Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月24日(2016.5.24)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被験者から抽出されたサンプルに対し、前記被験者の自己免疫疾患または疾病に対するセラピーの有効性を決定する方法であって、
ＣＤ４セントラルメモリー（ＣＤ４５ＲＯ＋ＣＤ６２Ｌ＋）Ｔ細胞サブポピュレーションを、蛍光ラベルでラベリングする段階と、
前記ＣＤ４セントラルメモリー（ＣＤ４５ＲＯ＋ＣＤ６２Ｌ＋）Ｔ細胞サブポピュレーションを、前記蛍光ラベルを用いて測定する段階と、
前記セラピーの有効性を評価する段階と、
を備え、
低いＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルまたは減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルは、前記セラピーの有効性を示す、方法。
【請求項２】
前記減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルは、異なる複数の時点において抽出された前記サンプルからの前記レベルと比較されたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルは、標準化されたレベルと比較されたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記低いＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルまたは前記減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルは、前記セラピーを開始する前に前記被験者から抽出されたサンプルにおけるレベルと比較されたものである、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記サンプルは、前記セラピーの開始後に前記被験者から抽出されたものである、請求項1から請求項３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
前記セラピーの間における、低いＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルまたは減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルは、効果的なセラピーであることを示す、請求項１から請求項５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
ＣＤ４  Ｔ細胞ナイーブ（ＣＤ４５ＲＯ−ＣＤ６２Ｌ＋）サブポピュレーションを、蛍光ラベルでラベリングする段階と、
前記ＣＤ４  Ｔ細胞ナイーブ（ＣＤ４５ＲＯ−ＣＤ６２Ｌ＋）サブポピュレーションを、前記蛍光ラベルを用いて測定する段階と、
をさらに備え、
前記セラピーの間における、前記ＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞サブポピュレーションに対する前記ＣＤ４  Ｔ細胞ナイーブサブポピュレーションの高い比または比の増大は、前記セラピーの有効性を示す、請求項１から請求項６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記比の増大は、異なる複数の時点において抽出された前記サンプルからの、前記レベルまたは前記比と比較されたものである、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記比の増大は、標準化されたレベルまたは比と比較されたものである、請求項７に記載の方法。
【請求項１０】
前記高い比または前記比の増大は、前記セラピーを開始する前に被験者から抽出されたサンプルにおけるレベルと比較されたものである、請求項７に記載の方法。
【請求項１１】
前記サンプルは、前記セラピーの開始後に前記被験者から抽出されたものである、請求項７から請求項９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
前記サンプルは、前記測定する段階の前に、蛍光ラベルされた抗ＣＤ４５ＲＯ抗体および蛍光ラベルされた抗ＣＤ６２Ｌ抗体とインキュベートされる、請求項１から請求項１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
被験者の自己免疫疾患または疾病に対するセラピーの有効性を決定する方法であって、
第１のサンプルと第２のサンプルはそれぞれ、前記セラピーの開始の前後に、前記被験者から抽出されたものであり、
前記方法は、
前記第１と第２のサンプルにおけるＣＤ４セントラルメモリー（ＣＤ４５ＲＯ＋ＣＤ６２Ｌ＋）Ｔ細胞サブポピュレーションを、蛍光ラベルでラベリングする段階と、
前記第１と第２のサンプルにおける前記ＣＤ４セントラルメモリー（ＣＤ４５ＲＯ＋ＣＤ６２Ｌ＋）Ｔ細胞サブポピュレーションを、前記蛍光ラベルを用いて測定する段階と、
前記セラピーの有効性を評価する段階と、
を備え、
前記第１のサンプルと比較して、前記第２のサンプルにおける低いＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルまたは減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルは、前記セラピーの有効性を示す、方法。
【請求項１４】
被験者の自己免疫疾患または疾病に対するセラピーの有効性を決定する方法であって、
第１のサンプルと第２のサンプルはそれぞれ、前記セラピーの開始の前後に、前記被験者から抽出されたものであり、
前記方法は、
前記第１と第２のサンプルにおける、ＣＤ４セントラルメモリー（ＣＤ４５ＲＯ＋ＣＤ６２Ｌ＋）Ｔ細胞サブポピュレーションと、ＣＤ４  Ｔ細胞ナイーブ（ＣＤ４５ＲＯ−ＣＤ６２Ｌ＋）サブポピュレーションとを、蛍光ラベルでラベリングする段階と、
前記第１と第２のサンプルにおける、前記ＣＤ４セントラルメモリー（ＣＤ４５ＲＯ＋ＣＤ６２Ｌ＋）Ｔ細胞サブポピュレーションと、前記ＣＤ４  Ｔ細胞ナイーブ（ＣＤ４５ＲＯ−ＣＤ６２Ｌ＋）サブポピュレーションとを、前記蛍光ラベルを用いて測定する段階と、
前記セラピーの有効性を評価する段階と、
を備え、
前記第１のサンプルと比較して、前記第２のサンプルにおける低いＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベルもしくは減少したＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞レベル、または前記ＣＤ４セントラルメモリーＴ細胞サブポピュレーションに対する前記ＣＤ４  Ｔ細胞ナイーブサブポピュレーションの高い比もしくは比の増大は、前記セラピーの有効性を示す、方法。
【請求項１５】
前記サンプルは、前記測定する段階の前に、蛍光ラベルされた抗ＣＤ４５ＲＯ抗体および蛍光ラベルされた抗ＣＤ６２Ｌ抗体とインキュベートされる、請求項１３または請求項１４に記載の方法。
【請求項１６】
前記測定する段階は、前記サンプルにフローサイトメトリーを行う段階を有する、請求項１から請求項１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
