Podtech/llm-jp-corpus-v4-ja_patent huggingface dataset:
【誤訳訂正書】
【提出日】平成28年9月26日(2016.9.26)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
偏光性粒子を内に有するガラス偏光子、前記ガラス偏光子の少なくとも一方の表面上に被着された多層光減衰性（ＬＡ）コーティング及び前記減衰性コーティングの上面上に被着された多層反射防止（ＡＲ）コーティングを備えた一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子において、
前記ＬＡコーティングが、高屈折率材料Ｈ及び低屈折率材料Ｌの複数の周期を含み、ここで、Ｌは、ゼロではない吸光度及び１.７より大きい屈折率を有する金属酸化物及び混合金属酸化物からなる群から選ばれ、Ｈはシリコンであり、
前記ＡＲコーティングは複数の周期Ｈ'Ｌ'を含み、ここで、Ｈ'は屈折率ｎが１.７より大きい高屈折率材料であり、Ｌ'は屈折率ｎが１.７以下の低屈折率材料であり、
前記素子は１２００〜１７００ｎｍの波長範囲にわたって０ｄＢより大きく３ｄＢまでの範囲にある減衰量を有し、
前記偏光性粒子は銀、銅及び銅／カドミウムからなる群から選ばれる、
ことを特徴とする一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子。
【請求項２】
前記ガラス偏光子が、白金、パラジウム、オスミウム、イリジウム、ロジウム及びルテニウムからなる群から選ばれる貴金属をさらに含み、該貴金属が、ゼロ価金属として測定して０.０００１重量％〜０.５重量％の範囲にある量で存在していることを特徴とする請求項１に記載の一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子。
【請求項３】
前記ＬＡコーティング材料Ｌが、ＩＴＯ，Ｃｒ２Ｏ３，ＺｎＯ，ＨｆＯ２，Ｙｂ２Ｏ３，Ｎｂ２Ｏ５及びＧｅＯ２からなる群から選ばれ、該ＬＡコーティング材料Ｌの少なくとも１つが２より大きい屈折率を有することを特徴とする請求項１に記載の一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子。
【請求項４】
前記ＡＲ高屈折率材料Ｈ'が、ＺｒＯ２，ＨｆＯ２，Ｔａ２Ｏ５，Ｎｂ２Ｏ５，ＴｉＯ２，Ｙ２Ｏ３，Ｓｉ３Ｎ４，ＳｒＴｉＯ３，及びＷＯ３からなる群から選ばれ、
前記ＡＲ低屈折率材料Ｌ'が、ＳｉＯ２，ＦドープＳｉＯ２，及びＡｌ２Ｏ３、並びにフッ化物、ＭｇＦ２，ＣａＦ２，ＢａＦ２，ＹｂＦ３，ＹＦ３からなる群から選ばれる、
ことを特徴とする請求項１に記載の一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子。
【請求項５】
一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子を作製する方法において、
引き伸ばされた偏光性金属粒子を内に含有するモノリシックガラス直線偏光子を提供する工程、
少なくとも１つのシリコン層を高屈折率層Ｈとして含み、１.７より大きい屈折率を有する金属酸化物及び混合金属酸化物からなる群から選ばれる酸化物の少なくとも１つの層を低屈折率層Ｌとして含む、多層無機光減衰性コーティングＬＡを前記ガラス偏光子の少なくとも一方の表面上に被着する工程、及び
前記減衰性コーティングの上面上に多層反射防止コーティングであって、少なくとも１つの周期Ｈ'Ｌ'を含む反射防止コーティング（式中、Ｈ'は１.７より大きい屈折率を有する高屈折率材料であり、Ｌ'は１.７以下の屈折率を有する低屈折率材料）を被着し、それによって、１２００〜１７００ｎｍの波長範囲にわたって０ｄＢより大きく３ｄＢまでの範囲にある量だけ入射光を減衰させる一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子を形成する工程、
を有してなり、
前記減衰性コーティング及び前記反射防止コーティングの前記被着工程中の前記ガラス偏光子の温度が、前記ガラス偏光子内の前記金属粒子が収縮または再球状化するであろう温度より低い、ことを特徴とする方法。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３０
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３０】
本開示の一体型アイソレータ／アッテネータを作製するために様々な方法を用いることができるが、満たされなければならない一要件は、減衰性コーティング及び反射防止コーティングの被着中、基板の温度を偏光性ガラス基板内の金属粒子が再球状化するであろう温度より低く保たなければならないことである。偏光子内の金属粒子は引き伸ばされており、あまりにも高い温度まで加熱されると、金属粒子は収縮する、及び／または細長粒子としてとどまらずに球形粒子になる（再球状化する）。これがおこると、ガラスの偏光特性は劣化するであろうし、あるいは完全に失われ得る。これがおこる温度は、ガラス内に存在してガラスに偏光特性を与えている特定の金属粒子または金属粒子の混合物に依存するであろう。例えば、偏光性金属が銀、銅または銅／カドミウムであれば、コーティング材料被着中の基板温度は４００℃より低い。別の実施形態において、コーティング被着温度は３５０℃より低い。また別の実施形態において、被着温度は３００℃より低い。偏光性材料は、銀、銅、または銅／カドミウムからなる群から選ばれる。一実施形態において、偏光子は、銀、銅、または銅／カドミウムから選ばれる偏光性金属に加えて、米国特許第７４６８１４８号及び第７５１０９８９号の明細書に述べられているように、白金、パラジウム、オスミウム、イリジウム、ロジウムまたはルテニウムからなる群から選ばれる貴金属をさらに含み、貴金属はゼロ価金属として測定して０.０００１重量％〜０.５重量％の範囲にある量で存在している。ガラス内の偏光性金属粒子が収縮するかまたは再球状化するであろう温度は、コーティングプロセスに先立ち、ガラス偏光子を加熱し、収縮及び／または再球状化がおこる温度を観察することによって実験的に決定することができる。この過程は時間及び温度のいずれにもある程度依存する。例えば、偏光子が５００℃まで加熱されると、収縮／再球状化は数分内におこり得る。４００℃の温度では、時間はほぼ１時間以上である。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】００３６
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【００３６】
したがって、一態様において、本開示は、偏光性粒子を内に含んでいるガラス偏光子、ガラス偏光子の少なくとも一方の表面上に被着された多層減衰コーティング及び減衰コーティングの上面上に被着された多層反射防止コーティングからなる、一体型モノリシック直線偏光子／アッテネータ素子に関する。ガラス偏光子内の偏光性粒子は、銀、銅及び銅／カドミウムからなる群から選ばれる。一実施形態において、ガラス偏光子は、白金、パラジウム、オスミウム、イリジウム、ロジウムまたはルテニウムからなる群から選ばれる貴金属をさらに含み、貴金属はゼロ価金属として測定して０.０００１重量％〜０.５重量％の範囲にある量で存在する。偏光子／アッテネータ素子で得られる減衰量は、１２００〜１７００ｎｍの波長範囲にわたり、０ｄＢより大きく３ｄＢまでの範囲にある。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月29日(2016.8.29)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
