(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板上に形成された高分子薄膜上に、偏光した紫外線又は電子線を基板面に対して一定方向に照射し、該基板を使用してラビング処理なしに液晶を配向させる配向処理方法において、該高分子薄膜が、還元粘度が０．０５〜３．０ｄｌ／ｇ（温度３０℃のＮ−メチル−２−ピロリドン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）のポリイミド前駆体を脱水閉環して得られる一般式［Ｉ］
【化１】
0003893659.tif 000006
（式中、Ｒ1は脂環式構造を有する４価の有機基を表し、Ｒ2は２価の有機基を表す。）
で表される繰り返し単位を含有するポリイミド樹脂であることを特徴とする液晶配向処理方法。
【請求項２】
一般式［Ｉ］に於て、Ｒ1が下記構造
【化２】
0003893659.tif 000007
（式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は水素または炭素数１から４の有機基であり、Ｒ7は水素またはフッ素または炭素数１から２の有機基であり、Ｒ8は水素またはフッ素または炭素数１から４の有機基を表す。）
から選ばれた構造を含有するポリイミドである請求項［１］記載の液晶配向処理方法。
【請求項３】
一般式［Ｉ］において、Ｒ1が下記構造
【化３】
0003893659.tif 000008
を含有するポリイミドである請求項［Ｉ］記載の液晶配向処理方法。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】
本発明は、液晶の配向処理方法に関するものであり、更に詳しくはラビング処理なしで、ポリイミド膜表面に偏光照射を行うことにより液晶分子を配向させる方法に於いて、より実用的観点から幅広いポリイミド系樹脂を使用した配向処理方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
液晶表示素子は、液晶の電気光学的変化を利用した表示素子であり、装置的に小型軽量であり、消費電力が小さい等の特性が注目され、近年、各種ディスプレイ用の表示装置として目覚ましい発展を遂げている。中でも正の誘電異方性を有するネマティック液晶を用い、相対向する一対の電極基板のそれぞれの界面で液晶分子を基板に対し平行に配列させ、かつ、液晶分子の配向方向が互いに直交するように両基板を組み合わせた、ツイステッドネマティック型（ＴＮ型）の電界効果型液晶表示素子は、その代表的なものである。
【０００３】
このようなＴＮ型の液晶表示素子においては、液晶分子の長軸方向を基板表面に均一に平行に配向させること、更に液晶分子を基板に対して一定の傾斜配向角（以下、チルト角という）をもって配向させることが重要である。
この様に液晶分子を配向させる代表的な方法としては、従来より二つの方法が知られている。第一の方法は、酸化珪素等の無機物を基板に対して斜めから蒸着することにより基板上に無機膜を形成し、蒸着方向に液晶分子を配向させる方法である。この方法では、一定のチルト角を有する安定した配向は得られるものの工業的には効率的ではない。第二の方法は、基板表面に有機被膜をもうけ、その表面を綿、ナイロン、ポリエステル等の布で一定方向にラビングし、ラビング方向に液晶分子を配向させる方法である。この方法は、比較的容易に安定した配向が得られるため、工業的には専らこの方法が採用されている。有機膜としては、ポリビニルアルコール、ポリオキシエチレン、ポリアミド、ポリイミド等が挙げられるが、化学的安定性、熱的安定性等の点からポリイミドが最も一般的に使用されている。この様な液晶配向膜に使用されているポリイミドの代表的な例としては、特開昭６１−４７９３２に開示されるものがある。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】
