(57)【要約】【課題】簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる加熱調理器を提供する。【解決手段】水溜部５０内に蒸気発生ヒータ５１を配置すると共に、水溜部５０に超音波ユニット５２を設ける。水溜部５０に着脱自在に接続された水タンク１１は、水溜部５０に水を供給する。水溜部５０で蒸気発生ヒータ５１の加熱により発生させた水蒸気を蒸気供給経路３４を介して加熱室に供給する。水溜部５０で超音波ユニット５２の超音波振動により発生させたミストを蒸気供給経路３４を介して加熱室に供給する。【選択図】図４
2013061098.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被加熱物を加熱する加熱室と
水溜部と、
上記水溜部内に配置された蒸気発生ヒータと、
上記水溜部に設けられた超音波振動ユニットと、
上記水溜部に水を供給する水タンクと、
上記蒸気発生ヒータを制御して、水蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ制御部と、
上記超音波振動ユニットを制御して、超音波振動によりミストを発生させる超音波振動ユニット制御部と、
上記水溜部で上記蒸気発生ヒータにより発生させた水蒸気または上記水溜部で上記超音波振動ユニットにより発生させたミストを上記加熱室に供給するための供給経路と
を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項２】
請求項１に記載の加熱調理器において、
上記水溜部は、仕切壁により底側の一部を除いて仕切られた蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とを有し、
上記蒸気発生ヒータを上記蒸気発生用凹部内に配置すると共に、上記超音波振動ユニットを上記ミスト発生用凹部に設けたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項３】
請求項１または２に記載の加熱調理器において、
上記水溜部の底部に一端が接続された排水経路と、
上記水溜部と上記水タンクとの接続を外したとき、上記排水経路を開いて上記水溜部内の水を上記排水経路を介して排水する一方、上記水溜部と上記水タンクとを接続したとき、上記排水経路を閉じる排水部と
を備えたことを特徴とする加熱調理器。
【請求項４】
請求項１から３までのいずれか１つに記載の加熱調理器において、
上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記蒸気発生ヒータ制御部により上記蒸気発生ヒータを制御して、上記蒸気発生ヒータにより上記水溜部内の水を加熱することを特徴とする加熱調理器。
【請求項５】
請求項４に記載の加熱調理器において、
上記水溜部内の水の温度を検出する水温センサを備え、
上記蒸気発生ヒータ制御部は、上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記水温センサにより検出された上記水溜部内の水の温度が予め設定された温度になるように上記蒸気発生ヒータを制御することを特徴とする加熱調理器。
【請求項６】
請求項１から５までのいずれか１つに記載の加熱調理器において、
上記超音波振動ユニット制御部は、上記超音波振動ユニットを制御して、イオンを含む水を溜める上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動によりイオンを含むミストを発生させることを特徴とする加熱調理器。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、加熱調理器に関する。
【背景技術】
【０００２】
従来、加熱調理器としては、加熱室内に水蒸気を供給する蒸気供給部と、加熱室内にミストを供給するミスト供給部とを備えたものがある(例えば、特開２００６−６６１３７号公報(特許文献１)参照)。
【０００３】
