【手続補正書】
【提出日】平成28年5月12日(2016.5.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ターゲット（１３）を露出するための荷電粒子リソグラフィシステム（１）であって、
・荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
・前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ（６）と、
・前記ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器（１２）を備えており、
前記荷電粒子ビーム発生器は、
・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源（３）と、
・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ；７２；３００）と、
・ポンプシステムの一つ以上の開口と、
・高電圧シールド装置（２０１）であって、前記高電圧シールド装置の外側のコンポーネントを前記高電圧シールド装置内の高電圧からシールドするための前記高電圧シールド装置と、
・熱を取り除くための冷却装置（２０３）を備えており、
前記一つ以上の開口は、一つ以上のポンプ（２２０）の一部であり、前記一つ以上の開口と前記一つ以上のポンプは、前記高電圧シールド装置と前記冷却装置の間に配置されている、荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項２】
前記一つ以上のポンプは、ゲッターポンプまたはサブリメーションポンプである、請求項１に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項３】
前記荷電粒子発生源は、第一の真空チャンバー（１０２）中に配置されており、前記コリメーターシステムと前記高電圧シールド装置と前記冷却装置と前記ポンプシステムの開口は、第二の真空チャンバー（１０３）中に配置されている、請求項１〜２のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項４】
前記第二の真空チャンバー中に、前記コリメーターシステムに下流に開口アレイが配置されている、請求項３に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項５】
前記第一の真空チャンバーは、前記第二の真空チャンバー中に配置されている、請求項３または４に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項６】
前記第一の真空チャンバーと前記第二の真空チャンバーは第三の真空チャンバー中に配置されている、請求項３または４に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項７】
前記高電圧シールド装置は、ワイヤーメッシュ構造体を備えている、請求項１〜６のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項８】
前記冷却装置を磁気シールド装置（２０５）が取り囲んでいる、請求項１〜７のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項９】
前記磁気シールド装置は、ミューメタルからなる一つ以上のプレートを備えている、請求項８に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１０】
前記コリメーターシステムは、５００ｅＶを超える電圧を受けるための一つ以上のレンズ構造体（５ｂ；５ｄ）を備えており、前記荷電粒子ビーム発生器は、前記一つ以上のレンズ構造体に電圧を供給するワイヤー（２１０）をさらに備えている、請求項８または９に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１１】
前記ワイヤーの一部は前記磁気シールド装置の内側に配置されており、前記磁気シールド装置の内側の前記ワイヤーの前記一部は直線である、請求項１０に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１２】
前記コリメーターシステムは、三つの電極（５ａ，５ｂ，５ｃ）を備えたアインツェルレンズを備えている、請求項１〜１１のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１３】
前記開口アレイは前記アインツェルレンズの下流に配置されており、前記ポンプシステムの前記一つ以上の開口は、前記アインツェルレンズと前記開口アレイの間に配置されている、請求項１２に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１４】
前記コリメーターシステムは、その中に空洞をもつ本体を備えており、前記空洞は、前記空洞の表面が前記アインツェルレンズの外側電極として働くように構成されており、前記アインツェルレンズの中央電極（５ｂ）は、前記中央電極を前記空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって空洞内の所定位置に維持される、請求項１２または１３に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１５】
前記コリメーターシステムは、空洞内に収差補正のための追加電極（５ｄ）を備えており、前記追加電極は、前記追加電極を前記空洞の表面に接続している三つ以上のさらなるスプリング要素（３２０）によって前記空洞内の所定位置に維持される、請求項１４に記載の荷電粒子リソグラフィシステム。
【請求項１６】
請求項１〜１５のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステムに使用される荷電粒子ビーム発生器であって、
発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源（３）と、
前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ；７２；３００）と、
