(57)【特許請求の範囲】
【請求項１】
光ビームを発生する２対の半導体レーザとカップリングレンズからなる２組の光源モジュールにより構成される光源装置から光ビームを出射し、被走査面上にビームスポットとして走査し、
上記２組の光源モジュールを主走査方向に配列して保持する保持部材と、上記２組の各光源モジュールから出射される２本の光ビームを互いに近接して合成する合成手段とからなり、
一方の上記光源モジュールから出射される２つの光ビームの被走査面でのビームスポットをＢＳ１及びＢＳ４とし、
他方の上記光源モジュールから出射される２つの光ビームの被走査面でのビームスポットをＢＳ２及びＢＳ３とし、
上記ビームスポットＢＳ１とＢＳ４との中央位置をＣ１、上記ビームスポットＢＳ２とＢＳ３との中央位置をＣ２とするとき、上記ビームスポットＢＳ１とＢＳ４の主走査方向の間隔及び上記ビームスポットＢＳ２とＢＳ３の主走査方向の間隔を、上記中央位置Ｃ１とＣ２の主走査方向の間隔より狭くなるように設定した光走査装置において、
上記光源装置は、上記光ビームの出射方向の副走査方向成分を可変する出射方向変更手段を２以上備え、
該一の出射方向変更手段は、上記２組の光源モジュールの一方を、略副走査断面内で傾けることにより、上記光ビームの出射方向の副走査方向成分を可変するものであり、他の変更手段よりも感度が高く、
他の出射方向変更手段は、上記光源装置を出射ビームの略光軸回りに回転することにより、上記光ビームの出射方向の副走査方向成分を可変するものであり、上記一の変更手段よりも感度が低く、
さらに上記被走査面におけるビームスポット位置を検出する検出手段と、上記被走査面上のビームスポット間隔の上記目標値からの変動をフィードバック調整する補正手段を有し、
該補正手段は、上記検出手段によるビームスポット位置の検出結果に基づき、感度の高い上記一の出射方向変更手段により上記被走査面上のビームスポット間隔を目標値に調整し、感度の低い上記他の出射方向変更手段により、上記被走査面上のビームスポット間隔の上記目標値からの変動をフィードバック調整する、
ことを特徴とする光走査装置。
【請求項２】
請求項１の光走査装置において、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、光路内に透過型光学素子を偏心させて備えることを特徴とする光走査装置。
【請求項３】
請求項１の光走査装置において、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、光路内に反射型光学素子を偏心させて備えることを特徴とする光走査装置。
【請求項４】
請求項１の光走査装置において、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、上記光源モジュールの取り付け姿勢を変化させる手段を有することを特徴とする光走査装置。
【請求項５】
請求項１の光走査装置において、上記光源モジュールの少なくとも一を半導体レーザ及びカップリングレンズから構成し、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、上記半導体レーザと上記カップリングレンズの相対位置を変化させるものであることを特徴とする光走査装置。
【請求項６】
請求項１の光走査装置において、上記光源モジュールの少なくとも一を半導体レーザ及びカップリングレンズから構成し、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、上記半導体レーザと上記カップリングレンズの間の光路内に平行平板を傾動可能に配設してなることを特徴とする光走査装置。
【請求項７】
請求項１の光走査装置において、上記検出手段による検出結果に基づき、下記調整フロー（ステップ（１）〜ステップ（５））に従い、
上記一の出射方向変更手段により、
（１）上記２組の光源モジュールの一方を、略副走査断面内で傾けることにより、２つの中央位置Ｃ１とＣ２の間隔を上記目標値に調整し、
上記他の出射方向変更手段により、
（２）上記光源装置を出射ビームの略光軸回りに回転することにより、上記２つの中央位置Ｃ１とＣ２の間隔をフィードバック調整し、
（３）上記２組の光源モジュールの一方を、出射ビームの略光軸回りに回転することにより、２つのビームスポットＢＳ１とＢＳ４の間隔をフィードバック調整し、
（４）上記２組の光源モジュールの他方を、出射ビームの略光軸回りに回転することにより、２つのビームスポット間隔ＢＳ２とＢＳ３をフィードバック調整し、
（５）４つのビームスポットＢＳ１〜ＢＳ４の副走査方向の間隔が仕様値以下の場合には調整フローを終了し、上記仕様値を超える場合にはステップ（２）に戻り、
上記被走査面での副走査方向のビームスポット間隔を調整可能なことを特徴とする光走査装置。
【請求項８】
請求項１ないし７のいずれかの光走査装置によって静電像が形成される感光手段と、静電像をトナーで顕像化する現像手段と、該現像手段により顕像化されたトナー像を記録紙に転写する転写手段とを有することを特徴とする画像形成装置。
【発明の詳細な説明】
【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、レ-ザプリンタ、デジタル複写機、レ-ザファクシミリ等の画像形成装置におけるレ-ザ書込光学系の光書込ユニットとして用いる光走査装置に関する。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
画像形成装置のレ-ザ書込光学系に用いる光走査装置において、記録速度を向上させる手段として、偏向手段であるポリゴンミラ-の回転速度を上げる方法がある。しかしながらこの方法では、ポリゴンモ-タの耐久性や騒音、振動、及びレ-ザの変調スピ-ド等が問題となり、記録速度の向上に限界がある。そこで、一度に複数の光ビ-ムを走査して複数ラインを同時に記録することによって記録速度を向上させるという提案がなされている。
【０００３】
複数のレ-ザビ-ムを出射するマルチビ-ム光源装置としては、例えば１パッケ-ジ内に複数の発光点（発光チャンネル）を持つ半導体レ-ザアレイを用いる方式がある。ところがこの方式では、製造プロセス上チャンネル数を増加することが困難であり、また熱的または電気的なクロスト-クの影響を除去することが難しく、短波長化が困難であり、現在では高価な光源手段となっている。
【０００４】
一方、シングルビ-ム半導体レ-ザは、現在でも短波長化が比較的容易であり、低コストにて製造することが可能であり、種々の工業分野で汎用的に用いられている。
【０００５】
このようなシングルビ-ム半導体レ-ザ、あるいはマルチビ-ム半導体レ-ザを光源とし、ビ-ム合成手段を用いて複数のレ-ザビ-ムを合成する光源装置及びマルチビ-ム走査装置に関する提案が従来多数行われている。
【０００６】
しかしながら、半導体レ-ザアレイを光源手段として用いる方法と比較し、ビ-ム合成手段を用いて複数のレ-ザビ-ムを合成する方法の場合には、環境変動や経時的要因等の影響により、被走査面におけるビ-ムスポット配列（ビ-ムピッチ：走査線間隔）が変動するという問題が発生しやすかった。
