Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月8日(2015.12.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１０９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１０９】
代替的実施形態は以下のように記載される。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１０】
条項１．
無人航空機を運航する方法であって、
無人航空機を、所定の地上航跡を横切って定常バンク角で飛行させることと、
無人航空機が定常バンク角で飛行する間、無人航空機の位置群を特定することと、
無人航空機の定常バンク角と位置群とを使用して風速及び風向を特定することと、
風速及び風向を使用して、所定の地上航跡上を飛行するよう無人航空機を運航することと
を含む方法。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１１】
条項２．
無人航空機の位置群を使用して無人航空機の真対気速度を特定することであって、無人航空機の位置群と定常バンク角とを使用して風速及び風向を特定することは、
無人航空機の位置群、定常バンク角、及び無人航空機の真対気速度を使用して風速及び風向を特定することを含む、特定すること
をさらに含む、条項１に記載の方法。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１２】
条項３．
風速及び風向を使用して、所定の地上航跡上を飛行するよう無人航空機を運航することは、
風速及び風向を使用して偏流修正角を特定することと、
無人航空機が所定の地上航跡上を飛行するよう無人航空機の機首方位を調整することと
を含む、条項１に記載の方法。
条項４．
前記コンピュータシステムは、前記所定の地上航跡に沿って前記定常バンク角で飛行する航空機についての情報を自動的に受信するように構成され、前記機動地上航跡は前記航空機の前記所定の地上航跡を横切り、前記コンピュータシステムは前記航空機の前記機動地上航跡に沿った前記位置群から前記風についての前記情報を特定する、
条項１に記載の航空機管理システム。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１３】
条項５．
航空機は無人航空機である、条項４に記載の航空機管理システム。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１１４】
条項６．
コンピュータシステムは航空機又は遠隔位置のうちの少なくとも１つに位置する、条項４に記載の航空機管理システム。
このように、様々な例示的実施形態は航空機の運航のための方法及び装置を提供する。様々な例示的実施形態は、所定の地上航跡に沿った航空機の飛行に影響を与え得る風についての情報を特定する能力を提供する。
例示的実施形態の一又は複数により、航空機のための風情報の特定が、観測気球など他の機構を使用することなく可能となる。さらに、風について特定された情報が、観測気球などの他の機構を使用するよりも正確である。実施例では、航空機の飛行に実際に影響する風について情報を特定するために、機動飛行を実施する航空機に対する風の効果が使用される。
また、一又は複数の例示的実施形態は、航空機と航空交通管制との間の情報伝送を含まない。この手法で、航空機の運航における風情報の特定のための追加装備は不要である。結果として、航空機における重量、費用及び複雑さが抑えられる。
例示的実施形態のいくつかの代替的実装では、ブロックに記載された一つ又は複数の機能は、図中に記載の順序を逸脱して現れることがある。例えば、含まれる機能性によっては、連続して示される２つのブロックは実質的に同時に実行される場合があり、又はブロックは時に逆の順序で実行されうる。また、フロー図又はブロック図に描かれているブロックに加えて他のブロックが追加されることもありうる。
したがって、一又は複数の例示的実施形態は、航空機の地上航跡上の飛行に影響する風についての情報を特定する方法及び装置を提供する。特に、一又は複数の例示的実施形態は、無人航空機の運航に適用され得る。
実施例では、航路において横風が考慮されない場合にコース修正の反復を減少するために、風について特定された情報を伴って、定常バンク角を使用し自動判定された偏流修正角からの機首方位の自動算出が使用される。
上述した様々な実施形態の説明は、例示及び説明を目的とするものであり、完全な説明であること、又はこれらの実施形態を開示された形態に限定することを意図していない。当業者には、多くの修正例及び変形例が自明である。さらに、異なる例示的な実施形態は、他の例示的な実施形態とは異なる特徴を提供することができる。選択された一又は複数の実施形態は、実施形態の原理、実際の用途を最もよく説明するため、及び他の当業者に対し、様々な実施形態の開示内容と、考慮される特定の用途に適した様々な修正との理解を促すために選択及び記述されている。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月5日(2016.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項２】
界面活性剤０．０７５％〜１％を含有する及び/又は硬化促進剤を含有する、請求項１に記載の成形されていないコンクリート。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
約６０モル％〜約６６モル％のＳｉＯ２；
約７モル％〜約１０モル％のＡｌ２Ｏ３；
約１４モル％〜約１８モル％のＢ２Ｏ３；及び
約９モル％〜約１６モル％のアルカリ土類酸化物；
を含む、ガラス組成物であって、
前記アルカリ土類酸化物は、約３モル％〜約１２モル％のＣａＯ、２モル％〜４モル％のＭｇＯ、及び１モル％〜４モル％のＳｒＯを含み、
前記ガラス組成物は、アルカリ金属及びアルカリ金属を含有する化合物を実質的に含まない、ガラス組成物。
【請求項２】
約６３モル％〜約６５モル％のＳｉＯ２；及び
約１６モル％〜約１７モル％のＢ２Ｏ３；
を含む、請求項１に記載のガラス組成物。
【請求項３】
２０℃〜３００℃の温度範囲に亘って平均して４０×１０−７／℃以下の熱膨張係数；
約５０キロポアズ以上の液相粘度；又は
１０．５Ｍｐｓｉ以下のヤング率；
のうちの少なくとも１つを有する、請求項１又は２に記載のガラス組成物。
【請求項４】
前記ガラス組成物が、約１０４０℃以下の液相温度を有することを特徴とする、請求項１〜３のいずれか１項に記載のガラス組成物。
【請求項５】
第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置されたガラスコア層を備える、ガラス物品であって、
前記第１のガラスクラッド層及び前記第２のガラスクラッド層は、請求項１〜４のいずれか１項に記載のガラス組成物から形成される、ガラス物品。
【請求項６】
前記ガラスコア層は、平均コア熱膨張係数ＣＴＥｃｏｒｅを有し；