上記加熱調理器では、超音波式のミスト供給部を用いているため、雑菌が発生しやすく、衛生面に問題があった。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００６−６６１３７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
そこで、この発明の課題は、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる加熱調理器を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
上記課題を解決するため、この発明の加熱調理器は、
被加熱物を加熱する加熱室と
水溜部と、
上記水溜部内に配置された蒸気発生ヒータと、
上記水溜部に設けられた超音波振動ユニットと、
上記水溜部に水を供給する水タンクと、
上記蒸気発生ヒータを制御して、水蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ制御部と、
上記超音波振動ユニットを制御して、超音波振動によりミストを発生させる超音波振動ユニット制御部と、
上記水溜部で上記蒸気発生ヒータにより発生させた水蒸気または上記水溜部で上記超音波振動ユニットにより発生させたミストを上記加熱室に供給するための供給経路と
を備えたことを特徴とする。
【０００７】
上記構成によれば、水溜部に着脱自在に接続された水タンクからの水が水溜部に供給される。そして、加熱室に水蒸気を供給する調理では、蒸気発生ヒータ制御部により蒸気発生ヒータを制御して、水溜部で蒸気発生ヒータの加熱により発生させた水蒸気を供給経路を介して加熱室に供給する。一方、加熱室にミストを供給する調理では、超音波振動ユニット制御部により超音波振動ユニットを制御して、水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを供給経路を介して加熱室に供給する。上記水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動によりミストを発生させた後に、水溜部で蒸気発生ヒータの加熱により水を沸騰させて水蒸気を発生させることによって、水溜部内が高温に加熱されて雑菌の発生を防ぐことが可能になる。したがって、上記加熱調理器によれば、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる。また、水溜部を蒸気発生用とミスト発生用に併用することによって、構成を簡略化でき、省スペース化や低コスト化が図れる。
【０００８】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記水溜部は、仕切壁により底側の一部を除いて仕切られた蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とを有し、
上記蒸気発生ヒータを上記蒸気発生用凹部内に配置すると共に、上記超音波振動ユニットを上記ミスト発生用凹部に設けた。
【０００９】
上記実施形態によれば、仕切壁により底側の一部を除いて仕切られた蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とは底側で連通しており、水溜部に接続された水タンクからの水が蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部に供給される。上記水溜部の蒸気発生用凹部とミスト発生用凹部とが仕切壁により仕切られて底側でのみ連通しているので、水溜部内の全体に溜まった水を超音波振動ユニットにより振動させるよりも、仕切壁により仕切られたミスト発生用凹部内の少ない水を効率よく振動させることができ、ミストの発生効率を向上できる。
【００１０】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記水溜部の底部に一端が接続された排水経路と、
上記水溜部と上記水タンクとの接続を外したとき、上記排水経路を開いて上記水溜部内の水を上記排水経路を介して排水する一方、上記水溜部と上記水タンクとを接続したとき、上記排水経路を閉じる排水部と
