【誤訳訂正書】
【提出日】平成27年10月23日(2015.10.23)
【誤訳訂正１】
【訂正対象書類名】明細書
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【発明の詳細な説明】
【発明の名称】カーボン基板上に金属酸化物の擬似キャパシタ材料を堆積することによって形成される複合電極を有するスーパーキャパシタ装置
【技術分野】
【０００１】
本発明は、スーパーキャパシタ装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
ウルトラキャパシタとしても知られるスーパーキャパシタは、従来のキャパシタと比較して非常に高い静電容量（及び故に非常に高いエネルギー密度）を有し、かつ電池に比べて非常に高い電力密度を有することを特徴とするエネルギー蓄積装置である。その高い静電容量及び高出力のおかげで、スーパーキャパシタは、幅広い用途において有効的なエネルギー蓄積及び電力供給装置であり得る。これらの用途は、家庭用電化製品、無線通信機器、電気自動車、及び燃料電池車の領域を含む。スーパーキャパシタは、急速なエネルギー放出及び／又は急速なエネルギー捕捉が必要とされる用途において特に有用である。従って、スーパーキャパシタは、電気自動車又はハイブリッド車において、加速をブーストしたり、制動エネルギーを捕捉するために使用される。
【０００３】
スーパーキャパシタは、電気二重層キャパシタ（ＥＤＬＣ）型、疑似キャパシタ型、及びハイブリッド型として分類することができる。ＥＤＬＣは、電極と電解質との間で電荷の移動なしに静電的に又は「非ファラデー的に（ｎｏｎ−Ｆａｒａｄａｉｃａｌｌｙ）」電荷を蓄積する。ＥＤＬＣ型における電極は、例えば、非常に高い表面積の炭素電極であり、当該炭素電極は、活性炭、カーボンナノチューブ、カーボンエアロゲル、カーボンナノファイバー、グラフェン、及びこれらの材料のうちの１つ以上を含有する様々な複合体であり得る。これらの材料の静電容量は、それらの表面積に大きく依存する。
【０００４】
ＥＤＬＣは、一般に、電力密度は高いが、エネルギー密度は低い。一方、疑似キャパシタは、いくらかの電力密度を犠牲にして、ＥＤＬＣよりも潜在的にはるかに高いエネルギー密度を有する。これらの現象の各々は、疑似キャパシタがエネルギーを蓄積及び放出するファラデー機構に関する。疑似キャパシタとして提案された材料の中には、様々な遷移金属酸化物（Ｖ２Ｏ５、ＲｕＯ２、ＭｎＯ２、ＴｉＯ２、及びＮｉＯなど）、Ｎｉ（ＯＨ）２、及びＴｉＳ２、ＢｅＴｅ３などのその他の遷移金属化合物、ならびにＳｎＯ２など特定の他の金属酸化物がある。ＥＤＬＣとは異なり、疑似キャパシタは、電極表面と電解質との間の電荷の移動を介して、エネルギーを蓄積及び放出する。この電荷移動機構は、ＥＤＬＣの物理的な電荷蓄積機構よりも遅く、これが、結果として、より低い電力密度をもたらすことになる。擬似キャパシタ材料は、高い電気抵抗を有する傾向がある。これは、高電力静電容量及びサイクル性能にとって有害である。加えて、擬似キャパシタ材料が非常に高い表面積を有するように（これは、実際に行うことは困難である）製造されたときにのみ、高エネルギー密度を得ることができる。その結果、より導電性が高く、高表面積の基板中に擬似キャパシタ材料を分散、又は該基板上に擬似キャパシタ材料をコーティングしたナノコンポジットを形成するための試みがなされた。
【０００５】
高表面積の疑似キャパシタを製造するという問題を克服するための方法として、またＥＤＬＣの高電力密度と擬似キャパシタの高エネルギー密度とを組み合わせる試みとして、ハイブリッドスーパーキャパシタが提案された。１つのアプローチでは、擬似キャパシタ材料のナノ粒子又はナノコーティングは、高表面積の炭素基板に塗布される。炭素基板は、非ファラデープロセスを介して静電容量を提供し、また擬似キャパシタ粒子のための導電性基板を提供する。例えば、Ｗａｎｇ  ｅｔ  ａｌ．による「Ｄａｌｔｏｎ  Ｔｒａｎｓ．」（２０１１，４０，６３８８）（グラフェン基板上のＣｅＯ２ナノ粒子）、及びＧｈｏｓｈ  ｅｔ  ａｌ．による「Ａｄｖ．Ｆｕｎｃｔ．Ｍａｔｅｒ．」（２０１１，２１，２５４１−２５４７）（カーボン−ナノファイバー紙上の３−１８ｎｍのＶ２Ｏ５コーティング）。
【０００６】
原子層堆積法（ＡＬＤ）は、他の基板のうち、高アスペクト比の基板及びナノ粒子上にコンフォーマルな薄膜を堆積することが可能である薄膜堆積技術である。ＡＬＤプロセスは、膜厚に対して精密な制御を可能にし、ほとんどの場合、基板に化学的に結合した膜を形成する。ＡＬＤ技術は、ＴｉＯ２−グラフェン複合体を製造するために使用されてきた。Ｍｅｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，「Ｃｏｎｔｒｏｌｌａｂｌｅ  ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ｏｆ  ｇｒａｐｈｅｎｅ−ｂａｓｅｄ  ｔｉｔａｎｉｕｍ  ｄｉｏｘｉｄｅ  ｎａｎｏｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ  ｂｙ  ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ」，Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ２２（２０１１）１６５６０２を参照のこと。Ｍｅｎｇ  ｅｔ  ａｌ．は、堆積温度及び塗布された二酸化チタンの量（実行された反応サイクル数で表現される）により、塗布された二酸化チタンの構造が変化したことを発見した。二酸化チタンは、最初に、２〜３ｎｍの粒子を形成する。より多くの反応サイクルが実行されるにつれて、粒子が成長し、最終的には連続膜を形成する。より低い堆積温度（１５０〜２００℃）は、アモルファス膜を製造する傾向があり、一方、より高い堆積温度（２００〜２５０℃）は、アナターゼ材料を形成した。Ｍｅｎｇは、複合体の電気化学的試験については何も記載していない。
【０００７】
本発明は、少なくとも２つの電極を含むスーパーキャパシタであり、ここで、各電極は、導電性の集電体と電気的に接触しており、前記電極は、離間しており、前記電極は、前記電極の間に介在し、かつ前記電極の各々と接触している電解質を有し、前記電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体であり、前記多孔性炭素物質の複合体は、原子層堆積プロセスによって、前記炭素物質上に堆積され、かつ前記炭素物質に化学的に結合された金属酸化物の擬似キャパシタ材料を有し、前記酸化物の擬似キャパシタ材料は、０.５〜２０ｎｍの粒子の形態又は０.５〜２５ｎｍの厚さを有する膜の形態であり、前記複合体の重量の２５〜９５％を構成し、前記複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する。
【０００８】
具体的な実施形態では、本発明は、少なくとも２つの電極を含むスーパーキャパシタであり、ここで、各電極は、導電性の集電体と電気的に接触しており、前記電極は、離間しており、前記電極は、前記電極の間に介在し、かつ前記電極の各々と接触している電解質を有し、前記電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体であり、前記多孔性炭素物質の複合体は、前記炭素物質上に堆積され、かつ前記炭素物質に直接的に又は中間官能化層を介して化学的に結合された０.１〜２０ｎｍの粒子又は０.１〜２０ｎｍの膜の第１の金属酸化物と、前記第１の金属酸化物とは異なり、前記第１の金属酸化物の粒子又は膜上に堆積され、かつ前記第１の金属酸化物に化学的に結合された金属酸化物の擬似キャパシタ材料とを有し、前記金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、０.５〜２０ｎｍの粒子の形態又は０.５〜２５ｎｍの厚さを有する膜の形態であり、前記複合体の重量の２５〜９５％を構成し、前記複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する。
【０００９】
スーパーキャパシタのすべての電極は、本明細書に記載されるような複合体から形成されていることが好ましい。
