(57)【要約】【課題】大面積の光触媒フィルターを用いる光触媒装置において、多量のガスを効率的に処理することができる光触媒装置を提供することである。【解決手段】実施形態の光触媒装置は、ガス流入口とガス排出口を備え、内部にガスが流通可能な筐体１１と、筐体１１内に配置され、ガスが流通する流通面２１ｂを備える光触媒フィルター２１と、指向性の光を発生させ、その光の中心方向が流通面２１ｂの法線方向Ｚに対して傾斜するように、ガスに対する流通面２１ｂのガス流入口側またはガス排出口側に配置された照射部３１、３２と、流通面２１ｂに向って傾斜し、照射部３１、３２からの少なくとも一部の光を流通面２１ｂ側に反射させる反射面３３２、３４２を備え、照射部３１、３２と同じ流通面２１ｂ側に配置されるとともに、照射部３１、３２との間でガスを流通可能なように離間配置された反射部３３、３４と、を具備する。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
ガス流入口とガス排出口を備え、内部にガスが流通可能な筐体と、
前記筐体内に配置され、前記ガスが流通する流通面を備える光触媒フィルターと、
指向性の光を発生させ、その光の中心方向が前記流通面の法線方向に対して傾斜するように、前記ガスに対する流通面の前記ガス流入口側または前記ガス排出口側に配置された照射部と、
前記流通面に向って傾斜し、前記照射部からの少なくとも一部の光を前記流通面側に反射させる反射面を備え、前記照射部と同じ前記流通面側に配置されるとともに、前記照射部との間で前記ガスを流通可能なように離間配置された反射部と、
を具備する光触媒装置。
【請求項２】
前記照射部は、第１の照射部と第２の照射部とを備え、前記第１の照射部及び前記第２の照射部の光の中心方向は、前記流通面に沿う方向である請求項１に記載の光触媒装置。
【請求項３】
前記第１の照射部と前記第２の照射部とは互いに対向するように配置され、前記反射部は、前記第１、第２の照射部からの少なくとも一部の光をそれぞれ反射させる２つの反射面を備える請求項２に記載の光触媒装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明の実施形態は、光触媒装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
光触媒装置は、例えば、ガスが流通可能な光触媒フィルターに、酸化チタン等の光触媒を担持させて、その光触媒フィルター面に光を照射することで、光触媒フィルターを通過するガス中の有害物質や悪臭等の汚染ガスを分解・除去する装置である。光触媒装置は、冷蔵庫等や車載用の脱臭装置や、家庭、店舗、工場、または医療機関等の空調設備や空気清浄システム等に使用されている。
【０００３】
近年、光触媒装置は、多量の汚染ガスを処理することが求められており、光触媒フィルターの大面積化が進んでいる。光触媒フィルターに光照射する光照射ユニットの光源として、例えば、発光ダイオードを光源とした構成があるが、発光ダイオードから発生する光は指向性を有するため、照射範囲が狭い。大面積の光触媒フィルター全体を照射するには、多数の発光ダイオードが必要となるため、システム全体の消費電力が増加したり、発光ダイオードを実装した基板がガス流路の抵抗成分となったりして、汚染ガスの処理効率を低下させる課題がある。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００４−１６６９９６号公報
【特許文献２】特開２００７−１０５２８６号公報
【特許文献３】特開２００６−２８０４２８号公報
【特許文献４】特開２００８−１０４７３９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
