【手続補正書】
【提出日】平成28年10月13日(2016.10.13)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学装置を作製する方法であって、前記方法は、
複数の光学系を予め定められた波長または波長範囲の光を実質的に通す材料で構成されている基板の上に搭載するステップと、
光学系にそれぞれの焦点距離補正を提供するために、光学系のうちの少なくともいくつかの下で基板の厚さを調節するステップと、
次に、基板を複数の光学モジュールへと分離するステップとを含み、複数の光学モジュールは各々、基板の上に搭載された光学系のうちの１つ以上を含む、方法。
【請求項２】
基板の厚さを調節するステップは、
光学系の焦点距離の変動を補正するように、光学系のうちの少なくともいくつかの下に材料を除去するために、微細機械加工を使用するステップと、；
光学系の焦点距離の変動を補正するように、光学系のうちの少なくともいくつかの下に１つ以上の層を追加するステップとのうち少なくとも１つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
基板は、異なる材料の複数の層を含む、請求項１に記載の方法。
【請求項４】
基板の厚さを調節するステップは、光学系から最も遠い基板の層にそれぞれの穴を形成するステップを含む、請求項３に記載の方法。
【請求項５】
光学系を基板上に搭載するステップの前に、ウェーハレベルプロセスで光学系を作製するステップと、複数の光学系を形成するためにウェーハスタックを分離するステップとを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項６】
基板の表面は１つ以上の光学フィルター層を含み、前記方法は、１つ以上の光学フィルター層が位置する場所に光学系を搭載するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項７】
基板上に、クロスチャネル迷光減少素子を、光学系の隣り合うもの同士の間に設けるステップと、
基板を複数の光学モジュールへとダイシングするステップとを含み、複数の光学モジュールは各々、クロスチャネル迷光減少素子によって分離された、光学系のうちの２つを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項８】
クロスチャネル迷光減少素子はコーティング層の上のスペーサを含み、スペーサとコーティング層とは予め定められた波長または波長範囲の光に対して不透明である、請求項７に記載の方法。
【請求項９】
基板の表面は、１つ以上の光学フィルター層を含み、前記方法は、１つ以上の光学フィルター層上に光学系を搭載するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項１０】
１つ以上の光学フィルター層は、カラーフィルター層および／または赤外線フィルター層を含む、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
基板は、異なる材料の複数の層を含む、請求項７に記載の方法。
【請求項１２】
基板の１つ以上の底面にコーティングを設けるステップを含み、コーティングは予め定められた波長または波長範囲の光に対して不透明である、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
基板の区域によって変わる厚さを有する基板と、
基板の上に搭載された、複数の光学系とを含み、
光学系はそれぞれ、光学系のうちの少なくともいくつかに焦点距離補正を提供するように、基板の異なる区域の上に配置されている、機器。
【請求項１４】
基板の上に搭載されたすべての光学系の補正された焦点距離は、互いに実質的に同じである、請求項１３に記載の機器。
【請求項１５】
基板は、異なる材料の複数の層を含む、請求項１３に記載の機器。
【請求項１６】
基板の１つ以上の表面上にコーティングを含み、コーティングは予め定められた波長または波長範囲の光に対して不透明である、請求項１５に記載の機器。
【請求項１７】
基板上に、クロスチャネル迷光減少素子を、光学系の隣り合うもの同士の間に含む、請求項１３に記載の機器。
【請求項１８】
クロスチャネル迷光減少素子はコーティング層の上のスペーサを含み、スペーサとコーティング層とは予め定められた波長または波長範囲の光に対して不透明である、請求項１７に記載の機器。
【請求項１９】
隣り合う光学系が、互いに異なる光学特性を有するそれぞれのフィルター層上に搭載されている、請求項１７に記載の機器。
【請求項２０】
基板の第２の表面は１つ以上の光学フィルター層を含み、光学系は１つ以上の光学フィルター上に搭載されている、請求項１３に記載の機器。
【請求項２１】
１つ以上の光学層は、カラーフィルター層を含む、請求項２０に記載の機器。
【請求項２２】
１つ以上の光学フィルター層は、赤外線フィルター層を含む、請求項２０に記載の機器。
【請求項２３】
光学装置を作製する方法であって、前記方法は、
