フィルタ層を形成する段階と、（Ｂ）前記透明基板の一面に前記光学フィルタ層を形成した場合は、前記光学フィルタ層と前記透明基板の他面に銀塩乳剤層を形成し、前記透明基板の両面に前記光学フィルタ層を形成した場合は、前記光学フィルタ層に銀塩乳剤層を形成する段階と、（Ｃ）前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像することにより、前記透明基板を基準として両方に、銀を含む第１電極パターン及び第２電極パターンを微細パターンに形成する段階と、を含んで構成される。
【００３５】
ここで、前記（Ｂ）段階で、前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする。
【００３６】
また、前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする。
【００３７】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする。
【００３８】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする。
【００３９】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする。
【００４０】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンと前記第２電極パターンは、ダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングされることを特徴とする。
【００４１】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、５５〜６５度で交差することを特徴とする。
【００４２】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、長方形、菱形、円形または楕円形が繰り返されるメッシュ構造であることを特徴とする。
【００４３】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンと前記第２電極パターンの微細パターンは、長方形または菱形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記長方形または前記菱形の一辺の長さは、１５０〜８００μｍであることを特徴とする。
【００４４】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの微細パターンは、第１四角形が繰り返されるメッシュ構造であり、前記第２電極パターンの微細パターンは、第２四角形が繰り返されるメッシュ構造であって、前記第１四角形と前記第２四角形は、同一の菱形であり、前記第１四角形の中心が前記第２四角形の頂点に対応するように配置され、前記第２四角形の中心が前記第１四角形の頂点に対応するように配置されることを特徴とする。
【００４５】
また、前記第１四角形の頂点から前記第２四角形と交差する点までの前記第１四角形の長さまたは前記第２四角形の頂点から前記第１四角形と交差する点までの前記第２四角形の長さは、２００〜５００μｍであることを特徴とする。
【００４６】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする。
【００４７】
また、前記（Ｃ）段階で、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする。
【００４８】
また、前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする。
【００４９】
また、前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする。
【００５０】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層は、紫外線を遮断することを特徴とする。
【００５１】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層は、紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする。
【００５２】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用無機物で形成されることを特徴とする。
【００５３】
また、前記（Ａ）段階で、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用有機物で形成されることを特徴とする。
【００５４】
また、前記（Ｃ）段階で、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする。
【００５５】
また、前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００５６】
本発明によると、銀塩乳剤層を露光／現像して銀を含む電極パターンを形成することにより、ＩＴＯに代替可能でありながらも、優れた電気伝導度が実現できるだけでなく、脆性破壊が発生しないため、優れた耐久性を確保することができる長所がある。
【００５７】
また、本発明によると、光学フィルタ層を採用することにより、透明基板の両面に形成された銀塩乳剤層に露光を行っても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層に影響を与えることを防止することができる効果がある。
【図面の簡単な説明】
【００５８】
【図１Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図１Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図２】図１Ａに図示された第１電極パターンと第２電極パターンが重なり合っている構成を拡大した平面図である。
【図３Ａ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｂ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｃ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｄ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図４】図１Ａに図示された第１電極パターンの微細パターンと第２電極パターンの微細パターンの一部が交差する構成を図示した平面図である。
【図５】図４に図示された第１電極パターンの微細パターンと第２電極パターンの微細パターンとの交差角によるモアレ縞の間隔を図示したグラフである。