本発明が解決しようとする課題は、大面積の光触媒フィルターを用いる光触媒装置において、ガス処理能力が高い光触媒装置を提供することである。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本実施形態の光触媒装置は、ガス流入口とガス排出口を備え、内部にガスが流通可能な筐体と、前記筐体内に配置され、前記ガスが流通する流通面を備える光触媒フィルターと、指向性の光を発生させ、その光の中心方向が前記流通面の法線方向に対して傾斜するように、前記ガスに対する流通面の前記ガス流入口側または前記ガス排出口側に配置された照射部と、前記流通面に向って傾斜し、前記照射部からの少なくとも一部の光を前記流通面側に反射させる反射面を備え、前記照射部と同じ前記流通面側に配置されるとともに、前記照射部との間で前記ガスを流通可能なように離間配置された反射部と、を具備する。
【図面の簡単な説明】
【０００７】
【図１】光触媒装置に関する第１の実施形態について説明するための分解斜視図である。
【図２】図１の組み立て状態を説明するための断面図である。
【図３】発光ダイオードから発生する光の照射範囲を説明するための概略図である。
【図４】光触媒装置に関する第２の実施形態について説明するための断面図である。
【図５】光触媒装置に関する第３の実施形態について説明するための断面図である。
【図６】光触媒装置に関する第４の実施形態について説明するための断面図である。
【図７】光触媒装置に関する第５の実施形態について説明するための断面図である。
【図８】光触媒装置に関する第６の実施形態について説明するための断面図である。
【発明を実施するための形態】
【０００８】
以下、発明を実施するための実施形態について説明する。
【０００９】
（第１の実施形態）
第１の実施形態の光触媒装置を、図面を参照して説明する。図１は分解斜視図で、図２は図１の組み立て状態を示す断面図である。
【００１０】
図１および図２において、１００は、家庭、店舗、工場、または医療機関等の空調設備や空気清浄システム等に使用される光触媒装置で、空気中に含まれるＮＯｘ、ＳＯｘ、ホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、アンモニア、アミン、メルカプタン、硫化水素、エチレン、スチレン等の有害ガスや悪臭ガスを分解・除去する装置である。
【００１１】
光触媒装置１００は、内部にガスが流通可能な筐体１１内に、光触媒フィルター２１を配置すると共に、光触媒フィルター２１に光照射する光照射ユニット３を配置することで、光触媒により有害ガスや悪臭ガスを分解・除去する構成である。
【００１２】
筐体１１は、有害ガスや悪臭ガスを含む汚染ガスＡ１を導入するガス流入口１１ａと、光触媒フィルター２１により有害ガスや悪臭ガスを分解・除去した後の除染ガスＡ２を排出するガス排出口１１ｂとを有する中空で直方体状の筒である。ガスの流通方向１２は、ガス流入口１１ａからガス排出口１１ｂに向けて形成される。筐体１１の大きさは、例えば、開口部となるガス流入口１１ａ及びガス排出口１１ｂが、幅２００ｍｍ〜１０００ｍｍ、長さ２００ｍｍ〜１０００ｍｍで、両者間を結ぶ筐体１１の奥行が２０ｍｍ〜２００ｍｍである。筐体１１の材料は、例えば、ステンレス、アルミニウム等の金属や、ＡＢＳ樹脂、ポリカーボネート樹脂等の樹脂を用いることができる。ただし、汚染ガスＡ１、水蒸気、紫外線等により劣化しない材質が好ましい。
【００１３】
光触媒フィルター２１は、多数の通気孔が設けられており、汚染ガスＡ１や除染ガスＡ２が流通できる構成である。光触媒フィルター２１は、例えば、幅２００ｍｍ〜１０００ｍｍ、長さ２００ｍｍ〜１０００ｍｍ、厚さ０．１ｍｍ〜２０ｍｍのシート形状であり、汚染ガスＡ１との接触面積を増やすため、幅広面をガスの流通面２１ａ、２１ｂとして、ガスの流通方向１２に対して交差、最適には直交するようにして、筐体１１内に配置される。
【００１４】
光触媒フィルター２１は、多孔質材料、ハニカム状材料、繊維状材料、不織布等を用いることができる。光触媒フィルター２１の材料は、炭化ケイ素、ムライト、アルミナ、シリカ、コージライト等のセラミックや、鉄、ステンレス、アルミ、銅、銀、金等の金属材料や、ガラス、合成繊維、天然繊維等である。通気孔の大きさは、例えば、１ｍｍ〜３０ｍｍである。
