【手続補正書】
【提出日】平成28年5月9日(2016.5.9)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
被覆表面を形成するために皮膜が基材の表面に塗布されている、被覆プロセスの成果物を検査するための方法であって、
（ａ）検査物として前記成果物を用意するステップと、
（ｂ）前記検査物から前記被覆表面の近傍のガス空間内にガス放出される少なくとも１種の揮発性種の濃度を測定するステップと、
（ｃ）前記検査物からガス放出される前記少なくとも１種の揮発性種の前記濃度が閾値を超える場合に前記皮膜の存在及び／又は前記皮膜の物理的及び／又は化学的特性を特定するステップと、
を含む、方法。
【請求項２】
前記皮膜の前記物理的及び／又は化学的特性が、
約１０００〜１０４０ｃｍ−１におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸長ピークの最大振幅と、
約１０６０〜約１１００ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸長ピークの最大振幅との間において、
０．７５を超える比率を有するＦＴＩＲ吸収スペクトルである、
請求項１に記載の方法。
【請求項３】
複数の異なる揮発性種がステップ（ｂ）において測定され、且つ好ましくは、前記検査物から放出される実質的に全ての前記揮発性種がステップ（ｂ）において測定される、請求項１又は２に記載の方法。
【請求項４】
前記揮発性種が前記基材から放出される揮発性の有機皮膜であり、前記検査が前記皮膜の存在又は欠如を特定するために実施される、請求項１〜３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項５】
ステップ（ｂ）が前記被覆表面の近傍の前記ガス空間内の有機ケイ素化合物の濃度を測定することによって実施される、請求項１〜４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項６】
前記皮膜の存在又は欠如を識別する、及び／又は前記皮膜の物理的及び／又は化学的特性を特定するのに有効な条件が、１時間未満、又は１分未満、又は５０秒未満、又は４０秒未満、又は３０秒未満、又は２０秒未満、又は１５秒未満、又は１０秒未満、又は８秒未満、又は６秒未満、又は４秒未満、又は３秒未満、又は２秒未満、又は１秒未満の検査時間を含む、請求項１〜５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項７】
測定するステップが光イオン化検出器（ＰＩＤ）を使用して実施される、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
測定するステップが紫外線光イオン化検出器を使用して実施される、請求項１〜７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項９】
測定するステップが、紫外線を使用してガス放出された種に照明し、生じた電流を測定することによって実施される、請求項１、７、又は８に記載の方法。
【請求項１０】
請求項１、７〜９のいずれか一項に記載の方法を実施するための装置。
【請求項１１】
被覆表面を形成するために皮膜が基材の表面に塗布されている、被覆プロセスの成果物を検査する方法であって、
（ａ）被覆前の重量を特定するために被覆プロセス前の前記基材を秤量するステップと、
（ｂ）前記基材の所定の面積に皮膜を塗布するのに有効な条件下で前記基材に被覆プロセスを施すステップと、
（ｃ）被覆後の重量を特定するために前記被覆プロセス後に前記基材を秤量するステップと、
（ｄ）前記被覆前の重量間の差を特定することによって前記皮膜の前記重量を決定するステップと、
（ｅ）前記被覆基材から前記被覆表面の近傍のガス空間内にガス放出される少なくとも１種の揮発性種の濃度を測定するステップと、
（ｆ）前記検査物からガス放出される前記少なくとも１種の揮発性種の前記濃度が閾値を超える場合に前記皮膜の存在及び／又は前記皮膜の物理的及び／又は化学的特性を特定するステップと、
を含む、方法。
【請求項１２】
前記特定された前記皮膜の重量、密度及び面積から前記皮膜の厚さを特定するステップを更に含む、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
前記被覆前の重量と前記被覆後の重量との間が所定の最小差未満である、又は前記被覆前の重量と前記被覆後の重量との間が所定の最大差を超えている任意の被覆基材を不合格にするステップを更に含む、請求項１１又は１２に記載の方法。
