(57)【要約】【課題】平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制する。【解決手段】被処理基板Ｇに第１の処理液Ｄを供給する第１の処理液供給手段９と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、所定のガス流を吹き付ける気体供給手段２１と、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液Ｓを吐出する第２のリンス手段２３と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段２２と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段２７とを備える。【選択図】図４
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
基板搬送路を平流し搬送される被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理装置であって、
前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給手段と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、該被処理基板が搬送されることによって、その先端側から後端側にわたり所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付ける気体供給手段と、前記気体供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液を吐出する第２のリンス手段と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段とを備え、
前記被処理基板の先端部は、その基板面に前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられ、前記液溜まり形成手段に形成された液溜まり部の中を通過し、さらにその基板面に前記第１のリンス手段により第２の処理液が供給されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項２】
前記液溜まり形成手段は、前記基板搬送路を搬送される被処理基板よりも低い位置において基板幅方向に延設されたテーブル部材であって、前記テーブル部材の上面に前記第２の処理液が液盛りされ、前記液溜まり部が形成されることを特徴とする請求項１に記載された基板処理装置。
【請求項３】
基板搬送路を平流し搬送される被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理装置であって、
前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給手段と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、該被処理基板が搬送されることによって、その先端側から後端側にわたり所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付ける気体供給手段と、前記気体供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液を吐出する第２のリンス手段と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段の下方に設けられ、基板幅方向に延びる第２の処理液の液溜まり部を形成する液溜まり形成手段とを備え、
前記液溜まり形成手段は、
前記基板搬送路を搬送される被処理基板よりも低い位置において基板幅方向に延設されると共に、上面に前記第２の処理液の吐出孔が形成されたテーブル部材と、前記テーブル部材に形成された吐出孔から前記第２の処理液を吐出させる第２の処理液供給手段とを有し、前記第２の処理液供給手段により前記第２の処理液が前記テーブル部材の上面に供給されて前記液溜まり部が形成され、
前記被処理基板の先端部は、その基板面に前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられ、前記液溜まり形成手段に形成された液溜まり部の中を通過し、さらにその基板面に前記第１のリンス手段により第２の処理液が供給されることを特徴とする基板処理装置。
【請求項４】
前記第２のリンス手段は、前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板の基板面に対し、前記第１のリンス手段よりも高流速で前記第２の処理液を吐出することを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載された基板処理装置。
【請求項５】
前記液溜まり形成手段において、前記液溜まり部が形成される面は、基板搬送方向の上流側下方に所定角度傾斜し、
前記液溜まり形成手段により形成される液溜まり部において、基板搬送方向の上流側端部は、前記気体供給手段から吹き付けられるガス流により堰き止められることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載された基板処理装置。
【請求項６】
前記気体供給手段により前記被処理基板の基板面に吹き付けられるガス流は、基板幅方向に直線状に延びるカーテン状のガス流であることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載された基板処理装置。
【請求項７】
基板搬送路を平流し搬送される被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理装置であって、
前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給手段と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、該被処理基板が搬送されることによって、その先端側から後端側にわたり所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付ける気体供給手段と、前記気体供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液を吐出する第２のリンス手段と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段とを備え、
前記第１のリンス手段は、前記第２の処理液を吐出するリンスノズルと、前記リンスノズルから吐出された第２の処理液を、被処理基板上の基板搬送方向上流側の所定位置まで導出すると共に、減速された状態で前記所定位置に供給する邪魔板を有することを特徴とする基板処理装置。
