【手続補正書】
【提出日】平成28年4月1日(2016.4.1)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
水素ガスを発生させる方法であって、前記方法は、
反応物質を反応器内に挿入することと、
可撓性溶液チャンバ内の水溶液を加圧する力を加えることと、
水供給システムを用いて、溶液入口充填ポートを介して、前記加圧された水溶液を前記反応器内の前記反応物質に送達することにより、水素ガスを発生させることと、
水素出口ポートを介して、前記反応器から前記発生した水素ガスを産業用途へ経路指定することと
を含む、方法。
【請求項２】
反応燃料物質は、ナトリウムシリサイド粉末およびナトリウムシリカゲルのうちの少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記方法は、逆止弁を提供することをさらに含み、前記逆止弁は、前記可撓性溶液チャンバの特性に基づいて、前記反応器内の反応燃料物質に送達される前記水溶液の圧力を調節する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記方法は、力ゲージを使用することをさらに含み、前記力ゲージは、水圧、水素圧力、および可撓性溶液チャンバ変位のうちの少なくとも１つを測定し、前記水溶液および反応燃料物質の反応の状態を決定する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記力ゲージは、前記反応の状態を決定するためのルックアップテーブルを少なくとも含むデータベースを伴うマイクロコントローラを含む、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
前記方法は、前記反応器内の圧力を測定するための圧力センサを使用することをさらに含む、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記センサは、水供給、前記水供給と反応器チャンバとの間の通路、および前記反応器チャンバのうちの１つ内に存在する、請求項６に記載の方法。
【請求項８】
力ゲージを使用することをさらに含み、前記力ゲージは、水圧、水素圧力、および可撓性溶液チャンバ変位のうちの少なくとも１つを測定し、前記水溶液および反応燃料物質の反応の状態を決定する、請求項１に記載の方法。
【請求項９】
力ゲージを使用することをさらに含み、前記力ゲージは、水圧、水素圧力、および可撓性溶液チャンバ変位のうちの少なくとも１つを測定し、前記水溶液および反応燃料物質の反応の状態を決定する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
前記力ゲージは、前記反応の状態を決定するためのルックアップテーブルを少なくとも含むデータベースを伴うマイクロコントローラを含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
圧力センサをさらに備え、前記圧力センサは、前記反応器内の圧力を測定する、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記圧力センサは、水供給、前記水供給と反応器チャンバとの間の通路、および前記反応器チャンバのうちの１つ内に存在する、請求項６に記載の方法。
【請求項１３】
前記力を加えるステップは、バネ機構、ベローズ機構、および外部加圧源のうちの少なくとも１つを使用して前記チャンバに力を加えることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１４】
前記力を加えるステップは、力を加えるためのバルーンデバイスを使用して前記チャンバに前記力を加えることを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１５】
水素ガスを発生させるためのシステムであって、前記システムは、
溶液入口ポートと水素出口ポートとを含む反応器と、
前記反応器に追加された反応燃料物質と、
可撓性溶液チャンバを伴う水供給システムであって、前記水供給システムは、水溶液を加圧して、溶液入口充填ポートを介して前記水溶液を前記反応器内の前記反応燃料物質に送達することにより、前記水素出口ポートを介して産業用途へ経路指定される水素ガスを発生させる、水供給システムと
を備える、システム。
【請求項１６】
前記反応燃料物質は、ナトリウムシリサイド粉末およびナトリウムシリカゲルのうちの少なくとも１つを含む、請求項１５に記載のシステム。
【請求項１７】
前記可撓性溶液チャンバに隣接するバルーンデバイスをさらに備え、前記バルーンデバイスは、前記チャンバに力を与えることにより、前記チャンバを加圧することができる、請求項１５に記載のシステム。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２６】
これらの利点および他の利点、側面、ならびに特徴は、添付の図面と併せて見るときに、以下の詳細な説明から明らかであろう。非制限的かつ非排他的実施形態を、以下の図面を参照して説明する。故に、下記の図面および説明は、本質的に例証と見なされ、制限するものではない。
本願明細書は、例えば、以下の項目も提供する。
（項目１）
水素ガスを発生させるシステムであって、前記システムは、
溶液入口ポートおよび水素出口ポートを含む反応器と、
前記反応器に追加される反応燃料物質と、
バネおよび溶液チャンバを伴う水供給システムと
を備え、
前記バネは、前記溶液チャンバに力を加え、水溶液を加圧して、前記溶液入口充填ポートを介して前記反応器内の反応燃料物質に前記水溶液を送達することにより、前記水素出口ポート介して産業用途へ経路指定される水素ガスを発生させる、水素ガスを発生させるシステム。
（項目２）
前記反応燃料物質は、ナトリウムシリサイド粉末またはナトリウムシリカゲルのうちの少なくとも１つを含む、項目１に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目３）
前記バネの特性に基づいて、前記反応器内の前記反応燃料物質に送達される前記水溶液の圧力を調節する逆止弁をさらに備えている、項目１に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目４）
前記逆止弁は、前記バネの力に関連付けられた定常減衰として、前記送達される水溶液の圧力を調節する、項目３に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目５）
前記逆止弁は、水素ガスが前記バネをたわませることを防止する、項目３に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目６）
