【手続補正書】
【提出日】平成28年5月9日(2016.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
順相クロマトグラフィー、超臨界流体クロマトグラフィー、亜臨界流体クロマトグラフィー、または二酸化炭素系クロマトグラフィーにおける保持のドリフトまたは変化を軽減または防止する方法であって、
式１で表されるクロマトグラフィー固定相を備えるクロマトグラフ装置を用いて試料をクロマトグラフィー的に分離することを含み、それにより、保持のドリフトまたは変化を軽減または防止する、方法：
［Ｘ］（Ｗ）ａ（Ｑ）ｂ（Ｔ）ｃ  式１
（式中、
Ｘは、シリカコア材料、金属酸化物コア材料、無機−有機ハイブリッド材料またはこれらのブロックコポリマーの一群を含む表面を有する、高純度クロマトグラフィーコア組成物であり；
Ｗは、非存在、またはＸの表面上に、ヒドロキシルを含み、および／または水素を含み；
Ｑは、Ｘに直接結合しており、分析物とクロマトグラフィー的に相互作用する第１の親水性、極性、イオン性および／または荷電官能基を含み；
Ｔは、Ｘに直接結合しており、分析物とクロマトグラフィー的に相互作用する第２の親水性、極性、イオン性および／または荷電官能基を含み；
ａは、≧０であり、ｂは、≧０であり、ｃは、≧０であり（ここで、ｂ＝０およびｃ＞０、またはｃ＝０およびｂ＞０である）、および
ＱおよびＴは、分析物と、ＸおよびＷとの間のクロマトグラフィー的相互作用を本質的になくし、それにより、低い水濃度を用いるクロマトグラフィー条件下で経時的な保持の変動（ドリフト）を最小限にする。）。
【請求項２】
保持のドリフトまたは変化の軽減または防止が、保持に対するクロマトグラフィー材料のアルコキシル化および／または脱アルコキシル化の効果を実質的になくすことを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
Ｑが、
【化１】
2015517402.tif 000001
［式中、
ｎ１は、０−３０の整数であり；
ｎ２は、０−３０の整数であり；
ｎ３＝０または１であり、但し、ｎ３＝０である場合、ｎ１は、０でないことを条件とし；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれの出現は、水素、フルオロ、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−プロピル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、双性イオン、または基Ｚを独立して表し；
Ｚは、
ａ）式
（Ｂ１）ｘ（Ｒ５）ｙ（Ｒ６）ｚＳｉ−
（式中、
ｘは、１−３の整数であり、
ｙは、０−２の整数であり、
ｚは、０−２の整数であり、
ｘ＋ｙ＋ｚ＝３であり、
Ｒ５およびＲ６のそれぞれの出現は、メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル、テキシル、置換もしくは非置換アリール、環状アルキル、分岐アルキル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、または双性イオン基を独立して表し、
Ｂ１は、シロキサン結合を表す。）
を有する表面結合基；
ｂ）直接炭素−炭素結合形成を介したまたはヘテロ原子、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アミド、イミド、尿素、カーボネート、カルバメート、ヘテロ環、トリアゾールもしくはウレタン結合を介した表面有機官能性ハイブリッド基への結合；または
ｃ）前記材料の表面に共有結合していない、吸着された表面基
を表し；
Ｙは、埋め込み極性官能基であり；
Ａは、
ｉ）親水性末端基；
ｉｉ）水素、フルオロ、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−プロピル、低級アルキルもしくは基Ｚ；または
ｉｉｉ）官能化可能な基
を表す。］
で表される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
Ｔが、
【化２】
2015517402.tif 000002
［式中：
ｎ１は、０−５の整数であり；
ｎ２は、０−５の整数であり；
ｎ３＝０または１であり、但し、ｎ３＝０である場合、ｎ１は０でないことを条件とし；
Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３およびＲ４のそれぞれの出現は、水素、フルオロ、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−プロピル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、双性イオン、または基Ｚを独立して表し；
Ｚは、
ａ）式
（Ｂ１）ｘ（Ｒ５）ｙ（Ｒ６）ｚＳｉ−
（式中、
ｘは、１−３の整数であり、
ｙは、０−２の整数であり、
ｚは、０−２の整数であり、
ｘ＋ｙ＋ｚ＝３であり、
Ｒ５およびＲ６のそれぞれの出現は、メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル、テキシル、置換もしくは非置換アリール、環状アルキル、分岐アルキル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、または双性イオン基を独立して表し；
Ｂ１は、シロキサン結合を表す。）
を有する表面結合基、
ｂ）直接炭素−炭素結合形成を介したまたはヘテロ原子、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アミド、イミド、尿素、カーボネート、カルバメート、ヘテロ環、トリアゾールもしくはウレタン結合を介した表面有機官能性ハイブリッド基への結合；
ｃ）前記材料の表面に共有結合していない吸着された表面基；または
ｄ）シリルエーテル結合
を表し；
Ｙは、埋め込み極性官能基であり；
Ａは、
ｉ）親水性もしくはイオン性末端基；または
ｉｉ）水素、フルオロ、メチル、エチル、ｎ−ブチル、ｔ−ブチル、ｉ−プロピル、低級アルキルまたは基Ｚ
を表す。］
で表される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
Ｔが、以下の構造：
【化３】
2015517402.tif 000003
（式中、Ｒ５およびＲ６は、メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル、テキシル、置換もしくは非置換アリール、環状アルキル、分岐アルキル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、または双性イオン基を独立して表し、
