(57)【要約】      （修正有）【課題】ＩＴＯを代替すると共に、優れた電気伝導度を具現することができるだけでなく、優れた耐久性を確保することができ、タッチパネルの全体的な厚さを低減することができるタッチパネル及びその製造方法を提供する。【解決手段】タッチパネル１００は、最外側に備えられた支持体であるウィンドウ１１０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、ウィンドウ１１０の一面に微細パターンに形成された第１電極パターン１２０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、ウィンドウ１１０の他面に微細パターンに形成された第２電極パターン１３０と、ウィンドウ１１０の一面と第１電極パターン１２０との間、及びウィンドウ１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルタ層１４０と、を含む。【選択図】図１Ａ
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
最外側に備えられた支持体であるウィンドウと、
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記ウィンドウの一面に微細パターンに形成された第１電極パターンと、
銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記ウィンドウの他面に微細パターンに形成された第２電極パターンと、
前記ウィンドウの一面と前記第１電極パターンとの間、及び前記ウィンドウの他面と前記第２電極パターンとの間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルタ層と、
を含むことを特徴とするタッチパネル。
【請求項２】
前記第１電極パターンをカバーする保護層をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項３】
前記保護層は、ハードコーティング層、光学透明接着剤またはＡＲコーティング層であることを特徴とする請求項２に記載のタッチパネル。
【請求項４】
前記ハードコーティング層は、アクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）またはこれらの組み合わせにより形成されることを特徴とする請求項３に記載のタッチパネル。
【請求項５】
前記ウィンドウの一面に形成され、前記第１電極パターンに連結された第１配線と、
前記ウィンドウの他面に形成され、前記第２電極パターンに連結された第２配線と、
をさらに含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項６】
前記第１配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記第１電極パターンと一体に形成され、
前記第２配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記第２電極パターンと一体に形成されることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項７】
前記ウィンドウに備えられた制御部をさらに含み、
前記第１配線と前記第２配線は前記制御部に連結されることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項８】
前記制御部は、
前記ウィンドウの一面に備えられた第１制御部と、
前記ウィンドウの他面に備えられた第２制御部と、を含み、
前記第１配線は前記第１制御部に連結され、
前記第２配線は前記第２制御部に連結されることを特徴とする請求項７に記載のタッチパネル。
【請求項９】
前記第１配線をカバーする印刷部をさらに含むことを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項１０】
前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１１】
前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項１０に記載のタッチパネル。
【請求項１２】
前記光学フィルタ層は、紫外線を遮断することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１３】
前記光学フィルタ層は、紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１４】
前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用無機物により形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１５】
前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用有機物により形成されることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１６】
近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１７】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１８】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項１９】
前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２０】
前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２１】
前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２２】
前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする請求項１に記載のタッチパネル。
【請求項２３】
前記第１配線の線幅または前記第２配線の線幅は、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項２４】
前記第１配線のピッチまたは前記第２配線のピッチは、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項５に記載のタッチパネル。
【請求項２５】
（Ａ）最外側に備えられた支持体であるウィンドウの一面または両面に、光を選択的に遮断する光学フィルタ層を形成する段階と、
（Ｂ）前記ウィンドウの一面に前記光学フィルタ層を形成した場合には、前記光学フィルタ層と前記ウィンドウの他面に銀塩乳剤層を形成し、前記ウィンドウの両面に前記光学フィルタ層を形成した場合には、前記光学フィルタ層に銀塩乳剤層を形成する段階と、
（Ｃ）前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して、前記ウィンドウを基準として両方に銀を含む第１電極パターンと第２電極パターンを形成する段階と、
を含むことを特徴とするタッチパネルの製造方法。
【請求項２６】
前記（Ｃ）段階の後、
前記第１電極パターンをカバーする保護層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２７】
前記保護層は、ハードコーティング層、光学透明接着剤またはＡＲコーティング層であることを特徴とする請求項２６に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２８】
前記ハードコーティング層は、アクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）またはこれらの組み合わせにより形成されることを特徴とする請求項２７に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項２９】
前記ウィンドウの一面に前記第１電極パターンに連結された第１配線を形成し、前記ウィンドウの他面に前記第２電極パターンに連結された第２配線を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３０】
前記第１配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像することにより形成して銀を含み、前記第１電極パターンと一体に形成され、
前記第２配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像することにより形成して銀を含み、前記第２電極パターンと一体に形成されることを特徴とする請求項２９に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３１】
前記ウィンドウに制御部を備える段階をさらに含み、