半導体リソグラフィのための投影露光装置（１０）であって、
可動マスクステージ（２）上に配置されるマスク（３）を照明するための照明システム（１）を備え、
前記マスク（３）を半導体基板（９）上に結像させるための投影レンズ（４）を備える投影露光装置（１０）において、
前記投影レンズ（４）または前記照明システム（１）を囲む媒体中の圧力変動の影響から、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）の少なくとも部分を少なくとも部分的に分離するために、少なくとも１つの手段（１１、１４、４４、２０、１７、４２、１５、１９）が存在し、前記圧力変動が前記装置（１０）の動作期間の前記マスクステージ（２）の移動に起因し、
前記マスクステージ（２）に最も近い、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）の光学要素（１３、４１）が、機械的な分離および／またはアクチュエータを用いた動作により、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）に対して移動し得ることを特徴とする、投影露光装置（１０）。
【請求項２】
少なくとも１つの手段が、前記マスクステージを囲む閉鎖空間（１１）であることを特徴とする、請求項１に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項３】
前記マスクステージを囲む前記閉鎖空間（１１）が、吸音が空気の吸音よりも大きいガスで充填されることを特徴とする、請求項２に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項４】
前記周囲部と比較して減少した圧力が前記閉鎖空間（１１）内で行き渡ることを特徴とする、請求項２または３に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項５】
前記マスクステージ（２）に最も近い、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）の光学要素（１３、４１）が、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）に対して少なくとも部分的に機械的に分離されることを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項６】
前記光学要素（１３、４１）が平行なばね構成（２０）によって、少なくとも部分的に機械的に分離されることを特徴とする、請求項５に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項７】
前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）の光学要素が、操作可能なやり方で、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）に接続されることを特徴とする、請求項１から６までのいずれか１項に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項８】
前記光学要素が、各々の場合に、前記マスクステージ（２）に最も近い光学要素（１３、１３’、４１、４１’）であることを特徴とする、請求項１から７までのいずれか１項に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項９】
前記マスクステージ（２）の移動に起因する音波を考慮して、前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）の前記光学要素（１３’、４１’）を移動させるために少なくとも１つの手段（１７、４２）が存在することを特徴とする、請求項７または８に記載の投影露光装置。
【請求項１０】
少なくとも部分的に、前記投影レンズ（４）の空間領域について、前記マスクステージの移動に起因する音波を中和するのに好適な、少なくとも１つの音発生ユニット（１９）が存在することを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の投影露光装置（１０）。
【請求項１１】
ペリクル（１５）が、前記マスクステージ（２）と前記照明システム（１）および／または前記投影レンズ（４）との間に配置されることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の投影露光装置（１０）。
【手続補正書】
【提出日】平成28年7月21日(2016.7.21)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ゴム組成物(３２、３４)によって現場ゴム引きした金属コード(３０)であって、ゴム組成物(３２、３４)が有機ポリスルフィドを含むことを特徴とする金属コード(３０)。
【請求項２】
前記有機ポリスルフィドが、非シリコンポリスルフィドである、請求項１記載の金属コード(３０)。
【請求項３】
前記有機ポリスルフィドが、有機ジスルフィド類の群から選ばれる、請求項１または２のいずれか１項記載の金属コード(３０)。
【請求項４】
前記有機ポリスルフィドが、パラ−(tert−ブチル)フェノールジスルフィドである、請求項１〜３のいずれか１項記載の金属コード(３０)。
【請求項５】
ゴム組成物(３２、３４)が、0.1phrと1phrの間の範囲の前記有機ポリスルフィドを含む、請求項１〜４のいずれか１項記載の金属コード(３０)。
【請求項６】
ゴム組成物(３２、３４)が、前記有機ポリスルフィド以外の少なくとも１種のイオウ供与剤を含む、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属コード(３０)。
【請求項７】
ゴム組成物(３２、３４)が、0.5phrと10phrの間の範囲の前記有機ポリスルフィド以外の前記イオウ供与剤を含む、請求項１〜６のいずれか１項記載の金属コード(３０)。
【請求項８】
ゴム組成物(３２、３４)が、前記有機ポリスルフィド以外のイオウ供与剤を含まない、請求項１〜５のいずれか１項記載の金属コード(３０)。
【請求項９】
コーティング用ゴム組成物中に埋込まれている請求項１〜８のいずれか１項記載の金属コード(３０)を含む半製品。
【請求項１０】
請求項１〜８のいずれか１項記載の金属コードを含むタイヤ。
【請求項１１】
下記の工程を含むことを特徴とする、ゴム組成物(３２、３４)によって現場ゴム引きされた金属コード(３０)の製造方法：
・有機ポリスルフィドを含むゴム組成物(３２，３３)を製造する工程；
・金属コード(３０)の少なくとも内部部分を、金属コード(３０)の２回の集成段階の間にゴム組成物(３２、３４)によってシーズする工程。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月26日(2016.8.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2015535831.tif 000001