を備えた。
【００１１】
上記実施形態によれば、水溜部と水タンクとの接続を外したとき、排水経路を開いて水溜部内の水を排水経路を介して排水するので、水溜部内に水が滞ることがなく、雑菌の発生を確実に防止できると共に、析出したスケールが水と共に排出され、スケールが水溜部内に固着するのを防止できる。
【００１２】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記蒸気発生ヒータ制御部により上記蒸気発生ヒータを制御して、上記蒸気発生ヒータにより上記水溜部内の水を加熱する。
【００１３】
上記実施形態によれば、水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを加熱室に供給するとき、蒸気発生ヒータ制御部により蒸気発生ヒータを制御して、蒸気発生ヒータにより水溜部内の水を加熱することにより温めて、温水から超音波振動ユニットによりミストを発生させるので、ミストの噴霧量を増大させることができる。
【００１４】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記水溜部内の水の温度を検出する水温センサを備え、
上記蒸気発生ヒータ制御部は、上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを上記加熱室に供給するとき、上記水温センサにより検出された上記水溜部内の水の温度が予め設定された温度になるように上記蒸気発生ヒータを制御する。
【００１５】
上記実施形態によれば、水溜部で超音波振動ユニットの超音波振動により発生させたミストを加熱室に供給するとき、水温センサにより検出された水溜部内の水が予め設定された温度(例えば５０℃〜６０℃)になるように、蒸気発生ヒータにより水溜部内全体の水を温めることによって、温水を沸騰させることなく、ミストの噴霧量を効果的に増大させることが可能になる。
【００１６】
また、一実施形態の加熱調理器では、
上記超音波振動ユニット制御部は、上記超音波振動ユニットを制御して、イオンを含む水を溜める上記水溜部で上記超音波振動ユニットの超音波振動によりイオンを含むミストを発生させる。
【００１７】
上記実施形態によれば、ミスト供給時に、水タンク内に酸性またはアルカリ性のイオンを含む水を入れて、超音波振動ユニット制御部により超音波振動ユニットを制御して、水溜部内のイオンを含む水から超音波振動ユニットにより発生させたイオンを含むミストを加熱室に供給することにより、食品のあく抜きや茹で調理および蒸し調理において、食品の発色を促進させたり、食品の退色を防いだりすることが可能となる。
【発明の効果】
【００１８】
以上より明らかなように、この発明の加熱調理器によれば、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室内に供給できる加熱調理器を実現することができる。
【図面の簡単な説明】
【００１９】
【図１】図１はこの発明の実施の一形態の加熱調理器の正面斜視図である。
【図２】図２は図１のII−II線から見た加熱調理器の縦断面の模式図である。
【図３】図３は図２のIII−III線から見た加熱調理器の縦断面の模式図である。
【図４】図４は上記加熱調理器の蒸気発生装置を含む要部の断面模式図である。
【図５】図５は上記加熱調理器の制御ブロック図である。
【発明を実施するための形態】
【００２０】
以下、この発明の加熱調理器を図示の実施の形態により詳細に説明する。
【００２１】
図１はこの発明の実施の一形態の加熱調理器の正面斜視図を示している。
【００２２】
この実施の形態の加熱調理器は、図１に示すように、直方体形状の本体ケーシング１の正面に、下端側の辺を略中心に回動する扉２が取り付けられている。この扉２の上部にハンドル３を取り付けると共に、扉２の略中央に耐熱ガラス４を取り付けている。また、扉２の右側に操作パネル５を設けている。この操作パネル５は、カラー液晶表示部６とボタン群７を有している。また、本体ケーシング１の上側かつ右側後方に排気ダクト８を設けている。さらに、本体ケーシング１の扉２の下方に、露受容器９を着脱自在に取り付けている。