前記第１配線と前記第２配線は前記制御部に連結されることを特徴とする請求項２９に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３２】
前記制御部は、
前記ウィンドウの一面に備えられた第１制御部と、
前記ウィンドウの他面に備えられた第２制御部と、を含み、
前記第１配線は前記第１制御部に連結され、
前記第２配線は前記第２制御部に連結されることを特徴とする請求項３１に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３３】
前記（Ｃ）段階の後、
前記第１配線をカバーする印刷部を形成する段階をさらに含むことを特徴とする請求項２９に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３４】
前記（Ｂ）段階において、
前記銀塩乳剤層は銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３５】
前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする請求項３４に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３６】
前記（Ａ）段階において、
前記光学フィルタ層は紫外線を遮断することを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３７】
前記（Ａ）段階において、
前記光学フィルタ層は紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３８】
前記（Ａ）段階において、
前記光学フィルタ層はＵＶ遮断用無機物により形成されることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項３９】
前記（Ａ）段階において、
前記光学フィルタ層はＵＶ遮断用有機物により形成されることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４０】
前記（Ｃ）段階において、
近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４１】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４２】
前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４３】
前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４４】
前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４５】
前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４６】
前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする請求項２５に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４７】
前記第１配線の線幅または前記第２配線の線幅は、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項２９に記載のタッチパネルの製造方法。
【請求項４８】
前記第１配線のピッチまたは前記第２配線のピッチは、５０μｍ以下であることを特徴とする請求項２９に記載のタッチパネルの製造方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、タッチパネル及びその製造方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
デジタル技術を用いるコンピュータが発達するにつれて、コンピュータの補助装置もともに開発されており、パソコン、携帯用送信装置、及び個人用の情報処理装置などは、キーボード、マウスのような様々な入力装置（Ｉｎｐｕｔ  Ｄｅｖｉｃｅ）を用いてテキスト及びグラフィック処理を行う。
【０００３】
しかし、情報化社会の急速な進展に伴い、コンピュータの用途が益々拡大する傾向にあるため、現在入力装置の機能をしているキーボード及びマウスだけでは、製品の効率的な駆動が困難であるという問題点がある。そのため、簡単で誤操作が少なく、誰でも簡単に情報入力が可能な機器の必要性が高まっている。
【０００４】
また、入力装置に関する技術は、一般的な機能を満たす水準を超えて、高信頼性、耐久性、革新性、設計及び加工に関する技術などが注目されており、このような目的を達成するために、テキスト、グラフィックなどの情報入力が可能な入力装置としてタッチパネル（Ｔｏｕｃｈ  Ｐａｎｅｌ）が開発された。
【０００５】
このようなタッチパネルは、電子手帳、液晶表示装置（Ｌｉｑｕｉｄ  Ｃｒｙｓｔａｌ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｄｅｖｉｃｅ；ＬＣＤ）、プラズマディスプレイパネル（Ｐｌａｓｍａ  Ｄｉｓｐｌａｙ  Ｐａｎｅｌ；ＰＤＰ）、エレクトロルミネセンス（Ｅｌｅｃｔｒｏｌｕｍｉｎｅｓｃｅｎｃｅ；ＥＬ）などの平板ディスプレイ装置、及び陰極線管（Ｃａｔｈｏｄｅ  Ｒａｙ  Ｔｕｂｅ；ＣＲＴ）のような画像表示装置の表示面に設けられ、ユーザが映像表示装置を見ながら所望の情報を選択するようにするために用いられる機器である。
【０００６】
また、タッチパネルの種類は、抵抗膜方式（Ｒｅｓｉｓｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、静電容量方式（Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）、電磁方式（Ｅｌｅｃｔｒｏ−Ｍａｇｎｅｔｉｃ  Ｔｙｐｅ）、弾性表面波方式（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ａｃｏｕｓｔｉｃ  Ｗａｖｅ  Ｔｙｐｅ；ＳＡＷ  Ｔｙｐｅ）及びインフラレッド方式（Ｉｎｆｒａｒｅｄ  Ｔｙｐｅ）に区分される。このように様々な方式のタッチパネルは、信号増幅の問題、解像度の差、設計及び加工技術の難易度、光学的特性、電気的特性、機械的特性、耐環境特性、入力特性、耐久性及び経済性を考慮して電子製品に採用されるが、現在最も広い分野で用いられるものは、抵抗膜方式のタッチパネルと静電容量方式のタッチパネルである。
【０００７】
このようなタッチパネルは、通常、電極パターンをインジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ；ＩＴＯ）で形成する。しかし、ＩＴＯの場合、電気伝導度が低いだけでなく、原料であるインジウム（Ｉｎｄｉｕｍ）が希土類金属で高価であり、今後１０年以内に枯渇が予想されるため需給が円滑でないという短所がある。さらに、ＩＴＯで形成した電極パターンは、脆性破壊が発生しやすいため、耐久性に劣るという問題点が存在する。
【０００８】
このような理由により、特許文献１に開示されたように、金属を用いて電極パターンを形成しようとする研究が活発に進められている。しかし、金属を用いながらも電気伝導度と耐久性を全て満たして商業化することができる電極パターンの形成方法は開発されていない。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００９】
【特許文献１】韓国公開特許第１０−２０１０−００９１４９７号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【００１０】
本発明は、前記のような問題点を解決するために導き出されたものであり、本発明の目的は、銀塩乳剤層を露光／現像して銀を含む電極パターンを形成することにより、ＩＴＯを代替すると共に、電気伝導度に優れたタッチパネル及びその製造方法を提供することにある。
【課題を解決するための手段】
【００１１】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルは、最外側に備えられた支持体であるウィンドウと、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記ウィンドウの一面に微細パターンに形成された第１電極パターンと、銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記ウィンドウの他面に微細パターンに形成された第２電極パターンと、前記ウィンドウの一面と前記第１電極パターンとの間、及び前記ウィンドウの他面と前記第２電極パターンとの間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルタ層と、を含んで構成される。
【００１２】
ここで、前記第１電極パターンをカバーする保護層をさらに含むことを特徴とする。
【００１３】
また、前記保護層は、ハードコーティング層、光学透明接着剤またはＡＲコーティング層であることを特徴とする。
