【手続補正書】
【提出日】平成27年11月16日(2015.11.16)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
生体サンプルを支持する基板のためのカバー部材であって、
ａ）第１および第２対向端部と、
ｂ）第１および第２対向表面と、
ｃ）第２表面に存在し、基板と並置した場合にチャンバを形成する凹部と、
ｄ）第１端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口と、を備え、
凹部は、チャンバ内での流体移動を増強するための１つ以上の曲線輪郭領域を有する凹部壁によって境界が定められ、
該曲線輪郭領域は、（ｉ）凹部の側壁と端部壁とを連結する、丸みを帯びた角部、および（ｉｉ）カバー部材の第２表面において、凹部の壁と凹部の天井とを連結する、丸みを帯びた蛇腹、の少なくとも１つを含む、カバー部材。
【請求項２】
第２表面における凹部の天井が、入口から出口への試薬の伝搬を増強するように構成された仕上げを有し、
仕上げは、エッチング加工、波形加工、ディンプル加工、傾斜加工、弓形加工、波紋加工を含むグループから選択されたテキスチャ、または、仕上げは、凹部の天井及び／又は壁の少なくとも一部における材料仕上げまたはコーティングである、請求項１記載のカバー部材。
【請求項３】
カバー部材は、カバー部材本体およびカバー部材挿入部を含む、少なくとも２つの部品で形成され、
カバー部材挿入部は、基板とともにチャンバを形成するように構成される、請求項１または２記載のカバー部材。
【請求項４】
入口において、流体を入口に方向付けるように構成された案内手段を備え、
案内手段は、対応する形状の注入プロープ先端を受け入れるような形状を有する首部を含み、
案内手段は、注入プロープ先端とのぴったり嵌合を形成するように構成される、請求項１〜３のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項５】
案内手段は、注入プロープ先端との密封を受容し形成するのに充分な弾性コンプライアンスを有する、請求項４記載のカバー部材。
【請求項６】
入口と流体連通している分散端部を備え、
使用の際、カバー部材は、分散端部の周りに旋回するように構成され、
前記旋回運動は、分散端部から出口に向かって、入口での流体の移動を生じさせる、請求項１〜５のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項７】
カバー部材はさらに、第１端部と第２端部との間に直交して延びる面を通過して延びており、これに対して垂直な軸の周りに旋回するように構成され、前記軸の周りの旋回は、カバー部材を傾斜させる、請求項６記載のカバー部材。
【請求項８】
流体を、入口から、カバー部材の少なくとも幅に分散するように構成された流体分散機構を備え、
流体分散機構は、サンプルがチャンバの外部にある開放状態から、カバー部材が基板上のサンプルの少なくとも一部を覆う閉止状態へ、カバー部材および基板の相対的なスライド運動の際に流体を分散するように構成され、これにより分散機構から基板表面に沿って流体を引き出す、請求項１〜７のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項９】
流体を、入口から、カバー部材の少なくとも幅に分散するように構成された流体分散機構を備え、
流体分散機構は、カバー部材が基板上のサンプルの少なくとも一部と重なり合う閉止状態で、流体を分散するように構成され、
前記分散機構は、毛細管現象を利用して、分散機構から基板表面に沿って流体を引き出す、請求項１〜７のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項１０】
流体分散機構は、チャンバの幅に広がるチャネルを含み、
チャネルは、カバー部材の第１端部に向かって増加する高さを持つ段差状の外形を有する、請求項８記載のカバー部材。
【請求項１１】
チャネルは、入口から、ある体積の流体を保管するように構成され、前記体積は、流体が基板上に徐々に広がる流体フロントを供給する、請求項１０記載のカバー部材。
【請求項１２】
カバー部材はさらに、開放状態と閉止状態との間でカバー部材および基板の相対的なスライド運動の際に、基板を案内するように構成されたスライド案内手段をさらに備える、請求項８，１０，１１のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項１３】
カバー部材とともに使用される基板の上にあるサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアを備える、請求項１〜１２のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項１４】
防湿バリアは、スライド上のサンプルと接触しないように覆うように構成された材料覆いである、請求項１３記載のカバー部材。
【請求項１５】
生体サンプルのための処理モジュールであって、
ａ．請求項１〜３３のいずれかに記載のカバー部材と、
