(57)【要約】【目的】  新たな電解質層を用いたエレクトロクロミック素子を提供することを目的とする。【解決手段】  高さ方向に間隔を空けて対向する一対の電極層２，３と、各電極層２，３間に挟持されたエレクトロクロミック層５，７及び前記エレクトロクロミック層５，７に接する電解質層８と、を有するエレクトロクロミック素子１において、前記電解質層８は、多孔質層９に電解液１０を含浸させてなり、前記多孔質層９には、高さ方向にて対向する上面９ａから下面９ｂに通ずる連続気孔１１が形成されていることを特徴とする。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
高さ方向に間隔を空けて対向する一対の電極層と、各電極層間に挟持されたエレクトロクロミック層及び前記エレクトロクロミック層に接する電解質層と、を有するエレクトロクロミック素子において、
前記電解質層は、多孔質層に電解液を含浸させてなり、前記多孔質層には、高さ方向にて対向する第１の面から第２の面に通ずる連続気孔が形成されていることを特徴とするエレクトロクロミック素子。
【請求項２】
前記多孔質層が、前記電解液によって膨潤する材質からなる請求項１記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項３】
前記多孔質層は、シリコーンゴムシートである請求項２記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項４】
前記多孔質層は、白色化あるいは有色化されている請求項１ないし３のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項５】
白色粒子あるいは有色粒子が前記連続気孔内に取り込まれている請求項１ないし４のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項６】
前記電解質層の周囲に、前記電解質層とほぼ同じ高さ寸法の封止層が設けられている請求項１ないし５のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項７】
前記封止層が前記連続気孔の無い層として前記多孔質層と一体形成されている請求項６記載のエレクトロクロミック素子。
【請求項８】
間隔を空けて相対向する各電極層の内面に形成されたエレクトロクロミック層同士が前記電解質層を介して前記高さ方向に対向配置されている請求項１ないし７のいずれか１項に記載のエレクトロクロミック素子。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、高さ方向に間隔を空けた一対の電極層間にエレクトロクロミック層及び電解質層が挟持されたエレクトロクロミック素子に関する。
【背景技術】
【０００２】
エレクトロクロミック素子は、特許文献にも示すように、高さ方向に間隔を空けた一対の電極層間にエレクトロクロミック層及び電解質層が挟持された構造である。電解質層には、液体状電解質やゲル電解質を用いることができる。
【０００３】
しかしながら従来では、電解質層が高価であり、また、基材をガラスからフィルムに変更すると、電解質層の膜厚がばらつきやすい問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００２−３４１３８７号公報
【特許文献２】特開２０１０−１０１９８２号公報
【特許文献３】特開平１１−８６９０８号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで本発明は、従来の問題点を改善可能な新たな電解質層を用いたエレクトロクロミック素子を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明は、高さ方向に間隔を空けて対向する一対の電極層と、各電極層間に挟持されたエレクトロクロミック層及び前記エレクトロクロミック層に接する電解質層と、を有するエレクトロクロミック素子において、