前記第１のガラスクラッド層及び前記第２のガラスクラッド層は、前記平均コア熱膨張係数ＣＴＥｃｏｒｅ未満である平均クラッド熱膨張係数ＣＴＥｃｌａｄを有し；
前記第１のガラスクラッド層及び前記第２のガラスクラッド層は、圧縮応力を受ける；請求項５に記載のガラス物品。
【請求項７】
前記ガラスコア層の第１の表面は、前記第１のガラスクラッド層に直接隣接し、
前記ガラスコア層の第２の表面は、前記第２のガラスクラッド層に直接隣接する、請求項５又は６に記載のガラス物品。
【請求項８】
前記第１のガラスクラッド層又は第２のガラスクラッド層と前記ガラスコア層との間に、拡散性層が配置され、
前記拡散性層の平均熱膨張係数は、前記コアの前記平均コア熱膨張係数の値と、前記第１のガラスクラッド層又は前記第２のガラスクラッド層の前記平均クラッド熱膨張係数の値との間の値を有する、請求項５又は６に記載のガラス物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月29日(2016.2.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
７０モル％〜８０モル％のＳｉＯ２と；
０モル％〜８モル％のＡｌ２Ｏ３と；
３モル％〜１０モル％のＢ２Ｏ３と；
０モル％〜２モル％のＮａ２Ｏと；
１０モル％〜１５モル％のＫ２Ｏと；
５モル％〜６モル％のアルカリ土類酸化物と；
を含むガラス組成物において、
前記アルカリ土類酸化物がＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯのうちの少なくとも１つであり；
前記ガラス組成物が、２０℃〜３００℃の温度範囲にわたり平均して７５×１０−７／℃以上である熱膨張係数を含み；
前記ガラス組成物が２５０キロポアズ以上の液相粘度を含み：
前記ガラス組成物がＭｇＯを実質的に含まない；
ことを特徴とするガラス組成物。
【請求項２】
第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置されたガラスコア層を含むガラス物品において、前記ガラスコア層が、
７０モル％〜８０モル％のＳｉＯ２と；
０モル％〜８モル％のＡｌ２Ｏ３と；
３モル％〜１０モル％のＢ２Ｏ３と；
０モル％〜２モル％のＮａ２Ｏと；
１０モル％〜１５モル％のＫ２Ｏと；
を含み、２０℃〜３００℃の温度範囲にわたり平均して７５×１０−７／℃以上である熱膨張係数を含むガラス組成物から形成されている、ガラス物品。
【請求項３】
前記アルカリ土類酸化物が、
１．５モル％以上のＳｒＯと；
０モル％〜２モル％のＢａＯと；
を含む、請求項１記載のガラス組成物。
【請求項４】
７３モル％〜７７モル％のＳｉＯ２と；
０モル％〜３モル％のＡｌ２Ｏ３と；
４モル％〜５モル％のＢ２Ｏ３と；
０モル％〜２モル％のＮａ２Ｏと；
１１．５モル％〜１２．５モル％のＫ２Ｏと、
を含む、請求項１または３記載のガラス組成物。
【請求項５】
前記ガラス組成物中のＮａ２Ｏの濃度が０．１モル％以上であるか、
前記ガラス組成物がＢａＯを実質的に含まないか、または
前記ガラス組成物が重金属を実質的に含まないか、
の少なくとも１つである、請求項１、３および４いずれか１項記載のガラス組成物。
【請求項６】
前記ガラス組成物中のＫ２Ｏ濃度（モル％）が、該ガラス組成物中のＢ２Ｏ３濃度（モル％）と前記ガラス組成物中のＡｌ２Ｏ３濃度（モル％）の和より大きい、請求項１および３〜５いずれか１項記載のガラス組成物。
【請求項７】
第１のガラスクラッド層と第２のガラスクラッド層との間に配置されたガラスコア層を含むガラス物品において、前記ガラスコア層が、請求項１および３〜６いずれか１項記載のガラス組成物から形成されている、ガラス物品。
【請求項８】
前記ガラスコア層が平均コア熱膨張係数ＣＴＥコアを有し；
前記第１のガラスクラッド層および前記第２のガラスクラッド層が、前記平均コア熱膨張係数ＣＴＥコアよりも低い平均クラッド熱膨張係数ＣＴＥクラッドを有する、請求項２または７記載のガラス物品。
【請求項９】
前記ガラスコア層の第１の表面が前記第１のガラスクラッド層に直接隣接し、前記ガラスコア層の第２の表面が前記第２のガラスクラッド層に直接隣接する、請求項２、７および８いずれか１項記載のガラス物品。
【請求項１０】
拡散層が、前記第１のガラスクラッド層または前記第２のガラスクラッド層の少なくとも１つと前記ガラスコア層との間に配置されており、前記拡散層の前記平均熱膨張係数が、前記ガラスコア層の平均コア熱膨張係数の値と前記第１のガラスクラッド層または第２のガラスクラッド層のうちの前記少なくとも１つの平均クラッド熱膨張係数の値との間の値を有する、請求項２および７〜９いずれか１項記載のガラス物品。
【請求項１１】
ＬＣＤおよびＬＥＤディスプレー、コンピュータモニター、現金自動預入支払機（ＡＴＭ）を含む消費者用または業務用電子デバイスにおけるカバーガラスまたはガラスバックプレーンの利用分野；携帯電話、パーソナルメディアプレーヤーおよびタブレットコンピュータを含むポータブル式電子デバイス用のタッチスクリーンまたはタッチセンサーの利用分野；太陽電池の利用分野；建築用ガラスの利用分野；自動車または車両用ガラスの利用分野；または業務用または家庭用電化製品の利用分野のための、請求項１および３〜６いずれか１項記載のガラス組成物または請求項２および７〜１０いずれか１項記載のガラス物品の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月4日(2016.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
還元ガスの流れの存在下においてグラファイトを形成するのに有効な温度に電気分解石炭を加熱するステップを備えたグラフェンの形成方法であって、前記還元ガスの流れが表面上にグラフェンを堆積させる、方法。
【請求項２】
前記電気分解石炭を基板上に薄層として堆積させて、前記還元ガスを前記薄層上に高温で流す、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記電気分解石炭が、電気分解石炭粒子上に形成されたゼラチン様物質を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記電気分解石炭が、電気分解プロセス中に形成されたゼラチン様フィルムでコーティングされた電気分解石炭粒子を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記電気分解石炭が、電気分解石炭粒子を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項６】
前記還元ガスが、水素及び不活性キャリアガスを備える、請求項２に記載の方法。
【請求項７】
前記還元ガスが、０．８ｓｌｐｍの流量で流れる、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
前記温度が４００℃よりも高い、請求項６に記載の方法。
【請求項９】
還元ガスを流す前に不活性ガスを流すステップを更に備えた請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記加熱するステップに続いて、前記表面を急速冷却するステップを更に備えた請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