ｂ．生体サンプルを戴置した基板のための支持面と、
ｃ．培養期間中、基板と並置した状態でカバー部材を取り外し可能に保持するように動作可能なクランプ手段と、を備える処理モジュール。
【請求項１６】
ａ）処理モジュール内の基板およびカバー部材の一方または両方を位置決めすること、およびｂ）処理手順の際、カバー部材の入口に試薬を注入すること、の一方または両方を行うように構成されたロボットを備える、請求項１５記載の処理モジュール。
【請求項１７】
カバー部材の１つ以上の出口を、大気への通気孔および個々の１つ以上の負圧供給源と交換可能に接続するように動作可能なカップリングを含む、請求項１５または１６記載の処理モジュール。
【請求項１８】
チャンバの開放時に、基板を支持面に保持するように構成された基板保持手段をさらに備える、請求項１５〜１７のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項１９】
カバー部材上の分散端部の周りにカバー部材を旋回させて、入口での流体を分散端部から出口に向かって移動させるように構成された旋回手段をさらに備え、
旋回手段は、カバー部材を、開放状態に、そして、カバー部材および基板が並置してチャンバを形成する閉止状態に旋回させるように動作可能である、請求項１５〜１８のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項２０】
旋回手段は、カバー部材を開放状態に位置決めするように動作可能な旋回アームを含み、
カバー部材の第１端部の分散端部が基板と接触しており、第２表面が基板に対して１〜２０度の角度で配置される、請求項１９記載の処理モジュール。
【請求項２１】
旋回アームは、ａ）カバー部材を開放状態に位置決めして、基板および第２表面が、カバー部材の入口でアリコートの流体を受け入れるように、約１０度の角度に配置されること、ｂ）モジュールを、カバー部材および基板が切り離された取り外し状態に配置すること、およびｃ）カバー部材を通る傾斜軸であって、第１端部と第２端部の間に直交して延びる面に対して垂直な傾斜軸の周りにカバー部材を傾斜させること、の１つ以上を行うように動作可能である、請求項２０記載の処理モジュール。
【請求項２２】
傾斜アクセス周りにカバー部材の傾斜方向にバイアスをかけるための傾斜バイアス手段をさらに備える、請求項２１記載の処理モジュール。
【請求項２３】
支持面は、サンプルを戴置した基板を受け入れ、基板の不在時は、カバー部材の第２表面を洗浄試薬に曝すための洗浄ベイを形成するような形状である、請求項１５〜２２のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項２４】
旋回アームは、チャンバ内の試薬を撹拌するように動作可能である、請求項１９〜２３のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項２５】
サンプルがカバー部材によって覆われていない開放状態と、サンプルの少なくとも一部が、カバー部材および基板によって形成されるチャンバ内で覆われている閉止状態との間で、カバー部材および基板をスライド移動させるためのアクチュエータをさらに備える、請求項１５〜２４のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項２６】
カバー部材によって覆われていない場合、基板上のサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアをさらに備え、
防湿バリアは、スライド上のサンプルと接触しないように覆うようにした材料覆いを含む、請求項１５〜２５のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項２７】
生体サンプルを支持する基板のためのカバー部材であって、
ａ．第１および第２対向端部と、
ｂ．第１および第２対向表面と、
ｃ．第２表面に存在し、基板と並置した場合にチャンバを形成する凹部と、
ｄ．第１端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口と、
ｅ．第２端部に向かって、凹部と流体連通した流体出口と、
ｆ．入口において、流体を入口に方向付けるように構成された案内手段と、を備えるカバー部材。
【請求項２８】
案内手段は、対応する形状の注入プロープ先端を受け入れるような形状を有する首部を含み、
案内手段は、注入プロープ先端とのぴったり嵌合を形成するように構成される、請求項２７記載のカバー部材。
【請求項２９】
案内手段は、注入プロープ先端との密封を受容し形成するのに充分な弾性コンプライアンスを有する、請求項２８記載のカバー部材。
【請求項３０】
請求項２７〜２９のいずれかに記載のカバー部材を用いて、１つ以上の試薬とともに生体サンプルを培養するための方法であって、
ａ．サンプルを基板上に用意するステップと、
ｂ．基板およびカバー部材を位置決めして、チャンバを形成するステップと、
ｃ．注入プローブ先端を、流体入口との嵌め合いコンタクト状態に位置決めするステップと、
