【手続補正書】
【提出日】平成28年1月26日(2016.1.26)
【手続補正１】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】０３５６
【補正方法】変更
【補正の内容】
【０３５６】
本明細書で特定の代表的な実施形態を詳細に説明したが、当然のことながら、当業者は上述の説明を理解した上で、これらの実施形態の代替物、変更物、及び均等物を容易に想起することができるであろう。したがって、この本開示は、上記説明の例示的な実施形態に過度に限定されないと理解されるべきである。更に、本明細書にて参照される全ての出版物、公開された特許出願及び交付された特許は、それぞれの個々の出版物又は特許が参照により援用されることを明確にかつ個別に指示したかのごとく、それらの全体が同じ範囲で、参照により本明細書に援用される。様々な代表的な実施形態を上で説明した。これらの実施例及び他の実施形態は以下の特許請求の範囲に含まれるものである。本発明の実施態様の一部を以下の項目［１］−［５３］に記載する。
[１]
高分子マトリックス中に分散したサブマイクロメートル粒子を含む材料であって、厚み及び該厚みにわたって少なくとも第１及び第２の一体領域を有し、該第１の領域が、外側主表面を有し、少なくとも最外のサブマイクロメートル粒子が、該高分子マトリックスによって部分的にコンフォーマルコーティングされ、該第１及び第２の領域が、第１及び第２の平均密度をそれぞれ有し、該第１の平均密度が、該第２の平均密度未満である、材料。
[２]
前記第１の平均密度と前記第２の平均密度との間の差が、０．１ｇ／ｃｍ３〜０．８ｇ／ｃｍ３の範囲にある、項目１に記載の材料。
[３]
前記第２の領域が、密閉気孔率を実質的に含まない、項目１又は２のいずれか一項に記載の材料。
[４]
少なくとも１のスチールウール引っ掻き試験値を有する、項目１〜３のいずれか一項に記載の材料。
[５]
少なくとも前記最外のサブマイクロメートル粒子が、前記高分子マトリックスによって部分的にコンフォーマルコーティングされ、かつ、前記高分子マトリックスに共有結合される、項目１〜４のいずれか一項に記載の材料。
[６]
少なくとも一部の前記高分子が、フリーラジカル硬化性プレポリマーを含むプレポリマーから製造される、項目１〜５のいずれか一項に記載の材料。
[７]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーの多官能性（メタ）アクリレートを含む、項目６に記載の材料。
[８]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーの二官能性（メタ）アクリレートを含む、項目６に記載の材料。
[９]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーの単官能性（メタ）アクリレートを含む、項目６に記載の材料。
[１０]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、多官能性、二官能性及び単官能性の（メタ）アクリレートの混合物を含む、項目６に記載の材料。
[１１]
前記プレポリマー組成物が、１．２５〜２．７５の官能性を有する、項目６〜１０のいずれか一項に記載の材料。
[１２]
前記サブマイクロメートル粒子が、表面改質されたサブマイクロメートル粒子を含む、項目１〜１１のいずれか一項に記載の材料。
[１３]
前記サブマイクロメートル粒子が、少なくとも５ｎｍ〜１０００ｎｍのサブマイクロメートル粒子径を有する、項目１〜１２のいずれか一項に記載の材料。
[１４]
前記サブマイクロメートル粒子が、シリカを含む、項目１〜１３のいずれか一項に記載の材料。
[１５]
前記サブマイクロメートル粒子が、５ｎｍ〜１０マイクロメートルの範囲の粒径を有する、項目１〜１４のいずれか一項に記載の材料。
[１６]
上記突出しているサブマイクロメートル粒子間の平均間隔が、４０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にある、項目１〜１５のいずれか一項に記載の材料。
[１７]
サブマイクロメートル粒子が分散されたフリーラジカル硬化性層を提供する工程と、
該フリーラジカル硬化性層の主表面領域の硬化を阻害するのに十分な量の阻害剤ガスの存在下で該フリーラジカル硬化性層を化学線硬化して、第１の硬化度を有するバルク領域及び第２の硬化度を有する主表面領域を有する層を提供する工程とを含み、
該第１の硬化度が該第２の硬化度より大きく、前記材料が一部の該サブマイクロメートル粒子を含む構造化表面を有する、項目１〜１６のいずれか一項に記載の材料を製造する方法。
[１８]
前記阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍである酸素含有量を有する、項目１７に記載の方法。
[１９]
全ての化学線硬化が、１つのチャンバ内で行われる、項目１７又は１８のいずれか一項に記載の方法。
[２０]
一部の前記化学線硬化が、第１の阻害剤ガス及び第１の化学線レベルを有する第１のチャンバ内で行われ、一部の前記化学線硬化が、第２の阻害剤ガス及び第２の化学線レベルを有する第２のチャンバ内で行われ、前記第１の阻害剤ガスが、前記第２の阻害剤ガスより低い酸素含有量を有し、前記第１の化学線レベルが、前記第２の化学線レベルより高い、項目１７〜１９のいずれか一項に記載の方法。
