【手続補正書】
【提出日】平成28年8月12日(2016.8.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
伸張カウンターピンによって作用する挿入阻止を有する施錠システムの、タンブラーピン（ＺＨ）とカウンターピン（ＧＺＨ）とを有する割当てられたシリンダー（Ｚ）のためのセキュリティキーを製造するためのブランクＲであって、セキュリティキーは、キーの平坦側に少なくとも２つのコーディング行／ピン行（Ａｉ）を有しており、
−  ２つの平行な側溝ＲＢ−ＳＮと、側溝間の中央突出部ＲＢ−Ｍとを有し、それらは、キー軸（ｘ）と平行に、かつコーディング行／ピン行（Ａ）の中央平面に対して対称的に形成されていること、
−  側溝ＲＢ−ＳＮおよび中央突出部ＲＢ−Ｍは、キー先端から第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）まで延びていること、
−  前記側溝ＲＢ−ＳＮは、キー先端の入口領域（ＲＢ−Ｅ）では高レベル（Ｎ１）で走り、第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）では沈下して低レベル（Ｎ２）で走っていること、
−  側溝ＲＢ−ＳＮは、シリンダーの最も後ろのコーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）にある伸張カウンターピンＲＢ−ＧＺＨおよび関連付けられた円筒形の特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨのキー軸（ｘ）に対して長手方向および横方向に延びる追加の側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓに対応するために、好適に形作られていること、
−  そのため、ブランクの側溝ＲＢ−ＳＮと関連付けられた特殊タンブラーピンの側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓとによって、入口領域（ＲＢ−Ｅ）における伸張カウンターピンＲＢ−ＧＺＨによって作用する追加の挿入阻止、およびコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）における追加の回転阻止が実行可能であること、
を特徴とする、ブランク。
【請求項２】
中央突出部ＲＢ−Ｍは、コーディング領域（ＲＢ−Ｐ）では低レベル（ＲＢ−Ｍ（２））まで沈下していることを特徴とする、請求項１に記載のブランク。
【請求項３】
側溝ＲＢ−ＳＮおよび中央突出部ＲＢ−Ｍの全幅ｂｇ（２）は両側で、コーディング行（Ａ）のコーディングくぼみ（Ｃｏｄ−Ｖ）の幅（ｂｃｖ）よりも、ある量（ｂｂ）だけ大きく、すなわちｂｇ（２）＝ｂｃｖ＋２ｂｂであることを特徴とする、請求項１または２に記載のブランク。
【請求項４】
中央突出部ＲＢ−Ｍの幅（ｂｍ）は、全溝幅（ｂｇ）の少なくとも３３％であることを特徴とする、前述の請求項のうちの１項に記載のブランク。
【請求項５】
側溝ＲＢ−ＳＮの幅（ｂｎ）は、全溝幅（ｂｇ）の少なくとも２０％であることを特徴とする、前述の請求項のうちの１項に記載のブランク。
【請求項６】
側溝ＲＢ−ＳＮの内壁（１１）は、ピン平面（Ａ）に対して角度Ｗｍで傾斜していることを特徴とする、前述の請求項のうちの１項に記載のブランク。
【請求項７】
角度Ｗｍは１０°〜４０°であることを特徴とする、請求項６に記載のブランク。
【請求項８】
傾斜角度Ｗａ＞０を有する傾斜ピン平面（Ａ）では、内側で、追加の側部溝ＲＢ−ｎｎが側溝ＲＢ−ＳＮに隣接しており、前記側部溝は、コーディング平面／ピン平面（Ａ）に直交する支持面を形成することを特徴とする、前述の請求項のうちの１項に記載のブランク。
【請求項９】
伸張カウンターピンによって作用する挿入阻止を有する施錠システムの、タンブラーピン（ＺＨ）とカウンターピン（ＧＺＨ）とを有する割当てられたシリンダー（Ｚ）のためのセキュリティキーであって、セキュリティキーは、キーの平坦側に少なくとも２つのコーディング行／ピン行（Ａｉ）を有しており、
−  ２つの平行な側溝ＲＢ−ＳＮと、側溝間の中央溝ＲＢ−ＭＮおよび中央突出部ＲＢ−Ｍとを有し、これらは、キー軸（ｘ）と平行に、かつコーディング行／ピン行（Ａ）の中央平面に対して対称的に形成されていること、
−  側溝ＲＢ−ＳＮおよび中央溝ＲＢ−ＭＮおよび中央突出部ＲＢ−Ｍは、キー先端から第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）まで延びていること、
−  コーディング領域ＲＢ−Ｐにおける中央溝ＲＢ−ＭＮの領域において、第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）に、コーディングくぼみが形成されていること、
−  側溝ＲＢ−ＳＮは、キー先端の入口領域（ＲＢ−Ｅ）では高レベル（Ｎ１）で走り、第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）では沈下して低レベル（Ｎ２）で走っていること、
−  側溝ＲＢ−ＳＮは、シリンダーの最も後ろのコーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）にある伸張カウンターピンＲＢ−ＧＺＨおよび関連付けられた円筒形の特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨのキー軸（ｘ）に対して長手方向および横方向に延びる追加の側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓに対応するために、好適に形作られていること、
−  そのため、キーの側溝ＲＢ−ＳＮと関連付けられた特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨの側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓとによって、入口領域（ＲＢ−Ｅ）における伸張カウンターピンＲＢ−ＧＺＨによって作用する追加の挿入阻止、およびコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）における追加の回転阻止が実行可能であること、
を特徴とする、セキュリティキー。
【請求項１０】