前記電解質層は、多孔質層に電解液を含浸させてなり、前記多孔質層には、高さ方向にて対向する第１の面から第２の面に通ずる連続気孔が形成されていることを特徴とするものである。本発明によれば、電解質層は多孔質層に電解液を含浸させた構造であり、従来に比べて電解液の使用量を減らすことができコスト削減を図ることができる。また電解質層の膜厚は多孔質層の膜厚で決めることができ、膜厚の安定化を図ることが可能である。そして本発明では、多孔質層には高さ方向にて対向する第１の面から第２の面に通じる連続気孔が設けられている。このため、電解液を連続気孔内に保持でき、良好な応答性を得ることが可能になる。
【０００７】
本発明では、前記多孔質層が、前記電解液によって膨潤する材質からなることが好ましい。本発明では、前記多孔質層は、シリコーンゴムシートであることが好ましいが、他のゴムシートでも代用可能である。
【０００８】
また本発明では、前記多孔質層が白色化あるいは有色化されている構成に適している。このように多孔質層を白色化あるいは有色化することで、従来のゲル電解質に有色粒子や白色粒子を分散させた場合に起こりうる設置状態の変化に伴う白色粒子や有色粒子の崩落は生じず、したがって、設置状態が変化しても、安定した白色面や有色面を得ることができる。
【０００９】
また本発明では、白色粒子あるいは有色粒子が前記連続気孔内に取り込まれている構成にすることも出来る。これにより白色粒子や白色粒子は連続気孔内に保持されるので、従来のゲル電解質に有色粒子や白色粒子を分散させた場合に起こりうる設置状態の変化に伴う白色粒子や有色粒子の崩落は生じず、したがって、設置状態が変化しても、安定した白色面や有色面を得ることができる。
【００１０】
また本発明では、前記電解質層の周囲に、前記電解質層とほぼ同じ高さ寸法の封止層が設けられていることが好ましい。これにより電解質の液漏れを防止できる。
【００１１】
また本発明では、前記封止層が前記連続気孔の無い層として前記多孔質層と一体形成されていることが好ましい。これにより封止層を電解質層の周囲に隙間無く且つ同じ高さで適切に形成できて液漏れを効果的に防止でき、また多孔質層及び封止層を同じ材質で形成でき、製造コストの低減を図ることが出来る。
【００１２】
また本発明では、間隔を空けて相対向する各電極層の内面に形成されたエレクトロクロミック層同士が前記電解質層を介して前記高さ方向に対向配置されていることが好ましい。これにより、応答性を効果的に向上させることができる。
【発明の効果】
【００１３】
本発明によれば、電解質層は多孔質層に電解液を含浸させた構造であり、従来に比べて電解質の使用量を減らすことができコスト削減を図ることができる。また、基材にガラスを使用した場合はもちろん、ガラスをフィルムに変更した場合でも電解質層の膜厚の安定化を図ることが可能である。また本発明では、電解質を連続気孔内に保持でき、良好な応答性を得ることが可能になる。
【図面の簡単な説明】
【００１４】
【図１】図１は、本発明の第１実施形態のエレクトロクロミック素子の縦断面図である。
【図２】図２は、図１に示すエレクトロクロミック素子の一部分を拡大して示した模式図である。
【図３】図３（ａ）は、本実施形態における多孔質層（シリコーンゴムシート）表面のＳＥＭ写真であり、図３（ｂ）は、本実施形態における多孔質層（シリコーンゴムシート）断面のＳＥＭ写真である。
【図４】図４は、本発明の第２実施形態のエレクトロクロミック素子の縦断面図である。
【図５】図５は、実験で使用したエレクトロクロミック素子の平面図であり、図５（ａ）は、第１エレクトロクロミック層と第２エレクトロクロミック層とが平面視にてずれた状態（重ならない状態）の構成、図５（ｂ）は、第１エレクトロクロミック層と第２エレクトロクロミック層とが膜厚方向で対向した状態の構成である。
【図６】図６は、ゲル電解質を用いた比較例、連続気孔を備える多孔質層（シリコーンゴムシート）を備えた電解質層を有する実施例１及び実施例２における応答性（発色→消色）を電流値変化により求めたグラフである。
【図７】図７は、ゲル電解質を用いた比較例、連続気孔を備える多孔質層（シリコーンゴムシート）を備えた電解質層を有する実施例１及び実施例２における応答性（消色→発色）を電流値変化により求めたグラフである。
【図８】図８は、ゲル電解質を用いた比較例、連続気孔を備え、空隙率が５０％、５５％、６０％で形成された多孔質層（シリコーンゴムシート）を備えた電解質層を有する実施例における応答性（発色→消色）を電流値変化により求めたグラフである。
