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【手続補正書】
【提出日】平成28年2月3日(2016.2.3)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｉ）フッ化物イオンの供給源、
ｉｉ）カルシウムイオンの供給源、
ｉｉｉ）リン酸イオンの供給源、及び
ｉｖ）安定化二酸化塩素
を含む口腔ケア組成物であって、
前記カルシウムイオンの供給源及び前記リン酸イオンの供給源が粒子のアパタイト種を含む、及び
前記組成物のｐＨが、約６．０から約８．０の間である、
上記口腔ケア組成物。
【請求項２】
前記粒子のアパタイト種がアパタイト粒子を含み、前記アパタイト粒子が約１００ｎｍ未満のサイズを有するクリスタリットを含む、請求項１に記載の口腔ケア組成物。
【請求項３】
前記アパタイト種が、式Ｍ５（ＰＯ４）３Ｘ［式中、Ｍは、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ又はＭｇであり、ＸはＦ、Ｃｌ又はＯＨである］に基づく、請求項２に記載の口腔ケア組成物。
【請求項４】
前記アパタイト種が、置換若しくは非置換ヒドロキシアパタイト又は置換若しくは非置換フッ素アパタイトである、請求項２又は３に記載の口腔ケア組成物。
【請求項５】
前記アパタイト種が、カルシウムヒドロキシアパタイト、ストロンチウムヒドロキシアパタイト、カルシウム炭酸水素化アパタイト、ストロンチウム炭酸水素化アパタイト、カルシウムフッ素アパタイト、ストロンチウムフッ素アパタイト、ストロンチウムカルシウム混合アパタイト若しくはヒドロキシフッ素混合アパタイト、亜鉛置換ヒドロキシアパタイト、亜鉛炭酸化ヒドロキシアパタイト、亜鉛フッ素アパタイト、リン酸オクタカルシウム、又はこれらの任意の２種以上の混合物から選択される、請求項２又は３に記載の口腔ケア組成物。
【請求項６】
前記アパタイト種が、前記組成物の約０．５から約２５重量％の量で存在し、及び／又は前記アパタイト種が粒子サイズ分布を有する、請求項２〜５のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
【請求項７】
前記フッ化物イオンの供給源が、フッ化ナトリウム、フッ化カリウム、モノフルオロリン酸二ナトリウム、フッ化スズ（ＩＩ）、フルオロリン酸二カリウム、フルオロリン酸カルシウム、フッ化カルシウム、フッ化アンモニウム、フッ化アルミニウム、ヘキサデシルアンモニウムフルオリド、３−（Ｎ−ヘキサデシル−Ｎ−２−ヒドロキシ−エチルアンモニオ）アンモニウムジフルオリド、Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−トリス（ポリオキシエチレン）−Ｎ−ヘキサデシル−プロピレンジアミンジヒドロフルオリドジナトリウムヘキサフルオロケイ酸塩、ジカリウムヘキサフルオロケイ酸塩、アンモニウムヘキサフルオロケイ酸塩、マグネシウムヘキサフルオロケイ酸塩若しくはフルオロリン酸アンモニウム、又はこれらの２種以上の任意の組合せから選択される、請求項１〜６のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
【請求項８】
前記フッ化物イオンの供給源が、前記組成物中で２０から１５００ｐｐｍの間のフッ化物濃度を提供する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
【請求項９】
前記組成物が練り歯磨きとして使用される場合、フッ化物濃度は３００から１５００ｐｐｍの間である、請求項８に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１０】
前記組成物が洗口剤として使用される場合、活性フッ化物濃度は５から５００ｐｐｍの間である、請求項８に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１１】
緩衝剤系をさらに含む、請求項１〜１０のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１２】
前記緩衝剤系が、酢酸塩、炭酸塩、クエン酸塩又はリン酸塩を含有する種から選択される１種又は複数種を含む、請求項１１に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１３】
前記組成物が洗口剤又は含嗽剤である場合、直鎖状多糖類ポリマーをさらに含む、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１４】
前記直鎖状多糖類ポリマーは、単糖上の１つ又は複数のヒドロキシル基が、カルボキシル基（Ｒ−ＣＯＯＨ）、アシル基（ＲＣＯ−）又はスルファート基（Ｒ−ＯＳＯ３−）から選択される基を含む官能基で置換されている直鎖状多糖類ガムである、請求項１３に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１５】
前記口腔ケア組成物が、練り歯磨き、口腔スプレー、洗口剤又は含嗽剤配合物の形態である、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物。
【請求項１６】
医療目的で対象の口腔内にガス状二酸化塩素を発生させるための方法であって、安定化二酸化塩素溶液、アパタイト種及びフッ化物イオンの供給源を組み合わせるステップを含む、上記方法。
【請求項１７】
前記安定化二酸化塩素溶液が、約０．０５％から約２．０％（ｗ／ｖ）の間の濃度を有する、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
前記医療目的が、歯及び口腔粘膜の外観を変える又は不快な臭い、歯の再石灰化、象牙質知覚過敏症を改めるために、歯及び口腔粘膜を清浄にすること、歯及び口腔粘膜を芳香で満たすこと又は歯及び口腔粘膜を保護すること、及びそれらの医療目的の組合せである、請求項１６又は１７に記載の方法。
【請求項１９】
対象の歯及び口腔粘膜を清浄にする、又はそれらを芳香で満たす又はそれらを保護する方法であって、請求項１〜１５のいずれか一項に記載の口腔ケア組成物を適用するステップを含む、上記方法。
【請求項２０】
前記アパタイト粒子は、それらの少なくとも５０質量％が約５ミクロン未満のサイズを有するようなサイズ分布を有する、請求項２に記載の口腔ケア組成物。
【請求項２１】
前記粒子のアパタイト種のクリスタリットが約３０ｎｍから約５０ｎｍの間のサイズである、及び、前記アパタイト粒子は、それらの質量の少なくとも１５％が約５ミクロン未満のサイズを有するような粒子サイズ分布を有する、請求項１に記載の口腔ケア組成物。
【請求項２２】
前記口腔ケア組成物が練り歯磨きの形態である、及び、前記アパタイト種がナノ結晶性ヒドロキシアパタイトである、及び、前記アパタイト粒子が０．１から５ミクロンの間の寸法を有するおよそ球形の粒子を形成する、請求項１５に記載の口腔ケア組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年11月20日(2015.11.20)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ビロキサジンまたはその薬学的に許容される塩を含む製剤であって、前記製剤が徐放性成分および即放性成分の少なくとも１つを含む製剤。
【請求項２】
前記徐放性成分がビロキサジン、放出速度制御化合物、および少なくとも１つの薬学的に許容される賦形剤を含む、請求項１に記載の製剤。
【請求項３】
放出速度制御化合物が親水性化合物または疎水性化合物である、請求項２に記載の製剤。