【００１５】
光触媒フィルター２１の流通面２１ａ、２１ｂの少なくとも表面、好ましくは、多数の通気孔の内部の表面には、光触媒が担持されている。ここで、担持とは、光触媒が光触媒フィルター２１に付着した状態で支持されていることを意味する。光触媒は、ＴｉＯ２、ＺｎＯ、ＳｎＯ２、ＳｒＴｉＯ３、ＷＯ３、Ｂｉ２Ｏ３、Ｆｅ２Ｏ３、ＧａＡｓ、ＭｏＳ２等を単体、あるいは、これらを２つ以上混合して用いることができる。また、光触媒効果を高めるため、これらの材料に窒素をドープしたものや、ナノサイズのＰｔ、Ａｕ、Ｐｄ、Ｖ、Ｒｈ、Ａｇ、Ｃｕ、Ｃｏ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｆｅ等を混合またはドープしたものを使用することができる。
【００１６】
光触媒を光触媒フィルター２１に担持させる方法としては、例えば、純水や有機溶剤等で微粉状の光触媒を攪拌したバインダーを、ディッピング法、スプレー法、スクリーン印刷法、刷毛塗り法で塗布する方法や、ゾルゲル法や、超臨界ゾルゲル法で塗布する方法がある。その他の方法としては、光触媒を物理蒸着法や化学蒸着法で蒸着させる方法や、光触媒フィルター２１の作成の際に、その原材料に予め光触媒の材料を混合させておき、光触媒フィルター２１を作成する方法がある。
【００１７】
第１の実施形態では、光触媒フィルター２１は、その外周部を２枚の固定枠２２ａ、２２ｂにより挟持されている。これにより、光触媒フィルター２１の流通面２１ａ、２１ｂの平坦度を確保すると同時に、光触媒フィルター２１の外周部と筐体１１の内壁との隙間を埋めて、汚染ガスＡ１が光触媒フィルター２１を介することなく、ガス排出口１１ｂから排出されることを防止する。
【００１８】
光触媒フィルター２１に光照射する光照射ユニット３は、照射部と、反射部３３、３４を保持部３５で固定した構成で、光触媒フィルター２１のガス排出口１１ｂ側に配置される。
【００１９】
照射部は、第１の照射部３１と第２の照射部３２から構成され、光触媒を励起する波長の光を発生させる。光触媒は、光触媒固有のバンドギャップ以上の光エネルギーを照射することで、光触媒が励起され、汚染ガスＡ１を分解・除去する性質を有するため、これに適する波長の光を発生させる光源を使用する。例えば、光触媒にＴｉＯ２を選定する場合は、このバンドギャップエネルギーは３．０ｅＶであり、波長４１３ｎｍ以下の光の照射で汚染ガスＡ１を分解させることができるため、例えば、波長３５０ｎｍ〜４００ｎｍの光を発生させる光源を選定すると良い。最近では、紫外線に加えて、可視光領域の光に反応する光触媒材料も開発されており、この場合、波長３５０ｎｍ〜７５０ｎｍの光を発生させる光源を選択することができる。
【００２０】
第１の照射部３１及び第２の照射部３２は、例えば、発光ダイオードＬを光源として、基板Ｐの片面に複数配置した構成である。各発光ダイオードＬは、それぞれ、基板Ｐ上に形成された配線パターンにより、電気的に接続されており、これに接続された点灯電源（図示無）により電力が供給され、発光する。基板Ｐは、例えば、幅５ｍｍ〜２０ｍｍ、長さ２００ｍｍ〜１０００ｍｍ、厚さ０．５ｍｍ〜２.０ｍｍの大きさである。
【００２１】
発光ダイオードＬから発生する光の照射範囲の概略図を図３に示す。発光ダイオードＬは、発生させる光に指向性を有している。例えば、光の中心方向３１１（３２１）を中心軸として、例えば、円状、または、楕円状の範囲Ｓに光を照射させる。ここで、指向性とは、発生する光の強度が光の発生方向によって異なることを意味する。特には、ある限られた範囲において光強度が強く、その他の範囲においては光強度が弱いか、無いことを意味する。
【００２２】
図２の断面図において、発光ダイオードＬの光は、方向３１２（３２２）と方向３１３（３２３）との間の角度α１（α２）の範囲で発生し、角度α１（α２）の中心方向が、光の中心方向３１１（３２１）となる。
【００２３】
