【手続補正書】
【提出日】平成28年1月14日(2016.1.14)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
レーザ出力パルスの形態においてレーザ出力を提供するためのガス放電レーザを動作させる方法であって、前記レーザは、無線周波電力供給源（ＲＦＰＳ）によって給電される、離間されたガス放電電極とともに、前記放電電極間に形成されるレーザ共振器を含み、
前記方法は、
前記レーザ共振器を励起するために、前記ＲＦＰＳから前記ガス放電電極に第１のＲＦサブパルス列を送達することであって、前記列中の各サブパルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含み、前記第１のＲＦサブパルス列内のＲＦサブパルスは、前記第１のＲＦサブパルス列が単一ＲＦパルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第１のＲＦサブパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第１のＲＦサブパルス列による励起に応答して、第１のレーザ出力パルスを送達する、ことと、
前記第１のＲＦサブパルス列の送達に続いて、前記レーザ共振器を励起させるために、前記ＲＦＰＳから前記ガス放電電極に第２のＲＦサブパルス列を送達することであって、前記第２の列中の各サブパルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含み、前記第２のＲＦパルス列中のＲＦサブパルスは、前記第２のＲＦサブパルス列が、単一ＲＦパルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第２のＲＦサブパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、前記第１の単一レーザ出力パルスの送達に続いて、前記レーザ共振器は、前記第２のＲＦサブパルス列による励起に応答して、第２のレーザ出力パルスを送達し、その前記第２の列中のＲＦサブパルスの持続時間および数のうちの１つは、前記第２のレーザパルス中のエネルギーが前記第１のレーザパルス中のエネルギーにより密接に一致するように選択される、ことと
を含む、方法。
【請求項２】
前記第１のＲＦサブパルス列は、第１の持続時間を有する初期サブパルスに続いて、前記第１の持続時間より短い第２の持続時間を有する複数のサブパルスを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
その前記第１の列中のＲＦサブパルスは全て、同一の持続時間を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
前記第１および第２のＲＦサブパルス列は、ほぼ同一の持続時間を有する、請求項１に記載の方法。
【請求項５】
前記第１および第２のＲＦサブパルス列は、同一のサブパルス数をその中に有する、請求項４に記載の方法。
【請求項６】
その前記第１の列中のＲＦサブパルスは、第１の持続時間を有し、その前記第２の列中のＲＦサブパルスは、第２の持続時間を有し、前記第２の持続時間は、前記第１の持続時間より長い、請求項５に記載の方法。
【請求項７】
前記第１のＲＦサブパルス列は、第１の持続時間を有する初期サブパルスに続き、それぞれ、第２の持続時間を有する複数のサブパルスを含み、第２のＲＦサブパルス列は、第３の持続時間を有する初期サブパルスに続き、それぞれ、第４の持続時間を有する複数のサブパルスを含み、前記第３の持続時間は、前記第１の持続時間より長く、前記第４の持続時間は、前記第２の持続時間より長い、請求項５に記載の方法。
【請求項８】
その前記第１および第２の列中のＲＦサブパルスの持続時間は、同一であり、その前記第２の列中のサブパルス数は、その前記第１の列中のサブパルス数より多い、請求項４に記載の方法。
【請求項９】
その前記第２の列中のＲＦサブパルスの数または持続時間の選択は、前記第１のレーザ出力パルスの終了と前記第２のレーザ出力パルスの開始との間の時間に依存する、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
ガス放電レーザ装置であって、
離間された放電電極と、
前記放電電極間に延在するレーザ共振器と、
前記レーザ共振器を励起するために、前記放電電極に接続された無線周波電力供給源（ＲＦＰＳ）と、