【００１４】
また、前記ハードコーティング層は、アクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）またはこれらの組み合わせにより形成されることを特徴とする。
【００１５】
また、前記ウィンドウの一面に形成され、前記第１電極パターンに連結された第１配線と、前記ウィンドウの他面に形成され、前記第２電極パターンに連結された第２配線と、をさらに含むことを特徴とする。
【００１６】
また、前記第１配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記第１電極パターンと一体に形成され、前記第２配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、前記第２電極パターンと一体に形成されることを特徴とする。
【００１７】
また、前記ウィンドウに備えられた制御部をさらに含み、前記第１配線と前記第２配線は、前記制御部に連結されることを特徴とする。
【００１８】
また、前記制御部は、前記ウィンドウの一面に備えられた第１制御部と、前記ウィンドウの他面に備えられた第２制御部と、を含み、前記第１配線は前記第１制御部に連結され、前記第２配線は前記第２制御部に連結されることを特徴とする。
【００１９】
また、前記第１配線をカバーする印刷部をさらに含むことを特徴とする。
【００２０】
また、前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする。
【００２１】
また、前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする。
【００２２】
また、前記光学フィルタ層は、紫外線を遮断することを特徴とする。
【００２３】
また、前記光学フィルタ層は、紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする。
【００２４】
また、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用無機物により形成されることを特徴とする。
【００２５】
また、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用有機物により形成されることを特徴とする。
【００２６】
また、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする。
【００２７】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする。
【００２８】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする。
【００２９】
また、前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする。
【００３０】
また、前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする。
【００３１】
また、前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする。
【００３２】
また、前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは、２μｍ以下であることを特徴とする。
【００３３】
また、前記第１配線の線幅または前記第２配線の線幅は、５０μｍ以下であることを特徴とする。
【００３４】
また、前記第１配線のピッチまたは前記第２配線のピッチは、５０μｍ以下であることを特徴とする。
【００３５】
本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法は、（Ａ）最外側に備えられた支持体であるウィンドウの一面または両面に、光を選択的に遮断する光学フィルタ層を形成する段階と、（Ｂ）前記ウィンドウの一面に前記光学フィルタ層を形成した場合には、前記光学フィルタ層と前記ウィンドウの他面に銀塩乳剤層を形成し、前記ウィンドウの両面に前記光学フィルタ層を形成した場合には、前記光学フィルタ層に銀塩乳剤層を形成する段階と、（Ｃ）前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像して、前記ウィンドウを基準として両方に銀を含む第１電極パターンと第２電極パターンを形成する段階と、を含んで構成される。
【００３６】
ここで、前記（Ｃ）段階の後、前記第１電極パターンをカバーする保護層を形成する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００３７】
また、前記保護層は、ハードコーティング層、光学透明接着剤またはＡＲコーティング層であることを特徴とする。
【００３８】
また、前記ハードコーティング層は、アクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）またはこれらの組み合わせにより形成されることを特徴とする。
【００３９】
また、前記ウィンドウの一面に前記第１電極パターンに連結された第１配線を形成し、前記ウィンドウの他面に前記第２電極パターンに連結された第２配線を形成する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００４０】
また、前記第１配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像することにより形成して銀を含み、前記第１電極パターンと一体に形成され、前記第２配線は、前記銀塩乳剤層を選択的に露光／現像することにより形成して銀を含み、前記第２電極パターンと一体に形成されることを特徴とする。
【００４１】
また、前記ウィンドウに制御部を備える段階をさらに含み、前記第１配線と前記第２配線は前記制御部に連結されることを特徴とする。
【００４２】
また、前記制御部は、前記ウィンドウの一面に備えられた第１制御部と、前記ウィンドウの他面に備えられた第２制御部と、を含み、前記第１配線は前記第１制御部に連結され、前記第２配線は前記第２制御部に連結されることを特徴とする。
【００４３】
また、前記（Ｃ）段階の後、前記第１配線をカバーする印刷部を形成する段階をさらに含むことを特徴とする。
【００４４】
また、前記（Ｂ）段階において、前記銀塩乳剤層は、銀塩及びバインダーを含むことを特徴とする。
【００４５】
また、前記銀塩は、ハロゲン化銀であることを特徴とする。
【００４６】
また、前記（Ａ）段階において、前記光学フィルタ層は、紫外線を遮断することを特徴とする。
【００４７】
また、前記（Ａ）段階において、前記光学フィルタ層は、紫外線のうちＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断することを特徴とする。
【００４８】
また、前記（Ａ）段階において、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用無機物により形成されることを特徴とする。
【００４９】
また、前記（Ａ）段階において、前記光学フィルタ層は、ＵＶ遮断用有機物により形成されることを特徴とする。
【００５０】
また、前記（Ｃ）段階において、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いて前記銀塩乳剤層を露光することを特徴とする。
【００５１】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、１５０Ω／□以下であることを特徴とする。
【００５２】
また、前記第１電極パターンの面抵抗または前記第２電極パターンの面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることを特徴とする。
【００５３】
また、前記第１電極パターンの微細パターンの線幅または前記第２電極パターンの微細パターンの線幅は、３〜７μｍであることを特徴とする。
【００５４】
また、前記タッチパネルの透過率は、８５％以上であることを特徴とする。
【００５５】
また、前記第１電極パターンの開口率または前記第２電極パターンの開口率は、９５％以上であることを特徴とする。
【００５６】
また、前記第１電極パターンの厚さまたは前記第２電極パターンの厚さは２μｍ以下であることを特徴とする。
【００５７】
また、前記第１配線の線幅または前記第２配線の線幅は、５０μｍ以下であることを特徴とする。
【００５８】
また、前記第１配線のピッチまたは前記第２配線のピッチは、５０μｍ以下であることを特徴とする。
【発明の効果】
【００５９】
本発明によると、銀塩乳剤層を露光／現像して銀を含む電極パターンを形成することにより、ＩＴＯを代替すると共に、優れた電気伝導度を具現することができるだけでなく、脆性破壊が発生しないため、優れた耐久性を確保することができるという長所がある。
【００６０】