【請求項８】
前記基板搬送路において、上り傾斜の搬送路と下り傾斜の搬送路とにより隆起部が形成され、前記隆起部の頂点上方に前記気体供給手段と、前記第１のリンス手段とが配置され、下り傾斜の搬送路の上方に前記第２のリンス手段が配置されることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載された基板処理装置。
【請求項９】
被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理方法であって、
基板搬送路において前記被処理基板を平流し搬送し、基板上に第１の処理液を供給すると共に、その下流側の基板搬送路上において、基板幅方向に延びる前記第２の処理液の液溜まり部を形成するステップと、
前記第１の処理液が供給された前記被処理基板の先端部の基板面に対し、所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付け、吹き付けた領域から前記第１の処理液を除去するステップと、
前記ガス流が吹き付けられて第１の処理液が除去された被処理基板の先端部を、前記液溜まり部の中に通過させるステップと、
前記被処理基板の先端部の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出し供給するステップとを実行することを特徴とする基板処理方法。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、被処理基板を平流し方式により搬送しながら液処理を行う基板処理技術に係り、特に平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える基板処理装置及び基板処理方法に関する。
【背景技術】
【０００２】
例えば、ＦＰＤ（フラットパネルディスプレイ）の製造に使用されるレジスト塗布現像処理システムにあっては、ガラス基板の大型化に有利に対応できる方式として、コロを水平方向に敷設した搬送路上で基板を搬送する、いわゆる平流し方式が普及している。この平流し方式では、基板を水平方向に搬送しながら現像、リンス、乾燥などの一連の現像処理工程を行うもので、基板を回転運動させるスピンナ方式と較べて、大型基板の取り扱いが簡単であり、ミストの発生ないし基板への再付着が少ない等の利点がある。
しかしながら、前記平流し方式による現像処理工程にあっては、基板上の現像液をリンス液（一般に純水）で置換する際、現像液を除去してからリンス液が供給されるまでの時間が長すぎると、基板表面内における外観上の相違（現像斑と呼ぶ）が発生するという課題があった。
【０００３】
そのような課題に対し、本願出願人は、基板に液盛りされた現像液を除去し、リンス液に置き換えるリンス部において、メインのリンスノズルの手前にプレリンスノズルを配置した構成を特許文献１に開示した。
図１２に、特許文献１に開示したリンス部２００の構成を示す。尚、図１２（ａ）はリンス部２００の平面図、図１２（ｂ）はその側面図である。
図示するリンス部２００の構成において、複数のコロ２０１が敷設された山なりの搬送路２０２が設けられている。前段処理において現像液Ｄが液盛りされた基板Ｇが平らな搬送路２０２の区間Ｎ１から次第に上り斜面となる区間Ｎ２を搬送されると、基板Ｇ上の現像液Ｄは後方（搬送方向上流）に流れ落ちる。さらに、区間Ｎ２の後部付近に設けられたエアノズル２０３によって基板上にカーテン状のエアが吹き付けられ、その吹き付け位置で現像液Ｄが堰き止められるため、その位置から前方に進む基板上からは現像液Ｄが殆ど除去される。
【０００４】
また、リンス液供給ノズル２０５よりも上流側には、プレリンスノズル２０４が設けられており、図１３に示すようにエアノズル２０３によって現像液Ｄが除去された基板面に直ぐさまリンス液Ｓが供給され、基板面が乾燥することによる現像斑の発生が抑制されるようになっている。
そして、基板Ｇが山なりの搬送路２０２を下る区間Ｎ３に入ると、上方に配置された基板幅方向に延びるリンス液供給ノズル２０５からリンス液Ｓが基板Ｇ上に供給され、基板Ｇが区間Ｎ３，Ｎ４を通過する間に現像液Ｄが完全にリンス液Ｓに置き換えられるように構成されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００５】
【特許文献１】特開２０１０−１９９１５０号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００６】
前記したように基板Ｇ上において現像液Ｄが除去された領域は、直ぐさまプレリンスノズル２０４から供給されるリンス液Ｓに覆われ、続けて、リンス液供給ノズル２０５から供給されるリンス液Ｓによって液盛りされる。このため、基板面の乾燥による現像斑の発生は、略全面にわたり抑制することができる。
しかしながら、図１４に示すように、基板Ｇにおいて最初にエアノズル２０３により現像液Ｄが除去される先端部領域Ｇ１にあっては、基板先端がプレリンスノズル２０４の直下（吐出位置）に達するまでの間（搬送方向距離Ｌの区間）にリンス液Ｓが供給されないため、基板面の乾燥による現像斑が生じる虞があった。
【０００７】
本発明は、上記のような従来技術の問題点に鑑みてなされたものであり、平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制することのできる基板処理装置及び基板処理方法を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
前記した課題を解決するために、本発明に係る基板処理装置は、基板搬送路を平流し搬送される被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理装置であって、前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給手段と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、該被処理基板が搬送されることによって、その先端側から後端側にわたり所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付ける気体供給手段と、前記気体供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液を吐出する第２のリンス手段と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段により供給された第２の処理液によって、基板幅方向に延びる液溜まり部を形成する液溜まり形成手段とを備え、前記被処理基板の先端部は、その基板面に前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられ、前記液溜まり形成手段に形成された液溜まり部の中を通過し、さらにその基板面に前記第１のリンス手段により第２の処理液が供給されることに特徴を有する。