前記ＣＤ４  Ｔ細胞サブポピュレーションは、蛍光活性化細胞選別（ＦＡＣＳ）により測定される、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記サンプルは血液サンプルである、請求項１から請求項１７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１９】
前記セラピーは糖尿病状態に対するものである、請求項１から請求項１８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項２０】
糖尿病関連の自己抗体の存在を決定する段階をさらに備える、請求項１９に記載の方法。
【請求項２１】
前記糖尿病状態は１型真性糖尿病である、請求項１９または請求項２０に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月21日(2016.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
流体内に粒子を懸濁する工程と、
前記粒子を２次元アレイ検出器を通過するように流入させる工程と、
前記粒子が前記流体内で前記２次元アレイ検出器を通過して流れる際に、複数の較正画像を取得する工程と、
前記流体内で前記粒子が前記２次元アレイ検出器を通過するように流入する際に、前記粒子に対して照射する工程と、
前記流体内で前記照射された前記粒子が前記２次元アレイ検出器を通過するように流入する際に、前記粒子の複数の画像を取得する工程と、
前記粒子の前記画像を前記較正画像を用いて補正する工程と、
前記粒子の画像の補正の結果に、粒子特性評価機能を適用する工程と、を含む、粒子特性評価方法。
【請求項２】
前記粒子特性評価機能を適用する工程は、前記粒子を統計的に、又は、形状あるいは大きさなどの少なくとも１つの形態的特性に応じて分類する、請求項１記載の粒子特性評価方法。
【請求項３】
前記粒子特性評価方法は、分子微生物学的方法、製造プロセス品質保証サイクル、又は製造プロセス品質管理評価の一部として実行される、請求項１または２に記載の粒子特性評価方法。
【請求項４】
前記粒子特性評価方法は、分散工程の評価に用いられる、請求項１から３のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項５】
前記粒子特性評価機能を適用する工程は、混入物検出機能又は偽造物検出機能を適用する、請求項１から４のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項６】
さらに、前記粒子が同じ流体に懸濁している間に追加の粒子特性評価処理を行い、前記追加粒子特性評価処理はレーザー回折する工程を含み、前記追加粒子特性評価処理は前記流入工程、取得工程、及び適用工程と並行して、もしくは連続して行われる、請求項１から５のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項７】
さらに、不均質を評価するために、前記２次元アレイ検出器からの画像データに統計関数を適用する工程を含む、請求項１から６のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項８】
前記統計関数は、前記複数の取得画像におけるエントロピーの評価基準を計算する工程を含む、請求項７記載の粒子特性評価方法。
【請求項９】
前記エントロピーの評価基準は、ある所定の値である各取得画像における、画素値の確率の合計、又は隣り合う画素値の間の差の確率の合計から計算される、請求項８記載の粒子特性評価方法。
【請求項１０】
前記流体は液体である、請求項１から９のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項１１】
前記補正工程はフラットフィールド補正を行う、請求項１から１０のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項１２】
前記複数の較正画像の取得工程は、照射された画像と暗画像とを取得する、請求項１１に記載の粒子特性評価方法。
【請求項１３】
さらに、前記取得された較正画像を平均化して、該平均化工程の結果における前記粒子の影響を低減する工程を含む、請求項１から１２のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法。
【請求項１４】
前記粒子特性評価方法は、さらに、前記平均化工程の前に前記較正画像において所定のしきい値を超えている画素を破棄する工程を含む、請求項１３に記載の粒子特性評価方法。
【請求項１５】
２次元検出器と、
前記２次元検出器に搭載され、前記２次元検出器と接触している試料を含有する流体を保持する流路を区画する流路壁と、
前記流体が前記流路を通過する流れを発生させる駆動部と、
前記流体が前記２次元検出器に接触している間、前記流体内の粒子を照射するように配置されている撮像照射源と、を備え、
パージまたは水洗を行わずに、試料粒子がある状態でフラットフィールド補正の実行を可能にするソフトウェア制御を提供する、
粒子特性評価機器。
【請求項１６】
請求項１から１４のいずれか１項に記載の粒子特性評価方法を実行するように構成された処理手段を備える、請求項１５に記載の粒子特性評価機器。
【請求項１７】
前記流体における粒子を照射するように配置されたコヒーレント散乱照射源をさらに備え、
前記コヒーレント散乱照射源は、前記流体が前記２次元検出器に接触している間に前記流体と相互作用するように配置されており、前記２次元検出器は、前記撮像照射源による照射を受けた粒子からの光を検出するとともに、前記コヒーレント散乱照射源による照射を受けた前記流体内の粒子によって散乱された光を検出するように配置されている、請求項１５または１６記載の粒子特性評価機器。
【請求項１８】
前記コヒーレント散乱照射源による照射を受けた前記流体内の粒子によって散乱された光を受け取るように配置されている散乱検出器をさらに備える、請求項１５から１７のいずれか１項に記載の粒子特性評価機器。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月21日(2016.6.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
不均質流体試料の特性評価方法であって、
不均質流体試料に対して照射する工程と、
前記照射された不均質流体試料の少なくとも１つの画像を取得する工程と、
前記画像から集約測定基準を抽出する工程と、を含み、
前記集約測定基準を抽出する工程は、前記画像から分散測定基準を抽出することを含む、不均質流体試料の特性評価方法。
【請求項２】
前記集約測定基準を抽出する工程は、粒径、粒子間隔、形状、密度および流れの少なくとも１つについての情報を抽出することを含む、請求項１記載の特性評価方法。
【請求項３】
前記画像からの分散測定基準を抽出する工程は、前記画像にエントロピー関数を適用する、請求項１または２記載の特性評価方法。
【請求項４】
前記エントロピーの評価基準は、画素値の確率の合計から計算されるか、または、前記エントロピーの評価基準は、隣り合う画素値の間の差の確率の合計から計算される、請求項３に記載の特性評価方法。
【請求項５】
さらに、前記分散測定基準の所定の状態、安定化、または変化率の検出を報告する請求項１から４のいずれか１項に記載の特性評価方法。
【請求項６】
さらに、前記流体に適用される処理を、前記分散測定基準に基づいてリアルタイムで調整することを含む、請求項１から５のいずれか１項に記載の特性評価方法。
【請求項７】
さらに、前記不均質流体試料に対して第２の測定を行う工程を含む、請求項１から６のいずれか１項に記載の特性評価方法。
【請求項８】
前記第２の測定はレーザー回折測定である、請求項７に記載の特性評価方法。