[２１]
前記第１の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有し、前記第２の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有する、項目２０に記載の方法。
[２２]
前記フリーラジカル硬化性層の最終的な硬化が、前記第２のチャンバ内で行われる、項目２０又は２１のいずれか一項に記載の方法。
[２３]
一部の前記化学線硬化が、第１の阻害剤ガス及び第１の化学線レベルを有する第１のチャンバ内で行われ、一部の前記化学線硬化が、第２の阻害剤ガス及び第２の化学線レベルを有する第２のチャンバ内で行われ、前記第１の阻害剤ガスが、前記第２の阻害剤ガスより高い酸素含有量を有し、前記第１の化学線レベルが、前記第２の化学線レベルより低い、項目１７〜２２のいずれか一項に記載の方法。
[２４]
前記第１の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有し、前記第２の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有する、項目２３に記載の方法。
[２５]
前記フリーラジカル硬化性層の最終的な硬化が、前記第２のチャンバ内で行われる、項目２３又は２４のいずれか一項に記載の方法。
[２６]
高分子マトリックス中に分散したサブマイクロメートル粒子を含む材料であって、厚み及び該厚みにわたって少なくとも第１及び第２の一体領域を有し、該第１及び第２の領域が、第１及び第２の平均密度をそれぞれ有し、該第１の平均密度が該第２の平均密度より小さく、少なくとも１のスチールウール引っ掻き試験値を有する、材料。
[２７]
前記第１の領域が、外側主表面を有し、少なくとも最外のサブマイクロメートル粒子が、前記高分子マトリックスによって部分的にコンフォーマルコーティングされる、項目２６に記載の材料。
[２８]
前記サブマイクロメートル粒子が、前記高分子マトリックスに共有結合される、項目２６又は２７のいずれか一項に記載の材料。
[２９]
前記第１の平均密度と前記第２の平均密度との間の差が、０．１ｇ／ｃｍ３〜０．８ｇ／ｃｍ３の範囲にある、項目２６〜２８のいずれか一項に記載の材料。
[３０]
前記第２の領域が、密閉気孔率を実質的に含まない、項目２６〜２９のいずれか一項に記載の材料。
[３１]
少なくとも一部の前記高分子が、フリーラジカル硬化性プレポリマーを含むプレポリマーから製造される、項目２６〜３０のいずれか一項に記載の材料。
[３２]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーの多官能性（メタ）アクリレートを含む、項目３１に記載の材料。
[３３]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーの二官能性（メタ）アクリレートを含む、項目３１に記載の材料。
[３４]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、少なくとも１つのモノマー又はオリゴマーの単官能性（メタ）アクリレートを含む、項目３１に記載の材料。
[３５]
少なくとも一部の前記プレポリマーが、多官能性、二官能性及び単官能性の（メタ）アクリレートの混合物を含む、項目３４に記載の材料。
[３６]
前記プレポリマー組成物が、１．２５〜２．７５の官能性を有する、項目３１〜３５のいずれか一項に記載の材料。
[３７]
前記サブマイクロメートル粒子が、表面改質されたサブマイクロメートル粒子を含む、項目２６〜３６のいずれか一項に記載の材料。
[３８]
前記サブマイクロメートル粒子が、少なくとも５ｎｍ〜１０００ｎｍの粒径を有する、項目２６〜３７のいずれか一項に記載の材料。
[３９]
前記サブマイクロメートル粒子が、シリカを含む、項目２６〜３８のいずれか一項に記載の材料。
[４０]
前記サブマイクロメートル粒子が、５ｎｍ〜１０マイクロメートルの範囲のサブマイクロメートル粒子径を有する、項目２６〜３９のいずれか一項に記載の材料。
[４１]
突出しているサブマイクロメートル粒子間の平均間隔が、４０ｎｍ〜３００ｎｍの範囲にある、項目２６〜４０のいずれか一項に記載の材料。
[４２]
前記材料が、シリカナノ粒子の粒塊を含む外層を更に備え、該シリカナノ粒子が４０ナノメートル以下の平均粒子直径を有し、前記粒塊がシリカナノ粒子の三次元多孔性網状組織を含み、更に、該シリカナノ粒子が隣接するシリカナノ粒子に結合される、項目２６〜４１のいずれか一項に記載の材料。
[４３]
サブマイクロメートル粒子が分散されたフリーラジカル硬化性層を提供する工程と、
該フリーラジカル硬化性層の主表面領域の硬化を阻害するのに十分な量の阻害剤ガスの存在下で該フリーラジカル硬化性層を化学線硬化して、第１の硬化度を有するバルク領域及び第２の硬化度を有する主表面領域を有する層を提供する工程とを含み、
該第１の硬化度が該第２の硬化度より大きく、前記材料が、一部の前記サブマイクロメートル粒子を含む構造化表面を有する、項目２６〜４２のいずれか一項に記載の材料を製造する方法。
[４４]
