【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１６】
紫外光照射前の光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長（またはここで記載される個々の波長またはそこに含まれる波長範囲）で、紫外光照射後の光透過領域の全光線透過率と３０％またはそれより小さく異なり得（以後、「全光線透過率の差異」ということがある。）、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む。たとえば、全光線透過率の差異は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長（またはここで記載される個々の波長またはそこに含まれる波長範囲）で、３０％またはそれより小さい、たとえば２８％またはそれより小さい、２６％またはそれより小さい、２４％またはそれより小さい、２２％またはそれより小さい、２０％またはそれより小さい、１８％またはそれより小さい、１６％またはそれより小さい、１４％またはそれより小さい、１２％またはそれより小さい、１０％またはそれより小さい、８％またはそれより小さい、６％またはそれより小さい、５％またはそれより小さい、４％またはそれより小さい、２％またはそれより小さい、または０％である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１７】
光透過領域が紫外光照射に曝された後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長（またはここで記載される個々の波長または波長範囲）で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ２の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む。たとえば、光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長（またはここで記載される波長範囲）で、ここで記載される条件下での紫外光照射後に、２５％またはそれより大きくあり得、たとえば３０％またはそれより大きい、３５％またはそれより大きい、４０％またはそれより大きい、４５％またはそれより大きい、５０％またはそれより大きい、５５％またはそれより大きい、６０％またはそれより大きい、６５％またはそれより大きい、７０％またはそれより大きい、７５％またはそれより大きい、８０％またはそれより大きい、８５％またはそれより大きい、９０％またはそれより大きい、９５％またはそれより大きい、または１００％である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８３】
多孔性の程度が、研磨パッド体および/または光透過領域において望まれるとき、研磨パッド体および/または光透過領域を構成するポリマー樹脂は、それらの自然な配置により多孔構造を提供し得る。他の態様において、多孔構造は、この分野で知られている種々の製造方法（たとえば、発泡およびブロー等）を用いて導入され得る。クローズドセル孔を含む多孔構造を与える代表的な方法は、Mucell法、転相法、スピノーダルもしくはバイノーダル分解法、または加圧ガス射出法のような発泡法を含み、それらはすべてこの分野で周知である。オープンセル孔を含む多孔構造を与える代表的な方法は、熱可塑性ポリウレタンのような熱可塑性ポリマー粒子を焼成してオープンセル多孔構造を得ることを含む。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１３１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１３１】
紫外光照射前に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有していなかった。むしろ、光透過領域は、紫外光照射の前に、４１０ｎｍまたはそれより小さい波長で、２５％より小さい全光線透過率を有していた。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも１つの光透過領域を含む研磨パッドであって、光透過領域は、（ａ）ポリマー樹脂および（ｂ）少なくとも１つの光吸収化合物を含む材料で構成され、ここで光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の、１つまたはそれより多い波長において、２５％またはそれより大きく、光透過領域は、ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して、紫外光照射に際して３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、４５％またはそれより少なく退色される、研磨パッド。
【請求項２】
紫外光照射前の光透過領域の全光線透過率は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、紫外光照射後の光透過領域の全光線透過率と３０％またはそれより小さく異なり、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ2の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項３】
