【手続補正書】
【提出日】平成28年10月13日(2016.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
媒体の空間オフセット分析を実行する場合に使用する装置であって、該装置は、
−  前記媒体上の第１位置に第１偏光だけの一次放射のビームを向ける動作、及び
−  二次放射を検出するための検出器に、前記媒体上の前記第１位置とは少なくとも空間的に異なる第２位置から収集された第２偏光だけの二次放射のビームの少なくとも一部を向ける動作、
のためのものであり、
当該装置は複屈折材料を含む複屈折要素を有し、前記一次放射のビームを向ける動作は前記複屈折要素による第１の操作を有し、前記収集された二次放射のビームの少なくとも一部を向ける動作は前記複屈折要素による第２の操作を有し、前記第１の操作の効果が、前記第１偏光が前記第２偏光とは異なることにより前記第２の操作の効果とは異なる、
装置。
【請求項２】
前記複屈折材料は通常屈折率及び異常屈折率を有し、他の材料は前記通常屈折率及び前記異常屈折率の少なくとも一方とは異なる他の屈折率を有し、前記複屈折材料及び前記他の材料が、前記第１の操作及び／又は前記第２の操作をもたらす複屈折面を画定する、請求項１に記載の装置。
【請求項３】
前記他の材料は前記複屈折要素の一部であり、前記他の屈折率が前記通常屈折率及び前記異常屈折率の一方に等しい、請求項２に記載の装置。
【請求項４】
前記複屈折要素が前記第１の操作及び／又は前記第２の操作の調整のために制御可能である、請求項１ないし３の何れか一項に記載の装置。
【請求項５】
前記複屈折要素が、液晶材料と、前記第１の操作及び／又は前記第２の操作の調整を制御するために前記液晶材料の少なくとも一部に電場を印加するための少なくとも１つの電極とを有する、請求項４に記載の装置。
【請求項６】
当該装置が、前記一次放射のビームの偏光を該一次放射が前記複屈折要素に入射する前に調整し、これにより前記第１の操作及び／又は前記第２の操作の調整を制御するための偏光調整要素を有する、請求項４に記載の装置。
【請求項７】
前記複屈折材料は通常屈折率及び異常屈折率を有し、他の材料は前記通常屈折率及び前記異常屈折率の少なくとも一方とは異なる他の屈折率を有し、前記複屈折材料及び前記他の材料は前記第１の操作及び／又は前記第２の操作をもたらす複屈折面を画定し、前記他の材料は前記複屈折面の形状を画定するための固体材料を有し、前記複屈折材料は液晶材料を有し、当該装置が前記第１の操作及び／又は前記第２の操作の調整を制御するために前記液晶材料の少なくとも一部に電場を印加するための少なくとも１つの電極を有する、請求項４又は請求項５に記載の装置。
【請求項８】
前記複屈折材料は通常屈折率及び異常屈折率を有し、他の材料は前記通常屈折率及び前記異常屈折率の少なくとも一方とは異なる他の屈折率を有し、前記複屈折材料及び前記他の材料は前記第１の操作及び／又は前記第２の操作をもたらす複屈折面を画定し、前記複屈折材料は前記複屈折面の形状を画定するための固体材料を有し、前記他の材料は前記複屈折面により形成される境界を持つ隔室内に含まれる流体材料を有し、該流体材料が前記複屈折材料に接触するようにし、前記複屈折材料と接触する前記流体材料の組成が調整可能である、請求項４に記載の装置。
【請求項９】
当該装置は、前記第１位置及び前記第２位置が同一であると共に、前記複屈折要素を前記第１の操作及び前記第２の操作が同一となるように制御することができる動作モードを有する、請求項５又は請求項７に記載の装置。
【請求項１０】
前記複屈折面が、前記第１の操作及び／又は前記第２の操作が放射ビームの偏向及び／又は平行度の変更を有するような形状を有する、請求項１ないし９の何れか一項に記載の装置。