前記基板が銅箔を備える、請求項２に記載の方法。
【請求項１２】
前記表面が銅箔を備える、請求項１に記載の方法。
【請求項１３】
前記電気分解石炭が、３０ｍＡ／ｃｍ２よりも高く且つ２００ｍＡ／ｃｍ２未満の電流密度で電気分解されたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記電気分解石炭が、８０℃以上の温度で電気分解されたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
前記電気分解石炭を基板上に堆積させることが、前記電気分解石炭をキャリア中に分散させて、ガス噴霧器を用いて前記キャリア中の電気分解石炭を前記基板上に分配して、前記キャリアを蒸発させることを備える、請求項４又は５に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月14日(2016.4.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
か焼された天然岩石膏から修飾されたβ型スタッコを調製する方法であって、
ジエチレントリアミン五酢酸（以下、ＤＴＰＡと略す）の水溶液を調製する工程と、
か焼炉から取り出された熱いままのβ型スタッコ上に前記水溶液を噴霧して、湿らせたスタッコを形成する工程と、
前記湿らせたスタッコを乾燥および修復し、修飾されたβ型スタッコを形成する工程と、
を含むことを特徴とするβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項２】
前記水溶液が、β型スタッコ１トンあたりＤＴＰＡを０．６２ｋｇ〜約１．４５ｋｇ（１．５ポンド〜３．６ポンド）の割合で適用されることを特徴とする請求項１に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項３】
前記修飾されたβ型スタッコを粉砕する工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項４】
前記水溶液を噴霧して湿らせたスタッコを形成する工程の前に、β型スタッコを流動化させる工程をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項５】
前記水溶液を噴霧して湿らせたスタッコを形成する工程が、
１４０〜１７１℃（２８５〜３４０°Ｆ）の間の温度でβ型スタッコを処理容器中に受容する工程と、
容器のエアチャンバーが加圧されるように前記処理容器の底部に流動床を提供する工程と、
前記β型スタッコに前記処理容器を通過させる工程と、
水およびＤＴＰＡの溶液のための少なくとも１つの噴霧器に前記β型スタッコを通過させる工程と、
前記β型スタッコに前記水溶液を噴霧して、修飾されたβ型スタッコを提供する工程と、
前記修飾されたβ型スタッコを前記処理容器から取り出す工程と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項６】
撹拌機を備えた前記処理容器に流入する際に前記β型スタッコを撹拌して前記流動床のチャネリングを防止する工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項７】
前記β型スタッコが前記処理容器の頂部で前記処理容器中へ受容され、前記処理容器の底部へ下降することによって前記処理容器を通過することが可能にされることを特徴とする請求項５に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項８】
前記流動床によって、下降するβ型スタッコに、速度低下及び懸濁のうちの少なくともいずれかが行われることを特徴とする請求項５に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項９】
前記エアチャンバーが、前記流動床の全長にわたって１３．８〜６９．０ＫＰａ（２ｐｓｉ〜１０ｐｓｉ）の差を生成するように加圧されることを特徴とする請求項５に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項１０】
前記取り出す工程が、前記修飾されたβ型スタッコを７１〜１５０℃（１６０〜３００°Ｆ）の間の温度で取り出す工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【請求項１１】
前記処理容器から吐出される際に、前記修飾されたβ型スタッコを粉砕する工程をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のβ型スタッコを修飾する方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月5日(2016.1.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】発明の名称
【補正方法】変更
【補正の内容】
【発明の名称】ビニルエステル及び酢酸又はプロピオン酸反応生成物の共製造の第一段階としてのトランスビニル化
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１５】
国際公開第９２／０９５５４号パンフレット（特許文献１５）は、ルテニウム触媒の存在下でのビニルエステルの製造方法を取り扱っており、その際、得られた反応混合物は、共沸点物の添加下で処理される。この方法は、連続的に、半連続的に、バッチ式に、又は半バッチ式に行うことができる。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１６】
Ｘが、式ＯＲ２で表されるアルコキシの場合、Ｒ２は、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソ−プロピル、ｎ−ブチル又はイソ−ブチルを意味することを特徴とする、請求項１〜１５のいずれか一つに記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月10日(2016.3.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
少なくとも１つの飛行装置が接続されるケーブルを引き込む又は引き出すためのウイン
チの動作を自動制御する方法であって、
前記ウインチと前記飛行装置間の相対的位置の変化の関数として、前記ケーブルの最適
長さをリアルタイムで得るために、下記のａ〜ｄの一連の工程を備えていることを特徴と
するウインチ自動制御方法。
ａ：ウインチと飛行装置間の相対的位置を決定する工程；
ｂ：前工程で決定されたウインチと飛行装置間の相対的位置の関数としてケーブルの最適
長さを算出する工程；
ｃ：前工程で算出されたケーブルの所望長さを得るためにウインチを起動する工程；及び
