【手続補正書】
【提出日】平成27年11月9日(2015.11.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
溶融ブレンドされたポリアミド組成物から形成される研磨フィラメントであって、前記ポリアミド組成物は、前記組成物の全成分の総重量％が１００重量％である場合、
（ｉ）少なくとも１つのポリアミドと、
（ｉｉ）１０００ダルトン以下の分子量を有する０．１〜１重量％の少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物と、
（ｉｉｉ）０．１〜１重量％の少なくとも１つの抗酸化剤と、
（ｉｖ）１０〜４０重量％の研磨粒子と、
を含む研磨フィラメント。
【請求項２】
前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物は、前記ポリアミド組成物の総重量に基づいて、０．２〜０．７重量％の濃度で前記ポリアミド組成物に存在し、且つ、
前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物は、ビス−ラクタム化合物、ビス−オキサゾリン化合物、ビス−オキサジン化合物、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又は好ましくは、前記ビス−ラクタム化合物は、Ｎ，Ｎ’−イソフタロイルビス−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ’−アジポイルビス−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ’−テレフタロイルビス−ラウロラクタム、Ｎ，Ｎ’−イソフタロイルビス−ブチロラクタム、カルボニルビス−カプロラクタム、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、且つ、前記ビス−オキサゾリン化合物及び前記ビス−オキサジン化合物は、２，２’−ビス（２−オキサゾリン）、２，２−ビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２’−ビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、２，２’−ビス（４−ヘキシルオキサゾリン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−テトラメチレンビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、これらに対応するオキサジン、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又はより好ましくは、前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物は、カルボニルビス−カプロラクタムである、請求項１に記載の研磨フィラメント。
【請求項３】
前記少なくとも１つの抗酸化剤は、立体障害性フェノールから選択され、又は好ましくは、前記少なくとも１つの抗酸化剤は、ペンタエリトリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ターシャリー−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート、３，３’，３’，５，５’，５’−ヘキサ−ターシャリー−ブチル−α，α’，α’−（メシチレン−２，４−，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス（３−（３，５−ジ−ターシャリー−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド））、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ターシャリー−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又はより好ましくは、前記少なくとも１つの抗酸化剤は、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス（３−（３，５−ジ−ターシャリー−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド））であり、且つ、
前記研磨粒子は、有機系研磨粒子、無機系研磨粒子、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、又は好ましくは、前記研磨粒子は、酸化アルミニウム、アルファアルミナ、炭化ケイ素、二ホウ化チタン、アルミナジルコニア、ダイヤモンド、炭化ホウ素、セリア、珪酸アルミニウム、立方晶窒化ホウ素、ガーネット、シリカ、軽石、砂、エメリー、マイカ、コランダム、石英、及びこれらの２つ以上の組み合わせに基づく粒子からなる群から選択される、請求項１又は２に記載の研磨フィラメント。
【請求項４】
前記少なくとも１つのポリアミドは、脂肪族ポリアミドから選択され、又は好ましくは、前記少なくとも１つのポリアミドは、ポリアミド４，６、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０、ポリアミド６，１２、ポリアミド６，１３、ポリアミド６，１４、ポリアミド６，１５、ポリアミド６，１６、ポリアミド９，１０、ポリアミド９，１２、ポリアミド９，１３、ポリアミド９，１４、ポリアミド９，１５、ポリアミド９，３６、ポリアミド１０，１０、ポリアミド１０，１２、ポリアミド１０，１３、ポリアミド１０，１４、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリアミド１２，１０、ポリアミド１２，１２、ポリアミド１２，１３、ポリアミド１２，１４、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又はより好ましくは、前記少なくとも１つの脂肪族ポリアミドは、ポリアミド６，１０、ポリアミド６，１２、及びこれらの組み合わせから選択される、請求項１から３のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