式中、
Ｒ１、Ｒ２は夫々、互いに独立して、Ｈ、ＦまたはＣｌを示し、
Ｒ３は、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＨ３またはＯＣＨ３を示し、
Ｘ１、Ｘ２は夫々、互いに独立して、ＣＨまたはＮを示し、
Ｙは、Ａ、Ｃｙｃ、あるいは、
非置換であるか、または、＝Ｏ、Ｈａｌ、ＯＨおよび／またはＡ’で単置換または二置換されていてもよい、オキシラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピペラジニル、ピペリジニル、モルホリニル、ピロリジニル、チオモルホリニルあるいはジアゼパニルを示し、
Ａ’は、１〜４個のＣ原子を有する非分枝状または分枝状のアルキルを示し、ここで、１個のＣＨ２基が、Ｏ原子で置き換えられていてもよく、および／または、Ｈ原子が、ＯＨで置き換えられていてもよく、
Ａは、２〜１０個のＣ原子を有する非分枝状または分枝状のアルキルを示し、ここで、２個の隣接する炭素原子が、二重結合を形成してもよく、および／または、１個もしくは２個の非隣接のＣＨ基および／またはＣＨ２基が、Ｎ原子、Ｏ原子および／またはＳ原子で置き換えられていてもよく、ここで１〜７個のＨ原子が、Ｆ、Ｃｌおよび／またはＯＨで置き換えられていてもよく、
Ｃｙｃは、非置換であるか、または、ＯＨ、ＨａｌもしくはＡ’で単置換された、３〜７個のＣ原子を有するシクロアルキルを示し、
Ｈａｌは、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを示し、
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも１個が、Ｈではなく、かつ、Ｙが、４−イソプロピル−１−ピペラジニルではないという条件である、
で表される化合物、または、それらの薬学的に許容し得る塩、互変異異性体もしくは立体異性体、あるいは、あらゆる比率でのそれらの混合物。
【請求項２】
式中、
Ｒ１、Ｒ２が夫々、互いに独立して、Ｈ、ＦまたはＣｌを示し、
Ｒ３が、Ｈ、Ｆ、Ｃｌ、ＣＨ３またはＯＣＨ３を示し、
Ｘ１が、ＣＨを示し、
Ｘ２が、ＣＨまたはＮを示し、
Ｙが、Ａ、Ｃｙｃ、あるいは、
非置換であるか、または、＝Ｏ、Ｈａｌ、ＯＨおよび／またはＡ’で単置換または二置換されていてもよい、オキシラニル、オキセタニル、テトラヒドロフラニル、テトラヒドロピラニル、ピペラジニル、ピペリジニル、モルホリニル、ピロリジニル、チオモルホリニルあるいはジアゼパニルを示し、
Ａ’が、１〜４個のＣ原子を有する非分枝状または分枝状のアルキルを示し、ここで、１個のＣＨ２基が、Ｏ原子で置き換えられていてもよいし、および／または、Ｈ原子が、ＯＨで置き換えられていてもよく、
Ａが、２〜１０個のＣ原子を有する非分枝状または分枝状のアルキルを示し、ここで、１個もしくは２個の非近接のＣＨ基および／またはＣＨ２基が、Ｎ原子および／またはＯ原子で置き換えられていてもよく、ここで１〜７個のＨ原子が、Ｆ、Ｃｌおよび／またはＯＨで置き換えられていてもよく、
Ｃｙｃが、非置換であるか、または、ＯＨ、ＨａｌもしくはＡ’で単置換された、３〜７個のＣ原子を有するシクロアルキルを示し、
Ｈａｌが、Ｆ、Ｃｌ、ＢｒまたはＩを示し、
ただし、Ｒ１、Ｒ２、Ｒ３のうちの少なくとも１個が、Ｈではなく、かつ、Ｙが、４−イソプロピル−１−ピペラジニルではないという条件である、
請求項１に記載の化合物、または、それらの薬学的に許容し得る塩、互変異異性体もしくは立体異性体、あるいは、あらゆる比率でのそれらの混合物。
【請求項３】
以下の群
【表１】
2015535831.tif 000002
【表２】
2015535831.tif 000003
【表３】
2015535831.tif 000004
から選択される、請求項１に記載の化合物、または、それらの薬学的に許容し得る溶媒和物、塩、互変異異性体もしくは立体異性体、あるいは、あらゆる比率でのそれらの混合物。
【請求項４】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の式Ｉで表される化合物またはそれらの薬学的に許容し得る塩、溶媒和物、互変異性体もしくは立体異性体の調製のための方法であって、
ａ）式ＩＩ
【化２】
2015535831.tif 000005
式中、Ｒ１、Ｒ２およびＲ３は、請求項１に示された意味を有する、
で表される化合物を、
ｉ）式ＩＩＩ
【化３】
2015535831.tif 000006
式中、Ｘ１、Ｘ２およびＹは、請求項１に示された意味を有する、
で表される化合物と反応させるか、
または
ｉｉ）式ＩＶ
【化４】
2015535831.tif 000007
式中、Ｘ１、Ｘ２およびＹは、請求項１に示された意味を有する、
で表される化合物と反応させること、
あるいは、
ｂ）ラジカルＹを、他のラジカルＹへと、
ｉ）アルコールをエーテル基へ変換することによって、
ｉｉ）エステル基をアルコール基へ変換することによって、
ｉｉｉ）ニトロ基をアミノ基へ変換することによって、
ｉｖ）アミノ基をアルキル化アミノ基へ変換することによって、
変換すること、
および／または、
式Ｉで表される塩基もしくは酸を、その塩の１つへ変換すること
を特徴とする、前記方法。
【請求項５】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の式Ｉで表される少なくとも１種の化合物および／またはそれらの薬学的に許容し得る塩、溶媒和物、互変異性体もしくは立体異性体、あるいは、あらゆる比率でのそれらの混合物を含み、任意に、薬学的に許容し得る担体、賦形剤またはビヒクルを含む、医薬。
【請求項６】
がん、多発性硬化症、心血管疾患、中枢神経系損傷および種々の形態の炎症の処置および／または予防に使用するための請求項５に記載の医薬。
【請求項７】
頭部、頸部、眼、口腔、咽喉、食道、気管支、喉頭、咽頭、胸部、骨、肺、結腸、直腸、胃、前立腺、膀胱、子宮、子宮頸部、乳房、卵巣、精巣または他の生殖器官、皮膚、甲状腺、血液、リンパ節、腎臓、肝臓、膵臓、脳、中枢神経系のがん、固形腫瘍および血液由来の腫瘍の群から選択される疾患の処置および／または予防に使用するための請求項５に記載の医薬。
【請求項８】
請求項１〜３のいずれか一項に記載の式Ｉで表される少なくとも１種の化合物および／またはそれらの薬学的に許容し得る塩、溶媒和物、互変異性体もしくは立体異性体、あるいは、あらゆる比率でのそれらの混合物と、少なくとも１種のさらなる医薬活性成分とを含む、医薬。
【請求項９】
（ａ）有効量の、請求項１〜３のいずれか一項に記載の式Ｉで表される化合物および／またはそれらの薬学的に許容し得る塩、溶媒和物、互変異性体もしくは立体異性体、あるいは、あらゆる比率でのそれらの混合物、
ならびに
（ｂ）有効量のさらなる医薬活性成分
の別個のパックからなるセット（キット）。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月14日(2016.9.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
式（Ｉ）の化合物、又は医薬的に許容可能なその塩、互変異性体、溶媒和物、若しくは多形：
【化１】
2015535839.tif 000001
式中、