ｄ：所望時間、ａ〜ｃの一連の工程を繰り返す工程。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月25日(2016.2.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
車両のドライバーに渡渉情報を提供するためのＨＭＩ装置の制御方法であって、
コントローラを含む制御システムを使用して、
車両の限界渡渉深さより高い位置に配置したリモート測距用の二つ又は二つ超のセンサからのデータを比較するステップ、
前記比較に基づき、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップ、
を含む方法。
【請求項２】
一つ又は一つ超の水接触センサにより提供されたデータに基づき、車両の限界渡渉深さ位置で車両の少なくとも一部が水中に配置されているか否かを決定するステップにして、前記比較ステップの前あるいは後に実施されるステップを更に含み、
リモート測距用の二つ又は二つ超のセンサからのデータが、左側推定深さ（Ｄ左）及び右側推定深さ（Ｄ右）である請求項１に記載の方法。
【請求項３】
リモート測距用の二つ又は二つ超のセンサからのデータの比較が、
ａ）一つ又は一つ超の任意の水接触センサにより、少なくとも限界渡渉深さ位置における水の存在が決定された場合、左側推定深さ（Ｄ左）、及び又は、右側推定深さ（Ｄ右）が限界渡渉深さより大きいか否かを決定するステップ、
ｂ）一つ又は一つ超の任意の水接触センサにより、少なくとも限界渡渉深さ位置における水が存在しないことが決定された場合、左側推定深さ（Ｄ左）、及び又は、右側推定深さ（Ｄ右）が限界渡渉深さより大きいか否かを決定するステップ、
ｃ）左側推定深さ（Ｄ左）、及び又は、右側推定深さ（Ｄ右）が所定の測定可能距離内であるか否かを決定するステップ、
ｄ）左側推定深さ（Ｄ左）、及び、右側推定深さ（Ｄ右）が相互の所定の許容誤差（ΔＴ）内であるか否かを決定するステップ、
を含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】
ステップａ）で、左側推定深さ（Ｄ左）及び右側推定深さ（Ｄ右）が何れも限界渡渉深さより大きくないと決定された場合、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップが渡渉情報の提供を防止し、及び又は、
ステップｂ）で、左側推定深さ（Ｄ左）又は右側推定深さ（Ｄ右）の何れか限界渡渉深さより大きくないと決定された場合、且つ同時に、水接触センサの何れも限界渡渉深さ位置の水の存在を表示するデータを発生しない場合、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップが渡渉情報の提供を防止し、及び又は、
ステップｃ）で、左側推定深さ（Ｄ左）及び右側推定深さ（Ｄ右）が所定の測定可能距離の下限以下であると決定された場合、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップが渡渉情報の提供を防止するステップを更に含む請求項３に記載の方法。
【請求項５】
ステップｄ）で、左側推定深さ（Ｄ左）及び右側推定深さ（Ｄ右）が相互の所定の許容誤差（ΔＴ）内であると決定された場合、
車両の横方向傾斜をチェックし、前記横方向傾斜が０でない場合は、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップが渡渉情報の提供を防止するステップ、
車両の横方向傾斜をチェックし、前記横方向傾斜が０である場合は、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップが渡渉情報の提供を防止するステップ、 車両の横方向傾斜をチェックし、前記横方向傾斜が０である場合は、渡渉情報が、前記横方向傾斜に角度付けした測距用のリモートセンサに相当する深さ情報のみを示すように改変されるステップ、の何れか１つを更に含む請求項４に記載の方法。
【請求項６】
限界渡渉深さが約２００ｍｍ〜約４５０ｍｍの範囲内のものである、及び又は、
所定の測定可能距離が約１２５ｍｍ〜約４５０ｍｍの範囲内のものであり、且つ、前記所定の測定可能距離の上限が限界渡渉深さにより提供される請求項１〜５の何れかに記載の方法。
【請求項７】
所定の許容誤差（ΔＴ）が５０ｍｍ〜約１５０ｍｍの範囲内のものである請求項３〜６の何れかに記載の方法。
【請求項８】
（ｉ）限界車両速度を超えたか否かを決定するステップ、
（ｉｉ）一つ又は一つ超の任意の水接触センサが第１所定時間内に限界渡渉深さ位置の水を検出したか否かを決定するステップ、
（ｉｉｉ）車両が登坂中か否かを決定するステップ、
（ｉｖ）車両周囲の水体の深さが最小深さに減少したか否かを決定するステップ、
（ｖ）ユーザーがＨＭＩ装置の手動停止をリクエストしたか否かを決定し、それに応答して、渡渉情報を表示させるようＨＭＩ装置を選択的に制御するステップが渡渉情報の提供を防止するステップ、
を一つ又は一つ以上含む請求項１〜７の何れかに記載の方法。
【請求項９】
第１所定時間が少なくとも１５秒であり、及び又は、最小深さが限界渡渉深さ未満である請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れかに記載の方法を実施する構成を有する車両のためのシステムであって、
車両の限界渡渉深さより高い位置で車両に配置したリモート測距用の二つ又は二つ超のセンサと、
渡渉情報を表示する構成を有するＨＭＩ装置と、
リモート測距用の二つ又は二つ超のセンサからの測距データを比較し、前記比較に基づき、渡渉情報が選択的に提供されるようＨＭＩ装置を制御するコントローラ、
を含むシステム。
【請求項１１】
限界渡渉深さ位置あるいはそれより下方に取り付けた少なくとも一つの水接触センサを更に含み、前記コントローラが、水接触センサの少なくとも一つが水中に配置されたか否かを決定し、且つ、前記決定に基づき、渡渉情報を選択的に提供する構成を更に有する請求項１０に記載のシステム。
【請求項１２】
リモート測距用の二つ又は二つ超のセンサが車両の同一の横方向軸上に配置される請求項１０あるいは１１に記載のシステム。
【請求項１３】
車両姿勢センサを更に含み、コントローラが、車両の姿勢を検出する構成及び、前記検出に基づき渡渉情報を選択的に提供する構成を更に有する請求項１０〜１２の何れかに記載のシステム。
【請求項１４】
請求項１０〜１３の何れかに記載の如き渡渉支援用のシステムを含む車両。
【請求項１５】
コンピュータ上で実行される場合に、請求項１〜９の何れかに記載の方法を実施する構成を有するコンピュータ用のプログラム。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月22日(2016.2.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
癌の治療においてＥＧＦＲ阻害剤と組み合わせて使用するための、抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項２】
ヒトクラステリンのβサブユニットのＣ末端部分のアミノ酸４２１〜４４３に結合する、請求項１に記載の使用のための抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項３】
