(57)【要約】【課題】電磁波シールド性能、透過率、難燃性を高めることができると共に、軽量化を図ることができる電磁波シールドフィルターを提供する。【解決手段】電磁波シールドフィルターに関する。厚さ０．０１〜２０μｍの反射防止・防眩層１と、厚さ２５〜１００μｍの透明樹脂フィルム２と、厚さ１〜７５μｍの透明接着剤層３と、厚さ０．１〜１００μｍ、導体幅５〜５０μｍ、導体ピッチ５０〜８００μｍの格子状の導体パターンからなる導体パターン層４と、厚さ１〜１００μｍの透明粘着剤層５と、厚さ０．５〜１．６ｍｍの化学強化ガラス６又は厚さ０．０１〜１．６ｍｍの複層ガラス７とをこの順に積層して形成されている。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
厚さ０．０１〜２０μｍの反射防止・防眩層と、厚さ２５〜１００μｍの透明樹脂フィルムと、厚さ１〜７５μｍの透明接着剤層と、厚さ０．１〜１００μｍ、導体幅５〜５０μｍ、導体ピッチ５０〜８００μｍの格子状の導体パターンからなる導体パターン層と、厚さ１〜１００μｍの透明粘着剤層と、厚さ０．５〜１．６ｍｍの化学強化ガラス又は厚さ０．０１〜１．６ｍｍの複層ガラスとをこの順に積層して形成されていることを特徴とする電磁波シールドフィルター。
【請求項２】
前記導体パターン層が、エッチングにより形成されていることを特徴とする請求項１に記載の電磁波シールドフィルター。
【請求項３】
前記複層ガラスが、厚さ０．１〜２００μｍの透明粘着剤層を介して厚さ０．０１〜０．７ｍｍのソーダガラス又は化学強化ガラスを２枚貼り合わせて形成されていることを特徴とする請求項１又は２に記載の電磁波シールドフィルター。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、各種ディスプレイの前面に設置して用いられる電磁波シールドフィルターに関するものであり、特に航空機・船舶内において好適に用いられる電磁波シールドフィルターに関するものである。
【背景技術】
【０００２】
電磁波シールドフィルターは、プラズマディスプレイパネル（ＰＤＰ）等のディスプレイの前面に設置され、このディスプレイから放射される電磁波を遮蔽することによって、他の電子機器が誤動作を起こすのを防止している。このような電磁波シールドフィルターは、ポリエステル系繊維等の合成繊維を製織した繊維メッシュ（例えば、特許文献１参照）を用いて製造することができる。
【０００３】
図４は従来の電磁波シールドフィルターの一例を示すものであり、これは、反射防止・防眩フィルム９と合わせガラス１３とを透明粘着剤層５を介して貼り合わせることによって形成されている。ここで、反射防止・防眩フィルム９は、反射防止・防眩層１とポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等の透明樹脂フィルム２とを積層して形成されている。また合わせガラス１３は、繊維メッシュ１４を介して化学強化ガラス６を２枚貼り合わせて形成されており、あらかじめ繊維メッシュ１４にはめっき等を施すことにより導電性が付与されていると共に、粘着剤等により粘着性が付与されている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００４】
【特許文献１】特開２００８−１０７０１号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００５】
しかし、図４に示す電磁波シールドフィルターは、民生用としての性能は十分であるものの、航空機・船舶用としての性能は不十分である。
【０００６】