【０００７】
この問題を解決するために下記のような提案が行われている。
（１）特開２０００-２２７５６３号公報に開示されたマルチビ-ム走査光学装置は、複数の光源から出射される光ビ-ムをビ-ム合成プリズムを用いて合成する走査装置であり、ビ-ム合成プリズムの、光路に沿ったシフト、及び主走査断面内又は副走査断面内の傾き調整により、光ビ-ムの出射方向を調整することで、被走査面上のビ-ムスポット位置を調整する。
（２）特開平１０-２１５３５１号公報に開示された光ビ-ム走査装置は、複数の光源から出射される光ビ-ムをビ-ム合成プリズムを用いて合成する走査装置であり、ポリゴンミラ-の反射面上に線像を形成するためのシリンドリカルレンズを副走査方向にシフトすることにより、光ビ-ムの出射方向を調整することで、被走査面上のビ-ムスポット位置を調整する。
（３）  特開平９-１８９８７３号公報に開示されたマルチビ-ム走査方法およびマルチビ-ム走査装置は、複数の光源から出射される光ビ-ムをハ-フミラ-を用いて合成する走査装置であり、光路中に設けられたガルバノミラ-の傾き調整及び光源装置の傾き調整により、光ビ-ムの出射方向を調整することで、被走査面上のビ-ムスポット位置を調整する。
【０００８】
上記（１）〜（３）等の従来の技術は、いずれも温度変動又は経時的要因等による被走査面上のビ-ムスポット配列の変動を検出し、その検出結果に基づきフィ-ドバック調整する構成に関するものが多いが、複数の光源からの出射ビ-ムをビ-ム合成手段を用いて合成する方式では、部品加工誤差、組付誤差又は調整誤差等の影響により、光源装置（又は光走査装置）の組み立て時に、被走査面のビ-ムスポット配列を所定の値に初期調整（設定）することが困難である場合が多く、このような初期調整とフィ-ドバック調整を容易に可能とする光走査装置に関する提案は、本願発明者の知るところでは従来行われていなかった。
【０００９】
したがって本発明の目的は、被走査面でのビ-ムスポット配列（ビ-ムピッチ）の初期調整が容易であり、かつ環境変動又は経時によるビ-ムスポット配列の変動を補正（フィ-ドバック調整）することが可能なマルチビ-ムの光走査装置を提案することである。
【００１０】
【課題を解決するための手段】
本発明の請求項１に係る光走査装置は、上記目的を達成するために、
光ビームを発生する２対の半導体レーザとカップリングレンズからなる２組の光源モジュールにより構成される光源装置から光ビームを出射し、被走査面上にビームスポットとして走査し、
上記２組の光源モジュールを主走査方向に配列して保持する保持部材と、上記２組の各光源モジュールから出射される２本の光ビームを互いに近接して合成する合成手段とからなり、
一方の上記光源モジュールから出射される２つの光ビームの被走査面でのビームスポットをＢＳ１及びＢＳ４とし、
他方の上記光源モジュールから出射される２つの光ビームの被走査面でのビームスポットをＢＳ２及びＢＳ３とし、
上記ビームスポットＢＳ１とＢＳ４との中央位置をＣ１、上記ビームスポットＢＳ２とＢＳ３との中央位置をＣ２とするとき、上記ビームスポットＢＳ１とＢＳ４の主走査方向の間隔及び上記ビームスポットＢＳ２とＢＳ３の主走査方向の間隔を、上記中央位置Ｃ１とＣ２の主走査方向の間隔より狭くなるように設定した光走査装置において、
上記光源装置は、上記光ビームの出射方向の副走査方向成分を可変する出射方向変更手段を２以上備え、
該一の出射方向変更手段は、上記２組の光源モジュールの一方を、略副走査断面内で傾けることにより、上記光ビームの出射方向の副走査方向成分を可変するものであり、他の変更手段よりも感度が高く、
他の出射方向変更手段は、上記光源装置を出射ビームの略光軸回りに回転することにより、上記光ビームの出射方向の副走査方向成分を可変するものであり、上記一の変更手段よりも感度が低く、
さらに上記被走査面におけるビームスポット位置を検出する検出手段と、上記被走査面上のビームスポット間隔の上記目標値からの変動をフィードバック調整する補正手段を有し、
該補正手段は、上記検出手段によるビームスポット位置の検出結果に基づき、感度の高い上記一の出射方向変更手段により上記被走査面上のビームスポット間隔を目標値に調整し、感度の低い上記他の出射方向変更手段により、上記被走査面上のビームスポット間隔の上記目標値からの変動をフィードバック調整する、
ことを特徴とする。本明細書において「感度」とは、出射方向変更手段の調整量（変動量）に対する、被走査面でのビームスポット位置の移動量（分解能）を意味する。
【００１１】
同請求項２に係るものは、上記目的を達成するために、請求項１の光走査装置において、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、光路内に透過型光学素子を偏心させて備えることを特徴とする。
【００１２】
同請求項３に係るものは、上記目的を達成するために、請求項１の光走査装置において、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、光路内に反射型光学素子を偏心させて備えることを特徴とする。
【００１３】
同請求項４に係るものは、上記目的を達成するために、請求項１の光走査装置において、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、上記光源モジュ-ルの取り付け姿勢を変化させる手段を有することを特徴とする。
【００１４】
同請求項５に係るものは、上記目的を達成するために、請求項１の光走査装置において、上記光源モジュ-ルの少なくとも一を半導体レ-ザ及びカップリングレンズから構成し、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、上記半導体レ-ザと上記カップリングレンズの相対位置を変化させるものであることを特徴とする。
【００１５】
同請求項６に係るものは、上記目的を達成するために、請求項１の光走査装置において、上記光源モジュ-ルの少なくとも一を半導体レ-ザ及びカップリングレンズから構成し、感度を他と異ならせた上記一の出射方向変更手段が、上記半導体レ-ザと上記カップリングレンズの間の光路内に平行平板を傾動可能に配設してなることを特徴とする。
【００１６】
同請求項７に係るものは、請求項１の光走査装置において、上記検出手段による検出結果に基づき、下記調整フロー（ステップ（１）〜ステップ（５））に従い、上記一の出射方向変更手段により、
（１）上記２組の光源モジュールの一方を、略副走査断面内で傾けることにより、２つの中央位置Ｃ１とＣ２の間隔を上記目標値に調整し、
上記他の出射方向変更手段により、
（２）上記光源装置を出射ビームの略光軸回りに回転することにより、上記２つの中央位置Ｃ１とＣ２の間隔をフィードバック調整し、
（３）上記２組の光源モジュールの一方を、出射ビームの略光軸回りに回転することにより、２つのビームスポットＢＳ１とＢＳ４の間隔をフィードバック調整し、