第１の照射部３１及び第２の照射部３２は、例えば、光触媒フィルター２１のガス排出口１１ｂ側の端辺に沿って略平行に設置され、それぞれの発光ダイオードＬの光の中心方向３１１及び３２１が、流通面２１ｂの面方向に沿って、対向する向きとなる。発光ダイオードＬは、光の中心方向３１１及び３２１が、光触媒フィルター２１の流通面２１ｂの法線方向Ｚに対して傾斜するように配置されており、その傾斜角である角度β１、β２はそれぞれ約９０度である。ここで、約９０度とは、部材および製造バラツキを考慮して、９０度に対して±５度、好ましくは、±２度のバラツキを許容するものとする。また、第１の照射部３１と流通面２１ｂ、及び、第２の照射部３２と流通面２１ｂとの間の距離は、例えば、０ｍｍ〜１００ｍｍである。
【００２４】
反射部３３、３４は、例えば、ステンレス、アルミ等の金属体、または、ポリカーボネート樹脂、ＡＢＳ樹脂等の樹脂体を成型・加工した基体３３１、３４１に反射面３３２、３４２を形成した構成である。反射部３３と反射部３４は一体的に形成された構成であり、例えば、第１の照射部３１と第２の照射部３２との間の中心位置に配置される。第１の照射部３１と反射部３３、および、第２の照射部３２と反射部３４との間隔は、例えば、１００ｍｍ〜５００ｍｍで、それぞれの間が除染ガスＡ２の流路となる。
【００２５】
反射面３３２及び３４２は、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの少なくとも一部の光を、それぞれ、反射・拡散させて、光触媒フィルター２１の流通面２１ｂ側に導き、流通面２１ｂ上の光照度の均斉度を向上できる形状、例えば、流通面２１ｂ側に傾斜させた平坦形状である。第１の施形態では、少なくとも、光の中心方向３１１（３２１）と方向３１２（３２２）の間の一部の光と、光の中心方向３１１（３２１）と方向３１３（３２３）の間の光を反射する角度と大きさである。
【００２６】
反射面３３２、３４２は、光の反射率および拡散性を向上させるために、例えば、基体３３１、３４１の表面を鏡面加工やサンドブラスト処理したり、反射率または拡散性の高いシートやフィルムを張り付けた構成である。
【００２７】
光触媒装置１００の使用方法の一例を以下に説明する。光触媒装置１００のガス流入口１１ａ、または、ガス排出口１１ｂに接続された排気ファン（図示無）を用いて、汚染ガスＡ１を、筐体１内に導入する。流入するガス量は、例えば、０．００１ｍ３／秒〜５ｍ３／秒に設定される。
【００２８】
汚染ガスＡ１は、光触媒フィルター２１の流通面２１ａと２１ｂの間に設けられる多数の通気孔を通過する。その際に、流通面２１ｂには、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの直接光と、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの光の一部を反射させた反射部３３、３４からの反射光が照射される。ここで、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの直接光で照射できない流通面２１ｂの領域を、反射部３３、３４からの反射光３３３〜３３４、３４３〜３４４で照射し、これらを合成することで、少ない発光ダイオードＬで大面積の光照射を可能とし、また、光照度の均斉度を向上させることができる。
【００２９】
その結果、光触媒フィルター２１への光照射が不十分で、汚染ガスＡ１の分解・除去が不十分な個所の面積を低減でき、光触媒フィルター２１全体で、効率的に汚染ガスＡ１を分解・除去することができる。その後、除染ガスＡ２は、筐体１１のガス排出口１１ｂより外部へ排出される。
【００３０】
また、第１の照射部３１と反射部３３、及び、第２の照射部３２と反射部３４、との間に開口部を設けて、除染ガスＡ２が流れる流路１２を確保することで、除染ガスＡ２による流体抵抗を減少させることができるので、汚染ガスＡ１を光触媒装置１００内に効率よく導入することができる。
【００３１】
第１の実施形態の構成において、幅２００ｍｍ、長さ２００ｍｍ、厚さ２０ｍｍの大きさで、光触媒にＴｉＯ２を担持させた光触媒フィルター２１を使用して、アセトアルデヒトのガスの分解試験を実施した。流量０．００１ｍ３／秒で処理した際に、３０分後の分解率は９５％以上となり、実用上十分な分解能力を有する。