また、本発明によると、光学フィルタ層を採用することにより、ウィンドウの両面に形成された銀塩乳剤層に露光を施しても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層に影響を及ぼすことを防止することができる効果がある。
【００６１】
更に、本発明によると、タッチパネルの最外側に備えられたウィンドウの両面に直接電極パターンを形成することにより、電極パターンを別の透明基板に形成した後、ウィンドウに取り付ける工程を省略して製造工程を単純化することができ、タッチパネルの全体的な厚さを低減することができるという長所がある。
【図面の簡単な説明】
【００６２】
【図１Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図１Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図である。
【図２Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルにおいて保護層と印刷部を除去した平面図である。
【図２Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルにおいて保護層と印刷部を除去した平面図である。
【図３Ａ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｂ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｃ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図３Ｄ】図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図である。
【図４】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【図５】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【図６】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【図７Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図７Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図８Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図８Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図９Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図９Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１０Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１０Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１１Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１１Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１２Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１２Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１３Ａ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【図１３Ｂ】本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００６３】
本発明の目的、特定の長所及び新規の特徴は、添付図面に係る以下の詳細な説明及び好ましい実施例によってさらに明らかになるであろう。本明細書において、各図面の構成要素に参照番号を付け加えるに際し、同一の構成要素に限っては、たとえ異なる図面に示されても、できるだけ同一の番号を付けるようにしていることに留意しなければならない。また、「一面」、「他面」、「第１」、「第２」などの用語は、一つの構成要素を他の構成要素から区別するために用いられるものであり、構成要素が前記用語によって限定されるものではない。以下、本発明を説明するにあたり、本発明の要旨を不明瞭にする可能性がある係る公知技術についての詳細な説明は省略する。
【００６４】
以下、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
【００６５】
図１Ａから図１Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの断面図であり、図２Ａから図２Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルにおいて保護層と印刷部を除去した平面図である。
【００６６】
図１Ａから図２Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００は、最外側に備えられた支持体であるウィンドウ１１０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、ウィンドウ１１０の一面に微細パターンに形成された第１電極パターン１２０と、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成された銀を含み、ウィンドウ１１０の他面に微細パターンに形成された第２電極パターン１３０と、ウィンドウ１１０の一面と第１電極パターン１２０との間、及びウィンドウ１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成されて光を選択的に遮断する光学フィルタ層１４０と、を含む構成である。
【００６７】
前記ウィンドウ１１０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成される領域を提供する機能を有するものであり、タッチパネル１００の最外側に備えられた支持体である。ここで、ウィンドウ１１０は、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０を支持することができる支持力と、画像表示装置で提供する画像をユーザが認識できるようにする透明性とを備えなければならない。上述の支持力及び透明性を考慮して、ウィンドウ１１０は、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリエーテルスルフォン（ＰＥＳ）、環状オレフィンコポリマー（ＣＯＣ）、トリアセチルセルロース（Ｔｒｉａｃｅｔｙｌｃｅｌｌｕｌｏｓｅ；ＴＡＣ）フィルム、ポリビニルアルコール（Ｐｏｌｙｖｉｎｙｌ  ａｌｃｏｈｏｌ；ＰＶＡ）フィルム、ポリイミド（Ｐｏｌｙｉｍｉｄｅ；ＰＩ）フィルム、ポリスチレン（Ｐｏｌｙｓｔｙｒｅｎｅ；ＰＳ）、二軸延伸ポリスチレン（Ｋ樹脂含有ｂｉａｘｉａｌｌｙ  ｏｒｉｅｎｔｅｄ  ＰＳ；ＢＯＰＳ）、ガラスまたは強化ガラスなどで形成することができるが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００６８】
一方、ウィンドウ１１０の両面に第１、２電極パターン１２０、１３０が直接形成されるため、電極パターンを別の透明基板に形成した後、ウィンドウ１１０に取り付ける工程を省略することにより、製造工程を単純化することができ、タッチパネル１００の全体的な厚さを低減することができる。
【００６９】
前記第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、ユーザがタッチする際に信号を発生させて制御部２９０でタッチ座標を認識できるようにする機能を有するものであり、第１電極パターン１２０はウィンドウ１１０の一面に形成され、第２電極パターン１３０はウィンドウ１１０の他面に形成される。ここで、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像してパターニングすることにより形成される（∴銀を含む）。
【００７０】
