(57)【要約】【課題】複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供する。【解決手段】それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。【選択図】図１
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
それぞれパターンを形成した複数のマスクの間に円錐形突起を設けた間座を配置して、重ねて搬送することを特徴とする搬送装置。
【請求項２】
前記マスクの受け渡し場所で、前記間座は、その重力方向下方に配置された前記マスクと共に受け渡されるようになっていることを特徴とする請求項１に記載の搬送装置。
【請求項３】
前記マスクの受け渡し場所で、前記マスクは吸着保持されて上昇することを特徴とする請求項２に記載の搬送装置。
【請求項４】
前記マスクは、前記パターンの露光に用いられ、前記間座は、少なくとも前記パターンを通過する露光用光を遮蔽しない位置に配置されていることを特徴とする請求項１〜３のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項５】
１つの前記間座のみが、受け渡される前記マスクと共に移動することを特徴とする請求項１〜４のいずれかに記載の搬送装置。
【請求項６】
前記間座は、前記マスクを重ねたときに、前記マスク同士の相対的な位置ズレを補正する手段を有することを特徴とする請求項１〜５のいずれかに記載の搬送装置。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、搬送装置及び露光装置に関し、例えば液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイの基板上にマスクのマスクパターンを露光転写するのに好適な露光装置及びそのマスクを搬送するのに好適な搬送装置に関する。
【背景技術】
【０００２】
大型の薄形テレビ等に用いられる液晶ディスプレイやプラズマディスプレイ等の大型のフラットパネルディスプレイは、基板上にマスクのパターンを分割逐次露光方式で近接露光転写することで製造される。例えば特許文献１には、被露光材としての基板より小さいマスクを用い、該マスクをマスクステージで保持すると共に基板をワークステージで保持して両者を近接して対向配置し、この状態でワークステージをマスクに対してステップ移動させて各ステップ毎にマスク側から基板にパターン露光用の光を照射することにより、マスクに描かれた複数のマスクパターンを基板上に露光転写して一枚の基板に複数のディスプレイ等を作成するようにしたものが知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】特開平１−１５５３５４号公報
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
ところで、近接露光転写を行う場合においては、一般的に製品と同寸のパターンを有するマスクを用いている。しかるに、近年の薄形テレビ等はユーザーの嗜好に対応して画面が大型化する傾向があるが、それに応じて基板に露光転写されるパターン領域も大きくなるため、露光転写に用いるマスクも大型のものを用いる必要が生じている。ところが、マスクは大型化するにつれてコストが顕著に増大するという問題がある。加えて、マスクは石英などの脆性材料で形成されることが多く、取り扱いの不備等により破損を招きやすいため、それもコスト高を加速する要因となっている。
【０００５】
これに対し、マスクを細分化してライン状に配置し、基板を一方向に移動させつつ分割して露光を行う新規な分割露光方式が検討されている。かかる露光方式は、基板に形成されるパターンに、ある程度繰り返される部位があることを前提として、これをつなぎ合わせることで大きなパターンを形成できることを利用したものである。このような分割露光方式によれば、高価なマスクを採用する必要はなく、比較的安価なマスクを用いて、基板に大きなパターンを露光転写することができる。
【０００６】
ところで、かかる分割露光方式においては、複数のマスクを用いる必要がある。一方、マスクは比較的短いサイクルで洗浄などのメンテナンスを行わないと、適切な露光を行えないという実情もある。従って、露光装置の稼働率を高めるためには、使用したマスクを、いかに効率的に露光装置から回収し、且つ洗浄等したマスクを、いかに効率的に露光装置に装填するかが大きな課題となっている。