ポリイミドをラビングする液晶配向処理方法は、簡便で生産性に優れた工業的に有用な方法である。しかし、液晶表示素子の高性能化、高精細化への要求は益々高まり、それに対応した新しい表示方式が開発にされるに伴い、ラビング法の様々な問題が指摘されるようになった。例えば、ＴＮ型液晶表示のツイスト角を高くしたＳＴＮ（スーパーツイステッドネマティック）方式、個々の電極にスイイチング素子を形成したＡＭ（アクティヴマトリクス）方式、強誘電液晶、反強誘電液晶を用いたＦＬＣ（フェロエレクトリック）、ＡＦＬＣ（アンチフェロエレクトリック）方式などがそれである。ＳＴＮ方式では、コントラストが高いためラビングによって生じた配向膜表面の傷が表示欠陥となってしまい、ＡＭ方式ではラビングによる機械的な力や静電気がスイッチング素子を破壊する結果になったりラビングによる発塵が表示欠陥になったり、ＦＬＣ、ＡＦＬＣ方式では単純なラビング処理だけではスメクティック液晶の均一配向と高速応答を両立させることが難しいなど、ラビング法の様々な問題が明らかになってきている。
【０００５】
これらの問題を解決する目的で、ラビングなしで液晶を配向させるいわゆる”ラビングレス”配向法が検討され、様々な方法が提案されている。例えば、配向膜表面にフォトクロミック分子を導入し、光によって配向膜表面の分子を配向させる方法（特開平４−２８４４号公報）、ＬＢ膜（ラングミュアブロジェット膜）を用いて配向膜を構成する分子鎖を配向させる方法（小林ら、ジャパニーズ  ジャーナル  オブ  アプライド  フィジックス、２７巻、４７５ページ（１９８８年）（S.Kobayashi et al.,Jpn.J.Appl.Phys.,27,475(1988)） )、あらかじめ配向処理された基板上に配向膜を圧着して配向を移し取る方法（特開平６−４３４５８号公報）などが検討されているが、工業的な生産性を考慮した場合に、ラビング法の代替となり得るものとは言えない。
【０００６】
これに対して、配向膜表面に周期的な凹凸を人為的に形成し、この凹凸に沿って液晶分子を配向させる様々な方法も提案されている．その最も単純な方法は、予め周期的な凹凸を有するレプリカを作成し、その上に熱可塑性の膜を加熱圧着し、膜上に凹凸を移し取る方法である（特開平４−１７２３２０号公報、特開平４−２９６８２０号公報、特開平４−３１１９２６号公報など）。この方法では確かに表面に周期的な凹凸を有する膜を効率的に作成することは可能であるが、ラビング法で用いられているポリイミド膜ほどの実用上の信頼性を得ることは出来なかった。これに対して、信頼性の高いポリイミド膜に高エネルギ−の光、例えば電子線（特開平４−９７１３０号公報）、α線（特開平２−１９８３６号公報）、Ｘ線（特開平２−２５１５号公報）、エキシマレーザー（特開平５−５３５１３号公報）などを照射し、膜表面に周期的な凹凸を形成する方法が提案されている。しかし、これらの高エネルギーの光源を用いることは、大型の基板全面に均一に配向処理を連続的に行なうという工業的な生産性を考慮した場合、効率的な配向処理方法とは言い難いものであった。
【０００７】
一方、信頼性の高いポリイミド膜表面に周期的な凹凸を形成する効率的な方法として、フォトリソグラフィー法がある。ポリイミドはその高い絶縁性と優れた電気特性故に半導体用の絶縁膜として用いられ、近年ではポリイミド自身に光硬化性をもつ、いわゆる感光性ポリイミドの開発がなされ、この光硬化性ポリイミドを用いてフォトリソグラフィー法により周期的な凹凸を形成しようとする試みである。この方法によって、確かにポリイミド膜表面に凹凸を形成することはできるものの、元来光硬化性のポリイミドは絶縁膜として開発されたものであった。それゆえに、液晶を配向させるための特性は不十分なものとなり、更にバッファー層をコーティングするなどの必要性を生じ（特開平４−２４５２２４号公報）、結果的にプロセスが複雑となり、工業的な生産性を考慮するとラビング法の代替となり得るだけの効率的な配向処理方法とはなり得なかった。
【０００８】
最近見いだされた新たな配向処理方法として、偏光した紫外線等を高分子膜表面に照射し、ラビング処理をすることなく液晶分子を配向させる方法が提案されている。その例として以下のような報告がある。
ギボンズら、ネーチャー、３５１巻、４９ページ（１９９１年）（W.M.Gibbons et al., Nature, 351, 49(1991)）、川西ら、モレキュラー  クリスタル  アンド  リキット  クイスタル、２１８巻、１５３ページ（１９９２年）（Y.Kawanishi et al., Mol. Cryst. Liq. Cryst., 218, 153(1992)）、シャトら、ジャパニーズ  ジャーナル  オブ  アプライド  フィジックス、３１巻、２１５５ページ（１９９２年）（M.Shadt at al., Jpn. J. Appl. Phys. 31, 2155(1992)）、飯村ら、ジャパニーズ  ジャーナル  オブ  アプライド  フィジックス、３２巻、Ｌ９３ページ（１９９３年）（Y.Iimura et al., Jpn. J. Appl. Phys. 32, L93 (1993)）