また、第１配線１６０と第２配線１７０は、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０にそれぞれ連結されて電気的信号を受信する機能を有するものであり、第１配線１６０はウィンドウ１１０の一面に形成され、第２配線１７０はウィンドウ１１０の他面に形成される。ここで、第１配線１６０と第２配線１７０は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像してパターニングすることにより形成することができる（∴銀を含む）。この際、第１配線１６０は第１電極パターン１２０と一体に形成され、第２配線１７０は第２電極パターン１３０と一体に形成される。このように、第１配線１６０を第１電極パターン１２０と一体に形成し、第２配線１７０を第２電極パターン１３０と一体に形成することにより、製造工程を簡素化することができ、リードタイム（Ｌｅａｄ  Ｔｉｍｅ）を短縮することができる。更に、第１、２配線１６０、１７０と第１、２電極パターン１２０、１３０の接合工程を省略することができるため、第１、２配線１６０、１７０と第１、２電極パターン１２０、１３０との間の段差発生や接合不良の問題を予め防止することができる効果がある。但し、第１、２配線１６０、１７０は、必ずしも銀塩乳剤層１５０を露光／現像して第１、２電極パターン１２０、１３０と一体に形成しなければならないものではなく、銀ペースト（Ａｇ  ｐａｓｔｅ）、有機銀、伝導性高分子、カーボンブラック（ＣＮＴを含む）、金属酸化物や金属類などを用いて、第１、２電極パターン１２０、１３０と別に形成することもできる。
【００７１】
更に、図２Ｂに図示されたように、ウィンドウ１１０には、コントローラ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）の一種である制御部２９０を備えることができる。この際、第１配線１６０と第２配線１７０は、ウィンドウ１１０に備えられた制御部２９０に直接連結される。このように、第１配線１６０と第２配線１７０がウィンドウ１１０に備えられた制御部２９０に直接連結されるため、従来の軟性印刷回路基板を省略することができる。例えば、制御部２９０は、ウィンドウ１１０の一面に備えられた第１制御部２９５と、ウィンドウ１１０の他面に備えられた第２制御部２９７と、を含むことができる。この際、第１配線１６０は第１制御部２９５に連結され、第２配線１７０は第２制御部２９７に連結される。
【００７２】
一方、第１、２電極パターン１２０、１３０と第１、２配線１６０、１７０を形成する銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３（図８Ａまたは図８Ｂ参照）及びバインダー１５５を含む。ここで、前記銀塩１５３は、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＦ、ＡｇＩ）などの無機銀塩または酢酸銀などの有機銀塩であることが好ましい。また、前記バインダー１５５は、銀塩１５３を均一に分散させ、銀塩乳剤層１５０と光学フィルタ層１４０との間または銀塩乳剤層１５０とウィンドウ１１０との間の接着力を強化させるものであり、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、デンプンなどの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどであることが好ましい。このようなバインダー１５５は、官能基のイオン性によって中性、陰イオン性、陽イオン性の性質を有する。
【００７３】
また、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３とバインダー１５５の他にも溶媒や染料などの添加剤をさらに含むことが好ましい。具体的に、溶媒は、水、有機溶媒（例えば、メタノールなどのアルコール類、アセトンなどのケトン類、ホルムアミドなどのアミド類、ジメチルスルホキシドなどのスルホキシド類、酢酸エチルなどのエステル類、エーテル類など）、イオン性液体、及びこれらの混合溶媒であることが好ましい。
【００７４】
一方、第１電極パターン１２０の面抵抗または第２電極パターン１３０の面抵抗は、厚さを調節したり銀塩乳剤層１５０の銀含量を調節して、タッチパネル１００に好適な１５０Ω／□以下にすることができる。より具体的に、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、０．１〜５０Ω／□であることが好ましい。ここで、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗を０．１〜５０Ω／□に形成する理由は、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が０．１Ω／□以下である場合には、銀塩１５３の量が多すぎて透明性が低下する恐れがあり、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗が５０Ω／□以上である場合には、電気伝導度が低くて活用度が低下する恐れがあるためである。但し、第１、２電極パターン１２０、１３０の面抵抗は、必ずしも前記数値に制限されるものではない。
【００７５】
また、図３Ａから図３Ｄは、図１Ａに図示された第１、２電極パターンの微細パターンを拡大した平面図であり、これを参照して第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の構成について具体的に説明する。図３Ａに図示されたように、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、面抵抗が増加しすぎることを防止するために３μｍ以上であることが好ましく、ユーザに視覚的に識別されることを防止するために７μｍ以下であることが好ましい。即ち、第１、２電極パターン１２０、１３０の微細パターンの線幅Ｗは、３〜７μｍであることが好ましいが、必ずしもこれに限定されるものではない。
【００７６】
また、第１電極パターン１２０の微細パターンと第２電極パターン１３０の微細パターンは、長方形（図３Ａ参照）、菱形（図３Ｂ参照）、円形（図３Ｃ参照）または楕円形（図３Ｄ参照）が繰り返されるメッシュ（Ｍｅｓｈ）構造であることが好ましい。即ち、第１、２電極パターン１２０、１３０は、両方とも格子状に交差するメッシュ構造であることが好ましい。
【００７７】
一方、図２Ａの拡大図に図示されたように、第１配線１６０と第２配線１７０の線幅Ｘ及びピッチＰ（隣り合う配線間の間隔）は、それぞれ５０μｍ以下であることが好ましい。
【００７８】
また、図４から図６は、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの第１、２電極パターンの平面図である。
【００７９】
図４から図６に図示されたように、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０はバー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ、図４参照）、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ、図５参照）またはダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ、図６参照）にパターニングすることができる。
【００８０】
具体的に、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、バー型（Ｂａｒ  Ｔｙｐｅ）にパターニングすることができる（図４参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに垂直方向に形成することができる。また、必要に応じて、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０のうち何れか一つは、幅が相対的に広いバー型にパターニングされ、他の一つは幅が相対的に狭いバー型にパターニングすることができる（通常、Ｂａｒ  ａｎｄ  Ｓｔｒｉｐ  Ｔｙｐｅと定義される構成）。
【００８１】
また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、トゥース型（Ｔｏｏｔｈ  Ｔｙｐｅ）にパターニングすることができる（図５参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、一方向に平行な多数の三角形に形成される。また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに重なり合わないように、第１電極パターン１２０は、第２電極パターン１３０の間に挿入され、第２電極パターン１３０は、第１電極パターン１２０の間に挿入される構成を有することが好ましい。
【００８２】
また、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、ダイヤモンド型（Ｄｉａｍｏｎｄ  Ｔｙｐｅ）にパターニングすることができる（図６参照）。この際、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、検知部１３７ａ、１３７ｂと連結部１３９ａ、１３９ｂとで構成され、連結部１３９ａ、１３９ｂを介して第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、互いに垂直方向に連結することができる。また、第１電極パターン１２０の検知部１３７ａと第２電極パターン１３０の検知部１３７ｂは、互いに重なり合わないように配置することができる。