【請求項１１】
前記複屈折面が、前記偏向をもたらす複屈折プリズム面及び／又は前記放射ビームの平行度の変更をもたらす複屈折レンズ面を有する、請求項２ないし９の何れか一項に記載の装置。
【請求項１２】
前記複屈折面が複数の複屈折副面を有し、これら複屈折副面の各々に関して、
−  当該複屈折副面は、仮想面に対して垂直に向けられた軸から放射方向に延びる仮想放射方向線を含み、
−  当該複屈折副面は、前記仮想面に対して、前記仮想放射方向線に対して垂直な仮想線と該仮想線の前記仮想面上への垂直投影により構成される線との間に形成される傾斜角だけ傾斜される、
ことが成り立つ、請求項２ないし９の何れか一項に記載の装置。
【請求項１３】
当該装置は他の複屈折要素を有し、前記一次放射のビームを向ける動作は前記他の複屈折要素による他の第１の操作を有し、前記収集された二次放射のビームの少なくとも一部を向ける動作は前記他の複屈折要素による他の第２の操作を有し、前記他の第１の操作の効果が、前記第１偏光が前記第２偏光とは異なることにより前記他の第２の操作の効果とは異なる、請求項１ないし１２の何れか一項に記載の装置。
【請求項１４】
前記二次放射のビームの少なくとも一部を通過させるためのピンホールを備えたピンホール要素を更に有する、請求項１ないし１３の何れか一項に記載の装置。
【請求項１５】
前記二次放射のビームの少なくとも一部を収束させる収集要素を更に有する、請求項１ないし１４の何れか一項に記載の装置。
【請求項１６】
前記複屈折要素と前記検出器との間に配置されたビームスプリッタを更に有し、該ビームスプリッタは、前記二次放射のビームの少なくとも一部を前記検出器に向かって通過させると共に、前記複屈折要素により該ビームスプリッタに向けられる如何なる一次放射も前記検出器から実質的に離れる方向に向ける、請求項１ないし１５の何れか一項に記載の装置。
【請求項１７】
当該装置が、前記複屈折要素と前記検出器との間に配置されて、該検出器に入射する前記二次放射の強度を制御する偏光選択性フィルタを更に有する、請求項１ないし１６の何れか一項に記載の装置。
【請求項１８】
前記複屈折要素が当該装置から取り外し可能である、請求項１ないし１７の何れか一項に記載の装置。
【請求項１９】
前記複屈折要素を保持するためのホルダを更に有し、該ホルダが当該装置から取り外し可能である、請求項１８に記載の装置。
【請求項２０】
前記ホルダが当該装置に対し、１以上の複屈折要素を前記第１の操作及び／又は前記第２の操作を何れかの１時点で行うために配置することができるように移動可能である、請求項１９に記載の装置。
【請求項２１】
当該装置が、分析システムに付属品を着脱可能に取り付けるための手段を含む該分析システムのための該付属品である、請求項１ないし２０の何れか一項に記載の装置。
【請求項２２】
空間オフセット検出又は分析を実行するために請求項１ないし２１の何れか一項に記載の装置を使用する、方法。
【請求項２３】
前記装置が分析システムと共に使用するためのものである、請求項２２に記載の使用する方法。
【請求項２４】
前記装置を備えない前記分析システムが空間オフセット検出又は分析を行う能力を有さない、請求項２３に記載の使用する方法。
【請求項２５】
前記分析システムが、顕微鏡、後方散乱顕微鏡、蛍光検出システム、燐光検出システム、ラマン分光計、近赤外及び／又は赤外分光計、紫外分光計、並びにマイクロ波検出システムのうちの何れかの１つ又は組み合わせを有する、請求項２３又は２４に記載の使用する方法。
【請求項２６】
請求項１ないし２１の何れか一項に記載の装置と、
前記一次放射を供給するための放射源と、
前記二次放射を検出するための検出器と、
を有する、分析システム。
