【手続補正書】
【提出日】平成28年6月22日(2016.6.22)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
加飾エレメント（２）であって、前記加飾エレメント（２）は、入射光及び／または透過光で光学効果を生じるマイクロ構造（４）を有し、前記マイクロ構造（４）は、第一のエリア（３１、３２）において、一つのベース表面（４０）と、それぞれが前記ベース表面（４０）に対して隆起または沈降するエレメント表面（４１１）及び前記エレメント表面（４１１）と前記ベース表面（４０）との間に配置される傾斜面（４１０）を有する複数のベースエレメント（４１）とを有し、前記マイクロ構造の前記ベース表面（４０）が、座標軸x及びyにより広がるベース平面を規定し、前記ベースエレメント（４１）の前記エレメント表面（４１１）が、それぞれ前記ベース平面に平行であり、前記第一のエリア（３１、３２）の少なくとも一つ以上の第一のゾーン（３３３、３５１）において、前記ベースエレメント（４１）の前記エレメント表面（４１１）と前記ベース表面（４０）とが、座標軸zの方向における前記ベース平面に垂直な方向において、第一の距離（６１）で離間し、前記第一の距離が、特に前記ベース平面と前記エレメント表面とで反射される入射光の光の干渉によって、及び／または、特に前記エレメント表面及び前記ベース平面を透過する透過光の光の干渉によって、一つ以上の前記第一のゾーン（３３３、３５１）において、第一のカラーを生じるように選択される、加飾エレメント（２）。
【請求項２】
前記マイクロ構造が、１次の回折次数で、または、散乱光で、第一のカラーを生じるようにデザインされ、及び／または、
入射光が、前記ベースエレメント（４１）により、散乱によって、及び／または、直接反射、または、直接透過、または、ゼロ次の回折次数からの回折によって、偏向され、直接反射または直接透過またはゼロ次の回折次数での観察で、
前記第一のカラーとは異なる第二のカラー、特に、前記第一のカラーの補色の第二のカラーが生じるように、前記ベースエレメント（４１）が、前記第一のエリア（３１、３２）においてモールドされ、配置されること、
を特徴とする請求項１に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項３】
前記第一のエリア（３１、３２）の少なくとも一つ以上の第二及び／または第三のゾーン（３３４、３５２、３５３）において、前記ベースエレメント（４１）の前記エレメント表面（４１１）と前記ベース表面（４０）とが、座標軸zの方向における前記ベース平面に垂直な方向において、それぞれ第二または第三の距離（６２、６３）で離間し、前記第二または第三の距離は、前記第一の距離（６１）とは異なり、一つ以上の前記第二または第三のゾーン（３３４、３５２、３５３）において、特に、前記ベース平面（４０）と前記エレメント表面（４１）とで反射された入射光の光の干渉によって、及び／または、特に、前記エレメント表面及び前記ベース平面を透過する透過光の光の干渉によって、前記第一及び第二のカラーとは異なる第三及び第四のカラーが生じるように選択されること、
を特徴とする請求項１または２に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項４】
入射光の少なくとも10%、特に入射光の20%から90%、さらに好ましくは入射光の30%から70%が、ゼロ次から偏向され、特に、散乱または回折により偏向されるように、前記ベースエレメント（４１）が、前記第一のエリア（３１、３２）にモールドされ、配置され及び／または、入射光が、少なくとも一つの方向において、ゼロ次の回折次数に対して10度まで、特に30度までの散乱角度で散乱されるように、前記ベースエレメント（４１）が、前記第一のエリア（３１、３２）にモールドされ、配置され、及び／または、前記ベース平面上の各ベースエレメント（４１）の突出の少なくとも一つの横方向の広がりが、0.25 μmから50 μmの間、好ましくは0.75 μmから10 μmの間であり、及び／または、隣り合う各ベースエレメント（４１）の最小距離が、300 μmを超えず、特に、0.5 μmから300 μmの間で、好ましくは、0.5 μmから50 μmの間で選択されること、
を特徴とする請求項１から３のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項５】
前記第一のエリア（３１、３２）、または、前記第一のエリアの少なくとも一つの第一の部分的なエリアにおける、前記ベースエレメント（４１）のモールド及び／または配置が、擬似乱数的に変動すること、
を特徴とする請求項１から４のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項６】