予め定められた波長または波長範囲の光を実質的に通す材料で構成された基板の第１の側に、複数の光学系を取付けるステップと、
基板の第２の側に、チャネルＦＦＬ補正層を設けるステップと、
光学系のうちの少なくともいくつかについてそれぞれの焦点距離変動を調節するように、チャネルＦＦＬ補正層の選択された部分を除去するステップとを含む、方法。
【請求項２４】
チャネルＦＦＬ補正層の選択された部分は、フォトリソグラフィー手法および／または微細機械加工によって除去される、請求項２３に記載の方法。
【請求項２５】
各光学系についてそれぞれの焦点距離を測定するステップと、
光学系について測定された焦点距離に基づいて、異なる位置で、チャネルＦＦＬ補正層のそれぞれの量を除去するステップとをさらに含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２６】
１つ以上の光学系を各々含む複数のモジュールを形成するために、基板をダイシングするステップを含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２７】
基板の第２の側に、スペーサを取付けるステップと、
光学系のＦＦＬ変動を補償するために、スペーサのうちの少なくともいくつかのそれぞれの高さを調節するステップとをさらに含む、請求項２３に記載の方法。
【請求項２８】
光学モジュールであって、
特定の波長または波長範囲の光を通す材料で構成された基板と、
基板の第１の側に取付けられた複数の光学系とを含み、各光学系はそれぞれの光軸を有し、光軸は基板と交差し、モジュールにおけるそれぞれの光学チャネルに対応しており、前記光学モジュールはさらに、
複数の光学フィルター層を含み、複数の光学フィルター層は各々、光軸のそれぞれと交差しており、前記光学モジュールはさらに、
基板上に配置されたスペーサを含み、スペーサは、特定の波長または波長範囲の光を実質的に通さず、前記光学モジュールはさらに、
チャネルＦＦＬ補正層を含み、光学系のうちの少なくとも１つの光学系の光軸は、チャネルＦＦＬ補正層と交差しており、前記光学モジュールはさらに、
基板の第２の側に取付けられた画像センサーを含む、光学モジュール。
【請求項２９】
複数の光学系の光軸はチャネルＦＦＬ補正層と交差しており、光軸によって交差されたチャネルＦＦＬ補正層のそれぞれの部分は、互いに異なる厚さを有する、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３０】
基板の第１の側または第２の側の少なくとも１つの上にＩＲフィルター層をさらに含む、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３１】
複数のカラーフィルター層は、ＩＲフィルター層上に配置されている、請求項３０に記載の光学モジュール。
【請求項３２】
異なる波長または波長範囲の通過を各々可能にする第１および第２のカラーフィルター層を含み、光学系のうちの第１の光学系の光軸は、第１のカラーフィルター層と交差し、光学系のうちの第２の光学系の光軸は、第２のカラーフィルター層と交差している、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３３】
基板の第２の側に、コーティングをさらに含み、コーティングは、特定の波長または波長範囲の光を実質的に通さず、１対の光学チャネル間に配置されている、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３４】
画像センサーから基板の第２の側を分離するスペーサをさらに含む、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３５】
光学装置を作製する方法であって、前記方法は、
複数の光学系を基板上に搭載するステップと、
光学系にそれぞれの焦点距離調節を提供するために、光学系のうちの少なくともいくつかの下で基板にそれぞれの穴を形成するステップと、
次に、基板を複数の光学モジュールへと分離するステップとを含み、複数の光学モジュールは各々、基板の一部の上に搭載された光学系のうちの１つを含む、方法。
【請求項３６】
その表面のうちの第１の表面に材料が除去された領域を有する基板と、
基板上で、その表面のうちの第２の表面上に搭載された、複数の光学系とを含み、第２の表面は、基板の第１の表面とは反対側にあり、光学系はそれぞれ、光学系の焦点距離の調節を提供するように、各穴の上の基板の区域上に配置されている、機器。
【請求項３７】
光学フィルター層は、ＩＲフィルター層を含む、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３８】
複数の光学フィルター層は、カラーフィルター層を含む、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項３９】
複数の光学フィルター層は、異なる色用の複数のカラーフィルター層を含む、請求項２８に記載の光学モジュール。
【請求項４０】
複数の光学フィルター層は、ＩＲフィルター層とカラーフィルター層とを含む、請求項２８に記載の光学モジュール。