【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年5月16日(2016.5.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酸化物に基づくモルパーセントで表して、７０．３１〜７２．５％のＳｉＯ２、１１〜１３．５％のＡｌ２Ｏ３、１〜５％のＢ２Ｏ３、３〜５％のＭｇＯ、４〜６．５％のＣａＯ、０〜３％のＳｒＯ、および１．５〜５％のＢａＯを含んでなるアルカリを実質的に含まないガラスであって、
（１）７８５℃より高い焼き鈍し点を有し、
（２）Ｔ３５ｋを前記ガラスが３５，０００ポアズ（３，５００パスカル秒）の粘度を有する際の温度、前記Ｔｌｉｑを前記ガラスの液相線温度とすると、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑ＞０．２５Ｔ３５ｋ−２２５℃なる条件を満たし、
（３）Ｓｂ２Ｏ３の含有量が０．０５モル％以下である、
ガラス。
【請求項２】
１．０５≦（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３≦１．４であって、この式中、Ａｌ２Ｏ３、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは上記酸化物成分のモルパーセントを表す、請求項１記載のガラス。
【請求項３】
０．２≦ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）≦０．３５であって、この式中、ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは上記酸化物成分のモルパーセントを表す、請求項１記載のガラス。
【請求項４】
０．６５≦（ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３≦０．９５であって、この式中、Ａｌ２Ｏ３、ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは上記酸化物成分のモルパーセントを表す、請求項１記載のガラス。
【請求項５】
化学清澄剤として、０．０１〜０．４モル％のＳｎＯ２、Ａｓ２Ｏ３またはＳｂ２Ｏ３、Ｆ、ＣｌまたはＢｒのいずれか１種または組合せを含有する、請求項１から４いずれか1項記載のガラス。
【請求項６】
０．００５〜０．２モル％の化学清澄剤として添加されたＦｅ２Ｏ３、ＣｅＯ２またはＭｎＯ２のいずれか１種または組合せを含有する、請求項１から４いずれか1項記載のガラス。
【請求項７】
液相線粘度が２００，０００ポアズ（２０，０００パスカル秒）より高い、請求項１から６いずれか1項記載のガラス。
【請求項８】
液相線粘度が２５０，０００ポアズ（２５，０００パスカル秒）より高い、請求項１から６いずれか1項記載のガラス。
【請求項９】
Ａｓ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ３の濃度が０．００５モル％以下であることを特徴とする、請求項１から８いずれか1項記載のガラス。
【請求項１０】
Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの組み合わせられた濃度が０．１モル％以下であることを特徴とする、請求項１から９いずれか1項記載のガラス。
【請求項１１】
２〜４．５モルパーセントのＢ２Ｏ３含量を有する請求項１から１０いずれか1項記載のガラス。
【請求項１２】
２．５〜４．５モルパーセントのＢ２Ｏ３含量を有する請求項１から１０いずれか1項記載のガラス。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００７】
別の方法は、ガラスの粘度を増加させることによって、プロセス温度における歪みの速度を遅くすることである。これは、ガラスの粘度を高めることによって達成可能である。焼き鈍し点は、ガラスの固定粘度に相当する温度を表し、したがって、焼き鈍し点の増加は、固定温度における粘度の増加に等しい。しかしながら、この方法に関する課題は、費用効果の優れた高い焼き鈍し点のガラスの製造ということである。費用に影響を与える主要な要因は、欠陥およびアセット寿命である。フュージョンドロー機に接続した、耐火性プレメルト（ｐｒｅｍｅｌｔ）、貴金属ファイナーおよび貴金属ガラス供給ステムを備えた最新の連続ユニット（ＣＵ）溶融装置において、４つの種類の欠陥が一般に発生する：（１）気体の含有（気泡またはブリスター）、（２）耐火性材料から、または適切にバッチを溶融することの失敗からの固体含有、（３）主に白金からなる金属欠陥、ならびに（４）低い液相線粘度から生じる失透生成物、またはアイソパイプのいずれかの端部の過度の失透。ガラス組成は、溶融速度に不均衡な影響を与え、したがって、気体または固体欠陥を形成するガラスの傾向に影響を与える。またガラスの酸化状態は、白金欠陥を呼び込んでしまう傾向に影響を与える。形成マンドレルまたはアイソパイプ上でのガラスの失透は、高い液相線粘度を有する組成を選択することによって最良に管理される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
