(57)【要約】【課題】  基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供する。【解決手段】  プリント基板１００は、処理槽１１中において、複数のガイド部材２１により、プリント基板１００の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁を案内されながら、水平方向に搬送される。このガイド部材２１は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第１円錐台状部材２１ａと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第２円錐台状部材２１ｂとを接続した形状を有し、矩形状のプリント基板１００の搬送方向に対する両側の端縁のみに当接する。【選択図】        図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
搬送機構により水平方向に搬送される矩形状の基板の両面に対して処理液を供給することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置において、
前記搬送機構は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第１円錐台状部材と、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第２円錐台状部材とを接続した形状を有し、前記矩形状の基板の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁のみに当接する複数のガイド部材により、前記基板を案内しながら搬送することを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
請求項１に記載の基板処理装置において、
処理液を貯留する処理槽を備え、
前記搬送機構は、前記処理槽に貯留された処理液中において基板を搬送することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置。
【請求項３】
請求項１に記載の基板処理装置において、
前記基板の両面に処理液を噴出する複数の処理液噴出ノズルを備え、
前記搬送機構により搬送される基板の両面に前記複数の処理液噴出ノズルから処理液を噴出することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
この発明は、搬送機構により水平方向に搬送される矩形状の基板の両面に対して処理液を供給することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
プリント基板、有機ＥＬ表示装置用ガラス基板、液晶表示装置用ガラス基板、太陽電池用パネル基板、ＰＤＰ用ガラス基板、フォトマスク用ガラス基板、光ディスク用基板等の矩形状の基板を処理する基板処理装置においては、基板の下面を搬送ローラにより支持して水平方向に搬送しながら、基板の表面に対し処理液を供給して、基板を処理する構成となっている。
【０００３】
なお、特許文献１には、オーバーフローにより上昇流を生じている洗浄液中に、ウエハを傾斜状態で浸漬するとともに、ウエハの横方向からメガソニック振動を洗浄液に付与する基板洗浄装置が開示されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開平７−２１１６８４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
上述した搬送ローラにより基板の下面を支持して搬送する従来の基板処理装置においては、基板に供給された処理液が基板の裏面側に回り込み、搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入する場合がある。このような場合においては、搬送ローラの回転による基板の移動に伴って搬送ローラの表面と基板の裏面との間に浸入した処理液も移動し、この処理液は基板の裏面側に筋状に残存することになる。
【０００６】
この基板の処理工程が、例えば、ガラス基板の表面に生成したシリコン酸化膜をフッ酸でエッチング処理するエッチング処理工程の場合においては、このように筋状に残存した処理液により基板の裏面側がエッチングされるという問題がある。このような現象が発生した場合においては、ガラス基板の裏面側にエッチングムラが生じ、基板の表裏両面を均一にエッチング処理することができない。また、この基板処理工程が、プリント基板の両面を処理する工程であった場合においても、基板の表面と裏面とで処理状態が不均一となり、基板の表裏両面を均一に処理することは不可能となる。
【０００７】
なお、上述した特許文献１に記載の基板洗浄装置は、洗浄槽と基板とのクロスコンタミネーションを防止するためのものではあるが、大型の矩形状の基板を搬送して処理する場合に対応可能なものではない。
【０００８】
この発明は上記課題を解決するためになされたものであり、基板の表裏両面を均一に処理することが可能な基板処理装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
請求項１に記載の発明は、搬送機構により水平方向に搬送される矩形状の基板の両面に対して処理液を供給することにより、当該基板の両面を同時に処理する基板処理装置において、前記搬送機構は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第１円錐台状部材と、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第２円錐台状部材とを接続した形状を有し、前記矩形状の基板の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁のみに当接する複数のガイド部材により、前記基板を案内しながら搬送することを特徴とする。