【請求項２７】
前記装置が当該分析システムの付属品であり、該分析システムは、該付属品を当該分析システムの残余部分に着脱可能に取り付けるための手段を含む、請求項２６に記載の分析システム。
【請求項２８】
当該分析システムが、顕微鏡、後方散乱顕微鏡、蛍光検出システム、燐光検出システム、ラマン分光計、近赤外及び／又は赤外分光計、紫外分光計、並びにマイクロ波検出システムのうちの何れかの１つ又は組み合わせである、請求項２６又は請求項２７に記載の分析システム。
【請求項２９】
当該分析システムは、
−  前記複屈折要素と前記検出器との間に配置されるビームスプリッタであって、前記二次放射のビームの少なくとも一部を前記検出器に向かって通過させると共に、前記複屈折要素により該ビームスプリッタに向けられる如何なる一次放射も前記検出器から実質的に離れる方向に向け、且つ、前記放射源からの前記一次放射を前記複屈折要素に向けるビームスプリッタと、
−  前記一次放射の偏光を該一次放射が前記複屈折要素に入射する前に調整する偏光調整要素と、
−  前記複屈折要素と前記検出器との間に配置されて、該検出器に入射する前記二次放射の強度を制御する偏光選択性フィルタと、
を有し、
当該分析システムが、前記ビームスプリッタ、前記偏光調整要素及び前記偏光選択性フィルタを有さない請求項２０に記載の装置を有する、請求項２８に記載の分析システム。
【請求項３０】
空間オフセット検出測定のデータ分析のためのユニットを更に有する、請求項２６ないし２９の何れか一項に記載の分析システム。
【請求項３１】
空間オフセット検出を実行する方法であって、
−  請求項１ないし２１の何れか一項に記載の装置を準備するステップと、
−  第１偏光を有する一次放射を供給するステップであって、該一次放射により照射された場合に前記媒体に二次放射を放出させるステップと、
−  前記媒体上の第１位置に向かって、前記第１偏光だけの前記一次放射のビームを向けるステップと、
−  二次照射を検出するための検出器に向かって、前記媒体の第２位置から収集された第２偏光だけの前記二次放射のビームの少なくとも一部を向けるステップであって、前記第２位置が前記第１位置とは少なくとも部分的に異なるステップと、
を有し、
前記一次放射のビームを向けるステップは前記複屈折要素による第１の操作を有し、前記収集された二次放射のビームの少なくとも一部を向けるステップは前記複屈折要素による第２の操作を有し、前記第１の操作の効果が、前記第１偏光が前記第２偏光とは異なることにより前記第２の操作の効果とは相違する、方法。
【請求項３２】
二次照射を検出するための他の検出器に向かって、前記第１位置から収集された前記第１偏光の二次放射のビームの少なくとも一部を向けるステップを更に有し、該第１偏光の二次放射のビームの少なくとも一部を向けるステップが前記複屈折要素による第３の操作を有し、該第３の操作の効果が、前記第１偏光が前記第２偏光とは異なることにより前記第２の操作の効果とは相違する、請求項３１に記載の方法。
【請求項３３】
前記他の検出器は前記検出器と同一であり、前記装置が、二次放射の連続する検出の間において前記検出器に入射する前記第１偏光の二次放射及び前記第２偏光の二次放射の相対貢献度を調整するための偏光選択性フィルタを有する、請求項３２に記載の方法。
【請求項３４】
請求項４に記載の装置を有し、当該方法が、
−  前記第２位置からの前記第２偏光を持つ二次放射を検出するステップと、
−  前記第１位置を一定に維持しながら、前記第２位置をずらすように前記複屈折要素を制御するステップと、
−  前記ずらされた第２位置からの前記第２偏光を持つ二次放射を検出するステップと、
を更に有する、請求項３１ないし３３の何れか一項に記載の方法。