【００８３】
但し、前記のように、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を、バー型、トゥース型またはダイヤモンド型にパターニングすることは例示に過ぎず、これに限定されるものではなく、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、当業界に公知された全てのパターンにパターニングすることができることは言うまでもない。
【００８４】
また、第１電極パターン１２０の厚さまたは第２電極パターン１３０の厚さは、特に限定されないが、好適な透過率を確保するために１０μｍ以下であることが好ましく、２μｍ以下であることがより好ましい。
【００８５】
一方、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０は、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して形成され、銀塩乳剤層１５０を露光する際に、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いることができ、これに関する詳細については、製造方法で後述する。
【００８６】
また、ウィンドウ１１０（図１Ａまたは図１Ｂ参照）は、タッチパネル１００の最外側に備えられた支持体であるため、ウィンドウ１１０の上面に形成された第１電極パターン１２０が入力手段１９７と直接接触することを防止するために、保護層１９０を備えることができる。即ち、保護層１９０は、第１電極パターン１２０を保護する機能を有するものであり、第１電極パターン１２０の上部に形成される。ここで、保護層１９０は、ハードコーティング層（Ｈａｒｄ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）、光学透明接着剤（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）またはＡＲコーティング層（Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）であることが好ましく、前記ハードコーティング層は、アクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）またはこれらの組み合わせにより形成されることが好ましい。
【００８７】
更に、第１配線１６０を覆ったり、ロゴ（Ｌｏｇｏ）などを表示するために、第１配線１６０をカバーする印刷部１９５を形成することができる。ここで、印刷部１９５は、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）やスパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いて形成することができる。このうち、スパッタを用いて印刷部１９５を形成すると、印刷部１９５の厚さをナノメートル単位まで薄く形成することができる。
【００８８】
前記光学フィルタ層１４０は、光を選択的に遮断（反射または吸収）して、ウィンドウ１１０の両面に形成された銀塩乳剤層１５０を露光しても、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止する機能を有する。ここで、光学フィルタ層１４０は、ウィンドウ１１０の一面と第１電極パターン１２０との間及びウィンドウ１１０の他面と第２電極パターン１３０との間のうち少なくとも一つに形成される。即ち、光学フィルタ層１４０は、ウィンドウ１１０を基準として両方に形成されるか（図１Ａ参照）、一方に形成される（図１Ｂ参照）。
【００８９】
具体的に、光学フィルタ層１４０は、銀塩乳剤層１５０を露光する際に照射される光を選択的に遮断する。従って、露光の際に照射される光を考慮して光学フィルタ層１４０が遮断する光を決定する。ここで、露光の際に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長であることができ、露光の際に紫外線（波長が約１０〜３９７ｎｍ）が照射される場合、光学フィルタ層１４０は、紫外線を選択的に遮断するように形成される。より具体的に、露光の際に紫外線のうちＩ−ライン（波長が３６５ｎｍ）、Ｈ−ライン（４０５ｎｍ）またはＧ−ライン（４３６ｎｍ）が照射される場合には、光学フィルタ層１４０はＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインのみを選択的に遮断するように形成される。このように、光学フィルタ層１４０が露光の際に照射される光を選択的に遮断することにより、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止することができる。さらに、光学フィルタ層１４０は、露光の際に照射される光を除いたほとんどの光を通過させるため、実質的に透明性を有することにより、タッチパネル１００の視認性を低下させない。
【００９０】
一方、光学フィルタ層１４０は、ＵＶ遮断用無機物またはＵＶ遮断用有機物で形成することができる。ここで、ＵＶ遮断用無機物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、二酸化チタン（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物であることが好ましく、ＵＶ遮断用有機物は、ベンゾフェノン（Ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）、ベンゾトリアゾール（Ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ）、サリチル酸（Ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）、アクリロニトリル（Ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、有機ニッケル化合物などであることが好ましい。但し、上述の物質は例示に過ぎず、本発明の権利範囲は、これに制限されるものではない。
【００９１】
一方、前記のように、ウィンドウ１１０、第１電極パターン１２０、第２電極パターン１３０、及び光学フィルタ層１４０を含むタッチパネル１００は、画像表示装置で提供する画像をユーザが認識できるように、８５％以上の透過率を有することが好ましい。また、タッチパネル１００の透過率を８５％以上に具現するために、第１電極パターン１２０及び第２電極パターン１３０の開口率を調節することができる。この際、第１電極パターン１２０または第２電極パターン１３０の開口率は、９５％以上であることが好ましい。
【００９２】
また、本発明によるタッチパネル１００は、ウィンドウ１１０を基準として両面に第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０が形成されるため、自己静電容量方式（Ｓｅｌｆ  Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネルまたは相互静電容量方式（Ｍｕｔｕａｌ  Ｃａｐａｃｉｔｉｖｅ  Ｔｙｐｅ）のタッチパネルに活用することができる。
【００９３】
図７Ａから図１３Ｂは、本発明の好ましい実施例によるタッチパネルの製造方法を製造工程順に図示した工程断面図である。
【００９４】
図７Ａから図１３Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、（Ａ）最外側に備えられた支持体であるウィンドウ１１０の一面または両面に、光を選択的に遮断する光学フィルタ層１４０を形成する段階と、（Ｂ）ウィンドウ１１０の一面に光学フィルタ層１４０を形成した場合には、光学フィルタ層１４０とウィンドウ１１０の他面に銀塩乳剤層１５０を形成し、ウィンドウ１１０の両面に光学フィルタ層１４０を形成した場合には、光学フィルタ層１４０に銀塩乳剤層１５０を形成する段階と、（Ｃ）銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像してウィンドウ１１０を基準として両方に、銀を含む第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を形成する段階と、を含む構成である。
【００９５】
まず、図７Ａまたは図７Ｂに図示されたように、ウィンドウ１１０に光学フィルタ層１４０を形成する段階である。ここで、光学フィルタ層１４０は、後述する段階で銀塩乳剤層１５０を露光する際に光を選択的に遮断して互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止する機能を有する。従って、光学フィルタ層１４０は、露光の際に使用される光を考慮して遮断する光を決定する。露光の際に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長であることが好ましく、露光の際に紫外線（波長が約１０〜３９７ｎｍ）が照射される場合、光学フィルタ層１４０は、紫外線を選択的に遮断するように形成される。より具体的に、露光の際に紫外線のうち、Ｉ−ライン（波長が３６５ｎｍ）、Ｈ−ライン（４０５ｎｍ）またはＧ−ライン（４３６ｎｍ）が照射される場合には、光学フィルタ層１４０は、Ｉ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインのみを選択的に遮断するように形成される。
