Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年4月5日(2016.4.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１２】
図１は、好適には台２６の上に配置される容器２０に対する光センサ１２の画角も示す。光センサ１２によって取得される結果的に得られる画像は、ディスプレイ２８に送信され、プロセッサ３２によって記憶データベース３０に格納され、又はその両方が行われる。システム１０は、画像の位置及び／又は光学特性の決定を支援するために設けることができる背景部３４を有することもできる。好適な実施の形態において、背景部３４は、光学画像を生成するよう光センサ１２からの光を反射してレンズに戻すのを支援するために黒、白又はその組み合わせである。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
一部の実施の形態において、システム１０は、第２の撮像システムすなわち光センサ３６を有することができる。第２の光センサ３６は、好適には、カメラ３５及び接続されたレンズ４０を有する。第２の光センサ３６を、第１の光センサ１２とは異なる方向から関心のある品目の画像を取得するのに用いることもできる。図示するように、第２の光センサの画角４２は、第１の光センサ１２の画角２４と非平行である。一実施の形態において、画角２４及び画角４２は互いに垂直であるが、他の角度関係も考えられる。第１の光センサ１２と同様に、結果的に得られる画像をディスプレイ４４に表示し又はデータベース３０に格納することができる。画像の取得を支援するために、システム１０は、第２の背景４６を有することができる。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１５】
作動中、第１の光センサ１２は、任意の品目又は関心のある品目すなわち画角２４内にある容器内の物体の光学画像を生成する。一実施の形態において、光学画像は、使用されるカメラ１４のタイプに応じて２次元又は３次元データを有することができる。同様に、第２の光センサ３６が設置される場合、カメラ３５は、容器２０内の関心のある一つ以上の品目の２次元又は３次元画像を生成することもできる。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
ここで図２に示すフローチャートを参照すると、画像を取得する方法を示す。一実施の形態において、この方法を、医薬が汚されたか否かを決定するために医薬の小瓶内の微粒子の正しい位置の決定を支援するのに用いることができ、又は、公表することができる。他の実施の形態において、画像を、関心のある品目が容器の壁部に配置され又は容器内の液体に浮いている場合に容器内の関心のある品目の正しい位置の理解の向上を得るために用いることができる。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
液体の中の又は液体を含む容器の中の関心のある物体の光学的な検知を行う方法であって、
前記容器、前記液体、媒体又は背景の二つ以上に関連した非光学データを決定することと、
前記非光学データを記憶要素に格納することと、
関心のある３次元物体に関連した光学画像データを前記容器及び液体を通じて決定することと、
前記容器、前記液体、媒体又は背景に関連した非光学データを前記記憶要素から読み出すことと、
前記光学画像データ及び前記非光学データを分析することと、
分析した前記光学画像データ及び前記非光学データに基づいて、前記容器及び前記液体に対する関心のある物体の位置を決定することと、
を備える方法。
【請求項２】
分析した前記光学画像データ及び前記非光学データに基づく前記関心のある物体の画像を表示することを更に備える請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記光学画像データ及び前記非光学データを分析することは、画像データを生成するために前記光学画像データと前記非光学データとを組み合わせることを備える請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記光学画像データ及び前記非光学データを分析することは、前記光学画像データを分析するために画像分析技術を使用し、前記画像分析技術を、エッジ検出、未加工画像データの減少、画像校正及び特徴点抽出からなる群から選択する請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記非光学データを、温度、レンズの配列、前記レンズと前記容器の表面との間の距離、前記容器の壁部の厚さ、前記容器の配置、前記容器の壁部の曲率、前記容器の大きさ、前記容器の容量、前記容器の透明度、反射板のタイプ、前記反射板のパターン、前記液体のタイプ、前記液体の透明度、前記容器の中の媒体のタイプ、関心のある物体の大きさの範囲、関心のある物体の形状の範囲、前記容器の中の液体のレベル、前記媒体の反射率及び前記媒体の屈折率からなる群から選択する請求項１に記載の方法。
【請求項６】
液体の中の又は液体を含む容器の中の物体の画像を生成するシステムであって、
前記物体に関連した光学画像データを前記容器及び液体を通じて取得し、予め決定された視野角で前記物体に向けられた少なくとも一つの光センサと、
前記容器、前記液体、媒体又は背景の二つ以上に関連した非光学データを供給する少なくとも一つのソースと、
前記物体に関連した前記光学画像データ及び前記非光学データを受信し、前記画像を形成するとともに前記容器及び前記液体に対する関心のある物体の位置を決定するために前記光学画像データ及び前記非光学データを処理するプロセッサと、
を備えるシステム。
【請求項７】
前記少なくとも一つの光センサは、第１の光センサと、第２の光センサと、を備え、前記第２の光センサは、前記物体に関連した第２の光学画像データを取得し、前記第２の光センサは、前記予め決定された視野角とは異なる第２の視野角で向けられる請求項６に記載のシステム。
【請求項８】
前記第２の視野角は前記予め決定された視野角に対して垂直である請求項７に記載のシステム。
【請求項９】
反射板を更に備え、前記物体を前記光センサと前記反射板との間に配置した請求項６に記載のシステム。
【請求項１０】
前記非光学データを、温度、レンズの配列、前記レンズと前記容器の表面との間の距離、前記容器の壁部の厚さ、前記容器の配置、前記容器の壁部の曲率、前記容器の大きさ、前記容器の容量、前記容器の透明度、反射板のタイプ、前記反射板のパターン、前記液体のタイプ、前記液体の透明度、前記容器の中の媒体のタイプ、関心のある物体の大きさの範囲、関心のある物体の形状の範囲、前記容器の中の液体のレベル、前記媒体の反射率及び前記媒体の屈折率からなる群から選択する請求項６に記載のシステム。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図１】