前記ＲＦＰＳに接続された電子回路であって、前記電子回路は、第１のコマンドパルスを受信し、前記コマンドパルスを第１のコマンドサブパルス列に変換し、前記第１のコマンドサブパルス列を前記ＲＦＰＳに送達し、それによって、前記ＲＦＰＳに、第１の励起サブパルス列が単一ＲＦ励起パルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第１の励起サブパルス列に応答するほど十分に短い前記ＲＦ励起サブパルス間の時間的間隔を伴って、対応する第１のＲＦ励起サブパルス列を前記レーザ共振器に送達させるように構成および配列され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第１のＲＦ励起サブパルス列による励起に応答して、第１の単一レーザ出力パルスを送達する、電子回路であって、
前記電子回路はさらに、前記第１のコマンドパルスの受信に続いて、第２のコマンドパルスを受信し、前記第１のコマンドパルスの終了と前記第２のコマンドパルスの開始との間の時間を判定し、前記第２のコマンドパルスを第２のコマンドサブパルス列に変換し、前記第２のコマンドサブパルス列を前記ＲＦＰＳに送達し、それによって、前記ＲＦＰＳに、第２の励起サブパルス列が、単一ＲＦ励起パルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第２の励起サブパルス列に応答するほど十分に短い前記ＲＦ励起サブパルス間の時間的間隔を伴って、対応する第２のＲＦ励起サブパルス列を前記レーザ共振器に送達させるように構成および配列され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第２のＲＦ励起サブパルス列による励起に応答して、第２の単一レーザ出力パルスを送達し、前記第２のコマンドサブパルス列中と、それに対応して、前記第２のＲＦ励起サブパルス列中のサブパルスの数および持続時間のうちの１つは、前記第１のコマンドパルスの終了と前記第２のコマンドパルスの開始との間の前記判定された時間に基づいて、前記第２のレーザパルス中のエネルギーが前記第１のレーザパルス中のエネルギーにより密接に一致するように選択される、電子回路と
を備える、装置。
【請求項１１】
ガスレーザを動作させる方法であって、前記レーザは、電極間でガスを励起させるために、無線周波（ＲＦ）電力供給源に接続された電極を含み、
前記方法は、
第１のレーザパルスを産生するために、第１のコマンドを生成するステップと、
第１のレーザパルスを産生するための前記第１のコマンドに応答して、ＲＦ電力の第１のエンベロープを前記電極に送達し、前記第１のエンベロープは、第１のサブパルス列を含み、前記列中の各サブパルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含む、ステップと、
第２のレーザパルスを産生するためのコマンドを生成するステップと、
第２のレーザパルスを産生するための前記コマンドに応答して、ＲＦ電力の第２のエンベロープを前記電極に送達し、前記第１および第２のエンベロープは、ほぼ同一の持続時間を有し、前記第２のエンベロープは、第２のサブパルス列を含み、前記列中の各サブパルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含み、前記第１のレーザパルスを産生するための前記第１のコマンドの終了と前記第２のレーザパルスを産生するための前記第２のコマンドの開始との間の時間が、所定の周期より短い場合、前記第２のレーザパルス中のエネルギーが、前記第１のレーザパルス中のエネルギーにより密接に一致するように、前記第２のパルス列中のサブパルスのデューティサイクルを増加させるステップと
を含む、方法。
【請求項１２】
前記第２のサブパルス列中のデューティサイクルは、前記第１のレーザパルスの終了と前記第２のレーザパルスを産生するための第２のコマンドの生成との間の時間に逆比例する量だけ増加される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記所定の周期は、前記第１および第２のサブパルス列中のデューティサイクルが不変のままである場合、前記第２のレーザパルスは、依然として、前記第１のレーザパルスとほぼ同一のエネルギーを有するであろう、最短時間に対応する、請求項１１に記載の方法。
【請求項１４】
前記第２のサブパルス列のデューティサイクルは、前記第２のパルス列中のサブパルス数を増加させることによって増加される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１５】
前記第２のサブパルス列のデューティサイクルは、前記第２のパルス列中のサブパルスの長さを増加させることによって増加される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１６】
各パルス列中の前記第１のサブパルスは、前記列中のサブパルスの残りより長い、請求項１１に記載の方法。
【請求項１７】
前記レーザパルスは、孔をワークピース内に穿孔するために使用される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１８】