【請求項５】
前記研磨フィラメントは、連続溶融紡糸プロセスによって調製され、且つ、前記プロセスは、
（ｉ）前記少なくとも１つのポリアミドと、前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物と、前記少なくとも１つの抗酸化剤と、をブレンドして混合物にする工程と、
（ｉｉ）前記研磨粒子が１つ以上のサイドフィーダーを通して押し出し成形機の中に加えられ、前記押し出し成形機を通して前記混合物を通過させる工程と、
（ｉｉｉ）前記押し出し成形機から出てくる前記組成物を溶融紡糸してフィラメントにする工程と、
を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
【請求項６】
前記研磨フィラメントは、２工程溶融紡糸プロセスによって調製され、且つ、前記プロセスは、
（ｉｖ）前記少なくとも１つのポリアミドと、前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物と、前記少なくとも１つの抗酸化剤と、を溶融配合して樹脂ペレットにする工程と、
（ｖ）前記研磨粒子が１つ以上のサイドフィーダーを通して押し出し成形機の中に加えられ、前記押し出し成形機を通して前記樹脂ペレットを通過させる工程と、
（ｖｉ）前記押し出し成形機から出てくる前記組成物を溶融紡糸してフィラメントにする工程と、
を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
【請求項７】
請求項１から４のいずれか一項に記載の複数の研磨フィラメントを含む工業用ブラシ。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７１】
更に、前述で開示された研磨フィラメントを含む工業用ブラシが、本明細書において開示される。本明細書において開示される工業用ブラシは、シリコンインゴット、石材、又は金属部品を研磨及び／又は磨き上げることに使用されることができる。一実施形態においては、本明細書において開示される工業用ブラシは、シリコンインゴットを磨き上げることに使用される。シリコンインゴットを磨き上げることに使用される際、従来技術の研磨フィラメントを含む工業用ブラシは、インゴットの縦方向末端で末端が極端に丸くなる場合が多く、このため、シリコンウェハーの生産速度が低下する。しかしながら、本明細書において開示される研磨フィラメントに使用される基準ポリアミド組成物の向上した曲げ弾性率及び剛性のため、末端が丸くなる影響を低減することができ、この結果、シリコンウェハーの生産速度は向上するであろう。
なお、本発明は、特許請求の範囲を含め、以下の発明を包含する。
１．溶融ブレンドされたポリアミド組成物から形成される研磨フィラメントであって、前記ポリアミド組成物は、前記組成物の全成分の総重量％が１００重量％である場合、
（ｉ）少なくとも１つのポリアミドと、
（ｉｉ）１０００ダルトン以下の分子量を有する０．１〜１重量％の少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物と、
（ｉｉｉ）０．１〜１重量％の少なくとも１つの抗酸化剤と、
（ｉｖ）１０〜４０重量％の研磨粒子と、
を含む研磨フィラメント。
２．前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物は、ビス−ラクタム化合物、ビス−オキサゾリン化合物、ビス−オキサジン化合物、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又は好ましくは、前記ビス−ラクタム化合物は、Ｎ，Ｎ’−イソフタロイルビス−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ’−アジポイルビス−カプロラクタム、Ｎ，Ｎ’−テレフタロイルビス−ラウロラクタム、Ｎ，Ｎ’−イソフタロイルビス−ブチロラクタム、カルボニルビス−カプロラクタム、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、且つ、前記ビス−オキサゾリン化合物及び前記ビス−オキサジン化合物は、２，２’−ビス（２−オキサゾリン）、２，２−ビス（４−メチル−２−オキサゾリン）、２，２’−ビス（４−フェニル−２−オキサゾリン）、２，２’−ビス（４−ヘキシルオキサゾリン）、２，２’−ｐ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−ｍ−フェニレンビス（２−オキサゾリン）、２，２’−テトラメチレンビス（４，４’−ジメチル−２−オキサゾリン）、これらに対応するオキサジン、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又はより好ましくは、前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物は、カルボニルビス−カプロラクタムである、１に記載の研磨フィラメント。