すなわち、航空機・船舶の分野においては、安全性の観点から通信障害の防止が重要な課題の一つであり、電磁波シールドフィルターに対しては、民生用に要求される性能よりも高い性能が要求される。特に航空機の分野においては、米国連邦航空局（ＦＡＡ）により低周波領域を中心に厳しい規制がなされている。
【０００７】
そして、図４に示す電磁波シールドフィルターにあっては、繊維メッシュ１４の糸密度を高めることによって電磁波シールド性能を高めることができる反面、透過率が低下してしまうという問題がある。そのため、ディスプレイを明るくしなければならず、結果として消費電力が増加する。また、従来の電磁波シールドフィルターは、全体の厚さが２ｍｍ程度であるため重量が重く、またこのように嵩高であるとその分燃焼しやすい部分が増加する可能性が高まり、難燃性も低くなるという問題がある。
【０００８】
本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、電磁波シールド性能、透過率、難燃性を高めることができると共に、軽量化を図ることができる電磁波シールドフィルターを提供することを目的とするものである。
【課題を解決するための手段】
【０００９】
本発明に係る電磁波シールドフィルターは、厚さ０．０１〜２０μｍの反射防止・防眩層と、厚さ２５〜１００μｍの透明樹脂フィルムと、厚さ１〜７５μｍの透明接着剤層と、厚さ０．１〜１００μｍ、導体幅５〜５０μｍ、導体ピッチ５０〜８００μｍの格子状の導体パターンからなる導体パターン層と、厚さ１〜１００μｍの透明粘着剤層と、厚さ０．５〜１．６ｍｍの化学強化ガラス又は厚さ０．０１〜１．６ｍｍの複層ガラスとをこの順に積層して形成されていることを特徴とするものである。
【００１０】
前記電磁波シールドフィルターにおいて、前記導体パターン層が、エッチングにより形成されていることが好ましい。
【００１１】
前記電磁波シールドフィルターにおいて、前記複層ガラスが、厚さ０．１〜２００μｍの透明粘着剤層を介して厚さ０．０１〜０．７ｍｍのソーダガラス又は化学強化ガラスを２枚貼り合わせて形成されていることが好ましい。
【発明の効果】
【００１２】
本発明によれば、導体幅５〜５０μｍ、導体ピッチ５０〜８００μｍの格子状の導体パターンからなる導体パターン層によって、電磁波シールド性能及び透過率を共に高めることができると共に、従来の電磁波シールドフィルターよりも全体の厚さを薄くすることによって、難燃性を高め、軽量化を図ることができるものである。
【図面の簡単な説明】
【００１３】
【図１】本発明に係る電磁波シールドフィルターの一例を示す概略断面図である。
【図２】本発明に係る電磁波シールドフィルターの他の一例を示す概略断面図である。
【図３】（ａ）は米国連邦航空局（ＦＡＡ）によるDO-160E Sec.21D6-36440 Rev.F Category Mに規定された電磁放射の許容値を示すものであり、（ｂ）は実施例１の電磁波シールドフィルターについて電磁波シールド性能の試験結果を示すものであり、（ｃ）は比較例１の電磁波シールドフィルターについて電磁波シールド性能の試験結果を示すものである。
【図４】従来の電磁波シールドフィルターの一例を示す概略断面図である。
【発明を実施するための形態】
【００１４】
以下、本発明の実施の形態を説明する。
【００１５】
図１は本発明に係る電磁波シールドフィルターの一例を示すものであり、これは、反射防止・防眩フィルム９と、透明接着剤層３と、導体パターン層４と、透明粘着剤層５と、化学強化ガラス６とをこの順に積層して形成されている。なお、本発明において、反射防止・防眩とは、反射防止又は防眩を意味する。
【００１６】
反射防止・防眩フィルム９（反射防止フィルム９ａ又は防眩フィルム９ｂ）は、厚さ０．０１〜２０μｍの反射防止・防眩層１（反射防止層１ａ又は防眩層１ｂ）と、厚さ２５〜１００μｍの透明樹脂フィルム２とを積層して形成されている。