【図９】図９は、ゲル電解質を用いた比較例、連続気孔を備え、空隙率が５０％、５５％、６０％で形成された多孔質層（シリコーンゴムシート）を備えた電解質層を有する実施例における応答性（消色→発色）を電流値変化により求めたグラフである。
【図１０】図１０は、図４（ａ）、図４（ｂ）に示す二種類の実施例を用い、各実施例における応答性（発色→消色）を電流値変化により求めたグラフである。
【図１１】図１１は、図４（ａ）、図４（ｂ）に示す二種類の実施例を用い、各実施例における応答性（消色→発色）を電流値変化により求めたグラフである。
【図１２】図１２は、図４（ａ）、図４（ｂ）に示す二種類の実施例を用い、各実施例における応答性（発色→消色）を電荷量変化により求めたグラフである。
【図１３】図１３は、図４（ａ）、図４（ｂ）に示す二種類の実施例を用い、各実施例における応答性（消色→発色）を電荷量変化により求めたグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１５】
図１は、エレクトロクロミック素子の部分縦断面図である。
図１に示すエレクトロクロミック素子１は、高さ方向（Ｚ）に間隔を開けた一対の透明電極層２，３と、各透明電極層２，３間に挟持されたエレクトロクロミック層５，７及び前記エレクトロクロミック層５，７に接して形成された電解質層８とを有して構成される。
【００１６】
各透明電極層２，３は、ガラス等の透明基材４の内面に酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）で形成された透明導電層６を備えた構成である。なお透明基材４はフィルムであってもよい。
【００１７】
図１に示すように、第１のエレクトロクロミック層５が第１の透明電極層２の導電面に形成されている。第１のエレクトロクロミック層５と透明導電層６とは電気的に接続されている。図１では第１のエレクトロクロミック層５と透明導電層６とが接して形成されている。
【００１８】
また第２のエレクトロクロミック層７が第２の透明電極層３の導電面に形成されている。第２のエレクトロクロミック層７と透明導電層６とは電気的に接続されている。図１では第２のエレクトロクロミック層７と透明導電層６とが接して形成されている。
【００１９】
各エレクトロクロミック層５，７はスパッタ、電界析出、あるいは印刷等で形成可能である。
【００２０】
図１に示す実施形態では、第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７とは電解質層８を介して対向している。第１のエレクトロクロミック層５及び第２のエレクトロクロミック層７と電解質層８とは接して形成されている。
【００２１】
例えば第１のエレクトロクロミック層５は、プルシアンブルー（Ｆｅ4［Ｆｅ（ＣＮ）6］3）を含むインクをスピンコーターで塗布したものであり、第２のエレクトロクロミック層７は、ニッケル置換プルシアンブルー類似体（Ｎｉ3［Ｆｅ（ＣＮ）6］2）を含むインクをスピンコーターで塗布したものである。なお、本実施形態では、各エレクトロクロミック層５，７として使用されるエレクトロクロミック材料を限定するものでない。
【００２２】
図１に示すように電解質層８の周囲には封止層１３が設けられている。図１に示すように封止層１３は電解質層８と略同一の高さ寸法（膜厚寸法）で形成されている。
【００２３】
本実施形態では図２の拡大図で示すように、電解質層８が多孔質層９と電解液１０とを有して構成される。
【００２４】
ここで図２（模式図）に示すように多孔質層９には、高さ方向（Ｚ）にて対向する上面（第１の面）９ａから下面（第２の面）に通じる多数の連続気孔１１が形成される。図２では一つの連続気孔１１にのみ符号を付した。図２に示すように連続気孔１１は膜厚方向（Ｚ）と略平行に延びていてもよいし、三次元的に電解質層内部に延びて、上面９ａから下面９ｂに通じる形態であってもよい。例えば図２に示す断面では気孔１１ａと気孔１１ｂとが途中で切れた状態になっているが、実際には紙面奥方向あるいは手前方向に夫々延びて、気孔１１ａ，１１ｂ同士が繋がっており連続気孔を構成している。
【００２５】
