【手続補正書】
【提出日】平成28年2月3日(2016.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
第１の方向に伝搬する入来レーザビーム（２８、２８ａ）を受けて前記第１の方向とは異なる第２の方向に反射するための少なくとも１つの反射面（４４、６４、８６）を備える、レーザ機構の光パワー増幅器（１０）用のビーム反転モジュールであって、前記少なくとも１つの反射面（４４、６４、８６）が第１のミラー（４２、６２、８２）の高反射面であり、
前記少なくとも１つの反射面（４４、６４）の下流に配置された下流のビーム偏向素子（４６、６６）であって、前記少なくとも１つの反射面（４４、６４）で反射された前記レーザビーム（２８ｂ）を、前記ビーム偏向素子（４６、６６）で偏向された前記レーザビーム（２８ｃ）が前記第１の方向に伝搬する前記レーザビーム（２８、２８ａ）と交差させるように、前記第１の方向および前記第２の方向とは異なる第３の方向へ偏向する下流のビーム偏向素子（４６、６６）をさらに備える、ビーム反転モジュール。
【請求項２】
前記下流のビーム偏向素子（４６、６６）が、入射面（５０、７６）および出口面（５２、７８）を有する透過性の光学素子であり、前記透過性の光学素子が、前記少なくとも１つの反射面（４４、６４）で反射された前記レーザビーム（２８ｂ）に対して、前記レーザビーム（２８ｂ）が前記入射面（５０、７６）から前記出口面（５２、７８）へ前記透過性の光学素子を通って内部全反射なしで伝搬するように配置されている請求項１に記載のビーム反転モジュール。
【請求項３】
前記入射面（５０、７６）および／または前記出口面（５２、７８）が高いレーザ耐久性（ＨＬＤ）の反射防止コーティングでコーティングされている請求項２に記載のビーム反転モジュール。
【請求項４】
前記下流のビーム偏向素子（４６、６６）がプリズムである請求項１から３までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項５】
前記少なくとも１つの反射面（４４、６４）の上流に配置された上流のビーム偏向素子（６８）であって、前記入来ビーム（２８）を前記第１の方向に偏向する上流のビーム偏向素子（６８）をさらに備える請求項１から４までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項６】
前記上流のビーム偏向素子（６８）が、入射面（７２）および出口面（７４）を有する透過性の光学素子であり、前記透過性の光学素子が、前記入来レーザビーム（２８）に対して、前記レーザビーム（２８）が前記入射面（７２）から前記出口面（７４）へ前記透過性の光学素子を通って内部全反射なしで伝搬するように配置されている請求項５に記載のビーム反転モジュール。
【請求項７】
前記入射面（７２）および／または前記出口面（７４）が反射防止コーティングでコーティングされている請求項６に記載のビーム反転モジュール。
【請求項８】
前記上流のビーム偏向素子（６８）がプリズムである請求項５から７までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項９】
前記上流のビーム偏向素子（６８）および前記下流のビーム偏向素子（６６）が、単一のモノリシック光学素子として、好ましくは単一のプリズムとして一緒に実施されている請求項１から４まで、および請求項５から８までの、いずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１０】
前記少なくとも１つの反射面（８６）である第１の反射面（８６）で反射された前記レーザビーム（２８ｂ）を受けて前記第１の方向とは異なる方向に反射する少なくとも１つの第２の反射面（８８）をさらに備えるビーム反転モジュールであって、前記少なくとも１つの第２の反射面（８８）が少なくとも１つの第２のミラー（８４）の高反射面である請求項１から９までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１１】
前記第１の反射面（８６）と前記少なくとも１つの第２の反射面（８８）の間に形成される角度（９０）が、前記少なくとも１つの第２の反射面（８８）で反射されたレーザビーム（２８ｃ）を前記入来レーザビーム（２８ａ）と交差させるように設定されている請求項１０に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１２】
前記第１のミラー（８２）および前記少なくとも１つの第２のミラー（８４）が、前記角度（９０）を定義するベースプレート（９２）に光学的に接合されている請求項１１に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１３】
前記角度（９０）が、約８５°〜約９５°の範囲、好ましくは約９０°に設定されている請求項１１または１２に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１４】
前記第１のミラー（８２）および前記第２のミラー（８４）が、前記レーザビーム（２８ａ、２８ｂ）が約４０°〜約５０°の範囲の入射角で、好ましくは約４５°の入射角で前記第１の反射面および前記少なくとも１つの第２の反射面（８６、８８）に当たるように配置されている請求項１０から１３までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１５】
入来レーザビーム（２８ａ）が入るレーザビーム入射面（１０４）を有するプリズム（１０２）と、前記プリズム（１０２）に入る前記レーザビーム（２８ａ）を受けるための第１の内部全反射面（１０６）と、前記第１の内部全反射面（１０６）で反射された前記レーザビーム（２８ｂ）を受けるための第２の内部全反射面（１０８）であって、前記第１の内部全反射面（１０６）との間に６０°よりも大きい角度を形成する第２の内部反射面（１０８）と、前記第２の内部全反射面（１０８）で反射された前記レーザビーム（２８ｃ）が前記プリズム（１０２）から出て来るレーザビーム出口面（１１０）とを備える、レーザ機構の光パワー増幅器（１０）用のビーム反転モジュールであって、前記プリズム（１０２）を通って伝搬する前記レーザビーム（２８ａ、２８ｂ、２８ｃ）のビーム幅を、ブルースター角の下での幅よりも増加させるために、前記入射面（１０４）が、前記入来レーザビーム（２８ａ）に対して、前記入来レーザビーム（２８ａ）の入射角（１１４）がブルースター角を上回るように配置されているビーム反転モジュール。
【請求項１６】
前記第１および第２の内部全反射面（１０６、１０８）が、面吸収を最小化するやり方でこれらの面（１０６、１０８）に関する電界条件を変化させる面保護コーティングを有する請求項１５に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１７】
前記プリズム（１０２）が、０．２×１０-4ｃｍ／ｍＪ未満のリニアレーザ誘起吸収係数を有するＣａＦ2を用いて、好ましくは約１９３ｎｍの波長で製作されている請求項１５または１６に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１８】
前記レーザビーム入射面１０４および／または前記レーザビーム出口面（１１０）が、ＨＤＬ反射防止コーティングでコーティングされている請求項１５から１７までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項１９】
前記ビーム反転モジュールの前記光学素子（４０、６０、８０、１００）のうち少なくとも１つを、この光学素子（１００）の表面上またはその内部におけるレーザビームの位置（１４０、１４２）に従って光学素子（１００）の面にわたって変化するパージ率で直接パージするように適合されたパージ装置（１３４）をさらに備える請求項１から１８までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール。
【請求項２０】
前記パージ装置（１３４）が、前記第１の内部全反射面（１０６）および／または前記第２の内部全反射面（１０８）をパージするように適合されている請求項１９に記載のビーム反転モジュール。
【請求項２１】
請求項１から２０までのいずれか１項に記載のビーム反転モジュール（４０、６０、８０、１００）を備える、レーザ機構の光増幅器。