これらの方法は、従来のラビング処理を必要とせず、偏光した光照射により一定方向に液晶を配向させることが特徴である。この方法によれば、ラビング法による膜表面の傷や静電気等の問題がなく、また工業的な生産を考慮した際の製造プロセスとしてより簡便であることが利点である。
【０００９】
即ち、ここに提案されている偏光した光照射を使用する液晶配向方法は、未だ基礎的な研究段階ではあるが、今後ラビング処理を用いない新たな液晶配向処理方法として注目される方法と見られる。
これまでの報告で使用されている高分子材料は、偏光した光に対する光化学的感度を得る必要性から、主にポリビニルシンナメート、アゾ系色素を分散したポリイミド等の特定の高分子材料が用いられており、これらの高分子膜表面に偏光した光を照射することで一定の方向に液晶分子を配向させうることが述べられている。
【００１０】
しかしながら、今後この偏光照射を用いた液晶配向を実際に応用する場合には、単に液晶配向の機能だけではなく、より高度な液晶表示を達成する上で液晶配向膜としての種々の機能が同時に必要とされる。この事は液晶配向膜として使用される高分子材料が、単に特定の材料に限定されず、より幅広い化学構造の選択が重要となってくる。
【００１１】
また液晶分子の配向安定性、信頼性の観点から、従来から使用されてきているポリイミドを使用することが好ましいと考えられる。
即ち、本発明の目的は、偏光照射による液晶配向を実際の液晶表示素子に応用する場合、より均一で高い信頼性をもったポリイミド樹脂を用い、且つ幅広い構造選択幅をもつポリイミド材料系を使用した配向処理方法の提供にある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意努力検討した結果本発明を完成させるに至った。即ち、本発明は、基板上に形成された高分子薄膜上に、偏光した紫外線又は電子線を基板面に対して一定方向に照射し、該基板を使用してラビング処理なしに液晶を配向させる配向処理方法において、該高分子薄膜が、還元粘度が０．０５〜３．０ｄｌ／ｇ（温度３０℃のＮ−メチル−２−ピロリドン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）のポリイミド前駆体を脱水閉環させて得られる一般式［Ｉ］
【００１３】
【化４】
0003893659.tif 000002
【００１４】
（式中、Ｒ1は脂環式構造を有する４価の有機基を表し、Ｒ２は２価の有機基を表す。）
で表される繰り返し単位を含有するポリイミド樹脂であることを特徴とする液晶配向処理方法に関する。
【００１５】
【発明の実施の形態】
本発明の液晶配向処理方法は、透明電極の付いたガラス或はプラスティックフィルム等の電極付基板上に、一般式［Ｉ］で表されるポリイミド膜を形成し、次いで膜面に偏光した紫外線を照射することによりラビング処理することなしに液晶配向処理基板として使用するものである。
【００１６】
本発明の液晶配向処理方法に使用されるポリイミド樹脂としては、一般式［Ｉ］に示される繰り返し単位を含有することが必須である。この様なポリイミド樹脂を用いることにより、偏光紫外線照射より液晶分子を偏光方向に対して一定の方向に、且つ均一安定に配向させることが可能となる。
本発明の液晶配向処理方法に使用される一般式［Ｉ］で表されるポリイミド樹脂に於て、使用されるテトラカルボン酸成分としては、その構造中に脂環式構造を有するテトラカルボン酸成分を含有することが必須である。好ましくは一般式［Ｉ］に於て、Ｒ1が下記構造式から選ばれた構造を含有するポリイミド樹脂である。
【００１７】
【化５】
0003893659.tif 000003
【００１８】
（式中、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6は水素または炭素数１から４の有機基であり、Ｒ7は水素またはフッ素または炭素数１から２の有機基であり、Ｒ8は水素またはフッ素または炭素数１から４の有機基を表す。）