連続気孔１１の径は、数１０μｍ〜数１００μｍ程度であることが好ましい。なお気孔は不均一な径で存在する。また、連続気孔１１は、電解質層８に対して、空隙率５０％〜６０％程度、形成されることが好適である。これにより、良好な応答性及び強度を適切に保ち、また液漏れを防止することが出来る。また、応答性を向上させるにはゴムシートの空隙率増加が望ましく、空隙率を５５％以上にするとゲル電解質を用いた素子とほぼ同等の応答性を示す。
【００２６】
本実施形態では、多孔質層９の材質を限定するものでないが、シリコーンゴムシートが好ましく適用される。図３に連続気孔を有するシリコーンラバーシートのＳＥＭ写真を示す。図３（ａ）はシート表面のＳＥＭ写真、図３（ｂ）は縦断面のＳＥＭ写真である。図３に示すシリコーンゴムシートの空隙率（気孔率）は５０％であった。シリコーンゴムシートには、株式会社朝日ラバー製のサポラス（商品名）を用いた。シリコーンラバーシートには上面から下面に通じる多数の連続気孔が形成されていることがわかった。またシリコーンゴムシートを、０．１ｍｍ〜１．０ｍｍ程度の膜厚で形成することができる。
【００２７】
本実施形態における電解質層８は、多孔質層９に電解液１０を含浸させてなる。なお含浸は真空引きで数十分から数時間程度、場合にはよっては数日行うとよい。
【００２８】
ここで電解液１０としては、過塩素酸塩、鉄錯体、金属ハロゲン化物、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩等を溶媒であるエーテル類、カーボネート類、アルコール類、エステル類等で溶解した電解液であることが好適である。本実施形態では、電解液１０を多孔質層９に形成された連続気孔１１内に取り込む（保持する）ことが出来る。電解液として、炭酸プロピレンにビス(トリフルオロメタンスルホニル)イミドカリウムを溶解した電解液であることが好適である。または、カリウム塩として、テトラフルオロほう酸カリウム、過塩素酸カリウム、ヘキサフルオロりん酸カリウム、ビス(フルオロスルホニル)イミドカリウム、トリフルオロメタンスルホン酸カリウム等も使用することが可能で、特に問題なく駆動できる。
【００２９】
図１，図２に示すエレクトロクロミック素子１は、電解質層８を介して第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７との間で酸化還元反応が起こり、第１のエレクトロクロミック層５が発色すれば、第２のエレクトロクロミック層７は消色し、一方、第１のエレクトロクロミック層５が消色すれば、第２のエレクトロクロミック層７が発色する。
【００３０】
例えば第１のエレクトロクロミック層５がエレクトロクロミック材料であるプルシアンブルー（ＰＢ）を有して形成され、第２のエレクトロクロミック層７が、エレクトロクロミック材料であるニッケル置換プルシアンブルー類似体（ＮｉＰＢ）を有して形成されており、第１のエレクトロクロミック層５が酸化状態になると、紺青の色を呈し、一方、第２のエレクトロクロミック層７は還元状態になり消色する（透明になる）。逆に、第２のエレクトロクロミック層７が酸化状態になると黄色を呈し、一方、第１のエレクトロクロミック層５は還元状態になり消色する（透明になる）。
【００３１】
例えば、図１に示す第１の透明電極層２の表面が表示面２ａとして、電極層及び電解質が透明あるいは透明に近い状態であれば、表示面２ａから第１のエレクトロクロミック層５における紺青の表示とともに、第２のエレクトロクロミック層７における黄色の表示とを交互に見ることができる。
【００３２】
あるいは、電解質層８を白色化や有色化することもできる。例えば、多孔質層９に白色粒子（フィラー）である酸化チタン（ＴｉＯ2）等を混練して、多孔質層９を白色化することが可能である。あるいは、酸化チタン等の白色粒子を、電解液１０に入れることも可能である。これにより白色粒子を多孔質層９の連続気孔１１内に取り込むことが出来る。白色粒子以外に有色粒子を多孔質層９に混練しあるいは、電解液１０内に入れることで有色化できる。
【００３３】
このように電解質層８を白色化や有色化することで、表示面２ａでは、第１のエレクトロクロミック層５の発色のみが表示され、第２のエレクトロクロミック層７の発色状態を見えなくすることができる。
【００３４】