2014514543.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年11月18日(2015.11.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
本発明の別の実施形態によれば、円錐ねじが、ねじ側面を平らにされた台形断面を持つねじとして形成されている。このような台形ねじは比較的大きいピッチを持ち、従って組立ての際三角ねじ山円錐ねじと比較して一層少ない回転しか必要でない。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１３】
自縛を行う別の実施形態によれば、ねじ連結体に形成される雄ねじと袋ナットに形成される雌ねじが、それぞれ互いに異なるピッチを持っている。少し異なるピッチを持つ円錐ねじを設計すると、ナットに対するねじ連結体の所望の自縛の程度及び力−トルク推移が変化可能である。本発明の実施形態に従って、ねじ連結体に形成される雄ねじのピッチが、袋ナットに形成される雌ねじのピッチより大きく形成されていると、それぞれ最初及び最後のねじ山を介してのみ、ねじり阻止を行う楔作用が生じる。その場合ピッチにおける偏差の大きさは、接触面の大きさ及びそれにより生じる自縛の作用を表す。更に使用の場合生じる管内圧により円錐ねじのねじ側面に作用する引張り荷重は、円錐ねじにおいて一層大きい後部ねじ直径の方へ移される。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１９】
【図１】接続体、その中へ差込まれる末端片、及び三角ねじ山円錐ねじとして形成される円錐ねじにより接続体に固定される袋ナットを持つ接続装置を、最終組立て状態において、部分的に切欠いた側面図で示す。
【図２】図１による接続装置を別の実施形態で示す。
【図３】ねじ連結体と袋ナットの接続のために利用されるいわゆる台形ねじとしての円錐ねじを、切断された側面図で示す。
【図４】ねじ連結体に設けられる雄ねじ及び袋ナットにある雌ねじの三角ねじ山円錐ねじとして形成されるねじ輪郭を、図１及び２による最終組立て位置におけるかみ合いで、拡大側面図で示す。
【図５】図３による台形ねじを図３による表示で示す。
【図６】ねじ連結体及び袋ナットの互いに当接する歯面による自縛のために設けられる台形ねじを、最終組立て位置へ達する前に示す。
【図７】図６による台形ねじをねじ連結体及び袋ナットの組立て位置で示す。
【図８】ねじ連結体及び袋ナットの異なるピッチによる自縛のために設けられる台形ねじを組立て位置へ達する前に示す。
【図９】図８による台形ねじを組立て位置で示す。
【図１０】ねじ連結体及び袋ナットの歯面の異なる開き角による自縛のために設けられる台形ねじを接続装置の組立て位置で示す。
【図１１】ねじ連結体及び袋ナットに形成される台形ねじの異なる長さによる自縛のために設けられる円錐ねじを組立て位置に達する前に示す。
【図１２】図１１による台形ねじを接続装置の組立て位置で示す。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
ねじ連結体１０の受入れ円錐１１へ押込まれる末端片１３は管１４の一体の構成部分であり、末端片１３又は管１４における適当な変形により、隆起１５が形成されている。隆起１５は、一方ではそのねじ連結体１０から遠い方の端部に、管１４上へ押しはめられる袋ナット１７用の支持面１６を形成し、同時に末端片１３の前部周面は円錐面１９として形成されて、ねじ連結体１０にある受入れ円錐１１の円錐形状と一致する円錐形状を持っている。管１４上へ押しはめられて隆起１５の支持面１６に支持される袋ナット１７は、その内部に円錐状に広がる内面１８を持ち、この内面に雌ねじ３１が形成されている。ねじ連結体１０の雄ねじ３０と袋ナット１７の雌ねじ３１は、周面１２及び内面１８の一致する円錐形状のため、一緒になって適当なピッチを持つ円錐ねじを形成している。図１に示す実施例では、円錐ねじは三角ねじ山円錐ねじとして形成されている。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２８】
図６及び７に示す実施例では、ねじ連結体１０及び袋ナット１７にそれぞれ形成される台形ねじの自縛は、共同作用するねじ山のそれぞれの歯面２５及び２６が組立て位置で互いに当接し、それぞれのねじ谷底２７に再び間隙２８が残るように、これらの歯面２５及び２６の形状が設計されていることによって、実現される。図６と７との比較からわかるように、図７に示す組立て状態では、それぞれ互いに当接する歯面２５ａと２６ａ及び２５ｂと２６ｂが、ねじ谷底２７に間隙２８を残して互いに当接している。組立ての際雄ねじ３０及び雌ねじ３１のねじ輪郭が、それぞれ楔のように互いにはまり合っている場合、それに伴う歯面２５及び２６の相互乗り上げのためトルクが増大して、所望の自縛を行う。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２９】
図８及び９に示す実施例では、ねじ連結体１０及び袋ナット１７にそれぞれ形成される台形ねじの自縛は、ねじ連結体１０に形成される雄ねじ３０と袋ナット１７に形成される雌ねじ３１が互いに異なるそれぞれ１つのピッチを持っていることによって実現される。このため図９からわかるように、ねじ連結体１０に形成される少し大きいピッチにおいて、それぞれ最初及び最後のねじ山を介してのみ、回転を阻止する楔作用が生じる。その間にある雄ねじ３０及び雌ねじ３１の歯面は接触しないままである。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項６】
ねじ連結体（１０）に形成される雄ねじ（３０）と袋ナット（１７）に形成される雌ねじ（３１）が、それぞれ互いに異なるピッチを持っていることを特徴とする、請求項１〜４の１つに記載の接続装置。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】請求項７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【請求項７】
ねじ連結体（１０）に形成される雄ねじ（３０）のピッチが、袋ナット（１７）に形成される雌ねじ（３１）のピッチより大きく形成されていることを特徴とする、請求項６に記載の接続装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月23日(2015.10.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
いくつかの実施例では、一貫性は、スコアとして表されうる。ここで、一貫性を判定することはさらに、発声における音のＮ個の成分に関するデルタ値の平方を加えることと、Ｎによって除することとを備える。ここで、Ｎは整数である。上記（１）および（２）を用いた１つの例は、以下の通りである。  
（７）  Ｓ＝（１／Ｎ）＊［Ｔ＿ｄｅｌｔａ］２＋（１／Ｎ）＊［Ｏ＿ｄｅｌｔａ］２、ここでＮ＝２である。  
