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【手続補正書】
【提出日】平成28年10月7日(2016.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ネットワーク指向のシステム選択の方法であって、
ワイヤレスデバイスにおいて、システム選択データに対する要求を受信するステップであって、前記システム選択データに対する前記要求が、ネットワークデバイスによって送信される、ステップと、
前記ワイヤレスデバイスのためのネットワーク指向のシステム選択の判断を実行する際に前記ネットワークデバイスによって使用するための前記システム選択データを前記ワイヤレスデバイスにおいて特定するステップであって、前記システム選択データが、データアクセスが前記ワイヤレスデバイスにとって使用可能であると前記ワイヤレスデバイスが確認した1つまたは複数のネットワークの指示を含み、確認することが、前記1つまたは複数のネットワークのうちの1つまたは複数に一時的に接続すること、およびpingまたはその他のネットワーク操作を実行することを含む、ステップと、
前記システム選択データを前記ネットワークデバイスによって使用するために前記ワイヤレスデバイスから第1のネットワークに送信するステップであって、前記システム選択データの送信が、前記ネットワークデバイスによって送信される前記システム選択データに対する前記要求に応じて行われる、ステップと
を含む、方法。
【請求項２】
前記システム選択の判断が、アドミッション制御の判断、前記ワイヤレスデバイスを前記第1のネットワークから第2のネットワークに移行すべきかどうかの判断、または前記ワイヤレスデバイスが前記第1のネットワークと前記第2のネットワークとの両方に接続されたままで、前記ワイヤレスデバイスのデータトランザクションを前記第1のネットワークから前記第2のネットワークに移行する判断のうちの1つまたは複数を含む請求項1に記載の方法。
【請求項３】
前記ワイヤレスデバイスが前記第1のネットワークに同時に接続されている間に、前記ワイヤレスデバイスで第2のネットワークに接続するステップと、
前記ワイヤレスデバイスが前記第1のネットワークに同時に接続されている間に、前記第2のネットワークを介してネットワークリソースにpingを実行して、データアクセスが前記ワイヤレスデバイスにとって使用可能であることを確認するステップと
をさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項４】
前記ワイヤレスデバイスに関連する加入に基づいて、前記データアクセスが前記ワイヤレスデバイスにとって使用可能であると確認するステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項５】
前記データアクセスが、アプリケーションレイヤのデータアクセスを含む請求項1に記載の方法。
【請求項６】
前記ワイヤレスデバイスにとって使用可能である複数のネットワークのそれぞれに関する前記ワイヤレスデバイスに関連する少なくとも1つの識別子を、前記第1のネットワークに送信するステップであって、前記システム選択データが、前記少なくとも1つの識別子を含む、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項７】
課金情報を前記第1のネットワークに送信するステップであって、前記課金情報が、前記第1のネットワークまたは第2のネットワークのうちの少なくとも1つを介してデータを送信することに関連し、前記システム選択データが、前記課金情報を含む、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項８】
前記ワイヤレスデバイスで現在実行されているアプリケーションについての情報を前記第1のネットワークに送信するステップをさらに含み、
前記システム選択データが、前記アプリケーションについての前記情報を含み、
前記ワイヤレスデバイスで現在実行されている前記アプリケーションについての前記情報が、前記アプリケーションに関連する少なくとも1つのネットワークデータのポリシーの指示、前記アプリケーションに関連する少なくとも1つの種類の指示、前記アプリケーションに関連する少なくとも1つのサービス品質(QoS)の要件の指示、またはインターネットプロトコル(IP)アドレスの変化に対する前記アプリケーションの許容度の指示のうちの1つまたは複数を含む、請求項1に記載の方法。
【請求項９】
少なくとも1つのネットワークを介してデータトランザクションを行うことに関連する電力消費の指示を前記第1のネットワークに送信するステップであって、前記システム選択データが、電力消費の前記指示を含む、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１０】
前記ワイヤレスデバイスのバッテリーレベルの指示を前記第1のネットワークに送信するステップであって、前記システム選択データが、前記バッテリーレベルの前記指示を含む、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１１】
前記ワイヤレスデバイスに関連する少なくとも1つの送信バッファのステータスを前記第1のネットワークに送信するステップであって、前記システム選択データが、前記送信バッファの前記ステータスを含む、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１２】
前記ワイヤレスデバイスに関連する少なくとも1つの受信バッファのステータスを前記第1のネットワークに送信するステップであって、前記システム選択データが、前記受信バッファの前記ステータスを含む、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１３】
前記システム選択データの変化を前記ワイヤレスデバイスにおいて検出するステップであって、前記システム選択データの送信が、前記システム選択データの検出された変化に応じて行われる、ステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
【請求項１４】
ワイヤレスデバイス装置において、システム選択データに対する要求を受信するための手段であって、前記システム選択データに対する前記要求が、ネットワークデバイスによって送信される、手段と、
前記ワイヤレスデバイス装置のためのネットワーク指向のシステム選択の判断を実行する際に前記ネットワークデバイスによって使用するための前記システム選択データを前記ワイヤレスデバイス装置において特定するための手段であって、前記システム選択データが、データアクセスが前記ワイヤレスデバイス装置にとって使用可能であると前記ワイヤレスデバイス装置が確認した1つまたは複数のネットワークの指示を含み、確認することが、前記1つまたは複数のネットワークのうちの1つまたは複数に一時的に接続すること、およびpingまたはその他のネットワーク操作を実行することを含む、手段と、
前記システム選択データを前記ネットワークデバイスによって使用するために前記ワイヤレスデバイス装置から第1のネットワークに送信するための手段であって、前記システム選択データの送信が、前記システム選択データに対する前記要求に応じて行われる、手段と
を含むワイヤレスデバイス装置。
【請求項１５】
請求項1乃至13のいずれか1項に記載の方法をコンピュータに実行させるためのコンピュータ可読プログラムコードを記憶したコンピュータ可読ストレージデバイス。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月24日(2016.10.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガラス基板又はプラスチック基板の少なくとも１つの事前選択部分の第１主表面と第２主表面との間の厚さを制御する方法において、