【請求項９】
前記分散測定基準は前記第２の測定をリアルタイムで作動させるために用いられる、請求項８記載の特性評価方法。
【請求項１０】
前記分散測定基準は前記第２の測定を有効化するために用いられる、請求項８または９に記載の特性評価方法。
【請求項１１】
さらに、前記不均質流体試料を混合することによって、または前記流体試料内の粒子を超音波処理することによって、前記不均質流体試料を分散する工程を含む、請求項１から１０のいずれか１項に記載の特性評価方法。
【請求項１２】
画像を取得する前記工程は、インライン粒子分散器からの流れの中で行われ、該方法はさらに、前記取得する工程の後に前記粒子を前記インライン粒子分散器へと戻す工程を含む、請求項１から１１のいずれか１項に記載の特性評価方法。
【請求項１３】
さらに、前記不均質流体試料を２次元アレイ検出器を通過するように流入させる工程を含む、請求項１から１２のいずれか１項に記載の特性評価方法。
【請求項１４】
粒子特性評価装置であって、
流体に懸濁した粒子を照射する手段と、
前記懸濁した粒子の複数の画像を取得するように較正された２次元アレイ検出器と、
前記懸濁した粒子の少なくともいくつかを取得する手段からの結果に、粒子特性評価機能を適用する手段と、を備え、
請求項１から１３のいずれか１項に記載の特性評価方法を実行するように構成された、粒子特性評価装置。
【請求項１５】
前記懸濁した粒子を前記２次元アレイ検出器に通過させるように流入させる手段をさらに備え、
前記照射する手段は、前記流体内で前記懸濁した粒子が前記２次元アレイ検出器を通過するように流入する際に前記粒子に対して照射するように構成され、
前記２次元アレイ検出器は、前記懸濁した粒子が前記２次元アレイ検出器を通過するように流入する際に前記懸濁した粒子の複数の画像を取得するように構成される、
請求項１４に記載の粒子特性評価装置。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月21日(2016.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
改質剤元素を含む多相金属水素化物合金材料であって、
ＡＢｘ結晶構造を有する第１の主要相又は相群であって、前記改質剤元素の濃度がゼロより大きい第１の相又は相群と、
前記第１の相又は相群における前記改質剤元素の濃度よりも少なくとも１０倍高い濃度の前記改質剤元素を有する第２の相と
を含み、
前記合金材料は、水素の可逆的な吸着及び脱着が可能である合金材料。
【請求項２】
前記第２の相における前記改質剤元素の濃度は、前記第１の相又は相群における前記改質剤元素の濃度よりも少なくとも５０倍高い、請求項１の合金材料。
【請求項３】
前記第２の相における前記改質剤元素の濃度は、前記第１の相又は相群における前記改質剤元素の濃度よりも少なくとも１００倍高い、請求項１の合金材料。
【請求項４】
前記第２の相は、非結晶であるか又は前記主要相と同じ結晶構造を有しない、請求項１の合金材料。
【請求項５】
前記第１の相又は相群における前記改質剤元素の濃度は４原子パーセント以下である、請求項１の合金材料。
【請求項６】
前記改質剤元素は軽希土類元素である、請求項１の合金材料。
【請求項７】
前記改質剤元素はイットリウムである、請求項１の合金材料。
【請求項８】
前記合金材料は、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｖ、Ｎｉ及び前記改質剤元素を含む、請求項１の合金材料。
【請求項９】
前記第１の相又は相群はラーベス相結晶構造を有する、請求項１の合金材料。
【請求項１０】
前記第２の相は前記ラーベス相結晶構造を有しない、請求項９の合金材料。
【請求項１１】
前記第１の相はＡＢ２結晶構造を有する、請求項１の合金材料。
【請求項１２】
一般式：ＴｉＡＺｒＢ−ＸＹＸＶＣＮｉＤＭＥを有し、
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤはそれぞれ独立して０より大きくかつ５０原子パーセント以下であり、
Ｘは０より大きくかつ４原子パーセント以下であり、
Ｍは、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｓｎ、Ａｌ及びＭｎからなる群から選択された一以上の金属であり、
Ｅは０〜３０原子パーセントの範囲にある、請求項１の合金材料。
【請求項１３】
Ａ、Ｂ、Ｃ及びＤはそれぞれ独立して５〜５０原子パーセントの範囲にある、請求項１２の合金材料。
【請求項１４】
Ｍは前記金属を少なくとも２つ含み、
前記少なくとも２つの金属はいずれも前記合金材料において１０原子パーセントを超える量では存在しない、請求項１２の合金材料。
【請求項１５】
請求項１２の合金材料を含む、再充電可能な金属水素化物電池。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月26日(2016.4.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
（ａ）薬学的に許容される媒体中のリポソームであって、各々が内部空間および前記内部を前記媒体から隔てる膜を有し、前記膜が、１種または複数種の脂質を含むリポソームと、
（ｂ）キレート化された金属イオン、Ｍ、を含む下記式ＩＩの化合物であって、
2015520734.tif 000001
（式中、Ｍはリポソーム造影剤内に検出可能な銅のカチオンである）
上記（ａ）のリポソームの少なくとも１つのリポソームに内包された化合物と、
を含むことを特徴とするリポソーム造影剤組成物。
【請求項２】
請求項１に記載の組成物において、前記銅のカチオンが、Ｃｕ２＋であることを特徴とする組成物。
【請求項３】
請求項１または２に記載の組成物において、Ｍは前記銅のカチオンの放射性同位元素であることを特徴とする組成物。
【請求項４】
請求項３に記載の組成物において、前記銅のカチオンの放射性同位元素が、６４Ｃｕまたは６７Ｃｕであることを特徴とする組成物。
【請求項５】
請求項１乃至４の何れか１項に記載の組成物において、薬学的に許容される媒体中のリポソームであって、各々が内部空間および前記内部を前記媒体から隔てる膜を有し、前記膜が、ＤＳＰＣ、コレステロール、及びＰＥＧ−ＤＳＰＥを含むリポソームを含むことを特徴とする組成物。
【請求項６】
請求項１乃至５の何れか１項に記載の組成物において、前記リポソームの膜が、重量比３：１：１でＤＳＰＣ、コレステロール、及びＰＥＧ−ＤＳＰＥを含むことを特徴とする組成物。
【請求項７】
リポソーム膜を有するリポソームに内包された検出可能な６４Ｃｕ：４−ＤＥＡＰ−ＡＴＳＣを含むリポソーム造影剤において、前記リポソーム膜が、ＤＳＰＣ、コレステロール、及びＰＥＧ−ＤＳＰＥを含むことを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項８】
請求項７に記載のリポソーム造影剤であって、５〜８の外部ｐＨを有することを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項９】
請求項７に記載のリポソーム造影剤であって、約７．４の外部ｐＨを有することを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項１０】
請求項７乃至９のいずれか１項に記載のリポソーム造影剤であって、前記リポソームに内包された非ポリマーアニオン捕獲剤を更に含むことを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項１１】