式（１）、（２）、および、（７）を適用して、Ｓ＝１５６．２５の一貫性スコアが取得される。１つの実施形態において、一貫性スコアは、しきい値と比較されてもよく、スコアがしきい値を超えたのであれば、認識結果は却下される。このケースにおいて、“Ｔ”と“Ｏ”の実際の値は、ともに高速であった（Ｔａｖｅ＝１５０ミリ秒であるＴａ＝１００ミリ秒は、速く話される“Ｔ”音であり、Ｏａｖｅ＝２５０ミリ秒であるＯａ＝２００ミリ秒は、速く話される“Ｏ”音である）。このケースにおいて、“Ｔ”と“Ｏ”の両方は速く、一貫性がある。したがって、一貫性スコアは、いくつかの予め設定されたしきい値を下回り、認識結果は有効となる。  
一貫性スコアがどのように変化するのかを示すために、速い“Ｔ”と遅い“Ｏ”に関する別の例が示される。この例では、話された発声の実際の持続時間のために、以下の値が使用される。  
Ｔａ＝１００ミリ秒、およびＯａ＝３００ミリ秒  
この場合、発声割合は、  
ＳＲ＝（１００ミリ秒＋３００ミリ秒）／（１５０ミリ秒＋２５０ミリ秒）＝４／４＝１である。  
修正された期待値は、  
Ｔ’ａｖｅ＝（１５０ミリ秒）（１）＝１５０、および  
Ｏ’ａｖｅ＝（２５０ミリ秒）（１）＝２５０  である。  
デルタ値は、  
Ｔ＿ｄｅｌｔａ＝Ｔ’ａｖｅ−Ｔａ＝１５０−１００＝５０、および  
Ｏ＿ｄｅｌｔａ＝Ｏ’ａｖｅ−Ｏａ＝２５０−３００＝５０  である。  
一貫性スコアは、  
Ｓ＝（１／Ｎ）＊［Ｔ＿ｄｅｌｔａ］２＋（１／Ｎ）＊［Ｏ＿ｄｅｌｔａ］２＝（５０２＋５０２）／２＝２５００である。  
しきい値が１５６．２５＜Ｔｈ＜２５００の間で設定されている場合、ここで、Ｔｈはしきい値であり、システムは、Ｔａ＝１００ミリ秒、およびＯａ＝３００ミリ秒である話された発声に対する認識結果を却下するだろう。 
別のケースを例示するために、遅い“Ｔ”および遅い“Ｏ”に関する別の例が示される。この例では、話された発声の実際の持続時間のために、以下の値が使用される。  
Ｔａ＝２００ミリ秒、およびＯａ＝３００ミリ秒、ここで、ＴａとＯａとの両方が、例えば、学習コーパスからの統計平均よりも持続時間が長い。この場合、発声割合は、  
ＳＲ＝（２００ミリ秒＋３００ミリ秒）／（１５０ミリ秒＋２５０ミリ秒）＝５／４である。  
修正された期待値は、
Ｔ’ａｖｅ＝（１５０ミリ秒）（５／４）＝１８７．５、および  
Ｏ’ａｖｅ＝（２５０ミリ秒）（５／４）＝３１２．５である。  
デルタ値は、  
Ｔ＿ｄｅｌｔａ＝Ｔ’ａｖｅ−Ｔａ＝１８７．５−２００＝１２．５、および  
Ｏ＿ｄｅｌｔａ＝Ｏ’ａｖｅ−Ｏａ＝３１２．５−３００＝１２．５である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
別のケースを例示するために、遅い“Ｔ”および速い“Ｏ”に関する別の例が示される。この例では、話された発声の実際の持続時間のために、以下の値が使用される。Ｔａ＝２００ミリ秒およびＯａ＝２００ミリ秒であり、ここで、Ｔａは、統計平均よりも持続時間が長く、Ｏａは、統計平均よりも持続時間が短い。この場合、発声割合は、  
ＳＲ＝（２００ミリ秒＋２００ミリ秒）／（１５０ミリ秒＋２５０ミリ秒）＝４／４＝１である。  
修正された期待値は、  
Ｔ’ａｖｅ＝（１５０ミリ秒）（１）＝１５０、および  
Ｏ’ａｖｅ＝（２５０ミリ秒）（１）＝２５０である。  
デルタ値は、  
Ｔ＿ｄｅｌｔａ＝Ｔ’ａｖｅ−Ｔａ＝１５０−２００＝５０、および  
Ｏ＿ｄｅｌｔａ＝Ｏ’ａｖｅ−Ｏａ＝２５０−２００＝５０である。  
一貫性スコアは、  
Ｓ＝（１／Ｎ）＊［Ｔ＿ｄｅｌｔａ］２＋（１／Ｎ）＊［Ｏ＿ｄｅｌｔａ］２＝（５０２＋５０２）／２＝２５００である。  
これは、速い−遅いケースと同じ結果である。したがって、一貫性のない入力の認識結果は、しきい値Ｔｈを上回る一貫性スコアを生成し、結果は却下されるだろう。
より一般的には、音のＮ個の成分の持続時間が、Ｎで除されることによって、上記（７）に示されるような一貫性スコアＳを生成するために使用されうる。以下の式は、前述した実施の例にしたがうさまざまな実施形態にしたがって、一貫性スコアを判定するための一般的な技術を示す。第１の式は、（７）の一般的なケースである。  
【数１】
2014524599.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年6月7日(2016.6.7)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
周囲雰囲気の相対湿度３０〜５０％で測定される水蒸気拡散抵抗（Ｓｄ−値）が１〜５メートルの拡散等価空気層厚さで、相対湿度６０〜８０％で測定されるＳｄ−値が＜１メートルの拡散等価空気層厚さである第１の層を含む、建築物内部に配置される水蒸気制御材において、相対湿度８０〜１００％で測定されるＳｄ−値が＞０．２メートルの拡散等価空気層厚さである第２の層を含み、かつ前記第２の層が、前記第１の層の位置に対して、前記水蒸気制御材の前記建築物内部に面する側に位置する水蒸気制御材。
【請求項２】
前記第２の層は、相対湿度８０〜１００％で測定されるＳｄ−値が＞０．４メートルの拡散等価空気層厚さである請求項１に記載の水蒸気制御材。
【請求項３】
前記第２の層は、相対湿度８０〜１００％で測定されるＳｄ−値が＞０．８メートルの拡散等価空気層厚さである請求項１に記載の水蒸気制御材。
【請求項４】
前記第２の層は、相対湿度８０〜１００％で測定されるＳｄ−値が＜３メートルの拡散等価空気層厚さである請求項１〜３のいずれか一項に記載の水蒸気制御材。
【請求項５】
前記第１の層は、ポリアミドを含む請求項１〜４のいずれか一項に記載の水蒸気制御材。
【請求項６】
前記第２の層は、ポリエステルまたはコポリエステルを含む請求項１〜５のいずれか一項に記載の水蒸気制御材。
【請求項７】
前記第２の層の前記コポリエステルは、コポリエーテルエステルである請求項６に記載の水蒸気制御材。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１１】
相対湿度８０〜１００％での測定で、第２の層のＳｄ−値は、好ましくは＞０．４、より好ましくは＞０．６、より好ましくは＞０．８、より好ましくは＞１．０メートルの拡散等価空気層厚さである。相対湿度６０〜１００％での測定で、第２の層のＳｄ−値は、＞１．２メートルの拡散等価空気層厚さであることがより一層好ましい。相対湿度８０〜１００％での測定で、第２の層のＳｄ−値が、＜３、好ましくは＜２メートルの拡散等価空気層厚さであれば、良好な結果が得られる。これは、高湿条件下では断熱層から建築物内へ依然十分な移動が生じ得るが、建築物中の高相対湿度であり得る場所では、逆方向への大量の水の移動による問題が生じないからである。層のＳｄ値は、ＤＩＮ  ＥＮ  ＩＳＯ１２７７２：２００１に従って、蒸気バリア材の層と同じ厚さおよび同じ組成の単一層フィルムに対して２３℃で測定される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年11月17日(2015.11.17)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２１