溶融ガラス又はプラスチック材料を供給するステップと、
前記溶融ガラス又はプラスチック材料をリボンに形成するステップであって、前記リボンの端部に張力を印加するステップを備える前記形成するステップと、
前記リボンの厚さを計測するステップと、
前記リボンの少なくとも一部の厚さ不均一性を識別するステップと、
前記識別した厚さ不均一性に対応する粘性状態の前記基板の少なくとも一部を事前選択するステップと、
前記リボンの前記少なくとも一つの事前選択部分を、前記事前選択部分に当たるように向けたレーザビームで加熱するステップと、を備え、
前記加熱するステップは、前記リボンの前記少なくとも一つの事前選択部分に所定の厚さを得させしめ、前記加熱するステップは、前記計測された厚みに応じて、前記事前選択部分に当てる前記レーザビームのパワーと滞留時間と波長の少なくとも１つを制御するステップを備える、ことを特徴とする方法。
【請求項２】
前記加熱するステップが、前記レーザビームを生成するレーザビーム生成器から粘性状態にある前記リボンの前記少なくとも１つの事前選択部分に前記レーザビームを反射する反射表面へと、前記レーザビームを向けるステップを含むことを特徴とする請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記レーザビームが、前記粘性状態にある前記リボンの複数の事前選択部分の方へ向けられることを特徴とする請求項１又は２項記載の方法。
【請求項４】
前記リボンの前記複数の事前選択部分が前記リボンの実質的に全幅に亘って配置されることを特徴とする請求項３項記載の方法。
【請求項５】
前記粘性状態にある前記リボンの前記複数の事前選択部分の夫々での前記レーザビームの前記パワーと前記滞留時間と前記波長の少なくとも１つを選択的に制御するステップを含む請求項３項記載の方法。
【請求項６】
前記レーザビームが、実質的に前記リボンに吸収されて前記リボンを容易に通過しないことを特徴とする請求項１から５のいずれか１項記載の方法。
【請求項７】
ガラスリボンの少なくとも１つの事前選択部分の厚さを制御する方法において、
ある量のガラスから前記ガラスリボンを延伸するステップであって、該ガラスリボンが少なくとも２つのガラス層を備えるステップと、
前記ガラスリボンの厚さ不均一性を識別するステップと、
前記識別した厚さ不均一性に対応する粘性状態の前記ガラスリボンの少なくとも一部を事前選択するステップであって、前記２つのガラス層の少なくとも一方は、前記粘性状態の前記ガラスリボンの前記少なくとも１つの事前選択部分を含み、該粘性状態の前記ガラスリボンの前記少なくとも１つの事前選択部分は前記少なくとも２つのガラス層の少なくとも２つの層のうちの少なくとも２つ夫々に存在するステップと、
レーザビームを生成するステップと、
前記レーザビームを前記粘性状態の前記ガラスリボンの前記少なくとも１つの事前選択部分に向けるステップであって、前記粘性状態の前記ガラスリボンの前記少なくとも１つの事前選択部分の前記厚みが固定されておらず、前記レーザビームの波長は、前記少なくとも２つのガラス層夫々に存在している粘性状態にある前記ガラス基板の前記少なくとも１つの事前選択部分で吸収される夫々のエネルギーの量が、前記少なくとも２つのガラス層夫々に存在している粘性状態にある前記ガラス基板の前記少なくとも１つの事前選択部分で温度を上昇させかつ粘度を低下させて前記少なくとも２つのガラス層夫々に存在している粘性状態にある前記ガラス基板の前記少なくとも１つの事前選択部分で夫々所望の厚さを十分に得るのに適切なものとなるような、波長であるステップとを備えることを特徴とする方法。
【請求項８】
前記延伸するステップが、成形ウェッジの底部から前記ガラスリボンを延伸するステップを含むことを特徴とする請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記粘性状態の前記事前選択部分は実質的に前記成形ウェッジの前記底部に隣接して位置することを特徴とする請求項８記載の方法。
【請求項１０】
前記レーザビームが、実質的に前記ガラスリボンに吸収されて前記ガラスリボンを容易に通過しないことを特徴とする請求項７から９のいずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月8日(2016.7.8)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（ＩＩ）のフッ素化化合物を調製するための方法であって、
以下のスキームに従って、少なくとも1つの有機溶媒中で、式（Ｉ）の化合物：
【化１】
2015536898.tif 000001
［式中、
Ｒ１＝Ｃｌであり、Ｒ２＝Ｆ１である特別の場合を除き、Ｒ１はＲ２であり、およびＲ１がＲ２である場合、Ｒ１およびＲ２が、Ｆ、ＣＦ３、ＣＨＦ２、ＣＨ２Ｆ、Ｃ２ＨＦ４、Ｃ２Ｈ２Ｆ３、Ｃ２Ｈ３Ｆ２、Ｃ２Ｆ５、Ｃ３Ｆ７、Ｃ３Ｈ２Ｆ５、Ｃ３Ｈ４Ｆ３、Ｃ３ＨＦ６、Ｃ４Ｆ９、Ｃ４Ｈ２Ｆ７、Ｃ４Ｈ４Ｆ５、Ｃ５Ｆ１１、Ｃ３Ｆ５ＯＣＦ３、Ｃ２Ｆ４ＯＣＦ３、Ｃ２Ｈ２Ｆ２ＯＣＦ３、ＣＦ２ＯＣＦ３、Ｃ６Ｆ１３、Ｃ７Ｆ１５、Ｃ８Ｆ１７およびＣ９Ｆ１９から選択されるハメットパラメーターσｐが０を超える電子求引性基を表し、ならびにＭが水素原子、アルカリ金属、アルカリ土類金属または４級アンモニウムカチオンを表す］
と無水フッ化水素酸を反応させる少なくとも１つの段階を含む、方法。
【請求項２】
有機溶媒が、１と７０の間のドナー数を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
有機溶媒が、５と６５の間のドナー数を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
有機溶媒が、エステル、ニトリルもしくはジニトリル、エーテルもしくはジエーテル、アミンまたはホスフィンから選択することができる、請求項１から３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
反応段階が、０℃と溶媒または混合溶媒の沸点の間の温度Ｔで行われることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
反応段階が、５℃と溶媒または混合溶媒の沸点の間の温度Ｔで行われることを特徴とする、請求項１から４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
反応段階が、０と１６バールの絶対圧の間の圧力Ｐで行われることを特徴とする、請求項１から６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
無水ＨＦを反応させる段階に先立ち、式（Ｉ）の化合物が溶媒または混合溶媒中で溶解されることを特徴とする、請求項１から７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
式（Ｉ）の化合物と溶媒または混合溶媒との重量比が、０．００１と１０の間であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
式（Ｉ）の化合物と溶媒または混合溶媒との重量比が、０．００５と５の間であることを特徴とする、請求項１から８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