前記第一のエリア（３１、３２）、または、前記第一のエリアの前記少なくとも一つの第一の部分的なエリアにおいて、前記第一のエリア（３１、３２）、または、前記少なくとも一つの第一の部分的なエリアに配置される前記ベースエレメント（４１）のパラメータである、前記ベースエレメント（４１）の配置、最も近く隣り合うベースエレメントからの前記ベースエレメント（４１）の間隔、前記ベース平面上の前記ベースエレメント（４１）の突出の形状及び／または表面積の大きさ、及び、前記ベース平面上の前記ベースエレメント（４１）の突出の横方向の好ましい方向（４１８）、の一つ以上が、前記第一のエリア（３１、３２）または前記各第一の部分的なエリアに対するそれぞれ所定の変動範囲内で、擬似乱数的に変動すること、
を特徴とする請求項５に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項７】
第一の前記第一の部分的なエリアと、第二の前記第一の部分的なエリアとにおいて、擬似乱数的に変動する前記パラメータが、異なり、及び／または、変動する前記パラメータの少なくとも一つの変動範囲が、第一の前記第一の部分的なエリアと、第二の前記第一の部分的なエリアとにおいて、異なって選択され、特に、前記第一の前記第一の部分的なエリアにおける前記少なくとも一つの変動範囲が、前記第二の前記第一の部分的なエリアの前記少なくとも一つの変動範囲と、少なくとも10%異なり、及び／または、前記所定の変動範囲が、数値の所定のセットを含み、好ましくは5から20の値を含むこと、
を特徴とする請求項６に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項８】
座標軸x及びyにより広がる二次元格子が、前記第一のエリア（３１、３２）または前記第一の部分的なエリアにおける前記ベースエレメント（４１）それぞれに対して、前記ベース平面における前記各ベースエレメントの定位置を規定し、前記第一のエリア（３１、３２）または前記第一の部分的なエリアにおける前記ベースエレメント（４１）それぞれの位置が、座標軸xの方向及び／または座標軸yの方向における前記各定位置からの擬似乱数的シフトにより、決定され及び／または、前記ベース平面上の前記各ベースエレメント（４１）の少なくとも一つの横方向の寸法が、1 μmから10 μmの変動範囲で、擬似乱数的に変動すること、
を特徴とする請求項５から７のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項９】
一つ以上の前記ベースエレメント（４１）が、前記ベース平面上の前記ベースエレメント（４１）の前記突出が対称な形状を有する、対称なベースエレメントであり、及び／または、一つ以上の前記ベースエレメント（４１）が、前記ベース平面上の前記ベースエレメント（４１）の前記突出が非対称な形状を有し、前記ベース平面に平行な、好ましい方向（４１８）における横方向の寸法が、前記好ましい方向を横切る方向（４１５）における前記突出の横方向の寸法よりも大きく、特に50%、好ましくは300%、前記好ましい方向を横切る方向（４１５）における前記突出の横方向の寸法よりも大きい、非対称なベースエレメントであること、
を特徴とする請求項５から８のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項１０】
前記第一のエリア（３１、３２）または前記第一のエリアの部分的なエリア（３１２）において、前記各ベースエレメント（４１）が、同じ好ましい方向（４１８）を有する、非対称なベースエレメントであり、及び／または、前記第一のエリア（３１、３２）または前記第一のエリアの部分的なエリア（３１３）において、前記各ベースエレメント（４１）が、前記好ましい方向（４１８）が、それぞれ、所定の変動範囲内で擬似乱数的に変動し、変動範囲として、好ましくは+180度から-180度の角度範囲、さらに好ましくは、+90度から-90度の角度範囲、さらに好ましくは、+30度から-30度の角度範囲が選択される、非対称なベースエレメントであること、
を特徴とする請求項９に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項１１】
前記第一のエリア（３１、３２）または前記第一のエリアの一つ以上の第二の部分的なエリアにおいて、前記ベースエレメント（４１）が、少なくとも部分的に、互いに周期的に連続し、特に、0.75 μmから10 μmの間の周期で互いに連続し、好ましくは、規則正しい一次元または二次元の格子に従って配置され、一つ以上のセル（３２０）が、それぞれ複数の第二の部分的なエリア（３２１）を備えて備えられ、前記第二の部分的なエリア（３２１）において、前記ベースエレメント（４１）が、それぞれ、互いに周期的に連続し、これらの第二の部分的なエリア（３２１）のそれぞれにおいて、前記ベースエレメント（４１）の配列が、パラメータである、アジマス角度、ベースエレメントの形状、及び／または、空間周波数で規定され、前記セル（３２０）に配置される前記第二の部分的なエリアの、パラメータであるアジマス角度、ベースエレメントの形状、及び／または、空間周波数の一つ以上が、第二の部分的なエリア毎に、前記第二のセル（３２０）に対する所定の変動範囲内で、擬似乱数的に変動すること、