一態様において、開示されたガラスは、フュージョンプロセスによってシートへと製造される。フュージョンドロープロセスは、清潔な火炎研磨されたガラス表面をもたらし、これは表面媒介歪曲を低下させ、高解像度ＴＦＴバックプレーンおよびカラーフィルターをもたらす。図１は、形成マンドレルまたは、その勾配のある谷部のデザインがアイソパイプに沿って（左から右に）全ての点で同一（したがって、「アイソ」）の流れを生じるため、いわゆるアイソパイプと称されるものの位置でのフュージョンドロープロセスの概略図である。図２は、図１の位置６の付近のアイソパイプの概略横断面である。入口１から導入されたガラスは、堰止壁３によって形成された谷部２の底部に沿って圧縮端部４まで流れる。ガラスは、アイソパイプの両側で堰止壁３からあふれ出て（図２参照）、ガラスの２つの流れは、根部６で接合または融合する。アイソパイプのいずれの端部のエッジディレクター７も、ガラスを冷却するために機能し、ビーズと呼ばれるエッジにおいてより厚いストリップを生じさせる。ロールを引くことによってビーズは引き下げられて、したがって、高粘度でのシート形成を可能にする。シートがアイソパイプから引き離される速度を調節することによって、固定溶融速度で非常に広範囲にわたる厚さを生じるためにフュージョンドロープロセスを使用することが可能である。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２２】
ガラスのシートを作成するためのこれらの他の方法と比較して、上記フュージョンプロセスは、清潔な表面を有する、非常に薄く、非常に平面で、非常に均一なシートを作成することが可能である。スロットドローも清潔な表面を生じることができるが、時間とともにオリフィス形状が変化すること、オリフィス−ガラスインターフェースにおける揮発性細片の蓄積、本当に平面なガラスを送達するオリフィスを作成することの難問により、スロットドローガラスの寸法の均一性および表面品質は、フュージョンドローガラスより一般に劣っている。フロートプロセスは、非常に大きな均一なシートを送達することが可能であるが、一方の面においてフロート浴との接触によって、他方の面においてフロート浴からの縮合生成物への曝露によって、表面は実質的に悪化する。このことは、高性能ディスプレイ用途に用いるために、フロートガラスは研磨されなければならないことを意味する。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
不都合なことに、フロートプロセスとは異なり、フュージョンプロセスは、高温からのガラスの急速冷却をもたらし、これは高い仮想温度Ｔｆをもたらす。仮想温度は、ガラスの構造的状態と、関心の温度においてそれが完全に緩和されることが仮定される状態との間の相違を表すと考えることができる。Ｔｐ＜Ｔｇ≦Ｔｆであるように、ガラス転移温度Ｔｇを有するガラスをプロセス温度Ｔｐまで再加熱する結果をここで考える。Ｔｐ＜Ｔｆであるから、ガラスの構造的状態は、Ｔｐにおける平衡の外側であり、ガラスは、Ｔｐにおいて平衡である構造的状態に向かって自発的に緩和する。この弛緩の速度は、Ｔｐにおけるガラスの有効粘度と反比例し、高粘度では遅い緩和速度が生じ、低い粘度では急速な緩和速度が生じる。有効粘度はガラスの仮想温度に反比例して変化し、低い仮想温度では高い粘度が生じ、高い仮想温度では比較的低い粘度が生じる。したがって、Ｔｐにおける緩和速度は、ガラスの仮想温度と直接比例する。高い仮想温度を導入するプロセスでは、ガラスがＴｐにおいて再加熱される場合に、比較的高い緩和速度が生じる。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２４】
Ｔｐにおいて緩和速度を低下させる１つの手段は、その温度においてガラスの粘度を増加させることである。ガラスの焼き鈍し点は、ガラスが１０１３．２ポアズ（１０１２．２パスカル秒）の粘度を有する温度を表す。温度を焼き鈍し点未満まで低下させた時、過冷却された溶融物の粘度は増加する。Ｔｇ未満の固定温度で、より高い焼き鈍し点を有するガラスは、より低い焼き鈍し点を有するガラスより高い粘度を有する。したがって、Ｔｐにおける基板ガラスの粘度を増加させるために、当業者はその焼き鈍し点を上げることを選択するであろう。不都合なことに、一般に、焼き鈍し点を上げるために必要な組成変化によって、他の全ての温度における粘度も増加する。特に、フュージョンプロセスによって製造されるガラスの仮想温度は、１０１１〜１０１２ポアズ（１０１０〜１０１１パスカル秒）の粘度に相当し、したがって、フュージョン適合性ガラスのための焼き鈍し点の上昇は、一般にその仮想温度も上昇させる。所与のガラスに関して、Ｔｇ未満の温度において、より高い仮想温度はより低い粘度をもたらし、したがって、仮想温度を上げることは、そうでなければ焼き鈍し点を上げることによって得られるであろう粘度増加を抑えてしまう。Ｔｐにおける緩和速度の実質的な変化を見るためには、一般に焼き鈍し点の比較的大きな変化が必要である。開示されたガラスの一態様は、それが約７６５℃より高く、より好ましくは７７５℃より高く、最も好ましくは７８５℃より高い焼き鈍し点を有することである。そのような高い焼き鈍し点は、低温ＴＦＴプロセシング、例えば、典型的な低温ポリシリコン急速熱焼き鈍しサイクルの間、容認できる低い熱緩和速度をもたらす。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２５】
仮想温度への影響に加えて、焼き鈍し点を上げることはまた、溶融および形成システムを通しての温度、特にアイソパイプ上の温度を上げる。例えば、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ（登録商標）およびＬｏｔｕｓ（商標）（Ｃｏｒｎｉｎｇ  Ｉｎｃｏｒｐｏｒａｔｅｄ，Ｃｏｒｎｉｎｇ，ＮＹ）は、約５０℃異なる焼き鈍し点を有し、それらがアイソパイプに送達される温度も約５０℃異なる。約１３１０℃を超える温度で延長された期間で保持された場合、耐火性ジルコンは熱クリープを示し、これはアイソパイプ上でアイソパイプ自体の重量およびガラスの重量によって拍車がかかり得る。開示されたガラスの第２の態様は、それらの供給温度が１３１０℃未満であるということである。そのような供給温度は、アイソパイプを置き換えることなく、製造操作持続時間の延長（ｅｘｔｅｎｄｅｄ  ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  ｃａｍｐａｉｇｎｓ）を可能にする。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２６】