式（Ｉ）の化合物と使用されるＨＦとのモル比が、０．０１と０．５の間であることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
式（Ｉ）の化合物と使用されるＨＦとのモル比が、０．０５と０．５の間であることを特徴とする、請求項１から１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
方法が、アルカリ金属塩、アルカリ土類金属塩または４級アンモニウムカチオン塩を得るための、フッ素化段階後にカチオン交換段階を含むことを特徴とする、請求項１から１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
式（ＩＩ）の化合物が、ＬｉＮ（ＦＳＯ２）２、ＬｉＮＳＯ２ＣＦ３ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ２Ｆ５ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２ＣＦ２ＯＣＦ３ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ３ＨＦ６ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ４Ｆ９ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ５Ｆ１１ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ６Ｆ１３ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ７Ｆ１５ＳＯ２Ｆ、ＬｉＮＳＯ２Ｃ８Ｆ１７ＳＯ２ＦまたはＬｉＮＳＯ２Ｃ９Ｆ１９ＳＯ２Ｆであることを特徴とする、請求項１から１３のいずれか一項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月28日(2016.10.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
０．３３５〜０．４０ｎｍのグラフェン面間間隔及び０．０１〜１０重量％の酸素含有率を有し、密に詰め込まれ、化学結合された平行なグラフェン面を含むグラフェン単結晶を含む単一グラフェン単位であって、
前記単一グラフェン単位は、グラフェン酸化物ゲルを１００℃超の温度で熱処理することにより得られ、
２つのグラフェン面間の平均配向不整角度は、１０度未満であることを特徴とする単一グラフェン単位。
【請求項２】
そこに分散された個々のグラファイトフレーク又はグラフェンプレートレットを含まないことを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項３】
前記単位は層であり、前記単結晶はその中に完全な粒界を有さないことを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項４】
前記グラフェンゲルは、結晶学的なｃ軸方向の最初の長さＬａ、ｂ軸方向の最初の幅Ｌｂ及びｃ軸方向の厚さＬｃを有するグラファイト結晶子から構成された天然グラファイト又は人工グラファイト複合体の粒子から作製され、前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は、前記グラファイト結晶子の最初のＬａ及びＬｂより大きな長さ又は幅を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項５】
前記グラフェンゲルは、結晶学的なｃ軸方向の最初の長さＬａ、ｂ軸方向の最初の幅Ｌｂ及びｃ軸方向の厚さＬｃを有するグラファイト結晶子から構成された天然グラファイト又は人工グラファイト複合体の粒子から作製され、前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は、前記グラファイト結晶子の最初のＬａ又は最初のＬｂの少なくとも２倍より大きな長さ又は幅を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項６】
前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は、１００μｍ以上の長さ又は幅を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項７】
前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は、１ｍｍ以上の長さ又は幅を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項８】
前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は、１ｃｍ以上の長さ又は幅を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項９】
前記熱処理温度は１００〜１，０００℃であり、前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は６００Ｗ／ｍＫ超の熱伝導度又は２，０００Ｓ／ｃｍ超の電気伝導度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１０】
前記熱処理温度は１，０００〜１，５００℃であり、前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は１，３００Ｗ／ｍＫ超の熱伝導度又は３，０００Ｓ／ｃｍ超の電気伝導度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１１】
前記熱処理温度は１，５００〜２，５００℃であり、前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は１，６００Ｗ／ｍＫ超の熱伝導度又は５，０００Ｓ／ｃｍ超の電気伝導度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１２】
前記熱処理温度は２，５００〜３，２５０℃であり、前記単一グラフェン層又はグラフェン単結晶は１，７００Ｗ／ｍＫ超の熱伝導度又は１０，０００Ｓ／ｃｍ超の電気伝導度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１３】
前記グラフェン酸化物ゲルはｐＨが５以下の酸媒体中に分散されたグラフェン酸化物分子から構成され、前記グラフェン酸化物分子はゲル状であるとともに２０重量％以上の酸素含有率を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１４】
前記グラフェン酸化物分子はゲル状であるとともに４，０００ｇ／モル未満の分子量を有することを特徴とする請求項１３に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１５】
グラフェン酸化物ゲルの層が基材表面上に析出しており、前記析出されたグラフェン酸化物ゲルの層は、２，５００℃超の熱処理温度に曝されることを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１６】
６０超のロックウェル硬度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１７】
１，５００Ｓ／ｃｍ超の電気伝導度、６００Ｗ／ｍＫ超の熱伝導度、１．８ｇ／ｃｍ３超の物理的密度、及び、４０ＭＰａ超の引張り強度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１８】