前記阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍである酸素含有量を有する、項目４３に記載の方法。
[４５]
全ての化学線硬化が、１つのチャンバ内で行われる、項目４３又は４４のいずれか一項に記載の方法。
[４６]
一部の前記化学線硬化が第１の阻害剤ガス及び第１の化学線レベルを有する第１のチャンバ内で行われ、一部の前記化学線硬化が第２の阻害剤ガス及び第２の化学線レベルを有する第２のチャンバ内で行われ、前記第１の阻害剤ガスが前記第２の阻害剤ガスより低い酸素含有量を有し、前記第１の化学線レベルが前記第２の化学線レベルより高い、項目４３〜４５のいずれか一項に記載の方法。
[４７]
前記第１の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有し、前記第２の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有する、項目４６に記載の方法。
[４８]
前記フリーラジカル硬化性層の最終的な硬化が、前記第２のチャンバ内で行われる、項目４６又は４７のいずれか一項に記載の方法。
[４９]
一部の前記化学線硬化が第１の阻害剤ガス及び第１の化学線レベルを有する第１のチャンバ内で行われ、一部の前記化学線硬化が第２の阻害剤ガス及び第２の化学線レベルを有する第２のチャンバ内で行われ、前記第１の阻害剤ガスが前記第２の阻害剤ガスより高い酸素含有量を有し、前記第１の化学線レベルが前記第２の化学線レベルより低い、項目４３〜４８のいずれか一項に記載の方法。
[５０]
前記第１の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有し、前記第２の阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍの範囲の酸素含有量を有する、項目４９に記載の方法。
[５１]
前記フリーラジカル硬化性層の最終的な硬化が、前記第２のチャンバ内で行われる、項目４９又は５０のいずれか一項に記載の方法。
[５２]
ａ）０．５〜９９重量％の水と、ｂ）０．１〜２０重量％の、４０ｎｍ以下の平均粒子直径を有するシリカナノ粒子と、ｃ）０〜２０重量％の、５０ｎｍ以上の平均粒子直径を有するシリカナノ粒子と、ｂ）及びｃ）の合計は０．１〜２０重量％であり、ｄ）ｐＨを５未満に低下させるのに十分な量のｐＫａ＜３．５を有する酸と、ｅ）該シリカナノ粒子の該量に対して、０〜２０重量％のテトラアルコキシシランと、を含むコーティング組成物に、前記層を接触させる工程と、
乾燥して前記層上にシリカナノ粒子コーティングを提供する工程と、を更に含む、項目１７〜２５又は４３〜５１のいずれか一項に記載の方法。
[５３]
項目５２に記載の方法に基づいて製造されるナノ構造化材料。
【手続補正２】
【補正対象書類名】特許請求の範囲
【補正対象項目名】全文
【補正方法】変更
【補正の内容】
【特許請求の範囲】
【請求項１】
高分子マトリックス中に分散したサブマイクロメートル粒子を含む材料であって、厚み及び該厚みにわたって少なくとも第１及び第２の一体領域を有し、該第１の領域が、外側主表面を有し、少なくとも最外のサブマイクロメートル粒子が、該高分子マトリックスによって部分的にコンフォーマルコーティングされ、該第１及び第２の領域が、第１及び第２の平均密度をそれぞれ有し、該第１の平均密度が、該第２の平均密度未満であり、任意に、前記第１の平均密度と前記第２の平均密度との間の差が、０．１ｇ／ｃｍ３〜０．８ｇ／ｃｍ３の範囲にある、材料。
【請求項２】
サブマイクロメートル粒子が分散されたフリーラジカル硬化性層を提供する工程と、
該フリーラジカル硬化性層の主表面領域の硬化を阻害するのに十分な量の阻害剤ガスの存在下で該フリーラジカル硬化性層を化学線硬化して、第１の硬化度を有するバルク領域及び第２の硬化度を有する主表面領域を有する層を提供する工程とを含み、
該第１の硬化度が該第２の硬化度より大きく、前記材料が一部の該サブマイクロメートル粒子を含む構造化表面を有し、任意に、前記阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍである酸素含有量を有する、請求項１に記載の材料を製造する方法。
【請求項３】
高分子マトリックス中に分散したサブマイクロメートル粒子を含む材料であって、厚み及び該厚みにわたって少なくとも第１及び第２の一体領域を有し、該第１及び第２の領域が、第１及び第２の平均密度をそれぞれ有し、該第１の平均密度が該第２の平均密度より小さく、少なくとも１のスチールウール引っ掻き試験値を有する、材料。
【請求項４】
サブマイクロメートル粒子が分散されたフリーラジカル硬化性層を提供する工程と、
該フリーラジカル硬化性層の主表面領域の硬化を阻害するのに十分な量の阻害剤ガスの存在下で該フリーラジカル硬化性層を化学線硬化して、第１の硬化度を有するバルク領域及び第２の硬化度を有する主表面領域を有する層を提供する工程とを含み、
該第１の硬化度が該第２の硬化度より大きく、前記材料が、一部の前記サブマイクロメートル粒子を含む構造化表面を有し、任意に、前記阻害剤ガスが、１００ｐｐｍ〜１００，０００ｐｐｍである酸素含有量を有する、請求項３に記載の材料を製造する方法。