【０００７】
そこで本発明は、かかる従来技術の課題に鑑み、複数のマスクを露光装置から効率的に回収し又分配できる搬送装置及び露光装置を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００８】
本発明の目的は、下記のように構成される。
（１）それぞれパターンを形成した複数のマスクの間に間座を配置して、前記間座に円錐形突起を設けて、重ねて搬送することを特徴とする搬送装置。
（２）前記マスクの受け渡し場所で、前記間座は、その重力方向下方に配置された前記マスクと共に受け渡されるようになっていることを特徴とする（１）に記載の搬送装置。
（３）前記マスクの受け渡し場所で、前記マスクは吸着保持されて上昇することを特徴とする（２）に記載の搬送装置。
（４）前記マスクは、前記パターンの露光に用いられ、前記間座は、少なくとも前記パターンを通過する露光用光を遮蔽しない位置に配置されていることを特徴とする（１）〜（３）のいずれかに記載の搬送装置。
（５）１つの前記間座のみが、受け渡される前記マスクと共に移動することを特徴とする請求項（１）〜（４）のいずれかに記載の搬送装置。
（６）前記間座は、前記マスクを重ねたときに、前記マスク同士の相対的な位置ズレを補正する手段を有することを特徴とする（１）〜（５）のいずれかに記載の搬送装置。
【発明の効果】
【０００９】
例えば、露光装置において複数のマスクを各々トレイに搭載して、単一の搬送装置を用いて搬送する場合、１つのマスク搬送のために１往復する時間がｔ秒であるとすると、マスクの回収のためにｎ×ｔ秒の搬送時間がかかる。これに対し、本発明の第１の搬送装置によれば、それぞれパターンを形成した複数のマスクを重ねて搬送するので、複数のマスクを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクを用いた装置の稼働率を向上させることができる。一方、複数のマスクを単に重ねて搬送するのみでは、マスク同士の擦れ合いが生じ、その損傷を招く恐れがある。そこで、本発明によれば、複数のマスクの間に円錐形突起を設けた間座を配置して、重ねて搬送することで、重ねた時に前記間座により前記マスクのパターンが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えるようにしている。
【図面の簡単な説明】
【００１０】
【図１】本実施の形態にかかる露光装置の上面図である。
【図２】本実施の形態にかかる露光装置の露光時の状態を示す側面断面図である。
【図３】保持部とマスクと間座の寸法関係を示す図である。
【図４】搬送時における保持部とマスクと間座の状態を示す図である。
【図５】マスク保管時の状態を示す図である。
【図６】マスク搬送時の状態を示す露光装置の側面断面図である。
【図７】マスク回収工程を示すフローチャート図である。
【図８】マスク分配工程を示すフローチャート図である。
【発明を実施するための形態】
【００１１】
以下、図面を参照して、本発明の好適な実施の形態について説明する。図１は、本実施の形態にかかる露光装置の上面図であり、図２は、本実施の形態にかかる露光装置の露光時の状態を示す側面断面図である。
【００１２】
図１において、ベース１上で、薄板状の基板Ｗは基板チャック２により把持され、レール２ａに沿って、基板チャック２と共に左から右に移動可能となっている。ベース１上には、マスクＭを吸着保持する保持装置１０が、搬送ラインＬを挟んで左側に７個、右側に６個（計１３個）配置されている。保持装置１０により保持された基板Ｗに比較すると小型のマスクＭは、搬送ラインＬを挟んで千鳥状に配置される。なお、図１においては、左側の７個の保持装置１０と、右側の上から３個の保持装置１０は、露光位置にあり、右側の下から３個の保持装置１０は、マスクの受け渡し位置にある。搬送ラインＬの両側に配置された保持装置１０により分配装置を構成する。
【００１３】
各保持装置１０は、ベース１上でＸ軸方向となる図２の左右方向（図１の搬送ラインＬに対して直交する方向であり、基板ＷはＸ軸方向に沿って左から右へと移動するものとする）に移動可能に配置されたアーム１１と、アーム１１の先端に配置され、下面にマスクＭを吸着保持する保持部１２と、アーム１１に対して保持部１２をＺ軸方向（図２でＺ軸方向となる上下方向）に駆動するＺ軸移動装置１３と、ベース１の上面の法線回りに保持部１２を回転駆動するθ軸移動装置１４と、アーム１１に対して保持部１２をＹ軸方向（図２で紙面垂直方向）に駆動するＹ軸移動装置１５とを有する。保持部１２は、矩形開口１２ａを有している。