【００３２】
上述したように、第１の実施形態の光触媒装置１００は、大面積の光触媒フィルター２１に光照射することで、汚染ガスＡ１を効率的に処理することができる。
（第２の実施形態）
図４は光触媒装置に関する第２の実施形態について説明するためのもので、光触媒装置の断面図である。この第２の実施形態の各部について、第１の実施形態の光触媒装置の各部と同一部分は同一符号で示す
第２の実施形態では、第１の照射部３１及び第２の照射部３２は、それぞれの光の中心方向３１１及び３２１を、光触媒フィルター２１の流通面２１ｂに対して離間する向きに傾けて配置している。発光ダイオードＬは、光の中心方向３１１及び３２１が、光触媒フィルター２１の流通面２１ｂの法線方向Ｚに対して傾斜するように配置されており、その傾斜角である角度β１、β２はそれぞれ約７５度〜８０度である。また、光の中心方向３１１及び３２１の、流通面２１ｂの面方向成分に関しては、互いに対向する向きとなる。
【００３３】
反射部３３、３４は、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの直接光で照射できない光触媒フィルター２１の流通面２１ｂの領域を、照射できるように調整されている。反射部３３、３４の反射面３３２、３４２は、例えば、光触媒フィルター２１の流通面２１ｂの法線方向Ｚに対して、鋭角となる角度γで傾斜させた平坦形状であり、第１の実施形態の場合に対して、角度γは大きくなる。
【００３４】
第２の実施形態では、光の中心方向３１１及び３２１を、光触媒フィルター２１の流通面２１ｂと離間する向きに傾けた構成としているが、第１の実施形態と同様に、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの直接光に加えて、反射部３３、３４からの反射光を合成させることで、少ない発光ダイオードＬで大面積の光照射を可能とし、汚染ガスＡ１を効率的に処理することができる。
（第３の実施形態）
図５は光触媒装置に関する第３の実施形態について説明するためのもので、光触媒装置の断面図である。
【００３５】
この実施形態では、光照射ユニット３は、光触媒フィルター２１のガス流入口１１ａ側に配置される。
【００３６】
第１の照射部３１及び第２の照射部３２は、それぞれの光の中心方向３１１及び３２１を、光触媒フィルター２１の流通面２１ａ側に傾けた向きで配置している。発光ダイオードＬは、光の中心方向３１１及び３２１が、光触媒フィルター２１の流通面２１ａの法線方向Ｚに対して傾斜するように配置されており、その傾斜角である角度β１、β２はそれぞれ約９５度〜１１５度である。また、光の中心方向３１１及び３２１の、流通面２１ａの面方向成分に関しては、お互いに対向する向きとなる。また、この図では、光の中心方向３１１及び３２１の光は、反射部３３、３４により反射されず、流通面２１ａを直接照射している。
【００３７】
反射部３３、３４は、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの直接光で照射できない光触媒フィルター２１の流通面２１ａの領域を、照射できるように調整されている。反射部３３、３４の反射面３３２、３４２は、例えば、光触媒フィルター２１の流通面２１ａの法線方向Ｚに対して、鋭角となる角度γで傾斜させた平坦形状であり、第１の実施形態や第２の実施形態の場合に対して、角度γを小さく設定することができる。
【００３８】
第３の実施形態では、光の中心方向３１１及び３２１を、光触媒フィルター２１の流通面２１ａに向けた構成としたことにより、反射部３３、３４の反射面３３２、３４２の傾斜角度γを小さくでき、反射部３３、３４を小さく作成することができる。その結果、反射部３３、３４を、光触媒フィルター２１のガス流入口１１ａ側へ配置しても、汚染ガスＡ１による流体抵抗の影響を小さくすることができ、汚染ガスＡ１を効率良く光触媒装置１００に導入し、処理することができる。また、第１の実施形態と第２の実施形態と同様に、光照射ユニット３を、光触媒フィルター２１のガス排出口１１ｂ側に配置しても、同様な効果が得られる。