尚、前記液溜まり形成手段は、前記基板搬送路を搬送される被処理基板よりも低い位置において基板幅方向に延設されたテーブル部材であって、前記テーブル部材の上面に前記第２の処理液が液盛りされ、前記液溜まり部が形成されることが望ましい。
【０００９】
また、本発明に係る基板処理装置は、基板搬送路を平流し搬送される被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理装置であって、前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給手段と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、該被処理基板が搬送されることによって、その先端側から後端側にわたり所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付ける気体供給手段と、前記気体供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液を吐出する第２のリンス手段と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段と、前記基板搬送路上において、前記第１のリンス手段の下方に設けられ、基板幅方向に延びる第２の処理液の液溜まり部を形成する液溜まり形成手段とを備え、前記液溜まり形成手段は、前記基板搬送路を搬送される被処理基板よりも低い位置において基板幅方向に延設されると共に、上面に前記第２の処理液の吐出孔が形成されたテーブル部材と、前記テーブル部材に形成された吐出孔から前記第２の処理液を吐出させる第２の処理液供給手段とを有し、前記第２の処理液供給手段により前記第２の処理液が前記テーブル部材の上面に供給されて前記液溜まり部が形成され、前記被処理基板の先端部は、その基板面に前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられ、前記液溜まり形成手段に形成された液溜まり部の中を通過し、さらにその基板面に前記第１のリンス手段により第２の処理液が供給されることに特徴を有する。
【００１０】
尚、前記第２のリンス手段は、前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板の基板面に対し、前記第１のリンス手段よりも高流速で前記第２の処理液を吐出することが望ましい。
また、前記気体供給手段により前記被処理基板の基板面に吹き付けられるガス流は、基板幅方向に直線状に延びるカーテン状のガス流であることが望ましい。
【００１１】
このように構成することにより、第１の処理液が盛られて平流し搬送される被処理基板が到達する前において、液溜まり形成手段に第２の処理液の液溜まり部が形成される。そして、被処理基板は、気体供給手段からのガス流によりその先端部の領域から第１の処理液が除去されると、直ぐさま前記先端部が前記液溜まり形成手段の液溜まり部の中を通過する。これにより被処理基板の先端部領域にあっては、第１のリンス手段から吐出された第２の処理液が基板面に当たる前に、液溜まり形成手段に溜まっていた第２の処理液によって覆うことができる。また、被処理基板に第１のリンス手段から第２の処理液が供給されるようになると、気体供給手段により第１の処理液が除去された領域に、前記第１のリンス手段から第２の処理液を直ぐさま供給することができ、時間を殆ど空けずに基板上の第１の処理液を第２の処理液に置換することができる。即ち、基板の全面において、乾燥を防止し、基板面乾燥による現像斑の発生を抑制することができる。
【００１２】
また、前記液溜まり形成手段において、前記液溜まり部が形成される面は、基板搬送方向の上流側下方に所定角度傾斜し、前記液溜まり形成手段により形成される液溜まり部において、基板搬送方向の上流側端部は、前記気体供給手段から吹き付けられるガス流により堰き止められることが望ましい。
このように構成することによって、液溜まり部の第２の処理液が流れ落ちることが無く、基板先端部が通過しやすい厚みを有する液溜まり部を形成することができる。
【００１３】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板処理装置は、基板搬送路を平流し搬送される被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理装置であって、前記基板搬送路を搬送される前記被処理基板に第１の処理液を供給する第１の処理液供給手段と、前記第１の処理液が液盛りされた前記被処理基板の基板面に対し、該被処理基板が搬送されることによって、その先端側から後端側にわたり所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付ける気体供給手段と、前記気体供給手段よりも基板搬送方向下流側に設けられ、前記被処理基板の基板面に対し前記第２の処理液を吐出する第２のリンス手段と、前記気体供給手段と前記第２のリンス手段との間に設けられ、前記気体供給手段によりガス流が吹き付けられた前記被処理基板の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出する第１のリンス手段とを備え、前記第１のリンス手段は、前記第２の処理液を吐出するリンスノズルと、前記リンスノズルから吐出された第２の処理液を、被処理基板上の基板搬送方向上流側の所定位置まで導出すると共に、減速された状態で前記所定位置に供給する邪魔板を有することに特徴を有する。
【００１４】
このような構成によれば、気体供給手段からのガス流の吹き付け位置に近接した基板上の所定位置に、前記リンスノズルから吐出された第２の処理液を減速させた状態で供給することができる。
これにより、被処理基板の先端部領域においても気体供給手段からのガス流により第１の処理液が除去されると、直ぐさま第２の処理液を供給することができ、基板面の乾燥を防止し、乾燥による現像斑の発生を抑制することができる。
【００１５】
また、前記した課題を解決するために、本発明に係る基板処理方法は、被処理基板に第１の処理液を供給して所定の液処理を施し、前記第１の処理液を回収して第２の処理液により洗浄する基板処理方法であって、基板搬送路において前記被処理基板を平流し搬送し、基板上に第１の処理液を供給すると共に、その下流側の基板搬送路上において、基板幅方向に延びる前記第２の処理液の液溜まり部を形成するステップと、前記第１の処理液が供給された前記被処理基板の先端部の基板面に対し、所定のガス流を鉛直方向乃至搬送方向下流側のいずれかに向けて吹き付け、吹き付けた領域から前記第１の処理液を除去するステップと、前記ガス流が吹き付けられて第１の処理液が除去された被処理基板の先端部を、前記液溜まり部の中に通過させるステップと、前記被処理基板の先端部の基板面に対し、所定の流速で前記第２の処理液を吐出し供給するステップとを実行することに特徴を有する。