【図６】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【図７】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【図８】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【図９Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図９Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１０Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１１Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１１Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１２Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１２Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１３Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１３Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１４Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１４Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００５９】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００６０】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００６１】
図１Ａ及び図１Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【００６２】
図１Ａ及び図１Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の一面に微細パターンに形成された第１電極パターン１２０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、透明基板１１０の他面に微細パターンに形成された第２電極パターン１３０と、透明基板１１０の一面と第１電極パターン１２０との間及び透明基板１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成され、光を選択的に遮断する光学フィルタ層１４０と、を含む構成である。
【００６３】
前記透明基板１１０は、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０が形成される領域を提供する役割を遂行する。ここで、透明基板１１０は、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０を支持することができる支持力と、画像表示装置により提供される画像をユーザが認識できるようにする透明性を備えなければならない。上述の支持力及び透明性を考慮して、透明基板１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００６４】
前記第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０は、ユーザのタッチ時に信号を発生させ、コントローラでタッチ座標を認識できるようにする役割を遂行するものであり、第１電極パターン１２０は透明基板１１０の一面に形成され、第２電極パターン１３０は透明基板１１０の他面に形成される。ここで、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像してパターニングすることにより形成される（∴銀を含む）。
【００６５】
具体的には、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３（図１０Ａまたは図１０Ｂ参照）及びバインダー１５５を含む。ここで、前記銀塩１５３は、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＦ、ＡｇＩ）などの無機銀塩または酢酸などの有機銀塩であることが好ましい。また、前記バインダー１５５は、銀塩１５３を均一に分散させ、銀塩乳剤層１５０と光学フィルタ層１４０との間または銀塩乳剤層１５０と透明基板１１０との間の接着力を強化させるものであり、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、デンプンなどの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどであることが好ましい。このようなバインダー１５５は、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
【００６６】
また、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３及びバインダー１５５の他にも、溶媒や染料などの添加剤をさらに含むことが好ましい。具体的には、溶媒は、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類など）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒であることが好ましい。
【００６７】
一方、第１電極パターン１２０の面抵抗または第２電極パターン１３０の面抵抗は、厚さを調節したり、銀塩乳剤層１５０の銀含量を調節することにより、タッチパネル１００に適するように１５０Ω／□にすることが好ましい。より具体的には、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることが好ましい。ここで、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗を０．１〜５０Ω／□に形成する理由は、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が０．１Ω／□以下であると、銀塩１５３の量が多すぎて透明性が阻害される恐れがあり、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が５０Ω／□以上であると、電気伝導度が低くて活用度が低下するためである。但し、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、必ずしも前記数値に制限されるものではない。
【００６８】