・ポンプシステムの一つ以上の開口と、
高電圧シールド装置（２０１）であって、前記高電圧シールド装置の外側のコンポーネントを前記高電圧シールド装置内の高電圧からシールドするための前記高電圧シールド装置と、
熱を取り除くための冷却装置（２０３）を備えており、
前記一つ以上の開口は、一つ以上のポンプ（２２０）の一部であり、前記一つ以上の開口と前記一つ以上のポンプは、前記高電圧シールド装置と前記冷却装置の間に配置されている、荷電粒子ビーム発生器。
【請求項１７】
前記一つ以上のポンプは、ゲッターポンプまたはサブリメーションポンプである、請求項１６に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項１８】
前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ（６）をさらに備えている、請求項１６または１７に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項１９】
前記高電圧シールド装置は、ワイヤーメッシュ構造体を備えている、請求項１６〜１８のいずれかひとつに記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２０】
前記冷却装置を磁気シールド装置（２０５）が取り囲んでいる、請求項１６〜１９のいずれかひとつに記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２１】
前記磁気シールド装置は、ミューメタルからなる一つ以上のプレートを備えている、請求項２０に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２２】
前記コリメーターシステムは、５００ｅＶを超える電圧を受けるための一つ以上のレンズ構造体（５ｂ；５ｄ）を備えており、前記荷電粒子ビーム発生器は、前記一つ以上のレンズ構造体に電圧を提供するワイヤー（２１０）をさらに備えている、請求項２０または２１に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２３】
前記ワイヤーの一部は前記磁気シールド装置の内側に配置されており、前記磁気シールド装置の内側の前記ワイヤーの前記一部は直線である、請求項２２に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２４】
前記コリメーターシステムは、三つの電極（５ａ，５ｂ，５ｃ）を備えたアインツェルレンズを備えている、請求項１６〜２３のいずれかひとつに記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２５】
前記開口アレイは前記アインツェルレンズの下流に配置されており、前記ポンプシステムの前記一つ以上の開口は、前記アインツェルレンズと前記開口アレイの間に配置されている、請求項１８および請求項２４に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２６】
前記コリメーターシステムは、その中に空洞をもつ本体を備えており、前記空洞は、前記空洞の表面がアインツェルレンズの外側電極（５ａ，５ｃ）として働くように構成されており、前記アインツェルレンズの中央電極（５ｂ）は、前記中央電極を空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって空洞内の所定位置に維持される、請求項２４または２５に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【請求項２７】
前記コリメーターシステムは、空洞内に収差補正のための追加電極（５ｄ）を備えており、前記追加電極は、前記追加電極を前記空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって前記空洞内の所定位置に維持される、請求項２６に記載の荷電粒子ビーム発生器。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６７】
上に論じられたいくらかの実施形態への言及によって本発明が説明された。これらの実施形態は、本発明の趣旨と範囲から逸脱することなく、さまざまな修正と代替形態がこの分野の当業者には可能であることが認められるであろう。したがって、特定の実施形態が説明されたが、これらは単なる例であり、本発明の範囲を限定するものではなく、それは、添付の特許請求の範囲において定められる。
以下に、本願出願の当初の特許請求の範囲に記載された発明を付記する。
［１］  ターゲット（１３）を露出するための荷電粒子リソグラフィシステム（１）であって、
・荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子ビーム発生器と、
・前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ（６）と、
・前記ビームレットをターゲットの表面上に投影するためのビームレット投影器（１２）を備えており、
前記荷電粒子ビーム発生器は、
・発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源（３）と、
・前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ；７２；３００）と、
・ポンプシステムの一つ以上の開口と、
・高電圧シールド装置（２０１）であって、前記高電圧シールド装置の外側のコンポーネントを前記高電圧シールド装置内の高電圧からシールドするための前記高電圧シールド装置と、
・熱を取り除くための冷却装置（２０３）を備えており、
前記一つ以上の開口は、前記高電圧シールド装置と前記冷却装置の間に配置されている、リソグラフィシステム。
［２］  前記一つ以上の開口は、一つ以上のポンプ（２２０）の一部であり、前記一つ以上のポンプは、前記高電圧シールド装置と前記冷却装置の間に配置されている、［１］のリソグラフィシステム。
［３］  前記一つ以上のポンプは、ゲッターポンプまたはサブリメーションポンプである、［２］のリソグラフィシステム。