【００２３】
図２は図１のII−II線から見た加熱調理器の縦断面の模式図を示している。図２に示すように、水タンク１１から供給された水を蒸気発生装置１２で加熱して飽和水蒸気を生成する。蒸気発生装置１２で生成された飽和水蒸気は、蒸気供給経路３４(図２,図３に示す)を介して、加熱室１３の右側面に取り付けられた循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の加熱室１３側に供給される。
【００２４】
上記蒸気供給経路３４を、加熱室１３の右側面と平行になるように、循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍に取り付けている。また、循環ユニット１４内には、蒸気吸込口１５に対向するように循環ファン１８を配置している。循環ファン１８は、ファンモータ１９によって回転駆動される。
【００２５】
上記加熱室１３の上面および左側面を覆うように、Ｌ字状に屈曲した蒸気ダクト１００を取り付けている。この蒸気ダクト１００は、加熱室１３の上面側に固定された第１ダクト部１１０と、第１ダクト部１１０の左側方から下側に屈曲する屈曲部１２０と、加熱室１３の左側面側に固定され、屈曲部１２０を介して第１ダクト部１１０に連なる第２ダクト部１３０とを有している。
【００２６】
この蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０に、過熱蒸気生成ヒータ２０を収納している。蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０と、過熱蒸気生成ヒータ２０で過熱蒸気生成装置２１を構成している。なお、過熱蒸気生成装置は、蒸気ダクトとは別に設けてもよい。
【００２７】
そして、蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０の右側は、循環ユニット１４の上部に設けられた蒸気供給口２２に連通している。加熱室１３の天面には、複数の第１蒸気吹出口２４が設けられており、蒸気ダクト１００の第１ダクト部１１０は、第１蒸気吹出口２４を介して加熱室１３内に連通している。一方、蒸気ダクト１００の第２ダクト部１３０は、加熱室１３の左側面に設けられた複数の第２蒸気吹出口２５を介して加熱室１３内に連通している。
【００２８】
上記加熱室１３と蒸気ダクト１００との隙間は、耐熱樹脂などによりシールされている。また、加熱室１３と蒸気ダクト１００は、加熱室１３の前面開口を除いて断熱材により覆われている。
【００２９】
上記循環ユニット１４と過熱蒸気生成装置２１と加熱室１３とそれらを接続する接続部材とによって、蒸気の循環経路が形成されている。そして、この循環経路における循環ユニット１４の加熱室１３との境界部に、蒸気発生装置１２で生成された飽和水蒸気が供給される。
【００３０】
また、加熱室１３の下部にはマグネトロン８０(図５に示す)が配置されている。このマグネトロン８０で発生したマイクロ波は、導波管(図示せず)によって加熱室１３の下部中央に導かれ、モータ３７によって駆動される回転アンテナ３８によって攪拌されながら加熱室１３内の上方に向かって放射されて被加熱物２７を加熱する。
【００３１】
また、本体ケーシング１内の下側には、冷却ファン部(図示せず)と電装部品１７を配置している。電装部品１７は、加熱調理器の各部を駆動する駆動回路やこの駆動回路を制御する制御回路等を有している。
【００３２】
図３は図２のIII−III線から見た加熱調理器の縦断面の模式図を示している。なお、図３において、図２に示す同一の構成部には同一参照番号を付している。また、図３では、図を見やすくするために排気ダクト８の上側を除いて省略している。
【００３３】