【００１０】
請求項２に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、処理液を貯留する処理槽を備え、前記搬送機構は、前記処理槽に貯留された処理液中において基板を搬送することにより、当該基板の両面を同時に処理する。
【００１１】
請求項３に記載の発明は、請求項１に記載の発明において、前記基板の両面に処理液を噴出する複数の処理液噴出ノズルを備え、前記搬送機構により搬送される基板の両面に前記複数の処理液噴出ノズルから処理液を噴出することにより、当該基板の両面を同時に処理する。
【発明の効果】
【００１２】
請求項１に記載の発明によれば、矩形状の基板の端縁のみに当接する複数のガイド部材により基板を案内しながら搬送することから、基板の表裏両面に搬送ローラ等の搬送機構が接触することはなく、基板の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
【００１３】
請求項２に記載の発明によれば、基板の両面を処理槽に貯留された処理液と接触させることにより、基板の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
【００１４】
請求項３に記載の発明によれば、基板の両面を処理液噴出ノズルから噴出される処理液と接触させることにより、基板の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【００１５】
【図１】この発明の第１実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。
【図２】プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す正面概要図である。
【図３】プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す平面概要図である。
【図４】プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す正面概要図である。
【図５】この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。
【図６】プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す正面概要図である。
【図７】ガイド部材の変形例を示す説明図である。
【発明を実施するための形態】
【００１６】
以下、この発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。図１は、この発明の第１実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図２は、プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す正面概要図である。さらに、図３は、プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す平面概要図である。なお、図２においては、後述する処理液噴出ノズル３１および処理液噴出ノズル３２の図示を省略している。
【００１７】
この基板処理装置は、複数の搬送ローラ２２により搬入および搬出される矩形状のプリント基板１００に対して、その表裏両面を処理液により同時に処理するためのものであり、プリント基板１００を処理するための処理液を貯留する処理槽１１と、処理液の回収槽１２と、処理液を貯留する貯留槽４１とを備える。また、この基板処理装置は、プリント基板１００の上方からプリント基板１００の表面に向けて処理液を供給する複数の処理液噴出ノズル３１と、プリント基板１００の下方からプリント基板１００の裏面に向けて処理液を供給する複数の処理液噴出ノズル３２とを備える。
【００１８】
プリント基板１００は、処理槽１１中において、複数のガイド部材２１により、プリント基板１００の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁を案内されながら、水平方向に搬送される。このガイド部材２１は、図２に示すように、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第１円錐台状部材２１ａと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第２円錐台状部材２１ｂとを接続した形状を有する。すなわち、このガイド部材２１は、所謂「鼓形状」を有する。そして、このガイド部材２１は、矩形状のプリント基板１００の搬送方向に対して直交する方向において対向する両側の端縁のみに当接する。
【００１９】
これらの複数のガイド部材２１は、図示しないモータに連結された鉛直方向を向く駆動軸２４の駆動により、鉛直方向を向く軸心を中心に、互いに同期して回転する。プリント基板１００は、図２および図３に示すように、複数のガイド部材２１の回転に伴って、これらのガイド部材２１によりその両側の端縁を支持され、案内されて搬送される。
【００２０】
図１に示すように、処理槽１１には、プリント基板１００の搬入口１５と搬出口１６とが形成されるとともに、搬入口１５を開閉するシャッター１３と、搬出口１６を開閉するシャッター１４とが配設されている。また、この処理槽１１の下面には、処理液の供給管１９と、処理液の排出管１７が付設されている。供給管１９は、管路３７およびそこに配設されたポンプ３８を介して貯留槽４１と連結されている。また、排出管１７は、管路４２およびそこに配設された開閉弁４４を介して貯留槽４１と連結されている。さらに、各処理液噴出ノズル３１は、管路３５、ポンプ３６および管路３３を介して貯留槽４１と連結されており、各処理液噴出ノズル３２は、管路３４、ポンプ３６および管路３３を介して貯留槽４１と連結されている。