前記レーザパルスは、ビア孔を印刷基板内に穿孔するために使用される、請求項１１に記載の方法。
【手続補正２】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】００１１
【補正方法】変更
【補正の内容】
【００１１】
別の側面では、本方法はさらに、第１のＲＦパルス列の送達に続いて、レーザ共振器を励起させるために、ＲＦＰＳからガス放電電極に第２のＲＦパルス列を送達するステップを含んでもよい。第２のＲＦパルス列中のＲＦパルスはまた、第２のＲＦパルス列が単一ＲＦパルスであるかのように、レーザ共振器が第２のＲＦパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、第１の単一レーザ出力パルスの送達に続いて、レーザ共振器は、第２のＲＦパルス列による励起に応答して、第２のレーザ出力パルスを送達する。その第２の列中のＲＦパルスの持続時間および数のうちの１つは、第１および第２のレーザ出力パルスがほぼ等しい電力を有するように選択される。
例えば、本願発明は以下の項目を提供する。
（項目１）
レーザ出力パルスの形態においてレーザ出力を提供するためのガス放電レーザを動作させる方法であって、前記レーザは、無線周波電力供給源（ＲＦＰＳ）によって給電される、離間されたガス放電電極とともに、前記放電電極間に形成されるレーザ共振器を含み、
前記方法は、
前記レーザ共振器を励起するために、前記ＲＦＰＳから前記ガス放電電極に第１のＲＦパルス列を送達するステップであって、前記列中の各パルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含み、前記第１のＲＦパルス列内のＲＦパルスは、前記第１のＲＦパルス列が単一ＲＦパルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第１のＲＦパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第１のＲＦパルス列による励起に応答して、第１のレーザ出力パルスを送達する、ステップ
を含む、方法。
（項目２）
前記第１のＲＦパルス列は、第１の持続時間を有する初期パルスに続いて、前記第１の持続時間より短い第２の持続時間を有する複数のパルスを含む、項目１に記載の方法。
（項目３）
その前記第１の列中のＲＦパルスは全て、同一の持続時間を有する、項目１に記載の方法。
（項目４）
前記第１のＲＦパルス列の送達に続いて、前記レーザ共振器を励起させるために、前記ＲＦＰＳから前記ガス放電電極に第２のＲＦパルス列を送達するステップであって、前記第２の列中の各パルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含み、前記第２のＲＦパルス列中のＲＦパルスは、前記第２のＲＦパルス列が、単一ＲＦパルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第２のＲＦパルス列に応答するほど十分に短い時間だけ時間的に離間され、それによって、前記第１の単一レーザ出力パルスの送達に続いて、前記レーザ共振器は、前記第２のＲＦパルス列による励起に応答して、第２のレーザ出力パルスを送達し、その前記第２の列中のＲＦパルスの持続時間および数のうちの１つは、前記第１および第２のレーザ出力パルスがほぼ等しい電力を有するように選択される、ステップ
をさらに含む、項目１に記載の方法。
（項目５）
前記第１および第２のＲＦパルス列は、ほぼ同一の持続時間を有する、項目４に記載の方法。
（項目６）
前記第１および第２のＲＦパルス列は、同一のパルス数をその中に有する、項目５に記載の方法。
（項目７）
その前記第１の列中のＲＦパルスは、第１の持続時間を有し、その前記第２の列中のＲＦパルスは、第２の持続時間を有し、前記第２の持続時間は、前記第１の持続時間より長い、項目６に記載の方法。
（項目８）
前記第１のＲＦパルス列は、第１の持続時間を有する初期パルスに続き、それぞれ、第２の持続時間を有する複数のパルスを含み、第２のＲＦパルス列は、第３の持続時間を有する初期パルスに続き、それぞれ、第４の持続時間を有する複数のパルスを含み、前記第３の持続時間は、前記第１の持続時間より長く、前記第４の持続時間は、前記第２の持続時間より長い、項目６に記載の方法。
（項目９）
その前記第１および第２の列中のＲＦパルスの持続時間は、同一であり、その前記第２の列中のパルス数は、その前記第１の列中のパルス数より多い、項目５に記載の方法。
（項目１０）
その前記第２の列中のＲＦパルスの数または持続時間の選択は、前記第１のレーザ出力パルスの終了と前記第２のレーザ出力パルスの開始との間の時間に依存する、項目４に記載の方法。