Ｒ１は、Ｃ１〜６アルキル、アリールアルキル、又はヘテロアリールアルキルであり、これらのそれぞれは、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、Ｃ１〜６アルキル、ジ−（Ｃ１〜６）アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルコキシ、Ｃ３〜６シクロアルキル、カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、複素環、アリール、アルケニル、アルキニル、アリールアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、及びニトリルから独立に選択される１つ以上の置換基で場合によって置換されていてもよく、
Ｒ２は、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、Ｃ１〜３アルキル、Ｃ１〜３アルコキシ、Ｃ３〜６シクロアルキル、カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、ジ−（Ｃ１〜６）アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、及びニトリルから独立に選択される１つ以上の置換基で場合によって置換されていてもよいＣ１〜８アルキルである。
【請求項２】
Ｒ２が、ブチル又はペンチルであり、
Ｒ１が、Ｃ１〜６アルキル、アリールアルキル、又はヘテロアリールアルキルであり、これらのそれぞれは、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、Ｃ１〜６アルキル、ジ−（Ｃ１〜６）アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルコキシ、Ｃ３〜６シクロアルキル、カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、複素環、ジ−（Ｃ１〜６）アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルキルアミノ、アリール、アルケニル、アルキニル、アリールアルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、及びニトリルから独立に選択される１つ以上の置換基で場合によって置換されていてもよい、
請求項１に記載の化合物。
【請求項３】
Ｒ２がヒドロキシルで置換されたＣ１〜８アルキルであり、Ｒ１が置換又は非置換のアリールアルキル基である、請求項１に記載の化合物。
【請求項４】
Ｒ１がアリールアルキルであり、
Ｒ２が、ヒドロキシルで置換されたＣ１〜８アルキルであるか、又はいずれかの立体化学的配置の以下の例：
【化２】
2015535839.tif 000002
のうちの１つである、請求項１に記載の化合物。
【請求項５】
Ｒ１がＣＨ３であり、
Ｒ２が、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、Ｃ１〜３アルキル、Ｃ１〜３アルコキシ、Ｃ３〜６シクロアルキル、カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、ジ−（Ｃ１〜６）アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、及びニトリルから独立に選択される１つ以上の置換基で場合によって置換されていてもよいＣ１〜８アルキルである、
請求項１に記載の化合物。
【請求項６】
Ｒ１がヘテロアリールアルキルであり、
Ｒ２が、ハロゲン、ヒドロキシル、アミノ、Ｃ１〜３アルキル、Ｃ１〜３アルコキシ、Ｃ３〜６シクロアルキル、カルボン酸、カルボン酸エステル、カルボン酸アミド、ジ−（Ｃ１〜６）アルキルアミノ、Ｃ１〜６アルキルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ヘテロアリールアルキル、及びニトリルから独立に選択される１つ以上の置換基で場合によって置換されていてもよいＣ１〜８アルキルである、
請求項１に記載の化合物。
【請求項７】
【化３】
2015535839.tif 000003
から選択される、請求項１に記載の化合物。
【請求項８】
請求項１から７のいずれか一項に記載の式（Ｉ）の化合物、又はその医薬的に許容可能な塩、互変異性体、溶媒和物、若しくは多形を、１つ以上の医薬的に許容可能な賦形剤、希釈剤、又は担体と一緒に含む、医薬組成物。
【請求項９】
ＴＬＲ７及び／又はＴＬＲ８の調節が含まれる疾患の治療において使用するための、請求項８に記載の医薬組成物。
【手続補正書】
【提出日】平成28年8月25日(2016.8.25)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
スチレン、ＰＥＴ、ＰＬＡまたはＰＶＣに対してアルミニウム表面をシールするためのヒートシール性塗料における水性分散液の使用であって、前記ヒートシール性塗料は、シールする前に一層で前記アルミニウム表面に塗布されるものであり、前記シートシール性塗料の少なくとも５０質量％が前記水性分散液からなっており、かつ該水性分散液が、−２０〜３０℃のガラス転移温度を有する第一ポリマー相および２０〜５０℃未満のガラス転移温度を有する第二ポリマー相を有しており、ここで、該第二ポリマー相が、メタクリレートと共重合可能な酸を前記２つのポリマー相の合計に対して２〜１０質量％含む、ことを特徴とする前記水性分散液の使用。
【請求項２】
前記少なくとも２つのポリマー相からの分散液が、メタクリル酸アルキルエステル２５〜７８質量％、アクリル酸アルキルエステル４〜４０質量％、メタクリレートと共重合可能な酸２〜９質量％、（メタ）アクリレートと共重合可能であるが、それ自身は（メタ）アクリレートではないさらなるモノマー２０質量％までを有するポリマーを１５〜６４質量％含むことを特徴とする、請求項１に記載の水性分散液の使用。
【請求項３】
前記分散液中のポリマーが、メタクリル酸アルキルエステル４９〜６５質量％、アクリル酸アルキルエステル１７〜３０質量％、（メタ）アクリル酸３〜８質量％、およびスチレン８〜１５質量％を含むことを特徴とする、請求項１または２に記載の水性分散液の使用。
【請求項４】
前記第一ポリマー相が、−１０〜２５℃、特に−５〜５℃のガラス転移温度を有しており、第二ポリマー相が、３０〜４５℃のガラス転移温度を有していることを特徴とする、請求項１から３までのいずれか１項に記載の水性分散液の使用。
【請求項５】
前記分散液中のポリマーが、少なくとも１つのさらなる官能基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステル２〜１２質量％をさらに含むことを特徴とする、請求項１から４までのいずれか１項に記載の水性分散液の使用。
【請求項６】
前記少なくとも１つのさらなる官能基を有する（メタ）アクリル酸アルキルエステルが、ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートであり、かつ該ヒドロキシエチル（メタ）アクリレートが、前記ポリマー中に３〜７質量％、好ましくは４〜６質量％含まれていることを特徴とする、請求項５に記載の水性分散液の使用。
【請求項７】