第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディングくぼみは、沈下した中央突出部ＲＢ−Ｍ（２）上に形成されることを特徴とする、請求項９に記載のキー。
【請求項１１】
側溝ＲＢ−ＳＮおよび中央溝ＲＢ−ＭＮの全幅ｂｇ（２）は両側で、コーディング行（Ａ）のコーディングくぼみ（Ｃｏｄ−Ｖ）の幅（ｂｃｖ）よりも、ある量（ｂｂ）だけ大きく、すなわちｂｇ（２）＝ｂｃｖ＋２ｂｂであることを特徴とする、請求項９または１０に記載のキー。
【請求項１２】
傾斜角度Ｗａ＞０を有する傾斜ピン平面（Ａ）では、内側で、追加の側部溝ＲＢ−ｎｎが側溝ＲＢ−ＳＮに隣接しており、前記側部溝は、ピン平面（Ａ）に直交する支持面を形成することを特徴とする、請求項９〜１１のうちの１項に記載のキー。
【請求項１３】
コーディング領域におけるＲＢコーディングステップＣｉ＊は、割当てられたタンブラーピンＲＢ−ＺＨの対応して異なる長さを有するものとして、コーディング行（Ａ）の標準コーディングステップ（Ｃｉ）よりも高く、またはより深く位置していることを特徴とする、請求項９〜１２のうちの１項に記載のキー。
【請求項１４】
高レベル（Ｎ１）と低レベル（Ｎ２）との間の距離（ｄＮ）は、少なくとも１つのコーディングステップ（ｄＣ）であることを特徴とする、請求項９〜１３のうちの１項に記載のキー。
【請求項１５】
施錠システムであって、
セキュリティキー（Ｓ）を有し、セキュリティキーは、キーの平坦側に少なくとも２つのコーディング行／ピン行（Ａｉ）を有しており、施錠システムはさらに、
タンブラーピン（ＺＨ）とカウンターピン（ＧＺＨ）とを有する割当てられたシリンダー（Ｚ）と、
伸張カウンターピンによって作用する挿入阻止とを有し、
−  キー（Ｓ）は、キー軸（ｘ）と平行に、かつピン行（Ａ）の中央平面に対して対称的に形成された、２つの平行な側溝ＲＢ−ＳＮ、中央溝ＲＢ−ＭＮおよび中央突出部と、中央溝ＲＢ−ＭＮの領域において第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）にあるコーディングくぼみとを有すること、
−  側溝ＲＢ−ＳＮ、中央溝ＲＢ−ＭＮおよび中央突出部ＲＢ−Ｍは、キー先端から第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）まで延びていること、
−  前記側溝ＲＢ−ＳＮは、キー先端の入口領域（ＲＢ−Ｅ）では高レベル（Ｎ１）で走り、第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）のコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）では沈下して低レベル（Ｎ２）で走っていること、
−  シリンダーの最も後ろのコーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）にある円筒形の特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨを有する割当てられたシリンダー（Ｚ）では、前記特殊タンブラーピンは、キー軸（ｘ）に対して長手方向および横方向に延びる追加の側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓを含むこと、
−  特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨのこれらの側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓは、それらがキーの側溝ＲＢ−ＳＮに対応するように形作られていること、
−  入口領域（ＲＢ−Ｅ）では、側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓまでの特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨおよび伸張カウンターピンＲＢ−ＧＺＨの長さ（ｌｓ）は、シリンダーハウジング（１０）から側溝ＲＢ−ＳＮまでの距離（ｄｓ）に対応すること、
−  第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）では、側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓまでの特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨの長さ（ｌｚ）は、シアライン（９）から側溝ＲＢ−ＳＮまでの距離（ｄｚ）に対応しており、公差領域（ｔｏ）を有すること、
−  そのため、キーの側溝ＲＢ−ＳＮと割当てられた特殊タンブラーピンＲＢ−ＺＨの側肩部ＲＢ−ＺＨ−Ｓとを用いて、入口領域（ＲＢ−Ｅ）における伸張カウンターピンＲＢ−ＧＺＨによって作用する追加の挿入阻止、およびコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）における追加の回転阻止が実行可能であること、
を特徴とする、施錠システム。
【請求項１６】
請求項１〜８のうちの１項に記載のブランク（Ｒ）から、請求項９〜１４のうちの１項に記載のキー（Ｓ）を、コーディングによって製造するための方法であって、
ブランク（Ｒ）上で、中央突出部ＲＢ−Ｍでの材料除去により、中央溝ＲＢ−ＭＮが入口領域（ＲＢ−Ｅ）に製造され、コーディングくぼみ（Ｃｏｄ−Ｖ）がコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）の第１コーディング位置（Ｐ１、Ｐ２）に製造されることを特徴とする、方法。
【請求項１７】
ブランク上で、第１に、沈下した中央突出部ＲＢ−Ｍ（２）が、第１のミリングカッターによってコーディング領域（ＲＢ−Ｐ）に製造され、次に、側溝ＲＢ−ＳＮが、第２のミリングカッターによって、入口領域（ＲＢ−Ｅ）では高レベル（Ｎ１）で、コーディング領域（ＲＢ−Ｐ）では低レベル（Ｎ２）で製造されることを特徴とする、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
ブランク上で、傾斜角度Ｗａ＞０を有する傾斜ピン平面（Ａ）では、第１に、沈下した中央突出部ＲＢ−Ｍ（２）が、および追加の側部溝ＲＢ−ｎｎが、第１のミリングカッターによって生成されることを特徴とする、請求項１７に記載の方法。