【００１０】
本発明のスーパーキャパシタは、高走査速度においてでさえ、優れた比容量を有することが分かった。
【図面の簡単な説明】
【００１１】
【図１】図１は、本発明のスーパーキャパシタの概略断面図である。
【図２】図２は、本発明に係る複合電極の顕微鏡写真である。
【図２Ａ】図２Ａは、本発明に係る複合電極の顕微鏡写真である。
【図３】図３は、本発明の複合電極及び比較電極について、走査速度に対する比容量を示すグラフである。
【図４】図４は、本発明の２つの電極と、比較電極とを比較するナイキストプロットである。
【図５】図５は、本発明の複合電極について、走査速度に対する比容量を示すグラフである。
【図６】図６は、本発明の複合電極についてのナイキストプロットである。
【図７】図７は、本発明の電極の実施形態の正面図である。
【図８】図８は、本発明の実施形態について、電気化学的サイクルの関数としての静電容量保持率を示すグラフである。
【図９】図９は、本発明のスーパーキャパシタの複合電極の断面図である。
【図１０】図１０は、本発明に係る複合電極の顕微鏡写真である。
【図１１】図１１は、本発明の複合電極及び複数の比較電極について、電流密度に対する比容量を示すグラフである。
【図１２】図１２は、本発明の１つの電極及び１つの比較電極について、サイクル数に対する静電容量維持率を示すグラフである。
【発明を実施するための形態】
【００１２】
図１は、本発明のスーパーキャパシタ５の実施形態の断面図である。電極２の各々は、隣接する集電体１と電気的に接触している。集電体１の各々は、典型的には、電気回路（図示せず）と電気的に接続されている。電気回路は、充電サイクル中にスーパーキャパシタ５の両端に電位を印加し、それによりエネルギーの蓄積に導き、エネルギーは、放電サイクル中に電気回路内に放出される。電極２は、互いに離間し、電解質３が電極２の間に介在しており、かつ電極２のそれぞれに接触している。図示の実施形態では、セパレータ４が電極２の間に介在している。セパレータ４は、電極２が互いに接触するのを防止するように機能し、それによって、短絡を防止する。他の方法で電極２が互いに電気的に接触することが制限されている場合には、セパレータ４を省略してもよい。
【００１３】
図１に示す実施形態は、２つの電極及び２つの集電体のみを含むが、特定のスーパーキャパシタの設計においては、より多くの電極を含むことが可能である。ここでは、各々の電極は、集電体と電気的に接触しており、各々の電極は、隣接する電極から離間しており、電解質が隣接する各々の対の電極の間に介在しており、かつ当該隣接する各々の対の電極と接触している。必要であれば、セパレータは、隣接する各々の対の電極の間にも介在される。周知のように、特定のスーパーキャパシタの設計は、様々な積層及び螺旋巻き設計（ｓｐｉｒａｌ−ｗｏｕｎｄ  ｄｅｓｉｇｎ）を含む。
【００１４】
集電体１は、金属等の導電性材料で作製される。金属のうち、アルミニウム、ニッケル、コバルト、鉄、銅、金、白金等すべてが適している。
【００１５】
電解質３は、スーパーキャパシタのための電荷貯蔵池（ｃｈａｒｇｅ  ｒｅｓｅｒｖｏｉｒ）を提供する材料である。電解質は、固体又は液体であり得る。電解質が液体である場合には、電解質は、電極材料の孔に入り、電荷蓄積のためのイオン電荷担体を提供する。
【００１６】
スーパーキャパシタにおける液体電解質は、水系電解液、有機電解液、又はイオン液体である。水系電解液の例としては、硫酸水溶液、水酸化カリウム水溶液、及び水酸化ナトリウム溶液が挙げられる。
【００１７】
動作電圧が約１ボルトを超えると予想されるときには、有機電解液が一般的には好ましい。有機電解液は、１つ以上の塩を溶解させた１つ以上の有機溶媒を含む。有機溶媒は、例えば、１つ以上の直鎖アルキルカーボネート、環状カーボネート、環状エステル、直鎖状エステル、環状エーテル、アルキルエーテル、ニトリル、スルホン、スルホラン、シロキサン、及びスルトンを含み得る。前述の種類のうちの任意の２つ以上の混合物を使用することができる。環状エステル、直鎖アルキルカーボネート、環状カーボネートは、好適な種類の非水溶媒である。好適な直鎖アルキルカーボネートは、ジメチルカーボネート、ジエチルカーボネート、メチルエチルカーボネート等を含む。好適な環状カーボネートは、エチレンカーボネート、プロピレンカーボネート、ブチレンカーボネート等を含む。適切な環状エステルは、例えば、γ−ブチロラクトン、及びγ−バレロラクトンを含む。
【００１８】
有機電解液中に溶解した塩は、例えば、テトラアルキルアンモニウム塩といった第四級アンモニウム塩、硫酸、水酸化カリウム、水酸化ナトリウム等との様々なアルカリ金属塩のうちの任意のものであってもよい。
【００１９】
高分子ゲル電解質もまた有用である。このような電解質の例としては、ポリウレタン−ＬｉＣＦ３ＳＯ３、ポリウレタン−過塩素酸リチウム、ポリビニルアルコール−ＫＯＨ−Ｈ２Ｏ、ポリ（アクリロニトリル）−リチウム塩、ポリ（アクリロニトリル）−第四級アンモニウム塩、及びポリ（エチレンオキシド）−グラフト化ポリ（メチル）メタクリレート−第四級アンモニウム塩を含む。さらに、エチレンカーボネート、及びプロピレンカーボネートなどの他の化合物もまた、ポリマーマトリックス中に組み込むことができる。
【００２０】
セパレータは、非導電性材料から好都合に構成される。動作条件の下で、セパレータは、電解液及び電解液の成分のいずれかと反応性または可溶性を有していてはならない。高分子セパレータが一般的には適している。セパレータを形成するのに適したポリマーの例としては、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン−１、ポリ−３−メチルペンテン、エチレン−プロピレン共重合体、ポリテトラフルオロエチレン、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリジメチルシロキサン、ポリエーテルスルホン等が挙げられる。
【００２１】
電解液は、セパレータを透過することができなければならない。このため、セパレータは、一般に多孔質であり、多孔質シート、不織布又は織布等の形態である、セパレータの空隙率は、一般的に２０％以上であり、最大９０％である。好ましい空隙率は、３０〜７５％である。孔は、一般的に０.５ミクロンより大きくなく、好ましくは最長寸法は０.０５ミクロンまでである。セパレータは、典型的には、少なくとも１ミクロンの厚さであり、最大５０ミクロンの厚さであってもよい。好ましい厚さは、５〜３０ミクロンである。
【００２２】
スーパーキャパシタの電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体である。当該多孔性炭素物質の複合体には、金属酸化物の擬似キャパシタ材料が堆積され、化学的に結合されている。金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、０.５〜２０ｎｍの粒子の形態又は０.５〜２５ｎｍの厚さを有する膜の形態であり、複合体の重量の２５〜９５％を構成する。複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する。
【００２３】
特定の実施形態では、スーパーキャパシタの電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体である。当該多孔性炭素物質の複合体は、炭素物質に直接的に又は中間官能化層（ｉｎｔｅｒｍｅｄｉａｔｅ  ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｚｉｎｇ  ｌａｙｅｒ）を介して化学的に結合された０.１〜２０ｎｍの粒子の形態又は０.１〜２０ｎｍの膜の形態で多孔性炭素物質の複合体に堆積した第１の金属酸化物と、第１の金属酸化物上に堆積され、当該第１の金属酸化物に化学的に結合された金属酸化物の擬似キャパシタ材料と、を有する。このような実施形態の金属酸化物の擬似キャパシタは、０.５〜２０ｎｍの粒子の形態又は０.５〜２５ｎｍの厚さを有する膜の形態であり、複合体の重量の２５〜９５％を構成する。このような実施形態の複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する。このような電極が図９に概略的に示されている。