ｄ．第１試薬が基板上のサンプルを実質的に覆うのに充分な力を用いて、第１体積の第１試薬を入口に送り込むステップと、を含む方法。
【請求項３１】
第１試薬は、注入プローブ先端と連結した正圧ポンプによって入口に送り込まれ、
正圧ポンプは、下記を含むグループから選択される、請求項３０記載の方法。
ａ．シリンジポンプ
ｂ．歯車ポンプ
【請求項３２】
請求項２７〜２９のいずれかに記載のカバー部材を用いて、１つ以上の試薬とともに生体サンプルを培養するための方法であって、
ａ．サンプルを基板上に用意するステップと、
ｂ．基板およびカバー部材を位置決めして、チャンバを形成するステップと、
ｃ．注入プローブ先端を位置決めして、試薬を流体入口に注入するステップと、
ｄ．少なくとも第２体積の第２試薬を入口に注入するステップと、含む方法。
【請求項３３】
カバー部材を傾斜させて、出口を上昇させ、これにより入口からチャンバ内への試薬放出を制限または不可能にするステップをさらに含む、請求項３０〜３２のいずれかに記載の方法。
【請求項３４】
生体サンプルを支持する基板のためのカバー部材であって、
ａ．第１および第２対向端部と、
ｂ．第１および第２対向表面と、
ｃ．第２表面に存在し、基板と並置した場合にチャンバを形成する凹部と、
ｄ．第１端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口と、
ｅ．第２端部に向かって、凹部と流体連通した流体出口と、
ｆ．入口と流体連通している分散端部と、を備え、
カバー部材は、分散端部の周りに旋回するように構成され、使用の際、前記旋回運動は、入口において、分散端部から出口に向かう流体の移動を生じさせる、カバー部材。
【請求項３５】
カバー部材とともに使用される基板の上にあるサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアをさらに備える、請求項３４記載のカバー部材。
【請求項３６】
生体サンプルのための処理モジュールであって、
ａ．請求項３４または３５記載のカバー部材と、
ｂ．生体サンプルを戴置した基板のための支持面と、
ｃ．カバー部材を分散端部の周りに旋回させ、流体を入口から基板に沿って、分散端部から出口に向けて移動させるように構成された旋回手段と、を備え、
旋回手段は、カバー部材を、開放状態および、カバー部材および基板が並置されてチャンバを形成する閉止状態に旋回させるように動作可能である、処理モジュール。
【請求項３７】
旋回手段は、ａ）カバー部材を、カバー部材の第１端部の分散端部が基板と接触し、第２表面が基板に対して１〜２０度の角度に配置される開放状態に位置決めすること、ｂ）カバー部材を開放状態に位置決めし、基板および第２表面が約１０度の角度に配置され、アリコートの試薬をカバー部材の入口に受け入れること、ｃ）モジュールを、カバー部材および基板が切り離された取り外し状態に設定すること、およびｄ）カバー部材を通る傾斜軸であって、第１端部と第２端部の間に直交して延びる面に対して垂直な傾斜軸の周りにカバー部材を傾斜させること、の１つ以上を行うように動作可能な旋回アームを含む、請求項３６記載の処理モジュール。
【請求項３８】
傾斜アクセス周りにカバー部材の傾斜方向にバイアスをかけるための傾斜バイアス手段、をさらに備える、請求項３６記載の処理モジュール。
【請求項３９】
カバー部材および基板の分離中に、基板を支持面に保持するように構成された基板保持手段をさらに備え、
基板保持手段は、分離中に、カバー部材と基板との間の接着摩擦力に打ち勝つのに充分な力を用いて、基板を支持面に取り外し可能に保持するように構成された弾性部材を含む、請求項３６または３７記載の処理モジュール。
【請求項４０】
支持面は、サンプルを戴置した基板を受け入れ、基板の不在時は、カバー部材の第２表面を洗浄試薬に曝すための洗浄ベイを形成するような形状である、請求項３６〜３９のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項４１】
カバー部材とともに使用される基板の上にあるサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアをさらに備える、請求項３６〜４０のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項４２】
旋回アームは、チャンバ内の試薬を撹拌するように動作可能である、請求項３６〜４１のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項４３】
カバー部材の１つ以上の出口を、１つ以上の個々の負圧供給源と交換可能に接続するように動作可能なカップリングを含み、
負圧供給源の各々は、−２ｋＰａ〜−１５ｋＰａの制御された真空を発生するように動作可能である、請求項３６〜４２のいずれかに記載の処理モジュール。
【請求項４４】
請求項３６〜４３のいずれかに記載の処理モジュールを用いて、１つ以上の試薬とともに生体サンプルを培養するための方法であって、
ａ．サンプルを基板上に用意するステップと、
ｂ．分散端部が基板と接触するようにカバー部材に角度がついた開放状態に、基板およびカバー部材を位置決めするステップと、