図３に示すように、加熱室１０の右側方に、前面側から着脱自在に挿入された給水タンク１１を配置すると共に、その給水タンク１１の後面側に蒸気発生装置１２を配置している。この蒸気発生装置１２は、給水タンク１１に接続され、蒸気発生ヒータ５１の加熱によって蒸気を発生する。蒸気発生装置１２に蒸気供給通路３４の一端が接続され、蒸気供給通路３４の他端が循環ユニット１４に接続されている。また、蒸気発生装置１２の底部かつ前面側に排水経路６４の一端を接続し、その排水経路６４の他端を、給水タンク１１の下方に配置された排水トレイ９０に接続している。
【００３４】
また、図４は上記加熱調理器の蒸気発生装置１２を含む要部の断面模式図を示している。図４に示すように、水タンク１１が接続された蒸気発生装置１２は、蒸気発生用凹部５０aとミスト発生用凹部５０bとを有する水溜部５０を備える。蒸気発生用凹部５０a内に蒸気発生ヒータ５１が配置されていると共に、ミスト発生用凹部５０bの底部に超音波振動ユニット５２が配置されている。この水溜部５０の上部は、上面部６０により覆われている。そして、上面部６０から下方に向かって立設された仕切壁５３によって、底側の連通穴５４を除いて蒸気発生用凹部５０aとミスト発生用凹部５０bとの間を仕切っている。なお、ミスト発生用凹部５０bの底面は、蒸気発生用凹部５０aの底面よりも浅く設定されている。
【００３５】
上記水溜部５０の上面部６０には、蒸気発生用凹部５０a側に蒸気吹出口５０cが設けられ、ミスト発生用凹部５０b側にミスト吹出口５０dが設けられている。また、水溜部５０の上面部６０の蒸気発生用凹部５０a側に複数の電極棒を備えた水位センサ５５を配置している。また、蒸気発生用凹部５０a内に水温を検出するための水温センサ５７を配置している。
【００３６】
また、水溜部５０の蒸気発生用凹部５０aの水タンク１１側において、フロート式の弁体５６が上下方向に出没自在に取り付けられている。この弁体５６の上部から上方に延びる軸部５６aを、上面部６０に設けられた穴６０aに出没自在に挿入している。この穴６０aの上側にバッファ部６１が設けられ、バッファ部６１の底側かつ側方に連結部６１が取り付けられている。この連結部６１に水タンク１１の給水口１１aが接続されている。この状態で水タンク１１内の水位とバッファ部６１内の水位は同じになり、バッファ部６１内の水位(すなわち水タンク１１内の水位に相当)を検出する水位センサ(図示せず)をバッファ部６１内に配置している。
【００３７】
また、水溜部５０の蒸気発生用凹部５０aの底部かつ前面側に排水弁６３が設けられ、この排水弁６３に排水経路６４の一端が接続されている。この排水弁６３は、水タンク１１の給水口１１aが連結部６１に接続されているときは閉じている。そして、水タンク１１が取り出されて水タンク１１の給水口１１aが連結部６１から外れた状態になると、排水弁６３が開いて水溜部５０内の水を排水経路６４を介して排水トレイ(図示せず)に排水する。水タンク１１の給水口１１aが連結部６１には夫々、接続時に開いて接続が外れたときに閉じる弁機構(図示せず)が設けられている。
【００３８】
この排水弁６３の開閉機構は、例えば、水タンク１１の着脱に連動するアーム(図示せず)により排水弁６３を開閉するものでもよいし、水タンク１１の着脱をセンサにより検出して、そのセンサの検出信号に基づいて、排水弁としての電磁弁を開閉するものでもよい。
【００３９】
上記構成の加熱調理器において、水溜部５０の連結部６１に水タンク１１の給水口１１aが接続されると、水タンク１１内の水が連結部６１を介してバッファ部６１内に流入する。このとき、蒸気発生用凹部５０a内に水がない状態では、フロート式の弁体５６は下方に下がって、穴６０aが開いた状態になっている。
【００４０】
そして、バッファ部６１に流入した水は、底部の穴６０aを介して蒸気発生用凹部５０a内に供給され、さらに蒸気発生用凹部５０aからミスト発生用凹部５０bに供給される。そうして、蒸気発生用凹部５０a内の蒸気発生ヒータ５１全体が水に浸るほどの水位になると、フロート式の弁体５６が上方に上がって、弁体５６により穴６０aが閉じた状態になって、水位が一定に保たれる。そして、蒸気発生ヒータ５１により蒸気発生や超音波振動ユニット５２によるミスト発生により水溜部５０内の水量が減って水位が下がると、弁体５６が下方に下がって、再び穴６０aが開いた状態になってバッファ部６１内の水が、穴６０aを介して蒸気発生用凹部５０a内およびミスト発生用凹部５０b内に供給される。