【請求項４】
親水性化合物がヒドロキシプロピルセルロース、ヒドロキシプロピルメチルセルロース、メチルセルロース、ポリエチレンオキシド、アカシア、アクリル酸誘導体、アルギン酸、その塩およびその誘導体、ヒドロキシエチルセルロース、ポビドン、カラギーナン、カルボキシメチルセルロース、トラガカント、ポリビニルアルコール、キサンタンガム、ならびにこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項３に記載の製剤。
【請求項５】
疎水性化合物がエチルセルロース、酢酸セルロース、セルロースアセテートブチレート、ワックス、水素化植物油、ベヘン酸グリセリル、パルミトステアリン酸グリセリル、ＰＥＧグリセリルエステル、ポリ（エチルアクリレート−コ−メチルメタクリレート）、エチルアクリレートメチルメタクリレート共重合体、ポリ（エチルアクリレート−コ−メチルメタクリレート−コトリメチルアンモニオエチルメタクリレートクロリド）、ポリ酢酸ビニル、セルロースアセテートプロピオネート、およびこれらの組み合わせからなる群から選択される、請求項３に記載の製剤。
【請求項６】
５％（ｗ／ｗ）〜６５％（ｗ／ｗ）の放出速度制御化合物を含む、請求項２〜５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項７】
マトリックスコアを含み、マトリックスコアがビロキサジンおよび放出速度制御化合物の混合物を含む、請求項２〜６のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項８】
ビロキサジンを含むコアおよびコア上に放出速度制御化合物のコーティングを含む、請求項２〜６のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項９】
即放性成分、徐放性成分、および腸溶性化合物を含む遅延放出成分から選択される少なくとも１つの追加のビロキサジン含有成分をさらに含む、請求項１〜８のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１０】
各成分が層の形態である、請求項９に記載の製剤。
【請求項１１】
各成分が複数の粒子の形態である、請求項９に記載の製剤。
【請求項１２】
徐放性成分、即放性成分および遅延放出成分を含む、請求項９に記載の製剤。
【請求項１３】
遅延放出成分がビロキサジンを含む少なくとも１つのコアおよびコア（複数可）上に腸溶性化合物のコーティングを含む、請求項９または１２に記載の製剤。
【請求項１４】
腸溶性化合物がポリ（メチルアクリレート−コ−メチルメタクリレート−コ−メタクリル酸）、ポリ（メタクリル酸−コ−メチルメタクリレート）、ヒドロキシプロピルメチルセルロースアセテートサクシネート、ヒドロキシプロピルメチルセルロースフタレート、酢酸フタル酸セルロース、シェラック、ゼインからなる群から選択される、請求項９、１２、または１３に記載の製剤。
【請求項１５】
５％（ｗ／ｗ）〜５０％（ｗ／ｗ）の前記腸溶性化合物を含む、請求項９及び１２〜１４のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１６】
製剤が２５％（ｗ／ｗ）〜７５％（ｗ／ｗ）のビロキサジンを含む、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１７】
１０ｍｇ〜８００ｍｇのビロキサジンを含む、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１８】
ビロキサジン塩酸塩を含む、請求項１〜１７のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項１９】
１日１回投与のための請求項１〜１８のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項２０】
１日２回投与のための請求項１〜１８のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項２１】
ＢＩＤまたはＴＩＤの即放性製剤として投与される同量のビロキサジンと比較して、少なくとも１つの望ましくない副作用のレベルの減少を有する、請求項１９または２０に記載の製剤。
【請求項２２】
望ましくない副作用が胃腸の副作用および神経学的副作用から選択される、請求項２１に記載の製剤。
【請求項２３】
望ましくない胃腸の副作用が消化不良、吐き気および嘔吐を含む、請求項２２に記載の製剤。
【請求項２４】
望ましくない神経学的副作用が睡眠障害を含む、請求項２２に記載の製剤。
【請求項２５】
睡眠障害が不眠症および／または異常な夢から選択される、請求項２４に記載の製剤。
【請求項２６】
製剤が、最小治療有効濃度よりも高く、ＴＩＤまたはＢＩＤのＩＲ製剤としてのビロキサジンの投与によって生じる最大血漿中濃度に対して５０％〜１２５％の範囲内にあるビロキサジンの最大定常状態血漿中濃度（Ｃｍａｘ）を提供する、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項２７】
製剤が、ＴＩＤまたはＢＩＤの即放性製剤として投与されるビロキサジンと比較して８０％〜１２５％の範囲内にある、２４時間の投与間隔についての相対定常状態ビロキサジン血漿中濃度−時間プロファイル下面積（ＡＵＣｔａｕ）を提供する、請求項１〜２０のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項２８】
錠剤、カプセル剤、ビーズ、顆粒剤、散剤、カプレット剤、トローチ剤、サシェ、カシェ、ポーチ、ガム、及びスプリンクルから選択される剤形の請求項１〜２７のいずれか１項に記載の製剤。
【請求項２９】
少なくとも２つの徐放性成分を含み、各徐放性成分が独自の放出速度を有する、請求項１または請求項１９に記載の製剤。
【請求項３０】
哺乳動物対象におけるＣＮＳ障害を治療するための、請求項１〜２９に記載の製剤。
【請求項３１】
ＣＮＳ障害がＡＤＨＤ、ＡＤＨＤ関連障害および大うつ病性障害から選択される、請求項３０に記載の製剤。
【請求項３２】
対象がヒトの子供である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３３】
対象がヒト成人である、請求項３０に記載の方法。
【請求項３４】
浸透性製剤である、請求項１に記載の製剤。
【請求項３５】
胃滞留性製剤である、請求項１に記載の製剤。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年12月18日(2015.12.18)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】０００８
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【０００８】
１．式（Ｉ）の化合物であって、
【化１】
2015506922.tif 000001
（Ｉ）
式中、
Ｒ1が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルケニルであり、
Ｒ2が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルケニルである、化合物と、
眼科学的に許容される担体と、を含む、眼科用製剤。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００１０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００１０】