を特徴とする請求項１から１０のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項１２】
前記第一のエリア（３１、３２）または前記第一のエリアの一つ以上の第三の部分的なエリア（３２２）において、前記ベースエレメント（４１）が、非周期的な関数に従って配置されること、、前記各ベースエレメントの幅、及び／または、前記各ベースエレメントの間隔が、一つ以上の方向において、変動し、特に、一つ以上の方向において、直線的で局所的に増加及び／または減少し、及び／または、前記第一のエリアまたは前記第三の部分的なエリア（３２２）における、前記ベースエレメント（４１）の配置、及び、前記ベース平面上の前記各ベースエレメント（４１）の前記突出の表面寸法が、バイナリー回折構造を表す関数で決定され、前記バイナリー回折構造は、入射光を偏向して、回折により、好ましくは、１次の回折次数の回折により、第一の情報を生じ、前記第一の距離、前記第二の距離、及び／または、前記第三の距離、または、第一、第二、及び／または、第三の距離の倍数が、前記第一のエリアまたは前記第三の部分的なエリア（３２２）でのz座標軸の方向における、前記ベース表面からの前記ベースエレメント（４１）の前記エレメント表面の間隔として選択され、これにより決定されるカラーの情報が、前記第一のエリアまたは前記第三の部分的なエリア（３２２）において、第二の情報として生じ、及び／または、前記第一のエリア及び前記第三の部分的なエリアにおける、前記ベースエレメント（４１）の配置、及び、前記各ベースエレメントの前記突出の表面の寸法が、ホログラム、計算機合成ホログラム、またはキノフォルムの関数（６１）の二値化に起因する関数（６２）に従って選択され、前記第一の距離、前記第二の距離、及び／または、前記第三の距離、または、第一、第二、及び／または、第三の距離の倍数が、z座標軸の方向における、前記ベース表面からの前記ベースエレメントの前記エレメント表面の間隔として選択されること、
を特徴とする請求項１から１１のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項１３】
一つ以上の前記第一、第二、及び／または、第三のゾーンが、前記ベース平面に平行な、巨視的範囲の、特に300μmから50 nmの間の範囲の、横方向の寸法を有し、光学的に認識できる情報が、パターンエリア及び／または背景エリアとしての、これらの第一、第二、及び／または、第三のゾーンの形成により、提供され、及び／または、前記ベースエレメントによる前記各ゾーンの表面カバー率が、一つ以上の前記第一、第二、及び／または第三のゾーンにおいて、前記各ゾーンのカラー輝度の局所的変動のために、局所的に変動し、及び／または、一つ以上の前記第一、第二、及び／または第三のゾーンが、300 μmより小さく、好ましくは20 μmから250μmの間の、前記ベース平面に平行な、少なくとも一つの横方向の寸法を有すること、
を特徴とする請求項１から１２のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）。
【請求項１４】
請求項１から１３のいずれか１項に記載の加飾エレメント（２）を備えるセキュリティドキュメント（１）。
【請求項１５】
加飾エレメント（２）の製造方法であって、マイクロ構造（４）が、前記加飾エレメント（２）に形成され、このマイクロ構造が入射光または透過光で光学効果を生じ、第一のエリア（３１、３２）において、一つのベース表面（４０）と複数のベースエレメント（４１）とを有し、このベースエレメントそれぞれが、前記ベースへ表面（４０）に対して隆起または沈降するエレメント表面（４１１）と、前記エレメント表面と前記ベース表面との間に配置される傾斜面（４１０）とを有し、前記各ベースエレメント（４１）の前記各エレメント表面（４１１）が、それぞれ前記ベース平面に実質的に平行であり、前記第一のエリアの一つ以上の第一のゾーンにおいて、前記ベースエレメント（４１）の前記エレメント表面（３１１）と前記ベース表面（４０）とが、前記ベース平面に垂直な方向において、第一の距離（６１）で離間し、前記第一の距離が、特に前記ベース表面（４０）と前記エレメント表面（４１１）とで反射される入射光の光の干渉により、及び／または、特に前記エレメント表面（４１１）と前記ベース表面（４０）とを透過する透過光の光の干渉により、一つ以上の前記第一のゾーンにおいて、第一のカラーが生じるように選択される、製造方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００５８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００５８】