（４）上記２組の光源モジュールの他方を、出射ビームの略光軸回りに回転することにより、２つのビームスポット間隔ＢＳ２とＢＳ３をフィードバック調整し、
（５）４つのビームスポットＢＳ１〜ＢＳ４の副走査方向の間隔が仕様値以下の場合には調整フローを終了し、上記仕様値を超える場合にはステップ（２）に戻り、
上記被走査面での副走査方向のビームスポット間隔を調整可能なことを特徴とする。
【００１７】
同請求項８に係る画像形成装置は、上記目的を達成するために、請求項１ないし７のいずれかの光走査装置によって静電像が形成される感光手段と、静電像をトナーで顕像化する現像手段と、該現像手段により顕像化されたトナー像を記録紙に転写する転写手段とを有することを特徴とする。
【００１９】
【発明の実施の形態】
以下本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。
図１は本発明に係る光走査装置の第１実施形態の光学的配置を示す斜視図である。図中２０は光走査装置である。本明細書において光走査装置とは、光源装置から出射された光ビ-ムを被走査面上にビ-ムスポットとして走査する装置をいう。また通常「主走査方向」及び「副走査方向」とは、被走査面でビ-ムスポットが走査される方向とその直交方向を意味するが、本明細書においては、光路の各場所で、被走査面の主走査方向と副走査方向に対応する方向を広い意味で各々「主走査方向」、「副走査方向」と称する。なお各図において、Ｘは光路（光軸）に沿った方向、Ｙは主走査（対応）方向、Ｚは副走査（対応）方向である。
【００２０】
図中１は光源装置、２はシリンドリカルレンズ、３は偏向器（ポリゴンミラ-）、４は走査結像光学系（走査レンズ）、５は被走査面（感光体ドラム）である。光源装置１を出射した複数の光ビ-ム１１は、シリンドリカルレンズ２の作用により偏向器であるポリゴンミラ-３の偏向反射面上に（副走査方向に結像し、主走査方向に長い）線像として結像された後、走査結像光学系（走査レンズ）４により被走査面（感光体ドラム）５上をビ-ムスポットとして走査される。被走査面５上で複数のビ-ムスポットは、その走査密度に応じ、所定の間隔（ビ-ムピッチ）を維持することが要求される。このビ-ムピッチを設定するには、図２に示す２本の光ビ-ム１１ａ、１１ｂのなす角度φを設定すればよい。
【００２１】
図２は、光源装置１の光学的配置（副走査断面）を示す平面図である。本明細書において、少なくとも２以上の光源モジュ-ルから構成され、光ビ-ムを出射する装置を光源装置と称する。図中６ａ、６ｂは半導体レ-ザ、７ａ、７ｂはカップリングレンズ、８ａ、８ｂは出射方向変更手段、９はビ-ム合成手段（ビ-ム合成プリズム）、１０はアパ-チャ、１１ａ、１１ｂは光ビ-ムである。
【００２２】
図２において、光源モジュ-ル１２ａ（半導体レ-ザ６ａとそれに対応するカップリングレンズ７ａから構成される）から出射した光ビ-ム１１ａと、光源モジュ-ル１２ｂ（半導体レ-ザ６ｂとそれに対応するカップリングレンズ７ｂから構成される）から出射した光ビ-ム１１ｂは、それぞれ出射方向変更手段８ａ、８ｂを通過した後、ビ-ム合成手段（ビ-ム合成プリズム）９により合成され、アパ-チャ１０により以降の光学系の特性に応じて整形される。２本の光ビ-ム１１ａ、１１ｂのなす角度はφに設定されている。
【００２３】
なお本実施形態の光源装置１においては、２つの光源モジュ-ル１２ａ、１２ｂに加え、ビ-ム合成プリズム９、アパ-チャ１０及び２つの出射方向変更手段８ａ、８ｂを備えているが、光源装置としては、光走査装置と分離可能なユニット構成であっても構わないし、光走査装置とは分離できない構成であっても構わない。また光源モジュ-ル１２ａ、１２ｂ、ビ-ム合成プリズム９、アパ-チャ１０及び出射方向変更手段８ａ、８ｂは、図示しない保持部材に一体的に固定して光源装置１を構成するようにしてあるが、保持部材は、光走査装置とは分離可能な構成であっても構わないし、あるいは光走査装置を構成するハウジング部材等の一部であっても構わない。
【００２４】
図３は、走査光学系の副走査断面を展開して示した図である。半導体レ-ザ（発光点）６がカップリングレンズ７の光学軸と副走査方向に距離δだけずれている場合、被走査面５においては、Δｚのビ-ムスポット位置ずれが発生する。走査光学系の副走査横倍率をｍＺとすると、ビ-ムスポット位置ずれ（被走査面における中心線とレーザビームとの副走査方向の距離）Δｚは、
Δｚ＝ｍＺ×δ
（以下、数式１という。）と表される。一方、カップリングレンズ７の焦点距離をｆｃｏｌ、出射ビ-ム１１の副走査断面内の傾きをφとすると、
δ＝ｆｃｏｌ×ｔａｎφ
であるため、上記数式１は、
0004018894.tif 000002
（ただしφが小さいとき。以下、数式２という。）となる。従って数式２より角度φを設定することにより、被走査面５でのビ-ムスポット位置、すなわち複数ビ-ムの場合にはビ-ムピッチを設定することが可能となる。
【００２５】
図４（Ａ）〜（Ｃ）は、光源モジュ-ル１２（１２ａ、１２ｂ）の構成例を示す。図中１３はレンズホルダ、１４は接着剤、１５はレンズセル、１６はレンズホルダ、１７はベース部材、１８は押さえ板である。
【００２６】
図４（Ａ）は、光源モジュ-ル１２の機能を単純に示した図であるが、光ビ-ムを出射する機能を有するモジュ-ルであればどのような形態のものでも構わない。図４（Ｂ）においては、半導体レ-ザ６はレンズホルダ１３に圧入等の工法により固定し、カップリングレンズ７は接着剤１４等により固定する。半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７の位置合わせは、以降の光学系の特性に応じ、その出射ビ-ム１１の光軸方向及びコリメ-ト性が所定値になるようにカップリングレンズ７の位置を調整する。図４（Ｃ）においては、半導体レ-ザ６はベース部材１７に押さえ板１８に固定し、カップリングレンズ７は雄ねじ部を有するレンズセル１５に接着等により固定する。これらベース部材１７及びレンズセル１５は共通のレンズホルダ１６に、半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７の相対位置関係が所定値になるように固定する。半導体レ-ザ６を固定したベース部材１７は、図の紙面上下方向及び図の紙面に垂直な方向に移動し、カップリングレンズ７を固定したレンズセル１５は、図の紙面の左右方向に移動する。このことで、半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７との相対位置関係を調整できる。
【００２７】
なお上述の半導体レ-ザ６、６ａ、６ｂは、シングルビ-ムを出射するシングルビ-ム半導体レ-ザでも構わないし、複数のレ-ザ光を出射するマルチビ-ム半導体レ-ザであっても構わない。
【００２８】
ところで、組立工場等における上述のような光走査装置２０の組み立て時には、被走査面５における複数ビ-ム間のビ-ムピッチを所定値に初期調整する必要がある。ところが、