また、図２は、図１Ａに図示された第１電極パターンと第２電極パターンが重なり合っている構成を拡大した平面図であり、これを参照して、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０の構成について具体的に説明する。図２に図示されたように、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、面抵抗が過度に高くなることを防止するために３μｍ以上であることが好ましく、ユーザに視覚的に識別されることを防止するために７μｍ以下であることが好ましい。即ち、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、３〜７μｍであることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００６９】
一方、第１電極パターン１２０の微細パターンは、第１四角形１２５が繰り返されるメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造であり、第２電極パターン１３０の微細パターンは、第２四角形１３５が繰り返されるメッシュ構造であることが好ましい。即ち、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、両方とも格子状（第１四角形１２５、第２四角形１３５）に交差するメッシュ構造であることが好ましい。ここで、第１四角形１２５と第２四角形１３５は、同一の菱形であって、第１四角形１２５の中心Ｃ１が第２四角形１３５の頂点Ｖ２に対応するように配置し、第２四角形１３５の中心Ｃ２が第１四角形１２５の頂点Ｖ１に対応するように配置することが好ましい。即ち、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、同一のサイズと内角を有する菱形が互いに交差するように配置するメッシュ構造であることが好ましい。ここで、第１四角形１２５の頂点Ｖ１から第２四角形１３５と交差する点までの第１四角形１２５の長さ、または第２四角形１３５の頂点Ｖ２から第１四角形１２５と交差する点までの第２四角形１３５の長さを、ピッチ（Ｐｉｔｃｈ）Ｐと定義することができる。この際、前記ピッチＰは、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の面抵抗及び透過率を考慮して、２００〜５００μｍであることが好ましい。
【００７０】
また、図３Ａから図３Ｄは、図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図であり、これを参照して、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０の構成について具体的に説明する。
【００７１】
図３Ａに図示されたように、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、面抵抗が過度に高くなることを防止するために３μｍ以上であることが好ましく、ユーザに視覚的に識別されることを防止するために７μｍ以下であることが好ましい。即ち、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、３〜７μｍであることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００７２】
一方、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、長方形（図３Ａ参照）、菱形（図３Ｂ参照）、円形（図３Ｃ参照）または楕円形（図３Ｄ参照）が繰り返されるメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造であることが好ましい。即ち、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンは、両方とも格子状に交差するメッシュ構造であることが好ましい。一方、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンが長方形や菱形が繰り返されるメッシュ構造である場合（図３Ａまたは図３Ｂ参照）、前記長方形や前記菱形の一辺の長さＬが１５０μｍ以下であると、開口率が小さすぎてタッチパネル１００の透過率が低下する恐れがある。また、前記長方形や前記菱形の一辺の長さＬが８００μｍ以上であると、モアレ（Ｍｏｉｒｅ）現象が発生する可能性が高くなってタッチパネル１００の視認性が低下する恐れがある。従って、前記長方形や前記菱形の一辺の長さＬは、１５０〜８００μｍであることが好ましい。但し、前記長方形や前記菱形の一辺の長さＬは、必ずしも前記数値に制限されるものではない。
【００７３】
また、図４は、図１Ａに図示された第１電極パターンの微細パターンと第２電極パターンの微細パターンの一部が交差する構成を図示した平面図であり、図５は、図４に図示された第１電極パターンの微細パターンと第２電極パターンの微細パターンの交差角によるモアレ縞の間隔を図示したグラフである。
【００７４】
ここで、図４は、第１、２電極パターン１２０、１３０のうち互いに平行な微細パターンを除去し、互いに交差する微細パターンのみを図示したものである。
【００７５】
図４に図示されたように、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、交差角Ａで互いに交差し、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンとの交差により、干渉縞であるモアレ縞１７０が生じる。この際、モアレ縞１７０は、一定間隔Ｇで平行に構成され、第２電極パターン１３０の微細パターンと特定角Ｂをなす。ところが、ユーザの肉眼の分解能には限界があるため、モアレ縞１７０の間隔Ｇがユーザの分解能以下である場合、ユーザはモアレ縞１７０を認知することができない。従って、モアレ縞１７０の間隔Ｇを最大限減らすことにより、モアレ縞１７０による問題を解決することができる。
【００７６】
これに係り、図５に図示されたように、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンとの交差角Ａによるモアレ縞１７０の間隔Ｇを実際に測定した。その結果、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンとの交差角Ａが略６０度前後である時に、モアレ縞１７０の間隔Ｇが最小化されることが分かった。従って、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンとの交差角Ａが５５〜６５度であるように構成することにより、モアレ縞１７０の間隔Ｇを最小化し、ユーザがモアレ縞１７０を認知できなくすることができる。
【００７７】
一方、図６から図８は、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【００７８】
図６から図８に図示されたように、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ、図６参照）、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ、図７参照）またはダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ、図８参照）にパターニングされることが好ましい。
【００７９】