【００９６】
このように、光学フィルタ層１４０により、紫外線やＩ−ライン、Ｈ−ラインまたはＧ−ラインを遮断するために、光学フィルタ層１４０をＵＶ遮断用無機物またはＵＶ遮断用有機物で形成することができる。具体的に、ＵＶ遮断用無機物は、インジウム−スズ酸化物（Ｉｎｄｉｕｍ  Ｔｉｎ  ｏｘｉｄｅ）、二酸化チタン（Ｔｉｔａｎｉｕｍ  Ｄｉｏｘｉｄｅ）などの金属酸化物であることが好ましく、ＵＶ遮断用有機物は、ベンゾフェノン（Ｂｅｎｚｏｐｈｅｎｏｎｅ）、ベンゾトリアゾール（Ｂｅｎｚｏｔｒｉａｚｏｌｅ）、サリチル酸（Ｓａｌｉｃｙｌｉｃ  Ａｃｉｄ）、アクリロニトリル（Ａｃｒｙｌｏｎｉｔｒｉｌｅ）、有機ニッケル化合物などであることが好ましい。一方、光学フィルタ層１４０としてＵＶ遮断用無機物を用いる場合には、光学フィルタ層１４０をスパッタリング（Ｓｐｕｔｔｅｒｉｎｇ）、蒸着（Ｅｖａｐｏｒａｔｉｏｎ）などにより形成することができる。また、光学フィルタ層１４０としてＵＶ遮断用有機物を用いる場合には、光学フィルタ層１４０をダイキャスティング（Ｄｉｅ  Ｃａｓｔｉｎｇ）、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、オフセット印刷法（Ｏｆｆ−ｓｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、バーコーティング法（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）などにより形成することができる。
【００９７】
一方、光学フィルタ層１４０は、ウィンドウ１１０の一面または他面のうち少なくとも一つにのみ形成しても銀塩乳剤層１５０を露光する際に光を遮断して、互いに反対面に形成された銀塩乳剤層１５０に影響を及ぼすことを防止することができる。従って、図７Ａに図示されたように、光学フィルタ層１４０は、必ずしもウィンドウ１１０の両面に形成しなければならないものではなく、図７Ｂに図示されたように、ウィンドウ１１０の一面または他面のうち少なくとも一つにのみ形成することができる。
【００９８】
以下、図８Ａ、図９Ａ、図１０Ａ、図１１Ａ、図１２Ａ、及び図１３Ａは、ウィンドウ１１０の両面に光学フィルタ層１４０を形成した構成を基準に図示したものであり、図８Ｂ、図９Ｂ、図１０Ｂ、図１１Ｂ、図１２Ｂ、及び図１３Ｂは、ウィンドウ１１０の一面に光学フィルタ層１４０を形成した構成を基準に図示したものである。
【００９９】
次に、図８Ａまたは図８Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を形成する段階である。上述の段階でウィンドウ１１０の両面に光学フィルタ層１４０を形成した場合には、ウィンドウ１１０の両面に形成された光学フィルタ層１４０に銀塩乳剤層１５０を形成し（図８Ａ参照）、ウィンドウ１１０の一面に光学フィルタ層１４０を形成した場合には、光学フィルタ層１４０とウィンドウ１１０の他面に銀塩乳剤層１５０を形成する（図８Ｂ参照）。ここで、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３及びバインダー１５５を含む。具体的に、前記銀塩１５３は、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ、ＡｇＢｒ、ＡｇＦ、ＡｇＩ）などの無機銀塩または酢酸銀などの有機銀塩であることが好ましい。また、前記バインダー１５５は、ゼラチン、ポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニルピロリドン（ＰＶＰ）、デンプンなどの多糖類、セルロース及びその誘導体、ポリエチレンオキシド、ポリビニルアミン、キトサン、ポリリジン、ポリアクリル酸、ポリアルギン酸、ポリヒアルロン酸、カルボキシセルロースなどであることが好ましい。なお、図面における銀塩１５３は、本発明を容易に理解するために誇張して図示したものであって、実際の大きさや濃度などを示すものではない。また、銀塩乳剤層１５０は、銀塩１５３とバインダー１５５の他にも溶媒や染料などの添加剤をさらに含むことが好ましい。
【０１００】
一方、銀塩乳剤層１５０は、ダイキャスティング（Ｄｉｅ  Ｃａｓｔｉｎｇ）、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、オフセット印刷法（Ｏｆｆ−ｓｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、バーコーティング法（Ｂａｒ  Ｃｏａｔｉｎｇ）を用いて形成することができる。また、銀塩乳剤層１５０を形成した後、熱風乾燥、ＩＲ乾燥または自然乾燥などにより銀塩乳剤層１５０を乾燥することができる。
【０１０１】
次に、図９Ａから図１１Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像して、銀を含む第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を形成する段階である。即ち、ウィンドウ１１０を基準として一方に第１電極パターン１２０を形成し、他方に第２電極パターン１３０を形成する。
【０１０２】
具体的に、図９Ａまたは図９Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光する段階である。上述の段階でウィンドウ１１０を基準として両方に銀塩乳剤層１５０を形成したため、本段階では、ウィンドウ１１０を基準として両方に露光を行う。この際、露光は、ウィンドウ１１０を基準として両方に同時に行うか、一面ずつ順に行うことができる。一方、露光の際に照射される光は、可視光線、紫外線、Ｘ線などの全ての波長であることが好ましく、通常、紫外線を用いることが好ましい。より具体的に、高圧水銀放電の際、相対強度（Ｒｅｌａｔｉｖｅ  Ｉｎｔｅｎｓｉｔｙ）が大きいＩ−ライン（３６５ｎｍ）、Ｈ−ライン（４０５ｎｍ）またはＧ−ライン（４３６ｎｍ）を用いて露光を行うことができ、精密な露光のために、このうち相対的に波長が短いＩ−ラインを選択することができる。
【０１０３】
本段階でウィンドウ１１０を基準として両方にマスク１８０を配置した後、銀塩乳剤層１５０に選択的に光を照射すると、光を照射した部分の銀塩乳剤層１５０では、銀塩１５３が光エネルギーにより感光され、いわゆる潜像と定義される微小な銀核が生成される。結果、露光により光を照射した部分にのみ選択的に銀核が生成される。このように、光を照射した部分には、最終的に第１電極パターン１２０、第１配線１６０、第２電極パターン１３０、第２配線１７０が形成される。従って、本段階では、形成しようとする第１電極パターン１２０、第１配線１６０、第２電極パターン１３０、第２配線１７０を考慮して選択的に露光しなければならない。
【０１０４】
一方、前記のように、ウィンドウ１１０を基準として両方に露光を行っても、光学フィルタ層１４０が露光の際に照射される光を遮断するため（矢印参照）、銀塩乳剤層１５０は、ウィンドウ１１０を基準として反対面から照射される光の影響を受けない。そのため、最終的に形成しようとする第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０の微細パターンが相違しても、銀塩乳剤層１５０は、露光の際にウィンドウ１１０の反対面で行われる露光の影響を受けず、第１電極パターン１２０と第２電極パターン１３０を精密に形成することができる。
【０１０５】
また、銀塩乳剤層１５０を露光する際、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機を用いることができ、近接（Ｐｒｏｘｉｍｉｔｙ）露光機または接触（Ｃｏｎｔａｃｔ）露光機は、相対的にタクトタイム（Ｔａｃｔ  ｔｉｍｅ）が短いため、生産性を向上させることができるだけでなく、大量生産に適するという長所がある。
【０１０６】
次に、図１０Ａまたは図１０Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０を現像する段階である。本段階は、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給して金属銀１５７を還元させる段階である。この際、銀塩１５３や現像液から提供される銀イオンは、現像液中の還元剤によって銀核を触媒にして金属銀１５７に還元される。上述の段階で光を照射した部分にのみ選択的に銀核が生成されるため、本段階でも光を照射した部分にのみ選択的に金属銀１５７が還元される。
【０１０７】
