【手続補正書】
【提出日】平成27年11月17日(2015.11.17)
【手続補正１】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
下記の逐次の工程：
ａ）下記を含むスリップを調製すること、
溶媒、
添加剤、
スリップに基づく体積％として４％超の、セラミック粒子で形成された粉末
ｂ）任意的に、待機時間を置くこと、
ｃ）任意的に、上記スリップを型に注入することおよび／または上記スリップ中に存在する気泡を除去すること、
ｄ）上記スリップを配向凍結させて、壁によって隔てられた氷晶を含むブロックを形成すること、
ｅ）任意的に、上記凍結されたスリップブロックを型から取り出すこと、
ｆ）任意的に型から取り出された上記凍結されたスリップブロックから氷晶を、好ましくは昇華により、除去して多孔性プリフォームを得ること、
ｇ）該添加剤を除去して、予備成形されたメソ多孔性生成物すなわちプリフォームを得ること、
ｈ）任意的に、工程ｆ）またはｇ）の終わりに得られた多孔性プリフォームを焼結して、焼結されたメソ多孔性生成物を得ること、
ｉ）任意的に、上記焼結されたメソ多孔性生成物を機械加工することおよび／または含浸させること、
を含む、メソ多孔性生成物の製造法であって、
上記セラミック粒子は、部分的にまたは完全に、等価量の、粒子の前駆体で置き換えられることが可能であり、上記方法は、上記粒子の前駆体が工程ｇ）の前にセラミック粒子に転化されるように調整され、
該添加剤（メソ孔形成性添加剤と称される）および添加剤の量は、上記添加剤が上記壁においてメソ孔形成性ミセル相中に、好ましくは組織化されたメソ孔形成性ミセル相中に存在するように選択され、
上記セラミック粒子の２５体積％超が、上記メソ孔形成性ミセル相のミセルの大きさの２倍未満の大きさを示す、
ところの方法。
【請求項２】
添加剤および添加剤の量が、該添加剤が上記壁において、組織化されたメソ孔形成性ミセル相に存在するように選択される、および／または添加剤および溶媒の量が、該添加剤が、凍結されていないスリップにおいて、組織化されたメソ孔形成性相中に存在しないように調整される、請求項１に記載の方法。
【請求項３】
工程ｇ）において、該添加剤が、焼結温度よりも低い温度での熱処理によって、または該添加剤を溶解し得る物質を使用する抽出によって、除去される、請求項１または２に記載の方法。
【請求項４】
溶媒が５０％超の水を含む、および／または溶媒の量が、スリップに基づく体積％として、６０％超である、請求項１〜３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項５】
スリップが、スリップに基づく体積％として、１０％超および／または４０％未満のセラミック粒子を含む、請求項１〜４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項６】
セラミック粒子の５０体積％超が、該添加剤のミセルの大きさより小さい大きさを示す、請求項１〜５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項７】
上記粒子の９０体積％超が１０μｍ未満の大きさを示す、請求項１〜６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項８】
上記壁における該添加剤の体積割合が、１０％超かつ９５％未満である、請求項１〜７のいずれか１項に記載の方法。
【請求項９】
添加剤が、下記：
陰イオン性界面活性剤およびそれらの混合物、
陽イオン性界面活性剤およびそれらの混合物、
非イオン性界面活性剤およびそれらの混合物、
両性界面活性剤およびそれらの混合物、
ならびにそれらの混合物、
から成る群から選択される、請求項１〜８のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１０】
添加剤が、下記：
カルボキシレート、
スルフェート、
スルホネート、
ホスフェート、
アルカンスルホン酸塩、
アルキル硫酸塩、
Ｎ−アルキルスルファミン酸塩、
アルキルスルフィン酸塩、
Ｓ−アルキルチオ硫酸塩、