【００１７】
透明樹脂フィルム２としては、例えば、ポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）、ポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ）、ポリカーボネート（ＰＣ）、ポリメチルメタクリレート（ＰＭＭＡ）等の透明樹脂をフィルム状に成形したものを用いることができる。透明樹脂にはテトラブロモビスフェノールＡ等の添加型や反応型の難燃剤を配合することができる。ただし、透明樹脂フィルム２の厚さは２５〜１００μｍであり、好ましくは３５〜７５μｍである。透明樹脂フィルム２の厚さが２５μｍ未満であると、シワが入りやすく、破断しやすいなど取り扱いが困難である。逆に、透明樹脂フィルム２の厚さが１００μｍを超えると、難燃性や透明性が損なわれる。
【００１８】
反射防止・防眩層１は、低屈折率層のみからなる単層反射防止層として形成したり、あるいは低屈折率層を最も外側にして低屈折率層と高屈折率層とが積層された多層反射防止層として形成したりすることができる。ここで、低屈折率層は、例えば、フッ化マグネシウム、酸化ケイ素等の低屈折率物質を０．１〜１０質量％含有する低屈折率層形成用塗料を透明樹脂フィルム２又は高屈折率層の表面に塗布・乾燥して形成することができる。他方、高屈折率層は、例えば、酸化チタン、酸化タンタル、酸化錫、酸化インジウム、酸化ジルコニウム、酸化亜鉛等の高屈折率物質を５〜７０質量％含有する高屈折率層形成用塗料を透明樹脂フィルム２又は低屈折率層の表面に塗布・乾燥して形成することができる。なお、低屈折率層を最も外側にして低屈折率層と高屈折率層とは３層以上交互に積層するようにしてもよい。ただし、反射防止・防眩層１の厚さは０．０１〜２０μｍである。反射防止・防眩層１の厚さが０．０１μｍ未満であると、反射防止・防眩効果を十分に得ることができない。逆に、反射防止・防眩層１の厚さが２０μｍを超えると、層内の添加物が邪魔をして所望の透過率（全光線透過率）を得ることができない。
【００１９】
特に反射防止層１ａは、酸化ケイ素を含有する低屈折率層と、酸化インジウム及び酸化錫を含有する高屈折率層（ＩＴＯ層）とが積層された多層反射防止層であることが好ましい。この場合、より一層優れた反射防止効果が得られる上に、表面硬度及び密着性にも優れている。また反射防止層１ａは、酸化ケイ素を含有する低屈折率層と、酸化チタンを含有する高屈折率層とが少なくとも２層積層された多層反射防止層であることも好ましい。この場合、透明性に優れているのみならず、安価でもあり、かつ表面硬度及び密着性にも優れている。
【００２０】
また、防眩層１ｂは、表面に微細な凹凸が形成されて光沢が低減した層であるが、このような層は、例えば、微粒子を分散させた状態で含有する重合性化合物を透明樹脂フィルム２の表面に塗布し、これを熱や紫外線等で硬化させて高分子被膜とすることによって形成することができる。ここで、重合性化合物としては、例えば、多官能性単量体、シリコン系架橋性樹脂、メラミン系架橋性樹脂、エポキシ系架橋性樹脂等を用いることができる。また、微粒子としては、粒径が０．００２〜１０μｍのものを用いるのが好ましく、具体的には、二酸化ケイ素、酸化アルミニウム、酸化マグネシウム、酸化錫、一酸化ケイ素、酸化ジルコニウム、酸化チタン等の無機酸化物を用いるのが好ましい。中でも、主成分が二酸化ケイ素であるシリカ微粒子が、安価であり、かつ粒径分布の幅の小さいものが得られるという観点から、より好ましい。このようなシリカ微粒子の市販品としては、例えば、サイロイド７２（富士デヴィソン化学社製）、サイロイド２４４（富士デヴィソン化学社製）、ミズカシルＰ５２７（水沢化学社製）、アエロジルＴＴ６００（デグッサ社製）等が挙げられる。また、シリカ微粒子として、コロイダルシリカの凝集体を用いてもよい。このようなコロイダルシリカの市販品としては、例えば、ルドックスＡＭ（デュポン社製）、キセゾールＡ２００（バイエルＡＧ社製）、スノーテックス−Ｃ（日産化学工業社製）等が挙げられる。そして、微粒子の含有量は、重合性化合物１００質量部に対して、１〜１５質量部であることが好ましい。