請求項７乃至９のいずれか１項に記載のリポソーム造影剤であって、前記リポソームに内包されたスクロースオクタスルフェートを更に含むことを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項１２】
請求項７乃至１１のいずれか１項に記載のリポソーム造影剤において、前記リポソーム膜が、重量比３：１：１でＤＳＰＣ、コレステロール、及びＰＥＧ−ＤＳＰＥを含むことを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項１３】
請求項７乃至１２のいずれか１項に記載のリポソーム造影剤であって、患者内において検出可能な放射能を提供する量でＣｕ２＋を含むことを特徴とするリポソーム造影剤。
【請求項１４】
患者内において検出可能な放射能を提供する量でリポソームに内包された下記式ＩＩの化合物を含む造影剤であって、この式ＩＩの化合物のＭはＣｕ２＋の放射性同位元素である造影剤において、
2015520734.tif 000002
前記リポソームがリポソーム膜を有することを特徴とする造影剤。
【請求項１５】
請求項１４に記載の造影剤において、前記リポソーム膜が、ＰＥＧ化脂質を含むことを特徴とする造影剤。
【請求項１６】
請求項１４又は１５に記載の造影剤において、前記リポソーム膜が、ＤＳＰＣ、コレステロール、及びＰＥＧ−ＤＳＰＥを含むことを特徴とする造影剤。
【請求項１７】
請求項１６に記載の造影剤であって、リポソーム内において式ＩＩの化合物で内包されたスクロースオクタスルフェートを更に含み、５〜８の外部ｐＨを有することを特徴とする造影剤。
【請求項１８】
請求項１７に記載の造影剤であって、約７．４の外部ｐＨを有することを特徴とする造影剤。
【手続補正書】
【提出日】平成28年4月28日(2016.4.28)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ケモカインＣＸＣＬ１７レベルの増大に関連する疾患を処置する方法であって、
ＣＸＣＬ１７の活性レベルを低くする物質の治療上有効量をこのような処置を必要とする対象に投与すること
を含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月23日(2016.5.23)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
酢酸ウリプリスタルまたはその代謝物の何れかを含む、乳房腫瘍の予防または処置用薬剤。
【請求項２】
それを必要とする患者がBRCA1および／またはBRCA2遺伝子に変異を有する、請求項１に記載の薬剤。
【請求項３】
乳房腫瘍の予防に使用するための、請求項２に記載の薬剤。
【請求項４】
乳房腫瘍が乳癌である、請求項１または２に記載の薬剤。
【請求項５】
経口で投与される、請求項１〜４の何れか１項に記載の薬剤。
【請求項６】
静脈内に投与される、請求項１〜４の何れか１項に記載の薬剤。
【請求項７】
膣または子宮内経路によって投与される、請求項１〜４の何れか１項に記載の薬剤。
【請求項８】
それを必要とする患者が女性の患者である、請求項１〜７の何れか１項に記載の薬剤。
【請求項９】
乳房腫瘍が癌である、請求項１〜８の何れか１項に記載の薬剤。
【請求項１０】
乳房腫瘍が良性腫瘍である、請求項１〜８の何れか１項に記載の薬剤。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００５
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００５】
他の抗プロゲスチン剤、例えばミフェプリストンおよびオナプリストンは、乳癌処置用に開発された。１２３人の転移性乳癌を有する閉経後の女性の第二次治療または第三次治療におけるミフェプリストンまたはオナプリストンの投与は、それぞれ１１％の奏効率および４３％の患者の疾患安定化をもたらした(Romieu et al. 1987, Bull Cancer 74(4): 455-461; Klijn, et al. 1989, Cancer Res 49(11): 2851-2856)。残念なことに、それぞれミフェプリストンおよびオナプリストンの抗グルココルチコイド作用および肝毒性副作用のために、臨床試験は継続されなかった。
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００２１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００２１】
好ましくは、酢酸ウリプリスタル(ＵＰＡ)が用いられる。しかし、ＵＰＡ代謝物も同様に用いられ得る。酢酸ウリプリスタルの代謝物は、Attardi et al, Journal of Steroid Biochemistry & Molecular Biology, 2004, 88: 277-288に記載されたもの、例えばモノデメチレーテッドCDB-2914 (CDB-3877)；ジデメチレーテッドCDB-2914 (CDB-3963)；１７α−ヒドロキシCDB-2914 (CDB-3236)；CDB-2914の芳香族Ａ環誘導体(CDB-4183)を含む。好ましくは、代謝物は、モノデメチレーテッドCDB-2914 (CDB-3877)である。
【化２】
2015520763.tif 000001
【手続補正４】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００６２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００６２】
結果
ＵＰＡ処置は耐容性がよく、この試験中で著しい体重減少は記録されなかった。処置関連臨床所見は実験期間中報告されなかった。
処置開始時の平均腫瘍体積(ＴＶ)は、コントロール群およびＵＰＡ処置群において、それぞれ１１２.２±７.１mm3および１０２.４±７.７mm3であった。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月18日(2016.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ヒトCD33タンパク質に特異的に結合する単離された抗体であって、3つの重鎖相補性決定領域(CDR):配列番号19からなる重鎖CDR1、配列番号20からなる重鎖CDR2、及び配列番号21からなる重鎖CDR3、並びに3つの軽鎖CDR: 配列番号22からなる軽鎖CDR1、配列番号23からなる軽鎖CDR2、及び配列番号24からなる軽鎖CDR3を含む、上記抗体。
【請求項２】
マウス抗体、キメラ抗体、及びヒト化抗体から選択される、請求項１に記載の抗体。
【請求項３】
ヒト化2H12抗体である、請求項２に記載の抗体。
【請求項４】
配列番号18と少なくとも90%同一であるアミノ酸配列を有する成熟重鎖可変領域を含む、ただし、H48位はIによって占められ、H66位はKによって占められ、H67位はAによって占められ、H69位はLによって占められ、H71位はAによって占められ、H94位はSによって占められ、並びに配列番号8と少なくとも90%同一である成熟軽鎖可変領域を含む、ただし、L22位はNによって占められ、L46位はTによって占められ、L69位はQによって占められ、L71位はYによって占められ、Kabat番号付けシステムによって決定される、請求項３に記載のヒト化抗体。
【請求項５】
配列番号18と少なくとも95%同一であるアミノ酸配列を有する成熟重鎖可変領域、及び配列番号8と少なくとも95%同一である成熟軽鎖可変領域を含む、請求項３に記載のヒト化抗体。
【請求項６】
