【手続補正書】
【提出日】平成28年2月4日(2016.2.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
投影レンズの物体面（OS）に配置されたパターンを、極端紫外線（EUV）領域からの作動波長λを有する電磁放射により、前記投影レンズの像面（IS）に結像する投影レンズ（PO）であって、
ミラー表面を有する多数のミラー（M1-M6）であって、前記ミラー表面は投影ビーム路で前記物体面と像面との間に配置され、前記物体面に配置されたパターンは、前記ミラーにより前記像面に結像可能であるミラーを有する投影レンズにおいて、
波面修正装置(WFC)であって、該波面修正装置の作動モードにおける前記投影ビーム路に配置され、前記作動波長λにおいて、光学的使用領域に衝突するEUV線の主たる部分を伝導するフィルムを有するフィルム素子を備える波面修正装置を特徴とし、前記フィルム素子は、前記フィルムが前記光学的使用領域で自立支承するよう前記フィルムを支承するフレームを有し、前記フィルム素子は、
第１層（L1）であって、該第１層（L1）は、第１複素屈折率n1 = (1-δ1) + iβ1を有する第１層材料からなり、第１光学層厚を有し、該第１光学層厚は前記使用領域全体に亘って、第１層厚プロフィールに従って局所的に変化する第１層（L1）と、
第２層（L2）であって、該第２層（L2）は、第２複素屈折率n2 = (1-δ2) + iβ2を有する第２層材料からなり、第２光学層厚を有し、該第２光学層厚は前記使用領域全体に亘って、第２層厚プロフィールに従って局所的に変化する第２層（L2）と
を有し、
前記第１層厚プロフィール及び第２層厚プロフィールが異なり、
第１屈折率の実部の１からの逸脱δ1が、前記第１層材料の吸収係数β1に対して大きく、第２屈折率の実部の１からの逸脱δ2が、前記第２層材料の吸収係数β2に対して小さいことを特徴とする投影レンズ。
【請求項２】
請求項１に記載の投影レンズであって、前記フィルム素子は、前記投影ビームの全ての光線が前記光学的使用領域上に20度未満の入射角、特に10度未満の入射角で入射するよう、前記投影ビーム路に配置される投影レンズ。
【請求項３】
請求項１又は２に記載の投影レンズであって、前記フィルム素子は、前記光学的使用領域全体に衝突するEUV線に対して少なくとも70％の透過率を有する投影レンズにおいて、前記透過率は好適には70％と90％との間である投影レンズ。
【請求項４】
請求項１〜３の何れか一項に記載の投影レンズであって、少なくとも１つの瞳面を、前記物体面と像面との間に有し、前記フィルム素子は前記瞳面に、又は前記瞳面に対して光学的に近接して配置される投影レンズ。
【請求項５】
請求項１〜４の何れか一項に記載の投影レンズであって、該投影レンズは前記物体面又は像面に光学的に近接するフィルム素子を有し、及び／又は中間像面が前記物体面と像面との間にあり、フィルム素子は前記中間像面に、又は前記中間像面に光学的に近接して配置され、前記フィルム素子は、好適には前記物体面と、前記物体面に直接続く第1ミラー（M1）との間に配置される投影レンズ。
【請求項６】
請求項１〜５の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記フィルム素子は多層フィルムを備え、該多層フィルムは前記第１層及び第２層を有する投影レンズ。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の投影レンズであって、前記第１層は前記フィルム素子の第１フィルムに取り付けられ、前記第２層は前記フィルム素子の第２フィルムに取り付けられ、該第２フィルムは物理的に前記第１フィルムと分離する投影レンズ。
【請求項８】
請求項７に記載の投影レンズであって、前記第１フィルムと第２フィルムとの間の幾何学的間隔は、10センチメートル未満、特に１センチメートル未満とし、及び／又は前記第１フィルムと第２フィルムとの間の光学的間隔は、前記第１フィルム及び第２フィルムのサブ開口率が、互いに0.05未満、特に0.01未満で逸脱する投影レンズ。
【請求項９】
請求項１〜８の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記作動波長は5 nm乃至20 nmであり、第１効率比V1=δ1/β1は５を上回り、好適には10を上回り、及び／又は第２効率比はV2=δ2/β2は0.6未満、好適には0.2未満である投影レンズ。
