(57)【要約】【課題】露光不良の発生を抑制できる液浸部材を提供する。【解決手段】液浸部材は、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する。液浸部材は、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、を備える。第２部材が、第１部材から離れるように移動可能である。【選択図】図２
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【特許請求の範囲】
【請求項１】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、
前記第２部材が、前記第１部材から離れるように移動可能である液浸部材。
【請求項２】
前記第２部材は、前記物体と前記第２下面との距離が小さくなるように移動可能である請求項１又は２に記載の液浸部材。
【請求項３】
前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１部材から離れるように移動する請求項１又は２に記載の液浸部材。
【請求項４】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の所定領域が前記第１部材及び前記第２部材の少なくとも一方の下方で移動し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１部材から離れるように移動する請求項３に記載の液浸部材。
【請求項５】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記第１方向に関する前記液浸空間の後側の気液界面が前記物体上の前記所定領域を通過し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１部材から離れるように移動する請求項４に記載の液浸部材。
【請求項６】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の前記所定領域が前記液浸空間の液体と接触しない非接触状態から前記液浸空間の液体と接触する接触状態に変化し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１部材から離れるように移動する請求項４又は５に記載の液浸部材。
【請求項７】
前記所定領域は、前記物体の間隙を含む請求項４〜６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項８】
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１方向とは逆方向に移動可能である請求項３〜７のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項９】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、
前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記物体の移動方向とは逆方向に移動可能である液浸部材。
【請求項１０】
前記光学部材の光軸に垂直な第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の所定領域が前記第１部材及び前記第２部材の少なくとも一方の下方で移動し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１方向とは逆方向に移動する請求項８又は９に記載の液浸部材。
【請求項１１】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記第１方向に関する前記液浸空間の後側の気液界面が前記物体上の前記所定領域を通過し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１方向とは逆方向に移動する請求項１０に記載の液浸部材。
【請求項１２】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の前記所定領域が前記液浸空間の液体と接触しない非接触状態から前記液浸空間の液体と接触する接触状態に変化し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が前記第１方向とは逆方向に移動する請求項１０又は１１に記載の液浸部材。
【請求項１３】
前記所定領域は、前記物体の間隙を含む請求項１０〜１２のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１４】
前記第１方向に前記物体が移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が傾斜可能である請求項１０〜１３のいずれか一項に記載の液浸部材
【請求項１５】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、
前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が傾斜可能である液浸部材。
【請求項１６】
前記光学部材の光軸に垂直な第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の所定領域が前記第１部材及び前記第２部材の少なくとも一方の下方で移動し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が傾斜する請求項１４又は１５に記載の液浸部材。
【請求項１７】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記第１方向に関する前記液浸空間の後側の気液界面が前記物体上の前記所定領域を通過し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が傾斜する請求項１６に記載の液浸部材。
【請求項１８】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の前記所定領域が前記液浸空間の液体と接触しない非接触状態から前記液浸空間の液体と接触する接触状態に変化し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第２部材が傾斜する請求項１６〜１８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項１９】
前記光学部材の光軸に垂直な第１方向において、前記第２下面の前側部分の前記物体との距離が前記第２下面の後側部分と前記物体との距離よりも大きくなるように、前記第２部材が傾斜する請求項１４〜１８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２０】
前記所定領域は、前記物体の間隙を含む請求項１６〜１９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２１】
前記第２下面に配置され、液体を供給する第１供給口を有する請求項１〜２０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２２】
前記第２下面は、非平坦部を有する請求項１〜２１のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２３】
前記第２下面は、前記第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側の第２領域とを含み、
前記第１領域は、前記第２領域よりも高い位置に配置される請求項１〜２２のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２４】
前記第２下面は、前記第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側の第２領域とを含み、
前記第２領域は、前記第１領域よりも高い位置に配置される請求項１〜２２のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２５】
前記第２部材は、前記第２上面側の空間と前記第２下面側の空間とを結ぶ開口を有する請求項１〜２４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２６】
前記第２部材の少なくとも一部をリリース可能に保持する保持機構を更に備える請求項１〜２５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項２７】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、
前記第２下面に配置され、液体を供給する第１供給口と、を備える液浸部材。
【請求項２８】
前記第１供給口は、前記液浸空間が形成されている状態で、前記第２下面側の空間に液体を供給可能である請求項２７に記載の液浸部材。
【請求項２９】
前記第１供給口は、前記第２下面と前記物体との間に前記液浸空間の一部を形成している液体中に液体を供給する請求項２８に記載の液浸部材。
【請求項３０】
前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第１供給口から液体が供給される請求項２１、２７〜２９のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３１】
前記光学部材の光軸に垂直な第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の所定領域が前記第１部材と前記第２部材の少なくとも一方の下方で移動し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第１供給口から液体が供給される請求項３０に記載の液浸部材。
【請求項３２】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記第１方向に関する前記液浸空間の後側の気液界面が前記物体上の前記所定領域を通過し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第１供給口から液体が供給される請求項３１に記載の液浸部材。
【請求項３３】
前記第１方向への前記物体の移動によって、前記物体上の前記所定領域が前記液浸空間の液体と接触しない非接触状態から前記液浸空間の液体と接触する接触状態に変化し、
前記物体が前記第１方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記第１供給口から液体が供給される請求項３１又は３２に記載の液浸部材。
【請求項３４】
前記所定領域は、前記物体の間隙を含む請求項３１〜３３のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３５】
前記第２下面は、非平坦部を有する請求項２７〜３４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３６】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、
前記第２下面は、非平坦部を含む液浸部材。
【請求項３７】
前記非平坦部は、複数の凸部を含む請求項２２、３５、３６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３８】
前記第２下面は、前記第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側の第２領域とを含み、
前記第１領域は、前記第２領域よりも高い位置に配置される請求項２７〜３７のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項３９】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、
前記第２下面は、前記第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側の第２領域とを含み、
前記第１領域は、前記第２領域よりも高い位置に配置される液浸部材。
【請求項４０】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有し、前記第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、
前記第２下面は、前記第１領域と、前記光路に対して前記第１領域の外側の第２領域とを含み、
前記第２領域は、前記第１領域よりも高い位置に配置されている液浸部材。
【請求項４１】
前記第２部材は、前記第２上面側の空間と前記第２下面側の空間とを結ぶ開口を有する請求項２７〜４０のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４２】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、
前記第２部材は、前記第２上面側の空間と前記第２下面側の空間とを結ぶ開口を有する液浸部材。
【請求項４３】
前記第２部材の少なくとも一部をリリース可能に保持する保持機構を有する請求項１〜４２のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４４】
光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、前記光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、
前記第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、