好ましい方向の横方向の寸法は、好ましい方向に垂直な突出の横方向の寸法よりも、2倍以上大きく、好ましくは5倍以上大きいことが好ましい。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００７８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００７８】
上述したように形成される本発明の加飾エレメントは、以下に説明されるように形成されることが好ましい。
−略30 nmのAlで蒸着される、ホットスタンプフィルム。マイクロ構造が、屈折率n1が略1.5のポリマーに組み込まれることが好ましい。
−ベースエレメントの突出の横方向の広がりが2.5 μmで、第一の距離が300 nmの円形のランダムな構造。平均表面カバー率は、50%であり、傾斜面の角度は、90度に近い。これらの構造は、例えば、散乱光で紫色の第一のカラーインプレッションと、ゼロ次の回折次数で緑色の第二のカラーインプレッションとをもたらす。
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００８７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００８７】
さらに、自由形状表面の効果を生じるマイクロ構造を備え、好ましくは上述するように形成される、本発明による加飾エレメントは、以下のようにデザインされることが好ましい。
−Al/Cu/Cr等、または、ZnS、または、代替材料、あるいは、また、HRI/金属の組み合わせ（例えばZnS/Al)で蒸着される、ホットスタンプフィルム。
−自由形状表面の効果（表面レリーフ効果）、すなわち、他の視覚効果と組み合わせて、巨視的な自由形状表面をシミュレートする回折構造。
−自由形状表面の効果（表面レリーフ効果）、すなわち、三次元的な優れたエレメントの可視化を目的とする、所定の関数に従って周期性／配向が変動する、バイナリー回折構造と共に、巨視的な自由形状表面をシミュレートする回折構造。
−150 nmから500 nmのベース表面からエレメント表面の間隔、1.4から1.7の間の屈折率を有する材料でカバーされる。
【手続補正５】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１３８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１３８】
周期がｐであり、ベース平面上に突出する傾斜面４１０の表面積がΔfの、二次元構造の場合、ベース平面上に突出する傾斜面の表面比率は、
2016505161.tif 000001
である。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１５９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１５９】
図３ｂ及び図３ｃは、この効果を説明している。図３ｂは、例えば異なる大きさで形成された二つのベースエレメント４１の、異なる範囲に進む、前方への散乱を示す、二つのベースエレメント４１の平面図を示している。図３ｃは、プラスティック層２３及び２５と、反射層２４と、ベースエレメント４１及びベース表面４０を備えたマイクロ構造４とを備える、加飾エレメント２の対応する断面図を示す。ここで、角度α*で入射する光５０は、ゼロ次の回折次数で、加飾エレメントによりまず反射され、従って、光５３を生じる。さらに、散乱光５４が、ゼロ次の回折次数で反射される光５３の周囲の角度範囲βで、マイクロ構造４により生じる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１６７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１６７】
ここで、x/z平面で照射及び観察される場合の散乱角度βx-zと、y/z平面で照射及び観察される場合の散乱角度βy-zとは、図６ａ及び図６ｂで示すように、エリア３１２において、異なる。図６ａは、x/z平面で照射及び観察される場合の、エリア３１２における、ベースエレメント４１とベース表面４０とを備えるマイクロ構造４を示し、図６ｂは、y/z平面で照射及び観察される場合のものを示す。上述したように、散乱角度βは、観察／照射方向におけるベースエレメントの横方向の寸法に依存するため、図６ａ及び図６ｂに示すように、βx-zは異なる。このことは、観察角度を維持したまま、セキュリティエレメントがx/y平面で回転されると、すなわち、z軸回りに回転されると、散乱光のカラーインプレッションが変化することをもたらす。例えば、x/z平面で観察される場合、散乱光がシアン色またはライトブルーまたはターコイズに見え、y/z平面での回転の場合、暗い青／緑またはダークグレーに変化し得る。ここで、この効果は、異方性の艶消しに見えるカラーの種類として見える。