水量制限器をさらに備え、前記水量制限器は、反応を開始または再開させるために前記反応燃料物質に最初に送達される前記送達される水溶液の圧力を弱める、項目１に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目７）
視覚ウインドウをさらに備え、前記視覚ウインドウは、前記反応の状態を決定するための前記反応器に追加された前記水溶液の容積を示す、項目１に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目８）
前記決定された反応の状態は、反応した反応燃料物質の量、前記反応器内に残留する反応燃料物質の量、および前記反応によって発生した水素ガスの量のうちの少なくとも１つを含む、項目７に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目９）
水圧、水素圧力、バネ力、およびバネ変位のうちの少なくとも１つを測定し、前記水溶液および前記反応燃料物質の反応の状態を決定する力ゲージをさらに備えている、項目１に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目１０）
前記力ゲージは、水圧、水素圧力、バネ力、およびバネ変位のうちの少なくとも１つを測定し、前記反応の状態を決定するためのデータベースを伴うマイクロコントローラを含む、項目９に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目１１）
前記決定された反応の状態は、反応した反応燃料物質の量、前記反応器内に残留する反応燃料物質の量、および前記反応によって発生した水素ガスの量のうちの少なくとも１つを含む、項目９に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目１２）
前記決定された反応の状態を表示するためのディスプレイデバイスをさらに備えている、項目９に記載の水素を発生させるシステム。
（項目１３）
前記バネは、前記反応器内の容積を前記水溶液の容積と交換する、項目１に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目１４）
水素ガスを発生させる方法であって、前記方法は、
反応物質を反応器内に挿入することと、
バネを用いて、溶液チャンバに力を加え、前記溶液チャンバ内の水溶液を加圧することと、
水供給システムを用いて、溶液入口充填ポートを介して、前記加圧された水溶液を前記反応器内の反応物質に送達し、水素ガスを発生させることと、
水素出口ポートを介して、前記反応器から発生した水素ガスを産業用途へ経路指定することと
を含む、水素ガスを発生させる方法。
（項目１５）
前記反応物質は、ナトリウムシリサイド粉末またはナトリウムシリカゲルのうちの少なくとも１つを含む、項目１４に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目１６）
逆止弁を用いて、前記反応器内の前記反応燃料物質に送達される前記水溶液の圧力を調節することをさらに含み、前記圧力は、前記バネの特性に基づいて調節される、項目１４に記載の水素ガスを発生させるシステム。
（項目１７）
前記逆止弁を用いて前記水溶液の圧力を調節することは、前記バネの力に関連付けられた定常減衰として、前記送達される水溶液の圧力を調節することを含む、項目１６に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目１８）
水素ガスが前記バネをたわませることを防止することをさらに含む、項目１６に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目１９）
水量制限器を用いて、反応を開始または再開するために前記反応燃料物質に最初に送達される前記送達される水溶液の圧力を弱めることをさらに含む、項目１４に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目２０）
前記反応器に追加された水溶液の容積を測定することと、
前記反応器に追加された水溶液の測定された容積に基づいて、前記反応の状態を決定することと、
をさらに含む、項目１４に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目２１）
前記決定された反応の状態は、反応した反応燃料物質の量、前記反応器内に残留する反応燃料物質の量、および前記反応によって発生した水素ガスの量のうちの少なくとも１つを含む、項目２０に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目２２）
力ゲージを用いて、水圧、水素圧力、バネ力、およびバネ変位のうちの少なくとも１つを測定することと、
前記測定された水圧、水素圧力、バネ力、およびバネ変位のうちの少なくとも１つに基づいて、前記水溶液および前記反応燃料物質の反応の状態を決定することと
をさらに含む、項目１４に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目２３）
前記力ゲージは、水圧、水素圧力、バネ力、およびバネ変位のうちの少なくとも１つを測定し、前記反応の状態を決定するためのデータベースを伴うマイクロコントローラを含む、項目２２に記載の水素を発生させる方法。
（項目２４）
前記反応の状態を決定することは、反応した反応燃料物質の量および前記反応器内に残留する反応燃料物質の量のうちの少なくとも１つを決定することを含む、項目２２に記載の水素を発生させる方法。
（項目２５）
ディスプレイデバイスを用いて、前記決定された反応の状態を表示することをさらに含む、項目２２に記載の水素を発生させる方法。
（項目２６）
前記バネを用いて、前記反応器内の容積を前記水溶液の容積と交換することをさらに含む、項目１４に記載の水素ガスを発生させる方法。
（項目２７）
水素ガスを発生させるシステムであって、前記システムは、
溶液入口ポートおよび水素出口ポートを含む反応器と、
前記反応器に追加される反応燃料物質と、
エラストマー溶液チャンバを伴う水供給システムと
を備え、
前記水供給システムは、水溶液を加圧して、前記溶液入口充填ポートを介して前記反応器内の反応燃料物質に前記水溶液を送達することにより、前記水素出口ポートを介して産業用途へ経路指定される水素ガスを発生させる、システム。
（項目２８）
水素ガスを発生させる方法であって、
反応物質を反応器内に挿入することと、
エラストマー溶液チャンバから力を加えることであって、前記力は、前記溶液チャンバ内の水溶液を加圧する、ことと、
水供給システムを用いて、溶液入口充填ポートを介して、前記加圧された水溶液を前記反応器内の反応物質に送達することにより、水素ガスを発生させることと、
水素出口ポートを介して、前記反応器から発生した水素ガスを産業用途へ経路指定することと
を含む、方法。