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２１】
【化４】
2014524942.tif 000001
アリーレン−ヒドロキシ（Ａｒ−（ＯＨ）ｍ；ｍ＝１、２または３）部分は、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも一つに存在し、他方でＲ４には存在しないことができる。アリーレン−ヒドロキシ部分は、Ｒ４に存在し、他方でＲ１、Ｒ２、Ｒ３には存在しないことができる。アリーレン−ヒドロキシ部分は、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも一つに、並びにＲ４にも存在することができる。それ故、アリーレン−ヒドロキシ基は、アニオンにだけ、またはカチオンにだけ、またはアニオンとカチオンの両方に存在してよい。アリーレン−ヒドロキシ部分は、芳香族構造のアリーレン（Ａｒ）、例えばフェニル、ナフチル、アントラシルなどに結合した少なくとも一つのヒドロキシル基であり、そしてその芳香族構造は、Ｃ１〜Ｃ８アルキル基によって更に置換されていてもよい。最大三つまでのヒドロキシル基がアリーレン基に結合してよい。一般的に、該添加剤は、ポリマー及び架橋剤が架橋するのを助ける。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００６２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００６２】
フルオロアルコール側基を有するフッ素化ポリマーをベースとし、そして１５７ｎｍに感度がある二つの基本的な部類のフォトレジストが、この波長で実質的に透明であることが知られている。一つの部類の１５７ｎｍフルオロアルコールフォトレジストは、フッ素化ノルボルネン類などの基を含むポリマーから誘導され、そして金属触媒重合またはラジカル重合のいずれかを用いて単独重合されるかまたは他の透明モノマー、例えばテトラフルオロエチレンと共重合される（ＵＳ６，７９０，５８７（特許文献２４）及びＵＳ６，８４９，３７７（特許文献２５））。一般的に、これらの材料は、比較的高い吸光性を与えるが、それらの高い脂肪環式類含有率の故に良好なプラズマエッチング耐性を有する。より最近になって、別の部類の１５７ｎｍフルオロアルコールポリマーが開示され、そのポリマー主鎖は、１，１，２，３，３−ペンタフルオロ−４−トリフルオロメチル−４−ヒドロキシ−１，６−ヘプタジエンなどの非対称性ジエンのシクロ重合から（Ｓｈｕｎ−ｉｃｈｉ  Ｋｏｄａｍａ  ｅｔ  ａｌ  Ａｄｖａｎｃｅｓ  ｉｎ  Ｒｅｓｉｓｔ  Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ａｎｄ  Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ  ＸＩＸ，Ｐｒｏｃｅｅｄｉｎｇｓ  ｏｆ  ＳＰＩＥ  Ｖｏｌ．４６９０  ｐ７６  ２００２（非特許文献４）；  ＵＳ６，８１８，２５８（特許文献２６））、またはフルオロジエン類とオレフィンとの共重合から（ＵＳ６，９１６，５９０（特許文献２７））から誘導される。これらの材料は、１５７ｎｍで許容可能な吸光度を与えるが、前記のフルオロ−ノルボルネンポリマーと比べて脂肪環式類含有率が比較的少ないために、プラズマエッチング耐性に劣る。これらの二つの部類のポリマーは、最初のタイプのポリマーの高いエッチング耐性と後のタイプのポリマーの１５７ｎｍでの高い透明性との間のバランスを図るために、しばしばブレンドすることができる。１３．５ｎｍの極端紫外線（ＥＵＶ）を吸収するフォトレジストも有用であり、当技術分野において既知である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００７９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００７９】
このＢ．Ａ．Ｒ．Ｃ．溶液をケイ素ウェハ上にコーティングし、そしてホットプレートで６０秒間、１９０℃で加熱して、４００Åのフィルム厚を得た。１９３ｎｍにおいて、吸光（ｋ）値は０．３８７であり、屈折率（ｎ）値は１．７２８であった。このＢ．Ａ．Ｒ．Ｃ．溶液を溶剤で予め湿らし（プリウェット）し、１９３ｎｍフォトレジストでコーティングし、そしてホットプレートで６０秒間、１３０℃で加熱して１４０ｎｍのフィルム厚を得た。このコーティングされたウェハを、像様露光のためにＮｉｋｏｎ  ３０６Ｄ  １９３ｎｍスキャナを用いて露光した。次いで、この露光されたウェハを１０５℃で６０秒間ポスト露光ベークし、その後、ＡＺ（登録商標）３００  ＭＩＦ現像剤を用いて２３℃で３０秒間パドル現像した。走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）で観察して、２３．０ｍＪ／ｃｍ２の線量で１２５ｎｍフォトレジスト／Ｂ．Ａ．Ｒ．Ｃ．ライン（１：１）が得られ、レジストにクリーンなパターン、及びＢ．Ａ．Ｒ．Ｃ．パターンが完全に開口した状態でクリーンなトレンチスペースが得られた。２７ｍＪ／ｃｍ２に至るまでまたは２７ｍＪ／ｃｍ２でもパターン崩壊は観察されなかった。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年7月25日(2016.7.25)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
合成糸を溶融紡糸し、引出し、延伸し、緩和し、巻取る装置であって、
紡糸装置（１）と、
駆動される少なくとも１つの引出しゴデット（１６）と、駆動される複数の延伸ゴデット（１７，１８）と、駆動される少なくとも３つの緩和ゴデット（２０，２１，３９）とから成るゴデットシステム（１５）と、
巻取り装置（２８）とを備え、
前記ゴデット（１６…２１）は１つの糸の流れに沿って相前後して配置されており、糸を最大２７０°の糸巻き掛け角度でそのガイド周壁（１６．１…２１．１）においてガイドしており、前記ゴデット（１６…２１）の前記ガイド周壁（１６．１…２１．１）は加熱されるように又は加熱されないように形成されている装置において、
前記緩和ゴデット（２１）の１つが、前置された緩和ゴデット（２０，３９）の加熱されるガイド周壁よりも大きな直径を有する加熱される大周壁（２１．１）を有しており、前記前置された緩和ゴデット（２０，３９）は同一に形成されており、前記加熱される大周壁（２１．１）を有する前記緩和ゴデット（２１）は緩和ゾーンの終端部に配置されていることを特徴とする、合成糸を溶融紡糸し、引出し、延伸し、緩和し、巻取る装置。
【請求項２】
前記緩和ゴデット（２１）の前記大周壁（２１．１）は、前記前置された緩和ゴデット（２０，３９）の前記ガイド周壁よりも１．０１〜１．１０の範囲の倍数だけ大きい、請求項１記載の装置。