【００２４】
図９において、電極６０は、簡略化のため、図９に孔のない平面部が図示されている多孔性炭素物質６１を含む。第１の金属酸化物層６３が多孔性炭素物質６１の表面上に堆積される。図示の実施形態では、層６３は、中間官能化層６２を介して炭素物質６１に化学的に結合されている。金属酸化物の擬似キャパシタ材料６４は、第１の金属酸化物層６３上に堆積され、第１の金属酸化物層６３に化学的に結合されている。
【００２５】
炭素物質は、例えば、活性炭、カーボンブラック、グラフェン、メソポーラスカーボン、炭素繊維、多孔質黒鉛、黒鉛化炭素、黒鉛粉末、配向性熱分解黒鉛、グラッシーカーボン、カーボンエアロゲル、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブなどであってもよい。炭素物質は、非酸化性雰囲気中における高温への暴露によって炭化されたポリマーであってもよいし、又は当該ポリマーを含んでもよい。このようなやり方で炭化することができるポリマーの例としては、例えば、ポリアクリロニトリル、フェノール樹脂、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ポリアセナフタレン、ポリアクリル酸塩、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ（ｐ−フェニレンテレフタルアミド）、ポリ−Ｌ−ラクチド、様々なポリイミド、ポリウレタン、ナイロン、ならびに、ポリ（アクリロニトリル−メチルアクリレート）、ポリ（アクリロニトリル−メチルメタクリレート）、ポリ（アクリロニトリル−イタコン酸−メチルアクリレート）、ポリ（アクリロニトリル−ビニルピリジン）、ポリ（アクリロニトリル−塩化ビニル）、及びポリ（アクリロニトリル−ビニルアセテート）などのポリアクリロニトリル共重合体が挙げられる。
【００２６】
炭素物質は、多孔質である。それは、例えば、泡、織布、不織布、マット又は絡合した繊維、圧縮された微粉（圧縮されたナノファイバー、ナノチューブ、剥脱層状物質等を含む）の形態であってもよい。金属酸化物層の堆積の前に、炭素物質は、例えば、窒素吸着／脱着等温線法（ＢＥＴ吸着法など）によって測定されるように、少なくとも５０ｍ２／ｇの表面積を有し得る。炭素物質は、少なくとも１００ｍ２／ｇ、好ましくは２５０ｍ２／ｇの表面積を有する。炭素物質は、最大約２６００ｍ２／ｇの表面積（完全に剥離されたグラフェンの理論上の表面積）の表面積を有してもよいが、典型的には、実践において約１５００ｍ２／ｇ又は１０００ｍ２／ｇを超えない。
【００２７】
金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、擬似静電容量を示す任意の金属酸化物であってもよい。金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、例えば、第３、４、５、６、７、８、９、１０、１１、又は１２族の金属又はスズの酸化物であってもよい。いくつかの実施形態における、この擬似キャパシタの金属酸化物は、遷移金属酸化物又は酸化スズである。いくつかの実施形態における金属は、元素の周期表の第４行目のメンバーである。第５及び６行目の酸化物を用いることができるが、これらは、はるかに重いので、これらの金属の酸化物が使用されるときには、比容量が著しく小さい。いくつかの実施形態における金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、ＭＯＺ形態をとり、ここで、Ｍは、原子価状態ｙ、及びｚ≧ｙ／２を有する金属を示す。特定の金属酸化物の例としては、例えば、バナジウム、クロム、モリブデン、チタン、ルテニウム、スズ、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、及び銅の酸化物が挙げられる。ニッケル−コバルト酸化物などの２つ以上の遷移金属の複合酸化物もまた有用である。
【００２８】
金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、０.５〜２０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍの粒子の形態で、又は０.５〜２５ｎｍ、好ましくは１〜２５ｎｍの厚さを有する膜の形態で存在する。粒子の形態の場合には、粒子は、より好ましくは１〜１０ｎｍの粒子、特に３〜１０ｎｍの粒子である。膜の形態の場合には、膜は、好ましくは２〜２０ｎｍ、特に２〜１２ｎｍの厚さを有する。
【００２９】
金属酸化物の擬似キャパシタ材料の堆積した粒子又は膜は、複合体の重量の２５〜９５％を構成する。より典型的な量は、複合体の重量の５０〜７５％である。
【００３０】
第１の金属酸化物が存在するときには、当該第１の金属酸化物は、０.１〜２０ｎｍの粒子、好ましくは０.２ｎｍ以上の粒子の形態、又は０.１〜２０ｎｍ、好ましくは０.２〜５ｎｍ、より好ましくは０.２５〜１ｎｍの厚さを有する膜の形態で炭素物質上に堆積される。この層は、好ましくは膜である。膜は、好ましくは、連続的かつコンフォーマルである。第１の金属酸化物は、好ましくは、後述するように、原子層堆積プロセスにより堆積し得るものである。第１の金属酸化物は、金属酸化物の擬似キャパシタ材料とは異なり、又は疑似キャパシタ材料自体であってもなくてもよい。第１の金属酸化物は、好ましくは、第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物である。金属は、例えば、Ｂｅ、Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｂａ、Ｓｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｚｎ、Ｃｄ、Ｈｇ、Ａｌ、Ｇａ，Ｉｎ、Ｇｅ，Ｓｎ、Ｐｂ、Ｓｂ、又はＢｉであってもよい。３２以下の原子量を有する金属の酸化物が好ましい。なぜなら、より重い金属は、電極の重量を著しく増加させ、それによって、比容量を減らすからである。いくつかの実施形態では、この酸化物は、典型的には、Ｍ１ＯＺ形態をとり、ここで、Ｍ１は、原子価状態ｙ、及びｚ≧ｙ／２を有する第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属を示す。アルミニウムが最も好ましい金属である。
【００３１】
第１の金属酸化物は、炭素物質上に堆積され、炭素物質に直接的に又は中間官能化層を介して化学的に結合され得る。いくつかの場合において、炭素物質自体は、その表面において第１の金属酸化物に結合するために十分な反応性基を欠いていてもよい。グラフェンは、例えば、それらの縁部又は欠陥において反応性基をしばしば有するが、平坦な表面上において反応性基を欠く剥離シートからなる。反応性基の欠如は、結果的に、第１の金属酸化物層の不規則なもしくは不完全な堆積又は結合をもたらしかねない。このような場合には、炭素物質と第１の金属酸化物層との間に中間官能化層を堆積してもよい。中間官能化層は、結合層（ｔｉｅ  ｌａｙｅｒ）として及び／又は単に炭素物質の表面に導入された官能基の層として理解することができる。中間官能化層は、炭素物質及び第１の金属酸化物層への化学結合を形成する。
【００３２】
中間官能化層は、それゆえ、わずか０.０５ｎｍの厚さを有する単原子層ほど小さくなり得る。中間官能化層は、２０ｎｍの厚さであってもよいが、好ましくは５ｎｍの厚さを超えず、より好ましくは１ｎｍ又は０．５ｎｍの厚さを超えない。
【００３３】
複合体は、窒素吸着／脱着等温線法（ＢＥＴ吸着法など）によって測定されるように、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する。グラム当たりの表面積は、一般的に出発炭素物質よりも、複合体の方がはるかに小さい。なぜなら、金属酸化物の擬似キャパシタ材料の重量が追加されるからである。故に、複合体の表面積は、典型的には、２００ｍ２／ｇを超えず、より典型的には２５〜１００ｍ２／ｇである。しかしながら、孔のサイズ及び孔の容積は、出発炭素物質のものからほとんど変化しない傾向がある。複合体は、典型的には、出発炭素物質に典型的である開口しそして相互接続された孔を有する。図２及び図２Ａは、例示的なものである。図２において、複合体２０は、孔２２を含有する部分的に剥離したグラフェンシート２１を含む。図２及び図２Ａの金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、図２Ａの高倍率図において見て分かるように、３〜１５ｎｍの粒子２３の形態で堆積される。