（第４の実施形態）
図６は光触媒装置に関する第４の実施形態について説明するためのもので、光触媒装置の断面図である。
【００３９】
第１の照射部３１と第２の照射部３２は、基板Ｐを共通化して、その基板Ｐの両面に発光ダイオードＬを実装した構成であり、光触媒フィルター２１のガス流入口１１ａ側において、光触媒フィルター２１の中央部を横断するように配置している。発光ダイオードＬは、光の中心方向３１１及び３２１が、光触媒フィルター２１の流通面２１ａの法線方向Ｚに対して傾斜するように配置されており、その傾斜角である角度β１、β２はそれぞれ約９０度である。
【００４０】
反射部３３、３４は、光触媒フィルター２１の端辺に沿って配置され、これらの中央に配置される第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの光の一部を反射して、光触媒フィルター２１の流通面２１ａに照射させる。ここで、反射部３３、３４の反射面３３２、３４２は、第１の照射部３１及び第２の照射部３２からの直接光で照射できない流通面２１ａの領域を、照射できるように調整されており、例えば、光触媒フィルター２の流通面２１ａの法線方向Ｚに対して、鋭角となる角度γで傾斜させた平坦形状である。
【００４１】
第４の実施形態では、導入した汚染ガスＡ１の流路の抵抗成分となる第１の照射部３１と第２の照射部３２の基板Ｐを共通化し、最も薄い厚み方向を、汚染ガスＡ１の流通方向に対して直交させているため、汚染ガスＡ１による流体抵抗の影響を小さくすることができる。その結果、汚染ガスＡ１を光触媒装置１００内に効率良く導入し、処理することができる。また、第１の照射部３１と第２の照射部３２を共通の基板Ｐで点灯させることができるので、第１の実施形態のように第１の照射部３１と第２の照射部３２を分離した場合に比べて、点灯電源及び配線の簡略化が可能となる。
（第５の実施形態）
図７は光触媒装置に関する第５の実施形態について説明するためのもので、光触媒装置の断面図である。
【００４２】
第５の実施形態では、第１の照射部３１ａ、３１ｂ及び第２の照射部３２ａ３２ｂと、それぞれに対応する反射部３３ａ、３３ｂ、３４ａ、３４ｂを配置している。第４の実施形態に対して、照射部と反射部の対数を２対から４対に増加させている。
【００４３】
反射部３３ａ、３３ｂ、３４ａ、３４ｂの反射面３３２ａ、３３２ｂ、３４２ａ、３４２ｂの形状は、例えば、放物線形状である。一方、反射部３３ａと３４ａ、及び、反射部３３ｂと３４ｂのガス導入口１１ａ側には、汚染ガスＡ１に対する流体抵抗を減少させる傾斜部が形成されている。
【００４４】
第５の実施形態では、照射部と反射部の対数を増加させることにより、第４の実施形態に対して、更に大面積の光触媒フィルター２１に照射することができるので、更に大量の汚染ガスＡ１を光触媒装置１００内に導入し、処理することができる。
（第６の実施形態）
図８は光触媒装置に関する第６の実施形態について説明するためのもので、光触媒装置の断面図である。
【００４５】
第６の実施形態では、２枚の光触媒フィルター２１を離間させて配置しており、その離間部に光照射ユニット３を配置している。
【００４６】
反射部３３ａ、３３ｂ、３４ａ、３４ｂには、それぞれ、照射部３１ａ、３１ｂ、３２ａ、３２ｂを共通光源として、２枚の光触媒フィルター２１に反射させる２つの反射面３３２ａ、３３２ｂ、３４２ａ、３４２ｂを備えた構成である。その結果、１つの光照射ユニット３を用いて、２枚の光触媒フィルター２１に対して同時に光照射することができる。
【００４７】
第５の実施形態に対して光触媒フィルター２１の枚数を増加させたことで、更に、汚染ガスＡ１を効率良く処理することができる。
【００４８】
本発明は上記実施形態に限定されるものではなく、種々の変形が可能である。
【００４９】