上記構造を有するテトラカルボン酸成分の具体例としては、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸、１，２，３，４−シクロペンタンテトラカルボン酸、２，３，４，５−テトラヒドロフランテトラカルボン酸、１，２，４，５−シクロヘキサンテトラカルボン酸、３，４−ジカルボキシ−１−シクロヘキシルコハク酸、３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸などの脂環式テトラカルボン酸及びこれらの２無水物並びにこれらのジカルボン酸ジ酸ハロゲン化物などが挙げられる。
【００１９】
特に、一般式［Ｉ］において、Ｒ１が下記構造を含有するポリイミド樹脂、テトラカルボン酸成分として、１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸およびこの２無水物並びにこのカルボン酸ジ酸ハロゲン化物が液晶配向性の点で好ましい。
【００２０】
【化６】
0003893659.tif 000004
【００２１】
さらに、これらのテトラカルボン酸及びその誘導体の１種又は２種以上を混合して使用することもできる。
また、得られるポリイミド樹脂が紫外線を照射し本発明の効果を発現しうる範囲であれば他のテトラカルボン酸２無水物を併用することもできる。その具体例を挙げると、ピロメリット酸、２，３，６，７−ナフタレンテトラカルボン酸、１，２，５，６−ナフタレンテトラカルボン酸、１，４，５，８−ナフタレンテトラカルボン酸、２，３，６，７−アントラセンテトラカルボン酸、１，２，５，６−アントラセンテトラカルボン酸、３，３’，４，４’−ビフェニルテトラカルボン酸、２，３，３’，４−ビフェニルテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）エ−テル、３，３’，４，４’−ベンゾフェノンテトラカルボン酸、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）スルホン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）メタン、２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロ−２，２−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）プロパン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジメチルシラン、ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ジフェニルシラン、２，３，４，５，−ピリジンテトラカルボン酸、２，６−ビス（３，４−ジカルボキシフェニル）ピリジンなどの芳香族テトラカルボン酸及びこれらの２無水物並びにこれらのジカルボン酸ジ酸ハロゲン化物、１，２，３，４−ブタンテトラカルボン酸などの脂肪族テトラカルボン酸及びこれらの２無水物並びにこれらのジカルボン酸ジ酸ハロゲン化物などが挙げられる。
【００２２】
また、これらのテトラカルボン酸及びその誘導体の１種又は２種以上を混合して使用することもできる。
更に本発明の一般式［１］におけるジアミン成分Ｒ2の具体例としては、一般にポリイミド合成に使用される１級ジアミンであって、特に限定されるものではない。敢えてその具体例を挙げれば、ｐ−フェニレンジアミン、ｍ−フェニレンジアミン、２，５−ジアミノトルエン、２，６−ジアミノトルエン、４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメチル−４，４’−ジアミノビフェニル、３，３’−ジメトキシ−４，４’−ジアミノビフェニル、ジアミノジフェニルメタン、ジアミノジフェニルエ−テル、２，２’−ジアミノジフェニルプロパン、ビス（３，５−ジエチル４−アミノフェニル）メタン、ジアミノジフェニルスルホン、ジアミノベンゾフェノン、ジアミノナフタレン、１，４−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、１，４−ビス（４−アミノフェニル）ベンゼン、９，１０−ビス（４−アミノフェニル）アントラセン、１，３−ビス（４−アミノフェノキシ）ベンゼン、４，４’−ビス（４−アミノフェノキシ）ジフェニルスルホン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン、２，２−ビス（４−アミノフェニル）ヘキサフルオロプロパン、２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］ヘキサフルオロプロパン等の芳香族ジアミン、ビス（４−アミノシクロヘキシル）メタン、ビス（４−アミノ−３−メチルシクロヘキシル）メタン等の脂環式ジアミン及びテトラメチレンジアミン、ヘキサメチレンジアミン等の脂肪族ジアミン、更には、
