【手続補正書】
【提出日】平成28年9月16日(2016.9.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
チョクラルスキー法により半導体単結晶を引き上げるための方法であって、
石英ガラスるつぼにおいて半導体溶融液が生成され、前記半導体溶融液から半導体単結晶が引き上げられ、
前記石英ガラスるつぼは内壁を有しており、
前記半導体溶融液は溶融液自由表面を有しており、
前記内壁及び前記溶融液自由表面は、前記るつぼ内壁において放射状に周方向に延びている接触帯域の領域において相互に接触しており、且つ、前記内壁及び前記溶融液自由表面はそれぞれ溶融雰囲気に接しており、
前記接触帯域を起点にして、前記溶融液の複数の一次振動が惹起される、方法において、
相互に異なる周波数を有している複数の一次振動が惹起され、
最大振動周波数と最小振動周波数との差は、前記最大振動周波数の少なくとも５％である、
方法。
【請求項２】
前記るつぼ内壁及び／又は前記半導体溶融液の物理的、化学的又は物質的な特性のうちの少なくとも一つが、前記放射状に周方向に延びている接触帯域に沿って変化する、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記特性は、第１の状態及び第２の状態を取り、
前記周方向に延びている接触帯域に沿った前記特性の変化は、前記特性の前記第１の状態から前記第２の状態への段階的又は漸次的な変化であり、
前記特性の前記第１の状態から前記第２の状態への前記段階的又は漸次的な変化は、前記接触帯域の周長の少なくとも１／１０にわたる、
請求項２に記載の方法。
【請求項４】
前記特性は、第１の状態及び第２の状態を取り、
前記周方向に延びている接触帯域に沿った前記特性の変化は、前記第１の状態及び前記第２の状態が交互に現れる変化であり、
前記特性は、前記接触帯域の周長の少なくとも１／１０にわたり、第２の状態を取る、
請求項２に記載の方法。
【請求項５】
前記周方向に延びている接触帯域に沿って変化する前記特性は、前記るつぼ内壁の内部構造、化学的な組成、表面特性及び／又は温度である、
請求項１乃至４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記化学的な組成は、前記るつぼ内壁の前記石英ガラスのヒドロキシル基含有量によって決定され、該ヒドロキシル基含有量は、前記周方向に延びている接触帯域に沿って、最大濃度ＣOH,maxと最小濃度ＣOH,minとの間で変化し、
前記最小濃度ＣOH,minは、前記最大濃度ＣOH,maxの８０％未満である、
請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記化学的な組成は、合成により作成された石英ガラスであるか、又は天然由来の原料から形成された石英ガラスである、前記るつぼ内壁のための石英ガラスの種類によって決定されるか、又は、該種類の石英ガラスが混合された石英ガラスによって決定され、
前記種類の石英ガラスの濃度は、前記周方向に延びている接触帯域に沿って少なくとも１回変化する、
請求項５又は６に記載の方法。
【請求項８】
前記るつぼ内壁の前記表面特性は、１ｃｍの測定長さにわたって求められた、前記るつぼ内壁の平均表面粗さＲaに関する値によって決定され、
前記平均表面粗さは、前記周方向に延びている接触帯域に沿って、最大値Ｒa,maxと最小値Ｒa,minとの間で変化し、
前記最小値Ｒa,minは、前記最大値Ｒa,maxの８０％未満である、
請求項５乃至７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記内部構造は、１ｃｍの測定長さにわたって求められた、前記るつぼ内壁の前記石英ガラスの気泡含有量によって決定され、
前記気泡含有量は、前記周方向に延びている接触帯域に沿って、最大値Ｐmaxと最小値Ｐminとの間で変化し、
前記最小値Ｐminは、前記最大値Ｐmaxの５０％未満である、
請求項５乃至８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
前記内壁の前記内部構造及び／又は前記表面特性及び／又は前記化学的な組成は、前記接触帯域からるつぼ底部に向かって少なくとも５ｍｍの幅にわたって延在しており、且つ、周方向に延びている変化帯域内で変化する、
請求項５乃至９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
チョクラルスキー法によって半導体単結晶を引き上げるために使用される石英ガラスるつぼにおいて、
前記石英ガラスるつぼはるつぼ内壁を有しており、該るつぼ内壁に沿って、放射状に周方向に延びている接触帯域が設けられており、該接触帯域の物理的、化学的又は物質的な特性のうちの少なくとも一つが変化することを特徴とする、石英ガラスるつぼ。
【請求項１２】