【請求項３】
糸の流れ方向で前記緩和ゴデット（２１）の前記大周壁（２１．１）の直前に、蒸気室（４１）が配置されている、請求項１又は２記載の装置。
【請求項４】
糸の流れ方向で前記緩和ゴデット（２１）の前記大周壁（２１．１）の直前に、糸貯え部（４２）が配置されている、請求項１又は２記載の装置。
【請求項５】
前記延伸ゴデット（１７〜１９）と前記緩和ゴデット（２０，２１，３９）とは、そのガイド周壁を加熱するためにそれぞれ別個の加熱手段（１７．３…２１．３）を有しており、これらの加熱手段は個々に又は連結されて、複数の加熱制御装置（２２．１…２２．４）の１つに配設されている、請求項１から４までのいずれか１項記載の装置。
【請求項６】
前記引出しゴデット（１６）、前記延伸ゴデット（１７〜１９）及び／又は前記緩和ゴデット（２０，２１，３９）はそれぞれ電気的な反時計回りモータ（１６．２，１８．２，２０．２）又は電気的な時計回りモータ（１７．２，１９．２，２１．２）によって駆動可能であり、１つの又は同時に２つの電気モータに接続されている複数のモータ制御装置（２３．１…２３．４）が設けられている、請求項１から５までのいずれか１項記載の装置。
【請求項７】
前記ゴデットのうちの１つのゴデット（１６）の反時計回りモータ（１６．２）のうちの１つと、糸走行方向で該ゴデット（１６）に隣接しているゴデットのうちの１つのゴデット（１７）の時計回りモータ（１７．２）のうちの１つとは異なる極対数を有している、請求項６記載の装置。
【請求項８】
前記引出しゴデット（１６）のガイド周壁（１６．１）は加熱されず、糸走行方向で後続の前記延伸ゴデット（１７）のガイド周壁（１７．１）よりも小さい直径で形成されている、請求項１から７までのいずれか１項記載の装置。
【請求項９】
前記緩和ゴデット（２０，２１，３９）の下流には、加熱されないガイド周壁（２４．１，２５．１）を有した駆動される複数のガイドゴデット（２４，２５）が配置されており、該ガイドゴデットによって、準備処理装置（２６）及び／又は交絡装置（２７）を有した少なくとも１つの後処理ゾーンが形成されている、請求項１から８までのいずれか１項記載の装置。
【請求項１０】
前記ガイドゴデット（２５）の１つは巻取り装置（２８）に配属されており、前記ガイドゴデット（２５）のガイド周壁（２５．１）は、前記巻取り装置（２８）の巻管スピンドル（３０．１）に対して横方向に向けられている、請求項９記載の装置。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年9月15日(2016.9.15)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１４】
また好ましくは、Ｒ４基は、
末端部に少なくとも１つのエポキシ官能基を有する基、特にそのアルキレン基が１〜８個の炭素原子を含むグリシドキシアルキル基、有利にはグリシドキシプロピル；
アリール基、特にフェニル基；
ハロゲン原子又は少なくとも１つのハロゲン原子を有する１〜９個の炭素原子を含む脂肪族鎖、特にフッ素原子又は少なくとも１つのフッ素原子を有する１〜９個の炭素原子を含む脂肪族鎖；
である。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
以下を含むコーティング層を有するガラスストランド：
酢酸ビニル／塩化ビニルコポリマー、ポリ塩化ビニル、及びポリ塩化ビニリデンからなる群より選択されるポリマー、及び
次の式（１）のシラン
【化２】
2014515062.tif 000001
（式中、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３は、同一であるか又は異なっており、次を表し：
Ｃ１〜Ｃ６アルキル基、Ｃ２〜Ｃ６アルケニル基、Ｃ２〜Ｃ６アルキニル基、Ｃ６〜Ｃ１０アリール基、ヒドロキシル基、Ｃ１〜Ｃ６アルコキシ基、Ｃ６〜Ｃ１０アリールオキシ基、Ｃ１〜Ｃ６アシルオキシ基、Ｃ２〜Ｃ７アルキルカルボニル基、
ここで、Ｒ１、Ｒ２、及びＲ３基の少なくとも２つは、ヒドロキシル基又はアルコキシ基を表しており、かつ
Ｒ４は、次を表す：
少なくとも１つのエポキシ官能基を有する基、置換されていてもよいアリール基、ハロゲン原子又は少なくとも１つのハロゲン原子を有する基、少なくとも１つのアルデヒド官能基を有する基、硫黄原子又はリン原子を含む少なくとも１つの官能基を有する基、アクリロイルオキシ基又はメタクリロイオキシ基、
ここで、前記エポキシ官能基、ハロゲン原子、アルデヒド官能基、硫黄原子又はリン原子を有する基は、少なくとも１つの酸素又は硫黄のヘテロ原子を含むことができるＣ１〜Ｃ１８の炭素含有基である）
ここで、前記ポリマー系コーティング層は、前記コーティングしたストランドの合計重量の５０〜８０％に相当し、かつ前記シランは、前記コーティングの合計重量の１〜１５％に相当する。
【請求項２】
前記Ｒ１基、Ｒ２基、及びＲ３基が、メチル基、エチル基、メトキシ基及びエトキシ基から選択される、請求項１に記載のストランド。
【請求項３】
前記Ｒ４基が、
末端部に少なくとも１つのエポキシ官能基を有する基；
アリール基；
ハロゲン原子又は少なくとも１つのハロゲン原子を有する１〜９個の炭素原子を含む脂肪族鎖；
である、請求項１又は２に記載のストランド。
【請求項４】
前記シランが、３−グリシドキシプロピルメチルジ−メトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、又はトリエトキシフロロシランである、請求項１〜３のいずれか一項に記載のストランド。
【請求項５】
前記ポリマーが、熱可塑性ポリマーである、請求項１〜４のいずれか一項に記載のストランド。
【請求項６】
前記コーティング層が、有機酸エステル、ホスファート、及び石油留分由来のオイルから選択される可塑剤をさらに含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載のストランド。
【請求項７】
光触媒層、帯電防止層、親水性層、並びに疎水性かつ／又は疎油性層から選択された、前記ポリマー層に積層されている追加の層をさらに含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載のストランド。
【請求項８】
前記光触媒層が、アナターゼ型のＴｉＯ２粒子を含む、請求項７に記載のストランド。
【請求項９】
前記帯電防止層が、ＩＴＯ層、Ｓｂ、Ｎｂ、Ｔａ及びＷからなる群より選択される金属でドーピングしたＳｎＯ２層、Ｓｎ、Ａｌ、Ｉｎ、Ｙ、Ｚｒ若しくはＢでドーピングした若しくはドーピングしていないＺｎＯ層、又はＩＴＯナノ粒子を含むＵＶ架橋性若しくは熱架橋性ポリマーマトリクスに基づく層である、請求項７に記載のストランド。
【請求項１０】
前記親水性層が、シリカに基づく、請求項７に記載のストランド。
【請求項１１】