【請求項１０】
請求項１〜９の何れか一項に記載の投影レンズであって、V1=δ1/β1及びV2=δ2/β2であり、V1/V2の比率は２を上回り、好適には10を上回り、特に20を上回る投影レンズ。
【請求項１１】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記作動波長は7 nm乃至20 nmの波長範囲であり、前記第１層材料は以下の群より選ばれ；ルテニウム(Ru)、ジルコニウム(Zr)、モリブデン(Mo)、ニオブ(Nb)、クロム(Cr)、ベリリウム(Be)、金(Au)、イットリウム(Y)、ケイ酸イットリウム(Y5Si3)、ケイ酸ジルコニウム(ZrSi2)、又は主としてこれらの材料の１つからなる材料組成、及び／又は前記第２層材料は、ケイ素(Si)及びゲルマニウム(Ge)からなる群より選ばれるか、又は主としてこれらの材料の１つからなる材料組成より選ばれる投影レンズ。
【請求項１２】
請求項１〜１０の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記作動波長は、6 nmと7 nmとの間の作動波長の範囲にあり、前記第１層材料は以下の群より選ばれ；NbOB4C, NbO2, Nb2O5, RuO4, MoO2, Rh2O3, C, Te, In, Ba, Sn, RuO2, MoO3, La, B, B4C, BN, ZrO2、又は主としてこれらの材料の１つからなる材料組成より選ばれ、及び／又は前記第２層材料は、材料Y又はRbからなる群より選ばれ、又は主としてこれらの材料の１つからなる材料組成から選ばれる投影レンズ。
【請求項１３】
請求項１〜１２の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記光学的使用領域の前記第１光学層厚の最大局所値と最小局所値との間の第１PV比率は2乃至6の範囲とし、及び／又は前記光学的使用領域の前記第２光学層厚の最大局所値と最小局所値との間の第２PV比率は、2乃至6の範囲である投影レンズ。
【請求項１４】
請求項１〜１３の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記第２層厚プロフィールは前記第１層厚プロフィールに対して相補的である投影レンズ。
【請求項１５】
請求項１〜１４の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記第１層及び第２層の層厚が、前記フィルムが最大波面変化の領域において、前記作動波長の少なくとも3％の波面変化を引き起こすよう設計されている投影レンズ。
【請求項１６】
請求項１〜１５の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記第２層厚が、前記光学的使用領域の少なくとも１つの位置で、前記作動波長よりも大きい投影レンズ。
【請求項１７】
請求項１〜１６の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記第１層は、前記光学的使用領域において、鏡面対称性、放射状対称性又は回転対称性のいずれをも有さない非対称的な第１層厚プロフィールを有する投影レンズ。
【請求項１８】
請求項１〜１７の何れか一項に記載の投影レンズであって、フィルムは第１フィルム表面、第２フィルム表面、及び前記第１フィルム表面と第２フィルム表面との間で測定された1 μm未満のフィルム厚を有し、前記フィルム厚は好適には300 nm 以下、特に200 nmと25 nmとの間の範囲の投影レンズ。
【請求項１９】
請求項１〜１８の何れか一項に記載の投影レンズであって、フィルムは少なくともの１つのフィルム表面において、保護層材料からなる外側の保護層を有し、前記保護層材料は、前記保護層直近の内側の層よりも周囲の影響に対する耐性が強く、前記保護層材料は好適には以下の群：ルテニウム(Ru)、ロジウム(Rh)、炭素(C)、ケイ素（Si）及びSi3N4（窒化ケイ素）から選択される投影レンズ。
【請求項２０】
請求項１〜１９の何れか一項に記載の投影レンズであって、フィルムは単一の第１層のみ、及び／又は単一の第２層のみを備える投影レンズ。
【請求項２１】