ホスホネート塩、
リン酸モノエステル塩、
ホスフィネート塩、
ニトロアミド塩、
トリスルホニルメチド塩、
キサントゲン酸塩、
非４級アンモニウム化合物、
４級アンモニウム塩、
１級、２級または３級アミンの塩、
エトキシル化脂肪族アミンのアンモニウム塩、
ジアルキルジメチルアンモニウム、
イミダゾリニウム塩、
４級ホスホニウム塩、
三元スルホニウム塩、
三元スルホキソニウム塩、
ビス（ホスホラニリジル）アンモニウム塩、
ｍ個のオキシエチレン基を含むポリオキシエチレンに結合したｎ個の炭素原子のアルキル鎖から成る一般式Ｃｎ（ＥＯ）ｍ（ｍおよびｎは整数）の直鎖非イオン性界面活性剤、
１以上のポリスチレンブロック、および別のポリマー、特にポリメチルメタクリレート、ポリアクリル酸、ポリブタジエン、ポリエチレン／ブチレン、ポリエチレングリコールまたはポリイソプレン、の１以上のブロックから成る、ポリスチレンコポリマーブロックの非イオン性界面活性剤、
ｍ個の炭素原子を有する炭化水素鎖およびｎ個のＥＯ単位（ｎは３〜４０である）からなる式Ｃｍ−Ｐｈ−（ＥＯ）ｎのアルキルアリール、ただしベンゼン環Ｐｈが上記界面活性剤の頭部と尾部との間に挿入されている、
ポリオキシプロピレン（ＰＯ）ｎからなる疎水性のコアと、ポリオキシエチレン（ＥＯ）から成るｍおよびｍ’単位を含む２の親水性端部とを有する、式（ＥＯ）ｍ（ＰＯ）ｎ（ＥＯ）ｍ’（ｍ、ｍ’およびｎは整数である）の非イオン性界面活性剤、
疎水性ブロックとしてポリオキシブチレンを有する、式ＥＯｍ（ＢＯ）ｎ（ｍおよびｎは整数である）の非イオン性界面活性剤、
分岐した親水性鎖を有するアルキルエステル、
４級アンモニウム基およびカルボン酸基を有するベタイン、
イミダゾリン誘導体、
ポリペプチド、
リポアミノ酸、
ならびにそれらの混合物
から成る群から選択される、請求項９に記載の方法。
【請求項１１】
添加剤が、下記：
エトキシル化カルボキシレート、エトキシル化またはプロポキシル化脂肪酸、式Ｒ−Ｃ（Ｏ）Ｎ（ＣＨ３）ＣＨ２ＣＯＯ−  のサルコシネートおよびそれらの混合物、
アルキルスルフェート、アルキルエーテルスルフェートまたはエトキシル化脂肪族アルコールのスルフェート、ノニルフェニルエーテルスルフェートおよびそれらの混合物、
アルキルアリールスルホネート、例えば、ドデシルベンゼンスルホネートおよびテトラプロピルベンゼンスルホネート、α−スルホン化オレフィン、スルホン化脂肪酸およびスルホン化脂肪酸エステル、ナトリウムスルホスクシネートおよびスルホスクシナメート、スルホコハク酸のモノおよびジエステル、スルホコハク酸モノアミド、Ｎ−アシルアミノ酸およびＮ−アシルプロテイン、Ｎ−アシルアミノアルキルスルホネートおよびタウリネート、およびそれらの混合物、
リン酸モノおよびジエステル、およびそれらの混合物、
アルキルトリメチルアンモニウム、アルキルベンジルジメチルアンモニウム、およびそれらの混合物、
式Ｃ１５（ＥＯ）ｍ（ｍは３〜４０である）、Ｃ１６（ＥＯ）１０およびＣ１８（ＥＯ）２０の非イオン性界面活性剤、  式（ＥＯ）ｍ（ＰＯ）ｎ（ＥＯ）ｍの非イオン性界面活性剤、
ポリオキシエチレングリコールエステル、グリセロールエステルまたはソルビタンエステル、
ならびにそれらの混合物、
から成る群から選択される、請求項１０に記載の方法。
【請求項１２】
添加剤が、下記：
アルキルスルフェート、例えばドデシル硫酸ナトリウム、
ラウリン酸、
ステアリン酸、
ラウリン酸ナトリウム、
非４級アンモニウム化合物、セチルトリメチルアンモニウムハライド、ヒドロキシセチルトリメチルアンモニウム、
式（ＥＯ）ｍ（ＰＯ）ｎ（ＥＯ）ｍ（ｎは７０に等しくかつｍは２０に等しく、またはｎは６４に等しくかつｍは１００に等しく、またはｎは３０に等しくかつｍは１３に等しく、またはｎは３０に等しくかつｍは６に等しい）の非イオン性界面活性剤、
疎水性基としてアルキル鎖またはポリ（プロピレンオキシド）鎖を有する非イオン性界面活性剤、
から成る群から選択される、請求項１１に記載の方法。
【請求項１３】
添加剤が、下記：
