(57)【要約】【課題】差分図形の確認負荷を減らし、その結果、異常データの検出精度向上を図ることが可能なフォトマスク描画データの検証方法及びその検証装置を提供する。【解決手段】フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する方法であって、前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部分とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うことを特徴とするフォトマスク描画データの検証方法。【選択図】図５
2013061451.tif 000002
【特許請求の範囲】
【請求項１】
フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証方法であって、
前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うことを特徴とするフォトマスク描画データの検証方法。
【請求項２】
フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証装置であって、
前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行う演算手段を備えたことを特徴とするフォトマスク描画データの検証装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、フォトマスクパターンの設計データと設計データに基づいて加工されたフォトマスクパターン描画に用いられるフォトマスク描画データから、フォトマスク描画データの異常を検出するフォトマスク描画データの検証方法と検証装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ＬＳＩの進歩に伴い、描画パターンの微細化が進展するにつれ描画データも増大しており、それら描画データを用いてフォトマスクを製作するデータ検証の作業も増大している。データの検証方法を図１に示す。データ検証は、設計データ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ  Ａｉｄｅｄ  Ｄｅｓｉｇｎデータ、ＣＡＤデータ）１と設計データを加工して得られた描画データ（Ｅｅｌｅｃｔｒｏｎ  Ｂｅａｍデータ、ＥＢデータ）２の排他的論理和（以下、ＸＯＲ：ｅＸｃｌｕｓｉｖｅ  ＯＲ）を算出し、得られた排他的論理和のデータ（差分データ）を検証用データ３として取り扱う。ここで差分データとして抽出された差分図形は検出と検証を行うソフトウエアが異なるものである場合には、処理アルゴリズムや計算誤差によって、データが合わない（不一致となる）ことが、特に斜め線部で生じる。
【０００３】
図２は上記設計データと描画データから得られた排他的論理和のデータを示す図である。設計データとして、パターン１１は斜め線部を含む平行四辺形の場合には、描画データへの変換時にパターン１１は矩形近似されてパターン１２となり、データ検証としてＸＯＲ演算を行うと、差分図形にはパターン１１を矩形近似した結果、斜め線部で差分データ（ＸＯＲデータ）１３が不一致データとして抽出される。
【０００４】
この不一致については、擬似差分が生じることを考慮して、擬似差分として該当する不一致データの消去（消し込み）を行って対処しているが、単純にそのデータ消去を行うと、次に述べる本来検出すべき異常データを消去してしまう場合がある。
【０００５】
図３は設計データが斜め線部を含む平行四辺形で、異常データが差分データとして発生する場合を示す図である。設計データとして、斜め線を含むパターン１５の場合に、描画データへの変換時にパターン１５が、パターン１５の縦方向の寸法より短い描画データのパターン１６と変換された場合に、データ検証としてＸＯＲ演算を行うと、差分図形にはパターン１７が異常データとして抽出される。
【０００６】
また、図４は設計データが矩形形状のパターンの場合で、異常データが差分データとして発生する場合を示す図である。設計データとして、矩形形状のパターン２１の場合に、描画データへの変換時にパターン２１が、パターン２２の描画データとして変換された場合に、データ検証としてＸＯＲ演算を行うと、差分図形にはパターン２３が異常データとして抽出される。
【０００７】
上記差分図形が無数に存在する場合には、各差分図形について確認することは、作業が煩雑になり見落としを生じやすく差分図形の確認が不十分となり、その結果、例えば、図３や図４に示すような、設計データと描画データが一致しているべき図形の一部が欠けてしまった場合の異常データの検出漏れが生じてしまうという問題が起こる。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００８】
【特許文献１】特開平６−１０２６６０号公報
【特許文献２】特開２００１−３４４３０２号公報
【特許文献３】特開２００２−３２３７４９号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００９】
これらの問題を解決するために、本発明では、差分図形の確認負荷を減らし、その結果、異常データの検出精度の向上を図ることが可能なフォトマスク描画データの検証方法及びその検証装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【００１０】
そこで本発明の請求項１に係る発明は、
フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証方法であって、
前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うことを特徴とするフォトマスク描画データの検証方法である。