【００３４】
金属酸化物の擬似キャパシタ材料の粒子又は膜は、原子層堆積プロセスによって堆積される。原子層堆積プロセスでは、層は、２つ以上の気相反応物質の反応において堆積される。気相反応物質は、別々に交互に炭素物質と接触する。気相反応物質は、プロセスの状況下では、それら自体とは反応することができない。各反応物質は、基板の表面において反応し、各々が順番に堆積される材料の単層を形成する。過剰量の反応物質は、次の反応物質を導入する前に除去される。反応副生成物も同様に、薬剤（ｒｅａｇｅｎｔ）の連続導入の合間に除去される。この手順は、反応が気相内ではなく、基板の表面において起こることを確実にする。
【００３５】
過剰な反応物質を除去することをさらに助けるために、典型的には、反応物質を交互に供給する合間にパージガスが導入される。一般的にパージガスと同じであるが、必ずしもパージガスと同じではない（いつも同じ時とは限らない）キャリアガスが、各反応物が導入されている間に導入される。キャリアガスは、いくつかの機能を実行し得る。当該機能は、（１）過剰な反応物質及び反応副生成物の除去を促進することと、（２）反応ゾーンを通って反応物質を分配することにより、すべての基板表面を反応物質に露出させることを助けることと、（３）電極粒子にコーティングを行う場合には、すべての粒子表面が反応物質に暴露されるように粒状基板を流動化することと、を含む。パージガスは、原子層堆積法（ＡＬＤ）反応物質及び堆積されたコーティングと望ましくないようには反応せず、また、金属粒子の表面における互いの反応を妨害しない。
【００３６】
（２薬剤ＡＬＤ反応スキームにおける）反応物質を導入する典型的なパターンは、次のとおりである。
１.オプションとして、パージ／流動化ガスを導入する。
２.第１の薬剤、又はキャリアガスと第１の薬剤との混合物を導入する。
３．パージ／流動化ガスを導入し、及び／又は過剰量の第１の薬剤ならびに反応副産物を除去するために高真空にする。
４．第２の薬剤、又はキャリアガスと第２の薬剤との混合物を導入する。
５．パージ／流動化ガスを導入し、及び／又は過剰量の第２の薬剤ならびに反応副産物を除去するために高真空にする。
６．所望のコーティングの厚さが得られるまで工程２〜５を繰り返す。
このプロセスは、１つの反応サイクル内に任意の数の薬剤を含むように適合可能である。
【００３７】
反応条件は、主に、２つの基準を満たすように選択される。第１の基準は、薬剤が反応条件下で気体であることである。故に、反応物質が揮発するように温度及び圧力条件が選択される。第２の基準は、反応性基準である。気相薬剤（又は、反応開始時に、最初に導入された薬剤と粒子表面との）間で所望の反応が商業的に妥当な速度で起こるように条件、特に温度が選択される。
【００３８】
反応の温度は、２５０〜１０００Ｋの範囲であってよいが、好ましくは５００Ｋよりも高くない。好ましい温度範囲は、２７３から４７３Ｋである。基板は、膜を堆積するために使用される温度において熱的に安定しているべきであり、故に、いくつかの場合において、動作温度は、特定の基板に関連して選択されてもよい。
【００３９】
部分減圧が通常必要とされる。
【００４０】
反応の進行は、例えばフーリエ変換赤外分光法、オージェ電子分光法、水晶振動子マイクロバランス法、及び質量分析法などの技術を用いてモニターすることができる。
【００４１】
このような原子層堆積技術は、反応サイクルあたり約０.０１〜０.６ｎｍまでの厚さの堆積物の形成を可能にし、故に、堆積物の厚さに対して非常に精密な制御の手段を提供する。反応は、自己限定的であり、所望の厚さが達成されるまで、堆積される材料のさらなる層を連続して堆積するように反応を繰り返すことができる。
【００４２】
最初の２，３回の反応サイクル中に、薬剤の一方または他方が、炭素物質の表面上の官能基と反応して、炭素物質への化学結合を形成する。特定の炭素物質（グラフェン、単層カーボンナノチューブ、及び多層カーボンナノチューブなど）は、プレート境界又は欠陥においてのみ反応性部位と接触する。このため、第１の金属酸化物を堆積する前に、炭素物質上に中間官能化層を導入することが望ましい場合がある。これを達成する１つの方法は、ＮＯ２及び第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属を含有する前駆体を薬剤として使用して１つ以上のＡＬＤサイクルを行うことによって、表面反応性基（ｓｕｒｆａｃｅ  ｒｅａｃｔｉｖｅ  ｇｒｏｕｐ）を導入することである。このプロセスは、炭素質基板の表面上に反応性亜硝酸基を導入することができ、その上で炭素質基板上に第１の金属酸化物を堆積することができる。ＮＯ２及びアルミニウム前駆体を用いるこのような適切なプロセスは、一般的に、Ｆａｒｍｅｒ  ｅｔ  ａｌ．による「Ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｏｎ  ｓｕｓｐｅｎｄｅｄ  ｓｉｎｇｌｅ−ｗａｌｌｅｄ  ｃａｒｂｏｎ  ｎａｎｏｔｕｂｅｓ  ｖｉａ  ｇａｓ−ｐｈａｓｅ  ｎｏｎ−ｃｏｖａｌｅｎｔ  ｆｕｎｃｔｉｏｎａｌｉｚａｔｉｏｎ」（Ｎａｎｏ  Ｌｅｔｔｅｒｓ  ２００６（６）６９９−７０３）に記載されている。これは、参照により本明細書に組み込まれる。
【００４３】
第１の金属酸化物及び金属酸化物の擬似キャパシタ材料の堆積の各々は、以下のようにバイナリー（ＡＢ）反応シーケンス（ｂｉｎａｒｙ  ｒｅａｃｔｉｏｎ  ｓｅｑｕｅｎｃｅ）を用いて行うことができる。アスタリスク（＊）は、粒子又はコーティングの表面に存在する原子を示し、Ｚは、酸素又は窒素を表す。Ｍ１は、金属の原子であり、Ｘは、置換可能な求核性基である。以下に示す反応は平衡ではなく、表面反応（すなわち、層間反応または層内反応ではない）を示すことのみを意図している。
表面−Ｚ−Ｈ＊＋Ｍ１Ｘｎ  →  Ｍ−Ｚ−Ｍ１Ｘ＊＋ＨＸ                  （Ａ１）
表面−Ｚ−Ｍ１Ｘ＊＋Ｈ２Ｏ  →  Ｍ−Ｚ−Ｍ１ＯＨ＊＋ＨＸ              （Ｂ１）
反応Ａ１において、薬剤Ｍ１Ｘｎは、表面において１つ以上の表面＊−Ｚ−Ｈ基と反応して、−Ｍ１−Ｘ形態を有する新たな表面基を作成する。Ｍ１は、１つ以上のＺ原子を介して炭素物質の表面に結合される。−Ｍ１−Ｘ基は、１つ以上のヒドロキシル基を再生するために、反応Ｂ１において水と反応することができる部位を表す。反応Ｂ１に形成されたヒドロキシル基は、反応Ａ１及びＢ１を繰り返すことができる（毎回Ｍ１原子の新たな層を追加する）官能基として機能することができる。いくつかの場合において、ヒドロキシル基は、水として取り除くことが可能であり、それによって、層内又は層間のＭ１−Ｏ−Ｍ１結合を形成する。所望の場合には、例えば、高温及び／又は減圧圧力におけるアニーリングによってこの縮合反応を促進することができる。
【００４４】