成熟重鎖可変領域が重鎖定常領域に融合し、成熟軽鎖可変領域が軽鎖定常領域に融合している、請求項３に記載のヒト化抗体。
【請求項７】
重鎖定常領域が、天然ヒト定常領域と比較して低減されたFcγ受容体に対する結合を有する、天然ヒト定常領域の変異体形態である、請求項３に記載のヒト化抗体。
【請求項８】
重鎖定常領域が、IgG1アイソタイプのものである、請求項２に記載のヒト化抗体。
【請求項９】
重鎖定常領域が配列番号27を含むアミノ酸配列を有し、軽鎖定常領域が配列番号25を含むアミノ酸配列を有する、請求項３〜６のいずれか一項に記載のヒト化抗体。
【請求項１０】
重鎖定常領域が配列番号29（S239C）を含むアミノ酸配列を有し、軽鎖定常領域が配列番号25を含むアミノ酸配列を有する、請求項３に記載のヒト化抗体。
【請求項１１】
成熟重鎖可変領域が配列番号18で示されるアミノ酸配列を有し、成熟軽鎖可変領域が配列番号8で示されるアミノ酸配列を有する、請求項３に記載のヒト化抗体。
【請求項１２】
細胞傷害剤にコンジュゲートされている、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項１３】
細胞傷害剤が、酵素切断可能なリンカーを介して抗体にコンジュゲートされている、請求項１２に記載の抗体。
【請求項１４】
細胞傷害剤がDNA副溝結合剤である、請求項１２又は１３に記載の抗体。
【請求項１５】
細胞傷害剤が、式：
【化１】
2015520758.tif 000001
を有する、請求項１２〜１４のいずれか一項に記載の抗体。
【請求項１６】
ヒト又はカニクイザルのCD33に対して、0.5〜2×109M-1の会合定数を有する、請求項１に記載の抗体。
【請求項１７】
HI（配列番号18）と少なくとも90%同一であるアミノ酸配列を有する成熟重鎖可変領域、及びLG（配列番号8）と少なくとも90%同一である成熟軽鎖可変領域を含む、ヒト化抗体。
【請求項１８】
成熟重鎖可変領域が配列番号18を含むアミノ酸配列を有し、成熟軽鎖可変領域が配列番号8を含むアミノ酸配列を有する、請求項１７に記載のヒト化抗体。
【請求項１９】
請求項１〜１８のいずれか一項に規定される成熟重鎖可変領域及び／又は成熟軽鎖可変領域をコードする核酸。
【請求項２０】
請求項１〜１８のいずれか一項に記載のヒト化抗体を含む、癌を有しているか又は癌の危険性のある患者を治療するための医薬組成物。
【請求項２１】
癌が、急性骨髄性白血病(AML)、骨髄異形成症候群(MDS)、急性前骨髄球性白血病(APL)、慢性骨髄性白血病(CML)、慢性骨髄単球性白血病(CMML)、慢性骨髄増殖性障害、前駆B細胞急性リンパ芽球性白血病(preB-ALL)、前駆T細胞急性リンパ芽球性白血病(preT-ALL)、多発性骨髄腫(MM)、肥満細胞症又は骨髄肉腫である、請求項２０に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月26日(2016.2.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００３６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００３６】
図７を参照すると、図５および６の２つの区画および２つの外側折り返し部を含む複数区画パウチ２０２を形成する方法の例示的な斜視図が示されている。２つの区画を有する複数区画パウチ２０２は、上部前後パネル領域２５４と下部前後パネル領域２５８を設けることによって形成される。下部前後パネル領域２５８は、パウチ２０２の下部区画２０８を形成する。上部前後パネル領域２５４は、パウチ２０２の内部ガセット２１２を含む上部区画２０４を形成する。上部前後パネル領域２５４は、下部前後パネル領域２５８の上部の開口に挿入できるように、下部前後パネル領域２５８より幅が小さくてもよい。上部前後パネル領域２５４は、その中にミシン目線または切り込み線２３０を有する折り目２１５も含む。あるいは、ミシン目線または切り込み線２３０は、剥離可能なシール、ジッパーアセンブリ、面ファスナーアセンブリ、またはそれらの組み合わせに置き換えられてもよい。上部区画２０４の下部区画２０８に対する相対的サイズは、上部前後パネル領域２５４がどの程度まで下部前後パネル領域２５８に挿入されるかによって決められる。距離的に深く挿入されれば挿入されるほど、上部区画２０４の下部区画２０８に対する相対的サイズは大きくなる。上部前後パネル領域２５４内の折り目２１５の上方に延びる下部前後パネル領域２５８の部分は、複数区画パウチ２０２の前壁２２２と後壁２２４の外側折り返し部２１４を形成する。上部前後パネル領域２５４は、パウチ２０２の２つの側縁２２６、２２８に沿って下部前後パネル領域２５８にシールされる。上部前後パネル領域２５４の両側縁２２６’、２２８’が、下部前後パネル領域２５８の両側縁２２６”、２２８”にシールされると、上部区画２０４と下部区画２０８とを有する空の複数区画パウチ２０２が形成される。これは、２つの区画を分離する折られた内部ガセット壁２１２を有する「パウチ内のパウチ（pouch within a pouch）」型の配置であり、ガセット２１２は、２つの区画２０４、２０８を分離する、脆弱な壊れやすい領域を形成するために、ミシン目線または切り込み線２３０を有する折り目２１５を含む。上部区画２０４の内容物または材料２０６は、上端開口２６４を通して挿入され、下部区画２０８の内容物または材料２１０は、パウチ２０２の下端開口２６８を通して挿入される。この形態において、上部区画２０４が充填されシールされ、そして下部区画２０８が充填されシールされる前に、パウチが１８０度反転される必要があるので、パウチ２０２の上部区画２０４と下部区画は逐次的に充填されなければならない。次にパウチ２０２の上縁２２７と下縁２２９は、熱、超音波、または接着剤、またはプラスチックフィルムをシールするための当技術分野で公知の他の手段によってシールされる。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４３
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４３】
図９の２つの区画の側部から充填可能なパウチを製造するための例示的な製造シーケンスが図１０に示されている。製造シーケンスは、５つの工程プロセスであり、以下を含む：１）外側折り返し部を用いてパウチの外側のパネルを把持して引くための手段を製造することを含むパウチ形成工程、２）内部ガセット内に（ミシン目または切り込み線を用いた）脆弱な壊れやすい領域、または（剥離可能なシール、ジッパー、または面ファスナーを用いた）非脆弱である開放可能領域を形成する工程、３）２区画パウチの上部区画および下部区画に対して内部ガセットをシールし、外側折り返し部に「Ｌ字形」ミシン目線を形成する工程、４）パウチ内で１組のサイドシールまたはシームおよび上下シールまたはシームを形成する工程、および５）側部から充填可能なパウチを互いに切り取り、それらを積み重ねる工程。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月31日(2016.3.31)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ブルー相を呈するメソゲン媒体であって、式Ｄ
【化１】
2015520779.tif 000001
式中、