ｃ．第１試薬を入口に注入するステップと、
ｄ．カバー部材を閉止状態に向けて旋回させて、旋回運動により、注入された試薬が基板上のサンプルを実質的に覆うようにするステップと、を含む方法。
【請求項４５】
旋回運動は、試薬の毛細管流動を増強して、基板上のサンプルを実質的に覆うようなレートに制御される、請求項４４記載の方法。
【請求項４６】
旋回運動は、複数の試薬及び／又はサンプルを処理するための複数の手順について、基板上での試薬流動を増強する予めプログラムされた旋回運動に従って、コントローラによって制御される、請求項４４または４５記載の方法。
【請求項４７】
ａ）カバー部材が閉止状態でない場合、サンプルを覆うこと、およびｂ）チャンバ内の試薬を撹拌すること、の１つ以上を含む、請求項４４〜４６のいずれかに記載の方法。
【請求項４８】
生体サンプルを支持する基板のためのカバー部材であって、
ａ．第１および第２対向端部と、
ｂ．第１および第２対向表面と、
ｃ．第２表面に存在し、基板とともにチャンバを形成する凹部と、
ｄ．第１端部に向かって、凹部と流体連通した流体入口と、
ｅ．流体を注入する流体分散機構と、を備え、
流体分散機構は、流体を、入口から基板の少なくとも幅に分散するように構成される、カバー部材。
【請求項４９】
流体分散機構は、サンプルがチャンバの外部にある開放状態から、カバー部材が基板上のサンプルの少なくとも一部を覆う閉止状態へ、カバー部材および基板の相対的なスライド運動の際に流体を分散するように構成され、これにより流体分散機構から基板に沿って流体を引き出す、請求項４８記載のカバー部材。
【請求項５０】
流体分散機構は、カバー部材が基板上のサンプルの少なくとも一部と重なり合う閉止状態で、流体を注入するように構成され、
前記分散は、毛細管現象を利用して、流体分散機構から基板表面に沿って流体を引き出す、請求項４８記載のカバー部材。
【請求項５１】
流体分散機構は、チャンバの幅に広がるチャネルを含み、
チャネルは、カバー部材の第１端部に向かって増加する高さを持つ段差状の外形を有する、請求項４９または５０記載のカバー部材。
【請求項５２】
チャネルは、入口から、ある体積の流体を保管するように構成され、
前記体積は、基板上に徐々に広がる流体フロントを供給する、請求項５１記載のカバー部材。
【請求項５３】
開放状態と閉止状態との間でカバー部材および基板の相対的なスライド運動の際に、基板を案内するように構成されたスライド案内手段をさらに備える、請求項４９〜５２のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項５４】
カバー部材とともに使用される基板の上にあるサンプルの乾燥を低減するように構成された防湿バリアを含み、
防湿バリアは、スライド上のサンプルと接触しないように覆うようにした材料覆いである、請求項４８〜５３のいずれかに記載のカバー部材。
【請求項５５】
請求項４８〜５４のいずれかに記載のカバー部材を用いて、１つ以上の試薬とともに生体サンプルを培養するための方法であって、
ａ．サンプルを基板上に用意するステップと、
ｂ．基板およびカバー部材を、流体分散機構の領域において基板の少なくとも端部がカバー部材の第２表面と並置された状態に設定された開放構成に位置決めするステップと、
ｃ．試薬を入口に注入し、毛細管現象を利用して、基板を横断するように試薬を引き出すステップと、を含む方法。
【請求項５６】
サンプルがチャンバの外部にある開放状態から、カバー部材がチャンバ内のサンプルの少なくとも一部を覆う閉止状態へ、基板およびカバー部材の一方を基板およびカバー部材の他方に対してスライド移動させるステップを含み、
前記スライド運動は、試薬を分散機構から基板に沿って引き出すようにした、請求項５５記載の方法。
【請求項５７】
スライド運動は、試薬の流動を増強して、基板上のサンプルを実質的に覆うようなレートに制御される、請求項５６記載の方法。
【請求項５８】
試薬を入口に注入する前に、カバー部材がチャンバ内のサンプルの少なくとも一部を覆う閉止状態へ、基板およびカバー部材の一方を基板およびカバー部材の他方に対してスライド移動させるステップを含み、
カバー部材および基板が閉止状態のままで、試薬が分散される、請求項５７記載の方法。
【請求項５９】
カバー部材および基板が再び開いた場合、サンプルの乾燥を制限するために、基板を覆うステップを含む、請求項５５〜５８のいずれかに記載の方法。
【請求項６０】
生体サンプルのための処理モジュールであって、
ａ．請求項４８〜５４のいずれかに記載のカバー部材と、
ｂ．生体サンプルを戴置した基板のための支持面と、
ｃ．サンプルがカバー部材によって覆われていない開放状態と、サンプルの少なくとも一部が、カバー部材および基板によって形成されるチャンバ内で覆われる閉止状態との間で、カバー部材および基板をスライド移動させるための直線移動装置と、を備える処理モジュール。
【請求項６１】
処理モジュールを用いた処理手順の洗浄工程の際、カバー部材の第２表面を洗浄試薬に曝すための洗浄ベイをさらに備える、請求項６０記載の処理モジュール。