式Ａ１及びＢ１によって記載された一般的なタイプのバイナリー反応は、Ｊ．Ｗ．Ｋｌａｕｓ  ｅｔ  ａｌ．，「Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｃｏｎｔｒｏｌｌｅｄ  Ｇｒｏｗｔｈ  ｏｆ  ＳｉＯ２  Ｆｉｌｍｓ  Ｕｓｉｎｇ  Ｂｉｎａｒｙ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｓｅｑｕｅｎｃｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」（Ａｐｐｌ．Ｐｈｙｓ．Ｌｅｔｔ．７０，１０９２（１９９７））、及びＯ．Ｓｈｅｈ  ｅｔ  ａｌ．，「Ａｔｏｍｉｃ  Ｌａｙｅｒ  Ｇｒｏｗｔｈ  ｏｆ  ＳｉＯ２  ｏｎ  Ｓｉ（１００）ａｎｄ  Ｈ２Ｏ  ｕｓｉｎｇ  ａ  Ｂｉｎａｒｙ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｓｅｑｕｅｎｃｅ」（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ３３４，１３５（１９９５））、Ａ．Ｃ．Ｄｉｌｌｏｎ  ｅｔ  ａｌ．，「Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ  ｏｆ  Ａｌ２Ｏ３  Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ  ｕｓｉｎｇ  Ａｌ（ＣＨ３）３  ａｎｄ  Ｈ２Ｏ  ｉｎ  ａ  Ｂｉｎａｒｙ  ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｓｅｑｕｅｎｃｅ」（Ｓｕｒｆａｃｅ  Ｓｃｉｅｎｃｅ  ３２２，２３０（１９９５））、Ａ．Ｗ．Ｏｔｔ  ｅｔ  ａｌ．，「Ａｌ２Ｏ３  Ｔｈｉｎ  Ｆｉｌｍ  Ｇｒｏｗｔｈ  ｏｎ  Ｓｉ（１００）Ｕｓｉｎｇ  Ｂｉｎａｒｙ  Ｒｅａｃｔｉｏｎ  Ｓｅｑｕｅｎｃｅ  Ｃｈｅｍｉｓｔｒｙ」（Ｔｈｉｎ  Ｓｏｌｉｄ  Ｆｉｌｍｓ  ２９２，１３５（１９９７））、Ｍｅｎｇ  ｅｔ  ａｌ．，「Ｃｏｎｔｒｏｌｌａｂｌｅ  ｓｙｎｔｈｅｓｉｓ  ｏｆ  ｇｒａｐｈｅｎｅ−ｂａｓｅｄ  ｔｉｔａｎｉｕｍ  ｄｉｏｘｉｄｅ  ｎａｎｏｃｏｍｐｏｓｉｔｅｓ  ｂｙ  ａｔｏｍｉｃ  ｌａｙｅｒ  ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ」（Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ２２（２０１１）１６５６０２）、Ｔｓａｐａｔｓｉｓ  ｅｔ  ａｌ．（１９９１）Ｉｎｄ．Ｅｎｇ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅｓ．３０：２１５２−２１５９、及びＬｉｎ  ｅｔ  ａｌ．，（１９９２），ＡＩＣｈＥ  Ｊｏｕｒｎａｌ  ３８：４４５−４５４においてより詳細に記載されている。
【００４５】
原子層堆積プロセスの結果は、複合電極材料であり、ここでは、金属酸化物の擬似キャパシタ材料が多孔性炭素物質上に、又は以前に堆積された第１の金属酸化物層の上に堆積され、それに化学的に結合される。これらの層（すなわち、金属酸化物の擬似キャパシタ材料及び第１の金属酸化物）は、典型的には、外側表面上に堆積するだけでなく、マクロ孔内にも堆積し、より重要なことには、メソ細孔内にも堆積する。このため、堆積された層は、炭素物質の三次元構造の全体にわたって堆積される傾向がある。
【００４６】
いくつかの場合において、ＡＬＤプロセスは、最初の反応サイクルにわたって、堆積された第１の金属酸化物の単離された「島」を形成する傾向があるかもしれない。「島」は、反応サイクルを繰り返すことによって、より大きなサイズに成長することができ、最終的には連続膜を形成するように融合する。このような島が形成される場合、ＡＬＤプロセスは、連続膜が生成される前に中止されてもよく、それによって、０.５〜２０ｎｍ、好ましくは１〜２０ｎｍ、特に１〜１０ｎｍの金属酸化物粒子を形成する。しかしながら、第１の金属酸化物の連続膜を形成することが好ましい。粒子が最初に形成される場合には、膜は、通常、より多くのＡＬＤ反応サイクルを実行することによって形成される。炭素質基板が十分な表面官能基を含有する（又は中間官能化層が塗布される）場合には、第１の金属酸化物は、高度に均一な態様で堆積する傾向があり、最初の２、３回の反応サイクル後に連続膜を形成する。
【００４７】
同様に、いくつかの場合では、最初に、金属酸化物の擬似キャパシタ材料が、単離された「島」形態で炭素物質上又は第１金属酸化物層上に堆積されてもよい。そのような場合には、連続膜が形成されるまでＡＬＤプロセスを繰り返すことができ、又は小粒子の形態の金属酸化物の擬似キャパシタ材料を残すようにＡＬＤプロセスを中止してもよい。
【００４８】
結果として得られた複合体は、任意の簡便なやり方で電極に形成することができる。複合体が粉末の形態である場合には、スラリーを形成するために、複合体は、１つ以上の結合剤材料、オプションとしてカーボンブラックなどの１つの導電材料、及び水、低級アルコール等の溶媒又は分散剤と都合よく組み合わせることができる。当該スラリーは、電流導体に塗布され、乾燥される。複合体は、マット、布、フェルト等であってよく（又はマット、布、フェルト等に形成されてもよく）、マット、布、フェルト等は、その後、任意の簡便な方法で集電体に取り付けられる。所望の場合には、例えば最大２００℃の温度で、結果として得られた電極に乾燥を施してもよい。乾燥工程は真空下で行ってもよい。
【００４９】
電極の形状に炭素物質を組立て、その後、原子層堆積法によって金属酸化物を堆積することによって複合体を形成することも可能である。これは、集電体に炭素物質を取り付ける前又後に行うことができる。
【００５０】
複合体は、電極に形成される前又は後に、（例えば、空気又は他の酸素含有ガスと接触させるなどによって）酸素に曝してもよい。酸素への暴露は、金属酸化物の擬似キャパシタ材料の堆積した粒子又は膜の表面における酸化状態を増大させることができ、これにより、電極の静電容量を増加させることができる
【００５１】
複合電極は、炭素物質それ自体よりも著しく大きい比容量を有する。これは、堆積した金属酸化物の擬似キャパシタ材料が複合体の静電容量に寄与していることを示す。複合電極の比容量の値は、金属酸化物擬似キャパシタ材料の負荷、存在する特定の金属酸化物擬似キャパシタ材料、粒径及び／又は膜厚、基板として使用される特定の炭素物質、などの様々な要因に依存して、大きく変動するが、複合電極の比容量は、しばしば７０Ｆ／ｇを超える。
【００５２】
本発明の特定の利点は、優れた比容量値が１５０ｍＶ／ｓまで、またはそれ以上の走査速度で見られることである。高い走査速度での比容量値は、比容量値がしばしば適応される高い充／放電速度における材料の性能の良い指標である。例えば、スーパーキャパシタは車両用電源システムにおいて重要であり、そこではスーパーキャパシタは、高電力密度を有するので、しばしば加速をブーストし、または一時的に高負荷（丘を登るなど）下で追加の電力を提供するために使用される。このような用途において、本発明で見られる高い放電速度での高い比容量は、大きな利点であり得る。同様に、これらの車両用スーパーキャパシタは、制動からエネルギーを捕捉するようにしばしば使用される；このエネルギーは、断続的に、大量に、かつ短期間、利用可能である。そのため、このエネルギーを効果的に捕捉するために高い充電速度での高比容量が必要とされる。
【００５３】
本発明のスーパーキャパシタは、自動車や他の車両におけるエネルギー供給／捕捉装置として；及び、幅広い電気及び電子機器の電力供給／蓄積装置として有用である。それらは、電動工具、コードレス電話、携帯電話、コンピュータ、パーソナルコンピューティングデバイス、携帯型電子ゲームプレーヤー、懐中電灯、電気シェーバーなどの再充電可能な製品のための充電器において特に有用である。
【００５４】
以下の実施例は本発明を説明するために提供されるが、本発明の範囲を限定するものではない。特に断らない限り、全ての比率（ｐａｒｔ）及び百分率は重量基準である。
【００５５】
＜実施例１〜４＞
濃縮されたＨ２ＳＯ４（１１５ｍＬ）とＮａＮＯ３（２.５ｇ）との混合物に黒鉛粉末（５ｇ）を添加し、氷浴中で撹拌する。ＫＭｎＯ４（１５ｇ）を添加し、混合物を３５℃で３０分間撹拌する。２３０ｍＬの脱イオン水をゆっくりと添加し、混合物の温度を１５分間で９８℃まで上昇させる。３ｍＬの３％過酸化水素と３５５ｍＬの脱イオン水との混合物を添加する。固体物質を遠心分離によって液体から回収し、過剰な脱イオン水、２０ｖｏｌ％のＨＣｌ及びエタノールで洗浄する。洗浄処理を３回繰り返す。結果として得られた黄褐色のグラフェン酸化物粉末を１２時間４０℃の真空下で乾燥させる。２００ｍｇの粉末を一端が封止された石英管のるつぼに入れる（ｌｏａｄｅｄ）。管をアルゴンでパージし、次いでゴム栓で封止する。密封した管を予熱した１０５０℃のオーブン内に入れ、そこで３０秒間保持して、膨張したグラフェン粉末を生成する。
【００５６】