前記ＥＧＦＲ阻害剤が、チロシンキナーゼ阻害剤または抗ＥＧＦＲ抗体もしくはその抗原結合性フラグメントである、請求項１または２に記載の使用のための抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項４】
前記チロシンキナーゼ阻害剤が、エルロチニブ、ゲフィチニブ、イマチニブ、ラパチニブまたはセマジニブであり、または抗ＥＧＦＲ抗体もしくはその抗原結合性フラグメントが、セツキシマブ、パニツムマブ、ニモツズマブ、またはメツズマブである、請求項３に記載の使用のための抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項５】
前記癌が、乳癌、肺癌、前立腺癌、子宮内膜癌、卵巣癌、肝細胞癌、結腸直腸癌、頭頸部癌、膵臓癌または腎臓癌である、請求項１〜４のいずれか１項に記載の使用のための抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項６】
前記乳癌が、トリプルネガティブ乳癌または基底細胞型乳癌である、請求項５に記載の使用のための抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項７】
前記癌が、ＥＧＦＲ阻害剤に対し耐性であるものとして特性決定された細胞を含む、請求項１〜６のいずれか１項に記載の使用のための抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項８】
ａ．配列番号４５に示すＣＤＲＨ１、配列番号４６に示すＣＤＲＨ２、および配列番号４７に示すＣＤＲＨ３、配列番号４８に示すＣＤＲＬ１、配列番号４９に示すＣＤＲＬ２、および配列番号５０に示すＣＤＲＬ３、
ｂ．配列番号１に示すＣＤＲＨ１、配列番号２に示すＣＤＲＨ２、および配列番号３に示すＣＤＲＨ３、配列番号４に示すＣＤＲＬ１、配列番号５に示すＣＤＲＬ２、および配列番号６に示すＣＤＲＬ３、
ｃ．配列番号４５に示すＣＤＲＨ１、配列番号４６に示すＣＤＲＨ２、および配列番号４７に示すＣＤＲＨ３、配列番号４に示すＣＤＲＬ１、配列番号５に示すＣＤＲＬ２、および配列番号６に示すＣＤＲＬ３、
ｄ．配列番号１に示すＣＤＲＨ１、配列番号２に示すＣＤＲＨ２、および配列番号３に示すＣＤＲＨ３、配列番号４８に示すＣＤＲＬ１、配列番号４９に示すＣＤＲＬ２、および配列番号５０に示すＣＤＲＬ３
を含む、請求項１〜７のいずれか１項に記載の使用のための抗体またはその抗原結合性フラグメント。
【請求項９】
癌の治療を目的とする、または癌の治療のための薬剤の製造における、抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメントおよびＥＧＦＲ阻害剤を含む併用薬剤の使用。
【請求項１０】
抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメントが請求項２または８に記載のものであり、かつ／または前記ＥＧＦＲ阻害剤が、チロシンキナーゼ阻害剤または抗ＥＧＦＲ抗体もしくはその抗原結合性フラグメントであり、エルロチニブ、ゲフィチニブ、イマチニブ、ラパチニブ、セマジニブ、セツキシマブ、パニツムマブ、ニモツズマブ、およびメツズマブからなる群より選択される、請求項９に記載の使用。
【請求項１１】
前記癌が、ＥＧＦＲ阻害剤に対し耐性であるものとして特性決定された細胞を含み、または前記癌が、乳癌、肺癌、前立腺癌、子宮内膜癌、卵巣癌、肝細胞癌、結腸直腸癌、頭頸部癌、膵臓癌または腎臓癌である、請求項９または１０に記載の使用。
【請求項１２】
前記乳癌が、トリプルネガティブ乳癌または基底細胞型乳癌である、請求項１１に記載の使用。
【請求項１３】
抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメントおよびＥＧＦＲ阻害剤を含む、キット。
【請求項１４】
抗クラステリン抗体またはその抗原結合性フラグメントおよびＥＧＦＲ阻害剤を含む、併用薬剤。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月5日(2016.2.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Iの化合物、又はそれらの医薬として許容し得る誘導体、互変異性体、立体異性体、立体異性体混合物、多形体、プロドラッグ、代謝産物、塩若しくは溶媒和物、並びに、それらの調製方法：
【化１】
2015512874.tif 000001
(式中：
R及びR’は、互いに独立して、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アミノアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、アリールアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールアルキル、COR1、COOR1、CONHR1、CON(R1)2、OR1、NR1R2、N(R1)2、SR1、NR1-S02-R2、NR1-S02-NR2R3、NR1-CO-NR2R3、-SO-R1、-SO2-R1、-SO2-NR1R2、-NR1COR2、-OCO-NR1R2、-NR1-COOR2、-O-COO-R1から選択され、
ここで、R及びR’の各員は、任意に置換されており、
好ましくは、R及びR'は、同一であるか、
又は、Rは、下記式の構造であり、
【化２】
2015512874.tif 000002
R1、R2、R3は、独立して、水素、アミノ、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アミノアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、アリールアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールアルキルから選択され、ここでR1、R2、R3の各員は、任意に置換されており、
同じ炭素に結合したR及びR’は、それらが結合した炭素と一緒に、任意に不飽和のシクロアルキレン、任意に不飽和のヘテロシクロアルキレン、ヘテロアリールから選択されたサイクルを形成することができ、ここで言及されたシクロアルキレン、ヘテロシクロアルキレン、ヘテロアリールは任意に置換され、該シクロアルキレンは、C原子で別のジアザシクロプロピルに縮合されてよく、ここでジアザシクロプロピルは、両方の窒素原子で非置換であることが好ましく、
R"及びR"'は、互いに独立して、アルキル、ハロアルキル、アルコキシ、アミノアルキル、アルケニル、アルキニル、アリール、シクロアルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロアリール、アリールアルキル、シクロアルキルアルキル、ヘテロシクリルアルキル、ヘテロアリールアルキル、COR1、COOR1、CONR1R2、OR1、-SO-R1、-SO2-R1、-SO2-NR1R2、-C(O)O-NR1R2から選択され、