高い焼き鈍し点および１３１０℃未満の供給温度を有するガラスの試験を行った際に、より低い焼き鈍し点を有するガラスと比較して、それらは、アイソパイプの根部において、特に、エッジディレクターにおいて失透に向かうより大きい傾向を示すことが発見された。アイソパイプにおける温度プロフィールの慎重な測定によって、エッジディレクター温度は、放射性熱損失のため、中央根部温度と比較して、予期されたよりも非常により低かったことが示された。エッジディレクターは、典型的に、ガラスが根部から出ていくように十分に粘性であることを確実にするために、中央根部温度未満の温度で維持されなければならない。シートは張力下でエッジディレクター間に配置され、したがって、平面形状を維持する。エッジディレクターはアイソパイプのいずれの端部にもあるため、加熱が困難であり、したがって、根部の中央とエッジディレクターとの間の温度差は５０℃以上異なることがあり得る。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２７】
理論に縛られることは望んでいないが、このようなフュージョンプロセスにおける失透に向かう増加する傾向は、温度の関数としてのガラスの放射性熱損失の観点から理解できる。フュージョンは実質的に等温過程であり、ガラスは特定の粘度で入口を出て、非常により高い粘度で根部を出るが、粘度に関する実際の値は、ガラスの同一性またはプロセスの温度に強く依存しない。したがって、より高い焼き鈍し点を有するガラスは、一般に、供給および出口粘度に適合させるためだけのより低い焼き鈍し点を有するガラスよりも非常により高いアイソパイプ温度を必要とする。一例として、図３は、それぞれ、ほぼ、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ（登録商標）およびＬｏｔｕｓ（商標）に関するアイソパイプの根部（図２中の６）の温度である、１１４０℃および１２００℃に相当する黒体スペクトルを示す。約２．５μｍの垂直線は、赤外線カットオフ、ボロシリケートガラスの光学的吸収が、非常に急速に、高くかつほとんど一定の値まで上昇する、近赤外線の領域の開始にほぼ相当する。このカットオフ波長より短い波長において、ガラスは３００〜４００ｎｍのＵＶカットオフ波長に透明である。約３００〜約２．５μｍで、１２００℃黒体は、１１４０℃黒体よりも、より大きい絶対エネルギーおよびその全体のエネルギーのより大きなフラクションを有する。ガラスはこの波長範囲で非常に透明であるため、１２００℃におけるガラスからの放射性熱損失は、１１４０℃におけるガラスのものよりも非常に大きい。
【誤訳訂正１０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
放射性熱損失は温度によって増加するため、高い焼き鈍し点のガラスは、より低い焼き鈍し点ガラスよりも高い温度で一般に形成されるため、中央根部とエッジディレクターとの間の温度差は、ガラスの焼き鈍し点によって一般に増加する。これは、アイソパイプまたはエッジディレクターにおいて失透生成物を形成するガラスの傾向に対して、直接的な影響を有する。ガラスの液相線温度は、ガラスがその温度で無期限に保持される場合に結晶質の相が現れる最も高い温度として定義される。液相線粘度は、液相線温度におけるガラスの粘度である。アイソパイプにおける失透を完全に回避するため、液相線粘度が、ガラスが液相線温度またはその付近で耐火性アイソパイプまたはエッジディレクター材料上にないことを確実にするために十分高いということが望ましい。
【誤訳訂正１１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
実際には、ほとんどのアルカリを含まないガラスは、所望の大きさの液相線粘度を有さない。非晶質シリコン用途のために適切な基板ガラス（例えば、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ（登録商標））による経験は、エッジディレクターは、ある種のアルカリを含まないガラスの液相線温度の６０℃未満までの温度で連続的に保持されることができることを示した。より高い焼き鈍し点を有するガラスはより高い形成温度を必要とすることは理解されるが、エッジディレクターが、中央根部温度と比較して、非常に冷たいということは予期されなかった。この効果の経過を追うための有用な測定基準は、アイソパイプ上の供給温度（ｄｅｌｉｖｅｒｙ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）とガラスの液相線温度（Ｔｌｉｑ）との間の差異である。フュージョンプロセスにおいて、約３５，０００ポアズ（約３，５００パスカル秒）においてガラスを送達（ｄｅｌｉｖｅｒｙ）することが一般に望ましく、３５，０００ポアズ（３，５００パスカル秒）の粘度に相当する温度はＴ３５ｋとして都合よく表される。特定の供給温度（ｄｅｌｉｖｅｒｙ  ｔｅｍｐｅｒａｔｕｒｅ）のために、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑを可能な限り大きくすることは常に望ましいが、Ｅａｇｌｅ  ＸＧ（登録商標）などの非晶質シリコン基板に関して、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑが約８０℃以上である場合、操作持続時間の延長（ｅｘｔｅｎｄｅｄ  ｍａｎｕｆａｃｔｕｒｉｎｇ  ｃａｍｐａｉｇｎｓ）を実行することができることが見出された。温度が増加すると、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑも同様に増加しなければならず、１３００℃付近のＴ３５ｋに関しては、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑが少なくとも１００℃であることが望ましい。Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑのための最小有用値は、約１２００℃〜約１３２０℃の温度でほぼ線形に変化し、以下のように表わすことができる。