３．前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物は、前記ポリアミド組成物の総重量に基づいて、０．２〜０．７重量％の濃度で前記ポリアミド組成物に存在する、１又は２に記載の研磨フィラメント。
４．前記少なくとも１つの抗酸化剤は、立体障害性フェノールから選択され、又は好ましくは、前記少なくとも１つの抗酸化剤は、ペンタエリトリトールテトラキス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオナート、３，３’，３’，５，５’，５’−ヘキサ−ｔｅｒｔ−ブチル−α，α’，α’−（メシチレン−２，４−，６−トリイル）トリ−ｐ−クレゾール、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド））、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）−プロピオナート、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又はより好ましくは、前記少なくとも１つの抗酸化剤は、Ｎ，Ｎ’−ヘキサン−１，６−ジイルビス（３−（３，５−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニルプロピオンアミド））である、１から３のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
５．前記少なくとも１つの抗酸化剤は、前記ポリアミド組成物の総重量に基づいて、０．２〜０．７重量％の濃度で前記ポリアミド組成物に存在する、１から４のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
６．前記研磨粒子は、有機系研磨粒子、無機系研磨粒子、及びこれらの組み合わせからなる群から選択され、又は好ましくは、前記研磨粒子は、酸化アルミニウム、アルファアルミナ、炭化ケイ素、二ホウ化チタン、アルミナジルコニア、ダイヤモンド、炭化ホウ素、セリア、珪酸アルミニウム、立方晶窒化ホウ素、ガーネット、シリカ、軽石、砂、エメリー、マイカ、コランダム、石英、及びこれらの２つ以上の組み合わせに基づく粒子からなる群から選択される、１から５のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
７．前記少なくとも１つのポリアミドは、脂肪族ポリアミドから選択され、又は好ましくは、前記少なくとも１つのポリアミドは、ポリアミド４，６、ポリアミド６、ポリアミド６，６、ポリアミド６，１０、ポリアミド６，１２、ポリアミド６，１３、ポリアミド６，１４、ポリアミド６，１５、ポリアミド６，１６、ポリアミド９，１０、ポリアミド９，１２、ポリアミド９，１３、ポリアミド９，１４、ポリアミド９，１５、ポリアミド９，３６、ポリアミド１０，１０、ポリアミド１０，１２、ポリアミド１０，１３、ポリアミド１０，１４、ポリアミド１１、ポリアミド１２、ポリアミド１２，１０、ポリアミド１２，１２、ポリアミド１２，１３、ポリアミド１２，１４、及びこれらの２つ以上の組み合わせからなる群から選択され、又はより好ましくは、前記少なくとも１つの脂肪族ポリアミドは、ポリアミド６，１０、ポリアミド６，１２、及びこれらの組み合わせから選択される、１から６のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
８．前記少なくとも１つのポリアミドは、２．３〜５、又は好ましくは２．３〜４、又はより好ましくは２．３〜３．５の相対粘度を有する、１から７のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
９．前記少なくとも１つのポリアミドは、前記ポリアミド組成物の総重量に基づいて、６０〜９０重量％、又は好ましくは６０〜８０重量％、又はより好ましくは６０〜７５重量％の濃度で前記ポリアミド組成物に存在する、１から８のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
１０．前記研磨フィラメントは、連続溶融紡糸プロセスによって調製され、且つ、前記プロセスは、
（ｉ）前記少なくとも１つのポリアミドと、前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物と、前記少なくとも１つの抗酸化剤と、をブレンドして混合物にする工程と、
（ｉｉ）前記研磨粒子が１つ以上のサイドフィーダーを通して押し出し成形機の中に加えられ、前記押し出し成形機を通して前記混合物を通過させる工程と、
（ｉｉｉ）前記押し出し成形機から出てくる前記組成物を溶融紡糸してフィラメントにする工程と、
を含む、１から９のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
１１．前記研磨フィラメントは、２工程溶融紡糸プロセスによって調製され、且つ、前記プロセスは、
（ｉ）前記少なくとも１つのポリアミドと、前記少なくとも１つの直鎖型の鎖延長化合物と、前記少なくとも１つの抗酸化剤と、を溶融配合して樹脂ペレットにする工程と、
（ｉｉ）前記研磨粒子が１つ以上のサイドフィーダーを通して押し出し成形機の中に加えられ、前記押し出し成形機を通して前記樹脂ペレットを通過させる工程と、
（ｉｉｉ）前記押し出し成形機から出てくる前記組成物を溶融紡糸してフィラメントにする工程と、
を含む、１から９のいずれか一項に記載の研磨フィラメント。
１２．１から９のいずれか一項に記載の複数の研磨フィラメントを含む工業用ブラシ。
１３．シリコンインゴット、石材、又は金属部品を研磨及び／又は磨き上げることにおける１２に記載の工業用ブラシの使用、又は好ましくは、シリコンインゴットを研磨及び／又は磨き上げることにおける前記工業用ブラシの使用。