Ｒ０は、１〜１２個のＣ原子を有するアルキル、これは直鎖状または分枝状であり、非置換であるか、Ｆ、ＣｌまたはＣＮによって単置換または多置換されており、ここで、１または２以上のＣＨ２基は、それぞれの場合において、互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ０１−、−ＳｉＲ０１Ｒ０２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＹ０１＝ＣＹ０２−または−Ｃ≡Ｃ−によって、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接的に結合しないように、置き換えられていてもよい、であり、
Ｙ０１およびＹ０２は、互いに独立して、Ｆ、ＣｌまたはＣＮであり、代替的にそれらの１つはＨであってもよく、
Ｒ０１およびＲ０２は、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子を有するアルキルであり、
Ｌ０１〜Ｌ０３は、それぞれの場合において、互いに独立して、ＨまたはＦであり、
Ｘ０は、Ｆ、ＯＣＦ３、ＣＦ３またはＣＮであり、
ｉは、１、２または３であり、
ｊは、０または１であり、および
ｉ＋ｊは、１、２または３である、
で表される１種または２種以上の化合物を含む前記媒体。
【請求項２】
請求項１に記載のメソゲン媒体であって、式Ｉ
【化２】
2015520779.tif 000002
式中、
Ｒ１は、直鎖状または分枝状のアルキル、これは非置換であるか、Ｆ、ＣｌまたはＣＮによって単置換または多置換されており、ここで、１または２以上のＣＨ２基は、それぞれの場合において、互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ０１−、−ＳｉＲ０１Ｒ０２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＹ０１＝ＣＹ０２−または−Ｃ≡Ｃ−によって、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接的に結合しないように、置き換えられていてもよい、であり、
Ｙ０１およびＹ０２は、互いに独立して、Ｆ、ＣｌまたはＣＮであり、および代替的にそれらの１つはＨでもよく、
Ｒ０１およびＲ０２は、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子を有するアルキルであり、
Ｘ１は、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３またはＣＮであり、
【化３】
2015520779.tif 000003
ｎは、０、１、または２であり、
ｍは、０または１であり、
ｎ＋ｍは、０、１または２である、
で表される１種または２種以上の化合物を含むことを特徴とする、前記媒体。
【請求項３】
式Ｉで表される１種または２種以上の化合物であって、式中ｎが０または１であり、ｍが１であり、かつｎ＋ｍが１または２である、該化合物を含むことを特徴とする、請求項２に記載の媒体。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の媒体であって、式Ｄ−１〜Ｄ−４
【化４】
2015520779.tif 000004
ここでパラメーターは、請求項１において与えられた意味を有する、
のいずれかで表される化合物の群から選択される、１種または２種以上の化合物を含むことを特徴とする、前記媒体。
【請求項５】
式Ｄ−１
【化５】
2015520779.tif 000005
ここでパラメーターは、請求項１において与えられた意味を有する、
で表される１種または２種以上の化合物を含むことを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の媒体。
【請求項６】
式Ｄ−２
【化６】
2015520779.tif 000006
ここでパラメーターは、請求項１において与えられた意味を有する、
で表される１種または２種以上の化合物を含むことを特徴とする、請求項１〜５のいずれか一項に記載の媒体。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか一項に記載の媒体であって、式ＩＩまたはＩＩＩ
【化７】
2015520779.tif 000007
式中
Ｒ２およびＲ３は、互いに独立して、１〜１２個のＣ原子を有するアルキル、これは直鎖状または分枝状であり、非置換であるか、Ｆ、ＣｌまたはＣＮによって単置換または多置換されており、ここで、１または２以上のＣＨ２基は、それぞれの場合において、互いに独立して、−Ｏ−、−Ｓ−、−ＮＲ０１−、−ＳｉＲ０１Ｒ０２−、−ＣＯ−、−ＣＯＯ−、−ＯＣＯ−、−ＯＣＯ−Ｏ−、−Ｓ−ＣＯ−、−ＣＯ−Ｓ−、−ＣＹ０１＝ＣＹ０２−または−Ｃ≡Ｃ−によって、Ｏおよび／またはＳ原子が互いに直接的に結合しないように、置き換えられていてもよい、であり、
Ｙ０１およびＹ０２は、互いに独立して、Ｆ、ＣｌまたはＣＮであり、代替的にそれらの１つはＨであってもよく、
Ｒ０１およびＲ０２は、互いに独立して、Ｈ、または１〜１２個のＣ原子を有するアルキルであり、
Ｘ２およびＸ３は、互いに独立して、Ｆ、Ｃｌ、ＣＦ３、ＯＣＦ３またはＣＮであり、
Ｌ０１〜Ｌ０３は、それぞれの場合において、互いに独立して、ＨまたはＦであり、
【化８】
2015520779.tif 000008
【化９】
2015520779.tif 000009
ｐは、０または１であり、
ｑは、０または１である、
で表される化合物の群から選択される１種または２種以上の化合物を含むことを特徴とする、前記媒体。
【請求項８】
１種または２種以上の重合性化合物を含むことを特徴とする、請求項１〜７のいずれか一項に記載の媒体。
【請求項９】
請求項８に記載の媒体を、その重合性成分の重合化に供することを特徴とする、メソゲン媒体の安定化方法。
【請求項１０】
請求項８に記載の媒体の重合性成分を重合化することにより安定化された、メソゲン媒体。
【請求項１１】
請求項１〜８および１０のいずれか一項に記載の媒体を含むことを特徴とする、光変調素子。
【請求項１２】
請求項１〜８および１０のいずれか一項に記載の媒体を含むことを特徴とする、電気光学ディスプレイ。
【請求項１３】
請求項１〜８および１０のいずれか一項に記載の媒体の、光変調素子における使用。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０１２８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０１２８】
Δｎは光学的異方性を示す。Δεは誘電異方性を示す（Δε＝ε││−ε⊥、式中、ε││は分子の長軸に平行な誘電定数を示し、ε⊥はそれに垂直な誘電定数を示す）。電気光学データは、他に明示的に記載されない限り、２０℃における透過率の一次最小値（すなわち、（ｄ・Δｎ）値が０．５μｍ）でのＴＮセル中で測定される。光学データは、他に明示的に記載されない限り、２０℃で測定される。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月17日(2016.3.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
１つまたは複数の貫通セラミックハニカム区画および１つまたは複数の下流セラミックハニカム区画を備えるセラミックハニカム集成体であって、セラミックハニカム区画は、軸方向に連続的に配置され、ハニカム区画の各連続対の間には空隙が設けられ、前記ハニカム区分を互いに固定された空間的関係に保持する構造的手段と、ハニカム区画の各連続対の間の１つまたは複数の空隙の周辺を包囲する包囲手段を備え、
（ａ）少なくとも１つの下流セラミックハニカム区画が少なくとも１つの貫通セラミックハニカム区画の下流に配置され、