【誤訳訂正１２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
液相線粘度とフュージョンプロセスにおけるその後の失透傾向との関係の試験において、驚くべきことに、開示されたガラスのものなどの高い供給温度は、一般に、より低い焼き鈍し点を有する典型的なＡＭＬＣＤ基板組成物の場合よりも、長時間製造のためにより高い液相線粘度を必要とすることを発見した。理論によって拘束されることを望まないが、この必要条件は、温度が増加した時の結晶成長の促進された速度に起因するように見える。フュージョンは本質的に等粘性プロセスであるので、ある固定温度におけるより粘性ガラスは、より粘性でないガラスよりも高い温度におけるフュージョンによって形成されなければならない。とある程度の過冷却（液相線温度未満で冷却すること）を、より低い温度でガラスにおいて延長された期間持続することができるが、結晶成長率は温度によって増加し、したがって、より粘性のガラスは、より粘性でないガラスよりも短い時間で、同等の容認できない量の失透生成物を成長させる。それらが形成される場所次第で、失透生成物は形成安定性を悪化させ、最終的なガラスに可視欠陥を導入するおそれがある。
【誤訳訂正１３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
フュージョンプロセスによって形成するために、開示されたガラス組成物は、２００，０００ポアズ（約２０，０００パスカル秒）以上、より好ましくは２５０，０００ポアズ（約２５，０００パスカル秒）以上の液相線粘度を有することが望ましく、より高い液相線粘度が好ましい。驚くべき結果は、開示されたガラスの範囲において、ガラスの液相線粘度が、開示された範囲外の組成物と比較して異常に高いように、十分に低い液相線温度および十分に高い粘度を得ることが可能であるということである。
【誤訳訂正１４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３４】
本明細書に記載されるガラス組成物において、ＳｉＯ２は、基本ガラス形成剤として機能する。ある態様において、ＳｉＯ２の濃度は、フラットパネルディスプレイガラス（例えば、ＡＭＬＣＤガラス）に好適な密度および化学耐久性、液相線温度（液相線粘度）を有するガラスが提供されるように６９モルパーセントより高いことが可能であり、それによって、ダウンドロー法（例えば、フュージョンプロセス）によりガラスを形成することができる。上限に関して、一般に、ＳｉＯ２濃度は、耐熱性溶融装置において、従来の高容積、溶融技術、例えば、ジュール溶融を用いて、バッチ材料を溶融することができるように約７２．５モルパーセント以下とすることが可能である。ＳｉＯ２の濃度が増えるにつれ、２００ポアズ（約２０パスカル秒）の温度（溶融温度）は一般に上昇する。様々な用途において、ＳｉＯ２濃度を調整して、ガラス組成物の溶融温度が、１，７２５℃以下となるようにする。一態様において、ＳｉＯ２濃度は、６９〜７２．５モルパーセントである。別の態様において、ＳｉＯ２濃度は、６９〜７１．５モルパーセントである。
【誤訳訂正１５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３５】
Ａｌ２Ｏ３は、本明細書に記載されるガラスを製造するために用いるもう１つのガラス形成剤である。Ａｌ２Ｏ３濃度が１１モルパーセント以上であると、低液相線温度および高粘度を有し、その結果、高い液相線粘度となるガラスが提供される。少なくとも１２モルパーセントのＡｌ２Ｏ３の使用によって、ガラスの焼き鈍し点および弾性率も改善する。（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比が１．０５以上であるためには、Ａｌ２Ｏ３濃度を１３．５モルパーセント未満に保つのが望ましい。一態様において、Ａｌ２Ｏ３濃度は、１１〜１３．５モルパーセントである。別の態様において、Ａｌ２Ｏ３濃度は、１１．５〜１２．５モルパーセントである。
【誤訳訂正１６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
Ｂ２Ｏ３は、ガラス形成剤と、溶融を補助し、溶融温度を下げる融剤との両方として機能する。液相線温度へのその影響は、少なくとも粘度へのその影響と同様の大きさであり、したがって、ガラスの液相線粘度を増加させるためにＢ２Ｏ３の増加を利用することができる。これらの効果を得るためには、本明細書に記載されるガラス組成物のＢ２Ｏ３濃度は、１モルパーセント以上である。ＳｉＯ２に関して上述したとおり、ＬＣＤ用途においては、ガラス耐久性もまた非常に重要である。耐久性は、アルカリ土類酸化物の濃度を上げ、高含量のＢ２Ｏ３を大幅に減じることにより、若干制御することができる。Ｂ２Ｏ３が増加すると、焼き鈍し点が減少するため、非晶質シリコン基板のその典型的な濃度と比較して、Ｂ２Ｏ３含量を低く保つのが望ましい。したがって、一態様において、本明細書に記載されるガラスは、１〜５モルパーセントのＢ２Ｏ３濃度を有する。別の態様において、ガラスは、２〜４．５モルパーセントのＢ２Ｏ３含量を有する。なお別の態様において、本発明のガラスは、２．５〜４．５モルパーセントのＢ２Ｏ３含量を有する。