請求項１〜２０の何れか一項に記載の投影レンズであって、多層フィルムが、前記作動波長に対して反射低減効果を有する少なくとも１つの反射防止層を備え、該反射防止層は、第１層及び／又は第２層の直近に配置することが好適である投影レンズ。
【請求項２２】
請求項１〜２１の何れか一項に記載の投影レンズであって、少なくとも１つの中間層を前記第１層と第２層との間に配置し、前記中間層は、好適には反射防止層及び／又は拡散バリア層とし、該反射防止層及び／又は拡散バリア層は、特にC, B4C, SixNy, SiC, Mo2C, MoSi2, Y5Si3 又はNb4Si、又はこれらの材料の１つを有する組成物からなる投影レンズ。
【請求項２３】
請求項１〜２２の何れか一項に記載の投影レンズであって、多層フィルムが前記第１層及び第２層に加えて、１０層を下回る更なる層を備える投影レンズ。
【請求項２４】
請求項１〜２３の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記第１層及び／又は前記第２層が異質な層構造で構成され、モリブデンベースの前記第１層が、好適には内側の層構造を有し、該内側の層構造において、モリブデンより構成される比較的厚い部分層が結晶化ストップ層により分離され、該結晶化ストップ層は前記部分層と比較して薄い投影レンズ。
【請求項２５】
請求項１〜２４の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記光学的使用領域は50 mm以上の最小直径を有し、特に前記最小直径は100 mm以上である投影レンズ。
【請求項２６】
請求項１〜２５の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記フィルム素子は、格子状の支承構造を有し、該格子状の支承構造は前記光学的使用領域において前記フィルムと接触し、該フィルムを安定させ、前記格子状の支承構造は、好適にはハニカム構造を有し、該ハニカム構造は、六角形又は他の多角形の開口を形成する支柱を有する投影レンズ。
【請求項２７】
請求項１〜２６の何れか一項に記載の投影レンズであって、前記投影レンズは、前記ミラーを前記投影ビーム路の前記ミラーの位置に保持するための支承構造を有し、前記フィルム素子が前記支承構造に対して可動な可変ホルダ上に配置され、前記フィルム素子は、前記可変ホルダを移動させることにより、前記投影ビーム路に又は投影ビーム路の外側に光学的に配置可能であり、好適には前記投影レンズ上に、前記フィルム素子の各取り付け位置に関して、前記フィルム素子を前記投影レンズのビーム路に配置するためのアクセスシャフトが備えられる投影レンズ。
【請求項２８】
フィルム素子、特にEUVマイクロリソグラフィ用投影露光装置の投影レンズにおいて使用するフィルム素子であって、
フィルムであって、極端紫外線領域（EUV）からの作動波長λにおいて、光学的使用領域において前記フィルム素子に衝突するEUV線の主たる部分を伝導するフィルムを備え、
前記フィルム素子は、前記フィルムが前記光学的使用領域で自立支承するよう前記フィルムを支承するフレームを有し、
前記フィルム素子は、
第１層であって、該第１層は、第１複素屈折率n1 = (1-δ1) + iβ1を有する第１層材料からなり、第１光学層厚を有し、該第１光学層厚は前記使用領域全体に亘って、第１層厚プロフィールに従って局所的に変化する第１層と、
第２層であって、該第２層は、第２複素屈折率n2= (1-δ2) + iβ2を有する第２層材料からなり、第２光学層厚を有し、該第２光学層厚は前記使用領域全体に亘って、第２層厚プロフィールに従って局所的に変化する第２層と
を有し、
前記第１層厚プロフィール及び第２層厚プロフィールが異なり、
第１屈折率の実部の１からの逸脱δ1が、前記第１層材料の吸収係数β1に対して大きく、第２屈折率の実部の１からの逸脱δ2が、前記第２層材料の吸収係数β2に対して小さい投影レンズ。
【請求項２９】
請求項２８に記載の投影レンズであって、前記フィルム素子は、前記光学的使用領域全体に衝突するEUV線に対して少なくとも70％の透過率を有する投影レンズにおいて、前記透過率は好適には70％と90％との間である投影レンズ。
【請求項３０】
請求項２８又は２９に記載のフィルム素子であって、請求項６乃至２７の少なくとも１つの請求項の主要部の特徴を特徴とするフィルム素子。