同じ炭素に結合したR”及びR"'は、それらが結合した炭素と一緒に、任意に不飽和のシクロアルキレン、任意に不飽和のヘテロシクロアルキレン、ヘテロアリールから選択されたサイクルを形成することができ、ここで言及されたシクロアルキレン、ヘテロシクロアルキレン、ヘテロアリールは任意に置換されてよく、
R”及びR"'は、水素ではない。)。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月4日(2015.12.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
【表４】
2015512807.tif 000001
本開示は以下も包含する。
［１］  少なくとも第１の表面を備える物品であって、前記第１の表面が、
（ａ）第１の結合剤層と、
（ｂ）前記第１の結合剤層内に少なくとも部分的に包埋される複数の透明微小球と、を有し、
前記透明微小球が、前記第１の結合剤層の屈折率より小さい屈折率を有し、
前記複数の透明微小球が少なくとも５μｍの平均直径を有する、物品。
［２］  前記複数の透明微小球が、１．４９０以下の屈折率を有する、上記態様１に記載の物品。
［３］  前記複数の透明微小球内の透明微小球が少なくとも５重量％の酸化ホウ素を含む、上記態様１〜２のいずれかに記載の物品。
［４］  前記物品又は前記結合剤層の少なくとも片方が顔料を含む、上記態様１〜３のいずれかに記載の物品。
［５］  前記物品又は前記結合剤層の少なくとも片方が顔料を含む、上記態様１〜４のいずれかに記載の物品。
［６］  前記物品が化粧フィルム、保護フィルム、トランスファー物品の少なくとも１つである、上記態様１〜５のいずれかに記載の物品。
［７］  前記透明微小球が接着強化剤を用いて処理される、上記態様１〜６のいずれかに記載の物品。
［８］  前記第１の結合剤層内の結合剤の前記屈折率と前記透明微小球の前記屈折率との間の差が少なくとも０．０１５である、上記態様１〜７のいずれかに記載の物品。
［９］  トランスファー物品であって、
（ａ）
（ｉ）支持層と、
（ｉｉ）前記支持層に結合される熱可塑性剥離層と、備える、トランスファーキャリアと、
（ｂ）前記支持層と反対側の前記熱可塑性透明微小球剥離層の面に形成される複数の透明微小球の層と、を備え、前記複数の透明微小球が約１．４９０以下の屈折率を有する、トランスファー物品。
［１０］  （ｃ）前記熱可塑性剥離層の反対側にある前記複数の透明微小球の面に結合剤層を更に備える、上記態様９に記載のトランスファー物品。
［１１］  前記第１の結合剤層には接着剤がある、上記態様９〜１０のいずれかに記載のトランスファー物品。
［１２］  前記透明微小球が接着強化剤により処理される、上記態様９〜１１のいずれかに記載のトランスファー物品。
［１３］  前記第１の結合剤層が不連続であり、かつ前記結合剤層が基材層に結合することができる、上記態様９〜１２のいずれかに記載のトランスファー物品。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも第１の表面を備える物品であって、前記第１の表面が、
（ａ）第１の結合剤層と、
（ｂ）前記第１の結合剤層内に少なくとも部分的に包埋される複数の透明微小球と、を有し、
前記複数の透明微小球が少なくとも５μｍの平均直径及び１．４９未満の屈折率を有する、物品。
【請求項２】
少なくとも第１の表面を備える物品であって、前記第１の表面が、
（ａ）第１の結合剤層と、
（ｂ）前記第１の結合剤層内に少なくとも部分的に包埋される複数の透明微小球と、を有し、
前記透明微小球が、前記第１の結合剤層の屈折率より小さい屈折率を有し、
前記複数の透明微小球が少なくとも５μｍの平均直径を有する、物品。
【請求項３】
トランスファー物品であって、
（ａ）
（ｉ）支持層と、
（ｉｉ）前記支持層に結合される熱可塑性剥離層と、備える、トランスファーキャリアと、
（ｂ）前記支持層と反対側の前記熱可塑性透明微小球剥離層の面に形成される複数の透明微小球の層と、を備え、前記複数の透明微小球が約１．４９未満の屈折率を有する、トランスファー物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月18日(2016.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
試料中の物質の同定のための方法であって、
ａ）少なくとも１つのＮＭＲ活性原子核を有する少なくとも１つの物質を含有する試料のＮＭＲスペクトルを得る工程と、
ｂ）前記ＮＭＲスペクトルを別個のスペクトル値に変換する工程であって、各スペクトル値が、前記ＮＭＲスペクトルの個々のラインまたは前記ＮＭＲスペクトルの個々のスペクトル部分の高さおよび／もしくは面積を規定する積分値と、前記ＮＭＲスペクトルにおける検討されるラインまたは検討されるスペクトル部分の位置を規定する位置値とを有する工程と、
ｃ）多数の積分比値を、いずれの場合も前記ＮＭＲスペクトルの２つの積分値から求める工程であって、各積分比値が、基礎をなすスペクトル値の高さおよび／もしくは面積の比を規定する工程と、
ｄ）多数の距離値を、いずれの場合も前記ＮＭＲスペクトルの２つの位置値から求める工程であって、各距離値が、前記基礎をなすスペクトル値間のスペクトル距離を規定する工程と、
ｅ）前記ＮＭＲスペクトルの前記積分比値と、少なくとも１つの基準物質のＮＭＲ基準スペクトルの対応する積分比値とを比較する工程と、
ｆ）第１の適切なサブセットを前記ＮＭＲスペクトルの前記積分比値から選択する工程であって、前記第１のサブセットが、それぞれの場合において設定可能である第１の許容限界内の前記ＮＭＲ基準スペクトルの積分比値に対応する積分比値を含む工程と、
ｇ）前記ＮＭＲスペクトルの前記距離値と、前記ＮＭＲ基準スペクトルの対応する距離値とを比較する工程と、
ｈ）第２の適切なサブセットを前記ＮＭＲスペクトルの前記距離値から選択する工程であって、前記第２のサブセットが、それぞれの場合において設定可能である第２の許容限界内の前記ＮＭＲ基準スペクトルの距離値に対応する距離値を含む工程と、
ｉ）第１のサブセットと第２のサブセットを比較し、同じスペクトル値から形成した、両方のサブセットからのそれら積分比値および距離値を第３の適切なサブセットとして選択する工程と、
ｊ）前記第３のサブセットの前記各値の質判定基準を用いて、前記試料中に含まれる前記物質が、前記基準物質として同定されるか否かを決定する工程であって、前記判定基準が、これらの各値と、前記ＮＭＲ基準スペクトルの前記積分比値および／または前記距離値とを比較することにより決定される工程と
を含む方法。
【請求項２】
請求項１に記載の方法において、前記ＮＭＲ基準スペクトルが、１つだけの基準物質のＮＭＲスペクトルであることを特徴とする方法。
【請求項３】
請求項１または２に記載の方法において、前記質判定基準が、前記ＮＭＲ基準スペクトルの前記積分比値と前記ＮＭＲスペクトルの前記積分比値とのずれ、および／または前記ＮＭＲ基準スペクトルの前記距離値と前記ＮＭＲスペクトルの前記距離値とのずれの尺度を含むことを特徴とする方法。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法において、前記質判定基準が、前記ＮＭＲ基準スペクトルの積分比値または距離値の数と比較した、前記第３のサブセットの値の数の尺度を含むことを特徴とする方法。