【００２３】
【化７】
0003893659.tif 000005
【００２４】
（ｍは１〜１０の整数）
などのジアミノシロキサンが挙げられる。
また、チルト角を高める目的で、４，４’−ジアミノ−３−ドデシルジフェニルエ−テル、１−ドデカノキシ−２，４−ジアミノベンゼン等に代表される長鎖アルキル基を有するジアミンを使用することができる。これらのジアミン成分の１種類または２種類以上を混合して使用することもできる。また更には、特開昭６２−２９７８１９、に開示されている、ポリイミド前駆体と長鎖アルキル基を有するモノアミンよりなる組成物、特公平６−２５８３４号公報、特公平６−２５８３５号公報等に開示されている長鎖アルキル基を含有するジイミド組成物を使用することもできる。
【００２５】
本発明のポリイミド樹脂は、上記脂環式構造を有するテトラカルボン酸成分を含有することが必須であるが、その製造方法は特に限定されるものではない。一般にはテトラカルボン酸及びその誘導体とジアミンをモル比０．５０〜２．０好ましくは０．９〜１．１０の範囲で有機溶剤中で反応重合させて還元粘度が０．０５〜３．０ｄｌ／ｇ（温度３０℃のＮ−メチル−２−ピロリドン中、濃度０．５ｇ／ｄｌ）のポリイミド樹脂前駆体を得、次いで脱水閉環させてポリイミド樹脂とする方法を採用することができる。
【００２６】
この場合、テトラカルボン酸及びその誘導体とジアミンの反応重合温度は−２０〜１５０℃の任意の温度を採用することが出来るが、特に−５〜１００℃の範囲が好ましい。
更に、ポリイミド樹脂前駆体の重合法としては通常は溶液法が好適である。溶液重合法に使用される溶剤の具体例としては、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−メチルカプロラクタム、ジメチルスルホキシド、テトラメチル尿素、ピリジン、ジメチルスルホン、ヘキサメチルホスホルアミド、及びブチルラクトン等を挙げることが出来る。これらは単独でも、また混合して使用しても良い。更に、ポリイミド樹脂前駆体を溶解しない溶剤であっても、その溶剤を均一溶液が得られる範囲内で上記溶剤に加えて使用しても良い。
【００２７】
更に、ポリイミド樹脂前駆体をポリイミド樹脂に転化するには、加熱により脱水閉環する方法が採用される。この加熱脱水閉環温度は、１５０〜４５０℃、好ましくは１７０〜３５０℃の任意の温度を選択することができる。この脱水閉環に要する時間は、反応温度にもよるが３０秒〜１０時間、好ましくは５分〜５時間が適当である。
【００２８】
上記のようにして得られた本発明のポリイミド又はポリイミド前駆体溶液を、スピンコート、転写印刷法などの方法を用いて基板上に塗布し、これを上記の条件で加熱焼成してポリイミド膜を形成する。この際のポリイミド膜の厚みとしては、特に限定されるものではないが、通常の液晶配向膜として使用される上で、１０ｎｍ〜３００ｎｍが適当である。
【００２９】
次いで、該ポリイミド膜表面に、基板に対して一定の方向から偏光板を介して偏光された紫外線を照射する。使用する紫外線の波長としては一般には１００ｎｍ〜４００ｎｍの範囲の紫外線を使用することができるが、特に好ましくは使用するポリイミドの種類によりフィルター等を介して適宜波長を選択することが好ましい。
【００３０】
また紫外線の照射時間は、一般には数秒から数時間の範囲であるが、使用するポリイミドにより適宜選択することが可能である。
この様にして偏光した紫外線を照射した二枚の基板を作成したのち、膜面を互いに対向させ液晶を狭持することにより液晶分子を配向させることができる。
【００３１】
【実施例】
以下に実施例を挙げ、本発明を更に詳しく説明するが本発明はこれらに限定されるものではない。
実施例１
２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ) フェニル］プロパン４１．０ｇ（ 0.1モル）と１，２，３，４，−シクロブタンテトラカルボン酸２無水物１９．２ｇ（０．９８モル）をＮ−メチルピロリドン（以下ＮＭＰと省略する）３４３．５ｇ中、室温で１０時間反応させポリイミド前駆体（ポリアミック酸）溶液を調製した。得られたポリイミド前駆体の還元粘度は、０．９８ｄｌ／ｇ（濃度０．５ｇ／ｄｌ、ＮＭＰ中30℃）であった。