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１０６（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）７０（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１０６Ｈ、ここで、スリップ中の添加剤の量は、上記壁におけるその体積割合が１０％〜９５％であるような量である、
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）７０（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）２０Ｈ、ここで、スリップ中の添加剤の量は、上記壁におけるその体積割合が２０％〜９０％であるような量である、
ＨＯ（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１３（ＣＨ２ＣＨ（ＣＨ３）Ｏ）７０（ＣＨ２ＣＨ２Ｏ）１３Ｈ、ここで、スリップ中の添加剤の量は、上記壁におけるその体積割合が３０％〜９０％であるような量である、
セチルトリメチルアンモニウムブロミド、ここで、スリップ中の添加剤の量は、上記壁におけるその体積割合が２０％〜９０％であるような量である、
から成る群から選択される、請求項１２に記載の方法。
【請求項１４】
添加剤が、メソ孔形成性ミセル相において、２ｎｍ超かつ５０ｎｍ未満の大きさを示すミセルを示すように選択される、請求項１〜１３のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１５】
上記粒子で形成された粉末が、下記：
酸化ジルコニウム、部分的に安定化された酸化ジルコニウム、安定化された酸化ジルコニウム、酸化イットリウム、ドープされた酸化イットリウム、好ましくは酸化サマリウムでドープされた酸化イットリウム、酸化チタン、アルミノシリケート、例えばムライト、菫青石、酸化アルミニウムまたはアルミナ、水和アルミナ、特にベーマイト、酸化マグネシウム、タルク、酸化ニッケル、酸化鉄、酸化セリウム、ドープされた酸化セリウム、酸化セリウムの固溶体、灰チタン構造の酸化物、特にガレート、ＬａＡｌＯ３またはＬａＧａＯ３またはＬａ（１−ｘ）ＳｒｘＭＯ３型（０≦ｘ≦１であり、Ｍはクロム、コバルト、マグネシウム、鉄、ガドリニウム、マンガンおよびそれらの混合物からなる群から選択される元素である）のランタン含有化合物、白金および／またはパラジウムおよび／またはロジウムおよび／または金および／または銀でドープされた灰チタン構造の酸化物、例えばＬａ（１−ｘ）ＳｒｘＭ（１−ｙ）Ｍ’ｙＯ３（０≦ｘ≦１および０≦ｙ≦０．１５であり、Ｍはクロム、コバルト、マグネシウム、鉄、ガドリニウム、マンガンおよびそれらの混合物からなる群から選択される元素であり、Ｍ’は白金、パラジウム、ロジウム、金、銀およびそれらの混合物から成る群から選択される元素である）、Ｌａ４Ｓｒ８Ｔｉ１１Ｍｎ１−ｘＧａｘＯ３８型（０≦ｘ≦１）およびＬａ４Ｓｒ８Ｔｉ１２−ｎＭｎｎＯ３８型（０≦ｎ≦１）のチタン含有化合物、ＢａＴｉＯ３、ＢａＺｒＯ３、Ｐｂ（Ｍｇ０．２５Ｎｂ０．７５）Ｏ３、Ｂａ（Ｚｎ０．２５Ｎｂ０．７５）Ｏ３、Ｐｂ（Ｚｎ０．２５Ｎｂ０．７５）Ｏ３、ＰｂＴｉＯ３またはＣａＣｕ３Ｔｉ４Ｏ１２型の化合物、ＶＩＭＥＶＯＸ型の構造を有する化合物、例えばＢｉ２Ｖ１−ｘＭｅｘＯｚ（０≦ｘ≦１であり、ｚは電気的中性を確実にすることを可能にし、Ｍｅはマグネシウム、アルミニウム、ケイ素、チタン、コバルト、ニッケル、銅、亜鉛、マンガン、アンチモン、タンタル、ニオブ、クロム、モリブデン、タングステン、ウランおよびそれらの混合物から成る群から選択される元素である）、ＬＡＭＯＸ型の構造を有する化合物、例えばＬａ２Ｍｏ２Ｏ９、アパタイト構造を有する化合物、例えばＭｅ’１０（ＸＯ４）６Ｙ’２（Ｍｅ’はＣａ２＋、Ｃｄ２＋、Ｓｒ２＋、Ｂａ２＋、Ｐｂ２＋、Ｎａ＋およびＫ＋、希土類金属カチオン、好ましくはＬａ３＋およびＮｄ３＋、Ａｌ３＋、Ｕ４＋およびＴｈ４＋によって形成される群から選択される金属カチオンであり、（ＸＯ４）はＰＯ４３−、ＳｉＯ４４−、ＡｓＯ４３−、ＭｎＯ４−、ＳＯ４２−、ＣＯ３２−、ＨＰＯ４２−、ＳｉＯ４４−、ＧｅＯ４４−およびそれらの混合物から選択されるアニオン基であり、Ｙ’はＦ−、Ｃｌ−、ＯＨ−、Ｂｒ−、Ｉ−、ＣＯ３２−、Ｏ２−およびそれらの混合物から選択されるアニオンである）、ＳｒＣｅ１−ｘＭｘＯ３型（０≦ｘ≦１であり、Ｍは希土類金属であり、Ｍは好ましくはイッテルビウムである）の化合物、ＢａＣｅ１−ｘＭｘＯ３型（０≦ｘ≦１であり、Ｍは希土類金属である）の化合物、例えば化合物ＢａＣｅＯ３、ＬａｘＳｒ１−ｘＳｃＯ３群（０≦ｘ≦１）の化合物、例えばＬａ０．