【００２１】
また、防眩層１ｂは、無機系の光拡散層形成用塗布液を用いて光拡散層として形成することができ、これは、光拡散層を形成するバインダー樹脂（例えば熱可塑性アクリル樹脂や熱硬化性アクリル樹脂等）１００質量部に対して、光拡散剤（例えば炭酸カルシウムやシリカ微粒子等）を好ましくは５０〜３００質量部、より好ましくは１００〜２００質量部配合することによって調製することができる。光拡散剤の配合量を５０重量部以上とするのは、十分な光拡散性を得るためであり、光源からの光を均一にし、視認者に背面部材や光源を視認できなくするためである。また、光拡散剤の配合量を３００重量部以下とするのは、光拡散層の塗膜が脆くなることを防止するためである。
【００２２】
次に、反射防止・防眩フィルム９の反射防止・防眩層１が形成されていない面（透明樹脂フィルム２の表面）に透明接着剤層３を形成する。透明接着剤層３は後述する金属箔の表面に形成してもよく、また透明樹脂フィルム２と金属箔の両方に形成してもよい。透明接着剤層３を形成するための透明接着剤としては、例えば、ＥＶＡ（エチレン−酢酸ビニル共重合体）系、ポリアミド系、ポリウレタン系、ポリエステル系、オレフィン系、アクリル系等の樹脂や、これらの樹脂にテトラブロモビスフェノールＡ等の添加型や反応型の難燃剤を配合したものを用いることができる。そして、このような透明接着剤を熱溶融させたり、揮発性溶媒（例えば、ジクロロメタン、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルエチルケトン等）に溶解させて希釈したりした後、溶液流延法又はキャスティング法により、透明樹脂フィルム２の表面に透明接着剤層３を形成することができる。これと同様にして金属箔の表面にも透明接着剤層３を形成することができる。ただし、電磁波シールドフィルターにおいて透明接着剤層３の厚さは１〜７５μｍであり、好ましくは３〜３０μｍである。透明接着剤層３の厚さが１μｍ未満であると、十分な密着力が得られない。逆に、透明接着剤層３の厚さが７５μｍを超えると、難燃性や透明性が損なわれる。
【００２３】
次に、透明接着剤層３の表面に導体パターン層４を形成する。導体パターン層４を形成するにあたっては、まず金属箔を透明接着剤層３の表面に貼り合わせることによって金属層を形成する。金属層の形成は、透明接着剤層３の形成と同時に行うようにしてもよい。ここで、金属箔としては、銅、ステンレス、アルミニウム、ニッケル、チタン、タングステン、錫、鉛、鉄、銀、クロム又はこれらの合金等からなるものを用いることができ、特に銅、ニッケル、ステンレス、アルミニウム等からなるものを用いるのが好ましい。また、金属箔の透明接着剤層３側の面にはあらかじめ黒化処理を施しておくのが好ましい。これにより金属による光の乱反射を防止することができると共にアンカー効果が得られ、金属箔ひいては導体パターン層４の透明接着剤層３に対する密着性を高めることができる。なお、黒化処理は、亜塩素酸塩又はペルオクソ二硫酸塩等の酸化剤や、水酸化アルカリ及びｐＨ緩衝剤を含む水溶液を用いて施すことができる。そして、フォトリソグラフィーを使用し、エッチングにより金属層の不要部分を除去することによって、格子状の導体パターンからなる導体パターン層４を形成することができる。