３．Ｒ2が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ17アルキルまたは１つまたは２つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ17アルケニルである、項目１または２に記載の眼科用製剤。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３３】
本発明は、式（Ｉ）の化合物であって、
【化１８】
2015506922.tif 000002
（Ｉ）
式中、
Ｒ1が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルケニルであり、
Ｒ2が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルケニルである、化合物と、
眼科学的に許容される担体と、を含む、眼科用製剤を提供する。
【誤訳訂正４】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４０】
本発明の眼科用製剤は、式（Ｉ）の化合物であって、
【化１９】
2015506922.tif 000003
（Ｉ）
式中、
Ｒ1が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルケニルであり、
Ｒ2が、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルケニルである、化合物と、
眼科学的に許容される担体と、を含む。
【誤訳訂正５】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４２】
一部の実施形態において、Ｒ1は、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルカンジイルであり、つまり、９から３３個の炭素を含む直鎖もしくは分岐鎖の飽和炭化水素基である。一部の実施形態において、Ｒ1は、直鎖のＣ9−Ｃ33アルカンジイルである。一部の実施形態において、Ｒ1は、１から４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルケンジイルであり、つまり、９から３３個の炭素を含む直鎖もしくは分岐鎖の炭化水素基であり、１つ、２つ、３つ、または４つの二重結合を有し、三重結合を有さない。一部の実施形態において、Ｒ1は、１から４つの二重結合を有する直鎖のＣ9−Ｃ33アルケンジイルである。
【誤訳訂正６】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４３】
一部の実施形態において、Ｒ1は、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ17アルキルまたは１つ、２つ、または３つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ17アルケニルである。例えば、一部の実施形態において、Ｒ1は、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9、Ｃ10、Ｃ11、Ｃ12、Ｃ13、Ｃ14、Ｃ15、Ｃ16、もしくはＣ17アルキル、または１つ、２つ、または３つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9、Ｃ10、Ｃ11、Ｃ12、Ｃ13、Ｃ14、Ｃ15、Ｃ16、もしくはＣ17アルケニルである。
【誤訳訂正７】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４５
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４５】
本発明の一実施形態において、Ｒ2は、直鎖もしくは分岐鎖のＣ16−Ｃ19アルキルまたは１つ、２つ、３つ、または４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ16−Ｃ19アルケニルである。例えば、一部の実施形態において、Ｒ2は、直鎖もしくは分岐鎖のＣ16、Ｃ17、Ｃ18、もしくはＣ19アルキル、または１つ、２つ、または３つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ16、Ｃ17、Ｃ18、もしくはＣ19アルケニルである。
【誤訳訂正８】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００４６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００４６】
本発明の一実施形態において、Ｒ2は、直鎖もしくは分岐鎖のＣ17アルキルまたは１つまたは２つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ17アルケニルである。
【誤訳訂正９】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００８７
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００８７】
出発物質に関する上の式において、Ｒaは、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ33アルケニルであり、Ｒbは、直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルキルまたは１つから４つの二重結合を有する直鎖もしくは分岐鎖のＣ9−Ｃ19アルケニルである。出発物質化合物は、室温で一晩（約１２時間）、好適な有機溶媒（例えば、クロロホルム、テトラヒドロフラン、またはジクロロメタン）中で、モル比約１：１で混合される。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月10日(2015.12.10)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ｈ３８Ｃ２抗体またはその変異体の試料を精製するためのプロセスであって、試料中の抗体の少なくとも８５％で、両方の抗原結合部位が抗原結合に完全に利用可能であり、
（ｉ）ｐＨ６．５〜７．５の間で、１５ｍＭ〜１００ｍＭの間のリン酸ナトリウム、リン酸カリウム、またはリン酸アンモニウム、ＨＥＰＥＳ、トリス、およびビス−トリスを含み、０．５Ｍ〜１．５Ｍの間の第１濃度で、ＮａＣｌ、ＫＣｌ、およびクエン酸一ナトリウムからなる群から選択される塩をさらに含む基底緩衝液を含む装填前平衡化洗浄液でＨＩＣカラムを平衡化するステップであって、ＨＩＣカラムは、直径が５０μｍ未満であり、少なくとも５００Åの孔を含むフェニルコンジュゲート樹脂ビーズを含む、ステップと、
（ｉｉ）基底緩衝液を含み、第１濃度の塩をさらに含む装填緩衝液中の４〜８０ｇ／Ｌの間のｈ３８Ｃ２の試料をカラムに装填するステップと、
（ｉｉｉ）基底緩衝液および第１濃度の塩を含む装填後平衡化洗浄液でカラムを洗浄するステップと、
（ｉｖ）基底緩衝液を含み、塩濃度が１カラム体積（ＣＶ）当たり９０ｍＭ〜１００ｍＭの間で減少することを特徴とする、１．５Ｍ〜０．２５Ｍの塩の直線濃度勾配をさらに含む、塩勾配でカラムを洗浄するステップと、
（ｖ）４ＣＶ〜８ＣＶの間の、基底緩衝液中、０．２５Ｍ〜０．４Ｍの間の塩を含む塩プラトー洗浄液でカラムを洗浄するステップと、
（ｖｉ）基底緩衝液を含む緩衝洗浄液でカラムを洗浄するステップと、