図１に示す電解質層８の周囲に設けられた封止層１３は、図２では、多孔質層９と一体化して形成されている。本実施形態では、例えば、多孔質層９及び封止層１３を同じシリコーンゴムで形成でき、このとき封止層１３を連続気孔１１の無い層として形成する。例えば、連続気孔１１が全体的に形成されたシリコーンゴムシートを形成し、封止層１３となる周囲部分の連続気孔１１に樹脂を埋め込むなどして連続気孔１１を塞ぐことで、多孔質層９と一体化し、連続気孔１１の無い封止層１３を簡単且つ適切に形成することができる。
あるいは多孔質層９と封止層１３とを二色成形することも可能である。
【００３５】
本実施形態では、電解質層８は多孔質層９に電解液１０を含浸させた構造であるため、従来に比べて電解液１０の使用量を減らすことができコスト削減を図ることができる。すなわち本実施形態では、電解質層８全体が電解質でなく、多孔質層９に形成された連続気孔１１に取り込まれる（保持される）電解液１０の量で足りるため、電解液１０の使用量を効果的に減らすことが可能になる。多孔質層９は電解液１０により膨潤する材質であることが好ましく、本実施形態では例えば電解質層８をシリコーンゴムシートで形成できる。ただしシリコーンゴムシートに限定するものでない。また本実施形態では、電解質層８の膜厚を多孔質層９の膜厚で決めることができ、膜厚の安定化を図ることが可能である。ゴムシートを成形加工することで、膜厚のばらつきを小さくできる。また透明基材４にガラスを使用した場合はもちろん、ガラスをフィルムに変更した場合でも電解質層８の膜厚の安定化を図ることが出来る。
【００３６】
本実施形態では、多孔質層９に上面９ａから下面９ｂに通じる連続気孔１１が設けられている。このため、電解液１０を連続気孔１１内に保持できる。よって連続気孔１１に保持された電解液１０を介してエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７との間で酸化還元反応を生じさせることができ、良好な応答性を得ることが可能になる。
【００３７】
従来のゲル電解質を用いた電解質層の内部に酸化チタンを混入して白色化した構成では、エレクトロクロミック素子を寝せた状態から立てた状態に設置状態を変化させると、酸化チタンとゲル状の電解質とが分離して、酸化チタンが、立てた状態での電解質層の下端方向（寝せた状態での側部方向）へ崩落を起こし、立てた状態での電解質層の上方部分に酸化チタンの無い領域ができてしまうことがあった。このため、表示面には酸化チタンの崩落した領域が透明となって現れてしまうなど、設置状態の変化により安定した白色面を得ることができない問題があった。
【００３８】
これに対し本実施形態では、多孔質層９を白色化あるいは有色化でき、これにより、従来のように設置状態の変化（寝せた状態から立てた状態に変化させる等）に伴う白色粒子や有色粒子の崩落は生じず、したがって、設置状態が変化しても、安定した白色面や有色面を得ることができる。あるいは、多孔質層９の白色化や有色化とともに、あるいは、多孔質層９を白色化や有色化せずに、白色粒子や有色粒子を連続気孔１１内に取り込んだ構成とすることもできる。これにより白色粒子や有色粒子は連続気孔１１内に保持されるので、従来のように設置状態の変化に伴う白色粒子や有色粒子の崩落は生じず、したがって、設置状態が変化しても、安定した白色面や有色面を得ることができる。なお、白色粒子や有色粒子を電解液１０内に入れた場合、連続気孔１１の径は粒子径よりも大きい必要がある。例えば酸化チタンはナノサイズから数μｍ程度の径であり、数１０μｍ〜数１００μｍ程度の径を有する連続気孔１１内に取り込むことが可能である。
【００３９】
また本実施形態では、粒子の比重に係らず良好な白色化や有色化を実現できる。従来では、電解液と粒子との比重差から粒子が沈降し、それがエレクトロクロミック素子の設置状態の変更に伴って、粒子の崩落へと繋がったが、本実施形態では、粒子の比重が大きい例えば酸化チタンを用いても、粒子を連続気孔１１内に取り込むことで、崩落現象は生じず、良好な白色化を実現できる。また従来では、例えば崩落を防止すべく沈降しにくい粒子や粘度の調整等が必要とされたが、本実施形態ではそのような調整も特に必要なく製造コストの低減を図ることが可能である。
【００４０】
また図１に示すように、電解質層８の周囲に、前記電解質層８とほぼ同じ高さ寸法の封止層１３を設けることで、電解液１０の液漏れを防止できる。