【００１６】
このような方法によれば、被処理基板の先端部領域にあっては、吐出された第２の処理液が被処理基板の基板面に当たる前に、前記液溜まり部を形成していた第２の処理液によって覆うことができる。即ち、被処理基板の先端部領域における乾燥を防止し、基板面の乾燥による現像斑の発生を抑制することができる。
【発明の効果】
【００１７】
本発明によれば、平流しの基板搬送路上で被処理基板に供給した第１の処理液を分別回収して第２の処理液に置き換える動作を効率よくスムーズに行い、現像斑の発生を抑制することのできる基板処理装置及び基板処理方法を得ることができる。
【図面の簡単な説明】
【００１８】
【図１】図１は、本発明にかかる一実施形態の全体概略構成を示す断面図である。
【図２】図２（ａ）は、図１の現像ユニットが具備するリンス部の主要部の平面図であり、図２（ｂ）は、その側面図である。
【図３】図３は、図２のリンス部に配置されるプレート部材と被処理基板との配置関係を示す平面図である。
【図４】図４は、図２のリンス部に配置されたエアノズル、第１のリンスノズル、プレート部材の相互の配置関係をより具体的に示す側面図である。
【図５】図５（ａ）〜（ｅ）は、図２のリンス部を搬送される被処理基板に対する処理液置換の状態を示す側面図である。
【図６】図６は、図２のリンス部が具備する第１のリンスノズルの変形例を示す側面図である。
【図７】図７は、図２のリンス部が具備する第１のリンスノズルの他の変形例を示す側面図である。
【図８】図８は、図２のリンス部が具備するテーブル部材の変形例を示す断面図である。
【図９】図９（ａ）は、図２のリンス部が具備するテーブル部材の他の変形例を示す平面図であり、図９（ｂ）は、その正面図である。
【図１０】図１０は、図２のリンス部が具備するテーブル部材の他の変形例を示す断面図である。
【図１１】図１１は、液溜まり形成手段の他の形態を示す側面図である。
【図１２】図１２（ａ）は、従来のリンス部の概略構成を示す平面図であり、図１２（ｂ）は、その側面図である。
【図１３】図１３は、図１２のリンス部による処理液置換の動作を説明するための側面図である。
【図１４】図１４は、図１２のリンス部による処理液置換の動作における課題を説明するための側面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１９】
以下、本発明の基板処理装置及び基板処理方法にかかる実施の形態につき、図に基づいて説明する。本発明の基板処理装置は、例えばＦＰＤ用のガラス基板を被処理基板（以下、単に基板と呼ぶ）とし、ＦＰＤ製造におけるフォトリソグラフィ工程中の洗浄、レジスト塗布、プリベーク、現像およびポストベーク等の各処理を行う塗布現像処理システムの一部構成に適用することができる。
より具体的には、基板上にフォトレジストが塗布され、マスクパターンを介して露光処理が施された基板に現像及びリンス処理を施す現像ユニットに適用することができる。
以下、図を参照して本発明を現像ユニットに適用した一実施形態を説明する。
【００２０】
図１に、この実施形態における現像ユニット１の全体構成を示す。現像ユニット１は、図示するように、プロセスラインＡに沿って水平方向（Ｘ方向）に延びる平流しの搬送ライン２（基板搬送路）を設置しており、この搬送ライン２に沿って上流側から順に現像部３、リンス部４及び乾燥部５が設けられている。
搬送ライン２は、基板Ｇを、その被処理面を上に向けた仰向けの姿勢（いわゆる平流し方式）として所定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）で搬送するためのコロ６（搬送体）を搬送方向（Ｘ方向）に一定間隔（例えば１００ｍｍ間隔）で敷設してなる。各コロ６は、例えば電気モータを有する搬送駆動部（図示せず）に歯車機構またはベルト機構等の伝動機構を介して接続されている。
この搬送ライン２は、搬送方向（Ｘ方向）において始点から終点まで略同じ高さ位置で続いていてもよいが、本実施の形態にあっては、リンス部４及び乾燥部５の所定箇所において、コロ６の配置により異なる高さ位置となされている。具体的には、隆起部２ａと段差部２ｂとを有している。
【００２１】
また、図１に示すように、搬送ライン２は、基板Ｇへの処理段階に応じて８つの搬送区間Ｍ１，Ｍ２，Ｍ３，Ｍ４，Ｍ５，Ｍ６，Ｍ７，Ｍ８に区分できる。
第１の搬送区間Ｍ１は、前段の処理部から、現像部３内の出口よりも少し手前（上流側）の位置に設定された第１の区間変更点Ｐ１までの区間であり、所定の高さ位置を保ったまま、略水平一直線に延びる水平搬送路を有している。
【００２２】
第２の搬送区間Ｍ２は、前記第１の区間変更点Ｐ１から、リンス部４内に入り、リンス部４の入口よりも少し下流側の位置に設定された第２の区間変更点Ｐ２までの区間であり、前記第１の搬送区間Ｍ１と同様に略水平搬送路を有している。
第３の搬送区間Ｍ３は、リンス部４内において、前記第２の区間変更点Ｐ２から、内奥の所定位置に設定された第３の区間変更点Ｐ３までの区間であり、前記第２の搬送区間Ｍ２と同様に水平搬送路を有している。
【００２３】
また、第４の搬送区間Ｍ４は、リンス部４内において、前記第３の区間変更点Ｐ３からそれよりも所定の距離だけ下流側の位置に設定された第４の区間変更点Ｐ４までの区間であり、それまでの搬送路高さよりも所定量（例えば１０〜２５ｍｍ）高い隆起部２ａの頂上まで所定の傾斜角で上る上り傾斜の搬送路を有している。
第５の搬送区間Ｍ５は、リンス部４内で前記第４の区間変更点Ｐ４からそれよりも所定の距離だけ下流側の位置に設定された第５の区間変更点Ｐ５までの区間であり、前記隆起部２ａの頂上からそれよりも所定量（例えば１０〜２５ｍｍ）低い位置まで所定の傾斜角で下る下り傾斜の搬送路を有している。
【００２４】
また、第６の搬送区間Ｍ６は、リンス部４内において前記第５の区間変更点Ｐ５からそれよりも所定の距離だけ下流側の位置、即ち出口より少し手前の位置に設定された第６の区間変更点Ｐ６までの区間であり、水平一直線に延びる水平搬送路を有している。
第７の搬送区間Ｍ７は、前記第６の区間変更点Ｐ６からリンス部４と乾燥部５との境界付近に設定された第７の区間変更点Ｐ７までの区間であり、前記第６の搬送路Ｍ６よりも所定量（例えば４〜２５ｍｍ）高い段差部２ｃの上段位置まで所定の傾斜角で上る上り傾斜の搬送路を有している。
【００２５】
また、第８の搬送区間Ｍ８は、前記第７の区間変更点Ｐ７から乾燥部５及び後段の処理部まで至る区間であり、前記段差部２ｂの上段位置の高さを一定に保ったまま水平一直線に延びる水平搬送路を有している。
【００２６】