【誤訳訂正１７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３７】
ガラスの溶融および形成特性を維持しながら、焼き鈍し点を上げ、弾性率を高め、耐久性を改善し、密度を減じ、熱膨張係数（ＣＴＥ）を減じるために、Ａｌ２Ｏ３およびＢ２Ｏ３濃度を対として選択することができる。
【誤訳訂正１８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３８】
例えば、Ａｌ２Ｏ３の増加が（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比を約１．０より下げないという条件下で、Ｂ２Ｏ３の増加と、対応するＡｌ２Ｏ３の減少は、低密度およびＣＴＥを得るのに有用であり、一方、Ａｌ２Ｏ３の増加と、対応するＢ２Ｏ３の減少は、焼き鈍し点、弾性率および耐久性を高めるのに有用である。約１．０未満の（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比に関して、シリカ原材料の後期段階溶融のため、ガラスから気体の含有を除去することは困難であるか、または不可能であるかもしれない。さらにまた、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３≦１．０５である場合、ムライトというアルミノシリケートの結晶が液相線相として現れる可能性がある。一旦ムライトが液相線相として存在すると、液相線の組成物感度がかなり増加し、ムライト失透生成物は非常に急速に成長し、一度そうなるとムライト失透生成物の除去は非常に困難である。したがって、一態様において、本明細書に記載されるガラスは、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３≧１．０５の条件を満たす。また、当該技術分野で知られているとおり、ＡＭＬＣＤ用途で用いるガラスのＣＴＥ（２２〜３００℃）は、２８〜４２×１０−７／℃、好ましくは３０〜４０×１０−７／℃、最も好ましくは３２〜３８×１０−７／℃の範囲にある。
【誤訳訂正１９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３９】
本明細書に記載されるガラスは、ガラス形成剤（ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３およびＢ２Ｏ３）に加えて、アルカリ土類酸化物も含む。一態様において、少なくとも３つのアルカリ土類酸化物、例えば、ＭｇＯ、ＣａＯおよびＢａＯと、任意選択でＳｒＯが、ガラス組成物の一部である。アルカリ土類酸化物は、ガラスに、溶融、清澄、成形および最終用途にとって重要な様々な特性を与える。したがって、これらに関して、ガラス性能を改善するには、一態様において、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比は、１．０５以上である。この比率が増加すると、液相線温度よりも強く粘度が増加する傾向があり、したがって、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑに関して適切に高い値を得ることはますます困難となる。したがって、別の態様において、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比は１．４以下である。別の態様において、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比は１．３以下である。別の態様において、比率は１．２以下である。
【誤訳訂正２０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
本発明の特定の実施形態について、アルカリ土属酸化物は、事実上、単一組成成分として扱われてもよい。これは、粘弾特性、液相線温度および液相関係に対する影響が、ガラス形成酸化物ＳｉＯ２、Ａｌ２Ｏ３およびＢ２Ｏ３に対してよりも、互いに対して定量的により類似しているからである。しかしながら、アルカリ土属酸化物ＣａＯ、ＳｒＯおよびＢａＯは、長石鉱物、特に、灰長石（ＣａＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８）およびセルシアン（ＢａＡｌ２Ｓｉ２Ｏ８）およびこのストロンチウム含有固溶体を形成することができるが、ＭｇＯは有意な程度までこれらの結晶に関与しない。したがって、長石結晶が既に液相の場合、ＭｇＯをさらに添加すると、結晶に対して液体を安定化し、液相線温度を下げる役割を果たす。同時に、粘度曲線が、典型的に、急勾配になって、低温粘度にほとんど、または全く影響を与えずに、融点を下げる。この意味で、少量のＭｇＯの添加は、高い焼き鈍し点と低圧密を保ちつつ、溶融温度を下げることによる溶解の利点、液相温度を下げ、液相線粘度を上げることによる成形の利点が得られる。
【誤訳訂正２１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４１】
