【手続補正書】
【提出日】平成28年5月18日(2016.5.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
オーバレイターゲットであって、
少なくとも１つのオーバレイターゲット構造を形成する１つまたは複数のセグメント化されたオーバレイパターン要素と、
少なくとも１つのダミーフィルターゲット構造を形成する１つまたは複数の不活性パターン要素とを備え、前記１つまたは複数の不活性パターン要素のそれぞれは、少なくとも１つの近位に配設されるオーバレイパターン要素のセグメンテーション軸に直交する軸に沿ってセグメント化されたダミーフィルを含むオーバレイターゲット。
【請求項２】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つの２回転対称または４回転対称のオーバレイターゲット構造を形成し、前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素は、少なくとも１つの２回対称または４回対称のダミーフィルターゲット構造を形成する請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項３】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つの後続のプロセス層のオーバレイパターン要素のために確保される１つまたは複数の領域上に配設されるダミーフィルセグメントを含む請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項４】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つのパターン要素の場所推定を可能にするための、前記１つまたは複数の不活性パターン要素のエッジ領域に近接して配設されるダミーフィルセグメントを含む請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項５】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素のそれぞれは、２回転対称である請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項６】
前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素は、前記１つまたは複数の不活性パターン要素を覆って形成される請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項７】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、前記１つまたは複数の不活性パターン要素を露光するように構成される露光ツールについて指定される最小設計ルールより実質的に大きい、選択されたピッチまたはフィーチャサイズに従ってセグメント化される請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項８】
前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素は、前記１つまたは複数の不活性パターン要素によって画定される境界内で前記１つまたは複数の不活性パターン要素を覆って後続のプロセス層上に形成される請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項９】
前記境界と前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素との間の距離は、ダミーフィルセグメンテーション軸に平行な軸に沿って所定の光排除ゾーンより長い請求項８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１０】
前記境界と前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素との間の距離は、ダミーフィルセグメンテーション軸に垂直な軸に沿って所定の光排除ゾーンより長い請求項８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１１】
前記境界と前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素との間の選択された距離は、ダミーフィルセグメンテーション軸に平行な軸に沿ってまたダミーフィルセグメンテーション軸に垂直な軸に沿って所定の光排除ゾーンより長い請求項８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１２】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、２回以上のサイドバイサイド露光によって印刷される請求項８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１３】
前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素は、少なくとも１つのパターン要素の場所推定を可能にする内部エッジを有するアパーチャを含み、請求項８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１４】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、別個の露光によって印刷されかつリソグラフィックオーバレイ公差に従って整列された一定間隔のダミーフィルセグメントを含む請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１５】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、後続のプロセス層上に形成された一定間隔のダミーフィルセグメントを含み、前記ダミーフィルセグメントは、別個の露光によって印刷されかつリソグラフィックオーバレイ公差に従って整列される請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１６】
前記パターン要素の１つまたは複数は、フィーチャサイズに従ってセグメント化される請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１７】