また、現像部３においては、第１の搬送区間Ｍ１内の所定位置に、搬送ライン２上をコロ搬送で移動する水平姿勢の基板Ｇに向けて、上方から基準濃度の現像液（第１の処理液）を吐出する現像液供給ノズル（第１の処理液供給手段であり、以下、現像ノズルと呼ぶ）９が配置されている。現像ノズル９は、基板幅方向に延びる例えばスリット状の吐出口または１列に配置された多数の微細径吐出口を有する長尺型のノズルからなり、図示しない現像液供給源から配管を介して現像液を給液されるようになっている。
【００２７】
現像部３内には、搬送ライン２の下に落ちた現像液を受け集めるためのパン１０が設けられている。このパン１０の排液口は排液管１１を介して現像液再利用機構１２に通じている。現像液再利用機構１２は、現像液ノズル９により基板Ｇ上に現像液を盛る際にこぼれ落ちた現像液をパン１０および排液管１１を介して回収し、回収した現像液に原液や溶媒を加え、基準濃度に調整したリサイクルの現像液を前記現像液供給源に送るようになっている。
【００２８】
また、現像部３の出口付近の第２の搬送区間Ｍ２において、その上方位置には、搬送方向下流側に向けて所定のガス流、具体的には基板幅方向に直線状に延びるカーテン状のガス流を噴出するエアノズル２１（気体供給手段）が設けられている。このエアカーテン状のガス流が形成されることによって、その下を通過する基板Ｇ上の現像液は、ガス流が吹き付けられる位置で堰き止められ、基板後方から流れ落ちる。即ち、基板上においては、前記ガス流が吹き付けられた位置より前方（下流側）の領域には、現像液が殆ど残らない状態とすることができる。
【００２９】
また、第２の搬送区間Ｍ２において、前記エアノズル２１よりも下流側には、現像液が流れ落ちた基板Ｇ上に、直ぐさま純水等のリンス液（第２の処理液）を供給するための第１のリンスノズル２２（第１のリンス手段）が設けられている。この第１のリンスノズル２２は、基板Ｇに残る現像液が波打たないように低流速でリンス液を吐出するもので、その時のインパクト（衝撃）が小さいものとなされている。
尚、この第１のリンスノズル２２から基板上に供給されたリンス液は、前記エアノズル２１により形成されるガス流のエアカーテンによって、その位置から上流側に流れないよう堰き止められる。
【００３０】
また、第１のリンスノズル２２の下方には、基板搬送方向の断面が逆台形状のテーブル部材２７（液溜まり形成手段）が配置されている。このテーブル部材２７は、第１のリンスノズル２２の直下に配置され、搬送される基板Ｇが到達するまでに、第１のリンスノズル２２から供給されたリンス液を上面に液盛りし、液溜まり部を形成するために設けられている。尚、少なくとも第１のリンスノズル２２からのリンス液供給位置よりも上流側に前記液溜まり部は形成される。
また、第２の搬送区間Ｍ２において、前記リンスノズル２２の下流側には、より高流速で、即ち吐出時のインパクトがより大きくなる流速で、液置換（現像停止）用のリンス液を供給する第２のリンスノズル２３（第２のリンス手段）が配置されている。
【００３１】
また、中心部の第４の搬送区間Ｍ４内の所定位置に、搬送ライン２の隆起部２ａの上り斜面を通過する基板Ｇに向けて上方から洗浄用のリンス液を吐出する第３のリンスノズル２４が搬送方向に沿って配置されている。
また、その下流側隣の第５の搬送区間Ｍ５内の所定位置に、搬送ライン２の隆起部２ａの下り斜面を通過する基板Ｇに向けて上方から仕上げ洗浄用のリンス液を吐出する第４のリンスノズル２５が搬送方向に沿って配置されている。
【００３２】
さらに、出口付近にて第７の搬送区間Ｍ７内の所定位置に、搬送ライン２の上り段差部２ｂを上る基板Ｇに向けて上方から最終洗浄用のリンス液を吐出する第５のリンスノズル２６が搬送方向に沿って配置されている。各リンスノズル２２〜２６は、前記現像液ノズル９と同様の構成を有する長尺型ノズルからなり、リンス液供給源（図示せず）から配管を介してリンス液を給液されるようになっている。
【００３３】
また、リンス部４内には、搬送ライン２の下に落ちたリンス液を受け集めるためのパン１７が設けられている。このパン１７の排液口は排液管１８を介してリンス液回収部（図示せず）に通じている。図示省略するが、搬送ライン２の下から基板Ｇの下面に対して洗浄用のリンス液を噴き掛ける下部リンスノズルを設けることもできる。
【００３４】
乾燥部５においては、第８の搬送区間Ｍ８の始端付近の所定位置に、搬送ライン２の前記段差部２ｂを上ってきた直後の基板Ｇに向けて上方から搬送方向と逆向きに液切りないし乾燥用の高圧ガス流（通常はエア流）を当てる長尺型のガスノズルまたはエアノズル２０が搬送方向に沿って１本または複数本配置されている。搬送ライン２の下から基板Ｇの下面に向けて液切りないし乾燥用の高圧ガス流を当てる下部エアノズル（図示せず）も設置可能である。また、乾燥部５内で搬送ライン２の下に落ちた液を受け集めるためのパン（図示せず）を設けてもよい。
【００３５】
尚、現像ユニット１は、一体的なハウジング３０内に現像部３，リンス部４および乾燥部５を収容しており、異なる処理部間の境界には搬送ライン２に沿った周囲の空間を上流側と下流側とに隔てるための鉛直方向に延在する隔壁３０ａ，３０ｂを設けている。より詳細には、現像部３とリンス部４との境界つまり第２の搬送区間Ｍ２付近に隔壁３０ａが設けられ、リンス部４と乾燥部５との境界つまり第７の搬送区間Ｍ７と第８の搬送区間Ｍ８との境界付近に隔壁３０ｂが設けられる。各隔壁３０ａ，３０ｂには、搬送ライン２を通す開口３１，３２がそれぞれ形成されている。
【００３６】
また、この現像ユニット１において、各処理部３，４，５内の空間は隔壁３０ａ，３０ｂの開口３１，３２を介して相互に連通している。現像部３および乾燥部５では、室外の空気を引き込むためのファン３３，３４と、これらのファン３３，３４からの空気流を除塵するエアフィルタ３５，３６とによって、天井から清浄な空気がダウンフローで室内に供給されるようになっている。このうち、現像部３の天井から供給される清浄空気は、現像処理時に発生する現像液のミストを巻き込むようにして前記隔壁３０ａの開口３１を通ってリンス部４の室内に流入する。
【００３７】
一方、乾燥部５の天井から供給される清浄空気は、乾燥（液切り）処理で発生するリンス液のミストを巻き込むようにして前記隔壁３０ｂの開口３２を通ってリンス部４の室内に流入するようになっている。リンス部４の底部には、たとえば排気ポンプまたは排気ファンを有する排気機構３７に通じる排気口３８が設けられている。
前記のようにして現像部３側から流入してきたミスト混じりの空気と、乾燥部５側から流入してきたミスト混じりの空気は、リンス部４内で発生するミストをも巻き込んで左右から合流して排気口３８から排出されるようなっている。
【００３８】
続いて、第２の搬送区間Ｍ２における液処理の構成について、さらに詳しく説明する。
図２（ａ）は、搬送区間Ｍ１〜Ｍ３を通過する基板Ｇの状態を示す平面図であり、図２（ｂ）はその側面図である。図３は、搬送区間Ｍ２に配置されるプレート部材２７と基板Ｇとの配置関係を示す平面図である。また、図４は、前記搬送区間Ｍ２に配置されたエアノズル２１、第１のリンスノズル２２、プレート部材２７の相互の配置関係をより具体的に示す側面図である。