前記第２部材の少なくとも一部をリリース可能に保持する保持機構と、を備える液浸部材。
【請求項４５】
前記液浸空間が形成されている状態で、前記第２部材は、前記第１部材に対して移動可能である請求項１〜４４のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４６】
前記第１部材は、液体を供給する第２供給口を有する請求項１〜４５のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４７】
前記第１部材は、前記光路に対して前記第１下面の外側に配置され、前記第２上面側の第１空間及び前記第２下面側の第２空間の少なくとも一方から前記液浸空間の液体を回収可能な第１液体回収部を有する請求項１〜４６のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項４８】
前記第１部材は、前記光路に対して前記第１液体回収部の内側において前記第１空間に面するように配置され、前記第１空間の液体を回収可能な第２液体回収部を有する請求項４７に記載の液浸部材。
【請求項４９】
前記第２部材は、前記露光光が通過する開口を有する請求項１〜４８のいずれか一項に記載の液浸部材。
【請求項５０】
液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、
請求項１〜４９のいずれか一項に記載の液浸部材を備える露光装置。
【請求項５１】
請求項５０に記載の露光装置を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５２】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、前記第１部材から離れるように移動することと、を含む露光方法。
【請求項５３】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記物体の移動方向とは逆方向に移動することと、を含む露光方法。
【請求項５４】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、傾斜させることと、を含む露光方法。
【請求項５５】
液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材の前記第２下面に配置された第１供給口から液体を供給することと、を含む露光方法。
【請求項５６】
請求項５２〜５５のいずれか一項に記載の露光方法を用いて基板を露光することと、
露光された前記基板を現像することと、を含むデバイス製造方法。
【請求項５７】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、前記第１部材から離れるように移動することと、を実行させるプログラム。
【請求項５８】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、前記物体の移動方向とは逆方向に移動することと、を実行させるプログラム。
【請求項５９】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、前記液浸空間が形成されている状態で前記物体が前記光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、傾斜させることと、を実行させるプログラム。
【請求項６０】
コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、
光学部材の射出面から射出される前記露光光の光路が前記液体で満たされるように液浸空間を形成することと、
前記液浸空間の液体を介して前記射出面から射出される前記露光光で前記基板を露光することと、
前記光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において前記光路の周囲の少なくとも一部に配置され、前記第１下面と間隙を介して対向する第２上面と前記物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材の前記第２下面に配置された第１供給口から液体を供給することと、を実行させるプログラム。
【請求項６１】
請求項５７〜６０のいずれか一項に記載のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
【発明の詳細な説明】
【技術分野】
【０００１】
本発明は、液浸部材、露光装置、露光方法、デバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体に関する。
【背景技術】
【０００２】
フォトリソグラフィ工程で用いられる露光装置において、例えば下記特許文献に開示されているような、液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置が知られている。
【先行技術文献】
【特許文献】
【０００３】
【特許文献１】米国特許出願公開第２００９／００４６２６１号
【発明の概要】
【発明が解決しようとする課題】
【０００４】
液浸露光装置において、例えば液体中の異物により、露光不良が発生する可能性がある。その結果、不良デバイスが発生する可能性がある。
【０００５】
本発明の態様は、露光不良の発生を抑制できる液浸部材、露光装置、及び露光方法を提供することを目的とする。また、本発明の態様は、不良デバイスの発生を抑制できるデバイス製造方法、プログラム、及び記録媒体を提供することを目的とする。
【課題を解決するための手段】
【０００６】
本発明の第１の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、第２部材が、第１部材から離れるように移動可能である液浸部材が提供される。
【０００７】
本発明の第２の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第２部材が物体の移動方向とは逆方向に移動可能である液浸部材が提供される。
【０００８】
本発明の第３の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第２部材が傾斜可能である液浸部材が提供される。
【０００９】
本発明の第４の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、第２下面に配置され、液体を供給する第１供給口と、を備える液浸部材が提供される。
【００１０】
本発明の第５の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、第２下面は、第１領域と、光路に対して第１領域の外側の第２領域とを含み、第１領域は、第２領域よりも高い位置に配置される液浸部材が提供される。
【００１１】
本発明の第６の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有し、第１部材に対して可動な第２部材と、を備え、第２下面は、第１領域と、光路に対して第１領域の外側の第２領域とを含み、第２領域は、第１領域よりも高い位置に配置されている液浸部材が提供される。
【００１２】
本発明の第７の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、を備え、第２部材は、第２上面側の空間と第２下面側の空間とを結ぶ開口を有する液浸部材が提供される。
【００１３】
本発明の第８の態様に従えば、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように、光学部材の下方で移動可能な物体上に液浸空間を形成する液浸部材であって、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材と、第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材と、第２部材の少なくとも一部をリリース可能に保持する保持機構と、を備える液浸部材が提供される。
【００１４】
本発明の第９の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置であって、第１〜第８のいずれか一つの態様の液浸部材を備える露光装置が提供される。
【００１５】
本発明の第１０の態様に従えば、第９の態様の露光装置を用いて基板を露光することと、  露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００１６】
本発明の第１１の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、第１部材から離れるように移動することと、を含む露光方法が提供される。
【００１７】
本発明の第１２の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、物体の移動方向とは逆方向に移動することと、を含む露光方法が提供される。
【００１８】
本発明の第１３の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、傾斜させることと、を含む露光方法が提供される。
【００１９】
本発明の第１４の態様に従えば、液体を介して露光光で基板を露光する露光方法であって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材の第２下面に配置された第１供給口から液体を供給することと、を含む露光方法が提供される。
【００２０】
本発明の第１５の態様に従えば、第１１〜第１４のいずれか一つの態様の露光方法を用いて基板を露光することと、露光された基板を現像することと、を含むデバイス製造方法が提供される。
【００２１】
本発明の第１６の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、第１部材から離れるように移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２２】
本発明の第１７の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、物体の移動方向とは逆方向に移動することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２３】
本発明の第１８の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、傾斜させることと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２４】
本発明の第１９の態様に従えば、コンピュータに、液体を介して露光光で基板を露光する露光装置の制御を実行させるプログラムであって、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材の第２下面に配置された第１供給口から液体を供給することと、を実行させるプログラムが提供される。
【００２５】
本発明の第２０の態様に従えば、第１６〜第１９のいずれか一つの態様のプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体が提供される。
【発明の効果】
【００２６】
本発明の態様によれば、露光不良の発生を抑制できる。また本発明の態様によれば、不良デバイスの発生を抑制できる。
【図面の簡単な説明】
【００２７】
【図１】第１実施形態に係る露光装置の一例を示す図である。
【図２】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図３】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図４】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図５】第１実施形態に係る露光方法の一例を説明するための図である。
【図６】比較例に係る液浸部材の一例を示す模式図である。
【図７】第１実施形態に係る液浸部材の一例を示す模式図である。
【図８】第１実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。
【図９】第２実施形態に係る液浸部材の動作の一例を説明するための図である。
【図１０】第３実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１１】第４実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１２】第５実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１３】第６実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１４】第７実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１５】第８実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１６】第９実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１７】第１０実施形態に係る液浸部材の一例を示す図である。
【図１８】基板ステージの一例を示す図である。
【図１９】液浸部材に対する基板ステージの動作の一例を示す図である。
【図２０】デバイス製造方法の一例を示すフローチャートである。
【発明を実施するための形態】
【００２８】
以下、本発明の実施形態について図面を参照しながら説明するが、本発明はこれに限定されない。以下の説明においては、ＸＹＺ直交座標系を設定し、このＸＹＺ直交座標系を参照しつつ各部の位置関係について説明する。水平面内の所定方向をＸ軸方向、水平面内においてＸ軸方向と直交する方向をＹ軸方向、Ｘ軸方向及びＹ軸方向のそれぞれと直交する方向（すなわち鉛直方向）をＺ軸方向とする。また、Ｘ軸、Ｙ軸、及びＺ軸まわりの回転（傾斜）方向をそれぞれ、θＸ、θＹ、及びθＺ方向とする。
