【手続補正書】
【提出日】平成28年11月11日(2016.11.11)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
交互配置された、第１の屈折率を有する複数の光不活性層（１２）と前記第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層（１４）とを備える積層型フィルムの構造体と、
逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を含む複数の層（２０）であって、それぞれが、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）のうちの１つと前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）のうちの１つの間に配置されている複数の層と
を備える構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項２】
前記ＲＳＡ材料が、金属フタロシアニン、サブフタロシアニン、ポルフィリン、および白金エチニルベースの染料のうち少なくとも１つを含む請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項３】
前記ＲＳＡ材料を含む前記複数の層（２０）が、結合剤または担体をさらに含む請求項１または２に記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項４】
第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）のそれぞれが第１の厚さを有し、第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）のそれぞれが第２の厚さを有し、前記第１の厚さが前記第２の厚さとは異なるものである請求項１乃至３のいずれかに載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項５】
第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）のそれぞれが第１の厚さを有し、第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）のそれぞれが同一の厚さを有する請求項１乃至３のいずれか記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項６】
前記複数の光不活性層（１２、１４）のそれぞれの厚さが約２０ｎｍから約５００ｎｍの範囲内にある請求項１記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項７】
前記複数の光不活性層（１２、１４）の数が３から５０の範囲内にあり、
前記ＲＳＡ材料が、約３００ｎｍから約８００ｎｍの範囲の波長を有する光に対して感応するものである請求項１乃至６のいずれか記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項８】
前記複数の光不活性層（１２、１４）が、ポリ（アルキル基のメタクリレート）、ポリ（メチルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）、ポリビニルアルコール、ポリ（アルキル基のアクリレート）、ポリスチレン、ポリカーボネート、ポリ（ビニリデン塩化物）、ポリ（酢酸ビニル）、ポリ（ビニリデンフッ化物−コ−トリフルオロエチレン）、ポリ（ビニルピロリドン）、スチレン−アクリロニトリル、およびそれらの組合せのうち１つを含む請求項１乃至７のいずれか記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項９】
成形しやすい非フォトポリマープラスチック基板およびサーボ層を備える基板層と、
前記基板層に隣接する請求項１乃至８のいずれか記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）と
を備えるデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１０】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）が、第１の屈折率ｎ1を有する第１の構成要素と、前記第１の屈折率ｎ1とは異なる第２の屈折率ｎ2を有する第２の構成要素とを備え、
障壁コーティング、反射防止コーティング、および抗かき傷コーティングのうち１つを備えるコーティングを、前記データ記憶デバイス（１００）の前面および背面のうち少なくとも１つの上にさらに備え、
形状が、円板、正方形、および長方形のうちの１つである請求項９記載のデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１１】
第１の屈折率を有する複数の光不活性層（１２）を用意するステップと、
前記第１の屈折率とは異なる第２の屈折率を有する複数の光不活性層（１４）を用意するステップと、
前記第１の屈折率を有する前記光不活性層（１２）および前記第２の屈折率を有する前記光不活性層（１４）のうち少なくとも１つに逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料を付着するステップと、
前記第１の屈折率を有する前記光不活性層（１２）を、前記第２の屈折率を有する前記光不活性層（１４）に接着し、その結果、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）と前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）が交互配置され、それによって、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）と前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）の間にＲＳＡ材料が配置されている構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）が形成されるステップとを含む製造方法。
【請求項１２】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の一部分の上に、集束された記録レーザビームを照射することによって、その部分の構成要素を変化させるステップと、
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の上に、集束された読取りレーザビームを照射するステップと、
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）から反射された光を受け取るステップとをさらに含む請求項１１記載の方法。
【請求項１３】
交互配置された、複数の第１の光不活性層（１２）と複数の第２の光不活性層（１４）とを備える積層型フィルムの構造体であって、前記複数の第２の層が逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料でさらにドープされている積層型フィルムの構造体を備える構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１４】
前記複数の第１の層及び／または前記複数の第２の層がブロックコポリマー材料を含む請求項１３記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１５】
前記複数の第１の層と前記複数の第２の層の厚さが同一である請求項１３または１４記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１６】
前記複数の第１の層が第１の厚さを有し、前記複数の第２の層が前記第１の厚さとは異なる第２の厚さを有する請求項１３または１４記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）。
【請求項１７】
成形しやすい非フォトポリマープラスチック基板およびサーボ層を備える基板層と、
前記基板層に隣接する請求項１３乃至１６のいずれかに記載の構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）と
を備えるデータ記憶デバイス（１００）。
【請求項１８】
第１の屈折率を有する複数の光不活性層（１２）を用意するステップと、
ドープされた逆可飽和吸収体（ＲＳＡ）材料をさらに含み、第２の屈折率を有する複数の光不活性層（１４）を用意するステップと、
前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）を、前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）に接着し、その結果、前記第１の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１２）と前記第２の屈折率を有する前記複数の光不活性層（１４）が交互配置され、それによって、前記第１の屈折率を有する前記光不活性層（１２）との間に、前記ドープされたＲＳＡ材料を積んだ層が配置されている積層型構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）が形成されるステップとを含む製造方法。
【請求項１９】
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の一部分の上に、集束された記録レーザビームを照射することによって、その部分の構成要素を変化させるステップと、
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）の上に、集束された読取りレーザビームを照射するステップと、
前記構成要素（１０、１１０、２１０、３１０）から反射された光を受け取るステップとをさらに含む請求項１８記載の方法。