具体的には、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングすることができる（図６参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに垂直方向に形成することができる。また、必要に応じて、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０のうち何れか一つは、幅が相対的に大きいバー型にパターニングされ、他の一つは、幅が相対的に小さいバー型にパターニングすることができる（通常、「Ｂａｒ  ａｎｄ  Ｓｔｒｉｐ  Ｔｙｐｅ」と定義される構成）。
【００８０】
また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングすることができる（図７参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、一方向に平行な多数の三角形に形成される。また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに重なり合わないように、第１電極パターン１２０が第２電極パターン１３０の間に挿入され、第２電極パターン１３０が第１電極パターン１２０に挿入される構成を有するように形成することができる。
【００８１】
また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、ダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングすることができる（図８参照）。この際、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０は、検知部１３７ａ、１３７ｂと連結部１３９ａ、１３９ｂとで構成され、連結部１３９ａ、１３９ｂを介して第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０とが互いに垂直方向に連結することができる。また、第１電極パターン１２０の検知部１３７ａと第２電極パターン１３０の検知部１３７ｂは、互いに重なり合わないように配置することができる。
【００８２】
但し、上述したように、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０をバー型、トゥース型またはダイヤモンド型にパターニングすることは、例示的なものであり、これに限定されず、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、当業界に公知された全てのパターンにパターニングすることができるということは勿論である。
【００８３】
また、第１電極パターン１２０の厚さまたは第２電極パターン１３０の厚さは、特に限定されないが、適切な透過率を確保するために１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがさらに有利である。
【００８４】
一方、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成される。ここで、銀塩乳剤層１５０の露光時に近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いることができ、これについての詳細な説明は、製造方法で後述する。
【００８５】
前記光学フィルタ層１４０（図１Ａまたは図１Ｂ参照）は、光を選択的に遮断（反射または吸収）することにより、透明基板１１０の両面に形成された銀塩乳剤層１５０を露光しても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を与えることを防止する役割を遂行する。ここで、光学フィルタ層１４０は、透明基板１１０の一面と第１電極パターン１２０との間、または透明基板１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成される。即ち、光学フィルタ層１４０は、透明基板１１０を中心に両方に形成されるか、または一方に形成される。
【００８６】
具体的には、光学フィルタ層１４０は、銀塩乳剤層１５０を露光する時に照射される光を選択的に遮断する。従って、露光時に照射される光を考慮して、光学フィルタ層１４０が遮断する光を決定する。ここで、露光時に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長が可能であり、露光時に紫外線（波長が約１０〜３９７ｎｍ）が照射される場合、光学フィルタ層１４０は、紫外線を選択的に遮断するように形成する。より具体的には、露光時に紫外線のうちＩ−ライン（波長が３６５ｎｍ）、Ｈ−ライン（４０５ｎｍ）またはＧ−ライン（４３６ｎｍ）が照射される場合、光学フィルタ層１４０は、Ｉ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインのみを選択的に遮断するように形成する。このように、光学フィルタ層１４０が露光時に照射される光を選択的に遮断することにより、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を与えることを防止することができる。更に、光学フィルタ層１４０は、露光時に照射される光を除いた殆どの光を通過させるため、実質的に透明性を有して、タッチパネル１００の視認性を低下させない。
【００８７】
一方、光学フィルタ層１４０は、ＵＶ遮断用無機物またはＵＶ遮断用有機物で形成することができる。ここで、ＵＶ遮断用無機物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、二酸化チタン（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物であることが好ましく、ＵＶ遮断用有機物は、ベンゾフェノン（Ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）、ベンゾトリアゾール（Ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ）、サリチル酸（Ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）、アクリロニトリル（Ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、有機ニッケル化合物などであることが好ましい。但し、上述の物質は、例示的なものであり、本発明の権利範囲がこれに制限されるものではない。
【００８８】
更に、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の縁には、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０からの電気的信号を受信する配線１６０が形成される。この際、配線１６０は、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、またはインクジェット印刷法（Ｉｎｋｊｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などを利用して形成することができる。また、配線１６０の材料としては、電気伝導度に優れた銀ペースト（Ａｇ  ｐａｓｔｅ）または有機銀で組成された物質を用いることが好ましいが、これに限定されるものではなく、伝導性高分子、カーボンブラック（ＣＮＴを含む）、金属酸化物や金属類などを用いることができる。