【００２９】
＜第１実施形態＞
第１実施形態について説明する。図１は、第１実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す概略構成図である。本実施形態の露光装置ＥＸは、液体ＬＱを介して露光光ＥＬで基板Ｐを露光する液浸露光装置である。本実施形態においては、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。液浸空間とは、液体で満たされた部分（空間、領域）をいう。基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで露光される。本実施形態においては、液体ＬＱとして、水（純水）を用いる。
【００３０】
また、本実施形態の露光装置ＥＸは、例えば米国特許第６８９７９６３号、及び欧州特許出願公開第１７１３１１３号等に開示されているような、基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置である。
【００３１】
図１において、露光装置ＥＸは、マスクＭを保持して移動可能なマスクステージ１と、基板Ｐを保持して移動可能な基板ステージ２と、基板Ｐを保持せずに、露光光ＥＬを計測する計測部材（計測器）Ｃを搭載して移動可能な計測ステージ３と、マスクステージ１、基板ステージ２、及び計測ステージ３の位置を計測する計測システム４と、マスクＭを露光光ＥＬで照明する照明系ＩＬと、露光光ＥＬで照明されたマスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する投影光学系ＰＬと、液浸空間ＬＳを形成する液浸部材５と、露光装置ＥＸ全体の動作を制御する制御装置６と、制御装置６に接続され、露光に関する各種の情報を記憶する記憶装置７とを備えている。
【００３２】
マスクＭは、基板Ｐに投影されるデバイスパターンが形成されたレチクルを含む。マスクＭは、例えばガラス板等の透明板と、その透明板上にクロム等の遮光材料を用いて形成されたパターンとを有する透過型マスクを含む。なお、マスクＭとして、反射型マスクを用いることもできる。
【００３３】
基板Ｐは、デバイスを製造するための基板である。基板Ｐは、例えば半導体ウエハ等の基材と、その基材上に形成された感光膜とを含む。感光膜は、感光材（フォトレジスト）の膜である。基板Ｐが、感光膜に加えて別の膜を含んでもよい。例えば、基板Ｐが、反射防止膜を含んでもよいし、感光膜を保護する保護膜（トップコート膜）を含んでもよい。
【００３４】
照明系ＩＬは、所定の照明領域ＩＲに露光光ＥＬを照射する。照明領域ＩＲは、照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。照明系ＩＬは、照明領域ＩＲに配置されたマスクＭの少なくとも一部を均一な照度分布の露光光ＥＬで照明する。照明系ＩＬから射出される露光光ＥＬとして、例えば水銀ランプから射出される輝線（ｇ線、ｈ線、ｉ線）及びＫｒＦエキシマレーザ光（波長２４８ｎｍ）等の遠紫外光（ＤＵＶ光）、ＡｒＦエキシマレーザ光（波長１９３ｎｍ）、及びＦ２レーザ光（波長１５７ｎｍ）等の真空紫外光（ＶＵＶ光）等が用いられる。本実施形態においては、露光光ＥＬとして、紫外光（真空紫外光）であるＡｒＦエキシマレーザ光を用いる。
【００３５】
マスクステージ１は、マスクＭを保持した状態で、照明領域ＩＲを含むベース部材８のガイド面８Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面８ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。マスクステージ１は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システムの作動により移動する。本実施形態において、マスクステージ１は、その駆動システムの作動により、ガイド面８Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。
【００３６】
投影光学系ＰＬは、所定の投影領域ＰＲに露光光ＥＬを照射する。投影領域ＰＲは、投影光学系ＰＬから射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。投影光学系ＰＬは、投影領域ＰＲに配置された基板Ｐの少なくとも一部に、マスクＭのパターンの像を所定の投影倍率で投影する。本実施形態の投影光学系ＰＬは、その投影倍率が例えば１／４、１／５、又は１／８等の縮小系である。なお、投影光学系ＰＬは等倍系及び拡大系のいずれでもよい。本実施形態において、投影光学系ＰＬの光軸は、Ｚ軸と平行である。また、投影光学系ＰＬは、反射光学素子を含まない屈折系、屈折光学素子を含まない反射系、反射光学素子と屈折光学素子とを含む反射屈折系のいずれであってもよい。また、投影光学系ＰＬは、倒立像と正立像とのいずれを形成してもよい。
【００３７】
投影光学系ＰＬは、露光光ＥＬが射出される射出面１２を有する終端光学素子１３を含む。射出面１２は、投影光学系ＰＬの像面に向けて露光光ＥＬを射出する。終端光学素子１３は、投影光学系ＰＬの複数の光学素子のうち、投影光学系ＰＬの像面に最も近い光学素子である。投影領域ＰＲは、射出面１２から射出される露光光ＥＬが照射可能な位置を含む。本実施形態において、射出面１２は、−Ｚ方向を向いており、ＸＹ平面と平行である。なお、−Ｚ方向を向いている射出面１２は、平面でもよいし、凸面でもよいし、凹面でもよい。なお、射出面１２は、ＸＹ平面に対して傾斜してもよいし、曲面を含んでもよい。本実施形態において、終端光学素子１３の光軸は、Ｚ軸と平行である。本実施形態において、射出面１２から射出される露光光ＥＬは、−Ｚ方向に進行する。
【００３８】
基板ステージ２は、基板Ｐを保持した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。計測ステージ３は、計測部材（計測器）Ｃを搭載した状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射可能な位置（投影領域ＰＲ）を含むＸＹ平面内を移動可能である。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、ベース部材９のガイド面９Ｇ上を移動可能である。本実施形態において、ガイド面９ＧとＸＹ平面とは実質的に平行である。
【００３９】
基板ステージ２及び計測ステージ３は、例えば米国特許第６４５２２９２号に開示されているような平面モータを含む駆動システム１０の作動により移動する。駆動システム１０は、基板ステージ２に配置された可動子２Ｃと、計測ステージ３に配置された可動子３Ｃと、ベース部材９に配置された固定子９Ｍとを有する。基板ステージ２及び計測ステージ３のそれぞれは、駆動システム１０の作動により、ガイド面９Ｇ上において、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺ方向の６つの方向に移動可能である。なお、駆動システム１０は、平面モータを含まなくてもよい。例えば、駆動システム１０が、リニアモータを含んでもよい。
【００４０】
基板ステージ２は、例えば米国特許出願公開第２００７／０１７７１２５号、米国特許出願公開第２００８／００４９２０９号等に開示されているような、基板Ｐをリリース可能に保持する第１保持部１４と、第１保持部１４の周囲に配置され、カバー部材Ｔをリリース可能に保持する第２保持部１５とを有する。カバー部材Ｔは、第１保持部１４に保持された基板Ｐの周囲に配置される。第１保持部１４は、基板Ｐの表面（上面）とＸＹ平面とが実質的に平行となるように、基板Ｐを保持する。本実施形態において、第１保持部１４に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部１５に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、実質的に同一平面内に配置される。なお、第１保持部１４に保持された基板Ｐの上面と、第２保持部１５に保持されたカバー部材Ｔの上面とは、同一平面内に配置されなくてもよい。なお、基板Ｐの上面に対してカバー部材Ｔの上面が傾斜してもよいし、カバー部材Ｔの上面が曲面を含んでもよい。
【００４１】
計測システム４は、干渉計システムを含む。干渉計システムは、マスクステージ１の計測ミラーに計測光を照射して、そのマスクステージ１の位置を計測するユニットと、基板ステージ２の計測ミラー及び計測ステージ３の計測ミラーに計測光を照射して、その基板ステージ２及び計測ステージ３の位置を計測するユニットとを含む。
【００４２】
なお、計測システム４が、例えば米国特許出願公開第２００７／０２８８１２１号に開示されているようなエンコーダシステムを含んでもよい。また、基板ステージ２が、エンコーダシステムで計測されるスケール（格子、計測部材）を有してもよい。
【００４３】
基板Ｐの露光処理を実行するとき、あるいは所定の計測処理を実行するとき、制御装置６は、計測システム４の計測結果に基づいて、マスクステージ１（マスクＭ）、基板ステージ２（基板Ｐ）、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ）の位置制御を実行する。
【００４４】
次に、本実施形態に係る液浸部材５について説明する。図２は、本実施形態に係る液浸部材５の一例を示すＹＺ平面と平行な側断面図、図３は、図２の一部を拡大した図、図４は、液浸部材５を下側（−Ｚ側）から見た図である。
【００４５】
本実施形態において、液浸部材５は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される。液浸部材５は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液体ＬＱの液浸空間ＬＳを形成する。
【００４６】
液浸部材５は、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体上に液浸空間ＬＳを形成可能である。終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、射出面１２と対向する位置を含むＸＹ平面内を移動可能な物体を含む。その物体は、射出面１２と対向可能であり、投影領域ＰＲに配置可能である。本実施形態において、その物体は、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、基板ステージ２（第１保持部１４）に保持された基板Ｐ、及び計測ステージ３(計測部材Ｃ)の少なくとも一つを含む。
【００４７】
以下の説明においては、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体が、基板Ｐ及びカバー部材Ｔの少なくとも一方であることとする。なお、上述のように、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、計測ステージ３でもよいし、基板Ｐ、基板ステージ２（カバー部材Ｔ）、及び計測ステージ３とは別の物体でもよい。また、カバー部材Ｔと基板Ｐとを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もあるし、基板ステージ２と計測ステージ３とを跨ぐように液浸空間ＬＳが形成される場合もある。
【００４８】
本実施形態において、液浸部材５は、第１部材２１と、第２部材２２とを有する。
【００４９】
第１部材２１は、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される。第１部材２１は、上面２１Ａ及び下面２１Ｂを有する。本実施形態において、上面２１Ａの少なくとも一部は、間隙Ｇａを介して射出面１２と対向する。なお、上面２１Ａの一部が射出面１２と対向していなくてもよいし、第１部材２１は、射出面１２と対向する上面２１Ａを有しなくてもよい。本実施形態において、第１部材２１は、環状の部材である。本実施形態において、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３の周囲に配置される。また、本実施形態において、第１部材２１の一部は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。すなわち、第１部材２１の下面２１Ｂは、射出面１２よりも下方に配置されている。なお、第１部材２１の下面２１Ｂが、射出面１２とほぼ同じ高さ（Ｚ軸方向の位置が同じ）であってもよいし、第１部材２１の下面２１Ｂが、射出面１２よりも上方に配置されてもよい。
【００５０】
第２部材２２は、第１部材２１の下方に配置される。第２部材２２は、射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置される。第２部材２２は、下面２１Ｂと間隙Ｇｂを介して対向する上面２２Ａと、基板Ｐ（物体）が対向可能な下面２２Ｂとを有する。下面２２Ｂは、間隙Ｇｃを介して基板Ｐ（物体）と対向する。本実施形態において、第２部材２２は、環状の部材である。図４に示すように、第２部材２２の外形は円形である。本実施形態において、第２部材２２は、終端光学素子１３の射出面１２から射出される露光光ＥＬの光路Ｋの周囲に配置される。
【００５１】