【００１４】
図２に示すように、ベース１は、基板Ｗの下面に対向して、Ｘ軸方向に距離Ｄで隔置配置された吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂを有している。一方の吐出吸引ユニット３Ａは、ユニット本体４の下面から上面に貫通する多数の吐出孔５をＸ軸方向と直交するＹ軸方向に沿って２列平行配置で、かつ、ユニット本体４の長辺に沿って穿設している。また、上記２列平行配置の吐出孔５の中間位置にはＹ軸方向に沿って凹溝６が設けられ、かつ、凹溝６からユニット本体４の下面に貫通する多数の吸引孔７を設けている。他方の吐出吸引ユニット３Ｂも、前記一方の吐出吸引ユニット３Ａと同様に構成されている。更に、前記一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂにおける各吐出孔５の下端には、配管群Ｈ１を介してエア吐出系（エアレギュレータ）８、吐出用ポンプＰ１が接続され、また、一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂにおける各吸引孔７の下端には、配管群Ｈ２を介してエア吸引系（エアレギュレータ）９、吸引用ポンプＰ２が接続されている。
【００１５】
本実施の形態の露光装置を用いて行う分割露光動作時には、まず不図示の駆動部より、レール２ａに沿って、基板チャック２と共に基板Ｗを左から右に移動する。このとき、不図示の制御部により吐出用ポンプＰ１を駆動し、一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの各吐出孔５から基板Ｗの下面側に空気吐出を行う。これにより、基板Ｗは一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの上面から浮上した状態でＸ軸方向により搬送されることになり、基板Ｗの下面側に傷等が付くことを防止でき、基板Ｗの下面保護を図ることができる。
【００１６】
基板Ｗを所定位置に移動させた後静止させ、上方の露光ユニットＯＰＵから露光用光ＥＬを投射すると、かかる露光用光ＥＬは、保持装置１０により保持されたマスクＭを通過し、そのパターンを基板Ｗに露光転写する。基板Ｗの露光転写エリアは、一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの間となっており、不図示の制御部により吸引用ポンプＰ２が駆動され、一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの各吸引孔７から空気吸引を行う。これにより、基板Ｗは一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの上面に吸着されて位置決め固定される状態となり、振動を極力排除した状態下で、露光転写を高精度で行うことが可能となる。一つのマスクＭでの露光転写が終了すると、一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの吸引動作が中断され、ワンステップだけ基板Ｗを移動させた後静止させ、更に一対の吐出吸引ユニット３Ａ、３Ｂの吸引動作を開始し、次の露光転写を行うことができる。このとき、基板Ｗの移動誤差によるパターンのズレは、保持装置１０のＺ軸移動装置１３、θ軸移動装置１４，軸移動装置１５、及びＺ軸方向に可動のアーム１１により、マスクＭの位置を微調整することで補正することができる。同様にして、分割露光転写を繰り返し行うことで、基板Ｗ全体にパターンの露光を行うことができる。なお、本実施の形態において、搬送ラインＬの両側で保持されたマスクＭが千鳥状に配置されてるので、搬送ラインＬの片側におけるマスクＭが隔置して並べられていても、基板Ｗ上に隙間なくパターンを形成することができる。又、基板Ｗを静止させることなく、動かしながら連続して露光することもある。
【００１７】
ところで、マスクは所定のタイミングで洗浄等するために随時回収される必要がある。又、露光装置の稼働率を高めるためには、使用されたマスクが洗浄されている間、別のマスクを露光装置に装着して露光動作を行う必要がある。そこで、複数のマスクを効率的に回収し、且つ効率的に分配することが必要となる。このために用いる搬送装置について説明する。
【００１８】