【００３９】
図２（ｂ）に示すように、搬送区間Ｍ２の上方において、基板幅方向に延びる長尺型のエアノズル２１、第１のリンスノズル２２、第２のリンスノズル２３が基板搬送方向に沿って順に配置されている。
前記エアノズル２１は、搬送区間Ｍ２を搬送される基板Ｇに対し、所定の高圧ガス流を搬送方向下流側に向けて吹き付けるように、基板面から例えば５〜１５ｍｍの高さ位置に配置されている。具体的には、エアノズル２１は、搬送区間Ｍ２の上方において、その噴射方向が、垂直下方（鉛直方向）を０°として下流側に所定角度（例えば１０°）傾斜した状態で設けられている。
【００４０】
このエアノズル２１により、搬送される基板Ｇの先端側から後端側にわたり、基板幅方向に直線状に延びるカーテン状の高圧ガス流が、基板搬送方向（下流側）に向けて所定流量（例えば３００〜５００リットル／ｍｉｎ）で吹き付けられる。これにより、エアノズル２１からの高圧ガス流の吹き付け位置において、基板Ｇ上の現像液Ｄが堰き止められ、前記ガス流の吹き付け位置から前方（基板Ｇ上の下流側領域）には現像液Ｄが殆ど残らない状態となされる。また、前記ガス流を、基板搬送方向（下流側）に向けて吹き付けることにより、現像液Ｄの波打ちを防止し、微小な現像斑の発生を抑制するようになされている。
尚、エアノズル２１からのガス流の吹き付け位置に基板Ｇが到達していない状態では、図４に示すように、第１のリンスノズル２２からテーブル部材２７上に供給されたリンス液Ｓ（液溜まり部）が上流側から流れ落ちないよう、エアノズル２１からのガス流によって堰き止められる。
【００４１】
また、エアノズル２１の下流側に配置された第１のリンスノズル２２は、基板Ｇ上におけるエアノズル２１からのガス流吹き付け位置から前方の領域、即ち現像液Ｄが除去された領域に、直ぐさま低流速（例えば０．０２４７〜０．０７４ｍ／ｓ）でリンス液Ｓを吐出供給し、基板上で液切れする領域を極力小さくするために設けられている。
この第１のリンスノズル２２は、基板面から例えば２ｍｍの高さに配置され、その吐出方向は、略垂直下方（垂直下方を０°として±１０°傾斜）に向けられている。
【００４２】
また、第１のリンスノズル２２の下流側に配置された第２のリンスノズル２３は、搬送区間Ｍ２を搬送される基板Ｇに対し、より高流速（例えば１．７５８１ｍ／ｓ）でリンス液Ｓを吐出供給し、現像液Ｄを完全にリンス液Ｓに置換するためのノズルである。
この第２のリンスノズル２３は、例えば基板面から１０〜３０ｍｍの高さに配置され、その吐出方向は、基板搬送方向（下流側）となるよう配置されている。即ち、第２のリンスノズル２３は、搬送区間Ｍ２の上方において、その噴射方向が、垂直下方（鉛直方向）を０°として下流側に所定角度（例えば０°〜７０°）傾斜した状態で設けられている。
【００４３】
また、第１のリンスノズル２２の直下に配置されるプレート部材２７は、図３に示すようにコロ６Ａとコロ６Ｂとの間において、基板搬送方向に所定の幅を有し、且つ基板幅方向において基板Ｇの幅寸法よりも長く延設されている。このプレート部材２７の上面は、例えば親水性の高い合成樹脂により形成され、リンス液が液盛りされた際にリンス液が流れ落ち難くなっている。
また、図４に示すように、プレート部材２７は、コロ６Ａとコロ６Ｂとの間においてフレーム部材２８によって支持され、その位置は固定されている。図示するように、プレート部材２７は、基板搬送方向の断面が逆台形状であるため、その前後縁部はコロ６Ａ、６Ｂの上方に位置している。即ち、コロ６Ａ，６Ｂの間において、基板Ｇに臨むプレート面積が大きく確保されている。
【００４４】
また、プレート部材２７の高さ位置は、その上方を搬送される基板Ｇが、プレート部材２７に接触しない高さに設定されている。また、その場合、搬送される基板Ｇの先端が、図４に示すようにプレート部材２７上に盛られたリンス液Ｓ（液溜まり部）中を通過するよう、基板Ｇとプレート部材２７との間の隙間は小さいものとなされる。
【００４５】
また、前記のようにプレート部材２７は、その上面にリンス液を液盛りするために設けられるが、その工夫として、図４に示すようにプレート部材２７の上面は、基板搬送方向の上流側下方に所定角度θ（例えば２°）だけ傾斜した状態で設置されている。さらにプレート部材２７の後端部（プレート部材２７の上面において基板搬送方向上流側）にエアノズル２１からのガス流が吹き付けられるようになされている。
この構成により第１のリンスノズル２２からプレート部材２７上に供給されたリンス液Ｓは、プレートの傾斜によって基板搬送方向上流側に流れようとするが、エアノズル２１からのガス流によって堰き止められる。即ち、図４に示すようにプレート部材２７上において、その上流側により多くのリンス液Ｓが盛られ、厚みのある液溜まり部が形成される。
【００４６】
また、基板Ｇ上において、エアノズル２１により噴出されるガス流の吹き付け位置と第１のリンスノズル２２によるリンス液の供給位置との距離は、例えば２０〜４０ｍｍ（好ましくは３０ｍｍ）に設定されている。また、基板Ｇ上において、エアノズル２１により噴出されるガス流の吹き付け位置と第２のリンスノズル２３によるリンス液の供給位置との距離は、例えば１５０〜３５０ｍｍ（好ましくは２００ｍｍ）に設定されている。
【００４７】
続いて、この現像ユニット１における全体の動作を、図１の全体構成図、及び図５の状態遷移図を適宜用いて説明する。尚、図５は搬送区間Ｍ２を搬送される基板Ｇに対する処理液置換の状態を示す側面図である。
前段処理部を搬出された基板Ｇが一定速度（例えば６０ｍｍ／ｓ）のコロ搬送で現像ユニット１に搬入されると、図１に示すように最初に現像部３において、基板Ｇが搬送ライン２の第１の搬送区間Ｍ１内を水平姿勢で移動する間に定置の現像ノズル９より現像液Ｄを供給される。基板Ｇ上には基板前端から基板後端に向かって搬送速度と等しい走査速度で現像液Ｄが盛られる。基板Ｇからこぼれた現像液Ｄはパン１０に受け集められる。
【００４８】
前記のように基板Ｇに現像液Ｄが盛られる一方、第２の搬送区間Ｍ２においては、第１のリンスノズル２２からプレート部材２７の上面に対し、所定量のリンス液Ｓが供給される。また、エアノズル２１からのガス流によりプレート部材２７からリンス液Ｓが流れ落ちないように堰き止められる。これにより、プレート部材２７上には、上流側ほど液量が多く厚みのある状態でリンス液Ｓが液盛りされる。
【００４９】
また、図５（ａ）に示すように、現像液Ｄが盛られた基板Ｇは、直後に第２の搬送区間Ｍ２に搬送される。
基板Ｇが第２の搬送区間Ｍ２に入ると、図５（ｂ）に示すように、先ずエアノズル２１により、基板Ｇの先端部領域に対し、所定流量（例えば３００〜５００リットル／ｍｉｎ）の高圧ガス流が吹き付けられ、基板Ｇの先端部領域からは現像液Ｄが除去される。また、直ぐさま基板Ｇの先端部は、プレート部材２７に液盛りされたリンス液Ｓ（液溜まり部）の中を通過し、それにより、基板Ｇ上の先端部領域はリンス液Ｓで覆われる。即ち、基板Ｇの先端部領域が第１のリンスノズル２２の下に達する前にリンス液Ｓが供給され、基板Ｇの先端部領域における基板面の乾燥が防止される。