（１）光源モジュ-ル１２の組み立て調整誤差（半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７の位置合わせ誤差）
（２）保持部材に対する光源モジュ-ル１２の組み付け誤差
（３）ビ-ム合成プリズム９における光軸ぶれ
等の影響により、合成された２本の光ビ-ム１１ａ、１１ｂ間の角度φが所定値（設定値）より大きくずれてしまうことがあり、被走査面５におけるビ-ムピッチを所定値に初期調整することが不可能な場合がある。このような場合には、光路中に配設された出射方向変更手段８ａ、８ｂを用いて、角度φを調整することにより、ビ-ムピッチを所定値に調整する。
【００２９】
一方、工場出荷後、ユ-ザ等の使用中に環境（温度）変化又は経時的な影響等により、ビ-ムピッチの初期調整値が変動してしまうことがあり得る。このような場合にも、出射方向変更手段８ａ、８ｂを用いることにより、変動したビ-ムピッチを補正することができる。
【００３０】
しかしながら、
（Ａ）初期調整時に必要な調整量と、
（Ｂ）ユ-ザ等の使用中に環境変動等により発生するビ-ムピッチ変動を補正するのに必要な調整量、
とは、調整量（必要な調整ストロ-ク及び分解能）が大きく異なる場合が多く、単一の出射方向変更手段、または同じ構成の（複数の）出射方向変更手段では、調整量（Ａ）、（Ｂ）を同時に達成することが困難である場合が多かった。
【００３１】
この問題を、カップリングレンズ７の焦点距離ｆｃｏｌ＝１５［ｍｍ］、走査光学系全系の副走査横倍率ｍＺ＝５．３倍の光走査装置を例に説明する。
調整量（Ａ）：上記（１）〜（３）による角度φの設定値からのずれ量ΔφＡは、経験的に（最大で）、ΔφＡは２０［’］＝５．８［ｍｒａｄ］程度である。なお、これをビ-ムピッチ変動量Δｚに換算すると、上記数式２により、
0004018894.tif 000003
である。
調整量（Ｂ）：環境変動等によるビ-ムピッチ変動Δｚは、経験的に（最大で）、
0004018894.tif 000004
程度であり、これを出射光軸のずれ量ΔφＢに換算すると、上記数式２により、
0004018894.tif 000005
である。
【００３２】
従って、上記調整量（Ａ）、（Ｂ）より、両者の調整量の比（ΔφＡ／ΔφＢ）＝４６であり、両方の調整を、単一の出射方向変更手段、または同じ構成の複数の出射方向変更手段で行うことは困難であることが理解できる。
【００３３】
ここで、ビ-ムピッチの初期調整とフィ-ドバック調整について説明する。図５（Ａ）〜（Ｃ）は、被走査面５におけるビ-ムスポットＢｓの配列の一例（２ビ-ム走査装置の場合：１２００ｄｐｉ）を示す図である。
【００３４】
ビ-ム合成後の２光ビ-ムのなす角度φの誤差（半導体レ-ザとカップリングレンズの位置合わせ誤差、保持部材に対する光源モジュ-ルの組付誤差、ビ-ム合成プリズムにおける光軸ぶれ等に起因する光軸ずれ）により、光書込装置の組立時（初期調整前）には、被走査面５上のビ-ムピッチは、およそ１００〜５００μｍ程度になる（図５（Ａ）参照）。ビ-ムピッチを所定値（例えば走査密度が１２００ｄｐｉの場合には２１．２μｍ：図５（Ｂ）参照）に初期調整（粗調整）するには、感度の高い出射方向変更手段を用いればよい。温度変化／経時的要因等によりビ-ムピッチが変動した場合（変動量Δｐ＝１０〜２０μｍ程度：図５（Ｃ）参照）には、この変動量を検出し、感度の低い出射方向変更手段を用いてフィ-ドバック調整を行えばよい。また、感度の高い出射方向変更手段では分解能が不足し、所定値に初期調整できない場合には、感度の低い出射方向変更手段を初期調整に補助的に用いても構わない。
【００３５】
既述のように、出射方向変更手段の調整量（変動量）に対する被走査面でのビ-ムスポット位置の移動量、すなわち「感度」に関し、一方の出射方向変更手段８ａの感度と他方の出射方向変更手段８ｂの感度とを異ならせることにより、上記（Ａ）、（Ｂ）のような互いに異なる感度を必要とする２つの調整を容易に行うことが可能となる。すなわち、調整感度の高い側をビ-ムピッチの初期調整（Ａ）に用い、調整感度の低い側をビ-ムピッチ変動の補正（Ｂ）に用いればよいからである。
【００３６】
図示の実施形態の場合、図２において示した２つの出射方向変更手段８ａ、８ｂを異なる光ビ-ム１１ａ、１１ｂの光路に配設しているが、２の出射方向変更手段８ａ、８ｂをどちらか一方の光路に配設しても構わない。
【００３７】
なお、被走査面５におけるビ-ムスポット配列（ビ-ムピッチ）を検出する手段を光走査装置２０に設けておくことにより、ユ-ザ等による使用中のビ-ムピッチ変動を検出することができる。検出手段としては、フォトダイオ-ド等を用いて電気的に検出しても構わないし、本実施形態の光走査装置２０を画像形成装置の光書込装置として使用した場合には、その出力画像を利用して検出しても構わない。フォトダイオ-ド等を用いて電気的にビ-ムピッチ（変動量）を検出する構成の場合には、その検出信号に基づき、目標値との比較演算をすることにより、出射方向変更手段８ａ、８ｂを駆動するための入力信号を得ることができる。少なくとも感度の低い側の出射方向変更手段にこのような構成を付加することにより、自動的にビ-ムピッチ変動を補正（フィ-ドバック調整）することが可能となる。また出力画像を利用して検出した場合には、ユ-ザ又はサ-ビスマン等が、画像出力装置に設けられた走査パネル等から入力して補正することができる。感度の高い側の出射方向変更手段にこのようなフィ-ドバック調整機構を設ければ、工場での光走査装置の組立時のビ-ムピッチの初期調整も自動化可能となる。
【００３８】
次に出射方向変更手段の構成について説明する。
図６は、出射方向変更手段として光路内に配設された透過型光学素子を偏心させる構成の例を示す図である。図中２１は三角プリズムである。小さい頂角θ１を有する三角プリズム（内部屈折率：ｎ）２１を通過した光ビ-ムは、その出射角度を角度β１を、
β１＝（ｎ−１）×θ１
だけ変更される。従って三角プリズム２１を、光ビ-ムの光軸を回転軸として角度γ１だけ回転させることにより、出射ビ-ムの副走査方向成分φ１は、
0004018894.tif 000006
だけ変化させることができる。そして、三角プリズム２１の配置角度の調整量γ１に対する、被走査面５でのビ-ムスポットの変位量（副走査方向）Δｚは、上記数式２より、
0004018894.tif 000007
（以下、数式３という）となる。
【００３９】
例えば、ｍＺ＝５．３倍、ｆｃｏｌ＝１５［ｍｍ］、ｎ＝１．５、θ１＝１．５［°］＝０．０２６１８［ｒａｄ］の場合には、上記数式３は、
Δｚ＝１．０４×ｓｉｎ（γ１）［ｍｍ］
（以下、数式３−１という）となり、三角プリズム２１の角度γ１を-９０°から＋９０°まで回転させることにより、ビ-ムスポットの位置Δｚを±１［ｍｍ］程度の範囲で調整することができる。
【００４０】
三角プリズム２１の回転には、例えば図９に示すウォ-ム＆ホイ-ルを利用した減速機構を用いることができ、それにより、調整ストロ-クが広く、かつ調整分解能の小さい、すなわちダイナミックレンジの広い調整機構を実現することができる。この機構は、全周に歯車（ホイ-ル３２）が形成されたプリズムホルダ３１に三角プリズム２１を保持し、ステッピングモ-タ３４等により駆動されるウォ-ム３３により、三角プリズム２１を回転させる。