（ｂ）貫通セラミックハニカム区画と下流セラミックハニカム区画が、多孔隔壁により画定される複数の軸方向に延びるセルをそれぞれ有し、
（ｃ）貫通セラミックハニカム区画（１つまたは複数）の軸方向に延びるセルと、下流ハニカム区画（１つまたは複数）の軸方向に延びるセルが、セラミックハニカム集成体を上流端から下流端まで通る複数の流体流路を一緒に画定し、
（ｄ）各貫通セラミックハニカム区画が、（ｉ）両端が開口し、流体がセル壁を貫通することなく貫通セラミックハニカムを流れる流路を形成する、少なくとも１５数量％の貫
通セルと、（ｉｉ）前記貫通セラミックハニカム区画の出口端部が閉鎖されているが入口端部は閉鎖されていないので、入った流体は前記貫通セラミックハニカムを通過するときに少なくとも１つのセル壁を貫通しなければならない、入口セルを含み、
（ｅ）各下流セラミックハニカム区画が、（ｉ）前記下流セラミックハニカム区画の入口端部が閉鎖されているが出口端部は閉鎖されていない出口セル、（ｉｉ）前記下流セラミックハニカム区画の出口端部が閉鎖されているが入口端部は閉鎖されていないので、その入口端部に入った流体は前記下流セラミックハニカムの出口端部から出るにはセル壁を貫通しなければならない、入口セル、および（ｉｉｉ）両端部が開口し、流体がセル壁を貫通することなく下流セラミックハニカムを通過する通路を形成する、０〜１０数量％の貫通セルを含む、セラミックハニカム集成体。
【請求項２】
下流区画が集成体の最後の区画である、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項３】
下流区画を１つだけ含む、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項４】
下流区画が貫通セルを含まない、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項５】
少なくとも２つの貫通区画と、それに続く１つの下流区画を含む、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項６】
周壁が構造的手段と包囲手段を形成する、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項７】
缶が構造的手段と包囲手段を形成する、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項８】
各空隙の長さが１〜２５ｍｍである、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項９】
少なくとも長さの一部分が半径方向に区分されている、請求項１に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項１０】
各半径方向区分が、少なくとも１つの貫通ハニカム区画の下流に配置された少なくとも１つの下流ハニカム区画を含み、ハニカム区画の各連続対の間に空隙を有する、請求項９に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項１１】
少なくとも１つの半径方向区分の少なくとも１つの空隙が、隣接する半径方向区分の空隙からずれている、請求項９に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項１２】
半径方向区分の少なくとも１つがハニカム集成体の全長にわたり延在し、半径方向区分の少なくとも１つが少なくとも１つの貫通ハニカム区画の下流に配置された少なくとも１つの下流ハニカム区画を含み、ハニカム区画の各連続対の間に空隙を有する、請求項９に記載のセラミックハニカム集成体。
【請求項１３】
請求項１に記載のセラミックハニカム集成体を形成する方法であって、（１）セラミックハニカムを形成すること、（２）ハニカムうちの少なくとも１つのセルを塞いで入口セルと出口セルを有する貫通ハニカム区画を形成し、少なくとももう１つのハニカムのセルを塞いで入口セルと出口セルと０〜１０数量％の貫通セルを有する下流ハニカム区画を形成すること、および（３）貫通ハニカム区画（複数可）と下流ハニカム区画（複数可）を、少なくとも１つの貫通区画の後ろに配置された少なくとも１つの下流ハニカム区画と、連続ハニカム区画の各対の間に空隙を有して該空間を包囲して固定された空間関係に組み立てることを含む、方法。
【請求項１４】
空隙が、ハニカム区画の各連続対の間に一時的なスペーサを挿入し、集成体を焼成して一時的なスペーサを除去して空隙を形成することにより形成される、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
燃焼排気流から微粒子物質を除去する方法であって、燃焼排気流を請求項１４に記載のセラミックハニカム集成体に通過させることを含む、方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年3月18日(2016.3.18)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
硬化性組成物であって、
（ｉ）少なくとも１つの芳香族エポキシ樹脂、
（ｉｉ）少なくとも１つの脂環式アミンを含み、前記芳香族エポキシ樹脂を硬化させる、少なくとも１つの硬化剤、
（ｉｉｉ）１００℃〜１４５℃の融点を有し、式（Ｉ）に従う少なくとも２つの末端基
−ＮＲａ−ＣＯ−Ｒｂ
を含有する、少なくとも１つの脂肪酸ポリアミド、（式中、Ｒａは、Ｈであるか、又は１〜４個の炭素原子を有するアルキル基を表し、Ｒｂは、３〜２７個の炭素原子を含有する飽和又は不飽和アルキル鎖を表す）、並びに
（ｉｖ）中空粒子を含む少なくとも１種の充填剤材料、を含む、硬化性組成物。
【請求項２】
１００℃〜１４５℃の温度範囲の融点を有する飽和炭化水素固体を更に含む、請求項１に記載の硬化性組成物。
【請求項３】
前記中空粒子が、中空ガラス粒子である、請求項１又は２に記載の硬化性組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月29日(2016.1.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１４
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１４】
驚くことに、分散剤としてのポリアクリル酸リチウムが、ハイブリッドバインダー系を用いた塗料の場合にそのクラッキングを明らかに防止できることが今や見出された。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項６】
着色料、及びポリマーバインダーにより化学的に架橋される、１００ｎｍ未満の平均粒度を有するシリケート粒子をベースとするバインダー系を含有する水性分散液又はエマルション中の塗料であって、完全に中和されたポリアクリル酸リチウムが分散剤として含有されることを特徴とする、上記の塗料。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
前記シリケート粒子の平均粒度が、≦８０ｎｍ、好ましくは、１０〜５０ｎｍの範囲内、より好ましくは、２０〜３０ｎｍの範囲内にあることを特徴とする、請求項６又は７に記載の塗料。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
エマルション塗料、好ましくは外壁用着色料であることを特徴とする、請求項６〜１０のいずれか一つに記載の塗料。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