【手続補正８】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１８０
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１８０】
ここで、図９ａ及び９ｂは、例として、そのような一実施形態を示している。図９ａは、セル３２０を形成するマイクロ構造４のある部分的なエリアの平面図を示す。セル３２０は、複数のベースエレメント４１が、それぞれ互いに周期的に連続する、複数の部分的なエリア３２１を含む。これは、例として、図９ｂに説明される。従って、エリア３２１において、マイクロ構造４は、ベース表面４０と、エレメント表面４１１と傾斜面４１０とを備える複数のベースエレメント４１とを有する。ここで、各ベースエレメント４１は、バーの形状で形成され、その断面図が、図９ｂの下方の図で示され、x/y平面における広がりが、図９ａ及び図９ｂにおいて、対応するラインで示される。ここで、各部分的なエリア３２１のベースエレメント４１の断面は、同一であり、ベース平面上の各ベースエレメント４１の突出は、図９ａ及び図９ｂに示すように、各アジマス角度４１９の方向において、互いに周期的に連続する。従って、マイクロ構造４は、部分的なエリア３２１において、パラメータである、アジマス角度４１９と、ベースエレメントの形状、例えば、図９ｂの下方の図によるバー形状と、空間周波数、従って、アジマス角度４１９の方向においてベースエレメントが互いに連続する周期とにより、それぞれ決定される。
【手続補正９】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０１】
さらなる実施形態によれば、エリア３１及び３２におけるマイクロ構造の各ベースエレメント４１は、単一の、ベース表面からのエレメント表面の距離を有する必要はない。ベース表面４０からのベースエレメント４１のエレメント表面の距離が距離６１、または、距離６１の倍数に相当する（図８ａ及び図８ｂの実施形態を参照）、一つ以上の第一のゾーンに加えて、マイクロ構造は、座標軸zの方向において、各エレメント表面が、ベース表面４０から、第一の距離とは異なる、それぞれ第二または第三の距離、または、それぞれ第二または第三の距離の倍数で離間する、一つ以上の第二及び／または第三のゾーンを、エリア３１において有する。ここで、第二及び第三の距離は、第一のカラーとは異なる、それぞれ第三または第四のカラーが、ベース表面４０とエレメント表面４１１とで反射する１次の回折次数の入射光または散乱光の光の干渉により、及び／または、エレメント表面４１１とベース表面４０とを透過する１次以上の回折次数の透過光または散乱光の光の干渉により、一つ以上の第二または第三のゾーンで生じるように、選択される。
【手続補正１０】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０２０５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０２０５】
図１３ｂは、例えば、距離６１を備える非対称のベースエレメント４１と、距離６２を備える非対称のベースエレメント４２とが、第一のエリア３３２に備えられるデザインを示す。図１３ｂの下の図で示すように、各ベースエレメント４１は、異なる、エレメント表面からのベース平面の距離を有するだけでなく、異なる好ましい方向を有し、従って、図１３ｂの実施形態において、好ましい角度に対する90度の角度を含む。さらに、エリア３２２は、Ｋの形で形成される前方エリアとして、パターン化されて形成され、背景エリア３３１により囲まれる。この配置では、加飾エレメント２のベース平面に垂直な軸回りの回転により、以下のカラー効果が得られる。例えば、特有の観察角度α*に対して、及び、ベースエレメントの長手方向軸（すなわちy軸方向）に平行に観察される場合、距離６１を備えるベースエレメント４１が、鮮明に見える、赤色のカラーインプレッションを散乱光で生じ、（観察角度α*を維持して）90度回転した場合、（わずかに見える）赤色のカラーインプレッションを生じ、または、カラーインプレッションを生じず、この観察角度α*に対して、及び、ベースエレメントの長手方向軸（すなわちx軸方向）に平行に観察する場合、ベース表面からのエレメント表面の距離６２を備えるベースエレメント４２が、鮮明に見える、緑色のカラーインプレッションを散乱光で生じ、（観察角度α*を維持して）90度回転した場合、わずかに見える緑色のカラーインプレッションを生じ、または、カラーインプレッションを生じず、こうして、セキュリティエレメントは、緑色の背景に対する赤色のＫのカラー回転効果を有する。