３，０００Ｓ／ｃｍ超の電気伝導度、１，０００Ｗ／ｍＫ超の熱伝導度、２．０ｇ／ｃｍ３超の物理的密度、及び、８０ＭＰａ超の引張り強度を有することを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項１９】
０．３３６〜０．５０ｎｍのグラフェン面間間隔及び１重量％未満の酸素含有率を有し、密に詰め込まれ、ギャップのない、化学結合された平行なグラフェン面を含む単一グラフェン単位であって、
前記単一グラフェン単位は、１０ｎｍ超の厚さを有する層であり、そこに分散される個々のグラファイトフレーク又はグラフェンプレートレットを含まず、１０度未満の２つのグラフェン面間の平均配向不整角度を有し、グラフェン酸化物ゲルを５００℃超の温度で熱処理することにより得られ、
前記単位は、熱拡散又は放熱に有用であることを特徴とする請求項１に記載の単一グラフェン単位。
【請求項２０】
前記単一グラフェン層は、不完全な粒界を有する多結晶を含み、そこに分散される個々のグラファイトフレーク又はグラフェンプレートレットを含まず、グラフェン酸化物ゲルを５００℃超の温度で熱処理することにより得られることを特徴とする請求項１９に記載の単一グラフェン単位。
【請求項２１】
（ａ）流体媒体中に分散されたグラフェン酸化物分子を有し、光学的に透明又は半透明なグラフェン酸化物ゲルを調製する工程と、
（ｂ）支持基材の表面上に前記グラフェン酸化物ゲルの層を析出し、その上に析出グラフェン酸化物ゲルを形成する工程と、
（ｃ）前記析出グラフェン酸化物ゲル層から前記流体媒体を部分的又は完全に除去し、グラフェン酸化物層を形成する工程と、
（ｄ）５００℃超の温度で前記グラフェン酸化物層を熱処理し、単一グラフェン層又はグラフェン単結晶を形成する工程とを備えることを特徴とする単一グラフェン単位の製造方法。
【請求項２２】
前記グラフェン酸化物ゲルは、光学的に不透明な懸濁液を形成するために、反応容器内において、光学的に透明又は半透明なグラフェン酸化物ゲルを得るのに十分な時間、反応温度で粉末状又は繊維状のグラファイト材料を酸化液体中に含浸することにより調製され、前記グラフェン酸化物ゲルは、ｐＨが５以下の酸媒体中に分散されたグラフェン酸化物分子から構成され、前記グラフェン酸化物分子は、２０重量％以上の酸素含有率を有することを特徴とする請求項２１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月3日(2016.10.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
耐引掻性ガラス物品を形成する方法において、
反対の主面を有する、化学強化ガラスから構成されたガラス基板を提供する工程、および
第１の主面の大半を覆って光透過性の無機層を形成する工程であって、前記ガラス基板を５００℃未満の温度に加熱する工程を含む工程、
を有してなる方法。
【請求項２】
前記形成する工程が、反応性または非反応性スパッタリング、電子ビーム蒸発、化学蒸着またはプラズマ支援化学蒸着を含む、請求項１記載の方法。
【請求項３】
前記形成する工程が、前記ガラス基板を３００℃未満の温度に加熱する工程を含む、請求項１または２記載の方法。
【請求項４】
前記無機層が、約１分と約３００分の間の堆積時間および約０．１トルと約１００トルの間の加工圧力の１つ以上を使用して形成される、請求項１または２記載の方法。
【請求項５】
前記無機層が、約１０ｎｍから約２マイクロメートルに及ぶ厚さを有する、請求項１または２記載の方法。
【請求項６】
耐引掻性ガラス物品において、
反対の主面を有する、化学強化ガラスから構成されたガラス基板、および
第１の主面の大半を覆って形成された光透過性の低温堆積無機層、
を備え、該耐引掻性ガラス物品は、前記光透過性の低温堆積無機層が第１の主面の大半を覆って設けられていないガラス基板と比べた場合、バーコビッチ圧子および約１６０ｍＮまでの荷重を使用して引っ掻いたときに、引っ掻き傷の深さが少なくとも２０％減少している、耐引掻性ガラス物品。
【請求項７】
前記光透過性の低温堆積無機層が第１の主面の大半を覆って設けられていないガラス基板と比べた場合、バーコビッチ圧子および約１６０ｍＮまでの荷重を使用して引っ掻いたときに、引っ掻き傷の幅が少なくとも２０％減少している、請求項６記載の耐引掻性ガラス物品。
【請求項８】
前記無機層が、金属酸化物、金属窒化物、金属炭化物、金属ホウ化物またはそれらの組合せから構成され、前記金属が、Ｂ、Ａｌ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｙ、Ｚｒ、Ｎｂ、Ｍｏ、Ｓｎ、Ｈｆ、ＴａおよびＷからなる群より選択される、請求項６または７記載の物品。
【請求項９】
前記無機層が、少なくとも９ＧＰａのバーコビッチ圧子硬度を有する、請求項６または７記載の物品。
【請求項１０】
前記無機層が、前記ガラス基板の硬度より少なくとも１０％大きい硬度を有する、請求項９記載の物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月14日(2016.10.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５８】
実施例４の光学モデル化に使用した膜とガラス基板の屈折率値は、実験用膜、光反射率測定、および文献に公知の推定値から得た。これらの屈折率値は、材料とプロセスの選択に基づいて変えることができ、ここに特定した最適な膜厚に対して相補的な変更が必要であることが当業者に明白であろう。その上、表３における屈折率値のわずかな変動は、本開示の精神から逸脱せずに、材料とプロセスの変更によって達成できることが当業者に明白であろう。同様に、膜と基板の厚さと設計におけるわずかな変化は、本開示の精神から逸脱せずに、使用できる。さらに、実施例３およびモデル化実施例４における亀裂軽減層は、同様の屈折率を有する追加の材料からなるように選択することができ、ある場合には、ポリイミドを含まないことがある。例えば、実施例３および４における亀裂軽減層は、ナノ多孔質層、代わりの高分子材料、またはこの中の他の場所に述べられた他の材料からなることがある。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
物品において、
対向する主面を有し、第１の平均破壊歪みを有するガラス基板、
前記ガラス基板の第１の主面上に配置された、第１の弾性率を有する亀裂軽減層、および
前記亀裂軽減層上に配置された膜であって、前記第１の平均破壊歪みより小さい第２の平均破壊歪みおよび前記第１の弾性率より大きい第２の弾性率を有する膜、
を備え、
前記亀裂軽減層が、前記膜から始まる亀裂が、該亀裂軽減層および前記ガラス基板の１つ以上に橋渡しするときに、該亀裂の応力拡大係数を減少させる、物品。
【請求項２】
前記亀裂軽減層が、前記応力拡大係数を少なくとも約１０％減少させるか、または前記亀裂が前記ガラス基板に橋渡しするのに要する荷重を少なくとも約１０％増加させる、請求項１記載の物品。
【請求項３】
前記第１の弾性率が約５０ＧＰａ以下である、請求項１または２記載の物品。
【請求項４】
前記亀裂軽減層が、約１０体積％から約５０体積％の範囲の気孔率を有する多孔質材料から構成される、請求項１から３いずれか１項記載の物品。
【請求項５】
前記ガラス基板が、化学強化されており、約５００ＭＰａ超の圧縮応力および約１５μｍ超の圧縮応力層の深さを有する、請求項１から４いずれか１項記載の物品。
【請求項６】
物品において、
対向する主面を有するガラス基板であって、約０．５％超の第１の平均破壊歪みを有するガラス基板、
前記ガラス基板の第１の主面上に配置された、多孔質材料から構成された亀裂軽減層、および