前記ポリマーが、全体で、メチルメタクリレートおよび／またはブチルメタクリレート３７〜７０質量％、アクリル酸Ｃ1〜Ｃ4アルキルエステル１２〜３５質量％、ヒドロキシ官能性（メタ）アクリレート３〜７質量％、（メタ）アクリル酸２〜９質量％、およびスチレン４〜２０質量％から構成されていることを特徴とする、請求項１に記載の水性分散液の使用。
【請求項８】
前記ポリマーが、全体で、メチルメタクリレートおよび／またはブチルメタクリレート４９〜６５質量％、アクリル酸Ｃ1〜Ｃ4アルキルエステル２０〜３０質量％、ヒドロキシ官能性（メタ）アクリレート４〜６質量％、（メタ）アクリル酸５〜７質量％、およびスチレン８〜１５質量％から構成されていることを特徴とする、請求項７に記載の水性分散液の使用。
【請求項９】
前記水性分散液が、乳化重合により製造され、ここで、−２０〜３０℃のガラス転移温度を有するポリマーになるべき第一のモノマー混合物が装入され、該モノマー混合物の重合後に、２０〜５０℃未満のガラス転移温度を有するポリマーになるべき第二のモノマー混合物が添加されて重合され、かつ前記２つのポリマー相が、コアシェル粒子の形態で存在していることを特徴とする、請求項１から８までのいずれか１項に記載の水性分散液の使用。
【請求項１０】
第一のモノマー混合物がヒドロキシ官能性（メタ）アクリレートを含んでおり、第二のモノマー混合物が（メタ）アクリレートと共重合可能なカルボン酸を含んでおり、かつ前記２つのモノマー混合物の質量比が１：９〜８：２であることを特徴とする、請求項１から９までのいずれか１項に記載の水性分散液の使用。
【請求項１１】
第二のモノマー混合物が、調整剤を使用して、好ましくはモノマーに対して０．２質量％のｎ−ＤＤＭを使用して重合されることを特徴とする、請求項１から１０までのいずれか１項に記載の水性分散液の使用。
【手続補正書】
【提出日】平成28年6月16日(2016.6.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
有効量の電解質溶液の存在下、電気化学反応器において、酸化された硫黄含有炭化水素化合物を含有する混合物を電気化学的に反応させることを含む、液状炭化水素と酸化された硫黄含有炭化水素化合物との混合物の硫黄含量の低減方法であって、電気化学反応は、酸化された硫黄含有炭化水素化合物の少なくとも一部の、硫黄不含有炭化水素と硫黄副生物との生成混合物への分解を促進するのに有効な電位で行われる、方法。
【請求項２】
硫黄不含有炭化水素と硫黄副生物との生成混合物を、硫黄不含有炭化水素と硫黄副生物とに分離することを更に含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
硫黄不含有炭化水素と硫黄副生物との生成混合物は電解質を更に含有しており、電解質は硫黄副生物と一緒に排出される、請求項２に記載の方法。
【請求項４】
電気化学反応は２０℃〜３５０℃の温度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
電気化学反応は３ｋｇ／ｃｍ２〜３０ｋｇ／ｃｍ２の圧力で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
電気化学反応は０．０５ｈ−１〜４．０ｈ−１の液体時空間速度で行われる、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
電気化学反応器の全セル電位が、Ａｇ／ＡｇＣｌ参照電極に対して測定して一般に１．０〜２．５Ｖである、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
電気化学反応器は、白金、ステンレス鋼およびグラファイトからなる群から選択される材料から形成された陰極、および白金、ステンレス鋼、ニッケルおよびグラファイトからなる群から選択される材料から形成された陽極を含んでなる、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
電解質溶液は有機溶媒中に電解質塩を含んだものである、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
有機溶媒は、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ニトロベンゼン、ベンゾニトリル、Ｎ−ホルミルモルホリン、スルホラン、および前記溶媒の少なくとも１つを含む混合物からなる群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
電解質塩はテトラアルキルアンモニウム塩である、請求項９に記載の方法。
【請求項１２】
テトラアルキルアンモニウム塩は、過塩素酸テトラエチルアンモニウム、過塩素酸テトラブチルアンモニウム、テトラエチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラブチルアンモニウムテトラフルオロボレート、テトラエチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラブチルアンモニウムヘキサフルオロホスフェート、テトラエチルアンモニウムパラトルエンスルホネート、テトラブチルアンモニウムクロリド、テトラブチルアンモニウムブロミド、および前記塩の少なくとも１つを含む混合物からなる群から選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
テトラアルキルアンモニウム塩は、少なくとも０．０５モルの濃度で有機溶媒中に存在する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
テトラアルキルアンモニウム塩は、少なくとも０．１モルの濃度で有機溶媒中に存在する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
テトラアルキルアンモニウム塩は、少なくとも０．５モルの濃度で有機溶媒中に存在する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
炭化水素原料油の脱硫方法であって、
ａ．硫黄含有炭化水素化合物を含んでなる炭化水素原料油を酸化反応器に供給する工程；
ｂ．炭化水素原料油中に存在する硫黄含有炭化水素化合物を選択的に酸化するのに十分な条件下、酸化反応器において触媒の存在下で炭化水素原料油を酸化剤と接触させ、炭化水素化合物と酸化された硫黄含有炭化水素化合物との混合物を生成する工程；
ｃ．有効量の電解質溶液の存在下、電気化学反応器において炭化水素化合物と酸化された硫黄含有炭化水素化合物との混合物を電気化学的に反応させる工程であって、電気化学反応は、酸化された硫黄含有炭化水素化合物の少なくとも一部の硫黄不含有炭化水素と硫黄副生物との混合物への分解を促進するのに有効な電位で行われる工程；および
ｄ．硫黄不含有炭化水素を回収する工程
を含む方法。
【請求項１７】
酸化された硫黄含有炭化水素化合物はスルホンおよび／またはスルホキシドを含む、請求項１６に記載の方法。
【請求項１８】
酸化された硫黄含有炭化水素化合物はスルホンおよび／またはスルホキシドを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１９】