このようにフォトエッチング法を使用すれば、容易に導体パターンの形状を格子状にすることができると共に、容易に導体幅及び導体ピッチが後述の範囲内に収まるようにすることができるものである。その後、導体パターン層４の表面に黒化処理を施すのが好ましい。これによりアンカー効果が得られ、後述する透明粘着剤層５に対する導体パターン層４の密着性を高めることができると共に、電磁波シールドフィルターをディスプレイの前面に設置して用いる場合に、コントラストが高まり、ディスプレイ上の画像の視認性を向上させることができるものである。
【００２４】
また導体パターン層４は、次のようにして形成することもできる。すなわち、金属箔にパンチング（打抜き）により多数の孔を設けることによって金属箔を格子状に加工した後、この格子状に形成された金属箔を透明接着剤層３の表面に貼り合わせることによって、格子状の導体パターンからなる導体パターン層４を形成することができる。ここで、金属箔としては、上記と同様のものを用いるのが好ましく、また金属箔の透明接着剤層３側の面にはあらかじめ黒化処理を施しておくのが好ましく、さらに導体パターン層４の表面に黒化処理を施すのが好ましい。
【００２５】
上記のようにして形成された格子状の導体パターンからなる導体パターン層４の厚さは０．１〜１００μｍ、導体幅は５〜５０μｍ、導体ピッチは５０〜８００μｍである。これにより、電磁波シールド性能及び透過率を共に高めることができるものである。しかし、導体パターン層４の厚さが０．１μｍ未満であると、電磁波シールド性能が低下し、逆に導体パターン層４の厚さが１００μｍを超えると、視野角が狭くなり、実用上使用が困難になる。また、導体幅が５μｍ未満であると、透過率は高まるものの、電磁波シールド性能が低下し、逆に導体幅が５０μｍを超えると、電磁波シールド性能は高まるものの、透過率が低下する。また、導体ピッチが５０μｍ未満であると、電磁波シールド性能は高まるものの、透過率が低下し、逆に導体ピッチが８０μｍを超えると、透過率は高まるものの、電磁波シールド性能が低下する。
【００２６】
一方、透明粘着剤層５を後述する化学強化ガラス６の表面に形成する。透明粘着剤層５は導体パターン層４の表面に形成してもよく、また化学強化ガラス６と導体パターン層４の両方に形成してもよい。透明粘着剤層５を形成するための透明粘着剤としては、半固形（高粘性）の液状であって、常温で加圧により適度な粘着力を示し、加熱によりさらに強い粘着力を示すような感圧型の粘着剤を用いることができる。具体的にはこのような透明粘着剤（感圧粘着剤）としては、耐候性及び透明性等に優れているものであれば特に限定されるものではないが、光学系用途の粘着剤であることが好ましく、例えば、アクリル系、スチレン−ブタジエン−スチレンブロックポリマー（ＳＢＳ）、スチレン−エチレン−ブチレン−スチレンブロックポリマー（ＳＥＢＳ）等の樹脂や、これらの樹脂にテトラブロモビスフェノールＡ等の添加型や反応型の難燃剤を配合したものを用いることができる。特にアクリル系の樹脂やこの樹脂に上記難燃剤を配合したものを用いるのが好ましく、これにより透明粘着剤層５の耐候性及び透明性をさらに高めることができる。また透明粘着剤には、タッキファイヤー、紫外線吸収剤、着色顔料、着色染料、老化防止剤、接着付与剤等を適宜添加することができる。そして、上記のような透明粘着剤を揮発性溶媒（例えば、ジクロロメタン、四塩化炭素、テトラヒドロフラン、トルエン、メチルエチルケトン等）に溶解させて希釈したりエマルション化したりして低粘度化し、これを化学強化ガラス６の表面に塗布した後、溶媒や水分等を蒸発乾燥させることによって、透明粘着剤層５を形成することができる。これと同様にして導体パターン層４の表面にも透明粘着剤層５を形成することができる。ただし、電磁波シールドフィルターにおいて透明粘着剤層５の厚さは１〜１００μｍであり、好ましくは３〜３０μｍである。透明粘着剤層５の厚さが１μｍ未満であると、十分な密着力が得られない。逆に、透明粘着剤層５の厚さが１００μｍを超えると、難燃性や透明性が損なわれる。