なお、第１部材２１は、環状の部材でなくてもよい。例えば、第１部材２１が、終端光学素子１３及び光路Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。なお、第１部材２１が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置されなくてもよい。例えば、第１部材２１が、射出面１２と基板Ｐとの間の光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置され、終端光学素子１３の周囲に配置されなくてもよい。また、第１部材２１が、光路Ｋの周囲の少なくとも一部に配置されなくてもよい。例えば、第１部材２１が、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置され、光路Ｋの周囲に配置されなくてもよい。
【００５２】
なお、第２部材２２は、環状の部材でなくてもよい。例えば、第２部材２２が、光路Ｋの周囲の一部に配置されてもよい。
【００５３】
終端光学素子１３は、基板Ｐと間で液体ＬＱを保持可能である。射出面１２は、対向する基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。また、液浸部材５は、基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。下面２１Ｂ及び下面２２Ｂは、対向する基板Ｐとの間で液体ＬＱを保持可能である。液浸空間ＬＳは、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板Ｐとの間に保持される液体ＬＱによって形成される。一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐ（物体）との間に液体ＬＱが保持されることによって、終端光学素子１３と基板Ｐとの間の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００５４】
例えば、基板Ｐの露光において、基板Ｐに照射される露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように液浸空間ＬＳが形成される。基板Ｐに露光光ＥＬが照射されているとき、投影領域ＰＲを含む基板Ｐの表面の一部の領域だけが液体ＬＱで覆われるように液浸空間ＬＳが形成される。
【００５５】
本実施形態において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの界面（メニスカス、エッジ）ＬＧ１が、第１部材２１と基板Ｐ（物体）との間に形成される。すなわち、本実施形態の露光装置ＥＸは、局所液浸方式を採用する。液浸空間ＬＳの外側（界面ＬＧ１の外側）は、気体空間である。なお、界面ＬＧ１の少なくとも一部が、第２部材２２と基板Ｐとの間に形成されてもよい。
【００５６】
また、液体ＬＱの界面ＬＧ２は、終端光学素子１３と第１部材２１との間に形成される。
【００５７】
第１部材２１は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口（孔）２３を有する。第２部材２２は、射出面１２からの露光光ＥＬが通過可能な開口（孔）２４を有する。射出面１２からの露光光ＥＬは、開口２３及び開口２４を通過して、基板Ｐ（物体）に照射可能である。上面２１Ａは、開口２３の上端の周囲に配置される。下面２１Ｂは、開口２３の下端の周囲に配置される。上面２２Ａは、開口２４の上端の周囲に配置される。下面２２Ｂは、開口２４の下端の周囲に配置される。
【００５８】
本実施形態において、開口２４は、開口２３よりも小さい。本実施形態において、開口２４の周囲の上面２２Ａの内縁領域と射出面１２とが対向する。本実施形態において、ＸＹ平面内において、開口２３の中心と終端光学素子１３の光軸とは一致する。なお、ＸＹ平面内において、開口２４の中心と終端光学素子１３の光軸とが一致してもよいし、一致しなくてもよい。
【００５９】
本実施形態において、上面２１Ａの少なくとも一部は、実質的にＸＹ平面と平行である。下面２１Ｂの少なくとも一部は、実質的にＸＹ平面と平行である。上面２２Ａの少なくとも一部は、実質的にＸＹ平面と平行である。下面２２Ｂの少なくとも一部は、実質的にＸＹ平面と平行である。
【００６０】
なお、上面２１Ａの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。下面２１Ｂの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。上面２２Ａの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。下面２２Ｂの少なくとも一部が、ＸＹ平面に対して傾斜していてもよいし、曲面を含んでもよい。
【００６１】
本実施形態において、終端光学素子１３及び第１部材２１は、実質的に移動しない。すなわち、終端光学素子１３と第１部材２１との相対位置は変化しない。
【００６２】
本実施形態において、第２部材２２は、第１部材２１に対して可動である。すなわち、第１部材２１と第２部材２２との相対位置は変化可能である。また、終端光学素子１３と第２部材２２との相対位置は変化可能である。第２部材２２は、Ｚ軸方向に移動可能である。第２部材２２は、間隙Ｇｂが大きくなるように、すなわち第１部材２１から離れるように移動可能である。また、第２部材２２は、間隙Ｇｂが小さくなるように、すなわち第１部材２１に近づくように移動可能である。
【００６３】
本実施形態において、第２部材２２は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、第１部材２１に対して移動可能である。
【００６４】
本実施形態において、第２部材２２は、下面２２Ｂの法線方向に移動可能である。本実施形態において、第２部材２２は、Ｚ軸方向に移動可能である。
【００６５】
第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と下面２２Ｂとの距離が小さくなるように移動可能である。すなわち、第２部材２２は、間隙Ｇｃの寸法が小さくなるように移動可能である。換言すれば、第２部材２２は、間隙Ｇｂの寸法が大きくなるように移動可能である。また、第２部材２２は、基板Ｐ（物体）と下面２２Ｂとの距離が大きくなるように移動可能である。すなわち、第２部材２２は、間隙Ｇｃの寸法が大きくなるように（間隙Ｇｂの寸法が小さくなるように）移動可能である。
【００６６】
本実施形態において、第１部材２１と第２部材２２とは、移動機構２５を介して接続される。移動機構２５は、第１部材２１に接続される第１接続部材２６と、第２部材２２に接続される第２接続部材２７と、第１接続部材２６に対して第２接続部材２７を移動するアクチュエータ２８とを含む。第２接続部材２７は、ロッド状の部材である。第１接続部材２６は、第２接続部材２７が移動可能な空間を有する。第１接続部材２６は、例えば筒状である。本実施形態においては、アクチュエータ２８が第２接続部材２７をＺ軸方向に移動することにより、第２部材２２がＺ軸方向に移動する。
【００６７】
なお、移動機構２５により、第２部材２２が、Ｚ軸方向だけでなく、Ｘ軸、Ｙ軸、θＸ、θＹ、及びθＺのうちの少なくとも１つの方向に移動可能であってもよい。
【００６８】
液浸部材５は、液浸空間ＬＳを形成するための液体ＬＱを供給する供給口３１と、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収する回収口３２を含む液体回収部３２Ｐとを備えている。本実施形態において、供給口３１は、第１部材２１に配置される。回収口３２（液体回収部３２Ｐ）は、第１部材２１に配置される。
【００６９】
本実施形態において、第２部材２２は、液体ＬＱを供給する供給口を有しない。また、第２部材２２は、液体ＬＱを回収する回収口を有しない。
【００７０】
供給口３１は、光路Ｋに面するように配置される。供給口３１は、第１部材２１の内部に形成された供給流路を介して、液体ＬＱを供給可能な液体供給装置と接続される。供給口３１は、液体供給装置からの液体ＬＱを射出面１２側の光路Ｋに供給する。
【００７１】
回収口３２は、基板Ｐ（物体）と対向するように配置される。回収口３２は、第１部材２１の内部に形成された回収流路を介して、液体ＬＱを回収（吸引）可能な液体回収装置と接続される。回収口３２は、第１部材２１と基板Ｐとの間の空間の液体ＬＱの少なくとも一部を回収（吸引）する。
【００７２】
本実施形態において、液浸部材５は、多孔部材３３を備える。多孔部材３３は、液体ＬＱが流通可能な複数の孔(openingsあるいはpores)を有する。多孔部材３３は、例えばメッシュフィルタを含む。メッシュフィルタは、網目状に多数の小さい孔が形成された多孔部材である。
【００７３】
本実施形態において、多孔部材３３は、プレート状の部材である。多孔部材３３は、基板Ｐが対向可能な下面３３Ｂと、第１部材２１に形成された回収流路に面する上面３３Ａと、上面３３Ａと下面３３Ｂとを結ぶように形成された複数の孔とを有する。本実施形態において、回収口３２は、多孔部材３３の孔を含む。多孔部材３３の孔（回収口３２）を介して回収された液体ＬＱは、回収流路を流れる。
【００７４】
本実施形態においては、多孔部材３３を介して実質的に液体ＬＱのみが回収され、気体の回収が制限されている。制御装置６は、基板Ｐ（物体）上の液体ＬＱが多孔部材３３の孔を通過して回収流路に流入し、気体は通過しないように、多孔部材３３の下面３３Ｂ側の圧力（下面３３Ｂと基板Ｐの上面との間の空間の圧力）と上面３３Ａ側の圧力（回収流路の圧力）との差を調整する。なお、多孔部材を介して液体のみを回収する技術の一例が、例えば米国特許第７２９２３１３号等に開示されている。
【００７５】
なお、多孔部材３３を介して液体ＬＱ及び気体の両方が回収（吸引）されてもよい。
【００７６】
本実施形態においては、供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して、回収口３２からの液体ＬＱの回収が行われることによって、一方側の終端光学素子１３及び液浸部材５と、他方側の基板Ｐとの間に液体ＬＱで液浸空間ＬＳが形成される。本実施形態において、液浸空間ＬＳは、供給口３１から供給された液体ＬＱによって形成される。
【００７７】
本実施形態において、液体回収部３２Ｐ（下面３３Ｂ）は、光路Ｋに対して下面２１Ｂの外側に配置される。本実施形態において、液体回収部３２Ｐ（下面３３Ｂ）は、下面２１Ｂよりも上方に配置される。下面３３Ｂと基板Ｐ（物体）の上面との間隙Ｇｄの寸法は、間隙Ｇｂの寸法、間隙Ｇｃの寸法、及びＺ軸方向における上面２２Ａと下面２２Ｂとの距離の和よりも大きい。図２及び図３に示す例において、界面ＬＧ１は、下面３３Ｂと基板Ｐの上面との間に形成される。なお、液体回収部３２Ｐが、下面２１Ｂと同じであってもよいし、上面２２Ａよりも上方であって、下面２１Ｂよりも下方に配置されてもよい。すなわち、間隙Ｇｄの寸法は、間隙Ｇｂの寸法、間隙Ｇｃの寸法、及びＺ軸方向における上面２２Ａと下面２２Ｂとの距離の和と同じであってもよいし、間隙Ｇｄの寸法が、間隙Ｇｂの寸法、間隙Ｇｃの寸法、及びＺ軸方向における上面２２Ａと下面２２Ｂとの距離の和より小さくてもよい。
【００７８】
本実施形態において、下面３３Ｂ（液体回収部３２Ｐ）の一部と上面２２Ａとが対向している。換言すれば、光路Ｋに対する放射方向に関して、上面２２Ａ（第２部材２２）の外縁は、下面３３Ｂ（液体回収部３２Ｐ）の内縁よりも外側に配置される。また、上面２２Ａ（第２部材２２）の外縁は、下面３３Ｂ（液体回収部３２Ｐ）の内縁よりも外側に配置される。
【００７９】
図２及び図３に示す例において、第２部材２２の全部が、液浸空間ＬＳ内に配置される。すなわち、第２部材２２の全部が、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かる。液体回収部３２Ｐ（回収口３２）は、上面２２Ａ側の空間ＳＰ１及び下面２２Ｂ側の空間ＳＰ２の少なくとも一方から液浸空間ＬＳの液体ＬＱを回収可能である。なお、第２部材２２の一部、例えば外縁部が、液浸空間ＬＳの外側にあってもよい。
【００８０】
なお、本実施形態において、回収口３２が多孔部材３３の孔でなくてもよい。多孔部材３３は省略されてもよい。
【００８１】
次に、上述の構成を有する露光装置ＥＸを用いて基板Ｐを露光する方法について説明する。
【００８２】
液浸部材５から離れた基板交換位置において、露光前の基板Ｐを基板ステージ２（第１保持部）に搬入（ロード）する処理が行われる。また、基板ステージ２が液浸部材５から離れている期間の少なくとも一部において、計測ステージ３が終端光学素子１３及び液浸部材５と対向するように配置される。制御装置６は、供給口３１からの液体ＬＱの供給と回収口３２からの液体ＬＱの回収とを行って、計測ステージ３上に液浸空間ＬＳを形成する。
【００８３】
露光前の基板Ｐが基板ステージ２にロードされ、計測ステージ３を用いる計測処理が終了した後、制御装置６は、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向するように、基板ステージ２を移動する。終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）とが対向する状態で、供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して回収口３２からの液体ＬＱの回収が行われることによって、射出面１２側の露光光ＥＬの光路Ｋが液体ＬＱで満たされるように、終端光学素子１３及び液浸部材５と基板ステージ２（基板Ｐ）との間に液浸空間ＬＳが形成される。
【００８４】
制御装置６は、基板Ｐの露光処理を開始する。制御装置６は、基板Ｐ上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、照明系ＩＬから露光光ＥＬを射出する。照明系ＩＬはマスクＭを露光光ＥＬで照明する。マスクＭからの露光光ＥＬは、投影光学系ＰＬ及び射出面１２と基板Ｐとの間の液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して基板Ｐに照射される。これにより、基板Ｐは、液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光され、マスクＭのパターンの像が基板Ｐに投影される。