【００８９】
一方、上述したように、透明基板１１０、第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０及び光学フィルタ層１４０を含むタッチパネル１００は、画像表示装置により提供される画像をユーザが認識できるように、透過率が８５％以上であることが好ましい。また、タッチパネル１００の透過率を８５％以上に実現するために、第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０の開口率を調節することが好ましい。この際、第１電極パターン１２０または第２電極パターン１３０の開口率は、９５％以上であることが好ましい。
【００９０】
また、本発明によるタッチパネル１００は、透明基板１１０を基準として両面に第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０が形成されるため、自己静電容量方式（Ｓｅｌｆ  Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）タッチパネルまたは相互静電容量方式（Ｍｕｔｕａｌ  Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）タッチパネルに活用することができる。
【００９１】
図９Ａから図１４Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【００９２】
図９Ａから図１４Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、（Ａ）透明基板１１０の一面または両面に光を選択的に遮断する光学フィルタ層１４０を形成する段階と、（Ｂ）透明基板１１０の一面に光学フィルタ層１４０を形成した場合は、光学フィルタ層１４０と透明基板１１０の他面に銀塩乳剤層１５０を形成し、透明基板１１０の両面に光学フィルタ層１４０を形成した場合は、光学フィルタ層１４０に銀塩乳剤層１５０を形成する段階と、（Ｃ）銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像することにより、透明基板１１０を基準として両方に、銀を含む第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０を微細パターンに形成する段階と、を含む構成である。
【００９３】
まず、図９Ａまたは図９Ｂに図示されたように、透明基板１１０に光学フィルタ層１４０を形成する段階である。
【００９４】
ここで、透明基板１１０は、最終的に第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０が形成される領域を提供する役割を遂行する。この際、透明基板１１０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を支持することができる支持力と、画像表示装置により提供される画像をユーザが認識できるようにする透明性を備えなければならない。上述の支持力及び透明性を考慮して、透明基板１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００９５】
また、光学フィルタ層１４０は、後述する段階で銀塩乳剤層１５０を露光する時に光を選択的に遮断（反射または吸収）することにより、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を与えることを防止する役割をする。具体的には、光学フィルタ層１４０は、銀塩乳剤層１５０の露光時に照射される光を選択的に遮断する。従って、露光時に照射される光を考慮して、光学フィルタ層１４０が遮断する光を決定する。露光時に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長が可能であり、露光時に紫外線（波長が約１０〜３９７ｎｍ）が照射される場合、光学フィルタ層１４０は、紫外線を選択的に遮断するように形成する。より具体的には、露光時に紫外線のうちＩ−ライン（波長が３６５ｎｍ）、Ｈ−ライン（４０５ｎｍ）またはＧ−ライン（４３６ｎｍ）が照射される場合、光学フィルタ層１４０は、Ｉ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインのみを選択的に遮断するように形成する。このように、光学フィルタ層１４０が露光時に照射される光を選択的に遮断することにより、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を与えることを防止することができる。更に、光学フィルタ層１４０は、露光時に照射される光を除いた殆どの光を通過させるため、実質的に透明性を有して、タッチパネル１００の視認性を低下させない。
【００９６】
一方、光学フィルタ層１４０で紫外線やＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断するために、光学フィルタ層１４０は、ＵＶ遮断用無機物またはＵＶ遮断用有機物で形成することができる。具体的に、ＵＶ遮断用無機物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  Ｏｘｉｄｅ）、二酸化チタン（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物であることが好ましく、ＵＶ遮断用有機物は、ベンゾフェノン（Ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）、ベンゾトリアゾール（Ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ）、サリチル酸（Ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）、アクリロニトリル（Ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、有機ニッケル化合物などであることが好ましい。一方、光学フィルタ層１４０としてＵＶ遮断用無機物を用いる場合、光学フィルタ層１４０は、スパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、蒸着（Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などにより形成することができる。また、光学フィルタ層１４０としてＵＶ遮断用有機物を用いる場合、光学フィルタ層１４０は、ダイキャスティング（Ｄｉｅ  Ｃａｓｔｉｎｇ）、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、オフセット印刷法（Ｏｆｆ−ｓｅｔ  Ｐｒｉｎｇｔｉｎｇ）、バーコーティング（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）などにより形成することができる。但し、光学フィルタ層１４０をＵＶ遮断用無機物またはＵＶ遮断用有機物で形成することは例示的なものであり、本発明の権利範囲がこれに制限されるものではない。