【００２７】
そして、透明粘着剤層５を介して導体パターン層４と化学強化ガラス６とを貼り合わせることによって、図１に示すような電磁波シールドフィルターを得ることができる。導体パターン層４と化学強化ガラス６との貼り合わせは、透明粘着剤層５の形成と同時に行うようにしてもよい。ここで、化学強化ガラス６としては、特に限定されるものではないが、例えば、ガラスを硝酸カリウム（ＫＮＯ３）等の溶融塩中に浸漬させて、ガラスの表層部に存在するイオン半径の小さいナトリウムイオン（Ｎａ＋）をイオン半径の大きいカリウムイオン（Ｋ＋）にイオン交換させることによって、ガラスの表層部に圧縮応力を発生させたものを用いることができる。ただし、化学強化ガラス６の厚さは０．５〜１．６ｍｍである。化学強化ガラス６の厚さが０．５ｍｍ未満であると、強度が損なわれる。逆に、化学強化ガラス６の厚さが１．６ｍｍを超えると、透明性が損なわれる。
【００２８】
図２は本発明に係る電磁波シールドフィルターの他の一例を示すものであり、これは、上述の図１に示す電磁波シールドフィルターにおいて、化学強化ガラス６の代わりに厚さ０．０１〜１．６ｍｍの複層ガラス７を用いて形成されている。複層ガラス７全体の厚さが０．０１ｍｍ未満であると、強度が損なわれる。逆に、複層ガラス７全体の厚さが１．６ｍｍを超えると、透明性が損なわれる。ここで、複層ガラス７としては、厚さ０．１〜２００μｍの透明粘着剤層５を介して厚さ０．０１〜０．７ｍｍのソーダガラス８又は化学強化ガラス６を２枚貼り合わせて形成されているものを用いるのが好ましい。透明粘着剤層５は上記と同様にして形成することができるが、厚さが０．１μｍ未満であると、十分な密着力が得られず、逆に厚さが２００μｍを超えると、難燃性や透明性が損なわれる。また、化学強化ガラス６としては、上記と同様にして形成されたものを用いることができるが、ソーダガラス８又は化学強化ガラス６の厚さが０．０１ｍｍ未満であると、強度が損なわれるおそれがあり、逆にソーダガラス８又は化学強化ガラス６の厚さが０．７ｍｍを超えると、透明性が損なわれるおそれがある。
【００２９】
このように、図１及び図２に示す電磁波シールドフィルターにあっては、反射防止・防眩層１を最も外側にして各種ディスプレイの前面に設置して用いられ、導体幅５〜５０μｍ、導体ピッチ５０〜８００μｍの格子状の導体パターンからなる導体パターン層４によって、電磁波シールド性能及び透過率を共に高めることができるものである。また、図４に示すような従来の電磁波シールドフィルターよりも全体の厚さを薄くすることによって、難燃性を高め、軽量化を図ることができるものである。
【実施例】
【００３０】
以下、本発明を実施例によって具体的に説明する。
【００３１】
（実施例１）
防眩フィルム９ｂと、透明接着剤層３と、導体パターン層４と、透明粘着剤層５と、化学強化ガラス６とをこの順に積層することによって、図１に示す電磁波シールドフィルターを製造した。
【００３２】
具体的には、防眩フィルム９ｂは、厚さ７μｍの防眩層１ｂと、厚さ５０μｍの透明樹脂フィルム２とを積層して形成されている。
【００３３】
透明樹脂フィルム２としては、厚さ５０μｍの東洋紡製コスモシャインＡ４３００を用いた。
【００３４】
防眩層１ｂは、下記組成の光拡散層形成用塗布液をバーコーティングにより透明樹脂フィルム２の表面に塗布し、これを加熱硬化することによって形成した。