【請求項５】
請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法において、前記工程ｅ）〜ｊ）が、前記試料中に含まれる前記物質が基準物質として同定されるまで、または、ＮＭＲ基準スペクトルがもうそれ以上存在しなくなるまで他の基準物質のさらなるＮＭＲ基準スペクトルを用いて繰り返されることを特徴とする方法。
【請求項６】
請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法において、前記距離値が、前記位置値の直接の差として、前記位置値の標準化された差としてまたは前記位置値の商として計算されることを特徴とする方法。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法において、前記試料中に含まれる前記物質が、量的に同定されることを特徴とする方法。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法において、前記方法が、デカップリングしたＮＭＲスペクトルを用いて行われ、前記物質が明白に同定されていない場合には、同じ試料のデカップリングしないＮＭＲスペクトルを用いることにより再度行われることを特徴とする方法。
【請求項９】
コンピュータで実行されたとき、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法を行うようコーディングされたプログラムを含むソフトウェアを有するソフトウェア製品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月22日(2016.3.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
信号分類結果に基づき、現在フレームが音声信号に当るか否かを１次的に判断する段階と、
前記現在フレームが前記音声信号に当らない場合、トーナル特性に基づき、前記フレームがノイズ信号に当るか、トーナル信号に当るかを２次的に判断する段階と、
前記１次的及び２次的判断結果に基づき、前記現在フレームの励起クラスを生成する段階と、
を含む励起クラス方法。
【請求項２】
前記励起クラスは、複数の励起クラスの１つであり、前記複数の励起クラスは、音声クラス、トーナル（ｔｏｎａｌ）音楽クラスと非トーナル（ｎｏｎ−ｔｏｎａｌ）音楽クラスを含む請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記２次的に判断する段階は、前記トーナル特性を基準値と比較することで行われる請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記励起クラスを生成する段階は、前記１次的に判断した結果に対応して、音声クラスを生成する段階を含む請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記励起クラスを生成する段階は、前記２次的に判断した結果に対応して、トーナル（ｔｏｎａｌ）音楽クラスと非トーナル（ｎｏｎ−ｔｏｎａｌ）音楽クラスを生成する段階を含む請求項１または４に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月15日(2016.3.15)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）における半二重（ＨＤ）周波数分割複信（ＦＤＤ）（ＨＤ−ＦＤＤ）動作のための方法であって、
セル固有のアップリンクフレームの間を除いて、ダウンリンク通信のためのすべてのダウンリンクサブフレームについて第１の周波数を監視するステップと、
第２の周波数への再同調を行うステップと、
前記セル固有のアップリンクフレームのＷＴＲＵ固有の期間の間、前記第２の周波数上でスケジューリング要求（ＳＲ）を送信するステップであって、前記ＷＴＲＵ固有の期間は、デューティサイクルに基づく、ステップと、
前記第１の周波数への再同調を行うステップと、
後続のサブフレームにおいてアップリンクグラントを受信するステップと
を含むことを特徴とする方法。
【請求項２】
再同調を行う前記ステップは、ネットワークによって構成される減弱されたシンボルの間に行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項３】
再同調を行うステップは、ネットワークによって構成されるタイミングアドバンスの間に行われることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記ＳＲは、減弱されたシンボルによって示されるダウンリンク送信の受信後に送信されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項５】
第１のダウンリンクサブフレームにおいてダウンリンク信号を受信した後、アップリンクサブフレームにおいて肯定応答／否定応答（Ａ／Ｎ）を送信するステップ
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項６】
すべてのサブフレームについてのアップリンク／ダウンリンク方向を示す方向パターンを受信するステップ
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項７】
前記方向パターンは、ビット系列として解釈されることを特徴とする請求項６に記載の方法。
【請求項８】
ビットマップが、複数の送信時間間隔（ＴＴＩ）を用いて前記セル固有のアップリンクフレームを示すことを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項９】
送信時間間隔（ＴＴＩ）バンドリングが使用されることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記デューティサイクルは、長さが１０、２０、または４０ｍｓのうちの１つであることを特徴とする請求項１に記載の方法。
【請求項１１】
半二重（ＨＤ）周波数分割複信（ＦＤＤ）（ＨＤ−ＦＤＤ）動作のための無線送受信ユニット（ＷＴＲＵ）であって、
セル固有のアップリンクフレームの間を除いて、ダウンリンク通信のためのすべてのダウンリンクサブフレームについて第１の周波数を監視するように構成されたプロセッサであって、
前記プロセッサは、第２の周波数への再同調を行うようにさらに構成される、プロセッサと、
前記セル固有のアップリンクフレームのＷＴＲＵ固有の期間の間、スケジューリング要求（ＳＲ）を送信するように構成された送信機であって、前記ＷＴＲＵ固有の期間は、デューティサイクルに基づき、
前記プロセッサは、前記第１の周波数への再同調を行うようにさらに構成される、送信機と、
後続のサブフレームにおいてアップリンクグラントを受信するように構成された受信機と
を備えることを特徴とするＷＴＲＵ。
【請求項１２】