【００４１】
ステッピングモ-タ３４の基準ステップ角度ｓ＝１８［°］、ウォ-ムのピッチｗ＝０．５［ｍｍ］、ホイ-ルの半径ｒ＝２０［ｍｍ］の場合（図９（Ｂ））、１ステップ当たりの三角プリズム２１の回転角度Δγ１とすると、
ｓｉｎ（Δγ１）＝［（ｓ／３６０゜）×ｗ］／ｒ
＝［（１８゜／３６０゜）×０．５］／２０
＝０．０２５／２０＝０．００１２５
より、
Δγ１＝０．０７１６［°］＝４．３［’］
となる。上記数式３−１にてγ１＝Δγ１とすると、
Δｚ＝０．００１３［ｍｍ］＝１．３［μｍ］
であり、分解能Δｚ＝１．３［μｍ］にて調整することができる。
【００４２】
なお図示の構成では、ウォ-ム＆ホイ-ルを利用しているため、三角プリズム２１は３６０°回転可能であり、そのため調整範囲は上述のように数式３−１より、±１．０４［ｍｍ］となる。
【００４３】
図６に示すように、単一の三角プリズム２１のみで出射方向変更手段を構成する場合には、出射ビ-ムの副走査方向成分だけではなく、主走査方向成分も変化してしまう。これを回避するためには、図７に示すように２つの三角プリズム２１を直列に並べ、それらを互いに反対向きに回転させることで、光ビ-ムの出射角度を特定の平面内にて変化させることが可能となる。
【００４４】
図８の光路内に配設された反射型光学素子を偏心させる構成である出射方向変更手段の例を説明する。本例は、図２における出射方向変更手段８ａ、８ｂを、それぞれ三角プリズム２１（透過型光学素子）及びガルバノミラ-（反射型光学素子）２２とした構成である。出射方向変更手段８ａ（三角プリズム２１）側では、上述した出射方向変更手段の構成（１）での検討が適用できる。一方、出射方向変更手段８ｂ（ガルバノミラ-２２）側では、ガルバノミラ-２２の配置角度の調整量をβ２とすると、光ビ-ム１１ｂの反射後の出射方向は、φ２＝２×β２だけ変化させることができる。従って、ガルバノミラ-２２の配置角度の調整量β２に対する、被走査面上５のビ-ムスポットの変位量Δｚ（副走査方向）は、上記数式２より、
0004018894.tif 000008
（以下、数式４という）となる。
【００４５】
いま図９の出射方向変更手段８ｂ（ガルバノミラ-２２）側において、ステッピングモ-タ３４の基準ステップ角度ｓ＝３．６［°］、ウォ-ム３３のピッチｗ＝０．３［ｍｍ］、ホイ-ル３２の半径ｒ＝１５［ｍｍ］の場合（ｍＺ＝５．３倍、ｆｃｏｌ＝１５［ｍｍ］）、１ステップ当たりのガルバノミラ-２２の回転角度Δβ２とすると、
0004018894.tif 000009
より、
0004018894.tif 000010
となる。上記数式４にてβ２＝Δβ２とすると、
0004018894.tif 000011
であり、分解能Δｚ＝３１．８［μｍ］にて調整することができる。
【００４６】
そこで、工場での組立時のビ-ムピッチの初期調整を感度の高い出射方向変更手段８ｂ（ガルバノミラ-２２）側で行い、ユ-ザ使用時のビ-ムピッチ変動の補正（望ましくは、ビ-ムピッチ変動の検出結果に基づきフィ-ドバック補正する）には、感度の低い出射方向変更手段８ａ（三角プリズム２１）側で行えばよい。初期調整（ガルバノミラ-２２側）の分解能（３１．８μｍ）では不十分の場合には、補助的に、三角プリズム２１側の調整を付加すればよい。
【００４７】
出射方向変更手段のさらに他の構成を図１０に示す。光ビ-ムの出射方向を可変する他の手段として、光源モジュ-ルの取り付け姿勢を変化させる構成を採用したもので、図示のように、光源モジュ-ル１２を副走査断面内（または副走査断面の成分を有する平面内）にて傾ければよいものである。
【００４８】
あるいは図１１に示すように、出射ビ-ム１１とはわずかに偏心した回転軸ｒ回りに光源モジュ-ル１２を回転させることにより、出射ビ-ム１１の副走査方向成分を可変することができる。いま光源モジュ-ル１２の回転軸ｒと出射ビ-ム１１のなす角度をθ２、光源モジュ-ル１２の回転角度をγ２とすると、出射ビ-ムの副走査方向成分φ３は、
φ３＝ｔａｎ（θ２）×ｓｉｎ（γ２）
にて表される。従って、光源モジュ-ル１２の回転角度γ２に対する、被走査面５でのビ-ムスポットの変位量（副走査方向）Δｚは、上記数式２より、
0004018894.tif 000012
（以下、数式５という。）となる。
【００４９】
出射方向変更手段としては、光源モジュ-ル１２が、少なくとも半導体レ-ザとカップリングレンズから構成されている場合には、半導体レ-ザとカップリングレンズの（副走査方向の）相対位置を可変する構成を採用することができる。この構成では、相対位置の変位量（副走査方向成分）Δδに対する、被走査面５でのビ-ムスポットの変位量（副走査方向）Δｚは、Δｚ＝ｍＹ×Δδとなる。
【００５０】
また出射方向変更手段としては、光源モジュ-ル１２が、少なくとも半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７から構成されている場合には、半導体レ-ザとカップリングレンズの間に平行平板（平行平板ガラス）を配設し、この平行平板を少なくとも副走査断面の成分を有する平面内にて傾ける構成を採用することができる。
【００５１】
すなわち図１２に示すように、半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７の間に配設される平行平板２３の厚さをｔ、内部屈折率をｎ、副走査断面内の傾き角度をβ３とすると、平行平板２３による光ビ-ム１１のシフト量Δδ１は、
Δδ１＝ｔ×β３×［１−（１／ｎ）］
にて表される。従って、平行平板２３の傾き角度β３に対する、被走査面５でのビ-ムスポットの変位量（副走査方向）Δｚは、上記数式１より、
0004018894.tif 000013
（以下、数式６という。）となる。
【００５２】
図１３は、本発明に係る光走査装置の第２実施形態に用いる光源装置のを示す図であり、図中４０は（４ビ-ム）光源装置、４１は第１の光源モジュ-ル、４２は第２の光源モジュ-ル、４３はベース部材、４４はビ-ム合成プリズム、４５はテ-パ付きねじ、４６は鋼球、４７は第１の出射方向変更手段、４８は第２の出射方向変更手段、４９は第３の出射方向変更手段、５０は第４の出射方向変更手段、５１はホルダ部材、５２ａ、５２ｂ、５２ｃはステッピングモ-タである。
【００５３】
図１３（Ａ）に示す光源装置４０の分解斜視図において、２対の半導体レ-ザ６とカップリングレンズ７がベース部材４３に固定され、第１の光源モジュ-ル４１を構成している。第１の光源モジュ-ル４１は、それと同構成の第２の光源モジュ-ル４２とともに、ホルダ部材５１に回動可能に固定する。第１の光源モジュ-ル４１から出射した２本の光ビ-ムと第２の光源モジュ-ル４２から出射した２本の光ビ-ムは、ビ-ム合成プリズム４４により、互いに近接して合成される。ビ-ム合成プリズム４４による合成は、ハ-フミラ-を用いる方法でも良いし、レ-ザ光のもつ偏向特性を利用したものでも構わない。合成した４本の光ビ-ムは、図示しないアパ-チャにより整形する。