前記亀裂軽減層上に配置された膜、
を備え、
前記亀裂軽減層が、前記膜および前記ガラス基板の一方で始まり、該亀裂軽減層に入る亀裂を、該亀裂軽減層内に留まらせる、物品。
【請求項７】
前記亀裂軽減層が、約１ＭＰａ・ｍ1/2以下の破壊靭性を示す、請求項６記載の物品。
【請求項８】
前記ガラス基板と前記亀裂軽減層が第１の界面を形成し、前記膜と前記亀裂軽減層が第２の界面を形成し、前記亀裂軽減層が、前記膜および前記ガラス基板の一方から始まる前記亀裂を前記第１の界面および前記第２の界面の一方または両方に実質的に平行な方向に該亀裂軽減層内に伝搬させるか、または前記膜および前記ガラス基板の一方から始まる前記亀裂を前記第１の界面または前記第２の界面のいずれかに実質的に沿って伝搬させる、請求項６または７記載の物品。
【請求項９】
前記亀裂軽減層が、ＳｉＯ、ＳｉＯx、ＳｉＯ2、Ａｌ2Ｏ3、ＡｌＮ、ＡｌＯxＮy、Ｓｉ3Ｎ4、ＳｉＯxＮy、ＳｉＡｌxＯyＮz、ＴｉＯ2、Ｎｂ2Ｏ5、Ｔａ2Ｏ5、ＺｒＯ2、ＧｅＯ2、ＳｉＣxＮy、ＳｉＣxＯyＮz、ＳｉＣ、Ｓｉ、Ｇｅ、インジウムスズ酸化物、酸化スズ、フッ素化酸化スズ、アルミニウム亜鉛酸化物、および酸化亜鉛の１つ以上から構成される、請求項６から８いずれか１項記載の物品。
【請求項１０】
物品において、
対向する主面を有するガラス基板であって、第１の平均破壊歪みを有するガラス基板、
前記ガラス基板の第１の主面上に配置されて、第１の界面を形成する亀裂軽減層、および
前記亀裂軽減層上に配置されて、第２の界面を形成する膜であって、前記第１の平均破壊歪みより小さい第２の平均破壊歪みを有する膜、
を備え、
前記膜から始まる亀裂が前記第２の界面を横切って橋渡しするのに必要な荷重が、該亀裂が前記第１の界面を横切って橋渡しするのに必要な荷重より大きい、物品。
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月7日(2016.10.7)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
自給式圧縮空気呼吸装置の使用の持続時間を延長するための方法であって、前記自給式圧縮空気呼吸装置が、酸素を含む加圧ガス混合物用の貯蔵タンクと、前記貯蔵タンクに接続された呼吸調整器であって、任意選択で前記貯蔵タンクと前記呼吸調整器の間に圧力調整器を挿入することができる、呼吸調整器と、マウスピースとを備える、前記方法が、直接的に連続する、
ａ）前記貯蔵タンクからの前記ガス混合物の吸入ステップと、
ｂ）呼吸ガス・リザーバへの前記ガス混合物の吐出ステップと、
ｃ）前記呼吸ガス・リザーバからの前記ガス混合物の吸入ステップと、
ｄ１）前記呼吸ガス・リザーバへの前記ガス混合物の吐出ステップ、又は
ｄ２）周囲への前記ガス混合物の吐出ステップと
を含む方法。
【請求項２】
ステップａ）及びｂ）による呼吸周期とステップｃ）及びｄ２）による呼吸周期が交互に生じることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
ステップａ）及びｂ）による呼吸周期の後で、ステップｃ）及びｄ１）による少なくとも１回の呼吸周期並びに最後にステップｃ）及びｄ２）による呼吸周期が生じることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
ステップｃ）及びｄ１）による呼吸周期の数が、少なくとも１つの環境要因、より具体的には周囲圧力の関数として選択されることを特徴とする、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
１：２、１：３、又は１：４というステップａ）及びｂ）による前記呼吸周期とステッ
プｃ）及びｄ１）による呼吸周期の数の比が選択されることを特徴とする、請求項３又は
４に記載の方法。
【請求項６】
吐出中に、前記マウスピースが、任意選択で、切り換えデバイスによって前記呼吸ガス・リザーバ又は周囲のどちらかに接続され、前記切り換えデバイスが吸気流又は呼気流によって動作させられることを特徴とする、請求項１から５までのいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
弁デバイス（５）と呼吸ガス・リザーバ（９）とを備え、前記弁デバイス（５）が、マウスピース（６）に接続するための少なくとも１つの吐出／吸入接続部（１５）と、呼吸調整器接続部（１４）と、吐出用開口（７）とを有し、少なくとも１つの接続ライン（８；２１、２２）を介して前記呼吸ガス・リザーバ（９）と接続される、自給式圧縮空気呼吸装置の使用の持続時間を延長するためのデバイスであって、
前記弁デバイス（５）が、前記弁デバイス（５）を第１の位置と第２の位置の間で呼吸依存的な様式で切り換えるために切り換えデバイスと相互作用し、前記第１の位置では、前記吐出／吸入接続部（１５）が、吸入のために前記呼吸調整器接続部（１４）に、及び吐出のために前記呼吸ガス・リザーバ（９）と接続され、前記第２の位置では、前記吐出／吸入接続部（１５）が、吸入のために前記呼吸ガス・リザーバ（９）に、及び吐出のために前記吐出用開口（７）に接続されることを特徴とする、デバイス。
【請求項８】
前記弁デバイス（５）が、第１の接続ライン（２２）を介して、及び前記第１の接続ライン（２２）と平行な第２の接続ライン（２１）を介して前記呼吸ガス・リザーバ（９）に接続され、前記第１の位置では、前記吐出／吸入接続部（１５）が、吸入のために前記呼吸調整器接続部（１４）と、及び吐出のために前記第１の接続ライン（２２）を介して前記呼吸ガス・リザーバ（９）と接続され、前記第２の位置では、前記吐出／吸入接続部（１５）が、吸入のために前記第２の接続ライン（２１）を介して吸入の前記呼吸ガス・リザーバ（９）と、吐出のために前記吐出用開口（７）と接続されることを特徴とする、請求項７に記載のデバイス。
【請求項９】
前記切り換えデバイスが、正確に１回の呼吸の持続時間にわたって前記弁デバイス（５）を前記第１の位置に保ち、前記１回の呼吸の後で前記弁デバイス（５）を前記第２の位置に切り換え、少なくとも１回のさらなる呼吸にわたって前記弁デバイス（５）を前記第２の位置に保つように設計されることを特徴とする、請求項７又は８に記載のデバイス。
【請求項１０】
前記切り換えデバイスが、各呼吸時に前記弁デバイス（５）を切り換えるように設計されることを特徴とする、請求項７、８、又は９に記載のデバイス。
【請求項１１】
前記切り換えデバイスが、１：２、１：３、及び／又は１：４の呼吸比で前記弁デバイス（５）を切り換えるように設計されることを特徴とする、請求項７、８、又は９に記載のデバイス。
【請求項１２】
呼吸比が調整可能であることを特徴とする、請求項１０又は１１に記載のデバイス。
【請求項１３】
呼吸比が周囲パラメータの関数として調整可能であるように、前記切り換えデバイスと相互作用する、前記周囲パラメータ用のセンサが設けられることを特徴とする、請求項７から１２までのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１４】
前記切り換えデバイスが、呼気流／吸気流によって動作できるスイッチング要素（１７）を備えることを特徴とする、請求項７から１３までのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１５】
前記弁デバイス（５）が、ハウジング内に回転可能に装着され前記スイッチング要素（１７）によって動作できる回転ピストン（２５）を備えることを特徴とする、請求項１４に記載のデバイス。
【請求項１６】
前記第１の位置から前記第２の位置に切り換わると前記回転ピストン（２５）が９０°の角度回転するように、前記切り換えデバイスが、前記回転ピストン（２５）と相互作用することを特徴とする、請求項１５に記載のデバイス。