光透過領域が紫外光照射に曝された後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍおよび/または３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ2の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項４】
１０ｍｇ/Lの濃度で光吸収化合物を含む溶液は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において０．５またはそれより小さい吸光度を有する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項５】
光吸収化合物を含む溶液は、３３５ｎｍ〜４００ｎｍの範囲に位置する最大光吸収を有さない、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項６】
光透過領域は、３９５ｎｍ〜３５，０００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項７】
光透過領域は、３６０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項８】
光透過領域は、表面積で研磨パッドの５０％またはそれより大きい、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項９】
研磨パッドは、光透過領域からなる、請求項８に記載の研磨パッド。
【請求項１０】
研磨パッドは、前記材料からなる、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１１】
ポリマー樹脂は、熱可塑性ポリマー樹脂である、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１２】
ポリマー樹脂は、ポリウレタン、ポリカーボネート系ポリウレタン、ポリカーボネート系ジオールもしくはトリオールポリウレタン、線状脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、分岐脂肪族ポリカーボネート系ポリウレタン、シクロアルカン系脂肪族ポリウレタン、ポリシロキサン系ポリウレタン、（アルキル）アクリレート、（アルキル）アクリル酸、ポリビニリデンフルオライド、ポリビニリデンジフルオライド、ポリクロロトリフルオロエチレン、ポリシロキサン、ポリカーボネート、線状脂肪族ポリカーボネート、ポリメチルペンテン−１、およびそれらの組み合わせからなる群から選択される少なくとも１つの脂肪族ポリマーを含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１３】
脂肪族ポリマーは、熱可塑性ポリマー、熱硬化性ポリマー、またはそれらの組み合わせである、請求項１２に記載の研磨パッド。
【請求項１４】
熱可塑性ポリマーは、熱可塑性ポリウレタン、ポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタン、シクロアルカン系熱可塑性ポリウレタン、ポリシロキサン系熱可塑性ポリウレタン、それらのランダム共重合体、それらのブロック共重合体、およびそれらのブレンドからなる群より選択される、請求項１３に記載の研磨パッド。
【請求項１５】
脂肪族ポリマーは、（ａ）ポリオール、環状脂肪族環を含むポリオール、ポリカーボネートポリオール、１〜１０００の繰り返し単位を含むポリヘキサメチレンカーボネートジオール、１〜１０００の繰り返し単位を含むポリエチレンエーテルカーボネートジオール、１，１２−ドデカンジオール、１，４−ブタンジオール、およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる、１つまたはそれより多いジオール、ならびに（ｂ）ジシクロヘキシルメタン４，４’−ジイソシアネートのモノマー単位を含むポリウレタンである、請求項１２に記載の研磨パッド。
【請求項１６】
光吸収化合物は、ペンタエリスリトールテトラキス(２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート）、２−エチルヘキシル−ｐ−メトキシシンナメート、エチル−２−シアノ−３，３'−ジフェニルアクリレート）、オクチル−ｐ−メトキシシンナメート、４−アミノベンゾエート−トリアルキルオルソフォルメート、エチル（４−エトキシカルボニルフェニル）−N−メチル−N−フェニルフォルムアミジン、N,N−ビス−（４−エトキシカルボニルフェニル）−N−フェニルフォルムアミジン、N2−（４−エトキシカルボニルフェニル）−N1−メチル−N1−フェニルフォルムアミジン、２−ヒドロキシ−４−N−オクトキシベンゾフェノン、２−プロペン酸−３−（４−メトキシフェニル）−２−エチルヘキシルエステル、エチル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、２−エチルヘキシル−３，３−ジフェニルアクリレート、エチル−３，３−ビス（４−メトキシフェニル）アクリレート、２−エチルヘキシル−２−シアノ−３，３−ジフェニルアクリレート、ホモメチルサリシレート、２−フェニル−ベンズイミダゾール−５−スルホン酸、トリエチルサリシレート、オクチルジメチル−４−アミノ安息香酸、４−メチルベンジリデンカンファ、ジ−２’−エチルヘキシル−３，５−ジメトキシ−４−ヒドロキシベンジリデンマロネート、シアノアクリレート、トリアジン、ビス−メチン、カンファ誘導体、およびそれらの組み合わせからなる群より選択される、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１７】