［４］  前記荷電粒子発生源は、第一の真空チャンバー（１０２）中に配置されており、前記コリメーターシステムと前記高電圧シールド装置と前記冷却装置と前記ポンプシステムの開口は、第二の真空チャンバー（１０３）中に配置されている、［１］〜［３］のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
［５］  前記第二の真空チャンバー中に、前記コリメーターシステムに下流に開口アレイが配置されている、［４］のリソグラフィシステム。
［６］  前記第一の真空チャンバーは、前記第二の真空チャンバー中に配置されている、［４］または［５］のリソグラフィシステム。
［７］  前記第一の真空チャンバーと前記第二の真空チャンバーは第三の真空チャンバー中に配置されている、［４］または［５］に記載のリソグラフィシステム。
［８］  前記高電圧シールド装置は、ワイヤーメッシュ構造体を備えている、［１］〜［７］のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
［９］  前記冷却装置を磁気シールド装置（２０５）が取り囲んでいる、［１］〜［８］のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
［１０］  前記磁気シールド装置は、ミューメタルからなる一つ以上のプレートを備えている、［９］のリソグラフィシステム。
［１１］  前記コリメーターシステムは、５００ｅＶを超える電圧を受けるのに適している一つ以上のレンズ構造体（５ｂ；５ｄ）を備えており、前記発生器は、前記一つ以上のレンズ構造体に電圧を供給するワイヤー（２１０）をさらに備えている、［９］または［１０］のリソグラフィシステム。
［１２］  前記磁気シールド装置の内側のワイヤーは直線である、［１１］のリソグラフィシステム。
［１３］  前記コリメーターシステムは、三つの電極（５ａ，５ｂ，５ｃ）を備えたアインツェルレンズを備えている、［１］〜［１２］のいずれかひとつのリソグラフィシステム。
［１４］  前記アインツェルレンズの下流に開口アレイをさらに備えており、前記ポンプシステムの前記一つ以上の開口は、前記アインツェルレンズと前記開口アレイの間に配置されている、［１３］のリソグラフィシステム。
［１５］  前記コリメーターシステムは、その中に空洞をもつ本体を備えており、前記空洞は、前記空洞の表面が前記アインツェルレンズの外側電極として働くように構成されており、前記アインツェルレンズの中央電極（５ｂ）は、前記中央電極を前記空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって空洞内の所定位置に維持される、［１３］または［１４］のリソグラフィシステム。
［１６］  前記コリメーターシステムは、空洞内に収差補正のための追加電極（５ｄ）を備えており、前記追加電極は、前記追加電極を前記空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって前記空洞内の所定位置に維持される、［１５］のリソグラフィシステム。
［１７］  ［１］〜［１６］のいずれかひとつに記載の荷電粒子リソグラフィシステムに使用される荷電粒子ビーム発生器であって、
発散荷電粒子ビームを生成するための荷電粒子発生源（３）と、
前記発散荷電粒子ビームを屈折させるためのコリメーターシステム（５ａ，５ｂ，５ｃ，５ｄ；７２；３００）と、
・ポンプシステムの一つ以上の開口と、
高電圧シールド装置（２０１）であって、前記高電圧シールド装置の外側のコンポーネントを前記高電圧シールド装置内の高電圧からシールドするための前記高電圧シールド装置と、
熱を取り除くための冷却装置（２０３）を備えており、
前記一つ以上の開口は、前記高電圧シールド装置と前記冷却装置の間に配置されている、発生器。
［１８］  前記一つ以上の開口は、一つ以上のポンプ（２２０）の一部であり、前記一つ以上のポンプは、前記高電圧シールド装置と前記冷却装置の間に配置されている、［１７］のリソグラフィシステム。
［１９］  前記一つ以上のポンプは、ゲッターポンプまたはサブリメーションポンプである、［１８］の発生器。
［２０］  前記荷電粒子ビームから複数のビームレットを形成するための開口アレイ（６）をさらに備えている、［１７］〜［１９］のいずれかひとつの発生器。
［２１］  前記高電圧シールド装置は、ワイヤーメッシュ構造体を備えている、［１７］〜［２０］のいずれかひとつの発生器。
［２２］  前記冷却装置を磁気シールド装置（２０５）が取り囲んでいる、［１７］〜［２１］のいずれかひとつの発生器。
［２３］  前記磁気シールド装置は、ミューメタルからなる一つ以上のプレートを備えている、［２２］の発生器。
［２４］  前記コリメーターシステムは、５００ｅＶを超える電圧を受けるのに適している一つ以上のレンズ構造体（５ｂ；５ｄ）を備えており、前記発生器は、前記一つ以上のレンズ構造体に電圧を提供するワイヤー（２１０）をさらに備えている、［２２］または［２３］の発生器。
［２５］  前記磁気シールド装置の内側のワイヤーは直線である、［２４］の発生器。
［２６］  前記コリメーターシステムは、三つの電極（５ａ，５ｂ，５ｃ）を備えたアインツェルレンズを備えている、［１７］〜［２５］のいずれかひとつの発生器。
［２７］  前記アインツェルレンズの下流に開口アレイをさらに備えており、前記ポンプシステムの前記一つ以上の開口は、前記アインツェルレンズと前記開口アレイの間に配置されている、［２６］の発生器。
［２８］  前記コリメーターシステムは、その中に空洞をもつ本体を備えており、前記空洞は、空洞の表面がアインツェルレンズの外側電極（５ａ，５ｃ）として働くように構成されており、前記アインツェルレンズの中央電極（５ｂ）は、前記中央電極を空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって空洞内の所定位置に維持される、［２６］または［２７］の発生器。
［２９］  前記コリメーターシステムは、空洞内に収差補正のための追加電極（５ｄ）を備えており、前記追加電極は、前記追加電極を前記空洞の表面に接続している三つ以上のスプリング要素（３２０）によって前記空洞内の所定位置に維持される、［２８］の発生器。