酸化された硫黄含有炭化水素化合物はディーゼル原料油流に由来する、請求項１に記載の方法。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月5日(2016.9.5)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
下記の化学式１で表される構造を含むレジストパターンの下部膜形成用化合物：
【化１】
2015535813.tif 000001
（前記化学式１において、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ１は、一つ以上の結合部位を有するものであって、それぞれ独立して、０〜６個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基であり、Ｒ２は、それぞれ独立して、０〜１５個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基である）。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項７】
前記Ｒ２は、
【化３】
2015535813.tif 000002
、−ＣＦ３、および−（ＣＦ２）３ＣＦ３からなる群から選択されることを特徴とする、請求項１に記載のレジストパターンの下部膜形成用化合物。
【手続補正３】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項８】
下記の化学式１で表される構造を含む下部膜形成用化合物と有機溶媒とを含むことを特徴とする、レジストパターンの下部膜形成用組成物：
【化４】
2015535813.tif 000003
（前記化学式１において、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ１は、一つ以上の結合部位を有するものであって、それぞれ独立して、０〜６個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基であり、Ｒ２はそれぞれ独立して０〜１５個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基である）。
【手続補正４】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１１】
下記の化学式１で表される構造を含む下部膜形成用化合物と有機溶媒とを含む下部膜形成用組成物を基板上部に塗布する段階
【化５】
2015535813.tif 000004
（前記化学式１において、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ１は、一つ以上の結合部位を有するものであって、それぞれ独立して、０〜６個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基であり、Ｒ２は、それぞれ独立して、０〜１５個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基である）；および
前記塗布された下部膜形成用組成物から有機溶媒を除去して下部膜を硬化させる段階
を含むことを特徴とする、レジストパターン下部膜の形成方法。
【手続補正５】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１２
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１２】
（ａ）下記の化学式１で表される構造を含む下部膜形成用化合物と有機溶媒とを含む下部膜形成用組成物を基板上部に塗布し、前記塗布された下部膜形成用組成物から有機溶媒を除去して下部膜を形成する段階
【化６】
2015535813.tif 000005
（前記化学式１において、Ｒは、それぞれ独立して、水素原子またはメチル基であり、Ｒ１は一つ以上の結合部位を有するものであって、それぞれ独立して、０〜６個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基であり、Ｒ２は、それぞれ独立して、０〜１５個のヘテロ原子を含む炭素数１〜１５の鎖状または環状の飽和または不飽和炭化水素基である）；
（ｂ）前記下部膜が形成された基板の上部に、フォトレジスト組成物を塗布してフォトレジスト膜を形成し、前記フォトレジスト膜を露光および現像してフォトレジストパターン（ガイドパターン）を形成する段階；
（ｃ）前記フォトレジストパターンの間に、ブロック共重合体を有機溶媒に溶解したブロック共重合体溶液を塗布した後、加熱して、ブロック共重合体コーティング膜を形成する段階；
（ｄ）前記ブロック共重合体コーティング膜が形成された基板を前記ブロック共重合体のガラス転移温度（Ｔｇ）以上の温度で加熱して、方向性を有する自己整列パターンを得る段階；および
（ｅ）前記自己整列パターンをエッチングする段階
を含むことを特徴とする、微細レジストパターンの形成方法。
【手続補正６】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
前記Ｒ１の具体的な例としては、
【化３】
2015535813.tif 000006
などのヘテロ原子を含むか若しくは含まないアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基などを例示でき、前記Ｒ２の具体的な例としては、
【化４】
2015535813.tif 000007
、−ＣＦ３、−（ＣＦ２）３ＣＦ３などのヘテロ原子を含むか若しくは含まないアルキル基、アリール基、アリールアルキル基、アルキルアリール基などを例示することができる。
【手続補正７】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００４７
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００４７】
誘電膜エッチング基（dielectric etcher、製品名：Ｅｘｅｌａｎ  ＨＰＴ、ラムリサ
ーチ社製）を利用して、形成された下部膜をドライエッチングガス（ＣＦ４）で１３秒間エッチングして、下部膜のエッチング率（etch rate、ｎｍ／秒）を測定し、エリプソメ
ータ（ellipsometer、製造会社：Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌａｍ、製品名：ＶＵＶ−３０３）を利用して下部膜の屈折率および吸光係数（ｋ値）を測定した。また、接触角測定装備（Ｃｏｎｔａｃｔ  ａｎｇｌｅ測定器、製品名：ＤＳＡ−１００Ｓ、ＫＲＵＳＳ社製）を利用して、ウエハーの下部膜に脱イオン水５μＬを滴下し、５秒間の接触角平均値を測定して、その結果を下記表１に併せて示した。
【手続補正書】
【提出日】平成28年9月2日(2016.9.2)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】請求項１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【請求項１】
式Ｉ
【化１】
2015535819.tif 000001
式中、
Ａ２およびＡ３の一方は
【化２】
2015535819.tif 000002
を示し、
Ａ２およびＡ３の他方、Ａ１、Ａ４ならびにＡ５は、互いに独立して、
ａ）１，４−フェニレン、ここで１または２以上のＣＨ基がＮによって置き換えられていてもよく、