（ｖｉｉ）基底緩衝液、ならびに０．５ＣＶ〜３ＣＶの間にわたって、または溶出プールが収集されるまで、０〜１％の間の１，６ヘキサンジオールの濃度で始まり、１３％、１４％、１５％、１６％、１７％、１８％、１９％、２０％、２１％、および２２％の１，６ヘキサンジオールからなる群から選択される上限で終わる１，６ヘキサンジオールの直線濃度勾配を含む溶出緩衝液でｈ３８Ｃ２を溶出するステップと、
（ｖｉｉｉ）最大５ＣＶで、または溶出プールが収集されるまで、基底緩衝液、ならびに１３％、１４％、１５％、１６％、１７％、１８％、１９％、２０％、２１％、および２２％からなる群から選択される濃度の１，６ヘキサンジオールを含むさらなる溶出ステップを任意選択により実行するステップと
を含み、ｈ３８Ｃ２抗体またはその変異体は、配列番号２７に示した軽鎖可変領域（ＶＬ）配列のＶＬ  ＣＤＲ１、ＶＬ  ＣＤＲ２、およびＶＬ  ＣＤＲ３を含むＶＬを含み、および配列番号２８に示した重鎖可変領域（ＶＨ）配列のＶＨ  ＣＤＲ１，ＶＨ  ＣＤＲ２，およびＶＨ  ＣＤＲ３を含むＶＨを含む、プロセス。
【請求項２】
抗体が、配列番号２７に示したＶＬおよび配列番号２８に示したＶＨを含む、請求項１に記載のプロセス。
【請求項３】
抗体が、配列番号７８、７９、８０、および８１の１つまたは複数と少なくとも９５％同一である軽鎖定常領域、ならびに配列番号８２と少なくとも９５％同一である重鎖定常領域をさらに含む、請求項１または２に記載のプロセス。
【請求項４】
抗体がＩｇＧ１である、請求項１から３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項５】
抗体が配列番号２５である軽鎖、および配列番号２６である重鎖を含む、請求項１から４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項６】
ＨＩＣカラムが約７５０Åの孔を含む３５μＭのフェニルコンジュゲート樹脂ビーズを含む、請求項１から５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項７】
ステップ（ｉ）における装填前平衡化洗浄液が、２０ｍＭのリン酸ナトリウム、１ＭのＮａＣｌ、ｐＨ７を含む、請求項１から６のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項８】
ステップ（ｉｉ）において、ｈ３８Ｃ２の試料が、ｐＨ７で２０ｍＭのリン酸ナトリウム中、１５から１８ｇ／Ｌでカラムへ装填される、請求項１から７のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項９】
ステップ（ｉｉｉ）において、１ＣＶの、ｐＨ７の２０ｍＭのリン酸ナトリウム中、１ＭのＮａＣｌを含む装填後平衡化洗浄液でカラムを洗浄する、請求項１から８のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１０】
ステップ（ｉｖ）において、ＮａＣｌ勾配が２０ｍＭのリン酸ナトリウム、ｐＨ７を含み、塩の直線濃度勾配が１Ｍ〜０．３３ＭのＮａＣｌであり、かつ塩濃度が１ＣＶ当たり９０ｍＭ〜１００ｍＭの間で減少することを特徴とする、請求項１から９のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１１】
ステップ（ｉｖ）において、直線塩勾配が少なくとも４ＣＶである、請求項１から１０のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１２】
ステップ（ｖ）における塩プラトー洗浄液が、５ＣＶの、ｐＨ７の２０ｍＭのリン酸ナトリウム中、０．３３ＭのＮａＣｌを含む、請求項１から１１のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１３】
ステップ（ｖｉ）における基底緩衝液が、２ＣＶの、ｐＨ７の２０ｍＭのリン酸ナトリウムを含む、請求項１から１２のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１４】
ステップ（ｖｉｉ）における溶出緩衝液が、ｐＨ７の２０ｍＭのリン酸ナトリウムを含む、請求項１から１３のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１５】
ステップ（ｖｉｉ）の直線濃度勾配が、１ＣＶで、０〜１％の１，６ヘキサンジオールの濃度で始まり、１４％、１５％、および１６％からなる群から選択される上限の１，６ヘキサンジオールで終わる直線濃度勾配を含む、請求項１から１４のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１６】
２ＣＶ〜５ＣＶで、または溶出プールが収集されるまで、２０ｍＭのリン酸ナトリウム、ｐＨ７、および１４％、１５％、および１６％からなる群から選択される濃度の１，６ヘキサンジオールを含むさらなる溶出ステップを実行する、請求項１から１５のいずれか一項に記載のプロセス。
【請求項１７】
請求項１から１６のいずれか一項に記載のプロセスにより調製されるｈ３８Ｃ２を含む組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成27年12月14日(2015.12.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
架橋したビス（インデニル）配位子を調製するプロセスであって、
溶媒中において、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリドおよび塩基の存在下で、式（１）
2015506916.tif 000001
の２−インデニルボラン酸またはそのエステル（式中、Ｒ7およびＲ8の各々は、独立して、Ｈまたは１から６のＣ原子のアルキルを表すか、またはＲ7およびＲ8が、それらが結合するＯ原子と共に環を形成し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6の各々が、独立して、Ｈ、１〜２０のＣ原子を有する炭化水素ラジカル、ハロゲン化物、１〜６のＣ原子を有するアルコキシ基、アルキル硫化物、アミン、ＳｉまたはＢ含有基、もしくはＰ含有基を表す）を、
式（２）
2015506916.tif 000002
の臭素置換化合物（式中、Ｒは、インデニル基の２位に結合されるｓｐ２−混成軌道にある炭素原子を少なくとも２つ含有する架橋基を表す）と反応させて、式（３）
2015506916.tif 000003
の対応する架橋したビス（インデニル）配位子（式中、ＲおよびＲ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6が上述したものである）を形成する工程を含むプロセス。
【請求項２】
式（１）の２−インデニルボラン酸（エステル）が式（８）
2015506916.tif 000004
の２−インデニルピナコリルボラン（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6は上記に定義されたものである）により表されるように、Ｒ7およびＲ8が、それらが結合するＯ原子と共に環を形成する、請求項１記載のプロセス。
【請求項３】
前記塩基がトリエチルアミン（Ｅｔ3Ｎ）である、請求項１または２記載のプロセス。
【請求項４】
使用される前記溶媒がジオキサンである、請求項１から３いずれか１項記載のプロセス。
【請求項５】
Ｒが、フェニレン基またはビフェニリデン基を表す、請求項１から４いずれか１項記載のプロセス。
【請求項６】