Ａ、Ａ１およびＡ２は、（１）シアノ、ヒドロキシル、フルオロ、トリフルオロ、置換アリール、エステル、エーテル、アミド、カルバメート、尿素、スルホキシド、ニトロ、ニトロソ、ボロン酸、ボロン酸エステル、尿素、チオエーテル、スルフィニル、スルホニル、チオ尿素、チオカーボネート、チオカルバメート、エチレングリコール、ヘテロ環式、メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル、テキシル、置換もしくは非置換アリール、環状アルキル、分岐アルキル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、または双性イオン基、またはトリアゾール官能基を含めた、親水性／イオン性基の１種から独立して選択され、（２）メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル、テキシル、置換もしくは非置換アリール、環状アルキル、分岐アルキルもしくは低級アルキルを含めた、非極性基から独立して選択され、および／または（３）親水性／イオン性基から独立して選択され、Ａ１は、非極性基から独立して選択され、Ａ２は、親水性／イオン性基または非極性基のいずれかから独立して選択される。）
の１つを含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
ＱおよびＴが異なる、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
ＱおよびＴが同じである、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
第１の官能基が、ジオール、トリメトキシシリルエチルピリジン、ジエチルアミノトリメトキシシラン、硫黄、窒素または酸素系の極性シランカーボネート、カルバメート、アミド、尿素、エーテル、チオエーテル、スルフィニル、スルホキシド、スルホニル、チオ尿素、チオカーボネート、チオカルバメート、エチレングリコール、ヘテロ環またはトリアゾールを含む、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
Ｔに含まれる官能基が、アミン、トリメトキシシリルエチルピリジン、ジエチルアミノトリメトキシシラン、硫黄、窒素または酸素系の極性シランカーボネート、カルバメート、アミド、尿素、エーテル、チオエーテル、スルフィニル、スルホキシド、スルホニル、チオ尿素、チオカーボネート、チオカルバメート、エチレングリコール、ヘテロ環またはトリアゾールである、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
Ｑが、以下の構造：
【化４】
2015517402.tif 000004
2015517402.tif 000005
2015517402.tif 000006
［式中、Ｚは、
ａ）式
（Ｂ１）ｘ（Ｒ５）ｙ（Ｒ６）ｚＳｉ−
（式中、
ｘは、１−３の整数であり、
ｙは、０−２の整数であり、
ｚは、０−２の整数であり、
ｘ＋ｙ＋ｚ＝３であり、
Ｒ５およびＲ６のそれぞれの出現は、メチル、エチル、ｎ−ブチル、イソブチル、ｔｅｒｔ−ブチル、イソプロピル、テキシル、置換もしくは非置換アリール、環状アルキル、分岐アルキル、低級アルキル、保護もしくは脱保護アルコール、または双性イオン基を独立して表し、
Ｂ１は、シロキサン結合を表す。）
を有する表面結合基；
ｂ）直接炭素−炭素結合形成を介したまたはヘテロ原子、エステル、エーテル、チオエーテル、アミン、アミド、イミド、尿素、カーボネート、カルバメート、ヘテロ環、トリアゾールもしくはウレタン結合を介した表面有機官能性ハイブリッド基への結合；または
ｃ）前記材料の表面に共有結合していない、吸着された表面基
を含む。］
の１つを含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
ｂ／ｃが、約０．０５−７５；または
ｂ＝ｃであり；または
ｂ＝０およびｃ＞０であり；または
ｂ＞０およびｃ＝０である、
請求項１〜１０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１２】
合計表面被覆率が、約１．０μｍｏｌ／ｍ２より大きい、請求項１〜１１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１３】
前記クロマトグラフィー固定相が、３０日間にわたって≦５％の保持の変化またはドリフトを示す、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記コア材料が、表面多孔質材料を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記コア材料が、ハイブリッド表面層を有する無機材料、無機表面層を有するハイブリッド材料、包囲ハイブリッド層、または異なるハイブリッド表面層を有するハイブリッド材料から本質的になる、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記固定相材料が、複数の粒子の形態またはモノリスの形態である、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記固定相材料が、約２５から１１００ｍ２／ｇの表面積を有する、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記固定相材料が、約０．２から２．０ｃｍ３／ｇの細孔容積を有する、請求項１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記固定相材料が、約１０５ｍ２／ｇ未満のマイクロポア表面積を有する、請求項１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
前記固定相材料が、約２０から１５００Åの平均細孔直径を有する、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２１】
前記固定相が、複数の粒子の形態であり、前記複数の粒子が、約０．２から１００ミクロンのサイズを有する、請求項１〜２０のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２２】
Ｘが、シリカコアまたはシリカ−有機ハイブリッドコアを含み；ならびに（ａ）Ｔが極性であり、ＱおよびＴが、≧１．５μｍｏｌ／ｍ２の合計表面被覆率を有し；（ｂ）Ｔが非極性であり、ＱおよびＴが、≧２．０μｍｏｌ／ｍ２の合計表面被覆率を有する、請求項１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２３】
前記クロマトグラフィー固定相が、放射状調整細孔、非放射状調整細孔、規則細孔、不規則細孔、単分散細孔、非単分散細孔、平滑面、粗面またはこれらの組合せを含む、請求項１〜２２のいずれか一項に記載の方法。