前記セグメント化されたダミーフィルは、基板上に配設される少なくとも１つの層の大部分を覆う請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１８】
前記１つまたは複数のオーバーレイパターン要素および前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、第２のターゲット構造上にオーバレイされる少なくとも第１のターゲット構造を形成し、前記オーバレイされたターゲット構造の各象限は、
ダミーフィルセグメンテーション軸に直交する第１の軸に沿ってオーバレイ測定を可能にするように配列されるセグメント化されたダミーフィルから形成された２つの不活性パターン要素と、
少なくとも２つの不活性パターン要素に近接してその後配設される２つのセグメント化されたオーバレイパターン要素とを含む請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項１９】
前記第１のターゲット構造および前記第２のターゲット構造は４回転対称である請求項１８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項２０】
前記２つのオーバレイパターン要素は、前記第１の軸に直交する第２の軸に沿ってオーバレイ測定を可能にするように配列される請求項１８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項２１】
前記２つのオーバレイパターン要素は、前記第１の軸に平行な第２の軸に沿ってオーバレイ測定を可能にするように配列される請求項１８に記載のオーバレイターゲット。
【請求項２２】
前記１つまたは複数のオーバーレイパターン要素および前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、第２の４回転対称のターゲット構造上にオーバレイされる少なくとも第１の４回転対称のターゲット構造を形成し、前記オーバレイされたターゲット構造の各象限は、
セグメント化されたダミーフィルから形成された不活性パターン要素であって、ダミーフィルセグメンテーション軸に平行な少なくとも１つの方向における少なくとも１つのパターン要素の場所推定を可能にする内部エッジを有するアパーチャを含む各象限の部分を除いて、各象限を実質的に充填する、不活性パターン要素と、
少なくとも２つの不活性パターン要素に近接してその後配設されるセグメント化されたオーバレイパターン要素であって、前記ダミーフィルセグメンテーション軸に平行な前記少なくとも１つの方向における少なくとも１つのパターン要素の場所推定を可能にする１つまたは複数のエッジを含む、セグメント化されたオーバレイパターン要素とを含む請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項２３】
前記１つまたは複数のオーバーレイパターン要素および前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、第２の２回転対称のターゲット構造上にオーバレイされる少なくとも第１の２回転対称のターゲット構造を形成し、前記オーバレイされたターゲット構造の各象限は、
セグメント化されたダミーフィルから形成された４つの不活性パターン要素であって、４つの不活性パターン要素のそれぞれは各軸に沿ってオーバレイ測定を可能にするように配列される、４つの不活性パターン要素と、
前記４つの不活性パターン要素に近接してその後配設される１２のセグメント化されたオーバレイパターン要素であって、１２のオーバレイパターン要素のそれぞれは各軸に沿ってオーバレイ測定を可能にするように配列される、１２のセグメント化されたオーバレイパターン要素とを含む請求項１に記載のオーバレイターゲット。
【請求項２４】
オーバレイ測定を実施するためのシステムであって、
基板であって、オーバレイターゲットが基板上に配設される、基板を支持するように構成されるサンプルステージであって、前記オーバレイターゲットは、少なくとも１つのオーバレイターゲット構造を形成する１つまたは複数のセグメント化されたオーバレイパターン要素を含み、前記オーバレイターゲットは、少なくとも１つのダミーフィルターゲット構造を形成する１つまたは複数の不活性パターン要素をさらに含み、前記１つまたは複数の不活性パターン要素のそれぞれは、少なくとも１つの近位に配設されるオーバレイパターン要素のセグメンテーション軸に直交する軸に沿ってセグメント化されるダミーフィルを含む、サンプルステージと、
前記オーバレイターゲットを照明するように構成される少なくとも１つの照明源と、
前記オーバレイターゲットから反射される、散乱させる、または放射される照明を受取るように構成される少なくとも１つの検出器と、
前記検出器に通信可能に結合し、また、前記オーバレイターゲットから反射される、散乱させる、または放射される前記照明に関連する情報を利用して、前記基板上に配設される少なくとも２つの層の間のミスアライメントを決定するように構成される少なくとも１つのコンピューティングシステムとを備えるシステム。
【請求項２５】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つの２回転対称または４回転対称のオーバレイターゲット構造を形成し、前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素は、少なくとも１つの２回対称または４回対称のダミーフィルターゲット構造を形成する請求項２４に記載のシステム。
【請求項２６】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つの後続のプロセス層のオーバレイパターン要素のために確保される１つまたは複数の領域上に配設されるダミーフィルセグメントを含む請求項２４に記載のシステム。
【請求項２７】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つのパターン要素の場所推定を可能にするための、前記１つまたは複数の不活性パターン要素のエッジ領域に近接して配設されるダミーフィルセグメントを含む請求項２４に記載のシステム。
【請求項２８】
前記コンピューティングシステムは、前記ダミーフィルセグメントに垂直または平行な方向において収集される情報に基づいて少なくとも１つのパターン要素の場所を決定するようにさらに構成される請求項２４記載のシステム。
【請求項２９】