【００５０】
図５（ｃ）に示すように、基板先端が第１のリンスノズル２２の下方に達すると、第１のリンスノズル２２からは低流速（例えば０．０２４７〜０．０７４ｍ／ｓ）、即ち吐出時のインパクトが小さくなる流速でリンス液Ｓが基板Ｇに供給される。
これにより基板Ｇの先端部領域にあっては、基板先端が第２のリンスノズル２３の下方（リンス液供給位置）に達するまでの間、第１のリンスノズル２２からリンス液Ｓが供給されることとなる。
【００５１】
また、前記のように第１のリンスノズル２２から、基板Ｇにリンス液Ｓが直接供給されるようになると、搬送される基板Ｇ上には、エアノズル２１からのガス流によって堰き止められた現像液Ｄの先端部分（現像液Ｄが除去される部分）から、殆ど距離を空けずにリンス液Ｓの膜が形成される状態となる。即ち、基板Ｇ上の現像液Ｄとリンス液Ｓとの間に形成される液切れ領域の基板搬送方向の幅は現像斑の発生に影響しない微小なものとなる。尚、エアノズル２１から噴射されるエアカーテン状のガス流は、基板搬送方向（下流側）に向けられているため、現像液Ｄが波打つこともなく、微小な現像斑の発生が抑制される。
【００５２】
また、図５（ｄ）に示すように、基板Ｇが第２のリンスノズル２３の下方に達すると、前記第１のリンスノズル２２からリンス液Ｓが供給された基板Ｇには、リンス液Ｓが途切れないように第２のリンスノズル２３からさらに高流速（例えば１．７５８１ｍ／ｓ）で、即ち吐出時のインパクトがより大きくなる流速でリンス液Ｓが供給される。これにより基板Ｇ上にはリンス液Ｓが途切れることなく現像液Ｄと置換される。
【００５３】
このようにして基板Ｇが第２の搬送区間Ｍ２を搬送されるにしたがい、基板上の現像液Ｄはリンス液Ｓに置換されていく。
即ち、図５（ｅ）に示すように基板Ｇの全体が第２の搬送区間Ｍ２を通過する時点では、基板Ｇの上面は全てリンス液Ｓに置換され、現像が停止する。尚、基板Ｇから流れ落ちた現像液Ｄおよびリンス液Ｓはパン１７に受け集められる。
【００５４】
このように基板Ｇ上の処理液を現像液Ｄからリンス液Ｓに置き換える処理においては、エアノズル２１から吹き付けられるエアカーテン状の高速ガス流によって、現像液Ｄはその吹き付けられた位置で堰き止められ、基板Ｇの搬送に伴い基板後端側から流れ落ちる。
そして、基板Ｇ上におけるガス流の吹き付け位置より前方、即ち現像液Ｄが除去された領域には、直ぐさま第１のリンスノズル２２、及び第２のリンスノズル２３によってリンス液Ｓが供給される。特に、基板Ｇの先端部領域にあっては、現像液Ｄが除去されると、直ぐさまテーブル部材２７上の液溜まり部によってリンス液Ｓが供給され、続けて、第１のリンスノズル２２、及び第２のリンスノズル２３によってリンス液Ｓが供給される。
このため、基板Ｇの全面において、時間を殆ど空けずに基板上の現像液Ｄをリンス液Ｓに置換することができ、液切れ領域を微小なものとすることができる。
【００５５】
現像処理を終えた基板Ｇは、水平な第３の搬送区間Ｍ３を通過し、次の第４の搬送区間Ｍ４で隆起部２ａの上り傾斜路を上る。この時、基板Ｇ上に残っている置換用のリンス液Ｓが基板前端側から後方へ重力で移動して基板後端から流れ落ちる。さらに、上方のリンスノズル２４より基板Ｇ上に一次洗浄用のリンス液が供給され、古いリンス液を追い出しながらこの新たなリンス液も基板後端から流れ落ちる。
基板の後方に流れ落ちたリンス液はパン１７に受け集められる。こうして、隆起部２ａの頂点を越える基板Ｇは、その上面に一次洗浄用のリンス液が薄い液膜で残っている状態で、隆起部２ａの下り傾斜路（第５の搬送区間Ｍ５）に差し掛かる。
【００５６】
次いで、隆起部２ａの下り傾斜路（Ｍ５）を基板Ｇが下りる際には、上方のリンスノズル２５により基板Ｇ上に二次洗浄用の新たなリンス液が供給され、基板Ｇ上に薄く残っていた一次洗浄液を前方に追いやりながら新たなリンス液も基板前端から流れ落ちる。基板Ｇの前方に流れ落ちたリンス液はパン１７に受け集められる。
【００５７】
前記のようにしてリンス処理を終えた基板Ｇは、水平な第６の搬送区間Ｍ６を通過し、次の第７の搬送区間Ｍ７で上り段差部２ｂの傾斜路を上る。この時、基板Ｇ上に残っている仕上げ用リンス液が基板前端側から後方へ重力で移動して基板後端から流れ落ちる。さらに、上方のリンスノズル２６より基板Ｇ上に最終洗浄用のリンス液が供給され、古いリンス液を追い出しながらこの新たなリンス液も基板後端から流れ落ちる。基板Ｇの後方に流れ落ちたリンス液はパン１７に受け集められる。
【００５８】
そして、基板Ｇが段差部２ｂを上り、乾燥部５側つまり第８の搬送区間Ｍ８内の上段搬走路に入ると、エアノズル２０が基板Ｇに対して搬送方向と逆向きに高圧ガス流を当てることにより、基板Ｇ上の残っていたリンス液が基板後方へ寄せられて基板後端から追い出される（液切りされる）。基板Ｇの後方に飛ばされたリンス液はパン１７に受け集められる。
こうして現像ユニット１内で一連の現像処理工程を終えた基板Ｇは、そのまま搬送ライン２上をまっすぐ移動して後段の処理部に送られる。
【００５９】
以上のように、本発明に係る実施の形態によれば、現像液Ｄが盛られて平流し搬送される基板Ｇが到達する前において、プレート部材２７上にリンス液Ｓの液溜まり部が形成される。そして、基板Ｇは、エアノズル２１からのガス流によりその先端部の領域から現像液Ｄが除去されると、直ぐさま基板先端部が前記プレート部材２７上のリンス液Ｓ（液溜まり部）の中を通過する。
これにより基板Ｇの先端部領域にあっては、第１のリンスノズル２２から吐出されたリンス液Ｓが基板面に当たる前に、プレート部材２７上のリンス液Ｓによって覆うことができる。また、基板Ｇに第１のリンスノズル２２からリンス液Ｓが供給されるようになると、エアノズル２１により現像液Ｄが除去された領域に、前記第１のリンスノズル２２からリンス液Ｓを直ぐさま供給することができ、時間を殆ど空けずに基板上の現像液Ｄをリンス液Ｓに置換することができる。即ち、基板Ｇの全面において、乾燥を防止し、基板面乾燥による現像斑の発生を抑制することができる。
【００６０】
尚、前記実施の形態においては、第１のリンスノズル２２の基板Ｇに対する吐出方向は、垂直下方とする構成としたが、本発明にあっては、それに限定されるものではない。
例えば、図６に示すように第１のリンスノズル２２において、吐出されたリンス液Ｓを基板Ｇ上の任意の位置まで導出する邪魔板２９Ａを設けてもよい。図６の構成の場合、第１のリンスノズル２２の吐出方向が上流側に向けられ、吐出されたリンス液Ｓは邪魔板２９Ａにぶつかり、減速された状態で基板上に供給される。ここで、基板上のリンス液Ｓの供給位置は、エアノズル２１からのガス流の吹き付け位置に近接している。