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6の全てがＨを表す、請求項１から５いずれか１項記載のプロセス。
【請求項７】
溶媒中において、Ｐｄ触媒および塩基の存在下で、式（４）
2015506916.tif 000005
の２−ブロモインデン化合物を、
ピナコールボラン（式（５）により表される）
2015506916.tif 000006
と反応させて、式（８）
2015506916.tif 000007
の対応する２−インデニルピナコリルボラン化合物（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6は上記に定義されたものである）を形成する工程をさらに含む、請求項２から６いずれか１項記載のプロセス。
【請求項８】
式（８）の２−インデニルピナコリルボラン化合物の調製において、前記Ｐｄ触媒として、ビス（トリフェニルホスフィン）パラジウムジクロリド（（ＰＰｈ3）2ＰｄＣｌ2）が使用される、請求項７記載のプロセス。
【請求項９】
式（８）の２−インデニルピナコリルボラン化合物の調製において、前記塩基として、Ｋ3ＰＯ4が使用される、請求項７または８記載のプロセス。
【請求項１０】
式（８）の２−インデニルピナコリルボラン化合物の調製において使用される溶媒が、テトラヒドロフランである、請求項７から９いずれか１項記載のプロセス。
【請求項１１】
式（３）の架橋したビス（インデニル）配位子を、式（６）
2015506916.tif 000008
の対応するメタロセン錯体（式中、Ｍは、元素の周期表の３、４、５または６族からのまたはランタニド系元素の群からの遷移金属を表し、Ｑは、Ｍに結合した陰イオン配位子を表し、ｋは、整数を表し、かつ陰イオン配位子の数を示し、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6は、上記に定義されたものである）に転化する工程をさらに含む、請求項１から１０いずれか１項記載のプロセス。
【請求項１２】
式（３）の架橋したビス（インデニル）配位子が、有機金属化合物、アミン、金属水素化物、アルカリ金属またはアルカリ土類金属を使用して、対応するジアニオンに転化され、形成された該アニオンが、遷移金属Ｍの化合物により金属交換されて、式（６）
2015506916.tif 000009
の対応するメタロセン錯体（式中、Ｍは、元素の周期表の３、４、５または６族からのまたはランタニド系元素の群からの遷移金属を表し、Ｑは、Ｍに結合した陰イオン配位子を表し、ｋは、整数を表し、かつ陰イオン配位子の数を示し、Ｒ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、およびＲ6は、上記に定義されたものである）を形成する、請求項１１記載のプロセス。
【請求項１３】
式（６）のメタロセン錯体を含む、組成物。
2015506916.tif 000010
（式中、Ｍは、元素の周期表の３、４、５または６族からのまたはランタニド系元素の群からの遷移金属を表し、Ｑは、Ｍに結合した陰イオン配位子を表し、ｋは、整数を表し、かつ陰イオン配位子の数を示し、Ｒは、インデニル基の２位に結合されるｓｐ２−混成軌道にある炭素原子を少なくとも２つ含有する架橋基を表し、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5、Ｒ6の各々は、独立して、Ｈ、１〜２０のＣ原子を有する炭化水素ラジカル、ハロゲン化物、１〜６のＣ原子を有するアルコキシ基、アルキル硫化物、アミン、ＳｉまたはＢ含有基、もしくはＰ含有基を表す。）
【請求項１４】
エチレンまたはエチレンと３〜１２の炭素原子を有する１種類以上のα−オレフィンとの重合のための、請求項１３記載の組成物の使用。
【請求項１５】
気相重合により直鎖低密度ポリエチレン（ＬＬＤＰＥ）を得るための重合プロセスにおける請求項１３記載の組成物の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月9日(2016.2.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）：
【化１】
2015506987.tif 000001
を有し、かつ結晶形である化合物の固形。
【請求項２】
前記結晶形は、式Ｉの化合物のＡ型結晶形である、請求項１に記載の固形。
【請求項３】
前記固形は、
ａ）表１に特定されている１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８またはその概位置の全てに位置するピーク、
ｂ）図６に特定されている１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６またはその概位置の全てに位置するピーク、
ｃ）図８に特定されている１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８、１９、２０、２１、２２、２３、２４、２５、２６、２７、２８、２９、３０、３１、３２、３３、３４、３５、３６、３７、３８、３９、４０、４１、４２、４３、４４またはその概位置の全てに位置するピーク、あるいは
ｄ）図１９に特定されている１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６、１７、１８またはその概位置の全てに位置するピーク
を含むＸＲＰＤパターンを有する、請求項１に記載の固形。
【請求項４】
前記固形は、表２に特定されている１、２、３、４またはその概位置の全てに位置するピークを含むＸＲＰＤパターンを有する、請求項１〜３のいずれか１項に記載の固形。
【請求項５】
前記固形は、２θがＮＩＳＴまたは他の好適な標準物質で較正された回折計（Cu Kα）により収集された高品質パターンに基づき、周囲温度で１４．７±０．２、１７．４±０．２の２θ値に位置するピークと、１０．６±０．２、１２．７±０．２および１３．６±０．１のうちの１つ以上の２θ値に位置するピークとを含むＸＲＰＤパターンを有する、請求項１〜４のいずれか１項に記載の固形。
【請求項６】
実質的に図４、図１４、図２１または図２３のうちの１つのような示差走査熱量測定サーモグラムを有する、請求項１〜５のいずれか１項に記載の固形。
【請求項７】
請求項１〜６のいずれか１項に記載の固形を含む医薬組成物。
【請求項８】
請求項１〜７のいずれか１項に記載の固形を含むゲルカプセル。
【請求項９】
式（ＩＩ）：
【化２】
2015506987.tif 000002
を有し、かつ結晶形を有する化合物の固形。
【請求項１０】
前記結晶形は、式ＩＩの化合物のＩ型結晶形である、請求項９に記載の固形。
【請求項１１】
前記固形は、
表８に特定されている１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２、１３、１４、１５、１６またはその概位置の全てに位置するピーク、または
表９に特定されている１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２またはその概位置の全てに位置するピーク
を含むＸＲＰＤパターンを有する、請求項９に記載の固形。
【請求項１２】
前記固形は、表８のピーク番号１、３、１３および１７と、表８に特定されている残りのピークの１、２、３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、１２または１３とを含むＸＲＰＤパターンを有する、請求項９または１０に記載の固形。
【請求項１３】