【請求項１７】
前記回転ピストン（２５）が、前記第１の位置にある前記吐出／吸入接続部（１５）を第１の接続ライン（２２）を介して前記呼吸ガス・リザーバ（９）に接続し、前記第２の位置にある前記吐出／吸入接続部（１５）を第２の接続ライン（２１）を介して前記呼吸ガス・リザーバ（９）に接続するために、回転の軸線と直角に走行する貫通孔（２７）を有することを特徴とする、請求項１６に記載のデバイス。
【請求項１８】
ソーダ石灰フィルタ（１０）が前記第１の接続ライン（２２）に配置されることを特徴とする、請求項８から１７までのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項１９】
安全弁（１１）が前記第１の接続ライン（２２）に接続されることを特徴とする、請求項８から１８までのいずれか一項に記載のデバイス。
【請求項２０】
酸素を含む圧縮ガス混合物用の貯蔵タンク（１）と、前記貯蔵タンク（１）に接続された呼吸調整器であって、任意選択で前記貯蔵タンク（１）と前記呼吸調整器の間に圧力調整器（２）を挿入することができる、呼吸調整器と、マウスピース（６）と、請求項７から１９までのいずれか一項に記載のデバイスとを備えた自給式圧縮空気呼吸装置であって、前記吐出／吸入接続部（１５）が前記マウスピースと接続され、前記呼吸調整器接続部（１４）が前記呼吸調整器（４）と接続される、自給式圧縮空気呼吸装置。
【請求項２１】
請求項１から６までのいずれか一項に記載の方法を実施するための、請求項２０に記載の圧縮空気呼吸装置の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月25日(2015.11.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
手動式での解除及び再作動を伴ったばね作動式駐車ブレーキにおいて、
シリンダ壁部と、第２の壁部と反対側に設けられる第１の壁部とを有する空気圧シリンダと、
前記空気圧シリンダ内で移動可能であり、且つ前記シリンダ壁部に対して封止されるピストンと、
前記空気圧シリンダの圧力が減らされた場合に前記ピストンを前記第１の壁部に対して付勢するように、前記ピストンと前記第２の壁部との間に延在する少なくとも１つのばねと、
前記ばねに抗して前記ピストンを前記第２の壁部に向かって移動させるように圧力を加えるための空気圧導入口と、
手動式ハンドホイールと、
手動式リセット機構の動作に作用するように前記手動式ハンドホイールに動作可能に接続されるスピンドル軸と、
前記手動式リセット機構に接続され、且つ前記空気圧シリンダ及び前記第１の壁部を通って延在するプッシュロッドと
を備え、
前記手動式ハンドホイールが手動で回転されると、前記手動式リセット機構は、回転され、且つ、前記手動式ハンドホイールの回転方向に対応するように前記プッシュロッドを前記ピストンに対して移動させ、
前記手動式リセット機構は、前記スピンドル軸の第１の端部にスライド可能に接続される第１の端部と前記プッシュロッドに接続される第２の端部とを有するねじ付きシャフトと、前記ねじ付きシャフトと回転可能に係合するボールねじナットとを含み、
前記スピンドル軸の第２の端部は、解除ピン機構へ係合する請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項２】
前記ボールねじナットは、前記ピストンに対して固定して配置される請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項３】
前記ねじ付きシャフトは、中空であり、且つ、前記スピンドル軸を通って延在するキーにスライド可能に係合するキー溝を含む請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項４】
前記ボールねじナットは、前記ピストンに連結されたスリーブ内に設置される請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項５】
前記少なくとも１つのばねは、一対の同軸にあるばねである請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項６】
前記手動式ハンドホイールは、第２の傘歯車に係合する第１の傘歯車を有するギヤボックスに接続される請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項７】
前記第１及び第２の傘歯車は、直線的な歯部又はスパイラルな歯部を有する請求項６に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項８】
前記スピンドル軸の第２の端部は、解除ピン機構への解除可能な係合を受ける歯付き爪車を有する請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項９】
前記解除ピン機構は、前記歯付き爪車と選択的に係合可能であるばね負荷引き出しピンを含む請求項８に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項１０】
前記手動式ハンドホイールは、第２のシャフト部分と選択的に係合可能な第１のシャフト部分を有するシャフトによってギヤボックスに接続される、又は、ギヤボックス内の選択的に係合可能なギヤによって前記ギヤボックスに接続される請求項１に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項１１】
前記第１のシャフト部分及び前記第２のシャフト部分は、ばね負荷機構を介して選択的に係合することができる請求項１０に記載のばね作動式駐車ブレーキ。
【請求項１２】
鉄道車両用の駐車ブレーキにおいて、
シリンダ壁部と、第２の壁部と反対側に設けられる第１の壁部とを有する空気圧シリンダと、
前記空気圧シリンダ内で移動可能であり、且つ前記シリンダ壁部に対して封止されるピストンと、
前記空気圧シリンダの圧力が減らされた場合に前記ピストンを前記第１の壁部に対して付勢するように、前記ピストンと前記第２の壁部との間に延在する少なくとも１つのばねと、
前記ばねに抗して前記ピストンを前記第２の壁部に向かって移動させるように圧力を加えるための空気圧導入口と、
手動式ハンドホイールと、
手動式リセット機構の動作に作用するように前記手動式ハンドホイールに動作可能に接続されるスピンドル軸であって、前記手動式リセット機構が、前記スピンドル軸の第１の端部にスライド可能に接続される第１の端部とプッシュロッドに接続される第２の端部とを伴ったねじ付きシャフトと、前記ねじ付きシャフトと回転可能に係合するボールねじナットとを有する、スピンドル軸と、
前記手動式リセット機構に接続され、且つ前記空気圧シリンダ及び前記第１の壁部を通って延在する前記プッシュロッドと
を備え、
前記手動式ハンドホイールが手動で回転されると、前記手動式リセット機構は、回転され、且つ、前記手動式ハンドホイールの回転方向に対応するように前記プッシュロッドを前記ピス１３トンに対して移動させる、駐車ブレーキ。
【請求項１３】
前記ねじ付きシャフトは、中空であり、且つ、前記スピンドル軸を通って延在するキーにスライド可能に係合するキー溝を含む請求項１２に記載の駐車ブレーキ。
【請求項１４】
前記ボールねじナットは、前記ピストンに対して固定して配置される請求項１２に記載の駐車ブレーキ。
【請求項１５】
前記ボールねじナットは、前記ピストンに連結されたスリーブ内に設置される請求項１２に記載の駐車ブレーキ。
【請求項１６】
前記少なくとも１つのばねは、一対の同軸にあるばねである請求項１２に記載の駐車ブレーキ。