即ち、エアノズル２１からのガス流の吹き付け位置に近接した基板上の所定位置に、第１のリンスノズル２２により直接的にリンス液Ｓを吐出すると、吐出速度が速いために液面が波打ち、それが現像斑の原因となる虞があるが、本構成によれば、減速させつつ前記所定位置にリンス液Ｓを供給することができる。
また、この構成により、第１のリンスノズル２２から吐出されるリンス液Ｓは、エアノズル２１からのガス流の吹き付け位置に近接した基板上の所定位置に吐出されるため、エアノズル２１のガス流で現像液Ｄを液切りした後、直ぐにリンス液Ｓで置換することができる。
【００６１】
また、この場合、前記実施の形態で説明したプレート部材２７と共に併用することにより、基板Ｇの先端部領域における現像液Ｄからリンス液Ｓへの置換をより確実に行うことができる。また、プレート部材２７を設けない場合であっても、前記のように、基板Ｇ上において、エアノズル２１からのガス流の供給位置に近接した位置に、弱い勢いでリンス液Ｓを供給することができる。
尚、図６においては、邪魔板２９Ａによりリンス液Ｓが垂直下方に供給される構成を示しているが、図７の邪魔板２９Ｂのように、その先端部を基板面に対して任意の角度で傾斜させ、リンス液Ｓの供給位置を調整することもできる。
【００６２】
また、前記実施の形態においては、現像液Ｄが盛られた基板Ｇが到達するまでに、第１のリンスノズル２２及びエアノズル２１を用いてプレート部材２７上にリンス液Ｓを液盛りする構成とした。
しかしながら、本発明にあっては、その構成に限定されるものではない。例えば、図８に示すように、基板搬送方向の断面が逆台形状のプレート部材２７において、例えば中央に基板幅方向に延びるスリット状のリンス液吐出孔２７ａを設け、前後縁部に、それぞれ基板幅方向に延びるスリット状のエア噴出孔２７ｂ、２７ｃを設けてもよい。
そして、図示するようにリンス液供給源４１（第２の処理液供給手段）からリンス液吐出孔２７ａにリンス液Ｓを供給してプレート上面にリンス液Ｓを吐出させ、ガス供給源４２からエア噴出孔２７ｂ、２７ｃに高圧ガスを供給してプレート上にガス流を形成することにより、プレート上からリンス液Ｓが流れ落ちないように液盛りすることができる。
尚、この場合、プレート部材２７は基板搬送方向上流側下方に所定角度（例えば、水平面に対し下方に２°）傾斜させることが望ましく、それによりプレート部材２７上において上流側により多くのリンス液Ｓが盛られ、厚みのある液溜まり部を形成することができる。
また、図示するようにプレート部材２７の前後縁部にエア噴出孔２７ｂ、２７ｃを設けてよいが、少なくとも基板搬送方向上流側のエア噴出孔２７ｂを設けることによって、プレート部材２７上において上流側からリンス液Ｓが流れ落ちないようにすることができる。
【００６３】
また、前記実施の形態においては、プレート部材２７の上面は面一（平面）として説明したが、図９（ａ）に平面図、図９（ｂ）に正面図を示すように、その両端において上方に突出する堰２７ｄを設けてもよい。そのように構成することにより、プレート部材２７の両端においては堰２７ｄによってリンス液Ｓが堰き止められ、より均一な厚みでリンス液Ｓをプレート上に液盛りすることができる。
【００６４】
また、前記実施の形態においては、プレート部材２７は、基板搬送方向の断面が逆台形状とし、その上面が上流側下方に傾斜しているものとしたが、傾斜せずに水平な状態であっても本発明による効果を充分に得ることができる。
また、プレート部材２７を上流側下方に任意の角度で傾斜させる機構をフレーム部材２８（図４参照）などに持たせてもよい。
或いは、図１０に示すようにプレート部材２７の上面２７ｅを、基板搬送方向の断面が山なりになるよう形成してもよく、その場合には、山なりの傾斜によってリンス液Ｓをプレート後部に集めることができる。
【００６５】
さらに、前記実施の形態においては、液溜まり形成手段として、プレート部材２７を具備する構成としたが、本発明にあっては、それに限定されるものではない。
例えば、図１１に示すように、コロ６Ａとコロ６Ｂとの間にベルト４３を掛架し、ベルト４３上に、第１のリンスノズル２２からリンス液Ｓを供給して液盛りする構成を液溜まり形成手段としてもよい。
【００６６】
また、前記実施の形態に示した各リンスノズルは、基板幅方向に延びる長尺型のノズルとして示したが、それに限定されず、微細径吐出口をそれぞれ有する複数のノズル（例えばスプレータイプのノズル）を基板幅方向に並べて構成するようにしてもよい。
【００６７】
また、前記実施の形態においては、第１のリンスノズル２２による吐出時のインパクトが、第２のリンスノズル２３の吐出よりも小さくなるよう、吐出流速を規定したが、第１のリンスノズル２２と第２のリンスノズル２３のノズル形状が同一であれば、吐出流量により規定することもできる。
【００６８】
また、前記実施の形態では、エアノズル２１は、搬送区間Ｍ２の上方において、その噴射方向が、垂直下方（鉛直方向）を０°として下流側に所定角度（例えば１０°）傾斜した状態で設けられた構成としたが、それに限らず、噴射方向が垂直下方に向いた状態の構成としてもよい。
【００６９】
また、前記実施の形態にあっては、第２の搬送区間Ｍ２は、略水平の搬送路の区間としたが、上り傾斜の搬送路と下り傾斜の搬送路とからなる隆起部を有する構成としてもよい。その場合、エアノズル２１、第１のリンスノズル２２、プレート部材２７は、前記隆起部の頂点上方に配置され、第２のリンスノズル２３は下り傾斜の搬送路の上方に配置される。この構成により、上り傾斜の搬送路において、基板Ｇ上の現像液Ｄを、基板前端側から後端側まで順次（基板後端側から）流し落とすことができる。また、下り傾斜の搬送路において、第１のリンスノズル２２と第２のリンスノズル２３から供給されたリンス液Ｓにより、基板前端までを覆うことができる。
【符号の説明】
【００７０】
１          現像ユニット（基板処理装置）
２          搬送ライン（基板搬送路）
２ａ        隆起部
２ｂ        段差
３          現像部
４          リンス部
５          乾燥部
６          コロ
９          現像液供給ノズル（第１の処理液供給手段）
１０        パン
１１        廃液管
１２        現像液再利用機構
２１        エアナイフ（気体供給手段）
２２        第１のリンスノズル（第１のリンス手段）
２３        第２のリンスノズル（第２のリンス手段）
２７        プレート部材（液溜まり形成手段）
４１        リンス液供給源（第２の処理液供給手段）
４３        ベルト（液溜まり形成手段）
Ｄ          現像液（第１の処理液）
Ｇ          ガラス基板（被処理基板）
Ｓ          リンス液（第２の処理液）
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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