ｂ）式
【化３】
2015535819.tif 000003
で表されるラジカル、
ｃ）トランス−１，４−シクロへキシレンまたはシクロヘキセニレン、ここで加えて１または２つの非隣接ＣＨ２基が−Ｏ−および／または−Ｓ−によって置き換えられていてもよく、または
ｄ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、シクロブタン−１，３−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フラン−２，５−ジイルの群からのラジカル
を示し、
ならびに、式中、基ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）において１個または２個以上のＨ原子は、独立して、各々の場合において基Ｙにより任意に置き換えられていてもよく、
Ｙは、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＳＣＮ、ＳＦ５、Ｃ２−Ｃ１０アルケニル、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ６シクロアルケニルまたは一フッ素化もしくは多フッ素化Ｃ１−Ｃ１０アルキルもしくはアルコキシ基を示し、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、１〜１５個のＣ原子を有するハロゲン化または非置換アルキルラジカルを示し、ここで、加えて、これらのラジカルにおける１または２以上のＣＨ２基が、互いに独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−（ＣＯ）Ｏ−、−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）−、−Ｏ−または−Ｓ−により、ＯおよびＳ原子が互いに直接結合しないように、各々置き換えられていてもよく、
Ｒ３は、Ｃ１−Ｃ１０アルキル、Ｃ２−Ｃ１０アルケニル、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ６シクロアルケニルまたは一フッ素化もしくは多フッ素化Ｃ１−Ｃ１０アルキルもしくはアルコキシ基を示し、
Ｚ１、Ｚ２およびＲ３は、互いに独立して、単結合、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＨ２Ｏ−、−（ＣＯ）Ｏ−、−ＣＦ２Ｏ−、−ＣＦ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＦ２−、−ＣＨ２ＣＨ２−、−（ＣＨ２）４−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＦ−を示し、ここで、ここで非対称の架橋は両方の側のいずれにも向き得るものであり、および
ｍ、ｎおよびｏは、互いに独立して、０または１を示し、ここで（ｍ＋ｎ＋ｏ）が１、２または３である、
で表される化合物。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１８
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１８】
Ａ２およびＡ３の他方、Ａ１、Ａ４ならびにＡ５は、互いに独立して、任意に両方の側に向き得て、
ａ）１，４−フェニレン、１または２以上、好ましくは１〜２のＣＨ基がＮによって置き換えられていてもよく、
ｂ）式
【化６】
2015535819.tif 000004
で表されるラジカル、
ｃ）トランス−１，４−シクロへキシレンまたはシクロヘキセニレン、ここで加えて１または２つの非隣接ＣＨ２基が−Ｏ−および／または−Ｓ−によって置き換えられていてもよく、ならびにここでＨはＦによって置き換えられてもよく、または
ｄ）１，４−ビシクロ［２．２．２］オクチレン、シクロブタン−１，３−ジイル、スピロ［３．３］ヘプタン−２，６−ジイル、チオフェン−２，５−ジイル、フラン−２，５−ジイルの群からのラジカル
を示し、
ならびに、式中、基ａ）、ｂ）、ｃ）およびｄ）において１または２個以上のＨ原子は、独立して、各々の場合において基Ｙにより任意に置き換えられていてもよく、
【手続補正３】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１９
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１９】
Ｙは、Ｂｒ、Ｃｌ、Ｆ、ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＳＣＮ、ＳＦ５、Ｃ２−Ｃ１０アルケニル、Ｃ１−Ｃ１０アルコキシ、Ｃ３−Ｃ６シクロアルキル、Ｃ３−Ｃ６シクロアルケニルまたは一フッ素化もしくは多フッ素化Ｃ１−Ｃ１０アルキルもしくはアルコキシ基、好ましくはＢｒ、Ｃｌ、Ｆ、ＣＮ、−ＮＣＳ、−ＳＣＮ、ＳＦ５、ＯＣＦ３またはＣＦ３、特に好ましくはＦを示し、
Ｒ１およびＲ２は、互いに独立して、１〜１５個のＣ原子を有するハロゲン化または非置換アルキルラジカルを示し、ここで、加えて、これらのラジカルにおける１または２以上のＣＨ２基が、互いに独立して、−Ｃ≡Ｃ−、−ＣＨ＝ＣＨ−、−ＣＦ＝ＣＦ−、−ＣＦ＝ＣＨ−、−ＣＨ＝ＣＦ−、−（ＣＯ）Ｏ−、−Ｏ（ＣＯ）−、−（ＣＯ）−、−Ｏ−または−Ｓ−により、ＯおよびＳ原子が互いに直接結合しないように、各々置き換えられていてもよく、
【手続補正書】
【提出日】平成28年10月12日(2016.10.12)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
ポリオール剤Ｋ１と、ポリイソシアネート剤Ｋ２とからなる２剤型ポリウレタン組成物であって、
前記ポリオール剤Ｋ１が、
ヒマシ油Ａ１と、
１，２，３−プロパントリオールＡ２とを含み、
前記ポリイソシアネート剤Ｋ２が、
少なくとも１種の芳香族ポリイソシアネートＢ１を含み、
（Ａ１／Ａ２）のｗｔ．−％の比が４〜５０であり、前記芳香族ポリイソシアネートＢ１の全てのＮＣＯ基と（Ａ１＋Ａ２）の合計の全てのＯＨ基との比が１．１５：１〜０．８５：１であり、（Ａ１＋Ａ２）の全てのＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計の、９３％以上である、２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項２】
（Ａ１＋Ａ２）の全てのＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計の、９５％以上である、請求項１に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項３】
（Ａ１＋Ａ２）の全てのＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計の、９９％以上である、請求項１に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項４】
前記芳香族ポリイソシアネートＢ１が、ＭＤＩ及び／又はＴＤＩの総重量に対して、
モノマーのＭＤＩを４０ｗｔ．−％以上有する、ＭＤＩ、及び／又は、
モノマーのＴＤＩを４０ｗｔ．−％以上有する、ＴＤＩ、