高い焼き鈍し点を有するガラスにおける液相線傾向の研究の驚くべき結果は、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑの適切に高い値を有するガラスに関して、ＭｇＯ対他のアルカリ土類、ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）の比率が、比較的狭い範囲に収まるということである。上記したように、ＭｇＯの添加は、長石鉱物を不安定にする可能性があり、したがって、液体およびより低い液相線温度を安定させる。しかしながら、一旦ＭｇＯが特定のレベルに達したら、ムライト、Ａｌ６Ｓｉ２Ｏ１３は安定化し得、したがって、液相線温度を増加させて、液相線粘度を低下させる。そのうえ、ＭｇＯの濃度が高いほど、液体の粘度を低下させる傾向があり、したがって、たとえ液相線粘度がＭｇＯの添加によって不変のままであったとしても、それは、最終的には、液相線粘度が低下するケースとなる。したがって、別の態様において、０．２≦ＭｇＯ／（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）≦０．３５である。この範囲内で、ＭｇＯは、他の所望の特性を得ることによって調和したＴ３５ｋ−Ｔｌｉｑの値を最大にするために、ガラス形成剤および他のアルカリ土属酸化物に対して変化してもよい。
【誤訳訂正２２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
ガラス組成物中に存在する酸化カルシウムは、フラットパネル用途、特に、ＡＭＬＣＤ用途について、最も望ましい範囲の低液相線温度（高液相線粘度）、高い焼き鈍し点および弾性率、ならびにＣＴＥを生じさせることができる。また、化学的耐久性にも寄与するため好ましく、他のアルカリ土類酸化物に比べて、バッチ材料としては比較的安価である。しかしながら、高濃度において、ＣａＯは、密度およびＣＴＥを増加させる。さらに、十分に低いＳｉＯ２濃度において、ＣａＯは、灰長石を安定化させ得るものであり、それによって液相線粘度が減少する。したがって、一態様において、ＣａＯ濃度は、４モルパーセント以上とすることができる。別の態様において、ガラス組成物のＣａＯ濃度は、４〜６．５モルパーセントである。
【誤訳訂正２３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４７】
これらの考慮に加えて、ガラスは、ダウンドロープロセス、例えば、フュージョンプロセスにより形成可能であるのが好ましい。すなわち、ガラスの液相線粘度を比較的高くする必要がある。個々のアルカリ土類は、これに関して重要な役割を演じる。形成される結晶相を不安定にする可能性があるためである。ＢａＯおよびＳｒＯは、液相線粘度を制御するのに特に効率的であり、少なくともこの目的のために、本発明のガラスに含まれる。以下の実施例で示すように、アルカリ土類の様々な組合せによって、高液相線粘度を有し、アルカリ土類の合計が、低溶融温度、高い焼き鈍し点および好適なＣＴＥを得るのに必要なＲＯ／Ａｌ２Ｏ３比の制限を満足するガラスが作製される。
【誤訳訂正２４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４８】
上記の成分に加えて、本明細書に記載されるガラス組成物は、ガラスの様々な物理、溶融、清澄および成形属性を調整するために、様々なその他の酸化物を含むことができる。そのような他の酸化物の例としては、これらに限定されないが、ＴｉＯ２、ＭｎＯ、Ｆｅ２Ｏ３、ＺｎＯ、Ｎｂ２Ｏ５、ＭｏＯ３、Ｔａ２Ｏ５、ＷＯ３、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３およびＣｅＯ２が含まれる。一態様において、これらの各酸化物の量は、２．０モルパーセント以下とし得、合計の組合せた濃度は、４．０モルパーセント以下とし得る。本明細書に記載されるガラス組成物はまた、バッチ材料に関連した、および／またはガラスを作製するのに用いる溶融、清澄および／または形成装置によりガラスに導入された様々な汚染物質、特に、Ｆｅ２Ｏ２やＺｒＯ２も含む可能性がある。ガラスはまた、酸化錫電極を用いるジュール溶融の結果、および／または錫含有材料、例えば、ＳｎＯ２、ＳｎＯ、ＳｎＣＯ３、ＳｎＣ２Ｏ２などのバッチ材料の使用（ｂａｔｃｈｉｎｇ）により、ＳｎＯ２を含有する可能性もある。
【誤訳訂正２５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
上記の通り、１．０５以上の（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３比により、清澄、すなわち、溶融バッチ材料からの気体含有物の除去が改善される。この改善によって、より環境に優しい清澄パッケージの使用が可能となる。例えば、酸化物基準で、本明細書に記載されるガラス組成物は、以下の組成特性のうち１つ以上、あるいは全てを有することができる。（ｉ）最大で０．０５モルパーセントのＡｓ２Ｏ３濃度、（ｉｉ）最大で０．０５モルパーセントのＳｂ２Ｏ３濃度、（ｉｉｉ）最大で０．２５モルパーセントのＳｎＯ２濃度。
【誤訳訂正２６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５９】
℃でのガラスの液相線温度を、ＡＳＴＭ  Ｃ８２９−８１の標準勾配ボート液相線法を用いて測定した。これには、砕いたガラス粒子を白金ボートに置き、ボートを勾配温度の領域を有する炉に入れ、ボートを適切な温度領域で２４時間加熱し、結晶がガラス内部に現れる最高温度を顕微鏡により調べることにより決定することが含まれる。より具体的には、ガラス試料を、一体型でＰｔボートから取り外し、偏光顕微鏡を用いて調べて、Ｐｔと空気との界面に対して、および試料の内部に生じた結晶の場所と性質を識別する。炉の勾配は周知であるため、温度対場所は、５〜１０℃以内で、良好に推定することができる。試料の内側点で結晶が観察される温度は、ガラスの液相線を表す（対応する試験時間について）。成長の遅い相を観察するために、試験は、長い時間（例えば、７２時間）実施されることがある。２００ポアズ（約２０パスカル秒）に相当する温度および液相線の粘度（ポアズ）は、Ｖｏｇｅｌ−Ｆｕｌｃｈｅｒ−Ｔａｍｍａｎｎ方程式を使用して、高粘度データに適合することから決定した。