【００８５】
本実施形態の露光装置ＥＸは、マスクＭと基板Ｐとを所定の走査方向に同期移動しつつ、マスクＭのパターンの像を基板Ｐに投影する走査型露光装置（所謂スキャニングステッパ）である。本実施形態においては、基板Ｐの走査方向（同期移動方向）をＹ軸方向とし、マスクＭの走査方向（同期移動方向）もＹ軸方向とする。制御装置６は、基板Ｐを投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して基板Ｐに露光光ＥＬを照射する。
【００８６】
図５は、基板ステージ２に保持された基板Ｐの一例を示す図である。本実施形態において、基板ステージ２の第１保持部１４に保持された基板Ｐと第２保持部１５に保持されたカバー部材Ｔとの間に、間隙Ｇｐが形成される。
【００８７】
また、本実施形態において、基板Ｐの表面（上面）は、感光膜が形成された有効領域Ｃａと、有効領域Ｃａの外側の非有効領域Ｃｂとを含む。有効領域Ｃａは、感光膜を含み、露光によってパターンが形成可能（露光可能）な領域である。非有効領域Ｃｂは、感光膜を含まず、パターンが形成不可能（露光不可能）な領域である。有効領域Ｃａは、基板Ｐの上面の中心を含む基板Ｐの上面の殆どの領域を占める。非有効領域Ｃｂは、有効領域Ｃａのエッジと基板Ｐの上面のエッジとの間の、例えば幅３ｍｍ程度の周縁領域である。本実施形態において、基板Ｐの表面のエッジは、基板Ｐの基材（半導体ウエハなど）の表面のエッジである。
【００８８】
本実施形態においては、基板Ｐに露光対象領域であるショット領域Ｓがマトリクス状に複数配置されている。制御装置６は、基板ステージ２（第１保持部１４）に保持されている基板Ｐの複数のショット領域Ｓを液浸空間ＬＳの液体ＬＱを介して露光光ＥＬで順次露光する。複数のショット領域Ｓのそれぞれは、露光光ＥＬ（投影領域ＰＲ）に対して基板ＰをＹ軸方向に移動しながら露光される。
【００８９】
例えば基板Ｐの第１のショット領域Ｓを露光するために、制御装置６は、液浸空間ＬＳが形成された状態で、基板Ｐ（第１のショット領域Ｓ）を投影光学系ＰＬの投影領域ＰＲに対してＹ軸方向に移動するとともに、その基板ＰのＹ軸方向への移動と同期して、照明系ＩＬの照明領域ＩＲに対してマスクＭをＹ軸方向に移動しつつ、投影光学系ＰＬと基板Ｐ上の液浸空間ＬＳの液体ＬＱとを介して第１のショット領域Ｓに露光光ＥＬを照射する。これにより、マスクＭのパターンの像が基板Ｐの第１のショット領域Ｓに投影され、その第１のショット領域Ｓが射出面１２から射出された露光光ＥＬで露光される。第１のショット領域Ｓの露光が終了した後、制御装置６は、次の第２のショット領域Ｓの露光を開始するために、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板ＰをＸＹ平面内においてＸ軸と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に移動し、第２のショット領域Ｓを露光開始位置に移動する。その後、制御装置６は、第２のショット領域Ｓの露光を開始する。
【００９０】
制御装置６は、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対してショット領域をＹ軸方向に移動しながらそのショット領域を露光する動作と、そのショット領域の露光後、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成された状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向（例えばＸ軸方向、あるいはＸＹ平面内においてＸ軸及びＹ軸方向に対して傾斜する方向等）に基板Ｐを移動する動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域を順次露光する。
【００９１】
以下の説明において、ショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、射出面１２からの露光光ＥＬが照射される位置（投影領域ＰＲ）に対して基板Ｐ（ショット領域）をＹ軸方向に移動する動作を適宜、スキャン移動動作、と称する。また、あるショット領域の露光後、次のショット領域を露光するために、基板Ｐ（基板ステージ２）上に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、次のショット領域が露光開始位置に配置されるように、ＸＹ平面内においてＹ軸方向と交差する方向に基板Ｐを移動する動作を適宜、ステップ移動動作、と称する。スキャン移動動作とステップ移動動作とを繰り返しながら、基板Ｐの複数のショット領域Ｓが順次露光される。なお、スキャン移動動作は、専らＹ軸方向の等速移動である。またステップ移動動作は、加減速度移動を含む。例えば、Ｘ軸方向に隣接する２つのショット領域間のステップ移動動作は、Ｙ軸方向の加減速移動、及びＸ軸方向の加減速移動を含む。
【００９２】
本実施形態においては、第２部材２２が設けられているので、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）が終端光学素子１３の光軸に垂直なＸＹ平面内で移動した場合において、液浸部材５と基板Ｐとの間の空間の外側に液体ＬＱが流出すること、及び基板Ｐ上に液体ＬＱ（膜、滴等）が残留することが抑制される。
【００９３】
図６は、比較例に係る液浸部材５ｊと基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳｊが形成されている状態で、基板Ｐが−Ｙ方向に移動した場合における液体ＬＱの状態の一例を示す模式図である。図７は、本実施形態に係る液浸部材５と基板Ｐとの間に液浸空間ＬＳが形成されている状態で、基板Ｐが−Ｙ方向に移動した場合における液体ＬＱの状態の一例を示す模式図である。液浸部材５ｊは、第２部材を有していない。
【００９４】
図６及び図７において、液浸空間ＬＳｊ、ＬＳが形成されている状態で基板Ｐが移動した場合、例えば液体ＬＱの粘性の作用等により、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに矢印Ｆｊ、Ｆｓで示すような速度分布を有する液体ＬＱの流れが生成される。図６及び図７において、Ｚ軸方向に関する第２部材２２の下面２２Ｂと基板Ｐの上面との距離は、射出面１２と基板Ｐの上面との距離よりも小さい。図７に示す液体ＬＱの速度勾配は、図６に示す液体ＬＱの速度勾配よりも大きい。図７に示す液体ＬＱの速度勾配とは、第２部材２２の下面２２Ｂと基板Ｐの上面との間における液体ＬＱの速度勾配である。図６に示す液体ＬＱの速度勾配とは、射出面１２と基板Ｐの上面との間における液体ＬＱの速度勾配である。
【００９５】
液体ＬＱの運動量は、液体ＬＱの質量（体積）と液体ＬＱの速度（流速）との積である。したがって、図６及び図７のそれぞれに示す例において、基板Ｐの移動に基づく液浸空間ＬＳの液体ＬＱの運動量は、面積Ａｊ、Ａｓに相当する
【００９６】
すなわち、第２部材２２が配置されることによって、基板Ｐの移動に基づく液浸空間ＬＳの液体ＬＱの運動量が大きくなることが抑制される。換言すれば、第２部材２２が配置されることによって、移動する基板Ｐの影響を受ける液体ＬＱの質量（体積）が抑制される。
【００９７】
図６に示す例においては、光路Ｋに対して−Ｙ側の界面ＬＧｊに作用する液体ＬＱの運動量は大きい。その結果、界面ＬＧｊにおける液体ＬＱの表面張力によって液浸空間ＬＳｊを維持することが困難となり、液体ＬＱが流出する可能性が高くなる。
【００９８】
一方、図７に示す例においては、光路Ｋに対して−Ｙ側の界面ＬＧｓに作用する液体ＬＱの運動量は小さい。そのため、界面ＬＧｓにおける液体ＬＱの表面張力によって液浸空間ＬＳが維持される。
【００９９】
また、本実施形態においては、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの一部は空間ＳＰ１を流れ、液体ＬＱの一部は空間ＳＰ２を流れる。これにより、圧損が高まることが抑制される。
【０１００】
また、本実施形態においては、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板Ｐ（基板ステージ２）が終端光学素子１３の光軸に垂直なＸＹ平面内で移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように移動する。これにより、例えば液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に異物（気泡など）が存在しても、その異物に起因する露光不良の発生を抑制できる。
【０１０１】
すなわち、第２部材２２が第１部材２１から離れるように移動し、下面２２Ｂと基板Ｐ（物体）との距離が小さくなると、空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配は、大きくなる。これにより、空間ＳＰ２の液体ＬＱ中の異物（気泡など）に対して、下向きの力が作用する。すなわち、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、ＸＹ平面内において物体（基板Ｐなど）が移動すると、空間ＳＰ２の液体ＬＱ中の異物は、物体に近づくように移動する。また、液体ＬＱ中の異物の少なくとも一部は、物体に付着する。これにより、液体ＬＱにおいて異物（気泡など）が浮遊し続けることが抑制される。また、基板Ｐの有効領域Ｃａとは異なる、露光（デバイス製造）に寄与しない物体（物体の一部）に異物が付着することにより、基板Ｐの有効領域Ｃａに異物（気泡など）が付着することが抑制される。したがって、露光不良の発生が抑制される。
【０１０２】
例えば、ＸＹ平面内における一方向への物体の移動によって、物体上の所定領域が第１部材２１及び第２部材２２の少なくとも一方の下方で移動する場合、その物体がその一方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように移動してもよい。
【０１０３】
所定領域は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で液浸部材５の下方で物体が移動した場合における、異物が発生する可能性が高い領域を含む。また、所定領域は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で液浸部材５の下方で物体が移動した場合における、気泡が発生する可能性が高い領域を含む。ＸＹ平面内における一方向への物体の移動によって、物体上の所定領域は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない非接触状態から液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する接触状態に変化する可能性がある。その一方向への物体の移動によって、物体上の所定領域から異物（気泡を含む）が発生し、液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に混入する可能性がある。
【０１０４】
制御装置６は、物体上の所定領域が液浸部材５の下方で移動する期間の少なくとも一部において、第１部材２１から離れるように第２部材２２を移動する。これにより、空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が大きくなり、所定領域から発生した異物（気泡など）は、物体に近づくように移動する。そのため、液体ＬＱにおいて異物（気泡など）が浮遊し続けることが抑制される。基板Ｐの有効領域Ｃａ以外の物体（物体の一部）に異物を付着させることにより、基板Ｐの有効領域Ｃａに異物（気泡など）が付着することが抑制される。
【０１０５】
図８は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの動作の一例を示す図である。図８は、物体の所定領域が基板Ｐとカバー部材Ｔとの間隙Ｇｐを含む場合を示す。図８に示すように、例えば基板Ｐの露光において、液浸空間ＬＳが形成されている状態で液浸部材５の下方で間隙Ｇｐが移動する可能性がある。すなわち、基板Ｐを保持した基板ステージ２がＸＹ平面内における一方向へ移動することによって、間隙Ｇｐが第１部材２１及び第２部材２２の少なくとも一方の下方で移動する可能性がある。本実施形態においては、制御装置６は、間隙Ｇｐが第１部材２１及び第２部材２２の少なくとも一方の下方で移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように第２部材２２を移動する。
【０１０６】
液浸空間ＬＳが間隙Ｇｐ上を通過するように基板ステージ２が移動すると、その間隙Ｇｐにより液浸空間ＬＳの液体ＬＱ中に気泡が発生する可能性がある。本実施形態においては、制御装置６は、間隙Ｇｐが第１部材２１及び第２部材２２の少なくとも一方の下方で移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように第２部材２２を移動する。これにより、間隙Ｇｐにより液体ＬＱ中に発生した気泡が液体ＬＱにおいて浮遊し続けることが抑制される。
【０１０７】
例えば図８に示すように、液浸空間ＬＳがカバー部材Ｔ上に形成されている状態から基板Ｐ上に形成される状態へ変化するように基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する場合、本実施形態においては、その移動の期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように移動する。
【０１０８】