図３は、保持部とマスクと間座の寸法関係を示す図であり、図４は、搬送時における保持部とマスクと間座の状態を示す図であり、図５は、マスク保管時の状態を示す図である。図６は、マスク搬送時の状態を示す露光装置の側面断面図であり、図７は、マスク回収工程を示すフローチャート図であり、図８は、マスク分配工程を示すフローチャート図である。なお、図３〜５においては理解しやすいように、保持部、マスク、間座は断面をとった状態で示している。
【００１９】
図３において、矩形板状のマスクＭには、下面中央にパターンＰが形成されている。間座２０は、矩形枠状であって、下方にはマスクＭの上面とほぼ同寸（幅Ｗ１）に切除されたような矩形状の第１係合部２０ａが形成されている。一方、間座２０の上方には、第１係合部２０ｂよりも大きく（幅Ｗ２＞Ｗ１）切除されたような矩形状の第２係合部２０ｂが形成されている。第１係合部２０ａと第２係合部２０ｂとの間には、周方向内側に連続して突出する矩形枠状のフランジ部２０ｃが形成されている。
【００２０】
保持装置１０の保持部１２は、矩形開口１２ａの寸法がパターンＰより大きくなっている。保持部１２の下部１２ｂの外寸（幅Ｗ３）は、フランジ部２０ｃの内寸（幅Ｗ４）より小さくなっており、その高さＨ１は、フランジ部２０ｃと第２係合部２０ｂの合計高さＨ２より大きくなっている。幅Ｗ１〜Ｗ４及び高さＨ１，Ｈ２の大小関係は、これらに直交する方向において同じである。間座２０は、第１係合部２０ａ、第２係合部２０ｂ、フランジ部２０ｃの内寸のみ管理されればよく、安価に形成できる。なお、フランジ部２０ｃの上面には、複数の円錐形突起２０ｄが隔置配置されている。間座２０は、マスクＭより熱膨張係数が高く、また剛性の低い樹脂やアルミなどで形成されると、熱変形等の影響を回避できるので好ましい。
【００２１】
搬送時には、図４に示すように、間座２０の第２の係合部２０ｂと同様なトレー係合部２１ａを有する搬送用トレー２１の上に、マスクＭが重ねて載置される。このとき間座２０は、隣接するマスクＭ間に配置され、マスクＭの下面に形成されたパターンＰが、その下方のマスクＭの上面と擦れることなどにより損なわれないようにしている。なお、搬送トレー２１の上面にも、マスクＭの下面との間隔をあけるための浅い凹部２１ｂが形成されており、最も下方のマスクＭの下面は、搬送トレー２１により保護される。又、搬送トレー２１の下面に、後述する搬送装置３０のトレー支持部３２が係合する凹部２１ｃ（図６参照）を設けると、トレー支持部３２により支持したときの安定性を確保できる。
【００２２】
保持装置１０の保持部１２の下部１２ｂには、マスクＭを吸着保持するための吸引部（不図示）が設けられている。Ｚ軸移動装置１３（図２参照）により保持部１２を下降させると、上述の寸法関係を有する間座２０の内側を通過した下部１２ｂがマスクＭの上面に突き当たるので、吸引部の吸引を行うことで、マスクＭの上面が下部１２ｂにより吸引されて保持されるようになる。そのままＺ軸移動装置１３により保持部１２を上昇させることで、吸着保持したマスクＭを上昇させることができる。保持部１２がマスクＭの上面を直接吸着するので、間座２０の精度を高める必要がなく、コストを低く抑えることができる。
【００２３】
このとき、図４に示すように、吸着保持されたマスクＭの重力方向上方の間座２０は、フランジ部２０ｃがマスクＭの上面に引っかかるため、落下することなく、マスクＭと一体で上昇する。又、間座２０が、保持部１２の下部１２ｂの下面に当接し、一定の弾性力を与えることで、マスクＭや間座２０の振動等を抑制することができる。更に、吸着保持されたマスクＭの重力方向下方における間座２０は、その第２係合部２０ｂの寸法がマスクＭの寸法より大きくなっているので連結力が弱く、吸着保持されたマスクＭに連れて、その重力方向下方の間座２０が一緒に上昇することはなく、間座２０の不用意な落下などを招く恐れはない。更にマスクＭとその上方の間座２０とは、保持装置１０により露光位置に移動されて、その状態で露光動作が行われる。
【００２４】
このとき、保持部１２の下部１２ｂは、マスクＭの上面に対して、図３にダブルハッチングで図示するように、パターンＰを避けるようにして配置されているので、矩形開口１２ａを通過した露光用光ＥＬ（図２）は、マスクＭの外周に配置された間座２０により遮られることなく、基板Ｗに対してパターンの露光転写を適切に行うことができる。又、万が一間座２０の装着によりマスクＭの外周もしくはその近傍にキズが付いたとしても、露光に影響を与える恐れはない。
【００２５】