【００４１】
図５は上記加熱調理器の制御ブロック図を示している。この加熱調理器は、マイクロコンピュータと入出力回路などからなる制御装置２００を電装品部１７(図２に示す)内に備えている。制御装置２００は、過熱蒸気生成ヒータ２０,循環ファン用モータ１９,冷却ファン用モータ１６,操作パネル５,庫内温度センサ２９,水位センサ５５,水温センサ５７, 蒸気発生ヒータ５１,超音波振動ユニット５２およびマグネトロン８０が接続されている。操作パネル５からの信号および庫内温度センサ２９,水位センサ５５,水温センサ５７からの検出信号に基づいて、制御装置２００は、過熱蒸気生成ヒータ２０,循環ファン用モータ１９,冷却ファン用モータ１６,操作パネル５,蒸気発生ヒータ５１,超音波振動ユニット５２およびマグネトロン８０などを制御する。
【００４２】
上記制御装置２００は、蒸気発生ヒータ５１を制御して、水溜部５０の蒸気発生用凹部５０aで蒸気発生ヒータ５１の加熱により水蒸気を発生させる蒸気発生ヒータ制御部２００aと、超音波振動ユニット５２を制御して、水溜部５０のミスト発生用凹部５０bで超音波振動ユニット５２の超音波振動によりミストを発生させる超音波振動ユニット制御部２００bを備える。
【００４３】
上記加熱調理器において、加熱室１３に水蒸気を供給する調理を行う場合は、蒸気発生ヒータ制御部２００aにより蒸気発生ヒータ５１を制御して、水溜部５０の蒸気発生用凹部５０aで蒸気発生ヒータ５１の加熱により発生させた水蒸気を蒸気供給経路３４(図２,図４に示す)を介して加熱室１３に供給する。一方、加熱室１３にミストを供給する調理を行う場合は、超音波振動ユニット制御部２００bにより超音波振動ユニット５２を制御して、水溜部５０のミスト発生用凹部５０bで超音波振動ユニット５２の超音波振動により発生させたミストを蒸気供給経路３４を介して加熱室１３に供給する。
【００４４】
また、過熱蒸気によって加熱調理を行う場合には、図２に示す過熱蒸気生成ヒータ２０をオンすると共に、循環ファン１８を回転駆動する。そうして、蒸気発生装置１２から循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ファン１８の回転によって負圧になっている循環ユニット１４内に蒸気吸込口１５を介して吸い込まれて、蒸気供給口２２から過熱蒸気生成装置２１内に吹き出される。そして、過熱蒸気生成装置２１の過熱蒸気生成ヒータ２０によって加熱されて過熱蒸気となる。この過熱蒸気の一部は、下側の加熱室１３の天面に設けられた複数の第１蒸気吹出口２４から、加熱室１３内に下方に向かって吹き出す。また、過熱蒸気の他の一部は、蒸気ダクト１００を介して加熱室１３の第２蒸気吹出口２５から加熱室１３内に吹き出す。
【００４５】
そして、加熱室１３内に供給された過熱蒸気は、トレイ３０上の網４０に搭載された被加熱物２７を加熱した後、加熱室１３の右壁面に循環ユニット１４の蒸気吸込口１５に対向して形成された吸込口２８から循環ユニット１４内に吸い込まれる。そうして、再び循環経路を通って加熱室１３内に戻るという循環を繰り返す。
【００４６】
これに対して、非過熱蒸気によって被加熱物２７を蒸すかまたは暖める運転を行う場合には、過熱蒸気生成ヒータ２０をオフすると共に、循環ファン１８を停止する。そうすると、循環ファン１８が停止しているため、循環経路内に循環気流が発生することがなく、蒸気発生装置１２から循環ユニット１４の蒸気吸込口１５の近傍上流側に供給された飽和水蒸気は、循環ユニット１４内に強制的に吸い込まれない。これにより、蒸気圧によって自然に加熱室１３内に流れ込む飽和水蒸気により、被加熱物２７を蒸すかまたは暖める。
【００４７】