【誤訳訂正２７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６１】
表１から分かるとおり、例示のガラスは、ＡＭＬＣＤ用途などのディスプレイ用途に好適なガラスを製造する密度、ＣＴＥ、焼き鈍し点およびヤング率の値を有する。表１には示していないが、ガラスは、市販のＡＭＬＣＤ基板から得られるものと同様の酸および塩基媒体中での耐久性を有し、したがって、ＡＭＬＣＤ用途に適切である。例示的なガラスは、ダウンドロー技術を使用して形成することができ、特に、上記の基準に照らして、フュージョンプロセスと適合性がある。
【誤訳訂正２８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６４】
開示されたガラスを製造するために適切な原材料には、ＳｉＯ２の供給源として、商業的に入手可能な砂；Ａｌ２Ｏ３の供給源として、アルミナ、水酸化アルミニウム、アルミナの水和型、ならびに様々なアルミノシリケート、硝酸塩およびハロゲン化物；Ｂ２Ｏ３の供給源として、ホウ酸、無水ホウ酸および酸化ホウ素；ＭｇＯの供給源として、ペリクレース、ドロマイト（ＣａＯの供給源でもある）、マグネシア、炭酸マグネシウム、水酸化マグネシウム、ならびに様々な形態のケイ酸マグネシウム、アルミノシリケート、硝酸塩およびハロゲン化物；ＣａＯの供給源として、石灰石、霰石、ドロマイト（ＭｇＯの供給源でもある）、ウォラストナイト、ならびに様々な形態のケイ酸カルシウム、アルミノシリケート、硝酸塩およびハロゲン化物；ならびにストロンチウムおよびバリウムの酸化物、炭酸塩、硝酸塩およびハロゲン化物が含まれる。化学清澄剤が望ましい場合、別の主要なガラス成分（例えばＣａＳｎＯ３）とともに混合された酸化物として、またはＳｎＯ、シュウ酸スズ、ハロゲン化スズ、もしくは当業者に既知のスズの他の化合物として、酸化条件で、スズをＳｎＯ２として添加することができる。
【誤訳訂正２９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６５】
表１のガラスは、清澄剤としてＳｎＯ２を含有するが、ＴＦＴ基板用途のために十分な品質のガラスを得るために、他の化学清澄剤を使用することもできる。例えば、開示されたガラスは、清澄を促進する意図的な添加として、Ａｓ２Ｏ３、Ｓｂ２Ｏ３、ＣｅＯ２、Ｆｅ２Ｏ３およびハロゲン化物のいずれか１つまたはそれらの組合せを使用することができ、これらのいずれも、実施例に示されるＳｎＯ２化学清澄剤とともに使用されることができる。これらのうち、Ａｓ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ３は一般に、ガラス製造の間またはＴＦＴパネルのプロセシングにおいて生じるかもしれない廃物流れの制御の下、危険物として認識される。したがって、個々に、または組み合わせてＡｓ２Ｏ３およびＳｂ２Ｏ３の濃度を０．００５モル％以下に限定することが望ましい。
【誤訳訂正３０】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６６】
開示されたガラスに意図的に組み込まれる要素に加えて、周期表のほとんど全ての安定元素は、低レベルの原材料の汚染によって、製造プロセスにおいて耐火性材料および貴金属の高温度浸食によって、または最終的なガラスの特性を微調整するための低レベルの意図的な導入によって、いくらかのレベルでガラスに存在する。例えば、ジルコニウムは、ジルコニウムが豊富な耐火性材料との相互作用によって汚染物質として導入され得る。さらなる例として、白金およびロジウムは、貴金属との相互作用によって導入され得る。さらなる例として、鉄は、原材料の混入物（ｔｒａｍｐ）として導入され得るか、または気体含有の制御を向上させるために意図的に添加され得る。さらなる例として、マンガンは、色を調節するため、または気体含有の制御を向上させるために導入され得る。さらなる例として、アルカリは、Ｌｉ２Ｏ、Ｎａ２ＯおよびＫ２Ｏの組み合わせられた濃度の約０．１モル％までのレベルで混入成分として存在し得る。
【誤訳訂正３１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６７】
水素は、ヒドロキシルアニオン（ＯＨ−）の形態で必然的に存在し、その存在は標準赤外線分光学技術によって確認することができる。溶解したヒドロキシルイオンは、有意に、かつ非線形に開示されたガラスの焼き鈍し点に影響を及ぼし、したがって、所望の焼き鈍し点を得るためには、埋め合わせをするために主要な酸化物成分の濃度を調節することが必要となり得る。ヒドロキシルイオン濃度は、原材料の選択または溶融システムの選択によって、ある程度は制御可能である。例えば、ホウ酸がヒドロキシルの主要な供給源であり、ホウ酸を酸化ホウ素と置き換えることは、最終的なガラスのヒドロキシル濃度を制御するために有用な手段となる。同様の理論は、ヒドロキシルイオン、水和物、または物理吸着されたか、もしくは化学吸着された水分子を含んでなる化合物を含んでなる他の可能な原材料に当てはまる。バーナーが溶融プロセスに使用される場合、次いで、ヒドロキシルイオンは、天然ガスおよび関連炭化水素の燃焼から燃焼生成物を通して導入されることもあり得、したがって、埋め合わせをするためには、溶融に使用されるエネルギーをバーナーから電極に代えることが望ましい。あるいは、溶解されたヒドロキシルイオンの有害な影響を埋め合わせるために、主要な酸化物成分を調節する反復プロセスを代わりに利用してもよい。