【００５４】
第１、第２の光源モジュ-ル４１、４２、ビ-ム合成プリズム４４、ホルダ部材５１等で光源装置４０を構成する。光源装置４０は、一体化したユニット構成とすることが可能であり、そうすれば半導体レ-ザの劣化等により、光源装置４０を交換する必要が生じた場合でも容易に対応できる。また光源装置４０には、図１３（Ｂ）に示すように、テ-パ付きねじ４５と鋼球４６からなる第１の出射方向変更手段４７が設けてある。
【００５５】
図１４は、この実施形態におけるビ-ムスポットの位置を示す図で、走査密度１２００ｄｐｉ時の、被走査面におけるビ-ムスポットＢＳ１〜ＢＳ４の配置を示したものである。図中ＢＳ１及びＢＳ４は、第１の光源モジュ-ル４１から出射される２本の光ビ-ムに対応するビ-ムスポット、ＢＳ２及びＢＳ３は、第２の光源モジュ-ル４２から出射される２本の光ビ-ムに対応するビ-ムスポット、Ｃ１はＢＳ１とＢＳ４の中央位置、Ｃ２はＢＳ２とＢＳ３の中央位置である。またｑ１はＢＳ１とＢＳ４の間隔（ビ-ムピッチ）で、目標値は、３×ｑｒ＝３×２１．２＝６３．５［μｍ］、ｑ２はＢＳ２とＢＳ３の間隔（ビ-ムピッチ）で、目標値は、ｑｒ＝２１．２［μｍ］、ｑ３はＣ１とＣ２の間隔で目標値は、０［μｍ］、ｑｒは１２００ｄｉｐでの走査線間隔（２１．２μｍ）である。
【００５６】
光走査装置に光源装置４０を組み付けた状態（仮組立時；初期調整前）においては、図１４（Ｂ）に示すように各ビ-ムスポットＢＳ１〜ＢＳ４は無秩序に配列している。この状態から、図１４（Ａ）に示す各ビ-ムスポット間隔（ビ-ムピッチ）が等しくなるように調整するためには、まず第１の出射方向変更手段４７によりｑ３を粗調整した後、第２から第４の出射方向変更手段４８〜５０によりｑ１〜ｑ３を各目標値になるように微調整する。初期調整時には、ビ-ムピッチを検出した後、手動にて各出射方向変更手段を駆動してもよいし、光源装置が備えるステッピングモ-タにより駆動しても構わない。温度変化や経時的要因の影響によりビ-ムピッチが変動した場合には、ビ-ムピッチ（変動）を検出し、その検出結果に基づき第２〜第４の出射方向変更手段４８〜５０をフィ-ドバック制御すればよい。従って初期調整時（組立時）に利用する第１の出射方向変更手段４７はフィ-ドバック機構を有する必要はなく、例えばスクリュ-ドライバ等により手動にて駆動する構成であっても構わない。
【００５７】
また共通のベース部材４３に２対の半導体レ-ザとカップリングレンズを固定した構成の光源モジュ-ルの場合、半導体レ-ザとカップリングレンズの相対位置合わせ調整（いわゆる光軸・コリメ-ト調整）を、使用するビ-ム合成プリズム４４を付加した調整機にて行うことにより、初期調整を困難にする原因である、既述の光源モジュ-ルの組立調整誤差、保持部材に対する光源モジュ-ルの組み付け誤差、ビ-ム合成プリズムにおける光軸ぶれのうち、組立調整誤差と組み付け誤差の影響を効果的に除去することが可能となる。そのため、同一の光源モジュ-ル内のビ-ムスポット間隔（ｑ１、ｑ２）は、仮組立状態でも比較的所定値に近く、感度の高い出射方向変更手段は必要としない。
【００５８】
以下、具体的に説明する。
第１の出射方向変更手段４７は、被走査面でのビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３の中央位置Ｃ２を移動させて、「ビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の中央位置Ｃ１」と「中央位置Ｃ２」との相対位置合わせを行う。すなわち図１４（Ｂ）のｑ３を可変させる。テ-パ付きねじ４５を押し込みまたは引き抜くことにより、鋼球４６を介して第２の光源モジュ-ル４２を図に示すβ方向に姿勢を変化させることができる。これにより第２の光源モジュ-ル４２から出射する２本の光ビ-ムの出射角度、すなわちＣ１の位置を調整できる。
【００５９】
第２の光源モジュ-ル４２を出射する２本の光ビ-ムの出射角度を調整する第１の出射角度調整手段４７の動作について、図１３（Ｃ）を用いて説明する。テ-パ付きねじ４５のテ-パ角度（２×θ３）を２０°、ねじのピッチｐを０．３［ｍｍ］、第２の光源モジュ-ル４２の（副走査断面内の）回転軸（支点）から鋼球（力点）までの距離をｒ３＝２０［ｍｍ］とし、テ-パ付きねじ４５を基本ステップ角ｓ＝７．５°の図示しないステッピングモ-タにより駆動するものとすると、ステッピングモ-タの１ステップに対するテ-パ付きねじ４５の押し込み量（引き抜き量）ｕは
0004018894.tif 000014
なので、このときの鋼球４６の移動量（左右方向）ｖは、
0004018894.tif 000015
となる。このときの第２の光源モジュ-ル４２のβ偏心量をβ３とすると、ｔａｎ（β３）＝ｖ／ｒ３＝０．００１８／２０であり、被走査面上のビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３の移動量Δｚは、（式２）より、
0004018894.tif 000016
となる。すなわち７．３［μｍ］の分解能で２つのビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３を同時に副走査方向に移動調整することができる。
【００６０】
また光源装置４０は、第１の光源モジュ-ル４１から出射される２本の光ビ-ムの被走査面上のビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の間隔ｑ１を調整するために、第２の出射方向変更手段４８を備える。この第２の出射方向変更手段４８は、図１３（Ｄ）に示すように、第１の光源モジュ-ル４１が出射する２本の光ビ-ムの二等分線に平行な軸γ４を回転軸として回転可能な構成となっている。すなわち図１１に示す出射方向変更手段を適用したものとなっている。図１３（Ｄ）においては、ビ-ム合成プリズム４４にて折り返される光ビ-ムを展開して示す。
【００６１】
すなわち、ビ-ム間の光学特性の偏差が発生することを抑制するため、４本の光ビ-ムはポリゴンミラ-３の偏向反射面付近にて交差する構成としてある。具体的には、第１の光源モジュ-ル４１から出射する２本の光ビ-ムのなす角度を２×α１、第２の光源モジュ-ル４２から出射する２本の光ビ-ムのなす角度を２×α２、各光源モジュ-ル４１、４２から出射する２本の光ビ-ムの二等分線のなす角度を２×α３とし、
２×α１＝２×α２＝３［°］
２×α３＝５［°］
に設定してある。
【００６２】
いま、ねじピッチｐ＝０．５［ｍｍ］のねじと組み合わせたステッピングモ-タ５２ａ（基本ステップ角ｓ＝７．５°）により、回転軸からｒ４＝２０［ｍｍ］の力点にて、第１の光源モジュ-ル４１を作動させることで、第１の光源モジュ-ル４１の回転駆動を行う構成である場合を考えると、ステッピングモ-タ５２ａの１ステップに対する力点の作動量ｕは、
0004018894.tif 000017