【００４１】
また図２に示すように、封止層１３が連続気孔１１の無い層として多孔質層９と一体形成されていることが好ましい。これにより封止層１３を電解質層９の周囲に隙間無く且つ同じ高さで適切に形成できて液漏れを効果的に防止でき、また多孔質層９及び封止層１３を同じ材質で形成でき、製造コストの低減を図ることが出来る。
【００４２】
図１，図２に示すエレクトロクロミック素子１では、第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７とが膜厚方向（Ｚ）で対向している。一方、図４に示す第２の実施形態では、第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７とが膜厚方向（Ｚ）にて重ならないように平面視（矢視α）にてずれて配置されている。
【００４３】
図４の形態よりも図１のように各エレクトロクロミック層５，７を対向させたほうが良好な応答性を得ることができ好適である。すなわち図２で説明したように、多孔質層９には上面９ａから下面９ｂに向けて延びる連続気孔１１が形成されており、図４のように、各エレクトロクロミック層５，７がずれて配置されると、第１のエレクトロクロミック層５から第２のエレクトロクロミック層７へ通じる連続気孔１１の数が減少する。このため、図４の形態であると各エレクトロクロミック層５，７の間で電解液１０の供給が不十分になり、応答性が低下しやすい。よって、図１のように、第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７とを膜厚方向にて対向させることで、各エレクトロクロミック層５，７間に通じる連続気孔１１が増え、電解液１０の供給を十分にでき、良好な応答性を得ることが可能になる。
【実施例】
【００４４】
（３種類の電解質層を用いた実験）
実験では、図５（ａ）の平面図で示すように、第１のエレクトロクロミック層５，５と第２のエレクトロクロミック層７，７とを膜厚方向で対向させず平面視にてずらして配置した。なお各試料におけるエレクトロクロミック素子は電解質層の構成を除いて統一した。なお各試料において、プルシアンブルー（ＰＢ）を有するインクをスピンコートで塗布して各エレクトロクロミック層５，７を形成した。
【００４５】
電解質層として、炭酸プロピレンにビス（トリフルオロメタンスルホニル）イミドカリウムを溶解したイミド電解液（濃度５Ｍ）にポリメタクリル酸メチル樹脂（ＰＭＭＡ）を溶解し更に酸化チタン（ＴｉＯ2）を分散したゲル電解質（比較例）、連続気孔を有する厚さ０．３ｍｍのシリコーンゴムシート（橙色）（株式会社朝日ラバー製のサポラス（商品名）を使用。空隙率(気孔率)は５０％。気孔径は数１０μｍ〜数１００μｍ程度）に、前記電解液を浸漬した実施例１、連続気孔を有する厚さ１．０ｍｍのシリコーンゴムシート（透明）（株式会社朝日ラバー製のサポラス（商品名）を使用。空隙率(気孔率)は５０％。気孔径は数１０μｍ〜数１００μｍ程度。実施例１と比較してゴムシートの色と厚みが異なる）に、前記電解液を浸漬した実施例２を用いた。なお実施例１，２では、真空下で連続気孔から空気除去を行いながら電解液に浸漬させた。
【００４６】
各試料に対して、−１．５Ｖ→１．５Ｖ（第１のエレクトロクロミック層の発色→消色）、１．５Ｖ→−１．５Ｖ（第１のエレクトロクロミック層の消色→発色）の条件にてクロノアンペロメトリーを測定した。なお測定には北斗電工製のポテンショスタット（型番ＨＺ−５０００）を使用した。
【００４７】
その実験結果を図６及び図７に示す。電流が流れなくなった時点で応答性を評価した。その結果、比較例及び実施例１，２での応答時間は、約１０秒〜１５秒程度であった。ただし、実施例２では発色→消色に要する時間が約７秒であったのに対し、比較例では１０秒程度かかっており、実施例２での応答性のほうが優れた結果となった。また、実施例２及び比較例では消色→発色に要する時間がともに約１２秒であり、同等の結果となった。以上の実験結果から、連続気孔を有するシリコーンゴムシートを用いた実施例では、ゲル電解質の比較例と同等以上の応答性を得ることができるとわかった。
【００４８】
（空隙率の実験）