請求項９〜１２のいずれか１項に記載の固形を含む医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年2月2日(2016.2.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
続発性性腺機能低下症、２型糖尿病および不妊症からなる群から選択されるエストロゲン受容体媒介性疾患を治療するための組成物であって、半減期が３０時間以下である選択的エストロゲン受容体モジュレーター（ＳＥＲＭ）またはその薬学的に許容される塩を含み、前記ＳＥＲＭまたはその薬学的に許容される塩は、そのような治療を必要とする患者に、少なくとも６ヶ月間、一日または隔日あたり１〜１９ｍｇの投与量で経口投与されることを特徴とし、ここで、前記ＳＥＲＭまたはその薬学的に受容される塩は、ドロロキシフェン、レボルメロキシフェン、（デアミノヒドロキシ）トレミフェン、ラロキシフェン、バゼドキシフェンおよびアルゾキシフェンからなる群から選択される、組成物。
【請求項２】
前記ＳＥＲＭが、１〜１０ｍｇの投与量で投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項３】
前記ＳＥＲＭの半減期が２７時間未満である、請求項１に記載の組成物。
【請求項４】
前記ＳＥＲＭがドロロキシフェン、レボルメロキシフェン、および（デアミノヒドロキシ）トレミフェンからなる群から選択される、請求項３に記載の組成物。
【請求項５】
前記組成物が毎日投与されることを特徴とする、請求項１、４および６のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項６】
前記組成物が前記患者に５年を超える期間投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項７】
前記患者が、３００ｎｇ／ＤＬ未満の血清テストステロンレベルを有するヒト男性である、請求項１に記載の組成物。
【請求項８】
前記組成物が、少なくとも連続する４サイクルの間、無排卵女性に投与され、それぞれのサイクルが、自然発症のまたは誘導された月経の開始後２〜５日目に始まる連続５日間の投与を含むことを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項９】
前記女性が無排卵である、請求項８に記載の組成物。
【請求項１０】
前記ＳＥＲＭが、ヒト男性における２型糖尿病を治療するために投与されることを特徴とする、請求項１に記載の組成物。
【請求項１１】
前記ＳＥＲＭの塩がクエン酸塩である、請求項１に記載の組成物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０００６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０００６】
半減期の短い有効量のＳＥＲＭの長期間投与によって治療できる（したがって、本発明に従って治療することができる）障害の例としては、限定するものではないが、続発性性腺機能低下症、２型糖尿病、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、るいそう、脂肪異栄養症、骨粗鬆症、女性不妊症および男性不妊症、良性前立腺肥大症、更年期障害、前立腺癌、乳癌、子宮癌ならびに卵巣癌が挙げられる。
特定の実施形態では、例えば以下が提供される：
（項目１）
エストロゲン受容体媒介性疾患を治療する方法であって、そのような治療を必要とする患者に、半減期が３０時間以下である選択的エストロゲン受容体モジュレーター（ＳＥＲＭ）またはその薬学的に許容される塩を、少なくとも６ヶ月間、１〜１９ｍｇの投与量で投与する工程を含み、前記ＳＥＲＭはトランス−クロミフェン以外である方法。
（項目２）
前記ＳＥＲＭが、１〜１０ｍｇの投与量で投与される、項目１に記載の方法。
（項目３）
前記ＳＥＲＭが、ドロロキシフェン、レボルメロキシフェン、（デアミノヒドロキシ）トレミフェン、ラロキシフェン、バゼドキシフェンおよびアルゾキシフェンからなる群から選択される、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記ＳＥＲＭの半減期が２７時間未満である、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記ＳＥＲＭが１〜１０ｍｇの投与量で投与される、項目４に記載の方法。
（項目６）
前記ＳＥＲＭがドロロキシフェン、レボルメロキシフェン、および（デアミノヒドロキシ）トレミフェンからなる群から選択される、項目４に記載の方法。
（項目７）
前記エストロゲン受容体媒介性疾患が、続発性性腺機能低下症、２型糖尿病、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、るいそう、脂肪異栄養症、骨粗鬆症、女性不妊症、男性不妊症、良性前立腺肥大、前立腺癌、乳癌、子宮癌および卵巣癌からなる群から選択される、項目１に記載の方法。
（項目８）
前記組成物が毎日投与される、項目１〜７のいずれか一項に記載の方法。
（項目９）
前記組成物が間欠投与される、項目１〜８のいずれか一項に記載の方法。
（項目１０）
前記組成物が隔日、毎週、隔週または毎月投与される、項目９に記載の方法。
（項目１１）
前記組成物が前記患者に５年を超える期間投与される、項目１に記載の方法。
（項目１２）
前記患者が、３００ｎｇ／ＤＬ未満の血清テストステロンレベルを有するヒト男性である、項目１に記載の方法。
（項目１３）
前記組成物が、少なくとも連続する４サイクルの間、無排卵女性に投与され、それぞれのサイクルが、自然発症のまたは誘導された月経の開始後２〜５日目に始まる連続５日間の投与を含む、項目１に記載の方法。
（項目１４）
前記女性が無排卵である、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
前記ＳＥＲＭが、ヒト男性における２型糖尿病を治療するために投与される、項目１に記載の方法。
（項目１６）
前記ＳＥＲＭが、ヒト女性において乳癌を治療および／または予防するために投与される、項目１に記載の方法。
（項目１７）
前記ＳＥＲＭの塩がクエン酸塩である、項目１に記載のＳＥＲＭまたはその薬学的に許容される塩。
（項目１８）
エストロゲン受容体媒介性疾患を治療するための方法であって、そのような治療を必要とする患者に、トランス−クロミフェンまたはその薬学的に許容される塩を少なくとも６ヶ月間、１〜１２ｍｇの投与量で投与する工程を含む方法。
（項目１９）
トランス−クロミフェンが、１〜１０ｍｇの投与量で投与される、項目１８に記載の方法。
（項目２０）
トランス−クロミフェンが毎日投与される、項目１８または項目１９に記載の方法。
（項目２１）
前記エストロゲン受容体媒介性疾患が、続発性性腺機能低下症、２型糖尿病、高コレステロール血症、高トリグリセリド血症、るいそう、脂肪異栄養症、骨粗鬆症、女性不妊症、男性不妊症、良性前立腺肥大、前立腺癌、乳癌、子宮癌および卵巣癌からなる群から選択される、項目１８または項目１９に記載の方法。
（項目２２）
前記ＳＥＲＭが経口投与される、項目１〜２１のいずれか一項に記載の方法。
（項目２３）
前記ＳＥＲＭの間欠投与後少なくとも２週間、前記ＳＥＲＭが毎日投与される、項目１〜２２のいずれか一項に記載の方法。
（項目２４）
間欠投与が連続投与の間に３〜３０日の間隔を含む、項目２３に記載の方法。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年1月29日(2016.1.29)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
バリンの連続的分離装置であって、該装置が、