前記疎水性かつ／又は疎油性層が、フッ素化した化合物、アルキルシラン、アリールシラン又はヘキサアルキルジシラザンでグラフトとしたシリカのマトリクス（層又はビーズの形態であるマトリクス）で構成されている、請求項７に記載のストランド。
【請求項１２】
前記ガラスストランドに堆積しているポリマー系コーティングの量が、前記コーティングしたストランドの合計重量の５０〜７０％に相当する、請求項１〜１１のいずれか一項に記載のストランド。
【請求項１３】
ガラスストランドに堆積しているシランの量が、前記コーティングの合計重量の１〜１０％に相当する、請求項１〜１２のいずれか一項に記載のストランド。
【請求項１４】
請求項１〜１３のいずれか一項に記載のガラスストランドで構成されている、格子網、織布、又は編物の形態である網。
【請求項１５】
５０〜３００ｇ／ｍ２の範囲の単位面積重量を有する、請求項１４に記載の網。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の網の蚊帳、ブラインド又は日除けとしての使用。
【請求項１７】
Ｒ４が表わす前記ハロゲン原子又はＲ４が表わす基が有する前記少なくとも１つのハロゲン原子が、フッ素原子である、請求項１に記載のストランド。
【請求項１８】
前記エポキシ官能基、ハロゲン原子、アルデヒド官能基、硫黄原子又はリン原子を有する基は、少なくとも１つの酸素又は硫黄のヘテロ原子を含むことができるＣ１〜Ｃ８の炭素含有基である、請求項１に記載のストランド。
【請求項１９】
末端部に少なくとも１つのエポキシ官能基を有する前記基が、そのアルキレン基が１〜８個の炭素原子を含むグリシドキシアルキル基であり、前記アリール基が、フェニル基であり、前記ハロゲン原子が、フッ素原子である、請求項３に記載のストランド。
【請求項２０】
前記グリシドキシアルキル基が、グリシドキシプロピルである、請求項１９に記載のストランド。
【請求項２１】
前記コーティングは、前記コーティングしたストランドの合計重量の５５〜６５％である、請求項１２に記載のストランド。
【請求項２２】
前記シランは、前記コーティングの合計重量の３〜７％である、請求項１２に記載のストランド。
【請求項２３】
７０〜２００ｇ／ｍ２の範囲の単位面積重量を有する、請求項１５に記載の網。
【請求項２４】
前記ポリマーが、エラストマー的性質を有する熱可塑性ポリマーである、請求項５に記載のストランド。
【請求項２５】
前記光触媒層が、メソポーラスシリカのマトリクス中にアナターゼ型のＴｉＯ２粒子を含む、請求項８に記載のストランド。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年9月16日(2016.9.16)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０１６０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０１６０】
前記プロドラッグの位置に依存して（例えば細胞内又は細胞外；標的化される特定の器官など）前記アクチベータはこのプロドラッグに効果的に到達することができるように設計される。従って、前記アクチベータは例えば、そのｌｏｇＤ値、反応性又は電荷を変化させることで個別化され得る。前記アクチベータはさらに、（例えばタンパク質、ペプチド及び／又は糖部分などの）標的化試薬を伴うことも可能であり、これにより、前記第１のターゲットが受動的ではなく能動的に到達し得る。標的化試薬が使用される場合には、それは単純な部分である（即ち、短いペプチド又は単純な糖）であることが好ましい。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０２０９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０２０９】
スペーサーＳＰは、限定されるものではないが、ポリエチレングリコール（ＰＥＧ）鎖であり、２から２００、特には３から１１３、及び好ましくは５から５０の繰り返し単位を持つ。他の例は、生体ポリマー断片であり、例えばオリゴ又は多糖類ペプチド又はポリラクチドである。さらには好ましい例は実施例１５に示される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年8月23日(2016.8.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２３】
として頭頂部近くに位置した参照電極に関係するｉ番目の電極で記録された電圧で示されることで、
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
異なる電極位置におけるスペクトル写真内の異なる時間的パターンを、識別することができるので、局所的な参照を用いることが、好ましい。これは、平均または単一電極参照法（ａｖｅｒａｇｅ  ｏｒ  ｓｉｎｇｌｅ  ｅｌｅｃｔｒｏｄｅ  ｒｅｆｅｒｅｎｃｉｎｇ  ｓｃｈｅｍｅ）とは対照的であり、この平均または単一電極参照法は、おおよそ同じ時間的パターンが、各電極位置におけるスペクトル写真に存在しているという間違った結論を導いてしまう。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年2月19日(2016.2.19)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
併用チアジド系利尿薬を受け取る患者の痛風を処置するための製剤の製造における、アロプリノールと組み合わせた化合物の使用であって、
化合物はｌｅｓｉｎｕｒａｄである、ことを特徴とする使用。
【請求項２】
ｌｅｓｉｎｕｒａｄの投与量は２００ｍｇである、ことを特徴とする請求項１に記載の使用。
【請求項３】
ｌｅｓｉｎｕｒａｄの投与量は４００ｍｇである、ことを特徴とする請求項１に記載の使用。
【請求項４】
チアジド処置を受ける患者の高尿酸血症または痛風の発生率または可能性を減少させる、あるいは、高尿酸血症または痛風を覆すための製剤の製造における、アロプリノールと組み合わせた化合物の使用であって、
化合物は２−（５−ブロモ−４−（４−シクロプロピルナフタレン−１−イル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−イルチオ）酢酸又はその薬学的に許容可能な塩である、ことを特徴とする使用。
【請求項５】
チアジドによる処置は、ヒドロクロロチアジド、ベンズチアジド、ベンゾチアジアジン、ヒドロフルメチアジド、クロロチアジド、メチクロチアジド、ポリチアジド、クロルサリドン、メトラゾン、インダパミド、キネサゾン又はトリクロルメチアジドによる処置である、ことを特徴とする請求項４に記載の使用。
【請求項６】
ヒドロクロロチアジドを受け取る患者において高尿酸血症または痛風を減少させる、または、覆すための製剤の製造における、アロプリノールと組み合わせた化合物の使用であって、
化合物が、２−（５−ブロモ−４−（４−シクロプロピルナフタレン−１−イル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−イルチオ）酢酸又はその薬学的に許容可能な塩である、ことを特徴とする使用。