ポリマーバインダーにより化学的に架橋される、１００ｎｍ未満の平均粒度を有するシリケート粒子をベースとするバインダー系を含有する塗料を分散する方法であって、完全に中和されたポリアクリル酸リチウムを分散剤として投入することを特徴とする、上記の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月6日(2016.5.6)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
乾燥ベースで、約５５重量％以上の全炭素、約１５重量％以下の水素、および約１重量％以下の窒素を含む生物起源の活性炭組成物であって、
前記活性炭組成物が約５００よりも高いヨウ素価（Ｉｏｄｉｎｅ  Ｎｕｍｂｅｒ）を特徴とし、
任意に、前記組成物が外部から印加された磁場に応答する、生物起源の活性炭組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年1月21日(2016.1.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
押出食品を製造するための生地であって、
少なくとも４％のＣ型デンプン、および
前記生地のタンパク質含有量の質量パーセントとして、少なくとも２０％の天然タンパク質源、
を含む生地。
【請求項２】
増粘剤をさらに含む、請求項１記載の生地。
【請求項３】
３％未満の遊離脂肪を含む、請求項１または２記載の生地。
【請求項４】
１％と５％の間の還元糖の供給源を含む、請求項１から３いずれか１項記載の生地。
【請求項５】
請求項１から４いずれか１項記載の生地を調理する方法において、前記生地を前処理する工程および該生地を押出調理する工程を有してなり、該生地が前処理条件中に１９〜３５％の含水率を有する、方法。
【請求項６】
前記生地が押出調理されてキブルを形成し、該キブルが押出後に８％未満の水分レベルまで乾燥される、請求項５記載の方法。
【請求項７】
前記キブルが５％未満の水分レベルまで乾燥される、請求項６記載の方法。
【請求項８】
前記キブルが加熱下で乾燥される、請求項６記載の方法。
【請求項９】
押出調理中に前記生地に印加される比機械的エネルギー（ＳＭＥ）が１５と３５Ｗ・ｈ／ｋｇの間である、請求項６記載の方法。
【請求項１０】
糊化デンプンマトリクスを有するキブルを押出調理する方法において、
少なくとも４％のＣ型デンプンを含む生地を提供または形成する工程、
前記生地を１９〜３５％の水分レベルで前処理する工程、
前記生地を１９〜３５％の含水率で押し出す工程、および
押し出された生地を乾燥させて、１０％未満の含水率を有するキブルを形成する工程、
を有してなる方法。
【請求項１１】
押出中の比機械的エネルギー（ＳＭＥ）が１５と４０Ｗ・ｈ／ｋｇの間である、請求項１０記載の方法。
【請求項１２】
前記キブルが加熱下で乾燥される、請求項１０または１１記載の方法。
【請求項１３】
前記キブルが１％と８％の間の水分レベルまで乾燥される、請求項１０から１２いずれか１項記載の方法。
【請求項１４】
前記キブルが１％と５％の間の水分レベルまで乾燥される、請求項１３記載の方法。
【請求項１５】
前記生地が３％未満の遊離脂肪を含む、請求項１０からか１４いずれか１項記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年5月11日(2016.5.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被検者の分析物レベルを監視する方法であって、
（ａ）試料中の分析物濃度を測定するステップ、
（ｂ）前記被検者の分析物レベルを表す、所定量の前記分析物を、前記試料中に導入するステップ、
（ｃ）前記試料中の前記分析物濃度を再測定するステップ、
（ｄ）ステップ（ｃ）における濃度測定値と、その前の濃度測定値との差に基づき、前記被検者の分析物レベルを判定するステップ、および
（ｅ）継時的な一連の判定を発生させるために、間隔をおいてステップ（ｂ）〜（ｄ）を繰り返すステップ
を含んでいる方法。
【請求項２】
前記試料中の前記分析物濃度を測定するために用いられる処理は、前記試料中の前記分析物を部分的に消耗する請求項１記載の方法。
【請求項３】
ステップ（ｃ）における測定は、各測定が、前記分析物の少ない割合のみを消耗し、それにより前記試料中の前記分析物濃度が連続する間隔にわたって高くなるように制御される請求項２記載の方法。
【請求項４】
ステップ（ｄ）における前記分析物レベルの判定は、測定処理による前記試料中の分析物の消耗を考慮に入れるアルゴリズムを用いる請求項２または３記載の方法。
【請求項５】
ステップ（ｄ）における前記分析物レベルの判定は、連続する測定間の間隔の間の、前記試料中の分析物の消耗を考慮に入れるアルゴリズムを用いる請求項２〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
各測定ステップ（ｃ）と次の導入ステップ（ｂ）との間には休止期間があり、
前記方法はさらに、各導入ステップ（ｂ）の直前に、前記試料中の前記分析物濃度の暫定的な測定を行うステップをさらに含み、前記暫定的な測定値は、前記判定ステップ（ｄ）における濃度の以前の測定値として用いられる請求項２〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
第１測定ステップ（ａ）の前に、所定量の前記分析物を前記試料中に導入する初期ステップをさらに含む請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
前記初期ステップにおいて前記試料中に導入される前記分析物の量は、前記被検者以外の供給源に由来する請求項７記載の方法。
【請求項９】
前記初期ステップは、センサの安定した動作を達成するために、前記試料中の前記分析物濃度の、繰り返される一連の測定を実行することをさらに含んでいる請求項７または８記載の方法。
【請求項１０】
測定ステップ（ｃ）は、一連の測定を行い、一連の測定において選択された測定の平均を計算することを含む請求項１〜９のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１１】
判定ステップ（ｄ）は、判定された分析物レベルにおいて、閾値を越える変化を生じる全ての測定を拒否することを含む請求項１〜１０のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１２】
判定ステップ（ｄ）は、判定された分析物レベルが実質的に安定化されるまでの全ての測定を拒否することを含む請求項１〜１１のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１３】
（ｂ）前記被検者の分析物レベルを表す、所定量の分析物を、前記試料中に導入するステップは、前記被検者の間質液から前記所定量の分析物を抽出するために、リバースイオントフォレーシスを実施することを含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１４】
（ｂ）前記被検者の分析物レベルを表す、所定量の分析物を、前記試料中に導入するステップは、前記所定量の分析物を含む体液を前記被検者から抽出するために、マイクロニードルを用いることを含む請求項１〜１２のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
前記分析物がグルコースである請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。