次に、搬送の態様について説明する。図６に示すように、ベース１の下方に設けられた搬送装置３０は、搬送ラインＬに沿って移動可能に配置されている。搬送装置３０は、搬送ラインＬに沿ってベース１に形成された貫通溝状の搬送路１ａを通って、ベース１の上方に延在させたトレー支持部３２により、マスクＭを重ねて配置した搬送トレー２１を支持している。
【００２６】
まず、マスクＭの回収について説明する。ここでは、下流側（図１で右側）の保持装置１０は、アーム１１を駆動して、保持部１２により保持したマスクＭを搬送ラインＬ上の受け渡し位置に予め配置しているものとする。図７のフローチャートにおいて、ステップＳ１０１で、ｎ＝１とした後、ステップＳ１０２で、搬送装置３０を搬送ラインＬに沿って正方向（図１では上方）に移動させ、搬送トレー２１を支持したトレー支持部３２を、下流側１番目の受け渡し場所に移動させる。
【００２７】
ステップＳ１０３で、下流側１番目の保持装置１０を駆動して、保持部１２の吸着を中断して搬送トレー２１上にマスクＭを間座２０と共に受け渡す。ステップＳ１０４で、下流側の受け渡しが最後（ここではｎ＝６）でなければ、ステップＳ１０５でｎ＝ｎ＋１とした上で、ステップＳ１０２に戻って、トレー支持部３２を、次の受け渡し場所に移動させ、受け渡されたマスクＭの上に、間座２０を介在させるような形で新たにマスクＭを重ねて行く。これを繰り返して、ステップＳ１０４で、下流側の受け渡しが最後（ここではｎ＝６）となった場合、ステップＳ１０６で、ｍ＝１とする。ここで、下流側の保持装置１０は、アーム１１を露光位置に戻し、それと入れ替わるようにして、上流側（図１で左側）の保持装置１０は、アーム１１を駆動して、保持部１２により保持したマスクＭを搬送ラインＬ上の受け渡し位置に配置する。
【００２８】
ステップＳ１０７で、搬送装置３０を搬送ラインＬに沿って正方向に移動させ、上流側ｍ＝１番目の受け渡し場所に移動させる。更に、ステップＳ１０８で、上流側１番目の保持装置１０を駆動して、保持部１２の吸着を中断して搬送トレー２１上にマスクＭを受け渡すことで、下流側で受け渡されたマスクＭの上に、間座２０を介在させるような形で新たにマスクＭを重ねる。更にステップＳ１０９で、ｍ＝２とする。ここから搬送装置３０を逆方向（図１では下方）に移動させ（ステップＳ１１０）、搬送トレー２１を支持したトレー支持部３２を、上流側ｍ番目の受け渡し場所に移動させる。そして、ステップＳ１１１で、上流側ｍ番目の保持装置１０を駆動して、保持部１２の吸着を中断して搬送トレー２１上にマスクＭを受け渡すことで、マスクＭの上に間座２０を介在させるような形で新たにマスクＭを重ねる。ステップＳ１１２で、上流側の受け渡しが最後（ここではｍ＝７）でなければ、ステップＳ１１３でｍ＝ｍ＋１とした上で、ステップＳ１１０に戻って、トレー支持部３２を、次の受け渡し場所に移動させる。これを繰り返して、ステップＳ１０９で、上流側の受け渡しが最後（ここではｍ＝７）となった場合、搬送装置３０は初期位置に戻ることでマスクＭの回収を終了する。
【００２９】
搬送装置３０によって回収された積み重ねられたマスクＭは、図１に示すように、搬送装置３０の近傍に位置するロボットＲＢＴの回転且つ伸縮自在なアームＡＭにより、搬送トレー２１ごと持ち上げられ、図５に示すマスクストッカＭＳ１に、間座２０を介して重ねた状態で収容され保管される。なお、洗浄時には、間座２０をマスクＭから取り外すことで、洗浄効果を高めることができる。但し、間座２０は、接着剤などでマスクＭに取り外し不能に接着されていても良い。
【００３０】
続いて、マスクＭの分配について説明する。マスクストッカＭＳ２に、洗浄後のマスクＭが間座２０を介して重ねて保管されているものとする。ロボットＲＢＴは、アームＡＭによりマスクストッカＭＳ２から、搬送トレー２１ごと重ねられたマスクＭを取り出して、搬送装置３０のトレー支持部３２上に載置する。
【００３１】
回収直後には、上流側の保持装置１０の保持部１２は、搬送ラインＬ上に配置されたままである。そこで、上流側よりマスクＭの分配を行うものとする。図８のフローチャートにおいて、ステップＳ２０１で、ｎ＝１とした後、ステップＳ２０２で、搬送装置３０を搬送ラインＬに沿って正方向（図１では上方）に移動させ、マスクＭを重ねた搬送トレー２１を支持したトレー支持部３２を、上流側１番目の受け渡し場所に移動させる。
【００３２】