【請求項７】
高血圧症に苦しむ患者の血清尿酸値を下げるための製剤の製造における、アロプリノールと組み合わせた化合物の使用であって、
患者はチアジド系利尿薬を受け取り、
チアジド系利尿薬の投与は血清尿酸値の上昇をもたらし、及び
化合物は２−（５−ブロモ−４−（４−シクロプロピルナフタレン−１−イル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−イルチオ）酢酸又はその薬学的に許容可能な塩であることを特徴とする使用。
【請求項８】
（ｉ）チアジド系利尿薬、
（ｉｉ）２−（５−ブロモ−４−（４−シクロプロピルナフタレン−１−イル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−イルチオ）酢酸、または、その薬学的に許容可能な塩、  （ｉｉｉ）アロプリノール、及び
（ｉｖ）薬学的に許容可能な賦形剤または担体、を含む組成物。
【請求項９】
（ｉ）ヒドロクロロチアジド、
（ｉｉ）２−（５−ブロモ−４−（４−シクロプロピルナフタレン−１−イル）−４Ｈ−１，２，４−トリアゾル−３−イルチオ）酢酸、または、その薬学的に許容可能な塩、  （ｉｉｉ）アロプリノール、及び
（ｉｖ）薬学的に許容可能な賦形剤または担体、を含む組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００９】
幾つかの実施形態では、患者にＯＡＴ４阻害剤を投与する工程を含む、チアジド処置を受ける患者の高尿酸血症または痛風の発生率、可能性を減少させる、あるいは、高尿酸血症または痛風の診断を覆す方法が本明細書では提供される。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年9月30日(2016.9.30)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
無機セラミック形成成分、
セルロース系結合剤、
水性溶媒、及び
多糖類ガム、
を含むセラミック前駆体バッチ組成物であって、
少なくとも１００万ダルトンの分子量を有する水溶性線状ポリマーをさらに含み、
前記多糖類ガムが、上乗せ添加基準で、０.１重量％〜３.０重量％の範囲の量で組成物中に存在し、および
前記水溶性線状ポリマーが、上乗せ添加基準で、０.１重量％〜２.０重量％の範囲の量で組成物中に存在することを特徴とする組成物。
【請求項２】
少なくとも１００万ダルトンの分子量を有する前記水溶性線状ポリマーが、ポリエチレンオキシド（ＰＯＥ）及びポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）からなる群から選ばれる少なくとも１つのポリマーを含むことを特徴とする請求項１記載の組成物。
【請求項３】
前記多糖類ガムが、スクレログルカン、デュータンガム、ウェランガム、ラムザンガム、ゲランガム、キサンタンガム、アルギン酸ガム、カラゲーナンガム及びローカストビーンガムからなる群から選ばれる少なくとも１つのガムを含むことを特徴とする請求項１または２記載の組成物。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４４
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４４】
添付される特許請求の範囲に述べられるような本発明の精神または範囲を逸脱することなく様々な改変及び変形がなされ得ることが当業者には明らかであろう。本開示の精神及び本質を組み込んでいる、開示された実施形態の改変組合せ、副組合せ及び変形が当業者には思い浮かび得るから、本開示は添付される特許請求項及びその等価形態の範囲内に全てを含むと解されるべきである。
他の実施態様
１．セラミック前駆体バッチ組成物であって、
無機セラミック形成成分、
セルロース系結合剤、
水性溶媒、及び
多糖類ガム、
を含む組成物。
２．少なくとも１００万ダルトンの分子量を有する水溶性線状ポリマーをさらに含む、実施態様１記載の組成物。
３．前記少なくとも１００万ダルトンの分子量を有する水溶性線状ポリマーが、ポリエチレンオキシド（ＰＯＥ）及びポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）からなる群より選択される少なくとも１つのポリマーを含む、実施態様２記載の組成物。
４．前記多糖類ガムが、スクレログルカン、デュータンガム、ウェランガム、ラムザンガム、ゲランガム、キサンタンガム、アルギン酸ガム、カラゲーナンガム及びローカストビーンガムからなる群より選択される少なくとも１つのガムを含む、実施態様１から３いずれか１項記載の組成物。
５．前記多糖類ガムが、上乗せ添加基準で、約０.１重量％〜約３.０重量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施態様１から４いずれか１項記載の組成物。
６．前記水溶性ポリマーが、上乗せ添加基準で、約０.１重量％〜約２.０重量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施態様１から５いずれか１項記載の組成物。
７．前記セルロース系結合剤が、上乗せ添加基準で、約１.０重量％〜約５.０重量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施態様１から６いずれか１項記載の組成物。
８．前記セルロース系結合剤が、メチルセルロース（ＭＣ）、ヒドロキシプロピルメチルセルロース（ＨＰＭＣ）及びヒドロキシエチルメチルセルロース（ＨＥＭＣ）からなる群より選択される少なくとも１つのセルロースエーテルを含む、実施態様１から７いずれか１項記載の組成物。
９．コージェライト形成成分を含む、実施態様１から８いずれか１項記載の組成物。
１０．チタン酸アルミニウム形成成分を含む、実施態様１から９いずれか１項記載の組成物。
１１．押出生地体への押出しの後に、該押出生地体が、少なくとも１０％の破壊点伸び率(a percent elongation at break)、および少なくとも６００ＫＰａの降伏強さ(yield strength)を有する、実施態様１から１０いずれか１項記載の組成物。
１２．セラミック前駆体バッチ組成物を作製する方法であって、
無機セラミック形成成分、
セルロース系結合剤、
水性溶媒、及び
多糖類ガム、
を、配合することを含む方法。
１３．少なくとも１００万ダルトンの分子量を有する水溶性線状ポリマーを配合することをさらに含む、実施態様１２記載の方法。
１４．前記多糖類ガムが、スクレログルカン、デュータンガム、ウェランガム、ラムザンガム、ゲランガム、キサンタンガム、アルギン酸ガム、カラゲーナンガム及びローカストビーンガムからなる群より選択される少なくとも１つのガムを含む、実施態様１２または１３記載の方法。