図８に示す例では、液浸空間ＬＳがカバー部材Ｔ上に形成されている状態から基板Ｐ上に形成される状態へ変化するように基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する場合、その−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、Ｙ軸方向に関する液浸空間ＬＳの後側の気液界面ＬＧ１ｂが基板ステージ２上の間隙Ｇｐを通過する。また、その−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、間隙Ｇｐが液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない非接触状態（液浸空間ＬＳがカバー部材Ｔ上に形成されている状態）から、液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する接触状態（液浸空間ＬＳが間隙Ｇｐ上に形成されている状態）に変化する。制御装置６は、その基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように、その第２部材２２を移動する。
【０１０９】
これにより、液体ＬＱの気泡は、カバー部材Ｔに近づくように移動する。また、液体ＬＱの気泡は、基板Ｐの非有効領域Ｃｂに近づくように移動する。また、気泡がカバー部材Ｔ及び基板Ｐの非有効領域Ｃｂの少なくとも一方に付着した状態で、基板Ｐの有効領域Ｃａに露光光ＥＬが照射されることにより、有効領域Ｃａにおける露光不良の発生が抑制される。
【０１１０】
以上説明したように、本実施形態によれば、第２部材２２が第１部材２１から離れるように移動可能なので、異物（気泡を含む）が液体ＬＱ中を浮遊し続けること、及び異物（気泡を含む）が基板Ｐの有効領域Ｃａに付着することが抑制される。すなわち、第２部材２２によって、液体ＬＱ中の異物（気泡を含む）の位置が制御される。これにより、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
【０１１１】
また、本実施形態においては、終端光学素子１３の周囲の少なくとも一部に配置される第１部材２１は実質的に移動せず、第２部材２２が移動する。これにより、終端光学素子１３に作用する圧力が変動することが抑制される。
なお、図８では、基板ステージ２がＹ軸方向へ移動する場合を例として説明したが、基板ステージ２がＹ軸以外の方向（例えば、Ｘ軸方向、あるいはＸ軸とＹ軸と交差する方向）に移動する場合に、第２部材２２を第１部材２１から離れるように移動してもよいし、基板ステージ２が所定の方向（例えば、Ｙ軸方向）に移動する場合だけ、第２部材２２を第１部材２１から離れるように移動してもよい。
なお、第２部材２２がチルト可能（θＸ及びθＹ方向の少なくとも一方に移動可能）である場合には、第２部材２２をチルトさせてもよい。例えば、図８において、間隙Ｇｐに近い第２部材２２のエッジ部分が第１部材２１から離れるように、第２部材２２をチルトさせてもよい。第２部材２２がチルト可能である場合には、第２部材２２がＺ軸方向に移動可能でなくてもよい。
【０１１２】
＜第２実施形態＞
次に、第２実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１３】
図９は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの動作の一例を示す図である。本実施形態において、第２部材２２は、例えば下面２２Ｂと平行な面内において移動可能である。本実施形態において、第２部材２２は、ＸＹ平面内において移動可能である。
【０１１４】
本実施形態においては、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板ステージ２が移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が基板ステージ２の移動方向とは逆方向へ移動可能である。
【０１１５】
図９においては、基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２は＋Ｙ方向へ移動する。なお、第２部材２２は、基板ステージ２の移動方向とは逆方向の成分を含む方向へ移動してもよい。すなわち、基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する場合において、第２部材２２は、＋Ｙ方向へ移動しつつ＋Ｘ方向へ移動してもよいし、＋Ｙ方向へ移動しつつ−Ｘ方向へ移動してもよい。換言すれば、基板ステージ２がＹ軸と平行な方向へ移動する場合、第２部材２２は、Ｙ軸と交差する方向へ移動してもよい。
【０１１６】
−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、基板ステージ２上の間隙Ｇｐが第１部材２１及び第２部材２２の少なくとも一方の下方で移動する。−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、Ｙ軸方向に関する液浸空間ＬＳの後側の気液界面ＬＧ１ｂが間隙Ｇｐを通過する。−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、基板ステージ２上の間隙Ｇｐが液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない非接触状態から液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する接触状態に変化する。制御装置６は、基板ステージ２−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、基板ステージ２の移動方向とは逆方向に第２部材２２を移動する。
【０１１７】
基板ステージ２の移動方向とは逆方向に第２部材２２が移動することによって、空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が大きくなる。これにより、異物（気泡を含む）が液体ＬＱ中を浮遊し続けること、及び異物（気泡を含む）が基板Ｐの有効領域Ｃａに付着することが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
なお、図９では、基板ステージ２がＹ軸方向へ移動する場合を例として説明したが、基板ステージ２がＹ軸以外の方向（例えば、Ｘ軸方向、あるいはＸ軸とＹ軸と交差する方向）に移動する場合に、第２部材２２を基板ステージ２と逆の方向へ移動してもよい。
また、第２部材２２がＸＹ平面内の一つの方向（例えばＹ軸方向、あるいはＸ軸方向）だけに移動可能であってもよい。
また、本実施形態においても、第２部材２２が、ＸＹ平面内だけでなく、Ｚ軸方向、θＸ、θＹ、及びθＺのうちの少なくとも１つの方向に移動可能であってもよい。
例えば、第２部材２２がＸＹ平面内での移動に加えて、Ｚ軸方向に移動可能な場合には、第２部材２２が、上述のように、ＸＹ平面内で移動している期間の少なくとも一部において、第２部材２２を第１部材２１から離れるようにＺ軸方向に移動してもよい。
【０１１８】
＜第３実施形態＞
次に、第３実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１１９】
図１０は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｃは、第２部材２２Ｃの下面２２Ｂｃに配置され、液体ＬＱを供給する供給口３４を有する。
【０１２０】
供給口３４は、空間ＳＰ２に面する。供給口３４の周囲の少なくとも一部に下面２２Ｂｃが配置される。供給口３４は、液浸空間ＬＳが形成されている状態で、下面２２Ｂｃ側の空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給可能である。
【０１２１】
本実施形態において、供給口３４は、下面２２Ｂｃと基板Ｐ（物体）との間に液浸空間ＬＳの一部を形成している液体ＬＱ中に、液体ＬＱを供給する。供給口３４は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱで覆われている状態で、空間ＳＰ２に液体ＬＱを供給する。すなわち、供給口３４は、液浸空間ＬＳの液体ＬＱに浸かっている状態で、液体ＬＱを供給可能である。換言すれば、供給口３４は、液浸空間ＬＳの内側に位置している状態で、液体ＬＱを供給可能である。
【０１２２】
本実施形態においては、液浸空間ＬＳが形成されている状態で基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、供給口３４から液体ＬＱが供給される。
【０１２３】
−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、基板ステージ２上の間隙Ｇｐが第１部材２１及び第２部材２２の少なくとも一方の下方で移動する。−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、Ｙ軸方向に関する液浸空間ＬＳの後側の気液界面ＬＧ１ｂが間隙Ｇｐを通過する。−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、基板ステージ２上の間隙Ｇｐが液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない非接触状態から液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する接触状態に変化する。制御装置６は、基板ステージ２−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、供給口３４から液体ＬＱを供給する。
なお、供給口３４から常時液体を供給してもよい。
【０１２４】
供給口３４から空間ＳＰ２に液体ＬＱが供給されることによって、空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が大きくなる。これにより、異物（気泡を含む）が液体ＬＱ中を浮遊し続けること、及び異物（気泡を含む）が基板Ｐの有効領域Ｃａに付着することが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
なお、図１０では、基板ステージ２がＹ軸方向へ移動する場合を例として説明したが、基板ステージ２がＹ軸以外の方向（例えば、Ｘ軸方向、あるいはＸ軸とＹ軸と交差する方向）に移動する場合に、供給口３４から液体ＬＱを供給してもよいし、基板ステージ２が所定の方向（例えば、Ｙ軸方向）に移動する場合だけ、供給口３４から液体ＬＱを供給してもよい。したがって、供給口２４は、開口２４を囲むように環状（ループ状）に配置されてもよいし、開口２４の周囲の一部だけ（例えば、Ｙ軸方向における開口２４の両側だけ）に配置されてもよい。
【０１２５】
＜第４実施形態＞
次に、第４実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１２６】
図１１は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｄは、第１部材２１と第２部材２２Ｄとを備える。本実施形態において、第２部材２２Ｄの下面２２Ｂｄは、非平坦部を含む。本実施形態において、下面２２Ｂｄの非平坦部は、複数の凸部を含む。本実施形態において、凸部の表面は、曲面を含む。なお、凸部の表面の少なくとも一部が、平坦でもよい。なお、凸部が角部を有してもよい。
【０１２７】
本実施形態において、下面２２Ｂｄは、光路Ｋに対する放射方向に関して複数の凸部を有する。なお、凸部は、光路Ｋに対する放射方向に関して１つだけ配置されてもよい。また、凸部は、開口２４を囲むように配置されてもよい。また、凸部が、開口２４の周囲において同心円状に配置されてもよい。
【０１２８】
なお、下面２２Ｂｄの非平坦部が、凹部を含んでもよい。凹部は、光路Ｋに対する放射方向に関して複数配置されてもよいし、１つだけ配置されてもよい。また、凹部が開口２４を囲むように配置されてもよい。また、凹部が、開口２４の周囲において同心円状に配置されてもよい。
【０１２９】
下面２２Ｂｄが非平坦部を含むことにより、例えば下面２２Ｂｄと物体の上面との距離が短い空間ＳＰ２の一部において、液体ＬＱの速度勾配が大きくなる。これにより、異物（気泡を含む）が液体ＬＱ中を浮遊し続けること、及び異物（気泡を含む）が基板Ｐの有効領域Ｃａに付着することを抑制することができる。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
なお、上述の第１〜第４実施形態の第２部材２２の下面を、第５実施形態のような非平坦部にしてもよい。
【０１３０】
＜第５実施形態＞
次に、第５実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３１】
図１２は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｅは、第１部材２１と第２部材２２Ｅとを備える。本実施形態において、第２部材２２Ｅの下面２２Ｂｅは、第１領域２２１ｅと、光路Ｋに対して第１領域２２１ｅの外側の第２領域２２２ｅとを含む。第１領域２２１ｅは、第２領域２２２ｅよりも高い位置に配置される。すなわち、第１領域２２１ｅは、第２領域２２２ｅよりも基板Ｐ（物体）から離れている。換言すれば、第１領域２２１ｅは、第２領域２２２ｅよりも＋Ｚ側に配置される。Ｚ軸方向に関して、第１領域２２１ｅは、第２領域２２２ｅよりも終端光学素子１３に近い。第１領域２２１ｅは、第２領域２２２ｅよりも、投影光学系ＰＬの物体面側（マスクステージ１側）に配置される。
【０１３２】
すなわち、第１領域２２１ｅと物体（基板Ｐなど）の上面との間隙の寸法は、第２領域２２２ｅと物体（基板Ｐなど）の上面との間隙の寸法よりも大きい。
【０１３３】
本実施形態において、下面２２Ｂｅの第１領域２２１ｅは、光路Ｋに対する放射方向に関して外側に向かって下方に傾斜する。第２領域２２２ｅは、実質的にＸＹ平面と平行である。