ステップＳ２０３で、上流側１番目の保持装置１０を駆動して、保持部１２により搬送トレー２１からマスクＭを吸着保持して、間座２０と共に上昇させる。ステップＳ２０４で、上流側の受け渡しが最後（ここではｎ＝６）でなければ、ステップＳ２０５でｎ＝ｎ＋１とした上で、ステップＳ２０２に戻って、トレー支持部３２を、次の受け渡し場所に移動させ、新たにマスクＭを吸着保持する。これを繰り返して、ステップＳ２０４で、上流側の受け渡しが最後（ここではｎ＝７）となった場合、ステップＳ２０６で、ｍ＝１とする。ここで、上流側の保持装置１０は、アーム１１を露光位置に戻し、それと入れ替わるようにして、下流側の保持装置１０は、アーム１１を駆動して、保持部１２を搬送ラインＬ上の受け渡し位置に配置する。
【００３３】
ステップＳ２０７で、搬送装置３０を搬送ラインＬに沿って逆方向（図１では下方）に移動させ、下流側ｍ＝１番目の受け渡し場所に移動させる。更に、ステップＳ２０８で、下流側１番目の保持装置１０を駆動して、保持部１２により搬送トレー２１からマスクＭを吸着保持して、間座２０と共に上昇させる。ステップＳ２０９で、ｍ＝２とする。更に搬送装置３０を逆方向に移動させ（ステップＳ２１０）、搬送トレー２１を支持したトレー支持部３２を、下流側ｍ番目の受け渡し場所に移動させる。そして、ステップＳ２１１で、下流側ｍ番目の保持装置１０を駆動して、保持部１２により搬送トレー２１からマスクＭを吸着保持して、間座２０と共に上昇させる。ステップＳ２１２で、下流側の受け渡しが最後（ここではｍ＝６）でなければ、ステップＳ２１３でｍ＝ｍ＋１とした上で、ステップＳ２１０に戻って、トレー支持部３２を、次の受け渡し場所に移動させる。これを繰り返して、ステップＳ２１２で、下流側の受け渡しが最後（ここではｍ＝６）となった場合、搬送装置３０は初期位置に戻ることでマスクＭの分配を終了する。
【００３４】
本実施の形態によれば、それぞれパターンＰを形成した複数のマスクＭの間に間座２０を配置して、重ねて搬送するので、重ねた時に間座２０によりマスクＭのパターンＰが損傷しないように隙間をあけることができ、コンパクトな状態で搬送を行えると共に、複数のマスクＭを一度で回収でき、且つ一度で分配できるので搬送時間が大幅に短縮され、マスクＭを用いた装置の稼働率を向上させることができる。又、マスクＭは、保管時・搬送時・露光時において、間座２０により外周を覆われて保護されているので、誤って周囲部品に衝接させたような場合でも、マスクＭの損傷を回避することができる。
【００３５】
以上、本発明を実施の形態を参照して説明してきたが、本発明は上記実施の形態に限定して解釈されるべきではなく、適宜変更・改良が可能であることはもちろんである。例えば、下流側の保持装置１０から、上流側の保持装置１０にマスクＭを受け渡す場合、搬送装置３０を正方向に移動させながら、下流側の保持装置１０よりマスクＭを順次重ねて回収し、その後、搬送装置３０を逆方向に移動させながら、上流側の保持装置１０に対して重ねたマスクを順次分配することも可能である。又、間座２０の上方の第２係合部２０ｂを、下方に向かうにつれて間隔が狭まる一対のテーパ面（マスク同士の相対的な位置ズレを補正する手段）を含むようにすることで、ここにマスクＭをのせるだけで、マスクＭの位置決めを行うことができ、保持装置１０による吸着の際に保持部１２に対して精度良く保持されることで、例えばマスクに形成されたアライメントマークを観察するカメラの観察許容範囲に含まれるようにすることができるため、迅速な露光動作を行うことができる。
【符号の説明】
【００３６】
１  ベース
１ａ  搬送路
２  基板チャック
２ａ  レール
３Ａ  吐出吸引ユニット
３Ｂ  吐出吸引ユニット
４  ユニット本体
５  吐出孔
６  凹溝
７  吸引孔
１０  保持装置
１１  アーム
１２  保持部
１２ａ  矩形開口
１２ｂ  下部
１３  Ｚ軸移動装置
１４  θ軸移動装置
１５  Ｙ軸移動装置
２０  間座
２０ａ  第１係合部
２０ｂ  第２係合部
２０ｃ  フランジ部
２０ｄ  円錐形突起
２１  搬送トレー
２１ｂ  凹部
３０  搬送装置
３２  トレー支持部
ＡＭ  アーム
ＥＬ  露光用光
Ｈ１  配管群
Ｈ２  配管群
Ｌ  搬送ライン
Ｍ  マスク
ＭＳ１  マスクストッカ
ＭＳ２  マスクストッカ
ＯＰＵ  露光ユニット
Ｐ  パターン
Ｐ１  吐出用ポンプ
Ｐ２  吸引用ポンプ
ＲＢＴ  ロボット
Ｗ  基板
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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