１５．前記多糖類ガムが、上乗せ添加基準で、約０.１重量％〜約３.０重量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施態様１２から１４いずれか１項記載の方法。
１６．多孔質セラミック物品を作製する方法であって、
無機セラミック形成成分、
セルロース系結合剤、
水性溶媒、及び
多糖類ガム、
を含むセラミック前駆体バッチ組成物を配合する工程、
前記セラミック前駆体バッチ組成物から押出生地体を形成する工程、及び
前記押出生地体を焼成して多孔質セラミック物品を形成する工程、を含む方法。
１７．前記セラミック前駆体バッチ組成物が、少なくとも１００万ダルトンの分子量を有する水溶性線状ポリマーをさらに含む、実施態様１６記載の方法。
１８．前記多糖類ガムが、スクレログルカン、デュータンガム、ウェランガム、ラムザンガム、ゲランガム、キサンタンガム、アルギン酸ガム、カラゲーナンガム及びローカストビーンガムからなる群より選択される少なくとも１つのガムを含む、実施態様１６または１７記載の方法。
１９．前記多糖類ガムが、上乗せ添加基準で、約０.１重量％〜約２.０重量％の範囲の量で組成物中に存在する、実施態様１６から１８いずれか１項記載の方法。
２０．押出生地体への押出しの後に、該押出生地体が、少なくとも１０％の破壊点伸び率、および少なくとも６００ＫＰａの降伏強さを有する、実施態様１６から１９いずれか１項記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年10月26日(2016.10.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００２０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００２０】
ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする上記ベース層の厚さは、少なくとも５ｎｍ、好適には５〜６０ｎｍ、より好適には１０〜５０ｎｍ、より一層好適には２０〜４０ｎｍ、最も好適には２５〜３５ｎｍとすることができる。このベース層は、様々な用途を有するが、中でも、ガラス側の拡散層としての機能を果たす。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆ガラス板であって、少なくとも、順に、以下の層：
ガラス基板、
前記ガラス基板上に直接設けられた、厚さ２５〜３５ｎｍの、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層、
該ベース層から順に、
前記ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層上に直接設けられた、Ｚｎ及びＳｎの酸化物を基とする層と、
厚さ０．５〜５ｎｍの、金属酸化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする分離層と、
Ｚｎの酸化物を基とするトップ層と
を有する下部反射防止層、並びに
銀を基とする機能層
を有し、
更に、前記ガラス基板から順に、前記銀を基とする機能層の上方にそれに接触して設けられたバリア層であって、準化学量論的なＮｉＣｒＯｘの犠牲バリア層を有しない、前記バリア層を有し、
更に、前記バリア層の上方に順に、
金属酸化物を基とする層と、
アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層と
を含む上部反射防止層を有する、
被覆ガラス板であって、
熱処理後の前記ガラス板の光透過率の変化の割合が、２％以下である、被覆ガラス板。
【請求項２】
前記下部反射防止層のＺｎ及びＳｎの酸化物を基とする層は、厚さが１〜８ｎｍである、請求項１に記載のガラス板。
【請求項３】
前記分離層が、Ｔｉ、Ａｌ及び／又はＳｉの酸化物の層を有する、請求項１又は２に記載のガラス板。
【請求項４】
前記分離層はさらに、Ｔｉ、Ｖ、Ｍｎ、Ｃｏ、Ｃｕ、Ｚｎ、Ｚｒ、Ｈｆ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｔａの元素のうちの少なくとも１つから選択される１つ又はそれ以上の他の化学元素、又はこれらの物質のうちの少なくとも２つを基とする合金を含む、請求項１乃至３のいずれかに記載のガラス板。
【請求項５】
前記Ｚｎの酸化物を基とするトップ層は、厚さが３〜１０ｎｍである、請求項１乃至４のいずれかに記載のガラス板。
【請求項６】
前記銀を基とする機能層は、厚さが５〜２０ｎｍである、請求項１乃至５のいずれかに記載のガラス板。
【請求項７】
前記下部反射防止層における前記Ｚｎの酸化物を基とするトップ層が、前記銀を基とする機能層と直接接触している、請求項１乃至６のいずれかに記載のガラス板。
【請求項８】
前記バリア層は、厚さが１〜１０ｎｍである、請求項１乃至７のいずれかに記載のガラス板。
【請求項９】
前記上部反射防止層における前記金属酸化物を基とする層は、厚さが２〜２０ｎｍである、請求項１に記載のガラス板。
【請求項１０】
前記上部反射防止層における前記アルミニウムの（酸化）窒化物及び／又はケイ素の（酸化）窒化物を基とする層は、厚さが１５〜３５ｎｍである、請求項１に記載のガラス板。
【請求項１１】
前記ガラス板は、銀を基とする機能層を複数有する、請求項１に記載のガラス板。
【請求項１２】
前記銀を基とする機能層はそれぞれ、介在する中央反射防止層により、隣接する銀を基とする機能層から間隔が空けられている、請求項１１に記載のガラス板。
【請求項１３】
請求項１乃至１２のいずれかに記載の被覆ガラス板の製造方法であって、
ガラス基板を準備し、次いで、該ガラス基板に、
厚さ２５〜３５ｎｍの、ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層、
前記ケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とするベース層の直接上の、Ｚｎ及びＳｎの酸化物を基とする層、
少なくとも窒素を含むスパッタ雰囲気中において、金属酸化物ターゲットからスパッタすること、又は、金属層を堆積してその後酸化させることによりなる金属酸化物を基とし、及び／又は、Ｓｉ及び／又はＡｌを基とするターゲットから反応的にスパッタすることによりなるケイ素の（酸化）窒化物及び／又はアルミニウムの（酸化）窒化物を基とする、厚さ０．５〜５ｎｍの、分離層、
Ｚｎの酸化物を基とするトップ層、
銀を基とする機能層、
バリア層、並びに
上部反射防止層
を相次いで付与する工程を含む、被覆ガラス板の製造方法であって、
前記銀を基とする機能層と直接接触する前記バリア層の任意の部分は、０〜最大５体積％の酸素を含む雰囲気中でスパッタすることにより堆積され、前記バリア層は、準化学量論的なＮｉＣｒＯｘの犠牲バリア層を有さず、熱処理後の前記ガラス板の光透過率の変化の割合が、２％以下である、被覆ガラス板の製造方法。
【請求項１４】
請求項１乃至１２のいずれかに記載のガラス板を組み入れた、多重板ガラス。