粉末のサンプルを、１２時間１５０℃の真空下で加熱する。その後、処理した粉末の表面積をＱｕａｎｔａｃｈｒｏｍｅ  ＡＵＴＯＳＯＲＢ−１装置を用いて測定する。グラフェンの表面積は、４６７ｍ２／ｇである。
【００５７】
Ｘ線回折が、グラフェン粉末の別のサンプルに対して、ＰＡＮ分析的Ｘ線回折システム（ＰＡＮ  ａｎａｌｙｔｉｃａｌ  ｘ−ｒａｙ  ｄｉｆｆｒａｃｔｉｏｎ  ｓｙｓｔｅｍ）を使用して行われる。約２４°（２θ）における小さく広いピークは、剥離したグラフェンシートの幾分無秩序な層の重なりを示す。
【００５８】
実施例１の電極は、回転反応器内においてＡＬＤによってこのグラフェン材料の一部の上にＴｉＯｘを堆積することによって調製される。気相反応物質は、ＴｉＣｌ４及び水である。各反応サイクルは、以下の工程からなる：ｉ）１.０ＴｏｒｒになるようにＴｉＣｌ４を投与；ｉｉ）反応生成物及び過剰なＴｉＣｌ４の除去；ｉｉｉ）１.０ＴｏｒｒになるようにＨ２Ｏを投与；及びｉｖ）反応生成物及び過剰な水の除去。これらの工程の各々は、１８０℃で行われる。５０回の反応サイクルが行われる。
【００５９】
実施例２の電極は、１００回の反応サイクルが行われる以外は同様のやり方で行われる。２００ｋＶの動作電圧のＪＥＯＬ  ＪＥＭ−２０１０機器を用いて、実施例２において透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）画像を得た。２つの倍率レベルの画像が、図２及び２Ａをそれぞれ形成する。
【００６０】
実施例１及び２のＸ線回折研究の各々は、結晶化アナターゼＴｉＯを指し示す回折ピークを示す。このＴｉＯｘの存在はまた、Ｘ線元素分析及びＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって確認される。ＸＰＳスペクトルは、５３０.６、５３２及び５３３．３ｅＶのエネルギーに対応するピークを含み、それらはＴｉ−Ｏ、Ｃ−Ｏ及びＨ−Ｏ結合にそれぞれ割り当てられており、そしてそれらはグラフェンとＴｉＯｘ粒子との間の共有化学結合の形成を示す。この化学結合は、グラフェンネットワーク全体にわたって、及びグラフェンとＴｉＯｘ粒子との間で、高速な電子輸送を促進し得る。その化学結合はまた、複合体の化学的安定性を高めるはずである。
【００６１】
走査型電子顕微鏡（ＳＥＭ）及びＴＥＭによる分析は、グラフェン表面ならびにグラフェンのマクロ細孔内にＴｉＯｘ粒子が配置されており、このことが、グラフェン上へのＴｉＯｘ粒子の３次元分布につながることを示している。マクロ細孔内に粒子を配置する能力は、ＡＬＤ法に特有であると考えられている。実施例１の粒径は、約６ｎｍであり；実施例２の粒径は、約１０ｎｍである。
【００６２】
実施例１及び２の表面積は上記のように測定され、それぞれ１２０ｍ２／ｇ、４８ｍ２／ｇであることが分かった。単位重量当たりの表面積の減少は、主にＴｉＯｘの堆積によるサンプルの質量増加に起因する。実施例１及び２の細孔径分布は、体積パーセント（細孔幅の全細孔体積に対する比）に基づいて、類似している。これは、ＴｉＯｘ粒子が細孔構造を有意にブロックしていないことを示す。
【００６３】
電極は、実施例１及び実施例２の各々のグラフェンから、スラリーを形成するための少量のエタノールの存在下で活性物質、カーボンブラック、及びポリテトラフルオロエタンを８０：１０：１０の割合で混合することによって調製される。混合物は３０分間超音波処理され、次いで円形ニッケル発泡体（１.６ｃｍ２）の集電体上にペーストされる。次いで、サンプルは８０℃で一晩乾燥され、２０ＭＰａで圧縮される。様々な電極が、実施例１及び実施例２の各々のグラフェンから様々な質量負荷において作製される。
【００６４】
電極の電気化学的特性が、Ｐｒｉｃｅｔｏｎ  Ａｐｐｌｉｅｄ  ＲｅｓｅａｒｃｈからのＶｅｒｓａＳＴＡＴ４ポテンショスタットを使用して、１ＭのＫＯＨ溶液中で−０.０５Ｖから０.５Ｖまでの電圧範囲で飽和カロメル電極に対してサイクリックボルタンメトリーによって評価される。１０ｍＶ／ｓから１５０ｍＶ／ｓまで走査速度を変化させる。グラフェン電極は、０.８５ｍｇ／ｃｍ２のグラフェン負荷（ｇｒａｐｈｅｎｅ  ｌｏａｄｉｎｇ）を有する。実施例１及び２の物質を保持する電極は、０.７ｍｇ／ｃｍ２のＴｉＯｘ負荷を有する。比容量を計算し、結果を図３にグラフで示す。図３に見られるように、実施例１及び２の比容量は各々、いずれの走査速度においてもグラフェン電極の比容量よりもはるかに大きい。重要なことは、実施例１及び２の各々は、１５０ｍＶ／ｓの走査速度においてでさえ、約４０Ｆ／ｇの比容量を示す。
【００６５】
図４は、グラフェン電極と、実施例１及び実施例２の電極とを比較するナイキストプロットである。各々の場合において、曲線のほぼ垂直形状は、理想的なキャパシタのものに一致する。複合電極（実施例１及び２）の曲線は、グラフェンの曲線に重なる。これは、複合電極がグラフェンの良好なインピーダンスを維持することを示す。
【００６６】
２つのさらなる電極（実施例３及び４）が、実施例２の複合体を使用して、同じやり方で作製される。それぞれのニッケル集電体に対する実施例２の材料の負荷は、それぞれ、１.５６と３.２２ｍｇ／ｃｍ２である。これらの電極の各々の電気化学的性能は、上述のように決定される。結果を図５（走査速度の関数としての比容量）及び図６（ナイキストプロット）に示す；両方の場合とも、実施例２の結果が比較のために繰り返されている。
【００６７】
図５に見られるように、比容量は、１０ｍＶ／ｓの走査速度において実施例２〜４のすべてについて非常に似ている。実施例３及び４は、より高い走査速度においてわずかに低い静電容量を示す。図６は、より大きいＴｉＯｘ負荷でも、インピーダンスが有意に変化しないことを示す。
【００６８】
実施例２の電極は、その静電容量を維持する能力を評価するために、２Ａ／ｇで１０００サイクルされる。結果を図８にグラフで示す。見て分かるように、この電極は、１０００サイクル後に、その初期静電容量の８７.５％を保持する。この性能は、他のＴｉＯｘ複合電極について報告されたよりも有意に良好である。
＜実施例５＞
【００６９】
グラッシーカーボン基板上における酸化マンガンの成長を確認するために、以下に記載するように、１００サイクルのＭｎＯＸで正方形のグラッシーカーボン（Ａｌｆａ  Ａｅｓａｒ）がコーティングされ、そして様々なスパッタリング時間後にＸ線光電子分光法（ＸＰＳ）を用いて検査される。ＸＰＳスペクトルは、厚さ約７０ÅのＭｎＯＸ層の堆積、又は約０.７Å／ＡＬＤ反応サイクルの堆積速度をはっきりと示す。ＭｎＯＸ層は、離散粒子ではなくむしろ連続膜の形態をとる。
【００７０】
厚さが１ｍｍのグラッシーカーボン基板を０.１±０.０１ｃｍ２の断面積の正方形に切断する。図７に示すような電極が、これらの正方形のグラッシーカーボンから作製される。正方形のグラッシーカーボン基板７３の底面はテープ７５で覆われる。導電性エポキシ層７２を用いて正方形のグラッシーカーボン基板７３にワイヤ７１が接着され、電気絶縁性エポキシ層７４を用いて底面を除く組立体のすべての面がコーティングされる。その後、テープ７５が除去される。
【００７１】
これらの電極は、その後、２００℃の粘性流動反応器（ｖｉｓｃｏｕｓ  ｆｌｏｗ  ｒｅａｃｔｏｒ）内で原子層堆積法（ＡＬＤ）を使用して、酸化マンガン（ＭｎＯＸ）をコーティングされる。酸化マンガン（ＭｎＯＸ）は、ビス（エチルシクロペンタジエニル）マンガン（Ｂ（ＥＣＰ）Ｍｎ））及び水を前駆体とする。堆積は、ａ：ｂ：ｃ：ｄが１：６０：１：６０のタイミングシーケンスからなるサイクルで行われる。ここで、ａは、Ｂ（ＥＣＰ）Ｍｎの投与の長さであり、ｂは、窒素パージの長さであり、ｃは、水の投与の長さ、ｄは、窒素パージの長さであり、すべて秒単位である。Ｂ（ＥＣＰ）Ｍｎ及び水の投与は共に、ベース圧より約１００ｍｔｏｒｒ高い。２５、５０、１００サイクル（実施例５Ａ、５Ｂ及び５Ｃ）の酸化マンガンＡＬＤによるグラッシーカーボン電極が作製される。
【００７２】
電解質に接触する電極ワイヤの一部および及び底面を除く電極のすべての面が、マニキュアでコーティングされ、硬化される。その後、製造した電極のサイクリックボルタンメトリーが、０.１ＭのＮａ２ＳＯ４電解液中で、アルゴンによる連続パージ下で、白金対電極及びＡｇ／ＡｇＣｌ参照電極を用いて行なわれた。サイクリックボルタモグラムが、０（比較サンプルＡ）、２５、５０、及び１００ＡＬＤサイクルのＭｎＯＸを有する電極に対して、４００ｍＶ／ｓｅｃの走査速度で連続して３回測定される。静電容量が単位面積の関数として計算され、ＭｎＯＸの単位質量が計算される。