一方、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給する方法は、当業界に公知された全ての方法を用いることができる。例えば、現像液に銀塩乳剤層１５０を浸漬したり、現像液を銀塩乳剤層１５０にスプレーで噴射したり、現像液を蒸気状で銀塩乳剤層１５０に接触させる方法などにより、銀塩乳剤層１５０に現像液を供給することができる。
【０１０８】
更に、銀塩乳剤層１５０を現像した後、水で洗浄したり、高圧のエア（Ａｉｒ）を使用して現像液を除去することができる。
【０１０９】
次に、図１１Ａまたは図１１Ｂに図示されたように、銀塩乳剤層１５０に定着過程を施す段階である。ここで、定着過程は、銀塩乳剤層１５０に定着液を供給して銀に還元されていない銀塩１５３を除去する過程である。このように、銀に還元されていない銀塩１５３を除去すると、銀塩１５３が除去された部分には、ゼラチンなどのバインダー１５５のみが残存する。
【０１１０】
結果、銀塩乳剤層１５０のうち露光／現像により金属銀１５７に還元された部分が第１電極パターン１２０、第１配線１６０、第２電極パターン１３０及び第２配線１７０となり、定着過程により銀塩１５３が除去された部分は、バインダー１５５のみが残存して透明になる。
【０１１１】
前記のように、銀塩乳剤層１５０を選択的に露光／現像した後、定着過程により第１電極パターン１２０と第１電極パターン１２０に連結された第１配線１６０を形成することができ、第２電極パターン１３０と第２電極パターン１３０に連結された第２配線１７０を形成することができる。この際、第１配線１６０は、第１電極パターン１２０と一体に形成され、第２配線１７０は、第２電極パターン１３０と一体に形成される。
【０１１２】
但し、第１、２配線１６０、１７０は、必ずしも銀塩乳剤層１５０を露光／現像して第１、２電極パターン１２０、１３０と一体に形成しなければならないものではなく、銀ペースト（Ａｇ  ｐａｓｔｅ）、有機銀、伝導性高分子、カーボンブラック（ＣＮＴを含む）、金属酸化物や金属類などを用いて第１、２電極パターン１２０、１３０と別に形成することができる。この際、第１、２配線１６０、１７０は、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）、グラビア印刷法（Ｇｒａｖｕｒｅ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）またはインクジェット印刷法（Ｉｎｋｊｅｔ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）などを用いて形成することができる。
【０１１３】
次に、図１２Ａまたは図１２Ｂに図示されたように、第１配線１６０をカバーする印刷部１９５を形成する段階である。ここで、印刷部１９５は第１配線１６０を覆ったりロゴ（Ｌｏｇｏ）などを表示するためのものであり、スクリーン印刷法（Ｓｃｒｅｅｎ  Ｐｒｉｎｔｉｎｇ）やスパッタ（Ｓｐｕｔｔｅｒ）を用いて形成することができる。
【０１１４】
次に、図１３Ａまたは図１３Ｂに図示されたように、第１電極パターン１２０に保護層１９０を形成する段階である。ここで、保護層１９０は、第１電極パターン１２０が入力手段１９７と直接接触しないように、第１電極パターン１２０を保護するものであり、ハードコーティング層（Ｈａｒｄ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）、光学透明接着剤（Ｏｐｔｉｃａｌ  Ｃｌｅａｒ  Ａｄｈｅｓｉｖｅ；ＯＣＡ）またはＡＲコーティング層（Ａｎｔｉ  Ｒｅｆｌｅｃｔ  Ｃｏａｔｉｎｇ  Ｌａｙｅｒ）であることが好ましい。この際、ハードコーティング層は、アクリル（Ａｃｒｙｌｉｃ）、エポキシ（Ｅｐｏｘｙ）、ウレタン（Ｕｒｅｔｈａｎｅ）またはこれらの組み合わせにより形成することができる。また、保護層１９０は、第１電極パターン１２０にフィルム状に積層するか、スピンコーティング（Ｓｐｉｎ  Ｃｏａｔｉｎｇ）などを用いて液体状にコーティングすることができる。
【０１１５】
一方、図２Ｂに図示されたように、本実施例によるタッチパネル１００の製造方法は、ウィンドウ１１０にコントローラ（Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｒ）の一種である制御部２９０を備える段階をさらに含むことができる。この場合、第１配線１６０と第２配線１７０は、ウィンドウ１１０に備えられた制御部２９０に直接連結される。このように、第１配線１６０と第２配線１７０がウィンドウ１１０に備えた制御部２９０に直接連結されるため、従来の軟性印刷回路基板を省略することができる。例えば、制御部２９０は、ウィンドウ１１０の一面に備えた第１制御部２９５と、ウィンドウ１１０の他面に備えた第２制御部２９７と、を含むことができる。この際、第１配線１６０は、第１制御部２９５に連結され、第２配線１７０は、第２制御部２９７に連結される。
【０１１６】
以上、本発明を具体的な実施例に基づいて詳細に説明したが、これは本発明を具体的に説明するためのものであり、本発明はこれに限定されず、該当分野における通常の知識を有する者であれば、本発明の技術的思想内にての変形や改良が可能であることは明白であろう。
【０１１７】
本発明の単純な変形乃至変更はいずれも本発明の領域に属するものであり、本発明の具体的な保護範囲は添付の特許請求の範囲により明確になるであろう。
【産業上の利用可能性】
【０１１８】
本発明は、ＩＴＯを代替すると共に、電気伝導度に優れたタッチパネル及びその製造方法に適用可能である。
【符号の説明】
【０１１９】
１００  タッチパネル
１１０  ウィンドウ
１２０  第１電極パターン
１３０  第２電極パターン
１３７ａ、１３７ｂ  検知部
１３９ａ、１３９ｂ  連結部
１４０  光学フィルタ層
１５０  銀塩乳剤層
１５３  銀塩
１５５  バインダー
１５７  金属銀
１６０  第１配線
１７０  第２配線
１８０  マスク
１９０  保護層
１９５  印刷部
１９７  入力手段
２９０  制御部
２９５  第１制御部
２９７  第２制御部
Ｗ  微細パターンの線幅
Ｘ  第１、２配線の線幅
Ｐ  第１、２配線のピッチ
【図１Ａ】
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【図１Ｂ】
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【図２Ａ】
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【図２Ｂ】
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【図３Ａ】
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【図３Ｂ】
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【図３Ｃ】
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【図３Ｄ】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７Ａ】
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【図７Ｂ】
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【図８Ａ】
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【図８Ｂ】
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【図９Ａ】
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【図９Ｂ】
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【図１０Ａ】
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【図１０Ｂ】
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【図１１Ａ】
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【図１１Ｂ】
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【図１２Ａ】
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【図１２Ｂ】
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【図１３Ａ】
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【図１３Ｂ】
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