であることを特徴とする、請求項１〜３のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項５】
（Ａ１／Ａ２）のｗｔ．−％の比が、３０〜４であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項６】
（Ａ１／Ａ２）のｗｔ．−％の比が、２０〜４であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項７】
（Ａ１／Ａ２）のｗｔ．−％の比が、１３〜４であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項８】
（Ａ１／Ａ２）のｗｔ．−％の比が、８〜４であることを特徴とする、請求項１〜４のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項９】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、（Ａ１＋Ａ２）に由来するものでないＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計に対して、５％以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１０】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、（Ａ１＋Ａ２）に由来するものでないＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計に対して、２％以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１１】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、（Ａ１＋Ａ２）に由来するものでないＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計に対して、１％以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１２】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、（Ａ１＋Ａ２）に由来するものでないＯＨ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＯＨ基の合計に対して、０．５％以下であることを特徴とする、請求項１〜８のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１３】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、Ｂ１に由来するものでないＮＣＯ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＮＣＯ基の合計に対して、５％以下であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１４】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、Ｂ１に由来するものでないＮＣＯ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＮＣＯ基の合計に対して、２％以下であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１５】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、Ｂ１に由来するものでないＮＣＯ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＮＣＯ基の合計に対して、１％以下であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１６】
前記２剤型ポリウレタン組成物中、Ｂ１に由来するものでないＮＣＯ基の合計が、前記２剤型ポリウレタン組成物の全てのＮＣＯ基の合計に対して、０．５％以下であることを特徴とする、請求項１〜１２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１７】
ヒマシ油Ａ１と、１，２，３−プロパントリオールＡ２との合計の割合が、前記ポリオール剤Ｋ１の総重量に対して、９０ｗｔ．−％以上であることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１８】
ヒマシ油Ａ１と、１，２，３−プロパントリオールＡ２との合計の割合が、前記ポリオール剤Ｋ１の総重量に対して、９５ｗｔ．−％以上であることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項１９】
ヒマシ油Ａ１と、１，２，３−プロパントリオールＡ２との合計の割合が、前記ポリオール剤Ｋ１の総重量に対して、９９ｗｔ．−％以上であることを特徴とする、請求項１〜１６のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項２０】
前記芳香族ポリイソシアネートＢ１の割合が、前記ポリイソシアネート成分Ｋ２の総重量に対して、９０ｗｔ．−％以上であることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項２１】
前記芳香族ポリイソシアネートＢ１の割合が、前記ポリイソシアネート成分Ｋ２の総重量に対して、９５ｗｔ．−％以上であることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項２２】
前記芳香族ポリイソシアネートＢ１の割合が、前記ポリイソシアネート成分Ｋ２の総重量に対して、９９ｗｔ．−％以上であることを特徴とする、請求項１〜１９のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物。
【請求項２３】
接着方法であって、
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物のポリオール剤（Ｋ１）と、ポリイソシアネート剤（Ｋ２）とを混合する工程と、
前記混合したポリウレタン組成物を、接着させる基体表面の少なくとも一方に塗布する工程と、
オープンタイム内に上記基体表面を貼り合わせる工程と、
前記ポリウレタン組成物を硬化させる工程と、
を含む、接着方法。
【請求項２４】
前記接着させる基体が、有機材料を含むことを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
前記接着させる基体が、再生可能な有機材料を含むことを特徴とする、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
請求項２３〜２５のいずれか一項に記載の方法を用いて接着された、接着物品。
【請求項２７】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物の、接着剤としての使用。
【請求項２８】
請求項１〜２２のいずれか一項に記載の２剤型ポリウレタン組成物の、構造用接着剤としての使用。
【請求項２９】
加水分解性接着剤としての、請求項２７又は２８に記載の使用。