結果は、表１に示す通りである。
【００７３】
【表１】
2015502033.tif 000001
【００７４】
このデータは、ＭｎＯＸ膜の最適な厚さが１７Å〜７０Åの間であり得ることを示唆する。
＜実施例６〜９＞
【００７５】
実施例６の電極が、回転反応器での原子層堆積法により、約４６７ｍ２／ｇの表面積を有するグラフェン上にＮＯ２／アルミニウム中間層を堆積することによって調製された。調製は、Ｃａｖａｎａｇｈ  ｅｔ  ａｌ．（Ｎａｎｏｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ  ２０（２００９）２５５６０９）に記載の一般的な方法を用い、ＮＯ２及びトリメチルアルミニウムを薬剤として使用した。この中間層は、０.５ｎｍ未満の厚さである。その後、トリメチルアルミニウム及び水を前駆体として使用してＡＬＤによって、厚さ約０.５ｎｍのアルミナ層が適用される。ＴｉＯｘ膜が回転反応器でのＡＬＤにより、アルミナ層の上に堆積される。気相反応物質は、ＴｉＣｌ４及び水である。各反応サイクルは、以下の工程からなる：ｉ）ＴｉＣｌ４を１．０Ｔｏｒｒになるように投与；ｉｉ）反応生成物及び過剰なＴｉＣｌ４の除去；ｉｉｉ）Ｈ２Ｏを１．０Ｔｏｒｒになるように投与；及びｉｖ）反応生成物及び過剰な水の除去。これらの工程の各々を１８０℃で行う。実施例６については、２５回の反応サイクルを行う。実施例７については、５０回の反応サイクルを行う。実施例６のＴｉＯｘ膜厚は、約５ｎｍであり；実施例７のＴｉＯｘ膜厚は、約１０ｎｍである。
【００７６】
実施例７について、走査電子顕微鏡（ＳＥＭ）画像を得る。ＳＥＭ画像は、図１０を形成する。図１０に見られるように、ＳＥＭ画像は、連続的かつ高度にコンフォーマルなＴｉＯｘ膜が、メソ細孔内においてでさえ、グラフェンのすべての露出した表面上に形成されたことを示す。
【００７７】
実施例６及び７のＸ線回折の研究の各々は、ＴｉＯｘが、アモルファス層として堆積したことを示す。ＴｉＯｘのこの存在はまた、Ｘ線光電子分光法（ＸＰＳ）によって確認される。
【００７８】
実施例６及び７の表面積を上記のように測定し、それぞれ、１３１.５ｍ２／ｇ及び９１.４ｍ２／ｇであることが分かった。単位重量あたりの表面積の減少（グラフェンに対して）は、アルミナ及びＴｉＯｘ層の堆積によるサンプルの質量増加に主に起因する。ＳＥＭ画像は、塗布された膜が細孔構造を有意にブロックしていないことを示す。
【００７９】
実施例６、及び実施例７の各々のグラフェンからの電極は、スラリーを形成するための少量のエタノールの存在下で、活性物質、カーボンブラック、及びポリテトラフルオロエチレンを８０：１０：１０の割合で混合することによって調製される。混合物を３０分間超音波処理し、次いで円形ニッケル発泡体（１.６ｃｍ２）の集電体上にペーストされる。次いで、サンプルを８０℃で一晩乾燥させ、２０ＭＰａで圧縮する。様々な電極が、実施例６、及び実施例７のグラフェンの各々から様々な質量負荷で作製される。
【００８０】
電極の電気化学的特性は、Ｐｒｉｃｅｔｏｎ  Ａｐｐｌｉｅｄ  ＲｅｓｅａｒｃｈからのＶｅｒｓａＳＴＡＴ４ポテンショスタットを使用して、１ＭのＫＯＨ溶液中で−０.０５Ｖから０.４５Ｖまでの電圧範囲での、飽和カロメル電極に対する定電流充電／放電によって評価される。電流密度を１Ａ／ｇから１０Ａ／ｇまで変化させる。全ての電極の質量負荷を１ｍｇ／ｃｍ２から２ｍｇ／ｃｍ２の間で制御する。比容量を計算し；結果を図１１にグラフで示す。図１１において、白丸４４は、指定した電流密度における実施例６の比容量値を示し；白三角４２は、同じ電流密度における実施例７の比容量値を示す。比較のために、未処理のグラフェンから作製された電極の電気化学的特性を同じやり方で測定する。この結果を白四角４７によって図１１に示す。図１１に見られるように、実施例６及び７の比容量の各々は、いずれの電流密度においてグラフェン電極の比容量よりもはるかに大きい。実施例７の比容量値は、実施例６の場合よりもはるかに大きい。
【００８１】
実施例６及び７について記載するような一般的なやり方で、８ｎｍの単層カーボンナノチューブを中間官能化層、アルミナ層、及びＴｉＯｘでコーティングする。２５回のＴｉＯｘ  ＡＬＤ反応サイクルを用いて実施例８を形成し、５０回のＴｉＯｘ  ＡＬＤ反応サイクルを用いて実施例９を形成する。出発ナノチューブ、実施例８、及び実施例９の表面積は、それぞれ、４１２ｍ２／ｇ、５０ｍ２／ｇ、２９ｍ２／ｇである。コーティングしたナノチューブと、比較のためにコーティングしていないナノチューブとを使用して、３つのさらなる電極を同様のやり方で作製する。これらの電極の各々の電気化学的性能は、これまでとおりに決定される。結果を図１１に示す。図１１において、黒四角４５は、示した電流密度における、コーティングしていないナノチューブの比容量値を示し、一方、実施例８及び９の比容量値を、それぞれ、黒丸４３及び黒三角４１によって示す。実施例８及び９の各々の比容量値は、対照よりも高く；実施例９の比容量値は、実施例８の比容量値よりも有意に高い。
【００８２】
さらに比較として、１つの電極が、７０重量％の３２ｎｍのＴｉＯ２ナノ粒子と、２０重量％のカーボンブラックと、１０重量％のポリテトラフルオロエチレンとを前述の一般的なやり方で組み合わせることによって作製される。比容量は、これまでとおり測定され、結果を図１１の菱形４６で示す。見て分かるように、グラフェンに化学的に結合していないＴｉＯ２ナノ粒子を含むことは、コーティングしていないグラフェンと比較しても比容量の損失をもたらす。
【００８３】
実施例１０の電極は、その静電容量を維持する能力を評価するために、２Ａ／ｇで１０００サイクルされる。結果を図１２に白丸５０で示す。見て分かるように、この電極は、１０００サイクル後に、その初期静電容量のすべてを実質的に保持する。この性能は、（黒丸５１で示すように）コーティングしていないナノチューブのそれに匹敵する（ただ、コーティングしていないナノチューブは、はるかに低い初期比容量を有する）。
【誤訳訂正２】
【訂正対象書類名】特許請求の範囲
【訂正対象項目名】全文
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
少なくとも２つの電極を含むスーパーキャパシタであって、各電極は、導電性の集電体と電気的に接触しており、前記電極は、離間しており、前記電極は、前記電極の間に介在し、かつ前記電極の各々と接触している電解質を有し、前記電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体であり、前記多孔性炭素物質の複合体は、前記炭素物質上に堆積され、かつ前記炭素物質に化学的に結合された金属酸化物の擬似キャパシタ材料を有し、前記酸化物の擬似キャパシタ材料は、０.５ｎｍ〜２５ｎｍの厚さを有する連続した、コンフォーマルな膜の形態であり、前記複合体の重量の２５〜９５％を構成し、前記複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する、スーパーキャパシタ。
【請求項２】
少なくとも２つの電極を含むスーパーキャパシタであって、各電極は、導電性の集電体と電気的に接触しており、前記電極は、離間しており、前記電極は、前記電極の間に介在し、かつ前記電極の各々と接触している電解質を有し、前記電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体であり、前記多孔性炭素物質の複合体は、前記炭素物質上に堆積され、かつ前記炭素物質に化学的に結合された遷移金属酸化物又は酸化スズを有し、前記遷移金属酸化物又は酸化スズは、１ｎｍ〜２５ｎｍの厚さを有する連続した、コンフォーマルな膜の形態であり、前記複合体の重量の２５〜９５％を構成し、前記複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する、スーパーキャパシタ。
【請求項３】