該装置に脱着剤を供給するように構成された脱着剤ポートＤ；
該装置にバリンを含む混合物を供給するように構成されたフィードポートＦ；
該混合物から分離されたバリンを該装置の外部に流出させるように構成されたラフィネートポートＲ；
該混合物から分離されたその他の物質を該装置の外部に流出させるように構成された抽出物ポートＥ；
第１ロータリーバルブ１０、第２ロータリーバルブ２０及び第３ロータリーバルブ３０；並びに
第１クロマトグラフィーゾーン４０、第２クロマトグラフィーゾーン５０及び第３クロマトグラフィーゾーン６０を含み、
第１クロマトグラフィーゾーン４０の上流側と、第３クロマトグラフィーゾーン６０の下流側とが、該第１ロータリーバルブ１０により流体連結され、
第１クロマトグラフィーゾーン４０の下流側と、第２クロマトグラフィーゾーン５０の上流側とが、該第２ロータリーバルブ２０により流体連結され、
第２クロマトグラフィーゾーン５０の下流側と、第３クロマトグラフィーゾーン６０の上流側とが、該第３ロータリーバルブ３０により流体連結され、
該装置は、バリンの連続分離のために、第１作動、第２作動及び第３作動を連続的に行い、ここで、
第１作動において、該脱着剤ポートＤは、該第１ロータリーバルブ１０を通じて該第１クロマトグラフィーゾーン４０の上流側に流体連結され、該フィードポートＦは、該第２ロータリーバルブ２０を通じて該第２クロマトグラフィーゾーン５０の上流側に流体連結され、該ラフィネートポートＲは、該第３ロータリーバルブ３０を通じて該第２クロマトグラフィーゾーン５０の下流側に流体連結され、かつ該抽出物ポートＥは、該第１ロータリーバルブ１０を通じて該第３クロマトグラフィーゾーン６０の下流側に流体連結され、
第２作動において、該脱着剤ポートＤは、該第２ロータリーバルブ２０を通じて該第２クロマトグラフィーゾーン５０の上流側に流体連結され、該フィードポートＦは、該第３ロータリーバルブ３０を通じて該第３クロマトグラフィーゾーン６０の上流側に流体連結され、該ラフィネートポートＲは、該第１ロータリーバルブ１０を通じて該第３クロマトグラフィーゾーン６０の下流側に流体連結され、かつ該抽出物ポートＥは、該第２ロータリーバルブ２０を通じて該第１クロマトグラフィーゾーン４０の下流側に流体連結され、かつ
第３作動において、該脱着剤ポートＤは、該第３ロータリーバルブ３０を通じて該第３クロマトグラフィーゾーン６０の上流側に流体連結され、該フィードポートＦは、該第１ロータリーバルブ１０を通じて該第１クロマトグラフィーゾーン４０の上流側に流体連結され、該ラフィネートポートＲは、該第２ロータリーバルブ２０を通じて該第１クロマトグラフィーゾーン４０の下流側に流体連結され、かつ該抽出物ポートＥは、該第３ロータリーバルブ３０を通じて該第２クロマトグラフィーゾーン５０の下流側に流体連結される、
前記バリンの連続的分離装置。
【請求項２】
前記第１ロータリーバルブ１０が、
前記第１作動時には開放されて、前記脱着剤ポートＤを前記第１クロマトグラフィーゾーン４０の上流側に流体連結させ、かつ前記抽出物ポートＥを前記第３クロマトグラフィーゾーン６０の下流側に流体連結させ、前記第２及び第３作動時には閉鎖される、第１連結ポート１０ａ；
前記第２作動時には開放されて、前記ラフィネートポートＲを前記第３クロマトグラフィーゾーン６０の下流側に流体連結させ、前記第１及び第３作動時には閉鎖される、第２連結ポート１０ｂ；及び
前記第３作動時には開放されて、前記フィードポートＦを前記第１クロマトグラフィーゾーン４０の上流側に流体連結させ、前記第１及び第２作動時には閉鎖される、第３連結ポート１０ｃを含み、
前記第２ロータリーバルブ２０が、
前記第１作動時には開放されて、前記フィードポートＦを前記第２クロマトグラフィーゾーン５０の上流側に流体連結させ、前記第２及び第３作動時には閉鎖される、第１連結ポート２０ａ；
前記第２作動時には開放されて、前記脱着剤ポートＤを前記第２クロマトグラフィーゾーン５０の上流側に流体連結させ、かつ前記抽出物ポートＥを該第２ロータリーバルブ２０を通じて前記第１クロマトグラフィーゾーン４０の下流側に流体連結させ、前記第１及び第３作動時には閉鎖される、第２連結ポート２０ｂ；及び
前記第３作動時には開放されて、前記ラフィネートポートＲを前記第１クロマトグラフィーゾーン４０の下流側に流体連結させ、前記第１及び第２作動時には閉鎖される、第３連結ポート２０ｃを含み、かつ
前記第３ロータリーバルブ３０が、
前記第１作動時には前記ラフィネートポートＲを前記第２クロマトグラフィーゾーン５０の下流側に流体連結させ、前記第２及び第３作動時には閉鎖される、第１連結ポート３０ａ；
前記第２作動時には前記フィードポートＦを前記第３クロマトグラフィーゾーン６０の上流側に流体連結させ、前記第１及び第３作動時には閉鎖される、第２連結ポート３０ｂ；及び
前記第３作動時には前記脱着剤ポートＤを前記第３クマトグラフィーゾーン６０の上流側に流体連結させ、前記抽出物ポートＥを前記第２クロマトグラフィ−ゾーン５０の下流側に流体連結させ、前記第１及び第２作動時には閉鎖される、第３連結ポート３０ｃを含む、
請求項１に記載のバリンの連続的分離装置。
【請求項３】
吸着剤として、ポリスチレンジビニルベンゼンポリマー（Amberchrom CG161C）が使用される、請求項１に記載のバリンの連続的分離装置。
【請求項４】
前記混合物が、その他の物質としてロイシンとイソロイシンの少なくともいずれか一つを含む、請求項１に記載のバリンの連続的分離装置。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図３
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図３】
2015506958.tif 000001
【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年11月6日(2015.11.6)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
アンモニアを窒素およびＮＯxに酸化するための触媒であって、前記触媒は、６未満のシリカ／アルミナ比（ＳＡＲ）を有するアルミノケイ酸塩モレキュラーシーブを含み、且つ当該モレキュラーシーブはイオン交換銅およびイオン交換白金の両方を含んでいることを特徴とする触媒。
【請求項２】
ゼロ原子価または金属白金をさらに含む、請求項１に記載の触媒。
【請求項３】
前記アルミノケイ酸塩モレキュラーシーブは、ＦＡＵ、ＭＦＩ、ＭＯＲ、ＢＥＡ、ＨＥＵ、およびＯＦＦから選択される結晶骨格型を有するゼオライトを含む、請求項２に記載の触媒。
【請求項４】
ウォッシュコート当たりの重量基準で、１重量％以下のＰｔおよび５重量％以下の銅を有する、請求項１に記載の触媒。
【請求項５】
前記触媒は、耐火性セラミック担体上にコーティングされる、請求項１に記載の触媒。
【請求項６】
前記基材上の前記モレキュラーシーブの総装填量は、総触媒量に基づいて０．３ｇ／ｉｎ3〜３．０ｇ／ｉｎ3［（０．３／２５．４３）ｇ／ｍｍ3〜（３．０／２５．４３）ｇ／ｍｍ3］の範囲である、請求項５に記載の触媒。
【請求項７】
ディーゼルまたは希薄燃焼車両の排気ガス流中に生成した排出物を処理するための方法であって、前記方法は、
車両のエンジン排気流を少なくともＮＯx低減触媒を通過させる工程、
前記ＮＯx低減触媒から出たアンモニア含有前記排気流を、請求項１に記載の酸化触媒を通過させる工程を含むことを特徴とする方法。
【請求項８】
前記ＮＯx低減触媒は、ＳＣＲ触媒、希薄ＮＯx捕捉触媒、または前記ＮＯx低減触媒からのアンモニアスリップをもたらすＮＯxの破壊のための他の触媒のうちの１つ以上から選択される、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