例えば、筐体１１の形状は、断面形状が四角形の直方形状の例を記載したが、その他、断面形状が多角形、円、または楕円等である筒形状等を採ることができる。また、光触媒フィルター２１の形状も、この筐体１１の断面形状に合わせた形状とすることができる。
【００５０】
光触媒フィルター２１に加えて、ガスを吸着する吸着体を担持させた吸着フィルターと重ね合わせて使用しても良いし、または、光触媒フィルター２１に吸着体を塗布し、吸着機能と光触媒機能を合わせた構成としても良い。物理吸着材としては、例えば、活性炭を用い、また、化学吸着材としては、例えば、ホルムアルデヒトを吸着する過マンガン酸カリウム等を用いることができる。
【００５１】
光照射ユニット３は、光触媒フィルター２１のガス流入口１１ａ側またはガス排出口１１ｂの片側のみに配置した例を示したが、両方に配置する構成でも良い。
【００５２】
光触媒フィルター２１は１枚と２枚の例を示したが、更に枚数を増やす構成とすることもできる。
【００５３】
光照射ユニット３は、筐体１１の内部に配置した構成を示したが、筐体１１の外部に配置した構成でも良い。
【００５４】
照射部は、第１の照射部３１と第２の照射部３２の２種類で構成される例を示したが、第１の照射部３１のみとしたり、更に照射部の種類を増やしたりすることもできる。
【００５５】
発光ダイオードＬの光の発生する角度α１、α２は、例えば、第１の照射部３１及び第２の照射部３２と反射部３３及び３４との距離、反射部３３、３４の形状、光触媒フィルター２１の大きさや枚数、求められる光照度の均斉度等に応じて、１０度〜１８０度の範囲内で調整することができる。また、発光ダイオードＬの光を、例えば、光学系レンズ等の集光部材に導いて、角度α１、α２を調整しても良い。
【００５６】
照射部の光源は、発光ダイオードＬの例を示したが、その他、レーザーダイオード等の指向性を有する光源を使用することができる。また、メタルハライドランプ、低圧水銀ランプ、ＨＩＤランプ等の光源の周囲に、リフレクターや、光学系レンズ等の集光部材を配置して、指向性の光を発生させる照射部を用いても良い。
【００５７】
第１の照射部３１及び第２の照射部３２と、反射部３３及び３４との対数は、２つ、または４つの例を示したが、光触媒フィルター２１の流通面２１ａ、２１ｂの面積と、求められる光照度の均斉度により、増減させることができる。
【００５８】
反射部３３と反射部３４は、一体的に形成した例を示したが、反射部３３と反射部３４を離間させて、その間にガスの流路を形成する構成でも良い。
【００５９】
反射部３３、３４の反射面３３２、３４２の形状は、平坦形状、放物線形状、以外に、Ｒ形状、楕円形状等とすることができる。また、その表面に凹凸加工を施して、光の拡散度を向上させる構成とすることもできる。
【００６０】
筐体１１内に汚染ガスＡ１を導入し、また、除汚ガスＡ２を排出するための排気ファンは、筐体１１の外部に配置した構成を示したが、筐体１１の内部に内蔵した構成でも良い。
【００６１】
本発明のいくつかの実施形態を説明したが、これらの実施形態は、例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。これら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明とその均等の範囲に含まれる。
【符号の説明】
【００６２】
１００  光触媒装置
１１  筐体
１１ａ  ガス流入口
１１ｂ  ガス排出口
２１  光触媒フィルター
２１ａ、２１ｂ  流通面
３  光照射ユニット
３１  第１の照射部
３２  第２の照射部
３１１、３２１  光の中心方向
Ｌ  発光ダイオード
３３、３４  反射部
３３２、３４２  反射面
Ａ１  汚染ガス
Ａ２  除染ガス
Ｚ  光触媒フィルターの流通面の法線方向
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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