【誤訳訂正３２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６８】
硫黄はしばしば天然ガス中に存在し、同様に、多くの炭酸塩、硝酸塩、ハロゲン化物および酸化物原材料の混入成分である。ＳＯ２の形態で、硫黄は気体含有の厄介な供給源であるおそれがある。ＳＯ２リッチ欠陥（ＳＯ２−ｒｉｃｈ  ｄｅｆｅｃｔｓ）を形成する傾向は、原材料の硫黄レベルを制御することによって、および低レベルの比較的還元された多価カチオンをガラスマトリックスに組み込むことによって、有意な程度まで管理することができる。理論によって拘束されることを望まないが、ＳＯ２リッチな気体含有は、主にガラスに溶解された硫酸イオン（ＳＯ４＝）の還元を通して生じるように思われる。開示されたガラスの高いバリウム濃度は、溶融の早期段階においてガラスの硫黄保持を増加させるように思われるが、上記したように、バリウムは、低い液相線温度、したがって高いＴ３５ｋ−Ｔｌｉｑおよび高い液相線粘度を得るために必要とされる。原材料の硫黄レベルを低レベルに意図的に制御することは、ガラスに溶解した硫黄（おそらく硫酸塩）を還元させる有用な手段である。特に、硫黄は、好ましくはバッチ材料における重量で２００ｐｐｍ未満であり、より好ましくはバッチ材料における重量で１００ｐｐｍ未満である。
【誤訳訂正３３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６９】
還元された多価体は、ＳＯ２ブリスターを形成する開示されたガラスの傾向を制御するために使用されることもできる。理論に拘束されることを望まないが、これらの要素は、硫酸イオン還元のための起電力を抑制する潜在的電子供与体としてふるまう。硫酸イオン還元は、
ＳＯ４＝→ＳＯ２＋Ｏ２＋２ｅ−
などの半反応の観点から記載することができる。式中、ｅ−は電子を示す。この半反応のための「平衡定数」は、
Ｋｅｑ＝［ＳＯ２］［Ｏ２］［ｅ−］２／［ＳＯ４＝］
であり、括弧は化学活性を示す。理想的には、ＳＯ２、Ｏ２および２ｅから硫酸イオンを生成するように反応を進めたい。硝酸塩、過酸化物または他の酸素豊富な原材料を添加することは有用であり得るが、溶融の初期における硫酸イオン還元に対しても作用し得、それは第一にそれらを添加する利点を打ち消し得る。ＳＯ２はほとんどのガラスにおいて非常に低い溶解性を有し、ガラス溶融プロセスに添加することは非実用的である。電子は、還元された多価体を通して「添加されてもよい」。例えば、鉄（Ｆｅ２＋）のための適切な電子を供与する半反応は、
２Ｆｅ２＋→２Ｆｅ３＋＋２ｅ−
として表される。
【誤訳訂正３４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７０】
電子のこの「活性」は、硫酸イオン還元反応を左に強制し得るものであり、その結果、ガラス中のＳＯ４＝を安定させる。適切な還元された多価体は、限定されないが、Ｆｅ２＋、Ｍｎ２＋、Ｓｎ２＋、Ｓｂ３＋、Ａｓ３＋、Ｖ３＋、Ｔｉ３＋および当業者に周知の他のものを含む。それぞれの場合、ガラスの色における有害な影響を回避するために、またはＡｓおよびＳｂの場合、最終消費者のプロセスにおける廃棄物管理の複雑化に関連してそのような成分の十分高いレベルの添加を回避するために、そのような成分の濃度を最小化することが重要となり得る。
【誤訳訂正３５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７１】
開示されたガラスの主要な酸化物成分、および上記の微量または混入成分に加えて、ハロゲン化物は、原材料の選択を通して導入された汚染物質として、またはガラスの気体含有を排除するために使用される意図的な成分として、様々なレベルで存在し得る。清澄剤として、ハロゲン化物は約０．４モル％未満のレベルで組み込まれてもよいが、オフガス取り扱い装置の腐食を回避するために、可能であれば、より低い量を使用することが一般に望ましい。好ましい実施形態において、個々のハロゲン化物要素の濃度は、各個のハロゲン化物の重量で約２００ｐｐｍ以下であるか、または全てのハロゲン化物要素の合計の重量で約８００ｐｐｍ以下である。
【誤訳訂正３６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７２】
これらの主要な酸化物成分、微量および混入成分、多価体およびハロゲン化物清澄剤に加えて、所望の物理的、光学的または粘弾性特性を達成するために他の無色酸化物成分を低い濃度で組み込むことが有用となり得る。そのような酸化物には、限定されないが、ＴｉＯ２、ＺｒＯ２、ＨｆＯ２、Ｎｂ２Ｏ５、Ｔａ２Ｏ５、ＭｏＯ３、ＷＯ３、ＺｎＯ、Ｉｎ２Ｏ３、Ｇａ２Ｏ３、Ｂｉ２Ｏ３、ＧｅＯ２、ＰｂＯ、ＳｅＯ３、ＴｅＯ２、Ｙ２Ｏ３、Ｌａ２Ｏ３、Ｇｄ２Ｏ３および当業者に周知の他のものが含まれる。開示されたガラスの主要な酸化物成分の相対的な割合を調節する反復的なプロセスによって、そのような無色の酸化物は、焼き鈍し点、Ｔ３５ｋ−Ｔｌｉｑまたは液相線粘度に対して容認できない影響を及ぼすことなく、約２モル％までのレベルに添加されることができる。
【誤訳訂正３７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８６】
表２は、開示された範囲外のガラスの例を示す。実施例５〜８は、（ＭｇＯ＋ＣａＯ＋ＳｒＯ＋ＢａＯ）／Ａｌ２Ｏ３＜１．０５を有し、液相線相としてのムライトおよび容認できないほど低いＴ３５ｋ−Ｔｌｉｑの両方を示す。他の例は、開示された範囲外の特定の酸化物成分の濃度を有し、同様に容認できないＴ３５ｋ−Ｔｌｉｑを示す。