ここで、加熱室１３内の左壁面および右壁面には、図２に示すように、トレイ３０の両端部を係止する係止部３９a,３９b,３９cが上下方向に３段に設けられている。そして、蒸気供給経路３４は、上段の係止部３９aよりもやや上側に位置するように配置されている。「蒸し暖めモード」において、被加熱物２７を搭載した２つのトレイ３０を上段と中段とに配置する場合には、蒸気導入室３６内に架設された蒸気供給経路３４の総てのノズル(図２の３４の円形部の左側開口)を加熱室１３方向に斜め下向きにしておく。こうすることにより、被加熱物２７を搭載したトレイ３０が上段および中段の何れの位置にあっても、蒸気供給経路３４の斜め下向きのノズルから引き出された飽和水蒸気を被加熱物２７に当てることができる。したがって、蒸気供給経路３４のノズルからの吹き出し方向を操作することなく、上中２段の被加熱物２７に蒸し斑や暖め斑が生ずることがないようにできる。
【００４８】
次に、イオンを含むミストを用いた調理について説明する。
【００４９】
まず、加熱室１３にミストを供給する調理を行うときは、水タンク１１内に酸性またはアルカリ性のイオンを含む水を入れて、水タンク１１を本体ケーシング１に装着する。そうして、水タンク１１からイオンを含む水が水溜部５０内の蒸気発生用凹部５０aからミスト発生用凹部５０bに供給される。
【００５０】
次に、超音波振動ユニット制御部２００bにより超音波振動ユニット５２を制御して、水溜部５０のミスト発生用凹部５０bで超音波振動ユニット５２の超音波振動により発生させたイオンを含むミストを蒸気供給経路３４を介して加熱室１３に供給する。
【００５１】
ここで、イオンを含むミストが供給された加熱室１３において、過熱蒸気生成ヒータ２０をオンすると共に循環ファン１８を回転駆動して、過熱蒸気を循環させる調理を行ってもよいし、イオンを含むミストを加熱室１３に所定時間供給した後、蒸気発生ヒータ制御部２００aにより蒸気発生ヒータ５１を制御して、蒸気発生ヒータ５１により蒸気発生用凹部５０aで発生させた飽和水蒸気を加熱室１３に供給する調理を行ってもよい。
【００５２】
例えば、ナスや黒豆等の野菜では、発色を促進させるために茹で調理や蒸し調理を行うとき、ミョウバン等の三価金属イオンを含む酸性の水を水タンク１１内に入れて、イオンを含むミストを用いて調理を行うことによって、発色を促進したり、煮崩れを防いだりして調理物の外観を良好に仕上げることができる。また、酸性の水を水タンク１１内に入れて、イオンを含むミストをゴボウやレンコン等の根菜や栗に供給してあく抜きすることによって、退色を防いで調理物の外観を良好に仕上げることができる。このようにして、調理物の外観を良好に仕上げることができる。
【００５３】
なお、アルカリ性の水は、例えば重曹などの溶解性添加剤を水に溶解して作る。一方、酸性の水は、例えばミョウバン,クエン酸,酢酸などの溶解性添加剤を水に溶解して作る。
【００５４】
また、溶解性添加剤を用いずに、電解水生成装置によって食塩などの電解質を添加した水を電気分解することで、陰極側からアルカリ性の水を生成すると共に、陽極側から塩素を含んだ酸性の水を生成して、必要に応じて酸性の水とアルカリ性の水のいずれか一方を水タンク１１内に入れて調理を行う。
【００５５】
上記構成の加熱調理器によれば、水溜部５０のミスト発生用凹部５０bで超音波振動ユニット５２の超音波振動によりミストを発生させた後に、水溜部５０の蒸気発生用凹部５０aで蒸気発生ヒータ５１の加熱により水を沸騰させて水蒸気を発生させることによって、水溜部５０内が高温に加熱されて雑菌の発生を防ぐことが可能になる。したがって、上記加熱調理器によれば、簡単な構成で雑菌の発生を防ぎつつ超音波を用いてミストを加熱室１３内に供給できる。また、水溜部５０を蒸気発生用とミスト発生用に併用することによって、構成を簡略化でき、省スペース化や低コスト化を図ることができる。
【００５６】
また、上記水溜部５３の蒸気発生用凹部５０aとミスト発生用凹部５０bとが仕切壁５３により仕切られて底側でのみ連通しているので、水溜部５０内の全体に溜まった水を振動させるよりも、仕切壁５３により仕切られたミスト発生用凹部５０b内の少ない水を超音波振動ユニット５２により効率よく振動させることができ、ミストの発生効率を向上できる。
【００５７】
また、上記水溜部５０と水タンク１１との接続を外したとき、排水経路６４を開いて水溜部５０内の水を排水経路６４を介して排水トレイ９０に排水するので、水溜部５０内に水が滞ることがなく、雑菌の発生を確実に防止できると共に、析出したスケールが水と共に排出され、スケールが水溜部５０内に固着するのを防止することができる。