なので、このときの第１の光源モジュ-ル４１のγ回転量をγ４とすると、
0004018894.tif 000018
であり、被走査面上の２つのビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の間隔の変動量Δｑ１は、上記数式５により、θ２＝α１として、
0004018894.tif 000019
（以下、数式７という。）となり、数値的には、
0004018894.tif 000020
となる。
【００６３】
なお、図１３（Ａ）、（Ｂ）に示す構成によれば、第１の光源モジュ-ル４１の回転中心は、２つのカップリングレンズ７、７の光学軸の中間部（図１３（Ｂ）のγで表される回転軸に相当する）に位置することになるが、ビ-ム合成プリズム４４にて合成された後の２本の光ビ-ムの二等分線（図１３（Ｄ）のγ４で示される回転軸）回りに回転する構成とすることが望ましい。
【００６４】
また光源装置４０には、第２の光源モジュ-ル４２から出射する２本光ビ-ムの被走査面上のビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３の間隔ｑ３を調整するために、第３の出射方向変更手段４９を備えている。この第３の出射方向変更手段４９の構成及び作用（調整メカニズム）は、上述の第２の出射方向変更手段４８と同一である。
【００６５】
さらに、光源装置４０が備える第４の出射方向変更手段５０により、第１の出射方向変更手段４７と同様に、被走査面におけるビ-ムスポットの中央位置Ｃ１、Ｃ２の相対位置合わせ（ｑ３の調整）を行うことができる。第４の出射方向変更手段５０の構成及び作用（調整メカニズム）は、第２、第３の出射方向変更手段４８、４９と同じであり、第１の出射方向変更手段４７とは異なる。
【００６６】
すなわち、第４の出射方向変更手段５０おいて、ステッピングモ-タ５２ｃの基本ステップ角ｓ、回転軸から力点までの距離ｒが第２の出射方向変更手段４８と同じ構成である場合には、上記数式７のα１をα３に置き換えれば、ステッピングモ-タ５２ｃの１ステップに対する、被走査面におけるビ-ムスポットの中央位置Ｃ１とＣ２の間隔の変動量Δｑ３を求めることができる。すなわち、
0004018894.tif 000021
となる。
【００６７】
上述のように光源装置４０には、被走査面のビ-ムスポット（間隔）を調整するために４つの調整手段（出射方向変更手段４７〜５０）を備えているが、各々の機能をまとめると、下記のようになる。すなわち、
第１の出射方向変更手段４７：第２の光源モジュ-ル４２を副走査断面内にて可動し、ビ-ムスポットの中央位置Ｃ１、Ｃ２の間隔（ｑ３）調整を行う。
第２の出射方向変更手段４８：第１の光源モジュ-ル４１を出射ビ-ムに略平行な回転軸回りに可動し、ビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の間隔（ｑ１）調整を行う。
第３の出射方向変更手段４９：第２の光源モジュ-ル４２を出射ビ-ムに略平行な回転軸回りに可動し、ビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３の間隔（ｑ２）調整を行う。
第４の出射方向変更手段５０：光源装置４０を出射ビ-ムに略平行な回転軸回りに可動し、ビ-ムスポットの中央位置Ｃ１、Ｃ２の間隔（ｑ３）調整を行う。
【００６８】
そして、「感度」の低い調整手段である第２から第４の出射方向変更手段４８〜５０に対しフィ-ドバック調整機構を設け、ビ-ムピッチの検出結果に基づき、それらをステッピングモ-タ（圧電素子等、他の駆動手段でも構わない）で駆動することで、自動的にビ-ムピッチ補正が可能となる。一方、比較的「感度」の高い調整手段である第１の出射方向変更手段４７は、光源装置組立時の初期調整に用いればよい。従って第１の出射方向変更手段４７の駆動（テ-パ付きねじ４５を回す）は、上記の説明ではステッピングモ-タ５２ａによるものとしたが、ステッピングモ-タ５２ａを備えず手動にて（スクリュ-ドライバ等を利用して）行う方法でも構わない。
【００６９】
なお、第２、第３の出射方向変更手段４８、４９は、第４の出射方向変更手段５０と独立ではない。そのため第４の出射方向変更手段５０の駆動により、第１の光源モジュ-ル４１のビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の間隔及び第２の光源モジュ-ル４２のビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３間隔は変動してしまう。従って、この挙動を考慮した調整フロ-を組み立てる必要がある。
【００７０】
図１５の調整フロ-は、まず光源装置及び光走査装置を仮組立し（ステップ１）、４つのビ-ムスポット位置（走査位置）を検出し（ステップ２）、２つの中央位置Ｃ１、Ｃ２の間隔ｑ３を算出し、第１の出射方向変更手段４７によりｑ３を粗調整し（ステップ３）、ｑ３の誤差が目標値（第２〜第４の出射方向変更手段４８〜５０にて、調整（微調整）可能な値）以内であるかどうかを判断する。目標値以内でなければステップ２へ戻ってやり直し、目標値以内であればステップ５へ進む。以上がビ-ムピッチの初期調整（工場での仮組立時の粗調整）である。
【００７１】
ついで、４つのビ-ムスポット位置（走査位置）を検出し（ステップ５）、ビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の間隔（ｑ１）、ビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３の間隔（ｑ２）及び中央位置Ｃ１、Ｃ２の間隔（ｑ３）を算出し（ステップ６）、ビ-ムピッチ誤差が仕様値以内であるかどうかを判断し（ステップ７）、仕様値以内であればステップ１１へ進み、仕様値以内でなければステップ８へ進む。
【００７２】
そして、第４の出射方向変更手段５０により、２つの中央位置Ｃ１、Ｃ２の間隔（ｑ３）を調整し（ステップ８）、第２の出射方向変更手段４８により、ビ-ムスポットＢＳ１、ＢＳ４の間隔（ｑ１）を調整し、（ステップ９）、第３の出射方向変更手段４９により、ビ-ムスポットＢＳ２、ＢＳ３の間隔（ｑ２）を調整し（ステップ１０）、再びステップ５へ戻り、それ以降を繰り返す。
【００７３】
ステップ１１では、温度変化、経時的要因によりビ-ムピッチ変動が発生しているかどうかを判断し、発生していればステップ５へ戻る。
【００７４】
これらステップ５〜ステップ１１がビ-ムピッチの初期調整（工場での仮組立時の粗調整）、及びユ-ザ先での使用中における温度変化／経時的要因によるビ-ムピッチ変動のフィ-ドバック補正である。
【００７５】
なお本実施形態においては、出射方向変更手段として光源モジュ-ルの姿勢変化を利用したものを採用したが、光学的またはメカ的レイアウトにより、種々の出射方向変更手段を適宜組み合わせて構成しても構わない。
【００７６】