【００２１】
回収槽１２は、処理槽１１における搬入口１５および搬出口１６から流下した処理液を回収するためのものである。この回収槽１２の下面には、処理液の回収管１８が付設されている。回収管１８は、管路４３を介して貯留槽４１と連結されている。また、処理槽１１の搬出口１６と対向し、かつ、回収槽１２の上方となる位置には、プリント基板１００に付着する処理液を除去するための上下一対のエアナイフ２３が配設されている。
【００２２】
この基板処理装置によりプリント基板１００を処理するときには、最初に、貯留槽４１から処理槽１１に処理液を供給して、処理槽１１内に処理液を貯留する。この処理液供給に先立って、開閉弁４４を閉止するとともに、ポンプ３８の作用により、貯留槽４１内の処理液を管路３７を介して処理槽１１に送液することにより、処理液の液位が複数のガイド部材２１により搬送されるプリント基板１００より上方となるようにする。この処理液供給工程においては、搬入口１５はシャッター１３により閉じられており、搬出口１６はシャッター１４により閉じられている。
【００２３】
処理槽１１内に処理液が貯留されると、図１に示すように、複数の搬送ローラ２２およびガイド部材２１によりプリント基板１００を搬送して、このプリント基板１００を処理槽１１に搬入する。処理槽１１内に搬送されたプリント基板１００は、その端縁のみに当接するガイド部材２１により支持されて搬送される。すなわち、このガイド部材２１は、プリント基板１００の搬送方向を向く一対の端縁にのみ当接する状態で、プリント基板１００の搬送速度に応じて回転することにより、このプリント基板１００を処理槽１１内まで水平方向に搬送する。
【００２４】
この基板搬入工程においては、搬入口１５のシャッター１３を開放する。このため、処理槽１１内の処理液は搬入口１５から回収槽１２に流下し、管路４３を介して貯留槽４１に回収される。この場合においても、ポンプ３８による処理液の供給量を一定以上に維持することにより、処理槽１１における処理液の液位を一定に維持することができる。
【００２５】
プリント基板１００が完全に処理槽１１内に収納されれば、搬入口１５をシャッター１３により閉じる。そして、ポンプ３６の作用により処理液噴出ノズル３１および処理液噴出ノズル３２から、複数のガイド部材２１により支持されたプリント基板１００の両面に処理液を噴出することにより、このプリント基板１００の表裏両面を処理液により処理する。この処理液噴出ノズル３１、３２からの処理液噴出時には、プリント基板１００は、その両側の端縁のみをガイド部材２１により支持されていることから、プリント基板１００にムラが発生することを防止して、プリント基板１００の表裏全面を均一に処理することが可能となる。
【００２６】
なお、このプリント基板１００の処理時には、複数のガイド部材２１の回転を停止してプリント基板１００の搬送を停止させてもよく、また、複数のガイド部材２１により、プリント基板１００を処理槽１１内で往復移動させるようにしてもよい。また、このプリント基板１００の処理時においては、図示を省略したオーバーフロー管等を使用して処理液の液位を一定に維持してもよく、あるいは、開閉弁４４を開閉制御して処理液の液位を一定に維持してもよい。
【００２７】
プリント基板１００が十分に処理されれば、処理液噴出ノズル３１および処理液噴出ノズル３２からの処理液の供給を停止する。そして、搬出口１６のシャッター１４を開放する。シャッター１４を開放することにより搬出口１６から流下した処理液は、回収槽１２により受け取られ、管路４３を介して、貯留槽４１に回収される。この場合においても、ポンプ３８による処理液の供給量を一定以上に維持することにより、処理槽１１における処理液の液位を一定に維持することができる。
【００２８】
そして、複数のガイド部材２１によりプリント基板１００を水平方向に搬送して、処理槽１１より退出させる。処理槽１１における搬出口１６を通過したプリント基板１００の両面には、エアナイフ２３から圧縮空気が噴出される。これにより、プリント基板１００の両面に付着した処理液が除去され、回収槽１２に滴下する。これにより、後段の処理工程への処理液の持ち出し量を低減することが可能となる。
【００２９】
以上のように、この発明の第１実施形態に係る基板処理装置によれば、矩形状のプリント基板１００の端縁のみに当接する複数のガイド部材２１によりプリント基板１００を案内しながら搬送することから、プリント基板１００の表裏両面に接触することなく、プリント基板１００の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
【００３０】
なお、上述したガイド部材２１は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第１円錐台状部材２１ａと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第２円錐台状部材２１ｂとを接続した形状を有することから、搬送方向と直交する方向である幅方向のサイズに関して、種々の寸法を有する複数のタイプのプリント基板１００を処理する場合において、それぞれこのような複数のタイプのプリント基板１００を搬送して処理することが可能となる。図４は、このような場合のプリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す正面概要図である。
【００３１】
図４に示すように、プリント基板１００の幅方向のサイズが、図２に示すプリント基板１００よりも小さい場合には、このプリント基板１００は、ガイド部材２１を構成する第２円錐台状部材２１ｂにおける傾斜面によりその端縁を支持されて搬送される。この場合においても、矩形状のプリント基板１００の端縁のみに当接する複数のガイド部材２１によりプリント基板１００を案内しながら搬送することができ、プリント基板１００の表裏両面に接触することなく、プリント基板１００の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