【請求項１７】
前記手動式ハンドホイールは、第２の傘歯車に係合する第１の傘歯車を有するギヤボックスに接続される請求項１２に記載の駐車ブレーキ。
【請求項１８】
前記手動式ハンドホイールは、第２のシャフト部分と選択的に係合可能な第１のシャフト部分を有するシャフトによってギヤボックスに接続される、又は、ギヤボックス内の選択的に係合可能なギヤによって前記ギヤボックスに接続される請求項１２に記載の駐車ブレーキ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月4日(2016.4.4)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯の修復部材をはめ込むための複数のインプラント（２、３、４、５）及び／又は複数の調製物を含む、歯の状況（１）の測定方法であり、第１の測定方法を使用して前記歯の状況（１）の第１の範囲（１３）を検出し、このとき第１の測定データが生成され、前記第１の範囲（１３）が少なくとも２つのインプラント（２、３、４、５）及び／又は調製物を含み、対象範囲（１７、１８、１９、２０）が前記インプラント（２、３、４、５）及び／又は前記調製物の周りに設定され、第２の測定方法を使用して、設定された対象範囲（１７、１８、１９、２０）を検出し、このとき第２の測定データが生成され、前記第２の測定方法は前記第１の測定方法よりも精密であり、前記第１の測定データ及び前記第２の測定データが、前記歯の状況（１）の重ね合わされた記録（３２）にまとめられる方法であって、設定された対象範囲（１７、１８、１９、２０）の第２の測定データに基づき、前記インプラント（２、３、４、５）及び／又は前記調製物の位置及び向きが相互に関連して、及び前記歯（７）に対して相対的に検出されることを特徴とする、方法。
【請求項２】
前記対象範囲（１７、１８、１９、２０）が使用者によって手動で設定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記対象範囲（１７、１８、１９、２０）が、サーチアルゴリズムによって自動的に設定されることを特徴とする、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１の測定方法が、パターン投影法、共焦点の顕微鏡検査法、白色干渉法、カラーパターンによる三角測量法又は三次元のレントゲン撮影法に基づくことを特徴とする、請求項１乃至３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
より精密な第２の測定方法が三角測量法及びパターン投影法に基づくものであり、少なくとも撮影する前記対象範囲（１７、１８、１９、２０）があらかじめ除塵されることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
より精密な第２の測定方法が三角測量法に基づくものであり、前記三角測量法では、第２の三角測量角が、前記第１の測定方法の第１の三角測量角よりも小さく選択されているため、前記第２の測定データに対する精度要件が満たされていることを特徴とする、請求項４又は５に記載の方法。
【請求項７】
より精密な第２の測定方法が、マルチカメラシステム（２９）によって実行されるとともに、写真測量法に基づくものであることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
より精密な第２の測定方法が、触覚的な走査スキャナを使用して、前記対象範囲の個々の走査によって実行されることを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
より精密な第２の測定方法が、前記第１の測定方法の場合よりも高い解像度を有する三次元のレントゲン撮影法に基づくことを特徴とする、請求項１乃至４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
より精密な第２の測定方法が、マルチカメラシステム（２９）によって実行されるとともに写真測量法に基づいており、前記対象範囲（１７、１８、１９、２０）が前記マルチカメラシステム（２９）の個々の撮影ごとに設定され、続いて、前記個々の撮影に基づく前記対象範囲（１７、１８、１９、２０）の第２の測定データに基づいて、前記対象範囲（１７、１８、１９、２０）の三次元的な記録がコンピュータアルゴリズムによって再構成されることを特徴とする、請求項１乃至６のいずれか１項に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月19日(2016.5.19)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
衣服処理用の衣服処理スタンドであって、
−  基部と、
−  前記基部と結合し、該基部から上方へ伸張する間隔を隔てた一対のフレーム部材を含む開放フレームと、
−  前記一対のフレーム部材の間でぴんと張って伸張され、アイロン、及び／又は、手持型衣服スチーマにより衣服処理中に押し当てるための支持面を提供するための可撓性支持面と、
を含む、衣服処理スタンド。
【請求項２】
前記開放フレームが、前記可撓性支持面のエリアを、前記エリアの少なくとも５０％空いたままにし、特に、前記開放フレームが、前記エリアを少なくとも９０％空いたままにする、請求項１に記載の衣服処理スタンド。
【請求項３】
前記可撓性支持面が少なくとも１つの多孔質層を含む、請求項１又は２に記載の衣服処理スタンド。
【請求項４】
前記可撓性支持面が少なくとも部分的に蒸気透過性である、請求項１乃至３のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項５】
前記可撓性支持面が少なくとも部分的に蒸気反射性である、請求項１乃至４のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項６】
前記可撓性支持面が、３Ｄファブリック、連続気泡材料、メッシュファブリック、及び網状ファブリック、又はこれらの組み合わせから成る群より選択される層を含む、請求項１乃至５のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項７】
前記可撓性支持面が前記開放フレームから取り外し可能である、請求項１乃至６のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項８】
前記可撓性支持面の保管場所を更に含む、請求項１乃至７のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項９】
前記可撓性支持面は、一端が前記開放フレームの端部に設けられたロールに取り付けられた蒸気透過性の可撓性材料のストリップを含み、前記蒸気透過性の可撓性材料のストリップは、非伸張状態で前記ロールに巻き付けられ、また、伸張状態で前記ロールから少なくとも部分的に解かれて、前記開放フレームの反対端へ伸張する、請求項１乃至８のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項１０】
前記可撓性支持面が、その周縁に、前記開放フレーム内において前記可撓性支持面を伸張するための、特に、前記開放フレーム内においてぴんと張られる態様で伸張させるための開放フレーム取付設備を含む、請求項１乃至９のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項１１】