【００９７】
一方、光学フィルタ層１４０を透明基板１１０の一面または他面のうち少なくとも一方にのみ形成する場合にも、銀塩乳剤層１５０を露光する時に光を遮断することにより、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を与えることを防止することができる。従って、図９Ａに図示されたように光学フィルタ層１４０は、必ずしも透明基板１１０の両面に形成しなければならないのではなく、図９Ｂに図示されたように、透明基板１１０の一面にのみ形成することもできる。
【００９８】
以下、図１０Ａ、図１１Ａ、図１２Ａ、図１３Ａ及び図１４Ａは、透明基板１１０の両面に光学フィルタ層１４０を形成した構成を基準として図示したものであり、図１０Ｂ、図１１Ｂ、図１２Ｂ、図１３Ｂ及び図１４Ｂは、透明基板１１０の一面に光学フィルタ層１４０を形成した構成を基準として図示したものである。
【００９９】
次に、図１０Ａまたは図１０Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を形成する段階である。上述の段階で透明基板１１０の両面に光学フィルタ層１４０を形成した場合は、光学フィルタ層１４０に銀塩乳剤層１５０を形成し（図１０Ａ参照）、透明基板１１０の一面にのみ光学フィルタ層１４０を形成した場合は、光学フィルタ層１４０と透明基板１１０の他面に銀塩乳剤層１５０を形成する（図１０Ｂ参照）。ここで、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３及びバインダー１５５を含む。具体的には、前記銀塩１５３は、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＦ、ＡｇＩ）などの無機銀塩または酢酸銀などの有機銀塩であることが好ましい。また、前記バインダー１５５は、銀塩１５３を均一に分散させ、銀塩乳剤層１５０と光学フィルタ層１４０との間、または銀塩乳剤層１５０と透明基板１１０との間の接着力を強化させるものであり、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、デンプンなどの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどであることが好ましい。このようなバインダー１５５は、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。参照に、図面において銀塩１５３は、本発明の理解を容易にするために誇張して図示したものであり、実際の大きさや濃度などを示すものではない。また、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３及びバインダー１５５の他にも、溶媒や染料などの添加剤をさらに含むことが好ましい。具体的に、溶媒は、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類など）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒であることが好ましい。
【０１００】
一方、銀塩乳剤層１５０は、ダイキャスティング（Ｄｉｅ  Ｃａｓｔｉｎｇ）、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、オフセット印刷法（Ｏｆｆ−ｓｅｔ  Ｐｒｉｎｇｔｉｎｇ）、バーコーティング（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）を利用して形成することができる。
また、銀塩乳剤層１５０を形成した後、熱風乾燥、ＩＲ乾燥または自然乾燥などで銀塩乳剤層１５０を乾燥することができる。
【０１０１】
次に、図１１Ａから図１３Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像することにより、透明基板１１０を基準として両方に、銀を含む第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０を微細パターンに形成する段階である。
【０１０２】
具体的には、図１１Ａまたは図１１Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光する段階である。上述の段階で透明基板１１０を基準として両方に銀塩乳剤層１５０を形成したため、本段階では透明基板１１０を基準として両方に露光を行う。この際、露光は、透明基板１１０を基準として両方に同時に行ってもよく、一方ずつ順に行ってもよい。一方、露光時に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長が可能であるが、通常、紫外線を用いることが好ましい。より具体的には、高圧水銀放電時に相対強度（Ｒｅｌａｔｉｖｅ  Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）が大きいＩ−ライン（３６５ｎｍ）、Ｈ−ライン（４０５ｎｍ）またはＧ−ライン（４３６ｎｍ）を用いて露光することが好ましく、精密な露光のためには、このうち相対的に波長が短いＩ−ラインを選択することが好ましい。
【０１０３】
本段階で、透明基板１１０を基準として両方にマスク１８０を配置した後、銀塩乳剤層１５０に選択的に光を照射すると、光を照射した部分の銀塩乳剤層１５０では、銀塩１５３が光エネルギーで感光され、いわゆる潜像と定義される微小な銀核が生成される。結局、露光により光を照射した部分にのみ選択的に銀核が生成される。このように、光を照射した部分には、最終的に第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０が形成される。従って、本段階では、形成しようとする第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０を考慮して選択的に露光しなければならない。
【０１０４】
一方、上述したように、透明基板１１０を基準として両方に露光を行っても、光学フィルタ層１４０が露光時に照射される光を遮断するため（矢印参照）、銀塩乳剤層１５０は、透明基板１１０を基準として反対面から照射される光の影響を受けない。従って、最終的に形成しようとする第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の微細パターンが相違する場合にも、銀塩乳剤層１５０は、露光時に透明基板１１０を基準として反対面に行われる露光の影響を受けず、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０を精密に形成することができる。