【００１１】
本発明の請求項２に係る発明は、
フォトマスクパターンの設計データと、該設計データに基づきフォトマスクパターン描画に適用される描画データから行なわれるフォトマスク描画データを検証する場合に、前記設計データと前記描画データから排他的論理和を差分データとして算出し、得られた該差分データについて、パターン描画のグリッドごとに前記設計データと比較参照して、前記描画データにおけるデータ異常検出を行うフォトマスク描画データの検証装置であって、
前記差分データを前記設計データと比較参照し、前記設計データと合致している前記差分データのうち、斜め線部とそれ以外の部分について、データ削除対象を描画装置の描画精度及び描画条件と、フォトマスクの製品仕様と、に基づいて変化させて、前記描画データにおけるデータ異常検出を行う演算手段を備えたことを特徴とするフォトマスク描画データの検証装置である。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、差分図形のデータの削減を、斜め線部と斜め線部以外部について、図形の差異によってデータ削除対象を変化させて行うことにより、データ検証の際の擬似差分図形の大幅な削減が可能となり、その結果、データ検証の際の差分図形の確認負荷が減ることでデータ検証の時間が大幅に削減出来るとともに、異常データの検出精度の向上を図ることが出来る。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】フォトマスク製品のデータの検証方法を示す図。
【図２】設計データと描画データから得られた排他的論理和のデータを示す図。
【図３】設計データが斜め線部を含む平行四辺形で、異常データが差分データとして発生する場合を示す図。
【図４】設計データが矩形形状のパターンの場合で、異常データが差分データとして発生する場合を示す図。
【図５】本発明に係るフォトマスク描画データを検証する場合の差分図形の消し込みフローを示す図。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
図５は本発明に係るフォトマスク描画データを検証する場合の差分図形の消し込みフローを示す図である。先ず、設計データと描画データのＸＯＲ処理（Ｓ１）を行った後、差分図形のデータと前記設計データを比較参照し（Ｓ１ａ）、グリッドサイズで消し込むことによって差分図形のグリッド以下の差分を消し込む（Ｓ２）。消し込み後の図形がない場合は（Ｓ３の無し）、異常データがなく正常として終了する。
【００１５】
一方、消し込み後の図形が有りの場合は（Ｓ３の有り）、ステップ（Ｓ４）以降に進む。ステップ（Ｓ４）では図形が斜め線部、または斜め線部以外を判別し、斜め線部の場合は（Ｓ４の斜め線部）、ステップ（Ｓ５）に移行する。斜め線部以外の場合は（Ｓ４の斜め線以外部）、ステップ（Ｓ７）に移行する。ステップ（Ｓ５）、（Ｓ６）とステップ（Ｓ７）、（Ｓ８）では、図形の差によって面積消しこみと、規格図形での消し込みの程度に差をつけて図形の消し込みを行う。
【００１６】
即ちステップ（Ｓ５）及び（Ｓ７）では指定サイズ以下の差分図形面積を持つ図形を削除する。
この場合の指定サイズとは、描画装置の描画精度と描画条件に基づくものであり、一般的に斜め線部は斜め線以外部よりも小さなサイズであることを指している。
【００１７】
ステップ（Ｓ６）及び（Ｓ８）では規格を考慮した大きさの差分の削除を行う。
この場合の規格とは、フォトマスク製品仕様に定められるフォトマスクの品質に影響を及ぼさない規格を指すもので、例えば、フォトレジストの露光や現像で解像されないサイズを指しており、この場合の規格は、一般的に斜め線部は斜め線以外部よりも小さなサイズであることを指している。
【００１８】
ステップ（Ｓ５）、（Ｓ６）及びステップ（Ｓ７）、（Ｓ８）で消し込みされた後の得られた図形の有無によって、図形がない場合は異常パターンがないと判断し、正常として終了する（Ｓ１０）。一方、図形がある場合は（Ｓ９の有り）、異常があると判断され、ユーザへの通知によって確認作業が行われる（Ｓ１１）。
【００１９】
上記差分図形の消し込みは、差分図形の消し込みプログラムを有する演算手段を備えたコンピュータによって実現することが出来る。
【００２０】
このように、斜め線部の図形消し込みにおいては、斜め線以外部よりも消し込みの大きさを指定サイズと規格サイズに基づいて小さくすることにより、図形の消し込みが行われるが、一方、斜め線以外部の差分図形は消し込まれないため、検証時に図形データ確認をすることが出来る。
【００２１】
このように本発明によるフォトマスク描画データの検証方法及びその検証装置によれば、差分図形のデータを斜め線部と斜め線以外部とに削除対象を変えて、データ検証することで擬似差分図形の大幅な削減が可能となり、差分図形の確認負荷が減ることで異常データの検出精度向上を図ることが可能となる。
【符号の説明】
【００２２】
１・・・設計データ（ＣＡＤデータ）
２・・・描画データ（ＥＢデータ）
３・・・検証用データ
１１・・・斜め線部を含む平行四辺形の設計データ
１２・・・１１を加工した描画データ
１３・・・１１と１２の差分データ（ＸＯＲデータ）
１５・・・斜め線部を含む平行四辺形の設計データ
１６・・・１５を加工した描画データ
１７・・・１５と１６の差分異常データ
２１・・・矩形形状のパターンの設計データ
２２・・・２１を加工した描画データ
２３・・・２１と２２の差分異常データ
【図１】
2013061451.tif 000003
【図２】
2013061451.tif 000004
【図３】
2013061451.tif 000005
【図４】
2013061451.tif 000006
【図５】
2013061451.tif 000007