【請求項３１】
投影レンズの物体面（OS）に配置されたパターンを、作動波長λ近辺の極端紫外線（EUV）領域からの電磁放射により、前記投影レンズの像面（IS）内に結像する投影レンズであって、
ミラー表面を有する多数のミラー（M1-M6）であって、前記ミラー表面は投影ビーム路で前記物体面と像面との間に配置され、前記物体面に配置されたパターンは、前記ミラーにより前記像面に結像可能であり、前記物体面と像面との間を走る投影ビームの光線が波面を形成する、多数のミラー（M1-M6）を有し、
波面修正装置（WFC）であって、前記波面修正装置（WFC）の少なくとも１つの作動モードにおける前記投影ビーム路に配置され、光学的使用領域においてフィルムに衝突するEUV線の主たる部分を伝導する該フィルムを有するフィルム素子を備える波面修正装置を特徴とし、
前記フィルム素子は、前記フィルムが前記光学的使用領域で自立支承するよう前記フィルムを支承するフレームを有し、
前記波面が前記フィルム素子によって、前記像面における像形成に至る前記波面が、前記フィルム素子が投影ビーム路に存在する場合に、前記フィルム素子が存在しない場合よりも、前記波面の所望のプロフィールに近づくよう変更される投影レンズ。
【請求項３２】
請求項３１に記載の投影レンズであって、前記フィルム素子は、前記投影ビームの全ての光線が前記光学的使用領域上に20度未満の入射角、特に10度未満の入射角で入射するよう、前記投影ビーム路に配置される投影レンズ。
【請求項３３】
請求項３１又は３２に記載の投影レンズであって、少なくとも１つの瞳面を、前記物体面と像面との間に有し、前記フィルム素子は前記瞳面に、又は前記瞳面に対して光学的に近接して配置される投影レンズ。
【請求項３４】
投影レンズの物体面（OS）に配置されたパターンを、作動波長λ近辺の極端紫外線（EUV）領域からの電磁放射により、前記投影レンズの像面（IS）内に結像する投影レンズであって、
ミラー表面を有する多数のミラー（M1-M6）であって、前記ミラー表面は投影ビーム路で前記物体面と像面との間に配置され、前記物体面に配置されたパターンは、前記ミラーにより前記像面に結像可能であり、前記物体面と像面との間を走る投影ビームの光線が波面を形成する、多数のミラー（M1-M6）を有し、
第１フィルム及び
前記第１フィルムとは分離した第２フィルムを有することを特徴とし、
各フィルムが、前記極端紫外線領域（EUV）からの作動波長λにおいて、光学的使用領域において前記フィルムに衝突するEUV線の主たる部分を伝導し、
前記フィルム素子は、前記第１フィルム及び前記第２フィルムが前記光学的使用領域で自立支承するよう前記第１フィルム及び前記第２フィルムを支承するフレームを有する投影レンズ。
【請求項３５】
請求項３４に記載の投影レンズであって、少なくとも１つの瞳面を前記物体面と像面との間に有し、前記第１フィルム素子及び／又は第２フィルム素子は前記瞳面に、又は前記瞳面に対して光学的に近接して配置される投影レンズ。
【請求項３６】
マイクロリソグラフィ投影露光装置の投影レンズの製造方法であって、
多数のミラーを与えられた位置に取り付けるステップであって、ミラー表面を投影ビーム路内で物体面と像面との間に配置し、前記物体面に配置されたパターンが、前記ミラーにより前記像面内に結像可能であるステップと、
前記投影レンズの波面収差を決定するステップと
取り付け位置のために、前記投影レンズの波面収差から位置依存的な波面修正を計算するステップと、
フィルム素子を処理するステップであって、前記フィルム素子を取り付けられた位置で前記投影ビーム路内に挿入する場合、前記波面修正は前記フィルム素子の影響を受けるように前記フィルム素子を処理するステップと、
処理された前記フィルム素子を、取り付け位置に取り付けるステップとを含み、
前記フィルム素子は、フィルムと該フィルムが前記光学的使用領域で自立支承するよう前記フィルムを支承するフレームを有する製造方法。
【請求項３７】
請求項３６に記載の方法であって、前記波面収差の決定に先立ち、フィルム素子を前記投影ビーム路内部の既定の取り付け位置に取り付け、前記波面収差の決定後、前記フィルム素子を前記投影ビーム路から取り除き、それから、前記フィルム素子を取り付けられた位置で前記投影ビーム路内に挿入する場合、前記波面修正は前記フィルム素子の影響を受けるよう前記フィルム素子を処理する方法。