【０１０５】
また、銀塩乳剤層１５０を露光する時に、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いることができる。近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機は、タクトタイム（Ｔａｃｔ  ｔｉｍｅ）が相対的に短いため、生産性を向上させるだけでなく、大量生産に適するという長所がある。
【０１０６】
次に、図１２Ａまたは図１２Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を現像する段階である。本段階は、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給して金属銀１５７を還元させる段階である。この際、銀塩１５３や現像液から提供される銀イオンは、現像液中の還元剤により銀核を触媒として金属銀１５７に還元される。上述の段階で光を照射した部分にのみ選択的に銀核が生成されるため、本段階でも光を照射した部分にのみ選択的に金属銀１５７が還元される。
【０１０７】
一方、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給する方法は、当業界に公知された全ての方法を用いることができる。例えば、現像液に銀塩乳剤層１５０を浸したり、現像液を銀塩乳剤層１５０にスプレーで噴射したり、現像液を蒸気形態で銀塩乳剤層１５０に接触させる方法などにより、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給することができる。
【０１０８】
更に、銀塩乳剤層１５０を現像した後、水で洗浄したり、高圧のエア（Ａｉｒ）を用いて現像液を除去することができる。
【０１０９】
次に、図１３Ａまたは図１３Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０に定着過程を行う段階である。ここで、定着過程は、銀塩乳剤層１５０に定着液を供給して、銀に還元されていない銀塩１５３を除去することである。このように、銀に還元されていない銀塩１５３を除去すると、銀塩１５３が除去された部分には、ゼラチンなどのバインダー１５５のみが残存するようになる。
【０１１０】
その結果、銀塩乳剤層１５０のうち、露光／現像により金属銀１５７に還元された部分が第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０となり、定着過程により銀塩１５３が除去された部分は、バインダー１５５のみが残存して透明になる。
【０１１１】
更に、図１４Ａ及び図１４Ｂに図示されたように、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０の縁に、それぞれ配線１６０を形成することができる。ここで、配線１６０は、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０からの電気的信号を受信するものであり、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）またはインクジェット印刷法（Ｉｎｋｊｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などを利用して形成することができる。また、配線１６０の材料としては、電気伝導度に優れた銀ペースト（Ａｇ  ｐａｓｔｅ）または有機銀で組成された物質を用いることが好ましいが、これに限定されるものではなく、伝導性高分子、カーボンブラック（ＣＮＴを含む）、金属酸化物や金属類などを用いることができる。
【０１１２】
以下、上述した工程を経て形成した第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０について具体的に説明する。
【０１１３】
第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０は、ユーザのタッチ時に信号を発生させ、コントローラでタッチ座標を認識できるようにする役割を遂行するものであり、第１電極パターン１２０は、透明基板１１０の一面に形成され、第２電極パターン１３０は、透明基板１１０の他面に形成される。
【０１１４】
ここで、第１電極パターン１２０の面抵抗または第２電極パターン１３０の面抵抗は、厚さを調節したり銀塩乳剤層１５０の銀含量を調節することにより、タッチパネル１００に適するように１５０Ω／□以下にすることが好ましい。より具体的には、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることが好ましい。ここで、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗を０．１〜５０Ω／□に形成する理由は、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が０．１Ω／□以下であると、銀塩１５３の量が多すぎて透明性が阻害される恐れがあり、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が５０Ω／□以上であると、電気伝導度が低くて活用度が低下するためである。但し、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、必ずしも前記数値に制限されるものではない。
【０１１５】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【０１１６】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【０１１７】
本発明は、ＩＴＯに代替可能でありながらも、電気伝導度に優れたタッチパネル及びその製造方法に適用可能である。
【符号の説明】
【０１１８】
１００  タッチパネル
１１０  透明基板
１２０  第１電極パターン
１２５  第１四角形
１３０  第２電極パターン
１３５  第２四角形
１３７ａ、１３７ｂ  検知部
１３９ａ、１３９ｂ  連結部
１４０  光学フィルタ層
１５０  銀塩乳剤層
１５３  銀塩
１５５  バインダー
１５７  金属銀
１６０  配線
１７０  モアレ縞
１８０  マスク
Ａ  交差角
Ｂ  特定角
Ｇ  モアレ縞の間隔
Ｌ  長方形または菱形の一辺の長さ
Ｃ１  第１四角形の中心
Ｃ２  第２四角形の中心
Ｖ１  第１四角形の頂点
Ｖ２  第２四角形の頂点
Ｐ  ピッチ
Ｗ  線幅
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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【図１４Ａ】
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【図１４Ｂ】
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