【００３５】
＜光拡散層形成用塗布液＞
・熱可塑性アクリル樹脂：５６．２５質量部
（アクリディックＡ１９５：ＤＩＣ（株））
（固形分４０質量％）
・熱硬化性アクリル樹脂：１２．００質量部
（アクリディックＡ８０７：ＤＩＣ（株））
（固形分５０質量％）
・炭酸カルシウム：２７．００質量部
（サンライトＳＬ７００：竹原化学工業（株）、平均粒子径４．５μｍ）
・シリカ微粒子：４．５０質量部
（アエロジル２００：日本アエロジル（株）、平均粒子径１２ｎｍ）
・希釈溶剤：２９．２５質量部
・硬化剤：２．５０質量部
（タケネートＤ１１０Ｎ：三井化学ポリウレタン（株））
（固形分６０質量％）
次に、防眩フィルム９ｂの防眩層１ｂが形成されていない面（透明樹脂フィルム２の表面）に厚さ１２μｍの透明接着剤層３を形成した。透明接着剤層３を形成するための透明接着剤としては、主剤：東洋インキ製造（株）製ダイナレオＶＡ−３０２０と、硬化剤：東洋インキ製造（株）製ダイナレオＨＤ−７０１とを主剤／硬化剤の質量比率＝１００／７となるように混ぜ合わせたものを用い、これを３ｇ／ｍ２の塗布量で透明樹脂フィルム２の表面に塗布した。
【００３６】
次に、透明接着剤層３の表面に導体パターン層４を形成した。導体パターン層４を形成するにあたっては、まず金属箔を透明接着剤層３の表面に貼り合わせることによって金属層を形成した。ここで、金属箔としては、銅箔を用いた。また、金属箔の透明接着剤層３側の面にはあらかじめ黒化処理を施しておいた。なお、黒化処理は、亜塩素酸ナトリウム（３１ｇ／Ｌ）、水酸化ナトリウム（１５ｇ／Ｌ）、リン酸三ナトリウム（１２ｇ／Ｌ）からなる水溶液に金属箔を９５℃で２分間浸漬させることにより施した。そして、フォトリソグラフィーを使用し、エッチングにより金属層の不要部分を除去することによって、格子状の導体パターンからなる導体パターン層４を形成した。その後、導体パターン層４の表面に黒化処理を施した。
【００３７】
上記のようにして形成された格子状の導体パターンからなる導体パターン層４の厚さは１２μｍ、導体幅は２３μｍ、導体ピッチは３００μｍである。
【００３８】
一方、厚さ２５μｍの透明粘着剤層５を厚さ１．１ｍｍの化学強化ガラス６の表面に形成した。透明粘着剤層５を形成するための透明粘着剤は、次のようにして調製した。まず、ｎ−ブチルアクリレート（ｎ−ＢＡ）９９．５質量部、４−ヒドロキシブチルアクリレート（４−ＨＢＡ）０．５質量部、酢酸エチル１００質量部、及びアゾビスイソブチロニトリル（ＡＩＢＮ）０．２質量部を反応容器に仕込み、反応容器内の空気を窒素ガスで置換した。次いで、窒素雰囲気下で攪拌しながら反応容器を６０℃に昇温した後、６時間反応させた。反応終了後、酢酸エチルで希釈し、アクリルポリマー溶液（１）を得、他方、ｎ−ＢＡを９９．５質量部から９７質量部に、４−ＨＢＡを０．５質量部から３質量部に変更した以外は上記と同様にしてアクリルポリマー溶液（２）を得た。そして、アクリルポリマー溶液（１）を樹脂固形分で７０質量部と、アクリルポリマー溶液（２）を樹脂固形分で３０質量部と、キシリレンジイソシアネート（ＸＤＩ）を０．０６質量部とを混合し、十分に攪拌することによって、透明粘着剤を得た。
【００３９】
そして、透明粘着剤層５を介して導体パターン層４と化学強化ガラス６とを貼り合わせることによって、図１に示すような電磁波シールドフィルターを製造した。ここで、化学強化ガラス６としては、セントラル硝子（株）製の厚さ１．１ｍｍの化学強化ガラスを用いた。
【００４０】
（実施例２）