【００３２】
次に、この発明の他の実施形態について説明する。図５は、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置の側面概要図である。また、図６は、プリント基板１００とガイド部材２１との配置関係を示す正面概要図である。なお、上述した実施形態と同様の部材については、同一の符号を付して詳細な説明を省略する。
【００３３】
上述した実施形態においては、処理槽１内に処理液を貯留し、この処理液中にプリント基板１００を浸漬して処理している。これに対して、この第２実施形態に係る基板処理装置においては、複数のガイド部材２１により搬送されるプリント基板１００の表裏両面に対して、処理液噴出ノズル３１および処理液噴出ノズル３２から直接処理液を噴出させて処理する構成を採用している。このため、この実施形態に係る基板処理装置においては、図１に示す基板処理装置における供給管１９、管路３７およびポンプ３８は省略されている。また、管路４２に配設された開閉弁４４も省略されている。
【００３４】
この第２実施形態に係る基板処理装置によりプリント基板１００を処理するときには、シャッター１３を開いて搬入口１５を開放する。この状態で、図５に示すように、複数の搬送ローラ２２およびガイド部材２１によりプリント基板１００を搬送して、このプリント基板１００を処理槽１１に搬入する。処理槽１１内に搬送されたプリント基板１００は、その端縁のみに当接するガイド部材２１により支持されて搬送される。
【００３５】
プリント基板１００が完全に処理槽１１内に収納されれば、搬入口１５をシャッター１３により閉じる。そして、ポンプ３６の作用により処理液噴出ノズル３１および処理液噴出ノズル３２から、複数のガイド部材２１により支持されたプリント基板１００の両面に向けて処理液噴出することにより、このプリント基板１００の表裏両面を処理液により処理する。
【００３６】
この場合においても、プリント基板１００は、その両側の端縁のみをガイド部材２１により支持されていることから、プリント基板１００にムラが発生することを防止して、プリント基板１００の表裏全面を均一に処理することが可能となる。このプリント基板１００の処理時には、複数のガイド部材２１の回転を停止してプリント基板１００の搬送を停止させてもよく、また、複数のガイド部材２１により、プリント基板１００を処理槽１１内で往復移動させるようにしてもよい。
【００３７】
プリント基板１００が十分に処理されれば、処理液噴出ノズル３１および処理液噴出ノズル３２からの処理液の噴出を停止する。そして、搬出口１６のシャッター１４を開放する。そして、複数のガイド部材２１によりプリント基板１００を水平方向に搬送して、処理槽１１より退出させる。処理槽１１における搬出口１６を通過したプリント基板１００の両面には、エアナイフ２３から圧縮空気が噴出される。これにより、プリント基板１００の両面に付着した処理液が除去され、回収槽１２に滴下する。これにより、後段の処理工程への処理液の持ち出し量を低減することが可能となる。
【００３８】
以上のように、この発明の第２実施形態に係る基板処理装置においても、矩形状のプリント基板１００の端縁のみに当接する複数のガイド部材２１によりプリント基板１００を案内しながら搬送することから、プリント基板１００の表裏両面に接触することなく、プリント基板１００の表裏両面を同時に均一に処理することが可能となる。
【００３９】
図７は、ガイド部材の変形例を示す説明図である。
【００４０】
上述した第１、第２実施形態に係るガイド部材２１は、軸芯が鉛直方向を向き外径が下方に向かうにつれて小さくなる第１円錐台状部材２１ａと、軸心が鉛直方向を向き外径が上方に向かうにつれて小さくなる第２円錐台状部材２１ｂとの錐体面(側面)は平面となっており、錐体面の断面形状は直線状となっている。しかしながら、この錐体面を図７に示すように、曲線状としてもよい。この明細書で述べる円錐台状とは、このような形状をも含む概念である。
【００４１】
ここで、図７(ａ)に示すガイド部材５１においては、プリント基板１００の両側の端縁を支持および案内して搬送するための凹部が一つだけ形成されているのに対し、図７(ｂ)に示すガイド部材６１においては、互いに形状が異なる複数の凹部が形成されている。この図７(ｂ)に示すガイド部材６１によれば、異なるサイズのプリント基板１００を搬送することが可能となる。
【００４２】
なお、上述した実施形態においては、プリント基板１００を処理液で処理する場合について説明したが、この発明を、その他の矩形状の基板を処理する基板処理装置に適用してもよい。例えば、この発明を、エッチング液により矩形状のガラス基板をエッチング処理するための基板処理装置等に適用することも可能である。
【符号の説明】
【００４３】
１１      処理槽
１２      回収槽
１３      シャッター
１４      シャッター
１５      搬入口
１６      搬出口
１７      排出管
１９      供給管
２１      ガイド部材
２１ａ    第１円錐台状部材
２１ｂ    第２円錐台状部材
２２      搬送ローラ
２３      エアナイフ
２４      駆動軸
３１      処理液噴出ノズル
３２      処理液噴出ノズル
３６      ポンプ
３８      ポンプ
４１      貯留槽
５１      ガイド部材
６１      ガイド部材
１００    プリント基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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