蒸気透過性の可撓性材料のストリップが長手方向の側部を有し、その長手方向の側部において、前記蒸気透過性の可撓性材料のストリップに、前記蒸気透過性の可撓性材料のストリップを伸張状態で前記開放フレームに取り付けるための更なる取付設備が設けられている、請求項９又は１０に記載の衣服処理スタンド。
【請求項１２】
前記可撓性支持面がテキスタイル層である、請求項１乃至１１のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項１３】
前記可撓性支持面が、蒸気透過性の可撓性材料のストリップを含み、前記蒸気透過性の可撓性材料のストリップが長手方向の側部を有し、その長手方向の側部において、前記蒸気透過性の可撓性材料のストリップに、前記蒸気透過性の可撓性材料のストリップを伸張状態で前記開放フレームに取り付けるための更なる取付設備が設けられている、請求項１乃至１２のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【請求項１４】
前記可撓性支持面が収納可能である、請求項１乃至１３のいずれか一項に記載の衣服処理スタンド。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月28日(2016.6.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
プロテーゼにおいて、
単一層の固体材料から成る半関節形成カップを備え、前記半関節形成カップが、
リーマ加工された、またはリーマ加工されていない大腿骨の大腿骨頭の大腿骨頭外面に適合する形状およびサイズの内面、および
臼蓋窩のリーマ加工された、またはリーマ加工されていない寛骨臼外面に適合する形状およびサイズの外面であって、植え込み後に、前記半関節形成カップが、前記大腿骨頭外面および前記臼蓋窩の前記半関節形成カップに対する関節接合のゆとりを維持するように構成された、外面を有することを特徴とする、プロテーゼ。
【請求項２】
プロテーゼにおいて、
内面および外面を有する少なくとも部分的に半球型のカップであって、前記内面が、大腿骨のリーマ加工された大腿骨頭外面に適合する形状およびサイズであり、前記外面が、臼蓋窩のリーマ加工された、またはリーマ加工されていない寛骨臼外面および半関節形成カップの内面の少なくとも一方に適合する形状およびサイズである、半球型カップと、
前記半球型カップの一部と係合して前記半球型カップを前記大腿骨頭外面に固定するための、前記大腿骨に固定可能なファスナと、を備えることを特徴とする、プロテーゼ。
【請求項３】
プロテーゼにおいて、
カップ型大腿骨頭プロテーゼと、
内面および外面を有する単一の半関節形成カップと、を備え、前記内面が、前記カップ型大腿骨頭プロテーゼに回動可能に係合して関節接合する形状およびサイズであり、前記外面が、臼蓋窩のリーマ加工された、またはリーマ加工されていない寛骨臼外面に回動可能に係合して関節接合する形状およびサイズであることを特徴とする、プロテーゼ。
【請求項４】
前記半関節形成カップが、固定支援手段を用いて前記臼蓋窩に固定されないことを特徴とする、請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項５】
前記半関節形成カップの外面が、前記リーマ加工された寛骨臼外面に適合する形状およびサイズである、請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項６】
前記半関節形成カップの外面が、前記リーマ加工されていない寛骨臼外面に適合する形状およびサイズである、請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項７】
前記固体材料が、コバルトクロム、鋼またはアルミニウムを含む、請求項１に記載のプロテーゼ。
【請求項８】
前記半関節形成カップが、ポリエチレン、コバルトクロム、鋼またはアルミニウムの一体物である、請求項３に記載のプロテーゼ。
【請求項９】
前記カップ型大腿骨頭プロテーゼの内面から延びるファスナシャフトを更に備える、請求項３に記載のプロテーゼ。
【請求項１０】
前記ファスナシャフトが、
受容開口において前記カップ型大腿骨頭プロテーゼに固定されるねじ端部と、
前記ねじ端部と反対側の前記ファスナシャフトの端部に配置された固定ヘッドと、
を備える、請求項９に記載のプロテーゼ。
【請求項１１】
前記ファスナシャフトが、カニューレ挿入されている、請求項９に記載のプロテーゼ。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月14日(2016.7.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
歯へのボンディングに適合した外表面を有するベースと、
該ベースの該外表面から遠ざかる方向に、該ベースから外向きに延在し、かつ内部に概ね近心側−遠心側方向に沿って延在する細長いアーチワイヤースロットを有する本体であって、該アーチワイヤースロットが、底壁及び１対の側壁を有し、前記本体は、前記本体の咬合側又は歯肉側のいずれかにアンダーカットを更に含む、本体と、
該本体に連結され、かつ概ね近心側−遠心側方向に沿って延びるヒンジ軸を有する、ヒンジと、
該アーチワイヤースロットへのアクセスが可能な開放位置と、該アーチワイヤースロットへのアクセスを遮断する閉鎖位置との間で、該ヒンジ軸に沿って枢動可能なドアアセンブリと、を備える歯科矯正装具であって、
前記ドアアセンブリは、
前記ドアアセンブリが閉鎖位置にあるときに前記クリップを実質的に覆い隠すセラミック製結紮カバーと、
該結紮カバー及び該ヒンジの一方又は両方に連結された弾性クリップと、を備え、
前記クリップは、前記底壁から遠ざかる方向に変形可能であり、
前記クリップは、前記ドアアセンブリが閉鎖位置にあるとき、前記アンダーカットによる締りばめによって保持されるフック部を含み、
前記クリップの変形により、前記アンダーカットから前記フック部を係合解除するのに必要な力が実質的に増加する、歯科矯正装具。
【請求項２】
前記ドアアセンブリが、前記ドアアセンブリが閉鎖位置にあるときに、前記フック部と前記結紮カバーによって共同して画定される凹部を更に備え、該凹部が、前記ドアアセンブリを操作する手持ち器具の先端を収容するのに十分な大きさを有する、請求項１に記載の装具。
【請求項３】
前記ドアアセンブリの閉鎖位置から開放位置への切り替えに、前記アーチワイヤースロットにおいて前記ドアアセンブリに加えられる場合の第１の最小の力、及び前記凹部において前記ドアアセンブリに加えられる場合の第２の最小の力が必要とされ、該第１の最小の力が、該第２の最小の力の約２．５倍を超える、請求項２に記載の装具。
【請求項４】
底壁と、１対の側壁と、を有する、細長いアーチワイヤースロットを内部に有する本体と、結紮カバーと並んで設けられる弾性クリップを備え、該結紮カバーと該弾性クリップとの間に空隙を形成する、ラッチ式のドアアセンブリと、該本体とドアアセンブリとを相互連結するヒンジと、を有する、歯科矯正装具においてアーチワイヤーを能動化する方法であって、
該アーチワイヤースロット内に該アーチワイヤーを配置する工程と、
該クリップが、該本体にラッチ留めされるまで、該ヒンジを中心に該ドアアセンブリを枢動させる工程であって、該クリップが、該アーチワイヤーを該アーチワイヤースロットの底部へ向かって付勢する圧縮力を加えながら、該クリップが、該空隙の中へと弾性的に変形する、工程と、を含み、
前記ドアアセンブリの閉鎖位置から開放位置へのラッチ解除に、前記アーチワイヤースロットにおいて実質的に前記底壁に垂直な方向に加えられる第１の最小の力、及び前記クリップの末端において、同様に、実質的に前記底壁に垂直な方向に加えられる第２の最小の力が必要とされ、該第１の最小の力が、該第２の最小の力の約２．５倍を超える、方法。