上述した本発明に係る光走査装置を電子写真プロセスを用いた画像形成装置の光走査装置として使用すれば、複数の光ビ-ムを同時に走査することが可能となるため、プリント速度の高速化、高密度化が可能となる。またシングルビ-ム光源装置と同じプリント速度／走査密度を達成するには、ポリゴンスキャナの回転数を低減することが可能となるため、消費電力が小さくなり、熱発生も低減する。また騒音も小さくなる。
【００７７】
またデジタルカラ-複写機、カラ-プリンタ等の画像出力装置においては、各色（例えば、ブラック：Ｋ、シアン：Ｃ、マゼンタ：Ｍ、イエロ-：Ｙ）に対応する感光手段（例えば感光体ドラム）を、画像記録媒体（例えば紙）の搬送方向に直列に配列したタンデム方式が採用されることが多いが、図１６（Ａ）に示すように、各色に対応する光走査装置を別体（１０Ｋ、１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ）としても良いし、図１６（Ｂ）に示すように共通体（１０Ａ）としても構わない。あるいは図１６（Ｃ）、（Ｄ）に示すように光走査装置を二体化した構成としても削ない。このような構成により、１感光体ドラム型の画像出力装置の場合（４色に対応して４回の書込が必要）と比較して、４倍の出力画像を得ることが可能となる。なお光走査装置を１０Ｋ、１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙの符号に付したＫ、Ｃ、Ｍ、Ｙはもちろん上述したトナ-の色に対応している。
【００７８】
ここで、すべての光走査装置１０Ｋ、１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙから出射されるビ-ムの本数が各々１本の場合には、これらの光走査装置を適用した画像出力装置によりフルカラ-（４色）画像を得ることができる。それに対し、４つの光走査装置１０Ｋ、１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙの少なくとも一つ（例えばブラックに対応する光走査装置１０Ｋ）を本発明の構成の４ビ-ム光走査装置とし、この光走査装置のみで光走査を行うことにより、フルカラ-画像時と比較して４倍の高密度化が可能となる。あるいは記録媒体の搬送速度（及びプロセス速度）を４倍に変更すれば、画像出力枚数を４倍に増加することが可能となる。またフルカラ-画像時においても、文字画像についてはブラックにて書き込むことが多く高解像度も要求されることが多いため、上記の４ビ-ム光走査装置１０Ｋに付加して、他の光走査装置１０Ｃ、１０Ｍ、１０Ｙ：１ビ-ム）も同時に書き込むことにより、文字／写真／線画イメ-ジ等が混在した画像においてもより高品位な出力画像を得ることが可能となる。
【００７９】
【発明の効果】
請求項１に係る光走査装置は、以上説明してきたように、調整感度の異なる出射方向変更手段を２つ以上備える光走査装置であるため、光走査装置の初期調整（組立時のビームピッチの初期調整時）、及びビームピッチ変動を補正するためのフィードバック調整を容易に行うことが可能となるという効果があり、また、ユーザ先にて環境変動等によりビームピッチが変動した場合でも、オペレータ（ユーザ又はサービスマン等）による手動の調整が必要なく、自動的にビームピッチを調整（補正）することができるという効果がある。
【００８０】
請求項２〜６に係る光走査装置は、上記共通の効果に加え、光源装置の光学的またはメカ的レイアウトの自由度を拡大することができるという効果がある。
【００８２】
請求項７に係る光走査装置は、上記共通の効果に加え、光源装置を小型、軽量化して交換が容易なものとすることができるという効果がある。
【００８３】
請求項８に係る画像形成装置は、請求項１ないし８のいずれかの光走査装置を使用し、複数の光ビームを同時に走査することが可能となるため、プリント速度の高速化／高密度化を図ることが可能となり、またシングルビーム光源装置と同じプリント速度／走査密度を達成するには、ポリゴンスキャナの回転数を低減することが可能となるため、消費電力の低減や熱発生の低減に繋がり、環境に対する負荷を低減することが可能となり、さらには騒音発生を抑制することができるという効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明に係る光走査装置の第１実施形態の光学的配置を示す斜視図である。
【図２】図１の光走査装置が備える光源装置の光学的配置（副走査断面）を示す平面図である。
【図３】図１の光走査装置の走査光学系の副走査断面を展開して示した図である。
【図４】光源モジュ-ルの構成例を示す図である。
【図５】被走査面におけるビ-ムスポットの配列の一例を示す図である。
【図６】出射方向変更手段として光路内に配設された透過型光学素子を偏心させる構成の例を示す図である。
【図７】三角プリズムの回転の減速機構の例を示す図である。
【図８】２つの三角プリズムで、光ビ-ムの出射角度を変化させる例を示す図である。
【図９】三角プリズムで出射方向を変更する機構の例を示す図である。
【図１０】出射方向の変更例を示す図である。
【図１１】他の出射方向の変更例を示す図である。
【図１２】平行平板を用いた出射方向変更手段の例を示す図である。
【図１３】本発明に係る光走査装置の第２実施形態に用いる光源装置のを示す図である。
【図１４】図１３の実施形態におけるビ-ムスポットの位置を示す図である。
【図１５】出射方向変更手段を用いた調整フロ-図である。
【図１６】本発明に係る光走査装置を電子写真プロセスを用いた画像形成装置の構成例を示す図である。
【符号の説明】
１  光源装置
２  シリンドリカルレンズ
３  偏向器（ポリゴンミラ-）
４  走査結像光学系（走査レンズ）
５  被走査面（感光体ドラム）
６、６ａ、６ｂ  半導体レ-ザ
７、７ａ、７ｂ  カップリングレンズ
８、８ａ、８ｂ  出射方向変更手段
９  ビ-ム合成手段（ビ-ム合成プリズム）
１０  アパ-チャ
１１、１１ａ、１１ｂ  光ビ-ム
１２ａ、１２ｂ  光源モジュ-ル
１３  レンズホルダ
１４  接着剤
１５  レンズセル
１６  レンズホルダ
１７  ベース部材
１８  押さえ板
２０  光走査装置
２１  三角プリズム
２２  ガルバノミラ-（反射型光学素子）
２３  平行平板
３１  プリズムホルダ
３２  ホイ-ル
３３  ウォ-ム
３４  ステッピングモ-タ
４０  （４ビ-ム）光源装置
４１、４２  光源モジュ-ル
４３  ベース部材
４４  ビ-ム合成プリズム
４５  テ-パ付きねじ
４６  鋼球
４７  第１の出射方向変更手段
４８  第２の出射方向変更手段
４９  第３の出射方向変更手段
５０  第４の出射方向変更手段
５１  ホルダ部材
５２ａ、５２ｂ、５２ｃ  ステッピングモ-タ
ＢＳ１〜ＢＳ４  ビ-ムスポット
Ｃ１、Ｃ２  ビ-ムスポットの中央位置
Δｚ  ビ-ムスポット位置ずれ
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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