【０１３４】
本実施形態によれば、第１領域２２１ｅが第２領域２２２ｅよりも高い位置に配置されているので、光路Ｋを含む空間から下面２２Ｂｅ側の空間ＳＰ２に流入する液体ＬＱの流速を高めることができる。すなわち、光路Ｋを含む空間から、第１領域２２１ｅと基板Ｐの上面との間に流入した液体ＬＱの流速は、第２領域２２２ｅと基板Ｐの上面との間において高められる。そのため、間隙Ｇｐなどで発生した気泡が、空間ＳＰ２の液体ＬＱに混入しても、その気泡が光路Ｋ上に移動することが抑制される。
なお、本実施形態の第２部材２２Ｅを、上述の第１、第２実施形態のように動かしてもよい。
【０１３５】
＜第６実施形態＞
次に、第６実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１３６】
図１３は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｆは、第１部材２１と第２部材２２Ｆとを備える。本実施形態において、第２部材２２Ｆの下面２２Ｂｆは、第１領域２２１ｆと、光路Ｋに対して第１領域２２１ｆの外側の第２領域２２２ｆとを含む。第２領域２２２ｆは、第１領域２２１ｆよりも高い位置に配置される。すなわち、第２領域２２２ｆは、第１領域２２１ｆよりも基板Ｐ（物体）から離れている。換言すれば、第２領域２２２ｆは、第１領域２２１ｆよりも＋Ｚ側に配置される。Ｚ軸方向に関して、第２領域２２２ｆは、第１領域２２１ｆよりも終端光学素子１３に近い。第２領域２２２ｆは、第１領域２２１ｆよりも、投影光学系ＰＬの物体面側（マスクステージ１側）に配置される。
【０１３７】
すなわち、第１領域２２１ｆと物体（基板Ｐなど）の上面との間隙の寸法は、第２領域２２２ｆと物体（基板Ｐなど）の上面との間隙の寸法よりも小さい。
【０１３８】
本実施形態において、下面２２Ｂｆの第１領域２２１ｆ及び第２領域２２２ｆは、実質的にＸＹ平面と平行である。なお、第１領域２２１ｆ及び第２領域２２２ｆの少なくとも一方が、ＸＹ平面に対して傾斜してもよい。
【０１３９】
本実施形態によれば、第１領域２２１ｆが第２領域２２２ｆよりも低い位置に配置されているので、例えば図１３に示す例において、基板ステージ２（基板Ｐ）が−Ｙ方向に高速で移動しても、光路Ｋを液体ＬＱで満たし続けることができる。すなわち、第１領域２２１ｆと物体の上面との間隙の寸法が小さいので、基板ステージ２（基板Ｐ）が−Ｙ方向に高速で移動しても、射出面１２と物体の上面との間の空間に気体部分が形成されることが抑制される。
なお、本実施形態の第２部材２２Ｆを、上述の第１、第２実施形態のように動かしてもよい。
【０１４０】
＜第７実施形態＞
次に、第７実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１４１】
図１４は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。図１４において、液浸部材５Ｇは、第１部材２１と第２部材２２Ｇとを備えている。第２部材２２Ｇは、上面２２Ａｇ側の空間ＳＰ１と下面２２Ｂｇ側の空間ＳＰ２とを結ぶ開口３５を有する。
【０１４２】
開口３５は、液体ＬＱが通過可能である。開口３５は、露光光ＥＬが通過可能な開口２４の周囲の少なくとも一部に配置される。本実施形態において、第２部材２２Ｇは、第１部分と、光路Ｋに対して第１部分の外側の第２部分とを含む。開口３５は、第１部分に配置される。
【０１４３】
空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部は、開口３５を介して、空間ＳＰ２に流入する。これにより、空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が大きくなる。そのため、異物（気泡を含む）が液体ＬＱ中を浮遊し続けること、及び異物（気泡を含む）が基板Ｐの有効領域Ｃａに付着することが抑制される。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
なお、本実施形態の第２部材２２Ｇを、上述の第１、第２実施形態のように動かしてもよい。
【０１４４】
＜第８実施形態＞
次に、第８実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１４５】
図１５は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。図１５において、液浸部材５Ｈは、第１部材２１Ｈと第２部材２２とを備えている。
【０１４６】
本実施形態において、第１部材２１Ｈは、光路Ｋに対して液体回収部３２Ｐの内側において空間ＳＰ１に面するように配置され、空間ＳＰ１の液体ＬＱを回収可能な液体回収部３６Ｐを有する。液体回収部３６Ｐは、空間ＳＰ１に面する回収口３６と回収口３６から回収された液体ＬＱが流れる流路を含む。回収口３６は、第２部材２２の上面２２Ａに対向するように配置される。回収口３６は、空間ＳＰ１の液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。なお、回収口３６が、多孔部材の孔を含んでもよい。
【０１４７】
液体回収部３６Ｐは、基板Ｐの露光処理において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。液体回収部３６Ｐは、計測部材Ｃを用いる計測処理において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの少なくとも一部を回収可能である。制御装置６は、供給口３１からの液体ＬＱの供給と並行して、液体回収部３２Ｐからの液体ＬＱの回収、及び液体回収部３６Ｐからの液体ＬＱの回収を実行可能である。
【０１４８】
本実施形態においては、液体回収部３６Ｐは、基板Ｐの露光処理において、液体ＬＱを回収しない。また、液体回収部３６Ｐは、計測部材Ｃを用いる計測処理において、液体ＬＱを回収しない。制御装置６は、供給口３１からの液体ＬＱの供給を停止した状態で、液体回収部３６Ｐからの液体ＬＱの回収を実行する。
【０１４９】
例えば、メンテナンス処理において、液浸空間ＬＳの液体ＬＱの全部を回収する場合、制御装置６は、供給口３１からの液体ＬＱの供給を停止した状態で、液体回収部３６Ｐからの液体ＬＱの回収を実行する。これにより、空間ＳＰ１の液体ＬＱが液体回収部３６Ｐから回収される。したがって、例えば空間ＳＰ１に液体ＬＱが残留することに起因する生菌の発生を抑制することができる。また、液浸部材５の汚染を抑制することができる。
なお、本実施形態の第１部材２１Ｈを、上述の第１〜第７実施形態に適用してもよい。
【０１５０】
＜第９実施形態＞
次に、第９実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１５１】
図１６は、本実施形態に係る露光装置ＥＸの一例を示す図である。図１６において、液浸部材５Ｉは、第１部材２１と、第２部材２２と、第２部材２２の少なくとも一部をリリース可能に保持する保持機構４０とを備える。本実施形態において、保持機構４０は、第１部材２１の下面２１Ｂに配置される。また、保持機構４０は、第２部材２２を、Ｘ軸、Ｙ軸、Ｚ軸、θＸ、θＹ、及びθＺの６つのうちの少なくとも一つの方向に移動可能である。
【０１５２】
本実施形態において、保持機構４０は、下面４１と、下面４１に配置され、流体を吸引可能な吸引口４２とを有する。下面４１と第２部材２２の上面２２Ａとが接触した状態で、吸引口４２の吸引動作が実行されることによって、第２部材２２が下面４１に吸着保持される。また、吸引口４２の吸引動作が解除されることによって、第２部材２２は、下面４１からリリースされる。
【０１５３】
本実施形態によれば、第２部材２２を交換可能である。また、保持機構４０を用いて、第２部材２２とは異なる部材を第１部材２１に接続することができる。
なお、第２部材２２の保持は、吸引（バキューム）に限られず、磁力（電磁力含む）を用いて第２部材２２を保持してもよい。  なお、上述の第１〜第９実施形態の第２部材（２２など）を、本実施形態のように、交換可能に保持してもよい。
【０１５４】
＜第１０実施形態＞
次に、第１０実施形態について説明する。以下の説明において、上述の実施形態と同一又は同等の構成部分については同一の符号を付し、その説明を簡略若しくは省略する。
【０１５５】
図１７は、本実施形態に係る液浸部材５Ｋの一例を模式的に示す図である。本実施形態において、液浸部材５Ｋは、支持部材ＳＫと、支持部材ＳＫに対して可動な第１部材２１Ｋとを有する。本実施形態においては、液浸空間ＬＳが形成されている状態で物体（基板Ｐなど）が終端光学素子１３の光軸に垂直なＸＹ平面内で移動する期間の少なくとも一部において、第１部材２１Ｋは傾斜可能である。
【０１５６】
第１部材２１Ｋは、下面２１Ｂｋを有する。本実施形態においては、液浸部材５Ｋは、上述の実施形態のように第２部材を備えていない。また、液浸部材５Ｋは、第１部材２１Ｋを移動可能な移動機構２５Ｋを有する。移動機構２５Ｋは、第１部材２１Ｋの下面２１ＢｋがＸＹ平面に対して傾斜するように、第１部材２１Ｋを移動可能である。
【０１５７】
例えば、−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、基板ステージ２上の間隙Ｇｐが第１部材２１Ｋの下方で移動する。−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、Ｙ軸方向に関する液浸空間ＬＳの後側の気液界面ＬＧ１ｂが間隙Ｇｐを通過する。−Ｙ方向への基板ステージ２の移動によって、基板ステージ２上の間隙Ｇｐが液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触しない非接触状態から液浸空間ＬＳの液体ＬＱと接触する接触状態に変化する。制御装置６は、基板ステージ２−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第１部材２１Ｋを傾斜させる。
【０１５８】
本実施形態においては、例えば基板ステージ２（物体）が−Ｙ方向へ移動するとき、制御装置６は、下面２１Ｂｋのうち光路Ｋに対して＋Ｙ側の領域が−Ｙ側の領域よりも支持部材ＳＫから離れるように、第１部材２１Ｋを傾斜させる。これにより、光路Ｋに対して＋Ｙ側の空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が、−Ｙ側の空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配よりも大きくなる。また、基板ステージ２（物体）が＋Ｙ方向へ移動するとき、制御装置６は、下面２１Ｂｋのうち光路Ｋに対して−Ｙ側の領域が＋Ｙ側の領域よりも支持部材ＳＫから離れるように、第１部材２１Ｋを傾斜させる。これにより、光路Ｋに対して−Ｙ側の空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が、＋Ｙ側の空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配よりも大きくなる。
【０１５９】
すなわち、本実施形態においては、第１部材２１Ｋは、終端光学素子１３の光軸に垂直なＸＹ平面内における物体の移動方向において、下面２１Ｂｋの前側部分の物体との距離が下面２１Ｂｋの後側部分と物体との距離よりも大きくなるように傾斜する。
【０１６０】
本実施形態においては、第１部材２１Ｋが傾斜することによって、空間ＳＰ２における液体ＬＱの速度勾配が大きくなる。これにより、異物（気泡を含む）が液体ＬＱ中を浮遊し続けること、及び異物（気泡を含む）が基板Ｐの有効領域Ｃａに付着することを抑制することができる。したがって、露光不良の発生及び不良デバイスの発生が抑制される。
なお、第１０実施形態の液浸部材５Ｋが第２部材２２を備えて、第１部材２１Ｋとともに、傾斜してもよい。
また、上述の各実施形態において、第２部材（２２など）の外形は、円形であるが、多角形、あるいは楕円形などの他の形状であってもよい。
また、上述の各実施形態においては、第２部材（２２など）の上面（２２Ａなど）の外縁のすべてが下面３３Ｂ（液体回収部３２Ｐ）の一部と対向しているが、第２部材（２２など）の上面（２２Ａなど）の外縁の一部だけが、下面３３Ｂ（液体回収部３２Ｐ）の一部と対向していてもよいし、第２部材（２２など）の上面（２２Ａなど）が下面３３Ｂ（液体回収部３２Ｐ）と対向しなくてもよい。
なお、上述の各実施形態においては、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１ｂがカバー部材Ｔ上から間隙Ｇｐを超えて、基板Ｐ上に移動する場合を例にとって説明したが、これに限られないことは言うまでもない。例えば、図１９に示すように、液浸空間ＬＳの界面ＬＧ１ｂが基板Ｐ上から、間隙Ｇｐを超えて、カバー部材Ｔ上に移動する場合に、上述の各実施形態を適用できる。
また、基板Ｐの周囲の間隙Ｇｐに限られず、他の間隙が液浸空間ＬＳに対して移動する場合にも、上述の各実施形態を適用できる。
また、間隙に限らず、異物（気泡を含む）を誘発するような部分が液浸空間ＬＳに対して移動する場合にも、上述の各実施形態を適用できる。
【０１６１】
なお、上述したように、制御装置６は、ＣＰＵ等を含むコンピュータシステムを含む。また、制御装置６は、コンピュータシステムと外部装置との通信を実行可能なインターフェースを含む。記憶装置７は、例えばＲＡＭ等のメモリ、ハードディスク、ＣＤ−ＲＯＭ等の記録媒体を含む。記憶装置７には、コンピュータシステムを制御するオペレーティングシステム（ＯＳ）がインストールされ、露光装置ＥＸを制御するためのプログラムが記憶されている。
【０１６２】
なお、制御装置６に、入力信号を入力可能な入力装置が接続されていてもよい。入力装置は、キーボード、マウス等の入力機器、あるいは外部装置からのデータを入力可能な通信装置等を含む。また、液晶表示ディスプレイ等の表示装置が設けられていてもよい。