【請求項１４】
前記被覆前の重量と前記被覆後の重量との間の前記所定の最小差が、少なくとも厚さ２０ｎｍの皮膜に相当する、請求項１３に記載の方法。
【請求項１５】
前記皮膜の前記密度が、そのＦＴＩＲ吸収スペクトルを測定し、
約１０００〜１０４０ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ対称伸長ピークの最大振幅と、
約１０６０〜約１１００ｃｍ-1におけるＳｉ−Ｏ−Ｓｉ非対称伸長ピークの最大振幅との間の比率を特定することによって特定される、
請求項１１〜１４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１６】
前記基材が、高分子化合物、好ましくは、ポリエステル、ポリオレフィン、環式オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、環式オレフィン重合体（ＣＯＰ）、ポリカーボネート、又はこれらの組み合わせである、請求項１１〜１５のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１７】
前記皮膜が有機ケイ素化合物前駆体からＰＥＣＶＤによって調製された皮膜である、請求項１１〜１６のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１８】
前記皮膜が、ｘが約１．５〜約２．９である下地ＳｉＯxバリア皮膜の、４を超えるｐＨを有する水性組成物による溶解を防止することによって機能する、請求項１１〜１７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項１９】
前記基材が、前記被覆プロセス時にその内部表面が少なくとも部分的に被覆される壁によって画定された内腔を有する容器である、請求項１１〜１８のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２０】
請求項１１〜１９のいずれか一項に記載の方法を実施するための装置。
【請求項２１】
被覆表面を形成するために皮膜が基材の表面に塗布されている、被覆プロセスの成果物を検査するための方法であって、
（ａ）検査物として前記成果物を用意するステップと、
（ｂ）前記皮膜を二酸化炭素に接触させるステップと、
（ｃ）前記検査物から前記被覆表面の近傍のガス空間内への二酸化炭素の放出を測定するステップと、
（ｄ）ステップ（ｃ）の結果を同じ試験条件下で測定された少なくとも１つの基準物のステップ（ｃ）の結果と比較することにより、前記皮膜の存在又は欠如を特定するステップと、
を含む、方法。
【請求項２２】
前記基準物が非被覆基材である、請求項２１に記載の方法。
【請求項２３】
前記測定時、前記被覆表面の近傍の前記ガス空間がダクトを介して真空源と連通し、前記測定が前記ダクトと連通する測定室を使用することによって実施される、請求項２１又は２２に記載の方法。
【請求項２４】
前記基材が、高分子化合物、好ましくは、ポリエステル、ポリオレフィン、環式オレフィン共重合体（ＣＯＣ）、環式オレフィン重合体（ＣＯＰ）、ポリカーボネート、又はこれらの組み合わせである、請求項２１〜２３のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２５】
前記基材が、前記被覆プロセス時にその内部表面が少なくとも部分的に被覆される壁によって画定された内腔を有する容器である、請求項２１〜２４のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２６】
前記被覆容器壁からの二酸化炭素のガス放出を測定するために前記容器内腔と外部との間に圧力差が設けられる、請求項２５に記載の方法。
【請求項２７】
前記圧力差が前記容器内の前記ガス空間を少なくとも一部真空排気することによって設けられる、請求項２６に記載の方法。
【請求項２８】
前記皮膜の存在又は欠如を識別する、及び／又は前記皮膜の物理的及び／又は化学的特性を特定するのに有効な条件が、１時間未満、又は１分未満、又は５０秒未満、又は４０秒未満、又は３０秒未満、又は２０秒未満、又は１５秒未満、又は１０秒未満、又は８秒未満、又は６秒未満、又は４秒未満、又は３秒未満、又は２秒未満、又は１秒未満の検査時間を含む、請求項２１〜２７のいずれか一項に記載の方法。
【請求項２９】
請求項２１〜２８のいずれか一項に記載の方法を実施するための装置。