【００３２】
この溶液をＮＭＰにより総固形分３重量％に希釈後、ガラス基板に３０００ｒｐｍでスピンコートし、ついで８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理することにより厚さ１００ｎｍのポリイミド樹脂膜を形成した。
このようにして得たポリイミド樹脂膜を塗布したガラス基板を２枚用意し、それぞれのポリイミド樹脂膜に、偏光板を介して、出力５００Ｗの高圧水銀灯からの紫外光を６０分間照射した。
【００３３】
偏光紫外線を照射した基板２枚を、ポリイミド面が内側を向き、照射した偏光紫外線の方向が互いに平行になるようにし、５０μｍのスペーサーを挟んで張り合わせてセルを作成し、真空下で液晶（メルク社製ＺＬＩ−２２９３）を注入した。このセルを偏光顕微鏡のクロスニコル下で回転させたところ、明瞭な明暗を生じ、かつ欠陥も観られず、液晶が均一に配向していることが確認された。
【００３４】
実施例２
１，５−ジアミノナフタレン１５．８ｇ（０．１モル）と１，２，３，４−シクロブタンテトラカルボン酸２無水物１９．２ｇ（０．９８モル）をＮＭＰ３４３．５ｇ中、室温で１０時間反応させポリイミド前駆体（ポリアミック酸）溶液を調製した。得られたポリイミド前駆体溶液の還元粘度は、０．８５ｄｌ／ｇ（濃度０．５ｇ／ｄｌ、ＮＭＰ中３０℃）であった。
【００３５】
この溶液をＮＭＰにより総固形分５重量％に希釈後、ガラス基板に３５００ｒｐｍでスピンコートし、接いで８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理することにより厚さ１００ｎｍのポリイミド樹脂膜を形成した。
実施例１の方法と同様に、偏光紫外線を照射した後セルを作成した。このセルを偏光顕微鏡のクロスニコル下で回転させたところ、明瞭な明暗を生じ、かつ欠陥も見られず、液晶が均一に配向していることが確認された。
【００３６】
実施例３
２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン４１．０ｇ（０．１モル）と３，４−ジカルボキシ−１，２，３，４−テトラヒドロ−１−ナフタレンコハク酸２無水物２９．４ｇ（０．９８モル）をＮＭＰ３４３．５ｇ中、室温で１０時間反応させポリイミド前駆体（ポリアミック酸）溶液を調製した。得られたポリイミド前駆体溶液の還元粘度は、０．８０ｄｌ／ｇ（濃度０．５ｇ／ｄｌ、ＮＭＰ中３０℃）であった。
【００３７】
この溶液をＮＭＰにより総固形分 6重量％に希釈後、ガラス基板に３５００ｒｐｍでスピンコ−トし、接いで８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理することにより厚さ１００ｎｍのポリイミド樹脂膜を形成した。
実施例１の方法と同様に、偏光紫外線を照射した後セルを作成した。このセルを偏光顕微鏡のクロスニコル下で回転させたところ、明瞭な明暗を生じ、かつ欠陥も見られず、液晶が均一に配向していることが確認された。
【００３８】
比較例１
２，２−ビス［４−（４−アミノフェノキシ）フェニル］プロパン４１．０ｇ（０．１モル）とピロメリット酸２無水物２１．２ｇ（０．９７モル）をＮＭＰ３４３．５ｇ中、室温で１０時間反応させポリイミド前駆体（ポリアミック酸）溶液を調製した。得られたポリイミド前駆体の還元粘度は、１．１０ｄｌ／ｇ（濃度  ０．５ｇ／ｄｌ、ＮＭＰ中３０℃）であった。
【００３９】
この溶液をＮＭＰにより総固形分  ３重量％に希釈後、ガラス基板に４５００ｒｐｍでスピンコ−トし、ついで８０℃で５分、２５０℃で１時間加熱処理することにより厚さ１００ｎｍのポリイミド樹脂膜を形成した。
実施例１の方法と同様に、偏光紫外線を照射した後セルを作成した。このセルを偏光顕微鏡のクロスニコル下で回転させたところ、若干の明暗は生じるものの、多数の欠陥が観察され、液晶は均一に配向しなかった。
【００４０】
【発明の効果】
本発明のポリイミド樹脂を用い、膜面に偏光した紫外線を一定方向に照射することにより、従来の液晶配向処理方法であるラビング処理を行うことなしに、液晶分子を均一に且つ安定に配向させることができる。また併せて偏光照射を用いた液晶配向方法に於いて、より幅広い構造系を選択することが可能となり、液晶配向膜としてより多くの機能を併せ持った実用的な液晶配向処理方法を提供することが可能となる。