前記連続した、コンフォーマルな膜の形態の金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、少なくとも１つの単層の前記金属酸化物の擬似キャパシタ材料を有する、請求項１に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項４】
前記遷移金属酸化物又は酸化スズは、２ｎｍ〜１２ｎｍの厚さを有する連続した、コンフォーマルな膜の形態で前記多孔性炭素物質上に堆積される、請求項２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項５】
前記炭素物質は、前記遷移金属酸化物又は酸化スズが堆積される前に、少なくとも１００ｍ２／ｇの表面積を有する、請求項２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項６】
前記炭素物質は、活性炭、カーボンブラック、グラフェン、メソポーラスカーボン、炭素繊維、黒鉛粉末、配向性熱分解黒鉛、メソポーラスカーボン、多孔質黒鉛、黒鉛化炭素、グラッシーカーボン、カーボンエアロゲル、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブのうちの１つ以上から選択される、請求項２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項７】
前記炭素物質は、グラフェン、単層カーボンナノチューブ、及び多層カーボンナノチューブから選択される、請求項２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項８】
前記遷移金属酸化物または酸化スズは、バナジウム、クロム、モリブデン、チタン、ルテニウム、スズ、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、又は銅の酸化物である、請求項２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項９】
前記遷移金属酸化物または酸化スズは、ＭＯＺ形態であり、ここで、Ｍは、原子価状態ｙ、及びｚ≧ｙ／２を有する遷移金属を示す、請求項８に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１０】
前記電解質は、水系電解液、有機電解液、又はイオン液体である、請求項１または２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１１】
少なくとも２つの電極を含むスーパーキャパシタであって、各電極は、導電性の集電体と電気的に接触しており、前記電極は、離間しており、前記電極は、前記電極の間に介在し、かつ前記電極の各々と接触している電解質を有し、前記電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体であり、前記多孔性炭素物質の複合体は、前記炭素物質上に堆積され、かつ前記炭素物質に直接的に又は中間官能化層を介して化学的に結合された０.１ｎｍ〜２０ｎｍの連続した、コンフォーマルな膜の第１の金属酸化物と、前記第１の金属酸化物とは異なり、前記第１の金属酸化物の連続した、コンフォーマルな膜上に堆積され、かつ前記第１の金属酸化物に化学的に結合された金属酸化物の擬似キャパシタ材料と、を有し、前記金属酸化物の擬似キャパシタ材料は、０.５ｎｍ〜２５ｎｍの厚さを有する連続した、コンフォーマルな膜の形態であり、前記複合体の重量の２５〜９５％を構成し、前記複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する、スーパーキャパシタ。
【請求項１２】
少なくとも２つの電極を含むスーパーキャパシタであって、各電極は、導電性の集電体と電気的に接触しており、前記電極は、離間しており、前記電極は、前記電極の間に介在し、かつ前記電極の各々と接触している電解質を有し、前記電極のうちの少なくとも１つは、多孔性炭素物質の複合体であり、前記多孔性炭素物質の複合体は、前記炭素物質上に堆積され、かつ前記炭素物質に直接的に又は中間官能化層を介して化学的に結合された０.１ｎｍ〜２０ｎｍの連続した、コンフォーマルな膜の第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物と、前記第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物の連続した、コンフォーマルな膜上に堆積され、かつ前記第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物に化学的に結合された遷移金属酸化物又は酸化スズと、を有し、前記遷移金属酸化物又は酸化スズは、１ｎｍ〜２５ｎｍの厚さを有する連続した、コンフォーマルな膜の形態であり、前記複合体の重量の２５〜９５％を構成し、前記複合体は、少なくとも２５ｍ２／ｇの表面積を有する、スーパーキャパシタ。
【請求項１３】
第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物の連続した、コンフォーマルな膜上に堆積される、前記遷移金属酸化物又は酸化スズの連続した、コンフォーマルな膜は、２ｎｍ〜２０ｎｍの厚さを有する、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１４】
第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物の連続した、コンフォーマルな膜上に堆積される、前記遷移金属酸化物又は酸化スズの連続した、コンフォーマルな膜は、２ｎｍ〜１２ｎｍの厚さを有する、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１５】
前記多孔性炭素物質上に堆積される、前記第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物の連続した、コンフォーマルな膜は、０．５ｎｍ〜５ｎｍの厚さを有する、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１６】
中間官能化層が、前記多孔性炭素物質と前記第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物の連続した、コンフォーマルな膜との間に、挿入される、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１７】
前記炭素物質は、活性炭、カーボンブラック、グラフェン、メソポーラスカーボン、炭素繊維、黒鉛粉末、配向性熱分解黒鉛、多孔質黒鉛、黒鉛化炭素、グラッシーカーボン、カーボンエアロゲル、単層カーボンナノチューブ、多層カーボンナノチューブのうちの１つ以上から選択される、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１８】
前記炭素物質は、グラフェン、単層カーボンナノチューブ、及び多層カーボンナノチューブから選択される、請求項１７に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項１９】
前記遷移金属酸化物又は酸化スズは、バナジウム、クロム、モリブデン、チタン、ルテニウム、スズ、マンガン、ニッケル、コバルト、鉄、又は銅の酸化物である、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項２０】
前記遷移金属酸化物又は酸化スズは、ＭＯＺ形態であり、ここで、Ｍは、原子価状態ｙ、及びｚ≧ｙ／２を有する遷移金属を示す、請求項１８に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項２１】
前記電解質は、水系電解液、有機電解液、又はイオン液体である、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【請求項２２】
前記第２、３、１２、１３、１４、又は１５族の金属酸化物は、酸化アルミニウムである、請求項１２に記載のスーパーキャパシタ。
【誤訳訂正３】
【訂正対象書類名】図面
【訂正対象項目名】図９
【訂正方法】変更
【訂正の内容】
【図９】
2015502033.tif 000002