実験では、実施例１で使用したシリコーンゴムシートの空隙率が５０％、５５％、６０％と異なるエレクトロクロミック素子を用意した、なお実験では空隙率が５０％のシリコーンゴムシートを２種類、空隙率が５５％のシリコーンゴムシートを２種類、空隙率が６０％のシリコーンゴムシートを３種類、用意した。なお実験に使用した第１のエレクトロクロミック層５をプルシアンブルー（ＰＢ）を有するインクをスピンコートで塗布して形成し、第２のエレクトロクロミック層７を、ニッケル置換プルシアンブルー類似体（Ｎｉ3［Ｆｅ（ＣＮ）6］2）を有するインクをスピンコートで塗布して形成した。それ以外の構成は、上記実験のものと同じとした。
【００４９】
各試料に対して、−０．８Ｖ→０Ｖ（第１のエレクトロクロミック層の発色→消色）、０Ｖ→−０．８Ｖ（第１のエレクトロクロミック層の消色→発色）の条件にてクロノアンペロメトリーを測定した。なお測定には北斗電工製のポテンショスタット（型番ＨＺ−５０００）を使用した。
【００５０】
その実験結果を図８及び図９に示す。図８、図９に示すように空隙率が増加すると応答性が向上することがわかった。またゴムシートの空隙率を６０％に近づけるほどゲル電解質と同等の応答性を得ることができるとわかった。
【００５１】
この実験により、５０％〜６０％程度の空隙率を備えるゴムシートを用いることが好ましく、５５％〜６０％程度の空隙率を備えるゴムシートを用いることで、ゲル電解質を用いたエレクトロクロミック素子とほぼ同等の応答性を示すことができより好ましいと設定した。
【００５２】
（エレクトロクロミック層を対向させたパターンと、ずらしたパターンとの比較の実験）
図５（ｂ）の平面図は、第１のエレクトロクロミック層５，５と第２のエレクトロクロミック層７，７とを膜厚方向で対向させて配置したものである。
【００５３】
実験では、実施例１の連続気孔を有する０．３ｍｍ厚のシリコーンゴムシートを用いたエレクトロクロミック素子を用いた。なお電解液の浸漬方法やエレクトロクロミック層の材質などについては上記実験と同様である。
【００５４】
実験は図５（ａ）と図５（ｂ）の各パターンを用いて行った。すなわち図５（ａ）のように第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７との各パターンを膜厚方向で重ならないようにずらしたものと、図５（ｂ）のように第１のエレクトロクロミック層５と第２のエレクトロクロミック層７の各パターンを膜厚方向で対向させたものの二種類を用意した。
【００５５】
各試料に対して、−１．５Ｖ→１．５Ｖ（第１のエレクトロクロミック層の発色→消色）、１．５Ｖ→−１．５Ｖ（第１のエレクトロクロミック層の消色→発色）の条件にてクロノアンペロメトリー及びクロノクーロメトリーを測定した。なお測定には北斗電工製のポテンショスタット（型番ＨＺ−５０００）を使用した。その実験結果を図１０〜図１３に示す。図１０，図１１は、クロノアンペロメトリー測定結果、図１２，図１３は、クロノクーロメトリー測定結果を示す。
【００５６】
図１０，図１１に示すように、各エレクトロクロミック層のパターンを対向配置したほうが、パターンをずらして配置するよりも早く電流がゼロになり、明らかに発色→消色、消色→発色の各応答時間が短くなり応答性に優れることがわかった。また図１２，図１３の電荷は発色→消色、消色→発色に起因するものであり、電荷量（絶対値）は、各エレクトロクロミック層のパターンを対向配置したほうが、パターンをずらして配置するよりも明らかに多くなり、発色→消色、消色→発色への切替が速いことがわかった。
【００５７】
また、実施例とともに、ゲル電解質を用いた比較例においても図５（ｂ）に示すパターン対向型のエレクトロクロミック素子を形成して応答時間を測定してみたところ、発色→消色、及び消色→発色にかかる応答時間は約１秒〜約３秒であり、ほぼ同等の応答性であることがわかった。
【符号の説明】
【００５８】
１  エレクトロクロミック素子
２、３  透明電極層
５、７  エレクトロクロミック層
８  電解質層
９  多孔質層
１０  電解液
１１  連続気孔
１３  封止層
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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