前記モレキュラーシーブはゼオライトを含む、請求項８に記載の方法。
【請求項１０】
排気ガス流を処理するためのシステムであって、
前記排気ガス流と連通するＳＣＲ触媒と、
前記排気ガス流と連通し、前記ＳＣＲ触媒から上流に位置するアンモニアまたはアンモニア前駆体注入ポートと、
前記排気ガス流と連通し、前記ＳＣＲ触媒から下流に位置する、請求項１に記載の触媒と、を含む、システム。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
本発明の１つ以上の実施形態は、モレキュラーシーブ、特に、低いシリカ／アルミナ比（ＳＡＲ）を有するゼオライトモレキュラーシーブ支持体を利用する。ＳＡＲを低下させることによって、ゼオライト１グラム当たりイオン交換部位の数が上昇する。これは、白金の活性部位を用いて凝縮物を形成するため、Ｃｕイオンがイオン交換部位から移動するであろう可能性を低下させる。ＳＡＲを増加させると触媒の安定性が増加するという、一般的に受けられれている理論的枠組（パラダイム）は、本発明の方法及び触媒からは離れている。幾つかの実施形態において用いられた第２の戦略は、白金前駆体を適用する前に高温で焼成することによって、モレキュラーシーブ上に銅を固定することである。これは、また、モレキュラーシーブ（以後、遊離銅と称される）上のイオン交換部位と関連しない銅イオンが、白金の活性部位へと移動し得る可能性を、最小化する。
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年10月5日(2016.10.5)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
金属アノードを含む反射電極を備え；
前記反射電極上に、少なくとも紫外オゾン（ＵＶ−Ｏ３）による表面処理を施し；
前記反射電極の上に有機ドナー−アクセプターヘテロ接合を形成し；および
前記有機ドナー−アクセプターヘテロ接合の上にカソードとしての透明電極を形成する、
ことを含む、反転型感光性デバイスの製造方法。
【請求項２】
前記反射電極を基板上に配置する、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
前記有機ドナー−アクセプターヘテロ接合のドナーが、フタロシアニン、ポルフィリン、サブフタロシアニン、およびこれらの誘導体または遷移金属複合体から選択される材料を含む、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
前記ドナー−アクセプターヘテロ接合のドナーが、銅フタロシアニンを含む、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
前記有機ドナー−アクセプターヘテロ接合のアクセプターが、重合または非重合ペリレン、ナフタレン、およびフラーレンから選択される材料を含む、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記有機ドナー−アクセプターヘテロ接合のアクセプターが、３，４，９，１０−ペリレンテトラカルボン酸ビス−ベンズイミダゾールを含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
前記透明電極が、透明酸化物および金属または金属置換体から選択される材料を含む、請求項１〜６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項８】
前記透明電極が、少なくとも約５０％の周囲の電磁放射を、前記電極を介して伝達する、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
前記透明電極が、インジウムスズ酸化物（ＩＴＯ）、ガリウムインジウムスズ酸化物、および亜鉛インジウムスズ酸化物から選択される材料を含む、請求項１〜８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１０】
励起子阻止層を備える工程をさらに含む、請求項１〜９のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１１】
前記励起子阻止層が、前記反射電極と前記透明電極との間に配置される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
前記励起子阻止層が、前記有機ドナー−アクセプターヘテロ接合のアクセプターと前記透明電極との間に配置される、請求項１０または１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記励起子阻止層が、Ｎ，Ｎ’−ジフェニル−Ｎ，Ｎ’−ビス−α−ナフチルベンジジン、トリス（８−ヒドロキシキノリン）アルミニウム、カルバゾールビフェニル、バトクプロイン、およびトリス（アセチルアセトナト）ルテニウム（ＩＩＩ）から選択される材料を含む、請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１４】
前記有機ドナー−アクセプターヘテロ接合が、平面ヘテロ接合、バルクヘテロ接合、ナノ結晶性バルクヘテロ接合、ハイブリッド平面混合ヘテロ接合、および混合ヘテロ接合から選択される構造を含む、請求項１〜１３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１５】
前記反射電極に、前記紫外オゾン処理に加えてプラズマ表面処理を施す、請求項１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記プラズマ表面処理が、酸素プラズマ処理およびアルゴンプラズマ処理の少なくとも一方である請求項１５に記載の方法。
【請求項１７】
前記金属アノードが、ニッケル、銀、アルミニウム、マグネシウム、インジウムおよびこれらの混合物または合金を含む、請求項１に記載の方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３２
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３２】
いくつかの実施形態において、反射電極は、金属アノードのような基板を含む。いくつかの実施形態において、電極は、スチール、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｉｎ、およびこれらの混合物または合金から選択される低仕事関数の金属（a low work function metal）を含む。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００５０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００５０】
いくつかの実施形態において、反射電極１１０は金属アノードなどの電極を含みうる。いくつかの実施形態において、反射電極１１０は、スチール、Ｎｉ、Ａｇ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｉｎ、およびそれらの混合物または合金から選択される低仕事関数の金属（low work function metal）を含む。いくつかの実施形態において、電極は、ベースとしてひとつの金属を含み、電極物質としてひとつの金属、たとえば、上部にＡｇを有しているか有していないかに関わらず、Ｔｉ、ステンレス、スチール、またはＡｌシートを含む。