（項目１１）
ガス放電レーザ装置であって、
離間された放電電極と、
前記放電電極間に延在するレーザ共振器と、
前記レーザ共振器を励起するために、前記放電電極に接続された無線周波電力供給源（ＲＦＰＳ）と、
前記ＲＦＰＳに接続された電子回路であって、前記電子回路は、第１のコマンドパルスを受信し、前記コマンドパルスを第１のコマンドパルス列に変換し、前記第１のコマンドパルス列を前記ＲＦＰＳに送達し、それによって、前記ＲＦＰＳに、第１の励起パルス列が単一ＲＦ励起パルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第１の励起パルス列に応答するほど十分に短い前記ＲＦ励起パルス間の時間的間隔を伴って、対応する第１のＲＦ励起パルス列を前記レーザ共振器に送達させるように構成および配列され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第１のＲＦ励起パルス列による励起に応答して、第１の単一レーザ出力パルスを送達する、電子回路と
を備える、装置。
（項目１２）
前記電子回路はさらに、前記第１のコマンドパルスの受信に続いて、第２のコマンドパルスを受信し、前記第１のコマンドパルスの終了と前記第２のコマンドパルスの開始との間の時間を判定し、前記第２のコマンドパルスを第２のコマンドパルス列に変換し、前記第２のコマンドパルス列を前記ＲＦＰＳに送達し、それによって、前記ＲＦＰＳに、第２の励起パルス列が、単一ＲＦ励起パルスであるかのように、前記レーザ共振器が前記第２の励起パルス列に応答するほど十分に短い前記ＲＦ励起パルス間の時間的間隔を伴って、対応する第２のＲＦ励起パルス列を前記レーザ共振器に送達させるように構成および配列され、それによって、前記レーザ共振器は、前記第２のＲＦ励起パルス列による励起に応答して、第２の単一レーザ出力パルスを送達し、前記第２のコマンドパルス列中と、それに対応して、前記第２のＲＦ励起パルス列中のパルスの数および持続時間のうちの１つは、前記第１のコマンドパルスの終了と前記第２のコマンドパルスの開始との間の前記判定された時間に基づいて、前記第１および第２のレーザ出力パルスが、ほぼ等しい電力を有するように選択される、項目１１に記載の装置。
（項目１３）
ガスレーザを動作させる方法であって、前記レーザは、電極間でガスを励起させるために、無線周波（ＲＦ）電力供給源に接続された電極を含み、
前記方法は、
第１のレーザパルスを産生するために、コマンドを生成するステップと、
第１のレーザパルスを産生するための前記コマンドに応答して、ＲＦ電力の第１のエンベロープを前記電極に送達し、前記第１のエンベロープは、第１のパルス列を含み、前記列中の各パルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含む、ステップと、
第２のレーザパルスを産生するためのコマンドを生成するステップと、
第２のレーザパルスを産生するための前記コマンドに応答して、ＲＦ電力の第２のエンベロープを前記電極に送達し、前記第１および第２のエンベロープは、ほぼ同一の持続時間を有し、前記第２のエンベロープは、第２のパルス列を含み、前記列中の各パルスは、複数のサイクルのＲＦエネルギーを含み、前記第２のレーザパルスを産生するための前記第１のレーザパルスの終了と前記第２のコマンドの開始との間の時間が、所定の周期より短い場合、前記第２のレーザパルス中のエネルギーが、前記第１のレーザパルス中のエネルギーにより密接に一致するように、前記第２のパルス列中のパルスのデューティサイクルを増加させるステップと  を含む、方法。
（項目１４）
前記第２のパルス列中のデューティサイクルは、前記第１のレーザパルスの終了と前記第２のレーザパルスを産生するための第２のコマンドの生成との間の時間に逆比例する量だけ増加される、項目１３に記載の方法。
（項目１５）
前記所定の周期は、前記第１および第２のパルス列中のデューティサイクルが不変のままである場合、前記第２のレーザパルスは、依然として、前記第１のレーザパルスとほぼ同一のエネルギーを有するであろう、最短時間に対応する、項目１３に記載の方法。
（項目１６）
前記第２のパルス列のデューティサイクルは、前記第２のパルス列中のパルス数を増加させることによって増加される、項目１３に記載の方法。
（項目１７）
前記第２のパルス列のデューティサイクルは、前記第２のパルス列中のパルスの長さを増加させることによって増加される、項目１３に記載の方法。
（項目１８）
各パルス列中の前記第１のパルスは、前記列中のパルスの残りより長い、項目１３に記載の方法。
（項目１９）
前記レーザパルスは、孔をワークピース内に穿孔するために使用される、項目１３に記載の方法。
（項目２０）
前記レーザパルスは、ビア孔を印刷基板内に穿孔するために使用される、項目１３に記載の方法。