前記コンピューティングシステムは、前記ダミーフィルセグメントに垂直な方向において収集される情報および前記ダミーフィルセグメントに平行な方向において収集される情報に基づいて少なくとも１つのパターン要素の場所を決定するようにさらに構成される請求項２４に記載のシステム。
【請求項３０】
前記コンピューティングシステムは、第１の方向において収集される情報に基づいて少なくとも１つの不活性パターン要素の場所を決定するようにさらに構成され、また、第２の方向において収集される情報に基づいて少なくとも１つのオーバレイパターン要素の場所を決定するようにさらに構成される請求項２４に記載のシステム。
【請求項３１】
前記コンピューティングシステムは、測定軸に平行な第１の方向に配置される少なくとも１つのパターン要素のエッジおよび前記測定軸に垂直な第２の方向に配置される前記少なくとも１つのパターン要素のエッジに基づいてセグメンテーションの方向による測定バイアスを決定するようにさらに構成される請求項２４に記載のシステム。
【請求項３２】
前記コンピューティングシステムは、第１の方向におけるオーバレイアライメントを測定するように構成される請求項２４に記載のシステム。
【請求項３３】
前記コンピューティングシステムは、第２の方向におけるオーバレイアライメントを測定するようにさらに構成され、前記第１の方向は、前記基板上に配設される第１のオーバレイターゲット構造に関連し、前記第２の方向は、前記基板上にその後配設される第２のオーバレイターゲット構造に関連する請求項３２に記載のシステム。
【請求項３４】
前記コンピューティングシステムは、第２の方向におけるオーバレイアライメントを測定するようにさらに構成され、前記第１の方向は、ダミーフィルターゲット構造を覆って前記基板上に配設されるオーバレイターゲット構造に関連し、前記第２の方向は、前記ダミーフィルターゲット構造に関連する請求項３２に記載のシステム。
【請求項３５】
オーバレイ測定を実施する方法であって、
基板上に配設されるオーバレイターゲットを照明することであって、前記オーバレイターゲットは、少なくとも１つのオーバレイターゲット構造を形成する１つまたは複数のセグメント化されたオーバレイパターン要素を含み、前記オーバレイターゲットは、少なくとも１つのダミーフィルターゲット構造を形成する１つまたは複数の不活性パターン要素をさらに含み、前記１つまたは複数の不活性パターン要素のそれぞれは、少なくとも１つの近位に配設されるオーバレイパターン要素のセグメンテーション軸に直交する軸に沿ってセグメント化されたダミーフィルを含む、照明すること、
前記オーバレイターゲットから反射される、散乱させる、または放射される照明を検出すること、および、
前記検出された照明に関連する情報を利用して、前記基板上に配設される少なくとも２つの層の間のミスアライメントを決定することを含む方法。
【請求項３６】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つの２回転対称または４回転対称のオーバレイターゲット構造を形成し、前記１つまたは複数のオーバレイパターン要素は、少なくとも１つの２回対称または４回対称のダミーフィルターゲット構造を形成する請求項３５に記載の方法。
【請求項３７】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つの後続のプロセス層のオーバレイパターン要素のために確保される１つまたは複数の領域上に配設されるダミーフィルセグメントを含む請求項３５に記載の方法。
【請求項３８】
前記１つまたは複数の不活性パターン要素は、少なくとも１つのパターン要素の場所推定を可能にするための、前記１つまたは複数の不活性パターン要素のエッジ領域に近接して配設されるダミーフィルセグメントを含む請求項３５に記載の方法。
【請求項３９】
前記ダミーフィルセグメントの垂直または平行な方向において検出される照明に関連する情報に基づいて少なくとも１つのパターン要素の場所を決定することをさらに含む請求項３５に記載の方法。
【請求項４０】
前記ダミーフィルセグメントに垂直な方向において検出される照明に関連する情報および前記ダミーフィルセグメントに平行な方向において検出される照明に関連する情報に基づいて少なくとも１つのパターン要素の場所を決定することをさらに含む請求項３５に記載の方法。
【請求項４１】
第１の測定軸に沿って検出される照明に関連する情報に基づいて少なくとも１つの不活性パターン要素の場所を決定すること、および、
第２の測定軸に沿って検出される照明に関連する情報に基づいて少なくとも１つのオーバレイパターン要素の場所を決定することをさらに含む請求項３５に記載の方法。
【請求項４２】
測定軸に平行な第１の方向に配置される少なくとも１つのパターン要素のエッジおよび前記測定軸に垂直な第２の方向に配置される前記少なくとも１つのパターン要素のエッジに基づいてセグメンテーションの方向による測定バイアスを決定することをさらに構成される請求項３５に記載の方法。
【請求項４３】
第１の方向におけるオーバレイアライメントを測定することをさらに構成される請求項３５に記載の方法。
【請求項４４】
第２の方向におけるオーバレイアライメントを測定することをさらに含み、前記第１の方向は、前記基板上に配設される第１のオーバレイターゲット構造に関連し、前記第２の方向は、前記基板上にその後配設される第２のオーバレイターゲット構造に関連する請求項４３に記載の方法。
【請求項４５】
第２の方向におけるオーバレイアライメントを測定することをさらに含み、前記第１の方向は、ダミーフィルターゲット構造を覆って前記基板上に配設されるオーバレイターゲット構造に関連し、前記第２の方向は、前記ダミーフィルターゲット構造に関連する請求項４３に記載の方法。
【請求項４６】
回折ベースのオーバレイターゲットであって、
基板に印刷され、第１の複数のセグメント化されたパターン要素を含む第１のオーバレイターゲット構造と、
基板に印刷され、第２の複数のセグメント化されたパターン要素を含み、第２の複数のセグメント化されたパターン要素の一部は第１の複数のセグメント化されたパターン要素の一部にオーバラップするように配置された、第２のオーバレイターゲット構造と、
を有し、第１のオーバレイターゲット構造と第２のオーバレイターゲット構造の配置は４回転対称であり、少なくとも第１の複数のセグメント化されたパターン要素の一部あるいは少なくとも第２のセグメント化されたパターン要素の一部は、２回以上のサイドバイサイド露光で基板上に形成される、
回折ベースのオーバレイターゲット。