９Ｓｒ０．１ＳｃＯ３、Ｎａｘ１Ｃａｘ２Ｍｇｘ３Ｂａｘ４Ｋｘ５Ａｌｘ６（Ｓｉｘ７Ｏｘ８）・ｘ９Ｈ２Ｏ（ｘ１〜ｘ９は正の整数または０であり、ただし、ｘ６＞０、ｘ７＞０、ｘ８＞０、ｘ９＞０およびｘ１＋ｘ２＋ｘ３＋ｘ４＋ｘ５＞０である）の構造を有するゼオライト、ならびにそれらの混合物からなる群Ａ、または
炭化物、窒化物、ホウ化物、二ケイ化物、オキシニトリドおよびオキシカーバイド、特に炭化ケイ素、窒化ケイ素、窒化ホウ素、炭化ホウ素、炭化タングステン、二ケイ素モリブデン、ホウ化チタンおよびそれらの混合物によって形成される群Ｂ
から選択される少なくとも１の酸化物を含む、実際には上記酸化物で構成されさえする、請求項１〜１４のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１６】
セラミック粒子の２５体積％超が、添加剤によって生じた組織化されたメソ多孔性の相関距離より小さい大きさを有する、および／または工程ａ）において、セラミック粒子の２５体積％超が、工程ｇ）で得られたメソ多孔性生成物のメソ孔のメジアン等価直径の２倍未満の大きさを示す、請求項１〜１５のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１７】
上記粒子で形成された粉末が、１０体積％超の、組織化されたミクロ多孔性を示すセラミック粒子を含む、請求項１〜１６のいずれか１項に記載の方法。
【請求項１８】
下記：
マクロ孔から成るマクロ多孔性、
メソ孔から成るメソ多孔性、および
ミクロ孔から成るミクロ多孔性
を含む、好ましくは請求項１〜１７のいずれか１項に記載の方法に従って製造された、セラミック生成物であって、
上記マクロ孔の数の５０％超が、長軸方向に沿って互いに実質的に平行に配向されており、水銀ポロシメトリーによって測定されるマクロ孔のメジアン径が２００μｍ未満であり、
上記メソ多孔性およびミクロ多孔性が、少なくとも部分的に、好ましくは完全に、組織化されており、
上記メソ孔およびミクロ孔の体積の和が０．９／ｗｖ超かつ９／ｗｖ未満である、ここでｗｖは上記セラミック生成物の絶対密度を示す、
ところの生成物。
【請求項１９】
焼結された生成物の形態で提供される、請求項１８に記載の生成物。
【請求項２０】
セラミック電気化学セル、燃料電池、特にＳＯＦＣ電池、ＩＴ−ＳＯＦＣ電池またはＰＣＦＣ電池、特に、含浸された電解質または電極または上記電池の１における含浸された電解質、液体または気体状の流体を濾過するための部材、孔中に物質、特に二水素（Ｈ２）、を貯蔵するために使用される貯蔵ミクロ構造物、触媒担体、熱交換器、断熱材、流体を運ぶことを可能にする流体分配器、特に気体分配器、空気処理装置のためのドロップセパレーターまたはトリクルブロック、電気エネルギーの貯蔵のためのデバイス、特にスーパーキャパシタ、電気バッテリー、特に電気バッテリーの電解質、ミクロ反応器、水分吸着材またはミクロ燃焼室からなる群から選択されるデバイス、ここで該デバイスは、請求項１８または１９に記載の生成物を含む。
【請求項２１】
ミクロ反応器および／または濾過部材および／またはＳＯＦＣ型の固体酸化物型燃料電池の電解質、ここで水銀ポロシメトリーによって測定されるマクロ孔のメジアン径が５〜３０μｍである、または
ＳＯＦＣ型の固体酸化物型燃料電池の電極、ここで水銀ポロシメトリーによって測定されるマクロ孔のメジアン径が２〜５μｍである、または
単室型燃料電池および／または触媒担体、ここで水銀ポロシメトリーによって測定されるマクロ孔のメジアン径が１〜１００μｍ、好ましくは１〜５０μｍである、
から成る群から選択される、請求項２０に記載のデバイス。