【０１６３】
記憶装置７に記録されているプログラムを含む各種情報は、制御装置（コンピュータシステム）６が読み取り可能である。記憶装置７には、制御装置６に、露光光が射出される光学部材の射出面と基板との間の露光光の光路に満たされた第１液体を介して露光光で基板を露光する液浸露光装置の制御を実行させるプログラムが記録されている。
【０１６４】
記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、  光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、第１部材から離れるように移動することと、を実行させてもよい。
【０１６５】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、物体の移動方向とは逆方向に移動することと、を実行させてもよい。
【０１６６】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材を、液浸空間が形成されている状態で物体が光学部材の光軸に垂直な方向へ移動する期間の少なくとも一部において、傾斜させることと、を実行させてもよい。
【０１６７】
また、記憶装置７に記録されているプログラムは、上述の実施形態に従って、制御装置６に、光学部材の射出面から射出される露光光の光路が液体で満たされるように液浸空間を形成することと、液浸空間の液体を介して射出面から射出される露光光で基板を露光することと、光学部材の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面を有する第１部材の下方において光路の周囲の少なくとも一部に配置され、第１下面と間隙を介して対向する第２上面と物体が対向可能な第２下面とを有する第２部材の第２下面に配置された第１供給口から液体を供給することと、を実行させてもよい。
【０１６８】
記憶装置７に記憶されているプログラムが制御装置６に読み込まれることにより、基板ステージ２、計測ステージ３、及び液浸部材５等、露光装置ＥＸの各種の装置が協働して、液浸空間ＬＳ１、ＬＳ２が形成された状態で、基板Ｐの液浸露光等、各種の処理を実行する。
【０１６９】
なお、上述の第１〜第１０実施形態を適宜組み合わせることができる。例えば、基板ステージ２が−Ｙ方向へ移動する期間の少なくとも一部において、第２部材２２が第１部材２１から離れるように−Ｚ方向に移動しつつ、＋Ｙ方向に移動してもよい。また、第２部材２２が傾斜しつつ、＋Ｙ方向に移動してもよい。また、供給口３４を有する第２部材２２Ｃが、第１部材２１から離れるように移動してもよいし、傾斜してもよいし、物体の移動方向（−Ｙ方向）とは逆方向（＋Ｙ方向）に移動してもよい。また、非平坦部を有する第２部材２２Ｄが、第１部材２１から離れるように移動してもよいし、傾斜してもよいし、物体の移動方向とは逆方向に移動してもよい。また、非平坦部を有する第２部材２２Ｄが液体ＬＱを供給する供給口３４を有してもよい。また、供給口３４及び非平坦部の少なくとも一方を有する第２部材が、第１領域と、光路Ｋに対して第１領域の外側に配置され、第１領域よりも低い位置に配置される第２領域とを含む下面を有してもよい。また、供給口３４及び非平坦部の少なくとも一方を有する第２部材が、第１領域と、光路Ｋに対して第１領域の外側に配置され、第１領域よりも高い位置に配置される第２領域とを含む下面を有してもよい。また、上述の第２部材が、空間ＳＰ１と空間ＳＰ２とを結ぶ開口３５を有してもよい。また、上述の第２部材が、第１部材に対してリリース可能に保持されてもよい。
【０１７０】
なお、上述の各実施形態においては、投影光学系ＰＬの終端光学素子１３の射出面１２側（像面側）の光路Ｋが液体ＬＱで満たされているが、投影光学系ＰＬが、例えば国際公開第２００４／０１９１２８号パンフレットに開示されているような、終端光学素子１３の入射側（物体面側）の光路も液体ＬＱで満たされる投影光学系でもよい。
【０１７１】
なお、上述の各実施形態においては、液体ＬＱが水であることとしたが、水以外の液体でもよい。液体ＬＱは、露光光ＥＬに対して透過性であり、露光光ＥＬに対して高い屈折率を有し、投影光学系ＰＬあるいは基板Ｐの表面を形成する感光材（フォトレジスト）等の膜に対して安定なものが好ましい。例えば、液体ＬＱが、ハイドロフロロエーテル（ＨＦＥ）、過フッ化ポリエーテル（ＰＦＰＥ）、フォンブリンオイル等のフッ素系液体でもよい。また、液体ＬＱが、種々の流体、例えば、超臨界流体でもよい。
【０１７２】
なお、上述の各実施形態においては、基板Ｐが、半導体デバイス製造用の半導体ウエハを含むこととしたが、例えばディスプレイデバイス用のガラス基板、薄膜磁気ヘッド用のセラミックウエハ、あるいは露光装置で用いられるマスクまたはレチクルの原版（合成石英、シリコンウエハ）等を含んでもよい。
【０１７３】
なお、上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが、マスクＭと基板Ｐとを同期移動してマスクＭのパターンを走査露光するステップ・アンド・スキャン方式の走査型露光装置（スキャニングステッパ）であることとしたが、例えばマスクＭと基板Ｐとを静止した状態でマスクＭのパターンを一括露光し、基板Ｐを順次ステップ移動させるステップ・アンド・リピート方式の投影露光装置（ステッパ）でもよい。
【０１７４】
また、露光装置ＥＸが、ステップ・アンド・リピート方式の露光において、第１パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第１パターンの縮小像を基板Ｐ上に転写した後、第２パターンと基板Ｐとをほぼ静止した状態で、投影光学系を用いて第２パターンの縮小像を第１パターンと部分的に重ねて基板Ｐ上に一括露光する露光装置（スティッチ方式の一括露光装置）でもよい。また、スティッチ方式の露光装置が、基板Ｐ上で少なくとも２つのパターンを部分的に重ねて転写し、基板Ｐを順次移動させるステップ・アンド・スティッチ方式の露光装置でもよい。
【０１７５】
また、露光装置ＥＸが、例えば米国特許第６６１１３１６号に開示されているような、２つのマスクのパターンを、投影光学系を介して基板上で合成し、１回の走査露光によって基板上の１つのショット領域をほぼ同時に二重露光する露光装置でもよい。また、露光装置ＥＸが、プロキシミティ方式の露光装置、ミラープロジェクション・アライナー等でもよい。
【０１７６】
また、上述の各実施形態において、露光装置ＥＸが、米国特許第６３４１００７号、米国特許第６２０８４０７号、米国特許第６２６２７９６号等に開示されているような、複数の基板ステージを備えたツインステージ型の露光装置でもよい。例えば、図１８に示すように、露光装置ＥＸが２つの基板ステージ２００１、２００２を備えている場合、終端光学素子１３の下方で移動可能な物体は、一方の基板ステージ、その一方の基板ステージの第１保持部に保持された基板、他方の基板ステージ、及びその他方の基板ステージの第１保持部に保持された基板の少なくとも一つを含む。
【０１７７】
また、露光装置ＥＸが、複数の基板ステージと計測ステージとを備えた露光装置でもよい。
【０１７８】
なお、露光装置ＥＸが、基板Ｐに半導体素子パターンを露光する半導体素子製造用の露光装置でもよいし、液晶表示素子製造用又はディスプレイ製造用の露光装置でもよいし、薄膜磁気ヘッド、撮像素子（ＣＣＤ）、マイクロマシン、ＭＥＭＳ、ＤＮＡチップ、あるいはレチクル又はマスクなどを製造するための露光装置でもよい。
【０１７９】
なお、上述の実施形態においては、光透過性の基板上に所定の遮光パターン（又は位相パターン・減光パターン）を形成した光透過型マスクを用いたが、このマスクに代えて、例えば米国特許第６７７８２５７号明細書に開示されているような、露光すべきパターンの電子データに基づいて透過パターン又は反射パターン、あるいは発光パターンを形成する可変成形マスク（電子マスク、アクティブマスク、あるいはイメージジェネレータとも呼ばれる）を用いてもよい。また、非発光型画像表示素子を備える可変成形マスクに代えて、自発光型画像表示素子を含むパターン形成装置を備えるようにしてもよい。
【０１８０】
上述の各実施形態においては、露光装置ＥＸが投影光学系ＰＬを備えることとしたが、投影光学系ＰＬを用いない露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。例えば、レンズ等の光学部材と基板との間に液浸空間を形成し、その光学部材を介して、基板に露光光を照射する露光装置及び露光方法に、上述の各実施形態で説明した構成要素を適用してもよい。
【０１８１】
また、露光装置ＥＸが、例えば国際公開第２００１／０３５１６８号に開示されているような、干渉縞を基板Ｐ上に形成することによって基板Ｐ上にライン・アンド・スペースパターンを露光する露光装置（リソグラフィシステム）でもよい。
【０１８２】
上述の実施形態の露光装置ＥＸは、上述の各構成要素を含む各種サブシステムを、所定の機械的精度、電気的精度、光学的精度を保つように、組み立てることで製造される。これら各種精度を確保するために、この組み立ての前後には、各種光学系については光学的精度を達成するための調整、各種機械系については機械的精度を達成するための調整、各種電気系については電気的精度を達成するための調整が行われる。各種サブシステムから露光装置への組み立て工程は、各種サブシステム相互の、機械的接続、電気回路の配線接続、気圧回路の配管接続等が含まれる。この各種サブシステムから露光装置への組み立て工程の前に、各サブシステム個々の組み立て工程があることはいうまでもない。各種サブシステムの露光装置への組み立て工程が終了した後、総合調整が行われ、露光装置全体としての各種精度が確保される。なお、露光装置の製造は温度及びクリーン度等が管理されたクリーンルームで行うことが望ましい。
【０１８３】
半導体デバイス等のマイクロデバイスは、図２０に示すように、マイクロデバイスの機能・性能設計を行うステップ２０１、この設計ステップに基づいたマスク（レチクル）を製作するステップ２０２、デバイスの基材である基板を製造するステップ２０３、上述の実施形態に従って、マスクのパターンからの露光光で基板を露光すること、及び露光された基板を現像することを含む基板処理（露光処理）を含む基板処理ステップ２０４、デバイス組み立てステップ（ダイシング工程、ボンディング工程、パッケージ工程などの加工プロセスを含む）２０５、検査ステップ２０６等を経て製造される。
【０１８４】
なお、上述の各実施形態の要件は、適宜組み合わせることができる。また、一部の構成要素を用いない場合もある。また、法令で許容される限りにおいて、上述の各実施形態及び変形例で引用した露光装置等に関する全ての公開公報及び米国特許の開示を援用して本文の記載の一部とする。
【符号の説明】
【０１８５】
２…基板ステージ、３…計測ステージ、５…液浸部材、６…制御装置、７…記憶装置、１２…射出面、１３…終端光学素子、２１…第１部材、２１Ａ…上面、２１Ｂ…下面、２２…第２部材、２２Ａ…上面、２２Ｂ…下面、２３…開口、２４…開口、３１…供給口、３２Ｐ…液体回収部、３４…供給口、３５…開口、３６Ｐ…液体回収部、４０…保持機構、ＥＬ…露光光、ＥＸ…露光装置、ＩＬ…照明系、Ｋ…光路、ＬＱ…液体、Ｐ…基板、Ｔ…カバー部材。
【図１】
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【図２】
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【図３】
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【図４】
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【図５】
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【図６】
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【図７】
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【図８】
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【図９】
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【図１０】
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【図１１】
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【図１２】
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【図１３】
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【図１４】
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【図１５】
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【図１６】
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【図１７】
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【図１８】
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【図１９】
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【図２０】
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