【００５８】
また、上記ミスト発生用凹部５０bで超音波振動ユニット５２の超音波振動により発生させたミストを加熱室１３に供給するとき、蒸気発生ヒータ制御部２００aにより蒸気発生ヒータ５１を制御して、蒸気発生ヒータ５１により水溜部５０内全体の水を温めて温水にし、その温水から超音波振動ユニット５２によりミストを発生させるので、ミストの噴霧量を増大させることができる。
【００５９】
また、上記ミスト供給時に、水温センサ５７により検出された水溜部５０内の水の温度が所定温度(例えば５０℃〜６０℃)になるように、蒸気発生ヒータ５１により水溜部５０内全体の水を温めることによって、温水を沸騰させることなく、ミストの噴霧量を効果的に増大させることが可能になる。
【００６０】
また、上記ミスト供給時に、水タンク１１内に酸性またはアルカリ性のイオンを含む水を入れて、超音波振動ユニット制御部２００bにより超音波振動ユニット５２を制御して、ミスト発生用凹部５０b内のイオンを含む水から超音波振動ユニット５２により発生させたイオンを含むミストを加熱室１３に供給することにより、食品のあく抜きや茹で調理および蒸し調理において、食品の発色を促進させたり、食品の退色を防いだりすることが可能となる。
【００６１】
上記実施の形態では、水溜部５０の蒸気発生用凹部５０aとミスト発生用凹部５０bとの間を仕切壁５３により仕切った加熱調理器について説明したが、仕切壁のない水溜部に蒸気発生ヒータと超音波振動ユニットを設けた加熱調理器にこの発明を適用してもよい。
【００６２】
また、この発明の加熱調理器としては、例えば、過熱水蒸気を使用するオーブンレンジのみならず、過熱水蒸気を使用するオーブン、過熱水蒸気を使用しないオーブンレンジ、過熱水蒸気を使用しないオーブンなどがある。
【００６３】
この発明の加熱調理器では、オーブンレンジなどにおいて、過熱水蒸気または飽和水蒸気を用いることによって、ヘルシーな調理を行うことができる。例えば、本発明の加熱調理器では、温度が１００℃以上の過熱水蒸気または飽和水蒸気を食品表面に供給し、食品表面に付着した過熱水蒸気または飽和水蒸気が凝縮して大量の凝縮潜熱を食品に与えるので、食品に熱を効率よく伝えることができる。また、凝縮水が食品表面に付着して塩分や油分が凝縮水と共に滴下することにより、食品中の塩分や油分を低減できる。さらに、加熱室内は過熱水蒸気または飽和水蒸気が充満して低酸素状態となることにより、食品の酸化を抑制した調理が可能となる。ここで、低酸素状態とは、加熱室内において酸素の体積％が１０％以下(例えば０.５〜３％)である状態を指す。
【００６４】
この発明の具体的な実施の形態について説明したが、この発明は上記実施の形態に限定されるものではなく、この発明の範囲内で種々変更して実施することができる。
【符号の説明】
【００６５】
１…本体ケーシング
２…扉
３…ハンドル
４…耐熱ガラス
５…操作パネル
６…カラー液晶表示部
７…ボタン群
８…排気ダクト
９…露受容器
１１…水タンク
１２…蒸気発生装置
１３…加熱室
１４…循環ユニット
１５…蒸気吸込口
１７…電装部品
１８…循環ファン
１９…ファンモータ
２０…過熱蒸気生成ヒータ
２１…過熱蒸気生成装置
２２…蒸気供給口
２４…第１蒸気吹出口
２５…第２蒸気吹出口
２７…被加熱物
２８…吸込口
３０…トレイ
３４…蒸気供給通路
３６…蒸気導入室
３７…モータ
３８…回転アンテナ
３９a,３９b,３９c…係止部
４０…網
５０…水溜部
５０a…蒸気発生用凹部
５０b…ミスト発生用凹部
５２…超音波振動ユニット
５３…仕切壁
５５…水位センサ
５７…水温センサ
８０…マグネトロン
９０…排水トレイ
１００…蒸気ダクト
１１０…第１ダクト部
１２０…屈曲部
１３０…第２ダクト部
２００…制御装置
２００a…蒸気発生ヒータ制御部
２００b…超音波振動ユニット制御部
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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