実施例１の電磁波シールドフィルターにおいて、化学強化ガラス６の代わりに厚さ１．２５ｍｍの複層ガラス７を用いることによって、図２に示す電磁波シールドフィルターを製造した。ここで、複層ガラス７としては、厚さ２５μｍの透明粘着剤層５を介して厚さ０．５ｍｍの化学強化ガラス６を２枚貼り合わせて形成されているものを用いた。透明粘着剤層５は実施例１と同様にして形成した。また、化学強化ガラス６としては、セントラル硝子（株）製の厚さ０．５ｍｍの化学強化ガラスを用いた。その他の構成は実施例１と同様である。
【００４１】
（比較例１）
防眩フィルム９ｂと合わせガラス１３とを厚さ２５μｍの透明粘着剤層５を介して貼り合わせることによって、図４に示す電磁波シールドフィルターを製造した。ここで、防眩フィルム９ｂとしては、実施例１と同様のものを用いた。また透明粘着剤層５は実施例１と同様にして形成した。また合わせガラス１３としては、厚さ６０μｍの繊維メッシュ１４を介して厚さ０．７ｍｍの化学強化ガラス６を２枚、東ソー（株）製の厚さ１２０μｍのエチレン酢酸ビニル共重合体（ＥＶＡ）によって貼り合わせて形成されているものを用いた。繊維メッシュ１４としては、３０μｍのポリエステル繊維からなるものを用い、これにめっきを施して導体幅が３０μｍ、導体ピッチが１８０μｍの格子状の導体パターンを形成した。化学強化ガラス６としては、セントラル硝子（株）製の厚さ０．７ｍｍの化学強化ガラスを用いた。
【００４２】
（比較例２）
実施例１の電磁波シールドフィルターにおいて、透明接着剤層３の代わりにイーストマン製セルロースアセテートブチレート５５１−０．２を用いて厚さ５μｍのインク受容層を形成した。さらに導体パターン層４は、導電性ペーストを用いてスクリーン印刷により厚さ５μｍ、導体幅２３μｍ、導体ピッチ２５０μｍの格子状の導体パターンとしてインク受容層の表面に形成した。導電性ペーストとしては、太陽インキ製造（株）製「ＡＦ５２００」を用いた。その他の構成は実施例１と同様である。
【００４３】
そして、各実施例及び比較例の電磁波シールドフィルターについて、光学性能、電気性能、難燃性を評価すると共に、重量を測定した。
【００４４】
具体的には、光学性能については、透過率（全光線透過率）及びヘイズを測定した。
【００４５】
また、電気性能については、表面抵抗及び電磁波シールド性能を測定した。電磁波シールド性能については、米国連邦航空局（ＦＡＡ）によるDO-160E Sec.21 D6-36440 Rev.F Category Mに基づいて試験を行った。図３（ａ）は電磁放射の許容値（イ）を示すものである（イより下の領域が合格、イより上の領域が不合格）。特に、図３（ｂ）は実施例１の電磁波シールドフィルターについて電磁波シールド性能の試験結果を示すものであり、図３（ｃ）は比較例１の電磁波シールドフィルターについて電磁波シールド性能の試験結果を示すものであるが、いずれもCategory Mの規定を満足している。
【００４６】
また、難燃性については、米国連邦航空局（ＦＡＡ）による14CFR25.853に基づいて垂直試験を行った。
【００４７】
上記結果を下記［表１］に示す。
【００４８】
【表１】
2013165085.tif 000003
【００４９】
上記［表１］から明らかなように、実施例１、２の電磁波シールドフィルターは、比較例１、２の電磁波シールドフィルターに比べて、電磁波シールド性能、透過率、難燃性を高めることができると共に、軽量化を図ることができることが確認された。
【符号の説明】
【００５０】
１  反射防止・防眩層
２  透明樹脂フィルム
３  透明接着剤層
４  導体パターン層
５  透明粘着剤層
６  化学強化ガラス
７  複層ガラス
８  ソーダガラス
【図１】
2013165085.tif 000004
【図２】
2013165085.tif 000005
【図３】
2013165085.tif 000006
【図４】
2013165085.tif 000007