光透過領域が０．２ｍｍ〜３ｍｍの厚さを有する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１８】
光透過領域は、次の特性：
（ａ）ショア硬度１０Ａ 〜８０Ｄ、
（ｂ）多孔率０．１％〜１０％、ここで光透過領域の孔の５０％またはそれより多くが１μｍまたはそれより小さい大きさを有する、
（ｃ）５０％またはそれより大きい％伸び、
（ｄ）６５ｋＰａまたはそれより大きい引張り強さ、
（ｅ）室温での曲げモジュラス７００ｋＰａ〜３，５００，０００ｋＰａ、
（ｆ）２１０℃で２１６０ｇ荷重で、５００ｇ/１０分より小さい樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレート、
（ｇ）２１０℃で１８/sのずり速度で毛管レオメータで測定された、１０Ｐａ・ｓ〜２０，０００Ｐａ・ｓの樹脂溶融粘度、
（ｈ）３０％より小さい％結晶化度、
（ｉ）約−１００℃〜１６０℃のガラス転移温度、
（ｊ）０．１〜１００μｍの表面粗さ、および
（ｋ）屈折率１．１〜２．０
の１つまたはそれより多くを有する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項１９】
さらに研磨パッド体を含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２０】
研磨パッド体は、次の特性：
（ａ）ショア硬度１０Ａ 〜８０Ｄ、
（ｂ）多孔率０．１％〜８０％、ここで研磨パッドの孔の５０％またはそれより多くが２００μｍまたはそれより小さい大きさを有する、
（ｃ）５０％またはそれより大きい％伸び、
（ｄ）６５ｋＰａまたはそれより大きい引張り強さ、
（ｅ）室温での曲げモジュラス７００ｋＰａ〜３，５００，０００ｋＰａ、
（ｆ）２１０℃で２１６０ｇ荷重で、５００ｇ/１０分より小さい樹脂メルトインデックスまたはメルトフローレート、
（ｇ）２１０℃で１８/sのずり速度で毛管レオメータで測定された、１０Ｐａ・ｓ〜２０，０００Ｐａ・ｓの樹脂溶融粘度、
（ｈ）０％〜６０％の％結晶化度、
（ｉ）約−１００℃〜１６０℃のガラス転移温度、
（ｊ）０．１〜１００μｍの表面粗さ、および
（ｋ）屈折率１．１〜２．０
の１つまたはそれより多くを有する、請求項１９に記載の研磨パッド。
【請求項２１】
光透過領域は、熱溶融化学結合融合、超音波溶接、無線周波数溶接、アーク溶接、熱圧縮、摩擦熱、およびそれらの組み合わせからなる群より選ばれる方法により研磨パッド体に結合される、請求項１９に記載の研磨パッド。
【請求項２２】
研磨パッド、研磨パッド体および/または光透過領域は、フィルムまたはシート押出し、射出成形、ブロー成形、熱成形、圧縮成形、共押出し成形、反応射出成形、異形押出し成形、回転成形、ガス射出成形、フィルムインサート成形、発泡成形、鋳込成形、またはこれらの組み合わせにより形成される、請求項１９に記載の研磨パッド。
【請求項２３】
光透過領域は、研磨パッドの少なくとも一部分を圧縮することにより形成される、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２４】
光吸収化合物は、光透過領域の重量に基づいて０．０５ｗｔ％〜２０ｗｔ％の量で存在する、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２５】
ポリマー樹脂は、（ａ）１〜１０００の繰り返し単位を含むポリアルキレンカーボネートジオール、（ｂ）脂肪族ジイソシアネート、および（ｃ）ポリアルキレンカーボネートジオール（ａ）とは異なるアルキルジオール、のモノマー単位を含む脂肪族ポリカーボネート系熱可塑性ポリウレタンであり、
１０ｍｇ/Lの濃度で光吸収化合物を含む溶液は、３３０ｎｍ〜４００ｎｍの範囲において０．５またはそれより小さい吸光度を有し、
光透過領域は、３６０ｎｍ〜３８０ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、
光透過領域は、ＡＳＴＭ  Ｄ１１４８−９５により測定して、紫外光照射に際して３９５ｎｍ〜８００ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、４５％またはそれより少なく退色され、ならびに
光透過領域が紫外光照射に曝された後に、光透過領域は、２５０ｎｍ〜３９５ｎｍの範囲の１つまたはそれより多い波長で、２５％またはそれより大きい全光線透過率を有し、ここで紫外光照射は、１００ワット水銀ランプで少なくとも１，０００ｍＷ/ｃｍ2の強度で４分間、光透過領域を照射することを含む、請求項１に記載の研磨パッド。
【請求項２６】
（ａ）研磨される被加工物を用意すること；
（ｂ）その被加工物を請求項1記載の研磨パッドおよび化学機械研磨組成物と接触させること；ならびに
（ｃ）研磨パッドに対して被加工物を移動させ、被加工物を研磨するように被加工物の表面の少なくとも一部分を摩耗することを含む、被加工物の研磨方法。
【請求項２７】
光を用いて原位置で研磨終点を検出することをさらに含む、請求項２６に記載の方法。