前記るつぼ内壁の物理的、化学的又は物質的な特性のうちの少なくとも一つが、前記放射状に周方向に延びている接触帯域に沿って変化する、
請求項１１に記載の石英ガラス。
【請求項１３】
前記特性は、第１の状態及び第２の状態を取り、
前記周方向に延びている接触帯域に沿った前記特性の変化は、前記特性の前記第１の状態から前記第２の状態への段階的又は漸次的な変化であり、
前記特性の前記第１の状態から前記第２の状態への前記段階的又は漸次的な変化は、前記接触帯域の周長の少なくとも１／１０にわたる、
請求項１２に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１４】
前記特性の前記第１の状態から前記第２の状態への前記段階的又は漸次的な変化は、前記接触帯域の周長の少なくとも１／３にわたる、
請求項１３に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１５】
前記特性は、第１の状態及び第２の状態を取り、
前記周方向に延びている接触帯域に沿った前記特性の変化は、前記第１の状態及び前記第２の状態が交互に現れる変化であり、
前記特性は、前記接触帯域の周長の少なくとも１／１０にわたり、第２の状態を取る、
請求項１２に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１６】
前記特性は、前記接触帯域の周長の少なくとも１／３にわたり、第２の状態を取る、
請求項１５に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１７】
前記周方向に延びている接触帯域に沿って変化する前記特性は、前記るつぼ内壁の内部構造、化学的な組成及び／又は表面特性である、
請求項１１乃至１６のいずれか一項に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１８】
前記化学的な組成は、前記るつぼ内壁の前記石英ガラスのヒドロキシル基含有量によって決定され、該ヒドロキシル基含有量は、前記周方向に延びている接触帯域に沿って、最大濃度ＣOH,maxと最小濃度ＣOH,minとの間で変化し、
前記最小濃度ＣOH,minは、前記最大濃度ＣOH,maxの８０％未満である、
請求項１７に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項１９】
前記最小濃度ＣOH,minは、前記最大濃度ＣOH,maxの６０％未満である、
請求項１８に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項２０】
前記化学的な組成は、合成により作成された石英ガラスであるか、又は天然由来の原料から形成された石英ガラスである、前記るつぼ内壁のための石英ガラスの種類によって決定されるか、又は、該種類の石英ガラスが混合された石英ガラスによって決定され、
前記種類の石英ガラスの濃度は、前記周方向に延びている接触帯域に沿って少なくとも１回変化する、
請求項１１乃至１９のいずれか一項に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項２１】
前記るつぼ内壁の前記表面特性は、１ｃｍの測定長さにわたって求められた、前記るつぼ内壁の平均表面粗さＲaに関する値によって決定され、
前記平均表面粗さは、前記周方向に延びている接触帯域に沿って、最大値Ｒa,maxと最小値Ｒa,minとの間で変化し、
前記最小値Ｒa,minは、前記最大値Ｒa,maxの８０％未満である、
請求項１１乃至２０のいずれか一項に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項２２】
前記最小値Ｒa,minは、前記最大値Ｒa,maxの６０％未満である、
請求項２１に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項２３】
前記内部構造は、１ｃｍの測定長さにわたって求められた、前記るつぼ内壁の前記石英ガラスの気泡含有量によって決定され、
前記気泡含有量は、前記周方向に延びている接触帯域に沿って、最大値Ｐmaxと最小値Ｐminとの間で変化し、
前記最小値Ｐminは、前記最大値Ｐmaxの５０％未満である、
請求項１７乃至２２のいずれか一項に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項２４】
前記最小値Ｐminは、前記最大値Ｐmaxの３０％未満である、
請求項２３に記載の石英ガラスるつぼ。
【請求項２５】
前記内壁の前記内部構造及び／又は前記表面特性及び／又は前記化学的な組成は、前記接触帯域からるつぼ底部に向かって少なくとも５ｍｍの幅にわたって延在しており、且つ、周方向に延びている変化帯域内で変化する、
請求項１７乃至２３のいずれか一項に記載の石英ガラスるつぼ。