前記再同調は、ネットワークによって構成される減弱されたシンボルの間に行われることを特徴とする請求項１１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１３】
再同調は、ネットワークによって構成されるタイミングアドバンスの間に行われることを特徴とする請求項１１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１４】
前記ＳＲは、減弱されたシンボルによって示されるダウンリンク送信の受信後に送信されることを特徴とする請求項１１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１５】
前記送信機は、第１のダウンリンクサブフレームにおいてダウンリンク信号を受信した後、アップリンクサブフレームにおいて肯定応答／否定応答（Ａ／Ｎ）を送信するようにさらに構成されることを特徴とする請求項１１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１６】
前記受信機は、すべてのサブフレームについてのアップリンク／ダウンリンク方向を示す方向パターンを受信するようにさらに構成されることを特徴とする請求項１１に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１７】
前記方向パターンは、ビット系列として解釈されることを特徴とする請求項１６に記載のＷＴＲＵ。
【請求項１８】
ビットマップが、複数の送信時間間隔（ＴＴＩ）を用いて前記セル固有のアップリンクフレームを示すことを特徴とする請求項１１に記載のＷＴＲＵ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月1日(2016.2.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
封止材料で被覆された光電池を含んで成る光電池モジュールのフロント保護シートおよび／またはバック保護シートでの多層構造体の使用であって、
上記多層構造体が下記（ａ）と（ｂ）：
（ａ）少なくとも一つのハロゲン化ポリマーを含む基材と、
（ｂ）ＳｉＯ２層（Ａ）と、この層（Ａ）と基材との間に配置されたＳｉＯｘＮｙＨｚで作られた層（Ｂ）との少なくとも一つのスタック（積層体）
を含んで成り、上記の層（Ａ）および層（Ｂ）は層厚（ｔＡ、ｔＢ）を有し、層（Ａ）の層厚（ｔＡ）が６０ナノメートル以下で、層（Ｂ）の層厚（ｔＢ）が層（Ａ）の層厚（ｔＡ）の２倍を超え、層（Ａ）と層（Ｂ）の合計の層厚が１００ナノメートル〜５００ナノメートルの間にあり、ｙおよびｚは厳密に０より大きく、ｚは厳密に比（ｘ＋ｙ）／５より小さく、
上記スタックは封止材料の方を向いて基材の表面上に位置し、必要な場合には基材の反対面上に配置され、
上記多層構造体が含まれるフロント保護シートおよび／またはバック保護シートは５０μｍ以上の層厚を有するガラス層を有しない、
ことを特徴とする使用。
【請求項２】
ｘの値が層（Ｂ）と層（Ａ）と間の境界面から基材の方に向かって減少し、ｙの値が層（Ｂ）と層（Ａ）との間の境界面から基材の方に向かって増加する請求項１に記載の使用。
【請求項３】
ｘが２から０まで変化し、および／または、ｙが厳密に０より大きく且つ１までの値で変化する請求項２に記載の使用。
【請求項４】
層（Ａ）の材料のヤング係数（ＭＡ）が３０ＧＰａ以上で、層（Ｂ）の材料のヤング係数（ＭＢ）が２０ＧＰａ以下である請求項１〜３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項５】
上記の少なくとも一つのスタックがパーヒドロポリシラザン（ｐｅｒｈｙｄｒｏｐｏｌｙｓｉｌａｚａｎｅ）の変換によって得られる請求項１〜４のいずれか一項に記載の使用。
【請求項６】
多層構造が、層（Ｂ）と接触する面と反対側で、上記スタックの層（Ａ）上にポリマー材料から成る層を有する請求項１〜５のいずれか一項に記載の使用。
【請求項７】
多層構造が、ｎ個のスタックを有し、ｎは１を超える正の整数であり、各スタックはＳｉＯ２層（Ａ）とＳｉＯｘｉＮｙｉＨｚｉから成る層（Ｂ）とを有し、ｉは１〜ｎの正の整数であり、ｚｉは厳密に比（ｘｉ＋ｙｉ）／５より小さく、ｘｉ、ｙｉおよびｚｉはｉの各種の値に対して互いに同一でも異なっていてもよい、請求項１〜６のいずれか一項に記載の使用。
【請求項８】
多層構造が、スタックの層（Ａ）とその直ぐ後に続くスタックの層（Ｂ）との間にポリマー材料から成る少なくとも一つの層を有する請求項７に記載の使用。
【請求項９】
ポリマー材料から成る層をｎ−１個有し、当該ポリマー材料から成る層は、それぞれ２つのスタックの間に位置する請求項８に記載の使用。
【請求項１０】
多層構造が基材の両側に一つまたは複数のスタックを左右対称に有する請求項１〜９のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１１】
ハロゲン化ポリマーが塩素化および／またはフッ素化されたホモポリマーおよびコポリマーの中から選択される請求項１〜１０のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１２】
フッ素化ポリマーが下記の式（Ｉ）のモノマーを少なくとも５０ｍｏｌ％含むフッ素化されたホモポリマーおよびコポリマーから選択される請求項１１に記載の使用：
ＣＦＸ＝ＣＨＸ’                （Ｉ）
［ここで、ＸおよびＸ’は互いに独立して水素またはハロゲン原子またはパーハロゲン化アルキル基、例えば下記を表す：
−  ポリ（ビニリデンフルオライド）（ＰＶＤＦ）、
−  ビニリデンフルオライドと、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）、ヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）、トリフルオロエチレン（ＶＦ３）またはテトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）とのコポリマー、
−  トリフルオロエチレン（ＶＦ３）のホモポリマーおよびコポリマー、
−  フルオロエチレン／プロピレン（ＦＥＰ）コポリマー、
−  エチレンとのフルオロエチレン／プロピレン（ＦＥＰ）、テトラフルオロエチレン（ＴＦＥ）、ペルフルオロメチルビニールエーテル（ＰＭＶＥ）、クロロトリフルオロエチレン（ＣＴＦＥ）またはヘキサフルオロプロピレン（ＨＦＰ）とのコポリマー、及び
−  上記のブレンド］。
【請求項１３】
フッ素化されたホモポリマーまたはコポリマーがポリ（ビニリデンフルオライド）である請求項１２に記載の使用。
【請求項１４】
多層構造が、光電池モジュールのフロント保護シートを構成する請求項１〜１３のいずれか一項に記載の使用。
【請求項１５】
フロント保護シートおよび／またはバック保護シートが請求項１〜１４のいずれか一項に記載の多層構造を含んで成り且つ厚さが５０μｍ以上のガラス層を有しないことを特徴とする、封止の材料と、フロント保護シートと、バック保護のシートとで保護された光電池を含む光電池モジュール。